(57)【要約】【課題】  防汚性及び耐擦傷性を有する塗膜が得られる反射防止塗料組成物を提供する。【解決手段】  低屈折率剤（Ｉ）、活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）、及びフッ素化アルキル基とシリコーン鎖とアダマンチル基と重合性不飽和基とを有する重合性樹脂であって前記活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）以外の重合性樹脂（ＩＩＩ）を含有することを特徴とする反射防止塗料組成物、該反射防止塗料組成物の硬化塗膜を有することを特徴とする反射防止フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
低屈折率剤（Ｉ）、活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）、及びフッ素化アルキル基とシリコーン鎖とアダマンチル基と重合性不飽和基とを有する重合性樹脂であって前記活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）以外の重合性樹脂（ＩＩＩ）を含有することを特徴とする反射防止塗料組成物。
【請求項２】
前記フッ素化アルキル基が炭素原子数４〜６のものであり、シリコーン鎖が分子量２，０００〜２０，０００のものである請求項１記載の反射防止塗料組成物。
【請求項３】
前記重合性樹脂（ＩＩＩ）が、フッ素化アルキル基を有する重合性不飽和単量体（Ａ）と、分子量が２，０００以上のシリコーン基を有する重合性不飽和単量体（Ｂ）と、反応性官能基（ｃ１）を持つアダマンチル鎖を有する重合性不飽和単量体（Ｃ１）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ１）に、前記官能基（ｃ１）に対して反応性を有する官能基（ｄ）及び重合性不飽和基を有する化合物（Ｄ）を反応させて得られるものである請求項１記載の反射防止塗料組成物。
【請求項４】
前記重合性樹脂（ＩＩＩ）が、フッ素化アルキル基を有する重合性不飽和単量体（Ａ）と、分子量が２，０００以上のシリコーン鎖を有する重合性不飽和単量体（Ｂ）と、反応性官能基（ｃ１）を持つアダマンチル基を有する重合性不飽和単量体（Ｃ１）又は反応性官能基（ｃ１）を持たないアダマンチル基を有する重合性不飽和単量体（Ｃ２）と、反応性官能基（ｃ３）を有する重合性不飽和単量体（Ｃ３）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ２）に、前記官能基（ｃ１）又は前記官能基（ｃ３）に対して反応性を有する官能基（ｄ）及び重合性不飽和基を有する１種以上の化合物（Ｄ）を反応させて得られる請求項１記載の反射防止塗料組成物。
【請求項５】
前記反応性官能基（ｃ１）または反応性官能基（ｃ３）が、水酸基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基及び酸無水物基からなる群から選ばれる少なくとも１つの官能基であり、前記化合物（Ｄ）が有する官能基（ｄ）が、前記反応性官能基（ｃ１）と反応性を有し、かつ水酸基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基及び酸無水物基からなる群から選ばれる少なくとも１つの官能基である請求項３又は４記載の反射防止塗料組成物。
【請求項６】
前記化合物（Ａ）と単量体（Ｂ）との質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が１０／９０〜９０／１０の範囲で、化合物（Ａ）と単量体（Ｂ）との合計と、単量体（Ｃ１）との質量比〔［（Ａ）＋（Ｂ）］／（Ｃ１）〕または化合物（Ａ）と単量体（Ｂ）との合計と、単量体（Ｃ２）との質量比〔［（Ａ）＋（Ｂ）］／（Ｃ２）〕が１５／８５〜７０／３０の範囲である請求項３または４記載の反射防止塗料組成物。
【請求項７】
前記低屈折率剤（Ｉ）が中空シリカ微粒子である請求項１記載の反射防止塗料組成物。
【請求項８】
前記低屈折率剤（Ｉ）及び活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）の合計１００質量部に対して、前記重合性樹脂（ＩＩＩ）を０．１〜２０質量部含有する請求項１〜７のいずれか１項記載の反射防止塗料組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項記載の反射防止塗料組成物の硬化塗膜を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１０】
前記硬化塗膜の膜厚が５０〜３００ｎｍである請求項６記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた防汚性及び耐擦傷性を有する塗膜が得られる反射防止塗料組成物及び該反射防止塗料組成物を用いた反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイの画面最表面となる偏光板の表層には、ＡＧ、ＡＧ／ＬＲ、クリア／ＬＲといった防眩性や反射防止性を有する塗膜が施されており、最表層のため耐擦傷性と共に耐指紋性などの防汚性が必要とされている。ここで、耐指紋性とは、指紋が物品に付着しにくいこと、あるいは指紋が物品に付着しても容易に拭き取れることをいう。そして、防眩性や反射防止性を有する塗膜の中でも、塗膜の透明性の点からクリア／ＬＲが優れている。
【０００３】
現在、特に液晶表示装置用に量産実用化されている偏光板の多くは、ポリビニルアルコールフィルムからなる基材フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性材料を、染色・吸着させ、延伸配向させてなる偏光フィルムの両面あるいは片面に、光学的に透明で、かつ機械的強度を有する保護膜を貼り合わせたものが用いられている。そして、上記保護膜としては、通常トリアセチルセロルース（ＴＡＣ）フィルムが使用される。そして、前記防眩性や反射防止性を有する塗膜は、例えば、クリア／ＬＲ層は、ＴＡＣフィルム上に形成された厚さ１０μｍ程度の塗膜層（ベース層）の上に数十〜数百ｎｍ程度の厚さの塗膜として形成される。
【０００４】
前記偏光フィルムにＴＡＣを接着する為には、ＴＡＣフィルムの表面を苛性アルカリ等によってケン化処理し、−ＯＣＯＣＨ３基の一部又は大部分を親水基である−ＯＨに加水分解する必要がある。ＴＡＣフィルムにベース層と防眩性や反射防止性を有する塗膜層を形成することと、ケン化処理を行うには、１．ＴＡＣフィルムをケン化処理したのちフィルムの片面に前記二つの塗膜層を形成する、２．ＴＡＣフィルムの片面に前記二つの塗膜層を形成したのちケン化処理する、等の方法があるが、通常は偏光板の生産効率の観点から、２．の方法が行われている。
【０００５】
前記２．の方法において、ケン化処理する際は苛性アルカリ等のケン化剤から塗膜層を保護する為、塗膜層を保護フィルムで保護する方法が知られている。しかしながら、近年、生産効率の向上やコスト削減の為、保護フィルムで塗膜層を保護せずとも前記ケン化剤に曝露されても塗膜の性能が低下しない塗膜層が求められている。
【０００６】
防眩性や反射防止性を有する塗膜には、反射防止性能、防汚性能と共に、ハードコート性能、即ち、表面の耐擦傷性が要求されている。特に、上記ＬＲ層は膜厚が数十〜数百ｎｍ程度しかなく、より強い耐擦傷性が要求されている。ＬＲ層の耐擦傷性を向上させる方法としては、多官能（メタ）アクリレート等の多官能単量体を含有するハードコート材を用いる方法が知られている。しかしながら、このハードコート材を用いるとある程度硬化塗膜の表面硬度が向上したＬＲ層が得られるが、耐擦傷性が不十分であった。
【０００７】
そこで、活性エネルギー線硬化性組成物に、シリコーン系添加剤を添加する方法や、分子内にラジカル重合性不飽和基を有するシリコーン化合物を添加する方法などによって硬化塗膜に滑り性を付与し、耐擦傷性を向上させることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、このシリコーン化合物を添加した活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜は、液晶ディスプレイの偏光板に用いられるトリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」と略記する。）フィルムのように、ケン化処理（強アルカリ処理）される用途においては、ケン化処理後に硬化塗膜表面の滑り性が大幅に低下し、十分な耐擦傷性が得られない問題があった。
【０００８】
その為、ケン化処理（強アルカリ処理）後も防汚性と耐擦傷性を有する反射防止能を有する塗膜が得られる反射防止塗料組成物が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００４−１８２７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明が解決しようとする課題は、ケン化処理後であっても優れた防汚性及び耐擦傷性を有する塗膜が得られる反射防止塗料組成物及び該反射防止塗料組成物を用いた反射防止フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者等は上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、低屈折率剤（Ｉ）と活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）を含む重合性組成物に、フッ素化アルキル基、シリコーン鎖、アダマンチル基及び重合性不飽和基を有する重合性樹脂（ＩＩＩ）を添加することにより、得られる硬化塗膜表面に優れた防汚性と耐擦傷性を付与することができ、さらに硬化塗膜表面を強アルカリ等の薬品で処理しても防汚性と耐擦傷性が低下しないこと等を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
