(57)【要約】【課題】モノフルオロメチル基を有するヘテロ原子含有５員環化合物と不活性なＣ−Ｆ結合切断を鍵反応とするその製造方法【解決手段】発明者らは不活性な炭素原子に結合したフッ素原子との結合を活性化し，環化反応を行う反応を鍵反応として，オキサゾリジノン骨格に代表されるヘテロ原子含有５員環に直接結合したモノフルオロメチル基をもつ化合物を製造する方法を開発した。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物。
【化１】
2014019667.tif 000045
（式中，Ｒ１，Ｒ２は水素原子，アルキル基，アルコキシ基，ハロゲン原子，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，スルフィニル基，スルホニル基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シアノ基，ニトロ基，シリル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基を示す。Ｘはカルコゲン原子，置換基を有してもよい窒素原子を示す。）
【請求項２】
下記一般式（２）で示される１，３-ジフルオロ-２-プロパノール誘導体と下記一般式（３）で示されるイソシアネート誘導体を塩基１あるいはシリル化合物のどちらか，あるいは両方の存在下，溶媒中において前記一般式（１）で表されるモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物を合成する製造方法。
塩基１は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，ｓｅｃ−ブチルリチウム，ｔｅｒｔ−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは水素化ナトリウムである。使用量は一般的に式（２）に対して，０．１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
シリル化合物は特に限定されないが，例えば，トリメチルシリルクロリド，トリエチルシリルクロリド，ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリド，トリイソプロピルシリルクロリド，トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート，トリエチルシリルトリフルオロメタンスルホネート，テトラクロロシラン，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルトリフルオロメチルアセトアミドなどの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくはＮ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミドである。使用量は一般的に式（２）あるいは式（４）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
【化２】
2014019667.tif 000046
（式中，Ｒ１は式（１）記載の通りである。）
【化３】
2014019667.tif 000047
（式中，Ｒ２，Ｘは式（１）記載の通りである。）
【請求項３】
下記一般式（４）で表されるカーバメート付加体。
【化４】
2014019667.tif 000048
（式中，Ｒ１，Ｒ２，Ｘは式（１）記載の通りである。）
【請求項４】
前記一般式（２）で表される１，３-ジフルオロ-２-プロパノール誘導体に対して，塩基２の存在下，あるいは非存在下溶媒中において前記一般式（４）で表されるカーバメート付加体を合成する製造方法。
塩基２は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム tert−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，sec−ブチルリチウム，tert−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくはＤＢＵである。使用量は一般的に式（２）に対して，０．１〜１０当量で，好ましくは０．１〜５当量である。
【請求項５】
前記一般式（４）で示されるカーバメート付加体を塩基１あるいはシリル化合物のどちらか，あるいは両方の存在下，溶媒中において前記一般式（１）で表されるモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物を合成する製造方法。
塩基１，シリル化合物は請求項２に記載の通りである。
【請求項６】
下記一般式（５）で表されるアニリン誘導体。
【化５】
2014019667.tif 000049
（式中，Ａは式中に示される３種の置換様式をもつアリール基のうちの一つを示す。Ｒ１，Ｘは式（１）記載の通りである。Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子，アルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，ハロゲン原子，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，スルフィニル基，スルホニル基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シアノ基，ニトロ基，シリル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基を示す。なおＲ３からＲ６のうち隣接する２つの基は一緒になって置換基を有していてもよい４から８員環を形成してもよい。）
【請求項７】
請求項７に記載の発明は，前記一般式（６）で表されるニトロ誘導体に対して還元剤の存在下，溶媒中において前記一般式（５）で表されるアニリン誘導体を合成する製造方法。
【化６】
2014019667.tif 000050
（式中，Ａは式中に示される３種の置換様式をもつアリール基のうちの一つを示す。Ｒ１，Ｘは式（１）記載の通りであり，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（５）記載の通りである。）
還元剤の種類は特に限定されないが，例えば，水素，水素化ホウ素ナトリウム，水素化アルミニウムリチウム，水素化イソブチルアルミニウム，ナトリウムアマルガム，亜鉛アマルガム，ヒドラジン，ギ酸などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは二塩化スズである。使用量は一般的に式（５）あるいは式（６）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
【請求項８】
下記一般式（７）で表されるヒドラジン誘導体。
【化７】
2014019667.tif 000051
（式中，Ａは式中に示される３種の置換様式をもつアリール基のうちの一つを示す。Ｒ１，Ｘは式（１）記載の通りであり，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（５）記載の通りである。）
【請求項９】
請求項９に記載の発明は，前記一般式（７）で表されるヒドラジン誘導体の合成法であって，前記一般式（５）で表されるアニリン誘導体に対して亜硝酸塩と酸の存在下溶媒中あるいは無溶媒下で反応させ，続いて還元剤の存在下，溶媒中において反応させる工程を備えることを特徴とする製造方法にある。
亜硝酸塩の種類は特に限定されないが，例えば，亜硝酸ナトリウム，亜硝酸カリウム，亜硝酸アンモニウムなどの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは亜硝酸ナトリウムである。使用量は一般的に式（５）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
酸の種類は特に限定されないが，例えば，濃硫酸，濃硝酸，濃塩酸，酢酸などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは濃塩酸である。
還元剤は請求項７に記載の通りである。
【請求項１０】
下記一般式（８）で表されるヒドラジド誘導体。
【化８】
2014019667.tif 000052
（式中，Ａは式中に示される３種の置換様式をもつアリール基のうちの一つを示す。Ｒ１，Ｘは式（１）記載の通りであり，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（５）記載の通りである。Ｒ７はアルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，置換基を有していてもよいアミノ基，アルキルチオ基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基を示す。）
【請求項１１】
請求項１１に記載の発明は，前記一般式（７）で表されるヒドラジン誘導体に対して塩基３の存在下，下記一般式（９）で表されるハロゲン化アシルを溶媒中又は無溶媒下において前記一般式（８）で表されるヒドラジド誘導体を合成する製造方法。
【化９】
2014019667.tif 000053
（式中，Ｒ７は式（８）記載の通りであり，Ｙはハロゲン原子を示す。）
塩基３は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム tert−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，sec−ブチルリチウム，tert−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくはピリジンである。使用量は一般的に式（７）に対して，１〜１００当量で，好ましくは１〜１０当量である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，オキサゾリジノン骨格に代表されるヘテロ原子含有５員環に直接結合したモノフルオロメチル基をもつ化合物と，不活性な炭素原子に結合したフッ素原子との結合を活性化することを鍵反応とするその製造法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フッ素原子は全原子中で最大の電気陰性度をもつ等，その特異的な性質から医薬，農薬分野において注目を集め，生理活性物質への導入が盛んに研究されている。特に農薬分野においてはその利用が盛んに行われ，上市されている農薬の約半数近くにフッ素原子が含まれているといわれている。中でもトリフルオロメチル基はフッ素原子のもつ特徴を特に強く現す官能基として広く医農薬への利用が進んでいる。一方で，最近ではフッ素原子のもつ電気陰性度，分子サイズ，分子間力低減能力等をより精密にコントロールすることをで，より生理活性物質の効果を高めることを目的としてモノフルオロメチル基，ジフルオロメチル基等の導入が検討されるようになっているが，その直接的な導入法の例は少ない (非特許文献１，２) 。そのため，これらのフルオロアルキル基の導入にはその様な官能基をもつものを原料として用いるビルディングブロック法が用いられるが，この方法では合成が困難な化合物も少なくない。そのため本来極めて強い結合である炭素原子とフッ素原子の結合を切断して目的のフルオロアルキル基とする製造法の開発が求められていた。
また，ヘテロ原子を含む５員環構造は生理活性物質の母骨格として数多くの種類が知られており，オキサゾリジノン骨格もその一つである。これらの構造を同時に含む化合物は生理活性物質に多く知られており，特にオキサゾリジノン骨格に直接トリフルオロメチル基が結合した化合物は有害生物防除剤として注目されている (特許文献１，２) 。この化合物のフルオロアルキル基をより電気陰性度，分子サイズの小さいモノフルオロアルキル基に変更した化合物を合成する場合，直接的なモノフルオロアルキル化は困難であり，ビルディングブロック法による合成法も知られていないため，新たな合成法を開発することが求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開公報ＷＯ ２０１０／０９０３４４Ａ１
【特許文献２】国際公開公報ＷＯ ２００７１２３８５３Ａ２
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Nomura, Y.; Tokunaga, E.; Shibata, N. Angew. Chem. Int. Ed. 2011, 50, 1885.
