(57)【要約】【課題】高い耐屈曲性とともに優れた耐折り曲げ性を具備させる。【解決手段】主表面に平行な複数の結晶面には｛０２２｝面、｛００２｝面、｛１１３｝面、｛１１１｝面、及び｛１３３｝面が含まれ、主表面に対する２θ／θ法を用いたＸ線回折測定から求められ、合計値が１００となるように換算された各結晶面の回折ピーク強度比が、Ｉ｛０２２｝＋Ｉ｛００２｝≧７５．０であり、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用いて測定した｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットしたグラフにて、あおり角度が４７°と５３°とでの｛１１１｝面の回折ピークの平均強度同士を結ぶ直線の縦軸切片［Ａ］と、あおり角度が１５°以上９０°以下の範囲内での｛１１１｝面の回折ピークの平均強度の最大値［Ｂ］とが［Ａ］／［Ｂ］≧１／４となり、主表面の表面粗さが、十点平均粗さＲｚｊiｓ≦１．２μｍ、算術平均粗さＲａ≦０．３μｍである。【選択図】図１
2014019892.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主表面を備え、前記主表面に平行な複数の結晶面を有する最終冷間圧延工程後、再結晶焼鈍工程前の圧延銅箔であって、
前記複数の結晶面には｛０２２｝面、｛００２｝面、｛１１３｝面、｛１１１｝面、及び｛１３３｝面が含まれ、
前記主表面に対する２θ／θ法を用いたＸ線回折測定から求められ、合計値が１００となるように換算された前記各結晶面の回折ピーク強度比をそれぞれＩ｛０２２｝、Ｉ｛００２｝、Ｉ｛１１３｝、Ｉ｛１１１｝、及びＩ｛１３３｝としたとき、
Ｉ｛０２２｝＋Ｉ｛００２｝≧７５．０であり、
Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用い、１５°以上９０°以下の範囲内の複数のあおり角度のそれぞれについて、前記主表面の面内回転角度を０°以上３６０°以下の範囲内で変化させて測定した｛１１１｝面の回折ピークの平均強度を求め、
前記あおり角度を横軸とし、回折ピーク強度を縦軸として、前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットしたグラフを作成したとき、
前記あおり角度が４７°での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度と前記あおり角度が５３°での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度とを結ぶ直線の縦軸切片を［Ａ］とし、前記あおり角度が１５°以上９０°以下の範囲内での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度の最大値を［Ｂ］としたとき、
［Ａ］／［Ｂ］≧１／４であり、
前記主表面の表面粗さが、
十点平均粗さＲｚｊiｓ≦１．２μｍであり、
算術平均粗さＲａ≦０．３μｍである
ことを特徴とする圧延銅箔。
【請求項２】
無酸素銅、又はタフピッチ銅を主成分とする
ことを特徴とする請求項１に記載の圧延銅箔。
【請求項３】
銀、硼素、チタン、錫の少なくともいずれかが添加されている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の圧延銅箔。
【請求項４】
厚さが２０μｍ以下である
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の圧延銅箔。
【請求項５】
フレキシブルプリント配線板用である
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の圧延銅箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧延銅箔に関し、特に、フレキシブルプリント配線板に用いられる圧延銅箔に関する。
【背景技術】
【０００２】
フレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ：Flexible Printed Circuit）は、薄くて可撓性に優れることから、電子機器等への実装形態における自由度が高い。そのため、ＦＰＣは、折り畳み式携帯電話の折り曲げ部や、デジタルカメラ、プリンタヘッド等の可動部のほか、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ：Hard Disk Drive）やデジタルバーサタイルディ
スク（ＤＶＤ：Digital Versatile Disk）やコンパクトディスク（ＣＤ：Compact Disk）等のディスク関連機器の可動部の配線等に用いられることが多い。したがって、ＦＰＣやその配線材として用いられる圧延銅箔には、高屈曲特性、つまり、繰り返しの曲げに耐える優れた耐屈曲性が要求されてきた。
【０００３】
ＦＰＣ用の圧延銅箔は、熱間圧延、冷間圧延等の工程を経て製造される。圧延銅箔は、その後のＦＰＣの製造工程において、接着剤を介し或いは直接的に、ポリイミド等の樹脂からなるＦＰＣのベースフィルム（基材）と加熱等により貼り合わされる。基材上の圧延銅箔は、エッチング等の表面加工を施されて配線となる。圧延銅箔の耐屈曲性は、圧延されて硬化した冷間圧延後の硬質な状態よりも、再結晶により軟化した焼鈍後の状態の方が著しく向上する。そこで、例えば上述のＦＰＣの製造工程においては、冷間圧延後の圧延銅箔を用いて伸びやしわ等の変形を避けつつ圧延銅箔を裁断し、基材上に重ね合わせる。その後、圧延銅箔の再結晶焼鈍も兼ねて加熱することにより、圧延銅箔と基材とを密着させ一体化する。
【０００４】
上述のＦＰＣの製造工程を前提として、耐屈曲性に優れた圧延銅箔やその製造方法についてこれまでに種々の研究がなされ、圧延銅箔の表面に立方体方位である｛００２｝面（{２００}面）を発達させるほど耐屈曲性が向上することが数多く報告されている。
【０００５】
例えば、特許文献１では、最終冷間圧延の直前の焼鈍を、再結晶粒の平均粒径が５μｍ〜２０μｍになる条件下で行う。また、最終冷間圧延での圧延加工度を９０％以上とする。これにより、再結晶組織となるよう調質された状態において、圧延面のＸ線回折で求めた｛２００｝面の強度をＩとし、微粉末銅のＸ線回折で求めた｛２００｝面の強度をＩ０としたとき、Ｉ／Ｉ０＞２０である立方体集合組織を得る。
【０００６】
また、例えば、特許文献２では、最終冷間圧延前の立方体集合組織の発達度を高め、最終冷間圧延での加工度を９３％以上とする。更に再結晶焼鈍を施すことにより、｛２００｝面の積分強度がＩ／Ｉ０≧４０の、立方体集合組織が著しく発達した圧延銅箔を得る。
【０００７】
また、例えば、特許文献３では、最終冷間圧延工程における総加工度を９４％以上とし、かつ１パスあたりの加工度を１５％〜５０％に制御する。これにより、再結晶焼鈍後には、所定の結晶粒配向状態が得られる。つまり、Ｘ線回折極点図測定により得られる圧延面の{２００}面に対する{１１１}面の面内配向度Δβが１０°以下となる。また、圧延面における立方体集合組織である{２００}面の規格化した回折ピーク強度［ａ］と{２００}面の双晶関係にある結晶領域の規格化した回折ピーク強度［ｂ］との比が、［ａ］/［ｂ
］≧３となる。
【０００８】
このように、従来技術では、最終冷間圧延工程の総加工度を高くすることで、再結晶焼
鈍工程後に圧延銅箔の立方体集合組織を発達させて耐屈曲性の向上を図っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第３００９３８３号公報
【特許文献２】特許第３８５６６１６号公報
【特許文献３】特許第４２８５５２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
一方、近年では、電子機器の小型化や薄型化に伴い、小スペースへＦＰＣを折り曲げて組み込むことが多くなってきている。特に、スマートフォン等のパネル部分では、配線の形成されたＦＰＣが１８０°に折り曲げられて組み込まれることもある。このため、圧延銅箔に対し、小さな曲げ半径を許容する耐折り曲げ性の要求が高まってきている。
【００１１】
このように、用途等の違いに応じて、繰り返しの曲げに耐える耐屈曲性と、小さな曲げ半径に耐える耐折り曲げ性と、の異なる要求が生じ得る。これらの異なる要求に応えるため、従来は、それぞれの用途ごとに、異なる特性の圧延銅箔を分けて製造していた。しかしながら、このような状況は生産性の面から効率的とはいえず、採算性が悪いという課題があった。
【００１２】
本発明の目的は、再結晶焼鈍工程後に、高い耐屈曲性とともに優れた耐折り曲げ性を具備させることが可能な圧延銅箔を提供することである。このように、両特性を兼ね備える圧延銅箔が実現可能となれば、耐屈曲性を重視する用途と耐折り曲げ性を重視する用途とのどちらへも適用可能となる。よって、圧延銅箔の製造においても、ＦＰＣの製造においても、生産効率を著しく向上させることができる。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第１の態様によれば、
主表面を備え、前記主表面に平行な複数の結晶面を有する最終冷間圧延工程後、再結晶焼鈍工程前の圧延銅箔であって、
前記複数の結晶面には｛０２２｝面、｛００２｝面、｛１１３｝面、｛１１１｝面、及び｛１３３｝面が含まれ、
前記主表面に対する２θ／θ法を用いたＸ線回折測定から求められ、合計値が１００となるように換算された前記各結晶面の回折ピーク強度比をそれぞれＩ｛０２２｝、Ｉ｛００２｝、Ｉ｛１１３｝、Ｉ｛１１１｝、及びＩ｛１３３｝としたとき、
Ｉ｛０２２｝＋Ｉ｛００２｝≧７５．０であり、
Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用い、１５°以上９０°以下の範囲内の複数のあおり角度のそれぞれについて、前記主表面の面内回転角度を０°以上３６０°以下の範囲内で変化させて測定した｛１１１｝面の回折ピークの平均強度を求め、
前記あおり角度を横軸とし、回折ピーク強度を縦軸として、前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットしたグラフを作成したとき、
前記あおり角度が４７°での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度と前記あおり角度が５３°での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度とを結ぶ直線の縦軸切片を［Ａ］とし、前記あおり角度が１５°以上９０°以下の範囲内での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度の最大値を［Ｂ］としたとき、
［Ａ］／［Ｂ］≧１／４であり、
前記主表面の表面粗さが、
十点平均粗さＲｚｊiｓ≦１．２μｍであり、
算術平均粗さＲａ≦０．３μｍである
圧延銅箔が提供される。
【００１４】
本発明の第２の態様によれば、
無酸素銅、又はタフピッチ銅を主成分とする
第１の態様に記載の圧延銅箔が提供される。
