(57)【要約】      （修正有）【課題】特性を改善できる光学フィルムおよびこれを備える有機発光表示装置を提供する。【解決手段】光学フィルム３００は液晶塗布膜３３０と、前記液晶塗布膜３３０の上の下地層３１０とを備え、さらに前記下地層３１０と前記液晶塗布膜３３０との間に所定方向に配列された凹凸構造を有する配向膜３２０を備える。前記液晶塗布膜３３０は逆波長分散性を有し、基準波長に対する面内位相差（Ｒｏ）が１２６ｎｍ〜１５３ｎｍの範囲であり、前記基材層の面内位相差が０〜５０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜１００ｎｍである。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶塗布膜と、
前記液晶塗布膜の上の基材層とを備え、
前記液晶塗布膜が逆波長分散性を有し、基準波長に対する面内位相差（Ｒｏ）が１２６ｎｍ〜１５３ｎｍの範囲であり、
前記基材層の面内位相差が０〜５０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜１００ｎｍであることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記液晶塗布膜の面内位相差（Ｒｏ）が１３０ｎｍ〜１４２ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記液晶塗布膜の短波長分散性である４５０ｎｍの入射光に対する遅延値／５５０ｎｍの入射光に対する遅延値が１より小さく、長波長分散性である６５０ｎｍの入射光に対する遅延値／５５０ｎｍの入射光に対する遅延値が１より大きいことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記基材層の面内位相差が０〜１０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜７０ｎｍであることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記基材層の面内位相差が０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜６０ｎｍであることを特徴とする請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記液晶塗布膜の下部に配設される下地膜と、
前記下地膜と前記液晶塗布膜との間に配設される配向膜と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記配向膜が、所定の方向に配列された凹凸構造を有することを特徴とする請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記配向膜の凹凸構造が、ナノインプリント方式により形成されていることを特徴とする請求項７に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記配向膜が、光感応性樹脂を含むことを特徴とする請求項７に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記液晶塗布膜が、四分の一波長板であることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
前記液晶塗布膜の上に配設される偏光層をさらに備えることを特徴とする請求項１０に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
有機発光表示板と、
前記有機発光表示板の上に配設される光学フィルムと
を備え、
前記光学フィルムが液晶塗布膜とその上の基材層とを備え、
前記液晶塗布膜が逆波長分散性を有し、基準波長に対する前記液晶塗布膜の面内位相差（Ｒｏ）が１２６ｎｍ〜１５３ｎｍの範囲であり、
前記基材層の面内位相差が０〜５０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜１００ｎｍであることを特徴とする有機発光表示装置。
【請求項１３】
前記液晶塗布膜の面内位相差（Ｒｏ）が１３０ｎｍ〜１４２ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置。
【請求項１４】
前記液晶塗布膜の短波長分散性である４５０ｎｍの入射光に対する遅延値／５５０ｎｍの入射光に対する遅延値が１より小さく、長波長分散性である６５０ｎｍの入射光に対する遅延値／５５０ｎｍの入射光に対する遅延値が１より大きいことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置。
【請求項１５】
前記基材層の面内位相差が０〜１０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜７０ｎｍであることを特徴とする請求項１４に記載の有機発光表示装置。
【請求項１６】
前記基材層の面内位相差が０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜６０ｎｍであることを特徴とする請求項１５に記載の有機発光表示装置。
