(57)【要約】【課題】ロボットがウエハ保持具を持ち上げなくても、現在置かれているウエハ保持具の処理位置から他の処理位置に移動させること。【解決手段】デバイスを製造する製造装置が、デバイス製造装置で搬送するウエハ保持具を載置する第１の載置エリアと、第１の載置エリアから、ウエハ保持具が転がることで第１の載置エリアと、異なる第２の載置エリアにウエハ保持具を搬送する搬送路と、を備える。 【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスを製造する製造装置であって、
前記デバイス製造装置で搬送するウエハ保持具を載置する第１の載置エリアと、
前記第１の載置エリアから、前記ウエハ保持具が転がることで前記第１の載置エリアと、異なる第２の載置エリアに前記ウエハ保持具を搬送する搬送路と、
を備えることを特徴とするデバイス製造装置。
【請求項２】
前記ウエハ保持具が回転して転がることにより、前記第１の載置エリアの前記ウエハ保持具を前記第２の載置エリアに搬送することを特徴とする請求項１に記載のデバイス製造装置。
【請求項３】
前記搬送路の両端が水平ではない場合には、前記搬送路の上をウエハ保持具が自走して転がることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のデバイス製造装置。
【請求項４】
前記ウエハ保持具を載置する載置エリアが水平ではない場合には、前記載置エリアの上をウエハ保持具が自走して転がることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項５】
少なくとも前記搬送路には、前記ウエハ保持具の転がる部位に接触して搬送するための一対のレールまたは一対の溝が設置されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項６】
前記搬送路を転がるウエハ保持具を停止させる停止ストッパと、
前記停止ストッパを駆動する駆動機構と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のデバイス製造装置。
【請求項７】
前記駆動機構が、前記停止ストッパを駆動させることで前記停止ストッパにより停止しているウエハ保持具の搬送を再開することを特徴とする請求項６に記載のデバイス製造装置。
【請求項８】
前記デバイス製造装置で搬送するウエハ保持具を載置する第１の載置エリアと、前記第１の載置エリアと異なる第２の載置エリアと、前記第１の載置エリアと前記第２の載置エリアとの間を連結する搬送路と、を備えるデバイス製造装置におけるデバイスの製造方法であって、
前記ウエハ保持具が前記搬送路を転がることで、前記第１の載置エリアから前記第２の載置エリアに前記ウエハ保持具を搬送することを特徴とする製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
デバイス製造装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスを製造する工程においては洗浄処理や乾燥処理や成膜処理をウエハに施すためにウエハキャリアの中にウエハを保持してウエハが移送されることは一般的である。
半導体製造装置の中で搬送するウエハキャリアの搬送方法に関しては以下のような技術が開示されている。
先行文献１には、洗浄処理時のウォータマークの発生を抑制するために洗浄装置においてウエハカセットを傾いた状態で順次搬送する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平６−３１４６７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、先行技術のように製造装置の中で、ウエハ保持具を自動で所定の位置に移送するためは、ロボットによる持ち上げ搬送が一般的であるが、製造装置の中に組み込まれる移送するためのロボットの数が増えてしまうと、移送するためのロボットによる製造原価が上昇してしまい、ウエハ保持具の搬送以外の主要な機能に必要なコストを圧迫してしまうといった課題を解決する仕組みに関しては開示されていない。
【０００５】
