(57)【要約】【課題】適切な屈折率を有し、ヘイズ値が低い近赤外線吸収フィルムを提供することのできる近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムを提供する。【解決手段】一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が、重合性バインダー中に分散されてなる近赤外線吸収樹脂組成物において、重合性バインダーの少なくとも１種がエチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物であることを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が、重合性バインダー中に分散されてなる近赤外線吸収樹脂組成物において、
重合性バインダーの少なくとも１種がエチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物であることを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物。
【化１】
2014025016.tif 000013
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ同一でも異なっていても良い有機基を表し、Ｘ−はアニオンを示す。）
【請求項２】
重合性バインダーにおけるエチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物の含有量が、５〜５０質量％であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【請求項３】
一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＲ１〜Ｒ８が、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、３−フルオロプロピル基、下記一般式（２）で表されるシクロヘキシルアルキル基、下記一般式（３）で表されるフェニルアルキル基からなる群より選ばれる一種であることを特徴とする請求項１または２に記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【化２】
2014025016.tif 000014
（式（２）中、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【化３】
2014025016.tif 000015
（式（３）中、Ｂは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【請求項４】
一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＸ−が、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンからなる群より選ばれる一種であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【請求項５】
透明基材上に、請求項１から４のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物を塗布した後、光照射して硬化させて得られた近赤外線吸収層を積層してなることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
【請求項６】
近赤外線吸収層の屈折率が、１．４３〜１．４８であることを特徴とする請求項５に記載の近赤外線吸収フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いた近赤外線吸収フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレーの大型化、薄型化の要求が高まる中、プラズマディスプレーパネル（以下、「ＰＤＰ」と略記する）が一般に広く普及している。ＰＤＰからは近赤外線が放出され、近赤外線リモコンを使用した電子機器が誤動作を起こしてしまうことから、近赤外線吸収剤を含むフィルターで近赤外線を遮蔽する必要がある。また、ＣＣＤカメラ等に使用される光半導体素子は近赤外線領域の感度が高いため、近赤外線の除去が必要である。更に近赤外線吸収剤は、省エネルギーの観点から太陽光の熱線を遮蔽する熱線遮蔽材として利用されており、自動車用ガラス、建材用ガラス等の複層ガラスの熱線遮蔽剤や熱線遮蔽フィルム材料として使用されている。その他、太陽電池においてモジュールの温度上昇は変換効率を低下させるため熱線遮蔽剤は特性維持のため有用な材料である。これらの用途に用いられる近赤外線遮蔽フィルターは、可視光領域を透過しつつ、効果的に近赤外光領域を吸収できるものである。
【０００３】
近赤外線を吸収する近赤外線吸収剤としては、従来有機色素であるシアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素や無機酸化物粒子等が使用されている（特許文献１、２）。
【０００４】
このような近赤外線吸収色素を使用した通常の光学フィルターの構成においては近赤外線吸収層とハードコート層とが、それぞれ別々に設けられている。例えば、特許文献２に開示された近赤外線吸収層は、ハードコート層ではないため、耐傷付き性の高い光学フィルターを得る場合においては、近赤外線吸収層とハードコート層とを別途準備する必要がある。
【０００５】
特許文献３には、透明樹脂層の少なくとも一方の面に、塗工により設けられた近赤外線吸収剤を含有するハードコート層を有する樹脂成形品であって、近赤外線吸収剤が、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物の少なくとも１種を含有する２種以上の近赤外線吸収剤であることを特徴とする近赤外線吸収性樹脂成形品が開示されている。
【０００６】
ここでハードコート層は、ハードコート樹脂に紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより形成される。よってハードコート層に近赤外線吸収剤を含有させた場合、近赤外線吸収剤にも活性エネルギー線が照射される。特許文献３に開示されている従来のジイモニウム塩化合物は紫外線により分解しやすく、この分解により近赤外線吸収能が大きく低下することが判明した。さらに、重合開始剤等の硬化促進剤とジイモニウム塩化合物との副反応により、樹脂の硬化阻害が発生するという問題点があった。
【０００７】
