(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリエーテルスルホン樹脂に対して光安定性を向上させることができ、かつ透明なポリエーテルスルホン樹脂を得ることのできる安定化剤、および該安定化剤を含む樹脂組成物、および該樹脂組成物から得られる樹脂部材を提供する。【解決手段】式（１）：2014025029.tif 000022で表されるポリエーテルスルホン樹脂用の安定化剤、該安定化剤を含有するポリエーテルスルホン樹脂組成物、および該樹脂組成物から得られる樹脂部材。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）： 
【化１】
2014025029.tif 000020
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子である；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基である；尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す；
Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６である；Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す；尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在していなくても、あるいは存在していてもよい；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうち存在する基の各々は、該基が結合し得るベンゼン環の４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち任意の１ないし４個を置換することができる；存在する全てのＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である；
Ｍは金属原子を示す）
で表される、ポリエーテルスルホン樹脂用の安定化剤。
【請求項２】
式（１）における金属原子Ｍが、コバルト原子、ニッケル原子または銅原子である請求項１に記載のポリエーテルスルホン樹脂用の安定化剤。
【請求項３】
請求項１または２に記載のポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤のうち少なくとも１種類と、少なくとも１種類のポリエーテルスルホン樹脂を含有することを特徴とするポリエーテルスルホン樹脂組成物。
【請求項４】
前記ポリエーテルスルホン樹脂が、下記式（２）で示される繰返し単位からなるポリエーテルスルホン樹脂である、請求項３に記載のポリエーテルスルホン樹脂組成物。
【化２】
2014025029.tif 000021
【請求項５】
請求項３または４に記載のポリエーテルスルホン樹脂組成物から得られる樹脂部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、式（１）で表されるポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤、および該安定化剤のうち少なくとも１種類と少なくとも１種類のポリエーテルスルホン樹脂を含有するポリエーテルスルホン樹脂組成物、および該樹脂組成物から得られる樹脂部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエーテルスルホン樹脂は非晶性で透明な樹脂であり、優れた耐加水分解性、耐薬品性、耐熱分解性、機械強度、難燃性、さらに環境応力割れ耐性などの特徴を有する。特に、ポリエーテルスルホン樹脂は、汎用エンジニアリングプラスチックに比べて優れた耐加水分解性と機械強度を有し、且つ高温環境下における熱変形特性に優れることから、電気・電子部品、自動車部品、医療機器、食品容器など様々な分野で使用されている。
【０００３】
しかしながら、ポリエーテルスルホン樹脂は、紫外線により経時的に物性変化や外観変化（着色）などの劣化を生ずることが知られている。一般的に、ポリプロピレン、アクリル樹脂やポリカーボネートのような汎用樹脂では、紫外線による劣化に対し、有機系の紫外線吸収剤または劣化防止剤（サリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物など）または光安定化剤（ヒンダードアミン系化合物）を添加することで改善がはかられていた。しかし、例えば、ポリエーテルスルホン樹脂のフィルムは、３００℃〜３８０℃のような高温条件下でＴダイもしくはコートハンガーダイ等を用いる溶融押出によって成型されるため、上記汎用樹脂に用いられる紫外線吸収剤や光安定化剤では、耐熱分解性が低く、熱分解することにより、安定剤としての機能が低下する問題があった。また、有機系の紫外線吸収剤または光安定化剤を添加した塗膜をフィルムに塗布するといった方法も考えられるが，工程数の増加及び塗膜による透過率の低下が起こり、特に光学用としては好ましくない方法であった。
【０００４】
例えば、特許文献１には、ポリエーテルスルホン樹脂の紫外線による劣化を避けるべく、シリカ−ＣｅＯ2等の無機系の紫外線吸収剤を添加することが開示されている。しかしながら、無機系の紫外線吸収剤は、可視領域で、透明性を保つためには、例えば、粒子径を１００ｎｍ以下とする必要がある。しかし、粒子径が小さいと、一般的に、その粒子の表面エネルギーが高くなり、粒子同士の凝集が発生しやすく、その凝集体が可視域の光の散乱を招きポリエーテルスルホン樹脂の透明性が損なわれる問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−５２９６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものである。すなわちポリエーテルスルホン樹脂に対して耐光分解性および耐光変色性などの光安定性を向上させることができ、その安定性向上効果が少量添加によって発現され、かつ透明なポリエーテルスルホン樹脂組成物を得ることができ、かつポリエーテルスルホン樹脂の成型温度でも分解することがない耐熱分解性に優れたポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤、該安定化剤を含むポリエーテルスルホン樹脂組成物、および該樹脂組成物から得られる樹脂部材を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、式（１）で表される金属錯体が高い耐熱分解性を有し、かつポリエーテルスルホン樹脂に対して著しく優れた光安定化効果を有することを見出した。そこで、該金属錯体をポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤として使用することにより、上記課題を解決に導き、本発明の完成に至った。すなわち、本発明は以下に示すとおりのポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤、および該ポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤のうち少なくとも１種類を含むポリエーテルスルホン樹脂組成物、および該樹脂組成物から得られる樹脂部材に関する。
【０００８】
項１．式（１）： 
【０００９】
【化１】
2014025029.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子である；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基である；尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す；
Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６である；Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す；尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在していなくても、あるいは存在していてもよい；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうち存在する基の各々は、該基が結合し得るベンゼン環の４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち任意の１ないし４個を置換することができる；存在する全てのＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である；
Ｍは金属原子を示す）
で表される、ポリエーテルスルホン樹脂用の安定化剤。
【００１１】
項２．式（１）における金属原子Ｍが、コバルト原子、ニッケル原子または銅原子である項１に記載のポリエーテルスルホン樹脂用の安定化剤。
【００１２】
項３．前記項１または２に記載のポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤のうち少なくとも１種類と、少なくとも１種類のポリエーテルスルホン樹脂を含有することを特徴とするポリエーテルスルホン樹脂組成物。
【００１３】
項４．前記ポリエーテルスルホン樹脂が、下記式（２）で示される繰返し単位からなるポリエーテルスルホン樹脂である、項３に記載のポリエーテルスルホン樹脂組成物。
【化２】
2014025029.tif 000003
【００１４】