【非特許文献２】Zhang, W.; Wang, F.; Hu, J. Org. Lett. 2009, 11, 2109.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記点に鑑みて，１，３-ジフルオロプロパン-２-オール誘導体に対して，イソシアネート誘導体を塩基とともに反応させることにより，本来強固な結合である炭素原子とフッ素原子の結合を切断して直接的に，あるいは付加体を経る間接的な方法によりオキサゾリジノン骨格に代表されるヘテロ原子含有５員環に直接結合したモノフルオロメチル基をもつ化合物を製造できる製造方法を提供することを目的とする。また製造した化合物より農薬候補化合物のモノフルオロメチル誘導体を製造できる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため，発明者らは下記一般式（２）で示される１，３-ジフルオロプロパン-２-オール誘導体に対して，下記一般式（３）で示されるイソシアネート誘導体を塩基１あるいはシリル化合物のどちらか，あるいは両方を同時に用いることによって下記一般式（１）に示すモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物を合成できることを見出した。また１，３-ジフルオロプロパン-２-オール誘導体とイソシアネート誘導体を塩基２の存在下，あるいは非存在下に反応を行うことによって下記一般式（４）で示されるカーバメート付加体が得られることも見出した。さらに得られたカーバメート付加体に対して塩基３あるいはシリル化合物のどちらか，あるいは両方を同時に用いることによって下記一般式（１）に示すモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物を合成できることを見出した。得られた化合物のうち，下記一般式（６）に示すニトロ基をもつ基質に対して還元剤を用いることで下記一般式（５）に示すアニリン誘導体を合成し，さらに亜硝酸塩，続いて還元剤を用いて反応を行うことで下記一般式（７）に示すヒドラジン誘導体を合成できることを見出した。ヒドラジン化合物に対して塩基の存在下，下記一般式（９）に示すハロゲン化アシルと反応させることによって下記一般式（８）に示すヒドラジド誘導体を合成できることを見出した。
【０００７】
すなわち請求項１に記載の発明は，下記一般式（１）で示されるモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物にある。
【０００８】
【化１】
2014019667.tif 000002
【０００９】
（式中，Ｒ１，Ｒ２は水素原子，アルキル基，アルコキシ基，ハロゲン原子，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，スルフィニル基，スルホニル基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シアノ基，ニトロ基，シリル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基を示す。Ｘはカルコゲン原子，置換基を有してもよい窒素原子を示す。）
請求項２に記載の発明は，前記一般式（１）で表されるモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物の合成法であって下記一般式（２）で示される１，３-ジフルオロプロパン-２-オール誘導体と下記一般式（３）で示されるイソシアネート誘導体を塩基１あるいはシリル化合物のどちらか，あるいは両方の存在下，溶媒中において反応させる工程を備えることを特徴とする製造方法にある。
【００１０】
【化２】
2014019667.tif 000003
【００１１】
（式中，Ｒ１は式（１）記載の通りである。）
【００１２】
【化３】
2014019667.tif 000004
【００１３】
（式中，Ｒ２，Ｘは式（１）記載の通りである。）
請求項３に記載の発明は，下記一般式（４）で表されるカーバメート付加体にある。
【００１４】
【化４】
2014019667.tif 000005
【００１５】
（式中，Ｒ１，Ｒ２，Ｘは式（１）記載の通りである。）
請求項４に記載の発明は，前記一般式（４）で表されるカーバメート付加体の合成法であって，前記一般式（２）で表される１，３-ジフルオロプロパン-２-オール誘導体に対して，塩基２の存在下，あるいは非存在下溶媒中において反応させる工程を備えることを特徴とする製造方法にある。
【００１６】
請求項５に記載の発明は，前記一般式（１）で表されるモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物の合成法であって前記一般式（４）で示されるカーバメート付加体を塩基１あるいはシリル化合物のどちらか，あるいは両方の存在下，溶媒中において反応させる工程を備えることを特徴とする製造方法にある。
【００１７】
請求項６に記載の発明は，下記一般式（５）で表されるアニリン誘導体にある。
【００１８】
【化５】
2014019667.tif 000006
【００１９】
（式中，Ａは式中に示される３種の置換様式をもつアリール基のうちの一つを示す。Ｒ１，Ｘは式（１）記載の通りである。Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子，アルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，ハロゲン原子，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，スルフィニル基，スルホニル基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シアノ基，ニトロ基，シリル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基を示す。なおＲ３からＲ６のうち隣接する２つの基は一緒になって置換基を有していてもよい４から８員環を形成してもよい。）
請求項７に記載の発明は，前記一般式（５）で表されるアニリン誘導体の合成法であって，前記一般式（６）で表されるニトロ誘導体に対して還元剤の存在下，溶媒中において反応させる工程を備えることを特徴とする製造方法にある。
【００２０】
【化６】
2014019667.tif 000007
【００２１】
（式中，Ａは式中に示される３種の置換様式をもつアリール基のうちの一つを示す。Ｒ１，Ｘは式（１）記載の通りであり，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（５）記載の通りである。）
請求項８に記載の発明は，下記一般式（７）で表されるヒドラジン誘導体にある。
【００２２】
【化７】
2014019667.tif 000008
【００２３】
（式中，Ａは式中に示される３種の置換様式をもつアリール基のうちの一つを示す。Ｒ１，Ｘは式（１）記載の通りであり，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（５）記載の通りである。）
請求項９に記載の発明は，前記一般式（７）で表されるヒドラジン誘導体の合成法であって，前記一般式（５）で表されるアニリン誘導体に対して亜硝酸塩と酸の存在下溶媒中あるいは無溶媒下で反応させ，続いて還元剤の存在下，溶媒中において反応させる工程を備えることを特徴とする製造方法にある。
【００２４】
請求項１０に記載の発明は，下記一般式（８）で表されるヒドラジド誘導体にある。
【００２５】
【化８】
2014019667.tif 000009
【００２６】
（式中，Ａは式中に示される３種の置換様式をもつアリール基のうちの一つを示す。Ｒ１，Ｘは式（１）記載の通りであり，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（５）記載の通りである。Ｒ７はアルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，置換基を有していてもよいアミノ基，アルキルチオ基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基を示す。）
請求項１１に記載の発明は，前記一般式（８）で表されるヒドラジド誘導体の合成法であって，前記一般式（７）で表されるヒドラジン誘導体に対して塩基３の存在下，下記一般式（９）で表されるハロゲン化アシルを溶媒中又は無溶媒下において反応させる工程を備えることを特徴とする製造方法にある。
【００２７】
【化９】
2014019667.tif 000010
【００２８】
（式中，Ｒ７は式（８）記載の通りであり，Ｙはハロゲン原子を示す。）
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本明細書において，Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルキル基としては，例えば，炭素数１乃至２０程度のアルキル基を用いることができる。具体的には，メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，プロピル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基，ウンデシル基，ドデシル基，トリデシル基，テトラデシル基，ペンタデシル基，ヘキサデシル基，ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基，イコシル基，又はこれらの環状アルキル基，分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが，好ましくは１乃至２個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は，直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアラルキル基は，例としてベンジル基，ペンタフルオロベンジル基，ｏ−メチルベンジル基，ｍ−メチルベンジル基，ｐ−メチルベンジル基，ｐ−ニトロベンジル基，ナフチルメチル基，フルフリル基，α−フェネチル基等が挙げられる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアリールオキシ基としては，ヘテロアリールオキシ基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニルオキシ基，ナフチルオキシ基，アンスラニルオキシ基，ピレニルオキシ基，ビフェニルオキシ基，インデニルオキシ基，テトラヒドロナフチルオキシ基，ピリジルオキシ基，ピリミジニルオキシ基，ピラジニルオキシ基，ピリダニジルオキシ基，ピペラジニルオキシ基，ピラゾリルオキシ基，イミダゾリルオキシ基，キニリルオキシ基，ピロリルオキシ基，インドリルオキシ基，フリルオキシ基などが挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルコキシ基としては，例えば，炭素数１〜６程度のアルコキシ基を用いることができる。より具体的には，メトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ−ブトキシ基，ｓｅｃ−ブトキシ基，ｔｅｒｔ−ブトキシ基，シクロプロピルメチルオキシ基，ｎ−ペントキシ基，ｎ−ヘキソキシ基，トリエチレングリコシル基などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＹが示すハロゲン原子はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，又はヨウ素原子のいずれでもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアミノ基が置換基を有する場合，置換基として，例えば，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基又はハロゲン化アルキル基等を有していてもよい。より具体的には，炭素数１〜６程度のアルキル基で置換されたモノアルキルアミノ基，又は炭素数１〜６程度の２個のアルキル基で置換されたジアルキルアミノ基（２個のアルキル基は同一でも異なっていてもよい）などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルキルチオ基としては，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキルチオ基を用いることができる。