(57)【要約】【課題】１つの検査用基板で複数の蒸着源の蒸着環境を検査することができるマスク組立体が提供される。【解決手段】蒸着設備は複数の蒸着源、蒸着チャンバー、蒸着環境検査用マスク組立体、移送部を含む。蒸着環境検査用マスク組立体は支持部材、シャッター部材、及び駆動部材を含む。前記支持部材は蒸着物質が順次的に進入する第１の開口部を具備し、前記蒸着物質が蒸着されるベース基板を支持する。前記支持部材は第１の方向へ移動する。前記シャッター部材は前記第１の開口部より小さい面積の第２の開口部を具備し、前記支持部材に収容される。前記駆動部材は前記支持部材の移動に従って、前記ベース基板に対する前記第２の開口部の位置は変更させる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着物質が進入する第１の開口部を具備し、前記蒸着物質が蒸着されるベース基板を支持し、第１の方向へ移動する支持部材と、
前記第１の開口部より小さい面積の第２の開口部を具備し、前記支持部材に収容されたシャッター部材と、
前記支持部材の移動に従って、前記シャッター部材を移動させて前記ベース基板に対する前記第２の開口部の位置を変更させる駆動部材と、
を含むことを特徴とする蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項２】
前記支持部材は、
前記第１の開口部が形成された底部と、
前記底部から折曲され、前記ベース基板を支持する複数の側壁部と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項３】
前記マスク組立体の移動に従って、前記シャッター部材は前記ベース基板に対して前記マスク組立体と反対方向へ移動されることを特徴とする請求項２に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項４】
前記第２の開口部が、前記第１の方向に対して垂直な第２の方向において延在している形態とされることを特徴と請求項３に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項５】
前記シャッター部材の面積は、前記第１の開口部の面積より大きく、
前記シャッター部材は前記底部上に配置されたことを特徴とする請求項２に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項６】
前記底部上に配置されたレール部と、
前記シャッター部材に結合され、前記レール部へ移動できるように挿入された結合部と、をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項７】
前記駆動部材は、前記支持部材の移動に従って回転し、
前記シャッター部材は、前記駆動部材の回転によって移動されることを特徴とする請求項１に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項８】
前記駆動部材は、摩擦力よって回転される第１のピニオンを含むことを特徴とする請求項７に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項９】
前記駆動部材は、前記第１のピニオンから動力を受信し、前記シャッター部材の側面に接触する第２のピニオンをさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１０】
前記シャッター部材は、前記側面に形成され、前記第２のピニオンの鋸歯にかみ合う鋸歯を含むことを特徴とする請求項９に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１１】
前記駆動部材は、交互に配置されたＮ極領域とＳ極領域を含み、磁気力によって回転されることを特徴とする請求項７に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１２】
蒸着物質が進入する第１の開口部を具備し、前記蒸着物質が蒸着されるベース基板を支持し、移動する支持部材と、
前記第１の開口部より小さい面積の第２の開口部が具備されたシャッター基板を含み、前記支持部材に収容されたシャッター部材と、
前記支持部材の移動に従って前記シャッター基板を回転させることによって、前記ベース基板に対する前記第２の開口部の位置を変更させる駆動部材と、
を含むことを特徴とする蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１３】
前記支持部材は、
前記第１の開口部が形成された底部と、
前記底部から折曲され、前記ベース基板を支持する側壁部と、
を含むことを特徴とする請求項１２に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１４】
前記シャッター部材は、前記シャッター基板が回転されるように前記シャッター基板に結合された回転軸をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１５】
前記第１の開口部は、左側の開口部と右側の開口部を含み、
前記シャッター部材は、前記左側の開口部に重なるように配置された左側シャッター部材と、前記右側の開口部に重なるように配置された右側シャッター部材とを含むことを特徴とする請求項１４に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１６】
前記駆動部材は、前記支持部材が移動することによって、左回りに回転する第１の駆動部材及び右回りに回転する第２の駆動部材を含み、
前記ベース基板に対する前記左側シャッター部材の前記第２の開口部の位置は、前記第１の駆動部材の回転によって変更され、
前記ベース基板に対する前記右側シャッター部材の前記第２の開口部の位置は、前記第２の駆動部材の回転によって変更されることを特徴とする請求項１５に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１７】
