(57)【要約】  【課題】画像表示にむらが発生することを低減し、表示品位の低下を抑制できる液晶表示装置を提供することである。  【解決手段】本発明に係る液晶表示装置１は、互いに対向配置された第１基板21および第２基板22と、第１基板21の第２主面21ｂ上に固定された底部214ｃ、第２基板22に対向する頂部214ａおよび頂部214ａと底部214ｃとの間に位置する側部214ｂを有する柱状スペーサ214と、柱状スペーサ214を覆う第１配向膜215と、第２基板22の第１主面22ａ上に配置された第２配向膜228と、第１配向膜215および第２配向膜228の間に配置された液晶層23とを備え、第２配向膜228は頂部214ａを収容する凹部228Ａを有し、凹部228Ａは頂部214ａを覆う第１配向膜214に接触する接触面228ａおよび側部214ｂを覆う第１配向膜215から離れた側面228ｂを有することを特徴とする。【選択図】  図６
2014146006.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外側主面上に表示領域を有する第１基板と、該第１基板に対して互いに内側主面同士を対向させて配置された第２基板と、前記表示領域と重なる前記第１基板の前記内側主面上に固定された底部、前記第２基板の前記内側主面に対向する頂部および該頂部と前記底部との間に位置する側部を有する複数の柱状スペーサと、複数の該柱状スペーサを覆うようにして前記第１基板の前記内側主面上に配置された第１絶縁膜と、前記表示領域と重なる前記第２基板の前記内側主面上に配置された第１表示電極と、該第１表示電極との間で電界を発生させるための第２表示電極と、前記第１表示電極を覆うようにして前記第２基板の前記内側主面上に配置された第２絶縁膜と、前記表示領域と重なる第１絶縁膜および前記第２絶縁膜の間に配置された液晶層とを備え、
前記第２絶縁膜は前記柱状スペーサの前記頂部を収容する凹部を有し、
該凹部は、前記柱状スペーサの前記頂部を覆う前記第１絶縁膜に接触する接触面および前記柱状スペーサの前記側部を覆う前記第１絶縁膜から離れた側面を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記凹部の前記側面は前記接触面に向かって全体が狭くなる斜面である請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記凹部は平面視して円形状である請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、デジタルカメラ、携帯ゲーム機または携帯情報端末などの様々な用途に用いられる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、外側主面上に表示領域を有する第１基板と、第１基板に対して互いに内側主面同士を対向させて配置された第２基板と、第１基板および第２基板の間に配置された液晶層と、第１基板および第２基板の間に配置された柱状スペーサとを備える。この柱状スペーサは、第１基板の内側主面上に固定された底部および第２基板の内側主面に対向する頂部を有している。
【０００３】
このような液晶表示装置では、柱状スペーサによって第１基板と第２基板との間隔が均一化されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１３３７９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、液晶表示装置はタッチパネルなどと組み合わせて使用される場合が多く、ユーザーがタッチパネルを押圧することで、液晶表示装置に対して外力が加わる頻度が高くなっている。
【０００６】
