(57)【要約】【課題】細孔の間隔が比較的大きいモールドを製造する場合であっても、特殊な装置を用いることなくモールドを簡便に製造できる方法、および該モールドの微細凹凸構造が転写された、凹凸の間隔が比較的大きい微細凹凸構造を表面に有する成形体を提供する。【解決手段】リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用い、８０〜１８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材１０を陽極酸化し、アルミニウム基材１０の表面に複数の細孔１２を有する酸化皮膜１４を形成する工程（ａ）を有するモールド１８の製造方法；モールド１８の表面に形成された複数の細孔１２からなる微細凹凸構造が転写された成形体。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたモールドを製造する方法であって、
下記の工程（ａ）を有する、モールドの製造方法。
工程（ａ）：リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用い、８０〜１８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材を陽極酸化し、該アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
【請求項２】
下記の工程（ｂ）〜（ｅ）をさらに有する、請求項１に記載のモールドの製造方法。
工程（ｂ）：前記工程（ａ）で形成された前記酸化皮膜の一部または全部を除去する工程。
工程（ｃ）：前記工程（ｂ）または下記工程（ｄ）の後、リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用い、８０〜１８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材を再び陽極酸化して、複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する、または該酸化皮膜を成長させる工程。
工程（ｄ）：前記工程（ｃ）の後、前記工程（ｃ）で形成された酸化皮膜の一部を除去し、細孔の孔径を拡大する工程。
工程（ｅ）：前記工程（ｃ）と前記工程（ｄ）とを交互に繰り返す工程。
【請求項３】
請求項１または２に記載のモールドの製造方法で得られたモールドの表面に形成された複数の細孔からなる微細凹凸構造が転写された、微細凹凸構造を表面に有する成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の細孔からなる微細凹凸構造を表面に有するモールドの製造方法、および該モールドの微細凹凸構造が転写された、微細凹凸構造を表面に有する成形体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、微細加工技術の進歩によって、成形体の表面にナノスケールの微細凹凸構造を付与することが可能となった。ナノスケールの微細凹凸構造は、例えばモスアイ効果と呼ばれる反射防止機能や、ロータス効果と呼ばれる撥水機能のように、構造由来の機能が発現することから、ナノスケールの微細凹凸構造の産業上の利用（有機ＥＬ素子の光取り出し効率の向上、画像表示装置の反射防止、画像表示装置の画像鮮明性の向上、種々の部材の撥水材等）が盛んに図られている。
【０００３】
成形体の表面に微細凹凸構造を付与する技術は様々である。これらのうち、モールドの表面に形成された微細凹凸構造を、成形体本体の表面に転写する方法は、簡便かつ少ない工程で成形体の表面に微細凹凸構造を付与できるため、工業生産に適している。近年、微細凹凸構造を表面に有する大面積のモールドを簡便に製造する方法として、アルミニウム基材を陽極酸化することによって複数の細孔を有する酸化皮膜（陽極酸化ポーラスアルミナ）を形成する方法が注目されている（例えば、特許文献１、２参照）。
【０００４】
陽極酸化を利用してモールドを製造する場合、モールドに好適な細孔の深さと規則的な配列とを両立するために、陽極酸化を二段階に分けて実施する方法（以下、本明細書中では「二段酸化法」とも記す。）が適している。すなわち、下記の工程（１）〜工程（３）を順次行い、モールドに好適な細孔を得る。
工程（１）：アルミニウム基材の表面を陽極酸化し、細孔の深さを無視して細孔を規則的に配列させる工程。
工程（２）：工程（１）で形成された酸化皮膜の一部または全部を除去する工程。
工程（３）：工程（２）の後、アルミニウム基材を再び陽極酸化して、規則的な配列を保ったまま任意の深さの細孔を形成する工程。
【０００５】
酸化皮膜の細孔の間隔（ピッチ）は、陽極酸化時の印加電圧に概ね比例して大きくなることが知られている。例えば、特許文献１においては、４０Ｖの定電圧にてアルミニウム基材を陽極酸化することによって、細孔の間隔が１００ｎｍの酸化皮膜を形成している。特許文献２においては、８０Ｖの定電圧にてアルミニウム基材を陽極酸化することによって、細孔の間隔が２００ｎｍの酸化皮膜を形成している。
このように、アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたものをモールドとして利用する場合、陽極酸化の条件によって細孔の形状や間隔を制御できるという利点もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４６５８１２９号公報
【特許文献２】特許第４３６８４１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、細孔の間隔が比較的大きい（１５０ｎｍを超える）酸化皮膜を簡便に形成することは容易ではない。印加電圧を高めて細孔の間隔が大きい酸化皮膜を形成しようとすると、「熱暴走」や「ヤケ」と呼ばれる現象が発生し、複数の細孔からなる微細凹凸構造が破壊されてしまう。
【０００８】
特許文献２においては、濃度０．０５モル／Ｌ、温度３℃のシュウ酸水溶液からなる電解液を用い、８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材を陽極酸化して細孔の間隔が約２００ｎｍの酸化皮膜を形成している。しかし、特許文献２においては、電解液を３℃の低温に維持する特殊な装置が必要であり、経済的ではない。
