(57)【要約】【課題】基板に成膜可能な成膜装置を提供する。または、基板に成膜可能な成膜方法を提供する。【解決手段】基板を支持する支持部材と、支持部材に近接し、互いに離間して設けられた複数のノズルと、を有する。そして、複数のノズルは気化された材料を噴出し、材料が堆積する部分と堆積しない部分とが形成される。【選択図】図１
2014075301.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性の基板を支持する支持部材と、
支持部材を搬送する搬送機構と、
支持部材に近接し、互いに離間して設けられた複数のノズルと、を有し、
複数のノズルは、気化された材料を噴出し、材料が堆積する部分と堆積しない部分とが形成される成膜装置。
【請求項２】
長尺の可撓性基板に外接し、前記可撓性基板を回転方向に送る第１の成膜ドラムと、
第１の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有し、前記可撓性基板に対向配置された第１の蒸発源と、
前記可撓性基板の被成膜面に外接し、前記可撓性基板を屈曲させる中間ロールと、を有し、
前記中間ロールは、前記ノズルから供給された材料が可撓性基板に被着した領域と接しないように凹溝が設けられていることを特徴とする成膜装置。
【請求項３】
長尺の可撓性基板に外接し、可撓性基板を回転方向に送る第１の成膜ドラムと、
第１の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有し、前記可撓性基板に対向配置された第１の蒸発源と、
前記可撓性基板の被成膜面に外接し、前記可撓性基板を屈曲させる中間ロールと、
前記の可撓性基板に外接し、前記可撓性基板を回転方向に送る第２の成膜ドラムと、
第２の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有し、前記可撓性基板に対向配置された第１の蒸発源と、を有し、
前記中間ロールは、前記第１の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルから供給された材料が可撓性基板に被着した領域と接しないように凹溝が設けられていることを特徴とする成膜装置。
【請求項４】
前記第１の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有し、前記可撓性基板に対向配置された第２の蒸着源と、
前記第２の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有し、前記可撓性基板に対向配置された第２の蒸着源と、を有し、
前記第１の成膜ドラムの前記第２の蒸着源のノズルは、前記第１の成膜ドラムの前記第１の蒸着源のノズルから供給された材料が可撓性基板に被着した領域に重ねて被着するように配置され、
前記第２の成膜ドラムの前記第２の蒸着源のノズルは、前記第２の成膜ドラムの前記第１の蒸着源のノズルから供給された材料が可撓性基板に被着した領域に重ねて被着するように配置される、請求項３記載の成膜装置。
【請求項５】
請求項３記載の成膜装置を用いて、長尺の可撓性基板を前記第１の成膜ドラムに供給する第１のステップと、
材料を気化して、前記第１の成膜ドラムの前記第１の蒸着源の複数のノズルから噴出して、前記可撓性基板に成膜する第２のステップと、
中間ロールが、前記可撓性基板の前記材料が成膜された領域に接触しないように前記可撓性基板の被成膜面に外接し、前記可撓性基板を屈曲させて、前記第２の成膜ドラムに受け渡す第３のステップと、
材料を気化して、前記第２の成膜ドラムの前記第１の蒸着源の複数のノズルから噴出して、前記可撓性基板の前記材料が成膜されていない領域に成膜する第４のステップと、を有する成膜方法。
【請求項６】
請求項４記載の成膜装置を用いて、長尺の可撓性基板を前記第１の成膜ドラムに供給する第１のステップと、
第１の材料を気化して、前記第１の成膜ドラムの前記第１の蒸着源の複数のノズルから噴出して、前記可撓性基板に成膜し、第２の材料を気化して、前記第１の成膜ドラムの前記第２の蒸着源の複数のノズルから噴出して、前記可撓性基板の前記第１の材料が成膜された領域に重ねて成膜する第２のステップと、
前記中間ロールが、前記可撓性基板の前記第１の材料および前記第２の材料が成膜された領域に接触しないように前記可撓性基板の被成膜面に外接し、前記可撓性基板を屈曲させて、前記第２の成膜ドラムに受け渡す第３のステップと、
前記第３の材料を気化して、前記第２の成膜ドラムの前記第１の蒸着源の複数のノズルから噴出して、前記可撓性基板の前記第１の材料および前記第２の材料が成膜されていない領域に成膜し、第４の材料を気化して、前記第２の成膜ドラムの前記第２の蒸着源の複数のノズルから噴出して、前記第３の材料が成膜された領域に重ねて成膜する第４のステップと、を有する成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は成膜装置に関する。特に、有機化合物を含む層を巻き取り可能な基板に連続して成膜できる装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板までの距離が１５ｍｍ以下の位置に配置したノズルから気化材料を基板に向けて噴出して、有機発光層を形成する有機発光層形成工程を含む有機ＥＬ素子の製造装置が知られている（特許文献１）。
【０００３】
特許文献１に記載された成膜装置は複数のノズルを備え、それぞれのノズルは基板までの距離が一定になるように成膜ドラムの外周に沿って配置される。そして、ノズルから噴出される気化材料が、成膜ドラムの外周に巻き付けられた基板に成膜される。
【０００４】
また、一のノズルとその直後に他のノズルが、成膜ドラムの外周に沿って、基板が巻き取られる方向に配置された成膜装置が記載されている。この構成により、一のノズルが成膜した膜に重ねて、他のノズルが別の膜を成膜できる。その結果、ノズルの数と同じ数の層を当該基板に積層できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２８７９９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
