(57)【要約】      （修正有）【課題】優れたハードコート性、透明性、耐擦傷性を備え、耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供する。【解決手段】透明基材１１と、透明基材１１の少なくとも一方の面上にハードコート層１２と、ハードコート層１２上に高屈折率層１３と、高屈折率層１３上に低屈折率層１４とを備え、高屈折率層１３は、高屈折率微粒子１３１と、高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．８〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子１３２とを含み、ハードコート層１２の屈折率ｎ（Ｈａ）と、高屈折率層屈折率ｎ（Ｈｉ）と、低屈折率層１４の屈折率ｎ（Ｌ）とが、ｎ（Ｌ）＜ｎ（Ｈａ）＜ｎ（Ｈｉ）であり、低屈折率層１４の表面の中心線平均高さが０．００３〜０．０２０μｍであり、かつ、凹凸の平均間隔が０．０３０〜１．０００ｍｍであり、そのヘイズ値が０．３％以下である。【選択図】図１
2014202853.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射防止フィルムであって、
透明基材と、
前記透明基材の少なくとも一方の面上にハードコート層と、
前記ハードコート層上に高屈折率層と、
前記高屈折率層上に低屈折率層とを備え、
前記高屈折率層は、
高屈折率微粒子と、
前記高屈折率層の膜厚と前記低屈折率層の膜厚とを合わせた膜厚の０．８〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子とを含み、
前記ハードコート層の屈折率ｎ（Ｈａｒｄ）と、前記高屈折率層屈折率ｎ（Ｈｉｇｈ）と、前記低屈折率層の屈折率ｎ（Ｌｏｗ）とが、ｎ（Ｌｏｗ）＜ｎ（Ｈａｒｄ）＜ｎ（Ｈｉｇｈ）であり、
前記低屈折率層の表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍであり、かつ、前記低屈折率層の表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍであり、前記反射防止フィルムのヘイズ値が０．３％以下であることを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の反射防止フィルムと、前記反射防止フィルムの前記透明基材の前記ハードコート層が形成された面とは反対の面側に配置された偏光板とを備えていることを特徴とする、反射防止フィルム付偏光板。
【請求項３】
請求項２に記載の反射防止フィルム付偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとを備え、前記反射防止フィルム付偏光板において前記反射防止フィルムを備える面とは反対の面側に、前記液晶セルと、前記偏光板と、前記バックライトユニットとがこの順に保持されていることを特徴とする、透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化や、反射防止機能以外の機能との複合化が求められている。
【０００３】
また、一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜を反射防止層として形成することで得られる。多層膜を形成する方法として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といったドライコーティング法が提案されている。また、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産および低コスト化が可能であるウェットコーティング法も提案されている。
【０００４】
また、これらの反射防止層は、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。
【０００５】
また、ディスプレイ表面に用いられる場合、視認性を高くするために、反射防止フィルムは高い透明性が要求される。反射防止フィルムの透明性を向上させるために、反射防止フィルム表面を平滑にし、外光の散乱をなくす方法がある。
【０００６】
しかし、この方法では、その平滑さ故にフィルムの滑り性が悪く、フィルムを重ねたり、ロール状にしたりする場合、ブロッキング（貼り付き）が発生してしまい、剥離する際にフィルム表面が荒れてしまう。そこで、このようなブロッキングの改良法としては、フィルムの両端にテープ等のスペーサーを挟む方法や、フィルム表面に微細な凹凸を付与する方法等がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−０４５２３４号公報
【特許文献２】特開２００５−１４４８５８号公報
【特許文献３】特開２０１２−２７４０１号公報
【特許文献４】特開２０１２−１３３０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、これらの方法では、フィルム加工時にテープを除去する工程が煩雑であるほか、フィルム表面に微細な凹凸を付与することによりフィルムの透明性が劣化するという問題が発生する。
【０００９】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために、本発明の反射防止フィルムは、反射防止フィルムであって、透明基材と、透明基材の少なくとも一方の面上にハードコート層と、ハードコート層上に高屈折率層と、高屈折率層上に低屈折率層とを備え、高屈折率層は、高屈折率微粒子と、高屈折率層の膜厚と低屈折率層の膜厚とを合わせた膜厚の０．８〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子とを含み、ハードコート層の屈折率ｎ（Ｈａｒｄ）と、高屈折率層屈折率ｎ（Ｈｉｇｈ）と、低屈折率層の屈折率ｎ（Ｌｏｗ）とが、ｎ（Ｌｏｗ）＜ｎ（Ｈａｒｄ）＜ｎ（Ｈｉｇｈ）であり、低屈折率層の表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍであり、かつ、低屈折率層の表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍであり、反射防止フィルムのヘイズ値が０．３％以下であることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の反射防止フィルム付偏光板は、上記の反射防止フィルムと、反射防止フィルムの透明基材のハードコート層が形成された面とは反対の面側に配置された偏光板とを備えていることを特徴とする。
【００１２】
さらに、本発明の透過型液晶ディスプレイは、上記の反射防止フィルム付偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとを備え、反射防止フィルム付偏光板において反射防止フィルムを備える面とは反対の面側に、液晶セルと、前記偏光板と、前記バックライトユニットとがこの順に保持されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムを示す概略断面図
