(57)【要約】【課題】ドレイン電流の低減を抑制しつつ、かつスイッチング特性を向上可能な炭化珪素半導体装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】第１の不純物領域１７と、ウェル領域１３と、ウェル領域１３によって第１の不純物領域１７と隔てられた第２の不純物領域１４とを含む炭化珪素基板１０が準備される。第１の不純物領域１７およびウェル領域１４に接する二酸化珪素層１５が形成される。二酸化珪素層１５上にゲート電極２７が形成される。第１の不純物領域１７上に珪素を含む材料２２が形成される。珪素を含む材料２２が酸化される。二酸化珪素層１５は、第１の不純物領域１７上の第１の二酸化珪素領域１５ａおよびウェル領域１３上の第２の二酸化珪素領域１５ｂを含む。第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１は、第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２よりも大きい。【選択図】図１
2014107420.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型を有する第１の不純物領域と、前記第１の不純物領域と接しかつ前記第１導電型と異なる第２導電型を有するウェル領域と、前記ウェル領域によって前記第１の不純物領域と隔てられかつ前記第１導電型を有する第２の不純物領域とを含む炭化珪素基板を準備する工程と、
前記第１の不純物領域および前記ウェル領域に接する二酸化珪素層を形成する工程と、
前記二酸化珪素層上にゲート電極を形成する工程とを備え、
前記二酸化珪素層を形成する工程は、
前記第１の不純物領域上に珪素を含む材料を形成する工程と、
前記珪素を含む材料を酸化する工程と、
前記第１の不純物領域および前記第２の不純物領域に挟まれた前記ウェル領域の表面を酸化する工程とを含み、
前記二酸化珪素層は、前記第１の不純物領域上の第１の二酸化珪素領域および前記第１の不純物領域と前記第２の不純物領域に挟まれた前記ウェル領域上の第２の二酸化珪素領域を含み、
前記第１の二酸化珪素領域の厚みを第１の厚みとし、かつ前記第２の二酸化珪素領域の厚みを第２の厚みとしたとき、前記第１の厚みは前記第２の厚みよりも大きい、炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記珪素を含む材料は、ポリシリコン、アモルファスシリコンおよびアモルファス炭化珪素のいずれかを含む、請求項１に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記珪素を含む材料の幅は、前記第１の不純物領域の幅よりも小さい、請求項１または２に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１の二酸化珪素領域の炭素濃度は、前記第２の二酸化珪素領域の炭素濃度よりも低い、請求項１〜３のいずれか１項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の厚みは前記第２の厚みの１．５倍以上５倍以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記二酸化珪素層を形成する工程において、
前記珪素を含む材料を酸化する工程および前記ウェル領域の前記表面を酸化する工程が同時に行われる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記二酸化珪素層を形成する工程において、
前記珪素を含む材料を形成する工程は、前記ウェル領域の前記表面を酸化する工程の後に行われる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記珪素を含む材料を酸化する工程における温度は、前記ウェル領域の前記表面を酸化する温度よりも低い、請求項７に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項９】
第１導電型を有する第１の不純物領域と、前記第１の不純物領域と接しかつ前記第１導電型と異なる第２導電型を有するウェル領域と、前記ウェル領域によって前記第１の不純物領域と隔てられかつ前記第１導電型を有する第２の不純物領域とを含む炭化珪素基板と、
前記第１の不純物領域上に配置された第１の二酸化珪素領域と、
前記第１の不純物領域と前記第２の不純物領域とに挟まれた前記ウェル領域の表面に配置された第２の二酸化珪素領域と、
前記第１の二酸化珪素領域および前記第２の二酸化珪素領域上に配置されたゲート電極とを備え、
前記第１の二酸化珪素領域の厚みは、前記第２の二酸化珪素領域の厚みよりも大きく、
前記第１の二酸化珪素領域の炭素濃度は、前記第２の二酸化珪素領域の炭素濃度よりも低い、炭化珪素半導体装置。
【請求項１０】
前記第１の二酸化珪素領域の厚みは前記第２の二酸化珪素領域の厚みの１．５倍以上５倍以下である、請求項９に記載の炭化珪素半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は炭化珪素半導体装置およびその製造方法に関し、より特定的には、スイッチング特性を向上可能な炭化珪素半導体装置およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＭＯＳＦＥＴ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）などの半導体装置の高耐圧化、低損失化、高温環境下での使用などを可能とするため、半導体装置を構成する材料として炭化珪素の採用が進められつつある。炭化珪素は、従来から半導体装置を構成する材料として広く使用されている珪素に比べてバンドギャップが大きいワイドバンドギャップ半導体である。そのため、半導体装置を構成する材料として炭化珪素を採用することにより、半導体装置の高耐圧化、オン抵抗の低減などを達成することができる。また、炭化珪素を材料として採用した半導体装置は、珪素を材料として採用した半導体装置に比べて、高温環境下で使用された場合の特性の低下が小さいという利点も有している。
