(57)【要約】【課題】分注ノズルに付随する一般的な液面検知機能を用いて流路内の詰まりを検知し、流路内を自動洗浄する機能を有する核酸分析装置を提供する。【解決手段】注入口１１０と、注入口に接続された反応流路１２１と、反応流路に接続された廃液流路２０２からなる流路系を有する反応ユニットに、分注ノズル１０７から液体を分注した後の注入口の液面高さを検出する。注入口の液面高さが閾値より高いとき、流路系が詰まっていると判定し、注入口から洗浄液を注入し洗浄処理する。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吸引・吐出する分注ノズルと、
前記分注ノズルを所望位置に移動するノズル駆動部と、
前記分注ノズルの先端が液面に接触したことで液面を検知する液面検知部と、
注入口と、前記注入口に接続された反応流路と、前記反応流路に接続された廃液流路とを備える流路系を有する反応ユニットと、
装置各部を制御する制御・演算部とを備え、
前記液面検知部は、前記分注ノズルから前記注入口に液体を分注した後の前記注入口の液面高さを検出し、
前記制御・演算部は、前記液面検知部によって検出された液面高さに基づいて前記流路系の詰まりを検知することを特徴とする核酸分析装置。
【請求項２】
請求項１記載の核酸分析装置において、
前記制御・演算部は、詰まりを検知した流路系の注入口に洗浄液を注入する洗浄処理を行うことを特徴とする核酸分析装置。
【請求項３】
請求項１記載の核酸分析装置において、
前記反応ユニットは複数の反応流路を備えることを特徴とする核酸分析装置。
【請求項４】
請求項１記載の核酸分析装置において、
前記反応ユニットは、前記反応流路が設けられた平面基板と前記平面基板の上に着脱自在に固定されるカバープレートを備え、
前記反応流路は入口開口と出口開口を備え、
前記カバープレートは前記注入口と流路接続部と開口部とを有し、前記注入口は前記平面基板に設けられた前記入口開口に接続され、前記流路接続部は前記出口開口と前記廃液流路とを接続し、前記開口部は前記平面基板の前記反応流路上に位置することを特徴とする核酸分析装置。
【請求項５】
請求項１記載の核酸分析装置において、
前記カバープレートには前記注入口の周囲を取り囲み当該注入口からあふれ出た液体を保持するためのガイドが設けられていることを特徴とする核酸分析装置。
【請求項６】
請求項１記載の核酸分析装置において、
前記反応ユニットは、前記平面基板の下方に温度調整機能を有するステージを備えることを特徴とする核酸分析装置。
【請求項７】
請求項１記載の核酸分析装置において、
前記反応流路は核酸サンプルが付着した磁性体ビーズを保持することを特徴とする核酸分析装置。
【請求項８】
請求項４記載の核酸分析装置において、
前記平面基板と同じ流路構造で高耐圧な流路を備える洗浄専用平面基板を有し、
前記流路系の詰まりが検出されたとき、前記平面基板を前記洗浄専用平面基板に交換し前記注入口から洗浄液を注入して前記流路系を洗浄することを特徴とする核酸分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流路と分注機構を備える核酸分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
核酸分析装置は、サンプルの核酸から塩基の種類を検出し、その配列を決定する装置である。これまでの核酸分析装置は、ガラスキャピラリ管内を蛍光修飾した核酸を電気泳動し、励起光照射によって得られる蛍光を読み取ることにより塩基配列を決定していた。
【０００３】
