(57)【要約】【課題】複数の同種の処理装置がレシピにしたがって処理を行う半導体製造システムで、従来に比して簡易な方法で複数のレシピを比較して、レシピの妥当性を判断することができるレシピ管理装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、レシピ管理装置２０は、処理装置の処理条件を規定したレシピを、同一種類の複数の前記処理装置間で比較する装置であり、レシピ読込部２１とマスク部２４と判定部２５とを備える。レシピ読込部２１は、複数の処理装置のバイナリ形式のレシピを読み込む。マスク部２４は、レシピのバイナリ形式のデータ中のマスクをかけるマスク位置を規定したマスク位置情報に基づいて、レシピのデータにマスクをかける。判定部２５は、マスクがかけられた複数のレシピ間の比較を行い、差異があるかを判定する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理装置の処理条件を規定したレシピを、同一種類の複数の前記処理装置間で比較するレシピ管理装置であって、
前記複数の処理装置のバイナリ形式の前記レシピを読み込むレシピ読込手段と、
前記レシピのバイナリ形式のデータ中のマスクをかけるマスク位置を規定したマスク位置情報に基づいて、前記レシピのデータにマスクをかけるマスク手段と、
前記マスクがかけられた前記複数のレシピ間の比較を行い、差異があるかを判定する判定手段と、
前記判定手段によって差異があると判定された場合に、異常を出力する異常出力手段と、
前記マスク位置情報を記憶するマスク位置記憶手段と、
前記マスク位置情報を前記マスク位置記憶手段に登録するマスク位置登録手段と、
を備え、
前記マスク位置は、前記複数のレシピ間で差異が許容できる位置であり、
前記複数のレシピは、
前記複数の処理装置のうちの１つの基準処理装置に対して最適化されたレシピ原本と、
前記レシピ原本をコピーしたレシピデータを、前記複数の処理装置のうちの前記基準処理装置以外の処理装置に対して最適化されたレシピデータと、
を含むことを特徴とするレシピ管理装置。
【請求項２】
処理装置の処理条件を規定したレシピを、同一種類の複数の前記処理装置間で比較するレシピ管理装置であって、
前記複数の処理装置のバイナリ形式の前記レシピを読み込むレシピ読込手段と、
前記レシピのバイナリ形式のデータ中のマスクをかけるマスク位置を規定したマスク位置情報に基づいて、前記レシピのデータにマスクをかけるマスク手段と、
前記マスクがかけられた前記複数のレシピ間の比較を行い、差異があるかを判定する判定手段と、
を備えることを特徴とするレシピ管理装置。
【請求項３】
前記判定手段によって差異があると判定された場合に、異常を出力する異常出力手段をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載のレシピ管理装置。
【請求項４】
前記マスク位置は、前記複数のレシピ間で差異が許容できる位置であることを特徴とする請求項２または３に記載のレシピ管理装置。
【請求項５】
前記マスク位置情報を記憶するマスク位置記憶手段と、
前記マスク位置情報を前記マスク位置記憶手段に登録するマスク位置登録手段と、
をさらに備えることを特徴とする請求項２から４のいずれか１つに記載のレシピ管理装置。
【請求項６】
前記複数のレシピは、
前記複数の処理装置のうちの１つの基準処理装置に対して最適化されたレシピ原本と、
前記レシピ原本をコピーしたレシピデータを、前記複数の処理装置のうちの前記基準処理装置以外の処理装置に対して最適化されたレシピデータと、
を含むことを特徴とする請求項２から５のいずれか１つに記載のレシピ管理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、レシピ管理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造システムは、複数の工程が組み合わされて製造される半導体装置を、工程ごとに設けた処理装置で順に処理するものである。一般的に、工程ごとに設けられる処理装置は、処理条件が規定されたレシピにしたがって制御される。また、一つの工程では、同一種類の複数台の処理装置が使用されることが一般的である。
