(57)【要約】【課題】湿度や酸性ガス、油分や有機溶剤成分などの吸着阻害物質が多く含まれる場合であっても、高い放射性ガス除去性能を有すること。【解決手段】筒状に形成されたケーシング２と、ケーシングの筒状の他端側２Ｃに設けられてケーシングの一端側２Ｂの開口部２Ｂａから他端側の開口部２Ｃａにかけてケーシングの内部にガスＧを流通させる送風機３と、ケーシングの内部に設けられておりガス中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着する放射性ガスフィルタ４と、ケーシングの内部であって放射性ガスフィルタよりもガスの流通の下流側に設けられており放射性ガスフィルタから離散される粒子を捕集する下流側高性能フィルタ５と、ケーシングの内部であって放射性ガスフィルタよりもガスの流通の上流側に設けられておりガス中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着するガス処理フィルタ６と、を含む。【選択図】図１
2014035286.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状に形成されたケーシングと、
前記ケーシングの筒状の他端側に設けられて前記ケーシングの一端側の開口部から他端側の開口部にかけて前記ケーシングの内部にガスを流通させる送風機と、
前記ケーシングの内部に設けられており前記ガス中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着する放射性ガスフィルタと、
前記ケーシングの内部であって前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の下流側に設けられており前記放射性ガスフィルタから離散される粒子を捕集する下流側高性能フィルタと、
前記ケーシングの内部であって前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着するガス処理フィルタと、
を含むことを特徴とする放射性ガス除去装置。
【請求項２】
前記ケーシングの内部であって前記ガス処理フィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる粒子を捕集する上流側高性能フィルタをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の放射性ガス除去装置。
【請求項３】
前記ケーシングの内部であって前記ガス処理フィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる粗粒子を捕集する粗フィルタをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の放射性ガス除去装置。
【請求項４】
前記ケーシングの内部であって前記ガス処理フィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる粒子を捕集する上流側高性能フィルタと、
前記ケーシングの内部であって前記上流側高性能フィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる粗粒子を捕集する粗フィルタと、
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の放射性ガス除去装置。
【請求項５】
前記ケーシングの内部であって前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ケーシングの内部を流通される前記ガスを加熱する加熱部と、
前記ケーシングの内部であって前記加熱部よりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記加熱部に至るガスの温度を計測する上流側温度計と、
前記上流側温度計により計測される前記ガスの温度に基づいて前記放射性ガスフィルタに至る前記ガスの温度を所定温度に上昇させるように前記加熱部を制御する制御部と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１〜４の何れか１つに記載の放射性ガス除去装置。
【請求項６】
前記ケーシングの内部であって前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ケーシングの内部を流通される前記ガスを加熱する加熱部と、
前記ケーシングの内部であって前記加熱部よりも前記ガスの流通の下流側で前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記放射性ガスフィルタに至るガスの相対湿度を計測する湿度計と、
前記湿度計により計測される前記ガスの相対湿度に基づいて前記放射性ガスフィルタに至る前記ガスの相対湿度を所定湿度に低下させるように前記加熱部を制御する制御部と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１〜４の何れか１つに記載の放射性ガス除去装置。
【請求項７】
前記ケーシングの内部であって前記加熱部よりも前記ガスの流通の下流側で前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記放射性ガスフィルタに至るガスの温度を計測する下流側温度計をさらに含み、
前記制御部は、前記上流側温度計により計測される前記ガスの温度とともに、前記下流側温度計により計測される前記ガスの温度に基づいて前記加熱部を制御することを特徴とする請求項５に記載の放射性ガス除去装置。
【請求項８】
前記ガス処理フィルタは、活性炭、アルミナ、シリカゲル、ゼオライトまたはモレキュラーシーブが、粒子状または繊維状あるいは粉末状に形成された基材により成形されることを特徴とする請求項１〜７の何れか１つに記載の放射性ガス除去装置。
【請求項９】
前記ガス処理フィルタは、前記基材上に、酸性成分、アルカリ成分、トリエチレンジアミン、よう化カリウムの少なくとも１つを添着することを特徴とする請求項８に記載の放射性ガス除去装置。
【請求項１０】
前記ケーシングは、移動可能に構成されていることを特徴とする請求項１〜９の何れか１つに記載の放射性ガス除去装置。
【請求項１１】
前記ケーシングは、その外壁が放射線遮蔽壁で構成されており、筒状の一端側および他端側の開口部が放射線遮蔽蓋で閉塞されることを特徴とする請求項１〜１０の何れか１つに記載の放射性ガス除去装置。
【請求項１２】
前記ケーシングの筒状の一端側が放射性ガスを含む局所空間に接続され、前記ケーシングの筒状の他端側が外気に開放されることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１つに記載の放射性ガス除去装置。
【請求項１３】
前記ケーシングの筒状の一端側が放射性ガスを含む外気に開放され、前記ケーシングの筒状の他端側が局所空間に接続されることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１つに記載の放射性ガス除去装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射性ガスを除去する放射性ガス除去装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
原子力発電所などの原子力施設においては、周辺環境を保全する観点から放射性ガス、特に単体よう素（１２９Ｉ２、１３１Ｉ２、１３３Ｉ２）やよう化メチル（ＣＨ３１２９Ｉ、ＣＨ３１３１Ｉ、ＣＨ３１３３Ｉ）を主成分とする有機よう素化合物からなる放射性よう素の放出量の低減を図ることが重要な課題となっている。
【０００３】
従来、原子力施設から事故時などに放射性物質が放出されることを防止するため、原子力施設の換気空調設備には、放射性よう素を吸着するよう素吸着材を含むよう素フィルタを設け、ガス中に含まれる放射性よう素を除去するようにしている。
【０００４】
また、原子力施設では、事故などが発生する場合に限らず、定常運転時においてもよう素フィルタでガス中に含まれる放射性よう素の放出量を可能な限り低減させるため、原子炉建屋、格納容器内などの換気空調系にも放射性よう素を除去するよう素吸着材を備えたよう素除去装置が設けられている。なお、従来のよう素フィルタおよびよう素除去装置として下記の特許文献１に記載されたものが、単体よう素または有機よう素化合物の吸着剤として下記の特許文献２に記載されたものが、それぞれ知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３５０５８８号公報
【特許文献２】特公昭５９−８４１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、放射性よう素および放射性よう化メチルを捕集・除去するためのよう素フィルタは、高湿度雰囲気では水分を多量に吸着する。また、よう素フィルタは、ＮＯＸ（窒素酸化物）やＳＯＸ（硫黄酸化物）などの酸性ガスを吸着する。また、よう素フィルタは、油分や有機溶剤成分を吸着する。これらにより、よう素フィルタが目詰まりする、あるいは吸着阻害を受けることで、よう素除去性能が低下する可能性を有しているため、このような影響がないようにする必要がある。
【０００７】
一方、原子力発電所での燃料溶融などの非常時や原子力発電所の解体時には、上記の各種よう素に加えてＣｓ（セシウム）などを含む様々な放射性物質が放出される可能性があり、これらについても放出量の低減を図ることが必要となる。
【０００８】
しかし、原子力発電所での燃料溶融などの非常時や原子力発電所の解体時に放出される放射性物質の中には、空気中の水分などと接触してミスト状態でガス中に同伴される物質もある。さらに、原子力発電所での燃料溶融などの非常時や原子力発電所の解体時には、よう素フィルタが目詰まりする要因となる湿度や酸性ガス、油分や有機溶剤成分などの吸着阻害物質が多く含まれる可能性がある。よって、このような場合であっても、放射性よう素および放射性よう化メチルや放射性物質を含む放射性ガスを除去することが要求される。
