(57)【要約】【課題】低抵抗かつ耐湿熱性が良好で、パターニングが目立たない透明導電性フィルムを提供すること。【解決手段】透明プラスチックフィルムを基材とし、透明導電性薄膜層を含んで構成されている透明導電性フィルムであって、（１）〜（５）をすべて満たす透明導電性フィルム。（１）透明導電性薄膜層が、酸化スズを５．５質量％以上８質量％以下含有する結晶質のインジウム−スズ複合酸化物であること（２）透明導電性薄膜層の膜厚が２０ｎｍ以上３１ｎｍ以下であること（３）透明導電性薄膜層の表面抵抗値が１１０Ω／□以下であること（４）８５℃、８５％ＲＨで２４０時間保管した後の抵抗値増加割合が１．２倍以下であること（５）透明プラスチックフィルムのリタデーションが３０００ｎｍ以上３００００ｎｍ以下であること【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明プラスチックフィルムを基材とし、透明導電性薄膜層を含んで構成されている透明導電性フィルムであって、（１）〜（５）をすべて満たすことを特徴とする透明導電性フィルム。
（１）透明導電性薄膜層が、酸化スズを５．５質量％以上８質量％以下含有する結晶質のインジウム−スズ複合酸化物であること
（２）透明導電性薄膜層の膜厚が２０ｎｍ以上３１ｎｍ以下であること
（３）透明導電性薄膜層の表面抵抗値が１１０Ω／□以下であること
（４）８５℃、８５％ＲＨで２４０時間保管した後の抵抗値増加割合が１．２倍以下であること
（５）透明プラスチックフィルムのリタデーションが３０００ｎｍ以上３００００ｎｍ以下であること
【請求項２】
透明導電性薄膜層がパターニングされており、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性の差が下記（６）及び（７）を満たすことを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。
（６）透過光での色差が１．３以下であること
（７）反射光での色差が１．０以下であること
【請求項３】
透明導電性薄膜層が、スパッタリング法により成膜されてなることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明導電性フィルム。
【請求項４】
透明導電性薄膜層が、１００〜１６０℃の温度で１０〜９０分の時間で加熱されて結晶化されてなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は透明なプラスチックフィルムからなる基材上にスパッタリング法を用いて作製した透明導電性積層フィルムに関するものである。特に静電容量式タッチパネル等の透明電極フィルムとして用いた際に、表面抵抗値が低いため感度がよく、また、耐湿熱性に優れ、高温高湿下でも電気特性に変化が少ないため、大画面化や車載用途など幅広く応用できる透明導電性フィルムおよび静電容量式タッチパネルに関するものである。さらにサングラス等の偏光フィルムを介して視認した際の干渉色（即ち、虹斑）による視認性の低下を改善することを目的とした透明導電性フィルムおよび静電容量式タッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明なプラスチックフィルムからなる基材上に、透明でかつ抵抗が小さい薄膜を積層した透明導電性フィルムは、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス（一般にＥＬと略記される場合がある）などのようなフラットパネルディスプレイや、抵抗膜式タッチパネルの透明電極など、電気、電子分野の用途に広く使用されている。
【０００３】
近年、静電容量式のタッチパネルが携帯電話や携帯音楽端末などのモバイル機器に搭載されるケースが増えてきた。このような静電容量式のタッチパネルでは、パターニングされた導電膜上に誘電体層を積層した構成を有し、指などでタッチすることにより、人体の静電容量を介して接地される。この際、パターニング電極と接地点との間の抵抗値に変化が生じ、位置入力を認識する。しかしながら従来の透明導電性フィルムを用いた場合、いくつかの問題があった。まず、透明導電性薄膜層を有する部分と除去された部分での光学特性の差が大きいため、パターニングが目立ち、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置した際に視認性が低下する。また、フィルム基板ではガラスほど高温加熱できないため、導電膜の結晶化が不十分であり、導電性の低下や耐湿熱性の低下が問題視されている。導電性の低下により、感度が低下するため大画面へのタッチパネル搭載が困難になり、また耐湿熱性の低下により、車載向け等の過酷な状況下で使用される分野への展開が困難となっている。
【０００４】
視認性の低下を抑制する方法として反射防止加工等で用いられている屈折率の異なる層を透明導電性薄膜層と透明プラスチックフィルムの間に積層させ光の干渉を利用する方法が提案されている（特許文献１、２）。しかしながら、耐湿熱性の向上に対する検討は不十分であった。一般的に導電膜の膜厚を厚くすることで導電性や耐湿熱性を改善できるが、同時に視認性の低下を引き起こしてしまう。近年の厳しい要求に応えるためには、視認性を維持した上で導電性、耐湿熱性を向上させることが必要である。
【０００５】
また、液晶ディスプレイをサングラス等の偏光フィルタを介して視認する機会が増加している。一般的に流通している市販の汎用的なフィルムを透明導電性フィルムの基材フィルムとして液晶ディスプレイ内に組み込んだ場合、サングラスを介して液晶ディスプレイの画面を観察すると強い干渉色が現れることがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１５８６１号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／１４０２７５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
すなわち、本発明の目的は、上記の従来の問題点に鑑み、低抵抗かつ耐湿熱性が良好で、パターニングが目立たない透明導電性フィルムを提供することにある。さらに本発明は、サングラス等の偏光フィルムを介して視認した際の干渉色（即ち、虹斑）による視認性の低下を改善することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記のような状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた透明導電性フィルムとは、以下の構成よりなる。
項１．
透明プラスチックフィルムを基材とし、透明導電性薄膜層を含んで構成されている透明導電性フィルムであって、（１）〜（５）をすべて満たすことを特徴とする透明導電性フィルム。
（１）透明導電性薄膜層が、酸化スズを５．５質量％以上８質量％以下含有する結晶質のインジウム−スズ複合酸化物であること
（２）透明導電性薄膜層の膜厚が２０ｎｍ以上３１ｎｍ以下であること
（３）透明導電性薄膜層の表面抵抗値が１１０Ω／□以下であること
（４）８５℃、８５％ＲＨで２４０時間保管した後の抵抗値増加割合が１．２倍以下であること
（５）透明プラスチックフィルムのリタデーションが３０００ｎｍ以上３００００ｎｍ以下であること
項２．
透明導電性薄膜層がパターニングされており、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性の差が下記（６）及び（７）を満たすことを特徴とする項１に記載の透明導電性フィルム。
（６）透過光での色差が１．３以下であること
（７）反射光での色差が１．０以下であること
項３．
透明導電性薄膜層が、スパッタリング法により成膜されてなることを特徴とする項１又は２に記載の透明導電性フィルム。
項４．
透明導電性薄膜層が、１００〜１６０℃の温度で１０〜９０分の時間で加熱されて結晶化されてなることを特徴とする項１〜３のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の透明導電性フィルムによれば、低抵抗かつ耐湿性良好で、透明導電性薄膜層の膜厚を抑えることで視認性の悪化を抑制できる。また、本発明によれば、偏光フィルタを介して視認した場合に生じる虹斑に代表される画質の低下が軽減され、液晶ディスプレイ等の画層表示装置の視認性が改善される。尚、本書において、「虹斑」とは、「色斑」、「色ずれ」及び「干渉色」を含む概念である。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】透明導電性フィルムの一例を模式図で示す。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、各層別に詳細に説明する。
