(57)【要約】      （修正有）【課題】任意の適切な加工工程を行う前に溶剤洗浄工程を含むウエハの加工方法において、該加工工程においてウエハを適切に保持し、かつ、粘着シート剥離後の糊残りを防止し得るウエハの加工方法を提供すること。【解決手段】ウエハの加工方法は、放射線硬化型粘着剤を含む粘着剤層１０と基材２０とを有するウエハ加工用粘着シート１００にウエハを貼付ける工程、該ウエハ加工用粘着シート１００の粘着剤層１０に放射線を照射する工程、該ウエハを溶剤で洗浄する工程、および、該ウエハを加工する工程を含む。ウエハの加工方法においては、該洗浄工程の前に該放射線照射工程を行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線硬化型粘着剤を含む粘着剤層と基材とを有するウエハ加工用粘着シートにウエハを貼付ける工程、
該ウエハ加工用粘着シートの粘着剤層に放射線を照射する工程、
該ウエハおよび加工用粘着シートを溶剤で洗浄する工程、および、
該ウエハを加工する工程を含むウエハの加工方法であって、
該洗浄工程の前に該放射線照射工程を行う、ウエハの加工方法。
【請求項２】
前記放射線照射工程において、該放射線を前記粘着シートの粘着剤層側から照射する、請求項１に記載のウエハの加工方法。
【請求項３】
前記粘着シート貼付け工程において、該粘着シートがウエハ加工用リングに貼付けされた粘着シートである、請求項１または２に記載のウエハの加工方法。
【請求項４】
前記放射線照射工程において、該放射線を上記粘着剤層のウエハおよび／またはウエハ加工用リングと接していない部分にのみ照射する、請求項１から３のいずれかに記載のウエハの加工方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のウエハ加工方法により加工された、ウエハ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハの加工方法および該ウエハの加工方法により得られたウエハに関する。
【背景技術】
【０００２】
ウエハの加工工程では、加工中にウエハを適切に保持するため、粘着シートが用いられている。ウエハの加工工程において、ウエハに被着した異物の除去および／またはウエハの保護膜の剥離等を行うため、任意の適切な加工工程を行う前に、粘着シートに貼付けられたウエハを洗浄する工程を行う場合がある（例えば、特許文献１）。この洗浄工程では、洗浄に用いる溶剤により、粘着シートの粘着剤層が溶解または膨潤し、ウエハ自体やウエハの加工に用いられるウエハ加工用リングを適切に保持できない場合がある。また、加工工程後に粘着シートを剥離する際に、ウエハに糊残りが発生する場合がある。このような課題を解決するため、例えば、耐溶剤性および耐水性に優れた粘着剤層を備えた粘着シートが提案されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−４１９８７号公報
【特許文献２】特開２００４−２１４５２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、任意の適切なウエハの加工工程を行う前に溶剤洗浄工程を含むウエハの加工方法において、該加工工程においてウエハを適切に保持し、かつ、粘着シート剥離後の糊残りを防止し得るウエハの加工方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のウエハの加工方法は、放射線硬化型粘着剤を含む粘着剤層と基材とを有するウエハ加工用粘着シートにウエハを貼付ける工程、該ウエハ加工用粘着シートの粘着剤層に放射線を照射する工程、該ウエハおよび加工用粘着シートを溶剤で洗浄する工程、および、該ウエハを加工する工程を含む。本発明のウエハ加工方法においては、該洗浄工程の前に該放射線照射工程を行う。
好ましい実施形態においては、上記放射線照射工程において、該放射線を上記粘着シートの粘着剤層側から照射する。
好ましい実施形態においては、上記粘着シート貼付け工程において、上記粘着シートはウエハ加工用リングに貼付けされた粘着シートである。
好ましい実施形態においては、上記放射線照射工程において、該放射線を上記粘着剤層のウエハおよび／またはウエハ加工用リングと接していない部分にのみ照射する。
本発明の別の局面によれば、ウエハが提供される。このウエハは上記ウエハの加工方法により得られる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の加工方法によれば、任意の適切な加工工程の前に、溶剤洗浄工程を含む場合であっても、該加工工程において、ウエハを適切に保持し得る。そのため、溶剤洗浄工程を経た粘着シートをダイシング等の加工工程にそのまま用いることができる。さらに、加工後に粘着シートを剥離した際に、ウエハへの糊残りの発生を防止し得る。そのため、より効率よく、質の高いウエハの加工を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の好ましい実施形態による粘着シートの概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明のウエハの加工方法は、放射線硬化型粘着剤を含む粘着剤層と基材とを有するウエハ加工用粘着シートにウエハを貼付ける工程、該ウエハ加工用粘着シートの粘着剤層に放射線を照射する工程、該ウエハおよび加工用粘着シートを溶剤で洗浄する工程、および、該ウエハを加工する工程を含む。本発明のウエハ加工方法においては、該洗浄工程の前に該放射線照射工程を行う。
