(57)【要約】【課題】エアベアリングを採用したステージ装置を大型化および長ストローク化する上で有利な技術を提供する【解決手段】基板を移動させるためのステージ装置は、第１方向に沿って延びた案内部材を有するステージ定盤と、前記案内部材に沿って移動可能な第１ステージと、前記第１ステージによりエアベアリングを介して非接触に支持され、前記第１ステージの上を前記第１方向に沿って移動可能な第２ステージと、前記ステージ定盤により支持された固定子と、前記固定子との相互作用により、前記第１ステージを前記第１方向に駆動するように前記第１ステージに固定された第１可動子と、前記固定子との相互作用により、前記第２ステージを前記第１方向に駆動するように前記第２ステージに固定された第２可動子と、を含む。【選択図】図２
2014085504.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を移動させるためのステージ装置であって、
第１方向に沿って延びた案内部材を有するステージ定盤と、
前記案内部材に沿って移動可能な第１ステージと、
前記第１ステージによりエアベアリングを介して非接触に支持され、前記第１ステージの上を前記第１方向に沿って移動可能な第２ステージと、
前記ステージ定盤により支持された固定子と、
前記固定子との相互作用により、前記第１ステージを前記第１方向に駆動するように前記第１ステージに固定された第１可動子と、
前記固定子との相互作用により、前記第２ステージを前記第１方向に駆動するように前記第２ステージに固定された第２可動子と、
を含むことを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記固定子における前記第１可動子を移動させるために機能する部分と、前記固定子における前記第２可動子を移動させるために機能する部分とが共通している、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記固定子は、前記第１可動子を移動させるための第１固定子と、前記第２可動子を移動させるための第２固定子とを含む、ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記第１ステージと前記第２ステージとの間に、前記第２ステージのヨーイングを抑制するための抑制部を更に含み、
前記抑制部は、前記第１ステージおよび前記第２ステージのうちいずれか一方により支持され、前記第１方向に沿って延びた軸部材と、前記第１ステージおよび前記第２ステージのうち他方により支持され、前記軸部材を挟み込むように配置された少なくとも２つのエアベアリングとを含む、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記基板を保持する基板保持部を更に含み、
前記基板保持部は、前記第２ステージによりエアベアリングを介して非接触に支持され、前記第１方向と異なる第２方向に移動可能である、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記基板保持部と前記第２ステージとの間に、前記基板保持部のヨーイングを抑制するための第２抑制部を更に含み、
前記第２抑制部は、前記基板保持部および前記第２ステージのうちいずれか一方により支持され、前記第２方向に沿って延びた第２軸部材と、前記基板保持部および前記第２ステージのうち他方により支持され、前記第２軸部材を挟み込むように配置された少なくとも２つのエアベアリングとを含む、ことを特徴とする請求項５に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記固定子と前記第１可動子との相互作用による前記第１ステージの駆動と、前記固定子と前記第２可動子との相互作用による前記第２ステージの駆動とを制御する制御部を更に含み、
前記制御部は、前記第２ステージを移動させているときは、前記第１ステージを移動させないように前記第１ステージの駆動および前記第２ステージの駆動を制御する、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記固定子と前記第１可動子、および前記固定子と前記第２可動子は、それぞれリニアモータを構成していることを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記第１ステージの前記案内部材に沿った移動を案内する接触式の案内機構を備えることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項１０】
