(57)【要約】      （修正有）【課題】蒸着装置、および有機発光表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板２に蒸着物質を蒸着するための蒸着装置１に係り、基板２と対向して蒸着物質を放射する蒸着源１０と、基板２に所望のパターンに蒸着するようにスリット３１を備え、基板２と対向するように配されたパターニングスリットシート３０と、パターニングスリットシート３０と結合されたフレーム３５と、フレーム３５を支持し、かつフレーム３５と接合するステージ６０と、を備え、フレーム３５とステージ６０との間には、互いに離隔している離隔空間ＳＡが形成される。【選択図】図１
2014198903.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に蒸着物質を蒸着するための蒸着装置であって、
前記基板と対向して蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記基板に所望のパターンに蒸着するようにスリットを備え、前記基板と対向するように配されたパターニングスリットシートと、
前記パターニングスリットシートと結合されたフレームと、
前記フレームを支持し、かつ前記フレームと接合するステージと、を備え、
前記フレームと前記ステージとの間には、互いに離隔している離隔空間が形成されている蒸着装置。
【請求項２】
前記離隔空間は、前記フレームと前記ステージとの間に、前記フレームと前記ステージとの接合領域に隣接して形成されている請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記フレームと前記ステージとは、複数の接合部材によって接合され、
前記離隔空間は、前記接合部材によって前記フレームと前記ステージとの間に形成された空間に対応する請求項１または請求項２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記離隔空間は、前記フレームの面のうち前記ステージと接合する面と隣接して前記フレームの面に形成されたグルーブ状である請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記離隔空間は、前記ステージの面のうち前記フレームと接合する面と隣接すべく前記ステージの面に形成されたグルーブ状である請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項６】
蒸着装置を用いる有機発光表示装置の製造方法であって、
ローディング部において基板を移動部に固定させる段階と、
前記基板が固定された前記移動部を、チャンバに貫設された第１移送部を用いて前記チャンバ内に移送する段階と、
前記チャンバ内に配された蒸着アセンブリと前記基板とが所定ほど離隔している状態で、前記基板が前記蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記蒸着アセンブリから放射された蒸着物質が前記基板に蒸着されて蒸着層が形成される段階と、
アンローディング部において蒸着済みの前記基板を前記移動部から分離させる段階と、
前記基板と分離された前記移動部を、前記チャンバに貫設された第２移送部を用いて前記ローディング部に移送する段階と、を含み、
前記蒸着アセンブリは、蒸着源、パターニングスリットシート及びステージを備え、
前記ステージを用いて前記基板及び前記パターニングスリットシートをアラインする段階をさらに含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記蒸着装置は、複数の前記蒸着アセンブリを備え、
前記基板が前記複数の蒸着アセンブリを通過しつつ前記基板に連続して蒸着される請求項６に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記複数の蒸着アセンブリは、それぞれ別途の蒸着物質を放射することを特徴とする請求項７に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記移動部は、前記第１移送部と前記第２移送部との間を循環することを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記移動部は、前記第１移送部と非接触式で前記チャンバ内で移送されることを特徴とする請求項６〜９のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着装置、および有機発光表示装置の製造方法に関し、さらに詳細には、蒸着層特性を向上させる蒸着装置、および有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置を備えるその他の電子素子は、複数の薄膜を含むように形成する。この時、多様な薄膜を形成するための方法として蒸着工程を用いる。
【０００３】
特に、所望のパターンで蒸着するために、所定のパターンを持つマスクなどを用いる。しかし、このようなマスク及び基板を精密にアラインするのは容易ではなく、これによって蒸着膜特性の向上に限界がある。
【０００４】
一方、近年、表示装置は、携帯可能な薄型の平板表示装置に置き換えられている。平板表示装置のうちでも有機発光表示装置は、自発光型表示装置であり、視野角が広くてコントラストに優れるだけではなく、回答速度が速いという長所を持つため、次世代表示装置として注目されている。
【０００５】
有機発光表示装置は、中問層、第１電極及び第２電極とその他の薄膜を備える。中問層は有機発光層を備え、第１電極及び第２電極に電圧を加えれば、有機発光層から可視光線を発生させる。
【０００６】
有機発光表示装置に備えられた中問層とその他の薄膜を形成するための方法として、蒸着工程を用いる。特定パターンを基板上に蒸着工程で形成するためには、通常的に蒸着マスクを用いる。
【０００７】
蒸着マスクを用いる蒸着工程は、微細かつ精密なパターンの形成が容易ではない。特に、有機発光表示装置が大型化するにつれて基板と蒸着マスクとの間の整列が容易ではなく、このような蒸着膜の特性、すなわち、蒸着膜の精密なパターンを制御し難い。
【０００８】
すなわち、有機発光表示装置の蒸着膜特性を向上させるのには限界がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明が解決しようとする課題は、蒸着膜特性を容易に向上させる蒸着装置、有機発光表示装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、基板に蒸着物質を蒸着するための蒸着装置であって、前記基板と対向して蒸着物質を放射する蒸着源と、前記基板に所望のパターンに蒸着するようにスリットを備え、前記基板と対向するように配されたパターニングスリットシートと、前記パターニングスリットシートと結合されたフレームと、前記フレームを支持し、かつ前記フレームと接合するステージと、を備え、前記フレームと前記ステージとの間には、互いに離隔している離隔空間が形成されている蒸着装置を開示する。
【００１１】
本発明において、前記離隔空間は、前記フレームと前記ステージとの間に、前記フレームと前記ステージとの接合領域に隣接して形成されている。
【００１２】
本発明において、前記フレームと前記ステージとは、複数の接合部材によって接合され、前記離隔空間は、前記接合部材によって前記フレームと前記ステージとの間に形成された空間に対応する。
【００１３】
前記接合部材を球形とすることができる。
【００１４】
前記接合部材を溶接ボールとすることができる。
【００１５】
本発明において、前記離隔空間は、前記フレームの面のうち前記ステージと接合する面と隣接して前記フレームの面に形成されたグルーブ状を持つ。
【００１６】
本発明において、前記離隔空間は、前記ステージの面のうち前記フレームと接合する面と隣接すべく前記ステージの面に形成されたグルーブ状を持つ。
【００１７】
前記ステージは、前記パターニングスリットシートを、前記フレームに結合されたまま前記基板に対してアラインするように駆動するように構成することができる。
【００１８】
前記ステージは、前記パターニングスリットシートを第１方向及びこれと交差する第２方向に移動させる第１ステージと、前記第１ステージ上に前記フレームと接合するように配され、前記第１方向及び第２方向に垂直な第３方向に前記パターニングスリットシートを移動させる第２ステージと、を備えるように構成することができる。
【００１９】
前記離隔空間に一つ以上の異物を配することができる。
【００２０】
前記蒸着源と前記パターニングスリットシートとの間に配される遮断部材をさらに備え、前記遮断部材は、前記基板の少なくとも一部を覆うように形成されて移動するように構成することができる。
【００２１】
前記蒸着源の一側に配され、複数の蒸着源ノズルを備える蒸着源ノズル部をさらに備えるように構成することができる。
【００２２】
前記パターニングスリットシートは、少なくともいずれか一方向において、前記基板より小さく形成されるようにすることができる。
【００２３】
前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートは、前記第１方向に沿って形成された複数のスリットを備え、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリをさらに備えさせることができる。
【００２４】
前記複数の遮断板のそれぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延設されるように構成することができる。
【００２５】
前記遮断板アセンブリは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリと、を備えるように構成することができる。
