(57)【要約】【課題】ベルヌーイ効果を利用して吸引力を発生させる吸着装置で、気体供給停止後における負圧領域の残存を抑制することで、周囲に存在するパーティクルをワークに引き寄せる可能性を低減する。【解決手段】下向きの面に開口しており、気体の供給により放射状に流れる気流Ｆからなる放射流が前記下向きの面とワークＷとの間の空間に発生し、前記下向きの面とワークＷとの間の空間における前記放射流に囲まれた領域を、吸着装置の周囲に存在する気体の圧力である周囲圧力よりも減圧された負圧領域Ｘとできる負圧発生用開口部５１と、前記下向きの面に開口しており、前記負圧領域Ｘを前記周囲圧力以上に昇圧するための気体を前記下向きの面とワークＷとの間の空間に供給できる負圧解除用開口部２２１とを備えた吸着装置である。【選択図】図３
2014136263.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下向きの面を有し、気体が供給されることで、下方に位置するワークとの間で前記下向きの面に沿うように気流が発生し、前記気流によって生じる圧力差により前記ワークを吸着でき、前記気流の停止により前記ワークの吸着を解除できる吸着装置において、
前記下向きの面に開口しており、前記気体の供給により、放射状に流れる気流からなる放射流が前記下向きの面と前記ワークとの間の空間に発生し、前記下向きの面と前記ワークとの間の空間における前記放射流に囲まれた領域を、吸着装置の周囲に存在する気体の圧力である周囲圧力よりも減圧された負圧領域とできる負圧発生用開口部と、
前記下向きの面に開口しており、前記負圧領域を前記周囲圧力以上に昇圧するための気体を前記下向きの面と前記ワークとの間の空間に導入できる負圧解除用開口部と、を備えたことを特徴とする吸着装置。
【請求項２】
前記負圧発生用開口部からの気体の供給が停止される以前に、前記負圧解除用開口部から気体の導入を開始させる制御部を備えたことを特徴とする請求項１に記載の吸着装置。
【請求項３】
前記負圧解除用開口部に対し、前記周囲圧力以上である気体を押し込むための給気機構を備え、
前記給気機構が前記負圧解除用開口部を介して前記下向きの面と前記ワークとの間の空間に押し込んだ気体により、前記負圧領域が消滅することを特徴とする請求項１または２に記載の吸着装置。
【請求項４】
前記吸着装置の周囲に対して開口し、かつ、前記負圧解除用開口部に対して連通可能に構成された周囲開口部を備え、
前記負圧領域と前記吸着装置の周囲との気圧差により、前記周囲開口部及び前記負圧解除用開口部を介して、前記周囲圧力の気体が前記下向きの面と前記ワークとの間の空間へ吸引され、この吸引された気体により前記負圧領域が消滅することを特徴とする請求項１または２に記載の吸着装置。
【請求項５】
外部環境に比べて浮遊微粒子を減少させたクリーン環境中に配置される搬送装置において、
ワークを一方の位置から他方の位置まで搬送するための可動部を備え、
前記可動部は請求項１〜４のいずれかに記載の吸着装置を備え、
前記負圧解除用開口部から前記下向きの面と前記ワークとの間の空間に導入される気体は、前記外部環境に比べて浮遊微粒子を減少させた気体であることを特徴とする搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、気流により吸引力を発生させてワークを吸着できる吸着装置及びこれを備えた搬送装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ベルヌーイ効果を利用して、気流によって生じる圧力差により吸引力を発生させることで、半導体ウエハ等のワークを搬送等のために吸着する吸着装置が存在する（例えば特許文献１参照）。この吸着装置では、ワークを当該装置に位置決めするための接触を除き、非接触で搬送等を行うことができる。よって、この吸着装置は、汚染を嫌うワークの搬送等の用途に適している。また、上方からワークを吸着するため、ワークを把持して搬送等を行う場合に、ワーク収納用の容器からワークを上方に浮かせるため必要であった移動ピン等が不要である。
【０００３】