【０００９】
本発明は上述した課題を解決するものであり、湿度や酸性ガス、油分や有機溶剤成分などの吸着阻害物質が多く含まれる場合であっても、高い放射性ガス除去性能を有することのできる放射性ガス除去装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述の目的を達成するために、第１の発明の放射性ガス除去装置は、筒状に形成されたケーシングと、前記ケーシングの筒状の他端側に設けられて前記ケーシングの一端側の開口部から他端側の開口部にかけて前記ケーシングの内部にガスを流通させる送風機と、前記ケーシングの内部に設けられており前記ガス中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着する放射性ガスフィルタと、前記ケーシングの内部であって前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の下流側に設けられており前記放射性ガスフィルタから離散される粒子を捕集する下流側高性能フィルタと、前記ケーシングの内部であって前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着するガス処理フィルタと、を含むことを特徴とする。
【００１１】
この放射性ガス除去装置によれば、送風機によりケーシングの一端側から他端側にかけてケーシングの内部を流通するガスは、ガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタを順次通過してケーシングの外部に放出される。この際、まず、ガス処理フィルタにより、ガス中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着する。次に、放射性ガスフィルタにより、ガス中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着する。次に、下流側高性能フィルタにより、放射性ガスフィルタから離散される粒子を捕集する。この結果、ガスが放射性ガスフィルタを通過する以前に、ガス処理フィルタにより有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分が除去されるため、有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分により放射性ガスフィルタが目詰まりする事態を防ぎ、放射性ガスフィルタの性能低下を抑えることができる。しかも、ガスが放射性ガスフィルタを通過した後に、下流側高性能フィルタにより放射性ガスフィルタから離散される粒子を捕集するため、放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を同伴する放射性ガスフィルタの粒子がケーシングの外部に放出される事態を防ぐことができる。
【００１２】
また、第２の発明の放射性ガス除去装置は、第１の発明において、前記ケーシングの内部であって前記ガス処理フィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる粒子を捕集する上流側高性能フィルタをさらに含むことを特徴とする。
【００１３】
この放射性ガス除去装置によれば、ガスがガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタを通過する以前に、上流側高性能フィルタによりガス中の粒子が捕集されるため、当該粒子により、ガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタが目詰まりする事態を防ぎ、ガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタの性能低下を抑えることができる。
【００１４】
また、第３の発明の放射性ガス除去装置は、第１の発明において、前記ケーシングの内部であって前記ガス処理フィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる粗粒子を捕集する粗フィルタをさらに含むことを特徴とする。
【００１５】
この放射性ガス除去装置によれば、ガスがガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタを通過する以前に、粗フィルタによりガス中の粗粒子が捕集されるため、当該粗粒子により、ガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタが目詰まりする事態を防ぎ、ガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタの性能低下を抑えることができる。
【００１６】
また、第４の発明の放射性ガス除去装置は、第１の発明において、前記ケーシングの内部であって前記ガス処理フィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる粒子を捕集する上流側高性能フィルタと、前記ケーシングの内部であって前記上流側高性能フィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ガス中に含まれる粗粒子を捕集する粗フィルタと、をさらに含むことを特徴とする。
【００１７】
この放射性ガス除去装置によれば、ガスが上流側高性能フィルタを通過する以前に、粗フィルタによりガス中の粗粒子が捕集されるため、当該粗粒子により、上流側高性能フィルタが目詰まりする事態を防ぎ、上流側高性能フィルタの性能低下を抑えることができる。しかも、粗フィルタのガスの流通の下流側において、ガスがガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタを通過する以前に、上流側高性能フィルタによりガス中の粒子が捕集されるため、当該粒子により、ガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタが目詰まりする事態を防ぎ、ガス処理フィルタ、放射性ガスフィルタ、下流側高性能フィルタの性能低下を抑えることができる。
【００１８】
また、第５の発明の放射性ガス除去装置は、第１〜第４の何れか１つの発明において、前記ケーシングの内部であって前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ケーシングの内部を流通される前記ガスを加熱する加熱部と、前記ケーシングの内部であって前記加熱部よりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記加熱部に至るガスの温度を計測する上流側温度計と、前記上流側温度計により計測される前記ガスの温度に基づいて前記放射性ガスフィルタに至る前記ガスの温度を所定温度に上昇させるように前記加熱部を制御する制御部と、をさらに含むことを特徴とする。
【００１９】
この放射性ガス除去装置によれば、加熱部によりガスの温度を上昇させることで相対湿度が低下するため、放射性ガスフィルタへの湿分による影響を抑え、放射性ガスフィルタでの放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することができる。
【００２０】
また、第６の発明の放射性ガス除去装置は、第１〜第４の何れか１つの発明において、前記ケーシングの内部であって前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記ケーシングの内部を流通される前記ガスを加熱する加熱部と、前記ケーシングの内部であって前記加熱部よりも前記ガスの流通の下流側で前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記放射性ガスフィルタに至るガスの相対湿度を計測する湿度計と、前記湿度計により計測される前記ガスの相対湿度に基づいて前記放射性ガスフィルタに至る前記ガスの相対湿度を所定湿度に低下させるように前記加熱部を制御する制御部と、をさらに含むことを特徴とする。
【００２１】
この放射性ガス除去装置によれば、加熱部によりガスの温度を上昇させることで相対湿度が低下するため、放射性ガスフィルタへの湿分による影響を抑え、放射性ガスフィルタでの放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することができる。
【００２２】
また、第７の発明の放射性ガス除去装置は、第５の発明において、前記ケーシングの内部であって前記加熱部よりも前記ガスの流通の下流側で前記放射性ガスフィルタよりも前記ガスの流通の上流側に設けられており前記放射性ガスフィルタに至るガスの温度を計測する下流側温度計をさらに含み、前記制御部は、前記上流側温度計により計測される前記ガスの温度とともに、前記下流側温度計により計測される前記ガスの温度に基づいて前記加熱部を制御することを特徴とする。
【００２３】
この放射性ガス除去装置によれば、加熱部によりガスの温度を上昇させることで相対湿度が低下するため、放射性ガスフィルタへの湿分による影響を抑え、放射性ガスフィルタでの放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することができる。しかも、下流側温度計による温度の計測により相対湿度を適宜維持することができる。
【００２４】
また、第８の発明の放射性ガス除去装置は、第１〜第７の何れか１つの発明において、前記ガス処理フィルタは、活性炭、アルミナ、シリカゲル、ゼオライトまたはモレキュラーシーブが、粒子状または繊維状あるいは粉末状に形成された基材により成形されることを特徴とする。
【００２５】
この放射性ガス除去装置によれば、ガス処理フィルタにより有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分および水分ミストやミスト状成分とともに、放射性よう素ならびに放射性物質を吸着することができ、放射性ガスフィルタでの放射性よう素および放射性よう化メチルの吸着性能を向上することができるとともに、放射性ガスフィルタの性能低下をより抑えることができる。
