(57)【要約】      （修正有）【課題】起立状態のガラス基板に形成されている複数のレジストパターンを精度良く計測することができる計測装置を提供する。【解決手段】起立状態のガラス基板１００に形成されている複数のレジストパターン３０１を計測するレジストパターン計測装置であって、複数のレジストパターン３０１を撮像するオートフォーカス機構付きのカメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃと、カメラによる複数のレジストパターンの撮像画像に基づいて複数のレジストパターンの線幅を算出する算出手段とを備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
起立状態のガラス基板に形成されている複数のレジストパターンを計測するレジストパターン計測装置であって、
前記複数のレジストパターンを撮像するオートフォーカス機構付きの撮像装置と、
前記撮像装置による前記複数のレジストパターンの撮像画像に基づいて前記複数のレジストパターンの線幅及び前記複数のレジストパターンのギャップ幅のうちの少なくとも一方を算出する算出手段と
を備えた、レジストパターン計測装置。
【請求項２】
前記撮像装置を複数備え、
前記複数の撮像装置の各々は、前記ガラス基板の主面と平行かつ前記ガラス基板の搬送方向と直交する方向に沿って配置される、請求項１に記載のレジストパターン計測装置。
【請求項３】
前記複数の撮像装置の各々に設けられたオートフォーカス機構を独立制御する合焦手段を備える、請求項２に記載のレジストパターン計測装置。
【請求項４】
前記撮像装置は、
対物レンズを有するとともに前記対物レンズを前記ガラス基板に対向させて配置される撮像装置本体と、
前記対物レンズと前記ガラス基板との距離を計測する距離計測手段と、
前記対物レンズが前記ガラス基板に対して接近及び離間する方向に前記撮像装置本体を移動させる駆動機構と
を備える、請求項１から請求項３のいずれかに記載のレジストパターン計測装置。
【請求項５】
前記撮像装置は、前記ガラス基板に向けてストロボ発光する発光手段を備える、請求項１から請求項４のいずれかに記載のレジストパターン計測装置。
【請求項６】
起立状態のガラス基板に形成されている複数のレジストパターンを計測するレジストパターン計測方法であって、
前記複数のレジストパターンを撮像するオートフォーカス機構付きの撮像装置を準備する準備工程と、
前記撮像装置により前記複数のレジストパターンを撮像する撮像工程と、
前記撮像装置による前記複数のレジストパターンの撮像画像に基づいて前記複数のレジストパターンの線幅及び前記複数のレジストパターンのギャップ幅のうちの少なくとも一方を算出する算出工程と、
を包含する、レジストパターン計測方法。
【請求項７】
起立状態のガラス基板に複数のレジストパターンを形成するためのレジスト現像液の濃度管理方法であって、
前記複数のレジストパターンを撮像するオートフォーカス機構付きの撮像装置を準備する準備工程と、
前記撮像装置により前記複数のレジストパターンを撮像する撮像工程と、
前記撮像装置による前記複数のレジストパターンの撮像画像に基づいて前記複数のレジストパターンの線幅及び前記複数のレジストパターンのギャップ幅のうちの少なくとも一方を算出する算出工程と、
前記複数のレジストパターンの線幅及び前記複数のレジストパターンのギャップ幅のうちの前記少なくとも一方に基づいて、前記レジスト現像液の濃度を調整する現像液濃度調整工程と
を包含する、レジスト現像液の濃度管理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジストパターン計測装置、レジストパターン計測方法、及びレジスト現像液の濃度管理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰＤという）や太陽電池のガラス基板等に電極等のパターン層を形成するためにフォトリソグラフィ法が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
近年、大画面のプラズマテレビ等の普及により、大きな寸法のガラス基板にフォトリソグラフィ法によりパターン層を形成する場合が多くなってきている。斯かる場合には、作業スペースを削減するために、ガラス基板を起立させた状態で搬送し、ガラス基板の主面にパターン層を形成する場合がある。
【０００４】
ガラス基板の主面にパターン層を形成するパターニング工程では、パターン層の寸法精度を向上するために、レジスト現像液で現像した直後のレジストパターンの線幅又はギャップ幅を計測する。そして、計測結果を分析して、パターニング工程の諸条件（例えば、現像液の濃度）を見直している。
【０００５】
なお、大きな寸法のガラス基板上に形成されたレジストパターンの線幅又はギャップ幅を計測する場合、所謂オンライン計測を行うことが、製造効率の点から好ましい。オンライン計測とは、パターニング工程の途中でガラス基板に形成されているレジストパターンの線幅又はギャップ幅を計測することである。
