(57)【要約】【課題】製造工程において危険有害性の高い材料を用いることなく、膜均一性の高いセラミックス膜前駆体溶液の製造方法を提供すること。【解決手段】金属の酢酸塩と、酢酸を除く脂肪族カルボン酸と、を混合し混合溶液を得る混合溶液調製工程（Ｓ１）と、前記混合溶液を酢酸の沸点以上、酢酸を除く脂肪族カルボン酸の沸点未満の温度に加熱して、酢酸を除く脂肪族カルボン酸に配位子置換した金属錯体を含む錯体溶液を得る加熱工程（Ｓ２）と、前記錯体溶液に酢酸またはプロピオン酸を添加する溶媒添加工程（Ｓ３）と、を備えることによりセラミックス前駆体溶液を得る。【選択図】図１
2014001112.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属の酢酸塩と、酢酸を除く脂肪族カルボン酸と、を混合し混合溶液を得る工程と、
前記混合溶液を酢酸の沸点以上、酢酸を除く脂肪族カルボン酸の沸点未満の温度に加熱して、酢酸を除く脂肪族カルボン酸に配位子置換した金属錯体を含む錯体溶液を得る工程と、
前記錯体溶液に、酢酸またはプロピオン酸の少なくとも１つを添加して、セラミック膜前駆体溶液を得る工程と、を備え、
前記セラミックス膜前駆体溶液の粘度が７ｃＰ以下である
ことを特徴とするセラミックス膜前駆体溶液の製造方法。
【請求項２】
前記金属の酢酸塩が、酢酸バリウム、酢酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸ビスマス、酢酸鉛、酢酸クロム、酢酸マンガン、酢酸鉄、酢酸コバルト、酢酸ニッケル、酢酸亜鉛、酢酸ランタン、酢酸セリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウムからなる群から選択される少なくとも１つである
ことを特徴とする請求項１に記載のセラミックス膜前駆体溶液の製造方法。
【請求項３】
前記酢酸を除く脂肪族カルボン酸が、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ネオデカン酸、２−エチルペンタン酸、２−エチルヘキサン酸からなる群から選択される少なくとも１つである
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のセラミックス膜前駆体溶液の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のセラミックス膜前駆体溶液の製造方法により製造された前駆体溶液を塗布し、焼成する工程を備える
ことを特徴とする圧電セラミックス膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セラミックス膜を作製するためのセラミックス膜前駆体溶液の製造方法及び圧電セラミックス膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
セラミックス膜を形成するための原料としては、有機金属化合物を溶剤に溶解した溶液が広く用いられている。例えば、セラミックス膜は、有機金属化合物を溶剤に溶解した、セラミック膜前駆体溶液を被対象物上に塗布した後、これを乾燥して焼成させることにより形成される。そして、セラミックス膜前駆体溶液に好適に用いられる有機金属化合物として、２−エチルヘキサン酸等の脂肪族カルボン酸を配位子とする金属錯体が挙げられる。
ここで、２−エチルヘキサン酸を配位子とした金属錯体について、例えば、バリウムの場合、バリウム原料として金属バリウムを使用し、２−メトキシエタノール及び２−エチルヘキサン酸中に添加して反応させることにより２−エチルヘキサン酸を配位子とするバリウム錯体溶液を得る方法が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表平８−５０２９４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、腐食性や反応性が高い金属バリウムを原料として使用しており、また、危険有害性の高い２−メトキシエタノールを使用しているため、製造工程において環境汚染や作業者の安全性、健康被害等の問題があった。
