(57)【要約】【課題】塗布液の濃度検出機能や処理液の希釈機能を必要とせず、塗布液の濃度が安定的に維持される液体塗布装置並びに液体塗布装置のメンテナンス方法を提供する。【解決手段】被塗布媒体へ塗布液を塗布する塗布ローラ（１２）を具備する塗布部（３４）と、塗布部による塗布液の塗布を制御する塗布制御部と、塗布部に供給される塗布液が保持される塗布皿（１４）と、塗布部の動作状態ごとの累積動作時間を計測するカウンタ部（５８）及び累積動作時間が記憶されるカウンタ値記憶部６０と、累積動作時間に基づき、液体保持部に保持される塗布液の推測濃度値を算出する濃度演算部（５６）と、を備え、濃度演算部によって算出された推測濃度値が上限濃度値を超えた場合には、塗布皿に保持される塗布液が交換される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布媒体へ塗布液を塗布する塗布ローラを含む１つ以上のローラを具備する塗布部と、
前記塗布部の動作状態に応じて前記塗布部に含まれるローラの回転速度を変更して、前記塗布部による塗布液の塗布を制御する塗布制御部と、
前記塗布部に供給される塗布液が保持される液体保持部と、
前記塗布部の動作状態ごとの累積動作時間を含む塗布情報を、前記塗布部の動作状態ごとに管理する塗布情報管理部と、
前記塗布情報管理部により得られた塗布情報に基づき、前記液体保持部に保持される塗布液の状態を推測する推測部と、
前記推測部の推測結果に基づいて前記液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行うメンテナンス部と、
を備えた液体塗布装置。
【請求項２】
前記塗布情報管理部は、前記塗布部の動作状態の切り換えに対応して回転速度が変更されるローラの回転速度ごとに、前記塗布情報を管理する請求項１に記載の液体塗布装置。
【請求項３】
前記塗布部は、前記液体保持部に保持される塗布液を前記塗布ローラへ供給する中間ローラを含み、
前記塗布制御部は、前記塗布部の塗布待機状態における前記中間ローラの回転速度を、前記塗布部から被塗布媒体へ塗布液を塗布する塗布状態における前記中間ローラの回転速度よりも減速させ、前記塗布部の塗布停止状態では前記中間ローラの回転を停止させ、
前記塗布情報管理部は、前記中間ローラの回転速度ごとに前記中間ローラの累積動作時間を管理する請求項１又は２に記載の液体塗布装置。
【請求項４】
前記推測部は、前記塗布部の動作状態ごとの累積動作時間に基づいて前記液体保持部に保持される塗布液の濃度を推測する請求項３に記載の液体塗布装置。
【請求項５】
前記推測部は、前記液体保持部に保持される塗布液の前記塗布部の動作状態ごとの濃縮係数に、前記濃縮係数と同じ動作状態における累積動作時間を乗じた動作状態ごとの推測濃度値を算出し、前記算出された動作状態ごとの推測濃度値を足し合わせて前記液体保持部に保持される塗布液の推測濃度値を算出し、
前記メンテナンス部は、前記算出された前記液体保持部に保持される塗布液の推測濃度値が、予め決められた濃度しきい値よりも大きい場合に前記液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行う請求項４に記載の液体塗布装置。
【請求項６】
前記液体保持部に保持される塗布液の温度を検出する塗布液温度検出部を備え、
前記推測部は、前記検出された塗布液の温度に対応する温度係数を前記算出された推測濃度値に乗じて推測濃度値の補正値を算出し、
前記メンテナンス部は、前記算出された推測濃度値の補正値が予め決められた濃度しきい値よりも大きい場合に前記液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行う請求項５に記載の液体塗布装置。
【請求項７】
前記塗布部の環境温度及び環境湿度の少なくともいずれか一方を検出する環境温度湿度検出部を備え、
前記推測部は、前記検出された環境温度に対応する温度係数を前記算出された推測濃度値に乗じて推測濃度値の補正値を算出し、
前記メンテナンス部は、前記算出された推測濃度値の補正値が予め決められた濃度しきい値よりも大きい場合に前記液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行う請求項５又は６に記載の液体塗布装置。
【請求項８】
前記塗布ローラの温度を検出する塗布ローラ温度検出部を備え、
前記推測部は、前記検出された塗布ローラ温度に対応する温度係数を前記算出された推測濃度値に乗じて推測濃度値の補正値を算出し、
前記メンテナンス部は、前記算出された推測濃度値の補正値が予め決められた濃度しきい値よりも大きい場合に前記液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行う請求項５から７のいずれか１項に記載の液体塗布装置。
【請求項９】
前記推測部は、前記液体保持部へ塗布液が供給されたときの前記塗布液の濃度値を初期濃度値として、前記液体保持部に保持される塗布液の推測濃度値を算出する請求項５から８のいずれか１項に記載の液体塗布装置。
【請求項１０】
前記メンテナンス部は、前記推測部の推測結果に基づいて前記液体保持部に保持される塗布液を交換する請求項１から９のいずれか１項に記載の液体塗布装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか１項に記載の液体塗布装置と、
前記液体塗布装置によって塗布液が塗布された記録媒体にインクを吐出させて画像を記録するインクジェットヘッドと、
を備えたインクジェット記録装置。
【請求項１２】
被塗布媒体へ塗布液を塗布する塗布ローラを含む１つ以上のローラを具備する塗布部、及び前記塗布部の動作状態に応じて前記塗布部に含まれるローラの回転速度を変更して、前記塗布部による塗布液の塗布を制御する塗布制御部を備えた液体塗布装置のメンテナンス方法において、
前記塗布部の動作状態ごとの累積動作時間を含む塗布情報を、前記塗布部の動作状態ごとに管理する塗布情報管理工程と、
前記塗布情報管理工程により得られた塗布情報に基づき、前記塗布部に供給される塗布液が保持される液体保持部に保持される塗布液の状態を推測する推測工程と、
前記推測工程の推測結果に基づいて前記液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行うメンテナンス工程と、
を含む液体塗布装置のメンテナンス方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液体塗布装置、インクジェット記録装置及び液体塗布装置のメンテナンス方法に係り、特に塗布液のメンテナンス技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
塗布ローラ等のコーティング手段を用いて汎用紙にインクを凝集反応させる処理液をコーティングし、コーティング後の汎用紙にインクジェット方式の印刷を行う印刷システムが知られている。
【０００３】
塗布ローラへ処理液を安定的に供給する方法として、処理液を貯蓄するタンク（以下、処理液タンク）とは別に、一時的に処理液を蓄えるバッファタンクを設けて、塗布皿とバッファタンクとの間で処理液を循環させつつ、バッファタンク内の処理液量の減少に応じて、処理液タンクから新鮮な処理液がバッファタンクへ補充される方式が知られている。
【０００４】
しかし、装置のスタンバイ状態など、コーティングが行われない状態が長時間続いた場合に、処理液の循環に伴って処理液の水分（溶媒成分）が蒸発し、処理液が徐々に濃縮された結果、インクの凝集しやすさが変化してしまい、インク濃度（画像濃度）が変化し、画像品質が劣化してしまうという問題がある。
【０００５】
また、処理液は塗布量を安定化させることを目的として、ヒータ等による温調制御がされた結果、さらに溶媒成分の蒸発が促進されてしまうという問題もある。
【０００６】
そこで、塗布ローラを用いた処理液の塗布では、処理液を循環させる循環流路に濃度計を設けて処理液の濃度を常時監視し、処理液の濃度が予め決められたしきい値よりも高くなると、循環流路と連通するバッファタンクへ処理液を希釈させる希釈液が供給され、循環流路内の処理液の濃度を一定に保つ構成が採用される。