【００１２】
（透明プラスチックフィルムからなる基材）
本発明に用いる透明プラスチックフィルムは、高リタデーション配向フィルムであることが好ましい。
【００１３】
＜配向フィルムのリタデーション＞
高リタデーション配向フィルムのリタデーションは、虹斑を低減するという観点から、３０００ｎｍ以上３００００ｎｍ以下であることが好ましい。高リタデーション配向フィルムのリタデーションの下限値は、好ましくは４５００ｎｍ以上、好ましくは６０００ｎｍ以上、好ましくは８０００ｎｍ以上、好ましくは１００００ｎｍ以上である。一方、高リタデーション配向フィルムのリタデーションの上限は、それ以上のリタデーションを有する配向フィルムを用いたとしても更なる視認性の改善効果は実質的に得られず、またリタデーションの高さに応じては配向フィルムの厚みも上昇する傾向があるため、薄型化への要請に反し兼ねないという観点から、３００００ｎｍと設定されるが、更に高い値とすることもできる。画像表示装置が２枚以上の高リタデーション配向フィルムを有する場合、それらのリタデーションは同一であっても異なっていても良い。
【００１４】
虹斑をより効果的に抑制するという観点から、高リタデーション配向フィルムは、そのリタデーション（Ｒｅ）と厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）の比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が、好ましくは０．２以上であり、好ましくは０．５以上、好ましくは０．６以上である。厚さ方向リタデーションは、フィルム厚さ方向断面から見たときの２つの複屈折△Ｎｘｚ及び△Ｎｙｚにそれぞれフィルム厚みｄを掛けて得られるリタデーションの平均値を意味する。Ｒｅ／Ｒｔｈが大きいほど、複屈折の作用は等方性を増し、画面への虹斑の発生をより効果的に抑制することができる。尚、本書において、単に「リタデーション」と記載する場合は、面内リタデーションを意味する。
【００１５】
Ｒｅ／Ｒｔｈの最大値は２．０（即ち、完全な１軸対称性フィルム）であるが、完全な１軸対称性フィルムに近づくにつれて配向方向と直交する方向の機械的強度が低下する傾向がある。ポリエステルフィルムの場合、Ｒｅ／Ｒｔｈの上限は、好ましくは１．２以下、好ましくは１．０以下である。上記比率が１．０以下であっても、画像表示装置に求められる視野角特性（左右１８０度、上下１２０度程度）を満足することが可能である。
【００１６】
配向フィルムのリタデーションは、公知の手法に従って測定することができる。具体的には、２軸方向の屈折率と厚みを測定して求めることができる。また、商業的に入手可能な自動複屈折測定装置（例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器株式会社製）を用いて求めることもできる。
【００１７】
高リタデーション配向フィルムを液晶ディスプレイ等の画層表示装置内に組み込んで用いる場合、高リタデーション配向フィルムの配向主軸と視認側偏光子の偏光軸とが形成する角度（高リタデーション配向フィルムと偏光子とが同一平面上にあると仮定する）は、特に制限されないが、虹斑を低減するという観点から、４５度に近いことが好ましい。例えば、前記角度は、好ましくは４５度±２５度以下、好ましくは４５度±２０度以下、好ましくは４５度±１５度以下、好ましくは４５度±１０度以下、好ましくは４５度±５度以下、好ましくは４５度±３度以下、４５度±２度以下、４５度±１度以下、４５度である。尚、本書において、「以下」という用語は、「±」の次の数値にのみかかることを意味する。即ち、前記「４５度±１５度以下」とは、４５度を中心に上下１５度の範囲の変動を許容することを意味する。
【００１８】
上記のような条件を満たすように高リタデーション配向フィルムを配置することは、例えば、切断された高リタデーション配向フィルムをその配向主軸が偏光子と特定の角度になるように配置する方法や、高リタデーション配向フィルムを斜め延伸することで偏光子と特定角度になるように配置する方法により行うことができる。
【００１９】
高リタデーション配向フィルムは、公知の手法を適宜選択して製造することができる。例えば、高リタデーション配向フィルムは、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、シクロオレフィン樹脂、液晶性ポリマー樹脂、及びセルロース系樹脂に液晶化合物を添加した樹脂から成る群より選択される一種以上を用いて製造することができる。従って、高リタデーション配向フィルムは、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、シンジオタクチックポリスチレンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、シクロオレフィンフィルム、液晶性フィルム、セルロース系樹脂に液晶化合物が添加されたフィルムであり得る。
【００２０】
高リタデーション配向フィルムの好ましい原料樹脂は、ポリカーボネート、ポリエステル又はシンジオタクチックポリスチレンである。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れており、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートに代表されるポリエステルは固有複屈折が大きく、フィルムの厚みが薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られるので好ましい。特に、ポリエチレンナフタレートは、ポリエステルの中でも固有複屈折率が大きいことから、リタデーションを特に高くしたい場合や、リタデーションを高く保ちながらフィルム厚みを薄くしたい場合に好適である。ポリエステル樹脂を代表例として、より具体的な高リタデーション配向フィルムの製造方法を後述する。
【００２１】
＜配向フィルムの製造方法＞
以下に、ポリエステルフィルムを例に、高リタデーション配向フィルムの製造方法を説明する。ポリエステルフィルムは、任意のジカルボン酸とジオールとを縮合させて得ることができる。ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、２，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホンカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、３，３−ジエチルコハク酸、グルタル酸、２，２−ジメチルグルタル酸、アジピン酸、２−メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、ダイマー酸、セバシン酸、スベリン酸、ドデカジカルボン酸等を挙げることができる。
【００２２】
ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、デカメチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサジオール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等を挙げることができる。
【００２３】
ポリエステルフィルムを構成するジカルボン酸成分とジオール成分はそれぞれ１種又は２種以上を用いても良い。ポリエステルフィルムを構成する具体的なポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられ、好ましくはポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートであり、好ましくはポリエチレンテレフタレートである。ポリエステル樹脂は他の共重合成分を含んでも良く、機械強度の点からは共重合成分の割合は３モル％以下が好ましく、好ましくは２モル％以下、更に好ましくは１．５モル％以下である。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れる。また、これらの樹脂は、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。
