(57)【要約】【課題】  白濁せず、且つ、良好な画像を得る事ができるインクジェット記録媒体を提供する。【解決手段】  多孔質シリカ粒子を含むインク受容層を支持体上に有するインクジェット記録媒体において、該多孔質シリカ粒子が、テトラアルコキシシラン、アルキルアミン及びアルコールを含む混合液（Ａ液）を、アンモニア、アルコール及び水を含む混合液（Ｂ液）に加え、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応を行い、シリカ粒子を得る工程と、該シリカ粒子からアルキルアミンを除去する工程とを含む方法により得られることを特徴とするインクジェット記録媒体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質シリカ粒子を含むインク受理層を支持体上に有するインクジェット記録媒体において、該多孔質シリカ粒子が、テトラアルコキシシラン、アルキルアミン及びアルコールを含む混合液（Ａ液）を、アンモニア、アルコール及び水を含む混合液（Ｂ液）に加え、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応を行い、シリカ粒子を得る工程と、該シリカ粒子からアルキルアミンを除去する工程とを含む方法により得られることを特徴とするインクジェット記録媒体。
【請求項２】
前記アルキルアミンが、炭素原子数６〜１８のアルキル基を有するアミン化合物である請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【請求項３】
前記アルコールが、メタノール、エタノール及びプロパノールからなる群から選ばれる１種以上のアルコールである請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【請求項４】
前記テトラアルコキシシランが、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン及びテトラプロポキシシランからなる群から選ばれる１種以上のテトラアルコキシシランである請求項１〜３のいずれか１項記載のインクジェット記録媒体。
【請求項５】
前記シリカ粒子を得る工程が、前記Ａ液をＢ液に加えた後、更にテトラアルコキシシラン及びアルコールを含む混合液（Ａ´液）を加える工程である請求項１〜４のいずれか１項記載のインクジェット記録媒体。
【請求項６】
前記アルキルアミンを除去する工程が、該シリカ粒子を加熱する事により除去する工程である請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【請求項７】
前記Ａ液中のテトラアルコキシシランとアルキルアミンの比率〔テトラアルコキシシラン／アルキルアミン〕が、モル比で１／０．０５〜１／５の範囲である請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【請求項８】
Ａ液中のテトラアルコキシシランの含有量が、Ａ液１００質量部中１０〜６０質量部である請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【請求項９】
前記Ａ液中のテトラアルコキシシランとＢ液中の水の量がモル比〔（水）／（テトラアルコキシシラン）〕で０．５〜２５である請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【請求項１０】
前記インク受理層にポリビニルアルコール系樹脂を含む請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【請求項１１】
多孔質シリカ粒子の含有量が水溶性樹脂１００質量部に対して０．１〜１．０質量部である請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクをインクジェット法で吐出して記録するのに好適なインクジェット記録媒体に関する
【背景技術】
【０００２】
インクジェット法を利用した記録方法としては、インクを受容する記録層が多孔質構造に構成されたインクジェット記録媒体を用いた方法が実用化されている。その一例として、無機顔料粒子及び水溶性バインダーを含み、高い空隙率を有する記録層が耐水性の支持体上に設けられたインクジェット記録媒体があり、多孔質構造を有するためにインクの速乾性に優れ、高い光沢を有する等、写真ライクな画像の記録が可能になってきている。
【０００３】
インクジェット記録方法は、オフィスプリンター、ホームプリンター等の分野での適用のみならず、近年では、商業印刷分野での応用がなされつつある。この商業印刷分野では、インク溶媒の支持体への浸透を完全に遮断する写真のような表面を有するものではなく、汎用の印刷紙のような印刷の風合い、質感、高速記録性を有するインクジェット記録媒体が要求されている。   
【０００４】
画像を高速に又は一度に多数枚を印画したり、両面に画像を記録する等の商業用プリントなどの用途では、インクを打滴して画像記録するにあたり、画像をより高速に記録できるだけでなく、記録材料としての品質上、記録画像の光沢性や画像の精細さ等の品質が安定していることが求められる。ところが、高品質化ないし高性能化が進む状況では、両面記録、あるいは多数枚処理や高速処理等などを行なう場合において、湿度環境や記録後の乾燥状態が画像品質に与える影響を無視できない傾向にある。
【０００５】
上記に関連して、例えば、気相法シリカと、平均細孔径が０．８ｎｍ〜２０ｎｍである六方構造の細孔を有し、体積平均粒子径が５０ｎｍ〜２０μｍであるシリカ多孔体とを含み、前記気相法シリカ及び前記シリカ多孔体の合計量に対する前記シリカ多孔体の質量比率が５０質量％未満であるインク受容層を支持体上に有するインクジェット記録媒体が知られている（例えば、特許文献１参照。）。該特許文献１では、例えば、実施例にはバインダ樹脂としてポリビニルアルコール樹脂と気相法シリカ及びシリカ多孔体を含むインク受容層が開示されている。この例では、気相法シリカ及びシリカ多孔体はポリビニルアルコール樹脂１００質量部に対して、約１７０質量部も使用している。このように引用文献１に記載されたインク受容層には、バインダ樹脂に対して相当量のシリカが踏むまれており、その結果、インク受容層がシリカにより白濁してしまう問題がある。その為、インク受容層が白濁していないインクジェット記録媒体が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−０１１５２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、白濁せず、且つ、良好な画像を得る事ができるインクジェット記録媒体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討した結果、特定の製法で得られる多孔質シリカ粒子を用いる事により、引用文献１のように気相法シリカを用いることなく、インクジェットの不出物が滲みにくいインク受容層が得られること、特定の製法で得られる多孔質シリカ粒子はインク受容層の表面に偏析する為、バインダ樹脂１００質量部に対して０．０５〜３質量部程度含有させればよく、インク受容層に濁りを引き起こさないこと等を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明は、多孔質シリカ粒子を含むインク受容層を支持体上に有するインクジェット記録媒体において、該多孔質シリカ粒子が、テトラアルコキシシラン、アルキルアミン及びアルコールを含む混合液（Ａ液）を、アンモニア、アルコール及び水を含む混合液（Ｂ液）に加え、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応を行い、シリカ粒子を得る工程と、該シリカ粒子からアルキルアミンを除去する工程とを含む方法により得られることを特徴とするインクジェット記録媒体を提供するものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、透明性に優れ、インクの滲みの発生が抑制されたインクジェット記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明のインクジェット記録媒体は、支持体上に１層又は２層以上のインク受容層を有しており、このインク受容層として、後述する多孔質シリカ粒子を含む層を設けて構成されたものである。  
【００１２】
前記インク受容層は、少なくとも、後述する多孔質シリカ粒子を含み、好ましくは水溶性樹脂、媒染剤（水溶性金属化合物、含窒素有機カチオンポリマー等）を含み、更には必要に応じて、架橋剤などの他の成分を用いて構成することができる。
【００１３】
本発明で用いる多孔質シリカ粒子は、本発明の多孔質シリカ粒子の製造方法は、テトラアルコキシシラン、アルキルアミン及びアルコールを含む混合液（Ａ液）を、アンモニア、アルコール及び水を含む混合液（Ｂ液）に加え、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応を行い、シリカ粒子を得る工程と、該シリカ粒子を焼成する工程とを含むことにより製造されるものである。
【００１４】
Ａ液の構成成分で多孔質シリカ粒子の原料となるテトラアルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、反応性が高いことからテトラメトキシシランが好ましい。また、これらのテトラアルコキシシランは、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。
【００１５】
Ａ液の構成成分であるアルキルアミンはシリカ粒子の表面に細孔を作るいわゆる鋳型として働くため、その種類及び添加量によって、細孔の数や大きさや形状を制御することが可能である。また、アルキルアミンは、後述するアンモニアとともにテトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応の触媒としても作用する。アルキルアミンとしては、炭素原子数６〜１８のアルキル基を有するアミン化合物がＡ液やＢ液の溶媒となるアルコールへの溶解性が良好で、粒径が例えば１００〜２５０ｎｍの多孔質シリカ微粒子が得やすくなることから好ましい。炭素原子数６〜１８のアルキル基を有するアミン化合物の具体例としては、例えば、オクチルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、テトラデシルアミン、オレイルアミン等が挙げられる。これらのアルキルアミンは、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。
