(57)【要約】【課題】有機ＥＬ装置の製造に適した真空蒸着装置であり、単位時間あたりに成膜可能な基材数が多い蒸着装置を提供する。【解決手段】真空蒸着装置１は、真空室２を有し、真空室２内に基板設置台３と、蒸発装置５及び蒸気チャンバー６とを内蔵している。蒸気チャンバー６は、坩堝設置部１２と、蒸気通過部１３と、薄膜材料放出部２５，２６とが一体化されたものであり、薄膜材料の蒸気が通過する通路として機能する。ガラス基板７ａ，７ｂの被成膜面３２は、それぞれ薄膜材料放出部２５，２６に対向する位置にあり、ガラス基板７ａ，７ｂと薄膜材料放出部２５，２６とはそれぞれ平行に向き合う。そのため薄膜材料放出部２５，２６の孔２７から放出された薄膜材料の蒸気は、ガラス基板７ａ，７ｂの全面に均等に吹きつけられ、その表面で熱を奪われて固化するので、ガラス基板７ａ，７ｂの表面に同時に所望の成膜が行われる。【選択図】図１
2014005478.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を設置可能な真空室と、薄膜材料を蒸発させる蒸発装置とを有し、真空室内に基材を設置し、蒸発装置によって蒸発された薄膜材料を蒸散させて前記基材に所定成分の膜を蒸着する蒸着装置において、真空室には複数の基材を設置可能であり、複数の薄膜材料放出部を有し、前記複数の薄膜材料放出部は異なる基材と対向する位置にあり、蒸発装置から前記複数の薄膜材料放出部に蒸発した薄膜材料がそれぞれ供給され、複数の薄膜材料放出部から同時に薄膜材料が放出されて対向する位置のそれぞれの基材に同時に成膜することが可能であることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
蒸発装置と薄膜材料放出部とを連通する膜蒸気輸送路を有し、当該膜蒸気輸送路の一部又は全部が分岐していて一つの蒸発装置から複数の薄膜材料放出部に薄膜材料を供給することを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
薄膜材料放出部から放出される薄膜材料の流量を調節する絞り装置を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
真空室内においては、２枚の基材の被成膜面が対向する向きに立設され、二つの基材の間に薄膜材料放出部が設置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の蒸着装置。
【請求項５】
真空室内においては、２枚の基材の被成膜面が背中合わせに立設され、二つの基材の外側にそれぞれ薄膜材料放出部が設置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の蒸着装置。
【請求項６】
複数の蒸発装置を有し、当該蒸発装置は異なる薄膜材料を蒸発させるものであり、薄膜材料放出部に薄膜材料を供給する蒸発装置を切替え可能であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の蒸着装置。
【請求項７】
複数の蒸発装置を有し、当該蒸発装置は異なる薄膜材料を蒸発させるものであり、一つの基材に対向する位置に複数の薄膜材料放出部が設けられ、前記複数の薄膜材料放出部が異なる蒸発装置と連通することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の蒸着装置。
【請求項８】
蒸発装置と当該蒸発装置から蒸発した薄膜材料が供給される複数の薄膜材料放出部とで構成される一組のユニットを、複数備えたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着装置に関するものである。本発明は、特に有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｅｎｃｅ）装置の製造に用いる蒸着装置として好適である。
【背景技術】
【０００２】
近年、白熱灯や蛍光灯に変わる照明装置として有機ＥＬ装置が注目され、多くの研究がなされている。また、テレビに代表されるディスプレイ部材においても液晶方式やプラズマ方式に変わる方式として有機ＥＬ方式が注目されている。
【０００３】
ここで有機ＥＬ装置は、ガラス基板や透明樹脂フィルム等の基材に、有機ＥＬ素子を積層したものである。
また有機ＥＬ素子は、一方又は双方が透光性を有する２つの電極を対向させ、この電極の間に有機化合物からなる発光層を積層したものである。有機ＥＬ素子は、電気的に励起された電子と正孔との再結合のエネルギーによって発光する。
有機ＥＬ装置は、自発光デバイスであるため、ディスプレイ材料として使用すると高コントラストの画像を得ることができる。また、発光層の材料を適宜選択することにより、種々の波長の光を発光することができる。また白熱灯や蛍光灯に比べて厚さが極めて薄く、且つ面状に発光するので、設置場所の制約が少ない。
【０００４】
有機ＥＬ装置の代表的な層構成は、図３１の通りである。図３１に示される有機ＥＬ装置２００は、ボトムエミッション型と称される構成であり、ガラス基板２０１に、透明電極層２０２と、機能層２０３と、裏面電極層２０５が積層され、これらが封止部２０６によって封止されたものである。
また機能層２０３は、複数の有機化合物の薄膜が積層されたものである。代表的な機能層２０３の層構成は、図３２の通りであり、正孔注入層２１０、正孔輸送層２１１、発光層２１２、及び電子輸送層２１３を有している。
【０００５】
有機ＥＬ装置は、ガラス基板２０１上に、前記した層を順次成膜することによって製造される。
ここで上記した各層の内、透明電極層２０２は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明導電膜層であり、主にスパッタ法あるいはＣＶＤ法によって成膜される。
機能層２０３は、前記した様に複数の有機化合物の薄膜が積層されたものであり、各薄膜はいずれも真空蒸着法によって成膜される。
裏面電極層２０５は、アルミニウムや銀等の金属薄膜であり、真空蒸着法によって成膜される。
【０００６】
この様に有機ＥＬ装置を製造する際には、真空蒸着法が多用される。ここで真空蒸着法は、例えば特許文献１に開示された様な真空蒸着装置を使用して成膜する技術である。
即ち真空蒸着装置は、真空室と、薄膜材料を蒸発させる蒸発装置によって構成されるものである。真空室は、ガラス基板を設置することができるものである。
蒸発装置は電気抵抗や電子ビームを利用した加熱装置と、薄膜材料を入れる坩堝とよって構成されている。
【０００７】
そして多くの場合、ガラス基板は、真空室の天井側に水平姿勢に設置される。一方、蒸発装置の坩堝は、ガラス基板の下部に設置されている。