【０００３】
たとえば、Brett  A.  Hull  et  al.,  "Performance  of  60A,  1200V  4H-SiC  DMOSFETs",  Materials  Science  Forum,  Vols.  615-617,  2009,  pp749-752（非特許文献１）において、炭化珪素基板上に形成されたｎ型ドリフト層と、一対のウェル領域と、ゲート絶縁膜とを有するＭＯＳＦＥＴが開示されている。上記文献によれば、ドレインソース電流が６５Ａであるオン状態からドレインソース電圧が７５０Ｖであるオフ状態にスイッチさせたときのスイッチングエネルギー損失は９ｍＪであるＭＯＳＦＥＴが開示されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Brett  A.  Hull  et  al.,  "Performance  of  60A,  1200V  4H-SiC  DMOSFETs",  Materials  Science  Forum,  Vols.  615-617,  2009,  pp749-752
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
スイッチング特性を向上させるためには、炭化珪素半導体装置の静電容量を低減することが必要である。静電容量は電極間に挟まれた絶縁体の厚みに反比例する。そのため、ゲート絶縁膜の厚みを大きくすることにより静電容量を低減することができる。しかしながら、ゲート絶縁膜の厚みを大きくするとチャネルを流れるドレイン電流が低減する。
【０００６】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであって、その目的は、ドレイン電流の低減を抑制しつつ、かつスイッチング特性を向上可能な炭化珪素半導体装置およびその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
発明者らは鋭意研究の結果、以下の知見を得て本発明を見出した。まず、スイッチング特性を向上するためにはデバイスの静電容量を低減することが有効である。デバイスの静電容量の中でも、一対のウェル領域に挟まれたＪＦＥＴ（Ｊｕｎｃｔｉｏｎ  Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）領域とゲート電極とゲート絶縁膜を介してが対向する部分の静電容量（帰還容量）を低減することが望ましい。
【０００８】
ＪＦＥＴ領域とゲート電極との静電容量を低減するためには、ＪＦＥＴ領域上のゲート絶縁膜の厚みを大きくすることが有効である。しかしながら、ゲート絶縁膜全体の厚みを大きくすると、チャネルを流れるドレイン電流の値が小さくなってしまう。それゆえ、ＪＦＥＴ領域上のゲート絶縁膜の厚みを大きくし、ウェル領域上のゲート絶縁膜の厚みは小さく保つことが望ましい。
【０００９】
発明者らは、ＪＦＥＴ領域上に珪素を含む材料を形成し、当該珪素を含む材料を酸化させることにより、ＪＦＥＴ領域上のゲート絶縁膜の厚みを大きくし、ウェル領域上のゲート絶縁膜の厚みを小さく保つことができることを見出した。たとえばポリシリコンなどの珪素を含む材料は炭化珪素よりも酸化されやすい。それゆえ、珪素を含む材料をＪＦＥＴ領域に形成して当該珪素を含む材料を酸化し、かつ炭化珪素からなるウェル領域の表面を酸化することにより、ＪＦＥＴ領域上のゲート絶縁膜の厚みを、ウェル領域上のゲート絶縁膜の厚みよりも大きくすることができる。
【００１０】
そこで、本発明に係る炭化珪素半導体装置の製造方法は以下の工程を有している。第１導電型を有する第１の不純物領域と、第１の不純物領域と接しかつ第１導電型と異なる第２導電型を有するウェル領域と、ウェル領域によって第１の不純物領域と隔てられかつ第１導電型を有する第２の不純物領域とを含む炭化珪素基板が準備される。第１の不純物領域およびウェル領域に接する二酸化珪素層が形成される。二酸化珪素層上にゲート電極が形成される。二酸化珪素層を形成する工程は以下の工程を有する。第１の不純物領域上に珪素を含む材料が形成される。珪素を含む材料が酸化される。第１の不純物領域および第２の不純物領域に挟まれたウェル領域の表面が酸化される。二酸化珪素層は、第１の不純物領域上の第１の二酸化珪素領域および第１の不純物領域と第２の不純物領域に挟まれたウェル領域上の第２の二酸化珪素領域を含む。第１の二酸化珪素領域の厚みを第１の厚みとし、かつ第２の二酸化珪素領域の厚みを第２の厚みとしたとき、第１の厚みは第２の厚みよりも大きい。なお、本発明において、第１の不純物領域上に珪素を含む材料が形成されるとは、第１の不純物領域の上にたとえば二酸化珪素層などの層を介して珪素を含む材料を形成する場合を含む。
【００１１】
本発明に係る炭化珪素半導体装置の製造方法によれば、第１の二酸化珪素領域の厚みは、第２の二酸化珪素領域の厚みよりも大きい。それゆえ、ドレイン電流の低減を抑制しつつ、かつ炭化珪素半導体装置の静電容量を低減することができる。結果として、ドレイン電流の低減を抑制しつつ、炭化珪素半導体装置のスイッチング特性を向上することができる。
【００１２】
上記に係る炭化珪素半導体装置の製造方法において好ましくは、珪素を含む材料は、ポリシリコン、アモルファスシリコンおよびアモルファス炭化珪素のいずれかを含む。これにより、効率的に第１の二酸化珪素領域の厚みを第２の二酸化珪素領域の厚みより大きくすることができる。
【００１３】
上記に係る炭化珪素半導体装置の製造方法において好ましくは、珪素を含む材料の幅は、第１の不純物領域の幅よりも小さい。これにより、珪素を含む材料が幅方向に広がった場合においても、第１の二酸化珪素領域の厚みを第２の二酸化珪素領域の厚みより大きくすることができる。
【００１４】
