(57)【要約】【課題】制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、照明条件、観察位置、或いは照明条件及び観察位置によって変化する視覚効果が得られる、不透明板、表示板、及び表示システムを提供する。【解決手段】不透明板１０及び表示板２０は、不透明基板１の少なくとも一方の面１ａ上に模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域２Ａと反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂとを有し、反射防止性微凹凸形成領域は反射防止性微凹凸３を有し、反射防止性微凹凸は多数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇによって形成され、微小突起の最大突起間距離Ｄｍａｘが可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘである。好ましくは、微小突起群は低高度微小突起が高高度微小突起により周囲を取り囲まれている高低微小突起群を含む。表示システムは、この表示板と、これを照らす光源とを有する。【選択図】図１
2014194460.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不透明基板の一方の面上に、模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域と、前記反射防止性微凹凸形成領域以外の領域である反射防止性微凹凸非形成領域とを有し、
前記反射防止性微凹凸形成領域は、前記不透明基板の前記一方の面上に反射防止性微凹凸を有し、
前記反射防止性微凹凸非形成領域は、前記不透明基板の前記一方の面上に平滑面を有し、
前記反射防止性微凹凸は、複数の微小突起の集合体である微小突起群によって形成され、
前記微小突起の最大突起間距離Ｄｍａｘが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘである、
不透明板。
【請求項２】
前記微小突起群は、高度が一定ではない微小突起の集合体として、相対的に低い高度の低高度微小突起と、前記低高度微小突起よりも相対的に高い高度の高高度微小突起とを含み、前記低高度微小突起が前記高高度微小突起により周囲を取り囲まれている高低微小突起群、を含んでなる、請求項１に記載の不透明板。
【請求項３】
前記反射防止性微凹凸は、前記微小突起として、頂部に於いて頂点を複数有する多峰性微小突起を含み、前記多峰性微小突起は、頂部に形成された放射状の溝によって頂部が各頂点に区画されてなる、請求項１又は２に記載の不透明板。
【請求項４】
前記不透明基板の前記一方の面上に、着色模様層を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の不透明板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の不透明板の前記反射防止性微凹凸形成領域を有する側の表面における反射光強度差の模様によって表示を行なう、表示板。
【請求項６】
請求項５に記載の表示板と、前記表示板の前記反射防止性微凹凸形成領域を有する側の面に可視光を照射する光源と、を含む、表示システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不透明板、表示板、及びこれを用いた表示システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、壁や間仕切り等を構成する不透明基板の表面に、着色インクの印刷、印刷シートや切り出した着色シートの貼り付けなどによって、着色模様層を形成して、文字、図形、絵柄などの模様を表示することが行われている。模様が文字の場合はメッセージなどを表示し、模様が図形の場合はロゴマークなど表示し、模様が絵柄の場合はデザイン意匠などを表示している。そして、これらの表示によって、商品、店舗、企業、サービスなどの広告宣伝の表示、或いは、出入り口、禁煙、営業中などの各種情報の表示を行なっている。図１４の斜視図は、不透明基板１の一方の面上に、着色模様層６を形成して、これを表示板４０としたものである。
さらに、こうした着色模様層６による表示に対して、視覚効果を高める技術も各種提案されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平６−１２０１７号公報
【特許文献２】実開平３−４５９３２号公報
【特許文献３】実用新案登録第３１５２３３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、図１４で例示するような従来の表示板４０は、模様形成という単純な構成による為に、どんな位置に居る観察者にも同一の模様が視認されるため、表示する模様を変えたり、特定の位置からのみ模様を視認できるようにしたりすることは不可能であった。
また、例えば壁に設置した表示板４０を観察する観察者の全員に、同じ模様が視認されるため、例えば、正面から見る観察者には不可視で、斜め方向から見る観察者にのみ視認可能となるように、異なる位置に居る観察者に対して選択的に表示することはできなかった。
【０００５】
一方、表示する模様を可変できるものとして、現在では、液晶表示ディスプレイパネルなどの各種ディスプレイパネルを使用する手段も採用されるようになってきた。しかし、ディスプレイパネルは設置するにあたって、いまだに印刷模様に比べれば高価であり、費用がかかる。さらに、ディスプレイパネルは、実際には、設置にあたって建築法や駆動部の設置スペースなど様々な制約がある上、電力の供給が必要となり、しかも、その消費電力も単なる照明付き看板に比べて多目となる。一方、照明付き看板の場合は、変化に富んだ表示は出来なかった。
【０００６】
すなわち、本発明の課題は、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、照明条件、観察位置、或いは照明条件及び観察位置に応じて、変化させることができる、不透明板、表示板及び表示システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
そこで、本発明では、次の様な構成の、不透明板、表示板、及び表示システムとした。
（１）不透明基板の一方の面上に、模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域と、前記反射防止性微凹凸形成領域以外の領域である反射防止性微凹凸非形成領域とを有し、
前記反射防止性微凹凸形成領域は、前記不透明基板の前記一方の面上に反射防止性微凹凸を有し、
前記反射防止性微凹凸非形成領域は、前記不透明基板の前記一方の面上に平滑面を有し、
前記反射防止性微凹凸は、複数の微小突起の集合体である微小突起群によって形成され、
前記微小突起の最大突起間距離Ｄｍａｘが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘである、
不透明板。
（２）前記微小突起群は、高度が一定ではない微小突起の集合体として、相対的に低い高度の低高度微小突起と、前記低高度微小突起よりも相対的に高い高度の高高度微小突起とを含み、前記低高度微小突起が前記高高度微小突起により周囲を取り囲まれている高低微小突起群、を含んでなる、前記（１）の不透明板。
（３）前記反射防止性微凹凸は、前記微小突起として、頂部に於いて頂点を複数有する多峰性微小突起を含み、前記多峰性微小突起は、頂部に形成された放射状の溝によって頂部が各頂点に区画されてなる、前記（１）又は（２）の不透明板。
（４）前記不透明基板の前記一方の面上に、着色模様層を有する、前記（１）〜（３）のいずれかの不透明板。
【０００８】
（５）前記（１）〜（４）のいずれかの不透明板の前記反射防止性微凹凸形成領域を有する側の表面における反射光強度差の模様によって表示を行なう、表示板。
（６）前記（５）の表示板と、前記表示板の前記反射防止性微凹凸形成領域を有する側の面に可視光を照射する光源と、を含む、表示システム。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、照明条件、観察位置、或いは照明条件及び観察位置によって、変化させることができる視覚効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明による不透明板及び表示板の一実施形態を示す断面図（ａ）、平面図（ｂ）、部分拡大断面図（ｃ）、及び模様状の反射防止性微凹凸形成領域の部分拡大断面図（ｄ）。
【図２】最大突起間距離Ｄｍａｘの算出方法を説明する為の写真。
【図３】最大突起間距離Ｄｍａｘの算出方法を説明する為の極大点を付した写真。
【図４】最大突起間距離Ｄｍａｘの算出方法を説明する為のドロネー図を付した写真。
【図５】高低微小突起群を説明する断面図（ａ）と斜視図（ｂ）。
【図６】高低微小突起群を示す写真。
【図７】多峰性微小突起の頂部の溝を説明する斜視図（ａ）と平面図（ｂ）。
【図８】多峰性微小突起を示す写真であり、２頂点（ａ）、３頂点（ｂ）及び４頂点（ｃ）を示す。
【図９】本発明による不透明板及び表示板の変形形態（着色模様層）を例示する断面図。
【図１０】本発明による表示システムの基本構成を示す斜視図。
【図１１】本発明による表示システムで得られる表示変化を説明する図。
【図１２】本発明による表示システムの一実施形態を示す斜視図（ａ）及び平面図（ｂ）。
【図１３】図１２の実施形態で視認される表示可変例を説明する図。
