(57)【要約】【課題】被めっき物のめっき偏差の様々な様相に流動的に対応可能な遮蔽部材を有するとともに、工程時間の短縮及び工程コストの低減に効果的なめっき装置を提供する。【解決手段】本発明のめっき装置１００は、めっき液を収容し、被めっき物２００が投入されるめっき槽１１０と、被めっき物２００の一面または両面に対向配置されるアノード（ａｎｏｄｅ）１２０と、被めっき物２００とアノード（ａｎｏｄｅ）１２０との間に配置され、第１プレート１３１及び第１プレート１３１に隣接して配置された第２プレート１３３からなり、第１プレート１３１、第２プレート１３３、または第１プレート１３１及び第２プレート１３３が互いに平行に移動する遮蔽部材１３０と、を含むものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき液を収容し、被めっき物が投入されるめっき槽と、
前記被めっき物の一面または両面に対向配置されるアノード（ａｎｏｄｅ）と、
前記被めっき物と前記アノード（ａｎｏｄｅ）との間に配置され、第１プレート及び前記第１プレートに隣接して配置された第２プレートからなり、前記第１プレート、第２プレート、または第１プレート及び第２プレートが互いに平行に移動する遮蔽部材と、
を含むことを特徴とするめっき装置。
【請求項２】
前記遮蔽部材の第１プレート及び第２プレートには、それぞれ複数の貫通部と、複数の遮断部と、を含む遮蔽パターンが形成されることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
【請求項３】
前記第１プレートに形成された遮蔽パターン及び前記第２プレートに形成された遮蔽パターンは、互いに同一であることを特徴とする請求項２に記載のめっき装置。
【請求項４】
前記第１プレートに形成された遮蔽パターン及び前記第２プレートに形成された遮蔽パターンは、互いに相違することを特徴とする請求項２に記載のめっき装置。
【請求項５】
前記遮蔽部材の第１プレート及び第２プレートはそれぞれ互いに対応する複数の領域からなり、
前記第１プレートを構成する各領域及び前記第２プレートを構成する各領域には、それぞれ複数の貫通部と、複数の遮断部と、を含む遮蔽パターンが形成されることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
【請求項６】
前記第１プレートの各領域に形成されたそれぞれの遮蔽パターンは、前記第２プレートに対応する領域に形成されたそれぞれの遮蔽パターンと互いに同一または相違することを特徴とする請求項５に記載のめっき装置。
【請求項７】
前記遮蔽部材の前記第１プレート及び第２プレートは、前記めっき槽の底面に対して垂直方向に移動することを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
【請求項８】
前記遮蔽部材の前記第１プレート及び第２プレートは、摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動することを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
【請求項９】
めっき液を収容し、被めっき物が投入されるめっき槽と、
前記被めっき物の一面または両面に対向配置されるアノード（ａｎｏｄｅ）と、
前記被めっき物と前記アノードとの間に配置され、隣接して配置された複数のプレートからなり、前記複数のプレートはそれぞれ隣接したプレートに対して平行に移動する遮蔽部材と、
を含むことを特徴とするめっき装置。
【請求項１０】
前記遮蔽部材の複数のプレートには、それぞれ複数の貫通部と、複数の遮断部と、を含む遮蔽パターンが形成されることを特徴とする請求項９に記載のめっき装置。
【請求項１１】
前記複数のプレートに形成されたそれぞれの遮蔽パターンは、互いに同一であることを特徴とする請求項１０に記載のめっき装置。
【請求項１２】
前記複数のプレートに形成されたそれぞれの遮蔽パターンは、互いに相違することを特徴とする請求項１０に記載のめっき装置。
【請求項１３】
前記遮蔽部材の複数のプレートそれぞれは、互いに対応する複数の領域からなり、各プレートの各領域には複数の貫通部と、複数の遮断部と、を含む遮蔽パターンが形成されることを特徴とする請求項９に記載のめっき装置。
【請求項１４】
前記複数のプレートそれぞれに対応する領域ごとに形成された各遮蔽パターンは、互いに同一または相違することを特徴とする請求項１３に記載のめっき装置。
【請求項１５】
前記遮蔽部材の前記複数のプレートは、それぞれ前記めっき槽の底面に対して垂直方向に移動することを特徴とする請求項９に記載のめっき装置。
