(57)【要約】【課題】ガラス基板とセッター本体との間に残留する空気を排出する効果の向上を図りながらも、機械的強度の低下を抑制することができる焼成用セッターを提供することである。【解決手段】焼成用セッター１はガラス基板７を搬送する。焼成用セッター１はセッター本体３を有する。セッター本体３はガラス基板７を載置する面を有する。ガラス基板７の中央領域８とセッター本体３との間に残留する空気がセッター本体３の縁に向かって排出されるように、溝Ｂ１〜溝Ｂ５がセッター本体３に形成される。【選択図】図１
2014162564.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の被搬送物を搬送するための搬送板であって、
前記被搬送物を載置する面を有する搬送板本体を備え、
前記被搬送物の中央領域と前記搬送板本体との間に残留する空気が前記搬送板本体の縁に向かって排出されるように、複数の溝が前記搬送板本体に形成される、搬送板。
【請求項２】
前記搬送板本体は、
前記搬送板本体の前記面のうち前記被搬送物の前記中央領域に対応する第１領域と、
前記第１領域に隣接する第２領域と
を含み、
前記複数の溝のうち複数の第１溝は、前記第１領域に形成されており、
前記複数の溝のうち単数又は複数の第２溝は、前記第２領域に形成されており、
前記第１領域における前記複数の第１溝の密度は、前記第２領域における前記単数又は複数の第２溝の密度よりも高い、請求項１に記載の搬送板。
【請求項３】
前記搬送板本体は、
前記第１領域及び前記第２領域と異なり、前記複数の溝が形成されない単数又は複数の領域をさらに含み、
前記第１領域のうち前記第１溝で囲まれた最小単位の面積は、前記複数の溝が形成されない前記領域の面積より小さい、請求項２に記載の搬送板。
【請求項４】
前記搬送板本体は、前記第１領域に隣接する複数の隣接領域を含み、
前記複数の隣接領域は互いに異なる領域であり、
前記複数の隣接領域の各々には、前記複数の溝のうち、前記複数の第１溝の密度より低い密度を有する単数又は複数の溝が形成される、請求項２又は３に記載の搬送板。
【請求項５】
前記複数の溝のうちの複数の第１溝は、前記搬送板本体の前記面のうち前記被搬送物の前記中央領域に対応する第１領域に、複数の交点を有するように形成される、請求項１に記載の搬送板。
【請求項６】
前記第２溝の一方端部は、前記第１溝と結合され、
前記第２溝の他方端部は、前記搬送板本体の前記縁まで延びるように形成される、請求項２から４のいずれかに記載の搬送板。
【請求項７】
前記隣接領域の前記溝の一方端部は、前記第１溝と結合され、
前記隣接領域の前記溝の他方端部は、前記搬送板本体の前記縁まで延びるように形成される、請求項４に記載の搬送板。
【請求項８】
前記複数の隣接領域のうち２つの隣接領域は、前記第１領域を挟んで互いに対向するように配置される、請求項４又は７に記載の搬送板。
【請求項９】
前記複数の隣接領域は、前記第１領域を囲むように配置される、請求項４又は７に記載の搬送板。
【請求項１０】
前記第１領域は、前記搬送板本体の前記面の中央領域である、請求項２から９のいずれかに記載の搬送板。
【請求項１１】
前記搬送板本体には、前記搬送板本体を貫通する孔が形成される、請求項１から１０のいずれかに記載の搬送板。
【請求項１２】
前記搬送板本体は、前記被搬送物を焼成するための焼成用セッターの本体である、請求項１から１１のいずれかに記載の搬送板。
【請求項１３】
前記搬送板本体の材質は、ガラス、セラミック、金属、又は合成樹脂である、請求項１から１２のいずれかに記載の搬送板。
【請求項１４】
複数の溝が形成された搬送板を用いて板状の被搬送物を搬送するための搬送方法であって、
前記被搬送物の中央領域が、前記搬送板の表面のうち第１領域に面するように、前記被搬送物を前記搬送板に載置する載置工程と、
前記被搬送物が前記搬送板に載置された後、前記搬送板を移動する移動工程と
を含み、
前記第１領域には、前記複数の溝のうち複数の第１溝が形成されており、
前記第１領域に隣接する第２領域には、前記複数の第１溝よりも密度が低い単数又は複数の第２溝が形成されている、搬送方法。
【請求項１５】
前記載置工程において、前記第２溝の終点を含む前記搬送板の縁に向かって前記被搬送物を倒すように、前記被搬送物を前記搬送板に載置する、請求項１４に記載の搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、板状の被搬送物を搬送するための搬送板及び搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶ディスプレイ用ガラス板等の基板に対して焼成処理を施す際、基板は、セッター上に載置されて、セッターと伴に加熱炉に搬送される。セッターとしては、例えば、耐熱性のガラス板が用いられる。特許文献１に開示された従来のセッターには、セッター表面全体にわたって格子状の溝が形成される。
【０００３】
一般的に、基板及びセッターの表面は平滑な面である。基板がセッター上に載置される際、セッターと基板との間に空気が挟まれ、挟まれた空気の一部が残留する。従って、セッターが移動すると、セッター上の基板が滑り、基板がセッター上のガイドピンへ衝突することがあった。その結果、基板の欠け又は破損が発生するという問題があった。例えば、液晶ディスプレイ用ガラス板等の比較的薄い（軽い）板（例えば、厚さ０．３ｍｍ〜１．０ｍｍ）は、プラズマディスプレイ用ガラス板等の比較的厚い（重い）板（例えば、厚さ１．５ｍｍ〜３．０ｍｍ）よりも滑り易い。特許文献１に開示された従来のセッターにおいても溝が形成されているため、結果として、セッターと基板との間に残留する空気を排出することは可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２５０２４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のセッターの溝では、残留する空気を排出する効果が十分ではない。搬送効率を向上させるためには、できるだけ迅速に空気を排出して、基板が滑ることを防止し、基板を安定させる必要がある。また、セッター表面全体にわたって格子状の溝を形成したのでは、厚みの薄い部分が多くなり、セッターの機械的強度が低下する。
【０００６】
以上のように、従来、基板等の板状の被搬送物を搬送するためのセッター等の搬送板では、残留する空気を排出する効果が十分ではなく、しかも、機械的強度が低いという課題を有していた。
【０００７】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、残留する空気を排出する効果の向上を図りながらも、機械的強度の低下を抑制することができる搬送板及び搬送方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の観点による搬送板は、板状の被搬送物を搬送する。搬送板は、搬送板本体を備える。搬送板は、前記被搬送物を載置する面を有する。前記被搬送物の中央領域と前記搬送板本体との間に残留する空気が前記搬送板本体の縁に向かって排出されるように、複数の溝が前記搬送板本体に形成される。
