(57)【要約】【課題】  取り扱いや硬化状態の制御が容易であり、高精度の印刷が可能な印刷方法を提供する。また、高精度の導電性パターン形成方法を提供する。【解決手段】  ベース基材上に粘着性を有さない光硬化性樹脂被膜を形成する工程、前記光硬化性樹脂被膜上にグラビア印刷によってインクをパターン状に印刷する工程、光照射によって前記光硬化性樹脂被膜を硬化する工程をこの順に含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基材上に粘着性を有さない光硬化性樹脂被膜を形成する工程、前記光硬化性樹脂被膜上にグラビア印刷によってインクをパターン状に印刷する工程、光照射によって前記光硬化性樹脂被膜を硬化する工程をこの順に含む印刷方法。
【請求項２】
前記光硬化性樹脂被膜は、光硬化性ポリマーのみからなり、光硬化性モノマーを含有しないことを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項３】
印刷時における前記光硬化性樹脂被膜の粘着性が、ＪＩＳ  Ｚ  ０２３７：２００９−１４．傾斜式ボールタック試験に準ずる傾斜角１５°、酸化アルミニウム製ボールを用いた試験において２ｍｍ以下の粘着性であることを特徴とする請求項１に記載の印刷方法。
【請求項４】
ベース基材上に粘着性を有さない光硬化性樹脂被膜を形成する工程、前記光硬化性樹脂被膜上にグラビア印刷によって無電解メッキ触媒を含有するインクをパターン状に印刷する工程、光照射によって前記光硬化性樹脂被膜を硬化する工程、無電解メッキ処理によって前記無電解メッキ触媒を含有するインク上に金属被膜を形成する工程をこの順に有する、導電性パターンの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定のインクを用いて基材表面に所望のパターンを形成する印刷方法に関する。さらには導電性を有するパターンを形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、印刷によって基材上に導電性パターンを形成する方法がとられている。なかでも精密で微細なパターンを形成することができる印刷方法として、グラビアオフセット印刷やダイレクトグラビア印刷が用いられている。近年においては、さらに高精度に、さらに微細なパターンを形成することが求められており、印刷方法の改善が検討されている。
【０００３】
特許文献１には、合成樹脂と、この合成樹脂と反応する官能基を有する変性シリコーンオイルとを含む組成物の硬化層であるアンカーコート層を透明基板上に設け、このアンカーコート層上にメッシュ状の導電層を設けた電磁波シールド性光透過窓材が開示されている。これは、透明基板上に形成されたアンカーコート層に対する印刷インクの接触角度を高め、優れた印刷精度を得ることができるとするものである。
【０００４】
特許文献２には、画像が印刷される側の表面に、粘着性のある光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する被印刷基材が開示されている。これによれば、乾燥性が速いインクを用いた場合の問題であるブランケット上での乾燥や固着化が起こっても、高精細な印刷画像の形成が可能となるとしている。また、乾燥性が遅いインクを用いた場合の、インクのダレによる印刷形状の乱れや、凝集力不足によりインクの一部がブランケットに残る、いわゆる「泣き別れ」等の問題も解消できるとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２８９９７２号公報
【特許文献２】特開２０１０−２６０１７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記印刷方法の改善については、依然として次のような問題点があった。すなわち、特許文献１の方法においては、合成樹脂と変性シリコーンオイルとの硬化条件の制御が難しく、硬化状態によってはインクとの接触角にバラツキが生じるという問題があった。インクとの接触角にバラツキが有る場合、精度の高い印刷は望めない。
【０００７】
特許文献２の方法においては、印刷前の被印刷基材は粘着性を有しており、取り扱いが難しいという問題がある。被印刷物としてフィルムやシートなどの長尺物を用いる場合、印刷の前後においてこれら被印刷物は、作業・保管スペースや取り扱い性を考慮してロール状に巻き上げられていることが望ましい。しかし、特許文献２に開示される被印刷物の場合、印刷されるべき面が粘着性を有しているために、巻き上げたり重ねたりすることには適していない。数百メートルや数千メートルといった単位で巻き上げた場合、自重による圧力で、粘着性の光硬化性転写層が重なった被印刷物の裏面に剥がれて移ってしまうという問題がある。これを避けるためには、離型紙などを重ねて巻き上げるなど、余計な材料を用いた対策も必要となる。
【０００８】
そこで本発明が解決しようとする課題は、取り扱いや硬化状態の制御が容易であり、高精度の印刷が可能な印刷方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、ベース基材上に粘着性を有さない光硬化性樹脂被膜を形成する工程、次に前記光硬化性樹脂被膜上にグラビア印刷によってインクをパターン状に印刷する工程、光照射によって前記光硬化性樹脂被膜を硬化する工程をこの順に含む印刷方法である。
【００１０】
