(57)【要約】      （修正有）【課題】所定の気体雰囲気の到達濃度が高いパージ処理を行うことが可能なボトムパージ方式を採用しつつ、パージ処理時に、パージノズルの周辺環境に存在する粉塵や埃、パーティクル等がパージ用気体とともにパージ対象容器内に混入してしまう事態を防止・抑制するすることが可能なパージ装置を提供する。【解決手段】上方に開口するパージ用気体流路２３を内部に形成したパージノズルのうち上向き面を少なくとも上方から被覆し得るカバー６と、カバー６を、パージノズルの上向き面を上方から被覆する被覆位置と、パージノズルの上向き面を上方に露出させる非被覆位置との間で移動させる駆動機構７とを備え、駆動機構７によって、パージ処理を行う場合にカバー６を非被覆位置に位置付け、パージ処理を行わない場合にカバー６を被覆位置に位置付けるように構成したパージ装置とした。【選択図】図２
2014036184.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素又は乾燥空気の何れかからなるパージ用気体を供給可能なパージノズルを備え、パージ対象容器の底面に設けたポートに前記パージノズルの先端部を接触させた状態で、前記パージ対象容器内の気体雰囲気を窒素又は乾燥空気の何れかからなるパージ用気体に置換可能に構成したパージ装置であって、
上方に開口するパージ用気体流路を内部に形成した前記パージノズルのうち上向き面を少なくとも上方から被覆し得るカバーと、
前記カバーを、前記パージノズルの上向き面を上方から被覆する被覆位置と、前記パージノズルの上向き面を上方に露出させる非被覆位置との間で移動させる駆動機構とを備え、
前記駆動機構によって、パージ処理を行う場合に前記カバーを前記非被覆位置に位置付け、パージ処理を行わない場合に前記カバーを前記被覆位置に位置付けるように構成していることを特徴とするパージ装置。
【請求項２】
前記パージノズルが、前記パージノズルの上向き面の全部又は一部が前記パージ対象容器の底面に設けたポートに接触可能なパージ位置と、前記パージノズルの上向き面が前記ポートに接触し得ない待機位置との間で昇降移動可能なものであり、
前記パージノズルと前記カバーの高さ方向における相対位置で相対高さ位置が、前記待機位置にある前記パージノズルと前記カバーの相対高さ位置よりも近接することをきっかけとして、前記駆動機構が前記カバーを前記被覆位置から前記非被覆位置へ移動させるように構成している請求項１に記載のパージ装置。
【請求項３】
前記パージ対象容器と前記パージノズルの距離を直接または間接的に検知可能な検知部を備え、前記検知部の検知情報に基づいて前記パージ対象容器と前記パージノズルの距離が所定値よりも近くなったことをきっかけとして前記駆動機構が前記カバーを前記被覆位置から前記非被覆位置へ移動させるように構成している請求項１に記載のパージ装置。
【請求項４】
クリーンルーム内において半導体製造装置に隣接して設けられ、搬送されてきたパージ対象容器であるＦＯＵＰを受け取り当該ＦＯＵＰ内に格納されているウェーハを前記半導体製造装置内と当該ＦＯＵＰ内との間でＦＯＵＰの前面に形成した搬出入口を介して出し入れするロードポートであって、
請求項１乃至３の何れかに記載のパージ装置を備えていることを特徴とするロードポート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パージ対象空間を有するパージ対象容器に対してパージ処理を行うパージノズルを備えたパージ装置並びにロードポートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体の製造工程においては、歩留まりや品質の向上のため、クリーンルーム内でウェーハの処理がなされている。近年では、クリーンルーム内全体の清浄度向上に代わる方法として、ウェーハの周囲の局所的な空間についてのみ清浄度をより向上させる「ミニエンバイロメント方式」を取り入れ、ウェーハの搬送その他の処理を行う手段が採用されている。ミニエンバイロメント方式では、ウェーハを高清浄な環境で搬送・保管するためのＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）と呼ばれる格納用容器と、ＦＯＵＰ内のウェーハを半導体製造装置との間で出し入れするとともに搬送装置との間でＦＯＵＰの受け渡しを行うインターフェース部の装置であるロードポート（Load Port）が重要な装置として利用されている。
【０００３】
ところで、半導体製造装置内はウェーハの処理または加工に適した所定の気体雰囲気に維持されているが、ＦＯＵＰ内から半導体製造装置内にウェーハを送り出す際にはＦＯＵＰの内部空間と半導体製造装置の内部空間とが相互に連通することになる。したがって、ＦＯＵＰ内の環境が半導体製造装置内よりも低清浄度であると、ＦＯＵＰ内の気体が半導体製造装置内に進入して半導体製造装置内の気体雰囲気に悪影響を与え得る。また、ウェーハを半導体製造装置内からＦＯＵＰ内に収納する際に、ＦＯＵＰ内の気体雰囲気中の水分、酸素或いはその他のガス等によって、ウェーハの表面に酸化膜が形成され得るという問題もある。
【０００４】
このような問題に対応するための技術として、特許文献１には、ＦＯＵＰの扉をロードポートのドア部で開けて、ＦＯＵＰの内部空間と半導体製造装置の内部空間とを連通させた状態で、開口部よりも半導体製造装置側に設けたパージ部（パージノズル）により所定の気体（例えば窒素や不活性ガス等）をＦＯＵＰ内に吹き込むパージ装置を備えたロードポートが開示されている。
【０００５】
しかしながら、このような搬出入口を介して半導体製造装置の内部空間に開放されたＦＯＵＰ内にその前面側（半導体製造装置側）から所定の気体をＦＯＵＰ内に注入してＦＯＵＰ内を所定の気体雰囲気に置換するいわゆるフロントパージ方式のパージ装置は、ＦＯＵＰの開口部を開放して当該ＦＯＵＰの内部空間を半導体製造装置の内部空間全体に直接連通させた状態でパージ処理を行うため、ＦＯＵＰ内を高い所定気体雰囲気濃度に維持することが困難であり、所定の気体雰囲気の到達濃度が低いというデメリットがあった。
【０００６】
一方、特許文献２には、ウェーハが収納されているＦＯＵＰをロードポートの載置台に載置した状態で所定の気体（例えば窒素や不活性ガス等）をＦＯＵＰの底面側から内部に注入して充満させて、ＦＯＵＰ内を所定の気体雰囲気に置換するパージ装置を備えたロードポートが開示されている。このようなＦＯＵＰの底面側から窒素や乾燥空気等の気体（以下、「パージ用気体」と称する）をＦＯＵＰ内に注入してＦＯＵＰ内を所定の気体雰囲気に置換するいわゆるボトムパージ方式は、フロントパージ方式のパージ装置と比較して、所定の気体雰囲気の到達濃度が高いという利点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−０３８０７４号公報