また、特許文献４では会合体であるジイモニウム塩を活性エネルギー線硬化性樹脂中に分散させてなることを特徴とするハードコート用樹脂組成物及び近赤外線遮断フィルターが提案されているが、本近赤外線遮断フィルターでは樹脂とジイモニウム塩の屈折率の差異によりディスプレーや自動車用ガラス、建材用ガラス等の用途で要求される透明性、低い濁度（へイズ値）を満足させることは困難である欠点を有していた。
【０００８】
以上より、適切な屈折率をとり、ヘイズ値が低くい近赤外線吸収フィルムが求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−９６０４０号公報
【特許文献２】特開２００４−３０９６５５号公報
【特許文献３】特開平１０−１９３５２２号公報
【特許文献４】特開２０１０−２４９９６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、適切な屈折率を有し、ヘイズ値が低い近赤外線吸収フィルムを提供することのできる近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは鋭意検討した結果、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が、重合性バインダー中に分散されてなる近赤外線吸収樹脂組成物において、重合性バインダーの少なくとも１種がエチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物であることを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムが上記課題を解決できることを見出し本願の完成に至った。
【００１２】
すなわち、本発明は以下に示すものである。
【００１３】
第一の発明は、下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が、重合性バインダー中に分散されてなる近赤外線吸収樹脂組成物において、
重合性バインダーの少なくとも１種がエチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物であることを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００１４】
【化１】
2014025016.tif 000002
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ同一でも異なっていても良い有機基を表し、Ｘ−はアニオンを示す。）
【００１５】
第二の発明は、重合性バインダーにおけるエチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物の含有量が、５〜５０質量％であることを特徴とする第一の発明に記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００１６】
第三の発明は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＲ１〜Ｒ８が、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、３−フルオロプロピル基、下記一般式（２）で表されるシクロヘキシルアルキル基、下記一般式（３）で表されるフェニルアルキル基からなる群より選ばれる一種であることを特徴とする第一または第二の発明に記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００１７】
【化２】
2014025016.tif 000003
（式（２）中、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００１８】
【化３】
2014025016.tif 000004
（式（３）中、Ｂは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００１９】
第四の発明は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＸ−が、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンからなる群より選ばれる一種であることを特徴とする第一から第三の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００２０】
第五の発明は、透明基材上に、第一から第四のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物を塗布した後、光照射して硬化させて得られた近赤外線吸収層を積層してなることを特徴とする近赤外線吸収フィルムである。
【００２１】
第六の発明は、近赤外線吸収層の屈折率が、１．４３〜１．４８であることを特徴とする第五の発明に記載の近赤外線吸収フィルム。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、適切な屈折率を有し、ヘイズ値が小さい近赤外線吸収フィルムを提供することのできる近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が、重合性バインダー中に分散されてなる近赤外線吸収樹脂組成物において、重合性バインダーの少なくとも１種がエチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物であることを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムである。
【００２４】
まず、始めに近赤外線吸収樹脂組成物について説明する。
【００２５】
［ジイモニウム塩化合物］
本発明は、近赤外線吸収剤として、下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物を用いる。なお、近赤外線とは、波長７５０〜２０００ｎｍの範囲の光を意味する。
【００２６】
【化４】
2014025016.tif 000005
【００２７】
上記一般式（１）中の、Ｒ１〜Ｒ８の有機基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、好ましい有機基としては、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖又は分岐状のＣ１−１０アルキル基、下記一般式（２）で表されるシクロヘキシルアルキル基、下記一般式（３）で表されるフェニルアルキル基等が挙げられる。
