(57)【要約】【課題】吐出口の近傍に付着した液体の回収が可能な新たなインク回収構造を提供する。【解決手段】液体吐出ヘッドは、液体が吐出される吐出口１０と、吐出口１０に連通する液体流路１４と、液体流路１４に連通する液体供給口１２と、を有する基板１，９を備えている。液体吐出ヘッドは、液体流路１４から吐出口１０に至る経路内に形成された柱状部材１５と、吐出口１０が形成された面から柱状部材１５を貫通し液体供給口１２へ至る貫通孔５と、を有している。【選択図】図１
2014162100.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体が吐出される吐出口と、前記吐出口に連通する液体流路と、前記液体流路に連通する液体供給口と、を有する基板を備えた液体吐出ヘッドであって、
前記液体流路から前記吐出口に至る経路内に形成された柱状部材と、
前記吐出口が形成された面から前記柱状部材を貫通し前記液体供給口へ至る貫通孔と、を有している、液体吐出ヘッド。
【請求項２】
前記基板は複数の前記吐出口を有し、
前記貫通孔は、複数の前記吐出口の各々に対応して複数設けられている、請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項３】
前記基板は、複数の前記吐出口の各々に対応する複数の前記液体流路を有し、
前記液体供給口は、複数の前記吐出口及び複数の前記液体流路に対して共通となっている、請求項２に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項４】
複数の前記液体流路に対応して複数形成され、各々の前記液体流路と前記液体供給口とを連通する独立液体供給口を有している、請求項３に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項５】
前記基板は、前記吐出口及び前記液体流路が形成されたオリフィスプレートと、前記液体供給口が形成された基材と、を含み、
前記貫通孔は、前記オリフィスプレートに形成された第一貫通口と、前記柱状部材に形成された第二貫通口と、前記基材に形成された第三貫通口とにより形成されている、請求項１から４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項６】
前記基板は、前記吐出口及び前記液体流路が形成されたオリフィスプレートと、前記液体供給口及び前記独立液体供給口が形成された基材と、を含み、
前記貫通孔は、前記オリフィスプレートに形成された第一貫通口と、前記柱状部材に形成された第二貫通口と、前記基材に形成された第三貫通口とにより形成されている、請求項４に記載の液体吐出ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体が吐出される液体吐出口を有する基板を備えた液体吐出ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録装置においては、インクジェットヘッドによりインクを吐出して画像を記録媒体上に形成する場合、記録媒体に着弾しない微細なインクが発生することがある。この微細なインクがインクミストとなってインクジェットヘッドと記録媒体との間で浮遊する。浮遊したインクミストがインクジェットヘッドのインク吐出面を形成する部材であるオリフィスプレート上に付着すると、付着したインクの影響で印字ヨレのような画像の乱れが発生する。また、インクを吐出するインク吐出口、インクを吐出するエネルギーを発生させるエネルギー発生素子及びインク流路は高密度に配置されており、隣接又は近接するインク吐出口間の距離がより短くなってきている。そのため、隣接又は近接するインク吐出口同士の振動でオリフィスプレート表面にインクが盛り上がる現象（以下、クロストーク現象と称する。）があった。
【０００３】
このような現象によってオリフィスプレート表面に付着したインクは、インク吐出面を払拭するクリーニング動作を行うことにより、ある程度除去することは可能である。クリーニング手段は、オリフィスプレート表面をゴム板上のワイパーブレード部材にて拭うことで、堆積したインクを除去する。インクジェットヘッドのクリーニングは、一旦記録動作を中断させてから行う必要がある。
