(57)【要約】【課題】ガスバリア性フィルムに経時的に生じうる水分の吸着を防止する手段を提供する。【解決手段】巻芯および前記巻芯に巻き取られたガスバリア性フィルムを含むフィルムロールと、前記フィルムロールを包装する包装材を含む梱包部と、を有するフィルムロール梱包体であって、前記ガスバリア性フィルムが、基材およびガスバリア層を含み、かつ、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の水蒸気透過率を有する、フィルムロール梱包体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻芯および前記巻芯に巻き取られたガスバリア性フィルムを含むフィルムロールと、
前記フィルムロールを包装する包装材を含む梱包部と、
を有するフィルムロール梱包体であって、
前記ガスバリア性フィルムが、基材およびガスバリア層を含み、かつ、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の水蒸気透過率を有する、フィルムロール梱包体。
【請求項２】
前記ガスバリア性フィルムが、離型性を有する樹脂層をさらに有し、前記基材、前記ガスバリア層、および前記離型性を有する樹脂層がこの順で配置されてなる、請求項１に記載のフィルムロール梱包体。
【請求項３】
前記包装材の水蒸気透過率が、１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である、請求項１または２に記載のフィルムロール梱包体。
【請求項４】
前記梱包部内の露点が、１０℃以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルムロール梱包体。
【請求項５】
前記梱包部が、２以上の包装材で包装されてなる、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルムロール梱包体。
【請求項６】
吸湿材をさらに含み、前記吸湿材が、前記フィルムロールとともに包装される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルムロール梱包体。
【請求項７】
前記巻芯が、吸湿性を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフィルムロール梱包体。
【請求項８】
前記巻芯の材質が、紙である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のフィルムロール梱包体。
【請求項９】
基材上にガスバリア層を形成して、ガスバリア性フィルムを製造する工程（１）と、
前記ガスバリア性フィルムを、巻芯に巻き取り、フィルムロールを製造する工程（２）と、
前記フィルムロールを包装材で包装して梱包部を形成する工程（３）と、
を含む、フィルムロール梱包体の製造方法であって、
前記ガスバリア性フィルムの水蒸気透過率が、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である、製造方法。
【請求項１０】
前記工程（２）の巻き取りが、巻き取り張力３０〜３００Ｎ／ｍで行われる、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記工程（１）が、さらに前記ガスバリア性フィルムの表面に離型性を有する樹脂層を形成することを含む、請求項９または１０に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムロール梱包体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プラスチック基板やフィルムの表面に、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素等の金属酸化物を含む薄膜（ガスバリア層）を形成したガスバリア性フィルムが、食品、医薬品等の分野で物品を包装する用途に用いられている。ガスバリア性フィルムを用いることによって、水蒸気や酸素等のガスによる物品の変質を防止することができる。
【０００３】
近年、このような水蒸気や酸素等の透過を防ぐガスバリア性フィルムが、液晶表示素子（ＬＣＤ）、太陽電池（ＰＶ）、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの電子デバイスの分野にも利用されつつある。電子デバイスにガスバリア性フィルムを適用するためには、フレキシブル性、透明性、耐熱性等を有することが必要である。また、電子デバイスは水分等の影響を特に受けやすいことから、高いガスバリア性、例えば、ガラス基材に匹敵するガスバリア性が要求される。
【０００４】
電子デバイスに適用されうるガスバリア性フィルムとして、例えば特許文献１には、基材シートの片面もしくは両面に、複数の層からなる積層構造を有するガスバリア性層が積層されており、前記ガスバリア性層を構成する複数の層のうち、少なくとも前記基材シートに接する側の層が、酸化炭化珪素もしくは酸化窒化炭化珪素からなる無機化合物層であることを特徴とするガスバリア性フィルムが記載されている。特許文献１に記載のガスバリア性フィルムは、ガスバリア性能が高いこと（例えば、実施例１〜６の水蒸気透過率は、０．００５〜０．０１３ｇ／ｍ２／ｄａｙである）から、透明タッチパネル、液晶表示素子、有機または無機ＥＬ表示素子等の電子デバイスに適用できることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３２４４０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ガスバリア性フィルムは、通常、ガスバリア性フィルムを巻芯に巻き取ったフィルムロールの形態で製品として出荷されている。この際、電子デバイスに適用されうるガスバリア性フィルムは、高いガスバリア性を有していることから、それ自体は水分等の影響を受けにくいと考えられていた。そのため、これまでガスバリア性フィルムは、特段に保存環境等の影響については検討されてこなかった。
【０００７】
しかしながら、本発明者が鋭意検討を行ったところ、驚くべきことに、高いガスバリア性を有するガスバリア性フィルムであっても、経時的にガスバリア性フィルムに水分が吸着されうることが判明した。このような水分を吸着したガスバリア性フィルムをそのまま電子デバイスに適用すると、電子デバイスの性能に悪影響を及ぼす可能性がある。
【０００８】
そこで本発明は、ガスバリア性フィルムに経時的に生じうる水分の吸着を防止する手段を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は鋭意研究を行った結果、高いガスバリア性を有するガスバリア性フィルムをフィルムロールの形態とし、さらに当該フィルムロールを包装材で包装してフィルムロール梱包体とすることにより、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の上記課題は以下の手段により達成される。
【００１１】
１．巻芯および前記巻芯に巻き取られたガスバリア性フィルムを含むフィルムロールと、前記フィルムロールを包装する包装材を含む梱包部と、を有するフィルムロール梱包体であって、前記ガスバリア性フィルムが、基材およびガスバリア層を含み、かつ、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の水蒸気透過率を有する、フィルムロール梱包体；
２．前記ガスバリア性フィルムが、離型性を有する樹脂層をさらに有し、前記基材、前記ガスバリア層、および前記離型性を有する樹脂層がこの順で配置されてなる、１に記載のフィルムロール梱包体；
３．前記包装材の水蒸気透過率が、１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である、１または２に記載のフィルムロール梱包体；
４．前記梱包部内の露点が、１０℃以下である、１〜３のいずれか１つに記載のフィルムロール梱包体；
５．前記梱包部が、２以上の包装材で包装されてなる、１〜４のいずれか１つに記載のフィルムロール梱包体；
６．吸湿材をさらに含み、前記吸湿材が、前記フィルムロールとともに包装される、１〜５のいずれか１つに記載のフィルムロール梱包体；
７．前記巻芯が、吸湿性を有する、１〜６のいずれか１つに記載のフィルムロール梱包体；
８．前記巻芯の材質が、紙である、１〜７のいずれか１つに記載のフィルムロール梱包体；
９．基材上にガスバリア層を形成して、ガスバリア性フィルムを製造する工程（１）と、前記ガスバリア性フィルムを、巻芯に巻き取り、フィルムロールを製造する工程（２）と、前記フィルムロールを包装材で包装して梱包部を形成する工程（３）と、を含む、フィルムロール梱包体の製造方法であって、前記ガスバリア性フィルムの水蒸気透過率が、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である、製造方法；
１０．前記工程（２）の巻き取りが、巻き取り張力３０〜３００Ｎ／ｍで行われる、９に記載の製造方法；
１１．前記工程（１）が、さらに前記ガスバリア性フィルムの表面に離型性を有する樹脂層を形成することを含む、９または１０に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ガスバリア性フィルムに経時的に生じうる水分の吸着を防止することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【００１４】
本発明の一形態によれば、巻芯および前記巻芯に巻き取られたガスバリア性フィルムを含むフィルムロールと、前記フィルムロールを包装する包装材を含む梱包部と、を有するフィルムロール梱包体が提供される。この際、前記ガスバリア性フィルムが、基材およびガスバリア層を含み、かつ、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の水蒸気透過率を有することを特徴とする。
【００１５】
上述のように、従来、ガスバリア性フィルムは水分等の影響を受けにくいと考えられていた。しかし、ガスバリア性フィルムは、高いガスバリア性を有する場合であっても、空気中の水分が長期間をかけてガスバリア層に侵入することがあり、これを電子デバイスに適用すると悪影響を及ぼす可能性がある。
【００１６】
一般的には、フィルム等に水分が吸着した場合には、当該水分は加熱乾燥等により除去することができる。しかしながら、ガスバリア性フィルムが高いガスバリア性を有すると、ガスバリア層内への水分の侵入が困難である反面、侵入した水分の離脱は困難となりうる。すなわち、水分が入りにくく、抜けにくい状態となっていると考えられる。また、ガスバリア性フィルムが基材として耐熱性がない樹脂等を含む場合には、高温で行うベーク等を適用することができない。さらに、水分の吸着状態は複数存在することが知られており（N. Hirashita et al., JJAP 32, 1787 (1993)）、ウエット洗浄等で吸着する水分は容易に吸着するものの容易に脱離できるのに対して、経時で吸着した水分はより脱離しにくい安定な状態で膜に吸着することにより、容易に水分の脱離ができないと考えられる。
【００１７】
したがって、ガスバリア層に一度侵入した水分を除去するためには、ベーク等の適用が可能な耐熱性の基板を用いるか、または、性能に影響を及ぼさない温度で長期間乾燥させることとなる。耐熱性の基板は一般的に高価であり、適用可能な基板の種類は限定されてしまう。また、使用前に長時間の乾燥を行うことは生産性の観点から問題がある。このような観点から、保管や輸送等においてガスバリア性フィルムに生じうる水分の吸着を事前に防止する手段が望まれる。
【００１８】
これに対し、本形態に係るフィルムロール梱包体によれば、長期間の保管や輸送等を行った場合であっても、ガスバリア性フィルムに経時的に生じうる水分の吸着を防止することができる。
【００１９】
＜フィルムロール＞
フィルムロールは、巻芯および前記巻芯に巻き取られたガスバリア性フィルムを含む。
【００２０】
［巻芯］
巻芯は、ガスバリア性フィルムを巻き取るコアとなり、巻き取られるガスバリア性フィルムのシワの発生を防止する機能等を有する。
【００２１】
用いられうる巻芯の材質としては、特に制限されないが、紙、木材、金属、樹脂、繊維強化樹脂等が挙げられる。前記金属としては、鉄、アルミニウム、銅、チタン、鉛、亜鉛、金、ニッケル、クロム、スズ、銀、パラジウム、白金等が挙げられる。前記樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル、ＡＢＳ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ブタジエンゴム、ポリスチレン、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。前記繊維強化樹脂としては、ガラス繊維、炭素繊維、金属繊維、ポリイミド繊維、アラミド繊維等が挙げられる。これらのうち、巻芯の材質は、吸湿性を有するもの（紙、木材、炭素繊維等）であることが好ましく、紙であることがより好ましい。紙管は、異物の原因ともなりうる毛羽立ちの少ない、防塵処理紙管を使用することが好ましい。前記材質は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２２】
