(57)【要約】      （修正有）【課題】骨見え現象の改善度合い、干渉縞現象の改善度合い及び透過率の高さからなる、三者のバランスが改善された、光透過性導電性フィルムを提供する。【解決手段】（Ａ）光透過性支持層１１；（Ｂ）ハードコート層１２；（Ｃ）光学干渉層１３；及び（Ｄ）光透過性導電層１４を含有する光透過性導電性フィルムであって、次の要件（１）〜（８）を全て満たすことを特徴とする、光透過性導電性フィルム。（１）０．０１＜｜ｎＡ−ｎＢ｜≦０．０３（２）ｎＤ＞ｎＡ＞ｎＣ（３）３０＜ｎＣｄＣ−０．００２５＊（ｎＤｄＤ）２＋０．７＊（ｎＤｄＤ）＜６５（４）１．３５＜ｎＣ＜１．５５（５）５ｎｍ≦ｄＣ≦５０ｎｍ（６）１０ｎｍ≦ｄＤ≦２５ｎｍ（７）１μｍ≦ｄＢ≦１０μｍ（８）全光線透過率が９０％以上である【選択図】図１
2014156112.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接配置されており、
前記光透過性導電層（Ｄ）が、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）の前記（Ａ）光透過性支持層とは反対側の面に、少なくとも光学干渉層（Ｃ）を介して配置されており、かつ
次の要件（１）〜（８）を全て満たすことを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
（１）０．０１＜｜ｎＡ−ｎＢ｜≦０．０３
（２）ｎＤ＞ｎＡ＞ｎＣ
（３）３０＜ｎＣｄＣ−０．００２５＊（ｎＤｄＤ）２＋０．７＊（ｎＤｄＤ）＜６５
（４）１．３５＜ｎＣ＜１．５５
（５）５ｎｍ≦ｄＣ≦５０ｎｍ
（６）１０ｎｍ≦ｄＤ≦２５ｎｍ
（７）１μｍ≦ｄＢ≦１０μｍ
（８）全光線透過率が９０％以上である
（上記において、
ｎＡは、前記光透過性支持層（Ａ）の屈折率を；
ｎＢは、前記ハードコート層（Ｂ）の屈折率を；
ｎＣは、前記光学干渉層（Ｃ）の屈折率を；
ｎＤは、前記光透過性導電層（Ｄ）の屈折率を；
ｄＢは、前記ハードコート層（Ｂ）の厚さ（μｍ）を；
ｄＣは、前記光学干渉層（Ｃ）の厚さ（ｎｍ）を；
ｄＤは、前記光透過性導電層（Ｄ）の厚さ（ｎｍ）を；
それぞれ示す。）
【請求項２】
少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｄ）が、酸化インジウムスズを含む、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
少なくとも一方の前記光学干渉層（Ｃ）が、ＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）を含む、請求項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含む、静電容量型タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム及びそれを有する静電容量型タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルに搭載される導電性フィルムとして、プラスチックからなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層等を積層して得られる光透過性導電性フィルムが数多く使用されている。タッチパネルとしては、光透過性導電層側が操作面側を向くようにして使用される。これらの光透過性導電性フィルムにおいては、通常、光透過性支持層表面の傷つきを防止する目的で、ハードコート層と呼ばれる、比較的表面硬度の高い層が設けられている。ハードコート層は、光透過性支持層の操作面側の面に隣接して設けられているのが通常である。
【０００３】
これらの光透過性導電性フィルムは、さらにエッチング処理を行うことにより光透過性導電層をパターン化した上でタッチパネルに搭載されるのが通常である。このようにして光透過性導電層がパターン化された光透過性導電性フィルムにおいて、フィルム表面に光透過性導電層のパターンが視認されるようになること（いわゆる骨見え現象；ｐａｔｔｅｒｎ  ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）が知られている。光透過性導電層がパターン化された光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層が存在する領域（本明細書において、「パターン化領域」ということがある。）と、光透過性導電層が存在しない領域（本明細書において、「非パターン化領域」ということがある。）とで、異なる分光透過率及び分光反射率を示す。このような分光透過率及び分光反射率の差が、骨見え現象の原因であると考えられている。
【０００４】
そこで、これらの各領域における屈折率の差に着目し、その差を補正することにより骨見え現象を改善しようとする技術が種々提案されている（特許文献１〜３）。さらに、パターン化された光透過性導電層において、パターン化領域に入射した光の反射率と、非パターン化領域に入射した光の反射率を互いに近似させる効果を備える層（このような層のことを本明細書において「光学干渉層」ということがある。）を、光透過性導電層の下層側に設けることにより、骨見え現象を解消しようとする技術も提案されている（特許文献４）。
【０００５】