そして坩堝内の薄膜材料が、電気抵抗等によって加熱され、蒸発して上方に向かって飛散し、ガラス基板の下面に付着して成膜される。
【０００８】
ここで従来技術の真空蒸着装置は、ガラス基板を一枚ずつ成膜するものであった。即ち従来技術の真空蒸着装置の真空室は、ガラス基板をただ一枚しか設置することができず、且つ、ガラス基板の下面側にのみ成膜するものであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−２７４３７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従来技術の真空蒸着装置は、所望の品質の膜を成膜することができるものであったが、生産性が低いという不満があった。即ち従来技術の真空蒸着装置は、前記した様に真空室内にガラス基板を一枚しか設置することができず、ガラス基板を一枚ずつ成膜するものであったから、単位時間あたりに成膜可能な基板数が少なく、生産性が低いものであった。特に、真空蒸着は、基板を高真空の雰囲気下において成膜を行うものであるから、成膜したガラス基板を取り出す際に、真空室内の圧力を大気圧に戻す必要がある。そして新たなガラス基板を真空室に設置し、再度、真空室内を減圧して所望の真空度に調整する必要がある。そのため単にガラス基板の出し入れに要する作業時間だけでなく、その前後に、真空室内の圧力を大気圧に戻す作業と、真空室を高真空状態に減圧する作業が必須であり、ガラス基板の入替えに要する総時間が長い。そしてそれにも係わらず従来技術の蒸着装置は、基板を一枚ずつしか成膜することができず、単位時間あたりの成膜能力が低いものであった。
【００１１】
そこで本発明は、従来技術の上記した問題点に注目し、単位時間あたりに成膜可能な基材数が多い蒸着装置を開発することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記した課題を解決するための請求項１に記載の発明は、基材を設置可能な真空室と、薄膜材料を蒸発させる蒸発装置とを有し、真空室内に基材を設置し、蒸発装置によって蒸発された薄膜材料を蒸散させて前記基材に所定成分の膜を蒸着する蒸着装置において、真空室には複数の基材を設置可能であり、複数の薄膜材料放出部を有し、前記複数の薄膜材料放出部は異なる基材と対向する位置にあり、蒸発装置から前記複数の薄膜材料放出部に蒸発した薄膜材料がそれぞれ供給され、複数の薄膜材料放出部から同時に薄膜材料が放出されて対向する位置のそれぞれの基材に同時に成膜することが可能であることを特徴とする蒸着装置である。
【００１３】
本発明の蒸着装置は、真空室に複数の基材を設置可能であり、且つ各基材に対向する位置に薄膜材料放出部がある。そしてそれぞれの薄膜材料放出部から同時に薄膜材料を放出してそれぞれの基材に同時に成膜することが可能である。そのため本発明の蒸着装置によると、複数の基材に同時に成膜を施すことが可能であり、単位時間あたりに成膜可能な基材の数が多い。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、蒸発装置と薄膜材料放出部とを連通する膜蒸気輸送路を有し、当該膜蒸気輸送路の一部又は全部が分岐していて一つの蒸発装置から複数の薄膜材料放出部に薄膜材料を供給することを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置である。
【００１５】
本発明は、蒸着装置の具体的構造を開示するものである。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、薄膜材料放出部から放出される薄膜材料の流量を調節する絞り装置を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着装置である。
【００１７】
本発明によると、複数の薄膜材料放出部のバランスを調整することができる。即ち本発明の蒸着装置は、薄膜材料放出部から放出される薄膜材料の流量を調節する絞り装置を有するので、各薄膜材料放出部から放出される薄膜材料の量が均等となる様に調節することができる。
【００１８】
請求項４に記載の発明は、真空室内においては、２枚の基材の被成膜面が対向する向きに立設され、二つの基材の間に薄膜材料放出部が設置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の蒸着装置である。
【００１９】
本発明では、二つの基材の間に薄膜材料放出部が設置されているので、真空室内の空間を有効に活用することができ、装置の全体形状を小型化することができる。
【００２０】
また逆に、真空室内においては、２枚の基材の被成膜面が背中合わせに立設され、二つの基材の外側にそれぞれ薄膜材料放出部が設置されているものであってもよい（請求項５）。
【００２１】
請求項６に記載の発明は、複数の蒸発装置を有し、当該蒸発装置は異なる薄膜材料を蒸発させるものであり、薄膜材料放出部に薄膜材料を供給する蒸発装置を切替え可能であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の蒸着装置である。
【００２２】
本発明によると、単に基板に膜を成膜するだけでなく、複数種類の膜を積層することもできる。
【００２３】
請求項７に記載の発明は、複数の蒸発装置を有し、当該蒸発装置は異なる薄膜材料を蒸発させるものであり、一つの基材に対向する位置に複数の薄膜材料放出部が設けられ、前記複数の薄膜材料放出部が異なる蒸発装置と連通することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の蒸着装置である。
【００２４】
本発明によると、単に基板に膜を成膜するだけでなく、複数種類の膜を積層することもできる。
【００２５】
請求項８に記載の発明は、蒸発装置と当該蒸発装置から蒸発した薄膜材料が供給される複数の薄膜材料放出部とで構成される一組のユニットを、複数備えたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の蒸着装置である。
【００２６】
かかる構成により、単位時間あたりに成膜可能な基材の数がさらに多くなり、生産効率がさらに向上する。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の蒸着装置は、同時に複数の基材に対して成膜することができるので、単位時間あたりに成膜処理可能な基材数が多く、生産性が高い。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２】図１の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す斜視図である。