例えば，メチルチオ基，エチルチオ基などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すスルフィニル基としては，例えば，アルキル基，アルコキシ基，アルケニル基，アルキニル基，又はアリール基を有するスルフィニル基を用いることができる。具体的にはｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基，フェニルスルフィニル基などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すスルホニル基としては，例えば，アルキル基，アルコキシ基，アルケニル基，アルキニル基，又はヘテロアリール基を含むアリール基を有するスルホニル基を用いることができる。具体的にはメチルスルホニル基，エチルスルホニル基，フェニルスルホニル基，パラメチルフェニルスルホニル基などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すカルボキシ基としては，例えば，アルキル基，アルコキシ基，アルケニル基，アルキニル基，又はアリール基を有するカルボキシ基を用いることができる。具体的には，アセトキシ基，プロピオノキシ基，ブタノキシ基，ペンタノキシ基，ヘキサノキシ基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基などが挙げられる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すカルバモイル基が置換基を有する場合，置換基として，例えば，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基又はハロゲン化アルキル基等を有していてもよい。カルバモイル基が２個の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すシリル基としては例えば，２個又は３個の，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基，ヘテロアリール基を含むアリール基，炭素数１〜６程度のアルコキシ基で置換されたシリル基（２個又は３個の置換基は同一でも異なっていてもよい）を用いることができる。具体的には，トリメチルシリル基，トリエチルシリル基，トリイソプロピルシリル基，tert-ブチルジメチルシリル基，tert-ブチルジフェニルシリル基，トリメトキシシリル基，トリエトキシシリル基，などが挙げられる。
アルキル基又はアルキル部分を含む置換基（例えば，アルコキシ基，アルキルチオ基，アルコキシカルボニル基など）のアルキル部分，アリール基又はアリール部分を含む置換基(例えば,アリールオキシ基など)のアリール部分は，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，及びヨウ素原子からなる群から選ばれる１又は２個以上のハロゲン原子有していてもよく，２個以上のハロゲン原子が置換している場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
アルキル基又はアルキル部分を含む置換基（例えば，アルコキシ基，アルキルチオ基，アルコキシカルボニル基など）のアルキル部分，アリール基又はアリール部分を含む置換基(例えば,アリールオキシ基など)のアリール部分は，アルキル基，アルコキシ基，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，スルホニル基，カルボニル基，シアノ基，ニトロ基，シリル基，アリール基，アルケニル基，又はアルキニル基からなる群から選ばれる１又は２個以上の置換基を有していてもよく，２個以上の置換基を有している場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に上記に定義されたいずれかの置換基を示すが，全部が同一の置換基であってもよい。
Ｘが示すカルコゲン原子は酸素原子，硫黄原子，セレン原子，又はテルル原子のいずれでもよい。
Ｘが示す窒素原子が置換基を有する場合，置換基として，例えば，前記に説明したアルキル基，アルコキシ基，ハロゲン原子，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，スルフィニル基，スルホニル基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シリル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基等を有していてもよい
塩基１は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，ｓｅｃ−ブチルリチウム，ｔｅｒｔ−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは水素化ナトリウムである。使用量は一般的に式（２）に対して，０．１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
塩基２は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム tert−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，sec−ブチルリチウム，tert−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくはＤＢＵである。使用量は一般的に式（２）に対して，０．１〜１０当量で，好ましくは０．１〜５当量である。
塩基３は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム tert−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，sec−ブチルリチウム，tert−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくはピリジンである。使用量は一般的に式（７）に対して，１〜１００当量で，好ましくは１〜１０当量である。
シリル化合物は特に限定されないが，例えば，トリメチルシリルクロリド，トリエチルシリルクロリド，ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリド，トリイソプロピルシリルクロリド，トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート，トリエチルシリルトリフルオロメタンスルホネート，テトラクロロシラン，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルトリフルオロメチルアセトアミドなどの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくはＮ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミドである。使用量は一般的に式（２）あるいは式（４）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
還元剤の種類は特に限定されないが，例えば，水素，水素化ホウ素ナトリウム，水素化アルミニウムリチウム，水素化イソブチルアルミニウム，ナトリウムアマルガム，亜鉛アマルガム，ヒドラジン，ギ酸などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは二塩化スズである。使用量は一般的に式（５）あるいは式（６）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
亜硝酸塩の種類は特に限定されないが，例えば，亜硝酸ナトリウム，亜硝酸カリウム，亜硝酸アンモニウムなどの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは亜硝酸ナトリウムである。使用量は一般的に式（５）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
酸の種類は特に限定されないが，例えば，濃硫酸，濃硝酸，濃塩酸，酢酸などが挙げられ，特に好ましくは濃塩酸である。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である。
溶媒の種類は特に限定されないが，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ｎ−ブチルメチルエーテル，ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘプタン，ヘキサン，シクロペンタン，シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒；クロロホルム，四塩化炭素，塩化メチレン，ジクロロエタン，トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，メシチレン，ジイソプロピルベンゼン，ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン，メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド等の溶媒；メタノール,エタノール,プロパノール，i-プロピルアルコール，アミノエタノール，N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン，１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン等のフルオロカーボン系溶媒；超臨界二酸化炭素，イオン性液体が挙げられる。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である。
本発明のモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物，アニリン誘導体，ヒドラジン誘導体及びヒドラジド誘導体化合物の絶対配置は（Ｓ）又は（Ｒ）配置のいずれであってもよく，光学異性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体はいずれも本発明の範囲に包含される。光学的に純粋な形態の異性体は本発明の好ましい態様である。また，立体異性体の任意の混合物，ラセミ体なども本発明の範囲に包含される。本発明のモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物，カーバメート付加体，アニリン誘導体，ヒドラジン誘導体及びヒドラジド誘導体は置換基の種類に応じて塩を形成する場合があり，また水和物又は溶媒和物として存在する場合もあるが，これらの物質はいずれも本発明の範囲に包含される。
前記式（１）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは−２０℃乃至室温付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１時間〜５日で反応は完結する。
前記式（４）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは室温乃至６０℃付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１時間〜５日で反応は完結する。
前記式（５）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは室温乃至８０℃付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１時間〜５日で反応は完結する。
前記式（７）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは−２０℃乃至室温付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１時間〜５日で反応は完結する。
前記式（８）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは−２０℃乃至室温付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１時間〜５日で反応は完結する。