【０００３】
一つの工程で使用される複数台の処理装置では、たとえば１つの処理装置で使用されるレシピをコピーし、編集したものが他の処理装置で使用されるが、これらの複数のレシピが比較される場合がある。一般的に、２つのレシピの比較においては、比較対象となる２つのレシピを作業者が理解可能な形式のデータに変換した上で、２つのレシピの違いが抽出される。このような比較方法では、バイナリデータのレシピをテキストデータに変換する変換モジュールが必要となる。しかし、レシピは処理装置の種類ごとにフォーマットが定められるので、変換モジュールは処理装置（レシピ）の種類ごとに作成しなければならない。そのため、新たな種類の処理装置が導入された場合には、新たな変換モジュールを作成しなければならず、手間がかかるという問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−３４５７５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の一つの実施形態は、複数の同種の処理装置がレシピにしたがって処理を行う半導体製造システムで、従来に比して簡易な方法で複数のレシピを比較して、レシピの妥当性を判断することができるレシピ管理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一つの実施形態によれば、処理装置の処理条件を規定したレシピを、同一種類の複数の前記処理装置間で比較するレシピ管理装置が提供される。レシピ管理装置は、レシピ読込手段と、マスク手段と、判定手段と、を備える。前記レシピ読込手段は、前記複数の処理装置のバイナリ形式の前記レシピを読み込む。前記マスク手段は、前記レシピのバイナリ形式のデータ中のマスクをかけるマスク位置を規定したマスク位置情報に基づいて、前記レシピのデータにマスクをかける。前記判定手段は、前記マスクがかけられた前記複数のレシピ間の比較を行い、差異があるかを判定する。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、１つの工程における複数台の処理装置のレシピの関係を模式的に示す図である。
【図２】図２は、一般的なレシピ管理装置でのレシピ比較の様子を模式的に示す図である。
【図３】図３は、実施形態によるレシピ管理装置の構成の一例を模式的に示すブロック図である。
【図４】図４は、レシピ原本と比較対象のレシピのバイナリレベルでの比較の様子を模式的に示す図である。
【図５】図５は、実施形態によるマスク位置の登録処理手順の一例を示すフローチャートである。
【図６】図６は、マスク位置情報の登録の様子を模式的に示す図である。
【図７】図７は、実施形態によるレシピの比較処理手順の一例を示すフローチャートである。
【図８】図８は、レシピの比較処理の手順の様子を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に添付図面を参照して、実施形態にかかるレシピ管理装置を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではない。また、以下では、従来のレシピ管理装置の概要とその問題点について説明した後に、実施形態によるレシピ管理装置について説明を行う。
【０００９】
半導体製造システムには、成膜装置、露光装置、エッチング装置などの半導体装置を製造する各工程で使用される処理装置が配置される。各工程で使用される処理装置は、１つの工程につき１台だけ配置されるのではなく、複数台配置されるのが一般的である。つまり、１つの工程では、一般的に同じ種類の複数台の処理装置によって処理が実行される。これらの処理装置は、それぞれ動作処理手順が記載されたレシピを有し、このレシピにしたがって制御される。
【００１０】