【図３】図１の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す平面図である。
【図４】図１の真空蒸着装置で採用する薄膜材料放出部の正面図である。
【図５】本発明の第２実施形態の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す斜視図である。
【図６】図５の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す平面図である。
【図７】本発明の第３実施形態の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す斜視図である。
【図８】図７の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す平面図である。
【図９】本発明の第４実施形態の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す平面図である。
【図１０】本発明の第５実施形態の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す平面図である。
【図１１】本発明の第６実施形態の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す平面図である。
【図１２】本発明の第７実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図１３】本発明の第８実施形態の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す斜視図である。
【図１４】本発明の第９実施形態の真空蒸着装置の薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す斜視図である。
【図１５】本発明の第１０実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図１６】本発明の第１１実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図１７】本発明の第１２実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図１８】本発明の第１３実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図１９】本発明の第１４実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２０】本発明の第１５実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２１】本発明の第１６実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２２】本発明の第１７実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２３】本発明の第１８実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２４】本発明の第１９実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２５】本発明の第２０実施形態の真空蒸着装置を示し、（ａ）は薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す斜視図であり、（ｂ）は真空蒸着装置の概念図である。
【図２６】本発明の第２１実施形態の真空蒸着装置を示し、（ａ）は薄膜材料放出部とガラス基板との位置関係を示す斜視図であり、（ｂ）は真空蒸着装置の概念図である。
【図２７】本発明の第２２実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２８】本発明の第２３実施形態の真空蒸着装置の概念図である。
【図２９】集積型の有機ＥＬ装置の層構成を簡単に説明する有機ＥＬ装置の概念図の一例である。
【図３０】図２９の有機ＥＬ装置の製造方法の各工程を示す基板の断面図である。
【図３１】有機ＥＬ装置の代表的な層構成を示す断面図である。
【図３２】有機ＥＬ素子の代表的な層構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下さらに本発明の実施形態について説明する。
本発明の第１実施形態に係る真空蒸着装置１は、図１に示す様に、真空室２を有し、真空室２内に基板設置台３と、蒸発装置５及び蒸気チャンバー６とを内蔵したものである。
真空室２は、公知のそれと同様に、ガラス基板（基材）７ａ，７ｂを設置することができる広い空間８を有する部材である。
真空室２は、気密性を有している。また真空室２には、真空ポンプ９が接続されており、内部を高真空雰囲気に保つことができる。
【００３０】
基板設置台３は、台座部３０と、基板保持壁３１ａ，３１ｂとによって構成されている。
基板保持壁３１ａ，３１ｂは、台座部３０の上部に立設された壁状の部位であり、図示しない基板保持具が設けられている。また基板保持壁３１ａ，３１ｂの裏面には、冷却配管３３が取り付けられている。冷却配管３３には冷却液が循環し基板保持壁３１ａ，３１ｂの温度を一定の温度に維持する。
【００３１】
蒸発装置５は、公知の坩堝１０と気化用電気ヒータ１１によって構成されている。蒸発装置５の構造及び機能は、公知のそれと同一であり、坩堝１０内に薄膜材料を入れ、電気ヒータ１１で薄膜材料を溶融し、さらに気化させることができる。
【００３２】
蒸気チャンバー６は、薄膜材料の蒸気が通過する通路として機能するものであり、坩堝設置部１２と、蒸気通過部１３と、薄膜材料放出部２５，２６とが一体化されたものである。
即ち蒸気チャンバー６の坩堝設置部１２は、最も下部の位置にあって比較的広い空間を有し、その内部に前記した蒸発装置５が設置される。坩堝設置部１２の上部には図示しないシャッターが設けられており、基板の交換時等には、シャッターを全閉して薄膜材料の蒸気が蒸気通過部１３へ入ることを防止できる。
蒸気通過部１３は、坩堝設置部１２の上部にあり、坩堝設置部１２と連通する蒸気通過空間（膜蒸気輸送路）１５を形成している。
【００３３】
本実施形態で採用する蒸気通過部１３は、図２に示す様に、外形形状が長方形の板状であり、正面側と裏面側に大面積の平面部２０，２１がある。平面部２０，２１は何れも長方形である。
平面部２０，２１を繋ぐ側壁部２２，２３及び天面壁部２４は、前記した平面部２０，２１よりも面積が小さい。