【００１６】
シリカ粒子の細孔の数を増やすには、例えば、後述するテトラアルコキシシランとアルキルアミンの比率〔テトラアルコキシシラン／アルキルアミン〕を少なくすればよい。また、シリカ粒子の細孔の大きさを大きくするには、例えば、炭素原子数が多いアルキルアミンを用いればよい。
【００１７】
Ａ液の構成成分であるアルコールは、溶媒として働き、アルキルアミンを溶解し、均一に混合されたＡ液を得やすくする効果を奏する。アルコールとしては、水と混和するものが好ましい。さらに、アルコキシシランとアルコールの交換反応により反応系が複雑化することを防止する観点から、使用するテトラアルコキシシランのアルコキシ部位と同数の炭素原子数を有するものが特に好ましい。具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール等が挙げられる。
【００１８】
Ａ液中のテトラアルコキシシランとアルキルアミンの比率〔テトラアルコキシシラン／アルキルアミン〕としては、モル比で１／０．０５〜１／５の範囲であることが、細孔を表面に有し、かつ一次粒子が球状である粒子を得るために好ましく、モル比で１／０．１〜１／３．０がより好ましく、モル比で１／０．１〜１／２．０が更に好ましい。
【００１９】
また、Ａ液中のテトラアルコキシシランの含有量としては、Ａ液１００質量部中１０〜６０質量部が、収量を多く製造できることから好ましく、２５〜４５質量部がより好ましい。
【００２０】
Ｂ液の構成成分であるアンモニアは、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応の触媒として作用する。用いるアンモニアは、アンモニア水として加えても、反応溶液中にアンモニアを気体で導入しても良いが、使用量をコントロールしやすいことから、アンモニア水で用いるのが好ましい。
【００２１】
Ｂ液の構成成分であるアルコールは、例えば、前記Ａ液の調製に用いるアルコールを用いることができる。用いるアルコールはＡ液の調製に用いたアルコールと同じものを使用しても良いし、異なるものを使用しても良い。また、１種類のみで用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００２２】
Ｂ液の構成成分で、本発明の製造方法において溶媒として用いる水としては、反応系中に不純物が混入することを極力避けるため、純水を用いることが好ましい。
【００２３】
Ｂ液中のアンモニアと水の比率〔アンモニア／水〕としては、モル比で１／１〜１／２０の範囲であることが、細孔を表面に有し、かつ一次粒子が球状である粒子を得るために好ましい。さらに、アンモニア水を用いて反応操作の容易できることから、アンモニアと水のモル比が１／２．５〜１／２０であることがより好ましい。
【００２４】
また、Ｂ液中の水の質量としては、多孔質シリカ微粒子の粒径が制御しやすいことからＢ液１００質量部に対して１〜４０質量部が好ましく、２〜３０質量部がより好ましい。
【００２５】
本発明の表面に細孔を有する多孔質シリカ粒子の製造方法は前記Ａ液をＢ液に加え、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応を行い、シリカ粒子を得る工程（以下、工程１と略記する。）と、シリカ粒子からアルキルアミンを除去する工程（以下、工程２と略記する。）を含む。
【００２６】
以下に上記工程を詳細に説明する。工程１は、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合させ、シリカ粒子を形成する工程である。Ａ液とＢ液とを混合させる際は、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応の触媒として作用するアンモニアの量が、Ａ液とＢ液の混合液（反応系）のｐHを８から１２の範囲とする量となるようにＡ液とＢ液を混合させるのが一次粒子が球状である粒子を得やすいことから好ましく、ｐＨを９から１１の範囲とする量となるようにＡ液とＢ液を混合させるのがより好ましい。
【００２７】
Ａ液をＢ液に加えるには、例えば、Ｂ液が入っている容器の上からＡ液を滴下することにより加えても良いし、Ｂ液が入っている容器内に導管ノズルを入れて、導管ノズルからＡ液を流出することでＢ液にＡ液加えても良い。また、Ａ液をＢ液に加える際にはＢ液を撹拌しながら、そこへＡ液を注入してもよい。
【００２８】
前記Ａ液及びＢ液の混合時の温度としては、５〜８０℃の範囲が、反応原料の反応系への溶解性及び一次粒子が球状である粒子を得るために好ましい。
【００２９】
前記Ｂ液へのＡ液の注入時間としては、０〜２４０分の範囲が好ましく、３０〜１５０分の範囲がより好ましい。ここでいう０分とは、Ａ液をＢ液へ一括で投入することを表す。また、Ａ液の注入後、５〜８０℃の温度範囲で、１０分以上さらに撹拌反応することが好ましい。この工程１によって、多孔質シリカ粒子の元となるシリカ粒子が得られる。
【００３０】
工程１において、Ａ液をＢ液に加えたあと、更にテトラアルコキシシラン及びアルコールを含む混合液（Ａ´液）を加えることにより、他の化合物、例えば溶剤や、樹脂の細孔への浸入を抑制しうる多孔質シリカ粒子が得られる。Ａ´液は、Ａ液をＢ液へ加えた後速やかに添加しても良いし、Ａ液をＢ液へ加え、その後、静置または撹拌後添加しても良い。
【００３１】
上記の工程１で得られたシリカ粒子からアルキルアミンを除去するのが工程２である。アルキルアミンを除去する方法としては、例えば、該シリカ粒子を酸で洗浄する方法、該シリカ粒子を高温中に噴霧する方法、該シリカ粒子を焼成する方法等が挙げられる。
【００３２】
シリカ粒子からアルキルアミンを除去する際に、事前にシリカ粒子を洗浄しておいても良い。シリカ粒子を洗浄する方法としては、例えば、まず、工程１で得られた反応溶液からシリカ粒子を遠心分離し、シリカ粒子を取り出す。このシリカ粒子にアルコールを加えて撹拌して懸濁液とし、この懸濁液を再度遠心分離してシリカ粒子を取り出す。この工程を数回行うことで、アルコールによってシリカ粒子を洗浄する。この際使用するアルコールは、前記Ａ液及びＢ液の調製に用いたアルコールと同種のものが好ましい。なお、シリカ粒子を反応溶液及びアルコール懸濁液から取り出す方法としては、遠心分離に限られず、例えば、限外ろ過を用いても構わない。また、限外ろ過装置を使用し、連続的に洗浄工程を実施しても構わない。
【００３３】
前記シリカ粒子を酸で洗浄する方法で用いる酸としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等が挙げられる。これらの酸の中でも、中和塩が水溶性であることから、無機酸が好ましい。
【００３４】
前記シリカ粒子を酸で洗浄する際は、水の他、アルコール存在下で行うことが好ましい。この際、用いるアルコールとしては、前記Ａ液及びＢ液で用いたアルコールと同種のもので良い。さらに、アルキルアミンの抽出は、加熱して行うことが好ましく、その温度範囲としては、抽出効率が高いことから、使用するアルコールの沸点付近であることが好ましい。
【００３５】
該シリカ粒子を高温中に噴霧するには、例えば、２７０〜８００℃程度の雰囲気下で該シリカ粒子を噴霧できる市販のスプレードライヤーを用いればよい。ここで、該シリカ粒子を高温中に噴霧する際は、シリカ粒子の上記アルコールによる洗浄や酸による洗浄を行っていても良い。
【００３６】
前記シリカ粒子を焼成する方法においてもシリカ粒子の上記アルコールによる洗浄や酸による洗浄を行っていても良い。
【００３７】
必要により、上記洗浄を行ったあと、シリカ微粒子を乾燥させる乾燥温度は、６０〜１５０℃の範囲が好ましく、８０〜１３０℃の範囲がより好ましい。
【００３８】
乾燥したシリカ粒子を焼成し、シリカ粒子に残留する有機物をすべて除去する。これにより鋳型として用いたアルキルアミンが除去される。焼成工程の条件としては、焼成温度は４００〜１，０００℃の範囲が好ましく、５００〜８００℃の範囲がより好ましい。また、焼成時間としては、３０分以上であることが好ましく、１時間以上であることがより好ましい。この焼成工程を行うことで、シリカ粒子に残留する有機物をすべて除去できるため、シリカ粒子表面に細孔を有する多孔質シリカとすることができる。
【００３９】
焼成後、粒子が凝集している場合には粉砕することが好ましい。粉砕に用いる粉砕機としては、ボールミル、コロイドミル、コニカルミル、ディスクミル、エッジミル、製粉ミル、ハンマーミル、乳鉢、ペレットミル、ジェットミル、縦軸インパクタ（ＶＳＩ）ミル、ウィリーミル、ローラーミル等が挙げられる。
【００４０】
また、シリカ粒子の自己凝集を防止でき、有機溶剤や樹脂への分散性が向上することから、前記焼成工程後に得られた多孔質シリカ粒子の表面に存在するシラノール基のヒドロキシル基を表面処理剤により表面処理して疎水基と置換することが好ましい。この表面処理を行う方法としては、例えば、表面処理剤を溶媒に溶解させた溶液に多孔質シリカを浸漬し、必要に応じて加熱する方法が挙げられる。この表面処理に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルジシロキサン等が挙げられる。また、表面修飾に使用する表面処理剤としてはシラン化合物やシラザン化合物、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、メトキシシラン末端を有するパーフルオロポリエーテルである「Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  ２６３４  Ｃｏａｔｉｎｇ」（東レ・ダウコーニング株式会社製）、エトキシシラン末端を有するパーフルオロポリエーテルである「フルオロリンク  Ｓ１０」（ソルベイソレクシス社製）等が挙げられる。特に、前記シラザン化合物で表面処理することにより、シラザン化合物で表面修飾されている多孔質シリカ粒子を得ることができる。具体的には、前記工程２（シリカ粒子からアルキルアミンを除去する工程）の後、得られる多孔質シリカ粒子を表面修飾する工程を本発明の製造方法に含ませることによりシラザン化合物で表面修飾されている多孔質シリカ粒子を得ることができる。ここで用いるシラザン化合物としては、ヘキサメチルジシラザンが好ましい。
