(57)【要約】  【課題】Ｚ軸方向にチルトをかけた場合のリタデーションの変化を抑制できる位相差フィルムを提供する。  【解決手段】位相差素子は、面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０（Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ、Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ、Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）を満たしている。【選択図】図１
2014035383.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（１）を満たす位相差素子。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
【請求項２】
厚みが３０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内である請求項１に記載の位相差素子。
【請求項３】
面内リタデーションＲ０の値が５０ｎｍ以上２７６ｎｍ以下の範囲内である請求項１または２に記載の位相差素子。
【請求項４】
１５０℃環境下1時間保存前後における寸法変化率が、−１％≦寸法変化率≦１％の範囲内である請求項１から３のいずれかに記載の位相差素子。
【請求項５】
１５０℃環境下１時間保存前後における面内リタデーションＲ０の変化量が、Ｒ０変化量≦２５ｎｍの範囲内である請求項１から３のいずれかに記載の位相差素子。
【請求項６】
ノルボルネン系樹脂を含んでいる請求項１から５のいずれかに記載の位相差素子。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の位相差素子を基材として備える透明導電性素子。
【請求項８】
位相差素子と、
透明導電層と
を備え、
上記位相差素子は、
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（1）を満たす透明導電性素子。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
【請求項９】
上記透明導電層は、透明電極である請求項８に記載の透明導電性素子。
【請求項１０】
上記透明導電層が、インジウム錫酸化物を含んでいる請求項８または９に記載の透明導電性素子。
【請求項１１】
上記透明導電層が、金属ナノフィラーを含んでいる請求項８または９に記載の透明導電性素子。
【請求項１２】
上記金属ナノフィラーが、金属ナノワイヤーである請求項１１に記載の透明導電性素子。
【請求項１３】
請求項７から１２のいずれかに記載の透明導電性素子を備える入力装置。
【請求項１４】
請求項１から６のいずれかに記載の位相差素子を備える表示装置。
【請求項１５】
請求項１から６のいずれかに記載の位相差素子を備える電子機器。
【請求項１６】
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（１）を満たすように、素子の厚み方向へ圧縮延伸を行うことを含む位相差素子の製造方法。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
【請求項１７】
厚み方向への圧縮力が５Ｎ／ｍｍ2以上である請求項１６に記載の位相差素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、位相差素子、透明導電性素子、入力装置、表示装置および電子機器に関する。詳しくは、入力装置や表示装置などに用いられる位相差素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、位相差フィルムは画像表示分野において幅広く使用されている。位相差フィルムは通常、一軸または二軸延伸などの加工を施された延伸樹脂フィルムであり、三次元屈折率の大小関係（屈折率楕円体）を使用条件に合わせて制御したものである（例えば特許文献１、特許文献２参照）。例えば、異方性の強い液晶分子を面内に水平配向させて用いるＴＮ（Twisted Nematic）モードでは厚さ方向の屈折率の不足分を補うように、また、液晶分子を立たせて用いるＶＡ（Vertical Alignment）モードでは厚さ方向の屈折率の過剰分を低減させるような屈折率楕円体をもつ位相差フィルムが用いられる。これらの位相差フィルムは、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）の視野角特性を向上させる光学補償フィルムとしての役割を果たす。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−９１５９８号公報
【０００４】
【特許文献２】特開２００５−９９８４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年では、画像表示装置を有するモバイル系機器の普及に伴って、種々の位相差フィルムが望まれるようになっている。例えば、Ｚ軸方向にチルトをかけた場合のリタデーションの変化（図２参照）を抑えることができる位相差フィルムが望まれている。Ｚ軸方向にチルトをかけた場合のリタデーション変化抑制の要望の一例としては、近年のスマートフォンやタブレットＰＣ（パーソナルコンピュータ）等のモバイル系機器の普及により偏光サングラス対応が望まれており、モニターにＺ軸方向のチルトをかけた場合においても著しい視認性の悪化を抑制することが挙げられる。
