(57)【要約】【課題】ガラス光学素子の製造装置及び製造方法において、不活性ガスの供給量を抑えて成形室内の酸素濃度を低下させる。【解決手段】ガラス光学素子の製造装置１は、ガラス材料を加熱する加熱部（第１の加熱ステージ２）と、ガラス材料を加圧する加圧部と、ガラス材料を冷却する冷却部と、加熱部（２）、加圧部、及び冷却部が配置された成形室７と、を備えるガラス光学素子の製造装置１において、互いに交差する複数の方向へ不活性ガスＡ２を噴出させることにより、成形室７において不活性ガスＡ２の複数の流れ（Ａ２−１，Ａ２−２）を形成する不活性ガス供給部８と、不活性ガス供給部８により成形室７に供給された不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を成形室７から排出する不活性ガス排出部（ガス排出キャップ１７）と、を備える。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス材料を加熱する加熱部と、
前記ガラス材料を加圧する加圧部と、
前記ガラス材料を冷却する冷却部と、
前記加熱部、前記加圧部、及び前記冷却部が配置された成形室と、
を備えるガラス光学素子の製造装置において、
互いに交差する複数の方向へ不活性ガスを噴出させることにより、前記成形室において前記不活性ガスの複数の流れを形成する不活性ガス供給部と、
前記不活性ガス供給部により前記成形室に供給された前記不活性ガスを前記成形室から排出する不活性ガス排出部と、
を備えることを特徴とするガラス光学素子の製造装置。
【請求項２】
前記成形室内では、前記ガラス材料を収容する型セットが前記加熱部、前記加圧部、及び前記冷却部に順次移送され、
前記ガラス光学素子の製造装置は、前記不活性ガス供給部により形成される前記不活性ガスの流れを前記型セットに向けて偏向する偏向部材を更に備える、
ことを特徴とする請求項１記載のガラス光学素子の製造装置。
【請求項３】
前記成形室内では、前記ガラス材料を収容する型セットが前記加熱部、前記加圧部、及び前記冷却部に順次移送され、
前記不活性ガス供給部は、複数のガス噴出口から互いに交差する複数の方向へ前記不活性ガスを噴出させ、
前記複数のガス噴出口は、前記型セットの移送方向に配列され前記不活性ガスを噴出させる複数の第１のガス噴出口と、前記型セットの移送方向に配列され前記第１のガス噴出口が前記不活性ガスを噴出させる方向とは交差する方向へ前記不活性ガスを噴出させる複数の第２のガス噴出口と、を含む、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２記載のガラス光学素子の製造装置。
【請求項４】
成形室内でガラス材料を加熱、加圧、及び冷却するガラス光学素子の製造方法において、
複数のガス噴出口から互いに交差する複数の方向へ不活性ガスを噴出させることにより、前記成形室において前記不活性ガスの複数の流れを形成し、
前記不活性ガス供給部により前記成形室に導入された前記不活性ガスを前記成形室から排出する、
ことを特徴とするガラス光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ、プリズム、ミラー等のガラス光学素子を製造するガラス光学素子の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、成形室内においてガラス材料を、加熱により軟化させ、加圧により成形し、冷却により固化させることによって、ガラス光学素子を製造する方法が知られている。ガラス光学素子を製造する場合、ガラス材料を収容する型セットを加熱ステージ、加圧ステージ、及び冷却ステージに移送する製造装置や、装置内に配置された一対の型の間にガラス材料を搬送して加熱、加圧、及び冷却する製造装置などが知られている。
【０００３】
上記のようなガラス光学素子の製造方法において、型セットなどの酸化による劣化を防止するために、成形室内に不活性ガスを供給する方法が知られている（例えば、特許文献１〜５参照）。
【０００４】
成形室に不活性ガスを供給する方法としては、常に新しい（すなわち、循環させて再利用しない）不活性ガスを成形室に供給する方法や、成形室内と触媒チャンバとを循環させて不活性ガスを成形室に供給する方法が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２９７１５６号公報
【特許文献２】特開２００９−９６６７６号公報
