(57)【要約】【課題】効率的に微細なミストを生成できるミスト発生装置を提供する。【解決手段】回転駆動される回転基板７０と、ミスト生成用の液体８を回転基板７０に送給する液体送給手段９とを備えている。衝突壁８１と液体通路８３とを交互に配置してなる環状の衝突壁列８２を、回転基板７０の回転中心を囲む状態で、径方向へ少なくとも二重に設けている。各衝突壁列８２は、外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されている。回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｗ＞Ｈ、Ｗ＞Ｔの関係を満たすように設定されている。【選択図】図１
2014030789.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動される回転基板（７０）と、ミスト生成用の液体（８）を回転基板（７０）に送給する液体送給手段（９）とを備えており、
衝突壁（８１）と液体通路（８３）とを交互に配置してなる環状の衝突壁列（８２）が、回転基板（７０）の回転中心を囲む状態で、径方向へ少なくとも二重に設けてあり、
各衝突壁列（８２）は、外側の衝突壁列（８２）を構成する衝突壁（８１）が、内側の衝突壁列（８２）の液体通路（８３）と対向する状態で配置されており、
回転基板（７０）の周方向に係る衝突壁（８１）の幅寸法（Ｗ）と、回転基板（７０）の径方向に係る衝突壁（８１）の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁（８１）の突出寸法（Ｈ）とが、（Ｗ）＞（Ｈ）、（Ｗ）＞（Ｔ）の関係を満たすように設定されていることを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
回転基板（７０）の周方向に係る衝突壁（８１）の幅寸法（Ｗ）と、回転基板（７０）の径方向に係る衝突壁（８１）の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁（８１）の突出寸法（Ｈ）とが、（Ｗ）＞（Ｈ）＞（Ｔ）の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項１に記載のミスト発生装置。
【請求項３】
回転基板（７０）の周方向に係る衝突壁（８１）の幅寸法（Ｗ）と、回転基板（７０）の径方向に係る衝突壁（８１）の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁（８１）の突出寸法（Ｈ）とが、（Ｗ）＞（Ｔ）＞（Ｈ）の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項１に記載のミスト発生装置。
【請求項４】
回転基板（７０）は、基板本体（８０）と衝突壁（８１）とを含み、
基板本体（８０）の厚み寸法（Ｅ）と、回転基板（７０）の周方向に係る衝突壁（８１）の幅寸法（Ｗ）と、回転基板（７０）の径方向に係る衝突壁（８１）の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁（８１）の突出寸法（Ｈ）とが、（Ｅ）＞（Ｗ）＞（Ｈ）＞（Ｔ）の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項２に記載のミスト発生装置。
【請求項５】
回転基板（７０）は、基板本体（８０）と衝突壁（８１）とを含み、
基板本体（８０）の厚み寸法（Ｅ）と、回転基板（７０）の周方向に係る衝突壁（８１）の幅寸法（Ｗ）と、回転基板（７０）の径方向に係る衝突壁（８１）の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁（８１）の突出寸法（Ｈ）とが、（Ｅ）＞（Ｗ）＞（Ｔ）＞（Ｈ）の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項３に記載のミスト発生装置。
【請求項６】
回転基板（７０）の周方向に係る衝突壁（８１）の幅寸法（Ｗ）と、回転基板（７０）の径方向に係る衝突壁（８１）の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁（８１）の突出寸法（Ｈ）と、衝突壁列（８２）の液体通路（８３）の通路幅（Ａ）とが、（Ｗ）＞（Ｈ）＞（Ｔ）＞（Ａ）の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項２または４に記載のミスト発生装置。
【請求項７】
回転基板（７０）の周方向に係る衝突壁（８１）の幅寸法（Ｗ）と、回転基板（７０）の径方向に係る衝突壁（８１）の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁（８１）の突出寸法（Ｈ）と、衝突壁列（８２）の液体通路（８３）の通路幅（Ａ）とが、（Ｗ）＞（Ｔ）＞（Ｈ）＞（Ａ）の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項３または５に記載のミスト発生装置。
【請求項８】
内外の衝突壁列（８２）を構成する衝突壁（８１）の間に形成される周方向の液体通路（８４）の通路幅（Ｂ）と、衝突壁列（８２）の液体通路（８３）の通路幅（Ａ）とが、（Ｂ）＞（Ａ）の関係を満たすように設定されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のミスト発生装置。
【請求項９】
衝突壁（８１）の壁面（９０）に凹凸部（９５）を形成して、壁面（９０）が粗面化されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載のミスト発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水または化粧水などの液体を微細なミストにして送出するミスト発生装置に関する。このミスト発生装置は、例えば、肌に潤いのある状態にする加湿器として、あるいは喉や口腔を湿らせる吸入器として使用できる。さらに、洗濯槽の内部に配置してミスト状の洗剤や柔軟剤を放出する液体散布器として使用することができる。
【０００２】
本発明に係るミスト発生装置は、回転基板上に送給された液体を遠心力で跳ね飛ばして、回転基板上に設けた衝突壁に衝突させることにより液体を微細化するが、この種のミスト発生装置は例えば特許文献１に公知である。そこでは、対向する一対の円盤の間に中心から放射状に伸びる８枚の羽根と、多数の邪魔部材とが、円盤と一体に設けてあり、回転する円盤の間に液体を送給すると、液体が遠心力で跳ね飛ばされてミスト化され、邪魔部材に衝突することによってさらに微細化されて、円盤の間から外方へ放出されるようにしている。
【０００３】
同様のミスト発生装置は特許文献２にも開示されている。そこでは、上下一対の円板の間に、径方向に伸びる多数の案内路を有する環状壁と、案内路の出口に臨む多数のコロとが設けてある。回転する一対の円板の間に液体を送給すると、液体が遠心力で跳ね飛ばされてミスト化され、案内路を通ってコロに衝突することによりさらに液体が微細化される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第９８／０５４３２号（第１５頁第５〜１９行、第８図）
【特許文献２】実開昭６２−１７９０５２号のマイクロフィルム（第８頁第６〜８行、第２図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の邪魔部材、および特許文献２のコロは、共に円柱形状に形成されている。このため、液体が邪魔部材等に衝突したときに、液体に加わる衝突エネルギーが円柱表面で分散されることが避けられず、効率的に液体をミスト化することができず、ミスト径の微細化を図ることが困難である。
【０００６】
本発明の目的は、効率的に微細なミストを生成できるミスト発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、回転駆動される回転基板７０と、ミスト生成用の液体８を回転基板７０に送給する液体送給手段９とを備えている。衝突壁８１と液体通路８３とを交互に配置してなる環状の衝突壁列８２を、回転基板７０の回転中心を囲む状態で、径方向へ少なくとも二重に設けている。各衝突壁列８２は、外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されている。回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｗ＞Ｈ、Ｗ＞Ｔの関係を満たすように設定されている。
【０００８】
本発明で言うところの「環状の衝突壁列」とは、図５に示すように、径寸法の異なる衝突壁列８２が複数個形成されている形態のほか、図１３に示すように、衝突壁列８２が螺旋状に形成されている形態をも含む概念である。また、本発明において「外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されている」とは、一つの例外も無く、全ての外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されていることを意味するものではなく、大多数の外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されていることをも含む概念である。
【０００９】
また、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｗ＞Ｈ＞Ｔの関係を満たすように設定されている。
【００１０】
また、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｗ＞Ｔ＞Ｈの関係を満たすように設定されている。
【００１１】