本実施形態では、平面部２０，２１と側壁部２２，２３及び天面壁部２４によって蒸気通過空間１５が囲まれ、この蒸気通過空間１５が、図１の様に坩堝設置部１２と連通している。
【００３４】
本実施形態では、蒸気通過部１３の平面部２０，２１が、薄膜材料放出部２５，２６として機能する。即ち平面部２０，２１には、図２、図４の様に多数の孔２７が設けられている。孔２７の大きさは一様、あるいは、上部側に配されたものが下部側に配されたものよりも大きい。
薄膜材料放出部２５，２６は、当業者の間で、エリアソースと称される原料供給方式を採用するものであり、後記する様に各孔２７から気化した薄膜材料を放出する。
【００３５】
また本実施形態では、蒸気チャンバー６の外周部に保温用電気ヒータ３５，３６，３７が取り付けられている。
【００３６】
本実施形態の真空蒸着装置１は、前記した様に真空室２に、基板設置台３と、蒸発装置５及び蒸気チャンバー６とを内蔵したものであり、蒸気チャンバー６は、真空室２の中央部に設置されている。
即ち図１のレイアウトに示す様に、蒸気チャンバー６の坩堝設置部１２は真空室２の下部にあり、蒸気チャンバー６の蒸気通過部１３は真空室２の中心軸近傍に立設している。従って蒸気通過部１３の平面部２０，２１（薄膜材料放出部２５，２６）は、真空室２の中心近傍から外側に面して配されており、薄膜材料放出部２５，２６の孔２７は、いずれも中心近傍から外側に向かって開いている。
【００３７】
また蒸気チャンバー６の坩堝設置部１２を覆う位置に基板設置台３が設けられている。そのためガラス基板７ａ，７ｂが無い状態においては、基板設置台３の基板保持壁３１ａ，３１ｂが蒸気チャンバー６の蒸気通過部１３と対向する。
【００３８】
本実施形態の真空蒸着装置１では、ガラス基板７ａ，７ｂは、基板設置台３に載置される。即ちガラス基板７ａ，７ｂは、基板設置台３の台座部３０に縦置き状に設置される。そしてガラス基板７ａ，７ｂの一方の面が、基板設置台３の基板保持壁３１ａ，３１ｂと接し、ガラス基板７ａ，７ｂは図示しない基板保持具で基板設置台３に固定されている。
【００３９】
従ってガラス基板７ａ，７ｂの他方の面３２は、図３に示す様に、それぞれ薄膜材料放出部２５，２６に対向する位置にあり、ガラス基板７ａ，７ｂと薄膜材料放出部２５，２６とはそれぞれ平行に向き合うこととなる。本実施形態では、ガラス基板７ａ，７ｂの薄膜材料放出部２５，２６と向き合う面が被成膜面３２となる。
なおガラス基板７ａ，７ｂの大きさは、薄膜材料放出部２５，２６と略等しい。
【００４０】
またガラス基板７ａ，７ｂを中心に位置関係を考察すると、ガラス基板７ａ，７ｂの被成膜面３２が互いに対向する向きに立設されており、二つのガラス基材７ａ，７ｂの間に蒸気チャンバー６の蒸気通過部１３がある。そして蒸気チャンバー６の蒸気通過部１３に薄膜材料放出部２５，２６が形成されているので、二つのガラス基材７ａ，７ｂの間に薄膜材料放出部２５，２６が設置されている。
【００４１】
この状態で、薄膜材料放出部２５，２６から薄膜材料の蒸気を放出し、当該蒸気をガラス基板７ａ，７ｂの被成膜面３２に当てて、ガラス基板７ａ，７ｂに成膜する。
即ち坩堝１０内に所望の薄膜材料を入れ、気化用電気ヒータ１１で薄膜材料を溶融し、さらに薄膜材料を気化させる。
気化した薄膜材料は、蒸気チャンバー６の坩堝設置部１２から蒸気通過部１３の蒸気通過空間１５に入り、薄膜材料放出部２５，２６に設けられた孔２７からガラス基板７ａ，７ｂに向かって放出される。
ここで本実施形態では、蒸気チャンバー６の外周部に保温用電気ヒータ３５，３６，３７が取り付けられており、蒸気チャンバー６内の蒸気通過空間１５は相当の高温に維持されている。そのため坩堝１０で気化した薄膜材料は、気化状態を維持したままで薄膜材料放出部２５，２６に設けられた孔２７から放出される。
【００４２】
また本実施形態では、薄膜材料放出部２５，２６に設けられた孔２７は、面状の広がりをもって分布している。そして薄膜材料放出部２５はガラス基板７ａに対向し、薄膜材料放出部２６はガラス基板７ｂに対向している。さらに薄膜材料放出部２５，２６の大きさは、ガラス基板７ａ、７ｂと略等しく、且つ両者は平行に向き合っている。
さらにガラス基板７ａ、７ｂの外側の面には、基板設置台３の基板保持壁３１ａ，３１ｂが接しており、基板保持壁３１ａ，３１ｂには冷却機能があるから、ガラス基板７ａ、７ｂの温度は、低温に維持されている。
【００４３】
そのため薄膜材料放出部２５，２６の孔２７から放出された薄膜材料の蒸気は、ガラス基板７ａ、７ｂの全面に均等に吹きつけられ、ガラス基板７ａ、７ｂの表面で熱を奪われて固化する。その結果、ガラス基板７ａ、７ｂの表面に同時に所望の成膜が行われる。
【００４４】
成膜されたガラス基板７ａ、７ｂは、真空室２から取り出され、所望の後加工を経て有機ＥＬ装置等となる。
【００４５】
次に本発明の他の実施形態について説明する。以下に説明する実施形態において、先の実施形態と同様の部材、または同様の機能を発揮する部材は、先の実施形態と同様の番号を付すことによって、重複した説明を省略する。
【００４６】
前記した実施形態（第１実施形態）では、蒸気チャンバー６の蒸気通過部１３は、長方形の板状のものを例示した。即ち上記した実施形態では、薄膜材料放出部２５，２６は長方形であり、且つ平面であった。しかしながら、本発明は、この形状に限定されるものではなく、例えば図５、図６に示す蒸気チャンバー４０の様に、円筒形の薄膜材料放出部４１を有するものであってもよい（第２実施形態）。図５に示す蒸気チャンバー４０では、薄膜材料放出部４１は、曲面でありより正確には円筒面である。
【００４７】
また図７、図８に示す様な三角形の蒸気チャンバー４３を採用してもよい（第３実施形態）。図７に示す実施形態では、蒸気チャンバー４３は、３方に薄膜材料放出部４５，４６，４７を有し、ガラス基板７ａ，７ｂ，７ｃは、各薄膜材料放出部４５，４６，４７に対向して３基設置することができる。
【００４８】
またさらに発展させて、図９に示す様な平面視が四角形の蒸気チャンバー４８でもよく（第４実施形態）、さらに５角形や６角形等の多角形であってもよい。
【００４９】
また先の実施形態では、ガラス基板７ａ，７ｂを固定した状態で成膜を行ったが、図１０に示す様に、ガラス基板７ａ，７ｂ、７ｃ，７ｄを、蒸気チャンバー４０を中心として回転させてもよい（第５実施形態）。
逆に図１１の様に、蒸気チャンバー４０側を回転させてもよい（第６実施形態）。
図１０、図１１では、円筒形の薄膜材料放出部４１を有する蒸気チャンバー４０を例に説明したが、もちろん他の形状の蒸気チャンバーであってもよい。
【００５０】
