(57)【要約】【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】液体を介して露光光で基板を露光する。露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板をリリース可能に保持する基板保持部と、基板が配置可能な開口が形成され、基板保持部に保持された基板の周囲に配置される上面、及び基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材と、  少なくとも一部が保持された基板の側面とカバー部材の傾斜面との隙間に配置される多孔部材と、を備える。多孔部材を介して、間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する。【選択図】図３
2014041868.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板をリリース可能に保持する基板保持部と、
前記基板が配置可能な開口が形成され、前記基板保持部に保持された基板の周囲に配置される上面、及び前記基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材と、
少なくとも一部が前記保持された基板の側面と前記カバー部材の傾斜面との隙間に配置される多孔部材と、を備え、
前記多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光装置。
【請求項２】
前記カバー部材の内面は、上端が前記カバー部材の上面と結ばれる第１内面と、前記第１内面の下方に配置され、前記第１内面と非平行な第２内面と、を含み、
前記第２内面が、前記傾斜面を含む請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２内面と、前記第２内面と対向する前記多孔部材の第１対向面とは、実質的に平行である請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記基板の側面と、前記基板の側面と対向する前記多孔部材の第２対向面とは、実質的に平行である請求項２又は３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記多孔部材の少なくとも一部は、前記第１内面と対向する請求項２〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１内面の少なくとも一部は、前記基板保持部に保持されている前記基板の側面と対向する請求項２〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記カバー部材の上面の法線方向に関して、前記第２内面の寸法は、前記第１内面の寸法よりも大きい請求項２〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第１内面は、前記カバー部材の上面の法線と実質的に平行である請求項２〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１内面の下端と前記第２内面の上端とが結ばれる請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記多孔部材は、前記カバー部材の上面よりも下方に配置される請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記多孔部材の少なくとも一部は、前記基板保持部の外側において、前記基板の下面の周縁領域の少なくとも一部と対向する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記多孔部材は、前記カバー部材と間隙を介して配置される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記多孔部材の少なくとも一部は、前記カバー部材に接続される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板をリリース可能に保持する基板保持部と、
前記基板が配置可能な開口が形成され、前記基板保持部に保持された基板の周囲に配置される上面、及び前記基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材と、
多孔部材、及び前記多孔部材よりも上方に配置される回収口を含む回収部材と、を備え、
前記多孔部材及び前記回収口の少なくとも一方を介して、前記基板と前記カバー部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部が回収され、
前記回収口の液体回収力は、前記多孔部材の液体回収力よりも大きい露光装置。
【請求項１５】
前記回収口は、前記間隙に面する請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記多孔部材は、前記基板の側面と対向する第１多孔部材、及び前記傾斜面と対向する第２多孔部材の少なくとも一方を含む請求項１４又は１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記回収部材は、前記多孔部材の孔及び前記回収口の両方に接続される回収流路を有し、
前記回収流路に、真空システムが接続される請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記カバー部材の内面は、上端が前記カバー部材の上面と結ばれる第１内面と、前記第１内面の下方に配置され、前記第１内面と非平行な第２内面と、を含み、
前記第２内面が、前記傾斜面を含む請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第２内面と、前記第２内面と対向する前記回収部材の第１対向面とは、実質的に平行である請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記基板の側面と、前記基板の側面と対向する前記回収部材の第２対向面とは、実質的に平行である請求項１８又は１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記回収部材の少なくとも一部は、前記第１内面と対向する請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記第１内面の少なくとも一部は、前記基板保持部に保持されている前記基板の側面と対向する請求項１８〜２１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記カバー部材の上面の法線方向に関して、前記第２内面の寸法は、前記第１内面の寸法よりも大きい請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記第１内面は、前記カバー部材の上面の法線と実質的に平行である請求項１８〜２３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記第１内面の下端と前記第２内面の上端とが結ばれる請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記回収部材は、前記カバー部材の上面よりも下方に配置される請求項１４〜２５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２７】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部と、
前記基板が配置可能な開口が形成され、前記基板保持部に保持された基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材と、
少なくとも一部が前記基板と前記カバー部材との間の間隙の下方に配置され、第１気孔率の第１部分及び前記第１気孔率とは異なる第２気孔率の第２部分を含む多孔部材と、を備え、
前記多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光装置。
【請求項２８】
前記第１部分は、前記間隙に面する第１上面、前記第１上面の反対側の第１下面、及び前記第１上面の周縁と前記第１下面の周縁とを結ぶ第１側面を有し、
前記第２部分は、前記第１部分の前記第１側面の周囲に配置され、
前記第１部分の気孔率は、前記第２多孔部材の気孔率よりも大きい請求項２７に記載の露光装置。
【請求項２９】
前記第１下面に接続される回収流路を有し、
前記回収流路に、真空システムが接続される請求項２８に記載の露光装置。
【請求項３０】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部と、
前記基板が配置可能な開口が形成され、前記基板保持部に保持された基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材と、
少なくとも一部が前記基板と前記カバー部材との間の間隙の下方に配置され、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部が回収される多孔部材と、
前記多孔部材の第１部分に接続される第１回収流路と、
前記第１部分よりも下方の前記多孔部材の第２部分に接続される第２回収流路と、を備え、
前記多孔部材から回収された前記液体の少なくとも一部は、前記第１回収流路及び前記第２回収流路の少なくとも一方を流れる露光装置。
【請求項３１】
前記第１回収流路に接続される第１液体回収装置と、
前記第２回収流路に接続される第２液体回収装置と、
前記第１、第２液体回収装置を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記基板の露光において、前記第２液体回収装置を作動せずに前記第１液体回収装置を作動し、前記基板の露光前及び露光後の少なくとも一方において、前記第２液体回収装置を作動する請求項３０に記載の露光装置。
【請求項３２】
前記第２液体回収装置の液体回収力は、前記第１液体回収装置の液体回収力よりも大きい請求項３１に記載の露光装置。
【請求項３３】
前記第２回収流路は、前記多孔部材の下面に接続される請求項３０〜３２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３４】
前記第１回収流路は、前記多孔部材の側面に接続される請求項３０〜３３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３５】
前記多孔部材の少なくとも一部は、前記基板と前記カバー部材との間の間隙に配置される請求項３０〜３４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３６】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部と、
前記基板が配置可能な開口が形成され、前記基板保持部に保持された基板の上面の周囲に配置される上面、及び前記基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材と、
少なくとも一部が前記基板と前記カバー部材との間に配置され、前記基板の上面及び前記カバー部材の上面と実質的に同一平面内に配置される第１上面と、前記基板の側面が対向する第１側面と、前記カバー部材の内面が対向する第２側面と、を有する回収部材と、を備え、
前記回収部材は、前記第１上面と前記第１側面とで形成される第１角部、及び前記第１上面と前記第２側面とで形成される第２角部の少なくとも一方に配置される液体回収口を有する露光装置。
【請求項３７】
前記第１角部において、前記回収口は、前記基板保持部の周囲に複数配置される請求項３６に記載の露光装置。
【請求項３８】
前記第２角部において、前記回収口は、前記基板保持部の周囲に複数配置される請求項３６又は３７に記載の露光装置。
【請求項３９】
前記第１上面、前記第１側面、及び前記第２側面は、液体を回収不可能である請求項３６〜３８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４０】
前記第１上面は、前記液体に対して撥液性の膜の表面を含む請求項３６〜３９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４１】