【特許文献２】特開２０１１−１８７５３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、ボトムパージ方式を採用した場合に、パージ用気体の供給路であるパージ用気体流路の供給口（上方開口部）が形成されているパージノズルの上向き面は上方に露出し、周辺環境（周辺雰囲気）に常時晒されている。このようなパージノズルの上向き面には、パージノズルの周辺環境に存在する粉塵や埃、パーティクル等が付着したり、堆積する場合がある。このような付着物や堆積物が、パージ処理時にパージ用気体とともにＦＯＵＰ内に混入してしまった場合には、ＦＯＵＰ内の清浄度を著しく低下させてしまうおそれがある。
【０００９】
そこで、パージ処理を行う直前や適宜のタイミングで、パージノズルのパージ用気体流路から噴出させて、パージ用気体流路内やパージノズルの上向き面に存在するパーティクル等の不純物を外部に吹き飛ばす構成（プリパージ）も考えられる。しかしながら、パージ処理時ではないタイミングで、不純物を吹き飛ばすためにパージ用気体を噴出させることは、パージ用気体の不要な浪費を招来するとともに、パージ用気体の噴出圧や噴出量、噴出時間などによって十分な効果を得られない場合もあると思われる。
【００１０】
なお、このような不具合は、ロードポートのパージ装置に限らず、ロードポート以外のパージ装置、例えばストッカーのパージ装置やパージステーションのパージ装置にも生じ得ることである。
【００１１】
本発明は、このような課題に着目してなされたものであって、主たる目的は、所定の気体雰囲気の到達濃度が高いパージ処理を行うことが可能なボトムパージ方式を採用しつつ、パージ処理時に、パージノズルの周辺環境に存在する粉塵や埃、パーティクル等がパージ用気体とともにパージ対象容器内に混入してしまう事態を防止・抑制可能なパージ装置、及びロードポートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
すなわち本発明は、窒素又は乾燥空気の何れかからなるパージ用気体を供給可能なパージノズルを備え、パージ対象容器の底面に設けたポートにパージノズルの先端部を接触させた状態で、パージ対象容器内の気体雰囲気を窒素又は乾燥空気の何れかからなるパージ用気体に置換可能に構成したパージ装置に関するものである。ここで、本発明における「パージ対象容器」は、ＦＯＵＰなど内部にパージ対象空間を有する容器全般を包含する。
【００１３】
そして、本発明に係るパージ装置は、上方に開口するパージ用気体流路を内部に形成したパージノズルのうち上向き面を少なくとも上方から被覆し得るカバーと、カバーを、パージノズルの上向き面を上方から被覆する被覆位置と、パージノズルの上向き面を上方に露出させる非被覆位置との間で移動させる駆動機構とを備え、駆動機構によって、パージ処理を行う場合にカバーを非被覆位置に位置付け、パージ処理を行わない場合にカバーを被覆位置に位置付けるように構成していることを特徴としている。
【００１４】
このように、本発明に係るパージ装置であれば、駆動機構によってカバーを被覆位置に位置付けることで、パージ用気体流路及びパージノズルの上向き面を上方から被覆して、パージ用気体流路内やパージノズルの上向き面に、パージノズルの周辺環境に存在する粉塵や埃、パーティクル等が付着したり、堆積する事態を防止・抑制することができる。そして、駆動機構によってカバーを非被覆位置に位置付けた状態でパージ処理を行えば、パーティクル等の不純物がパージ用気体とともにパージ対象容器内に混入してしまうことがなく、ＦＯＵＰ内の高い清浄度を維持することができる。
【００１５】
本発明に係るパージ装置では、パージノズルとして、昇降可能な可動タイプ、または昇降不能な固定タイプの何れのタイプであっても構わない。
【００１６】
例えば、パージノズルの上向き面の全部又は一部がパージ対象容器の底面に設けたポートに接触可能なパージ位置と、パージノズルの上向き面がポートに接触し得ない待機位置との間で昇降移動可能なパージノズルを適用したパージ装置であれば、パージノズルとカバーの高さ方向における相対位置である相対高さ位置が、待機位置にあるパージノズルとカバーの相対高さ位置よりも近接することをきっかけとして、駆動機構がカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させるように構成すればよい。
【００１７】
一方、昇降移動不能な固定タイプのパージノズルを適用したパージ装置であれば、パージ対象容器とパージノズルの距離を直接または間接的に検知可能な検知部を備え、検知部の検知情報に基づいてパージ対象容器とパージノズルの距離が所定値よりも近くなったことをきっかけとして駆動機構がカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させるように構成すればよい。
【００１８】
また、本発明のロードポートは、クリーンルーム内において半導体製造装置に隣接して設けられ、搬送されてきたパージ対象容器であるＦＯＵＰを受け取りＦＯＵＰ内に格納されているウェーハを半導体製造装置内とＦＯＵＰ内との間でＦＯＵＰの前面に形成した搬出入口を介して出し入れするものであり、上述した構成をなすパージ装置を備えていることを特徴としている。
【００１９】
このようなロードポートであれば、パージ装置により、上述した作用効果を奏するものとなり、ＦＯＵＰ内の高い清浄度を維持した状態で、所定の気体雰囲気の到達濃度が高いパージ処理を効率良く的確に行うことができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、所定の気体雰囲気の到達濃度が高いパージ処理を行うことが可能なボトムパージ方式を採用しつつ、パージ処理時以外にはパージノズルの上向き面を上方から被覆するという斬新な技術的思想を採用したことによって、パージ処理時に、パージノズルの周辺環境に存在する粉塵や埃、パーティクル等がパージ用気体とともにパージ対象容器内に混入してしまう事態を防止・抑制することができ、パージ対象容器に対して所定の気体雰囲気の到達濃度が高いパージ処理を行うことが可能なパージ装置、及びそのパージ装置を備えたロードポートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係るロードポートの全体構成図。
【図２】同実施形態において待機位置にあるパージノズル及び被覆位置にあるカバー機構の断面模式図。
【図３】同実施形態においてパージ位置にあるパージノズル及び非被覆位置にあるカバー機構の図２対応図。
【図４】同実施形態における優先導入手段の断面模式図。
【図５】同実施形態において被覆位置にあるカバーの平面模式図。
【図６】同実施形態において非被覆位置にあるカバーの図５対応図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の一実施形態を、図面を参照して説明する。
【００２３】