【請求項１６】
前記遮蔽部材の前記複数のプレートは、それぞれ摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動することを特徴とする請求項９に記載のめっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電解めっきは、金属の飾りや表面の保護に用いられることができるだけでなく、電子部品、プリント回路基板、半導体素子の回路形成など様々な分野において用いられている。
【０００３】
電解めっきは、めっきしようとする被めっき物をめっき液内に浸漬させ、被めっき物はカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）とし、電着（ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）しようとする金属をアノード（ａｎｏｄｅ）として電流を印加することで所望の金属イオンが被めっき物の表面に電着されるようにして、めっき膜を形成することができる。
【０００４】
この際、被めっき物の端部に電流が集中し、前記金属イオンが前記被めっき物の端部に集中的に電着（ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）されることで、めっき偏差が生じ、均一なめっき厚を得ることができないという問題が発生し得る。
【０００５】
一方、従来技術によるめっき装置が、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第５２１７５９８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、被めっき物のめっき偏差の様々な様相に流動的に対応可能な遮蔽部材を有するめっき装置を提供することにある。
【０００８】
また、本発明の他の目的は、工程時間の短縮及び工程コストの低減に効果的なめっき装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本実施例によるめっき装置は、めっき液を収容し、被めっき物が投入されるめっき槽と、前記被めっき物の一面または両面に対向配置されるアノード（ａｎｏｄｅ）と、前記被めっき物と前記アノード（ａｎｏｄｅ）との間に配置され、第１プレート及び前記第１プレートに隣接して配置された第２プレートからなり、前記第１プレート、第２プレート、または第１プレート及び第２プレートが互いに平行に移動する遮蔽部材と、を含む。
【００１０】
ここで、前記遮蔽部材の第１プレート及び第２プレートには、それぞれ複数の貫通部と、複数の遮断部と、を含む遮蔽パターンが形成されることが好ましい。
【００１１】
この際、前記第１プレートに形成された遮蔽パターン及び前記第２プレートに形成された遮蔽パターンは、互いに同一であることが好ましい。
【００１２】
また、前記第１プレートに形成された遮蔽パターン及び前記第２プレートに形成された遮蔽パターンは、互いに相違することが好ましい。
【００１３】
また、前記遮蔽部材の第１プレート及び第２プレートは、それぞれ互いに対応する複数の領域からなり、前記第１プレートを構成する各領域及び前記第２プレートを構成する各領域には、それぞれ複数の貫通部と、複数の遮断部と、を含む遮蔽パターンが形成されることが好ましい。
【００１４】
この際、前記第１プレートの各領域に形成されたそれぞれの遮蔽パターンは、前記第２プレートに対応する領域に形成されたそれぞれの遮蔽パターンと互いに同一または相違することが好ましい。
【００１５】
また、前記遮蔽部材の前記第１プレート及び第２プレートは、前記めっき槽の底面に対して垂直方向に移動することが好ましい。
【００１６】
この際、前記遮蔽部材の前記第１プレート及び第２プレートは、摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動することが好ましい。
【００１７】
また、本実施例によるめっき装置は、めっき液を収容し、被めっき物が投入されるめっき槽と、前記被めっき物の一面または両面に対向配置されるアノード（ａｎｏｄｅ）と、前記被めっき物と前記アノードとの間に配置され、隣接して配置された複数のプレートからなり、前記複数のプレートはそれぞれ隣接したプレートに対して平行に移動する遮蔽部材と、を含む。
【００１８】
ここで、前記遮蔽部材の複数のプレートには、それぞれ複数の貫通部と、複数の遮断部と、を含む遮蔽パターンが形成されることが好ましい。
【００１９】
この際、前記複数のプレートに形成されたそれぞれの遮蔽パターンは、互いに同一であることが好ましい。
【００２０】
