(57)【要約】【課題】低い誘電率及び誘電正接を有する硬化物を与え、通常のプレス成形温度での成形性に優れ、更には優れた耐熱性及び接着性を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物を提供する。【解決手段】本発明は、ポリフェニレンエーテル（Ａ）、架橋型硬化剤（Ｂ）及びリン含有難燃剤（Ｃ）を含む硬化性樹脂組成物であって、該ポリフェニレンエーテル１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．３個以上であり、該硬化性樹脂組成物の硬化時樹脂フロー量が０．３％以上１５％以下であり、かつ１ＧＨｚでの誘電正接：０．００７以下、及びガラス転移温度：１６０℃以上を有する硬化物を与える、硬化性樹脂組成物を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリフェニレンエーテル（Ａ）と架橋型硬化剤（Ｂ）とリン含有難燃剤（Ｃ）とを含む硬化性樹脂組成物であって、
前記ポリフェニレンエーテル（Ａ）と前記架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して、前記架橋型硬化剤（Ｂ）の含有量が１０質量部以上７０質量部以下であり、かつリン含有難燃剤（Ｃ）の含有量が２質量部以上５０質量部以下であり、
前記ポリフェニレンエーテル１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．３個以上であり、
前記硬化性樹脂組成物の下記条件で測定される硬化時樹脂フロー量が０．３％以上１５％以下であり、
前記硬化性樹脂組成物から下記条件で作製された誘電正接測定用試料が、１ＧＨｚでの誘電正接：０．００７以下を有し、
前記硬化性樹脂組成物から下記条件で作製されたガラス転移温度測定用試料が、ガラス転移温度：１６０℃以上、を有し、
前記硬化時樹脂フロー量は、前記硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるよう、ＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなる１５０ｍｍ角のプリプレグを２枚重ねて積層板前駆体を得て、前記積層板前駆体を下記条件（ａ）にて成形し、流れ出した樹脂部を取り除いて積層板を作製したときにおける、前記積層板の質量（ｇ）、及び前記積層板前駆体の質量（ｇ）から、下記式：
硬化時樹脂フロー量（％）＝（積層板前駆体の質量（ｇ）−積層板の質量（ｇ））／積層板前駆体の質量（ｇ）×１００
に従って算出される値であり、
前記誘電正接測定用試料は、前記硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるようＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなるプリプレグを１６枚重ね、下記条件（ａ）にて成形されており、
前記ガラス転移温度測定用試料は、前記硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるようＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなるプリプレグを２枚重ね、下記条件（ａ）にて成形されている、
硬化性樹脂組成物。
条件（ａ）
室温から昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力５ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、１３０℃まで達したら昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力３０ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、２００℃まで達したら温度を２００℃に保ったまま圧力３０ｋｇ／ｃｍ2、時間６０分間の条件で真空プレスを行う。
【請求項２】
前記ポリフェニレンエーテル（Ａ）が、（Ａ−１）１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００以上８，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分を、ポリフェニレンエーテル全量に対して１質量％以上４０質量％以下の量で含む、請求項１に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
前記ポリフェニレンエーテル（Ａ）が、
（Ａ−１）１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００以上８，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分、及び
（Ａ−２）数平均分子量が８，０００を超えるポリフェニレンエーテル成分、
を含み、前記（Ａ−１）と前記（Ａ−２）との合計質量１００質量％を基準として、前記（Ａ−１）の含有量が１質量％以上４０質量％以下であり、かつ前記（Ａ−２）の含有量が６０質量％以上９９質量％以下である、請求項１に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
前記（Ａ−１）１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００以上８，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分が、ポリフェニレンエーテルの分子末端の少なくとも１個のフェノール性水酸基がベンジル基に置換された構造を有するベンジル化ポリフェニレンエーテルである、請求項２又は３に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
前記架橋型硬化剤（Ｂ）が分子内に２個以上のビニル基を持つモノマーであり、且つ、反応開始剤（Ｄ）を更に含み、前記反応開始剤（Ｄ）の含有量が前記ポリフェニレンエーテル（Ａ）と前記架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して１質量部以上１０質量部以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
前記架橋型硬化剤（Ｂ）がトリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）である、請求項５に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
前記リン含有難燃剤（Ｃ）が、有機リン系難燃剤、及びホスファゼン系難燃剤からなる群から選ばれる１種以上である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
前記有機リン系難燃剤（Ｃ）が、芳香族リン酸エステル、芳香族縮合リン酸エステル、ホスフィン酸塩、及びトリアジン骨格を有するポリリン酸塩からなる群から選ばれる１種以上である、請求項７に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項９】
前記芳香族リン酸エステルが、レゾルシノールビス（２，６ジキシレニル）ホスフェート、及び下記一般式（１）：
【化１】
2014001276.tif 000012
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子又は有機基である。）
で表される９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド誘導体からなる群から選ばれる１種以上である、請求項８に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項１０】
前記ホスフィン酸塩が、ジアルキルホスフィン酸アルミニウムである、請求項８に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項１１】
前記ホスファゼン系難燃剤が、下記一般式（２）：
【化２】
2014001276.tif 000013
（式中、ｎは、３〜２５の整数であり、そしてＲ4〜Ｒ13は、それぞれ独立に水素原子又は有機基である。）
で表される環状ホスファゼンである、請求項７に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項１２】
ホウ酸亜鉛、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化ニッケル（ＮｉＯ）、並びに酸化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｏ）及び酸化銅（ＩＩ）（ＣｕＯ）からなる群から選ばれる１種以上を更に含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物と基材とを含む、プリント配線板用プリプレグ。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物と基材とを含む、プリント配線板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子基板材料として好適な、ポリフェニレンエーテルを含む硬化性樹脂組成物に関する。更に本発明は、該硬化性樹脂組成物と基材とを含むプリント配線板用プリプレグ、及び該硬化性樹脂組成物の硬化物と基材とを含むプリント配線板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、接合、実装技術の向上とともに、電子機器に搭載される半導体デバイスの高集積化、パッケージの精緻化、及びプリント配線板の高密度配線化に伴い、電子機器は継続して進展している。この種の電子機器を構成するプリント配線板では、多層化及び微細配線化の両者が進行している。情報処理の高速化のために要求される信号伝達速度の高速化を実現するためには、使用される材料の誘電率を低減することが有効である。ポリフェニレンエーテルは誘電率、誘電正接等の高周波特性（すなわち誘電特性）が優れているため、高周波数帯を利用する電子機器のプリント配線板用の材料として好適である。
【０００３】
特許文献１には、熱可塑性樹脂であるポリフェニレンエーテルの耐熱性及び寸法安定性を向上させる技術として、ポリフェニレンエーテルとトリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）とを含む樹脂組成物が記載されている。特許文献２では、耐薬品性を向上させる技術として、ポリフェニレンエーテルと無水マレイン酸との反応物であるマレイン化ポリフェニレンエーテルと、ＴＡＩＣとを含む樹脂組成物が記載されている。しかしながら、特許文献１又は２に記載されている樹脂組成物においては、樹脂自身の融点が高く、通常のプレス成形温度では溶融時の粘度が高すぎ、多層プリント配線板の内層導体パターン層を形成するための充填が困難である。よって配線板の多層化が困難であるという課題が存在していた。
【０００４】
上記のような成形性の課題を改善する目的で、特許文献３には、低分子量のポリフェニレンエーテルを用いることにより、溶融樹脂の流動性が良好で、通常のプレス成形温度において、成形性に優れ、多層化が可能なポリフェニレンエーテル樹脂組成物が記載されている。しかしながら、ポリフェニレンエーテルの分子量を小さくすることは、得られる積層板の耐熱性が低下するという問題、及びポリフェニレンエーテルの末端水酸基の数が増加するために誘電率及び誘電正接が大きくなるという問題を招来する。よって上記技術もまた、プリント配線板に用いるには十分なものではなかった。
