(57)【要約】【課題】画素定義膜の構造が改善された有機発光表示装置を提供する。【解決手段】基板、及び前記基板上に配置され、画素領域を定義する画素定義膜を含み、前記画素領域のそれぞれは、第１電極、前記第１電極上に配置された発光層、及び前記発光層上に配置された第２電極を含み、前記画素定義膜は少なくとも二つの前記画素領域の間で伸びたチャネルを持つ。【選択図】図２
2014229612.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板；及び
前記基板上に配置され、画素領域を定義する画素定義膜；を含み、
前記画素領域のそれぞれは、
第１電極；
前記第１電極上に配置された発光層；及び
前記発光層上に配置された第２電極；を含み、
前記画素定義膜は少なくとも二つの前記画素領域の間に伸びたチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）を持つことを特徴とする、表示装置。
【請求項２】
前記画素定義膜は、チャネルの長手方向に前記チャネル内で傾斜を持つ底面を含むことを特徴とする、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記傾斜の平均傾斜角は、第１電極面を基準に１０°〜４５°であることを特徴とする、請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記チャネルは、少なくとも一方向に伸びたことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記底面はチャネル内で最高点を持ち、前記最高点から互いに異なる方向に下方に伸びた傾斜を持つことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記チャネルの底面はチャネルの長手方向に一端で最低点を持ち、他端で最高点を持つことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記チャネルの長手方向に垂直な方向に切断した前記チャネルの断面はＵ字形、逆三角形及び四角形のいずれか一形態を持つことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記少なくとも一つの画素領域は、前記第１電極と前記発光層の間に配置された正孔注入層及び正孔輸送層の中で少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記それぞれの画素領域は、
第１電極上に配置された正孔注入層；
前記正孔注入層上に配置されたプライマー層；及び
前記プライマー層上に配置された正孔輸送層；をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記それぞれの画素領域は、前記発光層と前記第２電極の間に配置された電子輸送層及び電子注入層の中で少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機発光表示装置に係り、より詳しくは画素定義膜の構造が改善された有機発光表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ）は、光を放出する有機発光素子（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）を用いて画像を表示する自発光型表示装置である。このような有機発光表示装置は、低消費電力、高輝度及び高反応速度などの特性を示すので、現在表示装置として注目されている。
【０００３】
このような有機発光表示装置において、画像を表示する基本単位を画素と言う。前記画素は、互いに対向している第１電極と第２電極、及び前記第１電極と第２電極の間に配置された有機層を含む。前記有機層は発光層を含む一つ以上の層が積層された構造を持つことが一般的である。
【０００４】
有機発光表示装置においては、このような画素の領域を互いに区分するために画素定義膜が配置される。前記画素定義膜は、画素領域を区分するためにメッシュ（ｍｅｓｈ）状に形成できる。すなわち、互いに区分されて第１電極が形成され、前記第１電極を画素単位で区分するために画素定義膜が形成された後、前記画素定義膜によって区分された少なくとも一つの第１電極の画素領域上に多様な物質、特に有機物質が積層される。この際、前記積層される物質はそれぞれの画素領域に均一に分配されることが良い。
【０００５】