気化した材料をノズルから噴出し続けるには、ノズルの温度を材料が気化する温度より高くしておく必要がある。ノズルの温度が低い場合、材料がノズルの噴出孔に析出または付着して、噴出孔が詰まってしまう場合がある。なお、有機化合物の気化温度は材料毎に異なるが、例えば有機ＥＬ素子に用いる材料の気化温度は３００℃程度である。
【０００７】
特許文献１に記載された成膜装置のノズルは、ノズルと基板の距離が１５ｍｍ以下となるように配置されている。これにより、ノズルは、材料だけでなく熱も基板に与えることになる。
【０００８】
巻き取り可能な基板が十分な耐熱性を備えていない場合、当該基板はノズルが放射する熱により熱せられ、損傷し、例えば平坦性が損なわれる場合がある。
【０００９】
本発明の一態様は、このような技術的背景のもとでなされたものである。したがって、基板に成膜可能な成膜装置を提供することを課題の一とする。または、基板に連続して成膜可能な成膜方法を提供することを課題の一とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の一態様は、ノズルが設けられていない部分が対向する基板が受ける輻射熱が、ノズルが設けられている部分に対向する基板が受ける輻射熱に比べて小さいことに着目した。そして、本明細書に例示される成膜装置の構成およびそれを用いた成膜方法に想到した。
【００１１】
本発明の一態様の成膜装置は、可撓性の基板を支持する支持部材と、支持部材に近接し、互いに離間して設けられた複数のノズルと、を有する。そして、複数のノズルは、気化された材料を噴出し、材料が堆積する部分と堆積しない部分とが形成される成膜装置である。
【００１２】
すなわち、本発明の一態様は、長尺の可撓性基板に外接し、可撓性基板を回転方向に送る第１の成膜ドラムと、第１の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有する成膜装置である。そして、可撓性基板に対向配置された第１の蒸発源と、可撓性基板の被成膜面に外接し、可撓性基板を屈曲させる中間ロールと、を有し、中間ロールは、ノズルから供給された材料が可撓性基板に被着した領域と接しないように凹溝が設けられていることを特徴とする。
【００１３】
これにより、基板が受ける輻射熱を低減させるようにする成膜方法であり、この成膜方法を適用できる成膜装置である。その結果、基板に成膜可能な成膜装置を提供できる。
【００１４】
また、本発明の一態様は、長尺の可撓性基板に外接し、可撓性基板を回転方向に送る第１の成膜ドラムと、第１の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有し、可撓性基板に対向配置された第１の蒸発源と、可撓性基板の被成膜面に外接し、可撓性基板を屈曲させる中間ロールと、の可撓性基板に外接し、可撓性基板を回転方向に送る第２の成膜ドラムと、第２の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有する成膜装置である。そして、可撓性基板に対向配置された第１の蒸発源と、を有し、中間ロールは、第１の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルから供給された材料が可撓性基板に被着した領域と接しないように凹溝が設けられていることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の一態様は、巻き取り可能な基板の供給装置と、供給装置が供給する基板の一方の面と外周が接する第１の成膜ドラムと、第１の成膜ドラムから供給される基板の他方の面と接する中間ロールと、中間ロールが供給する基板の一方の面と外周が接する第２の成膜ドラムと、第１の成膜ドラムの外周に対向する複数のノズルを備える１Ａ蒸着源と、第２の成膜ドラムの外周に対向する複数のノズルを備える２Ａ蒸着源と、を有する成膜装置である。そして、１Ａ蒸着源の複数のノズルは、基板の他方の面のストライプ状の領域に成膜するように間隔を空けて配置され、中間ロールは、ストライプ状の領域に接触しないように凹部を備え、２Ａ蒸着源の複数のノズルは、基板の１Ａ蒸着源が成膜しないストライプ状の領域に成膜するように間隔を空けて配置される。
【００１６】
上記本発明の一態様の成膜装置は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズルを備える蒸着源が配置された、第１の成膜ドラムと第２の成膜ドラムを有する。第２の成膜ドラムの蒸着源が備える複数のノズルは、第１の成膜ドラムの蒸着源が蒸着しないストライプ状の領域に成膜するように配置される。そして、第１の成膜ドラムと第２の成膜ドラムの間に、第１の成膜ドラムの蒸着源に成膜されるストライプ状の領域に接触しないように凹部が設けられた中間ロールを有する。
【００１７】
これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減できる。また、中間ロールは、基板の、第１の成膜ドラムの１Ａ蒸着源に成膜された領域に触れることなく、当該基板を第２の成膜ドラムに供給することができる。その結果、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜装置を提供できる。
【００１８】
また、本発明の一態様は、第１の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有し、可撓性基板に対向配置された第２の蒸着源と、第２の成膜ドラムの長手方向に所定の間隔をもって配置されたノズルを有し、可撓性基板に対向配置された第２の蒸着源と、を有する。そして、第１の成膜ドラムの第２の蒸着源のノズルは、第１の成膜ドラムの第１の蒸着源のノズルから供給された材料が可撓性基板に被着した領域に重ねて被着するように配置され、第２の成膜ドラムの第２の蒸着源のノズルは、第２の成膜ドラムの第１の蒸着源のノズルから供給された材料が可撓性基板に被着した領域に重ねて被着するように配置される、上記の成膜装置である。
