(57)【要約】【課題】  厚さの薄いアポダイゼーションフィルタを容易に得、カメラレンズの小型化，軽量化及び低コスト化に寄与するとともに、最適化した良好なボケ効果を確保する。また、多彩なボケ効果を可能にするとともに、光量のロスを回避する。【解決手段】  少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦な透明基板２の表面２ｆに、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットｄ…を組合わせたドットパターンＰｄを用いることにより、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層３を形成してなる。【選択図】  図１
2014211617.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となるアポダイゼーションフィルタであって、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦な透明基板の表面に、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットを組合わせたドットパターンを用いることにより、光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層を形成してなることを特徴とするアポダイゼーションフィルタ。
【請求項２】
前記遮光性マスク層は、少なくとも光軸中心を中心にした所定半径の円領域のドットをゼロにすることを特徴とする請求項１記載のアポダイゼーションフィルタ。
【請求項３】
前記ドットの幅寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することを特徴とする請求項１又は２記載のアポダイゼーションフィルタ。
【請求項４】
光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となるアポダイゼーションフィルタの製造方法であって、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦な透明基板を用意し、この透明基板の表面に、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットを組合わせたドットパターンを用いることにより、光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層を形成処理するようにしたことを特徴とするアポダイゼーションフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記ドットの幅寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することを特徴とする請求項４記載のアポダイゼーションフィルタ。
【請求項６】
前記遮光性マスク層の形成処理には、少なくとも、薄膜形成処理，インクジェット方式印刷処理，シルク印刷処理，のいずれか一つを含むことを特徴とする請求項４又は５記載のアポダイゼーションフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が順次減少する光透過率特性を有するアポダイゼーションフィルタ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、カメラレンズではディフォーカスポジションにおいてボケを生じるが、撮影画像の端部ではエッジ効果が生じることにより必ずしも奇麗なボケ（ボケ味）が生じるとは言えず、例えば、点の場合、ドーナツ状となるいわゆるリングボケを生じるとともに、単線の場合、線が二本になるいわゆる二線ボケを生じてしまう。このため、カメラレンズ内の光路に、光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が順次減少する光透過率特性を有するアポダイゼーションフィルタを挿入し、柔らかい自然なボケが生じるようにしている。
【０００３】
従来、このような目的で使用するアポダイゼーションフィルタとしては、特許文献１及び２で開示される撮影レンズ系に使用するアポダイゼーションフィルタが知られている。このアポダイゼーションフィルタは、パワーのない平板フィルタとなるように、ＮＤガラスからなる平凹レンズと、屈折率がこのＮＤガラスと同じガラスからなる平凸レンズを接合し、これにより、光軸中心から光軸垂直方向に離れるに従って次第に透過光量が減少するように構成したものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平  ９−２３６７４０号公報
【特許文献２】特開平１１−２３１２０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上述した従来におけるアポダイゼーションフィルタは、次のような問題点があった。
【０００６】