図１は、１つの工程における複数台の処理装置のレシピの関係を模式的に示す図である。この図に示されるように、１つの処理装置１０Ａに、その処理装置１０Ａで処理する半導体装置の加工品質が許容範囲内となる条件が規定されたレシピ原本１００Ａが設定される。たとえば、レシピ原本１００Ａは、処理装置１０Ａが処理を行う際に、加工品質が許容範囲内となるように最適化された条件が規定される。このレシピ原本１００Ａは、バイナリ形式のデータであり、バイナリ形式のデータのそれぞれの位置が、何を示し、またその位置に対応して設定される数値（０または１）がどのような状態を示しているかが別途規定されている。これは通常装置メーカによって規定されるものであり、装置ユーザは、その規定内容を知ることができない。なお、レシピは、処理装置の種類ごとにフォーマットが定められている。また、以下では、レシピ原本１００Ａが設定された処理装置１０Ａを、他の処理装置の例である処理装置１０Ｂ，１０Ｃと特に区別する場合には、基準処理装置というものとする。
【００１１】
上記したように、１つの工程では、たとえば複数台の処理装置１０Ａ〜１０Ｃが使用される。そのため、基準処理装置１０Ａ以外の処理装置１０Ｂ，１０Ｃにも同様のレシピ１００Ｂ，１００Ｃが設定されるが、一般的には基準処理装置１０Ａのレシピ原本１００Ａをコピーしたものが、それぞれの処理装置１０Ｂ，１０Ｃのレシピ１００Ｂ，１００Ｃとして設定される。
【００１２】
１つの工程で使用される複数台の処理装置１０Ｂ，１０Ｃで、レシピ原本１００Ａに対してレシピを変更する場合として、（１）装置特性に合わせてパラメータを修正する場合、（２）実験でパラメータを修正する場合、の２つの場合を例示することができる。
【００１３】
（１）装置特性に合わせてパラメータを修正する場合
同じ種類の処理装置でも、装置特性には若干のばらつきが存在する。そのため、ある処理装置１０Ｂ，１０Ｃのレシピ１００Ｂ，１００Ｃとして、レシピ原本１００Ａをそのまま使用した場合に、その処理装置１０Ｂ，１０Ｃで処理される半導体装置の加工品質が許容範囲内とはならなかったり、許容範囲内ではあるが最適な処理条件ではなかったりする可能性がある。そのような場合には、レシピエディタと呼ばれる装置を用いて、レシピ原本１００Ａをコピーしたレシピ１００Ｂ，１００Ｃ中のパラメータをその処理装置１０Ｂ，１０Ｃの特性に応じて修正し、修正したレシピが処理装置１０Ｂ，１０Ｃに設定される。このように、各処理装置の特性に応じて修正されたレシピが各処理装置に設定され、それぞれの処理装置はそのレシピにしたがって処理を行うことになる。
【００１４】
（２）実験でパラメータを修正する場合
基準処理装置１０Ａではない他の処理装置１０Ｂ，１０Ｃで実験を行うこともある。この場合にも、レシピエディタを用いてレシピ１００Ｂ，１００Ｃ中のパラメータを変更し、その変更したレシピを用いて実験が行われる。このような実験は、一時的なものであり、実験終了後は、レシピ中の変更したパラメータは元に戻される。
【００１５】
ところで、（２）の場合では、実験終了後に、ユーザが変更したパラメータを元に戻すことを忘れる場合がある。このような場合には、レシピ管理装置で、たとえばレシピ原本１００Ａと他の処理装置１０Ｂ，１０Ｃのレシピ１００Ｂ，１００Ｃとを比較して、レシピ１００Ｂ，１００Ｃにレシピ原本１００Ａとは異なるパラメータが設定されているか否かを判定し、装置ユーザに注意を促していた。
【００１６】
図２は、一般的なレシピ管理装置でのレシピ比較の様子を模式的に示す図であり、（ａ）はレシピ比較の様子を模式的に示す図であり、（ｂ）はテキスト変換されたレシピの内容の一例を示す図である。ここで、レシピ原本１００Ａと比較対象のレシピ１００Ｘとは、同じフォーマットで記述されているものとする。図２（ａ）に示されるように、レシピ管理装置は、バイナリ形式で記述されているレシピ原本１００Ａとレシピ１００Ｘ（以下では、両者を区別する必要がない場合には、レシピという）のテキスト変換を行い、テキスト形式のレシピ原本データ１０１Ａとテキスト形式のレシピデータ１０１Ｘを取得する。このテキスト変換は、レシピ１００Ａ，１００Ｘ内の各位置は何を示しているのか、またその値（０または１）がどのような状態を示しているのか、を規定するレシピ−テキスト変換情報１２１に基づいて行われる。ここで、レシピ１００Ａ，１００Ｘのフォーマットは、処理装置の種類ごとに異なるものであるので、レシピ−テキスト変換情報１２１は処理装置の種類ごとに異なる。