【０００７】
特許文献１には、印刷前の用紙に処理液を塗布して表面を改質し、その後、画像形成が行われる画像形成装置が記載されている。特許文献１に記載された塗布装置は、処理液が貯留される処理液タンクに濃度検出センサが具備され、濃度検出センサの検出結果に基づき、処理液が適宜希釈される構成となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１２−４０４８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に記載された塗布装置は、濃度検出センサ、希釈液が貯留されるタンク、希釈液を供給するための流路、ポンプ、切換弁などが必要となる。そのために装置の構成が大型化し、複雑化するとともに、装置のコストアップを招く等の問題が生じている。
【００１０】
また、希釈液が減少した場合にはユーザによる希釈液の補充が必要である。濃度検出センサの検出精度を確保するためには濃度検出センサの定期的な清掃が必要である。このように希釈液の供給系のメンテナンスに対して、ユーザの手間が余計にかかるといった問題も存在している。
【００１１】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、塗布液の濃度検出機能や塗布液の希釈機能を必要とせず、塗布液の濃度が安定的に維持される液体塗布装置、インクジェット記録装置及び液体塗布装置のメンテナンス方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明に係る液体塗布装置は、被塗布媒体へ塗布液を塗布する塗布ローラを含む１つ以上のローラを具備する塗布部と、塗布部の動作状態に応じて塗布部に含まれるローラの回転速度を変更して、塗布部による塗布液の塗布を制御する塗布制御部と、塗布部に供給されると塗布液が保持される液体保持部と、塗布部の動作状態ごとの累積動作時間を含む塗布情報を、塗布部の動作状態ごとに管理する塗布情報管理部と、塗布情報管理部により得られた塗布情報に基づき、液体保持部に保持される塗布液の状態を推測する推測部と、推測部の推測結果に基づいて液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行うメンテナンス部と、を備えている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、塗布部の動作状態ごとの累積動作時間を含む塗布情報に基づいて液体保持部に保持される塗布液の状態が推測されるので、液体保持部に保持される塗布液の濃度を測定する濃度計を用いることなく、塗布部の動作状態に応じて変化する塗布液の状態が把握される。
【００１４】
また、塗布液の状態が把握されることで、塗布液の状態の変化に基づき液体保持部の塗布液のメンテナンスを行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係る液体塗布装置の概略構成図
【図２】塗布部の構成を示す斜視図
【図３】制御系の概略構成を示すブロック図
【図４】塗布液の推測濃度値算出の説明図
【図５】塗布部の塗布状態を示す説明図
【図６】塗布部の塗布待機状態を示す説明図
【図７】塗布部の塗布停止状態を示す説明図
【図８】液体塗布の制御の流れを示すフローチャート
【図９】液体塗布の制御の流れを示すフローチャート
【図１０】液体塗布の制御の流れを示すフローチャート
【図１１】図１に示す液体塗布装置が適用されるインクジェット記録装置の全体構成図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。
【００１７】
〔第１実施形態：液体塗布装置の全体構成〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る液体塗布装置１０の概略構成図である。同図に示す液体塗布装置１０は、塗布液が塗布される被塗布媒体（不図示）を外周面に保持して搬送する搬送ドラム１１と、搬送ドラム１１に保持された被塗布媒体に塗布液を塗布する塗布ローラ１２と、塗布ローラ１２に供給される塗布液が保持される塗布皿１４（液体保持部）と、塗布皿１４に保持された塗布液をくみ上げて、塗布ローラ１２へ供給するアニロックスローラ１６（中間ローラ）と、を備えている。
【００１８】
搬送ドラム１１は、円筒形状を有し、不図示の回転機構により回転駆動可能に構成されている。搬送ドラム１１を同図における反時計周りに回転させることで、外周面に保持された被塗布媒体は搬送ドラム１１の外周面に沿って搬送される。
【００１９】
塗布ローラ１２は、その表面が所定量の塗布液を保持することができる材質（例えば、ゴム）で構成され、不図示の回転機構によって搬送ドラム１１と反対方向（時計回り方向）に回転駆動可能に構成されている。
【００２０】
塗布ローラ１２を予め決められた回転速度で回転させながら、搬送ドラム１１に保持される被塗布媒体に所定の押圧で押し当てることで、被塗布媒体の表面に塗布液が塗布される。
【００２１】
塗布皿１４は、供給流路２２を介して塗布液タンク２４から供給された塗布液が保持される部材である。供給流路２２に設けられた弁（不図示）を開き、供給ポンプ２６を動作させると、塗布液タンク２４から供給流路２２を介して塗布皿１４へ塗布液が供給される。
【００２２】
塗布皿１４は、回収流路２８及び排出ポンプ３０を介して廃液タンク３２と連通される。回収流路２８に設けられた不図示の弁を開き、排出ポンプ３０を動作させると、塗布皿１４から排出された塗布液（廃液）が回収流路２８を経由して廃液タンク３２へ送られる。
【００２３】
アニロックスローラ１６は、ステンレス材の表面に、不図示の細かい溝（セル）が形成され、その表面の一部が塗布皿１４に保持される塗布液に浸漬された状態で回転可能に支持される。
【００２４】
アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２と反対方向（反時計回り方向）に回転させることで、塗布皿１４からセルの中に保持された一定量の塗布液がくみ上げられ、計量された塗布液が塗布ローラ１２へ供給される。
【００２５】
計量ブレード１８は、ローラカバー２０に固定され、先端部がアニロックスローラ１６の外周面に当接し、アニロックスローラ１６の回転方向における、塗布皿１４に保持される塗布液の液面と、塗布ローラ１２とアニロックスローラ１６との接触面（塗布液の塗布位置）と、の間に配置される。
【００２６】
計量ブレード１８は、アニロックスローラ１６の表面に付着した余分な塗布液をかき取る部材である。計量ブレード１８によってアニロックスローラ１６に保持される塗布液量が調整される。
【００２７】
また、アニロックスローラ１６は、不図示の移動機構によって塗布ローラ１２との接触及び塗布ローラ１２からの離間が切り換え可能に構成されている。塗布ローラ１２により被塗布媒体へ塗布液が塗布される塗布状態では、アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２へ接触させることで、塗布ローラ１２へ塗布液が供給される。
【００２８】
一方、ジョブ内の塗布休止期間等の塗布待機状態、及びジョブ間の塗布休止期間等の塗布停止状態では、アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２から離間させることで、塗布ローラ１２への塗布液の供給が停止される。
【００２９】
図１に図示した塗布ローラ１２及びアニロックスローラ１６を含む塗布部３４の構成は、図１に図示された構成に限定されない。例えば、アニロックスローラ１６に代わり塗布皿１４から塗布液を計量しつつ、計量された塗布液を塗布ローラ１２へ供給する構成を適用してもよいし、塗布ローラ１２と塗布皿１４との間に複数のローラを含むローラ群を具備する構成としてもよい。
【００３０】
すなわち、塗布部３４は、少なくとも塗布ローラ１２を含む１つ以上のローラから構成される。
【００３１】