【０００９】
この搬送板において、前記搬送板本体は、第１領域と第２領域とを含んでよい。第１領域は、前記搬送板本体の前記面のうち前記被搬送物の前記中央領域に対応する。第２領域は、前記第１領域に隣接する。前記複数の溝のうち複数の第１溝は、前記第１領域に形成されている。前記複数の溝のうち単数又は複数の第２溝は、前記第２領域に形成されている。前記第１領域における前記複数の第１溝の密度は、前記第２領域における前記単数又は複数の第２溝の密度よりも高い。
【００１０】
この搬送板において、前記搬送板本体は、前記第１領域及び前記第２領域と異なり、前記複数の溝が形成されない単数又は複数の領域をさらに含んでよい。前記第１領域のうち前記第１溝で囲まれた最小単位の面積は、前記複数の溝が形成されない前記領域の面積より小さい。
【００１１】
上記搬送板において、前記搬送板本体は複数の隣接領域を含んでよい。複数の隣接領域は、前記第１領域に隣接する。前記複数の隣接領域は互いに異なる領域である。前記複数の隣接領域の各々には、前記複数の溝のうち、前記複数の第１溝の密度より低い密度を有する単数又は複数の溝が形成される。ここで、隣接領域は第２領域を含む。
【００１２】
上記搬送板において、前記複数の溝のうちの複数の第１溝は、前記搬送板本体の前記面のうち前記被搬送物の前記中央領域に対応する第１領域に、複数の交点を有するように形成されてよい。
【００１３】
上記搬送板において、前記第２溝の一方端部は、前記第１溝と結合されてよい。前記第２溝の他方端部は、前記搬送板本体の前記縁まで延びるように形成されてよい。
【００１４】
上記搬送板において、前記隣接領域の前記溝の一方端部は、前記第１溝と結合されてよい。前記隣接領域の前記溝の他方端部は、前記搬送板本体の前記縁まで延びるように形成されてよい。
【００１５】
上記搬送板において、前記複数の隣接領域のうち２つの隣接領域は、前記第１領域を挟んで互いに対向するように配置されてよい。
【００１６】
上記搬送板において、前記複数の隣接領域は、前記第１領域を囲むように配置されてよい。
【００１７】
上記搬送板において、前記第１領域は、前記搬送板本体の前記面の中央領域であってよい。
【００１８】
上記搬送板において、前記搬送板本体には、前記搬送板本体を貫通する孔が形成されてよい。
【００１９】
上記搬送板において、前記搬送板本体は、前記被搬送物を焼成するための焼成用セッターの本体であってよい。
【００２０】
上記搬送板において、前記搬送板本体の材質は、ガラス、セラミック、金属、又は合成樹脂であってよい。
【００２１】
本発明の第２の観点による搬送方法は、複数の溝が形成された搬送板を用いて板状の被搬送物を搬送する。搬送方法は、載置工程と、移動工程とを含む。載置工程は、前記被搬送物の中央領域が、前記搬送板の表面のうち第１領域に面するように、前記被搬送物を前記搬送板に載置する。移動工程は、前記被搬送物が前記搬送板に載置された後、前記搬送板を移動する。前記第１領域には、前記複数の溝のうち複数の第１溝が形成されている。前記第１領域に隣接する第２領域には、前記複数の第１溝よりも密度が低い単数又は複数の第２溝が形成されている。
【００２２】
この搬送方法の前記載置工程において、前記第２溝の終点を含む前記搬送板の縁に向かって前記被搬送物を倒すように、前記被搬送物を前記搬送板に載置してよい。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、被搬送物の中央領域と搬送板本体との間の空気、つまり、空気が残留し易い領域の空気が、搬送板本体の縁に向かう溝によって排出される。その結果、残留する空気を効果的に排出できるとともに、残留した空気を排出する際に貢献度が低い溝を極力省くことができる。つまり、効果的かつ効率的に溝を形成できる。従って、本発明では、残留する空気を排出する効果の向上を図りながらも、搬送板本体（搬送板）の機械的強度の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施の形態における焼成用セッターの第１の例を模式的に示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態における焼成用セッターの第１の例を模式的に示す平面図である。
【図３】（ａ）本発明の実施の形態における焼成用セッターの第２の例を模式的に示す平面図である。（ｂ）本発明の実施の形態における焼成用セッターの第３の例を模式的に示す平面図である。（ｃ）本発明の実施の形態における焼成用セッターの第４の例を模式的に示す平面図である。（ｄ）本発明の実施の形態における焼成用セッターの第５の例を模式的に示す平面図である。
【図４】（ａ）本発明の実施の形態における焼成用セッターの第６の例を模式的に示す平面図である。（ｂ）本発明の実施の形態における焼成用セッターの第７の例を模式的に示す平面図である。（ｃ）本発明の実施の形態における焼成用セッターの第８の例を模式的に示す平面図である。
【図５】（ａ）図１の焼成用セッターにガラス基板を載置する方法の説明図である。（ｂ）図４（ａ）の焼成用セッターにガラス基板を載置する方法の説明図である。（ｃ）図４（ｃ）の焼成用セッターにガラス基板を載置する方法の説明図である。
【図６】本発明の実施の形態における焼成用セッターによりガラス基板を搬送する第１の方法を示すフローチャートである。
【図７】本発明の実施の形態における焼成用セッターによりガラス基板を搬送する第２の方法を示すフローチャートである。
【図８】（ａ）本発明の実施例における焼成用セッターの評価装置を模式的に示す平面図である。（ｂ）図８（ａ）の評価装置を模式的に示す側面図である。（ｃ）図８（ａ）の評価装置の使用状態を模式的に示す側面図である。
【図９】図８（ａ）の評価装置による測定結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一または相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。
【００２６】
［基本原理］
図１は、本発明の実施の形態における焼成用セッター１（以下、「セッター１」と記載する。）の第１の例を模式的に示す斜視図である。ガラス基板７を加熱炉（図示せず）に搬送するための焼成用セッター１（搬送板）は、本体３（搬送板本体）を有する。本体３はガラス基板７（被搬送物）を載置する面を有する。ガラス基板７の中央領域８と本体３との間に残留する空気が本体３の縁（辺）に向かって排出されるように、第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５が本体３に形成される。例えば、次のように、本体３に第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５が形成される。
【００２７】