本発明はこのような事情に鑑み、製造工程において危険有害性の高い材料を用いることなく、膜均一性の高いセラミックス膜前駆体溶液の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決する本発明の態様は、金属の酢酸塩と、酢酸を除く脂肪族カルボン酸とを混合し混合溶液を得る工程と、前記混合溶液を酢酸の沸点以上、酢酸を除く脂肪族カルボン酸の沸点未満の温度に加熱して、酢酸を除く脂肪族カルボン酸に配位子置換した金属錯体を含む錯体溶液を得る工程と、前記錯体溶液に酢酸またはプロピオン酸の少なくとも１つを添加して、セラミック膜前駆体溶液を得る工程と、を備え、前記セラミックス膜前駆体溶液の粘度が７ｃＰ以下であることを特徴とするセラミックス前駆体溶液の製造方法にある。
かかる態様では、製造工程において危険有害性の高い材料を用いることなく、膜均一性が良好なセラミックス膜前駆体溶液を容易に製造することができる。
【０００６】
本発明の実施態様としては、前記金属の酢酸塩が、酢酸バリウム、酢酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸ビスマス、酢酸鉛、酢酸クロム、酢酸マンガン、酢酸鉄、酢酸コバルト、酢酸ニッケル、酢酸亜鉛、酢酸ランタン、酢酸セリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウムからなる群から選択される少なくとも１つのものが挙げられる。
【０００７】
本発明の実施態様としては、前記カルボン酸が、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ネオデカン酸、２−エチルペンタン酸、２−エチルヘキサン酸、からなる群から選択される少なくとも１つのものが挙げられる。
【０００８】
本発明の他の態様は、上記セラミックス膜前駆体溶液の製造方法により製造された前駆体溶液を塗布し、焼成する工程を備えることを特徴とする圧電セラミックス膜の製造方法にある。
かかる態様によれば、製造工程において危険有害性の高い材料を用いることなく、膜均一性が良好な圧電セラミックス膜を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態のセラミックス膜前駆体溶液の製造方法を示すフローチャート図。
【図２】実施形態の圧電セラミックス膜の製造方法を示すフローチャート図。
【図３】実施例１の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示すグラフ。
【図４】実施例１のＴＧ−ＤＴＡ測定結果を示すグラフ。
【図５】比較例１のＴＧ−ＤＴＡ測定結果を示すグラフ。
【図６】実施例２のＸＲＤ測定結果を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１に、実施形態におけるセラミックス膜前駆体溶液の製造方法を表すフローチャート図を示した。
図１において、セラミックス膜前駆体溶液の製造方法は、金属の酢酸塩と、酢酸を除く脂肪族カルボン酸と、を含む混合溶液を調製する混合溶液調整工程としてのステップ１（Ｓ１）と、混合溶液を酢酸の沸点以上、酢酸を除く脂肪族カルボン酸の沸点未満の温度に加熱して、酢酸を除く脂肪族カルボン酸に配位子置換した金属錯体を含む錯体溶液を得る加熱工程としてのステップ２（Ｓ２）と、錯体溶液に酢酸またはプロピオン酸の少なくとも１つを添加する溶媒添加工程としてのステップ３（Ｓ３）と、を備え、セラミックス膜前駆体溶液を得るものである。
【００１１】
具体的には、まず、混合溶液調製工程（Ｓ１）において、金属の酢酸塩と、酢酸を除く脂肪族カルボン酸と、を含む不均一系の混合溶液を調製する。金属の酢酸塩としては、例えば、酢酸バリウム、酢酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸ビスマス、酢酸鉛、酢酸クロム、酢酸マンガン、酢酸鉄、酢酸コバルト、酢酸ニッケル、酢酸亜鉛、酢酸ランタン、酢酸セリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウムが挙げられ、これらは２種以上配合するようにしてもよい。また、配位子とする酢酸を除く脂肪族カルボン酸としては、例えば、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ネオデカン酸、２−エチルペンタン酸、２−エチルヘキサン酸が挙げられる。