前記カバー部材は、前記カバー部材の上面の内縁領域、前記カバー部材の下面の内縁領域、及び前記上面の内縁領域と前記下面の内縁領域とを結ぶ内面を含み、前記液体に対して撥液性の第１部材と、前記第１部材に接続される第２部材と、を含む請求項１〜４０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４２】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部と、
前記基板が配置可能な開口が形成され、前記基板保持部に保持された基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材と、を備え、
前記カバー部材は、前記カバー部材の上面の内縁領域、前記カバー部材の下面の内縁領域、及び前記上面の内縁領域と前記下面の内縁領域とを結ぶ内面を含み、前記液体に対して撥液性の第１部材と、前記第１部材に接続される第２部材と、を含む露光装置。
【請求項４３】
前記カバー部材の内面は、前記基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む請求項４２に記載の露光装置。
【請求項４４】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、
前記光学部材の下方において前記第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面、及び前記第１部材に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む第２側面を有する第２部材と、
少なくとも一部が前記第１部材の第１側面と前記第２部材の傾斜面との間に配置される多孔部材と、を備え、
前記多孔部材を介して、前記第１部材と前記第２部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光装置。
【請求項４５】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、
前記光学部材の下方において前記第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面、及び前記第１部材に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む第２側面を有する第２部材と、
多孔部材、及び前記多孔部材よりも上方に配置される回収口を含む回収部材と、を備え、
前記多孔部材及び前記回収口の少なくとも一方を介して、前記第１部材と前記第２部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部が回収され、
前記回収口の液体回収力は、前記多孔部材の液体回収力よりも大きい露光装置。
【請求項４６】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、
前記光学部材の下方において前記第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面を有する第２部材と、
少なくとも一部が前記第１部材と前記第２部材との間の間隙の下方に配置され、第１気孔率の第１部分及び前記第１気孔率とは異なる第２気孔率の第２部分を含む多孔部材と、を備え、
前記多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光装置。
【請求項４７】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、
前記光学部材の下方において前記第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面を有する第２部材と、
少なくとも一部が前記第１部材と前記第２部材との間の間隙の下方に配置され、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部が回収される多孔部材と、
前記多孔部材の第１部分に接続される第１回収流路と、
前記第１部分よりも下方の前記多孔部材の第２部分に接続される第２回収流路と、を備え、
前記多孔部材から回収された前記液体の少なくとも一部は、前記第１回収流路及び前記第２回収流路の少なくとも一方を流れる露光装置。
【請求項４８】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、
前記光学部材の下方において前記第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面、及び前記第１部材に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有する第２部材と、
少なくとも一部が前記第１部材と前記第２部材との間に配置され、前記第１部材の第１上面及び前記第２部材の第２上面と実質的に同一平面内に配置される第３上面と、前記第１部材の第１側面が対向する第３側面と、前記第２部材の第２側面が対向する第４側面と、を有する回収部材と、を備え、
前記回収部材は、前記第３上面と前記第３側面とで形成される第１角部、及び前記第３上面と前記第４側面とで形成される第２角部の少なくとも一方に配置される液体回収口を有する露光装置。
【請求項４９】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、
前記光学部材の下方において前記第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面を有する第２部材と、を備え、
前記第２部材は、前記第２部材の第２上面の内縁領域、前記第２部材の第２下面の内縁領域、及び前記第２上面の内縁領域と前記第２下面の内縁領域とを結ぶ内面を含み、前記液体に対して撥液性の第１部材と、前記第１部材に接続される第２部材と、を含む露光装置。
【請求項５０】
請求項１〜４９のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項５１】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記基板保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面、及び前記基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材の前記上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
少なくとも一部が前記基板の側面と前記カバー部材の傾斜面との間に配置される多孔部材を介して、前記基板と前記カバー部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。
【請求項５２】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記基板保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面、及び前記基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材の前記上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
回収部材が有する多孔部材、及び前記多孔部材よりも上方に配置される回収口の少なくとも一方を介して、前記基板と前記カバー部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含み、
前記回収口の液体回収力は、前記多孔部材の液体回収力よりも大きい露光方法。
【請求項５３】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記基板保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材の前記上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
少なくとも一部が前記基板と前記カバー部材との間の間隙の下方に配置され、第１気孔率の第１部分及び前記第１気孔率とは異なる第２気孔率の第２部分を含む多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。
【請求項５４】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記基板保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材の前記上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
少なくとも一部が前記基板と前記カバー部材との間の間隙の下方に配置される多孔部材で、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、
前記多孔部材の第１部分に接続される第１回収流路、及び前記第１部分よりも下方の前記多孔部材の第２部分に接続される第２回収流路の少なくとも一方に、前記多孔部材から回収された前記液体の少なくとも一部を流すことと、を含む露光方法。
【請求項５５】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記基板保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面及び前記基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材の前記上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
少なくとも一部が前記基板と前記カバー部材との間に配置され、前記基板の上面及び前記カバー部材の上面と実質的に同一平面内に配置される第１上面と、前記基板の側面が対向する第１側面と、前記カバー部材の内面が対向する第２側面と、前記第１上面と前記第１側面とで形成される第１角部及び前記第１上面と前記第２側面とで形成される第２角部の少なくとも一方に配置される液体回収口とを有する回収部材から、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。
【請求項５６】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記基板保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材の前記上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、を含み、
前記カバー部材は、前記カバー部材の上面の内縁領域、前記カバー部材の下面の内縁領域、及び前記上面の内縁領域と前記下面の内縁領域とを結ぶ内面を含み、前記液体に対して撥液性の第１部材と、前記第１部材に接続される第２部材と、を含む露光方法。
【請求項５７】