【０００４】
特許文献１に記載のインクジェットヘッドでは、オリフィスプレート表面、特にインク吐出口の列間の中央部にインク回収孔を設けている。このインクジェットヘッドでは、インクがオリフィスプレート表面に付着したとしても、記録動作を中断させることなく、インクが付着し続けて堆積することを抑えることができるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２５４２７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載のインクジェットヘッドでは、２つのインク吐出口列間の中央部にインク回収孔が設けられているため、オリフィスプレート表面の、特にインク吐出口近傍に付着したインクを回収することが困難な場合がある。インク回収孔は、インクを回収することができるように、吐出口及びエネルギー発生素子の近傍の流路を避けて、共通液室に連通することができる位置に開口されている。そのため、インク回収孔は、通常、吐出口の近傍ではなく、インク吐出口列間の中央部に設けられることになる。このように、特許文献１に記載のインクジェットヘッドでは、インク回収孔の位置が制限され、特にインク吐出口近傍にインク回収孔を形成することが困難である。その結果、インク吐出口近傍に付着したインクを回収することが困難となる。本発明の目的は、上記課題に鑑み、吐出口が形成された面に付着した液体を回収するための新たな構造を有する液体吐出ヘッドを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の液体吐出ヘッドは、液体が吐出される吐出口と、前記吐出口に連通する液体流路と、前記液体流路に連通する液体供給口と、を有する基板を備えた液体吐出ヘッドであって、前記液体流路から前記吐出口に至る経路内に形成された柱状部材と、前記吐出口が形成された面から前記柱状部材を貫通し前記液体供給口へ至る貫通孔と、を有している。
【発明の効果】
【０００８】
大気とインク供給口とを連通する貫通孔は、液体流路から吐出口に至る経路内に形成された柱状部材を通るので、特に吐出口の近傍に配置させることが可能となる。この貫通孔は液体供給口に連通しているため、液体供給口の内部の負圧により、液体を効率よく液体供給口へ回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１の実施形態による液体吐出ヘッドの斜視図、上面図及び断面図
【図２】本発明の第１の実施形態の液体吐出ヘッドの製造過程を示す断面図
【図３】本発明の第１の実施形態の液体吐出ヘッドの製造過程を示す断面図
【図４】本発明の第１の実施形態の液体吐出ヘッドの製造過程を示す断面図
【図５】本発明の第１の実施形態の液体吐出ヘッドの作用を示す断面図
【図６】本発明の第２の実施形態による液体吐出ヘッドの斜視図、上面図及び断面図
【図７】本発明の第２の実施形態の液体吐出ヘッドの製造過程を示す断面図
【図８】本発明の第２の実施形態の液体吐出ヘッドの製造過程を示す断面図
【図９】本発明の第２の実施形態の液体吐出ヘッドの製造過程を示す断面図
【図１０】本発明の第２の実施形態の液体吐出ヘッドの作用を示す断面図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の実施形態では、液体吐出ヘッドの一例として、インクを吐出するインクジェットヘッドについて説明を行うが、本発明は任意の液体を吐出する液体吐出ヘッドに適用できる。
【００１１】
図１（ａ）は、第１の実施形態のインクジェットヘッドの斜視図であり、図１（ｂ）はその上面図であり、図１（ｃ）は図１（ｂ）中のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。本実施形態のインクジェットヘッドは、吐出口１０と、エネルギー発生素子４と、吐出口１０へインクを供給するインク供給口（液体供給口）１２と、吐出口１０とインク供給口１２とを連通するインク流路（液体流路）１４と、を有する基板を備えている。吐出口１０はインクを吐出するための開口であり、エネルギー発生素子４は、吐出口１０からインクを吐出するためのエネルギーを発生する。基板は、例えばシリコン基板１などから成る基材と、当該基材を覆うオリフィスプレート９と、を含んでいる。
