(57)【要約】【課題】短時間で格子部の伸縮率を求める。【解決手段】  ウエハステージＷＳＴ上に設けられたＸ軸方向を周期方向とするＸスケール３９Ｘ1を検出対象とするアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いてＸスケール３９Ｘ1の異なる領域を同時に検出した検出結果と、Ｘ軸方向に関するアライメント系ＡＬ１とアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のそれぞれとの既知の離間距離とに基づいて、Ｘスケール３９Ｘ1の特定格子間のＸ軸方向に関する第１の間隔が求められる。これにより、短時間で格子部の特定格子間の前記周期方向に関する第１の間隔を求めること、ひいては格子部の伸縮率を求めることが可能になる。【選択図】図９
2014143229.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定面内で移動する移動体の外部に支持された少なくとも１つのヘッドから対向する前記移動体の一面に設けられた格子部に計測光を照射し、前記格子部からの戻り光を受光して前記移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムの前記ヘッドからの前記計測光が照射される前記格子部の格子の周期方向に関して位置が異なり、前記格子部を検出対象とする前記ヘッドと異なる複数のセンサのうちの２つ以上のセンサを用いて前記格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出することと、
前記格子部の前記２つ以上の領域の検出結果と、前記２つ以上のセンサ相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求めることと、を含む計測方法。
【請求項２】
前記２つ以上のセンサを用いて、前記格子部の前記２つ以上の領域を再度検出し、該検出結果と、前記格子部の前記２つ以上の領域を検出した前記２つ以上のセンサ相互間の前記周期方向に関する前記既知の離間距離とに基づいて、前記格子部の前記特定格子間の前記周期方向に関する第２の間隔を求めることと、
前記第１の間隔と前記第２の間隔とから前記格子部の前記周期方向に関する伸縮率を求めることと、をさらに含む請求項１に記載の計測方法。
【請求項３】
前記伸縮率を用いて、前記格子部の前記格子の周期を補正することをさらに含む請求項２に記載の計測方法。
【請求項４】
前記補正後の周期に応じて、前記エンコーダシステムの計測単位を補正することをさらに含む請求項３に記載の計測方法。
【請求項５】
前記伸縮率を用いて、２つ以上のセンサ相互間の前記周期方向に関する離間距離を補正することを含む請求項２に記載の計測方法。
【請求項６】
エネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、
所定面内で移動する移動体の外部に支持された少なくとも１つのヘッドから対向する前記移動体の一面に設けられた第１格子部に計測光を照射し、前記第１格子部からの戻り光を受光して前記移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムの前記ヘッドからの前記計測光が照射される前記格子部の格子の周期方向に関して位置が異なり、前記物体上のマークを検出する複数のマーク検出系のうちの２つ以上のマーク検出系を用いて前記第１格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出することと、
前記第１格子部の前記２つ以上の領域の検出結果と、前記２つ以上のマーク検出系相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記第１格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求めることと、
少なくとも前記第１の間隔を用いて前記第１格子部の前記周期方向の伸縮率を求めることと、
前記伸縮率を用いて、前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による前記物体上のマークの検出結果の一方を補正することと、
前記一方が補正された前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による前記物体上のマークの検出結果に基づいて、前記移動体を駆動することと、を含む露光方法。
【請求項７】
伸縮率を求めることでは、前記第１の間隔と既知のその基準値とに基づいて、前記第１格子部の前記周期方向の伸縮率を求める請求項６に記載の露光方法。
【請求項８】
前記２つ以上のマーク検出系を用いて、前記第１格子部の前記２つ以上の領域を再度検出し、該検出結果と、前記２つ以上のマーク検出系相互間の前記周期方向に関する前記既知の離間距離とに基づいて、前記第１格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第２の間隔を求めることをさらに含み、
前記伸縮率を求めることでは、前記第１の間隔と前記第２の間隔とから前記第１格子部の前記周期方向に関する伸縮率を求める請求項６に記載の露光方法。
【請求項９】
前記補正することでは、前記伸縮率に基づいて、前記周期方向に関する前記２つ以上のマーク検出系相互間の離間距離を補正し、その補正後の前記離間距離に基づいて前記２つ以上のマーク検出系による前記物体上のマークの検出結果を補正する請求項６〜８のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１０】
前記補正することでは、前記伸縮率に基づいて、エンコーダシステムの計測単位を補正することで、前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果を補正する請求項６〜８のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１１】
前記移動体上には、前記第１格子部から前記周期方向に交差する方向に離れて前記周期方向と同じ周期方向の格子を有する第２格子部がさらに設けられ、
前記複数のマーク検出系のうちの２つ以上のマーク検出系を用いて前記第２格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出し、該検出結果と、前記第２格子部の前記２つ以上の領域を検出した前記２つ以上のマーク検出系相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記第２格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第３の間隔を求めることと、
少なくとも前記第３の間隔を用いて前記第２格子部の前記周期方向の伸縮率を求め、
前記補正することでは、該第２格子部の前記伸縮率を用いて、前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果をさらに補正する請求項６〜１０のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１２】
前記物体の露光に際しては、前記移動体に保持された前記物体に光学系及び液体を介して前記エネルギビームが照射される請求項６〜１１のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１３】
請求項６〜１２のいずれか一項に記載の露光方法によって感応物体を露光することと、
露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項１４】
所定面内で移動する移動体の外部に支持された少なくとも１つのヘッドを有し、前記ヘッドから対向する前記移動体の一面に設けられた格子部に計測光を照射し、前記格子部からの戻り光を受光して前記移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムと、
前記格子部の格子の周期方向に関して位置が異なる、前記格子部を検出対象とする前記ヘッドと異なる複数のセンサと、
前記複数のセンサのうちの少なくとも２つ以上のセンサを用いて前記格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出し、該検出結果と、前記２つ以上のセンサ相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求める制御装置と、を備える計測システム。
【請求項１５】
前記制御装置は、前記２つ以上のセンサを用いて、前記格子部の前記２つ以上の領域を再度検出し、該検出結果と、前記格子部の前記２つ以上の領域を検出した前記２つ以上のセンサ相互間の前記周期方向に関する前記既知の離間距離とに基づいて、前記格子部の前記特定格子相互間の前記周期方向に関する第２の間隔を求め、前記第１の間隔と前記第２の間隔とから前記格子部の前記周期方向に関する伸縮率を求める請求項１４に記載の計測システム。
【請求項１６】
前記制御装置は、さらに前記伸縮率を用いて、前記格子部の前記格子の周期を補正する請求項１５に記載の計測システム。
【請求項１７】
前記制御装置は、前記補正後の周期に応じて、前記エンコーダシステムの計測単位を補正する請求項１６に記載の計測システム。
【請求項１８】
前記制御装置は、前記伸縮率を用いて、前記周期方向に関する前記２つ以上のセンサ相互間の離間距離を補正する請求項１５に記載の計測システム。
【請求項１９】
エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
前記物体が前記移動体に保持された請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の計測システムと、
前記物体に前記エネルギビームを照射して、前記物体上にパターンを生成するパターン生成装置と、を備え、
前記複数のセンサのそれぞれは、前記物体上に形成されたマークを検出するマーク検出系である露光装置。
【請求項２０】
エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定面内で移動する移動体と、
前記移動体の外部に支持された少なくとも１つのヘッドを有し、前記ヘッドから対向する前記移動体の一面に設けられた第１格子部に計測光を照射し、前記第１格子部からの戻り光を受光して前記移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムと、
前記第１格子部の格子の周期方向に関して位置が異なる、前記物体上のマークを検出する複数のマーク検出系と、
前記複数のマーク検出系のうちの２つ以上のマーク検出系を用いて前記第１格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出し、該検出結果と前記２つ以上のマーク検出系相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記第１格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求め、少なくとも前記第１の間隔を用いて前記第１格子部の前記周期方向の伸縮率を求め、該伸縮率を用いて、前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による前記物体上のマークの検出結果の一方を補正する制御装置と、を備える露光装置。
【請求項２１】
前記制御装置は、前記第１の間隔と既知のその基準値とに基づいて、前記第１格子部の前記周期方向の伸縮率を求める請求項２０に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記制御装置は、前記２つ以上のマーク検出系を用いて、前記第１格子部の前記２つ以上の領域を再度検出し、該検出結果と、前記２つ以上のマーク検出系相互間の前記周期方向に関する前記既知の離間距離とに基づいて、前記第１格子部の前記特定格子間の前記周期方向に関する第２の間隔を求め、前記第１の間隔と前記第２の間隔とから前記第１格子部の前記周期方向に関する伸縮率を求める請求項２０に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記制御装置は、前記伸縮率に基づいて、前記２つ以上のマーク検出系の前記周期方向に関する離間距離を補正し、その補正後の前記離間距離に基づいて前記２つ以上のマーク検出系による前記物体上のマークの検出結果を補正する請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記制御装置は、前記伸縮率に基づいて、エンコーダシステムの計測単位を補正することで、前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果を補正する請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記移動体上には、前記第１格子部から前記周期方向に交差する方向に離れて前記第１格子部と同じ周期方向の格子を有する第２格子部がさらに設けられ、