ところが、画素領域に特定の層を形成するために特定の物質を塗布する場合、前記物質は画素定義膜上にも前記物質が塗布される。前記画素定義膜は第１電極より高く形成されるから、前記画素定義膜に塗布された前記物質は低い画素領域に移動する場合が発生する。しかし、前記のように画素定義膜上に塗布された物質が画素領域に移動するとき、前記物質がそれぞれの画素領域に均一に分配されることができなければ、画素領域において物質不均一が発生することができる。このような物質不均一が発生すれば、それぞれの画素の発光が均一ではないことがある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、本発明の目的は、画素を形成するために画素領域に有機物を含む多様な物質が積層されるとき、それぞれの画素領域において前記有機物質が均一に分配できるように画素定義膜の構造が改善された有機発光表示装置を提供することである。
【０００７】
このために、本発明の目的は、画素定義膜にチャネルが形成された有機発光表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様は、基板；及び前記基板上に配置され、画素領域を定義する画素定義膜；を含み、前記画素領域のそれぞれは、第１電極；前記第１電極上に配置された発光層；及び前記発光層上に配置された第２電極；を含み、前記画素定義膜は少なくとも二つの前記画素領域の間で伸びたチャネルを持つ表示装置を提供する。
【０００９】
本発明の一態様において、前記画素定義膜はチャネルの長手方向に前記チャネル内で傾斜を持つ底面を含むことができる。
【００１０】
本発明の一態様において、前記傾斜の平均傾斜角は第１電極面を基準に１０°〜４５°であってもよい。
【００１１】
本発明の一態様において、前記チャネルは少なくとも一方向に伸びることができる。
【００１２】
本発明の一態様において、前記底面はチャネル内で最高点を持ち、前記最高点から互いに異なる方向に下方に伸びた傾斜を持つことができる。
【００１３】
本発明の一態様において、前記チャネルの底面はチャネルの長手方向に一端で最低点を持ち、他端で最高点を持つことができる。
【００１４】
本発明の一態様において、前記チャネルの長手方向に垂直な方向に切断した前記チャネルの断面は、Ｕ字形、逆三角形及び四角形のいずれか一形態を持つことができる。
【００１５】
本発明の一態様において、前記少なくとも一つの画素領域は、前記第１電極と前記発光層の間に配置された正孔注入層及び正孔輸送層の中で少なくとも一つをさらに含むができる。
【００１６】
本発明の一態様において、前記それぞれの画素領域は、第１電極上に配置された正孔注入層；前記正孔注入層上に配置されたプライマー層；及び前記プライマー層上に配置された正孔輸送層；をさらに含むことができる。
【００１７】
本発明の一態様において、前記それぞれの画素領域は、前記発光層と前記第２電極の間に配置された電子輸送層及び電子注入層の中で少なくとも一つをさらに含むことができる。
【００１８】
本発明の他の一態様は、基板上に複数の第１電極を形成する段階；前記第１電極の間に画素定義膜を形成する段階；前記第１電極上に発光層を形成する段階；及び前記発光層上に第２電極を形成する段階；を含み、前記画素定義膜を形成する段階は、流動性物質が前記第１電極の間で流れるように構成されたチャネルを形成する段階を含む表示装置の製造方法を提供する。
【００１９】
本発明の一態様において、前記画素定義膜を形成する段階は、フォトレジスト及びマスクを使うパターン形成過程を含み、前記マスクはチャネル形成部を持ち、前記チャネル形成部は長手方向に光透過量が変わるように形成されることができる。
【００２０】
本発明の一態様において、前記画素定義膜を形成する段階後、かつ前記発光層を形成する段階前に、前記第１電極と前記画素定義膜の全面に正孔注入層形成用物質及び正孔輸送層形成用物質の中で少なくとも一つを塗布する段階をさらに含むことができる。
【００２１】
本発明の一態様において、前記正孔注入層形成用物質及び前記正孔輸送層形成用物質の中で少なくとも一つを塗布する段階はインクプリント法を適用することができる。
【００２２】
本発明の一態様において、前記発光層を形成する段階はインクプリント法を適用することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の一態様による有機発光表示装置は、画素定義膜にチャネルが形成されているので、有機発光表示装置の製造過程で多様な有機物質を積層するとき、前記有機物質が画素ごとに均一に分配できる。前記のように有機物質が画素ごとに均一に分配されることによって有機発光表示装置の発光均一度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一例による有機発光表示装置の構造を概略的に表示した図である。