項５．項３または４に記載のポリエーテルスルホン樹脂組成物から得られる樹脂部材。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤は、ポリエーテルスルホン樹脂に対し、少量の添加量で長期に渡り耐光分解性および耐光変色性などの光安定性を向上させる効果がある。また、該安定化剤はポリエーテルスルホン樹脂に溶解するために透明性が高く、しかもポリエーテルスルホン樹脂の成形温度でも分解することがないために耐熱分解性も高い。従って、本発明のポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤を用いることで、長期間に渡って優れた光安定性を持続することができる透明で変色のほとんどないポリエーテルスルホン樹脂組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、式（１）で表されるポリエーテルスルホン樹脂用の安定化剤、該安定化剤のうち少なくとも１種類を含有するポリエーテルスルホン樹脂組成物、および該組成物より得られる樹脂部材を提供するものである。
【００１７】
【化３】
2014025029.tif 000004
【００１８】
式（１）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子である。
【００１９】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属される、前記のＮＲ５のＲ５としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等の炭素数１〜８のアルキル基；フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１５のアリール基が挙げられる。
【００２０】
Ｒ５としてのアルキル基およびアリール基は上記具体例のように置換基を有していてもよい。アルキル基およびアリール基が置換基を有する場合、アルキル基およびアリール基の炭素数は、置換基を含まない当該基の炭素数である。
尚、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
【００２１】
ここで、式（１）におけるＹ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は、合成方法の簡便さの観点から、酸素原子または硫黄原子であることが特に好ましい。
【００２２】
Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６である。
【００２３】
Ｚ１またはＺ２に帰属される、前記のＣＲ６のＲ６としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等の炭素数１〜８のアルキル基；フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１５のアリール基；２−フリル基、２−チエニル基、５−クロロ−２−チエニル基、２−ピロリル基、２−オキサゾリル基、５−メチル−２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基等の炭素数３〜１２のヘテロアリール基；４−ピリジルメチル基、４−キノリルメチル基、２−チエニルメチル基等の炭素数４〜１２のヘテロアラルキル基；４−アセトアミドベンジル基、３−アミノベンジル基、４−アミノベンジル基、３−メトキシベンジル基、２−メトキシフェネチル基、４−（ｎ−ペンチルオキシ）ベンジル基、２−アリルオキシフェネチル基、５−アリル−２−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基、２−ブロモベンジル基、３−フェネチル基、４−ブロモベンジル基、２−クロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、６−ブロモ−２−ヒドロキシベンジル基、５−ブロモ−３−ニトロ−２−ヒドロキシフェネチル基、４−（ｎ−ブチル）ベンジル基、３−ブロモ−５−メトキシ−４−ヒドロキシベンジル基、４−ベンジルオキシベンジル基、６−ブロモ−３−メトキシ−２−ヒドロキシベンジル基、（１−ブロモ−２−ナフチル）−ｎ−プロピル基、２−ベンジルオキシベンジル基、３,５−ビストリフルオロメチルフェネチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、５−ブロモ−２−フルオロベンジル基、３−ブロモ−４−メトキシベンジル基、５−ブロモ−２−メトキシベンジル基、３−ブロモ−５−クロロ−２−ヒドロキシベンジル基、４−ブロモ−２−フルオロベンジル基、２−ブロモ−４,５−ジメトキシフェネチル基、３,４−エチレンジオキシベンジル基、３−ブロモ−４−フルオロフェネチル基、６−ブロモ−３,４−メチレンジオキシベンジル基、３−ブロモ−４−ヒドロキシベンジル基、２−ブロモ−５−フルオロフェネチル基、４−シアノベンジル基、４−トリフルオロベンジル基、４−（４−クロロフェノキシ）フェネチル基、４−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）ベンジル基、３,４−ジアセトキシベンジル基、４−（Ｎ,Ｎ−ジフェニルアミノ）ベンジル基、４−［Ｎ−（４,４−ジオキソチオモルホリノ）］ベンジル基、４−（Ｎ−ピロリジノ）ベンジル基、３−（２−ヒドロキシエトキシ）ベンジル基、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェネチル基、４−ヒドロキシ−３,５−ジメチルベンジル基、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−ｎ−プロピル基、４−イソプロピルベンジル基、４−イソブチルベンジル基等の炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられる。
【００２４】
Ｒ６としてのアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロアラルキル基およびアラルキル基は上記具体例のように置換基を有していてもよい。これらの基が置換基を有する場合、当該基の炭素数は、置換基を含まない基の炭素数である。
【００２５】
前記のＺ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６として例示したものの中では、合成方法の簡便さや反応性の観点から、アラルキル基であることが特に好ましい。
尚、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
【００２６】
さらに、式（１）におけるＺ１およびＺ２は、合成方法の簡便さの観点から、窒素原子であることが特に好ましい。
【００２７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在していなくても、あるいは存在していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうち存在する基の各々は、該基が結合し得るベンゼン環の４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち任意の１ないし４個、好ましくは１または２個を置換することができる。存在する全てのＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である。
【００２８】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、２−メトキシエチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、３−クロロ−ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、６−フェニル−ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。当該アルキル基の炭素数は、当該アルキル基が置換基を有する場合、置換基を含まないアルキル基の炭素数である。当該アルキル基の好ましい炭素数は１〜３である。当該アルキル基が有し得る置換基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基等の炭素数１〜３のアルコキシ基；クロロ基、ブロモ基、フルオロ基等のハロゲノ基；ヒドロキシル基；またはフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基等が挙げられる。
【００２９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【００３０】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。
【００３１】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノスルホニル基、Ｎ−エチルアミノスルホニル基、Ｎ−イソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、Ｎ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−エチルイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−２−エチルヘキシルアミノスルホニル基等が挙げられる。アルキルアミノスルホニル基の炭素数は、当該基が置換基を有する場合、置換基を含まないアルキルアミノスルホニル基の炭素数である。当該アルキルアミノスルホニル基の好ましい炭素数は２〜１６である。当該アルキルアミノスルホニル基が有し得る置換基は、上記アルキル基が有し得る置換基と同様のものが挙げられる。