セッター１の本体３は、本体３の一方表面の中央領域に第１領域Ａ１を有する。本体３は、本体３の一方表面において、第１領域Ａ１を囲む第２領域Ａ２、第３領域Ａ３、第４領域Ａ４、及び第５領域Ａ５を有する。第１領域Ａ１には、格子状の第１溝Ｂ１が形成される。第２領域Ａ２には、縦方向（第１方向）に沿って第２溝Ｂ２が形成される。第３領域Ａ３には、横方向（第２方向）に沿って第３溝Ｂ３が形成される。第４領域Ａ４には、縦方向に沿って第４溝Ｂ４が形成される。第５領域Ａ５には、横方向に沿って第５溝Ｂ５が形成される。
【００２８】
第１溝Ｂ１の密度は、第２溝Ｂ２の密度より高い。同様に、第１溝Ｂ１の密度は、第３溝Ｂ３の密度、第４溝Ｂ４の密度、及び第５溝Ｂ５の密度の各々より高い。
【００２９】
溝の密度は、例えば、所定面積当たりの溝の交点の数によって表される。例えば、溝の密度は、平面視における所定面積当たりの溝の面積の割合によって表される。例えば、溝の面積は、所定面積当たりの溝の交点の数と、平面視における所定面積当たりの溝の面積の割合との２つの要素によって表される。
【００３０】
本体３には、ガラス基板７が載置される。すなわち、ガラス基板７は、本体３の第１領域Ａ１に、ガラス基板７の中央領域８が面するように載置される。詳細は後述するが、ガラス基板７の中央領域８と本体３との間に空気が残留し易いからである。本体３の材質は、例えば、耐熱性ガラスである。なお、図１では、本体３にガラス基板７が載置される前の状態を示している。
【００３１】
なお、セッター１には、ガイドピン等が設けられるが、図示を省略し、セッター１の本体３のみを図示している。本体３をセッター本体３と記載することもある。後述する図２、図３（ａ）〜図３（ｄ）、図４（ａ）〜図４（ｃ）、図５（ａ）〜図５（ｃ）、図８〜図９についても、セッター本体３のみが図示される。例えば、ガイドピンは、セッター本体３に載置されたガラス基板７（例えば、液晶ディスプレイ用ガラス板）の落下を防止するための部材である。
【００３２】
次に、セッター１の構造を平面図を用いて詳細に説明する。図２は、図１のセッター１を模式的に示す平面図である。セッター本体３の第１領域Ａ１には、第１溝Ｂ１が格子状に形成されている。第１領域Ａ１は、セッター本体３の一方表面の中央領域である。第１領域Ａ１には、４本の平行な第１溝Ｂ１が、縦方向に沿って形成される。第１溝Ｂ１の幅は幅ｄ１であり、第１溝Ｂ１同士の間隔は間隔ｄ３である。縦方向はセッター本体３の長手方向に沿っている。また、第１領域Ａ１には、４本の平行な第１溝Ｂ１が、横方向に沿って、かつ、縦方向の４本の平行な第１溝Ｂ１と交差（図１の例では直交）するように形成される。第１溝Ｂ１の幅は幅ｄ２であり、第１溝Ｂ１同士の間隔は間隔ｄ４である。横方向は、縦方向と交差（図１の例では直交）する方向である。従って、複数の第１溝Ｂ１は複数の交点（図１の例では１６個の交点）を形成する。
【００３３】
セッター本体３の第２領域Ａ２には、４本の平行な第２溝Ｂ２が縦方向に沿って形成される。第２領域Ａ２は、第１領域Ａ１よりもセッター本体３の一方短辺側Ｄ１において、第１領域Ａ１に隣接する領域である。４本の第２溝Ｂ２の一方端部は、それぞれ、４本の縦方向の第１溝Ｂ１の一方端部に結合される（連続する）。第２溝Ｂ２の他方端部は、短辺Ｄ１（縁）まで延びている。つまり、短辺Ｄ１は、第２溝Ｂ２の終点を含む。第２溝Ｂ２の幅は幅ｄ１であり、第２溝Ｂ２同士の間隔は間隔ｄ３である。第２溝Ｂ２は交点を有しない。
【００３４】
セッター本体３の第３領域Ａ３には、４本の平行な第３溝Ｂ３が横方向に沿って形成される。第３領域Ａ３は、第１領域Ａ１よりもセッター本体３の一方長辺Ｄ２側において、第１領域Ａ１に隣接する領域である。４本の第３溝Ｂ３の一方端部は、それぞれ、４本の横方向の第１溝Ｂ１の一方端部に結合される（連続する）。第３溝Ｂ３の他方端部は、長辺Ｄ２（縁）まで延びている。つまり、長辺Ｄ２は、第３溝Ｂ３の終点を含む。第３溝Ｂ３の幅は幅ｄ２であり、第３溝Ｂ３同士の間隔は間隔ｄ４である。第３溝Ｂ３は交点を有しない。
【００３５】
セッター本体３の第４領域Ａ４には、４本の平行な第４溝Ｂ４が縦方向に沿って形成される。第４領域Ａ４は、第１領域Ａ１よりもセッター本体３の他方短辺Ｄ３側において、第１領域Ａ１に隣接する領域である。４本の第４溝Ｂ４の一方端部は、それぞれ、４本の縦方向の第１溝Ｂ１の他方端部に結合される（連続する）。第４溝Ｂ４の他方端部は、短辺Ｄ３（縁）まで延びている。つまり、短辺Ｄ３は、第４溝Ｂ４の終点を含む。第４溝Ｂ４の幅は幅ｄ１であり、第４溝Ｂ４同士の間隔は間隔ｄ３である。第４溝Ｂ４は交点を有しない。
【００３６】
セッター本体３の第５領域Ａ５には、４本の平行な第５溝Ｂ５が横方向に沿って形成される。第５領域Ａ５は、第１領域Ａ１よりもセッター本体３の他方長辺Ｄ４側において、第１領域Ａ１に隣接する領域である。４本の第５溝Ｂ５の一方端部は、それぞれ、４本の横方向の第１溝Ｂ１の他方端部に結合される（連続する）。第５溝Ｂ５の他方端部は、長辺Ｄ４（縁）まで延びている。つまり、長辺Ｄ４は、第５溝Ｂ５の終点を含む。第５溝Ｂ５の幅は幅ｄ２であり、第５溝Ｂ５同士の間隔は間隔ｄ４である。第５溝Ｂ５は交点を有しない。
【００３７】
以上のように、高密度の第１溝Ｂ１を有する第１領域Ａ１は、低密度の第２溝Ｂ２を有する第２領域Ａ２、低密度の第３溝Ｂ３を有する第３領域Ａ３、低密度の第４溝Ｂ４を有する第４領域Ａ４、及び低密度の第５溝Ｂ５を有する第５領域Ａ５に囲まれる。第２領域Ａ２と第４領域Ａ４とは、第１領域Ａ１を挟んで互いに対向するように配置される。第３領域Ａ３と第５領域Ａ５とは、第１領域Ａ１を挟んで互いに対向するように配置される。また、セッター本体３の一方表面は、４つの隅部に、第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５が形成されない平坦領域Ｃ１〜平坦領域Ｃ４を有する。
【００３８】
平坦領域Ｃ１〜平坦領域Ｃ８（図１〜図３参照）を総称して、「平坦領域Ｃ＃」と記載することもある。第２領域Ａ２〜第５領域Ａ５を総称して、「隣接領域」と記載することもある。辺Ｄ１〜辺Ｄ４を総称して「辺」又は「縁」と記載することもある。
【００３９】
平坦領域Ｃ＃には、第１領域Ａ１〜第５領域Ａ５と異なり、第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５が形成されない。第１領域Ａ１のうち第１溝Ｂ１で囲まれた最小単位（以下、「最小単位」と記載する。）の面積は、平面視において、１つの平坦領域Ｃ＃の面積より小さい。最小単位とは、第１領域Ａ１のうち第１溝Ｂ１によって囲まれた連続した１つの面のことである。平坦領域Ｃ＃の各々は、セッター本体３の縁と隣接領域とで囲まれた領域である。つまり、平坦領域Ｃ＃の各々は、閉じた領域である。例えば、最小単位の面積は、複数の平坦領域Ｃ＃のうち最大面積を有する平坦領域Ｃ＃の面積より小さい。例えば、図３（ａ）に示すセッター本体３のように、１つの平坦領域Ｃ＃（Ｃ８）のみを有する場合は、最小単位の面積は、平坦領域Ｃ＃（Ｃ８）の面積より小さい。
【００４０】