【図１４】従来の表示板の一例を示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。
【００１２】
《１》用語の定義
ここで、本発明で用いる主要な用語の定義を説明しておく。
【００１３】
「微小突起」における「微小」とは、「微小突起」の最大突起間距離Ｄｍａｘが可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘとなる小ささを意味する。
「板面」とは、不透明基板１の一方の面又は他方の面乃至はこれらと平行な面であり、図１に於いては、ＸＹ平面と平行な面となる。不透明基板１が凹凸板など「板面」が凹凸面の場合は、この凹凸面の包絡面を意味し、包絡面はＸＹ平面と平行な面となる。また、不透明基板１が湾曲板など「板面」が湾曲面の場合は、この湾曲面を意味する。
「平面視」とは、「板面」に立てた法線の方向から見ることを意味する。図１ではＺ軸方向が法線方向である。
「光」とは狭義の光、即ち、可視光線を意味する。可視光線の波長帯域は観察者の個人差、照明条件等にも多少依存するが、通常、３８０〜７８０ｎｍとされる。
「透明」、「不透明」、「反射（防止）」等は可視光線に対しての性能、特性を意味する。
【００１４】
《２》不透明板及び表示板
先ず、本発明による不透明板及び表示板を、図１に示す一実施形態例を参照して説明する。
【００１５】
図１（ａ）の断面図、図１（ｂ）の平面図、並びに図１（ｃ）及び図１（ｄ）の部分拡大断面図に示す、本発明による不透明板１０及び表示板２０は、不透明基板１と、この不透明基板１の一方の面１ａの面上に、模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域２Ａと反射防止性微凹凸形成領域２Ａ以外の領域である反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂとを有する。
図１（ａ）の断面図は、図１（ｂ）の平面図中、Ｃ−Ｃ線での断面図である。図１（ｃ）の部分拡大断面図は、図（ａ）中の模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域２Ａの反射防止性微凹凸３の部分に注目した断面図であり、図１（ｄ）の部分拡大断面図は、図（ｃ）中の微小突起付与層５に注目した断面図である。
【００１６】
模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域２Ａは、不透明基板１の一方の面１ａの面上において、反射防止性微凹凸３を有する領域である。反射防止性微凹凸３は、複数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇによって形成されている。反射防止性微凹凸３は、その微小突起４の最大突起間距離Ｄｍａｘが、可視光の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘであることによって、可視光に対して反射防止性となっている。
また、各微小突起４は不透明基板１の板面と平行な切断面で切断した場合の断面積が不透明基板１から離れるに従って減少する形状であることが好ましい。
【００１７】
本実施形態においては、図１（ｃ）及び図１（ｄ）に示すように、微小突起４は、不透明基板１の一方の面１ａの表面には形成されてなく、不透明基板１の一方の面１ａに積層された微小突起付与層５の面に形成されている。微小突起付与層５は、さらに、微小突起４を表面に有する微小突起形成層５Ａと、微小突起形成層５Ａを形成時の基材として用いられた形成用基材層５Ｂと、微小突起付与層５を不透明基板１の一方の面１ａに接合するために形成用基材層５Ｂを不透明基板１の一方の面１ａに接合する接合層５Ｃと、を有する構成されている。
一方、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂは、不透明基板１の一方の面１ａの表面そのものとなっている。
尚、以降に於いて、適宜、「反射防止性微凹凸形成領域２Ａ」を「形成領域２Ａ」或いは「領域２Ａ」と略称し、又「反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂ」を「非形成領域２Ｂ」または「領域２Ｂ」と略称する。
【００１８】
本実施形態においては、不透明基板１は白色樹脂板であり、微小突起形成層５Ａは不透明な紫外線硬化性アクリル系樹脂の硬化物層であり、形成用基材層５Ｂはポリエステル系樹脂フィルムであり、接合層５Ｃは不透明なアクリル系粘着剤層である。微小突起付与層５として、微小突起形成層５Ａ、形成用基材層５Ｂ及び接合層５Ｃが積層された積層フィルムを、所定の模様形状に切断したものを、不透明基板１の所定の位置に接合層５Ｃによって貼り付けることで、本実施形態における不透明板１０及び表示板２０は作製されている。
【００１９】
以上の構成によって、本実施形態における不透明板１０及び表示板２０は、模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域２Ａと反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂとによって、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、照明条件、観察位置、或いは照明条件及び観察位置によって、変化させる視覚効果を得ることができるようになる。
【００２０】
以下、構成要素毎に、さらに詳述する。
【００２１】
《不透明基板１》
不透明基板１としては、不透明な基板であれば特に制限はなく、例えば、各種陶磁器等のセラミックス、セメント、天然石などからなる非金属系無機板、アルミニウム、鉄、銅等からなる金属板、杉、檜、欅等からなる木質板、樹脂板、不透明な曇りガラスなどのガラス板などである。具体例を樹脂板で挙げれば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂などの樹脂からなる樹脂板である。樹脂板では、湾曲面も容易となる。不透明基板１は、不透明であれば、有彩色に着色していてもよい。不透明基板１の一方の面１ａ及び他方の面１ｂは、鏡面など平滑で平坦な表面以外に、ガラス板の例で言えば、霞（かすみ）ガラスや梨地ガラスなどの凹凸ガラスのように模様状凹凸面であってもよい。
不透明基板１は、例えば、天然石ではそれ自体が有する石目模様、木質板ではそれ自体が有する木目模様など、不透明基板１それ自体が有する模様を活かすような使い方をしてもよい。
不透明基板１の厚みは、用途に応じ、例えば０．５〜２０ｍｍ程度である。
【００２２】
《反射防止性微凹凸形成領域２Ａと反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂ》
反射防止性微凹凸形成領域２Ａは、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示す如く、不透明基板１の一方の面１ａ上に模様状に形成された反射防止性を示す領域である。反射防止性微凹凸形成領域２Ａでは、不透明板１０或いは表示板２０としての表面に、反射防止性微凹凸３を有する。この反射防止性微凹凸３によって、可視光に対する反射防止性が付与されている。反射防止性微凹凸３に入射した可視光線は実質上反射されないと共に、吸収される。
【００２３】
反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂは、模様状に反射防止性微凹凸形成領域２Ａが形成された不透明基板１の一方の面１ａの側の表面において、反射防止性微凹凸形成領域２Ａ以外の領域である。換言すると、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂは、反射防止性微凹凸形成領域２Ａとは、写真で言えばネガ画像とポジ画像のように、逆の模様で相補的な模様状に形成され反射防止性ではない領域である。したがって、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂも模様状であるので「模様状に形成された反射防止性微凹凸非形成領域」と言うこともできる。
本実施形態においては、反射防止性微凹凸形成領域２Ａが不透明基板１の一方の面１ａ上に形成され、他方の面１ｂには形成されていないので、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂは、反射防止性微凹凸形成領域２Ａが形成された不透明基板１の一方の面１ａ上において、反射防止性微凹凸形成領域２Ａ以外の領域である。
【００２４】
本発明においては、反射防止性微凹凸形成領域２Ａが反射防止性を示すとは、目で視認判別可能な程度に反射防止性微凹凸３が有する微小突起４によって、可視光に対して反射防止性能が高められた状態を意味する。一方、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂが示す反射防止性ではない状態とは、前記微小突起４によって反射防止性能が高められた状態よりも、目で視認判別可能な程度に反射防止性能が低い状態を意味する。したがって、反射防止性微凹凸形成領域２Ａが反射防止性を示すとは、相対的に、反射防止性微凹凸形成領域２Ａは反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂよりも反射防止性能が高いことが視認判別可能であることを意味し、絶対的に可視光に対する反射率が特定値以下であることは意味しない。ただし、通常は、領域２Ａと領域２Ｂとの間の視認識別の上で、領域２Ａと領域２Ｂとの光反射率の差は２％以上あることが好ましく、５％以上あるとより好ましい。又、反射防止性性微凹凸形成領域２Ａの表面の光反射率は、通常は、１％以下であることが好ましく、０．１％以下であることがより好ましい。