近年、フローセルと呼ばれる平面基板上にサンプルの核酸を保持させた磁性体ビーズもしくは核酸を添加し、ＣＣＤカメラ等の撮像素子によって蛍光を読み取り、複数の核酸を超並列的に効率よく分析できる次世代ＤＮＡシーケンサと呼ばれる装置が登場した。これらの核酸分析装置では、サンプルの核酸上に、蛍光標識した相補的なプローブ（核酸の断片）をＤＮＡポリメラーゼやＤＮＡリガーゼによって伸長させる。伸長反応毎に蛍光を検出することによって、多数の核酸を並列して塩基配列を決定することが可能である。
【０００４】
キャピラリ方式では、試薬やサンプルを吸引し、蛍光検出部まで運ぶ流路は一本の流路構造となっていたのに対し、次世代ＤＮＡシーケンサでは、試薬を必要な量だけ吸引・吐出する分注機構と、サンプルを保持した磁性体ビーズと試薬が反応する流路が別構造となっている送液システムを有しているものがある（特許文献１）。この構造により、反応流路を短くすることでコンタミ防止や使用する試薬量を少なくしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１７３０５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
次世代シーケンサでは、磁性体ビーズやサンプルや試薬成分が廃液流路内へ付着することで流路内抵抗が高まり、流路内で詰まりが発生し、分析結果へ悪影響を及ぼしてしまうことがある。この場合、再測定のための試薬やサンプルの準備が必要となる。次世代ＤＮＡシーケンサは高価な試薬を使用する必要があり、再測定すると余分な試薬の使用により分析コストが高くなる。また、キャピラリ方式では数時間で完了していた測定が、次世代ＤＮＡシーケンサでは多数のサンプルを処理するため数日から数週間を要する。このため、測定のやり直しは、大きな時間の損失ともなる。
【０００７】
流路内の詰まりを検出する手法として、例えば圧力を直接測定し、流路内の圧力変化を捉える方式がある。しかしながら、一般的に圧力センサは高価であり、また、流路内が複雑になるという問題がある。
【０００８】
本発明は、簡単な機構を用いて流路内の詰まりを検知し、詰まりが生じた流路内を自動洗浄する機能を有する核酸分析装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明では、流路内に詰まりが発生すると、流路への液体注入後に注入口の液面が詰まりが無いときより高くなる現象を利用して流路内の詰まりを検出する。液面の高さは分注ノズル先端による通常の液面検知機能を利用して検出する。
【００１０】
本発明の核酸分析装置は、液体を吸引・吐出する分注ノズルと、分注ノズルを所望位置に移動するノズル駆動部と、分注ノズルの先端が液面に接触したことで液面を検知する液面検知部と、注入口、注入口に接続された反応流路及び反応流路に接続された廃液流路を備える流路系を有する反応ユニットと、装置各部を制御する制御・演算部とを備え、液面検知部は、分注ノズルから注入口に液体を分注した後の注入口の液面高さを検出し、制御・演算部は、液面検知部によって検出された液面高さに基づいて流路系の詰まりを検知する。制御・演算部は、詰まりを検知した流路系の注入口に洗浄液を注入する洗浄処理を行う。
【００１１】
一態様によると、反応ユニットは、反応流路が設けられた平面基板と平面基板の上に着脱自在に固定されるカバープレートを備え、反応流路は入口開口と出口開口を備え、カバープレートは注入口と流路接続部と開口部とを有し、注入口は平面基板に設けられた入口開口に接続され、流路接続部は出口開口と廃液流路とを接続し、開口部は平面基板の反応流路上に位置し、カバープレートの開口部を介して反応流路に保持された磁性体ビーズへの励起光照射と蛍光検出が行われる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によると、圧力センサ等の新たなセンサを付加せずに流路内の詰まりを検出可能である。これにより流路の複雑化を防ぐとともに、コストを抑えることができる。また、洗浄処理をすることで詰まりによる分析反応の悪化を防止できる。