【図２】本発明の一例による有機発光表示装置において第１電極と画素定義膜の構造を概略的に示すための斜視図である。
【図３】図２に示す、前記基板上に形成された第１電極と画素定義膜の平面図である。
【図４ａ】それぞれ画素定義膜に形成されたチャネルの構造の一例を示すもので、前記チャネルの長手方向に切断した断面図である。
【図４ｂ】それぞれ画素定義膜に形成されたチャネルの構造の一例を示すもので、前記チャネルの長手方向に切断した断面図である。
【図４ｃ】それぞれ画素定義膜に形成されたチャネルの構造の一例を示すもので、前記チャネルの長手方向に切断した断面図である。
【図４ｄ】それぞれ画素定義膜に形成されたチャネルの構造の一例を示すもので、前記チャネルの長手方向に切断した断面図である。
【図５ａ】それぞれ画素定義膜に形成されたチャネルの構造の一例を示すもので、前記チャネルの幅方向に切断した断面図である。
【図５ｂ】それぞれ画素定義膜に形成されたチャネルの構造の一例を示すもので、前記チャネルの幅方向に切断した断面図である。
【図５ｃ】それぞれ画素定義膜に形成されたチャネルの構造の一例を示すもので、前記チャネルの幅方向に切断した断面図である。
【図６】本発明の一例による有機発光表示装置の構造をより詳細に示す図である。
【図７】本発明の一例によるマスクの構造を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面に示す一例に基づいて本発明を詳細に説明する。しかし、本発明の範囲が下記に説明する図面や実施例によって限定されるものではない。添付図面は、多様な実施例のうち、本発明の説明に適した例を選択的に示したものであるばかりである。
【００２６】
図面には理解に役立てるために各構成要素及びその形状などが簡略に示されるとか誇張して示されるものもあり、実際の製品にある構成要素が示されずに省略されることもある。したがって、図面は発明の理解のためのものに解釈しなければならない。一方、図面に同一役目をする要素は同一符号で表示する。
【００２７】
また、ある層や構成要素が他の層または構成要素‘上’にあると記載されている場合には、前記ある層や構成要素が前記他の層や構成要素と直接接触して配置された場合だけでなく、その間に第３の層が挟まれている場合までも含む意味である。
【００２８】
本発明の一例による有機発光表示装置は、図１に示すように、基板１００、前記基板１００上に配置された複数の第１電極２００、前記第１電極の間に配置され、前記第１電極２００の画素領域を区分する画素定義膜３００、前記第１電極上に配置された発光層４００、及び前記発光層４００上に配置された第２電極５００を含む。また、前記画素定義膜３００は隣接した画素領域の間に配置されたチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）３１０を持つ。画素定義膜３００は、前記チャネル３１０の底部に当たる底面３５０を持つ。図１に示す一例において、前記底面３５０は前記チャネル３１０によって連結される二つの隣接した領域の間で最高点を持ち、前記最高点で画素領域に向けて下向傾斜が形成される。下向傾斜部は前記最高点を基準に対称となることもできるが、その形状がこれに限定されるものではない。
【００２９】
図２及び図３には、本発明の一例による有機発光表示装置において、基板１００に配置された第１電極２００と画素定義膜３００の構造を別に示している。
【００３０】
図２は斜視図で、基板１００、前記基板に形成された第１電極２００及び前記第１電極を区分する画素定義膜３００の構造を示す。前記図２に示すように、前記画素定義膜３００にチャネル３１０が形成されている。前記画素定義膜３００は隣接した第１電極の間に位置し、例えば壁を形成して画素領域を定義する。前記画素定義膜３００にチャネル３１０を形成することによって前記隣接した画素領域どうし連結されるようにしている。
【００３１】
図２に示すように、前記チャネル３１０は上部が開放しており、画素定義膜３００は前記チャネル３１０の両側に側壁３２０を持ち、チャネル３１０の底部に当たる底面３５０を持つ。前記側壁３２０及び底面３５０によって定義される空間がチャネル３１０と言える。すなわち、前記チャネル３１０は溝状（ｆｕｒｒｏｗ）または谷状（ｖａｌｌｅｙ）を持つことができる。場合によって、前記底面３５０は平たいこともある。または、前記底面３５０は、図２に示すように、隣接したチャネルを連結するチャネル方向に切断した断面が三角形の頂点のように角をなした形態となることもできる。