反射防止性微凹凸形成領域２Ａは、本実施形態に於いては、図１（ｃ）の如く不透明基板１の一方の面１ａ上に、微小突起付与層５を介して、反射防止性微凹凸３を形成して構成されている。但し、本発明に於いては、こうした形態以外に、不透明基板１の一方の面１ａ上に、微小突起付与層５を介することなく直接、反射防止性微凹凸３を形成して構成することもできる（図示は略）。
【００２５】
〔平滑面を有する反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂ〕
反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂは、その領域内の表面は、反射防止性微凹凸３が形成されてないことに加えて、更に、平滑面を有する。ここで平滑面とは、その表面の粗さがＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４）規定の１０点平均粗さＲｚで表したときに、Ｒｚ≦５０ｎｍ（０．０５μｍ）である面のことを言う。こうした平滑面は、後述の本実施形態に於ける反射防止性微凹凸３を構成する微小突起４の最低突起高さＨａｖｅ＝８８ｎｍよりも、表面粗さが十分に小さく、表面の光反射も鏡面反射となる為、目視外観上は高光反射性の鏡面に見える。
本実施形態においては、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂは、その全領域が平滑面となっている。このため、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂの全領域が平滑面でない形態に比べて、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様を、よりいっそう目立つようにすることができる。
本発明においては、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂは、その領域内の全面ではなく一部に平滑面を含み、反射防止性微凹凸非形成領域の殘りの部分は例えば艶消しではないが、例えば凹凸曇りガラス板のガラス面や凹凸タイルのタイル面のような凹凸面を一部含んでいてもよい。こうした凹凸面の領域の凹凸模様によっても、反射防止性微凹凸形成領域２Ａ及び反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂによる模様とは別の模様を表現できる。
反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂは、本実施形態に於いては、図１（ａ）の如く不透明基板１の一方の面１ａそれ自体が平滑面とされることによって構成されている。但し、本発明に於いては、こうした形態以外に、不透明基板１の一方の面１ａ上に、塗膜を塗工、或いは樹脂フィルム、金属箔等の貼り合わせにより他の表面が平滑面の層をすることによって反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂを構成することもできる（図示は略）。
【００２６】
《反射防止性微凹凸３》
反射防止性微凹凸３は、複数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇによって形成され、可視光に対して反射防止性能を示す凹凸である。
【００２７】
《微小突起４》
微小突起４は、その最大突起間距離Ｄｍａｘが、可視光波長帯域の最大波長λｍａｘに対して、Ｄｍａｘ≦λｍａｘとなっている突起である。
本発明においては、前記の如く、可視光の最大波長λｍａｘは７８０ｎｍとする。一方、可視光の最小波長λｍｉｎは３８０ｎｍとする。この条件は、最低限、可視光波長帯域の最大波長λｍａｘの光に対しては反射防止効果を奏する条件である。尚、最大突起間距離Ｄｍａｘの具体的値の設計については後述する。
この結果、微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを有する反射防止性微凹凸３は、可視光に対する反射防止性能を有するものとなる。
【００２８】
〔最大突起間距離Ｄｍａｘ〕
最大突起間距離Ｄｍａｘとは、微小突起４が一定の周期で規則的配列をしている場合には、その配列周期に等しい。
本実施形態においては、微小突起４は一定の配列周期を持たない。したがって、個々の微小突起４に注目すると、その微小突起４の周囲に隣接して配置される微小突起４との距離は一定ではなく、ばらつきを有する。このように、隣接する微小突起４同士の間の距離が一定ではなく、ばらつきを有するときは、隣接する微小突起４同士の間の距離の最大の値を、「最大突起間距離」とすることもできるであろう。ただし、実際には、最大値を与える２つの微小突起４の組を見つけるには、反射防止性微凹凸３の全領域を計測する必要があり、現実的ではない。加えて、こうした手法を用いる場合、何らかの理由で、他の隣接する微小突起間距離に比べて特異的に突出した値の極少数の異常値を最大突起間距離として採用して、真の全体的特徴を反映しない虞れがある為である。そこで、本発明においては、統計的手法を用いて、「最大突起間距離Ｄｍａｘ」を定義する。以下、その説明をする。
【００２９】
（１）先ず、反射防止性微凹凸３について、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）、或いは走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＳＥＭ）を用いて、板面に平行な面内における微小突起４の配置を検出し、この面内配置から個々の隣接する微小突起４同士の間の距離を計測し、これから最大突起間距離Ｄｍａｘを統計的に算出する。図２の写真は、原子間力顕微鏡によって実際に得られた拡大写真である。
本発明においては、この図２を含めて、図３及び図４等での写真は全て、板面に対して法線方向から微小突起４を捉えたときの平面視の写真である。
微小突起４の面内配置の検出に、本実施形態においては、原子間力顕微鏡を用いたが、本発明においては、上記以外の検出方法を採用してもよい。
【００３０】
微小突起４の配置を検出する領域の面積は、不透明板１０乃至は表示板２０の製品仕様に要求される反射防止性能に関与する最大突起間距離Ｄｍａｘを、統計的手法で平均値及び標準偏差から許容される誤差範囲内で算出し得る程度以上の微小突起４の計測個数となる面積であれば十分である。例えば、微小突起４の個数で言えば２００個以上、より高精度とするならば、５００個以上とする。
【００３１】
（２）次に、個々の微小突起４における高さの極大点を求める。高さの計測方向は、図１で言えばＺ軸方向であり、高さの基準となる基準高さは任意である。ただし、微小突起４の谷部を連結する面にうねりが存在する場合は、うねりを除去した高さを基準高さとする。うねりが存在すると、最大突起間距離Ｄｍａｘの寸法に比べて板面方向で大きな寸法で、微小突起４の極大点の基準高さとの高度差ではない絶対高度が変化する。うねりの除去は、例えば、微小突起４間の谷底の高度について、複数の谷底の高度の平均値が収束するに足る面積の中で算出し、この平均値の高度を基準高さとする。前記平均値を算出する面積の領域を移動させることで、前記面積よりも大きい面積におけるうねりを除去した基準高さを得ることができる。
【００３２】
極大点の計測は、微小突起４の前記面内配置の画像データを、画像処理することによって求めることができる。本実施形態においては、１ｎｍ単位で、極大点を求めた。
この際、画像データにノイズがあり、極大点の誤検出が予想されるときは、例えば、ガウシアン特性によるローパスフィルタを画像データに適用して、ノイズを除去しておくことが好ましい。
図３は、図２の拡大写真の画像データを、画像処理して検出した極大点の部分に黒点を付した拡大写真である。
【００３３】
ここで、隣接する極大点同士の間の距離を、「隣接極大点間距離」と呼ぶことにする。
隣接極大点間距離が、隣接する微小突起４同士の間の距離であると捉えたとき、隣接極大点間距離を求める方法の一つとして、ドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ  Ｄｉａｇｒａｍ）を利用することができる。
ドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺は、隣接母点同士を結ぶ線分に該当し、ドロネー線と呼ばれる。
ところで、ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ  ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係を有する。ボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直２等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。
図４は、図３から作成したドロネー図のドロネー線を白色の線分として、図３に重ね合わせた拡大写真である。
ドロネー線の長さが隣接極大点間距離に該当する。
【００３４】
（３）次に、それぞれの隣接極大点間距離を計測して、その平均値Ｄａｖｅ及び標準偏差σを求める。この平均値Ｄａｖｅ及び標準偏差σから、最大突起間距離Ｄｍａｘを算出する。
