(57)【要約】【課題】粉末圧延装置及び粉末圧延方法において、粉末を予備圧下することにより圧延ロール同士のギャップに安定的に粉末を供給すると共に、圧延ロールのレイアウトの自由度を向上させる。【解決手段】帯状の基材Ｘに対して粉末Ｙを圧着させる一対の圧延ロール２を備える粉末圧延装置であって、上記圧延ロール２の上流に配置されると共に上記基材Ｘに対して上記粉末Ｙを予備圧下して固着させる予備圧下手段４を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の基材に対して粉末を圧着させる一対の圧延ロールを備える粉末圧延装置であって、
前記圧延ロールの上流に配置されると共に前記基材に対して前記粉末を予備圧下して固着させる予備圧下手段を備えることを特徴とする粉末圧延装置。
【請求項２】
前記一対の圧延ロールを構成する２つの圧延ロールが異なる高さに配置されることにより斜めに配置され、
前記予備圧下手段は、上方に配置される圧延ロールに接触する側に前記粉末を前記基材に対して予備圧下する
ことを特徴とする請求項１記載の粉末圧延装置。
【請求項３】
前記予備圧下手段は、
前記基材を下方から支持する支持ロールと、
前記支持ロールの上方に配置され、前記基材上に載置された前記粉末を前記基材に向けて圧下する圧下部と
を備えることを特徴とする請求項１または２記載の粉末圧延装置。
【請求項４】
前記圧下部は、前記支持ロールとの間に形成される隙間に入り込んだ前記粉末を前記基材に向けて圧下する圧下ブロックであることを特徴とする請求項３記載の粉末圧延装置。
【請求項５】
前記予備圧下された前記粉末に対して液体を噴霧する噴霧手段を備えることを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の粉末圧延装置。
【請求項６】
一対の圧延ロールにて帯状の基材に対して粉末を圧着させる粉末圧延方法であって、
前記圧延ロールの上流にて前記基材に対して前記粉末を予備圧下して固着させることを特徴とする粉末圧延方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粉末圧延装置及び粉末圧延方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、金属の基材の表裏にロウ材層が付着されたクラッドシートが用いられている。このようなクラッドシートは、従来、帯状の基材に対してロウ材シートを貼り合わせることによって製造されていたが、近年は、基材の両面にロウ材からなる粉末を圧延して固着させ、この粉末を焼成することによっても製造されている。
【０００３】
基材に対して粉末を付着させる場合には、一対の圧延ロールを備える粉末圧延装置が用いられる。このような粉末圧延装置では、圧延ロールのギャップに基材と共に粉末が供給され、基材が塑性変形する程度の荷重にて基材の表面に対して粉末が圧着される。ところで、一対の圧延ロールを構成する２つの圧延ロールは、通常、同じ高さに配置されている。つまり、２つの圧延ロールは水平に配列されている。しかしながら、工場等にて、粉末圧延装置の設置スペースが充分に確保できないときには、例えば、特許文献１に示すように、２つの圧延ロールの高さを変えて配置し、斜めに配列することも考えられる。このように、２つの圧延ロールを斜めに配列することによって、上側から見て、２つの圧延ロールの一部を重ねて配置することができ、平面視における粉末圧延装置の大きさを小さくすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１４９９６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
粉末圧延装置では、圧延ロールのギャップに供給される粉末の単位時間当たりの量を均一とするために、ギャップの上方に、小さな荷重にて圧延ロールの周面に対して粉末を圧下（予備圧下）する予備圧下ロールを設置することがある。このような予備圧下ロールを設置することによって、一旦圧延ロールの周面に供給された粉末が、ギャップに到達するまでの間に圧延ロールの周面から滑り落ちることを防止し、ギャップに供給される粉末量にムラが生じることを防止することができる。