本実施形態に係るパージ装置Ｐは、例えば図１に示すロードポートＸに適用可能なものである。ここで、ロードポートＸは、半導体の製造工程において用いられ、クリーンルーム内において半導体製造装置（図示省略）に隣接して配置されるものであり、本発明のパージ対象容器の一例であるＦＯＵＰ１００の扉にドア部Ｄを密着させて開閉し、半導体製造装置との間でＦＯＵＰ１００内に収容された被収容体であるウェーハ（図示省略）の出し入れを行うものである。
【００２４】
本実施形態で適用するＦＯＵＰ１００は、内部に複数枚のウェーハを収容し、前面に形成した搬出入口を介してこれらウェーハを出し入れ可能に構成され、搬出入口を開閉可能な扉を備えた既知のものであるため、詳細な説明は省略する。なお、本実施形態においてＦＯＵＰ１００の前面とは、ロードポートＸに載置した際にロードポートＸのドア部Ｄと対面する側の面を意味する。ＦＯＵＰ１００の底面には、図２に示すように、パージ用のポート１０１が所定箇所に設けられている。ポート１０１は、例えば、ＦＯＵＰ１００の底面に形成した開口部１０２に嵌め込まれた中空筒状のグロメットシールを主体としてなり、グロメットシール内に、後述する窒素や不活性ガス又は乾燥空気等の気体（本実施形態では窒素ガスを用いており、以下の説明では「パージ用気体」と称する場合がある）の注入圧または排出圧によって閉状態から開状態に切り替わる弁（図示省略）を設けている。
【００２５】
半導体製造装置は、例えば、相対的にロードポートＸから遠い位置に配置される半導体製造装置本体と、半導体製造装置本体とロードポートＸとの間に配置される移送室とを備えたものであり、移送室内に、例えばＦＯＵＰ１００内のウェーハを１枚ずつＦＯＵＰ１００内と移送室内との間、及び移送室内と半導体製造装置本体内との間で移送する移送機を設けている。なお、ＦＯＵＰ１００と半導体製造装置（半導体製造装置本体及び移送室）との間でウェーハを複数枚格納したカセットごと移送することも可能である。このような構成により、クリーンルームにおいて、半導体製造装置本体内、移送室内、及びＦＯＵＰ１００内は高清浄度に維持される一方、ロードポートＸを配置した空間、換言すれば半導体製造装置本体外、移送室外、及びＦＯＵＰ１００外は比較的低清浄度となる。
【００２６】
ロードポートＸは、図１に示すように、起立姿勢で配置されてＦＯＵＰ１００の搬出入口に連通し得る開口部を開閉可能なドア部Ｄを有するフレームＦと、フレームＦのうち半導体製造装置から遠ざかる方向に略水平姿勢で延伸する載置台Ｂと、ＦＯＵＰ１００内にパージ用気体を注入し、ＦＯＵＰ１００内の気体雰囲気を窒素ガスなどのパージ用気体に置換可能なパージ装置Ｐとを備えたものである。
【００２７】
フレームＦに設けたドア部Ｄは、ＦＯＵＰ１００を載置台Ｂに載置した状態においてＦＯＵＰ１００の前面に設けた扉（図示省略）に密着した状態でその扉を開けて搬出入口を開放する開放位置と、搬出入口を閉止する閉止位置との間で作動可能なものである。ドア部Ｄを開放位置と閉止位置との間で少なくとも昇降移動させるドア昇降機構（図示省略）としては既知のものを適用することができる。
【００２８】
載置台Ｂは、フレームＦのうち高さ方向中央部からやや上方寄りの位置に略水平姿勢で配置されたものであり、上向きに突出させた複数の位置決め用突起Ｂ１（キネマティックピン：ガイドピン）を有する。そして、これらの位置決め用突起Ｂ１をＦＯＵＰ１００の底面に形成された位置決め用凹部（図示省略）に係合させることで、載置台Ｂ上におけるＦＯＵＰ１００の位置決めを図っている。位置決め用突起Ｂ１の一例としては、対向する傾斜壁面からなる断面視下向きＶ字状の位置決め用凹部に接触する上部を曲面状にし、この上部曲面を位置決め用凹部の各傾斜壁面にバランスよく接触可能に構成した態様を挙げることができる。また、載置台Ｂには、ＦＯＵＰ１００が載置台Ｂ上に所定の位置に載置されているか否かを検出する着座センサＢ２を設けている。位置決め用突起Ｂ１及び着座センサＢ２の構造や配置箇所は規格などに応じて適宜設定・変更することができる。なお、載置台Ｂとして、載置状態にあるＦＯＵＰ１００を、その搬出入口（扉）がフレームＦの開口部（ドア部Ｄ）に最も近付く位置と開口部（ドア部Ｄ）から所定距離離間した位置との間で移動させる移動機構を備えたものを適用することもできる。
【００２９】
パージ装置Ｐは、載置台Ｂ上に上端部を露出させた状態で所定箇所に配置される複数のパージノズル１を備え、これら複数のパージノズル１を、パージ用気体を注入する注入用パージノズルや、ＦＯＵＰ１００内の気体雰囲気を排出する排出用パージノズル１として機能させている。パージノズルの総数に占める注入用パージノズル及び排出用パージノズルの比率は、同率であってもよいし、何れか一方が他方よりも大きくてもよい。
【００３０】
これら複数のパージノズル１は、ＦＯＵＰ１００の底面に設けたポート１０１の位置に応じて載置台Ｂ上の適宜位置に取り付けることができる。各パージノズル１（注入用パージノズル、排出用パージノズル）は、気体の逆流を規制する弁機能を有するものであり、ＦＯＵＰ１００の底部に設けたポート１０１に接触可能なものである。なお、ＦＯＵＰ１００の底部に設けた複数のポート１０１のうち、注入用パージノズル１に接触するポート１０１は注入用ポートとして機能し、排出用パージノズル１に接触するポート１０１は排出用ポートとして機能する。
【００３１】
本実施形態では、パージノズル１として、図２に示す位置、すなわちパージノズル１の上向き面に設けたポート接触部２５がＦＯＵＰ１００のポート１０１に接触しない待機位置（ａ）と、図３に示す位置、すなわち、パージノズル１のポート接触部２５がＦＯＵＰ１００のポート１０１に接触可能なパージ位置（ｂ）と間で昇降移動可能なものを適用している。
【００３２】
具体的に、本実施形態で適用するパージノズル１は、図２及び図３に示すように、ノズル本体２と、ノズル本体２を昇降可能な状態で保持するホルダ３と、ノズル本体２を下方へ付勢する付勢手段４とを備え、ノズル本体２を昇降移動させることによって、待機位置（ａ）とパージ位置（ｂ）の間で切替可能に構成したものである。
【００３３】
ノズル本体２は、円筒状の胴部２１と、胴部２１よりも側方に張り出した鍔部２２とを備えたものである。本実施形態では、胴部２１の軸心部分には高さ方向に貫通するパージ用気体流路２３を形成している。以下の説明では、パージ用気体流路２３のうち、上方に開口している上端部分を上方開口部２４と称する場合がある。胴部２１の上向き面には、ポート１０１（注入用ポート、排出用ポート）に接触可能なポート接触部２５を設けている。本実施形態では、ポート接触部２５を、胴部２１の水平な上向き面よりも上方に突出したリング状の上方突出部によって構成している。また、鍔部２２の外側面には後述するホルダ３の側壁３１に接触するシール部材５を取り付けている。
【００３４】