【０００５】
ポリフェニレンエーテルの低分子量化に伴うこれら問題を改善する目的で、特許文献４及び５には、低分子量ポリフェニレンエーテルの末端水酸基を反応性の官能基で封止した、低分子量・末端封止ポリフェニレンエーテルを用いることが記載されている。これら該ポリフェニレンエーテルを用いることで、プレス成形時の良好な成形性が維持されたまま、耐熱性の低下、又は誘電率及び誘電正接の低下が生じない硬化物が得られることが記載されている。また、特許文献４には、低分子量・末端封止ポリフェニレンエーテルと通常ポリフェニレンエーテルとを混合して用いる方法も記載されている。特許文献４の参考例７では数平均分子量１４，０００のポリフェニレンエーテルと数平均分子量２，５００の末端エテニルベンジル化ポリフェニレンエーテルとが５：７０の混合比で用いられており、参考例８では数平均分子量１４，０００のポリフェニレンエーテルと数平均分子量２，５００の末端エテニルベンジル化ポリフェニレンエーテルとが５０：６０の混合比で用いられている。
【０００６】
通常分子量のポリフェニレンエーテルと低分子量化したポリフェニレンエーテルとを混合して用いる方法は、特許文献６、７等にも記載されている。特許文献６には、低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルの耐熱性を向上させる目的で、低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルに通常ポリフェニレンエーテルを０．１％〜９．１％配合させる技術が記載されている。
【０００７】
特許文献７には、アシル基又は求電子基で官能化した通常分子量ポリフェニレンエーテル（固有粘度０．３５ｄｌ／ｇ以上）と官能化しない低分子量化ポリフェニレンエーテル（固有粘度約０．１５〜０．３５ｄｌ／ｇ）とを、４０〜５５：６０〜４５の割合で混合したポリフェニレンエーテルを用いる樹脂組成物が記載されている。
【０００８】
また、プリント配線板は製品安全面から難燃性が必要であるため、プリント配線板を構成する絶縁樹脂には芳香族臭素化物等の有機ハロゲン化合物を配合し難燃性を付与する方法が一般的に用いられていた。しかしながら、有機ハロゲン化合物は燃焼時に毒性の強いハロゲン化水素やダイオキシン等を発生する可能性があり、ハロゲン原子を含有しないリン化合物等の難燃剤への代替が求められている。
【０００９】
リン含有難燃剤を用いたポリフェニレンエーテルを含む絶縁樹脂組成物の試みは、特許文献８等に記載されている。特許文献８には、末端水酸基をエテニルベンジル基で修飾した低分子量ポリフェニレンエーテルと架橋型硬化剤を含有するポリフェニレンエーテル樹脂組成物において、非ハロゲン難燃剤としてホスフィン酸塩化合物を用いた方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平８−２３１８４７号公報
【特許文献２】特公平７−３７５６７号公報
【特許文献３】特開２００２−２６５７７７号公報
【特許文献４】特開２００８−２６０９４２号公報
【特許文献５】特表２００３−５１５６４２号公報
【特許文献６】特開２００５−２９０１２４号公報
【特許文献７】米国特許第５２５８４５５号明細書
【特許文献８】特開２０１０−５３１７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献４及び５に記載の低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルは、末端の水酸基を封止していることに起因すると推測される問題を有していた。すなわち、このようなポリフェニレンエーテルは、ガラスクロス等の基材又は銅箔等との接着性が十分でなく、積層板の場合の層間の剥離強度、又は該ポリフェニレンエーテルと銅箔等との剥離強度が低い、或いは耐吸水性及びはんだ耐熱性が十分でないという問題があった。
また、特許文献４の参考例７及び８に記載されている積層板では、Ｔｇ、誘電率、誘電正接、吸湿率、はんだ耐熱性等の特性が、末端エテニルベンジル化ポリフェニレンエーテル単独のものと同等であり、低分子量・末端エテニルベンジル化ポリフェニレンエーテルと通常ポリフェニレンエーテルとを混合して用いることにより何ら特性が向上されているものではなかった。
【００１２】
また、特許文献６には、通常分子量のポリフェニレンエーテルを配合することにより、硬化樹脂板の熱変形温度（ＨＤＴ）が約１００℃から約１１０℃まで向上することが記載されているのみで、本発明の用途であるプリント配線板に必要な、樹脂硬化物と基材との複合体の特性（特に成形性、剥離強度、耐吸水性、はんだ耐熱性等）については何ら記載されてない。
【００１３】
そして、特許文献７には、押出し成形品の衝撃強度等が向上することが記載されているのみで、特許文献６同様、本発明の用途であるプリント配線板に必要な、樹脂硬化物と基材との複合体の特性（特に成形性、剥離強度、耐吸水性、はんだ耐熱性等）については何ら記載されてない。
【００１４】
そして、特許文献８には、リン含有難燃剤及び低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルを用いた絶縁樹脂組成物の硬化物に関し、積層板の層間或いは該硬化物と銅箔等との接着性、耐吸水性等の評価は記載されていない。すなわち、特許文献８に記載される技術は、ポリフェニレンエーテルの末端の水酸基を封止していることに起因する上記の問題を改善したものではなかった。
【００１５】
以上のように、ハロゲン原子を含まなくても難燃性で、ポリフェニレンエーテルが本来有する低い誘電率及び誘電正接を有し、かつ、通常のプレス温度での成形性、耐熱性、及び接着性に優れるプリント配線板用の絶縁樹脂は従来技術においては見出されていないのが現状である。従って、ポリフェニレンエーテルを構成成分としつつ上記のような特性を有するプリント配線板用の絶縁樹脂が強く望まれていた。
【００１６】
前記した状況の下、本発明が解決しようとする課題は、ハロゲン原子を含まなくても良好な難燃性を有し、ポリフェニレンエーテルが本来有する低い誘電率及び誘電正接を有する硬化物を与え、通常のプレス成形温度での成形性に優れ、更には優れた耐熱性及び接着性（例えば、多層板における層間の剥離強度、又は硬化性樹脂組成物の硬化物と銅箔等の金属箔との剥離強度）を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物と基材とを含むプリント配線板用プリプレグ、及び該樹脂組成物の硬化物と基材とを含むプリント配線板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、ポリフェニレンエーテルの分子量及び末端水酸基数が、プリント配線板用材料に必要な様々な特性に及ぼす影響に着目して鋭意検討し実験を重ねた。その結果、リン含有難燃剤を用いるとともに、ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数を特定範囲に制御すること、更に好ましくは、主成分を通常分子量ポリフェニレンエーテルとするとともに低分子量ポリフェニレンエーテルを特定量配合することによって、成形性に優れる硬化性樹脂組成物、並びに難燃性、耐熱性及び接着性に優れ、誘電率及び誘電正接が低い硬化物を形成できることを見出した。
すなわち、本発明は以下の通りである。
【００１８】
［１］  ポリフェニレンエーテル（Ａ）と架橋型硬化剤（Ｂ）とリン含有難燃剤（Ｃ）とを含む硬化性樹脂組成物であって、
該ポリフェニレンエーテル（Ａ）と該架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して、該架橋型硬化剤（Ｂ）の含有量が１０質量部以上７０質量部以下であり、かつリン含有難燃剤（Ｃ）の含有量が２質量部以上５０質量部以下であり、
該ポリフェニレンエーテル１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．３個以上であり、
該硬化性樹脂組成物の下記条件で測定される硬化時樹脂フロー量が０．３％以上１５％以下であり、
該硬化性樹脂組成物から下記条件で作製された誘電正接測定用試料が、１ＧＨｚでの誘電正接：０．００７以下を有し、
該硬化性樹脂組成物から下記条件で作製されたガラス転移温度測定用試料が、ガラス転移温度：１６０℃以上、を有し、
該硬化時樹脂フロー量は、該硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるよう、ＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなる１５０ｍｍ角のプリプレグを２枚重ねて積層板前駆体を得て、該積層板前駆体を下記条件（ａ）にて成形し、流れ出した樹脂部を取り除いて積層板を作製したときにおける、該積層板の質量（ｇ）、及び該積層板前駆体の質量（ｇ）から、下記式：
硬化時樹脂フロー量（％）＝（積層板前駆体の質量（ｇ）−積層板の質量（ｇ））／積層板前駆体の質量（ｇ）×１００
に従って算出される値であり、
該誘電正接測定用試料は、該硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるようＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなるプリプレグを１６枚重ね、下記条件（ａ）にて成形されており、
該ガラス転移温度測定用試料は、該硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるようＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなるプリプレグを２枚重ね、下記条件（ａ）にて成形されている、
硬化性樹脂組成物。
条件（ａ）
室温から昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力５ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、１３０℃まで達したら昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力３０ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、２００℃まで達したら温度を２００℃に保ったまま圧力３０ｋｇ／ｃｍ2、時間６０分間の条件で真空プレスを行う。
［２］  該ポリフェニレンエーテルが、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００以上８，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分を、ポリフェニレンエーテル全量に対して１質量％以上４０質量％以下の量で含む、上記［１］に記載の硬化性樹脂組成物。
［３］  該ポリフェニレンエーテルが、
（Ａ−１）１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００以上８，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分、及び
（Ａ−２）数平均分子量が８，０００を超えるポリフェニレンエーテル成分、
を含み、該（Ａ−１）と該（Ａ−２）との合計質量１００質量％を基準として、該（Ａ−１）の含有量が１質量％以上４０質量％以下であり、かつ該（Ａ−２）の含有量が６０質量％以上９９質量％以下である、上記［１］に記載の硬化性樹脂組成物。