【０００９】
画像表示装置における反射防止部材、有機ＥＬ素子における光取り出し部材等においては、対象とする光の波長、各部材の微細凹凸構造の機械的特性等を鑑みて、凹凸の間隔が比較的大きい微細凹凸構造を形成することが好ましい場合がある。しかし、上述したように、細孔の間隔が比較的大きい酸化皮膜が形成されたモールドを簡便かつ安価に製造することは困難である。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、細孔の間隔が比較的大きいモールドを製造する場合であっても、特殊な装置を用いることなくモールドを簡便に製造できる方法、および該モールドの微細凹凸構造が転写された、凹凸の間隔が比較的大きい微細凹凸構造を表面に有する成形体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは鋭意検討した結果、特定の電解液を用いることによって、特殊な装置を用いることなく、高電圧にてアルミニウム基材を安定して陽極酸化できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明のモールドの製造方法は、アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたモールドを製造する方法であって、下記の工程（ａ）を有することを特徴とする。
工程（ａ）：リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用い、８０〜１８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材を陽極酸化し、該アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
【００１３】
本発明のモールドの製造方法は、下記の工程（ｂ）〜（ｅ）をさらに有することが好ましい。
工程（ｂ）：前記工程（ａ）で形成された前記酸化皮膜の一部または全部を除去する工程。
工程（ｃ）：前記工程（ｂ）または下記工程（ｄ）の後、リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用い、８０〜１８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材を再び陽極酸化して、複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する、または該酸化皮膜を成長させる工程。
工程（ｄ）：前記工程（ｃ）の後、前記工程（ｃ）で形成された酸化皮膜の一部を除去し、細孔の孔径を拡大する工程。
工程（ｅ）：前記工程（ｃ）と前記工程（ｄ）とを交互に繰り返す工程。
【００１４】
本発明の微細凹凸構造を表面に有する成形体は、本発明のモールドの製造方法で得られたモールドの表面に形成された複数の細孔からなる微細凹凸構造が転写されたものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のモールドの製造方法によれば、細孔の間隔が比較的大きいモールドを製造する場合であっても、特殊な装置を用いることなく簡便にモールドを製造できる。
本発明の微細凹凸構造を表面に有する成形体は、凹凸の間隔が比較的大きい微細凹凸構造を表面に有する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたモールドの製造工程を示す断面図である。
【図２】微細凹凸構造を表面に有する成形体の製造装置の一例を示す構成図である。
【図３】微細凹凸構造を表面に有する成形体の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本明細書において、「細孔」とは、アルミニウム基材の表面の酸化皮膜に形成された微細凹凸構造の凹部のことをいう。
また、「細孔の間隔」は、隣接する細孔同士の中心間距離を意味する。
また、「突起」とは、成形体の表面に形成された微細凹凸構造の凸部のことをいう。
また、「微細凹凸構造」は、凸部または凹部の平均間隔がナノスケールであるの構造を意味する。
また、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの総称である。
また、「活性エネルギー線」は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。
【００１８】
［モールドの製造方法］
本発明のモールドの製造方法は、下記の工程（ａ）を有する方法である。モールドに好適な細孔の深さと規則的な配列とを両立する点からは、工程（ａ）の後に、下記の工程（ｂ）〜工程（ｅ）をさらに有することが好ましい。
【００１９】
工程（ａ）：リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用い、８０〜１８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材を陽極酸化し、該アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
工程（ｂ）：前記工程（ａ）で形成された前記酸化皮膜の一部または全部を除去する工程。
工程（ｃ）：前記工程（ｂ）または下記工程（ｄ）の後、リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用い、８０〜１８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材を再び陽極酸化して、複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する、または該酸化皮膜を成長させる工程。
工程（ｄ）：前記工程（ｃ）の後、酸化皮膜の一部を除去し、細孔の孔径を拡大する工程。
工程（ｅ）：前記工程（ｃ）と前記工程（ｄ）とを交互に繰り返す工程。
以下、各工程について詳細に説明する。
【００２０】
＜工程（ａ）＞
工程（ａ）は、リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用い、８０〜１８０Ｖの電圧にてアルミニウム基材を陽極酸化し、該アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜（陽極酸化ポーラスアルミナ）を形成する第一の酸化皮膜形成工程である。