前記第１の駆動部材及び前記第２の駆動部材それぞれが、摩擦力よって回転される第１のピニオンを含むことを特徴とする請求項１６に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１８】
前記第１の駆動部材及び前記第２の駆動部材それぞれが、前記第１のピニオンから動力を受信し、前記シャッター基板の側面に接触する第２のピニオンをさらに含むことを特徴とする請求項１７に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項１９】
前記第１の駆動部材及び前記第２の駆動部材それぞれが、交互に配置されたＮ極領域とＳ極領域を含み、磁気力によって回転される円板状マグネチック部材を含むことを特徴とする請求項１６に記載の蒸着環境検査用マスク組立体。
【請求項２０】
蒸着物質を提供し、一方向に並んで配置された複数の蒸着源と、
前記複数の蒸着源を収容する蒸着チャンバーと、
前記蒸着物質が蒸着されるベース基板と結合され、前記蒸着チャンバーを通過する蒸着環境検査用マスク組立体と、
前記蒸着環境検査用マスク組立体を移動させる移送部と、
を含む蒸着設備において、
前記蒸着環境検査用マスク組立体は、
前記蒸着物質が進入する第１の開口部を具備し、前記ベース基板を支持する支持部材と、
前記第１の開口部より小さい面積の第２の開口部を具備し、前記支持部材に収容されたシャッター部材と、
前記蒸着環境検査用マスク組立体の移動に従って前記ベース基板に対する前記第２の開口部の位置を変更させる駆動部材と、
を含む蒸着設備。
【請求項２１】
前記移送部は、前記蒸着チャンバーに具備された複数のローラーを含むことを特徴とする請求項２０に記載の蒸着設備。
【請求項２２】
前記駆動部材は、前記蒸着環境検査用マスク組立体の移動に従って回転し、
前記第２の開口部の位置は、前記駆動部材の回転によって変更されることを特徴とする請求項２０に記載の蒸着設備。
【請求項２３】
前記蒸着チャンバーは、
前記蒸着環境検査用マスク組立体へ前記ベース基板がローディングされるローディング領域と、
前記複数の蒸着源が配置された蒸着領域と、
前記ベース基板が前記蒸着環境検査用マスク組立体からアンローディングされるアンローディング領域と、
を含むことを特徴とする請求項２２に記載の蒸着設備。
【請求項２４】
前記駆動部材は、複数のピニオンを含み、
前記複数のピニオンの中でいずれか１つのピニオンは、前記シャッター部材の側面に接触して前記第２の開口部の位置を変更させることを特徴とする請求項２３に記載の蒸着設備。
【請求項２５】
前記蒸着チャンバーは、前記蒸着領域の側壁に前記複数の蒸着源に対応するように配置された複数の移送ラックを含むことを特徴とする請求項２４に記載の蒸着設備。
【請求項２６】
前記複数のピニオンの中で他の１つのピニオンは、前記複数の移送ラックにかみ合い、
前記第２の開口部の位置は、前記他の１つのピニオンと前記複数の移送ラックのかみ合うことに従って変更されることを特徴とする請求項２５に記載の蒸着設備。
【請求項２７】
前記蒸着環境検査用マスク組立体を前記アンローディング領域で前記ローディング領域に搬送させる搬送部と、
前記搬送部を収容する搬送チャンバーと、
をさらに含むことを特徴とする請求項２６に記載の蒸着設備。
【請求項２８】
前記搬送チャンバーは、前記搬送チャンバーの側壁に配置された搬送ラックを含むことを特徴とする請求項２７に記載の蒸着設備。
【請求項２９】
前記駆動部材は、交互に配置されたＮ極領域とＳ極領域を含む円板状マグネチック部材を含み、
前記蒸着チャンバーは、各々が交互に配置されたＮ極領域とＳ極領域を含み、前記蒸着領域の側壁に前記複数の蒸着源に対応するように配置された複数のマグネチック移送部材を含むことを特徴とする請求項２３に記載の蒸着設備。
【請求項３０】
前記支持部材は、
前記第１の開口部が形成され、前記シャッター部材を支持する底部と、
前記底部から折曲され、前記ベース基板を支持する側壁部と、
を含むことを特徴とする請求項２３に記載の蒸着設備。
【請求項３１】
前記シャッター部材は、前記蒸着環境検査用マスク組立体の移動に従って前記蒸着環境検査用マスク組立体と反対方向へ移動することを特徴とする請求項３０に記載の蒸着設備。
【請求項３２】
前記シャッター部材は、前記蒸着環境検査用マスク組立体の移動に従って回転することを特徴とする請求項３０に記載の蒸着設備。
【請求項３３】
複数の蒸着源が配置された蒸着チャンバーにベース基板を支持する支持部材及び開口部を具備するシャッター部材を含むマスク組立体が進入する段階と、
前記複数の蒸着源から複数の蒸着物質を各々放出する段階と、
前記マスク組立体が前記蒸着チャンバーを通過する段階と、
前記マスク組立体の移動に従って前記ベース基板に対する前記シャッター部材の開口部の位置を変更させる段階と、
を含む蒸着条件検査方法。
【請求項３４】
前記マスク組立体が、前記蒸着チャンバーの進入位置に搬送される段階をさらに含む請求項３３に記載の蒸着条件検査方法。
【請求項３５】
前記シャッター部材は、前記マスク組立体と反対方向へ移動することを特徴とする請求項３３に記載の蒸着条件検査方法。
【請求項３６】
前記シャッター部材は、前記マスク組立体と反対方向へ移動することを特徴とする請求項３３に記載の蒸着条件検査方法。
【請求項３７】
前記複数の蒸着物質は、互いに異なる物質であることを特徴とする請求項３３に記載の蒸着条件検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着環境の検査を可能とするマスク組立体、当該マスク組立体を含む蒸着設備、及び、当該蒸着設備を利用する蒸着環境検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板ディスプレーや半導体デバイスは、ベース基板上に有機物及び無機物のうちいずれか一方又は両方が蒸着されることによって製造される。蒸着工程は、蒸着設備内で進行される。蒸着設備は、真空チャンバーと、真空チャンバー内に配置された少なくとも１つの蒸着源と、マスクと、ベース基板を移動させる移送装置とを含んでいる。
