(57)【要約】【課題】簡易な製造工程で、有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることのできる有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置を提供すること。【解決手段】本発明の一実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板上に複数の画素領域毎に複数の第１の電極を形成し、複数の第１の電極を露出して複数の画素領域を画定する複数の隔壁を形成し、複数の画素領域に対応する位置に複数の開口部を有するマスクを、複数の画素領域と複数の開口部とを対応させて複数の隔壁上に配置し、マスクの上から有機ＥＬ材料を含む溶液を滴下することにより複数の開口部を通過させて溶液を複数の第１の電極上にそれぞれ塗布し、溶液の溶媒を気化して複数の有機ＥＬ層を形成し、複数の有機ＥＬ層上に複数の第２の電極を形成することを特徴とする。【選択図】  図１
2014229398.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の画素領域毎に複数の第１の電極を形成し、
前記複数の第１の電極を露出して前記複数の画素領域を画定する複数の隔壁を形成し、
前記複数の画素領域に対応する位置に複数の開口部を有するマスクを、前記複数の画素領域と前記複数の開口部とを対応させて前記複数の隔壁上に配置し、前記マスクの上から有機ＥＬ材料を含む溶液を滴下することにより前記複数の開口部を通過させて前記溶液を前記複数の第１の電極上にそれぞれ塗布し、
前記溶液の溶媒を気化して複数の有機ＥＬ層を形成し、
前記複数の有機ＥＬ層上に複数の第２の電極を形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記溶液は、前記溶液を吐出するノズルを、前記複数の画素の配列に沿って移動させて滴下することを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記マスクは、前記ノズルの移動方向に対して上り傾斜面と下り傾斜面とを有することを特徴とする請求項２記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記マスクは、表面に撥液化処理が施されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の電極は、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理により親液化処理が施されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記隔壁は、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理による親液化処理、若しくは、フッ素系ガスを用いたプラズマ処理による撥液化処理が施されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項７】
複数の画素領域毎に、第１の電極と有機ＥＬ層と第２の電極とが順次積層された有機ＥＬ層構造を備える有機ＥＬ表示装置の製造装置であって、
前記複数の画素領域に対応する位置に複数の開口部を有するマスクと、
所定の方向に移動し、前記マスクの上に有機ＥＬ材料を含む溶液を滴下するノズルと、
を備えることを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造装置。
【請求項８】
前記マスクは、前記ノズルの移動方向に対して上り傾斜面と下り傾斜面とを有することを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Electroluminescence）表示素子を用いた表示装置の製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ表示装置が開発されている。かかる有機ＥＬ素子は、画素毎に発光する発光層が備えられ、当該発光層に供給する電流量自体を調整することによって発光光量を調整することができるので、エネルギー効率に優れているという特徴を有している。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）といった複数色の発光を可能とするためには、画素ごとに異なる有機ＥＬ層構造を実現する必要がある。有機ＥＬ層構造の形成方法としては、例えば、インクジェット法（液体吐出法）やノズルプリンティング法（又は、ノズルコーティング法）等を用いて、発光色毎に異なる有機材料を塗布する方法が知られている。
【０００４】