具体的には、電解液中で陽極と陰極との間に所定電圧の電流を流して陽極であるアルミニウム基材を陽極酸化する。
工程（ａ）を行うと、例えば図１に示すように、アルミニウム基材１０の表面に複数の細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成される。
【００２１】
アルミニウム基材の表面の一部または全部を電解液に浸漬して陽極酸化することによって、電解液に浸漬した部分に酸化皮膜を形成できる。陽極酸化の初期に形成される酸化皮膜は、細孔の位置や大きさが不均一で規則性は皆無であるが、酸化皮膜が厚くなるとともに、徐々に細孔の配列の規則性が増していく。
【００２２】
アルミニウム基材の形状は、特に限定されず、板状、円柱状、円筒状等、モールドとして使用可能な形状であればどのような形状であってもよい。
アルミニウム基材としては、公知の研磨方法（機械研磨、羽布研磨、化学研磨、電解研磨等）によって表面が研磨され、少なくとも陽極酸化する部分が鏡面化されたものが好ましい。
【００２３】
アルミニウム基材の純度は、９９．０質量％超が好ましく、９９．５質量％以上がより好ましく、９９．９質量％以上がもっとも好ましい。アルミニウム基材の純度が９９．０質量％超であれば、モールドの製造過程において、不純物の金属間化合物が脱落して発生するマクロな凹凸が多くなりすぎない。
【００２４】
アルミニウム基材の平均結晶粒径は、１００μｍ以下が好ましく、８０μｍ以下がより好ましく、１〜６０μｍがさらに好ましい。平均結晶粒径が１００μｍを超えると、二段酸化法を採用した場合に、第一の酸化皮膜を除去した際に生じるマクロな凹凸構造が視認されやすくなり、モールドとしての使用に制限が生じる場合がある。
アルミニウム基材の平均結晶粒径は、アルミニウム基材の被加工面における任意に選ばれた１００個以上の結晶粒について算出された円換算直径の平均値である。被加工面の結晶粒の観察は光学顕微鏡等で行うことができ、円換算直径の平均値は、例えば日本ローパー社製の「Ｉｍａｇｅ−Ｐｒｏ  ＰＬＵＳ」等の画像解析ソフトウエアを用いることで求められる。
【００２５】
電解液としては、リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用いる。具体的には、リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を溶解した水溶液が挙げられる。これらの酸は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの酸を用いると、陽極酸化の電解液の酸として従来から用いられてきたシュウ酸や硫酸を用いた場合と比較して、特殊な装置を用いることなく、細孔の間隔が大きい（１５０ｎｍを超える）酸化皮膜を簡便に形成できる。
【００２６】
電解液の濃度は、酸の種類によって好適な範囲が異なるため一概に規定できないが、リン酸水溶液を電解液として用いる場合は、０．０５〜０．４モル／Ｌが好ましい。電解液の濃度が０．０５モル／Ｌ以上であれば、濃度が薄すぎることがなく、酸性電解液として十分に作用でき、平坦な酸化皮膜の形成が抑えられて、多孔質な酸化皮膜を形成しやすい。平坦な酸化皮膜は、微細凹凸構造を転写するモールドとしての役割を果たし得ない。電解液の濃度が０．４モル／Ｌ以下であれば、「ヤケ」と呼ばれる現象が起こりにくく、微細凹凸構造が部分的に破壊されにくい。また、酸化皮膜の形成速度が速くなりすぎず、細孔の深さを調整しやすい。
【００２７】
電解液の温度は、４０℃以下が好ましい。電解液の温度が４０℃以下であれば、陽極酸化により発生するジュール熱の解消が遅くなりにくく、電解液の温度が上がり続ける「熱暴走」が起こりにくい。電解液の温度を所定の範囲に維持できない場合、初期条件が同じでもモールドごとに形成される酸化皮膜にバラツキが生じ、形成される酸化皮膜を精密に制御することが困難となる。電解液の温度の下限値については、電解液を低温で維持する特殊な装置を用いる必要がない点で、６℃以上が好ましい。
【００２８】
工程（ａ）における印加電圧は、８０〜１８０Ｖが好ましく、８５〜１７５Ｖがより好ましく、９０〜１７０Ｖがさらに好ましい。電圧が８０Ｖ以上であれば、細孔の間隔が比較的大きい（１５０ｎｍを超える）酸化皮膜を簡便に形成できる。電圧が１８０Ｖ以下であれば、ヤケと呼ばれる現象が発生し細孔が破壊されてしまうことを抑制できる。
【００２９】
工程（ａ）において形成される酸化皮膜の厚さは、１５μｍ以下が好ましい。酸化皮膜の厚さが１５μｍ以下であれば、後述の工程（ｂ）において酸化皮膜を除去した際に、アルミニウム基材の結晶粒界の段差が視認できるほど大きくなりにくい。結晶粒界の段差が大きいモールドを用いると、結晶粒界の段差も転写されてしまい、視認できるほどのマクロな凹凸が形成され、得られる成形体の外観不良の原因となるおそれがある。
酸化皮膜の厚さは、電解液の濃度、通電時間の合計等の陽極酸化の条件を適宜設定することによって調整される。
【００３０】
工程（ａ）における陽極酸化の条件は、製造設備の能力、電解液の濃度や温度、印加電圧等に大きく左右されるため一概に規定できないが、具体的な一例を以下に示す。
例えば、１５℃に調整した２．６Ｌの０．２モル／Ｌのリン酸水溶液からなる電解液を用い、横幅８ｃｍ、縦幅１．５ｃｍの半月状撹拌翼にて電解液を３５０ｒｐｍで撹拌しながら、１５０Ｖの電圧にて２７ｃｍ２のアルミニウム基材を陽極酸化する場合、特殊な装置を用いることなく「ヤケ」や「熱暴走」を抑制できる。
【００３１】
＜工程（ｂ）＞
工程（ｂ）は、工程（ａ）で形成された酸化皮膜の一部または全部を除去する酸化皮膜除去工程である。
工程（ｂ）を行うと、例えば図１に示すように、酸化皮膜１４の全部が除去され、アルミニウム基材１０の表面に窪み１６が露出する。
【００３２】
酸化皮膜の一部または全部を除去することによって、酸化皮膜の底部のバリア層からなる窪みまたはバリア層の形状に対応した窪みがアルミニウム基材の表面に露出する。工程（ａ）において規則的に配列した細孔を形成することによって、工程（ｂ）において酸化皮膜の一部または全部を除去して形成される窪みも、規則的に配列したものとなる。
【００３３】