第一に、平凹レンズと平凸レンズを接合して構成するため、ある程度の厚さが生じざるを得ず、厚さの薄いアポダイゼーションフィルタを得るには限界がある。結局、カメラレンズの中にアポダイゼーションフィルタを挿入した場合、光軸方向における全体のレンズ長が長くなり、カメラレンズの大型化を招くとともに、他方、大型化を回避するためには、良好なボケ効果を確保しにくいなど、相反する難点がある。しかも、通常のレンズと同様の精度を有する二枚のレンズ部品を必要とするため、高コスト化も避けられない。加えて、レンズ設計の自由度が制約されることからレンズの機能性低下及び性能低下を招く原因ともなる。
【０００７】
第二に、アポダイゼーションフィルタの構成原理上、光軸中心における光透過率を１００〔％〕にすることができない。即ち、平凹レンズには減光性を持たせる必要があることから、平凹レンズの中心位置の厚さをゼロにできず、結局、中心位置における光透過率を１００〔％〕にすることはできず、光量のロスが避けられない。
【０００８】
本発明は、このような背景技術に存在する課題を解決したアポダイゼーションフィルタ及びその製造方法の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るアポダイゼーションフィルタ１は、上述した課題を解決するため、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となるアポダイゼーションフィルタであって、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦な透明基板２の表面２ｆに、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットｄ…を組合わせたドットパターンＰｄを用いることにより、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層３を形成してなることを特徴とする。
【００１０】
この場合、発明の好適な態様により、遮光性マスク層３は、少なくとも光軸中心Ｃｓを中心にした所定半径の円領域Ａｃのドットｄ…をゼロにすることができる。なお、ドットｄの幅Ｗｄ寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することが望ましい。
【００１１】
一方、本発明に係るアポダイゼーションフィルタの製造方法は、上述した課題を解決するため、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となるアポダイゼーションフィルタ１を製造するに際し、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦な透明基板２を用意し、この透明基板２の表面２ｆに、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットｓ…を組合わせたドットパターンＰｄを用いることにより、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層３を形成処理するようにしたことを特徴とする。
【００１２】
この場合、発明の好適な態様により、ドットｄの幅Ｗｄ寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することが望ましい。また、遮光性マスク層３の形成処理には、少なくとも、薄膜形成処理，インクジェット方式印刷処理，シルク印刷処理，のいずれか一つを含ませることができる。
【発明の効果】
【００１３】
このような本発明に係るアポダイゼーションフィルタ１及びその製造方法によれば、次のような顕著な効果を奏する。
【００１４】
（１）  アポダイゼーションフィルタ１は、平坦な透明基板２の表面２ｆに、多数のドットｄ…を組合わせたドットパターンＰｄを用いることにより、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層３を形成してなるため、フィルタ全体の厚さは平坦な透明基板２の厚さで足りる。したがって、厚さの極めて薄いアポダイゼーションフィルタを容易に得ることができるとともに、カメラレンズの小型化及び軽量化に寄与できる。しかも、使用部品としては、実質一枚の透明基板で足りるため、極めて低コストに実施できる。
【００１５】
（２）  アポダイゼーションフィルタ１は、多数のドットｄ…を組合わせたドットパターンＰｄを利用するため、パターンデザインを自在に変更することができ、レンズの設計自由度を高めることができるとともに、レンズの機能性及び性能をより高めることができる。この結果、フィルタ全体の厚さに左右されることなく最適化した良好なボケ効果を確保できるとともに、多彩な光透過率特性を容易に作り出すことができる。しかも、撮影画像の端部におけるエッジ位置から外側への適度な広がりを生じさせることができるとともに、中心位置及びその近傍の光透過率を１００〔％〕にすることが可能となるため、光量のロスを回避することができる。
【００１６】
（３）  アポダイゼーションフィルタ１を製造するに際しては、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦な透明基板２を用意し、この透明基板２の表面２ｆに、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットｓ…を組合わせたドットパターンＰｄを用いることにより、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層３を形成処理するようにしたため、目的のアポダイゼーションフィルタ１を容易かつ低コストに製造することができる。