【００１７】
図２（ｂ）に示されるように、テキスト形式のレシピデータ１０１は、たとえば製品名、処理工程、処理工程でのパラメータなどの項目と、それぞれの項目に対して設定される名称や値などの設定値と、を有する。これらの項目と設定値は、ユーザに認識可能な言語で記述される。
【００１８】
そして、レシピ管理装置は、テキスト形式のレシピデータ１０１Ｘをテキスト形式のレシピ原本データ１０１Ａと比較し、異なる部分を抽出して装置ユーザに対して通知する。
【００１９】
このように、一般的なレシピ管理装置は、バイナリ形式のレシピ１００Ｘをテキスト形式のレシピデータ１０１Ｘに変換し、テキスト形式のレシピ原本データ１０１Ａと比較するので、処理に時間がかかってしまっていた。そこで、本実施形態では、レシピ１００Ｘとレシピ原本１００Ａとの比較に要する処理時間を従来に比して短縮することができるレシピ管理装置について説明する。
【００２０】
図３は、実施形態によるレシピ管理装置の構成の一例を模式的に示すブロック図である。レシピ管理装置２０は、レシピ読込部２１と、マスク位置記憶部２２と、マスク位置登録部２３と、マスク部２４と、判定部２５と、異常出力部２６と、これらの各処理部を制御する制御部２７と、を備える。
【００２１】
レシピ読込部２１は、各処理装置に設定されるバイナリ形式のレシピを読み込む。レシピ読込部２１は、ＵＳＢ（Universal  Serial  Bus）メモリなどの携帯可能な情報記憶媒体やネットワークなどを介して各処理装置からレシピを読み込む。
【００２２】
マスク位置記憶部２２は、２つのレシピを比較する際に、バイナリデータ中の比較しない位置（比較対象外領域）であるマスク位置を含むマスク位置情報を記憶する。マスク位置は、バイナリデータにマスクをかける位置であり、たとえば先頭データから数えた位置によって指定される。マスク位置情報は、マスク位置に加えて、その位置についての備考を含んでもよい。このマスク位置情報の詳細については後述する。
【００２３】
マスク位置登録部２３は、マスク位置記憶部２２のマスク位置情報の内容を登録する処理を行う。具体的には、レシピ原本と比較対象のレシピとを比較し、両者に差異がある場合に、たとえばレシピ管理装置２０が有する図示しない表示手段にその旨を表示し、両者の差異を無視してよいか否かのユーザによる判断結果を取得する。そして、両者の差異を無視してよい場合に、レシピ中の差異のある位置をマスク位置としてマスク位置記憶部２２のマスク位置情報に登録する。またこのとき、ユーザによって備考が入力された場合には、登録したマスク位置に対応付けて備考も登録する。
【００２４】
マスク部２４は、レシピ読込部２１によって読み込まれたレシピ原本と比較対象のレシピとに、マスク位置記憶部２２中のマスク位置情報に基づいてマスクをかける。
【００２５】
判定部２５は、マスクがかけられたバイナリ形式のレシピ原本とレシピとを比較し、両者に違いがあるかを判定する。両者に違いがない場合には、比較対象のレシピに異常はないと判定し、また、両者に違いがある場合には、比較対象のレシピに異常があると判定する。
【００２６】
異常出力部２６は、判定部２５によって異常があると判定された場合に、ユーザに対して比較対象のレシピが異常である旨の警告情報を出力する。この警告情報は、たとえばレシピ管理装置２０の表示手段に表示される。
【００２７】
ここで、マスク位置情報の詳細について説明する。図１に示されるように、レシピ１００Ｂ，１００Ｃは、レシピ原本１００Ａがコピーされたものであり、レシピ１００Ｂ，１００Ｃ中のパラメータは、（１）装置特性に合わせて、または（２）実験によって、変更される。このような変更は、上記したレシピエディタによって行うことができる。