ホルダ３は、ノズル本体２の鍔部２２の外向き面（外周面）が添接する側壁３１と、側壁３１の下端部から内方（中心側）に突出してノズル本体２のうち胴部２１のみが挿通可能な下側貫通孔３２を中央部に形成した底壁３３と、側壁３１の上端部から内方（中心側）に突出してノズル本体２のうち胴部２１のみが挿通可能な上側貫通孔３４を中央部に形成した天井壁３５とを備えている。また、底壁３３に形成した下側貫通孔３２の開口径及び天井壁３５に形成した上側貫通孔３４の開口径は、ノズル本体２のうち昇降移動時に対面する胴部２１の外向き面と添接し得る大きさに設定されている。下側貫通孔３２の内向き面及び上側貫通孔３４の内向き面には、それぞれノズル本体２の胴部２１に接触するシール部材５を取り付けている。
【００３５】
このようなホルダ３にノズル本体２を保持させた状態において、ホルダ３とノズル本体２との間に空間が形成される。そして、本実施形態では、この空間のうちノズル本体２の胴部２１及び鍔部２２とホルダ３の側壁３１及び天井壁３５によって仕切られる空間Ｓ１に付勢手段４を配置している。本実施形態では、付勢手段４として、ノズル本体２の鍔部２２とホルダ３の天井壁３５との間に圧縮状態で配置したコイルバネを適用している。この付勢手段４の復元力が鍔部２２、ひいてはノズル本体２全体を下方へ付勢する付勢力として作用する。
【００３６】
また、本実施形態では、ホルダ３とノズル本体２の間に形成される空間のうちノズル本体２の胴部２１及び鍔部２２とホルダ３の側壁３１及び底壁３３によって仕切られる空間を圧力調整空間Ｓ２として機能させている。本実施形態では、鍔部２２と側壁３１との間、及び胴部２１と底壁３３との間にそれぞれシール部材５を介在させることで、圧力調整空間Ｓ２の高い気密性を確保している。
【００３７】
このような各パーツ（ノズル本体２、ホルダ３、付勢部材４）をユニット化して構成したパージノズル１は、ノズル本体２の胴部２１に、パージ用気体流路２３のうちパージ用気体供給方向Ａ下流側に形成され且つパージ用気体供給源Ｖ１に配管Ｈを介して接続された通気孔２６と、パージ用気体流路２３に連通し且つ圧力調整空間Ｓ２にパージ用気体を導入可能な導入路２７と、パージ用気体流路２３のうち導入路２７よりも上方開口部２４側（パージ用気体供給方向Ａ下流側）に設けられ且つ通気孔２６からパージ用気体流路２３に供給されたパージ用気体をパージ用気体流路２３の上方開口部２４よりも優先して導入路２７に導入する導入路優先状態になり得る優先導入手段２８を設けている。
【００３８】
本実施形態のパージノズル１では、パージ用気体流路２３における下方に開口した下端部分を通気孔２６として機能させている。なお、パージ用気体流路２３が下方に開口していない有底筒状のものである場合には、パージ用気体流路２３のうち下端領域側の側面に、胴部２１を厚み方向に貫通する孔を形成し、その孔を通気孔として機能させればよい。本実施形態では、通気孔２６に配管Ｈを接続し、この配管Ｈ及び通気孔２６を通じてパージ用気体をパージ用気体流路２３内に注入可能に構成している。
【００３９】
導入路２７は、パージ用気体流路２３のうち通気孔２６よりも上方開口部２４側（パージ用気体供給方向Ａ下流側）に設けられ、胴部２１を厚み方向に貫通する孔によって形成したものである。本実施形態では、胴部２１の軸心を挟んで径方向に対向する２箇所（言い換えれば、胴部２１の周方向に１８０度ずらした位置）にそれぞれ導入路２７を形成している。導入路２７の基端はパージ用気体流路２３に連通し、先端は圧力調整空間Ｓ２に連通している。また、導入路２７の径は、パージ用気体流路２３の径よりも小さく設定されている。
【００４０】
優先導入手段２８は、図４に示すように、弁体２８１と、弁体２８１を支持する弁座２８２とを備え、所定値以上の圧力が弁体２８１に作用した場合に、弁体２８１が弁座２８２から離間することによって、弁座２８２に形成した弁開口部２８３が開放するように構成したものである。すなわち、優先導入手段２８は、チェック弁や逆支弁と称される弁を用いて構成することができる。なお、図２及び図３では優先導入手段２８の外縁形状だけを模式的に示している。
【００４１】
本実施形態で用いる優先導入手段２８は、パージ用気体流路２３の内向き面に対して隙間の無い状態で適宜の手段によって固定可能な中空のケーシング２８４内に、弁体２８１と、この弁体２８１を弁座２８２として機能するケーシング２８４の底壁２８５に向かって付勢する圧縮コイルバネ２８６とを配置している。ケーシング２８４の底壁２８５には弁体２８１の底部面積よりも小さい開口径に設定した弁開口部２８３を形成し、ケーシング２８４の天井壁２８７には、弁体２８１の先端部があそびを持った状態で挿通可能な挿通孔２８８を形成している。
【００４２】
このような構成を有する優先導入手段２８は、圧縮コイルバネ２８６の付勢力によって下方に付勢された弁体２８１が弁座２８２に密着して弁座２８２の弁開口部２８３を閉止した状態（弁閉止状態）と、弁体２８１が下方から受ける所定値以上の圧力によって上昇して弁座２８２から離間し、弁開口部２８３と挿通孔２８８がケーシング２８４の内部空間を介して相互に連通する状態（弁開放状態：図示省略）との切替可能である。
【００４３】
本実施形態では、このような胴部２１を備えたノズル本体２とホルダ３と付勢手段４によってパージノズル１（パージノズルユニット１）を構成し、ノズル本体２をホルダ３に対して昇降移動させるように構成している。また、本実施形態に係るパージノズル１は、ノズル本体２をホルダ３に対して昇降移動させる駆動源としてパージ用気体を適用し、導入路２７を通じてパージ用気体を圧力調整空間Ｓ２内に供給したり、または圧力調整空間Ｓ２内のパージ用気体を圧力調整空間Ｓ２外に排出することで圧力調整空間Ｓ２の圧力を調整し、ノズル本体２をホルダ３に対して昇降移動させるように構成している。
【００４４】
本実施形態では、通気孔２６に接続した配管Ｈに、この配管Ｈ及び通気孔２６を通じてパージ用気体をパージ用気体流路２３に注入するパージ・加圧状態と、パージノズル１内においてパージ用気体が流通可能な空間（パージ用気体流通可能空間）のうち優先導入手段２８よりも通気孔２６側（パージ用気体供給方向Ａ上流側）の空間内、具体的には、パージ用気体流路２３のうち優先導入手段２８よりも通気孔２６側の空間内、導入路２７内、及び圧力調整空間Ｓ２内のパージ用気体を真空引きして圧力調整空間Ｓ２の圧力を下げる負圧状態とに切替可能な切替部Ｖ（例えば電磁弁（ソレノイドバルブ））を接続し、この切替部Ｖの作動を制御することによって、ノズル本体２がホルダ３に対して昇降移動するように構成している。この切替部Ｖには、パージ用気体供給源Ｖ１及びバキューム源Ｖ２をパラレルで接続している。なお、バキューム源Ｖ２を設けずに圧力調整空間Ｓ２と通気孔２６内のパージ用気体をノズル本体２の下降に伴って自然排気するように構成してもよい。この場合、切替部Ｖは、パージ・加圧状態と大気開放状態とに切替可能なものである。
【００４５】