また、ハードコート層が光透過性支持層の操作面側の面に隣接して設けられている光透過性導電性フィルムにおいては、別の課題として、光透過性支持層とハードコート層の間の屈折率差に起因して、干渉縞がフィルム表面上に観察されるという現象が知られている。この干渉縞現象は、光透過性支持層とハードコート層の間の屈折率差を一定の範囲内に抑えることにより緩和されることが知られている（特許文献５、６）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平８−２４０８００号公報
【特許文献２】特開２００２−９８９３５号公報
【特許文献３】特開２００３−２０２５５２号公報
【特許文献４】ＷＯ２０１０／１１４０５６号公報
【特許文献５】特開平７−３２５２０１号公報
【特許文献６】特開平７−１５１９０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、ハードコート層が光透過性支持層の操作面側の面に隣接して設けられている光透過性導電性フィルムにおいて従来の方法に従い、骨見え現象を改善する目的でさらに光学干渉層を設け、かつ干渉縞現象を改善する目的で光透過性支持層とハードコート層の間の屈折率差を一定の範囲内に抑えようとすると、次のような従来知られていなかった問題が生じることを独自の検討により突き止めた。その問題とは、光透過性導電性フィルムを構成する各層の屈折率が比較的高いものとなることが避けられず、結果としてフィルムとして高い透過率、例えば９０％以上の透過率、を達成することが難しいという問題である。なお、一般に、フィルムの透過率が高いほど、骨見え現象がより助長されやすい傾向がある。すなわち、フィルムの透過率の向上と、骨見え現象の改善とは、互いに両立することが困難とされている。
【０００８】
本発明は、（１）骨見え現象の改善度合い、（２）干渉縞現象の改善度合い及び（３）透過率の高さからなる、三者のバランスが改善された、光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、本発明を完成させた。本発明は上記課題を解決するものであり、次に掲げるものである。
項１．
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接配置されており、
前記光透過性導電層（Ｄ）が、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）の前記（Ａ）光透過性支持層とは反対側の面に、少なくとも光学干渉層（Ｃ）を介して配置されており、かつ
次の要件（１）〜（８）を全て満たすことを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
（１）０．０１＜｜ｎＡ−ｎＢ｜≦０．０３
（２）ｎＤ＞ｎＡ＞ｎＣ
（３）３０＜ｎＣｄＣ−０．００２５＊（ｎＤｄＤ）２＋０．７＊（ｎＤｄＤ）＜６５
（４）１．３５＜ｎＣ＜１．５５
（５）５ｎｍ≦ｄＣ≦５０ｎｍ
（６）１０ｎｍ≦ｄＤ≦２５ｎｍ
（７）１μｍ≦ｄＢ≦１０μｍ
（８）全光線透過率が９０％以上である
（上記において、
ｎＡは、前記光透過性支持層（Ａ）の屈折率を；
ｎＢは、前記ハードコート層（Ｂ）の屈折率を；
ｎＣは、前記光学干渉層（Ｃ）の屈折率を；
ｎＤは、前記光透過性導電層（Ｄ）の屈折率を；
ｄＢは、前記ハードコート層（Ｂ）の厚さ（μｍ）を；
ｄＣは、前記光学干渉層（Ｃ）の厚さ（ｎｍ）を；
ｄＤは、前記光透過性導電層（Ｄ）の厚さ（ｎｍ）を；
それぞれ示す。）
項２．
少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｄ）が、酸化インジウムスズを含む、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
少なくとも一方の前記光学干渉層（Ｃ）が、ＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）を含む、項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
項４．
項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含む、静電容量型タッチパネル。
【発明の効果】
【００１０】
光透過性導電性フィルムにおいて、（１）骨見え現象の改善度合い、（２）干渉縞現象の改善度合い及び（３）透過率の高さからなる、三者のバランスを改善できる。より詳細には、次の通りである。第一に、光透過性導電層をパターン化した場合に、光透過性導電層が存在する領域に入射した光の反射率と、光透過性導電層が存在しない領域に入射した光の反射率を互いに近似させる効果を備える光学干渉層を用いることにより、骨見え現象を改善できる。第二に、光透過性支持層とハードコート層の間の屈折率差を一定の範囲内に抑えることにより、干渉縞現象を改善できる。