【００１９】
また、本発明の一態様は、第１の成膜ドラムの外周に対向する複数のノズルを備える１Ｂ蒸着源と、第２の成膜ドラムの外周に対向する複数のノズルを備える２Ｂ蒸着源と、を有する上記の成膜装置である。そして、１Ｂ蒸着源のノズルは、１Ａ蒸着源が成膜するストライプ状の領域に重ねて成膜するように配置され、２Ｂ蒸着源のノズルは、２Ａ蒸着源が成膜するストライプ状の領域に重ねて成膜するように配置される。
【００２０】
上記本発明の一態様の成膜装置は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズルを備える１Ａ蒸着源と、１Ａ蒸着源が成膜するストライプ状の領域に重ねて成膜するように配置された複数のノズルを備える１Ｂ蒸着源を有する。これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減しながら、一の領域に複数の層を積層できる。
【００２１】
また、本発明の一態様は、上記の成膜装置を用いて、長尺の可撓性基板を第１の成膜ドラムに供給する第１のステップと、材料を気化して、第１の成膜ドラムの第１の蒸着源の複数のノズルから噴出して、可撓性基板に成膜する第２のステップと、中間ロールが、可撓性基板の材料が成膜された領域に接触しないように可撓性基板の被成膜面に外接し、可撓性基板を屈曲させて、第２の成膜ドラムに受け渡す第３のステップと、材料を気化して、第２の成膜ドラムの第１の蒸着源の複数のノズルから噴出して、可撓性基板の材料が成膜されていない領域に成膜する第４のステップと、を有する成膜方法である。
【００２２】
また、本発明の一態様は、上記の成膜装置の供給装置を用いて、巻き取り可能な基板を第１の成膜ドラムに供給する第１のステップと、材料を気化して、１Ａ蒸着源の複数のノズルから噴出して、基板の他方の面のストライプ状の領域に成膜する第２のステップと、中間ロールが、ストライプ状の領域に接触しないように基板を、第１の成膜ドラムから第２の成膜ドラムに受け渡す第３のステップと、材料を気化して、２Ａ蒸着源の複数のノズルから噴出して、基板の他方の面の１Ａ蒸着源が成膜しないストライプ状の領域に成膜する第４のステップと、を有する成膜方法である。
【００２３】
上記本発明の一態様の成膜方法は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズルを備え、同一の材料を成膜する蒸着源が配置された、第１の成膜ドラムと第２の成膜ドラムを用いる。
【００２４】
これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減できる。また、中間ロールは、基板の、第１の成膜ドラムの１Ａ蒸着源に成膜された領域に触れることなく、当該基板を第２の成膜ドラムに供給することができる。その結果、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜方法を提供できる。
【００２５】
また、本発明の一態様は、上記の成膜装置を用いて、長尺の可撓性基板を第１の成膜ドラムに供給する第１のステップと、第１の材料を気化して、第１の成膜ドラムの第１の蒸着源の複数のノズルから噴出して、可撓性基板に成膜し、第２の材料を気化して、第１の成膜ドラムの第２の蒸着源の複数のノズルから噴出して、可撓性基板の第１の材料が成膜された領域に重ねて成膜する第２のステップと、中間ロールが、可撓性基板の第１の材料および第２の材料が成膜された領域に接触しないように可撓性基板の被成膜面に外接し、可撓性基板を屈曲させて、第２の成膜ドラムに受け渡す第３のステップと、第３の材料を気化して、第２の成膜ドラムの第１の蒸着源の複数のノズルから噴出して、可撓性基板の第１の材料および第２の材料が成膜されていない領域に成膜し、第４の材料を気化して、第２の成膜ドラムの第２の蒸着源の複数のノズルから噴出して、第３の材料が成膜された領域に重ねて成膜する第４のステップと、を有する成膜方法である。
【００２６】
また、本発明の一態様は、上記の成膜装置の供給装置を用いて、巻き取り可能な基板を第１の成膜ドラムに供給する第１のステップと、第１の材料を気化して、１Ａ蒸着源の複数のノズルから噴出して、基板の他方の面のストライプ状の領域に成膜し、第２の材料を気化して、１Ｂ蒸着源の複数のノズルから噴出して、ストライプ状の領域に重ねて成膜する第２のステップと、中間ロールが、ストライプ状の領域に接触しないように基板を、第１の成膜ドラムから第２の成膜ドラムに受け渡す第３のステップと、第３の材料を気化して、２Ａ蒸着源の複数のノズルから噴出して、基板の他方の面の１Ａ蒸着源が成膜しないストライプ状の領域に成膜し、第４の材料を気化して、２Ｂ蒸着源の複数のノズルから噴出して、２Ａ蒸着源が成膜したストライプ状の領域に重ねて成膜する第４のステップと、を有する成膜方法である。
【００２７】
上記本発明の一態様の成膜方法は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズルを備え、異なる材料を成膜する蒸着源が配置された、第１の成膜ドラムと第２の成膜ドラムを用いる。これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減しながら、複数の層を積層できる。その結果、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜方法を提供できる。
【００２８】