このようにベルヌーイ効果を利用した吸着装置のうちで、吸着装置とワークとの間の空間に負圧領域を形成することにより、ワークを吸着する構成の装置が存在する。この装置の概略的な構成を図７（Ａ）に示す。この吸着装置５０は、装置本体５０１と、装置本体５０１に接続されて装置本体５０１に気体（不活性ガスや、フィルタ等によりパーティクル（浮遊微粒子）を減少させた空気等）を供給するための給気配管５０２とを備える。装置本体５０１の内部には気流通路５０３が形成されており、給気配管５０２に接続されている。この気流通路５０３は、装置本体５０１の平面視（または底面視）における中心付近において、図示下方に向かうにつれ径寸法が拡大する、横断面形状が略円環状の通路である。この気流通路５０３は、装置本体５０１の下面に略円環状に開口している。そして給気配管５０２は開閉弁５０４を備え、これにより気流通路５０３への気体供給を行ったり（図７（Ａ）の状態）、停止したり（図７（Ｂ）の状態）できる。
【０００４】
給気配管５０２を介して気流通路５０３に気体が通されることにより、装置本体５０１の下方に放射状に、径外方向へ向かう気流Ｆが噴出する。そして、装置本体５０１の下面における気流通路５０３の開口部の直下よりも中心寄りの空間（径外方向へ向かう気流Ｆに囲まれた空間）は、前記気流Ｆの噴出に伴い、当該空間に存在していた気体が径外方向に吸い寄せられることから負圧となる（圧力分布に関し、例えば、特許文献１における図１中グラフを参照）。このようにして前記中心寄りの空間に負圧領域Ｘが形成される。この負圧領域Ｘにより、上方に位置する装置本体５０１に対し、下方に位置するワークＷが吸着される。なお、ワークＷの位置決めは、装置本体５０１の下面における外縁に形成されたガイド部５０５の径内側における側面にワークＷが当接することでなされる。
【０００５】
ここで、吸着装置の周囲（正圧である）にはパーティクル（浮遊微粒子）Ｐが存在する。ちなみにこのパーティクルＰは、クリーンルーム内部等のクリーン環境中であっても完全に存在しないようにすることは困難である。ワークＷにパーティクルＰが付着してしまうと、ワークＷの品質トラブルを招く可能性がある。
【０００６】
図７（Ａ）の状態では気流Ｆが流れ続けている。このため、パーティクルＰがこの気流Ｆに引き寄せられたとしても当該気流Ｆに乗って径外方向に流される。このため、クリーン環境であってもわずかに存在するパーティクルＰは、図７（Ａ）の状態ではワークＷに付着することはない。
【０００７】
ところが前記負圧領域Ｘは、図７（Ｂ）に示すように、開閉弁５０４が閉じられたことで気流通路５０３への気体の供給が停止した後もわずかな時間残存する。この残存している負圧領域Ｘに、パーティクルＰが引き寄せられる可能性がある（図７（Ｂ）上のパーティクルＰは概略示したものであり、現実のパーティクルＰの移動態様とは異なる可能性がある）。
【０００８】
以上、前記のような気流通路への通気が止まった後の負圧領域Ｘの残存は、ワークＷにパーティクルＰが付着する可能性を減らすためには、わずかな時間であっても避けられるべきである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００８−２８４６７１号公報（図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで本発明は、気体供給停止後における負圧領域の残存を抑制することで、周囲に存在するパーティクルをワークに引き寄せる可能性を低減した吸着装置及びこれを備えた搬送装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、下向きの面を有し、気体が供給されることで、下方に位置するワークとの間で前記下向きの面に沿うように気流が発生し、前記気流によって生じる圧力差により前記ワークを吸着でき、前記気流の停止により前記ワークの吸着を解除できる吸着装置において、前記下向きの面に開口しており、前記気体の供給により、放射状に流れる気流からなる放射流が前記下向きの面と前記ワークとの間の空間に発生し、前記下向きの面と前記ワークとの間の空間における前記放射流に囲まれた領域を、吸着装置の周囲に存在する気体の圧力である周囲圧力よりも減圧された負圧領域とできる負圧発生用開口部と、前記下向きの面に開口しており、前記負圧領域を前記周囲圧力以上に昇圧するための気体を前記下向きの面と前記ワークとの間の空間に導入できる負圧解除用開口部と、を備えたことを特徴とする吸着装置である。
【００１２】
