(57)【要約】【課題】サングラス等の偏光フィルムを介して画像表示装置を視認した際の干渉色（即ち、虹斑）による視認性の低下を改善する透明導電性フィルムを提供する【解決手段】  透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明プラスチックフィルム基材のリタデーションが３０００ｎｍ〜３００００ｎｍであることを特徴とする透明導電性フィルム。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明プラスチックフィルム基材のリタデーションが３０００ｎｍ〜３００００ｎｍであることを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２】
前記透明導電膜が、酸化インジウムからなり、前記酸化インジウムの結晶粒径は３０〜１０００ｎｍであり、かつ透明導電膜の結晶質部に対する非晶質部の比が０．００〜０．５０であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
透明導電膜が、さらに、酸化スズを０．５〜８質量％含むことを特徴とする請求項２に記載の透明導電性フィルム。
【請求項４】
透明導電膜の厚みが、１０〜１００ｎｍである請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜式タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明プラスチックフィルム基材上に透明導電膜を積層した透明導電性フィルム、特に屋外などで使用されるタッチパネルに用いた際にサングラス越しでも視認性に優れる透明導電性フィルムおよび抵抗膜式タッチパネルに関するものである。特にペン入力用抵抗膜式タッチパネルに用いた際にペン摺動耐久性に優れる。
【背景技術】
【０００２】
透明プラスチック基材上に、透明でかつ抵抗が小さい薄膜を積層した透明導電性フィルムは、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等のようなフラットパネルディスプレイや、タッチパネルの透明電極等として、電気・電子分野の用途に広く使用されている。
【０００３】
携帯情報端末やタッチパネル付きノートパソコン、カーナビゲーションの普及により、屋外で使用されるタッチパネル付きディスプレイが増えてきた。このため、液晶ディスプレイをサングラス等の偏光フィルタを介して視認する機会が増加している。一般的に流通している市販の汎用的なフィルムを透明導電性フィルムの基材フィルムとして液晶ディスプレイ内に組み込んだ場合、サングラスを介して液晶ディスプレイの画面を観察すると強い干渉色が現れることがあった。
【０００４】
また、このような表示ディスプレイに用いられるタッチパネルでは、ペン摺動耐久性に優れたタッチパネルが要求される。タッチパネルにペン入力する際、固定電極側の透明導電性薄膜と可動電極（フィルム電極）側の透明導電性薄膜同士が接触するが、この際にペン荷重で透明導電性薄膜にクラック、剥離等の破壊が生じない、優れたペン摺動耐久性を有する透明導電性フィルムが要望されている。
ペン摺動耐久性を向上させる手段として、可動電極（フィルム電極）側の透明導電性薄膜を結晶質にする方法がある（特許文献１〜１１）。
【０００５】
しかしながら、従来の透明導電性フィルムは次のような課題を有している。
特許文献１〜７は、透明プラスチックフィルム基材上に有機珪素化合物の加水分解により生成された下地層を設け、さらに結晶質の透明導電性薄膜を成膜した透明導電性フィルムである。しかしながら、これらの透明導電性フィルムは、後述のペン摺動耐久性試験に記載のポリアセタール製のペンを使用し、５．０Ｎの荷重で３０万回の直線摺動試験後には、透明導電性薄膜に剥離が生じた結果、白化してしまい、ペン摺動に対する耐久性は不十分であった。
【０００６】
特許文献８〜１１は、スパッタリング時の成膜雰囲気中の水を極度に低減して、結晶質の透明導電性薄膜を成膜することを特徴とした透明導電性フィルムである。しかしながら、これらの透明導電性フィルムを作製するには、長時間の真空引きの実施もしくは非常に能力の高い真空ポンプが必要であり、産業上の利用に適していない。また、特許文献１１の透明導電性フィルムは、後述のペン摺動耐久性試験に記載のポリアセタール製のペンを使用し、５．０Ｎの荷重で３０万回の直線摺動試験後には、透明導電性薄膜に剥離が生じた結果、白化してしまい、ペン摺動に対する耐久性は不十分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭６０−１３１７１１号公報
【特許文献２】特開昭６１−７９６４７号公報
【特許文献３】特開昭６１−１８３８０９号公報
【特許文献４】特開平２−１９４９４３号公報
【特許文献５】特開平２−２７６６３０号公報
【特許文献６】特開平８−６４０３４号公報
【特許文献７】特開平１１−２８６０７８号公報
【特許文献８】特開平２０００−１４４３７９号公報
【特許文献９】特開２０００−２３８１７８号公報
【特許文献１０】特開２００４−７１１７１号公報
【特許文献１１】国際公開ＷＯ２０００／０５１１３９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記の従来の問題点に鑑み、サングラス等の偏光フィルムを介して画像表示装置を視認した際の干渉色（即ち、虹斑）による視認性の低下を改善する透明導電性フィルムを提供することにある。さらに、タッチパネルに用いた際のペン摺動耐久性に優れ、特にポリアセタール製のペンを使用し、５．０Ｎの荷重で３０万回の摺動試験後でも透明導電性薄膜が破壊されない透明導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記のような状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた本発明の透明導電性フィルムとは、以下の構成よりなる。
項１．
透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明プラスチックフィルム基材のリタデーションが３０００ｎｍ〜３００００ｎｍであることを特徴とする透明導電性フィルム。
項２．
前記透明導電膜が、酸化インジウムからなり、前記酸化インジウムの結晶粒径は３０〜１０００ｎｍであり、かつ透明導電膜の結晶質部に対する非晶質部の比が０．００〜０．５０であることを特徴とする項１に記載の透明導電性フィルム。
項３．
透明導電膜が、さらに、酸化スズを０．５〜８質量％含むことを特徴とする項２に記載の透明導電性フィルム。
項４．
透明導電膜の厚みが、１０〜１００ｎｍである項１〜３のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
項５．
項１〜４のいずれかに記載の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜式タッチパネル。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、偏光フィルタを介して視認した場合に生じる虹斑に代表される画質の低下が軽減され、液晶ディスプレイ等の画層表示装置の視認性が改善される。尚、本書において、「虹斑」とは、「色斑」、「色ずれ」及び「干渉色」を含む概念である。また、好ましい態様によれば、非常に優れたペン摺動耐久性を持つ透明導電性フィルムが得られ、ペン入力用タッチパネル等の用途に極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の結晶粒の最長部に関する例（その１）を示した図である。
