(57)【要約】【課題】本発明の目的は、透明電極層の有効面積を広げて薄膜太陽電池の出力を増加させるとともに、第２の貫通孔における絶縁性を確保して薄膜太陽電池を製造する際の不良率を低下させることが可能な薄膜太陽電池及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】本発明の薄膜太陽電池１では、第２の貫通孔８の周囲において透明電極５を刃体１２を用いて分離溝１１を用いて分離することで、発電領域内の透明電極層５と第２の背面電極層６とが電気的に絶縁されている。【選択図】  図３
2014060356.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基板の一方の面には、少なくとも一部にモリブデンを含む裏面電極層と光電変換層と透明電極層とが当該順で積層され、前記絶縁性基板の他方の面には、第１の背面電極層と第２の背面電極層とが当該順で積層され、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成することにより前記絶縁性基板が複数のユニットセルに分割され、前記透明電極層と前記第２の背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第１の貫通孔を介して電気的に接続され、前記裏面電極層と前記第１の背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第２の貫通孔を介して電気的に接続され、隣接するユニットセルが直列接続されている薄膜太陽電池において、
前記第２の貫通孔の周囲の前記透明電極層が、刃体の走査による溝により分離されており、前記透明電極層と前記第２の背面電極層とが、電気的に絶縁されていることを特徴とする薄膜太陽電池。
【請求項２】
絶縁性基板に第２の貫通孔を形成するステップと、
前記絶縁性基板の一方の面に少なくとも一部にモリブデンを含む裏面電極層を形成するとともに、前記絶縁性基板の他方の面に第１の背面電極層を形成するステップと、
前記裏面電極層及び前記第１の背面電極層を形成した後に、前記絶縁性基板に第１の貫通孔を形成するステップと、
前記絶縁性基板の一方の面側から光電変換層と透明電極層とを当該順で積層するとともに、前記絶縁性基板の他方の面側から第２の背面電極層を積層するステップと、
前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成して、前記絶縁性基板を複数のユニットセルに分割するステップと
少なくとも前記透明電極層に刃体を走査させて、該透明電極層を前記第２の貫通孔の周囲で分割し、前記透明電極と前記第２の背面電極とを電気的に絶縁するステップと、
を含むことを特徴とする薄膜太陽電池の製造方法。
【請求項３】
前記透明電極層の分離を、軸の周りに前記刃体を回転させて行うことを特徴とする請求項２に記載の薄膜太陽電池の製造方法
【請求項４】
前記透明電極層の分離を、同一の軸の周りに刃体を複数個設けた刃体ツールを用いて行うことを特徴とする請求項２または３に記載の薄膜太陽電池の製造方法
【請求項５】
前記刃体ツールを複数個備えた加工部を設けて加工することを特徴とする請求項４に記載の薄膜太陽電池の製造方法
【請求項６】
前記絶縁性基板が、フィルム材料から形成されていることを特徴とする請求項２ないし５のいずれか一項に記載の薄膜太陽電池の製造方法。
【請求項７】
前記フィルム材料が、ポリイミド又はポリアミドイミド又はポリエチレンナフタレート、の耐熱性フィルムであることを特徴とする請求項６に記載の薄膜太陽電池の製造方法。
【請求項８】