【００３２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基としては、例えば、モルホリノスルホニル基、２−メチルモルホリノスルホニル基、３−メチルモルホリノスルホニル基、２−エチルモルホリノスルホニル基、３−ｎ−プロピルモルホリノスルホニル基、３−ｎ−ブチルモルホリノスルホニル基、２，３−ジメチルモルホリノスルホニル基、２，６−ジメチルモルホリノスルホニル基、３−フェニルモルホリノスルホニル基等が挙げられる。当該モルホリノスルホニル基が有し得る置換基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基等の炭素数１〜５のアルキル基；ヒドロキシル基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基等が挙げられる。
【００３３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基としては、例えば、ピペリジノスルホニル基、２−メチルピペリジノスルホニル基、３−メチルピペリジノスルホニル基、４−メチルピペリジノスルホニル基、２−エチルピペリジノスルホニル基、４−ｎ−プロピルピペリジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピペリジノスルホニル基、２，４−ジメチルピペリジノスルホニル基、２，６−ジメチルピペリジノスルホニル基、４−フェニルピペリジノスルホニル基等が挙げられる。当該ピペリジノスルホニル基が有し得る置換基は、モルホリノスルホニル基が有し得る置換基と同様のものが挙げられる。
【００３４】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基としては、例えば、ピロリジノスルホニル基、２−メチルピロリジノスルホニル基、３−メチルピロリジノスルホニル基、２−エチルピロリジノスルホニル基、３−ｎ−プロピルピロリジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピロリジノスルホニル基、２，４−ジメチルピロリジノスルホニル基、２，５−ジメチルピロリジノスルホニル基、３−フェニルピロリジノスルホニル基等が挙げられる。当該ピロリジノスルホニル基が有し得る置換基は、モルホリノスルホニル基が有し得る置換基と同様のものが挙げられる。
【００３５】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基としては、例えば、チオモルホルノスルホニル基、２−メチルチオモルホリノスルホニル基、３−メチルチオモルホリノスルホニル基、２−エチルチオモルホリノスルホニル基、３−ｎ−プロピルチオモルホリノスルホニル基、３−ｎ−ブチルチオモルホリノスルホニル基、２，３−ジメチルチオモルホリノスルホニル基、２，６−ジメチルチオモルホリノスルホニル基、３−フェニルチオモルホリノスルホニル基等が挙げられる。当該チオモルホリノスルホニル基が有し得る置換基は、モルホリノスルホニル基が有し得る置換基と同様のものが挙げられる。
【００３６】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基としては、例えば、ピペラジノスルホニル基、２−メチルピペラジノスルホニル基、３−メチルピペラジノスルホニル基、２−エチルピペラジノスルホニル基、３−ｎ−プロピルピペラジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピペラジノスルホニル基、２，５−ジメチルピペラジノスルホニル基、２，６−ジメチルピペラジノスルホニル基、３−フェニルピペラジノスルホニル基、２−ピリミジルピペラジノスルホニル基等が挙げられる。当該ピペラジノスルホニル基が有し得る置換基は、モルホリノスルホニル基が有し得る置換基、およびピリミジル基等の炭素数４〜１２のヘテロアリール基等が挙げられる。
【００３７】
経済性すなわち原料の入手の簡便さや、反応工程数、収率の観点からみれば、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立して、存在しないか、または置換基を有してもいてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲノ基、または炭素数１〜４のアルコキシ基であることが好ましく、存在しないか、ハロゲノ基、または炭素数１〜４のアルコキシ基であることがより好ましく、存在しないことがさらに好ましい。
【００３８】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４がそれぞれ互いに独立して、置換基を有してもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である場合には、溶媒に対する溶解性の面で特に有利であり、中でも置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基または置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基である場合に特に有利となる。
【００３９】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４、Ｚ１およびＺ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立したものであるが、合成方法の簡便さおよび取得する該金属錯体の品質（純度）管理の観点から、好ましくはＹ１＝Ｙ２且つＹ３＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４である。また、該金属錯体の各種溶媒に対する溶解性の観点から言えば、Ｙ１＝Ｙ３≠Ｙ２＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ３＝Ｒ２＝Ｒ４、またはＹ１＝Ｙ３＝Ｙ２＝Ｙ４且つＺ１＝Ｚ２且つＲ１＝Ｒ３≠Ｒ２＝Ｒ４であることが好ましい。
【００４０】
Ｍで表される金属原子は、例えば、コバルト原子、ニッケル原子、亜鉛原子および銅原子等が挙げられる。中でも、耐熱分解性の観点からコバルト原子、ニッケル原子および銅原子が好ましく、コバルト原子であることがより好ましい。
【００４１】
上記した式（１）で表されるポリエーテルスルホン樹脂用の安定化剤としての金属錯体のうち、好ましい具体例を以下に示す；
式（１）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、酸素原子または硫黄原子である； 
Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子である；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在していなくても、あるいは存在していてもよい；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうち存在する基の各々は、該基が結合し得るベンゼン環の４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち任意の１ないし４個を置換することができる；存在する全てのＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、または置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基である；
Ｍはコバルト原子、ニッケル原子、または銅原子を示す。
【００４２】
式（１）で表される金属錯体は、下記式（２）で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。
【００４３】
式（２）：
【００４４】
【化４】
2014025029.tif 000005
【００４５】
式（２）において、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ式（１）中のＹ１（および/またはＹ３）、Ｙ２（および/またはＹ４）、Ｚ１（および/またはＺ２）、Ｒ１（および/またはＲ３）、Ｒ２（および/またはＲ４）に対応している。
【００４６】
式（２）で表される配位子は、例えば、「特開昭５６−８７５７５」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８７，３６８」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８２，５９０」、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８２，１０６６−１０６７」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２」、「Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，２６，３４３４−３４４５」、「Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９６，１２６，３２９−３３７」、「Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９４，１２４，３０１−３０８」、「特表２００７−５３５４２１」において開示されている方法で合成することができる。
以下、式（２）で表される配位子の製造方法を一部説明する。
【００４７】
≪配位子の製造方法≫
Ｉ） 下記式（３）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｓ，Ｚ１＝Ｎの場合
【００４８】
【化５】
2014025029.tif 000006
【００４９】
例えば、特開昭５６−８７５７５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノベンゾチアゾール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２−アミノ−置換ベンゾチアゾール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をフェノール等の酸触媒存在下において、１５０〜１８５℃に加熱し、反応させることによって２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を合成することができる。
