(57)【要約】【課題】  金属ガラスを利用したナノ凹凸パターンを、短時間のサイクルで能率的に製造することを可能にする製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】  基板１上の金属ガラス層３上にナノ凹凸パターンを形成する製造方法であって、基板１上の金属ガラス層３をレーザー照射によって過冷却液体温度域にまで加熱し、金属ガラス層３が当該温度域にある間に、モールド４を用いて当該金属ガラス層３にナノインプリントを施し、それによって上記の微細凹凸パターンを形成する。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の金属ガラス層表面にナノ凹凸パターンを形成する製造方法であって、
レーザー照射によって上記金属ガラス層を過冷却液体温度域にまで加熱し、当該温度域にある金属ガラス層にナノインプリントを施すことによって、上記の凹凸パターンを形成することを特徴とするナノ凹凸パターンの製造方法。
【請求項２】
上記金属ガラス層に対してナノインプリント用モールドを押し付け、その押し付けの圧力が１０ＭＰａ以上となった後に、その圧力を維持しながら上記金属ガラス層にレーザー照射することを特徴とする請求項１に記載したナノ凹凸パターンの製造方法。
【請求項３】
レーザーに対して透明なナノインプリント用モールドを使用し、当該モールドを通して上記金属ガラス層にレーザー照射することを特徴とする請求項１または２に記載したナノ凹凸パターンの製造方法。
【請求項４】
レーザーに対して透明な基板を使用し、当該基板を通して上記金属ガラス層にレーザー照射することを特徴とする請求項１または２に記載したナノ凹凸パターンの製造方法。
【請求項５】
金属ガラス層の直径以上の長さを有するバー状の照射範囲をもつレーザー光を、当該長さと直角の方向にスキャンすることによって、金属ガラス層に対し上記のレーザー照射を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載したナノ凹凸パターンの製造方法。
【請求項６】
波長が８００ｎｍ〜１２００ｎｍのＹＡＧレーザーまたはＹＶＯ４レーザーを上記のレーザー照射に使用することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載したナノ凹凸パターンの製造方法。
【請求項７】
上記金属ガラス層を上記のとおり加熱してナノインプリントを施したうえ過冷却液体温度域を下回る温度にまで冷却するサイクルを、基板１枚につき２分以内で行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載したナノ凹凸パターンの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載したナノ凹凸パターンの製造方法を実施するための装置であって、レーザー照射することによって上記金属ガラス層を過冷却液体温度域にまで加熱するとともに当該金属ガラス層にナノインプリントを施すことを特徴とするナノ凹凸パターンの製造装置。
【請求項９】
基板を固定する手段、モールドを保持して基板上の金属ガラス層に重ねる手段、金属ガラス層に重ねる際のモールドを基板に対して位置合わせする手段、基板上の金属ガラス層にレーザー照射する手段、および、基板とモールドとの間に圧力を加える手段を有することを特徴とする請求項８に記載したナノ凹凸パターンの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属ガラス層表面にナノ凹凸パターンを高効率に形成するための方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
