(57)【要約】【課題】本発明は、頻繁なメンテナンスを必要とせず、搬送ラインに影響を与えない湿式処理工程内のおける帯状の被処理物の蛇行制御が可能な処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】帯状の被処理物１０を連続的に送り搬送し、処理槽２０内を通過させることにより湿式処理を行う処理装置であって、  前記被処理物の搬送位置を制御するガイドローラー４０、４１が前記処理槽内に設けられた処理装置。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の被処理物を連続的に送り搬送し、処理槽内を通過させることにより湿式処理を行う処理装置であって、
前記被処理物の搬送位置を制御するガイドローラーが前記処理槽内に設けられた処理装置。
【請求項２】
前記ガイドローラーは、傾斜角度又は搬送方向に対する角度を変化させることにより、前記被処理物の搬送位置を制御する請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記ガイドローラーの角度の変化は、前記処理槽外に設けられたアクチュエータにより行われる請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記ガイドローラーは、支点を中心に、搬送面内で回転可能に支持された枠体内に固定され、
前記アクチュエータは、前記枠体を移動させることにより前記ガイドローラーの角度を変化させる請求項３に記載の処理装置。
【請求項５】
前記被処理物の前記処理槽内における搬送位置を検出する搬送位置検出手段を更に備える請求項１乃至４のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項６】
前記搬送位置検出手段は、前記処理槽内に設けられ、前記被処理物の搬送位置に関する情報を物理的に検知する検知部と、
前記処理槽外に設けられ、前記検知手段により検知した前記搬送位置に関する情報に基づいて、前記被処理物の搬送位置を検出する位置検出部と、を有する請求項５に記載の処理装置。
【請求項７】
前記検知部は、前記被処理物のエッジに接触して前記被処理物のエッジ位置の変化に応じて位置が変化し、
前記位置検出部は、前記検知部の位置の変化に基づいて搬送位置の変化を検出する請求項６に記載の処理装置。
【請求項８】
前記位置検出部は、前記検知部に接続された遮蔽板の位置の変化を、レーザー光を用いて検出する請求項７に記載の処理装置。
【請求項９】
前記搬送位置検出手段の検出結果に基づいて、前記アクチュエータを制御する制御手段を有する請求項５乃至８のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記ガイドローラーは、複数備えられた請求項１乃至９のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項１１】
前記ガイドローラーは、略水平に設置された請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項１２】
前記ガイドローラーは、略鉛直に設置された請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項１３】
前記被処理物は、有機樹脂フィルム上に金属薄膜が形成された基材であり、
前記処理槽は、電気めっき処理を行うめっき槽の直前に設けられた液工程槽である請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理装置に関し、特に、帯状の被処理物を連続的に送り搬送し、処理槽を通過させることにより湿式処理を行う処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、電子機器に用いられる配線材料として、ポリイミド等の有機樹脂フィルム上に金属薄膜が形成された帯状長尺基材をローラーで搬送し、前記金属薄膜上に銅等を電気めっきした基板が用いられている。
【０００３】