軸の中心の周囲に複数の刃体を設けた刃体ツールと、前記刃体ツールを複数個備えた加工部と、前記加工部が備え付けられた、加工部の移動用の軸とを備え、前記加工部の移動用の軸を間歇的に移動させて、薄膜太陽電池に設けられた第２の貫通孔の周囲に溝を設けることを特徴とする請求項２に記載の薄膜太陽電池の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム基板上に金属電極層と光電変換層と透明電極層とを積層してなる薄膜太陽電池とその製造方法に関するものであり、特に金属電極層の少なくとも一部にモリブデンを用いた薄膜太陽電池に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜太陽電池には、ＳＣＡＦ（Ｓｅｒｉｅｓ  Ｃｏｎｎｅｃｔｉｏｎ  ｔｈｒｏｕｇｈ  Ａｐｅｒｔｕｒｅｓ  ｆｏｒｍｅｄ  ｏｎ  Ｆｉｌｍ）と呼ばれる直列接続構造を用いたものがある。この直列接続構造では、レーザーパターニング処理により複数の領域に分割された薄膜太陽電池が形成され、基板を貫通する複数の貫通孔によって分割された複数の薄膜太陽電池を直列接続するようになっている。
図５は、従来のＳＣＡＦ型薄膜太陽電池の平面図である。また、図６は、図５のＡ−Ａ線断面図であり、図７は、図５のＢ−Ｂ線断面図である。
【０００３】
図６及び図７に示すように、従来のＳＣＡＦ型薄膜太陽電池２１は、絶縁性基板２２を備えている。絶縁性基板２２の両面２２ａ，２２ｂには、金属電極層２３が形成されている。ここで、絶縁性基板２２の一方の面２２ａ上の金属電極層２３は、裏面電極層２３ａとして機能し、絶縁性基板２２の他方の面２２ｂ上の金属電極層２３は、第１の背面電極層２３ｂとして機能する。
【０００４】
また、図６及び図７に示すように、裏面電極層２３ａには、光電変換層２４と透明電極層２５とが当該順で積層されている。一方、第１の背面電極層２３ｂには、第２の背面電極層２６が積層されている。
【０００５】
また、図６及び図７に示すように、絶縁性基板２２には、絶縁性基板２２を貫通する第１の貫通孔２７が設けられ、透明電極層２４と第２の背面電極層２６とが、第１の貫通孔２７を介して電気的に接続されている。また、図６に示すように、絶縁性基板２２には、絶縁性基板２２を貫通する第２の貫通孔２８が設けられ、裏面電極層２３ａと第１の背面電極層２３ｂとが、第２の貫通孔２８を介して電気的に接続されている。
【０００６】
図５に示すように、絶縁性基板２２の一方の面２２ａに積層された層は、第１のパターニングライン２９で分割され、絶縁性基板２２の他方の面２２ｂに積層された層は、第２のパターニングライン３０で分割されている。これにより、絶縁性基板２２上の積層された層が、複数のユニットセルに分割される。
【０００７】
ここで、第１のパターニングライン２９及び第２パターニングライン３０は、絶縁性基板２２において互い違いに配置されている。絶縁性基板２２の両面２２ａ，２２ｂの電極層の分離位置を互いにずらし、且つ絶縁性基板２２の両面２２ａ，２２ｂの電極層を第２の貫通孔２８で接続することにより、隣接するユニットセルが直列で接続される構造となっている。
【０００８】
一方、特許文献１には、従来のＳＣＡＦ型薄膜太陽電池の別の例が開示されている。特許文献１の薄膜太陽電池において、電気絶縁性樹脂からなるフィルム基板の一方の面には、第１電極層と、光電変換層と、第２電極層とが積層され、フィルム基板の反対側（裏面）には、第３電極層と、第４電極層とが積層されている。そして接続孔の周囲において、透明電極が接続孔を囲う形で、レーザ光の照射により、分離溝が形成されている。
【０００９】
特許文献２には、薄膜太陽電池を歩留まりよく製造するために、刃先により電極分離用の溝を加工することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】ＷＯ２０１２／１０５０７９  Ａ１
【特許文献２】特開２０１０−２０７９４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上述の図５及び特許文献１の構成では、以下のような問題が生じる。