【００２６】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板のそれぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に形成され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切るように構成することができる。
【００２７】
前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートは、前記第１方向と垂直な第２方向に沿って形成された複数のスリットを備えるように構成することができる。
【００２８】
前記基板を固定させ、前記基板を固定させたまま移動するように形成された移動部、前記移動部を第１方向に移動させるように形成された第１移送部、蒸着工程が完了して前記基板が除去された前記移動部を、前記第１方向の逆方向に移動させるように形成された第２移送部を備える移送部と、前記移動部に前記基板を固定させるローディング部と、蒸着工程が完了した前記基板を前記移動部から分離させるアンローディング部と、をさらに備え、前記移動部は、前記第１移送部と前記第２移送部との間を循環自在に形成され、前記移動部に固定された前記基板は、前記第１移送部によって移動する間に前記パターニングスリットシートと離隔されるように構成することができる。
【００２９】
前記第１移送部及び第２移送部は、上下に並んで配されるように構成することができる。
【００３０】
前記蒸着装置は、チャンバ及び複数の蒸着アセンブリを備え、前記複数の蒸着アセンブリは、前記チャンバ内に配され、かつ前記ローディング部と前記アンローディング部との間に配され、前記複数の蒸着アセンブリのそれぞれは、前記蒸着源、前記パターニングスリットシート及び前記ステージを備えるように構成することができる。
【００３１】
前記第１移送部及び前記第２移送部は、前記チャンバ内で前記複数の蒸着アセンブリに貫設されるように構成することができる。
【００３２】
前記第１移送部は、前記移動部を前記ローディング部、前記蒸着アセンブリ及び前記アンローディング部に順次移動させるように構成することができる。
【００３３】
前記第２移送部は、前記移動部を前記アンローディング部、前記蒸着アセンブリ及び前記ローディング部に順次移動させるように構成することができる。
【００３４】
前記パターニングスリットシートに対する前記基板の相対的な位置を検出するためのカメラをさらに備えるように構成することができる。
【００３５】
本発明の他の側面によれば、蒸着装置を用いる有機発光表示装置の製造方法であって、ローディング部において基板を移動部に固定させる段階と、前記基板が固定された前記移動部を、チャンバに貫設された第１移送部を用いて前記チャンバ内に移送する段階と、前記チャンバ内に配された蒸着アセンブリと前記基板とが所定ほど離隔している状態で、前記基板が前記蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記蒸着アセンブリから放射された蒸着物質が前記基板に蒸着されて蒸着層が形成される段階と、アンローディング部において蒸着済みの前記基板を前記移動部から分離させる段階と、前記基板と分離された前記移動部を、前記チャンバに貫設された第２移送部を用いて前記ローディング部に移送する段階と、を含み、前記蒸着アセンブリは、蒸着源、パターニングスリットシート及びステージを備え、前記ステージを用いて前記基板及び前記パターニングスリットシートをアラインする段階をさらに含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法を開示する。
【００３６】
本発明において、前記蒸着装置は、複数の前記蒸着アセンブリを備え、前記基板が前記複数の蒸着アセンブリを通過しつつ前記基板に連続して蒸着される。
【００３７】
本発明において、前記複数の蒸着アセンブリは、それぞれ別途の蒸着物質を放射する。
【００３８】
本発明において、前記移動部は、前記第１移送部と前記第２移送部との間を循環する。
【００３９】
本発明において、前記移動部は、前記第１移送部と非接触式で前記チャンバ内で移送される。
【００４０】
また、基板と、前記基板上に形成される第１電極と、前記第１電極上に形成され、少なくとも有機発光層を備える有機層を含む中問層と、前記中問層上に形成される第２電極と、を含み、前記基板上の少なくとも一層は蒸着工程で形成され、蒸着領域の中心から遠い方の斜辺の長さが、蒸着領域の中心から近い方の斜辺の長さより長く形成される有機発光表示装置を提供し得る。
【００４１】
前記蒸着工程により形成された前記基板上の蒸着層は、線形パターンを持つように構成することができる。
【００４２】
前記基板上には、前記蒸着工程で互いに離隔している複数の蒸着層が形成され、前記複数の蒸着層のうち蒸着領域の中心から遠く形成された蒸着層であるほど、前記蒸着領域の中心から遠い方の斜辺の長さが長く形成されるように構成することができる。
【００４３】
前記基板上には、前記蒸着工程で互いに離隔している複数の蒸着層が形成され、前記複数の蒸着層のうち蒸着領域の中心に配された前記蒸着層は、両斜辺の長さが実質的に同じく形成されるように構成することができる。
【００４４】
前記基板上には、前記蒸着工程で互いに離隔している複数の蒸着層が形成され、前記複数の蒸着層は、前記蒸着領域の中心を基準として対称に配されるように構成することができる。
【００４５】
前記基板は、４０インチ以上のサイズを持つように構成することができる。
【００４６】
前記蒸着層は、不均一な厚さ（ｎｏｎ−ｕｎｉｆｏｒｍ  ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）を持つように構成することができる。
【００４７】
前記蒸着層は、少なくとも有機発光層を含むように構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の一実施形態に関する蒸着装置を概略的に示す断面図である。
【図２】本発明の他の実施形態に関する蒸着装置を概略的に示す断面図である。
【図３】本発明のさらに他の実施形態に関する蒸着装置を概略的に示す断面図である。
【図４】本発明のさらに他の実施形態に関する蒸着装置を概略的に示すシステム構成の平面図である。
【図５】図４の蒸着装置の蒸着部を概略的に示す側面図である。
【図６】図４の蒸着装置の一つの蒸着アセンブリを概略的に示す斜視図である。
【図７】図４の蒸着アセンブリの概略的な断面図である。
【図８】本発明のさらに他の実施形態による蒸着装置を示す概略的な斜視図である。
【図９】図８の概略的な側断面図である。
【図１０】図８の概略的な平断面図である。
【図１１】本発明のさらに他の実施形態による蒸着装置を示す概略的な斜視図である。
【図１２】本発明のさらに他の実施形態による蒸着装置を示す概略的な斜視図である。
【図１３】図４の蒸着装置のパターニングスリットシートにパターニングスリットが等間隔で形成されている態様を示す図面である。
【図１４】図１３のパターニングスリットシートを用いて基板上に形成された蒸着層を示す図面である。
【図１５】本発明の蒸着装置を用いて製造された有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４９】
以下、添付した図面に示された本発明に関する実施形態を参照して本発明の構成及び作用を詳細に説明する。
【００５０】
図１は、本発明の一実施形態に関する蒸着装置を概略的に示す断面図である。
蒸着装置１は、蒸着源１０、パターニングスリットシート３０、フレーム３５及びステージ６０を備える。
【００５１】
蒸着装置１は、基板２に蒸着物質を蒸着するように基板２と対向して配される。また図示されていないが、蒸着装置１は、蒸着工程が進む蒸着工程領域に所望の圧力雰囲気及び清浄度を提供するようにチャンバ（図示せず）を備える。
【００５２】
蒸着源１０は、一つ以上の蒸着物質を収容及び蒸発して蒸着物質を基板２の方向に伝達させる。
【００５３】
パターニングスリットシート３０は、基板２と対向するように配される。パターニングスリットシート３０は、一つ以上のスリット３１を備える。パターニングスリットシート３０は、基板２と蒸着源１０との間に配され、蒸着源１０で蒸発した蒸着物質がパターニングスリットシート３０のスリット３１を通過して基板２に到逹して蒸着膜を形成する。
【００５４】
フレーム３５は、パターニングスリットシート３０を支持するように配される。図示されていないが、フレーム３５は窓枠のような格子状になっており、パターニングスリットシート３０との安定した結合のために、溶接などの方法でパターニングスリットシート３０と接合される。
【００５５】
ステージ６０は、フレーム３５と接合される。ステージ６０は、フレーム３５を支持する。またステージ６０は、１次元、２次元または３次元運動が行えるが、これを通じて、パターニングスリットシート３０を基板２に対してアラインする機能を行える。すなわち、ステージ６０は一つ以上のアクチュエータを備え、ステージ６０が基板２に対して移動する。
【００５６】
ステージ６０とフレーム３５との間には離隔空間ＳＡが形成される。
【００５７】
具体的に、ステージ６０とフレーム３５とは、複数の接合部材９０によって接合される。接合部材９０は、球形である。例えば、接合部材９０は、ステージ６０とフレーム３５とを接合するための溶接ボールである。また、接合部材９０は、多様な素材、すなわち、ステージ６０とフレーム３５とを接合するための多様な種類である。
【００５８】
離隔空間ＳＡは、ステージ６０とフレーム３５との間に形成され、具体的に複数の接合部材９０によってステージ６０とフレーム３５との間に形成された空間に対応する。離隔空間ＳＡは、複数の領域に形成されるが、隣接する接合部材９０間の離隔している空間及びエッジの接合部材９０の周辺に形成される。
【００５９】
離隔空間ＳＡの形成のために、接合部材９０は、ステージ６０とフレーム３５とが面接合せずに点接合するように形成されねばならない。このために接合部材９０の形態は、前記球形以外に角形を持つこともできる。