【００５０】
ＩＩ）下記式（４）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝Ｏ，Ｚ１＝Ｎの場合
【００５１】
【化６】
2014025029.tif 000007
【００５２】
例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８７，３６８に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノフェノール（Ｒ２が存在しない場合）または２−アミノ−置換フェノール（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に溶解させ、塩基として水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で３０分間攪拌し、ここにＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］−カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）のＤＭＦ溶液を滴下し、窒素雰囲気下で還流させることで２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾールまたは２−［２−（置換ベンゾチアゾリル）アミノ］置換ベンゾオキサゾールを合成することができる。
【００５３】
前記Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエートまたはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］カルボンイミドジチオエートは、例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８２，５９０に記載されている方法に従って合成することができる。
【００５４】
すなわち、２−アミノベンゾチアゾール（Ｒ１が存在しない場合）または２−アミノ−置換ベンゾチアゾール（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＤＭＦに溶解させ、水浴または氷浴下でこの溶液に、水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、次に二硫化炭素を滴下し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を滴下した後、ヨウ化メチルを滴下することで、Ｓ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−置換ベンゾチアゾリル）カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）を合成することができる。
【００５５】
ＩＩＩ）下記式（５）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝ＮＨ，Ｚ１＝Ｎの場合
【００５６】
【化７】
2014025029.tif 000008
【００５７】
例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  １９８２，１０６６−１０６７に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ２が存在しない場合）またはｏ−（置換フェニレン）ジアミン（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）をＤＭＦに溶解させ、ここにＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル）−カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が存在しない場合）またはＳ，Ｓ’−ジメチル−Ｎ−［２−（置換ベンゾチアゾリル）］−カルボンイミドジチオエート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）のＤＭＦ溶液を滴下した後に、１０〜１６時間還流させることで２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾイミダゾールまたは２−［２−（置換ベンゾチアゾリルアミノ）］置換ベンゾイミダゾールを合成することができる。
【００５８】
ＩＶ）下記式（６）：式（２）においてＹ１＝Ｓ，Ｙ２＝ＮＨ，Ｚ１＝ＣＨの場合
【００５９】
【化８】
2014025029.tif 000009
【００６０】
例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ２が存在しない場合）またはｏ−（置換フェニレン）ジアミン（Ｒ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）と、エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテート（Ｒ１が存在しない場合）またはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテート（Ｒ１が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）を窒素雰囲気下において１６０℃で６時間還流することによって（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）メタンまたは［２−（置換ベンゾチアゾリル）］［２−（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンを合成することができる。
【００６１】
前記エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテートは、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２に記載されている方法に従って合成することができる。
すなわち、エチルシアノアセテートと、２−アミノ−チオフェノールまたは２−アミノ−置換チオフェノールとを混合し、窒素雰囲気下において１２０℃で２時間反応させることで、エチル−２−ベンゾチアゾリルアセテートまたはエチル−２−（置換ベンゾチアゾリル）アセテートを合成することができる。
【００６２】
Ｖ）下記式（７）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｏ，Ｚ１＝ＣＨの場合
【００６３】
【化９】
2014025029.tif 000010
【００６４】
例えば、ＵＳ３２５０７８０に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノフェノール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２−アミノ−置換フェノール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１７５℃まで昇温し、反応させることで、ビス（２−ベンゾオキサゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾオキサゾリル）］メタンを合成することができる。
【００６５】
ＶＩ）下記式（８）：式（２）においてＹ１＝Ｙ２＝Ｓ，Ｚ１＝ＣＨの場合
【００６６】
【化１０】
2014025029.tif 000011
【００６７】
例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６１，２６，３４３４−３４４５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノチオフェノール（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または２−アミノ−置換チオフェノール（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸を混合し、この混合液を攪拌下のポリリン酸中に７０℃に保温しながら加える。次にこの反応液を１２５−１５０℃で２時間反応させることで、ビス（２−ベンゾチアゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾチアゾリル）］メタンを合成することができる。
【００６８】
ＶＩＩ）下記式（９）：式（２）においてＹ１＝ＮＲ５、Ｙ２＝ＮＲ５，Ｚ１＝ＣＨの場合
【００６９】
【化１１】
2014025029.tif 000012
【００７０】
例えば、Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９６，１２６，３２９−３３７に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、（Ｎ−置換−）ｏ−フェニレンジアミン（Ｒ１およびＲ２が存在しない場合）または（Ｎ−置換−）［ｏ−（置換フェニレン）］ジアミン（Ｒ１およびＲ２が置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲノ基の場合）とマロン酸ジエチルを混合し、この混合液を窒素雰囲気下において１５５℃で１１時間還流することで、ビス［２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル］メタンまたはビス［２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンを合成することができる。
