(57)【要約】【課題】金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施すことにより、耐酸性を向上させた印刷用サスペンドメタルマスクを得る。【解決手段】版枠３と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュ１を有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターン５ｂが設けられたベースメタル５とを備えたものにおいて、金属製メッシュ１とベースメタル５の全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜１５を施したものである。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
版枠と、
前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、
前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクにおいて、
前記金属製メッシュと前記ベースメタルの全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施したことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。
【請求項２】
版枠と、
前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、
前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクにおいて、
前記金属製メッシュとして耐酸性のあるタングステン紗を用いるとともに、前記ベースメタルとしてＮｉ−Ｐ又はＮｉ−Ｗからなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製したことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。
【請求項３】
版枠と、前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法であって、
中央部に印刷開口パターン形成用レジストが施された前記ベースメタルと前記金属製メッシュとを一体接合する工程と、
前記ベースメタルから前記印刷開口パターン形成用レジストを剥離することにより、前記ベースメタルの中央部に印刷用開口パターンを形成する工程と、
以上の工程を経て作製された前記金属製メッシュと前記ベースメタルの全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施す工程と、
を備えたことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。
【請求項４】
版枠と、前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備え、前記金属製メッシュとして耐酸性のあるタングステン紗を用いるとともに、前記ベースメタルとしてＮｉ−Ｐ又はＮｉ−Ｗからなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製するスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法であって、
中央部に印刷開口パターン形成用レジストが施されたＮｉ−Ｐ又はＮｉ−Ｗからなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製した前記ベースメタルと前記タングステン紗からなるメッシュとを一体接合する工程と、
前記ベースメタルから前記印刷開口パターン形成用レジストを剥離することにより、前記ベースメタルの中央部に印刷用開口パターンを形成する工程と、
を備えたことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電鋳により所望の印刷パターンにパターンニングされた多数の開口部を有するマスク基板の片面側に、囲い枠に対して緊張状態で張設した導電性を有するステンレスメッシュを重合密着させてめっきにより一体接合させてなるメッシュ一体型メタルマスクが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、他の従来技術として、金属枠にテトロンメッシュとステンレスメッシュとが張られ、ステンレスメッシュ上にメタルマスクが形成されたサスペンドメタルマスクが知られている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１８３１５１号公報
【特許文献２】特開２００７−２４５５６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のメッシュ一体型メタルマスク又はサスペンドメタルマスクにおいては、例えばＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）フィルム用ダイレクトエッチングペースト等の酸性の印刷体を印刷する場合に用いると、メタルマスクとステンレスメッシュの表面が酸に曝されてしまうため、メタルマスクとステンレスメッシュが腐食をしてしまうという問題があった。
【０００６】
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施すことにより、耐酸性を向上させた印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明に係る印刷用サスペンドメタルマスクにおいては、版枠と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたものにおいて、金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施したものである。
【０００８】
また、この発明に係る印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法においては、版枠と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法であって、中央部に印刷開口パターン形成用レジストが施されたベースメタルと金属製メッシュとを一体接合する工程と、ベースメタルから印刷開口パターン形成用レジストを剥離することにより、ベースメタルの中央部に印刷用開口パターンを形成する工程と、以上の工程を経て作製された金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施す工程とを備えたものである。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施したので、例えばＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）フィルム用ダイレクトエッチングペースト等の酸性の印刷体を印刷する場合に用いても、金属製メッシュとベースメタルの表面が腐食することが無いという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な各構成要素を分離して示す斜視図である。
【図２】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっき工程を示す断面図である。
【図３】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっきが終了した状態を示す断面図である。
【図４】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合状態からセットを解除した状態を示す断面図である。
【図５】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルからＳＵＳ母材を剥離している状態を示す断面図である。
【図６】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルの開口レジストを剥離する前の状態を示す断面図である。
【図７】この発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルの開口レジストを剥離した状態を示す断面図である。
【図８】この発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のＮｉ−Ｐ皮膜コーティング工程を示す断面図である。
【図９】この発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの金属製メッシュとベースメタルの全面に耐酸性のあるＮｉ−Ｐ皮膜を施した状態を示す要部断面図である。
【図１０】金属製メッシュにフラットタイプのめっき製紗を用いた場合の図９相当図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
この発明をより詳細に説明するため、添付の図面に従ってこれを説明する。なお、各図
中、同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に簡略化な
いし省略する。
【００１２】
実施の形態１.