【００１２】
次に、加熱工程（Ｓ２）において、混合溶液を酢酸の沸点以上、酢酸を除く脂肪族カルボン酸の沸点未満の温度に加熱する。これにより、配位子置換反応が進行し、酢酸を除く脂肪族カルボン酸に配位子が置換した金属錯体を含む錯体溶液を得ることができる。
【００１３】
以下ではわかりやすくするため、酢酸バリウムを例として、２−エチルヘキサン酸との反応を説明する。
酢酸バリウム（Ｂａ（ＯＯＣＣＨ3）2）と２−エチルヘキサン酸（ＣＨ3（ＣＨ2）3ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）ＣＯＯＨ）とを混合した場合、平衡反応である場合は、下記の２つの平衡が存在することになる。
【００１４】
【化１】
2014001112.tif 000003
したがって、上述した平衡は、下記式のような平衡反応とみなすことができる。
【００１５】
【化２】
2014001112.tif 000004
【００１６】
しかしながら、酢酸バリウムと２−エチルヘキサン酸とを混合した場合、酢酸バリウムは、２−エチルヘキサン酸への溶解度が低い。すなわち、実施形態で用いる混合溶液は、不均一系の混合溶液となっている。このような不均一系の混合溶液は、通常の加熱温度、例えば、４０〜８０℃程度に混合溶液を昇温させても、配位子置換反応はほとんど進行しない。
【００１７】
本発明では、加熱工程（Ｓ２）において、混合溶液を酢酸の沸点以上２−エチルヘキサン酸の沸点未満の温度に加熱することにより、下記に示すように、酢酸が選択的に揮発して非平衡状態となり、２−エチルヘキサン酸を配位子とした金属錯体が生成する。
【００１８】
【化３】
2014001112.tif 000005
【００１９】
上述したように、実施形態の加熱工程（Ｓ２）では、混合溶液を高温に加熱することにより、生成する酢酸を除去して反応を進行させる、すなわち、酢酸を除去することにより、（Ｂａ（ＯＯＣ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ（ＣＨ2）3ＣＨ3）2）生成側へ反応を進行させている。なお、この配位子置換反応は、酢酸を除去していることで不可逆反応である。
また、混合溶液が酢酸バリウム、２−エチルへキサン酸以外の他の金属の酢酸塩（Ｍ（ＯＯＣＣＨ3）x）や脂肪族カルボン酸（ＲＣＯＯＨ  Ｒ＝脂肪族炭化水素）を含有する場合は、加熱工程（Ｓ２）において、同様の反応が進行して、酢酸を除く脂肪族カルボン酸に配位子置換した金属錯体（ＭＯＯＣＲ）が形成される。
【００２０】
【化４】
2014001112.tif 000006
【００２１】
なお、加熱工程（Ｓ２）では、実際には酢酸を除く脂肪族カルボン酸の揮発も起こるが、酢酸の揮発量と比較して非常に少ない。このため、混合溶液調製工程（Ｓ１）において、混合溶液が酢酸を除く脂肪族カルボン酸を十分量（具体的には、配位子として必要な量及び揮発量を考慮した量）含むように調製したり、加熱工程（Ｓ２）において酢酸を除く脂肪族カルボン酸の不足分を系中に添加したりすることにより、特に問題とはならない。
加熱工程（Ｓ２）により得られる錯体溶液は、酢酸を除く脂肪族カルボン酸を配位子とした金属錯体を含むものとなる。
【００２２】
さらに、溶媒添加工程（Ｓ３）において、加熱工程（Ｓ２）により得られた錯体溶液に、酢酸またはプロピオン酸の少なくとも１つを添加する。
酢酸またはプロピオン酸を添加することにより、加熱工程（Ｓ２）により得られた錯体溶液の濃度や粘度を調整し、膜厚が一定で膜均一性が良好なセラミックス膜を形成することができる。
【００２３】