【０００９】
＜Ａ．ウエハ加工用粘着シートにウエハを貼付ける工程＞
本発明のウエハの加工方法は、ウエハ加工用粘着シートにウエハを貼付ける工程を含む。このウエハ加工用粘着シートは、放射線硬化型粘着剤を含む粘着剤層と基材とを有する。この工程において、ウエハ加工用粘着シートはウエハへの貼付け前にウエハ加工用リングに貼付けられていることが好ましい。ウエハとの貼付け前に、上記ウエハ加工用粘着シートにウエハ加工用リングを貼付けることにより、ウエハ加工工程において、ウエハを適切に保護することができる。また、ウエハとウエハ加工用リングとをウエハ加工用粘着シートに同時に貼付けてもよい。
【００１０】
該ウエハ加工用粘着シートとウエハとの貼付け工程は、任意の適切な手段により行うことができる。例えば、任意の適切な貼付け装置を用いて、ウエハ加工用粘着シートとウエハとを貼合せ得る。
【００１１】
＜Ａ−１．ウエハ加工用粘着シート＞
上記ウエハ加工用粘着シートは、放射線硬化型粘着剤を含む粘着剤層と基材とを有する。図１は、本発明の好ましい実施形態による粘着シートの概略断面図である。本発明の粘着シート１００は、基材１０および粘着剤層２０を備える。上記粘着シートは、任意の適切な他の層をさらに備えていてもよい。上記任意の他の層としては、帯電防止層、背面軽剥離化処理層、摩擦低減層、易接着処理層等が挙げられる。また、上記基材と粘着剤層との間には、中間層、または、プライマー層等が備えられていてもよい。
【００１２】
上記粘着シートの厚みは、任意の適切な値に設定することができる。例えば、上記粘着シートの厚みは１５μｍ〜２０００μｍである。上記基材の厚みは任意の適切な値に設定することができる。例えば、上記基材の厚みは１０μｍ〜５００μｍである。上記粘着剤層の厚みは任意の適切な値に設定することができる。例えば、上記粘着剤層の厚みは１μｍ〜５００μｍである。
【００１３】
＜Ａ−１−１．粘着剤層＞
上記粘着剤層は、任意の適切な粘着剤組成物を用いることにより形成され得る。該粘着剤組成物は、放射線硬化型粘着剤層を含む。該粘着剤層は、好ましくは放射線硬化型粘着剤、光重合開始剤、および、架橋剤を含む。
【００１４】
＜Ａ−１−１−１．粘着剤＞
上記放射線硬化型粘着剤としては、放射線の照射により硬化可能な任意の適切な粘着剤を用いることができる。放射線硬化型粘着剤としては、例えば、ベースポリマーとして、アクリル系ポリマーの側鎖、主鎖中、または、主鎖末端の少なくとも１つに放射線硬化性の官能基を有するポリマーを含む粘着剤、および、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコン系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等の任意の適切な粘着剤に、放射線硬化性のモノマー成分および／または放射線硬化性のオリゴマー成分を添加した組成物が挙げられる。また、上記放射線硬化性の官能基を有するベースポリマーを含む粘着剤に、放射線照射により硬化可能なモノマー成分やオリゴマー成分を添加して用いてもよい。
【００１５】
上記アクリル系ポリマーとしては、任意の適切なアクリル系ポリマーを用いることができる。例えば、上記アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸エステルを主モノマー成分として含むポリマーが挙げられる。上記アクリル酸エステルとしては、例えば、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、ｓｅｃ−ブチルエステル、ｔ−ブチルエステル、ペンチルエステル、イソペンチルエステル、ヘキシルエステル、ヘプチルエステル、オクチルエステル、２−エチルヘキシルエステル、イソオクチルエステル、ノニルエステル、デシルエステル、イソデシルエステル、ウンデシルエステル、ドデシルエステル、トリデシルエステル、テトラデシルエステル、ヘキサデシルエステル、オクタデシルエステル、エイコシルエステル等の炭素数１〜３０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を含むアクリル酸アルキルエステル；シクロペンチルエステル、シクロヘキシルエステル等のアクリル酸シクロアルキルエステル等が挙げられる。これらのモノマーは１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１６】
上記アクリル系ポリマーは、モノマー成分として、上記アクリル酸エステルと共重合可能なヒドロキシル基含有モノマーを含んでいてもよい。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリル、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。上記ヒドロキシル基含有モノマーは１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１７】
また、上記粘着剤組成物は、分子内に放射線硬化性の官能基を有するイソシアネート系化合物をさらに含んでいてもよい。該イソシアネート化合物としては、例えば、メタクリロイルイソシアネート、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、ｍ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。