前記制御装置は、前記複数のマーク検出系のうちの２つ以上のマーク検出系を用いて前記第２格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出し、該検出結果と、前記第２格子部の前記２つ以上の領域を検出した前記２つ以上のマーク検出系相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記第２格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第３の間隔を求め、少なくとも前記第３の間隔を用いて前記第２格子部の前記周期方向の伸縮率を求め、該第２格子部の前記伸縮率を用いて、前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果をさらに補正する請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記格子は、前記移動体に保持される前記物体の表面と実質的に同じ高さの面位置に配置されている請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記エネルギビームを前記物体に照射する光学系と、
前記光学系の直下に液体を供給する液体供給装置と、
をさらに備える請求項２１〜２６のいずれか一項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、計測方法及び計測システム、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法に係り、特に、移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムの計測対象である移動体上の格子部の伸縮を求めるための計測方法及び該計測システム、前記計測方法を用いる露光方法及び前記計測システムを備える露光装置、並びに前記露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが、主として用いられている。
【０００３】
従来、この種の露光装置では、一般的に、パターンが転写・形成されるウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、ウエハと総称する）を保持して２次元移動するウエハステージの位置が、レーザ干渉計を用いて計測されていた。しかし、近年の半導体素子の高集積化に伴うパターンの微細化により、さらに高精度なウエハステージの位置制御性能が要求されるようになり、その結果、レーザ干渉計のビーム路上の雰囲気の温度変化、及び／又は温度勾配の影響で発生する空気揺らぎに起因する計測値の短期的な変動が、無視できなくなってきた。
【０００４】
かかる不都合を改善するものとして、レーザ干渉計と同程度以上の計測分解能を有するエンコーダを、ウエハステージの位置計測装置として採用した露光装置に係る発明が、先に提案されている（例えば特許文献１参照）。特許文献１に開示される露光装置では、ウエハステージ上に配置されたグレーティング（スケール）に、ウエハステージの外部に配置されたエンコーダヘッドから計測ビームを照射し、その反射光を受光することによって、ウエハステージの位置を計測していた。
【０００５】
しかるに、特許文献１に開示されるような液浸露光装置では、グレーティング（スケール）上に液浸用の液体が残り、その液体の気化熱によりグレーティングが伸縮し、ウエハステージの位置制御において無視できないレベルの計測誤差を生ずるおそれがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、所定面内で移動する移動体の外部に支持された少なくとも１つのヘッドから対向する前記移動体の一面に設けられた格子部に計測光を照射し、前記格子部からの戻り光を受光して前記移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムの前記ヘッドからの前記計測光が照射される前記格子部の格子の周期方向に関して位置が異なり、前記格子部を検出対象とする前記ヘッドと異なる複数のセンサのうちの２つ以上（少なくとも２つ）のセンサを用いて前記格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出することと、前記格子部の前記２つ以上の領域の検出結果と、前記２つ以上のセンサ相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求めることと、を含む計測方法が、提供される。
【０００８】
これによれば、格子部を検出対象とする２つ以上のセンサを用いて前記格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出した検出結果と、前記２つ以上のセンサ相互間の周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記格子部の特定格子間の前記周期方向に関する第１の間隔が求められる。すなわち、２つ以上のセンサを用いた格子部の直接計測により、格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔が求められる。従って、短時間で格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求めること、ひいては格子部の伸縮率を求めることが可能になる。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、所定面内で移動する移動体の外部に支持された少なくとも１つのヘッドから対向する前記移動体の一面に設けられた第１格子部に計測光を照射し、前記第１格子部からの戻り光を受光して前記移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムの前記ヘッドからの前記計測光が照射される前記格子部の格子の周期方向に関して位置が異なり、前記物体上のマークを検出する複数のマーク検出系のうちの２つ以上のマーク検出系を用いて前記第１格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出することと、前記第１格子部の前記２つ以上の領域の検出結果と、前記２つ以上のマーク検出系相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記第１格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求めることと、少なくとも前記第１の間隔を用いて前記第１格子部の前記周期方向の伸縮率を求めることと、前記伸縮率を用いて、前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による前記物体上のマークの検出結果の一方を補正することと、前記一方が補正された前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による前記物体上のマークの検出結果に基づいて、前記移動体を駆動することと、を含む露光方法が、提供される。
【００１０】
これによれば、２つ以上のマーク検出系を用いて第１格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出した検出結果と、第１格子部の周期方向に関する前記２つ以上のマーク検出系相互間の既知の離間距離とに基づいて、第１格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔が求められる。そして、少なくともその第１の間隔を用いて第１格子部の前記周期方向の伸縮率が求められ、該伸縮率を用いて、エンコーダシステムによる位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による物体上のマークの検出結果の一方が補正される。そして、その一方が補正されたエンコーダシステムによる位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による物体上のマークの検出結果に基づいて、移動体が駆動される。このため、移動体に保持された物体の露光の際の位置制御を高精度に行うことが可能となり、物体の高精度な露光が可能となる。
【００１１】
本発明の第３の態様によれば、上記露光方法によって感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法が、提供される。
【００１２】
本発明の第４の態様によれば、所定面内で移動する移動体の外部に支持された少なくとも１つのヘッドを有し、前記ヘッドから対向する前記移動体の一面に設けられた格子部に計測光を照射し、前記格子部からの戻り光を受光して前記移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムと、前記格子部の格子の周期方向に関して位置が異なる、前記格子部を検出対象とする前記ヘッドと異なる複数のセンサと、前記複数のセンサのうちの少なくとも２つ以上のセンサを用いて前記格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出し、該検出結果と、前記２つ以上のセンサ相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求める制御装置と、を備える計測システムが、提供される。
【００１３】
これによれば、制御装置により、格子部を検出対象とする２つ以上のセンサを用いて前記格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出した検出結果と、前記２つ以上のセンサ相互間の周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔が求められる。すなわち、２つ以上のセンサを用いた格子部の直接計測により、格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔が求められる。従って、短時間で格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求めること、ひいては格子部の伸縮率を求めることが可能になる。
【００１４】
本発明の第５の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、前記物体が前記移動体に保持された上記計測システムと、前記物体に前記エネルギビームを照射して、前記物体上にパターンを生成するパターン生成装置と、を備え、前記複数のセンサのそれぞれは、前記物体上に形成されたマークを検出するマーク検出系である露光装置が、提供される。
【００１５】
本発明の第６の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、前記物体を保持して所定面内で移動する移動体と、前記移動体の外部に支持された少なくとも１つのヘッドを有し、前記ヘッドから対向する前記移動体の一面に設けられた第１格子部に計測光を照射し、前記第１格子部からの戻り光を受光して前記移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムと、前記第１格子部の格子の周期方向に関して位置が異なる、前記物体上のマークを検出する複数のマーク検出系と、前記複数のマーク検出系のうちの２つ以上のマーク検出系を用いて前記第１格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出し、該検出結果と前記２つ以上のマーク検出系相互間の前記周期方向に関する既知の離間距離とに基づいて、前記第１格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔を求め、少なくとも前記第１の間隔を用いて前記第１格子部の前記周期方向の伸縮率を求め、該伸縮率を用いて、前記エンコーダシステムによる前記位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による前記物体上のマークの検出結果の一方を補正する制御装置と、を備える露光装置が、提供される。