【００１５】
本発明の第３の態様によれば、
銀、硼素、チタン、錫の少なくともいずれかが添加されている
第１又は第２の態様に記載の圧延銅箔が提供される。
【００１６】
本発明の第４の態様によれば、
厚さが２０μｍ以下となっている
第１〜第３の態様のいずれかに記載の圧延銅箔が提供される。
【００１７】
本発明の第５の態様によれば、
フレキシブルプリント配線板用である
第１〜第４の態様のいずれかに記載の圧延銅箔が提供される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、再結晶焼鈍工程後に、高い耐屈曲性とともに優れた耐折り曲げ性を具備させることが可能な圧延銅箔が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態に係る圧延銅箔の製造工程を示すフロー図である。
【図２】本発明の実施例及び比較例におけるＸ線回折の測定方法の概要を示す図である。
【図３】２θ／θ法を用いたＸ線回折の測定結果であって、（ａ）は本発明の実施例１に係る圧延銅箔のＸ線回折チャートであり、（ｂ）は実施例２に係る圧延銅箔のＸ線回折チャートであり、（ｃ）は比較例３に係る圧延銅箔のＸ線回折チャートである。
【図４】本発明の実施例１に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図５】本発明の実施例２に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図６】本発明の実施例３に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図７】本発明の実施例４に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図８】比較例１に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図９】比較例２に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図１０】比較例３に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図１１】比較例４に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図１２】比較例５に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図１３】比較例６に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図１４】比較例７に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフである。
【図１５】本発明の実施例に係る圧延銅箔の耐屈曲性を測定する摺動屈曲試験装置の模式図である。
【図１６】本発明の実施例に係る圧延銅箔の耐折り曲げ性の試験方法の概要を示す図である。
【図１７】純銅型金属の逆極点図であって、（ａ）は引張変形による結晶回転方向を示す逆極点図であり、（ｂ）は圧縮変形による結晶回転方向を示す逆極点図である。
【図１８】一般的な逆極点図に、｛０１３｝面、｛０２３｝面およびこれらの結晶面との方位差が比較的小さい結晶面の領域を描き加えた図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
＜本発明者等が得た知見＞
上述のように、ＦＰＣ用途で求められる優れた耐屈曲性の圧延銅箔を得るには、圧延面の立方体方位を発達させるほど良い。本発明者等も、立方体方位の占有率を増大させるべく種々の実験を行ってきた。そして、それまでの実験結果から、最終冷間圧延工程後に存在していた｛０２２｝面が、その後の再結晶焼鈍工程によって再結晶に調質されると、｛００２｝面、すなわち立方体方位となることを確認した。つまり、最終冷間圧延工程後、再結晶焼鈍工程前においては、｛０２２｝面が主方位となっていることが好ましい。
【００２１】
一方、上述の特許文献１〜３に記載があるように、また、本発明者等が試みたように、立方体集合組織を多く発現させたとしても、多結晶構造をとる圧延銅箔において立方体集合組織である｛００２｝面が１００％を占めることはない。これは再結晶焼鈍工程前でも同じであり、再結晶焼鈍工程前の状態では主方位である｛０２２｝面や、再結晶前後に結晶方位の保たれる｛００２｝面以外にも、｛１１３｝面、｛１１１｝面、｛１３３｝面、｛０１３｝面、｛０２３｝面等の副方位の結晶面が制御されることなく複数混在する。そして、これらの複数の結晶面を有する結晶粒は、圧延銅箔の諸特性に種々の影響を及ぼすと考えられる。そこで、本発明者等は、これまで不要とされてきた副方位の結晶面に着目し、主方位の占有率を減少させることなく高い耐屈曲性を維持しながら、これら副方位の結晶面によって圧延銅箔に他の特性、例えば近年、要求の高まりがみられる耐折り曲げ性を高めることができないかを検討してきた。
【００２２】
係る検討において、本発明者等は、｛１１３｝面、｛１１１｝面、｛１３３｝面、｛０１３｝面、｛０２３｝面等の副方位を含む結晶面の、圧延銅箔の主表面における回折ピークの解析を進めた。回折ピークは各副方位の存在を示し、その強度比から各副方位の占有率を知ることができる。このような鋭意研究の結果、本発明者等は、係る回折ピークの状態を様々に規定し、これらを制御することで、主方位の｛０２２｝面の制御によって高い耐屈曲性が既に得られている状況下であっても、さらに耐折り曲げ性を向上させることができることを見いだした。
【００２３】
また、これと併せて、本発明者等は、ＦＰＣ用途で求められる耐折り曲げ性の高い圧延銅箔を得るべく、さらに鋭意研究を行った。その結果、耐折り曲げ性には結晶方位のみならず、圧延銅箔の主表面の凹凸の状態が大きく影響していることを見いだした。
【００２４】
本発明は、発明者等が見いだしたこれらの知見に基づくものである。
【００２５】
＜本発明の一実施形態＞
（１）圧延銅箔の構成
まずは、本発明の一実施形態に係る圧延銅箔の結晶構造等の構成について説明する。
【００２６】
（圧延銅箔の概要）
本実施形態に係る圧延銅箔は、例えば主表面としての圧延面を備える板状に構成されている。この圧延銅箔は、例えば無酸素銅（ＯＦＣ：Oxygen-Free Copper）やタフピッチ銅等の純銅を原材料とする鋳塊に、後述の熱間圧延工程や冷間圧延工程等を施し所定厚さとした、最終冷間圧延工程後、再結晶焼鈍工程前の圧延銅箔である。
【００２７】
本実施形態に係る圧延銅箔は、例えばＦＰＣの可撓性の配線材用途に用いられるよう、総加工度が９０％以上、より好ましくは９４％以上の最終冷間圧延工程により厚さが２０μｍ以下に構成されている。係る圧延銅箔は、この後、上述のように、例えばＦＰＣの基材との貼り合わせの工程を兼ねて再結晶焼鈍工程が施され、再結晶することにより優れた耐屈曲性を具備させることが企図されている。
【００２８】
原材料となる無酸素銅は、例えばＪＩＳ  Ｃ１０２０，Ｈ３１００等に規定の純度が９９．９６％以上の銅材である。酸素含有量は完全にゼロでなくともよく、例えば数ｐｐｍ程度の酸素が含まれていてもよい。また、タフピッチ銅は、例えばＪＩＳ  Ｃ１１００，Ｈ３１００等に規定の純度が９９．９％以上の銅材である。タフピッチ銅の場合、酸素含有量は例えば１００ｐｐｍ〜６００ｐｐｍ程度である。これらの銅材に銀（Ａｇ）等の所定の添加材を微量に加えて希薄銅合金とし、耐熱性等の諸特性が調整された圧延銅箔とする場合もある。本実施形態に係る圧延銅箔には純銅と希薄銅合金との両方を含むことができ、原材料の銅材質や添加材による本実施形態の効果への影響はほとんど生じない。
【００２９】
最終冷間圧延工程における総加工度は、最終冷間圧延工程前の加工対象物（銅の板材）の厚さをＴＢとし、最終冷間圧延工程後の加工対象物の厚さをＴＡとすると、総加工度（％）＝［（ＴＢ−ＴＡ）／ＴＢ］×１００で表わされる。総加工度を９０％以上、より好ましくは９４％以上とすることで、耐屈曲性に優れる圧延銅箔が得られる。
【００３０】
（圧延面の結晶構造）
また、本実施形態に係る圧延銅箔は、圧延面に平行な複数の結晶面を有している。具体的には、最終冷間圧延工程後、再結晶焼鈍工程前の状態で、複数の結晶面には、｛０２２｝面、｛００２｝面、｛１１３｝面、｛１１１｝面、及び｛１３３｝面が含まれる。｛０２２｝面は圧延面における主方位となっており、その他の各結晶面は副方位である。
【００３１】
上述のように、係る各結晶面の状態は、各結晶面について測定される回折ピーク強度等の状態を規定した比例関係式によって制御される。各結晶面の回折ピーク強度は、圧延銅箔の圧延面に対する２θ／θ法を用いたＸ線回折測定から求めることができる。ここで、２θ／θ法を用いたＸ線回折測定の概略について、後述する実施例及び比較例に係る図２を参照して説明する。なお、Ｘ線回折測定の詳細については後述する。
【００３２】
図２に示すように、圧延銅箔等の試料片５０をθ軸、ψ軸、φ軸の３つの走査軸回りに回転可能に配置する。２θ／θ法を用いたＸ線回折測定では、試料片５０をθ軸回りに回転させ、試料片５０に対し角度θで入射Ｘ線を入射する。また、入射Ｘ線の入射方向に対して角度２θで回折された回折Ｘ線を検出する。これにより、試料片５０の主表面に対して平行な各結晶面の回折ピークが、主表面における各結晶面の占有率に応じた強度で得られる。
【００３３】
このようなＸ線回折により測定した上述の５つの結晶面の回折ピーク強度を合計値が１００となるような比に換算したものが、各結晶面の回折ピーク強度比Ｉ｛０２２｝、Ｉ｛００２｝、Ｉ｛１１３｝、Ｉ｛１１１｝、及びＩ｛１３３｝である。係る回折ピーク強度比は、圧延面における各結晶面の占有率に略等しい。
【００３４】
各結晶面の回折ピーク強度から、代表として｛０２２｝面の回折ピーク強度比を求める
換算式（Ａ）を以下に示す。ここで、各結晶面の回折ピーク強度をそれぞれＩ’｛０２２｝、Ｉ’｛００２｝、Ｉ’｛１１３｝、Ｉ’｛１１１｝、及びＩ’｛１３３｝とする。
【００３５】
【数１】
2014019892.tif 000003
【００３６】
本実施形態に係る圧延銅箔において、｛０２２｝面および｛００２｝面の回折ピーク強度比は、以下の式（１）が成り立つ関係にある。
【００３７】
Ｉ｛０２２｝＋Ｉ｛００２｝≧７５．０・・・（１）
【００３８】
また、本実施形態に係る圧延銅箔は、上述の式（１）に加え、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ（極点図）法を用いて求められる数値をも満たすよう規定される。ここで、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用いた測定の概略について、図２を参照して説明する。なお、係る測定の詳細については後述する。
【００３９】