また、回転基板７０は、基板本体８０と衝突壁８１とを含み、基板本体８０の厚み寸法Ｅと、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｅ＞Ｗ＞Ｈ＞Ｔの関係を満たすように設定されている。
【００１２】
また、回転基板７０は、基板本体８０と衝突壁８１とを含み、基板本体８０の厚み寸法Ｅと、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｅ＞Ｗ＞Ｔ＞Ｈの関係を満たすように設定されている。
【００１３】
また、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈと、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａとが、Ｗ＞Ｈ＞Ｔ＞Ａの関係を満たすように設定されている。
【００１４】
また、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈと、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａとが、Ｗ＞Ｔ＞Ｈ＞Ａの関係を満たすように設定されている。
【００１５】
また、内外の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１の間に形成される周方向の液体通路８４の通路幅Ｂと、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａとが、Ｂ＞Ａの関係を満たすように設定されている。
【００１６】
衝突壁８１の壁面９０に凹凸部９５を形成して、壁面９０が粗面化されている。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係るミスト発生装置においては、衝突壁８１を有する回転基板７０により、液滴を分離・分散（粉砕）させることができるので、液体を確実に微細化して、細かなミストを得ることが可能となる。回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとする。Ｗ＞Ｈの関係を満たすように設定することにより、衝突壁８１を設けることに伴う回転基板７０全体の厚み寸法の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。さらにＷ＞Ｔの関係を満たすように設定することにより、回転基板７０の小径化を実現してミスト発生装置の全体を小型化できる。これにより、ミストを生成するための回転基板４が小径であり、全体として小型であるにもかかわらず、微細なミストを生成できるミスト発生装置を得ることができる。
【００１８】
また、本発明に係るミスト発生装置においては、衝突壁８１と液体通路８３とを交互に配置した環状の衝突壁列８２を少なくとも二重に設け、外側の衝突壁列８２の衝突壁８１を、内側の衝突壁列８２の液体通路８３に対向させたので、液体が最外周の衝突壁列８２の外方へ飛び出るまでの間に、該液体を衝突壁８１に確実に衝突させることができる。したがって、液体を微細化して、細かなミストを得ることができる。
【００１９】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｗ＞Ｈ＞Ｔの関係を満たすように設定されていると、回転基板７０の小径化を図りながら、衝突壁８１の衝突面積を大きくすることができる。すなわち、衝突壁８１の厚み寸法Ｔを小さくしながら、衝突壁８１の幅寸法Ｗと衝突壁の突出寸法Ｈとで規定される、外側の衝突壁列８２の衝突壁８１の壁面面積（Ｗ×Ｈ）を大きく取ることができる。これにて、衝突壁８１の厚み寸法Ｔを小さくして、回転基板７０の小径化を図りながら、より確実に内側の衝突壁列８２の液体通路８３から送出された液滴を、外側の衝突壁列８２の衝突壁８１に衝突させて、効率的にミスト径の微細化を図ることが可能となる。
【００２０】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｗ＞Ｔ＞Ｈの関係を満たすように設定されていると、回転基板７０の小径化を図ることができる。衝突壁８１の突出寸法を抑制して衝突壁８１の強度を増すことができるとともに、回転基板７０全体の厚み寸法（上下寸法）の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。回転基板７０の厚み寸法が大きくなれば回転基板７０を固定するモーター４の回転軸５６に負荷がかかりモーター４の寿命に影響するが、これを可及的に抑制することができる。
【００２１】
基板本体８０の厚み寸法Ｅと、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｅ＞Ｗ＞Ｈ＞Ｔの関係を満たすように設定されていると、先と同様に、回転基板７０の小径化を図りながら、衝突壁８１の衝突面積を大きくすることができる。また、基板本体８０の厚み寸法Ｅを大きく取って、回転基板７０を強度に優れたものとすることができる。加えて、回転基板７０の重量を大きくして、その慣性重量を大きくすることができるので、回転基板７０の回転姿勢を安定化することができる。
【００２２】
基板本体８０の厚み寸法Ｅと、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｅ＞Ｗ＞Ｔ＞Ｈの関係を満たすように設定されていると、先と同様に、衝突壁８１の突出寸法を抑制して衝突壁８１の強度を増すことができるとともに、回転基板７０全体の厚み寸法（上下寸法）の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。また、基板本体８０の厚み寸法Ｅを大きく取って、回転基板７０を強度に優れたものとすることができる。加えて、回転基板７０の重量を大きくして、その慣性重量を大きくすることができるので、回転基板７０の回転姿勢を安定化することができる。
【００２３】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈと、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａとが、Ｗ＞Ｈ＞Ｔ＞Ａの関係を満たすように設定されていると、先と同様に、回転基板７０の小径化を図りながら、衝突壁８１の衝突面積を大きくすることができる。加えて、衝突壁８１の突出寸法Ｈを、液体通路８３の通路幅Ａよりも大きくしていると、これら衝突壁８１の突出寸法Ｈと液体通路８３の通路幅Ａとで規定される液体通路の断面積（Ｈ×Ａ）を大きく取ることができるので、液体通路８３内の液体の流れをスムーズなものとすることができる。
【００２４】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈと、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａとが、Ｗ＞Ｔ＞Ｈ＞Ａの関係を満たすように設定されていると、先と同様に、衝突壁８１の突出寸法を抑制して衝突壁８１の強度を増すことができるとともに、回転基板７０全体の厚み寸法（上下寸法）の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。加えて、衝突壁８１の突出寸法Ｈを、液体通路８３の通路幅Ａよりも大きくしていると、これら衝突壁８１の突出寸法Ｈと液体通路８３の通路幅Ａとで規定される液体通路の断面積（Ｈ×Ａ）を大きく取ることができるので、液体通路８３内の液体の流れをスムーズなものとすることができる。
【００２５】
内外の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１の間に形成される周方向の液体通路８４の通路幅Ｂと、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａとが、Ｂ＞Ａの関係を満たすように設定されていると、衝突壁列８２の液体通路８１の通路幅Ａを小さくしたことに由来する、衝突壁８１に対する液体の衝突エネルギーの向上効果が期待できる。したがって、より効率的に液体を衝突壁８１に衝突させて、ミスト径を微細化できる。
【００２６】
回転基板７０に設けられた衝突壁８１の壁面９０に凹凸部９５を形成して、壁面９０を粗面化した。これによれば、壁面９０に衝突した液滴をより効率的に分離・分散（粉砕）させることができるので、液体を確実に微細化して、細かなミストを得ることが可能となる。加えて、壁面９０に凹凸部９５を形成したので、該壁面９０の表面で液滴が団粒化することを防ぐことができ、したがって、より細かなミストを得ることができるとともに、ミスト径の均一化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１実施形態に係るミスト発生装置の要部の斜視図である。
【図２】ミスト発生装置の概略構造を示す縦断側面図である。
【図３】ミスト発生装置のミスト発生部を拡大して示す図である。
【図４】ミスト発生装置のミスト発生部の分解図である。
【図５】回転基板を示す平面図である。
【図６】ミスト発生装置の要部の縦断側面図である。
【図７】ミスト発生装置の制御構成を示すブロック図である。
【図８】（ａ）・（ｂ）はミスト発生装置の制御方法を説明するためのタイムチャートである。
【図９】ミスト発生装置の使用方法を説明するための図である。
【図１０】ミスト発生装置の洗浄方法を説明するための図である。
【図１１】（ａ）〜（ｃ）は、ミスト発生装置を構成する回転基板の製造方法を説明するための図である。
【図１２】（ａ）〜（ｃ）は、ミスト発生装置を構成する回転基板の製造方法を説明するための図である。
【図１３】本発明の第２実施形態に係るミスト発生装置を構成する回転基板を示す平面図である。
【図１４】（ａ）・（ｂ）は、本発明の第３実施形態に係るミスト発生装置を構成する回転基板を示す縦断側面図である。