本願発明は、ロボットがウエハ保持具を持ち上げなくても、現在置かれているウエハ保持具の処理位置から他の処理位置に移動させることが出来る仕組みを提供すること。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明は、デバイスを製造する製造装置であって、前記デバイス製造装置で搬送するウエハ保持具を載置する第１の載置エリアと、前記第１の載置エリアから、前記ウエハ保持具が転がることで前記第１の載置エリアと、異なる第２の載置エリアに前記ウエハ保持具を搬送する搬送路と、を備えることを特徴とする。
また、前記ウエハ保持具が回転して転がることにより、前記第１の載置エリアの前記ウエハ保持具を前記第２の載置エリアに搬送することを特徴とする。
また、前記搬送路の両端が水平ではない場合には、前記搬送路の上をウエハ保持具が自走して転がることを特徴とする。
また、前記ウエハ保持具を載置する載置エリアが水平ではない場合には、前記載置エリアの上をウエハ保持具が自走して転がることを特徴とする。
また、少なくとも前記搬送路には、前記ウエハ保持具の転がる部位に接触して搬送するための一対のレールまたは一対の溝が設置されていることを特徴とする。
また、前記搬送路を転がるウエハ保持具を停止させる停止ストッパと、前記停止ストッパを駆動する駆動機構と、をさらに備えることを特徴とする。
また、前記駆動機構が、前記停止ストッパを駆動させることで前記停止ストッパにより停止しているウエハ保持具の搬送を再開することを特徴とする。
【０００７】
また、前記デバイス製造装置で搬送するウエハ保持具を載置する第１の載置エリアと、前記第１の載置エリアと異なる第２の載置エリアと、前記第１の載置エリアと前記第２の載置エリアとの間を連結する搬送路と、を備えるデバイス製造装置におけるデバイスの製造方法であって、前記ウエハ保持具が前記搬送路を転がることで、前記第１の載置エリアから前記第２の載置エリアに前記ウエハ保持具を搬送することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本願発明により、ロボットがウエハ保持具を持ち上げなくても、現在置かれているウエハ保持具の処理位置から他の処理位置に移動させることが出来る仕組みを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本願発明のウエハキャリアの１例を示す図である。
【図２】本願発明のウエハキャリアの１例を示す図である。
【図３】本願発明のウエハキャリアの１例を示す図である。
【図４】本願発明のデバイス製造装置（正面図）の１例を示す図である。
【図５】本願発明のデバイス製造装置（正面図）の１例を示す図である。
【図６】本願発明のデバイス製造装置（上面図）の１例を示す図である。
【図７】本願発明のデバイス製造装置（側面図）の１例を示す図である。
【図８】本願発明のデバイス製造装置（正面図）の１例を示す図である。
【図９】本願発明のデバイス製造装置（正面図）の１例を示す図である。
【図１０】本願発明のデバイス製造装置（正面図）の１例を示す図である。
【図１１】本願発明のデバイス製造装置（上面図）の１例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１を説明する。
図１は、本願発明のデバイス製造装置にて搬送されるウエハ保持具の構成の概略図を示す図であり、ウエハ保持具を側面から見た図を示す。
１は本願発明のウエハ保持具の１例を示した図である。
太陽電池用ウエハのウエハ保持具を１例として説明する。
ウエハ保持具の素材はフッ素樹脂であることが好ましい。耐薬品性等の性質がある素材が好ましい。
１０１は半導体または太陽電池の結晶性（単結晶または多結晶）のシリコンウエハである。
【００１１】
１０２はウエハ保持具の土台部である。土台部により載置面（水平な面）の上にウエハ保持具を載置することができる。土台部１０２は支持部１０４と連結している。
尚、土台部の個数は図１のように２つに限定されない。
一対（両輪）の車輪部は、土台部に連結して配置されている。
【００１２】