第三に、光学干渉層の屈折率及び厚さ、並びに光透過性導電層の厚さを所定の範囲内とし、かつ各層の屈折率及び厚さが所定の関係を満たすように調整することにより、上記の効果を維持しつつ、高い透過率をフィルムに付与できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】光透過性支持層（Ａ）の片面にハードコート層（Ｂ）、光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）がこの順で互いに隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図２】光透過性支持層（Ａ）の両面にそれぞれ、ハードコート層（Ｂ）、光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）がこの順で互いに隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図３】光透過性支持層（Ａ）の片面にハードコート層（Ｂ）、光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）がこの順で互いに隣接して配置されており、かつ、光透過性支持層（Ａ）の他方の面に別のハードコート層（Ｂ）が隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図４】実施例及び比較例の結果を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；
（Ｃ）光学干渉層；及び
（Ｄ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接配置されており、
前記光透過性導電層（Ｄ）が、少なくとも一方の前記ハードコート層（Ｂ）の前記（Ａ）光透過性支持層とは反対側の面に、少なくとも光学干渉層（Ｃ）を介して配置されており、かつ
次の要件（１）〜（８）を全て満たすことを特徴とする、光透過性導電性フィルムである。
（１）０．０１＜｜ｎＡ−ｎＢ｜≦０．０３
（２）ｎＤ＞ｎＡ＞ｎＣ
（３）３０＜ｎＣｄＣ−０．００２５＊（ｎＤｄＤ）２＋０．７＊（ｎＤｄＤ）＜６５
（４）１．３５＜ｎＣ＜１．５５
（５）５ｎｍ≦ｄＣ≦５０ｎｍ
（６）１０ｎｍ≦ｄＤ≦２５ｎｍ
（７）１μｍ≦ｄＢ≦１０μｍ
（８）全光線透過率が９０％以上である
（上記において、
ｎＡは、前記光透過性支持層（Ａ）の屈折率を；
ｎＢは、前記ハードコート層（Ｂ）の屈折率を；
ｎＣは、前記光学干渉層（Ｃ）の屈折率を；
ｎＤは、前記光透過性導電層（Ｄ）の屈折率を；
ｄＢは、前記ハードコート層（Ｂ）の厚さ（μｍ）を；
ｄＣは、前記光学干渉層（Ｃ）の厚さ（ｎｍ）を；
ｄＤは、前記光透過性導電層（Ｄ）の厚さ（ｎｍ）を；
それぞれ示す。）
【００１３】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の」層等ということがある。
【００１４】
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の片面にハードコート層（Ｂ）、光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００１５】
本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計（大塚電子、ＦＥ−３０００（製品名）、又はその同等品）を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。
【００１６】
本発明の光透過性導電性フィルムは、全光線透過率が９０％以上である。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１７】
１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１８】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、中でも特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるもの
であってもよい。
【００１９】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。
【００２０】
１．２  ハードコート層（Ｂ）
ハードコート層（Ｂ）は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接配置されている。言い換えれば、ハードコート層（Ｂ）は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に隣接して配置されている。
【００２１】
ハードコート層（Ｂ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００２２】
ハードコート層（Ｂ）は、光透過性支持層（Ａ）の両面に配置されていてもよい。
【００２３】
本発明においてハードコート層とは、光透過性支持層（Ａ）表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２４】
ハードコート層（Ｂ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層（Ｂ）の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。ハードコート層（Ｂ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもよい。ハードコート層（Ｂ）としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。
【００２５】
ハードコート層（Ｂ）の厚さ（二層が隣接して配置されている場合は二層の厚さの合計）ｄＢ（μｍ）は、１μｍ〜１０μｍである。ｄＢ（μｍ）が１μｍ以上であることにより、好ましい硬度がフィルムに付与される。また、ｄＢ（μｍ）が１０μｍ以下であることにより、フィルムがカールしにくくなる。