【図１５】本発明の第４実施形態に係るミスト発生装置を構成する回転基板を示す縦断側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
（第１実施形態）  図１乃至図１２は本発明に係るミスト発生装置の第１実施形態を示す。図２に示すように、ミスト発生装置の筐体となる本体ケース１は、下方に設けられた上下方向に長い円筒状のグリップ部２と、該グリップ部２の上方に一体形成されたヘッド部３とで構成される樹脂成形品である。本発明における前後、左右、上下とは、図２乃至図６等に示す交差矢印と、各矢印の近傍に表記した前後、左右、上下の表示に従う。なお、図２における上下方向とは、グリップ部２の伸び方向を上下方向と規定しており、図３乃至図６においては、ヘッド部３の伸び方向を上下方向と規定しており、図２と、図３乃至図６とでは「上下方向」が異なることを補足する。
【００２９】
図２に示すように、ヘッド部３は、グリップ部２に連設されたヘッドホルダー３ａを含んで構成されており、その内部には、回転体５と、回転体５を回転駆動する回転体駆動手段（モーター）４と、回転体駆動手段４の回転軸に取り付けられるミスト供給用のファン（ファンユニット）４６などで構成されるミスト発生部６が配置されている。ヘッドホルダー３ａには、その前方側に吐出口１８５が、後方側に吸気口１８６が開口している。グリップ部２の下端にはミスト生成用の水（液体）８が収容されるタンク７が着脱自在に装着されており、グリップ部２の内部には、タンク７に収容されている水８をミスト発生部６に送給するための送給ポンプ（液体送給手段）９を含む液体送給部１０、回転体駆動用のモーター４等に電力を供給するための電池１１、帯電装置１１７（図７参照）のほか、ミスト発生装置の全体を制御するための制御回路１３（図７参照）などが配置されている。図２において、符号１４は、制御回路１３のほか、帯電装置１２を構成する発振回路１２４等が実装される制御基板を、符号１５は、モーター４やポンプ９駆動用のモーター１７等をオンオフ操作するためのメインスイッチを、符号１６は、洗浄動作時にモーター４をオン操作するための洗浄スイッチを示す。これらメインスイッチ１５および洗浄スイッチ１６は、グリップ２の筐体前面に設けられている。
【００３０】
タンク７は、円筒形状のグリップ部２の外径寸法と一致する外径寸法を有する円筒容器状に形成された樹脂成形品であり、その上壁面７ａには、液体送給部１０を構成する吸込パイプ２５の下端に装着されたストレーナー２４の挿入を許す液体供給口２０が上向きに突設されている。グリップ部２の下壁面２ａには、吸込パイプ２５の突出を許すパイプ用開口２１が下向きに突設されており、該パイプ用開口２１と液体供給口２０との間に、タンク脱着機構が設けられている。タンク脱着機構は、グリップ部２側のパイプ用開口２１に設けられた雄ねじ部２１ａと、タンク７側の液体供給口２０に設けられた雄ねじ部２１ａと螺合結合する雌ねじ部２０ａとからなり、ストレーナー２４および吸込パイプ２５を液体供給口２０からタンク７内に挿入したうえで、雄ねじ部２１ａの外面に雌ねじ部２０ａを所定方向に捩じ込むことにより、グリップ部２の下端にタンク７を装着固定することができる。また、グリップ部２の下端にタンク７が装着された状態から、先とは逆方向にタンク７を回転させることにより、雄ねじ部２０ａに対する雌ねじ部２１ａの螺合状態を解除して、タンク７をグリップ部２から取り外すことができる。また、タンク７をグリップ部２から取り外したうえで、液体供給口２０からタンク７内に水を供給することで、タンク内７に水を充填することができる。符号２２は、パイプ用開口２１と吸込パイプ２５との間に配されたシールリングを示す。
【００３１】
液体送給部１０は、グリップ部２の内部に配された送給ポンプ９と、送給ポンプ９を駆動するモーター１７と、送給ポンプ９の吸込口からタンク７の内底に向かって伸びる吸込パイプ２５と、送給ポンプ９の吐出口と回転体５との間に配置される吐出流路２６とで構成される。吐出流路２６は、送給ポンプ９の吐出口からヘッド部３の保護フード４５にわたって配置される送給チューブ２７と、保護フード４５に形成される液体通路２８と、液体通路２８に連通されて回転体５に向かって伸びる送給管２９とで構成される。送給ポンプ９は低圧仕様のギヤポンプからなり、毎秒０．０１ｍｌ程度の水を吐出流路２６へ送出する。送給ポンプ９は、少ない量の液体を送給するのに適するポンプであれば、ギヤポンプに限定されるのもではなく、チューブポンプなどを採用することができる。
【００３２】
図３および図４に示すように、ミスト発生部６が収容されるケース体１８０は、上下方向中央部に配されたベースケース３０と、ベースケース３０の下方に配された下ケース３１と、ベースケース３０の上方に配された上ケース３２とで構成される。このミスト発生部６を収容したケース体１８０は、ヘッド部３内に装着されている。
【００３３】
ミスト発生部６を構成するモーター４を支持するモーターホルダー３３は、ベースケース３０および下ケース３１に設けられた内筒壁３５・３８で構成される。より詳しくは、ベースケース３０は、下方に開口を有する有底直円筒状の内筒壁３５と、内筒壁３５を囲むように配された外筒壁３６と、これら内外筒壁３５・３６を橋絡する図外の連結腕とを備える二重筒状に構成されており、これら内外筒壁３５・３６の間に上下方向に連通する連通孔３７が形成されている。下ケース３１は、上方に開口を有する有底直円筒状の内筒壁３８と、該内筒壁３８を囲むように配された外筒壁３９と、これら内外筒壁３８・３９を橋絡する図外の連結腕とを備える二重筒状に構成されており、これら内外筒壁３８・３９の間に上下方向に連通する連通孔４０が形成されている。下ケース３１の外筒壁３９は、径寸法が均一なストレート部３９ａと、該ストレート部３９ａに連続して形成されて、下方に行くに従って漸次径寸法が大きくなるテーパー部３９ｂとで構成されている。両ケース３０・３１の内筒壁３５・３８の径寸法、およびベースケース３０の外筒壁３６と下ケース３１のストレート部３９ａの径寸法は、同寸法に設定されており、ベースケース３０の下端に下ケース３１を装着したとき、ケース体１８０の内部には、両ケース３０・３１の内筒壁３５・３８により内ケース１８２が形成される。この内ケース１８２がモーターホルダー３３となる。外筒壁３６・３９の下方には開口４１が形成されている。
【００３４】
上ケース３２は、ベルマウス状の噴射口４３を備える筒壁４４からなり、その内部に、ファンユニット４６、支持ベース４７、回転体５、押さえ板４８からなるミスト発生部６が配置されている。図４に示すように、筒壁４４は、ベースケース３０の外筒壁３６に連続するストレート部４４ａと、ストレート部４４ａの上端に連続して形成された上拡がりテーパー状のテーパー部４４ｂとで構成されている。保護フード４５は、回転体を保護する目的で形成された円板状のフード本体５０と、該フード本体５０を保持するフードホルダー５１とで構成される。フードホルダー５１は、フード本体５０を浮揚姿勢に支持する３本の支持脚５２と、支持脚５２の上端に形成されてフード本体５０を受け止める支持片５３とを備える。フードホルダー５１の各支持脚５２は、フード本体５０から等間隔を置いて放射状に形成されており、その下端部が筒壁４４に連結されている。なお、図３等においては、二本の支持脚５２・５２のみを図示している。
【００３５】
筒壁４４と外筒壁３６・３９により外ケース１８１が形成される。つまり、内ケース（内方のケース）１８２と外ケース（外方のケース）１８１により二重筒状のケース体（ケース）１８０が構成されている。外ケース１８１の両端には、流体の出入りを許す噴射口４３と開口４１とを有しており、内ケース１８２には、モーター４が設けられており、内ケース１８２と外ケース１８１の間には流体の通過を許す連通孔３７・４０が形成されている。
【００３６】
図３および図４に示すように、保護フード４５のフードホルダー５１の内部には、液体通路２８が形成されている。液体通路２８は、一本の支持脚５２の内部に形成されて、送給チューブ２７（図２参照）が接続される第１流路２８ａと、支持片５３の内部に形成されて、該第１流路２８ａの下流端に連設された第２流路２８ｂとで構成される。第１流路２８ａを有する支持脚５２の下端部は、筒壁４４の外部に突出されており、その下端部に送給チューブ２７が外嵌状に接続されている。支持片５３の下面の中央部には、液体送給口５４が下方に向けて突設されており、この液体送給口５４内に、第２流路２８ｂの下流端に接続された送給管２９が配置されている。図３および図４において、符号５３ａは、支持片５３の中央部に設けられて、液体送給口５４に連通する中央開口を示している。送給管２９の下端の給液口２９ａは、僅かな隙間を介して回転体駆動用のモーター４の出力軸５６に近接対向されている（図６参照）。
【００３７】
図４に示すように、ベースケース３０の上壁５７には、モーター４の出力軸５６の突出を許す開口５８が形成されており、モーター４は、該開口５８を介して上ケース３２の噴射口４３内に出力軸５６が指向する姿勢状態でモーターホルダー３３内に配置される。ベースケース３０の上壁５７から突出するモーター４の出力軸５６には、ファンユニット４６、支持ベース４７、および回転体５が記載順に装着されている。ファンユニット４６は、出力軸５６に外嵌装着される円柱状のファンベース６０と、ファンベース６０の外周面に沿って渦巻状に突設した一群のファンブレード６１と、ファンブレード６１を囲むように形成された円環状の保護リング６２とを一体に成形したプラスチック成形品であり、ベースケース３０および下ケース３１の連通孔３７・４０を介して、下ケース３１の下方開口４１から吸い込んだ空気を、上ケース３２の噴射口４３に向けて送出する。先に述べたように、このファンユニット４６は、回転体駆動用のモーター４の出力軸５６に装着されている。つまり、モーター４は、ファン駆動用のモーターを兼ねている。
【００３８】