この構成によれば、負圧解除用開口部から導入される気体により前記負圧領域を消滅させることができる。このため、負圧発生用開口部からの気体の供給停止にかかわらず、負圧領域の残存を抑制できる。
【００１３】
そして、本発明は、前記負圧発生用開口部からの気体の供給が停止される以前に、前記負圧解除用開口部から気体の導入を開始させる制御部を備えていてもよい。
【００１４】
この構成によれば、制御部により、前記負圧発生用開口部から気体の供給が停止される以前に、前記負圧解除用開口部から気体の導入を開始させることができる。このため、確実に負圧領域の残存を抑制できる。
【００１５】
そして、本発明は、前記負圧解除用開口部に対し、前記周囲圧力以上である気体を押し込むための給気機構を備え、前記給気機構が前記負圧解除用開口部を介して前記下向きの面と前記ワークとの間の空間に押し込んだ気体により、前記負圧領域が消滅するよう構成されていてもよい。
【００１６】
そして、本発明は、前記吸着装置の周囲に対して開口し、かつ、前記負圧解除用開口部に対して連通可能に構成された周囲開口部を備え、前記負圧領域と前記吸着装置の周囲との気圧差により、前記周囲開口部及び前記負圧解除用開口部を介して、前記周囲圧力の気体が前記下向きの面と前記ワークとの間の空間へ吸引され、この吸引された気体により前記負圧領域が消滅するよう構成されていてもよい。
【００１７】
そして、本発明は、外部環境に比べて浮遊微粒子を減少させたクリーン環境中に配置される搬送装置において、ワークを一方の位置から他方の位置まで搬送するための可動部を備え、前記可動部は前記吸着装置を備え、前記負圧解除用開口部から前記下向きの面と前記ワークとの間の空間に導入される気体は、前記外部環境に比べて浮遊微粒子を減少させた気体である搬送装置である。
【００１８】
この構成によれば、クリーン環境中にて、搬送装置の周囲に存在するパーティクルの影響を受けない搬送が可能である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、気体供給停止後における負圧領域の残存を抑制することで、周囲に存在するパーティクルをワークに引き寄せる可能性を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に係る吸着装置を示す分解斜視図である。
【図２】同吸着装置を示す要部断面図である。
【図３】同吸着装置における吸着要領を示す概略図であり、（Ａ）はワークを吸着している状態、（Ｂ）は負圧解除用給気部から気体が導入された状態を示す。
【図４】同吸着装置を装着する搬送装置（ロボット）の一例を示す斜視図である。
【図５】同吸着装置の制御に関するタイミングチャートである。
【図６】他の実施形態に係る吸着装置の例を示す断面視の概略図であり、（Ａ）は配管を上流端側で集合させた形態、（Ｂ）は周囲開口部を備えた形態、（Ｃ）はサイクロン流を生じさせる形態を示す。
【図７】従来の吸着装置の一例における吸着の要領を示す概略図であり、（Ａ）はワークを吸着している状態、（Ｂ）は吸着用の気体の供給が停止した直後の状態を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明につき、一実施形態を取り上げて、図面とともに以下説明を行う。なお、以下における「上下」の表現は図１に示した状態を基準としている。なお、以下に説明した方向に実施の態様が限定されることはなく、方向を変えて実施することも可能である。
【００２２】
図１に示すように、本実施形態の吸着装置１０は「ベルヌーイチャック」とも呼ばれる装置であり、気流により吸着対象であるワークＷを吸着できる。本実施形態のワークＷは半導体ウエハであり、図示のように円板状である。この吸着装置１０は、本体部１、導流部２、ガイド部３、給気配管４、制御部６を備える。
【００２３】
この吸着装置１０は、例えば図４に示す、搬送対象であるワークＷを搬送するための可動部としてのアーム２０１を備えた搬送装置（ロボット）２０に装着される。この搬送装置２０は、例えば、高温環境下でガスを噴射することで、半導体ウエハの表面に膜を形成するためのリアクターに半導体ウエハを出し入れする際、前記リアクターを備えた処理装置と半導体ウエハが収納される搬送用トレイとの間での半導体ウエハの受け渡しのために用いられる。搬送装置２０及び吸着装置１０は、クリーンルーム等、大気に比べてパーティクル（浮遊微粒子）の量が減少するよう制御されたクリーン環境に設置される。本実施形態では窒素環境とされた空間に搬送装置２０及び吸着装置１０が配置されるが、空気環境に配置されてもよい。