塗布皿１４及びアニロックスローラ１６はローラカバー２０によって覆われる。ローラカバー２０は、塗布皿１４と分離してアニロックスローラ１６とともに移動可能に構成してもよいし、塗布皿１４に固定されてもよい。
【００３２】
ローラカバー２０には、塗布ローラ１２とアニロックスローラ１６との接触位置に対応して開口３３が設けられている。塗布ローラ１２とアニロックスローラ１６とを接触させるときは、この開口３３からアニロックスローラ１６を露出させる。
【００３３】
塗布液の溶媒成分の蒸発は、アニロックスローラ１６の表面からの蒸発が支配的であり、アニロックスローラ１６の表面からの蒸発に比べて塗布皿１４からの蒸発は小さいと考えられる。
【００３４】
そこで、アニロックスローラ１６を覆うローラカバー２０を備えることで、アニロックスローラ１６の表面からの塗布液の溶媒成分の蒸発が抑制される。
【００３５】
図２は、図１に示す塗布部３４の構成を示す斜視図である。図２に示す塗布ローラ１２は、被塗布媒体（不図示）の最大幅に対応する長さを有している。ここで、「被塗布媒体の最大幅」とは、複数のサイズの被塗布媒体が使用される場合において、最大サイズの被塗布媒体の搬送方向と直交する長さを意味している。
【００３６】
アニロックスローラ１６の回転軸方向の長さは、塗布ローラ１２の回転軸方向の長さに対応しており、アニロックスローラ１６は塗布ローラ１２の回転軸と平行方向の回転軸を有している。
【００３７】
また、計量ブレード１８の長手方向（アニロックスローラ１６の回転軸方向）の長さは、アニロックスローラ１６の回転軸方向の長さ以上となっている。
【００３８】
〔制御系の構成〕
図３は、液体塗布装置１０の制御系の概略構成を示すブロック図である。同図に示すように、液体塗布装置１０は、制御部４０によって統括的に制御される。
【００３９】
すなわち、入力部４１や入出力インターフェース部（入出力Ｉ／Ｆ）４２から入力された入力信号、入力データは制御部４０へ送られ、入力信号、入力データに基づく指令信号が制御部４０から装置各部へ送出される。
【００４０】
ローラ駆動部４３は、制御部４０から送出される指令信号に基づき、塗布部３４に含まれるローラ（図２の塗布ローラ１２及びアニロックスローラ１６）の動作を制御する。
【００４１】
すなわち、ローラ駆動部４３は、図１に図示した塗布ローラ１２及びアニロックスローラ１６の動作開始、停止、回転速度、塗布ローラ１２とアニロックスローラ１６との当接、離間などを制御する。
【００４２】
なお、図３では、塗布ローラ１２の駆動系に具備されるモータ、アニロックスローラ１６の駆動系に具備されるモータ、塗布ローラ１２とアニロックスローラ１６との当接、離間駆動系のモータ、さらに他のローラを備える態様では当該ローラの駆動系に具備されるモータ等を代表して符号４４を付して図示している。
【００４３】
ここで、本例に示す液体塗布装置１０は、動作状態に応じてアニロックスローラ１６の回転速度が調整される。動作状態には、塗布ローラ１２による塗布液の塗布がされる塗布状態（図５参照）、ジョブ内の塗布休止期間等の塗布待機状態（図６参照）、ジョブ間の塗布休止期間等の塗布停止状態（図７参照）が含まれる。
【００４４】
塗布状態では、塗布ローラ１２とアニロックスローラ１６とを接触させ、塗布ローラ１２の線速度とアニロックスローラ１６の線速度を一致させるアニロックスローラ１６の回転速度が設定される。
【００４５】
塗布待機状態では、塗布ローラ１２とアニロックスローラ１６とを離間させ、アニロックスローラ１６の回転速度を塗布状態よりも減速させる。このときに、塗布ローラ１２を減速させてもよい。
【００４６】
つまり、塗布状態におけるアニロックスローラ１６の回転速度（塗布速度）をＶβ、塗布待機状態のアニロックスローラ１６の回転速度（待機速度）をＶαとしたときに、塗布速度Ｖβ＞待機速度Ｖαの関係を満たしている。
【００４７】
塗布停止状態では、塗布ローラ１２とアニロックスローラ１６とを離間させ、塗布ローラ１２及びアニロックスローラ１６の回転を停止させる。
【００４８】
このようにして、塗布待機状態において、塗布皿１４に保持される塗布液と接触しているローラ（本例ではアニロックスローラ１６）の回転速度を塗布状態よりも減速させることで、塗布皿１４からくみ上げられる単位時間あたりの塗布液量を減少させるとともに、当該ローラの表面に計量された塗布液と、外気との相対速度差を減少させ、当該ローラの表面からの塗布液の溶媒の蒸発が抑制される。
【００４９】
ポンプ制御部４６は、供給ポンプ２６及び排出ポンプ３０（図１参照）のオンオフ及び回転数を制御する。
【００５０】
環境温度・湿度検出部４８は、塗布ローラ１２の周囲の温度を検出する温度センサ、及び塗布ローラ１２の周囲の湿度を検出する湿度センサを備え、さらに、この温度センサ、湿度センサから得られる検出信号にノイズ除去、波形整形等の信号処理を施す信号処理部が含まれる。
【００５１】
環境温度・湿度検出部４８により取得された環境温度、環境湿度の情報を表す検出信号は制御部４０へ送られる。なお、環境温度・湿度検出部４８は、環境温度及び環境湿度の少なくともいずれか一方を検出する構成とすることも可能である。
【００５２】
塗布ローラ温度検出部５０は、塗布ローラ１２の表面温度を検出する温度センサと、この温度センサから得られる検出信号にノイズ除去、波形整形等の信号処理を施す信号処理部と、を含んでいる。
【００５３】
塗布ローラ１２の表面温度を検出する温度センサは、非接触により塗布ローラ１２の表面温度を検出する非接触式でもよいし、塗布ローラ１２の表面に接触させて塗布ローラ１２の表面温度を検出する接触式でもよい。
【００５４】
塗布ローラ温度検出部５０から送出された塗布ローラ１２の表面温度の情報を表す検出信号は制御部４０へ送られる。
【００５５】
塗布液温度検出部５２は、塗布皿１４に保持される塗布液の温度を検出する温度センサと、この温度センサから得られる検出信号にノイズ除去、波形整形等の信号処理を施す信号処理部と、を含んでいる。
【００５６】
塗布液の温度を検出する温度センサは、塗布液による腐食を回避するために非接触式の温度センサを適用する態様が好ましい。塗布液温度検出部５２から送出された塗布液の温度情報を表す検出信号は制御部４０へ送られる。
【００５７】
補正係数記憶部５４は、塗布皿１４に保持されている塗布液の濃度推測（詳細後述）に用いられる補正係数が記憶されている。
【００５８】
補正係数記憶部５４に記憶される補正係数は、装置個別のばらつき（機差）による補正係数（ｋ）、塗布液の温度による補正係数（Ｔｓ）、塗布ローラ１２の周囲温度、周囲湿度による補正係数（Ｔｅ）、塗布ローラの表面温度による補正係数（Ｔｒ）が含まれる。
【００５９】
補正係数記憶部５４に記憶される補正係数は、検出値に対応付けされて記憶されており、環境温度・湿度検出部４８、塗布ローラ温度検出部５０、塗布液温度検出部５２により得られた検出値に基づいて、パラメータごとに補正係数記憶部５４に記憶される各補正係数が読み出される。
【００６０】
濃度演算部５６（推測部）は、塗布待機状態において、塗布皿１４に保持される塗布液の推測濃度値を算出する。濃度演算部５６は、演算装置（プロセッサ）、演算の作業領域として使用されるメモリ、演算プログラムが格納されるメモリ、演算結果の記憶部として使用されるメモリ等から構成される。
【００６１】
本例に示す濃度演算部５６は、塗布液の推測濃度値の算出において、補正係数記憶部５４に記憶された補正係数を参照することができる（詳細後述）。
【００６２】
カウンタ部５８は、アニロックスローラ１６の回転速度（塗布速度、待機速度、停止）ごとの累積動作時間を計測する手段として機能する。カウンタ部５８により計測された累積動作時間は、アニロックスローラ１６の回転速度に対応付けされて、カウンタ値記憶部６０へ記憶される。
【００６３】
すなわち、濃度演算部５６及び制御部４０は、カウンタ値記憶部６０に記憶されたアニロックスローラ１６の回転速度ごとに計測された累積動作時間に基づき、塗布皿１４に保持される塗布液の濃度を推測する手段（推測部）として機能し、カウンタ部５８、カウンタ値記憶部６０及び制御部４０は、アニロックスローラ１６の回転速度ごとの累積動作時間（塗布情報）を管理する手段（塗布情報管理部）として機能している。
【００６４】