しかしながら、このような液晶表示装置では、柱状スペーサの頂部は第２基板上に固定されていないので、外力が加わることで、第２基板の内側主面と平行な方向に柱状スペーサの頂部の位置が変動する可能性がある。この外力の大きさによっては柱状スペーサの頂部の位置が大きくずれてしまい、柱状スペーサの頂部が元の位置に戻らなくなる可能性があった。そのため、第１基板と第２基板との間隔が不均一になり、第１基板と第２基板との間隔が不均一になることで画像表示にむらが発生し、表示品位が低下する可能性があるという問題点があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、画像表示にむらが発生することを低減し、表示品位の低下を抑制できる液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液晶表示装置は、外側主面上に表示領域を有する第１基板と、該第１基板に対して互いに内側主面同士を対向させて配置された第２基板と、前記表示領域と重なる前記第１基板の前記内側主面上に固定された底部、前記第２基板の前記内側主面に対向する頂部および該頂部と前記底部との間に位置する側部を有する複数の柱状スペーサと、複数の該柱状スペーサを覆うようにして前記第１基板の前記内側主面上に配置された第１絶縁膜と、前記表示領域と重なる前記第２基板の前記内側主面上に配置された第１表示電極と、該第１表示電極との間で電界を発生させるための第２表示電極と、前記第１表示電極を覆うようにして前記第２基板の前記内側主面上に配置された第２絶縁膜と、前記表示領域と重なる第１絶縁膜および前記第２絶縁膜の間に配置された液晶層とを備え、前記第２絶縁膜は前記柱状スペーサの前記頂部を収容する凹部を有し、該凹部は、前記柱状スペーサの
前記頂部を覆う前記第１絶縁膜に接触する接触面および前記柱状スペーサの前記側部を覆う前記第１絶縁膜から離れた側面を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る液晶表示装置によれば、画像表示にむらが発生することを低減し、表示品位の低下を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１の実施形態における液晶表示装置を表す平面図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。
【図３】図１のＲ近傍を拡大した平面図である。
【図４】表示領域に重なる第２基板上に設けられた電極、配線および柱状スペーサを表す平面図である。
【図５】図４のII−II線に沿った断面図である。
【図６】図５の柱状スペーサを拡大した断面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態における液晶表示装置を表す平面図である。
【図８】図７のIII−III線に沿った断面図である。
【図９】本発明の第３の実施形態における液晶表示装置を表す平面図である。
【図１０】図９のIV−IV線に沿った断面図である。
【図１１】凹部の他の形状を表す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態における液晶表示装置１について、図１〜図６を参照しながら説明する。
【００１２】
液晶表示装置１は、液晶パネル２と、液晶パネル２に向かって光を出射する光源装置３と、液晶パネル２上に配置される第１偏光板４と、液晶パネル２と光源装置３との間に配置される第２偏光板５とを備えている。
【００１３】
液晶パネル２では、第１基板21と第２基板22とが対向配置され、第１基板21と第２基板22との間に液晶層23が配置され、この液晶層23を取り囲むようにシール材24が配置されている。また、第２基板22にはドライバＩＣ25が配置されているとともに、回路基板26が接続されている。
【００１４】
第１基板21は、画像を表示する表示領域ＥＤおよび表示領域ＥＤの外側に位置する非表示領域ＥNDを有する第１主面21ａと、第１主面21ａとは反対側に位置する第２主面21ｂとを有している。また、第１基板21は、例えばガラス、プラスチックなどの透光性を有する材料によって形成される。
【００１５】
第１基板21の第２主面21ｂ上には、遮光膜211、カラーフィルタ212、第１平坦化膜213
、柱状スペーサ214および第１配向膜215が配置されている。
【００１６】
遮光膜211は光を遮る機能を有する。遮光膜211は第１基板21の第２主面21ｂ上に配置されている。また、遮光膜211は平面視して表示領域ＥＤと重なる領域に位置しているとと
もに、各画素Ｐの外周に沿って格子状に設けられている。また、遮光膜211は平面視して
表示領域ＥＤを囲むよう非表示領域ＥNDと重なる領域にも設けられている。遮光膜211の
材料は、例えば、遮光性の高い色（例えば黒色）の染料または顔料が添加された樹脂、またはクロムなどの金属が挙げられる。
【００１７】