【００１６】
これによれば、制御装置により、２つ以上のマーク検出系を用いて第１格子部の異なる２つ以上の領域を同時に検出した検出結果と、第１格子部の周期方向に関する前記２つ以上のマーク検出系相互間の既知の離間距離とに基づいて、第１格子部の特定格子相互間の前記周期方向に関する第１の間隔が求められる。そして、制御装置により、少なくともその第１の間隔を用いて第１格子部の前記周期方向の伸縮率が求められ、該伸縮率を用いて、エンコーダシステムによる位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による物体上のマークの検出結果の一方が補正される。そして、露光の際に、その一方が補正されたエンコーダシステムによる位置情報の計測結果及び前記２つ以上のマーク検出系による物体上のマークの検出結果に基づいて、移動体が駆動される。これにより、移動体に保持された物体の露光の際の位置制御を高精度に行うことが可能となり、物体の高精度な露光が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】ウエハステージを示す平面図である。
【図３】Ｘスケール及びＹスケール（回折格子）の構成を示す図である。
【図４】ステージ装置及び干渉計の配置を示す平面図である。
【図５】ステージ装置及びセンサユニットの配置を示す平面図である。
【図６】エンコーダヘッド（Ｘヘッド、Ｙヘッド）とアライメント系の配置を示す平面図である。
【図７】Ｚヘッドと多点ＡＦ系の配置を示す平面図である。
【図８】一実施形態に係る露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【図９】５つのアライメント系を用いてウエハステージ上のＸスケール（回折格子）を検出して、Ｘスケールの伸縮を測定するのを説明するための図（その１）である。
【図１０】図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、アライメント系（評価装置）を用いてＸスケール（回折格子）を検出することにより得られた検出結果の一例を示す図（その１及びその２）である。
【図１１】５つのアライメント系を用いてウエハステージ上のＸスケール（回折格子）を検出して、Ｘスケールの伸縮を測定する方法を説明するための図（その２）である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、一実施形態について、図１〜図１１に基づいて説明する。
【００１９】
図１には、一実施形態に係る露光装置１００の構成が概略的に示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００２０】
露光装置１００は、照明系１０、該照明系１０からの露光用照明光（以下、「照明光」又は「露光光」と呼ぶ）ＩＬにより照明されるレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出された照明光ＩＬをウエハＷ上に投射する投影光学系ＰＬを含む投影ユニットＰＵ、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを有するステージ装置５０、及びこれらの制御系等を備えている。ウエハステージＷＳＴ上には、ウエハＷが載置されている。
【００２１】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源と、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、及びレチクルブラインド等（いずれも不図示）を有する照明光学系とを含んでいる。この照明系１０では、レチクルブラインド（マスキングシステム）で設定（制限）されたレチクルＲ上でＸ軸方向に延びるスリット状の照明領域を照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００２２】
レチクルステージＲＳＴ上には、そのパターン面（図１における下面）に回路パターンなどが形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１１（図１では不図示、図８参照）によって、ＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向）に所定の走査速度で駆動可能となっている。
【００２３】
レチクルステージＲＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１１６によって、移動鏡１５（又はレチクルステージＲＳＴの端面に形成された反射面）を介して、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１１６の計測値は、主制御装置２０（図１では不図示、図８参照）に送られる。
【００２４】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬと、を含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば、Ｚ軸方向と平行な光軸ＡＸに沿って配列される複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。このため、照明系１０によってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）及び液体Ｌｑ（図１参照）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、その第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。
【００２５】
また、本実施形態の露光装置１００では、液浸法を適用した露光を行うため、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハＷ側）の光学素子、ここではレンズ（以下、「先端レンズ」ともいう）１９１を保持する鏡筒４０の下端部周囲を取り囲むように、局所液浸装置８の一部を構成するノズルユニット３２が設けられている。本実施形態では、ノズルユニット３２は、図１に示されるように、その下端面が先端レンズ１９１の下端面とほぼ面一に設定されている。また、ノズルユニット３２は、液体Ｌｑの供給口及び回収口と、ウエハＷが対向して配置され、かつ回収口が設けられる下面と、液体供給管３１Ａ及び液体回収管３１Ｂとそれぞれ接続される供給流路及び回収流路とを備えている。液体供給管３１Ａと液体回収管３１Ｂとは、図５に示されるように、平面視（上方から見て）でＸ軸方向及びＹ軸方向に対して４５°傾斜し、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸを通るＹ軸方向の直線（以下、基準軸と呼ぶ）ＬＶに関して対称な配置となっている。
【００２６】
液体供給管３１Ａには、その一端が液体供給装置５（図１では不図示、図８参照）に接続された不図示の供給管の他端が接続されており、液体回収管３１Ｂには、その一端が液体回収装置６（図１では不図示、図８参照）に接続された不図示の回収管の他端が接続されている。
【００２７】
液体供給装置５は、液体のタンク、加圧ポンプ、温度制御装置、並びに液体供給管３１Ａに対する液体の供給・停止を制御するためのバルブ等を含んでいる。また、液体回収装置６は、液体のタンク及び吸引ポンプ、並びに液体回収管３１Ｂを介した液体の回収・停止を制御するためのバルブ等を含んでいる。なお、液体供給装置５及び液体回収装置６の構成部分の少なくとも一部を露光装置１００が設置される工場などの設備で代替することもできる。
【００２８】
本実施形態では、上記の液体として、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水」と記述する）を用いるものとする。ＡｒＦエキシマレーザ光に対する水の屈折率ｎは、ほぼ１．４４である。この水の中では、照明光ＩＬの波長は、１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。
【００２９】
液体供給装置５及び液体回収装置６は、それぞれコントローラを具備しており、それぞれのコントローラは、主制御装置２０によって制御される（図８参照）。主制御装置２０は、先端レンズ１９１とウエハＷとの間に供給される水Ｌｑの量と、回収される水Ｌｑの量とが常に等しくなるように、液体供給装置５のコントローラ、液体回収装置６のコントローラに対して指令を与える。従って、先端レンズ１９１とウエハＷとの間に、一定量の水Ｌｑが保持される（図１参照）。この場合、先端レンズ１９１とウエハＷとの間に保持された水Ｌｑは、常に入れ替わっている。
【００３０】
上記の説明から明らかなように、本実施形態では、ノズルユニット３２、液体供給装置５、液体回収装置６、液体供給管３１Ａ及び液体回収管３１Ｂ等を含み、局所液浸装置８が構成されている。局所液浸装置８は、ノズルユニット３２によって、先端レンズ１９１とウエハＷとの間を液体Ｌｑで満たして、照明光ＩＬの光路空間を含む局所的な液浸空間（図５に示される液浸領域１４に相当）を形成する。
【００３１】
なお、投影ユニットＰＵ下方に計測ステージＭＳＴが位置する場合にも、上記と同様に後述する計測テーブルと先端レンズ１９１との間に水を満たすことが可能である。
【００３２】
なお、上記の説明では、一例として液体供給管（ノズル）と液体回収管（ノズル）とがそれぞれ１つずつ設けられているものとしたが、これに限らず、周囲の部材との関係を考慮しても配置が可能であれば、例えば、国際公開第９９／４９５０４号に開示されるように、ノズルを多数有する構成を採用することとしても良い。また、ノズルユニット３２の下面を、先端レンズ１９１の射出面よりも投影光学系ＰＬの像面（すなわちウエハ）の近くに配置する、あるいは先端レンズ１９１の像面側の光路に加えて、先端レンズ１９１の物体面側の光路も液体で満たす構成を採用しても良い。要は、少なくとも投影光学系ＰＬを構成する最下端の光学部材（先端レンズ）１９１とウエハＷとの間に液体を供給することができるのであれば、その構成はいかなるものであっても良い。例えば、国際公開第２００４／０５３９５５号に開示されている液浸機構、あるいは欧州特許出願公開第１４２０２９８号明細書に開示されている液浸機構なども本実施形態の露光装置に適用することができる。
【００３３】
なお、図示の便宜上から、図１及び図５以外の他の図においては、ノズルユニット３２及び液浸領域（液体）等の図示は省略されている。
【００３４】
図１に戻り、前記ステージ装置５０は、ベース盤１２の上方に配置されたウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ、及びこれらのステージＷＳＴ，ＭＳＴの位置情報を計測する計測システム２００（図８参照）、並びにステージＷＳＴ，ＭＳＴを駆動するステージ駆動系１２４（図８参照）などを備えている。
【００３５】
ウエハステージＷＳＴ，計測ステージＭＳＴそれぞれの底面には、不図示の非接触軸受、例えば真空予圧型空気静圧軸受（以下、「エアパッド」と呼ぶ）が複数ヶ所に設けられている。これらのエアパッドからベース盤１２の上面に向けて噴出された加圧空気の静圧により、ベース盤１２の上方にウエハステージＷＳＴ，計測ステージＭＳＴが数μｍ程度の隙間（クリアランス、ギャップ）を介して非接触で支持されている。また、ステージＷＳＴ，ＭＳＴは、ステージ駆動系１２４によって、所定平面（ＸＹ平面）内のＹ軸方向（図１における紙面内左右方向）及びＸ軸方向（図１における紙面直交方向）に独立して２次元駆動可能である。
【００３６】
ウエハステージＷＳＴは、ステージ本体９１と、該ステージ本体９１上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを含む。このウエハテーブルＷＴＢ及びステージ本体９１は、リニアモータ及びＺ・レベリング機構（ボイスコイルモータなどを含む）を含む駆動系によって、ベース盤１２に対し、６自由度方向（Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸，θｘ，θｙ及びθｚの各方向）に駆動可能に構成されている。
【００３７】