【図２】本発明の結晶粒の最長部に関する例（その２）を示した図である。
【図３】本発明の結晶粒の最長部に関する例（その３）を示した図である。
【図４】本発明の結晶粒の最長部に関する例（その４）を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の透明導電性フィルムは、透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明プラスチックフィルム基材のリタデーションが３０００ｎｍ〜３００００ｎｍである。
【００１３】
＜透明プラスチックフィルム基材＞
本発明に用いる透明プラスチックフィルム基材は、高リタデーション配向フィルムであることが好ましい。
【００１４】
＜配向フィルムのリタデーション＞
高リタデーション配向フィルムのリタデーションは、虹斑を低減するという観点から、３０００ｎｍ以上３００００ｎｍ以下であることが好ましい。高リタデーション配向フィルムのリタデーションの下限値は、好ましくは４５００ｎｍ以上、好ましくは６０００ｎｍ以上、好ましくは８０００ｎｍ以上、好ましくは１００００ｎｍ以上である。一方、高リタデーション配向フィルムのリタデーションの上限は、それ以上のリタデーションを有する配向フィルムを用いたとしても更なる視認性の改善効果は実質的に得られず、またリタデーションの高さに応じては配向フィルムの厚みも上昇する傾向があるため、薄型化への要請に反し兼ねないという観点から、３００００ｎｍと設定されるが、更に高い値とすることもできる。画像表示装置が２枚以上の高リタデーション配向フィルムを有する場合、それらのリタデーションは同一であっても異なっていても良い。
【００１５】
虹斑をより効果的に抑制するという観点から、高リタデーション配向フィルムは、そのリタデーション（Ｒｅ）と厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）の比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が、好ましくは０．２以上であり、好ましくは０．５以上、好ましくは０．６以上である。厚さ方向リタデーションは、フィルム厚さ方向断面から見たときの２つの複屈折△Ｎｘｚ及び△Ｎｙｚにそれぞれフィルム厚みｄを掛けて得られるリタデーションの平均値を意味する。Ｒｅ／Ｒｔｈが大きいほど、複屈折の作用は等方性を増し、画面への虹斑の発生をより効果的に抑制することができる。尚、本書において、単に「リタデーション」と記載する場合は、面内リタデーションを意味する。
【００１６】
Ｒｅ／Ｒｔｈの最大値は２．０（即ち、完全な１軸対称性フィルム）であるが、完全な１軸対称性フィルムに近づくにつれて配向方向と直交する方向の機械的強度が低下する傾向がある。よって、ポリエステルフィルムのＲｅ／Ｒｔｈの上限は、好ましくは１．２以下、好ましくは１．０以下である。上記比率が１．０以下であっても、画像表示装置に求められる視野角特性（左右１８０度、上下１２０度程度）を満足することが可能である。
【００１７】
配向フィルムのリタデーションは、公知の手法に従って測定することができる。具体的には、２軸方向の屈折率と厚みを測定して求めることができる。また、商業的に入手可能な自動複屈折測定装置（例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器株式会社製）を用いて求めることもできる。
【００１８】
高リタデーション配向フィルムを液晶ディスプレイ等の画層表示装置内に組み込んで用いる場合、高リタデーション配向フィルムの配向主軸と視認側偏光子の偏光軸とが形成する角度（高リタデーション配向フィルムと偏光子とが同一平面上にあると仮定する）は、特に制限されないが、虹斑を低減するという観点から、４５度に近いことが好ましい。例えば、前記角度は、好ましくは４５度±２５度以下、好ましくは４５度±２０度以下である。特に、画像表示装置をサングラス等の偏光フィルムを介して斜め方向から観察する場合における虹斑の低減、低リタデーション配向フィルムの角度依存性をより小さくする観点から、前記角度は好ましくは４５度±１５度以下、好ましくは４５度±１０度以下、好ましくは４５度±５度以下、好ましくは４５度±３度以下、４５度±２度以下、４５度±１度以下、４５度である。尚、本書において、「以下」という用語は、「±」の次の数値にのみかかることを意味する。即ち、前記「４５度±１５度以下」とは、４５度を中心に上下１５度の範囲の変動を許容することを意味する。
【００１９】
上記のような条件を満たすように高リタデーション配向フィルムを配置することは、例えば、切断された高リタデーション配向フィルムをその配向主軸が偏光子と特定の角度になるように配置する方法や、高リタデーション配向フィルムを斜め延伸することで偏光子と特定角度になるように配置する方法により行うことができる。
【００２０】
高リタデーション配向フィルムは、公知の手法を適宜選択して製造することができる。例えば、高リタデーション配向フィルムは、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、シクロオレフィン樹脂、液晶性ポリマー樹脂、及びセルロース系樹脂に液晶化合物を添加した樹脂から成る群より選択される一種以上を用いて製造することができる。従って、高リタデーション配向フィルムは、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、シンジオタクチックポリスチレンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、シクロオレフィンフィルム、液晶性フィルム、セルロース系樹脂に液晶化合物
が添加されたフィルムであり得る。
【００２１】
高リタデーション配向フィルムの好ましい原料樹脂は、ポリカーボネート、はポリエステル又はシンジオタクチックポリスチレンである。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れており、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートに代表されるポリエステルは固有複屈折が大きく、フィルムの厚みが薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られるので好ましい。特に、ポリエチレンナフタレートは、ポリエステルの中でも固有複屈折率が大きいことから、リタデーションを特に高くしたい場合や、リタデーションを高く保ちながらフィルム厚みを薄くしたい場合に好適である。ポリエステル樹脂を代表例として、より具体的な高リタデーション配向フィルムの製造方法を後
述する。
【００２２】
＜高リタデーション配向フィルムの製造方法＞