本実施形態のパージノズル１は、圧力調整空間Ｓ２内の圧力を調整することによって、図２に示す位置、すなわち、パージノズル１の上向き面を構成するノズル本体２の上向き面（胴部２１の上向き面）及びホルダ３の上向き面（天井壁３５の上向き面）が相互に同じ高さ位置にあり、且つポート接触部２５がＦＯＵＰ１００のポート１０１に接触しない待機位置（ａ）と、図３に示す位置、すなわちノズル本体２の上向き面（胴部２１の上向き面）がホルダ３の上向き面（天井壁３５の上向き面）よりも高い位置にあり、且つノズル本体２のポート接触部２５がＦＯＵＰ１００のポート１０１に接触可能なパージ位置（ｂ）と間で昇降移動である。このように、本実施形態のパージノズル１は、ノズル本体２をホルダ３に対して昇降移動させることによって、待機位置（ａ）とパージ位置（ｂ）に切替可能である。なお、ノズル本体２の昇降移動時には、ノズル本体２のうち鍔部２２の外向き面がホルダ３本体３４のうち側壁３１の内向き面に摺接するとともに、ノズル本体２のうち胴部２１の外向き面が底壁３３に形成した下側貫通孔３２の内向き面及び天井壁３５に形成した上側貫通孔３４の内向き面に摺接するように構成し、ノズル本体２の昇降移動をスムーズ且つ適切に行えるようにしている。ここで、「ノズル本体２の上向き面（胴部２１の上向き面）とホルダ３の上向き面（天井壁３５の上向き面）」が「パージノズル１の上向き面」である。
【００４６】
以上に詳述した本実施形態におけるパージノズル１は、ロードポートＸの載置台Ｂにおける複数の所定箇所（本実施形態では載置台Ｂの四隅近傍）に取り付けることで、載置台Ｂ上に載置されるＦＯＵＰ１００内の気体雰囲気をパージ用気体に置換可能なパージ装置Ｐとして機能する。なお、載置台Ｂに対する各パージノズル１の取付処理は、ネジなどの適宜の固定具を用いて載置台Ｂの所定箇所に固定することで実現できる。この固定状態において、ホルダ３の上向き面が載置台Ｂの上向き面とほぼ同じレベルとなるように設定している。
【００４７】
そして、本実施形態に係るパージ装置Ｐは、図２に示すように、パージノズル１のうち上向き面を少なくとも上方から被覆し得るカバー６を備えている。
【００４８】
カバー６は、図２及び図５に示すように、パージノズル１の上向き面の平面形状よりも大きい平面形状に設定した平板状のカバー本体６１と、カバー本体６１の下向き面に一体的に固定した弾性部材６２と、カバー本体６１の所定領域から少なくともカバー本体６１の中心から離間する方向に延伸するブラケット６３（カバー本体支持部）とを備えたものである。本実施形態のカバー６は、それぞれ例えば円盤状をなすカバー本体６１及び弾性部材６２を相互に中心を一致させて高さ方向に重ねた状態で接着などの適宜に手段により分離不能に固定している。本実施形態では、カバー本体６１の下向き面に取り付ける弾性部材６２として、例えばウレタンゴム等の弾性に富んだ素材から形成したものを適用し、この弾性部材６２の平面形状もまたパージノズル１の上向き面の平面形状よりも大きい形状に設定しており、弾性部材６２とカバー本体６１が共にパージノズル１の上向き面全体を被覆できるようにしている。
【００４９】
また、本実施形態のパージ装置Ｐは、カバー６を、図５に示すパージノズル１の上向き面を上方から被覆する被覆位置（ｃ）と、図６示すパージノズル１の上向き面を上方に露出させる非被覆位置（ｄ）との間で移動させる駆動機構７を備えている。
【００５０】
駆動機構７は、駆動用モータ７１と、駆動用モータ７１の回転駆動力によって正逆方向に回転可能な回転軸７２とを備えている。回転軸７２は、駆動用モータ７１の出力軸そのものであってもよいし、駆動用モータ７１の出力軸に一体回転可能に取り付けたもの（駆動用モータ７１の出力軸とは別のもの）であってもよい。
【００５１】
本実施形態のパージ装置Ｐは、回転軸７２にカバー６の一部を固定している。本実施形態では、カバー６のうち基端部がカバー本体６１に連続しているブラケット６３の先端部（ブラケット６３のうちカバー本体６１の中心から遠い方の端部）を回転軸７２に一体回転可能に取り付けている。本実施形態のパージ装置Ｐは、回転軸７２の上端部にカバー６のブラケット６３を固定し、回転軸７２の下端部に駆動用モータ７１を設けている。すなわち、カバー６は、片持ち状態で支持され、回転軸７２回りに旋回しながら被覆位置（ｃ）と非被覆位置（ｄ）の間で移動可能である。本実施形態のパージ装置Ｐは、被覆位置（ｃ）から非被覆位置（ｄ）へのカバー６の旋回移動、及び非被覆位置（ｄ）から被覆位置（ｃ）へのカバー６の旋回移動を何れも水平面内で行えるように設定している。
【００５２】
以上に述べたカバー６及び駆動機構７で構成されるカバー機構８は、ロードポートＸのうち載置台Ｂに支持された状態で配置されるものである。具体的には、回転軸７２を支持するブッシュ７３（軸受）を、載置台Ｂに形成したブッシュ７３保持孔に嵌合して保持させ、このブッシュ７３に回転可能に支持される回転軸７２の上端部にカバー６を固定している。
【００５３】
本実施形態のパージ装置Ｐでは、パージノズル１もロードポートＸの載置台Ｂに適宜の手段で取り付けている。すなわち、パージノズル１及びカバー機構８は何れも載置台Ｂに支持された状態で取り付けられるものであり、この載置台Ｂを、パージノズル１及びカバー機構８の共通のベースとみなした場合、共通のベースにパージノズル１及びカバー機構８を取り付けた状態を「カバー付きパージノズルユニット」として捉えることができる。このようなユニット単位で取り扱えるようにすることで、ロードポートＸに実装する処理が、各パーツ（パージノズル１、カバー機構８）を個別にロードポートＸに実装する態様と比較してスムーズに行えるようになる。
【００５４】
また、本実施形態のパージ装置Ｐは、パージノズル１とカバー６の高さ方向に沿った相対高さ位置を、パージノズル１とカバー６の高さ方向に沿った離間距離として検知可能な検知部を備えている（図示省略）。この検知部による検知情報は、例えば駆動機構７の作動を制御する制御部（ホストコンピュータ）に送信され、制御部において検知情報に基づくパージノズル１とカバー６の離間距離が、基準値として予め記憶されている待機位置に位置付けたパージノズル１とカバー６の離間距離よりも小さくなったか否かを判定し、基準値よりも小さくなった時点以降の所定のタイミングで、駆動機構７がカバー６を被覆位置（ｃ）から非被覆位置（ｄ）へ移動させるように構成している。
【００５５】
次に、このような構成をなすパージ装置Ｐを実装したロードポートＸの使用方法及び作用について説明する。
【００５６】
本実施形態のパージ装置Ｐは、ＦＯＵＰ１００がロードポートＸの載置台Ｂ上に載置されていない状態において、パージノズル１を待機位置（ａ）に位置付けるとともに、カバー６を被覆位置（ｃ）に位置付けている。これにより、パージノズル１の上向き面は、カバー６によって被覆された状態になり、粉塵や埃、パーティクル等がパージノズル１の上向き面やパージ用気体流路２３内に付着したり、堆積する事態を防止・抑制することができる。特に、本実施形態のパージ装置Ｐは、被覆位置（ｃ）においてパージノズル１の上向き面に対面するカバー６の下向き面を弾性部材６２で構成し、弾性部材６２をパージノズル１の上向き面に形成したポート接触部２５に近接するように設定している。その結果、カバー６を被覆位置（ｃ）にセットし続ける限り、パージノズル１の周辺環境に存在する粉塵や埃、パーティクル等がポート接触部２５を含むパージノズル１の上向き面やパージ用気体流路２３内に付着したり、堆積することを効果的に防止・抑制することができる。