【００２４】
このように搬送装置２０を用いることで、人が介在することなく半導体ウエハの受け渡しを行うことが可能であるため、人の動作によりクリーン環境が損なわれることを抑制できる。また、自動化による生産性向上が可能である。
【００２５】
本体部１は、中央部１ａと、中央部１ａから径方向に三方に延び、回転対称の形状である延長部１ｂとからなる。本実施形態では、ワークＷの吸着に関しては主に中央部１ａが行う。延長部１ｂは主にワークＷの位置決めのために機能する。この本体部１は、下面部１１、中央凹部１２、吸着用給気部１３を備える。
【００２６】
本体部１の下面が下面部１１である。この下面部１１は平面である。図２等に示すように、この下面部１１とワークＷの上面Ｗ１とは吸着時においてほぼ平行な関係となる。そして、この下面部１１とワークＷの上面Ｗ１との間に、吸着用流路５（後述）から供給され、本体部１の径外方向へ向かう気流Ｆ（図３参照）が通る。
【００２７】
中央凹部１２は、本体部１における底面視中央にて、下面部１１よりも上方に凹んだ部分である。この中央凹部は、底面視が円形である平面部１２１と、平面部１２１の外縁に位置し、平面部１２１と下面部１１とを結ぶテーパ面部１２２とを備える。
【００２８】
吸着用給気部１３は、中央凹部１２の平面部１２１に開口している。この吸着用給気部１３は、本体部１に固定された接続配管１４を介して吸着用給気配管４１に接続されている。
【００２９】
導流部２は、図２等に示すように、本体部１の下部に固定される部材である。この導流部２は、円盤部２１と、この円盤部２１における上面部２１１の中心から上方に延びる、筒状の負圧解除用給気部２２とを備える。
【００３０】
上面部２１１は、導流部２が本体部１の下部に固定された際に本体部１の平面部１２１に対する下方に平行に位置する。テーパ面部２１２は上面部２１１の外縁に位置し、導流部２が本体部１の下部に固定された際に本体部１のテーパ面部１２２に対する斜め下方に平行に位置する。
【００３１】
負圧解除用給気部２２における下流端は、負圧解除用開口部２２１として、円盤部２１の下面部２１３における中央に開口している。負圧解除用給気部２２は、この負圧解除用給気部２２の上端に固定された接続配管２３を介して負圧解除用給気配管４２に接続されている。
【００３２】
円盤部２１は本体部１の中央凹部１２に配置される。本実施形態では、図２に示すように、本体部１の下面部１１と導流部２の下面部２１３とは同一平面に位置している（ツライチである）が、下面部１１と下面部２１３とは上下にずれて位置していてもよい。本体部１と導流部２とにより、各部１，２の間（本体部１の中央凹部１２における平面部１２１と導流部２の上面部２１１との間、及び、本体部１のテーパ面部１２２と導流部２のテーパ面部２１２との間）に吸着用流路５が形成される。この吸着用流路５に、吸着用給気部１３から気体（本実施形態では窒素）が供給されることにより、本体部１の下面部１１とワークＷの上面Ｗ１との間の空間に、径外方向へ向かう気流Ｆが流れる。一方、導流部２の下方の空間に存在する気体は、前記径外方向へ向かう気流Ｆに囲まれるため、径外方向へ引き寄せられる。このため、この空間は減圧される。よって、図３（Ａ）にて破線で示したように、導流部２の下方の空間に負圧領域（吸着装置１０の周囲よりも減圧された領域）Ｘが形成される。そして、この負圧領域Ｘは、負圧解除用給気部２２を通じて負圧解除用開口部２２１から下面部２１３とワークＷとの間の空間に気体が導入（供給）されることにより消滅する。
【００３３】
負圧解除用開口部２２１から導入（供給）される気体の圧力は、負圧領域Ｘを、吸着装置１０の周囲に存在するパーティクルが引き寄せられない程度に上昇させることのできるものであれば特に限定されない。例えば、吸着装置１０の周囲に存在する気体の圧力（周囲圧力）以上に昇圧するための気体を負圧解除用開口部２２１から導入できればよい。なおこの圧力は、吸着用給気部１３から気体が供給されて吸着用流路５に気流が流れたままの状態であってもワークＷの吸着が解除できる程度の圧力であることが、負圧領域Ｘを残存させない観点から好ましい。本実施形態では、導入（供給）する気体の圧力は、吸着用給気部１３から供給される気体の圧力と同じ圧力とされている。