請求項５１〜５６のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する露光装置及び露光方法、デバイス製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス、電子デバイス等のマイクロデバイスの製造工程において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が使用される。露光装置は、基板を保持して移動可能な基板ステージを備え、その基板ステージに保持された基板を露光する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００８／００４３２１１号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００８／０１００８１２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、例えば液体が基板の上面及び基板ステージの上面の少なくとも一方に残留すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板をリリース可能に保持する基板保持部と、基板が配置可能な開口が形成され、基板保持部に保持された基板の周囲に配置される上面、及び基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材と、少なくとも一部が保持された基板の側面と前記カバー部材の傾斜面との隙間に配置される多孔部材と、を備え、多孔部材を介して、間隙に流入する液体の少なくとも一部を回収する露光装置が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板をリリース可能に保持する基板保持部と、基板が配置可能な開口が形成され、基板保持部に保持された基板の周囲に配置される上面、及び基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材と、多孔部材、及び多孔部材よりも上方に配置される回収口を含む回収部材と、を備え、多孔部材及び回収口の少なくとも一方を介して、基板とカバー部材との間の間隙に流入する液体の少なくとも一部が回収され、回収口の液体回収力は、多孔部材の液体回収力よりも大きい露光装置が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部と、基板が配置可能な開口が形成され、基板保持部に保持された基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材と、少なくとも一部が基板とカバー部材との間の間隙の下方に配置され、第１気孔率の第１部分及び第１気孔率とは異なる第２気孔率の第２部分を含む多孔部材と、を備え、多孔部材を介して、間隙に流入する液体の少なくとも一部を回収する露光装置が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部と、基板が配置可能な開口が形成され、基板保持部に保持された基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材と、少なくとも一部が基板とカバー部材との間の間隙の下方に配置され、間隙に流入する液体の少なくとも一部が回収される多孔部材と、多孔部材の第１部分に接続される第１回収流路と、第１部分よりも下方の多孔部材の第２部分に接続される第２回収流路と、を備え、多孔部材から回収された前記液体の少なくとも一部は、第１回収流路及び第２回収流路の少なくとも一方を流れる露光装置が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部と、基板が配置可能な開口が形成され、基板保持部に保持された基板の上面の周囲に配置される上面、及び基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材と、少なくとも一部が基板とカバー部材との間に配置され、基板の上面及びカバー部材の上面と実質的に同一平面内に配置される第１上面と、基板の側面が対向する第１側面と、カバー部材の内面が対向する第２側面と、を有する回収部材と、を備え、回収部材は、第１上面と第１側面とで形成される第１角部、及び第１上面と第２側面とで形成される第２角部の少なくとも一方に配置される液体回収口を有する露光装置が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部と、基板が配置可能な開口が形成され、基板保持部に保持された基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材と、を備え、カバー部材は、カバー部材の上面の内縁領域、カバー部材の下面の内縁領域、及び上面の内縁領域と下面の内縁領域とを結ぶ内面を含み、液体に対して撥液性の第１部材と、第１部材に接続される第２部材と、を含む露光装置が提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、光学部材の下方において第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面、及び第１部材に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む第２側面を有する第２部材と、
少なくとも一部が第１部材の第１側面と第２部材の傾斜面との間に配置される多孔部材と、を備え、多孔部材を介して、第１部材と第２部材との間の間隙に流入する液体の少なくとも一部を回収する露光装置が提供される。
【００１３】
本発明の第８の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、光学部材の下方において第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面、及び第１部材に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む第２側面を有する第２部材と、多孔部材、及び多孔部材よりも上方に配置される回収口を含む回収部材と、を備え、多孔部材及び回収口の少なくとも一方を介して、第１部材と第２部材との間の間隙に流入する液体の少なくとも一部が回収され、回収口の液体回収力は、多孔部材の液体回収力よりも大きい露光装置が提供される。
【００１４】
本発明の第９の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、光学部材の下方において第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面を有する第２部材と、少なくとも一部が第１部材と第２部材との間の間隙の下方に配置され、第１気孔率の第１部分及び第１気孔率とは異なる第２気孔率の第２部分を含む多孔部材と、を備え、
多孔部材を介して、間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光装置が提供される。
【００１５】
本発明の第１０の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、光学部材の下方において第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面を有する第２部材と、少なくとも一部が第１部材と第２部材との間の間隙の下方に配置され、間隙に流入する液体の少なくとも一部が回収される多孔部材と、多孔部材の第１部分に接続される第１回収流路と、第１部分よりも下方の多孔部材の第２部分に接続される第２回収流路と、を備え、多孔部材から回収された液体の少なくとも一部は、第１回収流路及び第２回収流路の少なくとも一方を流れる露光装置が提供される。
【００１６】
本発明の第１１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、光学部材の下方において第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面、及び第１部材に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有する第２部材と、少なくとも一部が第１部材と第２部材との間に配置され、第１部材の第１上面及び第２部材の第２上面と実質的に同一平面内に配置される第３上面と、第１部材の第１側面が対向する第３側面と、第２部材の第２側面が対向する第４側面と、を有する回収部材と、を備え、回収部材は、第３上面と第３側面とで形成される第１角部、及び第３上面と第４側面とで形成される第２角部の少なくとも一方に配置される液体回収口を有する露光装置が提供される。
【００１７】
本発明の第１２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の下方で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第１上面を有する第１部材と、光学部材の下方において第１部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面を有する第２部材と、を備え、第２部材は、第２部材の第２上面の内縁領域、第２部材の第２下面の内縁領域、及び第２上面の内縁領域と第２下面の内縁領域とを結ぶ内面を含み、液体に対して撥液性の第１部材と、第１部材に接続される第２部材と、を含む露光装置が提供される。
【００１８】
本発明の第１３の態様に従えば、第１〜第１２のいずれか一つの態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１９】
本発明の第１４の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された基板の上面、及び基板が配置可能な開口を規定し、基板が基板保持部に保持されている状態において基板の上面の周囲に配置される上面、及び基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材の上面の少なくとも一方との間に、液体で液浸空間が形成されている状態で、基板を露光することと、少なくとも一部が基板の側面とカバー部材の傾斜面との間に配置される多孔部材を介して、基板とカバー部材との間の間隙に流入する液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法が提供される。
【００２０】
本発明の第１５の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された基板の上面、及び基板が配置可能な開口を規定し、基板が基板保持部に保持されている状態において基板の上面の周囲に配置される上面、及び基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材の上面の少なくとも一方との間に、液体で液浸空間が形成されている状態で、基板を露光することと、回収部材が有する多孔部材、及び多孔部材よりも上方に配置される回収口の少なくとも一方を介して、基板とカバー部材との間の間隙に流入する液体の少なくとも一部を回収することと、を含み、回収口の液体回収力は、多孔部材の液体回収力よりも大きい露光方法が提供される。
【００２１】
本発明の第１６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された基板の上面、及び基板が配置可能な開口を規定し、基板が基板保持部に保持されている状態において基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材の上面の少なくとも一方との間に、液体で液浸空間が形成されている状態で、基板を露光することと、少なくとも一部が基板とカバー部材との間の間隙の下方に配置され、第１気孔率の第１部分及び第１気孔率とは異なる第２気孔率の第２部分を含む多孔部材を介して、間隙に流入する液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法が提供される。
【００２２】
本発明の第１７の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された基板の上面、及び基板が配置可能な開口を規定し、基板が基板保持部に保持されている状態において基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材の上面の少なくとも一方との間に、液体で液浸空間が形成されている状態で、基板を露光することと、少なくとも一部が基板とカバー部材との間の間隙の下方に配置される多孔部材で、間隙に流入する液体の少なくとも一部を回収することと、多孔部材の第１部分に接続される第１回収流路、及び第１部分よりも下方の多孔部材の第２部分に接続される第２回収流路の少なくとも一方に、多孔部材から回収された液体の少なくとも一部を流すことと、を含む露光方法が提供される。
【００２３】
本発明の第１８の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された基板の上面、及び基板が配置可能な開口を規定し、基板が基板保持部に保持されている状態において基板の上面の周囲に配置される上面及び基板保持部の中心に対して外側に向かって下方に傾斜する傾斜面を含む内面を有するカバー部材の上面の少なくとも一方との間に、液体で液浸空間が形成されている状態で、基板を露光することと、少なくとも一部が基板とカバー部材との間に配置され、基板の上面及びカバー部材の上面と実質的に同一平面内に配置される第１上面と、基板の側面が対向する第１側面と、カバー部材の内面が対向する第２側面と、第１上面と前記第１側面とで形成される第１角部及び第１上面と第２側面とで形成される第２角部の少なくとも一方に配置される液体回収口とを有する回収部材から、間隙に流入する液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法が提供される。