【請求項１７】
前記液晶塗布膜の下部に配設される下地膜と、
前記下地膜と前記液晶塗布膜との間に配設される配向膜と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１２から１６のいずれか一項に記載の有機発光表示装置。
【請求項１８】
前記配向膜が、所定の方向に配列された凹凸構造を有することを特徴とする請求項１７に記載の有機発光表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムおよびこれを備える表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在最も汎用されているフラットパネル表示装置は、自己発光する発光表示装置と、別途の光源を必要とする受光型表示装置とに大別でき、これらの画質を改善するために、位相差フィルムなどの光学的補償フィルムが用いられることが多い。
【０００３】
発光型表示装置、たとえば、有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ；ＯＬＥＤ）の場合、電極などの金属による外部光の反射によって視認性とコントラスト比が低下することがある。これを低減するために、偏光板と位相差フィルムを用いて直線偏光を円偏光に変えることによって、有機発光表示装置によって反射された外部光が外側に漏れ出ないようにしている。
【０００４】
受光型表示装置である液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙａｙ；ＬＣＤ）は、透過型、半透過型、反射型などその種類に応じて外部光の反射およびサングラス効果を解決するために、直線偏光を円偏光に変えることによって画質を改善している。
【０００５】
しかしながら、現在開発されている光学補償フィルムには補償効果が十分ではないという欠点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１０／００７２４２２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、光学フィルムの特性を改善することのできる光学フィルムおよびこれを備える有機発光表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明の一実施形態による光学フィルムは、液晶塗布膜と、前記液晶塗布膜の上の基材層とを備え、前記液晶塗布膜は逆波長分散性を有し、基準波長に対する面内位相差（Ｒｏ）が１２６ｎｍ〜１５３ｎｍの範囲であり、前記基材層の面内位相差が０〜５０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【０００９】
好ましくは、前記液晶塗布膜の面内位相差（Ｒｏ）が１３０ｎｍ〜１４２ｎｍの範囲である。
【００１０】
好ましくは、前記液晶塗布膜の短波長分散性（＝約４５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は１より小さく、長波長分散性（＝約６５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は１より大きい。
【００１１】
さらに、好ましくは、前記基材層の面内位相差が０〜１０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜７０ｎｍである。
【００１２】
さらに、好ましくは、前記基材層の面内位相差が０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜６０ｎｍである。
【００１３】
さらに、好ましくは、前記光学フィルムは、前記液晶塗布膜の下部に配設される下地膜と、前記下地膜と前記液晶塗布膜との間に配設される配向膜と、をさらに備える。
【００１４】
さらに、好ましくは、前記配向膜は、所定の方向に配列された凹凸構造を有する。
【００１５】
さらに、好ましくは、前記配向膜の凹凸構造は、ナノインプリント方式により形成されている。
【００１６】
さらに、好ましくは、前記配向膜は、光感応性樹脂を含む。
【００１７】
さらに、好ましくは、前記液晶塗布膜は、四分の一波長板である。
【００１８】
さらに、好ましくは、前記光学フィルムは、前記液晶塗布膜の上に配設される偏光層をさらに備える。
【００１９】
上記の目的を達成するために、本発明の一実施形態による有機発光表示装置は、有機発光表示板と、前記有機発光表示板の上に配設される光学フィルムとを備え、前記光学フィルムは液晶塗布膜とその上の基材層とを備え、前記液晶塗布膜は逆波長分散性を有し、基準波長に対する前記液晶塗布膜の面内位相差（Ｒｏ）が１２６ｎｍ〜１５３ｎｍの範囲であり、前記基材層の面内位相差が０〜５０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００２０】
好ましくは、前記液晶塗布膜の面内位相差（Ｒｏ）が１３０ｎｍ〜１４２ｎｍの範囲である。
【００２１】
好ましくは、前記液晶塗布膜の短波長分散性（＝約４５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は１より小さく、長波長分散性（＝約６５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は１より大きい。