巻芯の形状としては、特に制限されないが、円筒状、円柱状であることが好ましい。また、前記巻芯の表面には、後述するガスバリア性フィルムの厚さに応じた段差が設けられていてもよい。前記段差を有することにより、ガスバリア性フィルムの巻き取りの際に巻ズレ、フィルムロス等の発生を防止することができる。
【００２３】
巻芯の大きさ（外径）は、特に制限されないが、２５〜４００ｍｍであることが好ましく、７０〜３００ｍｍであることがより好ましく、１５０〜２００ｍｍであることがさらに好ましい。
【００２４】
前記巻芯の含水率は、０．５質量％以下であることが好ましく、０．４質量％以下であることがより好ましく、０．３質量％以下であることがさらに好ましい。含水率が０．５質量％以下であると、梱包体内部の湿度が低下しうることから好ましい。なお、本明細書において、含水率の値は、カールフィッシャー法を用いた電量滴定法によって測定された値を採用するものとする。より詳細には、前記含水率は、基材を室温から２００℃まで昇温した際に基材から蒸発する水分量を水分測定装置ＣＡ−２００（株式会社三菱化学アナリテック製）を用いて測定した値である。
【００２５】
巻芯の弾性率は、２００ｋｇｆ／ｍｍ２以上であることが好ましく、５００〜７０００ｋｇｆ／ｍｍ２であることがより好ましく、１５００〜７０００ｋｇｆ／ｍｍ２であることがさらに好ましい。巻芯の弾性率が２００ｋｇｆ／ｍｍ２以上であると、ガスバリア性フィルムを巻き取った際に巻芯が変形しにくくなり、周方向の残留応力が低減されてフィルム表面にシワが生じにくくなることから好ましい。なお、本明細書において、弾性率の値は、ＪＩＳ  Ｋ７１７１：２００８の三点曲げ法により測定された値を採用するものとする。
【００２６】
巻芯の線膨張係数は、１０×１０−６ｃｍ／ｃｍ／℃以下であることが好ましく、５×１０−６ｃｍ／ｃｍ／℃以下であることがより好ましく、２×１０−６ｃｍ／ｃｍ／℃以下であることがさらに好ましい。線膨張係数が１０×１０−６ｃｍ／ｃｍ／℃以下であるとフィルムの巻きをズレ防止しうることから好ましい。なお、本明細書において、線膨張係数の値は、下記の方法により測定した値を採用するものとする。具体的には、ＥＸＳＴＡＲ  ＴＭＡ／ＳＳ６０００型熱応力歪測定装置（セイコーインスツル株式会社製）を用いて、測定する基材を窒素雰囲気下で５℃／分で３０〜５０℃まで加熱した後、一時温度を維持する。その後、再度５℃／分で３０〜１５０℃に加熱し、このとき、引張モード（荷重５ｇ）で基材の寸法変化を測定する。当該値から線膨張係数が求められる。
【００２７】
［ガスバリア性フィルム］
ガスバリア性フィルムは、ガスの透過を防止する機能を有する。本発明において、ガスバリア性フィルムは、水蒸気透過率が１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下、好ましくは１×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下、より好ましくは５×１０−４ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることを特徴とする。ガスバリア性フィルムは、基材およびガスバリア層を含む。前記ガスバリア層は、通常、基材上に配置される。また、前記ガスバリア層は、基材の両面に配置されていてもよい。なお、本明細書において、「ガス」とは、主として水蒸気を意味する。また、「水蒸気透過率」は、モコン法に従いＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３３（ＭＯＣＯＮ社製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１２９：２００８（温度４０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％）に基づいて測定した値を採用するものとする。
【００２８】
（基材）
基材は、ガスバリア層を保持する機能を有する。
【００２９】
本発明に係る基材は、特に限定されないが、可撓性および透過性を有する折り曲げ可能なフィルム基材であることが好ましい。
【００３０】
基材の具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体であるポリオレフィン（ＰＯ）樹脂、環状ポリオレフィン等の非品質ポリオレフィン樹脂（ＡＰＯ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ナイロン−６、ナイロン−１２、共重合ナイロン等のポリアミド系（ＰＡ）樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド（ｐＩ）樹脂、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）樹脂、ポリサルホン（ＰＳ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリビニルブチラート（ＰＶＢ）樹脂、ポリアリレート（ＰＡＲ）樹脂、エチレン四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、三フッ化塩化エチレン（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）、パーフルオロエチレン−パーフロロプロピレン−パーフロロビニルエーテル共重合体（ＥＰＡ）等のフッ素系樹脂等が挙げられる。
【００３１】
また、上記に挙げた樹脂以外にも、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレ一ト化合物よりなる樹脂組成物や、上記アクリルレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶解せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂、およびこれらの混合物等を用いることも可能である。さらに、これらの樹脂の１または２種以上をラミネートコーティング等の手段によって積層させたものを樹脂基材として用いることも可能である。
【００３２】
これらの素材は単独であるいは適宜混合されて使用することもできる。なかでもゼオネックスやゼオノア（日本ゼオン（株）製）、非品質シクロポリオレフィン樹脂フィルムのＡＲＴＯＮ（ジェイエスアール（株）製）、ポリカーボネートフィルムのピュアエース（帝人（株）製）、セルローストリアセテートフィルムのコニカミノルタタックＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＸ（コニカミノルタオプト（株）製）、クリアーハードコート層付ポリエチレンテレフタレートフィルム（きもと社製）などの市販品を好ましく使用することができる。
【００３３】
また、上記の樹脂フィルムを用いた基材は、未延伸フィルムであっても、延伸フィルムであってもよい。
【００３４】
上記樹脂フィルムを用いた基材は、従来公知の一般的な方法により製造することができる。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸フィルムを製造することができる。また、前記未延伸フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ（縦軸）方向、または基材の流れ方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ２倍〜１０倍であることが好ましい。
【００３５】
本発明に用いる基材の厚さは、５〜５００μｍであることが好ましく、２５〜２５０μｍであることがより好ましい。
【００３６】
また、本発明に用いる基材は透明であることが好ましい。基材が透明であると、透明な機能性フィルムとすることが可能となり、光電変換素子（太陽電池）等の電子デバイスの基板等に適用することができる。
【００３７】
本発明に用いる基材は、線膨張係数が５０ｐｐｍ／℃以下であることが好ましく、１〜５０ｐｐｍ／℃であることが好ましい。基材の線膨張係数が５０ｐｐｍ／℃以下であると、液晶表示装置（ＬＣＤ）パネル等の電子デバイスに機能性バリアフィルムを適用した場合、環境温度変化等に対する色ズレの発生や基材の変形を抑制しうることから好ましい。
【００３８】
本発明に係る基材は、可視光（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の光透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。光透過率が８０％以上であると、液晶表示装置（ＬＣＤ）パネル等の電子デバイスに機能性バリアフィルムを適用した場合、高い輝度が得られうることから好ましい。なお、本明細書において、光透過率の値は、分光光度計（可視紫外線分光光度計  ＵＶ−２５００ＰＣ：株式会社島津製作所製）を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ−１００３規格に準拠して可視光線の入射光量に対する全透過光量を測定して算出される、可視光域における平均透過率の値を採用するものとする。
【００３９】
本発明に係る基材には、コロナ処理が施されていてもよい。
【００４０】
また、本発明に係る基材は、適宜その他の層（中間層）を形成してもよい。例えば、基材表面へのハイブリッド層等の密着性を向上する目的でアンカーコート層（易接着層）が形成されうる。用いられうるアンカーコート剤としては特に制限されないが、単分子レベル〜ナノレベルの薄膜を形成し、層界面で分子結合を形成することによって高い接着性を得る観点から、シランカップリング剤を用いることが好ましい。この他には、樹脂等からなる応力緩和層、基材の表面を平滑化するための平滑層、基材等からのブリードアウトを防止するためのブリードアウト防止層などが設けられうる。
【００４１】
さらに、ガスバリア層のカールバランス調整やデバイス作製プロセス耐性、ハンドリング適性等を改良する目的で、基材にバックコート層が設けられてもよい。
【００４２】
上記基材に中間層が設けられる場合には、通常、ガスバリア層は中間層上に配置される。
【００４３】
（ガスバリア層）
ガスバリア層は、ガスバリア性フィルムにガスバリア性能を付与する機能を有する。
【００４４】
ガスバリア層は、得られるガスバリア性フィルムの水蒸気透過率が１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下となるものであれば、いかなるものであってもよい。
【００４５】
ガスバリア層の具体例としては、無機物を含む層であることが好ましい。当該無機物としては、二硫化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、アルミニウム添加亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、亜鉛スズ複合酸化物（ＺＴＯ）、窒化アルミニウム、炭化ケイ素、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素等が挙げられる。これらのうち、前記無機物は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素であることが好ましい。
【００４６】
前記無機物は、無機前駆体が改質されて形成されたものであってもよい。前記改質は、例えば、無機前駆体に真空紫外光等のエネルギー線を照射することによって行うことができる。ただし、この場合、無機物とともに未改質の無機前駆体や副生物等を含むことがある。したがって、無機前駆体の改質により無機物を形成する場合には、ガスバリア層内に含有される成分を一義的に定めることは困難になることがある。
【００４７】
ガスバリア層は、単層であっても、２層以上が積層されたものであってもよい。２層以上が積層される場合には、各層は同じ成分からなるものであっても、異なる成分からなる層であってもよい。
【００４８】
ガスバリア層が２層以上積層された構造を有する場合には、前記ガスバリア層は、無機物を含む層とともに有機物を含む層を有していてもよい。当該有機物を含む層が、無機物を含む層と接して配置されることにより、無機物を含む層に生じうる微細孔、微小なひび割れ、クラック等の欠陥を防止することができる。
【００４９】
前記有機物としては、アクリレート含有ポリマー、メタクリレート含有ポリマー等が挙げられる。
【００５０】
ガスバリア層の厚さは、１ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、２ｎｍ〜１μｍであることがより好ましく、５〜６００ｎｍであることがさらに好ましい。ガスバリア層が１ｎｍ以上であると、十分なガスバリア性を有しうることから好ましい。一方、ガスバリア層が１０μｍ以下であると、ガスバリア層にクラックが生じにくくなることから好ましい。なお、ガスバリア層が、２層以上が積層されてなる場合には、その総膜厚（有機物を含む層も含む）が上記範囲内にあることが好ましい。また、ガスバリア層が両面に形成される場合には、それぞれの膜厚が上記範囲内にあることが好ましい。
