(57)【要約】【課題】  複数の座標への入力を同時に検出でき、薄型化を達成することができるタッチパネルを提供すること。【解決手段】  タッチパネルは、第１基板と、前記第１基板の一方の面に形成される第１電極層とを有する第１電極板と、前記第１電極層に対向して配置される第２基板と、前記第２基板の前記第１電極層に対向する一方の面に形成される第２電極層と、前記第２基板の他方の面に形成され、二軸方向に配列される第１電極部及び第２電極部を備える第３電極層とを有する第２電極板と、前記第２基板の前記他方の面に形成される前記第３電極層を覆う被覆板とを含み、前記第１電極層と前記第２電極層は抵抗膜方式のタッチパネルを構築し、前記第３電極層の前記第１電極部及び前記第２電極部は静電容量方式のタッチパネルを構築する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、前記第１基板の一方の面に形成される第１電極層とを有する第１電極板と、
前記第１電極層に対向して配置される第２基板と、前記第２基板の前記第１電極層に対向する一方の面に形成される第２電極層と、前記第２基板の他方の面に形成され、二軸方向に配列される第１電極部及び第２電極部を備える第３電極層とを有する第２電極板と、
前記第２基板の前記他方の面に形成される前記第３電極層を覆う被覆板と
を含み、
前記第１電極層と前記第２電極層は抵抗膜方式のタッチパネルを構築し、前記第３電極層の前記第１電極部及び前記第２電極部は静電容量方式のタッチパネルを構築する、タッチパネル。
【請求項２】
第１基板と、前記第１基板の一方の面に形成される第１電極層とを有する第１電極板と、
前記第１電極層に対向して配置される第２基板と、前記第２基板の前記第１電極層に対向する一方の面に形成される第２電極層とを有する第２電極板と、
前記第２電極板の前記第２基板の他方の面に対向して配置される第３基板と、前記第３基板の前記第２基板の他方の面に対向する一方の面とは反対の他方の面に形成され、二軸方向に配列される第１電極部及び第２電極部を備える第３電極層とを有する第３電極板と、
前記第３基板の前記他方の面に形成される前記第３電極層を覆う被覆板と
を含み、
前記第１電極層と前記第２電極層は抵抗膜方式のタッチパネルを構築し、前記第３電極層の前記第１電極部及び前記第２電極部は静電容量方式のタッチパネルを構築する、タッチパネル。
【請求項３】
前記第３電極層の前記第１電極部及び前記第２電極部は、各々が平面視で菱形状になるように、メッシュ状に分割されており、
前記第３電極層は、
第１軸方向において近接する第１電極部同士を接続する第１接続部と、
前記第１軸とは直交する第２軸方向において近接する第２電極部同士を接続するとともに、前記第１接続部とは絶縁される、第２接続部と
をさらに有する、請求項１又は２記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、両面一体型タッチパネル構造であって、静電容量方式タッチパネルである第１のタッチパネルと、抵抗膜方式タッチパネルである第２のタッチパネルと、前記第１のタッチパネルの背面および前記第２のタッチパネルの背面同士を接着して、この層状構造が前記両面一体型タッチパネルを形成するようになす接着層と、を含む、両面一体型タッチパネル構造がある（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−０８６５１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、従来の両面一体型タッチパネル構造に含まれる静電容量方式タッチパネルである第１のタッチパネルと、抵抗膜方式タッチパネルである第２のタッチパネルとは、ともに、複数の座標に同時に入力があった場合に、複数の座標を同時に検出することができない。
【０００５】
このため、従来の両面一体型タッチパネル構造において、複数の座標を同時に検出できるようにするためには、電極の数が増えるため、薄型化を達成することが困難になるという課題があった。
【０００６】