【００２２】
さらに、好ましくは、前記基材層の面内位相差が０〜１０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜７０ｎｍである。
【００２３】
さらに、好ましくは、前記基材層の面内位相差が０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜６０ｎｍである。
【００２４】
さらに、好ましくは、前記光学フィルムは、前記液晶塗布膜の下部に配設される下地膜と、前記下地膜と前記液晶塗布膜との間に配設される配向膜と、をさらに備える。
【００２５】
さらに、好ましくは、前記配向膜は、所定の方向に配列された凹凸構造を有する。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、光学フィルムの特性が良くなる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図である。
【図２】本発明の一実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図である。
【図３】本発明の他の実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図である。
【図４】図３に示す光学フィルムの製造方法を示す断面図である。
【図５】図３に示す光学フィルムの製造方法を示す断面図である。
【図６】本発明の一実施形態による配向膜の平面図である。
【図７】本発明の他の実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図である。
【図８】本発明の一実施形態による表示装置用光学フィルムの偏光層の概略断面図である。
【図９】本発明の他の実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態による有機発光表示装置の概略断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態による有機発光表示板の概略断面図である。
【図１２】実験例による光学フィルムにおいて、光学遅延層の面内位相差の様々な値に対する光学フィルムの反射率を示すグラフである。
【図１３】実験例による光学フィルムの反射率を光学遅延層の面内位相差の関数で示すグラフである。
【図１４】実験例による光学フィルムの反射率を光学遅延層の面内位相差の関数で示すグラフである。
【図１５】実験例による光学フィルムの反射率を光学遅延層の面内位相差の関数で示すグラフである。
【図１６】実験例による光学フィルムにおいて、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）の様々な値に対する光学フィルムの反射率を示すグラフである。
【図１７】実験例による光学フィルムの反射率を基材層の厚さ方向の位相差の関数で示すグラフである。
【図１８】実験例による光学フィルムの反射率を基材層の厚さ方向の位相差の関数で示すグラフである。
【図１９】実験例による光学フィルムの反射率を基材層の厚さ方向の位相差の関数で示すグラフである。
【図２０】実験例による光学フィルムにおいて、基材層の面内位相差（Ｒｏ）および厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）の様々な値に対する光学フィルムの反射率を示すグラフである。
【図２１】基材層の様々な面内位相差（Ｒｏ）値に対して、実験例による光学フィルムの最大反射率を基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）の関数で示すグラフである。
【図２２】実験例による光学フィルムの最大反射率を基材層の面内位相差（Ｒｏ）および厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）の関数で示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、添付図面に基づき、本発明の実施形態による光学フィルムについて本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。本発明は様々な異なる形態にて実現可能であり、ここで説明する実施形態に何ら限定されない。図中、本発明を明確に説明するために説明とは無関係な部分の説明は省略し、明細書全体にわたって同じまたは類似の構成要素に対しては同じ図面符号を附した。
【００２９】
まず、図１および図２に基づき、本発明の一実施形態による表示装置用光学フィルムについて詳細に説明する。
【００３０】
図１および図２は、本発明の実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図である。
【００３１】