【００１２】
本実施形態では、シリコン基板１に、インクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子４が所定のピッチで２列に並んで形成されている。インク供給口１２は、エネルギー発生素子４の２つの列の間に開口している。インク供給口１２は、シリコン基板１に異方性エッチングによって形成することができる。オリフィスプレート９は、感光性樹脂膜によって形成することができる。オリフィスプレート９には、各エネルギー発生素子４に対応した吐出口１０と、インク供給口１２から各吐出口１０に連通するインク流路１４とが形成されている。本実施形態では、インク流路１４は、複数の吐出口１０の各々に対応して複数設けられている。また、インク供給口１２は、複数の吐出口１０及び複数のインク流路１４に対して共通のものとなっており、各インク流路１４を介して各々の吐出口１０へインクが供給される。
【００１３】
インク流路１４から吐出口１０に至る経路に柱状部材１５が形成されている。柱状部材１５は、その内部に貫通口５２を有している。本実施形態では、柱状部材１５は円柱形状の円柱フィルターであるが、柱状部材１５の形状は円柱に限られない。本実施形態のインクジェットヘッドでは、吐出口１０が形成された面から、柱状部材１５を貫通し、インク供給口１２へ至る貫通孔５を有している。貫通孔５は、複数の吐出口１０の各々に対応して複数形成されており、各吐出口１０の近傍に配置されていることが好ましい。
【００１４】
このインクジェットヘッドは、吐出口１０が形成された面が記録媒体の記録面に対面するように配置される。そして、インク供給口１２を介してインク流路１４内に充填されたインクに、エネルギー発生素子４によってエネルギーを加えることによって、吐出口１０からインク液滴を吐出させる。このインク液滴を記録媒体に付着させることによって記録を行う。
【００１５】
円柱フィルター１５は、オリフィスプレート９と同一の部材により、オリフィスプレート９と一体的に形成されていても良い。また、シリコン基板１とオリフィスプレート９との間、及びシリコン基板１と円柱フィルター１５との間には、密着向上層６が形成されていても良い。密着向上層６は、シリコン基板１とオリフィスプレート９又は円柱フィルター１５との間の密着性を向上させる。さらに、本実施形態では、貫通孔５は、円柱フィルター１５の上部で大気と連通する第一貫通口５１と、円柱フィルター１５の内部に形成された第二貫通口５２と、円柱フィルター１５の下部でインク供給口１２と連通する第三貫通口５３とから成る。具体的に、第一貫通口５１はオリフィスプレート９に形成されており、第３貫通口５３はシリコン基板１に形成されている。上記のような貫通孔５の構成により、インク吐出時に発生するクロストーク現象を低減し、オリフィスプレート表面に付着したインクを回収することができ、その結果、良好な画像品位を得ることができる。
【００１６】
特に、本実施形態のインクジェットヘッドでは、インクを回収する貫通孔５がインク流路１４から吐出口１０に至る経路内に形成された柱状部材１５を通る構造となっているので、貫通孔５を特に吐出口１０の近傍に配置させることが可能となる。貫通孔５はインク供給口１２に連通しているため、インク供給口１２の内部の負圧により、吐出口１０近傍に付着したインクを効率よくインク供給口１２へ回収することができる。
【００１７】
また、頻繁な回復動作を行わなくても吐出口１０が形成されているインク吐出面が清浄な状態に保たれることから、回復動作を行う場合に制限のあった吐出口列間の距離を縮めることもでき、インクジェットヘッドの小型化を図ることもできる。さらに、回復動作のために用いられる装置を省くことも可能となるので、当該インクジェットヘッドを搭載する記録装置の小型化を図ることもできる。
【００１８】
続いて、本発明の第２の実施形態におけるインクジェットヘッドを図面に基づいて説明する。図６（ａ）は第２の実施形態のインクジェットヘッドの斜視図を示しており、図６（ｂ）はその上面図を示しており、図６（ｃ）は図６（ｂ）中のＡ−Ａ’線に沿った断面図を示している。
【００１９】