【００２８】
【化５】
2014025016.tif 000006
（式（２）中、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００２９】
【化６】
2014025016.tif 000007
（式（３）中、Ｂは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００３０】
Ｃ１−１０のアルキル基として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉｓｏ−アミル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも特に、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉｓｏ−ブチル基が好ましく挙げられる。
【００３１】
また、ハロゲン原子で置換されたＣ１−１０アルキル基としては、２−ハロゲノエチル基、２，２−ジハロゲノエチル基、２，２，２−トリハロゲノエチル基、３−ハロゲノプロピル基、３，３−ジハロゲノプロピル基、３，３，３−トリハロゲノプロピル基、４−ハロゲノブチル基、４，４−ジハロゲノブチル基、４，４，４−トリハロゲノブチル基、５−ハロゲノペンチル基、５，５−ジハロゲノペンチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。具体的には、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基等のモノフルオロアルキル基が挙げられる。より好ましくは３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基であり、特に３−フルオロプロピル基が好ましい。
【００３２】
シクロヘキシルアルキル基は、下記一般式（２）で表すことができる。
【００３３】
【化７】
2014025016.tif 000008
【００３４】
一般式（２）中、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。Ａは炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく挙げられる。
シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロヘキシルブチル基、メチル２−エチルシクロヘキシルメチル基、３−メチルシクロヘキシルメチル基、４−メチルシクロヘキシルメチル基、４−メチルシクロヘキシルエチル基、４−メチルシクロヘキシルプロピル基、４−メチルシクロヘキシルブチル基、４−フルオロシクロヘキシルメチル基等が挙げられ、これらの中でもシクロヘキシルメチル基が好ましく挙げられる。
【００３５】
フェニルアルキル基は、下記一般式（３）で表すことができる。
【００３６】
【化８】
2014025016.tif 000009
【００３７】
一般式（３）中、Ｂは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。Ｂは炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく挙げられる。
具体的には、メチルベンジル基、エチルベンジル基、プロピルベンジル基、ブチルベンジル基等が挙げられる。これらの中でも、重合性バインダーにおける分散性に優れている点より、メチルベンジル基が好ましく挙げられる。
【００３８】
また、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＸ−は、ジイモニウム化合物カチオンの電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、無機アニオン、有機酸アニオン等が使用できる。アニオンとして具体的には、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオンビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオン等が挙げられる。
これらの中でも、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンがより好ましく挙げられ、ヘキサフルオロリン酸イオン又はビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンが特に好ましく挙げられる。
【００３９】
希釈剤に関しては詳細を後述するが、近赤外線吸収樹脂組成物については粘度を調整する目的で希釈剤を添加することができる。希釈剤は有機溶媒又は／且つ反応希釈剤等が使用可能であり、ジイモニウム塩化合物についてはこの希釈剤の一部もしくはそのもの全量に分散した後、重合性バインダーとして混合して分散することもできる。
【００４０】
ジイモニウム塩化合物の平均粒径は、より優れた透明性を得るため小さい方が好ましく、２μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましく挙げられる。
【００４１】
ジイモニウム塩化合物を、重合バインダー中に分散する装置としては、一般的に用いられる装置でよく、例えば、マグネチックスターラー、羽根つき攪拌機、ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、ビーズミル等が挙げられ、好適であるが、超音波ホモジナイザー、ビーズミルが高透明性を得るための攪拌機器として更に好適である。
【００４２】
一方、重合性バインダーに対するジイモニウム塩化合物の含有量についても特に制限されず、所望の性質、特に効率のよい近赤外線吸収能、可視光領域における優れた透明性が達成できるように調整されればよい。
例えば樹脂の乾燥膜厚が１〜２０μｍに設定される場合、好ましいジイモニウム塩化合物の配合割合は、重合性バインダー１００質量部に対して、０．１〜１００質量部、より好ましくは０．５〜５０質量部、最も好ましくは１〜３０質量部である。この配合割合が０．１質量部未満であると近赤外線吸収能が若干劣り、逆に配合割合が１００質量部を超えた場合、含有量に見合う上記性能の向上が認められず経済的でない欠点がある。
なお、ジイモニウム塩化合物の配合割合は、可視及び近赤外域の透過率の設定や近赤外線吸収組成物の積層体の厚みによって変えることができる。
【００４３】