ノズルプリンティング法による有機ＥＬ層構造の形成方法は、図６（ａ）に図示したように、有機ＥＬ材料を溶媒に溶かしたインク状の有機溶液５２を、隔壁５４の形成された基板５３に塗布して形成するものである。基板５３上には、図示していないが、各有機ＥＬ層と電気的に接続される電極が形成されている。隔壁５４は、各有機ＥＬ層の形成領域を区画し、各画素領域を画定するものである。有機溶液５２を吐出するノズル５１を、図６（ａ）に図示したＡ１の方向に移動させると、ノズル５１から基板５３に向かって有機溶液５２が一筆書きのように連続して塗布される。このような塗布工程の後、有機溶液５２の溶媒を気化する処理を施すと、隔壁５４によって画定された領域に有機ＥＬ層構造が形成される。
【０００５】
しかし、ノズルプリンティング法を用いた有機ＥＬ層構造の形成方法によると、隔壁５４上にも有機溶液５２が塗布されることから、有機溶液５２の溶媒が蒸散して有機材料５２´が隔壁５４上に残留することがあった。また、隔壁５４上に落ちた有機溶液５２は隔壁５４上から隣接する領域に流れ込むこととなるが、その流量を制御して各領域に均一に有機溶液５２を塗布することは難しいものであった。
【０００６】
そこで、従来のノズルプリンティング法を用いた有機ＥＬ層構造の形成方法には、図６（ｂ）に図示したように、隔壁５４の内部に、隔壁５４から所定の高さで突出した撥水性を有する部材５５を形成することにより、塗布された有機溶液５２の表面張力を部材５５によって分断し、各有機ＥＬ層構造の形成領域に均等に有機溶液５２を振り分けようとするものがある（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１１−０４８９０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述した従来の有機ＥＬ層構造の形成方法によると、隔壁５４の内部に形成される複数の部材５５は、均等なピッチで隔壁５４と位置合わせをして形成する必要があることから、製造工程には高い精度が要求され、製造工程が複雑化する虞があった。また、複数の隔壁５４及び複数の部材５５の加工精度にばらつきが生じると、有機溶液５２の各画素領域への塗布量が不均等となる虞があった。
【０００９】
そこで、本発明は、有機ＥＬ層構造が形成される基板自体に複雑な構造を設けることなく、簡易な製造工程で、有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることのできる有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の一実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板上に複数の画素領域毎に複数の第１の電極を形成し、前記複数の第１の電極を露出して前記複数の画素領域を画定する複数の隔壁を形成し、前記複数の画素領域に対応する位置に複数の開口部を有するマスクを、前記複数の画素領域と前記複数の開口部とを対応させて前記複数の隔壁上に配置し、前記マスクの上から有機ＥＬ材料を含む溶液を滴下することにより前記複数の開口部を通過させて前記溶液を前記複数の第１の電極上にそれぞれ塗布し、前記溶液の溶媒を気化して複数の有機ＥＬ層を形成し、前記複数の有機ＥＬ層上に複数の第２の電極を形成することを特徴とする。
【００１１】
前記溶液を吐出するノズルを、前記複数の画素の配列に沿って移動させて前記溶液を滴下してもよい。
【００１２】
前記マスクは、前記ノズルの移動方向に対して上り傾斜面と下り傾斜面とを有していてもよい。
【００１３】
前記マスクは、表面に撥液化処理が施されていてもよい。
【００１４】
前記第１の電極は、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理により親液化処理が施されていてもよい。
【００１５】
前記隔壁は、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理による親液化処理、若しくは、フッ素系ガスを用いたプラズマ処理による撥液化処理が施されていてもよい。また、前記隔壁は、撥液性を有する材料がコーティングされて形成されていてもよく、前記撥液性を有する材料で形成されていてもよい。
【００１６】
また、上記課題を解決するために、本発明の一実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の製造装置は、複数の画素領域毎に、第１の電極と有機ＥＬ層と第２の電極とが順次積層された有機ＥＬ層構造を備える有機ＥＬ表示装置の製造装置であって、前記複数の画素領域に対応する位置に複数の開口部を有するマスクと、所定の方向に移動し、前記マスクの上に有機ＥＬ材料を含む溶液を滴下するノズルと、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、簡易な製造工程で有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることができる有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスクを示す図であり、（ａ）はマスクの平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示したＡ−Ａ´線の断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示したＢ−Ｂ´線の断面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスクを示す図であり、（ａ）はマスクの平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示したＡ−Ａ´線の断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示したＢ−Ｂ´線の断面図である。
【図６】従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を、図１乃至図５を参照しながら詳細に説明する。
【００２０】
（第１の実施形態）
図１乃至図３を参照し、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。
【００２１】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図である。図２は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスク１０を示す図であり、（ａ）はマスク１０の平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示したＡ−Ａ´線のマスク１０の断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示したＢ−Ｂ´線のマスク１０の断面図である。図３は、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための図である。
【００２２】
はじめに、基板１３を準備する。この基板１３には、例えばガラス基板上に低温ポリシリコン・ＴＦＴや配線等が形成され、画素を構成する有機ＥＬ層に選択的に電流を供給するための回路が作りこまれている。
【００２３】
基板１３の製造方法について、以下、一例を述べる。まず、ガラス基板上のＴＦＴが形成される島状の領域に、ポリシリコンからなる活性領域が形成される。このポリシリコン活性領域は、プラズマ化学気相成長（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ  ＣＶＤ）法等を用いてアモルファス・シリコンを成膜し、これをＲＴＡ（急速熱アニール）、ＥＬＡ（エキシマレーザアニール）などの方法でポリシリコン化し、これをパターニングすることによって形成する。
【００２４】
ポリシリコン上には、一面に、ゲート絶縁膜が形成される。ゲート絶縁膜はＣＶＤ法により形成された酸化シリコンや窒化シリコンから形成される。
【００２５】
ゲート絶縁膜上の、ＴＦＴ領域の一部には、ゲート電極が形成される。このゲート電極は、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｗ、もしくはこれらを含む合金等の金属薄膜をパターニングすることによって形成される。
【００２６】
ゲート絶縁膜及びゲート電極上には、絶縁膜が形成される。絶縁膜は、ＣＶＤ法により形成された酸化シリコンや窒化シリコンから形成され、前述のポリシリコンに通じるコンタクトホールが開口される。そして、このコンタクトホールを通じてソース・ドレイン配線を接続する。配線も、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｗ、もしくはこれらを含む合金等の金属薄膜をパターニングすることによって形成される。
【００２７】
絶縁膜及び配線上には、これらを覆う絶縁膜がさらに形成される。絶縁膜は、ＣＶＤ法により形成された酸化シリコンや窒化シリコンから形成される。
【００２８】
次に、上記ＴＦＴと電気的に接続される陽極を形成する。陽極下であって、上記絶縁膜上には、Ａｇ等から形成された反射電極が形成されていてもよい。陽極は、ＴＦＴ上の絶縁膜及び反射電極等を貫通して形成されたコンタクトホールによって、基板１３に形成されたＴＦＴと電気的に接続される。陽極は、比較的仕事関数の大きい金属である、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、ＺｎＯ、ＭｏＯ３等で形成する。ここまでの構造が、図１に示す基板１３に対応する。
【００２９】