【００５１】
（保護層）
ガスバリア性フィルムには、必要に応じて保護層を設けてもよい。
【００５２】
保護層は、ガスバリア層を保護することで、ガスバリア性フィルムに高いガスバリア性を付与する機能を有する。保護層は、通常、ガスバリア層の基材とは反対の面に配置される。好ましいガスバリア性フィルムの形態は、基材、ガスバリア層、および保護層が、この順に積層された形態である。
【００５３】
前記保護層は、ポリシロキサンおよび／またはポリシロキサンが改質されてなる生成物を含む。
【００５４】
ポリシロキサン
ポリシロキサンとしては、特に制限されず、公知のものが用いられうる。なかでも下記一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサンを用いることが好ましい。
【００５５】
【化１】
2014019056.tif 000002
【００５６】
上記一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ８の有機基を表す。この際、前記Ｒ１〜Ｒ６の少なくとも１つは、アルコキシ基または水酸基であり、ｍは１以上の整数である。Ｃ１〜Ｃ８の有機基としては、特に制限されないが、γ−クロロプロピル基、３，３，３−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基；ビニル基等のアルケニル基；フェニル基等のアリール基；γ−メタクリルオキシプロピル基等の（メタ）アクリル酸エステル基；γ−グリシドキシプロピル基等のエポキシ含有アルキル基；γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト含有アルキル基；γ−アミノプロピル基等のアミノアルキル基；γ−イソシアネートプロピル基等のイソシアネート含有アルキル基；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の直鎖または分岐鎖アルキル基；シクロヘキシル基、シクロペンチル基等の脂環状アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基等の直鎖状または分岐状アルコキシ基；アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、カプロイル基等のアシル基が挙げられる。
【００５７】
上記一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサンのうち、ｍが１以上、かつ、重量平均分子量（ポリスチレン換算）が１０００〜２００００であるオルガノポリシロキサンを用いることがより好ましい。オルガノポリシロキサンの重量平均分子量が１０００以上であると、形成される保護層に亀裂が生じにくくなり、ガスバリア性を維持しうることから好ましい。一方、オルガノポリシロキサンの重量平均分子量が２００００以下であると、形成される保護層が十分に硬化され、保護層として十分な硬度が得られうることから好ましい。
【００５８】
ポリシロキサンを改質してなる生成物
ポリシロキサンを改質してなる生成物は、上述のポリシロキサンを真空紫外光等で改質して形成することができる。当該ポリシロキサンを改質してなる生成物の具体的な組成は明らかではない。
【００５９】
保護層は、単層であっても、２層以上が積層されたものであってもよい。２層以上が積層される場合には、各層は同じ成分からなるものであっても、異なる成分からなるものであってもよい。
【００６０】
保護層の厚さは、所望の性能に応じて適宜に設定されうる。例えば、保護層の厚さは、５０ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１００ｎｍ〜１μｍであることがより好ましい。保護層の厚さが５０ｎｍ以上であると、十分なガスバリア性が得られうることから好ましい。一方、保護層の厚さが１０μｍ以下であると、高い光線透過性を実現でき、かつ、保護層の形成に際して安定した塗布を行うことができることから好ましい。
【００６１】
（離型性を有する樹脂層）
ガスバリア性フィルムには、必要に応じて離型性を有する樹脂層を設けてもよい。
【００６２】
離型性を有する樹脂層は、ガスバリア性フィルムの表面からの水分の吸着を防止し、また、ガスバリア性フィルムを巻芯に巻き取る際に、ガスバリア層への傷や異物の混入を低減する機能を有する。なお、ガスバリア性フィルムの側面については、空気と接触する面積が小さいことから、空気中の水分等の影響を受けることはほとんどない。なお、本明細書において、「離型性」とは、ガスバリア性フィルムを構成するいずれかの要素と接着することができ、かつ、任意に所定のエネルギーを付与することにより剥離できることを意味する。
【００６３】
当該離型性を有する樹脂層は、通常、ガスバリア層の表面に貼合される。好ましいガスバリア性フィルムの形態は、基材、ガスバリア層、および離型性を有する樹脂層がこの順に積層された形態である。また、前記ガスバリア性フィルムが保護層を含む場合には、好ましいガスバリア性フィルムの形態は、基材、ガスバリア層、保護層、および離型性を有する樹脂層がこの順に積層された形態である。また、前記離型性を有する樹脂層は、基材のガスバリア層とは反対の面に配置されていてもよい。この場合には、好ましいガスバリア性フィルムの形態は、離型性を有する樹脂層、基材、およびガスバリア層がこの順に積層された形態となる。
【００６４】
離型性を有する樹脂層は、特に制限はないが、基板と、前記基板の片面に形成された粘着剤を含む粘着層とからなることが好ましい。
【００６５】
基板
基板は、粘着層を保持する機能を有する。
【００６６】
用いられうる基板としては、特に制限されないが、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィン系フィルム；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム；ヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド系フィルム；ポリビニルクロライド、ポリビニリデンクロライド、ポリフルオロエチレン等のハロゲン系フィルム；ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体等の酢酸ビニル；およびこれらの誘導体フィルム等が挙げられる。これらのうち、入手の容易性の観点から、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましい。
【００６７】
基板の厚さは、特に制限はされないが、１０〜３００μｍであることが好ましく、２５〜１５０μｍであることがより好ましい。基板の厚さが１０μｍ以上であると、取り扱いが容易となることから好ましい。一方、基板の厚さが３００μｍ以下であると、離型性を有する樹脂層が過度に硬くならないことから好ましい。
【００６８】
粘着層
粘着層は粘着剤を含む。粘着剤としては特に制限はなく、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコン系粘着剤、紫外線硬化型粘着剤、ポリオレフィン系粘着剤、エチレン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）系粘着剤などを挙げることができ、少なくとも１種を使用することができる。また、粘着剤の粘着力が１ｍＮ／ｃｍ〜２Ｎ／ｃｍであることが好ましく、１〜２００ｍＮ／ｃｍであることがより好ましく、さらに好ましくは１〜８０ｍＮ／ｃｍである。粘着剤の粘着力が１ｍＮ／ｃｍ以上であれば、ガスバリア性フィルムと離型性を有する樹脂層との十分な密着力を得ることができ、連続搬送中での剥離が発生しなくなると共に、搬送時のロール等の接触による既に形成したガスバリア膜等に対する影響を防止することができる。粘着力が２Ｎ／ｃｍ以下であれば、樹脂材料を剥離するときに、ガスバリア膜に対し過度の力を掛けることなく、ガスバリア膜の破壊や、ガスバリア膜上への粘着剤の残留を起こすことが少ない点で好ましい。
【００６９】
粘着剤の粘着力は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２３７に準拠した測定法に従って、試験板としてコーニング１７３７を用い、樹脂材料を試験板に圧着して２０分後に測定して求めることができる。
【００７０】
また、粘着層の厚さとしては、０．１〜３０μｍであることが好ましい。粘着層の厚さが０．１μｍ以上であれば、ガスバリアフィルムと離型性を有する樹脂層との十分な密着力を得ることができ、連続搬送中での剥離が発生しなくなると共に、搬送時のロール等の接触によるガスバリア膜に対する影響を防止することができる。また、粘着層の厚さが３０μｍ以下であれば、樹脂材料を剥離するときに、ガスバリア膜に対し過度の力を掛けることなく、ガスバリア膜の破壊や、ガスバリア膜上への粘着剤の過度の残留を起こすことがない。
【００７１】
アクリル系粘着剤としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体または他の共重合性モノマーとの共重合体が用いられる。さらに、これらの共重合体を構成するモノマーもしくは共重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル（例えば、メチルエステル、エチルエステル、ブチルエステル、２−エチルヘキシルエステル、オクチルエステル、イソノニルエステル等）、（メタ）アクリル酸のヒドロキシアルキルエステル（例えば、ヒドロキシエチルエステル、ヒドロキシブチルエステル、ヒドロキシヘキシルエステノレ）、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸アミド、（メタ）アクリル酸Ｎーヒドロキシメチルアミド、（メタ）アクリル酸アルキルアミノアルキルエステル（例えば、ジメチルアミノエチノレメタクリレート、ｔ−ブチノレアミノエチノレメタクリレート等）、酢酸ピニル、スチレン、アクリロニトリルなどが挙げられる。主要成分のモノマーとしては、通常、ホモポリマーのガラス転移点が５００℃以下のアクリル酸アルキルエステルが使用される。
【００７２】
アクリル系粘着剤の硬化剤としては、例えば、イソシアネート系、エポキシ系、アリジリン系硬化剤が利用できる。イソシアネート系硬化剤では、長期保存後も安定した粘着力を得ることと、より硬い粘着層とする目的で、トノレイレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等の芳香族系のタイプを好ましく用いることができる。
【００７３】
ゴム系粘着剤としては、例えば、ポリイソブチレンゴム、ブチルゴムとこれらの混合物、或いは、これらゴム系粘着剤にアピエチン酸ロジンエステル、テルぺン・フェノール共重合体、テルぺン・インデン共重合体などの粘着付与剤を配合したものが用いられる。
【００７４】
ゴム系粘着剤のベースポリマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレン系ゴム、スチレン−タジエン系ゴム、再生ゴム、ポリイソブチレン系ゴム、更にはスチレン−イソプレンスチレン系ゴム、スチレンブタジエンスチレン系ゴム等が挙げられる。
【００７５】
なかでも、ブロックゴム系粘着剤は、一般式Ａ−Ｂ−Ａで表されるブロック共重合体や一般式Ａ−Ｂで表されるブロック共重合体（但し、Ａはスチレン系重合体ブロック、Ｂはブタジエン重合体ブロック、イソプレン重合体ブロック、またはこれらを水素添加して得られるオレフィン重合体ブロックであり、以下、スチレン系熱可塑性エラストマーという）を主体に、粘着付与樹脂、軟化剤などが配合された組成物が挙げられる。
【００７６】
上記ブロックゴム系粘着剤において、スチレン系重合体ブロックＡは平均分子量が４，０００〜１２０，０００程度のものが好ましく、さらに１０，０００〜６０，０００程度のものがより好ましい。そのガラス転移温度は１５０℃以上のものが好ましい。また、ブタジエン重合体ブロック、イソプレン重合体ブロックまたはこれらを水素添加して得られるオレフィン重合体ブロックＢは、平均分子量が３０，０００〜４００，０００程度のものが好ましく、さらに６０，０００〜２００，０００程度のものがより好ましい。そのガラス転移温度は−１５０℃以下のものが好ましい。上記Ａ成分とＢ成分との好ましい質量比はＡ／Ｂ＝５／９５〜５０／５０であり、さらに好ましくはＡ／Ｂ＝１０／９０〜３０／７０である。Ａ／Ｂの値が、５０／５０を以下であると常温においてポリマーのゴム弾性が高くなり、粘着性が発現しやすくなり、５／９５以上ではスチレンドメインが密になり、十分な凝集力により、所望の接着力が得られ、剥離時に粘着層がちぎれる等の不具合も生じにくくなる。
【００７７】