即ち、本発明は、低屈折率剤（Ｉ）、活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）、及びフッ素化アルキル基とシリコーン鎖とアダマンチル基と重合性不飽和基とを有する重合性樹脂であって前記活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）以外の重合性樹脂（ＩＩＩ）を含有することを特徴とする反射防止塗料組成物を提供するものである。
【００１３】
また、本発明は、前記反射防止塗料組成物の硬化塗膜を有することを特徴とする反射防止フィルムを提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の反射防止塗料組成物の硬化塗膜は、ケン化処理後であっても優れた防汚性及び耐擦傷性を有するので、防汚性及び耐擦傷性が非常に優れる反射防止フィルムを得ることができる。また、ケン化処理を伴わない工程によっても、防汚性及び耐擦傷性が非常に優れる反射防止フィルムを得ることができる。したがって、本発明の反射防止塗料組成物を用いた反射防止フィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイ等の画像表示装置の最表面のフィルムとして好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明で用いる低屈折率剤（Ｉ）としては、屈折率が１．４４以下のものが好ましく、１．４０以下のものがより好ましい。また、低屈折率剤は、無機系又は有機系のいずれのものであってもよい。
【００１６】
無機系の低屈折率剤（Ｉ）としては、空隙を有する微粒子、金属フッ化物微粒子等が挙げられる。前記空隙を有する微粒子としては、微粒子の内部に気体が充填されたもの、気体を内部に含む多孔質構造のもの等が挙げられる。具体的には、中空シリカ微粒子、ナノポーラス構造を有するシリカ微粒子等が挙げられる。また、前記金属フッ化物微粒子としては、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム等が挙げられる。
【００１７】
これらの無機系の低屈折率剤（Ｉ）の中でも中空シリカ微粒子が好ましい。さらに、これらの無機系の低屈折率剤（Ｉ）は、単独で用いることも２種以上併用することもできる。これらの無機系の低屈折率剤（Ｉ）は、結晶性のもの、ゾル状のもの、ゲル状のもののいずれのものも用いることができる。
【００１８】
前記シリカ微粒子の形状は、球状、鎖状、針状、板状、鱗片状、棒状、繊維状、不定形状のいずれであってもよいが、これらの中でも球状又は針状のものが好ましい。また、シリカ微粒子の平均粒子径は、形状が球状の場合、５〜１００ｎｍが好ましく、２０〜８０ｎｍがより好ましく、４０〜７０ｎｍがさらに好ましい。球状の微粒子の平均粒子径がこの範囲にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することができる。
【００１９】
一方、有機系の低屈折率剤（Ｉ）としては、空隙を有する微粒子、含フッ素共重合体等が挙げられる。前記空隙を有する微粒子としては、中空高分子微粒子が好ましい。中空高分子微粒子は、分散安定剤の水溶液中で、（１）少なくとも１種の架橋性モノマー、（２）重合開始剤、（３）少なくとも１種の架橋性モノマーから得られる重合体又は少なくとも１種の架橋性モノマーと少なくとも１種の単官能性モノマーとの共重合体、並びに、前記（１）〜（３）に対して相溶性の低い水難溶性の溶媒からなる混合物を分散させ、懸濁重合を行うことにより製造することができる。なおここで、架橋性モノマーとは重合性基を２つ以上有するものであり、単官能性モノマーとは重合性基を１つ有するものである。
【００２０】
有機系の低屈折率剤（Ｉ）として用いる含フッ素共重合体は、樹脂中にフッ素原子を多く含有していることで低屈折率となっている樹脂である。この含フッ素共重合体としては、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとをモノマー原料とした共重合体が挙げられる。
【００２１】
前記含フッ素共重合体の原料である各モノマーの比率は、フッ化ビニリデンの比率が３０〜９０質量％が好ましく、４０〜８０質量％がより好ましく、４０〜７０質量％がさらに好ましく、ヘキサフルオロプロピレンの比率が５〜５０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましく、１５〜４５％がさらに好ましい。この他のモノマーとして、テトラフルオロエチレンを０〜４０質量％の範囲で使用してもよい。
【００２２】
前記含フッ素共重合体には、その他の原料のモノマー成分として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを用いることができる。これらのその他の原料のモノマー成分は、含フッ素共重合体の原料モノマー中に２０質量％以下の範囲で用いるのが好ましい。
【００２３】
前記含フッ素共重合体中のフッ素含有率は、６０〜７０質量％であることが好ましく、６２〜７０質量％であることがより好ましく、６４〜６８質量％であることがさらに好ましい。含フッ素共重合体のフッ素含有率がこの範囲であると、溶剤に対する溶解性が良好となり、種々の基材に対して優れた密着性を発揮し、高い透明性、低い屈折率、優れた機械的強度を有する薄膜が形成できる。
【００２４】
前記含フッ素共重合体の分子量は、ポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００であることが好ましく、１０，０００〜１００，０００であることがより好ましい。含フッ素共重合体の分子量がこの範囲であると、得られる樹脂の粘度が優れた塗布性を有する範囲となる。また、含フッ素共重合体自体の屈折率が、１．４５以下のものが好ましく、１．４２以下のものがより好ましく、１．４０以下であるものがさらに好ましい。
【００２５】
本発明に用いる活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）としては、紫外線等の活性エネルギー線照射により重合又は架橋反応可能な光重合性官能基を有する化合物であれば特に限定されることなく用いることができる。
【００２６】
前記活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）として、まず、活性エネルギー線硬化性単量体（ＩＩ−１）が挙げられる。前記単量体（ＩＩ−１）としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、数平均分子量が１５０〜１０００の範囲にあるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、数平均分子量が１５０〜１０００の範囲にあるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスルトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールペンタ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等の脂肪族アルキル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（ジエチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリスチリルエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシク���ペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
【００２７】
これらのなかでも特に硬化塗膜の硬度に優れる点からトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスルトールテトラ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレートが好ましい。これらの活性エネルギー線硬化性単量体（ＩＩ−１）は、単独で用いることも２種以上併用することもできる。
【００２８】
なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」とは、メタクリレートとアクリレートの一方又は両方をいい、「（メタ）アクリロイル基」とは、メタクリロイル基とアクリロイル基の一方又は両方をいい、「（メタ）アクリル酸」とは、メタクリル酸とアクリル酸の一方又は両方をいう。
【００２９】
また、前記活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）として、活性エネルギー線硬化型樹脂（ＩＩ−２）も用いることができる。この活性エネルギー線硬化型樹脂（ＩＩ−２）としては、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、アクリル（メタ）アクリレート樹脂等が挙げられるが、本発明では、特に透明性や低収縮性等の点からウレタン（メタ）アクリレート樹脂が好ましい。
【００３０】
ここで用いるウレタン（メタ）アクリレート樹脂は、脂肪族ポリイソシアネート化合物又は芳香族ポリイソシアネート化合物と水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物とを反応させて得られるウレタン結合と（メタ）アクリロイル基とを有する樹脂が挙げられる。
【００３１】
前記脂肪族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、２−メチル−１，５−ペンタンジイソシアネート、３−メチル−１，５−ペンタンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、２−メチルペンタメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、水素添加テトラメチルキシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート等が挙げられ、また、芳香族ポリイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００３２】
