(57)【要約】【課題】基板の搬送時に、基板が矯正された状態でアーム上に載置されていることを検知することができる基板搬送装置を提供する。【解決手段】ウエハ搬送装置２は、流路４３及び流路４４を有し、ウエハＷを、ウエハＷの下面で保持するアーム８と、アーム８におけるウエハＷを保持する保持面８ｓに設けられ、保持面８ｓとウエハＷの間に負圧を発生させる吸着パッド４１と、保持面８ｓに設けられ、かつ開口部４２ａ２を有し、流路４４内を真空にすることにより開口部４２ａ２からの吸引を行ってウエハＷの下面を開口部４２ａ２に吸着させて、ウエハＷが開口部４２ａ２に吸着しているかを検知するための真空吸着パッド４２ａと、保持面８ｓに設けられ、ウエハＷと接触したときの摩擦により、保持面８ｓに吸着されたウエハＷを保持面８ｓの平行な方向に横滑りしないようにする摩擦部材４２と、を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の流路及び第２の流路を有し、基板を、前記基板の下面で保持するアームと、
前記アームにおける前記基板を保持する保持面に設けられ、かつ第１の開口部を有し、前記第１の流路を介する所定の気体の送気を行って、前記第１の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を前記保持面に吸着させるように、前記保持面と前記基板の間に負圧を発生させる負圧発生部と、
前記保持面に設けられ、かつ第２の開口部を有し、前記第２の流路内を真空にすることにより前記第２の開口部からの吸引を行って前記基板の下面を前記第２の開口部に吸着させて、前記基板が前記第２の開口部に吸着しているかを検知するための真空吸着パッドと、
前記保持面に設けられ、前記基板と接触したときの摩擦により、前記保持面に吸着された前記基板を前記保持面の平行な方向に横滑りしないようにする摩擦部材と、
を有することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記負圧発生部の前記アームの保持面の表面からの高さは、前記摩擦部材の前記アームの前記表面からの高さよりも低いことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記アームは、幅が狭い先端部と、前記先端部の幅よりも広い幅を有する基端部とを有し、
前記負圧発生部は、前記基端部の前記先端部側に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記摩擦部材は、複数設けられ、
前記複数の摩擦部材は、前記負圧発生部の周囲に設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記第１の流路と前記第２の流路は、前記アーム内に並走するように配設されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記アームによる前記基板の搬送を制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記第１の流路を介する前記送気、及び前記第２の流路を介する前記吸引は、独立に制御することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記第２の流路内が真空になったときに、前記基板が前記第２の開口部に吸着していることを検知することを特徴とする請求項６に記載の基板搬送装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記アームにより前記基板を搬送するときに、前記基板が前記第２の開口部に吸着していないことを検知したときは、前記基板の搬送を停止することを特徴とする請求項７に記載の基板搬送装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１つに記載の基板搬送装置と、
前記基板搬送装置により搬送される基板を検査する検査部と、
を含むことを特徴とする基板検査装置。
【請求項１０】
負圧発生部、真空吸着パッド及び摩擦部材とを有し、基板を、前記基板の下面で保持するアームにより、搬送する基板搬送方法において、
前記アームにおける前記基板を保持する保持面に設けられかつ第１の開口部を有する前記負圧発生部により、第１の流路を介する所定の気体の送気を行って前記第１の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を前記保持面に吸着させるように、前記保持面と前記基板の間に負圧を発生させ、
前記保持面に設けられかつ第２の開口部を有する前記真空吸着パッドにより、第２の流路内を真空にすることにより前記第２の開口部からの吸引を行って前記基板の下面を前記第２の開口部に吸着させて、前記基板が前記第２の開口部に吸着しているかを検知し、