［４］  該（Ａ−１）１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００以上８，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分が、ポリフェニレンエーテルの分子末端の少なくとも１個のフェノール性水酸基がベンジル基に置換された構造を有するベンジル化ポリフェニレンエーテルである、上記［２］又は［３］に記載の硬化性樹脂組成物。
［５］  該架橋型硬化剤（Ｂ）が分子内に２個以上のビニル基を持つモノマーであり、且つ、反応開始剤（Ｄ）を更に含み、該反応開始剤（Ｄ）の含有量が該ポリフェニレンエーテル（Ａ）と該架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して１質量部以上１０質量部以下である、上記[１]〜[４]のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
［６］  該架橋型硬化剤（Ｂ）がトリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）である、上記［５］に記載の硬化性樹脂組成物。
［７］  該リン含有難燃剤（Ｃ）が、有機リン系難燃剤、及びホスファゼン系難燃剤からなる群から選ばれる１種以上である、上記[１]〜[６]のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物。
［８］  該有機リン系難燃剤が、芳香族リン酸エステル、芳香族縮合リン酸エステル、ホスフィン酸塩、及びトリアジン骨格を有するポリリン酸塩からなる群から選ばれる１種以上である、上記[７]に記載の硬化性樹脂組成物。
［９］  該芳香族リン酸エステルが、レゾルシノールビス（２，６ジキシレニル）ホスフェート、及び下記一般式（１）：
【化１】
2014001276.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子又は有機基である。）
で表される９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド誘導体からなる群から選ばれる１種以上である、上記[８]に記載の硬化性樹脂組成物。
［１０］  該ホスフィン酸塩が、ジアルキルホスフィン酸アルミニウムである、上記[８]に記載の硬化性樹脂組成物。
［１１］  該ホスファゼン系難燃剤が、下記一般式（２）：
【化２】
2014001276.tif 000003
（式中、ｎは、３〜２５の整数であり、そしてＲ4〜Ｒ13は、それぞれ独立に水素原子又は有機基である。）
で表される環状ホスファゼンである、上記[７]に記載の硬化性樹脂組成物。
［１２］  ホウ酸亜鉛、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化ニッケル（ＮｉＯ）、並びに酸化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｏ）及び酸化銅（ＩＩ）（ＣｕＯ）からなる群から選ばれる１種以上を更に含む、上記[１]〜[１１]のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
［１３］  上記［１］〜［１２］のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物と基材とを含む、プリント配線板用プリプレグ。
［１４］  上記［１］〜［１２］のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物の硬化物と基材とを含む、プリント配線板。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ポリフェニレンエーテルの本来有する低い誘電率及び誘電正接を有する硬化物を与え、かつ、通常のプレス成形温度での成形性に優れ、更には優れた難燃性、耐熱性及び接着性（例えば、多層板における層間の剥離強度、又は硬化性樹脂組成物の硬化物と銅箔等の金属箔との剥離強度）を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物、並びに該樹脂組成物と基材とを含むプリント配線板用プリプレグ、及び該樹脂組成物の硬化物と基材とを含むプリント配線板を提供することができる。硬化性樹脂組成物は、リン含有難燃剤の寄与により、ハロゲン原子を含有しなくても良好な難燃性を実現できる。本発明の特定の態様は、ハロゲンフリーの硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物と基材とを含むプリント配線板用プリプレグ、及び該樹脂組成物の硬化物と基材とを含むプリント配線板を提供する。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の態様の例を詳細に説明するが、本発明はこれらの態様に限定されない。
【００２１】
硬化性樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル（Ａ）と架橋型硬化剤（Ｂ）とリン含有難燃剤（Ｃ）とを含む。硬化性樹脂組成物は好ましくはハロゲン原子を含有しない。
本態様の硬化性樹脂組成物が含むポリフェニレンエーテル（Ａ）は、好ましくは、下記一般式（３）：
【００２２】
【化３】
2014001276.tif 000004
【００２３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアミノ基、ニトロ基、又はカルボキシル基を表す。）で表される繰返し構造単位を含む。
【００２４】
ポリフェニレンエーテルの具体例としては、例えばポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）、ポリ（２−メチル−６−エチル−１，４−フェニレンエーテル）、ポリ（２−メチル−６−フェニル−１，４−フェニレンエーテル）、ポリ（２，６−ジクロロ−１，４−フェニレンエーテル）等、更に、２，６−ジメチルフェノールと他のフェノール類（例えば２，３，６−トリメチルフェノール、２−メチル−６−ブチルフェノール等）との共重合体、及び、２，６−ジメチルフェノールとビフェノール類又はビスフェノール類とをカップリングさせて得られるポリフェニレンエーテル共重合体、等が挙げられ、好ましい例はポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）である。
【００２５】
なお本開示において、ポリフェニレンエーテルとは、置換又は非置換のフェニレンエーテル単位構造から構成されるポリマーを意味するが、本発明の効果を損なわない範囲で他の共重合成分を含んでもよい。
【００２６】
本態様において、ポリフェニレンエーテル１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は、０．３個以上である。一態様において、硬化性樹脂組成物の下記条件で測定される硬化時樹脂フロー量は、０．３％以上１５％以下である。一態様において、硬化性樹脂組成物から下記条件で作製された誘電正接測定用試料は、１ＧＨｚでの誘電正接：０．００７以下を有する。一態様において、硬化性樹脂組成物から下記条件で作製されたガラス転移温度測定用試料は、ガラス転移温度：１６０℃以上を有する。
【００２７】
該硬化時樹脂フロー量は、該硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるよう、ＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなる１５０ｍｍ角のプリプレグを２枚重ねて積層板前駆体を得て、該積層板前駆体を下記条件（ａ）にて成形し、流れ出した樹脂部を取り除いて積層板を作製したときにおける、該積層板の質量（ｇ）、及び該積層板前駆体の質量（ｇ）から、下記式：
硬化時樹脂フロー量（％）＝（積層板前駆体の質量（ｇ）−積層板の質量（ｇ））／積層板前駆体の質量（ｇ）×１００
に従って算出される値である。
【００２８】
ここで、条件（ａ）は次のように定義される。室温から昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力５ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、１３０℃まで達したら昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力３０ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、２００℃まで達したら温度を２００℃に保ったまま圧力３０ｋｇ／ｃｍ2、時間６０分間の条件で真空プレスを行う。
【００２９】
該誘電正接測定用試料は、該硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるようＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなるプリプレグを１６枚重ね、上記条件（ａ）にて成形されている。
【００３０】
該ガラス転移温度測定用試料は、該硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるようＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスに含浸されてなるプリプレグを２枚重ね、上記条件（ａ）にて成形されている。
【００３１】
ＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスは、市販で入手可能であり、例えば旭シュエーベル株式会社製の商品名「２１１６」として入手可能である。
【００３２】
本態様の硬化性樹脂組成物の硬化時樹脂フロー量は、０．３％以上１５％以下であり、好ましくは０．５％以上１２％以下、より好ましくは１％以上１０％以下である。該樹脂フロー量が０．３％以上であれば、通常のプレス成形温度での成形性に優れ、かすれ及びボイドが低減された硬化物、更にはこれを含む積層板を形成できる。一方で、該樹脂フロー量が１５％以下であれば、例えば硬化性樹脂組成物の硬化物と基材とを含む積層板を形成する場合に、積層板の積層位置ずれを小さくできる。
【００３３】
ここで、硬化性樹脂組成物の硬化時樹脂フロー量は本開示の次の方法で求めた値と定義され、より具体的には、下記方法を用いて算出できる。
【００３４】
該該硬化時樹脂フロー量は、該硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるようＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスガラスクロス（ＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６）に含浸されてなる１５０ｍｍ角のプリプレグを試験片とする。予め、試験片２枚の質量（ｇ）を求めておき、積層板前駆体の質量とする。次いで、該試験片を２枚重ね、上記条件（ａ）にて加熱加圧を行う。得られたものについて、１５０ｍｍ角から流れ出した樹脂部を取り除き、積層板とする。この積層板について質量を求めて、積層板の質量（ｇ）とする。このようにして得られた質量を上記の式に代入し、硬化時樹脂フロー量を求める。
【００３５】