カラーフィルタ212は可視光のうち特定の波長光のみを透過させる機能を有する。複数
のカラーフィルタ212は、第１基板21の第２主面21ｂ上に位置しており、画素Ｐごとに設
けられている。各カラーフィルタ212は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のいずれか
の色を有している。また、カラーフィルタ212は、上記の色に限られず、例えば、黄色（
Ｙ）、白（Ｗ）などの色を有してもよい。カラーフィルタ212の材料としては、例えば染
料または顔料を添加した樹脂が挙げられる。
【００１８】
第１平坦化膜213は、遮光膜211およびカラーフィルタ212を覆うように第１基板21の第
２主面21ｂ上に設けられている。第１平坦化膜213は、表示領域ＥＤと重なる領域から非
表示領域ＥNDと重なる領域へかけて連続的に形成されている。第１平坦化膜213は、アク
リル系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミド系樹脂などの有機材料によって形成される。平坦化膜213の膜厚は例えば１μｍ〜５μｍの範囲で設定される。
【００１９】
柱状スペーサ214は、第１基板21と第２基板22との間隔を制御する機能を有する。複数
の柱状スペーサ214は第１基板21と第２基板22との間に設けられている。また、柱状スペ
ーサ214の一端は第１基板21上の部材に固定されている。具体的には、柱状スペーサ214は第１平坦化膜213に固定されている。なお、本実施形態における柱状スペーサ214は第１基板21上の部材に固定されているが、これには限られず、第２基板22上の部材に固定させてもよい。柱状スペーサ214は、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂材料によっ
て形成される。なお、本実施形態における柱状スペーサ214の材料のヤング率は例えば4.8ＧＰａである。
【００２０】
また、図３に示すように、複数の柱状スペーサ214は、表示領域ＥＤに重なる領域に配
置されているとともに、非表示領域ＥNDと重なる領域にも配置されている。表示領域ＥＤと重なる領域および非表示領域ＥNDと重なる領域において、複数の柱状スペーサ214は遮
光膜211に重なっている。また、図６に示すように、各々の柱状スペーサ214は、頂部214
ａ、側部214ｂおよび底部214ｃを有している。
【００２１】
頂部214ａは第２基板22と対向している部位である。また、底部214ｃは第１基板21上の部材に固定されている部位である。また、側部214ｂは頂部214ａから底部214ｃにかけて
形成された部位であり、頂部214ａと底部214ｃとの間に位置する部位である。また、平面視して底部214ｃの面積は頂部214ａの面積に比べて大きくなっている。なお、本実施形態における頂部214ａの径は、例えば10μｍ〜20μｍに設定されている。また、本実施形態
の柱状スペーサ214の頂部214ａおよび底部214ｃは円形状であるが、これに限定されず、
例えば矩形状、三角形状などでもよい。
【００２２】
なお、柱状スペーサ214が第２基板22上の部材に固定させた場合には、頂部214ａは第１基板21と対向して部位となり、底部214ｃは第２基板22上の部材に固定されている部位と
なる。
【００２３】
柱状スペーサ214の形成方法としては、第１平坦化膜213が形成された第１基板21の第２主面21ｂ上に、樹脂を塗布して樹脂膜を形成する。その後、マスクを用いて樹脂膜の所定の部分を露光し、現像によって樹脂膜の露光部分を除去し、加熱硬化させることで、柱状スペーサ214を形成できる。
【００２４】
第１配向膜215は液晶層23中の液晶分子の配向を制御する機能を有する。第１配向膜215は複数の柱状スペーサ214を覆うようにして第１平坦化膜213に設けられている。すなわち、第１配向膜215は柱状スペーサ214の頂部214ａおよび側部214ｂを覆っている。
【００２５】
第１配向膜215の材料はポリイミド樹脂などの樹脂が挙げられる。また、第１配向膜215
には配向処理が行なわれている。この配向処理によって、第１配向膜215の表面近傍に位
置する液晶分子の初期配向方向（電界の非印加状態での配向方向）を設定できる。配向処理としては、例えばラビング布を用いたラビング処理が挙げられるが、これには限定されず、例えば偏光された紫外光を用いた光配向処理などでもよい。