以下に、ポリエステルフィルムを例に、高リタデーション配向フィルムの製造方法を説明する。ポリエステルフィルムは、任意のジカルボン酸とジオールとを縮合させて得ることができる。ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、２，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホンカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、３，３−ジエチルコハク酸、グルタル酸、２，２−ジメチルグルタル酸、アジピン酸、２−メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、ダイマー酸、セバシン酸、スベリン酸、ドデカジカルボン酸等を挙げることができる。
【００２３】
ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、デカメチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサジオール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等を挙げることができる。
【００２４】
ポリエステルフィルムを構成するジカルボン酸成分とジオール成分はそれぞれ１種又は２種以上を用いても良い。ポリエステルフィルムを構成する具体的なポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられ、好ましくはポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートであり、好ましくはポリエチレンテレフタレートである。ポリエステル樹脂は他の共重合成分を含んでも良く、機械強度の点からは共重合成分の割合は３モル％以下が好ましく、好ましくは２モル％以下、更に好ましくは１．５モル％以下である。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れる。また、これらの樹脂は、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。
【００２５】
ポリエステルフィルムは、一般的な製造方法に従って得ることができる。具体的には、ポリエステル樹脂を溶融し、シート状に押出し成形された無配向ポリエステルをガラス転移温度以上の温度において、ロールの速度差を利用して縦方向に延伸した後、テンターにより横方向に延伸し、熱処理を施すことにより配向ポリエステルフィルムが挙げられる。ポリエステルフィルムは、一軸延伸フィルムであっても、二軸延伸フィルムであっても良い。上記高リタデーション配向フィルムは斜め４５度に延伸されたものであってもよい。
【００２６】
ポリエステルフィルムを得るための製造条件は、公知の手法に従って適宜設定することが出来る。例えば、縦延伸温度及び横延伸温度は、通常８０〜１３０℃であり、好ましくは９０〜１２０℃である。縦延伸倍率は、通常１．０〜３．５倍であり、好ましくは１．０倍〜３．０倍である。また、横延伸倍率は、通常２．５〜６．０倍であり、好ましくは３．０〜５．５倍である。
【００２７】
リタデーションを特定範囲に制御することは、延伸倍率や延伸温度、フィルムの厚みを適宜設定することにより行うことができる。例えば、縦延伸と横延伸の延伸倍率差が高いほど、延伸温度が低いほど、フィルムの厚みが厚いほど高いリタデーションを得やすくなる。逆に、縦延伸と横延伸の延伸倍率差が低いほど、延伸温度が高いほど、フィルムの厚みが薄いほど低いリタデーションを得やすくなる。また、延伸温度が高いほど、トータル延伸倍率が低いほど、リタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が低いフィルムが得やすくなる。逆に、延伸温度が低いほど、トータル延伸倍率が高いほど、リタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が高いフィルムが得られる。更に、熱処理温度は、通常１４０〜２４０℃が好ましく、好ましくは１８０〜２４０℃である。
【００２８】
ポリエステルフィルムにおけるリタデーションの変動を抑制する為には、フィルムの厚み斑が小さいことが好ましい。リタデーション差をつけるために縦延伸倍率を低くすると、縦厚み斑の値が高くなる場合がある。縦厚み斑の値は延伸倍率のある特定の範囲で非常に高くなる領域があるため、そのような範囲を外すように製膜条件を設定することが望ましい。
【００２９】
配向ポリエステルフィルムの厚み斑は５．０％以下であることが好ましく、４．５％以下であることがさらに好ましく、４．０％以下であることがよりさらに好ましく、３．０％以下であることが特に好ましい。フィルムの厚み斑は、任意の手段で測定することができる。例えば、フィルムの流れ方向に連続したテープ状サンプル（長さ３ｍ）を採取し、市販される測定器（例えば、（株）セイコー・イーエム製電子マイクロメータ  ミリトロン１２４０）を用いて、１ｃｍピッチで１００点の厚みを測定し、厚みの最大値（ｄｍａｘ）、最小値（ｄｍｉｎ）、平均値（ｄ）を求め、下記式にて厚み斑（％）を算出することができる。
厚み斑（％）＝（（ｄｍａｘ−ｄｍｉｎ）／ｄ）×１００
【００３０】
本発明で用いる透明プラスチックフィルム基材の厚みは、１５〜３００μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは２０〜２６０μｍであり、特に好ましくは７０〜２６０μｍである。１５μｍを下回る厚みのフィルムでも、原理的には３０００ｎｍ以上のリタデーションを得ることが可能である。しかし、その場合にはフィルムの力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下する。一方、厚みが３００μｍを越えると、タッチパネルに用いた際に、フィルムを変形させるためのペン荷重が大きくなりやすく、好ましくない。
【００３１】
本発明で用いる透明プラスチックフィルム基材は、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理等の表面活性化処理を施してもよい。
【００３２】
透明プラスチックフィルム基材に硬化型樹脂層を塗布し、かつその硬化型樹脂層の表面を凹凸にした上に透明導電膜を成膜すると、ペン摺動耐久性の向上を期待することができる。この効果は主に２点ある。１点目は透明導電性薄膜と硬化型樹脂層の付着力が増すことにより、ペン摺動による透明導電膜の剥がれの防止をできるためペン摺動耐久性が向上するという点である。２点目はペン摺動により透明導電薄膜がガラスと接触するときの真の接触面積が減少し、ガラス面と透明導電膜との滑り性が良くなるためペン摺動耐久性が向上するという点である。硬化型樹脂層の詳細について以下に記載する。
【００３３】
＜硬化型樹脂層＞
また、本発明で用いる前記硬化型樹脂は、加熱、紫外線照射、電子線照射等のエネルギー印加により硬化する樹脂であれば特に制限はなく、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。生産性の観点からは、紫外線硬化型樹脂を主成分とすることが好ましい。
【００３４】
このような紫外線硬化型樹脂としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコール及びアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等から合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂等を挙げることができる。必要に応じて、これらの多官能性の樹脂に単官能性の単量体、例えば、ビニルピロリドン、メチルメタクリレート、スチレン等を加えて共重合させることができる。