硬化時樹脂フロー量を上記範囲に調整する方法の例は、ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数を調製する方法、後述する（Ａ−１）低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルと、（Ａ−２）成分とを混合しその混合比を変えることによって調整する方法、後述する分子内に２個以上のビニル基を持つモノマーを配合し用い、その使用配合量を調製する方法、等である。
【００３６】
また、本態様の硬化性樹脂組成物から本開示の下記条件で作製された硬化物試料の誘電正接は１ＧＨｚで０．００７以下である。誘電正接が１ＧＨｚで０．００７以下のプリント配線板は、情報処理の高速化に要求される信号伝達速度の高速化に対応するために所望されている。本発明が提供する硬化性樹脂組成物は、誘電正接が１ＧＨｚで０．００７以下である硬化物複合体を与えることができる。よってこのような硬化性樹脂組成物を用いることにより、信号伝達速度の高速化を可能にするプリント配線版を形成できる。
【００３７】
上記硬化物誘電正接測定用試料は、該硬化性樹脂組成物が樹脂含量６０±２質量％となるようＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６規格ガラスクロスガラスクロス（ＩＰＣ  Ｓｔｙｌｅ  ２１１６）に含浸されてなるプリプレグを１６枚重ね、上記条件（ａ）にて加熱加圧成形する方法で作製される。
【００３８】
上記試料硬化物の１ＧＨｚでの誘電正接は、好ましくは０．００５以下、より好ましくは０．００３以下、更に好ましくは０．００１以下である。該誘電正接は小さいほど好ましいが、ポリフェニレンエーテルが本来有する電気特性の観点から、好ましくは０．０００７以上、より好ましくは０．０００５以上であることができる。
【００３９】
硬化物上記試料の誘電正接は、インピーダンスアナライザー法により、５００ｍＶの条件で、１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの静電容量Ｃｐ［Ｆ］とコンダクタンスＧ［Ｓ］とを測定し、下記式を用いて求められる値である。
εｒ＝（ｔ×Ｃｐ）／｛π×（ｄ／２）2×ε0
（ｔ：試料厚み〔ｍ〕、ｄ：電極直径、ｆ：測定周波数〔Ｈｚ〕、ε0：真空の誘電率＝８．８５４×１０-12〔Ｆ／ｍ〕）
【００４０】
また、本態様の硬化性樹脂組成物においては、本開示の上述の方法で作製された試料（具体的には、プリプレグを１６枚重ねることに代えてプリプレグを２枚重ねること以外は誘電正接測定用試料の作製方法と同様の方法で作製される試料）硬化物のガラス転移温度が１６０℃以上であり、好ましくは１７０℃以上、より好ましくは１８０℃以上、更に好ましくは１９０℃以上である。該試料のガラス転移温度は、硬化性樹脂組成物を典型的な使用条件で硬化させて得られる硬化物のガラス転移温度に対応する。ガラス転移温度が１６０℃以上である硬化物は良好な耐熱性（特に鉛フリーはんだに対応するはんだ耐熱性）を発現する。硬化物のガラス転移温度は高い方が好ましいが、該硬化物の使用環境への適用性の観点で、該試料のガラス転移温度は、好ましくは３００℃以下、より好ましくは２５０℃以下であることができる。
【００４１】
ここで、試料硬化物のガラス転移温度は、粘弾性スペクトロメーターを用いて、ひねりモード、周波数１０ｒａｄ／ｓの条件で測定される値である。
【００４２】
ガラス転移温度を上記範囲に調整する方法の例は、ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数を調製する方法、後述する（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分とを混合し、その混合比を調整する方法、
後述する分子内に２個以上のビニル基を持つモノマーを使用配合し、その使用配合量を調製する方法、等である。
【００４３】
本態様の硬化性樹脂組成物に含まれるポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は、０．３個以上である。ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は好ましくは０．７個以上であり、より好ましくは０．９個以上であり、更に好ましくは１．０５個以上である。１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．３個以上のポリフェニレンエーテルを硬化性樹脂組成物において用いると、該樹脂組成物の硬化物と基材（例えばガラスクロス等）との接着性、又は該樹脂組成物の硬化物と銅箔等の金属箔との接着性が良好となり、プリント配線板の耐吸水性、はんだ耐熱性、及び接着性（例えば、多層板における層間の剥離強度、又は硬化物と銅箔等との剥離強度）に優れるため好ましい。該平均フェノール性水酸基数は、硬化性樹脂組成物の硬化物と基材とを含む複合体（例えば積層板）の吸水性が高くなるのを抑制できる観点、又は、該複合体の誘電率と誘電正接が高くなるのを抑制できる観点から、好ましくは２．０個以下、より好ましくは１．８５個以下、更に好ましくは１．６個以下である。
【００４４】
本開示におけるポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は、それぞれ、次の方法で求めた値と定義される。高分子論文集，ｖｏｌ．５１，Ｎｏ．７（１９９４），第４８０頁記載の方法に準拠し、ポリフェニレンエーテルの塩化メチレン溶液にテトラメチルアンモニウムハイドロオキシド溶液を加えて得たサンプルの波長３１８ｎｍにおける吸光度変化を紫外可視吸光光度計で測定した値から水酸基の数を求める。別途、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量を、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより求め、この値を用いてポリフェニレンエーテルの分子数を求める。これらの値から、下記式に従って、ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均水酸基数を算出する。
１分子当たりの平均フェノール性水酸基数＝水酸基の数／数平均分子数
【００４５】
ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は、例えば、分子末端のフェノール性水酸基が残存しているポリフェニレンエーテルと、分子末端のフェノール性水酸基が他の官能基で変性されているポリフェニレンエーテルとを混合し、その混合比を変えることによって調整することができる。又は、分子末端のフェノール性水酸基の他の官能基による置換度合を変えることによっても調整することができる。上記の官能基の態様は特に限定されるものではなく、ベンジル基、アリル基、プロパギル基、グリシジル基、ビニルベンジル基、メタクリル基等であることができる。その中でも、反応効率が良いため産業的に入手しやすいこと、自身の反応性がなく安定性に優れること、プレス成形時にポリフェニレンエーテル含有組成物の溶融粘度を低下させる効果が著しいこと等の理由で、好ましくは、ベンジル基である。
【００４６】
本態様に用いられるポリフェニレンエーテルは、（Ａ−１）１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００以上８，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分（以下、低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルともいう）を含有することが好ましく、その含有量はポリフェニレンエーテル全量に対して１質量％以上４０質量％以下であることが好ましい。該低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルの含有量のより好ましい範囲は１．２質量％以上３０質量％以下であり、更に好ましい範囲は１．５質量％以上２５質量％以下である。
【００４７】
本開示におけるポリフェニレンエーテルの数平均分子量は、それぞれゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用い、標準ポリスチレン換算で測定される値である。典型的には、カラムにＳｈｏｄｅｘ  ＬＦ−８０４×２（昭和電工株式会社製）、溶離液に５０℃のクロロホルム検出器にＲＩ（屈折率計）を用いてＧＰＣ測定を行い、同条件で測定した標準ポリスチレン試料の分子量と溶出時間との関係式から、数平均分子量を算出する。
【００４８】
該（Ａ−１）低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルを１質量％以上含有するポリフェニレンエーテルを含む硬化性樹脂組成物は、成形時の硬化性樹脂組成物の溶融粘度が小さく、良好な成形性が得られる点で好ましい。一方、該低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルを４０質量％以下含有するポリフェニレンエーテルを含む硬化性樹脂組成物は、接着性に劣るという該低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルの特性が顕著に表れるのを抑制することができ、プリント配線板等において所望される、硬化物の耐吸水性、はんだ耐熱性、及び接着性（例えば、多層板における層間の剥離強度、又は硬化性樹脂組成物の硬化物と銅箔等との剥離強度）を良好に与える点で好ましい。
【００４９】
また、該（Ａ−１）低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は好ましくは０．５個未満であるが、より好ましくは０．２個以下であり、更に好ましくは０．１個以下である。該平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であれば、低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルを含有する硬化性樹脂組成物が低い誘電率及び誘電正接の硬化物を形成できることに加えて良好な硬化反応性を有するため、機械特性及び耐熱性に優れた硬化物が得られる点で好ましい。平均フェノール性水酸基数は少ないほど好ましく、０個であっても良いが、フェノール性水酸基を他の官能基で変性させる効率の観点から、好ましくは０．００１個以上、より好ましくは０．０１個以上であることができる。
【００５０】
また、該（Ａ−１）低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルの数平均分子量は１，０００以上８，０００以下の範囲にあることが好ましいが、より好ましい範囲は１，０００以上５，０００以下であり、更に好ましい範囲は２，０００以上４，０００以下である。数平均分子量が８，０００以下であれば、該低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルを含む硬化性樹脂組成物の成形時の溶融粘度が小さく、良好な成形性が得られるため好ましい。一方、該数平均分子量が１，０００以上であれば、該低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルを含む硬化性樹脂組成物が、低い誘電率及び誘電正接、並びに良好な耐熱性及び機械特性を有する硬化物を形成できる点で好ましい。
【００５１】