上述のような基材のめっき処理を行う装置は、搬送時に、基材の伸縮に伴う蛇行が生じるため、一般的に、蛇行検出用のセンサーやアクチュエータにて駆動される蛇行制御用ローラーを備えた蛇行制御機構が組み込まれている。しかしながら、水濡れによるセンサーやアクチュエータの故障、誤動作、錆などを回避するため、前処理液、めっき液、洗浄等の液体に基材を浸漬する工程、若しく基材に液体のかかる工程での蛇行制御は行わずに、基材を巻き出す巻き出し工程や巻き取り工程等、液や水のかからない空走工程において蛇行制御機構を設けている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
図１は、従来の蛇行制御機構の一例を示した図である。図１（Ａ）は従来の蛇行制御機構の平面図であり、図１（Ｂ）は、従来の蛇行制御機構の側面図である。図１（Ａ）、（Ｂ）に示すように、従来の蛇行制御機構は、ガイドローラー１４０、１４１、アクチュエータ１６０、ガイドローラー１４０、１４１を支持する枠体１５０、アクチュエータ１６０の駆動軸１６１、駆動軸１６１と枠体１５０を連結する連結部１５１を有して配置され、超音波センサー１７０で基材１１０の端部を検出しながら基材１１０を通過させ、基材端部の位置によりガイドローラー１４０、１４１の傾きを変えることによって蛇行制御を行っている。
【０００５】
超音波センサー１７０が使用される理由として、基材１１０の接続に用いるダミー搬送材は透明のものが多く、レーザーセンサーなどでは、端部の検出が出来ないためである。
【０００６】
また、薬液や水がかかる湿式処理槽内の蛇行調整は、基材１１０の搬送をガイドするガイドローラー１４０、１４１の傾きを、アクチュエータ１６０等を使用せず手動調整によって行っている。
【０００７】
帯状長尺基材１１０のめっき処理では、基材１１０の端部に厚くめっきが付き易いため、めっき槽内の基材端部が通過する位置に遮蔽板を設けることにより、基材１１０のめっき厚みの平坦化を図っている。そのため、めっき厚みを一定にするためには、基材１１０が、毎回めっき槽内の決まった搬送ラインを通ることが重要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平９−１９４０８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来の湿式処理槽内での蛇行調整では、基材の状態や作業者による基材同士の繋ぎが曲がっていたりすると、基材がめっき槽内で異なる搬送ラインを通ってしまうため、めっきの平坦化に著しい影響を及ぼすという問題があった。
【００１０】
また、処理槽内にあるガイドローラーの傾きを手動調整する手段では、高い頻度でメンテナンスを行わなければならず、また作業者がフィルム状導電体の動向を常時監視する必要があった。
【００１１】
更に、めっき槽とめっき槽の間に液や水のかからない空走箇所を設け、その空走箇所にセンサーやアクチュエータを用いた蛇行制御機構を設ける事も考えられるが、液や水が基材にかからない箇所が生じるために、めっき表面が乾燥することによりめっき面にムラ、シミなどの不良が起き易いという新たな問題を生ずるため、採用することはできない。
【００１２】
また、蛇行制御機構を湿式処理槽内に設置し、エッジ検出用超音波センサーを湿式処理槽内に使用すると、液や水飛沫によるセンサーの誤作動、雰囲気によるセンサーの故障が多発し、めっき装置の安定稼働に問題が生ずるという問題があった。
【００１３】
そこで、本発明は、上述の様な問題点に鑑み、頻繁なメンテナンスを必要とせず、搬送ラインに影響を与えない湿式処理工程内のおける帯状の被処理物の蛇行制御が可能な処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る処理装置は、帯状の被処理物を連続的に送り搬送し、処理槽内を通過させることにより湿式処理を行う処理装置であって、
前記被処理物の搬送位置を制御するガイドローラーが前記処理槽内に設けられている。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、処理槽内における所望の搬送ラインに精度よく基材を搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来の蛇行制御機構の一例を示した図である。図１（Ａ）は従来の蛇行制御機構の平面図である。図１（Ｂ）は、従来の蛇行制御機構の側面図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る処理装置の一例を示した平面図である。