近赤外線吸収樹脂組成物には、本発明に用いるジイモニウム塩化合物以外にも、別の近赤外線吸収剤を含有させてもよい。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系色素、シアニン系色素、アントラキノン系色素、ジチオール系色素等が挙げられる。
【００４４】
近赤外線吸収樹脂組成物には、ネオンカット色素を含有させてもよい。ネオンカット色素とは、５８０〜６００ｎｍの波長を有するオレンジ色のネオン光を吸収する色素である。具体的には、シアニン系化合物、ポリメチン系化合物、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、キノン系化合物、アザポルフィリン系化合物、アゾ系化合物、アゾキレート系化合物、インドナフトールキレート系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、アゾメチン系化合物、キサンテン系化合物等が挙げられる。
【００４５】
また、色を調整する目的で、３８０〜７８０ｎｍ域に極大吸収波長を有する色補正色素を近赤外線吸収樹脂組成物に含有させてもよい。
色補正色素として、例えば、フタロシアニン系化合物、アザポルフィリン系化合物、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、アゾメチン系化合物、ポリメチン系化合物、キサンテン系化合物、ピロメテン系化合物、イソインドリノン系化合物、キナクリドン系化合物、ジケトピロロピロール系化合物、アントラキノン系化合物、ジオキサジン系化合物等挙げられる。
【００４６】
その他、色や透過率を調整する目的で、透明性を損なわない粒子径２００ｎｍ以下のカーボンブラックを近赤外線吸収樹脂組成物に含有させてもよい。
【００４７】
［重合性バインダー］
本発明に用いる重合性バインダーは、エチレン（ＣＨ２＝ＣＨ２）の水素が置換された不飽和基であるエチレン性不飽基を有する活性エネルギー線により重合可能な重合性バインダーであり、含フッ素有機化合物が含有しているものが好ましく挙げられる。重合性バインダーとしてはこれを単独あるいは他の樹脂と混合し使用することができ、混合する樹脂に関してはフッ素を含有していても含有していなくてもよく、それらの混合物であってもよい。重合性バインダーは、透明基材上に積層可能であれば特に制限されるものではなく、含フッ素有機化合物としては含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素ポリマー等が挙げられる。
【００４８】
含フッ素モノマーとしてはフルオロオレフィンモノマー、アクリレートモノマー、（メタ）アクリレートモノマー等が挙げられる。
【００４９】
上記フルオロオレフィンモノマーの具体例としては、ヘキサフルオロプロペン、（パーフルオロブチル）エチレン、（パーフルオロヘキシル）エチレン、１−メトキシ−（パーフルオロ−２−メトキシ−１−プロペン）、１，４−ジビニルオクタフルオロブタン、１，６−ジビニルドデカフルオロヘキサン等が挙げられる。
【００５０】
上記アクリレートモノマーの具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート、３−（パーフルオロブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロへキシル）アクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプチルアクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルアクリレート、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルアクリレート等が挙げられる。
【００５１】
上記（メタ）アクリレートモノマーの具体例としては、２，２，２トリフルオロエチルメタアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタアクリレート、３−（パーフルオロブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチルメタアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロペンチルメタクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルメタアクリレート等が挙げられる。
【００５２】
また、含フッ素オリゴマー、ポリマーとしては上記含フッ素モノマーを重合したホモポリマーも例として挙げられる。
【００５３】
詳細は後述するが他のエチレン性不飽和基を有するモノマー且つ／又はポリマーと上記含フッ素モノマー、ポリマーとを重合した共重合体もエチレン不飽和基を含有する含フッ素有機化合物の例として挙げられるが、これらエチレン性不飽和基を有する含フッ素モノマー且つ／又はポリマーは併用することもでき、塗膜形成時の光照射により共重合体を形成させることもできる。
【００５４】
その他、含フッ素モノマー、オリゴマー、ポリマーとしては含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーとの含フッ素共重合体が挙げられる。
【００５５】
含フッ素モノマーとしては上記した通りであり、架橋性基付与のためのモノマーとしてはアクリレートモノマー又は（メタ）アクリレートモノマーの分子内に架橋性官能基であるエポキシ基、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するモノマーが挙げられ、例えば、グリシジルメタリレート、グリシジルアリレート、メタクリル酸、アクリル酸、メチロールメタクリレート、メチロールアクリレート、ヒドロキシアルキルメタクリレート、ヒドロキシアルキルアクリレート、アリルアクリレート等が挙げられる。
【００５６】
エチレン不飽和基を有する含フッ素有機化合物は、上記含フッ素共重合体の架橋性官能基と反応可能な官能基を有する化合物とを重合させ作製することもでき、架橋性官能基と反応可能な官能基を有する化合物はフッ素を有していても、有していなくてもよく、またエチレン不飽和基を有していても、有していなくてもよい。また、架橋性官能基と反応可能な官能基を有する化合物については、その官能基量を変化させることで導入する含フッ素共重合体を任意に調整することができ、架橋性官能基又は反応可能な官能基等を残存させても良く、残存した官能基は添加する無機微粒子の分散安定性や成膜性の向上等に寄与することもある。
【００５７】