一方、水酸基を有するアクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート等の２価アルコールのモノ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート等の３価のアルコールのモノ又はジ（メタ）アクリレート、あるいは、これらのアルコール性水酸基の一部をε−カプロラクトンで変性した水酸基を有するモノ及びジ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の１官能の水酸基と３官能以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、あるいは、該化合物をさらにε−カプロラクトンで変性した水酸基を有する多官能（メタ）アクリレート；ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のオキシアルキレン鎖を有する（メタ）アクリレート化合物；ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリオキシブチレン−ポリオキシプロピレンモノ（メタ）アクリレート等のブロック構造のオキシアルキレン鎖を有する（メタ）アクリレート化合物；ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート等のランダム構造のオキシアルキレン鎖を有する（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００３３】
上記した脂肪族ポリイソシアネート化合物又は芳香族ポリイソシアネート化合物と水酸基を有するアクリレート化合物との反応は、ウレタン化触媒の存在下、常法により行うことができる。ここで使用し得るウレタン化触媒は、具体的には、ピリジン、ピロール、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミンなどのアミン類、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスフィンなどのホフィン類、ジブチル錫ジラウレート、オクチル錫トリラウレート、オクチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫などの有機錫化合物、オクチル酸亜鉛などの有機金属化合物が挙げられる。
【００３４】
これらのウレタンアクリレート樹脂の中でも特に脂肪族ポリイソシアネート化合物と水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物とを反応させて得られるものが硬化塗膜の透明性に優れ、かつ、活性エネルギー線に対する感度が良好で硬化性に優れる点から好ましい。
【００３５】
次に、不飽和ポリエステル樹脂は、α，β−不飽和二塩基酸又はその酸無水物、芳香族飽和二塩基酸又はその酸無水物、及び、グリコール類の重縮合によって得られる硬化性樹脂であり、α，β−不飽和二塩基酸又はその酸無水物としては、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロルマレイン酸、及びこれらのエステル等が挙げられる。芳香族飽和二塩基酸又はその酸無水物としては、フタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ニトロフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ハロゲン化無水フタル酸及びこれらのエステル等が挙げられる。脂肪族あるいは脂環族飽和二塩基酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、グルタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びこれらのエステル等が挙げられる。グリコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２−メチルプロパン−１，３−ジオール、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＡ、エチレングリコールカーボネート、２，２−ジ−（４−ヒドロキシプロポキシジフェニル）プロパン等が挙げられ、その他にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等の酸化物も同様に使用できる。
【００３６】
次に、エポキシビニルエステル樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂のエポキシ基に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるものが挙げられる。これらの活性エネルギー線硬化型樹脂（ＩＩ−２）は、単独で用いることも２種以上併用することもできる。
【００３７】
また、前記活性エネルギー線硬化性単量体（ＩＩ−１）と活性エネルギー線硬化型樹脂（ＩＩ−２）はそれぞれ単独で使用しても良いし、組合せて使用しても良い。
【００３８】
前記低屈折率剤（Ｉ）と活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）との質量比率は、（Ｉ）：（ＩＩ）＝３０：７０〜９０：１０の範囲が好ましく、４０：６０〜８０：２０の範囲がより好ましく、５０：５０〜７０：３０の範囲がさらに好ましい。
【００３９】
本発明で用いる重合性樹脂（ＩＩＩ）は、重合体の構造中にフッ素化アルキル基、シリコーン鎖、アダマンチル基及び重合性不飽和基を有する。重合性樹脂（ＩＩＩ）中のフッ素化アルキル基としては、炭素原子数が４〜６のものが表面偏析性と撥水撥油性と環境負荷低減のバランスが良好な事から好ましく、炭素原子数が６のものがより好ましい。シリコーン鎖としては、分子量が２，０００〜２０，０００のものが他の樹脂との相溶性や硬化物表面へのすべり性が良好な事から好ましく、４，０００〜１０，０００のものがより好ましい。
【００４０】
重合性樹脂（ＩＩＩ）中のフッ素化アルキル基の含有率としては、３〜３０質量％が他の樹脂との相溶性、表面偏析性、硬化物表権への撥水撥油性が良好となる事から好ましく、５〜２５質量％がより好ましい。シリコーン鎖の含有率としては、５〜５０質量％が他の樹脂との相溶性、硬化物表面のすべり性付与が良好となる事から好ましく、１５〜３０質量％がより好ましい。アダマンチル基の含有率としては、５〜５０質量％が硬化物の硬度が良好となる事から好ましく、１５〜３０質量％がより好ましい。
【００４１】
また、重合性樹脂（ＩＩＩ）の重合性不飽和基の当量は、耐摩耗性に優れる硬化塗膜が得られることから２００〜３，５００ｇ／ｅｑ．の範囲が好ましく、２５０〜２，０００ｇ／ｅｑ．の範囲がより好ましく、３００〜１，５００ｇ／ｅｑ．の範囲がさらに好ましく、４００〜１，０００ｇ／ｅｑ．の範囲が特に好ましい。
【００４２】
重合性樹脂（ＩＩＩ）を製造するには、特に制限がないが、例えば、下記の２つの方法を好ましく例示することができる。
【００４３】
（製造方法１）
フッ素化アルキル基を有する重合性不飽和単量体（Ａ）と、シリコーン基を有する重合性不飽和単量体（Ｂ）と、反応性官能基（ｃ１）を持つアダマンチル基を有する重合性不飽和単量体（Ｃ１）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ１）に、前記官能基（ｃ１）に対して反応性を有する官能基（ｄ）及び重合性不飽和基を有する化合物（Ｄ）を反応させる方法。
【００４４】
（製造方法２）
フッ素化アルキル基を有する重合性不飽和単量体（Ａ）と、シリコーン基を有する重合性不飽和単量体（Ｂ）と、反応性官能基（ｃ１）を持つアダマンチル基を有する重合性不飽和単量体（Ｃ１）又は反応性官能基（ｃ１）を持たないアダマンチル基を有する重合性不飽和単量体（Ｃ２）と、反応性官能基（ｃ３）を有する重合性不飽和単量体（Ｃ３）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体（Ｐ２）に、前記官能基（ｃ１）又は前記官能基（ｃ３）に対して反応性を有する官能基（ｄ）及び重合性不飽和基を有する１種以上の化合物（Ｄ）を反応させる方法。
【００４５】
上記製造方法の中でもアダマンチル基の含有率が高いフッ素原子含有シリコーン系重合性樹脂が容易に得られることから製造方法１がより好ましい。
【００４６】
前記製造方法で用いる重合性不飽和単量体（Ａ）としては、フッ素化アルキル基を有する単量体である。本発明において、前記フッ素化アルキル基は酸素原子によるエーテル結合を有するものや、フッ素化アルキル基の骨格中に１以上の炭素−炭素二重結合を有するものも含む。前記単量体（Ａ）が有する重合性不飽和基としては、ラジカル重合性を有する炭素−炭素不飽和二重結合が好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、マレイミド基等が挙げられる。これらの中でも、原料の入手容易性、後述する活性エネルギー線硬化性組成物中の各配合成分に対する相溶性を制御することの容易性、あるいは重合反応性が良好であることから、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００４７】
前記製造方法で用いる重合性不飽和単量体（Ａ）としては、例えば、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
【００４８】
【化１】
2014005339.tif 000002
（上記一般式（１）中、Ｒは水素原子又はメチル基を表し、Ｌは、下記式（Ｌ−１）〜（Ｌ−１０）のいずれか１つの基を表し、Ｒｆは下記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−７）のいずれか１つの基を表す。）
【００４９】
【化２】
2014005339.tif 000003
