(57)【要約】【課題】  レーザ光を用いた帯状ガラス（ガラスリボン）のオンライン切断特有の課題を解決する。【解決手段】  本発明に係る帯状ガラス１０の切断方法では、帯状ガラス１０が基準搬送面６０ａから変位し始めてからスクライブライン１１ｘにおいて分断されて基準搬送面６０ａへと戻るまでの期間にわたって、スクライブ位置と分断位置との間において搬送されている帯状ガラス１０に少なくとも１本のスクライブライン１１ａが存在するように、スクライブ位置と分断位置との間隔を設定する。スクライブ位置と分断位置との間において帯状ガラス１０に存在するスクライブライン１１ａは、切断時に生じた帯状ガラス１０の振動を緩和する。【選択図】図６
2014001130.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形装置から搬出され、帯状ガラスを基準搬送面に沿って搬送方向へと搬送しながら、前記帯状ガラスにレーザ光および冷媒を供給することにより、前記帯状ガラスに形成された初期クラックを前記帯状ガラスの幅方向へと伸長させて前記帯状ガラスにスクライブラインを形成するレーザスクライブ工程と、
前記スクライブラインが形成された帯状ガラスを前記搬送方向に搬送しながら、前記スクライブラインが形成されるスクライブ位置よりも前記搬送方向の下流側に所定間隔離れた分断位置において、前記スクライブラインを跨ぐ領域において前記帯状ガラスを前記基準搬送面から変位させて前記スクライブラインにおいて前記帯状ガラスを分断するガラス分断工程と、を具備し、
前記ガラス分断工程において前記帯状ガラスが前記基準搬送面から変位し始めてから前記スクライブラインにおいて分断されて前記基準搬送面へと戻るまでの期間にわたって、前記スクライブ位置と前記分断位置との間において搬送されている前記帯状ガラスに少なくとも１本の前記スクライブラインが存在するように、前記所定間隔を定める、
帯状ガラスの切断方法。
【請求項２】
前記期間にわたって、前記スクライブ位置と前記分断位置との間において前記基準搬送面に沿って搬送されている前記帯状ガラスに少なくとも２本の前記スクライブラインが存在するように、前記所定間隔を定める、請求項１に記載の帯状ガラスの切断方法。
【請求項３】
前記期間にわたって、前記スクライブ位置と前記分断位置との間において搬送されている前記帯状ガラスに１０本以下の前記スクライブラインが存在するように、前記所定間隔を定める、請求項１または２に記載の帯状ガラスの切断方法。
【請求項４】
前記基準搬送面は水平面であり、
前記期間にわたって、前記スクライブ位置と前記分断位置との間において前記帯状ガラスの下面のみを支持する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の帯状ガラスの切断方法。
【請求項５】
前記スクライブ位置と前記分断位置との間隔を２ｍ〜５ｍに設定する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の帯状ガラスの切断方法。
【請求項６】
前記帯状ガラスの厚さが０．１ｍｍ〜１．１ｍｍである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の帯状ガラスの切断方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯状ガラス（ガラスリボン）の切断方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
板状ガラス（ガラス板）の切断は、通常、カッターを用いて実施される。カッターにより形成されたガラス表面のスクライブラインに機械的な応力を加えると、板状ガラスがスクライブラインに沿って分断される。
【０００３】
カッターを用いた切断を板状ガラスの製造ラインに適用することが提案されている。製造ラインで実施される切断は、製造ラインから取り出された板状ガラスの切断と区別するために「オンライン切断」と呼ばれることがある（製造ライン外での切断は「オフライン切断」と呼ばれる）。オンライン切断では、成形装置において所定の厚さへと成形され、製造ライン上を流れる帯状ガラスが切断の対象となる。帯状ガラスは、成形装置（例えばフロートバス）から搬出され、製造ライン上を搬送されながら、所定の位置において少なくともその幅方向にスクライブラインが形成され、さらにその下流側においてスクライブラインに沿って所定の大きさの板状ガラス（ガラス板）へと分断される。一例では、カッターを用いてスクライブラインを形成し、移動ローラによってスクライブラインが形成された領域を厚さ方向に移動させて帯状ガラスを撓ませることによりスクライブラインに機械的な応力を加え、帯状ガラスをスクライブラインに沿って分断している。
【０００４】
オンライン切断では、搬送に伴う振動が原因で、スクライブラインに沿って帯状ガラスを分断すべき位置（分断位置）よりも搬送方向の上流側において、帯状ガラスがスクライブラインにおいて自然に分離することがある。帯状ガラスの搬送時に比べると、帯状ガラスが分断されて形成されたガラス板の搬送時にはガラスが損傷し易い（特にエッジ）ため、この現象は避けられるべきである。この現象は、スクライブラインを形成する位置（スクライブ位置）と分断位置との間隔が大きくなる程現れやすくなるため、通常は、スクライブ位置と分断位置との間隔は、スクライブ位置と分断位置との間にスクライブラインが存在しない程度に小さく設定される。
【０００５】
また、レーザ光を用いたオフライン切断も提案されている。この方法では、板状ガラスの表面の初期クラックをレーザ光の照射と冷媒の噴射とによって伸長させる手法が採用される。レーザ光の照射により加熱された領域に冷媒を吹き付けて急冷すると、その領域に引っ張り応力が生じる。この引っ張り応力をクラックの先端近傍に発生させるとクラックが伸長する。レーザ光を照射する領域と冷媒を吹きつける領域とをこの順にクラックを伸長させたい方向へと板状ガラスの表面上を走査すると、板状ガラスにスクライブラインが形成される。その後は上記と同様、スクライブラインに機械的な応力が加えられ、板状ガラスがスクライブラインに沿って分断される（例えば、特許文献１参照）。レーザ光を用いた切断方法の利点としては、厚さがごく薄いガラスであっても支障なく切断できること、ガラスの切断面の平滑性に優れていること、などが挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−１４２９７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
レーザ光を用いた切断をオンライン切断に適用すると、スクライブラインの深さが一定とならず、切断面の平滑性が却って劣化することがある。オンライン切断では、搬送に伴って帯状ガラスが振動するため、スクライブ位置において、帯状ガラスの厚さ方向の位置がレーザ光により効率的に加熱され得る位置から外れる（焦点深度外となる）ことがあるためである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
搬送に伴う振動の振幅を考慮に入れて、スクライブ位置における帯状ガラスの厚さ方向の位置がレーザ光の焦点深度内に収まるようにレーザ光の光学系を設計すれば、上記の課題は解決するようにも思われる。しかし、本発明者らの検討によると、このようにレーザ光の光学系を設計しても、上記の課題は解決しないことがある。分断位置において分断時に生じる帯状ガラスの振動が、スクライブ位置にまで伝搬するためである。すなわち、分断時に生じたパルス状の大きな振動がスクライブ位置へと伝搬し、帯状ガラスにおけるレーザ光によって走査されている領域が厚さ方向にパルス状に大きく移動し、レーザ光によって与えられる熱量（すなわち、当該領域が有することとなる単位体積当たりの熱量）が急激に変動する結果、スクライブラインの深さが不安定となったり、スクライブラインの形成が途中で中断されたりすることがある。
【０００９】
分断時に生じるパルス状の振動も考慮に入れて、レーザ光の光学系を設計することも考えられる。しかし、本発明者らの検討によると、分断時に生じる振動の振幅は、搬送に伴う振動の振幅よりも大きく、分断時に生じる振動を考慮して焦点深度を設定すると、レーザ光の損失が増大する。さらに、長い光路を確保する必要があるため、装置を大型化し、遠い位置から冷媒を噴射しなければならなくなる。したがって、分断時に生じる振動に由来する問題の解決のためには、別の解決策を適用することが望ましい。
【００１０】
なお、カッターを用いたオンライン切断では、帯状ガラスを抑えつけながら帯状ガラスにスクライブラインを形成するため、搬送および分断に由来する振動に伴うスクライブ位置における帯状ガラスの変位は問題とならない。
【００１１】
以上に鑑み、本発明は、レーザ光を用いたオンライン切断の特有の課題を解決できるように、レーザ光を用いた帯状ガラスの切断方法を改良することを目的とする。
【００１２】
本発明は、
成形装置から搬出され、帯状ガラスを基準搬送面に沿って搬送方向へと搬送しながら、前記帯状ガラスにレーザ光および冷媒を供給することにより、前記帯状ガラスに形成された初期クラックを前記帯状ガラスの幅方向へと伸長させて前記帯状ガラスにスクライブラインを形成するレーザスクライブ工程と、
前記スクライブラインが形成された帯状ガラスを前記搬送方向に搬送しながら、前記スクライブラインが形成されるスクライブ位置よりも前記搬送方向の下流側に所定間隔離れた分断位置において、前記スクライブラインを跨ぐ領域において前記帯状ガラスを前記基準搬送面から変位させて前記スクライブラインにおいて前記帯状ガラスを分断するガラス分断工程と、を具備し、
前記ガラス分断工程において前記帯状ガラスが前記基準搬送面から変位し始めてから前記スクライブラインにおいて分断されて前記基準搬送面へと戻るまでの期間にわたって、前記スクライブ位置と前記分断位置との間において搬送されている前記帯状ガラスに少なくとも１本の前記スクライブラインが存在するように、前記所定間隔を定める、
帯状ガラスの切断方法を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
スクライブ位置と分断位置との間において搬送されている帯状ガラスに存在するスクライブラインは、切断時に生じた帯状ガラスの振動を緩和する。したがって、本発明によれば、スクライブ位置における帯状ガラスの振動が緩和された状態で帯状ガラスにレーザ光を照射できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態を説明するための帯状ガラスの上面図である。
【図２】図１のII-II断面図である。
【図３】図２のヘッド近傍の部分拡大図である。
【図４】クラックが伸長する領域を示す帯状ガラスの上面図である。
【図５】スクライブラインの拡大図である。
【図６】帯状ガラスの分断工程を説明するための図である。
【図７】各スクライブラインの部分拡大図である。
【図８】傾斜した状態にある帯状ガラスにレーザ光および冷媒を供給して分断したガラス板の端面を示す図である。
【図９】水平な状態にある帯状ガラスにレーザ光および冷媒を供給して分断したガラス板の端面を示す図である。
【図１０】参考実施形態Ａ１を説明するための帯状ガラスの上面図である。
【図１１】図１０のII-II断面図である。
【図１２】図１１のヘッド近傍の部分拡大図である。
【図１３】クラックが伸長する領域を示す帯状ガラスの上面図である。
【図１４】ガラス分断ステップの一例を示すための図である。
【図１５】参考実施形態Ａ２を説明するための帯状ガラスの上面図である。
【図１６】実験Ａ１において初期クラックが伸長する様子を示す図である。
【図１７】板状ガラスの厚さと、スクライブラインが形成された場合の搬送テーブルの移動速度との関係を示すグラフである。
【図１８】想定される帯状ガラスの搬送速度と、スクライブラインが形成された場合の搬送テーブルの移動速度との関係を示すグラフである。
【図１９】参考実施形態Ｂ１を説明するための帯状ガラスの上面図である。
【図２０】帯状ガラスの厚さ方向の位置が変動している様子の一例を表すための図である。
【図２１】図１９のII-II断面図である。
【図２２】図２１のヘッド近傍の部分拡大図である。
【図２３】レーザ光および冷媒が帯状ガラスの表面に供給される様子を説明するための図である。
【図２４】クラックが伸長する領域を示す帯状ガラスの上面図である。
【図２５】光学システム通過後のレーザ光の形状を説明するための図である。
【図２６】ガラス分断ステップの一例を示すための図である。
【図２７】レーザ光および冷媒が帯状ガラスの表面に供給される様子を説明するための図である。
【図２８】実験Ｂ１において初期クラックが伸長する様子を示す図である。
【図２９】光学システムおよびノズルの高さと、スクライブラインが形成された場合の搬送テーブルの移動速度との関係を示すグラフである。
【図３０】オフラインにおける実験において、板状ガラスにレーザ光および冷媒が供給される様子を示す図である。
【図３１】オフラインにおける実験において、板状ガラスにレーザ光および冷媒が供給される様子を示す図である。
【図３２】オフラインにおける実験において、板状ガラスにレーザ光および冷媒が供給される様子を示す図である。
【図３３】参考実施形態Ｃ１を説明するための帯状ガラスの上面図である。
【図３４】図３３のII-II断面図である。
【図３５】図３４のヘッド近傍の部分拡大図である。
【図３６】クラックが伸長する領域を示す帯状ガラスの上面図である。
【図３７】ガウシアン型のエネルギー密度プロファイルを説明するための図である。
【図３８】リング型のエネルギー密度プロファイルを説明するための図である。
【図３９】トップハット型のエネルギー密度プロファイルを説明するための図である。
【図４０】ガラス分断ステップの一例を示すための図である。
【図４１】参考実施形態Ｃ２を説明するための帯状ガラスの上面図である。
【図４２】参考実施形態Ｃ２におけるガラス分断ステップの一例を示すための図である。
【図４３】実験Ｃ１において初期クラックが伸長する様子を示す図である。
【図４４】実験Ｃ１におけるレーザ光により加熱されたアクリル板の断面を示す写真である。
【図４５】光学システムおよびノズルの高さと、スクライブラインが形成された場合の搬送テーブルの移動速度との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１６】
図１は、ガラス成形装置から搬出され、水平面である基準搬送面に沿って搬送される帯状ガラス（ガラスリボン）１０を上方から観察した状態を示している。帯状ガラス１０は、搬送方向４０の上流側（図１に示す領域よりも上流側）に設置されたガラス成形装置（図示省略；例えばフロートバス）において所定の厚さへと成形され、搬送方向４０に一定の速度で搬送されている。帯状ガラス１０の搬送は、帯状ガラス１０を下方から支持する搬送ローラ２１によって行われる。本実施形態では、搬送ローラ２１によって構成される搬送面を基準搬送面と呼ぶ。なお、帯状ガラス１０が薄い場合には搬送ローラ２１のピッチを細かくすることが好ましい。また、搬送ローラ２１に代えて搬送ベルトを用いてもよい。
【００１７】
帯状ガラス１０には、その上方を横断するスクライブライン形成ヘッド（以下、単に「ヘッド」という）５１によってスクライブライン１１が形成される。スクライブライン１１は、搬送方向４０と直交する帯状ガラス１０の幅方向４１に平行に伸び、かつ搬送方向４０について所定の間隔が保たれるように形成される。帯状ガラス１０は、搬送方向４０の下流側に配置された分断装置（移動ローラ２５）によりスクライブライン１１において分割され、ガラス板１００となる。
【００１８】
帯状ガラス１０の幅方向４１に平行なスクライブライン１１を形成するために、ヘッド５１は幅方向４１に対して斜行して走行する。ヘッド５１の斜行走行方向４２と幅方向４１とは、帯状ガラス１０の搬送速度およびヘッド５１の走行速度に依存して定まる角度θを形成する。ヘッド５１は、斜行走行方向４２に平行に帯状ガラス１０の上方を横断するガイド（図示省略）に導かれて一定の速度で走行する。便宜上、ヘッド５１が走行するラインをヘッド走行ライン５０として図１に示す。
【００１９】
ヘッド走行ライン５０に沿った図１の断面図を図２として、図２の部分拡大図を図３として示す。ヘッド５１は、レーザ光を帯状ガラス１０に集光させるための光学システム７０と、冷媒を噴射して帯状ガラス１０を局部的に冷却するための噴射ノズル８０とを備えている。ヘッド５１は、帯状ガラス１０に初期クラックを形成するクラック形成装置であるカッター１９をさらに備えている。
【００２０】
カッター１９は、典型的にはホイールカッターであるが、帯状ガラス１０に伸長可能なクラックを形成できる限り、その種類に特段の制限はない。カッター１９は、スクライブライン１１の起点となる初期クラックを帯状ガラス１０に形成する役割を担う。初期クラックは、帯状ガラス１０の端部（図１に示した帯状ガラス１０の場合には図示右側端部）またはその近傍に形成される。
【００２１】
カッター１９は、初期クラックの形成時には図示を省略するカッター押圧装置により、帯状ガラス１０の表面（上面）へと押圧される。ヘッド走行ライン５０に沿う位置において支持体２２が帯状ガラス１０を支持しているため、この押圧によりカッター１９から帯状ガラス１０に反力が加わる。ただし、この押圧は初期クラックの形成後に解放され、その結果、図３に示したように、カッター１９は、典型的には帯状ガラス１０に対して非接触となる。
【００２２】
スクライブライン１１を形成するための初期クラックの伸長は、ヘッド５１から供給されるレーザ光１７および冷媒１８によって実施される。すなわち、クラックの端部に重複させて、レーザ光１７による加熱と冷媒１８による急冷とを引き続いて適用すると、クラック近傍のガラス表面に引っ張り応力が発生し、この引っ張り応力によりクラックが伸長する。ヘッド５１は、クラックを伸長させながらヘッド走行ライン５０上を（図示した形態では図示左方へと）進んでいく。本実施形態では、ヘッド走行ライン５０がスクライブ位置に対応する。
【００２３】
図４に示すように、ヘッド５１の走行に伴い、帯状ガラス１０において、光学システム７０を経由してレーザ光１７が照射される被照射領域２７、噴射ノズル８０から冷媒１８が供給される被冷却領域２８は、この順にヘッド走行ライン５０上を進んでいく。換言すれば、被冷却領域２８は被照射領域２７に追随しながら、これらの領域はヘッド走行ライン５０上を進行する。ヘッド５１は、被照射領域２７を形成するレーザ光集光装置（光学システム７０）、および被冷却領域２８を形成する冷却装置（噴射ノズル８０）を、各装置の相対的な位置関係を保持したまま、移動させる役割を担う。ヘッド５１の走行により、図５に示すようなスクライブライン１１が形成される。
