(57)【要約】【課題】本来の工程と異なる工程の製造装置に被搬送物を搬送する場合でも工程間搬送にかかる搬送時間の増大を抑制し得る搬送システムを提供する。【解決手段】搬送システム４０は、工程間搬送手段として機能するＯＨＴ４１と、第１工程２０内にて工程内搬送手段として被搬送物を搬送可能なＲＧＶ４２と、第２工程３０内にて工程内搬送手段として被搬送物を搬送可能なＲＧＶ４３と、ＲＧＶ４２およびＲＧＶ４３の双方によりそれぞれ被搬送物を受け渡し可能な位置に配置される中継受渡部４４と、を備えている。【選択図】図１
2014107396.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ複数の製造装置（２１，２２ａ〜２２ｈ，３１，３２ａ〜３２ｈ）を有する第１工程（２０）および第２工程（３０）を含めた各工程に対して被搬送物を工程間搬送する工程間搬送手段（４１）を有する搬送システム（４０）であって、
前記工程間搬送手段により搬送されてきた被搬送物が載置される第１受渡部（２３）と前記第１工程のいずれかの製造装置との間および前記第１工程の製造装置同士間にて前記被搬送物を搬送可能な第１搬送台車（４２）と、
前記工程間搬送手段により搬送されてきた被搬送物が載置される第２受渡部（３３）と前記第２工程のいずれかの製造装置との間および前記第２工程の製造装置同士間にて前記被搬送物を搬送可能な第２搬送台車（４３）と、
前記第１搬送台車および前記第２搬送台車によりそれぞれ被搬送物を受け渡し可能な位置に配置される中継受渡部（４４，４６）と、
を備えることを特徴とする搬送システム。
【請求項２】
前記中継受渡部は、前記第１搬送台車の搬送路と前記第２搬送台車の搬送路との間に配置されて、前記被搬送物が載置される載置面（４４ａ，４６ａ）が当該載置面に沿う方向に少なくとも１８０度旋回可能に構成されることを特徴とする請求項１に記載の搬送システム。
【請求項３】
前記中継受渡部は、前記載置面のうち前記被搬送物が載置される部位（４７）と当該載置面の旋回中心（Ｌ）とを前記載置面に沿う方向にずらして形成されることを特徴とする請求項２に記載の搬送システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被搬送物を搬送する搬送システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、それぞれ複数の製造装置を有する各工程に対して被搬送物を工程間搬送する工程間搬送手段を有する搬送システムに関する技術として、下記特許文献１に開示される生産設備が知られている。この生産設備は、３つの半導体製造ラインと、各半導体製造ラインで加工された物品を他の半導体製造ラインに搬送する工程間搬送装置と、半導体製造各ラインおよび工程間搬送装置を制御するホストコンピュータとを備えている。各半導体製造ラインには、工程間搬送装置により搬送されてきた被搬送物が保管されるストッカ（受渡部）と、このストッカと各半導体製造装置との間で被搬送物を搬送する搬送台車とが、それぞれ設けられている。そして、搬送台車は、被搬送物の搬送終了後、一定時間経過した後、次の搬送指示がなければ、待機位置に移動するように制御される。これにより、搬送台車からの発塵により生産装置に与える影響を低減している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２２１２７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
各工程にそれぞれ設けられる複数の製造装置は、多品種小ロットの被搬送物に対応するため、様々な種別の被搬送物が搬送されてくる場合でもその搬送ロスを極力少なくするように配置されている。
【０００５】
ところで、例えば、被搬送物がＡ工程内の複数の製造装置における処理を順次終えてから工程間搬送手段により次の工程に搬送される搬送経路が構築されている搬送システムにおいて、Ａ工程の一部の製造装置を故障やメンテナンス等で停止させても他の製造装置を用いて被搬送物の処理を継続させることが要求される場合がある。この要求に対して、Ａ工程の停止する製造装置と同等の機能を有する隣のＢ工程の製造装置（以下、搬送先製造装置ともいう）を代替用として用いて被搬送物の処理を継続させることが考えられる。一般に、同等の機能を有する製造装置は、異なる工程に設けられる場合でも設備的な制約からまとまって配置されるからである。