【００５０】
上記式（Ｌ−１）、（Ｌ−３）、（Ｌ−５）、（Ｌ−６）及び（Ｌ−７）中のｎは１〜８の整数を表す。上記式（Ｌ−８）、（Ｌ−９）及び（Ｌ−１０）中のｍは１〜８の整数を表し、ｎは０〜８の整数を表す。上記式（Ｌ−６）及び（Ｌ−７）中のＲｆ’’は下記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−７）のいずれか１つの基を表す。
【００５１】
【化３】
2014005339.tif 000004
【００５２】
上記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−４）中のｎは４〜６の整数を表す。上記式（Ｒｆ−５）中のｍは１〜５の整数であり、ｎは０〜４の整数であり、かつｍ及びｎの合計は４〜５である。上記式（Ｒｆ−６）中のｍは０〜４の整数であり、ｎは１〜４の整数であり、ｐは０〜４の整数であり、かつｍ、ｎ及びｐの合計は４〜５である。
【００５３】
また、前記単量体（Ａ）の具体的な例として、下記の単量体（Ａ−１）〜（Ａ−１１）等が挙げられる。なお、これらの単量体（Ａ）は、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。
【００５４】
【化４】
2014005339.tif 000005
（式中のｎは３〜５の整数を表す。）
【００５５】
前記単量体（Ｂ）について説明する。前記単量体（Ｂ）が有するシリコーン基としては、例えば、下記一般式（１）又は（２）で表されるものが挙げられる。
【００５６】
【化５】
2014005339.tif 000006
【００５７】
（式中、Ｒ、Ｒ’、Ｒ’’及びＲ’’’は、それぞれ独立に炭素原子数１〜１８のアルキル基又はフェニル基を表し、また、ｎは繰り返し単位数であり、１〜２００の整数を表す。）
【００５８】
また、前記単量体（Ｂ）が有する重合性不飽和基としては、ラジカル重合性を有する炭素−炭素不飽和二重結合が好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、マレイミド基等が挙げられる。これらの中でも、原料の入手容易性、後述する活性エネルギー線硬化性組成物中の各配合成分に対する相溶性を制御することの容易性、あるいは重合反応性が良好であることから、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００５９】
前記単量体（Ｂ）の具体的な例として、下記の一般式（Ｂ１）〜（Ｂ８）で表される単量体が挙げられる。また、これらの単量体（Ｂ）は、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。
【００６０】
【化６】
2014005339.tif 000007
【００６１】
【化７】
2014005339.tif 000008
【００６２】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３〜Ｒ６、Ｒ１０〜Ｒ１７はそれぞれ独立に炭素原子数１〜１８のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２、Ｒ７〜Ｒ９及びＲ18〜Ｒ20はそれぞれ独立に炭素原子数１〜８のアルキル基又はフェニル基を表す。また、ｍ及びｌはそれぞれ独立に１〜６の整数を表し、ｎは０〜２５０の整数を表し、ｒ、ｓ、ｔ、ｖ、ｗ、ｘ、ｙ、ｚは、それぞれ独立に１〜２５０の整数を表す。）
【００６３】
前記化合物（Ａ）と前記単量体（Ｂ）との質量比［（Ａ）／（Ｂ）］は、高い耐擦傷性を有する硬化物が得られることから、１０／９０〜９０／１０の範囲が好ましく、２０／８０〜８０／２０の範囲がより好ましく、２５／７５〜７５／２５の範囲が更に好ましく、４０／６０〜６０／４０の範囲が最も好ましい。
【００６４】
本発明で用いる（Ｃ１）は反応性官能基（ｃ１）を有するアダマンチル基を有する。アダマンチル基は下記アダマンタン構造を有する有機基である。
【００６５】
【化８】
2014005339.tif 000009
【００６６】
前記単量体（Ｃ１）が有するアダマンチル基が持つ反応性官能基（ｃ１）としては、水酸基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基、酸無水物基等が挙げられる。前記単量体（Ｃ１）が有する重合性不飽和基は、ラジカル重合性を有する炭素−炭素不飽和二重結合が好ましく、より具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基等が挙げられ、重合が容易な点から（メタ）アクリロイル基がより好ましい。これらの単量体（Ｃ１）は、１種類のみで用いることも、反応性官能基（ｃ１）や重合性不飽和基が異なる２種以上を併用することもできる。
【００６７】
（メタ）アクリロイル基を重合性不飽和基として有する前記単量体（Ｃ１）としては、例えば、下記一般式（Ｃ１−１）で表される化合物が挙げられる。
【００６８】
【化９】
2014005339.tif 000010
（式中、Ｌは前記反応性官能基（ｃ１）を表し、Ｘ及びＹは２価の有機基又は単結合を表し、Ｒは水素原子、メチル基又はＣＦ３を表す。）
【００６９】
上記一般式（Ｃ１−１）中の−Ｘ−Ｌで表される前記反応性官能基（ｃ１）を有する有機基及びＹの結合位置は、アダマンタン構造中のどの炭素原子に結合していてもよく、また、−Ｘ−Ｌについては２つ以上有していてもよい。さらに、アダマンタン構造を構成する炭素原子に結合している水素原子は、その一部又は全部がフッ素原子、アルキル基等に置換されていても構わない。また、上記一般式（Ｃ１−１）中のＸ及びＹは２価の有機基又は単結合であるが、この２価の有機基としては、メチレン基、プロピル基、イソプロピリデン基等の炭素原子数１〜８のアルキレン基が挙げられる。
【００７０】
前記単量体（Ｃ１）のより具体的な例としては、下記式（Ｃ１−１−１）〜（Ｃ１−１−５）等で表される化合物が挙げられる。
【００７１】
【化１０】
2014005339.tif 000011
【００７２】
上記製造方法２において用いる単量体（Ｃ２）は、アダマンチル基を有する重合性不飽和単量体で、アダマンチル基については、前記単量体（Ｃ１）と同じである。また、前記単量体（Ｃ２）が有する重合性不飽和基は、ラジカル重合性を有する炭素−炭素不飽和二重結合が好ましく、より具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基等が挙げられ、重合が容易な点から（メタ）アクリロイル基がより好ましい。これらの単量体（Ｃ２）は、１種類のみで用いることも２種以上を併用することもできる。
【００７３】
（メタ）アクリロイル基を重合性不飽和基として有する前記単量体（Ｃ２）としては、例えば、下記一般式（Ｃ２−１）で表される化合物が挙げられる。
【００７４】
【化１１】
2014005339.tif 000012
（式中、Ｒは水素原子、メチル基又はＣＦ３を表す。）
【００７５】
（メタ）アクリロイル基は、アダマンタン構造中のどの炭素原子に結合していてもよい。また、上記一般式（Ｃ２−１）中のアダマンタン構造を構成する炭素原子に結合している水素原子は、その一部又は全部がフッ素原子、アルキル基等に置換されていても構わない。
【００７６】
前記単量体（Ｃ２）のより具体的な例としては、下記式（Ｃ２−１−１）〜（Ｃ２−１−３）等で表される化合物が挙げられる。
【００７７】
【化１２】
2014005339.tif 000013
【００７８】
前記化合物（Ａ）と単量体（Ｃ１）との質量比〔（Ａ）／（Ｃ１）〕または化合物（Ａ）と単量体（Ｃ２）との質量比〔（Ａ）／（Ｃ２）〕は、高い耐擦傷性を有する硬化物が得られることから、８／９２〜７０／３０の範囲が好ましく、１５／８５〜６０／４０の範囲がより好ましく、２０／８０〜５０／５０の範囲が更に好ましく、２５／７５〜３５／６５の範囲が最も好ましい。
【００７９】
また、化合物（Ａ）と単量体（Ｂ）との合計と、単量体（Ｃ１）との質量比〔［（Ａ）＋（Ｂ）］／（Ｃ１）〕または化合物（Ａ）と単量体（Ｂ）との合計と、単量体（Ｃ２）との質量比〔［（Ａ）＋（Ｂ）］／（Ｃ２）〕が１５／８５〜７０／３０の範囲が好ましく、７０／３０〜６０／４０の範囲がより好ましい。
【００８０】
上記製造方法２において、重合性樹脂（ＩＩＩ）の原料となる前記単量体（Ｃ３）について説明する。前記単量体（Ｃ３）が有する反応性官能基（ｃ３）としては、水酸基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基、酸無水物基等が挙げられる。また、前記単量体（Ｃ３）が有する重合性不飽和基は、ラジカル重合性を有する炭素−炭素不飽和二重結合が好ましく、より具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基等が挙げられ、重合が容易な点から（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
【００８１】
前記単量体（Ｃ３）の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、末端に水酸基を有するラクトン変性（メタ）アクリレート等の水酸基を有する不飽和単量体；２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）エチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等のイソシアネート基を有する不飽和単量体；グリシジルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル等のエポキシ基を有する不飽和単量体；（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、マレイン酸、イタコン酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の不飽和二重結合を有する酸無水物などが挙げられる。これらの単量体（Ｃ３）は、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。