前記光硬化性樹脂被膜は、光硬化性ポリマーのみからなり、光硬化性モノマーを含有しないことが好ましい。また、前記光硬化性樹脂被膜が粘着性を有さないとは、ＪＩＳ  Ｚ  ０２３７：２００９−１４、傾斜式ボールタック試験に準ずる傾斜角１５°、酸化アルミニウム製ボールを用いた試験において２ｍｍ以下の粘着性であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の印刷方法によれば、高精度な印刷物を容易に得ることができる。また、長尺のフィルムやシート状の被印刷物であっても容易に取り扱うことができ、印刷することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の印刷方法の一例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明に用いられるベース基材としては、例えば、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ＡＢＳ樹脂などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネートなどを挙げることができる。これらの中から用途に応じて適宜選択して使用すればよい。なかでも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルムは汎用性が高く、コストも安いことから、好適に使用され、特にポリエチレンテレフタレートのフィルムが最適である。
【００１４】
本発明において、光硬化性樹脂被膜は、光重合性官能基を有する光硬化性ポリマー、光重合開始剤、溶媒から構成されることが好ましい。使用する光硬化性ポリマーによって、形成された光硬化性樹脂被膜の粘着性を低下させることが可能であり、ロール状の場合でも光硬化性樹脂被膜が接触する基材裏面にブロッキングすることなく巻き取ることが可能となる。一方、低分子量の光硬化性モノマーを使用した場合、硬化前の樹脂被膜にタックが残るため、ロール状で取り扱うことが困難となる。
【００１５】
本発明に用いられる光硬化性ポリマーは、光重合開始剤によって架橋する光重合性官能基を有しているものを使用できる。光重合性官能基として、例えばエチレン性不飽和結合が挙げられる。なかでも、アクリロイル基やメタクリロイル基を含んでいることが好ましい。
【００１６】
光硬化性ポリマーの例としては、（メタ）アクリル酸（共）重合体、マレイン酸（共）重合体等のビニルポリマーや、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリエステル等の側鎖にエチレン性二重結合を有するポリマー類を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、光硬化性ポリマーは、数平均分子量５，０００以上、特に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。数平均分子量が５，０００未満の場合、粘着性が発現する虞がある。また、数平均分子量が１００，０００を超える場合には、樹脂の取り扱いが困難となる傾向がある。
【００１７】
本発明に用いられる光重合開始剤は、１種または２種以上で使用することができ、光硬化性樹脂被膜の固形分として１〜２０％、特に５〜１５％含むことが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の開始剤が挙げられる。
【００１８】
アセトフェノン系重合開始剤としては、アセトフェノン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１’，１’，１’−トリクロロアセトフェノン、クロロアセトフェノン、２’，２’−ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２’−フェニルアセトフェノン、２−アミノアセトフェノン、ジアルキルアミノアセトフェノン等が挙げられる。ベンゾイン系重合開始剤としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシプロピルベンゾフェノン、アクリルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。
チオキサントン系重合開始剤としては、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ジメチルチオキサントン等が挙げられる。
【００１９】
光硬化性樹脂被膜を塗工する際に用いられる溶媒は、例えば、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、１，３−ブチレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，４−ブタンジオールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテルなどのグリコール類とその誘導体、グリセリン、トリアセチンなどのグリセリンとその誘導体、メチルアセテート、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ−プロピルアセテート、ブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテートなどの酢酸エステル類、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルメチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、炭酸ジメチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ソルベントナフサ等が挙げられる。溶媒はこれらのうち１種類であってもよいし、複数種類の混合物であってもよい。
【００２０】
ベース基材へ光硬化性樹脂被膜を塗工する手段として、スピンコート法、グラビアコート法、スロットダイコート法、スプレーコート法、バーコート法等が挙げられる。光硬化性樹脂被膜の物性や溶媒の種類によって適宜選択して使用することができる。
【００２１】
塗工した状態から溶媒を揮発して、光硬化性樹脂被膜を乾燥する。光硬化性樹脂被膜を乾燥する手段として、風乾、熱風乾燥、赤外炉等を用いた加熱乾燥などが挙げられる。乾燥方法は、ベース基材の耐熱性や溶媒の乾燥速度によって適宜選択することができる。
【００２２】