【０００６】
そうすると、Ａ工程内の各製造装置のうち上述のように停止する製造装置の直前の処理を行う製造装置（以下、搬送元製造装置ともいう）にて処理を終えた被搬送物をＢ工程の搬送先製造装置まで搬送する場合には、以下のような搬送経路を利用して被搬送物を搬送する必要がある。すなわち、Ａ工程用の搬送台車が上記搬送元製造装置での処理を終えた被搬送物をＡ工程における工程間搬送手段との受け渡し用の受渡部まで搬送した後、このＡ工程用の受渡部上の被搬送物を工程間搬送手段によりＢ工程用の受渡部まで搬送し、このＢ工程用の受渡部上の被搬送物をＢ工程用の搬送台車により搬送先製造装置まで搬送する。
【０００７】
しかしながら、上述のように工程間搬送手段および２箇所の受渡部を経由して被搬送物をＡ工程からＢ工程に搬送すると、隣の工程であっても搬送経路が長くなってしまうという問題がある。さらに、本来使用する必要のない搬送に工程間搬送手段を利用するため、この工程間搬送手段を利用した他の工程間での搬送に影響してしまい、搬送システム全体の搬送時間が長くなってしまう問題がある。
【０００８】
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、本来の工程と異なる工程の製造装置に被搬送物を搬送する場合でも工程間搬送にかかる搬送時間の増大を抑制し得る搬送システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、特許請求の範囲の請求項１に記載の発明は、それぞれ複数の製造装置（２１，２２ａ〜２２ｈ，３１，３２ａ〜３２ｈ）を有する第１工程（２０）および第２工程（３０）を含めた各工程に対して被搬送物を工程間搬送する工程間搬送手段（４１）を有する搬送システム（４０）であって、前記工程間搬送手段により搬送されてきた被搬送物が載置される第１受渡部（２３）と前記第１工程のいずれかの製造装置との間および前記第１工程の製造装置同士間にて前記被搬送物を搬送可能な第１搬送台車（４２）と、前記工程間搬送手段により搬送されてきた被搬送物が載置される第２受渡部（３３）と前記第２工程のいずれかの製造装置との間および前記第２工程の製造装置同士間にて前記被搬送物を搬送可能な第２搬送台車（４３）と、前記第１搬送台車および前記第２搬送台車によりそれぞれ被搬送物を受け渡し可能な位置に配置される中継受渡部（４４，４６）と、を備えることを特徴とする。
なお、特許請求の範囲および上記手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
【発明の効果】
【００１０】
請求項１の発明では、第１受渡部と第１工程のいずれかの製造装置との間および第１工程の製造装置同士間の第１工程内にて被搬送物を搬送可能な第１搬送台車と、第２受渡部と第２工程のいずれかの製造装置との間および第２工程の製造装置同士間の第２工程内にて被搬送物を搬送可能な第２搬送台車と、が設けられている。そして、第１搬送台車および第２搬送台車の双方によりそれぞれ被搬送物を受け渡し可能な位置に、中継受渡部が配置される。
【００１１】
これにより、例えば、第１工程の製造装置の１つ（以下、搬送元製造装置という）にて処理を終えた被搬送物を第２工程の製造装置の１つ（以下、搬送先製造装置という）に搬送する場合には、以下の搬送経路を利用して被搬送物を搬送することができる。すなわち、搬送元製造装置から被搬送物を受け取った第１搬送台車によりその被搬送物が中継受渡部まで搬送され、第１搬送台車により中継受渡部に置かれた被搬送物を受け取った第２搬送台車によりその被搬送物が搬送先製造装置まで搬送される。このように、被搬送物を、工程間搬送する工程間搬送手段を経由することなく、工程内搬送の組み合わせで互いに異なる工程の搬送元製造装置から搬送先製造装置まで搬送できるので、本来の工程と異なる工程の製造装置に被搬送物を搬送する場合でも工程間搬送にかかる搬送時間の増大を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本実施形態に係る搬送システムのレイアウト図である。
【図２】ＲＧＶの概略構成を示す斜視図である。
【図３】中継受渡部の載置面の旋回状態を説明する説明図である。