【００２４】
本発明の第１９の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する基板保持部に保持された基板の上面、及び基板が配置可能な開口を規定し、基板が基板保持部に保持されている状態において基板の上面の周囲に配置される上面を有するカバー部材の上面の少なくとも一方との間に、液体で液浸空間が形成されている状態で、基板を露光することと、を含み、カバー部材は、カバー部材の上面の内縁領域、カバー部材の下面の内縁領域、及び上面の内縁領域と下面の内縁領域とを結ぶ内面を含み、液体に対して撥液性の第１部材と、第１部材に接続される第２部材と、を含む露光方法が提供される。
【００２５】
本発明の第２０の態様に従えば、第１４〜第１９のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材及び基板ステージの一例を示す図。
【図３】図２の一部を拡大した図。
【図４】図３における間隙Ｇａの部分拡大図。
【図５】傾斜部８５を傾斜面Ｔｓとの対向方向で断面した図。
【図６】基板ステージの平面図。
【図７】第２実施形態に係る要部構成を示す図。
【図８】図７における間隙Ｇａの部分拡大図。
【図９】傾斜部８５を傾斜面Ｔｓとの対向方向で断面した図。
【図１０】第３実施形態に係る露光装置の要部詳細図。
【図１１】第４実施形態に係る露光装置の要部詳細図。
【図１２】第５実施形態に係る露光装置の要部詳細図。
【図１３】第６実施形態に係る露光装置の要部詳細図。
【図１４】第７実施形態に係る露光装置の要部詳細図。
【図１５】第８実施形態に係る要部構成を示す図。
【図１６】他の実施形態に係るカバー部材の平面図。
【図１７】他の実施形態に係るカバー部材の断面図。
【図１８】露光装置の一例を示す平面図。
【図１９】基板ステージの一例を示す図。
【図２０】デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法の実施の形態を、図１ないし図２０を参照して説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００２９】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００３０】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号明細書、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号明細書等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。
【００３１】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ（ステージ装置）２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材Ｃ及び計測器を搭載して移動可能な計測ステージ３と、マスクステージ１を移動する駆動システム４と、基板ステージ２を移動する駆動システム５と、計測ステージ３を移動する駆動システム６と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材７と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置８と、制御装置８に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置８Ｒとを備えている。記憶装置８Ｒは、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置８Ｒには、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【００３２】
また、露光装置ＥＸは、マスクステージ１、基板ステージ２、及び計測ステージ３の位置を計測する干渉計システム１１と、検出システム３００とを備えている。検出システム３００は、基板Ｐのアライメントマークを検出するアライメントシステム３０２と、基板Ｐの上面（表面）Ｐａの位置を検出する表面位置検出システム３０３とを含む。なお、検出システム３００が、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号明細書に開示されているような、基板ステージ２の位置を検出するエンコーダシステムを備えてもよい。
【００３３】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００３４】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）や撥液膜を含んでもよい。
【００３５】
また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間１０２の環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置１０３を備えている。チャンバ装置１０３は、空間１０２を形成するチャンバ部材１０４と、その空間１０２の環境を調整する空調システム１０５とを有する。
【００３６】
空間１０２は、空間１０２Ａ及び空間１０２Ｂを含む。空間１０２Ａは、基板Ｐが処理される空間である。基板ステージ２及び計測ステージ３は、空間１０２Ａを移動する。
【００３７】
空調システム１０５は、空間１０２Ａ、１０２Ｂに気体を供給する給気部１０５Ｓを有し、その給気部１０５Ｓから空間１０２Ａ、１０２Ｂに気体を供給して、その空間１０２Ａ、１０２Ｂの環境を調整する。本実施形態においては、少なくとも基板ステージ２、計測ステージ３、及び投影光学系ＰＬの終端光学素子１２が空間１０２Ａに配置される。
【００３８】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を、均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００３９】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含むベース部材９のガイド面９Ｇ上を移動可能である。駆動システム４は、ガイド面９Ｇ上でマスクステージ１を移動するための平面モータを含む。平面モータは、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されているような、マスクステージ１に配置された可動子と、ベース部材９に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、マスクステージ１は、駆動システム４の作動により、ガイド面９Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００４０】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００４１】
基板ステージ２は、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）に移動可能である。基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、投影領域ＰＲを含むベース部材１０のガイド面１０Ｇ上を移動可能である。計測ステージ３は、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）に移動可能である。計測ステージ３は、計測部材Ｃを保持した状態で、投影領域ＰＲを含むベース部材１０のガイド面１０Ｇ上を移動可能である。基板ステージ２と計測ステージ３とは、ガイド面１０Ｇ上を独立して移動可能である。
【００４２】
基板ステージ２を移動するための駆動システム５は、ガイド面１０Ｇ上で基板ステージ２を移動するための平面モータを含む。平面モータは、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されているような、基板ステージ２に配置された可動子と、ベース部材１０に配置された固定子とを有する。同様に、計測ステージ３を移動するための駆動システム６は、平面モータを含み、計測ステージ３に配置された可動子と、ベース部材１０に配置された固定子とを有する。
【００４３】
本実施形態において、基板ステージ２は、基板Ｐの下面Ｐｂをリリース可能に保持する第１保持部（基板保持部）３１と、基板Ｐが配置可能な開口Ｔｈを規定し、基板Ｐが第１保持部３１に保持されている状態において基板Ｐの上面Ｐａの周囲に配置される上面とを有する。
【００４４】
本実施形態において、基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号明細書、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号明細書等に開示されているような、第１保持部３１の周囲に配置され、カバー部材Ｔの下面Ｔｂをリリース可能に保持する第２保持部３２を有する。カバー部材Ｔは、例えば、表面が撥水性（撥液性）を有し、第１保持部３１に保持された基板Ｐの周囲に配置される。本実施形態においては、カバー部材Ｔが、第１保持部３１に保持された基板Ｐが配置される開口Ｔｈを有する。本実施形態においては、カバー部材Ｔが上面２Ｕを有する。
【００４５】
本実施形態において、第１保持部３１は、基板Ｐの上面ＰａとＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。第２保持部３２は、カバー部材Ｔの上面２ＵとＸＹ平面とがほぼ平行となるように、カバー部材Ｔを保持する。本実施形態において、第１保持部３１に保持された基板Ｐの上面Ｐａと第２保持部３２に保持されたカバー部材Ｔの上面２Ｕとは、ほぼ同一平面内に配置される（ほぼ面一である）。
【００４６】
本実施形態において、計測ステージ３は、計測部材Ｃをリリース可能に保持する第３保持部３３と、第３保持部３３の周囲に配置され、カバー部材Ｑをリリース可能に保持する第４保持部３４とを有する。第３，第４保持部３３，３４は、ピンチャック装置を有する。カバー部材Ｑは、第３保持部３３に保持された計測部材Ｃの周囲に配置される。なお、第３保持部３３及び第４保持部３４の少なくとも一方で使用される保持装置はピンチャック装置に限られない。また、計測部材Ｃ及びカバー部材Ｑの少なくとも一方は、計測ステージ３に一体的に形成されていてもよい。
【００４７】
本実施形態において、第３保持部３３は、計測部材Ｃの上面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、計測部材Ｃを保持する。第４保持部３４は、カバー部材Ｑの上面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、カバー部材Ｑを保持する。本実施形態において、第３保持部３３に保持された計測部材Ｃの上面と第４保持部３４に保持されたカバー部材Ｑの上面とは、ほぼ同一平面内に配置される（ほぼ面一である）。
【００４８】
ここで、以下の説明において、第２保持部３２に保持されたカバー部材Ｔの上面２Ｕを適宜、基板ステージ２の上面２Ｕ、と称し、第３保持部３３に保持された計測部材Ｃの上面及び第４保持部３４に保持されたカバー部材Ｑの上面を合わせて適宜、計測ステージ３の上面３Ｕ、と称する。
【００４９】
干渉計システム１１は、マスクステージ１の位置を計測するレーザ干渉計ユニット１１Ａと、基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するレーザ干渉計ユニット１１Ｂとを含む。レーザ干渉計ユニット１１Ａは、マスクステージ１に配置された計測ミラー１Ｒを用いて、マスクステージ１の位置を計測可能である。レーザ干渉計ユニット１１Ｂは、基板ステージ２に配置された計測ミラー２Ｒ、及び計測ステージ３に配置された計測ミラー３Ｒを用いて、基板ステージ２及び計測ステージ３それぞれの位置を計測可能である。
【００５０】