上記に係る炭化珪素半導体装置の製造方法において好ましくは、第１の二酸化珪素領域の炭素濃度は、第２の二酸化珪素領域の炭素濃度よりも低い。これにより、第１の二酸化珪素領域の絶縁性能が向上するため、逆電圧印加時における耐圧を向上することができる。
【００１５】
上記に係る炭化珪素半導体装置の製造方法において好ましくは、第１の厚みは第２の厚みの１．５倍以上５倍以下である。第１の厚みが第２の厚みの１．５倍以上であれば、第１の二酸化珪素領域の炭素濃度を第２の二酸化珪素領域の炭素濃度よりも効率的に低減することができる。一方、第１の厚みが第２の厚みの５倍以下であれば、第２の二酸化珪素領域に形成されるゲート電極と、第１の二酸化珪素領域に形成されるゲート電極との段差が大きくなり過ぎないので、ゲート電極を断絶することなく形成することができる。
【００１６】
上記に係る炭化珪素半導体装置の製造方法において好ましくは、二酸化珪素層を形成する工程において、珪素を含む材料を酸化する工程およびウェル領域の表面を酸化する工程が同時に行われる。これにより、効率的に第１の厚みを第２の厚みよりも大きくすることができる。
【００１７】
上記に係る炭化珪素半導体装置の製造方法において好ましくは、二酸化珪素層を形成する工程において、珪素を含む材料を形成する工程は、ウェル領域の表面を酸化する工程の後に行われる。これにより、ウェル領域の表面の酸化温度と珪素を含む材料の酸化温度とを個別に調整することができる。
【００１８】
上記に係る炭化珪素半導体装置の製造方法において好ましくは、珪素を含む材料を酸化する工程における温度は、ウェル領域の表面を酸化する温度よりも低い。これにより、珪素を含む材料を溶解させることなく酸化させることができる。
【００１９】
本発明に係る炭化珪素半導体装置は、炭化珪素基板と、第１の二酸化珪素領域と、第２の二酸化珪素領域と、ゲート電極とを有している。炭化珪素基板は、第１導電型を有する第１の不純物領域と、第１の不純物領域と接しかつ第１導電型と異なる第２導電型を有するウェル領域と、ウェル領域によって第１の不純物領域と隔てられかつ第１導電型を有する第２の不純物領域とを含む。第１の二酸化珪素領域は、第１の不純物領域上に配置されている。第２の二酸化珪素領域は、第１の不純物領域と第２の不純物領域とに挟まれたウェル領域の表面に配置されている。ゲート電極は、第１の二酸化珪素領域および第２の二酸化珪素領域上に配置されている。第１の二酸化珪素領域の厚みは、第２の二酸化珪素領域の厚みよりも大きい。第１の二酸化珪素領域の炭素濃度は、第２の二酸化珪素領域の炭素濃度よりも低い。
【００２０】
本発明に係る炭化珪素半導体装置によれば、第１の二酸化珪素領域の厚みは、第２の二酸化珪素領域の厚みよりも大きい。それゆえ、ドレイン電流の低減を抑制しつつ、かつ炭化珪素半導体装置の静電容量を低減することができる。結果として、ドレイン電流の低減を抑制しつつ、炭化珪素半導体装置のスイッチング特性を向上することができる。
【００２１】
上記に係る炭化珪素半導体装置において好ましくは、第１の二酸化珪素領域の厚みは第２の二酸化珪素領域の厚みの１．５倍以上５倍以下である。第１の厚みが第２の厚みの１．５倍以上であれば、第１の二酸化珪素領域の炭素濃度を第２の二酸化珪素領域の炭素濃度よりも効率的に低減することができる。一方、第１の厚みが第２の厚みの５倍以下であれば、第２の二酸化珪素領域に形成されるゲート電極と、第１の二酸化珪素領域に形成されるゲート電極との段差が大きくなり過ぎないので、ゲート電極を断絶することなく形成することができる。
【発明の効果】
【００２２】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ドレイン電流の低減を抑制しつつ、かつスイッチング特性を向上可能な炭化珪素半導体装置およびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態１に係る炭化珪素半導体装置の構造を概略的に示す断面模式図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る炭化珪素半導体装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る炭化珪素半導体装置の製造方法の第１の工程を概略的に示す断面模式図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る炭化珪素半導体装置の製造方法の第２の工程を概略的に示す断面模式図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る炭化珪素半導体装置の製造方法の第３の工程を概略的に示す断面模式図である。
【図６】本発明の実施の形態１に係る炭化珪素半導体装置の製造方法の第４の工程を概略的に示す断面模式図である。
【図７】本発明の実施の形態１に係る炭化珪素半導体装置の製造方法の第５の工程を概略的に示す断面模式図である。
【図８】本発明の実施の形態２に係る炭化珪素半導体装置の構造を示す概略的に示す断面模式図である。
【図９】本発明の実施の形態２に係る炭化珪素半導体装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。
【図１０】本発明の実施の形態２に係る炭化珪素半導体装置の製造方法の第１の工程を概略的に示す断面模式図である。
【図１１】本発明の実施の形態２に係る炭化珪素半導体装置の製造方法の第２の工程を概略的に示す断面模式図である。
【図１２】本発明の実施の形態２に係る炭化珪素半導体装置の製造方法の第３の工程を概略的に示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰返さない。また、本明細書中の結晶学的記載においては、個別方位を［］、集合方位を＜＞、個別面を（）、集合面を｛｝でそれぞれ示している。また、負の指数については、結晶学上、”−”（バー）を数字の上に付けることになっているが、本明細書中では、数字の前に負の符号を付けている。また角度の記載には、全方位角を３６０度とする系を用いている。
【００２５】
（実施の形態１）