なお、本明細書中において、発光装置とは画像表示デバイス、発光デバイス、もしくは光源（照明装置含む）を指す。また、発光装置にコネクター、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ）もしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）が取り付けられたモジュール、ＴＣＰの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光素子が形成された基板にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されたモジュールも全て発光装置に含むものとする。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の一態様によれば、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜装置を提供できる。または、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】実施の形態に係る成膜装置を説明する図。
【図２】実施の形態に係る成膜装置の蒸着源、ノズル並びに中間ロールの凹部の配置を説明する図。
【図３】実施の形態に係る成膜装置の蒸着源、ノズル並びに中間ロールの凹部の配置を説明する図。
【図４】実施の形態に係る成膜方法を説明する図。
【図５】実施の形態に係る成膜方法を説明する図。
【図６】実施の形態に係る成膜装置および発光装置の構成を説明する図。
【図７】実施の形態に係る発光装置の作成方法を説明する図。
【図８】実施の形態に係る成膜装置を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。
【００３２】
（実施の形態１）
本実施の形態では、本発明の一態様の成膜装置の構成について、図１乃至図３を参照しながら説明する。
【００３３】
図１（Ａ）は本発明の一態様の成膜装置の構造の側面図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）に示す成膜装置の底面図である。
【００３４】
図２（Ａ）は本発明の一態様の成膜装置が備える蒸着源（具体的には１Ａ蒸着源、２Ａ蒸着源、３Ａ蒸着源）のノズルの配置と、中間ロールに設けられた凹部の配置を説明する底面図であり、図２（Ｂ）は第１の成膜ドラムの外周に対向する複数の蒸着源のノズルの配置を説明する底面図であり、図２（Ｃ）は第２の成膜ドラムの外周に対向する複数の蒸着源のノズルの配置を説明する底面図である。
【００３５】
図３も本発明の一態様の成膜装置が備える蒸着源のノズルの配置と、中間ロールに設けられた凹部の配置を説明する図である。
【００３６】
本実施の形態で例示して説明する成膜装置１００は、巻き取り可能な基板１０の供給装置１４０と、供給装置１４０が供給する基板１０の一方の面と外周が接する第１の成膜ドラム１１０と、第１の成膜ドラム１１０が供給する基板１０の他方の面と接する中間ロール１３０と、中間ロール１３０が供給する基板１０の一方の面と外周が接する第２の成膜ドラム１２０と、第１の成膜ドラム１１０の外周に対向する複数のノズルを備える第１の成膜ドラムの第１の蒸着源（１Ａ蒸着源ともいう）１Ａと、第２の成膜ドラム１２０の外周に対向する複数のノズルを備える第２の成膜ドラムの第２の蒸着源（２Ａ蒸着源ともいう）２Ａと、を有する（図１（Ａ）および図１（Ｂ）参照）。
【００３７】
また、１Ａ蒸着源１Ａの複数のノズル（例えばノズル１Ａ＿１乃至ノズル１Ａ＿７）は、基板１０の他方の面のストライプ状の領域１１に成膜するように間隔を空けて配置される。また、中間ロール１３０は、ストライプ状の領域１１に接触しないように凹部１３１を備える（図２（Ａ）参照）。
【００３８】
また、第２の成膜ドラムの第１の蒸着源（２Ａ蒸着源ともいう）２Ａの複数のノズル（例えばノズル２Ａ＿１乃至ノズル２Ａ＿７）は、基板１０の１Ａ蒸着源１Ａにより成膜されないストライプ状の領域１２に成膜するように間隔を空けて配置される（図２（Ａ）参照）。
【００３９】
また、本実施の形態で例示して説明する成膜装置１００は、第２の成膜ドラム１２０が供給する基板１０の他方の面と接する中間ロール１７０と、中間ロール１７０が供給する基板１０の一方の面と外周が接する第３の成膜ドラム１６０と、第３の成膜ドラム１６０が供給する基板１０を巻き取る巻き取り装置１５０と、第３の成膜ドラム１６０の外周に対向する複数のノズルを備える第３の成膜ドラムの第１の蒸着源（３Ａ蒸着源ともいう）３Ａと、を有する（図１（Ａ）および２（Ｂ）参照）。
【００４０】
また、中間ロール１７０は、ストライプ状の領域１１および領域１２に接触しないように凹部１７１を備える（図２（Ａ）参照）。
【００４１】
また、３Ａ蒸着源３Ａの複数のノズル（例えばノズル３Ａ＿１乃至ノズル３Ａ＿７）は、基板１０の他方の面のストライプ状の領域１３に成膜するように間隔を空けて配置される。
【００４２】
本実施の形態で例示する成膜装置１００は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズル（例えばノズル１Ａ＿１乃至ノズル１Ａ＿７）を備える蒸着源（例えば１Ａ蒸着源１Ａ）が配置された第１の成膜ドラム１１０と、冷却用の間隔が設けられた複数のノズル（例えばノズル２Ａ＿１乃至ノズル２Ａ＿７）を備える蒸着源（例えば２Ａ蒸着源２Ａ）が配置された第２の成膜ドラム１２０を有する。
【００４３】
第２の成膜ドラム１２０の蒸着源（例えば２Ａ蒸着源２Ａ）が備える複数のノズル（例えばノズル２Ａ＿１乃至ノズル２Ａ＿７）は、第１の成膜ドラム１１０の１Ａ蒸着源１Ａが蒸着しないストライプ状の領域１２に成膜するように配置される。そして、第１の成膜ドラム１１０と第２の成膜ドラム１２０の間に、第１の成膜ドラム１１０の１Ａ蒸着源１Ａに成膜されるストライプ状の領域１１に接触しないように凹部１３１が設けられた中間ロール１３０を有する。
【００４４】
これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減できる。また、中間ロールは、基板の、第１の成膜ドラムの１Ａ蒸着源に成膜された領域に触れることなく、当該基板を第２の成膜ドラムに供給することができ、１Ａ蒸着源に成膜された膜の損傷を避けることができる。その結果、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜装置を提供できる。