メンテナンス制御部６２は、制御部４０から送出される指令信号に基づき、塗布液のメンテナンスを行うメンテナンス部６４を制御する。塗布液のメンテナンスには、塗布皿１４内の塗布液を排出させ、塗布皿１４へ新たに塗布液を供給する塗布液の交換が適用される。もちろん、希釈液（純水、塗布液の溶媒成分等）を用いて塗布皿１４内の塗布液を希釈する態様を適用してもよい。
【００６５】
塗布液が交換される態様は、塗布液を希釈するための希釈液の流路、希釈液のタンク、ポンプ、弁などが不要となる。一方、塗布液を希釈させる態様は、塗布液が交換される態様に比べてメンテナンスのために消費される塗布液の量を大幅に減らすことができる。
【００６６】
〔塗布液の濃度の推測説明〕
次に、塗布液の濃度の推測について詳細に説明する。図４は、塗布液の濃度の推測の説明図である。同図の横系列は時間ｔであり、縦系列は塗布液の推測濃度値Ｄである。
【００６７】
まず、塗布液の初期濃度値ｄが設定される。塗布液の初期濃度値ｄは、塗布液が塗布皿１４へ供給される際に自動的に取得してもよいし、手動により入力してもよい。また、装置ごとに固定値としてもよいし、初期濃度値をゼロとして相対的な推測濃度値を求めてもよい。
【００６８】
図４における期間Ａ１，Ａ２，Ａ３は、アニロックスローラ１６を待機速度Ｖαで回転させる塗布待機状態（図６参照）の累積動作時間を表している。これらの累積動作時間を合算した値（ΣＡｉ、但し、ｉは自然数）がアニロックスローラ１６を待機速度Ｖαで回転させる塗布待機状態の累積動作時間（塗布待機時間）として管理される。
【００６９】
また、期間Ｂ１，Ｂ２は、アニロックスローラ１６を塗布速度Ｖβで回転させた塗布状態（図５参照）の累積動作時間を表しており、これらの累積動作時間を合算した値（ΣＢｊ、但し、ｊは自然数）がアニロックスローラ１６を塗布速度Ｖβで回転させたときの累積動作時間（塗布時間）として管理される。
【００７０】
さらに、期間Ｃ１は、アニロックスローラ１６の回転を停止させる塗布停止状態（図７参照）の時間（累積動作時間）を表しており、アニロックスローラ１６の回転を停止させた期間が複数あれば、これらの累積動作時間を合算した値（ΣＣｍ、但し、ｍは自然数）がアニロックスローラ１６を停止させたときの累積動作時間（塗布停止時間）として管理される。
【００７１】
塗布液の推測濃度値Ｄは、次式（１）により求められる。
【００７２】
Ｄ＝ｄ＋α×ΣＡｉ＋β×ΣＢｊ＋γ×ΣＣｍ  …（１）
上記式（１）において、αはアニロックスローラ１６を待機速度Ｖαで回転させたときの塗布液の濃縮係数である。また、βはアニロックスローラ１６を塗布速度Ｖβで回転させたときの塗布液の濃縮係数であり、γはアニロックスローラ１６を停止させたときの濃縮係数である。
【００７３】
濃縮係数α、β、γは、単位時間あたりの塗布液の濃縮（溶媒成分の蒸発）の程度を表すものであり、塗布液の種類（物性、組成等）に応じて予め決められた値であり、濃度演算部５６が参照可能なメモリに記憶されている。濃縮係数α、β、γは実験的手法により求めてもよいし、シミュレーションにより求めてもよい。
【００７４】
図４に示すように、タイミングｔ０で塗布液が塗布皿１４に供給され、初期濃度値ｄが設定される。また、カウンタ部５８（図３参照）によって、塗布待機状態の累積動作時間（Ａｉ）の計測が開始される。
【００７５】
タイミングｔ０からタイミングｔ１までの塗布待機状態では、塗布待機状態の累積動作時間が予め決められた一定の周期でカウントされる。また、このカウント値を用いて推測濃度値Ｄが算出され、算出された推測濃度値Ｄが上限濃度値（濃度しきい値）Ｄｍを超えているか否かが判断される。
【００７６】
図４に示す例では、タイミングｔ０からタイミングｔ１までに求められる推測濃度値Ｄ１（＝ｄ＋α×Ａ１）は、上限濃度値（濃度しきい値）Ｄｍを超えていないので、タイミングｔ１まで塗布待機状態が継続される。
【００７７】
タイミングｔ１において動作状態が塗布待機状態から塗布状態へ変更されると、タイミングｔ０からタイミングｔ１までの累積動作時間Ａ１が塗布待機状態の値として記憶される。
【００７８】
タイミングｔ１において、タイミングｔ０からタイミングｔ１までのカウント値が記憶されると、カウンタ部５８のカウント値がリセットされ、タイミングｔ１からのカウントが開始される。
【００７９】
本例では、タイミングｔ１からタイミングｔ２の間（塗布状態）では、推測濃度値Ｄの算出、及び推測濃度値Ｄと上限濃度値Ｄｍとの比較は実行されない。
【００８０】
タイミングｔ２において動作状態が塗布状態から塗布停止状態へ変更され、塗布液の塗布が終了されるとともに装置が停止されると、タイミングｔ１からタイミングｔ２までの累積動作時間Ｂ１が塗布状態の値として記憶される。
【００８１】
タイミングｔ２において、タイミングｔ１からタイミングｔ２までのカウント値が記憶されると、カウンタ部５８のカウント値がリセットされ、タイミングｔ２からのカウントが開始される。
【００８２】
本例では、タイミングｔ２からタイミングｔ３の間（塗布停止状態）では、推測濃度値Ｄの算出、及び推測濃度値Ｄと上限濃度値Ｄｍとの比較は実行されない。
【００８３】
タイミングｔ３において装置が再起動され、動作状態が塗布停止状態から塗布待機状態へ変更されると、タイミングｔ２からタイミングｔ３までの累積動作時間Ｃ１が塗布停止状態の値として記憶される。
【００８４】
タイミングｔ３において、タイミングｔ２からタイミングｔ３までのカウント値が記憶されると、カウンタ部５８のカウント値がリセットされ、タイミングｔ３からのカウントが開始される。
【００８５】
タイミングｔ３からタイミングｔ４までの塗布待機状態では、塗布待機状態の累積動作時間がカウントされるとともに、このカウント値を用いて推測濃度値Ｄが算出され、算出された推測濃度値Ｄが上限濃度値（濃度しきい値）Ｄｍを超えているか否かが判断される。
【００８６】
図４に示す例では、タイミングｔ３からタイミングｔ４までに求められる推測濃度値Ｄ４（＝ｄ＋α×（Ａ１＋Ａ２）＋β×Ｂ１＋γ×Ｃ１）は、上限濃度値（濃度しきい値）Ｄｍを超えていないので、タイミングｔ４まで塗布待機状態が継続される。
【００８７】
タイミングｔ４において、動作状態が塗布待機状態から塗布状態へ変更されると、タイミングｔ３からタイミングｔ４までの累積動作時間Ａ２と、タイミングｔ０からタイミングｔ１までの累積動作時間Ａ１と合計（Ａ１＋Ａ２）として求められる値（ΣＡｉ）が塗布待機状態の累積動作時間として記憶される。
【００８８】
タイミングｔ５において、塗布液の塗布が終了され、動作状態が塗布状態から塗布待機状態へ変更されると、タイミングｔ４からタイミングｔ５までの累積動作時間Ｂ２と、タイミングｔ１からタイミングｔ２までの累積動作時間Ｂ１と合計（Ｂ１＋Ｂ２）として求められる値（ΣＢｊ）が塗布状態の累積動作時間として記憶される。
【００８９】
タイミングｔ５において、タイミングｔ４からタイミングｔ５までのカウント値が記憶されると、カウンタ部５８のカウント値がリセットされ、タイミングｔ５からのカウントが開始される。
【００９０】
タイミングｔ５からの塗布待機状態では、塗布待機状態の累積動作時間がカウントされるとともに、このカウント値を用いて推測濃度値Ｄが算出され、算出された推測濃度値Ｄが上限濃度値（濃度しきい値）Ｄｍを超えているか否かが判断される。
【００９１】
図４に示す例では、タイミングｔ６で求められた推測濃度値Ｄ６（＝ｄ＋α×（Ａ１＋Ａ２＋Ａ３）＋β×Ｂ１＋γ×Ｃ１）が、上限濃度値（濃度しきい値）Ｄｍを超えるため、塗布皿１４（図１参照）に保持されている塗布液のメンテナンスが実行される。
【００９２】
塗布液のメンテナンスが実行されると、カウンタ部５８のカウント値、カウンタ値記憶部６０に記憶されている値がリセット（初期化）される。
【００９３】
本例では、塗布液の状態として推測濃度値を求める態様を例示したが、塗布液の表面張力、粘度、色などの推測値を求める態様も可能である。
【００９４】
本例では、上記式（１）から推測濃度値Ｄを算出して上限濃度値Ｄｍと比較する態様を示したが、上限濃度値Ｄｍから推測濃度値Ｄを除算して、この除算結果がゼロになったときに塗布液のメンテナンスを実行する構成とすることも可能である。