さらに、上記粘着層に、ポリオレフィン系樹脂を添加することにより、剥離紙もしくは剥離フィルムからの離型性を向上することができる。このポリオレフィン系樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、エチレンαオレフィン共重合体、プロピレンαオレフィン共重合体、エチレンーエチルアクリレート共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレンメチルメタクリレート共重合体、エチレンｎ−ブチルアクリレート共重合体、およびこれらの混合物が挙げられる。
【００７８】
このポリオレフィン系樹脂は、低分子量分が少ないことが好ましく、具体的には、ｎーペンタンによる沸点乾留で抽出される低分子量分が１．０質量％未満であることが好ましい。低分子量分が少ないと、温度変化や経時変化に応じて、粘着特性に悪影響を及ぼしにくくなり、粘着力の低下が生じにくくなることから好ましい。
【００７９】
また、上記粘着剤には、シリコンオイルを添加することにより、ポリビニルアルコールを主成分とする塗膜が設けられた白背面との親和性をさらに低下せしめることができる。このシリコンオイルはポリアルコキシシロキサン鎖を主鎖にもつ高分子化合物で、粘着層の疎水性を高め、さらに接着界面、すなわち、粘着層表面にブリードするため、粘着剤の接着力を抑制し、接着昂進現象が起き難くする働きがある。
【００８０】
上記ゴム系粘着剤に、架橋剤を添加し架橋することで粘着層とする。
【００８１】
架橋剤としては、例えば、天然ゴム系粘着剤の架橋には、イオウと加硫助剤および加硫促進剤（代表的なものとして、ジブチルチオカーパメイト亜鉛など）が使用される。天然ゴムおよびカルボン酸共重合ポリイソプレンを原料とした粘着剤を室温で架橋可能な架橋剤として、ポリイソシアネート類が使用される。ブチルゴムおよび天然ゴムなどの架橋剤に耐熱性と非汚染性の特色がある架橋剤として、ポリアルキルフェノール樹脂類が使用される。ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴムおよび天然ゴムを原料とした粘着剤の架橋に有機過酸化物、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなどがあり、非汚染性の粘着剤が得られる。架橋助剤として、多官能メタクリルエステル類を使用する。その他紫外線架橋、電子線架橋などの架橋による粘着剤の形成がある。
【００８２】
シリコン系粘着剤としては付加反応硬化型シリコン粘着剤と縮重合硬化型シリコン粘着剤があるが、本発明では付加反応硬化型が好ましく用いられる。
【００８３】
付加反応硬化型シリコン粘着剤組成物の組成としては、以下に挙げるものが好適に用いられる。
【００８４】
（Ａ）１分子中に２個以上のアルケニル基を有するポリジオルガノシロキサン
（Ｂ）ＳｉＨ基を含有するポリオルガノシロキサン
（Ｃ）制御剤
（Ｄ）白金触媒
（Ｅ）導電性微粒子。
【００８５】
ここで、（Ａ）成分は、１分子中に２個以上のアルケニル基を有するポリジオルガノシロキサンであり、このようなアルケニル基含有ポリジオルガノシロキサンとしては、下記一般式（２）で示されるものが例示できる。
【００８６】
【化２】
2014019056.tif 000003
【００８７】
一般式（２）において、Ｒ７は炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｘはアルケニル基含有の有機基である。ａは０〜３の整数で１が好ましく、ｍは０以上であるが、ａ＝０の場合、ｍは２以上であり、ｍおよびｎは、それぞれ１００≦ｍ＋ｎ≦２０，０００を満足する数であり、ｐは２以上である。
【００８８】
Ｒ７は炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニル基、トリル基などのアリール基などが挙げられるが、特にメチル基、フェニル基が好ましい。
【００８９】
Ｘはアルケニル基含有の有機基で炭素数２〜１０のものが好ましく、具体的にはピニル基、アリル基、ヘキセニル基、オクテニル基、アクリロイルプロピル基、アクリロイルメチル基、メタクリロイルプロピル基、シクロヘキセニルエチル基、ピニルオキシプロピル基等が挙げられるが、特にビニル基、ヘキセニル基などが好ましい。
【００９０】
このポリジオルガノシロキサンの性状は、オイル状、生ゴム状であればよく、（Ａ）成分の粘度は、２５０℃において１００ｍＰａ・ｓ以上、特に１，０００ｍＰａ・ｓ以上が好ましい。なお、上限としては、特に限定されないが、他成分との混合の容易さから、重合度が２０，０００以下となるように選定することが好ましい。また、（Ａ）成分は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９１】
（Ｂ）成分であるＳｉＨ基を含有するポリオルガノシロキサンは架橋剤であり、１分子中にケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも２個、好ましくは３個以上有するオルガノヒドロポリシロキサンで、直鎖状、分岐状、環状のものなどを使用することができる。
【００９２】
（Ｂ）成分としては、下記一般式（３）で表される化合物を挙げることができるが、これらのものには限定されない。
【００９３】
【化３】
2014019056.tif 000004
【００９４】
一般式（３）において、Ｒ８は炭素数１〜６の脂肪族不飽和結合を含有しない１価炭化水素基である。ｂは０〜３の整数、ｘ、ｙはそれぞれ整数であり、このオルガノヒドロポリシロキサンの２５０℃における粘度が１〜５，０００ｍＰａ・ｓとなる数を示す。
【００９５】
このオルガノヒドロポリシロキサンの２５０℃における粘度は、１〜５，０００ｍＰａ・ｓ、特に５〜１０００ｍＰａ・Ｓであることが好ましく、また２種以上の混合物でもよい。
【００９６】
付加反応による架橋は、（Ａ）成分と架橋剤の（Ｂ）成分の間で生じ、硬化後の粘着層のゲル分率は架橋成分の割合によって決まる（Ｂ）成分の使用量は、（Ａ）成分中のアルケニル基に対する（Ｂ）成分中のＳｉＨ基のモル比が０．５〜２０、特に０．８〜１５の範囲となるように配合することが好ましい。０．５以上であれば、架橋密度が保たれ、これにともない保持力を得ることができる。一方で、２０以下であれば、粘着力およびタックが得られる。
【００９７】
また、耐熱保持力などの耐熱性や溶剤浸透抑制などの耐溶媒性を向上させるためには、組成物中の架橋成分の割合を増やせばよいが、過剰に増やすと粘着力の低下や膜の柔軟性が低下するなどの影響が発生する場合がある。このような点から、（Ａ）／（Ｂ）成分の配合質量比は２０／８０〜８０／２０とすればよく、特に４５／５５〜７０／３０とすることが好ましい。（Ａ）成分の配合割合が２０／８０以上であれば、粘着力、タックなどの十分な粘着特性を得ることができ、また、８０／２０以下であれば十分な耐熱性が得られる。
【００９８】
（Ｃ）成分は付加反応制御剤であり、シリコン粘着剤組成物を調合し、基材に塗工する際、加熱硬化の以前に処理液が増粘やゲル化をおこさないようにするために添加するものである。
【００９９】
（Ｃ）成分の具体例としては、３ーメチル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ぺンチン−３−オール、３，５−ジメチル−１ーヘキシン−３−オール、１−エチニルシクロヘキサノール、３ーメチル−３−トリメチルシロキシ−１−ブチン、３−メチル−３−トリメチルシロキシ−１−ぺンチン、３，５−ジメチル−３−トリメチルシロキシ−１ーヘキシン、１−エチニル−１−トリメチルシロキシシクロヘキサン、ピス（２，２−ジメチル−３−ブチノキシ）ジメチルシラン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラピニルシクロテトラシロキサン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサンなどが挙げられる。
【０１００】
（Ｃ）成分の配合量は、（Ａ）及び（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して０〜５．０質量部の範囲であることが好ましく、特に０．０５〜２．０質量部が好ましい。上記範囲にあると硬化性の低下が抑制されうる。
【０１０１】
（Ｄ）成分は白金系触媒であり、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、塩化白金酸とアルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン化合物との反応物、塩化白金酸とビニル基含有シロキサンとの反応物などが挙げられる。
【０１０２】
（Ｄ）成分の添加量は、（Ａ）および（Ｂ）成分の合計量に対し、白金分として１〜５，０００ｐｐｍ、特に５〜２，０００ｐｐｍとすることが好ましい。１ｐｐｍ以上であれば、十分な硬化性が得られ、架橋密度も高く、保持力を維持することができる。
【０１０３】
上述の粘着剤を含む粘着層には、添加剤として、安定剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤を含有させることもできる。
【０１０４】
例えば、上記帯電防止剤としては、特に制限されないが、アルキルトリメチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウムイオンを含むものが用いられうる。粘着層が帯電防止剤を含む場合には、離型性を有する樹脂層が帯電防止機能を発現し、本発明に係るフィルムロールに適用した場合には、取り扱い性が向上することから好ましい。
【０１０５】
また、粘着層には、再剥離性を付与させるため、あるいは粘着力を低く安定に維持するために、それらの成分が相手基材に移行しない程度に、ワックス等の有機樹脂、シリコン、フッ素等の低表面エネルギーを有する成分を添加してもよい。例えば、ワックス等の有機樹脂では、高級脂肪酸エステルや低分子のフタル酸エステルを用いてもよい。
【０１０６】
また、本形態に係るフィルムロールの長さは、幅が２０〜４００ｃｍであることが好ましく、５０〜２５０ｃｍであることがより好ましい。また、長さが２０〜１００００ｍであることが好ましく、１００〜４０００ｍであることがより好ましい。フィルムロールの長さが上記範囲内であると、生産性が高くなることから好ましい。
【０１０７】
＜梱包部＞
梱包部は、フィルムロールを包装する機能を有する。梱包部が、フィルムロールを包装することにより、ガスバリア性フィルムが空気中の水分と接触する機会を低減し、ガスバリア性フィルムに経時的に生じうる水分の吸着を防止することができる。なお、本明細書において、「包装」とは、少なくとも外気と接しないように包装することを意味する。
【０１０８】
梱包部は、包装材を含む。
【０１０９】
［包装材］
包装材は、空気中の水分の透過を防止する機能を有する。
【０１１０】
用いられうる包装材の材質としては、特に制限されないが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタラートなどの樹脂材料や紙、ガラス、アルミニウムや鉄、ステンレス鋼（ＳＵＳ）などの金属などが挙げられる。これらのうち、包装材としては、軽量化の観点から樹脂材料、紙が好ましい。また防湿性の観点から防湿処理がされた樹脂材料、紙がさらに好ましい。防湿処理がされた樹脂材料や紙とは、アルミニウム箔をラミネートしたものや、アルミニウムや酸化ケイ素蒸着を施されたものを示す。
【０１１１】
前記包装材は、２以上の包装材が包装された構成を有していてもよい。この場合、各包装材の材質は、同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。２以上の包装材で包装された場合には、より空気中の水分の透過が抑制されうる。
【０１１２】
前記包装材の水蒸気透過率は、１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましい。
【０１１３】
フィルムロールを梱包部で梱包することの利点として、空気中の水分の透過を防止する点とともに、梱包部の内部の水分量を低く保持できる点も挙げられる。
【０１１４】
梱包部内の雰囲気は、不活性ガス（窒素ガス、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等の希ガス）雰囲気下、または真空雰囲気下であることが好ましい。
【０１１５】
また、梱包部の内部の露点は、１０℃以下であることが好ましく、５℃以下であることがより好ましい。なお、本明細書において「露点」とは、市販された露点計を用いて測定したものを採用するものとする。また当該露点は、温度と相対湿度から算出した値を用いることもできる。
【０１１６】
＜吸湿材＞
フィルムロール梱包体は、吸湿材をさらに含んでいてもよい。この場合、吸湿材は、フィルムロールとともに包装される。吸湿剤は、包装部内に存在しうる水分を吸収する機能を有する。
【０１１７】
