(57)【要約】【課題】工数の低減及びパッケージ基板の信頼性の増大を期待することができる、絶縁層の導通方法を提供する。【解決手段】本発明にかかる絶縁層の導通方法は、硬質の絶縁層１０を提供する段階と、前記絶縁層にランド２０を形成する段階と、前記ランドにバンプ３２，３４を形成する段階と、前記バンプによって貫通される軟質の絶縁層を前記硬質の絶縁層に積層する段階と、前記積層された軟質の絶縁層を硬化する段階と、前記絶縁層とバンプの上面を研磨機で加工する段階と、を含むことができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬質の絶縁層を提供する段階と、
前記絶縁層にランドを形成する段階と、
前記ランドにバンプを形成する段階と、
前記バンプによって貫通される軟質の絶縁層を前記硬質の絶縁層に積層する段階と、
前記積層された軟質の絶縁層を硬化する段階と、
前記絶縁層とバンプの上面を研磨機で加工する段階と、を含む絶縁層の導通方法。
【請求項２】
前記バンプを形成する段階は、前記ランドにワイヤをボンディングした後、前記ワイヤを切断することによりなされる、請求項１に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項３】
前記バンプは、上部の直径より下部の直径が広い瓢箪形状を有する、請求項１に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項４】
前記バンプは、上部の直径が２０μｍ以内であり、下部の直径が２５μｍ〜３５μｍの範囲を満たす、請求項３に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項５】
前記バンプは、上部及び下部の直径より中央部位の直径が広い樽形状を有する、請求項１に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項６】
コアが形成された硬質の絶縁層を提供する段階と、
前記絶縁層のコアの両端部にランドをそれぞれ形成する段階と、
前記ランドにバンプを形成する段階と、
前記バンプの上端によって貫通される軟質の絶縁層を前記硬質の絶縁層に積層する段階と、
前記積層された軟質の絶縁層を硬化する段階と、
前記絶縁層とバンプの上端部を研磨機で加工する段階と、を含む絶縁層の導通方法。
【請求項７】
前記バンプを形成する段階は、前記ランドにワイヤをボンディングした後、前記ワイヤを切断することによりなされる、請求項６に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項８】
前記バンプは、上部の直径より下部の直径が広い瓢箪形状を有する、請求項６に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項９】
前記バンプは、上部の直径が２０μｍ以内であり、下部の直径が２５μｍ〜３５μｍの範囲を満たす、請求項８に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項１０】
前記バンプは、上部及び下部の直径より中央部位の直径が広い樽形状を有する、請求項６に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項１１】
前記コアは、硬質の絶縁層にコアホールを形成した後、前記コアホールにメッキ層を充填することにより形成される、請求項６に記載の絶縁層の導通方法。
【請求項１２】
前記コアホールは、レーザ加工または機械ドリル加工のうち何れか一つの加工により形成される、請求項１１に記載の絶縁層の導通方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、絶縁層の導通方法に関し、より詳細には、絶縁層の層間をバンプによって導通させる絶縁層の導通方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、電子部品の小型化、多機能化の傾向により、既存に用いられていたプリント回路基板においてもパターン微細化、高集的の薄型製品に対する要求が高まっている。
【０００３】
現在、多層回路基板において一般的に積層される層間を導通させる方法は、レーザドリルを用いて絶縁層にホールを形成した後、内部を銅でメッキする方法である。
【０００４】
電子機器の高性能化はより速い応答速度を意味し、高性能化の実現により、電子機器から発生する発熱が増加しつつある。
【０００５】
このような発熱の増加によって基板の反りが問題となっており、基板の反り問題を解消するために、絶縁材の材料を低い熱膨張係数を有する素材に代替するための検討が持続的に行われている。