【００２６】
第２基板22は、第１基板21の第２主面21ｂに対向する第１主面22ａと、第１主面22ａの反対側に位置する第２主面22ｂとを有している。第２基板22は第１基板21と同様の材料で形成されている。
【００２７】
第２基板22の第１主面22ａ上には、複数のゲート配線221が設けられており、複数のゲ
ート配線221を覆うようにゲート絶縁膜222が設けられている。ゲート絶縁膜222上には複
数のソース配線223が設けられている。また、複数のソース配線223を覆うようにゲート絶縁膜222上には第２平坦化膜224が設けられている。この第２平坦化膜224上には共通電極225が設けられている。また、この第２平坦化膜224上には共通電極225を覆うように層間絶縁膜226が設けられており、この層間絶縁膜226上には共通電極225と重なるように複数の信号電極227が設けられている。さらに、この層間絶縁膜226上には、信号電極227を覆うように第２配向膜228が設けられている。
【００２８】
ゲート配線221は、ドライバＩＣ25から供給されるゲート電圧を薄膜トランジスタTFTに印加する機能を有する。図４および図５に示すように、ゲート配線221は第２基板22の第
１主面22ａ上に位置しているとともに、Ｘ方向に延在している。また、複数のゲート配線221はＹ方向に並んでいる。ゲート配線221は、導電性を有する材料によって形成され、例えば、アルミニウム、モリブデン、チタン、ネオジム、クロム、銅またはこれらを含む合金によって形成される。
【００２９】
ゲート配線221は例えば下記方法によって形成される。
【００３０】
まず、スパッタリング法、蒸着法または化学気相成長法によって、第２基板22の第１主面22ａ上に導電膜を形成する。この導電膜の表面に対して感光性樹脂を塗布し、塗布した感光性樹脂に対して露光処理および現像処理を行なうことで、感光性樹脂に所望の形状のパターンを形成する。次いで、この導電膜をエッチング液でエッチングして、膜を所望の形状にした後、塗布した感光性樹脂を剥離する。このように成膜およびパターニングすることでゲート配線221を形成できる。
【００３１】
ゲート絶縁膜222はゲート配線221を覆うように第１主面22ａ上に設けられている。ゲート絶縁膜222は、窒化シリコン、酸化シリコンなどの絶縁性を有する材料によって形成さ
れる。なお、ゲート絶縁膜222は、上記のスパッタリング法、蒸着法または化学気相成長
法などによって第２基板22の第１主面22ａ上に形成できる。
【００３２】
ソース配線223は、ドライバＩＣ25から供給される信号電圧を薄膜トランジスタTFTを介して信号電極227に印加する機能を有する。図４および図５に示すように、複数のソース
配線223はＹ方向に延在している。また、複数のソース配線223はゲート絶縁膜222上に設
けられているとともに、Ｘ方向に並んでいる。ソース配線223はゲート配線221と同様の材料で形成してもよい。ソース配線223はゲート配線221と同様の方法によって形成できる。なお、本実施形態におけるソース配線223は直線状に延在しているが、これには限られず
、屈曲して延在してもよい。
【００３３】
なお、画素Ｐとは、複数のゲート配線221と複数のソース配線223とによって囲まれた領域である。
【００３４】
薄膜トランジスタTFTは、アモルファスシリコン、ポリシリコンまたは酸化物半導体な
どの半導体層と、この半導体層上に設けられるとともに、ソース配線223に接続されたソ
ース電極と、ドレイン電極とを有する。また、薄膜トランジスタTFTのドレイン電極は、
ドレイン配線およびコンタクトホール（図示せず）を介して信号電極227に接続されてい
る。
【００３５】
薄膜トランジスタTFTでは、ゲート配線221を介して半導体層に印加される電圧に応じてソース電極およびドレイン電極間の半導体層の抵抗が変化することで、信号電極227への
画像信号の書き込みまたは非書き込みが制御される。
【００３６】
第２平坦化膜224はゲート配線221、ソース配線223および薄膜トランジスタTFTを覆うようにゲート絶縁膜222上に設けられている。第２平坦化膜224は、有機材料によって形成され、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミド系樹脂などが挙げられる。なお、第２平坦化膜224の膜厚は例えば１μｍ〜５μｍの範囲で設定されている。なお、寄生容