【００６０】
離隔空間ＳＡには、ステージ６０とフレーム３５との接合時に発生する異物Ｐが配される。
【００６１】
もし、ステージ６０とフレーム３５とが点接合ではなく、面接合するならば、かかる異物Ｐが接合面に配される場合に、フレーム３５の平坦度は維持されず、それによってパターニングスリットシート３０の平坦度も維持されない。結果的に基板２及びパターニングスリットシート３０のアライン特性が低下して、基板２に所望の蒸着膜を均一に形成し難い。
【００６２】
しかし、本実施形態では、異物Ｐが発生しても異物Ｐが離隔空間ＳＡに配され、ステージ６０とフレーム３５との接合特性には影響を与えない。すなわち、フレーム３５の平坦度及びパターニングスリットシート３０の平坦度を容易に維持し、これを通じて基板２に所望の蒸着膜を容易にパターニングする。
【００６３】
特に、本実施形態の蒸着装置１は、ステージ６０とフレーム３５との点接合のための接合部材９０の配置で離隔空間ＳＡが容易に形成される。これを通じて、別途の複雑な工程なしでも、異物Ｐによって発生するフレーム３５の平坦度低下を容易に回避する。
【００６４】
図２は、本発明の他の実施形態に関する蒸着装置を概略的に示す断面図である。
【００６５】
蒸着装置１′は、蒸着源１０′、パターニングスリットシート３０′、フレーム３５′及びステージ６０′を備える。
【００６６】
蒸着源１０′は、一つ以上の蒸着物質を収容及び蒸発して蒸着物質を基板２′の方向に伝達させる。
【００６７】
パターニングスリットシート３０′は、基板２′と対向するように配される。パターニングスリットシート３０′は、一つ以上のスリット３１′を備える。パターニングスリットシート３０′は、基板２′と蒸着源１０′との間に配され、蒸着源１０′で蒸発した蒸着物質がパターニングスリットシート３０′のスリット３１′を通過して基板２′に到逹し、蒸着膜を形成する。
【００６８】
フレーム３５′は、パターニングスリットシート３０′を支持するように配される。図示されていないが、フレーム３５′は、窓枠のような格子状を持ち、パターニングスリットシート３０′との安定した結合のために、溶接などの方法でパターニングスリットシート３０′と接合される。
【００６９】
ステージ６０′は、フレーム３５′と接合される。ステージ６０′は、フレーム３５′を支持する。またステージ６０′は、１次元、２次元または３次元運動が行えるが、これを通じてパターニングスリットシート３０′を基板２′に対してアラインする機能を行える。すなわち、ステージ６０′は一つ以上のアクチュエータを備え、ステージ６０′が基板２′に対して移動する。
【００７０】
ステージ６０′とフレーム３５′との間には離隔空間ＳＡが形成される。具体的に、フレーム３５′の面のうちステージ６０′と接合する面、すなわち、下面にグルーブ状の離隔空間ＳＡが形成される。図２に示されたように、フレーム３５′の下面の領域のうちステージ６０′と接合する領域に隣接して、フレーム３５′の所定の厚さほど除去されたグルーブ状の離隔空間ＳＡが形成される。
【００７１】
離隔空間ＳＡがフレーム３５′の下面にグルーブ状に形成されるので、フレーム３５′とステージ６０′とは、線接合方法または所定面積以下の面接合方法で接合される。
【００７２】
離隔空間ＳＡには、ステージ６０′とフレーム３５′との接合時に発生する異物Ｐが配される。
【００７３】
本実施形態では、異物Ｐが発生しても、異物Ｐが離隔空間ＳＡに配されてステージ６０′とフレーム３５′との接合特性には影響を与えない。すなわち、フレーム３５の平坦度及びパターニングスリットシート３０′の平坦度を容易に維持し、これを通じて基板２′に所望の蒸着膜を容易にパターニングする。
【００７４】
特に、本実施形態の蒸着装置１′は、フレーム３５′の下面にグルーブ状の離隔空間ＳＡを形成するので、別途の複雑な工程なしでも、異物Ｐによって発生するフレーム３５′の平坦度低下を容易に防止する。
【００７５】
図３は、本発明のさらに他の実施形態に関する蒸着装置を概略的に示す断面図である。
【００７６】
装置１′′は、蒸着源１０′′、パターニングスリットシート３０′′、フレーム３５′′及びステージ６０′′を備える。
【００７７】
蒸着源１０′′は、一つ以上の蒸着物質を収容及び蒸発して、蒸着物質を基板２′′の方向に伝達させる。
【００７８】
パターニングスリットシート３０′′は、基板２′′と対向するように配される。パターニングスリットシート３０′′は、一つ以上のスリット３１′′を備える。パターニングスリットシート３０′′は、基板２′′と蒸着源１０′′との間に配され、蒸着源１０′′で蒸発した蒸着物質がパターニングスリットシート３０′′のスリット３１′′を通過して基板２′′に到逹し、蒸着膜を形成する。
【００７９】
フレーム３５′′は、パターニングスリットシート３０′′を支持するように配される。図示されていないが、フレーム３５′′は、窓枠のような格子状を持ち、パターニングスリットシート３０′′との安定した結合のために、溶接などの方法でパターニングスリットシート３０′′と接合される。
【００８０】
ステージ６０′′は、フレーム３５′′と接合される。ステージ６０′′は、フレーム３５′′を支持する。またステージ６０′′は、１次元、２次元または３次元運動が行えるが、これを通じて、パターニングスリットシート３０′′を基板２′′に対してアラインする機能を行える。すなわち、ステージ６０′′は、一つ以上のアクチュエータを備え、ステージ６０′′が基板２′′に対して移動する。
【００８１】
ステージ６０′′とフレーム３５′′との間には、離隔空間ＳＡが形成される。具体的に、ステージ６０′′の面のうちフレーム３５′′と接合する面、すなわち、ステージ６０′′の上面にグルーブ状の離隔空間ＳＡが形成される。図３に示されたように、ステージ６０′′の上面の領域のうちフレーム３５′′と接合する領域に隣接して、ステージ６０′′の所定の厚さほど除去されたグルーブ状の離隔空間ＳＡが形成される。
【００８２】
離隔空間ＳＡがステージ６０′′の上面にグルーブ状に形成されるので、フレーム３５′′とステージ６０′′とは、線接合方法または所定面積以下の面接合方法で接合される。
【００８３】
離隔空間ＳＡには、ステージ６０′′とフレーム３５′′との接合時に発生する異物Ｐが配される。
【００８４】
本実施形態では、異物Ｐが発生しても、異物Ｐが離隔空間ＳＡに配されてステージ６０′′とフレーム３５′′との接合特性には影響を与えない。すなわち、フレーム３５の平坦度及びパターニングスリットシート３０′′の平坦度を容易に維持し、これを通じて、基板２′′に所望の蒸着膜を容易にパターニングする。
【００８５】
特に、本実施形態の蒸着装置１′′は、ステージ６０′′の上面にグルーブ状の離隔空間ＳＡを形成するので、別途の複雑な工程なしでも、異物Ｐによって発生するフレーム３５′′の平坦度低下を容易に防止する。
【００８６】
図４ないし図７を参照すれば、本発明の一実施形態による蒸着装置１０００は、一つ以上の蒸着アセンブリ１００−１ないし１００−１１を備える。蒸着装置１０００に備えられる蒸着アセンブリの数は、多様に定められる。
【００８７】
また蒸着装置１０００は、蒸着部１００、ローディング部２００、アンローディング部３００及び移送部４００を備える。
【００８８】
ローディング部２００は、第１ラック２１２と、導入室２１４と、第１反転室２１８と、バッファ室２１９とを備える。
【００８９】
第１ラック２１２には、蒸着前の基板２が多く積載されており、導入室２１４に備えられた導入ロボットは、第１ラック２１２から基板２を取って第２移送部４２０から移送されてきた移動部４３０に基板２を載せた後、基板２が取り付けられた移動部４３０を第１反転室２１８に移す。
【００９０】
導入室２１４に隣接しては第１反転室２１８が備えられ、第１反転室２１８に位置している第１反転ロボットが移動部４３０を反転させ、移動部４３０を蒸着部１００の第１移送部４１０に装着する。
【００９１】
図４からみれば、導入室２１４の導入ロボットは、移動部４３０の上面に基板２を載せ、この状態で移動部４３０は反転室２１８に移送され、反転室２１８の第１反転ロボットが反転室２１８を反転させることで、蒸着部１００では基板２が地面に向かうように位置する。
【００９２】
アンローディング部３００の構成は、前述したローディング部２００の構成と逆に構成される。すなわち、蒸着部１００を通った基板２及び移動部４３０を、第２反転室３２８で第２反転ロボットが反転させて搬出室３２４に移送し、搬出ロボットが搬出室３２４から基板２及び移動部４３０を取り出した後、基板２を移動部４３０で分離して第２ラック３２２に積載する。基板２と分離された移動部４３０は、第２移送部４２０を通じてローディング部２００に回送される。
【００９３】
しかし、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、基板２が移動部４３０に最初固定される時から移動部４３０の下面に基板２を固定させ、そのまま蒸着部１００に移送させてもよい。この場合、例えば、第１反転室２１８の第１反転ロボット及び第２反転室３２８の第２反転ロボットは不要になる。
【００９４】
蒸着部１００は、少なくとも一つの蒸着用チャンバ１０１を備える。このチャンバ１０１内に複数の蒸着アセンブリ１００−１、１００−２、・・・、１００−１１が配される。チャンバ１０１は、蒸着の進行中には真空に維持されることが望ましい。
【００９５】
一方、基板２が固定された移動部４３０は、第１移送部４１０によって少なくとも蒸着部１００に、望ましくは、前記ローディング部２００、蒸着部１００及びアンローディング部３００に順次移動し、前記アンローディング部３００で基板２と分離された移動部４３０は、第２移送部４２０によってローディング部２００に回送される。
【００９６】
第１移送部４１０は、移動部４３０が蒸着部１００を通過するように前記チャンバ１０１に貫設され、前記第２移送部４２０は、基板２が分離された移動部４３０を移送するように備えられる。