酸化皮膜の一部または全部を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、アルミナを選択的に溶解する溶液に浸漬する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。
【００３４】
＜工程（ｃ）＞
工程（ｃ）は、工程（ｂ）または下記工程（ｄ）の後、アルミニウム基材を電解液に浸漬して再び陽極酸化し、複数の細孔を有する酸化皮膜を再び形成する、または該酸化皮膜を成長させる第二の酸化皮膜形成工程である。
工程（ｂ）の後に工程（ｃ）を行うと、例えば図１に示すように、アルミニウム基材１０が陽極酸化されて、複数の細孔１２を有する酸化皮膜１４が再び形成される。
また、工程（ｄ）の後に工程（ｃ）を行うと、既存の酸化皮膜の下に新たな酸化皮膜が形成され、既存の細孔の底部から下方に延びる新たな細孔が形成される。
【００３５】
アルミニウム基材の表面にバリア層に由来する窪みが形成された状態で再び陽極酸化すると、窪みが細孔発生点として作用し、新たな酸化皮膜の細孔は、窪みに対応した位置に発生する。特に、窪みが規則的に配列している場合、陽極酸化の初期、すなわち新たに形成される酸化皮膜が薄い状態であっても、規則的に配列した細孔が形成され、サブミクロンオーダーで細孔の深さを調整できる。
【００３６】
電解液としては、リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を含む電解液を用いる。具体的には、リン酸、マロン酸およびリンゴ酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸を溶解した水溶液が挙げられる。これらの酸は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの酸を用いると、陽極酸化の電解液の酸として従来から用いられてきたシュウ酸や硫酸を用いた場合と比較して、特殊な装置を用いることなく、細孔の間隔が大きい（１５０ｎｍを超える）酸化皮膜を簡便に形成できる。
【００３７】
電解液の濃度は、酸の種類によって好適な範囲が異なるため一概に規定できないが、リン酸水溶液を電解液として用いる場合は、０．０５〜０．４モル／Ｌが好ましい。電解液の濃度が０．０５モル／Ｌ以上であれば、濃度が薄すぎることがなく、酸性電解液として十分に作用でき、平坦な酸化皮膜の形成が抑えられて、多孔質な酸化皮膜を形成しやすい。平坦な酸化皮膜は、微細凹凸構造を転写するモールドとしての役割を果たし得ない。電解液の濃度が０．４モル／Ｌ以下であれば、酸化皮膜の形成速度が速くなりすぎず、細孔の深さを調整しやすい。
【００３８】
電解液の温度は、２５℃以下が好ましく、１７℃以下がより好ましい。電解液の温度が２５℃以下であれば、酸化皮膜の形成速度が速くなりすぎず、細孔の深さを調整しやすい。電解液の温度の下限値については、電解液を低温で維持する特殊な装置を用いる必要がない点で、６℃以上が好ましい。
【００３９】
工程（ｃ）における印加電圧は、８０〜１８０Ｖが好ましく、８５〜１７５Ｖがより好ましく、９０〜１７０Ｖがさらに好ましい。電圧が８０Ｖ以上であれば、細孔の間隔が比較的大きい（１５０ｎｍを超える）酸化皮膜を簡便に形成できる。電圧が１８０Ｖ以下であれば、ヤケと呼ばれる現象が発生し細孔が破壊されてしまうことを抑制できる。工程（ｃ）における印加電圧は、工程（ａ）における印加電圧と同じことが好ましいが、種々に変更しても構わない。
【００４０】
工程（ｃ）における通電時間は、３〜６０秒が好ましい。通電時間が３秒以上であれば、最終的に得られる酸化皮膜の厚さを後述する０．０１μｍ以上にしやすい。厚さが０．０１μｍ未満の酸化皮膜では、細孔の深さも０．０１μｍに満たず、モールドとして用いた場合、得られる成形体が十分な反射防止性能を示さないおそれがある。通電時間が６０秒以下であれば、最終的に得られる酸化皮膜の厚さを後述する０．８μｍ以下にしやすい。厚さが０．８μｍ超の酸化皮膜では、酸化皮膜が厚くなる分だけ細孔も深くなるため、モールドとして用いた場合、離型不良を起こしやすくなるおそれがある。
【００４１】
工程（ｃ）における電圧以外の陽極酸化の条件（電解液の種類、濃度、温度等）は、必ずしも工程（ａ）と一致させる必要はなく、酸化皮膜の厚さを調整しやすい条件に適宜変更してもよい。
【００４２】
＜工程（ｄ）＞
工程（ｄ）は、工程（ｃ）の後、酸化皮膜の一部を除去して、細孔の孔径を拡大する孔径拡大処理工程である。
工程（ｃ）の後に工程（ｄ）を行うと、例えば図１に示すように、工程（ｃ）によって形成された酸化皮膜１４の一部が除去されて、細孔１２の孔径が拡大する。
【００４３】
孔径拡大処理の具体的方法としては、アルミナを溶解する溶液に浸漬して、酸化皮膜に形成されている細孔をエッチングにより拡大させる方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、５．０質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。浸漬する時間を長くするほど、細孔の孔径は大きくなる。
【００４４】
＜工程（ｅ）＞
工程（ｅ）は、工程（ｃ）と工程（ｄ）とを交互に繰り返して細孔の深さと形状を調整する繰り返し工程である。
工程（ｃ）と工程（ｄ）とを交互に繰り返すことによって、例えば図１に示すように、細孔１２の形状を開口部から深さ方向に徐々に径が縮小するテーパー形状にでき、その結果、周期的な複数の細孔１２からなる酸化皮膜１４が表面に形成されたモールド１８を得ることができる。
【００４５】
工程（ｃ）および工程（ｄ）の条件、例えば、陽極酸化の電解液濃度や通電時間、孔径拡大処理の時間、孔径拡大処理に利用する溶液の温度や濃度を適宜設定することによって、様々な形状の細孔を形成する酸化皮膜を形成できる。モールドを用いて製造される成形体の用途等に応じて、これら条件を適宜設定すればよい。
【００４６】
工程（ｃ）の回数は、回数が多いほど滑らかなテーパー形状にすることができる点から、工程（ｅ）の前に行った工程（ｃ）も含めて少なくとも３回が好ましい。同じく、工程（ｄ）の回数も、回数が多いほど滑らかなテーパー形状にすることができる点から、工程（ｅ）の前に行った工程（ｄ）も含めて少なくとも３回が好ましい。なお、細孔を滑らかなテーパー形状とする必要がない場合、それぞれの回数は２回以下であっても構わない。