【０００６】
通常、絶縁材材料の熱膨張係数を低めるためには、絶縁材のフィラー（Ｆｉｌｌｅｒ）の含量またはガラスクロス（Ｇｌａｓｓ  Ｃｌｏｔｈ）の含量を増加させる。
【０００７】
レーザドリル加工は、レーザパワーを用いて絶縁材の高分子化合物と無機材料であるフィラーまたはガラスクロスを除去することである。
【０００８】
しかし、フィラーの含量またはガラスクロスの含量が増加すると、レーザドリル加工によるホールの形成時に除去しなければならない無機材料成分であるフィラーとガラスクロスも増加するため、より高いレーザパワーが要されたり、レーザ加工時間が増加したりするなど、レーザ加工が困難となり、工程コストが上昇するという問題点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】韓国公開特許第２００９-０１１４７５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、多重積層された絶縁層の層間を、レーザを用いずバンプによって導通させることにより、工数の低減及びパッケージ基板の信頼性の増大を期待することができる、絶縁層の導通方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を効果的に果たすために、本発明は、硬質の絶縁層を提供する段階と、前記絶縁層にランドを形成する段階と、前記ランドにバンプを形成する段階と、前記バンプによって貫通される軟質の絶縁層を前記硬質の絶縁層に積層する段階と、前記積層された軟質の絶縁層を硬化する段階と、前記絶縁層とバンプの上面を研磨機で加工する段階と、を含むことができる。
【００１２】
前記バンプを形成する段階は、前記ランドにワイヤをボンディングした後、前記ワイヤを切断することによりなされることができる。
【００１３】
この際、前記バンプは、上部の直径より下部の直径が広い瓢箪形状を有することができ、前記バンプは、上部の直径が２０μｍ以内であり、下部の直径が２５μｍ〜３５μｍの範囲を満たすことができる。
【００１４】
また、前記バンプは、上部及び下部の直径より中央部位の直径が広い樽形状を有することもできる。
【００１５】
一方、本発明は、第２実施形態として、コアが形成された硬質の絶縁層を提供する段階と、前記絶縁層のコアの両端部にランドをそれぞれ形成する段階と、前記ランドにバンプを形成する段階と、前記バンプの上端によって貫通される軟質の絶縁層を前記硬質の絶縁層に積層する段階と、前記積層された軟質の絶縁層を硬化する段階と、前記絶縁層とバンプの上端部を研磨機で加工する段階と、を含むことができる。
【００１６】
前記バンプを形成する段階は、前記ランドにワイヤをボンディングした後、前記ワイヤを切断することによりなされることができる。
【００１７】
また、前記バンプは、上部の直径より下部の直径が広い瓢箪形状を有することができ、前記バンプは、上部の直径が２０μｍ以内であり、下部の直径が２５μｍ〜３５μｍの範囲を満たすことができる。
【００１８】
この際、前記バンプは、上部及び下部の直径より中央部位の直径が広い樽形状を有することができる。
【００１９】
また、前記コアは、硬質の絶縁層にコアホールを形成した後、前記コアホールにメッキ層を充填することにより形成されることができ、前記コアホールは、レーザ加工または機械ドリル加工のうち何れか一つの加工により形成されることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の実施形態による絶縁層の導通方法は、多重積層された絶縁層の層間を、レーザを用いずバンプによって導通させることにより、工数の低減及びパッケージ基板の信頼性の増大を期待することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１ａ】本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通される過程を示す例示図である。
【図１ｂ】本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通される過程を示す例示図である。
【図１ｃ】本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通される過程を示す例示図である。
【図１ｄ】本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通される過程を示す例示図である。
【図１ｅ】本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通される過程を示す例示図である。