【図２】本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板を示す概略断面図
【図３】本発明の実施の形態３に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【図４】本発明の実施の形態４に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００１６】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１を示す概略断面図である。反射防止フィルム１は、図１に示すように、透明基材１１の少なくとも一方の面上に、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層１２と、高屈折率微粒子１３１と微粒子１３２を含む高屈折率層形成用塗液から形成された高屈折率層１３と、低屈折率微粒子１４１を含む低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層１４とを順次積層した積層体である。
【００１７】
図１は、透明基材１１の上面（表側の面）にだけ、ハードコート層１２と、高屈折率層１３と、低屈折率層１４とを形成した反射防止フィルム１の一例である。
【００１８】
まず、透明基材１１について説明する。透明基材１１としては、種々の有機高分子からなるフィルムを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材を用いることができる。透明基材１１としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものを用いることができる。特に、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムを好適に用いることができる。セルロース系フィルムは、複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性に優れている。さらに、セルロース系フィルムは、溶剤によって容易に溶解または膨潤するので、最も好ましく用いられる。
【００１９】
透明基材１１に、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加してもよい。また、透明基材１１の厚さは特に限定されるものではない。しかしながら透明基材１１の厚さは、２０μｍ以上、２００μｍ以下が好ましい。ただし、透明基材１１として、トリアセチルセルロースフィルムを用いる場合には、透明基材１１の厚さは、４０μｍ以上、８０μｍ以下が好ましい。
【００２０】
次に、透明基材１１上に形成されるハードコート層１２について説明する。ハードコート層１２を形成するためには、まず、バインダマトリックス形成材料と透明基材１１を溶解または膨潤させる溶剤とを含むハードコート層形成用塗液を使用して塗膜を形成する。ハードコート層形成用塗液の塗工方法として、例えば、湿式成膜法を採用し、ハードコート層形成用塗液を透明基材１１上に塗布し、透明基材１１上に塗膜を形成する。その後、該塗膜に電離放射線を照射し、該塗膜を硬化させることにより、ハードコート層１２を形成することができる。
【００２１】
ハードコート層形成用塗液は、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料を含んでいることが好ましい。アクリル系材料としては、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよび（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。また、これらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００２２】
なお、本発明において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」と「メタクリル」の両方を示し、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示し、「（メタ）アクリロイル」とは、「アクリロイル」と「メタクリロイル」の両方を示している。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタクリレート」の両方を示している。
【００２３】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２４】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２５】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００２６】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成されるハードコート層１２の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００２７】
ハードコート層形成用塗液に含まれる溶剤としては、透明基材１１を溶解または膨潤させる溶剤を用いる。透明基材１１を溶解または膨潤させる溶剤を含むハードコート層形成用塗液を用いてハードコート層１２を形成することにより、透明基材１１とハードコート層１２との密着性を向上させることができる。すなわち、透明基材１１の成分とハードコート層１２の成分とが混在したハードコート層１２を形成することができ、得られる反射防止フィルム１において干渉ムラの発生を防ぐことができる。
【００２８】
透明基材１１としてセルロース系フィルムを用いた場合、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられ、これらを単独で、もしくは２種類以上組み合わせて用いることができる。また、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンおよびシクロヘキサノンの少なくとも１種類を用いることが好ましい。
【００２９】
また、ハードコート層１２に四級アンモニウムカチオンや導電性金属微粒子等を添加し、ハードコート層１２に導電性を付与しても構わない。
【００３０】
ハードコート層１２の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を採用することができ、透明基材１１の少なくとも一方の面上にハードコート層形成用塗液を塗布することにより形成することができる。特に、ハードコート層１２は、薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、ハードコート層１２として、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることが好ましい。
【００３１】
ハードコート層１２を形成する際の塗膜の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を採用することができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【００３２】