【０００６】
ところが、上述のように、２つの圧延ロールを斜めに配列した場合には、上方に位置する圧延ロールの斜め下方にギャップが形成されることになる。このときには、ギャップ手前において、上方に位置する圧延ロールの周面は斜め下方を向くことになり、予備圧下により圧延ロールの周面に付着された粉末が落下する可能性が高くなる。したがって、一対の圧延ロールのみによって基材の両面側に粉末を圧延して固着させる場合には、２つの圧延ロールを同じ高さに配列せざるを得なくなり、圧延ロールのレイアウトの自由度が低下する。
【０００７】
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、粉末圧延装置及び粉末圧延方法において、粉末を予備圧下することにより圧延ロール同士のギャップに安定的に粉末を供給すると共に、圧延ロールのレイアウトの自由度を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するための手段として、以下の構成を採用する。
【０００９】
第１の発明は、帯状の基材に対して粉末を圧着させる一対の圧延ロールを備える粉末圧延装置であって、上記圧延ロールの上流に配置されると共に上記基材に対して上記粉末を予備圧下して固着させる予備圧下手段を備えるという構成を採用する。
【００１０】
第２の発明は、上記第１の発明において、上記一対の圧延ロールを構成する２つの圧延ロールが異なる高さに配置されることにより斜めに配置され、上記予備圧下手段が、上方に配置される圧延ロールに接触する側に上記粉末を上記基材に対して予備圧下するという構成を採用する。
【００１１】
第３の発明は、上記第１または第２の発明において、上記予備圧下手段が、上記基材を下方から支持する支持ロールと、上記支持ロールの上方に配置され、上記基材上に載置された上記粉末を上記基材に向けて圧下する圧下部とを備えるという構成を採用する。
【００１２】
第４の発明は、上記第３の発明において、上記圧下部が、上記支持ロールとの間に形成される隙間に入り込んだ上記粉末を上記基材に向けて圧下する圧下ブロックであるという構成を採用する。
【００１３】
第５の発明は、上記第１〜第４いずれかの発明において、上記予備圧下された上記粉末に対して液体を噴霧する噴霧手段を備えるという構成を採用する。
【００１４】
第６の発明は、一対の圧延ロールにて帯状の基材に対して粉末を圧着させる粉末圧延方法であって、上記圧延ロールの上流にて上記基材に対して上記粉末を予備圧下して固着させるという構成を採用する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基材に対して粉末が予備圧下される。このため、粉末が予備圧下された側に接触する圧延ロールの周面上において粉末を予備圧下しなくとも良くなり、圧延ロールの周面に付着された粉末が落下するという現象が生じる恐れがなくなる。このため、圧延ロールの斜め下方、さらには圧延ロールの下方にギャップが形成されたときであっても、安定的に粉末を供給することができる。つまり、本発明によれば、圧延ロール同士の位置関係がどのような場合であっても、安定的にギャップに粉末を供給することが可能となり、圧延ロールを自由に配置することが可能となる。よって、本発明によれば、粉末圧延装置及び粉末圧延方法において、粉末を予備圧下することにより圧延ロール同士のギャップに安定的に粉末を供給すると共に、圧延ロールのレイアウトの自由度を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態における粉末圧延装置の概略構成を示す模式図である。
【図２】（ａ）が圧下ブロックの配置位置について説明するための模式図であり、（ｂ）が圧延ロール及び支持ロールの配置位置について説明するための模式図である。
【図３】本発明の一実施形態における粉末圧延装置の変形例の概略構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照して、本発明に係る粉末圧延装置及び粉末圧延方法の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００１８】