図１を参照すると、本発明の一実施形態による表示装置用光学フィルム１００は、入射光の波長が大きくなるにつれて遅延値が大きくなる逆波長分散性を有する液晶物質または液晶組成物を含み得る。例えば、光学フィルム１００の短波長分散性（＝約４５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は約１より小さく、長波長分散性（＝約６５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は約１より大きくてもよい。逆波長分散性を有する液晶材料の例については、特許文献１に詳細に記載されており、この内容は本出願に含まれる。
【００３２】
本発明の一実施形態によれば、約５５０ｎｍの波長（以下、「基準波長」と称する。）の入射光に対する光学フィルム１００の面内位相差（Ｒｏ）は約１２６ｎｍ〜約１５３ｎｍの範囲であってもよく、さらに、約１３０ｎｍ〜約１４２ｎｍであってもよい。面内位相差（Ｒｏ）はＲｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄとして与えられ、ｄは層の厚さ、ｎｘ、ｎｙは厚さ方向に垂直な平面の二つの直交方向に対する屈折率であり、ｎｘ≧ｎｙである。このため、光学フィルム１００は、四分の一波長板の役割を果たすことができる。
【００３３】
一実施形態によれば、光学フィルム１００の厚さは、約２．８μｍ〜約３．４μｍであってもよい。
【００３４】
図２を参照すると、本発明の他の実施形態による光学フィルム２００は、下地膜（ｂａｓｅ  ｌａｙｅｒ）２１０と、下地膜２１０上の液晶塗布膜２２０と、を備えていてもよい。
【００３５】
液晶塗布膜２２０は逆波長分散性を有していてもよく、厚さは約２．８μｍ〜約３．４μｍであってもよい。基準波長の入射光に対する液晶塗布膜２２０の面内位相差（Ｒｏ）が約１２６ｎｍ〜約１５３ｎｍの範囲であってもよく、さらに、約１３０ｎｍ〜約１４２ｎｍであってもよい。
【００３６】
次いで、図３から図６に基づき、本発明の一実施形態による表示装置用光学フィルムについて詳細に説明する。
【００３７】
図３は、本発明の他の実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図であり、図４および図５は、図３に示す光学フィルムを一実施形態によって製造する方法を示す断面図であり、図６は、一実施形態による配向膜の平面図である。
【００３８】
図３を参照すると、本発明の他の実施形態による光学フィルム３００は、順次に積層された下地膜３１０と、配向膜３２０および液晶塗布膜３３０を備えていてもよい。
【００３９】
配向膜３２０は、光反応性物質、たとえば、光感応性樹脂を含むことができ、所定の方向に並んでいる複数の凹凸構造３２２を有していてもよい。このような凹凸構造３２２は、たとえば、ナノインプリントやリソグラフィにより形成することができる。
【００４０】
他の一実施形態によれば、配向膜３２０は熱感応性樹脂を含むこともできる。
【００４１】
液晶塗布膜３３０は逆波長分散性を有していてもよく、厚さは約２．８μｍ〜約３．４μｍであってもよい。基準波長の入射光に対する液晶塗布膜３３０の面内位相差（Ｒｏ）が約１２６ｎｍ〜約１５３ｎｍの範囲であってもよく、さらに、約１３０ｎｍ〜約１４２ｎｍであってもよい。
【００４２】
図４を参照すると、本発明の実施形態による光学フィルム３００を形成するためにまず、下地膜３１０の上に光感応性または熱感応性樹脂を塗布して配向膜３２０を形成する。図５および図６を参照すると、凹凸パターン付き微細モールド３６０を用いて配向膜３２０を押し付けることによって、配向膜３２０に所定の方向に並んでいる凹凸構造３２２を形成する。次いで、光硬化または熱硬化の方法によって配向膜３２０を硬化させる。最後に、液晶物質を塗布して液晶塗布膜３３０を形成する。液晶塗布膜３３０は、たとえば、光重合性液晶単量体および光反応開始剤を配向膜３２０の上に塗布して乾燥した後に、光硬化、たとえば、紫外線硬化させることによって形成することができる。
【００４３】
このような方法によって配向膜３２０を形成すると、ラビングを用いる場合よりは損傷が少なく、且つ、光配向よりは工程が簡単になる。
【００４４】
上述した方法に加えて、ＡＦＭラビング方式または光干渉方式によって配向膜３２０に凹凸構造を形成してもよい。
【００４５】
図１から図６に示す光学フィルム１００、２００、３００は、偏光層と貼合されて表示装置の反射防止フィルムとして用いられてもよい。
【００４６】
次いで、図７および図８に基づき、本発明の他の実施形態による表示装置用光学フィルムについて詳細に説明する。
【００４７】
図７は、本発明の一実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図であり、図８は、本発明の一実施形態による表示装置用光学フィルムの偏光層の概略断面図である。
【００４８】
図７を参照すると、本発明の実施形態による表示装置用光学フィルム４００は、光学遅延層４１０と、その上に配設される偏光層４２０と、を備える。
【００４９】
偏光層４２０は、入射光の偏光を直線偏光に変換する直線偏光子であってもよく、たとえば、ヨードがドープされたポリビニールアルコール（ＰＶＡ）を含んでいてもよい。
【００５０】
偏光層４２０は単一層であってもよく、２層以上の膜を備えていてもよい。
【００５１】