まず、図５の構成では、第２の貫通孔２８において透明電極層２５と第２の背面電極層２６とが接触しないように、透明電極層２６を形成する際には、第２の貫通孔２８の近傍にマスク処理を行っていた。したがって、図７（ｂ）に示すように、第２の貫通孔２８の近傍には、透明電極層２５が形成されない。そのため、従来の構成では、透明電極層２５の有効面積が制限されていた。第２の貫通孔２８は、第１及び第２の背面電極層２３ｂ，２６の電気抵抗を考慮して一定間隔をあけて配置される。よって、絶縁性基板２２上において透明電極層２５が形成できない領域が一定の間隔で設けられることになる。したがって、透明電極層２５の有効面積が小さくなり、これに比例して薄膜太陽電池２１の出力も低下してしまうという問題があった。
【００１２】
また、第２の貫通孔２８の近傍をマスク処理するので、絶縁性基板２２上の透明電極層２５などと、マスクとが接触することにより、絶縁性基板２２上の透明電極層２５などが損傷する可能性があった。このように絶縁性基板２２上にある層が損傷すると、リーク電流などが増加することになり、薄膜太陽電池２１を製造する際の不良率が増加してしまうという問題もあった。
【００１３】
また、特許文献１に開示された構成では、接続孔の周囲にレーザで分離溝を形成している。このレーザで分離溝を形成する場合、透明電極の厚さが１００ｎｍ以下と薄い場合には加工は可能である。しかし、例えば化合物系の太陽電池のように膜厚が厚くなり、２００〜２０００ｎｍになると必要なレーザのエネルギーが高くなり加工装置の価格が高くなる、制御するエネルギーの精度を高くする必要が生じる、などの問題が生ずる。
【００１４】
一方でＣＩＧＳ太陽電池については特許文献２に示すように、分離ラインの加工を刃状の加工部を走査して行われてきたが、直線状の加工にのみ使用されてきた。
本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、接続孔周囲の透明電極層に分離溝を形成して有効面積を広げて薄膜太陽電池の出力を増加させる手段として、簡易的に構成できる薄膜太陽電池とその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記の課題を解決するために、本発明によれば、
絶縁性基板の一方の面には、少なくとも一部にモリブデンを含む裏面電極層と光電変換層と透明電極層とが当該順で積層され、前記絶縁性基板の他方の面には、第１の背面電極層と第２の背面電極層とが当該順で積層され、前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成することにより前記絶縁性基板が複数のユニットセルに分割され、前記透明電極層と前記第２の背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第１の貫通孔を介して電気的に接続され、前記裏面電極層と前記第１の背面電極層とが、前記絶縁性基板を貫通する第２の貫通孔を介して電気的に接続され、隣接するユニットセルが直列接続されている薄膜太陽電池において、
前記第２の貫通孔の周囲の前記透明電極層が、刃体の走査（回転）による溝により分離されており、前記透明電極層と前記第２の背面電極層とが、電気的に絶縁されていることとする。
【００１６】
また、本発明によれば、
絶縁性基板に第２の貫通孔を形成するステップと、
前記絶縁性基板の一方の面に少なくとも一部にモリブデンを含む裏面電極層を形成するとともに、前記絶縁性基板の他方の面に第１の背面電極層を形成するステップと、
前記裏面電極層及び前記第１の背面電極層を形成した後に、前記絶縁性基板に第１の貫通孔を形成するステップと、
前記絶縁性基板の一方の面側から光電変換層と透明電極層とを当該順で積層するとともに、前記絶縁性基板の他方の面側から第２の背面電極層を積層するステップと、
前記絶縁性基板の両面に積層した層に対して互い違いにパターニングラインを形成して、前記絶縁性基板を複数のユニットセルに分割するステップと、
少なくとも前記透明電極層に刃体を走査（回転）させて、該透明電極層を前記第２の貫通孔の周囲で分割し、前記透明電極と前記第２の背面電極とを電気的に絶縁するステップと、
を含むこととする。
この製造方法は、従来のレーザを用いた方法ではなく、刃体を貫通孔周囲を走査することによって透明電極を除去して行うものである。刃体はモリブデンが硬いため（モリブデンのビッカース硬度は１５３０ＭＰａである）に電極上部の透明電極及び発電層のみを一部除去して加工できる。