【００９５】
〔動作状態の説明〕
次に、塗布状態、塗布待機状態、塗布停止状態（動作状態）について説明する。
【００９６】
図５は、塗布液の塗布状態が図示されている。図４におけるタイミングｔ１からタイミングｔ２、タイミングｔ４からタイミングｔ５では、図５に示すように、アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２へ当接させ、塗布速度Ｖβで回転させる。
【００９７】
図６は、塗布待機状態が図示されている。図４におけるタイミングｔ０からタイミングｔ１、タイミングｔ３からタイミングｔ４、タイミングｔ５からタイミングｔ６では、図６に示すように、アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２から離間させ、塗布速度Ｖαで回転させる。
【００９８】
図７は、塗布停止状態が図示されている。図４におけるタイミングｔ２からタイミングｔ３では、図７に示すように、アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２から離間させ、停止させる。
【００９９】
〔制御フローの説明〕
図８から図１０は、本例に示す液体塗布装置のメンテナンス方法の制御の流れを示すフローチャートである。
【０１００】
図８に示すように、液体塗布装置１０の稼動が開始されると（ステップＳ１０）、装置起動指示の有無が確認される（ステップＳ１２）。ステップＳ１２において、装置起動指示がない場合は（ＮＯ判定）、ステップＳ１２における装置起動指示の有無の確認が継続される。
【０１０１】
一方、ステップＳ１２において、装置起動指示があった場合は（ＹＥＳ判定）、機内環境データの取得が開始される（ステップＳ１４）。ステップＳ１４で取得される情報は、装置個別の補正係数ｋ、塗布部３４の環境温度及び環境湿度の少なくともいずれか一方、塗布ローラ１２の表面温度である。
【０１０２】
次に、塗布液が塗布皿１４（図１参照）へ供給される（ステップＳ１６）。また、ステップＳ１６において、塗布液の初期濃度ｄ（図４参照）及び塗布液の温度が取得される。
【０１０３】
塗布皿１４への塗布液の供給が完了し、塗布液の初期濃度値ｄ及び塗布液の温度が取得されると、塗布ローラ１２（塗布部３４）の待機運転（塗布待機状態）が開始される（図８のステップＳ１８）。
【０１０４】
塗布ローラ１２の待機運転が開始されると、塗布ローラ１２を回転させるとともに、アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２から離間させた状態で、待機速度Ｖαで回転させる。また、塗布ローラ１２の待機運転が開始されると、塗布待機時間（塗布待機状態の累積動作時間）Ａｉのカウントが開始される（ステップＳ２０、塗布情報管理工程）。
【０１０５】
塗布待機時間Ａｉのカウント値は、カウンタ部５８（図３参照）のカウント周期に基づきカウンタ値記憶部６０へ記憶され（塗布情報管理工程）、記憶されたカウント値を用いて推測濃度値Ｄを算出する演算が実行される（図８のステップＳ２２、推測工程）。
【０１０６】
ステップＳ２２で求められた推測濃度値Ｄは、上限濃度値Ｄｍ（図４参照）と比較される（図８のステップＳ２４、推測工程）。
【０１０７】
ステップＳ２４において、推測濃度値Ｄが上限濃度値Ｄｍを超えたと判断されると（ＹＥＳ判定）、ステップＳ２６に進み、塗布皿１４に保持されている塗布液のメンテナンスが実行され（メンテナンス工程）、図３のカウンタ部５８のカウント値がリセットされて（ステップＳ２８）、ステップＳ１６へ進む。
【０１０８】
推測濃度値Ｄが上限濃度値Ｄｍを超えたと判断された場合に、その旨を報知させる態様が好ましい。報知の例として、表示部への文字情報等による表示、音声（アラーム）、ランプの点灯、点滅、消灯などが挙げられる。
【０１０９】
一方、図８のステップＳ２４において、推測濃度値Ｄが上限濃度値Ｄｍ以下の場合には（ＮＯ判定）、ステップＳ３０に進み、塗布停止指示の有無が監視される。
【０１１０】
ステップＳ３０において、塗布停止指示があった場合は（ＹＥＳ判定）、図１０のステップＳ６０へ進む。一方、図８のステップＳ３０において、装置停止指示がない場合は（ＮＯ判定）、ステップＳ３２に進み、塗布開始指示の有無が監視される。
【０１１１】
ステップＳ３２において、塗布開始指示がない場合（ＮＯ判定）、ステップＳ２２へ進み、塗布待機時間のカウント及び推測濃度値Ｄの算出が継続される。
【０１１２】
一方、ステップＳ３２において、塗布開始指示があった場合（ＹＥＳ判定）、図９のステップＳ４０へ進む。
【０１１３】
図９のステップＳ４０では、カウンタ部５８（図３参照）の塗布待機状態の累積動作時間のカウントが停止され、停止されたタイミングにおけるカウント値がカウンタ値記憶部６０へ記憶される（塗布情報管理工程）。その後、動作状態が塗布状態へ変更される（図９のステップＳ４２）。
【０１１４】
動作状態が塗布状態へ変更されると、塗布ローラ１２の塗布運転が開始され（ステップＳ４４）、アニロックスローラ１６（図１参照）の回転速度が塗布速度Ｖβに変更され、アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２へ当接させる。
【０１１５】
さらに、図３のカウンタ部５８によって塗布時間（塗布状態の累積動作時間）Ｂｊのカウントが開始される（図９のステップＳ４６、塗布情報管理工程）。塗布液の塗布が終了すると（ステップＳ４８）、図３のカウンタ部５８による塗布時間のカウントが停止され（図９のステップＳ５０）、塗布時間のカウント値がカウンタ値記憶部６０へ記憶される（塗布情報管理工程）。
【０１１６】
その後、ステップＳ５２において、すべての塗布が終了したか否かが判断される。すべての塗布が終了している場合は（Ｙｅｓ判定）、装置の終了処理が実行された後に、装置を停止させる（ステップＳ５４）。一方、すべての塗布が終了していない場合は（Ｎｏ判定）、図８のステップＳ１８に進み、塗布待機状態へ移行する。
【０１１７】
図８のステップＳ３２において、塗布停止指示がされた場合は（ＹＥＳ判定）、図１０のステップＳ６０へ進み、塗布ローラ１２を停止させ、図３のカウンタ部５８による塗布時間のカウントを停止させ（図１０のステップＳ６２）、塗布時間のカウント値が図３のカウンタ値記憶部６０に記憶され（塗布情報管理工程）、塗布停止状態へ移行する。
【０１１８】
塗布停止状態へ移行する際に、アニロックスローラ１６を塗布ローラ１２から離間させるとともに、アニロックスローラ１６の回転を停止させ（図７参照）、停止時間（塗布停止状態の累積動作時間）のカウントが開始される（ステップＳ６４、塗布情報管理工程）。
【０１１９】
塗布停止状態では、装置の起動開始指示の有無が監視され（ステップＳ６６）、装置の起動開始指示がされていない場合は（ＮＯ判定）、装置の起動開始指示の監視が継続される（ステップＳ６６）。
【０１２０】
一方、装置の起動開始指示がされた場合は（ＹＥＳ判定）、停止時間のカウントが停止され、停止時間のカウント値が記憶され（ステップＳ６８、塗布情報管理工程）、図８のステップＳ１８に進み、塗布待機状態へ移行する。
【０１２１】
先に説明したように、複数回の塗布待機状態における塗布待機時間のカウント値（Ａｉ）、複数回の塗布状態における塗布時間のカウント値（Ｂｊ）、複数回の塗布停止状態における塗布停止時間のカウント値（Ｃｍ）は、それぞれ累積され、蓄積動作時間として推測濃度値Ｄの算出に用いられる。
【０１２２】
上記の如く構成された液体塗布装置及び液体塗布装置のメンテナンス方法によれば、塗布部３４の動作状態ごと（塗布部３４に具備されるローラの１つであるアニロックスローラの回転速度ごと）に累積動作時間が計測され、この累積動作時間が記憶され、動作状態ごとの累積動作時間に基づいて塗布液の濃度が推測され、推測された塗布液の濃度（推測濃度値Ｄ）が上限濃度値Ｄｍを超えると、塗布液のメンテナンスが実行されるので、塗布液の濃度を実測（検出）する手段を備えることなく、塗布に適した塗布液の状態が維持される。
【０１２３】