【図３】本発明の実施形態２に係る処理装置の一例を示した図である。図３（Ａ）は、実施形態２に係る処理装置のガイドローラー及びモータ付近の一例の構成を示した側面図である。図３（Ｂ）は実施形態２に係る処理装置のガイドローラー及びモータ付近の一例をを図３（Ａ）のＡ−Ａ断面で切った断面図である。図３（Ｃ）は後方から見た正面図である。図３（Ｄ）は上面図である。
【図４】実施形態２に係る処理装置の位置検出センサー及びアクチュエータ付近の一例の構成を示した図である。図４（Ａ）は位置検出センサー及びアクチュエータ付近の一例の正面図である。図４（Ｂ）は正面断面図である。図４（Ｃ）は上面図である。
【図５】位置検出センサーの位置検出部の一例の構成を拡大して示した図である。
【図６】位置検出部のレーザー発光部及びレーザー受光部の一例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。
【００１８】
〔実施形態１〕
図２は、本発明の実施形態１に係る処理装置の一例を示した平面図である。図２に示すように、実施形態１に係る処理装置は、帯状の基材１０を被処理物とし、基材１０に湿式処理を施す処理装置として構成される。湿式処理としては、液体を用いた基材１０の処理であれば種々の湿式処理に適用することができるが、例えば、前処理、めっき処理、洗浄処理等が含まれる。また、めっき処理は、電気めっき処理であってもよいし、無電解めっき処理であってもよい。
【００１９】
図２において、実施形態１に係る処理装置は、第１の処理槽２０と、処理液供給ノズル３０と、ガイドローラー４０、４１と、枠体５０と、連結部５１と、モータ６０と、駆動軸６１と、支点６２と、基材位置検出センサー７０と、制御部８０と、カバー９０と、第２の処理槽１００とを有する。なお、基材位置検出センサー７０は、ローラー７１と、アーム７２と、位置検出部７３とを有する。
【００２０】
ここで、第１の処理槽２０と第２の処理槽９０とは連続して隣接して設けられ、基材１０が連続して通過できる構成となっている。また、処理液供給ノズル３０、ガイドローラー４０、４１、枠体５０及びローラー７１と、連結部５１及びアーム７２の一部は第１の処理槽２０内に設けられ、モータ６０、駆動軸６１、支点６２、位置検出部７３及び制御部８０と、連結部５１及びアーム７２の一部は第１の処理槽２０外に設けられ、カバー９０で覆われた構成となっている。
【００２１】
基材１０は、第１の処理槽２０及び第２の処理槽９０における被処理物であり、帯状の基材１０、つまり長尺状の長細い形状の基材１０であれば、材質は問わず種々の基材１０を用いることができる。本実施形態においては、フィルム状の有機樹脂上に金属薄膜を形成したものを基材１０の例に挙げて説明する。その他、例えば、フィルム状の有機樹脂自体も単独で基材１０となり得るし、金属薄膜自体も単独で基材１０となり得る。また、帯状に、つまり細長い長尺状に形成された基材１０であれば、他の材料からなる基材１０も被処理物となり得、用途に応じた基材１０を被処理物とすることができる。
【００２２】
第１の処理槽２０は、基材１０に湿式処理を施すための槽であり、基材１０に処理液を供給し、湿式処理を行うことができれば、種々の構成とすることができる。本実施形態においては、処理液供給ノズル３０で、基材１０にスプレー状に処理液を散布して供給する処理を行っている。その他例えば、第１の処理槽２０内に処理液を満たして、基材１０を処理液に浸漬させて湿式処理を施すようにしてもよく、用途に応じた湿式処理を行うようにしてよい。
【００２３】
第１の処理槽２０で行う湿式処理は、前処理、めっき処理、洗浄処理等、用途に応じた処理が適宜選択されてよい。なお、本実施形態においては、第２の処理槽１００でめっき処理を行い、第１の処理槽２０においてはめっき処理の前処理を行う例を挙げて説明する。
【００２４】
処理液供給ノズル３０は、処理液を基材１０に供給する手段であり、本実施形態においては、めっきの前処理液が処理液供給ノズル３０から噴出され、基材１０に散布して供給される。
【００２５】