【００２６】
また、第９の発明の放射性ガス除去装置は、第８の発明において、前記ガス処理フィルタは、前記基材上に、酸性成分、アルカリ成分、トリエチレンジアミン、よう化カリウムの少なくとも１つを添着することを特徴とする。
【００２７】
この放射性ガス除去装置によれば、ガス処理フィルタにより有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分とともに、放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着することができ、放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することができるとともに、放射性ガスフィルタの性能低下をより抑えることができる。
【００２８】
また、第１０の発明の放射性ガス除去装置は、第１〜第９の何れか１つの発明において、前記ケーシングは、移動可能に構成されていることを特徴とする。
【００２９】
この放射性ガス除去装置によれば、必要に応じて放射性ガスを除去する箇所に放射性ガス除去装置を搬送し設置することができる。
【００３０】
また、第１１の発明の放射性ガス除去装置は、第１〜第１０の何れか１つの発明において、前記ケーシングは、その外壁が放射線遮蔽壁で構成されており、筒状の一端側および他端側の開口部が放射線遮蔽蓋で閉塞されることを特徴とする。
【００３１】
この放射性ガス除去装置によれば、放射性ガスフィルタに吸着した放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質から放射される放射線がケーシングの外部に漏洩する事態を防ぐことができる。
【００３２】
また、第１２の発明の放射性ガス除去装置は、第１〜第１１の何れか１つの発明において、前記ケーシングの筒状の一端側が放射性ガスを含む局所空間に接続され、前記ケーシングの筒状の他端側が外気に開放されることを特徴とする。
【００３３】
この放射性ガス除去装置によれば、局所空間で放射性ガスが発生した場合、当該放射性ガスが局所空間の外部に漏洩しないように、放射性ガス除去装置により放射性ガスを除去することができる。
【００３４】
また、第１３の発明の放射性ガス除去装置は、第１〜第１１の何れか１つの発明において、前記ケーシングの筒状の一端側が放射性ガスを含む外気に開放され、前記ケーシングの筒状の他端側が局所空間に接続されることを特徴とする。
【００３５】
この放射性ガス除去装置によれば、放射性ガスが外気に漏洩した場合、当該放射性ガスが局所空間に浸入しないように、放射性ガス除去装置により放射性ガスを除去することができる。
【発明の効果】
【００３６】
本発明によれば、湿度や酸性ガス、油分や有機溶剤成分などの吸着阻害物質が多く含まれる場合であっても、高い放射性ガス除去性能を有することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】図１は、本発明の実施形態１に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態１に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図３】図３は、本発明の実施形態１に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図４】図４は、本発明の実施形態１に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図５】図５は、本発明の実施形態２に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図６】図６は、本発明の実施形態２に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図７】図７は、本発明の実施形態２に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図８】図８は、本発明の実施形態２に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図９】図９は、本発明の実施形態３に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施形態４に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図１１】図１１は、本発明の実施形態４に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図１２】図１２は、本発明の実施形態５に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【図１３】図１３は、本発明の実施形態５に係る放射性ガス除去装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
以下に、本発明に係る実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が置換可能かつ容易なもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。
【００３９】
［実施形態１］
図１は、本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図である。図１に示すように、本実施形態の放射性ガス除去装置１は、ケーシング２と、送風機３と、放射性ガスフィルタ４と、下流側高性能フィルタ５と、ガス処理フィルタ６と、を含む。
【００４０】
ケーシング２は、周囲が外壁２Ａで囲まれた筒状に形成され、その一端側２Ｂおよび他端側２Ｃに開口部２Ｂａ，２Ｃａがそれぞれ形成されている。筒状は、例えば、円筒や矩形筒などがあり、その断面形状に限定はない。
【００４１】
送風機３は、ケーシング２の他端側２Ｃに設けられている。そして、送風機３は、図１中に矢印で示すようにケーシング２の一端側２Ｂの開口部２Ｂａから他端側２Ｃの開口部２Ｃａにかけてケーシング２の内部にガスＧを流通させる。
【００４２】
放射性ガスフィルタ４は、ケーシング２の内部に設けられている。この放射性ガスフィルタ４は、ケーシング２の内部を流通されるガスＧ中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルを吸着する。具体的に、放射性ガスフィルタ４は、母体を構成する基材と、この基材に添着される添着物質とを含む。基材に用いられる材料としては、特に限定されるものではなく、表面に複数の細孔を有するものであればよく、例えば、活性炭、アルミナ、ゼオライト、シリカゲル、活性白土などが挙げられる。ゼオライトとしては、天然ゼオライトまたは合成ゼオライトのどちらでもよい。また、ゼオライトとして、モルデナイト系ゼオライトなどが挙げられる。基材は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。また、放射性ガスフィルタ４は、添着物質として、トリエチレンジアミン（ＴＥＤＡ：Tri−Ethylene−Di−Amine）またはよう化カリウム（ＫＩ）を含む。この放射性ガスフィルタ４は、上記構成により、放射性よう素および放射性よう化メチルの他、Ｃｓ（セシウム）などを含む放射性物質を吸着する。
【００４３】
下流側高性能フィルタ５は、ケーシング２の内部であって放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の下流側に設けられている。この下流側高性能フィルタ５は、放射性ガスフィルタ４から離散される粒子を捕集する。放射性ガスフィルタ４は、上述したように、例えば、活性炭、アルミナ、ゼオライト、シリカゲル、活性白土などを基材としている。このため、下流側高性能フィルタ５は、何らかの事象により放射性ガスフィルタ４の基材が破砕されて離散した場合に、破砕片が放出されないように、破砕片を捕集する。下流側高性能フィルタ５は、例えば、ＨＥＰＡフィルタ（High  Efficiency  Particulate  Air  Filter；対象粒子径が０．１５［μｍ］で９９．９７［％］の除去効率）が適用される。
【００４４】
ガス処理フィルタ６は、ケーシング２の内部であって放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。このガス処理フィルタ６は、ケーシング２の内部を流通されるガスＧ中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を捕集する。具体的に、ガス処理フィルタ６は、母体を構成する基材と、この基材に添着される添着物質とを含む。基材に用いられる材料としては、特に限定されるものではなく、表面に複数の細孔を有するものであればよく、例えば、活性炭、アルミナ、ゼオライト、シリカゲル、モレキュラーシーブなどが挙げられる。ゼオライトとしては、天然ゼオライトまたは合成ゼオライトのどちらでもよい。また、ゼオライトとして、モルデナイト系ゼオライトなどが挙げられる。基材は、それぞれ単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。また、ガス処理フィルタ６は、添着物質として、酸性成分、アルカリ成分、トリエチレンジアミン（ＴＥＤＡ：Tri−Ethylene−Di−Amine）、よう化カリウム（ＫＩ）の少なくとも１つを含む。このガス処理フィルタ６は、上記構成により、放射性よう素および放射性よう化メチルならびにＣｓ（セシウム）などを含む放射性物質を吸着する。
【００４５】