ウエハテーブルＷＴＢ上には、ウエハＷを真空吸着等によって保持するウエハホルダ（不図示）が設けられている。ウエハホルダは、例えば真空吸着などによってウエハテーブルＷＴＢの凹部内に固定されている。また、ウエハテーブルＷＴＢの上面には、ウエハホルダ上に載置されるウエハの表面とほぼ面一となる、液体Ｌｑに対して撥液化処理された表面（撥液面）を有し、かつ外形（輪郭）が矩形でその中央部にウエハホルダ（ウエハの載置領域）よりも一回り大きな円形の開口が形成されたプレート（撥液板）２８が設けられている。プレート２８は、低熱膨張率の材料、例えばガラス又はセラミックス（ショット社のゼロデュア（商品名）、Ａｌ２Ｏ３あるいはＴｉＣなど）から成り、その表面には、例えばフッ素樹脂材料、ポリ四フッ化エチレン（テフロン（登録商標））等のフッ素系樹脂材料、アクリル系樹脂材料あるいはシリコン系樹脂材料などにより撥液膜が形成される。さらにプレート２８は、図２のウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の平面図に示されるように、円形の開口を囲む、外形（輪郭）が矩形の第１撥液領域２８ａと、第１撥液領域２８ａの周囲に配置される矩形枠状（環状）の第２撥液領域２８ｂとを有する。第１撥液領域２８ａは、例えば露光動作時、ウエハの表面からはみ出す液浸領域１４の少なくとも一部が形成され、第２撥液領域２８ｂは、後述のエンコーダシステムのためのスケール（格子部）が形成される。なお、プレート２８はその表面の少なくとも一部がウエハの表面と面一でなくても良い、すなわち異なる高さであっても良い。また、プレート２８は単一のプレートでも良いが、本実施形態では複数のプレート、例えば第１及び第２撥液領域２８ａ、２８ｂにそれぞれ対応する第１及び第２撥液板を組み合わせて構成する。本実施形態では、前述の如く液体Ｌｑとして純水を用いるので、以下では第１撥液領域２８ａ及び第２撥液領域２８ｂを、それぞれ第１及び第２撥水板２８ａ、２８ｂとも呼ぶ。
【００３８】
また、図２から明らかなように、第１撥水板２８ａの＋Ｙ側の端部には、そのＸ軸方向の中央部に長方形の切り欠きが形成され、この切り欠きと第２撥水板２８ｂとで囲まれる長方形の空間の内部（切り欠きの内部）に計測プレート３０が埋め込まれている。
【００３９】
計測プレート３０の長手方向の中央（ウエハテーブルＷＴＢのセンターラインＬＬ上）には、基準マークＦＭが形成されるとともに、該基準マークＦＭのＸ軸方向の一側と他側に、基準マークＦＭの中心に関して対称な配置で一対の空間像計測スリットパターンＳＬが形成されている。各空間像計測スリットパターンＳＬとしては、一例として、Ｙ軸方向とＸ軸方向とに沿った辺を有するＬ字状のスリットパターンを用いることができる。
【００４０】
そして、上記各空間像計測スリットパターンＳＬ下方のウエハステージＷＳＴ部分には、対物レンズ、ミラー、リレーレンズなどを含む送光光学系が、上記一対の空間像計測スリットパターンＳＬに対応して一対設けられている。
【００４１】
上記一対の送光光学系は、空間像計測スリットパターンＳＬを上方から下方に透過した照明光ＩＬを、Ｌ字状の経路に沿って導き、＋Ｙ方向に向けて射出する。
【００４２】
さらに、第２撥水板２８ｂの上面には、その４辺のそれぞれに沿ってＹスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2、及びＸスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2が、それぞれ設けられている。これをさらに詳述すると、第２撥水板２８ｂのＸ軸方向一側と他側（図２における左右両側）の領域には、Ｙスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2がそれぞれ配置されている。Ｙスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2はそれぞれ、例えばＸ軸方向を長手方向とする格子線３８が所定ピッチでＹ軸に平行な方向（Ｙ軸方向）に沿って形成される、Ｙ軸方向を周期方向とする反射型の格子（例えば回折格子）によって構成されている。
【００４３】
同様に、第２撥水板２８ｂのＹ軸方向一側と他側（図２における上下両側）の領域には、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2がそれぞれ配置されている。Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2はそれぞれ、例えばＹ軸方向を長手方向とする格子線３７が所定ピッチでＸ軸に平行な方向（Ｘ軸方向）に沿って形成される、Ｘ軸方向を周期方向とする反射型の格子（例えば回折格子）によって構成されている。
【００４４】
なお、格子線３７，３８のピッチは、例えば１μｍと設定される。図２及びその他の図において、図示の便宜上から、格子のピッチは、実際のピッチに比べて格段に広く図示されている。
【００４５】
図３には、Ｙスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2及びＸスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2（スケール３９と総称する）の構成の一例が示されている。ベース基板ＬＢ上に、回折格子のベース層ＬＧＲが設けられている。ベース層ＬＧＲ上に、金属を蒸着することによって、反射型回折格子が形成されている。この反射型回折格子（以下、適宜、ベース層と同じ符号を用いて反射型回折格子ＬＧＲと表記する）に、エンコーダヘッドＥｈ（後述するＹヘッド６５等）からの計測ビームＥｂが照射される。反射型回折格子ＬＧＲは、ベース層ＬＧＲ上に接着層ＬＧを介して低熱膨張率のカバー層ＬＣＧを設置することで保護されている。液浸露光装置ではスケールが撥液板（撥水板）を兼ねる場合があり、接着層ＬＧを含むカバー層はエンコーダの光学部品の一部でもあるため、いずれの観点でも平坦度が重要である。そのため、接着層ＬＧの厚さは均一であることが望ましい。また、接着剤は一般的にガラス等より温度あるいは湿度等の環境変動に対して変化が大きいので、安定性の観点から接着層ＬＧを薄くすることが望ましい。カバー層ＬＣＧ上に、バンドパスフィルター層ＬＢＰが設けられている。バンドパスフィルター層ＬＢＰは、複数の屈折率の異なる光学薄膜が積層された多層膜からなり、ＺヘッドＺｈ（後述するＺヘッド７６等）からの計測ビームＺｂ（例えば波長６５５ｎｍ）を反射し、エンコーダヘッドＥｈからの計測ビームＥｂ（例えば波長７５０ｎｍ）を透過する。なお、スケール３９は、カバー層ＬＣＧ（より正確にはバンドパスフィルター層ＬＢＰ）の表面がウエハ面と同じ高さ（同一面）になるよう、ウエハテーブルＷＴＢ上面に設置されている。また、カバー層ＬＣＧ（及び接着層ＬＧ）は実際には、反射型回折格子ＬＧＲの計測に際して無視できる程度に薄く、ウエハテーブルＷＴＢに保持されたウエハＷの表面と反射型回折格子ＬＧＲの面位置とは、実質的に同一面であるとみなせる。このため、ウエハ上のアライメントマークを検出する後述する５つのアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4により、ウエハ上のアライメントマークを検出するのと同様のフォーカス調整状態で、反射型回折格子を検出することができる。なお、接着層ＬＧは必須ではなく、接着層が無いスケール３９を用いても構わない。
【００４６】
また、ウエハテーブルＷＴＢの−Ｙ端面，−Ｘ端面には、図２に示されるように、後述する干渉計システムで用いられる反射面１７ａ，反射面１７ｂが形成されている。
【００４７】
さらに、ステージ本体９１の−Ｙ側の側面には、図１に示されるように、後述するＺ干渉計で用いられる、凹形状の反射面を有する移動鏡４１が取り付けられている。移動鏡４１は、図２からわかるように、Ｘ軸方向の長さがウエハテーブルＷＴＢの反射面１７ａよりも長い。
【００４８】
前記計測ステージＭＳＴは、ＸＹ平面内で移動可能なステージ本体９２と、該ステージ本体９２上に搭載された計測テーブルＭＴＢとを含んでいる。計測テーブルＭＴＢは、不図示のＺレベリング機構を介してステージ本体９２上に搭載されている。しかしながら、これに限らず、例えば、計測テーブルＭＴＢを、ステージ本体９２に対してＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθｚ方向に微動可能に構成したいわゆる粗微動構造の計測ステージＭＳＴを採用しても良いし、あるいは、計測テーブルＭＴＢをステージ本体９２に固定し、その計測テーブルＭＴＢとステージ本体９２とを含む計測ステージＭＳＴの全体を６自由度方向に駆動可能な構成にしても良い。
【００４９】
計測テーブルＭＴＢ（及びステージ本体９２）には、各種計測用部材が設けられている。この計測用部材としては、図４に示されるように、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に開示される計測ステージと同様に、投影光学系ＰＬの像面上で照明光ＩＬを受光するピンホール状の受光部を有する照度むらセンサ９４、投影光学系ＰＬにより投影されるパターンの空間像（投影像）を計測する空間像計測器９６、及び例えばシャック−ハルトマン（Shack-Hartman）方式の波面収差計測器９８などが採用されている。
【００５０】
なお、本実施形態では、投影光学系ＰＬと液体（水）Ｌｑとを介して露光光（照明光）ＩＬによりウエハＷを露光する液浸露光が行われるのに対応して、照明光ＩＬを用いる計測に使用される上記の照度むらセンサ９４（及び照度モニタ）、空間像計測器９６、並びに波面収差計測器９８では、投影光学系ＰＬ及び水Ｌｑを介して照明光ＩＬを受光することとなる。また、各センサは、例えば光学系などの一部だけが計測テーブルＭＴＢ（及びステージ本体９２）に搭載されていても良いし、センサ全体を計測テーブルＭＴＢ（及びステージ本体９２）に配置するようにしても良い。
【００５１】
ステージ本体９２の−Ｙ側の端面には、前述した一対の送光系に対向し得る配置で、一対の受光系（不図示）が固定されている。各受光系は、リレーレンズなどの光学系と、受光素子、例えばフォトマルチプライヤチューブなどと、これらを収納する筐体とによって構成されている。本実施形態では、ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとが、Ｙ軸方向に関して所定距離以内に近接した状態（接触状態を含む）で、計測プレート３０の各空間像計測スリットパターンＳＬを透過した照明光ＩＬが前述の各送光光学系で案内され、各受光系内部の各受光素子で受光される。すなわち、本実施形態では、米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に開示される露光装置と同様に、前述の一対の送光光学系と、一対の受光系とにより、一対の空間像計測装置４５が構成される（図８参照）。
【００５２】
計測テーブルＭＴＢの−Ｙ側の面には、図１及び図４に示されるように、米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に開示されるＣＤバーと同様の、Ｘ軸方向に延びるフィデューシャルバー（以下、「ＦＤバー」と略述する）４６が取り付けられている。ＦＤバー４６の長手方向の一側と他側の端部近傍には、センターラインに関して対称な配置で、Ｙ軸方向を周期方向とする不図示の基準格子（例えば回折格子）が相互に所定距離を隔てて配置されている。また、ＦＤバー４６の上面には、後述するアライメント系によって検出可能な寸法の基準マーク、例えば２次元マークが、複数形成されている。ＦＤバー４６は、フルキネマティックマウント構造によって、計測ステージＭＳＴ上にキネマティックに支持されている。なお、本実施形態ではＦＤバー４６の表面、及び計測テーブルＭＴＢ（前述の計測用部材を含んでも良い）の表面もそれぞれ撥液膜（撥水膜）で覆われている。
【００５３】
計測テーブルＭＴＢの＋Ｙ端面、−Ｘ端面も前述したウエハテーブルＷＴＢと同様の反射面１９ａ、１９ｂが形成されている（図４参照）。
【００５４】
計測システム２００は、図８に示されるように、干渉計システム１１８、エンコーダシステム１５０及び面位置計測システム１８０などを含む。
【００５５】
干渉計システム１１８は、図４に示されるように、反射面１７ａ又は１７ｂにそれぞれ干渉計ビーム（測長ビーム）を照射し、その反射光を受光して、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置を計測するＹ干渉計１６及び３つのＸ干渉計１２６〜１２８と、一対のＺ干渉計４３Ａ，４３Ｂとを備えている。また、干渉計システム１１８は、この他、反射面１９ａ又は１９ｂにそれぞれ干渉計ビーム（測長ビーム）を照射し、その反射光を受光して、計測ステージＭＳＴのＸＹ平面内の位置を計測するＹ干渉計１８及びＸ干渉計１３０を備えている。
【００５６】