上記した以外の、課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】核酸分析装置の構成例を示す概略図。
【図２】ノズル駆動部及び反応ユニットの流路を示す概略図。
【図３】反応ユニットの分解組立図。
【図４】液面検知の概略図。
【図５】液面検知機能で使用される信号の例を示す図。
【図６】流路内の詰まりの一例の説明図。
【図７】分注ノズルを反応流路の注入口へ挿入している様子を示す図。
【図８】分注後に分注ノズルを注入口から上方へ移動させている様子を示す図。
【図９】注入口付近の液面検知をしている様子を示す図。
【図１０】周囲にガイドを設けた注入口の概略断面図。
【図１１】分注ノズルで流路の詰まりを検出する手順例を示すフローチャート。
【図１２】洗浄の手順例を示すフローチャート。
【図１３】洗浄の手順例を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００１５】
［実施例１］
まず装置全体の構成について説明する。図１は、核酸分析装置の構成例を示す概略図である。核酸分析装置は、送液ユニット１０１、反応ユニット１０２、検出ユニット１０３、制御・演算部１０４を有する。制御・演算部１０４は、メモリに格納された情報を参照しながら、分析プログラムに従って装置各部を制御し、分析を実行する。
【００１６】
送液ユニット１０１は、試薬を保持する試薬ラック１０５、分注ノズル１０７、シリンジ１０８、ノズル駆動部１０９などを備える。試薬ラック１０５には試薬が入った複数の試薬容器が、試薬保管に適切な温度で保持・収納されている。試薬ラック１０５の上には、試薬容器と同じ配列で複数の開口が設けられたスライダ１０６が試薬ラックを覆うように配置されている。制御・演算部１０４によってスライダ１０６を左右にスライドさせることにより、試薬ラック１０５内の試薬容器上部が開閉される。分注ノズル１０７は、シリンジ１０８の動作によって適切な量の試薬を吸引／吐出する。また、分注ノズル１０７は、ノズル駆動部１０９によって上下左右前後に可動する。
【００１７】
反応ユニット１０２は、ステージ１１５及び平面基板１１４を有する。ステージ１１５は平面基板１１４を固定し、制御・演算部１０４の指示に従って駆動されるステージ駆動部１１６により試薬投入位置や検出位置に移動する。平面基板１１４には、核酸サンプルが付着した磁性体ビーズなどが収容された反応流路１２１が設けられており、反応流路１２１に分注ノズル１０７から試薬を分注することで、磁性体ビーズに付着した核酸サンプルと試薬との反応が起こる。
【００１８】
検出ユニット１０３は、光源１１７と撮像素子１１８を備える。キセノンランプなどの光源１１７から励起光を照射することにより、平面基板１１４上の反応流路１２１内に磁性体ビーズに付着されて保持されているサンプルから発せられる蛍光をＣＣＤカメラなどの撮像素子１１８によって検出する。
【００１９】
平面基板１１４の反応流路１２１への試薬の分注は次のように行われる。まず、制御・演算部１０４の制御下に、スライダ１０６を駆動して試薬ラック１０５に保持された試薬容器の上部を開放した状態で、分注ノズル１０７を試薬ラック１０５内の所望の試薬容器にアクセスさせ、シリンジ１０８を駆動して既定量の試薬を吸引する。一方、平面基板１１４は、制御・演算部１０４によって駆動制御されるステージ駆動部１１６によって試薬投入位置に移動される。次に、制御・演算部１０４は、分注ノズル１０７を試薬投入位置に移動した平面基板１１４の注入口１１０に挿入し、シリンジ１０８を駆動して反応流路１２１に試薬を分注する。