このように本実施形態の放射性ガス除去装置１は、筒状に形成されたケーシング２と、ケーシング２の筒状の他端側２Ｃに設けられてケーシング２の一端側２Ｂの開口部２Ｂａから他端側２Ｃの開口部２Ｃａにかけてケーシング２の内部にガスＧを流通させる送風機３と、ケーシング２の内部に設けられておりガスＧ中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の少なくとも１つを含む放射性ガスを吸着する放射性ガスフィルタ４と、ケーシング２の内部であって放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の下流側に設けられており放射性ガスフィルタ４から離散される粒子を捕集する下流側高性能フィルタ５と、ケーシング２の内部であって放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりガスＧ中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着するガス処理フィルタ６と、を含む。
【００４６】
この放射性ガス除去装置１によれば、送風機３によりケーシング２の一端側２Ｂから他端側２Ｃにかけてケーシング２の内部を流通するガスＧは、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５を順次通過してケーシング２の外部に放出される。この際、まず、ガス処理フィルタ６により、ガスＧ中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着する。次に、放射性ガスフィルタ４により、ガスＧ中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着する。次に、下流側高性能フィルタ５により、放射性ガスフィルタ４から離散される粒子を捕集する。
【００４７】
この結果、ガスＧが放射性ガスフィルタ４を通過する以前に、ガス処理フィルタ６により有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分が除去されるため、有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分により放射性ガスフィルタ４が目詰まりする事態を防ぎ、放射性ガスフィルタ４の性能低下を抑えることが可能になる。しかも、ガスＧが放射性ガスフィルタ４を通過した後に、下流側高性能フィルタ５により放射性ガスフィルタ４から離散される粒子を捕集するため、放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を同伴する放射性ガスフィルタ４の粒子がケーシング２の外部に放出される事態を防ぎ、ケーシング２の他端側２Ｃでの汚染を防止することが可能になる。
【００４８】
また、図２の本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図に示すように、本実施形態の放射性ガス除去装置１は、図１に示す放射性ガス除去装置１において、ケーシング２の内部であってガス処理フィルタ６よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりガスＧ中に含まれる粒子を捕集する上流側高性能フィルタ７をさらに含むことが好ましい。
【００４９】
上流側高性能フィルタ７は、下流側高性能フィルタ５と同様に、例えば、ＨＥＰＡフィルタが適用される。
【００５０】
この放射性ガス除去装置１によれば、送風機３によりケーシング２の一端側２Ｂから他端側２Ｃにかけてケーシング２の内部を流通するガスＧは、上流側高性能フィルタ７、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５を順次通過してケーシング２の外部に放出される。この際、まず、上流側高性能フィルタ７により、ガスＧ中に含まれる粒子を捕集する。次に、ガス処理フィルタ６により、ガスＧ中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着する。次に、放射性ガスフィルタ４により、ガスＧ中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着する。次に、下流側高性能フィルタ５により、放射性ガスフィルタ４から離散される粒子を捕集する。
【００５１】
この結果、ガスＧがガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５を通過する以前に、上流側高性能フィルタ７によりガスＧ中の粒子が捕集されるため、当該粒子により、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５が目詰まりする事態を防ぎ、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５の性能低下を抑えることが可能になる。
【００５２】
また、図３の本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図に示すように、本実施形態の放射性ガス除去装置１は、図１に示す放射性ガス除去装置１において、ケーシング２の内部であってガス処理フィルタ６よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりガスＧ中に含まれる粗粒子を捕集する粗フィルタ８をさらに含むことが好ましい。
【００５３】
粗フィルタ８は、例えば、対象粒子径が５０［μｍ］以上の空気濾過フィルタや、対象粒子径が２５［μｍ］以上の中高性能フィルタが適用される。
【００５４】
この放射性ガス除去装置１によれば、送風機３によりケーシング２の一端側２Ｂから他端側２Ｃにかけてケーシング２の内部を流通するガスＧは、粗フィルタ８、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５を順次通過してケーシング２の外部に放出される。この際、まず、粗フィルタ８により、ガスＧ中に含まれる粗粒子（塵埃など）を捕集する。次に、ガス処理フィルタ６により、ガスＧ中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着する。次に、放射性ガスフィルタ４により、ガスＧ中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着する。次に、下流側高性能フィルタ５により、放射性ガスフィルタ４から離散される粒子を捕集する。
【００５５】
この結果、ガスＧがガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５を通過する以前に、粗フィルタ８によりガスＧ中の粗粒子が捕集されるため、当該粗粒子により、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５が目詰まりする事態を防ぎ、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５の性能低下を抑えることが可能になる。
【００５６】
また、図４の本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図に示すように、本実施形態の放射性ガス除去装置１は、図１に示す放射性ガス除去装置１において、ケーシング２の内部であってガス処理フィルタ６よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりガスＧ中に含まれる粒子を捕集する上流側高性能フィルタ７と、ケーシング２の内部であって上流側高性能フィルタ７よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりガスＧ中に含まれる粗粒子を捕集する粗フィルタ８と、をさらに含むことが好ましい。
【００５７】
この放射性ガス除去装置１によれば、送風機３によりケーシング２の一端側２Ｂから他端側２Ｃにかけてケーシング２の内部を流通するガスＧは、粗フィルタ８、上流側高性能フィルタ７、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５を順次通過してケーシング２の外部に放出される。この際、まず、粗フィルタ８により、ガスＧ中に含まれる粗粒子（塵埃など）を捕集する。次に、上流側高性能フィルタ７により、ガスＧ中に含まれる粒子を捕集する。次に、ガス処理フィルタ６により、ガスＧ中に含まれる有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分を吸着する。次に、放射性ガスフィルタ４により、ガスＧ中に含まれる放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着する。次に、下流側高性能フィルタ５により、放射性ガスフィルタ４から離散される粒子を捕集する。
【００５８】
この結果、ガスＧが上流側高性能フィルタ７を通過する以前に、粗フィルタ８によりガスＧ中の粗粒子が捕集されるため、当該粗粒子により、上流側高性能フィルタ７が目詰まりする事態を防ぎ、上流側高性能フィルタ７の性能低下を抑えることが可能になる。しかも、粗フィルタ８のガスＧの流通の下流側において、ガスＧがガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５を通過する以前に、上流側高性能フィルタ７によりガスＧ中の粒子が捕集されるため、当該粒子により、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５が目詰まりする事態を防ぎ、ガス処理フィルタ６、放射性ガスフィルタ４、下流側高性能フィルタ５の性能低下を抑えることが可能になる。
【００５９】
また、本実施形態の放射性ガス除去装置１では、ガス処理フィルタ６は、活性炭、アルミナ、シリカゲル、ゼオライトまたはモレキュラーシーブが、粒子状または繊維状あるいは粉末状に形成された基材により成形されることが好ましい。
【００６０】
この放射性ガス除去装置１によれば、ガス処理フィルタ６により有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分および水分ミストやミスト状成分とともに、放射性よう素ならびに放射性物質を吸着することができ、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルの吸着性能を向上することが可能になるとともに、放射性ガスフィルタ４の性能低下をより抑えることが可能になる。