ハードコート層１２の膜厚は、３μｍ以上であれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いの点から、５μｍ以上、１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。ハードコート層１２の膜厚が１０μｍを超えると、硬化収縮による透明基材１１の反り、ゆがみ、折れが発生する虞がある。また、ハードコート層１２の膜厚が５μｍ以上、７μｍ以下の範囲であると、ハードコート層１２としては非常に好ましい。
【００３３】
次に、ハードコート層１２上に形成される高屈折率層１３について説明する。高屈折率層１３は、高屈折率微粒子１３１と、高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．８〜１．２倍の平均粒子径を有する微粒子１３２とを含む高屈折率層形成塗液をハードコート層１２の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき高屈折率層１３単層の膜厚（ｄ１）は、その膜厚（ｄ１）に高屈折率層１３の屈折率（ｎ１）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎ１ｄ１）が可視光の波長の１／２と等しくなるように設計されることが好ましい。高屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に高屈折率微粒子１３１を分散させたものを用いることができる。
【００３４】
高屈折率微粒子１３１としては、例えば、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＮｂＯ、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｂＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ等の高屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。
【００３５】
高屈折率微粒子１３１の平均粒子径は、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率微粒子１３１の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、高屈折率層１３のヘイズ値が高くなってしまい、反射防止フィルム１の透明性が低下する虞がある。一方、高屈折率微粒子１３１の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、高屈折率層１３における粒子の不均一性等の問題が生じる虞がある。
【００３６】
微粒子１３２は、高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．８〜１．２倍の平均粒子径を有し、好ましくは反射防止フィルム１のヘイズ値が後述する範囲となるようにすることができるものであればよく、特に限定されない。微粒子１３２としては、例えば、ポリメチルメタクリレート微粒子、ポリメチルメタクリレート−ポリスチレン共重合体微粒子等の透光性の有機樹脂粒子や、シリカ等の可視光散乱を起こさない大きさの無機フィラー等を用いることができる。
【００３７】
微粒子１３２の平均粒子径は、高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．８〜１．２倍、好ましくは０．９〜１．１倍である。微粒子１３２の平均粒子径が、高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．８倍未満の場合、バインダマトリックス内に微粒子１３２が埋没してしまい、反射防止フィルム１の表面に凹凸を付与することができず、耐ブロッキング性の向上効果を発現させることができない。一方、微粒子１３２の平均粒子径が高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の１．２倍を超える場合、反射防止フィルム１表面の凹凸が大きくなってしまい、この凹凸部により表面に傷が付きやすくなってしまう。
【００３８】
微粒子１３２の含有量は、高屈折率層形成用塗液の全固形分１００重量部に対して０．５〜３．０重量部、好ましくは０．８〜２．５重量部である。微粒子１３２の含有量が０．５重量部未満の場合、ブロッキングを防ぐほどの凹凸を反射防止フィルム１の表面に付与することができない。一方、微粒子１３２の含有量が３．０重量部を超える場合、微粒子１３２を分散させることが困難となり、微粒子１３２の偏在を引き起こしてしまう。
【００３９】
なお、平均粒子径が高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚とを合わせた膜厚の０．８〜１．２倍である微粒子１３２を、高屈折率層用形成塗液に添加する代わりに、ハードコート層形成用塗液に添加して、反射防止フィルム１の表面に凹凸を付ける場合、ハードコート層１２はある程度膜厚を有していなければ、ハードコート性を発現しない。それ故に、反射防止フィルム１の表面に凹凸を付与しようとすると、添加する微粒子１３２の粒子径も大きくする必要がある。ここで、微粒子１３２の粒子径を大きくすると、反射防止フィルム１のヘイズ値が上昇するという問題が起こる。また、最表面である低屈折率層１４に高屈折率層１３の膜厚と低屈折率層１４の膜厚を合わせた膜厚の０．８〜１．２倍である微粒子１３２を添加するよりも、内部である高屈折率層１３に添加することで、反射防止フィルム１の表面の凹凸がなだらかとなり、凹凸起因によるキズ付きを防ぐことができる。
【００４０】
高屈折率層１３を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、又は、単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。電離放射線硬化型材料としては、例えば、ハードコート層１２に用いられる電離放射線硬化型材料として例示した単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であるアクリル系材料を用いることができる。
【００４１】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される高屈折率層１３の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００４２】
なお、高屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択して用いることができる。
【００４３】
また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより高屈折率層１３を形成する場合には、高屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等を用いることができる。