【００３４】
ガイド部３は、本体部１の延長部１ｂに取り付けられる樹脂製部材である。図２に示すように、このガイド部３の一部は、延長部１ｂの径方向端部の下面から略円錐台状に突出している。この円錐台状部分におけるテーパ面がワーク当接部３１であり、図２に示すように、このワーク当接部３１の径内位置にワークＷの外縁Ｗ２が当接する。吸着装置１０へのワークＷの位置決めができればよいため、前記当接は点接触で足りる。このため、ワークＷに対する当接により引き起こされる悪影響を最低限に抑えることができる。また、ワークＷの外縁Ｗ２に対してワーク当接部３１は傾斜しているため、外力等によるワークＷの上下方向への動き及び水平方向への動きをガイド部３が抑制できる。また、このガイド部３が本体部１とワークＷの間の空間を流れる気流Ｆを阻害することもほとんどない。
【００３５】
給気配管４は、吸着用給気配管４１と負圧解除用給気配管４２とを備える。吸着用給気配管４１の下流端は吸着用給気部１３に接続されている。そして、負圧解除用給気配管４２の下流端は負圧解除用給気部２２に接続されている。各給気配管４１，４２には、各給気部１３，２２に対して吸着装置１０の周囲に存在する気体の圧力（周囲圧力）以上に昇圧するための気体を供給できる（押し込むことのできる）給気機構が接続されている。本実施形態の給気機構は、一例として気体タンク、コンプレッサ、レギュレータ（圧力調整部）４２１、フィルタ、開閉弁４１１，４２２を備える（符号を付さない部材は図示していない）。この給気機構により、吸着用給気部１３及び負圧解除用給気部２２から清浄な気体（大気に比べて含まれるパーティクルを減少させた気体）を供給できる。
【００３６】
なお、工場等の生産設備は、窒素等の不活性ガスを供給するための設備を備えていることが多い。よって、この不活性ガスを供給するための設備をそのまま、または一部改造して給気機構として用いることができる。この場合、新規に給気機構を構築する必要がないため、設備コストを低減できるメリットがある。
【００３７】
以上のように構成された吸着装置１０は、本体部１と導流部２との間に吸着用流路５が形成されている。吸着用流路５の下流端は、本体部１の下面部１１と導流部２の下面部２１３との間に位置する負圧発生用開口部５１である。この負圧発生用開口部５１は底面視で円環状である。この負圧発生用開口部５１から下方かつ径外方向に向かう気流が噴出する。この噴出した気流は、ワークＷの上面Ｗ１に衝突することで、略水平かつ径外方向に向かう気流Ｆとなる。この気流Ｆは、本体部１を平面視（または底面視）した場合に、放射状に流れる複数方向への気流からなる放射流を構成する。本実施形態の放射流は、本体部１における下面部１１の径方向中心を基準として径外方向で３６０°の方向への放射状の流れである。
【００３８】
このようにして吸着装置１０の下向き面である下面部１１に沿うように径外方向へ向かう気流Ｆを流すことにより、導流部２の下面部２１３と、この下面部２１３に対して略平行となるワークＷの上面Ｗ１との間に負圧領域Ｘが形成される。この負圧領域ＸによりワークＷに吸引力が働くため、吸着装置１０にワークＷを吸着できる。なお、負圧領域Ｘ以外にも、気流Ｆにより本体部１の下面部１１とワークＷの上面Ｗ１との間にも吸引力が働く。なお、前記のように負圧発生用開口部５１から噴出した気流はワークＷに衝突するため、副次的ではあるがワークＷの冷却効果も期待できる。
【００３９】
前記吸着の際、ワークＷの外縁Ｗ２における３箇所が、ガイド部３のワーク当接部３１に当接する。これにより、例えば搬送装置２０のアーム２０１を移動させても、吸着装置１０に対してワークＷがずれてしまうことを抑制できる。
【００４０】
制御部６は、前記給気機構を制御することにより、吸着用給気配管４１と負圧解除用給気配管４２を通る気流を制御する部分である。図３（Ａ）（Ｂ）では、制御部６が開閉弁４１１，４２２を制御するものとしているが、コンプレッサ等、給気機構を構成する部材を制御部６が制御してもよい。
【００４１】
この制御部６による気流の制御によりワークＷがどのように吸着されるかについて述べる。まず、水平方向に配置されたワークＷの上方に本体部１を近づけた状態で、吸着用給気配管４１から気体を供給して、吸着用流路５の負圧発生用開口部５１から吸着装置１０とワークＷとの間に気流Ｆを流す。これにより、本体部１に対してワークＷが吸着（チャック）される。