前記保持面に設けられた前記摩擦部材により、前記基板と接触したときの摩擦により、前記保持面に吸着された前記基板を前記保持面の平行な方向に横滑りしないようにして、前記基板を搬送することを特徴とする基板搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置、基板検査装置及び基板搬送方法に関し、特に、半導体ウエハなどの基板を搬送する基板搬送装置、基板検査装置及び基板搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体製造工程では、製造装置において基板に対して、各種加工処理が施され、基板の検査が行われる。近年は、ウエハなどの基板の大型化及び薄型化が進んでおり、製造工程において、反りや撓みが生じる基板を、確実に搬送するための工夫もいろいろ提案されている。
【０００３】
例えば、特開２０１０−１３５３８１号公報に開示のように、ウエハをアームの載置面に吸着保持させるようにした基板検査装置がある。その基板検査層装置では、ウエハカセットからウエハが取り出されて、目視によるマクロ検査と、顕微鏡によるミクロ検査が行われる。ウエハは、搬送手段としてのアームに載置されて、ウエハカセットから検査用の載置台へ、載置台から別の載置台へ、さらに載置台からウエハカセットへ搬送される。
【０００４】
また、特許第４２９９１０４号公報には、負圧発生手段を利用して、ウエハを搬送する基板搬送装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１３５３８１号公報
【特許文献２】特許第４２９９１０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ウエハの反りや撓みが矯正された状態となるように、ウエハがアーム上に載置されていないと、ウエハの搬送時に、ウエハがアームから落下したり、ウエハがウエハカセット、載置台などに接触して破損する虞もある。
【０００７】
上述したような提案に係る検査装置では、ウエハが吸着した状態であっても、ウエハがアーム上に、反りなどが矯正された状態で載置された状態であるかを検知することができず、ウエハの搬送時に、ウエハがウエハカセット、載置台などに接触して、破損してしまう虞がある。
【０００８】
そこで、本発明は、基板の搬送時に、基板が矯正された状態でアーム上に載置されていることを検知することができる基板搬送装置、基板検査装置及び基板搬送方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様の基板搬送装置は、第１の流路及び第２の流路を有し、基板を、前記基板の下面で保持するアームと、前記アームにおける前記基板を保持する保持面に設けられ、かつ第１の開口部を有し、前記第１の流路を介する所定の気体の送気を行って、前記第１の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を前記保持面に吸着させるように、前記保持面と前記基板の間に負圧を発生させる負圧発生部と、前記保持面に設けられ、かつ第２の開口部を有し、前記第２の流路内を真空にすることにより前記第２の開口部からの吸引を行って前記基板の下面を前記第２の開口部に吸着させて、前記基板が前記第２の開口部に吸着しているかを検知するための真空吸着パッドと、前記保持面に設けられ、前記基板と接触したときの摩擦により、前記保持面に吸着された前記基板を前記保持面の平行な方向に横滑りしないようにする摩擦部材と、を有する。
【００１０】
本発明の一態様の基板検査装置は、本発明の基板搬送装置と、前記基板搬送装置により搬送される基板を検査する検査部と、を含む。
【００１１】
本発明の一態様の基板搬送方法は、負圧発生部、真空吸着パッド及び摩擦部材とを有し、基板を、前記基板の下面で保持するアームにより、搬送する基板搬送方法において、前記アームにおける前記基板を保持する保持面に設けられかつ第１の開口部を有する前記負圧発生部により、第１の流路を介する所定の気体の送気を行って前記第１の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を前記保持面に吸着させるように、前記保持面と前記基板の間に負圧を発生させ、前記保持面に設けられかつ第２の開口部を有する前記真空吸着パッドにより、第２の流路内を真空にすることにより前記第２の開口部からの吸引を行って前記基板の下面を前記第２の開口部に吸着させて、前記基板が前記第２の開口部に吸着しているかを検知し、前記保持面に設けられた前記摩擦部材により、前記基板と接触したときの摩擦により、前記保持面に吸着された前記