パーフルオロアルキル基を有するシラン化合物もエチレン不飽和基を有する含フッ素有機化合物として例示することができ、重合性バインダーについては上記したエチレン不飽和基を有する含フッ素モノマーや共重合体を単独しても良く、また混合して使用してもよい。また、その他の樹脂を混合して併用してもよく、好ましくは耐擦傷性を向上させるためエチレン不飽和基を有する活性エネルギー線で硬化可能なモノマー及び／又はポリマーが挙げられる。
【００５８】
活性エネルギー線硬化樹脂であるエチレン不飽和基を含有するモノマーとしては、アクリロイル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和基を有した重合性バインダーが、紫外線で硬化可能であるので好ましく挙げられる。
例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジア１クリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、トリメチルロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチルロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のアクリル系モノマーが挙げられる。
また、ポリマーとしてはヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のアクリル系モノマーとポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアクリル系、ポリカーボネート系等のポリオールをヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチレン（ビスシクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート等の脂環式イソシアネート、トリレンジジイソシアネート等の芳香族イソシアネート等のイソシアネート系硬化剤で重合し作製したウレタンアクリレート樹脂等が挙げられる。
【００５９】
重合性バインダーにおけるエチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物の含有量は、１〜１００質量％が好ましく、５〜１００質量％がより好ましく、５〜５０質量％が特に好ましく挙げられる。該含有量にすることで、特にヘイズ値が低い近赤外線吸収フィルムを作製することができる。
【００６０】
［無機微粒子］
本発明においては無機微粒子を近赤外線吸収樹脂組成物に含有させて用いてもよい。無機微粒子としてはジイモニウム塩化合物では吸収できない長波長の近赤外線、波長１３００ｎｍから２０００ｎｍの光を吸収する無機微粒子が好適であり、具体的にはスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）微粒子やアンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）微粒子が好ましく挙げられる。
【００６１】
粒子径としては一次平均粒子径が２００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、８０ｎｍ以下が更に好ましい。一次平均粒子系が２００ｎｍを上回ると可視光線の散乱が生じ易くなり、近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを透明基材上に積層した近赤外線吸収フィルムのヘイズが上昇し、透明性が損なわれるおそれがある。
【００６２】
無機微粒子については近赤外線吸収樹脂組成物の粘度を調整する目的で使用される希釈剤の有機溶媒又は／且つ反応希釈剤の一部もしくはそのもの全量に分散した後、重合性バインダーと混合して重合性バインダー中に分散することもでき、必要に応じて分散剤、分散安定剤等の添加剤を使用することもできる。
【００６３】
また、無機微粒子に関しては分散安定性や近赤外線吸収効率の向上、ヘイズ低減のため前処理を実施することもできる。例えば、ＩＴＯ微粒子は塩化インジウム水溶液（ＩｎＣｌ３水溶液）と塩化スズ水溶液（ＳｎＣｌ４水溶液）の混合水溶液をアルカリと反応させ、生成した沈殿物を焼成して製造することができる。このようにして製造したＩＴＯ微粒子をアルコール存在下の不活性雰囲気で加熱して粉末表面を還元処理するとＩＴＯ微粒子はやや黄色の色調がやや青色を帯びた色調に変わり、アルコール溶媒との馴染みが良くなり、近赤外線吸収効率を向上させ、ヘイズを低減させることができる。
【００６４】
一方、重合性バインダーに対するＩＴＯやＡＴＯの含有量については特に制限されず、所望の性質、特に効率のよい近赤外線吸収能、可視光領域における優れた透明性が達成できるように調整されればよい。
例えば樹脂の乾燥膜厚が１〜２０μｍに設定される場合、好ましいＩＴＯの配合割合は、重合性バインダー１００質量部に対して、１〜１００質量部、より好ましくは５〜５０質量部である。この配合割合が１質量部未満であると優れた近赤外線吸収能が得られにくく、逆に、配合割合が１００質量部を超えた場合、含有量に見合う上記性能の向上が認められず経済的でなく、更に可視領域の透明性が失われる可能性がある。
なお、ＩＴＯやＡＴＯの配合割合は、可視及び近赤外域の透過率の設定や近赤外線吸収組成物の積層体の厚みによって変えることができる。
【００６５】
［重合開始剤］
本発明における重合性バインダーに関してはエネルギー線感受性ラジカル重合開始剤を添加し、ラジカル重合することが好ましく、重合開始剤としては例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ベンゾフェノン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート等を用いることができるがこれに限定されるものではない。
【００６６】
これらの重合開始剤は、１種あるいは２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、重合開始剤の配合量としては、重合性バインダー成分全量に対して、０．０５〜２０質量％、好ましくは０．１〜２０質量％とするのがよい。重合開始剤の配合量が０．０５質量％未満の場合、組成物が十分に硬化しないことがある。逆に、重合開始剤の配合量が２０質量％を越えると、硬化物の物性がさらに向上することはなく、経済性に劣る欠点がある。
【００６７】
［希釈剤］