【特許文献３】特開２００８−１２０６４５号公報
【特許文献４】特開２００６−１４３５４６号公報
【特許文献５】特開昭６１−１５１０２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、常に新しい不活性ガスを成形室に供給する場合も、成形室内と触媒チャンバとを循環させて不活性ガスを成形室に供給する場合も、成形室内の酸素濃度を低下させるには、多量の不活性ガスが必要になる。
【０００７】
不活性ガスの供給量が多くなると、不活性ガスのコストが高くなり、ひいてはガラス光学素子の製造コストが高くなる。なお、触媒チャンバを用いる場合にも、不活性ガスの供給量（＝循環量）が多くなると、触媒交換などのメンテナンス負担が増加するため、常に新しい不活性ガスを成形室に供給する場合のみならず触媒チャンバを用いる場合にも製造コストが増加するといえる。
【０００８】
本発明の目的は、不活性ガスの供給量を抑えて成形室内の酸素濃度を低下させることができるガラス光学素子の製造装置及び製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のガラス光学素子の製造装置は、ガラス材料を加熱する加熱部と、上記ガラス材料を加圧する加圧部と、上記ガラス材料を冷却する冷却部と、上記加熱部、上記加圧部、及び上記冷却部が配置された成形室と、を備えるガラス光学素子の製造装置において、互いに交差する複数の方向へ不活性ガスを噴出させることにより、上記成形室において上記不活性ガスの複数の流れを形成する不活性ガス供給部と、上記不活性ガス供給部により上記成形室に供給された上記不活性ガスを上記成形室から排出する不活性ガス排出部と、を備える。
【００１０】
また、上記ガラス光学素子の製造装置において、上記成形室内では、上記ガラス材料を収容する型セットが上記加熱部、上記加圧部、及び上記冷却部に順次移送され、上記ガラス光学素子の製造装置は、上記不活性ガス供給部により形成される上記不活性ガスの流れを上記型セットに向けて偏向する偏向部材を更に備えるようにしてもよい。
【００１１】
また、上記ガラス光学素子の製造装置において、上記成形室内では、上記ガラス材料を収容する型セットが上記加熱部、上記加圧部、及び上記冷却部に順次移送され、上記不活性ガス供給部は、複数のガス噴出口から互いに交差する複数の方向へ前記不活性ガスを噴出させ、上記複数のガス噴出口は、上記型セットの移送方向に配列され上記不活性ガスを噴出させる複数の第１のガス噴出口と、上記型セットの移送方向に配列され上記第１のガス噴出口が上記不活性ガスを噴出させる方向とは交差する方向へ上記不活性ガスを噴出させる複数の第２のガス噴出口と、を含むようにしてもよい。
【００１２】
本発明のガラス光学素子の製造方法は、成形室内でガラス材料を加熱、加圧、及び冷却するガラス光学素子の製造方法において、互いに交差する複数の方向へ不活性ガスを噴出させることにより、上記成形室において上記不活性ガスの複数の流れを形成し、上記不活性ガス供給部により上記成形室に導入された上記不活性ガスを上記成形室から排出する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、不活性ガスの供給量を抑えて成形室内の酸素濃度を低下させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施の形態に係るガラス光学素子の製造装置を背面側から見た断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係るガラス光学素子の製造装置を正面側から見た、正面側の断面図である。
【図３】本発明の一実施の形態における不活性ガス供給部等を示す斜視図である。
【図４】図３のIV−IV断面図である。
【図５】本発明の一実施の形態における成形室の底板を示す底面図である。
【図６】本発明の一実施の形態におけるガス排出キャップを示す斜視図である。
【図７】本発明の一実施の形態に係るガラス光学素子の製造装置を右側面側から見た断面図である。
【図８】本発明の一実施の形態における風偏向部材を示す側面図である。
【図９】本発明の一実施の形態における風偏向部材等を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施の形態に係るガラス光学素子の製造装置及び製造方法について、図面を参照しながら説明する。