【００１７】
（４）  好適な態様により、遮光性マスク層３における少なくとも光軸中心Ｃｓを中心にした所定半径の円領域Ａｃのドットｄ…をゼロにすれば、円領域Ａｃの面積を選定（変更）することにより、光量のロス分を変更できるとともに、その最適化を図ることができる。
【００１８】
（５）  好適な態様により、ドットｄの幅Ｗｄ寸法を、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定すれば、実用的観点から良好なボケ効果を有するアポダイゼーションフィルタ１を得ることができる。即ち、ドットｄの幅Ｗｄ寸法が小さ過ぎる場合、製造上の制約（コスト面等）を生じるとともに、ドットｄの幅Ｗｄ寸法が大き過ぎる場合には、良好なボケ効果を確保できないが、ドットｄの幅Ｗｄ寸法を、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することによりこれらの難点を回避できる。
【００１９】
（６）  好適な態様により、遮光性マスク層３の形成処理には、少なくとも、薄膜形成処理，インクジェット方式印刷処理，シルク印刷処理，のいずれか一つを含ませることができる。即ち、アポダイゼーションフィルタ１を製造するに際しては、汎用的な手法を含む各種形成処理技術を適用でき、製造工程の柔軟性及び容易性に優れるとともに、製造コストの大幅な低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の好適実施形態に係るアポダイゼーションフィルタの一部抽出拡大断面図を含む断面側面図、
【図２】同アポダイゼーションフィルタを使用したカメラレンズの一例を示す原理的側面構成図、
【図３】同アポダイゼーションフィルタの一部抽出拡大図を含む正面図、
【図４】同アポダイゼーションフィルタの光透過率分布特性図、
【図５】同アポダイゼーションフィルタを使用したカメラレンズの他の例を示す原理的側面構成図、
【図６】同アポダイゼーションフィルタの製造方法の一例を示す製造工程図、
【図７】同製造方法により製造する際の各工程におけるアポダイゼーションフィルタの中間製造体を示す断面側面図、
【発明を実施するための形態】
【００２１】
次に、本発明に係る好適実施形態を挙げ、図面に基づき詳細に説明する。
【００２２】
まず、本実施形態に係るアポダイゼーションフィルタ１の構成及び使用方法について、図１〜図５を参照して説明する。なお、例示の実施形態は透明基板２としてガラス板２ｇを用いた場合を示す。
【００２３】
アポダイゼーションフィルタ１は、基本的な構成として、図１に示す平坦なガラス板２ｇの表面２ｆに、図３に示すように、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層３を形成したものである。
【００２４】
この場合、ガラス板２ｇは、表裏が平行面となる厚さが１〔ｍｍ〕前後の板ガラスであり、例えば、素材として、レンズに使用される光学ガラス等を用いることができる。ガラス板２ｇは、基本的に光透過率がほぼ１００〔％〕となる透明ガラスであってもよいし、アポダイゼーションフィルタ以外の他のフィルタ機能（ＮＤフィルタ機能等）を付加したものであってもよい。しかし、この場合であっても、アポダイズ効果を確保するため、光透過率は８０〔％〕以上となるように選定する。
【００２５】
一方、遮光性マスク層３は、多数のドットｄ…を組合わせたドットパターンＰｄを用いる。各ドットｄ…は、例えば、色としては黒色を選定するとともに、反射を防止するため、艶消し状態にすることが望ましい。したがって、光透過率としては０〔％〕が望ましいが、目的は、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性を生じさせればよいため、必ずしも０〔％〕である必要はなく、光透過率は２０〔％〕以下であればよい。
【００２６】
多数のドットｄ…は、ランダム（乱数）に配し、結果的に、上述した特性、即ち、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性を生じさせる。各ドットｄ…は同一の形状及び大きさを有しているため、そのランダムな分布密度を変更することにより、透光量を、いわばデジタル的に変化させることができる。したがって、多数のドットｄ…の分布密度により、上述した光透過率特性を設定する。また、この際、図３に示すように、遮光性マスク層３（ドットパターンＰｄ）における少なくとも光軸中心Ｃｓを中心にした所定半径の円領域Ａｃのドットｄ…はゼロにする。これにより、円領域Ａｃの面積を選定（変更）すれば、光量のロス分を変更できるとともに、その最適化を図れる利点がある。
【００２７】
さらに、ドットｄの幅Ｗｄ寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定する。図１（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれドットｄの幅Ｗｄ寸法を異ならせた場合のパターン例を示している。図１（ａ）は縦横１００〔μｍ〕の正方形を放射方向に平行に配した場合（サンプルＡ）、図１（ｂ）は縦横２５０〔μｍ〕の正方形を水平垂直方向を固定して配した場合（サンプルＢ）、図１（ｃ）は縦横５００〔μｍ〕の正方形を放射方向に平行に配した場合（サンプルＣ）、をそれぞれ示している。