図１はこの発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な各構成要素を分離して示す斜視図、図２〜図７はこの発明の実施の形態１において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の製造工程を示す断面図、図８はこの発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のＮｉ−Ｐ皮膜コーティング工程を示す断面図、図９はこの発明の実施の形態１における印刷用サスペンドメタルマスクの金属製メッシュとベースメタルの全面に耐酸性のあるＮｉ−Ｐ皮膜を施した状態を示す要部断面図、図１０は金属製メッシュにフラットタイプのめっき製紗を用いた場合の図９相当図である。
【００１３】
この発明の基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な構成要素は、図１に示すように、中央部に設けられた通電性を有するステンレスメッシュ又はニッケルメッシュからなる金属製メッシュ１及びこの金属製メッシュ１の外側に設けられたテトロンメッシュ２とからなるコンビネーションメッシュが内側に張設された四角形状の金属製版枠３と、ベースメタル用ＳＵＳ母材４上に設けられ、印刷用開口パターンが形成される中央部分に印刷開口パターン形成用レジスト５ａが施されているＮｉ製のベースメタル５と、テトロンメッシュ６が張設された四角形状の接合補助用金属製版枠７と、この接合補助用金属製版枠７のテトロンメッシュ６とベースメタル用ＳＵＳ母材４との間に介装されるスポンジ８とから構成される。なお、四角形状の金属製版枠３に張設されるメッシュは、中央部の金属製メッシュ１と外側のテトロンメッシュ２とからなるコンビネーションメッシュが好適であるが、コンビネーションメッシュでなく、通電性を有する金属製メッシュ１の単体からなる一枚物であっても良い。上記ベースメタル５は、中央部に印刷用開口パターン５ｂが形成されている。
【００１４】
この発明の基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっき工程に当たっては、図２に示すように、右側に四角形状の金属製版枠３を配置し、左側に四角形状の接合補助用金属製版枠７を配置する。そして、金属製版枠３の金属製メッシュ１と重合位置するようにベースメタル５を配置し、金属製版枠３と接合補助用金属製版枠７を互いに重合させて粘着テープ９等で締結固定し、ベースメタル用ＳＵＳ母材４及びスポンジ８を介してベースメタル５と金属製メッシュ１が互いに密着状態となるようにセットする。この密着状態にセットしたものを陰極１０に接続するとともに電気的に導通させて、スルファミン酸ニッケル浴が入っためっき槽１１内に収容し、ニッケル１２を陽極１３に接続することにより、ベースメタル５と金属製メッシュ１の間で接合めっきを行い、両者を一体的に接合する。この接合めっき量は、通常片側２μｍとし、電鋳めっきと同じめっき法を用いる。また、陽・陰極電流密度は約０．１〜２．０Ａ／ｄｍ２、好ましくは０．５〜１．０Ａ／ｄｍ２の低電流を用いることにより、接合めっき量の均一性向上と金属製メッシュ１の断線を防止することができる。
【００１５】
次に、接合めっき工程が終了したら、上記密着状態にセットしたものをめっき槽１１から取り出し（図３参照）、粘着テープ９を取り外して密着状態にセットしたものを解除する（図４参照）。次に、ベースメタル５からベースメタル用ＳＵＳ母材４を剥離する（図５及び図６参照）。その後、ベースメタル５と金属製メッシュ１の接合部がめっきにより一体的に接合されている金属製版枠３のベースメタル５から印刷開口パターン形成用レジスト５ａを剥離することにより、印刷用開口パターン５ｂが形成される（図７参照）。なお、ベースメタル５の印刷開口パターン形成用レジスト５ａ及び印刷用開口パターン５ｂは、簡略化してイメージのみを示したものであり、実際のものとは相違する。
【００１６】
この基本となる印刷用サスペンドメタルマスクでは、版枠と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えた構成であるため、例えばＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）フィルム用ダイレクトエッチングペースト等の酸性の印刷体を印刷する場合に用いると、金属メッシュとベースメタルの表面が酸に曝されてしまうため、ベースメタルとステンレスメッシュが腐食をしてしまうという問題があった。
【００１７】