【００１８】
上記アクリル系ポリマーは、モノマー成分を任意の適切な重合方法により重合することにより得られ得る。該重合方法としては、例えば、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合等が挙げられる。
【００１９】
上記放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分としては、任意の適切な化合物を用いることができる。例えば、上記イソシアネート系化合物、ウレタンオリゴマー、ウレタン（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２０】
＜Ａ−１−１−２．光重合開始剤＞
上記粘着剤組成物は、好ましくは光重合開始剤をさらに含む。上記粘着剤組成物が光重合開始剤を含むことにより、放射線として紫外線を用いる際に、粘着剤層をより速やかに硬化させることが可能となり得る。
【００２１】
光重合開始剤としては、任意の適切な開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、α−ヒドロキシ−α，α’−ジメチルアセトフェノン、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα−ケトール系化合物；メトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）−フェニル］−２−モルホリノプロパン−１等のアセトフェノン系化合物；ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物；ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物；２−ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物；１−フェノン−１，１―プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等の光活性オキシム系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；チオキサンソン、２−クロロチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジクロロチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物；カンファーキノン；ハロゲン化ケトン；アシルホスフィノキシド；アシルホスフォナート等が挙げられる。光重合開始剤の使用量は、粘着剤を構成するベースポリマー１００重量部に対して、例えば、０．０５〜２０重量部である。
【００２２】
上記光重合開始剤として、市販品を用いてもよい。例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア２９５９」等が挙げられる。
【００２３】
＜Ａ−１−１−３．架橋剤＞
上記粘着剤組成物は、好ましくは架橋剤をさらに含む。上記架橋剤としては、任意の適切な架橋剤を用いることができる。例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤などが挙げられる。架橋剤は１種のみを用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。なお、架橋剤の使用量は、使用用途に応じて任意の適切な値に設定され得る。架橋剤の使用量は、例えば、ベースポリマー１００重量部に対して、２０重量部以下である。
【００２４】
上記架橋剤として市販の架橋剤を用いてもよい。具体的には、旭化成ケミカルズ社製の商品名「デュラネートＴＰＡ−１００」、日本ポリウレタン工業社製の商品名「コロネートＬ」、同「コロネートＨＬ」、同「コロネートＨＫ」、同「コロネートＨＸ」、同「コロネート２０９６」等が挙げられる。
【００２５】
＜Ａ−１−１−４．添加剤＞
上記粘着剤組成物は、任意の適切な添加剤をさらに含んでいてもよい。上記添加剤としては、例えば、粘着性付与剤、老化防止剤、充填剤、着色剤、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤等が挙げられる。上記添加剤は単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。２種以上の添加剤を用いる場合、１種ずつ添加してもよく、２種以上の添加剤を同時に添加してもよい。上記添加剤の配合量は、任意の適切な量に設定され得る。
【００２６】
＜Ａ−１−２．基材＞
基材としては任意の適切なものを用いることができる。上記基材は好ましくはプラスチックフィルムである。プラスチックフィルムの構成材料として、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロピレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル（ランダム、交互）共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリイミド、ポリエーテルケトン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、シリコン樹脂、セルロース系樹脂、および、これらの架橋体が挙げられる。