基板を前記保持面の平行な方向に横滑りしないようにして、前記基板を搬送する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、基板の搬送時に、基板が矯正された状態でアーム上に載置されていることを検知することができる基板搬送装置、基板検査装置及び基板搬送方法を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施の形態に係わるウエハ検査装置の構成を説明するための平面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係わる、アーム支持部９に接続されたアーム８ａ、８ｂの斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態に係わる、アーム８の斜め下方向からの斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態に係わる、アームの保持面上に設けられた吸着パッド４１、摩擦部材４２及び真空吸着パッド４２ａの斜視図である。
【図５】本発明の実施の形態に係わるアーム８の側面図である。
【図６】本発明の実施の形態に係わる、アーム８上に載置されたウエハＷの状態を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。  
なお、以下の説明に用いる各図においては、各構成要素を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各構成要素毎に縮尺を異ならせてあるものであり、本発明は、これらの図に記載された構成要素の数量、構成要素の形状、構成要素の大きさの比率、及び各構成要素の相対的な位置関係のみに限定されるものではない。
（全体構成）
図１は、本実施の形態に係わるウエハ検査装置の構成を説明するための平面図である。ウエハ検査装置１は、ウエハ搬送装置２と、ウエハカセット３と、ウエハ搬送装置２により搬送される検査対象であるウエハＷ（二点鎖線で示す）のマクロ検査を行うマクロ検査部４と、ウエハＷのミクロ検査を行うミクロ検査部５と、操作部６と、を含む基板検査装置である。
【００１５】
基板搬送装置であるウエハ搬送装置２は、後述するアーム駆動部７と、４本のアーム８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ（以下、４本のアームの全て若しくは１つを指すときは、アーム８という）と、４本のアーム８を支持するアーム支持部９とを有している。２本のアーム８ａ，８ｂは、アーム支持部９の一側面から延出するようにアーム支持部９に設けられ、２本のアーム８ｃ，８ｄは、アーム８ａ，８ｂが延出する側面とは反対側の側面から延出するようにアーム支持部９に設けられている。
【００１６】
操作部６は、キーボード等の入力装置６ａと、液晶表示装置等の表示装置６ｂを有している。検査者は、表示装置６ｂに表示される画面を見ながら、入力装置６ａから各種指示コマンドを入力することにより、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４及びミクロ検査部５の動作を指示することができる。
【００１７】
アーム駆動部７は、２本のアーム８ａ，８ｂと２本のアーム８ｃ，８ｄとが回転対称となる回動軸（Ｚ軸方向の軸）を中心に回動可能に、かつ上下方向（Ｚ軸方向）に移動可能に、アーム支持部９を上方から支持している。
【００１８】
よって、アーム駆動部７は、アーム支持部９を、回動軸回りに回動させ、かつ上下方向（Ｚ軸方向）に移動するように、駆動する。アーム支持部９の回動により、４本のアーム８も、矢印Ａ１で示す方向に回動し、アーム支持部９の上下方向の移動により、４本のアーム８も、上下する。
【００１９】
ウエハカセット３内には、検査対象である複数のウエハＷが高さ方向に積層されている。基板である各ウエハＷは、ウエハＷの周縁部が、ウエハカセット３内の周縁支持部により支持されている。
【００２０】
ウエハカセット３内から、各ウエハＷがウエハ搬送装置２により取り出され、マクロ検査部４とミクロ検査部５において、所定の検査が行われ、検査が終了したウエハＷは、ウエハカセット３内にウエハ搬送装置２により収容される。そのため、アーム駆動部７は、図示しないレールに沿って矢印Ａ２方向（Ｘ軸方向）に、移動可能となっている。
【００２１】
マクロ検査部４は、基板であるウエハＷを揺動させる揺動機構４ａと、ウエハＷの受け渡しに用いられるウエハ載置台４ｂとを有する。
ミクロ検査部５は、ウエハＷを拡大観察するための顕微鏡５ａと、２軸方向に移動可能なＸＹステージ５ｂと、ＸＹステージ５ｂ上に設置され、ウエハＷをＸＹＺの各軸方向に移動させると共に回動させ、更にウエハＷの受け渡しに用いられるウエハ載置台５ｃと、を有する。