【図４】搬送システムを含めた生産設備全体の制御系統を示す説明図である。
【図５】中継受渡部の変形例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の搬送システムを具現化した一実施形態について、図面を参照して説明する。
図１に示す搬送システム４０は、半導体装置を製造する生産設備１０に採用される搬送用のシステムであって、それぞれ複数の製造装置を有する各工程に対して製造対象となる被搬送物を搬送するように機能する。この搬送システム４０は、第１工程２０および第２工程３０を含めた複数の工程間の工程間搬送を実施するとともに、各工程内のそれぞれの製造装置同士間等での工程内搬送を実施するように構成されている。
【００１４】
ここで、本実施形態において、第１工程２０および第２工程３０に搬送される被搬送物は、例えば、洗浄および熱処理が必要な半導体ウェハである。
【００１５】
また、第１工程２０は、複数の製造装置として、上記半導体ウェハを洗浄する洗浄装置２１と、洗浄された各半導体ウェハに対して所定の熱処理を施す各拡散炉２２ａ〜２２ｈとを備えている。洗浄装置２１は、そのステージに載置された被搬送物を洗浄槽内に取り込み、洗浄後の被搬送物を再びステージに載置する搬入機構を備えている。また、各拡散炉２２ａ〜２２ｈは、そのステージに載置された被搬送物を炉内に取り込み、熱処理後の被搬送物を再びステージに載置する搬入機構を、それぞれ備えている。なお、各拡散炉２２ａ〜２２ｈは、それぞれ同等の熱処理機能を有するように構成されてもよいし、一部の拡散炉が他の拡散炉に対して異なる熱処理機能を有するように構成されてもよい。
【００１６】
また、第１工程２０には、その工程内搬送経路端に、処理前の被搬送物および処理後の被搬送物が一時的に載置されるステーションとして機能するオープナ等の受渡部２３が設けられている。
【００１７】
また、第２工程３０も、第１工程２０と同様の機能を有する洗浄装置３１、各拡散炉３２ａ〜３２ｈおよび受渡部３３を備えている。洗浄装置２１、各拡散炉２２ａ〜２２ｈおよび受渡部２３と洗浄装置３１、各拡散炉３２ａ〜３２ｈおよび受渡部３３とは、後述するレール４２ａ，４３ａを介して同等の機能を有する製造装置同士が対向するように配置されている（図１参照）。なお、受渡部２３は、特許請求の範囲に記載の「第１受渡部」の一例に相当し、受渡部３３は、特許請求の範囲に記載の「第２受渡部」の一例に相当し得る。
【００１８】
次に、搬送システム４０の特徴的構成について説明する。
搬送システム４０は、工程間搬送手段として機能する１または２以上のＯＨＴ（Overhead Hoist Transport）４１と、第１工程２０および第２工程３０の工程内搬送手段として機能するＲＧＶ（Rail Guided Vehicle）４２，４３と、中継受渡部４４と、搬送システム４０の全体制御を司る制御装置４５とを備えている。
【００１９】
ＯＨＴ４１は、制御装置４５からの指令を受けて、被搬送物を把持した状態で天井から吊り下げられているレール４１ａに沿って走行し、各工程の工程内搬送経路端等にそれぞれ設けられる受渡部にて被搬送物を受け渡しするように構成されている。
【００２０】
ＲＧＶ４２は、制御装置４５からの指令を受けて、第１工程２０の受渡部２３および各製造装置（２１，２２ａ〜２２ｈ）間にて被搬送物を搬送する搬送台車（工程内搬送手段）である。このＲＧＶ４２の機能について、図２を用いて詳細に説明する。図２は、ＲＧＶ４２の概略構成を示す斜視図である。
ＲＧＶ４２は、第１工程２０の受渡部２３、洗浄装置２１および各拡散炉２２ａ〜２２ｈの配列方向に沿い搬送経路が直線状に敷設されたレール４２ａ上を被搬送物を把持した状態で走行するように構成されている。なお、ＲＧＶ４２は、特許請求の範囲に記載の「第１搬送台車」の一例に相当し得る。
【００２１】
図２に示すように、ＲＧＶ４２は、レール４２ａ上を走行する走行台車部５１と、この走行台車部５１上に配置される搬送ハンド５２とを備えている。搬送ハンド５２は、旋回部５２ａ、伸縮部５２ｂおよび把持部５２ｃを備えている。旋回部５２ａは、走行台車部５１の上面に配置されており、この上面に対して製造装置側に向かう旋回基準位置を基準に３６０度旋回可能に構成されている。伸縮部５２ｂは、旋回部５２ａの上面に配置されており、被搬送物を搬送する際のポジション（以下、搬送ポジションという）を基準に、旋回軸に対して直交する一方向および旋回軸に沿う方向に伸縮可能に構成されている。把持部５２ｃは、伸縮部５２ｂの伸縮端部に配置されており、被搬送物を把持する把持状態とその把持を解除する解除状態とに移行可能に構成されている。