【００９７】
本実施形態の蒸着装置１０００は、第１移送部４１０と第２移送部４２０とが上下に形成され、第１移送部４１０を通過しつつ蒸着を終えた移動部４３０がアンローディング部３００で基板２と分離された後、第１移送部４１０の下部に形成された第２移送部４２０を通じてローディング部２００に回送されるように形成されることで、空間活用の効率が向上する効果が得られる。
【００９８】
一方、蒸着部１００は、各蒸着アセンブリ１００−１の一側に蒸着源置き換え部１９０をさらに備える。図面には詳細に図示されていないが、蒸着源置き換え部１９０はカセット形式で形成され、それぞれの蒸着アセンブリ１００−１から外部に引き出されるように形成される。よって、蒸着アセンブリ１００−１の蒸着源（図６の１１０参照）の置き換えが容易になる。
【００９９】
一方、図４には、ローディング部２００、蒸着部１００、アンローディング部３００及び移送部４００で構成された蒸着装置を構成するための一連のセットが並んで２セットに備えられていると図示されている。すなわち、図４には、ローディング部２００、蒸着部１００、アンローディング部３００及び移送部４００で構成された２セットが蒸着装置１０００を構成すると図示されているが、本発明はこれに限定されず、１セットのみで構成されてもよい。すなわち、さらに他の例として、図４に２つの蒸着装置１０００が図示されたと見なしてもよい。
【０１００】
蒸着装置１０００は、パターニングスリットシート置き換え部５００をさらに備える。パターニングスリットシート置き換え部５００を備えることにより空間活用の効率性を向上させる。
【０１０１】
また、図５ないし図７を参照すれば、本実施形態の蒸着装置１０００の蒸着部１００は、一つ以上の蒸着アセンブリ１００−１及び移送部４００を備える。
【０１０２】
以下では、全体的な蒸着部１００の構成について説明する。
【０１０３】
チャンバ１０１は、中空の箱状に形成され、その内部に一つ以上の蒸着アセンブリ１００−１及び移送部４００が収容される。これを他の側面で説明すれば、地面に固定されるようにフット（ｆｏｏｔ）１０２が形成され、フット１０２上に下部ハウジング１０３が形成され、下部ハウジング１０３の上部に上部ハウジング１０４が形成される。そして、チャンバ１０１は、下部ハウジング１０３及び上部ハウジング１０４をいずれも内部に収容するように形成される。この時、下部ハウジング１０３とチャンバ１０１との連結部は密封処理されて、チャンバ１０１の内部を外部と完全に遮断させる。このように下部ハウジング１０３及び上部ハウジング１０４が地面に固定されたフット１０２上に形成されることで、チャンバ１０１が収縮／膨脹を繰り返しても下部ハウジング１０３及び上部ハウジング１０４は固定された位置を維持し、したがって、下部ハウジング１０３及び上部ハウジング１０４が、蒸着部１００内で一種の基準フレームの役割を行える。
【０１０４】
一方、上部ハウジング１０４の内部には、蒸着アセンブリ１００−１及び移送部４００の第１移送部４１０が形成され、下部ハウジング１０３の内部には、移送部４００の第２移送部４２０が形成される。そして、移動部４３０が第１移送部４１０と第２移送部４２０との間を循環移動しつつ連続して蒸着が行われる。
【０１０５】
以下では、蒸着アセンブリ１００−１の詳細構成について説明する。それぞれの蒸着アセンブリ１００−１は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、パターニングスリットシート１３０、遮断部材１４０、第１ステージ１５０、第２ステージ１６０、カメラ１７０、センサー１８０などを備える。ここで、図６及び図７のすべての構成は、適宜な真空度が維持されるチャンバ１０１内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【０１０６】
詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１３０を通過させて基板２に所望のパターンで蒸着させるためには、基本的にチャンバ（図示せず）の内部は、ＦＭＭ蒸着方法と同じ高真空状態を維持せねばならない。またパターニングスリットシート１３０の温度が蒸着源１１０の温度より十分に低くならねばならない。なぜならば、パターニングスリットシート１３０の温度が十分に低くて初めて、温度によるパターニングスリットシート１３０の熱膨脹問題を最小化できるからである。
【０１０７】
このようなチャンバ１０１内には、被蒸着体である基板２が配される。前記基板２は、平板表示装置用基板になるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような４０インチ以上の大面積基板が適用される。
【０１０８】
本実施形態では、基板２が蒸着アセンブリ１００−１に対して相対的に移動しつつ蒸着が進むことを一特徴とする。
【０１０９】
既存のＦＭＭ蒸着方法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同じ大きさに形成されねばならない。よって、基板サイズが増大するほどＦＭＭも大型化されなければならず、これによりＦＭＭ製作が困難であり、ＦＭＭを引張って精密なパターンでアラインすることも容易ではないという問題点があった。
【０１１０】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する蒸着アセンブリ１００−１は、蒸着アセンブリ１００−１と基板２とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われることを一特徴とする。言い換えれば、蒸着アセンブリ１００−１と対向するように配された基板２が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続して蒸着を行う。すなわち、基板２が図６の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われることである。ここで、図面には、基板２がチャンバ（図示せず）内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、基板２は固定されており、蒸着アセンブリ１００−１自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行ってもよいといえる。
【０１１１】
したがって、本発明の蒸着アセンブリ１００−１では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１３０を作れる。すなわち、本発明の蒸着アセンブリ１００−１の場合、基板２がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続して、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート１３０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さのうち少なくとも一方向の長さは、基板２の長さより非常に小さく形成されるものである。このように、従来のＦＭＭに比べて、非常に小さくパターニングスリットシート１３０を作れるため、本発明のパターニングスリットシート１３０は、その製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１３０のエッチング作業や、その後の精密引張り及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのすべての工程で、小さなサイズのパターニングスリットシート１３０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【０１１２】
このように、蒸着アセンブリ１００−１と基板２とが互いに相対移動しつつ蒸着が行われるためには、蒸着アセンブリ１００−１と基板２とを一定距離ほど離隔させることが望ましい。これについては、後述する。
【０１１３】
一方、チャンバ内で前記基板２と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５の気化につれて、基板２に蒸着が行われる。
【０１１４】
蒸着源１１０は、蒸着物質１１５を収容する坩堝１１１、蒸着物質１１５を蒸発させるためのヒーター１１２を備える。
【０１１５】
蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０から基板２に向かう側には蒸着源ノズル部１２０が配される。ここで、本発明による蒸着アセンブリは、共通層及びパターン層の蒸着時に蒸着源ノズルが互いに異なって形成されてもよい。すなわち、パターン層を形成するための蒸着源ノズル部には、Ｙ軸方向、すなわち、基板２のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される。これによって、Ｘ軸方向には蒸着源ノズル１２１が一つのみ存在するように蒸着源ノズル１２１を形成することで、陰影の発生を急減させる。一方、図面には示されていないが、共通層を形成するための蒸着源ノズル部には、Ｘ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される。これによって、共通層の厚さ均一度を向上させる。
【０１１６】
蒸着源１１０と基板２との間にパターニングスリットシート１３０が配される。パターニングスリットシート１３０は、略窓枠のような形態で形成されるフレーム１３５に貼り付けられる。
【０１１７】
パターニングスリットシート１３０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１３１が形成される。蒸着源１１０内で気化した蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１３０を通過して被蒸着体である基板２の方向に向かう。この時、前記パターニングスリットシート１３０は、従来のファインメタルマスク（ＦＭＭ）、特にストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングにより製作される。この時、蒸着源ノズル１２１の総数よりパターニングスリット１３１の総数がさらに多く形成されてもよい。