【図２】本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通された状態を示す例示図である。
【図３】本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通される過程を示すフローチャートである。
【図４】本発明の絶縁層の導通方法によってコアが形成された絶縁層に絶縁層が積層された状態を示す例示図である。
【図５】図４を構成するための工程手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態による絶縁層の導通方法を添付図面を参照して詳細に説明すると、次のとおりである。
【００２３】
図１ａから図１ｅは本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通される過程を示す例示図であり、図２は本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通された状態を示す例示図であり、図３は本発明の絶縁層の導通方法によって絶縁層が導通される過程を示すフローチャートであり、図４は本発明の絶縁層の導通方法によってコアが形成された絶縁層に絶縁層が積層された状態を示す例示図であり、図５は図４を構成するための工程手順を示すフローチャートである。
【００２４】
図１から図３に図示されたように、本発明の実施形態による絶縁層の導通方法は、硬質の絶縁層１０を基準として両側に軟質の絶縁層４０を積層する場合と、硬質の絶縁層１０に軟質の絶縁層４０を順に積層する場合の両方に適用されることができる。
【００２５】
本発明による絶縁層の導通方法について説明すると、次のとおりである。
【００２６】
まず、硬質の絶縁層１０を提供した後、絶縁層１０にランド２０を形成する。ランド２０は、優れた電気的特性を有する銅が好ましく用いられることができるが、回路パターンの設計事項によってその位置が変わることができる。
【００２７】
硬質の絶縁層１０にランド２０が形成されると、ランド２０の表面にバンプ３０を形成する。バンプ３０は、ワイヤボンディングの原理を利用したものであって、ワイヤの端部をランド２０の表面に圧着した後、圧着された端部から所定長さの部分を切断することにより形成されることができる。
【００２８】
ランド２０に形成されたバンプ３０の形状は、上部３２の直径と下部３４の直径が異なることができる。これは、ワイヤがランド２０の表面に圧着される過程でワイヤの端部に加えられる荷重によってランド２０の表面との接触面積が広くなるためである。
【００２９】
従って、バンプ３０は、上部３２の直径より下部３４の直径が広い瓢箪形状を有することができる。
【００３０】
この際、バンプの上部３２の直径は２０μｍ以内であり、下部３４の直径は２５μｍ〜３５μｍの範囲を満たすことができる。
【００３１】
バンプの上部３２の直径はワイヤの直径に相当し、より大きい直径を有するワイヤを用いる場合、バンプの上部３２の直径も変更されるということは勿論である。
【００３２】
また、バンプの下部３４の直径は、ランド２０の上部に加えられる荷重の大きさによって変わることができる。
【００３３】
換言すれば、ワイヤの端部によりランド２０の表面に加えられる荷重が大きい場合にはバンプの下部３４の直径がより大きくなり、反対に荷重が小さい場合にはバンプの下部３４の直径がより小さくなる。
【００３４】
しかし、本発明では、バンプ３０を形成するにあたり、上部３２と下部３４の直径をそれぞれ２０μｍ以内と２５μｍ〜３５μｍの範囲となるように形成する場合に、最も好ましいバンプ３０の形状が得られた。
【００３５】
従って、バンプ３０は、ランド２０の表面に加えられる荷重の大きさによって、瓢箪形状または図面には図示していないが樽形状などに形成されることができる。
【００３６】
このような工程を経てランド２０にバンプ３０が形成されると、軟質の絶縁層４０を硬質の絶縁層１０に積層する。
【００３７】
即ち、軟質の絶縁層４０は、バンプの上部３２によって貫通されながら硬質の絶縁層１０に積層される。
【００３８】
この際、軟質の絶縁層４０を硬質の絶縁層１０に積層する過程で、硬質の絶縁層１０がバンプの上部３２によって貫通されていない状態で、軟質の絶縁層４０を硬化する工程を行うこともできる。
【００３９】
換言すれば、軟質の絶縁層４０を硬質の絶縁層１０に積層する過程で、バンプの上部３２が鋭くない場合、軟質の絶縁層４０が貫通されていない状態でバンプの上部３２に掛けられる形態で積層されることができる。
【００４０】
この場合にも、軟質の絶縁層４０をそのまま維持した状態で硬化過程を行うことができる。