量を低減させる観点では、第２平坦化膜224の膜厚を大きくするのが好ましい。
【００３７】
また、本実施形態における第２平坦化膜224は、柱状スペーサ214と重なる領域において膜厚が小さい。所定領域（柱状スペーサ214と重なる領域）の第２平坦化膜224の膜厚は、例えばハーフトーンマスクを用いて露光量を制御することで調整できる。なお、第２平坦化膜224の膜厚の調整はハーフトーンマスクを用いた場合に限られず、例えば、通常のマ
スクを用いて露光量を制御することによって第２平坦化膜224の膜厚の調整を行なっても
よい。
【００３８】
共通電極225は、ドライバＩＣ25から印加された電圧によって信号電極227との間で電界を発生させる機能を有する。共通電極225は第２平坦化膜224上に設けられている。共通電極225は画素Ｐの内側および外側の両方に設けられている。
【００３９】
共通電極225は、導電性を有する透光性材料によって形成され、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、ＡＴＯ（Antimony Tin Oxide）、ＡＺＯ（Al-Doped Zinc Oxide）、酸化錫、酸化亜鉛または導電性高分子によって形成される。
【００４０】
層間絶縁膜226は共通電極225を覆うように第２平坦化膜224上に設けられている。層間
絶縁膜226はゲート絶縁膜222と同様の材料で形成してもよい。
【００４１】
信号電極227は、ドライバＩＣ25から印加された電圧によって共通電極225との間で電界を発生させる機能を有する。複数の信号電極227は層間絶縁膜226に配置されている。また、各画素Ｐには複数の信号電極227がＸ方向に沿って配列している。各々の信号電極227はＹ方向に延在している。なお、各々の信号電極227はＹ方向に屈曲して延在してもよい。
【００４２】
液晶表示装置１では、共通電極225上に層間絶縁膜226を介して信号電極227が配置され
ているが、これには限られず、信号電極227上に層間絶縁膜226を介して共通電極225を配
置してもよい。また、信号電極227と共通電極225とを同一面上に配置してもよい。
【００４３】
また、液晶表示装置１では、第２基板22上に配置された信号電極227と共通電極225との間で発生する電界によって液晶層23中の液晶分子の方向を制御する横電界方式を採用しているが、これに限定されない。すなわち、第１基板21上に共通電極225を配置し、第１基
板21上の共通電極225と第２基板22上の信号電極227との間で電界を発生させる縦電界方式を採用してもよい。
【００４４】
第２配向膜228は液晶層23中の液晶分子の配向を制御する機能を有する。第２配向膜228
は、複数の信号電極227を覆うように層間絶縁膜226上に設けられている。第２配向膜228
の材料はポリイミド樹脂などの樹脂が挙げられる。
【００４５】
また、第２配向膜228には配向処理が行なわれている。なお、配向処理としては、第１
配向膜215で説明したものと同様である。
【００４６】
また、第２配向膜228は凹部228Ａを有している。凹部228Ａは平面視して柱状スペーサ214と重なる領域に設けられている。また、凹部228Ａは柱状スペーサ214の頂部214ａを収
容している。凹部228Ａの径は柱状スペーサ214の頂部214ａの径に比べて大きい。なお、
本実施形態では、柱状スペーサ214と重なる領域での第２平坦化膜224の膜厚を小さくすることで、第２平坦化膜224上に配置される第２配向膜228に凹部228Ａを形成している。
【００４７】
第２配向膜228の凹部228Ａは接触面228ａおよび側面228ｂを有している。接触面228ａ
は柱状スペーサ214の頂部214ａと対向する部位である。また、接触面228ａは柱状スペー
サ214を覆う第１配向膜215と接触している。すなわち、第２配向膜228は、接触面228ａにおいて第１配向膜215と接触している。また、側面228ｂは柱状スペーサ214の側部214ｂと対向する部位である。側面228ｂは柱状スペーサ214の側部214ｂを覆う第１配向膜215と離れている。すなわち、側面228ｂは柱状スペーサ214の側部214ｂを覆う第１配向膜215と接触していない。なお、本実施形態における側面228ｂは、平面視して柱状スペーサ214を取り囲むように配置されている。また、本実施形態の凹部228Ａは平面視して円形状である
