(57)【要約】【課題】特に耐熱性に優れ、安定した光学特性及び一定の線径を有する高分子光ファイバーを得ることができ、さらに、糸切れが発生することなく連続的に紡糸を行うことができる高分子光ファイバーの製造方法を提供する。【解決手段】光硬化性組成物に光を照射し硬化させることによって高分子光ファイバーを製造する方法であって、前記光硬化性組成物は酸化防止剤を含有する光硬化性組成物であり、なおかつ下記の工程Ａ及び工程Ｂを含むことを特徴とする高分子光ファイバーの製造方法。  工程Ａ：光硬化性組成物をノズルを用いて吐出し、次いで、前記ノズルから吐出された糸状の光硬化性組成物に光を照射し硬化させて糸状の硬化物を形成する工程であって、該工程においては、前記ノズルの吐出口における光の照射強度が０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御される工程  工程Ｂ：工程Ａの後、さらに、前記糸状の硬化物に対し光照射処理及び加熱処理のいずれか一方又は両方を行う工程【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化性組成物に光を照射し硬化させることによって高分子光ファイバーを製造する方法であって、前記光硬化性組成物は酸化防止剤を含有する光硬化性組成物であり、なおかつ下記の工程Ａ及び工程Ｂを含むことを特徴とする高分子光ファイバーの製造方法。
工程Ａ：光硬化性組成物をノズルを用いて吐出し、次いで、前記ノズルから吐出された糸状の光硬化性組成物に光を照射し硬化させて糸状の硬化物を形成する工程であって、該工程においては、前記ノズルの吐出口における光の照射強度が０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御される工程
工程Ｂ：工程Ａの後、さらに、前記糸状の硬化物に対し光照射処理及び加熱処理のいずれか一方又は両方を行う工程
【請求項２】
前記光硬化性組成物（１００重量％）における酸化防止剤の含有量が０．１〜１０重量％である請求項１に記載の高分子光ファイバーの製造方法。
【請求項３】
前記光硬化性組成物が、酸化防止剤としてフェノール系化合物を含む請求項１又は２に記載の高分子光ファイバーの製造方法。
【請求項４】
前記光硬化性組成物が、（メタ）アクリル系モノマー又は（メタ）アクリル系モノマーに由来する構成単位を有する重合体を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の高分子光ファイバーの製造方法。
【請求項５】
工程Ｂにおける光照射処理が、積算照射量が５０〜６０００ｍＪ／ｃｍ2の光照射処理である請求項１〜４のいずれか１項に記載の高分子光ファイバーの製造方法。
【請求項６】
工程Ｂにおける加熱処理が、４０〜２００℃の加熱処理である請求項１〜５のいずれか１項に記載の高分子光ファイバーの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の高分子光ファイバーの製造方法により製造された高分子光ファイバー。
【請求項８】
請求項７に記載の高分子光ファイバーを電子部品とともに、リフロー処理により基板に実装することを特徴とする高分子光ファイバーの使用方法。
【請求項９】
請求項７に記載の高分子光ファイバーを電子部品とともに、リフロー処理により基板に実装することを特徴とする実装基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性組成物に光を照射し、硬化させることによって紡糸を行う高分子光ファイバーの製造方法に関する。さらに、本発明は、上記製造方法により製造された高分子光ファイバーに関する。
【背景技術】
【０００２】
インターネットを介した動画配信等の普及により、サーバやルータに用いるボード内の通信容量が増加し、近年、一部の高速信号線を電気配線から光配線に置き換えることの検討が進められている。中でも、高分子材料により形成された光ファイバー（高分子光ファイバー）は柔軟性に優れ、曲率半径の小さい配線組みが可能であるため、特に、省スペース化を目的とする光電気混載基板用の光配線として期待されている。
【０００３】
また、光配線として使用される高分子光ファイバーに対する要求特性としては、光電気混載基板のハンダリフロー工程において、ハンダリフロー時の高温によって光損失が増大したり、クラック等の熱劣化が発生することを防止できるだけの耐熱性（ハンダリフロー耐熱性）が挙げられる。近年では、溶解させるために約２６０℃の高温加熱を要する鉛フリーハンダの使用に対応させるため、高分子光ファイバーにはより高度な耐熱性が求められている。
【０００４】
高分子光ファイバーの製造方法として、特許文献１には、紫外光の照射によって、光硬化性樹脂（カチオン硬化性樹脂）を反応させながらファイバー化する製法が開示されている。当該製法においては、紫外線硬化剤入りの液状エポキシ樹脂を通常の線引装置の加熱容器に入れ、線引用ノズルから流出が容易で一定の線径になるように加熱器により常に一定の温度に加熱し粘度を低下させる必要がある。また、上記製法は、光の導通部となるコアを先に作製し、該コア表面に保護層となるクラッドをあとから被覆する方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭６１−２４５１０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に記載の製造方法では、光硬化性樹脂（カチオン硬化性樹脂）を加熱器により常に一定の温度に加熱して粘度を低下させるだけでは、製造される高分子光ファイバーの線径を一定にすることができず、さらに、頻繁に糸切れ（高分子光ファイバーの破断）が発生するために連続的に高分子光ファイバーを紡糸することができないことが判明した。
【０００７】
本発明では、高分子光ファイバーの線径が一定にならない要因が、ノズル先端から吐出される光硬化性組成物（例えば、光硬化性樹脂を必須成分として含む組成物など）の粘度が安定しないことにあることを見出した。さらに、上記光硬化性組成物の粘度が安定しない原因は、ノズル先端に紫外光があたり、光硬化性組成物が部分的に硬化してしまうことであることが判明した。なお、上記特許文献１では、紫外光の光源から漏れた光がノズル付近にあたることを防ぐことや、流下する材料（光硬化性樹脂）の内部を伝播してノズル先端付近に到達する紫外光を減らす方法について一切考慮はされていない。
【０００８】
また、一般に、高分子光ファイバーは光源デバイス等と接続して用いられるため、高分子光ファイバーのコアとクラッドの中心（中心軸）は精度良く合っている必要がある。しかしながら、上記特許文献１に記載の製造方法のように、コアを作製した後、該コアにクラッドを被覆する方法では、コアとクラッドの中心が合った高分子光ファイバーの製造が困難である。
【０００９】
上記問題に対して、先般、本発明者らは、光硬化性組成物をノズルを用いて吐出し、次いで、前記ノズルから吐出された糸状の光硬化性組成物に光照射装置を用いて光を照射する工程を含み、前記工程において、前記ノズルの吐出口における光の照射強度を０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御する高分子光ファイバーの製造方法により、一定の線径の高分子光ファイバーを得ることができ、糸切れが発生することなく連続的に紡糸を行うことができることを見出している。しかしながら、当該方法により得られた高分子光ファイバーは、長さ方向の光学特性が安定せず（部位により光損失の値がばらつく）、また、２６０℃以上という高温でハンダリフロー処理した場合には光損失が増大するなど光学特性が低下し、さらに、当該ハンダリフロー処理によって端面が隆起するなどの形状変化の問題が生じる場合があることが判明した。
【００１０】
従って、本発明の目的は、特に耐熱性（好ましくは、透明性、耐熱性、及び柔軟性）に優れ、安定した光学特性及び一定の線径を有する高分子光ファイバーを得ることができ、さらに、糸切れが発生することなく連続的に紡糸を行うことができる高分子光ファイバーの製造方法を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、特に耐熱性（好ましくは、透明性、耐熱性、及び柔軟性）に優れ、安定した光学特性及び一定の線径を有し、生産性の高い高分子光ファイバーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、ノズルから吐出させた光硬化性組成物に光を照射し硬化させることによって高分子光ファイバーを製造するにあたり、上記光硬化性組成物として酸化防止剤を含有する光硬化性組成物を使用し、また、上記ノズルの先端部分（吐出口）における光の照射強度を特定範囲に制御しながら光照射し、さらに上記光照射の後に、光照射処理及び加熱処理のいずれか一方又は両方を行うことによって、糸切れが発生せず、連続的に一定の線径で紡糸ができ、特に耐熱性（好ましくは、透明性、耐熱性、及び柔軟性）に優れ、安定した光学特性を有する高分子光ファイバーが得られることを見出し、本発明を完成させた。
【００１２】
すなわち、本発明は、光硬化性組成物に光を照射し硬化させることによって高分子光ファイバーを製造する方法であって、前記光硬化性組成物は酸化防止剤を含有する光硬化性組成物であり、なおかつ下記の工程Ａ及び工程Ｂを含むことを特徴とする高分子光ファイバーの製造方法。
工程Ａ：光硬化性組成物をノズルを用いて吐出し、次いで、前記ノズルから吐出された糸状の光硬化性組成物に光を照射し硬化させて糸状の硬化物を形成する工程であって、該工程においては、前記ノズルの吐出口における光の照射強度が０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御される工程
工程Ｂ：工程Ａの後、さらに、前記糸状の硬化物に対し光照射処理及び加熱処理のいずれか一方又は両方を行う工程
【００１３】
さらに、前記光硬化性組成物（１００重量％）における酸化防止剤の含有量が０．１〜１０重量％である前記の高分子光ファイバーの製造方法を提供する。
【００１４】
さらに、前記光硬化性組成物が、酸化防止剤としてフェノール系化合物を含む前記の高分子光ファイバーの製造方法を提供する。
【００１５】
さらに、前記光硬化性組成物が、（メタ）アクリル系モノマー又は（メタ）アクリル系モノマーに由来する構成単位を有する重合体を含有する前記の高分子光ファイバーの製造方法を提供する。
【００１６】
さらに、工程Ｂにおける光照射処理が、積算照射量が５０〜６０００ｍＪ／ｃｍ2の光照射処理である前記の高分子光ファイバーの製造方法を提供する。
【００１７】
さらに、工程Ｂにおける加熱処理が、４０〜２００℃の加熱処理である前記の高分子光ファイバーの製造方法を提供する。
【００１８】
また、本発明は、前記の高分子光ファイバーの製造方法により製造された高分子光ファイバーを提供する。
【００１９】
また、本発明は、前記の高分子光ファイバーを電子部品とともに、リフロー処理により基板に実装することを特徴とする高分子光ファイバーの使用方法を提供する。
【００２０】
また、本発明は、前記の高分子光ファイバーを電子部品とともに、リフロー処理により基板に実装することを特徴とする実装基板の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の高分子光ファイバーの製造方法は上記構成を有するため、光硬化性組成物を原料として、線径が一定の高分子光ファイバーを容易に製造することができ、製造の際には糸切れが発生することなく連続的に紡糸を行うことができる。さらに、本発明の高分子光ファイバーの製造方法によると、特に耐熱性（好ましくは、透明性、耐熱性、及び柔軟性）に優れ、安定した光学特性を有する（例えば、長さ方向の光損失のばらつきが少ない）高分子光ファイバーを得ることができる。また、本発明の高分子光ファイバーの製造方法により得られる高分子光ファイバーは、特に耐熱性（好ましくは、透明性、耐熱性、及び柔軟性）にも優れ、一定の線径及び安定した光学特性を有し、さらに生産性に優れるため、品質面及びコスト面で有利である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａの一実施形態を示す概略図である。
【図２】二重管ノズルの一例を示す概略図（斜視図）である。
【図３】二重管ノズルの一例を示す概略図（図２におけるＡ−Ａ断面図）である。
【図４】位置調整機構を備えた二重管ノズルの一例を示す概略図（二重管ノズルの径方向の断面図）である。
【図５】光照射装置の一例を示す概略図（平面図、３方向から照射する場合）である。
【図６】光照射装置の一例を示す概略図（平面図、２方向から照射する場合）である。
【図７】遮光筒の一例を示す概略図（斜視図）である。
【図８】遮光板（円板状の遮光板）の一例を示す概略図（斜視図）である。
【図９】遮光板（円錐状の遮光板）の一例を示す概略図（斜視図）である。
【図１０】光照射装置から出射された光の広がり角ψを説明する概略図（側面図）である。
【図１１】照射強度が最大となる光線の方向と光硬化性組成物の吐出方向に垂直な面とがなす角度θと光の広がり角ψの関係を説明する概略図（側面図）である。図１１の（ａ）はθ≧ψ／２の場合、（ｂ）はθ＜ψ／２の場合の概略図である。
【図１２】照射角度調整機構を備える光照射装置の一例を示す概略図（側面図）である。
【図１３】本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａの一実施形態（落射方式の場合）を示す概略図である。
【図１４】実施例で使用した高分子光ファイバーの製造装置及び該製造装置を用いた高分子光ファイバーの製造方法を示す概略図である。
【図１５】本発明の高分子光ファイバーの製造方法を示す概略図（工程Ａ及び工程Ｂをインラインで実施する場合）である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の高分子光ファイバーの製造方法は、光硬化性組成物（光照射により硬化（重合）して硬化物を形成する組成物）に光を照射し硬化させることによって高分子光ファイバーを製造（紡糸）する方法であり、下記の工程Ａ及び工程Ｂを必須の工程として含む高分子光ファイバーの製造方法である。なお、本明細書においては、工程Ａにより得られる硬化物を「硬化物ａ」と称し、工程Ｂにより得られる硬化物を「硬化物ｂ」と称する場合がある。また、上記硬化物ａと硬化物ｂを総称して単に「硬化物」と称する場合がある。
工程Ａ：光硬化性組成物をノズルを用いて吐出し、次いで、上記ノズルから吐出させた糸状の光硬化性組成物に光を照射し、光硬化性組成物を硬化させて糸状の硬化物ａ（樹脂硬化物）を形成する工程であって、該工程においては、上記ノズルの吐出口における光の照射強度が０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御される工程