４本の第３溝Ｂ３のうち短辺Ｄ１に最も近い第３溝Ｂ３と短辺Ｄ１との間隔は間隔ｄ５である。４本の第２溝Ｂ２のうち長辺Ｄ２に最も近い第２溝Ｂ２と長辺Ｄ２との間隔は間隔ｄ６である。４本の第３溝Ｂ３のうち短辺Ｄ３に最も近い第３溝Ｂ３と短辺Ｄ３との間隔は間隔ｄ５である。４本の第４溝Ｂ４のうち長辺Ｄ２に最も近い第４溝Ｂ４と長辺Ｄ２との間隔は間隔ｄ６である。４本の第５溝Ｂ５のうち短辺Ｄ３に最も近い第５溝Ｂ５と短辺Ｄ３との間隔は間隔ｄ５である。４本の第４溝Ｂ４のうち長辺Ｄ４に最も近い第４溝Ｂ４と長辺Ｄ４との間隔は間隔ｄ６である。４本の第５溝Ｂ５のうち短辺Ｄ１に最も近い第５溝Ｂ５と短辺Ｄ１との間隔は間隔ｄ５である。４本の第２溝Ｂ２のうち長辺Ｄ４に最も近い第２溝Ｂ２と長辺Ｄ４との間隔は間隔ｄ６である。
【００４１】
４本の横方向の第１溝Ｂ１のうち短辺Ｄ１に最も近い第１溝Ｂ１と短辺Ｄ１との間隔は間隔ｄ５である。４本の縦方向の第１溝Ｂ１のうち長辺Ｄ２に最も近い第１溝Ｂ１と長辺Ｄ２との間隔は間隔ｄ６である。４本の横方向の第１溝Ｂ１のうち短辺Ｄ３に最も近い第１溝Ｂ１と短辺Ｄ３との間隔は間隔ｄ５である。４本の縦方向の第１溝Ｂ１のうち長辺Ｄ４に最も近い第１溝Ｂ１と長辺Ｄ４との間隔は間隔ｄ６である。
【００４２】
次に、ガラス基板７とセッター１との間に残留する空気を排出する仕組みを説明する。ガラス基板７を一般的なセッターに載置する際にガラス基板７が滑る原因は、ガラス基板７の中央領域８とセッターとの間に残留する空気が排出され難いことである。そこで、本実施の形態では、セッター本体３において、ガラス基板７の中央領域８が面する第１領域Ａ１を設ける。空気が残留し易い第１領域Ａ１の第１溝Ｂ１の密度は、第１領域Ａ１を囲む領域（第２領域Ａ２〜第５領域Ａ５）の溝（第２溝Ｂ２〜第５溝Ｂ５）の密度より高い。つまり、セッター本体３の表面全体にわたって高密度の第１溝Ｂ１が設けられるのではなく、セッター本体３において、空気が残留し易い領域に高密度の第１溝Ｂ１が設けられる。
【００４３】
また、セッター本体３の第１溝Ｂ１の周囲には、第２溝Ｂ２〜第５溝Ｂ５が形成される。第２溝Ｂ２〜第５溝Ｂ５は、第１溝Ｂ１からセッター本体３の辺Ｄ１〜辺Ｄ４まで空気を導き、セッター本体３の外部に空気を排出する。つまり、４方向（第１領域Ａ１から辺Ｄ１に向かう方向、第１領域Ａ１から辺Ｄ２に向かう方向、第１領域Ａ１から辺Ｄ３に向かう方向、及び第１領域Ａ１から辺Ｄ４に向かう方向）の経路により空気が排出される。その結果、第２溝Ｂ２〜第５溝Ｂ５は、第１溝Ｂ１よりも低密度になるように形成される。さらに、仮に溝が形成されたとしても、空気を排出する効果が十分に期待できない平坦領域Ｃ１〜平坦領域Ｃ４には、溝は形成されない。なお、平坦領域Ｃ１〜平坦領域Ｃ４への刻印等を目的とした溝の形成を排除するものではない。
【００４４】
以上、図１及び図２を参照して説明したように、本実施の形態では、残留する空気を効果的に排出できると伴に、残留した空気を排出する際に貢献度が低い溝を極力省くことができる。つまり、本実施の形態では、効果的かつ効率的に溝（第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５）を形成して、セッター本体３の機械的強度の低下を抑制しながらも、空気の十分な排出効果を達成できる。なお、セッター本体３の機械的強度は、厚さが薄い部分が多くなればなるほど、つまり、溝が多くなればなるほど低くなる。
【００４５】
また、本実施の形態では、第２領域Ａ２〜第５領域Ａ５を設け、４つの辺Ｄ１〜辺Ｄ４に向かって同時に空気を排出できる。その結果、排出先の辺が１つの場合、２つの場合、及び３つの場合と比較して、十分な排出効果を得ることができ、排出時間を短縮できる。
【００４６】
さらに、本実施の形態では、空気の排出効果は、ガラス基板７をセッター本体３に載置する仕方に影響され難い。第２領域Ａ２〜第５領域Ａ５を設け、辺Ｄ１〜辺Ｄ４に向かって同時に空気を排出できるからである。例えば、セッター本体３の真上からガラス基板７が載置されてもよい。例えば、第２溝Ｂ２の終点を含むセッター本体３の辺Ｄ１に向かってガラス基板７を倒すように、ガラス基板７をセッター本体３に載置してもよい。同様に、辺Ｄ２に向かってガラス基板７を倒すようにしてもよいし、辺Ｄ３に向かってガラス基板７を倒すようにしてもよいし、辺Ｄ４に向かってガラス基板７を倒すようにしてもよい。
【００４７】
［溝の配置パターン］
次に、セッター１の他の例を説明する。図３（ａ）は、本発明の実施の形態におけるセッター１の第２の例を模式的に示す平面図である。第２の例におけるセッター本体３の一方表面には、格子状の第１溝Ｂ１を有する第１領域Ａ１、及び第２溝Ｂ２を有する第２領域Ａ２が形成される。セッター本体３の平坦領域Ｃ８は、第１溝Ｂ１及び第２溝Ｂ２が形成されない領域である。
【００４８】
第２の例において、高密度の第１溝Ｂ１は、空気が残留し易い領域に形成される。そして、残留した空気は、低密度の第２溝Ｂ２を通って排出される。従って、残留する空気を効果的に排出できるとともに、残留した空気を排出する際に貢献度が低い溝を極力省くことができる。その結果、残留する空気を排出する効果の向上を図りながらも、セッター本体３（セッター１）の機械的強度の低下を抑制することができる。
【００４９】
図３（ｂ）は、本発明の実施の形態におけるセッター１の第３の例を模式的に示す平面図である。第３の例におけるセッター１は、図３（ａ）の第２の例におけるセッター１に、第３領域Ａ３を追加して形成される。セッター本体３の平坦領域Ｃ１及び平坦領域Ｃ６は、第１溝Ｂ１〜第３溝Ｂ３が形成されない領域である。
【００５０】
第３の例においては、第２の例と比較して、セッター本体３とガラス基板７の中央領域８との間に残留した空気は、第１溝Ｂ１から、第２溝Ｂ２に加えて第３溝Ｂ３によっても排出される。その結果、第３の例では、第２の例と比較して、残留する空気の排出時間をより短縮できる。一方、第１溝Ｂ１よりも第３溝Ｂ３の密度は低いので、第２の例のセッター本体３に対して、第１溝Ｂ１と同等の密度の溝を追加する場合と比較して、第３溝Ｂ３を形成したことに伴うセッター本体３（セッター１）の機械的強度への影響を抑制できる。
【００５１】
図３（ｃ）は、本発明の実施の形態におけるセッター１の第４の例を模式的に示す平面図である。第４の例におけるセッター１は、図３（ａ）の第２の例におけるセッター１に、第４領域Ａ４を追加して形成される。セッター本体３の平坦領域Ｃ５及び平坦領域Ｃ７は、第１溝Ｂ１、第２溝Ｂ２、及び第４溝Ｂ４が形成されない領域である。
【００５２】
第４の例においては、残留した空気は、第１領域Ａ１の第１溝Ｂ１から、第２領域Ａ２の第２溝Ｂ２及び第４領域Ａ４の第４溝Ｂ４によって、反対方向に向かって効果的に排出されることができる。その他、第４の例におけるセッター１は、第３の例におけるセッター１と同様の効果を奏する。低密度の溝を有する領域の数が同じだからである。
【００５３】
図３（ｄ）は、本発明の実施の形態におけるセッター１の第５の例を模式的に示す平面図である。第５の例におけるセッター本体３は、図３（ｃ）の第４の例におけるセッター１に、第３領域Ａ３を追加して形成される。セッター本体３の平坦領域Ｃ１、平坦領域Ｃ２、及び平坦領域Ｃ５は、第１溝Ｂ１〜第４溝Ｂ４が形成されない領域である。