アライメントシステム３０２は、基板Ｐのアライメントマークを検出して、その基板Ｐのショット領域Ｓの位置を検出する。アライメントシステム３０２は、基板ステージ２（基板Ｐ）が対向可能な下面を有する。基板ステージ２の上面２Ｕ、及び基板ステージ２に保持されている基板Ｐの上面（表面）Ｐａは、−Ｚ方向を向くアライメントシステム３０２の下面と対向可能である。
【００５１】
表面位置検出システム３０３は、例えばオートフォーカス・レベリングシステムとも呼ばれ、基板ステージ２に保持された基板Ｐの上面（表面）Ｐａに検出光を照射して、その基板Ｐの上面Ｐａの位置を検出する。表面位置検出システム３０３は、基板ステージ２（基板Ｐ）が対向可能な下面を有する。基板ステージ２の上面２Ｕ、及び基板ステージ２に保持されている基板Ｐの上面Ｐａは、−Ｚ方向を向く表面位置検出システム３０３の下面と対向可能である。
【００５２】
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置８は、干渉計システム１１の計測結果、及び検出システム３００の検出結果に基づいて、駆動システム４，５，６を作動し、マスクステージ１（マスクＭ）、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。
【００５３】
液浸部材７は、露光光ＥＬの光路の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成可能である。液浸部材７は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子１２の近傍に配置される。本実施形態において、液浸部材７は、環状の部材であり、露光光ＥＬの光路の周囲に配置される。本実施形態においては、液浸部材７の少なくとも一部が、終端光学素子１２の周囲に配置される。
【００５４】
終端光学素子１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面１３を有する。本実施形態において、射出面１３側に液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳは、射出面１３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。射出面１３から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。射出面１３は、露光光ＥＬの進行方向（−Ｚ方向）を向く。本実施形態において、射出面１３は、ＸＹ平面とほぼ平行な平面である。なお、射出面１３がＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。
【００５５】
液浸部材７は、少なくとも一部が−Ｚ方向を向く下面１４を有する。本実施形態において、射出面１３及び下面１４は、射出面１３から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）に配置される物体との間で液体ＬＱを保持することができる。液浸空間ＬＳは、射出面１３及び下面１４の少なくとも一部と投影領域ＰＲに配置される物体との間に保持された液体ＬＱによって形成される。液浸空間ＬＳは、射出面１３と、投影領域ＰＲに配置される物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸部材７は、終端光学素子１２と物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように物体との間で液体ＬＱを保持可能である。
【００５６】
本実施形態において、投影領域ＰＲに配置可能な物体は、投影光学系ＰＬの像面側（終端光学素子１２の射出面１３側）で投影領域ＰＲに対して移動可能な物体を含む。その物体は、終端光学素子１２及び液浸部材７に対して移動可能である。その物体は、射出面１３及び下面１４の少なくとも一方と対向可能な上面（表面）を有する。物体の上面は、射出面１３との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。その物体は、終端光学素子１２の光軸（Ｚ軸）と垂直な面内（ＸＹ平面内）において移動可能である。本実施形態において、物体の上面は、射出面１３及び下面１４の少なくとも一部との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。一方側の射出面１３及び下面１４と、他方側の物体の上面（表面）との間に液体ＬＱが保持されることによって、終端光学素子１２と物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００５７】
本実施形態において、その物体は、基板ステージ２、基板ステージ２に保持された基板Ｐ、計測ステージ３、及び計測ステージ３に保持された計測部材Ｃの少なくとも一つを含む。例えば、基板ステージ２の上面２Ｕ、及び基板ステージ２に保持されている基板Ｐの表面（上面）Ｐａは、−Ｚ方向を向く終端光学素子１２の射出面１３、及び−Ｚ方向を向く液浸部材７の下面１４と対向可能である。もちろん、投影領域ＰＲに配置可能な物体は、基板ステージ２、基板ステージ２に保持された基板Ｐ、計測ステージ３、及び計測ステージ３に保持された計測部材Ｃの少なくとも一つに限られない。また、それら物体は、検出システム３００の少なくとも一部と対向可能である。
【００５８】
本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐの露光時において、液浸部材７は、終端光学素子１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧの少なくとも一部は、液浸部材７の下面１４と基板Ｐの表面との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。
【００５９】
図２は、本実施形態に係る液浸部材７及び基板ステージ２の一例を示す側断面図である。図３は、図２の一部を拡大した図である。なお、図２においては、投影領域ＰＲ（終端光学素子１２及び液浸部材７と対向する位置）に基板Ｐが配置されているが、上述のように、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、及び計測ステージ３（カバー部材Ｑ、計測部材Ｃ）を配置することもできる。
【００６０】
図２に示すように、液浸部材７は、少なくとも一部が終端光学素子１２の射出面１３と対向する対向部７１と、少なくとも一部が終端光学素子１２の周囲に配置される本体部７２とを含む。対向部７１は、射出面１３と対向する位置に孔（開口）７Ｋを有する。対向部７１は、少なくとも一部が射出面１３とギャップを介して対向する上面７Ｕと、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面７Ｈとを有する。孔７Ｋは、上面７Ｕと下面７Ｈとを結ぶように形成される。上面７Ｕは、孔７Ｋの上端の周囲に配置され、下面７Ｈは、孔７Ｋの下端の周囲に配置される。射出面１３から射出された露光光ＥＬは、孔７Ｋを通過して、基板Ｐに照射可能である。
【００６１】
本実施形態において、上面７Ｕ及び下面７Ｈのそれぞれは、光路Ｋの周囲に配置される。本実施形態において、下面７Ｈは、平坦面である。下面７Ｈは、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。以下の説明において、下面７Ｈを適宜、保持面７Ｈ、と称する。
【００６２】
また、液浸部材７は、液体ＬＱを供給可能な供給口１５と、液体ＬＱを回収可能な回収口１６とを有する。供給口１５は、例えば基板Ｐの露光時において液体ＬＱを供給する。回収口１６は、例えば基板Ｐの露光時において液体ＬＱを回収する。なお、供給口１５は、基板Ｐの露光時及び非露光時の一方又は両方において液体ＬＱを供給可能である。なお、回収口１６は、基板Ｐの露光時及び非露光時の一方又は両方において液体ＬＱを回収可能である。
【００６３】
供給口１５は、射出面１３から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの近傍において、その光路Ｋに面するように配置されている。なお、供給口１５は、射出面１３と開口７Ｋとの間の空間及び終端光学素子１２の側面の一方又は両方に面していればよい。本実施形態において、供給口１５は、上面７Ｕと射出面１３との間の空間に液体ＬＱを供給する。供給口１５から供給された液体ＬＱは、その上面７Ｕと射出面１３との間の空間を流れた後、開口７Ｋを介して、基板Ｐ（物体）上に供給される。
【００６４】
供給口１５は、流路１７を介して、液体供給装置１８と接続されている。液体供給装置１８は、清浄で温度調整された液体ＬＱを送出可能である。この液体供給装置１８は、露光装置ＥＸに備えられていてもよいし、露光装置ＥＸ外の例えばクリーンルームに備えられていてもよい。流路１７は、液浸部材７の内部に形成された供給流路１７Ｒ、及びその供給流路１７Ｒと液体供給装置１８とを接続する供給管で形成される流路を含む。液体供給装置１８から送出された液体ＬＱは、流路１７を介して供給口１５に供給される。少なくとも基板Ｐの露光において、供給口１５は、液体ＬＱを供給する。
【００６５】
回収口１６は、液浸部材７の下面１４と対向する物体上の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。回収口１６は、露光光ＥＬが通過する開口７Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態においては、回収口１６は、保持面７Ｈの周囲の少なくとも一部に配置される。回収口１６は、物体の表面と対向する液浸部材７の所定位置に配置されている。少なくとも基板Ｐの露光において、回収口１６に基板Ｐが対向する。基板Ｐの露光において、回収口１６は、基板Ｐ上の液体ＬＱを回収する。
【００６６】
本実施形態において、本体部７２は、基板Ｐ（物体）に面する開口７Ｐを有する。開口７Ｐは、保持面７Ｈの周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、液浸部材７は、開口７Ｐに配置された多孔部材１９を有する。本実施形態において、多孔部材１９は、複数の孔(openingsあるいはpores)を含むプレート状の部材である。なお、開口７Ｐに、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタが配置されてもよい。
【００６７】
本実施形態において、多孔部材１９は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面１９Ｈと、下面１９Ｈの反対方向を向く上面１９Ｕと、上面１９Ｕと下面１９Ｈとを結ぶ複数の孔とを有する。下面１９Ｈは、保持面７Ｈの周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、液浸部材７の下面１４の少なくとも一部は、保持面７Ｈ及び下面１９Ｈを含む。
【００６８】
本実施形態において、回収口１６は、多孔部材１９の孔を含む。本実施形態において、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、多孔部材１９の孔（回収口１６）を介して回収される。なお、多孔部材１９が配置されなくてもよい。
【００６９】
回収口１６は、流路２０を介して、液体回収装置２１と接続されている。液体回収装置２１は、回収口１６を真空システムに接続可能であり、回収口１６を介して液体ＬＱを吸引可能である。この液体回収装置２１は、露光装置ＥＸに備えられていてもよいし、露光装置ＥＸ外の例えばクリーンルームに備えられていてもよい。流路２０は、液浸部材７の内部に形成された回収流路２０Ｒ、及びその回収流路２０Ｒと液体回収装置２１とを接続する回収管で形成される流路を含む。回収口１６から回収された液体ＬＱは、流路２０を介して、液体回収装置２１に回収される。
【００７０】
本実施形態においては、制御装置８は、供給口１５からの液体ＬＱの供給動作と並行して、回収口１６からの液体ＬＱの回収動作を実行することによって、一方側の終端光学素子１２及び液浸部材７と、他方側の物体との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００７１】
なお、液浸部材７として、例えば米国特許出願公開第２００７／０１３２９７６号明細書、欧州特許出願公開第１７６８１７０号明細書に開示されているような液浸部材（ノズル部材）を用いることができる。