【００２４】
図３に戻って、レーザ光の照射システムおよび冷媒の供給システムについて簡単に説明しておく。ただし、これらのシステムは既に公知のものを特に制限なく使用できる。レーザ光１７は、レーザ光発生装置７１からレーザビーム拡大装置７２およびヘッド５１内の集光装置（光学システム７０）を経由して帯状ガラス１０の被照射領域２７へと集光される。光学システム７０は、ミラーその他の光学素子７３，７４，７５により構成されている。レーザ光１７としては、ＣＯ2レーザ、ＹＡＧレーザなどを使用できる。冷媒１８は、図示を省略する冷媒供給装置からヘッド５１に備え付けられた噴射ノズル８０を経由して、被冷却領域２８へと供給される。冷媒としては、例えば空気、窒素、ヘリウム、水を使用すればよい。
【００２５】
図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、スクライブライン１１が形成された帯状ガラス１０は、搬送方向４０の下流側でスクライブライン１１ｘ（搬送方向最下流側のスクライブライン１１）に沿って分断される。具体的に、帯状ガラス１０のスクライブライン１１ｘが近づいてくると、移動ローラ２５は帯状ガラス１０をその厚さ方向に持ち上げる（図６（ａ）（ｂ））。持ち上げられた帯状ガラス１０の自重により生じた応力によってスクライブライン１１ｘを構成するクラックに沿って帯状ガラス１０が割断され、その下流側がガラス板１００へと分断される。より具体的に述べると、移動ローラ２５は、移動ローラ２５と接している部分の変位量が最大となるように帯状ガラス１０を持ち上げ、スクライブライン１１ｘでの分断を進行させる。分断が完了した後、移動ローラ２５は下方へと引き下がって次の分断に備える（図６（ｃ））。
【００２６】
スクライブライン１１ｘに応力が加わるように、移動ローラ２５は、スクライブライン１１ｘを跨ぐ領域、すなわちその上流側（図示左方）および下流側（図示右方）の両方において、帯状ガラス１０をその裏面を支持しながら上方へと持ち上げて、基準搬送面から変位させる（図６（ｂ））。その後、移動ローラ２５の下降に伴い、一旦上方へと移動した帯状ガラス１０の下流端１０ｅが下方へと戻ることになる（図６（ｃ））。本実施形態では、移動ローラ２５が設けられる位置が、分断位置に相当する。
【００２７】
なお、本実施形態では、自重により生じた応力によりスクライブライン１１での分断を進行させているが、移動ローラ２５の上昇時に、移動ローラ２５の搬送方向４０上流側または下流側において帯状ガラス１０の表面を上方から押さえつけることにより分断を進行させてもよい。このようにすれば、薄く、軽い帯状ガラス１０を分断する場合であっても、分断に要する応力を確保し易い。
【００２８】
本実施形態では、ガラス分断工程において帯状ガラス１０が基準搬送面（搬送高さ６０ａ）から変位し始めてからスクライブライン１１ｘにおいて分断されて（分断高さ６０ｂに達し）基準搬送面へと戻るまでの期間にわたって、スクライブ位置と分断位置との間において搬送されている帯状ガラス１０にスクライブライン１１が存在するように、スクライブ位置と分断位置との間隔が定められている。スクライブライン１１を構成するクラックは、その幅の変動により、分断工程時に生じた振動を吸収し得る。したがって、本実施形態の構成によれば、スクライブ位置における帯状ガラス１０の振動が緩和する。
【００２９】
図６（ａ）〜（ｃ）に示す例では、スクライブ位置と分断位置との間において基準搬送面（搬送高さ６０ａ）に沿って搬送されている帯状ガラス１０に２本のスクライブライン１１ｂ，１１ｃが存在し、これにより、スクライブ位置における帯状ガラス１０の振動を効果的に緩和させている。
【００３０】
上記構成により振動が効果的に緩和されるのは、スクライブ位置と分断位置との間において搬送高さ６０ａに沿って搬送されている帯状ガラス１０に存在する２本のスクライブライン１１ｂ，１１ｃのうち、搬送方向上流側に位置するスクライブライン１１ｃを構成するクラックの幅が、移動ローラ２５の上昇時に狭まり難いためである。この点について、図６（ｂ）の部分拡大図である図７（ａ）〜（ｃ）を参照しながら説明する。スクライブライン１１ｘに搬送方向上流側で隣接するスクライブライン１１ａを構成するクラックの幅は、移動ローラ２５が上昇すると狭まる（図７（ａ））。スクライブライン１１ａの搬送方向下流側で帯状ガラス１０が持ち上げられ、帯状ガラス１０が撓むためである。この状態のスクライブライン１１ａでは、振動により帯状ガラス１０がスクライブライン１１ａにおいて上方（撓みが解消される方向）に変位するときにクラックの幅が広がることにより、振動抑制作用が発揮され、振動の増大が防止される。スクライブライン１１ａに搬送方向上流側で隣接するスクライブライン１１ｂを構成するクラックの幅も、移動ローラ２５が上昇すると狭まる（図７（ｂ））。スクライブライン１１ｂ自体は搬送高さ６０ａを搬送されている帯状ガラス１０上に存在するものの、スクライブライン１１ａとスクライブライン１１ｂとの間で帯状ガラス１０が搬送高さ６０ａから持ち上げられるためである。これに対し、スクライブライン１１ｂに搬送方向上流側で隣接するスクライブライン１１ｃの幅は、移動ローラ２５が上昇しても影響を受け難い。このように、スクライブライン１１ｃを構成するクラックの幅は移動ローラ２５の上昇時においても維持されるため、スクライブライン１１ｃでは、振動により帯状ガラス１０がスクライブライン１１ｃにおいて上方に変位するときにクラックの幅が広がるのみならず、下方に変位するときにクラックの幅が狭まることにより、振動抑制作用がより効果的に発揮され、振動の増大がより効果的に防止される。
【００３１】
スクライブ位置と分断位置との間において搬送高さ６０ａを搬送されている帯状ガラス１０におけるスクライブライン１１の本数が２本よりも多い場合にも、上記と同様の効果を得ることができる。
【００３２】
本発明者らの検討によれば、レーザ光を用いたオンライン切断では、帯状ガラスがスクライブラインにおいて自然に分離する現象は発生し難い。すなわち、レーザ光を用いたオンライン切断では、分断位置とスクライブ位置との間隔の上限に関する制限が緩和される。これは、レーザ光を用いてスクライブラインを形成する場合は、カッターを用いてスクライブラインを形成する場合に比べると、帯状ガラスに水平クラックが形成され難いことが理由である可能性が高い。
【００３３】
ただし、スクライブ位置と分断位置との間において搬送されている帯状ガラス１０におけるスクライブライン１１の本数が過剰に多い場合、すなわちスクライブ位置と分断位置との間隔が過大である場合は、レーザ光を用いてスクライブラインを形成しても、搬送に伴う振動により帯状ガラス１０が分断位置に到達する前に自然に分断されてガラス板１００が形成されることがある。したがって、スクライブ位置と分断位置との間において搬送されている帯状ガラス１０におけるスクライブライン１１の本数の上限は、例えば２０本、好ましくは１０本、より好ましくは５本とすればよい。
【００３４】
また、本実施形態では、図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、帯状ガラス１０が分断位置において搬送高さ６０ａから上方へと移動を始めて分断され搬送高さ６０ａへと戻るまでの期間にわたって、スクライブ位置と分断位置との間において帯状ガラス１０の下面のみが支持される。したがって、この間において、帯状ガラス１０は、上面から押さえつけられず、その表面が傷つくことがない。
【００３５】
また、図８（ａ）に示すように、傾斜した状態にある帯状ガラス１０にレーザ光１７を照射し、さらに冷媒１８を噴射して形成されたスクライブライン１１は、ガラスの表面に垂直とはならない。表面から斜行して内部へと進むスクライブライン１１で帯状ガラス１０を分断して形成されたガラス板１００の端面は、平坦にならず、屈曲した形状となる。スクライブライン１１で分断する応力は、ガラスの表面に垂直に加わるため（図８（ｂ）参照）、クラックが途中で屈曲しながら伸長するためである。これに対し、本実施形態では、スクライブ位置と分断位置とは十分に離間しているため、分断位置における移動に伴ってスクライブ位置における帯状ガラス１０が上方に持ち上げられて傾斜することがない。すなわち、帯状ガラス１０が分断位置において搬送高さ６０ａから上方へと移動を始めて分断高さ６０ｂで分断されて搬送高さ６０ａへと戻るまでの期間にわたって、スクライブ位置において帯状ガラスが基準搬送面に沿った状態が維持されるため、スクライブ位置における帯状ガラス１０が、レーザ光１７照射時および冷媒１８噴射時において確実に水平となる（図９（ａ））。したがって、ガラスの表面に垂直なスクライブライン１１を形成することが容易となり、ガラス板１００の端面を平坦とし易くなる（図９（ｂ））。このように、本実施形態によれば、ガラス板１００の端面の品質が確保され易い。
【００３６】
なお、帯状ガラス１０の厚さは、特に制限されないが、例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍである。特に、０．１ｍｍ〜１．１ｍｍの厚さの場合には、振動がガラスの切断面に及ぼす影響が大きくなるため、本発明を適用することによる効果も大きくなる。
【００３７】
スクライブ位置と分断位置との間隔は特に制限されないが、例えば２ｍ〜１０ｍであり、また例えば２ｍ〜５ｍである。
【００３８】
スクライブライン１１を帯状ガラス１０を横断する方向（幅方向４１）へと形成する場合には、ヘッド５１の移動速度を高く設定する必要がある。したがって、振動がスクライブライン１１の形成に及ぼす影響が大きくなるため、スクライブライン１１をスクライブ位置と分断位置との間に介在させる効果が大きくなる。
【００３９】
（参考実施形態Ａ１）
ところで、特許文献Ｘ（特表２０１０−５２６０１４号公報）に開示されている装置は、帯状ガラスの搬送経路を横断するように取り付けられた直線スライド部材に沿って移動するキャリッジ（ヘッド）を備えている。このヘッドは、帯状ガラスを横断しながら、帯状ガラスへとレーザ光を照射し、レーザ光が照射された領域に引き続き冷媒を供給する。こうして、帯状ガラスの幅方向に沿ってスクライブラインが形成される。
【００４０】
特許文献Ｘの直線スライド部材では、直線スライド部材が延びる方向が、帯状ガラスの幅方向との間に所定の角度θ（角度α）を形成する方向に設定されている。角度θは、スクライブラインが帯状ガラスの幅方向に延びるように（ヘッドの移動速度Ｖhにおける帯状ガラスの搬送方向成分Ｖhxと帯状ガラスの搬送速度Ｖgとが一致するように）、帯状ガラスの搬送速度Ｖgおよびヘッドの移動速度Ｖhとともに調整される。
【００４１】
採板されるガラス板の用途は多岐にわたり、各ユーザーからは各用途に応じた各厚さのガラス板を提供することが要求される。製造ラインへの設備投資を抑えつつ上記要求に応える観点からは、各厚さのガラス板を単一の切断装置により採板することが好ましい。しかし、単一の切断装置により各厚さの帯状ガラスにスクライブラインを形成することは必ずしも容易ではない。
【００４２】
本発明者らの検討によると、レーザ光により帯状ガラスに与えるべき熱量は、帯状ガラスの厚さによって異なる。したがって、単一の切断装置によって各厚さの帯状ガラスにスクライブラインを形成するには、厚さに応じた熱量を帯状ガラスに与えるための調整を要する。帯状ガラスに与える熱量を調整するためには、レーザ光の出力を調整することが考えられる。しかし、本発明者らの検討によると、レーザ光の出力の調整のみでは各厚さの帯状ガラスにスクライブラインを形成することは難しい。
【００４３】
次に、本発明者らは、ヘッドの移動速度Ｖhにおける帯状ガラスの幅方向成分Ｖhyの調整により、帯状ガラスに与える熱量を調整することを検討した。そして、検討の結果、幅方向成分Ｖhyには、スクライブラインの形成に適した範囲が存在すること、および、この範囲は帯状ガラスの厚さによって異なることを見出した。この見地からは、角度θおよびヘッドの移動速度Ｖhを帯状ガラスの厚さ毎に調整することが考えられる。しかし、このような調整、特に角度θの調整は煩雑である。特に、フロート法が採用された製造ラインにおいては、切断の対象となる帯状ガラスの厚さの範囲が広く、煩雑さが顕著になる。
【００４４】
以上の事情を鑑み、本発明者らは、設定可能な角度θの数が２つ以下に制限された簡易な構成によって、各厚さの帯状ガラスにスクライブラインを形成できる、切断方法を開示する。
【００４５】
以下、参考実施形態Ａ１について図面を参照しながら説明する。なお、以下では同じ部材には各図面において同じ符号を付し、説明の重複を避けることがある。
【００４６】
図１０は、ガラス成形装置から搬出され、水平方向に搬送される帯状ガラス（ガラスリボン）１１０を上方から観察した状態を示している。帯状ガラス１１０は、搬送方向１４０の上流側（図１０に示す領域よりも上流側）に設置されたガラス成形装置（図示省略）において所定の厚さへと成形され、搬送方向１４０に一定の速度で搬送されている。
【００４７】
具体的に、帯状ガラス１１０はフロート法における帯状ガラスであり、フロートバスにおいて成形される。フロート法においては、帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖgは、成形されるべき帯状ガラス１１０の厚さに対応して決定される。本実施形態の対象となる帯状ガラス１１０の厚さの範囲は０．４ｍｍを跨ぐＴmin以上Ｔmax以下の範囲であり、例えば０．２８〜１．１ｍｍである。
【００４８】
また、本実施形態の帯状ガラス１１０はソーダライムガラスであり、質量％により表示して下記の範囲の各成分を有する。
【００４９】
ＳｉＯ2：６５〜８０％
Ａｌ2Ｏ3：０〜５％
ＭｇＯ：１〜１０％
ＣａＯ：５〜１５％
Ｎａ2Ｏ：１０〜１８％
Ｋ2Ｏ：０〜５％
Ｂ2Ｏ3：０〜５％
ＭｇＯ＋ＣａＯ：６〜１５％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１０〜２０％
【００５０】
帯状ガラス１１０の搬送は、帯状ガラス１１０を下方から支持する搬送ローラ１２１によって行われる。なお、帯状ガラス１１０が薄い場合には搬送ローラ１２１のピッチを細かくすることが好ましい。また、搬送ローラ１２１に代えて搬送ベルトを用いてもよい。
【００５１】
帯状ガラス１１０には、その上方を横断するスクライブライン形成ヘッド（以下、単に「ヘッド」という）１５１またはスクライブライン形成ヘッド（以下、単に「ヘッド」という）２５１によってスクライブライン１１１が形成される。スクライブライン１１１は、搬送方向１４０と直交する帯状ガラス１１０の幅方向１４１に平行に伸び、かつ搬送方向１４０について所定の間隔が保たれるように形成される。帯状ガラス１１０は、搬送方向１４０の下流側に配置された分断装置（移動ローラ１２５）によりスクライブライン１１１において分割され、ガラス板２００となる。
【００５２】
帯状ガラス１１０の幅方向１４１に平行なスクライブライン１１１を形成するために、ヘッド１５１およびヘッド２５１は幅方向１４１に対して斜行して走行する。ヘッド１５１の斜行走行方向１４２と幅方向１４１とは、帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖgおよびヘッド１５１の走行速度Ｖh1に依存して定まる角度θ１を形成し、斜行走行方向２４２と幅方向１４１とは、帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖgおよびヘッド２５１の走行速度Ｖh2に依存して定まる角度θ２を形成する。斜行走行方向１４２は厚さがＴminである帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成できるように定められた方向であり、斜行走行方向２４２はθ２がθ１未満となるように定められた方向である。本実施形態では、斜行走行方向１４２および斜行走行方向２４２は、横断方向設定ステップによって設定される（後述）。
【００５３】
ヘッド１５１は、斜行走行方向１４２に平行に帯状ガラス１１０の上方を横断するガイド（図示省略）に導かれて一定の速度で走行し、ヘッド２５１は、斜行走行方向２４２に平行に帯状ガラス１１０の上方を横断するガイド（図示省略）に導かれて一定の速度で走行する。便宜上、ヘッド１５１が走行するラインをヘッド走行ライン１５０として、ヘッド２５１が走行するラインをヘッド走行ライン２５０として、それぞれ図１０に示す。ヘッド１５１および対応するガイドは、クラック伸長装置を構成する。ヘッド２５１および対応するガイドもまた、クラック伸長装置を構成する。なお、本実施形態では、クラック伸長装置が２つ存在するが、クラック伸長装置の数は１つであってもよい。クラック伸長装置の数を１つとする場合、例えば、ガイドの一端を軸に旋回可能に設けることにより、ヘッドの斜行走行方向を、斜行走行方向１４２と斜行走行方向２４２とから選択的に設定可能とすればよい。
【００５４】
ヘッド走行ライン１５０に沿った図１０の断面図を図１１として、図１１の部分拡大図を図１２として示す（ヘッド走行ライン２５０に沿った図１０の断面図も同様）。ヘッド１５１およびヘッド２５１は、レーザ光を帯状ガラス１１０に集光させるための光学システム１７０と、冷媒を噴射して帯状ガラス１１０を局部的に冷却するための噴射ノズル１８０とを備えている。ヘッド１５１およびヘッド２５１は、帯状ガラス１１０に初期クラックを形成するクラック形成装置であるカッター１１９をさらに備えている。
【００５５】
カッター１１９は、典型的にはホイールカッターであるが、帯状ガラス１１０に伸長可能なクラックを形成できる限り、その種類に特段の制限はない。カッター１１９は、スクライブライン１１１の起点となる初期クラックを帯状ガラス１１０に形成する役割を担う。初期クラックは、帯状ガラス１１０の端部（図１０に示した帯状ガラス１１０の場合には図示右側端部）またはその近傍に形成される。
【００５６】
カッター１１９は、初期クラックの形成時には図示を省略するカッター押圧装置により、帯状ガラス１１０の表面（上面）へと押圧される。ヘッド走行ライン１５０に沿う位置においては支持体１２２が、ヘッド走行ライン２５０に沿う位置においては支持体２２２が、それぞれ帯状ガラス１１０を支持しているため、この押圧によりカッター１１９から帯状ガラス１１０に反力が加わる。ただし、この押圧は初期クラックの形成後に解放され、その結果、図１２に示したように、カッター１１９は、典型的には帯状ガラス１１０に対して非接触となる。
【００５７】