【００４１】
多孔質シリカ粒子の表面をシラザン化合物により表面修飾する際に、触媒を用いることが好ましい。この触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類などが挙げられる。これらの中でも、多孔質シリカ粒子の分散液の製造安定性や保存安定性が良好となることから、酸触媒（無機酸類、有機酸類）が用いられる。無機酸では塩酸、硫酸など、有機酸ではメタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸、酢酸が好ましく、酢酸が特に好ましい。
【００４２】
多孔質シリカ粒子の表面の修飾を行う方法としては、例えば、表面修飾剤を溶媒に溶解させた溶液に多孔質シリカを浸漬し、必要に応じて加熱する方法が挙げられる。この表面修飾に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
【００４３】
前記多孔質シリカ粒子の表面修飾の際の表面修飾剤の使用量は、多孔質シリカ粒子が二次凝集せず、一次粒子として安定なものとするために、前記多孔質シリカ粒子１００質量部に対して、表面修飾剤を０．３〜６０質量部の範囲が好ましいが、０．５〜５０質量部の範囲がより好ましい。
【００４４】
さらに、上記の表面修飾を行う際に同時に多孔質シリカ粒子の凝集した粒子を粉砕して一次粒子状態の分散液とすることが好ましい。
【００４５】
上記の工程１及び２を経ることで、多孔質シリカ粒子を得ることができる。得られた多孔質シリカ粒子の粒子形状、平均粒子径、平均細孔径及び比表面積は、下記の測定方法により、測定できる。
【００４６】
［粒子形状］
粒子形状は、電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）（例えば、日本電子社製「ＪＳＭ６７００」）を用いて観察することで確認できる。
【００４７】
［平均粒子径］
平均粒子径は、電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）（例えば、日本電子社製「ＪＳＭ６７００」）を用いて観察することで確認できる。
【００４８】
［平均細孔径］
平均細孔径は、細孔分布測定装置（例えば、株式会社島津製作所「ＡＳＡＰ２０２０」）を用いて測定できる。
【００４９】
［比表面積］
比表面積は、細孔分布測定装置（例えば、株式会社島津製作所「ＡＳＡＰ２０２０」）を用いてＢＥＴ法により測定できる。
【００５０】
上記の測定方法により、本発明の多孔質シリカ粒子の製造方法により得られた多孔質シリカ粒子の粒子形状、平均粒子径、平均細孔径及び比表面積を測定することができる。本発明の多孔質シリカ粒子の製造方法の特徴としては、ほぼ球形の外観を有する多孔質シリカ粒子が得られ、平均粒子径は上述したように、アンモニアの使用量を調整することで制御することができ、５０〜３００ｎｍの範囲、好ましくは１００〜２５０ｎｍのものを得ることができる。また、多孔質シリカ粒子の平均細孔径及び比表面積は、アルキルアミンの種類及び使用量により制御することができ、平均細孔径については、１〜４ｎｍの範囲のものが得られ、比表面積については、４０〜９００ｍ２／ｇの範囲のものが得られる。
【００５１】
本発明で用いる多孔質シリカ粒子の含有量としては、後述する水溶性樹脂１００質量部に対して０．０５〜３質量部が好ましく、０．１〜１．０質量部がより好ましい。
【００５２】
本発明におけるインク受容層は、水溶性樹脂の少なくとも１種を含有することが好ましい。水溶性樹脂としては、例えば、親水性構造単位としてヒドロキシ基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース（ＭＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔ポリアクリルアミド（ＰＡＡＭ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕等が挙げられる。
【００５３】
また、解離性基としてカルボキシル基を有するポリアクリル酸塩、マレイン酸樹脂、アルギン酸塩、ゼラチン類等も挙げることができる。
【００５４】
上記の中でも、水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール系樹脂、セルロース系樹脂、エーテル結合を有する樹脂、カルバモイル基を有する樹脂、カルボキシル基を有する樹脂、及びゼラチン類から選ばれる少なくとも１種が好ましく、特に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂が好ましい。
【００５５】
前記ポリビニルアルコール系樹脂の例としては、例えば、特公平４−５２７８６号、特公平５−６７４３２号、特公平７−２９４７９号、特許第２５３７８２７号、特公平７−５７５５３号、特許第２５０２９９８号、特許第３０５３２３１号、特開昭６３−１７６１７３号、特許第２６０４３６７号、特開平７−２７６７８７号、特開平９−２０７４２５号、特開平１１−５８９４１号、特開２０００−１３５８５８号、特開２００１−２０５９２４号、特開２００１−２８７４４４号、特開昭６２−２７８０８０号、特開平９−３９３７３号、特許第２７５０４３３号、特開２０００−１５８８０１号、特開２００１−２１３０４５号、特開２００１−３２８３４５号、特開平８−３２４１０５号、特開平１１−３４８４１７号、特開昭５８−１８１６８７号、特開平１０−２５９２１３号、特開２００１−７２７１１号、特開２００２−１０３８０５号、特開２０００−６３４２７号、特開２００２−３０８９２８号、特開２００１−２０５９１９号、特開２００２−２６４４８９号等に記載されたものなどが挙げられる。
【００５６】
また、ポリビニルアルコール系樹脂以外の水溶性樹脂の例としては、特開平１１-１６５４６１号公報の[００１１]〜[００１２]に記載の化合物、特開２００１−２０５９１９号、特開２００２−２６４４８９号に記載の化合物なども挙げられる。
【００５７】
これら水溶性樹脂はそれぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。
【００５８】
本発明におけるインク受容層を主として構成する、上記水溶性樹脂と上記無機微粒子とは、それぞれ単一素材であってもよいし、複数の素材の混合系を使用してもよい。   
【００５９】
なお、インク受容層の透明性を保持する観点からは、多孔質シリカ粒子に組み合わされる水溶性樹脂の種類が重要となる。該水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましく、その中でも、鹸化度７０〜１００％のポリビニルアルコール系樹脂がより好ましく、鹸化度８０〜９９．５％のポリビニルアルコール系樹脂が特に好ましい。
【００６０】
前記ポリビニルアルコール系樹脂は、その構造単位に水酸基を有するが、この水酸基と前記シリカ微粒子の表面シラノール基とが水素結合を形成するため、シリカ微粒子の二次粒子を網目鎖単位とした三次元網目構造を形成し易くなる。この三次元網目構造の形成によって、空隙率が高く十分な強度のある多孔質構造のインク受容層を形成されると考えられる。インクジェット記録において、上述のようにして得られた多孔質のインク受容層は、毛細管現象によって急速にインクを吸収し、インク滲みの発生しない真円性の良好なドットを形成することができる。   
【００６１】
また、ポリビニルアルコール系樹脂は、前記その他の水溶性樹脂を併用してもよい。該他の水溶性樹脂と上記ポリビニルアルコール系樹脂とを併用する場合、全水溶性樹脂中、ポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。  
【００６２】
前記インク受容層は、媒染剤を含有することができる。媒染剤としては、含窒素有機カチオンポリマー、水溶性金属化合物を用いることができる。   
【００６３】
また、前記インク受容層は、記録された画像の滲みをより抑制する観点とシリカを分散する観点から、含窒素有機カチオンポリマーの少なくとも１種を含有することが好ましい。
【００６４】
前記含窒素有機カチオンポリマーは、特に制限はないが、第１級〜第３級アミノ基、又は第４級アンモニウム塩基を有するポリマーが好適である。含窒素有機カチオンポリマーとしては、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体（含窒素有機カチオンモノマー）の単独重合体である含窒素有機カチオンポリマー、前記含窒素有機カチオンモノマーと他の単量体との共重合体又は縮重合体として得られる含窒素有機カチオンポリマー、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体等の共役ジエン系共重合体；アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの重合体又は共重合体、アクリル酸及びメタクリル酸の重合体または共重合体等のアクリル系重合体；スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体等のスチレン−アクリル系重合体；エチレン酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体；ウレタン結合を有するウレタン系ポリマー等に、カチオン基を含む化合物を用いてカチオン化修飾して得られる含窒素有機カチオンポリマー等を挙げることができる。
【００６５】
前記含窒素有機カチオンモノマーと共重合（又は縮重合）させることができる前記他の単量体としては、第１級〜第３級アミノ基及びその塩、又は第４級アンモニウム塩基等の塩基性あるいはカチオン性部分を含まず、インクジェット用インク中の染料と相互作用を示さない、あるいは相互作用が実質的に小さい単量体が挙げられる。例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；酢酸アリル等のアリルエステル類；塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類、等が挙げられる。
【００６６】
前記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部位の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、具体的には例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル等が挙げられる。   