第２の実施形態のインクジェットヘッドは、エネルギー発生素子４が所定のピッチで１列に並んで形成されたシリコン基板１を有している。シリコン基板１には、異方性エッチングによって形成されたインク供給口１２と、独立インク供給口（独立液体供給口）１３とが形成されている。シリコン基板１上には、感光性樹脂膜によって形成されたオリフィスプレート９が設けられている。オリフィスプレート９には、エネルギー発生素子４に対応してインクを吐出する複数の吐出口１０と、インク供給口（液体供給口）１２から吐出口１０に連通するインク流路（液体流路）１４とが形成されている。
【００２０】
本実施形態では、インク供給口１２は、複数の吐出口１０に対して共通のものとなっている。各々の吐出口１０には２つのインク流路１４が連通している。共通のインク供給口１２と各インク流路１４とは、独立インク供給口１３によって連通している。つまり、独立インク供給口１３は、各々のインク流路１４に対応して複数設けられている。本実施形態では、吐出口１０の直下にエネルギー発生素子４が設けられており、このエネルギー発生素子４に対して対称な位置に独立インク供給口１３が形成されている。独立インク供給口１３はシリコン基板１の表面に対して直交する方向へ向けて開口している。
【００２１】
独立インク供給口１３から吐出口１０に至るインク流路１４に、円柱フィルター１５が形成されている。円柱フィルター１５には、内部を貫通する貫通口５２が形成されている。円柱フィルター１５は、エネルギー発生素子４に対して対称な位置に設けられていて良い。また、第１の実施形態と同様に、円柱フィルター１５の代わりに、貫通口５２を有する任意の形状の柱上状部材を設けても良い。
【００２２】
このインクジェットヘッドは、吐出口１０が形成された面が記録媒体の記録面に対面するように配置される。そして、インク供給口１２から独立インク供給口１３を介してインク流路１４内にインクが充填され、エネルギー発生素子４によって発生するエネルギーによって吐出口１０からインク液滴を吐出させる。このインク液滴を記録媒体に付着させることによって記録を行う。
【００２３】
さらに、第１の実施形態と同様に、円柱フィルター１５の上部で大気と連通する第一貫通口５１と、円柱フィルター１５の内部の第二貫通口５２と、円柱フィルター１５の下部でインク供給口１２と連通する第三貫通口５３とによって、貫通孔５が形成されている。つまり、貫通孔５は、吐出口１０が形成された面から、円柱フィルター１５を貫通し、インク供給口１２へ至っている。以上のような構成であっても、第１の実施形態におけるインクジェットヘッドと同様に、良好な画像品位を得ることができる。
【００２４】
図２〜４は、第１の実施形態のインクジェットヘッド（図１参照）の製造過程を示す断面図を示している。まず、図２（ａ）に示すように、シリコン基板１上に、エネルギー発生素子４とドライバーやロジック回路（不図示）とを複数配置する。エネルギー発生素子４としては、例えば電気熱変換素子や圧電素子を用いることができる。電気熱変換素子は、液体に状態変化を起こさせるための熱エネルギーを発生する。
【００２５】
続いて、図２（ｂ）に示すように、シリコン基板１の表面２に密着向上層６を形成し、シリコン基板１の裏面３に裏面マスク７を形成する。密着向上層６及び裏面マスク７は、熱可塑性樹脂材料をスピンコート法により塗布し、オーブン炉にてベークし、当該熱可塑性樹脂材料を硬化させた後に、ドライエッチング法により当該熱可塑性樹脂材料を選択的に除去することで形成した。密着向上層６及び裏面マスク７は例えば２μｍの厚さで形成することができる。熱可塑性樹脂材料は、例えば、ポリエーテルアミド樹脂（日立化成（株）製品名：HIMAL-1）等を用いることができる。
【００２６】
続いて、図２（ｃ）に示すように、密着向上層６が形成されたシリコン基板１の表面２に、インク流路型材８を形成する。インク流路型材８は、溶解可能なポジ型の感光性樹脂材料をスピンコート法により塗布し、当該感光性樹脂材料を選択的に露光・現像をすることで形成した。インク流路型材８は例えば１４μｍの厚みで形成することができる。
【００２７】
また、インク流路型材８は、図１に示す円柱フィルター１５及び第二貫通口５２を形成するため、選択的に円柱形状に形成されている。より具体的には、インク流路型材８は、円柱フィルター１５内の第二貫通口５２及びインク流路１４となるべき部分を残して除去されている。溶解可能なポジ型の感光性樹脂材料は、例えば、ＯＤＵＲ（東京応化工業株式会社製）などを用いることができる。