【００２６】
ｄＢ（μｍ）は、好ましくは１μｍ〜５μｍであり、より好ましくは１μｍ〜２．５μｍである。
【００２７】
ハードコート層（Ｂ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００２８】
１．３  光学干渉層（Ｃ）
光学干渉層（Ｃ）とは、パターン化領域に入射した光の反射率と、非パターン化領域に入射した光の反射率を互いに近似させる効果を備える層である。
【００２９】
より詳細には、光学干渉層（Ｃ）とは、光透過性導電層（Ｄ）及び光透過性支持層（Ａ）の屈折率と、後述する所定の関係性を有する屈折率を有しており、かつ後述する所定の厚さを有していることにより、パターン化領域と非パターン化領域との色差が小さくなるような光学的干渉条件を達成するものである。
【００３０】
光学干渉層（Ｃ）は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくともハー
ドコート層（Ｂ）を介して配置されている。言い換えれば、光学干渉層（Ｃ）は、少なくとも一方のハードコート層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
【００３１】
光学干渉層（Ｃ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００３２】
光学干渉層（Ｃ）の屈折率は、光透過性導電層（Ｄ）及び光透過性支持層（Ａ）の屈折率と、所定の関係性を有する。この関係性については後述する。これに加えて、光学干渉層（Ｃ）の屈折率は、所定の範囲内である必要がある。この範囲についても後述する。
【００３３】
光学干渉層（Ｃ）の厚さ（二層が隣接して配置されている場合は二層の厚さの合計）は、所定の数値以下である必要がある。この範囲については後述する。光学干渉層（Ｃ）の厚さは、５ｎｍ以上である。このことにより、その上に配置される光透過性導電層（Ｄ）との密着性が向上する。この密着性の観点から、光学干渉層（Ｃ）の厚さは、好ましくは５ｎｍ以上であり、より好ましくは７ｎｍ以上であり、さらに好ましくは１０ｎｍ以上である。
【００３４】
光学干渉層（Ｃ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。光学干渉層（Ｃ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン及びアクリルシリカハイブリッド等が挙げられる。光学干渉層（Ｃ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもよい。光学干渉層（Ｃ）としては、ポリシラザン、アクリルシリカハイブリッド及びＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）からなる群より選択される１種を含む光学干渉層が好ましい。光学干渉層（Ｃ）は、ポリシラザン、アクリルシリカハイブリッド及びＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）からなる群より選択される１種からなる光学干渉層であってもよい。光学干渉層（Ｃ）としては、ＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）を含む光学干渉層が好ましい。光学干渉層（Ｃ）は、ＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）からなる光学干渉層であってもよい。以下、例えば、ＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）からなる光学干渉層を、ＳｉＯｘ層というように略記する場合がある。
【００３５】
光学干渉層（Ｃ）が二層以上互いに隣接して配置されている態様の例としては、例えば、隣接するＳｉＯ２層及びＳｉＯｘ層からなる積層（ｓｔａｃｋｉｎｇ）、及び隣接するＳｉＯ２層及びＳｉＯｘＮｙ層からなる積層が挙げられる。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、ＳｉＯ２層及びＳｉＯｘ層の順序は任意であるが、光透過性支持層（Ａ）側にＳｉＯ２からなる光学干渉層（Ｃ−１）、光透過性導電層（Ｄ）側にＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）からなる光学干渉層（Ｃ−２）を配置させるのが好ましい。
【００３６】
光学干渉層（Ｃ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法及びパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
【００３７】
１．４  光透過性導電層（Ｄ）
光透過性導電層（Ｄ）は、少なくとも一方のハードコート層（Ｂ）の（Ａ）光透過性支持層とは反対側の面に、少なくとも光学干渉層（Ｃ）を介して配置されている。
【００３８】
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いる
ことができる。
【００３９】
光透過性導電層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ｄ）としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ｄ）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。