【００５７】
そして、図示しないＯＨＴ(Overhead Hoist Transfer)等の搬送装置によりＦＯＵＰ１００がロードポートＸに搬送され、載置台Ｂ上に載置される場合、切替部Ｖを負圧状態（大気開放状態）に設定しておくことで、パージノズル１を待機位置（ａ）に位置付けておき、位置決め用突起Ｂ１がＦＯＵＰ１００の位置決め用凹部に嵌まって接触することにより、ＦＯＵＰ１００を載置台Ｂ上の所定の正規位置に載置することができる。また、着座センサＢ２によりＦＯＵＰ１００が載置台Ｂ上の正規位置に載置されたことを検出する。この時点においても、図２に示すように、待機位置（ａ）にあるパージノズル１の上向き面はカバー６によって被覆されている。また、本実施形態では、ＦＯＵＰ１００を載置台Ｂ上に載置した状態において、カバー６がＦＯＵＰ１００のポート１０１に接触しないように設定している（図２参照）。
【００５８】
そして、本実施形態のロードポートＸは、着座センサＢ２によりＦＯＵＰ１００の正規の着座状態を検出した後、切替部Ｖを負圧状態（大気開放状態）からパージ・加圧状態に切り替えて、ノズル本体２を上昇移動させる。すなわち、胴部２１に形成した通気孔２６及びこの通気孔２６に接続している配管Ｈを通じてパージ用気体流路２３に供給されたパージ用気体は、導入路優先状態（弁閉止状態）にある優先導入手段２８によりパージ用気体流路２３の上方開口部２４へは導入されずに、導入路２７を通じて圧力調整空間Ｓ２に導入される。すると、圧力調整空間Ｓ２の圧力は上昇し、付勢手段４によって下方に付勢されているノズル本体２は、付勢手段４の付勢力に抗して上昇する。その結果、パージノズル１は、図２に示す待機位置（ａ）から図３に示すパージ位置（ｂ）に変わる。
【００５９】
パージノズル１が待機位置（ａ）からパージ位置（ｂ）に上昇することによって、パージノズル１とカバー６の高さ方向に沿った離間距離は、待機位置（ａ）に位置付けられていたパージノズル１とカバー６の高さ方向に沿った離間距離よりも短くなり、この離間距離の変化を上述の検知部により検知する。そして、本実施形態に係るパージ装置Ｐは、検知部による検知情報を制御部（駆動機構７の作動を制御する制御部）に送信する。その検知情報を受信した制御部は、検知情報に基づくパージノズル１とカバー６の離間距離が、基準値（待機位置（ａ）に位置付けたパージノズル１とカバー６の高さ方向に沿った離間距離）よりも小さいことを判定した時点でカバー６を被覆位置（ｃ）から非被覆位置（ｄ）へ移動させる出力命令を駆動機構７（具体的には駆動用モータ７１）に出力する。その結果、駆動用モータ７１の回転駆動出力によって回転軸７２が所定方向に回転し、回転軸７２に固定しているカバー６も同一方向に回転して、図５に示す被覆位置（ｃ）から図６に示す非被覆位置（ｄ）に移動する。そして、パージノズル１が上昇し始めた時点でカバー６を被覆位置（ｃ）から非被覆位置（ｄ）へ移動させるため、上昇移動中にパージノズル１がカバー６に接触する事態を回避することができる。なお、仮に、カバー６の移動中にパージノズル１の最上端であるポート接触部２５がカバー６の下向き面に干渉した場合であっても、カバー６の下向き面を弾性部材６２で構成しているため、干渉時の衝撃を弾性吸収することでポート接触部２５及びカバー６の損傷を防止・抑制することができ、弾性部材６２の弾性変形によって、カバー６を被覆位置（ｃ）から非被覆位置（ｄ）へ移動させつつ、パージノズル１をパージ位置（ｂ）まで上昇させることが可能である。
【００６０】
カバー６が被覆位置（ｃ）から非被覆位置（ｄ）に移動すると、パージノズル１のパージ用気体流路２３はカバー６に覆われずに上方に開放した状態になる（図６参照）。
【００６１】
そして、パージノズル１が所定のパージ位置（ｂ）まで上昇すると、図３に示すように、ノズル本体２のポート接触部２５がポート１０１の下端に接触し、ポート１０１の内部空間１０３とノズル本体２のパージ用気体流路２３が連通した状態になる。本実施形態では、胴部２１の外周面に段部２９を設け、この段部２９がホルダ３の天井壁３５の下向き面に当たることによってそれ以上のノズル本体２の上昇移動を規制している（同図参照）。
【００６２】
本実施形態のパージ装置Ｐでは、ノズル本体２がパージ位置（ｂ）まで上昇移動し終えた時点以降も引き続いて切替部Ｖをパージ・加圧状態にしておき、配管Ｈ及び通気孔２６を通じてパージ用気体流路２３にパージ用気体を供給し続けると、そのパージ用気体は、それ以上継続して導入路２７を流れて圧力調整空間Ｓ２に導入されることなく、パージ用気体流路２３のうち優先導入手段２８よりもパージ用気体供給方向Ａ上流側領域（下方開口部２６側領域）の圧力を上げる気体として作用する。
【００６３】
そして、パージ用気体流路２３のうち優先導入手段２８よりもパージ用気体供給方向Ａ上流側領域の圧力が所定値以上になった時点で、優先導入手段２８の弁体２８１が圧縮コイルバネ２８６の付勢力に抗して上昇し、弁体２８１と弁座２８２の気密状態が解除され、優先導入手段２８は、導入路優先状態（弁閉止状態）から、弁座２８２の弁開口部２８３とケーシング２８４の挿通孔２８８がケーシング２８４の内部空間を介して相互に連通する弁開放状態に切り替わる。この時点（優先導入手段２８が導入路優先状態から弁開放状態に切り替わった時点）以降に通気孔２６からパージ用気体流路２３に供給されるパージ用気体の全部または略全部は、優先導入手段２８を通過して上方開口部２４に向かって流れる。
【００６４】
その結果、本実施形態に係るパージノズル１は、パージ用気体流路２３及びポート１０１の内部空間１０３を通じてパージ用気体をＦＯＵＰ１００内に注入する（パージ処理を実施する）ことができる。これにより、ＦＯＵＰ１００内に充満していた気体は、排出用ポート及び排出用パージノズル１を通じてＦＯＵＰ１００外へ排出される。なお、排出処理を注入処理よりも先に開始してＦＯＵＰ１００内のエアをある程度ＦＯＵＰ１００外へ排出してＦＯＵＰ１００内を減圧した状態で注入処理を行うようにしてもよい。
【００６５】
以上のようなパージ処理を行った後、あるいはパージ処理中に、本実施形態のロードポートＸは、フレームＦの開口部に連通するＦＯＵＰ１００の搬出入口を通じて、ＦＯＵＰ１００内のウェーハを半導体製造装置内に順次払い出す。半導体製造装置内に移送されたウェーハは引き続いて半導体製造装置本体による半導体製造処理工程に供される。半導体製造装置本体により半導体製造処理工程を終えたウェーハはＦＯＵＰ１００内に順次格納される。
【００６６】
本実施形態のロードポートＸでは、ウェーハの出し入れ時においてもパージ装置Ｐによるボトムパージ処理を継続して行うことが可能であり、ウェーハを出し入れする間もＦＯＵＰ１００内の気体雰囲気を窒素ガスなどのパージ用気体に置換し続けて、高濃度に保つことができる。