【００２７】
上記基材の表面は、隣接する層との密着性、および、保持性等を向上させるため、任意の表面処理が施されていてもよい。上記表面処理としては、例えば、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理等の化学的又は物理的処理、コーティング処理が挙げられる。また、上記基材は、帯電防止性能を付与するため、基材上に金属、合金、または、これらの酸化物等からなる厚みが３０Å〜５００Å程度の導電性物質の蒸着層を設けてもよい。
【００２８】
基材の製造方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。具体的には、例えば、カレンダー法、キャスティング法、インフレーション法、Ｔダイ押出し法が好適に用いられる。また、市販のプラスチックフィルムを基材として用いてもよい。
【００２９】
＜Ｂ．粘着剤層に放射線を照射する工程＞
本発明のウエハの加工方法は、粘着剤層に放射線を照射する工程を含む。本発明のウエハの加工方法では、この粘着剤層に放射線を照射する工程は、後述するウエハおよび粘着シートを溶剤で洗浄する工程の前に行われる。この放射線照射工程により、上記部分の粘着剤層に含まれる樹脂成分の架橋が進行する。これにより、後の溶剤洗浄工程において、溶剤に直接接し得る粘着剤層の溶解および／または膨潤を防止し得る。この工程では、粘着剤層のウエハと接していない部分、もしくは、粘着剤層のウエハまたはウエハ加工用リングと接していない部分にのみ放射線を照射することが好ましい。この工程において、粘着剤層のウエハ、または、ウエハおよびウエハ加工用リングと接する部分では、放射線照射後も粘着剤層の粘着力が適切に保持される。そのため、洗浄工程後のウエハ加工工程において、ウエハが適切に保持された状態が維持され得る。
【００３０】
上記放射線の照射は、任意の適切な照射手段により行われ得る。該照射手段としては、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、ブラックライト等が挙げられる。
【００３１】
上記放射線の照射工程は、窒素雰囲気下で行ってもよい。放射線の照射工程を窒素雰囲気下で行うことにより、酸素による上記架橋反応の阻害を防止し得る。
【００３２】
好ましくは、上記放射線の照射は、上記粘着シートの粘着剤層側、すなわち、ウエハ、または、ウエハおよびウエハ加工用リングの側から行われる。これにより、粘着剤層のウエハと接していない部分、または、粘着剤層のウエハもしくはウエハ加工用リングと接していない部分のみに容易に放射線を照射し得る。
【００３３】
上記放射線の照射を上記粘着シートの基材側から行う場合、放射線照射量を任意の適切な値に調整することが好ましい。上記粘着シートの基材側から放射線を照射する場合、放射線の照射量は、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ２〜４０００ｍＪ／ｃｍ２であり、より好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２である。照射量が上記の範囲内であれば、粘着剤層のウエハ、または、ウエハおよびウエハ加工用リングとの粘着力を適切に維持し、かつ、該粘着剤層のこれらと接していない部分の樹脂成分の架橋を適切に行い得る。
【００３４】
また、上記放射線の照射を上記粘着シートの基材側から行う場合、任意の適切なマスクを用いて照射を行ってもよい。上記基材のウエハ、または、ウエハおよびウエハ加工用リングに対応する部分にマスクを適用して、放射線の照射を行うことにより、粘着剤層のウエハ、または、ウエハおよびウエハ加工用リングとの粘着力を適切に維持し、かつ、該粘着剤層のこれらと接していない部分の架橋反応を適切に行い得る。
【００３５】
＜Ｃ．溶剤による洗浄工程＞
本発明のウエハの加工方法は、ウエハ、または、ウエハおよびウエハ加工用リングを上記ウエハ加工用粘着シートに貼付けたまま、溶剤で洗浄する工程を含む。該洗浄工程を経ることにより、加工前のウエハに付着した異物の除去、および／または、ウエハの保護膜の剥離等を行うことができる。
【００３６】
上記溶剤による洗浄工程は、任意の適切な方法により行い得る。例えば、上記ウエハ加工用粘着シートとウエハ、または、ウエハおよびウエハ加工用リングとの積層体への任意の適切な溶剤をノズルから噴霧または吐出、浸漬等が挙げられる。
【００３７】
上記溶剤としては、目的等に応じて、任意の適切な溶剤が用いられ得る。該溶剤としては、例えば、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、エチレングリコール、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート、トルエン、リモネン、水、クエン酸等の酸性水溶液等が挙げられる。溶剤は単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００３８】
＜Ｄ．ウエハの加工工程＞