図１は、本実施形態の粉末圧延装置１の概略構成を示す模式図である。この図に示すように、本実施形態の粉末圧延装置１は、２つで一対の圧延ロール２（圧延ロール２Ａ及び圧延ロール２Ｂ）と、回転駆動部３（回転駆動部３Ａ及び回転駆動部３Ｂ）と、第１予備圧下部４（予備圧下手段）と、第２予備圧下部５と、粉末供給部６（粉末供給部６Ａ及び粉末供給部６Ｂ）と、制御部７とを備えている。なお、本実施形態の粉末圧延装置１は、図１では省略しているが、圧延ロール２同士のギャップＧでの圧延荷重を調節する油圧シリンダ、圧延ロール２を軸支するチョックを支持することで間接的に圧延ロール２を支持すると共に圧延荷重を受けるフレーム、及び、帯状の基材Ｘを搬送するための搬送装置等を備えている。
【００１９】
圧延ロール２は、互いに周面を対向させて配置されている。本実施形態では、圧延ロール２Ａが低く配置され、圧延ロール２Ｂが高く配置されることによって、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとの高さが異なるように配置されている。これらの圧延ロール２Ａ及び圧延ロール２Ｂは、互いの回転軸同士を結ぶ方向において、一定の距離だけ離間して配置されている。このように圧延ロール２Ａ及び圧延ロール２Ｂが一定距離だけ離間して配置されることによって、ギャップＧ（圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとの間に形成される隙間）が形成されている。本実施形態では、上述のように圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとの高さが異なるように配置されていることから、ギャップＧは、圧延ロール２Ａに対して斜め上方に、圧延ロール２Ｂに対して斜め下方に配置されている。
【００２０】
また、本実施形態においては、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとが、上方から見て、一部が重なるように配置されている。これによって、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとを同じ高さに配置し、ギャップＧと同じ幅のギャップを形成する場合と比較して、上方から見たときの圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとの設置スペースが少なくなっている。
【００２１】
回転駆動部３は、圧延ロール２の軸部と接続されており、圧延ロール２を回転駆動する。この回転駆動部３として、圧延ロール２Ａに接続される回転駆動部３Ａと、圧延ロール２Ｂに接続される回転駆動部３Ｂとが設置されている。この回転駆動部３は、例えば、電動モータ及び減速部等によって構成される。
【００２２】
第１予備圧下部４は、支持ロール４ａと、圧下ブロック４ｂ（圧下部）とによって構成されている。支持ロール４ａは、基材Ｘを下方から支持するフリーロールである。なお、支持ロール４ａは、基材Ｘの搬送速度に合わせて回転駆動される駆動ロールとすることも可能である。この支持ロール４ａは、右斜め下方から送り込まれる基材Ｘの進行方向をギャップＧに向けて変更する。なお、支持ロール４ａは、例えば、不図示のフレームに対して軸支されている。
【００２３】
圧下ブロック４ｂは、支持ロール４ａの上方に配置されており、支持ロール４ａに対して、一定の隙間Ｇ１を空けて配置されている。この圧下ブロック４ｂは、基材Ｘの上面に載置された状態で隙間Ｇ１に入り込んだ粉末Ｙを基材Ｘの上面に圧下する。なお、本実施形態では、圧下ブロック４ｂは、移動させられたり、外部から荷重が加えられたりするものではなく、不図示のフレームに対して固定されている。このような圧下ブロック４ｂは、隙間Ｇ１に入り込んだ粉末Ｙを圧密させながら基材Ｘに押し付ける。また、圧下ブロック４ｂによる圧下のときの荷重は、圧延ロール２Ａと圧延ロール２ＢとのギャップＧにおいてかかる圧延荷重と比較して小さく、基材Ｘが塑性変形しない荷重とされている。
【００２４】