素材表面にナノメートルレベルの凹凸パターンを転写形成するナノインプリント技術は、ＩＴ、バイオ、医療をはじめ、環境、エネルギーに至る幅広い分野で応用が進んでいる。特に、コンピュータの普及にともなって、磁気記録媒体には、情報の高記録密度化が求められている。これは、情報処理量の増大とともに、記録装置の電力消費量削減への対応でもある。近年では、面記録密度が１Ｔｂ／ｉｎ２を超え２Ｔｂ／ｉｎ２に至るような磁気記録媒体についてまで開発の要請があり、ナノインプリント技術には更なる微細化と高効率化が求められている。
【０００３】
このようなナノインプリント技術の応用例として、基板上に金属ガラス層を設け、その金属ガラス層にナノインプリント法によって微細な凹凸パターンを形成し、その凹部内（または凸部上）に磁性体を配設する技術が、磁気記録媒体の製造方法として下記の特許文献１および２に開示されている。表面にナノパターンを形成した非磁性体に微小な磁性体を埋め込み、磁性体を分離する構造のパターンド磁気記録媒体によって、上記のような高密度の記録が可能になるからである。なお、ナノインプリント法とは、ナノ凹凸パターン（凹凸の幅がナノメートルオーダーであるもの）を有するモールド（金型）を基板上の材料に押し付けることによって、材料の表面に凹凸パターンを転写する方法であり、材料加熱による軟化を転写に利用する場合、当該方法は熱ナノインプリント法と呼ばれている。
【０００４】
特許文献１・２によれば、上記の磁気記録媒体は以下のようにして製造する。まず、Ｐｄ（パラジウム）基合金等を金属ガラス層として基板の上に厚さ20nm程度形成しておく。その基板と表面に凹凸パターンを有するモールドとを加熱することによって、金属ガラス層をガラス遷移温度Ｔｇ以上にまで加熱する。ガラス遷移温度Ｔｇ以上・結晶化温度Ｔｘ以下の過冷却液体温度域ΔＴｘの領域では、金属ガラス層は粘性流動状態となり、微細な転写成形が容易になる。その状態で、金属ガラス層にモールドを押し付けることにより、金属ガラス層に微細凹凸パターンを形成する。その後、基板とモールドとを冷却し、金属ガラス層がガラス遷移温度Ｔｇよりも低くなるとモールドの押し付けを解く。そうして形成された凹凸パターンの凹部内（または凸部上）にそれぞれ磁性体を設けることによって、上記のパターンド磁気記録媒体とする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１３０２１０号公報
【特許文献２】特開２０１１−  ３４６４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１・２に記載の熱ナノインプリント法による磁気記録媒体は、記録密度が格段に高いものである。しかし、それらの文献に記載された熱ナノインプリント法は製造効率が低く、ナノ凹凸パターンを短時間で形成することができないため、磁気記録媒体の製造方法として実用的ではない。すなわち、金属ガラス層とモールドの加熱および冷却にかなりの時間を必要とし、金属ガラス層に凹凸パターンを形成する熱ナノインプリントの過程で、基板１枚につき１０分程度を要する。
【０００７】
これらの課題に鑑み、本発明は、金属ガラスを利用したナノ凹凸パターンを、短時間のサイクルで効率的に形成することを可能にする製造方法および製造装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、基板上の金属ガラス層に熱ナノインプリント法によりナノ凹凸パターンを形成せしめる製造方法であって、レーザー照射によって上記金属ガラス層を過冷却液体温度域にまで局所加熱し、当該温度域にある間に当該金属ガラス層にナノインプリントを施すことによって、上記の凹凸パターンを形成することを特徴とする。なお、ここにいうナノ凹凸パターンは、上記した磁気記録媒体のためのものに限らず、燃料電池や太陽電池、光学素子等としても使用できるものをさす。