スクライブライン１１１を形成するための初期クラックの伸長は、ヘッド１５１またはヘッド２５１から供給されるレーザ光１１７および冷媒１１８によって実施される。すなわち、クラックの端部に重複させて、レーザ光１１７による加熱と冷媒１１８による急冷とを引き続いて適用すると、クラック近傍のガラス表面に引っ張り応力が発生し、この引っ張り応力によりクラックが伸長する。ヘッド１５１は、クラックを伸長させながらヘッド走行ライン１５０上を（図示した形態では図示左方へと）進んでいき、ヘッド２５１も、ヘッド１５１と同様にして、クラックを伸長させながらヘッド走行ライン２５０上を進んでいく（クラック伸長ステップ）。なお、本実施形態では、初期クラックが伸長して形成されたクラックであって、ガラス分断ステップにおいて該クラックに沿って帯状ガラス１１０を分断可能なクラックをスクライブライン１１１と呼ぶ。
【００５８】
図１３に示すように、ヘッド１５１の走行に伴い、帯状ガラス１１０において、光学システム１７０を経由してレーザ光１１７が照射される被照射領域１２７、噴射ノズル１８０から冷媒１１８が供給される被冷却領域１２８は、この順にヘッド走行ライン１５０上を進んでいく。換言すれば、被冷却領域１２８は被照射領域１２７に追随しながら、これらの領域はヘッド走行ライン１５０上を進行する。ヘッド１５１は、被照射領域１２７を形成するレーザ光集光装置（光学システム１７０）、および被冷却領域１２８を形成する冷却装置（噴射ノズル１８０）を、各装置の相対的な位置関係を保持したまま、移動させる役割を担う。ヘッド２５１が担う役割も同様である。
【００５９】
図１２に戻って、レーザ光の照射システムおよび冷媒の供給システムについて簡単に説明しておく。ただし、これらのシステムは既に公知のものを特に制限なく使用できる。レーザ光１１７は、レーザ光発生装置１７１からレーザビーム拡大装置１７２およびヘッド１５１（ヘッド２５１）内の集光装置（光学システム１７０）を経由して帯状ガラス１１０の被照射領域１２７へと集光される。光学システム１７０は、ミラーその他の光学素子１７３，１７４，１７５により構成されている。レーザ光１１７としては、ＣＯ2レーザ、ＹＡＧレーザなどを使用できる。冷媒１１８は、図示を省略する冷媒供給装置からヘッド１５１（ヘッド２５１）に備え付けられた噴射ノズル１８０を経由して、被冷却領域１２８へと供給される。冷媒としては、例えば空気、窒素、ヘリウム、水を使用すればよい。
【００６０】
なお、レーザ光の出力は特に限定されないが、典型的には３０Ｗ以上６０Ｗ以下である。レーザ光の出力が過度に大きい場合には、帯状ガラス１１０が完全に分断されたり、意図しないクラック（例えば、所望の方向以外の方向に伸長するクラック）が生じたりすることがある。一方、過度に小さい場合には初期クラックの伸長が難しくなる。
【００６１】
被照射領域１２７の長さは、例えば、１５ｍｍ以上３０ｍｍ以下である。また、被照射領域１２７の幅は、例えば、０．１ｍｍ以上３．０ｍｍ以下である。
【００６２】
スクライブライン１１１が形成された帯状ガラス１１０は、搬送方向１４０の下流側でスクライブライン１１１に沿って分断される（ガラス分断ステップ）。図１４（ａ）（ｂ）に示すように、帯状ガラス１１０のスクライブライン１１１が近づいてくると、移動ローラ１２５は帯状ガラス１１０をその厚さ方向に持ち上げる。持ち上げられた帯状ガラス１１０の自重により生じた応力によってスクライブライン１１１を構成するクラックが伸長して帯状ガラス１１０が割断される。より具体的に述べると、ガラス分断装置である移動ローラ１２５は、移動ローラ１２５と接している部分の変位量が最大となるように帯状ガラス１１０を持ち上げ、スクライブライン１１１での分断を進行させる。図１４（ｃ）に示すように、分断が完了した後、移動ローラ１２５は下方へと引き下がって次の分断に備える。
【００６３】
スクライブライン１１１に応力が加わるように、移動ローラ１２５は、スクライブライン１１１を跨ぐ上流側（図示左方）および下流側（図示右方）の両方において、帯状ガラス１１０をその裏面を支持しながら上方へと持ち上げる（図１４（ｂ））。その後の移動ローラ１２５の下降に伴い、一旦上方へと移動した帯状ガラス１１０の下流端１１０ｅは下方へと戻ることになる（図１４（ｃ））。
【００６４】
なお、本実施形態では、自重により生じた応力によりスクライブライン１１１での分断を進行させているが、移動ローラ１２５の上昇時に、移動ローラ１２５の搬送方向１４０上流側または下流側において帯状ガラス１１０の表面を上方から押さえつけることにより分断を進行させてもよい。このようにすれば、薄く、軽い帯状ガラス１１０を分断する場合であっても、分断に要する応力を確保し易い。
【００６５】
本実施形態では、クラック伸長ステップにおいて、帯状ガラス１１０の厚さが０．４ｍｍ未満である場合には、斜行走行方向１４２（第１横断方向）に移動するヘッド１５１（クラック伸長装置）から帯状ガラス１１０にレーザ光および冷媒を供給し、帯状ガラス１１０の厚さが０．４ｍｍ以上である場合には、斜行走行方向２４２（第２横断方向）に移動するヘッド２５１（クラック伸長装置）から帯状ガラス１１０にレーザ光および冷媒を供給して帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する。その後、ガラス分断ステップにおいて、スクライブライン１１１に沿って帯状ガラス１１０を分断する。また、本実施形態では、斜行走行方向１４２および斜行走行方向２４２は、クラック伸長ステップの前に実施される横断方向設定ステップにおいて設定される。以下、横断方向設定ステップについて具体的に説明する。
【００６６】
横断方向設定ステップは、特定サブステップＡ１、特定サブステップＢ１、決定サブステップＣ１および決定サブステップＣ２を具備している。本実施形態では、これらのサブステップはこの順で実施される。ただし、特定サブステップＡ１は特定サブステップＢ１の後に実施されてもよい。
【００６７】
特定サブステップＡ１では、厚さがＴminの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成可能なヘッド１５１の移動速度Ｖh1の幅方向成分Ｖhy1の上限値Ｖhy1MAXを特定する。特定サブステップＡ１は、例えば、レーザ光を厚さがＴminの板状ガラスに対して相対速度ＶR1で相対的に移動させながら該レーザ光を該板状ガラスに照射して、該板状ガラスにスクライブラインを形成するオフライン実験において、該スクライブラインを形成可能な相対速度ＶR1の上限値を測定することにより実施してもよい。
【００６８】
特定サブステップＢ１では、厚さがＴminの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成可能なヘッド１５１の移動速度Ｖh1の幅方向成分Ｖhy1の下限値Ｖhy1MINを特定する。特定サブステップＡ１と同様、特定サブステップＢ１は、例えば、レーザ光を厚さがＴminの板状ガラスに対して相対速度ＶR1で相対的に移動させながら該レーザ光を該板状ガラスに照射して、該板状ガラスにスクライブラインを形成するオフライン実験において、該スクライブラインを形成可能な相対速度ＶR1の下限値を測定することにより実施してもよい。
【００６９】
決定サブステップＣ１では、厚さがＴminの帯状ガラスの搬送速度Ｖg1、上限値Ｖhy1MAXおよび下限値Ｖhy1MINから、ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX）｝≦θ１≦ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MIN）｝を満たすように、角度θ１を決定する。本実施形態では、フロート法により帯状ガラス１１０を成形しているため、厚さがＴminの帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖg1は厚さＴminに対応して決定される。
【００７０】
さらに、本実施形態では、θ１を、ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX）｝≦θ１≦ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX×Ｋ）｝を満たす範囲内の値に決定する。ここで、Ｋは、例えば０．６，０．７，０．８または０．９である。
【００７１】
決定サブステップＣ２では、θ２＜ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX）｝を満たすように、角度θ２を決定する。
【００７２】
なお、決定サブステップＣ２では、θ２が過小となることが防止されるように、θ２が決定されることが好ましい。このために、例えば、レーザ光を厚さが０．４ｍｍの板状ガラスに対して相対速度ＶR2で相対的に移動させながら該レーザ光を該板状ガラスに照射して、該板状ガラスにスクライブラインを形成するオフライン実験において、該スクライブラインを形成可能な相対速度ＶR2の上限値を測定し、厚さが０．４ｍｍの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成可能なヘッド２５１の移動速度Ｖh2の幅方向成分Ｖhy2の上限値Ｖhy2MAXを特定し、厚さが０．４ｍｍの帯状ガラスの搬送速度Ｖg2、上限値Ｖhy2MAXから、θ２≧ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg2）／（Ｖhy2MAX）｝を満たすように、角度θ２を決定してもよい。
【００７３】
各厚さの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成可能とするためには、幅方向１４１と斜行走行方向との間の角度θを、各下限値以上かつ各上限値以下とする必要がある。後述の検討により把握されるように、厚さがＴminの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１が形成され得るように角度θを設定すれば、厚さがＴmin〜Ｔmaxの帯状ガラスにスクライブライン１１１を形成できる。すなわち、本実施形態の切断方法によれば、単一の切断装置によって各厚さの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を確実に形成できる。
【００７４】
ところで、スクライブライン１１１が形成された帯状ガラス１１０は、搬送に伴う振動によって、ガラス分断ステップが実施される前に自然に分断されることがある。これを防止する観点からは、スクライブライン１１１を過度に深く形成することを避けること、換言すると、ヘッド１５１の移動速度Ｖh1の幅方向成分Ｖhy1を高めに設定できるように角度θ１を低めに設定することが好ましい。すなわち、θ１を、ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX）｝≦θ１≦ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX×Ｋ）｝を満たす範囲内の値に決定することは、上記の観点から有利である。なお、θ１を小さく設定することは、装置の設計自由度が低下する事態を招き難い（例えば、搬送ローラ１２１のピッチを狭くし易い）点でも有利である。
【００７５】
また、カッターを用いて帯状ガラスを切断する場合はカッターの移動速度における帯状ガラスの幅方向成分がスクライブラインの形成に及ぼす影響は限定的であるため、カッターを用いた帯状ガラスの切断においては、装置の設計自由度を高める観点から、角度θが小さく設定されていることが多い。この点を考慮すると、角度θ１を低めに設定することは、カッターを用いて帯状ガラスを切断する切断装置をレーザ光を用いて帯状ガラスを切断するように改造して利用する場合に設計変更を要する箇所を少なくできる点で有利である。
【００７６】
本実施形態では、厚さが０．４ｍｍ以上の場合の角度θの下限値が厚さが０．４ｍｍ未満の場合の角度θの下限値よりも小さいこと（詳細は後述）を考慮して、厚さが０．４ｍｍ以上の場合の角度θとして設定する角度θ２を、厚さが０．４ｍｍ未満の場合の角度θとして設定する角度θ１が採り得る最小値よりも小さく設定している。このこともまた、帯状ガラス１１０の自然分断の防止という上記の観点に適合している。
【００７７】
（参考実施形態Ａ２）
図１５は、図１０と同様、図示を省略するガラス成形装置から搬出され、水平方向に搬送される帯状ガラス（ガラスリボン）１１０を上方から観察した状態を示している。各部材は図１０を参照して上記で既に説明したので、ここでは説明を省略する。
【００７８】
図１５に示すように、参考実施形態Ａ２では、クラック伸長装置として、ヘッド１５１を有するクラック伸長装置のみが存在する。すなわち、斜行走行方向（横断方向）が、斜行走行方向１４２のみである。斜行走行方向１４２は、参考実施形態Ａ１で説明した特定サブステップＡ１、特定サブステップＢ１および決定サブステップＣ１により決定される。
【００７９】
本実施形態によれば、各厚さの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を確実に形成できる。また、本実施形態では、クラック伸長装置として、ヘッド１５１を有するクラック伸長装置のみが存在するため、参考実施形態Ａ１よりも装置の設計自由度の観点から有利である。本実施形態は、帯状ガラスの振動が少なく、自然分断のおそれが小さい場合に特に好適である。
【００８０】
以下、帯状ガラス１１０の厚さと、幅方向成分Ｖhyの上限値および下限値との関係を確認するために行った実験について、図１６を参照しながら説明する。
【００８１】
（実験Ａ１）
板状ガラス４１０として、厚さ０．２８ｍｍ、短辺長１００ｍｍ、長辺長２００ｍｍの寸法を有し、質量％により表示して下記の各成分を有するソーダライムガラス板を準備した。
【００８２】
ＳｉＯ2：７１．９％
Ａｌ2Ｏ3：１．７％
ＭｇＯ：４．０％
ＣａＯ：８．０％
Ｎａ2Ｏ：１３．５％
Ｋ2Ｏ：０．９％
【００８３】
板状ガラス４１０の長辺に沿う方向が搬送用テーブル４９０の搬送方向４４２に一致するように、板状ガラス４１０を搬送用テーブル４９０に固定した。
【００８４】
搬送用テーブル４９０を静止させた状態で、板状ガラス４１０に初期クラック４６１を形成した。具体的には、板状ガラス４１０の一方の短辺４１０ａ上の一点を始端とし、短辺４１０ｂに向かって延びる、長さが１０ｍｍの初期クラック４６１を形成した。初期クラック４６１は、焼結ダイヤモンドカッターホイール（外径φ２．５ｍｍ、厚み１．０ｍｍ、内径φ１．１ｍｍ、刃先角度１３５度）を用いて形成した。
【００８５】
次に、搬送用テーブル４９０を移動させながら、板状ガラス４１０にレーザ光を照射し、さらに水（冷媒）を噴射した。具体的には、まず、被照射領域４２７および被冷却領域４２８が短辺４１０ａよりも搬送方向４４２前方の位置に初期設定され、初期クラック４６１の長軸と被照射領域４２７の長軸とが一致して両長軸に間隔が形成されないように搬送テーブル４９０の位置を初期設定した。次に、被照射領域４２７が長さ２４ｍｍ、幅１ｍｍの寸法を有し、被冷却領域４２８が被照射領域４２７の長さ方向の一端に接するようにレーザ光集光装置および冷却装置を調整した（図１６（ａ））。次に、被照射領域４２７および被冷却領域４２８の位置が固定された状態を維持しつつ、これらの位置が短辺４１０ｂの搬送方向４４２下流側となるまで搬送テーブル４９０を搬送方向４４２に１２０ｍｍ／ｓの速度で移動させた（図１６（ｂ）（ｃ））。このときに形成されたスクライブライン（クラック４６２）の深さを調べた。
【００８６】
具体的に、ＣＯ2レーザ発振器（ＵＮＩＶＥＲＳＡＬ  ＬＡＳＥＲ  ＳＹＳＴＥＭＳ製  ＵＬＣ−１００）から出力された３０Ｗのレーザ光を、２枚のアキシコンレンズ、シリンドリカルレンズおよびミラーを用いて屈折および反射させて被照射領域４２７を設定した。また、ノズル（エバーロイ製  ミニミスト０４−１０−１３）から噴射量１．５ｍｌ／ｍｉｎの水を噴射することにより被冷却領域４２８を設定した。
【００８７】
次に、搬送テーブル４９０の移動速度を順次変更して、同様の実験を繰り返し行った。また、レーザ光の出力を順次変更して、同様の実験（実験Ａ１）を行った。実験Ａ１の結果を表１に示す。なお、表１中の、移動速度および出力以外の数値は、形成されたスクライブラインを構成するクラック（垂直クラック）４６２の深さ（μｍ）を示す（例えば、表１は、搬送テーブル４９０の移動速度が２１６ｍｍ／ｓ、レーザ光の出力が３０Ｗのときに、深さが７０μｍのスクライブラインが形成されたことを示す）。また、Ｆは板状ガラス４１０が完全に分断されたことを、Ｎは初期クラック４６１が全く伸長しなかったことを、それぞれ示す。
【００８８】
【表１】
2014001130.tif 000003
【００８９】
（実験Ａ２）
厚さが０．３３ｍｍの板状ガラス４１０を用いて、同様の実験（実験Ａ２）を行った。実験Ａ２の結果を表２に示す。
【００９０】
【表２】
2014001130.tif 000004
【００９１】
（実験Ａ３）
厚さが０．４ｍｍの板状ガラス４１０を用いて、同様の実験（実験Ａ３）を行った。実験Ａ３の結果を表３に示す。
【００９２】
【表３】
2014001130.tif 000005
（実験Ａ４）
厚さが０．７ｍｍの板状ガラス４１０を用いて、同様の実験（実験Ａ４）を行った。実験Ａ４の結果を表４に示す。
【００９３】
【表４】
2014001130.tif 000006
（実験Ａ５）
厚さが１．１ｍｍの板状ガラス４１０を用いて、同様の実験（実験Ａ５）を行った。実験Ａ５の結果を表５に示す。
【００９４】
【表５】
2014001130.tif 000007
【００９５】
実験Ａ１〜Ａ５の結果には、スクライブラインが形成される場合の搬送テーブル４９０の移動速度には最小値および最大値が存在することが表れている。最小値が存在するのは、搬送テーブル４９０の移動速度が過度に遅い場合には、板状ガラス４１０に供給される単位面積当たりの熱量が過大となり、板状ガラスが完全に分断されたり、意図しないクラック（例えば、所望の方向以外の方向に伸長するクラック）が生じたりするためである。一方、最大値が存在するのは、搬送テーブル４９０の移動速度が過度に速い場合には、板状ガラス４１０に供給される単位面積当たりの熱量が過小となり、スクライブラインの伸長に必要な応力が生じないためである。
【００９６】