【０１１８】
蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニングスリットシート１３０とは、互いに一定距離ほど離隔して形成される。
【０１１９】
前述したように、本発明の一実施形態に関する蒸着アセンブリ１００−１は、基板２に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように蒸着アセンブリ１００−１が基板２に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１３０は基板２から一定距離ほど離隔して形成される。
【０１２０】
詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影を発生させないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点があった。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。よって、ディスプレイ装置の大型化につれてマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクの形成が容易ではないという問題点があった。
【０１２１】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する蒸着アセンブリ１００−１では、パターニングスリットシート１３０を、被蒸着体である基板２と所定間隔で離隔するように配置させる。すなわち、基板２より小さく形成されたパターニングスリットシート１３０を、基板２に対して移動しつつ蒸着を行えるようになることで、パターニングスリットシート１３０の製作が容易になり、基板２がパターニングスリットシート１３０の接触による不良を根本から防止して、基板２とパターニングスリットシート１３０とを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得られる。
【０１２２】
次いで、上部ハウジング１０４内の各構成要素の具体的な配置は、次の通りである。
【０１２３】
先ず、上部ハウジング１０４の底部分には、前述した蒸着源１１０及び蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源１１０及び蒸着源ノズル部１２０の両側には、載置部１０４−１が突設され、載置部１０４−１上には、第１ステージ１５０、第２ステージ１６０及び前述したパターニングスリットシート１３０が順次に形成される。
【０１２４】
ここで、第１ステージ１５０は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動自在に形成されて、パターニングスリットシート１３０をＸ軸方向及びＹ軸方向にアラインする機能を行う。すなわち、第１ステージ１５０は、複数のアクチュエータを備え、上部ハウジング１０４に対して第１ステージ１５０がＸ軸方向及びＹ軸方向に移動するように形成される。
【０１２５】
一方、第２ステージ１６０は、Ｚ軸方向に移動自在に形成されて、パターニングスリットシート１３０をＺ軸方向にアラインする機能を行う。すなわち、第２ステージ１６０は、複数のアクチュエータを備え、第１ステージ１５０に対して第２ステージ１６０がＺ軸方向に移動するように形成される。
【０１２６】
一方、第２ステージ１６０上にはパターニングスリットシート１３０が形成される。このように、パターニングスリットシート１３０が第１ステージ１５０及び第２ステージ１６０上に形成されて、パターニングスリットシート１３０がＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に移動自在に形成されることで、基板２とパターニングスリットシート１３０とのアライン、特に、リアルタイムアラインを行える。
【０１２７】
第２ステージ１６０とフレーム１３５とは接合されるが、この時、第２ステージ１６０とフレーム１３５とは接合部材９０によって接合され、第２ステージ１６０とフレーム１３５との間には離隔空間ＳＡが形成される。そして離隔空間ＳＡには、異物Ｐが配される。これを通じて、フレーム１３５の平坦度及びパターニングスリットシート１３０の平坦度を容易に維持し、これを通じて基板２に所望の蒸着膜を容易にパターニングする。特に、第１ステージ１５０及び第２ステージ１６０を通じるパターニングスリットシート１３０のアライン時に、パターニングスリットシート１３０の平坦度が異物Ｐによって低減することを防止し、第１ステージ１５０及び第２ステージ１６０を通じるパターニングスリットシート１３０のアライン作業の精度を向上させる。
【０１２８】
本実施形態には、前記図１の離隔空間ＳＡの構造に類似した形態が開示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、図２及び図３の離隔空間ＳＡの構造が適用できるということは言うまでもない。すなわち、フレーム１３５または第２ステージ１６０の一面にグルーブ状の離隔空間ＳＡが形成できるということは言うまでもない。具体的な内容は、前記実施形態と同一であるため、略する。
【０１２９】
上部ハウジング１０４、第１ステージ１５０及び第２ステージ１６０は、蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散しないように蒸着物質の移動経路をガイドする役割を同時に行える。すなわち、上部ハウジング１０４、第１ステージ１５０及び第２ステージ１６０によって蒸着物質の経路が密閉され、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向移動を同時にガイドすることもできる。
【０１３０】
一方、パターニングスリットシート１３０と蒸着源１１０との間には遮断部材１４０がさらに備えられる。詳細には、基板２の縁部には電極パターンが形成され、今後の製品検査用または製品製作時に端子として活用するための領域が存在する。もし、この領域に有機物その他の所望しない蒸着膜が形成される場合、電極パターンが正常に動作し難くなる。したがって、基板２の縁部は、有機物などが成膜されてはならない領域、すなわち、非成膜領域にならねばならない。しかし、前述したように、本発明の薄膜蒸着装置では、基板２が薄膜蒸着装置に対して移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われるため、基板２の非成膜領域に蒸着膜が形成されないように工程を進めることが困難であった。
【０１３１】
本実施形態では、基板２の非成膜領域への蒸着を防止するために、基板２の縁部に対応するように別途の遮断部材１４０がさらに備えられる。図面には詳細に示されていないが、遮断部材１４０は、互いに隣合う２つのプレートで構成される。
【０１３２】
基板２が蒸着アセンブリ１００−１を通過しない時には、遮断部材１４０が蒸着源１１０を覆うことで、蒸着源１１０から発散した蒸着物質１１５がパターニングスリットシート１３０につかないようにする。この状態で、基板２が蒸着アセンブリ１００−１に進入し始めれば、蒸着源１１０を覆っている前方の遮断部材１４０が基板２の移動と共に移動しつつ蒸着物質の移動経路がオープンされ、蒸着源１１０から発散した蒸着物質１１５が、パターニングスリットシート１３０を通過して基板２に蒸着される。一方、基板２全体が蒸着アセンブリ１００−１を通過すれば、後方の遮断部材１４０が基板２の移動と共に移動しつつ、蒸着物質の移動経路を再び閉鎖して蒸着源１１０を覆うことで、蒸着源１１０から発散した蒸着物質１１５がパターニングスリットシート１３０につかないようにする。
【０１３３】
このような遮断部材１４０によって基板２の非成膜領域が覆われることで、別途の構造物なしでも簡便に基板２の非成膜領域への有機物の蒸着が防止される効果を得られる。
【０１３４】
以下では、非蒸着体である基板２を移送する移送部４００について詳細に説明する。図６及び図７を参照すれば、移送部４００は、第１移送部４１０と、第２移送部４２０と、移動部４３０とを備える。
【０１３５】
第１移送部４１０は、蒸着アセンブリ１００−１によって基板２上に蒸着膜が形成されるように、キャリア４３１、キャリア４３１と結合された静電チャック４３２を備える移動部４３０と、移動部４３０に取り付けられている基板２をインラインで移送する役割を行う。このような第１移送部４１０は、コイル４１１、ガイド部４１２、上面磁気浮上軸受（図示せず）、側面磁気浮上軸受（図示せず）、ギャップセンサー（図示せず）を備える。
【０１３６】
第２移送部４２０は、蒸着部１００を通過しつつ１回の蒸着済みの後でアンローディング部３００から基板２が分離された移動部４３０をローディング部２００に回送する役割を行う。このような第２移送部４２０は、コイル４２１、ローラガイド４２２及びチャージングトラック４２３を備える。
【０１３７】
移動部４３０は、第１移送部４１０及び第２移送部４２０に沿って移送されるキャリア４３１と、キャリア４３１の一面上に結合されて基板２が取り付けられる静電チャック４３２と、を備える。
【０１３８】
以下では、移送部４００の各構成要素についてさらに詳細に説明する。
【０１３９】
先ず、移動部４３０のキャリア４３１について詳細に説明する。
キャリア４３１は、本体部４３１ａ、マグネチックレール４３１ｂ、ＣＰＳモジュール（Ｃｏｎｔａｃｔｌｅｓｓ  ｐｏｗｅｒ  ｓｕｐｐｌｙ  Ｍｏｄｕｌｅ）４３１ｃ、電源部４３１ｄを備える。またキャリア４３１は、カムフォロワー４３１ｆをさらに備える。
【０１４０】