【００４１】
軟質の絶縁層４０の硬化工程は、熱硬化方法、化学品を塗布して行う化学硬化方法、ＵＶなどの光を用いて行う光硬化方法など、様々な硬化方法のうち何れか一つの方法により行われる。
【００４２】
このような硬化方法によって軟質の絶縁層４０が硬化されると、硬化された絶縁層とバンプの上部３２を研磨機Ｙで表面加工する。
【００４３】
表面加工は、硬化された絶縁層の上部の表面が平坦化されるように、硬化された絶縁層とバンプの上部３２を同時に研磨することによりなされる。
【００４４】
この際、バンプの上部３２に掛けられた軟質の絶縁層４０は、バンプの上部３２の高さが非常に低い状態であるため、表面加工過程を経て硬化された絶縁層とバンプの上部３２を同時に除去した後、硬化された絶縁層を押して硬質の絶縁層１０と密着させる。
【００４５】
このように表面加工が完了すると、硬化された絶縁層の上部にランド２０を形成し、ランド２０にバンプ３０を形成した後、表面加工を施す過程を繰り返して行う。
【００４６】
従って、本発明による絶縁層の導通方法を行う場合、層間導通のためにレーザまたはドリルを用いてビアホールを形成したり、ビアホールの内部にシード層及びメッキ層を形成したりする工程を省略することができるため、作業工数を低減し、生産性の向上を期待することができる。
【００４７】
一方、本発明による絶縁層の導通方法は、図４及び図５に図示されたように、コア１２が形成された硬質の絶縁層１０を基準として軟質の絶縁層４０が積層される形態に適用されることもできる。
【００４８】
コア１２が形成された硬質の絶縁層１０は、コア１２を硬質の絶縁層１０に形成するために、まず、絶縁層１０にレーザまたはドリルを用いてコアホール１４を形成する。
【００４９】
コアホール１４は、回路パターンの設計によってその位置が決定され、垂直に貫通されることができる。
【００５０】
コアホール１４の内部にメッキを充填することによりコアホール１４の内部を満たしてメッキ層を形成する。このようにコアホール１４の内部にメッキ層が形成された後、硬質の絶縁層１０の上部と下部に表面研磨を施すことができる。
【００５１】
この際、コア１２の高さは０．２〜０．４ｍｍ程度に形成されることができるが、これは、硬質の絶縁層１０の厚さによって多少変更され得る。
【００５２】
このようにコア１２が硬質の絶縁層１０に形成されると、コア１２の両側にランド２０を形成することができる。ここで、コア１２にランド２０を形成することは、コア１２の両側に同時に行われるのでなく、両側のうち一側に先に行われた後、反対側に行われることができる。
【００５３】
ランド２０は、コア１２の直径より広い直径に形成されることができる。ランド２０は、コアと電気的に導通されるように、コア１２と同一の金属で形成されることができる。
【００５４】
コア１２の両側にランド２０が形成されると、ランド２０に上述の工程によりバンプ３０を形成した後、軟質の絶縁層４０を硬質の絶縁層１０に積層する。
【００５５】
次に、軟質の絶縁層４０を硬化した後、表面加工する過程を繰り返して行うことにより、多数の絶縁層４０を積層することができる。
【００５６】
上記のように、本発明の実施形態による絶縁層の導通方法は、絶縁層にコアが形成された場合やコアが形成されていない場合の両方とも、バンプによる絶縁層の導通が可能である。
【００５７】
以上、本発明の実施形態による絶縁層の導通方法について説明したが、本発明はこれに限定されず、当業者であればその応用及び変形が可能であるということがいうまでもない。
【符号の説明】
【００５８】
１０  硬質の絶縁層
１２  コア
１４  コアホール
２０  ランド
３０  バンプ
３２  バンプの上部
３４  バンプの下部
４０  軟質の絶縁層
Ｙ  研磨機
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図１ｃ】
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【図１ｄ】
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【図１ｅ】
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【図２】
2014107565.tif 000008
【図３】
2014107565.tif 000009
【図４】
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【図５】
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