【００５４】
第５の例においては、第４の例と比較して、セッター本体３とガラス基板７の中央領域８との間に残留した空気は、第１溝Ｂ１から、第２溝Ｂ２及び第４溝Ｂ４に加えて第３溝Ｂ３によっても排出される。その結果、第５の例では、第４の例と比較して、残留する空気の排出時間をより短縮できる。一方、第３の例及び第４の例と同様に、第１溝Ｂ１と同等の密度の溝を追加する場合と比較して、第３溝Ｂ３を形成したことに伴うセッター本体３（セッター１）の機械的強度への影響を抑制できる。
【００５５】
図４（ａ）は、本発明の実施の形態におけるセッター１の第６の例を模式的に示す平面図である。第６の例におけるセッター１の本体３の一方表面には、第１の例におけるセッター本体３と同様に、第１領域Ａ１〜第５領域Ａ５が形成される。ただし、第６の例では、第１領域Ａ１は、セッター本体３の中央領域ではなく、中央領域よりも短辺Ｄ１側に形成される。このように、第６の例では、第１領域Ａ１が、セッター本体３の中央領域に対して偏った領域に形成される。
【００５６】
第６の例では、第１の例と同様に、第１領域Ａ１〜第５領域Ａ５を有するので、第１の例と同様の効果を奏する。
【００５７】
図４（ｂ）は、本発明の実施の形態におけるセッター１の第７の例を模式的に示す平面図である。第７の例におけるセッター本体３の一方表面には、第１の例におけるセッター本体３と同様に、第１領域Ａ１〜第５領域Ａ５が形成される。ただし、第７の例の第１領域Ａ１には、セッター本体３の一方表面から他方表面まで貫通する複数の孔５が形成される。
【００５８】
第７の例では、第１領域Ａ１〜第５領域Ａ５に加えて、孔５を有するので、第１の例と比較して、残留する空気の排出時間をさらに短縮できる。例えば、セッター１をローラーコンベア（図示せず）に乗せて移動させる場合に有効である。なぜなら、ローラーコンベアに乗せて移動させる場合であれば、ベルトコンベア（図示せず）のように、孔５がベルトコンベアのベルトで塞がれてしまうことがなく、孔５から空気を効率的に排出することができるためである。
【００５９】
図４（ｃ）は、本発明の実施の形態におけるセッター１の第８の例を模式的に示す平面図である。第８の例におけるセッター本体３の一方表面には、第１の例におけるセッター本体３と同様に、第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５が形成される。ただし、第８の例では、第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５は、セッター本体３の長辺Ｄ２及び長辺Ｄ４に対して斜めに形成される。
【００６０】
セッター１の本体３の第１領域Ａ１には、第１溝Ｂ１が格子状に形成される。第１領域Ａ１は、セッター本体３の一方表面の中央領域である。第１領域Ａ１には、４本の平行な第１溝Ｂ１が、第１斜め方向に沿って形成される。第１斜め方向とは、長辺Ｄ２の中央よりも短辺Ｄ１寄りの長辺Ｄ２部分の側から、長辺Ｄ４の中央よりも短辺Ｄ３寄りの長辺Ｄ４部分の側へ向かう方向である。また、第１領域Ａ１には、４本の平行な第１溝Ｂ１が、第２斜め方向に沿って、かつ、第１斜め方向の４本の平行な第１溝Ｂ１と交差するように形成される。第２斜め方向とは、長辺Ｄ２の中央よりも短辺Ｄ３寄りの長辺Ｄ２部分の側から、長辺Ｄ４の中央よりも短辺Ｄ１寄りの長辺Ｄ４部分の側へ向かう方向である。従って、複数の第１溝Ｂ１は複数の交点（図４（ｃ）の例では１６個の交点）を形成する。
【００６１】
セッター本体３の第２領域Ａ２には、４本の平行な第２溝Ｂ２が第１斜め方向に沿って形成される。第２溝Ｂ２は、第１領域Ａ１から長辺Ｄ２に向かって延びている。第２溝Ｂ２は交点を有しない。セッター本体３の第３領域Ａ３には、４本の平行な第３溝Ｂ３が第２斜め方向に沿って形成される。第３溝Ｂ３は、第１領域Ａ１から長辺Ｄ２に向かって延びている。第３溝Ｂ３は交点を有しない。セッター本体３の第４領域Ａ４には、４本の平行な第４溝Ｂ４が第１斜め方向に沿って形成される。第４溝Ｂ４は、第１領域Ａ１から長辺Ｄ４に向かって延びている。第４溝Ｂ４は交点を有しない。セッター本体３の第５領域Ａ５には、４本の平行な第５溝Ｂ５が第２斜め方向に沿って形成される。第５溝Ｂ５は、第１領域Ａ１から長辺Ｄ４に向かって延びている。第５溝Ｂ５は交点を有しない。
【００６２】
以上のように、高密度の第１溝Ｂ１を有する第１領域Ａ１は、第２領域Ａ２〜第５領域Ａ５に囲まれる。また、セッター本体３の一方表面は、第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５が形成されない平坦領域Ｃ１〜平坦領域Ｃ４を有する。第８の例では、第１の例と同様に、第１領域Ａ１〜第５領域Ａ５を有するので、第１の例と同様の効果を奏する。
【００６３】
［載置方法及び搬送方法］
次に、本発明の実施の形態における焼成用セッター１（搬送板）にガラス基板７（被搬送物）を載置する方法を説明する。
【００６４】
図５（ａ）は、図１の焼成用セッター１にガラス基板７を載置する方法の説明図である。ガラス基板７をセッター本体３に載置する際は、ガラス基板７の中央領域８（即ち、空気が残留する領域）が、セッター本体３の第１領域Ａ１（即ち、第１溝Ｂ１が形成する交点を含む領域）に面するように、ガラス基板７をセッター本体３に載置する。
【００６５】
図５（ｂ）は、図４（ａ）の焼成用セッター１にガラス基板７を載置する方法の説明図である。セッター本体３の第１領域Ａ１がセッター本体３の中央領域に対して偏った領域に形成される場合であっても、ガラス基板７をセッター本体３に載置する際は、ガラス基板７の中央領域８が、第１領域Ａ１に面するように、ガラス基板７をセッター本体３に載置する。
【００６６】
図５（ｃ）は、図４（ｃ）の焼成用セッター１にガラス基板７を載置する方法の説明図である。ガラス基板７をセッター本体３に載置する際は、セッター本体３の第１領域Ａ１（第１溝Ｂ１）の形態に依存することなく、ガラス基板７の中央領域８が、第１領域Ａ１に面するように、ガラス基板７をセッター本体３に載置する。
【００６７】
次に、本発明の実施の形態における焼成用セッター１（搬送板）によりガラス基板（被搬送物）を搬送する方法（搬送方法）を説明する。
【００６８】
図６は、本発明の実施の形態における第１の搬送方法を示すフローチャートである。図６を参照して、準備工程Ｓ１にて、セッター１は、ガラス基板７が載置される位置まで移動され、停止される。載置工程Ｓ３にて、ガラス基板７は、ガラス基板７の中央領域８がセッター１の第１領域Ａ１に面するようにセッター１に載置される（例えば、図５（ａ）〜図５（ｃ）参照）。搬送工程（移動工程）Ｓ５にて、ガラス基板７が載置されたセッター１が、加熱炉に向けて搬送（移動）される。準備工程Ｓ１及び搬送工程Ｓ５では、例えば、セッター１は、ベルトコンベア（図示せず）又はローラーコンベア（図示せず）によって移動される。載置工程Ｓ３では、例えば、ガラス基板７は、ロボットアームにより、セッター１に載置される。
【００６９】