【００４２】
次に、吸着を解除（デチャック）する際、制御部６は、負圧発生用開口部５１からの気体の供給が停止される以前（供給停止の瞬間も含む）に、負圧解除用開口部５２から気体の供給を開始させる。これにより、負圧解除用開口部５２から供給された気体が負圧領域Ｘを昇圧させる（この時点では負圧発生用開口部５１からの気体の供給は続いている）。この昇圧により、負圧領域Ｘが消滅して吸引力が低下するため、ワークＷの自重によりワークＷが吸着装置１０から落下する。
【００４３】
前記昇圧により、負圧領域Ｘが速やかに消滅する。このため、吸着装置１０の周囲に存在するパーティクルが引き寄せられることがない。なお、負圧解除用開口部５２から前記負圧領域Ｘに供給される気体は大気に比べてパーティクルを減少させた気体である。このため、前記供給される気体が、ワークＷに対してパーティクルによる悪影響を与えることはない。
【００４４】
制御部６による気流の制御につき、吸着用給気配管４１と負圧解除用給気配管４２を通る気流のオンオフのタイミングを、タイミングチャートである図５（Ａ）〜（Ｃ）に示す。タイミングチャートの上段に吸着用給気配管４１における気流のオンオフのタイミングを示し、同下段に負圧解除用給気配管４２における気流のオンオフのタイミングを示す。
【００４５】
図５（Ａ）（Ｂ）に示すように、吸着用給気配管４１を通る吸着用給気部１３からの気体（以下、「チャック用気体」）の供給を停止する以前に、負圧解除用給気配管４２を通り負圧解除用給気部２２から導流部２の下面部２１３とワークＷとの間の空間に気体（以下、「デチャック用気体」）を供給するようにすることが、負圧領域Ｘが残存しないようにできるため好ましい。図５（Ａ）はチャック用気体とデチャック用気体の供給停止を同時に行う場合を示し、図５（Ｂ）はチャック用気体の供給停止の後でデチャック用気体の供給停止を行う場合を示す。
【００４６】
なお、図５（Ｃ）に示すように、チャック用気体の供給停止と同時にデチャック用気体の供給を開始してもよい。ただ、この場合は、デチャック用気体の供給開始が少しでも遅れると負圧領域Ｘが残存するため、制御部６の制御が厳格に行われる必要がある。ただし、このようなタイミングで制御した場合、デチャック用気体の圧力は負圧領域Ｘを消滅させることができる圧力であれば足りる（負圧発生用開口部５１からの気体の供給が続いている場合には、気流Ｆにより生じている吸引力に抗する圧力が必要である）。このため、図５（Ａ）（Ｂ）に示すタイミングで制御することに比べ、比較的低い圧力の気体を供給できるメリットがある。
【００４７】
以上のように構成された吸着装置１０によると、チャック用気体の供給停止後における負圧領域Ｘの残存を防止することで、吸着装置１０の周囲に存在するパーティクルをワークＷに引き寄せることを防止できる。
【００４８】
以上、本発明につき一実施形態を取り上げて説明してきたが、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００４９】
図６（Ａ）〜（Ｃ）に他の実施形態に係る吸着装置１０の例を示す。図６（Ａ）に示したものは、負圧解除用給気配管４２を上流端側で吸着用給気配管４１に集合させた形態である。この形態によると、給気機構を一元化できるメリットがある。
【００５０】
図６（Ｂ）に示したものは、負圧解除用給気配管４２の上流端側を、周囲開口部４２３にて吸着装置１０の周囲に対して開口した形態である。この形態では、負圧解除用開口部２２１に対し周囲開口部４２３が連通可能である。この形態であっても、開閉弁４２２を開放することにより、吸着装置１０の周囲に存在する気体が負圧領域Ｘと吸着装置１０の周囲との気圧差によって周囲開口部４２３から吸引され、負圧解除用給気配管４２を通って負圧領域Ｘに導入される。このため、前記実施形態と同様に負圧領域Ｘを昇圧できる。この形態によると、負圧解除用給気配管４２が備える給気機構を簡略化できるメリットがある。
【００５１】