【００２４】
ポリエステルフィルムは、一般的な製造方法に従って得ることができる。具体的には、ポリエステル樹脂を溶融し、シート状に押出し成形された無配向ポリエステルをガラス転移温度以上の温度において、ロールの速度差を利用して縦方向に延伸した後、テンターにより横方向に延伸し、熱処理を施すことにより配向ポリエステルフィルムが挙げられる。ポリエステルフィルムは、一軸延伸フィルムであっても、二軸延伸フィルムであっても良い。上記高リタデーション配向フィルムは斜め４５度に延伸されたものであってもよい。
【００２５】
ポリエステルフィルムを得るための製造条件は、公知の手法に従って適宜設定することが出来る。例えば、縦延伸温度及び横延伸温度は、通常８０〜１３０℃であり、好ましくは９０〜１２０℃である。縦延伸倍率は、通常１．０〜３．５倍であり、好ましくは１．０倍〜３．０倍である。また、横延伸倍率は、通常２．５〜６．０倍であり、好ましくは３．０〜５．５倍である。
【００２６】
リタデーションを特定範囲に制御することは、延伸倍率や延伸温度、フィルムの厚みを適宜設定することにより行うことができる。例えば、縦延伸と横延伸の延伸倍率差が高いほど、延伸温度が低いほど、フィルムの厚みが厚いほど高いリタデーションを得やすくなる。逆に、縦延伸と横延伸の延伸倍率差が低いほど、延伸温度が高いほど、フィルムの厚みが薄いほど低いリタデーションを得やすくなる。また、延伸温度が高いほど、トータル延伸倍率が低いほど、リタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が低いフィルムが得やすくなる。逆に、延伸温度が低いほど、トータル延伸倍率が高いほど、リタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が高いフィルムが得られる。更に、熱処理温度は、通常１４０〜２４０℃が好ましく、好ましくは１８０〜２４０℃である。
【００２７】
ポリエステルフィルムにおけるリタデーションの変動を抑制する為には、フィルムの厚み斑が小さいことが好ましい。リタデーション差をつけるために縦延伸倍率を低くすると、縦厚み斑の値が高くなる場合がある。縦厚み斑の値は延伸倍率のある特定の範囲で非常に高くなる領域があるため、そのような範囲を外すように製膜条件を設定することが望ましい。
【００２８】
配向ポリエステルフィルムの厚み斑は５．０％以下であることが好ましく、４．５％以下であることがさらに好ましく、４．０％以下であることがよりさらに好ましく、３．０％以下であることが特に好ましい。フィルムの厚み斑は、任意の手段で測定することができる。例えば、フィルムの流れ方向に連続したテープ状サンプル（長さ３ｍ）を採取し、市販される測定器（例えば、（株）セイコー・イーエム製電子マイクロメータ  ミリトロン１２４０）を用いて、１ｃｍピッチで１００点の厚みを測定し、厚みの最大値（ｄｍａｘ）、最小値（ｄｍｉｎ）、平均値（ｄ）を求め、下記式にて厚み斑（％）を算出することができる。
厚み斑（％）＝（（ｄｍａｘ−ｄｍｉｎ）／ｄ）×１００
【００２９】
本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材の厚みは、１５〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜２００μｍであり、さらにより好ましくは２０〜１５０μｍであり、特に好ましくは２５〜１３０μｍである。１５μｍを下回る厚みのフィルムでも、原理的には３０００ｎｍ以上のリタデーションを得ることが可能である。しかし、その場合にはフィルムの力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下する。一方、厚みが３００μｍを越えると、ディスプレイの厚みが厚くなりすぎるため、適さない。
【００３０】
本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材は、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理などの表面活性化処理を施してもよい。
【００３１】
また、本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材には、密着性向上、耐薬品性の付与、オリゴマーなどの低分子量物の析出防止を目的として、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設けてもよい。
【００３２】
前記の硬化型樹脂は、加熱、紫外線照射、電子線照射などのエネルギー印加により硬化する樹脂であれば特に限定されなく、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。生産性の観点からは、紫外線硬化型樹脂を主成分とする硬化型樹脂が好ましい。
【００３３】
このような紫外線硬化型樹脂としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコール及びアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステルなどから合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂などを挙げることができる。必要に応じて、これらの多官能性の樹脂に単官能性の単量体、例えば、ビニルピロリドン、メチルメタクリレート、スチレンなどを加えて共重合させることができる。
【００３４】
また、塗工膜と硬化物層との付着力を向上するために、硬化物層を更に表面処理することが有効である。具体的な方法としては、グロー放電又はコロナ放電を照射する放電処理法を用いて、カルボニル基、カルボキシル基、水酸基を増加させる方法、酸又はアルカリで処理する化学薬品処理法を用いて、アミノ基、水酸基、カルボニル基などの極性基を増加させる方法、などが挙げられる。
【００３５】
紫外線硬化型樹脂は、通常、光重合開始剤を添加して使用される。光重合開始剤としては、紫外線を吸収してラジカルを発生する公知の化合物を特に限定なく使用することができ、このような光重合開始剤としては、例えば、各種ベンゾイン類、フェニルケトン類、ベンゾフェノン類などを挙げることができる。光重合開始剤の添加量は、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜５質量部とすることが好ましい。
【００３６】
塗布液中の樹脂成分の濃度は、コーティング法に応じた粘度などを考慮して適切に選択することができる。例えば、塗布液中に紫外線硬化型樹脂、光重合開始剤の合計量が占める割合は、通常は２０〜８０質量％である。また、この塗布液には、必要に応じて、その他の公知の添加剤、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などのレベリング剤などを添加してもよい。
【００３７】
本発明において、調製された塗布液は透明プラスチックフィルムからなる基材上にコーティングされる。コーティング法には特に限定されなく、既存の湿式成膜法（バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法など）を使用することができる。
【００３８】
また、硬化物層の厚みは０．１μｍ以上１５μｍ以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、特に好ましくは１μｍ以上８μｍ以下である。硬化物層の厚みが０．１μｍ未満の場合には、十分に架橋した構造が形成されにくくなるため、耐薬品性が低下しやすくなり、オリゴマーなどの低分子量による密着性の低下もおこりやすくなる。一方、硬化物層の厚みが１５μｍを超える場合には、カールしやすくなり、また生産性が低下する傾向がある。
【００３９】
また、本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材には、視認性向上を目的として、基材と透明導電性薄膜の間に光学干渉層を形成させるのが好ましい。具体的には、基材側から高屈折率層、低屈折率層をこの順に成膜することが望ましい。
【００４０】
（高屈折率層）