【００６１】
さらに、ガス処理フィルタ６は、前記基材上に、酸性成分、アルカリ成分、トリエチレンジアミン、よう化カリウムの少なくとも１つを添着することが好ましい。
【００６２】
この放射性ガス除去装置によれば、ガス処理フィルタ６により有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分とともに、放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質を吸着することができ、放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になるとともに、放射性ガスフィルタ４の性能低下をより抑えることが可能になる。
【００６３】
［実施形態２］
図５は、本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図である。本実施形態の放射性ガス除去装置１は、図１に示す放射性ガス除去装置１において、加熱手段９をさらに含む。
【００６４】
加熱手段９は、加熱部９Ａと、上流側温度計９Ｂと、湿度計９Ｃと、下流側温度計９Ｄと、制御部９Ｅと、を含む。
【００６５】
加熱部９Ａは、ケーシング２の内部であって放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりケーシング２の内部を流通されるガスＧを加熱する。加熱部９Ａの配置は、放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図５ではガス処理フィルタ６よりもガスＧの流通の上流側に配置された例を示している。図には明示しないが、加熱部９Ａは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。
【００６６】
上流側温度計９Ｂは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の上流側に設けられている。上流側温度計９Ｂは、加熱部９Ａに至るガスＧの温度を計測する。上流側温度計９Ｂの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の上流側であればよく、図５ではガス処理フィルタ６の上流側に配置された加熱部９Ａの上流側に配置された例を示している。図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、上流側温度計９Ｂは、加熱部９Ａの上流側であってガス処理フィルタ６の上流側または下流側に配置される。
【００６７】
湿度計９Ｃは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。湿度計９Ｃは、放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの相対湿度を計測する。湿度計９Ｃの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図５ではガス処理フィルタ６の上流側に配置した例を示している。図には明示しないが、湿度計９Ｃは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａと放射性ガスフィルタ４との間に配置される。
【００６８】
下流側温度計９Ｄは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。下流側温度計９Ｄは、放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を計測する。下流側温度計９Ｄの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図５ではガス処理フィルタ６の上流側に配置した例を示している。図には明示しないが、下流側温度計９Ｄは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａと放射性ガスフィルタ４との間に配置される。
【００６９】
制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂ、湿度計９Ｃ、下流側温度計９Ｄの計測結果に基づいて加熱部９Ａを制御する。具体的に、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を所定温度に上昇させるように加熱部９Ａを制御する。例えば、ガスＧの相対湿度を７０［％］以下まで低下させる場合、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度を１０［℃］程度増加させることで、相対湿度が１００［％］の場合でも相対湿度を７０［％］以下に低下させることができる。相対湿度を７０［％］以下とすれば、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能として９９［％］以上が期待できる。この目標とする相対湿度は、湿度計９Ｃにより確認することができる。また、目標とする温度は下流側温度計９Ｄにより確認することができる。
【００７０】
このように、本実施形態の放射性ガス除去装置は、加熱手段９を含むことにより、放射性ガスフィルタ４への湿分による影響を抑え、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になる。
【００７１】
なお、加熱手段９は、加熱部９Ａ、上流側温度計９Ｂ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を所定温度に上昇させるように加熱部９Ａを制御する。
【００７２】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、湿度計９Ｃ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、湿度計９Ｃにより計測されるガスＧの相対湿度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの相対湿度を所定湿度に低下させるように加熱部９Ａを制御する。
【００７３】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、上流側温度計９Ｂ、下流側温度計９Ｄ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度とともに、下流側温度計９Ｄにより計測されるガスＧの温度に基づいて加熱部９Ａを制御する。
【００７４】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、湿度計９Ｃ、下流側温度計９Ｄ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、湿度計９Ｃにより計測されるガスＧの相対湿度とともに、下流側温度計９Ｄにより計測されるガスＧの温度に基づいて加熱部９Ａを制御する。
【００７５】
なお、加熱手段９は、加熱部９Ａをガス処理フィルタ６よりもガスＧの流通の上流側に配置することが好ましい。このように加熱部９Ａを配置することにより、ガス処理フィルタ６への湿分による影響も抑え、ガス処理フィルタ６での有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分の吸着性能や、ガス処理フィルタ６での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になる。
【００７６】
図６は、本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図である。本実施形態の放射性ガス除去装置１は、図２に示す放射性ガス除去装置１において、加熱手段９をさらに含む。
【００７７】
加熱手段９は、加熱部９Ａと、上流側温度計９Ｂと、湿度計９Ｃと、下流側温度計９Ｄと、制御部９Ｅと、を含む。
【００７８】
加熱部９Ａは、ケーシング２の内部であって放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりケーシング２の内部を流通されるガスＧを加熱する。加熱部９Ａの配置は、放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図６では上流側高性能フィルタ７よりもガスＧの流通の上流側に配置された例を示している。図には明示しないが、加熱部９Ａは、上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間や、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。
【００７９】
上流側温度計９Ｂは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の上流側に設けられている。上流側温度計９Ｂは、加熱部９Ａに至るガスＧの温度を計測する。上流側温度計９Ｂの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の上流側であればよく、図６では上流側高性能フィルタ７の上流側に配置された加熱部９Ａの上流側に配置された例を示している。図には明示しないが、加熱部９Ａが上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、上流側温度計９Ｂは、上流側高性能フィルタ７の上流側または上流側高性能フィルタ７と加熱部９Ａとの間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、上流側温度計９Ｂは、上流側高性能フィルタ７の上流側または上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間もしくはガス処理フィルタ６と加熱部９Ａとの間に配置される。