【０００６】
したがって、本技術の目的は、Ｚ軸方向にチルトをかけた場合のリタデーションの変化を抑制できる位相差素子、透明導電性素子、入力装置、表示装置および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の課題を解決するために、第１の技術は、
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（１）を満たす位相差素子である。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
【０００８】
第２の技術は、
位相差素子と、
透明導電層と
を備え、
位相差素子は、
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（1）を満たす透明導電性素子である。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
【０００９】
第３の技術は、
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（１）を満たすように、素子の厚み方向へ圧縮延伸を行うことを含む位相差素子の製造方法である。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
【００１０】
第１の技術に係る位相差素子は、透明導電性素子、入力装置、表示装置、電子機器に適用して好適なものである。第２の技術に係る透明導電性素子は、入力装置、表示装置、電子機器に適用して好適なものである。
【００１１】
本技術によれば、面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０の関係を満たしているので、Ｚ軸方向にチルトをかけた場合のリタデーションの変化を３０％以内に抑制できる。
【発明の効果】
【００１２】
以上説明したように、本技術によれば、Ｚ軸方向にチルトをかけた場合のリタデーションの変化を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１Ａは、本技術の第１の実施形態に係る位相差フィルムの一構成例を示す概略断面図である。図１Ｂは、本技術の第１の実施形態に係る位相差フィルムの全体形状の一例を示す斜視図である。
【図２】図２は、Ｚ軸方向チルト角度の定義を説明するための斜視図である。
【図３】図３は、フィルム製造装置の一構成例を示す模式図である。
【図４】図４Ａおよび図４Ｂは、本技術の第１の実施形態の第１の変形例を示す概略断面図である。図４Ｃおよび図４Ｄは、本技術の第１の実施形態の第２の変形例を示す概略断面図である。
【図５】図５は、本技術の第１の実施形態に係るタッチパネルの一構成例を示す概略断面図である。
【図６】図６は、電子機器としてテレビ装置の例を示す外観図である。
【図７】図７Ａ、図７Ｂは、電子機器としてデジタルカメラの例を示す外観図である。
【図８】図８は、電子機器としてノート型パーソナルコンピュータの例を示す外観図である。
【図９】図９は、電子機器としてビデオカメラの例を示す外観図である。
【図１０】図１０Ａは、電子機器として携帯電話の一例を示す外観図である。図１０Ｂは、電子機器としてタブレット型コンピュータの一例を示す外観図である。
【図１１】図１１は、実施例１〜５、比較例１、２の位相差フィルムのリタデーションのチルト角度依存性を示す図である。
【図１２】図１２は、実施例１〜３、比較例１の位相差フィルムのリタデーションのチルト角度依存性を示す図である。
【図１３】図１３は、試験例１、２のシミュレーションの結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本技術の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（位相差フィルムの例）
２．第２の実施形態（入力装置の例）
３．第３の実施形態（電子機器の例）
【００１５】
＜１．第１の実施形態＞
［位相差フィルムの構成］
図１Ａは、本技術の第１の実施形態に係る位相差フィルムの一構成例を示す概略断面図である。位相差フィルム（位相差素子）１１は、例えばλ／４位相差フィルムである。位相差フィルム１１は、例えば矩形状を有している。位相差フィルム１１の少なくとも一方の表面にハードコート層１２をさらに設けることが好ましい。これにより、位相差フィルム１１の表面に対して耐擦傷性や耐薬品性などを付与することができるからである。なお、図１Ａでは、位相差フィルム１１の一方の表面にハードコート層１２をさらに設けた例が示されている。
【００１６】
図１Ｂに示すように、位相差フィルム１１が全体として帯状の形状を有するようにしてもよい。このような形状とすることで、位相差フィルム１１をロール・ツー・ロール工程により容易に作製することができる。また、位相差フィルム１１をロール状などに巻回して原反とすることで、取り扱いを容易とすることができる。
【００１７】
位相差フィルム１１の面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈの関係が以下の式（１）を満たしている。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：位相差フィルム１１の幅方向屈折率、Ｎｙ：位相差フィルム１１の長手方向屈折率、Ｎｚ：位相差フィルム１１の厚み方向屈折率、ｄ：位相差フィルム１１の厚み）
【００１８】