なお、圧下ブロック４ｂは、例えば油圧シリンダ等の押圧機構によって、支持ロール４ａ側に移動させられるようにしても良い。これによって、圧下ブロック４ｂによる圧下の荷重を調節することができる。また、圧下ブロック４ｂの下面の形状を、粉末Ｙの進行方向に向かうに連れて隙間Ｇ１が狭くなるように設定しても良い。これによって、隙間Ｇ１に入り込んだ粉末Ｙに対する圧下荷重を徐々に大きくし、隙間Ｇ１にて粉末Ｙが詰まることを防止することができる。また、圧下ブロック４ｂに換えて、不図示のフレームに軸支されるロール（圧下部）を用いて粉末Ｙを圧下するようにしても良い。
【００２５】
このような支持ロール４ａと、圧下ブロック４ｂから構成される第１予備圧下部４は、支持ロール４ａで基材Ｘの下面を支持しながら、圧下ブロック４ｂによって基材Ｘの上面（上方配置された圧延ロール２（圧延ロール２Ｂ）に接触する側）に対して粉末Ｙを予備的に圧下（すなわち予備圧下）する。このように予備圧下されることによって、基材Ｘの上面に粉末Ｙが予備圧下されて固着される。
【００２６】
第２予備圧下部５は、圧延ロール２Ａの上方に配置されており、圧延ロール２Ａに対して、一定の隙間Ｇ２を空けて配置されている。この第２予備圧下部５は、上記第１予備圧下部４の圧下ブロック４ｂと同じ圧下ブロックからなる。この第２予備圧下部５は、圧延ロール２Ａの周面上に配置された状態で隙間Ｇ２に入り込んだ粉末Ｙを圧延ロール２Ａの周面に圧下する。なお、本実施形態では、第２予備圧下部５も、移動させられたり、外部から荷重が加えられたりするものではなく、不図示のフレームに対して固定されている。このような第２予備圧下部５は、隙間Ｇ２に入り込んだ粉末Ｙを圧密させながら基材Ｘに押し付ける。また、第２予備圧下部５による圧下のときの荷重は、圧延ロール２Ａと圧延ロール２ＢとのギャップＧにおいてかかる圧延荷重と比較して小さく、基材Ｘが塑性変形しない荷重とされている。
【００２７】
この第２予備圧下部５についても、圧下ブロック４ｂと同様に、例えば油圧シリンダ等の押圧機構によって、圧延ロール２Ａ側に移動させられるようにしても良い。これによって、第２予備圧下部５による圧下の荷重を調節することができる。また、第２予備圧下部５の下面の形状を、粉末Ｙの進行方向に向かうに連れて隙間Ｇ２が狭くなるように設定しても良い。これによって、隙間Ｇ２に入り込んだ粉末Ｙに対する圧下荷重を徐々に大きくし、隙間Ｇ２にて粉末Ｙが詰まることを防止することができる。また、第２予備圧下部５に換えて、不図示のフレームに軸支されるロール（圧下部）を用いて粉末Ｙを圧下するようにしても良い。
【００２８】
粉末供給部６は、ロウ材組成を有する粉末Ｙを供給するための装置であり、例えばホッパやベルトコンベアによって構成されている。本実施形態では、この粉末供給部６として、第１予備圧下部４にて粉末Ｙを供給する粉末供給部６Ａと、圧延ロール２Ａ上に粉末Ｙを供給する粉末供給部６Ｂとが備えられている。粉末供給部６Ａは、圧下ブロック４ｂの上流側に配置されており、支持ロール４ａに支持された領域であって圧下ブロック４ｂ側において、基材Ｘの上面に対して粉末Ｙを供給する。粉末供給部６Ｂは、第２予備圧下部５の上流側に配置されており、圧延ロール２Ａの周面上に粉末Ｙを供給する。
【００２９】
制御部７は、本実施形態の粉末圧延装置１の全体を制御するものであり、回転駆動部３、粉末供給部６等に電気的に接続されている。また、制御部７は、上述した圧延荷重を調節する油圧シリンダや基材Ｘを搬送するための搬送装置にも電気的に接続され、これらを制御する。
【００３０】
ここで、図２を参照して、圧下ブロック４ｂの配置位置と、圧延ロール２及び支持ロール４ａの配置位置の考え方について説明する。なお、図２（ａ）は、圧下ブロック４ｂの配置位置について説明するための模式図であり、図２（ｂ）は、圧延ロール２及び支持ロール４ａの配置位置について説明するための模式図である。
【００３１】
圧延ロール２、支持ロール４ａ及び圧下ブロック４ｂの配置位置は、粉末Ｙのスパチュラ角θ１に基づいて設定することが好ましい。例えば、圧下ブロック４ｂの配置位置は、圧下ブロック４ｂから支持ロール４ａの回転軸への垂線と水平線との角度θ２が、（９０°−θ１）以上であり、（９０°＋θ１）以下の範囲となるように設定することが好ましい。このように圧下ブロック４ｂの配置位置を設定することによって、粉末Ｙが載置される範囲において、基材Ｘの上面の角度が粉末Ｙのスパチュラ角θ１を超えることがなくなり、粉末Ｙが滑り落ちることを確実に防止することができる。