上記の特許文献１・２等の方法では、抵抗加熱ヒータ等の手段を用いて基板とモールドとを加熱し、それらからの伝導熱によって金属ガラス層を加熱している。しかし、ヒータや基板、モールドには相当の熱容量があるため、金属ガラス層を短時間に加熱してガラス遷移温度Ｔｇ以上にすることは難しい。また、モールドの押し付けを解除する前に金属ガラスをガラス遷移温度Ｔｇ以下に充分冷却することも、やはり基板やモールドの熱容量のために短時間内には行えない。金属ガラス層の加熱および冷却に長時間を要するのは、このような理由によるものである。
それに対し、本発明の製造方法では、金属ガラス層にレーザーを照射して直接にその層を局所加熱するため、加熱に必要な時間を大幅に短縮できる。加熱時間を短縮できるのは、金属ガラスが、樹脂や他の多くの金属と比べてもレーザー光の吸収率が高いこと、金属ガラス層は通常の厚みが１μｍ程度以下であって熱容量が小さいこと、通常の金属の融点よりもかなり低いガラス遷移温度Ｔｇ以上（概ね２５０〜４００℃）まで加熱すれば足りること等が理由である。金属ガラス層の熱容量が小さいうえ、基板やモールドはほとんど温度上昇していないことから、金属ガラス層の冷却も短時間で行える。このように加熱と冷却に要する時間を短縮できることから、本発明によれば、金属ガラス層のナノ凹凸パターンの形成（特にそのナノインプリントの過程）を短時間のサイクルで効率的に行うことが可能である。
【０００９】
本発明については、とくに、上記金属ガラス層に対してナノインプリント用モールドを押し付け、その押し付けの圧力が１０ＭＰａ以上となった後に、その圧力を維持しながら上記金属ガラス層にレーザー照射するのが好ましい。
熱ナノインプリント法によって金属ガラス層に凹凸パターンを形成するためには、ナノインプリント用モールドを金属ガラス層に押し付けることと、金属ガラス層を所定の温度まで加熱することとが必要である。上述のようにレーザー照射によって金属ガラス層の加熱を短時間で行えるようになると、凹凸パターンの形成効率を高めるうえでは、モールドの押し付けに要する時間を短縮することが重要になる。モールドの押し付け等に使用するプレス機構は、駆動部分にモータや流体圧ジャッキを有するが、動作の開始から押し付けの完了まで一般に数十秒かかるため、金属ガラス層の加熱が完了してからモールドの押し付けを開始するのでは、待ち時間が長くなり十分には作業の迅速化が図れない。
その点、上記のように金属ガラス層に対するモールドの押し付けを先に開始し、押し付け圧力がある程度（１０ＭＰａ以上に）上昇した後に、金属ガラス層へのレーザー照射を開始すると、当該金属ガラス層への凹凸パターンの形成を能率的に行える。押し付け圧力はレーザー照射の開始後も低下させず、１５０ＭＰａ程度を超えない範囲に維持しておく。そうすると、金属ガラス層が過冷却液体温度域にまで加熱される時期にちょうど、モールドの押し付け圧力も適度なものとなり、モールドの押し付けに関する待ち時間が効果的に短縮される。
【００１０】
ナノインプリント用モールドとしては、レーザーに対して透明なものを使用し、当該モールドを通して上記金属ガラス層にレーザー照射するとよい。
もし、ナノインプリント用モールドおよび上記の基板がレーザーに対し不透明のものであれば、金属ガラス層へのレーザー照射はモールドを押し付ける前に行わざるを得ない。つまり、前記のように先にモールドを押し付けたうえでレーザー照射を行うことは不可能である。
その点、上のようにレーザーに対して透明なモールドを使用すれば、当該モールドを金属ガラス層に押し付けている間にも、モールドを通して金属ガラス層にレーザー照射を行うことが可能である。またそれにより、金属ガラス層の温度が最も上昇する時期に、同層に対し効率的にモールドによる凹凸パターンの転写を行うことができる。金属ガラス層の加熱とそれへのモールドの押し付けとを同時に行えるので、ナノインプリントのサイクルに要する時間をさらに短縮できるわけである。熱容量が大きく、温度上昇を抑制することも可能なモールドを、レーザー照射の後もしばらく金属ガラス層に接触させておくなどすると、金属ガラス層の冷却時間をさらに短縮することも可能になる。