【００４０】
光透過性導電層（Ｄ）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ｄ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。
【００４１】
光透過性導電層（Ｄ）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもよい。
【００４２】
光透過性導電層（Ｄ）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
【００４３】
光透過性導電層（Ｄ）の厚さは、所定の数値以下である必要がある。この範囲については後述する。なお、光透過性導電層（Ｄ）の厚さは、１０ｎｍ以上である。
【００４４】
光透過性導電層（Ｄ）を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。光透過性導電層（Ｄ）を配置する方法の具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。
【００４５】
１．５  要件（１）〜（６）
本発明の光透過性導電性フィルムは、これまでに説明してきた全ての特性に加えて、さらに次の要件（１）〜（４）並びに（５’）及び（６’）を全て満たす。
【００４６】
（１）０．０１＜｜ｎＡ−ｎＢ｜≦０．０３
（２）ｎＤ＞ｎＡ＞ｎＣ
（３）３０＜ｎＣｄＣ−０．００２５＊（ｎＤｄＤ）２＋０．７＊（ｎＤｄＤ）＜６５
（４）１．３５＜ｎＣ＜１．５５
（５’）ｄＣ≦５０ｎｍ
（６’）ｄＤ≦２５ｎｍ
（上記において、
ｎＡは、前記光透過性支持層（Ａ）の屈折率を；
ｎＢは、前記ハードコート層（Ｂ）の屈折率を；
ｎＣは、前記光学干渉層（Ｃ）の屈折率を；
ｎＤは、前記光透過性導電層（Ｄ）の屈折率を；
ｄＣは、前記光学干渉層（Ｃ）の厚さ（ｎｍ）を；
ｄＤは、前記光透過性導電層（Ｄ）の厚さ（ｎｍ）を；
それぞれ示す。）
本発明の光透過性導電性フィルムは、これまでに説明してきた全ての特性に加えて、さらに上記要件（１）〜（４）並びに（５’）及び（６’）を全て満たすことにより、骨見え現象の改善度合い、干渉縞現象の改善度合い及び透過率の高さからなる、三者のバランスが改善されている。より詳細には、次の通りである。
【００４７】
第一に、上記要件（１）が満たされることにより、光透過性支持層（Ａ）とハードコート層（Ｂ）の間の屈折率差が一定の範囲内に保たれ、これによりいわゆる干渉縞がフィルム表面上に観察されるのを防ぐことができる。
【００４８】
第二に、これまでに説明してきた全ての特性に加えて、上記要件（２）〜（４）並びに（５’）及び（６’）が満たされることにより、光学干渉層（Ｃ）は、パターン化領域に入射した光の反射率と、非パターン化領域に入射した光の反射率を互いに近似させる効果に優れている。これにより、骨見え現象が改善される。さらに、それと同時に、本発明の光透過性導電性フィルムは、上記要件（２）〜（４）並びに（５’）及び（６’）が満たされることにより、骨見え現象及び干渉縞現象が改善されているだけでなく、全体として透過率が高いものとなっている。
【００４９】
なお、上記要件（３）は、上記要件（１）（２）（４）並びに（５’）（６’）という制約条件の中でパターン化領域に入射した光の反射スペクトルと、非パターン化領域に入射した光の反射スペクトルの色差ΔＥ＊ａｂを光学シミュレーションにより最小化した点をセンター値としてそこから色差ΔＥ＊ａｂが２以内となる条件を近似曲線で表したものである。
【００５０】
上記要件（４）にある通り、ｎＣは１．３５〜１．５５である必要がある。ｎＣが１．３５以上であることにより、より好ましい上記の光学的干渉条件が得られ、骨見え現象の改善効果が向上する。また、ｎＣが１．５５以下であることにより、フィルムの透過率が向上する。
【００５１】
１．６  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、ハードコート層（Ｂ）、光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）に加えて、それらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｅ）がさらに配置されていてもよい。
【００５２】
（Ａ）〜（Ｄ）のいずれとも異なるその他の層としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
【００５３】
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもよい。
【００５４】
１．７  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルの製造のために用いられる。特に限定されないが、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
【００５５】
２．  本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００５６】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００５７】