そこで、本発明は、複数の座標への入力を同時に検出でき、薄型化を達成することができるタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一局面のタッチパネルは、第１基板と、前記第１基板の一方の面に形成される第１電極層とを有する第１電極板と、前記第１電極層に対向して配置される第２基板と、前記第２基板の前記第１電極層に対向する一方の面に形成される第２電極層と、前記第２基板の他方の面に形成され、二軸方向に配列される第１電極部及び第２電極部を備える第３電極層とを有する第２電極板と、前記第２基板の前記他方の面に形成される前記第３電極層を覆う被覆板とを含み、前記第１電極層と前記第２電極層は抵抗膜方式のタッチパネルを構築し、前記第３電極層の前記第１電極部及び前記第２電極部は静電容量方式のタッチパネルを構築する。
【発明の効果】
【０００８】
複数の座標への入力を同時に検出でき、薄型化を達成することができるタッチパネルを提供できるという特有の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施の形態１のタッチパネル１００の断面を示す図である。
【図２】実施の形態１のタッチパネル１００の電極層１３３を示す図である。
【図３】比較例のタッチパネル１０を示す図である。
【図４】実施の形態２のタッチパネル２００を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明のタッチパネルを適用した実施の形態について説明する。
【００１１】
＜実施の形態１＞
図１は、実施の形態１のタッチパネル１００の断面を示す図である。図１（Ａ）は斜視分解図であり、図１（Ｂ）は（Ａ）のＡ−Ａ矢視断面に対応する分解図である。なお、図１（Ａ）、（Ｂ）に示すように、直交座標系であるＸＹＺ座標系を定義する。
【００１２】
タッチパネル１００は、５層構造であり、第１電極板１１０、スペーサ１２０、第２電極板１３０、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）層１４０、及びカバーフィルム１５０を含む。タッチパネル１００は、抵抗膜式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルとを含む。
【００１３】
第１電極板１１０は、基板１１１に電極層１１２を形成したものである。基板１１１としては、例えば、ガラス又は樹脂フィルムを用いることができる。電極層１１２は、基板１１１のＺ軸正方向側の面の一面に形成される。基板１１１は第１基板の一例であり、電極層１１２は第１電極層の一例である。
【００１４】
電極層１１２は、抵抗膜方式のタッチパネルの下部電極として用いられるものであり、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、又は有機材料系等の材料で形成される導電膜であればよい。なお、基板１１１と電極層１１２は、透明であってもよい。
【００１５】
スペーサ１２０は、第１電極板１１０と第２電極板１３０との間の間隔を一定に保持するために設けられる。スペーサ１２０は、平面視で矩形状であり、中央部に矩形状の開口部１２０Ａを有する。
【００１６】
スペーサ１２０は、抵抗膜方式のタッチパネルの下部電極になる電極層１１２と、抵抗膜方式のタッチパネルの上部電極になる電極層１３２との間の距離を一定に保持するために設けられている。
【００１７】
第２電極板１３０は、基板１３１、電極層１３２、及び電極層１３３を有する。基板１３１は第２基板の一例であり、電極層１３２は第２電極層の一例であり、電極層１３３は第３電極層の一例である。
【００１８】
基板１３１は、透明なガラス又は樹脂フィルムであり、Ｚ軸負方向側の面に電極層１３２が形成され、Ｚ軸正方向側の面に電極層１３３が形成される。
【００１９】
電極層１３２は、抵抗膜方式のタッチパネルの上部電極として用いられるものであり、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、又は有機材料系等の材料で形成される透明な導電膜であればよい。電極層１３２は、基板１３１のＺ軸負方向側の面の一面に形成される。
【００２０】
電極層１３３は、静電容量方式のタッチパネルのＸＹ電極として用いられるものであり、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、又は有機材料系等の材料で形成される透明な導電膜であればよい。電極層１３３の詳細な構成については、図２を用いて後述する。
【００２１】
ＯＣＡ層１４０は、絶縁性のある透明な接着層である。ＯＣＡ層１４０は、第２電極板１３０の電極層１３３と、カバーフィルム１５０とを接着するために設けられている。
【００２２】