図２に示すように、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法の反射法を用いた測定では、上述の試料片５０を更にψ軸回りに回転させ、１５°以上９０°以下の範囲内の複数のあおり角度ψのそれぞれについて２θ／θ法と同様に回折Ｘ線を検出する。このとき、各あおり角度ψにおいては、その角度を維持しつつ、上述の試料片５０をφ軸回りに回転させて面内回転角度φを０°以上３６０°以下の範囲内で変化させて測定を行い、得られた銅結晶の｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をそれぞれ求める。
【００４０】
このような測定により求めた各平均強度を用い、本実施形態に係る圧延銅箔を規定する手法を以下に説明する。
【００４１】
あおり角度ψを横軸とし、回折ピーク強度を縦軸として、上述の｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットし、例えば後述の実施例１に係る図４のようなグラフを作成する。
【００４２】
例えば図４に示すように、あおり角度ψが４７°での｛１１１｝面の回折ピークの平均強度と、あおり角度ψが５３°での｛１１１｝面の回折ピークの平均強度とを直線で結ぶ。これにより、この直線の縦軸切片を得る。このとき、係る縦軸切片を［Ａ］とする。
【００４３】
また、グラフの範囲内、つまり、あおり角度ψが１５°以上９０°以下の範囲内での｛１１１｝面の回折ピークの平均強度の最大値を［Ｂ］とする。このとき、本実施形態に係る圧延銅箔においては、以下の式（２）を満たす。
【００４４】
［Ａ］／［Ｂ］≧１／４・・・（２）
【００４５】
以上、式（１），（２）により規定される条件を満たすことで、本実施形態に係る圧延銅箔は、再結晶焼鈍工程後には、繰り返しの曲げに耐える高い耐屈曲性とともに、小さな曲げ半径に耐える優れた耐折り曲げ性を具備するよう構成される。
【００４６】
（圧延面の表面粗さ）
本実施形態に係る圧延銅箔は、上述の構成に加え、更に以下の表面粗さを備える。
【００４７】
本実施形態に係る圧延銅箔は、圧延面の表面粗さが、十点平均粗さＲｚｊiｓおよび算
術平均粗さＲａで、以下の式（３），（４）に示すように規定されている。
【００４８】
十点平均粗さＲｚｊiｓ≦１．２μｍ・・・（３）
算術平均粗さＲａ≦０．３μｍ・・・（４）
【００４９】
なお、ここでいう十点平均粗さ及び算術平均粗さとは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１により、それぞれ規定される十点平均粗さＲｚｊｉｓおよび算術平均粗さＲａのことである。ＪＩＳ規格で各々定義される表面粗さの表示記号には変遷がみられ、いささか混同が生じ易い。念のため、以下の表１に、表面粗さについてのＪＩＳ規格の変遷を示す。
【００５０】
【表１】
2014019892.tif 000004
【００５１】
十点平均粗さＲｚｊｉｓおよび算術平均粗さＲａは、粗さ測定によって得られた粗さ曲線から求められる。
【００５２】
つまり、十点平均粗さＲｚｊｉｓについては、まず、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけ抜き取る。この抜き取り部分の平均線から縦倍率の方向に所定数の山頂と谷底とを測定する。このとき、最も高い山頂から５番目までの山頂の標高の絶対値の平均値と、最も低い谷底から５番目までの谷底の標高の絶対値の平均値との和を求める。これらの平均値の和をマイクロメートル（μｍ）で表わしたものが十点平均粗さＲｚｊｉｓである。
【００５３】
また、算術平均粗さＲａについては、粗さ曲線から抜き取った平均線から、測定曲線までの、偏差の絶対値を合計し、平均値を求める。つまり、このように、粗さ曲線と平均線とによって得られる面積を長さＬで割って求めた平均値をマイクロメートル（μｍ）で表わしたものが算術平均粗さＲａである。
【００５４】
以上により、本実施形態に係る圧延銅箔は、再結晶焼鈍工程後には、高い耐屈曲性とともに優れた耐折り曲げ性を具備するよう構成される。
【００５５】
（２）圧延銅箔に付与される特性
以上のような結晶構造や表面粗さを備えることで、圧延銅箔に付与されることとなる特性について以下に説明する。
【００５６】
（式（１）で規定される結晶構造について）
上述のように、再結晶焼鈍工程前の｛０２２｝面は再結晶焼鈍工程後に｛００２｝面へと変化し、再結晶焼鈍工程前の｛００２｝面は再結晶焼鈍工程後もそのまま残存することで、圧延銅箔の耐屈曲性を向上させる。また、再結晶焼鈍工程の際、｛００２｝面は、自身の結晶方位は変化しないものの、種結晶となって、｛０２２｝面が｛００２｝面へと変
化し成長することを促進する。したがって、再結晶焼鈍工程前において上述の式（１）を満たすことで、このような効果を充分に得ることができる。
【００５７】
但し、ここで、｛００２｝面は存在していなくともよい。すなわち、｛００２｝面の回折ピーク強度比Ｉ｛００２｝はゼロでもよい。上述の式（１）において、例えばＩ｛０２２｝＋Ｉ｛００２｝＝８０．０＋０＝８０．０の場合と、Ｉ｛０２２｝＋Ｉ｛００２｝＝６０．０＋２０．０＝８０．０の場合とで、再結晶焼鈍工程後には、｛００２｝面の結晶組織を備える互いに略同様の圧延銅箔が得られることがわかっている。また、上述の式（１）により規定される数値は高ければ高いほど良く、これまでのところ、上限値は認められていない。
【００５８】
（式（２）で規定される結晶構造について）
また、本発明者等は、上述の結晶面以外の副方位についても研究を重ね、耐折り曲げ性に有利となる副方位を特定するに至った。
【００５９】
つまり、例えば｛０１３｝面や｛０２３｝面、或いはこれらの結晶面に近い結晶方位、具体的には、これらの結晶面と±１０°程度以内にある結晶方位を有する結晶面は、耐折り曲げ性を向上させる作用を備える。また、これらの結晶面は、再結晶焼鈍工程において再結晶した後も結晶方位が変わらない。よって、これらの結晶面についても、最終冷間圧延工程後、再結晶焼鈍工程前の圧延銅箔における状態を制御できれば、圧延銅箔に優れた耐折り曲げ性を付与することができる。
【００６０】
ところで、｛０１３｝面や｛０２３｝面は、たとえ圧延銅箔の圧延面に存在していたとしても、２θ／θ法によるＸ線回折測定では検出されない。銅は面心立方構造の結晶なので、２θ／θ法によるＸ線回折測定では｛ｈｋｌ｝面のｈ，ｋ，ｌが全て奇数値または全て偶数値でなければ回折ピークとして現れない。｛０１３｝面や｛０２３｝面のように、ｈ，ｋ，ｌが奇数値と偶数値との混在となっていると、消滅則によって回折ピークが消失してしまうためである。
【００６１】
そこで、本実施形態では、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用いてこれらの結晶面を上述の式（２）のように規定する。上述において、あおり角度ψが４７°での｛１１１｝面の回折ピークは、圧延銅箔の圧延面に平行な｛０１３｝面の存在を意味する。また、係る回折ピークの平均強度等から｛０１３｝面の状態を知ることができる。また、あおり角度ψが５３°での｛１１１｝面の回折ピークは、圧延銅箔の圧延面に平行な｛０２３｝面の存在を意味する。また、係る回折ピークの平均強度等から｛０２３｝面の状態を知ることができる。
【００６２】
回折ピークの平均強度のグラフにおける直線が上述の式（２）を満たすことで、これらの結晶面の占有率が充分に高い圧延銅箔となり、優れた耐折り曲げ性を付与することができる。係る直線が上述の式（２）を満たすか否かは、例えばあおり角度ψが４７°での回折ピークの平均強度とあおり角度ψが５３°での回折ピークの平均強度との大小関係や、これらの平均強度とグラフの最大値の平均強度との大小関係や、２つの平均強度を結ぶ直線の傾き等によって決まる。
【００６３】
また、回折ピークの平均強度のグラフを用いた上述の式（２）を満たすことで、圧延銅箔に耐折り曲げ性が付与される点について、本発明者等は次のように考察している。｛０１３｝面や｛０２３｝面、及びこれらの結晶面に近い結晶方位、つまりこれらの結晶面との結晶方位差が比較的小さい結晶面は、圧延銅箔中に所定量存在している場合には集合組織を形成していると考えられる。また、これらの結晶面が集合組織を形成することで、耐折り曲げ性の向上に寄与すると思われる。
【００６４】
上述のグラフにより得られる直線の縦軸切片［Ａ］がグラフの最大値［Ｂ］に対して４分の１という条件は、これらの結晶面が集合組織を形成するかどうかの境界を表わしていると、本発明者等は考えている。つまり、［Ａ］／［Ｂ］＜１／４のとき、｛０１３｝面や｛０２３｝面等は集合組織を形成していないか、或いは形成が不充分で上述の効果が発揮されないと考えられる。なお、上述の式（２）により規定される［Ａ］／［Ｂ］は高ければ高いほど良く、これまでのところ、上限値は認められていない。
【００６５】
（式（３）（４）で規定される表面粗さについて）
上述のように、本発明者等は、各結晶面の回折ピーク強度比等の制御に加え、圧延銅箔の圧延面の表面粗さが所定値以下であるとき、圧延銅箔の耐折り曲げ性を向上させることができることを見いだした。これは、圧延銅箔の圧延面の凹凸差が大きいと、圧延銅箔を折り曲げたときに凹部が開く方向に変形し、ここを起点に割れが発生し易くなるためと考えられる。
【００６６】
当初、本発明者等は、圧延銅箔の表面粗さを十点平均粗さＲｚｊｉｓで規定することとした。これを所定値以下に抑えることで、圧延銅箔の耐折り曲げ性を向上させることができる。
【００６７】
しかしながら、十点平均粗さＲｚｊｉｓの制御のみでは、測定試験用の試料片ごとに耐折り曲げ性がばらつき、優れた耐折り曲げ性を安定的に得ることができない場合があった。
【００６８】
本発明者等は、さらなる鋭意研究の結果、十点平均粗さＲｚｊｉｓに加え、算術平均粗さＲａを用いて表面粗さを規定し、これらを制御することで、優れた耐折り曲げ性が安定的に得られることを見いだした。本発明者等は、この理由について、上述の表１に示したような種々の表面粗さの指標の特徴に鑑みて、以下のような考察を行った。
【００６９】
上述の表１にも示すＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１の規定による最大高さＲｚは、最凸部と最凹部との差により表わされる。よって、他の部分がどれだけ平坦であっても、大きく突出した部分や落ちくぼんだ部分があると、最大高さＲｚは大きくなる。
【００７０】
本実施形態に係る圧延銅箔の表面粗さの指標の１つとして用いる十点平均粗さＲｚｊｉｓは、このような最凸部と最凹部とを含むそれぞれ５点ずつの差を抜き出して数値化したものである。つまり、山頂と谷底との合計１０点を用いて数値化するため、上述の最大高さＲｚのように１つの凹凸差だけでなく、平均的にどれくらいの凹凸差があるかの情報が得られる。
【００７１】
一方、圧延銅箔の表面粗さのもう１つの指標である算術平均粗さＲａは、凹凸差に着目する十点平均粗さＲｚｊｉｓ等とは異なり、測定箇所全体でどれだけうねりがあるか、に着目する。つまり、中心となる直線状の平均線に対して、粗さ曲線がどれだけ外れているかであり、全体の平均である平均線と粗さ曲線の凹凸との間の面積をみていることになる。よって、最大高さＲｚが大きくても、大きく突出した部分等が１箇所だけであれば、算術平均粗さＲａは小さくなる場合がある。また、最大凹凸部の各５点が略同等で、十点平均粗さＲｚｊｉｓが互いに同等の圧延銅箔同士であっても、他の部分に表面荒れ等があれば、算術平均粗さＲａは大きくなる場合がある。逆に、他の部分の表面荒れが最大凹凸部の各５点の範囲内であれば、算術平均粗さＲａは小さくなる場合がある。