【００２８】
これらサンプルＡ，Ｂ，Ｃに基づくアポダイゼーションフィルタ１の中心からの距離ｒ〔ｍｍ〕における光透過率Ｔ〔％〕を［表１］に示す。光透過率Ｔは、Ｔ＝ｅｘｐ（ｓ＊（ｒ−ｐ）＾２）（ただし、ｒ＞ｐ）により算出した値である。この場合、ｓ，ｐはエクスポーネンシャルの曲線において光透過率分布を与えるパラメータである。なお、ｒ≦ｐのときはＴ＝１とした。［表１］において試作したサンプルＡ〜Ｃは、いずれも板厚が１〔ｍｍ〕及び半径が１３〔ｍｍ〕の透明な板ガラスを使用し、この表面に、被膜クロム（Ｃｒ）によるドットｄ…を形成したものである。したがって、ドットｄ…の光透過率はほぼ０〔％〕である。
【表１】
2014211617.tif 000003
【００２９】
［表１］から明らかなように、中心位置及びその近傍では１００〔％〕の光透過率Ｔが確保され、光量のロスを回避できるとともに、中心から１１〔ｍｍ〕の距離となる周辺部付近では、ほぼ狙い通りの光透過率である１０〜１２〔％〕の光透過率Ｔを得ることができる。このように、平坦なガラス板２ｇの表面２ｆに、多数のドットｄ…を組合わせたドットパターンＰｄを有する遮光性マスク層３を形成することにより、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少するアポダイズ効果を生む光透過率特性を得ることができる。
【００３０】
このように、ドットｄの幅Ｗｄ寸法を、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定すれば、実用的観点から良好なボケ効果を有するアポダイゼーションフィルタ１を得ることができる。即ち、ドットｄの幅Ｗｄ寸法が小さ過ぎる場合、製造上の制約（コスト面等）を生じるとともに、ドットｄの幅Ｗｄ寸法が大き過ぎる場合には、良好なボケ効果を確保できないが、ドットｄの幅Ｗｄ寸法を、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することによりこれらの難点を回避できる。
【００３１】
他方、このように構成されるアポダイゼーションフィルタ１は、図２に示すように、従来のアポダイゼーションフィルタと同様に、カメラレンズ１０に内蔵させることができる。例示の場合、絞り１１の近傍（前方）に配した。なお、カメラレンズ１０において、１２，１３，１４，１５は、それぞれレンズ又はレンズ群を示す。今、アポダイゼーションフィルタ１とフィルム（撮影画像）間の距離を数十〔ｍｍ〕とするとともに、λを波長、ａをドットパターンＰｄにおけるドットｄ…の無い部分におけるドット状空間の寸法とし、ドット状空間ａの寸法を５０〜１００〔μｍ〕とすれば、ｓｉｎθ＝λ／ａの関係式から、撮影画像に適度な広がりを生じさせることができる。即ち、図４に示すように、仮想線で示すＸｆｅ…を通常のフォーカス状態における撮影画像Ｘｆのエッジ位置とした場合、ドット状空間ａの寸法を５０〜１００〔μｍ〕に選定したアポダイゼーションフィルタ１を介在させれば、図４に実線で示す撮影画像Ｘｉのように、エッジ位置Ｘｆｅ…から外側への適度な広がりＸｉｏ…を生じさせることができる。この場合、特に、ドットｄ…の幅Ｗｄ寸法が小さほど、ドット状空間ａの寸法を小さくできるため、より広がりＸｉｏ…を大きくすることができる。
【００３２】
このように、本実施形態に係るアポダイゼーションフィルタ１によれば、平坦なガラス板２ｇの表面２ｆに、多数のドットｄ…を組合わせたドットパターンＰｄを用いることにより、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層３を形成してなるため、フィルタ全体の厚さは平坦なガラス板２ｇの厚さで足りる。したがって、厚さの極めて薄いアポダイゼーションフィルタを容易に得ることができるとともに、カメラレンズの小型化及び軽量化に寄与できる。しかも、使用部品としては、実質一枚のガラス板で足りるため、極めて低コストに実施できる。また、多数のドットｄ…を組合わせたドットパターンＰｄを利用するため、パターンデザインを自在に変更することができ、レンズの設計自由度を高めることができるとともに、レンズの機能性及び性能をより高めることができる。この結果、フィルタ全体の厚さに左右されることなく最適化した良好なボケ効果を確保できるとともに、多彩な光透過率特性を容易に作り出すことができる。しかも、撮影画像の端部におけるエッジ位置から外側への適度な広がりを生じさせることができるとともに、中心位置及びその近傍の光透過率を１００〔％〕にすることが可能となるため、光量のロスを回避することができる。
【００３３】
一方、アポダイゼーションフィルタ１は、特に、小型化及び軽量化が可能なため、配設する位置は、図５に示すように、カメラレンズ１０の前端に設けることも可能である。この場合、アポダイゼーションフィルタ１は大型のフード１６に取付け、このフード１６を後付式又は着脱式により構成である。この実施形態は、望遠系のカメラレンズ１０に適用すれば、一定のアポダイズ効果を得ることができるものと思われる。図５中、その他の構成における図２と同一部分には同一符号を付してその構成を明確にした。
【００３４】
次に、本実施形態に係るアポダイゼーションフィルタ１の製造方法の一例について、図６及び図７を参照して説明する。
【００３５】