工程（ｅ）は、工程（ｃ）で終了してもよく、工程（ｄ）で終了してもよい。
【００４７】
工程（ｃ）における陽極酸化を長時間施すほど深い細孔を得ることができるが、微細凹凸構造を転写するためのモールドとして用いる場合、工程（ｅ）を経て最終的に得られる酸化皮膜の厚さは、０．０１〜０．８μｍ程度でよい。
【００４８】
＜モールド＞
本発明のモールドの製造方法によれば、アルミニウム基材の表面に、開口部から深さ方向に徐々に径が縮小するテーパー形状の細孔が比較的規則的に配列して形成され、その結果、微細凹凸構造を有する酸化皮膜（陽極酸化ポーラスアルミナ）が表面に形成されたモールドを製造できる。
【００４９】
モールドを反射防止部材の製造に用いる場合、細孔の平均間隔は、１５０ｎｍ以上かつ６００ｎｍ以下（すなわち可視光の波長以下）が好ましく、１５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。細孔の平均間隔が１５０ｎｍ以上であれば、モールドの表面の転写によって得られた成形体の反射防止性能が損なわれることなく耐擦傷性能が向上し、かつ突起（凸部）同士の合一に起因する成形体の白化を抑制できる。細孔の平均間隔が６００ｎｍ以下であれば、モールドの表面の転写によって得られた成形体の表面（転写面）において可視光の散乱が起こりにくくなり、十分な反射防止機能が発現するため、反射防止膜等の反射防止部材の製造に適する。
【００５０】
また、モールドを反射防止部材の製造に用いる場合、細孔の平均間隔が６００ｎｍ以下であるとともに、細孔の深さが１００ｎｍ以上であることが好ましく、１５０ｎｍ以上であることがより好ましい。細孔の深さが１００ｎｍ以上のモールドを用いた場合、反射防止部材の反射防止性能が十分に高くなる。
【００５１】
また、モールドを反射防止部材の製造に用いる場合、細孔のアスペクト比（＝深さ／平均間隔）は、０．５以上が好ましく、１以上がもっとも好ましい。アスペクト比が０．５以上であれば、反射率が低い表面を形成でき、その入射角依存性も十分に小さくなる。
【００５２】
モールドを有機ＥＬ素子の光取り出し部材の製造に用いる場合、細孔の平均間隔は、有機ＥＬ素子に閉じ込められた光の各モードの実効波長に等しくなることがもっとも好ましい。実効波長に等しい場合、その実効波長を持つモードを効率的に外部へ出射させることが可能となる。より具体的には、例えば有機ＥＬ素子から可視光線を取り出したい場合、細孔の平均間隔は可視光線の波長域と同様の約４００〜８３０ｎｍとすることが好ましい。また、緑色の光を効率的に取り出したい場合、細孔の平均間隔は緑色の波長である４９０〜５７５ｎｍ程度とすることが好ましい。
【００５３】
また、モールドを有機ＥＬ素子の光取り出し部材の製造に用いる場合、細孔のアスペクト比は、０．１〜２が好ましい。アスペクト比が０．１以上であれば、光取り出し効率が十分に高くなる。有機ＥＬ素子の光取り出し部材の表面には、スパッタリング、蒸着、コーティング等の方法によって均一な金属薄膜等を形成する場合がある。細孔のアスペクト比が２以下であれば、表面に均一な金属薄膜等を形成しやすい。
【００５４】
モールドの微細凹凸構造が形成された表面は、離型が容易になるように、離型処理が施されていてもよい。離型処理の方法としては、例えば、リン酸エステル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、フッ素ポリマーをコーティングする方法、フッ素化合物を蒸着する方法、フッ素系表面処理剤またはフッ素シリコーン系表面処理剤をコーティングする方法等が挙げられる。
【００５５】
＜作用効果＞
以上説明した本発明のモールドの製造方法にあっては、特定の電解液を用いてアルミニウム基材を陽極酸化して酸化皮膜を形成するため、細孔の間隔が比較的大きい（例えば１５０ｎｍ以上の）モールドを製造するために高電圧（８０Ｖ以上）を印加しても、「ヤケ」や「熱暴走」を抑制できる。したがって、本発明の製造方法によれば、細孔の間隔が比較的大きいモールドを製造する場合であっても、特殊な装置を用いずに簡便にモールドを製造できる。
【００５６】
［成形体］
本発明の微細凹凸構造を表面に有する成形体（以下、単に「成形体」とも記す。）は、本発明のモールドの製造方法で得られたモールドの表面に形成された複数の細孔からなる微細凹凸構造が転写されたものである。
本発明の成形体は、例えばモールドの微細凹凸構造を成形体本体の表面に転写することで製造できる。
モールドの微細凹凸構造（細孔）を転写して製造された成形体は、その表面にモールドの微細凹凸構造の反転構造（凸部）が、鍵と鍵穴の関係で転写される。
【００５７】
モールドの微細凹凸構造を成形体本体の表面に転写する方法としては、例えば、モールドと透明基材（成形体本体）の間に未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填し、モールドの微細凹凸構造に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が接触した状態で、活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させた後にモールドを離型する方法が好ましい。これによって、透明基材の表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸構造が形成された成形体を製造できる。得られた成形体の微細凹凸構造は、モールドの微細凹凸構造の反転構造となる。
【００５８】
＜成形体本体＞
透明基材としては、活性エネルギー線の照射を、該透明基材を介して行うため、活性エネルギー線の照射を著しく阻害しないものが好ましい。透明基材の材料としては、例えば、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等）、ポリメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂、スチレン樹脂、ガラス等が挙げられる。
【００５９】
＜活性エネルギー線硬化性樹脂組成物＞
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いる方法は、熱硬化性樹脂組成物を用いる方法に比べて加熱や硬化後の冷却を必要としないため、短時間で微細凹凸構造を転写することができ、量産に好適である。