１０３はウエハ１０１のロック部である。ロック部はウエハ保持具が載置されている載置面の上を回転して転がる際に、支持部１０４からウエハが離脱しないように支持部１０４の中に収容（格納）している全てのウエハを固定するためのものである。また支持部１０４の中にウエハを収容する（挿脱する）ために、図示しない当該固定を解除する機構を有する。例えは、ロック部１０３をウエハ保持具１から着脱可能な機構でもよく、ロック部を所定の方向にスライドさせる機構でもよい。
【００１３】
１０４はウエハ１０１の支持部である。支持部が収容するウエハ１０１をそれぞれ支持する（保持する）ことで、ウエハをほぼ等間隔になるように配列させて収容することができる。
また支持部１０４には、複数枚（例えば２５枚）のウエハ１０１を等間隔に均等に配列できるように、図示しない切り込み部や仕切り部が加工されている。
【００１４】
１０５は車輪部である。車輪部１０５は土台部１０２と連結している。一対（両輪）の車輪部がともに揃って同じ回転方向に回転することで、載置されている載置面（水平な面）の上をウエハ保持具１が転がって、載置面（水平な面）の上を走行することができる。
このように、一対（両輪）の車輪部がともに揃って同じ回転方向に回転すると、収容するウエハ１０１も車輪部１０５と同じ回転方向に回転する。
【００１５】
さらに一対（両輪）の車輪部の内径を等しくすることで、一対（両輪）の車輪部の回転とともに載置面（水平な面）の上でウエハ保持具１を直進させることができる。
車輪部の形状は、図２のように空洞のあるタイヤ形状でもよく、空洞がないディスク形状であってもよい。
【００１６】
さらに車輪部の形状は、図７に示すように、車輪部と載置面とが接触する部分が面接触しないように、車輪部が載置面と接触する部分がテーパ状（勾配があるように）に加工されている。図１１に示すように、回転によるウエハ保持具１の進行方向が直線だけではなく、異なる方向に曲がって進路変更（コーナーリング）したい場合には、遠心力にて両輪の実効半径が変わる性質を利用して、車輪部１０５がレール１０８から脱線することなく、コーナーリングを容易にすることができるといった効果を奏する。さらに、車輪部とレール１０８とが接触する部分が面接触しないので、接触抵抗も低いため、互いに接触部分の摩耗による劣化や破損を低減させることもできる。
図２を説明する。
【００１７】
図２に示すように、ウエハ保持具１が載置されている載置面が図２に示すように水平ではない場合（傾斜している場合）には、重力によりウエハ保持具１は載置面の上を自走して転がることが可能である。つまり載置面が図２に示すように水平ではない場合には外部にウエハ保持具１を走行させる動力（電力）や機構を必要とせずに、重力によりウエハ保持具１を異なる位置に移送することができるといった効果を奏する。
【００１８】
また、半導体製造装置２本体の中に水平ではないウエハ保持具１を載置されている載置面を構成することで、半導体製造装置２本体の中にもウエハ保持具１を移送するための、従来型の搬送用ロボットを搭載しなくてもよいため、半導体製造装置２の製造コストを低減させるといった効果を奏する。
図３を説明する。
【００１９】
図３は、本願発明の半導体（太陽電池）製造装置にて搬送されるウエハ保持具の構成の概略図を示す図であり、ウエハ保持具を正面から見た図を示す。ここで図３は図１のウエハ保持具の中心の断面を見た断面図を示している。
ここでは、太陽電池用の基板である四角形のウエハ１０１がウエハ保持具１に収納されている例を示している。
尚、支持部１０４の個数は図３のように６つ（６本）には限定されず、収容するウエハを固定するように支持できる個数であればよい。
なお、土台部自体を車輪部１０５のように加工することでが、土台部が車輪部を兼用してもよい。
【００２０】
図１に示したように車輪部は一対（両輪）であることが好ましいが、ウエハ保持部全体の形状を円筒状（ロール状）にして、図示しない両輪が一体型の車輪（すなはち少なくとも１つの車輪）にしてもよい。載置されている載置面（水平な面）の上をウエハ保持具１が転がればよい。
また車輪部の数を、一対（両輪）からさらに追加してもよいが、部品点数が多くなりコスト高になる。
図４を説明する。
図４は、本願発明のデバイス製造装置の装置構成の概略図を示す図である。デバイス製造装置を正面から見た図を示す。