本体部４３１ａは、キャリア４３１の基底部をなし、鉄のような磁性体で形成される。このようなキャリア４３１の本体部４３１ａと、後述する磁気浮上軸受（図示せず）との斥力によって、キャリア４３１がガイド部４１２に対して一定距離ほど離隔している状態を維持する。
【０１４１】
本体部４３１ａの両側面には、図面に示された通りに所定のガイド溝が形成され、ガイド溝内にはガイド部４１２のガイド突起が収容される。本体部４３１ａの進行方向の中心線に沿ってマグネチックレール４３１ｂが形成される。本体部４３１ａのマグネチックレール４３１ｂと、後述するコイル４１１とが結合してリニアモータを構成でき、このようなリニアモータによってキャリア４３１がＡ方向に移送される。
【０１４２】
本体部４３１ａでマグネチックレール４３１ｂの一側には、ＣＰＳモジュール４３１ｃ及び電源部４３１ｄがそれぞれ形成される。電源部４３１ｄは、静電チャック４３２が基板２をチャッキングし、これを維持するように電源を提供するための一種の充電用バッテリーであり、ＣＰＳモジュール４３１ｃは、電源部４３１ｄを充電するための無線充電モジュールである。詳細には、後述する第２移送部４２０に形成されたチャージングトラック４２３は、インバータ（図示せず）と連結されて、キャリア４３１が第２移送部４２０内で移送される時、チャージングトラック４２３とＣＰＳモジュール４３１ｃとの間に磁場が形成されてＣＰＳモジュール４３１ｃに電力を供給する。そして、ＣＰＳモジュール４３１ｃに供給された電力は、電源部４３１ｄを充電する。
【０１４３】
一方、静電チャックク４３２は、セラミックスからなる本体の内部に電源が印加される電極が埋め立てられたものであり、この電極に高電圧が印加されることで本体の表面に基板２を取り付けるものである。
【０１４４】
次いで、移動部４３０の駆動について詳細に説明する。
【０１４５】
本体部４３１ａのマグネチックレール４３１ｂとコイル４１１とが結合して駆動部を構成する。ここで、駆動部は、リニアモータである。リニアモータは、従来のすべり案内システムに比べて摩擦係数が小さくて位置誤差がほとんど発生せず、位置決定度が非常に高い装置である。前述したように、リニアモータは、コイル４１１及びマグネチックレール４３１ｂで形成され、マグネチックレール４３１ｂがキャリア４３１上に一列に配され、コイル４１１は、マグネチックレール４３１ｂと対向するようにチャンバ１０１内の一側に複数が一定間隔で離れて配される。このように移動物体であるキャリア４３１にコイル４１１ではないマグネチックレール４３１ｂが配されるので、キャリア４３１に電源を印加しなくてもキャリア４３１の駆動が可能になる。ここで、コイル４１１は、ＡＴＭ箱（ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅ ｂｏｘ）内に形成されて大気状態に設けられ、マグネチックレール４３１ｂは、キャリア４３１に取り付けられて真空のチャンバ１０１内でのキャリア４３１の走行を助ける。
【０１４６】
次いで、第１移送部４１０及び移動部４３０について詳細に説明する。
【０１４７】
第１移送部４１０は、基板２を固定している静電チャック４３２及びこれを移送するキャリア４３１を移動させる役割を行う。
【０１４８】
コイル４１１及びガイド部４１２は、それぞれ上部ハウジング１０４の内部面に形成され、具体的にコイル４１１は、上部ハウジング１０４の上側内部面に形成され、ガイド部４１２は、上部ハウジング１０４の両側内部面に形成される。ガイド部４１２は、キャリア４３１が一方向に移動するようにガイドする役割を行う。この時、ガイド部４１２は、蒸着部１００に貫設される。
【０１４９】
キャリア４３１の両側面に対応するように、ガイド部４１２内に側面磁気浮上軸受（図示せず）が配され、これを通じてキャリア４３１とガイド部４１２との間隔が発生し、キャリア４３１がガイド部４１２と接触せずに非接触式でガイド部４１２に沿って移動する。
【０１５０】
一方、キャリア４３１の上部に位置するように、ガイド部４１２内に上部磁気浮上軸受（図示せず）はそれぞれ配され、これを通じてキャリア４３１とガイド部４１２との間隔を発生させると共にその間隔を一定に維持する。
【０１５１】
また、図示されていないが、キャリア４３１とガイド部４１２との間隔を測定するように、ガイド部４１２はギャップセンサー（図示せず）をさらに備える。そして、前記磁気浮上軸受にもギャップセンサー（図示せず）が配される。ギャップセンサー（図示せず）によって測定された値によって、キャリア４３１とガイド部４１２との間隔がリアルタイムで調節される。すなわち、磁気浮上軸受（図示せず）及びギャップセンサー（図示せず）を用いるフィードバック制御によって、キャリア４３１の精密移動が可能である。
【０１５２】
次いで、第２移送部４２０及び移動部４３０について詳細に説明する。
【０１５３】
第２移送部４２０は、アンローディング部３００で基板が分離された後の静電チャック４３２及びこれを移送するキャリア４３１を再びローディング部２００に移動させる役割を行う。ここで、第２移送部４２０は、コイル４２１、ローラガイド４２２、チャージングトラック４２３を備える。
【０１５４】
詳細には、コイル４２１、ローラガイド４２２及びチャージングトラック４２３は、それぞれ下部ハウジング１０３の内部面に形成され、このうちコイル４２１及びチャージングトラック４２３は下部ハウジング１０３の内部の上面に形成され、ローラガイド４２２は、下部ハウジング１０３の内部の両側面に形成される。図示されていないが、コイル４２１は、第１移送部４１０のコイル４１１と同様にＡＴＭ箱内に形成される。
【０１５５】
一方、第１移送部４１０と同様に第２移送部４２０もコイル４２１を備え、キャリア４３１の本体部４３１ａのマグネチックレール４３１ｂとコイル４２１とが結合して駆動部を構成でき、ここで駆動部は、リニアモータである。このようなリニアモータによって、キャリア４３１が図６のＡ方向の逆方向に沿って移動する。
【０１５６】
また、ローラガイド４２２は、キャリア４３１が一方向に移動するようにガイドする役割を行う。この時、ローラガイド４２２は、蒸着部１００に貫設される。ローラガイド４２２は、キャリア４３１の両側に形成されたカムフォロワー４３１ｆを支持し、キャリア４３１が図６のＡ方向の逆方向に沿って移動するようにガイドする役割を行う。すなわち、キャリア４３１の両側に形成されたカムフォロワー４３１ｆがローラガイド４２２に沿って回転しつつキャリア４３１が移動するのである。ここで、カムフォロワー４３１ｆは、軸受の一種であり、特定の動作を正確に繰り返すのに使われる。このようなカムフォロワー４３１ｆは、キャリア４３１の側面に複数形成され、キャリア４３１の第２移送部４２０内での移送時に輪の役割を行う。
【０１５７】
結果として、第２移送部４２０は、基板に有機物を蒸着する段階ではない、中空のキャリア４３１を回送する段階であるため、第１移送部４１０に比べて位置精度があまり要求されない。よって、高い位置精度が要求される第１移送部４１０には、磁気浮上を適用して位置精度を確保し、相対的に低い位置精度が要求される第２移送部４２０には、従来のローラ方式を適用してコストを低減させて有機層蒸着装置の構成を簡単にする。もちろん、図面には示されていないが、第２移送部４２０にも、第１移送部４１０と同様に磁気浮上を適用することもできるといえる。
【０１５８】
一方、本実施形態による蒸着装置１０００の蒸着アセンブリ１００−１は、アラインのためのカメラ１７０及びセンサー１８０をさらに備える。詳細には、カメラ１７０は、パターニングスリットシート１３０またはフレーム１３５に形成された第１マーク（図示せず）と、基板２に形成された第２マーク（図示せず）とをリアルタイムでアラインする。ここで、カメラ１７０は、蒸着進行中の真空チャンバ１０１内で円滑な視野確保ができるように備えられる。このために、カメラ１７０は、カメラ収容部１７１内に形成されて大気状態に設けられる。
【０１５９】
一方、本実施形態では、基板２とパターニングスリットシート１３０とが一定距離ほど離隔しているところ、一つのカメラ１７０を用いて、互いに異なる位置にある基板２までの距離と、パターニングスリットシート１３０までの距離とを共に測定せねばならない。このために、本発明の一実施形態による蒸着装置１０００の蒸着アセンブリ１００−１は、センサー１８０を備える。ここで、センサー１８０は、共焦点センサーである。共焦点センサーは、高速で回転するスキャニングミラーを用いてレーザービームで測定対象をスキャニングし、レーザー祈るによって発光した蛍光または反射光線を用いて測定対象までの距離を測定する。共焦点センサーは、互いに異なる媒質間の境界面を感知して距離を測定する。
【０１６０】
このようにカメラ１７０及びセンサー１８０を備え、リアルタイムで基板２とパターニングスリットシート１３０との間隔を測定でき、したがって、リアルタイムで基板２及びパターニングスリットシート１３０をアライン可能になることで、パターンの位置精度がさらに向上する効果を得られる。
【０１６１】
図８は、本発明のさらに他の実施形態による蒸着装置を示す概略的な斜視図であり、図９は、図８の概略的な側断面図であり、図１０は、図８の概略的な平断面図である。
【０１６２】
図８ないし図１０を参照すれば、本発明の一実施形態に関する蒸着装置７００は、蒸着源７１０、蒸着源ノズル部７２０、遮断板アセンブリ７３０、パターニングスリットシート７３０、フレーム７３５及びステージ７６０を備える。
【０１６３】
蒸着源７１０と基板２との間にパターニングスリットシート７３０が配される。パターニングスリットシート７３０は、略窓枠のような形態で形成されるフレーム７３５に結合し、パターニングスリットシート７３０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット７３１が形成される。
【０１６４】
パターニングスリットシート７３０、フレーム７３５及びステージ７６０は、前記実施形態に類似しているので、具体的な内容は略する。本実施形態では、ステージ７６０が単層構造に示されているが、図６及び図７に示すように、２個の積層された２個のステージを備えられるということはいうまでもない。