次に、各画素領域を分離する隔壁１４を形成して陽極をそれぞれ露出する。隔壁１４は、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、ベンゾシクロブテン及びフェノール樹脂からなる群から選択される１つ以上の有機絶縁膜であり、スリットコーティングなどの方法で形成される。また、有機絶縁膜の代わりに、酸化シリコン、窒化シリコン、アルミナ等からなる群から選択される１つ以上の無機絶縁膜で形成してもよい。これらの材料からなる絶縁膜を形成した後、表面にレジストをコーティングし、そのレジストを選択的に露光することによってパターン形成をし、このレジストをマスクにしてエッチングをすることによって各画素領域を分離する隔壁１４を形成する。
【００３０】
続いて、隔壁１４で区画された陽極上に有機ＥＬ層を形成する。有機ＥＬ層の構成は、陽極上に、ホール注入層（ＨＩＬ）、ホール輸送層（ＨＴＬ）、発光層（ＥＭＬ）、電子輸送層（ＥＴＬ）、電子注入層（ＥＩＬ）がそれぞれ順番に形成されたものであってもよい。
【００３１】
有機ＥＬ層の形成には、図１に図示したように、有機ＥＬ材料を溶媒に溶かしたインク状の有機溶液１２を、隔壁１４で区画された陽極上に、ノズルプリンティング法により塗布する。図３に図示したように、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の異なる複数の画素が形成された基板１３上に、同じ色の画素列を覆うマスク１０を配置する。マスク１０は、複数の開口部１０ａを有し、複数の開口部１０ａは、マスク１０を基板１３上に配置した際に、それぞれ複数の画素領域と対応する位置に配置されるように形成される。マスク１０は、複数の隔壁１４の頂部を覆って配置され、複数の開口部１０ａが複数の有機ＥＬ層の形成領域上に位置するように配置される。図１に図示したように、有機溶液１２を吐出するノズル１１をマスク１０上に配置し、図１及び図３に図示した画素列に沿った直線状の方向Ａ１に、マスク１０上の端から端にノズル１１を移動させると、ノズル１１から有機溶液１２が滴下され、マスク１０の開口部１０ａを通った有機溶液１２が、基板１３の各画素領域に塗布される。
【００３２】
ここで、図２を参照し、マスク１０の構成について一例を述べる。マスク１０は、図２（ａ）に図示したように、平面図上、互いに対向して平行に延びる２つの部材１０−１と、その間に配置されて２つの部材とともに複数の開口部１０ａを形成する複数の部材１０−２とを有する。ノズル１１の有機溶液１２を滴下するヘッド部分を、図２（ａ）に示す点線Ａ−Ａ´に沿って移動させることにより、有機溶液１２は平行に延びる２つの部材１０−１の略中央部分を通って複数の部材１０−２を横断し、略直線状に滴下される。このとき、ノズル１１の径は、有機溶液１２がノズル１１内に滞留しない太さとし、例えば、５μｍ〜２０μｍであってもよい。
【００３３】
図２（ｂ）に図示したように、２つの部材１０−１の間に配置される複数の部材１０−２は、それぞれノズル１１の移動方向Ａ１（図１参照）に対して上り傾斜面１０ｂと下り傾斜面１０ｂとを有し、略三角形の断面形状を有していてもよい。部材１０−２の傾斜面１０ｂと傾斜面１０ｃとは、互いの接点部分となす傾斜角度が鋭角であることが好ましい。このような構成を備えることにより、部材１０−２上に滴下された有機溶液１２を、両隣の開口部１０ａのうちいずれかに流れ込み易くなるように構成することができる。また、図１に図示したように、部材１０−２の頂上部を、隔壁１４の頂部と重畳するように配置することにより、隔壁１４上に有機溶液１２が滞留することを防ぐことが可能となる。
【００３４】
複数の部材１０−２は、それぞれの傾斜面１０ｂと傾斜面１０ｃとが、同じ面積を有し、同じ傾斜角度を有するものであってもよい。このとき、傾斜面１０ｂと傾斜面１０ｃとの接点部分が、各隔壁１４上の各画素領域を均等に区切る位置に配置されることにより、部材１０−２を挟んで両隣の画素領域に滴下される有機溶液の流量ａ１、ｂ２をそれぞれ均等に分配することが可能となる。従って、図６に図示した従来の製造方法と比較して、隔壁１４上に滴下される有機溶液１２が、隔壁１４上に滞留することを防ぎつつ、より均等に各画素領域に有機溶液１２を分配することが可能となる。
【００３５】
また、図２（ｃ）に図示したように、マスク１０の部材１０−１は、開口部１０ａに向かって傾斜した傾斜面１０ｄを有していてもよく、開口部１０ａからの高さが、部材１０−２よりも高いものであってもよい。このような構成を有することにより、部材１０−１にはねたり、部材１０−１上に滴下された有機溶液１２を、開口部１０ａに向かわせて開口部１０ａに流れ込ませるように構成することができる。
【００３６】
また、複数の開口部１０ａは、基板１３上にマスク１０を配置した際に、各画素領域と対応する位置に配置される。従って、複数の開口部１０ａは、各画素領域のピッチとほぼ同じピッチに、同じ大きさに形成されてもよい。しかし、複数の開口部１０ａは、図１に図示したように、マスク１０が隔壁１４の頂部を覆うように配置されていれば、各画素領域の面積よりも小さい面積を有して形成されてもよい。
【００３７】