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０にすることにより、Ｒ０を軸としたＺ軸方向チルト角度に対するリタデーションの変化を±３０％以内に抑制することができる。リタデーションの変化を±３０％以内に抑制することで、モニターにＺ軸方向のチルトをかけた場合においても視認性の悪化を抑制することができる。ここで、Ｚ軸方向チルト角度とは、図２に示すように、面内Ｒ０軸を中心軸として位相差フィルムをＺ方向へ相対的に回転させたときの回転角度のことを意味する。ここでは、位相差フィルム１１の幅方向（横方向（ＴＤ：Transverse Direction））をｘ軸方向、位相差フィルム１１の長さ方向（縦方向（ＭＤ：Machine Direction））をｙ軸方向、位相差フィルム１１の厚さ方向をｚ軸方向という。
【００１９】
位相差フィルム１１の表面近傍における熱可塑性樹脂の配向方向と位相差フィルム１１の厚さ方向とのなす角は、位相差フィルム１１の中央部分における熱可塑性樹脂の配向方向と位相差フィルム１１の厚さ方向とのなす角に比べて小さくなっている。より具体的には例えば、位相差フィルム１１の表面近傍における熱可塑性樹脂の配向方向は、位相差フィルム１１の厚さ方向とほぼ平行な関係にあるのに対して、位相差フィルム１１の中央近傍における熱可塑性樹脂の配向方向は、位相差フィルム１１の面内方向とほぼ平行な関係にある。このような関係にあることで、０．7×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０の関係を実現することができる。
【００２０】
位相差フィルム１１のｘ方向の屈折率をｎx、ｙ方向の屈折率をｎy、ｚ軸方向の屈折率をｎzとしたとき、屈折率ｎx、ｎy、ｎzは、ｎx＞ｎy＞ｎzの関係を満たしていることが好ましい。この関係を満たすことで、０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０の関係を実現することができる。
【００２１】
位相差フィルム１１の厚さは、好ましくは３０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内である。位相差フィルム１１の厚さが３０μｍ未満であると、位相差フィルム１１の作製工程において圧縮力を十分伝達できず、位相差フィルム１１として十分な面内リタデーションＲ０を確保ができなくなる虞がある。また、位相差フィルム自体が取扱いづらくなる虞もある。一方、位相差フィルム１１の厚さが２００μｍを超えると、位相差フィルム１１により積層体などの部材を構成した場合にそのトータルな厚みが厚くなってしまう虞がある。
【００２２】
位相差フィルム１１の面内リタデーションＲ０の値は、好ましくは５０ｎｍ以上２７６ｎｍ以下の範囲内である。面内リタデーションＲ０が５０ｎｍ未満であると、位相差フィルム１１として十分な機能を発揮できなくなる虞がある。一方、面内リタデーションＲ０が２７６ｎｍを超えると、波長依存性が大きくなり色ムラの原因となる虞がある。
【００２３】
１５０℃環境下１時間保存前後の位相差フィルム１１の寸法変化率は、−１％≦寸法変化率≦１％の範囲内であることが好ましい。寸法変化率を−１％≦寸法変化率≦１％の範囲内にすることで、透明電極用ベースフィルムとして位相差フィルム１１を使用した場合、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの金属酸化物材料のアニール処理時に、寸法変化によるうねり発生等によりフィルム品位が損なわれることを抑制できる。
【００２４】
ここで、１５０℃環境下１時間保存前後における位相差フィルム１１の寸法変化率は、以下の式により定義される。
（寸法変化率）（％）＝（（環境保存後の位相差フィルム寸法−環境保存前の位相差フィルム寸法）／環境保存前の位相差フィルム寸法）×１００（％）
なお、上述の寸法変化率の数値としては、ＭＤおよびＴＤ方向の寸法のうち変化が大きい方を採用する。
【００２５】
１５０℃環境下１時間保存前後における位相差フィルム１１の面内リタデーションＲ０の変化差ΔＲ０は、好ましくはΔＲ０≦２５ｎｍの関係を満たしている。ΔＲ０≦２５ｎｍとすることで、透明電極用ベースフィルムとして位相差フィルム１１を使用した場合、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの金属酸化物材料のアニール処理後においても、初期の位相差を確保しほぼ設計通りのリタデーションを確保ができる。
【００２６】
位相差フィルム１１は、熱可塑性樹脂を１種または２種以上含んでいることが好ましい。位相差フィルム１１が、必要に応じて添加剤をさらに含んでいてもよい。添加剤としては、熱安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、抗酸化剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、増粘剤およびフィラーなどからなる群より選ばれる１種以上が挙げられる。フィラーとしては、例えば、無機または有機の微粒子を用いることができる。
【００２７】
熱可塑性樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、ポリエステル系樹脂（例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）など）、シクロオレフィン系樹脂、セルロース樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリロニトリル系樹脂、オレフィン系樹脂（例えばポリエチレン、ポリプロピレンなど）、ポリスチレン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂およびそれらの共重合体を用いることができ、リタデーションの微小な調整が可能であるノルボルネン系樹脂が特に好ましい。