【００６０】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の充填方法としては、モールドと透明基材の間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給した後に圧延して充填する方法、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布したモールド上に透明基材をラミネートする方法、あらかじめ透明基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布してモールドにラミネートする方法等が挙げられる。
【００６１】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合反応性化合物と、活性エネルギー線重合開始剤とを含有する。上記の他に、用途に応じて非反応性のポリマーや活性エネルギー線ゾルゲル反応性成分が含まれていてもよく、増粘剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、溶剤、無機フィラー等の各種添加剤が含まれていてもよい。
【００６２】
重合反応性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
【００６３】
ラジカル重合性結合を有する単官能モノマーとしては、（メタ）アクリレート誘導体（メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等）、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル、スチレン誘導体（スチレン、α−メチルスチレン等）、（メタ）アクリルアミド誘導体（（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等）等が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６４】
ラジカル重合性結合を有する多官能モノマーとしては、二官能性モノマー（エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等）、三官能モノマー（ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート等）、四官能以上のモノマー（コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等）、二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６５】
カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。
【００６６】
分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するオリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。
【００６７】
活性エネルギー線重合開始剤としては、公知の重合開始剤を用いることができ、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させる際に用いる活性エネルギー線の種類に応じて適宜選択することが好ましい。
【００６８】
光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、カルボニル化合物（ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等）、硫黄化合物（テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等）、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６９】
電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、チオキサントン（２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等）、アセトフェノン（ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等）、ベンゾインエーテル（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等）、アシルホスフィンオキサイド（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等）、メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７０】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における活性エネルギー線重合開始剤の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。活性エネルギー線重合開始剤が０．１質量部以上であれば、重合が進行しやすい。活性エネルギー線重合開始剤が１０質量部以下であれば、硬化樹脂が着色したり、機械強度が低下したりしにくい。
【００７１】
非反応性のポリマーとしては、アクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、例えば、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
【００７２】
アルコキシシラン化合物としては、ＲｘＳｉ（ＯＲ’）ｙで表されるものが挙げられる。ＲおよびＲ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｘおよびｙはｘ＋ｙ＝４の関係を満たす整数である。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。
【００７３】