前記高屈折率層の屈折率は１．５以上２．４以下の範囲が好ましく、より好ましくは１．６以上１．９５以下、更に好ましくは１．７以上１．８５以下である。１．５未満の場合、低屈折率層との屈折率差が小さすぎるため、透明導電性薄膜層をパターニングした際、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性を近づけることが困難になるおそれがある。一方、屈折率が２．４を超える場合、斜め方向のパターニングを目立たなくすることが困難となり、また、工業的に適した材料もあまりない。高屈折率層の具体的素材としては、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２等およびこれらの複合酸化物および硫化亜鉛ＺｎＳが挙げられ、これらの無機膜、もしくはこれらが粒子フィラーとして含まれる紫外線硬化型樹脂膜を高屈折率層として用いる。これらのなかでも生産安定性の観点からＮｂ２Ｏ５、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２およびこれらの複合酸化物の乾式成膜法（真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法など）、及び生産性からＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２粒子をフィラーとして用いた湿式成膜法が好ましい。また、これらの酸化物または硫化物に屈折率調整のために任意の酸化物、硫化物を添加しても構わない。
【００４１】
高屈折率層の膜厚は、５ｎｍ以上７０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは、７ｎｍ以上、６０ｎｍ以下、更に好ましくは８ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。膜厚が５ｎｍ未満の場合、不連続な膜となり、膜物性の安定性が低下しやすくなる傾向にある。一方、膜厚が７０ｎｍを超える場合、光の反射が強くなるため、透明導電性薄膜層をパターニングした際、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性を近づけることが困難となり、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置した際に透明導電性薄膜層のパターニングが目立ってしまい、視認性が低下するおそれがある。ただし、高屈折率層の屈折率と膜厚は任意に変えるよりも、光学膜厚（屈折率×膜厚）が一定になるように制御することが好ましい。フィラーを用いた湿式成膜を行う場合、フィラーの粒子径は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは７ｎｍ以上４０ｎｍ以下、更に好ましくは８ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。粒子径が５ｎｍを下回る粒子は生産安定性が低くなるおそれがある。また、粒子径が５０ｎｍを超える場合、粒子が膜表面から出てしまい、光学膜厚の制御が困難になる傾向にある。
【００４２】
本発明における高屈折率層の成膜方法としては乾式成膜法である真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、湿式成膜法であるバーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができるが、生産性という観点から湿式成膜法が好ましい。
【００４３】
（低屈折率層）
前記低屈折率層の屈折率は１．３０以上１．６０以下が好ましく、より好ましくは１．４０以上１．５５以下、更に好ましくは１．４３以上１．５０以下である。屈折率が１．３０未満の場合、ポーラスな膜となりやすくなるため、その上に形成した透明導電性薄膜層の電気特性を低下させてしまうおそれがある。一方、屈折率が１．６０を超える場合、透明導電性薄膜層との光の干渉が弱くなりすぎるため、透明導電性薄膜層をパターニングした際、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性を近づけることが困難となり、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置した際に透明導電性薄膜層のパターニングが目立ってしまい、視認性が低下しやすくなるおそれがある。
低屈折率層の具体的素材としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３などの透明金属酸化物及びＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３等の複合金属酸化物、ＣｕＦ２、ＣｅＦ２、ＭｎＦ２、ＭｇＦ２などの金属フッ化物およびこれらの複合フッ化物が挙げられ、これらの無機膜、もしくはこれらが粒子フィラーとして含まれる紫外線硬化型樹脂膜を低屈折率層として用いることが好ましい。また、これらの酸化物またはフッ化物に屈折率調整のために任意の酸化物、硫化物を添加しても構わない。
【００４４】
低屈折率層の膜厚は、３０ｎｍ以上７０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上６０ｎｍ以下、更に好ましくは４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。７０ｎｍを超えると透明導電性薄膜層との光の干渉により、波長依存性が強くなりすぎるため、透明導電性薄膜層をパターニングした際、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性を近づけることが困難になりやすい傾向にある。一方３０ｎｍ未満の場合、透明導電性薄膜層との光の干渉が起こりにくく、透過率を向上することができないため、透明導電性薄膜層をパターニングした際、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性を近づけることが困難となり、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置した際に透明導電性薄膜層のパターニングが目立ってしまい、視認性が低下しやすくなるおそれがある。ただし、低屈折率層の屈折率と膜厚は任意に変えるよりも、光学膜厚（屈折率×膜厚）が一定になるように制御することが好ましい。フィラーを用いた湿式成膜を行う場合、フィラーの粒子径は５ｎｍ以上７０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下、更に好ましくは１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。粒子径が５ｎｍを下回る粒子は生産安定性が低くなりやすい傾向にある。また、粒子径が７０ｎｍを超える場合、粒子が膜表面から出てしまい、光学膜厚の制御が困難になりやすくなるおそれがある。
【００４５】
本発明における低屈折率層の成膜方法としては乾式成膜法である真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法、湿式乾式成膜法であるバーコート法、グラビアコート法、リバースコート法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができるが、生産性という観点から湿式成膜法が好ましい。
【００４６】
（透明導電性薄膜層）
本発明における透明導電性薄膜層としては、導電性、耐湿熱性の観点からインジウム−スズ複合酸化物（以下、ＩＴＯと述べることがある）が好適である。
【００４７】
本発明において透明導電性フィルムの表面抵抗値を好ましくは１０Ω／□以上、１１０Ω／□以下とすることによって、透明導電性フィルムとして画面サイズの大きなタッチパネルなどに使用できる。更に好ましくは２０Ω／□以上９０Ω／□以下、より好ましくは３０Ω／□以上８５Ω／□以下である。表面抵抗値はなるべく低い方が好ましい。しかしながら、１０Ω／□未満にするため透明導電性薄膜層の厚みが厚くなり、透明導電性薄膜層のパターニングが目立ちやすくなるおそれがある。一方、１１０Ω／□を超える場合、タッチパネルの位置認識精度が悪くなる。
【００４８】
また、加熱による結晶化後、８５℃、８５％ＲＨで２４０時間保管した後の抵抗値増加割合が１．２倍以下であることが好ましく、更に好ましくは５００時間保管した後の抵抗値増加割合が１．２倍以下であることである。２４０時間保管した際に抵抗値が大きく変化すると、車載向けなどの耐湿熱性が必要な用途への展開が困難になるため好ましくない。