また、実験Ａ１〜Ａ５の結果から、スクライブラインが形成されるための条件は、板状ガラス４１０の厚さによって異なることが把握される。表６および図１７に、板状ガラス４１０の厚さと、レーザ光の出力が３０〜６０Ｗのときのスクライブラインが形成された場合の搬送テーブル４９０の移動速度（最小値および最大値）との関係を示す。なお、図１７中の直線は、各厚さの板状ガラス４１０にスクライブラインが形成されたときの搬送テーブル４９０の移動速度を示す。
【００９７】
【表６】
2014001130.tif 000008
【００９８】
表６および図１７に示されるように、スクライブラインを形成可能な搬送テーブル４９０の移動速度の最大値は、板状ガラス４１０の厚さに対して単調増加または単調減少するわけではない。より詳細には、板状ガラス４１０の厚さが０．４ｍｍ以下の範囲においては、スクライブラインを形成可能な搬送テーブル４９０の移動速度の最大値は、板状ガラス４１０が厚くなると増加し、板状ガラス４１０の厚さが０．４ｍｍ以上の範囲においては、スクライブラインを形成可能な搬送テーブル４９０の移動速度の最大値は、板状ガラス４１０が厚くなると減少する。すなわち、スクライブラインを形成可能な搬送テーブル４９０の移動速度の最大値は、板状ガラス４１０の厚さが０．４ｍｍの場合にピークとなり、厚さが０．４ｍｍから離れるに従って低下する。
【００９９】
この現象は、下記のように説明される。すなわち、スクライブラインの形成には、ある程度の大きさの応力を板状ガラスに発生させる必要があり、このためには、板状ガラスの表面と裏面との間の温度変化率（℃／ｍｍ）がある程度高いことを要する。所定以上の厚さの範囲内で板状ガラスの厚さを変更して各厚さの板状ガラスに所定のレーザ光を照射しても、各厚さの板状ガラスで表面温度および裏面温度に大きな相違は生じない（すなわち、各厚さの板状ガラスで表面−裏面間の温度差に大きな相違は生じない）。したがって、板状ガラスが厚くなる程、表面−裏面間の温度変化率（℃／ｍｍ）が小さくなり、スクライブラインが形成され難くなる。厚さの範囲が０．４ｍｍ以上の板状ガラスにおいては、この影響が支配的に現れているものと考えられる。一方、所定以下の厚さを有する板状ガラスでは、板状ガラスの表面をレーザ光により加熱すると、表面の熱がすぐに裏面に到達する傾向にあり、この傾向は板状ガラスが薄くなる程顕著になる。すなわち、板状ガラスが薄くなる程、表面−裏面間の温度差が小さくなり、表面−裏面間の温度変化率（℃／ｍｍ）が小さくなり、スクライブラインが形成され難くなる。厚さの範囲が０．４ｍｍ以下の板状ガラスにおいては、この影響が支配的に現れているものと考えられる。
【０１００】
表６および図１７に示すように、厚さの範囲が０．４ｍｍ未満の板状ガラス４１０においては、一般的に、板状ガラス４１０が薄くなる程、スクライブライン１１１が形成される場合の搬送テーブル４９０の移動速度の最大値が低下する。一方、フロート法においては、形成すべき帯状ガラス１１０が薄くなる程、帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖg（すなわちヘッド１５１の移動速度Ｖhの搬送方向成分Ｖhx）を増大させる。これらの関係を考慮すると、厚さの範囲が０．４ｍｍ未満の帯状ガラス１１０においては、スクライブライン１１１が適切に形成される場合のヘッド１５１の移動速度Ｖhの幅方向成分Ｖhyの上限値ＶhyMAXに対する搬送速度Ｖgの比率（Ｖg／ＶhyMAX）およびこの比率の逆正接（θ＝ａｒｃｔａｎ（Ｖg／ＶhyMAX））が、帯状ガラス１１０が薄くなるにしたがって大きくなる（図１８参照）。すなわち、０．４ｍｍ未満の帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合における各幅方向成分Ｖhyの各上限値ＶhyMAXに基づいた角度θは、０．４ｍｍ未満の想定される最薄の帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合における幅方向成分Ｖhyの上限値ＶhyMAXに基づいた角度θ以下となる。したがって、フロート法により成形された帯状ガラス１１０のオンライン切断において、厚さの範囲が０．４ｍｍ未満の帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合は、帯状ガラス１１０の厚さが想定される最薄値のときに幅方向成分Ｖhyが上限値となる程度に角度θを小さく設定すれば、０．４ｍｍ未満の各厚さの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する際の各幅方向成分Ｖhyが確実に各上限値ＶhyMAX以内となることが把握される。さらに、図１８を考慮すると、このように設定された角度θ（≒θ１MIN程度）によれば、厚さが０．４ｍｍ以上の帯状ガラス１１０も含めた各厚さの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を確実に形成できることが分かる。
【０１０１】
また、表６および図１７に示すように、板状ガラス４１０においては、一般的に、板状ガラス４１０が薄くなる程、スクライブライン１１１が形成される場合の搬送テーブル４９０の移動速度の最小値が増大する。一方、フロート法においては、形成すべき帯状ガラス１１０が薄くなる程、帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖgを増大させる。これらの関係を考慮すると、帯状ガラス１１０においては、スクライブライン１１１が適切に形成される場合のヘッド１５１の移動速度Ｖhの幅方向成分Ｖhyの下限値ＶhyMINに対する搬送速度Ｖgの比率（Ｖg／ＶhyMIN）およびこの比率の逆正接（θ＝ａｒｃｔａｎ（Ｖg／ＶhyMIN））が概ね一定となる。すなわち、帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合における幅方向成分Ｖhyの下限値ＶhyMINに基づいた角度（θ＝ａｒｃｔａｎ（Ｖg／ＶhyMIN））は、想定される最薄の帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合における幅方向成分Ｖhyの下限値ＶhyMINに基づいた角度θに概ね一致する。したがって、フロート法により成形された帯状ガラス１１０のオンライン切断において、帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合は、帯状ガラス１１０が想定される最薄の厚さを有する場合に幅方向成分Ｖhyが下限値となるように角度θを設定すれば、各厚さの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する際の各幅方向成分Ｖhyが概ね各下限値付近となることが把握される。さらに、形成すべき帯状ガラス１１０の厚さと帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖgとの関係を詳細に考慮すれば、このように設定された角度θ（≒θ１MAX程度）によれば、各幅方向成分Ｖhyが、各下限値ＶhyMIN以上かつ各下限値付近となることが把握される（図１８参照）。
【０１０２】
また、表６および図１７に示すように、厚さの範囲が０．４ｍｍ以上の板状ガラス４１０においては、板状ガラス４１０が厚くなる程、スクライブラインが形成される場合の搬送テーブル４９０の移動速度の最大値が低下する。一方、フロート法においては、一般的に、形成すべき帯状ガラス１１０が厚くなる程、帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖg（すなわちヘッド２５１の移動速度Ｖhの搬送方向成分Ｖhx）を低下させる。これらの関係を考慮すると、厚さの範囲が０．４ｍｍ以上の帯状ガラス１１０においては、スクライブライン１１１が適切に形成される場合のヘッド１５１の移動速度Ｖhの幅方向成分Ｖhyの上限値ＶhyMAXに対する搬送速度Ｖgの比率（Ｖg／ＶhyMAX）が、帯状ガラス１１０が厚くなっても概ね一定となる。すなわち、０．４ｍｍ超の帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合における幅方向成分Ｖhyの上限値ＶhyMAXに基づいた角度（θ＝ａｒｃｔａｎ（Ｖg／ＶhyMAX））は、０．４ｍｍの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合における幅方向成分Ｖhyの上限値ＶhyMAXに基づいた角度θに概ね一致する。したがって、フロート法により成形された帯状ガラス１１０のオンライン切断において、厚さの範囲が０．４ｍｍ以上の帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する場合は、帯状ガラス１１０が０．４ｍｍのときに幅方向成分Ｖhyが上限値となるように角度θを設定すれば、０．４ｍｍ以上の各厚さの帯状ガラス１１０にスクライブライン１１１を形成する際の各幅方向成分Ｖhyが概ね各上限値付近となることが把握される。さらに、形成すべき帯状ガラス１１０の厚さと帯状ガラス１１０の搬送速度Ｖgとの関係を詳細に考慮すれば、このように設定された角度θ（≒θ２MIN程度）によれば、各幅方向成分Ｖhyが、各上限値ＶhyMAX以内かつ各上限値付近となることが把握される（図１８参照）。
【０１０３】
参考実施形態Ａ１およびＡ２を併せて参照することにより、下記の発明を導くことができる。
【０１０４】
（参考発明Ａ１）
フロートバスから搬出され、所定の搬送方向へと搬送され、想定される厚さの最大値がＴmaxであり、最小値がＴminであり、Ｔmin＜０．４ｍｍ＜Ｔmaxである帯状ガラスを、前記帯状ガラスを横断しながら前記帯状ガラスにレーザ光および冷媒を供給して前記帯状ガラスに前記搬送方向に直交する幅方向に延びるスクライブラインを形成するクラック伸長装置を用いて切断する、帯状ガラスの切断方法であって、
前記帯状ガラスの厚さが０．４ｍｍ未満である場合に前記クラック伸長装置が移動するべき第１横断方向であって、前記帯状ガラスを横断し、前記幅方向との間に角度θ１を形成する第１横断方向と、前記帯状ガラスの厚さが０．４ｍｍ以上である場合に前記クラック伸長装置が移動するべき第２横断方向であって、前記帯状ガラスを横断し、前記幅方向との間に角度θ１未満である角度θ２を形成する第２横断方向と、を設定する横断方向設定ステップと、
前記帯状ガラスの厚さが０．４ｍｍ未満である場合には前記第１横断方向に移動し、前記帯状ガラスの厚さが０．４ｍｍ以上である場合には前記第２横断方向に移動する、前記クラック伸長装置から前記帯状ガラスに前記レーザ光および前記冷媒を供給して前記スクライブラインを形成する、クラック伸長ステップと、
前記スクライブラインに沿って前記帯状ガラスを分断するガラス分断ステップと、を具備し、
前記横断方向設定ステップは、
厚さがＴminの前記帯状ガラスに前記スクライブラインを形成可能な前記クラック伸長装置の移動速度の前記幅方向成分の上限値Ｖhy1MAXを特定する特定サブステップＡ１と、
厚さがＴminの前記帯状ガラスに前記スクライブラインを形成可能な前記クラック伸長装置の移動速度の前記幅方向成分の下限値Ｖhy1MINを特定する特定サブステップＢ１と、
厚さがＴminの前記帯状ガラスの搬送速度Ｖg1、上限値Ｖhy1MAXおよび下限値Ｖhy1MINから、ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX）｝≦θ１≦ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MIN）｝を満たすように、前記角度θ１を決定する決定サブステップＣ１と、
θ２＜ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX）｝を満たすように、前記角度θ２を決定する決定サブステップＣ２と、を具備する、
帯状ガラスの切断方法。
【０１０５】
（参考発明Ａ２）
フロートバスから搬出され、所定の搬送方向へと搬送され、想定される厚さの最大値がＴmaxであり、最小値がＴminであり、Ｔmin＜０．４ｍｍ＜Ｔmaxである帯状ガラスを、前記帯状ガラスを横断しながら前記帯状ガラスにレーザ光および冷媒を供給して前記帯状ガラスに前記搬送方向に直交する幅方向に延びるスクライブラインを形成するクラック伸長装置を用いて切断する、帯状ガラスの切断方法であって、
前記クラック伸長装置が移動するべき横断方向であって、前記帯状ガラスを横断し、前記幅方向との間に角度θ１を形成する横断方向を設定する横断方向設定ステップと、
前記横断方向に移動する前記クラック伸長装置から前記帯状ガラスに前記レーザ光および前記冷媒を供給して前記スクライブラインを形成する、クラック伸長ステップと、
前記スクライブラインに沿って前記帯状ガラスを分断するガラス分断ステップと、を具備し、
前記横断方向設定ステップは、
厚さがＴminの前記帯状ガラスに前記スクライブラインを形成可能な前記クラック伸長装置の移動速度の前記幅方向成分の上限値Ｖhy1MAXを特定する特定サブステップＡ１と、
厚さがＴminの前記帯状ガラスに前記スクライブラインを形成可能な前記クラック伸長装置の移動速度の前記幅方向成分の下限値Ｖhy1MINを特定する特定サブステップＢ１と、
厚さがＴminの前記帯状ガラスの搬送速度Ｖg1、上限値Ｖhy1MAXおよび下限値Ｖhy1MINから、ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX）｝≦θ１≦ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MIN）｝を満たすように、前記角度θ１を決定する決定サブステップＣ１と、を具備する、
帯状ガラスの切断方法。
【０１０６】
（参考発明Ａ３）
参考発明Ａ１またはＡ２に加え、前記決定サブステップＣ１において、ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX）｝≦θ１≦ａｒｃｔａｎ｛（Ｖg1）／（Ｖhy1MAX×０．６）｝を満たすように、角度θ１を決定する帯状ガラスの切断方法。
【０１０７】
（参考発明Ａ４）
参考発明Ａ１〜Ａ３のいずれか１つに加え、レーザ光を厚さがＴminの板状ガラスに対して相対速度ＶR1で相対的に移動させながら該レーザ光を該板状ガラスに照射して、該板状ガラスにスクライブラインを形成するオフライン実験において、該スクライブラインを形成可能な相対速度ＶR1の上限値を測定することにより、前記特定サブステップＡ１を実施する帯状ガラスの切断方法。
【０１０８】
（参考発明Ａ５）
参考発明Ａ１〜Ａ４のいずれか１つに加え、前記クラック伸長ステップにおいて照射する前記レーザ光の出力は、３０Ｗ以上６０Ｗ以下である帯状ガラスの切断方法。
【０１０９】
（参考発明Ａ６）
参考発明Ａ１〜Ａ５のいずれか１つに加え、前記クラック伸長ステップにおいて、前記帯状ガラスにおける前記レーザ光が照射される領域である被照射領域の長さが１５ｍｍ以上３０ｍｍ以下となり、前記被照射領域の幅が０．１ｍｍ以上３．０ｍｍ以下となるように、前記レーザ光を照射する帯状ガラスの切断方法。
【０１１０】
（参考発明Ａ７）
参考発明Ａ１〜Ａ６のいずれか１つに加え、Ｔminは０．２８ｍｍであり、Ｔmaxは１．１ｍｍである帯状ガラスの切断方法。
【０１１１】
（参考発明Ａ８）
参考発明Ａ１〜Ａ７のいずれか１つに加え、前記帯状ガラスは、ソーダライムガラスである帯状ガラスの切断方法。
【０１１２】
（参考発明Ａ９）
参考発明Ａ８に加え、質量％により表示して、前記帯状ガラスは、
ＳｉＯ2：６５〜８０％
Ａｌ2Ｏ3：０〜５％
ＭｇＯ：１〜１０％
ＣａＯ：５〜１５％
Ｎａ2Ｏ：１０〜１８％
Ｋ2Ｏ：０〜５％
Ｂ2Ｏ3：０〜５％
ＭｇＯ＋ＣａＯ：６〜１５％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１０〜２０％
の成分を有する帯状ガラスの切断方法。
【０１１３】
（参考実施形態Ｂ１）
特許文献Ｘの直線スライド部材では、スクライブラインが帯状ガラスの幅方向に延びるように、ヘッドの移動速度が、帯状ガラスの搬送速度およびヘッドの移動方向とともに設定されている。
【０１１４】
ところで、冷媒を噴射するための噴射ノズルの外周壁は、所定の厚さを有している。このため、噴射ノズルの開口を帯状ガラスの表面に垂直な方向に向けて冷媒を噴射すると、被冷却領域が被照射領域からこの厚さ分程度離間し、帯状ガラスに十分な引っ張り応力が発生せず、スクライブラインの形成が困難となることがある。この点を考慮して、冷媒を帯状ガラスの厚さ方向から傾斜した方向に噴射することが行われている。
【０１１５】
帯状ガラスの厚さ方向の位置が帯状ガラスの振動等により変動した場合に、スクライブラインが形成されないことがある。
【０１１６】
本発明者らの検討によれば、ヘッドの移動速度における帯状ガラスの幅方向成分（すなわち、帯状ガラスとヘッドの相対速度ＶR）には、スクライブラインの形成に適した範囲が存在する。本発明者らは、この点に着目すれば、スクライブラインをより確実に形成できると考えた。
【０１１７】
以下、参考実施形態Ｂ１について図面を参照しながら説明する。なお、以下では同じ部材には各図面において同じ符号を付し、説明の重複を避けることがある。
【０１１８】
図１９は、ガラス成形装置から搬出され、水平面である基準搬送面に沿って搬送される帯状ガラス（ガラスリボン）５１０を上方から観察した状態を示している。帯状ガラス５１０は、搬送方向５４０の上流側（図１９に示す領域よりも上流側）に設置されたガラス成形装置（例えばフロートバス）において所定の厚さへと成形され、搬送方向５４０に一定の速度で搬送されている。本実施形態の対象となる帯状ガラス５１０の厚さの範囲は、レーザ光によりスクライブラインを形成可能であれば特に限定されないが、例えば０．１〜５ｍｍである。
【０１１９】
帯状ガラス５１０の搬送は、搬送装置によって行われる。搬送装置としては、搬送ローラ、搬送ベルト等が挙げられる。本実施形態では、搬送装置は、帯状ガラス５１０を下方から支持する搬送ローラ５２１であり、搬送ローラ５２１によって構成される搬送面を基準搬送面と呼ぶ。本実施形態では、基準搬送面を基準にしたときに想定される帯状ガラスの厚さ方向の変動量の絶対値の最大値を幅Ｗと記載する。幅Ｗは、帯状ガラス５１０の振動、撓み等に依存する値である（図２０参照）。帯状ガラス５１０の厚さが０．１〜５ｍｍであり、搬送装置として搬送ローラ５２１を用いる場合は、幅Ｗ（絶対値）は例えば、１０ｍｍである。なお、帯状ガラス５１０が薄い場合には搬送ローラ５２１のピッチを細かくすることが好ましい。
【０１２０】