【００２２】
上述したように、アーム駆動部７は、４本のアーム８を、回動軸（Ｚ軸）回りに回動させたり、上下方向（Ｚ軸方向）に上下させたり、Ｘ軸方向に沿って移動させたりすることができるので、アーム駆動部７の動作を制御することによって、ウエハカセット３からのウエハＷの取り出し、アーム８上に載置したウエハＷのウエハカセット３内への収容、マクロ検査用の載置台４ｂ上へのウエハＷの載置、載置台４ｂと５ｃ間の移動、載置台４ｂ、５ｃ上のウエハＷの持ち上げを行うことができる。例えば、アーム駆動部７のＸ軸方向の移動とアーム支持部９の上下方向の動きにより、ウエハカセット３に対するウエハＷの搬出入ができるようになっている。
【００２３】
さらに、基板検査装置１には、送気ポンプ２１と吸引ポンプ２２が設けられている。本実施の形態では、送気ポンプ２１は、基板検査装置１のコネクタ２３に接続されて、基板検査装置１内に配設された管路２３ａ内へ圧縮空気を送気し、吸引ポンプ２２は、基板検査装置１のコネクタ２４に接続されて、基板検査装置１内に配設された管路２４ａ内の空気を吸引する。管路２４ａには、真空センサ２６が設けられており、管路２４ａ内の真空状態が検出可能となっている。  
なお、送気ポンプ２１の送気機能と吸引ポンプ２２の吸引機能は、１つのポンプを利用して実現するようにしてもよい。
【００２４】
基板検査装置１は、基板であるウエハＷの搬送を制御する制御部２５を有し、制御部２５は、中央処理装置（CPU）と、ROM,RAM等の記憶装置を有する。制御部２５は、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４、ミクロ検査部５に接続されており、制御部２５は、操作部６に入力された検査指示に応じて、所定のプログラムを実行させることにより、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４、及びミクロ検査部５の制御を実行する。さらに、制御部２５には、真空センサ２６も接続されている。制御部２５は、後述するように、ウエハWの搬送時に、ウエハ搬送装置２、送気ポンプ２１、吸引ポンプ２２の動作制御を行いながら、ウエハＷが矯正された状態で、アーム８上に載置されているか否かを検出する。特に、制御部２５は、管路２３ａを介する送気、及び管路２４ａを介する吸引を、互いに独立に制御することができる。
【００２５】
検査の手順の例を説明する。  
制御部２５の制御の下、ウエハ搬送装置２は、ウエハＷをウエハカセット３から取り出して、載置台４ｂに載置する。マクロ検査部４の揺動機構４ａが、ウエハ載置台４ｂに載置されたウエハＷを持ち上げて揺動させ、検査者により目視観察（すなわちマクロ検査）が行われる。このとき、アーム駆動部７は、アーム支持部９を下方に移動させてアーム８を待機させる。
【００２６】
ウエハ搬送装置２は、マクロ検査が終わると、アーム支持部９を上方に移動させた後、アーム支持部９を、矢印Ａ１方向に１８０度回動させることにより、アーム８ａ、８ｂとアーム８ｃ、８ｄの位置を互いに入れ替える。
【００２７】
次に、ウエハ搬送装置２は、１８０度回動したウエハ支持部９を下方に移動し、ウエハＷを載置台５ｃに載置する。そして、制御部２５によりＸＹステージ５ｂが制御されて、ＸＹステージ５ｂを移動させることにより、適宜ウエハＷを移動・回動させながら、顕微鏡５ａを用いたウエハＷの拡大観察（ミクロ観察）が行われる。ミクロ観察が終了すると、ＸＹステージ５ｂは、ウエハＷを受け渡す位置に移動される。
【００２８】
再び、ウエハ搬送装置２が、アーム支持部９を上方に移動させてから１８０度回動させることにより、アーム８ａ、８ｂとアーム８ｃ、８ｄの位置が互いに入れ替わる。そして、ウエハ搬送装置２は、アーム支持部９を下方に移動させて、ウエハＷをマクロ検査部４の載置台４ｂに載置する。
【００２９】
なお、マクロ検査部４からミクロ検査部５へアーム支持部９を１８０度回動させた後、他方のアーム８ｃ、８ｄ上に、マクロ検査済みの他のウエハＷ１を載置しておくことにより、ミクロ検査が終了したウエハＷを載置台４ｂに戻すときに、他のウエハＷ１をミクロ検査部５へ搬送することができる。  
ウエハＷの検査は、ウエハＷの両面について行われる。
（ウエハ搬送装置の構成）
次に、基板検査装置であるウエハ搬送装置２の構成を説明する。
【００３０】
図２から図５は、ウエハ搬送装置２のアーム８の構成を説明するための図である。図２は、アーム支持部９に接続されたアーム８ａ、８ｂの斜視図である。図３は、アーム８の斜め下方向からの斜視図である。図４は、アームの保持面上に設けられた吸着パッド４１、摩擦部材４２及び真空吸着パッド４２ａの斜視図である。図５は、アーム８の側面図である。なお、アーム８ｃ、８ｄは、アーム８ａ、８ｂと同じ構成であるため、説明は省略する。