工程Ｂ：工程Ａの後、さらに、上記糸状の硬化物ａに対し光照射処理及び加熱処理のいずれか一方又は両方を行う工程
【００２４】
［光硬化性組成物］
本発明の高分子光ファイバーの製造方法において使用される光硬化性組成物は、本発明の高分子光ファイバーの製造方法により製造される高分子光ファイバー（「本発明の高分子光ファイバー」と称する場合がある）を構成する材料の前駆体と位置づけられる。なお、本発明の高分子光ファイバーがコアと該コアを被覆するクラッドとを有する高分子光ファイバー（「コア−クラッド構造を有する高分子光ファイバー」と称する場合がある）である場合には、上記光硬化性組成物は、コア及びクラッドのいずれか一方又は両方（好ましくは両方）を構成する材料の前駆体である。
【００２５】
上記光硬化性組成物は、光を照射することによって硬化して硬化物を与える組成物である。上記光硬化性組成物としては、例えば、光の照射により速やかに硬化する、公知慣用の光硬化性組成物（ラジカル重合性組成物、カチオン重合性組成物、アニオン重合性組成物等）などを用いることができる。中でも、上記光硬化性組成物は、紫外線の照射により硬化して硬化物を与える光硬化性組成物（紫外線硬化性組成物）であることが好ましい。
【００２６】
上記光硬化性組成物は、室温（約２５℃）において液体である。即ち、室温において流動性を有する液状物である。上記光硬化性組成物を高分子光ファイバーの原料として用いることにより、加熱や溶剤の使用により粘度を低下させることなく、室温で紡糸が可能となる。さらに、ろ過によって光硬化性組成物中の不純物を容易に除去することができるため、高品質の高分子光ファイバーを得やすい。一方、室温において固体である組成物（樹脂組成物）を光ファイバーの原料として使用した場合には、加熱や溶剤の使用により粘度を低下させない限り、室温における紡糸が困難であり、コスト面で不利となる。また、一般に、室温において固体である組成物（樹脂組成物）は、不純物の除去操作が煩雑である。
【００２７】
本発明の高分子光ファイバーがコア−クラッド構造を有する高分子光ファイバーである場合、上記光硬化性組成物のうち、クラッドを形成するための光硬化性組成物（クラッド剤）の２５℃における粘度は、ノズルから糸状に吐出させることができればよく、特に限定されないが、１００００〜５０００００ｃＰが好ましく、より好ましくは１００００〜１０００００ｃＰ、さらに好ましくは５００００〜７００００ｃＰである。２５℃における粘度が１００００ｃＰ未満であると、ノズルから吐出させた光硬化性組成物（クラッド剤）が液滴状となりやすく、紡糸がしにくくなる傾向にある。一方、２５℃における粘度が５０００００ｃＰを超えると、ノズルから吐出させるために加熱や溶剤の使用により粘度を低下させることが必要となる場合がある。なお、上記の２５℃における粘度は、例えば、Ｅ型粘度計（商品名「ＶＩＳＣＯＮＩＣ」、（株）トキメック製）を用いて測定することができる（ローター：１°３４′×Ｒ２４、回転数：０．５ｒｐｍ、測定温度：２５℃）。
【００２８】
本発明の高分子光ファイバーがコア−クラッド構造を有する高分子光ファイバーである場合、上記光硬化性組成物のうち、コアを形成するための光硬化性組成物（コア剤）の２５℃における粘度は、ノズルから吐出させることができればよく、特に限定されないが、１０〜５０００００ｃＰが好ましく、より好ましくは５０〜１０００００ｃＰ、さらに好ましくは１００〜７００００ｃＰである。２５℃における粘度が１０ｃＰ未満であると、径サイズの安定した高分子ファイバーを製造しにくくなる傾向にある。一方、２５℃における粘度が５０００００ｃＰを超えると、ノズルから吐出させるために加熱や溶剤の使用により粘度を低下させることが必要となる場合がある。なお、上記の２５℃における粘度は、例えば、上記クラッド剤の粘度と同様にして測定することができる。
【００２９】
上記光硬化性組成物は、酸化防止剤を必須成分として含有する。本発明の高分子光ファイバーがコア−クラッド構造を有する高分子光ファイバーである場合には、該光ファイバーのコアを形成するための光硬化性組成物（「コア剤」と称する場合がある）と、クラッドを形成するための光硬化性組成物（「クラッド剤」と称する場合がある）のいずれか一方又は両方が酸化防止剤を含有する。特に、加熱による高分子光ファイバーの光損失の増大を抑制する観点では、少なくともコア剤が酸化防止剤を含有することが好ましく、コア剤とクラッド剤の両方が酸化防止剤を含有することがより好ましい。
【００３０】
上記酸化防止剤としては、公知乃至慣用の酸化防止剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、フェノール系化合物（フェノール系酸化防止剤）、ヒンダードアミン系化合物（ヒンダードアミン系酸化防止剤）、リン系化合物（リン系酸化防止剤）、イオウ系化合物（イオウ系酸化防止剤）などが挙げられる。
【００３１】
上記フェノール系化合物としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のモノフェノール類；２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン等のビスフェノール類；１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス−（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、１，３，５−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、トコフェノール等の高分子型フェノール類などが挙げられる。
【００３２】
上記ヒンダードアミン系化合物としては、例えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどが挙げられる。
【００３３】
上記リン系化合物としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス（２、４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、ビス［２−ｔ−ブチル−６−メチル−４−｛２−（オクタデシルオキシカルボニル）エチル｝フェニル］ヒドロゲンホスファイト等のホスファイト類；９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド等のオキサホスファフェナントレンオキサイド類などが挙げられる。
【００３４】
上記イオウ系化合物としては、例えば、ドデカンチオール、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネートなどが挙げられる。
【００３５】
なお、上記光硬化性組成物において酸化防止剤は、１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。また、上記酸化防止剤としては、例えば、商品名「イルガノックス１０１０」（ＢＡＳＦ製、フェノール系化合物）、商品名「イルガフォス１６８」（ＢＡＳＦ製、リン系化合物）などの市販品を使用することもできる。
【００３６】
中でも、上記酸化防止剤としては、フェノール系化合物、リン系化合物、チオール系化合物が好ましく、特に、フェノール系化合物とリン系化合物又はチオール系化合物とを併用することが好ましい。
【００３７】
上記光硬化性組成物における酸化防止剤の含有量（配合量）は、特に限定されないが、光硬化性組成物の全量（１００重量％）に対して、０．１〜１０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％、さらに好ましくは０．１〜１重量％である。酸化防止剤の含有量が上記範囲を外れると、高分子光ファイバーの光学特性が損なわれる傾向がある。特に、酸化防止剤の含有量が０．１重量％未満であると、ハンダリフロー処理等の高温処理によって高分子光ファイバーが熱劣化して光損失が増大したり、端面の形状変化が生じやすくなる場合がある。なお、２種以上の酸化防止剤を併用する場合には、これらの合計量が上記範囲に制御されることが好ましい。
【００３８】
特に、上記酸化防止剤として、フェノール系化合物とリン系化合物又はチオール系化合物とを併用する場合、これらの含有量（配合量）の割合［フェノール系化合物／リン系化合物又はチオール化合物］（重量比）は、特に限定されないが、０．１／１〜２０／１が好ましく、より好ましくは０．５／１〜１５／１、さらに好ましくは１／１〜１０／１、特に好ましくは２／１〜５／１である。上記割合を上記範囲に制御することにより、高分子光ファイバーの耐熱性を著しく向上させることができる傾向がある。
【００３９】
上記光硬化性組成物は、特に透明性に優れた高分子光ファイバーが得られる点で、（メタ）アクリル系モノマー、又は、（メタ）アクリル系モノマーに由来する構成単位を必須の構成単位として有する重合体を少なくとも含む光硬化性組成物であることが好ましい。上記（メタ）アクリル系モノマーとしては、公知乃至慣用の（メタ）アクリル系モノマーを使用することができ、特に限定されないが、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ラウリル（メタ）アクリレート、ｎ−ステアリル（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２―ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（アクリロイルオキシ）エチルイソシアネート、２−(２−メタクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、後述の式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物等、及びこれらの誘導体などが挙げられる。
【００４０】
特に、上記光硬化性組成物としては、透明性、柔軟性、及び耐熱性（特に、ハンダリフロー耐熱性）に優れた高分子光ファイバーが得られる点で、下記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物の重合体又は共重合体を必須成分として含む光硬化性組成物（光硬化性樹脂組成物）が好ましい。特に、本発明の高分子光ファイバーがコア−クラッド構造を有する高分子光ファイバーである場合には、少なくともクラッドを形成する光硬化性組成物が下記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物の重合体又は共重合体を必須成分として含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。クラッドを形成する光硬化性組成物として上記光硬化性樹脂組成物を用いることにより、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物の重合体又は共重合体の分子量を制御して光硬化性樹脂組成物の粘度を容易に調整することができるため紡糸が容易となり、また、上記光硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物（クラッド）は柔軟性に優れるため、コアが硬い場合であっても柔軟性に優れた高分子光ファイバーが得られ、さらに、上記光硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物（クラッド）は耐熱性にも優れるため、より高温の熱がクラッドに加わりやすいリフロー工程においても高分子光ファイバーに熱劣化が生じにくい。
【００４１】
より具体的には、上記光硬化性樹脂組成物としては、下記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物を単独で若しくはラジカル重合性を有する他の化合物と共にラジカル重合して得られるカチオン重合性樹脂（カチオン重合性重合体）、又は、下記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物を単独で若しくはカチオン重合性を有する他の化合物と共にカチオン重合して得られるラジカル重合性樹脂（ラジカル重合性重合体）を、必須成分として含む光硬化性樹脂組成物（光カチオン重合性樹脂組成物又は光ラジカル重合性樹脂組成物）が好ましい。
【００４２】
特に、低粘度であり加工性にも優れる点で、上記光硬化性樹脂組成物は、下記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物を単独で又はラジカル重合性を有する他の化合物と共にラジカル重合して得られるカチオン重合性樹脂を必須成分として含む光硬化性樹脂組成物（カチオン重合性樹脂組成物）であることが好ましい。
【００４３】
（オキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物）
上記オキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物は、下記式（１）で表される。
【化１】
2014035425.tif 000002
［式（１）中、Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なって水素原子又はアルキル基を示し、Ａは炭素数２〜２０の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。］
なお、本明細書における「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルのいずれか一方又は両方を意味する。但し、オキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物における「（メタ）アクリル」には、アクリル及びメタクリルのほか、Ｒ1がメチル基及びエチル基以外のアルキル基であるＣＨ2＝ＣＲ1ＣＯ−の意味も包含されるものとする。
【００４４】
式（１）中、Ｒ1、Ｒ2におけるアルキル基としては、炭素数１〜６（Ｃ1-6）のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などの直鎖状のＣ1-6（好ましくはＣ1-3）アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基などの分岐鎖状のＣ1-6（好ましくはＣ1-3）アルキル基などが挙げられる。中でも、上記Ｒ1としては、水素原子又はメチル基が好ましく、上記Ｒ2としては、メチル基又はエチル基が好ましい。
【００４５】