なお、図６及び図７に示す製造方法は、遮光性マスク層３を形成処理に際し、薄膜形成処理方法を用いたものである。また、ドットパターンＰｄは、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となるため、このような光透過率特性が得られるドットパターンＰｄは、カメラレンズに係わるデータ及びドットｄの形状や大きさ等の既知のデータに基づいて自動設計が可能である。したがって、例示の場合、このような自動設計を行うアプリケーションプログラムが予め作成されているものとする。
【００３６】
今、図２に示したカメラレンズ１０に使用するアポダイゼーションフィルタ１を製造する場合を想定する。まず、ＣＡＤ等の設計用コンピュータに、カメラレンズ１０に係わるデータ及びドットｄの形状や大きさ等の既知のデータを入力（又は選択）する（ステップＳ１）。これにより、設計用コンピュータでは、目的のドットパターンＰｄを自動設計する（ステップＳ２）。
【００３７】
一方、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦なガラス板２ｇを用意し、製造システムにおける所定位置に、当該ガラス板２ｇをセットする（ステップＳ３）。例示のガラス板２ｇは、表裏が平行面となる厚さ１〔ｍｍ〕及び半径１３〔ｍｍ〕の透明な板ガラスである。次いで、図７（ａ）に示すように、ガラス板２ｇの表面（上面）２ｆに、金属素材（クロム等）を用いた金属薄膜２１を塗布（蒸着等の各種付着手段を含む）する。この金属薄膜２１には、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる素材を選定する。さらに、この金属薄膜２１の上にレジスト（感光剤）２２を塗布する（ステップＳ４，Ｓ５）。これにより、原材料となるガラス基板２３が得られる。次いで、ガラス基板２３の上面に対して直角方向からレーザビームを照射し、設計したドットパターンＰｄ（設定データ）を描画する（ステップＳ６）。
【００３８】
また、ドットパターンＰｄの描画が終了したなら現像処理を行い、ドットパターンＰｄ以外の部分のレジスト２２を除去する（ステップＳ７）。図７（ｂ）に、レジスト２２を除去したガラス基板２３を示す。次いで、エッチング（触刻）処理を行い、ガラス基板２３におけるレジスト２２を除去した部分に対応する金属薄膜２１を除去する（ステップＳ８）。図７（ｃ）に、エッチング処理後のガラス基板２３を示す。さらに、エッチング処理が終了したなら、ガラス基板２３上における不要なレジスト２２を全て除去する（ステップＳ９）。この状態を図７（ｄ）に示す。
【００３９】
この後、ガラス基板２３の洗浄を行うとともに、ガラス板２ｇの表面２ｆ上に形成されたドットパターンＰｄに対応する金属薄膜２１の位置や寸法等が正規のデータに一致しているか否か測定により確認するとともに、傷等が存在しないか否か必要な外観等の検査を行う（ステップＳ１０，Ｓ１１）。以上の工程により、目的のアポダイゼーションフィルタ１を得ることができる（図７（ｄ）参照）。即ち、ガラス板２ｇの表面（上面）２ｆに、ドットパターンＰｄの形状を有する金属薄膜２１による遮光性マスク層３を形成したアポダイゼーションフィルタ１を得ることができる。
【００４０】
なお、以上は、遮光性マスク層３を形成処理するに際し、薄膜形成処理を用いた一例を示したが、遮光性マスク層３を形成処理するに際しては、その他、インクジェット方式を用いた印刷処理やシルク印刷処理等も利用可能である。特に、ドットｄが比較的大きい場合には、シルク印刷処理により比較的容易に実施できるとともに、精度や強度が要求される場合には、上述した薄膜形成処理が適切と思われ、遮光性マスク層３を形成処理する方法は、アポダイゼーションフィルタ１のグレードや求められる精度等によって適宜選択可能である。
【００４１】
このように、本実施形態に係るアポダイゼーションフィルタ１を製造するに際しては、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦なガラス板２ｇを用意し、このガラス板２ｇの表面２ｆに、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットｓ…を組合わせたドットパターンＰｄを用いることにより、光軸中心Ｃｓに対して放射方向Ｆｒへ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層３を形成処理するようにしたため、目的のアポダイゼーションフィルタ１を容易かつ低コストに製造することができる。また、本実施形態に係るアポダイゼーションフィルタ１の製造方法によれば、遮光性マスク層３を形成処理するに際し、少なくとも、薄膜形成処理，インクジェット方式印刷処理，シルク印刷処理，のいずれか一つを含ませることができる。即ち、アポダイゼーションフィルタ１を製造するに際しては、汎用的な手法を含む各種形成処理技術を適用でき、製造工程の柔軟性及び容易性に優れるとともに、製造コストの大幅な低減を図ることができる。
【００４２】
以上、好適実施形態について詳細に説明したが、本発明は、このような実施形態に限定されるものではなく、細部の構成，形状，素材，数量，数値等において、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、任意に変更，追加，削除することができる。
【００４３】