【０００３】
蒸着工程を進行する前に、蒸着設備内の蒸着環境が平板ディスプレーや半導体デバイスの製造条件に適合するか否かについて検査する。蒸着環境の基板検査用ベース基板（以下、「検査用基板」と呼称する）が使用される。検査用基板に蒸着された蒸着物質の厚さ及び均一度を測定する。測定された厚さ及び均一度は、基準厚さ及び基準均一度に適合するか否かについて比較される。
【０００４】
複数の蒸着源を具備する蒸着設備の蒸着環境検査では、複数の検査用基板が使用される。複数の検査用基板は、蒸着設備に順次投入される。互いに異なる蒸着物質が、複数の検査用基板それぞれに蒸着される。複数の検査用基板それぞれに蒸着された蒸着物質の厚さ及び均一度が測定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】韓国特許公開第１０−２００８−０００２１８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、１つの検査用基板によって複数の蒸着源の蒸着環境を検査可能なマスク組立体を提供することである。
【０００７】
本発明の他の目的は、上述のマスク組立体を含む蒸着設備を提供することである。
【０００８】
本発明の他の目的はこれを利用する蒸着環境検査方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一の実施形態における蒸着環境検査用マスク組立体は、支持部材と、シャッター部材と、駆動部材とを含んでいる。支持部材は、蒸着物質が順次進入する第１の開口部を具備し、蒸着物質が蒸着されるベース基板を支持する。支持部材は、第１の方向において移動する。シャッター部材は、第１の開口部より小さい面積の第２の開口部を具備し、支持部材に収容される。駆動部材は、支持部材の移動に従ってベース基板に対して相対的に第２の開口部の位置を変更させる。
【００１０】
支持部材は、第１の開口部が形成された底部及び底部から折曲され、ベース基板を支持する複数の側壁部を含む。
【００１１】
支持部材が移動することによって、ベース基板は支持部材と反対方向へ移動する。
【００１２】
駆動部材は、支持部材が移動することによって回転し、第２の開口部の位置は、駆動部材の回転によって変更される。
【００１３】
本発明の一実施形態による蒸着環境検査用マスク組立体は、支持部材、少なくとも１つのシャッター部材、及び駆動部材を含む。支持部材は、蒸着物質が順次進入する少なくとも１つの第１の開口部を具備し、蒸着物質が蒸着されるベース基板を支持し移動する。
【００１４】
少なくとも１つのシャッター部材は、少なくとも１つの第１の開口部より小さい面積の第２の開口部を具備し、支持部材に収容される。駆動部材は、支持部材の移動に従って少なくとも１つのシャッター部材を回転させ、ベース基板に対する第２の開口部の位置を変更させる。
【００１５】
少なくとも１つのシャッター部材は、右回りに回転する左側シャッター部材及び左回りに回転する右側シャッター部材を含む。少なくとも１つの第１の開口部は、左側シャッター部材に重なる左側の第１の開口部と右側シャッター部材に重なる右側の第１の開口部とを含んでいる。
【００１６】
駆動部材は、支持部材が移動することによって、左回りに回転する第１の駆動部材及び右回りに回転する第２の駆動部材を含む。左側シャッター部材の第２の開口部の位置は、第１の駆動部材の回転によって変更され、右側シャッター部材の第２の開口部の位置は、第２の駆動部材の回転によって変更される。
【００１７】
本発明の一実施形態による蒸着設備は、上述した蒸着環境検査用マスク組立体、複数の蒸着源、蒸着チャンバー、移送部を含む。複数の蒸着源は、蒸着チャンバーに収容される。複数の蒸着源は蒸着物質を各々提供し、一方向に並んで配置される。移送部は、蒸着環境検査用マスク組立体を移動させる。
【発明の効果】
【００１８】
上述したことに従う蒸着環境検査用マスク組立体は１つの検査用基板で複数の蒸着源の蒸着環境を検査することができる。蒸着環境検査用マスク組立体は１つの検査用基板の互いに異なる領域に複数の蒸着物質を蒸着させる。蒸着環境検査に必要である検査用基板個数が減少されることによって、検査費用が節約される。また、検査時間が減少される。
【００１９】
蒸着設備によれば、蒸着環境検査用マスク組立体が移動することによって、シャッター部材の第２の開口部の位置が変動される。検査用基板に対する第２の開口部の位置は複数の蒸着源に従って異なる。複数の蒸着物質が検査用基板の互いに異なる領域に蒸着される。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態による蒸着設備の平面図である。
【図２】図１に図示された蒸着設備の一部分に対する第１の断面図である。
【図３】図１に図示された蒸着設備の一部分に対する第２の断面図である。
【図４Ａ】一実施形態による蒸着環境検査用マスク組立体の斜視図である。
【図４Ｂ】一実施形態による蒸着環境検査用マスク組立体の分解斜視図である。
【図５Ａ】一実施形態による蒸着環境検査用マスク組立体の斜視図である。
【図５Ｂ】一実施形態による蒸着環境検査用マスク組立体の分解斜視図である。
【図６Ａ】一実施形態による蒸着環境検査用マスク組立体の斜視図である。
【図６Ｂ】一実施形態による蒸着環境検査用マスク組立体の分解斜視図である。
【図７】本発明の一実施形態による蒸着設備の一部分に対する第１の断面図である。
【図８】本発明の一実施形態による蒸着設備の一部分に対する第２の断面図である。
【図９】本発明の一実施形態による蒸着設備の一部分に対する斜視図である。
【図１０】本発明の一実施形態による蒸着設備の一部分に対する斜視図である。
【図１１】図１０の一部を拡大した図面である。
【図１２】本発明の一実施形態による蒸着設備の平面図である。
【図１３】図１２に図示された蒸着設備の一部分に対する第１の断面図である。