式（１）中、Ａは炭素数２〜２０の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。中でも、優れた耐熱性と柔軟性とを兼ね備えた高分子光ファイバーを形成することができる点で、下記式（ａ１）で表される直鎖状アルキレン基、又は下記式（ａ２）で表される分岐鎖状アルキレン基が好ましい。なお、式（ａ２）の右端はエステル結合を構成する酸素原子と結合する。
【化２】
2014035425.tif 000003
［式（ａ１）中、ｎ１は２以上の整数を示す。式（ａ２）中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7、Ｒ8は同一又は異なって水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なってアルキル基を示す。ｎ２は、０以上の整数を示し、ｎ２が２以上の整数の場合、２以上のＲ7、Ｒ8はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。］
【００４６】
式（ａ１）中のｎ１は２以上の整数を示し、好ましくは２〜２０の整数であり、特に好ましくは２〜１０の整数である。ｎ１が１の場合、重合して得られる硬化物の柔軟性が低下する傾向がある。
【００４７】
式（ａ２）中のＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8におけるアルキル基としては、特に限定されないが、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの直鎖状のＣ1-4（好ましくはＣ1-3）アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基；ｔ−ブチル基などの分岐鎖状のＣ1-4（好ましくはＣ1-3）アルキル基などが挙げられる。中でも、上記Ｒ3、Ｒ4としては水素原子が好ましく、上記Ｒ5、Ｒ6としてはメチル基、エチル基が好ましい。
【００４８】
式（ａ２）中のｎ２は０以上の整数を示し、好ましくは１〜２０の整数であり、特に好ましくは１〜１０の整数である。
【００４９】
式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物の代表的な例としては、例えば、以下の化合物などが挙げられる。
【化３】
2014035425.tif 000004
【００５０】
式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物は、例えば、下記式（２）
【化４】
2014035425.tif 000005
［式（２）中、Ｒ2は上記に同じ。Ｘは脱離基を表す。］
で表される化合物と、下記式（３）
【化５】
2014035425.tif 000006
［式（３）中、Ａは上記に同じ。］
で表される化合物を、塩基性物質存在下、液相一相系で反応させて下記式（４）
【化６】
2014035425.tif 000007
［式（４）、Ｒ2、Ａは上記に同じ。］
で表されるオキセタン環含有アルコールを得、得られたオキセタン環含有アルコールを（メタ）アクリル化することにより合成することができる。
【００５１】
式（２）中、Ｘは脱離性基を示し、例えば、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子（中でも、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい）；ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等のスルホニルオキシ基；アセチルオキシ基などのカルボニルオキシ基などの脱離性の高い基などが挙げられる。
【００５２】
上記塩基性物質としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物；水素化ナトリウム、水素化マグネシウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物；炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩；有機リチウム試薬（例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等）、有機マグネシウム試薬（グリニャール試薬：例えば、ＭｅＭｇＢｒ、ＥｔＭｇＢｒ等）等の有機金属化合物などが挙げられる。上記塩基性物質は１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００５３】
上記「液相一相系」とは、液相が二相以上あるものではなく一相のみの場合を意味し、液相が一相であれば固体を含んでいてもよい。上記溶媒としては、式（２）で表される化合物と、式（３）で表される化合物の両方を溶解することができればよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ＩＰＥ（イソプロピルエーテル）などのエーテル；ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）等の含硫黄系溶媒；ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）等の含窒素系溶媒などが挙げられる。
【００５４】
上記（メタ）アクリル化は、例えば、上記オキセタン環含有アルコールに対して（メタ）アクリル酸又はその誘導体（例えば、（メタ）アクリル酸クロライドなど）を反応させる方法などの、公知乃至慣用の方法により実施できる。また、生成したオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物は、公知乃至慣用の方法により精製、単離することが可能である。
【００５５】
（カチオン重合性樹脂）
上記カチオン重合性樹脂は、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物を単独で、又はラジカル重合性を有する他の化合物と共にラジカル重合して得られる。なお、上記「ラジカル重合性を有する他の化合物」とは、ラジカル重合性を有し、上記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物及び後述のラジカル重合性樹脂とは異なる化合物であり、以下、「他のラジカル重合性化合物」と称する場合がある。
【００５６】
上記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物は、１分子内にカチオン重合部位であるオキセタン環と、ラジカル重合部位である（メタ）アクリロイル基を有するため、単独でラジカル重合、又は他のラジカル重合性化合物と共にラジカル共重合することにより、下記式で表される構成単位（繰り返し構成単位）を有するカチオン重合性樹脂を合成することができる。なお、上記ラジカル共重合には、ブロック共重合、ランダム共重合等が含まれる。
【化７】
2014035425.tif 000008
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ａは上記に同じ。］
【００５７】
上記カチオン重合性樹脂としては、中でも、より柔軟性に優れた硬化物を形成できる点で、上記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物と他のラジカル重合性化合物をラジカル重合して得られる樹脂が好ましく、カチオン重合性樹脂を構成する全モノマーのうち、上記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物の占める割合が０．１重量％以上１００重量％未満（より好ましくは１〜９９重量％、さらに好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１０〜５０重量％）となる割合で、ラジカル共重合して得られるカチオン重合性樹脂が好ましい。
【００５８】
他のラジカル重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニルエーテル基、ビニルアリール基、ビニルオキシカルボニル基等のラジカル重合性基を１分子内に１つ以上有する化合物などが挙げられる。
【００５９】
（メタ）アクリロイル基を１分子内に１つ以上有する化合物としては、例えば、１−ブテン−３−オン、１−ペンテン−３−オン、１−ヘキセン−３−オン、４−フェニル−１−ブテン−３−オン、５−フェニル−１−ペンテン−３−オン等、及びこれらの誘導体などが挙げられる。
【００６０】
（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子内に１つ以上有する化合物としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ラウリル（メタ）アクリレート、ｎ−ステアリル（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２―ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（アクリロイルオキシ）エチルイソシアネート、２−(２−メタクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等、及びこれらの誘導体などが挙げられる。
【００６１】
（メタ）アクリロイルアミノ基を１分子内に１つ以上有する化合物としては、例えば、４−アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−オクチルアクリルアミド等、及びこれらの誘導体等を挙げることができる。
【００６２】
ビニルエーテル基を１分子内に１個以上有する化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、２−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、１−メチル−３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、１−メチル−２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、１−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、１，３−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、１，２−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｐ−キシレングリコールモノビニルエーテル、ｍ−キシレングリコールモノビニルエーテル、ｏ−キシレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル等、及びこれらの誘導体などが挙げられる。
【００６３】
ビニルアリール基を１分子内に１個以上有する化合物としては、例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、ヒドロキシスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、酢酸４−ビニルフェニル、（４−ビニルフェニル）ジヒドロキシボラン、Ｎ−（ｐ−ビニルフェニル）マレイミド等、及びこれらの誘導体などが挙げられる。
【００６４】
ビニルオキシカルボニル基を１分子内に１つ以上有する化合物としては、例えば、ギ酸イソプロペニル、酢酸イソプロペニル、プロピオン酸イソプロペニル、酪酸イソプロペニル、イソ酪酸イソプロペニル、カプロン酸イソプロペニル、吉草酸イソプロペニル、イソ吉草酸イソプロペニル、乳酸イソプロペニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、オクチル酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、アジピン酸ジビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等、及びこれらの誘導体などが挙げられる。
【００６５】
上記他のラジカル重合性化合物としては、その他、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのビニルシラン類などを使用することも可能である。
【００６６】
上記他のラジカル重合性化合物としては、中でも、柔軟性及び耐熱性に優れた高分子光ファイバーを形成することができる点で、１分子内に（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニルアリール基、ビニルエーテル基、ビニルオキシカルボニル基からなる群より選ばれる官能基（ラジカル重合性基）を１個のみ有する化合物が好ましく、特に、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子内に１個のみ有する化合物が好ましい。上記他のラジカル重合性化合物は１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００６７】
ラジカル重合反応は、加熱処理及び／又は光照射（加熱処理及び光照射のいずれか一方又は両方）を行うことにより促進することができる。加熱処理を行う場合、その温度は、反応に供する成分や触媒の種類などに応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、例えば、２０〜２００℃が好ましく、より好ましくは５０〜１５０℃、さらに好ましくは７０〜１２０℃程度である。光照射を行う場合、その光源としては、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、メタルハライドランプ、太陽光、電子線源、レーザー光源等を使用することができる。また、光照射の後、例えば、５０〜１８０℃程度の温度で加熱処理を施してさらにラジカル重合反応を進行させてもよい。
【００６８】
ラジカル重合反応は、通常、溶媒の存在下で行われる。溶媒としては、公知乃至慣用の溶媒を使用することができ、特に限定されないが、例えば、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン（ＰＧＭＥＡ）、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。
【００６９】
また、ラジカル重合反応には重合開始剤を使用してもよい。上記重合開始剤としては、公知乃至慣用の熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などのラジカル重合を起こし得るものを使用することができ、特に限定されないが、例えば、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２'−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル等を挙げることができる。