【００２８】
（１）装置特性に合わせてパラメータを修正する場合には、修正したレシピ１００Ｂ，１００Ｃがレシピ原本１００Ａと違っていても問題ない。そのため、比較によってそのような差異が見つかった場合には、エラーとして検出されないようにすることが望ましい。また、パラメータを修正していない場合でも、たとえば図１に示したようにレシピ原本１００Ａをコピーした際に、その日付がファイル中に記憶される場合には、コピーしたレシピ１００Ｂ，１００Ｃは、コピーした日付の部分だけレシピ原本１００Ａとは異なることになる。このような場合も実質的な差異はないので、エラーとして検出されないようにすることが望ましい。
【００２９】
そこで、本実施形態では、レシピ原本１００Ａをコピー、編集して作成されたレシピ１００Ｂ，１００Ｃがレシピ原本１００Ａに対して差異を有し、その差異が許容できるものである場合には、レシピ原本１００Ａに対してバイナリレベルで異なる位置を取得し、その位置をマスク位置として抽出する。そして、このマスク位置をマスク位置記憶部２２のマスク位置情報に記憶する。図４は、レシピ原本と比較対象のレシピのバイナリレベルでの比較の様子を模式的に示す図である。なお、この比較においては、比較するレシピ原本１００Ａとレシピ１００Ｘのフォーマットは同一であるものとする。たとえば、この場合には、レシピ１００Ｘは、レシピ原本１００Ａに対して、位置Ｒ１（バイナリデータの先頭から数えて２２番目の位置）に差異があり、この差異がレシピ原本１００Ａに対して許容できるものである場合には、この位置Ｒ１をマスク位置としてマスク位置記憶部２２のマスク位置情報に記憶する。
【００３０】
このように、マスク位置記憶部２２にマスク位置を登録することで、レシピ原本１００Ａと比較対象のレシピ１００Ｘとの比較時に、両者に許容できる差異がマスク位置に存在しても、その差異がマスクされてしまうので、比較対象データから外され、検出されなくなる。
【００３１】
一方、（２）実験でパラメータを修正する場合には、通常の処理を行う場合には修正したパラメータを元の値に戻すことが必要となる。しかし、修正したパラメータを元の値に戻すことをユーザが忘れてしまうこともある。たとえば、図４でレシピ１００Ｘの位置Ｒ１に対応する処理条件を実験によって変更した後、通常の処理を行う場合には、その値を戻さなければならないが、忘れてしまい、レシピ１００Ｘが実験を行った状態のままとなる場合もある。そのような場合には、レシピ１００Ｂ，１００Ｃのレシピ原本１００Ａとは異なる差異をエラーとして検出できることが望ましい。
【００３２】
そこで、本実施形態では、実験によって書き換えられたパラメータについては、マスク位置情報には登録しないようにしている。このようにすることで、レシピ原本１００Ａとの差異が許容できないものについて、バイナリデータから検出することができるようになる。
【００３３】
ここで、この明細書での許容できる差異について説明する。レシピ中のパラメータの変更を行っても、処理装置での加工品質が所定の範囲外とならないような場合に、レシピ原本１００Ａに対して許容できる差異ということができる。たとえば、上記したように、処理装置の特性に合わせてパラメータを最適化（変更）した場合などが、レシピ原本１００Ａに対して許容できる差異とすることができる。その結果、処理装置でウェハを処理した際に、その処理品質が所定の条件を満たすものである場合には、その処理に対応するレシピ中の位置にマスクをかけることができる。また、ユーザによって、処理装置の処理に影響を与えないパラメータ（レシピの保存日時など）を変更した場合のように、処理に必要がないデータであると特定される位置のデータにもマスクをかけることができる。さらにこのほかにも、ユーザによって任意にマスク位置を設定することができる。
【００３４】
つぎに、本実施形態によるバイナリレベルでのレシピの比較方法について、マスク位置情報の登録処理、およびレシピの比較処理について順に説明する。
【００３５】
＜マスク位置の登録処理＞