【００４４】
高屈折率層１３を形成する方法としては、高屈折率層形成用塗液をハードコート層１２の表面に塗布し、高屈折率層１３を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で高屈折率層１３を形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、本発明においては、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。
【００４５】
次に、高屈折率層１３上に形成される低屈折率層１４について説明する。低屈折率層１４は、低屈折率微粒子１４１を含む低屈折率層形成塗液を、高屈折率層１３の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき反射防止層である低屈折率層１４単層の膜厚（ｄ２）は、その膜厚（ｄ２）に低屈折率層１４の屈折率（ｎ２）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎ２ｄ２）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計されることが好ましい。低屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に低屈折率微粒子１４１を分散させたものを用いることができる。
【００４６】
低屈折率微粒子１４１としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【００４７】
低屈折率微粒子１４１の平均粒子径は、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率微粒子１４１の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層１４が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下する虞がある。一方、低屈折率微粒子１４１の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、低屈折率層１４における粒子の不均一性等の問題が生じる虞がある。
【００４８】
低屈折率層１４を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、又は、単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。電離放射線硬化型材料としては、高屈折率層１３に用いられる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。
【００４９】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される低屈折率層１４の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００５０】
なお、低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、高屈折率層１３の用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等が挙げられる。
【００５１】
また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層１４を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、高屈折率層１３形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。
【００５２】
低屈折率層１４を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液を高屈折率層１３の表面に塗布し、高屈折率層１３を形成する方法として例示した方法を採用することができる。
【００５３】
また、ハードコート層屈折率ｎ（Ｈａｒｄ）と高屈折率層屈折率ｎ（Ｈｉｇｈ）と低屈折率層屈折率ｎ（Ｌｏｗ）の高さは、ｎ（Ｌｏｗ）＜ｎ（Ｈａｒｄ）＜ｎ（Ｈｉｇｈ）であることが好ましい。これを満たさない場合、良好な反射防止機能を得られることができない。
【００５４】
なお、反射防止フィルム１においては、透明基材１１とハードコート層１２との間、またはハードコート層１２と高屈折率層１３との間、高屈折率層１３と低屈折率層１４との間に、他の機能層を設けてもかまわない。他の機能層としては、例えば、電磁波シールド性能を有する電磁波シールド層、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層、紫外線吸収性能を有する紫外線吸収層等を挙げることができる。
【００５５】
かくして得られる反射防止フィルム１は、低屈折率層１４表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が好ましくは０．００３〜０．０２０μｍ、さらに好ましくは０．００５〜０．０１５μｍであり、かつ、該低屈折率層１４表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が好ましくは０．０３０〜１．０００ｍｍ、さらに好ましくは０．０５０〜０．８００ｍｍである。また、反射防止フィルム１のヘイズ値は０．３％以下であることが好ましく、さらには０．２５％以下であることが好ましい。低屈折率層１４表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が０．００３μｍ未満の場合、または、低屈折率層１４表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が１．０００ｍｍを超える場合、反射防止フィルム１の表面が平坦となってしまい、ブロッキングが発生しやすくなる虞がある。一方、低屈折率層１４表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が０．０２０μｍを超える場合、または低屈折率層１４表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０ｍｍ未満である場合、表面の凹凸により反射防止フィルム１が白化しているように見える虞がある。また、反射防止フィルム１のヘイズ値が０．３％を超える場合、反射防止フィルムの透明性が低くなる虞がある。
【００５６】
反射防止フィルム１は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として好適に用いることができる。
【００５７】
（実施の形態２）
図２は、実施の形態１に係る反射防止フィルム１を備えた、本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板２００を示す概略断面図である。
【００５８】