【００３２】
図３は前記第１電極２００及び画素定義膜３００を上部から見た平面図である。
【００３３】
図２及び図３に示すように、前記チャネル３１０は一方向に整列された第１電極２００を連結する方向に形成されることができる。図２及び図３は、前記チャネルがｘ方向に伸びた一例を示している。同図に示す一例とは異なり、前記チャネルはｙ方向に形成されることもでき、対角線方向に形成されることもできる。
【００３４】
具体的に、前記チャネル３１０は少なくとも二つの画素領域を互いに連結するように画素定義膜３００に形成され、所定の方向にチャネルが形成されることができる。前記複数のチャネル３１０は一方向に形成されることができる。図２及び図３はｘ軸方向にチャネルが形成されたものを示す。ここで、前記チャネルの形成方向をチャネルの長手方向またはチャネル延長方向と言える。図２及び図３において、チャネルの長手方向はｘ軸方向である。Ｙ軸方向はチャネルの幅方向である。
【００３５】
前記チャネル３１０はある一方向に隣接した画素領域を互いに連結する。すなわち、図２及び図３に示す実施例において、一つのチャネル３１０はｘ軸方向にチャネルの両側に配置された二つの画素領域（それぞれの画素領域は第１電極２００を含む）を互いに連結する。
【００３６】
図面に明示されてはいないが、画素定義膜は三つまたは四つ以上の画素領域を互いに連結するために多方向に形成されたチャネル３１０を備えることもできる。
【００３７】
図２に示すように、底面３５０にはピーク（最高点）があり、これを基点として前記チャネル３１０の長手方向（ｘ軸方向）に互いに異なる方向に傾斜が形成される。チャネル３１０のピークは画素定義膜３００の上面の高さと同一であり、あるいはこれより低いことができる。
【００３８】
前記画素定義膜３００は、それぞれの画素領域を区分するために、第１電極２００の角部に壁状に形成される。このように画素定義膜３００が形成されることにより、前記第１電極２００上に画素領域が定義される。前記画素定義膜２００の形成後には、画素を形成するために、前記第１電極上の画素領域に多様な物質、特に多様な有機物質が積層される。この際、それぞれの物質は画素領域ごとに均一に分配されることが良い。ところで、前記画素定義膜３００が壁状に存在するため、画素形成用物質を塗布する過程で前記物質がそれぞれの画素領域に均一に分配されない場合がある。
【００３９】
蒸着過程で、画素の形成のために塗布された物質は画素定義膜上にも塗布され、乾燥などの過程で前記画素定義膜に塗布された物質が不均一に隣接の画素領域に移動する場合が発生する。この際、前記低側に移動する物質がそれぞれの画素領域に不均一に分配されれば、画素領域での物質不均一が発生する。このような物質不均一が発生すれば、画素ごとに発光が均一ではなくなることができる。本発明ではこのような物質不均一が発生することを抑制するために、前記のように画素定義膜３００にチャネル３１０を形成するとともに、前述したように、底面３５０には傾斜が形成される。このような底面３５０の傾斜によって、画素定義膜上に塗布された画素形成物質がチャネルに沿って画素領域により効率よく移動するようになる。チャネル３１０と底面３５０によって物質が均一に画素領域に分配されることができる。
【００４０】
前記傾斜のある底面３５０には最高点（ｈ）が存在し、前記最高点（ｈ）を中心に物質が分配される。物質の分配を考慮して、前記チャネル３１０の規格及び底面３５０の傾斜は蒸着対象物質の量や粘度などのようなパラメーターによって変わることができる。前記チャネル３１０は同じ形状となるようにすることもでき、傾斜も同じにすることもできる。
【００４１】
前記チャネル３１０の底面３５０に形成される傾斜の角度があまりにも小さい場合、物質がなだらかに移動しないことができる。したがって、前記傾斜が大きいほど物質がもっと速く動く。しかし、画素定義膜３００の高さに限界があり、チャネル３１０の長さに限界があるため、前記傾斜の角度には限界がある。このような理由で、前記傾斜の平均傾斜角度は第１電極面を基準に１０°〜４５°の範囲で決めることができる。傾斜の角度が前記範囲に限定されるものではない。チャネル３１０の役目をなだらかに遂行するために、底面３５０の傾斜角は画素定義膜の大きさ（高さ）によって変わることができる。前記底面３５０内で局所的に屈曲が生ずることができるため、局所的に傾斜角が大きい部分が生ずることもでき、局所的に傾斜角が小さな部分が生ずることもできる。