【００６７】
ウレタン系ポリマーを構成するモノマーとしては、２以上のイソシアネート基を有する多価イソシアネート化合物（例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、水素添加４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート等）と、イソシアネート基と反応してウレタン結合を形成し得る化合物（例えば、グリセリン、１，６−ヘキサンジオール、トリエタノールアミン、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール等のポリオール化合物；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、無水マレイン酸、フマル酸等の酸類、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、エチレンジアミン、フェニレンジアミン、トリレンジアミン等のアミン類、ヒドラジン等）が挙げられる。
【００６８】
さらに、カチオン性基を有さない共重合体又は縮合体にカチオン性基を導入する化合物としては、アルキルハライド、メチル硫酸等が挙げられる。   
【００６９】
前記含窒素有機カチオンポリマーの中でも、滲み抑制の観点からは、カチオン性ポリウレタン、特開２００４−１６７７８４号公報等に記載のカチオン性ポリアクリレートが好ましく、カチオン性ポリウレタンがより好ましい。カチオン性ポリウレタンの市販品として、例えば、第一工業製薬（株）製の「スーパーフレックス６５０」、「Ｆ−８５６４Ｄ」、「Ｆ−８５７０Ｄ」、日華化学（株）製の「ネオフィックスＩＪ−１５０」等が挙げられる。
【００７０】
また、粒子分散の観点からは、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリメタクリロイルオキシエチル−β−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド誘導体が好ましく、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライドがより好ましい。市販品としては、例えば、第一工業製薬（株）製の「シャロールＤＣ９０２Ｐ」が挙げられる。     
【００７１】
前記インク受容層は、水溶性金属化合物の少なくとも１種を含有することが好ましい。
【００７２】
前記水溶性金属化合物としては、例えば、カルシウム、マグネシウム、バリウム、マンガン、銅、コバルト、ニッケル、アルミニウム、鉄、亜鉛、ジルコニウム、クロム、タングステン、モリブデンから選ばれる金属の水溶性塩が挙げられる。例えば、マグネシウム塩としては、酢酸マグネシウム、シュウ酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム六水和物、クエン酸マグネシウム九水和物が挙げられる。この中では、塩化マグネシウム六水和物が好ましい。
【００７３】
なお、水溶性金属化合物の「水溶性」は、２０℃の水に１質量％以上が溶解することをいう。
【００７４】
前記水溶性金属化合物の中でも、３価以上の金属化合物が好ましく、アルミニウム化合物又は周期律表４Ａ族金属（例えばジルコニウム、チタン）を含む化合物が好ましく、アルミニウム化合物はより好ましい。特に好ましくは、水溶性アルミニウム化合物である。
【００７５】
前記水溶性アルミニウム化合物としては、例えば、塩化アルミニウム又はその水和物（例：塩化アルミニウム六水和物）、硫酸アルミニウム又はその水和物、アンモニウムミョウバン、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム九水和物、酢酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、塩基性チオグリコール酸アルミニウム等が知られている。さらに、無機系の含アルミニウムカチオンポリマーである塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物（以下、「塩基性ポリ塩化アルミニウム」、「ポリ塩化アルミニウム」ともいう。）が知られており、好ましく用いられる。塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物とは、主成分が下記式１、式２又は式３で表され、例えば、［Ａｌ６（ＯＨ）１５］３＋、［Ａｌ８（ＯＨ）２０］４＋、［Ａｌ１３（ＯＨ）３４］５＋、［Ａｌ２１（ＯＨ）６０］３＋、等の、塩基性で高分子の多核縮合イオンを安定に含む水溶性のポリ水酸化アルミニウムである。
【００７６】
［Ａｌ２（ＯＨ）ｎＣｌ６−ｎ］ｍ   （式１）   
［Ａｌ（ＯＨ）３］ｎＡｌＣｌ３   （式２）   
Ａｌｎ（ＯＨ）ｍＣｌ（３ｎ−ｍ） 〔０＜ｍ＜３ｎ〕  （式３）
これらは、多木化学（株）よりポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）の名称で水処理剤として、浅田化学（株）よりポリ水酸化アルミニウム（Ｐａｈｏ）の名称で、また、（株）理研グリーンよりＨＡＰ−２５の名称で、大明化学（株）よりアルファイン８３の名称で、さらに他のメーカーからも同様の目的で上市されており、各種グレードの物が容易に入手できる。
【００７７】
前記周期表４Ａ族金属を含む化合物としては、チタン又はジルコニウムを含む水溶性化合物がより好ましい。チタンを含む水溶性金属化合物としては、塩化チタン、硫酸チタン、四塩化チタン、テトライソプロピルチタネート、チタンアセチルアセトネート、乳酸チタンが挙げられる。ジルコニウムを含む水溶性金属化合物としては、酢酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、乳酸ジルコニウム、乳酸ジルコニル、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、炭酸ジルコニル・アンモニウム、炭酸ジルコニル・カリウム、硫酸ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、硫酸ジルコニル、フッ化ジルコニル等が挙げられる。   
【００７８】
水溶性金属化合物（好ましくは水溶性アルミニウム化合物）のインク受容層中における含有量としては、画像濃度、耐水性の点で、気相法シリカ及びシリカ多孔体の合計量に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜８質量％がより好ましい。 
【００７９】
前記インク受容層は、耐オゾン性をより向上させる観点から、硫黄系化合物を含有することができる。硫黄系化合物としては、チオエーテル系化合物、チオウレア系化合物、ジスルフィド系化合物、スルフィン酸系化合物、チオシアン酸系化合物、硫黄含有複素環式化合物、及びスルホキシド系化合物から選ばれる１種又は２種以上を好適に用いることができる。硫黄系化合物の中でも、チオエーテル系化合物又はスルホキシド系化合物が好ましい。
【００８０】
硫黄系化合物の具体例については、例えば、特開２００８−２４６９８９号公報の段落番号［００２４］〜［００８８］に記載の化合物を例示することができる。
【００８１】
例えばインク受容層がチオエーテル系化合物を含有する場合、これによって画像部の保存性（空気中のオゾンや窒素酸化物等の微量ガスによる褪色）がより改良される。チオエーテル系化合物としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましく用いられる。    
【００８２】
Ｒ１−（Ｓ−Ｒ３）ｍ−Ｓ−Ｒ２    一般式（Ａ）
【００８３】
前記一般式（Ａ）において、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、芳香族基を表し、Ｒ１とＲ２は同一でも異なってもよく、結合して環を形成してもよい。また、Ｒ１とＲ２の少なくとも一方は、アミノ基、アミド基、アンモニウム基、ヒドロキシ基、スルホ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基またはアミノスルホニル基等の親水基で置換されたアルキル基又は芳香族基である。Ｒ３は、酸素原子を有するアルキレン基を表す。ｍは０〜１０の正数を表し、ｍが１以上の場合Ｒ３に結合する少なくとも１つの硫黄原子はスルホニル基であってもよい。
【００８４】
前記チオエーテル系化合物の例としては、３−チア−１，５−ヘプタンジオール、４−チア−１，７−ペンタンジオール、３，６−ジチア−１，８−オクタンジオール、３，６，９−トリチア−１，１１−ウンデカンジオール、３，９−ジチア−６−オキサ−１，１１−ウンデカンジオール、メチレンビス（チオグリコール酸）、ビス［２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル］スルホン等が挙げられる。
【００８５】
硫黄系化合物のインク受容層中における含有量は、インク受容層の全固形分に対して、０．５〜５０質量％の範囲が好ましく、より好ましくは１〜４０質量％の範囲である。
【００８６】
また、本発明におけるインク受容層は、前記水溶性樹脂を架橋する観点から、架橋剤を少なくとも１種含有することが好ましい。本発明におけるインク受容層は、架橋剤と水溶性樹脂との架橋反応によって硬化された多孔質層である態様が好ましい。
【００８７】
前記水溶性樹脂、特にポリビニルアルコールの架橋には、ホウ素化合物が好ましい。
【００８８】
ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩（例えば、オルト硼酸塩、ＩｎＢＯ３、ＳｃＢＯ３、ＹＢＯ３、ＬａＢＯ３、Ｍｇ３(ＢＯ３)２、Ｃｏ３(ＢＯ３)２、二硼酸塩（例えば、Ｍｇ２Ｂ２Ｏ５、Ｃｏ２Ｂ２Ｏ５）、メタ硼酸塩（例えば、ＬｉＢＯ２、Ｃａ(ＢＯ２)２、ＮａＢＯ２、ＫＢＯ２）、四硼酸塩（例えば、Ｎａ２Ｂ４Ｏ７・１０Ｈ２Ｏ）、五硼酸塩（例えば、ＫＢ５Ｏ８・４Ｈ２Ｏ、Ｃａ２Ｂ６Ｏ１１・７Ｈ２Ｏ、ＣｓＢ５Ｏ５）等を挙げることができる。中でも、速やかに架橋反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましい。