【００１７】
また本発明の薄膜太陽電池の製造方法によれば、前記刃体を刃体ツールの軸の周囲を回転させると共に、太陽電池に押し付けて行う。
更に本発明の薄膜太陽電池の製造方法によれば、前記刃体が複数、刃体ツールの同一の軸の周囲に設置されていることを特徴とする。
【００１８】
また本発明の薄膜太陽電池の製造方法によれば、刃体ツールを複数個備えた加工部を設け、複数の加工を同時にすることで処理を更に高速化する。
また、加工部を、加工部の移動用の軸を用いて、ステッピングロール方式により、間歇的に移動させることにより、溝の穿孔を行う。なお、間歇的に移動する際には、加工部が絶縁性基板にぶつからないように、加工部を退避させておく。
【００１９】
また、本発明の薄膜太陽電池によれば、前記光電変換層は、アモルファス半導体或いは微結晶を含むアモルファス半導体、化合物系（カルコパイライト系）の太陽電池のいずれかである。
【００２０】
また、本発明の薄膜太陽電池の製造方法によれば、前記絶縁性基板が、フィルム材料から形成されている。
また、本発明の薄膜太陽電池の製造方法によれば、前記フィルム材料が、ポリイミド又はポリアミドイミド又はポリエチレンナフタレートの耐熱性フィルムである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る薄膜太陽電池によれば、透明電極を、第２の貫通孔の周囲で、刃体を用いて分離することで、透明電極層の有効面積を広げて薄膜太陽電池の出力を増加させることができる。
【００２２】
この構成を採用することで加工溝を裏面電極部分で止めることが容易に出来る。また更にレーザ光で加工溝を形成する場合のような、光電変換層の熱ダメージによるショートも防ぐこともできる。
【００２３】
また、本発明の薄膜太陽電池によれば、前記絶縁性基板が、フィルム材料から形成されているので、搬送用のロールで絶縁性基板を搬送する方式（例えば、ロールツーロール方式、ステッピングロール方式）で製造することができ、効率的に薄膜太陽電池の製造を行うことができる。
【００２４】
また、本発明の薄膜太陽電池の製造方法によれば、透明電極が第２の貫通孔を囲う形で分離されることで、透明電極と裏面電極が絶縁する工程を含むので、従来のように第２の貫通孔の近傍にマスク処理を行う必要がなくなり、薄膜太陽電池の製造時の発電面積拡大効果が向上する。  加えて、第２の貫通孔の近傍にマスク処理を行う必要がなくなるので、マスクと基板上の層とが接触して基板上の層が損傷することもなくなる。これにより、薄膜太陽電池においてリーク電流が増加することもなくなり、薄膜太陽電池を製造する際の不良率を低下させることができる。
【００２５】
しかも、第２の貫通孔の周囲で透明電極が分離されて、発電領域下における透明電極層と背面電極層が分離されるため、第２の貫通孔における絶縁性も確保することができる。
加工には刃体を用いることで溝を発電層までで止め、更に発電層への熱によるダメージを抑制することができる。
【００２６】
また穴の周囲を分離するため、軸の周りを刃体を回転させて加工すると良い。更には複数の刃体を同一の軸の周りに設けた刃体ツールを回転させて加工時間を短縮することができる。
【００２７】
刃体ツールを複数個設けることでも加工時間を短縮することができる。
加えて、刃体ツールを複数個備えた加工部を、加工部の移動用の軸を用いて、ステッピングロール方式により、間歇的に移動させることにより、多数の溝の穿孔を、より短時間で行うことが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る薄膜太陽電池の平面図である。
【図２】（ａ）は、図１のＡ−Ａ線断面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＣの拡大図である。
【図３】（ａ）は、図１のＢ−Ｂ線断面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＤの拡大図である。