【００２０】
試薬分注後、制御・演算部１０４は分注ノズル１０７を洗浄ポート１１１に移動させ、洗浄液により分注ノズル１０７の洗浄を行う。ノズル内部の洗浄（内洗）は、ポンプ機構及びバルブ開閉によりノズル内部から洗浄液を吐出することにより行われ、分注ノズル外部の洗浄（外洗）は、ポンプ機構及びバルブの開閉により外洗出口１１２から試薬分注ノズル１０７の外部に洗浄液を吐出することにより行われる。洗浄後の洗浄液は廃液タンク１１３に収納される。
【００２１】
反応流路１２１に試薬を分注された平面基板１１４を固定するステージ１１５は、制御・演算部１０４により、一連の反応ステップに応じて試薬反応に適切な温度である高温あるいは低温に調整される。試薬反応を終えたサンプルを保持する平面基板１１４は、ステージ駆動部１１６により検出位置へ移動し、検出ユニット１０３により蛍光検出が行われる。１回の反応と検出が終わると洗浄液が平面基板１１４の反応流路１２１に注入され、反応に寄与しなかった試薬は洗い流される。反応流路１２１には廃液流路２０２が接続されており、反応後の試薬や洗浄液は廃液タンク１１３に送られる。
【００２２】
図２は、本実施例のノズル駆動部及び反応ユニットの流路を示す概略図である。図３は、反応ユニットの分解組立図である。
【００２３】
ノズル駆動部１０９は分注ノズル１０７を有し、ノズル先端で液面を検知する液面検知機能を備える。液面検知は、分注ノズル１０７の先端が液面に接触する前後の静電容量変化から液面検知を行う既知の方式を用いることができる。
【００２４】
平面基板１１４は内部に反応流路１２１を備え、少なくとも反応流路１２１の検出ユニット側の壁部は励起光や蛍光を透過し、励起光照射によって蛍光を発生することのない透明材料で構成されている。平面基板１１４の反応流路１２１には核酸サンプルを付着させた磁気ビーズが保持される。平面基板１１４の上には、注入口１１０及び廃液流路２０２への接続部２０３を備えるカバープレート２０１が着脱自在に固定される。平面基板１１４に設けられたそれぞれの反応流路１２１は入口側と出口側に上向きの開口を有し、入口側の開口１２２はカバープレート２０１の注入口１１０に、出口側の開口１２３はカバープレート２０１の廃液流路への接続部２０３にそれぞれ液密に接続される。カバープレート２０１には、平面基板１１４の反応流路１２１が透視できるように開口２０４が設けられ、開口２０４を介して反応流路１２１に保持された磁気ビーズへの励起光照射と蛍光検出が行われる。平面基板１１４はステージ１１５上に固定される。ステージ１１５は温度調整機能を有する。
【００２５】
図では反応流路の数は４であるが、反応流路の数は１であっても４以外の複数であってもよい。反応流路の数が増えると、より効率的に分析を行うことができる。反応が終わった試薬は、反応流路１２１の出口側の開口１２３からカバープレート２０１の廃液流路への接続部２０３を介して廃液流路２０２へと送液され、廃液タンク１１３に貯留される。
【００２６】
次に、図４を参照して本装置で使用される液面検知機能について説明する。ノズル駆動部１０９は、液面検知信号処理部３０１に接続されている。金属製の分注ノズル１０７は、ノズル駆動部１０９が下降動作することで、分注ノズル１０７先端が液面に触れる。このとき分注ノズル１０７先端で測定される静電容量が変化する。空気中に比べ、分注ノズル１０７が液面に触れた場合、静電容量は大きくなる。液面検知は、液面検知信号処理部３０１にて、静電容量の変化量を図５に示すような電圧の液面検知信号へ変換し、閾値電圧と比較することで実行される。すなわち、液面検知信号が閾値電圧を超えた時、液面検知信号処理部３０１から制御・演算部１０４に液面検知信号が出力される。図５の横軸は、基準高さに対する分注ノズル先端の高さである。液面検知結果は、制御・演算部１０４で装置の制御に利用される。