【図１４】図１２に図示された蒸着設備の一部分に対する第２の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の好ましい実施形態について、添付図面を参照して以下に詳述する。
【００２２】
図１は、本発明の一の実施形態における蒸着設備の平面図である。図２は、図１に表わす蒸着設備の一部分についての第１の断面図である。図３は、図１に表わす蒸着設備の一部分についての第２の断面図である。
【００２３】
図１〜図３に表わすように、蒸着設備は、蒸着チャンバーＣＢと、複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４と、蒸着環境検査用マスク組立体ＭＡ（以下、「マスク組立体」と呼称する）と、移送部ＴＰとを含んでいる。図１〜図３は、４つの蒸着源Ｓ１〜Ｓ４を例示的に表わすにすぎない。
【００２４】
蒸着チャンバーＣＢは、蒸着工程の進行方向（Ｄ１：以下、「第１の方向」と呼称する）に沿って延在している形態とされる。蒸着チャンバーＣＢは、第１の方向Ｄ１と直交する第２の方向Ｄ２において互いに対向する第１の側壁ＳＷ１及び第２の側壁ＳＷ２と、第１側壁ＳＷ１と第２側壁ＳＷ２を連結する底部ＢＰと、天井部ＣＰとを含んでいる。
【００２５】
蒸着チャンバーＣＢは、機能に従って複数の領域に区分される。蒸着チャンバーＣＢは、ローディング領域１００と、蒸着領域２００と、アンローディング領域３００とを含んでいる。
【００２６】
ローディング領域１００において、ベース基板ＳＵＢがマスク組立体ＭＡにローディングされる。ベース基板ＳＵＢは、表示パネルを製造する前に表示パネルの製造に適した蒸着環境である否かを事前に検査するための検査用基板である。表示パネルを構成する基板が、ベース基板ＳＵＢとして使用される場合がある。例えば、表示パネルが有機発光表示パネルである場合がある。さらには、ベース基板ＳＵＢが、半導体デバイスの製造に使用される基板である場合もある。また、ベース基板ＳＵＢは、例えばガラス、シリコン、金属、又はプラスチックから構成されている。
【００２７】
蒸着領域２００には、複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４が配置されている。複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４は、第１の方向Ｄ１に沿って互いに離隔された状態で配列されている。
【００２８】
複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４は、互いに異なる蒸着物質Ｍ１〜Ｍ４を有している。複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４は、有機物及び／又は無機物を有している。複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４それぞれが、蒸着物質Ｍ１〜Ｍ４を格納するための容器と蒸着物質Ｍ１〜Ｍ４を蒸発させるための加熱装置とを含んでいる場合がある。
【００２９】
蒸着領域２００は、複数の個別蒸着領域２１０〜２４０に区分されている場合がある。この場合には、複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４それぞれが、複数の個別蒸着領域２１０〜２４０に配置されている。複数の個別蒸着領域２１０〜２４０は、複数の隔壁Ｂ１〜Ｂ３によって区分されている場合がある。
【００３０】
アンローディング領域３００において、ベース基板ＳＵＢがマスク組立体ＭＡからアンローディングされる。ローディング領域１００と蒸着領域２００との間及び蒸着領域２００とアンローディング領域３００との間それぞれには、ドアが設置されている。また、ローディング領域１００の気圧、蒸着領域２００の気圧、及びアンローディング領域３００の気圧が互いに相違する場合がある。好ましくは、蒸着領域２００が真空に維持されている。
【００３１】
ベース基板ＳＵＢがローディングされたマスク組立体ＭＡが蒸着チャンバーＣＢを通過する。マスク組立体ＭＡは移送部ＴＰによって移動される。マスク組立体ＭＡは、支持部材１０と、シャッター部材２０と、駆動部材３０とを含んでいる。
【００３２】
支持部材１０は、蒸着物質Ｍ１〜Ｍ４を通過させるための第１の開口部ＯＰ１を備えている。支持部材１０はベース基板ＳＵＢを支持している。
【００３３】
シャッター部材２０は支持部材１０に収容されている。シャッター部材２０は、第１の開口部ＯＰ１より小さい第２の開口部ＯＰ２を備えている。第１の開口部ＯＰ１を通過した蒸着物質Ｍ１〜Ｍ４は、第２の開口部ＯＰ２を通過してベース基板ＳＵＢに到達する。
【００３４】
駆動部材３０は、マスク組立体ＭＡの移動に従って、ベース基板ＳＵＢに対する相対的な第２の開口部ＯＰ２の位置を変更させることができる。言い換えれば、マスク組立体ＭＡが複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４のうち第１の蒸着源Ｓ１上に配置された場合における第２の開口部ＯＰ２の位置は、マスク組立体ＭＡが複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４のうち第４の蒸着源Ｓ４上に配置された場合における第２の開口部ＯＰ２の位置と相違する。
【００３５】
移送部ＴＰは複数のローラーを含んでいる。複数のローラーそれぞれが、第１側壁ＳＷ１及び第２側壁ＳＷ２に設置されている。複数のローラーは支持部材１０と接触する。複数のローラーの回転によって、支持部材１０が第１の方向Ｄ１に移動される。
【００３６】
複数のローラーは、蒸着チャンバーＣＢの外部に配置されたモーター等によって駆動される。複数のローラーの動作は、モーターのオン／オフによって制御される。複数のローラーは、移送部ＴＰの一例にすぎない。代替的には、移送部ＴＰがコンベヤーベルト等とされる。
【００３７】