【図４】本発明の実施形態に係る薄膜太陽電池を製造する際のフローチャートである。
【図５】従来の薄膜太陽電池の平面図である。
【図６】（ａ）は、図５のＡ−Ａ線断面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＣの拡大図である。
【図７】（ａ）は、図５のＢ−Ｂ線断面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＤの拡大図である。
【図８】刃体を複数備えた刃体ツールを示す斜視図である。
【図９】複数個の刃体ツールを備えた加工部を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の実施形態に係る薄膜太陽電池を、図面を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係る薄膜太陽電池の平面図である。図２は、図１のＡ−Ａ線断面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＣの拡大図である。また、図３は、図１のＢ−Ｂ線断面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＤの拡大図である。
［第１実施形態］
図１及び図２に示すように、本実施形態に係る薄膜太陽電池１は、絶縁性基板２を備えている。この絶縁性基板２は、フィルム材料から形成されており、例えば、ポリイミドやポリアミドイミド又はポリエチレンナフタレート、あるいはアラミド等の材料から形成されている。
【００３０】
図２に示すように、絶縁性基板２の表面２ａには、Ｍｏ／Ａｇ／ＺｎＯ等の少なくとも一部にＭｏ層を備える、金属からなる裏面電極層３ａが形成されている。また反対面の２ｂにはＡｇ、Ａｇ／ＺｎＯやＡｌ／ＺｎＯなどからなる背面電極層３ｂが形成されている。裏面電極層３ａがモリブデンのみから成る場合、その厚さは、必要な抵抗を基に設計する必要があるが、０．１μｍ〜１．０μｍである。ただ、ＣＩＧＳ太陽電池のように、モリブデンの一部がセレン化されている時は、セレン化されている部分の厚さは０．２μｍ程度なので、モリブデン電極の厚さは、０．３μｍ〜１．２μｍ程度である。金属電極層３ａがＭｏ／Ａｇ／ＺｎＯ等の場合は、ＣＩＧＳ太陽電池の場合、その総厚は０．５μｍ〜１．０μｍであり、その場合のモリブデン部分の厚さは０．３μｍ〜０．５μｍである。モリブデン層のうち、セレン化された部分は強度的に弱いので、刃体１２により除去される。金属電極層３ａは、太陽電池がＣＩＧＳではない場合には、総厚は０．３μｍ〜１．０μｍで、モリブデン部分の厚さは０．１μｍ〜０．３μｍである。
【００３１】
以下の実施例では、裏面電極が、平面視で見て、薄膜太陽電池の全ての領域にモリブデン層が存在する場合について述べる。
また、図２に示すように、絶縁性基板２の一方の面２ａ上にある裏面電極層３ａには、光電変換層４と透明電極層５とが当該順で積層されている。ここで、光電変換層４としては、アモルファス半導体や化合物半導体、色素増感形太陽電池、又は有機太陽電池を用いることができる。
【００３２】
一方、絶縁性基板２の他方の面２ｂ上にある第１の背面電極層３ｂには、第２の背面電極層６が積層されている。
図１に示すように、絶縁性基板２の一方の面２ａ上に積層された層（裏面電極層３ａ、光電変換層４、透明電極層５）は、レーザ加工による第１のパターニングライン９により複数に分割されている。
【００３３】
また、図１及び図３に示すように、絶縁性基板２の他方の面２ｂ上に積層された層（第１の背面電極層３ｂ、第２の背面電極層６）も同様に、レーザ加工による第２のパターニングライン１０により複数に分割されている。ここで、第１のパターニングライン９及び第２パターニングライン１０は、絶縁性基板２において互い違いに配置されている。
【００３４】
図１及び図２に示すように、絶縁性基板２には、絶縁性基板２を貫通する第１の貫通孔７が設けられている。透明電極層５と第２の背面電極層６とは、第１の貫通孔７の側壁部７ａ上で互いに重なり合うような形で接続している。これにより、絶縁性基板２の一方の面２ａ上の各層と他方の面２ｂ上の各層とからなるユニットセル（単位太陽電池）が形成されている。