支持ベース４７は、下面の径寸法が小さく、上面の径寸法が大きな略逆円錐台形に形成されたプラスチック成形品であり、その上面の四箇所の周方向の等間隔位置には回転体５および押さえ板４８を溶着固定するための連結ボス６４が突設されている。ファンユニット４６および支持ベース４７の中央には、出力軸５６の外周面に、これらファンユニット４６および支持ベース４７を外嵌装着するための装着孔６５・６６が開設されている。ファンユニット４６の上面には、支持ベースの下面を受け止める受面６７が段付き状に凹み形成されており、ファンユニット４６、次いで支持ベース４７を出力軸５６に装着したとき、ファンユニット４６の受面６７に支持ベース４７の下面が受け止められるようになっている。
【００３９】
図５および図６に示すように、回転体５は、同一の外径寸法を有する複数枚の金属製の回転基板７０を積層してなるものであり、本実施例では、４枚の回転基板７０ａ〜７０ｄを積層して回転体５を構成している。各回転基板７０ａ〜７０ｄは、円板状、或いは円リング状の基板本体８０と、該基板本体８０の上面に立設された多数個の衝突壁８１とで構成される。最下方に位置する回転基板７０ａを構成する基板本体８０の盤面中央には、出力軸５６の外周面に回転基板７０ａを外嵌装着するための装着孔７１が開設されており、上方に位置する３枚の回転基板７０ｂ〜７０ｄを構成する基板本体８０の盤面中央には、液体送給口５４の挿入を許す微細化前の液体の導入口７２が開設されている。すなわち、最下方の回転基板７０ａの基板本体８０は装着孔７１を有する円プレート形に形成されており、その余の上方の回転基板７０ｂ〜７０ｄの基板本体８０は、装着孔７１よりも大径の流路導入口７２を有する円リング状に形成されている。以上より、これら回転基板７０ａ〜７０ｄを積層してなる回転体５は、液体の導入口７２に連通する上方開口を有する円柱ブロック状に形成される。各回転基板７０ａ〜７０ｄの等間隔位置の四箇所には、連結ボス６４の挿通を許す連結孔７３が開設されている。
【００４０】
回転基板７０ａ〜７０ｄの支持ベース４７からの浮き上がりを防ぐ目的で配置される押さえ板４８は、最上方の回転基板７０ｄと同等の内径寸法を備える円リング状のベース部７５と、ベース部７５の内周面から上方に突設して、液体送給口５４に近接対向して、回転体５を含むミスト発生部６の揺動を規制する規制筒部７６とで構成される。回転基板７０ａ〜７０ｄの連結孔７３に対応して、ベース部７５の盤面四箇所にも連結孔７７が開設されている。
【００４１】
回転体５および押さえ板４８は、連結孔７３・７７に挿通された連結ボス６４により、上方に抜け止め状に固定される。より詳しくは、支持ベース４７の連結ボス６４に回転体５を構成する回転基板７０ａ〜７０ｄおよび押さえ板４８の連結孔７３・７７を位置合わせして、これら回転基板７０ａ〜７０ｄおよび押さえ板４８の連結孔７３・７７内に連結ボス６４を挿通させたうえで、連結孔７３・７７を介して押さえ板４８のベース部７５から上方に突出する連結ボス６４の上端部を熱かしめする。これにより、支持ベース４７に対して回転基板７０ａ〜７０ｄおよび押さえ板４８を抜け止め状に固定することができる。
【００４２】
また、以上のような構成からなるミスト発生部６は、予め支持ベース４７に回転体５および押さえ板４８を先の手順で固定して、三者（支持ベース４７、回転体５、押さえ板４８）をユニット部品化しておくことができる。また、ミスト発生部６は、モーター４の出力軸５６に、ファンユニット４６、および先のユニット部品を装着することで組付けることができる。先に述べたようにミスト発生部６を収容したケース体１８０は、ヘッド部３内に装着されている。このとき、ヘッドホルダー３ａの吐出口１８５とケース体１８０の噴射口４３とが連通し、ヘッドホルダー３ａの吸気口１８６とケース体１８０の開口４１とが連通している。つまり、ヘッド部３を前後方向に貫通状に形成して吐出口１８５、吸気口１８６および連通孔３７・４０を構成し、その連通孔３７・４０に回転体５を含むミスト発生部６を配置している。
【００４３】
上述のように送給管２９の下端の給液口２９ａは、僅かな隙間を介してモーター４の出力軸５６に近接対向されている（図６参照）。従って、両モーター４・１７を駆動させると、吸込パイプ２５を介してタンク７から吸い上げられて、吐出流路２６を介して送給管２９の給液口２９ａから吐出された水は、出力軸５６の上端で跳ねて、液体の導入口７２に係る空間に飛散されたのち、回転体５内に導入される。そして、回転体５内でミスト化された後、ファンユニット４６からの送風に乗って噴射口４３および吐出口１８５から放出される。ファンユニット４６による送風の際、送風効率を向上させるために吸気口１８６および開口４１から空気が吸い込まれている。より詳しくは、吐出流路２６を介して送給管２９の給液口２９ａから吐出されて回転基板７０との接触部分まで移動した水は、遠心力によって液体の導入口７２に向けて飛散していき、回転基板７０ａ〜７０ｄ間に形成された隙間（通路入口）及び回転基板７０ｄとベース部７５間に形成される隙間（通路入口）に入り込む。そして衝突壁８１に衝突しながら通路内を外方に向けて移動しミスト化される。このとき、出力軸５６は、先端に向けて徐々に径が小さくなる構造であるので、給液口２９ａからの液体を吸い込む作用が働く。また、出力軸５６は、液体送給手段９からの液体が断続的に回転基板７０に送給されるのを抑制するために設けられる突起を兼ねている。したがって、別途突起を設ける形態に比べて、コスト低減に貢献できる。
【００４４】
図５に示すように、衝突壁８１は、基板本体８０の中央近傍を除く上面全体に設けられており、基板本体８０の周方向に所定間隔で列設されて、環状の衝突壁列８２を構成している。衝突壁列８２において隣接する衝突壁８１の間には、遠心力で跳ね飛ばされた液体が通過する液体通路８３が形成されている。衝突壁列８２は、回転基板７０の径方向へ多重に設けられており、回転基板７０の内外方向（径方向）において隣接する衝突壁列８２の間には、周方向通路８４が形成されている。このように衝突壁列８２を多重（三重以上）に設けると、水の微細化をより促進することができる。すなわち、衝突壁列８２が回転基板７０の径方向へ多重に設けられていると、液体の進行方向を多様化させて、液体をよく分離させることができ、ミストの微細化を促進できる。また、液体通路８３と対向する衝突壁８１に液体を繰り返して衝突させて、ミストをさらに確実に微細化できる。
【００４５】
外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１は、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向している。つまり、外側の衝突壁８２を構成する各衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３の出口に臨むように配置してある。これにより、回転基板７０の中央に送給されて遠心力で跳ね飛ばされた水は、内側の衝突壁列８２を構成する液体通路８３を通って、外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１に必ず衝突させることができる。
【００４６】
外側の衝突壁列８２は、内側の衝突壁列８２よりも多くの衝突壁８１および液体通路８３を備えている。このように、外周側の衝突壁列８２に多くの液体通路８３を設けると、水の進行方向を多様化させて、回転基板７０の面全体に広がるように水を分散させることができるので、水の微細化を促進することができる。なお、本実施例においては、外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されているが、この「外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されている」とは、一つの例外も無く、全ての外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されていることを意味するものではなく、大多数の外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されていることをも含む概念である。本実施形態のように、衝突壁８２を多重（三重以上）に設けていると、例えば２列の衝突壁列の一部で液体通路が重なって内外方向に液体通路が連通している場合でも、３列目或いは４列目の衝突壁列の衝突壁でカバーして、液体が最外周の衝突壁列８２の外方へ飛び出るまでの間に少なくとも一度は衝突壁８１に衝突させることができる。
【００４７】
また、複数枚の回転基板７０が積層されて回転体５が構成されていると、回転基板７０の外径寸法を大きくすることなく、回転体５の表面積を大きくしてミスト発生量の増大化を図ることができる。従って、小型でありながら、ミスト生成能力に優れたミスト発生装置を得ることができる。
【００４８】
液体通路８３の上方開口は、上方に配された回転基板７０の下面で覆われており、換言すれば、上方側の回転基板７０の基板本体８０が、下方側の回転基板７０の液体通路８３の上方開口を覆う天板８６（図６参照）とされている。このように、上方側の回転基板７０の基板本体８０が、下方側の回転基板７０の液体通路８３を覆う天板８６を兼ねるものとしてあると、別途天板８６を設ける形態に比べて、回転体５の厚み寸法を小さくして、ミスト発生装置の小型化に貢献できる。尤も、最上方に位置する回転基板７０の液体通路８３の上方開口は、押さえ板４８の下面で覆われている。
【００４９】
図６に示すように、上方側の回転基板７０は、下方側の回転基板７０の衝突壁８１の上面で支持されている。つまり、下方側の衝突壁８１を含む衝突壁列８２が、上方側の回転基板７０の支持構造を兼ねている。これによれば、別途、上方側の回転基板７０の支持構造を設ける形態に比べて、回転体５の製造コストの上昇を抑えることができる。
【００５０】