本発明においては、最大突起間距離Ｄｍａｘは下記の式〔１〕により算出する。
【００３５】
最大突起間距離Ｄｍａｘ＝Ｄａｖｅ＋２σ      〔１〕
【００３６】
式〔１〕から判るように、最大突起間距離Ｄｍａｘとは、隣接極大点間距離を計測して得られた中の最大値ではない。計測した隣接極大点間距離の値の総数のうち、統計学的に、Ｄａｖｅ±２σの領域に入るのが約９５％であるから、残りの５％の半分の約２．５％は、最大突起間距離Ｄｍａｘを超えるものが存在する。それでも、おおよそ９７．５％は、最大突起間距離Ｄｍａｘ以下の隣接極大点間距離を示す。
反射防止の対象とする可視光の波長が、その最大波長λｍａｘの７８０ｎｍのみであったと仮定しても、約２．５％の微小突起４は、反射防止への寄与が小さくなる。しかし、意識的に、λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離を与える微小突起４を局在化して形成しない限り、こうした最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離を与える微小突起４は、面内の全域に散在している。したがって、最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離も含めて、全体としての隣接極大点間距離は領域内で平均化され、大局的には、最大波長λｍａｘを超過するような隣接極大点間距離が前記のとおり約２．５％程度存在しても、可視光の最大波長λｍａｘに対して反射防止性能を、微小突起４が形成された領域全般に亘って得ることができる。
また、本実施形態においては、微小突起４は、陽極酸化処理とエッチング処理によって形成しており、図２の写真からも判るように、隣接極大点間距離が他と比べて極度に大きくなる微小突起４は実際に局在化していない。
以上のように、微小突起４によってもたらされる反射防止効果の点で、最大突起間距離Ｄｍａｘは、統計学的に、前記式〔１〕と設定することができる。
【００３７】
ちなみに、図２の写真の例では、平均値Ｄａｖｅ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍ、最大突起間距離Ｄｍａｘ＝２３４ｎｍであった。よって、可視光の全波長帯域に亘って、反射防止効果を得ることができる。
【００３８】
最大突起間距離Ｄｍａｘは、反射防止の対象とする可視光の波長が、可視光域全域であるときは、可視光の最小波長λｍｉｎに対して、
Ｄｍａｘ≦λｍｉｎとするとよい。
一般的には、可視光のうち反射防止の対象とする最小の波長をΛｍｉｎとしたとき、
Ｄｍａｘ≦Λｍｉｎとするとよいが、
好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．８Λｍｉｎであり、
より好ましくは、Ｄｍａｘ≦０．５Λｍｉｎである。
以上のように、Ｄｍａｘを設定すると、反射防止効果をより確実に得ることができる。
なお、Λｍｉｎは、Λｍｉｎ＝λｍｉｎ＝３８０ｎｍとは限らない。実際のΛｍｉｎの値は、個々の場合に応じて、設計上で実際に反射防止効果を求める可視光帯域の最小波長に対応して決定する。例えば、可視光波長帯域の全波長に対して反射防止効果を求める場合は、上記設計条件に於いて、Λｍｉｎ＝λｍｉｎ＝３８０ｎｍとする。又、波長５００ｎｍ以上の光に対して反射防止効果を求める場合は、上記設計条件に於いて、Λｍｉｎ＝５００ｎｍとする。
【００３９】
最大突起間距離Ｄｍａｘの下限は、５０ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍである。最大突起間距離Ｄｍａｘの下限が、前記値未満であると、反射防止効果が損なわれることがあるからである。
【００４０】
［多峰性微小突起４Ｍが存在するときの最大突起間距離Ｄｍａｘの算出］
微小突起４の中には、その頂部に複数の極大点（頂点）を有する多峰性微小突起４Ｍが存在することがある。多峰性微小突起４Ｍについては、後で詳述するが、多峰性微小突起４Ｍが存在すると、１つの微小突起４Ｍが複数の極大点を与えることになり、微小突起４の個数と、極大点の個数とが一致しなくなる。図２及び図３の写真で示せば、添え字「４Ｍ」を付したものが、多峰性微小突起４Ｍの例である。図２及び図３において、図面下側中央部の多峰性微小突起４Ｍが頂点を２つ有する例であり、図面右側の多峰性微小突起４Ｍが頂点を３つ有する例である。これらに対して、図面上側の微小突起４が、１つの頂点を有する単峰性微小突起４Ｓの例である。
【００４１】
そこて、最大突起間距離Ｄｍａｘの算出にあたって、多峰性微小突起４Ｍが存在するときは、次のようにするとよい。また、本実施形態においても、次のようにした。
１つの多峰性微小突起４Ｍについて、その１つの多峰性微小突起４Ｍに属する複数の極大点同士から得られる隣接極大点間距離は、複数の単峰性微小突起４Ｓから得られる隣接極大点間距離とは、明らかに大きく異なる。そこで、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起４Ｓを選んで標本抽出して、この標本抽出した中での隣接極大点間距離の複数の値の数値範囲から、明らかに外れる値を除外する。例えば、標本抽出した中での隣接極大点間距離の平均値の１／２以下の値を除外する。本実施形態においては、多峰性微小突起４Ｍの寄与分を減らした後の平均値ではあるが、この平均値でいえば平均値Ｄａｖｅ＝１５８ｎｍに対して約１／３となる５６μｍの値以下のもの除外した。この５６μｍという値は、単峰性微小突起４Ｓに主に起因する平均値Ｄａｖｅ＝１５８ｎｍに対する度数分布のピークと、多峰性微小突起４Ｍに起因する度数分布のピークとの境い目部分となる数値である。
前記した最大突起間距離Ｄｍａｘ＝２３４ｎｍは、こうして、多峰性微小突起４Ｍの寄与分を減らして得られた値である。
【００４２】
〔平均突起高さＨａｖｅ〕
平均突起高さＨａｖｅは、個々の微小突起４の高さＨについての平均値である。最大突起間距離Ｄｍａｘの算出に用いた原子間力顕微鏡による画像データ或いは、この画像データの元になった三次元座標データから、個々の微小突起４の極大点の高さＨ（以下、「極大点の高さ」を、単に、「高さ」又は「高度」とも呼称する）を求め、これから、平均突起高さＨａｖｅを得ることができる。ここでも、前記した最大突起間距離Ｄｍａｘと同様に、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの全領域について計測する必要はない。統計学的に標本抽出して、その平均値を平均突起高さＨａｖｅとすることができる。
本実施形態においては、平均突起高さＨａｖｅ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍであった。
ちなみに、本実施形態の反射防止性微凹凸３を構成する微小突起４の最低突起高さＨｍｉｎは、統計的には、Ｈａｖｅ−３σ＝８８ｎｍと見做し得る。この値は平滑面のＲｚ値の上限（Ｒｚ＝５０ｎｍ）よりも大きく、突起高さが最低突起高さＨｍｉｎ近辺の微小突起４でも平滑面の光学的挙動（高光反射性）とは十分異なった光学的特性（低光反性）を発現し得ると考えられる。
この際、麓部が同一の微小突起が複数の頂点を有してなる多峰性微小突起４Ｍが存在するときは、この多峰性微小突起４Ｍが有する複数の極大点の中で高度が最も高い極大点を、当該多峰性微小突起４Ｍの突起高さとして計測するとよい。又、多峰性微小突起４Ｍに於いて、全極大点の高さが同一の場合は共通の極大点の高さを以って、該微小突起４Ｍの高さＨと定義する。
平均突起高さＨａｖｅの最大突起間距離Ｄｍａｘに対する比率Ｈａｖｅ／Ｄｍａｘは０．５〜２．０程度である。
【００４３】
〔高低微小突起群４ＧＨＬ〕
図５は、高低微小突起群４ＧＨＬを模式的に示す図である。図５（ａ）は断面図、図５（ｂ）は斜視図である。図５（ａ）の断面図は、平面視において、隣接する微小突起４の高さの極大点を結ぶ折れ線を含む断面での断面図である。Ｚ軸方向が微小突起４の高さ方向である。図６の写真は、高低微小突起群４ＧＨＬを示す原子間力顕微鏡による拡大写真である。
【００４４】
このように、微小突起群４Ｇは、高度が一定ではない微小突起４の集合体として、相対的に隣接する微小突起４よりも低い高度の低高度微小突起４Ｌと、この低高度微小突起４Ｌに隣接すると共にこの低高度微小突起４Ｌよりも相対的に高い高度の高高度微小突起４Ｈとを含み、低高度微小突起４Ｌが高高度微小突起４Ｈにより周囲を取り囲まれている高低微小突起群４ＧＨＬを含んでなることが好ましい。高低微小突起群４ＧＨＬによって、耐擦傷性向上効果が期待できるからである。
なお、前記「高度が一定ではない微小突起４」において、「高度」とは谷底の基準高さと極大点の高さとの高度差としての「高さ」の意味であり、前述した個々の微小突起４の高さＨに相当する。
低高度微小突起４Ｌの周囲を取り囲む複数の高高度微小突起４Ｈの高さは、同一でそろっている必要はない。
低高度微小突起４Ｌ、高高度微小突起４Ｈのいずれも、後述する多峰性微小突起４Ｍであってもよい。低高度微小突起４Ｌ、或いは、高高度微小突起４Ｈが、多峰性微小突起４Ｍである場合には、その高度は、１つの頂部に存在する複数の極大点のうちの最大の高さでとらえる。
【００４５】
高低微小突起群４ＧＨＬは、後述する微小突起４を形成する為の成形型の作製工程にて、（Ｂ）陽極酸化処理工程で作製される微細な孔について、その深さのばらつきが大きくなるようにして作製することで形成することができる。具体的には、陽極酸化処理の印加電圧（化成電圧）を大きくすることで、ばらつきを大きくすることができる。
【００４６】