図４Ａは、一の実施形態におけるマスク組立体の斜視図である。図４Ｂは、一の実施形態におけるマスク組立体の分解斜視図である。本発明の一の実施形態におけるマスク組立体ＭＡについて、図４Ａ及び図４Ｂを参照して以下に詳述する。
【００３８】
図４Ａ及び図４Ｂに表わすように、支持部材１０は、底部１０−ＢＰと側壁部１０−ＳＷとを含んでいる。底部１０−ＢＰには、第１の開口部ＯＰ１が形成されている。側壁部１０−ＳＷは、底部１０−ＢＰを折り曲げることによって形成されている。
【００３９】
底部１０−ＢＰの形状は、例えば平面図で見ると矩形状とされる。側壁部１０−ＳＷは、矩形状の底部１０−ＢＰの４つの辺それぞれから折り曲げられて形成されている。例えば、側壁部１０−ＳＷは、底部１０−ＢＰの４つの辺に連結されている垂直部と、当該垂直部に連結されていると共にベース基板ＳＵＢに接触している水平部とを含んでいる。
【００４０】
シャッター部材２０は第１の開口部ＯＰ１に重なるように底部１０−ＢＰ上に配置されている。シャッター部材２０は側壁部１０−ＳＷによって囲まれている。シャッター部材２０は矩形状とされる場合がある。シャッター部材２０の面積は第１の開口部ＯＰ１の面積より大きい。
【００４１】
第２の開口部ＯＰ２は、第１の方向Ｄ１と直交する第２の方向Ｄ２に延在している形態とされる。第２の開口部ＯＰ２は、例えば第２の方向Ｄ２における長さが第１の方向Ｄ１における幅より長い、スリット状に形成されている。
【００４２】
駆動部材３０は、マスク組立体ＭＡの移動に従って回転する部材である。駆動部材３０の回転力がシャッター部材２０に伝達され、当該回転力によってシャッター部材２０は移動される。駆動部材３０の回転を発生させる動力源としては、例えばモーターのような機械的手段、又は外部部材による摩擦（例えば摩擦力）が挙げられるが、これらに限定される訳ではない。
【００４３】
図４Ａ及び図４Ｂに表わすように、駆動部材３０は、互いに反対方向に回転するように構成されている第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒを含んでいる。第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒは、側壁部１０−ＳＷ内で第２の方向Ｄ２において対向している側壁部それぞれに配置されている。本発明は、このような構成に限定される訳ではなく、他の実施形態では、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒのうち一方が設けられていなくても良い。
【００４４】
第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒそれぞれは、第１のピニオン３０−Ｐ１と、第２のピニオン３０−Ｐ２と、第３のピニオン３０−Ｐ３と、第１の回転軸３０−ＲＡ１と、第２の回転軸３０−ＲＡ２とを含んでいる。外部からの動力が第１のピニオン３０−Ｐ１に伝達される。
【００４５】
第１の回転軸３０−ＲＡ１は、第１のピニオン３０−Ｐ１と第２のピニオン３０−Ｐ２とを連結している。第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒの第１の回転軸３０−ＲＡ１は、第２の方向Ｄ２において対向している側壁部に形成された貫通穴ＴＨ−Ｌ、ＴＨ−Ｒに挿入されている。
【００４６】
第３のピニオン３０−Ｐ３は、第２のピニオン３０−Ｐ２と係合することによって第２のピニオン３０−Ｐ２からの動力を受ける。第３のピニオン３０−Ｐ３は、第２のピニオン３０−Ｐ２から伝達された動力によってシャッター部材２０を移動させる。第３のピニオン３０−Ｐ３に連結された第２の回転軸３０−ＲＡ２は、底部１０−ＢＰに固定されている。
【００４７】
他の実施形態では、代替的に、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２回の転部材３０−Ｒそれぞれの第１のピニオン３０−Ｐ１、第２のピニオン３０−Ｐ２、及び第３のピニオン３０−Ｐ３は、鋸歯状の配列を具備しない円板状回転部材とされる。さらなる他の実施形態では、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒそれぞれの第３のピニオン３０−Ｐ３が省略されており、シャッター部材２０に接触する第２のピニオン３０−Ｐ２を含んでいる場合がある。さらに、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒそれぞれの第１のピニオン３０−Ｐ１が省略されており、第１の回転軸３０−ＲＡ１は例えばモーターのような機械的手段を介して連結されている場合がある。さらに、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒそれぞれが、少なくとも１つのピニオンを備えていれば良い。さらにさらなる実施形態では、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒに設けられているピニオンの数量が変更可能とされる。
【００４８】
シャッター部材２０は複数の側面を含んでいる。複数の側面のうち第２の方向Ｄ２において対向している２つの側面は、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒの第３のピニオン３０−Ｐ３それぞれに接触している。第２の方向Ｄ２において対向している２つの側面が、第３のピニオン３０−Ｐ３の鋸歯に係合する鋸歯を含んでいる場合がある。
【００４９】
第３のピニオン３０−Ｐ３と第２の方向Ｄ２において対向している２つの側面とが係合することに起因して、動力が第３のピニオン３０−Ｐ３に作用した場合に、ベース基板ＳＵＢに対して相対的にシャッター部材２０の位置を変更することができる。シャッター部材２０の位置変更に従って、ベース基板ＳＵＢに対して相対的に第２の開口部ＯＰ２の位置を変更することができる。他の実施形態では、第２の方向Ｄ２において対向している２つの側面の鋸歯が省略される場合がある。
【００５０】