【００４９】
透明導電性膜の膜厚は、２０ｎｍ以上３１ｎｍ以下の範囲が好ましく、更に好ましくは２３ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。透明導電性薄膜の膜厚が２０ｎｍ未満の場合、導電膜が結晶になりにくくなり、良好な導電性、耐湿熱性が得られにくくなる。一方、透明導電性薄膜の膜厚が３１ｎｍよりも厚い場合、透明導電性薄膜層をパターニングした際、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性を近づけることが困難となり、パターニングが目立ってしまうことがある。
【００５０】
透明導電性薄膜層を構成するＩＴＯ中の酸化スズ含有量は、５．５％以上８％以下の範囲が好ましく、更に好ましくは６％以上７．５％以下である。ＩＴＯ中の酸化スズ含有量が５．５％未満の場合、スズの再配置による電子放出が十分に行われないため、良好な導電性が得られにくくなる。また、ＩＴＯ中の酸化スズ含有量が８％より大きい場合、結晶性が損なわれ、良好な導電性が得られにくくなる。
【００５１】
本発明における透明導電性薄膜の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができる。例えば、スパッタリング法の場合、酸化物ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用したりしてもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加してもよい。
【００５２】
本発明の透明導電性フィルムは、上記透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層をパターニングした透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層側に、誘電体層を積層した透明導電性フィルムとすることが好ましい。
【００５３】
（透明導電性フィルムの光学特性）
本発明においては、透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層をパターニングしてから、透明導電性薄膜層を有する部分と有しない部分の光学特性の差が少ないことが重要であり、下記（６）及び（７）を満たすことが好ましい。
（６）透過光での色差が１．３以下であること
（７）反射光での色差が１．０以下であること
【００５４】
低抵抗かつ耐湿性良好で、透明導電性薄膜層の膜厚を抑えることで視認性の悪化を抑制できる本発明の透明導電性フィルムを成膜するには、透明導電性薄膜層の結晶性を向上させる必要があり、次の２つの方法が有効である。
（Ａ）成膜室内の水分圧の低減
（Ｂ）成膜室内の酸素分圧の制御
【００５５】
まず（Ａ）について説明を行う。
透明導電性薄膜を成膜する際、成膜室内に水分、有機物等が有る場合、衝突によるスパッタ粒子のエネルギー低下により、基板上でのマイグレーションを抑制し、透明導電性薄膜の結晶性を損なう場合がある。また、不純物を透明導電性薄膜に取り込むことにより、構造欠陥が生じ、耐湿熱性の低下がおこりやすくなる。そこで、不純物ガス、特に水分を成膜室内から取り除くことが好ましい。
【００５６】
具体的には、成膜室中の不活性ガス（アルゴンなど）に対する水分圧比が４．０×１０−４〜８．０×１０−４であることが望ましい。具体的な手段としては、（ａ）フィルム、成膜室壁面の加熱、（ｂ）成膜室内の排気速度の向上が挙げられる。（ａ）フィルムの加熱に関しては、ＩＲヒーターや加熱ロールを用い、真空下で６０〜８０℃に加熱するのが好ましい。６０℃未満であれば、フィルムから十分にガスを取り除くことが困難になる場合があり、また８０℃を超えると、フィルムの変形、傷の原因となるおそれがある。また、成膜室壁面の加熱に関しては、成膜前に、温水やＩＲヒーターを用いて、６０〜８０℃に加熱するのが好ましい。成膜前に加熱し、水分を除去することで、成膜時に成膜室壁面より発生するガスを抑制することができる。この際、６０℃未満であれば、機台から十分にガスを取り除くことが困難となるおそれがある、また８０℃を超えると、装置部品の変形、劣化の原因となる場合がある。また、水分を取り除くため、ターボ分子ポンプ、クライオポンプなどを用いるのが好ましい。クライオポンプに関しては、クライオコイルを延長させることで水分排気速度の調整を行うことができる。
【００５７】
次に（Ｂ）について説明を行う。
透明導電性薄膜を成膜する際、成膜室内の反応性ガス（酸素など）の分圧により、薄膜の電気的、光学的特性は大きく変化する。ＩＴＯを成膜する際、反応性ガスである酸素の分圧が低すぎる場合、ＩＴＯの構造を維持することができず、透明性が失われ、また導電性も低下する。また、酸素分圧が高すぎた場合、高湿熱下での反応サイトである酸素欠陥がなくなるため、耐湿熱性は良化するものの、同時に酸素欠陥由来であるキャリア放出が減少し、導電性が低下する。また、高湿熱による劣化は、フィルムの放出ガスにより結晶化しづらいフィルム近くから生じる。このため、耐湿熱性が良好でかつ導電性に優れた透明導電性薄膜を成膜するには、耐湿性の悪くなりやすいフィルム近くで酸素分圧を上げ、それ以降酸素分圧を抑制することが有効である。具体的には、独立した成膜室を複数持つ装置を用い、各成膜室で酸素分圧を変化させる、などが挙げられる。基板に５ｎｍ以上、８ｎｍ以下成膜するまでの成膜室中の不活性ガス（アルゴンなど）に対する酸素分圧の比が、最も導電性が低下する酸素分圧の比の１．６倍以上２．３倍以下であり、その後の成膜室の酸素分圧の比が、最も導電性が低下する酸素分圧の比に制御されていることが望ましい。最も導電性が低下する酸素分圧の比の１．６倍以上２．３倍以下での成膜がフィルムより５ｎｍ以下である場合、十分な耐湿熱性を確保できず、８ｎｍ以上であれば導電性が悪化する。また、その際の酸素分圧の比が１．６倍未満であれば、十分な耐湿熱性を確保できず、後述する耐湿熱性評価において抵抗値増加割合が１．２倍以上となる。また、酸素分圧の比が２．３倍を超えると導電性が悪化する。
【００５８】
また、成膜室を独立させなくとも、成膜室入り口からカソードまでの間、カソードから成膜室出口までにそれぞれ１つ以上の酸素供給口を設置し、酸素放出量を制御することにより、同様の効果を得ることができる。
【００５９】
成膜後の加熱処理温度は、１００℃〜１６０℃の範囲が望ましい。１００℃未満では結晶化が困難になる傾向にある。また加熱温度が１６０℃を超える場合、基板の平面性の悪化が生じるおそれがある。
【００６０】
加熱処理時間は１０分〜９０分が好ましい。１０分未満であれば結晶化が困難になる場合がある。また、９０分を超える場合、工業生産上の経済性からあまり好ましくない。
【００６１】
（液晶ディスプレイ等の画像表示装置）
本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネル用の透明導電性フィルムとして好適に用いることができる。  画像表示装置は、典型的に、視認側から視認側偏光板、画像表示セル（液晶セル）、光源側偏光板、バックライト光源を順に有する。本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルは、画像表示装置内の任意の場所（オンセル、インセル、アウトセル）に配置することが可能であるが、視認側偏光板のより視認側に配置することが好ましい。
【００６２】
（バックライト光源）
また、画像表示装置は、虹斑を抑制するという観点から、連続的で幅広い発光スペクトルを有する白色光源をバックライト光源として有することが好ましい。連続的で幅広い発光スペクトルを有する光源の方式及び構造は特に制限されず、例えば、エッジライト方式又は直下型方式であり得る。「連続的で幅広い発光スペクトル」とは、少なくとも４５０〜６５０ｎｍの波長領域、好ましくは可視光の領域において光の強度がゼロになる波長領域が存在しない発光スペクトルを意味する。可視光領域とは、例えば、４００〜７６０ｎｍの波長領域であり、３６０〜７６０ｎｍ、４００〜８３０ｎｍ、又は３６０〜８３０ｎｍであり得る。
【００６３】