高低微小突起群４ＧＨＬによって、反射防止性微凹凸形成領域２Ａに外力が加わったときに、高高度微小突起４Ｈが、周囲の低高度微小突起４Ｌよりも先に外力を受け止めて、犠牲的に損傷することにより、低高度微小突起４Ｌの損傷を防ぐことができる。その結果、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの局所的な反射防止性能の劣化を緩和し、ひいては、反射防止性微凹凸形成領域２Ａによる表示が損なわれることを軽減できる耐擦傷性向上の効果が得られる。
【００４７】
高低微小突起群４ＧＨＬの個数の、全微小突起４の個数に対する比率は、好ましくは１０％以上、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは５０％以上である。前記比率が前記値未満であると、耐擦傷性向上の効果が充分に発揮されないことがあるからである。
尚、高低微小突起群４ＧＨＬの比率が高くなり過ぎると、高高度微小突起４Ｈの比率が高くなり過ぎ、少数の高高度微小突起４Ｈが犠牲的に外力による損傷、磨耗を引き受けて、低高度微小突起４Ｌを保護すると言う作用効果を奏さなくなってくる。この為、全微小突起４に対する高低微小突起群４ＧＨＬの比率は、好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは７０％以下とする。
又、微小突起群４Ｇ全体の中に於ける高低微小突起群４ＧＨＬの分布は、微小突起群４Ｇが形成される面内の全面に亙ってランダム且つ分布密度（単位面積当たりの高低微小突起群４ＧＨＬの個数）が均一に分布することが好ましい。これは、特定領域に高低微小突起群４ＧＨＬの分布密度が高く偏在すると、高低微小突起群４ＧＨＬにって犠牲的に外力による損傷を負担することによる耐擦傷性向上効果が十分に奏せられなくなる為である。
【００４８】
〔多峰性微小突起４Ｍ〕
多峰性微小突起４Ｍとは、図７及び図８で例示するように、１つの微小突起４が頂部に溝４ｇを１以上有する結果、頂部に複数の頂点を有することになった微小突起４を意味する。頂点を峰と表現すれば、複数の頂点を有することは複数の峰を有することであり、このような微小突起４を多峰性微小突起４Ｍと呼ぶことにする。多峰性微小突起４Ｍとは、逆に言えば、１つの微小突起４が頂部に頂点（極大点）を２以上有する結果、頂部に溝４ｇを１以上有することになった微小突起４を意味する。溝４ｇは、１つの頂部において、頂点同士の間の凹陥部とも言える。
本実施形態に於いては、図７及び図８に示す如く、多峰性微小突起４Ｍは、各頂点に係る峰が突起の中央を囲繞するように配置されて、各峰の境界をなす溝４ｇによって区画され、各峰（頂点）が中央より放射状に形成された溝４ｇによって配置された形状となっている。こうした峰の配置形態が耐擦傷性発現効果を奏する上で好ましい。
【００４９】
図７は、多峰性微小突起４Ｍを模式的に示す図である。図７（ａ）は斜視図、図７（ｂ）は平面図である。Ｚ軸方向が微小突起４の高さ方向である。図８の写真は、多峰性微小突起４Ｍを示す拡大写真である。図８（ａ）及び図８（ｃ）は走査型電子顕微鏡による拡大写真であり、図８（ｂ）は原子間力顕微鏡による拡大写真である。図８（ａ）は頂部の溝４ｇにより頂点を２つ有する２峰性微小突起４Ｍを示し、図８（ｂ）は頂部の溝４ｇにより頂点を３つ有する３峰性微小突起４Ｍを示し、図８（ｃ）は頂部の溝４ｇにより頂点を４つ有する４峰性微小突起４Ｍを示す。
【００５０】
多峰性とは、或る一つの微小突起４において、それを１つの山と見なしたときに、頂部に複数の頂上、つまり高さで言う頂点乃至は極大点を有することを意味する。一つの山は１つの裾を有する。したがって、多峰性微小突起４Ｍは、その頂部に存在する複数の極大点（頂上）が、一つの裾を共有している微小突起４であると言える。複数の極大点（頂上）の間には、溝４ｇを有する。
このように、微小突起群４Ｇは、そのなかに、多峰性微小突起４Ｍを含んでなることが好ましい。多峰性微小突起４Ｍによって、耐擦傷性向上効果が期待できるからである。
【００５１】
多峰性微小突起４Ｍは、後述する如く、微小突起４を形成する為の成形型の作製工程にて、（Ｂ）陽極酸化処理工程で極めて近接して作製された微細な孔が、次の（Ｃ）エッチング処理工程によって、一体化して形成されるように（Ｂ）陽極酸化処理工程及び（Ｃ）エッチング処理工程の条件を調整する事によって形成される。
【００５２】
多峰性微小突起４Ｍは、単峰性微小突起４Ｓに比べて、頂部での寸法（最大突起間距離Ｄｍａｘ、即ち反射防止性能に対応）に対する裾部の太さ（微小突起４の機械的強度に対応する）が相対的に太くなっている。このため、多峰性微小突起４Ｍは、単峰性微小突起４Ｓに比べて、同じ反射防止性能を発現しながら、しかも、より優れた機械的強度を有すると言える。この結果、多峰性微小突起４Ｍによって、反射防止性微凹凸形成領域２Ａに擦り傷が生じにくくできると考えられる。
また、多峰性微小突起４Ｍによって、反射防止性微凹凸形成領域２Ａに外力が加わったときに、頂部に存在する複数の頂点のうち、そのなかで最高峰の頂点が、先に外力を受け止めて、犠牲的に損傷することにより、最高峰よりも高さの低い頂点の損傷を防ぐことができる。その結果、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの局所的な反射防止性能の劣化を緩和し、ひいては、模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域２Ａによる表示が損なわれることを軽減できる耐擦傷性向上効果が得られる。しかも、十分な反射防止性能を発現し得る。
【００５３】
多峰性微小突起４Ｍの個数の、全微小突起４の個数に対する比率は、好ましくは１０％以上、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは５０％以上である。前記比率が前記値未満であると、耐擦傷性向上効果が充分に発揮されないことがあるからである。
但し、多峰性微小突起４Ｍの比率がある程度以上多くなると、多峰性微小突起４Ｍによる効果も飽和すると共に、成形型の製造条件も難しくなるなる為、この観点から当該比率は９０％以下とすることが好ましい。
【００５４】
〔微小突起４の形成方法〕
本発明においては、微小突起４の形成方法は、特に限定されない。本実施形態においては、アルミニウムの陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しにより成形型を作成し、この成形型で紫外線硬化性樹脂と２Ｐ法を用いて、樹脂層（微小突起形成層５Ａ）の表面に微小突起４を形成した。
【００５５】
高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍの形成は、ともに、陽極酸化処理及びエッチング処理の、各条件と繰り返し数を調整することで制御することができる。
【００５６】
［成形型の陽極酸化処理及びエッチング処理による作製方法］
ここで、本発明において採用し得る成形型の作製方法について説明する。この成形型を用いて、２Ｐ法、熱プレス法などの公知の成形法によって、微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを表面に有する反射防止性微凹凸３を形成することができる。
【００５７】
以下に説明する成形型の作製方法においては、（Ａ）型原型の準備工程、（Ｂ）陽極酸化処理工程、（Ｃ）エッチング処理工程の３工程を含み、前記（Ａ）工程の後に、前記（Ｂ）工程と前記（Ｃ）工程とを交互に複数回繰り返す。すなわち、
（Ａ）工程  →  ｛（Ｂ）工程  →  （Ｃ）工程｝N  →  ｛（Ｂ）工程｝M
となる。ここで、Ｎは２以上の整数、Ｍは０又は１、「→」は各工程をこの順序で行うことを表す記号である。
【００５８】
（Ａ）型原型の準備工程：
型原型の準備工程では、先ず、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法を利用して、母材の型面とする面を超鏡面化する（電解研磨）。次に超鏡面化された表面にアルミニウムをスパッタリングして、純度９９％以上、好ましくは純度９９．９％以上の高純度のアルミニウム層を形成して、型原型を作製する。型原型は、平板状、円筒状、円柱状などである。
【００５９】
（Ｂ）陽極酸化処理工程：
陽極酸化処理工程は、前記した型原型の型面とするアルミニウム表面に、陽極酸化法により微細な孔を作製し、さらにこの作製した微細な孔を掘り進める。陽極酸化処理自体は、アルミニウムに対する各種手法を適用することができる。例えば、負極には、炭素棒、ステンレス板材等を用いることができる。また、溶解液には、中性或いは酸性の各種溶解液を用いることができる。例えば、溶解液には、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を用いることができる。
微細な孔の大きさ及び深さは、液温、印加電圧、処理時間等を調整することによって制御することができる。
【００６０】
（Ｃ）エッチング処理工程：
エッチング処理工程では、前記陽極酸化処理工程で作製した微細な孔について、孔径を拡大し、深さ方向に向かって滑らか且つ徐々に孔径が小さくなるように、孔形状を整形する。エッチング液には、この種の処理に適用される各種エッチング液を用いることができる。例えば、エッチング液には、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を用いることができる。
【００６１】
前記（Ｂ）陽極酸化処理工程と、前記（Ｃ）エッチング処理工程とを、交互に、各々複数回繰り返すことによって、目的とする微小突起４を作製することができる。