次に、この問題を解決したこの発明の印刷用サスペンドメタルマスクの要部構成を図８〜図１０により説明する。この発明においては、版枠３と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュ１を有するメッシュと、金属製メッシュ１に密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターン５ｂが設けられたベースメタル５とを備えた基本構成の印刷用サスペンドメタルマスクを作製した後、図８に示すように、この基本構成の印刷用サスペンドメタルマスクを陰極１０に接続するとともに電気的に導通させて、Ｎｉ−Ｐ浴が入っためっき槽１４内に収容し、Ｎｉ１２を陽極１３に接続することにより、金属製メッシュ１とベースメタル５の全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜１５をコーティングすることにより、印刷用サスペンドメタルマスクとしての耐酸性を向上させたものである。図９は通電性のある金属製メッシュ１が通常のＳＵＳ紗版の場合を示しており、図１０は通電性のある金属製メッシュ１がフラットタイプのめっき製紗の場合を示している。なお、耐酸性のある薄いめっき皮膜１５は、Ｎｉ−Ｐ皮膜に限らず、例えばＮｉ−Ｗ皮膜であっても良い。
【００１８】
なお、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施すための浴組成は、Ｎｉ−Ｐ皮膜の場合の浴組成は、例えば塩化ニッケル：５０〜３５０ｇ／L（好ましくは、５０〜１００ｇ／L）、ほう酸：２５〜４５ｇ／L（好ましくは、２５〜３０ｇ／L）、クエン酸３ナトリウム：１０〜６０ｇ／Ｌ（好ましくは、２０〜５０ｇ／L）、ホスホン酸（P）：３〜４０ｇ／L（好ましくは、５〜３０ｇ／L）、ＮＴＳ：１〜６ｇ／Ｌ（好ましくは、２〜３ｇ／L）、ピット防止剤：５〜２０ｃｃ／Ｌ（好ましくは、５〜１０ｃｃ／L）、ＰＨ：約２〜４（好ましくは、２．５〜３．５）である。めっき皮膜は１〜８μｍである。また、Ｎｉ−Ｗ皮膜の場合の浴組成は、例えば、タングステン酸ナトリウム二水和物：６６ｇ／Ｌ、硫酸ニッケル六水和物：４０ｇ／Ｌ、クエン酸三アンモニウム：４０ｇ／Ｌ、クエン酸三カリウム：４９ｇ／Ｌ、ピット防止剤：０．００５ｇ／Ｌ、めっき条件は、液温度：５７〜６０℃、液ｐＨ：６〜７、電流密度：４Ａ／ｄｍ2である。
【００１９】
実施の形態２.
上記実施の形態１では、金属製メッシュ１とベースメタル５の全面に、Ｎｉ−Ｐ皮膜又はＮｉ−Ｗ皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜１４を施すことにより、耐酸性を向上させているが、この実施の形態２においては、メッシュとして耐酸性のあるタングステン（Ｗ）紗を用いるとともに、ベースメタル５としてＮｉ−Ｐ又はＮｉ−Ｗ等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製するものであり、ベースメタル５は１層構造でも、２層、３層からなる複数層構造であっても良い。この場合でも、ベースメタルと金属メッシュが腐食することはない。また、ベースメタル５をＮｉ−Ｐ又はＮｉ−Ｗ等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製した場合は、ベースメタル５が脆くなるが、Ｎｉ−Ｐ又はＮｉ−Ｗ等からなる金属めっき皮膜の上に位置する金属メッシュ１に補強用として乳剤を充填させることにより、ベースメタル５の脆さを克服しても良い。また、サスペンドメタルマスクでなく、Ｎｉ−Ｐ又はＮｉ−Ｗ等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製した１層構造のマスクや、２層構造、３層構造のマスクであっても良い。
【符号の説明】
【００２０】
１  金属製メッシュ
２  テトロンメッシュ
３  金属製版枠
４  ベースメタル用ＳＵＳ母材
５  ベースメタル
５ａ  印刷開口パターン形成用レジスト
５ｂ  印刷用開口パターン
５ｃ  庇部（サイドエッジ）
５ｄ  隙間
６  テトロンメッシュ
７  接合補助用金属製版枠
８  スポンジ
９  粘着テープ
１０  陰極
１１  めっき槽
１２  ニッケル
１３  陽極
１４  Ｎｉ−Ｐ浴のめっき槽
１５  耐酸性めっき皮膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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