連続的で幅広い発光スペクトルを有する白色光源としては、例えば、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）を挙げることができる。白色ＬＥＤには、蛍光体方式のもの（即ち、化合物半導体を使用した青色光、もしくは紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子）及び有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ：ＯＬＥＤ）等を挙げることができる。連続的で幅広い発光スペクトルを有し、且つ、発光効率にも優れているという観点から、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードが好ましい。
【実施例】
【００６４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。なお、透明導電性フィルムの性能は、下記の方法により測定した。
【００６５】
（１）表面抵抗値
ＪＩＳ−Ｋ７１９４に準拠し、４端子法にて表面抵抗値を測定した。測定器は、三菱油化（株）製、Ｌｏｔｅｓｔ  ＡＭＣＰ−Ｔ４００を用いた。
【００６６】
（２）膜厚計測
１ｍｍ×１０ｍｍに切り出したサンプルを電子顕微鏡用のエポキシ樹脂に包埋した後、ウルトラミクロトームの資料ホルダに固定し、包埋したサンプル片の短辺に平行な断面薄切片を作製した。次いで、この切片薄膜の著しく損傷のない部位において、透過型電子顕微鏡（日本電子製、ＪＥＭ２０１０）を用いて観測した。加速電圧は２００ｋＶ、２００００倍で観測後、各層の膜厚を１００点計測し、その平均を膜厚とした。
【００６７】
（３）色差（ΔＥ）
ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠し、色差計（日本電色工業製、ＺＥ−２０００）を用いて、標準の光Ｃ／２で色差を測定した。透明導電性薄膜層を有しない部分を基準とし、透明導電性薄膜層を有する部分との色差を測定した。透明導電性薄膜層を有しない部分の色空間座標をＬ０，ａ０，ｂ０とし、透明導電性薄膜層を有する部分の色空間座標をＬ，ａ，ｂとすると、色差を求める計算式は次の式（１）で表現される。
色差：（（Ｌ−Ｌ０）＾２＋（ａ−ａ０）＾２＋（ｂ−ｂ０）＾２）＾（１／２）  （１）
【００６８】
（４）フィラー粒径
フィラー粒径の計測は日本電子製ＪＥＭ２１００を用いた。サンプルを熱硬化樹脂に包埋した後、ミクロトームで超薄切片とし、カーボン蒸着を施して測定を行った。加速電圧は２００ｋＶ、２００００倍で観測後、各粒子を１００点計測し、粒子内で最も短い軸長さの平均を粒径とした。
【００６９】
（５）視認性評価
透明導電性フィルムにエッチングレジストを印刷した後、１規定の塩酸中に１０分浸漬後、アルカリに１０分浸漬により、１×３ｃｍのパターンを形成した。１２０℃で１時間加熱後、透明導電性薄膜側に屈折率１．５２のアクリル系粘着層を有する二軸配向ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略記する）フィルムを保護フィルムとして貼り合わせた。富士通社製ＦＭＶ−ＢＩＢＬＯＬＯＯＸ  Ｔ７０Ｍ／Ｔを用いて画面を白色表示にし、保護フィルムを貼り合わせたフィルムをその前に置いて、様々な角度からパターニングの見え方を評価した。
○：  パターニングがほとんど見えない。
△：  パターニングが少し見える。
×：  パターニングが見える。
【００７０】
（６）耐湿熱性評価
透明導電性フィルムを１２０℃で１時間加熱した後、（株）ナガノ科学機械製作所製のＬＨ４３−１２Ｐを用いて８５℃、８５％ＲＨの雰囲気下に２４０時間曝露した。温度は±２℃、湿度は±２％で管理した。この処理による抵抗値増加割合はＲ／Ｒｏで表現される。
（Ｒ：  ２４０時間曝露後の抵抗値、Ｒｏ：１２０℃で１時間加熱した後の抵抗値）
【００７１】
（７）屈折率
ＰＥＴ上に各層をそれぞれ成膜した試料について、反射分光膜厚計（大塚電子株式会社製、ＦＥ−３０００）を用いて、５５０ｎｍの屈折率を評価した。
【００７２】
（８）結晶化の確認
透過型電子顕微鏡下で観察した際の結晶質部に対する非晶質部の面積比が、０．００〜０．５０である場合、結晶性導電膜と定義する。
【００７３】
（９）虹斑の評価
下記構成のタッチパネルを備えた画像表示装置を常法に従って作製し、白画像を表示させた。偏光サングラス（偏光フィルム）を掛けて、首を左右に傾けて画像の視認性の変化を観察した。
【００７４】
＜評価基準＞
○：  虹斑は観察されず、視認性が良好であった。
×：  虹斑が生じ、視認性が不良であった。
【００７５】
＜画像表示装置の構成＞
・バックライト光源：白色ＬＥＤ
・画像表示セル：液晶セル
・偏光板：ＰＶＡとヨウ素からなる偏光子の偏光子保護フィルムとしてＴＡＣフィルムが使用された偏光板。
・タッチパネル：後述の実施例、比較例で得られた透明導電性薄膜を形成した透明導電性フィルムを用いたタッチパネル。なお、透明プラスチックフィルムの配向主軸と視認側偏光子の偏光軸とが形成する角が４５度となるように配置した。
【００７６】
（１０）リタデーションの評価
リタデーション（Ｒｅ）は、次の通り測定した。即ち、二枚の偏光板を用いて、フィルムの配向主軸方向を求め、配向主軸方向が直交するように４ｃｍ×２ｃｍの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率（Ｎｘ，Ｎｙ）、及び厚さ方向の屈折率（Ｎｚ）をアッベ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ−４Ｔ）によって求め、前記二軸の屈折率差の絶対値（｜Ｎｘ−Ｎｙ｜）を屈折率の異方性（△Ｎｘｙ）として求めた。フィルムの厚みｄ（ｎｍ）は電気マイクロメータ（ファインリューフ社製、ミリトロン１２４５Ｄ）を用いて測定し、単位をｎｍに換算した。屈折率の異方性（△Ｎｘｙ）とフィルムの厚みｄ（ｎｍ）の積（△Ｎｘｙ×ｄ）より、リタデーション（Ｒｅ）を求めた。
【００７７】
また、リタデーションの測定と同様の方法でＮｘ、Ｎｙ、Ｎｚとフィルム厚みｄ（ｎｍ）を求め、（△Ｎｘｚ×ｄ）、（△Ｎｙｚ×ｄ）の平均値を算出して厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）を求めた。
【００７８】
（製造例１−透明プラスチックフィルム１）
固有粘度０．６２ｄｌ／ｇのＰＥＴ樹脂ペレットを１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機に供給し、２８５℃で溶解した。このポリマーを、ステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。
【００７９】
次いで、リバースロール法によりこの未延伸ＰＥＴフィルムの両面に乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ２になるように、下記接着性改質塗布液を塗布した後、８０℃で２０秒間乾燥した。
【００８０】
この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４．０倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、さらに幅方向に３％の緩和処理を行い、フィルム厚み約１００μｍの一軸配向の透明プラスチックフィルム１を得た。リタデーション値は１０２００ｎｍであった。Ｒｔｈは、１３２３３ｎｍ、Ｒｅ／Ｒｔｈ比は０．７７１であった。
【００８１】
（接着性改質塗布液の調製）
常法によりエステル交換反応および重縮合反応を行って、ジカルボン酸成分として（ジカルボン酸成分全体に対して）テレフタル酸４６モル％、イソフタル酸４６モル％および５−スルホナトイソフタル酸ナトリウム８モル％、グリコール成分として（グリコール成分全体に対して）エチレングリコール５０モル％およびネオペンチルグリコール５０モル％の組成の水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂を調製した。次いで、水５１．４質量部、イソプロピルアルコール３８質量部、ｎ−ブチルセルソルブ５質量部、ノニオン系界面活性剤０．０６質量部を混合した後、加熱撹拌し、７７℃に達したら、上記水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂５質量部を加え、樹脂の固まりが無くなるまで撹拌し続けた後、樹脂水分散液を常温まで冷却して、固形分濃度５．０質量％の均一な水分散性共重合ポリエステル樹脂液を得た。さらに、凝集体シリカ粒子（富士シリシア（株）社製、サイリシア３１０）３質量部を水５０質量部に分散させた後、上記水分散性共重合ポリエステル樹脂液９９．４６質量部にサイリシア３１０の水分散液０．５４質量部を加えて、撹拌しながら水２０質量部を加えて、接着性改質塗布液を得た。