基板を露光する露光装置であって、
前記露光装置は、請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載のステージ装置を含み、
前記基板は、前記ステージ装置によって保持されることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置およびそれを用いた露光装置、並びに物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの製造におけるリソグラフィ工程では、マスクを保持するマスクステージとガラス基板を保持する基板ステージとを同期して走査し、マスクのパターンをガラス基板に転写する露光装置が用いられている。このような露光装置においてマスクのパターンをガラス基板に高精度に転写するには、基板ステージが移動する際の振動を抑制することが重要である。そのため、露光装置には、基板ステージをステージ定盤と非接触の状態でガイドする静圧空気軸受（エアベアリング）を採用したステージ装置が用いられている。
【０００３】
近年、ガラス基板の大型化に伴い、基板ステージの大型化と長ストローク化が求められている。そのため、基板ステージをガイドするためのガイドレールを長くする必要がある。しかしながら、エアベアリング用のガイドレールを加工する加工機では、それを加工できる長さに限界があり、その限界以上に長いガイドレールを加工することは困難であった。そこで、複数のガイドレールを結合させて１本の長いガイドレールを形成する方法が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−９５６６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の構成では、複数のガイドレールを結合させて１本の長いガイドレールを形成するため、ガイドレールの結合部分において段差や隙間が生じてしまう。このような段差や隙間は、基板ステージが移動する際の振動を引き起こす原因になるため、それらを限りなく小さくするための調整が必要である。しかし、その調整は露光装置を設置する現場にて行われるため、調整作業に手間がかかり、装置設置期間が長期化するという問題が生じる。
【０００６】
また、エアベアリング用のガイドレールは、石材やセラミックコーティング材などの比較的高価な材料で構成されており、その材料を高精度に加工することも必要になる。即ち、ガイドレールが長くなるほどステージ装置のコストが高くなるという問題も生じる。
【０００７】
そこで、本発明は、エアベアリングを採用したステージ装置を大型化および長ストローク化する上で有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのステージ装置は、基板を移動させるためのステージ装置であって、第１方向に沿って延びた案内部材を有するステージ定盤と、前記案内部材に沿って移動可能な第１ステージと、前記第１ステージによりエアベアリングを介して非接触に支持され、前記第１ステージの上を前記第１方向に沿って移動可能な第２ステージと、前記ステージ定盤により支持された固定子と、前記固定子との相互作用により、前記第１ステージを前記第１方向に駆動するように前記第１ステージに固定された第１可動子と、前記固定子との相互作用により、前記第２ステージを前記第１方向に駆動するように前記第２ステージに固定された第２可動子と、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、エアベアリングを採用したステージ装置を大型化および長ストローク化する上で有利な技術を提供することを目的とする。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１実施形態の露光装置を示す図である。
【図２】第１実施形態のステージ装置の斜視図である。
【図３】第１実施形態のステージ装置をＹ方向から見たときの側面図である。