【００７０】
ラジカル重合反応における重合開始剤の使用量としては、特に限定されないが、ラジカル重合性化合物の全量（例えば、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物と他のラジカル重合性化合物の総重量）（１００重量部）に対して、例えば、０．０１〜５０重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜２０重量部である。
【００７１】
式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物を単独で又他のラジカル重合性化合物とともにラジカル重合（ラジカル重合反応）させることにより、上記カチオン重合性樹脂が生成する。生成させたカチオン重合性樹脂は、公知乃至慣用の方法により精製することができる。
【００７２】
上記カチオン重合性樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、５００以上（例えば、５００〜１００万）が好ましく、より好ましくは３０００〜５０万である。カチオン重合性樹脂の重量平均分子量が上記範囲を外れると、カチオン重合性樹脂組成物を硬化して得られる高分子光ファイバーの柔軟性が得られにくくなる傾向がある。
【００７３】
上記カチオン重合性樹脂の数平均分子量は、特に限定されないが、１００以上（例えば、１００〜５０万）が好ましく、より好ましくは３００〜２５万である。カチオン重合性樹脂の数平均分子量が上記範囲を外れると、カチオン重合性樹脂組成物を硬化して得られる高分子光ファイバーの柔軟性が得られにくくなる傾向がある。なお、上記カチオン重合性樹脂の重量平均分子量及び数平均分子量は、例えば、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法により、標準ポリスチレン換算の値として測定することができる。
【００７４】
（カチオン重合性樹脂組成物）
上記カチオン重合性樹脂組成物は、上記カチオン重合性樹脂を必須成分として含む。さらに、上記カチオン重合性樹脂組成物は、上述のように、酸化防止剤を必須成分として含む。上記カチオン重合性樹脂組成物における上記カチオン重合性樹脂の割合（含有量）は、特に限定されないが、５重量％以上が好ましく、実質的にカチオン重合性樹脂組成物が上記カチオン重合性樹脂のみにより構成されていてもよい。中でも、より柔軟性に優れる高分子光ファイバーを形成できる点で、上記カチオン重合性樹脂の割合は、１０〜９５重量％が好ましく、より好ましくは４０〜９５重量％である。上記カチオン重合性樹脂の割合が５重量％を下回ると、カチオン重合により硬化して得られる高分子光ファイバーの柔軟性が低下する傾向がある。
【００７５】
上記カチオン重合性樹脂組成物には、上記カチオン重合性樹脂の他に、カチオン重合性を有する化合物であって、上記式（１）で表されるオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステル化合物及び上記カチオン重合性樹脂とは異なる化合物（以後、「他のカチオン重合性化合物」と称する場合がある）を含有していてもよい。
【００７６】
他のカチオン重合性化合物としては、例えば、オキセタン環（オキセタニル基）、エポキシ環（オキシラニル基）、ビニルエーテル基、ビニルアリール基等のカチオン重合性基を１分子内に１個以上有する化合物などが挙げられる。
【００７７】
オキセタン環を１分子内に１個以上有する化合物としては、例えば、３，３−ビス（ビニルオキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（ヒドロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−［（フェノキシ）メチル］オキセタン、３−エチル−３−（ヘキシルオキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（クロロメチル）オキセタン、３，３−ビス（クロロメチル）オキセタン、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス｛［１−エチル（３−オキセタニル）］メチル｝エーテル、４，４’−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ビシクロヘキシル、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］シクロヘキサン、１，４−ビス{〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕メチル}ベンゼン、３−エチル−３{〔（３−エチルオキセタン−３−イル)メトキシ]メチル｝オキセタンなどが挙げられる。
【００７８】
エポキシ環を１分子内に１個以上有する化合物としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（３，４−エポキシ）シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシルレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などが挙げられる。
【００７９】
ビニルエーテル基を１分子内に１つ以上有する化合物、ビニルアリール基を１分子内に１つ以上有する化合物としては、上記他のラジカル重合性化合物において例示したものと同様の化合物などが挙げられる。
【００８０】
上記他のカチオン重合性化合物としては、中でも、光照射により速やかに硬化する点で、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（ビニルオキシメチル）オキセタン、１，４−ビス{〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕メチル}ベンゼン、３−エチル−３｛[(３−エチルオキセタン−３−イル)メトキシ]メチル｝オキセタン等のオキセタン環を１分子内に１つ以上有する化合物が好ましい。なお、上記他のカチオン重合性化合物は１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００８１】
上記カチオン重合性樹脂組成物は、より柔軟性に優れる高分子光ファイバーを形成することができる点で、上記カチオン重合性樹脂と共に他のカチオン重合性化合物を含むことが好ましい。カチオン重合性樹脂と他のカチオン重合性化合物の配合比（前者／後者：重量比）としては、特に限定されないが、９５／５〜１０／９０が好ましく、より好ましくは９５／５〜２０／８０、さらに好ましくは９５／５〜４０／６０である。カチオン重合性樹脂の配合割合が上記範囲を下回ると、得られる高分子光ファイバーの柔軟性が低下する傾向がある。
【００８２】
また、上記カチオン重合性樹脂組成物は、必要に応じて重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、公知慣用の光カチオン重合開始剤、光酸発生剤等のカチオン重合を起こし得るものを使用することができ、特に限定されないが、例えば、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のスルホニウム塩；ジアリールヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ヨードニウム［４−（４−メチルフェニル−２−メチルプロピル）フェニル］ヘキサフルオロホスフェート等のヨードニウム塩；テトラフルオロホスホニウムヘキサフルオロホスフェート等のホスホニウム塩；ピリジニウム塩などが挙げられる。
【００８３】
本発明においては、重合開始剤として、商品名「ＣＰＩ−１００Ｐ」（サンアプロ（株）製）、商品名「ＣＰＩ−１０１Ａ」（サンアプロ（株）製）などの市販品を使用することもできる。
【００８４】
カチオン重合反応における重合開始剤の使用量としては、カチオン重合性化合物の全量（例えば、カチオン重合性樹脂と他のカチオン重合性化合物の総重量）（１００重量部）に対して、０．０１〜５０重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜２０重量部である。
【００８５】
さらに、上記カチオン重合性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内で、必要に応じて他の添加物を含有していてもよい。他の添加物としては、例えば、硬化膨張性モノマー、光増感剤（アントラセン系増感剤等）、樹脂、密着性向上剤、補強剤、軟化剤、可塑剤、粘度調整剤、溶剤、無機又は有機粒子（ナノスケール粒子等）、フルオロシラン等の公知慣用の各種添加剤などが挙げられる。
【００８６】
本発明の高分子光ファイバーの原料としての光硬化性組成物としては、上記カチオン重合性樹脂組成物のほか、上述のように、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物を単独で、又はカチオン重合性を有する他の化合物（他のカチオン重合性化合物）と共にカチオン重合して得られるラジカル重合性樹脂を必須成分として含む光硬化性樹脂組成物（ラジカル重合性樹脂組成物）を用いることもできる。上記ラジカル重合性樹脂組成物を用いる場合には、硬化反応を阻害させないため、ラジカルに対して不活性なガスの雰囲気下（例えば、窒素雰囲気下）で光照射を行う必要がある。
【００８７】
（ラジカル重合性樹脂）
上記ラジカル重合性樹脂は、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物を単独で、又はカチオン重合性を有する他の化合物（他のカチオン重合性化合物）と共にカチオン重合して得られる。
【００８８】
上記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物は、１分子内にカチオン重合部位であるオキセタン環と、ラジカル重合部位である（メタ）アクリロイル基を有するため、単独でカチオン重合、又は他のカチオン重合性化合物と共にカチオン共重合することにより、下記式で表される構成単位（繰り返し構成単位）を有するラジカル重合性樹脂を合成することができる。なお、上記カチオン共重合には、ブロック共重合、ランダム共重合等が含まれる。
【化８】
2014035425.tif 000009
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ａは上記に同じ。］
【００８９】
上記ラジカル重合性樹脂としては、中でも、より柔軟性に優れた高分子光ファイバーを形成できる点で、上記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物と他のカチオン重合性化合物をカチオン共重合して得られるラジカル重合性樹脂が好ましい。特に、ラジカル重合性樹脂を構成する全モノマーのうち、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物の占める割合が０．１重量％以上（好ましくは１〜９９重量％、特に好ましくは１０〜８０重量％）となる割合で、カチオン共重合して得られる樹脂が好ましい。
【００９０】
上記他のカチオン重合性化合物としては、例えば、上記カチオン重合性樹脂組成物の項で例示した、オキセタン環、エポキシ環、ビニルエーテル基、ビニルアリール基等のカチオン重合性基を１分子内に１個以上有する化合物などが挙げられる。
【００９１】
上記他のカチオン重合性化合物としては、中でも、柔軟性及び耐熱性に優れた硬化物を形成することができる点で、１分子内にオキセタン環、エポキシ環、ビニルエーテル基、ビニルアリール基からなる群より選ばれる官能基（カチオン重合性基）を１個のみ有する化合物が好ましく、特に、トリメチレンオキシド、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−［（フェノキシ）メチル］オキセタン、３−エチル−３−（ヘキシロキシメチル）オキセタン等のオキセタン環を１分子内に１個のみ有する化合物、グリシジルメチルエーテル、酪酸（Ｒ）−グリシジル等のエポキシ基を１分子内に１個のみ有する化合物等が好ましい。上記他のカチオン重合性化合物は１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００９２】
カチオン重合反応は、一般に溶媒の存在下で行われる。溶媒としては、公知乃至慣用の溶媒を使用することができ、特に限定されないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。
【００９３】
また、カチオン重合反応には重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤としては、例えば、カチオン重合性樹脂組成物の項で例示した光カチオン重合開始剤、酸発生剤等を用いることができる。
【００９４】
カチオン重合反応における重合開始剤の使用量は、特に限定されないが、カチオン重合性化合物の全量（例えば、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物と他のカチオン重合性化合物の総重量）（１００重量部）に対して、例えば、０．０１〜５０重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜２０重量部である。
【００９５】
また、カチオン重合反応は重合禁止剤の存在下で行ってもよい。重合禁止剤としては、例えば、４−メトキシフェノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ジメチルハイドロキノン、トリメチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、モノ−ｔ−ブチルハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、ナフトキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、α−ナフトール、ニトロフェノール等のキノン・フェノール系禁止剤、チオエーテル系禁止剤、亜リン酸エステル系禁止剤などが挙げられる。
【００９６】
式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物を単独で又は他のカチオン重合性化合物とともにカチオン重合（カチオン重合反応）させることにより、上記ラジカル重合性樹脂が生成する。生成させたラジカル重合性樹脂は、公知乃至慣用の方法により精製することができる。
