(57)【要約】【課題】パターンの映り込み（骨見え）を有効に防止できる透明導電性シート及びそれを備えたタッチパネルを提供する。【解決手段】透明導電性シートは、透明基板の少なくとも一方の面に、接着層、高屈折率層、低屈折率層、パターン化された透明導電層を順次形成することにより得られる。透明基板の屈折率をｎ０、接着層の屈折率をｎ１としたとき、ｎ０＜ｎ１の関係を満たす。また、接着層の厚みは５０〜１５０ｎｍである。高屈折率層の屈折率をｎ２、低屈折率層の屈折率をｎ３、透明導電層の屈折率をｎ４としたとき、ｎ３＜ｎ０＜ｎ１＜ｎ２＜ｎ４の関係を満たしてもよい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、この透明基板の少なくとも一方の面に、前記透明基板側から順に、接着層と高屈折率層と低屈折率層とパターン化された透明導電層とを有する透明導電性シートであって、
前記透明基板の屈折率をｎ０、前記接着層の屈折率をｎ１としたとき、ｎ０＜ｎ１の関係を満たし、前記接着層の厚みｄ１が５０〜１５０ｎｍである透明導電性シート。
【請求項２】
高屈折率層の屈折率をｎ２、低屈折率層の屈折率をｎ３、透明導電層の屈折率をｎ４としたとき、ｎ３＜ｎ０＜ｎ１＜ｎ２＜ｎ４である請求項１記載の透明導電性シート。
【請求項３】
高屈折率層の厚みｄ２が２０〜１２０ｎｍであり、低屈折率層の厚みｄ３が１０〜３０ｎｍであり、透明導電層の厚みｄ４が１０〜３０ｎｍである請求項１又は２記載の透明導電性シート。
【請求項４】
透明基板の屈折率ｎ０が１．４〜１．７１であり、接着層の屈折率ｎ１が１．４５〜１．７２であり、高屈折率層の屈折率ｎ２が１．６〜２であり、低屈折率層の屈折率ｎ３が１．３〜１．７であり、透明導電層の屈折率ｎ４が１．７５〜２．１である請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電性シート。
【請求項５】
透明基板が、ポリエステル、アクリル樹脂及び環状ポリオレフィンから選択された少なくとも一種を含むプラスチックフィルムである請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電性シート。
【請求項６】
透明基板が２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであり、接着層の屈折率ｎ１が１．６６〜１．７２、厚みｄ１が７０〜１２０ｎｍであり、高屈折率層の屈折率ｎ２が１．７５〜１．９、厚みｄ２が３０〜７０ｎｍであり、低屈折率層の屈折率ｎ３が１．３８〜１．５、厚みｄ３が１０〜３０ｎｍである請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電性シート。
【請求項７】
透明基板が環状ポリオレフィンフィルムであり、接着層の屈折率ｎ１が１．５４〜１．６、厚みｄ１が７０〜１１０ｎｍであり、高屈折率層の屈折率ｎ２が１．７〜１．８５、厚みｄ２が５０〜１００ｎｍであり、低屈折率層の屈折率ｎ３が１．４２〜１．７、厚みｄ３が１０〜３０ｎｍである請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電性シート。
【請求項８】
透明基板がアクリル樹脂フィルムであり、接着層の屈折率ｎ１が１．５〜１．５６、厚みｄ１が７０〜１１０ｎｍであり、高屈折率層の屈折率ｎ２が１．６８〜１．８３、厚みｄ２が５０〜１００ｎｍであり、低屈折率層の屈折率ｎ３が１．４２〜１．７、厚みｄ３が１０〜３０ｎｍである請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電性シート。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の透明導電性シートを電極板として備えたタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターンの映り込み（骨見え）を有効に防止できる透明導電性シート及びそれを備えたタッチパネル（例えば、静電容量方式タッチパネル）に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネル（座標入力装置）をディスプレイと一体化した表示装置が、ＡＴＭ（現金自動受払機）、商品管理、案内表示、娯楽機器、モバイル機器などで広く使用されている。タッチパネルは、位置検出の方法により、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などに分類できる。これらの方式のうち、機能性に優れる点から、ＩＴＯグリッド方式を採用する静電容量方式タッチパネルが、タブレット端末、スマートフォンなどで採用されて脚光を浴びている。
【０００３】
ＩＴＯグリッド方式では、透明基板の上にパターン化されたＩＴＯ（酸化インジウム−酸化錫系複合酸化物）膜が形成されている。ＩＴＯ膜は透明基板に比べて屈折率が高いため、パターン部及び非パターン部で光透過性に差が発生し、近年の精細な表示装置では、ＩＴＯ膜によるパターンの映り込みが生じ、視認性を低下させる。このようなパターンの映り込みを防止するため、種々の透明導電性フィルムが提案されている。
【０００４】