図５は、実施形態によるマスク位置の登録処理手順の一例を示すフローチャートである。まず、マスク位置登録部２３は、バイナリ形式のレシピ原本と比較対象のレシピとを読み込み（ステップＳ１１）、両者の内容をバイナリレベルで比較し、差異があるかを判定する（ステップＳ１２）。両者に差異がない場合（ステップＳ１２でＮｏの場合）には、マスク位置の登録処理が終了する。
【００３６】
一方、両者に差異がある場合（ステップＳ１２でＹｅｓの場合）には、レシピ原本と比較対象のレシピとの内容の比較処理を行い、レシピの差異はレシピ原本に対して許容できる範囲内であるかの判定が行われる（ステップＳ１３）。
【００３７】
この判定処理は、種々の方法で行うことができる。たとえば、レシピエディタでレシピ原本とレシピとをテキストデータ形式に変換し、処理項目に関するパラメータに両者で差異があるかを比較する。このとき、各処理項目について、レシピ原本の値を基準として、パラメータとして取れる値の範囲を予め設定しておき、テキスト形式のレシピの値が、その範囲内に収まっているか否かで差異があるかを判定することができる。
【００３８】
また、ユーザがレシピのレシピ原本に対する修正箇所（修正内容）を把握している場合には、両者の差異が許容されるべきものか否かをユーザが判定することができる。たとえば、上記（１）の場合のように、レシピの変更箇所がレシピ原本の一部のパラメータを装置特性に応じて修正したもののみである場合には、その差異は許容されるべきものであるとユーザによって判定される。また、上記（２）の場合のように、レシピの変更箇所がレシピ原本の一部のパラメータを実験によって変更したもののみである場合には、その差異は許容されるべきものではないとユーザによって判定される。
【００３９】
判定の結果、レシピの値がレシピ原本に対して許容できる範囲内ではない場合（ステップＳ１３でＮｏの場合）には、その差異はマスク位置記憶部２２のマスク位置情報には登録せず（ステップＳ１４）、マスク位置の登録処理が終了する。また、レシピの値がレシピ原本に対して許容できる範囲内である場合（ステップＳ１３でＹｅｓの場合）には、レシピのレシピ原本に対する差異がある位置をマスク位置としてマスク位置記憶部２２のマスク位置情報に登録する（ステップＳ１５）。このとき、差異がある位置に、その理由を対応付けて登録してもよい。以上によって、マスク位置の登録処理が終了する。
【００４０】
図６は、マスク位置情報の登録の様子を模式的に示す図である。たとえば、図６（ａ）に示されるように、レシピ原本１００Ａとレシピ１００Ｘとを比較した結果、レシピ１００Ｘ中の位置Ｒ２に差異が生じている。この位置Ｒ２の差異は、許容できる範囲内である場合には、この位置Ｒ２がマスク位置情報に登録される。このとき、図６（ｂ）に示されるように、マスク位置Ｒ２にその理由を備考として付してもよい。たとえば、マスク位置Ｒ２に対応して、「装置特性に応じて修正したパラメータ○○」などとすることができる。
【００４１】
図６（ｃ）は、マスク位置情報に基づいて作成されるマスクの一例である。この例では、バイナリデータのフォーマット１１０において、位置Ｒ２にマスク１１１が設けられている。このようにマスク１１１をかけた領域が、比較（判定）しなくてもよい領域として除外される。
【００４２】
また、このようにマスク位置情報の登録の際には、レシピ中のパラメータを複数変更したものに比して、１つだけ変更したものを用いることが望ましい。これによって、パラメータの変更が、バイナリ形式のレシピ中のどの位置に対応するものであるのかの見当を付けることができるからである。
【００４３】
図７は、実施形態によるレシピの比較処理手順の一例を示すフローチャートである。まず、レシピ読込部２１は、基準処理装置と比較対象となる装置からレシピ原本とレシピとをそれぞれ読み込む（ステップＳ３１）。ついで、マスク部２４は、マスク位置記憶部２２からマスク位置情報を読み出し（ステップＳ３２）、読み込んだレシピ原本とレシピに対してマスクをかける（ステップＳ３３）。
【００４４】