本発明で用いられるインクは、目的とする印刷物を製造するのに必要な成分を含んでいればよく、それら成分は印刷物が必要とする機能を考慮して適宜選択することができる。しかしながら印刷用のインクとして利用できるように流動性を有し、例えば２５℃における粘度として１００，０００ｍＰａ・ｓ以下であることが望ましい。
【００２３】
また前記インクは、前記必要な成分を分散あるいは溶解するための溶媒を有している。本発明で用いられるインク用の溶媒としては、前記成分を適切に分散あるいは溶解できるものである必要がある。さらにグラビアオフセット印刷の場合には、インクとしての表面張力が後述するブランケットのぬれ張力よりも高く設定できるものを選ぶことが必要である。インクの表面張力は添加する成分によって変化するため、溶媒単独の表面張力とは異なる。したがって、添加する成分と溶媒の選択によって、インクとしての表面張力を調整することが肝要である。
【００２４】
インクに用いられる溶媒は、例えば、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、１，３−ブチレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，４−ブタンジオールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテルなどのグリコール類とその誘導体、グリセリン、トリアセチンなどのグリセリンとその誘導体、メチルアセテート、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ−プロピルアセテート、ブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテートなどの酢酸エステル類、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルメチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、炭酸ジメチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ソルベントナフサ等が挙げられる。溶媒はこれらのうち１種類であってもよいし、複数種類の混合物であってもよい。
【００２５】
本発明で使用されるインクは、無電解メッキ触媒を含むインクであってもよい。インクに含有される無電解メッキ触媒としては、銅、金、銀、白金、パラジウム、鉄、コバルト、ニッケルなどを用いることができる。これらは金属単体、塩又は酸化物の形態で使用できる。また、無電解メッキ触媒は、担体上に担持されていてもよい。担体としては、アルミナゲル、シリカゲル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、及び二酸化ケイ素などが用いられる。担体は、触媒担持量を向上させるために、多孔質であることが好ましい。
【００２６】
無電解メッキ触媒インクに含有されるバインダ樹脂としては、エチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＰＶＡ樹脂、ポリエステル樹脂、及びポリウレタン樹脂などが用いられる。
【００２７】
更に無電解メッキ触媒インクに用いられる溶媒として、前記無電解メッキ触媒やバインダ樹脂を適切に分散あるいは溶解できるものを選択できる。例えば、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、１，３−ブチレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、トリプロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，４−ブタンジオールジアセテート、１，６−ヘキサンジオールジアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテルなどのグリコール類とその誘導体、グリセリン、トリアセチンなどのグリセリンとその誘導体、メチルアセテート、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ−プロピルアセテート、ブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテートなどの酢酸エステル類、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルメチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、炭酸ジメチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ソルベントナフサ等が挙げられる。溶媒はこれらのうち１種類であってもよいし、複数種類の混合物であってもよい。
【００２８】
本発明の印刷方法においてはグラビア印刷機が用いられる。グラビア印刷機は特に限定されるものではなく、グラビアオフセット印刷機、ダイレクトグラビア印刷機のいずれであってもよい。また、印刷版の材質、形状やオフセット方式の場合のブランケット材質などについても、特に限定されない。
【００２９】
グラビア印刷によるパターン印刷を行った後、印刷されたインクの乾燥を行い、そして光硬化性樹脂被膜の硬化を行う。印刷後に光硬化性樹脂被膜の硬化を行うことによって、インクが光硬化性樹脂被膜に吸収され、パターン精度の優れた印刷物を得ることができる。また、光硬化性樹脂被膜は、１０００mＪ／ｃｍ２以下の紫外線量で硬化するように設計されていることが好ましい。光源としては高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどを適宜選択して使用することができる。
【００３０】