例えば、特許第４６６１９９５号公報（特許文献１）には、透明プラスチックフィルムからなる基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電性薄膜層をこの順に積層した積層フィルムであって、高屈折率層の屈折率が１．７０〜２．５０、膜厚が４〜２０ｎｍであり、低屈折率層の屈折率が１．３０〜１．６０、膜厚が２０〜５０ｎｍであり、透明導電性薄膜層は、所定のインジウム−スズ複合酸化物薄膜からなる透明導電性積層フィルムが開示されている。この文献には、高屈折率層との密着性、耐薬品性、オリゴマーなどの低分子量物の析出防止の点から、基材には硬化物層を設けてもよいことが記載されており、硬化物層の厚みが０．１〜１５μｍ程度であることも記載されている。しかし、この文献には、硬化物層の屈折率について何ら記載されていない。
【０００５】
特開２０１１−１３４４８２号公報（特許文献２）には、表面のパターン部が、透明基材フィルムの表面から順に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、ＩＴＯ層が積層されており、表面の非パターン部が、透明基材フィルムの表面から順に、ハードコート層、高屈折率層が積層されており、裏面に機能層が形成されてなるエッチング加工された透明導電性フィルムが開示されている。この文献の実施例では、ハードコート層用塗液を、乾燥膜厚が４μｍになるように塗布した例が記載されている。しかし、この文献には、ハードコート層の屈折率について何ら記載されていない。
【０００６】
特開２０１１−１９４６７９号公報（特許文献３）には、透明基材の一方の面又は両方の面に、金属酸化物層、酸化ケイ素層及び酸化インジウム・スズ層、粘着剤層を透明基材側から順に設けてなる透明導電性積層体であって、酸化インジウム・スズ層が導電性パターン領域及び非導電性パターン領域からなり、金属酸化物層の屈折率が１．７〜２．６であり、光学膜厚が１２〜３５ｎｍであり、酸化ケイ素層の屈折率が１．３〜１．５であり、光学膜厚が７０〜１１０ｎｍであり、酸化インジウム・スズ層の光学膜厚が３０〜６５ｎｍであり、粘着剤層が所定の厚みである透明導電性積層体が開示されている。この文献には、透明基材と金属酸化物層との間にハードコート層を挿入できることが記載されている。
【０００７】
しかし、特許文献１〜３の透明導電性フィルムは、パターンの映り込みを有効に防止できず、視認性が十分ではない。
【０００８】
なお、波長５５０ｎｍの入射光の反射率が低減された透明導電性フィルムとして、特開２０１０−２７５６７号公報（特許文献４）には、透明フィルム基材の一方の面に、透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層、第３透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、透明フィルム基材の屈折率をｎｆ、第１透明誘電体層の屈折率をｎ１、第２透明誘電体層の屈折率をｎ２、第３透明誘電体層の屈折率をｎ３、透明導電層の屈折率をｎ４としたとき、ｎ３≦ｎ１＜ｎｆ＜ｎ４＜ｎ２の関係を満たし、第１透明誘電体層の厚みが１１０〜４００ｎｍであり、第２透明誘電体層の厚みが１５〜６５ｎｍであり、第３透明誘電体層の厚みが４０〜１００ｎｍであり、透明導電層の厚みが１５〜３０ｎｍである透明導電性フィルムが開示されている。しかし、この文献には、パターンの映り込み性について何ら記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第４６６１９９５号公報（特許請求の範囲、段落［００１５］［００２２］、実施例）
【特許文献２】特開２０１１−１３４４８２号公報（特許請求の範囲、実施例）
【特許文献３】特開２０１１−１９４６７９号公報（特許請求の範囲、段落［００２２］、実施例）
【特許文献４】特開２０１０−２７５６７号公報（特許請求の範囲）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従って、本発明の目的は、パターンの映り込みを有効に防止できる透明導電性シート及びそれを備えたタッチパネルを提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、表面抵抗が小さい透明導電性シート及びそれを備えたタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、透明基板（又は透明基材）の少なくとも一方の面に、接着層（第１の光学調整層、光学接着層）、高屈折率層（第２の光学調整層）、低屈折率層（第３の光学調整層）、パターン化された透明導電層をこの順に有する透明導電性シートにおいて、透明基板の屈折率ｎ０よりも接着層の屈折率ｎ１を大きくすると、パターンの映り込みを抑制でき、視認性を向上できることを見いだし、本発明を完成した。
【００１３】
より詳細には、特許文献４に記載のように、通常、透明基板としてポリエチレンテレフタレートフィルムが利用されるが、透明基板に第１に接するのは易接着層であり、易接着層としては屈折率がポリエチレンテレフタレートフィルムより小さい１．６０近辺のものが用いられている。このように、ｎ１＜ｎ０から出発して好適な層構成を見出すのではなく、本発明では、敢えてｎ１＞ｎ０から出発して層構成を検討した結果、性能的にもコスト的にもパターンの映り込みに対して好適な層構成を見いだした。
【００１４】
すなわち、本発明の透明導電性シートは、透明基板（又は透明基材）と、この透明基板の少なくとも一方の面に、前記透明基板側から順に、接着層（第１の光学調整層、光学接着層）と、高屈折率層（第２の光学調整層）と、低屈折率層（第３の光学調整層）と、パターン化された透明導電層とを有する。透明基板の屈折率をｎ０、接着層の屈折率をｎ１としたとき、ｎ０＜ｎ１の関係を満たす。