第１の搬送方法によれば、ガラス基板７の中央領域８が、セッター本体３の表面のうちの第１領域Ａ１（高密度の第１溝Ｂ１が形成される領域）に面するように、ガラス基板７が、セッター本体３に載置される。従って、セッター本体３の任意の領域に第１領域Ａ１が形成されていた場合であっても、第１領域Ａ１は、空気が残留し易いガラス基板７の中央領域８に必ず面する。そして、残留した空気は、第１領域Ａ１の第１溝Ｂ１から、外側に延びる溝（第２溝Ｂ２、第３溝Ｂ３、第４溝Ｂ４、及び／又は第５溝Ｂ５）を通って排出される。その結果、第１の搬送方法は、セッター本体３の表面の一部の領域に第１領域Ａ１を形成して、ガラス基板７の中央領域８とガラス基板７との間に残留する空気を排出するために好適である。
【００７０】
図７は、本発明の実施の形態における第２の搬送方法を示すフローチャートである。準備工程Ｓ１１及び搬送工程（移動工程）Ｓ１５は、それぞれ、図６の準備工程Ｓ１及び搬送工程（移動工程）Ｓ５と同様であり、説明を省略する。載置工程Ｓ１３では、セッター本体３の表面に対して傾斜して配置されたガラス基板７は、セッター１の溝（第２溝Ｂ２，第３溝Ｂ３，第４溝Ｂ４，又は第５溝Ｂ５）の終点を含むセッター１の縁（短辺Ｄ１、長辺Ｄ２、短辺Ｄ３、又は長辺Ｄ４）に向かって倒されながら、ガラス基板７の中央領域８がセッター本体３の第１領域Ａ１に面するように、セッター本体３に載置される。
【００７１】
例えば、図３（ａ）のセッター１にガラス基板７を載置する場合、ガラス基板７は、セッター１の第２溝Ｂ２の終点を含むセッター１の縁（短辺Ｄ１）に向かって倒れるようにセッター１に載置される。つまり、ガラス基板７の一方短辺をセッター１の短辺Ｄ３側に配置し、ガラス基板７の表面がセッター１表面に対して鋭角になるようにガラス基板７を立てる。そして、ガラス基板７の他方短辺がセッター１の短辺Ｄ１に近づくように、ガラス基板７を倒していく。なお、例えば、載置工程Ｓ１３においては、ガラス基板７は、ロボットアームにより、セッター１に載置される。
【００７２】
第２の搬送方法によれば、溝（第２溝Ｂ２，第３溝Ｂ３，第４溝Ｂ４，又は第５溝Ｂ５）による空気の排出先であるセッター１の縁（短辺Ｄ１、長辺Ｄ２、短辺Ｄ３、又は長辺Ｄ４）に向かってガラス基板７が倒されるので、溝による空気の排出先がないセッターの縁に向かってガラス基板７を倒す場合と比較して、空気の排出を促進できる。溝による空気の排出先がないセッターの縁に向かってガラス基板７を倒す場合とは、例えば、図３（ａ）を参照して、ガラス基板７が、溝の終点がないセッター１の縁（短辺Ｄ３）に向かって倒される場合である。
【００７３】
以上のように、本実施の形態によれば、ガラス基板７の中央領域８とセッター本体３との間の空気、つまり、空気が残留し易い領域の空気が、セッター本体３の辺（短辺Ｄ１、長辺Ｄ２、短辺Ｄ３、及び／又は長辺Ｄ４）に向かう溝（第２溝Ｂ２、第３溝Ｂ３、第４溝Ｂ４、及び／又は第５溝Ｂ５）によって排出される。
【００７４】
例えば、複数の交点を有する複数の第１溝Ｂ１は、セッター本体３の面のうちガラス基板７の中央領域８に対応する第１領域Ａ１、つまり、空気が残留し易い領域に形成される。そして、残留した空気は、セッター本体３の辺（短辺Ｄ１、長辺Ｄ２、短辺Ｄ３、及び／又は長辺Ｄ４）に向かう溝（第２溝Ｂ２、第３溝Ｂ３、第４溝Ｂ４、及び／又は第５溝Ｂ５）によって排出される。
【００７５】
以上の結果、残留する空気を効果的に排出できるとともに、残留した空気を排出する際に貢献度が低い溝を極力省くことができる。その結果、本実施の形態では、残留する空気を排出する効果の向上を図りながらも、セッター本体３（セッター１）の機械的強度の低下を抑制することができる。
【００７６】
次に、本発明が実施例に基づき具体的に説明されるが、本発明は以下の実施例によって限定されない。
【実施例】
【００７７】
本実施例では、４種類のセッターＳＡＭ（セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ４）を用意した。そして、各セッターＳＡＭに同一のガラス基板７を載置し、各セッターＳＡＭを傾斜させ、ガラス基板７が滑り出す時の各セッターＳＡＭの傾斜に応じた高さ（滑り高さＨ）を測定する。そして、滑り高さＨに基づいて、傾斜角度（滑り角度θ）を算出する。滑り角度θが、ガラス基板７の滑り難さを表す指標とされる。以下、詳細が説明される。
【００７８】
まず、評価装置９について説明する。図８（ａ）は、本発明の実施例における焼成用セッター１の評価装置９を模式的に示す平面図である。図８（ｂ）は、評価装置９を模式的に示す側面図である。図８（ｃ）は、評価装置９の使用状態を模式的に示す側面図である。
【００７９】
図８（ａ）〜図８（ｃ）を参照して説明すると、評価装置９は、定盤１１、アルミニウムフレーム１３、ストッパ１５、及びストッパ１７を備える。平板状の定盤１１の上面には、平板状のアルミニウムフレーム１３が配置される。アルミニウムフレーム１３の上面には、評価サンプルとしてのセッターＳＡＭが載置される。アルミニウムフレーム１３は、セッターＳＡＭを傾斜させたときのセッターＳＡＭの自重によるセッターＳＡＭのたわみを防止する。セッターＳＡＭの上面には、ガラス基板７が載置される。平面視において、セッターＳＡＭ及びガラス基板７は矩形状の形状を有し、相似形である。セッターＳＡＭの表面積はガラス基板７の表面積より若干大きくなっている。従って、ガラス基板７がセッターＳＡＭに収まるように載置されれば、セッターＳＡＭの中央領域とガラス基板７の中央領域８は一致する。
【００８０】
ストッパ１５が、アルミニウムフレーム１３の横方向に沿った側面に固着される。図８（ｂ）に示すように、ストッパ１５は、定盤１１の上面に起立するように設けられる。また、図８（ｃ）に示すように、アルミニウムフレーム１３及びストッパ１５は、ストッパ１５の底部を軸として一体的に傾斜可能である。この場合、アルミニウムフレーム１３は、ストッパ１５と反対側のアルミニウムフレーム１３の側面が定盤１１から離れるように傾けられる。ストッパ１５の底部を軸としてアルミニウムフレーム１３を傾斜させる場合、この傾斜は縦方向の傾斜と定義される。
【００８１】
図８（ｂ）に戻って、ストッパ１５の高さは、アルミニウムフレーム１３の厚さより高く、かつ、アルミニウムフレーム１３の厚さとセッターＳＡＭの厚さとの合計値より低い。その結果、アルミニウムフレーム１３を縦方向に傾斜させた場合でも、セッターＳＡＭがアルミニウムフレーム１３上を傾斜方向に移動することを防止できる。
【００８２】
図８（ａ）に戻って、ストッパ１７が、アルミニウムフレーム１３の縦方向に沿った側面に固着される。図示は省略したが、ストッパ１５と同様に、ストッパ１７は、定盤１１の上面に起立するように設けられる。また、図示は省略したが、アルミニウムフレーム１３は、ストッパ１７の底部を軸としてストッパ１７と一体的に傾斜可能である。この場合、アルミニウムフレーム１３は、ストッパ１７と反対側のアルミニウムフレーム１３の側面が定盤１１から離れるように傾けられる。ストッパ１７の底部を軸としてアルミニウムフレーム１３を傾斜させる場合、この傾斜は横方向の傾斜と定義される。