【００２８】
続いて、図２（ｄ）に示すように、シリコン基板１の表面２及びインク流路型材８上に、感光性樹脂膜９を形成する。感光性樹脂膜９の一部は、円柱フィルター１５となるべき部分にも形成される。また、感光性樹脂膜９は、吐出口１０及び第一貫通口５１となるべき部分には形成されていない。ここでは、感光性樹脂膜９は、ネガ型の感光性樹脂材料をスピンコートにより２５μｍの厚さで塗布し、選択的に露光・現像をして、オーブン炉にて１４０℃で６０分間加熱硬化させて形成した。このようにして、吐出口１０及び第一貫通口５１が形成されたオリフィスプレート９と、円柱フィルター１５とが形成される。なお、感光性樹脂材料の未露光部が除去されて吐出口１０及び第一貫通口５１となる。ネガ型の感光性樹脂材料は、例えば、エポキシ樹脂（ＥＨＰＥ−３１５０ダイセル化学（株））等を用いることができる。
【００２９】
続いて、図３（ａ）に示すように、吐出口１０及び第一貫通口５１が形成されたシリコン基板１の表面２側に、ＡＥ保護膜１１を形成する。ＡＥ保護膜１１は、吐出口１０及び第一貫通口５１の内部や、感光性樹脂膜９の表面及び側面を覆う。ＡＥ保護膜１１は、ＡＥ保護材料をスピンコート法にて４０μｍで塗布し形成することができる。ＡＥ保護膜１１は後述する結晶異方性エッチングから感光性樹脂膜９を保護するために形成する。ＡＥ保護材料は、環化ゴムなどの、例えば、ＯＢＣ（東京応化工業株式会社製）を用いることができる。ＡＥ保護材料は、アルカリエッチングに耐性を有するレジストである。
【００３０】
続いて、図３（ｂ）に示すように、シリコン基板１の裏面３が結晶異方性エッチングされ、インク供給口１２が形成される。インク供給口１２は、シリコン基板１の裏面３の裏面マスク７が無い部分から結晶異方性エッチング液によりエッチングすることによって形成することができる。結晶異方性エッチング液は、例えば、ＴＭＡＨ（Tetra Methyl Ammonium Hydroxide）等を用いることができる。
【００３１】
続いて、図３（ｃ）に示すように、インク供給口１２が形成されたシリコン基板１の裏面３に感光性材料層１６を形成する。シリコン基板１の裏面３に設けられた裏面マスク７をドライエッチングで除去した後、感光性材料をスプレー装置（EVG社製：EVG１５０）を使って、１０μｍの厚さで塗布し、選択的に露光・現像することによって感光性材料層１６を形成することができる。感光性材料は、例えば、ＯＦＰＲ（東京応化工業株式会社製）等を用いることができる。
【００３２】
続いて、図４（ａ）に示すように、インク供給口１２に連通する第三貫通口５３をシリコン基板１に形成する。第三貫通口５３は、感光性材料層１６のパターンをマスクにして、ドライエッチング法によって形成した。第三貫通口５３の深さは３０μｍ程度となるため、ドライエッチング法やその他の方法を用いたとしても加工時間も少なく容易に形成することができる。
【００３３】
続いて、図４（ｂ）に示すように、シリコン基板１の裏面３に形成されている感光性材料層１６と、シリコン基板１の表面２に形成されているＡＥ保護膜１１とを除去する。感光性材料層１６はローム製リムーバ１１１２Ａによって除去することができ、ＡＥ保護膜１１はキシレン１００％により除去することができる。
【００３４】
続いて、図４（ｃ）に示すように、シリコン基板１とオリフィスプレート９の間に形成されているインク流路型材８を除去する。これにより、吐出口１０、貫通孔５及びインク流路１４が形成され、第１の実施形態のインクジェットヘッドが完成する。インク流路型材８は、４０℃に加熱温調した乳酸メチルに浸漬し、２００ｋＨｚ／２００Ｗの超音波をかけることで、吐出口１０及び第一貫通口５１から溶出させて除去することができる。次に、オーブン炉にて６０分間２００℃で加熱することで感光性樹脂膜９を最終的に硬化し終えることが好ましい。
【００３５】
図５は、第１の実施形態によるインクジェットヘッドの作用を示している。図５（ａ）に示すように、インクジェットヘッドにインク１００が満たされると、インク供給口１２の内部は密閉され、常に負圧がかった状態となり、大気と連通した吐出口１０及び貫通孔５内部のインクは、凹形状のメニスカスを形成した状態で保持される。