【００２８】
［フィルム製造装置の構成］
図３は、本技術の第１の実施形態に係る位相差フィルムの製造に用いられるフィルム製造装置の一構成例を示す模式図である。このフィルム製造装置は、ダイ２１、ロール２２およびロール２３を備える。
【００２９】
ダイ２１は、一般的な溶融成形用のＴダイであり、溶融状態の樹脂材料２４をフィルム状に押し出す。樹脂材料２４は、例えば上述の熱可塑性樹脂を含んでいる。ロール２２とロール２３とは、ダイ２１からフィルム状に押し出された樹脂材料２４を任意の圧力にてニップできる構成を有している。ロール２２およびロール２３は、任意の方向に回転可能に構成されている。より具体的には、ロール２２はロール２３を基準とした回転速度に対し、図示しない回転動力伝達機構により任意の回転速度比にて回転可能に構成されている。ロール２２およびロール２３の表面形状は特に限定されるものではなく、例えばミラー面、シボ面、プリズムやレンチキュラーなどを任意に選択できる。ロール２２およびロール２３はその内部に媒体の流路をもち、それぞれ個別の温調装置により任意の温度に表面を温調できる機能を有する。ロール２２およびロール２３の表面の材質は特に限定されるものではなく、金属、ゴム、樹脂、エラストマーなどを用いることができる。
【００３０】
［位相差フィルムの製造方法］
上述の構成を有するフィルム製造装置を用いた位相差フィルムの製造方法の一例について説明する。
【００３１】
まず、投入樹脂材料を任意の温度にて溶融状態とし、樹脂材料２４をダイ２１からフィルム状に押し出す。押し出された溶融状態の樹脂材料２４を落下させて、ロール２２とロール２３とにより挟むことにより、圧縮延伸を施す。この圧縮延伸によりフィルム状となった樹脂材料２４にリタデーションが発現し、位相差フィルム１１が得られる。次に、必要に応じて、ロール２３に沿って位相差フィルム１１を次工程に搬送し、図示しない走行系により原反状に巻き取る。
【００３２】
圧縮延伸の際には、面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈの関係が上述の式（１）を満たすように、フィルム状の樹脂材料２４の厚み方向へ圧縮延伸を行うことが好ましい。フィルム状の樹脂材料２４の厚み方向（Ｚ軸方向）への圧縮力は、好ましくは５Ｎ／ｍｍ2以上、より好ましくは５Ｎ／ｍｍ2以上３００Ｎ／ｍｍ2以下の範囲内である。圧縮力が５Ｎ／ｍｍ2未満であると、十分な圧縮延伸が行えず所望のリタデーションを確保できない虞がある。圧縮力は高ければ高い程リタデーションを発現させ易くなり好ましいが、あまり高いとロールの回転負荷が大きくなり走行不良やデバイスの破壊、所望のフィルム厚の制御が困難になる虞があるため、３００Ｎ／ｍｍ2以下が好ましい。
【００３３】
樹脂材料２４の温度、ロール２２およびロール２３の圧縮力（面圧）、速度差、温度、および樹脂材料２４の押出速度とロール２３の周速度の比による樹脂材料２４の厚みにより、発現するリタデーションに変化がある。これらを応用することで任意のリタデーション発現を制御することが可能となる。また、位相差フィルム１１の寸法変化も制御することが可能となる。
【００３４】
［効果］
上述したように、第１の実施形態によれば、位相差素子としての位相差フィルム１１は、面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０の関係を満たしている。したがって、Ｚ軸方向にチルトをかけた場合のリタデーションの変化を抑制できる。したがって、モニター（表示装置）にＺ軸方向のチルトをかけた場合においても視認性の悪化を抑制することができる。
【００３５】
成形時初期から位相差フィルム１１の厚みを設定できる。温度が高い状態において圧縮延伸によりリタデーションを発現させるため、従来の比較的温度が低い状態において１軸方向または２軸方向に延伸処理によりリタデーションを発現させる場合に比べて、位相差フィルム１１の経時的な寸法変化を小さくできる。リタデーションの値をロール２２とロール２３とのニップ圧のみで操作できる。
【００３６】
＜変形例＞
［変形例１］
図４Ａおよび図４Ｂに示すように、上述の位相差フィルム１１をベースフィルム（基材）として用いて透明導電性フィルム（透明導電性素子）を構成してもよい。具体的には、この透明導電性フィルムは、ベースフィルム（基材）としての位相差フィルム（位相差素子）１１と、位相差フィルム１１の少なくとも一方の表面に設けられた透明導電層１３とを備える。図４Ａでは、位相差フィルム１１の一方の表面に透明導電層１３を設けた例が示されている。図４Ｂでは、位相差フィルム１１の両方の表面に透明導電層１３を設けた例が示されている。図４Ａおよび図４Ｂに示すように、位相差フィルム１１と透明導電層１３との間にハードコート層１２をさらに備えるようにしてもよい。
【００３７】
透明導電層１３の材料としては、例えば、電気的導電性を有する金属酸化物材料、金属材料、炭素材料および導電性ポリマーなどからなる群より選ばれる１種以上を用いることができる。金属酸化物材料としては、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、ガリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などが挙げられる。金属材料としては、例えば、金属ナノ粒子、金属ナノワイヤーなどの金属ナノフィラーを用いることができる。それらの具体的材料としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛などの金属、またはこれらの合金などが挙げられる。炭素材料としては、例えば、カーボンブラック、炭素繊維、フラーレン、グラフェン、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイルおよびナノホーンなどが挙げられる。導電性ポリマーとしては、例えば、置換または無置換のポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、およびこれらから選ばれる１種または２種からなる（共）重合体などを用いることができる。