【００７１】
ＶＩＩＩ）下記式（１０）：式（２）においてＺ１＝ＣＲ６の場合
【００７２】
【化１２】
2014025029.tif 000013
【００７３】
例えば、Ｇａｚｚ．Ｃｈｉｍ．Ｉｔａｌ．１９９４，１２４，３０１−３０８に記載されている方法に従って合成することができる。前記の通り、式（１）中のＺ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６としてはアラルキル基であることが特に好ましい。ここでは、このアラルキル基が、例えば、４−ピリジルメチル基である場合を取り上げ、以下、合成方法を説明する。４−ピリジルメチル基以外の置換基である場合にも対応する基質（置換基に対応するアルデヒド体）を選択することで、同様の合成方法に従って合成することが可能である。
【００７４】
ＩＶ）で得られた（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）メタンまたは［２−（置換ベンゾチアゾリル）］［２−（置換ベンゾイミダゾリル）］メタン、または
Ｖ）で得られたビス（２−ベンゾオキサゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾオキサゾリル）］メタン、または
ＶＩ）で得られたビス（２−ベンゾチアゾリル）メタンまたはビス［２−（置換ベンゾチアゾリル）］メタン、または
ＶＩＩ）で得られたビス［２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル］メタンまたはビス［２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）］メタンと、
酢酸および酢酸ナトリウムを混合し、ここに４−ピリジンカルボキシアルデヒドを添加し反応させた後に、パラジウムカーボン等を用いて還元することで、
【００７５】
ＩＶ）で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−（２−ベンゾチアゾリル）（２−ベンゾイミダゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−｛２−（置換ベンゾチアゾリル）｝｛２−（置換ベンゾイミダゾリル）｝エチル］ピリジンを、
Ｖ）で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス（２−ベンゾオキサゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（置換ベンゾオキサゾリル）｝エチル］ピリジンを、
ＶＩ）で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス（２−ベンゾチアゾリル）エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（置換ベンゾチアゾリル）｝エチル］ピリジンを、
ＶＩＩ）で得られた化合物からは、対応する４−［β，β−ビス｛２−（Ｎ−置換）ベンゾイミダゾリル｝エチル］ピリジンまたは４−［β，β−ビス｛２−（Ｎ−置換）（置換ベンゾイミダゾリル）エチル］ピリジンを合成することができる。
【００７６】
ＩＸ）式（２）においてＲ１およびＲ２のそれぞれ少なくとも一つの置換基が、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基の場合
【００７７】
例えば、特表２００７−５３５４２１に記載されている方法に従って、前記Ｉ）〜ＶＩＩＩ）の方法で得られた配位子（式（２）においてＲ１およびＲ２の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、該基が結合し得るベンゼン環の４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち任意の１ないし３個が置換されたものに限る）に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基を導入することができる。
【００７８】
ここでは、Ｉ）で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を例に取り上げ、以下、合成方法を説明する。
Ｉ)で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾールまたは２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）をクロロスルホン酸に添加し、混合物を一晩攪拌する。さらに塩化チオニルを添加し、５０℃で１時間攪拌する。室温まで冷却後、混合物を氷の上に注ぎ、吸引ろ過する。濾取した固形物を残った氷と一緒に一級または二級アミンと攪拌することで対応する２，２’−イミノビス（置換ベンゾチアゾール）を合成することができる。
【００７９】
≪式（１）で表される金属錯体の製造方法≫
例えば、Ｐｏｌｙｈｅｄｒｏｎ  ２００６，２５，２３６３−２３７４やＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２に記載されている方法に従って、前記のＩ）〜ＩＸ）の製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。すなわち前記のＩ）〜ＩＸ）の製造方法に基づいて得られた配位子と、式（１）中のＭに対応する金属の酢酸塩を、メタノール、エタノール、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。
【００８０】
≪式（１）で表されるポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤のうち少なくとも１種類を含むポリエーテルスルホン樹脂組成物≫
本発明におけるポリエーテルスルホン樹脂組成物は、式（１）で表される少なくとも１種類のポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤を含有し、さらに、少なくとも１種類のポリエーテルスルホン樹脂を含むことを特徴とする。さらに、必要に応じて少なくとも１種類の溶媒を含有してもよい。
【００８１】
本発明のポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤の各々の添加量としては、ポリエーテルスルホン樹脂安定化効果を得られる限り特に限定されることはないが、ポリエーテルスルホン樹脂材料１００重量部に対して０．００１〜１５重量部、好ましくは０．０１〜１０重量部、より好ましくは０．０３〜５重量部である。０．００１重量部未満では、十分な安定化効果が得られないおそれがあり、１５重量部以上添加しても添加量に見合う安定化効果が得られず経済的でない。
【００８２】
ポリエーテルスルホン樹脂の安定化効果の観点からは、本発明における式（１）で表されるポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤は分子レベルで溶解した状態で含有されることが好ましい。
【００８３】
本発明のポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤を、ポリエーテルスルホン樹脂、必要に応じて溶媒に混合する方法としては、特に制限されることなく公知の方法で混合することができる。
例えば、ポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤を溶媒に溶解させて使用する場合には、特に混合の手順に関して制限を受けることはなく、いかなる順序で各成分を混合してもよい。
【００８４】
溶媒を使用することなく該ポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたポリエーテルスルホン樹脂（溶媒を含まない樹脂成分そのもの）中に練りこむ方法を採用してもよい。この場合には公知の溶融混練機を使用することが好ましい。一例を挙げると、短軸押出機を用いて溶融混練した後にストライド状に押し出し、ペレット状にカットすることで、成形材料としての合成樹脂組成物を得ることができる。溶融混練時の温度は使用するポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤の分解温度と、使用するポリエーテルスルホン樹脂材料の融点またはガラス転移点の双方を考慮した上で適宜設定することができる。溶融混練時の温度は通常、後述する成形温度と同等の範囲であり、そのような温度でも、本発明の安定化剤をほとんど分解させることなく、有効に使用することができる。また混練時の圧力については、使用するポリエーテルスルホン樹脂材料の物性に応じて適宜設定することができる。
【００８５】
本発明で用いられるポリエーテルスルホン樹脂は、主鎖に芳香族基を有し、当該芳香族基の連結基として、オキシ基及びスルホニル基を有する範囲で特に制限されず、例えば、「特開２００６−０７７１９３」および「特開２００９−１３８１４９」に記載されているポリエーテルスルホン樹脂等を挙げることができる。
【００８６】
すなわち、本発明で用いられるポリエーテルスルホン樹脂の製造方法としては、有機溶媒中でアルカリ金属化合物の存在下、ジハロジフェニル化合物と二価フェノール化合物とを重縮合させるか、あるいは、二価フェノールのアルカリ金属二塩とジハロジフェニル化合物とを重縮合させるといった方法が挙げられる。
以下、ＰＥＳ系樹脂の製造方法について簡単に説明する。
【００８７】
前記有機溶媒としては、極性溶媒が好ましく、例えば、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピペリドンなどのピペリドン系溶媒、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのイミダゾリジノン系溶媒、ヘキサメチルホスホアミド、γ−ブチロラクトン、スルホラン、ジフェニルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホンなどが挙げられ、これらの二種以上の混合溶媒も用いることができる。