用いられうる吸湿材としては、特に制限されないが、粘土、ゼオライト、シリカゲル、塩化カルシウム、塩化亜鉛、硫酸カルシウム、モンモリロン石、酸化アルミニウム、活性炭、ケインウ土、酸化バリウム、酸化カルシウム、臭化カルシウム、塩素酸マグネシウム、硫酸銅、モレキュラーシーブ、五酸化二リン等が挙げられる。これらのうち、粘土、ゼオライト、シリカゲルを用いることが好ましい。
【０１１８】
本形態に係るフィルムロール梱包体によれば、長期間の保管や輸送等を行った場合であってもガスバリア性フィルムに経時的に生じうる水分の吸着を防止することができる。前記長期間としては、より詳細には、好ましくは２ヶ月以上、より好ましくは３ヶ月以上、さらに好ましくは６ヶ月以上である。
【０１１９】
フィルムロール梱包体のガスバリア性フィルムは、梱包部を開封し、巻き取られたガスバリア性フィルムをロールから引き出して使用することができる。この際、ガスバリア性フィルムに離型性を有する樹脂層が貼付されている場合には、手で剥がす、インラインで離型性樹脂フィルムを巻き取り剥離する等を行うことにより剥離することができる。なお、ガスバリア性フィルムに微量の水分が付着していると考えられる等の場合には、必要に応じて加熱等を行い、水分を除去してもよい。
【０１２０】
＜フィルムロール梱包体の製造方法＞
本発明の一形態によれば、基材上にガスバリア層を形成して、ガスバリア性フィルムを製造する工程（１）と、前記ガスバリア性フィルムを、巻芯に巻き取り、フィルムロールを製造する工程（２）と、前記フィルムロールを包装材で包装して梱包部を形成する工程（３）と、を含む、フィルムロール梱包体の製造方法が提供される。この際、前記ガスバリア性フィルムの水蒸気透過率が、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることを特徴とする。
【０１２１】
［工程（１）］
工程（１）は、基材上にガスバリア層を形成して、ガスバリア性フィルムを製造する工程である。
【０１２２】
（ガスバリア層の形成）
ガスバリア性フィルムの製造方法としては、ガスバリア性フィルムの水蒸気透過率が１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下となるものであれば特に制限されない。当該ガスバリア性フィルムの製造方法としては、乾式製膜法および湿式製膜法が挙げられる。
【０１２３】
乾式製膜法
乾式製膜法としては、物理気相成長法および化学気相成長法が挙げられる。物理気相成長法とは、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法をいい、蒸着法（抵抗加熱法、電子ビーム蒸着法、分子線エピタキシー法）、イオンプレーティング法、スパッタ法等が挙げられる。一方、化学気相成長法（化学蒸着法、ＣＶＤ法）とは、基材上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面または気相における化学反応により膜を堆積させる方法をいい、熱ＣＶＤ法、触媒化学気相成長法、光ＣＶＤ法、真空プラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマＣＶＤ法等が挙げられる。これらのうち、スパッタ法、真空プラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマＣＶＤ法を用いることが好ましく、大気圧プラズマＣＶＤ法を用いることがより好ましい。
【０１２４】
以下、大気圧プラズマＣＶＤ法を例に挙げて説明する。
【０１２５】
大気圧プラズマＣＶＤ法は、大気圧近傍で分解ガスにプラズマを照射すると発生する、高密度で活性な荷電粒子や活性ラジカル等を利用してガスバリア層を形成する方法である。前記荷電粒子や活性ラジカル等は、無機物前駆体（以下、大気圧プラズマＣＶＤ法に用いる無機物前駆体を「第１の無機物前駆体」とも称する）と非常に速い化学反応を起こすことで、当該第１の無機物前駆体等を短時間で熱力学的に安定な化合物（無機物）に変換することができる。大気圧プラズマＣＶＤ法では、減圧環境にする必要がないことから、生産性に優れる。また、プラズマ密度が高いことから製膜速度が速い。さらに、分解ガスの平均自由行程が非常に短いことから、均質な膜が得られる。なお、本明細書において、「大気圧近傍」とは、通常、２０〜１１０ｋＰａ、好ましくは９３〜１０４ｋＰａの圧力を意味する。
【０１２６】
用いられうる第１の無機物前駆体としては、特に制限されないが、有機金属化合物が挙げられる。当該有機金属化合物としては、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等のケイ素化合物；チタンメトキシド、チタンエトキシド、チタンイソプロポキシド等のチタン化合物；ジルコニウム−ｎ−プロポキシド、ジルコニウム−ｎ−ブトキシド、ジルコニウム−ｔ−ブトキシド等のジルコニウム化合物；アルミニウムエトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド等のアルミニウム化合物；ジボラン、塩化ホウ素、ボラン−ＴＨＦ錯体等のホウ素化合物；テトラエチルスズ、テトラメチルスズ等のスズ化合物等が挙げられる。これらの第１の無機前駆体は単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１２７】
用いられうる分解ガスとしては、特に制限されないが、水素ガス、メタンガス、アセチレンガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、窒素ガス、アンモニアガス、亜酸化窒素ガス、酸化窒素ガス、二酸化窒素ガス、酸素ガス、水蒸気、フッ素ガス、フッ化水素ガス、トリフルオロアルコールガス、トリフルオロトルエンガス、硫化水素ガス、二酸化硫黄ガス、二硫化炭素ガス、塩素ガス、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス、クリプトンガス、キセノンガス、およびラドンガス等が挙げられる。これらの分解ガスは単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１２８】
プラズマの発生方法としては、特に制限されないが、国際公開第２００７／０２６５４５号パンフレットにも記載のように、異なる周波数の電界（第１の高周波電界および第２の高周波電界）を形成する方法を用いることが好ましい。より詳細には、第１の高周波電界の周波数をω１、強度をＶ１とし、第２の高周波電界の周波数をω２、強度をＶ２、出力密度をＳ２とし、さらに放電開始電解の強度をＩＶ（１／２Ｖｐ−ｐ）とした場合に、以下の（１）〜（３）の条件：
（１）ω１＜ω２
（２）Ｖ１≧ＩＶ＞Ｖ２またはＶ１＞ＩＶ≧Ｖ２
（３）Ｓ２≧１Ｗ／ｃｍ２
の少なくとも１つを満たすことが好ましい。第１の高周波電界は分解ガスのプラズマを発生させる機能を有し、第２の高周波電界はプラズマ密度に寄与しうる。よって、このような条件でプラズマを発生させることにより、例えば、窒素ガス等の放電開始電界強度が高い分解ガスであっても、放電を発生させることができる。また、高密度で安定なプラズマ状態を維持することができ、高性能な薄膜を形成することができる。
【０１２９】
前記第１の高周波電界の周波数ω１は、１ｋＨｚ以上であることが好ましく、１〜２００ｋＨｚであることがより好ましい。
【０１３０】
前記第２の高周波電解の周波数ω２は、８００ｋＨｚ以上であることが好ましく、８００ｋＨｚ〜２００ＭＨｚであることがより好ましい。
【０１３１】
前記第１または第２の高周波電界の電界波形は、連続波であっても、パルス波であってもよい。
【０１３２】
湿式製膜法
湿式製膜法とは、塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることにより製膜する、いわゆる塗布法をいう。
【０１３３】
当該塗布法としては、特に制限されず、公知の方法を用いることができる。なかでも無機物前駆体（以下、塗布法に用いる無機物前駆体を「第２の無機物前駆体」とも称する）を含む塗布液（以下、「第１の塗布液」とも称する）を基板上に塗布、乾燥させた後、得られた塗膜に真空紫外線を照射して第２の無機物前駆体を無機物に改質する方法であることが好ましい。
【０１３４】
第２の無機物前駆体としては、ポリシラザンを用いることが好ましい。ポリシラザンとは、その構造内にＳｉ−Ｎ、Ｓｉ−Ｈ、Ｎ−Ｈ等の結合を有するポリマーであり、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、およびこれらの中間固溶体ＳｉＯｘＮｙ等の無機前駆体として機能する。
【０１３５】
前記ポリシラザンは、特に制限されないが、後述する改質処理を行うことを考慮すると、比較的低温でセラミック化してシリカに変性する化合物であることが好ましく、例えば、特開平８−１１２８７９号公報に記載の下記の一般式（４）で表される単位からなる主骨格を有する化合物であることが好ましい。
【０１３６】
【化４】
2014019056.tif 000005
【０１３７】
上記一般式（４）において、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、またはアルコキシ基を表す。
【０１３８】
ポリシラザンは、得られるガスバリア層の緻密性の観点から、Ｒ９、Ｒ１０、およびＲ１１のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザン（以下、「ＰＨＰＳ」とも称する）であることが特に好ましい。
【０１３９】
パーヒドロポリシラザンは直鎖構造と６員環および８員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されている。その分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で約６００〜２０００程度（ポリスチレン換算）であり、液体または固体の物質でありうる（分子量によって異なる）。当該パーヒドロポリシラザンは、市販品を使用してもよく、当該市販品としては、アクアミカ  ＮＮ１２０、ＮＮ１１０、ＮＡＸ１２０、ＮＡＸ１１０、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）等が挙げられる。
【０１４０】
低温でセラミック化するポリシラザンの別の例としては、上記一般式で表されるポリシラザンにケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン（例えば、特開平５−２３８８２７号公報）、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−１２２８５２号公報）、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２４０２０８号公報）、金属カルボン酸塩を反応させて得られる金属カルボン酸塩付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２９９１１８号公報）、金属を含むアセチルアセトナート錯体を反応させて得られるアセチルアセトナート錯体付加ポリシラザン（例えば、特開平６−３０６３２９号公報）、金属微粒子を添加して得られる金属微粒子添加ポリシラザン（例えば、特開平７−１９６９８６号公報）等が挙げられる。
【０１４１】
第１の塗布液中のポリシラザンの含有量は、所望のガスバリア層の膜厚や塗布液のポットライフ等によっても異なるが、塗布液の全量に対して、０．２質量％〜３５質量％であることが好ましい。
【０１４２】
第１の塗布液には、さらに溶媒、アミン触媒、および金属触媒を含んでいてもよい。
【０１４３】
前記溶媒としては、ポリシラザンと反応するものでなければ特に制限はなく、公知の溶媒が用いられうる。具体的には、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素等の炭化水素系溶媒；脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル系溶媒が挙げられる。より詳細には、炭化水素溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン、塩化メチレン、トリクロロエタン等が挙げられる。また、エーテル系溶媒としては、ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、または２種以上を混合して用いられうる。
【０１４４】
前記アミン触媒および金属は、後述する改質処理において、ポリシラザンの酸化ケイ素化合物への転化を促進しうる。
【０１４５】
用いられうるアミン触媒としては、特に制限されないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１,３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１,６−ジアミノヘキサンが挙げられる。
【０１４６】
また、用いられうる金属触媒としては、特に制限されないが、白金アセチルアセトナート等の白金化合物、プロピオン酸パラジウム等のパラジウム化合物、ロジウムアセチルアセトナート等のロジウム化合物が挙げられる。