カバーフィルム１５０は、所謂加飾フィルムであり、例えば、ポリカーボネート製又はＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）製のフィルムである。カバーフィルム１５０は、被覆板の一例である。
【００２３】
カバーフィルム１５０は、平面視で矩形であり、中央に設けられる平面視で矩形状の透明部１５０Ａと、透明部１５０Ａの周りに設けられる所定幅の矩形環状の加飾印刷部１５０Ｂとを有する。加飾印刷部１５０Ｂは、例えば、所定の色又は模様等の加飾用の印刷を施した部分である。
【００２４】
次に、図２を用いて、実施の形態１のタッチパネル１００の電極層１３３について説明する。
【００２５】
図２は、実施の形態１のタッチパネル１００の電極層１３３を示す図である。図２（Ａ）は電極層１３３を示す平面図、（Ｂ）は一部を示す図、（Ｃ）は変形例によるパターンを示す図である。なお、図２では、図１と同様に直交座標系であるＸＹＺ座標系を定義する。
【００２６】
電極層１３３は、平面視で、メッシュ状に分割されている。図２には、説明の便宜上、基板１３１（図１参照）のＺ軸正方向側の面に形成されている電極層１３３のパターンだけを示す。
【００２７】
電極層１３３は、具体的には、図２（Ａ）に示すように、Ｘ軸及びＹ軸に対し４５°となる直線に略平行に分割され、電極部１３３Ｘと電極部１３３Ｙとに分けられている。電極部１３３Ｘと電極部１３３Ｙは、各々が平面視で菱形状になるように、メッシュ状に分割されることにより、二軸方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向）に配列されている。
【００２８】
電極部１３３Ｘは、接続部１３３Ｘ１によってＸ軸方向に沿って接続されている。電極部１３３Ｙは、接続部１３３Ｙ１によってＸ軸方向に沿って接続されている。
【００２９】
また、図２（Ｂ）に示すように、接続部１３３Ｘ１と接続部１３３Ｙ１とが交差する部分には絶縁膜１３４が形成され、電極部１３３Ｘと電極部１３３Ｙとは絶縁されている。絶縁膜１３４は、接続部１３３Ｙ１の上側（Ｚ軸正方向側）に形成され、絶縁膜１３４の上（Ｚ軸正方向側）に接続部１３３Ｘ１が形成されている。
【００３０】
図２（Ａ）では絶縁膜１３４の図示を省略するが、実際には、絶縁膜１３４は、すべての接続部１３３Ｘ１と接続部１３３Ｙ１とが交差する部分に形成されている。
【００３１】
絶縁部１３４は、例えば、ＩＴＯ膜で形成することができる。電極層１３３は、例えば、基板１３３の一方の表面に、電極部１３３Ｙと接続部１３３Ｙ１を形成した後に、マスク等を用いて絶縁部１３４を各接続部１３３Ｙ１の上に形成し、その上に、電極部１３３Ｘと接続部１３３Ｘ１とを形成することによって作製すればよい。
【００３２】
また、ここでは、電極層１３３が平面視で菱形状に形成される電極部１３３Ｘと１３３Ｙとを有する形態について説明するが、電極層１３３は、例えば、図２（Ｃ）に示すように、電極部１３５Ｘと１３５Ｙとを有するように構成されていてもよい。電極部１３５Ｘと１３５Ｙは、それぞれ、三角形にパターニングされたＩＴＯ膜をＹ軸方向に接続した構成を有する。ここで、電極部１３５Ｘは、図２（Ｂ）に示す電極部１３３Ｘの代わりに用いればよく、電極部１３５Ｙは、図２（Ｂ）に示す電極部１３５Ｙの代わりに用いればよい。電極部１３５Ｘは、Ｙ軸方向に配列される三角形のＩＴＯ膜を接続した構成を有するが、図２（Ｂ）に示す電極部１３３Ｘの代わりに用いることにより、電極部１３５Ｘと１３５Ｙとの間の静電容量の変化を検知することにより、図２（Ａ）、（Ｂ）に示す電極層１３３と同様に、座標検出を行うことができる。
【００３３】
以上のような実施の形態１のタッチパネル１００では、電極層１１２及び電極層１３２を、それぞれ、抵抗膜方式のタッチパネルの下部電極及び上部電極として用いることにより、カバーフィルム１５０の表面への利用者の操作入力の行われた座標を検出することができる。
【００３４】
Ｘ座標を検出するには、電極層１３２にＸ軸方向の電位勾配を発生させるとともに、電極層１１２を開放する（電位を与えない状態にする）。この状態で、カバーフィルム１５０に指等が接触すると、接触のあった位置で電極層１１２と電極層１３２とが接触し、電極層１１２は電極層１３２の接触位置における電位となる。このときの電極層１１２の電位に基づいて、Ｘ座標を算出することができる。
【００３５】