【００１１】
本発明については、レーザーに対して透明な基板を使用し、モールドを上記金属ガラス層に押し付けている間を含めて、当該基板を通して上記金属ガラス層にレーザー照射することがモールド耐久性の観点から、とくに好ましい。
金属ガラス層を形成した基板がレーザーに対して不透明のものであれば、モールドを透過させてレーザーを金属ガラス層に照射することになるが、ナノ凹凸パターンを有するモールドを繰り返し加熱・冷却することはモールドの耐久性を著しく劣化させる。これに対して基板は、金属ガラス層と一対一に対応するものであって、繰り返し加熱等されることがないため、その耐久性等が問題になることはない。基板の側から金属ガラス層にレーザー照射するなら、加熱・冷却にともなうモールドの消耗が抑制されるわけである。
【００１２】
金属ガラス層の直径以上（または幅寸法以上）の長さを有するバー状の照射範囲をもつレーザー光を、当該長さと直角の方向にスキャンすることによって、金属ガラス層に対し上記のレーザー照射を行うのが有利である。
金属ガラス層に対するレーザー照射は、図３に例示するいずれの方法で行ってもよい。同図の（ａ）は、パワー密度の高い小スポットのレーザー光をいわゆるｘ方向およびｙ方向にスキャンして金属ガラス層の全域を加熱する方法である。（ｂ）は、金属ガラス層の直径以上の長さを有するバー状の照射範囲をもつレーザー光を、当該長さと直角の方向にスキャンするものである。また（ｃ）は、金属ガラス層の全域をカバーする広がりを有するレーザー光を、スキャンさせることなく金属ガラス層に照射するものである。
しかし、発明者らの試験によると、図３（ｂ）に示す上記の方法が最も合理的に加熱を実施できる。（ａ）の例に比べてスキャンの移動距離が短く高速スキャンが不要であるうえ、照射域の部分的な重複が生じないので温度分布が均一な照射が可能であり、しかも、（ｃ）の場合のようには大型のレーザー装置が不要だからである。（ｂ）の場合、レーザーの出力が十分であれば、一方向（片道）に１回照射するだけでガラス層に必要な加熱を行うことも可能となり、さらに能率を向上させられる。
【００１３】
上記のレーザー照射には、波長が８００ｎｍ〜１２００ｎｍのＹＡＧレーザーまたはＹＶＯ４レーザーを使用するのが有利である。
そのようなレーザー光は、金属ガラスにおける吸収率が特に高いうえ、加熱効率が高い点で、上記製造方法において使用するのに適している。比較的低コストで高出力にすることができる点でも好ましい。
【００１４】
上記金属ガラス層を上記の通りレーザー照射で加熱してナノインプリントを施したうえ過冷却液体温度域を下回る温度にまで冷却するサイクルを、基板１枚につき２分以内（従来の抵抗加熱方式の約１／５）で行うこととすると、とくに効果的である。こうした短時間のサイクルを実現するためには、金属ガラス層と接触する上記のモールド等を厳密に温度制御し、またはそれをナノインプリント後に強制的に冷却するための機器を付設して使用することも有意義である。
これにより、金属ガラス層の表面にナノ凹凸パターンを形成する工程は飛躍的に効率化し、特に、ナノ凹凸パターンをパターンド磁気記録媒体に応用した場合、製造効率が改善されると所要コストを下げることも可能になり、当該記録媒体が広く普及する。結果として、情報処理量の増大に対応でき記録装置の電力消費量が削減されるという効果がもたらされる。
【００１５】
上記した製造方法を実施するための装置（ナノ凹凸パターンの製造装置）としては、レーザー照射することによって上記金属ガラス層を過冷却液体温度域にまで加熱するとともに当該金属ガラス層にナノインプリントを施すものを使用する。
そのような装置であれば、上記の製造方法を円滑に実施することができる。金属ガラス層をレーザー照射によって直接に加熱するため、加熱に必要な時間を短縮してナノインプリントの過程を短時間で能率的に行えるからである。