帯状ガラス５１０には、その上方を横断するスクライブライン形成ヘッド（以下、単に「ヘッド」という）５５１によってスクライブライン５１１が形成される（スクライブライン形成ステップ）。スクライブライン５１１は、搬送方向５４０と直交する帯状ガラス５１０の幅方向５４１に平行に伸び、かつ搬送方向５４０について所定の間隔が保たれるように形成される。帯状ガラス５１０は、搬送方向５４０の下流側に配置された分断装置（移動ローラ５２５）によりスクライブライン５１１において分割され、ガラス板６００となる（ガラス分断ステップ）。
【０１２１】
帯状ガラス５１０の幅方向５４１に平行なスクライブライン５１１を形成するために、ヘッド５５１は幅方向５４１に対して斜行して走行する。ヘッド５５１の斜行走行方向５４２と幅方向５４１とは、帯状ガラス５１０の搬送速度およびヘッド５５１の走行速度に依存して定まる角度θを形成する。ヘッド５５１は、斜行走行方向５４２に平行に帯状ガラス５１０の上方を横断するガイド（図示省略）に導かれて一定の速度で走行する。便宜上、ヘッド５５１が走行するラインをヘッド走行ライン５５０として図１９に示す。ヘッド５５１およびガイドは、クラック伸長装置を構成する。
【０１２２】
ヘッド走行ライン５５０に沿った図１９の断面図を図２１として、図２１の部分拡大図を図２２として示す。ヘッド５５１は、レーザ光を帯状ガラス５１０に集光させるための光学システム５７０と、冷媒を噴射して帯状ガラス５１０を局部的に冷却するための噴射ノズル５８０とを備えている。レーザ光および冷媒が帯状ガラス５１０へ供給される様子を図２３に示す。ヘッド５５１は、帯状ガラス５１０に初期クラックを形成するクラック形成装置であるカッター５１９をさらに備えている。
【０１２３】
カッター５１９は、典型的にはホイールカッターであるが、帯状ガラス５１０に伸長可能なクラックを形成できる限り、その種類に特段の制限はない。カッター５１９は、スクライブライン５１１の起点となる初期クラックを帯状ガラス５１０に形成する役割を担う。初期クラックは、帯状ガラス５１０の端部（図１９に示した帯状ガラス５１０の場合には図示右側端部）またはその近傍に形成される。
【０１２４】
スクライブライン５１１を形成するための初期クラックの伸長は、ヘッド５５１から供給されるレーザ光５１７および冷媒５１８によって実施される。すなわち、クラックの端部に重複させて、レーザ光５１７による加熱と冷媒５１８による急冷とを引き続いて適用すると、クラック近傍のガラス表面５１０ｆに引っ張り応力が発生し、この引っ張り応力によりクラックが伸長する。ヘッド５５１は、クラックを伸長させながらヘッド走行ライン５５０上を（図示した形態では図示左方へと）進んでいく。なお、本実施形態では、初期クラックが伸長して形成されたクラックであって、ガラス分断ステップにおいて該クラックに沿って帯状ガラス５１０を分断可能なクラックをスクライブライン５１１と呼ぶ。
【０１２５】
図２４に示すように、ヘッド５５１の走行に伴い、帯状ガラス５１０において、光学システム５７０を経由してレーザ光５１７が照射される被照射領域５２７、噴射ノズル５８０から冷媒５１８が供給される被冷却領域５２８は、この順にヘッド走行ライン５５０上を進んでいく。換言すれば、被冷却領域５２８は被照射領域５２７に追随しながら、これらの領域はヘッド走行ライン５５０上を進行する。ヘッド５５１は、被照射領域５２７を形成するレーザ光集光装置（光学システム５７０）、および被冷却領域５２８を形成する冷却装置（噴射ノズル５８０）を、各装置の相対的な位置関係を保持したまま、移動させる役割を担う。
【０１２６】
図２２に戻って、レーザ光の照射システムおよび冷媒の供給システムについて簡単に説明しておく。ただし、これらのシステムは既に公知のものを特に制限なく使用できる。レーザ光５１７は、レーザ光発生装置５７１からレーザビーム拡大装置５７２およびヘッド５５１内の集光装置（光学システム５７０）を経由して帯状ガラス５１０の被照射領域５２７へと集光される。光学システム５７０は、ミラーその他の光学素子５７３，５７４，５７５により構成されている。レーザ光５１７としては、ＣＯ2レーザ、ＹＡＧレーザ等を使用できる。冷媒５１８は、図示を省略する冷媒供給装置からヘッド５５１に備え付けられた噴射ノズル５８０を経由して、被冷却領域５２８へと供給される。冷媒としては、例えば空気、窒素、ヘリウム、水を使用すればよい。
【０１２７】
図２５に示すように、光学素子５７３，５７４，５７５は、光学素子５７３，５７４，５７５よりもレーザ光５１７の進行方向側において、レーザ光５１７がビームウエスト５１７ｗを形成するように構成されている（なお、図２５は、光学素子５７３，５７４，５７５よりもレーザ光５１７の進行方向側に部材を配置しない場合のレーザ光５１７の光路を示す）。本実施形態では、基準搬送面５６１からみて搬送装置（搬送ローラ５２１）と反対側に帯状ガラス５１０の厚さｔだけ離れた基準位置５６２にレーザ光５１７のビームウエスト５１７ｗが設定されるようにレーザ光を照射する（図２３参照）。また、本実施形態では、噴射ノズル５８０の延伸方向（冷媒を噴射するための開口方向）と、基準搬送面５６１に垂直な方向との間に角度φが形成されている。これにより、幅方向５４１の上流側から被冷却領域５２８へと、帯状ガラス５１０の厚さ方向に対して傾斜した方向に沿って冷媒５１８を噴射でき、被冷却領域５２８が被照射領域５２７から離間することを防止できる。角度φは、例えば０〜６０°である。
【０１２８】
レーザ光の出力は特に限定されないが、典型的には３０Ｗ以上１００Ｗ以下である。レーザ光の出力が過度に大きい場合には、帯状ガラス５１０が完全に分断されたり、意図しないクラック（例えば、所望の方向以外の方向に伸長するクラック）が生じたりすることがある。一方、過度に小さい場合には初期クラックの伸長が難しくなる。
【０１２９】
被照射領域５２７の長さは、例えば、１０ｍｍ以上２００ｍｍ以下であり、また例えば、１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下である。また、被照射領域５２７の幅は、例えば、０．１ｍｍ以上３ｍｍ以下である。
【０１３０】
スクライブライン５１１が形成された帯状ガラス５１０は、搬送方向５４０の下流側でスクライブライン５１１に沿って分断される。図２６（ａ）（ｂ）に示すように、帯状ガラス５１０のスクライブライン５１１が近づいてくると、移動ローラ５２５は帯状ガラス５１０をその厚さ方向に持ち上げる。持ち上げられた帯状ガラス５１０の自重により生じた応力によってスクライブライン５１１を構成するクラックが伸長して帯状ガラス５１０が割断される。より具体的に述べると、ガラス分断装置である移動ローラ５２５は、移動ローラ５２５と接している部分の変位量が最大となるように帯状ガラス５１０を持ち上げ、スクライブライン５１１での分断を進行させる。図２６（ｃ）に示すように、分断が完了した後、移動ローラ５２５は下方へと引き下がって次の分断に備える。
【０１３１】
スクライブライン５１１に応力が加わるように、移動ローラ５２５は、スクライブライン５１１を跨ぐ上流側（図示左方）および下流側（図示右方）の両方において、帯状ガラス５１０をその裏面を支持しながら上方へと持ち上げる（図２６（ｂ））。その後の移動ローラ５２５の下降に伴い、一旦上方へと移動した帯状ガラス５１０の下流端５１０ｅは下方へと戻ることになる（図２６（ｃ））。
【０１３２】
なお、本実施形態では、自重により生じた応力によりスクライブライン５１１での分断を進行させているが、移動ローラ５２５の上昇時に、移動ローラ５２５の搬送方向５４０上流側または下流側において帯状ガラス５１０の表面５１０ｆを上方から押さえつけることにより分断を進行させてもよい。このようにすれば、薄く、軽い帯状ガラス５１０を分断する場合であっても、分断に要する応力を確保し易い。
【０１３３】
本実施形態のスクライブライン形成ステップでは、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆに、レーザ光５１７が照射される被照射領域５２７および冷媒５１８が噴射される被冷却領域５２８を設定するとともに、被冷却領域５２８が被照射領域５２７に追随するように被照射領域５２７および被冷却領域５２８を帯状ガラス５１０に対して所定方向（幅方向５４１）へと相対速度ＶRで相対的に移動させながら被冷却領域５２８へと初期クラックを伸長させることにより、スクライブライン５１１を形成する。その後、ガラス分断ステップにおいて、スクライブライン５１１に沿って帯状ガラス５１０を分断する。また、本実施形態では、相対速度ＶRは、スクライブライン形成ステップの前に実施される相対速度設定ステップにおいて設定される。以下、相対速度設定ステップについて具体的に説明する。
【０１３４】
相対速度設定ステップは、第１特定サブステップ、第２特定サブステップおよび決定サブステップを具備している。本実施形態では、これらのサブステップはこの順で実施される。ただし、第１特定サブステップは第２特定サブステップの後に実施されてもよい。
【０１３５】
第１特定サブステップでは、帯状ガラス５１０の裏面５１０ｂが基準搬送面５６１に接した状態で帯状ガラス５１０が搬送されているときに、スクライブライン５１１を形成可能な被照射領域５２７と帯状ガラス５１０との相対速度の下限値Ｖ1を特定する。第１特定サブステップは、例えば、板状ガラスの表面の位置にレーザ光のビームウエストを設定した状態で、該レーザ光を該板状ガラスに対して相対速度ＶRPで相対的に移動させながら該レーザ光を該板状ガラスの表面に照射して、該板状ガラスにスクライブラインを形成するオフライン実験において、該スクライブラインを形成可能な相対速度ＶRPの下限値を測定することにより実施してもよい。
【０１３６】
第２特定サブステップでは、帯状ガラス５１０の裏面５１０ｂが基準搬送面５６１からみて帯状ガラス５１０の裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう厚さ方向に幅Ｗ変動したときに、スクライブライン５１１を形成可能な被照射領域５２７と帯状ガラス５１０との相対速度の上限値Ｖ2を特定する。第２特定サブステップは、例えば、板状ガラスの表面の位置からみて該板状ガラスの表面から裏面に向かう該板状ガラスの厚さ方向に幅Ｗ移動した位置にビームウエストを設定した状態で、該レーザ光を該板状ガラスに対して相対速度ＶRPで相対的に移動させながら該レーザ光を該板状ガラスの表面に照射して、該板状ガラスにスクライブラインを形成するオフライン実験において、該スクライブラインを形成可能な相対速度ＶRPの上限値を測定することにより実施してもよい。
【０１３７】
決定サブステップでは、Ｖ1≦ＶR≦Ｖ2を満たすように、相対速度ＶRを決定する。
【０１３８】
後述の検討により把握されるように、帯状ガラス５１０にスクライブライン５１１を形成可能とするためには、相対速度ＶRを、所定の範囲内に設定する必要がある。この所定の範囲は、振動等により帯状ガラス５１０の表面５１０ｆが基準位置５６２から離れるに従い低い側にシフトする。より詳細には、この所定の範囲は、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆが裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう方向に変動した場合には、表面５１０ｆから裏面５１０ｂに向かう方向に変動した場合に比べて、より顕著に低い側にシフトする傾向がある。本実施形態では、この傾向を考慮して、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆが基準位置５６２からみて裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう方向に幅Ｗ変動したときであってもスクライブライン５１１が形成され得るように、相対速度ＶRの範囲の上限をＶ2に設定している。これにより、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆの基準位置５６２からの位置変動が幅Ｗ以内であれば、帯状ガラス５１０の厚さ方向のいずれの向きに変動しても、相対速度ＶRが速過ぎてスクライブライン５１１が形成されなくなる事態を回避できる。また、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆが基準位置５６２に存在するときにもスクライブライン５１１が形成され得るように、相対速度ＶRの範囲の下限をＶ1に設定している。これにより、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆの基準位置５６２からの位置変動が幅Ｗ以内である場合において、相対速度ＶRが遅過ぎてスクライブライン５１１が形成されなくなる事態を回避できる。すなわち、本実施形態によれば、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆの基準位置５６２からの位置変動が幅Ｗ以内である場合において、確実にスクライブライン５１１を形成できる。
【０１３９】
なお、相対速度ＶRの範囲の下限を、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆが基準位置５６２に存在するときにスクライブライン５１１を形成するための相対速度の最小値であるＶ1よりも大きな値、例えば（Ｖ1＋Ｖ2）／２に設定してもよい。このように相対速度ＶRを設定すれば、斜行走行方向５４２と幅方向５４１との間に形成される角度θを比較的小さな値に設定できるため、切断装置の設計の自由度が向上する。
【０１４０】
また、相対速度設定ステップの前に、搬送装置により帯状ガラス５１０を搬送する際の、帯状ガラス５１０の厚さ方向の変動量の絶対値の最大値を測定し、幅Ｗを該最大値とする変動量評価ステップを実施してもよい。変動量評価ステップを実施すれば、幅Ｗを正確に特定できる。ただし、幅Ｗとして、搬送装置の仕様等に基づいて定められた値を採用してもよく、経験則によって定められた値を採用してもよい。
【０１４１】
（参考実施形態Ｂ２）
参考実施形態Ｂ２における各部材は図１９を参照して上記で既に説明したので、ここでは説明を省略する。
【０１４２】
参考実施形態Ｂ２では、相対速度設定ステップが省略されている。ただし、参考実施形態Ｂ２では、基準搬送面５６１からみて搬送装置と反対側に帯状ガラスの厚さｔだけ離れた基準位置５６２に対し、レーザ光５１７のビームウエスト５１７ｗが帯状ガラス５１０の裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう方向に（すなわち、搬送装置とは反対側に）離間するようにレーザ光５１７を照射する（図２７参照）。後述の検討により把握されるように、帯状ガラス５１０にスクライブライン５１１を形成可能な相対速度ＶRの範囲は、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆが裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう方向に変動した場合には、表面５１０ｆから裏面５１０ｂに向かう方向に変動した場合に比べて、より顕著に低い側にシフトする（すなわち、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆが裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう方向に変動した場合と、表面５１０ｆから裏面５１０ｂに向かう方向に変動した場合とで、帯状ガラス５１０にスクライブライン５１１を形成可能な相対速度ＶRの範囲は非対称にシフトする）。本実施形態のように、基準位置５６２に対し、レーザ光５１７のビームウエスト５１７ｗが帯状ガラス５１０の裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう方向に離間するようにレーザ光５１７を照射すれば、上記の非対称性が緩和され、結果的にスクライブライン５１１が形成されない事態が生じ難くなる。
【０１４３】
レーザ光５１７のビームウエスト５１７ｗと基準位置５６２との間隔は、帯状ガラス５１０の表面５１０ｆが裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう方向に変動した場合にスクライブライン５１１が形成されない事態が生じ難くなり、かつ、帯状ガラス５１０が表面５１０ｆから裏面５１０ｂに向かう方向に変動した場合にスクライブライン５１１が形成されないおそれが過度に大きくならないように設定することが好ましい。例えば、レーザ光５１７のビームウエスト５１７ｗと基準位置５６２との間隔を０ｍｍよりも大きく５ｍｍ以下とすればよく、また例えば０．５ｍｍ以上４ｍｍ以下とすればよい。
【０１４４】
なお、参考実施形態Ｂ２では、相対速度設定ステップが省略されているが、相対速度設定ステップを実施してもよい。この場合、第１特定サブステップにおいて、基準位置５６２にビームウエストが設定されたと仮定した場合に、帯状ガラス５１０の裏面５１０ｂが基準搬送面５６１に接した状態で帯状ガラス５１０が搬送されているときに、スクライブライン５１１を形成可能な被照射領域５２７と帯状ガラス５１０との相対速度の下限値Ｖ1を特定し、第２特定サブステップにおいて、基準位置５６２にビームウエストが設定されたと仮定した場合に、帯状ガラス５１０の裏面５１０ｂが基準搬送面５６１からみて帯状ガラス５１０の裏面５１０ｂから表面５１０ｆに向かう厚さ方向に幅Ｗ変動したときに、スクライブライン５１１を形成可能な被照射領域５２７と帯状ガラス５１０との相対速度の上限値Ｖ2を特定すればよい。
【０１４５】
以下、帯状ガラス５１０の厚さ方向の位置と、相対速度ＶRの上限値および下限値との関係を確認するために行ったオフライン実験について、図２８を参照しながら説明する。
【０１４６】
（実験Ｂ１）
板状ガラス８１０として、厚さ０．３３ｍｍ、短辺長１００ｍｍ、長辺長２００ｍｍの寸法を有し、質量％により表示して下記の各成分を有するソーダライムガラス板を準備した。
【０１４７】
ＳｉＯ2：７１．９％
Ａｌ2Ｏ3：１．７％
ＭｇＯ：４．０％
ＣａＯ：８．０％
Ｎａ2Ｏ：１３．５％
Ｋ2Ｏ：０．９％
【０１４８】
板状ガラス８１０の長辺に沿う方向が搬送用テーブル８９０の搬送方向８４２に一致するように、板状ガラス８１０を搬送用テーブル８９０に固定した。
【０１４９】
搬送用テーブル８９０を静止させた状態で、板状ガラス８１０に初期クラック８６１を形成した。具体的には、板状ガラス８１０の一方の短辺８１０ａ上の一点を始端とし、短辺８１０ｂに向かって延びる、長さが１０ｍｍの初期クラック８６１を形成した。初期クラック８６１は、焼結ダイヤモンドカッターホイール（外径φ２．５ｍｍ、厚み１．０ｍｍ、内径φ１．１ｍｍ、刃先角度１３５度）を用いて形成した。