【０１４７】
アミン触媒および金属触媒は、ポリシラザンに対して、０．１〜１０質量％含むことが好ましい。特にアミン触媒については、塗布性の向上および反応の時間の短縮の観点から、ポリシラザンに対して、０．５〜５質量％含むことがより好ましい。
【０１４８】
上記第１の塗布液を基材上に塗布、乾燥することによって、塗膜が得られる。
【０１４９】
第１の塗布液の塗布方法としては、適宜公知の方法が採用されうる。塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法が挙げられる。
【０１５０】
第１の塗布液の塗布量は、特に制限されないが、ガスバリア層の厚さを考慮して適宜調節されうる。
【０１５１】
第１の塗布液を塗布した後は、乾燥させることにより塗膜が得られる。当該乾燥によって、塗膜中に含有される有機溶媒を除去することができる。この際、塗膜に含有される有機溶媒は、すべてを乾燥させてもよいが、一部残存させていてもよい。一部の有機溶媒を残存させる場合であっても、好適なガスバリア層が得られうる。なお、残存する溶媒は後述する真空紫外線照射時等で除去されうる。
【０１５２】
塗膜の乾燥温度は、適用する基材によっても異なるが、５０〜２００℃であることが好ましい。例えば、ガラス転位温度（Ｔｇ）が７０℃のポリエチレンテレフタレート基材を基材として用いる場合には、乾燥温度は、熱による基材の変形等を考慮して１５０℃以下に設定することが好ましい。上記温度は、ホットプレート、オーブン、ファーネスなどを使用することによって設定されうる。乾燥時間は短時間に設定することが好ましく、例えば、乾燥温度が１５０℃である場合には３０分以内に設定することが好ましい。また、乾燥雰囲気は、大気雰囲気下、窒素雰囲気下、アルゴン雰囲気下、真空雰囲気下、酸素濃度をコントロールした減圧雰囲気下等のいずれの条件であってもよい。
【０１５３】
また、均一な塗膜を得る観点から、アニールを行ってもよい。
【０１５４】
アニール温度は、特に制限されないが、６０〜２００℃であることが好ましく、７０〜１６０℃であることがより好ましい。当該アニール温度は、一定であっても、段階的に変化させても、連続的に温度を変化（昇温および／または降温）させてもよい。
【０１５５】
アニール時間は、特に制限されないが、５秒〜２４時間であることが好ましく、１０秒〜２時間であることがより好ましい。
【０１５６】
得られた塗膜に真空紫外光を照射することにより、塗膜を構成するポリシラザンが無機物に改質される。ここで、ポリシラザンの改質とは、ポリシラザンが、酸化ケイ素化合物および／または酸窒化ケイ素化合物へ転化することを意味する。なお、本明細書において「真空紫外光」とは、１０〜２００ｎｍの波長を有する電磁波を含む紫外光を意味し、好ましくは１００〜２００ｎｍ、より好ましくは１００〜１９５ｎｍである。
【０１５７】
ポリシラザンの改質処理、すなわち、ポリシラザンの置換反応による酸化ケイ素および／または酸窒化ケイ素の形成には、通常、４５０℃以上の高温が必要であり、加熱による改質処理は、樹脂フィルムを基材に用いる場合には適用が困難である。そこで、より低温で改質処理をすることができる真空紫外光の照射による改質が適用される。真空紫外光をポリシラザンに照射すると、ポリシラザンがシラノールを経由することなく直接酸化されることから（光量子プロセスと呼ばれる光子の作用）、当該酸化過程において体積変化が少なく、高密度で欠陥の少ない酸化ケイ素膜および／または酸窒化ケイ素膜が得られうる。また、真空紫外光では、反応雰囲気中に存在する酸素等から高い酸化能力を有するオゾンや活性酸素が生成され、当該オゾンや活性酸素によってもポリシラザンの改質処理を行うことができる。その結果、より緻密な酸化ケイ素膜および／または酸窒化ケイ素膜が得られうる。したがって、真空紫外光の照射によりポリシラザンが改質されて得られるガスバリア層は、高いバリア性を有しうる。
【０１５８】
真空紫外光の光源としては、特に限定されず、公知のものが使用されうる。例えば、低圧水銀ランプ、エキシマランプ、アマルガムランプ等が挙げられる。これらのうち、エキシマランプ、特にキセノン（Ｘｅ）エキシマランプを用いることが好ましい。
【０１５９】
前記キセノンエキシマランプ等の希ガスエキシマランプは、真空紫外線を照射できる。Ｘｅ、Ｋｒ、Ａｒ、Ｎｅ等の希ガスの原子は最外殻電子が閉殻となっており、化学的に非常に不活性であることから不活性ガスと呼ばれる。しかし、放電等によりエネルギーを得た希ガス（励起原子）は、他の原子と結合して分子を形成することができる。例えば、希ガスがキセノンの場合には、
ｅ＋Ｘｅ→Ｘｅ＊
Ｘｅ＊＋２Ｘｅ→Ｘｅ２＊＋Ｘｅ
Ｘｅ２＊→Ｘｅ＋Ｘｅ＋ｈν（１７２ｎｍ）
となる。この際、励起されたエキシマ分子であるＸｅ２＊が基底状態に遷移するとき、１７２ｎｍのエキシマ光（真空紫外光）が発光する。上記エキシマランプは前記エキシマ光を利用する。前記エキシマ光を発生させる方法としては、例えば、誘電体バリア放電を用いる方法および無電極電界放電を用いる方法が挙げられる。なお、誘電体バリア放電とは、両電極間に誘電体（エキシマランプの場合は透明石英）を介してガス空間を配し、電極に数１０ｋＨｚの高周波高電圧を印加した場合に、ガス空間に生じる雷に似た非常に細いｍｉｃｒｏ  ｄｉｓｃｈａｒｇｅと呼ばれる放電である。また、無電極電界放電とは、容量性結合による無電極電界放電であり、別名ＲＦ放電とも呼ばれる。具体的には、誘電体バリア放電と同様にランプや電極等が配置され、前記電極に数ＭＨｚの高周波電圧を印加した場合に得られる空間的・時間的に一様な放電である。
【０１６０】
エキシマランプは、エキシマ光が一つの波長に集中し、必要な光以外がほとんど放射されない点に特徴を有し、効率性が高い。また、余分な光が放射されないことから、対象物の温度を低く保つことができる。さらに、始動・再始動に時間を要さないことから、瞬時に点灯点滅が可能となる。特に、Ｘｅエキシマランプは、波長の短い１７２ｎｍの真空紫外光を単一波長で放射することから、発光効率に優れている。当該Ｘｅエキシマランプは、１７２ｎｍと波長が短く、エネルギーが高いことから、有機化合物の結合の切断能が高いことが知られている。また、Ｘｅエキシマランプは、酸素の吸収係数が大きいため、微量な酸素であっても効率よく活性酸素やオゾンを発生させることができる。したがって、例えば、波長１８５ｎｍの真空紫外光を発する低圧水銀ランプと対比すると、Ｘｅエキシマランプは、高い有機化合物の結合切断能を有し、活性酸素やオゾンを効率的に発生させることができ、低温かつ短時間でポリシラザンの改質処理をすることができる。また、Ｘｅエキシマランプは、光の発生効率が高いため、低電力で瞬時に点灯点滅が可能であり、単一の波長を発光できる。そのため、高スループットに伴うプロセス時間の短縮や設備面積の縮小等の経済的観点、および熱によるダメージを受けやすい基材を用いたガスバリア性フィルムへの適用等の観点からも好ましい。
【０１６１】
このように、エキシマランプは光の発生効率が高いため、低電力で点灯させることができ、また、照射対象物の表面温度の上昇を抑制することができる。また、内部まで侵入する光子の数も増加するため改質膜厚の増加および／または膜質の高密度化が可能である。
【０１６２】
真空紫外光照射の条件は、一般的に、照射強度と照射時間の積で表される積算光量を指標として転化反応を検討するが、酸化シリコンのように組成は同一であっても、様々な構造形態をとる材料を用いる場合には、照射強度の絶対値が重要になることもある。
【０１６３】
真空紫外線照射の照射強度は、使用する基材やポリシラザン層の組成、濃度等によっても異なるが、１ｍＷ／ｃｍ２〜１００ｋＷ／ｃｍ２であることが好ましく、１ｍＷ／ｃｍ２〜１０Ｗ／ｃｍ２であることがより好ましい。
【０１６４】
真空紫外光照射の時間は、使用する基材やポリシラザン層の組成、濃度等によっても異なるが、０．１秒〜１０分であることが好ましく、０．５秒〜３分であることがより好ましい。
【０１６５】
真空紫外光の積算光量は、特に制限されないが、１０００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１０００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。真空紫外光の積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ２以上であると、十分な改質が行われることにより高いバリア性が得られうることから好ましい。一方、真空紫外光の積算光量が１００００ｍＪ／ｃｍ２以下であると、基材が変形することなく平滑性の高いガスバリア層が形成されうることから好ましい。
【０１６６】
また、真空紫外光の照射温度は、適用する基材によっても異なり、当業者によって適宜決定されうる。真空紫外光の照射温度は、５０〜２００℃であることが好ましく、８０〜１５０℃であることがより好ましい。照射温度が上記範囲内であると、基材の変形や強度の劣化等が生じにくく、基材の特性が損なわれないことから好ましい。
【０１６７】
さらに、真空紫外光の照射雰囲気は、特に制限されないが、活性酸素やオゾンを発生させて効率的に改質を行う観点から酸素を含む雰囲気下で行うことが好ましい。真空紫外照射の酸素濃度は３００〜１００００ｐｐｍ（０．０３〜１％）であることが好ましく、５００〜５０００ｐｐｍであることがより好ましい。酸素濃度が３００ｐｐｍ以上であると、改質効率が高くなることから好ましい。一方、酸素濃度が１００００ｐｐｍ以下であると、大気と酸素との置換時間が短縮されうることから好ましい。
【０１６８】
紫外線照射の対象となる塗膜は、塗布時に酸素および微量の水分が混入し、さらには基材や隣接層等にも吸着酸素や吸着水が存在しうる。当該酸素等を利用すれば、照射庫内に新たに酸素を導入しなくとも、改質処理を行う活性酸素やオゾンの発生に要する酸素源は十分でありうる。また、Ｘｅエキシマランプのような１７２ｎｍの真空紫外線は酸素により吸収されるため、塗膜に到達する真空紫外線量が減少する場合があることから、真空紫外線の照射時には、酸素濃度を低く設定し、真空紫外線が効率よく塗膜まで到達できる条件とすることが好ましい。
【０１６９】
真空紫外光の照射雰囲気中の酸素以外のガスは、乾燥不活性ガスであることが好ましく、コストの観点から、乾燥窒素ガスであることがより好ましい。なお、酸素濃度は、照射庫内へ導入する酸素ガス、不活性ガス等のガス流量を計測し、流量比を変えることで調整することができる。
【０１７０】
発生させた真空紫外光は、照射効率向上と均一な照射を達成する観点から、発生源からの真空紫外光を反射板で反射させてから改質前のポリシラザン層に照射してもよい。また、真空紫外光の照射は、バッチ処理にも連続処理にも適用可能であり、使用する基材の形状によって適宜選定されうる。例えば、基材が長尺フィルム状である場合には、これを搬送させながら連続的に真空紫外光を照射して改質を行うことが好ましい。
【０１７１】
上述の改質処理によって得られるガスバリア層の膜厚や密度等は、塗布条件や真空紫外光照射の条件等を適宜選択することにより制御することができる。例えば、真空紫外光の照射方法を、連続照射、複数回に分割した照射、複数回の照射が短時間な、いわゆるパルス照射等から適宜選択することで、ガスバリア層の膜厚や密度等が制御されうる。
【０１７２】
改質処理の程度については、形成された機能性無機層をＸＰＳ表面分析することによって、ケイ素（Ｓｉ）原子、窒素（Ｎ）原子、酸素（Ｏ）原子等の各原子組成比を求めることで確認できる。
【０１７３】
（保護層の形成）
保護層は、上記で得られたガスバリア層上に、ポリシロキサンを含む塗布液（以下、「第２の塗布液」とも称する）を塗布、乾燥して形成することができる。
【０１７４】
前記ポリシロキサンは、上述したものと同様のものが用いられうることから、ここでは説明を省略する。
【０１７５】
第２の塗布液には、さらに溶媒や適宜公知の成分を含んでいてもよい。
【０１７６】
前記溶媒としては、特に制限されないが、水、アルコール系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒等が挙げられる。アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレンモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等が挙げられる。芳香族炭化水素系溶媒としては、トルエン、キシレン等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン等が挙げられる。ケトン系溶媒としては、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。エステル系溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸エトキシエチル等が挙げられる。これらの他、ジクロロエタン、酢酸等の溶媒を用いてもよい。これらの溶媒は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１７７】