【００１６】
上記の製造装置は、基板を固定する手段、モールドを保持して基板上の金属ガラス層に重ねる手段、金属ガラス層に重ねる際のモールドを基板に対して位置合わせする手段、基板上の金属ガラス層にレーザー照射する手段、および、基板とモールドとの間に圧力を加えて後に両者間を分離する手段を有するものであるのが好ましい。図４に示す装置は、そのような製造装置の一例である。
上記の各手段を有する装置なら、１）基板を固定し、２）その基板に対しモールドの位置を合わせたうえ、３）そのモールドを金属ガラス層に重ね、４）レーザー照射を行って金属ガラス層を適切な温度に加熱し、５）当該加熱と同時または加熱の前後から基板・モールド間に圧力を加え、６）レーザー照射が終了して金属ガラス層が所定温度以下になった時点で基板・モールド間を分離する――といった手順に沿って金属ガラス層に微細凹凸パターンを円滑に形成することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の製造方法および製造装置によれば、基板上の金属ガラス層を直接かつ短時間に加熱でき、その後の冷却も短時間で行えることから、ナノインプリントによって金属ガラス層に微細凹凸パターンを形成するプロセスが迅速に行える。そしてそれにより、金属ガラス層に対する高密度のナノ凹凸パターンの形成能率が向上し、ひいてはコンピュータによる情報処理等を円滑化し省電力化する効果がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】金属ガラス層３を有する磁気記録媒体について製造手順の概要を示す概念図である。
【図２】本発明の方法で金属ガラス層３に熱ナノインプリントを行う手順を示す概念図である。
【図３】レーザー照射方法について三つの選択肢を示す概念図である。
【図４】図２の方法で熱ナノインプリントを行う磁気記録媒体の製造装置についての正面図である。
【図５】ナノ凹凸パターンを形成した金属ガラス層表面の電子顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
例えば、発明によるナノ凹凸パターンを活用した磁気記録媒体の製造手順は、図１（ａ）〜（ｅ）のように示される。すなわち、まず、酸化物ガラス等の非磁性材料でできた基板１の上に、裏打ち層２をはさんで金属ガラス層３を形成する（図１（ａ））。裏打ち層２は磁気記録媒体の製造に必要なものであって、ナノ凹凸パターンを活用した他の工業的用途ではその有無は問わない。金属ガラス層３としては、Ｐｄ（パラジウム）基の金属ガラス（Ｐｄを約４０原子％、Ｃｕを約３０原子％、Ｎｉを約１０原子％、Ｐを約２０原子％含むもの）が好ましいが、Ｐｔ（白金）基金属ガラスやＺｒ（ジルコニウム）基金属ガラス、Ｌａ（ランタン）基金属ガラス等も使用できる。厚さは例えば１０〜１００ｎｍ程度がより好ましい。
そうした金属ガラス層３に対し、図１（ｂ）（ｃ）のようにモールド４を押し付ける熱ナノインプリント法によって、モールド４上の微細凹凸パターンを金属ガラス層３に転写する。モールド４の表面には、たとえば右方の引出し図（顕微鏡写真）に示す微細凹凸パターン（ドット径が約１０ｎｍ）を事前に形成しておき、加熱した金属ガラス層３にそれを押し付けることにより、金属ガラス層３の表面に同様の凹凸パターンを転写する。転写された金属ガラス層３の表面についても、顕微鏡写真を右方の引出し図に示す。
微細凹凸パターンが形成された金属ガラス層３の上に、スパッタ蒸着等の方法によって磁性体の膜５を形成し（図１（ｄ））、さらにその磁性膜５に化学的エッチング等を施す（図１（ｅ））。これにより、微細凹凸パターンの凹部内に微細な磁性体を配設したパターンド磁気記録媒体ができあがる。図示の例では、２Ｔｂ／ｉｎ２相当の記録密度を有するハードディスク用磁気記録媒体を製造できた。
【００２０】