【００８９】
また、水溶性樹脂の架橋剤として、ホウ素化合物以外の下記化合物を使用することもできる。例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタールアルデヒド等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、シクロペンタンジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジクロロ−６−Ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン酸、１，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ'−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロ−ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；メラミン樹脂（例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン）；エポキシ樹脂；１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物；米国特許第３０１７２８０号明細書、同第２９８３６１１号に記載のアジリジン系化合物；米国特許第３１００７０４号明細書に記載のカルボキシイミド系化合物；グリセロールトリグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ'−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；乳酸チタン、硫酸アルミ、クロム明ばん、カリ明ばん、酢酸ジルコニル、酢酸クロム等の金属含有化合物、テトラエチレンペンタミン等のポリアミン化合物、アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物、オキサゾリン基を２個以上含有する低分子又はポリマー等を用いることができる。架橋剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９０】
架橋剤の含有量は、水溶性樹脂に対して、１〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましい。   
【００９１】
前記インク受容層は、前記含窒素有機カチオンポリマー及び水溶性多価金属塩以外の他の媒染剤や、各種界面活性剤等、その他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、特開２００５−１４５９３号公報の段落番号［００８８］〜［０１１７］に記載の成分や、特開２００６−３２１１７６号公報の段落番号［０１３８］〜［０１５５］に記載の成分等を適宜選択して用いることができる。   
【００９２】
本発明で用いる支持体としては、プラスチック等の透明材料よりなる透明支持体、紙等の不透明材料からなる不透明支持体のいずれをも使用できる。インク受容層の透明性を生かす上では、透明支持体又は高光沢性の不透明支持体を用いることが好ましい。また、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ等の読み出し専用光ディスク、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の追記型光ディスク、更には書き換え型光ディスクを支持体として用いレーベル面側にインク受容層を付与することもできる。
【００９３】
上記透明支持体として使用可能な材料としては、透明性で、ＯＨＰやバックライトディスプレイで使用される時の輻射熱に耐え得る性質を有する材料が好ましい。該材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類；ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミド等を挙げることができる。中でも、ポリエステル類が好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００９４】
上記透明支持体の厚みとしては、特に制限はないが、取り扱い易い点で、５０〜２００μｍが好ましい。
【００９５】
高光沢性の不透明支持体としては、インク受容層の設けられる側の表面が４０％以上の光沢度を有するものが好ましい。上記光沢度は、ＪＩＳ Ｐ−８１４２（紙及び板紙の７５度鏡面光沢度試験方法）に記載の方法に従って求められる値である。具体的には、例えば、アート紙、コート紙、キャストコート紙、銀塩写真用支持体等に使用されるバライタ紙等の高光沢性の紙支持体；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類、ニトロセルロース，セルロースアセテート，セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル類、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミド等のプラスチックフィルムに白色顔料等を含有させて不透明にした（表面カレンダー処理が施されていてもよい。）高光沢性のフィルム；或いは、上記各種紙支持体、上記透明支持体もしくは白色顔料等を含有する高光沢性のフィルムの表面に、白色顔料を含有もしくは含有しないポリオレフィンの被覆層が設けられた支持体（例：原紙の両側がポリオレフィンの樹脂層で被覆された樹脂被覆紙）等が挙げられる。
【００９６】
白色顔料含有発泡ポリエステルフィルム（例えば、ポリオレフィン微粒子を含有させ、延伸により空隙を形成した発泡ＰＥＴ）も好適に挙げることができる。更に銀塩写真用印画紙に用いられるレジンコート紙も好適である。   
【００９７】
上記不透明支持体の厚みについても特に制限はないが、取り扱い性の点で、５０〜３００μｍが好ましい。   
【００９８】
また、上記支持体の表面には、濡れ特性及び接着性を改善するために、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理等を施したものを使用してもよい。   
【００９９】
次に、レジコート紙などに用いられる原紙について詳述する。原紙としては、木材パルプを主原料とし、必要に応じて木材パルプに加えてポリプロピレンなどの合成パルプ、あるいはナイロンやポリエステルなどの合成繊維を用いて抄紙される。上記木材パルプとしては、ＬＢＫＰ、ＬＢＳＰ、ＮＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＤＰ、ＮＤＰ、ＬＵＫＰ、ＮＵＫＰのいずれも用いることができるが、短繊維分の多いＬＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＢＳＰ、ＮＤＰ、ＬＤＰをより多く用いることが好ましい。
【０１００】
但し、ＬＢＳＰ及び／又はＬＤＰの比率としては、１０質量％以上、７０質量％以下が好ましい。
【０１０１】
パルプは、不純物の少ない化学パルプ（硫酸塩パルプや亜硫酸パルプ）が好ましく用いられ、漂白処理をおこなって白色度を向上させたパルプも有用である。
【０１０２】
原紙中には、高級脂肪酸、アルキルケテンダイマー等のサイズ剤、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタンなどの白色顔料、スターチ、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等の紙力増強剤、蛍光増白剤、ポリエチレングリコール類等の水分保持剤、分散剤、４級アンモニウム等の柔軟化剤などを適宜添加することができる。
【０１０３】
抄紙に使用するパルプの濾水度は、ＣＳＦの規定で２００〜５００ｍｌが好ましく、また、叩解後の繊維長が、ＪＩＳ Ｐ−８２０７に規定される２４メッシュ残分質量％と４２メッシュ残分の質量％との和が３０〜７０％が好ましい。なお、４メッシュ残分の質量％は２０質量％以下であることが好ましい。
【０１０４】
原紙の坪量は、３０〜２５０ｇが好ましく、特に５０〜２００ｇが好ましい。原紙の厚さとしては、４０〜２５０μｍが好ましい。原紙は、抄紙段階又は抄紙後にカレンダー処理して高平滑性を与えることもできる。原紙密度は０．７〜１．２ｇ／ｍ２（ＪＩＳ Ｐ−８１１８）が一般的である。
【０１０５】
原紙の剛度は、ＪＩＳ Ｐ−８１４３に規定される条件で２０〜２００ｇが好ましい。
【０１０６】
原紙表面には表面サイズ剤を塗布してもよく、表面サイズ剤としては、上記原紙中添加できるサイズと同様のサイズ剤を使用できる。
【０１０７】
原紙のｐＨは、ＪＩＳ Ｐ−８１１３で規定された熱水抽出法により測定された場合、５〜９であることが好ましい。   
【０１０８】
原紙の表面及び裏面を被覆するポリオレフィンの被覆層としては、例えばポリエチレンが挙げられる。ポリエチレンは、主として低密度のポリエチレン（ＬＤＰＥ）及び／又は高密度のポリエチレン（ＨＤＰＥ）であるが、他のＬＬＤＰＥやポリプロピレン等も一部使用することができる。   
【０１０９】
特に、インク受容層を形成する側のポリエチレン層は、写真用印画紙で広く行なわれているように、ルチル又はアナターゼ型の酸化チタン、蛍光増白剤、群青をポリエチレン中に添加し、不透明度、白色度及び色相を改良したものが好ましい。ここで、酸化チタン含有量としては、ポリエチレンに対して、概ね３〜２０質量％が好ましく、４〜１３質量％がより好ましい。ポリエチレン層の厚みは特に限定はないが、表裏面層とも１０〜５０μｍが好適である。さらにポリエチレン層上にインク受容層との密着性を付与するために下塗り層を設けることもできる。該下塗り層としては、水性ポリエステル、ゼラチン、ＰＶＡが好ましい。また、該下塗り層の厚みとしては、０．０１〜５μｍが好ましい。   
【０１１０】
ポリエチレン被覆紙は、光沢紙として用いることも、また、ポリエチレンを原紙表面上に溶融押し出してコーティングする際に、いわゆる型付け処理をおこなって通常の写真印画紙で得られるようなマット面や絹目面を形成したものも使用できる。
【０１１１】
支持体にはバックコート層を設けることもでき、このバックコート層に添加可能な成分としては、白色顔料や水性バインダー、その他の成分（例：消泡剤、抑泡剤、染料、蛍光増白剤、防腐剤、耐水化剤等）が挙げられる。
【０１１２】