濃度や粘度の調整としては、例えば、ｎ−オクタンや２−エチルへキサン酸、１−ブタノールなどを用いることができるが、ｎ−オクタンなどの揮発性が高いものを用いた場合、常温においても揮発し易いため、濃度変調や塗布時に膜ムラなどの原因となる。また、２−エチルへキサン酸などの粘度が高いものを用いた場合、塗布性が悪く膜ムラの原因となる。１−ブタノールのようなアルコールの場合、加熱工程（Ｓ２）により得られる錯体溶液は配位子として用いたカルボン酸を含むため、下記式のような酸とアルコールとのエステル化反応により、副生成物としてエステルと水が生成してしまう。
【００２４】
【化５】
2014001112.tif 000007
ここで生成する水の存在のため、アルコキシ基を有するような溶液と混合した場合、水と反応して加水分解を行い、酸化物、水酸化物などの沈殿が生じる可能性がある。
【００２５】
一方、酢酸やプロピオン酸は、常温における揮発も極僅かであり、また、粘度も比較的低いため、膜均一性が良好なセラミックス膜を得ることができる。また、配位子と同様の脂肪族カルボン酸であるため、アルコールを用いた場合のような反応も起こらない。
【００２６】
なお、上述したセラミックス膜前駆体溶液の粘度は、７ｃＰ以下であることが好ましい。溶液濃度が高いことなどにより、セラミックス膜前駆体溶液の粘度が７ｃＰ以上であった場合、セラミックス膜前駆体溶液の塗布性が悪化し、均一な膜を得ることが難しくなる。
【００２７】
上述したように、金属の酢酸塩と、酢酸を除く脂肪族カルボン酸と、を含む混合溶液を調製し、混合溶液を酢酸の沸点以上酢酸を除く脂肪族カルボン酸の沸点未満の温度に加熱することにより、製造工程において、危険有害性の高い材料、例えば、トルエンや２−メトキシエタノールを用いることなく、酢酸を除く脂肪族カルボン酸に配位子置換した金属錯体を含む錯体溶液を容易に製造することができる。
【００２８】
さらに、実施形態では、錯体溶液と、酢酸またはプロピオン酸の少なくとも１つと、を添加してセラミックス膜前駆体溶液としている。これにより、製造工程において、２−メトキシエタノールやトルエン等の危険有害性の高い溶媒を含まず、化学的に安定で且つ膜厚が一定で膜均一性が良好なセラミックス膜を形成することができるセラミックス膜前駆体溶液とすることができる。
【００２９】
なお、実施形態におけるセラミックス膜前駆体溶液を用いて圧電セラミックス膜を製造する方法に特に限定されないが、ゾル−ゲル法やＭＯＤ（Ｍｅｔａｌ−Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等の化学溶液法により製造することができる。
具体的には、セラミックス膜前駆体溶液を塗布乾燥し、さらに高温で焼成して結晶化することで金属酸化物からなるセラミックス膜を得ることができる。
【００３０】
図２に、実施形態における圧電セラミックス膜の製造方法を表すフローチャート図を示した。
詳述すると、例えば、圧電セラミックス膜の製造方法は、まず、セラミックス膜前駆体溶液を被対象物上にスピンコート法、ディップコート法、インクジェット法等で塗布しセラミックス膜前駆体膜を形成する塗布工程としてのステップ１（Ｓ１）を行なう。次いで、このセラミックス膜前駆体膜を所定温度（例えば１４０〜２００℃程度）に加熱して一定時間乾燥させる乾燥工程としてのステップ２（Ｓ２）を行なう。次に、乾燥したセラミックス膜前駆体膜を所定温度（例えば３００〜４００℃程度）に加熱して一定時間保持することによって脱脂する脱脂工程としてのステップ３（Ｓ３）を行なう。なお、ここで言う脱脂とは、セラミックス膜前駆体膜に含まれる有機成分を、例えば、ＮＯ2、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ等として離脱させることである。
次に、セラミックス膜前駆体膜を所定温度（５５０〜８００℃、好ましくは、６００〜７５０℃程度）に加熱して一定時間保持することによって結晶化させ、例えば０．１〜２．０μｍのセラミックス膜を形成する焼成工程としてのステップ４（Ｓ４）を行なう。
【００３１】
なお、乾燥工程（Ｓ２）、脱脂工程（Ｓ３）及び焼成工程（Ｓ４）で用いられる加熱装置としては、例えば、赤外線ランプの照射により加熱するＲＴＡ（Ｒａｐｉｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎｎｅａｌｉｎｇ）装置やホットプレート等が挙げられる。また、上記では一定時間所定温度に保持した状態で、乾燥・脱脂・焼成を行う方法を例示したが、昇温し続けてもよい。