【００３１】
基板搬送用アームであるアーム８は、先端部の幅が狭い板形状を有している。図５に示すように、アーム８は、２枚の板部材３１と３２を貼り合わせて構成されている。板部材３１は、幅が狭いアーム先端部３１ａと、アーム先端部３１ａの幅よりも広い幅を有するアーム基端部３１ｂを有している。板部材３２は、アーム基端部３１ｂと略同じ形状の矩形形状を有している。各アーム８は、後述する２つの流路（４３、４４）を有し、基板であるウエハWを、ウエハＷの下面で保持するアームである。
【００３２】
図２に示すように、アーム基端部３１ｂの先端部側には、負圧発生部としての吸着パッド４１と、複数の摩擦部材４２とを有している。複数の摩擦部材４２の１つは、吸引機能を有する真空吸着パッド４２ａである。
【００３３】
図４に示すように、吸着パッド４１は、円形の凹部に設けられた開口部である一対の噴射口４１ａを有し、一対の噴射口４１ａは、アーム８内の流路４３と連通している。吸着パッド４１は、流路４３を介して供給される圧縮空気をその一対の噴射口４１ａから所定の方向に噴射させ、その噴射による発生する旋回流により、吸着パッド４１の表面に負圧を発生させることにより、ウエハＷを吸着させる。
【００３４】
すなわち、吸着パッド４１は、アーム８におけるウエハＷを保持する保持面である上面８ｓに設けられ、かつ開口部である一対の噴射口４１ａを有し、流路４３を介する所定の気体の送気を行って、一対の噴射口４１ａから所定の気体を吹き出すことにより、ウエハＷを上面に吸着させるように、アーム８の上面８ｓとウエハＷの間に負圧を発生させる負圧発生部を構成する。このような負圧発生部としての吸着パッド４１の構成は、例えば特許第４２９９１０４号公報に開示されており、公知である。
【００３５】
摩擦部材４２は、円柱形状を有する部材であり、導電性のゴム部材である。すなわち、摩擦部材４２は、アーム８の保持面である上面８ｓに設けられ、ウエハＷと接触したときの摩擦により、上面８ｓに吸着されたウエハＷを上面８ｓの平行な方向に横滑りしないようにする摩擦部材である。
【００３６】
真空吸着パッド４２ａは、図４に示すように、円筒形状を有し、先端すなわち上面部には、円環状の摩擦部材４２ａ１が設けられている。真空吸着パッド４２ａの中央部に形成された開口部４２ａ２は、アーム８内に形成された流路４４と連通している。
【００３７】
すなわち、真空吸着パッド４２ａは、アーム８の保持面である上面８ｓに設けられ、かつ開口部４２ａ２を有し、流路４４内を真空にすることにより開口部４２ａ２からの吸引を行ってウエハＷの下面を開口部４２ａ２に吸着させて、ウエハＷが開口部４２ａ２に吸着しているかを検知するための吸着パッドである。
【００３８】
また、真空吸着パッド４２ａ上の摩擦部材４２ａ１と２つの摩擦部材４２は、吸着パッド４１の周囲に配置されているので、吸着パッド４１によりウエハＷが吸着されたときに、ウエハＷを３点で支持することができる。すなわち、摩擦部材は、アーム８の上面８ｓ上に、複数設けられ、かつ、負圧発生部である吸着パッド４１の周囲に設けられている。
【００３９】
流路４３と４４は、２枚の板部材３１と３２の密着面の少なくとも一方に形成された溝により、形成される。流路４３の一端は、開口部である一対の噴射口４１ａに連通し、流路４３の他端は、アーム８の基端側の下部に設けられた開口部４５に連通している。図２及び図３に示すように、流路４３と流路４４は、アーム８内に並走するように配設されている。
【００４０】
流路４４の一端は、開口部４２ａ２に連通し、流路４４の他端は、アーム８の基端側の下部に設けられた開口部４６に連通している。そして、流路４３は、開口部４５を介して、送気ポンプ２１に接続された管路２３ａと接続されている。流路４４は、開口部４６を介して、吸引ポンプ２２に接続された管路２４ａと接続されている。  
なお、図３に示すように、アーム８の基端部には、アーム支持部９にネジ止めにより、固定するためのネジ孔４７が複数設けられている。
【００４１】
また、図５に示すように、吸着パッド４１のアーム８の表面８ｓからの高さｄ１は、摩擦部材４２と真空吸着パッド４２ａの高さｄ２よりも低い。これは、吸着パッド４１によりウエハＷが吸引されたときに、摩擦部材４２，４２ａ１がウエハＷにしっかりと接触して、摩擦力によりウエハＷが動かないようにウエハＷを支持するためである。
【００４２】
なお、本実施の形態では、真空吸着パッド４２ａ上に摩擦部材４２ａ１が設けられているが、真空吸着パッド４２ａ上に摩擦部材４２ａ１を設けなくてもよい。その場合、真空吸着パッド４２ａの保持面８ｓからの高さは、吸着パッド４１の高さｄ１よりも高い。
（機能）