図１及び図２は、本発明の一実施の形態に係るガラス光学素子の製造装置１を背面側から見た断面図及び正面側から見た正面側の断面図である。
【００１６】
図１及び図２に示すガラス光学素子の製造装置１は、ガラス材料１０１を加熱する加熱部の一例である第１の加熱ステージ２及び第２の加熱ステージ３と、ガラス材料１０１を加圧する加圧部の一例である加圧ステージ４と、ガラス材料１０１を冷却する冷却部の一例である第１の冷却ステージ５及び第２の冷却ステージ６と、成形室７と、不活性ガス供給部８と、不活性ガス排出部の一例であるガス排出キャップ１７と、を備える。
【００１７】
また、ガラス光学素子の製造装置１は、不活性ガス供給源９と、不活性ガス供給路１０と、流量調整器１１と、スイベルシャフト１２と、スイベルブロック１３と、型投入台１４と、型排出台１５と、ヒータ線１６と、風偏向部材１８と、ヒンジ部材１９と、を備える。
【００１８】
第１の加熱ステージ２、第２の加熱ステージ３、加圧ステージ４、第１の冷却ステージ５、及び第２の冷却ステージ６は、この順に、成形室７内において、ガラス材料１０１を収容する型セット１００の移送方向Ｄに並んで配置されている。
【００１９】
なお、本実施の形態では、加熱ステージが２つ、加圧ステージが１つ、冷却ステージが２つであるが、例えば、ステージの総数が９つの場合は、加熱ステージが３つ、加圧ステージが２つ、冷却ステージが４つとなることがある。各ステージの数は、ステージの総数や製造するガラス光学素子１０２の種類などに応じて適宜決定されればよい。また、単一のステージが加熱部、加圧部、及び冷却部のうちの２つ又は全てを兼ねてもよいため、ステージの総数は１つ以上であればよい。
【００２０】
また、本実施の形態の型セット１００は、例えば、互いに対向する上型及び下型と、これらの周囲に配置される胴型とを含むが、型セット１００としては、ガラス材料１０１を収容しうるものであればよい。
【００２１】
また、本実施の形態では、型セット１００は、成形室７内において移送されるが、成形内で固定された一対の型の間でガラス材料を加熱、加圧、及び冷却する製造装置の場合には、型セット１００を省略することも可能である。
【００２２】
第１の加熱ステージ２は、上ヒータブロック２ａと、上断熱ブロック２ｂと、プレス軸２ｃと、シリンダ２ｄと、下ヒータブロック２ｅと、下断熱ブロック２ｆと、を含む。
【００２３】
上ヒータブロック２ａは、例えばカートリッジヒータが挿入されており、型セット１００の上面に当接して熱伝導により型セット１００を加熱する。
上断熱ブロック２ｂは、上ヒータブロック２ａの上部に配置されている。
【００２４】
プレス軸２ｃは、下端において上断熱ブロック２ｂの上面中央に連結されている。
シリンダ２ｄは、プレス軸２ｃに接続され、上ヒータブロック２ａ、上断熱ブロック２ｂ、及びプレス軸２ｃを上下動させる。
【００２５】
下ヒータブロック２ｅは、上ヒータブロック２ａと対向するように配置され、上面に型セット１００が載置される。下ヒータブロック２ｅは、例えばカートリッジヒータが挿入されており、型セット１００の底面に当接して熱伝導により型セット１００を加熱する。
【００２６】
下断熱ブロック２ｆは、下ヒータブロック２ｅの下部に位置し、成形室７の底板７ｂ上に固定されている。
第２の加熱ステージ３、加圧ステージ４、第１の冷却ステージ５、及び第２の冷却ステージ６も、第１の加熱ステージ２と同様に、上ヒータブロック（２ａ）と、上断熱ブロック（２ｂ）と、プレス軸（２ｃ）と、シリンダ（２ｄ）と、下ヒータブロック（２ｅ）と、下断熱ブロック（２ｆ）と、を含むため、これらのステージ３〜６の説明は省略する。
【００２７】
成形室７は、天板７ａと、底板７ｂと、右側面板７ｃと、左側面板７ｄと、正面板７ｅと、背面板７ｆと、例えば２つの不活性ガス導入口７ｇと、型投入口シャッタ７ｈと、型排出口シャッタ７ｉと、を含む。
【００２８】
成形室７は、天板７ａ、底板７ｂ、右側面板７ｃ、左側面板７ｄ、正面板７ｅ、及び背面板７ｆの６枚で外壁が形成され、例えば直方体形状を呈する。なお、正面板７ｅや背面板７ｆは、例えば扉である。
【００２９】
図１に示すように、不活性ガス導入口７ｇは、不活性ガス供給路１０から成形室７内に不活性ガスＡ２を導入するための例えば貫通孔或いは管である。
型投入口シャッタ７ｈは、右側面板７ｃ（図１は背面側から見た図面であるため、図１では成形室７の左端に位置する。）に設けられ、型セット１００が後述する型投入台１４から成形室７へ投入される際に開放する。
