(57)【要約】【課題】ロールツーロール方式で長尺基材を高精度に位置補正することを課題とする。【解決手段】本発明は、複数の搬送ローラ３〜８を用いたロールツーロール方式で、可撓性の長尺基材１１を搬送し、長尺基材１１の表面に機能層のパターニング等の処理が行われる際には長尺基材１１の搬送を停止させる長尺基材搬送装置１００である。長尺基材搬送装置１００は、パターニング等の処理を行う場所で、停止した長尺基材１１における当該パターニング等の処理を行う部分の張力を維持し、長尺基材１１におけるパターニング等の処理を行う部分に対して長手方向の前後それぞれの部分の長尺基材１１の張力を低下させた後、長尺基材１１におけるパターニング等の処理を行う部分の位置補正を行う。【選択図】図１
2014058389.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の搬送ローラを用いたロールツーロール方式で、可撓性の長尺基材を搬送し、前記長尺基材の表面に機能層のパターニング等の処理が行われる際には前記長尺基材の搬送を停止させる長尺基材搬送装置であって、
前記パターニング等の処理を行う場所で、停止した前記長尺基材における当該パターニング等の処理を行う部分の張力を維持する張力維持手段と、
前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う部分に対して長手方向の前後それぞれの部分の前記長尺基材の張力を低下させる張力低下手段と、
前記張力低下手段による前記前後それぞれの部分の張力の低下の後、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う部分の位置補正を行う位置補正手段と、を備える
ことを特徴とする長尺基材搬送装置。
【請求項２】
前記張力維持手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の長手方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持する部材である
ことを特徴とする請求項１に記載の長尺基材搬送装置。
【請求項３】
前記張力維持手段および前記位置補正手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の長手方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持する部材としての前記搬送ローラとニップローラである
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の長尺基材搬送装置。
【請求項４】
前記張力維持手段および前記位置補正手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の幅方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持するテンター手段である
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の長尺基材搬送装置。
【請求項５】
前記複数の搬送ローラのうち、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う面に接する前記搬送ローラは、前記長尺基材におけるパターン成膜部に対応する部分が窪んで非接触になっている段付ローラであり、
前記長尺基材は、厚さが５０〜２００μｍの樹脂フィルムである
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の長尺基材搬送装置。
【請求項６】
前記長尺基材の表面に機能層のパターニング等の処理が行われることで、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子が製造される
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の長尺基材搬送装置。
【請求項７】
複数の搬送ローラを用いたロールツーロール方式で、可撓性の長尺基材を搬送し、前記長尺基材の表面に機能層のパターニング等の処理が行われる際には前記長尺基材の搬送を停止させる長尺基材搬送装置による長尺基材位置調整方法であって、
前記長尺基材搬送装置において、
張力維持手段が、前記パターニング等の処理を行う場所で、停止した前記長尺基材における当該パターニング等の処理を行う部分の張力を維持し、
張力低下手段が、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う部分に対して長手方向の前後それぞれの部分の前記長尺基材の張力を低下させ、
位置補正手段が、前記張力低下手段による前記前後それぞれの部分の張力の低下の後、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う部分の位置補正を行う
ことを特徴とする長尺基材位置調整方法。