【００８２】
また、上記製造方法１又は２において、重合性樹脂（ＩＩＩ）の中間体である前記重合体（Ｐ１）又は（Ｐ２）を製造する際に、前記化合物（Ａ）、単量体（Ｂ）、単量体（Ｃ１）、単量体（Ｃ２）及び単量体（Ｃ３）の他に、これらと共重合し得るその他の重合性不飽和単量体（Ｃ４）を用いても構わない。このようなその他の重合性不飽和単量体（Ｃ４）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレン鎖を有する（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等の芳香族ビニル類；マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類などが挙げられる。
【００８３】
上記製造方法１又は２において、重合性樹脂（ＩＩＩ）の原料となる前記化合物（Ｄ）について説明する。前記化合物（Ｄ）が有する官能基（ｄ）としては、例えば、水酸基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基、酸無水物等が挙げられる。前記単量体（Ｃ１）又は（Ｃ３）が有する反応性官能基（ｃ１）又は（ｃ３）が水酸基である場合には、官能基（ｄ）としてイソシアネート基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基、エポキシ基が挙げられ、反応性官能基（ｃ１）又は（ｃ３）がイソシアネート基である場合には、官能基（ｄ）として水酸基が挙げられ、反応性官能基（ｃ１）又は（ｃ３）がエポキシ基である場合には、官能基（ｄ）としてカルボキシル基、水酸基が挙げられ、反応性官能基（ｃ１）又は（ｃ３）がカルボキシル基である場合には、官能基（ｄ）としてエポキシ基、水酸基が挙げられる。
【００８４】
ここで、上記製造方法２において、前記単量体（Ｃ１）と前記単量体（Ｃ３）を併用する場合において、これらが有する反応性官能基（ｃ１）と反応性官能基（ｃ３）とが、それぞれ異なる官能基の場合であり、かつ前記反応性官能基（ｃ１）及び（ｃ３）が共通の官能基と反応する場合は、前記反応性官能基（ｃ１）及び（ｃ３）と反応性を有する官能基（ｄ）を有する１種類の化合物（Ｄ）を用いることができる。また、反応性官能基（ｃ１）と反応性官能基（ｃ３）とが共通の官能基と反応しない場合は、反応性官能基（ｃ１）と反応性を有する官能基（ｄ）を有する化合物（Ｄ）と、反応性官能基（ｃ３）と反応性を有する官能基（ｄ）を有する化合物（Ｄ）等の２種以上の化合物（Ｄ）を用いることが好ましい。
【００８５】
前記化合物（Ｄ）が有する重合性不飽和基は、ラジカル重合性を有する炭素−炭素不飽和二重結合が好ましく、より具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基等が挙げられ、後述する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物での硬化性が良好な点から（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
【００８６】
前記化合物（Ｄ）の具体的としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、末端に水酸基を有するラクトン変性（メタ）アクリレート等の水酸基を有する不飽和単量体；２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）エチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等のイソシアネート基を有する不飽和単量体；グリシジルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル等のエポキシ基を有する不飽和単量体；（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、マレイン酸、イタコン酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の不飽和二重結合を有する酸無水物などが挙げられる。また、複数の重合性不飽和基を有するものとして、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を用いることもできる。これらの化合物（Ｄ）は、１種類のみで用いることも２種以上併用することもできる。
【００８７】
上記の化合物（Ｄ）の具体的の中でも特に紫外線照射での重合硬化性が好ましい点から、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アクリル酸が好ましい。
【００８８】
次に、上記で挙げた原料を用いて重合性樹脂（ＩＩＩ）のより具体的な製造方法について説明する。
【００８９】
上記製造方法１又は２において、重合性樹脂（ＩＩＩ）の中間体である前記重合体（Ｐ１）又は（Ｐ２）を製造する方法は、製造方法１の場合は、前記化合物（Ａ）、前記単量体（Ｂ）、及び前記単量体（Ｃ１）、さらに必要に応じてその他の重合性不飽和単量体（Ｃ４）を、製造方法２の場合は、前記化合物（Ａ）、前記単量体（Ｂ）、前記単量体（Ｃ１）、前記単量体（Ｃ２）、及び前記単量体（Ｃ３）、さらに必要に応じてその他の重合性不飽和単量体（Ｃ４）を、有機溶剤中、重合開始剤を使用して重合させる方法が挙げられる。ここで用いる有機溶媒としては、ケトン類、エステル類、アミド類、スルホキシド類、エーテル類、炭化水素類が好ましく、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、沸点、相溶性、重合性を考慮して適宜選択される。重合開始剤としては、例えば過酸化ベンゾイル等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等が例示できる。さらに必要に応じてラウリルメルカプタン、２−メルカプトエタノ−ル、チオグリセロール、エチルチオグリコ−ル酸、オクチルチオグリコ−ル酸等の連鎖移動剤を使用することができる。
【００９０】
製造方法１又は２においては、上記のようにして得られる重合体（Ｐ１）又は（Ｐ２）に、前記官能基（ｃ１）又は（ｃ３）に対して反応性を有する官能基（ｄ）及び重合性不飽和基を有する化合物（Ｄ）を反応させることにより、本発明のフッ素原子含有シリコーン系重合性樹脂が得られる。
【００９１】
前記重合体（Ｐ１）又は（Ｐ２）に、前記化合物（Ｄ）を反応させる方法は、化合物（Ｄ）等が有する重合性不飽和基が重合しない条件で行えば良く、例えば、温度条件を３０〜１２０℃の範囲に調節して反応させることが好ましい。この反応は触媒や重合禁止剤の存在下、必要により有機溶剤の存在下に行うことが好ましい。
【００９２】
例えば、前記官能基（ｃ１）又は（ｃ３）が水酸基であって、前記官能基（ｄ）がイソシアネート基である場合は、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール等を使用し、ウレタン化反応触媒としてジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫、オクチル酸亜鉛等を使用し、反応温度４０〜１２０℃、特に６０〜９０℃で反応させる方法が好ましい。また、前記官能基（ｃ１）又は（ｃ３）がエポキシ基であって、前記官能基（ｄ）がカルボキシル基である場合、又は、前記官能基（ｃ１）又は（ｃ３）がカルボキシル基であって、前記官能基（ｄ）がエポキシ基である場合は、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール等を使用し、エステル化反応触媒としてトリエチルアミン等の第３級アミン類、塩化テトラメチルアンモニウム等の第４級アンモニウム類、トリフェニルホスフィン等の第３級ホスフィン類、塩化テトラブチルホスホニウム等の第４級ホスホニウム類等を使用し、反応温度８０〜１３０℃、特に１００〜１２０℃で反応させることが好ましい。
【００９３】
上記反応で用いられる有機溶媒はケトン類、エステル類、アミド類、スルホキシド類、エーテル類、炭化水素類が好ましく、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、沸点、相溶性を考慮して適宜選択すればよい。
【００９４】
上記のようにして得られる重合性樹脂（ＩＩＩ）は、防汚性が優れることから、その数平均分子量（Ｍｎ）が１，０００〜１０，０００の範囲であることが好ましく、１，５００〜８，０００の範囲であることがより好ましい。また、重量平均分子量（Ｍｗ）が２，０００〜５０，０００の範囲であることが好ましく、３，０００〜３５，０００の範囲であることがより好ましい。これらの数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略記する。）の測定により求めることができる。
【００９５】
ここで、数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣの測定に基づきポリスチレン換算した値である。なお、ＧＰＣの測定条件は以下の通りである。
【００９６】
［ＧＰＣ測定条件］
測定装置：東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０  ＧＰＣ」
カラム：東ソー株式会社製ガードカラム「ＨＨＲ−Ｈ」（６．０ｍｍＩ．Ｄ．×４ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
検出器：ＥＬＳＤ（オルテックジャパン株式会社製「ＥＬＳＤ２０００」）
データ処理：東ソー株式会社製「ＧＰＣ−８０２０モデルＩＩデータ解析バージョン４．３０」
測定条件：カラム温度    ４０℃
展開溶媒      テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
流速          １．０ｍｌ／分
試料：樹脂固形分換算で１．０質量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの（５μｌ）。