無電解メッキ触媒インクを印刷した基材の無電解メッキ処理の一例を挙げる。銅からなる導電層を形成する場合、硫酸銅等の水溶性銅塩１〜１００ｇ／Ｌ、特に５〜５０ｇ／Ｌ、ホルムアルデヒド等の還元剤０．５〜１０ｇ／Ｌ、特に１〜５ｇ／Ｌ、ＥＤＴＡ等の錯化剤２０〜１００ｇ／Ｌ、特に３０〜７０ｇ／Ｌを含み、ｐＨ１２〜１３．５、特に１２．５〜１３に調整した溶液に、メッキ触媒層などを有する透明基材を５０〜９０℃、３０秒〜６０分浸漬する方法を採用することができる。なお、液の安定剤としてビピリジンを１〜５０ｍｇ／Ｌ、特に２〜１０ｍｇ／Ｌを加えてもよい。
【実施例１】
【００３１】
（光硬化性樹脂被膜１の形成）
ベース基材として厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。光硬化性のアクリル樹脂（ＡＣＲＩＴ  ８ｋｘ−０１２：大成ファインケミカル株式会社製）のシクロヘキサノン溶液（固形分２０％）９８部に、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）を２部混合、撹拌して光硬化性樹脂組成物１を得た。得られた光硬化性樹脂組成物１をウェット膜厚が２４μｍになるようにバーコーターでベース基材に塗工し、その後熱風乾燥機中で８０℃、１０分間乾燥して光硬化性樹脂被膜を形成した。得られた光硬化性樹脂被膜１の厚さは２．５μｍであり、粘着性の試験結果は２ｍｍ以下であった。また耐ブロッキング性も良好であった。
【００３２】
ここで光硬化性樹脂被膜の粘着性の評価方法について記載する。ＪＩＳ  Ｚ  ０２３７：２００９の１４．傾斜式ボールタック試験に準ずる試験装置を用い、傾斜角１５°の傾斜面に試料を貼り、助走路部分には長さ１００ｍｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを貼り付けた。直径２ｍｍ、６ｍｍ、２０ｍｍ、３０ｍｍの酸化アルミニウム製ボールをスタート位置から転がして、測定部内に停止する（５秒間以上ボールが動かない）ようなボールのうち最大のものを見いだし、その直径をもって粘着性の試験結果とする。なお、直径２ｍｍのボールも測定部内に停止しなかった場合の試験結果は「２ｍｍ以下」と表記する。
【００３３】
また、光硬化性樹脂被膜が形成されたベース基材の取り扱い性について評価する方法として、耐ブロッキング性を評価した。印刷の前後で被印刷物を巻き上げておいた場合、光硬化性樹脂被膜が剥離してベース基材の裏面に移ってしまう程度を評価するものである。ベース基材上に光硬化性樹脂被膜が形成された被印刷物を３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさに切り出し、光硬化性樹脂被膜が形成された面にポリエチレンテレフタレートフィルムを重ね合わせて、５０℃雰囲気下、８０ｇ／ｃｍ２の荷重をかけ１時間静置した。その後ポリエチレンテレフタレートフィルムを引き剥がし、光硬化性樹脂被膜の状態を観察して次の基準で判定をした。
【００３４】
○：ポリエチレンテレフタレートフィルムが抵抗無く剥がされ、光硬化性樹脂被膜に損傷なし。
×：ポリエチレンテレフタレートフィルムが剥がされるが、光硬化性樹脂被膜に損傷（剥離）が発生する。
【００３５】
光硬化性樹脂被膜上に無電解メッキ触媒インクを用いたグラビア印刷によってパターン印刷を行った。触媒インクとして、パラジウム粒子を担持した酸化チタン多孔質体３質量％、ポリエステル樹脂（製品名ＧＫ６８０、東洋紡績株式会社製）２０質量％、及び有機溶剤（ブチルカルビトールアセテート）７７質量％を混合し、調製した。印刷版のパターンはライン幅１６．５μｍ、ライン間スペース２５０μｍのメッシュパターンとした。印刷物を熱風乾燥機中で９０℃、３分間乾燥した。その後、高圧水銀ランプを光源として、３００mＪ／ｃｍ２の紫外線量で硬化した。得られた印刷パターンはライン幅１６．１μｍ、ライン間スペース２５０．４μｍであり、高精度な印刷物を得ることができた。
【実施例２】
【００３６】
実施例１で作製した印刷物に、無電解銅メッキ処理をしたものを同様の方法で評価した。５０℃の無電解銅メッキ液へ印刷物を１０分間浸漬させた。なお、粘着性試験の結果は２ｍｍ以下であった。また、耐ブロッキング性も良好であった。下記にメッキ液の組成を示す。
【００３７】
（無電解銅メッキ液）
錯化剤（ＥＤＰ−３００：株式会社ＡＤＥＫＡ製）  ４０ｇ／L
３２％苛性ソーダ  ２５ｍｌ／L
塩化銅二水和物  ４．８ｇ／L
３７％ホルムアルデヒド  １２ｍｌ／L
ビピリジン  ５ｍｇ／L
[比較例１]
【００３８】
（光硬化性樹脂被膜２の形成）
ポリエステル樹脂（バイロンＧＫ８８０：東洋紡績株式会社製）のシクロヘキサノン溶液（固形分４５％）を４３部、ヘキサンジオールジメタクリレート（ＳＲ２３９：ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）を４３部、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰ−Ａ：共栄社化学株式会社製）を４．５部、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（Ｇ２０１−Ｐ：共栄社化学株式会社製）を９部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）を０．５部混合、撹拌して光硬化性樹脂組成物２を得た。この光硬化性樹脂組成物２を用いてウェット膜厚が６μｍとなるようにバーコーターでベース基材に塗工した後、実施例１と同様に乾燥させた。その後、実施例１と同様にグラビア印刷を行った。得られた印刷パターンはライン幅２５．３μｍ、ライン間スペース２４１．２μｍであった。なお、光硬化性樹脂組成物２を用いて形成された光硬化性樹脂被膜２の厚さは３．５μｍ、粘着性の試験結果は６ｍｍであった。
【００３９】
【表１】
2014060188.tif 000002
【符号の説明】
【００４０】
１    ベース基材
２    光硬化性樹脂被膜
３    インク
【図１】
2014060188.tif 000003