本発明の近赤外線吸収樹脂組成物には、希釈剤を添加してもよいし、添加しなくてもよい。希釈剤は重合性バインダーを溶解し、ジイモニウム塩化合物を分散できれば希釈剤は特に限定されず、各種有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤；エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体等のグリコール系溶剤；モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノイソプロピルエーテル、モノブチルエーテル、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシプロパノール、２−エトキシプロパノール、３−メトキシブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール等のエーテルアルコール系溶剤；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル等のポリエーテル系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤等；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤等が例示される。これらの溶媒は１種で使用されてもよく、２種以上の混合溶媒として使用されてもよい。好ましくは沸点２００℃以下の有機溶媒がよい。溶媒の水分含有量は５質量％以下であることが望ましい。
【００６８】
また、希釈剤として反応性希釈剤を用いてもよい。反応性希釈剤としては、単官能重合性化合物も使用可能であり、単官能重合性化合物の具体例としては、アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、イソブトキシメチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエン（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、テトラクロロフェニル（メタ）アクリレート、２−テトラクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、テトラブロモフェニル（メタ）アクリレート、２−テトラブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−トリクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドンフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ブロキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタクロロフェニル（メタ）アクリレート、ペンタブロモフェニル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、メチルトリエチレンジグリコール（メタ）アクリレート等が挙げられ、１種又は２種以上、更には上記溶媒と混合し使用されてもよい。
【００６９】
希釈剤に関しては、重合性バインダー中にジイモニウム塩化合物や無機微粒子を分散させる分散媒として使用可能であり、希釈剤は分散媒のみでもかまわず、分散媒の他、近赤外線吸収樹脂組成物の粘度を調整するため更に希釈剤を混合してもかまわない。また、希釈剤を用いなくても、ジイモニウム塩化合物を重合性バインダー中に分散させることは可能である。
【００７０】
［添加剤］
本発明の近赤外線吸収樹脂組成物は、目的に応じて、適切な添加剤を含有してもよい。添加剤の具体例としては、レベリング剤、顔料分散剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、充填剤、補強材、可塑剤、潤滑剤、防食剤、防錆剤、乳化剤、鋳型脱型剤、蛍光性増白剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、溶融流改質剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、光増感剤、表面改良剤、シランカップリング剤、重合触媒等が挙げられる。
【００７１】
［近赤外線吸収フィルム］
本発明の近赤外線吸収フィルムの構成は、透明基材上に近赤外線吸収層を積層させた構成である。該近赤外線吸収フィルムの製造方法は、上記近赤外線吸収組成物を透明基材上に塗布した後、光照射させて近赤外線吸収樹脂組成物を硬化させることで、透明基材上に近赤外線吸収層を積層させた近赤外線吸収フィルムを作製することができる。
【００７２】
所望の近赤外線吸収性能、公知の方法により近赤外線吸収組成物の積層体を形成するためには積層体の厚みが１〜４０μｍ程度であることが好ましく、樹脂の硬化収縮を考慮し１〜２０μｍであることがより望ましい。
光照射は、紫外線等により５０〜１，５００ｍＪ／ｃｍ２程度が挙げられる。
【００７３】
近赤外線吸収組成物の塗布方法としては、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット等の各種コーティング方法を用いることができる。
【００７４】
透明基材としては、特に限定されるのではないが、形状として、シート状、フィルム状又は板状の透明基材を用いることができる。色彩も無色、有色、特に限定されるものではない。透明基材の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）；メチルメタクリレート系共重合物等のアクリル樹脂；スチレン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；塩化ビニル樹脂；ポリメタクリルイミド樹脂、ガラス板等が挙げられる。
【００７５】
透明基材には易接着処理がされていてもよい。例えばＰＥＴフィルムは、易接着処理が施されたフィルム（易接着ＰＥＴフィルム）であってもよい。易接着処理は、少なくともハードコート層が設けられる側の表面に施されるのが好ましい。易接着処理としては、易接着層を設ける処理、基材表面にコロナ処理を施す処理等が挙げられる。易接着層としては、易接着用樹脂層等が挙げられる。
特に好ましい透明基材は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムである。
【００７６】
近赤外線吸収フィルムにおける近赤外線吸収樹脂層の屈折率は、１．４３〜１．４８が好ましく挙げられ、近赤外線吸収剤との屈折率差が小さくなりヘイズ値を低下させることができる１．４４〜１．４７がより好ましく挙げられる。
【００７７】