【００４２】
図４ａは図３のＩ−Ｉ’に沿って切断した断面図である。また、図４ｂ〜図４ｄは、図３と同様に、基板１００、第１電極２００及び画素定義膜３００を含む構造体を前記チャネル３１０の長手方向（ｘ軸方向）に切断した他の一例を示す。
【００４３】
図４ａ〜図４ｄにおいて、“３５０”で示した部分はチャネル３１０の底面である。
【００４４】
図４からも分かるように、前記チャネル３１０の底面３５０は、第１電極２００の上面を基準に高さが一番高い最高点と高さが一番低い最低点を持つことができる。同図において、最高点は“ｈ”で示した部分であり、最低点はチャネル３１０の開始部分である。
【００４５】
前記チャネル３１０において底面３５０の最高点（ｈ）と最低点の高低差は０．２〜５μｍの範囲となることができる。前記高低差は画素定義膜の大きさ及び高さによって変わることができる。画素定義膜が非常に薄い場合は前記高低差が前記範囲より小さいこともあり、画素定義膜が非常に厚い場合は前記高低差が前記範囲より大きいこともある。
【００４６】
画素定義膜３００にこのようにチャネル３１０が形成されても、前記画素定義膜３１０は前記第１電極２００を互いに区分する役目をしなければならなく、前記第１電極２００を互いに絶縁させる役目をしなければならない。よって、前記チャネル３１０の底面３５０は所定の高さ以上の高さを持たなければならない。ここで、高さは第１電極２００の上面を基準に測定される。チャネル３１０があまり深く形成されて前記チャネル３１０の底面３５０と第１電極２００の間の高低差が無くなれば前記第１電極の間で通電するおそれがある。このために、前記底面３５０の前記最高点（ｈ）は所定の高さ以上の高さを持つ必要がある。一方、画素定義膜の厚さには限界があるため、前記底面の最高点の高さにも限界がある。このような点を考慮して、前記最高点（ｈ）は前記第１電極の上面より０．３〜５μｍ程度高く形成することができる。
【００４７】
また、前記チャネル３１０の底面３５０の最低点は第１電極２００の上面と同一の高さとなることもでき、前記第１電極２００より０．３〜数μｍ程度高いこともできる。
【００４８】
図４ａ〜図４ｄにはチャネル３１０の底面３５０の形態が示されている。
【００４９】
本発明の一例によれば、図４ａに示すように、前記チャネル３１０の底面３５０は所定の最高点（ｈ）を持ち、前記最高点（ｈ）を基準にチャネル３１０の長手方向に両方向に互いに異なる傾斜面を持つことができる。
【００５０】
本発明の他の一例によれば、図４ｂに示すように、前記チャネル３１０の底面３５０はチャネルの長手方向に一端（左側）は最低点となり、他端（右側）は最高点（ｈ）となり、一方向に傾斜面を持つこともできる。
【００５１】
本発明のさらに他の一例によれば、図４ｃに示すように、前記チャネル３１０の底面３５０は第１電極２００と合う地点で最低点を持つことができる。
【００５２】
本発明のさらに他の一例によれば、図４ｄに示すように、前記チャネル３１０の底面３５０は画素定義膜３００の高さと同一高さの最高点（ｈ）を持つこともできる。
【００５３】
図５ａは図３のII−II’に沿って切断した断面図である。図５ｂ〜図５ｃはそれぞれチャネルの幅方向に切断したチャネル構造の他の一例の断面図を示す。図５ａ〜図５ｃに示すように、前記チャネル３１０の長手方向に垂直な方向（幅方向）に沿って切断した前記チャネルの断面は四角形（図５ａ）、逆三角形（図５ｂ）またはＵ字形（図５ｃ）の形態を持つことができる。
【００５４】
図２及び図５ａ〜図５ｃに示すように、画素定義膜３００は、前記チャネル３１０の長手方向にチャネル３１０の両側に側壁３２０を持つことができる。本発明の一例によれば、前記側壁３２０の幅は２〜１０μｍの範囲を持つことができる。
【００５５】
本発明の一例によれば、前記第１電極２００と前記発光層４００の間には正孔注入層及び正孔輸送層の中で少なくとも一方がもっと配置されることができる。前記第１電極２００と前記発光層４００の間に正孔注入層及び正孔輸送層の両方が配置されることもできるのは言うまでもない。
【００５６】