【請求項８】
前記張力維持手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の長手方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持する部材である
ことを特徴とする請求項７に記載の長尺基材位置調整方法。
【請求項９】
前記張力維持手段および前記位置補正手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の長手方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持する部材としての前記搬送ローラとニップローラである
ことを特徴とする請求項７または請求項８に記載の長尺基材位置調整方法。
【請求項１０】
前記張力維持手段および前記位置補正手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の幅方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持するテンター手段である
ことを特徴とする請求項７から請求項９のいずれか一項に記載の長尺基材位置調整方法。
【請求項１１】
前記複数の搬送ローラのうち、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う面に接する前記搬送ローラは、前記長尺基材におけるパターン成膜部に対応する部分が窪んで非接触になっている段付ローラであり、
前記長尺基材は、厚さが５０〜２００μｍの樹脂フィルムである
ことを特徴とする請求項７から請求項１０のいずれか一項に記載の長尺基材位置調整方法。
【請求項１２】
前記長尺基材の表面に機能層のパターニング等の処理が行われることで、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子が製造される
ことを特徴とする請求項７から請求項１１のいずれか一項に記載の長尺基材位置調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ロールツーロール方式で搬送する長尺基材の位置補正（蛇行補正）を行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ロールツーロール方式で長尺基材を搬送するとともに、その長尺基材に機能層のパターニング等の処理（機能層のパターン成膜（ウエット、ドライ）、機能層のパターン除去、シート部材の貼合、シート断裁など）を行う技術が多く用いられている。例えば、近年、発光素子として注目されている有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子についても、ロールツーロール方式での製造が多く行われるようになってきた。その場合、ロール状に巻かれた長尺基材を繰り出してその長尺基材上に有機ＥＬ構造体を形成し、その長尺基材を再度ロール状に巻き取り、その後、その長尺基材を所定の大きさに分割することで有機ＥＬ素子を製造する。ロールツーロール方式による製造は、連続生産が可能なので生産効率を向上させることができるというメリットがある。
【０００３】
また、特許文献１には、ロールツーロール方式による有機ＥＬディスプレイ製造装置全体を真空チャンバ内に設け、フレキシブル基板上に発光材料や陰極材料を蒸着にてパターン成膜する技術について開示されている。
【０００４】
なお、ロールツーロール方式の場合、長尺基材に対してパターニング等を行う際に、長尺基材における該当部分の位置補正を適宜行うことによって高精度に位置調整（アライメント）する必要がある。
特に、有機ＥＬ素子は複数並べて大面積平面発光体とすることがあり、パターニング等の位置調整が悪いと平面発光体間の非発光部の幅が大きくなり、商品価値が低下するため、高精度の位置調整が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第０１／０５１９４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１の技術を含む従来技術では、ロールツーロール方式の場合、長尺基材の張力を低くすると、搬送ローラに対して長尺基材が押し付けられる力が弱すぎて、搬送ローラと長尺基材との間に適切な摩擦力が発生せず、長尺基材の搬送自体が不安定になる（簡単に大きくずれる等）という問題がある。一方、長尺基材の張力を高くすると、長尺基材の搬送自体は比較的安定するが、搬送ローラと長尺基材との間の摩擦力が大きいため、位置補正を適切に行いにくいという問題がある。
特に、有機ＥＬ素子をパターン成膜する場合、成膜部（パターン成膜部）は薄膜であり、前記成膜部にダメージを受けない様に、搬送ローラの機能層と接触する部分を窪ませて非接触にした段付きローラを使用することがあるが、この場合、張力が高いと基材が窪みに食い込み基材が動きにくくなるために、さらに位置補正を行いにくくなる。
【０００７】