本発明におけるインクジェット記録媒体は、インク受容層に加えて、さらにインク溶媒吸収層、中間層、保護層等を有していてもよい。また、支持体上には、前記インク受容層と支持体との間の接着性を高め、電気抵抗値を適切に調整する等の目的で、下塗層を設けてもよい。
【０１１３】
インク受容層は、下記の第１、第２の形態により好適に形成することができる。インク受容層を形成する第１の形態は、基材上に、少なくとも多孔質シリカ粒子を含有する第１液を基材に塗布して塗布層を形成する工程と、前記塗布層に、（１）前記第１液を塗布すると同時、又は（２）前記第１液を塗布して形成された塗布層の乾燥途中であって該塗布層が減率乾燥を示す前、のいずれかのときに、塩基性化合物を含む第２液を付与し、前記塗布層の架橋硬化を行なう工程とを設け、前記塗布層が架橋硬化されたインク受容層を形成する形態である。
【０１１４】
また、インク受容層を形成する第２の形態は、基材上に、多孔質シリカ粒子を含有する第１液を基材に塗布して塗布層を形成する工程と、形成された塗布層を、前記塗布時の第１液の温度に対して５℃以上低下するように冷却する工程と、冷却された塗布層を乾燥する工程とを設けてインク受容層を形成する形態である。
【０１１５】
前記第１の形態及び前記第２の形態は、基材上に多孔質シリカ粒子を含有する第１液を塗布して塗布層を形成する工程（以下、「塗布層形成工程」ともいう）を有する。２層構成のインク受容層を形成する場合、塗布層形成工程は前記第１液として、支持体上に、多孔質シリカ粒子並びに必要に応じて水溶性樹脂を含有する第１の塗布液と、多孔質シリカ粒子を含有する第２の塗布液（好ましくは、多孔質シリカ粒子の塗布液全質量に対する比率が２０質量％以下）と、を支持体側から順に重層塗布して塗布層を形成してもよい。
【０１１６】
第１液の塗布は、例えば、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター等の公知の塗布装置を用いて行なうことができる。第１液の湿分塗布量としては、５０〜２００ｍｌ／ｍ２が好ましく、７５〜１５０ｍｌ／ｍ２がより好ましい。また、第１液の固形分塗布量としては、５〜２５ｇ／ｍ２が好ましく、１０〜１８ｇ／ｍ２がより好ましい。
【０１１７】
第１液には、水溶性樹脂、架橋剤、媒染剤、分散剤、界面活性剤等、その他の成分を含有することができる。また、第１液の塗布においては、既述の水溶性多価金属塩（好ましくは、塩基性ポリ塩化アルミニウム化合物）を含む液をインライン混合した後に塗布することも好ましい。
【０１１８】
前記第１液は、酸性であることが好ましく、ｐＨとしては５．０以下であることが好ましく、４．５以下であることがより好ましく、４．０以下であることが更に好ましい。第１液のｐＨが５．０以下であると、例えば、第１液中における架橋剤（特にホウ素化合物）による水溶性樹脂の架橋反応をより充分に抑制することができる。   
【０１１９】
多孔質シリカ粒子を含有する第１液は、例えば以下のようにして調製できる。即ち、多孔質シリカ粒子と分散剤とを水中に添加して（例えば、水中の多孔質シリカ粒子は１０〜２０質量％）、高速回転湿式コロイドミル（例えば、エム・テクニック（株）製の「クレアミックス」）を用いて、例えば１００００ｒｐｍ（好ましくは５０００〜２００００ｒｐｍ）の高速回転の条件で例えば２０分間（好ましくは１０〜３０分間）かけて分散させた後、架橋剤（例えば硼酸）、及びポリビニルアルコール（ＰＶＡ）水溶液（例えば、上記気相法シリカの１／３程度の質量のＰＶＡとなるように）を加え、更に水溶性多価金属塩（例えば、塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物）を加えて、上記と同じ回転条件で分散を行なうことにより調製することができる。なお、水溶性多価金属塩は、塗布直前にインライン混合により加えてもよい。
【０１２０】
また、上記の分散には、液液衝突型分散機（例えば、スギノマシン社製アルティマイザー）を用いることもできる。
【０１２１】
得られた塗布液は均一なゾル状態であり、これを下記塗布方法で基材上に塗布し乾燥させることにより、三次元網目構造を有する多孔質性のインク受容層を形成することができる。
【０１２２】
また、多孔質シリカ粒子と分散剤とからなる水分散物の調製は、多孔質シリカ粒子の水分散液をあらかじめ調製し、該水分散液を分散剤水溶液に添加してもよいし、分散剤水溶液を多孔質シリカ粒子の水分散液に添加してよいし、同時に混合してもよい。また、多孔質シリカ粒子は、水分散液としてではなく、粉体のままの状態で、上記のように分散剤水溶液に添加してもよい。
【０１２３】
上記の多孔質シリカ粒子と分散剤とを混合した後、該混合液を分散機を用いて細粒化することで水分散液を得ることができる。該水分散液を得るために用いる分散機としては、高速回転分散機、媒体撹拌型分散機（ボールミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、形成されるダマ状微粒子の分散を効率的に行なう点から、撹拌型分散機、コロイドミル分散機又は高圧分散機が好ましい。
【０１２４】
溶媒として、水、有機溶媒、又はこれらの混合溶媒を用いることができる。この塗布に用いることができる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。
【０１２５】
また、前記分散剤としてはカオチン性のポリマーを用いることができる。カオチン性のポリマーとしては、特開２００６−３２１１７６号公報の段落番号０１３８〜０１４８に記載の媒染剤の例などが挙げられる。また、分散剤としてシランカップリング剤を用いることも好ましい。分散剤の多孔質シリカ粒子に対する添加量は、０．１質量％〜３０質量％が好ましく、１質量％〜１０質量％が更に好ましい。   
【０１２６】
前記第１の形態では、前記塗布層形成工程で形成された塗布層に対して、   
（１）第１液を塗布すると同時、又は   
（２）第１液を塗布して形成された塗布層の乾燥途中であって、該塗布層が減率乾燥を示す前、
のいずれかのときに、塩基性化合物を含む第２液を付与し、前記塗布層の架橋硬化を行なう工程（以下、「架橋硬化工程」ともいう。）を有する。   
【０１２７】
前記「（１）第１液を塗布すると同時」に第２液を付与する方法としては、第１液及び第２液を基材側から順に同時重層塗布する形態が好適である。同時重層塗布は、例えば、エクストルージョンダイコーター、カーテンフローコーター等の公知の塗布装置を用いて行なうことができる。
【０１２８】
前記「（２）第１液を塗布して形成された塗布層の乾燥途中であって、該塗布層が減率乾燥を示す前」に第２液を付与する方法は、例えば特開２００５−１４５９３号公報の段落番号００１６〜００３７に記載の、いわゆるＷｅｔ−Ｏｎ−Ｗｅｔ法（ＷＯＷ法）が好ましい。本発明においては、第１液を基材に塗布して塗布層を形成した後、形成された塗布層の乾燥途中であって該塗布層が減率乾燥を示す前に、（ｉ）該塗布層上に第２液を塗布する方法、（ｉｉ）該塗布層上に第２液をスプレー等により噴霧する方法、又は（ｉｉｉ）前記塗布層が形成された基材を第２液中に浸漬する方法、等により行なえる。
【０１２９】
前記（ｉ）において、第２液を塗布する塗布方法としては、例えば、カーテンフローコーター、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター等の公知の塗布方法を利用することができる。しかし、エクストリュージョンダイコーター、カーテンフローコーター、バーコーター等のように、既に形成されている塗布層にコーターが直接接触しない方法を利用することが好ましい。   
【０１３０】
前記「塗布層が減率乾燥を示すようになる前」とは、通常、インク受容層形成用の塗布液（第１液）の塗布直後から数分間の過程をさし、この間においては、塗布された塗布層中の溶剤（分散媒体）の含有量が時間に比例して減少する「恒率乾燥」の現象を示す。この「恒率乾燥」を示す時間については、例えば、化学工学便覧（頁７０７〜７１２、丸善（株）発行、昭和５５年１０月２５日）に記載されている。
【０１３１】
塗布層が減率乾燥を示すようになるまで乾燥されるための条件としては、一般に４０〜１８０℃で０．５〜１０分間（好ましくは、０．５〜５分間）行なわれる。この乾燥時間は塗布量により異なるが、通常は上記範囲が適当である。
【０１３２】
次に、架橋硬化工程における前記第２液について説明する。第２液は、塩基性化合物を少なくとも１種含有する。塩基性化合物としては、例えば、弱酸のアンモニウム塩、弱酸のアルカリ金属塩（例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなど）、弱酸のアルカリ土類金属塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸バリウムなど）、ヒドロキシアンモニウム、１〜３級アミン（例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリへキシルアミン、ジブチルアミン、ブチルアミンなど）、１〜３級アニリン（例えば、ジエチルアニリン、ジブチルアニリン、エチルアニリン、アニリンなど）、置換基を有してもよいピリジン（例えば、２−アミノピリジン、３−アミノピリジン、４−アミノピリジン、４−（２−ヒドロキシエチル）−アミノピリジンなど）、等が挙げられる。また、上記の塩基性化合物以外に、該塩基性化合物と共に他の塩基性物質及び／又はその塩を併用することもできる。他の塩基性物質としては、例えば、アンモニアや、エチルアミン、ポリアリルアミン等の第一アミン類、ジメチルアミン等の第二アミン類、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルブチルアミン等の第三アミン類、アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、等が挙げられる。
【０１３３】
上記のうち特に、弱酸のアンモニウム塩が好ましい。弱酸とは、化学便覧基礎編II（丸善株式会社）等に記載の無機酸及び有機酸でｐＫａが２以上の酸である。前記弱酸のアンモニウム塩としては、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、カルバミン酸アンモニウム等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。中でも、好ましくは炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、カルバミン酸アンモニウムであり、乾燥後において層中に残存せずインク滲みを低減できる点で効果的である。なお、塩基性化合物は、２種以上を併用することができる。   