【図４】第１実施形態のステージ装置をＸ方向から見たときの側面図である。
【図５】第１実施形態のステージ装置の動作を説明するための図である。
【図６】第２実施形態のステージ装置をＸ方向から見たときの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。また、各図において、基板面上で互いに直交する方向をそれぞれｘ方向およびｙ方向とし、基板面に垂直な方向をｚ方向とする。
【００１２】
＜第１実施形態＞
本発明の第１実施形態の露光装置１００について、図１を参照して説明する。図１は、本発明の実施形態に係るステージ装置２０を含むステップアンドスキャン方式の露光装置１００を示す図である。第１実施形態の露光装置１００は、照明光学系４０と、パターンが形成されたマスクＭを保持するマスクステージ装置３０と、投影光学系１０と、基板Ｗを保持するステージ装置２０と、ステージ装置２０を制御する制御部７０とを含む。露光装置１００は、マスクステージ３２に保持されたマスクＭのパターンを、投影光学系１０を介して、ステージ装置２０に保持された基板Ｗに縮小投影することができる。
【００１３】
照明光学系４０は、光源から射出された露光光によってマスクステージ装置３０に保持されたマスクＭを照射する。投影光学系１０は、所定の倍率（例えば１／２倍）を有し、マスクＭに形成されたパターンを基板Ｗに縮小投影する。マスクステージ装置３０は、マスクＭを保持するマスクステージ３２と、マスクステージ３２を基板面において直交する２軸の方向（Ｘ方向およびＹ方向）に移動可能に支持するマスクステージ定盤３１とを含む。また、ステージ装置２０は、基板Ｗを保持する基板ステージ２２と、基板ステージ２２をＸ方向およびＹ方向に移動可能に支持するステージ定盤６０とを含む。ここで、第１実施形態の露光装置１００では、Ｙ方向をスキャン方向（走査方向（第１方向））とし、Ｘ方向をステップ方向（非走査方向（第２方向））とする。また、照明光学系４０とマスクＭとの間には、マスクＭと投影光学系１０を介して基板Ｗ上に結像される像を観察することができる観察光学系４１が配置されている。この観察光学系４１を用いることにより、マスクＭに形成されたアライメントマークと基板Ｗに形成されたアライメントマークとを同時に観察し、マスクＭのパターンと基板Ｗのパターンとを高精度に位置合わせすることができる。
【００１４】
第１実施形態の露光装置１００は、マスクＭを保持するマスクステージ３２と基板Ｗを保持する基板ステージ２２とを同期させ、投影光学系１０の縮小倍率を考慮した速度比でＹ方向に走査する。これにより、マスクＭに形成されたパターンは、基板Ｗに転写される。このようにマスクＭに形成されたパターンが、一回の走査露光によって転写される基板Ｗ上の領域をショット領域という。ここで、露光装置１００では、マスクステージ３２および基板ステージ２２の現在位置を、位置計測部５０ａおよび位置計測部５０ｂによりそれぞれ計測している。位置計測部５０ａは、例えばレーザー干渉計を含み、マスクステージ３２の現在位置を計測する。レーザー干渉計は、マスクステージ３２が備える反射板５５に向けてレーザー光を照射し、反射板５５により反射したレーザー光によりマスクステージにおける基準位置からの変位を検出する。位置計測部５０ａは、レーザー干渉計により検出された変位に基づいてマスクステージ３２の現在位置を算出することができる。同様に、位置計測部５０ｂは、例えばレーザー干渉計を含み、基板ステージ２２の現在位置を計測する。レーザー干渉計は、基板ステージ２２が備える反射板５４に向けてレーザー光を照射し、反射板５４により反射したレーザー光により基板ステージ２２における基準位置からの変位を検出する。位置計測部５０ｂは、レーザー干渉計により検出された変位に基づいて基板ステージ２２の現在位置を算出することができる。
【００１５】