３．  本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、ハードコート層（Ｂ）、光学干渉層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｄ）、並びに必要に応じてそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｅ）をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含む。
【００５８】
それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について説明した通りである。光透過性導電層（Ｄ）に加えて、少なくとも１種の他の層を配置する場合は、例えば、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に光透過性支持層（Ａ）側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ｄ））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
【実施例】
【００５９】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
１．  各種測定法
実施例における各種の測定は、下記のように行った。
【００６０】
１．１  厚さ及び屈折率
透明導電層、光学干渉層及びハードコートの厚さ及び屈折率については、これらの層と屈折率が相違する適当な熱可塑性フィルム基板上に同様のコーティング条件で単層で積層し、上記積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を用いて、光学シミュレーションにより算出した。なお、本発明に関して、屈折率は特に言及しない限り、５５０ｎｍの波長の光についての屈折率とする。
【００６１】
１．２  反射スペクトル
島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１０１ＰＣにて反射スペクトルの測定を行った。なお、測定光のサンプルへの入射角度は５度とし、裏面側を市販の黒色スプレーを用いて遮光層を形成し、サンプルの裏面反射や裏面側からの光の入射がほとんど無い状態で測定を行った。パターン化領域の反射率スペクトルは透明導電層形成後の積層体の反射率スペクトルを測定することで得た。また、非パターン化領域の反射率スペクトルは作製した透明導電性積層体をエッチング液で除去した後の積層体の反射率スペクトルを測定することで得
た。
【００６２】
１．３  透過率
日本電色社製ヘーズメーター（ＭＤＨ２０００）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に準じて測定した全光線透過率を用いた。
【００６３】
１．４  骨見え性
作製した透明導電性積層体を５ｃｍ角に切り出し、透明導電層に３ｍｍ幅のポリイミドテープを３ｍｍの間隔ができるように平行に８本貼り付けた。次いで、このポリイミドテープを貼り付けた積層体をＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）に１分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のＩＴＯを除去し、リンス及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、３ｍｍ間隔で３ｍｍ幅のＩＴＯ膜がパターニングされた積層体を得た。このフィルムを目視観察し、ＩＴＯのパターンが「ほぼ見えない（○）」、「やや見える（△）」、及び「見える（×）」のいずれかに該当するかを評価した。
【００６４】
２．  実施例及び比較例
２．１  実施例１
次のようにして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００６５】
厚さ１２５μｍのＰＥＴ樹脂基材（ｎA＝１．６５９）の易接着処理側の表面の上に、
下記の通り調製された光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射して厚さ１．６８μｍのハードコート層（ｎB＝１．６３１）を形成した。
【００６６】
光反応性塗工液の調製は詳細には以下の通り行った。
【００６７】
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製）  ７５重量部
エポキシアクリレート（日本化薬社製）                      ２０重量部
マクロモノマーＡＡ−６（東亞合成社製）                    １１重量部
酸化ジルコニウム系の高屈折微粒子ＨＺ−３０７
（日産化学（株）製：固形分３０％）                          １００重量部
光重合開始剤イルガキュアー１８４（チバガイギー社製）      ７重量部
上記成分をブチルセロソルブ３５重量部、メチルエチルケトンを９４．５重量部の混合溶媒を用いて希釈し、よく攪拌して固形分４０％の光反応性塗工液を得た。
【００６８】
ついでハードコート層の上に光学干渉層として厚さ２０ｎｍのＳｉＯ２からなる層（ｎC＝１．４６０）を形成し、さらにその上に光透過性導電層として酸化インジウムスズか
らなる層（ｎD＝１．９３８）を厚さ１８ｎｍとなるように成膜した。具体的にはターゲ