【００１５】
高屈折率層の屈折率をｎ２、低屈折率層の屈折率をｎ３、透明導電層の屈折率をｎ４としたとき、ｎ３＜ｎ０＜ｎ１＜ｎ２＜ｎ４の関係を満たしていてもよい。本発明では特許文献４（ｎ３≦ｎ１＜ｎ０＜ｎ４＜ｎ２）のように透明導電層の屈折率ｎ４よりも高屈折率層の屈折率ｎ２を大きくする必要がないため、高価な無機酸化物層をスパッタリングのような高コストの方法で形成する必要がなく、安価な有機薄膜や有機薄膜にごく微量の屈折率向上剤を添加した層を用いることができ、コスト的にも性能的にも優れている。
【００１６】
透明基板の屈折率ｎ０は１．４〜１．７１程度、接着層の屈折率ｎ１は１．４５〜１．７２程度、高屈折率層の屈折率ｎ２は１．６〜２程度、低屈折率層の屈折率ｎ３は１．３〜１．７程度、透明導電層の屈折率ｎ４は１．７５〜２．１程度であってもよい。
【００１７】
接着層の厚みｄ１は５０〜１５０ｎｍ程度、高屈折率層の厚みｄ２は２０〜１２０ｎｍ程度、低屈折率層の厚みｄ３は１０〜３０ｎｍ程度、透明導電層の厚みｄ４は１０〜３０ｎｍ程度であってもよい。
【００１８】
透明基板は、ポリエステル、アクリル樹脂及び環状ポリオレフィンから選択された少なくとも一種を含むプラスチックフィルムであってもよい。
【００１９】
透明基板の種類と、接着層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率及び厚みとの組み合わせとしては、代表的には下記（１）〜（３）の組み合わせが挙げられる。
（１）透明基板が２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであり、接着層の屈折率ｎ１が１．６６〜１．７２、厚みｄ１が７０〜１２０ｎｍであり、高屈折率層の屈折率ｎ２が１．７５〜１．９、厚みｄ２が３０〜７０ｎｍであり、低屈折率層の屈折率ｎ３が１．３８〜１．５、厚みｄ３が１０〜３０ｎｍである組み合わせ
（２）透明基板が環状ポリオレフィンフィルムであり、接着層の屈折率ｎ１が１．５４〜１．６、厚みｄ１が７０〜１１０ｎｍであり、高屈折率層の屈折率ｎ２が１．７〜１．８５、厚みｄ２が５０〜１００ｎｍであり、低屈折率層の屈折率ｎ３が１．４２〜１．７、厚みｄ３が１０〜３０ｎｍである組み合わせ
（３）透明基板がアクリル樹脂フィルムであり、接着層の屈折率ｎ１が１．５〜１．５６、厚みｄ１が７０〜１１０ｎｍであり、高屈折率層の屈折率ｎ２が１．６８〜１．８３、厚みｄ２が５０〜１００ｎｍであり、低屈折率層の屈折率ｎ３が１．４２〜１．７、厚みｄ３が１０〜３０ｎｍである組み合わせ。
【００２０】
本発明は、上記透明導電性シートを電極板として備えたタッチパネルを包含する。
【発明の効果】
【００２１】
本発明では、透明基板の少なくとも一方の面が、接着層、高屈折率層、低屈折率層、パターン化された透明導電層をこの順に備えており、接着層が特定の屈折率及び厚みを有するため、パターンの映り込みを有効に防止できる。また、本発明では、他の層の屈折率や厚みを調整することにより、更に視認性を向上できる。本発明では、表面抵抗を低減でき、大画面の表示装置（タッチパネル付き表示装置など）の用途にも適している。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の透明導電性シートは、透明基板（又は透明基材）と、この透明基板の少なくとも一方の面に、透明基板側から順に、接着層（第１の光学調整層、光学接着層）と高屈折率層（第２の光学調整層）と低屈折率層（第３の光学調整層）とパターン化された透明導電層とを備えている。換言すれば、透明導電性シートは、透明基板の少なくとも一方の面にパターン部と非パターン部とを有しており、パターン部は、透明基板側から順に、接着層と高屈折率層と低屈折率層と透明導電層とを有しており、非パターン部は、透明基板側から順に、接着層と高屈折率層と低屈折率層とを有している。
【００２３】
（透明基板）
透明基板（又は透明基材）は、例えば、強度の点から、ガラス板であってもよいが、可撓性及び軽量性の点から、プラスチックフィルムであるのが好ましい。前記フィルムを構成するプラスチックとしては、例えば、アクリル樹脂（ポリメタクリル酸メチルなど）、ビニルアルコール樹脂（ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体など）、環状ポリオレフィン（ノルボルネン類の共重合体など）、脂肪族又は芳香族ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリＣ２−４アルキレンＣ６−１０アリレートなど）、ポリカーボネート、脂肪族ポリアミド、セルロースアシレート（セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなど）、これらの組み合わせなどが例示できる。前記プラスチックのうち、ポリエステル、アクリル樹脂及び環状ポリオレフィンから選択された少なくとも一種が汎用される。前記フィルムは、必要に応じて、添加剤、例えば、安定化剤（酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、耐熱安定剤など）、結晶核剤、可塑剤、帯電防止剤などを含んでいてもよい。前記フィルムは、一軸又は二軸延伸フィルムであってもよい。
【００２４】