図６（Ｃ）に示したものは、本体部１の内部にてサイクロン流（螺旋状の気流）Ｆｃを生じさせる形態である。この形態の吸着装置１０は、例えば、本体部１に下方に開口したサイクロン流形成用凹部７を備え、サイクロン流形成用凹部７の内壁の上方部分に、吸着用給気配管４１から供給される気体が噴出する噴出口７１を、内壁の略接線方向に開口するように備えたものである。この噴出口７１は、１箇所のみ図示しているが、周方向に複数備えることもできる。また、負圧解除用給気配管４２の下流端はサイクロン流形成用凹部７に開口している（本体部１の下端位置に負圧解除用給気配管４２の下流端が一致していてもよい）。その他の構成は、図１等に示す前記実施形態と同じである。
【００５２】
この形態に係る吸着装置１０にて、吸着用給気配管４１から供給される気体は、サイクロン流形成用凹部７の内壁に沿って斜め下方に流れることでサイクロン流Ｆｃが形成される。このサイクロン流Ｆｃは本体部１とワークＷとの間の空間に対して流れ出し、前記実施形態のように径外方向へ向かう気流Ｆとなる。この形態でも、サイクロン流Ｆｃに囲まれた部分の下方に負圧領域Ｘが形成される。この負圧領域Ｘは、前記実施形態と同様、負圧解除用給気配管４２から供給される気体により昇圧させることで消滅させることができる。
【００５３】
また、本体部１における延長部１ｂは３本に限定されず、種々の本数とできる。また、延長部１ｂが円板状に形成されていてもよい。また、延長部１ｂがワークＷの位置決めだけのための細い棒状であってもよい。
【００５４】
また、前記実施形態では、本体部１と導流部２とは別体で形成されているが、これに限定されず、一体で形成されていてもよい。
【００５５】
また、前記実施形態では、本体部１のテーパ面部１２２と導流部２のテーパ面部２１２との間に吸着用流路５が形成されており、これにより、負圧発生用開口部５１から下方かつ径外方向に向かう気流が噴出されるが、これに限定されない。例えば負圧発生用開口部５１から真下に向かう気流が噴出されるように吸着用流路５が形成されていてもよい。また、吸着用流路５が、例えば周方向に並列する複数の流路の集合体であってもよい。
【００５６】
また、前記デチャック用気体の圧力は、負圧領域Ｘを消滅させることができる圧力であれば特に限定されない。例えば、圧力を高目に設定することにより、デチャック用気体を用いてワークＷを下方に付勢させ、ワークＷの下方への搬送を補助することもできる。
【００５７】
また、前記実施形態の負圧領域Ｘは、吸着装置１０及びワークＷの径方向の中心に位置している。このため気流Ｆが、本体部１を平面視（または底面視）した場合に、放射状に流れる気流からなる放射流を構成する（前記実施形態の放射流は、本体部１における下面部１１の径方向中心を基準として径外方向で３６０°の方向への放射状の流れである）。しかし、負圧領域Ｘの位置はこれに限定されない。例えば、一つのワークＷに対し、複数の負圧領域Ｘ…Ｘで吸着を行うように吸着装置１０が構成されていてもよい。このような構成では、吸着装置１０の平面視（または底面視）における径方向中心と、放射流の中心位置とが一致しない。
【００５８】
また、前記実施形態で供給される気体は窒素であるが、これに限定されず、窒素以外の不活性ガスや空気等の種々の気体を供給できる。
【００５９】
また、前記実施形態の吸着装置１０が吸着対象としたワークＷは円板状の半導体ウエハであったが、ワークＷの形状は限定されない。ただし、吸引力を均等にワークＷに及ぼすためには、ワークＷの上面が平面であることが好ましい。
【符号の説明】
【００６０】
１          本体部
１１        下向きの面、下面部
１３        給気部、吸着用給気部
２          導流部
２２        給気部、負圧解除用給気部
２２１      負圧解除用開口部
３          ガイド部
４          給気配管
４２３      周囲開口部
５          吸着用流路
５１        負圧発生用開口部
６          制御部
１０        吸着装置
２０        搬送装置
２０１      可動部、アーム
Ｗ          ワーク
Ｆ          気流（放射流を構成する気流）
Ｘ          負圧領域
Ｐ          浮遊微粒子、パーティクル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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