前記公知の成分としては、アミノシラン化合物、エポキシシラン化合物、コロイダルシリカ、および硬化触媒が挙げられる。
【０１７８】
上記第２の塗布液をガスバリア層に塗布、乾燥することによって、保護層が得られる。
【０１７９】
第２の塗布液の塗布方法としては、従来公知の適切な湿式コーティング法が採用されうる。具体的には、スピンコート、ディッピング、ローラーブレード、スプレー法等が挙げられる。
【０１８０】
第２の塗布液の塗布量は、特に制限されないが、保護層の厚さを考慮して適宜調節されうる。
【０１８１】
第２の塗布液を塗布した後は、乾燥させることにより保護層が得られる。当該乾燥によって、塗膜中に含有される有機溶媒を除去することができる。この際、塗膜に含有される有機溶媒は、すべてを乾燥させてもよいが、一部残存させていてもよい。一部の有機溶媒を残存させる場合であっても、好適な保護層が得られうる。乾燥方法は、上述のガスバリア層の形成における湿式製膜法と同様の方法が適用されうる。
【０１８２】
このように得られたポリシロキサンを含む保護層は、さらに真空紫外光照射を行ってもよい。真空紫外光照射を行うことによってポリシロキサンが改質され、ポリシロキサンを改質してなる生成物となる。真空紫外光照射は、上述のガスバリア層の形成における湿式製膜法と同様の方法が適用され、照射条件は、所望とする性能に応じて適宜設定されうる。
【０１８３】
本発明では、工程（２）において製造したガスバリア性フィルムを巻き芯に巻き取る前に、離型性を有する樹脂層をガスバリア性フィルム表面に設けてもよい。
【０１８４】
ガスバリア性フィルムの表面に離型性を有する樹脂層を設ける方法としては、従来公知の方法が用いることができる。具体的にはロールラミネーター、真空ラミネーター、共押し出し、巻き取り軸で巻き取りと同時に巻きいれるなどが挙げられる。
【０１８５】
［工程（２）］
工程（２）は、工程（１）で製造したガスバリア性フィルムを、巻芯に巻き取り、フィルムロールを製造する工程である。
【０１８６】
巻芯は、上述したものと同様のものが用いられうることから、ここでは説明を省略する。
【０１８７】
ガスバリア性フィルムを巻き取る方法としては、特に制限されず、公知の方法が用いられうる。具体的には、巻芯を基点としてフィルムを巻き取る方法が挙げられる。
【０１８８】
ガスバリア性フィルムを巻き取る際の巻き取り張力は、２０〜３５０Ｎ／ｍであることが好ましく、３０〜３００Ｎ／ｍであることがより好ましく、４０〜３００Ｎ／ｍであることがさらに好ましい。巻き取り張力が２０Ｎ／ｍ以上であると、巻ズレによるガスバリア性の低下およびガスバリアフィルムの保存性の劣化を防止できることから好ましい。一方、巻き取り張力が３５０Ｎ／ｍ以下であると、巻き締りによるガスバリア性の低下およびガスバリアフィルムの保存性の劣化を防止できることから好ましい。
【０１８９】
［工程（３）］
工程（３）は、工程（２）で製造したフィルムロールを包装材で包装して梱包部を形成する工程である。
【０１９０】
包装材は、上述したものと同様のものが用いられうることから、ここでは説明を省略する。
【０１９１】
フィルムロールを包装する方法としては、特に制限されず、公知の方法が用いられうる。例えば、包装材が熱可塑性樹脂である場合には、フィルムロール、および任意の材料（吸湿剤等）を包装材で覆った後、包装材の一部（開口部）を加熱し、圧力を印加した後、冷却して、密封する方法（ヒートシールによる包装方法）が挙げられる。
【０１９２】
包装材でフィルムロール等を包装する前には、脱気、または不活性ガスの置換を行うことが好ましい。脱気や不活性ガスの置換を行うことにより、形成された梱包部の内部環境（露点等）を調整することができる。
【０１９３】
２以上の包装材を包装する場合には、包装材ごとにヒートシールによる包装方法等を繰り返すことにより梱包部を形成することができる。
【０１９４】
＜フィルムロール梱包体の適用＞
本発明の一実施形態によれば、上述のフィルムロール梱包体、または上述の方法によって製造されたフィルムロール梱包体に含まれるガスバリア性フィルムを含む電子デバイスが提供される。
【０１９５】
この際、前記ガスバリア性フィルムは、上述のように、フィルムロール梱包体の開封、ガスバリア性フィルムの切り取り、離型性を有する樹脂層の剥離等を行うことにより準備することができる。
【０１９６】
［電子デバイス］
電子デバイスとしては、特に制限されず、ガスバリア性フィルムが適用されうる公知の電子デバイス本体が挙げられる。例えば、太陽電池（ＰＶ）、液晶表示素子（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子等が挙げられる。以下、有機ＥＬ素子を例に挙げて説明する。
【０１９７】
（有機ＥＬ素子）
有機ＥＬ素子は、特に制限されないが、通常、下記の層構成を有しうる。
【０１９８】
（１）陽極／発光層／陰極
（２）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
（３）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
（４）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（５）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（６）陽極／陽極バッファー層（正孔注入層）／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極バッファー層（電子注入層）／陰極。
【０１９９】
上記各層構成に用いられる層は、従来から用いられる各層を各種用いることができる。
【実施例】
【０２００】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。
【０２０１】
＜フィルムロール梱包体の製造＞
（実施例１）
クリアハードコート（ＣＨＣ）層付ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム（ＣＨＣ層の厚さ：６μｍ、ＰＥＴ層の厚さ：１２５μｍ、株式会社きもと製）上に、下記条件で第１のガスバリア層および第２のガスバリア層を形成し、第２のガスバリア層上に離型性を有する樹脂材料ＮＢＯ−０４２４（帯電防止剤を含むアクリル系粘着剤、藤森工業株式会社製）をラミネートしロール状に巻き取った。そのときの巻き取り張力は、１５０Ｎ／ｍとし、巻芯はクリーンコアＳ１００（材質：紙、三協紙業株式会社製）を用いた。次に、巻き取ったフィルムロールをバリア袋であるＭＺ−ＴＢ（ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）／二軸延伸ナイロン（ＯＮＹ）／ポリエチレン（ＰＥ）、水蒸気透過率：０．１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ、膜厚：８７μｍ、株式会社マルアイ製）に入れ、吸湿剤であるケアドライＣＴ−１００（大江化学工業株式会社製）を入れた後、脱気処理を行い、バリア袋の入れ口をヒートシールにて閉じ、包装を行い、フィルムロール梱包体を製造した。
【０２０２】
［第１のガスバリア層の形成］
大気圧プラズマ製膜装置（特開２００８−５６９６７号公報の図３に記載のロール・トゥ・ロール形態の大気圧プラズマＣＶＤ装置）を用いて、大気圧プラズマ法により以下の薄膜形成条件で酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の第１のガスバリア層（５０ｎｍ）を形成した。
【０２０３】
［混合ガスの組成］
放電ガス：窒素ガス（９４．９体積％）
ガスバリア層形成ガス：テトラエトキシシラン（０．１体積％）
添加ガス：酸素ガス（５．０体積％）
［製膜条件］
（第１電極）
電源：ＰＨＦ−６ｋ（株式会社ハイデン研究所製）
周波数：１００ｋＨｚ（連続モード）
出力密度：１０Ｗ／ｍ２
電極温度：１２０℃
（第２電極）
電源：ＣＦ−５０００−１３Ｍ（パール工業株式会社製）
周波数：１３．５６ＭＨｚ
出力密度：１０Ｗ／ｍ２
電極温度：９０℃
［第２のガスバリア層の形成］
上記方法で形成した第１のガスバリア層上に、第２のガスバリア層を以下の方法にて形成した。なお、得られた第２のガスバリア層の膜厚は３００ｎｍであった。
【０２０４】
（塗布）
２０質量％の無触媒のパーヒドロポリシラザンを含むジブチルエーテル溶液（アクアミカ  ＮＮ１２０−２０：ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）と、５質量％（固形分）のアミン触媒（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，６−ジアミノヘキサン）を含む、パーヒドロポリシラザンの２０質量％ジブチルエーテル溶液（アクアミカ  ＮＡＸ１２０−２０：ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）と、を混合し、第１の塗布液１を調製した。得られた第１の塗布液１は、アミン触媒が１質量％（固形分）であった。
【０２０５】
次に、第１のガスバリア層上に、前記第１の塗布液１を、ダイコーターを用いて塗布し、８０℃で３分間乾燥させて、ポリシラザン含有層を形成した。当該ポリシラザン含有層は、完全に固形化していない。
【０２０６】
（真空紫外光の照射）
ポリシラザン層の形成に引き続いて、連続的に、真空紫外光の照射装置により真空紫外光の照射（エキシマ照射）およびガスの噴射を行った。エキシマランプは、キセノンエキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ：ＭＥＵＴＨ−１−４００（株式会社エム・ディ・コム製）を用いて、波長１７２ｎｍ、積算光量３Ｊ／ｃｍ２、酸素濃度０．１％以下の条件で行った。
【０２０７】
得られたガスバリア性フィルムについて、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３３（ＭＯＣＯＮ社製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１２９：２００８（温度４０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％）に準拠して水蒸気透過率の測定を行ったところ、水蒸気透過率は、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であった。
【０２０８】
（実施例２）
樹脂材料をサニテクトＰＡＣ３−５０ＴＨＫ（ポリオレフィン系粘着剤、株式会社サンエー化研製）に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２０９】
（実施例３）
巻き取り張力を４０Ｎ／ｍに変更したことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２１０】
（実施例４）
巻き取り張力を３００Ｎ／ｍに変更したことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２１１】
（実施例５）
離型性を有する樹脂層を設けず、巻き取り張力を２０Ｎ／ｍに変更し、かつ、包装材としてポリエチレンフィルム（水蒸気透過率：１０ｇ／ｍ２／ｄａｙ、膜厚：５０μｍ、製品名：ＭＺ-ＰＥ、株式会社マルアイ製）に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２１２】
（実施例６）
離型性を有する樹脂層を設けず、包装材としてポリエチレンフィルムを用いて脱気処理をせずにフィルムロール全体を覆うように包装したことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２１３】
（実施例７）
巻き取り張力を２０Ｎ／ｍに変更したことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２１４】
（実施例８）
巻き取り張力を３１０Ｎ／ｍに変更したことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２１５】
（実施例９）
離型性を有する樹脂層を形成しなかったことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２１６】
（実施例１０）
包装材としてポリエチレンフィルムを用いて脱気処理をせずフィルムロール全体を覆うように包装したことを除いては、実施例１と同様の方法でフィルムロール梱包体を製造した。
【０２１７】
（実施例１１）