透明基板の屈折率ｎ０は、１．４〜１．７１程度の範囲から選択でき、例えば、１．４〜１．７、好ましくは１．４５〜１．６８（例えば、１．５〜１．６６）程度である。
【００２５】
透明基板の厚みは、例えば、５０〜１０００μｍ、好ましくは７０〜５００μｍ、さらに好ましくは１００〜２００μｍ程度である。
【００２６】
（接着層）
接着層（第１の光学調整層、光学接着層）は、透明基板と高屈折率層とを接着するための機能を有している。市販の透明基板（ＰＥＴフィルムなど）には易接着層を備えている場合があるが、このような易接着層はパターンの可視性を低減することが困難である。本発明では、下記のように屈折率及び厚みを最適化しているため、パターンの可視性を顕著に低減できる。
【００２７】
接着層の屈折率ｎ１は、透明基板の屈折率ｎ０よりも大きいことを特色としている。屈折率ｎ１は、透明基板の種類にもよるが、１．４５〜１．７２程度の範囲から選択でき、例えば、１．４８〜１．７２、好ましくは１．５〜１．７１程度である。屈折率ｎ１と屈折率ｎ０との差（ｎ１−ｎ０）は、例えば、０．１以下、好ましくは０．００５〜０．０８、さらに好ましくは０．００７〜０．０７（例えば、０．０１〜０．０５）程度である。
【００２８】
接着層の厚みｄ１は、５０〜１５０ｎｍの範囲から選択でき、例えば、５５〜１４５ｎｍ、好ましくは６０〜１４０ｎｍ程度である。厚みが小さすぎても、逆に大きすぎてもパターンの映り込みを防止するのが困難になる。
【００２９】
接着層は、上記屈折率及び厚みを有する限り特に制限されず、例えば、硬化性樹脂及び熱可塑性ポリマーを含む硬化性組成物の硬化物で構成してもよい。
【００３０】
硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー又はプレポリマー）としては、熱線や活性エネルギー線（紫外線や電子線など）などにより硬化又は架橋可能である限り特に制限されない。硬化性樹脂（光硬化性樹脂など）は、通常、重合性基（ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基など）を有している。
【００３１】
モノマーとしては、単官能モノマー［例えば、アルキル（メタ）アクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、橋架環式（メタ）アクリレート（イソボルニル（メタ）アクリレートなど）、グリシジル（メタ）アクリレート、ビニルエステル（酢酸ビニルなど）、ビニルピロリドンなど］、２官能モノマー［例えば、アリル（メタ）アクリレート、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどのＣ２−６アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートなど）、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート（ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレートなどのポリＣ２−６アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートなど）、橋架環式ジ（メタ）アクリレート（トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートなど）など］、３個以上の重合性基を有する多官能モノマー［３価以上の多価アルコール又はそのＣ２−４アルキレンオキシド付加体と（メタ）アクリル酸とのエステル化物、例えば、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ乃至テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ乃至ヘキサ（メタ）アクリレートなど］が例示できる。
【００３２】
重合性基を有するオリゴマーとしては、エポキシ（メタ）アクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートなど）、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート（脂肪族ポリエステル型（メタ）アクリレート、芳香族ポリエステル型（メタ）アクリレートなど）、ウレタン（メタ）アクリレート（ポリエステル型ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル型ウレタン（メタ）アクリレートなど）、シリコーン（メタ）アクリレートなどが例示できる。
【００３３】
硬化性樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。硬化性樹脂は、少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレート（例えば、ジペンタエリスリトールペンタ乃至ヘキサ（メタ）アクリレートなどの４〜８官能（メタ）アクリレート）を含んでいるのが好ましい。また、硬化性樹脂は、５〜７官能（メタ）アクリレートと、２〜４官能（メタ）アクリレート（ペンタエリスリトールトリ乃至テトラ（メタ）アクリレートなど）との組み合わせも好ましい。２〜４官能（メタ）アクリレートと５〜７官能（メタ）アクリレートとの重量割合は、例えば、前者／後者＝１００／０〜１０／９０、好ましくは９９／１〜３０／７０、さらに好ましくは９０／１０〜５０／５０程度である。