第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒの第１のピニオン３０−Ｐ１の回転に従って、シャッター部材２０の位置が変更される。第１の回転部材３０−Ｌの第１のピニオン３０−Ｐ１が左回りに回転し、第２の回転部材３０−Ｒの第１のピニオン３０−Ｐ１が右回りに回転した場合に、シャッター部材２０が第１の方向Ｄ１の反対方向に移動される。
【００５１】
図５Ａは一の実施形態におけるマスク組立体の斜視図である。図５Ｂは一の実施形態におけるマスク組立体の分解斜視図である。図４Ａ及び図４Ｂを参照しつつ説明したマスク組立体の構成部材と同一の構成部材に対しては、詳述しない。
【００５２】
図５Ａ及び図５Ｂに表わすように、マスク組立体ＭＡ１０は、互いから離隔配置されていると共に支持部材１０の底部１０−ＢＰ上に配置されているレール部ＲＰ−Ｌ、ＲＰ−Ｒをさらに含んでいる。第１レールＲＰ−Ｌと第２のレールＲＰ−Ｒとは第１の方向Ｄ１において延在している。
【００５３】
さらに、マスク組立体ＭＡ１０は、第１の結合部ＣＭ−Ｌ及び第２の結合部ＣＭ−Ｒを含んでいる。第１の結合部ＣＭ−Ｌ及び第２の結合部ＣＭ−Ｒそれぞれが第１のレール部ＲＰ−Ｌ及び第２のレール部ＲＰ−Ｒに沿って移動するように、第１のレール部ＲＰ−Ｌ及び第２のレール部ＲＰ−Ｒそれぞれに結合している。図５Ｂは、一例として、２つの第１の結合ブロックＣＭ−Ｌと２つの第２の結合ブロックＣＭ−Ｒとを表わす。
【００５４】
第１の結合ブロックＣＭ−Ｌ及び第２の結合ブロックＣＭ−Ｒはシャッター部材２０の底面に取り付けられている。第１結合ブロックＣＭ−Ｌ及び第２の結合ブロックＣＭ−Ｒそれぞれが第１レールＲＰ−Ｌ及び第２レールＲＰ−Ｒそれぞれに結合することによって、シャッター部材２０は安定して移動する。その結果として、シャッター部材２０は、一層堅固に駆動部材３０に結合又は係合することができる。
【００５５】
図６Ａは、一の実施形態におけるマスク組立体の斜視図である。図６Ｂは、一の実施形態におけるマスク組立体の分解斜視図である。図４Ａ及び図４Ｂを参照しつつ説明したマスク組立体の構成部材と同一の構成部材に対しては、詳述しない。
【００５６】
図６Ａ及び図６Ｂに表わすマスク組立体ＭＡ２０は、支持部材１０と、少なくとも１つのシャッター部材２０Ｌ、２０Ｒと、駆動部材３０とを含んでいる。
【００５７】
支持部材１０は、少なくとも１つの第１の開口部ＯＰ１を具備する。図６Ａ及び図６Ｂに示したように、支持部材１０は４つの第１の開口部ＯＰ１を具備することができる。
【００５８】
マスク組立体ＭＡ２０は、複数のシャッター部材２０Ｌ、２０Ｒを含んでいる。シャッター部材２０Ｌ、２０Ｒの数量は、第１の開口部ＯＰ１の数量と同一とされる場合がある。図６Ａ及び図６Ｂに表わすように、４つのシャッター部材２０Ｌ、２０Ｒが、４つの第１の開口部ＯＰ１に対応するように配置されている。４つのシャッター部材２０Ｌ、２０Ｒは、２つの左側シャッター部材２０Ｌと２つの右側シャッター部材２０Ｒとを含んでいる。
【００５９】
左側シャッター部材２０Ｌそれぞれが、左側第２の開口部２０−ＬＯＰ及び左側回転軸２０−ＲＡＬを具備する左側シャッター基板２０−Ｌを含んでいる。左側回転軸２０−ＲＡＬは、左側シャッター基板２０−Ｌを回転させるように左側シャッター基板２０−Ｌに結合されている。
【００６０】
右側シャッター部材２０Ｒそれぞれが、右側第２の開口部２０−ＲＯＰ及び右側回転軸２０−ＲＡＲを具備する右側シャッター基板２０−Ｒを含んでいる。右側回転軸２０−ＲＡＲは、右側シャッター基板２０−Ｒを回転させるように右側シャッター基板２０−Ｒに結合されている。左側回転軸２０−ＲＡＬ及び右側回転軸２０−ＲＡＲは底部１０−ＢＰに結合されている。
【００６１】
左側シャッター基板２０−Ｌ及び右側シャッター基板２０−Ｒは、マスク組立体ＭＡの移動に従って回転する。左側シャッター基板２０−Ｌ及び右側シャッター基板２０−Ｒは、互いに反対方向に回転される。他の実施例では、マスク組立体ＭＡ２０は、左側シャッター部材２０Ｌ又は右側シャッター部材２０Ｒを含んでいる。
【００６２】
第１の回転部材３０−Ｌの第１のピニオン３０−Ｐ１が左回りに回転される場合には、左側シャッター基板２０−Ｌも左回りに回転される。第２の回転部材３０−Ｒの第１のピニオン３０−Ｐ１が右回りに回転される場合には、右側シャッター基板２０−Ｒも右回りに回転される。左側シャッター基板２０−Ｌの回転に従って、ベース基板ＳＵＢに対して相対的に左側第２の開口部２０−ＬＯＰの位置が変更される。また、右側シャッター基板２０−Ｒの回転に従って、ベース基板ＳＵＢに対して相対的に右側第２の開口部２０−ＲＯＰの位置が変更される。
【００６３】
図７は、本発明の一の実施形態における蒸着設備の一部分についての第１の断面図である。図８は、本発明の一の実施形態における蒸着設備の一部分についての第２の断面図である。図９は、本発明の一の実施形態における蒸着設備の一部分についての拡大図である。
【００６４】
図１〜図６Ｂを参照して説明した構成部材と同一の構成部材については、詳述しない。図７〜図９は、図５Ａ及び図５Ｂに例示するマスク組立体ＭＡ１０を表わし、移送部ＴＰが複数のローラーを含んでいる。
【００６５】
マスク組立体ＭＡ１０は、第１の側壁ＳＷ１及び第２側壁のＳＷ２に配設されている複数のローラーＴＰによって第１の方向Ｄ１に向かって移動される。特にマスク組立体ＭＡ１０の支持部材１０が、複数のローラーＴＰに接触している。複数のローラーＴＰの動作が中断すると、マスク組立体ＭＡ１０も停止する。
【００６６】
マスク組立体ＭＡ１０は、蒸着チャンバーＣＢを通過する際に、個別蒸着領域２１０〜２４０それぞれで移動停止される。マスク組立体ＭＡ１０が停止している際に、対応する蒸着物質がベース基板ＳＵＢに蒸着される。従って、蒸着チャンバーＣＢを通過したベース基板ＳＵＢには、複数の蒸着物質Ｍ１〜Ｍ４が互いに異なる領域に蒸着される。
【００６７】