【００２７】
（流路内の詰まり検出）
図６を参照して流路内の詰まりの一例を説明する。平面基板１１４の反応流路１２１内には、核酸サンプルが付着している磁性体ビーズ５０１が固定されている。分析操作によって試薬や洗浄液の送液を繰り返し行うことで、磁性体ビーズ５０１の一部が平面基板１１４内の反応流路１２１から剥がれて廃液流路２０２へ流れていく。この磁性体ビーズ５０１が廃液流路２０２の内壁へ付着し堆積することで流路抵抗が増し、詰まりが発生する。
【００２８】
次に、本実施例の詰まり検知について説明する。図７は、分注ノズル１０７が反応流路１２１の注入口１１０へアクセスしている様子を示す。制御・演算部１０４は、ノズル駆動部１０９を制御して分注ノズル１０７をカバープレート２０１の注入口１１０へ挿入し、その後、シリンジ１０８を駆動して反応流路１２１に保護試薬（緩衝液）もしくは洗浄液を分注する。分注はある程度の圧力をかけて行われる。
【００２９】
次に、図８に示すように、制御・演算部１０４は、ノズル駆動部１０９を制御し、分注を終えた分注ノズル１０７を注入口１１０から上方へ移動させる。反応流路１２１より下流側の廃液流路２０２内に図６に示すように核酸サンプル、磁性体ビーズ、試薬等が付着して詰まりが発生し流路抵抗が増すと、分注時に加圧しているため、分注ノズル１０７が上昇して注入口１１０から離れると、流路内で液の逆流が発生し、注入口１１０から分注した液があふれ出す現象が生じる。つまり、注入口１１０付近の液面の高さは、流路に詰まりが発生しているときの方が、詰まりが発生していないときよりも高くなる。
【００３０】
そこで制御・演算部１０４は、図９に示すように分注ノズル１０７を注入口１１０の上方から下降させ、注入口１１０からあふれ出た液に触れさせることで注入口１１０付近の液面の高さを検出できる。制御・演算部１０４は、検出した液面の高さを予め設定した閾値と比較することで、流路内に詰まりが生じているか否かを判断できる。
【００３１】
なお、図１０の断面図に示すように、カバープレート２０１に注入口１１０の周りを取り囲むようにガイド７０１を設けてもよい。ガイド７０１は注入口１１０で生じる液だまりが周りに流れないようするためのものであり、注入口１１０からあふれ出た液体を保持することで液だまりを検出しやすくする。
【００３２】
（詰まり検出動作の例）
図１１のフローチャートを参照して、分注ノズル１０７で流路の詰まりを検出するまでの動作のおおまかな流れの一例を示す。
【００３３】
まず、分析動作を開始する前に制御・演算部１０４は、ノズル駆動部１０９を制御しノズルを洗浄ポート１１１へ移動する（Ｓ１１）。次に制御・演算部１０４は、シリンジ１０８及びバルブを制御することで分注ノズル１０７を洗浄する（Ｓ１２）。次に制御・演算部１０４はノズル駆動部１０９を制御し、分注ノズル１０７を試薬ラック１０５の保護試薬（緩衝液）が入った容器の位置へ移動させ、下降させる（Ｓ１３）。その後、シリンジ１０８を制御して保護試薬（緩衝液）を吸引する（Ｓ１４）。
【００３４】
次に、制御・演算部１０４は、ノズル駆動部１０９を注入口１１０の上方へ移動させる（Ｓ１５）。そして、分注ノズル１０７を注入口１１０へ下降させて挿入し、保護試薬（緩衝液）を分注させる（Ｓ１６）。ここでの分注量、分注時間は任意に設定可能である。分注量は、流路内を満たせる量が好ましい。また、ステップ１３からステップ１６までを複数回繰り返してもよい。分注動作が終了すると、制御・演算部１０４は分注ノズル１０７を上昇させ、注入口１１０の上方で予め設定された一定時間、待機させる（Ｓ１７）。
【００３５】