本発明では、図１の（ｂ）および（ｃ）の過程を、たとえば図２（ａ）〜（ｃ）に示す手順によって実施する。すなわち、熱ナノインプリントの際、金属ガラス層３を加熱するためにレーザー照射を行うのである。
まず、上記のモールド４として、石英ガラス等でできた透明（レーザーに対して透明）のものを使用し、そのモールド４の外側（裏側。図示上側）にレーザー照射装置を設けておく。レーザー照射には、金属ガラスの吸収率が高い、波長８００〜１２００ｎｍのＹＡＧレーザーまたはＹＶＯ４レーザーを使用するのが好ましい。そして、金属ガラス層３等を事前に形成された上記の基板１をプレス土台の上に設置したのち、その透明のモールド４を通して金属ガラス層３にレーザー照射を開始する（図２（ａ））。
金属ガラス層３が温度上昇してガラス遷移温度Ｔｇを超えた時点、または当該温度Ｔｇに近くなった時点で、プレス土台を上昇させる等して金属ガラス層３にモールド４の凹凸面を押し付ける（図２（ｂ））。押し付け力は、面積２．５ｉｎ２あたり２０トンで、押し付けの量（深さ）は１０ｎｍ程度である。なお、この押し付けの間にレーザー照射を継続してもよいが、すでに金属ガラス層３が上記温度Ｔｇを超えておれば照射を終了してもよい。いずれにしても、金属ガラス層３が上記温度Ｔｇ以上であって過冷却液体温度域にある間にモールド４による転写を行うべきである。
上に示した図２（ａ）（ｂ）の過程は、金属ガラス層３に対してモールド４の凹凸面を先に押し付け、その押し付けの圧力が１０ＭＰａ程度以上（たとえば３０ＭＰａ）となった後に、その押し付けを解除しないまま（またはさらに押し付け圧力を増しながら）、モールド４を通して金属ガラス層３にレーザー照射する、との手順で行うのもよい。そのようにすると、モールド４の押し付けに必要な待ち時間が短縮され、熱ナノインプリントの能率をさらに高めることができる。
レーザー照射を停止したのち、金属ガラス層３の温度が上記温度Ｔｇ以下に下がると、モールド４を金属ガラス層３から引き離す（図２（ｃ））。
以上のような方法によって、金属ガラス層３の熱ナノインプリント、すなわち加熱・加圧・冷却のサイクルを、合計２分以内で行うことが可能になった。加熱・冷却の所要時間をそれぞれ１０秒程度にすることもできる。例えばモールド４やプレス土台に冷却媒体を通すように構成すれば、冷却時間を短縮するうえで有利である。
【００２１】
図３には、金属ガラス層３に対するレーザー照射について三つの態様を例示している。図３（ａ）は、パワー密度の高い小スポットのレーザー光Ｌをいわゆるｘ方向およびｙ方向にスキャンして金属ガラス層３の全域を加熱するものである。図３（ｂ）は、金属ガラス層３の直径以上の長さを有するバー状の照射範囲をもつレーザー光Ｌを、当該長さと直角の方向にスキャンするもの。また図３（ｃ）は、金属ガラス層３の全域をカバーする広がりを有するレーザー光Ｌを、スキャンさせることなく金属ガラス層に照射する例である。いずれによっても金属ガラス層３の加熱を行えるが、図２等の例では、図３（ｂ）に示す態様を合理的であるとして採用している。レーザーの出力を十分高くすると、一方向（片道）に１回照射するだけでガラス層に必要な加熱を行うことも可能となる。
なお、このようなレーザー照射では、金属ガラス層３の全域を同時にガラス遷移温度Ｔｇ以上に加熱することはできない。しかし、金属ガラス層３の直下にクッション性のある裏打ち層２があるため、全域に対して熱ナノインプリントは円滑に実施される。
【００２２】
図４の製造装置１０は、図２に示す手順によって基板１上の金属ガラス層３に熱ナノインプリントを行う、ナノ凹凸パターンの製造装置である。レーザー照射することによって図２の金属ガラス層３を過冷却液体温度域にまで加熱するとともに当該金属ガラス層３にモールド４を押し付けて、その微細凹凸パターンを転写する。
【００２３】
図４に示す製造装置１０は、金属製のフレーム上につぎのような機構部分を取り付けたものである。すなわち、