先の実施形態では、坩堝１０を設置する部位と、薄膜材料の蒸気が通過する流路（蒸気通過部１３）及び薄膜材料放出部２５，２６を構成する部位を一体化させて蒸気チャンバー６とした。即ち先の実施形態では、坩堝１０を設置する部位と、薄膜材料が通過する流路と、薄膜材料放出部２５，２６を構成する部位が渾然一体となった構成を開示した。しかしながら本発明は、この構成に限定されるものではなく、これらを明確に分けてもよい。
【００５１】
例えば図１２（第７実施形態）に示す真空蒸着装置５０の様に、坩堝設置部５１と、蒸気通過部５２と、薄膜材料放出部５３，５５とを明確に分ける。
図１２に示す真空蒸着装置５０では、坩堝設置部５１は坩堝１０を設置することができる広い空間である。
また薄膜材料放出部５３，５５は、ガラス基板７ａ，７ｂに対向する大面積を有する。薄膜材料放出部５３，５５には先の実施形態と同様に孔２７が多数設けられている。
そして坩堝設置部５１と薄膜材料放出部５３，５５の間が、膜蒸気輸送路６１で結ばれている。膜蒸気輸送路６１は、管路であり、中途で二股に分岐されて薄膜材料放出部５３，５５に接続されている。即ち膜蒸気輸送路６１は、主管路５６と、二つの分岐管路５７，５８によって構成されている。そして二つの分岐管路５７，５８にはそれぞれ流量調整弁（絞り装置）６０ａ，６０ｂが介在されている。流量調整弁６０ａ，６０ｂは、薄膜材料の流量を調節する絞り装置として機能するものである。
【００５２】
本実施形態の真空蒸着装置５０では、坩堝設置部５１に坩堝１０が設置される。そして坩堝で気化した薄膜材料の蒸気は、膜蒸気輸送路６１の主管路５６から分岐管路５７，５８に入り、薄膜材料放出部５３，５５を経てガラス基板７ａ，７ｂ側に放出される。
【００５３】
本実施形態の真空蒸着装置５０では、膜蒸気輸送路６１に、流量調整弁（絞り装置）６０ａ，６０ｂが設けられているので、左右の薄膜材料放出部５３，５５から放出される薄膜材料のバランスを調整することができる。
例えば、一方の薄膜材料放出部５３から放出される薄膜材料の蒸気が、他方の薄膜材料放出部５５に比べて過大である場合には、薄膜材料放出部５３に至る分岐管路５７の流量調整弁（絞り装置）６０ａを絞るか、他方の流量調整弁（絞り装置）６０ｂを開く。その結果、二つの薄膜材料放出部５３，５５から放出される薄膜材料の量や圧力が等しくなり、二つのガラス基板７ａ，７ｂに成膜される膜の厚さが揃う。
【００５４】
また先の実施形態では、いずれも多数の孔２７を有する薄膜材料放出部２５，２６を例示した。即ち先の実施形態では、いずれもエリアソースと称される原料供給方式を採用するものであり、多数の孔２７が面状に分布しているが、他の方式の原料供給方式を採用してもよい。
図１３（第８実施形態）は、ポイントソースと称される原料供給方式を採用するものであり、一つの開口から原料を放出するものである。
即ち図１３に示す真空蒸着装置７０では、坩堝設置部７１から二つの管７２，７３が突出している。そして二つの管７２，７３はいずれも先端部分が水平方向に折り曲げられ、その開口７５、７６が、ガラス基板７ａ，７ｂに対向している。
本実施形態では、管７２，７３の開口７５、７６が薄膜材料放出部として機能する。
【００５５】
また図１４（第９実施形態）は、リニアソースと称される原料供給方式を採用するものであり、縦に配された開口列７７から原料を放出するものである。本実施形態では、開口列７７が薄膜材料放出部として機能する。
なお図１４の構成を採用する場合には、ガラス基板７ａ，７ｂを開口列７７に対して相対的に移動させる必要がある。例えば、１回の成膜操作について１〜３回程度往復させればよい。
【００５６】
また前述した実施形態は、いずれもガラス基板７ａ，７ｂの被成膜面３２を向き合わせて配置し、その内側に薄膜材料放出部２５，２６を設けてガラス基板７ａ，７ｂに成膜を行う構成であったが、逆に外側の面に成膜を行ってもよい。
図１５（第１０実施形態）に示す真空蒸着装置７８では、蒸気チャンバー８０に蒸気通過部８１ａ，８１ｂを二列設け、さらに両者の間を大きく離した。また蒸気通過部８１ａ，８１ｂの内面側に孔２７を設けた。そして蒸気通過部８１ａ，８１ｂ同士の間にガラス基板７ａ，７ｂを設けた。
本実施形態の真空蒸着装置７８は、ガラス基板７ａ，７ｂの被成膜面３２を背中合わせに立設し、二つのガラス基板７ａ，７ｂの外側にそれぞれ薄膜材料放出部８２，８３を設置した例である。
【００５７】
また前記した実施形態では、いずれも坩堝１０等の蒸発装置５を真空室２内に配置したが、蒸発装置５を真空室２の外に設置してもよい。
図１６（第１１実施形態）に示す真空蒸着装置７９では、蒸発装置５を真空室２の外に配置している。その他の構成は、図１の第１実施形態と同じである。
また図１７（第１２実施形態）に示す真空蒸着装置８５でも、蒸発装置８６を真空室２の外に配置している。真空蒸着装置８５では、真空室２の中に二つの薄膜材料放出部９０，９１を設置し、これらを管路８７ａ、８７ｂに接続している。さらに各管路８７ａ、８７ｂには、流量調整弁（絞り装置）６０ａ，６０ｂが設けられている。
【００５８】
以上説明した実施形態は、いずれも蒸発装置５を一基だけ有しているが、本発明は、この構成に限定されるものではなく、複数の蒸発装置９３を有するものであってもよい。図１８（第１３実施形態）に示す真空蒸着装置９５は、４基の蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄを備えている。
４基の蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄは、いずれも真空室２の外にある。また真空室２内には、前記した蒸気チャンバー６の蒸気通過部１３に相当する部材が設けられている。そして４基の蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄと真空室２内の蒸気通過部１３が管路８８で接続されている。
管路８８は、４個の導入側ポート、１個の吐出側ポートを有するマニホールド９６を有し、吐出側ポートが真空室２内の蒸気通過部１３に接続されている。
【００５９】
一方、４個の導入側ポートは、それぞれ開閉弁９７ａ，９７ｂ，９７ｃ，９７ｄを介してそれぞれの蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄに接続されている。
本実施形態で採用する開閉弁９７ａ，９７ｂ，９７ｃ，９７ｄは、全閉状態にすることが可能である。
【００６０】
本実施形態の真空蒸着装置９５では、各蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄの坩堝１０に異なる種類の薄膜材料が投入される。
本実施形態の真空蒸着装置９５では、開閉弁９７ａ，９７ｂ，９７ｃ，９７ｄを切り換えることにより、蒸気通過部１３に導入される薄膜材料を変更することができる。
【００６１】