そこで、本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、ロールツーロール方式で長尺基材を高精度に位置補正することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の前記課題は、下記の手段により達成される。
【０００９】
（１）複数の搬送ローラを用いたロールツーロール方式で、可撓性の長尺基材を搬送し、前記長尺基材の表面に機能層のパターニング等の処理が行われる際には前記長尺基材の搬送を停止させる長尺基材搬送装置であって、前記パターニング等の処理を行う場所で、停止した前記長尺基材における当該パターニング等の処理を行う部分の張力を維持する張力維持手段と、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う部分に対して長手方向の前後それぞれの部分の前記長尺基材の張力を低下させる張力低下手段と、前記張力低下手段による前記前後それぞれの部分の張力の低下の後、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う部分の位置補正を行う位置補正手段と、を備えることを特徴とする長尺基材搬送装置。
【００１０】
（２）前記張力維持手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の長手方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持する部材であることを特徴とする前記（１）に記載の長尺基材搬送装置。
【００１１】
（３）前記張力維持手段および前記位置補正手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の長手方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持する部材としての前記搬送ローラとニップローラであることを特徴とする前記（１）または前記（２）に記載の長尺基材搬送装置。
【００１２】
（４）前記張力維持手段および前記位置補正手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の幅方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持するテンター手段であることを特徴とする前記（１）から前記（３）のいずれか一項に記載の長尺基材搬送装置。
【００１３】
（５）前記複数の搬送ローラのうち、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う面に接する前記搬送ローラは、前記長尺基材におけるパターン成膜部に対応する部分が窪んで非接触になっている段付ローラであり、前記長尺基材は、厚さが５０〜２００μｍの樹脂フィルムであることを特徴とする前記（１）から前記（４）のいずれか一項に記載の長尺基材搬送装置。
【００１４】
（６）前記長尺基材の表面に機能層のパターニング等の処理が行われることで、有機ＥＬ素子が製造されることを特徴とする前記（１）から前記（５）のいずれか一項に記載の長尺基材搬送装置。
【００１５】
（７）複数の搬送ローラを用いたロールツーロール方式で、可撓性の長尺基材を搬送し、前記長尺基材の表面に機能層のパターニング等の処理が行われる際には前記長尺基材の搬送を停止させる長尺基材搬送装置による長尺基材位置調整方法であって、前記長尺基材搬送装置において、張力維持手段が、前記パターニング等の処理を行う場所で、停止した前記長尺基材における当該パターニング等の処理を行う部分の張力を維持し、張力低下手段が、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う部分に対して長手方向の前後それぞれの部分の前記長尺基材の張力を低下させ、位置補正手段が、前記張力低下手段による前記前後それぞれの部分の張力の低下の後、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う部分の位置補正を行うことを特徴とする長尺基材位置調整方法。
【００１６】
（８）前記張力維持手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の長手方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持する部材であることを特徴とする前記（７）に記載の長尺基材位置調整方法。
【００１７】
（９）前記張力維持手段および前記位置補正手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の長手方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持する部材としての前記搬送ローラとニップローラであることを特徴とする前記（７）または前記（８）に記載の長尺基材位置調整方法。
【００１８】
