(57)【要約】【課題】電極パターンの認識率を低くすると同時に、電極パターンの形状によって発生するモアレを軽減させて視認性を向上させることができるタッチパネルを提供する。【解決手段】本発明のタッチパネルは、透明基板１０と、透明基板１０の一面に形成される電極パターン３０と、を含み、透明基板１０の一面には凹凸部２０が形成され、凹凸部２０に対応される形状に電極パターン３０が凹凸部２０上に形成されるものである。【選択図】図１
2014130594.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板の一面に形成される電極パターンと、を含み、
前記透明基板の一面には凹凸部が形成され、前記凹凸部に対応される形状に電極パターンが前記凹凸部上に形成されるタッチパネル。
【請求項２】
前記凹凸部は、前記透明基板の一面上に突出されて形成された凸部と、前記透明基板の一面の内側方向に凹溝が形成される凹部と、の組み合わせで形成され、前記凸部は、隣接する凸部と突出方向の形成高さが異なる請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記凹凸部は、前記電極パターンが形成された一方向に形成され、前記電極パターンが形成された一方向に隣接する凸部間の高さが異なる請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記透明基板は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィン高分子（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋレジン含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスで形成される請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記電極パターンは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）またはこれらの組み合わせや、銀塩乳剤層で形成される請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記電極パターンが形成された透明基板の上部面を平坦にするためにモールド層をさらに含む請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記モールド層は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）系列の樹脂で形成される請求項６に記載のタッチパネル。
【請求項８】
第１電極パターンが一面上に一方向に形成される第１透明基板と、
前記第１電極パターンと対向し、前記第１電極パターンが形成された一方向に垂直に交差されるように一面上に第２電極パターンが形成される第２透明基板と、を含み、
前記第１透明基板上に凹凸部が形成され、前記凹凸部に対応されるように前記凹凸部上に前記第１電極パターンが形成されるタッチパネル。
【請求項９】
前記第２透明基板の一面上に凹凸部が形成され、前記凹凸部に対応されるように前記凹凸部上に前記第２電極パターンが形成される請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記凹凸部は、前記透明基板の一面上に突出されて形成された凸部と、前記透明基板の一面の内側方向に凹溝が形成される凹部と、の組み合わせで形成され、前記凸部は、隣接する凸部と突出方向の形成高さが異なる請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記凹凸部は、前記第１電極パターンまたは第２電極パターンの形成方向に形成され、前記第１電極パターンが形成される一方向に形成された相互隣接する凸部間の高さが互いに異なる請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記第１電極パターンまたは前記第２電極パターンが形成された前記第１透明基板または前記第２透明基板の上部面を平坦にするためのモールド層をさらに含む請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１３】
前記モールド層は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）系列の樹脂で形成される請求項１２に記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、携帯用送信装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を利用して、テキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在、入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などに関心が移っており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置として、タッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）が開発された。
【０００５】
このようなタッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、Ｅｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）のような画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される道具である。
【０００６】
タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｔｙｐｅ）、表面弾性波方式（ＳＡＷ  Ｔｙｐｅ；Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ  Ｔｙｐｅ）及び赤外線方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｔｙｐｅ）に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在、幅広い分野で最も注目されている方式は、静電容量方式タッチパネルである。
【０００７】
一方、一般的に、特許文献１に記載されたように、電極パターンの視認性を低減させるために多様な方法が提案されている。電極パターンが重なる部分の形状に対する角度や形態を調節することによって電極パターンが認識されることを軽減させることで、全体タッチパネルの視認性を向上させることである。しかし、そのような形状の変更には形態上の限界とともに、規則的な形状の組み合わせによるモアレが発生する等、電極パターンの視認性に多様な問題が発生した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１１−２４８７２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、前述したような従来技術の問題点を解決するために導き出されたものであり、本発明の一目的は、透明基板上に電極パターンの形成高さを不規則にすることによって、電極パターンの認識率を低くすると同時に、電極パターンの形状によって発生するモアレを軽減させて視認性を向上させることができるタッチパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の一面に形成される電極パターンと、を含み、前記透明基板の一面には凹凸部が形成され、前記凹凸部に対応される形状に電極パターンが前記凹凸部上に形成されるものである。
【００１１】
本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記凹凸部は、前記透明基板の一面上に突出されて形成された凸部と、前記透明基板の一面の内側方向に凹溝が形成される凹部と、の組み合わせで形成され、前記凸部は、隣接する凸部と突出方向の形成高さが異なることができる。
【００１２】
本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記凹凸部は、前記電極パターンが形成された一方向に形成され、前記電極パターンが形成された一方向に隣接する凸部間の高さが異なることができる。
【００１３】
本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記透明基板は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィン高分子（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋレジン含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスで形成されることができる。
【００１４】
本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）またはこれらの組み合わせや、銀塩乳剤層で形成されることができる。
【００１５】
本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンが形成された透明基板の上部面を平坦にするためにモールド層をさらに含むことができる。
【００１６】
本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記モールド層は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）系列の樹脂で形成されることができる。
【００１７】
本発明の他の実施例によるタッチパネルにおいて、第１電極パターンが一面上に一方向に形成される第１透明基板と、前記第１電極パターンと対向し、前記第１電極パターンが形成された一方向に垂直に交差されるように一面上に第２電極パターンが形成される第２透明基板と、を含み、前記第１透明基板上に凹凸部が形成され、前記凹凸部に対応されるように前記凹凸部上に前記第１電極パターンが形成されるものである。
【００１８】
本発明の他の実施例によるタッチパネルにおいて、前記第２透明基板の一面上に凹凸部が形成され、前記凹凸部に対応されるように前記凹凸部上に前記第２電極パターンが形成されることができる。
【００１９】
本発明の他の実施例によるタッチパネルにおいて、前記凹凸部は、前記透明基板の一面上に突出されて形成された凸部と、前記透明基板の一面の内側方向に凹溝が形成される凹部と、の組み合わせで形成され、前記凸部は、隣接する凸部と突出方向の形成高さが異なることができる。
【００２０】
本発明の他の実施例によるタッチパネルにおいて、前記凹凸部は、前記第１電極パターンまたは第２電極パターンの形成方向に形成され、前記第１電極パターンが形成される一方向に形成された相互隣接する凸部間の高さが互いに異なることができる。
【００２１】
本発明の他の実施例によるタッチパネルにおいて、前記第１電極パターンまたは前記第２電極パターンが形成された前記第１透明基板または前記第２透明基板の上部面を平坦にするためのモールド層をさらに含むことができる。
【００２２】
本発明の他の実施例によるタッチパネルにおいて、前記モールド層は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）系列の樹脂で形成されることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によると、透明基板上の凹凸部を形成することによって電極パターンの形成高さを不規則にすることで、メッシュパターンを利用する電極パターンのモアレ現象を防止することができる効果がある。