【０１３４】
前記塩基性化合物（特に弱酸のアンモニウム塩）の第２液中の含有量としては、第２液の全質量（溶媒を含む）に対し、０．５〜１０質量％が好ましく、より好ましくは１〜５質量％である。塩基性化合物（特に弱酸のアンモニウム塩）の含有量を特に上記範囲とすると、充分な硬化度が得られ、またアンモニア濃度が高くなりすぎて作業環境を損なうこともない。   
【０１３５】
第２液は、金属化合物の少なくとも１種を含有する態様が好ましい。第２液に含有する金属化合物としては、塩基性下で安定なものを制限なく使用可能であり、既述の水溶性多価金属塩や、金属錯体化合物、無機オリゴマー、又は無機ポリマーのいずれであってもよい。例えば、ジルコニウム化合物や、特開２００５−１４５９３号公報中の段落番号０１００〜０１０１に無機媒染剤として列挙した化合物が好適である。上記の金属錯体化合物としては、日本化学会編「化学総説 Ｎｏ.３２（１９８１年）」に記載の金属錯体、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｎｔｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｒｅｖｉｅｗ）」、第８４巻、８５〜２７７頁（１９８８年）及び特開平２−１８２７０１号公報に記載の、ルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体が使用可能である。
【０１３６】
上記の中でも、ジルコニウム化合物や亜鉛化合物が好ましく、特にジルコニウム化合物が好ましい。ジルコニウム化合物としては、例えば、炭酸ジルコニウムアンモニウム、硝酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニウムカリウム、クエン酸ジルコニウムアンモニウム、ステアリン酸ジルコニル、オクチル酸ジルコニル、硝酸ジルコニル、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、等が挙げられ、特に炭酸ジルコニウムアンモニウムが好ましい。また、第２液には、二種以上の金属化合物（好ましくはジルコニウム化合物を含む。）を併用してもよい。
【０１３７】
前記金属化合物（特にジルコニウム化合物）の第２液中の含有量としては、第２液の全質量（溶媒を含む）に対し、０．０５〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜２質量％である。金属化合物（特にジルコニウム化合物）の含有量を特に上記範囲とすることにより、塗布層の硬膜を充分に行なえると共に、媒染能が低下して充分な印画濃度が得られなかったりビーディングが発生することがなく、アンモニア等の塩基性化合物の濃度が高くなりすぎることによる作業環境の悪化を招くこともない。なお、金属化合物は二種以上併用することができ、後述する他の媒染剤成分のうち金属化合物以外のものを併用する場合には、総量が上記範囲内であって、本発明の効果を損なわない範囲で含有することができる。   
【０１３８】
また、画像濃度、耐オゾン性の観点からは、第２液には、金属化合物としてマグネシウム塩を含有することも好ましい。マグネシウム塩としては、塩化マグネシウムが特に好ましい。この場合のマグネシウム塩の添加量としては、第２液の全質量に対し、０．１〜１質量％が好ましく、０．１５〜０．５質量％がより好ましい。   
【０１３９】
前記第２液は、必要に応じて架橋剤、他の媒染剤成分を含有することができる。第２液は、アルカリ溶液として用いることで塗布層の硬膜を促進でき、ｐＨ７．１以上に調製されるのが好ましく、より好ましくはｐＨ８．０以上であり、特に好ましくはｐＨ９．０以上である。前記ｐＨが７．１以上であると、第１液に含まれることがある水溶性樹脂の架橋反応をより進めることができ、ブロンジングやインク受容層のひび割れをより効果的に抑制できる。   
【０１４０】
前記第２液は、例えば、イオン交換水に、金属化合物（例：ジルコニア化合物；例えば１〜５％）及び塩基性化合物（例：炭酸アンモニウム；例えば１〜５％）と、必要に応じてパラトルエンスルホン酸（例えば０．５〜３％）とを添加し、十分に攪拌することで調製することができる。なお、各組成物の「％」はいずれも固形分質量％を意味する。また、第２液の調製に用いる溶媒には、水、有機溶媒、又はこれらの混合溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。    
【０１４１】
一方、第２液は、シリカ粒子などの無機粒子の含有量が少ないことが好ましく、無機粒子の含有量が第２液の全固形分に対して５０質量％以下であることが好ましく、特には無機粒子を含まないことが望ましい。
【０１４２】
前記第２の形態では、前記塗布層形成工程で形成された塗布層を、前記塗布時の第１液の温度に対して５℃以上低下するように冷却する工程（以下、「冷却工程」ともいう。）と、冷却された塗布層を乾燥する工程（以下、「乾燥工程」ともいう。）とを有する。    
【０１４３】
冷却工程において塗布層を冷却する方法としては、塗布層が形成された基材を、０〜１０℃に保たれた冷却ゾーンで、５〜３０秒冷却させる方法が好適である。冷却工程においては、０〜１０℃低下するように冷却することが好ましく、０〜５℃以上低下するように冷却することがより好ましい。ここで、塗布層の温度は、膜面の温度を測定することにより測定する。
また、乾燥工程での乾燥は、例えば、乾燥風をあてることにより行なうことができる。このときの乾燥風の温度としては、３０〜８０℃準で評価した。が好ましい。  
【実施例】
【０１４４】
以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明する。例中、断りがない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【０１４５】
製造例１（多孔質シリカ粒子の製造）
温度計、攪拌羽根を備えた５００ｍＬの４口フラスコに、メタノール２１３．２ｇ、純水６１．３ｇ及び２８質量％アンモニア水２７．４ｇを仕込み、攪拌により均一に混合し（Ｂ液）、内温を２０℃に保った。また、別の容器でテトラメトキシシラン（以下、「ＴＭＯＳ」と略記する。）３４．３ｇ、メタノール４５．１ｇ及びオクチルアミン６．５ｇを均一に混合した（Ａ液）。フラスコ内を２０℃に保って撹拌しながら、Ａ液を１２０分かけてＢ液中へ注入した。Ａ液の注入終了後、２０℃で６０分間反応を継続した。反応終了後、反応液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離した後、上澄み液を廃棄して沈殿物を取り出した。
【０１４６】
上記で得られた沈殿物にメタノール２００ｇを加えて撹拌混合し懸濁液を得た。この懸濁液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、上澄みを廃棄して沈殿物をメタノール洗浄した。このメタノール洗浄をさらに２度繰り返した。このようにして得た沈殿物を１２０℃で６時間乾燥させて白色粉末を得た。得られた白色粉末を電気炉に入れ、空気雰囲気下、２５℃から２℃／分の昇温速度で６００℃まで昇温し、６００℃で３時間焼成した。焼成した粉末を冷却した後、乳鉢で粉砕することで、白色の多孔質シリカ粒子（１）１２．５ｇを得た。得られた多孔質シリカ粒子を電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）により観察したところ、粒子形状は球状であった。また、得られた多孔質シリカ粒子（１）の平均粒子径は１０１ｎｍであり、平均細孔径は１．５ｎｍであり、ＢＥＴ法による比表面積は４３ｍ２／ｇであった。
【０１４７】
製造例２（同上）
温度計、攪拌羽根を備えた５００ｍＬの４口フラスコに、メタノール２１３．２ｇ、純水６１．３ｇ及び２８質量％アンモニア水２７．４ｇを仕込み、攪拌により均一に混合し（Ｂ液）、内温を２０℃に保った。また、別の容器でＴＭＯＳ３４．３ｇ、メタノール４５．１ｇ及びデシルアミン３９．３ｇを均一に混合した（Ａ液）。フラスコ内を２０℃に保って撹拌しながら、Ａ液を１２０分かけてＢ液中へ注入した。Ａ液の注入終了後、２０℃で６０分間反応を継続した。反応終了後、反応液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離した後、上澄み液を廃棄して沈殿物を取り出した。
【０１４８】
上記で得られた沈殿物にメタノール２００ｇを加えて撹拌混合し懸濁液を得た。この懸濁液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、上澄みを廃棄して沈殿物をメタノール洗浄した。このメタノール洗浄をさらに２度繰り返した。このようにして得た沈殿物を１２０℃で６時間乾燥させて白色粉末を得た。得られた白色粉末を電気炉に入れ、空気雰囲気下、２５℃から２℃／分の昇温速度で６００℃まで昇温し、６００℃で３時間焼成した。焼成した粉末を冷却した後、乳鉢で粉砕することで、白色の多孔質シリカ粒子（２）１２．１ｇを得た。得られた多孔質シリカ粒子を電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）により観察したところ、粒子形状は球状であった。また、得られた多孔質シリカ粒子（２）の平均粒子径は１３９ｎｍであり、平均細孔径は１．８ｎｍであり、ＢＥＴ法による比表面積は７５７ｍ２／ｇであった。
【０１４９】
製造例３（同上）
温度計、攪拌羽根を備えた５００ｍＬの４口フラスコに、メタノール２１３．２ｇ、純水６１．３ｇ及び２８質量％アンモニア水２７．４ｇを仕込み、攪拌により均一に混合し（Ｂ液）、内温を２０℃に保った。また、別の容器でＴＭＯＳ３４．３ｇ、メタノール４５．１ｇ及びラウリルアミン９．３ｇを均一に混合した（Ａ液）。フラスコ内を２０℃に保ちながら、Ａ液を１２０分かけてＢ液中へ注入した。Ａ液の注入終了後、２０℃で６０分間反応を継続した。反応終了後、反応液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離した後、上澄み液を廃棄して沈殿物を取り出した。
【０１５０】