【００８２】
（製造例２−透明プラスチックフィルム２）
未延伸フィルムの厚みを変更することにより、フィルムの厚みを約８０μｍとする以外は、透明プラスチックフィルム１と同様にして一軸配向の透明プラスチックフィルム２を得た。リタデーション値は８３００ｎｍであった
【００８３】
（製造例３−透明プラスチックフィルム３）
未延伸フィルムの厚みを変更することにより、フィルムの厚みを約５０μｍとする以外は、透明プラスチックフィルム１と同様にして一軸配向の透明プラスチックフィルム３を得た。リタデーション値は５２００ｎｍであった。Ｒｔｈは６６００ｎｍ、Ｒｅ／Ｒｔｈ比は０．７８８であった。
【００８４】
（製造例４−透明プラスチックフィルム４）
未延伸フィルムを、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて１０５℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に２．０倍延伸した後、透明プラスチックフィルム１と同様の方法で幅方向に４．０倍延伸した以外は透明プラスチックフィルム１と同様にして、フィルム厚み約５０μｍの二軸配向の透明プラスチックフィルム４を得た。リタデーション値は３２００ｎｍであった。Ｒｔｈは７３４０ｎｍ、Ｒｅ／Ｒｔｈ比は０．４３６であった。
【００８５】
（製造例５−透明プラスチックフィルムＡ）
固有粘度０．６２ｄｌ／ｇのＰＥＴ樹脂ペレットを１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機に供給し、２８５℃で溶解した。このポリマーを、ステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。
【００８６】
上記未延伸フィルムを加熱されたロール群及び赤外線ヒーターで１００℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向に３．６倍延伸して一軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。
【００８７】
次いで、リバースロール法によりこの一軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ２になるように、上記接着性改質塗布液を塗布した後、８０℃で２０秒間乾燥した。
【００８８】
一軸延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に３．８倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、さらに幅方向に３％の緩和処理を行い、フィルム厚み約６５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明プラスチックフィルムＡ）を得た。リタデーション値は１５００ｎｍであった。
【００８９】
（製造例６−透明プラスチックフィルムＢ）
フィルム厚みを約１００μｍとした以外は透明プラスチックフィルムＡと同様の方法で製膜を行い、透明プラスチックフィルムＢを得た。リタデーション値は２３００ｎｍであった。
【００９０】
（実施例１）
光重合開始剤含有紫外線硬化型アクリル系樹脂（大日精化工業社製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｊ）１００質量部に、溶剤としてトルエン／ＭＥＫ（８０／２０：質量比）の混合溶媒を、固形分濃度が３０質量％になるように加え、撹拌して均一に溶解し塗布液を調製した。
【００９１】
透明プラスチックフィルム１に、高屈折率層として光重合開始剤含有紫外線硬化型アクリル系樹脂（荒川化学工業株式会社製、ＢＳ５７７）に、ＴｉＯ２粒子（石原産業（株）、ＴＴＯ−Ｓ−１）を樹脂１００重量部に対して粒子が５０重量部になるよう加え、溶剤としてトルエン／ＭＥＫ（３０／７０：質量比）の混合溶媒を、固形分濃度が１質量％になるように加え、撹拌して均一に溶解させた後、固形分濃度が５質量％になるまで攪拌後、マイヤーバーを用いて塗布した。８０℃で６０秒間乾燥を行った後、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させ、２０ｎｍの高屈折率層を成膜した。
【００９２】
さらに前記高屈折層上に光重合開始剤含有紫外線硬化型アクリル系樹脂（荒川化学工業株式会社製、ＢＳ５７７）に、シリカ粒子（日産化学工業株式会社、ＭＥＫ−ＳＴ、粒径１０〜２０ｎｍ）を樹脂１００重量部に対して粒子が６０重量部になるよう加え、溶剤としてトルエン／ＭＥＫ（３０／７０：質量比）の混合溶媒を、固形分濃度が１質量％になるように加え、撹拌して均一に溶解させた後、固形分濃度が５質量％になるまで攪拌後、マイヤーバーを用いて塗布した。１０秒間静置後、１２５℃で１０秒間乾燥を行った後、さらに１００℃で３０秒乾燥を行った。紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させ、５０ｎｍの低屈折率層を成膜した。
【００９３】
次に、この低屈折率層上にインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜を成膜した。
【００９４】
成膜前にフィルム中の不純物ガスを除去することを目的として、この硬化物層を積層した二軸配向透明ＰＥＴフィルムを真空暴露するために、真空チェンバー中でフィルムを走行させた。このときの圧力は０．００２Ｐａであり、フィルムの暴露時間は２０分とした。また、走行時に接触するロールの温度は６５℃とし、これにフィルムを通した。
【００９５】
また、成膜前に装置内部の不純物ガスを除去することを目的として、装置の加熱を行った。具体的には成膜室の周囲設置した管に６５℃の温水を５時間循環させた。５時間後の圧力は０．０００１Ｐａであった。
【００９６】
成膜の際は、スパッタリング前の圧力を０．０００１Ｐａとし、ターゲットとして酸化スズを６質量％含有した酸化インジウム（住友金属鉱山社製、密度７．１ｇ／ｃｍ３）に用いて、４Ｗ／ｃｍ２のＤＣ電力を印加した。また、ＡｒガスとＯ２ガスを１２０℃で１時間加熱した際の表面抵抗値が最小となる流速で流し、０．６Ｐａの雰囲気下で、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した。なお、センターロール温度を−１０℃とした。
【００９７】
また、成膜雰囲気でのアルゴンに対する水分圧、二酸化炭素圧をスパッタプロセスモニター（インフィコン社製、トランスペクターＸＰＲ３）にて観測しながら厚さ２６ｎｍ、屈折率１．９６のインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜を堆積させ、透明導電性フィルムを作製した。
【００９８】
また、透明導電性薄膜層側にエッチングレジストを塗工し、硬化した後、１規定の塩酸中に浸漬して透明導電性薄膜層をパターニングした後、１２０℃で１時間フィルムの加熱を行った。
【００９９】
（実施例２）
透明導電性薄膜を成膜する前に、フィルムの加熱を７５℃で行う以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１００】
（実施例３）
透明導電性薄膜を成膜する前に、装置の加熱を７５℃で行う以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１０１】
（実施例４）
透明導電性薄膜を成膜する前に、フィルム、装置の加熱を行わず、クライオポンプを設置する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１０２】
（実施例５）
透明導電性薄膜を成膜する際に、フィルム、装置の事前加熱は行わず、２つの独立した成膜室を持つ装置を用いた。始めの成膜室における不活性ガスに対する酸素分圧の比が最も導電性が低下する酸素分圧の比の１．８倍に調整し、次の成膜室では最も導電性が低下する酸素分圧の比に調整し、成膜を行った。この際、最も導電性が低下する酸素分圧の比の１．８倍の酸素分圧の比で成膜した透明導電性薄膜の膜厚が６ｎｍ、最も導電性が低下する酸素分圧の比で成膜した透明導電性薄膜の膜厚が２０ｎｍとなるよう印加電圧を調整する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１０３】