これをさらに詳述すると、Ｙ干渉計１６は、基準軸ＬＶに関して対称な一対の測長ビームＢ４1，Ｂ４2を含む少なくとも３つのＹ軸に平行な測長ビームを反射面１７ａ、及び移動鏡４１に照射する。また、Ｘ干渉計１２６は、図４に示されるように、光軸ＡＸと基準軸ＬＶとに直交するＸ軸に平行な直線（以下、基準軸と呼ぶ）ＬＨに関して対称な一対の測長ビームＢ５1，Ｂ５2を含む少なくとも３つのＸ軸に平行な測長ビームを反射面１７ｂに照射する。また、Ｘ干渉計１２７は、後述するプライマリアライメント系ＡＬ１の検出中心にて基準軸ＬＶと直交するＸ軸に平行な直線（以下、基準軸と呼ぶ）ＬＡを測長軸とする測長ビームＢ６を含む少なくとも２つのＹ軸に平行な測長ビームを反射面１７ｂに照射する。また、Ｘ干渉計１２８は、Ｙ軸に平行な測長ビームＢ７を反射面１７ｂに照射する。
【００５７】
干渉計システム１１８の上記各干渉計からの位置情報は、主制御装置２０に供給される。主制御装置２０は、Ｙ干渉計１６及びＸ干渉計１２６又は１２７の計測結果に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）のＸ，Ｙ位置に加え、θｘ方向の回転情報（すなわちピッチング）、θｙ方向の回転情報（すなわちローリング）、及びθｚ方向の回転情報（すなわちヨーイング）も算出することができる。また、主制御装置２０は、Ｙ干渉計１８及びＸ干渉計１３０の計測結果に基づいて、計測テーブルＭＴＢ（計測ステージＭＳＴ）の位置情報（少なくともＸ軸及びＹ軸方向の位置情報とθｚ方向の回転情報とを含む）を算出する。
【００５８】
一対のＺ干渉計４３Ａ，４３Ｂは、前述の移動鏡４１を介して、例えば投影ユニットＰＵを支持するフレーム（不図示）に固定された固定鏡４７Ａ，４７Ｂにそれぞれ２つのＹ軸に平行な測長ビームＢ１，Ｂ２を照射し、それぞれの反射光を受光して、測長ビームＢ１，Ｂ２の光路長を計測する。その結果より、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴの４自由度方向（Ｙ軸，Ｚ軸，θｙ，θｚの各方向）の位置を算出する。
【００５９】
なお、エンコーダシステム１５０及び面位置計測システム１８０については、次に説明するアライメント系の説明の後に説明する。
【００６０】
本実施形態の露光装置１００では、図１では図面の錯綜を避ける観点から図示が省略されているが、実際には、図５及び図６に示されるように、投影ユニットＰＵの中心（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ、本実施形態では前述の露光領域ＩＡの中心とも一致）を通る前述の基準軸ＬＶ上で、光軸ＡＸから−Ｙ側に所定距離隔てた位置に検出中心を有するプライマリアライメント系ＡＬ１が設けられている。プライマリアライメント系ＡＬ１は、不図示のメインフレームの下面に固定されている。図６に示されるように、プライマリアライメント系ＡＬ１を挟んで、Ｘ軸方向の一側と他側には、基準軸ＬＶに関してほぼ対称に検出中心が配置されるセカンダリアライメント系ＡＬ２1，ＡＬ２2と、ＡＬ２3，ＡＬ２4とがそれぞれ設けられている。セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4は、可動式の支持部材を介してメインフレーム（不図示）の下面に固定されており、駆動機構６０1〜６０4（図８参照）により、Ｘ軸方向に関してそれらの検出領域の相対位置が調整可能となっている。なお、セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4をＹ軸方向に関して可動な構成にしても良い。
【００６１】
本実施形態では、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4のそれぞれとして、例えば画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられている。アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4のそれぞれからの撮像信号は、不図示の信号処理系を介して主制御装置２０に供給される。
【００６２】
本実施形態の露光装置１００には、干渉計システム１１８とは独立に、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内での位置（Ｘ，Ｙ，θｚ）を計測するために、エンコーダシステム１５０を構成する複数のヘッドユニットが設けられている。
【００６３】
図５に示されるように、投影ユニットＰＵの＋Ｘ側、＋Ｙ側、−Ｘ側、及びプライマリアライメント系ＡＬ１の−Ｙ側に、４つのヘッドユニット６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ、及び６２Ｄが、それぞれ配置されている。また、アライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4のＸ軸方向の両外側にヘッドユニット６２Ｅ、６２Ｆが、それぞれ設けられている。ヘッドユニット６２Ａ〜６２Ｆは、支持部材を介して、投影ユニットＰＵを保持するメインフレーム（不図示）に吊り下げ状態で固定されている。なお、図５において、符号ＵＰは、ウエハステージＷＳＴ上にあるウエハのアンロードが行われるアンローディングポジションを示し、符号ＬＰは、ウエハステージＷＳＴ上への新たなウエハのロードが行われるローディングポジションを示す。
【００６４】
ヘッドユニット６２Ａ、６２Ｃは、図６に示されるように、前述の基準軸ＬＨ上に間隔ＷＤで配置された複数（ここでは５個）のＹヘッド６５1〜６５5、Ｙヘッド６４1〜６４5を、それぞれ備えている。以下では、必要に応じて、Ｙヘッド６５1〜６５5及びＹヘッド６４1〜６４5を、それぞれ、Ｙヘッド６５及びＹヘッド６４とも表記する。
【００６５】
ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃは、Ｙスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2を用いて、ウエハステージＷＳＴ（ウエハテーブルＷＴＢ）のＹ軸方向の位置（Ｙ位置）を計測する多眼のＹリニアエンコーダ７０Ａ，７０Ｃ（図８参照）を構成する。なお、以下では、Ｙリニアエンコーダを、適宜、「Ｙエンコーダ」又は「エンコーダ」と略記する。
【００６６】
ヘッドユニット６２Ｂは、図６に示されるように、投影ユニットＰＵの＋Ｙ側に配置され、基準軸ＬＶ上に間隔ＷＤで配置された複数（ここでは４個）のＸヘッド６６5〜６６8を備えている。また、ヘッドユニット６２Ｄは、プライマリアライメント系ＡＬ１の−Ｙ側に配置され、基準軸ＬＶ上に間隔ＷＤで配置された複数（ここでは４個）のＸヘッド６６1〜６６4を備えている。以下では、必要に応じて、Ｘヘッド６６5〜６６8及びＸヘッド６６1〜６６4をＸヘッド６６とも表記する。
【００６７】
ヘッドユニット６２Ｂ，６２Ｄは、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2を用いて、ウエハステージＷＳＴ（ウエハテーブルＷＴＢ）のＸ軸方向の位置（Ｘ位置）を計測する多眼のＸリニアエンコーダ７０Ｂ，７０Ｄ（図８参照）を構成する。なお、以下では、Ｘリニアエンコーダを、適宜、「Ｘエンコーダ」又は「エンコーダ」と略記する。
【００６８】
ここで、ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃがそれぞれ備える５個のＹヘッド６５，６４（より正確には、Ｙヘッド６５，６４が発する計測ビームのスケール上の照射点）のＸ軸方向の間隔ＷＤは、露光の際などに、少なくとも１つのヘッドが、常に、対応するＹスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2に対向する（計測ビームを照射する）ように定められている。同様に、ヘッドユニット６２Ｂ，６２Ｄがそれぞれ備える隣接するＸヘッド６６（より正確には、Ｘヘッド６６が発する計測ビームのスケール上の照射点）のＹ軸方向の間隔ＷＤは、露光の際などに、少なくとも１つのヘッドが、常に、対応するＸスケール３９Ｘ1又は３９Ｘ2に対向する（計測ビームを照射する）ように定められている。
【００６９】
なお、ヘッドユニット６２Ｂの最も−Ｙ側のＸヘッド６６5とヘッドユニット６２Ｄの最も＋Ｙ側のＸヘッド６６4との間隔は、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動により、その２つのＸヘッド間で切り換え（つなぎ）が可能になるように、ウエハテーブルＷＴＢのＹ軸方向の幅よりも狭く設定されている。
【００７０】
ヘッドユニット６２Ｅは、図６に示されるように、複数（ここでは４個）のＹヘッド６７1〜６７4を備えている。ヘッドユニット６２Ｆは、複数（ここでは４個）のＹヘッド６８1〜６８4を備えている。Ｙヘッド６８1〜６８4は、基準軸ＬＶに関して、Ｙヘッド６７4〜６７1と対称な位置に配置されている。以下では、必要に応じて、Ｙヘッド６７4〜６７1及びＹヘッド６８1〜６８4を、それぞれＹヘッド６７及びＹヘッド６８とも記述する。
【００７１】
アライメント計測の際には、少なくとも各１つのＹヘッド６７，６８が、それぞれＹスケール３９Ｙ2，３９Ｙ1に対向する。Ｙヘッド６７，６８（すなわち、Ｙヘッド６７，６８によって構成されるＹエンコーダ７０Ｅ，７０Ｆ（図８参照））によってウエハステージＷＳＴのＹ位置（及びθｚ回転）が計測される。
【００７２】
また、本実施形態では、例えばＦＤバーを用いるセカンダリアライメント系のベースライン計測時などに、セカンダリアライメント系ＡＬ２1，ＡＬ２4にＸ軸方向で隣接するＹヘッド６７3，６８2が、ＦＤバー４６の一対の基準格子（不図示）とそれぞれ対向し、その一対の基準格子と対向するＹヘッド６７3，６８2によって、ＦＤバー４６のＹ位置が、それぞれの基準格子の位置で計測される。以下では、ＦＤバー４６の一対の基準格子５２（不図示）にそれぞれ対向するＹヘッド６７3，６８2によって構成されるエンコーダをＹリニアエンコーダ７０Ｅ2，７０Ｆ2（図８参照）と呼ぶ。また、識別のため、Ｙスケール３９Ｙ2，３９Ｙ1に対向するＹヘッド６７，６８によって構成されるＹエンコーダを、Ｙエンコーダ７０Ｅ1，７０Ｆ1と呼ぶ。
【００７３】
なお、各エンコーダヘッド（Ｙヘッド、Ｘヘッド）として、例えば、米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に開示されている干渉型のエンコーダヘッドを用いることができる。この種のエンコーダヘッドでは、２つの計測ビームを対応するスケールに照射し、それぞれの戻り光を干渉させ、その干渉光の強度を、光検出器を介して計測する。その干渉光の強度変化より、格子ピッチの４分の１を計測単位として、スケールの計測方向（回折格子の周期方向）への変位を計測する。
【００７４】
さらに、本実施形態の露光装置１００では、図５及び図７に示されるように、照射系９０ａ及び受光系９０ｂから成る多点焦点位置検出系（以下、「多点ＡＦ系」と略述する）が設けられている。多点ＡＦ系としては、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書等に開示されるものと同様の構成の斜入射方式を採用している。本実施形態では、一例として、前述のヘッドユニット６２Ｅの−Ｘ端部の＋Ｙ側に照射系９０ａが配置され、これに対峙する状態で、前述のヘッドユニット６２Ｆの＋Ｘ端部の＋Ｙ側に受光系９０ｂが配置されている。なお、多点ＡＦ系（９０ａ，９０ｂ）は、投影ユニットＰＵを保持するメインフレームの下面に固定されている。
【００７５】
図５及び図７では、それぞれ検出ビームが照射される複数の検出点が、個別に図示されず、照射系９０ａ及び受光系９０ｂの間でＸ軸方向に延びる細長い検出領域（ビーム領域）ＡＦとして示されている。検出領域ＡＦは、Ｘ軸方向の長さがウエハＷの直径と同程度に設定されているので、ウエハＷをＹ軸方向に１回スキャンするだけで、ウエハＷのほぼ全面でＺ軸方向の位置情報（面位置情報）を計測できる。
【００７６】
図７に示されるように、多点ＡＦ系（９０ａ，９０ｂ）の検出領域ＡＦの両端部近傍に、基準軸ＬＶに関して対称な配置で、面位置計測システム１８０の一部を構成する各一対のＺ位置計測用のヘッド（以下、「Ｚヘッド」と略記する）７２ａ，７２ｂ、及び７２ｃ，７２ｄが設けられている。これらのＺヘッド７２ａ〜７２ｄは、不図示のメインフレームの下面に固定されている。
【００７７】