次に制御・演算部１０４は、分注ノズル１０７を再び下降させ、注入口１１０での液面の高さを検出する（Ｓ１８）。ここで制御・演算部１０４は、検出した値と設定された閾値とを比較する（Ｓ１９）。注入口１１０の高さが閾値を超えた場合には、その注入口につながる流路で詰まりが発生したと判断し、制御・演算部１０４のメモリへ詰まりがあった注入口１１０の位置情報を記録する（Ｓ２０）。続いて制御・演算部１０４は分注ノズル１０７を他の流路の注入口１１０へ移動し、同様に検出動作を行う（Ｓ２１）。この検出動作を全ての流路で実施させる（Ｓ２２）。全ての注入口１１０で検出動作を終了したら、制御・演算部１０４は閾値を超えた流路の有無を判断する（Ｓ２３）。閾値を超えた流路がない場合は、通常分析動作へ移行する（Ｓ２５）。閾値を超えた流路があった場合は、洗浄処理へ移行する（Ｓ２４）。
【００３６】
（洗浄処理）
ステップ２４の洗浄処理について説明する。注入口の液面高さが閾値を超えた流路があった場合、次のような処理を行う。
【００３７】
注入口の液面高さが閾値を超えた流路については、制御・演算部１０４は流路内で詰まりが発生したと判断し、該当注入口１１０へ保護試薬（緩衝液）もしくは既定量の洗浄液を分注する。
【００３８】
このときの分注動作は、通常の分注設定よりも加圧した状態で実施し、シリンジ１０８の動作パラメータを切り替えることで加圧をする。分注ノズル１０７からの分注動作は、制御・演算部１０４で分注量、洗浄時間、分注回数が設定可能であり、予め洗浄用パラメータをメモリに設定しておくことで、洗浄動作へ移行した時、制御・演算部１０４はそのパラメータをメモリから読み込みそれに従ってシリンジ１０８の動作を制御する。
【００３９】
（洗浄処理の例）
図１２のフローチャートを参照し、検出動作が終了し、閾値を超えた注入口１１０が複数ある場合の洗浄処理の例について説明する。
【００４０】
まず制御・演算部１０４がノズル駆動部１０９を制御し、分注ノズル１０７を洗浄ポート１１１へ移動させる（Ｓ３１）。次に制御・演算部１０４はシリンジ１０８を制御し、分注ノズル１０７を洗浄する（Ｓ３２）。次に、制御・演算部１０４はシリンジ１０８の動作パラメータを変更する（Ｓ３３）。
【００４１】
続いて制御・演算部１０４はノズル駆動部１０９を制御し、閾値を超えた流路の注入口１１０の位置へ移動させ、分注ノズル１０７を下降させる（Ｓ３４）。次に、制御・演算部１０４はシリンジ１０８及びバルブを制御し、分注ノズル１０７から洗浄液を注入口に注入する（Ｓ３５）。このとき、流路内に洗浄液を既定回数流す動作を実施してもよい（Ｓ３６）。
【００４２】
１つの注入口への洗浄液注入が終了したら、制御・演算部１０４は分注ノズル１０７を次の流路の注入口１１０へ移動し、洗浄動作をさせる（Ｓ３７）。こうして液面高さが閾値を超えた注入口１１０の流路の洗浄が全て終了（Ｓ３８）したら、洗浄を行った注入口１１０に対して再度液面検出動作を実施させる（Ｓ３９）。閾値を超える注入口があった場合、ステップ３１からステップ４０までのフローを再度実行する。閾値を超えた注入口が無い場合には、分析動作へ移行させる（Ｓ４１）。なお洗浄の際は、洗浄液に代えて保護試薬（緩衝液）を使用してもよい。
【００４３】
ここでは図１１及び図１２のフローを分析動作前に実施する例を説明したが、分析中あるいは分析後に実施してもよい。流路内の圧力は反応部のサンプルに損害が出ない圧力を上限とするのが好ましい。
【００４４】
［実施例２］
本発明の実施例２を説明する。本実施例では、実施例１で説明した洗浄動作を行う際に、流路内へ温水を流すために平面基板１１４が固定されたステージ１１５を温度制御し、分注動作と加熱動作を同時に実施することで洗浄液を温める。洗浄液の温度を上げることで、流路の洗浄効率を高めることができる。
【００４５】