また、前記複数のプレートに形成されたそれぞれの遮蔽パターンは、互いに相違することが好ましい。
【００２１】
また、前記遮蔽部材の複数のプレートそれぞれは、互いに対応する複数の領域からなり、各プレートの各領域には、複数の貫通部と、複数の遮断部と、を含む遮蔽パターンが形成されることが好ましい。
【００２２】
また、前記複数のプレートそれぞれに対応する領域ごとに形成された各遮蔽パターンは、互いに同一または相違することが好ましい。
【００２３】
また、前記遮蔽部材の前記複数のプレートは、それぞれ前記めっき槽の底面に対して垂直方向に移動することが好ましい。
【００２４】
また、前記遮蔽部材の前記複数のプレートは、それぞれ摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動することが好ましい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明による遮蔽部材は、貫通部及び遮断部を含む遮蔽パターンがそれぞれ形成され、摺動移動可能な二つのプレートからなることにより、遮蔽部材の位置別の開口率を調節することができ、これによって位置別の電流の流れまたは遮断を容易に調節することができる効果を有する。
【００２６】
また、本発明による遮蔽部材は、前記のように二つのプレートを摺動移動させることで位置別の開口率を調節することができるため、一つの遮蔽部材でめっき偏差の様々な様相に対応することができる効果を有する。
【００２７】
また、本発明は、前記のように、一つの遮蔽部材でめっき偏差の様々な様相に対応することができ、めっき偏差に応じて毎回異なるパターンを有する遮蔽部材を設計及び製作した従来に比べて、工程時間が短縮され、工程コストが低減される効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の一実施例によるめっき装置の構造を示す断面図である。
【図２】本発明の一実施例によるめっき装置の遮蔽部材の構造を示す断面図である。
【図３】本発明の一実施例による遮蔽部材のプレート移動による領域別の開口率の変化を示す断面図である。
【図４】本発明の一実施例による遮蔽部材のプレート移動による領域別の開口率の変化を示す断面図である。
【図５】本発明の一実施例による遮蔽部材のプレート移動による領域別の開口率の変化を示す断面図である。
【図６】従来の遮蔽部材を適用しためっき装置及び本発明による遮蔽部材を適用しためっき装置を用いためっき工程によるめっき厚の分布を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の目的、特定の利点及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ相違する図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００３０】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００３１】
図１は、本発明の一実施例によるめっき装置の構造を示す断面図であり、図２は、本発明の一実施例によるめっき装置の遮蔽部材の構造を示す断面図であり、図３〜図５は、本発明の一実施例による遮蔽部材のプレート移動による領域別の開口率の変化を示す断面図である。
【００３２】
図１を参照すると、本実施例によるめっき装置１００は、めっき槽１１０、アノード（ａｎｏｄｅ）１２０及び遮蔽部材１３０を含む。
【００３３】
めっき槽１１０は、めっきに必要なめっき液が収容され、被めっき物２００を投入できる大きさを有することができる。
【００３４】
本実施例における被めっき物２００は、プリント回路基板（Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ  Ｂｏａｒｄ；ＰＣＢ）であることが好ましいが、特にこれに限定されず、その他の亜鉛めっきが行われる鋼板、シリコーンウェハなどであることが好ましい。
【００３５】
めっき槽１１０には、めっき液を供給するめっき液供給部（不図示）を備えることができ、前記めっき液供給部（不図示）は前記めっき液が排出される複数のホールを有する排出パイプ（不図示）及び前記排出パイプ（不図示）の両端部に連結されてめっき液を供給する供給管（不図示）を含むことができる。
【００３６】
ここで、前記排出パイプ（不図示）は、めっき液が攪拌されて停滞しないようにすることができる。
【００３７】
また、めっき液が、めっき槽１１０をオーバーフロー（ｏｖｅｒｆｌｏｗ）するようにしたり、サクション（ｓｕｃｔｉｏｎ）により流出して再循環されるようにすることができる。
【００３８】