【００２２】
これにより、ＲＧＶ４２は、制御装置４５からの指令を受けて、受渡部２３や各製造装置のステージから被搬送物を受け取る場合には、以下のように動作する。
まず、ＲＧＶ４２は、走行台車部５１がレール４２ａ上を走行することで搬送ハンド５２を受取対象のステージまで移動させ、伸縮部５２ｂが所定の位置まで伸縮することで把持部５２ｃをステージ上の被搬送物を把持可能な位置に移動させる。そして、把持部５２ｃの把持動作により被搬送物が把持され、この把持状態で伸縮部５２ｂが搬送ポジションに戻ることで、被搬送物がＲＧＶ４２により搬送可能に把持された状態となる。
【００２３】
また、ＲＧＶ４２は、制御装置４５からの指令を受けて、把持した被搬送物を受渡部２３や各製造装置のステージに載置する場合には、以下のように動作する。
まず、ＲＧＶ４２は、走行台車部５１がレール４２ａ上を走行することで被搬送物を把持した搬送ハンド５２を載置対象のステージまで移動させ、伸縮部５２ｂが所定の位置まで伸縮することで把持部５２ｃに把持された被搬送物をステージ上に移動させる。そして、把持部５２ｃの把持解除動作により被搬送物がステージ上に載置される。
【００２４】
なお、各製造装置のステージは、レール４２ａに対してそれぞれ同じ方向に位置しているため、旋回部５２ａは、各製造装置のステージとの被搬送物の受け渡し時には、旋回基準位置に位置決めされた状態になる。一方、後述する中継受渡部４４のようにレール４２ａに対して各製造装置のステージと異なる方向に位置する受渡部との間で被搬送物の受け渡しする場合には、旋回部５２ａは、旋回基準位置から１８０度旋回した状態となる。
【００２５】
また、ＲＧＶ４３は、第２工程３０の受渡部３３、洗浄装置３１および各拡散炉３２ａ〜３２ｈの配列方向に沿い搬送経路が直線状に敷設されたレール４３ａ上を被搬送物を把持した状態で走行するように構成されている。このＲＧＶ４３は、ＲＧＶ４２と同様に、走行台車部５１および搬送ハンド５２を備えており、受渡部３３や各製造装置（３１，３２ａ〜３２ｈ）のステージ間で被搬送物を搬送する。なお、ＲＧＶ４３は、特許請求の範囲に記載の「第２搬送台車」の一例に相当し得る。
【００２６】
図３は、中継受渡部４４の載置面４４ａの旋回状態を説明する説明図である。
中継受渡部４４は、その載置面４４ａに被搬送物が一時的に載置される中継用のステージであって、レール４２ａとレール４３ａとの間であって、ＲＧＶ４２およびＲＧＶ４３によりそれぞれ被搬送物を受け渡し可能な位置に配置されている。特に、中継受渡部４４は、旋回機構（図示略）を備えており、当該旋回機構の動作に応じて、図３に示すように、載置面４４ａが旋回軸Ｌを中心に当該載置面４４ａに沿う方向に少なくとも１８０度旋回するように構成されている。この旋回機構は、載置面４４ａに被搬送物を載置したＲＧＶ４２またはＲＧＶ４３からの指令に応じて１８０度旋回するように駆動制御される。なお、図３では、載置面４４ａの旋回前の被搬送物Ｗを実線にて示し、１８０度旋回後の被搬送物Ｗを二点鎖線にて示している。
【００２７】
図４は、搬送システム４０を含めた生産設備１０全体の制御系統を示す説明図である。
制御装置４５は、図４に示すように、工場全体制御を司る上位端末からの搬送指令に応じて、ＯＨＴ４１等を用いた工程間搬送制御と、ＲＧＶ４２，４３等を用いた工程内搬送制御とを実施する。また、制御装置４５は、上記搬送指令に応じて、受渡部２３，３３等の各工程の工程内搬送経路端にそれぞれ設けられる受渡部の受渡制御を実施する。
【００２８】
次に、制御装置４５により制御されたＯＨＴ４１およびＲＧＶ４２，４３等による通常の工程間搬送および工程内搬送、具体的には、第１工程２０の洗浄装置２１および拡散炉２２ｃにて処理が必要な半導体ウェハを被搬送物として搬送する場合について、以下に説明する。
【００２９】