（実施例６）
始めの成膜室における不活性ガスに対する酸素分圧比のみ最も導電性が低下する酸素分圧の比の２．１倍に調整する以外は、実施例５と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１０４】
（実施例７）
実施例１における高屈折率層としてインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜をスパッタリング法により成膜した。このとき、スパッタリング前の圧力を０．０００１Ｐａとし、ターゲットとして酸化スズを３６質量％含有した酸化インジウム（住友金属鉱山社製、密度６．９ｇ／ｃｍ３）に用いて、２Ｗ／ｃｍ２のＤＣ電力を印加した。また、ＡｒガスとＯ２ガスを表面抵抗値が最小となるＯ２流量の３倍の流速で流し、０．６Ｐａの雰囲気下でＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した。なお、センターロール温度を−１０℃とした。
【０１０５】
以上のようにして、厚さ１０ｎｍ、屈折率１．９３のインジウム−スズ複合酸化物からなる高屈折率層を堆積させた。このようにして得られた高屈折率層の表面抵抗値は１×１０６Ω／□以上であった。
また、低屈折層はＳｉＯ２薄膜をスパッタリング法により成膜した。このとき、スパッタリング前の圧力を０．０００１Ｐａとし、ターゲットとしてシリコーンを用いて、２Ｗ／ｃｍ２のＤＣ電力を印加した。また、ＡｒガスとＯ２ガスを流し、０．６Ｐａの雰囲気下でＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した。なお、センターロール温度を−１０℃とした。
【０１０６】
また、成膜中のスパッタ電圧値を常時観測しながら、Ｇｅｎｃｏａ社製のＳｐｅｅｄｆｌｏを用いて、電圧値が一定となるように酸素ガスの流量計にフィートバックした。この際、電圧値はＡｒガスのみを流した金属モードの場合のスパッタ電圧値を１００％とし、ＡｒガスとＯ２ガスを流して酸化物モードでのスパッタ電圧値を０％とした場合、５０％の電圧値になるようにコントロールした。厚さ５０ｎｍ、屈折率１．４６の酸化シリコンからなる低屈折率層を堆積させた。透明導電薄膜は実施例１と同様に成膜を行った。
【０１０７】
（実施例８）
透明導電性薄膜を成膜する際に、透明導電膜の厚みを２３ｎｍにする以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１０８】
（実施例９）
透明導電性薄膜を成膜する際に、透明導電膜の厚みを３０ｎｍにする以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１０９】
（実施例１０）
ターゲットとして酸化スズを５．７質量％含有した酸化インジウムを用いる以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１１０】
（実施例１１）
ターゲットとして酸化スズを７質量％含有した酸化インジウムを用いる以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１１１】
（実施例１２）
透明プラスチックフィルム１を透明プラスチックフィルム２に代えた以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
【０１１２】
（実施例１３）
透明プラスチックフィルム１を透明プラスチックフィルム３に代えた以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
【０１１３】
（実施例１４）
透明プラスチックフィルム１を透明プラスチックフィルム４に代えた以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
【０１１４】
（比較例１）
透明導電性薄膜を成膜する前に、フィルム、装置の加熱を２５℃で行う以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１１５】
（比較例２）
透明導電性薄膜を成膜する前に、フィルムの加熱を２５℃で行う以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１１６】
（比較例３）
透明導電性薄膜を成膜する前に、装置の加熱を２５℃で行う以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１１７】
（比較例４）
実施例５において、高酸素分圧で成膜した透明導電性薄膜の膜厚が４ｎｍ、通常の酸素分圧で成膜した透明導電性薄膜の膜厚が２２ｎｍとなるよう印加電圧を調整する以外は、実施例５と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１１８】
（比較例５）
実施例５において、高酸素分圧で成膜した透明導電性薄膜の膜厚が１２ｎｍ、通常の酸素分圧で成膜した透明導電性薄膜の膜厚が１４ｎｍとなるよう印加電圧を調整する以外は、実施例５と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１１９】
（比較例６）
実施例５において、始めの成膜室における不活性ガスに対する酸素分圧比を最も導電性が低下する酸素分圧の比の１．４倍に調整する以外は実施例５と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１２０】
（比較例７）
実施例５において、始めの成膜室における不活性ガスに対する酸素分圧比を最も導電性が低下する酸素分圧の比の２．６倍に調整する以外は実施例５と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１２１】
（比較例８）
透明導電性薄膜の酸化スズ含有量を４％に変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１２２】
（比較例９）
透明導電性薄膜の酸化スズ含有量を１０％に変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１２３】
（比較例１０）
透明導電性薄膜の膜厚を１５ｎｍに変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１２４】
（比較例１１）
透明導電性薄膜の膜厚を４０ｎｍに変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１２５】
（比較例１２）
透明プラスチックフィルム１を透明プラスチックフィルムＡに代えた以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
【０１２６】
（比較例１３）
透明プラスチックフィルム１を透明プラスチックフィルムＢに代えた以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
【０１２７】
【表１】
2014229392.tif 000003
【０１２８】
【表２】
2014229392.tif 000004
表１より、本発明の範囲を満足する実施例１〜１４記載の透明導電性フィルムは表面抵抗値、耐湿熱性に優れ、視認性、虹斑評価も良好であることが確認された。一方、表２に示されるように、組成や成膜条件が適切でない比較例１〜１１は表面抵抗、耐湿熱性、視認性を同時に満たすことはなかった。また、虹斑評価結果について、比較例１２、１３ではのリタデーションの低い透明プラスチックフィルムを使用したため、虹斑が生じ視認性が不良であった。
【産業上の利用可能性】
【０１２９】
本発明の透明導電性フィルムは、低抵抗かつ耐湿性良好で、視認性に優れるため、大画面および車載向け用途での静電容量用タッチパネルに好適である。特にサングラス等の偏光フィルムを介して視認した際の干渉色（即ち、虹斑）による視認性の低下を改善する必要がある静電容量用タッチパネルに特に好適である。
【符号の説明】
【０１３０】
１０：透明導電性フィルム
１１：プラスチックフィルム
１２：高屈折率層
１３：低屈折率層
１４：透明導電薄膜層
【図１】
2014229392.tif 000005