また、塗布液の濃度を実測する手段を備える必要がないので、濃度を実測する手段のメンテナンスが不要であり、ユーザによるメンテナンス工程を削減可能である。
【０１２４】
さらに、塗布液のメンテナンスにおいて、塗布皿に保持された塗布液を排出させ、塗布皿へ新しい塗布液が供給される構成とすることで、塗布液を希釈するための希釈液用のタンク、配管、ポンプ、弁などの部材が不要となり、装置構成が簡略化され、低コスト化される。また、希釈液の補充といったユーザのメンテナンス工程を削減可能である。
【０１２５】
本例では、塗布部３４の動作状態が切り換えられると変更されるアニロックスローラ１６の回転速度ごとに推測濃度値Ｄを算出する態様を例示したが、塗布部３４の構成に応じて、動作状態の切り換えに対応して回転速度が変更されるローラであれば、塗布ローラ１２などの他のローラの回転速度ごとに推測濃度値Ｄを算出することも可能である。
【０１２６】
本例に示す液体塗布装置に適用可能な塗布液は特に限定されない。例えば、インクジェット記録装置に適用される用紙（記録媒体）へのコーティング液、前処理液などを適用することができる。
【０１２７】
コーティング液、前処理液の例として、インクを凝集又は不溶化させる処理液（酸性液）、媒体への溶媒の浸透を抑制する浸透抑制剤（樹脂液）などが挙げられる。
【０１２８】
〔第２実施形態：推測濃度値の補正〕
次に、本発明の第２実施形態について説明する。なお、以下の説明において、先に説明した第１実施形態と同一又は類似する部分には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１２９】
第２実施形態に係る液体塗布装置は、推測濃度値Ｄが補正され、補正後の推測濃度値Ｄ’に基づいてメンテナンスを実行するか否かが判断される。
【０１３０】
まず、推測濃度値の補正について説明する。塗布液の濃度は、塗布液が置かれる環境温度、環境湿度、塗布液の温度、塗布液を塗布する部材の温度等の影響を受け、温度が高くなるか、湿度が低くなると、溶媒成分の蒸発が促進されて濃度が高くなる傾向がある。
【０１３１】
本例に示す液体塗布装置では、図３に示す環境温度・湿度検出部４８により塗布部３４（図２参照）の環境温度、環境湿度を検出し、塗布ローラ温度検出部５０により塗布ローラ１２の表面温度検出し、さらに、塗布液温度検出部５２により塗布皿１４に保持されている塗布液の温度を検出し、これらの検出結果に基づいて補正係数Ｋが導出され、推測濃度値Ｄが補正される。
【０１３２】
また、装置個別のばらつき（機差）を補正する補正係数ｋが決められており、この補正係数ｋを用いて推測濃度値Ｄが補正される。
【０１３３】
補正係数Ｋは、次式（２）とすることができる。
【０１３４】
Ｋ＝ｋ×Ｔｓ×Ｔｅ×Ｔｒ  …（２）
上記式（２）において、ｋは装置個別のばらつきを補正する補正係数であり、Ｔｓは塗布液の温度による補正係数である。また、Ｔｅは塗布部３４の環境温度・環境湿度による補正係数であり、Ｔｒは塗布ローラ１２の表面温度による補正係数である。
【０１３５】
これらの補正係数は、図３に示す補正係数記憶部５４にパラメータごと、パラメータ値ごとに記憶されている。
【０１３６】
上記式（２）に示す補正係数を用いて推測濃度値Ｄの補正値Ｄ’は、次式（３）により求められる。
【０１３７】
Ｄ’＝Ｋ×（ｄ＋α×ΣＡｉ＋β×ΣＢｊ＋γ×ΣＣｍ）  …（３）
例えば、図３の環境温度・湿度検出部４８から環境温度の値（パラメータ値）が得られると、環境温度（パラメータ）の補正係数テーブルが参照され、環境温度値に対応する補正係数Ｔｅ１が制御部４０により読み出される。
【０１３８】
環境温度・湿度検出部４８から環境湿度の値が得られた場合には、環境湿度の補正係数テーブルが参照され、環境湿度値に対応する補正係数Ｔｅ２が制御部４０により読み出される。
【０１３９】
環境温度・環境湿度による補正係数Ｔｅは、環境温度値に対応する補正係数Ｔｅ１を採用してもよいし、環境湿度値に対応する補正係数Ｔｅ２を採用してもよい。また、Ｔｅ１、Ｔｅ２から環境温度及び環境湿度の両方を考慮した補正係数Ｔｅ’を導出し、これを採用してもよい。
【０１４０】
塗布ローラ温度検出部５０から塗布ローラ１２の表面温度の値が得られると、塗布ローラ１２の表面温度の補正係数テーブルが参照され、塗布ローラ１２の表面温度値に対応する補正係数Ｔｒが制御部４０により読み出される。
【０１４１】
さらに、塗布液温度検出部５２から塗布液の温度の値が得られると、塗布液の温度の補正係数テーブルが参照され、塗布液の温度値に対応する補正係数Ｔｓが制御部４０により読み出される。このようにして読み出された補正係数から、上記式（２）により補正係数Ｋが算出される。
【０１４２】
濃度演算部５６は、上記式（２）の補正係数Ｋを用いて、上記式（３）により推測濃度値Ｄの補正値Ｄ’を算出する。なお、補正係数Ｋを求める際に、装置個別の補正係数ｋ、塗布液の温度の補正係数Ｔｓ、塗布部３４の環境温度・環境湿度の補正係数Ｔｅ、塗布ローラ１２の表面温度の補正係数Ｔｒのうち、少なくともいずれか１つの補正係数が用いられればよい。
【０１４３】
第２実施形態に係る液体塗布装置のメンテナンス方法の制御フローでは、図８の機内環境データの取得工程（ステップＳ１４）において取得された装置個別の補正係数ｋ、塗布部３４の環境温度及び環境湿度の少なくともいずれか一方から導出された補正係数Ｔｅ、及び塗布ローラ１２の表面温度から導出された補正係数Ｔｒ、処理液供給工程（ステップＳ１６）において取得された塗布液の温度から導出された補正係数Ｔｓが記憶される（補正係数記憶工程）。
【０１４４】
そして、これらの補正係数のうち少なくともいずれか１つを用いて、推測濃度値算出工程（ステップＳ２２）において、推測濃度値Ｄの補正値Ｄ’が算出される。
【０１４５】
上記の如く構成された第２実施形態に係る液体塗布装置によれば、装置個別のばらつき、環境温度・環境湿度、塗布液の温度、塗布ローラの表面温度の少なくともいずれかにより推測濃度値Ｄの補正値Ｄ’が算出されるので、塗布液の濃度の変動要因が考慮された推測濃度値Ｄの補正値Ｄ’に基づいて、メンテナンスを実行するか否かの判断がされる。
【０１４６】
なお、補正係数Ｋは、演算による導出に限定されず、塗布液の濃縮の進行を実測した結果に基づき、適切な値を記憶しておき、設定してもよい。
【０１４７】
〔インクジェット記録装置への適用例〕
次に、上述した液体塗布装置のインクジェット記録装置への適用例について説明する。図１１は、本例に示す液体塗布装置が使用されるインクジェット記録装置の全体構成図である。
【０１４８】
同図に示すインクジェット記録装置１００は、描画部１１６の圧胴（描画ドラム１７０）に保持された記録媒体（用紙）１２４にインクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙから複数色のインクを打滴して所望のカラー画像を形成する圧胴直描方式のインクジェット記録装置であり、インクの打滴前に記録媒体１２４上に凝集処理液を付与し、処理液とインク液を反応させて記録媒体１２４上に画像形成を行う２液反応（凝集）方式が適用されたオンデマンドタイプの画像形成装置である。
【０１４９】
図示のように、インクジェット記録装置１００は、主として、給紙部１１２、処理液付与部１１４、描画部１１６、乾燥部１１８、定着部１２０、及び排出部１２２を備えて構成される。
【０１５０】
（給紙部）
給紙部１１２は、記録媒体１２４を処理液付与部１１４に供給する機構であり、当該給紙部１１２には、枚葉紙である記録媒体１２４が積層されている。給紙部１１２には、給紙トレイ１５０が設けられ、この給紙トレイ１５０から記録媒体１２４が１枚ずつ処理液付与部１１４に給紙される。
【０１５１】
（処理液付与部）
処理液付与部１１４は、記録媒体１２４の記録面に処理液を付与する機構である。処理液は、描画部１１６で付与されるインク中の色材（本例では顔料）を凝集させる色材凝集剤を含んでおり、この処理液とインクとが接触することによって、インクは色材と溶媒との分離が促進される。
【０１５２】
処理液付与部１１４は、上述した液体塗布装置１０が適用される。処理液付与部１１４で処理液が付与された記録媒体１２４は、処理液ドラム１５４から中間搬送部１２６を介して描画部１１６の描画ドラム１７０へ受け渡される。