液晶ディスプレイなどの製造におけるリソグラフィ工程では、上述した露光装置１００を用いて、マスクＭのパターンを基板Ｗ（例えばガラス基板）に高精度に転写することが求められている。それには、基板ステージ２２が移動する際の振動を抑制することが重要であるため、露光装置１００には、基板ステージ２２のガイド方式としてエアベアリングを採用したステージ装置２０が用いられている。近年、ガラス基板の大型化に伴い、基板ステージ２２の大型化と長ストローク化が求められている。そのため、基板ステージ２２をガイドするためのガイドレールを長くする必要がある。しかしながら、エアベアリング用のガイドレールを加工する加工機では、それを加工できる長さに限界があり、その限界以上に長いガイドレールを加工することは困難であった。そこで、第１実施形態のステージ装置２０では、露光装置１００の走査方向において、ステージ定盤２１３上で長いストロークを有する第１ステージ２１０と、第１ステージ２１０上で短いストロークを有する第２ステージ２０４との２段構成にしている。例えば、第１ステージ２１０は、少なくとも基板Ｗ（ガラス基板）の長辺の長さ分だけ移動することができ、第２ステージ２０４は、少なくとも１つのショット領域を露光する際の距離だけ移動することができる。以下に、第１実施形態のステージ装置２０の構成および基板を露光する際のステージ装置２０の動作について説明する。
【００１６】
まず、第１実施形態のステージ装置２０の構成について、図２〜図４を参照して説明する。図２は、第１実施形態のステージ装置２０の斜視図であり、図３は、ステージ装置２０をＹ方向から見たときの側面図であり、図４は、ステージ装置２０をＸ方向から見たときの側面図である。ステージ装置２０は、ステージ定盤２１３（６０）、および第１ステージ２１０と第２ステージ２０４と基板保持部２００とを含む基板ステージ２２によって構成されている。また、ステージ装置２０は、第１ステージ２１０をＹ方向に駆動するための第１アクチュエータ２３０と、第２ステージ２０４をＹ方向に駆動するための第２アクチュエータ２３０とを含む。
【００１７】
ステージ定盤２１３は、露光装置１００が設置される床面に、例えばバネ材やダンピング材などにより床面からの振動を抑制可能な振動抑制部（不図示）を介して配置されている。第１ステージ２１０は、リニアガイド２８０を介してステージ定盤２１３により支持されている。リニアガイドは、ステージ定盤２１３の上面に配置されたＹ方向に延びたリニアガイドレール２１２（案内部材）と、第１ステージ２１０の下面に配置され、リニアガイドレール２１２に沿って移動可能なリニアガイドナット２１１とを含む。第１ステージ２１０は、リニアガイドナット２１１がリニアガイドレール２１２に沿ってＹ方向に移動することにより、ステージ定盤２１３上をＹ方向に移動することができる。
【００１８】
第２ステージ２０４は、第１ステージ２１０によりエアベアリングを介して非接触に支持されており、第１ステージ２１０の上をＹ方向（第１方向）に沿って移動可能に構成されている。エアベアリングは、第２ステージ２０４の下面に設置された静圧パッド２０７を含む。そして、第２ステージ２０４の静圧パッド２０７から第１ステージ２１０の上面に設置されたＹガイド２０８に向けて空気を噴出することにより、第２ステージ２０４を第１ステージ２１０と非接触の状態にすることができる。また、第１ステージ２１０と第２ステージ２０４との間には、第２ステージ２０４のヨーイングを抑制するための抑制部２５０が備えられている。抑制部２５０は、第２ステージ２０４の下面に連結部材２１９を介して配置された２枚の静圧パッド２２１（エアベアリング）によって構成されている。この２枚の静圧パッド２２１は、第１ステージ２１０の上面に配置された軸部材２０９（ＹＡＷガイド）を挟み込むように配置されており、軸部材２０９の側面に向けて空気を噴出する。これにより、第２ステージ２０４がＺ軸周りに回転すること（第２ステージ２０４のヨーイング）を抑制することができる。このように第１ステージ２１０の上面に配置されたＹガイド２０８および軸部材２０９は、少なくとも１つのショット領域を露光する際に第２ステージ２０４が走査方向（Ｙ方向）に移動する長さを有している。第２ステージ２０４が移動する長さとは、等速での露光走査を行う距離（例えば１つのショット領域の長さ）と、第２ステージ２０４が加減速する距離と、第２ステージ２０４が移動する際の補正に必要なオフセット距離とを合わせた長さをいう。ここで、第１実施形態では、抑制部２５０の２枚の静圧パッド２２１は第２ステージ２０４に、軸部材２０９は第１ステージ２１０にそれぞれ配置された構成である。しかしながら、それに限られるものではなく、例えば、２枚の静圧パッド２２１を第１ステージ２１０に、軸部材２０９を第２ステージ２０４にそれぞれ配置する構成としてもよい。