また、セラミックス膜は、上述した塗布工程（Ｓ１）、乾燥工程（Ｓ２）及び脱脂工程（Ｓ３）や、塗布工程（Ｓ１）、乾燥工程（Ｓ２）、脱脂工程（Ｓ３）及び焼成工程（Ｓ４）を所望の膜厚等に応じて複数回繰り返すことにより、複数層のセラミックス膜からなるものとしてもよい。
【００３２】
セラミックス膜前駆体溶液から形成されるセラミックス膜としては、チタン酸バリウム系、鉄酸ビスマス系、チタン酸ビスマスナトリウム系、チタン酸鉛系、ニオブ酸カリウム系のペロブスカイト構造の複合酸化物が挙げられる。
【００３３】
チタン酸バリウム系としては、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3）、チタン酸バリウムストロンチウム（（Ｂａ，Ｓｒ）ＴｉＯ3）などがある。上述した複合酸化物に、例えば、Ｂｉ（Ｚｎ1/2Ｔｉ1/2）Ｏ3、（Ｂｉ1/2Ｎａ1/2）ＴｉＯ3、ＢｉＦｅＯ3、（Ｎａ，Ｋ）ＮｂＯ3、ＰｂＴｉＯ3を添加してもよい。
【００３４】
鉄酸ビスマス系としては、鉄酸ビスマス（ＢｉＦｅＯ3）、鉄酸マンガン酸チタン酸ビスマスバリウム（（Ｂｉ，Ｂａ）（Ｆｅ，Ｍｎ，Ｔｉ）Ｏ3）などがある。上述した複合酸化物に、例えば、ＢａＴｉＯ3、Ｂｉ（Ｚｎ1/2Ｔｉ1/2）Ｏ3、（Ｂｉ1/2Ｎａ1/2）ＴｉＯ3、（Ｎａ，Ｋ）ＮｂＯ3、ＰｂＴｉＯ3を添加してもよい。
【００３５】
チタン酸ビスマスナトリウム系としては、チタン酸ビスマスナトリウム（Ｂｉ1/2Ｎａ1/2）ＴｉＯ3）、チタン酸ビスマスカリウム（Ｂｉ1/2Ｋ1/2）ＴｉＯ3）などがある。上述した複合酸化物に、例えば、ＢａＴｉＯ3、Ｂｉ（Ｚｎ1/2Ｔｉ1/2）Ｏ3、ＢｉＦｅＯ3、（Ｎａ，Ｋ）ＮｂＯ3、ＰｂＴｉＯ3を添加してもよい。
【００３６】
チタン酸鉛系としては、チタン酸鉛（ＰｂＴｉＯ3）、チタン酸ジルコン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3）などがある。上述した複合酸化物に、例えば、ＢａＴｉＯ3、Ｂｉ（Ｚｎ1/2Ｔｉ1/2）Ｏ3、（Ｂｉ1/2Ｎａ1/2）ＴｉＯ3、ＢｉＦｅＯ3、（Ｎａ，Ｋ）ＮｂＯ3を添加してもよい。ニオブ酸カリウム系としては、ニオブ酸カリウム（ＫＮｂＯ3）、ニオブ酸ナトリウム（ＮａＮｂＯ3）、ニオブ酸ナトリウムカリウム（（Ｎａ，Ｋ）ＮｂＯ3）などがある。上述した複合酸化物に、例えば、ＢａＴｉＯ3、Ｂｉ（Ｚｎ1/2Ｔｉ1/2）Ｏ3、（Ｂｉ1/2Ｎａ1/2）ＴｉＯ3、ＢｉＦｅＯ3、ＰｂＴｉＯ3を添加してもよい。
【００３７】
以下、実施形態におけるセラミックス膜前駆体溶液の製造方法を実施例および比較例に基づいてさらに詳細に説明する。
（実施例１）
まず、酢酸バリウム２．５５ｇ（０．０１ｍｏｌ）、及び２−エチルヘキサン酸１０ｍｌをビーカーに加えた。これを２００℃のホットプレート上で約３０分間加熱攪拌して、錯体溶液を得た。この錯体溶液に、プロピオン酸を加え、全体で２０ｍｌとすることで、０．５ｍｏｌ／ｌ濃度の実施例１のセラミックス膜前駆体溶液を製造した。
【００３８】
（比較例１）
実施例１と同様に、酢酸バリウム２．５５ｇ（０．０１ｍｏｌ）、及び２−エチルヘキサン酸１０ｍｌをビーカーに加えた。これを２００℃のホットプレート上で約３０分間加熱攪拌して、錯体溶液を得た。この錯体溶液に、ｎ−オクタンを加え、全体で２０ｍｌとすることで、実施例１のプロピオン酸をｎ−オクタンに変更した比較例１のセラミックス膜前駆体溶液を製造した。
【００３９】
実施例１と比較例１とを、以下に示す試験例によって比較した。
（試験例１）
Ｖａｒｉａｎ社製『Ｖａｒｉａｎ／５００ＮＢ』を使用し、室温にて実施例１で得られた錯体溶液の1Ｈ−ＮＭＲ測定を行った。
図３に実施例１の錯体溶液の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。図３に示すように、酢酸に帰属されるピークは観測されず、酢酸と２−エチルヘキサン酸の配位子置換、及び酢酸の揮発は十分に進行していることがわかった。
【００４０】