【０１５３】
（描画部）
描画部１１６は、描画ドラム１７０、用紙押さえローラ１７４、及びインクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙを備えている。描画ドラム１７０は、処理液ドラム１５４と同様に、その外周面に爪形状の保持手段（グリッパー）１７１を備える。描画ドラム１７０に固定された記録媒体１２４は、記録面が外側を向くようにして搬送され、この記録面にインクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙからインクが付与される。
【０１５４】
インクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙはそれぞれ、記録媒体１２４における画像形成領域の最大幅に対応する長さを有するフルライン型のインクジェット方式の記録ヘッドとすることが好ましい。
【０１５５】
インク吐出面には、画像形成領域の全幅にわたってインク吐出用のノズル（不図示）が複数配列されたノズル列が形成されている。各インクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙは、記録媒体１２４の搬送方向（描画ドラム１７０の回転方向）と直交する方向に延在するように設置される。
【０１５６】
描画ドラム１７０上に密着保持された記録媒体１２４の記録面に向かって各インクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙから、対応する色インクの液滴が吐出されることにより、処理液付与部１１４で予め記録面に付与された処理液にインクが接触し、インク中に分散する色材（顔料）が凝集され、色材凝集体が形成される。これにより、記録媒体１２４上での色材流れなどが防止され、記録媒体１２４の記録面に画像が形成される。
【０１５７】
図示は省略するが、インクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙの構造例として、インクを吐出させるノズル、ノズルから吐出させるインクが貯留される液室（圧力室）、液室内のインクを加圧する加圧素子、液室へインクを供給するインク流路等を備える態様が挙げられる。
【０１５８】
また、インクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙの吐出方式は、圧電素子の撓み変形を利用した圧電方式や、液室に設けられた加熱素子（ヒータ）による液室内のインクを加熱して、膜沸騰現象を利用してインクを吐出させるサーマル方式、静電方式などを適用することができる。
【０１５９】
描画部１１６で画像が形成された記録媒体１２４は、描画ドラム１７０から中間搬送部１２８を介して乾燥部１１８の乾燥ドラム１７６へ受け渡される。
【０１６０】
（乾燥部）
乾燥部１１８は、色材凝集作用により分離された溶媒に含まれる水分を乾燥させる機構であり、図１１に示すように、乾燥ドラム１７６、及び溶媒乾燥装置１７８を備えている。
【０１６１】
溶媒乾燥装置１７８は、乾燥ドラム１７６の外周面に対向する位置に配置され、複数のＩＲヒータ１８２と、各ＩＲヒータ１８２の間にそれぞれ配置された温風噴出しノズル１８０とで構成される。
【０１６２】
各温風噴出しノズル１８０から記録媒体１２４に向けて吹き付けられる温風の温度と風量、各ＩＲヒータ１８２の温度を適宜調節することにより、様々な乾燥条件を実現することができる。
【０１６３】
乾燥部１１８で乾燥処理が行われた記録媒体１２４は、乾燥ドラム１７６から中間搬送部１３０を介して定着部１２０の定着ドラム１８４へ受け渡される。
【０１６４】
（定着部）
定着部１２０は、定着ドラム１８４、ハロゲンヒータ１８６、定着ローラ１８８、及びインラインセンサ１９０で構成される。定着ドラム１８４の回転により、記録媒体１２４は記録面が外側を向くようにして搬送され、この記録面に対して、ハロゲンヒータ１８６による予備加熱と、定着ローラ１８８による定着処理と、インラインセンサ１９０による検査が行われる。
【０１６５】
ハロゲンヒータ１８６は、所定の温度（例えば、１８０℃）に制御される。これにより、記録媒体１２４の予備加熱が行われる。
【０１６６】
定着ローラ１８８は、乾燥させたインクを加熱加圧することによってインク中の自己分散性熱可塑性樹脂微粒子を溶着し、インクを皮膜化させるためのローラ部材であり、記録媒体１２４を加熱加圧するように構成される。
【０１６７】
具体的には、定着ローラ１８８は、定着ドラム１８４に対して圧接するように配置されており、定着ドラム１８４との間でニップローラを構成するようになっている。これにより、記録媒体１２４は、定着ローラ１８８と定着ドラム１８４との間に挟まれ、所定のニップ圧（例えば、０．１５メガパスカル）でニップされ、定着処理が行われる。
【０１６８】
インラインセンサ１９０は、記録媒体１２４に定着された画像について、チェックパターンや水分量、表面温度、光沢度などを計測するための計測手段であり、ＣＣＤラインセンサなどが適用される。
【０１６９】
（排出部）
図１１に示すように、定着部１２０に続いて排出部１２２が設けられている。排出部１２２は、排出トレイ１９２を備えており、この排出トレイ１９２と定着部１２０の定着ドラム１８４との間に、これらに対接するように渡し胴１９４、搬送ベルト１９６、張架ローラ１９８が設けられている。記録媒体１２４は、渡し胴１９４により搬送ベルト１９６に送られ、排出トレイ１９２に排出される。
【０１７０】
また、図には示されていないが、本例のインクジェット記録装置１００には、上記構成の他、各インクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙにインクを供給するインク貯蔵／装填部、処理液付与部１１４に対して処理液を供給する手段を備えるとともに、各インクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙのクリーニング（ノズル面のワイピング、パージ、ノズル吸引等）を行うヘッドメンテナンス部や、用紙搬送路上における記録媒体１２４の位置を検出する位置検出センサ、装置各部の温度を検出する温度センサなどを備えている。
【０１７１】
図１１に示すインクジェット記録装置１００の制御系として、ラスターデータからドットデータを生成する画像処理部、インクジェットヘッド１７２Ｍ，１７２Ｋ，１７２Ｃ，１７２Ｙの駆動制御部（ヘッドドライバ部）、装置各部の制御部、及び装置各部を統括的に制御する制御部を備える態様が挙げられる。
【０１７２】
以上説明したインクジェット記録装置１００の構成は、適宜変更、追加、削除をすることが可能である。また、液体塗布装置が適用される装置としてインクジェット記録装置を例示したが、上述した液体塗布装置は、様々な装置における液体塗布部として適用可能である。
【０１７３】
以上説明した液塗布装置及び液体塗布装置のメンテナンス方法は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜変更、追加、削除をすることが可能である。
【０１７４】
〔本明細書が開示する発明〕
上記に詳述した発明の実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書は少なくとも以下に示す発明を含む多様な技術思想の開示を含んでいる。
【０１７５】
（第１態様）：被塗布媒体へ塗布液を塗布する塗布ローラを含む１つ以上のローラを具備する塗布部と、塗布部の動作状態に応じて塗布部に含まれるローラの回転速度を変更して、塗布部による塗布液の塗布を制御する塗布制御部と、塗布部に供給される塗布液が保持される液体保持部と、塗布部の動作状態ごとの累積動作時間を含む塗布情報を、塗布部の動作状態ごとに管理する塗布情報管理部と、塗布情報管理部により得られた塗布情報に基づき、液体保持部に保持される塗布液の状態を推測する推測部と、推測部の推測結果に基づいて液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行うメンテナンス部と、を備えた液体塗布装置。