【００９７】
上記ラジカル重合性樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、５００以上（例えば、５００〜１００万程度）が好ましく、より好ましくは３０００〜５０万である。ラジカル重合性樹脂の重量平均分子量が上記範囲を下回ると、ラジカル重合して得られる高分子光ファイバーの柔軟性が低下する傾向がある。
【００９８】
上記ラジカル重合性樹脂の数平均分子量は、特に限定されないが、１００以上（例えば、１００〜５０万）が好ましく、より好ましくは３００〜２５万である。ラジカル重合性樹脂の数平均分子量が上記範囲を外れると、ラジカル重合性樹脂組成物を硬化して得られる高分子光ファイバーの柔軟性が得られにくくなる傾向がある。なお、上記ラジカル重合性樹脂の重量平均分子量及び数平均分子量は、例えば、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法により、標準ポリスチレン換算の値として測定することができる。
【００９９】
（ラジカル重合性樹脂組成物）
上記ラジカル重合性樹脂組成物は、上記ラジカル重合性樹脂を必須成分として含む。さらに、上記ラジカル重合性樹脂組成物は、上述のように、酸化防止剤を必須成分として含む。上記ラジカル重合性樹脂組成物における上記ラジカル重合性樹脂の割合（含有量）は、特に限定されないが、５重量％以上が好ましく、実質的にラジカル重合性樹脂組成物が上記ラジカル重合性樹脂のみにより構成されていてもよい。中でも、より柔軟性に優れる高分子光ファイバーを形成できる点で、上記ラジカル重合性樹脂の割合は、１０重量％以上が好ましく、より好ましくは６０〜９０重量％である。上記ラジカル重合性樹脂の割合が５重量％を下回ると、カチオン重合により硬化して得られる高分子光ファイバーの柔軟性が低下する傾向にある。
【０１００】
上記ラジカル重合性樹脂組成物には、上記ラジカル重合性樹脂の他に、ラジカル重合性を有する化合物であって、上記式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物及び上記ラジカル重合性樹脂とは異なる化合物（他のラジカル重合性化合物）を含有していてもよい。
【０１０１】
他のラジカル重合性化合物としては、例えば、上記カチオン重合性樹脂の項で例示した、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニルアリール基、ビニルエーテル基、ビニルオキシカルボニル基等のラジカル重合性基を１分子内に１つ以上有する化合物などが挙げられる。
【０１０２】
上記他のラジカル重合性化合物としては、中でも、より優れた耐熱性を有する硬化物を形成することができる点で、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等の１分子内に（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上（特に２つ）有する化合物が好ましい。上記他のラジカル重合性化合物は１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【０１０３】
上記ラジカル重合性樹脂組成物としては、より優れた耐熱性を有する高分子光ファイバーを形成できる点で、上記ラジカル重合性樹脂と共に他のラジカル重合性化合物を含むことが好ましい。上記ラジカル重合性樹脂と他のラジカル重合性化合物の配合比（前者／後者：重量比）としては、例えば、９５／５〜５／９５が好ましく、より好ましくは９５／５〜２０／８０、さらに好ましくは９０／１０〜６０／４０である。ラジカル重合性樹脂の配合割合が上記範囲を外れると、得られる高分子光ファイバーの柔軟性が低下する傾向がある。
【０１０４】
また、上記ラジカル重合性樹脂組成物は重合開始剤を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。重合開始剤としては、公知乃至慣用の光ラジカル重合開始剤などのラジカル重合を起こし得るものを使用することができ、特に限定されない。
【０１０５】
上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、アセトフェノンベンジル、ベンジルジメチルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジメトキシアセトフェノン、ジメトキシフェニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ジフェニルジサルファイトなどが挙げられる。上記光ラジカル重合開始剤は１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【０１０６】
上記ラジカル重合性樹脂組成物は、光吸収エネルギーの重合開始遊離基への転換を強めるための相乗剤を含んでいてもよい。上記相乗剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、エタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸、ジメチルアミノ安息香酸メチル等のアミン；チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、アセチルアセトン等のケトンなどが挙げられる。
【０１０７】
上記ラジカル重合性樹脂組成物が重合開始剤を含有する場合、その含有量（配合量）としては、ラジカル重合性樹脂組成物中のラジカル重合性化合物の全量（例えば、ラジカル重合性樹脂と他のラジカル重合性化合物の総重量）（１００重量部）に対して、０．０１〜５０重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜２０重量部である。
【０１０８】
さらに、上記ラジカル重合性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内で、必要に応じて他の添加物を含有していてもよい。他の添加物としては、例えば、硬化膨張性モノマー、光増感剤（アントラセン系増感剤等）、樹脂、密着性向上剤、補強剤、軟化剤、可塑剤、粘度調整剤、溶剤、無機又は有機粒子（ナノスケール粒子等）、フルオロシラン等の公知慣用の各種添加剤などが挙げられる。
【０１０９】
［工程Ａ］
上述のように、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａは、光硬化性組成物をノズルを用いて吐出し、次いで、上記ノズルから吐出させた糸状の光硬化性組成物に光を照射し、該光硬化性組成物を硬化させて糸状の硬化物ａを形成する工程である。該工程Ａにおいては、上記ノズルの吐出口における光の照射強度が０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御される。
【０１１０】
図１は、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａの一実施形態を示す概略図である。図１に示す本発明の高分子光ファイバーの製造方法においては、ノズル１と、該ノズル１の先端部分の吐出口１１の下方で光を出射するように配置された光照射装置４が使用されている。なお、図１における光照射装置４は、光を出力する光源装置４３、該光を伝送するライトガイド４２、及び端部（出力端）より光を出射するライトガイド先端部４１より構成されている。なお、図１の右側の光照射装置は、ライトガイドの一部と光源装置を省略して描いているが、左側の光照射装置４と同じものを表し、その他の図面においても同様である。また、図１における５１及び５２は、後述の、ノズル１の吐出口１１における光の照射強度を０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御するための手段（制御手段）としての遮光部材（５１：遮光筒、５２：遮光板）を表す。
【０１１１】
図１に示す本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａでは、まず、ノズル１の吐出口１１から鉛直方向下方に光硬化性組成物２を吐出し、次いで、ノズル１より垂下した該光硬化性組成物２に対し、光照射装置４により光を照射する。これにより、光硬化性組成物２が硬化し、糸状の硬化物ａ（３）が得られる。
【０１１２】
（ノズル）
本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａにて使用するノズルは、その内側に光硬化性組成物を通液し、吐出口から吐出する役割を担っている。上記ノズルの吐出口から吐出された光硬化性組成物は、通常、細い径を有する糸状（ファイバー状）に形成される。
【０１１３】
上記ノズルは、筒状（中空の柱状）の形状を有し、その先端（一方の端部）に光硬化性組成物を吐出するための吐出口を有する構造体である。上記ノズルの吐出口に対する反対側の端部は、特に限定されないが、通常、必要に応じて適宜な管を介して、光硬化性組成物を貯蔵するタンクや定量ポンプなどに接続される。
【０１１４】
上記ノズルの形状は、筒状であればよく、特に限定されないが、例えば、円筒状であってもよいし、角筒状であってもよい。中でも、低伝播損失の高分子光ファイバーを作製する観点で、円筒状が好ましい。
【０１１５】
上記ノズルの材質は、特に限定されず、例えば、ＳＵＳ、アルミ、樹脂などが挙げられる。中でも、耐久性、強度の観点で、ＳＵＳが好ましい。
【０１１６】
上記ノズルは、特に、高分子光ファイバーのコアとクラッドの中心を合わせる観点で、外管と、該外管の内側に配置された内管とを有する二重管ノズルであることが好ましい。より詳しくは、上記二重管ノズルとは、筒状（特に、円筒状）の外管の内側に、該外管の内径よりも小さな外径を有する筒状（特に、円筒状）の内管が配置された二重管構造を有するノズルである。図２及び図３は、二重管ノズルの一例を示す概略図であり、図２は斜視図を、図３は図２におけるＡ−Ａ断面図を表す。図２及び図３において、１２は外管を、１３は内管を表す。このような二重管ノズルを用いた場合、内管１３の内側にコアを形成するための光硬化性組成物（コア剤）を通液し、外管１２と内管１３の間にクラッドを形成するための光硬化性組成物（クラッド剤）を通液することにより、コア剤とクラッド剤とを同時にノズルの吐出口１１から吐出することができる。次いで、これら光硬化性組成物（コア剤及びクラッド剤）に光を照射し硬化させることによって、一段階でコア−クラッド構造を有する高分子光ファイバー（コアとクラッドの二重（二層）構造の高分子光ファイバー）を製造することができる。
【０１１７】
上記二重管ノズルにおける外管の径（内径及び外径）、内管の径（内径及び外径）は、製造される高分子光ファイバーのコア径及びクラッド径、光硬化性組成物の粘度や吐出速度等により適宜選択することができ、特に限定されない。具体的には、例えば、上記二重管ノズルにおける外管の内径は、２〜８ｍｍが好ましく、より好ましくは２．４〜５．４ｍｍである。さらに、上記二重管ノズルにおける内管の外径は、例えば、１〜７ｍｍが好ましく、より好ましくは１．５〜４ｍｍであり、上記内管の内径は、例えば、０．６〜６．４ｍｍが好ましく、より好ましくは１．１〜３．４ｍｍである。
【０１１８】
上記二重管ノズルは、少なくとも吐出口側の先端部分において、外管の軸（中心軸）と内管の軸（中心軸）とが一致していることが好ましい。このような二重管ノズルを用いることにより、コアの中心軸とクラッドの中心軸とが一致した高分子光ファイバーを容易に製造することができる。このように中心軸が一致した高分子光ファイバーは、高分子光ファイバー同士の接続や他のデバイス（例えば、コネクターや光源装置など）との接続に際して、高い信頼性を発揮できる。
【０１１９】
上記二重管ノズルは、外管の軸と内管の軸とを一致させるために、外管の内側における内管の位置を調整するための調整機構（「位置調整機構」と称する場合がある）を有していることが好ましい。上記位置調整機構は、内管の位置を調整できるものであれば特に限定されないが、例えば、外管を貫通し、先端を内管の外面に接触させるように配置したねじ（調整用ねじ）を、簡便な位置調整機構として利用することができる。図４は、位置調整機構を備えた二重管ノズルの一例を表す概略図（二重管ノズルの径方向の断面図）である。図４において、１４は調整用ねじを表す。図４においては、３つの調整用ねじの先端を、内管に対して等間隔に接触させることによって位置調整機構が構成されており、これら調整用ねじのねじ込み具合をそれぞれ調節して、外管の内側における内管の位置を調整できる。但し、用いる調整用ねじの大きさ、数、配置の仕方等は、これに限定されるものではない。
【０１２０】
なお、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａにて使用されるノズルは、上記の二重管ノズルに限定されず、単管からなるノズルであってもよいし、三重管以上の多重管構造を有するノズルであってもよい。上記ノズルは、製造する高分子光ファイバーの構造や形状に応じて、適宜選択することができる。
【０１２１】
（光硬化性組成物に対する光照射）
工程Ａにおいては、上記ノズルから吐出された糸状の光硬化性組成物に対して光を照射する。これにより、上記ノズルの吐出口から伸びた糸状の光硬化性組成物が硬化して、糸状の硬化物ａが得られる。
【０１２２】
光硬化性組成物に対して照射する光としては、光硬化性組成物の重合反応を進行させて硬化させることができる光であればよく、特に限定されないが、例えば、紫外線、赤外線、可視光線、電子線などが挙げられる。中でも、一般的な光開始剤を使うことができる観点で、紫外線が好ましい。
【０１２３】
光硬化性組成物に対して光を照射する手段は、特に限定されないが、例えば、光硬化性組成物を硬化させることができる光（特に、紫外線）を出射（放射）し光硬化性組成物に照射することができる、公知乃至慣用の光照射装置を用いることが好ましい。具体的には、例えば、紫外線を出射する光照射装置（紫外線照射装置）としては、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光、ＬＥＤランプ、レーザーなどの光源を用いることができる。また、これらの光源と、該光源より出力した光を伝送するためのライトガイドを組み合わせたもの、及びこれらと各種光学系（例えば、レンズやミラーなど）等を組み合わせたもの等を、光照射装置として用いることができる。
【０１２４】
なお、本明細書においては、上記光照射装置の中で、特に、光を出射する部分のことを「出射部」と称する場合がある。例えば、図１に示す光照射装置４においては、ライトガイドの先端部分４１の端部（出力端）が出射部である。
【０１２５】