反応後、前記式（１）で示されるモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
反応後、前記式（４）で示されるカーバメート付加体は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
反応後、前記式（５）で示されるアニリン誘導体は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
反応後、前記式（７）で示されるヒドラジン誘導体は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
反応後、前記式（８）で示されるヒドラジド誘導体は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
本発明のモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物の製造方法は特に限定されないが，前記式（２）で示される市販又は下記特許文献３及び特許文献４などによって合成される１，３-ジフルオロプロパン-２-オール誘導体に対して，前記式（３）で示される公知又は市販のイソシアネート誘導体を塩基１あるいはシリル化合物のどちらか，あるいは両方の存在下，溶媒中において反応させることによって前記式（１）のモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物を製造することができる。
（特許文献３）国際公開公報WO2000018754
（特許文献４）中国特許申請公布号ＣＮ１０２２１９６３８Ａ
また，前記式（４）で表されるカーバメート付加体に対して，塩基１あるいはシリル化合物のどちらか，あるいは両方の存在下，溶媒中において反応させることによって前記式（１）のモノフルオロメチル基が直接結合したヘテロ原子含有５員環化合物を製造することができる。
本発明のカーバメート付加体の製造方法は特に限定されないが，前記式（２）で示される市販又は特許文献３及び特許文献４などによって合成される１，３-ジフルオロプロパン-２-オール誘導体に対して，塩基２の存在下，あるいは非存在下溶媒中において反応させることによって前記式（４）のカーバメート付加体を製造することができる。
本発明のアニリン誘導体の製造方法は特に限定されないが，前記式（６）で表されるニトロ誘導体に対して還元剤の存在下，溶媒中において反応させることによって前記式（５）のアニリン誘導体を製造することができる。
本発明のヒドラジン誘導体の製造方法は特に限定されないが，前記式（５）で表されるアニリン誘導体に対して亜硝酸塩と酸の存在下溶媒中あるいは無溶媒下で反応させ，続いて還元剤の存在下，溶媒中において反応させることによって前記式（７）のヒドラジン誘導体を製造することができる。
本発明のヒドラジド誘導体の製造方法は特に限定されないが，前記式（７）で表されるヒドラジン誘導体に対して塩基３の存在下，下記一般式（９）で表される公知又は市販のハロゲン化アシルを溶媒中又は無溶媒下において反応させることによって前記式（８）のヒドラジド誘導体を製造することができる。
【００３０】
以下，実施形態により本発明をさらに具体的に説明するが，本発明の範囲は下記の実施形態に限定されることはない。
【００３１】
（第１実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-３，５-ジフェニルオキサゾリジン-２-オンを９１％の収率で得た。
【００３２】
【化１０】
2014019667.tif 000011
【００３３】
Compound １a: ５-フルオロメチル-３，５-ジフェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.19 (dd, J = 8.7, 2.1 Hz, 1H), 4.53 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 4.60 (ddd, J = 48.0, 22.8, 10.2 Hz, 1H), 7.14 (dd, J = 7.2, 7.2 Hz, 1H), 7.34-7.57 (m, 9H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.8 (t, J = 47.4 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ52.9 (d, J= 3.3 Hz), 79.8 (d, J = 18.3 Hz), 85.7 (d, J = 187 Hz), 118.5, 124.4, 124.8, 129.08, 129.11, 129.17, 137.7 (d, J = 3.85 Hz), 137.9, 153.5; MS (m/z, ESI) 294 (M++Na);
（第２実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（３-メチルフェニル）プロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-５-(３-メチルフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを７０％の収率で得た。
【００３４】
【化１１】
2014019667.tif 000012
【００３５】
Compound １b: ５-フルオロメチル-５-(３-メチルフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.40 (s, 3H), 4.18 (dd, J = 8.7, 2.4 Hz, 1H), 4.51 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 4.58 (ddd, J = 48.3, 23.4, 10.5 Hz, 2H), 7.12-7.40 (m, 7H), 7.54 (s, 1H), 7.56 (d, J = 7.8 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-233.6 (t, J = 47.7 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ21.7, 53.1 (d, J = 1.65 Hz), 79.9, 85.9 (d, J = 186 Hz), 118.6, 122.0, 124.5, 125.7, 129.2, 129.3, 130.1, 137.9 (d, J = 21.0 Hz), 139.2, 153.8;
（第３実施形態）
２-（３-クロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-(３-クロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを６６％の収率で得た。
【００３６】
【化１２】
2014019667.tif 000013
【００３７】
Compound １ｃ: ５-(３-クロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.16 (dd, J = 8.7, 2.1 Hz, 1H), 4.52 (d, J= 10.2 Hz, 1H), 4.59 (ddd, J = 47.4, 25.8, 10.2 Hz, 2H), 7.16 (dd, J = 7.5, 7.5 Hz, 1H), 7.36-7.44 (m, 5H), 7.46-7.57 (m, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.3 (t, J= 47.4 Hz);
（第４実施形態）
２-（４-クロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-(４-クロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを９４％の収率で得た。
【００３８】
【化１３】
2014019667.tif 000014
【００３９】
Compound １ｄ: ５-(４-クロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.14 (dd, J = 8.7, 2.1Hz, 1H), 4.51 (d, J= 7.5 Hz, 1H), 4.58 (ddd, J = 47.7, 26.7, 10.2 Hz, 2H), 7.16 (dd, J = 7.5, 5.5 Hz, 1H), 7.35-7.47 Hz, 6H), 7.53 (s, 1H), 7.56 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.0 (t, J = 46.2 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ52.8 (d, J = 3.85 Hz), 79.3 (d, J = 18.8 Hz), 85.3 (d, J = 186 Hz), 118.5, 124.5, 126.3, 129.1, 129.3, 135.3, 136.2, 137.7, 153.3;
（第５実施形態）
２-（３，５-ジクロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを６９％の収率で得た。
【００４０】
【化１４】
2014019667.tif 000015
【００４１】
Compound １e: ５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.13 (dd, J = 8.7, 2.1 Hz, 1H), 4.51 (d, J= 9.0 Hz, 1H), 4.59 (ddd, J = 47.4, 26.1, 10.2 Hz, 2H), 7.17 (dd, J = 7.2, 7.2 Hz, 1H), 7.36-7.42 (m, 5H), 7.53 (s, 1H), 7.55 (d, J = 2.4 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-227.4 (t, J= 47.4 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ52.7 (d, J = 3.85 Hz), 78.7, 85.0 (d, J = 187 Hz), 123.5, 123.7, 124.8, 129.1, 129.2, 129.5, 136.0, 137.4, 141.2;
（第６実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（３-メトキシフェニル）プロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-５-(３-メトキシフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを７０％の収率で得た。
【００４２】
【化１５】
2014019667.tif 000016
【００４３】
Compound １ｆ:５-フルオロメチル-５-(３-メトキシフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.84 (s, 3H), 4.19 (dd, J = 9.0, 2.4 Hz, 1H), 4.51 (d, J = 9.9 Hz, 1H), 4.59 (ddd, J = 48.0, 23.4, 10.5 Hz, 2H), 6.91-7.08 (m, 3H), 7.15 (dd, J = 7.8, 7.8 Hz, 1H), 2.28-7.40 (m, 3H), 7.54 (s, 1H), 7.57 (d, J = 0.6 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.9 (t, J = 47.4 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ52.9 (d, J= 3.32 Hz), 55.4, 110.7, 114.5, 116.8, 118.4, 124.3, 129.1, 130.2, 137.8, 139.2, 153.5, 160.1;