【００８０】
湿度計９Ｃは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。湿度計９Ｃは、放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの相対湿度を計測する。湿度計９Ｃの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図６では上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置した例を示している。図には明示しないが、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａと上流側高性能フィルタ７との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、湿度計９Ｃは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａとガス処理フィルタ６との間またはガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａと放射性ガスフィルタ４との間に配置される。
【００８１】
下流側温度計９Ｄは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。下流側温度計９Ｄは、放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を計測する。下流側温度計９Ｄの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図６では上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置した例を示している。図には明示しないが、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａの下流側であって上流側高性能フィルタ７の上流側に配置されてもよい。また、図には明示しないが、下流側温度計９Ｄは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａとガス処理フィルタ６との間またはガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａと放射性ガスフィルタ４との間に配置される。
【００８２】
制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂ、湿度計９Ｃ、下流側温度計９Ｄの計測結果に基づいて加熱部９Ａを制御する。具体的に、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を所定温度に上昇させるように加熱部９Ａを制御する。例えば、ガスＧの相対湿度を７０［％］以下まで低下させる場合、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度を１０［℃］程度増加させることで、相対湿度が１００［％］の場合でも相対湿度を７０［％］以下に低下させることができる。相対湿度を７０［％］以下とすれば、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能として９９［％］以上が期待できる。この目標とする相対湿度は、湿度計９Ｃにより確認することができる。また、目標とする温度は下流側温度計９Ｄにより確認することができる。
【００８３】
このように、本実施形態の放射性ガス除去装置は、加熱手段９を含むことにより、放射性ガスフィルタ４への湿分による影響を抑え、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になる。
【００８４】
なお、加熱手段９は、加熱部９Ａ、上流側温度計９Ｂ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を所定温度に上昇させるように加熱部９Ａを制御する。
【００８５】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、湿度計９Ｃ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、湿度計９Ｃにより計測されるガスＧの相対湿度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの相対湿度を所定湿度に低下させるように加熱部９Ａを制御する。
【００８６】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、上流側温度計９Ｂ、下流側温度計９Ｄ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度とともに、下流側温度計９Ｄにより計測されるガスＧの温度に基づいて加熱部９Ａを制御する。
【００８７】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、湿度計９Ｃ、下流側温度計９Ｄ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、湿度計９Ｃにより計測されるガスＧの相対湿度とともに、下流側温度計９Ｄにより計測されるガスＧの温度に基づいて加熱部９Ａを制御する。
【００８８】
なお、加熱手段９は、加熱部９Ａを上流側高性能フィルタ７よりもガスＧの流通の上流側に配置することが好ましい。このように加熱部９Ａを配置することにより、上流側高性能フィルタ７やガス処理フィルタ６への湿分による影響も抑え、上流側高性能フィルタ７での粒子の捕集性能を向上することが可能になり、さらに、ガス処理フィルタ６での有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分の吸着性能や、ガス処理フィルタ６での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になる。
【００８９】
図７は、本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図である。本実施形態の放射性ガス除去装置１は、図３に示す放射性ガス除去装置１において、加熱手段９をさらに含む。
【００９０】
加熱手段９は、加熱部９Ａと、上流側温度計９Ｂと、湿度計９Ｃと、下流側温度計９Ｄと、制御部９Ｅと、を含む。
【００９１】
加熱部９Ａは、ケーシング２の内部であって放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりケーシング２の内部を流通されるガスＧを加熱する。加熱部９Ａの配置は、放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図７では粗フィルタ８よりもガスＧの流通の上流側に配置された例を示している。図には明示しないが、加熱部９Ａは、粗フィルタ８とガス処理フィルタ６との間や、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。
【００９２】
上流側温度計９Ｂは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の上流側に設けられている。上流側温度計９Ｂは、加熱部９Ａに至るガスＧの温度を計測する。上流側温度計９Ｂの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の上流側であればよく、図７では粗フィルタ８の上流側に配置された加熱部９Ａの上流側に配置された例を示している。図には明示しないが、加熱部９Ａが粗フィルタ８とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、上流側温度計９Ｂは、粗フィルタ８の上流側または粗フィルタ８と加熱部９Ａとの間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、上流側温度計９Ｂは、粗フィルタ８の上流側または粗フィルタ８とガス処理フィルタ６との間もしくはガス処理フィルタ６と加熱部９Ａとの間に配置される。
【００９３】
湿度計９Ｃは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。湿度計９Ｃは、放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの相対湿度を計測する。湿度計９Ｃの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図７では粗フィルタ８とガス処理フィルタ６との間に配置した例を示している。図には明示しないが、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａと粗フィルタ８との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、湿度計９Ｃは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが粗フィルタ８とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａとガス処理フィルタ６との間またはガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａと放射性ガスフィルタ４との間に配置される。
【００９４】