【００３６】
エネルギー発生素子４によってインクにエネルギーを与えると、図５（ｂ）に示すように、エネルギー発生素子４近傍で泡１０１が発生し、そのときの勢いで吐出口１０からインク滴１０２が吐出される。インク滴１０２は吐出された際にミストとなって、貫通孔５付近の上面にインクミスト１０３として付着することがある。
【００３７】
続いて、図５（ｃ）に示すように、インク内の泡１０１は消え、インクミスト１０３が貫通孔５から回収される。インクミスト１０３はインク供給口１２内部の負圧により貫通孔５を通り、インク供給口１２へ回収される。そして、図５（ｄ）に示すように、吐出口１０近傍に付着したインクミスト１０３は貫通孔５から回収され、最終的に、凹形状のメニスカスを形成した状態で保持される。上記の製造方法及び構造による作用により、良好な画像品位を得られるインクジェットヘッドを提供することができる。
【００３８】
図７〜９は、本発明の第２の実施形態によるインクジェットヘッドの製造過程を示している。まず、図７（ａ）に示すように、シリコン基板１上にエネルギー発生素子４とドライバーやロジック回路（不図示）とを複数個配置する。エネルギー発生素子４としては、例えば電気熱変換素子や圧電素子を用いることができる。電気熱変換素子は、その近傍の液体を加熱することにより、液体に状態変化を起こさせる吐出エネルギーを発生する。
【００３９】
続いて、図７（ｂ）に示すように、シリコン基板１の表面２に密着向上層６を形成し、シリコン基板１の裏面３に裏面マスク７を形成する。密着向上層６及び裏面マスク７は、熱可塑性樹脂材料をスピンコート法により塗布し、オーブン炉にてベークし、当該熱可塑性樹脂材料を硬化させた後に、ドライエッチング法により選択的に除去することで形成することができる。密着向上層６及び裏面マスク７は例えば２μｍの厚さで形成することができる。熱可塑性樹脂材料は、例えば、ポリエーテルアミド樹脂（日立化成（株）製品名：HIMAL-1）等を用いることができる。
【００４０】
続いて、図７（ｃ）に示すように、密着向上層６が形成されたシリコン基板１の表面２に、インク流路型材８を形成する。インク流路型材８は、溶解可能なポジ型感光性樹脂材料をスピンコート法により塗布し、選択的に露光・現像をすることで、例えば１４μｍの厚みで形成することができる。溶解可能なポジ型感光性樹脂材料は、例えば、ＯＤＵＲ（東京応化工業株式会社製）などを用いることができる。
【００４１】
続いて、図７（ｄ）に示すように、インク流路型材８が形成されたシリコン基板１の表面２に、感光性樹脂膜９を形成する。感光性樹脂膜９は、ネガ型の感光性樹脂材料をスピンコートにより２５μｍの厚さで塗布し、選択的に露光・現像をして、オーブン炉にて６０分間１４０℃にて加熱硬化させることで形成することができる。感光性樹脂膜９は、オリフィスプレートとなるべき部分と円柱フィルター１５となるべき部分に一体的に形成されている。感光性樹脂膜９の未露光部は、現像の際に除去され、吐出口１０と第一貫通口５１とを形成する。ネガ型の感光性樹脂材料は、例えば、エポキシ樹脂（ＥＨＰＥ−３１５０ダイセル化学（株））等を用いることができる。
【００４２】
続いて、図８（ａ）に示すように、吐出口１０及び第一貫通口５１が形成されたシリコン基板１の表面２側に、シリコン基板１の表面２側の表面と側面が全て覆われるように、ＡＥ保護膜１１を形成する。ＡＥ保護膜１１は、ＡＥ保護材料をスピンコート法にて４０μｍで塗布し形成することができる。ＡＥ保護膜１１は後述する結晶異方性エッチングから感光性樹脂膜９を保護するために形成する。ＡＥ保護材料は、環化ゴムなどの、例えば、ＯＢＣ（東京応化工業株式会社製）を用いることができる。
【００４３】
続いて、図８（ｂ）に示すように、シリコン基板１の裏面３を結晶異方性エッチングし、インク供給口１２を形成する。インク供給口１２は、シリコン基板１の裏面３の裏面マスク７が無い部分から結晶異方性エッチング液によりシリコン基板１をエッチングすることによって形成される。本実施形態では、シリコン基板１の裏面３からインク供給口１２の平坦面までの距離、すなわちエッチングにより除去した部分の厚みは５００μｍであった。結晶異方性エッチング液は、例えば、ＴＭＡＨ（Tetra Methyl Ammonium Hydroxide）等を用いることができる。