［実施例３］
本発明の実施例３を説明する。流路内に洗浄液を注入する際に高圧をかけ過ぎた場合、反応流路の内部に付着したサンプルや磁性体ビーズが一部流れてしまうといった問題が生じる場合がある。
【００４６】
本実施例では、内部にサンプルを保持していない高耐圧な流路を有した洗浄専用平面基板を用意し、洗浄の時だけ平面基板１１４を洗浄専用平面基板へ交換して用いる。すなわち、廃液流路の洗浄を実施する際、内部にサンプルが付着した磁性体ビーズを保持した平面基板１１４の反応流路を通して廃液流路２０２に洗浄液を流すのではなく、洗浄専用平面基板の高耐圧な流路を通して詰まりを生じている廃液流路２０２に比較的高い圧力で洗浄液を流す。洗浄専用平面基板は分析用の平面基板１１４と同じ構造とし、素材としては、ガラス、又はアクリル樹脂等の樹脂製、もしくはアルマイト処理したアルミニウム、又は鉄、銅などの金属が好ましい。
【００４７】
分析用の平面基板１１４には、図３で説明したようにカバープレート２０１が着脱自在に固定されているので、洗浄時に平面基板１１４からカバープレート２０１を取り外し、代わりに洗浄専用平面基板に取り外したカバープレート２０１を取り付け、ステージ１１５上に固定して洗浄処理を行う。これによりサンプルを保護し、反応流路より下流側の流路を高圧かつ短時間で洗浄することが可能となる。
【００４８】
図１３に、洗浄時に平面基板を洗浄専用平面基板に交換して洗浄処理を行うフローの一例を示す。
まず、図１１のステップ１１からステップ２２に示した詰まり検出動作をする（Ｓ５１）。この検出動作によって液面高さが閾値を超える注入口があった場合（Ｓ５２）、制御・演算部１０４は洗浄専用平面基板へ交換を促すエラーメッセージを装置表示部に表示するなどしてアナウンスし（Ｓ５３）、ユーザーが現在反応ユニットに取り付けられている平面基板を洗浄専用平面基板に交換することを促す。交換完了をユーザーからの入力により検知すると（Ｓ５４）、制御・演算部１０４は図１２のステップ３１からステップ３８に示した洗浄処理を開始する（Ｓ５５）。洗浄処理が終了（Ｓ５６）した後、制御・演算部１０４は再度、洗浄専用平面基板から平面基板１１４への交換を促すアナウンスを行う（Ｓ５７）。交換完了をユーザー入力によって検知すると（Ｓ５８）、制御・演算部１０４は通常の分析動作へ移行させる（Ｓ５９）。また、ステップ５２において検出動作によって閾値を超える値がない場合、制御・演算部１０４は通常の分析動作へ移行させる。
【００４９】
以上説明したように本実施形態によれば、流路内で詰まりが発生した場合、新たなセンサを設置せずに、分注ノズルを利用した液面検知機能を使用することで詰まりを検出できる。また、流路内を自動で洗浄処理できる。詰まりによる分析反応の悪化を防ぐことができる。
【００５０】
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１０１  送液ユニット
１０２  反応ユニット
１０３  検出ユニット
１０４  制御・演算部
１０５  試薬ラック
１０６  スライダ
１０７  分注ノズル
１０８  シリンジ
１０９  ノズル駆動部
１１０  注入口
１１１  洗浄ポート
１１２  外洗出口
１１３  廃液タンク
１１４  平面基板
１１５  ステージ
１１６  ステージ駆動部
１１７  光源
１１８  撮像素子
１２１  反応流路
２０１  カバープレート
２０２  廃液流路
２０３  接続部
３０１  液面検知信号処理部
５０１  磁性体ビーズ
７０１  ガイド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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