（Ａ−１）低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルにおける末端の官能基の態様は特に限定されるものではなく、ベンジル基、アリル基、プロパギル基、グリシジル基、ビニルベンジル基、メタクリル基等であることができる。その中でも、反応効率が良いため産業的に入手しやすいこと、自身の反応性がなく安定性に優れること、プレス成形時に後述の（Ａ−２）成分の溶融粘度を低下させる効果が著しいこと等の理由で、低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルは、好ましくは、ポリフェニレンエーテルの分子末端の少なくとも１個のフェノール性水酸基がベンジル基に置換された構造を有するベンジル化ポリフェニレンエーテルである。
【００５２】
上記ベンジル化ポリフェニレンエーテルは、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００〜８，０００であることができる。ベンジル化ポリフェニレンエーテルとは、置換又は非置換のポリフェニレンエーテルの分子鎖末端に置換又は非置換のベンジル基が結合した構造を持つポリマーを意味する。
【００５３】
より典型的には、本開示のベンジル化ポリフェニレンエーテルは、下記一般式（４）：
【００５４】
【化４】
2014001276.tif 000005
【００５５】
［式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は各々独立して、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｚは１〜５の整数であり、Ｊは下記一般式（３）：
【００５６】
【化５】
2014001276.tif 000006
【００５７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、３及びＲ４は先に定義した通りである。）
で表される単位構造を含むポリフェニレンエーテル分子鎖を表す。］
で表される構造を有する。
【００５８】
Ｊは、実質的に上記一般式（３）で表される構造のみを単位構造として構成されてもよいが、目的に応じて、上記一般式（３）で表される単位構造の他に共重合成分を含んでもよい。
【００５９】
上記一般式（４）において、反応効率の観点から、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が、全て水素原子であることが好ましい。
【００６０】
上記一般式（４）において、重合の際に分子量の制御が比較的容易なため、用途に最適な分子量分布をもつポリマーの合成が容易なことから、Ｊは、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）構造であることが好ましい。また、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）とフェノール化合物とを有機過酸化物存在下で反応させて得られる共重合体構造であることが好ましい。この場合に用いるフェノール化合物は分子内に１個以上のフェノール性水酸基を持てば特に限定されないが、具体的にはフェノール、クレゾール、２，６−キシレノール、２，３，６−トリメチルフェノール、ビスフェノールＡ，ビフェノール、クレゾール・ノボラック骨格フェノール等が挙げられ、反応率の高さの観点から２，６−キシレノール、ビスフェノールＡ、及びクレゾール・ノボラック骨格フェノールが好ましく用いられる。
【００６１】
上記ベンジル化ポリフェニレンエーテルは、数平均分子量が１，０００〜８，０００の範囲であることができ、より好ましい範囲は１，０００〜５，０００、特に好ましい範囲は２，０００〜４，０００である。該数平均分子量が８，０００以下であれば、ベンジル化ポリフェニレンエーテルは溶剤に対する溶解性に優れ、特に４，０００以下では室温（２３℃）でトルエンに３０質量％以上の濃度で溶解する。一方、該数平均分子量が１，０００以上であれば、ベンジル化ポリフェニレンエーテルを含有する硬化性樹脂組成物の硬化物の誘電率及び誘電正接が低くできるとともに硬化物の耐熱性と機械特性とが優れ、特に２，０００以上では誘電率及び誘電正接をより低くすることが可能であるため好ましい。
【００６２】
上記ベンジル化ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は０．５個未満であることができ、より好ましくは０．２個未満、特に好ましくは０．１個未満である。該平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であれば、ベンジル化ポリフェニレンエーテルを含有する硬化性樹脂組成物の硬化物の誘電率及び誘電正接が低い上に、該組成物の硬化反応性が高いため機械特性及び耐熱性に優れた硬化物が得られる。該平均フェノール性水酸基数は小さい程好ましく、０個であってもよいが、フェノール性水酸基を他の官能基で変性させる効率の観点から、好ましくは０．００１個以上、より好ましくは０．０１個以上であることができる。
【００６３】
上記ベンジル化ポリフェニレンエーテルは、典型的には、ポリフェニレンエーテルとベンジル化合物との反応によって得ることができる。例えば、ベンジル化ポリフェニレンエーテルは、原料のポリフェニレンエーテル（例えば上記一般式（３）で表される単位構造を含むポリフェニレンエーテル）が持つフェノール性水酸基と、下記一般式（５）：
【００６４】
【化６】
2014001276.tif 000007
【００６５】
（式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は一般式（４）において定義した通りであり、Ｘはハロゲン原子又はシアノ基を表す。）
で表されるベンジル化合物との反応によって得られる。
【００６６】
上記一般式（５）において、ＸとしてはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ等が挙げられる。一般式（５）で表されるベンジル化合物の具体例としては、塩化ベンジル、ベンジルシアニド、臭化ベンジル、メチルベンジルクロライド、メチルベンジルブロマイド、ジメチルベンジルクロライド、ジメチルベンジルブロマイド、トリメチルベンジルクロライド、トリメチルベンジルブロマイド等が挙げられるが、中でも塩化ベンジルはフェノール性水酸基との反応性が高く、フェノール性水酸基の個数が少ないベンジル化ポリフェニレンエーテルを容易に製造できる点で好ましい。
【００６７】
上記ベンジル化ポリフェニレンエーテルの製造方法は特に限定されないが、例えばポリフェニレンエーテルとベンジル化合物とをトルエン、キシレン等の溶液中で、強アルカリ化合物を触媒に用いて反応させる方法が挙げられる。強アルカリ化合物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコラートが例として挙げられる。
【００６８】
好ましい態様においては、上述の低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルと、（Ａ−２）数平均分子量が８，０００を超えるポリフェニレンエーテルを組合せる。このような（Ａ−２）成分としては、好ましくは該低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルよりも末端フェノール性水酸基が多く，さらに好ましくは１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個以上である。
【００６９】
特に、ポリフェニレンエーテルが上述の低分子量・末端官能化ポリフェニレンエーテルを１質量％以上４０質量％以下含む場合、ポリフェニレンエーテルが、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個以上であり、かつ数平均分子量が８，０００を超え４０，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分（以下、未官能化ポリフェニレンエーテルともいう）も含むことが好ましい。
【００７０】
好ましい態様において、ポリフェニレンエーテルは、
（Ａ−１）１分子当たりの平均フェノール性水酸基数が０．５個未満であり、かつ数平均分子量が１，０００以上８，０００以下であるポリフェニレンエーテル成分、及び
（Ａ−２）数平均分子量が８，０００を超えるポリフェニレンエーテル成分
を含み、（Ａ−１）と（Ａ−２）との合計質量１００質量％を基準として、（Ａ−１）の含有量が１質量％以上４０質量％以下であり、かつ（Ａ−２）の含有量が６０質量％以上９９質量％以下である。
【００７１】
本態様において、ポリフェニレンエーテルは、好ましくは、（Ａ−１）及び（Ａ−２）から実質的になり、より好ましくは（Ａ−１）及び（Ａ−２）からなる。
【００７２】
（Ａ−２）成分の使用により、分子量の大きいポリフェニレンエーテルに由来する高いガラス転移温度が得られる。また、好ましい態様における（Ａ−２）成分の使用により、さらに末端水酸基に由来する良好な接着性とが得られ、優れた耐熱性、機械特性、及び接着性という利点が得られる。
【００７３】
該（Ａ−２）成分の１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は、良好な接着性を実現する観点から０．５個以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．８個以上、より好ましくは１．６個以上である。該平均フェノール性水酸基数は多い方が上記の効果を得る点で好ましいが、硬化性樹脂組成物の硬化物と基材とを含む硬化物複合体の吸水性が高くなるのを防ぐ、或いは、誘電率と誘電正接が高くなるのを防ぐ観点から、好ましくは２個以下、より好ましくは１．８５個以下、更に好ましくは１．６個以下であることができる。
【００７４】
該（Ａ−２）成分の数平均分子量の好ましい範囲は８，０００超４０，０００以下であり、より好ましい範囲は９，５００以上２８，０００以下であり、更に好ましい範囲は１０，０００以上２０，０００以下である。数平均分子量が８，０００超である場合、高いガラス転移温度が得られるため、耐熱性及び機械特性に優れる硬化物が得られ好ましい。一方で、数平均分子量が４０，０００以下である場合、通常のプレス成形温度での溶融粘度が低く保たれ、良好な成形性が得られるため好ましい。
【００７５】
（Ａ−１）と（Ａ−２）との合計１００質量％基準での（Ａ−２）の含有量は、高いガラス転移温度及び良好な接着性を実現する観点から好ましくは６０質量％以上、より好ましくは６０質量％超、更に好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは７５質量％以上であり、成形時の硬化性樹脂組成物の溶融粘度を小さくし、良好な成形性を得るという観点から、好ましくは９９質量％以下、より好ましくは９８．８質量％以下、更に好ましくは９８．５質量％以下である。また、他の好ましい態様においては、質量基準で（Ａ−１）：（Ａ−２）＝５：９５〜３０：８０である。
【００７６】
硬化性樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル（Ａ）と架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して、架橋型硬化剤（Ｂ）を１０質量部以上７０質量部以下含有し、好ましくは２０質量部以上７０質量部以下含有する。該架橋型硬化剤（Ｂ）の量が１０質量部以上であることにより、成形性が良好であり、７０質量部以下であることにより、誘電率及び誘電正接が低い硬化物を形成できる。
【００７７】