【００７２】
本発明者等によれば、以上のことから鑑みて、十点平均粗さＲｚｊｉｓを所定値以内に制御することで、極端に大きな凹凸差を排除し、圧延銅箔を折り曲げたときに凹凸部が開
裂して破断してしまうのを抑制できる。一方で、算術平均粗さＲａを所定値以内に制御することで、全体としてのバラツキを抑え、ひいては耐折り曲げ性の数値の安定化を図ることができる。
【００７３】
このように、本実施形態によれば、２θ／θ法やＸ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法のようなＸ線の回折ピーク等に顕現される圧延銅箔の内面的な制御により、優れた耐屈曲性および耐折り曲げ性を圧延銅箔に付与することができる。また、十点平均粗さＲｚｊｉｓおよび算術平均粗さＲａの表面粗さ等に顕現される圧延銅箔の外面的な制御により、更に優れた耐折り曲げ性を安定的に圧延銅箔に付与することができる。
【００７４】
（３）圧延銅箔の製造方法
次に、本発明の一実施形態に係る圧延銅箔の製造方法について、図１を用いて説明する。図１は、本実施形態に係る圧延銅箔の製造工程を示すフロー図である。
【００７５】
（鋳塊の準備工程Ｓ１０）
図１に示すように、まずは、無酸素銅（ＯＦＣ：Oxygen-Free Copper）やタフピッチ銅等の純銅を原材料として鋳造を行って鋳塊（インゴット）を準備する。鋳塊は、例えば所定厚さ、所定幅を備える板状に形成する。原材料となる無酸素銅やタフピッチ銅等の純銅は、圧延銅箔の諸特性を調整するため、所定の添加材が添加された希薄銅合金となっていてもよい。
【００７６】
添加材で調整可能な諸特性には、例えば耐熱性がある。上述のように、ＦＰＣ用の圧延銅箔では、圧延銅箔に高い耐屈曲性を付与する再結晶焼鈍工程は、例えばＦＰＣの基材との貼り合わせの工程を兼ねて行われる。貼り合わせの際の加熱温度は、例えばＦＰＣの樹脂等からなる基材の硬化温度や、使用する接着剤の硬化温度等に併せて設定され、温度条件の範囲は広く多種多様である。このように設定された加熱温度に圧延銅箔の軟化温度を合わせるべく、圧延銅箔の耐熱性を調整可能な添加材が添加される場合がある。
【００７７】
本実施形態に使用される鋳塊として、添加材が無添加の鋳塊や、幾種類かの添加材を添加した鋳塊を以下の表２に例示する。
【００７８】
【表２】
2014019892.tif 000005
【００７９】
また、表２に示す添加材やその他の添加材として、耐熱性を上昇又は降下させる添加材には、例えば１０ｐｐｍ〜５００ｐｐｍ程度の硼素（Ｂ）、ニオブ（Ｎｂ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、バナジウム（Ｖ）、マンガン（Ｍｎ）、ハフニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、及びカルシウム（Ｃａ）のいずれか１つ又は複数の元素を添加した例がある。或いは、第１の添加元素としてＡｇを添加し、第２の添加元素として代表例に挙げたこれらの元素のいずれか１つ又は複数の元素を添加した例がある。そのほか、クロム（Ｃｒ）、亜鉛（Ｚｎ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、砒素（Ａｓ）、Ｃｄ（カドミウム）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、アンチモン（Ｓｂ）、金（Ａｕ）等を微量添加することも可能である。
【００８０】
なお、鋳塊の組成は、後述の最終冷間圧延工程Ｓ４０を経た後の圧延銅箔においても略そのまま維持され、鋳塊中に添加材を加えた場合には、鋳塊と圧延銅箔とは略同じ添加材濃度となる。
【００８１】
また、後述の焼鈍工程Ｓ３２における温度条件は、銅材質や添加材による耐熱性に応じ
て適宜変更する。但し、このような銅材質や添加材、これに応じた焼鈍工程Ｓ３２の温度条件の変更等は、本実施形態の効果に対してほとんど影響を与えない。
【００８２】
（熱間圧延工程Ｓ２０）
次に、準備した鋳塊に熱間圧延を施して、鋳造後の所定厚さよりも薄い板厚の板材とする。
【００８３】
（繰り返し工程Ｓ３０）
続いて、冷間圧延工程Ｓ３１と焼鈍工程Ｓ３２とを所定回数繰り返し実施する繰り返し工程Ｓ３０を行う。すなわち、冷間圧延を施して加工硬化させた板材に、焼鈍処理を施して板材を焼き鈍すことにより加工硬化を緩和する。これを所定回数繰り返すことで、「生地」と称される銅条が得られる。銅材に耐熱性を調整する添加材等が加えられている場合は、銅材の耐熱性に応じて焼鈍処理の温度条件を適宜変更する。
【００８４】
なお、繰り返し工程Ｓ３０中、繰り返し途中の焼鈍工程Ｓ３２を「中間焼鈍工程」と呼ぶ。また、繰り返しの最後、つまり、後述の最終冷間圧延工程Ｓ４０の直前に行われる焼鈍工程Ｓ３２を「最終焼鈍工程」又は「生地焼鈍工程」と呼ぶ。生地焼鈍工程では、銅条（生地）に生地焼鈍処理を施し、焼鈍生地を得る。生地焼鈍工程においても、銅材の耐熱性に応じて温度条件を適宜変更する。このとき、生地焼鈍工程は、上述の各工程に起因する加工歪みを充分に緩和することのできる温度条件、例えば完全焼鈍処理と略同等の温度条件で実施することが好ましい。
【００８５】
（最終冷間圧延工程Ｓ４０）
次に、最終冷間圧延工程Ｓ４０を実施する。最終冷間圧延は仕上げ冷間圧延とも呼ばれ、仕上げとなる冷間圧延を複数回に亘って焼鈍生地に施して薄い銅箔状とする。このとき、高い耐屈曲性を有する圧延銅箔が得られるよう、総加工度を９０％以上、より好ましくは９４％以上とする。これにより、再結晶焼鈍工程後において、いっそう優れた耐屈曲性が得られ易い圧延銅箔となる。
【００８６】
また、以下に述べるように、複数回繰り返される冷間圧延の１回（１パス）あたりの加工度や、中立点の位置移動、および圧延に用いるロールの表面粗さ等を制御して、冷間圧延時に焼鈍生地に働く圧縮応力と引張応力とを変化させる。これにより、圧延銅箔の各結晶面の回折ピーク強度比を変化させることができる。
【００８７】
すなわち、１パスあたりの加工度は、冷間圧延を複数回繰り返すごとに焼鈍生地が薄くなるのに応じて徐々に小さくしていくことが好ましい。ここで、１パスあたりの加工度は、上述の総加工度の例に倣い、ｎパス目の圧延前の加工対象物の厚さをＴＢｎとし、圧延後の加工対象物の厚さをＴＡｎとすると、１パスあたりの加工度（％）＝［（ＴＢｎ−ＴＡｎ）／ＴＢｎ］×１００で表わされる。
【００８８】
圧延加工時、焼鈍生地等の加工対象物は、例えば互いに対向する１対の圧延ロール間の間隙に引き込まれ、反対側に引き出されることで減厚される。加工対象物の速度は、圧延ロールに引き込まれる前の入り口側では圧延ロールの回転速度より遅く、圧延ロールから引き出された後の出口側では圧延ロールの回転速度より速い。したがって、加工対象物には、入り口側では圧縮応力が、出口側では引張応力が加わる。加工対象物を薄く加工するためには、圧縮応力＞引張応力でなければならない。１パスあたりの加工度を調整することで、圧縮応力＞引張応力であることを前提として、それぞれの応力成分（圧縮成分と引張成分）の比を調整することができる。
【００８９】
また、最終冷間圧延工程Ｓ４０では、冷間圧延を複数回繰り返すごとに、以下に説明す
る中立点の位置が圧延ロールの出口側へと移動していくよう制御することが好ましい。上述のように、圧延ロールの回転速度に対して入り口側と出口側とで大小関係が逆転する加工対象物の速度は、入り口側及び出口側の間のどこかの位置で圧延ロールの回転速度と等しくなる。この両者の速度が等しい位置を中立点といい、中立点では加工対象物に加わる圧力が最大となる。
【００９０】
中立点の位置は、前方張力、後方張力、圧延速度（圧延ロールの回転速度）、圧延ロール径、圧延ロールの表面粗さ、加工度、圧延荷重等の組み合わせを調整することで制御することができる。つまり、中立点の位置を制御することによっても、圧縮応力及び引張応力の比を調整することができる。
【００９１】
また、最終冷間圧延工程Ｓ４０においては、表面粗さが算術平均粗さＲａで０．０７５μｍ以下の圧延ロールを用いることが好ましい。圧延ロールの表面粗さは、上述の圧縮応力と引張応力との応力バランスや圧延銅箔の表面粗さに影響を与える。よって、圧延ロールの表面粗さを所定値に制御することで、各結晶面の比率を制御することができる。また、表面粗さが上述の式（３），（４）を満たす圧延銅箔を得ることができる。
【００９２】
なお、このとき、油膜当量を適宜調整したうえで、圧延ロールの表面粗さを所定値とすることが好ましい。油膜当量は、加工対象物に塗布される圧延油の油膜の厚みに関わる指標である。油膜当量については、後述する。
【００９３】
最終冷間圧延工程Ｓ４０時の圧縮応力と引張応力との応力バランスは、１パスあたりの加工度や中立点の位置移動や圧延ロールの表面粗さ等により制御される。また、各結晶面の回折ピーク強度のバランスは、主に最終冷間圧延工程Ｓ４０時の圧縮応力と引張応力との応力バランスにより決まる。
【００９４】
具体的には、最終冷間圧延工程Ｓ４０等の圧延加工時、銅材中の銅結晶は、圧延加工時の応力により回転現象を起こし、いくつかの経路で｛０２２｝面へと変化する。圧縮応力が大きくなるほど｛０１３｝面や｛０２３｝面を経由し易く、引張応力が大きくなるほど｛１１１｝面を経由し易い。そして、それぞれが｛０２２｝面へと変化する。｛０２２｝面まで到達しなかった結晶や、｛０２２｝面に到達したものの引張応力によって｛１１１｝面へと回転してしまった結晶が副方位となる。
【００９５】
このように、圧縮応力と引張応力との応力バランスを変えることで｛０２２｝面への変化の経路が変わり、副方位の結晶面の回折ピーク強度のバランスを調整することができる。係る結晶面の回折ピーク強度のバランスは、上述の通り、圧延銅箔の耐屈曲性や耐折り曲げ性に多大な影響を与える。
【００９６】
以上のように、各パスにおける加工度の大きさ制御や中立点の位置制御、圧延ロールの表面粗さの制御等を行いつつ、最終冷間圧延工程Ｓ４０を施すことで、上述の式（１），（２）を満たす圧延銅箔を得ることができる。また、十点平均粗さＲｚｊｉｓ及び算術平均粗さＲａにより規定される上述の表面粗さが所定値となる。よって、再結晶焼鈍工程後には、繰り返しの曲げに耐える高い耐屈曲性とともに、小さな曲げ半径に耐える優れた耐折り曲げ性を具備する圧延銅箔が得られる。
【００９７】
（表面処理工程Ｓ５０）
以上の工程を経て銅箔状となった生地に所定の表面処理を施す。以上により、本実施形態に係る圧延銅箔が製造される。
【００９８】
（４）フレキシブルプリント配線板の製造方法
次に、本発明の一実施形態に係る圧延銅箔を用いたフレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）の製造方法について説明する。
【００９９】
（再結晶焼鈍工程（ＣＣＬ工程））