【００４５】
以下に、本発明の一態様の成膜装置１００を構成する個々の要素について説明する。
【００４６】
《供給装置》
供給装置１４０は、巻き取り可能な基板１０を第１の成膜ドラム１１０に供給する装置である。
【００４７】
巻き取り可能な基板１０としては、可撓性を有し、連続して生産できるものが好ましい。例えばプラスチックフィルム、金属箔、厚さが数十μｍから百数十μｍのガラス板を挙げることができる。
【００４８】
発光素子を基板１０上に形成する場合は、発光素子への不純物の拡散を防止するために、基板１０はガスバリア性を備える基板が好ましい。ガスバリア性と可撓性を備える基板としては、上述のガラス板や金属箔の他、ガスバリア性を有する無機膜が形成されたプラスチックフィルムなどをその例に挙げることができる。
【００４９】
プラスチックフィルムにガスバリア性を有する無機膜を形成する方法の一例を説明する。まず、剥離可能な層が形成された耐熱性を有する作製用基板の当該剥離可能な層上にガスバリア性を有する緻密な膜を成膜する。次いで、当該ガスバリア性を有する緻密な膜を、プラスチックフィルム上に転載する。ここで、ガスバリア性を有する緻密な膜が剥離可能な層から剥離され、プラスチックフィルム上に接着剤を用いて転載される。このように耐熱性を有する作製用基板を用いることにより、プラスチックフィルムが耐えられないほどの高温のプロセスを利用してガスバリア性を有する緻密な膜を成膜できる。その膜を転載することにより、ガスバリア性を有する緻密な膜をプラスチックフィルムに形成できる。
【００５０】
また、プラスチックフィルムに厚さが数十μｍから百数十μｍのガラス板を貼り合わせてガスバリア性を付与してもよい。
【００５１】
《成膜ドラム》
成膜ドラムは略円筒形の形状を備え、回転可能に支持される。例えば、第１の成膜ドラム１１０は供給装置１４０から基板１０が供給され、基板１０の一方の面が外周に接する。第１の成膜ドラム１１０は図示されていない駆動機構により回転し、基板１０を中間ロール１３０に供給する。
【００５２】
成膜ドラムは冷却機構を備えると好ましい。成膜ドラムの外周の温度が、蒸着源から受ける熱により次第に上昇する現象を防止できる。成膜ドラムの冷却方法としては、例えば成膜ドラムの内部に冷媒を循環する方法が挙げられる。
【００５３】
《蒸着源》
蒸着源は材料を気化し、気化した材料をノズルから噴出する。蒸着源は複数のノズルを備える。例えば、１Ａ蒸着源１Ａは７つのノズル（ノズル１Ａ＿１乃至ノズル１Ａ＿７）を備える（図３（Ａ）参照）。また、２Ａ蒸着源２Ａおよび３Ａ蒸着源３Ａも同様に複数のノズルを備える（図３（Ｃ）、図３（Ｅ）参照）。
【００５４】
１Ａ蒸着源１Ａのノズル（ノズル１Ａ＿１乃至ノズル１Ａ＿７）は、基板１０の一方の面が接する成膜ドラム１１０の外周に対向して設けられる（図２（Ｂ）参照）。ノズルは気化された材料１１Ａを成膜ドラム１１０の外周に向けて噴出し、当該材料を含む膜が当該基板１０の他方の面に成膜される。
【００５５】
蒸着源の一のノズルとその隣接するノズルの間には間隔を設け、当該間隔に対向する成膜ドラムおよび基板が受ける輻射熱を抑制する。図３（Ａ）に例示する１Ａ蒸着源１Ａは、ノズル１Ａ＿６とノズル１Ａ＿７の間に間隔１Ａ＿８が設けられ、１Ａ蒸着源１Ａは間隔１Ａ＿８において、成膜ドラムから遠ざけられている。
【００５６】
例えば、気化温度が３００℃程度の材料を含む膜を、プラスチック製の基板１０に成膜する場合、ノズルの温度はそれ以上となる。加熱されたノズルを、間隔を設けずに配置すると、ノズルの放射する熱により、基板１０の平坦性が損なわれてしまう。
【００５７】
しかし、隣接するノズルの間に間隔を設けると、蒸着源の一部を成膜ドラムから遠ざけることができ、ノズルが放射する熱が分散され、基板１０の損傷を防止できる。
【００５８】
なお、ノズルの間に間隔が設けられた１Ａ蒸着源１Ａは、膜をストライプ状の領域１１に成膜する（図２（Ａ）参照）。
【００５９】
《ノズルの配置１》
一の成膜ドラムの蒸着源のノズルは、他の成膜ドラムに対向する蒸着源が成膜しないストライプ状の領域を成膜するように配置される（図２（Ａ）参照）。
【００６０】
例えば、第２の成膜ドラム１２０の２Ａ蒸着源２Ａのノズル（ノズル２Ａ＿１乃至ノズル２Ａ＿７）は、第１の成膜ドラム１１０の１Ａ蒸着源１Ａのノズル（ノズル１Ａ＿１乃至ノズル１Ａ＿７）により成膜されないストライプ状の領域（例えば領域１２）に成膜するように、間隔を空けて配置される。
【００６１】
《ノズルの配置２》
また、一の成膜ドラムの蒸着源のノズルは、同一の成膜ドラムの他の蒸着源が成膜するストライプ状の領域に重ねて成膜するように配置される。
【００６２】
例えば、第１の成膜ドラム１１０の１Ｂ蒸着源１Ｂのノズル（ノズル１Ｂ＿１乃至ノズル１Ｂ＿７）は、第１の成膜ドラム１１０の１Ａ蒸着源１Ａのノズル（ノズル１Ａ＿１乃至ノズル１Ａ＿７）が成膜するストライプ状の領域（例えば領域１１）に重ねて成膜するように、間隔を空けて配置される（図２（Ｂ）参照）。
【００６３】
同様に、第２の成膜ドラム１２０の２Ｂ蒸着源２Ｂのノズル（ノズル２Ｂ＿１乃至ノズル２Ｂ＿７）は、第２の成膜ドラム１２０の２Ａ蒸着源２Ａのノズル（ノズル２Ａ＿１乃至ノズル２Ａ＿７）が成膜するストライプ状の領域（例えば領域１２）に重ねて成膜するように、間隔を空けて配置される（図２（Ｃ）参照）。
【００６４】
《中間ロール》
中間ロールは、成膜ドラムは略円筒形の外周に、成膜ドラムで成膜されたストライプ状の領域に触れないように凹部を備え、回転可能に支持される（図３（Ｂ）、図３（Ｄ）参照）。
【００６５】
例えば、中間ロール１３０は、ストライプ状の領域１１に接触しないように凹部１３１を備え、中間ロール１７０は、ストライプ状の領域１１および領域１２に接触しないように凹部１７１を備える（図２（Ａ）参照）。