また、めっき槽１１０には、めっき液に空気を噴射して、めっき液を循環させる攪拌機（不図示）をさらに含むことができる。
【００３９】
アノード（ａｎｏｄｅ）１２０は、被めっき物２００に対向配置されてアノード（ａｎｏｄｅ）１２０から遊離した金属イオンが容易に被めっき物２００に電着されるようにする。
【００４０】
本実施例において、アノード（ａｎｏｄｅ）１２０は、四角柱型、円柱型であることが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。
【００４１】
また、図１では、アノード（ａｎｏｄｅ）１２０は、被めっき物２００の両面に対向配置すると図示しているが、特にこれに限定されず、被めっき物２００の一面にのみめっきしようとする場合には、該面にのみ対向配置することもまた可能である。
【００４２】
本実施例において、アノード（ａｎｏｄｅ）１２０は、アノードバスケット（ａｎｏｄｅ  ｂａｓｋｅｔ）（不図示）とアノードバスケット（ａｎｏｄｅ  ｂａｓｋｅｔ）に投入されるめっき金属を含むことができる。
【００４３】
ここで、アノードバスケット（ａｎｏｄｅ  ｂａｓｋｅｔ）（不図示）は、めっき金属から遊離した金属イオンが容易に流出されるように多孔性の網状からなることが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。
【００４４】
また、前記めっき金属は、ボール（ｂａｌｌ）状であることが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。
【００４５】
ここで、前記めっき金属は、被めっき物２００に電着（ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）しようとする金属であって、純金属だけでなく合金も使用することができる。
【００４６】
本実施例における前記めっき金属は、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）及びこれらの合金からなる群から選択されることが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。
【００４７】
このように配置されたアノード（ａｎｏｄｅ）１２０とカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）である被めっき物２００に整流器（ｒｅｃｔｉｆｉｅｒ）を連結して電流を印加すると、アノード（ａｎｏｄｅ）１２０のめっき金属が電気分解されることで、前記めっき金属の金属イオンがめっき液に遊離し、電子は、整流器を介してカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）に移動する。
【００４８】
めっき液に遊離した金属イオンは、カソード（ｃａｔｈｏｄｅ）に移動して、被めっき物２００の表面で前記電子と結合することで、めっきを行うことができる。
【００４９】
本実施例において、遮蔽部材１３０は、被めっき物２００とアノード（ａｎｏｄｅ）１２０との間に配置することができる。
【００５０】
この際、遮蔽部材１３０は、アノード（ａｎｏｄｅ）１２０と被めっき物２００のうち、被めっき物２００と隣接するように配置したり、またはアノード（ａｎｏｄｅ）１２０と隣接するように配置することができる。
【００５１】
本実施例による遮蔽部材１３０は、図１に図示したように、第１プレート１３１及び第１プレート１３１と隣接して配置された第２プレート１３３からなることができる。
【００５２】
本実施例において、遮蔽部材１３０は、二つのプレート、即ち、上述したように、第１プレート１３１及び第２プレート１３３からなると説明しているが、これは、一つの例に過ぎず、三つ以上隣接して配置されたプレートからなることもまた可能であり、このような場合にも本発明を適用することができることは言うまでもない。
【００５３】
また、本実施例において、遮蔽部材１３０は、同一の面積を有する第１プレート１３１及び第２プレート１３３からなることが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。
【００５４】
ここで、前記「同一」とは、数学的な意味で正確に一致することを意味するものではなく、設計誤差、製造誤差、測定誤差などを勘案して実質的に同一であることを意味する。以下、本説明で使用する「同一」の意味は、前記のように、実質的に同一であることを意味する。
【００５５】
本実施例による遮蔽部材１３０の第１プレート１３１及び第２プレート１３３は、互いに平行に移動することができる。
【００５６】