【００３０】
型排出口シャッタ７ｉは、左側面板７ｄに設けられ、型セット１００が成形室７から後述する型排出台１５へ排出する際に開放する。
不活性ガス供給源９は、例えば、窒素、アルゴンなどの不活性ガスＡ（供給直後をＡ１と呼ぶ。）を供給する。
【００３１】
不活性ガス供給路１０は、第１の供給路１０ａと、第２の供給路１０ｂと、第３の供給路１０ｃと、を含む。
第１の供給路１０ａは、不活性ガス供給源９に連結され、不活性ガス供給源９から不活性ガスＡ１を供給される。
【００３２】
第２の供給路１０ｂ及び第３の供給路１０ｃは、第１の供給路１０ａから供給される不活性ガスＡを、２つに分岐させる。この分岐は、成形室７の２箇所の不活性ガス導入口７ｇにおいて不活性ガスＡ２を導入するためのものであり、１箇所のみの不活性ガス導入口７ｇから成形室７に不活性ガスＡを導入する場合は分岐不要となる。
【００３３】
３箇所以上の不活性ガス導入口７ｇから成形室７に不活性ガスを導入する場合は、不活性ガスＡ１を３つ以上に分岐させるようにするとよい。もちろん、分岐させずに複数の不活性ガス供給源９を配置することも可能である。
【００３４】
流量調整器１１は、第２の供給路１０ｂ及び第３の供給路１０ｃのそれぞれに配置され、不活性ガスＡ２の流量を調整する。流量調整器１１は、絞り弁のみからなるものでもよいが、例えば、絞り弁に加えて流量表示部や調整操作部等を含むものとするとよい。
【００３５】
２つのスイベルシャフト１２は、それぞれ上端において不活性ガス導入口７ｇの下端に連結され、内部には不活性ガスＡ２の流路が形成されている。
２つのスイベルブロック１３は、それぞれスイベルシャフト１２の下端に連結され、内部には不活性ガスＡ２の流路が形成されている。
【００３６】
不活性ガス供給部８は、スイベルブロック１３に一端を連結されている。
これにより、不活性ガス供給部８は、スイベルシャフト１２の長手方向（軸方向）及び不活性ガス供給部８の長手方向（軸方向）を回動軸として２軸回りに回動可能である。そのため、不活性ガス供給部８の向き、ひいては後述する不活性ガスＡ２の向きを２軸回りに調整可能である。
【００３７】
不活性ガス供給部８は、例えば、円筒形状などの筒形状を呈する配管であり、各ステージ２〜６の背面側の天板７ａ付近において、長手方向（軸方向）が型セット１００の移送方向Ｄと平行に延びるように配置されている。これにより、２つの不活性ガス供給部８が全てのステージ２〜６の後方に位置する。
【００３８】
図３及び図４に示すように、不活性ガス供給部８は、複数の第１のガス噴出口８ａと、複数の第２のガス噴出口８ｂとを含む。
第１のガス噴出口８ａは、型セット１００の移送方向Ｄに配列された貫通孔であり、不活性ガスＡ２−１を噴出させる。
【００３９】
第２のガス噴出口８ｂも型セット１００の移送方向Ｄに配列された貫通孔であるが、第２のガス噴出口８ｂは、第１のガス噴出口８ａとは９０度以上離れた方向に不活性ガスＡ２−２を噴出させる。このように、第１のガス噴出口８ａと第２のガス噴出口８ｂとは、互いに交差する方向へ不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を噴出させる。これにより、成形室７において不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２の複数の流れが形成される。
【００４０】
そのため、詳しくは後述するが、第１のガス噴出口８ａが噴出させる不活性ガスＡ２−１は、天板７ａ、正面板７ｅに沿ってガス排出キャップ１７に流れ、第２のガス噴出口８ｂが噴出させる不活性ガスＡ２−２は、背面板７ｆ、底板７ｂに沿ってガス排出キャップ１７に流れる。
【００４１】
本実施の形態では、不活性ガス供給部８の複数のガス噴出口８ａ，８ｂは、９０度以上の角度に亘って位置するが、不活性ガス供給部８が上記のように複数の流れを形成して、不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２をガス排出キャップ１７に流すことができるものであれば、複数のガス噴出口８ａ，８ｂの位置は制限されない。
【００４２】
なお、第１のガス噴出口８ａ及び第２のガス噴出口８ｂは、不活性ガス供給部８の固定端であるスイベルブロック１３側から、自由端に向かって徐々に開口面積（流路断面積）を大きくなるようにすることで、固定端と自由端側とで噴出量を一定にするようにしてもよい。
【００４３】