まず、被搬送物が、ＯＨＴ４１により第１工程２０の受渡部２３まで搬送される。続いて、受渡部２３上の被搬送物が、ＲＧＶ４２により洗浄装置２１のステージまで搬送される。その後、洗浄装置２１での処理を終えたステージ上の被搬送物が、ＲＧＶ４２により拡散炉２２ｃのステージまで搬送される。その後、拡散炉２２ｃでの処理を終えたステージ上の被搬送物が、ＲＧＶ４２により受渡部２３まで搬送される。そして、第１工程２０での処理を終えた受渡部２３上の被搬送物が、ＯＨＴ４１により次の工程に工程間搬送される。
【００３０】
次に、メンテナンス等により各拡散炉２２ａ〜２２ｈが停止していることから、第１工程２０の拡散炉２２ｃに代えて同等の機能を有する第２工程３０の拡散炉３２ｃを使用する場合について、以下に説明する。
【００３１】
この場合、洗浄装置２１での処理を終えたステージ上の被搬送物を把持したＲＧＶ４２が、中継受渡部４４まで走行する。このとき、ＲＧＶ４２は、把持部５２ｃにより被搬送物を把持した状態で旋回部５２ａを旋回基準位置から１８０度旋回させる。これにより、レール４２ａを介して各製造装置のステージと反対側に位置する中継受渡部４４であっても、被搬送物を載置可能な状態となる。そして、把持部５２ｃに把持された被搬送物を伸縮部５２ｂの伸張により載置面４４ａ上に移動させた後、把持部５２ｃの把持解除動作により被搬送物が載置面４４ａ上に載置される。そして、ＲＧＶ４２からの指令に応じて載置面４４ａが１８０度旋回する（図３参照）。
【００３２】
載置面４４ａを旋回させる理由は、第１工程２０の各製造装置と第２工程３０の各製造装置とがレール４２ａ，４３ａを介して対向しているため、各製造装置のステージに対して被搬送物を載置する向きが指定される場合でも対応できるようにするためである。
【００３３】
上述のように被搬送物が載置された載置面４４ａが１８０度旋回した後、ＲＧＶ４３が旋回部５２ａを旋回基準位置から１８０度旋回させた状態で中継受渡部４４まで走行し、載置面４４ａ上の被搬送物を把持部５２ｃにより把持する。そして、ＲＧＶ４３は、被搬送物を把持したまま伸縮部５２ｂを搬送ポジションに戻し、旋回部５２ａを旋回基準位置まで旋回させた後、拡散炉３２ｃのステージまで走行し、そのステージ上に被搬送物を載置する。その後、拡散炉３２ｃでの処理を終えたステージ上の被搬送物が、ＲＧＶ４３により受渡部３３まで搬送される。そして、第２工程３０での処理を終えた受渡部３３上の被搬送物が、ＯＨＴ４１により次の工程に工程間搬送される。
【００３４】
以上説明したように、本実施形態に係る搬送システム４０では、ＲＧＶ４２およびＲＧＶ４３の双方によりそれぞれ被搬送物を受け渡し可能な位置に、中継受渡部４４が配置されている。
【００３５】
これにより、例えば、第１工程２０の搬送元製造装置（上記例では洗浄装置２１）にて処理を終えた被搬送物を第２工程３０の搬送先製造装置（上記例では拡散炉３２ｃ）に搬送する場合には、搬送元製造装置から被搬送物を受け取ったＲＧＶ４２によりその被搬送物が中継受渡部４４まで搬送され、ＲＧＶ４２により中継受渡部４４に置かれた被搬送物を受け取ったＲＧＶ４３によりその被搬送物が搬送先製造装置まで搬送される。このように、被搬送物を、工程間搬送するＯＨＴ４１等を経由することなく、ＲＧＶ４２，４３等の工程内搬送の組み合わせで互いに異なる工程の搬送元製造装置から搬送先製造装置まで搬送できるので、本来の工程と異なる工程の製造装置に被搬送物を搬送する場合でも工程間搬送にかかる搬送時間の増大を抑制することができる。
【００３６】
特に、中継受渡部４４は、ＲＧＶ４２の搬送路とＲＧＶ４３の搬送路との間に配置されて、被搬送物が載置される載置面４４ａが当該載置面４４ａに沿う方向に少なくとも１８０度旋回可能に構成されている。このため、各製造装置のステージに対して被搬送物を載置する向きが指定される場合でも、その指定の向きに応じて載置面４４ａを旋回させることで、ＲＧＶ４２，４３は、被搬送物の向きを意識することなく搬送することができる。
【００３７】
なお、中継受渡部４４は、載置面４４ａ上の被搬送物を把持するＲＧＶ４２，４３からの指示に応じて載置面４４ａを旋回させてもよいし、制御装置４５に制御されて載置面４４ａを旋回させてもよい。また、中継受渡部４４は、被搬送物が載置面４４ａ上に載置されたことをセンサ等で検知することで、その検知結果に応じて載置面４４ａを旋回するように構成されてもよい。
【００３８】