【００１９】
基板保持部２００は、チャック２０２と、基板ホルダ２０１と、Ｙバーミラー５４ａと、Ｘバーミラー５４ｂと、Ｘスライダ２０３とを含む。チャック２０２は、基板Ｗを真空吸着により保持しており、基板ホルダ２０１はチャック２０２を支持している。Ｙバーミラー５４ａおよびＸバーミラー５４ｂは、上述した位置計測部５０ｂにおいて、基板ホルダ２０１のＹ方向の現在位置およびＸ方向の現在位置をそれぞれ計測する際に、レーザー干渉計から出射したレーザー光を反射するために用いられる。Ｘスライダ２０３は、基板ホルダ２０１を支持するとともに、第２ステージ２０４によりエアベアリングを介して非接触に支持され、第２ステージ２０４上をＸ方向（非走査方向（第２方向））に沿って移動可能に構成されている。エアベアリングは、Ｘスライダ２０３の下面に設置された静圧パッド２２２を含む。そして、Ｘスライダ２０３の静圧パッド２２２から第２ステージ２０４に向けて空気を噴出することにより、Ｘスライダ２０３を第２ステージ２０４と非接触の状態にすることができる。また、Ｘスライダ２０３と第２ステージ２０４との間には、Ｘスライダ２０３のヨーイングを抑制するための第２抑制部２６０が備えられている。第２抑制部２６０は、Ｘスライダ２０３に形成された溝に配置された２枚の静圧パッド２２３（エアベアリング）によって構成されている。この２枚の静圧パッド２２３は、第２ステージ２０４の上面に配置された第２軸部材２２４（ＹＡＷガイド）を挟み込むように配置されており、第２軸部材２２４の側面に向けて空気を噴出する。これにより、Ｘスライダ２０３がＺ軸周りに回転すること（Ｘスライダ２０３のヨーイング）を抑制することができる。Ｘスライダ２０３は、第２ステージ２０４に接続された固定子２０６とＸスライダ２０３に連結部材２２０を介して接続された可動子２０５とで構成されたアクチュエータ２７０によりＸ方向に駆動される。ここで、第１実施形態では、第２抑制部２６０の２枚の静圧パッド２２３はＸスライダ２０３に、第２軸部材２２４は第２ステージ２０４にそれぞれ配置された構成である。しかしながら、それに限られるものではなく、例えば、２枚の静圧パッド２２３を第２ステージ２０４に、第２軸部材２２４をＸスライダ２０３にそれぞれ配置する構成としてもよい。
【００２０】
第１アクチュエータ２３０は、Ｙ方向（第１方向）に沿って延びた固定子２１５と、その固定子２１５に沿って移動することができる第１可動子２１７とを含むリニアモータによって構成されている。そして、固定子２１５は台２１４を介してステージ定盤２１３により支持されており、第１可動子２１７は連結部材２１８を介して第１ステージ２１０に固定されている。この固定子２１５と第１可動子２１７との相互作用により、第１アクチュエータ２３０は、第１ステージ２１０をＹ方向に駆動することができる。また、第２アクチュエータ２４０は、Ｙ方向（第１方向）に沿って延びた固定子２１５と、その固定子２１５に沿って移動することができる第２可動子２１６とを含むリニアモータによって構成されている。第１実施形態において、第２アクチュエータ２４０の固定子２１５は、第１アクチュエータ２３０の固定子２１５と同じである。即ち、固定子２１５において第１可動子２１７を移動させるために機能する部分と、固定子２１５において第２可動子２１６を移動させるために機能する部分とが共通している。第２アクチュエータ２４０の第２可動子２１６は、第１アクチュエータ２３０の可動子２１７と別のものであり、第２ステージ２１０に固定されている。この固定子２１５と第２可動子２１６との相互作用により、第２アクチュエータ２４０は、第２ステージ２１０をＹ方向に駆動することができる。このように、第１アクチュエータ２３０および第２アクチュエータ２４０はそれぞれステージ定盤２１３により支持された固定子２１５を用いている。そのため、例えば、第１実施形態のステージ装置２０において第２ステージ２０４を移動させた場合、第２ステージ２０４の移動に伴う反力はステージ定盤２１３に伝わり、第１ステージ２１０には伝わらない。即ち、第１実施形態のステージ装置２０では、第１ステージ２１０および第２ステージ２０４のどちらか一方の移動に伴う反力に、それらの他方が影響されることを抑制することができる。一方で、基板ステージを２段構成とした従来のステージ装置では、例えば、第２ステージ２０４を駆動する第２アクチュエータ２４０の固定子は、第１ステージ２１０により支持されている。この場合、第２ステージ２０４の移動に伴う反力が第１ステージ２１０に影響してしまい、第１ステージ２１０および第２ステージ２０４の駆動を制御することが困難になってしまいうる。