【００３４】
硬化性樹脂の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）において、ポリスチレン換算で、例えば、５０００以下（例えば、１００〜５０００）、好ましくは２０００以下（例えば、１５０〜２０００）、さらに好ましくは１０００以下（例えば、２００〜１０００）程度である。
【００３５】
熱可塑性ポリマーとしては、アクリル樹脂、ビニルエステル樹脂、ビニルエーテル樹脂、フッ素樹脂、ポリオレフィン（脂環式ポリオレフィンを含む）、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスルホン、ポリフェニレンエーテル、セルロース誘導体、シリコーン樹脂、エラストマーなどが例示できる。これらの熱可塑性ポリマーは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましい熱可塑性ポリマーは、セルロース誘導体である。
【００３６】
セルロース誘導体としては、セルロースエステル（例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレートなどの有機酸エステル；リン酸セルロース、硫酸セルロースなどの無機酸エステル；セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、酢酸・硝酸セルロースエステルなどの混酸エステルなど）、セルロースカーバメート、セルロースエーテル（例えば、ヒドロキシＣ２−４アルキルセルロース、Ｃ１−６アルキルセルロース、カルボキシメチルセルロース又はその塩など）、これらの組み合わせなどが例示できる。好ましいセルロース誘導体は、セルロースエステル、特に、少なくともアセチル基を有するセルロースエステル、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースアセテートＣ３−４アシレートである。
【００３７】
熱可塑性ポリマーの数平均分子量は、ＧＰＣにおいて、ポリスチレン換算で、例えば、１０，０００〜１００，０００、好ましくは３０，０００〜９０，０００、さらに好ましくは５０，０００〜８０，０００程度である。
【００３８】
熱可塑性ポリマーの割合は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．０５〜５重量部、さらに好ましくは０．１〜１重量部（例えば、０．１〜０．５重量部）程度である。
【００３９】
硬化性組成物は、必要に応じて、慣用の添加剤、例えば、開始剤、硬化促進剤、屈折率向上剤、安定剤、帯電防止剤、難燃剤、溶剤（溶媒）などを含んでいてもよい。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの添加剤のうち、開始剤、屈折率向上剤、溶剤（溶媒）などが汎用される。
【００４０】
開始剤（光重合開始剤など）としては、アルキルフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類、これらの組み合わせなどが例示できる。開始剤の割合は、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１５重量部、さらに好ましくは１〜１０重量部程度である。
【００４１】
屈折率向上剤は、特に制限されず、有機粒子であってもよいが、通常、無機粒子である。無機粒子は、金属酸化物、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化亜鉛（特に、酸化チタン）などで構成してもよい。有機又は無機粒子の平均一次粒子径は、例えば、１〜１００ｎｍ、好ましくは５〜８０ｎｍ（例えば、１０〜６０ｎｍ）程度である。なお、屈折率向上剤は、分散媒（水など）に懸濁させてスラリーとして利用する場合が多い。屈折率向上剤の割合は、固形分換算で、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、１０〜１５０重量部、好ましくは２０〜１２０重量部（例えば、５０〜１１０重量部）程度である。
【００４２】
溶媒は、硬化性樹脂及び熱可塑性ポリマーの種類に応じて選択でき、例えば、水、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、メトキシプロパノール、ブタノールなど）、エーテル類、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、セロソルブ類、セロソルブアセテート類、スルホキシド類、アミド類などが例示できる。これらの溶媒は、単独で又は混合溶媒として使用できる。
【００４３】
接着層は、慣用の方法、例えば、支持体（透明基板など）に硬化性組成物を適用（塗布又は流延）する工程と、前記硬化性組成物を硬化する工程とを経て、形成してもよい。なお、硬化性組成物を適用した後、必要により乾燥してもよい。乾燥温度は、例えば、４０〜１５０℃、好ましくは４５〜１２０℃、さらに好ましくは５０〜１００℃程度である。乾燥時間は、例えば、１０秒〜１０分、好ましくは２０秒〜５分、さらに好ましくは３０秒〜２分程度である。
【００４４】