マスク１０の材質は、インクに対して耐性のある材料を用いることが望ましく、加工精度、熱膨張性を考慮すると、ステンレス鋼（SUS）などの金属を用いてもよい。マスク１０の表面は、撥液化処理が施されていることが望ましく、フッ素系ガスを用いたプラズマ処理による撥液化処理が施されていてもよい。
【００３８】
また、このような有機溶液１２の塗布工程前に、陽極に対して、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理により親液化処理を施してもよい。また、隔壁１４に対して、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理による親液化処理、若しくは、フッ素系ガスを用いたプラズマ処理による撥液化処理を施してもよい。このような処理を施すことにより、隔壁１４の両隣に配置される陽極上に、マスク１０を介して有機溶液１２を分配することがより容易に可能となる。また、隔壁１４を撥液性を有する材料でコーティングして形成してもよく、隔壁１４自体を撥液性を有する材料で形成してもよい。
【００３９】
次に、図３を参照し、本発明のマスク１０を用いたノズルプリンティング法により、有機溶液１２を塗布する工程の一例を述べる。図３は、図１に示す隔壁１４によって互いに分離された赤色画素（Ｒ）、緑色画素（Ｇ）、及び青色画素（Ｂ）の各画素領域を示す図であり、赤色（Ｒ）の画素列上にマスク１０が配置された構成を図示している。このように、赤色画素（Ｒ）、緑色画素（Ｇ）、及び青色画素（Ｂ）の各画素領域に対し、それぞれ同じ色の画素領域には同じマスク１０を用いて有機溶液１２を塗布する。図３に示すように、赤色（Ｒ）の画素列に有機溶液１２を塗布する工程は、まず、マスク１０上に配置されたノズル１１を、図３に示すＡ１の方向に移動させて赤色（Ｒ）の一列目の画素列に有機溶液１２を塗布する。次に、マスク１０を図３に示すＢ１の方向に移動させ、図３に点線に図示した１０´の位置に配置する。このとき、ノズル１１についても図３に示すＡ２の方向に移動させ、二列目の赤色（Ｒ）の画素列をマスク１０で覆い、マスク１０上に配置されたノズル１１を図３に示すＡ３の方向に移動させることにより、二列目の画素列に有機溶液１２を塗布する。
【００４０】
なお、図３には、一つの画素列に対し、一つのマスク１０を用いて塗布する工程を図示しているが、これに限らず、複数の同じ色の画素列に対し、画素領域毎に複数の開口部１０ａを有する一つのマスク１０を配置し、このマスク１０の上から有機溶液１２を塗布することより、一度に複数の画素列の画素領域に有機ＥＬ材料を塗布するように構成してもよい。また、図３には、塗布対象以外の画素列がマスクで覆われない構成が図示されているが、塗布対象以外の画素列を開口部の無いマスクで覆ってもよく、塗布対象の画素列に対応する開口部を有するマスクで覆うものであってもよい。
【００４１】
このように、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、既存の製造装置を用いて、ノズル１１と基板１３との間にマスク１０を配置することにより、マスク１０の複数の開口部１０ａを介して各画素領域に有機溶液１２を均等に分配することが可能となる。従って、有機ＥＬ層構造が形成される基板１３自体に複雑な構造を設けることなく、簡易な製造工程で、有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることができる。
【００４２】
このような方法を用いて、各画素領域に有機溶液１２を塗布した後、基板１３を加熱処理することによって、溶媒の蒸散を行う。なお、有機溶液１２が速乾性を有するもの等であれば、加熱処理を行わなくてもよい。マスク１０は、有機ＥＬ材料の固化後、基板１３から取り外す。
【００４３】
このような塗付方法を用いて、各画素領域毎に、陽極上に、ホール注入層（ＨＩＬ）、ホール輸送層（ＨＴＬ）、発光層（ＥＭＬ）、電子輸送層（ＥＴＬ）、電子注入層（ＥＩＬ）をそれぞれ順番に形成することにより、有機ＥＬ層が形成される。その後、電子注入層（ＥＩＬ）上に、Ａｌ、Ｎｉ、Ｍｇもしくはこれらを含む合金等からなる陰極を形成することにより、有機ＥＬ層構造が形成される。
【００４４】
なお、上述した有機ＥＬ層構造は、基板１３側に陽極、有機ＥＬ層上に陰極を配置する構造であるが、基板１３側に陰極、有機ＥＬ層上に陽極を配置する構造としてもよい。
【００４５】
（第２の実施形態）
次に、図４及び図５を参照し、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。
【００４６】
図４は、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図である。図５は、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスク２０を示す図であり、（ａ）はマスク２０の平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示したＡ−Ａ´線のマスク２０の断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示したＢ−Ｂ´線のマスク２０の断面図である。