図１を参照して、実施の形態１における炭化珪素半導体装置であるＭＯＳＦＥＴ１は、炭化珪素基板１０と、ゲート絶縁膜１５と、ゲート電極２７と、ソースコンタクト電極１６と、ドレイン電極２０とを主に有している。
【００２６】
炭化珪素基板１０は、たとえばポリタイプ４Ｈの六方晶炭化珪素からなる。炭化珪素基板１０の主面１０ａは、たとえば（０００１）面から８°以下程度オフした面であってもよく、（０−３３−８）面であってもよい。好ましくは、主面１０ａは、｛０００−１｝面に対して、巨視的に６２°±１０°のオフ角を有する面である。
【００２７】
炭化珪素基板１０は、ベース基板１１と、ドリフト層１２と、ウェル領域１３と、第２の不純物領域１４と、ｐ+領域１８とを主に含む。ベース基板は、炭化珪素からなり導電型がｎ型（第１導電型）を有するエピタキシャル層である。ドリフト層１２は、ベース基板１１上に配置されており、導電型がｎ型である。ドリフト層１２に含まれる不純物はたとえば窒素（Ｎ）である。ドリフト層１２に含まれている窒素濃度はたとえば５×１０15ｃｍ-3程度である。ドリフト層１２は第１の不純物領域１７を含む。第１の不純物領域１７は、ドリフト層１２の一部であって後述する一対のウェル領域１３によって挟まれたＪＦＥＴ領域である。ドリフト層１２と第１の不純物領域１７とは同じ導電型を有する。
【００２８】
ウェル領域１３は第１の不純物領域１７と接し、導電型がｎ型（第１導電型）とは異なるｐ型（第２導電型）を有する領域である。ウェル領域１３は、第１の不純物領域１７を挟むように一対配置されており、ウェル領域１３に含まれる不純物は、たとえばアルミニウム（Ａｌ）、ホウ素（Ｂ）などである。ウェル領域１３におけるアルミニウムやホウ素の濃度は、たとえば１×１０17ｃｍ-3程度である。
【００２９】
第２の不純物領域１４は、ウェル領域１３によって第１の不純物領域１７と隔てられいる。第２の不純物領域１４はｎ型（第１導電型）を有するｎ+領域である。第２の不純物領域１４は、上記主面１０ａを含み、かつウェル領域１３に取り囲まれるように、一対のウェル領域１３の各々の内部に形成されている。第２の不純物領域１４は、たとえばリン（Ｐ）などの不純物をドリフト層１２に含まれる不純物よりも高い濃度（密度）で含んでいる。第２の不純物領域１４におけるリンの濃度は、たとえば１×１０20ｃｍ-3程度である。
【００３０】
ｐ+領域１８は、上記主面１０ａを含み、かつウェル領域１３に取り囲まれるとともに、第２の不純物領域１４に隣接するように一対のウェル領域１３の各々の内部に形成されている。ｐ+領域１８は、ソースコンタクト電極１６、第２の不純物領域１４およびウェル領域１３に接して配置されている。ｐ+領域１８は、たとえばＡｌなどの不純物をウェル領域１３に含まれる不純物よりも高い濃度（密度）で含んでいる。ｐ+領域１８における、Ａｌの濃度はたとえば１×１０20ｃｍ-3程度である。
【００３１】
ゲート絶縁膜１５は、二酸化珪素からなり、炭化珪素基板１０の主面１０ａに接して配置されている。炭化珪素基板１０の主面１０ａは、第１の不純物領域１７の表面１０ｃと、第１の不純物領域１７および第２の不純物領域１４に挟まれたウェル領域１３の表面１０ｄとを含む。ゲート絶縁膜１５は、第１の不純物領域１７の表面１０ｃに接して配置された第１の二酸化珪素領域１５ａと、ウェル領域１３の表面１０ｄに接して配置された第２の二酸化珪素領域１５ｂとを含んでいる。
【００３２】
第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１は第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２よりも大きい。第１の不純物領域１７上の第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１はたとえば１８０ｎｍ程度であり、ウェル領域１３上の第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２はたとえば５０ｎｍ程度である。好ましくは、第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１は第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２よりも１．５倍以上５倍以下である。
【００３３】
本実施の形態のＭＯＳＦＥＴ１において、第１の不純物領域１７および第２の不純物領域１４に挟まれたウェル領域１７内であって、第２の二酸化珪素領域１５ｂと対向する位置にチャネル領域ＣＨが形成可能に構成されている。言い換えれば、第２の二酸化珪素領域１５ｂはチャネル領域ＣＨ上に接して配置されている。
【００３４】
第１の二酸化珪素領域１５ａの炭素濃度は、第２の二酸化珪素領域１５ｂの炭素濃度よりも低い。第１の二酸化珪素領域１５ａの炭素濃度はたとえば１×１０17ｃｍ-3以上程度１×１０19ｃｍ-3以下程度であり、第２の二酸化珪素領域１５ｂの炭素濃度はたとえば１×１０18ｃｍ-3以上程度１×１０20ｃｍ-3以下程度である。第１の二酸化珪素領域１５ａおよび第２の二酸化珪素領域１５ｂの各々の炭素濃度は、たとえばＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）により測定可能である。
【００３５】
ゲート電極２７は、一方の第２の不純物領域１４上から他方の第２の不純物領域１４上にまで延在するように、ゲート絶縁膜１５に接触して配置されている。ゲート電極２７は、炭化珪素基板１０との間にゲート絶縁膜１５を挟むようにゲート絶縁膜１５と接して配置されている。また、ゲート電極２７は、不純物が添加されたポリシリコン、Ａｌ（アルミニウム）などの導電体からなっている。
【００３６】
ソースコンタクト電極１６は、第２の不純物領域１４と、ｐ+領域１８と、第２の二酸化珪素領域１５ｂとに接触して配置されている。また、ソースコンタクト電極１６は、たとえばＮｉＳｉ（ニッケルシリサイド）など、第２の不純物領域１４とオーミックコンタクト可能な材料からなっている。
【００３７】