まずは、本実施形態に係る圧延銅箔を所定のサイズに裁断し、例えばポリイミド等の樹脂からなるＦＰＣの基材と貼り合わせてＣＣＬ（Copper Clad Laminate）を形成する。このとき、接着剤を介して貼り合わせを行う３層材ＣＣＬを形成する方法と、接着剤を介さず直接貼り合わせを行う２層材ＣＣＬを形成する方法のいずれを用いてもよい。接着剤を用いる場合には、加熱処理により接着剤を硬化させて圧延銅箔と基材とを密着させ一体化する。接着剤を用いない場合には、加熱・加圧により圧延銅箔と基材とを直接密着させる。加熱温度や時間は、接着剤や基材の硬化温度等に合わせて適宜選択することができ、例えば１５０℃以上４００℃以下の温度で、１分以上１２０分以下とすることができる。
【０１００】
上述のように、圧延銅箔の耐熱性は、このときの加熱温度に合わせて調整されている。したがって、ＣＣＬ工程での加熱により圧延銅箔が軟化し再結晶される。つまり、基材に圧延銅箔を貼り合わせるＣＣＬ工程が、圧延銅箔に対する再結晶焼鈍工程を兼ねている。圧延銅箔に対し再結晶焼鈍工程が施されることにより、再結晶組織を有する圧延銅箔が得られる。
【０１０１】
つまり、再結晶焼鈍工程前において主方位であった｛０２２｝面と副方位であった｛００２｝面の多くが、共に再結晶組織へと調質された｛００２｝面となる。これにより、高い耐屈曲性が得られる。
【０１０２】
また、その他の副方位は、再結晶後も最終冷間圧延工程後の状態を保ったまま、ほとんど変化することなく再結晶組織へと調質される。但し、再結晶状態となることで、これら副方位の結晶面から加工硬化の影響が取り除かれ、これら副方位の結晶面が持つ作用が最大限に近い形で発現する。
【０１０３】
例えば、｛０１３｝面や｛０２３｝面の持つ耐折り曲げ性を向上させる作用が発揮される。このとき、｛０１３｝面および｛０２３｝面は、上述の式（２）から得られる条件によって占有率が充分に高い状態にあるので、その作用が顕著に現れる。
【０１０４】
また、上述の十点平均粗さＲｚｊｉｓ及び算術平均粗さＲａにより規定される表面粗さが所定値となっていることで、バラツキが小さく、安定して優れた耐折り曲げ性が得られる。
【０１０５】
また、このように、ＣＣＬ工程が再結晶焼鈍工程を兼ねることで、圧延銅箔を基材に貼り合わせるまでの工程では、冷間圧延工程後の加工硬化した状態で圧延銅箔を取り扱うことができ、圧延銅箔を基材に貼り合わせる際の、伸び、しわ、折れ等の変形を起こり難くすることができる。
【０１０６】
副方位の各結晶面は再結晶焼鈍工程前後でほとんど変化しない。したがって、耐屈曲性及び耐折り曲げ性を得るには、最終冷間圧延工程後、再結晶焼鈍工程前の圧延銅箔について、上述の関係式や条件を満たすように副方位を制御しておけばよい。
【０１０７】
（表面加工工程）
次に、基材に貼り合わせた圧延銅箔に表面加工工程を施す。表面加工工程では、圧延銅箔に例えばエッチング等の手法を用いて銅配線等を形成する配線形成工程と、銅配線と他の電子部材との接続信頼性を向上させるためメッキ処理等の表面処理を施す表面処理工程と、銅配線等を保護するため銅配線上の一部を覆うようにソルダレジスト等の保護膜を形
成する保護膜形成工程とを行う。
【０１０８】
以上により、本実施形態に係る圧延銅箔を用いたＦＰＣが製造される。
【０１０９】
＜本発明の他の実施形態＞
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
【０１１０】
例えば、上述の実施形態においては、圧延銅箔の耐熱性を調整する添加材として主にＡｇを用いることとしたが、添加材は、Ａｇや上述の代表例等に挙げたものに限られない。また、添加材により調整可能な諸特性は耐熱性に限られず、調整を必要とする諸特性に応じて添加材を適宜選択してもよい。
【０１１１】
また、上述の実施形態においては、ＦＰＣの製造工程におけるＣＣＬ工程は圧延銅箔に対する再結晶焼鈍工程を兼ねることとしたが、再結晶焼鈍工程は、ＣＣＬ工程とは別工程として行ってもよい。
【０１１２】
また、上述の実施形態においては、圧延銅箔はＦＰＣ用途に用いられることとしたが、圧延銅箔の用途はこれに限られず、耐屈曲性及び耐折り曲げ性を必要とする用途に用いることができる。圧延銅箔の厚さについても、ＦＰＣ用途をはじめとする各種用途に応じて、１０μｍ以下の超極薄、或いは、２０μｍ超などとしてもよい。
【０１１３】
また、上述の実施形態においては、最終冷間圧延工程Ｓ４０での総加工度を９０％以上などとし優れた耐屈曲性を得ることとしたが、副方位の結晶面の調整により耐折り曲げ性を得る手法は、これとは独立して用いることができる。つまり、耐折り曲げ性が特に重要であって、ある程度の耐屈曲性が得られていればよい場合等には、最終冷間圧延工程における総加工度を例えば８５％、７５％、６５％等のように、９０％未満としてもよい。
【０１１４】
また、上述の実施形態においては、｛０１３｝面および｛０２３｝面を検出するにあたり、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法のうち、特に反射法による測定を行うこととしたが、透過法により測定することとしてもよい。また、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法以外にも、Ｉｎｖｅｒｓｅ  Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ（逆極点図）法や、その他の方法を用いてもよい。
【０１１５】
なお、本発明の効果を奏するためには、上述した工程のすべてが必須であるとは限らない。上述の実施形態や後述の実施例で挙げる種々の条件もあくまで例示であって、適宜変更可能である。
【実施例】
【０１１６】
次に、本発明に係る実施例について比較例とともに説明する。
【０１１７】
（１）無酸素銅を用いた圧延銅箔
まずは、無酸素銅を用いた実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔を以下のとおり製作し、それぞれについて各種評価を行った。
【０１１８】
（圧延銅箔の製作）
目標濃度を２００ｐｐｍとするＡｇを添加した無酸素銅を用い、上述の実施形態と同様の手順及び手法で、実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔を製作した。但し、比較例１〜７については、後述する１パスあたりの加工度や中立点の位置、圧延ロールの表面粗さ等、主に最終冷間圧延工程において、構成を外れる処理等を含めた。
【０１１９】
具体的には、無酸素銅に所定量のＡｇを溶解して鋳造した厚さ１５０ｍｍ、幅５００ｍｍの鋳塊を準備した。以下の表３に、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法により調べた、鋳塊中のＡｇ濃度の分析値を示す。
【０１２０】
【表３】
2014019892.tif 000006
【０１２１】
表３に示すように、目標濃度の２００ｐｐｍに対し、分析値は１８３ｐｐｍ〜２１８ｐｐｍと、いずれも２００ｐｐｍ±２０ｐｐｍ（１０％）程度内のバラツキに抑えられている。Ａｇは元々、主原材料である無酸素銅に不可避不純物として数ｐｐｍ〜十数ｐｐｍ程度含有されている場合があるほか、鋳塊を鋳造する際のバラツキ等の種々の原因により、目標濃度に対して±１０％程度内のバラツキは金属材料分野では一般的なものである。
【０１２２】
次に、上述の実施形態と同様の手順及び手法で、熱間圧延工程にて厚さ８ｍｍの板材を得た後、冷間圧延工程と、７５０℃〜８５０℃の温度で約２分間保持する中間焼鈍工程とを繰り返し実施し、厚さ０．４ｍｍ（４００μｍ）の銅条（生地）を製作した。続いて、約７５０℃の温度で約１分間保持する生地焼鈍工程にて焼鈍生地を得た。
【０１２３】
ここで、各焼鈍工程の温度条件等は、Ａｇを１８３ｐｐｍ〜２１８ｐｐｍ含有する無酸素銅材の耐熱性に合わせた。なお、組成が同じ銅材に対して各焼鈍工程で異なる温度条件を用いたのは、銅材の厚さに応じて耐熱性が変化するためであり、銅材が薄いときは温度を下げることができる。
【０１２４】
最後に、上述の実施形態と同様の手順及び手法で最終冷間圧延工程を行った。最終冷間圧延工程での条件を以下の表４に示す。
【０１２５】
【表４】
2014019892.tif 000007
【０１２６】
表４に示すように、上段から下段へと順次板厚が薄くなるのに応じて、各実施例、比較例とも、各々の右欄のように条件を切り替えて、最終冷間圧延を行った。つまり、厚さが４００μｍ以下における冷間圧延加工の、１パスあたりの加工度と中立点の位置とを変化させた。各々の右欄に示す中立点の位置（ｍｍ）は、圧延ロールと加工対象物である焼鈍生地との接触面の出口側端部から中立点までの長さで示した。
【０１２７】
各実施例、比較例とも、各々の右欄の範囲内で条件を振って、各実施例についてはそれぞれが所定の構成の範囲内となるよう、また、各比較例についてはそれぞれが所定の構成を外れるよう処理を施した。但し、今回用いた表４の条件は、あくまでも一例であって、どれくらいの板厚で条件を切り替えるか、各条件の数値をどのように設定するかは、最終的に所望する圧延銅箔の結晶構造等に応じて適宜選択することができる。比較例の条件に示したように、概して、緩慢な減厚を行うと本構成を外れる傾向にある。
【０１２８】
また、算術平均粗さＲａが０．０７５μｍ以下の表面粗さが小さい圧延ロールを実施例１〜４に使用し、算術平均粗さＲａが０．０８０μｍ以上の表面粗さが大きい圧延ロールを比較例１〜７に使用した。
【０１２９】
また、優れた耐屈曲性を得るため、実施例１〜４および比較例１〜７の全てにおいて、最終冷間圧延工程での総加工度が９４％以上となるように条件を設定した。具体的には、実施例１〜４および比較例１〜７ともに、総加工度を９７％とした。以上により、厚さが１２μｍの実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔を製作した。
【０１３０】
次に、以上のように製作した各圧延銅箔について次の評価を行った。
【０１３１】
（２θ／θ法によるＸ線回折測定）
まずは、実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔に対し、２θ／θ法によるＸ線回折測定を行った。測定方法の詳細について、図２を用いて以下に説明する。図２は、本発明の実施例及び比較例におけるＸ線回折の測定方法の概要を示す図である。
【０１３２】
図２に示すように、実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔の試料片５０を、上述の通り、θ軸、ψ軸、φ軸の３つの走査軸回りに回転可能に配置する。これら３つの走査軸は、一般に、それぞれ試料軸、あおり軸、面内回転軸と呼ばれる。本実施形態におけるＸ線回折の測定には、銅（Ｃｕ）管球から発生するＸ線（Ｃｕ  Ｋα線）を用いるも
のとする。
【０１３３】
２θ／θ法を用いたＸ線回折測定では、入射Ｘ線に対して試料片５０と図示しない検出器とをθ軸で走査（θ軸周りに回転）する。このとき、試料片５０の走査角を角度θとし、検出器の走査角を角度２θとする。これにより、上述の通り、角度θで入射Ｘ線が入射され、角度２θで回折された回折Ｘ線が検出される。
【０１３４】