ット材として、酸化インジウム：９７重量％及び酸化スズ：３重量％からなる焼結体材料を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、ＳｉＯ２層を形成し、その上に、酸化インジウムスズ層を形成した。
【００６９】
２．２  実施例２
光学干渉層としてＳｉＯ２層を１３ｎｍ成膜し、酸化インジウムスズ層の厚さを２３ｎｍ成膜したこと以外は実施例１と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００７０】
２．３  実施例３
光学干渉層として以下のように中空微粒子を含有する厚さ２５ｎｍの低屈折率の層（ｎC＝１．３７１）を形成し、酸化インジウムスズ層の厚さを２３ｎｍ成膜したこと以外は
実施例１と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００７１】
中空微粒子を含有する低屈折率の光学干渉層は具体的には以下のようにして形成した。
【００７２】
下記の通り調製された中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）の分散液を押し出しコーターで塗布し、１００℃で１分間乾燥させた後、紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、さ
らに１２０℃で５分間熱硬化させ、厚さ２５ｎｍとなるように低屈折率層を設けた。
【００７３】
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                          １１０質量部
中空シリカ系微粒子（下記Ｐ−２）                          ３０質量部
ＫＢＭ５０３（シランカップリング剤、信越化学（株）製）    ４質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー
（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液                                                    ３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                    ４００質量部
イソプロピルアルコール                                    ４００質量部
なお、テトラエトキシシラン加水分解物Ａは次のようにして調製した。
【００７４】
テトラエトキシシラン２８９ｇとエタノール５５３ｇを混和し、これに０．１５％酢酸水溶液１５７ｇを添加し、２５℃のウォーターバス中で３０時間攪拌することで加水分解物Ａを調製した。
【００７５】
また、中空シリカ系微粒子Ｐ−２は次のようにして調製した。
【００７６】
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混
合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2とし
て０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。
【００７７】
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒
子の分散液を得た。
【００７８】
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、更に濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を
調製した。
【００７９】
上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2
２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）の分散液を調製した。
【００８０】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯｘ／ＳｉＯ2（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒
径は動的光散乱法により測定した。
【００８１】
２．４  実施例４
光学干渉層として以下のように厚さ２０ｎｍの珪素系樹脂からなる層（ｎC＝１．５０
２）を形成し、酸化インジウムスズ層の厚さを１８ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００８２】
珪素系樹脂からなる層は、以下のようにして調製された珪素系樹脂塗工液を塗布し、１３０℃で５分間熱処理を行うことにより得た。
【００８３】
２−プロパノール１０８０重量部／酢酸４６重量部／水７２０重量部の混合溶媒に、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４８０重量部とメチルトリメトキシシラン２４０重量部とＮ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン１２０重量部を加えてアルコキシシラン混合液を調製し、このアルコキシシラン混合液を３時間攪拌して部分縮合させた後、イソプロピルアルコールと１−メトキシ−２−プロパノールの重量比１：１の混合溶媒で希釈し、珪素系樹脂塗工液を得た。