（第７実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（２-ナフチル）プロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-５-(２-ナフチル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを６４％の収率で得た。
【００４４】
【化１６】
2014019667.tif 000017
【００４５】
Compound １ｇ:５-フルオロメチル-５-(２-ナフチル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.30 (dd, J = 9.0, 2.4 Hz, 1H), 4.62 (d, J= 8.7 Hz, 1H), 4.70 (ddd, J = 47.1, 15.9, 9.9 Hz, 2H), 7.15 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.49 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.54-7.59 (m, 4H), 7.86-7.95 (m, 3H), 8.04 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.8 (t, J = 47.1 Hz); 
（第８実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（４-フルオロフェニル）プロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-５-(４-フルオロフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを４５％の収率で得た。
【００４６】
【化１７】
2014019667.tif 000018
【００４７】
Compound １ｈ:５-フルオロメチル-５-(４-フルオロフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.16 (dd, J = 9.0, 2.4 Hz, 1H), 4.52 (dd, J= 8.7, 1.2 Hz, 1H), 4.57 (ddd, J = 47.1, 27.3, 10.2 Hz, 2H), 7.12-7.18 (m, 3H), 7.38 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.45-7.50 (m, 2H), 7.55 (d, J = 7.8 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-112.5 (ddd, J = 13.0, 8.5, 4.8 Hz, 1F) -223.6 (t, J = 48.5 Hz); 

（第９実施形態）
２-（４-ビフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-(４-ビフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを９４％の収率で得た。
【００４８】
【化１８】
2014019667.tif 000019
【００４９】
Compound １i: ５-(４-ビフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.21 (dd, J = 8.7, 2.4 Hz, 1H), 4.63 (ddd, J = 48.0, 22.8, 10.2 Hz, 2H), 7.14 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.34-7.67 (m 13H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.6 (t, J= 47.4 Hz);
（第１０実施形態）
１-フルオロ-２-フルオロメチル-４-フェニルブタン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-５-フェネチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを７７％の収率で得た。
【００５０】
【化１８】
2014019667.tif 000020
【００５１】
Compound １ｊ: ５-フルオロメチル-５-フェネチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.02-2.22 (m, 2H), 2.78 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 2.82 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 3.80 (dd, J = 9.0, 1.8 Hz, 1H), 4.04 (dd, J = 9.0, 0.9 Hz, 1H), 4.49 (ddd, J = 47.1, 30.0, 9.9 Hz, 2H), 7.13-7.31 (m, 6H), 7.37 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.39 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.53 (s, 1H), 7.55 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-230.8 (t, J = 46.2 Hz);
（第１１実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，４-メチルフェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-３-(４-メチルフェニル)-５-フェニルオキサゾリジン-２-オンを６９％の収率で得た。
【００５２】
【化１９】
2014019667.tif 000021
【００５３】
Compound １ｋ: ５-フルオロメチル-３-(４-メチルフェニル)-５-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.32 (s, 3H), 4.17 (dd, J = 8.6, 2.3 Hz, 1H), 4.50 (d, J = 9.9 Hz, 1H), 4.59 (ddd, J = 47.1, 26.4, 10.2 Hz, 2H), 7.17 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.41-7.49 (m, 7H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.9 (t, J= 47.1 Hz);
（第１２実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，４-ブロモフェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、３-(４-ブロモフェニル)-５-フルオロメチル-５-フェニルオキサゾリジン-２-オンを４９％の収率で得た。
【００５４】
【化２０】
2014019667.tif 000022
【００５５】
Compound １ｌ: ３-(４-ブロモフェニル)-５-フルオロメチル-５-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.16 (dd, J = 8.6, 1.3 Hz, 1H), 4.51 (d, J= 7.5 Hz, 1H), 4.60 (ddd, J = 47.7, 25.5, 10.2 Hz, 2H), 7.24-7.28 (m, 2H), 7.41-7.51 (m, 5H), 7.63 (d, J = 8.7 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.7 (t, J= 48.5 Hz);
（第１３実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，３，５-ビストリフルオロメチルフェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、３-(３，５-ビストリフルオロメチルフェニル)-５-フルオロメチル-５-フェニルオキサゾリジン-２-オンを７４％の収率で得た。
【００５６】
【化２１】
2014019667.tif 000023
【００５７】
Compound １ｍ: ３-(３，５-ビストリフルオロメチルフェニル)-５-フルオロメチル-５-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.25 (dd, J = 8.4, 2.1 Hz, 1H), 4.61 (d, J= 8.1 Hz, 1H), 4.63 (ddd, J = 47.1, 23.7, 10.5 Hz, 2H), 7.44-7.50 (m, 5H), 7.65 (s, 1H), 8.07 (s, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-63.5 (S, 6F), -223.5 (t, J = 47.1 Hz);
（第１４実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，３-ニトロフェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-３-(３-ニトロフェニル)-５-フェニルオキサゾリジン-２-オンを６７％の収率で得た。
【００５８】
【化２２】
2014019667.tif 000024
【００５９】
Compound １ｎ: ５-フルオロメチル-３-(３-ニトロフェニル)-５-フェニルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.27 (dd, J = 8.7, 2.3 Hz, 1H), 4.61 (d, J= 8.4 Hz, 1H), 4.63 (ddd, J = 47.7, 23.7, 10.5 Hz, 2H), 7.42-7.60 (m, 6H), 8.01 (d, J= 7.5 Hz, 1H), 8.02-8.22 (m, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.5 (t, J = 47.1 Hz);
（第１５実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルチオイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-３，５-ジフェニルオキサゾリジン-２-チオンを６８％の収率で得た。
【００６０】
【化２３】
2014019667.tif 000025
【００６１】
Compound １o: ５-フルオロメチル-３，５-ジフェニルオキサゾリジン-２-チオン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.27 (dd, J = 8.7, 2.4 Hz, 1H), 4.50-4.84 (m, 3H), 7.32 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.41-7.48 (m, 7H), 7.55 (d, J = 8.1 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.1 (t, J= 47.4 Hz);
（第１６実施形態）
２-（３，５-ジクロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，３-ニトロフェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応溶液を６０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-（３-ニトロフェニル）オキサゾリジン-２-オンを５３％の収率で得た。
【００６２】
【化２４】
2014019667.tif 000026
【００６３】