ガイドローラー４０、４１は、帯状の基材１０を送り搬送するとともに、基材１０の蛇行を防止するように基材１０の位置を制御する手段である。図２に示されるように、ガイドローラー４０、４１は、必要に応じて複数設けられてよい。基材１０は、図２中の矢印で示されるように、第１の処理槽２０から第２の処理槽１００に、ガイドローラー４０、４１が軸周囲に回転することにより順送りされて搬送される。基材１０は、ガイドローラー４０の上を通り、次いでガイドローラー４１の下を通ることにより、ガイドローラー４０、４１との摩擦力が十分な状態となり、ガイドローラー４０、４１にその方向が制御される。よって、ガイドローラー４０、４１は、基材１０との摩擦力が十分に得られるような材質から構成されてよい。本実施形態においては、ガイドローラー４０、４１は、基材１０の進行方向に略垂直に設けられるとともに、基材１０と同様に、略水平に設けられている。よって、ガイドローラー４０、４１の一端が上昇し、他端が下降するというように、ガイドローラー４０、４１を傾斜させることにより、重力を用いて、基材１０の位置を進行方向に対して右側又は左側に変位させることが可能である。また、ガイドローラー４０、４１の方向を、基材１０の進行方向に対して角度を付け、やはり基材１０の進行方向に対して右側又は左側の一方が前方又は後方に移動すれば、基材１０の進行方向を変えることができる。
【００２６】
このように、ガイドローラー４０、４１の位置を変化させることにより、基材１０の位置を変化させ、蛇行を防止することができる。本実施形態においては、ガイドローラー４０を、枠体５０を進行方向に対して前方又は後方に移動させることにより、ガイドローラー４０、４１の水平面内での基材１０に対する角度を変化させ、基材１０の進行方向を制御している。
【００２７】
枠体５０は、ガイドローラー４０、４１の周囲を囲み、ガイドローラー４０、４１を固定支持するためのフレームである。枠体５０は、連結部５１に固定接続されている。
【００２８】
連結部５１は、モータ６０からの変位を枠体５０に伝達するための部材であり、枠体５０と駆動軸６１とを、支点６２を介して連結している。連結部５１は、支点６２を中心として回転可能又は回動可能に構成されているので、連結部５１に駆動軸６１から前後方向に移動する力が加わることにより、支点６２を中心として回転するように変位し、枠体５０を前後方向に移動させる。これにより、ガイドローラー４０、４１の角度を制御することができる。なお、連結部５１は、一部が第１の処理槽２０の外部にあり、一部が第１の処理槽２０の内部にある。これにより、第１の処理槽２０の外部で発生した駆動力を、第１の処理槽２０の内部にあるガイドローラー４０、４１に伝達することができる。
【００２９】
モータ６０は、ガイドローラー４０、４１の角度を変化させるアクチュエータとして機能する回転駆動源であり、第１の処理槽２０の外部に設けられる。このように、アクチュエータであるモータ６０を第１の処理槽２０の外部に設けることにより、モータ６０に第１の処理槽２０で用いる処理液がかかり、モータ６０の機能を低下させたり、破損したりすることを防止することができる。
【００３０】
駆動軸６１は、モータ６０の駆動力の出力媒体であり、これが回転する力を前後方向への変位に変換することにより、連結部５１を前後方向に移動させる。駆動軸６１は、モータ６０と一体として構成されるので、モータ６０の一部と考えてもよく、モータ６０と同様に第１の処理槽２０の外部に配置されることが好ましい。
【００３１】
このように、本実施形態においては、ガイドローラー４０、４１を駆動制御するモータ６０及び駆動軸６１を第１の処理槽２０の外部に配置し、ガイドローラー４０、４１を第１の処理槽２０の内部に配置することにより、基材１０に直接接触するガイドローラー４０、４１は湿式処理槽の内部で適切に蛇行防止機能を発揮させるとともに、アクチュエータたるモータ６０及び駆動軸６１に処理液がかかることを確実に防止することができる。
【００３２】
位置検出センサー７０は、基材１０の端部の位置を検出するためのセンサーであり、ローラー７１と、アーム７２と、位置検出部７３とを備える。
【００３３】
ローラー７１は、基材１０の端部に接触する回転体であり、基材１０の端部の位置を検知する検知部として機能する。つまり、基材１０が進行方向に対して左右に移動すれば、ローラー７１もそれに伴って左右に移動するので、基材１０の端部の位置を物理的に検知することができる。
【００３４】
アーム７２は、ローラー７１の位置の変化を位置検出部７２に伝達するための部材である。つまり、アーム７２は、ローラー７１に連結され、ローラー７１の変位に伴って同じ量だけ変位する。これにより、アーム７２は、ローラー７１の位置の変化をそのまま自らの位置の変化として位置検出部に伝達する。