図１および図５に示すように、各衝突壁８１は、回転基板７０の中心に臨む内面９０と、回転基板７０の径方向外側に臨む外面９１と、内面９０と外面９１とを繋ぐ一対の側面９２・９３とを備える矩形柱状に形成されており、内側の衝突壁列８２を構成する液体通路８３を通って、遠心力により外側に跳ね飛ばされた水は、内面９０に衝突して粉砕される。この内面９０を含む衝突壁８１の壁面の全体には、水の粉砕効果を向上するために、凹凸部９５を形成して、粗面化が図られている。凹凸部９５は、基板本体８０からの衝突壁８１の突出方向（上下方向）に長い溝９６と、隣り合う溝９６の間に形成されたリブ９７とで構成されている。このように、上下方向に長い溝９６とリブ９７とで構成される凹凸部９５を衝突壁８１の各壁面９０〜９３に形成して、各壁面９０〜９３を粗面化していると、壁面９０〜９３に衝突した液滴をより効率的に粉砕することができるので、水の微細化を図り、より細かなミストを得ることができる。また、壁面９０〜９３の表面で水が団粒化することを防ぐことができるので、この点でも水の微細化を図り、より細かなミストを得ることができる。また、衝突壁８１を構成する全ての壁面９０〜９３に凹凸部９５が形成され粗面化されていると、該衝突壁８１の壁面９０〜９３で区画される通路（液体通路８３・周方向通路８４）の流路抵抗の増大化を図ることができるので、水の分離効果の向上が期待でき、より細かなミストを得ることができる。
【００５１】
なお、仮に左右方向に長い溝とリブとで凹凸部を形成した場合には、水の流れ方向に溝が形成されることとなるため、左右方向に長い溝に沿って水が流れて、水が団粒化する不都合が予測される。これに対して本実施形態のように、上下方向に長い溝９６とリブ９７とで凹凸部９５を形成していると、液体の通路（液体通路８３・周方向通路８４）の流れ方向における流路抵抗を大きくすることができるため、水をより効率的に分離・分散して、ミスト径の微細化を図ることができる。
【００５２】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法（Ｗ）は、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法（Ｔ）よりも大きく設定されている。すなわち、Ｗ＞Ｔの関係を満たすものとなっている。このように、衝突壁８１の厚み寸法（Ｔ）を小さく設定すると、回転基板７０の小径化を実現してミスト発生装置の全体を小型化できる。
【００５３】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法（Ｗ）と、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁の突出寸法（Ｈ）とは、Ｗ＞Ｈ＞Ｔの関係を満たすように設定されている。これによれば、衝突壁８１の厚み寸法を小さくしたことにより、回転基板７０の小径化を図ることができる。加えて、衝突壁８１の壁面面積（Ｗ×Ｈ）を大きく取ることができるので、より確実に内側の衝突壁列８２の液体通路８３から送出された水を、外側の衝突壁列８２の衝突壁８１に衝突させて、効率的にミスト径の微細化を図ることができる。
【００５４】
基板本体８０の厚み寸法（Ｅ）と、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法（Ｗ）と、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁８１の突出寸法（Ｈ）とが、Ｅ＞Ｗ＞Ｈ＞Ｔの関係を満たすように設定されている。これによれば、先と同様に、回転基板７０の小径化を図りながら、衝突壁８１の衝突面積を大きくすることができる。また、基板本体８０の厚み寸法（Ｅ）を大きく取ることができるので、該回転基板７０を強度に優れたものとすることができる。加えて、回転基板７０の重量を大きくして、その慣性重量を大きくすることができるので、回転基板７０の回転姿勢を安定化することができる。
【００５５】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法（Ｗ）と、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法（Ｔ）と、衝突壁８１の突出寸法（Ｈ）と、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅（Ａ）とが、Ｗ＞Ｈ＞Ｔ＞Ａの関係を満たすように設定されている。これによれば、先と同様に、回転基板７０の小径化を図りながら、衝突壁８１の衝突面積を大きくすることができる。加えて、衝突壁８１の突出寸法（Ｈ）を、液体通路８3の通路幅（Ａ）よりも大きくしたので、これら衝突壁８１の突出寸法（Ｈ）と液体通路８３の通路幅（Ａ）とで規定される液体通路８３の断面積（Ｈ×Ａ）を大きく取ることができる。したがって、該液体通路８３内の水の流れをスムーズなものとすることができる。
【００５６】
内外の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１の間に形成される周方向の液体通路（周方向通路８４）の通路幅（Ｂ）と、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅（Ａ）とが、Ｂ＞Ａの関係を満たすように設定する。これによれば、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅（Ａ）を小さくしたことに由来する、衝突壁８１に対する水の衝突エネルギーの向上効果が期待できる。したがって、より効率的に水を衝突壁８１に衝突させて、ミスト径を微細化できる。
【００５７】
図１１および図１２に示すように、回転基板７０は、一次電鋳工程と二次電鋳工程とを経て作製される。図１１（ａ）は、一次電鋳工程（図１１（ｂ））に先立って行われるパターンレジスト作成工程を示しており、そこでは、図１１（ａ）に示すように、母型１００の表面にフォトレジスト層１０１を形成したうえで、フォトレジスト層１０１上に基板本体８０の通孔（装着孔７１或いは導入口７２）に対応する透孔１０２ａを有するパターンフィルム１０２を形成し、パターンフィルム１０２の上方から紫外線照射ランプ１０３で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、通孔に対応するレジスト体１０４を有する一次パターンレジスト１０５を形成する。次いで、一次パターンレジスト１０５ごと母型１００を電鋳槽に入れて、一次パターンレジスト１０５で覆われていない母型１００の表面に電着金属を電鋳して、基板本体８０に対応する一次電鋳層１０６を形成する（図１１（ｂ））。次に、一次パターンレジスト１０５を除去したうえで、一次電鋳層１０６に対して研磨処理を行って、一次電鋳層１０６の上面を平滑面として、基板本体８０を形成する（図１１（ｃ））。研磨処理において使用される研磨ベルト１１６としては、１０００番ベルト、或いは７００番ベルトを使用することができる。
【００５８】
次に、図１２（ａ）に示すように、基板本体８０上にフォトレジスト層１０９を形成したうえで、フォトレジスト層１０９上に液体の通路（液体通路８３・周方向通路８４）に対応する透孔１１０ａを有するパターンフィルム１１０をフォトレジスト層１０９上に形成し、パターンフィルム１１０の上方から紫外線照射ランプ１０３で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、液体通路に対応するレジスト体１１１を有する二次パターンレジスト１１２を形成する。次いで、二次パターンレジスト１１２ごと基板本体８０を電鋳槽に入れて、二次パターンレジスト１１２で覆われていない基板本体８０の表面に電着金属を電鋳して、衝突壁８１に対応する二次電鋳層１１３を形成する（図１２（ｂ））。次に、二次電鋳層１１３の上面に対して研磨処理を行うことで、二次電鋳層１１３の上面を平滑面としたうえで（図１１（ｃ））、二次パターンレジスト１１２を除去することで、基板本体８０上に衝突壁８１が形成された回転基板７０を得ることができる。研磨処理において使用される研磨ベルト１１６としては、１０００番ベルト、或いは７００番ベルトを使用することができる。図１１（ｃ）において、符号１１４は、研磨処理において衝突壁８１の上端に形成される研磨バリを示しており、かかる研磨バリ１１４を電解研磨で除去することにより、図１および図５に示すような回転基板７０を得ることができる。
【００５９】
以上のような本実施形態に係る回転基板７０の製造方法においては、液体の通路（液体通路８３・周方向通路８４）に対応する透孔１１０ａを有するパターンフィルム１１０にフィラー１１５を含ませてある点が着目される。このようにパターンフィルム１１０にフィラー１１５を含ませてあると、該フィラー１１５による紫外線光の屈折により二次パターンレジスト１１２の露光部分と未露光部分との境界部、すなわちレジスト体１１１の側面に溝ができるため、かかる溝を利用して二次電鋳層１１３を形成することで、衝突壁８１の表面に縦溝を形成することができる。すなわち、衝突壁８１の形成と同時に凹凸部９５を形成することができる。したがって、サンドブラストや金属粒体を塗着するなどの別工程で凹凸部９５を形成する形態に比べて、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
【００６０】
図７に、本実施形態に係るミスト発生装置の回路構成を示す。ミスト発生装置は、グリップの筐体前面に設けられたメインスイッチ１５と洗浄スイッチ１６と、これらスイッチ１５・１６のオンオフ操作に従って、回転体駆動用のモーター４および送給ポンプ９を構成するポンプ駆動用のモーター１７を回転駆動させる制御回路１３と、メインスイッチ１５がオン操作されたときに、ミストを帯電させるための帯電装置１１７とで構成される。帯電装置１１７は、高電圧発生部１１８と、高電圧発生部１１８で生成された高圧パルスを、回転体駆動用のモーター４の出力軸５６、および該出力軸５６の外周面に接触する金属製の給電電極１１９とを介して回転基板７０（回転体５）に付与する帯電リード１２０と、一方端が電池１１のマイナス極に接続され、他方端がグリップ部２の後面に配置された接触電極１２１に接続されるグランドリード１２２とで構成される。グランドリード１２２により、接触電極１２１を回路のグランド電位と同じ電位にすることができる。本実施例では、接触電極１２１はチタンなどの金属製の部材で構成しているが、ベース材をプラスチックにしてその表面にチタンなどの金属メッキを施した接触電極１２１であってもよい。