【００８８】
前記アルカリ金属化合物としては、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属アルコキシドなどが挙げられる。特に炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの無水アルカリ金属炭酸塩が好ましい。
【００８９】
前記ジハロジフェニル化合物としては、スルホニル基を有するジハロジフェニル化合物、例えば４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、４，４’−ジフルオロジフェニルスルホンなどのジハロジフェニルスルホン類、１，４−ビス（４−クロルフェニルスルホニル）ベンゼン、１，４−ビス（４−フルオロフェニルスルホニル）ベンゼンなどのビス（ハロゲノフェニルスルホニル）ベンゼン類、４，４’−ビス（４−クロルフェニルスルホニル）ビフェニル、４，４’−ビス（４−フルオロフェニルスルホニル）ビフェニルなどのビス（ハロゲノフェニルスルホニル）ビフェニル類、などが挙げられ、これらのジハロジフェニル化合物は、二種類以上を混合して用いてもよい。中でも入手が容易であることから、４，４’−ジクロロジフェニルスルホン又は４，４’−ジフルオロジフェニルスルホンがより好ましく、４，４’−ジクロロジフェニルスルホンが特に好ましい。
【００９０】
前記二価フェノール化合物としては、ハイドロキノン、カテコール、レゾルシン、４，４’−ビフェノールの他に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンなどのビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンなどのジヒドロキシジフェニルスルホン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテルなどのジヒドロキシジフェニルエーテル類、あるいは、これらのベンゼン環に結合している一部の水素原子が、メチル基、エチル基、プロピル基などの低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基などの低級アルコキシ基、あるいは塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。特に、入手の容易性から、ハイドロキノン、４，４’−ビフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニルプロパン）、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、又は４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンが好ましく、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンが特に好ましい。上記の二価フェノール化合物は、二種以上を混合して用いていてもよい。
【００９１】
上記の二価フェノール化合物とジハロジフェニルスルホン化合物とが、ほぼ等モル量となるように使用して、重縮合されたものが好ましい。また、ポリエーテルスルホン樹脂の分子量を調整するために、二価フェノール化合物の使用量を、ジハロジフェニルスルホン化合物の使用量に対する等モル量から僅かに過不足があるようにして、重縮合されたものでもよい。
【００９２】
ポリエーテルスルホン樹脂の製造にかかる重縮合の反応温度は、１４０〜３４０℃の範囲であると好ましい。この反応温度が高すぎると、得られるポリエーテルスルホン樹脂の着色が著しくなることがある。一方、この反応温度が低すぎると、重合速度が低下して、実用的な反応時間で、適当な分子量のポリエーテルスルホン樹脂を得ることが困難になることがある。
【００９３】
かくして、本発明に適用する好適なポリエーテルスルホン樹脂を得ることができるが、市販されているポリエーテルスルホン樹脂を使用してもよい。このような市販ＰＥＳ系樹脂としては、例えば、住友化学株式会社製のスミカエクセル（商品名）ＰＥＳ３６００Ｐ、４１００Ｐ、４８００Ｐ、５２００Ｐ、５００３Ｐ等、ＡＭＯＣＯ社の商品名ＵＤＥＬＰ−１７００等が挙げられる。
【００９４】
ポリエーテルスルホン樹脂の分子量は、ポリエーテルスルホン樹脂をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に、濃度１（W/V）％となるように溶解させたとき、得られた溶液の還元粘度（ＲＶ）が０．３〜０．８になるようなものが好ましい。
【００９５】
原料の入手の容易さや合成の簡便さの観点から、下記式（２）で示される繰返し単位からなるポリエーテルスルホン樹脂が好ましい。
【００９６】
【化１３】
2014025029.tif 000014
【００９７】
本発明のポリエーテルスルホン樹脂組成物は、従来公知のポリエーテルスルホン樹脂を特に制限されることなく、１種類または２種類以上を組み合わせて適宜用いることができる。
【００９８】
本発明のポリエーテルスルホン樹脂組成物は、上述した式（１）で表されるポリエーテルスルホン樹脂用の安定化剤に加えて、本発明の効果を阻害しない範囲で従来公知の添加剤が適宜添加されていてもよい。このような添加剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤などの酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、核剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、可塑剤、流れ調整剤、離型剤、発泡剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、無機系光遮蔽剤等が挙げられる。
【００９９】
≪ポリエーテルスルホン樹脂組成物から得られる樹脂部材≫
前記のごときポリエーテルスルホン樹脂組成物からは、従来公知の成形、固化方法により樹脂部材を得ることができる。
成形方法としては、例えば、射出成形法、押出成形法、真空成形法、圧縮成形法、積層成形法およびトランスファー成形法等が挙げられる。成形温度は通常、３００〜３９０℃、特に３２０〜３８０℃である。このような比較的高い成形温度であっても、本発明の安定化剤はほとんど分解することなく、有効に使用できる。
樹脂部材の形態としては、シート、プレートおよびフィルム等が挙げられるが、特に限定されるものではない。
【０１００】
本発明のポリエーテルスルホン樹脂組成物を塗膜化して樹脂部材とする場合には、樹脂部材は、基材上にポリエーテルスルホン樹脂組成物を塗布または積層した形態、またはその基材を有しない積層体形態のいずれの形態でもよい。
基材の材質は、特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができ、例えば、ガラス、金属板、セラミックス等の無機系基材や、合成樹脂等の有機系基材が挙げられる。基材の形状は、所望によりフィルムでもボードでも良く、特に限定されない。
【０１０１】
ポリエーテルスルホン樹脂組成物を基材に塗布または積層する方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ディップコート法、スピンコート法のごとき公知の方法が挙げられる。詳しくは、本発明のポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤およびポリエーテルスルホン樹脂を有機溶媒に溶解し、得られた塗液を公知の方法により基材に塗布または積層する。塗液には、上記した添加剤を溶解または分散させてもよい。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２ − ヘプタノン、３ − オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、２-メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が使用できる。
【０１０２】
基材への積層に際して、本発明に用いられるポリエーテルスルホン樹脂組成物以外のその他の樹脂を用いた組成物を積層してもよく、また、積層体の剥離のため基材に予めフッ素系樹脂、シリコーン樹脂等の剥離性組成物をコーティングしてもよい。
かくして、基材上にポリエーテルスルホン樹脂組成物を塗布または積層する、あるいは所望により基材からポリエーテルスルホン樹脂組成物を含む積層体を剥離することにより、該樹脂組成物から樹脂部材が得られる。
【実施例】
【０１０３】
以下に製造例、実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。
【０１０４】
製造例１
フェノール１８．８ｇ（０．２モル）を５０℃まで加熱し溶融させ、ここに２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）を加えた後、さらに１８０℃まで加熱し、２０時間保温した。その後、反応液を８０℃まで冷却し、エタノール６０ｇを滴下し、さらに１時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別し、エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として白色の２，２’−イミノビスベンゾチアゾール（Ｌ１：下記表１参照）３２．１ｇを得た。収率は２−アミノベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。
【０１０５】
製造例２