Ｚヘッド７２ａ〜７２ｄとしては、例えば、ＣＤドライブ装置などで用いられる光ピックアップと同様の光学式変位センサのヘッドが用いられる。Ｚヘッド７２ａ〜７２ｄは、ウエハテーブルＷＴＢに対し上方から計測ビームを照射し、その反射光を受光して、照射点におけるウエハテーブルＷＴＢの面位置を計測する。なお、本実施形態では、Ｚヘッドの計測ビームは、前述のＹスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2のバンドパスフィルター層ＬＢＰによって反射される構成を採用している。
【００７８】
さらに、前述のヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃは、図７に示されるように、それぞれが備える５つのＹヘッド６５j，６４i（ｉ，ｊ＝１〜５）と同じＸ位置に、ただしＹ位置をずらして、それぞれ５つのＺヘッド７６j，７４i（ｉ，ｊ＝１〜５）を備えている。そして、ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃのそれぞれに属する５つのＺヘッド７６j，７４iは、互いに基準軸ＬＶに関して対称に配置されている。なお、各Ｚヘッド７６j，７４iとしては、前述のＺヘッド７２ａ〜７２ｄと同様の光学式変位センサのヘッドが採用される。
【００７９】
上述したＺヘッド７２ａ〜７２ｄ，７４1〜７４5，７６1〜７６5は、図８に示されるように、信号処理・選択装置１７０を介して主制御装置２０に接続されており、主制御装置２０は、信号処理・選択装置１７０を介してＺヘッド７２ａ〜７２ｄ，７４1〜７４5，７６1〜７６5の中から任意のＺヘッドを選択して作動状態とし、その作動状態としたＺヘッドで検出した面位置情報を信号処理・選択装置１７０を介して受け取る。本実施形態では、Ｚヘッド７２ａ〜７２ｄ，７４1〜７４5，７６1〜７６5と、信号処理・選択装置１７０とを含んでウエハステージＷＳＴのＺ軸方向及びＸＹ平面に対する傾斜方向の位置情報を計測する面位置計測システム１８０が構成されている。
【００８０】
本実施形態では、主制御装置２０は、面位置計測システム１８０（図８参照）を用いて、ウエハステージＷＳＴの有効ストローク領域、すなわち露光及びアライメント計測のためにウエハステージＷＳＴが移動する領域において、その２自由度方向（Ｚ，θｙ）の位置座標を計測する。
【００８１】
図８には、露光装置１００の制御系の主要な構成が示されている。この制御系は、装置全体を統括的に制御するマイクロコンピュータ（又はワークステーション）から成る主制御装置２０を中心として構成されている。
【００８２】
上述のようにして構成された本実施形態に係る露光装置１００では、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書の実施形態中に開示されている手順と同様の手順に従って、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを用いた並行処理が、主制御装置２０によって実行される。ただし、本実施形態に係る露光装置１００では、米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書の実施形態中に開示されている露光装置で、ウエハ交換毎というインターバルでＦＤバー４６を用いて行われるセカンダリアライメント系のベースライン計測は、ロット毎に行われ、ウエハ交換毎というインターバルでは、Ｘスケール３９Ｘ2を用いて後述するSec-BCHK（インターバル）が行われる。
【００８３】
本実施形態では、主制御装置２０は、エンコーダシステム１５０（図８参照）を用いることにより、ウエハステージＷＳＴの有効ストローク領域、すなわちアライメント及び露光動作のためにウエハステージＷＳＴが移動する領域において、その３自由度（Ｘ，Ｙ，θｚ）方向の位置座標を計測する。しかし、エンコーダシステム１５０の各ヘッドから計測ビームが照射される、各スケール（３９Ｙ1，３９Ｙ2，３９Ｘ1，３９Ｘ2）に形成された回折格子（スケール）は、長時間の使用において、機械的あるいは熱的な力が加えられて伸縮することがある。特に、液浸領域の液体Ｌｑに触れる頻度が他のスケールに比べて高いＸスケール３９Ｘ1は、残存した液体Ｌｑが気化する際の気化熱の影響を受け易い。しかるに、エンコーダシステム１５０では前述したように各スケール（３９Ｙ1，３９Ｙ2，３９Ｘ1，３９Ｘ2）に形成された回折格子の周期（格子ピッチ）の４分の１を計測単位としている。すなわち、回折格子の周期（格子ピッチ）は、エンコーダシステム１５０によるウエハステージＷＳＴ（ウエハＷ）の位置計測の基準となる。従って、上述した回折格子（スケール）の伸縮は、エンコーダシステム１５０の計測誤差、ひいては例えば露光の際のウエハＷの位置制御誤差の要因となる。
【００８４】
また、本実施形態では、前述した米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書の実施形態中に開示されている露光装置などと同様に、ウエハＷのアライメント計測（ＥＧＡなど）に際して、特にウエハのＸスケーリングは、セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4それぞれの検出中心とプライマリアライメント系ＡＬ１の検出中心とのＸ間隔、すなわちセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4それぞれのＸ軸方向に関するベースラインがその基準となる。ここで、前述の如く、セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4は、Ｙ軸方向に関して可動ではないため、以下では、便宜上、セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4それぞれのＹ軸方向のベースラインは変動せず、Ｘ軸方向に関するベースラインのみが変動するものとする。また、セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースラインとは、Ｘ軸方向に関するベースラインを意味するものとする。
【００８５】
ここで、本実施形態に係る露光装置１００で、ロット毎というインターバルで、ＦＤバー４６を用いて行われるセカンダリアライメント系のベースライン計測、及びこれに伴って行われる、アライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いるＸスケール３９Ｘ1、３９Ｘ2の伸縮率の計測について説明する。
【００８６】
まず、Ｘスケール３９Ｘ1、３９Ｘ2の伸縮率の計測の基準となるスケールの回折格子の周期方向の基準長さ（周期に対応）の計測方法の一例について説明する。
【００８７】
まず、露光装置の起動時、又はアイドル後の再始動時など、処理開始後の最初のロット先頭のウエハの処理開始前に、主制御装置２０は、例えばセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4の正確なベースライン計測を実行する。例えば、米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に記載される露光装置と同様、ＦＤバー４６を用いて、セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースライン計測を行う。
【００８８】
このセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースライン計測に際しては、主制御装置２０は、プライマリアライメント系ＡＬ１の検出中心が配置される基準軸ＬＶと計測テーブルＭＴＢのセンターラインがほぼ一致し、かつＦＤバー４６がプライマリアライメント系ＡＬ１及びセカンダリアライメント系ＡＬ２nに対向するように計測ステージＭＳＴを移動する。そして、主制御装置２０は、ＦＤバー４６上の一対の基準格子５２それぞれと対向する一対のＹヘッド（Ｙ軸リニアエンコーダ７０Ｅ，７０Ｆ）の計測値に基づいて、ＦＤバー４６のθｚ回転を調整するとともに、計測テーブルＭＴＢのセンターライン上又はその近傍に位置する基準マークＭを検出するプライマリアライメント系ＡＬ１の計測値に基づいて、例えば干渉計の計測値を用いてＦＤバー４６のＸＹ位置を調整する。そして、この状態で、４つのセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いて、それぞれのセカンダリアライメント系の視野内にあるＦＤバー４６上の基準マークを同時に計測することで、４つのセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースラインをそれぞれ求める。なお、セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースライン計測中は、液浸領域１４は、投影光学系ＰＬと計測テーブルＭＴＢとの間に保持される。勿論、他の方法、例えばウエハテーブルＷＴＢをＸ軸方向にステップ移動しつつ、基準マークＦＭを、プライマリアライメント系ＡＬ１及びセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4で順次検出して、セカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースラインをそれぞれ求めることとしても良い。
【００８９】
主制御装置２０は、上記のセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースラインの正確な計測処理を実行後、以下のような処理を行う。
【００９０】
すなわち、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴの６自由度（Ｘ，Ｙ，Ｚ，θｘ，θｙ，θｚ）方向の位置を干渉計システム１１８を用いて計測し、その計測結果に基づいて、ウエハステージＷＳＴを駆動し、図９に示されるように、Ｘスケール３９Ｘ1をアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4の直下に位置決めする。位置決め後、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1、ＡＬ２2、ＡＬ２3、ＡＬ２4のうち２つを用いてＸスケール３９Ｘ1（回折格子）を同時に検出する。この処理をアライメント系の組み合わせを変えてくり返す。このとき、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4は、アライメント計測（ウエハ面上のアライメントマークの検出）の際と等しいフォーカス設定（焦点位置の設定）がなされている。
【００９１】
図１０（Ａ）にはアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4（厳密にはアライメント系を模擬した評価装置）によるＸスケール３９Ｘ1（回折格子）の検出結果の一例が示されている。本実施形態では、例えばＸ軸方向の寸法が約３０μｍの領域内にＸ軸方向に配列された約３０本の格子線が撮像されている。前述の通り、Ｘスケール３９Ｘ1のカバー層が薄いことにより、Ｘスケール３９Ｘ1（回折格子）が明確に検出できることがわかる。図１０（Ｂ）には、図１０（Ａ）の検出結果から求められるＸスケール３９Ｘ1上のＸ位置に対する検出信号（像強度信号）の波形の一例が示されている。この結果からも、格子線の配列に対応する像強度の変化を十分な分解能で検出できることが分かる。
【００９２】
主制御装置２０は、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4それぞれの検出結果から、検出されたＸスケール３９Ｘ1上の格子線（特定の格子線、例えば、検出中心の最も近くに位置する格子線）のＸ位置（検出中心を基準とするＸ位置）を求める。あるいは、主制御装置２０は、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4の検出領域内に位置する複数本の格子線全体のＸ位置（検出中心を基準とするＸ位置）を求めても良い。複数の格子線を利用することで、計測再現性を高めることができる。この場合、主制御装置２０は、例えばプライマリアライメント系ＡＬ１の検出結果から求められる格子線のＸ位置（ＸAL1,0と表記する）を基準にしてセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のそれぞれの検出結果から求められる各格子線のＸ位置を求める。すなわち、主制御装置２０は、Ｘ位置ＸAL1,0の格子線と上記各格子線とのＸ軸方向の間隔（それぞれ，ＸAL21,0〜ＸAL24,0と表記する）を求める。前述の如く、直前にセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースラインが正確に求められているので、プライマリアライメント系ＡＬ１の検出中心とセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4それぞれの検出中心とのＸ軸方向の位置関係は既知である。従って、主制御装置２０は、間隔ＸAL21,0〜ＸAL24,0を、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4それぞれで検出されるＸスケール３９Ｘ1上の格子線のＸ位置から、容易に求めることができる。