【０００６】
従来より、ガラス基板に形成されているレジストパターンの線幅又はギャップ幅のオンライン計測では、ＣＣＤカメラやエリアカメラ等の撮像装置でガラス基板上の複数のレジストパターンを撮像し、得られた撮像画像をコンピュータで画像処理してレジストパターンの線幅又はギャップ幅を算出するという手法が採用されてきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−２４００９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述のように、近年では、大画面テレビの薄型化及び軽量化等により、ガラス基板の薄型化が益々求められている。しかしながら、ガラス基板を起立状態で搬送する場合、ガラス基板が薄くなる程にガラス基板に反りや撓みが生じ易くなり、また、ガラス基板が振動し易くなる。ガラス基板に反り、撓み、振動等が生じると、撮像装置のピントが合わなくなり、撮像画像が不鮮明になり、レジストパターンの線幅又はギャップ幅の計測精度が低下する。
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであり、その目的は、起立状態のガラス基板に形成されている複数のレジストパターンを精度良く計測することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、第１の発明は、起立状態のガラス基板に形成されている複数のレジストパターンを計測するレジストパターン計測装置であって、前記複数のレジストパターンを撮像するオートフォーカス機構付きの撮像装置と、前記撮像装置による前記複数のレジストパターンの撮像画像に基づいて前記複数のレジストパターンの線幅及び前記複数のレジストパターンのギャップ幅のうちの少なくとも一方を算出する算出手段とを備える。
【００１１】
第１の発明によれば、オートフォーカス機構付きの撮像装置を用いることで、起立状態のガラス基板に撓み、反り、振動等が生じても、鮮明なレジストパターンの撮像画像を得ることができる。したがって、レジストパターンの線幅及び／又はギャップ幅を精度良く計測することができる。
【００１２】
ある実施形態において、前記レジストパターン計測装置は、前記撮像装置を複数備え、前記複数の撮像装置の各々は、前記ガラス基板の主面と平行かつ前記ガラス基板の搬送方向と直交する方向に沿って配置される。
【００１３】
この場合、複数の撮像装置の各々でレジストパターンを撮像し、得られた複数の撮像画像によって算出した複数の計測値のうち、レジストパターンの傷、汚れ、欠け等に起因する極端な計測値を除外することで、レジストパターンの線幅及び／又はギャップ幅をより精度良く計測することができる。
【００１４】
また、ある実施形態において、前記レジストパターン計測装置は、前記複数の撮像装置の各々に設けられたオートフォーカス機構を独立制御する合焦手段を備える。
【００１５】
この場合、ガラス基板に局部的な反り、撓み、振動等が生じた場合でも、複数の撮像装置の各々が鮮明なレジストパターンの撮像画像を得ることができる。したがって、レジストパターンの線幅及び／又はギャップ幅をより精度良く計測することができる。
【００１６】
また、ある実施形態において、前記撮像装置は、対物レンズを有するとともに前記対物レンズを前記ガラス基板に対向させて配置される撮像装置本体と、前記対物レンズと前記ガラス基板との距離を計測する距離計測手段と、前記対物レンズが前記ガラス基板に対して接近及び離間する方向に前記撮像装置本体を移動させる駆動機構とを備える。
【００１７】
この場合、撮像装置本体を移動させて合焦を行うことで、測定視野が変化することを防止しつつ、ガラス基板に大きな反り、変形、撓み等が生じても、鮮明なレジストパターンの撮像画像を得ることができる。すなわち、撮像装置本体を固定し、レンズを移動させて合焦を行うと、測定視野が変化することがあるが、撮像装置本体を移動させて合焦を行うことで測定視野の変化を抑制することができる。したがって、レジストパターンの線幅及び／又はギャップ幅をより精度良く計測することができる。
【００１８】
また、ある実施形態において、前記撮像装置は、前記ガラス基板に向けてストロボ発光する発光手段を備える。
【００１９】
この場合、撮像装置による撮像画像の流れを抑制することができる。したがって、レジストパターンの線幅及び／又はギャップ幅をより精度良く計測することができる。
【００２０】
また、第２の発明は、起立状態のガラス基板に形成されている複数のレジストパターンを計測するレジストパターン計測方法であって、前記複数のレジストパターンを撮像するオートフォーカス機構付きの撮像装置を準備する準備工程と、前記撮像装置により前記複数のレジストパターンを撮像する撮像工程と、前記撮像装置による前記複数のレジストパターンの撮像画像に基づいて前記複数のレジストパターンの線幅及び前記複数のレジストパターンのギャップ幅のうちの少なくとも一方を算出する算出工程とを包含する。