【００７２】
図２及び図３に示すように、本実施形態において、基板ステージ２は、基板（物体）Ｐとカバー部材Ｔ（基板ステージ２）との間の間隙（ギャップ）Ｇａに通じる空間部２３を有する。空間部２３は、間隙Ｇａの下方に位置する。間隙Ｇａは、互いに対向する、第１保持部３１に保持された基板Ｐの側面Ｐｃと、第２保持部３２に保持されたカバー部材Ｔの内面Ｔｃとの間に形成される。内面Ｔｃは、基板Ｐの側面Ｐｃと平行で上端が上面Ｔａと結ばれる第１内面Ｔｄと、第１内面Ｔｄの下方に第１内面Ｔｄとは非平行に配置され、第１保持部３１の中心に対して外側に向かうに従って下方に傾斜する傾斜面（第２内面）Ｔｓとを有している。
【００７３】
図４は、図３における間隙Ｇａの部分拡大図である。
空間部２３には、吸引部８１が配置されている。吸引部８１は間隙Ｇａに配置される多孔部材８０と、多孔部材８０を支持する支持部材８２とを備えている。本実施形態において、多孔部材８０は、例えばチタン製である。多孔部材８０は、例えば焼結法により形成可能である。本実施形態において、間隙Ｇａに流入する液体ＬＱの少なくとも一部は、多孔部材８０を介して回収される。多孔部材８０は、カバー部材Ｔの傾斜面Ｔｓと平行に対向配置された第１対向面８５ａを有する傾斜部８５と、基板Ｐの側面Ｐｃと平行に対向配置された第２対向面８６ａを有する鉛直部８６とを備えている。図５は、傾斜部８５を傾斜面Ｔｓとの対向方向で断面した部分断面図である。図５に示すように、傾斜部８５には、傾斜面Ｔｓ側に向けて突出する鋭端部８５Ｅと溝部８５Ｆとが第１保持部３１の中心を通るＺ軸と平行な軸線周りに全周に亘って交互に形成されている。
【００７４】
傾斜部８５と鉛直部８６とは上部において鋭角に交差している。傾斜部８５と鉛直部８６との交差部８９の最上端位置は、略面一となっている基板Ｐの上面Ｐａ及びカバー部材Ｔの上面Ｔａよりも低い位置（−Ｚ側の位置）となるように形成されている。具体的には、交差部８９の最上端位置は、間隙Ｇａに液体がブリッジ状に残留した場合でも、当該液体に最上端が当接する位置に設定される。傾斜部８５と鉛直部８６とは、下方において支持部材８２との間に断面三角形状の中空部８７を形成する。中空部８７は、第１保持部３１の中心を通るＺ軸と平行な軸線周りに全周に亘って形成されている。なお、傾斜部８５と鉛直部８６との交差部８９の最上端位置を、略面一となっている基板Ｐの上面Ｐａ及びカバー部材Ｔの上面Ｔａと実質的に同じ高さとしてもよい。
【００７５】
支持部材８２は、例えば金属材で形成されている。支持部材８２は、連通部２７及び流路２８を備えている。連通部２７は支持部材８２の上面に形成されており、多孔部材８０の中空部８７と連通する。流路２８は、Ｚ方向に延在して形成されており、上端が連通部２７に開口し、下端が後述する吸引口２４を介して流路２５と連通している。
【００７６】
本実施形態において、基板ステージ２は、空間部２３に配置される吸引口２４を有する。本実施形態において、吸引口２４は、空間部２３を形成する基板ステージ２の内面の少なくとも一部に形成されている。吸引口２４は、流路２５を介して、流体吸引装置２６と接続されている。流体吸引装置２６は、吸引口２４を真空システムに接続可能であり、吸引口２４を介して液体及び気体の一方又は両方を吸引可能である。流路２５の少なくとも一部は、基板ステージ２の内部に形成される。吸引口２４を介して吸引された流体（液体及び気体の少なくとも一方）は、流路２５を介して、流体吸引装置２６に吸引される。
【００７７】
本実施形態において、第１保持部３１は、例えばピンチャック装置を有する。第１保持部３１は、基板ステージ２の支持面３１Ｓに配置され、基板Ｐの下面Ｐｂが対向可能な周壁部３５と、周壁部３５の内側の支持面３１Ｓに配置され、複数のピン部材を含む支持部３６と、支持面３１Ｓに配置され、流体を吸引する吸引口３７とを有する。吸引口３７は、流体吸引装置と接続される。流体吸引装置は、制御装置８に制御される。周壁部３５の上面は、基板Ｐの下面Ｐｂと対向可能である。周壁部３５は、基板Ｐの下面Ｐｂとの間の少なくとも一部に負圧空間を形成可能である。なお、支持面３１Ｓにおいて、周壁部３５は実質的に円形であり、前述、及び後述の説明において、第１保持部３１の中心は、周壁部３５の中心である。なお、本実施形態においては、ＸＹ平面内において、周壁部３５は、実質的に円形（円環状）である。制御装置８は、基板Ｐの下面Ｐｂと周壁部３５の上面とが接触された状態で、吸引口３７の吸引動作を実行することによって、周壁部３５と基板Ｐの下面Ｐｂと支持面３１Ｓとで形成される空間３１Ｈを負圧にすることができる。これにより、基板Ｐが第１保持部３１に保持される。また、吸引口３７の吸引動作が解除されることによって、基板Ｐは第１保持部３１から解放される。
【００７８】
本実施形態においては、空間３１Ｈを負圧にすることにより、基板Ｐの下面が支持部３６（複数のピン部材）の上端に保持される。すなわち、支持部３６（複数のピン部材）の上端によって基板Ｐを保持する保持面３６Ｓの少なくとも一部が規定されている。
【００７９】
本実施形態において、第２保持部３２は、例えばピンチャック装置を有する。第２保持部３２は、基板ステージ２の支持面３２Ｓにおいて周壁部３５を囲むように配置され、カバー部材Ｔの下面Ｔｂが対向可能な周壁部３８と、支持面３２Ｓにおいて周壁部３８を囲むように配置され、カバー部材Ｔの下面Ｔｂが対向可能な周壁部３９と、周壁部３８と周壁部３９との間の支持面３２Ｓに配置され、複数のピン部材を含む支持部４０と、支持面３２Ｓに配置され、流体を吸引する吸引口４１とを有する。吸引口４１は、流体吸引装置と接続される。流体吸引装置は、制御装置８に制御される。周壁部３８、３９の上面は、カバー部材Ｔの下面Ｔｂと対向可能である。周壁部３８、３９は、カバー部材Ｔの下面Ｔｂとの間の少なくとも一部に負圧空間を形成可能である。制御装置８は、カバー部材Ｔの下面Ｔｂと周壁部３８、３９の上面とが接触された状態で、吸引口４１の吸引動作を実行することによって、周壁部３８と周壁部３９とカバー部材Ｔの下面Ｔｂと支持面３２Ｓとで形成される空間３２Ｈを負圧にすることができる。これにより、カバー部材Ｔが第２保持部３２に保持される。また、吸引口４１の吸引動作が解除されることによって、カバー部材Ｔは第２保持部３２から解放される。
【００８０】
次に、露光装置ＥＸの動作の一例について、図１乃至図６を参照して説明する。図６は、第１保持部３１（基板ステージ２）に保持された基板Ｐの一例を示す図である。
第１保持部３１に保持されている基板Ｐを露光するために、基板ステージ２を露光位置に移動して、終端光学素子１２及び液浸部材７と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成された後、制御装置８は、基板Ｐの露光処理を開始する。
【００８１】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置８は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。これにより、基板Ｐが液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が投影光学系ＰＬ及び液体ＬＱを介して基板Ｐに投影される。
【００８２】
図６に示すように、本実施形態においては、基板Ｐ上に露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置されている。制御装置８は、基板Ｐ上に定められた複数のショット領域Ｓを順次露光する。
【００８３】
基板Ｐのショット領域Ｓを露光するとき、終端光学素子１２及び液浸部材７と基板Ｐとが対向され、終端光学素子１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐの複数のショット領域Ｓを順次露光するとき、終端光学素子１２及び液浸部材７と基板Ｐの上面Ｐａ及び基板ステージ２の上面２Ｕの少なくとも一方との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成されている状態で、駆動システム５によって基板ステージ２がＸＹ平面内において移動される。制御装置８は、終端光学素子１２及び液浸部材７と基板Ｐの上面Ｐａ及び基板ステージ２の上面２Ｕの少なくとも一方との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ステージ２を移動しながら、基板Ｐの露光を実行する。
【００８４】
例えば基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓのうち最初のショット領域Ｓを露光するために、制御装置８は、その第１のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。制御装置８は、液浸空間ＬＳが形成された状態で、第１のショット領域Ｓ（基板Ｐ）を投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動しながら、その第１のショット領域Ｓに対して露光光ＥＬを照射する。
【００８５】
第１のショット領域Ｓの露光が終了した後、次の第２のショット領域Ｓを露光するために、制御装置８は、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板ＰをＸ軸方向（あるいはＸＹ平面内においてＸ軸方向に対して傾斜する方向）に移動し、第２のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。制御装置８は、第１のショット領域Ｓと同様に、第２のショット領域Ｓを露光する。
【００８６】
制御装置８は、投影領域ＰＲに対してショット領域ＳをＹ軸方向に移動しながらそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する動作（スキャン露光動作）と、そのショット領域Ｓの露光が終了した後、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動するための動作（ステッピング動作）とを繰り返しながら、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓを、投影光学系ＰＬ及び液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して順次露光する。基板Ｐの複数のショット領域Ｓに対して露光光ＥＬが順次照射される。
【００８７】
本実施形態において、制御装置８は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図６中、矢印Ｒ１に示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して基板Ｐの複数のショット領域Ｓを露光光ＥＬで順次露光する。基板Ｐの露光における基板ステージ２の移動中の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳは、間隙Ｇａ上に形成される。
【００８８】
例えば、投影領域ＰＲが基板Ｐに対して、図６に示すショット領域Ｓ１からショット領域Ｓ２に移動軌跡Ｒ１に沿ってＹ方向に相対移動する場合、ショット領域Ｓ１において、間隙Ｇａが液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する第１状態から、ショット領域Ｓ２において、間隙Ｇａが液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触しない第２状態に変化する。第１状態から第２状態に変化した後には、図４に示すように、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの一部が分離して間隙Ｇａにブリッジ状に残留する場合がある。
【００８９】
間隙Ｇａにブリッジ状に残留した液体は多孔部材８０における先端部８９と当接しているため、流体吸引装置２６の作動による負圧吸引力が流路２５、２８及び連通部２７を介して中空部８７に作用することで多孔部材８０に付着した液体ＬＱは、多孔部材８０の孔を介して吸引され、中空部８７、連通部２７、流路２８、２５を介して吸引・回収される。
【００９０】