この際、第１プレート１３１は、固定された状態に維持し、第２プレート１３３が移動するように構成することもでき、逆に、第２プレート１３３は、固定された状態に維持し、第１プレート１３１が移動するように構成することもできる。
【００５７】
あるいは、第１プレート１３１及び第２プレート１３３が両方とも移動するように構成することもまた可能である。
【００５８】
また、本実施例において、遮蔽部材１３０の第１プレート１３１及び第２プレート１３３は、めっき槽１１０の底面に対して垂直方向に移動することが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。
【００５９】
また、第１プレート１３１及び第２プレート１３３は、摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動することが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。
【００６０】
本実施例によるめっき装置１００は、遮蔽部材１３０の第１プレート１３１及び第２プレート１３３を移動させることができる移動手段（不図示）をさらに含むことができる。
【００６１】
前記移動手段（不図示）としては、公知の様々なものを使用することができ、これに対する詳細な説明は省略する。
【００６２】
また、図２に図示したように、本実施例による遮蔽部材１３０の第１プレート１３１及び第２プレート１３３には、それぞれ複数の貫通部１３１ａ、１３３ａと、複数の遮断部１３１ｂ、１３３ｂと、を含む遮蔽パターンを形成することができる。
【００６３】
この際、前記貫通部は、ホール（ｈｏｌｅ）またはスリット（ｓｌｉｔ）形状を有して形成することが好ましいが、特にこれに限定されるものではない。
【００６４】
また、第１プレート１３１に形成された前記遮蔽パターンと、第２プレート１３３に形成された前記遮蔽パターンとは、互いに同一または相違する形状を有して形成することができる。
【００６５】
ここで、前記「同一の形状」及び「相違する形状」とは、それぞれ同一の面積を有する第１プレート１３１及び第２プレート１３３を同一線上に位置するように当接した際、第１プレート１３１の貫通部１３１ａ及び遮断部１３１ｂの位置がそれぞれ第２プレート１３３の貫通部１３３ａ及び遮断部１３３ｂの位置と互いに一致する状態及びずれる状態であることを意味することができる。
【００６６】
具体的に説明すると、第１プレート１３１に形成された遮蔽パターンと、第２プレート１３３に形成された遮蔽パターンとが互いに同一の形状を有して形成されたということは、第１プレート１３１に形成された複数の貫通部１３１ａの位置と第２プレート１３３に形成された複数の貫通部１３３ａの位置とが互いに一致し、第１プレート１３１に形成された複数の遮断部１３１ｂの位置と第２プレート１３３に形成された複数の遮断部１３３ｂの位置とが互いに一致することを意味する。
【００６７】
即ち、図２のａ部分のように、第１プレート１３１それぞれの貫通部１３１ａの位置と第２プレート１３３それぞれの貫通部１３３ａの位置が一致し、第１プレート１３１それぞれの遮断部１３１ｂの位置と第２プレート１３３それぞれの遮断部１３３ｂの位置が一致することである。
【００６８】
また、第１プレート１３１に形成された遮蔽パターンと、第２プレート１３３に形成された遮蔽パターンとが互いに相違する形状を有して形成されたということは、図２のｂ部分のように、第１プレート１３１それぞれの貫通部１３１ａの位置と第２プレート１３３それぞれの貫通部１３３ａの位置とがずれ、第１プレート１３１それぞれの遮断部１３１ｂの位置と第２プレート１３３それぞれの遮断部１３３ｂの位置とがずれることを意味する。
【００６９】
この際、ずれる程度は、図２のｂ部分のように、第１プレート１３１の貫通部１３１ａは、第２プレート１３３の遮断部１３３ｂと接し、第１プレート１３１の遮断部１３１ｂは、第２プレート１３３の貫通部１３３ａと接するようにして、完全にずれるようにしても良く、一部のみがずれるように、例えば、第１プレート１３１の貫通部１３１ａが第２プレート１３３の貫通部１３３ａ及び遮断部１３３ｂの両方に接するようにしても良い。
【００７０】
以上、第１プレート１３１及び第２プレート１３３それぞれの遮蔽パターンが全体面積に対して同一または相違する場合について説明した。
【００７１】
以下、第１プレート１３１及び第２プレート１３３がそれぞれ互いに対応する複数の領域からなり、第１プレート１３１を構成する各領域及び第２プレート１３３を構成する各領域に複数の貫通部１３１ａ、１３３ａ及び複数の遮断部１３１ｂ、１３３ｂを含む遮蔽パターンが形成された場合について説明する。