【００３５】
また、透明導電性薄膜と硬化型樹脂層との付着力を向上するために、硬化型樹脂層の表面を表面処理することが有効である。具体的な手法としては、カルボニル基、カルボキシル基、水酸基を増加するためにグロー又はコロナ放電を照射する放電処理法、アミノ基、水酸基、カルボニル基等の極性基を増加させるために酸又はアルカリで処理する化学薬品処理法等が挙げられる。
【００３６】
紫外線硬化型樹脂は、通常、光重合開始剤を添加して使用される。光重合開始剤としては、紫外線を吸収してラジカルを発生する公知の化合物を特に制限なく使用することができ、このような光重合開始剤としては、例えば、各種ベンゾイン類、フェニルケトン類、ベンゾフェノン類等を挙げることができる。光重合開始剤の添加量は、紫外線硬化型樹脂１００質量部当たり通常１〜５質量部とすることが好ましい。
【００３７】
また、本発明において硬化型樹脂層には、主たる構成成分である硬化型樹脂のほかに、硬化型樹脂に非相溶な樹脂を併用することが好ましい。マトリックスの硬化型樹脂に非相溶な樹脂を少量併用することで、硬化型樹脂中で相分離が起こり非相溶樹脂を粒子状に分散させることができる。この非相溶樹脂の分散粒子により、硬化型樹脂表面に凹凸を形成させ、広領域における表面粗さを向上させることができる。
【００３８】
硬化型樹脂が前記の紫外線硬化型樹脂の場合、非相溶樹脂としてはポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂等が例示される。
【００３９】
本発明において、硬化型樹脂層の主たる構成成分である硬化型樹脂として紫外線硬化型樹脂を用い、硬化型樹脂に非相溶な高分子樹脂として高分子量のポリエステル樹脂を用いる場合、それらの配合割合は、紫外線硬化型樹脂１００質量部当たりポリエステル樹脂０．１〜２０質量部であることが好ましく、さらに好ましくは０．２〜１０質量部、特に好ましくは０．５〜５質量部である。
【００４０】
前記ポリエステル樹脂の配合量が紫外線硬化型樹脂１００質量部当たり０．１質量部未満であると、硬化型樹脂層表面に形成される凸部が小さくなったり、凸部が減少する傾向にあり表面粗さが向上せず、ペン摺動耐久性のさらなる改良効果が発現せず好ましくない。一方、前記ポリエステル樹脂の配合量が紫外線硬化型樹脂１００質量部当たり２０質量部を超えると、この硬化型樹脂層の強度が低下し、耐薬品性が悪化しやすくなる。
【００４１】
しかしながら、ポリエステル樹脂は紫外線硬化型樹脂と屈折率に差異があるため、硬化型樹脂層のヘーズ値が上昇し透明性を悪化させる傾向があるので注意して使用する必要がある。逆に、高分子量のポリエステル樹脂の分散粒子による透明性の悪化を積極的に利用し、ヘーズ値が高く防眩機能を有する防眩フィルムとして使用することもできる。
【００４２】
前記の紫外線硬化型樹脂、光重合開始剤及び高分子量のポリエステル樹脂は、それぞれに共通の溶剤に溶解して塗布液を調製する。使用する溶剤には特に制限はなく、例えば、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等のようなアルコール系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のようなエステル系溶剤、ジブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のようなエーテル系溶剤、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のようなケトン系溶剤、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等のような芳香族炭化水素系溶剤等を単独に、あるいは混合して使用することができる。
【００４３】
塗布液中の樹脂成分の濃度は、コーティング法に応じた粘度等を考慮して適切に選択することができる。例えば、塗布液中に紫外線硬化型樹脂、光重合開始剤及び高分子量のポリエステル樹脂の合計量が占める割合は、通常は２０〜８０質量％である。また、この塗布液には、必要に応じて、その他の公知の添加剤、例えば、シリコーン系レベリング剤等を添加してもよい。
【００４４】
本発明において、調製された塗布液は透明プラスチックフィルム基材上にコーティングされる。コーティング法には特に制限はなく、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法等の従来から知られている方法を使用することができる。
【００４５】
コーティングされた塗布液は、次の乾燥工程で溶剤が蒸発除去される。この工程で、塗布液中で均一に溶解していた高分子量のポリエステル樹脂は微粒子となって紫外線硬化型樹脂中に析出する。塗膜を乾燥した後、プラスチックフィルムに紫外線を照射することにより、紫外線硬化型樹脂が架橋・硬化して硬化型樹脂層を形成する。この硬化の工程で、高分子量のポリエステル樹脂の微粒子はハードコート層中に固定されるとともに、硬化型樹脂層の表面に突起を形成し広領域における表面粗さを向上させる。
【００４６】
また、硬化型樹脂層の厚みは０．１〜１５μｍの範囲であることが好ましい。より好ましくは０．５〜１０μｍの範囲であり、特に好ましくは１〜８μｍの範囲である。硬化型樹脂層の厚みが０．１μｍ未満の場合には、突起が十分に形成されにくくなる。一方、１５μｍを超える場合には生産性の観点から好ましくない。
【００４７】
（透明導電膜）
本発明における透明導電膜としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などの無機物からなるものと、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ＰＥＤＯＴ：ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）などの導電性高分子、またはカーボンナノチューブやカーボンナノホーン、カーボンナノワイヤなどの極細導電炭素繊維を高分子中に分散させた有機物からなるもの、グラフェンが挙げられる。これらのうち、環境安定性や回路加工性の観点から、インジウム−スズ複合酸化物が好適である。
【００４８】
透明導電性フィルムは、結晶質の酸化インジウムを主とした透明導電膜であって、酸化インジウムの結晶粒径が３０〜１０００ｎｍであり、かつ透明導電膜の結晶質部に対する非晶質部の比が０．００〜０．５０であることが好ましい。
【００４９】
ここで透明導電膜の酸化インジウムの結晶粒径の定義は次の通りである。
透過型電子顕微鏡下で透明導電膜層に観察される酸化インジウムの結晶粒について、すべての結晶粒の最長部を測定し、それらの測定値の平均値を結晶粒径とする。ここで、図１〜４に結晶粒の最長部に関する例を示す。
また、結晶質部に対する非晶質部の比を見積もる方法は、透過型電子顕微鏡下で観察したときの結晶質部と非晶質部の面積比から算出する。
【００５０】
本発明の透明導電膜の酸化インジウムの結晶粒径は３０〜１０００ｎｍであることが好ましい。特に好ましくは３５〜８００ｎｍである。結晶粒径が３０ｎｍより小さいときは結晶粒同士の結合力が弱いためペン摺動耐久性が悪化する。逆に、結晶粒径が１０００ｎｍを超えると耐屈曲性が悪化するため、可撓性が低下しプラスチックフィルム基材に透明導電膜を形成する意味を著しく逸する。
【００５１】