【００６７】
全てのウェーハが半導体製造処理工程を終えてＦＯＵＰ１００内に収納されると、ドア部ＤをＦＯＵＰ１００の扉に密着させた状態で開放位置から閉止位置に移動させる。これにより、ロードポートＸの開口部及びＦＯＵＰ１００の搬出入口は閉止される。引き続き、載置台Ｂに載置されているＦＯＵＰ１００は図示しない搬送機構により次工程へと運び出される。なお、必要であれば、半導体製造処理工程を終えたウェーハを収納したＦＯＵＰ１００に対して再度ボトムパージ処理を行うようにしてもよい。このようにすれば、半導体製造処理工程を終えたウェーハを収納したＦＯＵＰ１００に対して直ぐにパージ処理を開始することができ、処理済みのウェーハの酸化防止を図ることができる。
【００６８】
以上に詳述したように、本実施形態に係るロードポートＸは、パージ装置Ｐによるボトムパージ処理により、ＦＯＵＰ１００内におけるパージ用気体の充填度（置換度）を高い値に維持することができる。
【００６９】
また、共通のＦＯＵＰ１００内に収容される複数のウェーハのうち、最初に半導体製造処理工程を終えてＦＯＵＰ１００内に収容されたウェーハは、最後に半導体製造処理工程を経るウェーハがＦＯＵＰ１００内に収容されるまで、通常であればＦＯＵＰ１００内においてウェーハの出し入れ作業時間の経過とともにパージ用気体の充填度（置換度）が低下する気体雰囲気に晒されることにより僅かながらも悪影響を受け得るが、パージ装置Ｐによりパージ用気体をＦＯＵＰ１００内に注入することにより、ＦＯＵＰ１００内におけるパージ用気体充填度（置換度）の低下を効果的に抑制することができ、ウェーハを良好な状態でＦＯＵＰ１００内に収納しておくことができる。
【００７０】
また、半導体製造処理工程を終えたウェーハが収納されているＦＯＵＰ１００を搬送機構に受け渡す際、または受け渡した後の所定のタイミングで、パージ用気体供給源Ｖ１からパージ用気体をパージ用気体流路２３に供給する処理を停止すると、優先導入手段２８の弁体２８１は弁座２８２に密着して弁開口部２８３を閉止し、その時点でパージ用気体流路２３のうち優先導入手段２８よりも上方開口部２４側（パージ用気体供給方向Ａ下流側）の領域に存在するパージ用気体は大気中に開放される。また、パージ用気体流路２３のうち優先導入手段２８よりも下方側の領域は、切替部Ｖをパージ・加圧状態から負圧状態（大気開放状態）に切り替えることで、通気孔２６及びこの通気孔２６に接続している配管Ｈを通じて真空引き又は自然排気される。これにより、圧力調整空間Ｓ２の圧力は下がり、付勢手段４の付勢力（弾性復元力）によってノズル本体２がホルダ３に対して下降する。以上により、本実施形態のパージ装置Ｐは、パージノズル１をパージ位置（ｂ）から待機位置（ａ）に変更することができる。
【００７１】
そして、本実施形態のパージ装置Ｐでは、パージノズル１がパージ位置（ｂ）から待機位置（ａ）に移動した時点でカバー６を非被覆位置（ｄ）から被覆位置（ｃ）へ移動するように構成している。具体的には、制御部（ホストコンピュータ）が出力するパージノズル１をパージ位置（ｂ）から待機位置（ａ）に移動させる処理命令に基づいてカバー６を非被覆位置（ｄ）から被覆位置（ｃ）へ移動させるように設定している。
【００７２】
待機位置（ａ）に位置付けたパージノズル１の上向き面は、図２及び図５に示すように、非被覆位置（ｄ）から被覆位置（ｃ）に移動させたカバー６によって上方から被覆され、パージノズル１の上向き面やパージ用気体流路２３内にパーティクル等が付着・堆積することを防止・抑制することができる。特に、本実施形態では、次に処理すべき未処理のウェーハが収納されているＦＯＵＰ１００を搬送機構から載置台Ｂ上に受け取る時点までの間、カバー６を被覆位置（ｃ）にセットし続けるように設定しているため、ＦＯＵＰ１００の搬送処理中及びＦＯＵＰ１００の受取処理中においてもパージノズル１の上向き面やパージ用気体流路２３内にパーティクル等が付着・堆積することを防止・抑制することができる。
【００７３】
このように、本実施形態のパージ装置Ｐは、パージノズル１の上向き面を上方から被覆する被覆位置（ｃ）と、パージノズル１の上向き面を上方に露出させる非被覆位置（ｄ）との間で移動可能なカバー６を備えているため、パージ処理を行わない場合にカバー６を被覆位置（ｃ）に位置付けることで、パージノズル１の上向き面やパージ用気体流路２３内にパーティクル等が付着したり、堆積することを防止・抑制することができる。その結果、パージノズル１の上向き面やパージ用気体流路２３内にパーティクル等が付着している場合に生じ得る不具合、すなわち、パージ処理時にパーティクル等の不純物がパージ用気体とともにＦＯＵＰ１００内に混入してしまい、ＦＯＵＰ１００内の清浄度を低下させるという不具合を防止・抑制することができる。
【００７４】
特に、本実施形態のパージ装置Ｐは、待機位置（ａ）とパージ位置（ｂ）の間で昇降移動するパージノズル１を適用し、ＦＯＵＰ１００を載置台Ｂ上に載置した時点でもカバー６を被覆位置（ｃ）に位置付けておくように設定しているため、ＦＯＵＰ１００を載置台Ｂ上へ移動させる搬送処理中やＦＯＵＰ１００を載置台Ｂ上に載置する処理中においても、カバー６を被覆位置（ｃ）に位置付けることで、パージノズル１の上向き面やパージ用気体流路２３内にパーティクル等が付着したり、堆積することを防止・抑制することができ、より一層清浄度の高いパージ処理を実現することができる。
【００７５】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態では、ホルダに対してノズル本体を昇降移動させることで、パージノズルを所望の待機位置とパージ位置の間で変更可能に構成したが、パージノズル全体を昇降移動させることで待機位置とパージ位置の間で変更可能に構成することもできる。
【００７６】
また、ホルダに対してノズル本体を昇降移動させる態様、またはパージノズル全体を昇降移動させる態様の何れにおいても、昇降移動させる駆動源として、パージ用気体以外の気体や流体を適用したり、或いはメカニカルな駆動機構を適用してもよい。
【００７７】
また、上述した実施形態では、カバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させるタイミングとして、パージノズルの上向き面が上昇し始めた時点、つまり基準値（待機位置にあるパージノズルとカバーとの高さ方向に沿った相対高さ位置の差である離間距離）よりも小さくなった時点を例示したが、本発明のパージ装置におけるカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させるタイミングは、基準値よりも小さくなった時点以降の所定のタイミングであれば特に限定されることはなく、例えば、検知部で検知した値が基準値よりも所定値分小さくなった時点でカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させたり、基準値よりも小さくなった時点から所定時間経過後にカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させるように設定することができる。