【００３８】
透明導電層１３の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法や、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。透明導電層１３は、所定の電極パターンを有する透明電極であってもよい。電極パターンとしては、ストライプ状などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００３９】
ハードコート層１２の材料としては、光または電子線などにより硬化する電離放射線硬化型樹脂、または熱により硬化する熱硬化型樹脂を用いることが好ましく、紫外線により硬化する感光性樹脂が最も好ましい。このような感光性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。例えば、ウレタンアクリレート樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、あるいはプレポリマーを反応させ、得られた生成物に、水酸基を有するアクリレートまたはメタクリレート系のモノマーを反応させることによって得られる。ハードコート層１２の厚みは、１μｍ〜２０μｍであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。
【００４０】
［変形例２］
図４Ｃおよび図４Ｄに示すように、上述の位相差フィルム１１の少なくとも一方の表面に反射防止層としてのモスアイ構造体１４を設けるようにしてもよい。図４Ａでは、位相差フィルム１１の一方の表面にモスアイ構造体１４を設けた例が示されている。図４Ｂでは、位相差フィルム１１の両方の表面にモスアイ構造体１４を設けた例が示されている。なお、位相差フィルム１１の表面に設けられる反射防止層は、上述のモスアイ構造体１４に限定されるものではなく、低屈折率層などの従来公知の反射防止層を用いることも可能である。
【００４１】
＜２．第２の実施形態＞
図５は、本技術の第２の実施形態に係るタッチパネルの一構成例を示す概略断面図である。このタッチパネル（入力装置）５０は、いわゆる抵抗膜方式タッチパネルである。抵抗膜方式タッチパネルとしては、アナログ抵抗膜方式タッチパネル、およびデジタル抵抗膜方式タッチパネルのいずれであってもよい。
【００４２】
タッチパネル５０は、第１の透明導電性フィルム５１と、この第１の透明導電性フィルム５１と対向する第２の透明導電性フィルム５２とを備える。第１の透明導電性フィルム５１と、第２の透明導電性フィルム５２は、それらの周縁部間に配置された貼り合わせ部５５を介して互いに貼り合わされている。貼り合わせ部５５としては、例えば、粘着ペースト、粘着テープなどが用いられる。このタッチパネル５０は、例えば表示装置５４に対して貼り合わせ層５３を介して貼り合わされる。貼り合わせ層５３の材料としては、例えば、アクリル系、ゴム系、シリコン系などの粘着剤を用いることができ、透明性の観点からすると、アクリル系粘着剤が好ましい。
【００４３】
タッチパネル５０は、第１の透明導電性フィルム５１のタッチ側となる面に対して、貼り合わせ層６０などを介して貼り合わされた偏光子５８をさらに備える。第１の透明導電性フィルム５１および／または第２の透明導電性フィルム５２としては、上述の第１の実施形態の変形例１に係る透明導電性フィルム（透明導電性素子）を用いることができる。但し、ベースフィルム（基材）としての位相差フィルム１１としては、上述の第１の実施形態に係る位相差フィルム１１の位相差をλ／４に設定したλ／４位相差フィルムが用いられる。このように偏光子５８と位相差フィルム１１とを採用することで、反射率を低減し、視認性を向上することができる。
【００４４】
第１の透明導電性フィルム５１および第２の透明導電性フィルム５２の対向する表面、すなわち透明導電層１３が設けられる表面にはモスアイ構造体１４を設けることが好ましい。第１の透明導電性フィルム５１および第２の透明導電性フィルム５２の光学特性（例えば反射特性や透過特性など）を向上することができるからである。光学特性の向上の観点からすると、透明導電層１３はモスアイ構造体１４の表面に倣って設けられていることが好ましい。
【００４５】
タッチパネル５０は、第１の透明導電性フィルム５１のタッチ側となる面に単層または多層の反射防止層（図示せず）をさらに備えることが好ましい。反射率を低減し、視認性を向上することができるからである。
【００４６】
タッチパネル５０は、耐擦傷性の向上の観点からすると、第１の透明導電性フィルム５１のタッチ側となる面にハードコート層をさらに備えることが好ましい。このハードコート層の表面には、防汚性が付与されていることが好ましい。
【００４７】
タッチパネル５０は、第１の透明導電性フィルム５１のタッチ側となる面に対して、貼り合わせ層６１などを介して貼り合わされたフロントパネル（表面部材）５９をさらに備えるようにしてもよい。タッチパネル５０は、第２の透明導電性フィルム５２の表示装置５４などに貼り合わされる面に、貼り合わせ層５７などを介して貼り合わされたガラス基板５６をさらに備えるようにしてもよい。