工程Ａにおいて光硬化性組成物に対して光を照射する方法は、特に限定されず、公知乃至慣用の方法（光照射の方法）により実施可能である。例えば、上記光照射装置を用いて光を照射する場合、上記光照射装置の出射部の配置や数は、特に限定されない。特に、光硬化性組成物に対して光を均一に照射できるように光照射装置の出射部を配置することが好ましい。図５は、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａにて使用可能な光照射装置の一例を示す概略図（平面図）である。図５に示す光照射装置は、ノズルの吐出口の下方において３方向から光を出射し、光硬化性組成物に対して照射する光照射装置である。上記光照射装置は、光硬化性組成物に対して等距離で、互いに等間隔に配置された出射部（ライトガイドの先端部分４１の出力端）を有する。図５において、２１は光硬化性組成物が通過する位置を表し、４４及び４５は、光照射装置のライトガイドの先端部分４１を固定するための土台（支持体）を表す。但し、光照射装置は、これに限定されるものではなく、例えば、図６に示す光照射装置のように、２方向から光を照射するものであってもよいし、１つの方向のみや、４つ以上の方向から光を照射するもの等であってもよい。また、光照射装置は、ノズルの吐出口の下方において光を出射するものに限らず、ノズルの吐出口よりも上方から光を出射するものであってもよい（例えば、図１３参照）。
【０１２６】
さらに、上記光照射装置は、光を光硬化性組成物に対して効率的に照射するため、必要に応じて、適宜な光学系と組み合わせて使用してもよい。具体的には、例えば、上記光照射装置からの光を集光レンズ（凸レンズやシリンドリカルレンズなど）で集光して、より強度の高い光を光硬化性組成物に照射したり、いったん光硬化性組成物に照射した光をミラー（反射ミラー）により反射させて、再度光硬化性組成物に照射することも可能である。上記光学系を用いることで、光の有効利用を図ることができ、高分子光ファイバーの生産性を向上させることができる。上記光学系としては、上記に限定されるものではなく、公知乃至慣用の光学機器等において通常用いられる光学系等を利用することができる。
【０１２７】
本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａでは、まず、上記ノズルの吐出口から光硬化性組成物を（例えば、鉛直方向下方に）吐出する。この際の光硬化性組成物の吐出速度（送り速度）は、特に限定されないが、例えば、０．３〜１ｍＬ／分が好ましく、より好ましくは０．３７５〜０．６ｍＬ／分である。光硬化性組成物の吐出速度を制御することにより、高分子光ファイバーの線径を制御することができる。また、ノズルとして上記二重管ノズルを用いた場合には、コア剤とクラッド剤とを同時に吐出することができる。このときのコア剤とクラッド剤の合計の吐出速度は、特に限定されないが、例えば、０．３〜１ｍＬ／分が好ましく、より好ましくは０．３７５〜０．６ｍＬ／分である。また、コア剤とクラッド剤の吐出速度をそれぞれ独立に制御することにより、高分子光ファイバーのコア径とクラッド径を独立に制御できる。なお、吐出速度の制御には、例えば、定量ポンプ（例えば、図１４の７１、７２）などを用いることができる。
【０１２８】
次いで、ノズルの吐出口より吐出させた糸状の光硬化性組成物に対し、光を照射する。この際の光の照射強度は、特に限定されないが、例えば、光硬化性組成物に対する照射強度として、１０００〜５０００ｍＷ／ｃｍ2が好ましく、より好ましくは１５００〜２０００ｍＷ／ｃｍ2である。照射強度が１０００ｍＷ／ｃｍ2未満であると、硬化物ａの形状が変形しやすく、取り扱いが困難となる場合がある。一方、照射強度が５０００ｍＷ／ｃｍ2を超えると、ノズルの吐出口における光の照射強度を０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御することが困難となる場合がある。
【０１２９】
本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａでは、上述のように、上記ノズルの吐出口における光の照射強度（以下、単に「吐出口における光の照射強度」と称する場合がある）が０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御されることが重要である。これにより、線径が均一な高分子光ファイバーを取得でき、製造の際に糸切れが起こることなく、高い生産性で高分子光ファイバーを製造できる。
【０１３０】
なお、上記「吐出口における光の照射強度」とは、本発明の高分子光ファイバーの製造方法において、光硬化性組成物を送液しないこと以外は高分子光ファイバー製造時と全く同一の条件で光を出射させた時（例えば、光照射装置から光を出射させた時）に、ノズルの吐出口において測定される光の照射強度（単位：ｍＷ／ｃｍ2）を意味する。上記照射強度の測定方法は、特に限定されないが、例えば、パワーメータ（商品名「紫外線光量計ＵＴＩ−２５０」、ウシオ電機（株）製）を用いて、受光器ＵＶＤ−Ｓ３６５により測定することができる。
【０１３１】
上記吐出口における光の照射強度は、０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御されていればよく、特に限定されないが、線径が均一な高分子光ファイバーの取得や製造時の糸切れ防止の観点から、０．１ｍＷ／ｃｍ2以下が好ましい。上記吐出口における光の照射強度が０．２ｍＷ／ｃｍ2を超えると、ノズルの先端の吐出口において光硬化性組成物の硬化反応（重合反応）が進行し、吐出口付近の光硬化性組成物の粘度が変動したり、詰まりを生じたりしてしまう。その結果、ノズルから吐出される光硬化性組成物の線径が安定せず、線径が一定の高分子光ファイバーが得られなかったり、製造時に糸切れが頻発し高分子光ファイバーの生産性が低下してしまう。
【０１３２】
上記吐出口における光の照射強度を０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御する手段としては、公知乃至慣用の手段を適用することができ、特に限定されないが、例えば、以下で例示する制御手段を使用することが可能である。
【０１３３】
上述のように、本発明の高分子光ファイバーの製造方法により製造される高分子光ファイバーの原料は、室温において液体の光硬化性組成物であるため、ノズルから吐出された上記光硬化性組成物が糸状（ファイバー状）の形状を保持できる比較的早い段階で光を照射し、硬化させる必要がある。このため、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａでは、光硬化性組成物の光が照射される部分とノズルの吐出口との距離をできるだけ近くする必要があり、必然的に、光硬化性組成物に照射する光がノズルの吐出口付近に到達しやすいことになる。このような観点から、上記制御手段としては、例えば、光の広がりを抑制したり、光照射装置の出射部とノズルの吐出口の間に配置して上記吐出口に影を形成することができる、以下の遮光部材を用いることが有効である。
【０１３４】
図７には、上記遮光部材の一例としての、筒状の遮光部材５１（「遮光筒」と称する場合がある）を示す。上記遮光筒５１により光照射装置の出射部（ライトガイド先端部分４１の出力端）を覆うことによって、出射される光が必要以上に広がることを防止し、ノズルの吐出口への光の伝播を抑制することができる（図１参照、図１における５１）。上記遮光筒の径や長さ等は、光照射装置の出射部の形状等に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。
【０１３５】
また、上記遮光部材としては、光照射装置の出射部とノズルの吐出口の間に配置可能な板状の遮光部材（「遮光板」と称する場合がある）を使用できる（図１参照、図１における５２）。このような遮光板を用いることにより、光照射装置の出射部を遮光筒で覆った場合でもなお漏れ出す弱い光を遮ることができる。このため、上記の遮光板及び遮光筒は組み合わせて使用することが有効である。上記遮光板の形状や大きさは、特に限定されないが、例えば、図８に示す円板状の遮光板や、図９に示す円錐状の遮光板などを用いることができる。上記遮光板は、設置のし易さの観点から、光硬化性組成物を通過させるための孔（図８、図９における５３）を有することが好ましい。
【０１３６】
上記遮光筒、遮光板などの遮光部材を形成する材質は、特に限定されない。例えば、ＳＵＳ、アルミ、樹脂、紙などを使用できる。また、上記遮光部材は、特に限定されないが、光の反射を防止する観点で、黒色であることが好ましい。
【０１３７】
また、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａでは、均一な線径の高分子光ファイバーの取得、及び糸切れの抑制等の効果をより高度なレベルで得るために、光硬化性組成物に対する光の照射角度を制御することが好ましい。具体的には、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａでは、光照射装置から出射される光線のうち、照射強度が最大となる光線（最大強度光）の方向と、光硬化性組成物の吐出方向に垂直な面（平面）とがなす角度の最小値θが下記式（Ｉ）の関係を満たすようにして、上記光硬化性組成物に光を照射することが好ましい。
θ  ≧  ψ／２    （Ｉ）
上記式（Ｉ）中、ψは、光照射装置から出射された光線のうち、照射強度が最大値の３％となる光線同士がなす角度の最大値（「広がり角」と称する場合がある）である。
【０１３８】
上記光照射装置（光照射装置の出射部）から出射される光線のうち、照射強度が最大となる光線（「最大強度光」と称する場合がある）は、厳密には、出射部から出射される光の光強度分布を測定することにより特定することができる。一般的には、光照射装置の出射部（例えば、ライトガイド先端部分の出力端）の正面に出射される光線が最大強度光である。従って、例えば、ライトガイドの先端部分を、光硬化性組成物の吐出方向に直交する平面（通常は、水平面）に対して角度θだけ光硬化性組成物の吐出方向側（例えば、下方）に傾けることによって、最大強度光の方向と、光硬化性組成物の吐出方向に垂直な面とがなす角度の最小値をθとすることができる（例えば、図１１（ａ）参照）。
【０１３９】
上記式（Ｉ）中、ψは、光照射装置（光照射装置の出射部）から出射された光線のうち、照射強度が最大値（最大強度光の照射強度）の３％となる光線同士がなす角度の最大値（広がり角）である。但し、高分子光ファイバーを製造する際に、出射部を上述の遮光筒で覆う場合には、上記ψは、遮光筒で覆った状態の出射部から出射された光の広がり角を意味するものとする。なお、上記広がり角が小さい（狭い）ほど、光照射装置から出射される光の指向性が高いことを意味する。
【０１４０】
図１０は、光照射装置から出射された光の広がり角ψを説明する概略図（側面図、遮光筒を用いた場合）である。図１０における６１は最大強度光を、６２は照射強度が最大強度光の３％となる光線を表す。図１０に示すように、広がり角ψは、照射強度が最大強度光の３％となる光線同士がなす角の最大値６３により定義される。なお、出射部を遮光筒で覆うことにより、通常、広がり角ψは小さくなる傾向にある。
【０１４１】
上記ψは、例えば、出射部から一定距離（例えば１．５ｃｍ）における光強度分布を測定することにより、導出することができる。なお、光強度分布は、例えば、紫外線光量計を用い、その受光器を照射光の中心（出射部中心の正面）から周辺部に向かって少しずつ場所を移動させることにより測定することができる。
【０１４２】
本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａでは、光照射装置から出射される最大強度光の方向と光硬化性組成物の吐出方向に垂直な面とがなす角度の最小値θを、上記式（Ｉ）の関係を満たすように制御することにより、線径が均一な高分子光ファイバーの取得、及び製造時の糸切れ抑制等の効果をより高度なレベルで得ることができる。これは、以下の理由によるものと推測される。
図１１は、最大強度光の方向と光硬化性組成物の吐出方向に垂直な面とがなす角度の最小値θと光の広がり角ψの関係を説明する概略図（側面図）である。図１１の（ａ）はθ≧ψ／２の場合、即ち、θとψとが上記式（Ｉ）の関係を満たす場合の概略図である。この場合、光照射装置から出射される光線のうち、照射強度が最大値の３％となる光線６２（ノズル側）と、該光線の光硬化性組成物に対する入射面がなす角Ｘは、「９０°＋（θ−ψ／２）」で表される。従って、θ≧ψ／２（即ち、θ−ψ／２≧０）の場合には、Ｘは９０°又は鈍角となり、照射強度が最大値の３％となる光線６２（ノズル側）は、光硬化性組成物に対して垂直に、又は吐出方向側に傾いて入射することになる。この場合、照射強度が最大値の３％となる光線６２（ノズル側）は、光硬化性組成物中を吐出方向に向かって伝播し、一方でノズル側に伝播し得る光は、照射強度が最大値の３％未満の光線のみである。このため、ノズルの吐出口付近で光硬化性組成物の硬化反応が進行しにくく、線径が均一な高分子光ファイバーの取得、及び糸切れ抑制の効果が得られる。これに対して、θとψとが上記式（Ｉ）の関係を満たさないと、Ｘは鋭角となるため（図１１の（ｂ）参照）、少なくとも照射強度が最大値の３％の光線はノズル方向に伝播し、高分子光ファイバーの製造に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１４３】
なお、上記θ（最大強度光の方向と光硬化性組成物の吐出方向に垂直な面とがなす角度の最小値θ）は、上述のように、例えば、光照射装置のライトガイド先端部分を、光硬化性組成物の吐出方向に直交する平面（通常は、水平面）に対して光硬化性組成物の吐出方向側（例えば、下方）に傾ける角度によって制御できる。即ち、上記光照射装置としては、光の照射角度（具体的には、最大強度光の方向と光硬化性組成物の吐出方向に垂直な面とがなす角度の最小値θ）を調整するための機構（「照射角度調整機構」と称する場合がある）を備える光照射装置を使用することが好ましい。図１２は、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａにて使用可能な、照射角度調整機構を備える光照射装置の一例を示す概略図である。図１２に示す光照射装置においては、照射角度調整機構としてのねじ４６（角度調整用ねじ）を備えることにより、ライトガイドの先端部分の角度を自由に調整することができる。
【０１４４】
（工程Ａの他の実施形態）