【００７２】
本実施例では、第１プレート１３１と第２プレート１３３が、図２のように、それぞれ３個の領域Ａ、Ｂ、Ｃからなると説明するが、これは一つの例に過ぎず、２個の領域または４個以上の領域からなることもまた可能である。
【００７３】
本実施例において、第１プレート１３１及び第２プレート１３３は、図２に図示したように、それぞれ３個の領域、例えば、Ａ、Ｂ、Ｃ領域からなることができ、第１プレート１３１のＡ領域と第２プレート１３３のＡ領域、第１プレート１３１のＢ領域と第２プレート１３３のＢ領域、及び第１プレート１３１のＣ領域と第２プレート１３３のＣ領域は、それぞれその位置及び面積が互いに対応することができる。
【００７４】
即ち、第１プレート１３１及び第２プレート１３３は、それぞれ同一の面積を有する多数の領域からなることができ、この際、各領域別の位置及び面積は互いに対応することができる。これは一つの例に過ぎず、本発明は、特にこれに限定されるものではない。
【００７５】
また、第１プレート１３１を構成するＡ、Ｂ、Ｃ領域及び第２プレート１３３を構成するＡ、Ｂ、Ｃ領域にはそれぞれ複数の貫通部１３１ａ、１３３ａ及び複数の遮断部１３１ｂ、１３３ｂを含む遮蔽パターンを形成することができる。
【００７６】
この際、第１プレート１３１のＡ、Ｂ、Ｃ領域に形成されたそれぞれの遮蔽パターンは、互いに同一の形状を有して形成することもでき、または、相違する形状を有して形成することもできる。
【００７７】
同様に、第２プレート１３３のＡ、Ｂ、Ｃ領域に形成されたそれぞれの遮蔽パターンは、互いに同一の形状を有して形成することもでき、または、相違する形状を有して形成することもできる。
【００７８】
また、第１プレート１３１のＡ領域に形成された遮蔽パターンと、第２プレート１３３のＡ領域に形成された遮蔽パターンとは、互いに同一の形状または相違する形状を有して形成することができ、第１プレート１３１のＢ領域に形成された遮蔽パターンと、第２プレート１３３のＢ領域に形成された遮蔽パターンともまた互いに同一の形状または相違する形状を有して形成することができ、第１プレート１３１のＣ領域に形成された遮蔽パターンと、第２プレート１３３のＣ領域に形成された遮蔽パターンともまた互いに同一の形状または相違する形状を有して形成することができる。
【００７９】
即ち、第１プレート１３１の各領域Ａ、Ｂ、Ｃ及びこれと対応する第２プレート１３３の各領域Ａ、Ｂ、Ｃに形成された遮蔽パターンが互いに同一の形状を有することもでき、相違する形状を有することもできる。
【００８０】
この際、前記「同一の形状」及び「相違する形状」に対する意味は、既に詳細に説明したため、以下では省略する。
【００８１】
図２では、第１プレート１３１のＡ領域の遮蔽パターンと、第２プレート１３３のＡ領域の遮蔽パターンとは互いに同一の形状を有して形成され、第１プレート１３１のＢ領域の遮蔽パターンと、第２プレート１３３のＢ領域の遮蔽パターンとは互いに相違する形状を有して形成され、第１プレート１３１のＣ領域の遮蔽パターンと、第２プレート１３３のＣ領域の遮蔽パターンとは互いに同一の形状を有して形成されたものを図示している。
【００８２】
これは一つの実施例に過ぎず、本発明は、特にこれに限定されず、様々な形状に具現することができることは言うまでもない。
【００８３】
図２に図示したように構成することで、第１プレート１３１または第２プレート１３３の移動のない状態、即ち、第１プレート１３１及び第２プレート１３３が同一線上の位置で当接している状態では、図２の矢印で示したように、アノード（ａｎｏｄｅ）１２０から被めっき物２００に流れる電流が第１プレート１３１及び第２プレート１３３のＡ領域及びＣ領域では通過することができ、Ｂ領域では遮断することができる。
【００８４】
この際、電流が通過することができる領域はａ、電流が遮断されることができる領域はｂと示した。これは、図２〜図５同様に適用した。
【００８５】
図２に図示した構造を有する遮蔽部材１３０は、上端部及び下端部は電流を通過させ、中心部は電流を遮断することができる構造を有する。このような構造の遮蔽部材１３０は、被めっき物２００の上端部／下端部より中央部のめっき厚が厚い場合に適用することができる。
【００８６】
また、図３に図示したように、前記構成による遮蔽部材１３０の第１プレート１３１は、固定された状態で第２プレート１３３を矢印方向に摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動させると、第１プレート１３１のＡ、Ｂ、Ｃ領域と第２プレート１３３のＡ、Ｂ、Ｃ領域とがそれぞれ互いにずれるようになり、これによって図２に図示した遮蔽部材１３０とは異なり、中心部は電流を通過させ、上端部及び下端部は電流を一部遮断することができる構造を有する。