以上説明したように、本実施形態では、間隙Ｇａにブリッジ状に液体ＬＱが残留した場合でも、多孔部材８０から液体ＬＱを除去して回収するため、間隙Ｇａに残留する液体ＬＱ、及び液体ＬＱが残留した状態で液浸空間ＬＳが間隙Ｇａを通過した場合にエアが巻き込まれることで生じる気泡に起因して、露光不良が生じることを抑制できる。特に、本実施形態では、多孔部材８０に中空部８７を設けているため、傾斜部８５及び鉛直部８６における壁厚が薄くなり、残留液体ＬＱに対する負圧吸引力の圧損を効果的に緩和することが可能になる。
【００９１】
また、本実施形態では、多孔部材８０の上端部が、基板Ｐの上面Ｐａ及びカバー部材Ｔの上面Ｔａよりも低い位置にあるため、多孔部材８０の孔が、所謂、親水トラップ源として作用し、間隙Ｇａに液体ＬＱを残留させる原因となってしまうことを緩和できる。しかも、本実施形態では、多孔部材８０において上端部１に鋭端部８５Ｅが形成され、間隙Ｇａに残留する液体ＬＱと接触する箇所を限定しているため、間隙Ｇａに液体ＬＱを残留させる原因となってしまうことをさらに緩和することが可能になる。
【００９２】
＜第２実施形態＞
次に、露光装置ＥＸの第２実施形態について、図７乃至図９を参照して説明する。
これらの図において、図１乃至図６に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
第２実施形態においては、吸引部８１の構成が第１実施形態と異なっている。
【００９３】
図７及び図８に示すように、本実施形態の露光装置ＥＸにおける吸引部（回収部材）８１は、第１支持部材８２Ａと、第２支持部材８２Ｂと、傾斜部（第２多孔部材）８５と、鉛直部（第１多孔部材）８６とを備えている。傾斜部８５及び鉛直部８６は、多孔部材８０を構成する。
【００９４】
第１支持部材８２Ａは、断面視で三角形状を有し、第１保持部３１の中心を通るＺ軸と平行な軸線周りに延在するリング形状に形成されている。第１支持部材８２Ａは、例えば、金属材で形成されている。多孔部材８０の傾斜部８５は、第１支持部材８２Ａにおいてカバー部材Ｔの傾斜面Ｔｓと対向する位置に埋設された形状を有している。また、多孔部材８０の鉛直部８６は、第１支持部材８２Ａにおいて、交差部８９よりも低い位置で、且つ基板Ｐの側面Ｐｃと対向する位置で第２支持部材８２まで延びるように埋設された形状を有している。
【００９５】
また、第１支持部材８２Ａは、第１保持部３１の中心を通るＺ軸と平行な軸線を中心とする径方向で、傾斜部８５と鉛直部８６との間の位置でＺ方向に貫通する吸引孔９１と、Ｚ方向に延び上端が傾斜部８５に臨んで開口する吸引孔９２とを備えている。吸引孔９１の上端は、図９に示すように、回収口として鋭端部８５Ｅにおいて間隙Ｇａに臨んで開口している。
【００９６】
第２支持部材８２Ｂは、第１支持部材８２Ａを下方から支持するものであって、上端が吸引孔９１と連通し、下端が連通部２７に開口する流路９１Ａと、上端が吸引孔９２と連通し、下端が連通部２７に開口する流路９２Ａと、上端が鉛直部８６に臨んで開口し、下端が連通部２７に開口する流路９３Ａとを備えている。
上記吸引孔９１、９２、流路９１Ａ〜９３Ａ、２８及び連通部２７は、液体の回収流路を形成している。
他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【００９７】
上記構成の露光装置ＥＸでは、例えば、流体吸引装置２６を常時作動させることにより、間隙Ｇａに残留した液体は、吸引孔９１から流路９１Ａを介して吸引される。また、吸引孔９１から吸引されなかった液体は、基板Ｐの側面Ｐｃとの隙間を介して鉛直部８６の孔から流路９３Ａを介して吸引される、あるいは、溝部８５Ｆを流動して傾斜部８５の孔から吸引孔９２及び流路９２Ａを介して吸引される。
【００９８】
流路９１Ａ〜９３Ａを介して吸引された液体は、連通部２７、流路２８、２５などを介して吸引・回収される。
【００９９】
このように、本実施形態では、上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、間隙Ｇａに残留した液体を、多孔質の孔を介して吸引する場合よりも圧損が少なく液体回収力の大きい吸引孔９１を介して吸引するため、より効果的に液体を回収することが可能となる。また、本実施形態では、吸引孔９１から吸引されずに、基板Ｐの側面Ｐｃとの隙間、またはカバー部材Ｔの傾斜面Ｔｓとの隙間から流入した液体を鉛直部８６、傾斜部８５によって吸引して回収できるため、より確実に液体を回収・除去することが可能となる。
【０１００】
＜第３実施形態＞
次に、露光装置ＥＸの第３実施形態について、図１０を参照して説明する。
この図において、図１乃至図６に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
【０１０１】
図１０に示すように、本実施形態では、カバー部材Ｔにおける間隙Ｇａに臨む側に、下方側を欠落させた形状で薄板部Ｔｅが設けられている。薄板部Ｔｅは、例えば、数十μｍの厚さ（側面Ｔｃの幅）で、長さ（間隙Ｇａへの突出量）が数百μｍ程度に形成される。本実施形態のカバー部材Ｔは、内面Ｔｃは基板Ｐの側面Ｐｃと平行で上端が上面Ｔａと結ばれる一方で、この内面Ｔｃの下方で基板Ｐまたは多孔部材８０と対向可能な面Ｔｓ１〜Ｔｓ３を備えている。このうち面Ｔｓ３は、上述した薄板部Ｔｅの一部を構成している。また、面Ｔｓ２は基板Ｐの側面Ｐｃと平行となるように形成されている。また、面Ｔｓ１は内面Ｔｃとは非平行に配置され、第１保持部３１の中心に対して外側に向かうに従って下方に傾斜している。
このように、本実施形態では、カバー部材Ｔのうち基板Ｐと対向する側の側面は、４つの面（内面Ｔｃ、および面Ｔｓ１〜面Ｔｓ３）を備えている。なお、Ｔｃは出来るだけ省略（小さく）してもよい。
また、面Ｔｓ２は省略してもよく、この場合には面Ｔｓ３の端部と面Ｔｓ１の端部とが接続される。すなわち、内面Ｔｃを除けば、カバー部材Ｔのうち基板Ｐと対向する側の側面の数は、少なくとも２つの面（面Ｔｓ３および面Ｔｓ１）があればよい。
他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【０１０２】
上記構成の露光装置ＥＸでは、上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、液浸空間ＬＳが間隙Ｇａを通り過ぎる際に、カバー部材Ｔの側面Ｔｃの幅が小さく液体がリリースされやすくなることから、基板Ｐとカバー部材Ｔの液体に対する接触角の差に起因してブリッジ状の残水が生じる可能性を抑えることが可能となる。
【０１０３】
＜第４実施形態＞
次に、露光装置ＥＸの第４実施形態について、図１１を参照して説明する。
この図において、図１乃至図６に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
【０１０４】
図１１に示すように、本実施形態では、カバー部材Ｔは、間隙Ｇａに臨む側に設けられた撥水ブロック（第１部材）ＨＢと、撥水ブロックＨＢの外周側に接続されるカバー本体（第２部材）ＴＧとを備えている。撥水ブロックＨＢは、圧入等によりカバー本体ＴＧに取り付けられている。撥水ブロックＨＢは、例えば、フッ素樹脂等で形成され、液体ＬＱに対する撥水性を有している。なお、撥水ブロックＨＢとしては、フッ素樹脂等で形成されるのではなく、例えば、金属等の母材表面にフッ素コーティングを施す構成としてもよい。
【０１０５】
撥水ブロックＨＢの上面ＨＢａは、基板Ｐの上面Ｐａと実質的に面一に形成されている。撥水ブロックＨＢの間隙Ｇａ側の内面は、基板Ｐの側面Ｐｃと平行な第１内面ＨＢｃと、第１内面ＨＢｃの下端を基点として、基板Ｐから離間するのに従って、下方に向かって傾斜する第２内面ＨＢｓとを有している。第１内面ＨＢｃの幅（Ｚ方向の長さ）も、上記第３実施形態の薄板部Ｔｃと同様に、数十μｍに形成されている。
【０１０６】
本実施形態においては、撥水ブロックＨＢが撥水性を有しており、また第１内面ＨＢｃの幅が微小量であるため、間隙Ｇａにブリッジ状の液体が残留する可能性を抑えることが可能となる。
【０１０７】
＜第５実施形態＞
次に、露光装置ＥＸの第５実施形態について、図１２を参照して説明する。
この図において、図１乃至図６に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
【０１０８】
図１２に示すように、本実施形態では、カバー部材Ｔにおける間隙Ｇａに臨む側には、上面Ｔａを基点とする傾斜面Ｔｓが形成されている。傾斜面Ｔｓには、多孔部材８０が設けられている。多孔部材８０は、基板Ｐの側面Ｐｃと平行な側面Ｔｃから基板Ｐに向けて延出する延出部８８を備えている。延出部８８は、基板Ｐの下方に下面Ｐｂと微小隙間をあけ、下面Ｐｂと対向する位置（側面Ｐｃよりも小径となる位置）まで延出している。多孔部材８０は、流体吸引装置２６によって負圧吸引される。
他の構成は、上記第１実施形態と同様である。
【０１０９】
上記構成の露光装置ＥＸでは、間隙Ｇａに臨んで、基板Ｐの上面Ｐａ及びカバー部材Ｔの上面Ｔａの位置まで、多孔部材８０が設けられて間隙Ｇａの液体を吸引できるため、より確実に間隙Ｇａに残留する液体を回収することが可能となる。また、本実施形態では、多孔部材８０の延出部８８が基板Ｐの下面Ｐｂと対向する位置まで延出しているため、基板Ｐの下面Ｐｂ側に流入する可能性がある液体についても効果的に吸引して回収することができる。
【０１１０】
＜第６実施形態＞
次に、露光装置ＥＸの第６実施形態について、図１３を参照して説明する。
この図において、図１乃至図６に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
【０１１１】
図１３に示すように、多孔部材８０は、カバー部材Ｔの傾斜面Ｔｓと微小隙間をあけて平行に対向する第１対向面８５ａと、基板Ｐの側面Ｐｃと微小隙間をあけて平行に対向する第２対向面８６ａと、基板Ｐの下面Ｐｂと微小隙間をあけて平行に対向する第３対向面８８ａとを有している。第１対向面８５ａと第２対向面８６ａとの交差部８９は、間隙Ｇａに配置されている。
【０１１２】
また、多孔部材８０のカバー部材Ｔ側の側面（第１部分）は、第２保持部３２の側面と当接して設けられている。多孔部材８０の側面と当接する位置における第２保持部３２の側面には、流路（第１回収流路）１２５の吸引孔１２４が開口している。吸引孔１２４は、多孔部材８０の下面（第２部分）に臨んで開口する、流路（第２回収流路）２５の吸引孔２４よりも高い位置に開口している。流路１２５には、流体吸引装置（第１液体回収装置）１２６が接続されている。流体吸引装置（第２液体回収装置）２６の負圧吸引力（液体回収力）は、流体吸引装置１２６よりも大きく設定されている。流体吸引装置２６、１２６の動作は制御装置８によって制御される。
【０１１３】
上記構成の露光装置ＥＸでは、制御装置８は、基板Ｐの露光において流体吸引装置２６を作動させず、流体吸引装置１２６を作動させる。また、制御装置８は、基板Ｐに対する露光前及び露光後の少なくとも一方においては、流体吸引装置２６を作動させる。これにより、露光処理中に間隙Ｇａにブリッジ状に残留した液体については、多孔部材８０の交差部８９から吸引孔１２４及び流路１２５を介して吸引して回収することができる。一方、露光処理前あるいは露光処理後については、例えば基板Ｐの交換時については、流体吸引装置２６の作動により、間隙Ｇａに流入した液体は、多孔部材８０の孔から、吸引孔２４及び流路２５を介して吸引して回収することができる。
【０１１４】
この場合、流体吸引装置２６の液体回収力が流体吸引装置１２６の液体回収力よりも大きいため迅速に液体を回収することができる。また、露光処理中においては、吸引孔２４よりも上方に配置され交差部８９に近い位置にある吸引孔１２４を介して液体を吸引するため、間隙Ｇａに残留する液体を効果的に吸引・回収することができる。また、流体吸引装置１２６の液体回収力が流体吸引装置２６の液体回収力よりも小さいため、露光処理に悪影響を与える可能性がある振動等についても小さく抑えることが可能となる。
【０１１５】
＜第７実施形態＞
次に、露光装置ＥＸの第７実施形態について、図１４を参照して説明する。
この図において、図１乃至図６に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
【０１１６】
図１４に示すように、本実施形態では、空間部２３に回収部材８０Ｋが配設されている。回収部材８０Ｋは、例えばチタン等の金属材で形成されており、少なくとも一部が間隙Ｇａに位置する第１上面Ｆ１、第１側面Ｓ１、第２側面Ｓ２を有している。第１上面Ｆ１は、基板Ｐの上面Ｐａ及びカバー部材Ｔの上面Ｔａと同一平面内に配置されている。第１上面Ｆ１には、液体に対して撥液性を有する撥液膜（不図示）が成膜されている。