Compound １ｐ: ５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-（３-ニトロフェニル）オキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.23 (dd, J = 8.7, 2.1 Hz, 1H), 4.60 (d, J= 8.4 Hz, 1H), 4.63 (ddd, J = 46.2, 21.9, 10.5 Hz, 2H), 7.40-7.44 (m, 3H), 7.59 (dd, J = 8.1, 8.1 Hz, 1H), 8.03 (dd, J= 7.8, 0.9 Hz, 1H), 8.16-8.23 (m, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.4 (t, J = 46.2 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ52.6 (d, J = 3.32 Hz), 79.4 (d, J = 19.3 Hz), 85.3 (d, J = 188 Hz), 112.6, 119.3, 123.8, 124.2, 129.9, 130.4, 136.4, 138.8, 140.5, 148.8, 152.7;
（第１７実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．２０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，トシルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-５-フェニル-３-トシルオキサゾリジン-２-オンを１５％の収率で得た。
【００６４】
【化２５】
2014019667.tif 000027
【００６５】
Compound １ｑ: ５-フルオロメチル-５-フェニル-３-トシルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.45 (s, 3H), 4.21 (dd, J = 9.2, 2.3 Hz, 1H), 4.46 (ddd, J = 47.1, 17.7, 10.5 Hz, 2H), 4.54 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.30-7.43 (m, 7H), 7.91 (d, J = 8.1 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-223.7 (t, J= 47.1 Hz);
（第１８実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．２２ｍｍｏｌ)，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１５ｍｍｏｌ）をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-３，５-ジフェニルオキサゾリジン-２-オンを５９％の収率で得た。
（第１９実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．３０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．３１５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，３，５-ビストリフルオロメチルフェニルイソシアネート（０．６０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、３-(３，５-ビストリフルオロメチルフェニル)-５-フルオロメチル-５-フェニルオキサゾリジン-２-オンを６７％の収率で得た。
【００６６】
（第２０実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．３０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．３１５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，３-ニトロフェニルイソシアネート（０．６０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-３-(３-ニトロフェニル)-５-フェニルオキサゾリジン-２-オンを４２％の収率で得た。
【００６７】
（第２１実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．３０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．３１５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，トシルイソシアネート（０．６０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-５-フェニル-３-トシルオキサゾリジン-２-オンを３０％の収率で得た。
【００６８】
（第２２実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  フェニルカーバメートを９３％の収率で得た。
【００６９】
【化２６】
2014019667.tif 000028
【００７０】
Compound ３a: １，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ5.00 (ddd, J = 61.5, 49.2, 9.3 Hz, 4H), 6.86 (brs, 1H), 7.06 (dd, J = 6.9, 6.9 Hz, 1H), 7.25-7.46 (m, 9H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-225.1 (t, J = 48.8 Hz);
（第２３実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（３-メチルフェニル）プロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-（３-メチルフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメートを５２％の収率で得た。
【００７１】
【化２７】
2014019667.tif 000029
【００７２】
Compound ３ｂ: １，３-ジフルオロ-２-（３-メチルフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.37 (s, 3H), 5.00 (ddd, J = 60.0, 47.1, 9.9 Hz, 4H), 6.84 (brs, 1H), 7.06 (t, J = 6.6 Hz, 1H), 7.16-7.34 (m, 8H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.9 (t, J= 48.5 Hz);
（第２４実施形態）
２-（３-クロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-（３-クロロフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメートを４４％の収率で得た。
【００７３】
【化２８】
2014019667.tif 000030
【００７４】
Compound ３ｃ: １，３-ジフルオロ-２-（３-クロロフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.98 (ddd, J = 60.9, 48.0, 9.6 Hz, 4H), 6.87 (brs, 1H), 7.07-7.10 (m, 1H), 7.26-7.34 (m, 7H), 7.44 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-225.6 (t, J = 49.9 Hz);
（第２５実施形態）
２-（４-クロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、２-（４-クロロフェニル）-１，３-ジフルオロ-プロパン-２-イル  フェニルカーバメートを７０％の収率で得た。
【００７５】
【化２９】
2014019667.tif 000031
【００７６】
Compound ３ｄ: ２-（４-クロロフェニル）-１，３-ジフルオロ-プロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) 4.77-5.17 (m, 4H), 6.89 (brs, 1H), 7.06-7.10 (m, 1H), 7.25-7.42 (m, 8H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-225.4 (t, J = 48.2 Hz);
（第２６実施形態）
２-（３，５-ジクロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、２-（３，５-ジクロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-イル  フェニルカーバメートを１８％の収率で得た。
【００７７】
【化３０】
2014019667.tif 000032
【００７８】
Compound ３e: ２-（３，５-ジクロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) 4.95 (ddd, J = 61.2, 48.9, 9.6 Hz, 4H), 6.88 (brs, 1H), 7.10 (t, J = 4.8 Hz, 1H), 7.26-7.37 (m, 7H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-226.0 (t, J = 50.1 Hz);
（第２７実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（３-メトキシフェニル）プロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-（３-メトキシフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメートを８７％の収率で得た。
【００７９】
【化３１】
2014019667.tif 000033
【００８０】
Compound ３ｆ: １，３-ジフルオロ-２-（３-メトキシフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.79 (s, 3H), 4.78-5.19 (m, 4H), 6.88 (dd, J = 8.1, 2.1 Hz, 2H), 6.99-7.08 (m, 3H), 7.24-7.34 (m, 5H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.8 (t, J = 48.8 Hz);
（第２８実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（２-ナフチル）プロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-（２-ナフチル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメートを８４％の収率で得た。
【００８１】
【化３２】
2014019667.tif 000034
【００８２】
Compound ３ｇ: １，３-ジフルオロ-２-（２-ナフチル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ5.10 (ddd, J = 73.8, 45.0, 9.9 Hz, 4H), 6.95 (br, 1H), 7.04 (dd, J = 6.9, 6.9 Hz, 1H), 7.23-7.30 (m, 4H), 7.44-7.59, (m, 3H), 7.79-7.92 (m, 4H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.9 (t, J = 48.8 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ83.3 (dd, J = 181, 5.0 Hz), 118.6, 122.3, 123.9,124.7, 126.5, 126.6, 126.7, 127.6, 128.3, 128.8, 129.0, 133.0, 133.2, 133.9, 137.2, 151.0;