【００７８】
なお、カバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させる処理は、パージノズルが待機位置にあるか否かを検知可能な適宜の検知部による検知情報に基づき、パージノズルが待機位置からパージ位置に向かって移動し始めたタイミングや、パージノズルが待機位置にないことを特定したタイミングで行うようにしてもよい。
【００７９】
さらには、パージノズルを待機位置からパージ位置に上昇移動させる処理に連動してカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させる構成を採用する場合、上述の検知部を不要とし、制御部（ホストコンピュータ）が出力するパージノズルを上昇させる指令情報（上述の実施形態であれば、パージノズルを待機位置からパージ位置に移動させる処理命令）に基づいてカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させるように構成しても構わない。この場合、制御部（ホストコンピュータ）がパージノズルを上昇させる指令情報を出力すること自体が、本発明における「パージノズルとカバーの高さ方向における相対位置で相対高さ位置が、待機位置にあるパージノズルとカバーの相対高さ位置よりも近接すること」を意味し、このパージノズル上昇指令情報の出力をきっかけとして、駆動機構がカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させることになる。
【００８０】
また、本発明のパージ装置で適用するパージノズルは、昇降移動可能なものに限らず、移動不能なものであってもよい。この場合、パージ対象容器（上述した実施形態ではＦＯＵＰ）とパージノズルの距離を直接または間接的に検知可能な検知部を備え、検知部の検知情報に基づいてパージ対象容器とパージノズルの距離が所定値よりも近くなったことをきっかけとして駆動機構がカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させるように構成すればよい。このような構成における検知部としては、載置台上に設けた近接センサや着座センサを挙げることができる。
【００８１】
また、パージノズルのうち、ポートと接触し得るポート接触部を有するノズル頭部を、パージノズルを構成する他の部分や部材から着脱可能に構成することもできる。この場合、パージノズルをノズル頭部とそれ以外の一または複数のパーツから構成することによって、ポート接触部が経年劣化や使用頻度に応じて摩耗損傷・変形してしまった場合に、新品のノズル頭部、あるいは摩耗損傷・変形していていない別のノズル頭部に交換することによって、ポートとの高い気密性を確保した良好な接触状態を確保することができる。
【００８２】
また、カバーは、パージノズルのうち上向き面を少なくとも上方から被覆可能なものであればよく、パージノズルの上向き面に加えて、パージノズルの上向き面以外の面や部分を適宜の方向（パージノズルの側面であれば側方）から被覆可能なものであってもよい。これにより、パージノズルを周囲雰囲気から遮蔽可能な領域を増大することができ、パーティクル等の不純物がパージノズルに接触する確率を有効に下げることが可能である。
【００８３】
さらにはまた、上述した実施形態では、被覆位置に位置付けたカバーが、パージノズルの上端部（上向き面に形成したポート接触部）に近接するように設定した態様を例示したが、被覆位置に位置付けたカバーが、パージノズルの上端部に接触するように設定してもよい。このような構成であれば、カバーの下向き面とパージノズルの上端部の隙間を通じてパージノズルの上端部やパージ用気体流路にパーティクル等が付着したり、堆積する事態をより一層効果的に防止することができる。特に、カバーの下向き面を弾性部材で構成すれば、カバーの下向き面とパージノズルの上端部の良好な密着状態を確保することが可能である。
【００８４】
また、カバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させる前に、又はカバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させながら、カバーを上昇移動させる機構を備えたパージ装置を構成すれば、カバーを被覆位置から非被覆位置へ移動させる際に、カバーの下向き面とパージノズルの上端部（上向き面に形成したポート接触部）の相互干渉を回避することができ、カバーの被覆位置から非被覆位置への移動をスムーズに行うことができる。
【００８５】
被覆位置と非被覆位置の間におけるカバーの移動を、水平面に対して９０度以外の所定傾斜角度をなす面内で行うように設定することもできる。
【００８６】
さらにはまた、カバーを被覆位置と非被覆位置の間で移動させる駆動機構として、例えばロータリ式エアシリンダ等のメカニカルな駆動機構や、気体や流体の圧力を利用してカバーを移動させる駆動機構を適用することも可能である。駆動機構が、カバーを片持ち状態で支持するものではなく、カバーの複数箇所を支持した状態でカバーを移動させるものであってもよい。
【００８７】
カバーは、パージノズルのうち上向き面を少なくとも上方から被覆し得る条件を満たせば、形状や構造、或いは素材は特に限定されるものではない。したがって、カバーとして、シャッタータイプ（片開きか両開きを問わない）や引き戸（スライド）タイプのものを適用することもできる。また、本発明のパージ装置は、カバーの下向き面を弾性部材で形成することも必須の要件ではない。
【００８８】
また、上述した実施形態では、パージ対象容器としてＦＯＵＰを例示したが、他の容器（キャリア）であってもよく、パージ対象容器内に収容される被収容体も、ウェーハに限らず、表示デバイスや光電変換デバイスなどに用いられるガラス基板であっても構わない。
【００８９】
また、パージ装置を、ロードポート以外のもの、例えばパージ対象容器を保管するストッカーや、パージ専用ステーションに適用することもできる。
【００９０】
その他、各部の具体的構成についても上記実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。
【符号の説明】
【００９１】
１…パージノズル
２３…パージ用気体流路
６…カバー
７…駆動機構
１００…パージ対象容器（ＦＯＵＰ）
１０１…ポート
Ｐ…パージ装置
Ｘ…ロードポート
【図１】
2014036184.tif 000003
【図２】
2014036184.tif 000004
【図３】
2014036184.tif 000005
【図４】
2014036184.tif 000006
【図５】
2014036184.tif 000007
【図６】
2014036184.tif 000008