例えば、ドットｄの幅Ｗｄ寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することが望ましいが、必ずしも、この範囲に限定されるものではない。例えば、形成処理技術により５０〔μｍ〕未満のドットｄであっても、精度の高いドットｄを容易に形成できる場合には、当該５０〔μｍ〕未満のドットｄで実施可能であるとともに、大型カメラであって使用するカメラレンズが大型（大口径）の場合には、５００〔μｍ〕を超える幅Ｗｄ寸法のドットｄにより実施可能である。また、ドットｄは正方形の形状により形成した場合を例示したが、他の多角形をはじめ、円形，楕円形，線形等の単純形状をはじめ、＋形等の各種形状により実施可能である。特に、線形については、周方向に沿った一定長さを有する円弧形又は放射方向に沿った一定長さを有する直線形等を利用できる。さらに、遮光性マスク層３の形成処理として、薄膜形成処理，インクジェット方式印刷処理，シルク印刷処理を挙げたが、他の形成処理方法を排除するものではない。さらに、透明基板２として、ガラス板２ｇを挙げたが、プラスチック板等の他の透明基板２であっても、形成処理方法の選択などにより実施が可能である。したがって、透明基板２の板とは、ガラスのように硬質の板材をはじめ、シート材やフィルム材も含む概念である。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明に係るアポダイゼーションフィルタはスチルカメラやビデオカメラ等の光学系（レンズ系）に使用することにより良好なボケ効果を生じさせる際に利用できる。
【符号の説明】
【００４５】
１：アポダイゼーションフィルタ，２：透明基板，２ｆ：透明基板（ガラス板）の表面，３：遮光性マスク層，Ｃｓ：光軸中心，Ｆｒ：放射方向，ｄ…：ドット，Ｐｄ：ドットパターン，Ａｃ：円領域，Ｗｄ：ドットの幅寸法
【図１】
2014211617.tif 000004
【図２】
2014211617.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
2014211617.tif 000008
【図６】
2014211617.tif 000009
【図７】
2014211617.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月3日(2014.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となるアポダイゼーションフィルタであって、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦な透明基板の表面に、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットを組合わせたドットパターンを用いることにより、光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層を形成してなることを特徴とするアポダイゼーションフィルタ。
【請求項２】
前記遮光性マスク層は、少なくとも光軸中心を中心にした所定半径の円領域のドットをゼロにすることを特徴とする請求項１記載のアポダイゼーションフィルタ。
【請求項３】
前記ドットの幅寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することを特徴とする請求項１又は２記載のアポダイゼーションフィルタ。
【請求項４】
光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となるアポダイゼーションフィルタの製造方法であって、少なくとも光透過率が８０〔％〕以上となる平坦な透明基板を用意し、この透明基板の表面に、少なくとも光透過率が２０〔％〕以下となる多数のドットを組合わせたドットパターンを用いることにより、光軸中心に対して放射方向へ離れるに従って透光量が漸次減少する光透過率特性となる遮光性マスク層を形成処理するようにしたことを特徴とするアポダイゼーションフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記ドットの幅寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定することを特徴とする請求項４記載のアポダイゼーションフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記遮光性マスク層の形成処理には、少なくとも、薄膜形成処理，インクジェット方式印刷処理，シルク印刷処理，のいずれか一つを含むことを特徴とする請求項４又は５記載のアポダイゼーションフィルタの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
さらに、ドットｄの幅Ｗｄ寸法は、５０〜５００〔μｍ〕の範囲に選定する。図３（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれドットｄの幅Ｗｄ寸法を異ならせた場合のパターン例を示している。図３（ａ）は縦横１００〔μｍ〕の正方形を放射方向に平行に配した場合（サンプルＡ）、図３（ｂ）は縦横２５０〔μｍ〕の正方形を水平垂直方向を固定して配した場合（サンプルＢ）、図３（ｃ）は縦横５００〔μｍ〕の正方形を放射方向に平行に配した場合（サンプルＣ）、をそれぞれ示している。