上記で得られた沈殿物にメタノール２００ｇを加えて混合し懸濁液を得た。この懸濁液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、上澄みを廃棄して沈殿物をメタノール洗浄した。このメタノール洗浄をさらに２度繰り返した。このようにして得た沈殿物を１２０℃で６時間乾燥させて白色粉末を得た。得られた白色粉末を電気炉に入れ、空気雰囲気下、２５℃から２℃／分の昇温速度で６００℃まで昇温し、６００℃で３時間焼成した。焼成した粉末を冷却した後、乳鉢で粉砕することで、白色の多孔質シリカ粒子（３）１２．０ｇを得た。得られた多孔質シリカ粒子を電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）により観察したところ、粒子形状は球状であった。また、得られた多孔質シリカ粒子（３）の平均粒子径は１２２ｎｍであり、平均細孔径は１．８ｎｍであり、ＢＥＴ法による比表面積は２１６ｍ２／ｇであった。
【０１５１】
製造例４（同上）
温度計、攪拌羽根を備えた５００ｍＬの４口フラスコに、メタノール２１３．２ｇ、純水６１．３ｇ及び２８質量％アンモニア水２７．４ｇを仕込み、攪拌により均一に混合し（Ｂ液）、内温を２０℃に保った。また、別の容器でＴＭＯＳ３４．３ｇ、メタノール４５．１ｇ及びオレイルアミン１３．４ｇを均一に混合した（Ａ液）。フラスコ内を２０℃に保って撹拌しながら、Ａ液を１２０分かけてＢ液中へ注入した。Ａ液の注入終了後、２０℃で６０分間反応を継続した。反応終了後、反応液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離した後、上澄み液を廃棄して沈殿物を取り出した。
【０１５２】
上記で得られた沈殿物にメタノール２００ｇを加えて撹拌混合し懸濁液を得た。この懸濁液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、上澄みを廃棄して沈殿物をメタノール洗浄した。このメタノール洗浄をさらに２度繰り返した。このようにして得た沈殿物を１２０℃で６時間乾燥させて白色粉末を得た。得られた白色粉末を電気炉に入れ、空気雰囲気下、２５℃から２℃／分の昇温速度で６００℃まで昇温し、６００℃で３時間焼成した。焼成した粉末を冷却した後、乳鉢で粉砕することで、白色の多孔質シリカ粒子（４）１２．６ｇを得た。得られた多孔質シリカ粒子を電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）により観察したところ、粒子形状はほぼ球状であった。また、得られた多孔質シリカ粒子（４）の平均粒子径は１７１ｎｍであり、平均細孔径は２．２ｎｍであり、ＢＥＴ法による比表面積は５８３ｍ２／ｇであった。
【０１５３】
製造例５（同上）
温度計、攪拌羽根を備えた５００ｍＬの４口フラスコに、エタノール２１３．２ｇ、純水７７．９ｇ及び２８質量％アンモニア水４．４ｇを仕込み、攪拌により均一に混合し（Ｂ液）、内温を２７℃に保った。また、別の容器でテトラエトキシシラン（以下、「ＴＥＯＳ」と略記する。）２８．６ｇ、エタノール４５．０ｇ及びラウリルアミン１３．４ｇを均一に混合した（Ａ液）。フラスコ内を２７℃に保って撹拌しながら、Ａ液を一括でＢ液中へ注入した。Ａ液の注入終了後、２７℃で５時間反応した。引続きフラスコ内を６５℃まで昇温し、さらに９時間反応を継続した。反応終了後、反応液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離した後、上澄み液を廃棄して沈殿物を取り出した。
【０１５４】
上記で得られた沈殿物にメタノール２００ｇを加えて撹拌混合し懸濁液を得た。この懸濁液を１０，０００ｒｐｍで１０分間遠心分離し、上澄みを廃棄して沈殿物をメタノール洗浄した。このメタノール洗浄をさらに２度繰り返した。このようにして得た沈殿物を１２０℃で６時間乾燥させて白色粉末を得た。得られた白色粉末を電気炉に入れ、空気雰囲気下、２５℃から２℃／分の昇温速度で６００℃まで昇温し、６００℃で３時間焼成した。焼成した粉末を冷却した後、乳鉢で粉砕することで、白色の多孔質シリカ粒子（５）１２．０ｇを得た。得られた多孔質シリカ粒子を電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）により観察したところ、粒子形状は球状であった。また、得られた多孔質シリカ粒子（５）の平均粒子径は１１８ｎｍであり、平均細孔径は１．８ｎｍであり、ＢＥＴ法による比表面積は２３５ｍ２／ｇであった。
【０１５５】
製造例６（比較対照用多孔質シリカ微粒子の製造）
ミリスチルトリメチルアンモニウムクロリド（炭素数１４のアルキルトリメチルアンモニウム塩）２．１ｇを０．５Ｍ塩酸４０ｇに溶解し、２５℃で攪拌した。これに、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を４．３ｇ添加し、ｐＨ２．０、２５℃で３時間攪拌した。その後、３．５ｇの２５％アンモニア溶液を添加し、ｐＨ９．０、２５℃で１時間攪拌した。この撹拌物をトレーに移し、７０℃で２４時間乾燥させ、得られた固形物を５８０℃で１０時間焼成し、比較対照用多孔質シリカ微粒子（１´）を１．０ｇ得た。
【０１５６】
製造例７（インク受容層用組成物の調製）
多孔質シリカ粒子（１）１．０部、イオン交換水５１．５部、シャロールＤＣ−９０２Ｐ（分散剤、含窒素有機カチオンポリマー、第一工業製薬（株）製、５１．５％水溶液）０．７８部、ＺＡ−３０（第一稀元素化学工業（株）製、酢酸ジルコニル）０．４８部、ポリビニルアルコール（水溶性樹脂）溶解液 ３１．２部、３０％メチオニンスルホキシド（硫黄系化合物）０．８８部、ホウ酸（架橋剤）０．２部及びスーパーフレックス６５０（含窒素有機カチオンポリマーエマルション、第一工業製薬（株）製 ）１．５部を混合し、インク受容層用塗布液（１）を得た。尚、ポリビニルアルコール（水溶性樹脂）溶解液の組成は下記のとおりである。
【０１５７】
・ＰＶＡ−２３５ ・・・２．２部
（鹸化度８８％、重合度３５００、（株）クラレ製）
・イオン交換水 ・・・２８．２部
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル ・・・０．７部
（ブチセノール２０Ｐ、協和発酵ケミカル（株））
・エマルゲン１０９Ｐ（界面活性剤、花王（株）製）・・・０．１部
【０１５８】
製造例８〜１１（同上）
多孔質シリカ粒子（１）の代わりに多孔質シリカ粒子（２）〜（５）を用いた以外は製造例７と同様にして受容層用塗布液（２）〜（５）を得た。
【０１５９】
製造例１２（比較対照用インク受容層用組成物の調製）
多孔質シリカ粒子（１）の代わりに比較対照用多孔質シリカ粒子（１´）０．９部、気相法シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬL３００ＳＦ７５、日本アエロジル（株）製）７．１部を用いた以外は製造例７と同様にして比較対照用インク受容層用塗布液（１´）を得た。
【０１６０】
実施例１
コロナ処理ＰＥＴフィルム［ユニチカ（株）製、エンブレット、膜厚７５μｍ］のコロナ処理面に、インク受容層用塗布液（１）を、以下のようにしてエクストルージョンダイコーターにて、塗布液温度を３８℃として塗布し、塗布層を形成した。具体的には、塗布液を１０５．１ｇ／ｍ２の速度で、下記インライン液を３．３ｇ／ｍ２の速度でインライン混合した後、支持体上に塗布した。
【０１６１】
インライン液の組成
・アルファイン８３（大明化学工業（株）製）・・・２．０部
・イオン交換水 ・・・７．８部
・ハイマックスＳＣ−５０７ ・・・０．２部
（ジメチルアミン・エピクロロヒドリン重縮合物、ハイモ（株）製）
【０１６２】
次に、塗布形成された塗布層を、熱風乾燥機にて８０℃で（風速３〜８ｍ／秒）で塗布層の固形分濃度が２４％になるまで乾燥させた。この塗布層は、この間は恒率乾燥を示した。その直後、下記組成の塩基性溶液に３秒間浸漬して塗布層上にその１３ｇ／ｍ２を付着させ、更に７２℃下で１０分間乾燥させ、支持体上に単層のインク受容層を形成した。
【０１６３】
<塩基性溶液の組成>
（１）ホウ酸１．３部
（２）炭酸アンモニウム（１級：関東化学（株）製）５．０部
（３）ジルコゾールＡＣ−７   ２．５部
（炭酸ジルコニル・アンモニウム、第一稀元素化学工業（株）製）
（４）イオン交換水８５．２部
（５）ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤）６．０部
（エマルゲン１０９Ｐ（１０％水溶液）、ＨＬＢ値１３．６、花王（株）製）
【０１６４】
以上のようにして、支持体上に乾燥膜厚が３５μｍのインク受容層が設けられたインクジェット記録媒体（１）を作製した。尚、このインクジェット記録媒体（１）をウルトラミクロトームで超薄切片を作製し、透過電子顕微鏡（日本電子株式会社製「ＪＥＭ−２２００ＦＳ」）を使用し、加速電圧２００ｋＶで、５万倍又は１０万倍で観察した。その結果、ＰＥＴフィルム（基材）と反対側の表面に多孔質シリカ粒子（Ｅ１）がほぼ単層で配列した層が厚さ約１００ｎｍで形成されていた。５万倍で観察した際の観察写真を図１に示す。
【０１６５】
得られたインクジェット記録媒体（１）の透明性の評価とインクジェット方式で印字した際の滲みを下記方法にて評価した。評価結果を第１表に示す。
【０１６６】
＜透明性の評価方法＞
三波長の蛍光灯の下で目視にて観察し、次の基準で評価した。
○：インクジェット記録媒体は透明度が高くクリアであった。
×：インクジェット記録媒体は透明度が低く白濁していた。
【０１６７】
＜滲みの評価＞
純正インクセットとインクジェットプリンターＥＰ−８０１Ａ（セイコーエプソン（株）製）を用い、２３℃、５０％ＲＨの環境条件下で、得られたインクジェット記録媒体のインク受容層にマゼンタとブラックとが隣り合う格子状のパターン（格子の一辺の長さ０．２８ｍｍ）を３ｃｍ四方の範囲に印画した。その直後、インクジェット記録媒体を２３℃、９０％ＲＨの環境条件下に移し、１４日間放置した。１４日経過後、２３度、５０％ＲＨの環境条件下で充分に乾燥させた後に目視で滲みの程度を評価し、下記の評価基準にしたがってランク付けした。
【０１６８】
<評価基準>
Ａ：滲みは観察されなかった。
Ｂ：やや滲みが観察されたが、実用上は支障のない程度であった。
Ｃ：滲みが大きく、実用上支障を来す程度であった。
【０１６９】
【表１】
2014019054.tif 000002