本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａは、上述のように、ノズルの吐出口の下方に光照射装置の出射部を配置する実施形態（例えば、図１参照）のほか、ノズルの吐出口の上方に光照射装置の出射部を配置し、吐出口よりも上方から光を出射する実施形態（当該形態を「落射方式」と称する場合がある）により実施することも可能である。図１３は、本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａの一実施形態（落射方式の場合）を示す概略図である。図１３における形態においては、ノズル１と、該ノズル１の先端部分の吐出口１１よりも上方から光を照射するように配置された光照射装置が使用される。図１３において、光照射装置は、光を出力する光源装置４３、該光を伝送するライトガイド４２、及び端部（出力端）より光を出射するライトガイド先端部４１に加え、ライトガイド先端部４１の出力端より出射した光を下方に反射させる反射ミラー４７と、反射した光を集光する集光レンズ４８を備えて構成されている。図１３における５４はリング状の遮光部材（「遮光リング」と称する場合がある）を示し、このような遮光リングをノズル先端（ノズル１の吐出口１１）の上方に装着することによって、ノズル１の吐出口１１における光の照射強度が０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御される。
【０１４５】
本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ａが、落射方式により実施される場合には、図１３に示すように、遮光リング５４を用いることによってノズルの吐出口１１に影を形成しやすく、より効率的にノズルの吐出口における光の照射強度を低減できるというメリットがある。しかしながら、一方で、光硬化性組成物と光照射装置の出射部との距離が比較的遠くなるため、光硬化性組成物に対して高強度の光を照射することが難しく、工程Ａにて硬化率（硬化度）を十分に向上させた硬化物ａを得ることが難しいというデメリットがある。但し、その後の工程Ｂにおける光照射処理及び／又は加熱処理により、上記硬化率をさらに高めることも可能であるため、上記デメリットの解消は可能である。
【０１４６】
工程Ａにより、糸状の硬化物ａが得られる（例えば、図１、図１３における３）。上記糸状の硬化物ａの硬化率（硬化度；硬化反応（重合反応）の進行度を意味する）は、特に限定されないが、４０％以上が好ましく、より好ましくは６０％以上である。硬化率が４０％未満であると、糸状の硬化物ａの取り扱いが困難となったり、得られる高分子光ファイバーの形状が変形してしまう場合がある。なお、硬化物ａの硬化率は、例えば、示差走査型熱量測定（ＤＳＣ）により測定される硬化の際の発熱量などを用いて算出できる。具体的には、上記硬化率は、例えば、光硬化性組成物及び工程Ａにより得られた硬化物ａについて、下記の装置及び条件でＤＳＣを行い、測定された発熱量を用いて下記の計算式により算出することができる。
＜測定装置及び測定条件＞
測定装置：示差走査型熱量測定装置（商品名「Ｑ−２０００」、ＴＡ  ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製）
ＵＶ照射器：商品名「ＬＣ８」、浜松ホトニクス社製
光照射条件：ＵＶ照射強度；１５０Ｗ／ｃｍ2、照射時間；５分
加熱条件：  昇温速度；＋２０℃／分  温度範囲；０℃〜２００℃
測定雰囲気：  窒素
＜硬化率計算方法（計算式）＞
［硬化物ａの硬化率（％）］＝｛１−［硬化物ａを加熱したときの発熱量］／（［光硬化性組成物に上記条件で光を照射したときの発熱量］＋［光硬化性組成物に光を照射して硬化させた硬化物を、引き続き上記条件で加熱したときの発熱量］）｝×１００
【０１４７】
［工程Ｂ］
本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ｂは、工程Ａの後、さらに、該工程Ａにより得られた糸状の硬化物ａに対して光照射及び加熱のいずれか一方又は両方の処理を行い、硬化物ｂ（糸状の硬化物ｂ）を得る。該硬化物ｂはそのまま本発明の高分子光ファイバーとして使用することもできる。工程Ｂを経ることにより、得られる硬化物ｂは非常に優れた耐熱性を発現し、ハンダリフロー処理等の高温の熱による劣化や形状変化に起因する光学特性の低下が抑制される。中でも、工程Ｂにおいては、光照射処理及び加熱処理の両方を行うことが好ましい。
【０１４８】
工程Ｂは、工程Ａの後、該工程Ａに引き続き連続的に実施されてもよいし、非連続的に実施されてもよい。工程Ｂが工程Ａに引き続き連続的に実施される場合には、例えば、工程Ａにおいて得られた糸状の硬化物ａに対して、引き続き光照射処理及び／又は加熱処理を行うことにより、工程Ｂを実施することができる（例えば、図１５参照）。工程Ｂが工程Ａとは非連続的に実施される場合には、例えば、工程Ａにおいて得られた糸状の硬化物ａを巻き取って一旦回収した後、これを繰り出した状態で又は巻き取ったままの状態で、光照射処理及び／又は加熱処理を行うことにより、工程Ｂを実施することができる。
【０１４９】
工程Ｂの光照射処理において照射する光は、光硬化性組成物の硬化をさらに進行させて硬化物ｂを得ることが可能な光であればよく、特に限定されないが、例えば、紫外線、赤外線、可視光線、電子線などが挙げられる。中でも、取り扱いが容易である点で、紫外線が好ましい。上記光照射処理の条件は、特に限定されないが、例えば、積算照射量（硬化物ａに照射された光の総量）として、５０〜６０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、より好ましくは６０〜２０００ｍＪ／ｃｍ2、さらに好ましくは８０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2である。積算照射量が５０ｍＪ／ｃｍ2未満であると、硬化が不十分となり、加熱によって高分子光ファイバーの形状変化が生じやすくなる場合がある。一方、積算照射量が６０００ｍＪ／ｃｍ2を超えると、高分子光ファイバーの光学特性が損なわれる場合がある。なお、光照射処理は一段階で行うこともできるし、二段階以上に分けて行うこともできる。
【０１５０】
上記光照射処理における光の照射は、公知乃至慣用の方法（例えば、上述の光照射装置を用いる方法等）により行うことができ、特に限定されないが、紫外線を照射する場合には、例えば、上述の紫外線照射装置などを使用できる。特に、上記光照射処理は、工程Ａにおける光照射と同様の方法により行うことが好ましい。
【０１５１】
工程Ｂの加熱処理における加熱温度は、特に限定されないが、４０〜２００℃が好ましく、より好ましくは５０〜１５０℃、さらに好ましくは８０〜１２０℃である。加熱温度が４０℃未満であると、硬化が不十分となり、加熱によって高分子光ファイバーの形状変化が生じやすくなる場合がある。一方、加熱温度が２００℃を超えると、高分子光ファイバーの光学特性が損なわれる場合がある。なお、上記加熱処理において加熱温度は、一定に制御されるものであってもよいし、段階的又は連続的に変動するように制御されるものであってもよい。
【０１５２】
工程Ｂの加熱処理における加熱時間は、特に限定されないが、０．０１〜２０００分が好ましく、より好ましくは０．１〜１００分、さらに好ましくは０．２〜３０分である。加熱時間が０．０１分未満であると、加熱温度によっては硬化が不十分となり、加熱によって高分子光ファイバーの形状変化が生じやすくなる場合がある。一方、加熱時間が２０００分を超えると、高分子光ファイバーの生産性が低下したり、加熱温度によっては高分子光ファイバーの光学特性が損なわれる場合がある。
【０１５３】
上記加熱処理における加熱は、公知乃至慣用の方法により行うことができ、特に限定されないが、例えば、オーブン、熱風、電気、ガス、赤外線などの加熱源を備えた加熱装置（オーブン等）などを使用できる（例えば、図１５における９など）。
【０１５４】
本発明の高分子光ファイバーの製造方法における工程Ｂは、工程Ａにより得られた糸状の硬化物ａにおける硬化率（硬化度）をさらに高めて糸状の硬化物ｂ（高分子光ファイバー）を得ることを目的として実施され、「後硬化工程」と称される場合もある。本発明の高分子光ファイバーの製造方法においては、特に、工程Ａにおいてノズルの吐出口における光の照射強度を０．２ｍＷ／ｃｍ2以下に制御する必要があることから、工程Ａにおける光照射のみでは硬化率を十分に高めることが困難な場合があり、この点で工程Ｂは重要な意義を有する。工程Ｂにおいては、得られる硬化物ｂ（高分子光ファイバー）の硬化率が６０％以上（より好ましくは８０〜１００％）にまで高められることが好ましい。なお、工程Ｂを経て得られる硬化物ｂ（高分子光ファイバー）の硬化率は、上述の硬化物ａの硬化率と同様の方法により算出できる。
【０１５５】
上述の工程Ａ及び工程Ｂを必須の工程として含む本発明の高分子光ファイバーの製造方法により、高分子光ファイバーが得られる。本発明の高分子光ファイバーの製造方法において、光硬化性組成物を硬化させることによって得られる高分子光ファイバーは、特に限定されないが、適宜巻き取ることにより回収することができる。この際の巻取り速度は、特に限定されないが、例えば、１０〜１０００ｍｍ／秒が好ましく、より好ましくは１００〜５００ｍｍ／秒である。巻取り速度（工程Ａと工程Ｂとが非連続的に実施される場合には、工程Ａにおける巻取り速度）の制御により、得られる高分子光ファイバーの径を制御することができる。一般に、巻取り速度を速くすると、光硬化性組成物及び該光硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物、即ち、高分子光ファイバーの線径は細くなる傾向がある。上記巻取り速度は、例えば、製造した高分子光ファイバーを巻き取り、回収するための巻取り装置（巻取り機）などを用いることにより制御することができる。
【０１５６】
また、本発明の高分子光ファイバーの製造方法においては、上記のノズル、光照射装置、制御手段（遮光部材等）のほか、例えば、ノズルから吐出する光硬化性組成物の量（吐出量）を制御するために、定量ポンプを用いることができる。光硬化性組成物の吐出量を制御することによって、高分子光ファイバーの線径を制御することができる。一般に、吐出量を多くすると、光硬化性組成物（高分子光ファイバー）の線径は太くなる傾向がある。なお、二重管ノズルを用いる場合には、コア剤とクラッド剤の吐出量をそれぞれ独立に制御することによって、得られる高分子光ファイバーのコアの径とクラッドの径を自在に制御することができる。
【０１５７】
さらに、本発明の高分子光ファイバーの製造方法においては、必要に応じ、その他の機器や装置（例えば、加熱ユニット、冷却ユニット、ファイバー径測定装置、ファイバー張力測定装置など）を適宜使用することもできる。
【０１５８】
本発明の高分子光ファイバーが、コア−クラッド構造を有する高分子光ファイバーである場合、コアの直径（コア径）は、特に限定されないが、１０〜９９９μｍが好ましく、より好ましくは５０〜１００μｍである。また、本発明の高分子光ファイバーのクラッドの直径（クラッド径）は、特に限定されないが、６０〜１０００μｍが好ましく、より好ましくは１００〜５００μｍである。
【０１５９】
本発明の高分子光ファイバーは、クラッドの外側にさらに適宜な被覆層を設けたものであってもよい。上記被覆層としては、例えば、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ＰＴＦＥ、ポリ塩化ビニル等からなる被覆層が挙げられる。
【０１６０】
本発明の高分子光ファイバーは、本発明の高分子光ファイバーの製造方法により製造される。このため、本発明の高分子光ファイバーは、一定の線径を有し、品質面で優れる。また、生産性も高いため、コスト面で優れる。さらに、本発明の高分子光ファイバーは、室温において液体である光硬化性組成物を原料としているため、該光硬化性組成物中の不純物をろ過により除去しやすく、高品質な高分子光ファイバーとすることが容易である。特に、本発明の高分子光ファイバーは、該光ファイバーを形成するための光硬化性組成物が酸化防止剤を含有し、さらに、上記光硬化性組成物の硬化度を十分に高めるための工程Ｂを経て製造されるため、例えば、ハンダリフロー処理を経た場合であっても、コアの端面の形状変化（隆起）や熱劣化に起因する光損失の増大が生じにくく、優れた耐熱性を発揮する。中でも、本発明の高分子光ファイバーを形成するための光硬化性組成物が、（メタ）アクリル系モノマー（特に、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物）、又は、（メタ）アクリル系モノマーに由来する構成単位（特に、式（１）で表されるオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル化合物に由来する構成単位）を必須の構成単位として含む重合体を含有する場合には、非常に優れた透明性、耐熱性、及び柔軟性を発揮する。
【０１６１】
また、本発明の高分子光ファイバーは、上記ノズルとして上記二重管ノズルを用いた場合には、コアとクラッドの中心軸を正確に一致させることができ、光ファイバー同士の接続や他のデバイスとの接続の際に高い信頼性を発揮できる。さらに、本発明の高分子光ファイバーは、製造の際に光の照射角度を上記式（Ｉ）の関係を満たすように制御した場合は、より均一な線径を有し、かつ高い生産性を有する高分子光ファイバーとなる。
【０１６２】
本発明の高分子光ファイバーは、光通信用途や装飾用途等において広く利用される。特に、耐熱性及び柔軟性に優れるため、例えば、携帯機器、ＦＡ機器、ＯＡ機器、オーディオ機器、車両、ＬＡＮ等における通信用途、家庭用や工業用の内視鏡等におけるイメージ伝送用途、センサ用途、検査・測定用の照明、美術品等の照明等における光伝送用途、看板、サイン、景観照明等における装飾用途などに特に有用である。
【０１６３】
さらに、本発明の高分子光ファイバーは、上述のようにハンダリフロー処理等の高温の熱によっても劣化や形状変化が生じにくいため、特に、ハンダリフロー処理（リフロー処理）を経て作製される部材や製品に好ましく使用できる。具体的には、例えば、本発明の高分子光ファイバーを電子部品とともにリフロー処理により基板に実装することによって、本発明の高分子光ファイバー及び電子部品が実装された実装基板を得ることができる。
【実施例】
【０１６４】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６５】
製造例１
［クラッド形成用の光硬化性組成物（クラッド剤１）の製造例］