標準試料：前記「ＧＰＣ−８０２０モデルＩＩデータ解析バージョン４．３０」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
【００９７】
（単分散ポリスチレン）
東ソー株式会社製「Ａ−５００」
東ソー株式会社製「Ａ−１０００」
東ソー株式会社製「Ａ−２５００」
東ソー株式会社製「Ａ−５０００」
東ソー株式会社製「Ｆ−１」
東ソー株式会社製「Ｆ−２」
東ソー株式会社製「Ｆ−４」
東ソー株式会社製「Ｆ−１０」
東ソー株式会社製「Ｆ−２０」
東ソー株式会社製「Ｆ−４０」
東ソー株式会社製「Ｆ−８０」
東ソー株式会社製「Ｆ−１２８」
東ソー株式会社製「Ｆ−２８８」
東ソー株式会社製「Ｆ−５５０」
【００９８】
前記重合性樹脂（ＩＩＩ）の配合量は、前記低屈折率剤（Ｉ）及び活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）の合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部の範囲が好ましく、０．５〜１５質量部の範囲がより好ましく、１〜１２質量部の範囲がさらに好ましい。前記重合性樹脂（ＩＩＩ）の配合量がこの範囲であれば、防汚性及び耐擦傷性も良好なものとなる。
【００９９】
紫外線等の活性エネルギー線を照射して、本発明の反射防止塗料組成物を硬化させる場合には、本発明の反射防止塗料組成物に重合開始剤（ＩＶ）を配合する。この重合開始剤（ＩＶ）としては、例えば、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルメチルケタール、アゾビスイソブチロニトリル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−オン、１−（４’−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４’−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’’−ジエチルイソフタロフェン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサンソン、２−クロロチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、２−イソプロピルチオキサンソン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６，−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられ、単独でも２種以上を併用してもよい。
【０１００】
また、必要に応じてアミン化合物又はリン化合物等の光増感剤を添加し、光重合を促進することもできる。
【０１０１】
重合開始剤（ＩＶ）の配合量は、前記低屈折率剤（Ｉ）、活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）及び重合性樹脂（ＩＩＩ）の合計１００質量部に対して、０．０１〜１５質量部の範囲であることが好ましく、０．３〜７質量部の範囲であることがより好ましい。
【０１０２】
さらに、本発明の反射防止塗料組成物は、用途、特性等の目的に応じ、本発明の効果を損なわない範囲で、有機溶剤、重合禁止剤、帯電防止剤、消泡剤、粘度調整剤、耐光安定剤安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤等の添加剤を配合することができる。
【０１０３】
また、本発明の反射防止塗料組成物に塗布適性を付与するため、有機溶剤を添加して粘度調整を行っても構わない。ここで使用し得る有機溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル系溶剤；エトキシプロピオネート等のプロピオネート系溶剤；トルエン、キシレン、メトキシベンゼン等の芳香族系溶剤；ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクタム、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の窒素化合物系溶剤；γ−ブチロラクトン等のラクトン系溶剤；カルバミン酸エステル等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いることも、２種以上を併用することもできる。
【０１０４】
ここで有機溶媒の使用量は、用途や目的とする膜厚や粘度によって異なるが、前記低屈折率剤（Ｉ）、活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）及び重合性樹脂（ＩＩＩ）の合計に対して、質量基準で、４〜２００倍量の範囲であることが好ましい。
【０１０５】
本発明の反射防止塗料組成物を硬化させる活性エネルギー線としては、光、電子線、放射線等の活性エネルギー線が挙げられる。具体的なエネルギー源又は硬化装置としては、例えば殺菌灯、紫外線用蛍光灯、カーボンアーク、キセノンランプ、複写用高圧水銀灯、中圧又は高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電極ランプ、メタルハライドランプ、自然光等を光源とする紫外線、又は走査型、カーテン型電子線加速器による電子線等が挙げられる。なお、電子線で硬化させる場合には、本発明の反射防止塗料組成物への前記重合開始剤（Ｄ）の配合は不要である。
【０１０６】
これらの活性エネルギー線の中でも特に紫外線であることが好ましい。また、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で照射すると塗膜の表面硬化性が向上するため好ましい。また、必要に応じて熱をエネルギー源として併用し、活性エネルギー線にて硬化した後、熱処理を行ってもよい。
【０１０７】
本発明の反射防止塗料組成物の塗布方法としては、例えば、グラビアコーター、ロールコーター、コンマコーター、ナイフコーター、カーテンコーター、シャワーコーター、スピンコーター、スリットコーター、ディッピング、スクリーン印刷、スプレー、アプリケーター、バーコーター等を用いた塗布方法が挙げられる。
【０１０８】
本発明の反射防止フィルムは、本発明の反射防止塗料組成物の硬化塗膜を有するものだが、具体的には、下記のような方法で作製することができる。
（１）まず基材にハードコート材を塗布・硬化してハードコート層の塗膜を形成する。
（２）上記のハードコート層に本発明の反射防止塗料組成物を塗布・硬化して低屈折率層の塗膜を形成する。この低屈折率層が反射防止フィルムの最表面となる。
なお、上記ハードコート層と低屈折率層との間に、中屈折率層及び／又は高屈折率層を設けても構わない。
【０１０９】
前記ハードコート材は、比較的表面硬度が高い硬化塗膜が得られるものであれば、特に制限なく用いることができるが、前記活性エネルギー線硬化性化合物（ＩＩ）として例示した活性エネルギー線硬化性単量体（ＩＩ−１）と活性エネルギー線硬化型樹脂（ＩＩ−２）とを組み合わせたものが好ましい。
【０１１０】
上記のハードコート層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲にあることが好ましく、１〜３０μｍの範囲にあることがより好ましく、３〜１５μｍの範囲にあることがさらに好ましい。ハードコート層の厚さがこの範囲にあれば、基材との密着性、反射防止フィルムの表面硬度が高くなる。また、ハードコート層の屈折率は、特に制限はないが、屈折率が高いと、上記の中屈折率層や高屈折率層を設けなくても、良好な反射防止が可能となる。
【０１１１】
本発明の反射防止塗料組成物を塗布・硬化して形成する低屈折率層の厚さは、５０〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、５０〜１５０ｎｍの範囲にあることがより好ましく、８０〜１２０ｎｍの範囲にあることがさらに好ましい。低屈折率層の厚さがこの範囲であれば、反射防止効果を向上することができる。また、低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４５の範囲にあることが好ましく、１．２３〜１．４２の範囲にあることがより好ましい。低屈折率層の屈折率がこの範囲であれば、反射防止効果を向上することができる。
【０１１２】
上記の中屈折率層又は高屈折率層の厚さは、１０〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、３０〜２００ｎｍの範囲にあることがより好ましい。また、中屈折率層又は高屈折率層屈折率は、その上下に存在する低屈折率層及びハードコート層の屈折率によって選択されるが、１．４０〜２．００の範囲内で任意に設定することができる。
【０１１３】
上記の中屈折率層又は高屈折率層を形成するための材料としては、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン樹脂等の熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化できる樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いることも２種以上併用することもできる。また、これらの樹脂に、高屈折率の無機微粒子を配合することがより好ましい。
【０１１４】
前記高屈折率の無機微粒子としては、屈折率が１．６５〜２．００であるものが好ましく、例えば、１．９０である酸化亜鉛、屈折率が２．３〜２．７であるチタニア、屈折率が１．９５であるセリア、屈折率が１．９５〜２．００である錫ドープ酸化インジウム、屈折率が１．７５〜１．８５であるアンチモンドープ酸化錫、屈折率が１．８７であるイットリア、屈折率が２．１０であるジルコニア等が挙げられる。これらの高屈折率の無機微粒子は、単独で用いることも２種以上併用することもできる。
【０１１５】