また、硬化性樹脂組成物中、上記の（Ａ−１）成分の含有量（ａ）の、架橋型硬化剤（Ｂ）の含有量（ｂ）に対する組成比（ａ）／（ｂ）は、３／７０〜２０／２０（質量比）であることが好ましい。上記組成比が３／７０以上である場合、得られる硬化物の誘電率と誘電正接とが低く好ましく、２０／２０以下である場合成形性が良好である。上記組成比は、より好ましくは４／６０〜９／１０、特に好ましくは５／５０〜１７．５／３０である。
【００７８】
架橋型硬化剤（Ｂ）は、架橋密度が高く良好な機械的強度や耐熱性が得られやすい観点から、好ましくは、分子内に２個以上のビニル基を持つモノマーである。分子内に２個以上のビニル基を持つモノマーとしてはトリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）、トリアリルシアヌレート、トリアリルアミン、トリアリルメセート、ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジビニルビフェニル等が挙げられるが、ポリフェニレンエーテルとの相溶性が良好なＴＡＩＣが好ましい。
【００７９】
硬化性樹脂組成物は、リン含有難燃剤（Ｃ）を含有する。リン含有難燃剤の存在により、硬化性樹脂組成物がハロゲン原子を含有しない（すなわちハロゲン系難燃剤を含有しない）場合であっても良好な難燃性を実現できる。またリン含有難燃剤（Ｃ）は、上述のポリフェニレンエーテル（Ａ）と組合せて用いても、ポリフェニレンエーテル（Ａ）が本来有する前述の種々の特性を損なわない点で有利である。リン含有難燃剤（Ｃ）の配合量は、ポリフェニレンエーテル（Ａ）と架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して、２質量部以上５０質量部以下であり、好ましくは３質量部以上４０質量部以下であり、より好ましくは４質量部以上３５質量％以下である。リン含有難燃剤（Ｃ）の配合量が２質量部以上であることにより、耐燃性に優れる硬化物が得られる。リン含有難燃剤（Ｃ）の配合量が５０質量部以下であることにより、耐熱性が高く、且つ、誘電率及び誘電正接が低い硬化物を形成できる。
【００８０】
リン含有難燃剤（Ｃ）は、ポリフェニレンエーテルが本来有する低い誘電率、誘電正接を維持できる観点から、有機リン系難燃剤、及びホスファゼン系難燃剤からなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい。
【００８１】
有機リン系難燃剤としては、芳香族リン酸エステル、芳香族縮合リン酸エステル、ホスフィン酸塩、及びトリアジン骨格を有するポリリン酸塩からなる群から選ばれる１種以上が、耐燃性、耐熱性、電気特性、及び耐吸湿性に優れる硬化物が得られる点で好ましく、その中でも芳香族リン酸エステル、及びホスフィン酸塩が、少ない添加量で耐燃性が得られるため好ましい。
【００８２】
芳香族リン酸エステルとしては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、ｔ−ブチルフェニルジフェニルホスフェート、ビス−（ｔ−ブチルフェニル）フェニルホスフェート、トリス−（ｔ−ブチルフェニル）ホスフェート、イソプロピルフェニルジフェニルホスフェート、ビス−（イソプロピルフェニル）ジフェニルホスフェート、トリス−（イソプロピルフェニル）ホスフェート、レゾルシノービス（フェニル）ホスフェート、レゾルシノールビス（２，６ジキシレニル）ホスフェート、ビスフェノールＡビス（ジフェニル）ホスフェート等が挙げられるが、中でも硬化物の吸湿性に優れ、吸湿条件下でも低い誘電率及び誘電正接が維持される点で、レゾルシノールビス（２，６ジキシレニル）ホスフェート、及び下記一般式（１）：
【化７】
2014001276.tif 000008
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に水素原子又は有機基である。）
で表される９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド誘導体が好ましい。上記有機基は、ビニル基、アリル基、プロパルギル基、メタリル基、（メタ）アクリル基、スチリル基等の不飽和二重結合を有するＣ１〜Ｃ１６の炭化水素基等であることが好ましい。
【００８３】
９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド誘導体としては、下記一般式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、（ｈ）又は（ｉ）で表される化合物等を挙げることができる。これらは単独で用いることもでき、２種類以上を混合して用いることもできる。
【化８】
2014001276.tif 000009
（式中Ｒ２及びＲ３は前記と同じである。）
【００８４】
ホスフィン酸塩は、高い耐熱性を有する樹脂組成物を与える観点から、ジアルキルホスフィン酸アルミニウムであることが好ましい。
【００８５】
また、ホスファゼン系難燃剤としては、下記一般式（２）：
【化９】
2014001276.tif 000010
（式中、ｎは、３〜２５の整数であり、そしてＲ4〜Ｒ13は、それぞれ独立に水素原子又は有機基である。）
で表される環状ホスファゼンが、耐燃性、耐熱性、電気特性、及び耐吸湿性に優れる硬化物が得られる点で好ましい。上記有機基は、ビニル基、アリル基、プロパルギル基、メタリル基、（メタ）アクリル基、スチリル基等、不飽和二重結合を有するＣ１〜Ｃ１６の炭化水素基、又は、水酸基、シアノ基、シアネート基、或いはこれら官能基を有するＣ１〜Ｃ１６の炭化水素基等であることが好ましい。環状ホスファゼンとしては、フェノキシホスファゼン、キシレノキシホスファゼン、シアノフェノキシホスファゼン等を用いることができる。
【００８６】
硬化性樹脂組成物は、反応開始剤（Ｄ）を含むことができる。反応開始剤（Ｄ）としては、架橋型硬化剤（Ｂ）（例えばビニルモノマー）の重合反応を促進する能力を有する任意の開始剤を使用でき、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）オクタン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ジ（トリメチルシリル）パーオキサイド、トリメチルシリルトリフェニルシリルパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。また、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン等のラジカル発生剤も反応開始剤として使用できる。中でも、得られる耐熱性及び機械特性に優れ、更に低い誘電率及び誘電正接を有する硬化物を与えることができるの観点から、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサンが好ましい。
【００８７】
ポリフェニレンエーテル（Ａ）と架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して、反応開始剤（Ｄ）の含有量は、反応率を高くできる観点から好ましくは０．５質量部以上、より好ましくは１質量部以上、更に好ましくは１．５質量部以上であり、得られる硬化物の誘電率及び誘電正接を低く抑えることができる観点から、好ましくは１５質量部以下、より好ましくは１０質量部以下、更に好ましくは７質量部以下である。
【００８８】
本発明の硬化性樹脂組成物には別の樹脂（例えば熱可塑性樹脂、硬化性樹脂等）を更に含有させることもできる。熱可塑性樹脂としては、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、スチレン、ジビニルベンゼン、メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸エステル、アクリル酸エステル、塩化ビニル、アクリロニトリル、無水マレイン酸、酢酸ビニル、四フッ化エチレン等のビニル化合物の単独重合体及び２種以上のビニル化合物の共重合体、並びに、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアセタール、ポリフェニレンスルフィド、ポリエチレングリコール等を例として挙げることができる。これらの中でもスチレンの単独重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、及びスチレン−エチレン−ブタジエン共重合体が、硬化性樹脂組成物の溶剤への溶解性及び成形性の観点から好ましく用いることができる。硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、及びシアネートエステル類を例として挙げることができる。上記熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂は、酸無水物、エポキシ化合物、アミン等の官能化化合物で変成されたものでもよい。このような別の樹脂の使用量は、上記ポリフェニレンエーテル（Ａ）と上記架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して、好ましくは１０〜９０質量部、より好ましくは２０〜７０質量部である。
【００８９】
本発明の硬化性樹脂組成物は目的に応じ適当な添加剤を更に含有してもよい。添加剤としては、リン含有難燃剤以外の難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、界面活性剤、滑剤、充填剤、ポリマー添加剤等が挙げられる。リン含有難燃剤以外の難燃剤は、ハロゲン原子を含有しないことが好ましい。
【００９０】
リン含有難燃剤以外の難燃剤としては、好ましくは、ホウ酸亜鉛、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化ニッケル（ＮｉＯ）、並びに酸化銅（Ｉ）（Ｃｕ２Ｏ）及び酸化銅（ＩＩ）（ＣｕＯ）からなる群から選ばれる１種以上を含有できる。これらは、ＵＬ規格９４Ｖ−０レベルの難燃性を得る観点、並びに耐熱性、電気特性、及び耐吸湿性に優れる硬化物を得やすい観点から有利である。上記で列挙される難燃剤の合計使用量は、良好な難燃性を得る観点から、ポリフェニレンエーテル（Ａ）と架橋型硬化剤（Ｂ）との合計１００質量部に対して好ましくは１質量部以上、より好ましくは２質量部以上、更に好ましくは３質量部以上である。また、得られる硬化物の誘電率及び誘電正接を小さく維持できる観点から、好ましくは１５質量部以下、より好ましくは１０質量部以下、更に好ましくは８質量部以下である。
【００９１】
上述した硬化性樹脂組成物を含有するワニスもまた開示される。該ワニスは、本発明の硬化性樹脂組成物を溶剤に溶解又は分散させることによって形成できる。このワニスを、例えばガラスクロス等である基材に含浸させた後、溶剤分を乾燥除去することにより、例えば基板材料の絶縁層の材料として好適なプリプレグを製造できる。
【００９２】
上記ワニスに用いられる溶剤としては、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン等を挙げることができる。これらの溶剤は単独でも２種以上を混合しても使用できる。また、例えば上記各種の溶剤の１種以上とメタノール等のアルコール類とを組合せてもよい。ワニスに占める硬化性樹脂組成物の割合は、基材へのワニス含浸性及び基材への樹脂付着量を良好に制御する観点から、ワニス全量１００質量部に対して、５〜９５質量部であることが好ましく、２０〜８０質量部であることがより好ましい。
【００９３】