【００４４】
続いて、図８（ｃ）に示すように、インク供給口１２が形成されたシリコン基板１の裏面３に感光性材料層１６を形成する。シリコン基板１の裏面３に設けられた裏面マスク７をドライエッチングで除去した後、感光性材料をスプレー装置（EVG社製：EVG１５０）によって例えば１０μｍの厚さで塗布し、選択的に露光・現像をすることで、感光性材料層１６を形成することができる。感光性材料は、例えば、ＯＦＰＲ（東京応化工業株式会社製）等を用いることができる。
【００４５】
続いて、図９（ａ）に示すように、インク供給口１２に連通する独立インク供給口１３及び第三貫通口５３をシリコン基板１に形成する。独立インク供給口１３及び第三貫通口５３は、感光性材料層１６のパターンをマスクにして、ドライエッチング法によって同時に形成することができる。
【００４６】
続いて、図９（ｂ）に示すように、シリコン基板１の裏面３に形成されている感光性材料層１６と、シリコン基板１の表面側に形成されているＡＥ保護膜１１とを除去する。感光性材料層１６はローム製リムーバ１１１２Ａによって除去することができ、ＡＥ保護膜１１はキシレン１００％で除去することができる。
【００４７】
続いて、図９（ｃ）に示すように、シリコン基板１上に形成されたインク流路型材８を除去することによって、吐出口１０、貫通孔５及びインク流路１４を形成し、第２の実施形態のインクジェットヘッドが完成する。インク流路型材８は、４０℃に加熱温調した乳酸メチルに浸漬し、２００ｋＨｚ／２００Ｗの超音波をかけることで、吐出口１０及び第一貫通口５１から溶出除去することができる。これにより、吐出口１０、貫通孔５及びインク流路１４が形成される。また、最後に、オーブン炉にて２００℃で６０分間加熱し、感光性樹脂膜９を最終的に硬化し終えることが好ましい。
【００４８】
図１０は、本発明の第２の実施形態のインクジェットヘッドの作用を示す断面図である。図１０（ａ）に示すように、完成したインクジェットヘッド内にインク１００を満たすと、インク供給口１２の内部は密閉され、常に負圧がかった状態となり、大気と連通した吐出口１０及び貫通孔５に凹形状のメニスカスが形成されてインク１００が保持される。
【００４９】
続いて、図１０（ｂ）に示すように、エネルギー発生素子４によってインク内に泡１０１が発生し、吐出口１０からインク滴１０２が吐出される。インク滴１０２が吐出された際にミストとなって、吐出口１０が形成された面の貫通孔５付近にインクミスト１０３として付着することがある。
【００５０】
続いて、図１０（ｃ）に示すように、泡１０１が消え、インクミスト１０３が貫通孔５から回収される。インクミスト１０３はインク供給口１２の内部の負圧により貫通孔５を通り、インク供給口１２へ回収される。最後に、図１０（ｄ）に示すように、吐出口１０近傍に付着したインクミスト１０３が貫通孔５から回収され、凹形状のメニスカスを形成して保持された状態になる。上記の製造方法及び構造による作用により、良好な画像品位を得られるインクジェットヘッドを提供することができる。
【符号の説明】
【００５１】
１    シリコン基板
５    貫通孔
９    オリフィスプレート
１０  吐出口
１２  インク供給口
１４  インク流路
１５  円柱フィルター
【図１】
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【図２】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図１０】
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【図３】
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【図４】
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【図８】
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【図９】
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