本実施例および比較例では、株式会社リガク製のＸ線回折装置（型式：Ｕｌｔｉｍａ  IV）を用い、以下の表５に示す条件で係る測定を行った。代表として、図３（ａ），（ｂ）に実施例１，２のＸ線回折チャートを、図３（ｃ）に比較例３のＸ線回折チャートをそれぞれ示す。
【０１３５】
【表５】
2014019892.tif 000008
【０１３６】
次に、２θ／θ法により測定した銅結晶の｛０２２｝面、｛００２｝面、｛１１３｝面、｛１１１｝面、及び｛１３３｝面の回折ピーク強度を合計値が１００となるような比に換算し、各結晶面の回折ピーク強度比を求めた。また、上述の式（１）に係る値（Ｉ｛０２２｝＋Ｉ｛００２｝）を求めた。以下の表６に、実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔について、上述のように求めた各結晶面の回折ピーク強度比Ｉ｛０２２｝、Ｉ｛００２｝、Ｉ｛１１３｝、Ｉ｛１１１｝、Ｉ｛１３３｝の値、および、式（１）の値を示す。
【０１３７】
【表６】
2014019892.tif 000009
【０１３８】
上述のように、本実施例及び比較例では、最終冷間圧延工程での１パスあたりの加工度や中立点の位置を変化させている。また、実施例と比較例とで圧延ロールの表面粗さを変えている。これにより、冷間圧延加工時に、加工対象物に加わる圧縮成分と引張成分との応力成分の比が変化する。その結果、各結晶面の比率が変わり、表６に示す各結晶面の回折ピーク強度比や、式（１）に係る値も変化している。
【０１３９】
また、表６に示すように、実施例１〜４の各条件の組み合わせでは、式（１）の値はいずれも上述の所定範囲内にあった。
【０１４０】
一方、比較例１〜７の各条件の組み合わせでは、いくつかの圧延銅箔において、式（１）の値が上述の所定範囲外となるものがあった。表６中、上述の所定範囲を外れた値を下線付きの太字で示した。
【０１４１】
（Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法による測定）
次に、実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔に対し、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法による測定を行った。係る測定の方法には、後述するあおり角度ψを１５°〜９０°の範囲とする反射法と、０°〜１５°の範囲とする透過法とがある。本実施例では、上述の実施形態同様、反射法を用いた。測定方法の詳細について、図２を用いて以下に説明する。
【０１４２】
図２に示すように、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用いた測定では、上述の２θ／θ法を用いたＸ線回折測定と同様に、各圧延銅箔の試料片５０を配置する。
【０１４３】
また、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法では、以下のように規定されるあおり角度ψを利用して測定を行う。つまり、試料片５０に垂直な方向（φ軸方向）のあおり角度ψを９０°と定義する。また、着目する結晶面である｛ｈｋｌ｝面に幾何学的に対応する結晶面である｛ｈ’ｋ’ｌ’｝面が｛ｈｋｌ｝面となす角度をψ’とする。このとき、あおり角度ψ＝９０−ψ’と規定される。
【０１４４】
このような規定の元、試料片５０をψ軸走査（ψ軸周りに回転）し、あおり角度ψを１５°以上９０°以下の範囲内で変化させる。つまり、上述の範囲内のあおり角度ψで試料片５０を傾けていく。このようにあおり角度ψを変化させながら、複数のあおり角度ψにおいて、２θ／θ法と同様に回折Ｘ線を検出する。つまり、あおり角度ψが９０°のとき、原理的に２θ／θ法と同様の測定を行っていることとなる。
【０１４５】
また、各あおり角度ψにおける測定にあたっては、検出器の走査角を角度２θに固定し、｛ｈ’ｋ’ｌ’｝面の２θ値に対して試料片５０をφ軸走査（φ軸周りに回転）し、面内回転角度φを０°以上３６０°以下の範囲内で変化させる。つまり、上述の範囲内の面内回転角度φで試料片５０を自転させる。このようにして測定された｛ｈ’ｋ’ｌ’｝面の回折ピークにつき、面内回転角度φが０°以上３６０°以下の範囲内の回折ピークの平均強度を、各あおり角度ψについて求める。
【０１４６】
このとき、所定のあおり角度ψにおいて検出された｛ｈ’ｋ’ｌ’｝面は、圧延銅箔の圧延面に平行な｛ｈｋｌ｝面と幾何学的に対応する。本実施例において着目すべき｛ｈｋｌ｝面は、｛０１３｝面および｛０２３｝面である。圧延銅箔の圧延面に平行な｛０１３｝面と幾何学的な対応関係にあるのは、あおり角度ψが４７°において検出される｛１１１｝面である。また、圧延銅箔の圧延面に平行な｛０２３｝面と幾何学的な対応関係にあるのは、あおり角度ψが５３°において検出される｛１１１｝面である。
【０１４７】
よって、上述の通り、Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用いて得られた｛１１１｝面の回折ピークの平均強度のグラフから、本実施例の圧延銅箔が所定の結晶構造を備えるか否かを判定することができる。
【０１４８】
本実施例および比較例では、株式会社リガク製のＸ線回折装置（型式：Ｕｌｔｉｍａ  IV）を用い、以下の表７に示す条件で上述のような測定を行った。図４〜７に、実施例１〜４に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフを示す。また、図８〜１４に、比較例１〜７に係る｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットして作成したグラフを示す。
【０１４９】
【表７】
2014019892.tif 000010
【０１５０】
図４〜１４までのグラフの横軸はあおり角度ψ（°）であり、縦軸は回折ピーク強度（任意単位）である。グラフには、上述のＸ線Ｐｏｌe−Ｆｉｇｕｒｅ法を用いた測定によ
り求めた各平均強度がプロットされている。また、グラフには、グラフの範囲内での｛１１１｝面の回折ピークの平均強度の最大値［Ｂ］とその４分の１の値を示す。また、グラフには、あおり角度ψがそれぞれ４７°，５３°での｛１１１｝面の回折ピークの平均強
度を結ぶ直線と、その縦軸切片［Ａ］とを示す。
【０１５１】
図４〜１４に示すように、実施例１〜４の結果では、いずれも縦軸切片［Ａ］がグラフの最大値［Ｂ］の４分の１以上となって上述の式（２）を満たしていた。また、比較例１，２においても、式（２）を満たすグラフが得られた。一方で、比較例３〜７の結果では、いずれも縦軸切片がグラフの最大値の４分の１未満となって上述の式（２）を満たさなかった。
【０１５２】
（表面粗さ測定）
続いて、実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔の表面粗さをみるため、十点平均粗さＲｚｊｉｓ及び算術平均粗さＲａの測定を行った。係る測定には、株式会社小坂研究所製の表面粗さ測定機（型式：ＳＥ５００）を用いた。測定条件としては、触針径を２μｍ、測定速度を０．２ｍｍ／ｓｅｃ、測定長を４ｍｍ、抜き取り基準長さを０．８ｍｍ、荷重を０．７５ｍＮ以下とした。測定結果を、以下の表８に示す。
【０１５３】
【表８】
2014019892.tif 000011
【０１５４】
上述のように、本実施例及び比較例では、最終冷間圧延工程において、表面粗さ、つまり、算術平均粗さＲａの異なる圧延ロールをそれぞれ用いている。よって、表８に示すように、実施例１〜４の各条件の組み合わせでは、圧延銅箔の表面は比較的平坦化され、十点平均粗さＲｚｊｉｓ及び算術平均粗さＲａのいずれも上述の所定範囲内となった。
【０１５５】
一方、比較例においては、比較例７のみが両方の表面粗さが所定値以内であったものの、それ以外の比較例１〜６の圧延銅箔において、いずれか一方、或いは両方の表面粗さの値が上述の所定範囲外となった。表８中、上述の所定範囲を外れた値を下線付きの太字で示した。
【０１５６】
（耐屈曲性の評価）
次に、各圧延銅箔の耐屈曲性を調べるため、各圧延銅箔が破断するまでの繰返し曲げ回数（屈曲回数）を測定する屈曲疲労寿命試験を行った。係る試験は、信越エンジニアリング株式会社製のＦＰＣ高速屈曲試験機（型式：ＳＥＫ−３１Ｂ２Ｓ）を用い、ＩＰＣ（米国プリント回路工業会）規格に準拠して行った。図１５には、信越エンジニアリング株式会社製のＦＰＣ高速屈曲試験機等も含む、一般的な摺動屈曲試験装置１０の模式図を示す。
【０１５７】
まずは、実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔を幅１２．５ｍｍ、長さ２２０ｍｍに切り取った、厚さが１２μｍの試料片５０に、上述の再結晶焼鈍工程に倣い、３００℃、６０分間の再結晶焼鈍を施した。係る条件は、フレキシブルプリント配線板のＣ
ＣＬ工程で、基材との密着の際に圧延銅箔が実際に受ける熱量の一例を模している。
【０１５８】
次に、図１５に示すように、圧延銅箔の試料片５０を、摺動屈曲試験装置１０の試料固定板１１にネジ１２で固定した。続いて、試料片５０を振動伝達部１３に接触させて貼り付け、発振駆動体１４により振動伝達部１３を上下方向に振動させて試料片５０に振動を伝達し、屈曲疲労寿命試験を実施した。屈曲疲労寿命の測定条件としては、曲げ半径１０ｒを１．５ｍｍとし、ストローク１０ｓを１０ｍｍとし、振幅数を２５Ｈｚとした。係る条件下、各圧延銅箔から切り取った試料片５０を５枚ずつ測定し、破断が発生するまでの屈曲回数の平均値を比較した。以下の表９に結果を示す。
【０１５９】
【表９】
2014019892.tif 000012
【０１６０】
表９に示すように、実施例１〜４および比較例１，２，４，６においては、いずれも上述の式（１）を満たすので、屈曲回数が２００万回以上の高い耐屈曲性が得られた。一方、上述の式（１）を満たさない比較例３，５，７においては、いずれも屈曲回数が２００万回を大幅に下回る結果となってしまった。
【０１６１】
ここで、着目すべきは、比較例３，５，７であっても、もともと比較的高水準の耐屈曲性を備えている点である。これは、例えば上述の特許文献３等で実績が得られている総加工度が９４％以上、具体的には、総加工度が９７％の最終冷間圧延工程を経ているためである。実施例１〜４においては、更に、上述の式（１）を満たすようにすることにより、耐屈曲性の更なる向上が可能となった。
【０１６２】
（耐折り曲げ性の評価）
続いて、各圧延銅箔の耐折り曲げ性を調査した。耐折り曲げ性についての一般的な試験の規格では、例えばＦＰＣ用途等で要求される１８０°の折り曲げについての標準化がなされていない。そこで、図１６に示す手法により、各圧延銅箔に割れが生じるまでの折り曲げ回数を測定する折り曲げ試験を行った。
【０１６３】
すなわち、まずは、実施例１〜４および比較例１〜７に係る圧延銅箔を圧延方向に対し、幅１５ｍｍ、長さ１００ｍｍに切り取った試料片５０に、３００℃、６０分間の再結晶
焼鈍を施した。次に、図１６に示すように、厚さが０．１５ｍｍのスペーサ２０を挟み込むように試料片５０を１８０°折り曲げ、この状態で折り曲げ部分を金属顕微鏡で観察して割れの有無を確認した。割れがなければ、圧延銅箔を折り曲げた状態から元の伸ばした状態に戻した。これを１サイクルとして、各圧延銅箔から切り取った試料片５０の５枚ずつについて、１サイクル毎に折り曲げ部分の観察をしつつ、割れが発生するまでサイクルを繰り返し、折り曲げ回数を測定した。以下の表１０に結果を示す。