【００３５】
位置検出部７３は、アーム７２の位置の変化を、具体的な基材１０の位置変化として検出する。位置検出部７３は、アーム７２の位置変化を検出したり、測定したりする手段で構成されてよい。例えば、位置検出部７３は、アーム７２の位置変化量を測定する手段であってもよいし、アーム７２の先端に、水平方向に面を有する遮蔽板が設けられ、遮蔽板を鉛直方向に挟んで一対のレーザー検出器の発光部と受光部が設けられ、遮蔽された光量から基材１０の端部位置を検出するような手段が設けられてもよい。このように、位置検出部７３は、基材１０の位置変化を適切に検出できれば、種々の検出手段を用いることができる。なお、位置検出部７３にレーザー検出器を用いた例については、実施形態２において詳細に説明する。実施形態２で説明するレーザー検出器は、実施形態１における位置検出部７３に適用することができる。
【００３６】
このように、本実施形態においては、位置検出部７３は、第１の処理槽２０の外部に設置されているので、防水性を考慮する必要が無く、レーザー光を用いたレーザー検出器等も用いることができる。また、基材１０の位置の検出は、基材１０の端部に直接接触するローラー７１を用いて、物理的に基材１０の位置を検出するので、高精度に確実な検出を行うことができる。また、物理的な検出が可能となるので、安価なセンサーを用いることが可能となり、コストを低減することができる。
【００３７】
制御手段８０は、位置検出部７３で検出した基材１０の位置に基づいて、モータ６０の適切な駆動制御を行うためのフィードバック制御手段である。制御手段８０を用いることにより、基材１０の位置検出結果に基づいた適切な蛇行防止制御を行うことができる。なお、制御手段８０は、このような演算制御処理を行うため、例えば、特定の用途を目的とする電子回路として構成されたＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）や、ＣＰＵ（Center Processing  Unit、中央処理装置）を備え、プログラムを読み込んで動作するマイクロコンピュータとして構成されてもよい。制御手段８０も、第１の処理槽２０の外部に設置されているので、防水性等を考慮する必要が無く、適切なものを任意に選択して用いることができる。
【００３８】
カバー９０は、モータ６０、位置検出部７０及び制御部８０等を含む防水が必要な部品を処理液から遮蔽するための手段である。カバー９０を設けることにより、第１の処理槽２０から処理液が飛散した場合であっても、モータ６０、位置検出部７０及び制御部８０等の部品を確実に防水して保護することができる。カバー９０の材質は、処理液により腐食しない種々の材料を用いることができる。
【００３９】
なお、図２においては、カバー９０の上蓋が示されていないが、カバー９０の上部に配置され、モータ６０、位置検出部７０及び制御部８０を覆い、これらを第１の処理槽２０に用いられる処理液から防御する上蓋を設けるようにしてもよい。
【００４０】
第２の処理槽１００は、湿式処理を行う処理槽であり、第１の処理槽２０による湿式処理に続く処理が行われてよい。例えば、第１の処理槽２０で前処理を行い、第２の処理槽１００でめっき処理を行うことができる。この場合には、第２の処理槽１００の直前の第１の処理槽２０で適切に蛇行防止制御が行われているので、第２の処理槽１００では、目的とする湿式処理のみを、蛇行防止がなされた状態で適切に行うことができる。これにより、例えば、第２の処理槽１００でめっき処理を行う場合には、均一なめっき処理を行うことが可能となる。
【００４１】
このように、第１の実施形態によれば、第２の処理槽１００の直前の湿式処理で適切に蛇行防止制御を行うことにより、第２の処理槽１００における湿式処理を適切に行うことができる。
【００４２】
なお、実施形態１においては、第１の処理槽２０における処理をめっき前処理、第２の処理槽１００における処理槽をめっき処理とした例について説明したが、例えば、第１の処理槽２０における処理が洗浄処理であってもよいし、第１の処理槽２０で無電解めっき処理を行い、第２の処理槽１００で電気めっき処理を行うような処理パターンであってもよい。このように、第１の処理槽２０及び第２の処理槽１００で行う処理は、用途に応じて種々の組み合わせとすることができる。また、第１の処理槽２０と第２の処理槽１００による処理は必ずしも連続している必要は無く、第１の処理槽２０による湿式処理が単独で行われる構成であってもよい。