図２に示すように、反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１と偏光板２とを備えている。具体的に、該反射防止フィルム１の透明基材１１のハードコート層１２が形成されていない面側に、偏光層２３および透明基材２１からなる偏光板２が配置されている。すなわち、透明基材１１の一方の面（図２では上面）に、透明基材１１側から順に、ハードコート層１２、高屈折率層１３および低屈折率層１４が積層されており、透明基材１１のもう一方の面（図２では下面）に、透明基材１１側から順に、偏光層２３および透明基材２１が積層されている。なお、これら偏光層２３および透明基材２１は、特定に限定されるものではなく、通常、反射防止フィルム付偏光板に用いられるものを適宜用いることができる。
【００５９】
（実施の形態３）
図３は、本発明の実施の形態３に係る、反射防止フィルム付偏光板２００ａを備えた透過型液晶ディスプレイ３００の一例を示す概略断面図である。
【００６０】
透過型液晶ディスプレイ３００は、反射防止フィルム付偏光板２００ａと、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを備え、該反射防止フィルム付偏光板２００ａにおいて、反射防止フィルム１が形成されている面とは反対の面側に、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とがこの順に保持されている。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００ａにおいて、透明基材１１に対してハードコート層１２が形成された側とは反対側に保持されている。反射防止フィルム付偏光板２００ａは、反射防止フィルム１と、該反射防止フィルム１の透明基材１１側に偏光板２ａを備えている。偏光板２ａは、透明基材１１側から順に、透明基材２２と偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００ａの低屈折率層１４が形成されている面とは反対の面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、透過型液晶ディスプレイ３００において、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００６１】
透過型液晶ディスプレイ３００は、反射防止フィルム１の透明基材１１と、偏光板２ａの透明基材２２とを別々に備える。
【００６２】
バックライトユニット５は、光源と光拡散板と（図示しない）を備える。液晶セル３は、図示しないが、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２ａにおいては、透明基材２１と、透明基材２２との間に偏光層２３が挟持され、偏光板４においては、透明基材４１と、透明基材４２との間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【００６３】
（実施の形態４）
図４は、本発明の実施の形態４に係る、反射防止フィルム付偏光板２００を備えた透過型液晶ディスプレイの他の一例を示す概略断面図である。
【００６４】
図４に示す透過型液晶ディスプレイ４００は、反射防止フィルム付偏光板２００と、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを備え、該反射防止フィルム付偏光板２００において、反射防止フィルムが形成されている面とは反対の面側に、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とがこの順に保持されている。反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１と、該反射防止フィルム１の透明基材１１側に偏光板２を備えている。偏光板２は、透明基材１１側から順に、偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００の低屈折率層１４が形成されている面とは反対の面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、透過型液晶ディスプレイ４００において、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００６５】
透過型液晶ディスプレイ４００は、反射防止フィルム１のハードコート層１２が形成されていない面、すなわち、透明基材１１面に、偏光板２として、偏光層２３と透明基材２２とがこの順に設けられている。
【００６６】
透過型液晶ディスプレイ３００と同様に、バックライトユニット５は、光源と光拡散板と（図示しない）を備える。液晶セル３は、図示しないが、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２（反射防止フィルム付偏光板２００の一部）においては透明基材２１と、透明基材１１との間に偏光層２３が挟持され、偏光板４においては、透明基材４１と、透明基材４２との間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【００６７】
なお、本発明の透過型液晶ディスプレイ３００および４００は、他の機能性部材を備えていてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６８】
（実施例）
以下に、ハードコート層形成用塗液、高屈折率層形成用塗液および低屈折率層形成用塗液の調製例、ならびにこれらを用いた実施例および比較例を示す。
【００６９】
調製例１（ハードコート層形成用塗液）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥ３Ａ）１５．０重量部と、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥ４Ａ）１５．０質量部と、ウレタンアクリレート（ＵＡ）２５重量部と、光重合開始剤（イルガキュア１８４（Ｉｒｇ．１８４）、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）１重量部と、レベリング剤（ＢＹＫ−３４０、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．１重量部とを用い、これらをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）４３．９重量部に溶解してハードコート層形成用塗液１を調製した。表１にハードコート層形成用塗液の組成を示す。
【００７０】
【表１】
2014202853.tif 000003
【００７１】
調製例２（高屈折率層形成用塗液１）
ＡＴＯ微粒子分散液（平均粒子径５ｎｍ、固形分２０％、溶剤エタノール）２０．３５重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）５．８１重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５８重量部と、シリカ微粒子分散液（平均粒子径２００ｎｍ、固形分３０％、溶剤エタノール）０．５８重量部とを、溶媒であるエタノール（ＥｔＯＨ）７２．６７重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液１を調製した。