ドレイン電極２０は、炭化珪素基板１０においてドリフト層１２が形成される側とは反対側の第２の主面１０ｂに接触して形成されている。このドレイン電極２０は、たとえばＮｉＳｉなど、ｎ型のベース基板１１とオーミックコンタクト可能な材料からなっており、ベース基板１１と電気的に接続されている。ドレイン電極２０に接してパッド電極２３が配置されている。ソースコンタクト電極１６およびドレイン電極２０は、ゲート電極２７に印加されるゲート電極２７により、ソースコンタクト電極１６およびドレイン電極２０の間に流れる電流が制御可能に構成されている。
【００３８】
層間絶縁膜２１は、第２の二酸化珪素領域１５ｂと接し、ゲート電極２７を取り囲むように形成されている。層間絶縁膜２１は、たとえば絶縁体である二酸化珪素からなっている。ソース配線１９は、炭化珪素基板１０の主面１０ａ上において、層間絶縁膜２１を取り囲み、かつソースコンタクト電極１６の上部表面上にまで延在している。また、ソース配線１９は、たとえばＡｌなどの導電体からなり、ソースコンタクト電極１６を介して第２の不純物領域１４と電気的に接続されている。
【００３９】
次に、ＭＯＳＦＥＴ１の動作について説明する。図１を参照して、ゲート電極２７の電圧が閾値電圧未満の状態、すなわちオフ状態では、ゲート絶縁膜１５の直下に位置するウェル領域１３と第１の不純物領域１７との間のｐｎ接合が逆バイアスとなり非導通状態となる。一方、ゲート電極２７に閾値電圧以上の電圧を印加すると、ウェル領域１３のゲート絶縁膜１５と接触する付近であるチャネル領域ＣＨにおいて反転層が形成される。その結果、第２の不純物領域１４と第１の不純物領域１７とが電気的に接続され、ソース配線１９とドレイン電極２０との間に電流が流れる。
【００４０】
次に、本実施の形態におけるＭＯＳＦＥＴ１の製造方法の一例について、図２〜図７を参照して説明する。
【００４１】
まず基板準備工程（Ｓ１０：図２）が実施される。具体的には、図３を参照して、たとえばポリタイプ４Ｈの六方晶炭化珪素からなるベース基板１１が準備され、ベース基板１１上にエピタキシャル成長によりｎ型（第１導電型）のドリフト層１２が形成される。ドリフト層１２にはたとえばＮ（窒素）イオンなどの不純物が含まれている。以上の様に、主面を１０ａを有しかつ第１導電型を有するドリフト層１２を含む炭化珪素基板１０が準備される。炭化珪素基板１０の主面１０ａは、たとえば（０００１）面から８°程度オフした面であってもよく、（０−３３−８）面であってもよい。好ましくは、主面１０ａは、｛０００−１｝面に対して、巨視的に６２°±１０°のオフ角を有する面である。
【００４２】
次にウェル領域形成工程が実施される。具体的には、図４を参照して、たとえばＡｌ（アルミニウム）イオンがドリフト層１２にイオン注入されることによりウェル領域１３が形成される。次に、第２の不純物領域１４を形成するためのイオン注入が実施される。具体的には、たとえばＰ（リン）イオンがウェル領域１３に注入されることにより、ウェル領域１３内に第２の不純物領域１４が形成される。さらに、ｐ+領域１８を形成するためのイオン注入が実施される。具体的には、たとえばＡｌイオンがウェル領域１３に注入されることにより、ウェル領域１３内であって、第２の不純物領域１４と接するｐ+領域１８が形成される。上記イオン注入は、たとえばドリフト層１２の主面１０ａ上に二酸化珪素からなり、イオン注入を実施すべき所望の領域に開口を有するマスク層を形成して実施することができる。
【００４３】
以上の様に、ｎ型を有する第１の不純物領域１７と、第１の不純物領域１７と接しかつｎ型と異なるｐ型を有するウェル領域１３と、ウェル領域１３によって第１の不純物領域１７と隔てられかつｎ型を有する第２の不純物領域１４とを含む炭化珪素基板１０（図４参照）が準備される。
【００４４】
次に、活性化アニール工程が実施される。具体的には、たとえばアルゴンなどの不活性ガス雰囲気中において、上記炭化珪素基板１０をたとえば１７００℃程度に加熱して、３０分間程度保持する熱処理が実施される。これにより注入された不純物が活性化する。
【００４５】
次に、二酸化珪素層を形成する工程が実施される。二酸化珪素層を形成する工程は、第１の不純物領域１７上に珪素を含む材料２２を形成する工程と、珪素を含む材料を酸化する工程と、第１の不純物領域１７および第２の不純物領域１４に挟まれたウェル領域１３の表面１０ｄを酸化する工程とを含む。
【００４６】
本実施の形態では、まず珪素を含む材料形成工程（Ｓ２０：図２）が実施される。具体的には、図５を参照して、一対のウェル領域１３に挟まれた第１の不純物領域１７の表面１０ｃに、珪素を含む材料２２が形成される。珪素を含む材料２２とは、たとえばポリシリコン、アモルファスシリコンおよびアモルファス炭化珪素などであり、単結晶珪素であってもよい。好ましくは、珪素を含む材料２２とは主成分が珪素からなる材料である。より好ましくは、珪素を含む材料２２とは炭化珪素よりも酸化しやすい材料である。珪素を含む材料２２の厚みＴ４はたとえば６０ｎｍ程度である。なお、第１の不純物領域１７はＪＦＥＴ領域である。
【００４７】
珪素を含む材料を形成する工程では、たとえば炭化珪素基板１０の主面１０ａにポリシリコンを堆積させた後、ウェットエッチングやドライエッチングなどでパターニングを行うことで、第１の不純物領域１７に接する炭化珪素基板１０の表面１０ｃのみに珪素を含む材料２２を残すように珪素を含む材料を形成することが好ましい。より厳密には、ウェル領域１３上の表面１０ｄよりも第１の不純物領域１７の表面１０ｃに多くの珪素を含む材料２２が残るように、珪素を含む材料が第１の不純物領域１７の表面１０ｃに形成される。
【００４８】
第１の不純物領域１７の表面１０ｃに形成された珪素を含む材料の幅Ｗ２（当該表面１０ｃに平行な方向の距離）は、第１の不純物領域の幅Ｗ１（つまり一対のウェル領域１３の間の最短距離）よりも小さいことが好ましい。第１の不純物領域の幅Ｗ１はたとえば２．５μｍ程度以上３．０μｍ程度以下である。
【００４９】