【００２１】
第２の発明によれば、オートフォーカス機構付きの撮像装置を用いることで、起立状態のガラス基板に撓み、反り、振動等が生じても、鮮明なレジストパターンの撮像画像を得ることができる。したがって、レジストパターンの線幅及び／又はギャップ幅を精度良く計測することができる。
【００２２】
また、第３の発明は、起立状態のガラス基板に複数のレジストパターンを形成するためのレジスト現像液の濃度管理方法であって、前記複数のレジストパターンを撮像するオートフォーカス機構付きの撮像装置を準備する準備工程と、前記撮像装置により前記複数のレジストパターンを撮像する撮像工程と、前記撮像装置による前記複数のレジストパターンの撮像画像に基づいて前記複数のレジストパターンの線幅及び前記複数のレジストパターンのギャップ幅のうちの少なくとも一方を算出する算出工程と、前記複数のレジストパターンの線幅及び前記複数のレジストパターンのギャップ幅のうちの前記少なくとも一方に基づいて、前記レジスト現像液の濃度を調整する現像液濃度調整工程とを包含する。
【００２３】
第３の発明によれば、パターニング工程における温度及び湿度、レジスト現像液の温度等がレジストパターンの線幅に複合的に影響する場合であっても、レジストパターンの線幅及び／又はギャップ幅の精度良い計測を行うことができるとともに、レジスト現像液の濃度調整によってレジストパターンの線幅の補正を行うことができる。その結果、品質の安定したガラス基板を製造することができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、パターニング工程の途中で形成されるレジストパターンの線幅又はギャップ幅の計測を精度良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施形態であるレジストパターン計測装置と現像装置と現像液供給装置との概略構成を示す模式図である。
【図２】図１に示されるレジストパターン計測装置に用いられるカメラとガラス基板との概略構成を示す模式図である。
【図３】フォトリソグラフィ法によりガラス基板上にパターン層を形成するパターニング工程の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図面を参照して本発明による実施形態を説明する。図１は本発明の一実施形態であるレジストパターン計測装置と現像装置と現像液供給装置との概略構成を示す模式図である。
【００２７】
レジストパターン計測装置１０は、起立状態のガラス基板１００に形成されている複数のレジストパターンを計測する。
【００２８】
レジストパターン計測装置１０は、ガラス基板１００上にレジストパターンを現像する現像装置４０と、レジストパターンが現像された基板１００にエッチングを行うエッチング設備（図示せず）との間に設置される。
【００２９】
なお、ガラス基板１００は、搬送装置（図示せず）によって、斜めに起立した状態で主面１００ａと平行な水平方向に搬送される。
【００３０】
レジストパターン計測装置１０は、３台のカメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃと制御装置３０とを備える。カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃは、本発明の撮像装置として機能する。カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ及び制御装置３０の詳細については、図２を参照して後述する。
【００３１】
現像装置４０は、Ｘ方向に搬送されるガラス基板１００の主面１００ａ上に形成されているレジスト層にレジスト現像液を供給してレジストパターンを現像する。
【００３２】
現像液供給装置５０は現像装置４０にレジスト現像液を供給する。現像液供給装置５０は、現像液タンク５１と、原液タンク５２と、第１バルブ５３と、希釈液タンク５４と、第２バルブ５５とを備えている。
【００３３】
現像液タンク５１は、レジスト現像液の原液と希釈液とを調合することにより作製されたレジスト現像液を収容する。原液タンク５２はレジスト現像液の原液を収容する。第１バルブ５３は現像液タンク５１と原液タンク５２とを連通接続する管路に設置されている。第１バルブ５３の開度を調節することで、原液タンク５２から現像液タンク５１に供給される原液の量を調節することができる。希釈液タンク５４は希釈液を収容する。第２バルブ５５は現像液タンク５１と希釈液タンク５４とを連通接続する管路に設置されている。第２バルブ５５の開度を調節することで、希釈液タンク５４から現像液タンク５１に供給される希釈液の量を調節することができる。第１バルブ５３の開度と第２バルブ５５の開度とを調節することで、原液と希釈液との調合比率が変化し、現像液タンク５１内のレジスト現像液の濃度を調整することができる。