場合によって、前記正孔注入層と正孔輸送層の極性が互いに異なり、第１電極上に正孔注入層を形成した後に正孔輸送層を形成するとき、前記正孔輸送層形成用物質が前記正孔注入層上に均一に塗布されない場合がある。このような場合には、前記正孔注入層上にプライマーを塗布することもある。前記プライマー物質は正孔の輸送に邪魔とならないほどの良好な正孔輸送特性を持つとともに前記正孔注入層と正孔輸送層間の界面特性を向上させることができる物質の中で選択することができる。前記のようなプライマーを使う場合、正孔注入層と正孔輸送層間の界面特性が向上し、正孔輸送層形成用物質が前記正孔注入層上に均一に塗布されることができ、さらに前記のようなプライマーの存在によって発光特性に障害が生じなくなる。
【００５７】
多様な物質を積層して画素を形成する場合、前記のようにそれぞれの物質間の物性差によっていずれか一物質層に他の物質がなだらかに塗布されないとき、前記のようなチャネルを形成することによって該当の物質が均一に分配されるようにすることができる。
【００５８】
本発明の一例によるチャネル３１０は、特に印刷法（ｐｒｉｎｔｉｎｇ）によって画素形成用物質を積層するとき、インクが画素領域に均一に分布されるようにするのに特に有用に適用できる。
【００５９】
本発明の一例においては、前記のようなチャネル３１０を持つ有機発光表示装置の製造方法をさらに提供する。前記有機発光表示装置の製造方法は、基板１００上に複数の第１電極２００を形成する段階、前記第１電極２００の間に画素定義膜３００を形成する段階、前記第１電極２００上に発光層４００を形成する段階、及び前記発光層４００上に第２電極５００を形成する段階を含み、前記画素定義膜３００を形成する段階は、溝状の断面を持つとともに互いに隣り合う前記第１電極２００どうしを連結するチャネル３１０を形成する段階を含む。
【００６０】
図６は本発明の一例による有機発光表示装置の構造をより詳細に示している。以下には図６に基づいて本発明の一例による有機発光表示装置の製造方法を説明する。
【００６１】
図６に示す有機発光表示装置において、基板１００としては有機発光表示装置の製造に通常使われるガラスまたは高分子プラスチックを使うことができる。前記基板１００は透明であっても不透明であってもよい。前記基板１００は当業者の必要によって適切なものを選択して使うことができる。
【００６２】
前記基板１００上には第１電極２００が配置される。前記第１電極２００を形成する前、前記基板１００上には複数の薄膜トランジスタ１２０を形成することができる。前記薄膜トランジスタ１２０は、ゲート電極１２１、ドレイン電極１２２、ソース電極１２３、及び半導体層１２４を含む。前記薄膜トランジスタ１２０にはゲート絶縁膜１１３及び層間絶縁膜１１５も備えられている。前記薄膜トランジスタ１２０の構造は図６に示された形態に限定されなく、他の形態に構成されることもできる。また、前記半導体層１２４は有機物または無機物から形成できる。前記薄膜トランジスタ１２０と第１基板１００の間には必要によって酸化ケイ素または窒化ケイ素などから形成されたバッファ層１１１がさらに備えられることもできる。
【００６３】
前記薄膜トランジスタ１２０の上部には第１電極２００、発光層４００及び第２電極５００が順次に形成される。
【００６４】
前記第１電極２００は下部の薄膜トランジスタ１２０と電気的に連結される。この際、前記薄膜トランジスタ１２０を覆う平坦化膜１１７が備えられる場合、第１電極２００は前記平坦化膜１１７上に配置され、前記第１電極２００は前記平坦化膜１１７に備えられたコンタクトホールを介して薄膜トランジスタ１２０に電気的に連結される。
【００６５】
図６は前記第１電極２００が陽極であるものを例示している。前記第１電極２００は透明電極または反射電極から構成されることができる。透明電極から構成されるときには、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３から成されることができ、反射電極から構成されるときには、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒまたはこれらの化合物などから形成された反射膜と、前記反射膜上に配置されたＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３からなった膜とを含むことができる。
【００６６】
前記第１電極２００の間には画素定義膜３００が形成される。前記画素定義膜３００は絶縁材から形成され、前記第１電極２００を画素単位で区分する。具体的に、前記第１電極２００の縁部（ｅｄｇｅ）に前記画素定義膜３００が形成されて前記第１電極を画素単位で区分して画素領域を定義する。すなわち、前記画素定義膜３００が前記第１電極２００の縁部を覆う。前記画素定義膜３００は画素領域を定義する役目の外に、前記第１電極２００の縁部と前記第２電極４００の間の間隔を増やして、前記第１電極２００の縁部に電界が集中する現象を防止することにより、第１電極２００及び第２電極４００の短絡を防止する役目もする。