次に、ゲート絶縁膜形成工程（Ｓ３０：図２）が実施される。具体的には、たとえば炭化珪素基板１０の第１の不純物領域１７の表面１０ｃに形成された珪素を含む材料２２と、第１の不純物領域１７および第２の不純物領域１４に挟まれたウェル領域１３の表面１０ｄとが酸化される。より具体的には、酸素雰囲気中において、珪素を含む材料２２が形成され、かつウェル領域１３の表面１０ｄが露出された炭化珪素基板１０を、たとえば１３００℃程度に加熱して１時間程度保持する熱処理が実施される。これにより、炭化珪素基板１０のウェル領域１３および第１の不純物領域１７に接する二酸化珪素層からなるゲート絶縁膜１５が形成される。
【００５０】
図６を参照して、当該二酸化珪素層からなるゲート絶縁膜１５は、第１の不純物領域１７上の第１の二酸化珪素領域１５ａおよび第１の不純物領域１７と第２の不純物領域１４に挟まれたウェル領域１３上の第２の二酸化珪素領域１５ｂを含む。第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みを第１の厚みＴ１とし、かつ第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みを第２の厚みＴ２としたとき、第１の厚みＴ１は第２の厚みＴ２よりも大きい。たとえば、第１の厚みＴ１は１８０ｎｍ程度であり、第２の厚みは５０ｎｍ程度である。
【００５１】
好ましくは、第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１は第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２の１．５倍以上５倍以下であり、より好ましくは３倍以上５倍以下である。好ましくは、第１の二酸化珪素領域１５ａの炭素濃度は、第２の二酸化珪素領域１５ｂの炭素濃度よりも低い。
【００５２】
本実施の形態においては、二酸化珪素層を形成する工程において、珪素を含む材料２２を酸化する工程およびウェル領域１３の表面１０ｄを酸化する工程が同時に行われる。珪素を含む材料２２はほぼ完全に酸化されて二酸化珪素となり、ウェル領域１３の炭化珪素からなる表面１０ｄも酸化されて二酸化珪素となる。たとえば、珪素を含む材料２２の厚みが６０ｎｍ程度であるとき、当該材料２２が酸化されて形成された二酸化珪素層の厚みは１８０ｎｍ程度となる。なお、第１の二酸化珪素領域１５ａの幅Ｗ３は、第１の不純物領域１７の幅Ｗ１と同等か小さいことが好ましい。
【００５３】
なお、炭化珪素基板１０の主面１０ａが酸化されてゲート絶縁膜１５が形成される場合、炭化珪素基板１０の主面１０ａから一定の深さの領域が酸化されて二酸化珪素となる。このとき、二酸化珪素の厚みは酸化された炭化珪素基板１０の領域の厚みの２倍程度である。
【００５４】
その後、窒素アニール工程が実施される。具体的には、一酸化窒素雰囲気中において、炭化珪素基板１０が１１００℃程度の温度でたとえば１時間程度保持される。その後、アルゴンや窒素などの不活性ガス中において、炭化珪素基板１０を加熱する熱処理が実施される。当該熱処理において、炭化珪素基板１０は１１００℃以上１５００℃以下の温度で１時間程度保持される。
【００５５】
次に、ゲート電極形成工程（Ｓ４０：図２）が実施される。具体的には、図７を参照して、たとえばＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、フォトリソグラフィおよびエッチングにより、高濃度に不純物が添加された導電体であるポリシリコンからなるゲート電極２７が形成される。その後、たとえばＣＶＤ法により、絶縁体である二酸化珪素からなる層間絶縁膜２１が、ゲート電極２７を取り囲むように形成される。次に、フォトリソグラフィおよびエッチングによりソースコンタクト電極１６を形成する領域の層間絶縁膜２１とゲート絶縁膜１５が除去される。
【００５６】
次に、オーミック電極形成工程（Ｓ５０：図２）が実施される。具体的には、炭化珪素基板１０の主面１０ａにおいて第２の不純物領域１４およびｐ+領域１８と接するように、たとえば蒸着法により金属膜が形成される。金属膜はたとえばＮｉ（ニッケル）である。金属膜はたとえばＴｉ（チタン）原子およびＡｌ（アルミニウム）原子を含んでいてもよい。金属膜はたとえばＮｉ原子およびＳｉ（シリコン）原子を含んでいてもよい。金属膜が形成された後、当該金属膜をたとえば１０００℃程度で加熱することにより、ニッケル膜が加熱されてシリサイド化されることにより、炭化珪素基板１０の第２の不純物領域１４とオーミック接触するソースコンタクト電極１６が形成される。同様に、炭化珪素基板１０の第２の主面１０ｂに接して、Ｎｉなどの金属膜が形成され、当該金属膜を加熱することによりドレイン電極２０が形成される。
【００５７】
次に、たとえば蒸着法により、導電体であるＡｌからなるソース配線１９が、層間絶縁膜２１を取り囲み、かつソースコンタクト電極１６と接するように形成される。また、たとえばＡｌからなるパッド電極２３がドレイン電極２０と接して形成される。以上の手順により、本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１（図１参照）が完成する。
【００５８】
なお、本実施の形態においては、第１導電型がｎ型であり、第２導電型がｐ型である場合について説明したが本発明はこの形態に限定されない。たとえば、第１導電型がｐ型であり、第２導電型がｎ型であっても構わない。
【００５９】
また、本実施の形態において、炭化珪素半導体装置として縦型ＭＯＳＦＥＴを例に挙げて説明したが本発明はこの形態に限定されない。たとえば、炭化珪素半導体装置は、たとえば横型ＭＯＳＦＥＴでも構わない。また、ＭＯＳＦＥＴはプレナー型であってよいし、トレンチ型であってもよい。さらに、炭化珪素半導体装置はＩＧＢＴ（Ｉｎｓｕｌａｔｅｄ  Ｇａｔｅ  Ｂｉｐｏｌａｒ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）などであっても構わない。
【００６０】
次に、本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１およびその製造方法の作用効果について説明する。