【００３４】
レジスト現像液としては、レジスト層の溶解性に優れたものであれば、特に材質は限定されない。一般的に使用されている有機アルカリ系現像液の他、無機アルカリ系現像液を使用することもできる。
【００３５】
レジストパターン計測装置１０は、現像装置４０で現像処理された直後のガラス基板１００のレジストパターンの線幅をオンライン計測する。作業員は、レジストパターン計測装置１０による計測結果を見て、現像液供給装置５０を操作して、現像装置４０に供給されるレジスト現像液の濃度を調整する。
【００３６】
図２は図１に示されるレジストパターン計測装置１０に用いられるカメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃとガラス基板１００との概略構成を示す模式図である。カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃの各々は、本発明の撮像装置として機能する。
【００３７】
レジストパターン計測装置１０（図１参照）で計測するレジストパターン３０１の線幅Ｗ１及びギャップ３０２の幅Ｗ２の大きさは特に限定されるものではないが、例えば幅Ｗ１は１００μｍ〜５００μｍ、幅Ｗ２は８０μｍ〜１００μｍである。
【００３８】
カメラ２０Ａは、例えばＣＣＤカメラによって構成され、撮像装置本体としてのカメラ本体２１と、その前面に装備された対物レンズ２２と、カメラ本体２１を移動させる駆動機構２３と、距離計測手段としての距離センサ２８と、発光手段としてのストロボ発光器２９とを備える。駆動機構２３は、ステージ２４と、ボールネジ２５と、軸受け２６と、ステッピングモータ２７とを備える。
【００３９】
カメラ本体２１は、対物レンズ２２をガラス基板１００の主面１００ａに対向させた状態でステージ２４上に固定支持されている。ステージ２４は、ガイド機構（図示せず）によって対物レンズ２２の光軸Ａ．Ｘに沿う方向に往復動自在に案内されている。
【００４０】
ボールネジ２５は軸受け２６によって支持されるとともにステージ２４に螺設されたネジ孔（図示せず）に螺合している。ステッピングモータ２７を駆動すると、ボールネジ２５が軸線周りに回転してステージ２４が移動し、カメラ本体２１がガラス基板１００の主面１００ａに対して接近又は離間する。
【００４１】
距離センサ２８は光軸Ａ．Ｘに沿う方向にセンサ光を射出し、ガラス基板１００の主面１０１ａと対物レンズ２２との距離を計測する。距離センサ２８と駆動機構２３は、本発明のオートフォーカス機構として機能する。
【００４２】
ストロボ発光器２９は、ガラス基板１００の主面１００ａに向けて発光する。カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃは常時レジストパターン３０１の撮影を行っており、ガラス基板１００は移動している。したがって、レジストパターン３０１の線幅が高精細になると、カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが撮像するレジストパターン３０１の画像が流れる虞がある。そこで、ストロボ発光器２９を発光させる。その結果、レジストパターン３０１の画像を静止画像として取り込むことができる。
【００４３】
カメラ２０Ｂとカメラ２０Ｃの構成はカメラ２０Ａと同じであるので、説明を省略する。カメラ２０Ａは、ガラス基板１００の主面１００ａを上下方向に３分割した撮影エリアのうち、最も上段の撮影エリアを撮影し、カメラ２０Ｂは中段の撮影エリアを撮影し、カメラ２０Ｃは最も下段の撮影エリアを撮影する。
【００４４】
引き続き、図１及び図２を参照して、レジストパターン計測装置１０の構成の説明を続ける。制御装置３０は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等を含むマイクロコンピュータにより構成されている。ＣＰＵは、ＲＯＭに格納されたプログラムに従って各種の処理を実行する。画像処理手段３１、演算処理手段３２及び合焦手段３３の各々は、ＲＯＭに格納されたプログラムによって構成されている。
【００４５】
画像処理手段３１は、カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが撮像したレジストパターン３０１の画像を画像処理し、レジストパターン３０１の線幅の算出が可能な画像を作製する。
【００４６】
演算処理手段３２は、画像処理手段３１が作製した画像から、所定のアルゴリズムに従ってレジストパターン３０１の線幅を算出する。画像処理手段３１と演算処理手段３２とは、本発明の算出手段として機能する。
【００４７】
合焦手段３３は、距離センサ２８の計測値に基づいてステッピングモータ２７を制御してカメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃのレジストパターン３０１に対する合焦を行う。