上述したように、流路２４ａに接続された真空センサ２６の出力は、制御部２５に入力されている。よって、制御部２５は、流路４４内が真空になったときに、ウエハＷが開口部４２ａ２に吸着していることを検知することができる。
【００４３】
図２に示すように、ウエハ搬送装置２は、基板であるウエハＷを、２本のアーム８の保持面８ｓ（すなわち上面）上に載置して搬送する。制御部２５は、ウエハＷを２本のアーム８の上面に載置したときに、真空センサ２６の出力が真空状態にあることを示している場合、ウエハＷは、矯正された状態でアーム８上に載置されていると判定することができる。
【００４４】
例えば、ウエハＷを２本のアーム８ａ、８ｂで搬送する場合、２本のアーム８ａ、８ｂの２つの真空吸着パッド４２ａの２つの開口部４２ａ２の両方にウエハＷが密着すると、真空センサ２６ａが、真空状態を示す出力するように、２つの真空吸着パッド４２ａと１つの管路２４ａが接続される。よって、ウエハＷが２つの真空吸着パッド４２ａの両方に密着すると、制御部２５は、ウエハＷが、矯正された状態で２本のアーム８ａ、８ｂ上に載置されていると判定する。
なお、２本のアーム８に対して１つの真空センサを設けるのではなく、２つの真空吸着パッドに接続される２つの管路のそれぞれに真空センサを設け、２つの真空センサの出力が共に、真空状態を示す出力になったときに、制御部２５は、ウエハＷが２つのアーム８ａ、８ｂ上に、矯正された状態で載置されていると判定するようにしてもよい。  
２本のアーム８ｃ、８ｄについての管路は図示していないが、２本のアーム８ｃ、８ｄについても、２つのアーム８ａ、８ｂと同様である。
具体的に説明する。  
図６は、アーム８上に載置されたウエハＷの状態を説明するための図である。ウエハＷが薄く、図６の二点鎖線で示すように、ウエハＷが反って、吸着パッド４１がウエハＷの下面をしっかりと吸着できていない場合がある。
【００４５】
この場合、真空吸着パッド４２ａにウエハＷが密着しないため、真空センサ２６は、真空状態を示す出力を、制御部２５に供給しない。制御部２５は、その場合、ウエハＷが矯正された状態で、アーム８上に載置されていないと判定することができる。真空センサ２６が真空状態を検知しないとき、制御部２５は、ウエハＷのアーム８上への載置動作のリトライを行う。すなわち、制御部２５は、アーム８によりウエハＷを搬送するときに、ウエハＷが開口部４２ａ２に吸着していないことを検知したときは、ウエハＷの搬送を停止して、再度ウエハＷの載置動作を実行する。
【００４６】
一方、ウエハＷが薄くても、図６の実線で示すように、ウエハＷが矯正された状態で、吸着パッド４１がウエハＷの下面をしっかりと吸着している場合、真空吸着パッド４２ａにウエハＷが密着して、真空センサ２６は、真空状態を示す出力を、制御部２５に供給する。制御部２５は、その場合、ウエハＷが矯正された状態で、アーム８上に載置されていると判定することができる。
【００４７】
すなわち、真空吸着パッド４２ａを吸着パッド４１の近傍に設けることにより、ウエハＷが矯正された状態で、アーム８上に載置されているかを検出することができるようになっている。
【００４８】
以上のように、上述した実施の形態によれば、基板の搬送時に、基板が矯正された状態でアーム上に載置されていることを検知することができる基板搬送装置、基板検査装置及び基板搬送方法を実現することができる。
【００４９】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等が可能である。
【符号の説明】
【００５０】
１  ウエハ検査装置、２  ウエハ搬送装置、３  ウエハカセット、４  マクロ検査部、４ａ  揺動機構、４ｂ  ウエハ載置台、５  ミクロ検査部、５ａ  顕微鏡、５ｂ  ＸＹステージ５ｂ、５ｃ  ウエハ載置台、６  操作部、６ａ  入力装置、６ｂ  表示装置、７  アーム駆動部、８（８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ）  アーム、９  アーム支持部、２１  送気ポンプ、２２  吸引ポンプ、２３  コネクタ、２３ａ  管路、２４  コネクタ、２４ａ  管路、２５  制御部、２６  真空センサ、３１  板部材、３１ａ  アーム先端部、３１ｂ  アーム基端部、３２  板部材、４１  吸着パッド、４１ａ  噴射口、４２  摩擦部材、４２ａ  真空吸着パッド、４２ａ１  摩擦部材、４２ａ２  開口部、４３、４４  流路、４５  、４６  開口部、４７  ネジ孔。
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図１】
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