【００６１】
本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１およびその製造方法によれば、第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１は、第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２よりも大きい。それゆえ、ドレイン電流の低減を抑制しつつ、かつＭＯＳＦＥＴ１の静電容量を低減することができる。結果として、ドレイン電流の低減を抑制しつつ、ＭＯＳＦＥＴ１のスイッチング特性を向上することができる。
【００６２】
また本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１の製造方法によれば、珪素を含む材料２２は、ポリシリコン、アモルファスシリコンおよびアモルファス炭化珪素のいずれかを含む。これにより、効率的に第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１を第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２より大きくすることができる。
【００６３】
さらに本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１の製造方法によれば、珪素を含む材料２２の幅Ｗ２は、第１の不純物領域１７の幅Ｗ１よりも小さい。これにより、珪素を含む材料２２が幅方向に広がった場合においても、第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１を第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２より大きくすることができる。
【００６４】
さらに本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１およびその製造方法によれば、第１の二酸化珪素領域１５ａの炭素濃度は、第２の二酸化珪素領域１５ｂの炭素濃度よりも低い。これにより、第１の二酸化珪素領域１５ａの絶縁性能が向上するため、逆電圧印加時における耐圧を向上することができる。
【００６５】
さらに本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１およびその製造方法によれば、第１の厚みＴ１は第２の厚みＴ２の１．５倍以上５倍以下である。第１の厚みＴ１が第２の厚みＴ２の１．５倍以上であれば、第１の二酸化珪素領域１５ａの炭素濃度を第２の二酸化珪素領域１５ｂの炭素濃度よりも効率的に低減することができる。一方、第１の厚みＴ１が第２の厚みＴ２の５倍以下であれば、第２の二酸化珪素領域１５ｂに形成されるゲート電極２７と、第１の二酸化珪素領域１５ａに形成されるゲート電極２７との段差が大きくなり過ぎないので、ゲート電極２７を断絶することなく形成することができる。
【００６６】
さらに本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１の製造方法によれば、二酸化珪素層を形成する工程において、珪素を含む材料２２を酸化する工程およびウェル領域１３の表面１０ｄを酸化する工程が同時に行われる。これにより、効率的に第１の厚みＴ１を第２の厚みＴ２よりも大きくすることができる。
【００６７】
（実施の形態２）
図８を参照して、実施の形態２における炭化珪素半導体装置であるＭＯＳＦＥＴ１の構成について説明する。実施の形態２に係るＭＯＳＦＥＴ１は、第２の二酸化珪素領域１５ｂを形成した後に珪素を含む材料２２を形成する点において実施の形態１に係るＭＯＳＦＥＴ１と異なっており、他の構成に関しては同様である。
【００６８】
実施の形態２に係るＭＯＳＦＥＴ１において、ゲート絶縁膜１５は、第１の二酸化珪素領域１５ａおよび第２の二酸化珪素領域１５ｂを含む。第１の二酸化珪素領域１５ａは、第３の二酸化珪素領域１５ｃと第４の二酸化珪素領域１５ｄとを含む。後述するように、第４の二酸化珪素領域１５ｄは、炭化珪素からなる第１の不純物領域１７の表面１０ｃを酸化することにより形成された二酸化珪素領域である。一方、第３の二酸化珪素領域１５ｃは、珪素を含む材料を酸化することにより形成された二酸化珪素領域である。
【００６９】
珪素を含む材料２２の炭素濃度は、炭化珪素の炭素濃度よりも小さい。それゆえ、第３の二酸化珪素領域１５ｃの炭素濃度は、第４の二酸化珪素領域１５ｄおよび第２の炭素濃度よりも小さい。結果として、第３の二酸化珪素領域１５ｃおよび第４の二酸化珪素領域１５ｄを含む第１の二酸化珪素領域１５ａの炭素濃度の平均値は、第２の二酸化珪素領域１５ｂの炭素濃度よりも小さい。
【００７０】
次に、本実施の形態におけるＭＯＳＦＥＴ１の製造方法の一例について、図９〜図１２を参照して説明する。
【００７１】
まず基板準備工程（Ｓ１０：図９）が実施される。具体的には、図３および図４を参照して、実施の形態１で説明した製造方法と同様の方法によって、ｎ型を有する第１の不純物領域１７と、第１の不純物領域１７と接しかつｎ型と異なるｐ型を有するウェル領域１３と、ウェル領域１３によって第１の不純物領域１７と隔てられかつｎ型を有する第２の不純物領域１４とを含む炭化珪素基板１０が準備される。
【００７２】
次に、第２の二酸化珪素領域工程（Ｓ２０：図９）が実施される。具体的には、図１０を参照して、第１の不純物領域１７の表面１０ｃおよびウェル領域１３の表面１０ｄが酸化される。より具体的には、酸素雰囲気中において、第１の不純物領域１７、ウェル領域１３、第２の不純物領域１４およびｐ+領域１８が露出した炭化珪素基板１０をたとえば１３００℃程度の温度で１時間程度加熱することにより、第１の不純物領域１７、ウェル領域１３、第２の不純物領域１４およびｐ+領域１８に接する第２の二酸化珪素領域１５ｂが形成される。第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みはたとえば５０ｎｍである。