【００９３】
２つのアライメント系を組にして同時計測をおこなった結果から、格子線同士の間隔を求めることにしたので、次のようなメリットがある。前述の通り、主制御装置２０は、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いてＸスケール３９Ｘ1を検出する際に、干渉計システム１１８を用いてウエハステージＷＳＴの位置を計測し、その計測結果に基づいてウエハステージＷＳＴを駆動し、Ｘスケール３９Ｘ1の検出中も干渉計システム１１８の計測結果に基づいてウエハステージＷＳＴを位置制御（静止状態にサーボ制御）している。このため、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4の検出結果から、それぞれ格子線のＸ位置を求めると、検出中の干渉計システム１１８の計測ビームの空気揺らぎに起因するウエハステージＷＳＴのＸ位置の計測結果に含まれるランダムな計測誤差が、求められた格子線のＸ位置に含まれることとなる。
【００９４】
これに対し、本実施形態では、同時に計測した二つのアライメント系のデータから格子線の間隔、すなわちＸ位置の差を求めることとしたので、仮に検出中に干渉計システム１１８の計測ビームの空気揺らぎに起因するウエハステージＷＳＴのＸ位置の計測結果に含まれるランダムな計測誤差があっても、その計測誤差は相殺され、求められる格子線の間隔はその影響を受けない。このことは、干渉計システム１１８に限らず、その他の位置計測系を用いてＸスケール３９Ｘ1の検出中のウエハステージＷＳＴの位置を制御する場合であっても同様である。
【００９５】
主制御装置２０は、上で求めた間隔ＸAL21,0〜ＸAL24,0をメモリ（不図示）に記憶する。
【００９６】
次に、主制御装置２０は、前述と同様にしてウエハステージＷＳＴを駆動し、図１１に示されるように、Ｘスケール３９Ｘ2をアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4の直下に位置決めする。位置決め後、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4のそれぞれを用いてＸスケール３９Ｘ2（回折格子）を検出する。以下、上と同様に、Ｘスケール３９Ｘ2の検出結果から間隔ＸAL21,0〜ＸAL24,0を求め、メモリ（不図示）に記憶する。
【００９７】
ここで、この時点でメモリに記憶されている、Ｘスケール３９Ｘ1の検出結果から求められた間隔ＸAL21,0〜ＸAL24,0、及びＸスケール３９Ｘ2の検出結果から求められた間隔ＸAL21,0〜ＸAL24,0は、それぞれＸスケール３９Ｘ1、Ｘスケール３９Ｘ2の伸縮率の算出の基準として用いられる。
【００９８】
既に述べたとおり、各スケールが伸縮することが考えられる。そこで、主制御装置２０は、後続のウエハ（１枚毎、あるいは所定枚数毎でも良い）処理の先頭で、前述と同様、ウエハステージＷＳＴを駆動し、図９に示されるように、Ｘスケール３９Ｘ1をアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4の直下に位置決めする。位置決め後、主制御装置２０は、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いてＸスケール３９Ｘ1を検出し、その検出結果から求められる格子線のＸ軸方向に関する間隔ＸAL21,1〜ＸAL24,1を求め、メモリ（不図示）に記憶する。
【００９９】
次に、主制御装置２０は、前述と同様、ウエハステージＷＳＴを駆動し、図１１に示されるように、Ｘスケール３９Ｘ2をアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4の直下に位置決めする。位置決め後、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4のそれぞれを用いてＸスケール３９Ｘ2（回折格子）を検出する。以下、上と同様に、Ｘスケール３９Ｘ2の検出結果から間隔ＸAL21,1〜ＸAL24,1を求め、メモリ（不図示）に記憶する。なお、図１１からわかるように、Ｘスケール３９Ｘ2（回折格子）の検出に際しては、ヘッドユニット６２Ａ、６２ＣがそれぞれＹスケール３９Ｙ1、３９Ｙ2に対向し、かつヘッドユニット６２Ｂが、Ｘスケール３９Ｘ1に対向しているので、干渉計システム１１８に代えて、エンコーダシステム１５０及び面位置計測システム１８０を用いてウエハステージＷＳＴの位置を計測しても良い。
【０１００】
そして、主制御装置２０は、Ｘスケール３９Ｘ1の伸縮率Ｓｘ1を、例えばＳｘ1＝Σｉ＝１〜４（ＸAL2i,1−ＸAL2i,0）／ＸAL2i,0／４として求める。主制御装置２０は、Ｘスケール３９Ｘ2の伸縮率Ｓｘ2を、同様の演算で求める。
【０１０１】
ここで、上述の伸縮率Ｓｘ1がゼロでない場合、Ｘスケール３９Ｘ1が伸縮し、エンコーダ７０Ｂの計測値に計測誤差が含まれることを意味する。同様に、伸縮率Ｓｘ2がゼロでない場合、Ｘスケール３９Ｘ2が伸縮し、エンコーダ７０Ｄの計測値に計測誤差が含まれることを意味する。
【０１０２】
なお、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の伸縮はエンコーダ７０Ｂ，７０Ｄの計測単位の増減として現れる。かかる場合、主制御装置２０は、例えば、エンコーダ７０Ｂ，７０Ｄの計測単位に伸縮率Ｓｘ1、Ｓｘ2を加え、以降、その計測単位を用いてウエハステージＷＳＴの位置を計測する。これにより、エンコーダシステム１５０（エンコーダ７０Ｂ，７０Ｄ）が較正される。
【０１０３】
以上の処理により、たとえアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4のＸ間隔に伸縮が生じたとしても、アライメント系ＡＬ１、ＡＬ２1〜ＡＬ２4のＸ間隔の伸縮率と、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2（回折格子）の周期方向の伸縮率（周期の伸縮率に等しい）とが、合わせられる。すなわち、ウエハのアライメント計測、特にウエハのＸスケーリング計測の基準となるセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4それぞれのＸ軸方向に関するベースラインの伸縮率と、そのウエハのアライメント計測の結果に基づく、露光の際のウエハＷの位置制御、特にＸ軸方向に関する位置制御の基準となるＸスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2（回折格子）の周期方向の伸縮率とが合わせられる。従って、アライメント系のＸ間隔に誤差があっても、ウエハのアライメント計測と露光の際の位置制御とで誤差が相殺され、露光結果に伸縮誤差は発生しなくなる。
【０１０４】
主制御装置２０は、ロット処理に際し、ウエハアライメント計測の際のアライメントマークの計測に際し、最新のセカンダリアライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースラインを考慮するとともに、特に露光の際に較正済みのエンコーダ７０Ｂ、７０Ｄを含むエンコーダシステム１５０（エンコーダ７０Ａ〜７０Ｄ）を用いてウエハステージＷＳＴの位置を計測し、その結果に基づいて、ウエハアライメント計測の結果に従ってウエハステージＷＳＴの位置を制御する。これにより、ステップ・アンド・スキャン方式の露光により、ウエハ上の複数のショット領域のそれぞれにレチクルＲのパターンが重ね合わせ精度良く転写される。
【０１０５】
以上詳細に説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ上に設けられたＸ軸方向を周期方向とするＸスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2を、Ｘ軸方向に離間するアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いて検出することにより、Ｘスケール３９Ｘ1、３９Ｘ2の伸縮率の計測の基準となるスケールの回折格子の周期方向の基準長さ（周期に対応）、すなわち前述の間隔ＸAL21,0〜ＸAL24,0を、露光装置１００の露光装置の起動時、又はアイドル後の再始動時、あるいはセカンダリアライメント系の位置を変更した際など、処理開始後の最初のロット先頭のウエハの処理開始前に求める。
【０１０６】
そして、複数のウエハに対する処理が開始されると、主制御装置２０は、所定枚数毎のウエハ先頭毎に、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2を、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いて検出することにより、Ｘスケールの回折格子の周期方向の長さ（格子線のＸ軸方向に関する間隔ＸAL21,1〜ＸAL24,1）を求める。そして、主制御装置２０は、Ｘスケール３９Ｘ1の伸縮率Ｓｘ1を、例えばＳｘ1＝Σｉ＝１〜４（ＸAL2i,1−ＸAL2i,0）／ＸAL2i,0／４として求める。主制御装置２０は、Ｘスケール３９Ｘ2の伸縮率Ｓｘ2を同様にして求める。そして、主制御装置２０は、伸縮率Ｓｘ1、Ｓｘ2を用いることでエンコーダシステム１５０（エンコーダ７０Ｂ，７０Ｄ）を較正する、すなわちＸスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の伸縮に起因するエンコーダ７０Ｂ，７０Ｄの計測誤差を補正することができる。
【０１０７】
また、上述した伸縮率Ｓｘ1、Ｓｘ2を用いるエンコーダシステム１５０（エンコーダ７０Ｂ，７０Ｄ）の較正方法によると、短時間で効率良くエンコーダシステム１５０を較正することが可能になる。本実施形態に係るエンコーダシステムの較正方法では、その較正のためのウエハステージＷＳＴの駆動制御において、干渉計システム１１８を用いているが、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の周期（格子線の間隔）を求める際に、２つのアライメント系の計測を同時におこなっている。このため、仮にＸスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の検出中に干渉計システム１１８の計測ビームの空気揺らぎに起因するウエハステージＷＳＴのＸ位置の計測結果に含まれるランダムな計測誤差があっても、その計測誤差は相殺されるため、干渉計の揺らぎ誤差により再現性の低下を招くことなく、短い時間で較正することが可能になる。
【０１０８】
また、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の両方を検出してエンコーダ７０Ｂ，７０Ｄを較正することにより、露光時に主として用いられるエンコーダ７０Ｂと専らアライメント計測時に用いられるエンコーダ７０Ｄとの計測単位を統一することができる。これにより、露光時とアライメント時とで、同じ精度でウエハステージＷＳＴの位置を計測することが可能になる。
【０１０９】
また、本実施形態に係る露光装置１００によると、ウエハ交換毎というインターバルで行われる、Sec-BCHK（インターバル）を、実施することなく、セカンダリアライメント系のＸ間隔と、Ｘスケールの計測単位の関係を合わせることができる。
【０１１０】
また、本実施形態に係る露光装置１００によると、主制御装置２０は、ロット処理に際し、露光の際には較正済みのエンコーダシステム１５０によるウエハステージＷＳＴの位置の計測値に基づいて、ウエハアライメント計測の結果に従ってウエハステージＷＳＴを駆動する。これにより、ステップ・アンド・スキャン方式の露光により、ウエハ上の複数のショット領域のそれぞれにレチクルＲのパターンを重ね合わせ精度良く転写することが可能になる。
【０１１１】