【０１５０】
次に、搬送用テーブル８９０を移動させながら、板状ガラス８１０の表面にレーザ光８１７を照射し、さらに水（冷媒）８１８を噴射した。具体的には、まず、被照射領域８２７および被冷却領域８２８が短辺８１０ａよりも搬送方向８４２前方の位置に初期設定され、初期クラック８６１の長軸と被照射領域８２７の長軸とが一致して両長軸の間隔Δｘが０μｍとなるように搬送テーブル８９０の位置を初期設定した。次に、被照射領域８２７が長さ２４ｍｍ、幅１ｍｍの寸法を有し、板状ガラス８１０の表面上にレーザ光８１７のビームウエスト８１７ｗが形成されるとともに、被冷却領域８２８が被照射領域８２７の長さ方向の一端に接するようにレーザ光集光装置および冷却装置を調整した（図２８（ａ））。次に、被照射領域８２７および被冷却領域８２８の位置が固定された状態を維持しつつ、これらの位置が短辺８１０ｂの搬送方向８４２下流側となるまで搬送テーブル８９０を搬送方向８４２に３８４ｍｍ／ｓの速度（相対速度ＶRP）で移動させた（図２８（ｂ）（ｃ））。このときに形成されたスクライブライン（クラック８６２）の深さを調べた。
【０１５１】
具体的に、ＣＯ2レーザ発振器（ＵＮＩＶＥＲＳＡＬ  ＬＡＳＥＲ  ＳＹＳＴＥＭＳ製  ＵＬＣ−１００）から出力された６０Ｗのレーザ光を、２枚のアキシコンレンズ、シリンドリカルレンズ（焦点深度Ｆ＝５ｍｍ）およびミラーを用いて屈折および反射させて被照射領域８２７を設定した（以下、ＣＯ2レーザ発振器、２枚のアキシコンレンズ、シリンドリカルレンズおよびミラーをまとめて光学システムと呼ぶことがある）。また、ノズル（エバーロイ製  ミニミスト０４−１０−１３）から噴射量５．０ｍｌ／ｍｉｎの水を噴射することにより被冷却領域８２８を設定した。ノズルは、搬送テーブル８９０の主面に垂直な方向からみて、搬送方向８４２の上流側から下流側に向かう方向にφ＝２０°傾斜した方向に開口するように設置した。また、搬送テーブル８９０の主面との間に１０．５ｍｍの間隔が形成されるように、ノズルを配置した。
【０１５２】
次に、搬送テーブル８９０の移動速度を順次変更して、同様の実験を繰り返し行った。また、光学システムおよびノズルを搬送テーブル８９０の主面に垂直な方向に順次移動させて（光学システムおよびノズルの高さを順次変更して）、同様の実験を行った。結果を表７に示す。なお、表７では、高さが０ｍｍであることは搬送テーブル８９０の主面とノズルとの間に１０．５ｍｍの間隔が形成された状態を示し、高さが正であることは光学システムおよびノズルが板状ガラス８１０から遠ざかっている状態を示し、高さが負であることは光学システムおよびノズルが板状ガラス８１０に近づいている状態を示す。また、表７中の、移動速度および高さ以外の数値は、形成されたスクライブラインを構成するクラック（垂直クラック）８６２の深さ（μｍ）を示す（例えば、表７は、搬送テーブル８９０の移動速度が１９２ｍｍ／ｓ、高さが−３．８ｍｍのときに、深さが１２０μｍのスクライブラインが形成されたことを示す）。なお、数値に括弧が付されていることは、所定の深さを有するクラックが形成されたものの、形成されたクラックに沿った板状ガラス８１０の分断が不可能であったこと（つまり、形成されたクラックが、本発明で特定しているような分断ステップの実施に足りるスクライブラインではないこと）を示す。Ｎは、初期クラック８６１が全く伸長しなかったことを示す。Ｆは、板状ガラス８１０が完全に分断されたことを示す。
【０１５３】
【表７】
2014001130.tif 000009
【０１５４】
実験Ｂ１の結果には、スクライブライン（初期クラック８６１が伸長して形成されたクラックのうち、自身に沿って板状ガラス８１０を分断可能なもの。以下同じ）が形成される場合の搬送テーブル８９０の移動速度には最小値および最大値が存在することが表れている。最小値が存在するのは、搬送テーブル８９０の移動速度が過度に遅い場合には、板状ガラス８１０に供給される単位面積当たりの熱量が過大となり、板状ガラス８１０が完全に分断されたり、意図しないクラック（例えば、水平クラック）が生じたりするためである。一方、最大値が存在するのは、搬送テーブル８９０の移動速度が過度に速い場合には、板状ガラス８１０に供給される単位面積当たりの熱量が過小となり、スクライブラインの伸長に必要な応力が生じないためである。表７において数値に括弧が付されたケースにおいて板状ガラス８１０の分断が不可能であった理由は定かではないが、板状ガラス８１０に供給される単位面積当たりの熱量が過大となり、冷媒８１８が到達する前にクラックが伸長した結果、クラックの断面の平滑性が不十分となったり、クラックの伸長方向が所定の方向からわずかに逸れたりしていた可能性がある。
【０１５５】
また、実験Ｂ１の結果から、スクライブラインが形成されるための条件は、光学システムおよびノズルの高さによって異なることが把握される。表８および図２９に、光学システムおよびノズルの高さと、スクライブラインが形成された場合の搬送テーブル８９０の移動速度（最小値および最大値）との関係を示す。
【０１５６】
【表８】
2014001130.tif 000010
【０１５７】
表８および図２９に示されるように、スクライブラインを形成可能な搬送テーブル８９０の移動速度の最小値および最大値は、光学システムおよびノズルの高さが０ｍｍから離れるに従って低下する傾向がある。これは、実験Ｂ１においては、高さが０ｍｍの場合にレーザ光８１７のビームウエスト８１７ｗが板状ガラス８１０の表面に形成されるようにレーザ光を照射しているためである。
【０１５８】
より詳細には、高さが０ｍｍから低くなる場合には、０ｍｍから高くなる場合に比べて最小値および最大値の低下率が大きい。この現象は、下記のように説明される。すなわち、光学システムおよびノズルの高さが０ｍｍのときには、冷却領域８２８が被照射領域８２７の長さ方向の一端に接する（図３０）。これに対し、０ｍｍから高くなると、被冷却領域８２８と被照射領域８２７とが重複した重複領域８２９が生じる（図３１）。重複領域８２９が生じると、レーザ光８１７が板状ガラス８１０に与える熱量が低下するため、板状ガラス８１０に生じる応力が低下し、スクライブラインが形成され難くなる。一方、０ｍｍから低くなると、被冷却領域８２８と被照射領域８２７との間に隙間８３０が生じる（図３２）。隙間８３０が生じると、板状ガラス８１０がレーザ光８１７によって加熱されてから、冷媒８１８によって冷却されるまでの間に時間的なブランクが生じるため、板状ガラス８１０に生じる応力が低下し、スクライブラインが形成され難くなる。隙間８３０が生じた場合の方が、重複領域８２９が生じた場合よりも応力の低下量が大きいため、高さが０ｍｍから低くなる場合には、０ｍｍから高くなる場合に比べて最小値および最大値の低下率が大きくなっていると考えられる。
【０１５９】
表８および図２９に示す結果から、搬送中の帯状ガラス５１０が、レーザ光５１７および冷媒５１８が供給される表面５１０ｆ側に変動した場合には、裏面５１０ｂ側に変動した場合よりもスクライブライン５１１が形成されない事態が発生し易いと言える。これを考慮すると、基準位置５６２よりもややレーザ光５１７の照射側にレーザ光５１７のビームウエスト５１７ｗを設定すれば、帯状ガラス５１０が、表面５１０ｆ側に変動した場合と裏面５１０ｂ側に変動した場合との非対称性が緩和され、結果的にスクライブライン５１１が形成されない事態を招き難くなると言える。また、帯状ガラス５１０が表面５１０ｆ側に想定される最大量変動した場合に合わせて相対速度ＶRを設定すれば、裏面５１０ｂ側に同程度変動しても、スクライブライン５１１が形成されない事態を回避できると言える。
【０１６０】
参考実施形態Ｂ１およびＢ２を併せて参照することにより、下記の発明を導くことができる。
【０１６１】
（参考発明Ｂ１）
成形装置から搬出された帯状ガラスを、搬送装置によって定まる基準搬送面を基準にしたときの前記帯状ガラスの厚さ方向の変動量の絶対値が幅Ｗ以下である状態で、前記基準搬送面に沿った方向へと前記搬送装置を用いて搬送しながら切断する、帯状ガラスの切断方法であって、
前記帯状ガラスの表面に、レーザ光が照射される被照射領域および冷媒が噴射される被冷却領域を設定するとともに、前記被冷却領域が前記被照射領域に追随するように前記被照射領域および前記被冷却領域を前記帯状ガラスに対して所定方向へと相対速度ＶRで相対的に移動させながら前記被冷却領域へと初期クラックを伸長させることにより、スクライブラインを形成するスクライブライン形成ステップと、
前記スクライブラインに沿って前記帯状ガラスを分断するガラス分断ステップと、
前記スクライブライン形成ステップの前に、相対速度ＶRを設定する相対速度設定ステップと、を具備し、
前記スクライブライン形成ステップにおいて、Ｉ）前記基準搬送面からみて前記搬送装置と反対側に前記帯状ガラスの厚さｔだけ離れた基準位置に前記レーザ光のビームウエストが設定されるように前記レーザ光を照射し、II）前記所定方向の上流側から前記被冷却領域へと前記厚さ方向に対して傾斜した方向に沿って前記冷媒を噴射し、
前記相対速度設定ステップは、
前記帯状ガラスの裏面が前記基準搬送面に接した状態で前記帯状ガラスが搬送されているときに、前記スクライブラインを形成可能な前記被照射領域と前記帯状ガラスとの相対速度の下限値Ｖ1を特定する第１特定サブステップと、
前記帯状ガラスの裏面が前記基準搬送面からみて前記帯状ガラスの裏面から表面に向かう前記厚さ方向に幅Ｗ変動したときに、前記スクライブラインを形成可能な前記被照射領域と前記帯状ガラスとの相対速度の上限値Ｖ2を特定する第２特定サブステップと、
Ｖ1≦ＶR≦Ｖ2を満たすように、相対速度ＶRを決定する決定サブステップと、を具備する、
帯状ガラスの切断方法。
【０１６２】
（参考発明Ｂ２）
参考発明Ｂ１に加え、前記決定サブステップにおいて、（Ｖ1＋Ｖ2）／２≦ＶR≦Ｖ2を満たすように、相対速度ＶRを決定する帯状ガラスの切断方法。
【０１６３】
（参考発明Ｂ３）
参考発明Ｂ１またはＢ２に加え、前記相対速度設定ステップの前に、前記搬送装置により前記帯状ガラスを搬送する際の、前記帯状ガラスの厚さ方向の変動量の絶対値の最大値を測定し、幅Ｗを前記最大値とする変動量評価ステップを具備する帯状ガラスの切断方法。
【０１６４】
（参考発明Ｂ４）
参考発明Ｂ１〜Ｂ３のいずれか１つに加え、前記スクライブライン形成ステップにおいて、前記被照射領域の長さを１０ｍｍ以上２００ｍｍ以下とする帯状ガラスの切断方法。
【０１６５】
（参考発明Ｂ５）
成形装置から搬出された帯状ガラスを、搬送装置によって定まる基準搬送面を基準にしたときの前記帯状ガラスの厚さ方向の変動量の絶対値が幅Ｗ以下である状態で、前記基準搬送面に沿った方向へと前記搬送装置を用いて搬送しながら切断する、帯状ガラスの切断方法であって、
前記帯状ガラスの表面に、レーザ光が照射される被照射領域および冷媒が噴射される被冷却領域を設定するとともに、前記被冷却領域が前記被照射領域に追随するように前記被照射領域および前記被冷却領域を前記帯状ガラスに対して所定方向へと相対速度ＶRで相対的に移動させながら前記被冷却領域へと初期クラックを伸長させることにより、スクライブラインを形成するスクライブライン形成ステップと、
前記スクライブラインに沿って前記帯状ガラスを分断するガラス分断ステップと、
前記スクライブライン形成ステップの前に、相対速度ＶRを設定する相対速度設定ステップと、を具備し、
前記スクライブライン形成ステップにおいて、Ｉ）前記基準搬送面からみて前記搬送装置と反対側に前記帯状ガラスの厚さｔだけ離れた基準位置に対し、前記レーザ光のビームウエストが前記帯状ガラスの裏面から表面に向かう方向に離間するように前記レーザ光を照射し、II）前記所定方向の上流側から前記被冷却領域へと前記厚さ方向に対して傾斜した方向に沿って前記冷媒を噴射し、
前記相対速度設定ステップは、
前記基準位置に前記ビームウエストが設定されたと仮定した場合に、前記帯状ガラスの裏面が前記基準搬送面に接した状態で前記帯状ガラスが搬送されているときに、前記スクライブラインを形成可能な前記被照射領域と前記帯状ガラスとの相対速度の下限値Ｖ1を特定する第１特定サブステップと、
前記基準位置に前記ビームウエストが設定されたと仮定した場合に、前記帯状ガラスの裏面が前記基準搬送面からみて前記帯状ガラスの裏面から表面に向かう前記厚さ方向に幅Ｗ変動したときに、前記スクライブラインを形成可能な前記被照射領域と前記帯状ガラスとの相対速度の上限値Ｖ2を特定する第２特定サブステップと、
Ｖ1≦ＶR≦Ｖ2を満たすように、相対速度ＶRを決定する決定サブステップと、を具備する、
帯状ガラスの切断方法。
【０１６６】
（参考発明Ｂ６）
参考発明Ｂ５に加え、前記決定サブステップにおいて、（Ｖ1＋Ｖ2）／２≦ＶR≦Ｖ2を満たすように、相対速度ＶRを決定する帯状ガラスの切断方法。
【０１６７】
（参考発明Ｂ７）
参考発明Ｂ５またはＢ６に加え、前記相対速度設定ステップの前に、前記搬送装置により前記帯状ガラスを搬送する際の、前記帯状ガラスの厚さ方向の変動量の絶対値の最大値を測定し、幅Ｗを前記最大値とする変動量評価ステップを具備する帯状ガラスの切断方法。
【０１６８】
（参考発明Ｂ８）
参考発明Ｂ５〜Ｂ７のいずれか１つに加え、前記スクライブライン形成ステップにおいて、前記レーザ光の前記ビームウエストと前記基準位置との間隔を０ｍｍより大きく５ｍｍ以下とする帯状ガラスの切断方法。
【０１６９】
（参考発明Ｂ９）
参考発明Ｂ５〜Ｂ８のいずれか１つに加え、前記スクライブライン形成ステップにおいて、前記被照射領域の長さを１０ｍｍ以上２００ｍｍ以下とする帯状ガラスの切断方法。
【０１７０】
（参考発明Ｂ１０）
成形装置から搬出された帯状ガラスを、搬送装置によって定まる基準搬送面に沿って前記搬送装置を用いて搬送しながら切断する、帯状ガラスの切断方法であって、
前記帯状ガラスの表面に、レーザ光が照射される被照射領域および冷媒が噴射される被冷却領域を設定するとともに、前記被冷却領域が前記被照射領域に追随するように前記被照射領域および前記被冷却領域を前記帯状ガラスに対して所定方向へと相対的に移動させながら前記被冷却領域へと初期クラックを伸長させることにより、スクライブラインを形成するスクライブライン形成ステップと、
前記スクライブラインに沿って前記帯状ガラスを分断するガラス分断ステップと、を具備し、
前記スクライブライン形成ステップにおいて、Ｉ）前記基準搬送面からみて前記搬送装置と反対側に前記帯状ガラスの厚さｔだけ離れた基準位置に対し、前記レーザ光のビームウエストが前記帯状ガラスの裏面から表面に向かう方向に離間するように前記レーザ光を照射し、II）前記所定方向の上流側から前記被冷却領域へと、前記帯状ガラスの厚さ方向に対して傾斜した方向に沿って前記冷媒を噴射する、
帯状ガラスの切断方法。
【０１７１】
（参考発明Ｂ１１）
参考発明Ｂ１０に加え、前記スクライブライン形成ステップにおいて、前記レーザ光の前記ビームウエストと前記基準位置との間隔を０ｍｍより大きく５ｍｍ以下とする帯状ガラスの切断方法。
【０１７２】
（参考発明Ｂ１２）
参考発明Ｂ１０またはＢ１１に加え、前記スクライブライン形成ステップにおいて、前記被照射領域の長さを１０ｍｍ以上２００ｍｍ以下とする帯状ガラスの切断方法。
【０１７３】
（参考実施形態Ｃ１）
【０１７４】
ところで、レーザ光を用いた切断をオンライン切断に適用すると、スクライブラインの深さが一定とならず切断面の平滑性が却って劣化したり、スクライブラインの形成が途中で中断されたりすることがある。オンライン切断では、搬送に伴って帯状ガラスが振動するため、スクライブ位置において、帯状ガラスの厚さ方向の位置がレーザ光により効率的に加熱され得る位置から外れ、帯状ガラスに十分な熱量を与えることができなくなるためである。熱量不足に伴う切断不良は、スクライブラインをガラスの厚さ方向の深くにまで形成することにより、機械的な応力を加えることを省略する切断方式を採用する場合にも生じ得る。
【０１７５】
ガラスのオフライン切断に適したレーザ光については、従来から種々の検討がなされている。しかし、帯状ガラスのオンライン切断に適したレーザ光については、十分には検討がなされていない。本発明者らは、帯状ガラスのオンライン切断に適したレーザ光のエネルギー密度プロファイルを検討した。本発明者らの検討によれば、急峻なエネルギー密度プロファイルを有するレーザ光を帯状ガラスのオンライン切断に適用すると、スクライブラインの深さが一定とならず切断面の平滑性が劣化したり、スクライブラインの形成が途中で中断されたりする問題が顕在化する。この理由の詳細は今後の解析を待つ必要があるが、搬送に伴って帯状ガラスが振動して帯状ガラスの部分毎に与えられる熱量に相違が生じ、この相違が急峻なエネルギー密度プロファイルを有するレーザ光の採用により拡大していることが考えられる。ガラスのオフライン切断においてはガラスは振動しないため、急峻なエネルギー密度プロファイルを有するレーザ光の採用に伴う問題は小さい。すなわち、本発明は、上記のようなオンライン切断特有の問題を解消するものである。
【０１７６】
以下、参考実施形態Ｃ１について図面を参照しながら説明する。なお、以下では同じ部材には各図面において同じ符号を付し、説明の重複を避けることがある。
【０１７７】
図３３は、ガラス成形装置から搬出され、水平面である基準搬送面に沿って搬送される帯状ガラス（ガラスリボン）９１０を上方から観察した状態を示している。帯状ガラス９１０は、搬送方向９４０の上流側（図３３に示す領域よりも上流側）に設置されたガラス成形装置（例えばフロートバス）において所定の厚さへと成形され、搬送方向９４０に一定の速度で搬送されている。
【０１７８】
帯状ガラス９１０の搬送は、帯状ガラス９１０を下方から支持する搬送ローラ９２１によって行われる。本実施形態では、搬送ローラ９２１によって構成される搬送面を基準搬送面と呼ぶ。なお、帯状ガラス９１０が薄い場合には搬送ローラ９２１のピッチを細かくすることが好ましい。また、搬送ローラ９２１に代えて搬送ベルトを用いてもよい。
【０１７９】
帯状ガラス９１０には、その上方を横断するスクライブライン形成ヘッド（以下、単に「ヘッド」という）９５１によってスクライブライン９１１が形成される（スクライブライン形成ステップ）。スクライブライン９１１は、帯状ガラス９１０を横断する横断方向に延びる横断ラインに沿って形成されるものである。スクライブライン９１１は、搬送方向９４０と直交する帯状ガラス９１０の幅方向９４１に平行に伸び、かつ搬送方向９４０について所定の間隔が保たれるように形成される。帯状ガラス９１０は、搬送方向９４０の下流側に配置された分断装置（移動ローラ９２５）によりスクライブライン９１１において分割され、ガラス板１０００となる（ガラス分断ステップ）。