また、第１のガス噴出口８ａが噴出させる不活性ガスＡ２−１と、第２のガス噴出口８ｂが噴出させる不活性ガスＡ２−２との両方に交差する方向に不活性ガスＡ２を噴出するガス噴出口を更に設けてもよい。更には、第１のガス噴出口８ａ及び第２のガス噴出口８ｂの数は、任意であり、１つずつであってもよい。
【００４４】
型投入台１４には、成形室７へ投入される直前の型セット１００が載置される。
型排出台１５には、成形室７から排出された直後の型セット１００が載置される。
【００４５】
ヒータ線１６は、第１の加熱ステージ２、第２の加熱ステージ３、加圧ステージ４、第１の冷却ステージ５、及び第２の冷却ステージ６の下ヒータブロック２ｅに接続されている。
【００４６】
図６に示すガス排出キャップ１７は、本実施の形態ではステージ２〜６の数と同数だけ図５に示すように底板７ｂに設けられ、例えば円柱形状などの柱形状を呈する。
ガス排出キャップ１７の例えば中央には、ガス排出口１７ａが形成され、その周囲には、各ステージ２〜６の上ヒータブロック２ａに接続されたヒータ線１６が挿入される例えば５つのヒータ線導入口１７ｂが形成されている。ヒータ線導入口１７ｂには、ガス排出キャップ１７の外周面からヒータ線１６を抜き挿し可能なスリット１７ｃが形成されるようにしてもよい。
【００４７】
ガス排出キャップ１７は、ガス排出口１７ａが不活性ガスＡ２，Ａ３を成形室７から排出するため、不活性ガス排出部として機能する。
なお、本実施の形態では、不活性ガス供給源９により供給されガス排出キャップ１７から排出される不活性ガスＡを再利用はしないが、ガス排出キャップ１７から排出される気体から、触媒などを用いて酸素を除去し、再び不活性ガス導入口７ｇから成形室７に導入するように循環させてもよい。
【００４８】
図７〜図９に示すように、風偏向部材１８は、成形室７の正面板７ｅ及び背面板７ｆに配置され、例えば、板状、ブロック状を呈する。風偏向部材１８の材料は、特に制限されないが、ＳＵＳなどの耐熱性材料を用いるとよい。
【００４９】
風偏向部材１８は、正面板７ｅ及び背面板７ｆに設けられたヒンジ部材１９により上端において回動可能に支持されている。風偏向部材１８は、図示しない駆動源の駆動により、不活性ガス供給部８により形成される不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２の流れを型セット１００に向けて偏向（Ａ２−１´，Ａ２−２´）する位置（Ｐ２）と、この位置から退避した偏向しない位置（Ｐ１）とに回動（移動の一例）する。
【００５０】
風偏向部材１８は、正面板７ｅ及び背面板７ｆのそれぞれに２つずつ配置されるが、１つずつ配置しても、或いは、各ステージに対応させて正面板７ｅ及び背面板７ｆのそれぞれにステージの数ずつ配置してもよく、数は限定されない。
【００５１】
また、不活性ガスの流れによっては、正面板７ｅのみに配置しても背面板７ｆのみに配置してもよい。更には、風偏向部材１８の配置位置は、成形室７のいずれかであればよく、天板７ａや底板７ｂなどに配置されていてもよい。更には、風偏向部材１８は、偏向位置（Ｐ２）において固定されていてもよい。
【００５２】
以下、本実施の形態に係るガラス光学素子１０２の製造方法について説明する。なお、上述の説明と重複する事項については説明を省略する。
まず、図１及び図２に示す第１の加熱ステージ２、第２の加熱ステージ３、加圧ステージ４、第１の冷却ステージ５、及び第２の冷却ステージ６の上ヒータブロック２ａ及び下ヒータブロック２ｅは、図示しない制御手段により、各ステージに適した温度に設定され、その温度が保持される。
【００５３】
また、不活性ガス供給源９は、不活性ガスＡ１を不活性ガス供給路１０に供給し、不活性ガス供給路１０は、不活性ガスＡ１を２つ（不活性ガスＡ２）に分岐する。
【００５４】
そして、不活性ガス導入口７ｇから成形室７内に導入される不活性ガスＡ２は、スイベルシャフト１２及びスイベルブロック１３を介して不活性ガス供給部８に供給される。
【００５５】
不活性ガス供給部８は、第１のガス噴出口８ａ及び第２のガス噴出口８ｂから互いに交差する複数の方向へ不活性ガスＡ２を噴出させることにより、図７に示すように、成形室７において不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２の複数の流れを形成する（不活性ガス供給工程）。
【００５６】