本発明の透明導電膜における酸化インジウムの結晶質部に対する非晶質部の比は、０．００〜０．５０であることが好ましく、より好ましくは０．００〜０．４５である。前記の比が０．５０より大きいと、結晶粒が非晶部の中に島状に浮いているような状態をとる。このような状態では、ペン摺動耐久試験を行った際に、非晶部分がまず剥離し、その部分をきっかけにして結晶粒も剥離し、透明導電膜が破壊されてしまう。
前記の比が０．５０以下であれば、結晶粒が非晶部の中に島状に浮いているような状態はとらず、結晶粒同士がすべてつながっている状態をとる。このような状態であれば、ペン摺動耐久試験を行っても、結晶粒同士でお互いを支えあうので、ペン摺動耐久性が非常に高いものが得られる。
【００５２】
本発明の透明導電性フィルムの製造方法においては、酸素を含む雰囲気下で、８０〜１５０℃、０．１〜１２時間加熱処理を行うことが望ましい。熱処理の意義は、結晶粒の大きさの制御である。加熱温度及び時間を増加させると結晶粒が成長する。８０℃より低い温度では結晶粒が成長しないため、ペン摺動耐久性向上には寄与しない。２００℃より高い温度では透明プラスチックフィルムの平面性の維持をするのが難しくなり、さらに結晶粒が成長し過ぎることにより結晶粒子間に大きな応力が発生するためにペン摺動耐久性が悪化する。
【００５３】
本発明の透明導電性フィルムを得るためには以下の方法〔１〕、〔２〕、及び〔３〕が望ましい。
〔１〕透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に結晶質の酸化インジウムを主とした透明導電膜を成膜する方法において、スパッタリング時の成膜雰囲気の不活性ガスに対する水分圧の比が８．０×１０−４〜３．０×１０−３とし、かつ酸素分圧は８．０×１０−３〜３０×１０−３Ｐａとして、かつ成膜中はフィルム温度を８０℃以下に保持して透明プラスチックフィルム上に透明導電膜を成膜することが望ましい。
【００５４】
成膜雰囲気に水が含まれると、透明導電膜の結晶質化を阻害することが知られている。そのため、成膜雰囲気中の水分量は重要な因子である。プラスチックフィルムに成膜する時の水分量の制御には、実際に成膜時の水分量を観測することが望ましい。成膜雰囲気中の水分量の制御に到達真空度を使うのは以下の２点の通り不適である。
まず１点目として、スパッタリングで、プラスチックフィルムに成膜をすると、フィルムが加熱され成膜雰囲気中の水分量が増加してしまい、到達真空度を測定したときの水分量より増加する。
【００５５】
２点目は、大量に透明プラスチックフィルムを投入する装置での場合である。このような装置ではフィルムをロールで投入する。フィルムをロールにして真空槽に投入するとロールの巻き外部分は水が抜けやすいが、ロールの巻き内部分は水が抜けにくい。到達真空度を測定するとき、フィルムロールは停止しているが、成膜時にはフィルムロールが走行するため、水を多く含むロールの巻き内部分が巻き出されてくるため、成膜雰囲気中の水分量が増加し、到達真空度を測定したときの水分量より増加する。本発明においては成膜雰囲気中の水分量の制御に当たって、スパッタリング時の成膜雰囲気の不活性ガスに対する水分圧の比を観測することで対応する。
【００５６】
スパッタリング時の成膜雰囲気の不活性ガスに対する水分圧の比はなるべく低い方が望ましいが、成膜室内に大量に透明プラスチックフィルムを投入する装置では特許文献１１に記載があるような不活性ガスに対する水分圧の比を２．５×１０−６〜７．０×１０−４にするためには長時間の真空引きを実施するか、もしくは非常に能力の高い真空ポンプが必要であり、経済的な実施が難しくなる。
【００５７】
本発明は成膜室内に大量に透明プラスチックフィルムを投入する装置においても容易に実現可能な不活性ガスに対する水分圧の比においても結晶質部を有し、非常に優れたペン摺動耐久性を持つ製造方法を見出した。不活性ガスに対する水分圧の比として８．０×１０−４〜３．０×１０−３は容易に実現可能な値である。この状態において酸素分圧を８．０×１０−３〜３０×１０−３Ｐａにして成膜を行うと結晶質部を有する透明導電膜ができ、非常に優れたペン摺動耐久性を持つ透明導電性フィルムを得る事ができる。
【００５８】
前記の酸素分圧の範囲は、大変特異である。一般的には抵抗値が一番低くなる酸素分圧で透明導電膜を作製するが、本発明においては抵抗値が一番低くなるところよりも高い酸素分圧で成膜することを特徴としている。
酸素分圧を高い値にする意図は次の通りである。酸素分圧を高い状態で成膜すると、酸化インジウムの酸素欠損部分が補われるために、非常にエネルギー的に安定した結晶構造を持つ膜が得られることになる。
その結果、透明プラスチック基材上で結晶粒の発生確率が増大し、さらには結晶成長が容易になるために、非常に優れたペン摺動耐久性を発現することになる。ただし、酸素分圧を３０×１０−３Ｐａより大きくすると表面抵抗が実用的な水準を超えてしまうので望ましくない。ここで表面抵抗の実用的な水準は、５０〜１０００Ω／□程度である。
【００５９】
また、成膜中は基板温度を８０℃以下に保持して基板上に透明導電膜を形成することが望ましい。８０℃以上にするとフィルムからの水、有機ガス等の不純物ガスが大量に発生するため結晶質部を有する透明導電膜の成膜、すなわちペン摺動耐久性が優れた透明導電膜の成膜を阻害する。
【００６０】
〔２〕透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に結晶質の酸化インジウムを主とした透明導電膜を成膜するには、イオンアシスト法やイオンプレーティング法等の活性化支援法やハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング法を用いてフィルムへ透明導電膜を成膜することが望ましい。結晶粒を形成するためには、蒸発原子の持つエネルギーが必要である。
【００６１】
前記の手法は、通常の成膜手法よりも蒸発原子の持つエネルギーが大きいため、結晶粒の発生確率の増加及び、結晶成長が容易になるために、非常に優れたペン摺動耐久性を発現する。成膜条件は、酸素を４．０×１０−３〜６．０×１０−２Ｐａ導入した後、アルゴンガスを導入して成膜圧力を０．１５Ｐａにしてから、放電電圧８０Ｖ、ハース電位＋４０Ｖ、放電電流１２０Ａでアーク放電を行うことが望ましい。
【００６２】
〔３〕透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に結晶質の酸化インジウムを主とした透明導電膜をスパッタリング法等で成膜する場合には、透明導電膜を成膜する側に、透明導電膜と同じ組成を持った直径２０〜５００ｎｍの微粒子を含ませたコート層を塗布することが望ましい。前記の微粒子が透明導電膜の結晶成長の核になるために、結晶粒の成長が促進され、非常に優れたペン摺動耐久性を発現する。直径が２０ｎｍより小さい微粒子は作製及び入手が難しい。
また、直径が５００ｎｍより大きい微粒子を用いると、結晶粒が大きく成長し過ぎるため、透明導電膜を成膜したときに突起が発生しやすくなる。その突起をきっかけにして結晶粒も剥離し、透明導電性薄膜が破壊されてしまう場合がある。上記微粒子は透明プラスチックフィルムに塗布する硬化型樹脂層等に分散させて使用することが望ましい。ただし、硬化型樹脂層等の有機成分の総量に対して上記微粒子は１〜３０質量％の割合で含むことが望ましい。
【００６３】