Ｙ座標を検出するには、電極層１１２にＹ軸方向の電位勾配を発生させるとともに、電極層１３２を開放する（電位を与えない状態にする）。この状態で、カバーフィルム１５０に指等が接触すると、接触のあった位置で電極層１１２と電極層１３２とが接触し、電極層１３２は電極層１１２の接触位置における電位となる。このときの電極層１３２の電位に基づいて、Ｙ座標を算出することができる。
【００３６】
また、電極層１３３は、静電容量方式のタッチパネルのＸＹ電極として用いてＸＹ座標を検出するには次のようにすればよい。
【００３７】
電極部１３３Ｘ及び１３３Ｙを、それぞれ、第１マルチプレクサ及び第２マルチプレクサに接続して静電容量の変化を検出する。
【００３８】
第１マルチプレクサには、複数の電極部１３３Ｘが接続されている。第１マルチプレクサは、図示しない駆動源から入力される矩形波状の電圧を複数の電極部１３３Ｘに選択的に出力する。第１マルチプレクサは、複数の電極部１３３Ｘを１つずつ順番に選択し、矩形波状の電圧を印加する。
【００３９】
第２マルチプレクサには、複数の電極部１３３Ｙが接続されている。第２マルチプレクサは、複数の電極部１３３Ｙを１つずつ順番に選択し、複数の電極部１３３Ｙの各々の電圧を出力する。
【００４０】
第２マルチプレクサが複数の電極部１３３Ｙのうちの１つを選択している間に、第１マルチプレクサは電極部１３３Ｘを順番に選択し、各電極に矩形波状の電圧を印加する。この処理を複数の電極部１３３Ｙの各々について繰り返し行う。
【００４１】
この場合に、利用者が静電パネル１１０に触れていない場合は、電極部１３３Ｘと、電極部１３３Ｙとの間の静電容量は初期値で一定であるため、第２マルチプレクサの出力は一定である。すなわち、利用者の指の接触がない場合には、電極部１３３Ｘと、電極部１３３Ｙとで検出する静電容量は一定値である。
【００４２】
また、利用者の指が加飾フィルム１５０に触れると、指で触れた部分で静電容量が変化する。このため、電極部１３３Ｙの各々について電極部１３３Ｘを順番に選択して静電容量を繰り返し検出しているときに、利用者の指の接触によって静電容量の変化が生じると、電極部１３３Ｘと電極部１３３Ｙとの組み合わせで静電容量の変化が生じた場所を特定でき、この結果、操作入力のあった位置を特定することができる。これにより、タッチパネル１００は、操作入力のあった座標位置を検出することができる。
【００４３】
以上のように、実施の形態１によれば、５層構造で、抵抗膜式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルとを含み、所謂マルチタッチが可能で、全体の厚さを薄くしたタッチパネル１００を提供することができる。
【００４４】
ここで、図３を用いて、比較例のタッチパネル１０について説明する。
【００４５】
図３は、比較例のタッチパネル１０を示す図である。図３（Ａ）は斜視分解図であり、図３（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ矢視断面に対応する分解図である。なお、図３（Ａ）、（Ｂ）に示すように、直交座標系であるＸＹＺ座標系を定義する。また、実施の形態１のタッチパネル１００と同様の構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【００４６】
タッチパネル１０は、９層構造であり、第１電極板１１０、スペーサ１２０、第２電極板１３０Ａ、ＯＣＡ層１４０Ａ、第３電極板１７０、ＯＣＡ層１４０Ｂ、第４電極板１８０、ＯＣＡ層１４０Ｃ、及びカバーフィルム１５０を含む。比較例のタッチパネル１０は、実施の形態１のタッチパネル１００と同様に、抵抗膜式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルとを含む。
【００４７】
第１電極板１１０、スペーサ１２０、及びカバーフィルム１５０は、実施の形態１の第１電極板１１０、スペーサ１２０、及びカバーフィルム１５０と同様である。
【００４８】
第２電極板１３０Ａは、基板１３１と電極層１３２を有する。基板１３１と電極層１３２は、実施の形態１の基板１３１と電極層１３２と同様である。第２電極板１３０Ａは、実施の形態１の第２電極板１３０から電極層１３２を取り除いたものである。
【００４９】
ＯＣＡ層１４０Ａ、１４０Ｂ、１４０Ｃは、実施の形態１のＯＣＡ層１４０と同様である。
【００５０】