【００２４】
また、電極パターンが形成される透明基板の一面上に凹凸部を形成することによって、凹凸部に安着する電極パターンも対応される凹凸形状になるようにし、電極パターンの認識を軽減させて、タッチパネルの視認性をさらに向上させることができる効果がある。
【００２５】
また、電極パターン上にモールド層をさらに形成することによって、タッチパネルの具現をより容易にすることができ、不規則な高さに形成される電極パターンの保護及び電気的信頼性を確保することができる効果がある。
【００２６】
また、電極パターン上にモールド層形成により電極パターン信頼性を向上させることによって、これを含むタッチパネルの作動性能及び駆動の信頼性をさらに向上させることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施例による透明基板上に形成された電極パターンの斜視図である。
【図２】図１の断面図である。
【図３】本発明の他の実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図４】本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００２９】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００３０】
図１は、本発明の一実施例による透明基板１０上に形成された電極パターン３０の斜視図であり、図２は、図１の断面図である。
【００３１】
本発明の一実施例によるタッチパネルは、透明基板１０と、前記透明基板１０の一面に形成される電極パターン３０と、を含み、前記透明基板１０の一面には凹凸部２０が形成され、前記凹凸部２０に対応される形状に電極パターン３０が前記凹凸部２０上に形成されるものである。
【００３２】
前記透明基板１０は、電極パターン３０、電極配線が形成される領域を提供する役割を遂行する。ここで、透明基板１０は、アクティブ領域とべゼル領域に区画され、アクティブ領域は、入力手段のタッチを認識することができるように電極パターン３０が形成される部分であり、透明基板１０の中心に備えられ、べゼル領域は、電極パターン３０と通電する電極配線が形成される部分であり、アクティブ領域の周縁部に備えられる。このとき、透明基板１０は、電極パターン３０と電極配線を支持することができる支持力と画像表示装置で提供する画像をユーザが認識することができるようにする透明性を有しなければならない。前述した支持力と透明性を考慮する時、透明基板１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィン高分子（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ、ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋレジン含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することができるが、必ずこれに限定されるものではない。
【００３３】
一方、透明基板１０は、タッチパネルの最外側に備えられたウィンドウ（Ｗｉｎｄｏｗ）であってもよい。このように、透明基板１０がウィンドウである場合、ウィンドウに直接電極パターン３０が形成されるため、別の透明基板１０に電極パターン３０を形成した後、ウィンドウに付着する工程を省略して製造工程を単純化することができ、タッチパネルの全体的な厚さを減らすことができる。
【００３４】
本発明は、透明基板１０上に凹凸部２０を形成することを特徴とする。凹凸部２０は、透明基板１０の表面に粗度を形成することによって不規則なパターンに形成されることが適切である。特に、電極パターン３０が形成される透明基板１０の一面を不規則な凹凸形状に形成することによって、電極パターン３０のためのメッシュパターン形成の際のモアレ現象を防止することができる効果がある。凹凸部２０は、凹部２２と凸部２１の組み合わせで形成されることができ、凸部２１は、突出方向に互いに形成高さが違うように形成されることができる。一定の高さに形成される場合にはユーザからメッシュパターンの規則性によるモアレ現象が認識されることができるためである。凸部２１の形成高さを違うように形成したり、凹部２２の深さを違うように形成したりすることによって、凹凸部２０上に形成される電極パターン３０が不規則な高さに形成されるようにすることができる。
【００３５】
電極パターン３０は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）またはこれらの組み合わせを利用してメッシュパターン（Ｍｅｓｈ  Ｐａｔｔｅｒｎ）で形成することができる。このとき、電極パターン３０は、メッキ工程やスパッター（Ｓｐｕｔｔｅｒ）を利用した蒸着工程により形成することができる。一方、電極パターン３０を銅（Ｃｕ）で形成する場合、電極パターン３０の表面は、黒化処理することができる。ここで、黒化処理とは、電極パターン３０の表面を酸化させてＣｕ２ＯまたはＣｕＯを析出させることであり、Ｃｕ２Ｏは、褐色を帯びるため、ブラウンオキサイド（Ｂｌｏｗｎ  Ｏｘｉｄｅ）といい、ＣｕＯは、黒色を帯びるため、ブラックオキサイド（Ｂｌａｃｋ  Ｏｘｉｄｅ）という。このように、電極パターン３０の表面を黒化処理することによって、光が反射することを防止することができ、それにより、タッチパネルの視認性を改善させることができるという長所がある。
【００３６】
一方、前述した金属外にも電極パターン３０は、銀塩乳剤層を露光/現像して形成された金属銀、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物や、柔軟性に優れてコーティング工程が単純なＰＥＤＯＴ/ＰＳＳ等の伝導性高分子を利用して形成することもできる。
【００３７】
ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＰＥＤＯＴ/ＰＳＳ、ＣＮＴ（Ｃａｒｂｏｎ  Ｎａｎｏｔｕｂｅ）、グラフェン（Ｇｒａｐｈｅｎｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）またはＡＺＯ（Ａｌ−ｄｏｐｅｄ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などを利用して形成することができる。
【００３８】
一方、電極パターン３０は、図面上、棒型パターンで形成されたが、これに限定されるものではなく、電極パターン３０は、菱形パターン、四角形パターン、三角形パターン、円形パターンなど、当業界に公知された全てのパターンで形成されてもよい。
【００３９】
電極パターン３０は、乾式工程、湿式工程またはダイレクト（ｄｉｒｅｃｔ）パターニング工程により形成することができる。ここで、乾式工程は、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）、蒸着（Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などを含み、湿式工程は、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレーコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）などを含み、ダイレクトパターニング工程は、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、インクジェット印刷法（Ｉｎｋｊｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）などを含む。
【００４０】
モールド層４０は、電極パターン３０が透明基板１０の凹凸部２０上に不規則な高さに形成された面に形成されて外側面を平坦にすることができる。モールド層４０を電極パターン３０に形成することによって、異なる高さに形成された電極パターン３０による電極パターン３０の損傷や電気的信頼性の低下を防止することができる。モールド層４０は、プリンティング（Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）またはスパッター（Ｓｐｕｔｔｅｒ）等を介して形成することができる。また、モールド層４０の材質は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）系列の樹脂、ＳｉＯｘ薄膜、またはＳｉＮｘ薄膜の透明性を有するもので形成されることができる。
【００４１】
本発明の一実施例によるタッチパネルは、第１電極パターン３０ａが一面上に一方向に形成される第１透明基板１０ａと、前記第１電極パターン３０ａと対向し、前記第１電極パターン３０ａが形成された一方向に垂直に交差されるように一面上に第２電極パターン３０ｂが形成される第２透明基板１０ｂと、を含み、前記第１透明基板１０ａ上に凹凸部２０が形成され、前記凹凸部２０上に対応されるように前記第１電極パターン３０ａが形成されることができる。
【００４２】
第１透明基板１０ａに第１電極パターン３０ａが形成され、第１電極パターン３０ａに対向する第２電極パターン３０ｂを第２透明基板１０ｂに形成することができる。第１電極パターン３０ａが一方向に形成される時、第２電極パターン３０ｂは、第１電極パターン３０ａの一方向と垂直に交差する方向に形成される。第１透明基板１０ａと第２透明基板１０ｂは、第１電極パターン３０ａと第２電極パターン３０ｂが対向するように接合されることができ、接合時には接着層５０により接着されることができ、接着層５０、は画像表示装置  で出力する画像をユーザが認識するときに妨害にならないように透明な材料を利用することが好ましく、例えば、光学透明接着剤（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）を利用することができる。
【００４３】
第１透明基板１０ａが最外郭ウィンドウ基板となる場合、第２透明基板１０ｂの下部には画像表示装置が備えられることができる。画像表示装置（図示せず）は、画像を出力する役割をし、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）またはＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）などを含む。
【００４４】
本発明の他の実施例によるタッチパネルは、図４に示すように、透明基板１０の一面と他面に各々凹凸部２０を形成し、各面に第１電極パターン３０ａと第２電極パターン３０ｂを各々形成してタッチパネルを形成することによって、薄型化されたタッチパネルを具現することができる。各電極パターン３０ａ、３０ｂ上にはモールド層４０をさらに具備することができることは前述の通りである。
【００４５】
その他、各構成に対する説明は、本発明の一実施例によるタッチパネルと重なるため、詳細な説明は省略する。
【００４６】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００４７】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明は、タッチパネルに適用可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１０  透明基板
１０ａ  第１透明基板
１０ｂ  第２透明基板
２０  凹凸部
２１  凸部
２２  凹部
３０  電極パターン
３０ａ  第１電極パターン
３０ｂ  第２電極パターン
４０  モールド層
５０  接着層
【図１】
2014130594.tif 000003
【図２】
2014130594.tif 000004
【図３】
2014130594.tif 000005
【図４】
2014130594.tif 000006