【００４３】
〔実施形態２〕
図３は、本発明の実施形態２に係る処理装置の一例を示した図である。実施形態１に係る処理装置においては、ガイドローラー４０、４１が略水平に設置され、帯状の基材１０も水平な状態で連続的に送り搬送される例について説明したが、実施形態２に係る処理装置においては、ガイドローラー４０、４１が略鉛直に設置され、帯状の基材１０が鉛直な状態で連続的に送り搬送される例について説明する。
【００４４】
なお、実施形態２に係る処理装置は、第１の処理槽２０及び第２の処理槽１００の配置とその構成自体は実施形態１に係る処理装置と同様であり、ガイドローラー４０、４１とそのアクチュエータとの関係、位置検出センサー７０等の配置構成が異なるだけであるので、実施形態１に係る処理装置と異なる点についてのみ説明する。また、実施形態１に係る処理装置と同様の構成要素については、同一の参照符号を付し、その説明を簡略化又は省略するものとする。
【００４５】
図３（Ａ）は、実施形態２に係る処理装置のガイドローラー及びモータ付近の一例の構成を示した側面図である。また。図３（Ｂ）は実施形態２に係る処理装置のガイドローラー及びモータ付近の一例を図３（Ａ）のＡ−Ａ断面で切った断面図、図３（Ｃ）は後方から見た正面図、図３（Ｄ）は上面図である。
【００４６】
図３（Ａ）、（Ｄ）において、実施形態２に係る処理装置は、ガイドローラー４０、４１と、枠体５０と、連結部５１と、固定フレーム５２と、枠体支点５３と、モータ６０と、駆動軸６１とを備える。第１の処理槽２０内の構成要素が鉛直方向に略平行に設けられ、モータ６０及び駆動軸６１が第１の処理槽２０の上方に設けられている点で、実施形態１に係る処理装置と異なっている。また、固定フレーム５２及び枠体支点５３が設けられている点で、実施形態１に係る処理装置と異なっている。なお、ガイドローラー４０、４１と、枠体５０と、連結部５１と、モータ６０と、駆動軸６１については、配置位置等は異なるが、部品としては同様の部品を用いることができるので、実施形態１に係る処理装置と同様の参照番号を付し、その説明を省略する。
【００４７】
固定フレーム５２は、枠体支点５３を支持するとともに、枠体５０を含めてガイドローラー４０、４１を更に外部から囲むためのフレームである。図３（Ｃ）に示されるように、固定フレーム５２は、ガイドローラー４０、４１を覆うような幅を有するとともに、開口部５２ａを有している。なお、枠体５０も開口部５０ａを有している。
【００４８】
枠体支点５３は、図３（Ａ）に示すように、枠体５０の回転変位の支点となる箇所である。枠体支点５３を中心として枠体５０が変位することにより、枠体５０内に固定されているガイドローラー４０、４１の鉛直面内における基材１０の進行方向の角度を変化させることができる。なお、図３（Ａ）には示されていないが、例えば、基材１０は、ガイドローラー４０、４１に跨るようにガイドローラー４０、４１の前面を覆い、ガイドローラー４０、４１の外側から紙面裏側に向かって延びるように配置される。つまり、ガイドローラー４０、４１を交差するようにではなく、ガイドローラー４０、４１を大きく巻き回すように配置される。そして、ガイドローラー４０、４１が同一方向に回転することにより、基材１０を右回り又は左回りに進行させる。但し、基材１０のガイドローラー４０、４１への巻回の方法は、用途に応じて適宜適切なものとしてよく、用途に応じて種々変更してよい。
【００４９】
また、図３（Ｂ）のＡ−Ａ断面図に示すように、ガイドローラー４１は、シャフト４１Ｓに回転可能に支持されている。基材１０は、ガイドローラー４０、４１に挟まれるようにではなく、ガイドローラー４０、４１を巻き回すように配置されているため、ガイドローラー４１の左側に向かって延びる基材１０（図３（Ａ）では紙面裏側の方向に向かって延びる方向）が示されている。
【００５０】
図３（Ｄ）に示すように、アクチュエータたるモータ６０と、駆動軸６１と、連結部５１は、第１の処理槽２０の上方に載置して配置することができるが、配置関係は、実施形態１に係る処理装置とほぼ同様とすることができるので、その説明を省略する。
【００５１】