が、これに限定されない。なお、本実施形態における凹部228Ａの径は例えば25μｍ〜35
μｍに設定されており、凹部228Ａは深さは例えば0.1μｍ〜0.5μｍに設定されている。
【００４８】
液晶表示装置１では、第２配向膜228の凹部228Ａが、柱状スペーサ214の頂部214ａを覆う第１配向膜215と接触する接触面228ａおよび柱状スペーサ214の側部214ｂを覆う第１配向膜215と離れている側面を有するとともに、頂部214ａを収容されている。これによって、液晶表示装置１に対して外力が加わり、Ｘ方向に柱状スペーサ214の頂部214ａの位置が変動しても、柱状スペーサ214の側部214ｂを覆う第１配向膜215が凹部228Ａの側面228ｂに当たるので、頂部214ａの位置の大きくずれることを抑制できる。したがって、柱状スペーサ214の頂部214ａが元の位置に戻らなくなることを低減できるので、第１基板21および第２基板22の間隔が不均一になることは抑制され、画像表示にむらが発生することを低減できる。
【００４９】
また、凹部228Ａの側面228ｂが、柱状スペーサ214の側部214ｂを覆う第１配向膜215と
は離れており、接触していない。凹部228Ａの側面228ｂと柱状スペーサ214の側部214ｂを覆う第１配向膜215とを接触させると、液晶表示装置の製造工程において、柱状スペーサ214が形成された第１基板21と、凹部228Ａを有する第２配向膜218が形成された第２基板22とをシール材24を介して貼り合わせる場合に、第１基板21および第２基板22に位置ずれが発生すると、柱状スペーサ214の頂部214ａが凹部228Ａに収容されない可能性が高くなる。柱状スペーサ214の頂部214ａが凹部228Ａに収容されないことで、第１基板21と第２基板22との間隔が不均一になりやすくなる。
【００５０】
これに対して、凹部228Ａの側面228ｂが柱状スペーサ214の側部214ｂを覆う第１配向膜215と離れていることで、第１基板21と第２基板22とを貼り合わせる場合に、第１基板21
および第２基板22に位置ずれが発生しても、凹部228Ａに位置ずれを許容する空間が存在
するので、柱状スペーサ214の頂部214ａを凹部228Ａに収容しやすくなり、第１基板21と
第２基板22との間隔が不均一化することを低減でき、表示品位の高い液晶表示装置を量産しやすくなる。
【００５１】
また、液晶表示装置１では、凹部228Ａの側面228ｂは接触面228ａに向かって全体が狭
くなる斜面である。すなわち、凹部228Ａの側面228ｂは接触面228ａに対して傾斜してい
る。これによって、外力が加わって柱状スペーサ214の頂部214ａの位置がずれた場合でも、側面228ｂを傾斜させることで柱状スペーサ214の頂部214ａを元の位置に戻しやすくなるので、第１基板21と第２基板22との間隔の不均一化を抑制し、画像表示にむらが発生することを低減できる。
【００５２】
液晶層23は第１基板21と第２基板22との間に設けられている。液晶層23は、ネマティック液晶などの分子を含む。
【００５３】
ドライバＩＣ25はゲート配線221、ソース配線223などの駆動を制御する機能を有する。ドライバＩＣ25は第２基板22の第２主面22ａ上に位置している。
【００５４】
回路基板26は液晶パネル２と電気的に接続されている。回路基板26は、基体、配線パターンおよび回路電極端子を有し、配線パターンおよび回路電極端子を支持する機能を有する。基体は絶縁性の材料で形成され、例えばポリイミド樹脂などの可撓性を有する材料で形成される。
【００５５】
液晶層23は第１基板21と第２基板22との間に配置されている。液晶層23は、ネマティック液晶、コレステリック液晶またはスメクティック液晶などの液晶分子を含む。
【００５６】
シール材24は、第１基板21と第２基板22とを貼り合わせる機能を有する。シール材24は、第１基板21と第２基板22との間に配置されている。このシール材24は、エポキシ樹脂などの有機材料によって形成される。
【００５７】
光源装置３は液晶パネル２に向けて光を出射する機能を有する。光源装置３は、光源31と、導光板32とを有している。なお、本実施形態における光源装置３では、光源31にＬＥＤなどの点光源を採用しているが、冷陰極管などの線光源を採用してもよい。