モノマーと開始剤の混合液の滴下ライン、温度計、還流管、及び撹拌翼を装着した５口フラスコに、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン（ＰＧＭＥＡ）３６７ｇを仕込み、窒素気流下、８５±１℃に加熱した。次いで、撹拌しながら、ＰＧＭＥＡ６３０ｇ、３−エチル−３−（３−アクリロイルオキシ−２，２−ジメチルプロピルオキシメチル）オキセタン（ＥＯＸＴＭ−ＮＰＡＬ）３００ｇ（１．１７ｍｏｌ）、ｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）７５０ｇ（５．８５ｍｏｌ）、及び２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル（商品名「Ｖ−６０１」、和光純薬工業（株）製）０．６５ｇの混合液を送液ポンプで５時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに２時間同温度で保持した後、４０℃以下に冷却することにより、樹脂溶液を得た。上記樹脂溶液をＰＧＭＥＡ２１００ｇで希釈した後、５倍量の６０重量％メタノール水溶液で再沈精製し、真空乾燥機中（４０℃、フルバキューム）で６０時間保持することにより、無色透明のクラッドプレポリマー（カチオン重合性樹脂）を得た。
該クラッドプレポリマーのポリスチレン換算の重量平均分子量は２３５，７００、数平均分子量は５０，０００であった。
上記クラッドプレポリマー６０重量部、３，３−ビス（ビニルオキシメチル）オキセタン１重量部、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン（商品名「ＯＸＴ−２１２」、東亞合成（株）製）１３．３重量部、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（３，４−エポキシ）シクロヘキサンカルボキシレート（商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、（株）ダイセル製）２６．７重量部、及び商品名「ＣＰＩ−１０１Ａ」（サンアプロ（株）製、光重合開始剤）５重量部を混合した後、孔径１μｍのフィルタでろ過し、クラッド形成用の光硬化性組成物（クラッド剤１）を得た。
【０１６６】
製造例２
［クラッド形成用の光硬化性組成物（クラッド剤２）の製造例］
製造例１で得られたクラッドプレポリマー６０重量部、３，３−ビス（ビニルオキシメチル）オキセタン１重量部、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン（商品名「ＯＸＴ−２１２」、東亞合成（株）製）１３．３重量部、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（３，４−エポキシ）シクロヘキサンカルボキシレート（商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、（株）ダイセル製）２６．７重量部を混合し、この混合物１００重量部に対して、商品名「イルガノックス１０１０」（ＢＡＳＦ製）０．３重量部、ドデカンチオール０．１重量部、及び商品名「ＣＰＩ−１０１Ａ」（サンアプロ（株）製、光重合開始剤）５重量部を混合した後、孔径１μｍのフィルタでろ過し、クラッド形成用の光硬化性組成物（クラッド剤２）を得た。
【０１６７】
製造例３
［コア形成用の光硬化性組成物（コア剤）の製造例］
モノマーと開始剤の混合液の滴下ライン、温度計、還流管、及び攪拌翼を装着した５口フラスコに、ＰＧＭＥＡ３９１ｇを仕込み、窒素気流下、８５±１℃に加熱した。次いで、攪拌しながら、ＰＧＭＥＡ６６８ｇ、ＥＯＸＴＭ−ＮＰＡＬ９０ｇ（０．３５ｍｏｌ）、ＢＡ１３５．６ｇ（１．０５ｍｏｌ）、スチレン（Ｓｔ）１４７ｇ（１．４０ｍｏｌ）、及び商品名「Ｖ−６０１」５１．８ｇの混合液を送液ポンプで５時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに２時間同温度で保持した後、４０℃以下に冷却することにより、樹脂溶液を得た。上記樹脂溶液を５倍量の６０重量％メタノール水溶液で再沈精製し、真空乾燥機中（４０℃、フルバキューム）で６０時間保持することにより、無色透明のコアプレポリマー（カチオン重合性樹脂）を得た。
該コアプレポリマーのポリスチレン換算の重量平均分子量は４，５００、数平均分子量は２，７００であった。
上記コアプレポリマー６５重量部、１，４−ビス｛［（３−エチルオキセタン−３−イオキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼンを主成分（主生成物）とする（３−エチルオキセタン−３−イル）メタノール（ヒドロキシメチル）−オキセタンと１，４−ビス（クロロメチル）ベンゼンの反応生成物（商品名「ＯＸＴ−１２１」、東亞合成（株）製）３５重量部、及び３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（３，４−エポキシ）シクロヘキサンカルボキシレート（商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、（株）ダイセル製）５重量部を混合し、この混合物１００重量部に対して、商品名「イルガノックス１０１０」（ＢＡＳＦ製）０．３重量部、商品名「イルガフォス１６８」（ＢＡＳＦ製）０．１重量部、商品名「ＣＰＩ−１００Ｐ」（サンアプロ（株）製、光重合開始剤）３重量部、及び商品名「ＣＰＩ−１０１Ａ」（サンアプロ（株）製、光重合開始剤）５．１５重量部を混合し、孔径０．２μｍのフィルタでろ過し、コア形成用の光硬化性組成物（コア剤）を得た。
【０１６８】
実施例１
［高分子光ファイバー製造装置］
高分子光ファイバーの製造は、図１４に示す高分子光ファイバー製造装置を用いて行った。図１４の高分子光ファイバー製造装置における１は、二重管ノズルである。二重管ノズル１の外管及び内管の内径は以下に示す通りである。また、図１４の高分子光ファイバー製造装置においては、工程Ａにおいて使用する光照射装置として、光硬化性組成物２に対して３方向から光を照射できる、図５に示す光照射装置を用いた。該光照射装置は、光硬化性組成物２に対して等距離に、３つのライトガイド（ＵＶライトガイド）の先端部分を、同じ高さで等間隔（光硬化性組成物を中心に１２０°間隔）に配置したものである（図５参照）。また、上記光照射装置の光源装置としては、「ＳＰＯＴＣＵＲＥ  ＳＰ９−２５０ＤＢ」（ウシオ電機（株）製）を用いた。なお、図１４においては、便宜上、２個のライトガイドの先端部分のみを描いている。
また、ライトガイドの先端部分４１には遮光筒５１を設置し、さらに、ライトガイドの先端部分４１の出力端と二重管ノズル１の吐出口との間には、遮光板５２を設置した。
図１４に示すように、ライトガイドの先端部分４１を二重管ノズル１の吐出口よりも下方に配置し、二重管ノズル１の吐出口からライトガイドの先端部分４１の出力端（出力端の中心部）までの高さ（垂直距離）を、２０ｍｍとした。また、ライトガイドの先端部分４１の出力端（出力端の中心部）と光硬化性組成物２までの距離を、１５ｍｍとした。
さらに、ライトガイドの先端部分４１は、水平面に対して１１°下向きに傾けて設置した（即ち、θ＝１１°である）。なお、ライトガイドの先端部分４１を遮光筒５１で覆った状態で出射される光の広がり角ψは、２２°である。
また、工程Ｂにおける光照射処理には、工程Ａにおいて使用した光照射装置と同じ光照射装置（図５参照）を２つ（２セット）使用し、図１４に示すように二段階で光を照射した。また、工程Ｂにおける加熱処理は、巻取り装置８で巻き取った後、乾燥機中で加熱することにより実施した。
［高分子光ファイバーの製造：工程Ａ］
まず、定量ポンプ７１及び７２を用いて、製造例３で得られたコア剤及び製造例１で得られたクラッド剤１を下記送り速度にて送液し、二重管ノズル１の吐出口より同時に鉛直方向下方に吐出させた。なお、二重管ノズル１の内管にはコア剤、外管と内管の間にはクラッド剤１を送液した。
次に、光照射装置により、コア剤及びクラッド剤１に紫外線を照射し硬化させた。このようにして、硬化物ａ（３）を形成した。
（実験条件）
ノズルの吐出口における光の照射強度：０．１３ｍＷ／ｃｍ2
コア剤の送り速度：０．０７５ｍＬ／秒
クラッド剤の送り速度：０．３ｍＬ／秒
二重管ノズルの内管の内径（直径）：１．６ｍｍ
二重管ノズルの外管の内径（直径）：３．４ｍｍ
受光器（ＵＶＤ−Ｓ３６５）で計測したＵＶ照射強度：１．８Ｗ／ｃｍ2（三方の合計：一方あたり６００ｍＷ／ｃｍ2）
［高分子光ファイバーの製造：工程Ｂ］
工程Ａの後、さらに連続的に二段階で光照射処理を行い、次いで、巻取り装置８にて巻き取った後、巻き取ったもの（ロール）を乾燥機に入れて加熱処理［加熱条件：１００℃、２分］を行い、高分子光ファイバーを得た。
（実験条件）
受光器（ＵＶＤ−Ｓ３６５）で計測した積算照射量（波長３１０〜３９０ｎｍの光の照射量を、波長３６５ｎｍ（絶対値校正波長）の光の照射量に換算したもの）（２段階の光照射の合計）：８０ｍＪ／ｃｍ2
巻取り速度：４００ｍｍ／秒
［結果］
製造の際に糸切れを起こすことなく、一定の線径でコア−クラッド構造（コア直径：５０μｍ、クラッド直径：１３０μｍ）を有する高分子光ファイバーを１５０ｍ製造することができた。該高分子光ファイバーの真円度（縦横比）は、コア、クラッド共に１．０であった。
【０１６９】
実施例２
コア剤の吐出量（送り速度）を０．３ｍＬ／秒に変更したこと以外は、実施例１と同様にして高分子光ファイバーを得た。その結果、製造の際に糸切れを起こすことなく、一定の線径でコア−クラッド構造（コア直径：１００μｍ、クラッド直径：２００μｍ）を有する高分子光ファイバーを１５０ｍ製造することができた。該高分子光ファイバーの真円度（縦横比）は、コア、クラッド共に１．０であった。
【０１７０】
実施例３
クラッド剤１をクラッド剤２に変更したこと以外は、実施例１と同様にして高分子光ファイバーを得た。その結果、製造の際に糸切れを起こすことなく、一定の線径でコア−クラッド構造（コア直径：５０μｍ、クラッド直径：１３０μｍ）を有する高分子光ファイバーを１５０ｍ製造することができた。該高分子光ファイバーの真円度（縦横比）は、コア、クラッド共に１．０であった。
【０１７１】
実施例１、２に示すように、光硬化性組成物の吐出量の制御により、任意の線径（コア径とクラッド径の比率）で高分子光ファイバーの製造が可能であることが確認された。
【０１７２】
（柔軟性評価）
実施例１〜３で得られた高分子光ファイバーを半径１ｍｍの棒に巻きつけた際のクラック（ひび割れ）発生の有無を目視で観察した。その結果、実施例１〜３で得られた高分子光ファイバーはいずれもクラック（ひび割れ）が生じず、柔軟性に優れていた。
【０１７３】
（屈折率評価）
製造例１で得られたクラッド剤１を、非シリコーン系離型フィルム基材（商品名「Ｔ７８９」、ダイセルバリューコーティング（株）製）上に、アプリケーターにより約１００μｍの厚みとなるように塗布し、ベルトコンベアー式紫外線照射装置（商品名「ＵＶＣ−０２５１６Ｓ１ＡＡ０２」、ウシオ電機（株）製）を用いて紫外線（積算照射量：約５００ｍＪ／ｃｍ2、波長３１５−３８０ｎｍ）を照射することにより、フィルム状硬化物（「クラッドフィルム」と称する）を得た。
また、製造例１で得られたクラッド剤１の代わりに製造例２で得られたコア剤を使用したこと以外は上記と同様にして、フィルム状硬化物（「コアフィルム」と称する）を得た。
上記で得られたクラッドフィルムの屈折率及びコアフィルムの屈折率を、プリズムカプラー（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を使用して測定した。その結果、上記クラッドフィルムの波長８５０ｎｍの光に対する屈折率は１．４８３０であり、上記コアフィルムの波長８５０ｎｍの光に対する屈折率は１．５２１１であった。上記クラッドフィルムとコアフィルムの比屈折率差は２．６％であった。
なお、上記クラッドフィルムの屈折率は実施例１、２で得られた高分子光ファイバーのクラッドの屈折率と同じであり、上記コアフィルムの屈折率は実施例で得られた高分子光ファイバーのコアの屈折率と同じである。即ち、実施例１、２で得られた高分子光ファイバーの比屈折率差は２．６％である。
また、実施例３で得られた高分子光ファイバーの比屈折率差を同様の手順で算出したところ、２．６％であった。
【０１７４】
（光損失の評価）
波長８５７ｎｍの光源（ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ  Ｑ８１２０１）からの光を、マッチングオイルを介して、コア径５０μｍのＧＩファイバーにて、実施例１〜３で得られた高分子光ファイバーに導入し、出射した光をマッチングオイルを介してコア径２００μｍのＰＣＦファイバーで受光し、パワーメータ（ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ  Ｑ８２２０２、ＯＰＴＩＣＡＬ  ＳＥＮＳＯＲ  Ｑ８２２１４）に接続して出射される光を該パワーメータで測定した。実施例１〜３で得られた高分子光ファイバーの直線部分の光損失（カットバック法により求めた光損失）は、いずれも０．１ｄＢ／ｃｍであった。
【０１７５】
（耐熱性の評価）
実施例１〜３で得られた高分子光ファイバーを２６０℃で３０秒間加熱し、加熱前後の高分子光ファイバーの光損失の差異を測定した。また、加熱前後において上記高分子光ファイバーの端面が形状変化したかどうかをＣＣＤを用いて確認した。
その結果、実施例１〜３で得られた高分子光ファイバーは、いずれも加熱前後の光損失の差異が０．１ｄＢ／ｃｍ以下であり、また、加熱前後で端面の形状変化は認められなかった。このように、実施例１〜３で得られた高分子光ファイバーは、耐熱性に優れていた。
【０１７６】
なお、実施例１〜３において工程Ｂにおける加熱処理の条件（加熱条件）を５０℃、２４時間に変更したこと以外は同様の方法で高分子光ファイバーを製造し、これらの高分子光ファイバーについて上記と同様の評価を行ったところ、実施例１〜３で得られた高分子光ファイバーと同様に、柔軟性及び耐熱性に優れ、光損失も小さいものであった。
【符号の説明】
【０１７７】
１      ノズル（二重管ノズル）
１１    吐出口
１２    外管
１３    内管
１４    調整用ねじ
２      光硬化性組成物
２１    光硬化性組成物が通過する位置
３      硬化物ａ
４      光照射装置
４１    ライトガイドの先端部分
４２    ライトガイド
４３    光源装置
４４    土台（支持体）
４５    土台（支持体）
４６    照射角度調整機構
４７    反射ミラー
４８    集光レンズ
５１    遮光筒
５２    遮光板
５３    光硬化性組成物を通過させるための孔
５４    遮光リング
６１    最大強度光
６２    照射強度が最大強度光の３％となる光線
６３    広がり角（ψ）
７１    定量ポンプ（コア剤送液用）
７２    定量ポンプ（クラッド剤送液用）
８      巻取り装置
９      ヒーター（加熱装置）
Ｉ      高分子光ファイバー（硬化物ｂ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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