本発明の透明導電膜は、酸化インジウムを主とし、酸化スズを０．５〜８質量％含むことが望ましい。酸化インジウムに対して酸化スズは不純物添加に相当する。酸化スズの不純物添加により、酸化スズが入った酸化インジウムは融点が増大する。すなわち、酸化スズの不純物添加は結晶化を阻害する方向に働く。酸化スズは０．５〜８質量％を含むことが望ましい。酸化スズが０．５％未満では結晶化はするが、全光線透過率は実用的な水準より低く、表面抵抗は実用的な水準より高くなるので望ましくない。酸化スズが８質量％より大きい場合は結晶化が困難となりペン摺動耐久性が悪くなる。
なお、本発明の透明導電性フィルムの全光線透過率は７０〜９５％が好ましく、表面抵抗は５０〜１０００Ω／□が好ましい。
【００６４】
本発明において透明導電膜の厚みは、１０〜１００ｎｍであることが望ましい。透明導電膜の厚みが１０ｎｍ未満になると膜が不均一になってしまうためペン摺動耐久性が弱くなる。また、透明導電膜の厚みが１００ｎｍより厚くなると全光線透過率が実用的な水準より低くなるので望ましくない。
【００６５】
（液晶ディスプレイ等の画像表示装置）
本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネル用の透明導電性フィルム、特に抵抗膜方式のタッチパネル用の透明導電性フィルムとして好適に用いることができる。  画像表示装置は、典型的に、視認側から視認側偏光板、画像表示セル（液晶セル）、光源側偏光板、バックライト光源を順に有する。本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルは、画像表示装置内の任意の場所に配置することが可能であるが、例えば、視認側偏光板のより視認側に配置することができる。
【００６６】
（バックライト光源）
また、画像表示装置は、虹斑を抑制するという観点から、連続的で幅広い発光スペクトルを有する白色光源をバックライト光源として有することが好ましい。連続的で幅広い発光スペクトルを有する光源の方式及び構造は特に制限されず、例えば、エッジライト方式又は直下型方式であり得る。「連続的で幅広い発光スペクトル」とは、少なくとも４５０〜６５０ｎｍの波長領域、好ましくは可視光の領域において光の強度がゼロになる波長領域が存在しない発光スペクトルを意味する。可視光領域とは、例えば、４００〜７６０ｎｍの波長領域であり、３６０〜７６０ｎｍ、４００〜８３０ｎｍ、又は３６０〜８３０ｎｍであり得る。
【００６７】
連続的で幅広い発光スペクトルを有する白色光源としては、例えば、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）を挙げることができる。白色ＬＥＤには、蛍光体方式のもの（即ち、化合物半導体を使用した青色光、もしくは紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子）及び有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ：ＯＬＥＤ）等を挙げることができる。連続的で幅広い発光スペクトルを有し、且つ、発光効率にも優れているという観点から、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードが好ましい。
【実施例】
【００６８】
以下に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。なお、実施例における各種測定評価は下記の方法により行った。
（１）全光線透過率
ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠し、日本電色工業（株）製ＮＤＨ−１００１ＤＰを用いて、全光線透過率を測定した。
【００６９】
（２）表面抵抗値
ＪＩＳ−Ｋ７１９４に準拠し、４端子法にて測定した。測定機は、三菱油化（株）製  Ｌｏｔｅｓｔ  ＡＭＣＰ−Ｔ４００を用いた。
【００７０】
（３）結晶粒径
透明導電性薄膜層を積層したフィルム試料片を１ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出し、導電性薄膜面を外向きにして適当な樹脂ブロックの上面に貼り付けた。これをトリミングしたのち、一般的なウルトラミクロトームの技法によってフィルム表面にほぼ平行な超薄切片を作製した。
この切片を透過型電子顕微鏡（ＪＥＯＬ社製、ＪＥＭ−２０１０）で観察して著しい損傷がない導電性薄膜表面部分を選び、加速電圧２００ｋＶ、直接倍率４００００倍で写真撮影を行った。
透過型電子顕微鏡下で観察される結晶粒において、すべての結晶粒の最長部を測定し、それらの測定値の平均値を結晶粒径とする。ここで、図１〜４に結晶粒の最長部に関する例を示す。
【００７１】
（４）結晶質部に対する非晶部の割合
透過型電子顕微鏡下で観察したときの結晶質部と非晶質部の面積比から算出した。
【００７２】
（５）透明導電膜の厚み（膜厚）
透明導電性薄膜層を積層したフィルム試料片を１ｍｍ×１０ｍｍの大きさに切り出し、電子顕微鏡用エポキシ樹脂に包埋した。これをウルトラミクロトームの試料ホルダに固定し、包埋した試料片の短辺に平行な断面薄切片を作製した。次いで、この切片の薄膜の著しい損傷がない部位において、透過型電子顕微鏡（ＪＥＯＬ社製、ＪＥＭ−２０１０）を用い、加速電圧２００ｋＶ、明視野で観察倍率１万倍にて写真撮影を行って得られた写真から膜厚を求めた。
【００７３】
（６）ペン摺動耐久性試験
透明導電性フィルムを一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上にプラズマＣＶＤ法で厚みが２０ｎｍのインジウム−スズ複合酸化物薄膜（酸化スズ含有量：１０質量％）からなる透明導電性薄膜（日本曹達社製、Ｓ５００）を用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。次にポリアセタール製のペン（先端の形状：０．８ｍｍＲ）に５．０Ｎの荷重をかけ、３０万回（往復１５万回）の直線摺動試験をタッチパネルに行った。この時の摺動距離は３０ｍｍ、摺動速度は６０ｍｍ／秒とした。この摺動耐久性試験後に、まず、摺動部が白化しているかを目視によって観察した。さらに、ペン荷重０．５Ｎで摺動部を押さえた際の、ＯＮ抵抗（可動電極（フィルム電極）と固定電極とが接触した時の抵抗値）を測定した。ＯＮ抵抗は１０ｋΩ以下であるのが望ましい。
【００７４】
（７）虹斑の評価
下記構成の透明導電性フィルムを備えた画像表示装置を常法に従って作製した。偏光サングラス（偏光フィルム）を掛けて、首を左右に傾けて画像の視認性の変化を観察した。
【００７５】
＜評価基準＞
○：  虹斑は観察されず、視認性が良好であった。
×：  虹斑が生じ、視認性が不良であった。
【００７６】
＜画像表示装置の構成＞
・バックライト光源：白色ＬＥＤ
・画像表示セル：液晶セル
・偏光板：ＰＶＡとヨウ素からなる偏光子の偏光子保護フィルムとしてＴＡＣフィルムが使用された偏光板。
・タッチパネル：後述で得られた透明導電性薄膜を形成した透明導電性フィルム（視認側）と、ガラス基材の上に透明導電性薄膜を形成した透明導電性ガラス（光源側）とを、スペーサーを介して配置した構造を有する抵抗膜方式タッチパネル。なお、透明プラスチックフィルムの配向主軸と視認側偏光子の偏光軸とが形成する角が４５度となるように配置した。
【００７７】
（８）リタデーションの評価