微小突起４の形状は、（Ａ）型原型の準備工程での型表面のアルミニウムの純度（不純物量）及び結晶粒径、並びに（Ｂ）陽極酸化処理工程及び（Ｃ）エッチング処理工程での諸条件を、調整することによって制御することができる。
【００６２】
（高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍの生成）
高低微小突起群４ＧＨＬ及び多峰性微小突起４Ｍは、（Ｂ）陽極酸化処理工程において作製する微細な孔の形状及び深さを、ばらつかせることによって生成させることができる。その１つの手段は、（Ｂ）陽極酸化処理工程における印加電圧を制御することである。印加電圧を大きくすると、ばらつきは大きくなる。また、印加電圧をばらつきが大きくなる電圧値を含むように変動させてもよい。例えば、直流電圧に交流電圧を加えた変動電圧とする。例えば、印加電圧は１５〜３５Ｖの間で変動する変動電圧とする。
【００６３】
（多峰性微小突起４Ｍの形成法）
多峰性微小突起４Ｍの形成法について、さらに詳述する。
陽極酸化法で金属の成形型表面に微小突起群４Ｇに対応する微小孔群を形成する際に、隣接孔同士の間隔は印加電圧に比例することが知られている（特開２００３−４３２０３号公報等）。この現象を利用して図２に示すような多峰性微小突起４Ｍを含む微小突起群４Ｇを形成する為には、上記工程中に於ける（Ｂ）陽極酸化処理工程の条件、特に印加電圧の設定が重要である。
即ち、[（Ｂ）陽極酸化処理工程→（Ｃ）エッチング工程]の組み合わせを３回以上行い、しかも各（Ｂ）陽極酸化処理工程に於ける各工程の印加電圧を変える。
【００６４】
具体的には、
・第１回の陽極酸化処理工程では各工程中で最低電圧として、最終的に得るべき微小突起４の最大突起間距離Ｄｍａｘの１／３〜１／８に対応する隣接孔間隔となる電圧とする。
・そして、第２回以降の陽極酸化処理工程では、第１回の陽極酸化処理工程の電圧の整数倍で且つ前回の陽極酸化処理工程の印加電圧よりも順次高い（２〜３倍程度の）電圧として、隣接孔間隔を前回に形成した孔よりも広くする。又、同時に、孔の深度も前回に形成した孔よりも深くする。
これによって、各陽極酸化処理工程の後にエッチング処理工程で孔径を拡幅する際に、後の回の陽極酸化で形成された深度が深く且つ間隔の広い孔が、前の回に形成された深度が浅く且つ間隔の狭い孔を吸収併合する。その結果、開口部径が広く深い孔の底部に多峰性微小突起４Ｍの複数の頂点（峰）に対応する複数の最深点（谷底部）が形成される。
こうした陽極酸化処理工程を直後のエッチング処理工程と対にして、１回以上行う。
・最終回の陽極酸化処理工程於いて、再度、第１回の陽極酸化処理工程の低電圧に戻し、最深点（谷底部）の深さを深くするようにする。
【００６５】
処理条件も含めて、各工程を例示すると、以下の工程を挙げることができる。
（Ａ）型原型の準備工程；
表面を電解研磨したアルミニウム円筒表面に厚さ２μｍの純度９９．９９％のアルミニウム薄膜を蒸着形成した型原型を用意する。
（Ｂ１）第１陽極酸化処理工程；
濃度０．０２Ｍ、液温２０℃のシュウ酸水溶液中に型原型を浸漬し、印加電圧１０Ｖ、処理時間１２０ｓで処理する。
（Ｃ１）第１エッチング処理工程；
次いで、濃度１．０Ｍ、液温２０℃のリン酸水溶液に浸漬し、処理時間３００ｓで処理する。
（Ｂ２）第２陽極酸化処理工程；
印加電圧を２０Ｖに変えた他は、（Ｂ１）工程と同じ条件で処理する。
（Ｃ２）第２エッチング処理工程；
次いで、第１エッチング処理工程と同条件で処理する。
（Ｂ３）第３陽極酸化処理工程；
印加電圧を６０Ｖに変えた他は、（Ｂ１）工程と同じ条件で処理する。
（Ｃ３）第３エッチング処理工程；
次いで、第１エッチング処理工程と同条件で処理する。
（Ｂ４）第４陽極酸化処理工程；
印加電圧を１０Ｖに変えて、（Ｂ１）工程と同じ条件で処理する。
（Ｃ４）第４エッチング処理工程）；
次いで、第１エッチング処理工程と同条件で処理する。
【００６６】
以上の順で各工程の処理を行い、図２の如き多峰性微小突起４Ｍと単峰性微小突起４Ｓとを含む微小突起群４Ｇに対応する微小孔群を表面に有する成形型を得ることができる。
【００６７】
尚、｛（Ｂ）工程  →  （Ｃ）工程｝N  について、上記は、あくまでも１例であり、所望の最大突起間距離Ｄｍａｘ、平均突起高さＨａｖｅ、全微小突起４中に於ける多峰性微小突起４Ｍと単峰性微小突起４Ｓとの比率等に応じて、適宜各条件を調整する。
【００６８】
《微小突起付与層５》
微小突起付与層５は、不透明基板１に対して、微小突起４を付与する層である。具体的には、微小突起付与層５は、複数の微小突起４の集合体である微小突起群４Ｇを有する反射防止性微凹凸３によって、反射防止性微凹凸形成領域２Ａを、不透明基板１に付与する層である。
微小突起付与層５は、無色透明であることが好ましい。有色、不透明のいずれの場合でも、従来の着色模様層６と同様に観察条件によらずに同じ模様の表示が視認されてしまうからである。
尚、本発明においては、不透明基板１上に、他の層を介さずに直接、反射防止性微凹凸３が形成できる場合は、微小突起付与層５は省略し、不透明基板上に反射防止性微凹凸３を直接形成しても良い。
【００６９】
本実施形態においては、微小突起付与層５は、微小突起形成層５Ａと、この微小突起形成層５Ａを形成時に基材として用いた形成用基材層５Ｂと、この形成用基材層５Ｂでもって微小突起付与層５を不透明基板１の一方の面１ａに接合する接合層５Ｃと、から構成されている。
本発明においては、微小突起４を不透明基板１自体の表面に形成する場合は、微小突起付与層５は省略することができる。例えば、不透明基板１として樹脂製の樹脂ガラスの作製時に、その表面に微小突起４を形成する場合、或いは不透明基板１上にエンボス加工などの方法により微小突起４を形成する場合などである。
【００７０】
以下、本実施形態で採用している、微小突起形成層５Ａ、形成用基材層５Ｂ、及び接合層５Ｃについて説明する。
【００７１】
本実施形態においては、微小突起付与層５として、形成用基材層５Ｂとしてのポリエステル系樹脂フィルムの片面に、紫外線硬化性樹脂と成形型を用いた２Ｐ法（フォトポリマー法）によって微小突起形成層５Ａを形成し、前記形成用基材層５Ｂの他方の面にアクリル系粘着剤層を接合層５Ｃとして形成して得られた粘着フィルムを、目的とする模様の形状及び大きさに切断したものを用いた。
【００７２】
〔微小突起形成層５Ａ〕
微小突起形成層５Ａは、それ自体の表面に微小突起４を有する層である。微小突起形成層５Ａは、微小突起４を形成できる材料であれば特に制限はなく、例えば、紫外線や電子線などの電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂、或いは、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などである。これらの樹脂と成形型を用いて、微小突起４を成形することで、これらの樹脂の樹脂層の表面に微小突起４が成形された微小突起形成層５Ａを形成することができる。
成形法には公知の方法を適宜採用することができ、例えば、電離放射線硬化性樹脂には２Ｐ法を利用することができ、熱硬化性樹脂には熱プレス法（エンボス加工）などを利用することができ、熱可塑性樹脂には、熱プレス法、射出成形法、押出し成形法などを利用することができる。
【００７３】
〔形成用基材層５Ｂ〕
形成用基材層５Ｂは、代表的には樹脂フィルムを用いることができるが、機械的強度を有するものであれば特に制限はない。前記樹脂フィルムの樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などの樹脂を用いることができる。
形成用基材層５Ｂは、微小突起形成層５Ａを射出成形法、押出し成形法で形成する場合なとでは、省略することができる。
【００７４】
〔接合層５Ｃ〕
接合層５Ｃは、微小突起付与層５を不透明基板１に接合するための層である。接合層５Ｃには、粘着剤層、接着剤層などが用いられる。これらにはアクリル系、ポリエステル系、シコーン系など粘着剤或いは接着剤を用いることができる。接合層５Ｃは、微小突起形成層５Ａ或いは形成用基材層５Ｂが接着性を有するとき、或いは不透明基板１が接着性を有するときは、省略することができる。
【００７５】
《不透明板１０と表示板２０との違い》
不透明板１０が、例えば後述する壁掛けアートなどのような、特定の用途に使用され、特定の用途として機能している状態のものを表示板２０と呼ぶ。つまり、不透明板１０とは、その用途に使用される前の状態のものを言い、例えば、販売前においては倉庫に保存された状態、商品として陳列された状態、販売後においては、その用途に取り付けられる前の状態のものを言う。
表示板２０が表示する内容は、単なる模様、それ自体が人間に対してメッセージなどの情報としての意味を持つ文字又はロゴマークなどの図形、或いはこれらの組み合わせである。
そして、表示板２０は、不透明板１０の反射防止性微凹凸形成領域２Ａを有する側の表面における、反射光強度差による模様によって表示を行なう。
【００７６】
《変形形態》
本発明の不透明板１０及び表示板２０は、上記した形態以外に様々な形態をとり得る。以下、そのうちの一部を説明する。
【００７７】
〔着色模様層６〕
本発明においては、不透明板１０及び表示板２０は、さらに、着色模様層６を有することができる。図９の断面図は、着色模様層６を有する不透明板１０及び表示板２０の例を示す。図９（ａ）、及び図９（ｂ）は、いずれも、反射防止性微凹凸形成領域２Ａを有する側の不透明基板１の一方の面１ａ上に、着色模様層６を有する形態例を示す。
【００７８】