本発明のウエハの加工方法は、上記各工程を経たウエハに任意の適切な加工を施す工程を含む。上記の通り、本発明のウエハの加工方法は、上記ウエハの洗浄工程前に、ウエハ加工用粘着シートの粘着剤層に放射線を照射する工程を行う。これにより、ウエハの加工工程前にウエハに付着した異物の除去および／またはウエハの保護膜の剥離等が可能となり、さらに、ウエハ加工用粘着シートによるウエハ、または、ウエハおよびウエハ加工用リングの適切な保持が可能となり得る。そのため、本発明のウエハの加工方法を用いることにより、ウエハの加工工程において、例えば、ダイシング時のチップの飛散等を防止し、加工効率を向上させ得る。
【００３９】
上記ウエハに施される加工工程としては、特に制限はなく、ウエハに施され得る任意の適切な加工工程が挙げられる。例えば、イオン注入工程、スルーホール形成工程、ダイシング工程等が挙げられる。
【００４０】
＜Ｅ．ウエハ＞
本発明のウエハは、上記ウエハの加工方法により得られる。上記ウエハの加工方法は、洗浄工程を行うことによりウエハに付着した異物等の除去が可能であり、得られるウエハの品質が向上し得る。また、上記ウエハの加工方法を用いることにより、溶剤による洗浄工程を経た後であっても、ウエハ加工用粘着シートがウエハを適切に保持し得る。したがって、高い精度でウエハの加工を行うことができる。さらに、上記ウエハの加工方法を用いることにより加工工程後のウエハ加工用粘着シートの剥離時にウエハへの糊残りをも防止し得る。そのため、上記ウエハの加工方法により得られるウエハの質が向上し得る。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、実施例等における、試験および評価方法は以下のとおりである。また、部は重量部を意味する。
【００４２】
［製造例１］粘着剤組成物の調製
樹脂成分（東レコーテック社製、商品名：レオコートＲ−１０２０)１００部、架橋剤としてイソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業社製、商品名：コロネートＬ）３部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：イルガキュア６５１）３部、ＵＶ硬化性オリゴマー（日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）７０部を撹拌し、粘着剤組成物を得た。
【００４３】
［製造例２］ウエハ加工用粘着シートの作製
製造例１で得られた粘着剤組成物を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるよう、厚み３８μｍの離形処理したフィルムの離形処理面に塗布し、乾燥機を用いて１２０℃で２分間乾燥させ、粘着剤層を形成した。この粘着剤層と基材（ポリエチレンフィルム）とを貼合せ、半導体ウエハ加工用粘着シートを得た。
【００４４】
［実施例１］
製造例２で得られたウエハ加工用粘着シートからＰＥＴフィルムを剥離し、貼合せ装置を用いてウエハおよびウエハ加工用リングを同時に貼り合せた。次いで、該ウエハ加工用粘着シートの粘着剤層側（ウエハおよびウエハ加工用リングが積層された側）から、紫外線を下記条件で照射し、粘着剤層のウエハおよびウエハ加工用リングと接していない部分を架橋させた。次いで、ウエハ加工用粘着シートとウエハおよびウエハ加工用リングの積層体のウエハおよびウエハ加工用リングの側から、溶剤としてメタノールをシャワーし、ウエハを洗浄した。その後、基材側から紫外線を下記条件で照射し、ウエハ加工用粘着シートをウエハから剥離した。
＜紫外線照射条件＞
装置：日東精機社製、商品名：ＵＭ８１０
照度：４６０ｍＪ／ｃｍ２
照射時間：１１秒
光量：４１ｍＷ／ｃｍ２
【００４５】
[実施例２]
ウエハの洗浄に用いる溶剤をメタノールからイソプロピルアルコールに変更した以外は実施例１と同様の操作を行った。
【００４６】
[実施例３]
ウエハの洗浄に用いる溶剤をメタノールからトルエンに変更した以外は実施例１と同様の操作を行った。
【００４７】
（比較例１）
紫外線照射工程を行わなかった以外は実施例１と同様の操作を行った。
【００４８】
（比較例２）
紫外線照射工程を行わなかった以外は実施例２と同様の操作を行った。
【００４９】
（比較例３）
紫外線照射工程を行わなかった以外は実施例３と同様の操作を行った。
【００５０】
［評価］
実施例１〜３の加工方法では、洗浄工程後もウエハ加工用粘着シートがウエハを適切に保持しており、ウエハの加工工程を効率よく行うことができた。また、ウエハ加工用粘着シートを剥離したウエハを目視で確認したところ、ウエハへの糊残りは発生していなかった。
【００５１】
比較例１〜３の加工方法では、ウエハ加工工程において、ウエハを適切に保持することができず、ウエハ加工工程の加工効率が低下した。また、ウエハ加工用粘着シートを剥離したウエハを目視で確認したところウエハには、粘着剤組成物が付着していた。さらに、比較例１および３では、洗浄に用いた溶剤が基材まで到達し、基材が膨潤した。そのため、ウエハの保持に支障が生じた。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明の加工方法によれば、該加工工程においてウエハを適切に保持し、かつ、粘着シート剥離後の糊残りを防止し得る。そのため、より効率よく、質の高いウエハの加工を行うことができる。
【符号の説明】
【００５３】
１０                  粘着剤層
２０                  基材層
１００                粘着シート
【図１】
2014096449.tif 000003