下流側温度計９Ｄは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。下流側温度計９Ｄは、放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を計測する。下流側温度計９Ｄの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図７では粗フィルタ８とガス処理フィルタ６との間に配置した例を示している。図には明示しないが、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａと粗フィルタ８との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、下流側温度計９Ｄは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが粗フィルタ８とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａとガス処理フィルタ６との間またはガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａと放射性ガスフィルタ４との間に配置される。
【００９５】
制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂ、湿度計９Ｃ、下流側温度計９Ｄの計測結果に基づいて加熱部９Ａを制御する。具体的に、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を所定温度に上昇させるように加熱部９Ａを制御する。例えば、ガスＧの相対湿度を７０［％］以下まで低下させる場合、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度を１０［℃］程度増加させることで、相対湿度が１００［％］の場合でも相対湿度を７０［％］以下に低下させることができる。相対湿度を７０［％］以下とすれば、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能として９９［％］以上が期待できる。この目標とする相対湿度は、湿度計９Ｃにより確認することができる。また、目標とする温度は下流側温度計９Ｄにより確認することができる。
【００９６】
このように、本実施形態の放射性ガス除去装置は、加熱手段９を含むことにより、放射性ガスフィルタ４への湿分による影響を抑え、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になる。
【００９７】
なお、加熱手段９は、加熱部９Ａ、上流側温度計９Ｂ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を所定温度に上昇させるように加熱部９Ａを制御する。
【００９８】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、湿度計９Ｃ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、湿度計９Ｃにより計測されるガスＧの相対湿度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの相対湿度を所定湿度に低下させるように加熱部９Ａを制御する。
【００９９】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、上流側温度計９Ｂ、下流側温度計９Ｄ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度とともに、下流側温度計９Ｄにより計測されるガスＧの温度に基づいて加熱部９Ａを制御する。
【０１００】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、湿度計９Ｃ、下流側温度計９Ｄ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、湿度計９Ｃにより計測されるガスＧの相対湿度とともに、下流側温度計９Ｄにより計測されるガスＧの温度に基づいて加熱部９Ａを制御する。
【０１０１】
なお、加熱手段９は、加熱部９Ａを粗フィルタ８よりもガスＧの流通の上流側に配置することが好ましい。このように加熱部９Ａを配置することにより、粗フィルタ８やガス処理フィルタ６への湿分による影響も抑え、粗フィルタ８での粗粒子の捕集性能を向上することが可能になり、さらに、ガス処理フィルタ６での有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分の吸着性能や、ガス処理フィルタ６での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になる。
【０１０２】
図８は、本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図である。本実施形態の放射性ガス除去装置１は、図４に示す放射性ガス除去装置１において、加熱手段９をさらに含む。
【０１０３】
加熱手段９は、加熱部９Ａと、上流側温度計９Ｂと、湿度計９Ｃと、下流側温度計９Ｄと、制御部９Ｅと、を含む。
【０１０４】
加熱部９Ａは、ケーシング２の内部であって放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられておりケーシング２の内部を流通されるガスＧを加熱する。加熱部９Ａの配置は、放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図８では粗フィルタ８よりもガスＧの流通の上流側に配置された例を示している。図には明示しないが、加熱部９Ａは、粗フィルタ８と上流側高性能フィルタ７との間や、上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間や、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。
【０１０５】
上流側温度計９Ｂは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の上流側に設けられている。上流側温度計９Ｂは、加熱部９Ａに至るガスＧの温度を計測する。上流側温度計９Ｂの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の上流側であればよく、図８では粗フィルタ８の上流側に配置された加熱部９Ａの上流側に配置された例を示している。図には明示しないが、加熱部９Ａが粗フィルタ８と上流側高性能フィルタ７との間に配置された場合、上流側温度計９Ｂは、粗フィルタ８の上流側または粗フィルタ８と加熱部９Ａとの間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、上流側温度計９Ｂは、粗フィルタ８の上流側または粗フィルタ８と上流側高性能フィルタ７との間もしくは上流側高性能フィルタ７と加熱部９Ａとの間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、上流側温度計９Ｂは、粗フィルタ８の上流側または粗フィルタ８と上流側高性能フィルタ７との間もしくは上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間あるいはガス処理フィルタ６と加熱部９Ａとの間に配置される。
【０１０６】
湿度計９Ｃは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。湿度計９Ｃは、放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの相対湿度を計測する。湿度計９Ｃの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図８では上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置した例を示している。図には明示しないが、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａと粗フィルタ８との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、湿度計９Ｃは、粗フィルタ８と上流側高性能フィルタ７との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、湿度計９Ｃは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが粗フィルタ８と上流側高性能フィルタ７との間に配置された場合、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａと上流側高性能フィルタ７との間または上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間もしくはガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａとガス処理フィルタ６との間またはガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、湿度計９Ｃは、加熱部９Ａと放射性ガスフィルタ４との間に配置される。
【０１０７】