（１０）前記張力維持手段および前記位置補正手段は、前記パターニング等の処理を行う場所における前記長尺基材の幅方向の両端それぞれに配置された、前記長尺基材を挟持するテンター手段であることを特徴とする前記（７）から前記（９）のいずれか一項に記載の長尺基材位置調整方法。
【００１９】
（１１）前記複数の搬送ローラのうち、前記長尺基材における前記パターニング等の処理を行う面に接する前記搬送ローラは、前記長尺基材におけるパターン成膜部に対応する部分が窪んで非接触になっている段付ローラであり、前記長尺基材は、厚さが５０〜２００μｍの樹脂フィルムであることを特徴とする前記（７）から前記（１０）のいずれか一項に記載の長尺基材位置調整方法。
【００２０】
（１２）前記長尺基材の表面に機能層のパターニング等の処理が行われることで、有機ＥＬ素子が製造されることを特徴とする前記（７）から前記（１１）のいずれか一項に記載の長尺基材位置調整方法。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、ロールツーロール方式で長尺基材を高精度に位置補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本実施形態の長尺基材搬送装置において、長尺基材の搬送中および搬送停止直後の様子を示す図である。
【図２】本実施形態の長尺基材搬送装置において、図１の後の状態として、搬送ローラとニップローラで長尺基材を挟んだ状態を示す図である。
【図３】本実施形態の長尺基材搬送装置において、図２の後の状態として、機能層のパターン成膜が行われる成膜エリア（以下、成膜エリアと称する。）の前後の搬送ローラを移動することで成膜エリアの前後の長尺基材の張力を低くした状態を示す図である。
【図４】本実施形態の長尺基材搬送装置において、図３の後の状態として、成膜エリアの位置調整と成膜をする場合の様子を示す図である。
【図５】本実施形態の長尺基材搬送装置において、図４の後の状態として、成膜エリアの前後の搬送ローラを移動することで成膜エリアの前後の長尺基材の張力を回復させた状態を示す図である。
【図６】本実施形態の長尺基材搬送装置において、図５の後の状態として、ニップローラを搬送ローラから離れるように移動することで長尺基材を解放し、長尺基材を搬送する様子を示す図である。
【図７】本実施形態の長尺基材搬送装置を用いて搬送される長尺基材を元上に製造される有機ＥＬ素子の概略模式図である。
【図８】本実施形態の変形例の長尺基材搬送装置において、長尺基材における成膜エリアの幅方向の両端それぞれに配置された４つずつのテンター手段で長尺基材を挟持した様子を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を実施するための形態（以下、実施形態と称する。）について、図面を参照して詳細に説明する。なお、図１〜図６において、（ａ）は本実施形態の長尺基材搬送装置を下から見た様子を示す図で、（ｂ）はその長尺基材搬送装置を横から見た様子を示す図である。
【００２４】
図１に示すように、長尺基材１１を搬送する長尺基材搬送装置１００は、巻取りロール１、巻出しロール２、搬送ローラ３〜８、ニップローラ９，１０、位置センサ２１，２２を備えて構成される。なお、図１では、長尺基材搬送装置１００において、長尺基材１１の搬送中および搬送停止直後の様子を示している。
【００２５】
なお、本実施形態では、ロールツーロール方式で、図７に示すように、可撓性の長尺基材１１の表面（図１の下側の面）に、機能層のパターニング（蒸着等によるパターン成膜）が行われる、つまり、第１電極１２、有機層１３、第２電極１４からなる有機ＥＬ構造体が積層されることで、有機ＥＬ素子４１が製造される場合について説明する。
【００２６】
長尺基材１１は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）等の可撓性を有する素材から形成される樹脂フィルムである。
【００２７】
第１電極１２は、陽極であって、例えば、インジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）、金、銀、酸化錫、酸化亜鉛等の導電性材料による電極である。
【００２８】
有機層１３は、発光層を含む数ｎｍ〜数μｍの有機化合物又は錯体等の有機材料からなる単層、または複数の層である。有機層１３は、例えば、陽極と接する正孔輸送層、発光材料を備える発光層、陰極と接する電子輸送層の三層等からなる。また、有機層１３は、フッ化リチウム層や無機金属塩の層、またはそれらを含有する層などが任意の位置に配置された構成であってもよい。
【００２９】
第２電極１４は、陰極であって、例えば、アルミニウム、ナトリウム、リチウム、マグネシウム、銀、カルシウム等の金属材料からなる電極である。
【００３０】
図１に戻って長尺基材搬送装置１００の説明を続ける。
巻取りロール１は、成膜等の処理後の長尺基材１１をロール状に巻き取ったロール（元巻）である。