本発明の別の態様は、上述した本発明の硬化性樹脂組成物と、基材とを含むプリプレグを提供する。プリプレグは典型的にはプリント配線板用プリプレグである。典型的なプリプレグは、該硬化性樹脂組成物を含有するワニスを基材に含浸させた後、熱風乾燥機等で溶剤分を揮発させて得られる、硬化性樹脂組成物と基材との複合体である。基材としては、ロービングクロス、クロス、チョップドマット、サーフェシングマット等の各種ガラス布；アスベスト布、金属繊維布、及びその他合成若しくは天然の無機繊維布；全芳香族ポリアミド繊維、全芳香族ポリエステル繊維、ポリベンゾオキサゾール繊維等の液晶繊維から得られる織布又は不織布；綿布、麻布、フェルト等の天然繊維布；カーボン繊維布、クラフト紙、コットン紙、紙−ガラス混繊糸から得られる布等の天然セルロース系基材；ポリテトラフルオロエチレン多孔質フィルム；等を単独で、又は２種以上組合せて用いることができる。
【００９４】
上記プリプレグに占める硬化性樹脂組成物の割合は、プリプレグ全量１００質量部に対して、３０〜８０質量部であることが好ましく、より好ましくは４０〜７０質量部である。上記割合が３０質量部以上である場合、プリプレグを例えば電子基板形成用として使用した際に優れた絶縁信頼性が得られ、８０質量部以下である場合、例えば得られる電子基板が曲げ弾性率等の機械特性に優れる。
【００９５】
上述した本発明の硬化性樹脂組成物を用い、該硬化性樹脂組成物の硬化物と基材とを含む硬化物複合体と、金属箔とが積層されている積層板を形成できる。該積層板は、好ましくは、上記硬化物複合体と金属箔とが重なって密着しているもので、電子基板の材料として好適に用いられる。金属箔としては例えばアルミ箔及び銅箔を用いることができ、中でも銅箔は電気抵抗が低いため好ましい。金属箔と組合せる硬化物複合体は１枚でも複数枚でもよく、用途に応じて複合体の片面又は両面に金属箔を重ねて積層板に加工する。積層板の製造方法としては、例えば、硬化性樹脂組成物と基材とから構成される複合体（例えば前述のプリプレグ）を形成し、これを金属箔と重ねた後、硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、硬化物積層体と金属箔とが積層されている積層板を得る方法が挙げられる。該積層板の特に好ましい用途の１つはプリント配線板である。
【００９６】
本発明の別の態様は、上述した本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物と、基材とを含むプリント配線板を提供する。本発明のプリント配線板は、典型的には、上述した本発明のプリプレグを用いて、加圧加熱成型する方法で形成できる。基材としてはプリプレグに関して前述したのと同様のものが挙げられる。本発明のプリント配線板は、上述したような硬化性樹脂組成物を用いて形成されていることにより、優れた絶縁信頼性及び機械特性を有することができる。
【実施例】
【００９７】
以下、実施例により、本実施形態を更に詳しく説明するが、本実施形態は以下の実施例により何ら限定されるものではない。
【００９８】
実施例、比較例及び製造例中の各物性は、以下の方法によって測定した。
【００９９】
（１）ポリフェニレンエーテルの数平均分子量
ゲルパーミエーションクロマトグラフィ分析（ＧＰＣ）を用い、分子量既知の標準ポリスチレンの溶出時間との比較で数平均分子量を求めた。
測定装置にはＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）を用い、カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  ＬＦ−８０４×２（昭和電工株式会社製）、溶離液：５０℃のクロロホルム、検出器：ＲＩ、の条件で測定を行った。
【０１００】
（２）ポリフェニレンエーテル１分子当たりの平均フェノール性水酸基数
吸光度から求めたポリフェニンエーテルに含まれるフェノール性水酸基数と、平均分子量から求めたポリフェニンエーテルの分子数とを用い、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数を求めた。
先ず、高分子論文集，ｖｏｌ．５１，Ｎｏ．７（１９９４），第４８０頁記載の方法に準拠し、ポリフェニレンエーテルの塩化メチレン溶液にテトラメチルアンモニウムハイドロオキシド溶液を加えて得た試料の波長３１８ｎｍにおける吸光度変化を紫外可視吸光光度計で測定した値から水酸基の数を求めた。
別途、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量を、上記（１）に従いゲルパーミエーションクロマトグラフィにより求め、この値を用いて、ポリフェニレンエーテルの分子数を求めた。これらの値から、下記式に従って、ポリフェニレンエーテルの１分子当たりの平均水酸基数を算出した。
１分子当たりの平均フェノール性水酸基数＝水酸基の数／数平均分子数
【０１０１】
（３）硬化性樹脂組成物の硬化時の樹脂フロー量
プリプレグを加熱加圧成形して積層板を作製する際に、流れ出した樹脂の質量の、もとの質量（加熱加圧成形に供したプリプレグ）に対する割合として求めた。
【０１０２】
硬化性樹脂組成物をトルエンと混合してワニスを作製し、該ワニスをガラスクロス（２１１６  旭化成シェーベル株式会社製）に含浸させた後、乾燥してトルエン溶剤を除き、樹脂含量約６０質量％のプリプレグを作製した。該プリプレグを１５０ｍｍ角に２枚切り出し、試験片とした。ここで、試験片２枚の質量（ｇ）を求めておき、積層板前駆体の質量とした。
【０１０３】
次いで、該試験片２枚を重ね、室温から昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力５ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、１３０℃まで達したら昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力３０ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、２００℃まで達したら温度を２００℃に保ったまま圧力３０ｋｇ／ｃｍ2、時間６０分間の条件で真空プレスを行い、１５０ｍｍ角部から流れ出した樹脂を取り除いて積層板を得た。この積層板について質量を求め、積層板の質量（ｇ）とした。
積層板前駆体の質量（ｇ）と積層板の質量（ｇ）とを用い、下記式より、硬化性樹脂組成物の硬化時樹脂フロー量（％）を求めた。
硬化時樹脂フロー量（％）＝（積層板前駆体の質量（ｇ）−積層板の質量（ｇ））／積層板前駆体の質量（ｇ）×１００
【０１０４】
（４）積層板のガラス転移温度
積層板の動的粘弾性を測定し、ｔａｎδが最大となる温度を求めた。
測定装置としてＡＲＥＳＳ（ＴＡインスツルメンツ社製）を用い、試験片：長さ約４５ｍｍ、幅約１２．５ｍｍ及び厚さ約３ｍｍ、ひねりモード、周波数：１０ｒａｄ／ｓの条件で測定を行った。
【０１０５】
（５）積層板の誘電率、誘電正接
積層板の１ＧＨｚにおける誘電率及び誘電正接を、インピーダンスアナライザーを用いて測定した。
測定装置としてインピーダンスアナライザー（４２９１Ｂ  ｏｐ．００２  ｗｉｔｈ  １６４５３Ａ，１６４５４Ａ、ＡｇｉｌｅｎｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）を用い、試験片厚さ：約２ｍｍ、電圧：１００ｍＶ、周波数：１ＭＨｚ〜１．８ＧＨｚの条件で測定し、掃引回数１００回の平均値として求めた。
【０１０６】
（６）積層板の吸水率
積層板を吸水加速試験に供し、増加した質量から吸水率を求めた。
積層板を５０ｍｍ角に切り出し試験片を作製した。該試験片を１３０℃で３０分乾燥した後、質量を測定し、加速試験前の質量（ｇ）とした。次いで、温度：１２１℃、圧力：２ａｔｍ、時間：４時間、の条件で加速試験を行った後の質量を測定し、加速試験後の質量（ｇ）とした。
加速試験前の質量（ｇ）と加速試験後の質量（ｇ）とを用い、下記式により吸水率を算出し、試験片４枚の測定値の平均値を求めた。
吸水率（質量％）＝（加速試験前の質量―加速試験後質量）／加速試験前の質量×１００
【０１０７】
（７）積層板の吸水試験後のはんだ耐熱性
上記（６）に記載の吸水率の測定後の積層板を用い、２８８℃及び２６０℃でのはんだ耐熱試験を行った。吸水加速試験後の積層板を、２８８℃又は２６０℃のはんだ浴に２０秒間浸漬し、目視による観察を行った。２８８℃のはんだ浴へ浸漬しても、膨れ、剥離及び白化の何れも確認されなかった積層板については「はんだ耐熱２８８℃」と評価した。また、２８８℃のはんだ浴への浸漬により、膨れ、剥離及び白化の何れか１つ以上が発生したが、２６０℃のはんだ浴へ浸漬しても、膨れ、剥離及び白化の何れも確認されなかった積層板については「はんだ耐熱２６０℃」と評価した。また、２６０℃のはんだ浴への浸漬により、膨れ、剥離及び白化の何れか１つ以上が発生した積層板は「不合格」と評価した。
【０１０８】
（８）積層板の銅箔引き剥がし強さ
銅張積層板の銅箔を一定速度で引き剥がす際の応力を測定した。後述の方法で作製した、３５μｍ銅箔（ＧＴＳ−ＭＰ箔、古川電気工業株式会社製）を用いた銅張積層板を、幅１５ｍｍ×長さ１５０ｍｍのサイズに切り出し、オートグラフ（ＡＧ−５０００Ｄ、株式会社島津製作所製）を用い、銅箔を除去面に対し９０℃の角度で５０ｍｍ／分の速度で引き剥がした際の荷重の平均値を測定し、５回の測定の平均値を求めた。
【０１０９】
（９）難燃性試験
ＵＬ−９４難燃性試験に準じた方法で評価した。
なお、テストピースはプリプレグ８枚を重ね、後述の条件で成型し、次いで銅箔を除去して調製した、厚さ約１．５ｍｍの積層板を用いた。
【０１１０】
実施例、比較例及び製造例において使用した原材料を以下に示す。
ポリフェニレンエーテル：Ｓ２０２Ａ（旭化成ケミカルズ製、数平均分子量１９，０００、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数１．８４個）
低分子量・メタクリル化ポリフェニレンエーテル：ＭＸ９０００（ＳＡＢＩＣ製、数平均分子量１，１００、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数０．０４個）
ビスフェノールＡ：東京化成工業製
６質量％ナフテン酸コバルトミネラルスピリット溶液：和光純薬工業製
ベンゾイルパーオキサイド溶液：ナイパーＢＭＴ  Ｋ−４０（日油製、ベンゾイルパーオキサイドの４０質量％キシレン溶液）
テトラブチルアンモニウムヨージド：和光純薬工業製
塩化ベンジル：東京化成工業製
クロロメチルスチレン：和光純薬工業製
トリアリルイソシアヌレート：ＴＡＩＣ（日本化成製）
スチレン系エラストマー：ＳＯＥ  Ｌ６０６（旭化成ケミカルズ製）
シリカ：球状シリカ（龍森製）
デカブロモジフェニルエタン：ＳＡＹＴＥＸ８０１０（アルベマールジャパン製）
α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピル）ベンゼン：パーブチルＰ（日油製）
クレゾール・ノボラック骨格フェノール樹脂：郡栄化学工業社製  グレード：レヂトップＰＳＭ−４２６１
２，６−キシレノール：東京化成工業製
ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート：Ｐｅｒｂｕｔｙｌ  Ｉ（日油製）
【０１１１】
＜製造例１：低分子量・ポリフェニレンエーテル＞