たとえば、図８を参照すると、本発明の一実施形態による偏光層４２０は、偏光膜４２２と、その両面の上に配設される一対の保護膜４２４、４２６と、を備えていてもよい。
【００５２】
保護膜４２４、４２６は、偏光膜４２２を保護するためのものであり、たとえば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を含んでいてもよい。最外側の保護膜４２６は、反射防止（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）、低反射（ｌｏｗ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）、眩しさ防止（ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ）またはハードコーティング（ｈａｒｄ  ｃｏａｔｉｎｇ）などの特性を有していてもよい。２つの保護膜４２４、４２６のうちの一方は省略してもよい。
【００５３】
光学遅延層４１０は、図１から図６に基づいて説明した光学フィルム１００、２００、３００と実質的に同じであってもよい。
【００５４】
光学遅延層４１０と偏光層４２０は、単軸性であってもよい。
【００５５】
次いで、図９に基づき、本発明の他の実施形態による表示装置用光学フィルムについて詳細に説明する。
【００５６】
図９は、本発明の他の実施形態による表示装置用光学フィルムの概略断面図である。
【００５７】
図９を参照すると、本発明の実施形態による表示装置用光学フィルム４５０は、光学遅延層４６０と、その上に順次に配設される基材層４７０および偏光層４８０を備える。
【００５８】
光学遅延層４６０は、図１から図６に基づいて説明した光学フィルム１００、２００、３００と実質的に同じであってもよい。
【００５９】
基材層４７０は、たとえば、負のｃ−プレートであって、二軸性（ｂｉａｘｉａｌ）であってもよい。基材層４７０の面内位相差が０〜５０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜１００ｎｍであってもよいが、たとえば、基材層４７０の面内位相差が０〜１０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜７０ｎｍであってもよい。一実施形態によれば、基材層４７０の面内位相差が０ｎｍであり、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜６０ｎｍであってもよい。
【００６０】
偏光層４８０は、入射光の偏光を直線偏光に変換する直線偏光子であってもよく、たとえば、ヨードがドープされたポリビニールアルコール（ＰＶＡ）を含んでいてもよい。
【００６１】
偏光層４８０は、単一層であってもよく、２以上の膜を備えていてもよい。たとえば、偏光層６２０は、図８に示す構造を有していてもよい。
【００６２】
光学遅延層４６０と偏光層４８０は、単軸性（ｕｎｉａｘｉａｌ）であってもよい。
【００６３】
図１から図９に示す光学フィルム１００、２００、３００、４００、４５０は、表示装置、特に、有機発光表示装置や液晶表示装置などのフラットパネル表示装置に用いられてもよい。
【００６４】
図１０および図１１に基づき、本発明の一実施形態による有機発光表示装置について詳細に説明する。
【００６５】
図１０は、本発明の一実施形態による有機発光表示装置の概略断面図であり、図１１は、有機発光表示板の概略断面図である。
【００６６】
図１０を参照すると、本発明の一実施形態による有機発光表示装置５００は、映像を表示する有機発光表示板５１０と、その上に貼り付けられている光学フィルム５２０と、を備えていてもよい。
【００６７】
図１１を参照すると、有機発光表示板５１０は、相対向する一対の電極５１４、５１６と、これらの間に介装され、有機発光物質からなる発光層５１２と、を備えていてもよい。
【００６８】
光学フィルム５２０は、図７に示すように、光学遅延層４１０と偏光層４２０を備えていてもよく、図９に示すように、光学遅延層４６０と、基材層４７０および偏光層４８０を備えていてもよい。
【００６９】
このような有機発光表示装置５００においては、外部光が光学フィルム５２０を通過して有機発光表示板５１０に入射して有機発光表示板５１０の反射体、たとえば、電極などによって反射され得る。この場合、外部光は偏光層５２４を通過して直線偏光され、光学遅延層５２２を通過しながら波長の約１／４だけ遅延されて円偏光に変わり得る。光学遅延層５２２を通過した光は有機発光表示板５１０の反射体によって反射でき、反射された光は光学遅延層５２２を再び通過することができる。光学遅延層５２２を再び通過しながら光は波長の約１／４だけ遅延され、これにより、円偏光が再び直線偏光に変換され得る。要するに、偏光層５２４を介して入射された外部光は光学遅延層５２２を二回通過しながら偏光軸が約９０°だけ回転するため偏光層５２４を再び通過して外側に出射されることがほとんど不可能になる。
【００７０】
以下、図１２から図１５に基づき、実験例による光学フィルムについて詳細に説明する。
【００７１】
図１２は、実験例による光学フィルムにおいて、光学遅延層の面内位相差の様々な値に対する光学フィルムの反射率を示すグラフであり、図１３から図１５は、実験例による光学フィルムの反射率を光学遅延層の面内位相差の関数で示すグラフである。