【０１６４】
【表１０】
2014019892.tif 000013
【０１６５】
表１０に示すように、上述の式（２）および式（３），（４）を共に満たす実施例１〜４のいずれにおいても、折り曲げ回数は１００回以上となり、優れた耐折り曲げ性が得られた。また、これらの圧延銅箔については、上述の５枚の試料片５０の測定結果のバラツキが少なく、安定的に優れた耐折り曲げ性が得られることが確認された。
【０１６６】
一方、比較例１，２を除くいずれの比較例においても式（２）を満たしておらず、折り曲げ回数は１００回未満と、充分な耐折り曲げ性は得られなかった。これは、表面粗さの値を両方満たす比較例７についても同様である。つまり、表面粗さの制御による耐折り曲げ性の向上は、式（２）を満たしていることが前提となっている。但し、式（２）のみを満たす比較例１，２については、折り曲げ回数がかろうじて１００回以上と、実施例には劣るものの、他の比較例と比べて若干の改善が認められた。
【０１６７】
以下の表１１に、各圧延銅箔における上述の結果をまとめたものを示す。表中、所定の条件を満たしているものを○、条件から外れてしまったものを×とした。耐折り曲げ性の結果が、他の比較例よりは良く、実施例よりは悪かった比較例１，２を△とした。
【０１６８】
【表１１】
2014019892.tif 000014
【０１６９】
上述したように、上述の式（１）の値が所定値内にあることで、つまり、圧延銅箔の材料、或いは副方位を含む結晶方位等に係る内面的な観点からの制御により、圧延銅箔に優れた耐屈曲性が付与される。また、上述の式（２）および機械的、あるいは外見形状等に係る表面粗さの値が所定値内にあることで、つまり、圧延銅箔の内面的および外面的な観点の両面からの制御により、圧延銅箔に優れた耐折り曲げ性が安定的に付与される。
【０１７０】
実施例１〜４に係る圧延銅箔は、上述のいずれの値も満たすので、耐屈曲性、耐折り曲げ性ともに高い値を示し、かつ、バラツキが小さく安定した耐折り曲げ性が得られた。
【０１７１】
一方、比較例１，２は、上述の式（１），（２）をともに満たし、内面的な観点からの制御がなされている。しかし、それぞれ表面粗さの値の一方しか満たさず、外面的な観点からの制御がなされていない。よって、優れた耐屈曲性が得られたものの、耐折り曲げ性については実施例より劣る結果となった。
【０１７２】
また、比較例３〜７は、上述の式（１），（２）のいずれか或いは両方を満たさず、また、比較例７を除き、表面粗さのいずれか或いは両方を満たしていない。よって、内面的な観点からの制御、および外面的な観点からの制御のいずれにおいても、不充分である。このため、式（１）を満たし、かろうじて耐屈曲性のみが良かった比較例４，６を除いて、いずれも耐屈曲性が劣る結果となった。また、比較例３〜７のいずれにおいても、耐折り曲げ性は、比較例１，２と比べても劣る結果となってしまった。
【０１７３】
（２）タフピッチ銅を用いた圧延銅箔
次に、目標濃度を２００ｐｐｍとするＡｇを添加したタフピッチ銅を用い、上述の実施例と同様の手順及び手法で、厚さが１２μｍの実施例５，６および比較例８〜１０に係る圧延銅箔を製作した。但し、比較例８〜１０については、上述の表４の条件や圧延ロールの表面荒れ等、構成を外れる処理等を含めた。
【０１７４】
実施例５，６および比較例８〜１０の鋳塊中におけるＡｇ濃度は、ＩＰＣ発光分光分析法により得た分析値で、それぞれ２０１ｐｐｍ、１９４ｐｐｍ、２０２ｐｐｍ、１９０ｐ
ｐｍ、および１９８ｐｐｍであった。全て目標濃度に対して±１０％程度内のバラツキであって、金属材料の分野では一般的なものである。なお、係る濃度のＡｇを含有するタフピッチ銅材の耐熱性に合わせ、中間焼鈍工程および生地焼鈍工程では、上述の条件とは異なる条件を用いた。具体的には、中間焼鈍工程では６５０℃〜７５０℃の温度で約２分間保持し、生地焼鈍工程では約７００℃の温度で約１分間保持した。また、これらの実施例及び比較例についても、上述の表４の条件を最終冷間圧延工程に適用した。
【０１７５】
以上のように製作した実施例５，６および比較例８〜１０に係る圧延銅箔について、上述の実施例と同様の手法及び手順で２θ／θ法によるＸ線回折測定およびＸ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用いた測定を行い、上述の式（１），（２）を求め、また、上述と同様に表面粗さを測定した。
【０１７６】
また、実施例５，６および比較例８〜１０に係る圧延銅箔に対し、上述と同様の再結晶焼鈍を施した後、上述の実施例と同様の手法及び手順で屈曲疲労寿命試験および折り曲げ試験を行った。
【０１７７】
以下の表１２に、上述の結果を示す。表１２中、上述の式（１）〜（４）のいずれかの所定範囲を外れた値を下線付きの太字で示した。
【０１７８】
【表１２】
2014019892.tif 000015
【０１７９】
表１２に示すように、実施例５，６に係る圧延銅箔については、式（１），（２）を共に満たし、また、式（３），（４）の値も満たしていた。このため、耐屈曲性、耐折り曲げ性とも良好な結果であった。一方、比較例８に係る圧延銅箔については、式（２）のみが所定範囲を外れ、耐折り曲げ性が悪いという結果となってしまった。また、比較例９に係る圧延銅箔については、式（１）及び（２）は所定範囲内であったが、表面粗さがいずれも所定値から外れ、やはり、実施例よりは耐折り曲げ性が悪い結果となってしまった。また、比較例１０に係る圧延銅箔については、全ての条件において所定値を外れ、耐屈曲性、耐折り曲げ性とも悪い結果となった。
【０１８０】
以上のことから、各条件が所定範囲内であれば、タフピッチ銅を主原材料とする圧延銅箔についても、良好な耐折り曲げ性を得て、更に耐屈曲性の向上を図ることができることがわかった。
【０１８１】
（３）異なる添加材を用いた圧延銅箔
次に、目標濃度を１２０ｐｐｍとするＡｇおよび目標濃度を４０ｐｐｍとするチタン（Ｔｉ）を添加材として加えた無酸素銅を用い、上述の実施例と同様の手順及び手法で、厚さが１２μｍの実施例７，８および比較例１１〜１３に係る圧延銅箔を製作した。但し、比較例１１〜１３については、上述の表４の条件や圧延ロールの表面荒れ等、構成を外れる処理等を含めた。
【０１８２】
実施例７，８および比較例１１〜１３の鋳塊中におけるＡｇ濃度は、ＩＰＣ発光分光分析法により得た分析値で、それぞれ１１８ｐｐｍ、１２１ｐｐｍ、１１７ｐｐｍ、１２０ｐｐｍおよび１１８ｐｐｍであった。また、Ｔｉ濃度は、それぞれ３８ｐｐｍ、４２ｐｐｍ、４０ｐｐｍ、４０ｐｐｍ、および３７ｐｐｍであった。全て目標濃度に対して±１０％程度内のバラツキであって、金属材料の分野では一般的なものである。
【０１８３】
また、このような濃度のＡｇおよびＴｉを含有する無酸素銅材の耐熱性に合わせ、中間焼鈍工程および生地焼鈍工程には、上述の条件とは異なる条件を用いた。具体的には、中間焼鈍工程では温度６５０℃〜７５０℃で約２分間保持し、生地焼鈍工程では約７００℃の温度で約１分間保持した。また、これらの実施例及び比較例についても、上述の表４の条件を最終冷間圧延工程に適用した。
【０１８４】
以上のように製作した実施例７，８および比較例１１〜１３に係る圧延銅箔について、上述の実施例と同様の手法及び手順で２θ／θ法によるＸ線回折測定およびＸ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用いた測定を行い、上述の式（１），（２）を求め、また、上述と同様に表面粗さを測定した。
【０１８５】
また、実施例７，８および比較例１１〜１３に係る圧延銅箔に対し、上述と同様の再結晶焼鈍を施した後、上述の実施例と同様の手法及び手順で屈曲疲労寿命試験および折り曲げ試験を行った。
【０１８６】
以下の表１３に、上述の結果を示す。表１３中、上述の式（１）〜（４）のいずれかの所定範囲を外れた値を下線付きの太字で示した。
【０１８７】
【表１３】
2014019892.tif 000016
【０１８８】
表１３に示すように、実施例７，８に係る圧延銅箔については、各結晶面の回折ピーク強度の関係が式（１），（２）を共に満たし、また、式（３），（４）の値も満たしていた。このため、耐屈曲性、耐折り曲げ性とも良好な結果であった。一方、比較例１１に係る圧延銅箔については、式（１）のみが所定範囲を外れ、耐屈曲性が悪いという結果となってしまった。また、比較例１２に係る圧延銅箔については、式（２）のみが所定範囲を外れ、耐折り曲げ性が悪いという結果となってしまった。また、比較例１３に係る圧延銅箔については、表面粗さのうち算術平均粗さＲａのみが所定値を外れたため、安定性には劣るものの、耐折り曲げ性が比較例１２よりも良好であった。
【０１８９】
以上のことから、各条件が所定範囲内であれば、ＡｇとＴｉとのような異なる添加材を添加した圧延銅箔についても、良好な耐屈曲性及び耐折り曲げ性が得られることがわかった。
【０１９０】
＜本発明者等による考察＞
上述の圧延銅箔の製造工程における副方位の結晶面の制御および表面粗さの制御に対する本発明者等の考察について、以下に説明する。
【０１９１】
（１）結晶回転について
上述のように、最終冷間圧延工程等の圧延加工時、銅材には、圧縮応力と、圧縮応力よりも弱い引張応力とが加わっている。圧延される銅材中の銅結晶は、圧延加工時の応力によって｛０２２｝面への回転現象を起こし、圧延加工の進展とともに、圧延面に平行な結晶面の方位が主に｛０２２｝面である圧延集合組織を形成する。このとき、上述のように、圧縮応力と引張応力との比により、｛０２２｝面へと向かって回転する経路が変わる。これについて、図１７を用いて説明する。
【０１９２】
図１７は、下記の技術文献（イ）から引用した純銅型金属の逆極点図であって、（ａ）は引張変形による結晶回転方向を示す逆極点図であり、（ｂ）は圧縮変形による結晶回転方向を示す逆極点図である。なお、逆極点図では、｛００２｝面を｛００１｝面と表記し、｛０２２｝面を｛０１１｝面と表記することになっている。つまり、｛００２｝面は、｛００２｝面に平行な面の最小数値である｛００１｝面で表わし、｛０２２｝面は、｛０２２｝面に平行な面の最小数値である｛０１１｝面で表わす。
【０１９３】
（イ）編著者  長嶋晋一、“集合組織”、丸善株式会社、昭和５９年１月２０日、ｐ９６の図２．５２（ａ），（ｃ）
【０１９４】
図１７に示すように、銅材中の銅結晶は、引張応力による変形のみでは｛１１１｝面へと向かって回転し、圧縮応力による変形のみでは｛０１１｝面へと向かって回転する。圧延加工では、圧縮成分と引張成分とが合わさった変形をするため、結晶回転方向はこれほど単純ではない。ただし、引張成分より圧縮成分が優勢となって変形し、圧延加工がされるので、総じて｛０１１｝面へと向かう結晶回転を起こしつつ、圧縮成分と引張成分との割合によって｛１１１｝面へも一部回転しようとする。このとき、圧縮成分の方が優勢であるので、｛１１１｝面へと回転しかけた結晶が｛０１１｝面へと戻される結晶回転も起きる。また、これとは逆に、｛０１１｝面へと向かって回転している結晶や｛０１１｝面に到達した結晶が、引張成分によって｛１３３｝面や｛１１１｝面へ向かって回転する場合もある。