【００３５】
また、図１及び図３に示すように、絶縁性基板２には、絶縁性基板２を貫通する第２の貫通孔８が設けられている。裏面電極層３ａと第１の背面電極層３ｂとは、第２の貫通孔８の側壁部８ａを介して電気的に接続されている。すなわち、隣接し合うユニットセルが第２の貫通孔８により電気的に接続されている。詳細には、第１及び第２の貫通孔７，８は、第１及び第２の背面電極層３ｂ，６→第１の貫通孔７→透明電極層５→光電変換層４→裏面電極層３ａ→第２の貫通孔８→第１の背面電極層３ｂの順に接続するために利用されている。
【００３６】
以上のように、隣接し合うユニットセルを電気的に直列接続することにより、ＳＣＡＦ構造の薄膜太陽電池１が構成されている。
本実施形態の特徴としては、図３に示すように、透明電極５の発電部は第２の貫通孔８の周囲において刃体１２により形成された分離溝１１において分離されている。
【００３７】
以上のような構成から、透明電極層５と第２の背面電極層６とは、第２の貫通孔８周囲の透明電極５に設けられた分離溝１１により電気的に絶縁されている。
次に、本発明の実施形態に係る薄膜太陽電池の製造方法について図面を参照して説明する。図４は、本実施形態に係る薄膜太陽電池１を製造する際のフローチャートである。
【００３８】
本実施形態に係る薄膜太陽電池１は、絶縁性基板２として上述したようなフィルム材料を用いる。薄膜太陽電池１を製造する方法としては、ロールツーロール方式やインクジェットによる印刷技術を用いる。例えば、ロールツーロール方式は、フィルム材料の基板が複数のロール（搬送手段）によって搬送され、連続して配置された成膜室内において基板上に連続的に薄膜を成膜する方式である。
【００３９】
薄膜太陽電池１を製造する際には、図４に示すように、まずステップＳ１において、絶縁性基板２の前処理を行う。具体的には、絶縁性基板２をプラズマ中に曝す事によって表面を洗浄する等の前処理を行なう。
【００４０】
次に、ステップＳ２において、絶縁性基板２に第２の貫通孔８を形成する。第２の貫通孔８はパンチング（穿孔法）により形成する。第２の貫通孔８の形状としては、直径が１ｍｍの円形としている。第２の貫通孔８は、円形の直径を０．０５〜１ｍｍの範囲で設定され、穿孔数は設計に応じて調整することができる。
【００４１】
次に、ステップＳ３において、スパッタリング処理を行うことにより絶縁性基板２の両面２ａ，２ｂに裏面電極層３ａ及び第１の背面電極層３ｂを形成する。この際、裏面電極層３ａ及び第１の背面電極層３ｂが第２の貫通孔８を介して電気的に接続することになる。
【００４２】
その後、ステップＳ４において、絶縁性基板２の受光面側に形成した層をレーザ加工により直線状に除去して１次パターニングライン（図示せず）を形成する。この際、絶縁性基板２の両面２ａ，２ｂに形成するラインは、互いにずらして形成される。
【００４３】
そして、ステップＳ５において、絶縁性基板２に第１の貫通孔７を形成する。第１の貫通孔７はパンチングにより形成する。
そして、ステップＳ６において、絶縁性基板２の裏面電極層３ａ上に光電変換層４を形成し、その後、ステップＳ７において、光電変換層４上に更に透明電極層５を形成する。
【００４４】
次に、ステップＳ８において、絶縁性基板２の第１の背面電極層３ｂ上に第２の背面電極層６を形成する。
次に、ステップＳ９において、ステップＳ４で形成した１次パターニングライン上の光電変換層４及び透明電極層５を、レーザ加工により再度直線状に除去して第１のパターニングライン９を形成する。
【００４５】
さらに、ステップＳ１０において、第２の背面電極層６を、レーザ加工により直線状に除去して第２のパターニングライン１０を形成する。    第１のパターニングラインと第２のパターニングラインとは、互い違いに形成されている。