前記した実施形態における蒸気チャンバー６と同様に、本実施形態においても、蒸気チャンバーに相当する部分に保温用電気ヒータ（図示せず）が取り付けられている。さらに、当該保温用電気ヒータは、蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄ、管路８８、及び蒸気通過部１３に対して個別に温度設定することができる。
本実施形態の真空蒸着装置９５によれば、蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄの坩堝１０に異なる種類の薄膜材料を投入することにより、異なる種類の薄膜を順次成膜することができるが、この際の管路８８及び蒸気通過部１３の温度については、以下のように設定することができる。
即ち、蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄについては、投入する薄膜材料の種類に応じて、蒸発装置ごとに保温用電気ヒータの温度を設定する（例えば、薄膜材料の沸点プラス１０℃程度）。一方、管路８８と蒸気通過部１３については、蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄで設定した各温度のうち、最も高い温度を保温用電気ヒータの設定温度として選択する。これにより、管路８８と蒸気通過部１３の温度が各薄膜材料の沸点よりも十分に高い温度に維持されるから、いずれの薄膜材料を気化させても管路８８や蒸気通過部１３で固化してしまうことはない。この構成によれば、蒸発装置の切替え時（薄膜材料の切替え時）に管路８８や蒸気通過部１３の温度を変える必要がない。
なお、薄膜材料相互のコンタミネーションを防止するために、蒸発装置の切替え時には、窒素ガス等の不活性ガスを管路８８と蒸気通過部１３に通し、残留した薄膜材料を取り除く。
【００６２】
本実施形態の真空蒸着装置９５を使用すると、一つの真空蒸着装置９５で複数の膜を成膜することができる。
例えば前記した正孔注入層２１０、正孔輸送層２１１、発光層２１２、及び電子輸送層２１３を、一つの真空室２内で成膜することも可能である。
【００６３】
図１９に示す真空蒸着装置９８（第１４実施形態）は、図１８の真空蒸着装置９５の構成をさらに発展させたものである。真空蒸着装置９８は、蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄ、管路８８、マニホールド９６、蒸気通過部１３、及び薄膜材料放出部２５，２６からなる一組のユニットを複数備えている。本実施形態によれば、生産性をさらに向上させることができる。なお本実施形態では蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄを真空室２の外に設置しているが、真空室２の中に配置してもよい。
【００６４】
図１８に示す真空蒸着装置９５では、真空室２内に蒸気通過部１３を一基だけ設け、蒸気通過部１３が有する薄膜材料放出部２５，２６から複数種類の膜材料を放出するものである。即ち図１８に示す真空蒸着装置９５では、薄膜材料放出部２５，２６を共用して蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄから供給される薄膜材料を放出する。
しかしながら本発明は、この構成に限定されるものではなく、例えば図２０（第１５実施形態）に示す真空蒸着装置９８の様に、真空室２内に複数系統の薄膜材料放出部８９ａ，８９ｂ、９４ａ，９４ｂ、９９ａ，９９ｂを設け、各系統の薄膜材料放出部８９ａ，８９ｂ、９４ａ，９４ｂ、９９ａ，９９ｂごとに独立した膜蒸気輸送路８４ａ，８４ｂ，８４ｃを設けてもよい。本実施形態の真空蒸着装置９８においても、膜蒸気輸送路８４ａ，８４ｂ，８４ｃのそれぞれに開閉弁９７ａ，９７ｂ，９７ｃが設けられ、開閉弁９７ａ，９７ｂ，９７ｃを切り換えることにより、真空室２内に導入される薄膜材料を変更することができる。また、開閉弁９７ａ，９７ｂ，９７ｃの２つ以上を同時に開けることにより、共蒸着を行うこともできる。
【００６５】
第１５実施形態（図２０）をさらに発展させ、複数系統の薄膜材料放出部を設けると共に、１つの薄膜材料放出部に対して複数の蒸発装置あるいは膜蒸気輸送路を設けることもできる。
図２１（第１６実施形態）に示す真空蒸着装置１２５では、真空室２内に複数系統の膜蒸気放出部８９ａ，８９ｂ、９４ａ，９４ｂ、９９ａ，９９ｂを設け、系統ごとに独立した膜蒸気輸送路８４Ａ，８４Ｂ，８４Ｃを設けている。膜蒸気放出部８９ａ，８９ｂ、９４ａ，９４ｂ、９９ａ，９９ｂはそれぞれ複数あり、ガラス基板７ａ，７ｂの被成膜面に対向する同一系統の複数の膜蒸気放出部は、ガラス基板７ａ，７ｂの被成膜面に対して一様に分布している。
本実施形態では、９個の蒸発装置が設けられており、蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃが１つの系統を構成して膜蒸気輸送路８４Ａに連結されている。また蒸発装置９３ｄ，９３ｅ，９３ｆが１つの系統を構成して膜蒸気輸送路８４Ｂに連結されている。また蒸発装置９３ｇ，９３ｈ，９３ｉが１つの系統を構成して膜蒸気輸送路８４Ｃに連結されている。蒸発装置９３ａ〜９３ｉには、それぞれ開閉弁９７ａ〜９７ｉが設けられており、開閉弁９７ａ〜９７ｉを切り換えることにより、真空室２内に導入される薄膜材料を変更することができる。
蒸発装置１２５は、共蒸着を行うのに適している。例えば、蒸発装置９３ａ〜９３ｃにそれぞれ薄膜材料Ａ〜Ｃを、蒸発装置９３ｄ〜９３ｆにそれぞれ薄膜材料Ｄ〜Ｆを、蒸発装置９３ｇ〜９３ｉにそれぞれ薄膜材料Ｇ〜Ｉを仕込む。そうすると、蒸発装置９３ａ〜９３ｃから膜蒸気輸送路８４Ａを通じて、薄膜材料Ａ〜Ｃを共蒸着することができる。同様に、蒸発装置９３ｄ〜９３ｆから膜蒸気輸送路８４Ｂを通じて、薄膜材料Ｄ〜Ｆを共蒸着することができる。同様に、蒸発装置９３ｇ〜９３ｉから膜蒸気輸送路８４Ｃを通じて、薄膜材料Ｇ〜Ｉを共蒸着することができる。
本実施形態の構成は、エリアソース方式に適している。
【００６６】
図２２（第１７実施形態）の真空蒸着装置１２６は、膜蒸気輸送路８４Ａ，８４Ｃの分岐パターンを変えたものである。
図２３（第１８実施形態）の真空蒸着装置１２７は、膜蒸気輸送路８４Ａ，８４Ｂ,８４Ｃの分岐パターンを変えたものである。
【００６７】
図２１〜図２３に示した実施形態によれば、共蒸着を系統ごとに順番に行うことができ、成膜に必要なチャンバー数を減らすことができる。なお、図２１〜図２３に示す蒸発装置９３ａ〜９３ｉ、膜蒸気輸送路８４Ａ〜８４Ｃ、及び膜蒸気放出部８９ａ，８９ｂ、９４ａ，９４ｂ、９９ａ，９９ｂからなる一組のユニットを複数備え、膜蒸気放出部８９ａ，８９ｂ、９４ａ，９４ｂ、９９ａ，９９ｂを同一の真空室２内に設置する構成としてもよい。