【０１６５】
蒸着源７１０内で気化した蒸着物質７１５は、蒸着源ノズル部７２０及びパターニングスリットシート７３０を通過して被蒸着体である基板２の方向に向かう。
【０１６６】
蒸着源７１０は、その内部に蒸着物質７１５が満たされる坩堝７１１と、坩堝７１１を加熱させて坩堝７１１の内部に満たされた蒸着物質７１５を蒸着源ノズル部７２０側に蒸発させるためのヒーター７１２とを備える。一方、蒸着源７１０の一側には蒸着源ノズル部７２０が配され、蒸着源ノズル部７２０には、Ｘ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル７２１が形成される。
【０１６７】
一方、蒸着源ノズル部７２０の一側には遮断板アセンブリ７４０が備えられる。前記遮断板アセンブリ７４０は、複数の遮断板７４１と、遮断板７４１の外側に備えられる遮断板フレーム７４２とを備える。前記複数の遮断板７４１は、Ｘ軸方向に沿って互いに並んで配される。ここで、前記複数の遮断板７４１は等間隔で形成される。また、それぞれの遮断板７４１は、図面からみれば、ＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、直方形に備えられる。このように配された複数の遮断板７４１は、蒸着源ノズル部７２０とパターニングスリットシート７３０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切る。すなわち、本発明の一実施形態に関する蒸着装置７００は、前記遮断板７４１によって、図１０に示したように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル７２１別に蒸着空間Ｓが分離される。このように、遮断板７４１が、蒸着源ノズル部７２０とパターニングスリットシート７３０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切ることで、一つの蒸着源ノズル７２１から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル７２１から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット７３１を通過して基板２に蒸着される。すなわち、前記遮断板７４１は、各蒸着源ノズル７２１を通じて排出される蒸着物質が分散されずにＺ軸方向に直進するように蒸着物質の移動経路をガイドする役割を行う。
【０１６８】
このように、遮断板７４１を備えて蒸着物質の直進性を確保することで、基板に形成される陰影のサイズを急減させ、したがって、蒸着装置７００と基板２とを一定距離ほど離隔させられる。
【０１６９】
遮断板アセンブリ７４０は、連結部材７４５を選択的に備えるが、連結部材７４５は、フレーム７３５またはパターニングスリットシート７３０に連結される。
【０１７０】
また基板２は、静電チャック６００によって固定されたまま、かつ蒸着装置７００に対して移動しつつ蒸着工程が進む。
【０１７１】
一方、図示されていないが、本発明は、本実施形態の蒸着装置７００が複数配され、基板２が各蒸着装置７００を順次に通過しつつ蒸着工程が進むことはもとより、前記実施形態と同様にフレーム７３５とステージ７６０との間に離隔空間（図示せず）が形成されるということはいうまでもない。
【０１７２】
図１１は、本発明のさらに他の実施形態による蒸着装置を示す概略的な斜視図である。説明の便宜上、前記実施形態と異なる点を中心として説明する。
【０１７３】
図１１を参照すれば、蒸着装置８００は、蒸着源８１０、蒸着源ノズル部８２０、第１遮断板アセンブリ８４０、第２遮断板アセンブリ８５０、パターニングスリットシート８３０、フレーム８３５及びステージ８６０を備える。
【０１７４】
蒸着源８１０と基板２との間にパターニングスリットシート８３０が配される。パターニングスリットシート８３０は、略窓枠のような形態で形成されるフレーム８３５に結合され、パターニングスリットシート８３０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット８３１が形成される。
【０１７５】
パターニングスリットシート８３０、フレーム８３５及びステージ８６０は、前記実施形態に類似しているので、具体的な内容は略する。本実施形態では、ステージ８６０が単層構造に示されているが、図６及び図７に示したように、２個の積層された２個のステージを備えられるということはいうまでもない。
【０１７６】
また、蒸着源８１０及び第１遮断板アセンブリ８４０の詳細な構成は、前記図８による実施形態と同一であるので、詳細な説明を略する。本実施形態では、第１遮断板アセンブリ８４０の一側に第２遮断板アセンブリ８５０が備えられるという点で、前記実施形態と区別される。
【０１７７】
詳細には、前記第２遮断板アセンブリ８５０は、複数の第２遮断板８５１と、第２遮断板８５１の外側に備えられる第２遮断板フレーム８５２とを備える。前記複数の第２遮断板８５１は、Ｘ軸方向に沿って互いに並んで備えられる。そして、前記複数の第２遮断板８５１は、等間隔で形成される。また、それぞれの第２遮断板８５１は、図面からみてＹＺ平面と並んでいるように、言い換えれば、Ｘ軸方向と垂直に形成される。
【０１７８】
このように配された複数の第１遮断板８４１及び第２遮断板８５１は、蒸着源ノズル部８２０とパターニングスリットシート８３０との間の空間を区切る役割を行う。すなわち、前記第１遮断板８４１及び第２遮断板８５１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル８２１別に蒸着空間が分離されることを一特徴とする。
【０１７９】
ここで、それぞれの第２遮断板８５１は、それぞれの第１遮断板８４１と一対一対応するように配される。言い換えれば、それぞれの第２遮断板８５１は、それぞれの第１遮断板８４１とアラインされて互いに並んで配される。すなわち、互いに対応する第１遮断板８４１と第２遮断板８５１とは、互いに同じ平面上に位置することである。図面には、第１遮断板８４１のＸ軸方向の幅と第２遮断板８５１のＸ軸方向の幅とが同一であると示されているが、本発明の思想はこれに制限されるものではない。すなわち、パターニングスリット８３１との精密なアラインが要求される第２遮断板８５１は、相対的に薄く形成される一方、精密なアラインが要求されない第１遮断板８４１は、相対的に厚く形成され、その製造を容易にすることもできる。
【０１８０】
また基板２は、静電チャックク６００によって固定されたまま、かつ蒸着装置８００に対して移動しつつ蒸着工程が進む。
【０１８１】
一方、図示されていないが、本発明は、本実施形態の蒸着装置８００が複数配され、基板２が各蒸着装置８００を順次に通過しつつ蒸着工程が進むことはもとより、前記実施形態と同様にフレーム８３５とステージ８６０との間に離隔空間（図示せず）が形成されるということはいうまでもない。
【０１８２】
図１２は、本発明のさらに他の実施形態による蒸着装置を示す概略的な斜視図である。説明の便宜上、前記実施形態と異なる点を中心として説明する。
【０１８３】
図１２を参照すれば、蒸着装置９００は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０、パターニングスリットシート９３０、フレーム９３５及びステージ９６０を備える。
【０１８４】
蒸着源９１０と基板２との間にパターニングスリットシート９３０が配される。パターニングスリットシート９３０は、略窓枠のような形態で形成されるフレーム９３５に結合し、パターニングスリットシート９３０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９３１が形成される。
【０１８５】
パターニングスリットシート９３０、フレーム９３５及びステージ９６０は、前記実施形態に類似しているので、具体的な内容は略する。本実施形態では、ステージ９６０が単層構造に示されているが、図６及び図７に示したように、２個の積層された２個のステージを備えられるということはいうまでもない。
【０１８６】
蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が満たされる坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒーター９１２とを備える。一方、蒸着源９１０の一側には蒸着源ノズル部９２０が配され、蒸着源ノズル部９２０にはＹ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。
【０１８７】
そして、蒸着源９１０及び蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９３０とは、連結部材９４５によって連結される。連結部材９４５は、蒸着物質の移動経路をガイドする役割を行える。
【０１８８】
蒸着源ノズル部９２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板２のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル９２１は、等間隔で形成される。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、このような蒸着源ノズル部９２０を通過して被蒸着体である基板２の方向に向かう。結果として、一つの蒸着装置９００内には、基板２のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。Ｘ軸方向には、蒸着源ノズル９２１が一つのみ存在するように蒸着源ノズル９２１を形成することで、陰影の発生を急減させる。また、複数の蒸着源ノズル９２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス差が発生しても、その差が相殺されて蒸着均一度が一定に維持される効果を得られる。