硬化性組成物の硬化方法は、硬化性樹脂の種類に応じて選択でき、例えば、熱線や活性エネルギー線（紫外線や電子線など）により硬化する方法であってもよい。通常、紫外線や電子線などの光照射、操作の簡便性の点から、紫外線照射により硬化する方法が汎用される。紫外線の照射量は、例えば、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは２００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２程度である。なお、光照射は、空気中で行ってもよく、必要であれば、不活性ガス（例えば、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスなど）雰囲気中で行ってもよい。
【００４５】
（高屈折率層）
高屈折率層（第２の光学調整層）は、パターンの可視性を低減するための層であれば特に制限されない。高屈折率層の屈折率ｎ２は、１．６〜２程度の範囲から選択でき、例えば、１．６５〜１．９５、好ましくは１．７〜１．９程度である。屈折率ｎ２は、屈折率ｎ１よりも大きいのが好ましい。屈折率ｎ２と屈折率ｎ１との差（ｎ２−ｎ１）は、例えば、０．２以下、好ましくは０．００５〜０．１９、さらに好ましくは０．０１〜０．１８程度である。
【００４６】
高屈折率層は、無機材料（屈折率向上剤の項で例示した金属酸化物など）で構成してもよいが、有機材料（接着層の項で例示した硬化性組成物の硬化物など）で構成するのが好ましい。なお、硬化性組成物において、屈折率向上剤を含むのが好ましい。屈折率向上剤の割合は、接着層での割合よりも多いのが好ましく、固形分換算で、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、８０〜１２００重量部、好ましくは１００〜１０００重量部、さらに好ましくは１２０〜９００重量部（例えば、１５０〜８００重量部）程度である。
【００４７】
高屈折率層の厚みｄ２は、例えば、２０〜１２０ｎｍ、好ましくは２５〜１１０ｎｍ、さらに好ましくは３０〜１００ｎｍ（例えば、３０〜９０ｎｍ）程度である。
【００４８】
高屈折率層は、慣用の成膜方法により形成できる。成膜方法としては、例えば、支持体（接着層など）に、高屈折率層を形成するための硬化性組成物を適用（塗布又は流延）して硬化する方法、高屈折率層の構成材料を蒸着する方法などが挙げられる。前者の方法は、接着層の項で例示した方法と同様の方法であってもよい。後者の方法は、慣用の蒸着方法、例えば、物理的気相（ＰＶＤ）法（真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法など）、化学的気相（ＣＶＤ）法であってもよい。
【００４９】
（低屈折率層）
低屈折率層（第３の光学調整層）は、パターンの可視性を低減するための層であれば特に制限されない。低屈折率層の屈折率ｎ３は、１．３〜１．７程度の範囲から選択でき、例えば、１．３２〜１．６５、好ましくは１．３５〜１．６（例えば、１．３７〜１．５５）程度である。屈折率ｎ３は、屈折率ｎ０〜ｎ２（特に、屈折率ｎ０）よりも小さいのが好ましい。屈折率ｎ０と屈折率ｎ３との差（ｎ０−ｎ３）は、例えば、０．３以下、好ましくは０．００５〜０．２９、さらに好ましくは０．０１〜０．２８（例えば、０．０２〜０．２５）程度である。
【００５０】
低屈折率層は、無機材料（酸化ケイ素（シリカなど）、酸化アルミニウム（アルミナなど）などの金属酸化物；フッ化マグネシウム、フッ化銅、フッ化セリウムなどの金属フッ化物など）で構成してもよく、有機材料（接着層の項で例示した硬化性組成物の硬化物など）で構成してもよい。なお、硬化性組成物は、屈折率向上剤を含有しなくてもよく、含有したとしても屈折率向上剤の含有量はごく微量である。屈折率向上剤の割合は、接着層での割合よりも少ないのが好ましく、固形分換算で、硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、５０重量部以下（例えば、０．１〜４０重量部）、好ましくは０．５〜３０重量部、さらに好ましくは１〜２５重量部程度である。
【００５１】
低屈折率層の厚みｄ３は、例えば、１０〜５０ｎｍ、好ましくは１２〜４５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜４０ｎｍ程度であり、通常１０〜３０ｎｍ程度である。また、低屈折率層の厚みｄ３を「１」としたとき、接着層の厚みｄ１は、例えば、１〜１０、好ましくは１．５〜８、さらに好ましくは２〜６程度であり、高屈折率層の厚みｄ２は、例えば、１〜５、好ましくは１．１〜４、さらに好ましくは１．２〜３．５程度である。
【００５２】
低屈折率層は、慣用の方法、例えば、高屈折率層と同様の方法により形成できる。
【００５３】
透明基板の種類と、接着層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率及び厚みとの組み合わせとしては、表１に示す組み合わせが好ましい。
【００５４】
【表１】
2014096241.tif 000002
【００５５】
（透明導電層）
透明導電層は、慣用の透明導電材、例えば、無機材料（金属酸化物、例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、インジウム−錫複合酸化物（ＩＴＯ）、インジウム−亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ）など）、有機材料（導電性高分子、例えば、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリチオフェン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリピロール、ポリアニリンなど）などで構成されている。なお、透明導電層は、ドーパントでドープされていてもよい。