【００８７】
同様に、図４に図示したように、上述した構成による遮蔽部材１３０の第１プレート１３１は、固定された状態で第２プレート１３３を矢印方向に摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動させると、第１プレート１３１のＡ、Ｂ、Ｃ領域と第２プレート１３３のＡ、Ｂ、Ｃ領域がそれぞれ互いにずれるようになり、これによって図２に図示した遮蔽部材１３０とは異なり、中心部は電流を通過させ、上端部及び下端部は電流を一部遮断することができる構造を有する。
【００８８】
このように、図３及び図４に図示した構造を有する遮蔽部材１３０は、被めっき物２００の中心部より上端部／下端部のめっき厚が厚い場合に適用することができる。
【００８９】
一方、図５に図示したように、前記構成による遮蔽部材１３０の第１プレート１３１は、固定された状態で第２プレート１３３を矢印方向に摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動させるが、図３とは異なり、第１プレート１３１の貫通部１３１ａ及び遮断部１３１ｂと第２プレート１３３の貫通部１３３ａ及び遮断部１３３ｂがそれぞれ一部のみ重複して配置されるように、第２プレート１３３の移動量を調節することができる。
【００９０】
これによって、図５に図示したように、遮蔽部材１３０の両端以外の全ての領域で電流が一部のみ通過するように（ｃ部分）することができる。即ち、遮蔽部材１３０を通過する電流量を調節することである。
【００９１】
この際、図３〜図５では、遮蔽部材１３０の第１プレート１３１が固定された状態で第２プレート１３３のみが移動すると説明したが、これは一つの実施例に過ぎず、第２プレート１３３が固定された状態で第１プレート１３１が移動することも可能であり、第１プレート１３１と第２プレート１３３の両方が移動することもまた可能であることは言うまでもない。
【００９２】
このように、複数の貫通部と複数の遮断部を含む遮蔽パターンがそれぞれ形成された第１プレートと第２プレートで遮蔽部材を構成し、前記第１プレート及び第２プレートを摺動（ｓｌｉｄｉｎｇ）方式で移動させて第１プレートに形成された貫通部及び遮断部と、第２プレートに形成された貫通部及び遮断部とをそれぞれ一致または交差させるか、あるいは一部が重なるようにすることで、電流が通過する部分及び遮断される部分の位置を調節することができ、また、電流通過部分の大きさを調節して通過される電流量を調節することができる。
【００９３】
通常、めっき装置及び被めっき物の種類によってめっき偏差の様々な様相が現われることが好ましいが、従来、めっき偏差の様々な様相別に対応する遮蔽板をそれぞれ設計及び製作して使用することで工程時間及び費用が増加する問題が発生したが、本実施例による遮蔽部材を適用することにより、一つの遮蔽部材でめっき偏差の様々な様相に対して流動的に活用することができ、これによって工程時間の短縮及び費用節減の効果を得ることができる。
【００９４】
図６に遮蔽板がない場合、従来の遮蔽板を用いた場合、及び本実施例による遮蔽部材を用いた場合によるめっき厚の分布度をグラフで示した。
【００９５】
図６に図示したように、遮蔽板がない場合及び従来の遮蔽板を用いた場合には、基板の中央部に形成されためっき厚と、上端部及び下端部に形成されためっき厚との偏差が大きく、本実施例による遮蔽部材を用いた場合、前記場合に比べて基板の中央部に形成されためっき厚と上端部及び下端部に形成されためっき厚との偏差が減少することを確認することができる。
【００９６】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００９７】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００９８】
本発明は、被めっき物のめっき偏差の様々な様相に流動的に対応可能な遮蔽部材を有するとともに、工程時間の短縮及び工程コストの低減に効果的なめっき装置に適用可能である。
【符号の説明】
【００９９】
１００  めっき装置
１１０  めっき槽
１２０  アノード（ａｎｏｄｅ）
１３０  遮蔽部材
１３１  第１プレート
１３１ａ  貫通部
１３１ｂ  遮断部
１３３  第２プレート
１３３ａ  貫通部
１３３ｂ  遮断部
２００  被めっき物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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