【００３２】
支持ロール４ａは、送り出す基材Ｘの角度θが、図２（ｂ）に示すように、スパチュラ角θ１以下となる位置に配置することが好ましい。これによって、支持ロール４ａから送り出された基材Ｘの上面がスパチュラ角θ１よりも大きくなることを防止し、支持ロール４ａから圧延ロール２までの間に粉末Ｙが滑り落ちることを確実に防止することができる。
【００３３】
また、圧延ロール２の配置位置は、圧延ロール２Ａの回転軸と圧延ロール２Ｂの回転軸とを結ぶ線と水平線との角度θ３が、（９０°−θ１）以上であり、（９０°＋θ１）以下の範囲となるように設定することが好ましい。このように圧延ロール２の配置位置を設定することによって、ギャップＧに入り込む基材Ｘの上面の角度が粉末Ｙのスパチュラ角θ１を超えることがなくなり、粉末Ｙが滑り落ちることを確実に防止することができる。さらには、圧延ロール２Ａの回転軸と圧延ロール２Ｂの回転軸とを結ぶ線が、支持ロール４ａが送り出す基材Ｘの角度θと直交するように圧延ロール２を配置することがより好ましい。これによって、圧延ロール２にて基材Ｘの進行方向が変更されることがなくなり、基材Ｘの表面に圧着された粉末Ｙが剥離することを防止することができる。
【００３４】
次に、このように構成された本実施形態の粉末圧延装置１の動作（粉末圧延方法）について説明する。なお、以下の動作の主体は、制御部７である。
【００３５】
不図示の搬送装置によって搬送される基材Ｘは、図１に示すように、支持ロール４ａによって下方から支持され、圧下ブロック４ｂと支持ロール４ａとの隙間Ｇ１と、圧延ロール２のギャップＧとを通過する。
【００３６】
このように基材Ｘが搬送されながら、粉末供給部６Ａから圧下ブロック４ｂの上流側において基材Ｘの上面に粉末Ｙが供給される。基材Ｘの上面に載置された粉末Ｙは、基材Ｘの進行に伴って、圧下ブロック４ｂと支持ロール４ａとの隙間Ｇ１に入り込み、圧下ブロック４ｂによって基材Ｘの上面に予備圧下される。このようにして圧下ブロック４ｂによって基材Ｘの上面に対して予備圧下された粉末Ｙは、基材Ｘの上面に固着され、基材Ｘと共に支持ロール４ａから送り出される。
【００３７】
また、粉末供給部６Ｂから第２予備圧下部５の上流側において圧延ロール２Ａの周面に粉末Ｙが供給される。圧延ロール２Ａの周面に載置された粉末Ｙは、圧延ロール２Ａの回転に伴って、第２予備圧下部５と圧延ロール２Ａとの隙間Ｇ２に入り込み、第２予備圧下部５によって圧延ロール２Ａの周面に予備圧下される。このようにして第２予備圧下部５によって圧延ロール２Ａの周面に予備圧下された粉末Ｙは、圧延ロール２Ａの周面に固着される。
【００３８】
基材Ｘの上面に固着された粉末Ｙと、圧延ロール２Ａの周面に固着された粉末Ｙとは、基材Ｘと共に、圧延ロール２Ａと圧延ロール２ＢとのギャップＧに供給され、ここで基材Ｘに対して、基材Ｘが塑性変形する程度の大きな荷重にて圧着される。これによって、基材Ｘの両面に対して、粉末Ｙが圧着される。
【００３９】
このように、本実施形態の粉末圧延装置１では、基材のＸの上面に圧着される粉末Ｙは、第１予備圧下部４によって基材Ｘの上面に予備圧下され、基材Ｘの下面に圧着される粉末Ｙは、第２予備圧下部５によって圧延ロール２Ａの周面に予備圧下される。そして、このように予備圧下された粉末Ｙが、圧延ロール２Ａと圧延ロール２ＢとのギャップＧにて基材Ｘに圧着される。
【００４０】
以上説明した本実施形態の粉末圧延装置１及び粉末圧延方法によれば、基材Ｘの上面に対して粉末Ｙが予備圧下される。このため、上方に配置される圧延ロール２Ｂの周面上において粉末Ｙを予備圧下する必要がなくなり、圧延ロール２Ｂの周面に付着された粉末Ｙが落下するという現象が生じる恐れがなくなる。このため、本実施形態のように、圧延ロール２Ｂの斜め下方にギャップＧが形成される場合であっても、ギャップＧに対して安定的に粉末Ｙを供給することができる。また、本実施形態の粉末圧延装置１によれば、上方から見たときに圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとの一部が重なるように配置されていることから、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとの上方から見たときの設置スペースをコンパクトにすることができる。