【００７２】
シミュレーション実験装置であるＬＣＤマスターを用いて光学フィルムの反射率を計算した。光学フィルムは図７に示すような構造を有し、光学遅延層は図３に示すような構造を有する。
【００７３】
シミュレーション実験において塗布されて光学遅延層をなす液晶物質の屈折率異方性は約０．００４５であり、短波長分散性（＝約４５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は約０．８８であり、長波長分散性（＝約６５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は約１．０２であった。
【００７４】
反射体は、理想的な反射体を想定した。
【００７５】
図１２において、光学遅延層の厚さを約２μｍから約２．９μｍまで約０．１μｍずつ上げながら実験を行った。このとき、光学遅延層の面内位相差は約１１８ｎｍから約１７４ｎｍまで約６ｎｍずつ変化した。
【００７６】
図１３から図１５において、極角は約０°、約３０°、約４５°および約６０°に変化させ、図１３は方位角１２０°、図１４は方位角６０°、図１５は方位角４０°にした。
【００７７】
図１２を参照すると、全体的にみたときに、基準波長に対する光学遅延層の面内位相差（Ｒｏ）が約１３０ｎｍ〜約１４２ｎｍの範囲であるときに反射率が低いことが分かる。
【００７８】
図１３を参照すると、方位角が約１２０°であるときには、極角３０°を基準として光学遅延層の面内位相差（Ｒｏ）が約１１８ｎｍ〜約１５３ｎｍである場合の反射率が約０．０２よりも低いことが分かる。
【００７９】
図１４を参照すると、方位角が約６０°であるときには、極角３０°を基準として光学遅延層の面内位相差（Ｒｏ）が約１２５ｎｍ〜約１７０ｎｍである場合の反射率が約０．０２よりも低いことが分かる。
【００８０】
図１５を参照すると、方位角が４０°であるときには、極角３０°を基準として光学遅延層の面内位相差（Ｒｏ）が約１２６ｎｍ〜約１６９ｎｍである場合の反射率が約０．０２よりも低いことが分かる。
【００８１】
このため、図７に示す光学フィルムの場合には、光学遅延層の面内位相差（Ｒｏ）が約１２６ｎｍ〜約１５３ｎｍの範囲である場合に方位角約１２０°、約６０°、約４０°に対する反射率が約０．０２よりも低いことが分かる。
【００８２】
以下、図１６から図１９に基づき、本発明の他の実験例による光学フィルムについて詳細に説明する。
【００８３】
図１６は、実験例による光学フィルムにおいて、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）の様々な値に対する光学フィルムの反射率を示すグラフであり、図１７から図１９は、実験例による光学フィルムの反射率を基材層の厚さ方向の位相差の関数で示すグラフである。
【００８４】
シミュレーション実験装置であるＬＣＤマスターを用いて、光学フィルムの反射率を計算した。光学フィルムは図９に示すような構造を有し、光学遅延層は図３に示すような構造を有する。
【００８５】
シミュレーション実験において塗布されて光学遅延層をなす液晶物質の屈折率異方性は約０．００４５であり、短波長分散性（＝約４５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は約０．８８であり、長波長分散性（＝約６５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は約１．０２であった。
【００８６】
反射体は、理想的な反射体を想定した。
【００８７】
光学遅延層の面内位相差は約１４２ｎｍ、基材層の面内位相差は約０に固定した。
【００８８】
図１６において、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）は約０ｎｍから約１００ｎｍまで約２５ｎｍずつ変化させた。
【００８９】
図１７から図１９において、極角は約０°、約３０°、約４５°、約６０°および約７０°に変化させ、図１７は方位角１２０°、図１８は方位角６０°、図１９は方位角４０°にした。
【００９０】
図１６を参照すると、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が小さいほど反射率が減少することが分かる。
【００９１】
図１７を参照すると、方位角が約１２０°であるときには、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が約０ｎｍ〜約６０ｎｍの範囲において、極角３０°の反射率が約０．０２よりも低く、極角４５°の反射率が約０．０４よりも低いことが分かる。
【００９２】
図１８を参照すると、方位角が約６０°であるときには、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が約０ｎｍ〜約１００ｎｍの範囲において、極角３０°の反射率が約０．０２よりも低く、極角４５°の反射率が約０．０４よりも低いことが分かる。
【００９３】