なお、上記実施形態では、露光装置１００が、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の格子線の配列を検出可能なアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を備えていることから、これを用いて、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の格子線の配列を検出する場合について例示した。しかしながら、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4に限らず、アライメント系とは別に、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の格子線の配列を検出可能な少なくも２つのセンサを設けても良い。ただし、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の伸縮に起因するエンコーダ７０Ｂ、７０Ｄ等の計測誤差の補正を目的としているので、エンコーダヘッドとは異なるセンサである必要がある。また、上記実施形態では、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の格子線の配列を検出可能なアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4が、ＦＩＡ系である場合について説明したが、これに限らず、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の格子線の配列を検出可能であれば、例えばコヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光又は回折光を検出する、あるいはその対象マークから発生する２つの回折光（例えば同次数の回折光、あるいは同方向に回折する回折光）を干渉させて検出するアライメントセンサを用いても良い。
【０１１２】
また、上記実施形態では、Ｘ軸方向に並んで配置されたアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いてスケール（回折格子）の格子線の配列を検出する場合を例としたことから、検出の対象が、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2である場合について説明した。しかし、アライメント系とは別に少なくも２つのセンサを設ける場合、そのうちの少なくとも２つを、Ｙ軸方向に離間して配置し、それらのセンサを用いて、上記実施形態と同様に、Ｙスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2の格子線の配列を検出することとしても良い。そして、前述と同様に、それらの検出結果からＹスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2の伸縮比を算出し、その伸縮比を用いて上記実施形態と同様にエンコーダ７０Ａ，７０Ｃ，７０Ｅ，７０Ｆを較正することとしても良い。あるいは、ウエハステージＷＳＴがθｚ方向に９０度回転が可能な構成であれば、ウエハステージＷＳＴをθｚ方向に９０度回転させた状態で、上記実施形態におけるＸスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2の検出と同様に、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いてＹスケール３９Ｙ1，３９Ｙ2の格子線の配列を検出することとしても良い。
【０１１３】
また、上記実施形態では、アライメント系ＡＬ２1〜ＡＬ２4のベースライン計測とＸスケールの伸縮率を求めるための計測とで一部の処理が共通となる場合を例としたため、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いてスケール（回折格子）の格子線の配列を検出する場合について説明した。しかしながら、スケールの伸縮率を求めるための計測のみを行うのであれば、５つのアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4のうちの任意の２つ、３つ、又は４つのアライメント系のみを用いることとしても良い。
【０１１４】
また、装置構成上可能であれば、前述したアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いるスケールの格子線の配列の検出の際のウエハステージＷＳＴの位置計測を、干渉計システム１１８以外、例えばエンコーダシステム１５０を用いて行うこととしても良い。かかる場合にも、前述の通りエンコーダシステムの計測誤差は相殺される。
【０１１５】
また、上記実施形態では、一次元格子（Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2）を検出する場合について例示したが、二次元格子を検出する場合についても同様にスケール（回折格子）の伸縮に起因するエンコーダシステムの計測誤差を補正することができる。かかる場合、例えば、Ｘスケール３９Ｘ1，３９Ｘ2又はＹスケール３９Ｙ1、３９Ｙ2に代えて、二次元スケール（二次元格子）を配置する。そして、その二次元格子の一方の周期方向に沿って複数のアライメント系（例えばアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4）を配置し、その一方の周期方向に関する格子の配列をそれらのアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いて検出すると共に、二次元格子の他方の周期方向とアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4の配列方向とが一致するようにウエハステージＷＳＴをθｚ方向に回転させて、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２1〜ＡＬ２4を用いてその他方の周期方向に関する格子の配列を検出することにすることができる。
【０１１６】
あるいは、複数のアライメント系の少なくとも一部が、二次元格子の一方の周期方向のみでなく、他方の周期方向に関しても位置が異なるように、複数のアライメント系を配置しても良い。例えば、複数のアライメント系を、二次元格子の２つの周期方向にともに交差する方向に沿って配置しても良い。換言すれば、複数のアライメント系の配列方向に対して、ともに交差する２方向を、二次元格子の周期方向としても良い。
【０１１７】
また、上記実施形態では、露光装置が例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書などに開示される露光装置と同様の液浸露光装置である場合について説明したが、これに限らず、液体（水）を介さずにウエハＷの露光を行うドライタイプの露光装置にも上記実施形態は、好適に適用することができる。ドライタイプの露光装置であっても、複数のアライメント系を備える場合、そのベースライン計測は必要であり、また例えば上記実施形態と同様の構成のエンコーダシステムにより、ウエハステージの位置を計測する場合には、エンコーダシステムの各ヘッドから計測ビームが照射される、ウエハテーブル上の各スケール（回折格子）は、長時間の使用において、機械的あるいは熱的な力が加えられて伸縮することがあり、そのような回折格子（スケール）の伸縮は、エンコーダの計測誤差の要因となるからである。
【０１１８】
また、上記実施形態では、露光装置が、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置である場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置に上記実施形態を適用しても良い。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置、プロキシミティー方式の露光装置、又はミラープロジェクション・アライナーなどにも上記実施形態は適用することができる。さらに、例えば米国特許第６，５９０，６３４号明細書、米国特許第５，９６９，４４１号明細書、米国特許第６，２０８，４０７号明細書などに開示されているように、複数のウエハステージを備えたマルチステージ型の露光装置にも上記実施形態を適用できる。
【０１１９】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。また、前述の照明領域及び露光領域はその形状が矩形であるものとしたが、これに限らず、例えば円弧、台形、あるいは平行四辺形などでも良い。
【０１２０】
なお、上記実施形態の露光装置の光源は、ＡｒＦエキシマレーザに限らず、ＫｒＦエキシマレーザ（出力波長２４８ｎｍ）、Ｆ2レーザ（出力波長１５７ｎｍ）、Ａｒ2レーザ（出力波長１２６ｎｍ）、Ｋｒ2レーザ（出力波長１４６ｎｍ）などのパルスレーザ光源、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの輝線を発する超高圧水銀ランプなどを用いることも可能である。また、ＹＡＧレーザの高調波発生装置などを用いることもできる。この他、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。
【０１２１】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、近年、７０ｎｍ以下のパターンを露光するために、ＳＯＲやプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を発生させるとともに、その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の下で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたＥＵＶ露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられるので、かかる装置にも上記実施形態を好適に適用することができる。この他、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、上記実施形態は適用できる。
【０１２２】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。
【０１２３】
また、例えば干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも上記実施形態を適用することができる。
【０１２４】
さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも上記実施形態を適用することができる。
【０１２５】
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
【０１２６】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも上記実施形態を適用できる。
【０１２７】
なお、上記実施形態では、本発明に係る計測方法及び計測システムが、露光装置に適用された場合について説明したが、本発明に係る計測方法及び計測システムは、露光装置以外であっても、格子部が設けられた移動体の位置情報を計測するエンコーダシステムを備えた装置であれば、好適に適用することができる。
【０１２８】
半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置（パターン形成装置）によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【符号の説明】
【０１２９】
１０…照明系、２０…主制御装置、３２…ノズルユニット、３９Ｘ1，３９Ｘ2…Ｘスケール、３９Ｙ1，３９Ｙ2…Ｙスケール、５０…ステージ装置、６４，６５…Ｙヘッド、６６…Ｘヘッド、６７，６８…Ｙヘッド、７０Ａ，７０Ｃ…Ｙエンコーダ、７０Ｂ，７０Ｄ…Ｘエンコーダ、１００…露光装置、１５０…エンコーダシステム、ＡＬ１…プライマリアライメント系、ＡＬ２1〜ＡＬ２4…セカンダリアライメント系、ＩＬ…照明光、Ｒ…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｗ…ウエハ、ＷＳＴ…ウエハステージ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１０】
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