【００８３】
図示は省略したが、ストッパ１５と同様に、ストッパ１７の高さは、アルミニウムフレーム１３の厚さより高く、かつ、アルミニウムフレーム１３の厚さとセッターＳＡＭの厚さとの合計値より低い。その結果、アルミニウムフレーム１３を横方向に傾斜させた場合でも、セッターＳＡＭがアルミニウムフレーム１３上を傾斜方向に移動することを防止できる。
【００８４】
次に、評価装置９を使用した測定の手順を説明する。図８（ｂ）に示すように、アルミニウムフレーム１３が傾斜していない状態において、水平に置かれたセッターＳＡＭ上にガラス基板７を載置する。そして、ガラス基板７が載置されてから所定時間（例えば、３０秒）の経過後に、図８（ｃ）に示すように、アルミニウムフレーム１３を徐々に縦方向に傾斜させ（矢印１９が示す方向）、ガラス基板７が滑り出した時の滑り高さＨを測定する。所定時間の経過後にアルミニウムフレーム１３を傾斜させる理由は、ガラス基板７が載置された直後に傾斜させたらならば、残留した空気が排出されることはなく、適正な評価が困難だからである。また、ガラス基板７が載置されて長時間が経過した時に傾斜させたならば、残留した空気は自然と排出され、この場合もまた適正な評価が困難だからである。
【００８５】
滑り高さＨは、定盤１１の表面から、最も高いアルミニウムフレーム１３の底面までの高さである。滑り高さＨは、同一セッターＳＡＭについて所定回数（例えば、５回）測定され、平均値Ｈａが求められた。滑り角度θは、ガラス基板７が滑り出した時のアルミニウムフレーム１３の底面と定盤１１とがなす角度である。滑り角度θは、滑り高さＨの平均値Ｈａとアルミニウムフレーム１３の辺長Ｌ１とから計算される（θ＝ａｒｃｓｉｎ（Ｈａ／Ｌ１））。辺長Ｌ１は、アルミニウムフレーム１３において、ストッパ１５が配置される辺に垂直な辺の長さである。
【００８６】
また、アルミニウムフレーム１３を縦方向に傾斜させた場合と同様にして、アルミニウムフレーム１３を横方向に傾斜させて、滑り高さＨを測定し、滑り角度θを算出する。滑り角度θは、滑り高さＨの平均値Ｈａとアルミニウムフレーム１３の辺長Ｌ２とから計算される（θ＝ａｒｃｓｉｎ（Ｈａ／Ｌ２））。辺長Ｌ２は、アルミニウムフレーム１３において、ストッパ１７が配置される辺に垂直な辺の長さである。
【００８７】
次に、評価装置９による測定結果を説明する。図９は、評価装置９による測定結果を示す図である。以下、図９を参照してセッターＳＡＭ１〜ＳＡＭ３を用いた評価結果を説明する。評価サンプルのセッターＳＡＭ１には、表面全体にわたって均等な格子状の溝が形成される。評価サンプルのセッターＳＡＭ２は、本発明の実施形態におけるセッター１である。評価サンプルのセッターＳＡＭ３においては、セッターＳＡＭ３の４つの隅部に格子状の溝が形成され、セッターＳＡＭ３の中央部には溝が形成されない。
【００８８】
グラフ３９の横軸は評価サンプル（セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ３）を示し、縦軸は滑り角度θ（単位：度）を示す。グラフ３９において、セッターＳＡＭ２（本発明の実施の形態におけるセッター１）の滑り角度θは、他のセッターＳＡＭ１及びセッターＳＡＭ３と比較して、縦方向傾斜及び横方向傾斜ともに大きい。滑り角度θが大きいことは、ガラス基板７が滑り難いことを示す。つまり、滑り角度θが大きいことは、ガラス基板７の中央領域８とセッターとの間に残留した空気の排出効果が高いことを示す。その結果、残留した空気を迅速に排出できる。
【００８９】
また、セッターＳＡＭ１及びセッターＳＡＭ３において、セッターＳＡＭ２（セッター１）と同等の滑り角度θを確保する場合、溝を増加する必要がある。しかし、溝の増加は機械的強度の低下を招く。後述するが、平面視において、セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ３の溝の表面積は同じである。従って、セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ３の機械的強度は同等である。以上の結果、本実施例にて、セッターＳＡＭ２（セッター１）が、機械的強度の低下を招くことなく、大きな滑り角度θを確保できることが確認された。
【００９０】
なお、図示は省略したが、溝が形成されていない平滑なセッターＳＡＭ４の滑り角度θは、縦方向の傾斜及び横方向の傾斜ともに約２度であった。一方、セッターＳＡＭ２（セッター１）の滑り角度θは、グラフ３９に示す通り、縦方向の傾斜で約１９度、横方向の傾斜で約１８度である。従って、セッターＳＡＭ４においては、セッターＳＡＭ２（セッター１）と比較して、ガラス基板７が滑り易いことを理解し得る。
【００９１】
次に、本実施例及び比較例として使用したガラス基板７及び４種類のセッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ４の仕様を説明する。ガラス基板７のサイズは、７３０ｍｍ（横方向長さ）×９２０ｍｍ（縦方向長さ）×０．５ｍｍ（厚さ）である。
【００９２】
セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ４のサイズは共通であり、８３０ｍｍ（横方向長さ）×１０２０ｍｍ（縦方向長さ）×４ｍｍ（厚さ）である。セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ３において、各溝の幅は約１０ｍｍであり共通し、また、各溝の深さは約０．３ｍｍであり共通する。各溝の断面形状は、例えば、Ｕ字状又はＶ字状である。ただし、各溝の断面形状はこれらに限定されず任意の形状を採用できる。また、セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ３の各々において、平面視における溝の総面積は７２４００ｍｍ2であり共通する。セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ４の材質は耐熱性ガラスである。例えば、溝は、サンドブラスト（Ｓａｎｄｂｌａｓｔｉｎｇ）によって、セッター表面に砂を吹き付けることにより形成される。
【００９３】
図９を参照して、セッターＳＡＭ１の横方向に沿った溝は、等間隔で平行に配置されており、隣り合う溝同士の間隔ｓ１は約１９６ｍｍである。セッターＳＡＭ１の短辺に最も近い横方向に沿った溝と、セッターＳＡＭ１の短辺との間隔ｓ２は約１９６ｍｍである。セッターＳＡＭ１の縦方向に沿った溝は、等間隔で平行に配置されており、間隔ｓ３は約１５８ｍｍである。セッターＳＡＭ１の長辺に最も近い縦方向に沿った溝と、セッターＳＡＭ１の長辺との間隔ｓ４は約１５８ｍｍである。
【００９４】
図９のセッターＳＡＭ２は図１のセッター１と同じであるため、セッターＳＡＭ２の仕様は図１を参照して説明される。セッター１において、間隔ｄ３は約８０ｍｍである。間隔ｄ４は約１００ｍｍである。間隔ｄ５は約３４０ｍｍである。間隔ｄ６は約２８０ｍｍである。
【００９５】