（試験例２）
ブルカー社製『ＴＧ−ＤＴＡ  ２０００ＳＡ』を使用し、実施例１及び比較例１のセラミックス膜前駆体溶液の室温から５００℃までのＴＧ−ＤＴＡ測定を行なった。図４に実施例１のセラミックス膜前駆体溶液のＴＧ−ＤＴＡ測定結果を示す。また、図５に比較例１のセラミックス膜前駆体溶液のＴＧ−ＤＴＡ測定結果を示す。
図４より、プロピオン酸を添加したセラミックス膜前駆体溶液では、溶媒の揮発に伴う急峻な重量減少は４５℃程度から始まっているのがわかる。これに対し、図５に示すように、ｎ−オクタンを添加したセラミックス膜前駆体溶液では、測定を開始した室温からすでに溶媒の揮発に伴う急峻な重量減少が起こっているのがわかった。
【００４１】
以下、実施形態における圧電セラミックス膜及びその製造方法を実施例に基づいてさらに詳細に説明する。
（実施例２）
実施例１で得られたセラミックス膜前駆体溶液と、チタン化合物（具体的には、２・エチルヘキサン酸チタン）を含むセラミックス膜前駆体溶液と、を、バリウムとチタンとのモル比が１：１となるように混合し、基板上にスピンコート法により圧電セラミックス膜を形成した。基板としては、サイズが一辺２．５ｃｍでプラチナ被覆シリコン基板、具体的には、Ｐｔ／ＴｉＯx／ＳｉＯ2／Ｓｉを使用した。
【００４２】
まず、塗布工程（Ｓ１）として、セラミックス膜前駆体溶液を基板上に滴下し、１５００ｒｐｍで基板を回転させて圧電セラミックス膜前駆体膜を形成した。
次に、乾燥工程（Ｓ２）及び脱脂工程（Ｓ３）として、ホットプレート上に基板を置き、１８０℃で２分間加熱した後、３５０℃で３分間加熱した。この工程を３回繰り返した。
焼成工程（Ｓ４）として、Ｒａｐｉｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎｎｅｌ（ＲＴＡ）を使用し、８００℃で５分間焼成して結晶化させた。これにより、計３層からなる厚さ約１５０〜４００ｎｍの実施例２の圧電セラミックス膜を形成した。
【００４３】
実施例２を、以下に示す試験例によって比較した。
（試験例３）
ブルッカ社製『Ｄ８  Ｄｉｓｃｏｖｅｒ』を用い、Ｘ線源にＣｕＫα線を使用したＸ線回折（Ｘ−ｒａｙ  ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ：ＸＲＤ）により、室温で実施例２の圧電セラミックス膜のＸ線回折チャートを求めた。結果を図６に示す。
図６に示すように、実施例２の圧電セラミックス膜においてペロブスカイト構造単相のチタン酸バリウムの回折ピークが得られ、チタン酸バリウムが形成されていることが明らかとなった。
以上のことから、実施例１のセラミックス膜前駆体溶液は、チタン酸バリウム薄膜形成に適した溶液であることがわかった。
【００４４】
（他の実施形態）
本発明のセラミックス膜前駆体溶液の製造方法により製造されるセラミックス膜前駆体溶液は、強誘電体デバイス、焦電体デバイス、圧電体デバイス、及び光学フィルターの強誘電体薄膜を形成するのに好適に用いることができる。
強誘電体デバイスとしては、強誘電体メモリー（ＦｅＲＡＭ）等が挙げられ、焦電体デバイスとしては、温度センサー、赤外線検出器、温度−電気変換器等が挙げられる。圧電体デバイスとしては、液体吐出装置、超音波モーター、加速度センサー、圧力−電気変換器等が挙げられ、光学フィルターとしては、赤外線等の有害光線の遮断フィルター、量子ドット形成によるフォトニック結晶効果を使用した光学フィルター、薄膜の光干渉を利用した光学フィルターが挙げられる。
また、本発明の金属錯体の製造方法により形成される金属錯体は、上述したようなセラミックス膜を形成することができるセラミックス膜前駆体溶液の原料として好適なものであるが、例えば、ガラス、金属皮膜等を形成するための原料としても好適に用いることができるものである。
【図１】
2014001112.tif 000008
【図２】
2014001112.tif 000009
【図３】
2014001112.tif 000010
【図４】
2014001112.tif 000011
【図５】
2014001112.tif 000012
【図６】
2014001112.tif 000013