【００８４】
２．５  比較例１
次のようにして光透過性導電性フィルムを得た。
【００８５】
厚さ１００μｍのポリカーボネート樹脂基材（ｎA＝１．５８５）の易接着処理側の表
面の上に、下記のようにして調製された光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射して厚さ３μｍのハードコート層（ｎB＝１．５９０）を形成した。
【００８６】
ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（大阪ガス社製）５９重量部
ウレタンアクリレート（新中村化学社製  ＮＫオリゴＵ−１５ＨＡ）  ４１重量部
イルガキュア１８４（チバガイギー社製）                          ３重量部
上記成分を１−メトキシー２−プロパノールを用いて希釈し攪拌混合することにより、光反応性塗工液を得た。
【００８７】
ついで、ハードコート層の上に下記のようにして調製された光干渉用塗工液１を塗布し、１３０℃で５分間熱処理を行って厚さ１００ｎｍのＴｉＯ２含有珪素系樹脂層（ｎC＝
１．６９５）をハードコート層の上に形成した。
【００８８】
２−プロパノール１０８０重量部／酢酸４６重量部／水７２０重量部の混合溶媒に、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４８０重量部とメチルトリメトキシシラン２４０重量部とＮ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン１２０重量部を加えてアルコキシシラン混合液を調製し、このアルコキシシラン混合液を３時間攪拌して部分縮合させた後、イソプロピルアルコールと１−メトキシ−２−プロパノールの重量比１：１の混合溶媒で希釈した。この液に酸化チタン超微粒子１５重量％イソプロピルアルコール分散液（シーアイ化成株式会社製、超微粒子の平均一次粒子径３０ｎｍ）３０２４重量部（固形分換算４５３重量部、硬化後の硬化樹脂１００重量部に対して超微粒子７８重量部）を加えて１０分間攪拌混合することにより、光干渉用塗工液１を得た。
【００８９】
さらに、厚さ２０ｎｍの酸化インジウムスズからなる層（ｎD＝２．１００）を成膜し
た。具体的にはターゲット材として、酸化インジウム：９５重量％及び酸化スズ：５重量％からなる焼結体材料を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により酸化インジウムスズ層を形成した。ついで１３０℃９０分間熱処理を行い酸化インジウムスズ層を結晶
化させた。
【００９０】
２．６  比較例２
厚さ１８８μｍのＰＥＴ樹脂基材（ｎA＝１．６９５）の易接着処理側の表面の上に、
塗布厚みを変えたこと以外は比較例１と同様にして光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射して厚さ３．５μｍのハードコート層（ｎB＝１．５９０）を形成した。
【００９１】
ついで、ハードコート層の上に下記のようにして調製された光干渉用塗工液２を塗布し加熱乾燥後に紫外線を照射して厚さ３．５μｍのアクリル樹脂層を形成した後、塗布厚みを変えたこと以外は比較例１と同様にして光干渉用塗工液１を塗布し、１３０℃で５分間熱処理を行って厚さ９０ｎｍのＴｉＯ２含有珪素系樹脂層（ｎC＝１．７００）をアクリ
ル樹脂層のうえに形成した。
【００９２】
２−プロパノール１０８０重量部／酢酸４６重量部／水７２０重量部の混合溶媒に、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４８０重量部とメチルトリメトキシシラン２４０重量部とＮ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン１２０重量部を加えてアルコキシシラン混合液を調製し、このアルコキシシラン混合液を３時間攪拌して部分縮合させた後、イソプロピルアルコールと１−メトキシ−２−プロパノールの重量比１：１の混合溶媒で希釈した。この液に酸化チタン超微粒子１５重量％イソプロピルアルコール分散液（シーアイ化成株式会社製、超微粒子の平均一次粒子径３０ｎｍ）３１７９重量部（固形分換算４７６重量部、硬化後の硬化樹脂１００重量部に対して超微粒子８２重量部）を加えて１０分間攪拌混合することにより、光干渉用塗工液２を得た。
【００９３】
さらに、比較例１と同様にして厚さ２０ｎｍの酸化インジウムスズ層（ｎD＝２．１０
０）を成膜した。ついで１３０℃９０分間熱処理を行い酸化インジウムスズ層を結晶化させた。
【００９４】
２．７  比較例３
厚さ１０ｎｍのＳｉＯ２層を成膜し、酸化インジウムスズ層の厚さを２９ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
【００９５】
評価結果を表１及び図１に示す。
【００９６】
【表１】
2014156112.tif 000003
【符号の説明】
【００９７】
１        光透過性導電性フィルム
１１      光透過性支持層（Ａ）
１２      ハードコート層（Ｂ）
１３      光学干渉層（Ｃ）
１４      光透過性導電層（Ｄ）
【図１】
2014156112.tif 000004
【図２】
2014156112.tif 000005
【図３】
2014156112.tif 000006
【図４】
2014156112.tif 000007