太陽電池の製造装置を１例として説明する。
【００２１】
１は太陽電池のシリコンウエハである複数の（例えば５０枚程度）ウエハを収容し、太陽電池製造装置にてウエハとともに搬送されプロセス処理されるウエハ保持具である。
２は太陽電池製造装置である。
【００２２】
３は太陽電池製造装置を操作するオペレータ（作業者）であり、太陽電池製造装置にウエハ保持具を投入または太陽電池製造装置からウエハ保持具を回収し、太陽電池製造装置による各種プロセス処理を実行させる。
【００２３】
１０６は搬送路である。図４に示すように、第１の載置エリア２０１から、ウエハ保持具１が転がることで第１の載置エリアと異なる第２の載置エリア２０２にウエハ保持具を搬送することができる。
ウエハ保持具１が搬送路１０６の上を回転して転がることにより、第１の載置エリアのウエハ保持具を第２の載置エリアに搬送させている。
【００２４】
さらに搬送路１０６の両端が水平ではない場合（搬送路が傾斜している場合）には、搬送路の上をウエハ保持具が重力により自走して転がることで、ウエハ保持具を載置エリアから異なる載置エリアに搬送させている。
【００２５】
さらにウエハ保持具を載置する載置エリア自体が水平ではない場合にも、載置エリアの上をウエハ保持具が自走して転がることで、ウエハ保持具を載置エリアの異なる位置に搬送させてことも可能である。
【００２６】
１０７は搬送路を転がるウエハ保持具を所定の位置で停止（静止）させる停止ストッパである。さらに図示しない停止ストッパを駆動する駆動機構を備えている。
【００２７】
駆動機構が、停止ストッパ１０７による停止後に、停止を解除する方向に反転駆動させることで停止ストッパにより停止しているウエハ保持具の搬送（自走）が再開する。
同じように、第２の載置エリア２０２からも、ウエハ保持具１が転がることで第３の載置エリア２０２にウエハ保持具を搬送することができる。
同じように、第３の載置エリア２０２からも、ウエハ保持具１が転がることで第４の載置エリア２０２にウエハ保持具を搬送することができる。
２０１は太陽電池製造装置２にウエハ保持具を投入する投入ユニットである。
また投入ユニット２０１は、搬送するウエハ保持具を載置するための第１の載置エリアである。
２０２はウエハおよびウエハ保持具を移送し、処理液４０２および処理液５０２に浸漬し、ウエット処理する処理ユニットである。
また処理ユニット２０２は、搬送するウエハ保持具を載置するための第２の載置エリアである。
２０３は処理液５０２により濡れているウエハおよびウエハ保持具を乾燥させる乾燥室である。
また乾燥室２０３は、搬送するウエハ保持具を載置するための第３の載置エリアである。
２０４は太陽電池製造装置２からウエハ保持具が排出される排出ユニットである。
または排出ユニット２０４は、搬送するウエハ保持具を載置するための第４の載置エリアである。
４０１は反応槽である。ウエハおよびウエハ保持具を反応槽に浸漬することでウエハ表面の物質に反応液による化学処理（プロセス処理Ａ）を施すものである。
４０２は反応液であり、例えばウエハの表面に酸化膜を形成させる反応液である。
【００２８】
反応液の種類は硝酸（ＨＮＯ３）と水との混合溶液である。なおウエハの表面に化学的酸化膜を形成させる反応液の種類としては、硝酸と水との混合溶液には限定されない。過酸化水素と水との混合溶液等の酸化性溶液であればよい。
反応液が硝酸と水との混合溶液である反応液の硝酸の濃度は、６０ｗｔ％以上であり好ましくは６８ｗｔ％である。
硝酸と水との混合溶液である反応液の液温は、好ましくは室温（２５℃）から硝酸と水との共沸温度（１２０℃）付近である。
【００２９】
ウエハを硝酸と水との混合溶液で満たされた反応槽に１分から１０分程度浸漬することで、シリコンが露出するウエハの表面（または裏面）には、ウエハの表面を被覆するように膜厚が１．５ｎｍ程度のシリコン酸化膜が形成される。
【００３０】
他の反応液の種類としては、例えばウエハの表面から自然酸化膜を除去させ、洗浄する反応液であり、反応液の種類としては沸酸（ＨＦ）と水との混合溶液である。
４０３は乾燥室２０３の内部の雰囲気を加熱させるための加熱器（ヒータ部）である。