リタデーション（Ｒｅ）は、次の通り測定した。即ち、二枚の偏光板を用いて、フィルムの配向主軸方向を求め、配向主軸方向が直交するように４ｃｍ×２ｃｍの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率（Ｎｘ，Ｎｙ）、及び厚さ方向の屈折率（Ｎｚ）をアッベ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ−４Ｔ）によって求め、前記二軸の屈折率差の絶対値（｜Ｎｘ−Ｎｙ｜）を屈折率の異方性（△Ｎｘｙ）として求めた。フィルムの厚みｄ（ｎｍ）は電気マイクロメータ（ファインリューフ社製、ミリトロン１２４５Ｄ）を用いて測定し、単位をｎｍに換算した。屈折率の異方性（△Ｎｘｙ）とフィルムの厚みｄ（ｎｍ）の積（△Ｎｘｙ×ｄ）より、リタデーション（Ｒｅ）を求めた。
【００７８】
また、リタデーションの測定と同様の方法でＮｘ、Ｎｙ、Ｎｚとフィルム厚みｄ（ｎｍ）を求め、（△Ｎｘｚ×ｄ）、（△Ｎｙｚ×ｄ）の平均値を算出して厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）を求めた。
【００７９】
（製造例１−透明プラスチックフィルム１）
固有粘度０．６２ｄｌ／ｇのＰＥＴ樹脂ペレットを１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機に供給し、２８５℃で溶解した。このポリマーを、ステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。
【００８０】
次いで、リバースロール法によりこの未延伸ＰＥＴフィルムの両面に乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ２になるように、下記接着性改質塗布液を塗布した後、８０℃で２０秒間乾燥した。
【００８１】
この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４．０倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、さらに幅方向に３％の緩和処理を行い、フィルム厚み約１００μｍの一軸配向の透明プラスチックフィルム１を得た。リタデーション値は１０２００ｎｍであった。Ｒｔｈは、１３２３３ｎｍ、Ｒｅ／Ｒｔｈ比は０．７７１であった。
【００８２】
（接着性改質塗布液の調製）
常法によりエステル交換反応および重縮合反応を行って、ジカルボン酸成分として（ジカルボン酸成分全体に対して）テレフタル酸４６モル％、イソフタル酸４６モル％および５−スルホナトイソフタル酸ナトリウム８モル％、グリコール成分として（グリコール成分全体に対して）エチレングリコール５０モル％およびネオペンチルグリコール５０モル％の組成の水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂を調製した。次いで、水５１．４質量部、イソプロピルアルコール３８質量部、ｎ−ブチルセルソルブ５質量部、ノニオン系界面活性剤０．０６質量部を混合した後、加熱撹拌し、７７℃に達したら、上記水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂５質量部を加え、樹脂の固まりが無くなるまで撹拌し続けた後、樹脂水分散液を常温まで冷却して、固形分濃度５．０質量％の均一な水分散性共重合ポリエステル樹脂液を得た。さらに、凝集体シリカ粒子（富士シリシア（株）社製、サイリシア３１０）３質量部を水５０質量部に分散させた後、上記水分散性共重合ポリエステル樹脂液９９．４６質量部にサイリシア３１０の水分散液０．５４質量部を加えて、撹拌しながら水２０質量部を加えて、接着性改質塗布液を得た。
（製造例２−透明プラスチックフィルム２）
固有粘度０．６２ｄｌ/ｇのＰＥＴ樹脂ペレットを１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機に供給し、２８５℃で溶解した。このポリマーを、ステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。
【００８３】
上記未延伸フィルムを加熱されたロール群及び赤外線ヒーターで１００℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向に３．６倍延伸して一軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。
【００８４】
次いで、リバースロール法によりこの一軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ２になるように、上記接着性改質塗布液を塗布した後、８０℃で２０秒間乾燥した。
【００８５】
一軸延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に３．８倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、さらに幅方向に３％の緩和処理を行い、フィルム厚み約１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明プラスチックフィルム２）を得た。リタデーション値は２２５０ｎｍであった。
【００８６】
透明導電性フィルム１〜１５、１７〜３２において使用した透明プラスチックフィルム基材は、両面に易接着層を有する透明プラスチックフィルム１である。硬化型樹脂層として、光重合開始剤含有アクリル系樹脂（大日精化工業社製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｊ）１００質量部に、共重合ポリエステル樹脂（東洋紡績社製、バイロン２００、重量平均分子量１８，０００）を３質量部配合し、溶剤としてトルエン／ＭＥＫ（８／２：質量比）の混合溶媒を、固形分濃度が５０質量％になるように加え、撹拌して均一に溶解し塗布液を調製した（この塗布液を以下塗布液Ａと呼ぶ）。塗膜の厚みが５μｍになるように、調製した塗布液をマイヤーバーを用いて塗布した。８０℃で１分間乾燥を行った後、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させた。
【００８７】
（透明導電性フィルム１〜１４）
透明導電性フィルムを得る手法は上記の〔１〕の方法を採用している。透明導電性フィルム１〜１４は、表１に示した条件のもと、以下の通り実施した。
真空槽にフィルムを投入し、真空引きをした。真空引き時間が長いほどスパッタリング時の成膜中の水分圧が減少するので、スパッタリング時の成膜雰囲気の不活性ガスに対する水分圧の比は真空引き時間を変えることで制御した。
酸素導入後に不活性ガスとしてアルゴンを導入し全圧を０．５Ｐａにした。
酸化スズを含む酸化インジウム焼結ターゲット、あるいは酸化スズを含まない酸化インジウム焼結ターゲットに１Ｗ／ｃｍ２の電力密度で電力を投入し、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、透明導電膜を成膜した。膜厚についてはフィルムがターゲット上を通過するときの速度を変えて制御した。また、スパッタリング時の成膜雰囲気の不活性ガスに対する水分圧の比については、ガス分析装置（インフィコン社製、トランスペクターＸＰＲ３）を用いて測定した。
透明導電膜を成膜したフィルムは、熱処理した後、表１に記載の測定を実施した（ただし、熱処理しないで測定したものもある）。  測定結果を表１に示した。
【００８８】
（透明導電性フィルム１５）