図９（ａ）に示す形態例は、反射防止性微凹凸形成領域２Ａは着色模様層６の面上にのみ形成されており、着色模様層６の模様が反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様と一致し平面視において互いに重なり合う形態例である。この形態例では、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様と着色模様層６との模様とが同じとなる為に、照明条件或いは観察条件によって反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様（光沢の強弱、或いは明度や彩度の高低）が見えなくはないが、反射防止性微凹凸形成領域２Ａ自体の観察条件によって反射光強度の模様という見え方を、着色模様層６による模様に重ねて表示することが可能となる。
【００７９】
図９（ｂ）に示す形態例は、模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域２Ａと着色模様層６とは、平面視において重なる部分が存在しないように形成されており、着色模様層６の模様と反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様とは、一致せず、別々の模様を表現できることになる。着色模様層６によって、常時見える模様を表示すると共に、模様状に形成された反射防止性微凹凸形成領域２Ａによって照明条件乃至入射光条件に応じて可視状態と不可視状態とが切り換る模様を表示することができる。
【００８０】
着色模様層６は、着色インキの印刷、模様形状に切り抜いた着色粘着シートの貼り付けなど、従来の方法によって形成することができる。着色模様層６は、目的とする表示内容に応じて、透明、不透明、いずでもよい。
【００８１】
着色模様層６は、単層、或いは２以上の複層のいずれでもよい。
【００８２】
以上のように、着色模様層６も有する形態とすることによって、反射防止性微凹凸形成領域２Ａによる模様以外に、着色模様層６による模様も表示することが可能となる。着色模様層６による表示は、光さえあれば、照明条件及び観察位置によらずに常時視認できる模様を付与することができる。
例えば、着色模様層６によって、屋外の風景画を表現すれば、表示板２０を疑似窓用途に用いることもできる。
【００８３】
〔その他の層〕
本発明においては、不透明板１０乃至は表示板２０は、上述した以外の層を適宜含むことができる。
【００８４】
例えば、微小突起４が形成されていない側の面の全面に対して、所定の機能を付与する為の機能層である。機能層としては、所定の色に着色するための着色層、結露防止層、汚染防止層、電磁波遮蔽層などである。これらには、公知の層を用いることができる。これらの機能層によって、その機能層が有する機能を付与することができる。
【００８５】
〔張り替え自在な微小突起付与層５〕
反射防止性微凹凸形成領域２Ａは、これを形成するための微小突起付与層５の接合層５Ｃに弱粘着性の粘着剤層を用いることができる。この結果、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様は、貼付自在な模様として、容易に張替えが可能であり、演出上の多彩な利用が可能となる。
【００８６】
《用途》
本発明による不透明板１０及び表示板２０の用途は、その微小突起４による可視光に対する模様状の反射防止効果を活用できる用途であれば、特に制限されない。
【００８７】
よって、本発明による不透明板１０及び表示板２０の用途は、例えば、住宅、店舗、事務所、学校、病院乃至は医院、等の建築物の壁、天井、扉、間仕切、窓隔壁、壁面アート、或いは、自動車、列車、船舶、航空機などの乗り物の壁、天井、扉、間仕切、窓、隔壁の表面の一部分又は全面に設置する案内、広告宣伝、各種情報表示の為の板、ポスター、カレンダー、壁面アート、或いは、店舗のショウウインドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用する板材、或いは、壁掛けアート、ポスター、掛け軸などの室内装飾具などの用途である。
【００８８】
《３》表示システム１００
本発明による表示システムは、上記した表示板２０と、この表示板２０に可視光を照明する光源とを少なくとも含む表示システムである。
図１０は、本発明による表示システム１００の基本的な構成を示す斜視図である。この基本的な構成に対する一実施形態例として、本発明による表示システムを、以下説明する。
同図において、表示板２０は、黒色（光吸収性）のポリエステル樹脂板の一方の面上に表面がＲｚ＝１０ｎｍの平滑面である無色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを積層してなる不透明基板１を有し、その一方の面（ＰＥＴフィルム側表面）の一部に図１（ｃ）の層構成の微小突起付与層５を図１０の如き形状に切抜いて貼り付けてなる模様状の反射防止性微凹凸形成領域２Ａを有し、当該形成領域２Ａ以外の表面が平滑面の反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂとされてなる。そして、形成領域２Ａを有する面に対して、斜め上方に設置された全面均一な輝度分布で白色光を発光するＥＬ（電界発光）発光体からなる光源３０からの入射光Ｌｉは、形成領域２Ａの部分では反射せずに微小突起付与層５を透過して不透明基板１で吸収される。一方、非形成領域２Ｂの部分の表面では入射光は反射して反射光Ｌｒとなって、光源３０から光の表示板２０上での鏡面反射光の方向に位置して表示板２０を観察する観察者Ｏに届いて、形成領域２Ａの模様が、その周囲の非形成領域２Ｂの光源光の色彩（白色）をした光沢面の背景の中で暗黒の模様として視認される構成となっている。
【００８９】
以下、表示システム１００を構成する構成要素などについて説明する。
【００９０】
《表示板２０》
表示板２０については、既に上述したので、ここでは更なる説明は省略する。
【００９１】
《光源３０》
光源３０は、表示板２０の反射防止性微凹凸形成領域２Ａが形成された側の面に、可視光を照射できるものであれば、特に制限はない。白熱電球、ハロゲンランプ、蛍光灯、ＬＥＤ（発光ダイオード）光源、ＥＬ（電界発光）光源などである。
光源３０には、それ自体で可変模様を表示可能な画像表示パネルとして、液晶表示パネル、プラズマディスプレイパネル、電界発光パネル、プロジェクタなどであってもよい。これらの画像表示パネルは、動画を表示してもよいし、静止画を表示してもよいし、無地で模様のない任意の白を含む色を表示してもよい。画像表示パネルを光源３０に用いることによって、これらの表示内容に応じた光を、表示板２０に照射することになり、より複雑な表示内容とすることが可能となる。
光源３０を配置する位置は、表示システム１００によって得る視覚効果に応じた位置に
設置すればよい。
光源３０は、スポットライトのように、指向性を有するものでもよい。指向性を有する光源３０によって、特に夜間など暗い場所において、表示を際立たせることができる。
光源３０は、少なくとも１つを設置するが、複数を隣接或いは互いに離間して設置してもよい。
【００９２】
《視覚効果》
図１１は、表示システム１００によって得られる視覚効果の一例として、観察者Ｏに対して、光源３０の消灯時と点灯時とで視認される様子の違いを説明する図である。尚、光源３０の消灯時に、観察者Ｏの目に鏡面反射光として入射し得る光を供給するその他の光源は自然光、人口光源を含めて存在しない環境下にある。
先ず、光源３０の消灯時は、図１１（ａ）に示すように、光源３０からの光Ｌｉがないので、観察者Ｏに対して反射防止性微凹凸形成領域２Ａから正反射してくる光はもちろんないが、反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂから正反射してくる光もない。よって、観察者Ｏには、形成領域２Ａの模様は見えない。表示板２０は全面黒色の無地の板として見える。
一方、光源３０の点灯時は、図１１（ｂ）に示すように、観察者Ｏは形成領域２Ａのみ光Ｌｉの反射光は見えず、且つ非形成領域２Ｂのみ前記光源３０からの鏡面反射光となる白色の反射光Ｌｒが見える。よって、観察者Ｏには、光源３０の点灯時のみ、光源３０からの光Ｌｉが表示板２０の表面で反射した全面白色の光源像中に、形成領域２Ａの模様が黒色に切抜かれて視認される。
【００９３】
次に、観察者Ｏの位置による見え方の違いについて説明する。図１１（ｂ）で説明したような、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様がくり抜かれた、光源３０からの光Ｌｉの反射光による模様は、図１１（ｃ）に示すように、所定の位置に設置された光源３０を、正反射光として視認できる位置に居る図面右側の観察者Ｏのみに見える。光源３０を正反射で視認し得ない位置に居る図面左側の観察者Ｏには形成領域２Ａのくり抜かれた模様は見ることができない。逆に言えと、光源３０は、光源３０からの光Ｌｉの正反射光によって、観察者Ｏに、形成領域２Ａのくり抜かれた模様が見える所定の位置に設置してある。
こうして、光源３０の点灯／消灯状態及びその設置位置による照明条件、観察者Ｏの位置によっても、形成領域２Ａの模様を、見えたり、見えなかったりさせることができる。
以上の結果、制約が多いディスプレイパネルによらずに、視認される模様を、照明条件、観察位置、或いは照明条件及び観察位置によって、変化させることができる、視覚効果が得られる。
【００９４】
〔屋内での視覚効果〕