アルキルシリケート化合物としては、Ｒ１Ｏ［Ｓｉ（ＯＲ３）（ＯＲ４）Ｏ］ｚＲ２で表されるものが挙げられる。Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を表し、ｚは３〜２０の整数を表す。具体的にはメチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｎ−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。
【００７４】
＜製造装置＞
本発明の成形体は、例えば、図２に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
微細凹凸構造（図示略）を表面に有するロール状モールド２０と、ロール状モールド２０の表面に沿って移動する帯状のフィルム４２（透明基材）との間に、タンク２２から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３８を供給する。
【００７５】
ロール状モールド２０と、空気圧シリンダ２４によってニップ圧が調整されたニップロール２６との間で、フィルム４２および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３８をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３８を、フィルム４２とロール状モールド２０との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド２０の微細凹凸構造の凹部内に充填する。
【００７６】
ロール状モールド２０の下方に設置された活性エネルギー線照射装置２８から、フィルム４２を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３８に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３８を硬化させることによって、ロール状モールド２０の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４を形成する。
剥離ロール３０により、表面に硬化樹脂層４４が形成されたフィルム４２をロール状モールド２０から剥離することによって、図３に示すような成形体４０を得る。
【００７７】
活性エネルギー線照射装置２８としては、例えば、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
活性エネルギー線の照射量は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化が進行するエネルギー量であればよく、通常、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２程度である。
【００７８】
＜成形体＞
このようにして製造された成形体４０は、図３に示すように、フィルム４２（透明基材）の表面に硬化樹脂層４４が形成されたものである。
硬化樹脂層４４は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる膜であり、微細凹凸構造を表面に有する。
本発明におけるモールドを用いた場合の成形体４０の表面の微細凹凸構造は、酸化皮膜の表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる複数の凸部４６を有する。
【００７９】
微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の突起（凸部）が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
【００８０】
＜用途＞
本発明の成形体は、表面の微細凹凸構造によって、反射防止性能、撥水性能等の種々の性能を発揮する。
本発明の成形体がシート状またはフィルム状の場合には、反射防止膜として、例えば、画像表示装置（テレビ、携帯電話のディスプレイ等）、展示パネル、メーターパネル等の対象物の表面に貼り付けたり、インサート成形したりして用いることができる。また、撥水性能を活かして、風呂場の窓や鏡、太陽電池部材、自動車のミラー、看板、メガネのレンズ等、雨、水、蒸気等にさらされるおそれのある対象物の部材としても用いることができる。
本発明の成形体が立体形状の場合には、用途に応じた形状の透明基材を用いて反射防止部材を製造しておき、これを上記対象物の表面を構成する部材として用いることもできる。
【００８１】
また、対象物が画像表示装置である場合には、その表面に限らず、その前面板に対して、本発明の成形体を貼り付けてもよいし、前面板そのものを、本発明の成形体から構成することもできる。例えば、イメージを読み取るセンサーアレイに取り付けられたロッドレンズアレイの表面、ＦＡＸ、複写機、スキャナ等のイメージセンサーのカバーガラス、複写機の原稿を置くコンタクトガラス等に、本発明の成形体を用いても構わない。また、可視光通信等の光通信機器の光受光部分等に、本発明の成形体を用いることによって、信号の受信感度を向上させることもできる。
【００８２】
本発明の成形体は、有機ＥＬ素子の光取り出し部材として用いることができる。本発明の成形体は、有機ＥＬ素子の最表面に配置されてもよく、屈折率の異なる部材の界面に配置されてもよい。本発明の成形体は、接着等によって有機ＥＬ素子に固定されてもよい。本発明の成形体の表面に、スパッタリング、蒸着、コーティング等によって金属薄膜等を形成したものを光取り出し部材として用いてもよい。
また、本発明の成形体は、上述した用途以外にも、光導波路、レリーフホログラム、光学レンズ、偏光分離素子等の光学用途や、細胞培養シートとしての用途に展開できる。
【００８３】
＜作用効果＞
以上説明した本発明の成形体にあっては、本発明のモールドの製造方法で得られたモールドの表面に形成された複数の細孔からなる微細凹凸構造が転写されたものであるため、突起の間隔が比較的大きい（例えば１５０ｎｍ以上の）微細凹凸構造を表面に有する。また、本発明のモールドの製造方法で得られたモールドを用いることによって、のモールドの微細凹凸構造の反転構造を表面に有する成形体を一工程で簡便に製造できる。
【実施例】
【００８４】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
各種測定、評価は、以下の方法にて行った。
【００８５】
（酸化皮膜の厚さ）