また、中屈折率層又は高屈折率層を形成する方法としては、本発明の反射防止塗料組成物と同一とすることで、生産性を向上することができるため、本発明の反射防止塗料組成物を紫外線で硬化する場合は、紫外線硬化性組成物が用いて中屈折率層又は高屈折率層を形成することが好ましい。
【０１１６】
本発明の反射防止フィルムに用いる基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム；ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテンー１等のポリオレフィンフィルム；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系フィルム；ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム（例えば、日本ゼオン株式会社製「ゼオノア」）、変性ノルボルネン系樹脂フィルム（例えば、（ＪＳＲ株式会社製「アートン」）、環状オレフィン共重合体フィルム（例えば、三井化学株式会社製「アペル」）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリルフィルム等が挙げられる。これらのフィルムは２種以上貼り合わせて用いても良い。また、これらのフィルムは、シート状であっても良い。フィルム基材の厚さは、２０〜５００μｍが好ましい。
【０１１７】
本発明の反射防止フィルムの反射率は、２．０％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
【実施例】
【０１１８】
以下に本発明を具体的な実施例を挙げてより詳細に説明する。例中、「部」、「％」は断りのない限り質量基準である。ＧＰＣの測定条件は下記の通りである。
【０１１９】
［ＧＰＣ測定条件］
測定装置：東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０  ＧＰＣ」
カラム：東ソー株式会社製ガードカラム「ＨＨＲ−Ｈ」（６．０ｍｍＩ．Ｄ．×４ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
＋東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｎ」（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍ）
検出器：ＥＬＳＤ（オルテックジャパン株式会社製「ＥＬＳＤ２０００」）
データ処理：東ソー株式会社製「ＧＰＣ−８０２０モデルＩＩデータ解析バージョン４．３０」
測定条件：カラム温度    ４０℃
展開溶媒      テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
流速          １．０ｍｌ／分
試料：樹脂固形分換算で１．０質量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの（５μｌ）。
標準試料：前記「ＧＰＣ−８０２０モデルＩＩデータ解析バージョン４．３０」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
【０１２０】
（単分散ポリスチレン）
東ソー株式会社製「Ａ−５００」
東ソー株式会社製「Ａ−１０００」
東ソー株式会社製「Ａ−２５００」
東ソー株式会社製「Ａ−５０００」
東ソー株式会社製「Ｆ−１」
東ソー株式会社製「Ｆ−２」
東ソー株式会社製「Ｆ−４」
東ソー株式会社製「Ｆ−１０」
東ソー株式会社製「Ｆ−２０」
東ソー株式会社製「Ｆ−４０」
東ソー株式会社製「Ｆ−８０」
東ソー株式会社製「Ｆ−１２８」
東ソー株式会社製「Ｆ−２８８」
東ソー株式会社製「Ｆ−５５０」
【０１２１】
合成例１〔重合性樹脂（ＩＩＩ）の調製〕
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン８０．２ｇを仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら９０℃に昇温した。次いで、トリデカフルオロヘキシルエチルメタクリレート１２．１ｇと、下記式（Ｂ１−１）で表されるシリコーン基を有する重合性不飽和単量体（以下、「単量体（Ｂ１−１）」と略記する。）３５ｇと、３−ヒドロキシ−１−アダマンチルメタクリレート３３．１ｇとを、メチルイソブチルケトン１４８．８ｇに溶解したモノマー溶液と、ラジカル重合開始剤であるｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート４．８ｇをメチルイソブチルケトン１１．７ｇに溶解した重合開始剤溶液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を９０℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９０℃で９時間攪拌することによって、重合体（Ｐ−１）溶液を得た。
【０１２２】
【化１３】
2014005339.tif 000014
（式中、ｎは平均６５である。）
【０１２３】
次いで、重合禁止剤であるｐ−メトキシフェノール０．１ｇ、ウレタン化触媒であるオクチル酸錫０．０３ｇを前記重合体（Ｐ−１）溶液に仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート１９．８ｇを１時間かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で２時間攪拌した後、８０℃に昇温して８時間攪拌した。ＩＲスペクトル測定でイソシアネート基の消失を確認し、メチルイソブチルケトンを加え、重合性樹脂（ＩＩＩ−１）を２０％含有するメチルイソブチルケトン溶液を得た。得られた重合性樹脂（ＩＩＩ−１）の分子量をＧＰＣで測定した結果、数平均分子量が４，８００、重量平均分子量が１３，０００、ラジカル重合性不飽和基当量は７１０ｇ／ｅｑ．であった。
【０１２４】
合成例２（同上）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン３８．８ｇを仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら８７℃に昇温した。次いで、トリデカフルオロヘキシルエチルメタクリレート１２ｇと、単量体（Ｂ１−１）を１８ｇと、３−ヒドロキシ−１−アダマンチルメタクリレート４３．８ｇとを、メチルイソブチルケトン１２２ｇに溶解したモノマー溶液と、ラジカル重合開始剤であるｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート４．８ｇをメチルイソブチルケトン１１．５ｇに溶解した重合開始剤溶液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を８７℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、８７℃で１３時間攪拌後、減圧下で溶媒１２２．８部を留去することにすることによって、重合体（Ｐ−２）溶液を得た。
【０１２５】
次いで、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール０．１ｇ、ウレタン化触媒であるオクチル酸錫０．０３ｇを前記重合体（Ｐ−２）溶液に仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート２６．２ｇを１時間かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で２時間攪拌した後、８０℃に昇温して９時間攪拌した。ＩＲスペクトル測定でイソシアネート基の消失を確認し、メチルイソブチルケトンとメチルエチルケトン加え、重合性樹脂（ＩＩＩ−２）を２０％含有するメチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン溶液を得た。得られた重合性樹脂（ＩＩＩ−２）の分子量をＧＰＣで測定した結果、数平均分子量５，５００、重量平均分子量２８，０００、ラジカル重合性不飽和基当量は５４０ｇ／ｅｑ．であった。
【０１２６】
合成例３（同上）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン８０．２ｇを仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら９０℃に昇温した。次いで、２− [ビス−（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルオキシメチル）−メトキシカルボニルアミノ]−エチルメタクリレート１２．１ｇと、単量体（Ｂ１−１）３５ｇと、３−ヒドロキシ−１−アダマンチルメタクリレート３３．１ｇとを、メチルイソブチルケトン１４８．８ｇに溶解したモノマー溶液と、ラジカル重合開始剤であるｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート４．８ｇをメチルイソブチルケトン１１．７ｇに溶解した重合開始剤溶液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を９０℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９０℃で９時間攪拌することによって、重合体（Ｐ−３）溶液を得た。
【０１２７】
次いで、重合禁止剤であるｐ−メトキシフェノール０．１ｇ、ウレタン化触媒であるオクチル酸錫０．０３ｇを前記重合体（Ｐ−３）溶液に仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート１９．８ｇを１時間かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で２時間攪拌した後、８０℃に昇温して８時間攪拌した。ＩＲスペクトル測定でイソシアネート基の消失を確認し、メチルイソブチルケトンを加え、重合性樹脂（ＩＩＩ−３）を２０％含有するメチルイソブチルケトン溶液を得た。得られた重合性樹脂（ＩＩＩ−３）の分子量をＧＰＣで測定した結果、数平均分子量が４，８００、重量平均分子量が１３，０００、ラジカル重合性不飽和基当量は７１０ｇ／ｅｑ．であった。