【００７２】
調製例３（高屈折率層形成用塗液２）
ＡＴＯ微粒子分散液（平均粒子径５ｎｍ、固形分２０％、溶剤エタノール）２０．３５重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５．８１重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５８重量部と、シリカ微粒子分散液（平均粒子径２３０ｎｍ、固形分３０％、溶剤エタノール）０．８７重量部とを、溶媒であるエタノール７２．６７重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液２を調製した。
【００７３】
調製例４（高屈折率層形成用塗液３）
ＡＴＯ微粒子分散液（平均粒子径５ｎｍ、固形分２０％、溶剤エタノール）２０．３５重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５．８１重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５８重量部と、シリカ微粒子分散液（平均粒子径２５０ｎｍ、固形分３０％、溶剤エタノール）０．５８重量部とを、溶媒であるエタノール７２．６７重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液３を調製した。
【００７４】
調製例５（高屈折率層形成用塗液４）
ＡＴＯ微粒子分散液（平均粒子径５ｎｍ、固形分２０％、溶剤エタノール）２０．３５重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５．８１重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５８重量部と、シリカ微粒子分散液（平均粒子径３００ｎｍ、固形分３０％、溶剤エタノール）０．２９重量部とを、溶媒であるエタノール７２．６７重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液４を調製した。
【００７５】
調製例６（高屈折率層形成用塗液５）
ＡＴＯ微粒子分散液（平均粒子径５ｎｍ、固形分２０％、溶剤エタノール）２０．３５重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５．８１重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５８重量部と、シリカ微粒子分散液（平均粒子径１００ｎｍ、固形分３０％、溶剤エタノール）０．５８重量部とを、溶媒であるエタノール７２．６７重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液５を調製した。
【００７６】
調製例７（高屈折率層形成用塗液６）
ＡＴＯ微粒子分散液（平均粒子径５ｎｍ、固形分２０％、溶剤エタノール）２０．３５重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５．８１重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５８重量部と、シリカ微粒子分散液（平均粒子径２００ｎｍ、固形分３０％、溶剤エタノール）０．１５重量部とを、溶媒であるエタノール７２．６７重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液６を調製した。
【００７７】
調製例８（高屈折率層形成用塗液７）
ＡＴＯ微粒子分散液（平均粒子径５ｎｍ、固形分２０％、溶剤エタノール）２０．３５重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５．８１重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５８重量部と、シリカ微粒子分散液（平均粒子径２５０ｎｍ、固形分３０％、溶剤エタノール）１．７４重量部とを、溶媒であるエタノール７２．６７重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液７を調製した。
【００７８】
調製例９（高屈折率層形成用塗液８）
ＡＴＯ微粒子分散液（平均粒子径５ｎｍ、固形分２０％、溶剤エタノール）２０．３５重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５．８１重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．５８重量部と、シリカ微粒子分散液（平均粒子径５００ｎｍ、固形分３０％、溶剤エタノール）０．５８重量部とを、溶媒であるエタノール７２．６７重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液８を調製した。
【００７９】
表２に、高屈折率層形成用塗液１〜８の組成を示す。
【００８０】
【表２】
2014202853.tif 000004
【００８１】
調製例１０（低屈折率層形成用塗液）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）３２．０８重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１．６８重量部と、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０７重量部と、レベリング剤（ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ビックケミー・ジャパン（株）製、固形分＞９７％）０．１８重量部とを、溶媒であるメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）６６．００重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液を調製した。表３に、低屈折率層形成用塗液の組成を示す。
【００８２】
【表３】
2014202853.tif 000005
【００８３】
実施例１（反射防止フィルムの作製）
図１に示す構成の反射防止フィルムを作製した。透明基材として、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム（株）製）を用いた。
【００８４】
（１）ハードコート層の形成
透明基材の一方の面上に、上記で得たハードコート層形成用塗液を塗布し、８０℃で６０秒間オーブンにて乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行い、乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成した。
【００８５】
（２）高屈折率層の形成
上記で形成したハードコート層上に、乾燥後の膜厚が１５０ｎｍとなるように高屈折率層形成用塗液１を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、高屈折率層を形成した。