図９を参照して、セッターＳＡＭ３において、セッターＳＡＭ３の短辺側にて隣り合う横方向に沿った溝の間隔ｓ５は約１００ｍｍである。セッターＳＡＭ３の短辺に最も近い横方向に沿った溝と、セッターＳＡＭ３の短辺との間隔ｓ６は約１００ｍｍである。セッターＳＡＭ３の内側において隣り合う横方向に沿った溝の間隔ｓ７は約５８０ｍｍである。セッターＳＡＭ３の長辺側にて隣り合う縦方向に沿った溝の間隔ｓ８は約８０ｍｍである。セッターＳＡＭ３の長辺に最も近い縦方向に沿った溝と、セッターＳＡＭ３の長辺との間隔ｓ９は約８０ｍｍである。セッターＳＡＭ３の内側において隣り合う縦方向に沿った溝の間隔ｓ１０は約４７０ｍｍである。
【００９６】
以上のように、本実施例では、セッターＳＡＭ２、つまり、図１のセッター１が、セッターＳＡＭ１〜セッターＳＡＭ４の中で最も滑り角度が大きく、ガラス基板７が滑り難いことが確認できた。
【００９７】
なお、本発明は、上記の実施の形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能であり、例えば、以下のような変形も可能である。
【００９８】
（１）図１のガラス基板７の中央領域８の外縁について例を挙げる。距離Ｌを定義する。距離Ｌは、ガラス基板７の縁（辺Ｅ１、辺Ｅ２、辺Ｅ３、又は辺Ｅ４）からガラス基板７の中心までの距離である。例えば、中央領域８の外縁は、ガラス基板７の縁から、距離Ｌの３０％〜９０％の距離に位置する。より好ましくは、例えば、中央領域８の外縁は、ガラス基板７の縁から、距離Ｌの５０％〜９０％の距離に位置する。なお、中央領域８の外縁は、これら２つの例に限定されない。また、ガラス基板７の形状は矩形状に限定されない。例えば、ガラス基板７の形状は多角形状又は楕円状であってもよい。距離Ｌ＃を定義する。距離Ｌ＃は、ガラス基板７の縁からガラス基板７の重心までの距離である。例えば、中央領域８の外縁は、ガラス基板７の縁から、距離Ｌ＃の３０％〜９０％の距離に位置する。より好ましくは、例えば、中央領域８の外縁は、ガラス基板７の縁から、距離Ｌの５０％〜９０％の距離に位置する。なお、中央領域８の外縁は、これら２つの例に限定されない。
【００９９】
（２）図１のセッター１においては、高密度の第１溝Ｂ１を有する第１領域Ａ１は、セッター本体３の中央領域に設けられた。ただし、ガラス基板７の中央領域８が第１領域Ａ１に面するように載置される限り、第１領域Ａ１を形成する領域は、セッター本体３の中央領域に限られず、セッター本体３の任意の領域に設けることができる（例えば、図４（ａ）参照）。
【０１００】
図１のセッター１においては、第１領域Ａ１の第１溝Ｂ１は１６個の交点を形成した。ただし、交点の数は２以上であれば、４つに限定されない。
【０１０１】
ここで、第２領域Ａ２、第３領域Ａ３、第４領域Ａ４、及び第５領域Ａ５を総称して、第１領域Ａ１に対して、「隣接領域」と記載することもある。図１のセッター１においては、互いに異なる隣接領域の各々の溝（第２溝Ｂ２〜第５溝Ｂ５）の本数は、４本であった。ただし、第１溝Ｂ１の密度が隣接領域の溝の密度より高いかぎり、隣接領域の溝の本数は４本に限定されない。隣接領域ごとに溝の本数が異なってもよい。
【０１０２】
また、第１溝Ｂ１の密度が隣接領域の溝の密度より高いかぎり、第１溝Ｂ１の本数は８本に限定されない。図１のセッター１においては、第１溝Ｂ１は１６個の交点を形成した。ただし、交点の数は１６に限定されない。また、溝（第１溝Ｂ１〜第５溝Ｂ５）の幅及び深さ並びに溝同士の間隔は、実験的及び／又は経験的に任意の値に設定できる。
【０１０３】
（３）例えば、１枚のセッター本体において、複数のガラス基板を載置してもよい。この場合、１枚のセッター本体において、載置するガラス基板の数と同数の第１領域Ａ１を設ける。また、複数の第１領域Ａ１の各々に対して、隣接領域が設けられる。例えば、２枚のガラス板を載置できるように、２つの第１領域Ａ１を設け、かつ、２つの第１領域Ａ１の各々に対して隣接領域を設ける。
【０１０４】
（４）図１を参照して説明した実施の形態では、板状の被搬送物（図１の例ではガラス基板７）を搬送するための搬送板の例として、焼成用セッター１を挙げた。ただし、セッター１の用途は焼成用に限定されない。また、搬送板はセッター１に限定されない。つまり、本発明は、搬送板の用途に依存することなく適用可能である。
【０１０５】
また、図１を参照して説明した実施の形態では、搬送板としてのガラス基板７の例として、液晶ディスプレイ用ガラス板を挙げた。ただし、搬送板の用途は液晶ディスプレイ用に限定されない。また、搬送板は基板でなくてもよい。
【０１０６】
（５）図１を参照して説明した実施の形態では、ガラス基板７が被搬送物であり、搬送板としてのセッター１に載置される例を示した。ただし、セッター１に載置される被搬送物は、ガラス基板７に限定されない。被搬送物は、表面が平滑な板状の物体であればよい。例えば、被搬送物として、セラミック板、金属板、又は合成樹脂の板等を選択できる。また、搬送板としてのセッター１の材質はガラスであった。ただし、搬送板の材質はガラスに限定されない。搬送板の材質は、表面を平滑にできる材質であれば、被搬送物及び搬送の目的等に応じて、任意の材質を選択できる。例えば、搬送板として、セラミック板、金属板、又は合成樹脂の板等を選択できる。また、搬送板としてのセッター１の材質は耐熱性ガラスであった。ただし、搬送板の機能は耐熱性に限定されない。搬送板の機能は、被搬送物及び搬送の目的等に応じて、任意の機能を選択できる。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明は、表面が平滑な板状の被搬送物を搬送するために搬送板を使用する分野に利用可能である。例えば、ガラス基板を焼成する際に用いられる焼成用セッターの分野に利用可能である。
【符号の説明】
【０１０８】
１    焼成用セッター（搬送板）
３    焼成用セッター本体（搬送板本体）
５    孔
７    ガラス基板（被搬送物）
８    中央領域
９    評価装置
１１    定盤
１３    アルミニウムフレーム
１５    ストッパ
１７    ストッパ
Ａ１    第１領域
Ａ２    第２領域
Ａ３    第３領域
Ａ４    第４領域
Ａ５    第５領域
Ｂ１    第１溝
Ｂ２    第２溝
Ｂ３    第３溝
Ｂ４    第４溝
Ｂ５    第５溝
Ｃ１    平坦領域
Ｃ２    平坦領域
Ｃ３    平坦領域
Ｃ４    平坦領域
Ｃ５    平坦領域
Ｃ６    平坦領域
Ｃ７    平坦領域
Ｃ８    平坦領域
Ｄ１    短辺（縁）
Ｄ２    長辺（縁）
Ｄ３    短辺（縁）
Ｄ４    長辺（縁）
Ｅ１    辺（縁）
Ｅ２    辺（縁）
Ｅ３    辺（縁）
Ｅ４    辺（縁）
ＳＡＭ（ＳＡＭ１〜ＳＡＭ４）    評価サンプル（焼成用セッター）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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