クリアハードコート（ＣＨＣ）層付ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム（ＣＨＣ層の厚さ：６μｍ、ＰＥＴ層の厚さ：１２５μｍ、株式会社きもと製）上に、下記条件で第１のガスバリア層、第２のガスバリア層、および保護層を形成し、保護層上に離型性を有する樹脂材料ＮＢＯ−０４２４（帯電防止剤を含むアクリル系粘着剤、藤森工業株式会社製）をラミネートしロール状に巻き取った。そのときの巻き取り張力は、１５０Ｎ／ｍとし、巻芯はクリーンコアＳ１００（材質：紙、三協紙業株式会社製）を用いた。次に、巻き取ったフィルムロールをバリア袋であるＭＺ−ＴＢ（ＰＥＴ／ＯＮＹ／ＰＥ、水蒸気透過率：０．１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ、膜厚：８７μｍ、株式会社マルアイ製）に入れ、脱気処理を行いバリア袋の入れ口をヒートシールにて閉じ、包装を行った。さらにバリア袋であるＭＺ−ＡＬ（ＰＥＴ／アルミニウム／ＯＮＹ／ＰＥ、水蒸気透過率：０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ、膜厚：９４μｍ、株式会社マルアイ製）に入れ、脱気処理を行い、バリア袋の入れ口をヒートシールにて閉じ、包装を行うことで、フィルムロール梱包体を製造した。
【０２１８】
［第１のガスバリア層の形成］
（塗布）
２０質量％の無触媒のパーヒドロポリシラザンを含むジブチルエーテル溶液（アクアミカ  ＮＮ１２０−２０：ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）と、５質量％（固形分）のアミン触媒（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，６−ジアミノヘキサン）を含む、パーヒドロポリシラザンの２０質量％ジブチルエーテル溶液（アクアミカ  ＮＡＸ１２０−２０：ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）と、を混合し、さらに総固形分が５質量％となるようにジブチルエーテルで希釈して第１の塗布液２を調製した。得られた第１の塗布液２は、アミン触媒が１質量％（固形分）であった。
【０２１９】
次に、基材上に、前記第１の塗布液２を、ダイコーターを用いて塗布し、８０℃で３分間乾燥させて、ポリシラザン含有層を形成した。当該ポリシラザン含有層は、完全に固形化していない。
【０２２０】
（真空紫外光の照射）
ポリシラザン層の形成に引き続いて、連続的に、真空紫外光の照射装置により真空紫外光の照射（エキシマ照射）およびガスの噴射を行った。エキシマランプは、キセノンエキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ：ＭＥＵＴＨ−１−４００（株式会社エム・ディ・コム製）を用いて、波長１７２ｎｍ、積算光量３Ｊ／ｃｍ２、酸素濃度０．１％以下の条件で行った。なお、得られた第２のガスバリア層の膜厚は１５０ｎｍであった。
【０２２１】
［第２のガスバリア層の形成］
（塗布）
２０質量％の無触媒のパーヒドロポリシラザンを含むジブチルエーテル溶液（アクアミカ  ＮＮ１２０−２０：ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）と、５質量％（固形分）のアミン触媒（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，６−ジアミノヘキサン）を含む、パーヒドロポリシラザンの２０質量％ジブチルエーテル溶液（アクアミカ  ＮＡＸ１２０−２０：ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）と、を混合し、さらに総固形分が１．７質量％となるようにジブチルエーテルで希釈して第１の塗布液３を調製した。得られた第１の塗布液３は、アミン触媒が１質量％（固形分）であった。
【０２２２】
次に、基材上に、前記第１の塗布液３を、ダイコーターを用いて塗布し、８０℃で３分間乾燥させて、ポリシラザン含有層を形成した。当該ポリシラザン含有層は、完全に固形化していない。
【０２２３】
（真空紫外光の照射）
ポリシラザン層の形成に引き続いて、連続的に、真空紫外光の照射装置により真空紫外光の照射（エキシマ照射）およびガスの噴射を行った。エキシマランプは、キセノンエキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ：ＭＥＵＴＨ−１−４００（株式会社エム・ディ・コム製）を用いて、波長１７２ｎｍ、積算光量３Ｊ／ｃｍ２、酸素濃度０．１％以下の条件で行った。なお、得られた第２のガスバリア層の膜厚は５０ｎｍであった。
【０２２４】
［保護層の形成］
上記方法で形成した第２のガスバリア層上に、保護層を以下の方法にて形成した。なお、得られた保護層の膜厚は５００ｎｍであった。
【０２２５】
（塗布）
オルガノポリシロキサン（グラスカＨＰＣ７００３：ＪＳＲ株式会社製）のジブチルエーテル溶液を、総固形分が１０質量％となるまでブタノールで希釈し、第２の塗布液を調製した。
【０２２６】
次に、第２のガスバリア層上に、前記第２の塗布液を、ダイコーターを用いて塗布し、１２０℃で２分間乾燥させて、ポリシロキサン含有層を形成した。当該ポリシロキサン含有層は、完全に固形化していない。
【０２２７】
（真空紫外光の照射）
ポリシロキサン含有層の形成に引き続いて、連続的に、真空紫外光の照射装置により真空紫外光の照射（エキシマ照射）およびガスの噴射を行った。エキシマランプは、キセノンエキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ：ＭＥＵＴＨ−１−４００（株式会社エム・ディ・コム製）を用いて、波長１７２ｎｍ、積算光量１Ｊ／ｃｍ２、酸素濃度０．１％以下の条件で行った。
【０２２８】
得られたガスバリア性フィルムについて、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３３（ＭＯＣＯＮ社製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１２９：２００８（温度４０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％）に準拠して水蒸気透過率の測定を行ったところ、水蒸気透過率は、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であった。
【０２２９】
（比較例１）
離型性を有する樹脂層を形成せず、包装材で包装しなかったことを除いては、実施例６と同様の方法でフィルムロールを製造した。
【０２３０】
（比較例２）
巻き取り張力を４００Ｎ／ｍに変更したことを除いては、比較例１と同様の方法でフィルムロールを製造した。
【０２３１】
（比較例３）
巻き取り張力を２０Ｎ／ｍに変更したことを除いては、比較例１と同様の方法でフィルムロールを製造した。
【０２３２】
（比較例４）
クリアハードコート（ＣＨＣ）層付ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム（ＣＨＣ層の厚さ：６μｍ、ＰＥＴ層の厚さ：１２５μｍ、株式会社きもと製）上に、下記条件で第１のガスバリア層を形成し、第１のガスバリア層上に離型性を有する樹脂材料ＮＢＯ−０４２４（帯電防止剤を含むアクリル系粘着剤、藤森工業株式会社製）をラミネートしロール状に巻き取った。そのときの巻き取り張力は、１５０Ｎ／ｍとし、巻芯はクリーンコアＳ１００（材質：紙、三協紙業株式会社製）を用いた。次に、巻き取ったフィルムロールをバリア袋であるＭＺ−ＴＢ（ＰＥＴ／ＯＮＹ／ＰＥ、水蒸気透過率：０．１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ、膜厚：８７μｍ、株式会社マルアイ製）に入れ、脱気処理を行いバリア袋の入れ口をヒートシールにて閉じ、包装を行った。さらにバリア袋であるＭＺ−ＡＬ（ＰＥＴ／Ａｌ／ＯＮＹ／ＰＥ、水蒸気透過率：０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ、膜厚：９４μｍ、株式会社マルアイ製）に入れ、脱気処理を行い、バリア袋の入れ口をヒートシールにて閉じ、包装を行うことで、フィルムロール梱包体を製造した。
【０２３３】
［第１のガスバリア層の形成］
（スパッタ法）
基材をスパッタ装置にセットし、１×１０−４Ｐａ台まで真空脱気した。真空槽内を９０℃にした後、放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．１Ｐａ、反応ガスとして酸素ガスを分圧で０．００８Ｐａ導入した。雰囲気圧力、温度が安定化したところで、スパッタ電力２Ｗ／ｃｍ２で放電を開始し、Ｓｉターゲット上にプラズマを発生させてスパッタリングプロセスを開始した。プロセスが安定したところでシャッターを開いてスパッタを開始し、厚さ１００ｎｍの窒化ケイ素からなるガスバリア層を形成した。
【０２３４】
得られたガスバリア性フィルムについて、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３３（ＭＯＣＯＮ社製）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１２９：２００８（温度４０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％）に準拠して水蒸気透過率の測定を行ったところ、水蒸気透過率は、８×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
【０２３５】
実施例１〜１１および比較例１〜４で製造した各フィルムロール梱包体の組成を下記表１に示す。
【０２３６】
【表１】
2014019056.tif 000006
【０２３７】
＜フィルムロール梱包体の性能評価＞
（有機ＥＬ素子の評価）
実施例１〜１１および比較例１〜４で製造したフィルムロール梱包体を３０℃、８０％ＲＨで６ヶ月保存した後、梱包部からフィルムロールを取り出し、巻き取られたガスバリア性フィルムの一部を切り取った。このようにして得られたガスバリア性フィルム（保存６ヶ月後のガスバリア性フィルム）と、製造直後のガスバリア性フィルムとを用いて有機ＥＬ素子を作製し、その評価をした。
【０２３８】
有機ＥＬ素子の作製
ガスバリア性フィルムのガスバリア層（または保護層）上にＩＴＯによる画素電極を形成し、前記画素電極上に、垂直ポリイミド配向層を形成した。
【０２３９】
他方、ガスバリア性フィルムのガスバリア層（または保護層）上に共通電極を形成し、前記共通電極上に垂直ポリイミド配向層を形成した。
【０２４０】
上記で得られた２つのフィルムを、電極層どうし（ポリイミド配向層どうし）が対面するよう対向させ、スペーサビーズを用いて両基板の間隔を一定に保ちながら位置を合わせて液晶注入用の開口部を残すように周囲を封止剤で封止した。次いで、開口部からＶＡ用液晶ＭＬＣ−６６１０（メルク株式会社製）を互いのポリイミド配向層間に注入し、開口部を封止して簡易の有機ＥＬ素子を作製した。
【０２４１】
［有機ＥＬ素子の評価］
作製した有機ＥＬ素子のそれぞれについて、黒点の評価を行った。
【０２４２】
具体的には、試料に１ｍＡ／ｃｍ２の電流を印加し発光させ、１００倍のマイクロスコープＭＳ−８０４（株式会社モリテックス製）およびレンズＭＰ−ＺＥ２５−２００（株式会社モリテックス製）を用いて、パネルの一部分を拡大し、黒点（ＤＳ）の状況を調べた。製造直後のガスバリア性フィルムおよび保存６ヶ月後のガスバリア性フィルムの評価は、それぞれ下記の基準に従い評価した。
【０２４３】
（製造直後）
◎：黒点の発生面積が０．１％未満である
○：黒点の発生面積が０．１％以上、０．５％未満である
△：黒点の発生面積が０．５％以上、２．０％未満である
×：黒点の発生面積が２．０％以上である。
【０２４４】
（保存６ヶ月後のガスバリア性フィルム）
◎：製造直後と比較して黒点の発生面積増加量が０．１％未満である
○：製造直後と比較して黒点の発生面積増加量が０．１％以上、０．３％未満である
△：製造直後と比較して黒点の発生面積増加量が０．３％以上、１．０％未満である
×：製造直後と比較して黒点の発生面積増加量が1．０％以上である。
【０２４５】
得られた結果を下記表２に示す。
【０２４６】
【表２】
2014019056.tif 000007
【０２４７】
比較例１〜４の結果から、ガスバリア性フィルムは、長期間保管すると、水分の影響を受けることが分かった。
【０２４８】
そして、実施例１〜１１の結果から、フィルムロールを梱包体とすることにより、長期間保管したガスバリア性フィルムを使用しても、有機ＥＬ素子の性能にほとんど影響を及ぼさないことが分かった。
【０２４９】
また、実施例１および２、並びに実施例１および１０の結果から、適用する離型性を有する樹脂材料や包装の形態によって、ガスバリア性フィルムの水分に対する影響が異なることが分かった。
【０２５０】
なお、実施例１〜１１で製造したフィルムロール梱包体を、船便にて日本およびロサンゼルス間の往復輸送を行った後、上記と同様にして有機ＥＬ素子の評価を行ったところ、上記表２と同等の結果が得られた。一方、比較例１〜４で製造したフィルムロール梱包体を、船便にて日本およびロサンゼルス間の往復輸送を行った後、上記と同様にして有機ＥＬ素子の評価を行うと、前記表２の保存６ヶ月後のガスバリア性フィルムを使用した場合よりも明らかに製造直後と比較した黒点の発生面積増加量が増大した。上記結果から、ガスバリア性フィルムが空気中の水分の影響を受けたと考えられる。