（第２９実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（４-フルオロフェニル）プロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-（４-フルオロフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメートを３３％の収率で得た。
【００８３】
【化３３】
2014019667.tif 000035
【００８４】
Compound ３ｇ: １，３-ジフルオロ-２-（４-フルオロフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.97 (ddd, J = 61.8, 49.2, 9.6 Hz, 4H), 6.96 (brs, 1H), 7.05-7.11 (m, 3H), 7.25-7.31 (m, 4H), 7.40-7.45 (m, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-113.3 (s, 1F), -225.0 (t, J = 48.5 Hz, 2F);
（第３０実施形態）
２-（４-ビフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、２-（４-ビフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-イル  フェニルカーバメートを８４％の収率で得た。
【００８５】
【化３４】
2014019667.tif 000036
【００８６】
Compound ３i: ２-（４-ビフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ5.03 (ddd, J = 61.8, 49.5, 9.6 Hz, 4H), 6.96 (br, 1H), 7.05 (dd, J = 6.9, 6.9 Hz, 1H), 7.23-7.62 (m, 14H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-225.0 (t, J = 46.0 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ81.5, 83.3 (dd, J = 180, 5.0 Hz), 118.6, 123.9, 125.4, 127.1, 127.6, 128.8, 129.0, 135.4, 137.2, 140.2, 141.6, 151.0, 165.6;
（第３１実施形態）
１-フルオロ-２-フルオロメチル-４-フェニルブタン-２-オール（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１-フルオロ-２-フルオロメチル-４-フェニルブタン-２-イル  フェニルカーバメートを６１％の収率で得た。
【００８７】
【化３５】
2014019667.tif 000037
【００８８】
Compound ３ｊ: １-フルオロ-２-フルオロメチル-４-フェニルブタン-２-イル  フェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.29 (dd, J = 9.0, 9.0 Hz, 2H), 2.75 (dd, J = 11.7, 8.4 Hz), 4.77 (ddd, J = 54.0, 45.9, 9.6 Hz, 4H), 6.64 (br, 1H), 7.05-7.104 (m, 1H), 7.16-7.33 (m, 9H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-232.9 (t, J= 47.4 Hz);

（第３２実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．３０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．３１５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，４-メチルフェニルイソシアネート（０．６０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  ４-メチルフェニルカーバメートを６１％の収率で得た。
【００８９】
【化３６】
2014019667.tif 000038
【００９０】
Compound ３ｋ: １，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  ４-メチルフェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.28 (s, 3H), 5.00 (ddd, J = 62.7, 49.5, 9.6 Hz, 4H), 7.07 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.19 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.38-7.43 (m, 5H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-225.0 (t, J = 49.6 Hz);
（第３３実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．３０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．３１５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，４-ブロモフェニルイソシアネート（０．６０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  ４-ブロモフェニルカーバメートを６５％の収率で得た。
【００９１】
【化３７】
2014019667.tif 000039
【００９２】
Compound ３ｌ: １，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  ４-ブロモフェニルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ4.99 (ddd, J = 58.5, 49.2, 9.9 Hz, 4H), 7.20-7.26 (m, 2H), 7.37-7.42 (m, 7H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-225.3 (t, J = 50.8 Hz);
（第３４実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（０．３０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．３１５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルチオイソシアネート（０．６０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、Ｏ-１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  Ｎ-４-ブロモフェニルカーバモチオエートを３１％の収率で得た。
【００９３】
【化３８】
2014019667.tif 000040
【００９４】
Compound ３o: Ｏ-１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  Ｎ-４-ブロモフェニルカーバモチオエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ5.02 (ddd, J = 56.7, 46.8, 9.6 Hz, 2H), 7.21 (br, 1H), 7.39-7.47 (m, 7H), 7.66 (dd, J= 8.0, 1.3 Hz, 1H), 7.92 (dd, J = 8.1, 1.2 Hz, 1H), 8.26 (t, J = 4.5 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-225.6 (t, J = 48.5 Hz);
（第３５実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-オール（２．３０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１．０ｍｌに溶かし，室温にて，トシルイソシアネート（４．６０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  トシルカーバメートを６３％の収率で得た。
【００９５】
【化３９】
2014019667.tif 000041
【００９６】
Compound ３ｑ: １，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  トシルカーバメート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.47 (s, 3H), 4.85 (ddd, J = 58.2, 48.8, 9.4 Hz, 4H), 7.24-7.36 (m, 7H), 7.89 (d, J= 8.1 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-225.3 (t, J = 47.1 Hz);
（第３６実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  フェニルカーバメート（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１２ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１５ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-フルオロメチル-３，５-ジフェニルオキサゾリジン-２-オンを８３％の収率で得た。
（第３７実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  フェニルカーバメート（０．１０ｍｍｏｌ），水素化ナトリウム(０．１０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン０．５ｍｌに溶かし，室温にて，フェニルイソシアネート（０．２０ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５-フルオロメチル-３，５-ジフェニルオキサゾリジン-２-オンを５９％の収率で得た。
（第３８実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-（３-メチルフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメート（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１２ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１５ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-フルオロメチル-５-(３-メチルフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを９４％の収率で得た。
【００９７】
（第３９実施形態）
２-（３-クロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-イル  フェニルカーバメート（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１２ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１５ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-(３-クロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを９４％の収率で得た。