【００５８】
第１偏光板４は所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第１偏光板４は液晶パネル２の第１基板21の第１主面21ａに対向するように配置されている。
【００５９】
第２偏光板５は所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第２偏光板５は、第２基板22の第２主面22ｂに対向するように配置されている。
【００６０】
［第２の実施形態］
図７および図８は、本発明の第２の実施形態における液晶表示装置１Ａの要部を示す図である。液晶表示装置１Ａは液晶表示装置１に比べて、第２平坦化膜224は同じ膜厚で形
成されているとともに、表示領域ＥＤに重なる遮光膜211が第２基板22の第１主面22ａ上
に配置されている点で異なる。
【００６１】
遮光膜211は第２基板22の第１主面22ａ上に配置されており、具体的にはゲート絶縁膜222に配置されている。なお、遮光膜211は第２基板22の第１主面22ａと第２配向膜228との間の層であれば、いずれの層に配置してもよい。また、遮光膜211は複数のゲート配線221および複数のソース配線223と重なるように配置されている。なお、図７において、遮光膜211の形成領域を斜線（破線）で示している。
【００６２】
遮光膜211は、柱状スペーサ214の頂部214ａと重なる領域に開口部211ａを有している。図７および図８に示すように、開口部211ａの外周は頂部214ａの外周よりも外側に位置している。なお、本実施形態の開口部211ａは円形状であるが、これには限られない。本実
施形態では、遮光膜211が開口部211ａを有することで、遮光膜211上に配置される第２配
向膜228に凹部228Ａが形成されている。
【００６３】
すなわち、液晶表示装置１Ａでは、第２平坦化膜224の膜厚の調整を行わず、遮光膜211の厚みを利用して第２配向膜228に凹部228Ａを形成している。なお、本実施形態の遮光膜211の開口部211ａは貫通しているが、貫通していなくてもよい。液晶表示装置１Ａでは、第２配向膜228が凹部228Ａを有しているので液晶表示装置１で説明した効果と同様の効果を奏する。
【００６４】
また、液晶表示装置１Ａでは、第２基板22の第１主面22ａ上に配置された遮光膜211の
開口部211ａを覆うように第２配向膜228を配置している。すなわち、遮光膜211の厚みお
よび形成位置を利用して第２配向膜228に凹部228Ａを形成している。遮光膜211の厚みお
よび形成位置は成膜工程およびパターニング工程によって高い精度で制御できるので、遮光膜211の厚みによって第２配向膜228の凹部228Ａの深さを調整し、遮光膜211の形成位置によって第２配向膜228の凹部228Ａの幅を調整することで、高い精度で所望の第２配向膜228に凹部228Ａを形成することができる。これによって、第２配向膜228に複数の凹部228Ａを形成する場合には、各凹部228Ａの深さおよび幅のばらつきを低減しやすくなる。ま
た、遮光膜211は厚みを大きくして形成しやすいので、深さの大きな凹部228Ａを形成しやすくなる。
【００６５】
［第３の実施形態］
図９および図10は、本発明の第３の実施形態における液晶表示装置１Ｂの要部を示す図である。液晶表示装置１Ｂは液晶表示装置１に比べて、第２平坦化膜224は同じ膜厚で形
成されているとともに、柱状スペーサ214の頂部214ａと重なる領域に導電膜Ｄが設けられている点で異なる。
【００６６】
導電膜Ｄは第２基板22の第１主面22ａ上に配置されており、具体的にはゲート絶縁膜222に配置されている。導電膜Ｄは円形状である。また、導電膜Ｄは柱状スペーサ214の頂部214ａと重なる領域に空洞部Daを有している。また、この空洞部Daは円形状であり、平面視して空洞部Daの面積は柱状スペーサ214の頂部214ａの面積よりも大きい。
【００６７】
液晶表示装置１Ｂでは、第２平坦化膜224の膜厚の調整を行わず、導電膜Ｄの厚みを利
用して第２配向膜228に凹部228Ａを形成している。液晶表示装置１Ｂは、第２配向膜228
が凹部228Ａを有しているので液晶表示装置１で説明した効果と同様の効果を奏する。
【００６８】