【００８６】
（３）低屈折率層の形成
上記で形成した高屈折率層上に、乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように低屈折率層形成用塗液を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
【００８７】
実施例２（反射防止フィルムの作製）
高屈折率層形成用塗液１のかわりに、高屈折率層形成用塗液２を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８８】
実施例３（反射防止フィルムの作製）
高屈折率層形成用塗液１のかわりに、高屈折率層形成用塗液３を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８９】
実施例４（反射防止フィルムの作製）
高屈折率層形成用塗液１のかわりに、高屈折率層形成用塗液４を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００９０】
比較例１（反射防止フィルムの作製）
高屈折率層形成用塗液１のかわりに、高屈折率層形成用塗液５を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００９１】
比較例２（反射防止フィルムの作製）
高屈折率層形成用塗液１のかわりに、高屈折率層形成用塗液６を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００９２】
比較例３（反射防止フィルムの作製）
高屈折率層形成用塗液１のかわりに、高屈折率層形成用塗液７を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００９３】
比較例４（反射防止フィルムの作製）
高屈折率層形成用塗液１のかわりに、高屈折率層形成用塗液８を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００９４】
実施例１〜４および比較例１〜４で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。
【００９５】
（ヘイズ値）
上記で得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業（株）製、ＮＤＨ−２０００）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１に記載の方法に準拠してヘイズ値を測定した。
【００９６】
（平均視感反射率）
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面について、自動分光光度計（（株）日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち反射防止層が形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【００９７】
（白化）
上記で得られた反射防止フィルムに蛍光灯の光を当て、ハードコート層表面の光の拡散具合を評価した。判定基準を以下に示す。
○：光の拡散具合が小さく、ハードコート層表面が白化していない
×：ハードコート層表面が白化している
【００９８】
（耐擦傷性）
上記得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面を、スチールウール（日本スチールウール（株）製、ボンスター＃００００）を用いて、荷重２５０ｇ／ｃｍ２で１０往復擦り、傷の有無を目視にて観察して評価した。判定基準を以下に示す。
○：傷が確認されなかった
×：傷が確認された
【００９９】
（低屈折率層表面の中心線平均高さ（Ｒａ））
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層について、非接触表面・層断面形状計測システム  ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０高精度微細形状測定器（小坂研究所製サーフコーダーＥＴ４０００Ａ）を用い、低屈折率層表面の中心線平均高さ（Ｒａ）を測定した。
【０１００】
（低屈折率層表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ））
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層について、非接触表面・層断面形状計測システム  ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０高精度微細形状測定器（小坂研究所製サーフコーダーＥＴ４０００Ａ）を用い、低屈折率層表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）を測定した。
【０１０１】
（耐ブロッキング性）
上記で得られた反射防止フィルムを１０ｃｍ角にカットし、このカットしたフィルムをガラス板上に５枚重ね、５０℃で２４時間静置した。その後、フィルム面積（１００ｃｍ２）に占めるブロッキング部分の面積を目視にて観察して評価した。判定基準を以下に示す。
○：フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が５０％未満である
×：フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が５０％以上である
【０１０２】
上記で行った評価結果を、以下の表４に示す。
【０１０３】
【表４】
2014202853.tif 000006
【０１０４】
表４に示す結果から、実施例１〜４で得られた反射防止フィルムは、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れたものであることが分かる。
【０１０５】
これに対して、比較例１〜２で得られた反射防止フィルムは、耐ブロッキング性に劣り、比較例３〜４で得られた反射防止フィルムは、白化が発生しており透明性が劣ることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
本発明の反射防止フィルムは、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０１０７】
１    反射防止フィルム
１１、２１、２２、４１、４２    透明基材
１２    ハードコート層
１３    高屈折率層
１３１    高屈折率微粒子
１３２    微粒子
１４    低屈折率層
１４１    低屈折率微粒子
２、２ａ    偏光板
２３、４３    偏光層
２００、２００ａ    反射防止フィルム付偏光板
３    液晶セル
３００、４００    透過型液晶ディスプレイ
４    偏光板
５    バックライトユニット
【図１】
2014202853.tif 000007
【図２】
2014202853.tif 000008
【図３】
2014202853.tif 000009
【図４】
2014202853.tif 000010