【００５６】
透明導電層の屈折率ｎ４は、１．７５〜２．１程度の範囲から選択でき、例えば、１．８〜２．１、好ましくは１．８５〜２．１（例えば、１．９〜２．１）程度である。屈折率ｎ４は、屈折率ｎ０〜ｎ３（特に、屈折率ｎ２）よりも大きいのが好ましい。屈折率ｎ４と屈折率ｎ２との差（ｎ４−ｎ２）は、例えば、０．４以下、好ましくは０．０１〜０．３９、さらに好ましくは０．０５〜０．３８（例えば、０．１〜０．３７）程度である。
【００５７】
透明導電層はパターン化されている。パターン形状としては、例えば、格子状、メッシュ状、ストライプ状などが挙げられる。線幅は、例えば、１〜５０μｍ、好ましくは２〜４０μｍ、さらに好ましくは５〜３０μｍ程度である。
【００５８】
透明導電層の厚みｄ４は、例えば、１０〜５０ｎｍ、好ましくは１５〜４０ｎｍ、さらに好ましくは２０〜３５ｎｍ程度であってもよく、１０〜３０ｎｍ程度であってもよい。
【００５９】
各層の屈折率の関係は、ｎ０＜ｎ１であればよく、好ましくはｎ０＜ｎ１かつｎ２＜ｎ４であり、さらに好ましくはｎ３＜ｎ０＜ｎ１＜ｎ２＜ｎ４である。
【００６０】
パターン化された透明導電層は、慣用の方法、例えば、支持体（低屈折率層など）に、透明導電材を含む組成物を部分的に適用して成膜する方法、透明導電材で成膜した後にエッチングする方法などが挙げられる。前者の方法は、例えば、パートコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法などであってもよい。後者の方法は、例えば、慣用の蒸着法（高屈折率層の項で例示した蒸着法など）により成膜した後、パターン形成手段（マスキング、リソグラフィなど）を用いて、膜の所定部を酸やアルカリでエッチングする方法であってもよい。
【００６１】
なお、透明導電性シートは、本発明の効果を阻害しない限り、さらに他の機能層（例えば、保護層、アンチニュートンリング層、防眩層、光散乱層、反射防止層、偏光層、位相差層など）を含んでいてもよい。
【００６２】
本発明の透明導電性シートは、パターンの映り込みを有効に防止できる。すなわち、パターンの可視性の指標となる色差ΔEを、例えば、１．７以下、好ましくは１．５以下（例えば、０．０１〜１．３）、さらに好ましくは１．２以下（例えば、０．０５〜１．１）、特に１以下（例えば、０．１〜１）程度にできる。なお、色差ΔEは、下記式（１）に基づいて算出できる。
【００６３】
【数１】
2014096241.tif 000003
【００６４】
（式中、それぞれの記号は以下の通りである。
L*1：CIE1976（L*a*b*）表示系における非パターン部のL*
L*2：CIE1976（L*a*b*）表示系におけるパターン部のL*
a*1：CIE1976（L*a*b*）表示系における非パターン部のa*
a*2：CIE1976（L*a*b*）表示系におけるパターン部のa*
b*1：CIE1976（L*a*b*）表示系における非パターン部のb*
b*2：CIE1976（L*a*b*）表示系におけるパターン部のb*）
【００６５】
透明導電性シートは、さらに表面抵抗を低減できる。表面抵抗値は、ＪＩＳ  Ｋ７１９４に準拠して、例えば、５０〜２５０Ω／□、好ましくは１００〜２００Ω／□、さらに好ましくは１２０〜１８０Ω／□程度である。なお、単位「Ω／□」は、ＪＩＳ  Ｋ６９１１で定義されており、シートの単位面積あたりの抵抗を示し、シート抵抗とも呼ばれる。
【００６６】
透明導電性シートは、透明性にも優れている。全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して、パターン部（透明導電層が形成された領域）では、例えば、７５％以上（例えば、７５〜１００％）、好ましくは８０〜９９％、さらに好ましくは８５〜９５％程度であり、非パターン部（透明導電層が形成されていない領域）では、例えば、８０％以上（例えば、８０〜１００％）、好ましくは８５〜９９％、さらに好ましくは９０〜９５％程度である。
【００６７】
ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して、パターン部では、例えば、５％以下、好ましくは０．１〜３％、さらに好ましくは０．３〜１．５％程度であり、非パターン部では、例えば、５％以下、好ましくは０．１〜３％、さらに好ましくは０．３〜１．５％程度である。
【００６８】
［タッチパネル］
タッチパネル（例えば、抵抗膜式又は静電容量式タッチパネル）は、上記の透明導電性シートを電極板（視認側の上部電極板など）として備えている。代表的なタッチパネルは、第１の電極板（下部電極板又はＸ軸方向電極板）、及びこの電極板の上面に、空間層（又はドットスペーサ）、絶縁層などの中間層を介して、第２の電極板（上部電極板又はＹ軸方向電極板）を備えている。第１の電極板及び第２の電極板のうち、少なくとも一方の電極板（少なくとも第２の電極板）を上記の透明導電性シートで構成すればよく、他方の電極板は、同種又は異種の透明導電性シートで構成できる。これらのタッチパネルのうち、静電容量式タッチパネルが好ましい。
【００６９】
［表示装置］