加熱によりウエハおよびウエハ保持具に付着しているリンス液が蒸発し、ウエハおよびウエハ保持具を乾燥させる。
【００３１】
５０１はリンス処理槽である。ウエハおよびウエハ保持具を反応槽に浸漬することでウエハ表面の物質に反応液による化学処理（プロセス処理Ｂ）を施すものである。ここではウエハおよびウエハ保持具に付着した反応液をリンス液に溶かして反応液の成分を洗い流すものである。
５０２はリンス液であり、例えば純水である。
図５を説明する。
図５は、処理槽４０１、５０１の概略図を示す図である。本願発明のデバイス製造装置を正面から見た図を示す。
【００３２】
３０１は４本のロープ３０２の長さ（伸縮）を１本毎に個別に制御するための伸縮制御機構（４つ）である。ロープ３０２の長さを個別に制御することで、積載板の載置面を水平ではなく傾斜させて配置できるように、傾斜角度を所望の角度に調整することができる。
【００３３】
３０２は積載板の四隅に連結された４本のロープであり、ウエハ保持具を載置した積載版を反応槽に浸漬するように下げたり（Ａ）、反応槽に浸漬させたまま保持させたり（Ｂ）、浸漬後に反応槽から持ち上げるものである（Ｃ）。
【００３４】
さらに（Ａ）の場合には、走行しているウエハ保持具の走行を停止させ、さらに積載板上の適正な位置にウエハ保持具を載置させるために、ウエハ保持具が走行する方向に積載板の載置面が対向するように積載板の載置面を（Ｂ）の場合のように水平ではなく傾斜させて待機することができる。
さらに（Ｃ）の場合には、（Ａ）の場合の反対側を高くすることで、載置面を傾斜させ、静止しているウエハ保持具の走行を再び開始させることができる。
３０３はウエハ保持具を載置し、載置したまま反応槽にウエハ保持具を浸漬させる積載板である。
図６を説明する。
図６は、本願発明のデバイス製造装置の装置構成の概略図を示す図である。デバイス製造装置を上面から見た図を示す。
【００３５】
図６に示すように、少なくとも搬送路１０６には、ウエハ保持具が搬送路の上を走行するルートを誘導させるために、ウエハ保持具１の転がる部位（一対の車輪部）に接触して搬送するための一対の誘導路（例えばレールまたは溝でもよい）が設置されている。
図７を説明する。
図７は、処理槽４０１、５０１の概略図を示す図である。本願発明のデバイス製造装置を側面から見た図を示す。
図８を説明する。
図８は、本願発明のデバイス製造装置の装置構成の概略図を示す図である。デバイス製造装置を正面から見た図を示す。
【００３６】
ウエハ保持具が搬送路１０６の上を回転して移動すると、浸漬によってウエハ保持具とウエハの表面に付着（残留）している反応液は、回転移動による遠心力により飛散し搬送路１０６の上に落下する。
【００３７】
また搬送路１０６は傾斜しているので、搬送路の下流（低い位置）に飛散した反応液の回収口４０５を設けることで、飛散した反応液を簡単に回収することができる。
さらに回収口から回収した反応液４０２は回収路４０４を通じて、反応槽４０２に回収され、持ち出された反応液を無駄なく回収することができる。
図９を説明する。
図９は、本願発明のデバイス製造装置の装置構成の概略図を示す図である。デバイス製造装置を正面から見た図を示す。
【００３８】
４０６は、ウエハ保持具を回転させる回転ローラ部である。ウエハ保持具１が載る構造を有し、ウエハ保持具１が転がるのと同じようにウエハ保持具１を同じ位置で回転させることができる。ウエハ保持具１が処理槽４０１の中に浸漬され回転ローラ部の上に載せられ、回転ローラ部が回転すると、回転ローラ部との接触抵抗によりウエハ保持具もともに回転（とも回り）する。回転ローラ部により、処理液４０２の中で、ウエハ１０１を容易に回転させることができるので、ウエハ面内の反応の均一性を向上させる効果を有する。また、ウエハの回転により、表面反応を促進する効果もあるため、反応処理時間が短くても所望の反応結果を得ることができ、製造装置が当該反応処理に要する部分のタクトタイム（工程作業時間）を短くすることができる。
図１０を説明する。
図１０は、本願発明のデバイス製造装置の装置構成の変形例を示す図である。デバイス製造装置を正面から見た図を示す。
【００３９】