【０１１７】
第１上面Ｆ１と第１側面Ｓ１との第１角部Ｃ１には、流路９４の液体回収口９４ａが設けられている。第１上面Ｆ１と第２側面Ｓ２との第２角部Ｃ２には、流路９５の液体回収口９５ａが設けられている。
【０１１８】
流路９４及び液体回収口９４ａは、第１保持部３１の周囲に沿って所定間隔をあけて複数配置されている。同様に、流路９５及び液体回収口９５ａは、第２保持部３２の周囲に沿って所定間隔をあけて複数配置されている。各流路９４、９５は流路２８に連通している。
【０１１９】
上記構成の露光装置ＥＸにおいては、基板Ｐのエッジ部（上面Ｐａと側面Ｐｃとの交差部）の液体は、流体吸引装置２６の作動により液体回収口９４ａから吸引され、流路９４、２８を介して回収される。また、カバー部材Ｔについても同様に、エッジ部の液体は、流体吸引装置２６の作動により液体回収口９５ａから吸引され、流路９５、２８を介して回収される。また、第１上面Ｆ１に位置する液体は、第１上面Ｆ１が撥液性を有していることからはじかれて液体回収口９４ａあるいは液体回収口９５ａから吸引されて回収される。
このように、本実施形態では、上述したブリッジの起点となる可能性がある液体を迅速に回収することが可能となる。
【０１２０】
＜第８実施形態＞
次に、露光装置ＥＸの第８実施形態について、図１５を参照して説明する。
この図において、図１乃至図６に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
【０１２１】
図１５に示すように、本実施形態における多孔部材８０は、第１部分１８１と、当該第１部分１８１を挟んで第１保持部３１側及び第２保持部３２側に位置して設けられた第２部分１８２とを備えている。第１部分１８１は、間隙Ｇａに臨んで配置された第１上面１８１ａと、流路（回収流路）２５の吸引孔２４に臨んで配置された第１下面１８１ｂと、第１上面１８１ａの周縁と第１下面１８１ｂの周縁とを結ぶ第１側面１８１ｃとを備えている。第２部分１８２は、各第１側面１８１ｃに隣接して配置される。
【０１２２】
第１部分１８１と第２部分１８２とは、例えば、粒径の異なるアルミナが用いられて成型されることにより、第１部分１８１の気孔率が第２部分１８２の気孔率よりも大きく設定されている。
【０１２３】
上記構成の露光装置ＥＸでは、第２部分１８２の気孔率が第１部分１８１の気孔率よりも小さいため、流体吸引装置２６の作動により多孔部材８０を負圧吸引したときに、第２部分１８２の吸引抵抗が第１部分１８１の吸引抵抗よりも大きくなる。そのため、多孔部材８０への負圧吸引力は、第２部分１８２よりも第１部分１８１に対して大きく作用することになる。その結果、多孔部材８０としては、第１保持部３１及び第２保持部３２と対向する側面よりも間隙Ｇａに臨む第１上面１８１ａにおいて吸引力が大きくなる。すなわち、本実施形態では、間隙Ｇａに臨む第１上面１８１ａからの液体吸引効率を高めることができる。
【０１２４】
なお、上述した第１〜第８実施形態において、基板Ｐの形状などに対応して特定のエリアで液浸空間ＬＳから液体ＬＱが離脱して残留する場合には、例えば、図１６に示すように、カバー部材Ｔにおける当該特定エリアに開口Ｔｈ側に突出する突部Ｔｎを設ける構成としてもよい。この構成を採ることにより、液体ＬＱがカバー部材Ｔ上または基板Ｐ上に残留してしまうことを抑制できる。
【０１２５】
また、液浸空間ＬＳが間隙Ｇａを通り過ぎる際の液圧変化（特に、液圧低下）で気泡が生じる場合には、液浸空間ＬＳが間隙Ｇａを通り過ぎるときに液圧を調整することも可能である。例えば、図１７（ａ）、（ｂ）に示すように、液浸空間ＬＳが移動する方向に応じて、液浸空間ＬＳの移動方向の前方側でカバー部材Ｔを厚くして液圧を上昇させる構成としてもよい。この構成を採ることにより、液浸空間ＬＳが間隙Ｇａを通る際の液圧低下をカバー部材Ｔの厚さ変化による液圧上昇で相殺することで、気泡の発生等を抑制することができる。
すなわち、図１７（ａ）に示すカバー部材Ｔでは、外周付近におけるカバー部材Ｔのおける厚さと、中心付近におけるカバー部材Ｔの厚さが異なっている。
また、図１７（ｂ）に示す例では、カバー部材Ｔの中心付近と外周付近の間において、厚みが異なる領域を備えている。
このように、カバー部材ＴのＺ方向における厚みを局所的に異ならせることにより、液浸空間ＬＳが間隙Ｇａを通り過ぎるときに生じる液圧の変化を調整することが可能となる。
【０１２６】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【０１２７】
例えば、上記実施形態では、間隙Ｇａとして基板Ｐとカバー部材Ｔとの間に形成される構成を例示したが、これに限定されるものではなく、例えば、図１８に示すように、基板ステージ２におけるカバー部材Ｔの周囲に間隙Ｇｍをあけてスケール部材（計測部材）ＧＴが設けられ、スケール部材ＧＴを用いてその基板ステージ２の位置を計測するエンコーダシステムが用いられる場合には、間隙Ｇｍに残留する液体ＬＱを、上記実施形態と同様に除去することも可能である。この場合の間隙Ｇｍは、例えば、第１部材としてのスケール部材ＧＴのエッジ部Ｅｇｇと、第２部材としてのカバー部材Ｔのエッジ部Ｅｇとの間に形成される。
なお、このようなエンコーダシステムは、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号明細書に開示されている。
【０１２８】
また、基板ステージ２の他に、図１８に示されるように、計測ステージ３において、計測部材（計測器）Ｃとカバー部材Ｑとの間に形成される間隙Ｇｎに残留する液体ＬＱを、上記実施形態と同様に除去することも可能である。この場合の間隙Ｇｎは、例えば、第２部材としてのカバー部材Ｑのエッジ部Ｅｇｑと、第１部材としての計測部材Ｃのエッジ部Ｅｇｃとの間に形成される。さらに、露光処理から計測処理への移行時、あるいは計測処理から露光処理への移行時に、基板ステージ２と計測ステージ３とが近接した状態を維持したまま、液浸空間ＬＳが基板ステージ２上と計測ステージ３上との間を相対移動する際に、これら基板ステージ２と計測ステージ３との間の間隙に残留する液体ＬＱを、上記実施形態と同様に除去することも可能である。
【０１２９】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１２の射出側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１２の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０１３０】
なお、上述の各実施形態においては、露光用の液体ＬＱとして水を用いているが、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱとしては、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）などの膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等を用いることも可能である。また、液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。
【０１３１】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【０１３２】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【０１３３】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０１３４】
また、例えば米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【０１３５】
また、本発明は、米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。例えば、図１９に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えてもよい。その場合、射出面１３と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージに保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージに保持された基板の少なくとも一つを含む。
【０１３６】
また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
【０１３７】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１３８】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。
【０１３９】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射することができる。
【０１４０】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１４１】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１４２】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２０に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０１４３】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０１４４】
２…基板ステージ（ステージ装置）、  ３…計測部材、  ７…液浸部材、  ８…制御装置（調整装置）、  １２…終端光学素子（光学部材）、  １３…射出面、  ２４…吸引口（回収口）、  ２５…流路（第２回収流路）、  ２６…流体吸引装置（第２液体回収装置）、  ２７Ａ…給気口、  ３１…第１保持部（基板保持部）、  ３２…第２保持部、  ４３…計測部（計測装置）、  ６４、６５…給気口、  ８０…多孔部材（回収部材）、  ８０Ｋ…回収部材、  ８１…吸引部（回収部材）、  ８５…傾斜部（第２多孔部材）、  ８５ａ…第１対向面、  ８６…鉛直部（第１多孔部材）、  ８６ａ…第２対向面、  ９４ａ、９５ａ…液体回収口、  １２５…流路（第１回収流路）、  １２６…流体吸引装置（第１液体回収装置）、  １８１…第１部分、  １８１ａ…第１上面、  １８１ｂ…第１下面、  １８２…第２部分、  ＡＸ…光軸、  Ｃ…計測部材（計測器）、  Ｃ１…第１角部、  Ｃ２…第２角部、  ＤＶ…駆動装置（調整装置）、  ＥＬ…露光光、  ＥＸ…露光装置、  Ｆ１…第１上面、  Ｇａ…間隙、  ＨＢ…撥水ブロック（第１部材）、  ＬＱ…液体、  ＬＳ…液浸空間、  Ｐ…基板、  Ｐｃ…側面、  Ｓ１…第１側面、  Ｓ２…第２側面、  Ｔ…カバー部材、  ＴＧ…カバー本体（第２部材）、  Ｔａ…上面、  Ｔｃ…内面、  Ｔｄ…第１内面、  Ｔｓ…傾斜面（第２内面）
【図１】
2014041868.tif 000003
【図２】
2014041868.tif 000004
【図３】
2014041868.tif 000005
【図４】
2014041868.tif 000006
【図５】
2014041868.tif 000007
【図６】
2014041868.tif 000008
【図７】
2014041868.tif 000009
【図８】
2014041868.tif 000010
【図９】
2014041868.tif 000011
【図１０】
2014041868.tif 000012
【図１１】
2014041868.tif 000013
【図１２】
2014041868.tif 000014
【図１３】
2014041868.tif 000015
【図１４】
2014041868.tif 000016
【図１５】
2014041868.tif 000017
【図１６】
2014041868.tif 000018
【図１７】
2014041868.tif 000019
【図１８】
2014041868.tif 000020
【図１９】
2014041868.tif 000021
【図２０】
2014041868.tif 000022