製造例１で得られた２，２’−イミノビスベンゾチアゾール１０ｇ（０．０３５モル）をクロロスルホン酸７０．１ｇ(０．６０２モル)に添加し、混合物を室温で１８時間攪拌した。さらに塩化チオニル１０ｇ（０．０８４モル）を添加し５０℃で１時間攪拌した。室温まで冷却後、この混合物を４００ｇの氷の上に注ぎ、吸引ろ過した。濾取した固形物を残った氷と一緒にジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）と即座に攪拌した。室温まで暖めた後、約１ｍＬの５０重量％強度の水酸化ナトリウム溶液によって混合物をアルカリ性にした。固体を吸引ろ過し、水で洗浄後、乾燥することで薄黄色の２，２’−イミノビス［６−（Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノスルホニル）ベンゾチアゾール］（Ｌ２：下記表１参照）１８．６ｇを得た。収率は２，２’−イミノビスベンゾチアゾールに対して８０．０％であった。
【０１０６】
製造例３
製造例２においてジイソブチルアミン１３．１ｇ（０．１０１モル）に代えて、モルホリン８．８ｇ（０．１０１モル）を用いた以外は製造例２と同様にして、２，２’−イミノビス（６−モルホリノスルホニルベンゾチアゾール）（Ｌ３：下記表１参照）１５．４ｇを得た。収率は２，２’−イミノビスベンゾチアゾールに対して７５．５％であった。
【０１０７】
製造例４
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール５４．１ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（６−メトキシベンゾチアゾール）（Ｌ４：下記表１参照）４１．７ｇを得た。収率は２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾールに対して８１．０％であった。
【０１０８】
製造例５
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−６−クロロベンゾチアゾール５５．４ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（６−クロロベンゾチアゾール）（Ｌ５：下記表１参照）３７．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−クロロベンゾチアゾールに対して７０．４％であった。
【０１０９】
製造例６
製造例１において２−アミノベンゾチアゾール４５．１ｇ（０．３モル）に代えて２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾール５３．５ｇ（０．３モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色の２，２’−イミノビス（５，６−ジメチルベンゾチアゾール）（Ｌ６：下記表１参照）４２．１ｇを得た。収率は２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾールに対して８２．７％であった。
【０１１０】
製造例７
２−アミノベンゾチアゾール１５．０ｇ（０．１０モル）、２−クロロベンゾオキサゾール１８．４ｇ（０．１２モル）、１，２−ジエトキシエタン１００ｇを仕込み、臭化テトラブチルアンモニウム６．４ｇ（０．０２モル）、５０％水酸化カリウム水溶液３３．７ｇ（０．３０モル）を加えた後、６０℃まで昇温し、１２時間保温した。その後、反応液を室温まで冷却し、ｐＨ＝７になるまで塩酸を滴下し中和した。析出物を濾別し、水およびメタノールで洗浄後、乾燥し、白色の２−（２−ベンゾチアゾリルアミノ）ベンゾオキサゾール（Ｌ７：下記表１参照）２２．９ｇを得た。収率は２−アミノベンゾチアゾールに対して８５．８％であった。
【０１１１】
製造例８
製造例７において２−アミノベンゾチアゾール１５．０ｇ（０．１０モル）に代えて２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール１８．０ｇ（０．１０モル）、２−クロロベンゾオキサゾール１８．４ｇ（０．１２モル）に代えて２，６−ジクロロベンゾオキサゾール１８．８ｇ（０．１０モル）を用いた以外は製造例７と同様にして、配位子として、微黄色の６−クロロ−２−[２−（６−メチルスルホニルベンゾチアゾリル）アミノ]ベンゾオキサゾール（Ｌ８：下記表１参照）２７．７ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールに対して８３．５％であった。
【０１１２】
得られた各配位子の構造式を表１に示す。
【０１１３】
【表１】
2014025029.tif 000015
【０１１４】
製造例９
製造例１で得られた配位子（Ｌ１）３．４０ｇ（０．０１２モル）を温ＤＭＦ２４ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール２０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体３．４１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して９１．１％であった。
【０１１５】
製造例１０
製造例２で得られた配位子（Ｌ２）７．９９ｇ（０．０１２モル）を温ＤＭＦ４８ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール４０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄色のコバルト錯体７．５６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ２）に対して９０．１％であった。
【０１１６】
製造例１１
製造例３で得られた配位子（Ｌ３）６．９８ｇ（０．０１２モル）を温ＤＭＦ４８ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール４０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、黄色のコバルト錯体６．７５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ３）に対して９２．２％であった。
【０１１７】
製造例１２
製造例４で得られた配位子（Ｌ４）４．１２ｇ（０．０１２モル）を温ＤＭＦ３６ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール３０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体４．３３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ４）に対して９７．０％であった。
【０１１８】
製造例１３
製造例５で得られた配位子（Ｌ５）４．２３ｇ（０．０１２モル）を温ＤＭＦ３６ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール３０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体４．３８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ５）に対して９５．９％であった。
【０１１９】
製造例１４
製造例６で得られた配位子（Ｌ６）４．０７ｇ（０．０１２モル）を温ＤＭＦ３６ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール３０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体４．２６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ６）に対して９６．５％であった。
【０１２０】
製造例１５
製造例７で得られた配位子（Ｌ７）３．２１ｇ（０．０１２モル）を温ＤＭＦ２４ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール２０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体３．０５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ７）に対して８５．９％であった。
【０１２１】
製造例１６
製造例８で得られた配位子（Ｌ８）３．９８ｇ（０．０１２モル）を温ＤＭＦ３６ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール３０ｇを滴下した。生じた析出物を濾別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、橙色のコバルト錯体３．８７ｇを得た。収率は配位子（Ｌ８）に対して８９．５％であった。
【０１２２】
製造例１７
製造例９において酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）に代えて、酢酸銅・１水和物１．２０ｇ（０．００６モル）を用いた以外は製造例９と同様にして、灰緑色の銅錯体２．９８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して７８．９％であった。
【０１２３】
製造例１８
製造例９において酢酸コバルト・４水和物１．５０ｇ（０．００６モル）に代えて、酢酸ニッケル・４水和物１．４９ｇ（０．００６モル）を用いた以外は製造例１３と同様にして、赤紫色のニッケル錯体２．８２ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して７５．４％であった。
【０１２４】
《ポリエーテルスルホン樹脂に対する安定化効果》
（実施例１）