【００６６】
また、中間ロール１３０は、第１の成膜ドラム１１０から基板１０が供給され、基板１０の他方の面が外周に接する。中間ロール１３０は図示されていない駆動機構により回転し、基板１０を第２の成膜ドラム１２０に供給する（図１（Ａ）参照）。
【００６７】
また、中間ロール１７０は、第２の成膜ドラム１２０から基板１０が供給され、基板１０の他方の面が外周に接する。中間ロール１７０は図示されていない駆動機構により回転し、基板１０を第３の成膜ドラム１６０に供給する（図１（Ａ）参照）。
【００６８】
＜変形例１＞
上述の構成に加え、本実施の形態で例示して説明する成膜装置１００は、第１の成膜ドラム１１０の外周に対向する複数のノズル（ノズル１Ｂ＿１乃至ノズル１Ｂ＿７）を備える第１の成膜ドラムの第２の蒸着源（１Ｂ蒸着源ともいう）１Ｂと、第２の成膜ドラム１２０の外周に対向する複数のノズル（ノズル２Ｂ＿１乃至ノズル２Ｂ＿７）を備える第２の成膜ドラムの第２の蒸着源（２Ｂ蒸着源ともいう）２Ｂと、を有する。
【００６９】
そして、１Ｂ蒸着源１Ｂの複数のノズルは、１Ａ蒸着源１Ａにより成膜されたストライプ状の領域１１に重ねて成膜するように配置され、２Ｂ蒸着源２Ｂの複数のノズルは、２Ａ蒸着源２Ａにより成膜されたストライプ状の領域１２に重ねて成膜するように配置される（図２（Ｂ）および図２（Ｃ）参照）。
【００７０】
また、第１の成膜ドラム１１０の外周に対向する複数のノズルを備える第１の成膜ドラムの第３の蒸着源（１Ｃ蒸着源ともいう）１Ｃを有する。
【００７１】
また、第２の成膜ドラム１２０の外周に対向する複数のノズルを備える第２の成膜ドラムの第３の蒸着源（２Ｃ蒸着源ともいう）２Ｃと、を有する。
【００７２】
また、第３の成膜ドラム１６０の外周に対向する複数のノズルを備える第３の成膜ドラムの第３の蒸着源（３Ｃ蒸着源ともいう）３Ｃと、第３の成膜ドラムの第４の蒸着源（３Ｄ蒸着源ともいう）３Ｄと、第３の成膜ドラムの第５の蒸着源（３Ｅ蒸着源ともいう）３Ｅと、を有する（図１（Ａ）および図１（Ｂ）参照）。
【００７３】
本実施の形態で例示する成膜装置１００は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズルを備える１Ａ蒸着源１Ａと、１Ａ蒸着源により成膜されたストライプ状の領域１１に重ねて成膜するように配置された複数のノズルを備える１Ｂ蒸着源１Ｂを有する。これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減しながら、複数の層を積層できる。
【００７４】
＜変形例２＞
また、本実施の形態の変形例の成膜装置の構成について、図８を参照しながら説明する。
【００７５】
図８は本発明の一態様の成膜装置の構造を説明する模式図である。
【００７６】
本発明の一態様の成膜装置は枚葉式である。可撓性の基板１０を支持する支持部材２１０と、支持部材２１０を矢印の方向に搬送する図示されていない搬送機構と、支持部材２１０に近接し、互いに離間して設けられた複数のノズルが設けられた蒸着源Ａと、を有する。そして、複数のノズルは、気化された材料を噴出し、材料が堆積する部分２１１と堆積しない部分とが形成される。
【００７７】
なお、中間ロール２３０は、材料が堆積した部分２１１に接触しないように凹部を備え、基板１０の搬送をガイドする。
【００７８】
これにより、可撓性の基板が受ける輻射熱を低減させるようにする成膜方法であり、この成膜方法を適用できる成膜装置である。その結果、基板に成膜可能な成膜装置を提供できる。
【００７９】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【００８０】
（実施の形態２）
本実施の形態では、本発明の一態様の成膜装置を用いた成膜方法について、図４を参照しながら説明する。図４は本発明の一態様の成膜方法を説明する図である。なお、図４は成膜ドラムまたは中間ロールを巻き取り装置側から観た図である。
【００８１】
本実施の形態で例示する成膜方法は、実施の形態１に例示する成膜装置１００を用いる成膜方法である。
【００８２】
第１のステップにおいて、供給装置１４０を用いて、巻き取り可能な基板１０を第１の成膜ドラム１１０に供給する（図示せず）。
【００８３】
第２のステップにおいて、材料１１Ａを気化して、１Ａ蒸着源１Ａの複数のノズル（ノズル１Ａ＿１乃至ノズル１Ａ＿７）から噴出して、基板１０の他方の面のストライプ状の領域１１に成膜する（図４（Ａ）参照）。
【００８４】
第３のステップにおいて、中間ロール１３０が、ストライプ状の領域１２に接触しないように基板１０を、第１の成膜ドラム１１０から第２の成膜ドラム１２０に受け渡す（図４（Ｂ）参照）。
【００８５】
第４のステップにおいて、材料１１Ａを気化して、２Ａ蒸着源２Ａの複数のノズル（ノズル２Ａ＿１乃至ノズル２Ａ＿７）から噴出して、基板１０の他方の面の１Ａ蒸着源１Ａが成膜しないストライプ状の領域１２に成膜する（図４（Ｃ）参照）。
【００８６】
本実施の形態で例示する成膜方法は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズルを備え、同一の材料を成膜する蒸着源が配置された、第１の成膜ドラムと第２の成膜ドラムを用いる。これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減できる。また、中間ロールは、基板の、第１の成膜ドラムの１Ａ蒸着源に成膜された領域に触れることなく、当該基板を第２の成膜ドラムに供給することができる。その結果、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜方法を提供できる。
【００８７】
＜変形例＞
本実施の形態の変形例で例示する本発明の一態様の成膜方法について、図５を参照しながら説明する。図５は本発明の一態様の成膜方法を説明する図である。なお、図５は成膜ドラムまたは中間ロールを巻き取り装置側から観た図である。
【００８８】