上記近赤外線吸収フィルムには必要に応じて被着体に接着するためゴム系、アクリル系、シリコン系等の粘着剤を使用した粘着剤層を形成することができ、粘着剤層には目的に応じて、適切な添加剤を含有してもよい。添加剤の具体例としては、重合触媒、レベリング剤、染料、顔料、顔料分散剤、無機微粒子、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、防食剤、防錆剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、表面改良剤、シランカップリング剤、カーボンブラック等が挙げられる。
【００７８】
その他、必要に応じて電磁波遮断機能、反射防止機能、防眩機能を付与することも可能であり、該機能は近赤外線吸収フィルムの透明基材上に新たな電磁波カット層、反射防止層、アンチグレア層等の積層体を形成すること及び／又は本機能を有するフィルムを別途用意し、近赤外線吸収フィルムに貼り合わせることで付与することが可能である。
【００７９】
＜電磁波カット層＞
電磁波カット層の作製は、金属酸化物等の蒸着又はスパッタリング方法等が利用できる。誘電体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛等の透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀又は銀−パラジウム合金が一般的である。通常、誘電体層から順次３層、５層、７層又は１１層程度積層する。基材としては、本発明の近赤外線吸収フィルムをそのまま利用してもよいし、樹脂フィルム又はガラス上に蒸着又はスパッタリングによって電磁波カット層を設けた後に、本発明の近赤外線吸収フィルムと貼り合わせてもよい。
【００８０】
＜反射防止層＞
反射防止層は、表面の反射を抑えて蛍光灯等の映りこみやフィルターの透過率を向上させるための層であり、作製方法としては金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層又は多層に積層させる方法や、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層又は多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【００８１】
＜アンチグレア層＞
上述の各層の他にぎらつき防止層（アンチグレア層）を設けてもよい。アンチグレア層は、反射防止層と同様に蛍光灯等の映りこみなどを低減するための層であり、反射光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体を樹脂に分散してインキ化し、表面にコーティングする方法等を用いることができる。インキの硬化は、熱硬化又は光硬化を用いることができる。また、アンチグレア処理したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【実施例】
【００８２】
以下、本発明について実施例を挙げ、より詳細に説明する。なお、本発明は実施例により何ら限定されるものでない。
【００８３】
（化合物塩１の製造）
ＤＭＦ１００部にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン１０部、シクロヘキシルメチルヨーダイド６３部及び炭酸カリウム３０部を加え、１２０℃で１０時間反応させた。次いで、上記反応液を水５００部中に加え、生じた沈殿を濾過し、メチルアルコール５００部で洗浄後、１００℃で乾燥し、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部を得た。
【００８４】
得られたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部に、アセトニトリル２００部とヘキサフルオロリン酸銀７．９部を加えて、６０℃で３時間反応させ、生成した銀を濾別した。次いで、該濾液に水２００部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩１」と略記する。）２７．０部を得た。
【００８５】
（化合物塩２の製造）
シクロヘキシルメチルヨーダイドを、１−ヨード−メチルベンジルに代えた以外は、化合物塩１の製造と同様にして、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（メチルベンジル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩２」と略記する。）を得た。
【００８６】
（化合物塩３の製造）
シクロヘキシルメチルヨーダイドを、１−ヨード−３−フルオロプロピルに代えた以外は、化合物塩１の製造と同様にして、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（３−フルオロプロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩３」と略記する。）を得た。
【００８７】
（化合物塩４の製造）
シクロヘキシルメチルヨーダイドを、ヨードイソブチルに代えた以外は、化合物塩１の製造と同様にしてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（イソブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩４」と略記する。）２３部を得た。
【００８８】
（化合物塩５の製造）
トルエン１００部にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン１０部、シクロヘキサンカルボキシアルデヒド１２部を加え、８０℃で５時間反応させた。次いで、室温まで冷却した後、パラジウム炭素触媒３部を加え、水素ガスを２時間吹き込み水素化反応させた後、１−ヨードプロパン１８部及び炭酸カリウム１５部を加え、１２０℃で６時間反応させた。上記反応液を濾過後、濾液にメチルアルコール５００部中に加え、生じた沈殿を濾過し、メチルアルコール５００部で洗浄後、１００℃で乾燥し、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部を得た。
【００８９】
得られたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部に、アセトニトリル２００部とヘキサフルオロリン酸銀７．９部を加えて、６０℃で３時間反応させ、生成した銀を濾別した。次いで、該濾液に水２００部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩５」と略記する。）２７．０部を得た。