ポリエーテルスルホン樹脂（住友化学株式会社製, スミカエクセルＰＥＳ  ４１００Ｐ還元粘度０．４１）１００．０重量部と製造例９で得られたコバルト錯体０．５重量部、およびジクロロメタン９００．０重量部を混合した。得られたポリエーテルスルホン樹脂組成物をバーコーター（日本シーダース株式会社製）を用いてポリエチレンテレフタレート基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気下において５分間予備乾燥させた後に、６０℃で５分間乾燥した。その後、基材を取り除き、ポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。尚、コーティング膜の膜厚は１７μｍであった。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１２５】
（実施例２）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、コバルト錯体０．０１重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１２６】
（実施例３）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、コバルト錯体０．０３重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１２７】
（実施例４）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、コバルト錯体３．０重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１２８】
（実施例５）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１０で得られたコバルト錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１２９】
（実施例６）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１１で得られたコバルト錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３０】
（実施例７）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１２で得られたコバルト錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３１】
（実施例８）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１３で得られたコバルト錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３２】
（実施例９）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１４で得られたコバルト錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３３】
（実施例１０）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１５で得られたコバルト錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３４】
（実施例１１）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１６で得られたコバルト錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３５】
（実施例１２）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１７で得られた銅錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３６】
（実施例１３）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、製造例１８で得られたニッケル錯体０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３７】
（比較例１）
実施例１において安定化剤を使用しないとした以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。
このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３８】
（比較例２）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、２−（２−ヒドロキシ−５-tert−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール  ０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１３９】
（比較例３）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル  ０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１４０】
（比較例４）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、メタクリル酸２，２，６，６−テトラメチルピペリジル  ０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１４１】
（比較例５）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、２−［｛３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル｝メチル］−２−ブチルプロパン二酸ビス［１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル］  ０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１４２】
（比較例６）
実施例１においてコバルト錯体０．５重量部に代えて、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロけい皮酸）エチレン（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１，４−ジイル）  ０．５重量部を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。このポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１４３】
（比較例７）
ポリエーテルスルホン樹脂（住友化学株式会社製、スミカエクセルＰＥＳ、４１００Ｐ、還元粘度０．４１）１００．０重量部と酸化セリウム（関東化学株式会社製）０．５重量部、およびジクロロメタン９００．０重量部を遊星型ボールミル（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ  ｌｉｎｅ  Ｐ−７）を用いて６００ｒｐｍで１分間分散した後、１０分間冷却し、さらに１１００ｒｐｍで１分間分散処理を行い、酸化セリウム分散液を得た。分散メディアとしては、０．１ｍｍφのジルコニアボール（ニッカトー製の商品名ＹＴＺボール）５０ｇを使用した。得られた酸化セリウム分散液をバーコーター（日本シーダース株式会社製）を用いてポリエチレンテレフタレート基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気下において５分間予備乾燥させた後に、６０℃で５分間乾燥した。その後、基材を取り除き、ポリエーテルスルホン樹脂薄膜を得た。この酸化セリウム分散−ポリエーテルスルホン樹脂薄膜を後記の方法により評価した。
【０１４４】
［耐熱分解性（５％重量減少温度）］
実施例で使用された錯体（製造例９〜１８で得られた錯体）及び比較例２〜６で使用された市販品の劣化防止剤について、ＴＧ/ＤＴＡ６２００（ＳＩＩ社製）を用いて、昇温条件４０〜５００℃、１０℃/ｍｉｎで、５％重量減少温度を測定した。
【０１４５】
【表２】
2014025029.tif 000016
【０１４６】
［耐光分解性（平均分子量）］
得られた各樹脂薄膜を、スガ試験機株式会社製キセノンウェザーメーターの試験炉内に設置し、放射照度６０Ｗ／ｍ２の光を１００時間照射した。照射前および照射後の樹脂薄膜について、ジメチルスルホキシドを溶媒とするゲル・パーミュエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、ポリエチレンングリコール換算値として、重量平均分子量（Ｍｗ）を求め、以下の式により重量平均分子量変化率（％）を算出した。
【０１４７】
【数１】
2014025029.tif 000017
【０１４８】
［透明性］
得られた各樹脂薄膜を、日本電色工業株式会社製ヘイズメーター（ＮＤＨ−２０００）を用いて濁度（ヘイズ）を測定した。
【０１４９】
［耐光変色性（色相変化）］
得られた各樹脂薄膜の耐光分解性試験の前後の色相変化を目視で確認した。
【０１５０】
【表３】
2014025029.tif 000018
【０１５１】
【表４】
2014025029.tif 000019
【産業上の利用可能性】
【０１５２】
本発明により、ポリエーテルスルホン樹脂に対し、分解温度が高く、少量の添加量で耐光分解性および耐光変色性などの光安定性を向上させる効果があり、かつポリエーテルスルホン樹脂に溶解するために透明性が高いポリエーテルスルホン樹脂用安定化剤が提供できる。また、該安定化剤を含有する、優れた光安定性を持続することができる透明なポリエーテルスルホン樹脂組成物、および該樹脂組成物から得られる樹脂部材が提供できる。