本実施の形態の変形例で例示する成膜方法は、実施の形態１に例示する成膜装置１００を用いる成膜方法である。
【００８９】
第１のステップにおいて、供給装置１４０を用いて、巻き取り可能な基板１０を、第１の成膜ドラム１１０に供給する（図示せず）。
【００９０】
第２のステップにおいて、第１の材料１１Ａを気化して、１Ａ蒸着源１Ａの複数のノズル（ノズル１Ａ＿１乃至ノズル１Ａ＿７）から噴出して、一方の面を第１の成膜ドラム１１０に接する基板１０の他方の面のストライプ状の領域１１に成膜し（図５（Ａ）参照）、続けて第２の材料１１Ｂを気化して、１Ｂ蒸着源１Ｂの複数のノズル（ノズル１Ｂ＿１乃至ノズル１Ｂ＿７）から噴出して、ストライプ状の領域１１に重ねて成膜する（図５（Ｂ）参照）。
【００９１】
第３のステップにおいて、中間ロール１３０が、ストライプ状の領域１１に接触しないように基板１０を、第１の成膜ドラム１１０から第２の成膜ドラム１２０に供給する（図５（Ｃ）参照）。
【００９２】
第４のステップにおいて、第１の材料１１Ａを気化して、２Ａ蒸着源２Ａの複数のノズル（ノズル２Ａ＿１乃至ノズル２Ａ＿７）から噴出して、一方の面を第２の成膜ドラム１２０に接する基板１０の他方の面の、１Ａ蒸着源１Ａが成膜しないストライプ状の領域１２に成膜し、続けて第２の材料１１Ｂを気化して、２Ｂ蒸着源２Ｂの複数のノズル（ノズル２Ｂ＿１乃至ノズル２Ｂ＿７）から噴出して、２Ａ蒸着源２Ａが成膜したストライプ状の領域１２に重ねて成膜する。
【００９３】
本実施の形態の変形例で例示する成膜方法は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズルを備え、異なる材料を成膜する蒸着源が配置された、第１の成膜ドラムと第２の成膜ドラムを用いる。これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減しながら、複数の層を積層できる。その結果、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜方法を提供できる。
【００９４】
本実施の形態の変形例で例示する成膜方法は、第１の材料１１Ａと第２の材料１１Ｂを一層ずつ積層するものである。この方法のさらなる変形例として、第１の材料１１Ａを噴出する蒸着源と第２の材料１１Ｂを噴出する蒸着源を、繰り返し順番に配置して、基板１０に積層体を成膜する方法がある。この方法によれば、第１の材料１１Ａと第２の材料１１Ｂを繰り返し積層することができ、超格子構造を形成することができる。
【００９５】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【００９６】
（実施の形態３）
本実施の形態では、本発明の一態様の成膜装置の構成と、それを用いて作製することができる発光装置と、その作成方法について、図６および図７を参照しながら説明する。
【００９７】
図６（Ａ）は、本発明の一態様の成膜装置１００Ｂの構成を説明するための側面図である。図６（Ｂ）は、本発明の一態様の成膜装置１００Ｂを用いて作製することができる発光装置３０の構成を説明するための上面図である。図６（Ｃ）は、図６（Ｂ）の鎖線Ｘ−Ｙにおける発光装置３０の断面の構成を説明するための図である。
【００９８】
図７は、発光装置３０の作製方法を説明するための図である。
【００９９】
＜成膜装置１００Ｂの構成＞
本実施の形態で例示して説明する成膜装置１００Ｂは、実施の形態１で説明する成膜装置１００の第３の成膜ドラム１６０に対向する蒸着源の数および第３の成膜ドラム１６０と巻き取り装置１５０の間の構成が異なる。
【０１００】
３つの蒸着源が、第３の成膜ドラム１６０の外周に対向して設けられている。具体的には、３Ａ蒸着源３Ａ、第３の成膜ドラムの第３の蒸着源（３Ｂ蒸着源ともいう）３Ｂおよび第３の成膜ドラムの第３の蒸着源（３Ｃ蒸着源ともいう）３Ｃが設けられている。成膜装置１００Ｂは、封止材２０を供給する封止材供給装置１８０を備える。
【０１０１】
成膜装置１００Ｂは、第３の成膜ドラム１６０と巻き取り装置１５０の間に、貼り合わせロール１９０を備える。貼り合わせロール１９０は対向する二つのロールを含む。
【０１０２】
貼り合わせロール１９０は対向する二つのロールを含む。貼り合わせロール１９０は、成膜装置１００Ｂの第３の成膜ドラム１６０が供給する巻き取り可能な基板１０と、封止材供給装置１８０が供給する封止材２０をその二つのロールに挟んで貼り合わせる。
【０１０３】
また、第４の蒸着源４は巻き取り可能な基板１０の他方の面に成膜する。なお、第４の蒸着源４は、他の蒸着源（具体的には１Ａ蒸着源１Ａ等）に比べて巻き取り可能な基板１０から離れた位置に配置される。そのため、巻き取り可能な基板１０は蒸着源４の放射する熱に加熱され難い。また、蒸着源４は、他の蒸着源に比べて一度に広い範囲を成膜できる。
【０１０４】
＜発光装置３０の構成＞
発光装置３０は、巻き取り可能な基板１０と封止材２０を有し、その間にストライプ状の発光素子を備える（図６（Ｂ）および図６（Ｃ）参照）。
【０１０５】
巻き取り可能な基板１０には、あらかじめ配線１５Ｂ、配線１５Ｇ、配線１５Ｒ並びに端子１６が設けられている。配線１５Ｂ、配線１５Ｇおよび配線１５Ｒは発光素子の下部電極の端子を兼ね、端子１６は発光素子の上部電極と電気的に接続されている。
【０１０６】
絶縁性の平坦化膜１７が、配線１５Ｂ、配線１５Ｇおよび配線１５Ｒ上に設けられ、当該配線に起因する凹凸を平坦にしている。
【０１０７】
ストライプ状の下部電極（具体的には、下部電極３１１Ｂ、下部電極３１２Ｇおよび下部電極３１３Ｒ）が、平坦化膜１７上に設けられている。また、絶縁性の隔壁１８が、隣接するストライブ状の下部電極の間に設けられ、互いを電気的に絶縁している。また隔壁１８は、下部電極の端部を覆っている。
【０１０８】
下部電極は、平坦化膜１７に設けられた開口を介して、配線と電気的に接続される。例えば、下部電極３１１Ｂは、開口１４Ｂを介して配線１５Ｂと電気的に接続される。
【０１０９】