下流側温度計９Ｄは、ケーシング２の内部であって加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側に設けられている。下流側温度計９Ｄは、放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を計測する。下流側温度計９Ｄの配置は、加熱部９ＡよりもガスＧの流通の下流側で放射性ガスフィルタ４よりもガスＧの流通の上流側であればよく、図８では上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置した例を示している。図には明示しないが、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａと粗フィルタ８との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、下流側温度計９Ｄは、粗フィルタ８と上流側高性能フィルタ７との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、下流側温度計９Ｄは、ガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置されてもよい。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが粗フィルタ８と上流側高性能フィルタ７との間に配置された場合、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａと上流側高性能フィルタ７との間または上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間もしくはガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａが上流側高性能フィルタ７とガス処理フィルタ６との間に配置された場合、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａとガス処理フィルタ６との間またはガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置される。また、図には明示しないが、加熱部９Ａがガス処理フィルタ６と放射性ガスフィルタ４との間に配置された場合、下流側温度計９Ｄは、加熱部９Ａと放射性ガスフィルタ４との間に配置される。
【０１０８】
制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂ、湿度計９Ｃ、下流側温度計９Ｄの計測結果に基づいて加熱部９Ａを制御する。具体的に、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を所定温度に上昇させるように加熱部９Ａを制御する。例えば、ガスＧの相対湿度を７０［％］以下まで低下させる場合、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度を１０［℃］程度増加させることで、相対湿度が１００［％］の場合でも相対湿度を７０［％］以下に低下させることができる。相対湿度を７０［％］以下とすれば、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能として９９［％］以上が期待できる。この目標とする相対湿度は、湿度計９Ｃにより確認することができる。また、目標とする温度は下流側温度計９Ｄにより確認することができる。
【０１０９】
このように、本実施形態の放射性ガス除去装置は、加熱手段９を含むことにより、放射性ガスフィルタ４への湿分による影響を抑え、放射性ガスフィルタ４での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になる。
【０１１０】
なお、加熱手段９は、加熱部９Ａ、上流側温度計９Ｂ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの温度を所定温度に上昇させるように加熱部９Ａを制御する。
【０１１１】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、湿度計９Ｃ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、湿度計９Ｃにより計測されるガスＧの相対湿度に基づいて放射性ガスフィルタ４に至るガスＧの相対湿度を所定湿度に低下させるように加熱部９Ａを制御する。
【０１１２】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、上流側温度計９Ｂ、下流側温度計９Ｄ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、上流側温度計９Ｂにより計測されるガスＧの温度とともに、下流側温度計９Ｄにより計測されるガスＧの温度に基づいて加熱部９Ａを制御する。
【０１１３】
また、加熱手段９は、加熱部９Ａ、湿度計９Ｃ、下流側温度計９Ｄ、制御部９Ｅを含む構成であってもよい。この場合、制御部９Ｅは、湿度計９Ｃにより計測されるガスＧの相対湿度とともに、下流側温度計９Ｄにより計測されるガスＧの温度に基づいて加熱部９Ａを制御する。
【０１１４】
なお、加熱手段９は、加熱部９Ａを粗フィルタ８よりもガスＧの流通の上流側に配置することが好ましい。このように加熱部９Ａを配置することにより、粗フィルタ８や上流側高性能フィルタ７やガス処理フィルタ６への湿分による影響も抑え、粗フィルタ８での粗粒子の捕集性能を向上することが可能になり、さらに、上流側高性能フィルタ７での粒子の捕集性能を向上することが可能になり、さらにまた、ガス処理フィルタ６での有機溶剤ガス成分や酸性ガス成分の吸着性能や、ガス処理フィルタ６での放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質の吸着性能を向上することが可能になる。
【０１１５】
［実施形態３］
図９は、本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図である。図９に示すように、本実施形態の放射性ガス除去装置１は、上述した実施形態１や実施形態２において、移動手段１０をさらに含む。図９では、図８に示す放射性ガス除去装置１において移動手段１０を含む例を示している。
【０１１６】
移動手段１０は、放射性ガス除去装置１のケーシング２を移動可能に構成したものである。例えば、図９に示すように、移動手段１０としてのトレーラにおける荷台１０Ａにケーシング２を搭載してある。図には明示しないが、ケーシング２を移動手段１０としての台車に搭載したり、ケーシング２自体に移動手段１０としての車輪を設けたりしてもよい。
【０１１７】
このように、本実施形態の放射性ガス除去装置１は、ケーシング２が移動可能に構成されていることにより、必要に応じて放射性ガスを除去する箇所に放射性ガス除去装置１を搬送し設置することが可能になる。
【０１１８】
［実施形態４］
図１０および図１１は、本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図である。図１０および図１１に示すように、本実施形態の放射性ガス除去装置１は、上述した実施形態１や実施形態２において、ケーシング２が、遮蔽構造とされている。図１０および図１１では、図８に示す放射性ガス除去装置１においてケーシング２を遮蔽構造とした例を示している。
【０１１９】
遮蔽構造としては、ケーシング２が、その外壁２Ａを放射線遮蔽壁で構成されており、筒状の一端側２Ｂおよび他端側２Ｃの開口部２Ｂａ，２Ｃａが放射線遮蔽蓋１１で閉塞される。放射線遮蔽壁の外壁２Ａや放射線遮蔽蓋１１は、放射線を遮蔽するコンクリートや金属などで形成される。
【０１２０】
このように、本実施形態の放射性ガス除去装置１は、ケーシング２を遮蔽構造としたことにより、放射性ガスフィルタ４に吸着した放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質から放射され放射線がケーシング２の外部に漏洩する事態を防ぐことが可能になる。
【０１２１】
また、遮蔽構造としては、図１１に示すように、ケーシング２の外壁２Ａや、放射線遮蔽蓋１１を中空に形成しておき、放射性ガス除去装置１を使用する以前は中空のままとし、放射性ガス除去装置１の使用中または使用後に、中空の内部に放射線を遮蔽するコンクリートや液体や粒状の金属などを充填する。
【０１２２】
このように構成することで、放射性ガス除去装置１を移動可能に構成した場合など、放射性ガス除去装置１を使用する以前は軽量にて搬送や設置を容易とし、放射性ガス除去装置１の使用中または使用後は放射性ガスフィルタ４に吸着した放射性よう素および放射性よう化メチルならびに放射性物質から放射され放射線がケーシング２の外部に漏洩する事態を防ぐことが可能になる。
【０１２３】
［実施形態５］
図１２および図１３は、本実施形態に係る放射性ガス除去装置の概略図である。図１２および図１３は、上述した実施形態１や実施形態２における放射性ガス除去装置１の使用方法を示す。図１２および図１３では、図８に示す放射性ガス除去装置１を適用した例を示している。
【０１２４】
図１２に示すように、放射性ガス除去装置１は、ケーシング２の筒状の一端側２Ｂが放射性ガスを含む局所空間１２に接続され、ケーシング２の筒状の他端側２Ｃが外気に開放される。放射性ガスを含む局所空間１２は、例えば、放射性ガスの発生源となり得る原子力発電所の原子炉格納容器の内部がある。すなわち、原子炉格納容器の内部で放射性ガスが発生した場合、当該放射性ガスが原子炉格納容器の外部に漏洩しないように、放射性ガス除去装置１により放射性ガスを除去することが可能である。
【０１２５】
また、図１３に示すように、放射性ガス除去装置１は、ケーシング２の筒状の一端側２Ｂが放射性ガスを含む外気に開放され、ケーシング２の筒状の他端側２Ｃが局所空間１３に接続される。局所空間１３は、例えば、原子力災害時に原子力防災対策活動を推進するための緊急事態応急対策拠点施設（オフサイトセンター）などや避難施設などを含む。すなわち、放射性ガスが外気に漏洩した場合、当該放射性ガスが局所空間１３に浸入しないように、放射性ガス除去装置１により放射性ガスを除去することが可能である。
【符号の説明】
【０１２６】
１  放射性ガス除去装置
２  ケーシング
２Ａ  外壁
２Ｂ  一端側
２Ｂａ  開口部
２Ｃ  他端側
２Ｃａ  開口部
３  送風機
４  放射性ガスフィルタ
５  下流側高性能フィルタ
６  ガス処理フィルタ
７  上流側高性能フィルタ
８  粗フィルタ
９  加熱手段
９Ａ  加熱部
９Ｂ  上流側温度計
９Ｃ  湿度計
９Ｄ  下流側温度計
９Ｅ  制御部
１０  移動手段
１０Ａ  荷台
１１  放射線遮蔽蓋
１２  局所空間
１３  局所空間
Ｇ  ガス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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