【００６８】
他の実施形態について、さらに説明する。
図２４（第１９実施形態）に示す真空蒸着装置１２８では、２個の蒸発装置９３ａ，９３ｂが真空室２の外に設置されている。また、図１７（第１２実施形態）と同様に、真空室２の中に２個の薄膜材料放出部９０，９１が設置されている。本実施形態では、蒸発装置９３ａから管路が分岐しており、蒸発した薄膜材料を薄膜材料放出部９０，９１の両方に供給可能な構成となっている。蒸発装置９３ａと薄膜材料放出部９０とは、開閉弁９７ａを介して連結されている。蒸発装置９３ａと薄膜材料放出部９１とは、開閉弁９７ａ’を介して連結されている。蒸発装置９４ｂについても同様であり、蒸発した薄膜材料を薄膜材料放出部９０，９１の両方に供給可能な構成となっている。そして同様に、蒸発装置９３ｂと薄膜材料放出部９０とは、開閉弁９７ｂを介して連結されている。蒸発装置９３ｂと薄膜材料放出部９１とは、開閉弁９７ｂ’を介して連結されている。
本実施形態は、共蒸着を行うのに適している。
【００６９】
図２５（ａ）、図２５（ｂ）（第２０実施形態）に示す真空蒸着装置１３０は、図１４（第９実施形態）に示したリニアソース方式を基本とし、これに複数の蒸発装置を組み合わせたものである。すなわち真空蒸着装置１３０は、縦に配された開口列７７から原料を放出するものであり、開口列７７が薄膜材料放出部として機能する。真空蒸着装置１３０は、３個の蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃを有しており、蒸発した薄膜材料は、それぞれ開閉弁９７ａ，９７ｂ，９７ｃを介して蒸気通過空間１５に供給される。蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃは、真空室の中に設置してもよいし、真空室の外に設置してもよい。なお図２５（ｂ）では真空室の図示を省略している。
【００７０】
一方、図２６（ａ）、図２６（ｂ）（第２１実施形態）に示す真空蒸着装置１３１では、蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃごとに薄膜材料放出部１３３ａ，１３３ｂ，１３３ｃが設けられている。すなわち本実施形態では、蒸気チャンバー６の内部が３個の薄膜材料放出部１３３ａ，１３３ｂ，１３３ｃに対応して、３室の小部屋１３５ａ，１３５ｂ，１３５ｃに仕切られている。各小部屋１３５ａ，１３５ｂ，１３５ｃが独立した蒸気通過部となる。
本実施形態によれば、薄膜材料放出部１３３ａ，１３３ｂ，１３３ｃから異なる薄膜材料を同時に放出させて共蒸着を行うことができる。また、薄膜材料放出部１３３ａ，１３３ｂ，１３３ｃから異なる薄膜材料を順次放出させて、複数種の薄膜を積層することができる。
蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃは、真空室の中に設置してもよいし、真空室の外に設置してもよい。なお図２６（ｂ）は蒸発装置９３ａの構成を代表例として示しているが、蒸発装置９３ｂ，９３ｃについても全く同じ構成である。また図２６（ｂ）では真空室の図示を省略している。
【００７１】
図１４、図２５、図２６に示したリニアソース方式の例では、蒸気チャンバー６が縦長であり、開口列７７が天地方向に並んでいるが、蒸気チャンバー６を横長とし、開口列７７を水平方向に並べてもよい。この場合には、ガラス基板７ａ，７ｂを開口列７７に対して天地方向に相対移動させることになる。
【００７２】
上記した実施形態では、基本的に蒸気チャンバー６を床置きしているが、本発明はこれに限定されるものではない。図２７（第２２実施形態）に示す真空蒸着装置１４０のように、蒸気チャンバー６を天井から吊り下げて設置してもよい。真空蒸着装置１４０では、蒸発装置５が真空室２の外に設置されており、蒸発した薄膜材料は真空室２の天井側から薄膜材料放出部２５，２６に供給される。
本実施形態においても、１つの蒸気シャンバー６に対して複数の蒸発装置を設けることができる。
さらに図２８（第２３実施形態）に示す様に、複数の蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃと薄膜材料放出部２５，２６（蒸気チャンバー６）からなる一組のユニットを、真空室２内に複数設置することができる。
【００７３】
次に、上述した真空蒸着装置１等によって製造されることが望ましい有機ＥＬ装置の構造及びその製造方法について説明する。
以下に例示する有機ＥＬ装置１００は、集積型の有機ＥＬ装置である。集積型の有機ＥＬ装置１００は、短冊状に形成された有機ＥＬ素子（以下、「単位ＥＬ素子」と称する）を電気的に直列に接続したものである。
集積型有機ＥＬ装置１００の層構成は図２９の通りであり、前記した基本構成の有機ＥＬ装置２００（図３１）と同一であるが、複数の溝が設けられていて一つの平面状の有機ＥＬ素子が短冊状の単位ＥＬ素子に分割されている。
即ち、集積型の有機ＥＬ装置１００は、ガラス基板１０１に透明電極層１０２と機能層１０３及び裏面電極層１０４が順次積層されたものであるが、各層に溝１１０，１１１，１１２，１１３が形成されている。
具体的に説明すると、透明電極層１０２に第一溝１１０が形成され、透明電極層１０２が複数に分割されている。また機能層１０３には第二溝１１１が形成され、機能層１０３が複数に分割され、さらに当該第二溝１１１の中に裏面電極層１０４の一部が進入して溝底部で透明電極層１０２と接している。
さらに機能層１０３の第三溝１１２と裏面電極層１０４に設けられた第四溝１１３が連通し、全体として深い共通溝１１５が形成されている。
【００７４】
集積型有機ＥＬ装置１００は、透明電極層１０２に設けられた第一溝１１０と、機能層１０３（具体的には正孔注入層２１０、正孔輸送層２１１、発光層２１２、及び電子輸送層２１３）及び裏面電極層１０４に設けられた共通溝１１５によって各薄層が区画され、独立した単位ＥＬ素子１２０ａ，１２０ｂ・・・が形成されている。そして前記した様に、第二溝１１１の中に裏面電極層１０４の一部が進入し、裏面電極層１０４の一部が透明電極層１０２と接しており、一つの単位ＥＬ素子１２０ａは隣接する単位ＥＬ素子１２０ｂと電気的に直列に接続されている。
即ち外部から供給される電流は、透明電極層１０２側から機能層１０３を経て裏面電極層１０４側に向かって流れるが、裏面電極層１０４の一部が第二溝１１１を介して透明電極層１０２と接しており、最初の単位ＥＬ素子１２０ａを経て隣の単位ＥＬ素子１２０ｂの透明電極層１０２に流れる。この様に集積型の有機ＥＬ装置１００では、各単位素子が全て直列に電気接続され、全ての単位素子が発光する。
【００７５】