到達真空度５．０×１０−４Ｐａにした後、酸素を４．０×１０−２Ｐａ導入、次に不活性ガスとしてアルゴンを導入し全圧を０．１５Ｐａにした。イオンプレーティング法により透明導電膜を成膜した。成膜条件は、蒸着材料として５質量％の酸化スズを含む酸化インジウムを用い、放電電圧８０Ｖ、ハース電位＋４０Ｖ、放電電流１２０Ａでアーク放電を行い、透明導電膜を２０ｎｍ成膜した。この透明導電性フィルムを大気圧下で１５０℃、１時間熱処理した。熱処理後の表面抵抗は４１０Ω／□であり、全光線透過率は８９％であった。透過型電子顕微鏡で観察したところ、結晶粒径は５００ｎｍ、結晶質部に対する非晶質部の比が０．３３であった。ペン摺動部は透明で、ＯＮ抵抗は０．４ｋΩであった。また、この透明導電性フィルムを用いて上記虹斑評価を行ったところ、虹斑も観察されず視認性良好であった。
【００８９】
（透明導電性フィルム１６）
塗布液Ａに５質量％の酸化スズを含む酸化インジウムからなる粒子サイズが３０ｎｍの微粒子を１５質量％含有させ、透明プラスチックフィルム１に塗膜の厚みが５μｍになるように、調製した塗布液をマイヤーバーを用いて塗布した。８０℃で１分間乾燥を行った後、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させ硬化型樹脂層を形成した。前記硬化型樹脂層を有するフィルムを真空槽に投入し、到達真空度５．０×１０−４Ｐａにした後、酸素を５．０×１０−３Ｐａ導入、次に不活性ガスとしてアルゴンを導入し全圧を０．５Ｐａにした。５質量％の酸化スズを含む酸化インジウム焼結ターゲットに１Ｗ／ｃｍ２の電力密度で電力を投入し、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、前記コート層側に透明導電膜を２０ｎｍ成膜した。この透明導電性フィルムを大気圧下で１５０℃、１時間熱処理した。熱処理後の表面抵抗は２００Ω／□であり、全光線透過率は８９％であった。透過型電子顕微鏡で観察したところ、結晶粒径は１５０ｎｍ、結晶質部に対する非晶質部の比が０．３５であった。ペン摺動部は透明で、ＯＮ抵抗は０．４ｋΩであった。また、この透明導電性フィルムを用いて上記虹斑評価を行ったところ、虹斑も観察されず視認性良好であった。
【００９０】
（透明導電性フィルム１７〜３２）
表１に記載の条件で透明導電性フィルム１と同様に透明導電性フィルムを作製して評価した。結果を表１に示した。
（透明導電性フィルム３３）
透明プラスチックフィルム１に塗布液Ａを塗膜の厚みが５μｍになるように、調製した塗布液をマイヤーバーを用いて塗布した。８０℃で１分間乾燥を行った後、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させ硬化型樹脂層を形成した。前記硬化型樹脂層を有するフィルムを真空槽に投入し、到達真空度５．０×１０−４Ｐａにした後、酸素を５．０×１０−３Ｐａ導入、次に不活性ガスとしてアルゴンを導入し全圧を０．５Ｐａにした。５質量％の酸化スズを含む酸化インジウム焼結ターゲットに１Ｗ／ｃｍ２の電力密度で電力を投入し、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、前記コート層側に透明導電膜を２０ｎｍ成膜した。この透明導電性フィルムを大気圧下で１５０℃、１時間熱処理した。熱処理後の表面抵抗は２０５Ω／□であり、全光線透過率は８８％であった。透過型電子顕微鏡で観察したところ、結晶粒径は１００ｎｍ、結晶質部に対する非晶質部の比が１．５であった。ペン摺動部は白化しており、ＯＮ抵抗は９００ｋΩであった。また、この透明導電性フィルムを用いて上記虹斑評価を行ったところ、虹斑も観察されず視認性良好であった。
【００９１】
（透明導電性フィルム３４）
塗布液Ａに５質量％の酸化スズを含む酸化インジウムからなる粒子サイズが６００ｎｍの微粒子を１５質量％含有させ、透明プラスチックフィルム１に塗膜の厚みが５μｍになるように、調製した塗布液をマイヤーバーを用いて塗布した。８０℃で１分間乾燥を行った後、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させ硬化型樹脂層を形成した。前記硬化型樹脂層を有するフィルムを真空槽に投入し、到達真空度５．０×１０−４Ｐａにした後、酸素を５．０×１０−３Ｐａ導入、次に不活性ガスとしてアルゴンを導入し全圧を０．５Ｐａにした。５質量％の酸化スズを含む酸化インジウム焼結ターゲットに１Ｗ／ｃｍ２の電力密度で電力を投入し、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、前記コート層側に透明導電膜を２０ｎｍ成膜した。この透明導電性フィルムを大気圧下で１５０℃、１時間熱処理した。熱処理後の表面抵抗は１９５Ω／□であり、全光線透過率は８９％であった。透過型電子顕微鏡で観察したところ、結晶粒径は１２００ｎｍ、結晶質部に対する非晶質部の比が０．２５であった。ペン摺動部は白化しており、ＯＮ抵抗は９００ｋΩであった。また、この透明導電性フィルムを用いて上記虹斑評価を行ったところ、虹斑も観察されず視認性良好であった。
【００９２】
（透明導電性フィルム３５）
透明プラスチックフィルム１を透明プラスチックフィルム２に代えた以外は透明導電性フィルム１と同様にして、透明導電性積層フィルムを作製した。また、この透明導電性フィルムを用いて上記虹斑評価を行ったところ、虹斑が生じ視認性不良であった。表面抵抗は２６０Ω／□であり、全光線透過率は８８％であった。透過型電子顕微鏡で観察したところ、結晶粒径は１００ｎｍ、結晶質部に対する非晶質部の比が０．０５であった。ペン摺動部は透明で、ＯＮ抵抗は０．３ｋΩであった。
【００９３】
【表１】
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【００９４】
透明導電性フィルム１〜３４は、リタデーションの高いポリエステルフィルムを用いているので、虹斑が観察されず視認性良好であった。一方、透明導電性フィルム３５はリタデーションが３０００nm未満のフィルムを用いているので虹斑が観察され視認性不良であった。
透明導電性フィルム１〜１６は、ペン摺動耐久試験後も摺動部が透明で、ＯＮ抵抗も１０ｋΩ以下であり、かつ非常に優れたペン摺動耐久性が得られた。
透明導電性フィルム２０、２３、２５、２７、２８、２９はペン摺動耐久試験は優れているが、他の特性が劣っていた。透明導電性フィルム２０、２３、２８、２９は表面抵抗値が実用的な水準よりも高い結果となった。透明導電性フィルム２５は全光線透過率が実用的な水準よりも低い結果となった。表１において、透明導電性フィルム１〜１４、１７〜２６、２８〜３２においては真空引き時間は２〜７時間であったが、透明導電性フィルム２７では２４時間かかり、真空引き時間が極端に長かった。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明によれば、偏光フィルタを介して視認した場合に生じる虹斑に代表される画質の低下が軽減され、液晶ディスプレイ等の画層表示装置の視認性が改善される。また、好ましい態様によれば、非常に優れたペン摺動耐久性を持つ透明導電性フィルムが得られ、ペン入力用タッチパネル等の用途に極めて有用である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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