第３電極板１７０は、基板１７１及び電極層１７２を含む。第３電極板１７０は、ＯＣＡ層１４０Ａによって第２電極板１３０Ａと接合されるとともに、ＯＣＡ層１４０Ｂによって第４電極板１８０と接合される。
【００５１】
基板１７１は、基板１３１と同様に、透明なガラス又は樹脂フィルムであり、Ｚ軸正方向側の面に電極層１７２が形成される。
【００５２】
電極層１７２は、実施の形態１の電極層１３３Ｙと同様である。電極層１７２は、電極層１３３Ｙと同様に、Ｙ軸方向に形成されている。電極層１７２は、電極層１８２と静電容量方式のタッチパネルを構築する。
【００５３】
第４電極板１８０は、基板１８１及び電極層１８２を含む。基板１８１は、基板１３１と同様に、透明なガラス又は樹脂フィルムであり、Ｚ軸正方向側の面に電極層１８２が形成される。
【００５４】
電極層１８２は、実施の形態１の電極層１３３Ｘと同様である。電極層１８２は、電極層１３３Ｘと同様に、Ｘ軸方向に形成されている。電極層１８２は、電極層１７２と静電容量方式のタッチパネルを構築する。
【００５５】
このように、比較例のタッチパネル１０は、静電容量方式のタッチパネルのＹ軸方向に形成される電極層１７２が第２電極板１３０Ａから独立して第３電極板１７０に含まれている。
【００５６】
また、静電容量方式のタッチパネルのＹ軸方向に形成される電極層１７２と、静電容量方式のタッチパネルのＸ軸方向に形成される電極層１８２とが別々の基板（１７１、１８１）に形成されている。
【００５７】
また、このような構成により、３つのＯＣＡ層１４０Ａ、１４０Ｂ、１４０Ｃが必要になる。
【００５８】
このため、比較例のタッチパネル１０は、９層構造になり、５層構造で実現できる実施の形態１のタッチパネル１００に比べて、４層も多い構造を有することになる。
【００５９】
以上より、実施の形態１のタッチパネル１００は、所謂マルチタッチが可能で、全体の厚さを薄くすることができる。これは、比較例のタッチパネル１０に比べると、基板１３１のＺ軸正方向側の面に電極層１３３を形成したことと、１層のＯＣＡ層１４０で済むことによって、５層構造を実現したことによって得られる効果である。
【００６０】
また、実施の形態１のタッチパネル１００は、比較例のタッチパネル１０に比べて、ＯＣＡ層（１４０Ｂ、１４０Ｃ）が２層少なく、基板（１７１、１８１）が２枚少ないことにより、軽量化を図ることもできる。
【００６１】
このようにタッチパネル１００の薄型化（及び軽量化）を図れることは、例えば、スマートフォン端末機、又は、タブレット式の情報端末機等に用いる際に、非常に有効的である。
【００６２】
静電容量方式のタッチパネルは、パネル表面に導電性物質（人体の指）が触れることで人体にも微弱電流が流れることで入力を認識する入力デバイスであり、機械的な変形、電気的接触・開離の伴う抵抗膜方式タッチパネルよりも軽いタッチで入力できるなどの特長を有する。
【００６３】
また、実施の形態１の静電容量方式のタッチパネルの電極層１３３のように投影型（Ｘ軸方向の複数ラインの電極部１３３Ｘと、Ｙ軸方向の複数ラインの電極部１３３Ｙのように電極がパターニングされていて、ライン間で信号の授受を行って座標検出する方式）の場合、複数の入力を検出可能であることも特長である。しかし、入力手段が、絶縁物（手袋をした指やプラスチックペンなど）では、検出することが出来ず、導電性材料のペンでもペン先がある程度の面積（φ５ｍｍ以上）でないと、入力が困難になる。
【００６４】
一方、抵抗膜方式のタッチパネルは、空間を隔てて対向する上部電極と下部電極で構成され、指やペンなど、外部から機械的な力で押圧され、上部電極と下部電極が電気的接触することで、入力が検出される入力デバイスである。こちらは、入力手段としては、導電性や面積は問わず、上記電気的接触が得られればよいことになるので、特にペン入力が容易になる一方、ある程度の力（０．５Ｎ以上）が必要となる。
【００６５】
このように、静電容量方式のタッチパネルと、抵抗膜方式のタッチパネルは、それぞれ、単独では、解決しきれない点がある。
【００６６】
このため、静電容量方式のタッチパネルと抵抗膜方式のタッチパネルを重ねたハイブリッド方式タッチパネルが考えられている。これは、通常の操作等の入力は主に静電容量方式のタッチパネルを用い、ペン入力や手袋入力、確実な決定事項などには、抵抗膜方式のタッチパネルを用いるという両方の利点を生かせるものである。
【００６７】