表示装置は、上記透明導電性シートを構成部材として含んでいればよく、通常、表示層（液晶をガラスで封止したセルなど）、及びこの表示層の一方の面（視認側の面）に上記透明導電性シートを備えている。表示層と透明導電性シートとの間、及び透明導電性シートの視認側の面には、任意の層（ガラス板、透明樹脂層、ハードコート層、偏光層などの透明導電性シートの項で例示した機能層など）を有していてもよい。なお、各層の貼り合わせには、通常、透明両面粘着テープ［ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）テープ］が使用される。
【実施例】
【００７０】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、実施例及び比較例で得られた透明導電性シートを以下の項目で評価した。
【００７１】
［視認性］
黒紙の上で、透明導電層が形成された領域と形成されていない領域とを目視で観察して以下の基準で判定した。
【００７２】
◎：差がわからない
○：差がわかりにくい
△：わずかに差がある
×：明らかに差がある。
【００７３】
［色差］
光学計算ソフト（シグマ光機（株）製、Essential Macleod）を用いて、ＩＴＯスパッタ前後のL*a*b*を計算し、これらの値を前記式（１）に代入して色差ΔEを算出した。
【００７４】
［表面抵抗］
表面抵抗値測定装置（ダイアインスツルメンツ社製：商品名Loresta-GP T610）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１９４に準拠して測定した。具体的には、電極の透明導電塗膜層側を測定面として、１００ｍｍ×７０ｍｍのカットフィルムの測定面内で任意の９箇所を測定し、それらの平均値を表面抵抗値（単位：Ω／□）とした。
【００７５】
［基材フィルム］
易接着層付きＰＥＴ：東洋紡（株）製「Ａ４３００」
ＰＥＴ：東洋紡（株）製「Ｔ−６０」
アクリル樹脂：三菱レイヨン（株）製「アクリプレンＨＢＳ００６」
ＣＯＣ：恵和（株）製「ＣＯＥフィルム」
【００７６】
［硬化性組成物の配合成分］
６官能アクリレート（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）：ダイセル・サイテック（株）製「ＤＰＨＡ」
３官能アクリレート（ペンタエリスリトールトリアクリレート）：ダイセル・サイテック（株）製「ＰＥＴＩＡ」
フッ素樹脂：ダイキン工業（株）製「ＡＲ１１０」
ＣＡＰ（セルロースアセテートプロピオネート）：イーストマン社製「ＣＡＰ−４８２−２０」、ポリスチレン換算数平均分子量７５，０００
酸化チタン分散液：シーアイ化成（株）製「ＲＴＴＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｈ２１」
ＢｕＯＨ：１−ブタノール
ＭＭＰＧ：１−メトキシ−２−プロパノール
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＩＰＡ：２−プロパノール
開始剤１：光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」
開始剤２：光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７」。
【００７７】
比較例及び実施例
表２〜５に示す処方の硬化性組成物を、基材フィルムの片面にワイヤーバー＃５を用いて流延した後、６０℃のオーブン内で１分間放置後、コートフィルムを紫外線照射装置（ウシオ電機（株）製、高圧水銀ランプ、紫外線照射量：８００ｍＪ／ｃｍ２）に通して、紫外線硬化処理を行い、塗膜を硬化させて硬化層を形成した。この硬化層の上に更に硬化性組成物の硬化層を形成する場合、上記と同様に操作した。また、硬化層の上にＳｉＯ２の蒸着膜を形成する場合、ＳｉＯ２をスパッタリング処理した。さらに、硬化層の上に市販のフィルムを積層する場合、市販のフィルムを常法によりラミネートした。得られた積層体の上に、インジウム−錫複合酸化物（ＩＴＯ）をスパッタリング処理して透明導電層を形成した後、１Ｎの塩酸に１時間浸漬して一部の透明導電層を除去し、純水で塩酸を洗い流し、１００℃で乾燥させることにより所定のパターンを形成した。得られた透明導電性シートの評価結果を表２〜５に示す。
【００７８】
【表２】
2014096241.tif 000004
【００７９】
【表３】
2014096241.tif 000005
【００８０】
【表４】
2014096241.tif 000006
【００８１】
【表５】
2014096241.tif 000007
【００８２】
表２〜５から明らかなように、比較例に比べ、実施例ではΔEが小さく視認性に優れているとともに、表面抵抗も小さい。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明の透明導電性シートは、透明導電層をパターン化して利用する各種の表示装置、例えば、パーソナルコンピューター、テレビ、スマートフォン、タブレット端末、遊技機器、モバイル機器、時計、電卓などの電気・電子又は精密機器に利用できる。また、本発明の透明導電性シートは、タッチパネル付き表示装置（液晶表示装置、プラズマディスプレイ装置、有機又は無機ＥＬ表示装置など）に利用でき、優れた視認性から、静電容量方式のタッチパネルの電極板（視認側の上部電極板など）として有用である。さらに、本発明の透明導電性シートは、表面抵抗を低減できる点から、大画面の表示装置にも利用できる。