【００６１】
高電圧発生部１１８は、電池１１の電流を交流に変換する発振回路１２４と、発振回路１２４で生成されたパルス電流を昇圧する第１の昇圧回路１２５と、第１の昇圧回路１２５で昇圧されたパルス電流を整流する整流回路１２６と、整流回路１２６が出力する直流電流を再度パルス電流に変換するパルス発生回路１２７と、パルス電流をさらに昇圧させる第２の昇圧回路１２８と、ミストの帯電極性を設定するダイオードＤとで構成される。発振回路１２４で生成されたパルス電流は、第１の昇圧回路１２５で１００Ｖまで昇圧され、さらに第２の昇圧回路１２８で４ｋＶまで昇圧されたのち、放電電極に送給される。第２の昇圧回路１２８で昇圧されたパルス電流は、放電電極である回転基板７０（回転体５）と不図示の対向電極との間で放電されることにより、回転基板７０で生成されるミストをプラス電位またはマイナス電位に帯電させることができる。これら制御回路１３、発振回路１２４、第１の昇圧回路１２５、整流回路１２６、パルス発生回路１２７、第２の昇圧回路１２８、およびダイオードＤなどは、制御基板１４上に実装されている。ダイオードＤが給電電極１１９に向かって順方向に接続されている場合には、ミストはプラスに帯電され、ダイオードＤが給電電極１１９に向かって逆方向に接続されている場合には、ミストはマイナスに帯電される。なお、給電電極１１９は、回転体駆動用のモーター４の出力軸５６に接触させずに、給電電極１１９を直接回転基板７０（回転体５）の一部に接触させて回転基板７０（回転体５）に高電圧を印加してもよい。本実施例においては、給電電極１１９を板状に形成して弾性変形可能に構成している。そのうえで、その弾性変形可能な給電電極１１９を出力軸５６の周面に常に一方向のみから押圧接当（圧接）させている。これにより、ガタつきがあってもそのガタ（ブレ）に対して給電電極１１９が追従できるため安定的に出力軸５６に給電電極１１９を接触できる。また、給電電極１１９をさらに強く圧接すればモーター４の出力軸５６とその軸受け間のクリアランスで発生するガタつきを抑えることができる。また、なお、本実施例においては、給電電極１１９を板状に形成して弾性変形可能に構成しているが、給電電極１１９をコイル状に形成して弾性変形可能に構成し、出力軸５６の周面に常に一方向のみから押圧接当させてもよい。また、グランドリード１２２の一方端は、電池１１のマイナス極のラインに接続される回路構成に限らず、昇圧回路１２８の２次側の対向電極のライン（不図示）に接続されるものであってもよい。つまり、グランドリード１２２の一方端は、対向電極や電池１１のマイナス極などの回路のグランドラインに接続すればよい。
【００６２】
図９に、以上のような構成からなるミスト発生装置の使用方法を示す。図９に示すように、本実施形態に係るミスト発生装置は、グリップ部２を手の平で握り締めて、ヘッド部３の噴射口４３、吐出口１８５が、人体顔面に指向する状態として使用に供される。かかる使用姿勢から、メインスイッチ１５がオン操作されると、ミスト発生モードとなり、回転体駆動用のモーター４およびポンプ駆動用のモーター１７が駆動されるとともに、帯電装置１１７が駆動される。このとき、グリップ部２を握り締めることにより、接触電極１２１に使用者の手の平や指が接触するため、人体のグランド電位を回路のグランド電位と同じ電位にすることができる。また、帯電リード１２０、給電電極１１９、および回転体駆動用のモーター４の出力軸５６を介して、回転基板７０に高圧パルスを印加することができるので、ダイオードＤの接続方向により、該回転基板７０で生成されるミストをプラス電位またはマイナス電位に帯電させることができる。これにより、ミスト発生装置の回転基板７０から人体に向かって電気力線が形成されるため、回転基板７０で生成されたプラスまたはマイナスに帯電したミストを、電気力線に沿って移動させて、人体に誘引させることができる。これにより、より効率的にミストを人体に誘引させることができるので、より効率的にミストを人体に吸着させることができる。
【００６３】
このように、回転基板７０（回転体５）に１ｋＶを上回る高電圧を印加しながら回転させることにより、回転基板７０でプラスまたはマイナスに帯電したミストを生成できる。例えば、人体は通常プラスに帯電しているので、回転基板７０でマイナスに帯電したミストを生成することにより、ミストを人体に吸着させることができる。さらに上記構造では、対向電極や電池１１のマイナス極などの回路のグランドラインに接続した接触電極１２１を有しているので、人体のグランド電位を積極的に回路のグランド電位と同じ電位にすることができるので、安定的にミストを人体に吸着させることができる。
【００６４】
図８（ａ）に、ミスト発生モードにおける両モーター４・１７の制御タイミングを示すタイムチャートを示す。まず、メインスイッチ１５が押し込まれてオン操作されると、制御回路１３は、当該メインスイッチ１５のオン動作と同時に回転体駆動用のモーター４を回転駆動させる。次に、モーター４の駆動から所定時間（ｔ１）経過後にポンプ駆動用のモーター１７を駆動させる。これにて、タンク７から吸い上げられた水がミスト発生部６によりミスト化され、ファンユニット４６により生成される風力に乗って噴射口４３から噴射される。使用状態におけるモーター４の回転速度は１００００ｒｐｍ程度である。
【００６５】
次に、メインスイッチ１５が再度押し込まれてオフ操作されると、制御回路はポンプ駆動用のモーター１７の駆動を直ちに停止するとともに、メインスイッチ１５のオフ操作から所定時間（ｔ２）だけ、回転速度を上げながら（１５０００ｒｐｍ程度）、回転体駆動用のモーター４を回転駆動させる。メインスイッチ１５のオフ操作から所定時間（ｔ２）が経過すると、モーター４を停止させる。
【００６６】
図１０に、本実施形態に係るミスト発生装置の洗浄方法を、図８（ｂ）に、当該洗浄動作時におけるタイミングチャートを示す。図８（ｂ）に示すように、洗浄スイッチ１６が押し込まれオン操作されると、洗浄モードとなり、制御回路１３は、回転体駆動用のモーター４を逆回転させる。このときのモーター４の逆回転速度は、使用状態におけるモーター４の回転速度よりも速く設定されている（１５０００ｒｐｍ程度）。この状態から、ミスト発生装置のヘッド部２の一端にある吐出口１８５、噴射口４３を水道の蛇口の下方に位置させて蛇口のコックをひねると、蛇口から吐出された水道水（洗浄水）が、吐出口１８５、噴射口４３から回転基板７０、ファンユニット４６等を通り、連通孔３７・４０を介して、ヘッド部２の他端にある吸気口１８６、開口４１から流出され、かかる水道水の流れにより、回転基板７０等に付着の塵埃が洗い流される。さらには、保護フード４５の中央部分に開口５３ａを形成し、開口５３ａと回転体５の中央部分に形成された微細化前の液体の導入口７２とを連通している。これにより、保護フード４５の開口５３ａから導入された洗浄水を、回転基板７０ａ〜７０ｄ間に形成された通路（液体通路８３・周方向通路８４）及び回転基板７０ｄとベース部７５間に形成される通路（液体通路８３・周方向通路８４）に流れ込ませて、これら通路を洗浄することができる。したがって、水に替えて粘性の高い化粧水などをミスト化していた場合でも、該化粧水が流路内で硬化して詰まるのを防ぐことができる。もちろんこれと同時に噴射口４３、連通孔３７、４０の洗浄も行うことができる。なお、洗浄水が水道水に限られないことは言うまでもない。再度に、洗浄スイッチ１６が再度押し込まれオフ操作されると、モーター４の回転が停止される。
【００６７】
すなわち、本装置は、ポンプ装置９（送給ポンプ）により回転基板７０に液体を供給して該回転基板７０の回転によってその液体をミスト化するミスト発生装置であって、
スイッチ１５のオンにより、回転基板７０が回転されるとともにポンプ装置９が駆動され、
スイッチ１５のオフにより、ポンプ装置９の駆動が停止され、その後所定期間（ｔ２）後に回転基板７０の回転が停止されるものとなっていることを特徴とする。
このように、ポンプ装置９の駆動が停止されたのち、所定期間（ｔ２）後に回転基板７０の回転が停止されるようにしていると、回転基板７０に残留する残留液体をミスト化して確実に吐出することができるので、特に粘性のある液体が残留することによって、液体が固化することを確実に防ぐことができる。したがって、動作不良の発生を抑えて、信頼性に優れたミスト発生装置を得ることができる。
【００６８】
また、このミスト発生装置では、スイッチ１５のオンにより、回転基板７０が回転されるとともにポンプ装置９が駆動され、スイッチ１５のオフにより、ポンプ装置９の駆動が停止され、その後所定期間（ｔ２）後に回転基板７０の回転が停止されるようになっており、
所定期間（ｔ２）における回転基板７０の回転速度が、ミスト発生時の回転速度よりも速く設定されている。
このように、ポンプ装置９の駆動停止後の所定期間（ｔ２）における回転基板７０の回転速度が、ミスト生成時の回転速度よりも速く設定されていると、より確実に残留液体を吐出することができるので、残留液体の固化問題を確実に解消できる。
【００６９】
また、このミスト発生装置では、スイッチ１５のオンにより、回転基板７０が回転され、その後所定期間ｔ１後にポンプ装置９が駆動されるようにしている。
これによれば、回転基板７０の回転速度が上がってから該回転基板７０に液体が供給されるため、回転基板７０の回転速度の低いときに液体が供給される場合に生じる大粒のミストが生成されるという不都合を解消できる。したがって、より確実により細かなミストを生成することが可能となる。