【００４８】
タッチパネル５０は、第２の透明導電性フィルム５２の表示装置５４などと貼り合わされる面に、複数の構造体をさらに備えることが好ましい。複数の構造体のアンカー効果により、タッチパネル５０と貼り合わせ層５３との間の接着性を向上することができるからである。この構造体としてはモスアイ構造体が好ましい。界面反射を抑制することができるからである。
【００４９】
表示装置５４としては、例えば、液晶ディスプレイ、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：ＥＬ）ディスプレイ、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（Surface-conduction Electron-emitter Display：ＳＥＤ）などの各種表示装置を用いることができる。
【００５０】
＜３．第３の実施形態＞
本技術の第３の実施形態に係る電子機器は、第２の実施形態に係る入力装置５０を表示部に備えている。以下に、本技術の第３の実施形態に係る電子機器の例について説明する。
【００５１】
図６は、電子機器としてテレビ装置の例を示す外観図である。テレビ装置１０１は、表示部１０２を備え、その表示部１０２に第２の実施形態に係るタッチパネル５０を備える。
【００５２】
図７Ａ、図７Ｂは、電子機器としてデジタルカメラの例を示す外観図である。図７Ａは、デジタルカメラを表側から見た外観図である。図７Ｂは、デジタルカメラを裏側から見た外観図である。デジタルカメラ１１０は、フラッシュ用の発光部１１１、表示部１１２、メニュースイッチ１１３、シャッターボタン１１４などを備え、その表示部１１２に第２の実施形態に係るタッチパネル５０を備える。
【００５３】
図８は、電子機器としてノート型パーソナルコンピュータの例を示す外観図である。ノート型パーソナルコンピュータ１２０は、本体１２１に、文字などを入力するとき操作されるキーボード１２２、画像を表示する表示部１２３などを備え、その表示部１２３に第２の実施形態に係るタッチパネル５０を備える。
【００５４】
図９は、電子機器としてビデオカメラの例を示す外観図である。ビデオカメラ１３０は、本体部１３１、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ１３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ１３３、表示部１３４などを備え、その表示部１３４に第２の実施形態に係るタッチパネル５０を備える。
【００５５】
図１０Ａは、電子機器として携帯電話の一例を示す外観図である。携帯電話１４１は、いわゆるスマートフォンであり、その表示部１４２に第２の実施形態に係るタッチパネル５０を備える。
【００５６】
図１０Ｂは、電子機器としてタブレット型コンピュータの一例を示す外観図である。タブレット型コンピュータ１５１は、その表示部１５２に第２の実施形態に係るタッチパネル５０を備える。
【実施例】
【００５７】
以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００５８】
以下の実施例１〜５では、フィルム製造装置として、図３に示したフィルム製造装置を用いた。比較例１では、フィルム製造装置として、Ｔダイから押し出されたフィルムを、単軸方向に延伸する縦軸延伸機が備えられた装置を用いた。
【００５９】
（実施例１）
まず、熱可塑性樹脂材料としてノルボルネン樹脂（ガラス転移点Ｔｇ：１７０℃）を準備した。次に、この樹脂材料をフィルム製造装置のＴダイ２１から、厚さ１００μｍのフィルム状に押し出した。その後、押し出したフィルムを面圧８８Ｎ／ｍｍ2でロール２２およびロール２３によりニップし、圧縮延伸を施すことにより、位相差フィルムを得た。この際、ロール２２の表面温度は４０℃、ロール２３の表面温度は６０℃、回転速度は周速が５〜１０ｍ／ｍｉｎ程度となるように設定した。
【００６０】
（実施例２）
フィルム製造装置にて厚さ３０μｍのフィルムを押し出した後、面圧１２０Ｎ／ｍｍ2で圧縮延伸を施すこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを得た。
【００６１】
（実施例３）
フィルム製造装置にて厚さ２００μｍのフィルムを押し出した後、面圧４０Ｎ／ｍｍ2で圧縮延伸を施すこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを得た。
【００６２】
（実施例４）
フィルム製造装置にて厚さ１００μｍのフィルムを押し出した後、面圧５Ｎ／ｍｍ2で圧縮延伸を施すこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを得た。
【００６３】
（実施例５）
フィルム製造装置にて１００μｍのフィルムを押し出した後、面圧１５０Ｎ／ｍｍ2で圧縮延伸を施すこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを得た。
【００６４】
（比較例１）
フィルム製造装置にて厚さ１００μｍのフィルムを押し出した後、圧縮延伸を施すのではなく、単軸方向に延伸を施すこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルムを得た。
【００６５】
（比較例２）
フィルム製造装置にて厚さ１００μｍのフィルムを押し出したのみでフィルムを得た。
【００６６】
（評価）