（第４０実施形態）
２-（４-クロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-イル  フェニルカーバメート（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１２ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１５ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-(４-クロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを７９％の収率で得た。
（第４１実施形態）
２-（３，５-ジクロロフェニル）-１，３-ジフルオロプロパン-２-イル  フェニルカーバメート（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１２ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１５ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを４６％の収率で得た。
（第４２実施形態）
１，３-ジフルオロ‐２-（３-メトキシフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメート（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１２ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１５ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-フルオロメチル-５-(３-メトキシフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを９０％の収率で得た。
（第４３実施形態）
１，３-ジフルオロ‐２-（４-フルオロフェニル）プロパン-２-イル  フェニルカーバメート（０．１０ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．１２ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１５ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-フルオロメチル-５-(４-フルオロフェニル)-３-フェニルオキサゾリジン-２-オンを７５％の収率で得た。
（第４４実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  ４-メチルフェニルカーバメート（０．１９７ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．０１９７ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．２９６ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-フルオロメチル-３-(４-メチルフェニル)-５-フェニルオキサゾリジン-２-オンを７５％の収率で得た。
【００９８】
（第４５実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  ４-ブロモフェニルカーバメート（０．１４５ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．０１４５ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．２１８ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，３-(４-ブロモフェニル)-５-フルオロメチル-５-フェニルオキサゾリジン-２-オンを８０％の収率で得た。
（第４６実施形態）
Ｏ-１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  Ｎ-４-ブロモフェニルカーバモチオエート（０．０９４ｍｍｏｌ），ＤＢＵ(０．００９４ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，Ｎ，Ｏ-ビストリメチルシリルアセトアミド（０．１４１ｍｍｏｌ）を加え，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-フルオロメチル-３，５-ジフェニルオキサゾリジン-２-チオンを４０％の収率で得た。
【００９９】
（第４７実施形態）
１，３-ジフルオロ-２-フェニルプロパン-２-イル  トシルカーバメート（０．０５ｍｍｏｌ），ホスファゼンベース  Ｐ４-tert-ブチル(０．００５ｍｍｏｌ)をアセトニトリル１．０ｍｌに溶かし，室温にて，反応終了まで撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，５-フルオロメチル-５-フェニル-３-トシルオキサゾリジン-２-オンを７５％の収率で得た。
（第４８実施形態）
５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル-３-（３-ニトロフェニル）オキサゾリジン-２-オン（０．２０ｍｍｏｌ），塩化スズ（II）二水和物(１．００ｍｍｏｌ)を酢酸エチル８．０ｍｌに溶かし，反応溶液を８０℃に加熱した後，反応終了まで撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え，酢酸エチルを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、３-（３-アミノフェニル）-５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチルオキサゾリジン-２-オンを９２％の収率で得た。
【０１００】
【化４０】
2014019667.tif 000042
【０１０１】
Compound ４a: ３-（３-アミノフェニル）-５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチルオキサゾリジン-２-オン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.78 (br, 2H), 4.09 (dd, J = 9.0, 2.4 Hz, 1H), 4.46 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 4.57 (ddd, J = 45.9, 26.7, 9.9 Hz, 2H), 6.49 (dd, J = 8.2, 1.2 Hz, 1H), 6.68 (dd, J = 8.7, 1.2 Hz, 1H), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.38-7.42 (m, 3H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.7 (t, J = 47.4 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ52.8 (d, J = 3.9 Hz), 78.4, 78.6, 85.0 (d, J = 187.0 Hz),105.3, 108.1, 111.5, 123.7, 129.4, 129.9, 136.0, 138.4, 141.3, 147.4, 152.8;
（第４９実施形態）
３-（３-アミノフェニル）-５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチルオキサゾリジン-２-オン（０．１８４ｍｍｏｌ）を１２Ｎ塩酸０．４６ｍｌに溶かし，反応溶液を０℃に冷却した後，２０分間撹拌した。反応溶液に亜硝酸ナトリウム（０．２０２ｍｍｏｌ）を水６０μｌに溶かした溶液をゆっくり加え，０℃で３０分間撹拌した。その後，反応溶液を−２０℃に冷却し，１２Ｎ塩酸０．２ｍｌに溶かした塩化スズ（II）二水和物(０．３６４ｍｍｏｌ)を加え，０℃に昇温後，反応終了まで撹拌した。反応溶液をろ過して固形物を除去した後，減圧下溶媒を留去し，３‐［５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル‐２-オキソオキサゾリジン-３-イル］フェニルヒドラジン塩酸塩を６１％の収率で得た。
【０１０２】
【化４１】
2014019667.tif 000043
【０１０３】
Compound ５a: ３‐［５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル‐２-オキソオキサゾリジン-３-イル］フェニルヒドラジン塩酸塩
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.03 (br, 1H), 3.17 (br, 1H), 4.10-4.16 (m, 1H), 4.46-4.73 (m, 3H), 6.86 (d, J= 6.9 Hz, 1H), 7.13-7.21 (m, 2H), 7.27-7.57 (m, 4H), 8.39 (br, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.6 (t, J= 46.0 Hz); 
（第５０実施形態）
３‐［５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル‐２-オキソオキサゾリジン-３-イル］フェニルヒドラジン塩酸塩（０．１１３ｍｍｏｌ）をピリジン１．０ｍｌに溶かし，反応溶液を０℃に冷却した後，ベンゾイルクロリド（０．１５８ｍｍｏｌ）を加え，０℃のまま反応終了まで撹拌した。反応溶液に氷水を加え，ろ過して固形物を除去した後，減圧下溶媒を留去し，残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製することで，Ｎ‘‐［３‐｛５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル‐２-オキソオキサゾリジン-３-イル｝］フェニルベンゾヒドラジドを６６％の収率で得た。
【０１０４】
【化４２】
2014019667.tif 000044
【０１０５】
Compound ６a: Ｎ‘‐［３‐｛５-(３，５-ジクロロフェニル)-５-フルオロメチル‐２-オキソオキサゾリジン-３-イル｝］フェニルベンゾヒドラジジド
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.93 (dd, J = 9.0, 2.1 Hz, 1H), 4.29 (d, J= 9.0 Hz, 1H), 4.48 (ddd, J = 47.1, 21.6, 10.2 Hz, 2H), 6.61 (s, 1H), 6.63 (dd, J= 7.0, 1.5 Hz, 1H), 6.81 (dd, J = 9.0, 1.5 Hz, 1H), 7.08 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.19 (s, 1H), 7.32 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 7.36-7.41 (m, 5H), 7.50 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 8.50 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-224.5 (t, J = 46.0 Hz); 13C NMR (CDCl3, 75.5 MHz) δ52.6, 78.5, 78.8, 85.0 (d, J= 186.4 Hz),104.1, 109.9, 110.8, 123.7, 127.2, 128.8, 129.4, 129.8, 132.1, 132.3, 135.9, 138.3, 141.2, 149.2, 152.8, 167.9; IR (KBr) 3298, 1756, 1669, 1608, 1569, 1507, 1481, 1420, 1303, 1244, 1173, 1114, 1027, 863, 802, 750, 687 cm-1; MS (ESI, m/z) 496.1 [M+Na]+;