【００４１】
このように本実施形態の粉末圧延装置１のように、基材Ｘに対して粉末Ｙを予備圧下する場合には、圧延ロール２上において粉末Ｙを予備圧下する必要がなくなり、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとの位置関係がどのような場合であっても、安定的にギャップＧに粉末Ｙを供給することが可能となる。したがって、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂを自由に配置することが可能となる。よって、本実施形態の粉末圧延装置１及び粉末圧延方法によれば、圧延ロール２Ａと圧延ロール２ＢとのギャップＧに安定的に粉末Ｙを供給すると共に、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとのレイアウトの自由度を向上させることが可能となる。
【００４２】
なお、本実施形態の粉末圧延装置１では、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとを異なる高さに配置することで斜めに配列し、上方に配置される圧延ロール２Ｂ側では、粉末Ｙを基材Ｘに予備圧下している。また、下方に配置される圧延ロール２Ａ側では粉末Ｙを圧延ロール２Ａに予備圧下している。このため、予備圧下された粉末Ｙが常に下側から支えられることとなり、予備圧下された粉末Ｙが崩れることをより確実に防止することができる。このように、予備圧下された粉末Ｙが崩れ難くなることによって、基材Ｘの搬送速度をより速くすることも可能となる。したがって、粉末圧延装置１の生産速度を向上させることが可能となる。
【００４３】
また、本実施形態の粉末圧延装置１では、第１予備圧下部４が、基材Ｘを下方から支持する支持ロール４ａと、支持ロール４ａの上方に配置され、基材Ｘ上に載置された粉末Ｙを基材Ｘに向けて圧下する圧下ブロック４ｂとから構成されている。また、圧下ブロック４ｂを移動させることなく粉末Ｙを圧下することができる。このため、簡易的な構成の第１予備圧下部４にて、粉末Ｙを予備圧下することができ、装置コストの増加を抑制することができる。
【００４４】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の趣旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４５】
例えば、上記実施形態においては、圧延ロール２Ａと圧延ロール２Ｂとを斜めに配列する構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、圧延ロール同士を同じ高さで並べたり、上下方向に並べたりする構成を採用することも可能である。
【００４６】
また、例えば、図３に示すように、予備圧下された粉末Ｙに対して水等の液体を噴霧する噴霧装置８（噴霧手段）を設置するようにしても良い。これによって、液体がバインダとして作用し、粉末Ｙが崩れることをより確実に防止することができる。なお、通常は、本実施形態の粉末圧延装置１にて粉末Ｙが圧着された基材Ｘは、その後焼成される。このため、噴霧装置８から噴霧する液体としては、焼成にて蒸発し、残存しないものを選択することが好ましい。なお、噴霧装置８を設置せずに、粉末供給部６から供給される粉末をペースト状にしても良い。
【符号の説明】
【００４７】
１……粉末圧延装置、２……圧延ロール、２Ａ……圧延ロール、２Ｂ……圧延ロール、３……回転駆動部、３Ａ……回転駆動部、３Ｂ……回転駆動部、４……第１予備圧下部、４ａ……支持ロール、４ｂ……圧下ブロック（圧下部）、５……第２予備圧下部、６……粉末供給部、６Ａ……粉末供給部、６Ｂ……粉末供給部、７……制御部、８……噴霧装置（噴霧手段）、Ｇ……ギャップ、Ｇ１……隙間、Ｇ２……隙間、Ｘ……基材、Ｙ……粉末
【図１】
2014019897.tif 000003
【図２】
2014019897.tif 000004
【図３】
2014019897.tif 000005