【０１９５】
このように、圧縮成分と引張成分とが、圧縮成分＞引張成分の関係を保ちながら混在する中で結晶回転が起こると、最終的には主方位の結晶面は｛０１１｝面となり、また、圧縮成分と引張成分との混合による結晶回転の結果、副方位の結晶面は、｛００１｝面、｛１１３｝面、｛１１１｝面、｛１３３｝面になると考えられる。
【０１９６】
また、圧縮応力による結晶回転で経由する結晶面として、｛０１３｝面や｛０２３｝面等がある。図１８に示す逆極点図の結晶方位は一般的なものであるが、図中に｛０１３｝面、｛０２３｝面およびこれらの結晶面との方位差が比較的小さい結晶面の領域を描き加えた。図１８に示すように、圧縮応力による結晶回転では、｛０１３｝面や｛０２３｝面等を経由して｛０１１｝面（｛０２２｝面）へと回転していく。
【０１９７】
圧延加工では、上述のように、圧延される銅材に圧縮応力と、圧縮応力よりも弱い引張応力との両方が加わらなければ、銅材の形状を保ちながら圧延することはできない。つまり、圧縮応力のみでは、単なるプレス加工と同様、放射状に伸び広がった形状となってしまう。圧縮応力＞引張応力という前提のもと、｛０２２｝面まで回転が到達しなかった方位の残存や、引張応力の影響により、｛１１１｝面へ向けて回転した結晶が副方位となる。このように、耐折り曲げ性を低下させる｛１１１｝面は引張応力によって形成された副
方位であり、耐折り曲げ性を向上させる｛０１３｝面や｛０２３｝面は、圧縮応力によって形成された副方位である。
【０１９８】
よって、圧延銅箔の圧延面における｛１１１｝面の占有率をなるべく抑え、｛０１３｝面や｛０２３｝面の占有率をなるべく高めるには、圧縮応力と引張応力のバランスを適宜調整しながら圧延することが重要となる。
【０１９９】
（２）最終冷間圧延工程における特性制御
圧縮成分と引張成分とは、上述の実施形態に係る最終冷間圧延工程Ｓ４０でも行っている通り、例えば圧延加工時の１パスあたりの圧延条件を変化させることで制御することができる。つまり、上述の実施形態や実施例にて試みたように、例えば１パスあたりの加工度の変化に着目することができる。
【０２００】
また、上述の実施形態や実施例においては、最終冷間圧延工程における１パスあたりの加工度と併せ、中立点の位置制御も行っている。つまり、圧縮成分と引張成分との制御パラメータの調整にあたっては、例えば中立点の位置変化に着目することも可能である。
【０２０１】
上述の加工度や中立点の位置等の制御因子は圧延機の構成に関わるところであり、圧延機の仕様に依存するところが大きい。具体的には、圧延ロールの段数、圧延ロールの総数、圧延ロールの組み合わせ配置、各圧延ロールの径や材質や表面状態（表面粗さ）等の圧延ロールの構成などの違いにより、銅材への圧縮応力の加わり方や摩擦係数等に違いが生じる。圧延機が異なれば、上述の実施例で挙げた条件に係る各制御因子もその絶対値が異なるため、圧延機ごとに適宜調整することができる。また、同じ圧延機においても、圧延ロールの表面状態や圧延ロールの材質が異なれば、各制御因子の絶対値が異なる。よって、同じ圧延機であっても、それぞれの状態に応じて適宜調整することができる。
【０２０２】
上述の実施形態や実施例においては、圧延ロールの表面粗さによる制御も行っている。例えば、１パスあたりの加工度を一定とし、圧延ロールの表面粗さを変えると、圧延される銅材が受ける摩擦係数が変わって、中立点の位置が変わり圧延荷重も変わる。その結果、圧延加工における圧縮応力と引張応力とのバランスが変わり、銅結晶の回転方向や回転経路が変わる。
【０２０３】
（３）圧延ロールの表面粗さによる特性制御
上述のように、本発明者等は、圧延銅箔の表面粗さを十点平均粗さＲｚｊｉｓおよび算術平均粗さＲａで規定し、これらを所定値以下に抑えることで、圧延銅箔の耐折り曲げ性を向上させることができることを見いだした。
【０２０４】
このように、圧延銅箔に優れた耐折り曲げ性を安定的に付与する表面粗さは、例えば次に挙げる因子により制御することができる。すなわち、主に、圧延油の粘度η、圧延ロールの回転速度Ｕ０、圧延時の銅材の速度Ｕ１、噛み込み角α、平均圧延圧力ｐ、圧延ロールの表面粗さ（算術平均粗さＲａ）等がある。これらの因子のうち、圧延ロールの算術平均粗さＲａ以外の諸因子は、油膜の厚みに対応する油膜当量ｔｄとして、下記の技術文献（ロ）を参考とする次式（Ｂ）のように１つにまとめることができる。
【０２０５】
ｔｄ＝｛η（Ｕ０＋Ｕ１）｝／αｐ・・・（Ｂ）
【０２０６】
（ロ）小豆島明、“圧延中の油膜厚み及びロールと材料の表面あらさについて”、日本機械学会論文集（第３部）、４４巻３７７号、昭和５３年１月、ｐ３３２−３３９
【０２０７】
圧延ロールの算術平均粗さＲａ以外の諸因子により規定される油膜当量ｔｄを一定に保
つことができれば、これら諸因子の影響を軽減して、主に圧延ロールの算術平均粗さＲａのみによって、圧延銅箔の表面粗さを種々に制御することができる。
【０２０８】
ここで、上述の式（Ｂ）に係る圧延ロールの回転速度Ｕ０、圧延時の銅材の速度Ｕ１、平均圧延圧力ｐは、圧延条件での１パスあたりの加工度や中立点を制御する制御因子でもある。１パスあたりの加工度や中立点を制御するため、これらの制御因子を変化させた場合、油膜当量ｔｄを一定に保つには、例えば以下の手法がある。つまり、例えば圧延油の粘度ηを３×１０−３Ｎ／ｍ２・ｓ〜５×１０−３Ｎ／ｍ２・ｓの範囲で一定に制御すると、噛み込み角αが一定となる。よって、油膜当量ｔｄを一定に制御することができる。
【０２０９】
上述の実施形態に係る最終冷間圧延工程Ｓ４０では、例えば油膜当量ｔｄを適宜調整したうえで、圧延ロールの表面粗さを所定値とすることとしたので、所定の表面粗さを備える圧延銅箔を製造することができる。
【０２１０】
なお、上述の実施形態や実施例において、圧延ロールの表面粗さを算術平均粗さＲａにより規定したのは、以下の理由からである。
【０２１１】
すなわち、圧延ロールは、最終冷間圧延工程Ｓ４０で使用され、銅材の変形加工に係る重要な工具である。よって、圧延ロール全体の状態をできるだけ隈なく捉えることが重要となる。したがって、凹凸差を点で捉えるのではなく、面または線で捉える算術平均粗さＲａを用いることで、圧延ロールの全体的な表面粗さを把握することとした。
【０２１２】
なお、耐折り曲げ性を向上させる圧延銅箔の表面粗さは、他の制御因子を用いて制御してもよい。
【０２１３】
（４）その他の制御因子
また、上述の実施形態や実施例においては、最終冷間圧延工程における圧延ロールの表面粗さを含めた圧延条件により銅結晶の回転方向や回転経路を制御したが、他の工程においても同様の制御は可能である。
【０２１４】
例えば、最終冷間圧延工程の圧延条件を一定とし、最終冷間圧延工程直前までの製造工程の条件を変更することで、最終冷間圧延工程にも影響が及び、最終冷間圧延工程における回転方向や回転経路を間接的に変化させることが可能と考えられる。但し、上述の実施形態や実施例のように、最終冷間圧延工程における圧延条件を変化させれば、回転方向や回転経路を直接的に制御することができ、制御性をいっそう高めることができる。
【０２１５】
このように、最終冷間圧延工程後における圧延銅箔の結晶方位の状態は、特定の製造方法により限定されるものではない。圧延銅箔の結晶方位の状態は、種々の手法により制御することができ、その方法は幾通りも存在するからである。
【符号の説明】
【０２１６】
１０  摺動屈曲試験装置
１１  試料固定板
１２  ネジ
１３  振動伝達部
１４  発振駆動体
２０  スペーサ
５０  試料片
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図３】
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【図１０】
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【図１２】
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【図１３】
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【手続補正書】
【提出日】平成25年6月28日(2013.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主表面を備え、前記主表面に平行な複数の結晶面を有する最終冷間圧延工程後、再結晶焼鈍工程前の圧延銅箔であって、
純銅又は希薄銅合金からなり、
前記最終冷間圧延工程において、結晶を｛０１１｝面へと向かって回転させる圧縮応力と結晶を｛１１１｝面へと向かって回転させる引張応力のバランスを、｛０１３｝面と｛０２３｝面の占有率を高めるように、調整しながら圧延されており、
前記複数の結晶面には｛０２２｝面、｛００２｝面、｛１１３｝面、｛１１１｝面、及び｛１３３｝面が含まれ、
前記主表面に対する２θ／θ法を用いたＸ線回折測定から求められ、合計値が１００となるように換算された前記各結晶面の回折ピーク強度比をそれぞれＩ｛022｝、Ｉ[002｝、Ｉ｛113｝、Ｉ｛111｝、及びＩ｛133｝としたとき、
Ｉ｛022｝＋Ｉ｛002｝≧７５．０であり、
Ｘ線Ｐｏｌｅ−Ｆｉｇｕｒｅ法を用い、１５°以上９０°以下の範囲内の複数のあおり角度のそれぞれについて、前記主表面の面内回転角度を０°以上３６０°以下の範囲内で変化させて測定した｛１１１｝面の回折ピークの平均強度を求め、
前記あおり角度を横軸とし、回折ピーク強度を縦軸として、前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度をプロットしたグラフを作成したとき、
前記あおり角度が４７°での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度と前記あおり角度が５３°での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度とを結ぶ直線の縦軸切片を［Ａ］とし、前記あおり角度が１５°以上９０°以下の範囲内での前記｛１１１｝面の回折ピークの平均強度の最大値を［Ｂ］としたとき、
［Ａ］／［Ｂ］≧１／４であり、
前記主表面の表面粗さが、
十点平均粗さＲｚｊｉｓ≦１．２μｍであり、
算術平均粗さＲａ≦０．３μｍである
ことを特徴とする圧延銅箔。
【請求項２】
無酸素銅、又はタフピッチ銅を主成分とする
ことを特徴とする請求項１に記載の圧延銅箔。
【請求項３】
銀、硼素、チタン、錫の少なくともいずれかが添加されている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の圧延銅箔。
【請求項４】
厚さが２０μｍ以下である
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の圧延銅箔。
【請求項５】
フレキシブルプリント配線板用である
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の圧延銅箔。