なお、第１工程２０および第２工程３０の全ての製造装置が被搬送物を載置する向きの指定が不要な製造装置であれば、中継受渡部４４の旋回機能をなくしてもよい。
【００３９】
図５は、中継受渡部の変形例を示す説明図である。
ＲＧＶ４２とＲＧＶ４３との被搬送物の受け渡しを中継する受渡部として、上述した中継受渡部４４に代えて、載置面のうち被搬送物が載置される部位と載置面の旋回中心Ｌとを当該載置面に沿う方向にずらして形成された中継受渡部を採用してもよい。
【００４０】
具体的には、例えば、図５に示す中継受渡部４６を採用することができ、この中継受渡部４６は、その載置面４６ａのうち被搬送物が載置される部位（以下、載置部位という）４７が当該載置面４６ａの旋回中心Ｌに対して手前側にずれるように形成されている。
【００４１】
このため、図３と図５との比較からわかるように、載置面４６ａを１８０度旋回させた後の被搬送物の位置が、載置面４４ａを１８０度旋回させた後の被搬送物の位置に対してより遠くに移動する。これにより、中継受渡部４６を配置的にＲＧＶ４２，４３に近づけにくい場合であっても、載置部位４７をＲＧＶ４２，４３に近づけることができる。
【００４２】
また、中継受渡部４４に代えて、上記中継受渡部４６と逆に、上記載置部位が載置面の旋回中心Ｌに対して奥側にずれるように形成される中継受渡部を採用してもよい。これにより、旋回前後の被搬送物の移動距離が短くなるため、レール４２ａとレール４３ａとを離しにくい狭い設置環境であっても、上述のように構成される中継受渡部を採用することができる。
【００４３】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のように具体化してもよい。
（１）本発明は、半導体装置を製造する生産設備の搬送システムに適用されることに限らず、それぞれ複数の製造装置を有する複数の工程に対して被搬送物を工程間搬送および工程内搬送する搬送システムに適用されてもよい。
【００４４】
（２）本発明は、工程内搬送経路に沿い各製造装置が一方向に並んで配置される生産設備の搬送システムに適用されることに限らず、屈曲するＲＧＶ４２，４３用のレールに沿い各製造装置が配置される生産設備の搬送システムに適用されてもよいし、製造装置の上に別の製造装置が配置されるように各製造装置が３次元的に配置される生産設備の搬送システムに適用されてもよい。
【００４５】
（３）工程内搬送用の搬送台車として、ＲＧＶ４２，４３を採用することに限らず、例えば、起動レールを必要としないＡＧＶ（Automated Guided Vehicle）を採用してもよい。
【００４６】
（４）ＲＧＶ４２，４３において、伸縮部５２ｂが中継受渡部４４の載置面４４ａ上に把持部５２ｃを移動させるように伸縮可能であれば、旋回部５２ａを廃止することもできる。
【００４７】
（５）工程間搬送手段として、ＯＨＴ４１を採用することに限らず、例えば、天井レベルの空間を走行するＯＨＳ（Over Head Shuttle）を採用してもよい。
【００４８】
（６）被搬送物は、上述した半導体ウェハに限らず、他の加工または検査が必要な部材であってもよい。例えば、被搬送物は、複数枚（例えば２５枚）の半導体ウェハが収容されるＳＭＩＦ（Standard of Mechanical Interface）やＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）など、局所クリーンを実現するために採用されるカセットであってもよい。
【符号の説明】
【００４９】
２０…第１工程  ３０…第２工程
２１，３１…洗浄装置（製造装置）
２２ａ〜２２ｈ，３２ａ〜３２ｈ…拡散炉（製造装置）
２３…受渡部（第１受渡部）  ３３…受渡部（第２受渡部）
４０…搬送システム
４１…ＯＨＴ（工程間搬送手段）
４２…ＲＧＶ（第１搬送台車）
４３…ＲＧＶ（第２搬送台車）
４４，４６…中継受渡部
４４ａ，４６ａ…載置面
【図１】
2014107396.tif 000003
【図２】
2014107396.tif 000004
【図３】
2014107396.tif 000005
【図４】
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【図５】
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