【００４８】
次に、パターニング工程を説明する。図３は、フォトリソグラフィ法によりガラス基板上にパターン層を形成するパターニング工程の説明図である。
【００４９】
まず、図３（ａ）に示すように、ガラス基板１００の主面１００ａ上にスパッタリング等により導電性金属（例えば、ＩＴＯ）から成る薄膜２００を成膜する。次いで、図３（ｂ）に示すように、薄膜２００上にフォトレジスト（光感光性樹脂）を塗布してレジスト層３００を形成する。次いで、図３（ｃ）に示すように、レジスト層３００にフォトマスク４００を被せて光（例えば、紫外線）を照射し、フォトマスク４００に形成された所定形状のパターン４０１をレジスト層３００上に転写する。次いで、レジスト層３００にレジスト現像液を供給する。その結果、図３（ｄ）に示すように、レジスト層３００の露光部分が除去されて薄膜２００上に複数のレジストパターン３０１が形成される。次いで、図３（ｅ）に示すように、エッチングを行って薄膜２００の不要部分を除去する。そして、レジストパターン３０１を除去すると、図３（ｆ）に示すように、ガラス基板１００上に所定形状のパターン層２０１が出現する。
【００５０】
次に、図１〜図３を参照して、レジストパターン３０１の線幅の計測方法及びレジスト現像液の濃度管理方法を説明する。
【００５１】
図１に示すように、現像装置４０の下流側に、３台のカメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃを、ガラス基板１００の主面１００ａと平行かつガラス基板１００の搬送方向Ｘと直交する方向に沿って間隔をおいて設置する（準備工程）。
【００５２】
ガラス基板１００は、起立状態で主面１００ａと平行な水平方向に搬送されて現像装置４０に至る。そして、現像装置４０によってレジスト層３００（図３（ｃ）参照）にレジスト現像液が供給される。現像装置４０によるレジスト層３００へのレジスト現像液の供給によってレジストパターン３０１（図３（ｄ）参照）が形成される。
【００５３】
図２に示すように、ガラス基板１００に形成されたレジストパターン３０１は、カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃによって同時に撮像される。その際、カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃに備えられた距離センサ２８がガラス基板１００の主面１００ａと対物レンズ２２との距離を計測し、その計測値に基づいて合焦手段３３（図１参照）がステッピングモータ２７を駆動し、レジストパターン３０１に対するカメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃの合焦を行う。
【００５４】
合焦と同時にストロボ発光器２９が所定時間発光する。ストロボ発光器２９の発光中のレジストパターン３０１の画像はほぼ静止画像となる。ストロボ発光器２９の発光時間は、例えば、ガラス基板１００の搬送速度が0.1m/sec〜0.5m/secのとき、1μsec〜20μsecに設定される（撮像工程）。
【００５５】
カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが撮像したレジストパターン３０１の画像は制御装置３０（図１参照）に入力される。画像処理手段３１は、カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃから入力された画像を画像処理し、レジストパターン３０１の線幅の算出が可能な画像を作製する。
【００５６】
そして、演算処理手段３２が、画像処理手段３１により画像処理されたレジストパターン３０１の画像から、所定のアルゴリズムに従ってレジストパターン３０１の線幅を算出する（算出工程）。演算処理手段３２により算出されたレジストパターン３０１の線幅は制御装置３０のディスプレイ（図示せず）に表示される。
【００５７】
作業員は、ディスプレイに表示されたレジストパターン３０１の線幅と予め設定した目標値とを比較して、レジスト現像液の濃度の調整が必要か否かを検討する。レジスト現像液の濃度の調整が必要な場合には、現像液供給装置５０の第１バルブ５３及び／又は第２バルブ５５の開度を調整して現像液タンク５１内のレジスト現像液の濃度を調整する（現像液濃度調整工程）。
【００５８】
レジストパターン計測装置１０によれば、オートフォーカス機構付きのカメラ２０Ａ、２０Ｂ及び２０Ｃを用いてレジストパターン３０１を撮像するため、ガラス基板１００に反り、撓み、振動等が生じても、カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃのピントを精度良く合わせることができる。また、ストロボ発光器２９を用いてレジストパターン３０１を撮像するため、レジストパターン３０１が高精細になっても撮像画像が流れることがない。したがって、レジストパターン３０１の線幅を精度良く計測することができる。