最初に、マスク組立体ＭＡ１０は第１の蒸着源Ｓ１で停止する。このとき、ベース基板ＳＵＢに対して相対的な第２の開口部ＯＰ２の位置が、第１の位置として定義される。第１の蒸着源Ｓ１から蒸発した第１の蒸着物質Ｍ１は、第１の開口部ＯＰ１及び第２の開口部ＯＰ２を通じてベース基板ＳＵＢの一の領域に蒸着される。
【００６８】
一定時間（以下、「蒸着時間」と呼称する）の間において第１の蒸着源Ｓ１上で停止していたマスク組立体ＭＡ１０は、再び第１の方向Ｄ１において移動する。このとき、シャッター部材２０は、第１の方向Ｄ１の反対方向において移動する。
【００６９】
マスク組立体ＭＡ１０は、再び第２の蒸着源Ｓ２で停止する。このとき、ベース基板ＳＵＢに対して相対的な第２の開口部ＯＰ２の位置は、第２の位置として定義される。第２の蒸着源Ｓ２から蒸発した第２の蒸着物質Ｍ２は、蒸着時間の間において第１の開口部ＯＰ１及び第２の開口部ＯＰ２を通じて、ベース基板ＳＵＢの第１の蒸着物質Ｍ１が蒸着された領域とは異なる領域に蒸着される。第２の位置は、第１の方向Ｄ１の反対方向において第１の位置からさらに移動した地点である。
【００７０】
その後、マスク組立体ＭＡ１０は、第３の蒸着源Ｓ３及び第４の蒸着源Ｓ４それぞれで再び停止する。マスク組立体ＭＡ１０が蒸着チャンバーＣＢを完全に通過すると、第１〜第４の蒸着物質Ｍ１〜Ｍ４は、ベース基板ＳＵＢの互いに異なる領域それぞれに蒸着される。その後に、蒸着された第１〜第４の蒸着物質Ｍ１〜Ｍ４の厚さ及び均一度が測定される。測定された厚さ及び均一度は、基準厚さ及び基準均一度に適合するか否かについて比較され、その結果に従って、蒸着チャンバーＣＢ内の蒸着環境が表示装置等の製造に適しているか否かが判断される。
【００７１】
図７〜図９に表わすように、当該実施形態における蒸着設備は、蒸着チャンバーＣＢの側壁ＳＷ１、ＳＷ２に配置された複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４を含んでいる。複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４が、第１の側壁ＳＷ１及び第２の側壁ＳＷ２それぞれに配置されている場合がある。複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４が蒸着領域２００に配置されている。
【００７２】
図７は、第１の側壁ＳＷ１に配置された複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４と第１の回転部材３０−Ｌの第１のピニオン３０−Ｐ１とを表わす。複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４は、互いに離隔配置されている。複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４は、複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４に一対一対応で配置されている。第１の方向を基準にすると、複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４は、複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４よりローディング領域１００に近接するように配置されている。
【００７３】
マスク組立体ＭＡ１０が第１の方向Ｄ１において移動することによって、第１の回転部材３０−Ｌの第１のピニオン３０−Ｐ１が、複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４に順次に係合する。例えば第１のピニオン３０−Ｐ１が第１の移送ラックＴＲ１に係合すると、第２の開口部ＯＰ２が第１の位置に配置され、第１のピニオン３０−Ｐ１が第２の移送ラックＴＲ２に係合すると、第２の開口部ＯＰ２が第２の位置に配置される。
【００７４】
図９に表わすように、第１のピニオン３０−Ｐ１が第２の移送ラックＴＲ２に係合すると、シャッター部材２０が、第１の方向Ｄ１の反対方向において、第２の移送ラックＴＲ２の長さに相当する距離だけ移動する。
【００７５】
他の実施例では、図６Ａ及び図６Ｂに表わすマスク組立体ＭＡ３０の第１のシャッター基板２０−Ｌが、第１の回転部材３０−Ｌの第１のピニオン３０−Ｐ１と第１側壁ＳＷ１に配置された複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４とが係合することによって、左回りに回転される。第２シャッター基板２０−Ｒは、第２の回転部材３０−Ｒの第１のピニオン３０−Ｐ１と第２の側壁ＳＷ２に配置された複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４とが係合することによって、右回りに回転される。
【００７６】
図１０は、本発明の一の実施形態における蒸着設備の一部分についての斜視図である。図１１は、図１０の一部分についての拡大図である。図１〜図９を参照しつつ説明した構成部材と同一の構成部材については、詳述しない。
【００７７】
図１０及び図１１に表わすように、当該実施形態における蒸着設備は、蒸着チャンバーＣＢの側壁ＳＷ１、ＳＷ２に配置された複数のマグネチック移送部材ＴＭ１〜ＴＭ３を含んでいる。複数のマグネチック移送部材ＴＭ１〜ＴＭ３それぞれにおいて、Ｎ極部分とＳ極部分が交互に配列されている。複数のマグネチック移送部材ＴＭ１〜ＴＭ３それぞれが、第１の方向Ｄ１において延在している形態とされる。当該実施例では、図９に表わす複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４ではなく、複数のマグネチック移送部材ＴＭ１〜ＴＭ３が利用されている。
【００７８】
図１０及び図１１に表わすように、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒそれぞれが、円板状マグネチック部材３０−Ｍ１を含んでいる。Ｎ極部分及びＳ極部分が、円板状マグネチック部材３０−Ｍ１の円周に沿って交互に配列されている。当該実施例では、図９に表わす第１のピニオン３０−Ｐ１ではなく、円板状マグネチック部材３０−Ｍ１が利用されている。