巻出しロール２は、成膜等の処理前の長尺基材１１がロール状に巻かれているロール（元巻）である。
搬送ローラ３〜８は、巻取りロール１と巻出しロール２の間に位置し、搬送される長尺基材１１が通過すべき経路をガイドするローラである。
【００３１】
なお、搬送ローラ３〜８のうち、搬送ローラ４，７は、長尺基材１１におけるパターニングを行う部分（図１（ｂ）の「成膜エリア」に対応する部分。以下、「長尺基材１１における成膜エリアの部分」と称する。）に対して長手方向の前後それぞれの部分の長尺基材１１の張力を低下させる張力低下手段としての役割も果たす（詳細は図３で後記）。
【００３２】
また、搬送ローラ３〜８のうち、搬送ローラ５，６は、それぞれ、ニップローラ９，１０とともに、張力低下手段（搬送ローラ４，７）による前記前後それぞれの部分の張力の低下の後、長尺基材１１における成膜エリアの部分の位置補正を行う位置補正手段としての役割も果たす（詳細は図４で後記）。なお、この位置補正には、長尺基材１１の幅方向の補正、長尺基材１１の長手方向の前後方向の補正、長尺基材１１の上面視で回転方向の補正のいずれも含む。
【００３３】
ニップローラ９，１０は、それぞれ、搬送ローラ５，６とともに、パターニングを行う場所（図１（ｂ）の「成膜エリア」）で、停止した長尺基材１１における成膜エリアの部分の張力を維持する張力維持手段としての役割を果たす。
【００３４】
位置センサ２１，２２は、長尺基材１１における近い側のエッジの位置を検出するセンサである。
【００３５】
このような長尺基材搬送装置１００では、複数の搬送ローラ３〜８を用いたロールツーロール方式で、巻出しロール２としてロール状に巻いた可撓性を有する長尺基材１１（例えば樹脂フィルム）を繰り出して搬送し、長尺基材１１の表面に機能層のパターニングが行われる際に長尺基材１１の搬送を停止させ、停止した長尺基材１１の位置補正を行う。以下、図１〜図６を参照して時系列的に説明する。
【００３６】
前記したように、図１では、長尺基材搬送装置１００において、長尺基材１１の搬送中および搬送停止直後の様子を示している。
【００３７】
次に、図１に示すように長尺基材１１が停止した後、図２に示すように、ニップローラ９，１０を成膜エリア側に移動させることで、搬送ローラ５とニップローラ９、搬送ローラ６とニップローラ１０で、それぞれ、長尺基材１１の該当部分を挟み、長尺基材１１における成膜エリアの部分の張力が維持された状態で長尺基材１１を固定する。
【００３８】
次に、図２に示すように長尺基材１１における成膜エリアの部分の張力が維持された状態で長尺基材１１が固定された後、図３に示すように、搬送ローラ４，７をそれぞれ図示の斜め下方向に移動させることで、長尺基材１１における成膜エリアの部分の前後の部分を低張力化する。これにより、長尺基材１１における成膜エリアの部分を位置補正のために動かしやすくなる。なお、搬送ローラ４，７を移動させる距離は、長尺基材１１の素材の特性（弾力性など）に基づいて予め決定しておいてもよいし、あるいは、搬送ローラ４，７の周辺に長尺基材１１の張力を検出するセンサを設けておいてその張力が所定の閾値以下になったことにより搬送ローラ４，７の移動を停止させることで決定してもよい。
【００３９】
次に、図３に示すように長尺基材１１における成膜エリアの部分の前後の部分を低張力化した後、図４に示すように、搬送ローラ５とニップローラ９の組、および、搬送ローラ６とニップローラ１０の組の両方あるいは片方を動かすことで、長尺基材１１における成膜エリアの部分の位置補正を行う。この位置補正を行う際は、位置センサ２１，２２による長尺基材１１における近い側のエッジの位置の検出結果を用いればよい。なお、図４では、長尺基材１１における成膜エリアの部分を少し図面の上方に移動させることで、位置補正を行ったものとしている。また、この位置補正の後、長尺基材１１における成膜エリアの部分のパターニング（成膜）を行う。
【００４０】
次に、図４に示すように長尺基材１１における成膜エリアの部分の位置補正および成膜を行った後、図５に示すように、搬送ローラ４，７を元の位置（図１の位置）まで移動させて、長尺基材１１における成膜エリアの部分の前後の部分を張って、張力を回復させる。なお、この成膜エリアにおけるパターニング（パターン成膜）が終わった後は、長尺基材１１における成膜エリアの部分が位置補正後の位置状態を厳密に維持できていなくても問題はない。
【００４１】
次に、図５に示すように搬送ローラ４，７を元の位置まで移動させた後、図６に示すように、ニップローラ９を搬送ローラ５から離れるように移動させ、ニップローラ１０を搬送ローラ６から離れるように移動させることで、長尺基材１１を解放し、長尺基材１１の搬送を開始する（図１の状態に戻る）。
【００４２】
このような図１〜図６に示した一連の動作を、長尺基材搬送装置１００における１つ以上の成膜エリアそれぞれで行うことで、ロールツーロール方式で長尺基材１１を高精度に位置補正しながらパターニング（成膜）を行うことができる。また、成膜エリアが複数の場合、位置補正をしないと長尺基材１１における幅方向のずれが積算するおそれがあるが、本実施形態の手法によれば、パターニングのたびに位置補正を行うので、高精度の位置補正を実現できる。