しかしながら、ハイブリッド方式タッチパネルは、２つのタッチパネルを重ねる構成のため、厚みが大きくなってしまうという問題がある。図３に示した比較例のタッチパネル１０では、９層構造になる。
【００６８】
これに対して、実施の形態１によれば、５層構造で、抵抗膜式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルとを含み、所謂マルチタッチが可能で、全体の厚さを薄くしたタッチパネル１００を提供することができる。
【００６９】
＜実施の形態２＞
図４は、実施の形態２のタッチパネル２００を示す図である。図４（Ａ）は斜視分解図であり、図４（Ｂ）は（Ａ）のＣ−Ｃ矢視断面に対応する分解図である。なお、図４（Ａ）、（Ｂ）に示すように、直交座標系であるＸＹＺ座標系を定義する。また、実施の形態１のタッチパネル１００又は比較例のタッチパネル１０と同様の構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【００７０】
タッチパネル２００は、７層構造であり、第１電極板１１０、スペーサ１２０、第２電極板１３０Ａ、ＯＣＡ層１４０Ａ、第３電極板２７０、ＯＣＡ層２４０、及びカバーフィルム１５０を含む。実施の形態２のタッチパネル２００は、実施の形態１のタッチパネル１００と同様に、抵抗膜式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルとを含む。
【００７１】
第１電極板１１０、スペーサ１２０、及びカバーフィルム１５０は、実施の形態１の第１電極板１１０、スペーサ１２０、及びカバーフィルム１５０と同様である。
【００７２】
第２電極板１３０Ａは、比較例の第２電極板１３０Ａと同様である。
【００７３】
ＯＣＡ層１４０Ａは、比較例のＯＣＡ層１４０Ａと同様であり、すなわち、実施の形態１のＯＣＡ層１４０と同様である。
【００７４】
第３電極板２７０は、基板１７１及び電極層１３３を含む。基板１７１は第３基板の一例であり、電極層１３３は第３電極層の一例である。
【００７５】
第３電極板２７０は、ＯＣＡ層１４０Ａによって第２電極板１３０Ａと接合されるとともに、ＯＣＡ層２４０によってカバーフィルム１５０と接合される。ＯＣＡ層２４０は、比較例のＯＣＡ層１４０Ａと同様であり、すなわち、実施の形態１のＯＣＡ層１４０と同様である。
【００７６】
基板１７１は、基板１３１と同様に、透明なガラス又は樹脂フィルムであり、Ｚ軸正方向側の面に電極層１３３が形成される。
【００７７】
電極層１３３は、実施の形態１の電極層１３３と同様であり、電極部１３３Ｘ、１３３Ｙを有し、静電容量方式のタッチパネルを構築する。
【００７８】
このように、実施の形態２のタッチパネル２００は、実施の形態１のタッチパネル１００に比べて、静電容量方式のタッチパネルを構築する電極層１３３が第２電極板１３０Ａから独立して第３電極板２７０に含まれている。
【００７９】
このため、実施の形態２のタッチパネル２００は、実施の形態１のタッチパネル１００よりも２層多い７層構造になるが、比較例のタッチパネル１０に比べると、２層少ない構成である。
【００８０】
以上より、実施の形態２のタッチパネル２００は、所謂マルチタッチが可能で、全体の厚さを薄くすることができる。
【００８１】
また、実施の形態２のタッチパネル２００は、比較例のタッチパネル１０に比べて、ＯＣＡ層（１４０Ｃ）が１層少なく、基板（１８１）が１枚少ないことにより、軽量化を図ることもできる。
【００８２】
このようにタッチパネル２００の薄型化（及び軽量化）を図れることは、例えば、スマートフォン端末機、又は、タブレット式の情報端末機等に用いる際に、非常に有効的である。
【００８３】
以上、本発明の例示的な実施の形態のタッチパネルについて説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。
【符号の説明】
【００８４】
１００、２００  タッチパネル
１１０  第１電極板
１２０  スペーサ
１３０、１３０Ａ  第２電極板
１４０、１４０Ａ、２４０  ＯＣＡ層
１５０  カバーフィルム
１１２  電極層
１３２  電極層
１３３  電極層
１３３Ｘ、１３３Ｙ  電極部
１３３Ｘ１、１３３Ｙ１  接続部
１３４  絶縁膜
２７０  第３電極板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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