【００７９】
マスク組立体ＭＡ３０が第１の方向Ｄ１において移動することによって、第１の回転部材３０−Ｌの円板状マグネチック部材３０−Ｍ１が、複数のマグネチック移送部材ＴＭ１〜ＴＭ３に対応するように配置される。円板状マグネチック部材３０−Ｍ１は、複数のマグネチック移送部材ＴＭ１〜ＴＭ３から離隔配置されている。円板状マグネチック部材３０−Ｍ１と複数のマグネチック移送部材ＴＭ１〜ＴＭ３との間の磁気力、すなわち斥力によって、円板状マグネチック部材３０−Ｍ１が回転される。
【００８０】
例えば円板状マグネチック部材３０−Ｍ１が２番目のマグネチック移送部材ＴＭ２を通過した場合には、シャッター部材２０が、第１の方向Ｄ１の反対方向において、２番目のマグネチック移送部材ＴＭ２の長さに相当する距離だけ移動される。本実施形態では、円板状マグネチック部材３０−Ｍ１と複数のマグネチック移送部材ＴＭ１〜ＴＭ３との間に摩擦が発生しないので、異物が蒸着領域２００に発生しない。他の実施例では、図示しないが、第２のピニオン３０−Ｐ２及び第３ピニオン３０−Ｐ３ではなく、円板状マグネチック部材が利用されている。
【００８１】
図１２は、本発明の一の実施形態における蒸着設備の平面図である。図１３は、図１２に表わす蒸着設備の一部分についての第１の断面図である。図１４は、図１３に表わす蒸着設備の一部分についての第２の断面図である。図１〜図１１を参照しつつ説明した構成部材と同一の構成部材については、詳述しない。
【００８２】
図１２〜図１４に表わすように、当該実施形態における蒸着設備は、蒸着チャンバーＣＢと、複数の蒸着源Ｓ１〜Ｓ４と、マスク組立体ＭＡと、移送部ＴＰとを含んでいる。
【００８３】
蒸着設備は、搬送チャンバーＲＣＢと搬送部ＲＴＰとをさらに含んでいる。搬送部ＲＴＰは、マスク組立体ＭＡをアンローディング領域３００からローディング領域１００に復帰させるために、搬送チャンバーＲＣＢ内に配置されている。
【００８４】
搬送部ＲＴＰは、移送部ＴＰと同様に、コンベヤーベルトやローラー等を含んでいるように構成されている場合がある。搬送部ＲＴＰは、ベース基板ＳＵＢが分離されたマスク組立体ＭＡを移動させる。
【００８５】
搬送チャンバーＲＣＢは、蒸着チャンバーＣＢのように、第２の方向Ｄ２において互いに対して対向している第１の側壁ＲＳＷ１及び第２の側壁ＲＳＷ２と、底部ＲＢＰと、天井部ＲＣＰとを含んでいる。搬送部ＲＴＰは、第１の側壁ＲＳＷ１及び第２の側壁ＲＳＷ２に配設されている。
【００８６】
搬送チャンバーＲＣＢは、搬送チャンバーＲＣＢの第１の側壁ＲＳＷ１又は第２の側壁ＲＳＷ２に配置されている搬送ラックＲＴＲをさらに包んでいる。搬送ラックＲＴＲそれぞれが、第１の側壁ＲＳＷ１及び第２の側壁ＲＳＷ２に配置されている。
【００８７】
マスク組立体ＭＡは移送部ＴＰへ進入することと反対に搬送部ＲＴＰへ進入する。これは、シャッター部材２０の位置をマスク組立体ＭＡが移送部ＴＰへ進入する以前に戻すためである。
【００８８】
搬送ラックＲＴＲそれぞれの長さは、複数の移送ラックＴＲ１〜ＴＲ４の長さの合計と同一である。マスク組立体ＭＡが第１の方向Ｄ１の反対方向において移動することによって、回転部材３０のピニオン３０−Ｐ１、３０−Ｐ２が、第１の側壁ＲＳＷ１及び第２の側壁ＲＳＷ２に配置されている搬送ラックＲＴＲそれぞれに係合する。
【００８９】
マスク組立体ＭＡが搬送ラックＲＴＲを完全に通過すると、シャッター部材２０が、第１の方向Ｄ１において、搬送ラックＲＴＲの長さに相当する距離だけ移動する。すなわち、搬送ラックＲＴＲを完全に通過したシャッター部材２０の位置は、マスク組立体ＭＡが移送部ＴＰへ進入する以前に復帰される。
【００９０】
他の実施形態では、第１の回転部材３０−Ｌ及び第２の回転部材３０−Ｒそれぞれが、円板状マグネチック部材３０−Ｍ１（図１０及び図１１参照）を含んでいる場合には、搬送ラックＲＴＲではなく、Ｎ極領域及びＳ極領域が交互に配置されているマグネチック搬送部材を利用することができる。
【００９１】
本発明は、記載された実施形態に限定されることでなく、本発明の思想及び範囲を逸脱しないで多様に修正及び変形ができることはこの技術分野で通常の知識を有する者には明確である。従って、そのような変形形態又は修正例らは本発明の特許請求の範囲に属することである。
【００９２】
１０  支持部材
２０  シャッター部材
３０  駆動部材
１００  ローディング領域
２００  蒸着領域
３００  アンローディング領域
Ｂ１  隔壁
Ｂ２  隔壁
Ｂ３  隔壁
Ｓ１  蒸着源
Ｓ２  蒸着源
Ｓ３  蒸着源
Ｓ４  蒸着源
ＴＲ１  移送ラック
ＴＲ２  移送ラック
ＴＲ３  移送ラック
ＴＲ４  移送ラック
ＣＢ  蒸着チャンバー
ＭＡ  マスク組立体
ＲＣＢ  搬送チャンバー
ＲＴＲ  搬送ラック
ＳＵＢ  ベース基板
【図１】
2014051733.tif 000003
【図２】
2014051733.tif 000004
【図３】
2014051733.tif 000005
【図４Ａ】
2014051733.tif 000006
【図４Ｂ】
2014051733.tif 000007
【図５Ａ】
2014051733.tif 000008
【図５Ｂ】
2014051733.tif 000009
【図６Ａ】
2014051733.tif 000010
【図６Ｂ】
2014051733.tif 000011
【図７】
2014051733.tif 000012
【図８】
2014051733.tif 000013
【図９】
2014051733.tif 000014
【図１０】
2014051733.tif 000015
【図１１】
2014051733.tif 000016
【図１２】
2014051733.tif 000017
【図１３】
2014051733.tif 000018
【図１４】
2014051733.tif 000019