【００７３】
次に、珪素を含む材料形成工程（Ｓ３０：図９）が実施される。具体的には、図１１を参照して、一対のウェル領域１３に挟まれた第１の不純物領域１７上に、第２の二酸化珪素領域１５ｂを介して、珪素を含む材料２２が形成される。珪素を含む材料２２の材料や厚みなどは、実施の形態１で説明した材料および厚みと同様である。
【００７４】
珪素を含む材料を形成する工程では、たとえば炭化珪素基板１０の主面１０ａに形成された第２の二酸化珪素領域１５ｂ上にポリシリコンを堆積させた後、ウェットエッチングやドライエッチングなどでパターニングを行うことで、第１の不純物領域１７上のみに珪素を含む材料２２を残すように珪素を含む材料を形成することが好ましい。また第１の不純物領域１７の表面１０ｃに形成された珪素を含む材料の幅Ｗ２（当該表面１０ｃに平行な方向の距離）は、第１の不純物領域の幅Ｗ１（つまり一対のウェル領域１３の間の最短距離）よりも小さいことが好ましい。なお、珪素を含む材料２２の厚みＴ４はたとえば６０ｎｍ程度である。
【００７５】
次に、第１の二酸化珪素領域形成工程（Ｓ３５：図９）が実施される。具体的には、図１２を参照して、たとえば炭化珪素基板１０の第１の不純物領域１７上に形成された珪素を含む材料２２が酸化される。より具体的には、酸素雰囲気中において、珪素を含む材料２２が形成された炭化珪素基板１０を、たとえば８００℃程度以上１２００℃程度以下に加熱して１時間程度保持する熱処理が実施される。これにより、炭化珪素基板１０の第１の不純物領域１７上に、第２の二酸化珪素領域１５ｂを介して第３の二酸化珪素領域１５ｃが形成される。第３の二酸化珪素領域１５ｃの厚みＴ３はたとえば１８０ｎｍ程度である。
【００７６】
以上の様に、第１の不純物領域１７の表面１０ｃ上に配置された第１の二酸化珪素領域１５ａと、第１の不純物領域１７と第２の不純物領域１４に挟まれたウェル領域１３の表面１０ｄ上に配置された第２の二酸化珪素領域１５ｂを含むゲート絶縁膜１５が形成される。なお、第１の二酸化珪素領域１５ａは、第３の二酸化珪素領域１５ｃおよび第４の二酸化珪素領域１５ｄを含む。
【００７７】
第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みを第１の厚みＴ１とし、かつ第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みを第２の厚みＴ２としたとき、第１の厚みＴ１は第２の厚みＴ２よりも大きい。好ましくは、第１の二酸化珪素領域１５ａの厚みＴ１は第２の二酸化珪素領域１５ｂの厚みＴ２の１．５倍以上５倍以下であり、より好ましくは３倍以上５倍以下である。第１の二酸化珪素領域１５ａの炭素濃度は、第２の二酸化珪素領域１５ｂの炭素濃度よりも低い。
【００７８】
なお、第３の二酸化珪素領域１５ｃの幅Ｗ３は、珪素を含む材料の幅Ｗ２よりも大きくてもよい。また第３の二酸化珪素領域１５ｃの幅Ｗ３は、第１の不純物領域１７の幅Ｗ１と同等か小さいことが好ましい。
【００７９】
次に、窒素アニール工程、ゲート電極形成工程（Ｓ４０：図９）およびオーミック電極形成工程（Ｓ５０：図９）が実施の形態１で説明した方法と同様の方法で実施される。その後、ソース配線１９が、層間絶縁膜２１を取り囲み、かつソースコンタクト電極１６と接するように形成される。また、たとえばＡｌからなるパッド電極２３がドレイン電極２０と接して形成される。以上の手順により、本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１（図８参照）が完成する。
【００８０】
なお実施の形態２におけるＭＯＳＦＥＴ１の製造方法において説明していない各工程における条件などは、実施の形態１におけるＭＯＳＦＥＴ１の製造方法と同様である。
【００８１】
次に、本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１およびその製造方法の作用効果について説明する。
【００８２】
本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１の製造方法によれば、二酸化珪素層を形成する工程において、珪素を含む材料２２を形成する工程は、ウェル領域１３の表面１０ｄを酸化する工程の後に行われる。これにより、ウェル領域１３の表面１０ｄの酸化温度と珪素を含む材料２２の酸化温度とを個別に調整することができる。
【００８３】
また本実施の形態に係るＭＯＳＦＥＴ１の製造方法によれば、珪素を含む材料２２を酸化する工程における温度は、ウェル領域１３の表面１０ｄを酸化する温度よりも低い。これにより、珪素を含む材料２２を溶解させることなく酸化させることができる。
【００８４】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００８５】
１  ＭＯＳＦＥＴ、１０  炭化珪素基板、１０ａ  主面、１０ｂ  第２の主面、１０ｃ，１０ｄ  表面、１１  ベース基板、１２  ドリフト層、１３  ウェル領域、１４  第２の不純物領域、１５  ゲート絶縁膜（二酸化珪素層）、１５ａ  第１の二酸化珪素領域、１５ｂ  第２の二酸化珪素領域、１５ｃ  第３の二酸化珪素領域、１５ｄ  第４の二酸化珪素領域、１６  ソースコンタクト電極、１７  第１の不純物領域（ＪＦＥＴ領域）、１８  ｐ+領域、１９  ソース配線、２０  ドレイン電極、２１  層間絶縁膜、２２  珪素を含む材料、２３  パッド電極、２７  ゲート電極、ＣＨ  チャネル領域、Ｔ１  第１の厚み、Ｔ２  第２の厚み、Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３  幅。
【図１】
2014107420.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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