上述のようにして得られた実施例１〜５、比較例１、２の位相差フィルムのリタデーション、寸法変化率、リタデーション変化量およびリタデーションのチルト角度依存性を以下のようにして評価した。それらの結果を表１、図１１および図１２に示す。
【００６７】
（リタデーション）
位相差フィルムの面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈについては、位相差フィルム・光学材料検査装置（大塚電子株式会社製、商品名：ＲＥＴＳ−１００）を用いて測定した
【００６８】
（寸法変化率）
環境保存前後における位相差フィルムの寸法変化率を以下のようにして求めた。まず、位相差フィルムのＭＤおよびＴＤ方向の寸法（以下「環境保存前の位相差フィルム寸法」という。）を測定した。次に、位相差フィルムを１５０℃環境下に１時間保存した後、位相差フィルムのＭＤおよびＴＤ方向の寸法（以下「環境保存後の位相差フィルム寸法」という。）を再度測定した。次に、以下の式を用いて、環境保存前後における位相差フィルムの寸法変化率を求めた。
（寸法変化率）（％）＝（（環境保存後の位相差フィルム寸法−環境保存前の位相差フィルム寸法）／環境保存前の位相差フィルム寸法）×１００（％）
なお、寸法変化率の数値としては、ＭＤおよびＴＤ方向の寸法のうち変化が大きい方を採用した。
【００６９】
（リタデーション変化）
環境保存前後における位相差フィルムの面内リタデーションＲ０の変化量を以下のようにして求めた。まず、位相差フィルムの面内リタデーションＲ０（以下「環境保存前リタデーションＲ０」という。）を測定した。次に、位相差フィルムを１５０℃環境下に１時間保存した後、位相差フィルムの面内リタデーションＲ０（以下「環境保存後リタデーションＲ０」という。）を再度測定した。次に、以下の式を用いて、環境保存前後における位相差フィルムの面内リタデーションＲ０の変化量を求めた。なお、環境保存前リタデーションＲ０および環境保存後リタデーションＲ０は、上述の「リタデーション」の評価と同様の装置を用いて求めた。
（面内リタデーションＲ０の変化量）＝（環境保存前リタデーションＲ０）−（環境保存後リタデーションＲ０）
【００７０】
（総合評価）
上述のリタデーション、寸法変化率およびリタデーション変化量の各評価結果を用いて、以下の基準で位相差フィルムを総合評価した。その結果を表１に示す。
◎：面内リタデーションＲ０が５０ｎｍ以上であり、位相差フィルムとして使用可能である。また、Ｒｔｈ／Ｒ０が０．７以上１．３以下の範囲内にあり、リタデーションのチルト変化を３０％以内とすることができる。さらに、１５０℃１Ｈの寸法変化率も±１％以内であり、かつ、面内リタデーションＲ０の変化量も２５ｎｍ以下であり、初期特性をほぼ維持できている。
○：面内リタデーションＲ０が５０ｎｍ以上であり、位相差フィルムとして使用可能である。また、Ｒｔｈ／Ｒ０：０．７以上１．３以下の範囲内にあり、リタデーションのチルト変化を３０％以内とすることができる。
×：面内リタデーションＲ０が５０ｎｍ未満であり、位相差フィルムとして使用できない。もしくは、Ｒｔｈ／Ｒ０が０．７以上１．３以下の範囲内に収まらず、チルトかけた場合のリタデーション変化が大きく、リタデーションのチルト変化が３０％を超えてしまう。
【００７１】
（リタデーションのチルト角度依存性）
Ｚ軸方向のチルト角度に対するリタデーションの変化率をシミュレーションにより求めた。その結果を図１１および図１２に示す。
【００７２】
【表１】
2014035383.tif 000003
【００７３】
上記評価結果から以下のことがわかる。
厚み方向リタデーションＲｔｈを面内リタデーションＲ０の０．７倍以上１．３倍以下（０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０）に抑えることにより、面内よりＺ軸方向にチルトをかけた場合のリタデーションの変化を抑えることができる。
圧縮延伸によりリタデーションを付与した位相差フィルムでは、単軸方向の延伸によりリタデーションを付与した位相差フィルムに比して、寸法変化率および面内リタデーションＲ０の変化を抑制することができる。
【００７４】
（試験例１）
以下の構成を有する積層体を想定し、位相差フィルムを挿入したときの、面内リタデーションＲ０に対する透過率変化をシミュレーションにより求めた。その結果を図１３に示す。なお、透過率は波長５５０ｎｍの光に対する透過率である。
（積層体構成）
第１の偏光子／位相差フィルム／第２の偏光子
但し、第１の偏光子と第２の偏光子とはクロスニコルの状態とした。また、第１の偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とが４５度となるように、両フィルムの配置を固定した。
【００７５】
（試験例２）
第１の偏光子と第２の偏光子とをパラレルニコルの状態とする以外は試験例１と同様にして、位相差フィルムを挿入したときの、面内リタデーションＲ０に対する透過率変化をシミュレーションにより求めた。その結果を図１３に示す。
【００７６】
図１３は、試験例１、２のシミュレーションの結果を示す図である。図１３から、位相差フィルムの面内リタデーションＲ０がλ／４の場合、１３８±４０ｎｍ（約±３０％）以内のリタデーション変化であれば、著しい視認性の低下を抑制することができることがわかる。
【００７７】
以上、本技術の実施形態について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【００７８】
例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。
【００７９】