【０１８９】
また基板２は、静電チャックク６００によって固定されたまま、かつ蒸着装置９００に対して移動しつつ蒸着工程が進む。
【０１９０】
一方、図示されていないが、本発明は、本実施形態の蒸着装置９００が複数配され、基板２が各蒸着装置９００を順次に通過しつつ蒸着工程が進むことはもとより、前記実施形態と同様に、フレーム９３５とステージ９６０との間に離隔空間（図示せず）が形成されるということはいうまでもない。
【０１９１】
図１３は、図４の蒸着装置のパターニングスリットシートに、パターニングスリットが等間隔で形成されている態様を示す図面であり、図１４は、図１３のパターニングスリットシートを用いて基板上に形成された蒸着膜を示す図面である。
【０１９２】
図１３及び図１４には、パターニングスリット１３１が等間隔で配されたパターニングスリットシート１３０が示されている。すなわち、図１３で、ｌ１＝ｌ２＝ｌ３＝ｌ４の関係が成立する。
【０１９３】
この場合、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを通る蒸着物質の入射角度は、基板２にほぼ垂直になる。よって、パターニングスリット１３１ａを通過した蒸着物質によって形成される蒸着層Ｐ１は、その陰影のサイズは最小になり、右側陰影ＳＲ１と左側陰影ＳＬ１とが対称をなすように形成される。ここで、蒸着空間Ｓは、パターニングスリット１３１を用いて実質的に基板２上に蒸着パターンが形成される空間である。
【０１９４】
蒸着空間Ｓの中心線Ｃから遠く配されたパターニングスリットを通る蒸着物質のしきい入射角度θは益々大きくなり、最端部のパターニングスリット１３１ｅを通る蒸着物質のしきい入射角度θは、約５５゜になる。よって、蒸着物質がパターニングスリット１３１ｅに対して傾いて入射し、パターニングスリット１３１ｅを通った蒸着物質によって形成された蒸着層Ｐ５は、その陰影のサイズが最大になり、特に、左側陰影ＳＬ５が右側陰影ＳＲ５よりさらに長く形成される。
【０１９５】
すなわち、蒸着物質のしきい入射角度θが大きくなるにつれて陰影のサイズも大きくなり、特に、蒸着空間Ｓの中心線Ｃから遠い方の陰影のサイズが大きくなる。そして、蒸着物質のしきい入射角度θは、蒸着空間Ｓの中心部からパターニングスリットまでの距離が遠いほど大きくなる。よって、蒸着空間Ｓの中心線Ｃからパターニングスリットまでの距離が遠い蒸着層であるほど、陰影のサイズが大きくなり、特に、蒸着層の両端部の陰影のうち蒸着空間Ｓの中心線Ｃから遠い方の陰影のサイズがさらに大きくなる。
【０１９６】
すなわち、図１４からみれば、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを基準として左側に形成された蒸着層は、左側斜辺が右側斜辺よりさらに長く形成され、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを基準として右側に形成された蒸着層は、右側斜辺が左側斜辺よりさらに長く形成される。
【０１９７】
また、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを基準として左側に形成された蒸着層は、中心線Ｃから遠くなるほど左側斜辺の長さがさらに長く形成され、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを基準として右側に形成された蒸着層は、中心線Ｃから遠く配されるほど右側斜辺の長さがさらに長く形成される。結果として、蒸着空間Ｓ内に形成された有機層は、蒸着空間Ｓの中心線を基準として対称をなすように形成される。
【０１９８】
言い換えれば、入射角は、θｂ＜θｃ＜θｄ＜θｅの関係が成立するので、それぞれのパターニングスリットを通過した蒸着層の陰影サイズの間には、ＳＬ１＜ＳＬ２＜ＳＬ３＜ＳＬ４＜ＳＬ５の関係が成立する。
【０１９９】
図１５は、本発明の蒸着装置を用いて製造された有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。
【０２００】
有機発光表示装置２０について具体的に説明する。
【０２０１】
基板２上にバッファ層２２が形成される。基板２は、ガラス材質または柔軟性のあるプラスチック材質その他の多様な材質を用いて形成できる。バッファ層２２は、基板２を通じる不純元素の浸透を防止し、基板２の上部に平坦な面を提供するものであり、このような役割を行える多様な物質で形成される。バッファ層２２は、必須構成要素ではないところ、省略できる。
【０２０２】
バッファ層２２上に所定パターンの活性層２３が形成される。活性層２３は、アモルファスシリコンまたはポリシリコンのような無機半導体、有機半導体または酸化物半導体で形成される。
【０２０３】
活性層２３の上部にはゲート絶縁膜２４が形成され、ゲート絶縁膜２４の上部の所定領域にはゲート電極２５が形成される。ゲート絶縁膜２４は、活性層２３とゲート電極２５とを絶縁するためのものであり、有機物またはＳｉＮｘ、ＳｉＯ２などの無機物で形成する。
【０２０４】
ゲート電極２５は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｍｏを含むことができ、Ａｌ：Ｎｄ、Ｍｏ：Ｗ合金などの合金を含むことができるが、これらに限定されず、隣接している層との密着性、平坦性、電気抵抗及び加工性などを考慮して多様な材質で形成する。
【０２０５】
ゲート電極２５の上部には層間絶縁膜２６が形成される。層間絶縁膜２６及びゲート絶縁膜２４は、活性層２３のソース領域及びドレイン領域を露出させるように形成され、このような活性層２３の露出したソース領域及びドレイン領域と当接するようにソース電極２７及びドレイン電極２８が形成される。
【０２０６】
ソース電極２７及びドレイン電極２８は、多様な導電物質を用いて形成でき、単層構造または複層構造である。
【０２０７】
薄膜トランジスタＴＦＴの上部にパッシベーション層２９が形成される。具体的に、ソース電極２７及びドレイン電極２８上にパッシベーション層２９が形成される。
パッシベーション層２９は、ドレイン電極２８の全体を覆わずに所定の領域を露出させるように形成され、露出したドレイン電極２８と連結されるように第１電極４１が形成される。
【０２０８】
第１電極４１上に絶縁物で画素定義膜４５を形成する。画素定義膜４５は、第１電極４１の所定の領域を露出させるように形成され、露出した第１電極４１と当接するように有機発光層を備える中問層４３を形成する。そして、中問層４３と連結されるように第２電極４２を形成する。
【０２０９】
有機発光層を含む中問層４３は、低分子または高分子有機物で形成できるが、有機発光層が低分子有機物を含む場合、ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ  Ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ）などが単一あるいは複合の構造で有機発光層と共に積層して形成される。
【０２１０】
ここで、有機発光層を含む中問層４３は、前記蒸着装置１、１′、１′′、１０００、７００、８００、９００によって蒸着される。
【０２１１】
すなわち、基板２上に第１電極４１を形成し、かつ画素定義膜４５を形成してから、前記蒸着装置１、１′、１′′、１０００、７００、８００、９００を用いて中問層４３を蒸着する。
【０２１２】
特に、図４の蒸着装置１０００を用いる場合、蒸着装置１０００の複数の蒸着アセンブリ１００−１、１００−２ないし１００−１１で、赤色有機発光層、緑色有機発光層、青色有機発光層及び補助発光層を順次に基板２の第１電極４１上に蒸着する。
【０２１３】
第１電極４１は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３を含み、また他の例として、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物を含む。
【０２１４】
第２電極４２は、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を含むか、またはＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などを含む。
【０２１５】
第２電極４２上に密封部材（図示せず）が配される。密封部材（図示せず）は、外部の水気や酸素などから中問層４３及びその他の層を保護するために形成するものであり、密封部材（図示せず）は、プラスチックまたは有機物と無機物との複数の重畳構造で形成する。
【０２１６】
本発明は、図面に示された実施形態を参照にして説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。よって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０２１７】
本発明は、蒸着装置、有機発光表示装置の製造方法及び有機発光表示装置関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０２１８】
１、１′、１′′、７００、８００、９００、１０００  蒸着装置、
２  基板、
３０、３０′、３０′′、１３０、７３０、８３０、９３０  パターニングスリットシート、
３５、３５′、３５′′、１３５、７３５、８３５、９３５  フレーム、
６０、６０′、６０′′、１５０、１６０、７６０、８６０、９６０  ステージ、
ＳＡ  離隔空間、
Ｐ  異物。
【図１】
2014198903.tif 000003
【図２】
2014198903.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2014198903.tif 000016
【図１５】
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