【００５９】
また、パターニング工程における温度及び湿度、レジスト現像液の温度等がレジストパターン３０１の線幅に複合的に影響する場合であっても、レジストパターン３０１の線幅及び／又はギャップ幅の精度良い計測を行うことができるとともに、レジスト現像液の濃度調整によってレジストパターン３０１の線幅の補正を行うことができる。その結果、品質の安定したガラス基板１００を製造することができる。
【００６０】
また、カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが同時にレジストパターン３０１の撮像を行うため、カメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃの計測値を比較して極端な計測値（例えば、レジストパターン３０１の傷、欠け、汚れに起因する）を除外することができる。したがって、レジストパターン３０１を精度良く計測することができる。
【００６１】
また、３台のカメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃの各々を個別にオートフォーカス制御することで、ガラス基板１００に局部的な撓みや反りが生じた場合でも、３台のカメラ２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃのピントを精度良く合わせることができる。したがって、レジストパターン３０１を精度良く計測することができる。
【００６２】
以上、本発明の具体的な実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記実施形態に種々の改変を施すことができる。
【００６３】
例えば、上記実施形態では、撮像手段で撮像したレジストパターンの撮像画像に基づいてレジストパターンの線幅を算出しているが、撮像手段で撮像したレジストパターンの撮像画像に基づいてレジストパターンのギャップ幅を算出してもよい。また、撮像手段で撮像したレジストパターンの撮像画像に基づいてレジストパターンの線幅とギャップ幅とを算出してもよい。
【００６４】
また、上記実施形態では、レジストパターンの線幅を計測し、その計測値に基づいてレジスト現像液の濃度を調整しているが、レジストパターンのギャップ幅を計測し、その計測値に基づいてレジスト現像液の濃度を調整してもよい。また、レジストパターンの線幅とギャップ幅との各々を計測し、それらの計測値に基づいてレジスト現像液の濃度を調整してもよい。
【００６５】
また、上記実施形態では、撮像装置としてＣＣＤカメラを使用しているが、他の撮像装置（例えば、エリアカメラやＣＭＯＳ）を使用してもよい。
【００６６】
また、上記実施形態では、３台の撮像装置を使用しているが、撮像装置は４台以上もしくは２台以下であってもよい。
【００６７】
また、上記実施形態では、撮像装置本体を移動させて合焦するが、撮像装置本体を固定し、撮像装置が備えた光学系を移動させて合焦してもよい。
【００６８】
また、上記実施形態では、距離計測手段がガラス基板の主面と対物レンズとの距離を計測しているが、距離計測手段がガラス基板の主面上の部材（例えば、レジストパターンや薄膜）と対物レンズとの距離を計測するようにしてもよい。
【００６９】
また、上記実施形態では、レジスト現像液の濃度調整を作業員による手動で行っているが、レジスト現像液の濃度調整を制御機器による自動制御で行ってもよい。
【００７０】
また、上記実施形態では、撮像装置本体を移動させるためにステッピングモータを使用しているが、ステッピングモータに代えてサーボモータを使用することもできる。
【００７１】
その他にも、本発明の要旨を逸脱しない範囲で上記実施形態に種々の改変を施すことができる。
【符号の説明】
【００７２】
１０    レジストパターン計測装置
２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ  カメラ（撮像装置）
２１  カメラ本体（撮像装置本体）
２２  対物レンズ
２３  駆動機構（オートフォーカス機構）
２４  ステージ
２５  ボールネジ
２６  軸受け
２７  ステッピングモータ
２８  距離センサ（オートフォーカス機構、距離計測手段）
２９  ストロボ発光器（発光手段）
３０  制御装置
３１  画像処理手段（算出手段）
３２  演算処理手段（算出手段）
４０  現像装置
５０  現像液供給装置
５１  現像液タンク
５２  原液タンク
５３  第１バルブ
５４  希釈液タンク
５５  第２バルブ
１００  ガラス基板
２００  薄膜
２０１  パターン層
３００  レジスト層
３０１  レジストパターン
４００  フォトマスク
【図１】
2014130068.tif 000003
【図２】
2014130068.tif 000004
【図３】
2014130068.tif 000005