本実施の形態では、第１のガス噴出口８ａが噴出させる不活性ガスＡ２−１は、天板７ａに沿って正面板７ｅ側に流れ、次に、正面板７ｅに沿って底板７ｂ側に流れ、ガス排出キャップ１７のガス排出口１７ａから排出される。
【００５７】
また、第２のガス噴出口８ｂが噴出させる不活性ガスＡ２−２は、背面板７ｆに沿って底板７ｂ側に流れ、次に、底板７ｂに沿って正面板７ｅ側に流れ、ガス排出キャップ１７のガス排出口１７ａから排出される。
【００５８】
ガス排出キャップ１７は、ガス排出口１７ａにおいて成形室７から不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を排出する（不活性ガス排出工程）。なお、この不活性ガス排出工程において排出される不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２は、厳密には成形室７内で発生する酸素を含みうるものであるが、排出対象も不活性ガスと呼ぶことにする。
【００５９】
そして、ガラス材料１０１を収容する型セット１００は、図示しない搬送ロボットにより型投入台１４に搬送される。次に、型投入口シャッタ７ｈが開放して、型セット１００が成形室７に投入される。
【００６０】
成形室７内に投入された型セット１００は、第１の加熱ステージ２の下ヒータブロック２ｅ上に載置される。そして、シリンダ２ｄがプレス軸２ｃを下降させて、上ヒータブロック２ａ及び下ヒータブロック２ｅからの熱伝導により型セット１００及びこの型セット１００に収容されたガラス材料１０１が加熱される（加熱工程）。
【００６１】
第１の加熱ステージ２において加熱された型セット１００は、図示しない移送手段により、第２の加熱ステージ３に移送され、第１の加熱ステージ２と同様に加熱される。このように加熱されることで、型セット１００内のガラス材料１０１は軟化する（加熱工程）。
【００６２】
次に、型セット１００は加圧ステージ４に移送され、この加圧ステージ４において、ガラス材料１０１が所定の厚さになるまで加圧される（加圧工程）。ガラス材料１０１が加圧された後、型セット１００は、第１の冷却ステージ５及び第２の冷却ステージ６に順に移送され、ガラス材料１０１が冷却される（冷却工程）。これにより、ガラス材料１０１は固化する。
【００６３】
以上のような成形室７における加熱、加圧、及び冷却の各工程が完了した後、第２の冷却ステージ６における冷却が終了した型セット１００は、型排出口シャッタ７ｉが開放して、成形室７から型排出台１５へと排出される。その後、型セット１００からはガラス光学素子１０２が取り出される。
【００６４】
ガラス光学素子の製造装置１においては、以上のような型セット１００の成形室７への投入と成形室７からの排出とが順次行われ、成形室７内でガラス光学素子１０２が連続的に製造される。
【００６５】
以上説明した本実施の形態では、不活性ガス供給部８は、互いに交差する複数の方向へ不活性ガスＡ２を噴出させることにより、成形室７において不活性ガスＡ２の複数の流れ（不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２）を形成する。また、不活性ガス排出部（ガス排出キャップ１７）は、不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を成形室７から排出する。
【００６６】
そのため、成形室７内のガス置換がスムーズに行われるため、成形室７内において一方向に或いは拡散させて不活性ガスを供給する場合よりも、少ない量の不活性ガスＡで成形室７内のガス置換を行い、酸素濃度を低く保つことができる。
【００６７】
よって、本実施の形態によれば、不活性ガスＡの供給量を抑えて成形室７内の酸素濃度を低下させることができる。
【００６８】
更には、不活性ガス供給部８は、触媒などを用いて不活性ガスＡを循環させなくとも不活性ガス供給源９が供給する不活性ガスＡの供給量を抑えることができるため、不活性ガスＡの循環のための構成を採用した場合に生じるような触媒劣化による酸素濃度上昇やメンテナンス負担発生を防ぐことができる。ただし、上述のように、循環させた不活性ガスＡを不活性ガス供給部８が成形室７に供給するようにしてもよい。その場合も、酸素濃度上昇を抑えることやメンテナンス負担を軽減することが可能となる。
【００６９】
更には、不活性ガス供給部８は、型セット１００から離れた場所に配置することもできるため、型セット１００に温度分布が生じるのを抑えることもできる。
【００７０】