プレス機構１１：  モールド４を金属ガラス層３に押し付け、その後に引き離すためのもので、上部が鉛直方向上向きに上昇し、かつ下降するようにしている。
基板１の固定機構１２：  プレス手段１１の上部に設けたもので、金属ガラス層３等を有する上記の基板１を固定することができる。
モールド４の保持機構１３：  モールド４を保持して基板１上の金属ガラス層３に重ねるクランプ手段１４を含み、当該クランプ手段１４とともにモールド４を移動させてその位置を基板１の位置に合わせるものである。固定機構１２とともに、プレス手段１１によって上昇・下降する。
ＣＣＤカメラによる撮像機構１５：  上記保持機構１３によるモールド４の位置合わせのために、モールド４と基板１とを撮像する手段である。カメラの位置を調整する手段１６を有している。
加圧用の支持機構１７：  プレス機構１１によって基板１とモールド４とが押し上げられるとき、それらが押し付けられる対象となる固定部材である。また、支持機構１７の上にレーザー照射手段１８を設けており、その照射のために支持機構１７の中央部はレーザーに対して透明な材料で構成している。
【００２４】
こうした製造装置１０は、つぎのように使用する。すなわち、
1)  基板１をプレス機構１１上の固定機構１２に固定し、
2)  保持機構１３によってモールド４を保持し、撮像機構１５を用いて基板１にモールド４を位置合わせして金属ガラス層３に重ねたうえ、
3)  レーザー照射手段１８にてレーザー照射を行い、金属ガラス層３を加熱し、
4)  当該加熱の後または加熱中に、プレス機構１１を用いて基板１・モールド４間に圧力を加え、
5)  レーザー照射が終了して金属ガラス層３が冷却された時点で、プレス機構１１を戻して基板１・モールド４間を分離する。その後、微細凹凸パターンが形成された金属ガラス層３を含む基板１を回収する。
そのような手順で装置１０を使用することにより、金属ガラス層３に微細凹凸パターンが形成された基板１を、円滑かつ迅速に製造することができる。
なお、上記の手順3)・4)を逆の順序で連続的に進めるのも能率的で好ましいことは、図２（ａ）（ｂ）に関連して前記したとおりである。
【００２５】
以上の方法・装置によって微細凹凸パターンを形成した金属ガラス層表面の電子顕微鏡写真を図５に示す。図示の例は、金属ガラスへのレーザー照射を図３（ｃ）の態様で行ったもので、インプリントの条件は下記のとおりである。
・  直径１０ｍｍの円状レーザ（Ｑ−ＳＷ，１ｋＨｚ）を使用
・  一括照射、照射時間：２ｍｉｎ
・  照射電流：２０Ａ
・  荷重：１ｋＮ → １２５ＭＰａ
・  真空雰囲気で実施
【００２６】
金属ガラス層３にレーザー照射を行うために、上記ではモールド４として透明なものを使用したが、それに代えて各基板１を透明（レーザーに対して透明）なものとするのも有意義である。その場合、レーザー照射手段１８を基板１の側（図４の下方、たとえばプレス機構１１の内部）に設けるのがよい。そうすることにより基板１を通して金属ガラス層３にレーザー照射をするなら、加熱・冷却にともなうモールドの消耗が抑制されるため、モールドの耐久性の点でとくに有利である。なお、モールド４と基板１との双方を透明なものとし、双方を通して金属ガラス層３にレーザー照射するなら、金属ガラス層３の加熱に要する時間をさらに短縮できる。
【符号の説明】
【００２７】
１  基板
３  金属ガラス層
４  モールド
１０  製造装置
１１  プレス機構
１８  レーザー照射手段
Ｌ  レーザー光
【図４】
2014086100.tif 000003
【図１】
2014086100.tif 000004
【図２】
2014086100.tif 000005
【図３】
2014086100.tif 000006
【図５】
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