また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【００８０】
また、上述の実施形態では、入力装置として抵抗膜方式タッチパネルに本技術を適用する例について説明したが、本技術はこの例に限定されるものではなく、静電容量方式タッチパネルなどの他の入力装置に対しても本技術は適用可能である。
【００８１】
また、本技術は以下の構成を採用することもできる。
（１）
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（１）を満たす位相差素子。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
（２）
厚みが３０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内である（１）に記載の位相差素子。
（３）
面内リタデーションＲ０の値が５０ｎｍ以上２７６ｎｍ以下の範囲内である（１）または（２）に記載の位相差素子。
（４）
１５０℃環境下1時間保存前後における寸法変化率が、−１％≦寸法変化率≦１％の範囲内である（１）から（３）のいずれかに記載の位相差素子。
（５）
１５０℃環境下１時間保存前後における面内リタデーションＲ０の変化量が、Ｒ０変化量≦２５ｎｍの範囲内である（１）から（３）のいずれかに記載の位相差素子。
（６）
ノルボルネン系樹脂を含んでいる（１）から（５）のいずれかに記載の位相差素子。
（７）
（１）から（６）のいずれかに記載の位相差素子を基材として備える透明導電性素子。
（８）
位相差素子と、
透明導電層と
を備え、
上記位相差素子は、
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（1）を満たす透明導電性素子。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
（９）
上記透明導電層は、透明電極である（８）に記載の透明導電性素子。
（１０）
上記透明導電層が、インジウム錫酸化物を含んでいる（８）または（９）に記載の透明導電性素子。
（１１）
上記透明導電層が、金属ナノフィラーを含んでいる（８）または（９）に記載の透明導電性素子。
（１２）
上記金属ナノフィラーが、金属ナノワイヤーである請求項１０に記載の透明導電性素子。
（１３）
（７）から（１２）のいずれかに記載の透明導電性素子を備える入力装置。
（１４）
（１）から（６）のいずれかに記載の位相差素子を備える表示装置。
（１５）
（１）から（６）のいずれかに記載の位相差素子を備える電子機器。
（１６）
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（１）を満たすように、素子の厚み方向へ圧縮延伸を行うことを含む位相差素子の製造方法。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
（１７）
厚み方向へ圧縮力が、５Ｎ／ｍｍ2以上である（１６）に記載の位相差素子の製造方法。
（１８）
透明導電性素子を備え、
上記透明導電性素子は、
位相差素子と、
透明導電層と
を備え、
上記位相差素子は、
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（1）を満たすことを特徴とする入力装置。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
【００８２】
（１９）
位相差フィルムを備え、
上記位相差素子は、
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（1）を満たすことを特徴とする表示装置。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
（２０）
位相差フィルムを備え、
上記位相差素子は、
面内リタデーションＲ０と厚み方向リタデーションＲｔｈが、以下の式（1）を満たすことを特徴とする電子機器。
０．７×Ｒ０≦Ｒｔｈ≦１．３×Ｒ０  ・・・（１）
Ｒ０：｜Ｎｘ−Ｎｙ｜×ｄ
Ｒｔｈ：｜（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２）−Ｎｚ｜×ｄ
（Ｎｘ：幅方向屈折率、Ｎｙ：長さ方向屈折率、Ｎｚ：厚み方向屈折率、ｄ：素子厚み）
【符号の説明】
【００８３】
１１    位相差フィルム
１２    ハードコート層
１３    透明導電層
１４    モスアイ構造体
２１    ダイ
２２、２３    ロール
５０    タッチパネル
１０１    テレビ装置
１１０    デジタルカメラ
１２０    ノート型パーソナルコンピュータ
１３０    ビデオカメラ
１４１    携帯電話
１５１    タブレット型コンピュータ
【図１】
2014035383.tif 000004
【図２】
2014035383.tif 000005
【図３】
2014035383.tif 000006
【図４】
2014035383.tif 000007
【図５】
2014035383.tif 000008
【図６】
2014035383.tif 000009
【図７】
2014035383.tif 000010
【図８】
2014035383.tif 000011
【図９】
2014035383.tif 000012
【図１０】
2014035383.tif 000013
【図１１】
2014035383.tif 000014
【図１２】
2014035383.tif 000015
【図１３】
2014035383.tif 000016