【００６７】
前記画素定義膜３００を形成する段階では、フォトレジストを用いるパターン形成過程を含む。前記フォトレジストとしては、露光部が食刻されるポジティブ型（ｐｏｓｉｔｉｖｅ）と非露光部が食刻されるネガティブ型（ｎｅｇａｔｉｖｅ）の中で適切なものを選択して適用することができる。
【００６８】
具体的に、前記基板１００上に第１電極２００を形成した後、前記第１電極２００を含む基板１００の全面に画素定義膜形成用材料を塗布した後、これをパターニングすることで画素定義膜を形成することができる。前記画素定義膜形成用材料をパターニングする過程でフォトレジストが用いられる。前記パターニングによって前記第１電極２００の上部の一部領域に存在する画素定義膜形成用材料を除去することによって前記第１電極２００上に開口部が形成されるようにする。前記第１電極２００上に形成された前記開口部が画素領域となる。
【００６９】
前記画素定義膜形成用材料をパターニングする過程において、チャネル３１０が形成される領域にもパターニングを行ってチャネル３１０を形成する。
【００７０】
前記パターン形成過程ではマスクを使う露光段階を実施することができる。
【００７１】
すなわち、前記画素定義膜を形成する段階ではフォトレジスト及びマスクを使うパターン形成過程を含むことができ、前記マスクはチャネル形成部を持ち、前記チャネル形成部は長手方向に光透過量が変わるように形成されることができる。
【００７２】
図７は前記マスク７００の一例を示す。
【００７３】
前記マスク７００は、支持基板７０１、前記支持基板７１０上に形成された遮光部７３０、及び透光部７１０を含む。図７に示すマスク７００において、前記透光部７１０は第１電極２００上に形成される開口部に対応する。前記マスク７００はポジティブ型フォトレジストを使う場合に適用できる。
【００７４】
前記マスク７００は前記透光部７１０の間に形成されたチャネル形成部７２０を持つ。前記チャネル形成部７２０はチャネルの長手方向に光透過量が変わるように構成されている。その結果、前記パターン形成過程では前記マスクによってチャネル形成部７２０の長手方向に沿って露光量が変わるようにすることができる。
【００７５】
図７は、前記チャネル形成部７２０での光透過量がチャネルの長手方向に沿って変わるようにするために前記チャネル形成部７２０にスリットを配置したマスク７００の一例を示す。前記チャネル形成部７２０において斜線部がスリットに相当する。図７に示すマスク７００は、前記スリットの間隔が変わるようにすることによって光透過量が変わるようにする一例である。
【００７６】
本発明の他の一例においては、前記マスク７００のチャネル形成部７２０においてチャネルの長手方向に沿って光透過度が変わるようにすることもできる。例えば、スリットを配置する代わりに、チャネル形成部に吸光物質を塗布し、前記チャネルの長手方向に沿って塗布される吸光物質の濃度を異にする方法があり得る。
【００７７】
本発明の一例によれば、前記マスク７００のチャネル形成部７２０に当たる部分において、チャネルの長手方向のいずれか一部を中心に両方向に行くにつれて光透過量が変わるように前記チャネル形成部７２０を構成することができる。
【００７８】
他の一例によれば、前記マスク７００のチャネル形成部７２０において、チャネルの長手方向の一端から他端に行くにつれて光透過量が次第に変わるように前記チャネル形成部７２０を構成することもできる。
【００７９】
本発明の一例によれば、前記画素定義膜３００を形成する段階においては、前記チャネルの長手方向の両側に幅２〜１０μｍの側壁を形成することができる。
【００８０】
前記画素定義膜３００によって区分された第１電極２００の開口部に発光層４００が配置される。前記発光層４００は赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層を含むことができる。前記発光層４００は白色発光層を含むこともできる。また、前記発光層４００は白色発光層のみからなることもできる。前記発光層４００が白色発光層のみからなる場合、別途のカラーフィルター層をさらに備えることができる。
【００８１】
前記発光層４００は多様な方法によって形成されることができる。例えば、蒸着法、印刷法または転写用ドナーフィルムを用いる転写法によって形成されることもできる。
【００８２】