図１２は、本発明による表示システム１００を屋内に適用したときの一実施形態を示す図であり、図１２（ａ）は斜視図、図１２（ｂ）は平面図である。図１３は、図１２に示す表示システム１００で得られる屋内での視覚効果を説明する図である。
【００９５】
図１２に示す表示システム１００は、壁８１によって屋外と仕切られた屋内の様子を模式的に示す。壁８１の一部には壁掛けアート８２が設置され、この壁掛けアート８２は、上述したような反射防止性微凹凸形成領域２Ａ及び反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂを有する表示板２０からなる壁掛けアート本体８３が、額縁８４に固定されている。表示板２０の形成領域２Ａ及び非形成領域２Ｂは、屋内側に向いている。さらに、壁掛けアート８２が設置されている壁８１に対して直交する図面で上方の壁８１には、平面状の光源３０が設置されている。また、天井には屋内を照明する天井照明３１が設置されている。
床８５には、食卓８６と、食卓８６を取り囲む椅子８７とが、客席８８として設置されている。床８５の光源３０側のスペースは、廊下８９となっており、図面右側の方向が出口方向となっている。
【００９６】
光源３０からの光は、壁掛けアート８２として用いられている表示板２０における反射防止性微凹凸非形成領域２Ｂに当たって正反射した光Ｌ１及び光Ｌ２は、食卓８６の方に届く。一方、光源３０からの光のうち、壁掛けアート８２として用いられている表示板２０における形成領域２Ａに当たった光は正反射しないので、食卓８６の方には届かない。よって、客席８８からは、図１０及び図１１の説明で述べたのと同様な原理で形成領域２Ａの模様が、その周囲の非形成領域２Ｂの光源光の色彩をした光沢面の背景の中で暗黒の模様として視認される。なお、図面では、理解を容易にするために、食卓８６の上面に光Ｌ１及び光Ｌ２が届くように描いてあるが、食卓８６に対する椅子８７に着席する客の目の位置にも届く。
したがって、図１２（ｂ）の平面図でよく判るように、光源３０から表示板２０に当たった光は、客席８８の椅子８７には届くが、廊下８９の方に届かない。即ち、出口乃至は廊下８９の方向に位置する観察者からは、壁掛けアート８２は全面黒色の無地の板として見える。
天井照明３１からの光は、図示はしないが、壁掛けアート８２として用いられている表示板２０における非形成領域２Ｂに当たって正反射した光が、床８５の方に届き、食卓８６及び廊下８９の方に届かない。即ち、天井照明３１は、こうした壁掛けアート８２（表示板の１形態）の視覚的効果には影響はない（壁掛けアート８２はそのように配置されている）。
【００９７】
そして、このような表示システム１００では、図１３で示すような、光源３０の消灯時と点灯時、天井照明３１の消灯時と点灯時、及び客席８８と廊下８９で、壁掛けアート８２を見たときの見え方が異なる視覚効果が得られる。
図１３では、光源３０のことを「照射光源」として記してある。
【００９８】
＜天井照明３１点灯時で光源３０点灯時＞
客席８８側からは、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様を見ることができる。また、光源３０の平面形状も見ることができる。
廊下８９側からは、形成領域２Ａは見えず、壁掛けアート８２の額縁８４のみを見ることができる。但し、光源３０の長方形の平面形状は見ることができない。
＜天井照明３１点灯時で光源３０消灯時＞
客席８８側からも、廊下８９側からも、ともに、形成領域２Ａは見えず、壁掛けアート８２の額縁８４のみを見ることができる。もちろん、光源３０の平面形状は見ることができない。
【００９９】
＜天井照明３１消灯時で光源３０点灯時＞
客席８８側からは、反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様を見ることができ、壁掛けアート８２の額縁８４は見ることができない。但し、光源３０の平面形状は見ることができる。
廊下８９側からは、形成領域２Ａは見えず、壁掛けアート８２の額縁８４も見ることができない。また、光源３０の平面形状も見ることができない。
＜天井照明３１消灯時で光源３０消灯時＞
客席８８側からも、廊下８９側からも、ともに、形成領域２Ａ及び壁掛けアート８２の額縁８４は見えない。もちろん、光源３０の平面形状は見ることができない。
【０１００】
＜着色模様層６による疑似的な風景画＞
図１３では、さらに、着色模様層６によって風景画が形成され、壁掛けアート８２が疑似窓として機能する場合の視覚効果についても、前記風景画を一点鎖線で示してある。天井照明３１点灯時は、光源３０の点灯と消灯のいずれの場合も、客席８８及び廊下８９から共に風景画を見ることができるが、天井照明３１消灯時は、光源３０の点灯と消灯のいずれの場合も、客席８８及び廊下８９から共に風景画を見ることができない。
【０１０１】
＜視覚効果の総括＞
以上のように、本実施形態では、天井照明３１の点灯時及び消灯時は、光源３０を点灯すると、光源３０により壁掛けアート８２が照らされた状態において、客があらかじめ設定された客席８８の位置へ到着した時に初めて、壁掛けアート８２上に反射防止性微凹凸形成領域２Ａにより表示された模様を観察する事が可能となる。ただ、天井照明３１点灯時は、これに加えて通常通りの視界が得られ、壁掛けアート８２の全体を観察する事が可能となり、壁掛けアート本体８３に地模様など通常の模様がある場合は、その模様も観察する事が可能となる。
したがって、客席に居る客に対して、光源３０と天井照明３１による照明条件、及び客席８８と廊下８９で、壁掛けアート８２を見たときに、見え方が異なる視覚効果を与えることができる。
このため、客席に居る客の興味が新鮮かつ持続性を有する事が期待できる。
【０１０２】
以上のように、本発明の表示システム１００においては、表示板２０を壁掛けアート８２としたときの一例で言えば、特定の対象者位置とその壁掛けアート８２に対する視線方向を設定し、好ましくは、壁掛けアート８２の不透明基板１の地模様や着色模様層６の模様と反射防止性微凹凸形成領域２Ａの模様との位置関係が、対象者に何らかの興味を持たせられるような組み合わせを設定する事が望ましい。
さらに、壁掛けアート８２の全面、或いは、前記形成領域２Ａの模様にかかる様に投影をする光源３０を設置するとき、光源３０は、通常は単純な屋内照明、好ましくは表示物を照らすような面照明、スポットライト、或いは、これらの組み合わせとするとよい。
【０１０３】
《変形形態》
本発明の表示システム１００は、上記した形態以外に様々な形態をとり得る。以下、そのうちの一部を説明する。
【０１０４】
〔複数の表示板２０〕
前記実施形態では、表示板２０、及び正反射光が注目する観察者に届くようにした光源３０は、ともに１つであった。しかし、本発明においては、１の室内において、表示板２０或いは光源３０は複数設置されていてもよい。複数とすることにより、より複雑な表示が可能となる。
【０１０５】
《用途》
本発明による表示システム１００は、各種用途に適用することができる。例えば、住宅、店舗、事務所、学校、病院乃至は医院、等の建築物の壁、天井、扉、間仕切、不透明な窓、疑似窓、隔壁、壁面アート、或いは、自動車、列車、船舶、航空機などの乗り物の壁、天井、扉、間仕切、不透明な窓、疑似窓、隔壁、壁面アート、或いは、店舗のショウウインドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用する箱材、或いは、建築物や乗り物などの室内で壁面に設けられる、壁掛けアート、ポスター、掛け軸などの室内装飾具などの用途である。
用途の例を挙げれば、飲食店の疑似窓や壁掛けアートなどとして、照明条件、観察位置で表示を変化させる視覚効果により、客席を演出する用途などである。
【符号の説明】
【０１０６】
１      不透明基板
１ａ    一方の面
２Ａ    反射防止性微凹凸形成領域
２Ｂ    反射防止性微凹凸非形成領域
３      反射防止性微凹凸
４      微小突起
４ｇ    溝
４Ｇ    微小突起群
４ＧＨＬ  高低微小突起群
４Ｈ    高高度微小突起
４Ｌ    低高度微小突起
４Ｍ    多峰性微小突起
４Ｓ    単峰性微小突起
５      微小突起付与層
５Ａ    微小突起形成層
５Ｂ    形成用基材層
５Ｃ    接合層
６      着色模様層
１０    不透明板
２０    表示板
３０    光源
３１    天井照明
４０    従来の表示板
８１    壁
８２    壁掛けアート
８３    壁掛けアート本体
８４    額縁
８５    床
８６    食卓
８７    椅子
８８    客席
８９    廊下
１００    表示システム
Ｄｍａｘ  最大突起間距離
Ｌｉ      光
Ｌｒ      反射光
Ｏ        観察者
λｍａｘ  （可視光の）最大波長
【図１】
2014194460.tif 000003
【図５】
2014194460.tif 000004
【図７】
2014194460.tif 000005
【図９】
2014194460.tif 000006
【図１０】
2014194460.tif 000007
【図１１】
2014194460.tif 000008
【図１２】
2014194460.tif 000009
【図１３】
2014194460.tif 000010
【図１４】
2014194460.tif 000011
【図２】
2014194460.tif 000012
【図３】
2014194460.tif 000013
【図４】
2014194460.tif 000014
【図６】
2014194460.tif 000015
【図８】
2014194460.tif 000016