図１９を参照すると、方位角が約４０°であるときには、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が約０ｎｍ〜約６５ｎｍの範囲において、極角３０°の反射率が約０．０２よりも低く、極角４５°の反射率が約０．０４よりも低いことが分かる。
【００９４】
このため、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が約０ｎｍ〜約６０ｎｍの範囲において、方位角が約１２０°、約６０°、約４０°である場合にいずれも極角３０°の反射率が約０．０２よりも低く、極角４５°の反射率が約０．０４よりも低いことが分かる。
【００９５】
以下、図２０〜図２２に基づき、本発明の他の実験例による光学フィルムについて詳細に説明する。
【００９６】
図２０は、実験例による光学フィルムにおいて、基材層の面内位相差（Ｒｏ）および厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）の様々な値に対する光学フィルムの反射率を示すグラフであり、図２１は、基材層の様々な面内位相差（Ｒｏ）値に対して、実験例による光学フィルムの最大反射率を基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）の関数で示すグラフであり、図２２は、実験例による光学フィルムの最大反射率を基材層の面内位相差（Ｒｏ）および厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）の関数で示すグラフである。
【００９７】
シミュレーション実験装置であるＬＣＤマスターを用いて光学フィルムの反射率を計算した。光学フィルムは、図７（Ｒｏ＝０、Ｒｔｈ＝０）および図９に示すような構造を有し、光学遅延層は図３に示すような構造を有する。
【００９８】
シミュレーション実験において塗布されて光学遅延層をなす液晶物質の屈折率異方性は約０．００４５であり、短波長分散性（＝約４５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は約０．８８であり、長波長分散性（＝約６５０ｎｍの入射光に対する遅延値／約５５０ｎｍの入射光に対する遅延値）は約１．０２であった。
【００９９】
反射体は、理想的な反射体を想定した。
【０１００】
図２０および図２１において、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）は約０ｎｍ、約１０ｎｍ、約２５ｎｍ、約５０ｎｍに変化させ、基材層の面内位相差（Ｒｏ）は約０ｎｍ、約１０ｎｍ、約２５ｎｍ、約５０ｎｍ、約１００ｎｍに変化させた。
【０１０１】
基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）と面内位相差（Ｒｏ）による最大反射率を表１に示す。
【０１０２】
【表１】
2014130352.tif 000003
【０１０３】
表１と図２０から図２２を参照すると、基材層の面内位相差（Ｒｏ）が大きくなるほど、かつ、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が小さくなるほど反射率が小さくなることが分かる。特に、基材層の厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ）が約０ｎｍ〜約６０ｎｍである場合に、位相差とは無関係に約０．１２ｃｄ／ｍ２以下の低い反射率を示す。
【０１０４】
より具体的に、基材層の面内位相差が０〜５０ｎｍであれば、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜１００ｎｍである場合に反射率が低く、基材層の面内位相差が０〜１０ｎｍであれば、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜７０ｎｍである場合に反射率が低く、基材層の面内位相差が０ｎｍであり、かつ、厚さ方向の位相差が０ｎｍ〜６０ｎｍであれば反射率が低いことが分かる。
【０１０５】
以上、本発明の好適な実施形態について詳述したが、本発明の権利範囲はこれに何ら限定されるものではなく、下記の請求範囲において定義している本発明の基本概念を用いた当業者の種々の変形および改良形態もまた本発明の権利範囲に属するものである。
【符号の説明】
【０１０６】
１００、２００、３００、４００、４５０、５２０  光学フィルム
２１０、３１０  下地膜
２２０、３３０  液晶塗布膜
３２０  配向膜
３２２  凹凸構造
３６０  微細モールド
４１０、４６０、５２２  光学遅延層
４２０、４８０、５２４、６２０  偏光層
４２２  偏光膜
４２４、４２６  保護膜
４７０  基材層
５１０  有機発光表示板
５１２  発光層
５１４、５１６  電極
【図１】
2014130352.tif 000004
【図２】
2014130352.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
2014130352.tif 000023
【図２１】
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【図２２】
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