【０１２８】
合成例４（同上）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてメチルイソブチルケトン８０．２ｇを仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら９０℃に昇温した。次いで、トリデカフルオロヘキシルエチルメタクリレート１２．１ｇと、単量体（Ｂ１−１）２９ｇと、下記式（Ｂ１−２）で表されるシリコーン基を有する重合性不飽和単量体（以下、「単量体（Ｂ１−２）」と略記する。）６gと、３−ヒドロキシ−１−アダマンチルメタクリレート３３．１ｇとを、メチルイソブチルケトン１４８．８ｇに溶解したモノマー溶液と、ラジカル重合開始剤であるｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート４．８ｇをメチルイソブチルケトン１１．７ｇに溶解した重合開始剤溶液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を９０℃に保ちながら同時に２時間かけて滴下した。滴下終了後、９０℃で９時間攪拌することによって、重合体（Ｐ−４）溶液を得た。
【０１２９】
【化１４】
2014005339.tif 000015
【０１３０】
次いで、重合禁止剤であるｐ−メトキシフェノール０．１ｇ、ウレタン化触媒であるオクチル酸錫０．０３ｇを前記重合体（Ｐ−４）溶液に仕込み、空気気流下で攪拌を開始し、６０℃を保ちながら、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート１９．８ｇを１時間かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で２時間攪拌した後、８０℃に昇温して８時間攪拌した。ＩＲスペクトル測定でイソシアネート基の消失を確認し、メチルイソブチルケトンを加え、重合性樹脂（ＩＩＩ−４）を２０％含有するメチルイソブチルケトン溶液を得た。得られた重合性樹脂（ＩＩＩ−４）の分子量をＧＰＣで測定した結果、数平均分子量が４，２００、重量平均分子量が１１，０００、ラジカル重合性不飽和基当量は７１０ｇ／ｅｑ．であった。
実施例１
＜反射防止塗料組成物の調製＞
中空シリカ微粒子（平均粒子径５０ｎｍ）を２０質量％含有するメチルイソブチルケトン分散液１５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．６質量部、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン株式会社製「イルガキュア１２７」）０．１質量部、溶剤としてメチルイソブチルケトン８１．８質量部を混合し溶解させて、反射防止塗料組成物のベース組成物を得た。
【０１３１】
上記で得られた反射防止塗料組成物のベース組成物９８．５質量部に対し、重合性樹脂（ＩＩＩ−１）の２０％含有溶液を樹脂分として０．４質量部となるように添加し、均一に混合して本発明の反射防止塗料組成物（１）を調製した。
【０１３２】
＜反射防止フィルムの調製＞
５官能無黄変型ウレタンアクリレート５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０質量部、酢酸ブチル２５質量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）５質量部、溶剤としてトルエン５４質量部、２−プロパノール２８質量部、酢酸エチル２８質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル２８質量部を混合し溶解させて、ハードコート層用塗料組成物を得た。
【０１３３】
得られたハードコート層用塗料組成物をバーコーターＮｏ．１３を使用して、厚さ８０μｍのＴＡＣフィルムに塗布した後、６０℃の乾燥機に５分間入れて溶剤を揮発させ、紫外線硬化装置（窒素雰囲気下、高圧水銀灯使用、紫外線照射量２ｋＪ／ｍ２）にて硬化させ、膜厚１０μｍのハードコート層を片面に有するハードコートフィルムを作製した。
【０１３４】
反射防止塗料組成物（１）を２ｇ／ｍ２の塗布量となるように、上記で得られたハードコートフィルムのハードコート層上にバーコーターＮｏ．２で塗布した後、６０℃の乾燥機に５分間入れて溶剤を揮発させ、紫外線硬化装置（窒素雰囲気下、高圧水銀灯使用、紫外線照射量２ｋＪ／ｍ２）にて硬化させ、膜厚１０μｍのハードコート層上に膜厚０．１μｍの反射防止層を有する反射防止フィルム（１）を作製した。
【０１３５】
上記で得られた反射防止フィルムの反射防止塗料組成物の硬化塗膜表面について、下記の外観、耐擦傷性、汚れ拭き取り性の評価を行った。また、反射防止フィルムの反射率を測定した。これらの評価は下記に示すアルカリ処理を行う前と行った後にそれぞれ行った。
【０１３６】
［外観の評価］
黒色の板上に上記で得た反射防止フィルムを置き、反射防止塗料組成物の硬化塗膜の白化の有無を目視で観察し、下記の基準で外観を評価した。評価結果を第１表に示す。
○：白化が生じていないもの。
×：白化が生じているもの。
【０１３７】
［耐擦傷性の評価］
トライボギア  ＨＥＩＤＯＮ  往復磨耗試験機  ＴＹＰＥ：３０Ｓ（新東科学株式会社製）を用いて、直径２７ｍｍの円形の治具にボンスター  Ｎｏ，００００（日本スチールウール株式会社製）を取り付けた磨耗試験機（５００ｇ／ｃｍ２荷重）にて、３０往復磨耗させて試験を行った。試験後の塗膜表面に付いた傷の本数を数えて、下記の基準によって耐擦傷性を評価した。
◎：傷の本数が５本未満である。
○：傷の本数が５本以上１０本未満である。
△：傷の本数が１０本以上５０本未満である。
×：傷の本数が５０本以上である。
【０１３８】
［指紋汚れ拭き取り性の評価］
上記で得た反射防止フィルムの反射防止塗料組成物の硬化塗膜の表面に指で指紋を付着させ、ティッシュペーパーで１０往復拭き取ったときの拭き取り具合を目視で観察し、下記の基準で指紋汚れ拭き取り性を評価した。
◎：指紋が完全に拭き取れるもの。
○：指紋の付着跡、又は、拭き取り方向に沿って線状の跡が、付着時に比べわずかに残ったもの。
×：指紋の付着跡、又は、拭き取り方向に沿って線状の跡が、付着時の半分以上の濃さで残ったもの。
【０１３９】
［反射率の測定］
５℃正反射測定装置を備えた分光光度計（株式会社島津製作所製「ＵＶ−３１００ＰＣ」）を用いて反射率の測定を行った。なお、反射率は波長５５０ｎｍ付近で極小値（最低反射率）となったときの値とした。
【０１４０】
＜硬化塗膜の強アルカリ（ケン化）処理方法＞
上記で得られた反射防止フィルムを、７０℃に加温した２．０ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム水溶液に１分間浸漬させ、水洗後、１００℃で３分間乾燥させて、強アルカリ処理を行った。
【０１４１】
実施例２
実施例１で用いた重合性樹脂（ＩＩＩ−１）の２０％含有溶液に代えて重合性樹脂（ＩＩＩ−２）の２０％含有溶液を樹脂分として０．４質量部となるように添加した以外は実施例１と同様に操作して、評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【０１４２】
実施例３
実施例１で用いた重合性樹脂（ＩＩＩ−１）の２０％含有溶液に代えて重合性樹脂（ＩＩＩ−３）の２０％含有溶液を樹脂分として０．４質量部となるように添加した以外は実施例１と同様に操作して、評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【０１４３】
実施例４
実施例１で用いた重合性樹脂（ＩＩＩ−１）の２０％含有溶液に代えて重合性樹脂（ＩＩＩ−４）の２０％含有溶液を樹脂分として０．４質量部となるように添加した以外は実施例１と同様に操作して、評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【０１４４】
比較例１
実施例１で用いた重合性樹脂（ＩＩＩ−１）の２０％含有溶液に代えて、シリコーンオイル（チッソ株式会社製「サイラプレーンＦＭ−４４２１」、ポリジメチルシロキサン鎖の両末端に−Ｃ３Ｈ６ＯＣ２Ｈ４ＯＨを有するもの）を５０質量％含有するメチルイソブチルケトン溶液を０．８質量部（樹脂分として０．４質量部）添加した以外は実施例１と同様に操作して、評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【０１４５】
比較例２
実施例１で用いた重合性樹脂（ＩＩＩ−１）の２０％含有溶液に代えて、ＦＭ−０７２１Ｋ（チッソ株式会社製のシリコーンオイル。パーフルオロアルキル基、アダマンチル基を有していないが、重合性不飽和基を片末端に有している。）を５０質量％含有するメチルイソブチルケトン溶液を０．８質量部（樹脂分として０．４質量部）添加した以外は実施例１と同様に操作して、評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【０１４６】
比較例３
実施例１で用いた重合性樹脂（ＩＩＩ−１）の２０％含有溶液に代えて、ジメチルシロキサン鎖を有する４官能アクリレート（ビックケミー・ジャパン株式会社製「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」）を５０質量％含有するメチルイソブチルケトン溶液を０．８質量部（樹脂分として０．４質量部）添加した以外は実施例１と同様に操作して、評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【０１４７】
比較例４
実施例１で調製した活性エネルギー線硬化性組成物のベース樹脂組成物に、何も添加せずに実施例１と同様に操作して、評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【０１４８】
【表１】
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