９０℃に加温されたオイルバスに１０Ｌのフラスコを設置し、フラスコ内部に毎分３０ｍｌで窒素ガスを導入した。以降、操作は常に窒素ガス気流下で行った。ここにポリフェニレンエーテル１ｋｇ、及びトルエン３ｋｇを入れ、攪拌溶解させた。更に８０ｇのビスフェノールＡをメタノール３５０ｇに溶かした溶液を上記フラスコに攪拌しながら加えた。５分間攪拌を続けた後、６質量％ナフテン酸コバルトミネラルスピリット溶液３ｍｌを注射器で加え、５分間攪拌を続けた。続いてベンゾイルパーオキサイド溶液３７５ｇにトルエン１１２５ｇを加えて、ベンゾイルパーオキサイド濃度が１０質量％になるように希釈した溶液を滴下ロートに入れ、上記フラスコに２時間かけて滴下していった。滴下終了後、更に２時間加熱及び攪拌を続け、低分子量化ポリフェニレンエーテルを得た。得られた低分子量化ポリフェニレンエーテルの数平均分子量は２，８００であり、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は１．９６個であった。
【０１１２】
＜製造例２：低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテル−１＞
製造例１と同様の方法で、メタノールを添加してポリフェニレンエーテルを沈殿させる前の工程まで行い、低分子量・ポリフェニレンエーテルを含む反応液を得た。該反応液の温度を５０℃に下げ、水酸化ナトリウム３４０ｇをイオン交換水３０５０ｇに溶解させた水溶液とテトラブチルアンモニウムヨード３１ｇとを加えて、５分間撹拌した。続いて、塩化ベンジル１０７０ｇを加えてから温度５０℃で４時間撹拌を続け、低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテルを含む反応液を得た。これに多量のメタノールを加え、低分子量・ベンジル化ポリフェニレネーテルを沈殿させ、ろ別後、乾燥させて低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテル−１を得た。
得られた低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテル−１の数平均分子量は３，０００、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は０．０１個であった。
【０１１３】
＜製造例３：低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテル−２＞
ビスフェノールＡを１００ｇ、ビスフェノールＡを溶解させるメタノールを４４０ｇとし、さらにベンゾイルパーオキサイド溶液を４２５ｇとする以外は製造例１と同様にして低分子量・ポリフェニレンエーテルを製造し、該低分子量・ポリフェニレンエーテルを用いて製造例２と同様の方法で低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテル−２を得た。
得られた低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテル−２の数平均分子量は２，４００、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は０．０２個であった。
【０１１４】
＜製造例４：低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテル−３＞
ビスフェノールＡを１３０ｇ、ビスフェノールＡを溶解させるメタノールを５７０ｇとし、さらにベンゾイルパーオキサイド溶液を４７５ｇとする以外は製造例１と同様にして低分子量・ポリフェニレンエーテルを製造し、該低分子量・ポリフェニレンエーテルを用いて製造例２と同様の方法で低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテル−２を得た。
得られた低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテルの数平均分子量は１，５００、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は０．０４個であった。
【０１１５】
＜製造例５：低分子量・ビニルベンジル化ポリフェニレンエーテル＞
塩化ベンジル１０７０ｇをクロロメチルスチレン１２９０ｇに変更する以外は製造例２と同様の方法で、低分子量・ビニルベンジル化ポリフェニレンエーテルを得た。
得られた低分子量・ビニルベンジル化ポリフェニレンエーテルの数平均分子量は３，１００、１分子当たりの平均フェノール性水酸基数は０．０５個であった。
【０１１６】
＜製造例６：９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−アリルホスファフェナントレン−１０−オキシド＞
環流冷却器付きの３Ｌ三つ口フラスコに９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド（三光社製、商品名：ＨＣＡ）３２４．６ｇ、臭化アリル（和光純薬製、特級）２１０ｇ、メタノール（和光純薬製、特級）１８００ｇ、トリエチルアミン（和光純薬製、特級）１８０ｇを加え、メタノールが穏やかに環流冷却器内を環流する程度まで加熱し、そのまま８時間反応させた。その後フラスコを室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターを用いてメタノールを減圧留去した後、残査を減圧蒸留（０．１ｍｍＨｇ、１４０℃）し、反応型置換基を有する９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド誘導体である９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−アリルホスファフェナントレン−１０−オキシド約４５ｇを得た。
【０１１７】
＜実施例１〜１２、比較例１〜６＞
表１に示す樹脂組成のワニスをトルエンを用いて混合し、ワニスを調製した。上記ワニスをガラスクロス（旭シュエーベル株式会社製、商品名「２１１６」）に含浸させ、乾燥することにより樹脂含有量６０質量％のプリプレグを得た。このプリプレグを用いて、前述の方法で硬化時樹脂フロー量を測定した。
【０１１８】
また、上記得られたプリプレグを２枚重ね、その上下に厚み１２μｍの銅箔（ＧＴＳ−ＭＰ箔、古川電気工業株式会社製）を重ね合わせたものを、室温から昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力５ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、１３０℃まで達したら昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力３０ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、２００℃まで達したら温度を２００℃に保ったまま圧力３０ｋｇ／ｃｍ2、時間６０分間の条件で真空プレスを行うことによって両面銅張積層板を得た。次いで、該銅張積層板を１００ｍｍ角に切り出し、銅箔をエッチングにて除去し、ガラス転移温度、吸水率、及び吸水試験後のはんだ耐熱性を評価するための試料を得た。
【０１１９】
また、上記で得られたプリプレグを２枚重ね、その上下に厚み３５μｍの銅箔（ＧＴＳ−ＭＰ箔、古川電気工業株式会社製）を重ね合わせたものを、室温から昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力５ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、１３０℃まで達したら昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力３０ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、２００℃まで達したら温度を２００℃に保ったまま圧力３０ｋｇ／ｃｍ2、時間６０分間の条件で真空プレスを行うことによって両面銅張積層板を作製した。この両面銅張積層板を銅箔剥離強度測定用の試料として用いた。
【０１２０】
また、上記で得られたプリプレグを１６枚重ね、室温から昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力５ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、１３０℃まで達したら昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力３０ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、２００℃まで達したら温度を２００℃に保ったまま圧力３０ｋｇ／ｃｍ2、時間６０分間の条件で真空プレスを行うことによって積層板を作製した。該積層板を、１００ｍｍ角に切り出し、誘電率及び誘電正接の測定用試料とした。
【０１２１】
また、上記で得られたプリプレグを８枚重ね、室温から昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力５ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、１３０℃まで達したら昇温速度３℃／分で加熱しながら圧力３０ｋｇ／ｃｍ2の条件で真空プレスを行い、２００℃まで達したら温度を２００℃に保ったまま圧力３０ｋｇ／ｃｍ2、時間６０分間の条件で真空プレスを行うことによって、厚さ約１５０ｍｍの積層板を作製した。次いで、銅箔をエッチングにて除去し、長さ１２５ｍｍ、幅１２．５ｍｍの試験片を切り出し、難燃性を評価するための測定用試料とした。
【０１２２】
上記のように、プリプレグ、両面銅張積層板（銅箔：１２μｍ及び３５μｍの２種）、又は積層板を用い、ガラス転移温度、硬化時の樹脂フロー量、銅箔剥離強度、誘電率、誘電正接、吸水率、及び吸水後のはんだ耐熱性、並びに難燃性を測定し、表１に示した。
【０１２３】
表１に示されるように、実施例１〜１２においては、いずれも樹脂フロー量が０．３％以上と大きく、誘電正接が０．００７以下と小さく、ガラス転移温度も１６０℃以上と高い。実施例１〜１２の積層板は、銅箔剥離強度が高く、耐吸水性が良好で、更にはんだ耐熱性にも優れる耐燃性（いずれも９４Ｖ−０レベル）を有するものであった。
【０１２４】
一方、比較例１〜６は、樹脂フロー量、誘電正接、ガラス転移温度、銅箔剥離強度、耐吸水性、及びはんだ耐熱性の少なくとも何れかが劣るものであった。末端を官能化していないポリフェニレンエーテルと低分子量・ポリフェニレンエーテルとの混合物を用いた比較例１においては、ガラス転移温度が低く、誘電正接が高く、耐吸水性及びはんだ耐熱性が悪かった。未官能化ポリフェニレンエーテルを用いた比較例２においては、成形性が悪く、積層板にかすれが生じてしまった。この例では、評価に十分耐える積層板が得られなかったため、他の項目は評価できなかった。未官能化ポリフェニレンエーテルを用い、トリアシルイソシアヌレートを多く用いた比較例３においては、誘電正接が高く、銅箔剥離強度が小さかった。未官能化ポリフェニレンエーテルと低分子量・ベンジル化ポリフェニレンエーテルとを約５０：５０（質量比）の割合で混合した比較例４においては、ガラス転移温度が低く、銅箔剥離強度及びはんだ耐熱性が悪かった。未官能化ポリフェニレンエーテルと低分子量・ビニルベンジル化ポリフェニレンエーテルとを、４６：５４（質量比）の混合比で用いた比較例５においては、銅箔剥離強度が低く、はんだ耐熱性が悪かった。低分子量・ビニルベンジル化ポリフェニレンエーテルを用いた比較例６においては、銅箔剥離強度が小さく、はんだ耐熱性が悪かった。
【０１２５】
【表１】
2014001276.tif 000011
【０１２６】
本発明の態様の例を上記したが、本発明はこれらの態様に限定されず、特許請求の範囲の精神及び範囲の中で種々の改変が可能であることが理解されよう。