アルミニウム基材の酸化面の一部を切り取って、その縦断面に白金を１分間蒸着し、電解放出型走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製、「ＪＳＭ−７４００Ｆ」）を用いて、加速電圧３．００ｋＶで観察した。断面サンプルを２０００倍に拡大して観察し、観察範囲で酸化皮膜の厚さを測定した。
【００８６】
（モールドの細孔の平均間隔および深さ）
酸化皮膜が表面に形成されたモールドの一部を切り取って、表面に白金を１分間蒸着し、電解放出型走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製、「ＪＳＭ−７４００Ｆ」）を用いて、加速電圧３．００ｋＶで１万倍に拡大して観察した。細孔の平均間隔（ピッチ）は一直線上に並んだ６個の細孔の中心間距離を平均して求めた。
また、モールドの一部を異なる２箇所から切り取って、その縦断面に白金を１分間蒸着し、同じく電解放出型走査電子顕微鏡を用いて加速電圧３．００ｋＶで観察した。各断面サンプルを５万倍に拡大して観察し、観察範囲で１０個の細孔の深さを測定し、平均した。この測定を２点で行い、各観察点の平均値をさらに平均して細孔の平均深さを求めた。
【００８７】
（成形体の突起の平均間隔および高さ）
成形体（フィルム）の表面および縦断面に白金を１０分間蒸着し、電解放出型走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製、「ＪＳＭ−７４００Ｆ」）を用いて、加速電圧３．００ｋＶの条件で成形体の表面および断面を観察した。成形体の表面を１万倍に拡大して観察し、一直線上に並んだ６個の突起（凸部）の中心間距離を平均して突起の平均間隔（ピッチ）を求めた。また、成形体の断面を５万倍で観察し、１０本の突起の高さを平均して突起の平均高さを求めた。
【００８８】
［実施例１］
＜モールドの製造＞
純度９９．９９質量％、平均結晶粒径２００μｍ、厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板を３０ｍｍ×９０ｍｍの大きさに切断し、過塩素酸／エタノール混液（体積比＝１／４）中で電解研磨し、これをアルミニウム基材として用いた。
【００８９】
工程（ａ）：
０．２モル／Ｌのリン酸水溶液を１５℃に調整した。リン酸水溶液にアルミニウム基材を浸漬し、リン酸水溶液を横幅８ｃｍ、縦幅１．５ｃｍの半月状撹拌翼にて３５０ｒｐｍで撹拌しながら、１５０Ｖの定電圧にてアルミニウム基材を１０分間陽極酸化し、厚さ１０μｍの酸化皮膜を形成した。
【００９０】
工程（ｂ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、６質量％のリン酸と１．８質量％クロム酸を混合した７０℃の水溶液中に６時間浸漬して、酸化皮膜を溶解除去し、陽極酸化の細孔発生点となる窪みを露出させた。
【００９１】
工程（ｃ）：
細孔発生点を露出させたアルミニウム基材を、１５℃に調整した０．２モル／Ｌのリン酸水溶液に浸漬し、１５０Ｖの定電圧にて４０秒間陽極酸化して、酸化皮膜をアルミニウム基材の表面に再び形成した。
【００９２】
工程（ｄ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、３２℃に調整した５質量％リン酸水溶液中に１９分間浸漬して、酸化皮膜の細孔を拡大する孔径拡大処理を施した。
【００９３】
工程（ｅ）：
前記工程（ｃ）と前記工程（ｄ）をさらに交互に４回繰り返した。すなわち、工程（ｃ）を合計で５回行い、工程（ｄ）を合計で５回行った。
【００９４】
その後、脱イオン水で洗浄した後、表面の水分をエアーブローで除去し、平均間隔４００ｎｍ、平均深さ約５００ｎｍの略円錐形状の細孔を有する厚さ０．６μｍの酸化皮膜からなるモールドを得た。
【００９５】
このようにして得られたモールドを、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）をデュラサーフＨＤ−ＺＶ（ダイキン工業株式会社製）で０．１質量％に希釈した液に、１０分間浸漬して、一晩風乾することによって離型処理した。
【００９６】
＜成形体の製造＞
離型処理したモールドと、透明基材であるアクリルフィルム（三菱レイヨン株式会社製、「アクリプレン  ＨＢＳ０１０」）との間に、下記の組成の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填して、高圧水銀ランプで積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することによって、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させた。その後、モールドを剥離し、透明基材と硬化組成物の硬化物からなる成形体（フィルム）を得た。
このようにして製造した成形体の表面には微細凹凸構造が形成されており、突起の平均間隔（ピッチ）は４００ｎｍ、突起の平均高さは４８０ｎｍであった。
【００９７】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物：
トリメチロールエタン・アクリル酸・無水コハク酸縮合エステル：４５質量部、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート：４５質量部、
信越化学工業社製ｘ−２２−１６０２（商品名）：１０質量部、
ＢＡＳＦ社製イルガキュア１８４（商品名）：２．７質量部、
ＢＡＳＦ社製イルガキュア８１９（商品名）：０．１８質量部。
【産業上の利用可能性】
【００９８】
本発明のモールドの製造方法は、反射防止部材、防曇性部材、防汚性部材、撥水性部材、有機ＥＬ素子の光取出し部材の効率的な量産にとって有用である。また、本発明の微細凹凸構造を表面に有する成形体は、反射防止部材品、防曇性部材、防汚性部材、撥水性部材、有機ＥＬ素子の光取り出し部材として好適である。
【符号の説明】
【００９９】
１０  アルミニウム基材
１２  細孔
１４  酸化皮膜
１８  モールド
２０  ロール状モールド
４０  成形体
４２  フィルム
４６  凸部
【図１】
2014024240.tif 000003
【図２】
2014024240.tif 000004
【図３】
2014024240.tif 000005