図４は、実施形態２に係る処理装置の位置検出センサー及びアクチュエータ付近の一例の構成を示した図である。図４（Ａ）は位置検出センサー及びアクチュエータ付近の一例の正面図であり、図４（Ｂ）は正面断面図であり、図４（Ｃ）は上面図である。
【００５２】
図４（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示すように、位置検出センサー７０は、ローラー７１、アーム７２及び位置検出部７３を備える点では、実施形態１に係る処理装置と同様である。しかしながら、第１の処理槽２０の外側面上部に位置検出部７３が設けられ、位置検出部７３から第１の処理槽２０の内部にアーム７２が延び、内部の基材１０の上端部にローラー７１が接触している点で、実施形態１に係る処理装置と異なっている。
【００５３】
このように、ガイドローラー４０、４１が縦置きに設置された場合であっても、基材１０の上端部にローラー７１を接触させ、位置検出部７３を第１の処理槽２０の外部側面上部に配置し、アーム７２を第１の処理槽２０の側面を跨ぐように配置することにより、ローラー７１による基材１０の位置の直接的な物理的検出と、位置検出部７３の処理液からの保護を両立させることができる。
【００５４】
図５は、位置検出センサー７０の位置検出部７３の一例の構成を拡大して示した図である。図５において、位置検出部７３は、レーザー発光部７３１と、遮蔽板７３２と、錘７３４とを備える。遮蔽板７３１の背後には、レーザー受光部が備えられ、遮蔽板７３１は、アーム７２のシーソーのような上下動に伴い、遮蔽板７３２も上下するように構成されている。錘７３４は、そのシーソーのような上下動を行うためにバランスを保つための錘７３４である。
【００５５】
図６は、位置検出部７３のレーザー発光部７３１及びレーザー受光部７３３の一例を示した図である。図６に示すように、レーザー発光部７３１に対向してレーザー受光部７３３が配置され、その中間に遮蔽板７３２が配置されている。レーザー発光部７３１から発光されたレーザー光Ｌ１は、遮蔽板７３２で一部が遮蔽され、遮蔽されていない領域のレーザー光Ｌ２がレーザー光受光部７３３で受光される。遮蔽板７３２の上下方向の位置により受光量は変化するので、遮蔽板７３２の上下方向の位置の変化に基づいて、基材１０の上下方向の位置の変化を検出することができる。
【００５６】
このように、鉛直方向にガイドローラー４０、４１を配置する構成においても、レーザーを用いた位置検出センサー７０を用いることができる。また、この位置検出センサー７０は、実施形態１においても、レーザー発光部７３１を鉛直方向上方又は下方、レーザー受光部７３３をその反対側、遮蔽板７３２をその間に配置し、アーム７２と連結することにより、同様に用いることができる。
【００５７】
以上のように、本発明の実施形態によれば、めっき槽直前の湿式処理工程にて蛇行を自動制御しているため、めっき槽内における所望の搬送ラインに精度よく基材を搬送することができる。また、水濡れに弱いアクチュエータ及びセンサーを槽外に設けているので、液の飛沫による故障、誤作動を防止することができる。更に、基材の端部の検出を振り子式のローラーで検出しているので、基材同士の接続に透明帯が使用可能であるという効果を奏する。
【００５８】
以上、本発明の好ましい実施例について詳説したが、本発明は、上述した実施例に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施例に種々の変形及び置換を加えることができる。
【符号の説明】
【００５９】
１０    基材
２０    第１の処理槽
３０    処理液供給ノズル
４０、４１    ガイドローラー
４１Ｓ    シャフト
５０    枠体
５０ａ、５２ａ    開口部
５１    連結部
５２    固定フレーム
５３    枠体支点
６０    モータ
６１    駆動軸
６２    支点
７０    位置検出センサー
７１    ローラー
７２    アーム
７３    位置検出部
８０    制御部
９０    カバー
１００    第２の処理槽
７３１    レーザー発光部
７３２    遮蔽板
７３３    レーザー受光部
７３４    錘
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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