【００４３】
なお、すべてのパターニングを終えた長尺基材１１は順次、巻き取られる。巻取りロール（元巻）１（巻き取られた長尺基材１１）は、別工程で所定のサイズに切断されることで、有機ＥＬ素子が完成する。なお、最後のパターニングの後に、長尺基材１１を保護膜で被覆する処理を行うようにしてもよい。
【００４４】
次に、図８を参照して、長尺基材搬送装置１００の変形例について説明する。変形例の長尺基材搬送装置１００は、図１と比較して、ニップローラ９，１０が除かれ、代わりに８つのテンター手段３１（張力維持手段、位置補正手段）が配置されている。
【００４５】
８つのテンター手段３１は、パターニングを行う場所（図１の「成膜エリア」）における長尺基材１１の幅方向の両端それぞれに４つずつ配置されている。８つのテンター手段３１がそれぞれ長尺基材１１を挟持し、長尺基材１１を外側に所定の力で引っ張ることで、長尺基材１１における成膜エリアの部分の張力を維持することができる。また、長尺基材１１を挟持した８つのテンター手段３１を一括して移動させることで、長尺基材１１における成膜エリアの部分の位置補正をすることができる。なお、このテンター手段３１を用いた位置補正によれば、ニップローラ９，１０を用いた位置補正と比較して、低コストなどのメリットが考えられる。
【００４６】
以上で本実施形態の説明を終えるが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。
例えば、搬送ローラ３〜８のうち、長尺基材１１における機能層の成膜面に接触する搬送ローラ４，７（図１参照）は、長尺基材１１におけるパターン成膜部に対応する部分が窪んで機能層と非接触になっている段付ローラであり、かつ、長尺基材１１は、厚さが５０〜２００μｍの樹脂フィルムであってもよい。その場合、従来技術では、段付ローラである搬送ローラ４，７の段の部分が長尺基材１１に若干食い込むことになり、長尺基材１１の位置補正のための動きをスムースに行うことが困難であるが、本実施形態の手法では、長尺基材１１の位置補正時に、位置補正する部分の前後の張力を低下させることで、長尺基材１１の位置補正のための動きをスムースに行うことが容易になる。また、厚さが５０〜２００μｍという薄い樹脂フィルムの場合、強度の問題もあって高張力のまま位置補正を行うことが好ましくないが、本発明の手法により、低張力で樹脂フィルムにダメージを与えることなく位置補正を行うことができる。
【００４７】
また、長尺基材１１の搬送を停止させてから行う処理としては、機能層のパターニング（パターン成膜（ウエット、ドライ））のほか、機能層のパターン除去、シート部材の貼合、シート断裁など、多くの処理（機能層のパターニング等の処理）が適用可能である。
また、テンター手段３１は、８つでなくても、張力維持手段および位置補正手段として充分に機能できるのであれば、他の個数であってもよい。
また、長尺基材１１の素材は、樹脂に限定されず、アルミ等の金属であってもよい。
【００４８】
また、長尺基材１１の位置補正の際、位置センサ２１，２２で長尺基材１１のエッジを検出する代わりに、長尺基材１１に予め付与したマークを検出する方法を採用してもよい。
また、ニップローラ９，１０とテンター手段３１とを併用してもよい。
【００４９】
また、ロールツーロール方式でキャンローラを用いる場合、キャンローラの前後で長尺基材を搬送ローラとニップローラで挟持固定し、長尺基材をキャンローラから浮かせることで張力を低下させるようにしてもよい。
その他、各部や各手段の具体的な構成について、本発明の主旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。
【符号の説明】
【００５０】
１      巻取りロール
２      巻出しロール
３      搬送ローラ
４      搬送ローラ（張力低下手段）
５      搬送ローラ（張力維持手段、位置補正手段）
６      搬送ローラ（張力維持手段、位置補正手段）
７      搬送ローラ（張力低下手段）
８      搬送ローラ
９，１０  ニップローラ（張力維持手段、位置補正手段）
１１    長尺基材
１２    第１電極
１３    有機層
１４    第２電極
２１，２２    位置センサ
３１    テンター手段（張力維持手段、位置補正手段）
４１    有機ＥＬ素子
１００  長尺基材搬送装置
【図１】
2014058389.tif 000003
【図２】
2014058389.tif 000004
【図３】
2014058389.tif 000005
【図４】
2014058389.tif 000006
【図５】
2014058389.tif 000007
【図６】
2014058389.tif 000008
【図７】
2014058389.tif 000009
【図８】
2014058389.tif 000010