また、本実施の形態では、風偏向部材１８は、不活性ガス供給部８により形成される不活性ガスＡの流れＡ２−１，Ａ２−２を型セット１００に向けて偏向する。そのため、型セット１００に不活性ガスを集中させることができるため、型セット１００の劣化を抑えることができる。
【００７１】
また、本実施の形態では、風偏向部材１８は、不活性ガス供給部８により形成される不活性ガスＡの流れＡ２−１，Ａ２−２を型セット１００に向けて偏向する位置（Ｐ２）と、この位置から退避した偏向しない位置（Ｐ１）とに移動する。そのため、必要に応じて型セット１００に不活性ガスを集中させることができる。
【００７２】
また、本実施の形態では、不活性ガス供給部８は、型セット１００の移送方向Ｄに配列され不活性ガスＡ２−１を噴出させる複数の第１のガス噴出口８ａと、型セット１００の移送方向Ｄに配列され第１のガス噴出口８ａが不活性ガスＡ２−１を噴出させる方向とは交差する方向へ不活性ガスＡ２−２を噴出させる複数の第２のガス噴出口８ｂと、を含む。そのため、型セット１００の移送方向Ｄに亘って、不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を噴出させることができるため、簡素な構成で成形室７内の酸素濃度を低下させることができる。
【００７３】
また、本実施の形態では、不活性ガス供給部８の複数のガス噴出口８ａ，８ｂは、９０度以上の角度に亘って位置する。そのため、よりスムーズに成形室７内のガス置換を行うことができる。
【００７４】
また、本実施の形態では、ガス排出キャップ１７は、成形室７内の不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を排出するとともに、ヒータ線１６の導入口１７ｂを構成する。そのため、簡素な構成で成形室７内の不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を排出することができる。
【００７５】
また、本実施の形態では、ガス排出キャップ１７は、ガス排出口１７ａと、このガス排出口１７ａとは独立して設けられたヒータ線導入口１７ｂとを含む。そのため、ヒータ線導入口１７ｂからの気体の逆流を防ぎつつ、確実に不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を排出することができる。したがって、より一層簡素な構成で成形室７内の不活性ガスＡ２−１，Ａ２−２を排出することができる。
【符号の説明】
【００７６】
１        ：光学素子の製造装置
２        ：第１の加熱ステージ
２ａ      ：上ヒータブロック
２ｂ      ：上断熱ブロック
２ｃ      ：プレス軸
２ｄ      ：シリンダ
２ｅ      ：下ヒータブロック
２ｆ      ：下断熱ブロック
３        ：第２の加熱ステージ
４        ：加圧ステージ
５        ：第１の冷却ステージ
６        ：第２の冷却ステージ
７        ：型排出口シャッタ
７        ：成形室
７ａ      ：天板
７ｂ      ：底板
７ｃ      ：右側面板
７ｄ      ：左側面板
７ｅ      ：正面板
７ｆ      ：背面板
７ｇ      ：不活性ガス導入口
７ｈ      ：型投入口シャッタ
７ｉ      ：型排出口シャッタ
８        ：不活性ガス供給部
８ａ      ：第１のガス噴出口
８ｂ      ：第２のガス噴出口
９        ：不活性ガス供給源
１０      ：不活性ガス供給路
１０ａ    ：第１の供給路
１０ｂ    ：第２の供給路
１０ｃ    ：第３の供給路
１１      ：流量調整器
１２      ：スイベルシャフト
１３      ：スイベルブロック
１４      ：型投入台
１５      ：型排出台
１６      ：ヒータ線
１７      ：ガス排出キャップ
１７ａ    ：ガス排出口
１７ｂ    ：ヒータ線導入口
１７ｃ    ：スリット
１８      ：風偏向部材
１９      ：ヒンジ部材
１００    ：型セット
１０１    ：ガラス材料
１０２    ：ガラス光学素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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