集積型の有機ＥＬ装置１００を製造する際には、最初の工程として図３０（ａ）の様にガラス等の透光性を有する基材１０１の上に、透明電極層１０２を成膜する。
透明電極層１０２には、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ2）酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が用いられる。透明電極層１０２はスパッタ法やＣＶＤ法によって基板１０１に形成される。
【００７６】
そして続いて、第一レーザスクライブ工程を行い、図３０（ｂ）の様に、透明電極層１０２に対してレーザスクライブによって第一溝１１０を形成する。
【００７７】
次に、この基板１０１を真空蒸着装置に入れ、正孔注入層２１０、正孔輸送層２１１、発光層２１２、及び電子輸送層２１３を順次堆積し、図３０（ｃ）に示すように、機能層１０３を形成する。
なお機能層１０３を形成する際にも本実施形態の真空蒸着装置１等を使用することができる。特に図１８に示した真空蒸着装置９５や、図２０に示した真空蒸着装置９８の様に複数の各蒸発装置９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄを備えた構成を採用すれば、前記した正孔注入層２１０、正孔輸送層２１１、発光層２１２、及び電子輸送層２１３を、一つの真空蒸着装置で成膜することができる。
【００７８】
そして真空蒸着装置から取り出した基板１０１に対して第二レーザスクライブ工程を行い、図３０（ｄ）の様に機能層１０３に第二溝１１１を形成する。
【００７９】
続いて、真空蒸着装置に前記基板１０１を挿入し、図３０（ｅ）の様に機能層１０３の上に、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）などの金属材料からなる裏面電極層１０４を形成する。
裏面電極層１０４を形成する工程についても、本発明の真空蒸着装置１等を使用することができる。
【００８０】
さらに続いて第三レーザスクライブ工程を行い、図３０（ｆ）の様に裏面電極層１０４と機能層１０３の双方に共通溝１１５を形成する。
【００８１】
そしてさらに図示しない給電電極の成形や、その外側における分離溝（図示せず）の成形、分離溝の外側部分の裏面電極層１０４等の除去及び封止部による封止の作業が行われて有機ＥＬ装置（光電変換装置）が完成する。
【符号の説明】
【００８２】
１  真空蒸着装置（蒸着装置）
２  真空室
３  基板設置台
５  蒸発装置
６  蒸気チャンバー
７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ  ガラス基板（基材）
９  真空ポンプ
１０  坩堝
１１  気化用電気ヒータ
１２  坩堝設置部
１３  蒸気通過部
１５  蒸気通過空間（膜蒸気輸送路）
２５，２６  薄膜材料放出部
２７  孔
３１ａ，３１ｂ  基板保持壁
３２  被成膜面
４０  蒸気チャンバー
４１  薄膜材料放出部
４３  蒸気チャンバー
４５，４６，４７  薄膜材料放出部
４８  蒸気チャンバー
５０  真空蒸着装置（蒸着装置）
５１  坩堝設置部
５２  蒸気通過部
５３  薄膜材料放出部
５５  薄膜材料放出部
５６  主管路
５７，５８  分岐管路
６０ａ，６０ｂ  流量調整弁（絞り装置）
６１  膜蒸気輸送路
７０  真空蒸着装置（蒸着装置）
７１  坩堝設置部
７２，７３  管
７５，７６  開口（薄膜材料放出部）
７７  開口列（薄膜材料放出部）
７８  真空蒸着装置（蒸着装置）
７９  真空蒸着装置（蒸着装置）
８０  蒸気チャンバー
８１ａ，８１ｂ  蒸気通過部
８２，８３  薄膜材料放出部
８４ａ，８４ｂ，８４ｃ  膜蒸気輸送路
８４Ａ，８４Ｂ，８４Ｃ  膜蒸気輸送路
８５  真空蒸着装置（蒸着装置）
８６  蒸発装置
８７ａ，８７ｂ  管路
８８  管路
８９ａ，８９ｂ  薄膜材料放出部
９４ａ，９４ｂ  薄膜材料放出部
９９ａ，９９ｂ  薄膜材料放出部
９０，９１  薄膜材料放出部
９３ａ，９３ｂ，９３ｃ，９３ｄ，９３ｅ，９３ｆ，９３ｇ，９３ｈ，９３ｉ  蒸発装置
９５  真空蒸着装置（蒸着装置）
９６  マニホールド
９７ａ，９７ｂ，９７ｃ，９７ｄ，９７ｅ，９７ｆ，９７ｇ，９７ｈ，９７ｉ  開閉弁
９７ａ’，９７ｂ’開閉弁
９８  真空蒸着装置（蒸着装置）
９９ａ，９９ｂ  薄膜材料放出部
１００  有機ＥＬ装置
１２５  真空蒸着装置（蒸着装置）
１２６  真空蒸着装置（蒸着装置）
１２７  真空蒸着装置（蒸着装置）
１２８  真空蒸着装置（蒸着装置）
１３０  真空蒸着装置（蒸着装置）
１３１  真空蒸着装置（蒸着装置）
１４０  真空蒸着装置（蒸着装置）
【図１】
2014005478.tif 000003
【図２】
2014005478.tif 000004
【図３】
2014005478.tif 000005
【図４】
2014005478.tif 000006
【図５】
2014005478.tif 000007
【図６】
2014005478.tif 000008
【図７】
2014005478.tif 000009
【図８】
2014005478.tif 000010
【図９】
2014005478.tif 000011
【図１０】
2014005478.tif 000012
【図１１】
2014005478.tif 000013
【図１２】
2014005478.tif 000014
【図１３】
2014005478.tif 000015
【図１４】
2014005478.tif 000016
【図１５】
2014005478.tif 000017
【図１６】
2014005478.tif 000018
【図１７】
2014005478.tif 000019
【図１８】
2014005478.tif 000020
【図１９】
2014005478.tif 000021
【図２０】
2014005478.tif 000022
【図２１】
2014005478.tif 000023
【図２２】
2014005478.tif 000024
【図２３】
2014005478.tif 000025
【図２４】
2014005478.tif 000026
【図２５】
2014005478.tif 000027
【図２６】
2014005478.tif 000028
【図２７】
2014005478.tif 000029
【図２８】
2014005478.tif 000030
【図２９】
2014005478.tif 000031
【図３０】
2014005478.tif 000032
【図３１】
2014005478.tif 000033
【図３２】
2014005478.tif 000034