【００４７】
なお、第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法とは、製造装置に用いたマスク１０の構成のみが異なるものである。従って、以下、上述した第１の実施態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様の構成についてはその詳細な説明について省略する。
【００４８】
第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスク２０は、図５に図示したように、平面図上、互いに対向して平行に延びる２つの部材２０−１と、その間に配置されて２つの部材とともに複数の開口部２０ａを形成する複数の部材２０−２とを有する。図４に図示したように、ノズル２１の有機溶液２２を滴下するヘッド部分を、方向Ａ１に移動させることにより、有機溶液２２は、平行に延びる２つの部材２０−１の略中央部分を通り、図５（ａ）に示すＡ−Ａ´線上に沿うように、複数の部材１０−２を横断して略直線状に滴下される。
【００４９】
マスク２０は、図５（ｂ）に図示したように、複数の部材２０−２が、それぞれノズル２１の移動方向Ａ１（図４参照）に対して２つの上り傾斜面２０ｂ、２０ｂ´と、２つの下り傾斜面２０ｃ、２０ｃ´と、平坦部２０ｅとを有する。部材２０−２の傾斜面２０ｂと傾斜面２０ｃとがなす角度、及び傾斜面２０ｂ´と傾斜面２０ｃ´とがなす角度は、それぞれ鋭角であることが望ましい。また、傾斜面２０ｂ、２０ｃ´と傾斜面２０ｃ、２０ｂ´とは、それぞれ同じ面積を有し、同じ傾斜角度を有していてもよい。このとき、傾斜面２０ｂ、２０ｃ´は、図４及び図５（ｂ）に図示したように、基板２３の水平面に対して垂直な面であってもよい。
【００５０】
マスク２０の複数の部材２０−２が上述した傾斜面２０ｂ、２０ｂ´、２０ｃ、２０ｃ´及び平坦部２０ｅの構成を備えることにより、マスク２０に向かって滴下される有機溶液２２のうち、部材２０−２上に滴下された有機溶液２２を、傾斜面２０ｂ´、２０ｃによって平坦部２０ｅ上に留まらせ、開口部２０ａに流れ込ませずに塞き止めることが可能となる。すなわち、部材２０−２において、平坦部２０ｅと傾斜面２０ｃ、２０ｂ´とで形成される領域には、ノズル２１より吐出された有機溶液２２が、部材２０−２の両隣の開口部２０ａから不均等に各画素領域に塗布されることを防ぐ目的があり、これにより、各画素領域に均等な流量の有機溶液２２を分配して塗布することが可能となる。このとき、平坦部２０ｅから傾斜面２０ｂと傾斜面２０ｃとの接点までの高さ、及び平坦部２０ｅから傾斜面２０ｂ´と傾斜面２０ｃ´との接点までの高さは、上記目的が果たせる高さであればよい。
【００５１】
また、図５（ｃ）に図示したように、マスク２０の部材２０−１は、開口部２０ａに向かって傾斜した傾斜面２０ｄを有していてもよく、開口部２０ａからの高さが、部材２０−２より高いものであってもよい。このような構成を有することにより、部材２０−１にはねたり、部材２０−１上に滴下された有機溶液２２を、開口部２０ａに向かわせて開口部２０ａに流れ込ませるように構成することができる。
【００５２】
従って、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様に、既存の製造装置を用いて、ノズル２１と基板２３との間にマスク２０を配置することにより、マスク２０の複数の開口部２０ａを介して各画素領域に有機溶液２２を均等に分配することが可能となる。
【００５３】
以上のとおり、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、有機ＥＬ層構造が形成される基板１３、２３自体に複雑な構造を設けることなく、簡易な製造工程で、有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることができる。従って、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、各画素間の有機ＥＬ層の膜厚のばらつきを抑制した有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１０、２０    マスク
１０ａ、２０ａ    開口部
１１、２１、５１    ノズル
１２、２２、５２    有機溶液
１３、２３、５３    基板
１４、２４、５４    側壁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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