【０１７６】
第１態様によれば、塗布部の動作状態ごとの累積動作時間を含む塗布情報に基づいて液体保持部に保持される塗布液の状態が推測されるので、液体保持部に保持される塗布液の濃度を測定する濃度計を用いることなく、塗布部の動作状態に応じて変化する塗布液の状態が把握される。
【０１７７】
また、塗布液の状態が把握されることで、塗布液の状態の変化に基づき液体保持部の塗布液のメンテナンスを行うことが可能となる。
【０１７８】
推測部において推測される塗布液の状態の例として、塗布液の濃度、表面張力、粘度、色などが挙げられる。
【０１７９】
（第２態様）：塗布情報管理部は、塗布部の動作状態の切り換えに対応して回転速度が変更されるローラの回転速度ごとに、塗布情報を管理する液体塗布装置。
【０１８０】
かかる態様によれば、塗布部の動作状態に応じて回転速度が変更されるローラの回転速度ごとに累積動作時間を管理することができる。
【０１８１】
（第３態様）：第１態様又は第２態様に記載の液体塗布装置において、塗布部は、液体保持部に保持される塗布液を塗布ローラへ供給する中間ローラを含み、塗布制御部は、塗布部の塗布待機状態における中間ローラの回転速度を、塗布部から被塗布媒体へ塗布液を塗布する塗布状態における中間ローラの回転速度よりも減速させ、塗布部の塗布停止状態では中間ローラの回転を停止させ、塗布情報管理部は、中間ローラの回転速度ごとに中間ローラの累積動作時間を管理する液体塗布装置。
【０１８２】
かかる態様によれば、液体保持部に保持される塗布液を塗布ローラへ供給する中間ローラを備える構成において、塗布部の動作状態に応じて回転速度が変更される中間ローラの回転速度ごとに累積動作時間を管理することができる。
【０１８３】
かかる態様において、中間ローラは一定量の塗布液を計量して塗布ローラへ供給する計量ローラとする態様がありうる。
【０１８４】
（第４態様）：第３態様に記載の液体塗布装置において、推測部は、塗布部の動作状態ごとの累積動作時間に基づいて液体保持部に保持される塗布液の濃度を推測する液体塗布装置。
【０１８５】
かかる態様によれば、塗布液の濃度を基準にして、塗布液のメンテナンスを行うか否かを判断することが可能となる。
【０１８６】
（第５態様）：第４態様に記載の液体塗布装置において、推測部は、液体保持部に保持される塗布液の塗布部の動作状態ごとの濃縮係数に、濃縮係数と同じ動作状態における累積動作時間を乗じた動作状態ごとの推測濃度値を算出し、算出された動作状態ごとの推測濃度値を足し合わせて液体保持部に保持される塗布液の推測濃度値を算出し、メンテナンス部は、算出された液体保持部に保持される塗布液の推測濃度値が、予め決められた濃度しきい値よりも大きい場合に液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行う液体塗布装置。
【０１８７】
かかる態様によれば、塗布情報に基づいて演算により推測濃度値が求められるので、塗布液の濃度を計測するための手段が不要であり、塗布液の濃度を計測するための手段のメンテナンスも不要となる。
【０１８８】
（第６態様）：第５態様に記載の液体塗布装置において、液体保持部に保持される塗布液の温度を検出する塗布液温度検出部を備え、推測部は、検出された塗布液の温度に対応する温度係数を算出された推測濃度値に乗じて推測濃度値の補正値を算出し、メンテナンス部は、算出された推測濃度値の補正値が予め決められた濃度しきい値よりも大きい場合に液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行う液体塗布装置。
【０１８９】
かかる態様によれば、塗布液の温度に基づいて推測濃度値が補正されるので、塗布液の温度変化に起因する塗布液の濃度変化の影響を塗布液のメンテナンスに反映させることが可能となる。
【０１９０】
（第７態様）：第５態様又は第６態様に記載の液体塗布装置において、塗布部の環境温度及び環境湿度の少なくともいずれか一方を検出する環境温度湿度検出部を備え、推測部は、検出された環境温度に対応する温度係数を算出された推測濃度値に乗じて推測濃度値の補正値を算出し、メンテナンス部は、算出された推測濃度値の補正値が予め決められた濃度しきい値よりも大きい場合に液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行う液体塗布装置。
【０１９１】
かかる態様によれば、塗布部の環境温度又は環境湿度の変化に基づいて推測濃度値が補正されるので、塗布部の環境温度又は環境湿度の変化に起因する塗布液の濃度変化の影響を塗布液のメンテナンスに反映させることが可能となる。
【０１９２】
（第８態様）：第５態様から第７態様のいずれかに記載の液体塗布装置において、塗布ローラの温度を検出する塗布ローラ温度検出部を備え、推測部は、検出された塗布ローラ温度に対応する温度係数を算出された推測濃度値に乗じて推測濃度値の補正値を算出し、メンテナンス部は、算出された推測濃度値の補正値が予め決められた濃度しきい値よりも大きい場合に液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行う液体塗布装置。
【０１９３】
かかる態様によれば、塗布ローラの温度変化に基づいて推測濃度値が補正されるので、塗布ローラの温度変化に起因する塗布液の濃度変化の影響を塗布液のメンテナンスに反映させることが可能となる。
【０１９４】
（第９態様）：第５態様から第８態様のいずれかに記載の液体塗布装置において、推測部は、液体保持部へ塗布液が供給されたときの塗布液の濃度値を初期濃度値として、液体保持部に保持される塗布液の推測濃度値を算出する液体塗布装置。
【０１９５】
かかる態様によれば、塗布液の初期濃度値からの濃度変化に基づいて推測濃度値が算出されるので、塗布液の濃度変化をより正確に把握しうる。
【０１９６】
（第１０態様）：第１態様から第９態様のいずれかに記載の液体塗布装置において、メンテナンス部は、推測部の推測結果に基づいて液体保持部に保持される塗布液を交換する液体塗布装置。
【０１９７】
かかる態様によれば、塗布液を希釈する希釈液、希釈液を貯留するタンク、希釈液の流路、塗布液を循環させる循環流路、サブタンクなどの構成が不要となり、希釈液の補充など、ユーザのメンテナンスも不要となる。
【０１９８】
（第１１態様）：第１態様から第１０態様のいずれか記載の液体塗布装置と、液体塗布装置によって塗布液が塗布された記録媒体にインクを吐出させて画像を記録するインクジェットヘッドと、を備えたインクジェット記録装置。
【０１９９】
かかる態様における塗布液として、記録媒体（被塗布媒体）上でインクを凝集又は不溶化させる処理液が適用される態様がある。
【０２００】
（第１２態様）：被塗布媒体へ塗布液を塗布する塗布ローラを含む１つ以上のローラを具備する塗布部、及び塗布部の動作状態に応じて塗布部に含まれるローラの回転速度を変更して、塗布部による塗布液の塗布を制御する塗布制御部を備えた液体塗布装置のメンテナンス方法において、塗布部の動作状態ごとの累積動作時間を含む塗布情報を、塗布部の動作状態ごとに管理する塗布情報管理工程と、塗布情報管理工程により得られた塗布情報に基づき、塗布部に供給される塗布液が保持される液体保持部に保持される塗布液の状態を推測する推測工程と、推測工程の推測結果に基づいて液体保持部に保持される塗布液のメンテナンスを行うメンテナンス工程と、を含む液体塗布装置のメンテナンス方法。
【符号の説明】
【０２０１】
１０…液体塗布装置、１２…塗布ローラ、１４…塗布皿、１６…アニロックスローラ、３４…塗布部、４０…制御部、４８…環境温度・湿度検出部、５０…塗布ローラ温度検出部、５２…塗布液温度検出部、５４…補正係数記憶部、５６…濃度演算部、５８…カウンタ部、６０…カウンタ値記憶部、６２…メンテナンス制御部、６４…メンテナンス部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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