ついで、判定部２５は、マスクされたレシピ原本とレシピとをバイナリレベルで比較し、レシピがレシピ原本に対して差異があるかを判定する（ステップＳ３４）。このとき、マスクされた部分は比較されない。
【００４５】
レシピがレシピ原本に対して差異がない場合（ステップＳ３４でＮｏの場合）には、判定部２５は比較対象のレシピに異常なしと判定し（ステップＳ３５）、レシピの比較処理が終了する。
【００４６】
レシピがレシピ原本に対して差異がある場合（ステップＳ３４でＹｅｓの場合）には、判定部２５は比較対象のレシピに異常があると判定する（ステップＳ３６）。そして、異常出力部２６は、レシピに異常がある旨の警告を出力する（ステップＳ３７）。これによって、ユーザによるレシピ中の変更したパラメータを元の値への戻し忘れなどを防ぐことができる。以上によって、レシピの比較処理が終了する。
【００４７】
図８は、レシピの比較処理の手順の様子を模式的に示す図である。図８（ａ）は読み込まれたレシピ原本１００Ａと比較対象のレシピ１００Ｘである。このレシピ原本１００Ａとレシピ１００Ｘに対して、マスク位置記憶部２２のマスク位置情報に基づいてマスク１１１をかけると、図８（ｂ）に示される状態となる。この図に示されるように、比較を行いたくない箇所に関して、マスク１１１が施される。そして、この図８（ｂ）の状態でレシピ原本１００Ａとレシピ１００Ｘとが比較され、レシピ１００Ｘがレシピ原本１００Ａと基本的に一致する内容を有するか否かが判定されることになる。
【００４８】
なお、マスク位置の登録処理時には、レシピの比較処理が実行されず、レシピの比較処理時には、マスク位置の登録処理が行われない。そのため、マスク位置の登録処理とレシピの比較処理のどちらの処理を行うかは、たとえば切り替えスイッチによって決定することができる。
【００４９】
上記したように本実施形態では、マスク位置記憶部２２にバイナリデータ中の比較を行わないデータ位置をマスク位置として登録し、読み込んだレシピ原本１００Ａとレシピ１００Ｘのマスク位置にマスク１１１を行った後に、２つのデータをバイナリレベルで比較した。これによって、たとえば実験によって処理装置のパラメータを変更したが、実験後にそのパラメータを元に戻すのを忘れた場合などに、そのパラメータの戻し忘れを検出することができるという効果を有する。また、マスク位置で規定される箇所では、比較が行われないので、たとえば、レシピ原本１００Ａをコピーしたレシピ１００Ｘを、装置特性に応じてパラメータを修正した場合には、その修正はユーザによってレシピ原本１００Ａに対して許容される範囲の差異であるとして検出されない。その結果、ユーザによって指定された差異を検出したいパラメータのみをエラーとして検出することができるという効果を有する。
【００５０】
また、バイナリデータからテキストデータに変換して、レシピの内容を比較する一般的な場合に比して、バイナリデータで直接比較を行い、異常箇所を検出することができるので、異常検出を速やかに行うことができるという効果も有する。また、バイナリ形式のデータで比較を行うので、新たな処理装置が半導体製造システムに導入された場合に、比較を行うための新たなアルゴリズムを作成する必要がない。
【００５１】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００５２】
１０Ａ〜１０Ｃ…処理装置、２０…レシピ管理装置、２１…レシピ読込部、２２…マスク位置記憶部、２３…マスク位置登録部、２４…マスク部、２５…判定部、２６…異常出力部、２７…制御部、１００Ａ…レシピ原本、１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｘ…レシピ、１０１，１０１Ｘ…テキスト形式のレシピデータ、１０１Ａ…テキスト形式のレシピ原本データ、１１０…フォーマット、１１１…マスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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