１０６Ａに示すようにウエハ保持具を往路から復路に折り返すための、折り返し用の搬送路１０６Ａ（例えば一対のレール）を、製造装置の中に設けることで、フットプリント（設置面積）が半分である製造装置にすることができる。つまり搬送に外部動力（搬送用ロボット）を必要としないので、このようにコンパクトなデザイン（設計）にすることが出来る。
【００４０】
図１０に示すように、太陽電池製造装置２にウエハ保持具を投入する投入ユニット２０１と同じユニットに、２０４は太陽電池製造装置２からウエハ保持具が排出される排出ユニットを配置することが出来る。
【００４１】
搬送路１０６を傾斜させることで、ウエハ保持具を、外部動力を必要とせず水平方向に搬送でき、さらに折り返し用の搬送路１０６Ａを設けることでウエハ保持具を外部動力を必要とせずに上下方向（重力方向）にも搬送できる。
【００４２】
さらに折り返し後の搬送路１０６に乾燥室２０３を設けると、本願発明の製造装置を反応槽４０１と乾燥室２０３とを垂直に配置した２層建て積層構造に設計することも可能である。
図１１を説明する。
図１１は、デバイス製造装置を上面から見た図を示す。
【００４３】
図１１に示すように、第１の太陽電池製造装置２の搬送路１０６には、ウエハ保持具が搬送路の上を走行するルートを誘導させるために、ウエハ保持具１の転がる部位（一対の車輪部）に接触して搬送するための一対のレール１０８（または一対の溝でもよい）が設置されている。同じように第２の太陽電池製造装置４の搬送路１０６には、ウエハ保持具が搬送路の上を走行するルートを誘導させるために、ウエハ保持具１の転がる部位（一対の車輪部）に接触して搬送するための一対のレール１０８（または一対の溝でもよい）が設置されている。
このレール１０８により、第１の太陽電池製造装置２から第２の太陽電池製造装置４にもウエハ保持具１が転がることでウエハ保持具を搬送することができる。
さらにレール１０８が別の方向にある太陽電池製造装置に誘導することで、他の太陽電池製造装置にもウエハ保持具を搬送することができる。
【００４４】
なお、本願発明のウエハキャリアに収容されるウエハの形状は太陽電池のように四角形または八角形である多角形状ウエハには限定されず、メモリ、ＬＳＩ、パワーデバイス、ＣＭＯＳセンサ、加速度センサ、液晶、ＬＥＤ等の半導体基板上またはガラス基板上に形成される電子デバイスのように円盤状のウエハであっても上記効果を有する。
【００４５】
なお、本願発明のデバイス製造装置にて製造されるウエハの形状は太陽電池のように四角形または八角形である多角形状ウエハには限定されず、メモリ、ＬＳＩ、パワーデバイス、ＣＭＯＳセンサ、加速度センサ、液晶、ＬＥＤ等の半導体基板上またはガラス基板上に形成される電子デバイスのように円盤状のウエハであっても上記効果を有する。
【００４６】
なお、本願発明のウエハキャリアに収容されるウエハは、シリコンウエハには限定されず、ＳｉＣ（シリコンカーバイド）ウエハ、サファイアガラスウエハ、化合物半導体ウエハであるＧａＰ（リン化ガリウム）ウエハ、ＧａＡｓ（ヒ化ガリウム）ウエハ、ＩｎＰ（リン化インジウム）ウエハ、ＧａＮ（窒化ガリウム）ウエハであっても上記効果を有する。
【００４７】
なお、本願発明のデバイス製造装置にて製造されるウエハは、シリコンウエハには限定されず、ＳｉＣ（シリコンカーバイド）ウエハ、サファイアガラスウエハ、化合物半導体ウエハであるＧａＰ（リン化ガリウム）ウエハ、ＧａＡｓ（ヒ化ガリウム）ウエハ、ＩｎＰ（リン化インジウム）ウエハ、ＧａＮ（窒化ガリウム）ウエハであっても上記効果を有する。
【符号の説明】
【００４８】
１      ウエハ保持具（ウエハキャリア）
２      半導体製造装置
３      オペレータ（作業者）
１０１  ウエハ（半導体またはガラス）
２０１  ウエハ保持具投入ユニット
２０２  ウエハのプロセス処理Ａユニット
２０３  ウエハのプロセス処理Ｂユニット
２０１  ウエハ保持具排出ユニット
４０１  処理槽（反応槽）
２０３  処理室（乾燥室）
５０１  処理槽（洗浄槽）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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