【００７０】
また、このミスト発生装置は、ミスト発生モードと洗浄モードとを備えており、
回転基板７０には、ファン４６（ファンユニット）が取り付けられており、
ファン４６により生起された風は、ミスト発生モード時は、ミストを運ぶ作用に利用され、洗浄モード時は、洗浄水を排出する作用に利用されるようになっている。
これによれば、ミストを運ぶ作用に利用される風と、洗浄水を排出する作用に利用される風とを、一つのファン４６により生起することができるので、両作用に利用される風を別々のファン４６により生起する形態に比べて、部品点数を減らしてミスト生成装置の製造コストの削減に貢献できる。加えて、簡単な構成で両作用に利用される風を生起できるので、信頼性に優れたミスト生成装置を得ることができる。
【００７１】
洗浄モード時の回転基板７０の回転速度を、ミスト発生モード時の回転基板７０の回転速度よりも速くすることができる。これによれば、洗浄水の排出効果の向上が期待できる。
【００７２】
（第２実施形態）  図１３に、本発明の係るミスト発生装置の第２実施形態を示す。そこでは、回転基板７０の円中心から外周方向に向かって、衝突壁列８２を螺旋状に配置した点が先の第１実施形態と相違する。それ以外の点は、先の第１実施形態と同様であるので、同様の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。なお、図１３には、最下方に位置する回転基板７０ａのみを示したが、その余の回転基板７０ｂ〜７０ｄにおいても、回転基板７０ａと同様の衝突壁列８２の配列構成を採ることができることを補足する。
【００７３】
（第３実施形態）  図１４に、本発明の第３実施形態を示す。そこでは、エッチング法により、衝突壁８１を形成した点が、先の第１実施形態と相違する。すなわち、図１４（ａ）に示すように、回転基板７０を構成する基板本体８０の上面に、衝突壁８１の形成箇所に対応するレジスト体１３０を有するパターンレジスト１３１を形成したうえで、基板本体８０の上面側からエッチング液を塗布することにより、レジスト体１３０の無い基板本体８０の上面をエッチング液で食刻することにより、液体通路８３および周方向通路８４に対応する凹部を基板本体８０に形成して、衝突壁８１を形成している。以上のようなエッチング法による回転基板７０の形成方法によっても、凹部の周縁、すなわち、衝突壁８１の側面にエッチング液による食刻によって凹凸部９５を形成することができる。それ以外の点は、先と第１実施形態と同様であるので同様の部材には同一の符号を付してその説明を省略する。
【００７４】
（第４実施形態）  図１５に本発明の第４実施形態を示す。そこでは、衝突壁８１の上端に、衝突壁８１の周壁面よりも大形のオーバーハング部１３５を形成している。また、この第４実施形態では、複数枚の回転基板７０を積層して回転体５を構成するのでは無く、一枚の回転基板７０のみで回転体５を構成している。すなわち、液体通路８３や周方向通路８４の上方を塞ぐ天板となる、上方側の回転基板７０を廃している。それ以外の点は、先の第１実施形態と同様であるので、同様の部材には同一の符号を付してその説明を省略する。このように、衝突壁８１の上端にオーバーハング部１３５を形成してあると、該オーバーハング部１３５で、液体通路８３および周方向通路８４を通る液体が、上方に向かうことを防ぐことができるので、衝突壁８１に液体を繰り返して衝突させながら、回転基板７０の中心から外周方向に向かって液体を移動させることができる。したがって、微細化されたミストを得ることができる。
【００７５】
（第５実施形態）  第５実施形態は、第１実施形態と同じ構成であり、違いは、衝突壁８１の寸法設定のみである。以下に具体的に説明する。
【００７６】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗは、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔよりも大きく設定されている。すなわち、Ｗ＞Ｔの関係を満たすものとなっている。このように、衝突壁８１の厚み寸法Ｔを小さく設定すると、回転基板７０の小径化を実現してミスト発生装置の全体を小型化できる。
【００７７】
次に、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁の突出寸法Ｈとは、Ｗ＞Ｔ＞Ｈの関係を満たすように設定されている。これにより、回転基板７０の小径化を図ることができる。衝突壁８１の突出寸法を抑制して衝突壁８１の強度を増すことができるとともに、回転基板７０全体の厚み寸法（上下寸法）の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。回転基板７０の厚み寸法が大きくなれば回転基板７０を固定するモーター４の回転軸５６に負荷がかかりモーター４の寿命に影響するが、これを可及的に抑制することができる。
【００７８】
基板本体８０の厚み寸法Ｅと、回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈとが、Ｅ＞Ｗ＞Ｔ＞Ｈの関係を満たすように設定されている。これによれば、先と同様に、衝突壁８１の突出寸法を抑制して衝突壁８１の強度を増すことができるとともに、回転基板７０全体の厚み寸法（上下寸法）の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。また、基板本体８０の厚み寸法Ｅを大きく取って、回転基板７０を強度に優れたものとすることができる。加えて、回転基板７０の重量を大きくして、その慣性重量を大きくすることができるので、回転基板７０の回転姿勢を安定化することができる。
【００７９】
回転基板７０の周方向に係る衝突壁８１の幅寸法Ｗと、回転基板７０の径方向に係る衝突壁８１の厚み寸法Ｔと、衝突壁８１の突出寸法Ｈと、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａとが、Ｗ＞Ｔ＞Ｈ＞Ａの関係を満たすように設定されている。これによれば、先と同様に、衝突壁８１の突出寸法を抑制して衝突壁８１の強度を増すことができるとともに、回転基板７０全体の厚み寸法（上下寸法）の増加を抑制して、ミスト発生装置の小型化を実現することができる。加えて、衝突壁８１の突出寸法Ｈを、液体通路８３の通路幅Ａよりも大きくしていると、これら衝突壁８１の突出寸法Ｈと液体通路８３の通路幅Ａとで規定される液体通路の断面積（Ｈ×Ａ）を大きく取ることができるので、液体通路８３内の液体の流れをスムーズなものとすることができる。
【００８０】
内外の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１の間に形成される周方向の液体通路（周方向通路８４）の通路幅Ｂと、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａとが、Ｂ＞Ａの関係を満たすように設定する。これによれば、衝突壁列８２の液体通路８３の通路幅Ａを小さくしたことに由来する、衝突壁８１に対する水の衝突エネルギーの向上効果が期待できる。したがって、より効率的に水を衝突壁８１に衝突させて、ミスト径を微細化できる。
【００８１】
本ミスト発生装置は以下の態様で実施することができる。
【００８２】
回転駆動される回転基板７０と、ミスト生成用の液体８を収容するタンク７と、タンク７に収容した液体８を回転基板７０に送給する液体送給手段９とを備えるミスト発生装置を対象とする。そして、回転基板７０が、複数の衝突壁８１を有しており、衝突壁８１の壁面９０に凹凸部９５を形成して、該壁面９０が粗面化されていることを特徴とする。
これにより、壁面９０に衝突した液滴をより効率的に分離・分散（粉砕）させることができるので、液体を確実に微細化して、細かなミストを得ることが可能となる。加えて、壁面９０に凹凸部９５を形成したので、該壁面９０の表面で液滴が団粒化することを防ぐことができ、したがって、より細かなミストを得ることができるとともに、ミスト径の均一化を図ることができる。
【００８３】
回転駆動される回転基板７０と、ミスト生成用の液体８を収容するタンク７と、タンク７に収容した液体８を回転基板７０に送給する液体送給手段９とを備えているミスト発生装置を対象とする。衝突壁８１と液体通路８３とを交互に配置してなる環状の衝突壁列８２が、回転基板７０の回転中心を囲む状態で、径方向へ少なくとも二重に設けられており、各衝突壁列８２は、外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されている。そして、少なくとも内側の衝突壁列８２の液体通路８３の出口に臨む外側の衝突壁列８２の衝突壁８１の壁面９０に凹凸部９５を形成して、該壁面９０が粗面化されていることを特徴とする。
これにより、液体が最外周の衝突壁列８２の外方へ飛び出るまでの間に、該液体を衝突壁８１に確実に衝突させることができる。したがって、液体を微細化して、細かなミストを得ることができる。
加えて本構成では、少なくとも内側の衝突壁列８２の液体通路８３の出口に臨む外側の衝突壁列８２の衝突壁８１の壁面９０に凹凸部９５を形成して、該壁面９０を粗面化したので、壁面９０に衝突した液滴をより効率的に分離・分散（粉砕）させることができる。加えて、壁面９０に凹凸部９５が形成されていると、該壁面９０の表面で液滴が団粒化することを防ぐことができる。したがって、より細かなミストを得ることができるとともに、ミスト径の均一化を図ることができる。
本構成で言うところの「環状の衝突壁列」とは、図５に示すように、径寸法の異なる衝突壁列８２が複数個形成されている形態のほか、図１３に示すように、衝突壁列８２が螺旋状に形成されている形態をも含む概念である。また、本構成において「外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されている」とは、一つの例外も無く、全ての外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されていることを意味するものではなく、大多数の外側の衝突壁列８２を構成する衝突壁８１が、内側の衝突壁列８２の液体通路８３と対向する状態で配置されていることをも含む概念である。