更に、ステップＳ１１において、ステップＳ７において形成した透明電極をステップＳ２で形成した第２貫通孔周囲において、刃体１２により分離することで、分離溝１１で囲われた部分の外側の透明電極と電極３が分離され、第１及び第２のパターニングライン９，１０により絶縁性基板２上の層が複数のユニットセルに分離され、薄膜太陽電池１の直列接続が完成する。
刃体１２による分離溝１１の加工について、図８と図９により説明する。
刃体１２により第２の貫通孔の周囲に形成される溝１１の幅は、３０〜１００μｍである。刃体１２の刃先の幅もこの幅と同程度である。
この溝は貫通孔の周囲を囲って設けるため、加工は刃体ツール１３の軸の周りを回転させて行うと良い。更には図８に示すように同一の軸の周りに複数の刃体１２（図８の例では、刃体ツール１３は、円周上に刃体１２が３個設けられたものである）を設けた刃体ツール１３を設けることで、加工速度を上げることができる。
【００４６】
更に図９に示すように刃体ツール１３を複数個設けた加工部１４を設けることで加工速度をより向上させることができ、一度に複数の穿溝を行うことができる。
図９においては、複数の刃体ツール１３を備えた加工部１４が存在し、その加工部１４が加工部の移動用軸１５により移動できるように構成されている。したがって、この加工部の移動用軸１５を間歇的に駆動（ステッピングロール方式）すれば、第２の貫通孔の周囲に穿溝を連続的に形成することができる。
【００４７】
本発明の第１実施形態に係わる薄膜太陽電池によれば、刃体１２により、透明電極層５が第２の貫通孔８の周囲において、刃体１２により分割されて成るので、従来のようなレーザやマスクの使用が不要になり、薄膜太陽電池の有効発電面積が向上する。本構成は裏面電極３ａの少なくとも一部にモリブデンを含んでいるので、特にＣＩＧＳ太陽電池やＣＩＳ薄膜太陽電池において有用である。
【００４８】
アモルファス系薄膜太陽電池などの場合は、裏面電極３ａを、平面視で見て、第２の貫通孔８の周囲の部分のみ、モリブデン層で形成するようにしても良いが、実際に部分的にモリブデン層を形成することは難しい。
【００４９】
本発明の第１実施形態に係る薄膜太陽電池１の製造方法によれば、透明電極層５を貫通孔８の周囲で、刃体１２により分離する工程を含むので、従来のように第２の貫通孔の近傍にマスク処理を行う必要がなくなり、薄膜太陽電池１の製造時の歩留まりが向上する。本方法も裏面電極の少なくとも一部にモリブデンを含んでいるので、特にＣＩＧＳ太陽電池の製造方法において有用である。
加えて、第２の貫通孔８の近傍にマスク処理を行う必要がなくなるので、マスクと絶縁性基板２上の層とが接触して絶縁性基板２上の層が損傷することもなくなる。これにより、薄膜太陽電池１においてリーク電流が増加することもなくなり、薄膜太陽電池１を製造する際の不良率を低下させることができる。
【００５０】
本発明では、第２の貫通孔の周囲に刃体１２を走査して行うので、周囲の層の熱によるダメージを抑制し、更には、ビッカース硬度が１５３０ＭＰａである硬いモリブデンにおいて刃体１２が止まることから、容易に加工ができるという利点も有る。
【００５１】
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は既述の実施形態に限定されるものでなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及び変更が可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１  薄膜太陽電池
２  絶縁性基板
３  金属電極層
３ａ  裏面電極層
３ｂ  第１の背面電極層
４  光電変換層
５  透明電極層
６  第２の背面電極層
７  第１の貫通孔
８  第２の貫通孔
９  第１のパターニングライン
１０  第２のパターニングライン
１１  溝
１２  刃体
１３  刃体ツール
１４  加工部
１５  加工部の移動用軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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