【００９０】
（化合物塩６の製造）
化合物塩１の製造においてヘキサフルオロリン酸銀の代わりに、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸リチウムを用いた以外は、化合物塩１の製造と同様にして、化合物塩６を作製した。
【００９１】
化合物塩１〜６を表１に示す。
【００９２】
【表１】
2014025016.tif 000010
【００９３】
表中の略語は以下の通りである。
ＰＦ６：ヘキサフルオロリン酸イオン
ＴＦＳＩ：ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン
【００９４】
（近赤外線吸収樹脂組成物１の製造）
得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（化合物塩１）を自動乳鉢ＡＭＮ−２００（日陶科学社製）にて、乳棒１００ｒｐｍ、乳鉢６ｒｐｍにて３０分間乾式粉砕して粉砕物を得た。得られた粉砕物はＣｕＫα線をＸ線源とした粉末Ｘ線回折装置（理学電気社製、ＲＩＮＴ２２００）を使用し、管電圧を４０ｋＶ、管電流を２０ｍＡ、走査範囲（２θ）を３°〜６０°、発散スリットを１／２°、散乱スリットを１／２°、受光スリットを０．１５ｍｍ、サンプリング幅を０．０２°、スキャンスピードを４°／ｍｉｎとした条件で測定し、非結晶化したことを確認した。
【００９５】
次に、得られた粉砕物を０.５部、及びメチルイソブチルケトン９．５部を５０ｍｌのガラス容器に添加し、マグネチックスターラーにて３０分間攪拌して、ジイモニウム塩化合物と希釈剤の混和物を得た。
該粒子径測定は該混和物０．８部を酢酸エチル１００部に添加し、これをＳＨＩＭＡＺＵ製レーザー粒度径ＳＡＬＤ−２０００Ｊにより測定した。
【００９６】
エチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物として、トリアクリロイルヘプタデカンフルオロノネニルペンタエリスリトール（共栄社化学社製、ＬＩＮＣ−３Ａ）５０部、作製した混和物を４５部、光重合開始剤であるイルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）５部、を混合し近赤外線吸収樹脂組成物１を得た。
【００９７】
（近赤外線吸収樹脂組成物２の製造）
【００９８】
エチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物として、トリアクリロイルヘプタデカンフルオロノネニルペンタエリスリトール（共栄社化学社製、ＬＩＮＣ−３Ａ）２５部、アクリレートモノマーとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２５部、近赤外線吸収樹脂組成物１の製造で得られた混和物を４５部、光重合開始剤であるイルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）５部、を混合し近赤外線吸収樹脂組成物２を得た。
【００９９】
（近赤外線吸収樹脂組成物３〜６の製造）
近赤外線吸収樹脂組成物２の製造において、表２に対応するように、エチレン性不飽和基を有する含フッ素有機化合物と、アクリレートモノマーと、の含有割合を変えた以外は、近赤外線吸収樹脂組成物２の製造と同様の方法で、近赤外線吸収樹脂組成物３〜６を得た。
【０１００】
（近赤外線吸収樹脂組成物７〜１１の製造）
近赤外線吸収樹脂組成物３の製造において、化合物塩１の代わりに、表２に対応するように化合物塩２〜６をそれぞれ用いた以外は、近赤外線吸収樹脂組成物３の製造と同様の方法で、近赤外線吸収樹脂組成物７〜１１を得た。
【０１０１】
（近赤外線吸収樹脂組成物１２の製造）
【０１０２】
アクリレートモノマーとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０部、近赤外線吸収樹脂組成物１の製造で得られた混和物を４５部、光重合開始剤であるイルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）５部、を混合し近赤外線吸収樹脂組成物１２を得た。
【０１０３】
（近赤外線吸収樹脂組成物１３〜１７の製造）
近赤外線吸収樹脂組成物１２の製造において、化合物塩１の代わりに、表２に対応するようにそれぞれ化合物塩２〜６を用いた以外は、近赤外線吸収樹脂組成物１２の製造と同様の方法で、近赤外線吸収樹脂組成物１３〜１７を得た。
【０１０４】
上記より得られた近赤外線吸収樹脂組成物１〜１７の組成を表２に示す。
【０１０５】
（実施例１）
（近赤外線吸収フィルム）
次に作製した近赤外線吸収樹脂組成物１をＰＥＴフィルムＡ−４３００（東洋紡績社製１００μｍ厚）上にコーティングロッド＃２４を用いバーコートし、１００℃で１分間乾燥後、高圧水銀灯で紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ２照射し、近赤外線吸収フィルムを得た。
【０１０６】
（実施例２〜１１、比較例１〜６）
実施例１に記載の組成物１を組成物２〜１７に代えた以外は、実施例１と同様にして、近赤外線吸収フィルムを得た。
【０１０７】
（近赤外線吸収フィルムにおける近赤外線吸収層の屈折率とヘイズ値の方法）
近赤外線吸収フィルムにおける近赤外線吸収層の屈折率を、アッベ屈折計  ＮＡＲ−１Ｔ  ＳＯＬＩＤ（アタゴ社製）を用いて測定した。
実施例１〜１１及び比較例１〜６で得た近赤外線吸収フィルムの透明性を示す尺度としてヘイズ測定を実施した。ヘイズ測定に関してはヘイズメーターＮＤＨ５０００（日本電色工業社製）を使用した。ヘイズ値は１．８５％以下が好ましく挙げられ、特に１．５０％以下が好ましく挙げられる。
表３に実施例１〜１１及び比較例１〜６で得られた近赤外線吸収フィルムの屈折率とヘイズ値を示す。
【０１０８】
【表２】
2014025016.tif 000011
【０１０９】
【表３】
2014025016.tif 000012
【０１１０】
表３より、実施例１〜１１と比較例１〜６を比較し、実施例１〜１１は、適切な屈折率を有し、ヘイズ値の低減（透明性の向上）が確認できる。
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
本発明の近赤外線吸収樹脂組成物及びこれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムは、透明性に優れるものである。そのため、ＰＤＰ用、自動車ガラス用、建材ガラス用等種々の用途に用いることが可能である。