【０１８０】
帯状ガラス９１０の幅方向９４１に平行なスクライブライン９１１を形成するために、ヘッド９５１は幅方向９４１に対して斜行して走行する。ヘッド９５１の斜行走行方向９４２と幅方向９４１とは、帯状ガラス９１０の搬送速度およびヘッド９５１の走行速度に依存して定まる角度θを形成する。ヘッド９５１は、斜行走行方向９４２に平行に帯状ガラス９１０の上方を横断するガイド（図示省略）に導かれて一定の速度で走行する。便宜上、ヘッド９５１が走行するラインをヘッド走行ライン９５０として図３３に示す。ヘッド９５１およびガイドは、クラック伸長装置を構成する。
【０１８１】
ヘッド走行ライン９５０に沿った図３３の断面図を図３４として、図３４の部分拡大図を図３５として示す。ヘッド９５１は、レーザ光を帯状ガラス９１０に集光させるための光学システム９７０と、冷媒を噴射して帯状ガラス９１０を局部的に冷却するための噴射ノズル９８０とを備えている。ヘッド９５１は、帯状ガラス９１０に初期クラックを形成するクラック形成装置であるカッター９１９をさらに備えている。
【０１８２】
カッター９１９は、典型的にはホイールカッターであるが、帯状ガラス９１０に伸長可能なクラックを形成できる限り、その種類に特段の制限はない。カッター９１９は、スクライブライン９１１の起点となる初期クラックを帯状ガラス９１０に形成する役割を担う。初期クラックは、帯状ガラス９１０の端部（図３３に示した帯状ガラス９１０の場合には図示右側端部）またはその近傍に形成される。
【０１８３】
スクライブライン９１１を形成するための初期クラックの伸長は、ヘッド９５１から供給されるレーザ光９１７および冷媒９１８によって実施される。すなわち、クラックの端部に重複させて、レーザ光９１７による加熱と冷媒９１８による急冷とを引き続いて適用すると、クラック近傍のガラス表面（帯状ガラス９１０の表面９１０ｆ）に引っ張り応力が発生し、この引っ張り応力によりクラックが伸長する。ヘッド９５１は、クラックを伸長させながらヘッド走行ライン９５０上を（図示した形態では図示左方へと）進んでいく。なお、本実施形態では、初期クラックが伸長して形成されたクラックであって、ガラス分断ステップにおいて該クラックに沿って帯状ガラス９１０を分断可能なクラックをスクライブライン９１１と呼ぶ。
【０１８４】
図３６に示すように、ヘッド９５１の走行に伴い、帯状ガラス９１０において、光学システム９７０を経由してレーザ光９１７が照射される被照射領域９２７、噴射ノズル９８０から冷媒９１８が供給される被冷却領域９２８は、この順にヘッド走行ライン９５０に沿って進んでいく。換言すれば、被冷却領域９２８は被照射領域９２７に追随しながら、これらの領域はヘッド走行ライン９５０に沿って進行する。ヘッド９５１は、被照射領域９２７を形成するレーザ光集光装置（光学システム９７０）、および被冷却領域９２８を形成する冷却装置（噴射ノズル９８０）を、各装置の相対的な位置関係を保持したまま、移動させる役割を担う。本実施形態では、このようにして、帯状ガラス９１０の表面９１０ｆにおけるレーザ光９１７の被照射領域９２７が横断ラインの一端側から他端側へと移動するように、レーザ光９１７を照射する照射ステップと、横断ラインにおける被照射領域９２７に追随する被冷却領域９２８に冷媒９１８を供給する冷却ステップと、を実施する。本実施形態における照射ステップおよび冷却ステップは、スクライブライン形成ステップを構成する。
【０１８５】
図３５に戻って、レーザ光の照射システムおよび冷媒の供給システムについて簡単に説明しておく。ただし、これらのシステムは既に公知のものを特に制限なく使用できる。レーザ光９１７は、レーザ光発生装置９７１からレーザビーム拡大装置９７２およびヘッド９５１内の集光装置である光学システム９７０を経由して帯状ガラス９１０の被照射領域９２７へと集光される。光学システム９７０は、光学素子９７３，９７４，９７５により構成されている。レーザビーム拡大装置９７２は、例えば、エクスパンダーにより構成される。光学素子９７３は、例えば一対のアキシコンレンズであり、光学素子９７４はミラーであり、光学素子９７５は例えばシリンドリカルレンズである。レーザ光９１７としては、ＣＯ2レーザ、ＹＡＧレーザ等を使用できる。
【０１８６】
本実施形態では、帯状ガラス９１０の搬送経路の外側に固定されたレーザ光発生装置９７１から出射光が出射する。出射光は、帯状ガラス９１０の搬送経路の外側に固定されたエクスパンダー９７２により基準搬送面９６１に沿って進むように屈折し、一対のアキシコンレンズ９７３を通過後、ヘッド９５１が有するミラー９７４およびシリンドリカルレンズ９７５により帯状ガラス９１０に向かって進むレーザ光９１７に変換される。エクスパンダー９７２を通過した直後の出射光は、ガウシアン型のエネルギー密度プロファイルを有する（図３７）。次に、一対のアキシコンレンズ９７３によりリング型のエネルギー密度プロファイルを有するように変換される（図３８）。ミラー９７４およびシリンドリカルレンズ９７５によってレーザ光９１７に変換された後には、トップハット型のエネルギー密度プロファイルを有するに至る（図３９）。
【０１８７】
冷媒９１８は、図示を省略する冷媒供給装置からヘッド９５１に備え付けられた噴射ノズル９８０を経由して、被冷却領域９２８へと供給される。冷媒としては、例えば空気、窒素、ヘリウム、水を使用すればよい。なお、本実施形態では、図３５に示すように、噴射ノズル９８０の延伸方向（冷媒を噴射するための開口方向）と、基準搬送面９６１に垂直な方向との間に角度φが形成されている。これにより、幅方向９４１の上流側から被冷却領域９２８へと、帯状ガラス９１０の厚さ方向に対して傾斜した方向に沿って冷媒９１８を噴射でき、被冷却領域９２８が被照射領域９２７から離間することを防止できる。角度φは、例えば０〜６０°である。
【０１８８】
図３３に示す例では、基準搬送面９６１からみて帯状ガラス９１０の裏面９１０ｂから表面９１０ｆに向かう厚さ方向に帯状ガラス９１０の厚さｔだけ離れた基準位置９６２におけるレーザ光９１７の扁平な（楕円形の）断面の長軸方向９１７ｌが幅方向９４１に一致するように、レーザ光９１７を照射する。これにより、被照射領域９２７の長軸方向が幅方向９４１に一致するため、帯状ガラス９１０における熱量を与えるべき部分（横断ライン；スクライブライン９１１が形成されるべき部分）に効率よく熱量を与えることができる。ただし、基準位置９６２におけるレーザ光９１７が、横断ラインに沿って拡がるトップハット型のエネルギー密度プロファイルを有していれば、長軸方向９１７ｌが幅方向９４１に一致していなくてもよい。なお、本実施形態では「基準位置９６２におけるレーザ光９１７が横断ラインに沿って拡がる」とは、搬送中の帯状ガラス９１０からみたときに、レーザ光９１７の基準位置９６２における断面形状がヘッド９５１の移動方向と平行な方向に拡がることを指す。
【０１８９】
また、本実施形態では、トップハット型のエネルギー密度プロファイルは、基準位置９６２におけるエネルギー密度（Ｗ／ｍ2）のピーク値をＷmaxとしたときに、エネルギー密度が０．８Ｗmax以上であるフラット部９１７ｆが少なくとも全体の１／２を占める領域に拡がるものである。このようなトップハット型のエネルギー密度プロファイルによれば、帯状ガラス９１０が搬送に伴って振動したり局所的にうねったりしても、ヘッド走行ライン９５０上の各地点に供給される熱量が均一になり易くなり、スクライブライン９１１を安定して形成できる。スクライブライン９１１の形成をより安定させる観点からは、トップハット型のエネルギー密度プロファイルは、フラット部９１７ｆが少なくとも横断方向の両端９１７の各１／６の領域（図３９の両端部９１７ｅ）を除いた２／３を占める領域に拡がるものであることが好ましい。フロート法を採用する場合には、搬送に伴う振動が生じ易いため、スクライブライン９１１を安定して形成できるという効果が特に有効となる。
【０１９０】
本実施形態では、エネルギー密度がピーク値の５％となる位置をエネルギー密度プロファイルの両端として取り扱い、この両端に挟まれる領域がエネルギー密度プロファイルの全体を構成するものとして取り扱う。両端部９１７ｅは、エネルギー密度プロファイルの両端側に存する部位であり、フラット部９１７ｆは両端部９１７ｅに挟まれる部位である。また、本実施形態では、基準位置９６２におけるレーザ光９１７の横断方向（長軸方向９１７ｌ）の各点におけるエネルギー密度として、当該各点の横断方向に直交する方向（短軸方向９１７ｓ）についてのエネルギー密度の平均値を採用することとし、「基準位置９６２におけるエネルギー密度のピーク値」とは、当該平均値の最大値を指すこととする。本実施形態のトップハット型のエネルギー密度プロファイルでは、フラット部９１７ｆにエネルギー密度が最大となる点が存在し、フラット部９１７ｆを挟む両端部９１７ｅにおいては中心から離れるにしたがってエネルギー密度が低くなる。
【０１９１】
本実施形態では、フラット部９１７ｆの横断ライン（長軸方向９１７ｌ）に沿う長さは１０〜１５０ｍｍであり、好ましくは２０〜１００ｍｍである。
【０１９２】
本実施形態では、一対のアキシコンレンズおよびシリンドリカルレンズによりレーザ光発生装置９７１から出射した出射光をレーザ光９１７に変換しているため、この変換の際のエネルギー損失は小さい。ＤＯＥ（回折型光学素子）等を用いてレーザ光のエネルギー密度プロファイルを調整する場合にはエネルギー損失が比較的大きくなることを考慮すると、本実施形態における光学システムは、エネルギー効率の観点からも有利であるといえる。また、一対のアキシコンレンズおよびシリンドリカルレンズを採用することは、振動により帯状ガラス９１０の表面９１０ｆが基準位置９６２から離れても（表面９１０ｆがレーザ光９１７の焦点から離れても）フラット部９１７ｆが維持され易い点でも有利である。
【０１９３】
また、本実施形態では、レーザ光９１７のエネルギー密度プロファイルが横断ラインの一端側から他端側へと移動する期間（ヘッド９５１が帯状ガラス９１０を横断する期間）にわたって維持されるように、レーザ光９１７を照射する。したがって、ヘッド走行ライン９５０の広い領域にわたってスクライブライン９１１を安定して形成できる。本実施形態では、具体的には、エクスパンダー９７２を用いることにより、レーザ光発生装置９７１から出射した出射光を平行光に調整して、レーザ光９１７のエネルギー密度プロファイルを維持している。
【０１９４】
また、本実施形態における冷却ステップでは、基準位置９６２におけるレーザ光９１７のフラット部９１７ｆと、基準位置９６２における冷媒９１８とが隣接するように、帯状ガラス９１０の表面９１０ｆから裏面９１０ｂに向かう厚さ方向に対して横断方向の上流側から下流側へと傾斜した方向に沿って冷媒９１８を噴射している。これにより、被照射領域９２７のうち供給される熱量が大きい部分が急激に冷却されるため、スクライブライン９１１がより形成され易くなる。
【０１９５】
上述のトップハット型のエネルギー密度プロファイルにはエネルギー密度が突出した部分が存在しないため、被照射領域９２７において局所的に過度に高温となる部分が生じるおそれは低い。したがって、熱量不足で初期クラックが伸長されない事態を回避するために、レーザ光の出力を大きく設定しても、熱量過剰で帯状ガラスが完全に分断されたり、意図しないクラック（例えば、所望の方向以外の方向に伸長するクラック）が生じたりするおそれが低い。このため、一般的なガウシアン型等のエネルギー密度プロファイルを有している場合に比べると、レーザ光の出力を高めに設定でき、これにより、ヘッドの移動速度の幅方向成分を高めることができる。レーザ光９１７の出力は、例えば３０〜３００Ｗである。
【０１９６】
熱量過剰で帯状ガラスが完全に分断されたり、意図しないクラックが生じたりする現象は、帯状ガラス９１０が薄い場合に現れ易いことを考慮すると、帯状ガラス９１０の厚さが例えば０．１〜５ｍｍの場合に、上述のトップハット型のエネルギー密度プロファイルを有するレーザ光が特に有効であると言える。
【０１９７】
スクライブライン９１１が形成された帯状ガラス９１０は、搬送方向９４０の下流側でスクライブライン９１１に沿って分断される。図４０（ａ）（ｂ）に示すように、帯状ガラス９１０のスクライブライン９１１が近づいてくると、移動ローラ９２５は帯状ガラス９１０をその厚さ方向に持ち上げる。持ち上げられた帯状ガラス９１０の自重により生じた応力によってスクライブライン９１１を構成するクラックが伸長して帯状ガラス９１０が割断される。より具体的に述べると、ガラス分断装置である移動ローラ９２５は、移動ローラ９２５と接している部分の変位量が最大となるように帯状ガラス９１０を持ち上げ、スクライブライン９１１での分断を進行させる。図４０（ｃ）に示すように、分断が完了した後、移動ローラ９２５は下方へと引き下がって次の分断に備える。
【０１９８】
スクライブライン９１１に応力が加わるように、移動ローラ９２５は、スクライブライン９１１を跨ぐ上流側（図示左方）および下流側（図示右方）の両方において、帯状ガラス９１０をその裏面９１０ｂを支持しながら上方へと持ち上げる（図４０（ｂ））。その後の移動ローラ９２５の下降に伴い、一旦上方へと移動した帯状ガラス９１０の下流端９１０ｅは下方へと戻ることになる（図４０（ｃ））。
【０１９９】
なお、本実施形態では、自重により生じた応力によりスクライブライン９１１での分断を進行させているが、移動ローラ９２５の上昇時に、移動ローラ９２５の搬送方向９４０上流側または下流側において帯状ガラス９１０の表面９１０ｆを上方から押さえつけることにより分断を進行させてもよい。このようにすれば、薄く、軽い帯状ガラス９１０を分断する場合であっても、分断に要する応力を確保し易い。
【０２００】
（参考実施形態Ｃ２）
参考実施形態Ｃ１では、帯状ガラス９１０を横断するスクライブライン９１１の形成について説明したが、参考実施形態Ｃ１で説明した技術は、帯状ガラス９１０の搬送方向９４０に平行にスクライブラインを形成する場合にも適用が可能である。
【０２０１】
図４１は、図３３等と同様、図示を省略するガラス成形装置から搬出され、水平面である基準搬送面９６１に沿って搬送される帯状ガラス（ガラスリボン）９１０を上方から観察した状態を示している。
【０２０２】
帯状ガラス９１０の上方には、ヘッド９５３ａ，９５３ｂが配置されている。各ヘッド９５３ａ，９５３ｂは、ヘッド９５１と同様の部材を備えており、上述したように、カッターで初期クラックを形成した後、帯状ガラス９１０にレーザ光と冷媒とを順次供給してスクライブライン９１５ａ，９１５ｂを形成していく。ただし、各ヘッド９５３ａ，９５３ｂは、帯状ガラス９１０上の所定位置に固定されている。このため、ヘッド９５３ａ，９５３ｂは、帯状ガラス９１０の搬送方向９４０への移動に伴って、帯状ガラス９１０上をその長さ方向に沿って帯状ガラス９１０に対して相対的に移動しながら、スクライブライン９１５ａ，９１５ｂを形成していく。スクライブライン９１５ａ，９１５ｂは、レーザ光が照射される被照射領域および冷媒が供給される被冷却領域を通過するとともに搬送方向９４０に平行に伸びるライン（縦走帯）９４５ａ，９４５ｂ上に形成される。すなわち、本実施形態では、帯状ガラス９１０の表面におけるレーザ光の被照射領域および被冷却領域が縦断ライン（ライン９４５ａ，９４５ｂ）上に設定されるように、固定位置からレーザ光を照射する照射ステップと、縦断ラインにおける被照射領域に追随する被冷却領域に冷媒を供給する冷却ステップとを実施する。
【０２０３】
参考実施形態Ｃ２は、耳と呼ばれることがある帯状ガラス９１０の側端部の除去に適用できる。また、製造するべきガラス板の幅寸法が帯状ガラス９１０の幅寸法に比べて小さいために、帯状ガラス９１０をその長さ方向に沿って分断するべき場合にも好ましく適用できる。図４２（ａ）（ｂ）に示した例では、帯状ガラス９１０の耳部（側端部）９０２が除去され、所定の厚さに成形された中央部９０１が、搬送方向下流側においてその幅方向９４１に分断されて板状ガラスとして採板される。成形するべき板状ガラスの厚さが薄い場合には、図示したように耳部９０２の厚さと中央部９０１の厚さとの相違が顕著になりやすい。
【０２０４】
図４２（ｂ）に示したように、長さ方向に沿った分断も、スクライブライン９１５ａ，９１５ｂを跨ぐ図示左右両側において帯状ガラス９１０を持ち上げることにより実施することができる。図示した形態では、移動ローラ９２９により帯状ガラス９１０を持ち上げ、スクライブライン９１５ａ，９１５ｂに応力が加えられる。ただし、帯状ガラス９１０の分断は、図４２（ｂ）に示す形態に限らず、例えば、中央部９０１を帯状ガラス９１０の厚さ方向に変位させることなく、耳部９０２のみをガラス厚さ方向に押し下げることによっても実施できる。
【０２０５】
なお、帯状ガラス９１０には、横断するスクライブライン９１１を形成してから縦走するスクライブライン９１５ａ，９１５ｂを形成してもよく、この逆の順序でスクライブラインを形成してもよい。帯状ガラス９１０の分断ステップは、形成するべきすべてのスクライブラインを形成してからまとめて実施してもよく、スクライブラインを形成するスクライブライン形成ステップと交互に実施してもよい。例えば、帯状ガラス９１０にスクライブライン９１５ａ，９１５ｂを形成し、これらのラインで帯状ガラス９１０を分割して耳部９０２を除外し、その後、製品とする中央部９０１にスクラインライン９１１を形成し、このラインでの分割を行うこととしてもよい。
【０２０６】
本実施形態では、基準搬送面９６１からみて帯状ガラス９１０の裏面９１０ｂから表面９１０ｆに向かう厚さ方向に帯状ガラス９１０の厚さｔだけ離れた基準位置９６２におけるレーザ光９１７が縦断ライン（ライン９４５ａ，９４５ｂ）に沿って拡がるトップハット型のエネルギー密度プロファイルを有するように、レーザ光９１７を照射する。図４１等に示す例では、基準位置９６２におけるレーザ光の断面の長軸方向が搬送方向９４０に一致するようにレーザ光を照射し、被照射領域の長軸方向を搬送方向９４０に一致させることにより、帯状ガラス９１０における熱量を与えるべき部分（縦断ライン；スクライブライン９１５ａ，９１５ｂが形成されるべき部分）に効率よく熱量を与えている。
【０２０７】
また、本実施形態では、トップハット型のエネルギー密度プロファイルは、基準位置９６２におけるエネルギー密度のピーク値をＷmaxとしたときに、エネルギー密度が０．８Ｗmax以上であるフラット部９１７ｆが少なくとも全体の１／２を占める領域に拡がるものである。これにより、ライン９４５ａ，９４５ｂ上の各地点に供給される熱量が均一になり易くなり、スクライブライン９１５ａ，９１５ｂを安定して形成できる。スクライブライン９１１の形成をより安定させる観点から、トップハット型のエネルギー密度プロファイルを、フラット部９１７ｆが少なくとも搬送方向の両端の各１／６の領域を除いた２／３を占める領域に拡がるものとしてもよい。