【００８４】
回転基板７０の表面粗度は、凹凸部９５が形成された衝突壁８１の壁面の粗度よりも小さく設定する。
これにより、回転基板７０の表面に沿って液体通路８３を流れる液滴やミストの流速が損なわれることを効果的に防ぐことができる。換言すれば、液体通路８３を流れる液滴やミストの衝突壁８１への衝突エネルギーが、回転基板７０の表面に接触することで奪われることを防ぐことができる。これにて、効率的に液滴やミストを衝突壁８１に衝突させることができるので、より細かなミストを得ることができる。
【００８５】
衝突壁８１を構成する全ての壁面９０・９１・９２・９３に凹凸部９５を形成して、粗面化することができる。
これにより、該衝突壁８１の壁面で区画される液体通路８３の流路抵抗の増大化を図ることができる。したがって、液体の分離効果の向上が期待でき、より細かなミストを得ることができる。
【００８６】
衝突壁８１が回転基板７０の表面から突出状に形成されており、凹凸部９５が、回転基板７０からの突出方向に長い溝９６とリブ９７とで構成されている。
例えば、凹凸部９５が、回転基板７０からの突出方向と直交する方向、すなわち水平方向に長い溝とリブとで構成されている場合には、液体通路８３における液体の流れ方向に溝が形成されることとなるため、該溝に沿って液体が流れることで、液体が団粒化し、却ってミスト径が大きくなるおそれがある。これに対して本構成のように、凹凸部９５を回転基板７０からの突出方向に長い溝９６とリブ９７とで構成して、液体流路における液体の流れ方向と直交する方向に溝９６を形成していると、液体通路８３の流れ方向における流路抵抗を大きくすることができるため、液体をより効率的に分離・分散して、ミスト径の微細化を図ることができる。
【００８７】
衝突壁８１の上面９４には天板８６が固定されており、衝突壁８１の上面９４の粗度が、液体通路８３に臨む衝突壁８１の側面９０の粗度よりも小さく設定する。
これにより、天板８６と衝突壁８１との密着性の向上を図ることができる。したがって、不用意に天板８６と衝突壁８１とが分離することを防ぐことができるので、天板８６と回転基板７０とが強固に一体化された状態を長期にわたって維持できる。
【００８８】
衝突壁列８２が回転基板７０の径方向へ多重に設けられており、衝突壁８１を含む衝突壁列８２が、天板８６の支持構造を兼ねている。
衝突壁列８２が回転基板７０の径方向へ多重に設けられていると、液体の進行方向を多様化させて、液体をよく分離させることができ、ミストの微細化を促進できる。また、液体通路８３と対向する衝突壁８１に液体を繰り返して衝突させて、ミストをさらに確実に微細化できる。また、衝突壁８１を含む衝突壁列８２が天板の支持構造をかねていると、別途に天板の支持構造を設ける形態に比べて、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
【００８９】
衝突壁列８２を備える回転基板７０が複数枚積層されており、上方の回転基板７０が、下方の回転基板７０の天板８６を兼ねている形態を採ることができる。
衝突壁列８２を備える回転基板７０が複数枚積層されていると、回転基板７０の外径寸法を大きくすることなく、ミスト発生量の増大化を図ることができる。従って、小型でありながら、ミスト生成能力に優れたミスト発生装置を得ることができる。加えて、上方の回転基板７０が、下方の回転基板７０の天板を兼ねていると、複数個積層された回転基板７０の全体寸法（上下方向の厚み寸法）の増大化を抑えることができるので、ミスト発生装置の小型化に貢献できる。
【００９０】
衝突壁８１は電鋳法により形成する。
衝突壁８１が電鋳法により形成されていると、多数個の衝突壁８１を備える回転基板７０を精度良く形成することができる。
加えて、電鋳法の電着工程に先立って形成されるレジスト体１１１のパターンフィルム１１０にフィラー１１５を含有させてあると、該フィラー１１５による光の屈折によりレジスト体１１１の側面に縦溝を形成することができるので、該縦溝を利用して衝突壁８１の凹凸部９５を形成することができる。より具体的には、電鋳法が、回転基板７０上にフォトレジスト層１０９を形成する工程と、液体通路８３に対応する透孔を有するパターンフィルムを該フォトレジスト層１０９上に形成する工程と、紫外線光照射手段１０３で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、液体通路８３に対応するレジスト体１１１を有するパターンレジスト１１２を回転基板７０上に形成する工程と、該レジスト体１１１の無い回転基板７０の部分に金属を電着させることにより、衝突壁８１に対応する電鋳層１１３を形成する工程とを含むものとしたうえで、前記パターンフィルム１１０にフィラー１１５を含ませてあると、該フィラー１１５による紫外線光の屈折によりパターンレジスト１１２の露光部分と未露光部分との境界部、すなわちレジスト体１１１の側面に溝ができるため、かかる溝を利用して電鋳層１１３を形成することで、衝突壁８１の表面に縦溝を形成することができる。以上より、パターンフィルム１１０にフィラー１１５を含ませてあると、衝突壁８１の形成と同時に凹凸部９５を形成することができるので、サンドブラストや金属粒体を塗着するなどの別工程で凹凸部９５を形成する形態に比べて、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
【００９１】
衝突壁８１の上端にオーバーハング部１３５が設けられている。
これにより、天板を廃することができるので、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
【００９２】
エッチング法により衝突壁８１を形成する。
これにより、衝突壁８１の形成と同時に凹凸部９５を形成することができるので、サンドブラストや金属粒体を塗着するなどの別工程で凹凸部９５を形成する形態に比べて、ミスト発生装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
【００９３】
上記実施形態においては、４枚の回転基板７０（７０ａ〜７０ｄ）で回転体５を構成したが、本発明はこれに限られず、回転基板７０の枚数は４枚を超えるものであっても、４枚未満であってもよい。また、上記実施形態においては、ミスト生成装置は、メインスイッチ１５と洗浄用スイッチ１６の二つのスイッチを備えるものとし、メインスイッチ１５を押圧操作するとミスト生成モードとなり、洗浄用スイッチ１６を押圧操作すると洗浄モードとなるようにしたが、スイッチは一つとし、当該スイッチを押圧操作するたびに、サイクルでモードが変更されるようにしてもよい。保護フード４５等の本体ケース１の形状は、先の第１実施形態に示したものに限られない。先の第１実施形態においては、連結ボス６４により複数枚の回転基板７０を固定したが、本発明はこれに限られず、ビスにより複数枚の回転基板７０を固定することができる。
【００９４】
上記実施形態においては、ミスト発生部６がファン（ファンユニット４６）を備えるものであったが、本発明はこれに限られず、ファンは無くても良い。また、ファンを設ける場合において、回転体駆動用のモーター４とは別個に、ファン用のモーターを設けた形態であってもよい。
【００９５】
回転体５の駆動手段としては、モーター４に限られず、手動式の回転体駆動手段であってもよい。具体的には、押圧式レバーに設けられるラックギヤと、同ラックギヤと噛み合うピニオンギヤと、同ピニオンギヤと回転体との間に設けられるワンウェイクラッチを含んで構成される手動式の回転体駆動手段であってもよく、或いは、ゼンマイ方式の回転体駆動手段であってもよい。さらに、回転体の背面に複数のフィンを設けて別途設けられた送風手段による風力によって回転体５が回転されるものであってもよい。
【００９６】
また、上記実施形態においては、一つの本体ケース１の内部にミスト発生部６、液体供給手段９などが設けられている形態であったが、本発明はこれに限られず、ミスト発生部６は、液体供給手段９やタンク７とは別体に設けることができる。つまり、ミスト発生部６と液体供給手段９やタンク７とが別体に設けられ、両者間が電力供給用のリードや送給チューブ等を介して連結されている形態であってもよい。化粧水のボトルを直接接続して液体を供給する形態であってもよく、その場合には、化粧水のボトルそのものが、本発明のタンクとなる。また、回転体５にスポイトなどにより直接、液体を送給する形態であってもよく、その場合には、スポイト自身が、タンクおよび液体送給手段となる。なお、本発明のミスト発生装置は、液状の食品（栄養食品、調味料含む）をミスト化する機器、液状の消臭剤、除菌剤をミスト化する機器、液状の香水をミスト化する機器、或いは液状の殺虫剤をミスト化する機器などにも適用できる。
【符号の説明】
【００９７】
１  本体ケース
７  タンク
８  液体
９  液体送給手段
７０  回転基板
８１  衝突壁
８２  衝突壁列
８３  液体通路
８６  天板
９０  壁面
９１  壁面
９２  壁面
９３  壁面
９４  上面
９５  凹凸部
９６  溝
９７  リブ
１３５  オーバーハング部
Ａ  液体通路の通路幅
Ｂ  液体通路の通路幅
Ｅ  回転基板の厚み寸法
Ｈ  衝突壁の突出寸法
Ｔ  衝突壁の厚み寸法
Ｗ  衝突壁の幅寸法
【図１】
2014030789.tif 000003
【図２】
2014030789.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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