また、液晶表示装置１Ａでは、第２基板22の第１主面22ａ上に配置された導電膜Ｄの空洞部Daを覆うように第２配向膜228を配置している。すなわち、導電膜Ｄを利用して第２
配向膜228に凹部228Ａを形成している。導電膜Ｄの厚みおよび形成位置は成膜工程およびパターニング工程によって高い精度で制御できるので、導電膜Ｄの厚みによって第２配向膜228の凹部228Ａの深さを調整し、導電膜Ｄの形成位置によって第２配向膜228の凹部228Ａの幅を調整することで、高い精度で所望の第２配向膜228に凹部228Ａを形成することができる。これによって、第２配向膜228に複数の凹部228Ａを形成する場合には、各凹部228Ａの深さおよび幅のばらつきを低減しやすくなる。加えて、導電膜Ｄを形成する際にドライエッチング工程を採用することで、導電膜Ｄの端面を所望の角度で傾斜させやすくなり、凹部228Ａの側面の傾斜角度を容易に調整できる。
【００６９】
また、樹脂などに比べて硬度が高い導電膜Ｄを利用して第２配向膜228に凹部228Ａを形成することで、凹部228Ａは強度を有するので、柱状スペーサ214の頂部214ａと凹部228Ａとの摩擦を小さくできるので、柱状スペーサ214の頂部214ａが位置ずれをした場合でも、元の位置に戻しやすくなる。
【００７０】
本発明は、上述した実施形態に特に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変更および改良が可能である。例えば、上記実施形態における柱状スペーサ214の
一端は第１基板21側に固定されているが、第２基板22上の部材に固定してもよい。その場合、第１配向膜215に凹部を形成すればよい。
【００７１】
また、上記第１〜第３の実施形態では、凹部228Ａの外周の全部において、凹部228Ａの側面228ｂは柱状スペーサ214の側部214ｂと離れており、接触していないが、これには限
られない。すなわち、図11（ａ）に示すように、凹部228Ａの外周の少なくとも一部にお
いて、凹部228Ａの側面228ｂが柱状スペーサ214の側部214ｂと離れていればよい。また、図11（ｂ）に示すように、凹部228Ａはいかなる形状でもよい。
【００７２】
なお、図11（ａ）および（ｂ）は、第２基板22（底部214ｃ）側から柱状スペーサ214を見たときの平面図である。太い破線で囲まれた領域が凹部228Ａを示しており、細い破線
で囲まれた領域が頂部214ａを示している。
【００７３】
また、液晶表示装置１にノーマリーブラック方式を採用した場合は、黒表示の際における液晶層23の液晶分子のツイスト角が０°になる。ここで、黒表示の際に、外力によって液晶分子の配向方向に対して垂直な方向に柱状スペーサ214の頂部214ａがずれた場合には、液晶分子が回転してしまうため、外力によって液晶分子の配向方向に対して平行な方向に頂部214ａがずれた場合に比べて、表示むらが発生しやすくなる。したがって、ノーマリーブラック方式を採用した場合には、液晶分子の配向方向に対して垂直な方向への頂部214ａの位置ずれを抑制するため、少なくとも凹部228Ａは配向方向に対して垂直な方向に柱状スペーサ214の頂部214ａを収容することが好ましい。
【符号の説明】
【００７４】
１  液晶表示装置
２  液晶パネル
ＥＤ  表示領域
Ｐ  画素
ＥND  非表示領域
21  第１基板
21ａ  第１主面（外側主面）
21ｂ  第２主面（内側主面）
211  遮光膜
212  カラーフィルタ
213  第１平坦化膜
214  柱状スペーサ
214ａ  頂部
214ｂ  側部
214ｃ  底部
215  第１配向膜（第１絶縁膜）
22  第２基板
22ａ  第１主面（内側主面）
22ｂ  第２主面（外側主面）
221  ゲート配線
222  ゲート絶縁膜
223  ソース配線
224  第２平坦化膜
225  共通電極
226  層間絶縁膜
227  信号電極
228  第２配向膜（第２絶縁膜）
228Ａ  凹部
228ａ  接触面
228ｂ  側面
23  液晶層
24  シール材
25  ドライバＩＣ
26  回路基板
３  光源装置
31  光源
32  導光板
４  第１偏光板
５  第２偏光板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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