【０２０８】
フラット部９１７ｆの縦断ライン（長軸方向）に沿う長さは１０〜１５０ｍｍであり、好ましくは２０〜１００ｍｍである。また、レーザ光の出力は、例えば３０〜３００Ｗである。帯状ガラス９１０の厚さは例えば０．１〜５ｍｍである。
【０２０９】
また、基準位置９６２におけるレーザ光のフラット部と、基準位置９６２における冷媒とが隣接するように、帯状ガラス９１０の表面９１０ｆから裏面９１０ｂに向かう厚さ方向に対して搬送方向９４０の下流側から上流側へと傾斜した方向に沿って冷媒を噴射してもよい。
【０２１０】
以下、搬送時に帯状ガラスが振動する場合に、レーザ光が上述のエネルギー密度プロファイルを有していることが有利であることを確認するために行ったオフライン実験について、図４３を参照しながら説明する。
【０２１１】
（実験Ｃ１）
板状ガラス１２１０として、厚さ０．３３ｍｍ、短辺長１００ｍｍ、長辺長２００ｍｍの寸法を有し、質量％により表示して下記の各成分を有するソーダライムガラス板を準備した。
【０２１２】
ＳｉＯ2：７１．９％
Ａｌ2Ｏ3：１．７％
ＭｇＯ：４．０％
ＣａＯ：８．０％
Ｎａ2Ｏ：１３．５％
Ｋ2Ｏ：０．９％
【０２１３】
板状ガラス１２１０の長辺に沿う方向が搬送用テーブル１２９０の搬送方向１２４２に一致するように、板状ガラス１２１０を搬送用テーブル１２９０に固定した。
【０２１４】
搬送用テーブル１２９０を静止させた状態で、板状ガラス１２１０に初期クラック１２６１を形成した。具体的には、板状ガラス１２１０の一方の短辺１２１０ａから他方の短辺１２１０ｂの方向に５０ｍｍ離れた位置を始端とし、短辺１２１０ｂに向かって延びる、長さが１０ｍｍの初期クラック１２６１を形成した。初期クラック１２６１は、焼結ダイヤモンドカッターホイール（外径φ２．５ｍｍ、厚み１．０ｍｍ、内径φ１．１ｍｍ、刃先角度１３５度）を用いて形成した。
【０２１５】
次に、搬送用テーブル１２９０を移動させながら、板状ガラス１２１０の表面にレーザ光を照射し、さらに水（冷媒）を噴射した。具体的には、まず、被照射領域１２２７および被冷却領域１２２８が短辺１２１０ａよりも搬送方向１２４２前方の位置に初期設定され、初期クラック１２６１の長軸と被照射領域１２２７の長軸とが一致して両長軸間に間隔が形成されないように搬送テーブル１２９０の位置を初期設定した。次に、被照射領域１２２７が長さ２４ｍｍ、幅０．２ｍｍの寸法（ビームウエスト（焦点）における寸法）を有し、板状ガラス１２１０の表面上にレーザ光のビームウエストが形成されるとともに、被冷却領域１２２８が被照射領域１２２７の長さ方向の一端に接するようにレーザ光集光装置および冷却装置を調整した（図４３（ａ））。次に、被照射領域１２２７および被冷却領域１２２８の位置が固定された状態を維持しつつ、これらの位置が短辺１２１０ｂの搬送方向１２４２下流側となるまで搬送テーブル１２９０を搬送方向１２４２に３８４ｍｍ／ｓの速度（相対速度ＶRP）で移動させた（図４３（ｂ）（ｃ））。このときに形成されたスクライブライン（クラック１２６２）の深さを調べた。
【０２１６】
具体的に、ＣＯ2レーザ発振器（ＵＮＩＶＥＲＳＡＬ  ＬＡＳＥＲ  ＳＹＳＴＥＭＳ製  ＵＬＣ−１００）から出力された６０Ｗのレーザ光を、２枚のアキシコンレンズ、シリンドリカルレンズ（焦点深度Ｆ＝５ｍｍ）およびミラーを用いて屈折および反射させて被照射領域１２２７を設定した（以下、ＣＯ2レーザ発振器、２枚のアキシコンレンズ、シリンドリカルレンズおよびミラーをまとめて光学システムと呼ぶことがある）。図４４に、この光学システムを経由して板状ガラス１２１０に照射されるレーザ光が有するトップハット型のエネルギー密度プロファイルを示す。図４４は、厚さ５ｍｍのアクリル板にこのレーザ光を照射した後に、同アクリル板の断面を撮影した写真である。この写真から、フラット部の長さが２４ｍｍであり、両端部の長さがそれぞれ２ｍｍであることが把握される。また、ノズル（エバーロイ製  ミニミスト０４−１０−１３）から噴射量１．５ｍｌ／ｍｉｎの水を噴射することにより被冷却領域１２２８を設定した。ノズルは、搬送テーブル１２９０の主面に垂直な方向からみて、搬送方向１２４２の下流側から上流側に向かう方向にφ＝１０°傾斜した方向に開口するように設置した。また、搬送テーブル１２９０の主面との間に５．５ｍｍの間隔が形成されるように、ノズルを配置した。
【０２１７】
次に、搬送テーブル１２９０の移動速度を順次変更して、同様の実験を繰り返し行った。また、光学システムおよびノズルを搬送テーブル１２９０の主面に垂直な方向に順次移動させて（光学システムおよびノズルの高さを順次変更して）、同様の実験を行った。結果を表９に示す。なお、表９では、高さが０ｍｍであることは搬送テーブル１２９０の主面とノズルとの間に５．５ｍｍの間隔が形成された状態を示し、高さが正であることは光学システムおよびノズルが板状ガラス１２１０から遠ざかっている状態を示し、高さが負であることは光学システムおよびノズルが板状ガラス１２１０に近づいている状態を示す。また、表９中の、移動速度および高さ以外の数値は、形成されたスクライブラインを構成するクラック（垂直クラック）１２６２の深さ（μｍ）を示す（例えば、表９は、搬送テーブル１２９０の移動速度が１９２ｍｍ／ｓ、高さが−３．８ｍｍのときに、深さが１２０μｍのスクライブラインが形成されたことを示す）。なお、数値に括弧が付されていることは、クラックが形成されたものの、形成されたクラックに沿った板状ガラス１２１０の分断が不可能であったこと（つまり、形成されたクラックが、本発明で特定しているような分断ステップの実施に足りるスクライブラインではないこと）を示す。Ｎは、初期クラック１２６１が全く伸長しなかったことを示す。Ｆは、板状ガラス１２１０が完全に分断されたことを示す。
【０２１８】
【表９】
2014001130.tif 000011
【０２１９】
実験Ｃ１の結果には、スクライブライン（初期クラック１２６１が伸長して形成されたクラックのうち、自身に沿って板状ガラス１２１０を分断可能なもの。以下同じ）が形成される場合の搬送テーブル１２９０の移動速度には最小値および最大値が存在することが表れている。最小値が存在するのは、搬送テーブル１２９０の移動速度が過度に遅い場合には、板状ガラス１２１０に供給される単位面積当たりの熱量が過大となり、板状ガラス１２１０が完全に分断されたり、意図しないクラック（例えば、水平クラック）が生じたりするためである。一方、最大値が存在するのは、搬送テーブル１２９０の移動速度が過度に速い場合には、板状ガラス１２１０に供給される単位面積当たりの熱量が過小となり、スクライブラインの伸長に必要な応力が生じないためである。表９において数値に括弧が付されたケースにおいて板状ガラス１２１０の分断が不可能であった理由は定かではないが、板状ガラス１２１０に供給される単位面積当たりの熱量が過大となり、冷媒が到達する前にクラックが伸長した結果、クラックの断面の平滑性が不十分となったり、クラックの伸長方向が所定の方向からわずかに逸れたりしていた可能性がある。
【０２２０】
また、実験Ｃ１の結果から、スクライブラインが形成されるための条件は、光学システムおよびノズルの高さによって異なることが把握される。詳細には、スクライブラインを形成可能な搬送テーブル１２９０の移動速度の最小値および最大値は、光学システムおよびノズルの高さが０ｍｍから離れるに従って低下する傾向がある。これは、実験Ｃ１においては、高さが０ｍｍの場合にレーザ光のビームウエストが板状ガラス１２１０の表面に形成されるようにレーザ光を照射し、かつこの場合に冷却領域１２２８が被照射領域１２２７の長さ方向の一端に接するように冷媒を噴射しているためである。表１０に、光学システムおよびノズルの高さと、スクライブラインが形成された場合の搬送テーブル１２９０の移動速度（最小値および最大値）との関係を示す。また、同関係を、図４５の実線により示す。
【０２２１】
【表１０】
2014001130.tif 000012
【０２２２】
（実験Ｃ２）
実験Ｃ２では、リング型のエネルギー密度プロファイルを有するレーザ光が形成されるように、光学システムを変更した。これにより、リング型のエネルギー密度プロファイルを有するレーザ光を形成した。それ以外は、実験Ｃ１と同様に実験を行った。結果を表１１に示す。表１１において、「Ａ」は、初期クラック１２６１が伸長したことを示す。また、表１２に、光学システムおよびノズルの高さと、スクライブラインが形成された場合の搬送テーブル１２９０の移動速度（最小値および最大値）との関係を示す。また、同関係を、図４５の点線により示す。
【０２２３】
【表１１】
2014001130.tif 000013
【０２２４】
【表１２】
2014001130.tif 000014
【０２２５】
図４５から、実験Ｃ１の光学システムを用いた場合も、実験Ｃ２の光学システムを用いた場合も、スクライブラインを形成可能とするためには、光学システムおよびノズルの高さを一定の範囲内としなければならないことが把握される。また、図４５から、この範囲の幅は、実験Ｃ１の光学システムを用いた場合の方が、実験Ｃ２の光学システムを用いた場合よりも広いことが把握される。すなわち、実験Ｃ１および実験Ｃ２から、搬送時に帯状ガラス９１０が振動するオンライン切断においてレーザ光を用いてスクライブライン９１１を形成する場合には、上述のトップハット型のエネルギー密度プロファイルを有するレーザ光９１７を用いることが有利であると言える。
【０２２６】
また、実験Ｃ１の光学系を採用した場合には、実験２の光学系を採用した場合よりも、クラックの発生を防止しつつレーザ光の出力を大きくし易いことが分かる。
【０２２７】
参考実施形態Ｃ１およびＣ２を併せて参照することにより、下記の発明を導くことができる。
【０２２８】
（参考発明Ｃ１）
成形装置から搬出され、基準搬送面に沿って所定の搬送方向へと搬送されている帯状ガラスにレーザ光を照射することにより、前記帯状ガラスの横断方向に延びる横断ラインに沿って前記帯状ガラスを切断する、帯状ガラスの切断方法であって、
前記帯状ガラスの表面における前記レーザ光の被照射領域が前記横断ラインの一端側から他端側へと移動するように、前記レーザ光を照射する照射ステップと、
前記横断ラインにおける前記被照射領域に追随する被冷却領域に冷媒を供給する冷却ステップと、を備え、
前記基準搬送面からみて前記帯状ガラスの裏面から表面に向かう厚さ方向に前記帯状ガラスの厚さｔだけ離れた基準位置における前記レーザ光は、前記横断ラインに沿って拡がるトップハット型のエネルギー密度プロファイルを有し、
前記トップハット型のエネルギー密度プロファイルは、前記基準位置におけるエネルギー密度のピーク値をＷmaxとしたときに、エネルギー密度が０．８Ｗmax以上であるフラット部が少なくとも全体の１／２を占める領域に拡がるものであり、
前記照射ステップにおいて、前記レーザ光の前記エネルギー密度プロファイルが前記被照射領域が前記横断ラインの一端側から他端側へと移動する期間にわたって維持されるように、前記レーザ光を照射する、
帯状ガラスの切断方法。
【０２２９】
（参考発明Ｃ２）
参考発明１に加え、前記トップハット型のエネルギー密度プロファイルは、前記フラット部が少なくとも前記横断方向の両端の各１／６の領域を除いた２／３を占める領域に拡がるものである帯状ガラスの切断方法。
【０２３０】
（参考発明Ｃ３）
参考発明Ｃ１またはＣ２に加え、前記フラット部の前記横断ラインに沿う長さは、１０〜１５０ｍｍである帯状ガラスの切断方法。
【０２３１】
（参考発明Ｃ４）
参考発明Ｃ１〜Ｃ３のいずれか１つに加え、前記冷却ステップにおいて、前記基準位置における前記レーザ光の前記フラット部と、前記基準位置における前記冷媒とが隣接するように、前記帯状ガラスの表面から裏面に向かう厚さ方向に対して前記横断方向の上流側から下流側へと傾斜した方向に沿って前記冷媒を噴射する帯状ガラスの切断方法。
【０２３２】
（参考発明Ｃ５）
参考発明Ｃ１〜Ｃ４のいずれか１つに加え、前記帯状ガラスの厚さが０．１ｍｍ〜５ｍｍである帯状ガラスの切断方法。
【０２３３】
（参考発明Ｃ６）
成形装置から搬出され、基準搬送面に沿って所定の搬送方向へと搬送されている帯状ガラスにレーザ光を照射することにより、前記搬送方向に延びる縦断ラインに沿って前記帯状ガラスを切断する、帯状ガラスの切断方法であって、
前記帯状ガラスの表面における前記レーザ光の被照射領域が前記縦断ライン上に設定されるように、固定位置から前記レーザ光を照射する照射ステップと、
前記縦断ラインにおける前記被照射領域に追随する被冷却領域に冷媒を供給する冷却ステップと、を備え、
前記基準搬送面からみて前記帯状ガラスの裏面から表面に向かう厚さ方向に前記帯状ガラスの厚さｔだけ離れた基準位置における前記レーザ光は、前記縦断ラインに沿って拡がるトップハット型のエネルギー密度プロファイルを有し、
前記トップハット型のエネルギー密度プロファイルは、前記基準位置におけるエネルギー密度のピーク値をＷmaxとしたときに、エネルギー密度が０．８Ｗmax以上であるフラット部が少なくとも全体の１／２を占める領域に拡がるものである、
帯状ガラスの切断方法。
【０２３４】
（参考発明Ｃ７）
参考発明Ｃ６に加え、前記トップハット型のエネルギー密度プロファイルは、前記フラット部が少なくとも前記搬送方向の両端の各１／６の領域を除いた２／３を占める領域に拡がるものである帯状ガラスの切断方法。
【０２３５】
（参考発明Ｃ８）
参考発明Ｃ６またはＣ７に加え、前記フラット部の前記縦断ラインに沿う長さは、１０〜１５０ｍｍである帯状ガラスの切断方法。
【０２３６】
（参考発明Ｃ９）
参考発明Ｃ６〜Ｃ８のいずれか１つに加え、前記冷却ステップにおいて、前記基準位置における前記レーザ光の前記フラット部と、前記基準位置における前記冷媒とが隣接するように、前記帯状ガラスの表面から裏面に向かう厚さ方向に対して前記搬送方向の下流側から上流側へと傾斜した方向に沿って前記冷媒を噴射する帯状ガラスの切断方法。
【０２３７】
（参考発明Ｃ１０）
参考発明Ｃ６〜Ｃ９のいずれか１つに加え、前記帯状ガラスの厚さが０．１ｍｍ〜５ｍｍである帯状ガラスの切断方法。
【符号の説明】
【０２３８】
１０  帯状ガラス
１０ｅ  帯状ガラスの下流端
１１，１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ，１１ｘ  スクライブライン
１７  レーザ光
１８  冷媒
１９  カッター
２１  搬送ローラ
２２  支持体
２５  移動ローラ
２７  被照射領域
２８  被冷却領域
４０  （帯状ガラスの）搬送方向
４１  （帯状ガラスの）幅方向
４２  斜行走行方向
５０  ヘッド走行ライン
５１  ヘッド
６０ａ  搬送高さ
６０ｂ  分断高さ
７０  光学システム
７１  レーザ光発生装置
７２  レーザビーム拡大装置
７３，７４，７５  光学素子
８０  噴射ノズル（冷却装置）
１００  ガラス板
１１０  帯状ガラス
１１０ｅ  帯状ガラスの下流端
１１１  スクライブライン
１１７  レーザ光
１１８  冷媒
１１９  カッター
１２１  搬送ローラ
１２２，２２２  支持体
１２５  移動ローラ
１２７，４２７  被照射領域
１２８，４２８  被冷却領域
１４０  （帯状ガラスの）搬送方向
１４１  （帯状ガラスの）幅方向
１４２，２４２，  斜行走行方向
１５０，２５０，  ヘッド走行ライン
１５１，２５１  ヘッド
１７０  光学システム
１７１  レーザ光発生装置
１７２  レーザビーム拡大装置
１７３，１７４，１７５  光学素子
１８０  噴射ノズル（冷却装置）
２００  ガラス板
４６１  初期クラック
４６２  クラック
４１０ａ，４１０ｂ  短辺
４４２  （搬送用テーブルの）搬送方向
４９０  搬送テーブル
５１０  帯状ガラス（ガラスリボン）
５１０ｂ  （帯状ガラスの）裏面
５１０ｅ  帯状ガラスの下流端
５１０ｆ  （帯状ガラスの）表面
５１１  スクライブライン
５１７，８１７  レーザ光
５１７ｗ，８１７ｗ  ビームウエスト
５１８．８１８  冷媒
５１９  カッター
５２１  搬送ローラ
５２５  移動ローラ
５２７，８２７  被照射領域
５２８，８２８  被冷却領域
５４０  （帯状ガラスの）搬送方向
５４１  （帯状ガラスの）幅方向
５４２  斜行走行方向
５５０  ヘッド走行ライン
５５１  ヘッド
５６１  基準搬送面
５６２  基準位置
５７０  光学システム
５７１  レーザ光発生装置
５７２  レーザビーム拡大装置
５７３，５７４，５７５  光学素子
５８０  噴射ノズル（冷却装置）
６００  ガラス板
８１０  板状ガラス
８１０ａ，８１０ｂ  短辺
８２９  重複領域
８３０  隙間
８４２  （搬送用テーブルの）搬送方向
８６１  初期クラック
８６２  クラック
８９０  搬送テーブル
９０１  （帯状ガラスの）中央部
９０２  （帯状ガラスの）側端部または耳部
９１０  帯状ガラス（ガラスリボン）
９１０ｂ  （帯状ガラスの）裏面
９１０ｅ  帯状ガラスの下流端
９１０ｆ  （帯状ガラスの）表面
９１１，９１５ａ，９１５ｂ  スクライブライン
９１７  レーザ光
９１７ｅ  両端部
９１７ｆ  フラット部
９１７ｌ  長軸方向
９１７ｓ  短軸方向
９１８  冷媒
９１９  カッター
９２１  搬送ローラ
９２５，９２９  移動ローラ
９２７，１２２７  被照射領域
９２８，１２２８  被冷却領域
９４０  （帯状ガラスの）搬送方向
９４１  （帯状ガラスの）幅方向
９４２  斜行走行方向
９４５ａ，９４５ｂ  縦走帯
９５０  ヘッド走行ライン
９５１，９５３ａ，９５３ｂ  ヘッド
９６１  基準搬送面
９６２  基準位置
９７０  光学システム
９７１  レーザ光発生装置
９７２  レーザビーム拡大装置
９７３，９７４，９７５  光学素子
９８０  噴射ノズル（冷却装置）
１０００  ガラス板
１２１０  板状ガラス
１２１０ａ，１２１０ｂ  短辺
１２４２  （搬送用テーブルの）搬送方向
１２６１  初期クラック
１２６２  クラック
１２９０  搬送テーブル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４５】
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【図４４】
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