一方、前記第１電極２００と前記発光層４００の間には正孔注入層及び正孔輸送層の中で少なくとも一つ以上をさらに備えることができる。前記正孔注入層及び正孔輸送層はマスクを用いる真空蒸着によって形成されることもでき、印刷法によって形成されることもできる。
【００８３】
本発明の一例によれば、前記画素定義膜３００を形成した後かつ前記発光層４００を形成する前、前記第１電極２００と前記画素定義膜３００上の全面に正孔注入層形成用物質及び正孔輸送層形成用物質の中で少なくとも一つを塗布する段階をさらに含むことができる。この際、前記正孔注入層形成用物質及び正孔輸送層形成用物質の中で少なくとも一つを塗布する段階ではインクを用いるプリント法を適用することができる。
【００８４】
図６は前記第１電極２００と画素定義膜３００の全領域にわたって正孔注入層４５０が形成されたものを例示している。
【００８５】
図面には示されていないが、前記正孔注入層４５０上にプライマーを塗布した後、前記第１電極２００の上部領域に正孔輸送層を形成することもできる。
【００８６】
前記発光層、正孔注入層または正孔輸送層を形成する過程で印刷法を適用する場合、本発明のように画素定義膜３００にチャネル３１０が形成されていれば、インクの均一分配に有用である。すなわち、印刷法を適用する場合、インクを該当の部分に塗布しなければならないが、物質間の物性差によって塗布がなだらかでないこともあり、さらにそれぞれの画素領域にインクが均一に分配されないこともある。ところが、本発明のように画素定義膜３００にチャネル３１０が形成されている場合、前記チャネルに沿ってインクが画素領域に流入し、かつ前記チャネルに傾斜が形成されているので、画素の領域別にインクを分配するのに有利である。
【００８７】
前記発光層４００と画素定義膜３００上には第２電極５００が配置される。前記第２電極４００は当該分野で一般的に使用する材料から形成できる。第２電極４００も透明電極または反射電極からなることができる。前記第２電極４００が透明電極からなるときは、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらの化合物からなった膜と、その上に形成されたＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用膜を含むことができる。前記第２電極４００が反射電極からなるときは、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇまたはこれらの化合物を蒸着することでなることができる。
【００８８】
前記発光層４００と前記第２電極５００の間には電子輸送層及び電子注入層の中で少なくとも一方をさらに含むことができる。前記電子輸送層と電子注入層も蒸着法、印刷法などによって形成することができる。図６は前記発光層４００と前記第２電極５００の間に電子注入層４６０が形成された場合を例示している。
【００８９】
図面に示されていないが、前記第２電極５００上には多様な種類の保護層またはシーリング層が配設されることができる。
【００９０】
以上、実施例に基づいて本発明を説明した。前記説明は図面に示した実施例に基づいて開示したが、前記のような説明は例示的なものに過ぎなく、当該技術分野で通常の知識を持った者であればこれから多様な変形及び均等な他の実施例が可能であろう。よって、本発明の技術的保護範囲は添付の特許請求範囲の技術的思想によって決まらなければならない。
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明は、画素定義膜の構造が改善された有機発光表示装置に適用可能である。
【符号の説明】
【００９２】
１００    基板
２００    第１電極
３００    画素定義膜
３１０    チャネル
３５０    底面
４００    発光層
５００    第２電極
７００    マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図４ｃ】
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【図４ｄ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図６】
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【図７】
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