上部電極３２０は下部電極上に設けられ、上部電極３２０と下部電極が、発光層を挟む。上部電極と下部電極のいずれか一方は陽極として機能し、他方は陰極として機能する。また、上部電極と下部電極の少なくとも一方は透光性を有し、巻き取り可能な基板１０または封止材２０のうち、透光性を有する電極に近い方が、透光性を有する。
【０１１０】
発光層は発光性の有機化合物を含む。発光層３１５Ｂ、発光層３１５Ｇおよび発光層３１５Ｒは、下部電極に沿って、それぞれストライプ状に形成されている。
【０１１１】
また、正孔輸送層が、当該発光層の陽極として機能する電極の側に接して設けられ、電子輸送層が、陰極として機能する電極の側に接して設けられている。
【０１１２】
例えば、下部電極３１１Ｂを陽極、上部電極３２０を陰極とする場合は、ストライプ状の下部電極３１１Ｂに接して正孔輸送層３１４、上部電極３２０に接して電子輸送層３１６、正孔輸送層３１４と電子輸送層３１６の間にストライプ状の発光層３１５Ｂが設けられる。その結果、ストライプ状の発光素子が構成される。
【０１１３】
発光層３１５Ｂ、発光層３１５Ｇおよび発光層３１５Ｒは、いずれも下部電極に沿って、それぞれストライプ状に形成されている。いずれかの下部電極に電気的に接続される配線（配線１５Ｂ、配線１５Ｇまたは配線１５Ｒ）と、上部電極と電気的に接続された端子の間に電流を流すと、発光素子はストライプ状に発光する。
【０１１４】
また、この構成の異なる発光層に、発光色が異なる発光性の有機化合物を適用すると、発光色がストライプ状に異なる発光装置を提供できる。
【０１１５】
＜発光装置３０の作製方法＞
発光装置３０の作製方法を、図７に示す模式図を用いて説明する。
【０１１６】
あらかじめ下部電極（下部電極３１１Ｂ、下部電極３１２Ｇ、下部電極３１３Ｒ）が形成された巻き取り可能な基板１０準備する。
【０１１７】
第１のステップにおいて、下部電極３１１Ｂ上に正孔輸送層３１４、正孔輸送層３１４上に発光層３１５Ｂ、発光層３１５Ｂ上に電子輸送層３１６を、第１の成膜ドラム１１０に対向する蒸着源を用いて形成する（図７（Ａ）参照）。
【０１１８】
第２のステップにおいて、下部電極３１２Ｇ上に正孔輸送層３１４、正孔輸送層３１４上に発光層３１５Ｇ、発光層３１５Ｇ上に電子輸送層３１６を、第２の成膜ドラム１２０に対向する蒸着源を用いて形成する（図７（Ｂ）参照）。
【０１１９】
第３のステップにおいて、下部電極３１３Ｒ上に正孔輸送層３１４、正孔輸送層３１４上に発光層３１５Ｒ、発光層３１５Ｒ上に電子輸送層３１６を、第３の成膜ドラム１６０に対向する蒸着源を用いて形成する（図７（Ｃ）参照）。
【０１２０】
第４のステップにおいて、電子輸送層３１６上に上部電極３２０を、第４の蒸着源４を用いて成膜し、発光素子を形成する（図７（Ｄ）参照）。
【０１２１】
第５のステップにおいて、巻き取り可能な基板１０に封止材２０を貼り合わせ、その間に当該発光素子を封止して、発光装置３０を作製する（図７（Ｅ）参照）。
【０１２２】
本実施の形態の変形例で例示する成膜方法は、冷却用の間隔が設けられた複数のノズルを備え、異なる材料を成膜する蒸着源が配置された、第１の成膜ドラムと第２の成膜ドラムを用いる。これにより、熱を放射する高温のノズルが分散して配置され、巻き取り可能な基板が受ける損傷を低減しながら、複数の層を積層できる。その結果、巻き取り可能な基板に、連続して成膜可能な成膜方法を提供できる。
【０１２３】
また、本実施の形態で例示する方法は、ストライプ状の発光素子の発光層を異なるステップで作製するため、隣接するストライプの発光色を異なるものとすることができる。
【０１２４】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【符号の説明】
【０１２５】
１Ａ    １Ａ蒸着源
１Ａ＿１    ノズル
１Ａ＿６    ノズル
１Ａ＿７    ノズル
１Ａ＿８    間隔
１Ｂ    １Ｂ蒸着源
１Ｂ＿１    ノズル
１Ｂ＿７    ノズル
１Ｃ    １Ｃ蒸着源
２    配置
２Ａ    ２Ａ蒸着源
２Ａ＿１    ノズル
２Ａ＿７    ノズル
２Ｂ    ２Ｂ蒸着源
２Ｂ＿１    ノズル
２Ｂ＿７    ノズル
２Ｃ    ２Ｃ蒸着源
３Ａ    ３Ａ蒸着源
３Ａ＿１    ノズル
３Ａ＿７    ノズル
３Ｂ    ３Ｂ蒸着源
３Ｃ    ３Ｃ蒸着源
３Ｄ    ３Ｄ蒸着源
３Ｅ    ３Ｅ蒸着源
４    第４の蒸着源
１０    基板
１１    領域
１１Ａ    材料
１１Ｂ    材料
１２    領域
１３    領域
１４Ｂ    開口
１５Ｂ    配線
１５Ｇ    配線
１５Ｒ    配線
１６    端子
１７    平坦化膜
１８    隔壁
２０    封止材
３０    発光装置
１００    成膜装置
１００Ｂ    成膜装置
１１０    成膜ドラム
１２０    成膜ドラム
１３０    中間ロール
１３１    凹部
１４０    供給装置
１５０    装置
１６０    成膜ドラム
１７０    中間ロール
１７１    凹部
１８０    封止材供給装置
１９０    ロール
２１０    支持部材
２１１    材料が堆積する部分
２３０    中間ロール
３１１Ｂ    下部電極
３１２Ｇ    下部電極
３１３Ｒ    下部電極
３１４    正孔輸送層
３１５Ｂ    発光層
３１５Ｇ    発光層
３１５Ｒ    発光層
３１６    電子輸送層
３２０    上部電極
【図１】
2014075301.tif 000003
【図２】
2014075301.tif 000004
【図３】
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【図４】
2014075301.tif 000006
【図５】
2014075301.tif 000007
【図６】
2014075301.tif 000008
【図７】
2014075301.tif 000009
【図８】
2014075301.tif 000010