【００２１】
ここで、第１実施形態の固定子２１５は、上述したように第１アクチュエータ２３０と第２アクチュエータ２４０とで共通の部分を使用している。しかしながら、これに限られるものではなく、第１アクチュエータ用の第１固定子と第２アクチュエータ用の第２固定子とを含む構成、即ち、第１アクチュエータ２３０と第２アクチュエータ２４０とで別々の部分を使用するような構成としてもよい。この場合であっても、第１アクチュエータ用の第１固定子および第２アクチュエータ用の第２固定子は、ステージ定盤２１３によりそれぞれ支持される。また、第１アクチュエータ２３０および第２アクチュエータ２４０は、リニアモータによる駆動方式を採用しているが、例えばラックアンドピニオンやボールねじによる駆動方式を採用してもよい。
【００２２】
次に、基板Ｗを露光する際におけるステージ装置２０の動作について、図５を参照して説明する。図５は、基板Ｗを露光する際のステージ装置２０の動作を示す図である。図５において、図５（Ａ）は所定のショット領域（以下、所定ショット領域と示す）の露光を開始する際の基板ステージ２２の位置を示す図であり、図５（Ｂ）は所定ショット領域の露光が終了した際の基板ステージ２２の位置を示す図である。ここで、ステージ装置２０の動作は、制御部７０により制御される。
【００２３】
第１実施形態のステージ装置２０では、基板Ｗを露光する際、第１ステージ２１０を移動させずに、第２ステージ２０４のみを移動させる。例えば、第２ステージ２０４を−Ｙ方向に走査させて所定ショット領域を露光する場合、図５（Ａ）に示すように、所定ショット領域の露光を開始する位置に第２ステージ２０４を移動させる。このとき、第１ステージ２１０は、第２ステージ２０４が第１ステージ２１０上のＹ方向側の端部に位置するように配置される。そして、所定ショット領域を露光する際には、第１ステージ２１０を移動させずに第２ステージ２０４のみを−Ｙ方向に移動させる。このように第１実施形態のステージ装置では、第２ステージ２０４のみを移動させて所定ショット領域を露光する。そのため、所定ショット領域の露光が終了した際には、図５（Ｂ）に示すように、第１ステージ２１０の位置は変わらず、第２ステージ２０４の位置は第１ステージ２１０上の−Ｙ方向側の端部にくる。また、所定ショット領域の露光が終了した後は、その次のショット領域の露光を開始する位置に第２ステージ２０４を移動させるともに、第２ステージ２０４が第１ステージ２１０上のＹ方向側の端部に位置するように第１ステージ２１０を移動させる。そして、上述した所定ショット領域を露光するときと同様に、次のショット領域の露光が行われる。このように、第１実施形態のステージ装置２０では、各ショット領域を露光する際、第１ステージ２１０を移動させずに、エアベアリングを介して第１ステージ２１０と非接触に支持されている第２ステージ２０４のみを移動させている。そのため、各ショット領域を露光する際、第２ステージ２０４に振動が生じることを抑制することができる。
【００２４】
上述したように、第１実施形態のステージ装置２０は、露光装置１００の走査方向（Ｙ方向）において、ステージ定盤２１３上で長いストロークを有する第１ステージ２１０と、第１ステージ２１０上で短いストロークを有する第２ステージ２０４とを含む。そして、第２ステージ２０４は、エアベアリングを介して第１ステージ２１０により非接触に支持されているため、各ショット領域を露光する際に生じる振動を抑制することができる。一方で、第１ステージ２１０は、リニアガイド２８０を介してステージ定盤２１３により支持されている。なお、本明細書において、「リニアガイド」という用語は、接触式の軸受を用いた直動案内機構と同義のものとして使用される。接触式の軸受として、例えば、転がり軸受が挙げられる。リニアガイドは、一般に、エアベアリングと比較して、第１ステージ２１０の移動による振動の影響は大きいものの、安価であり、リニアガイドレール２１２の延長およびその調整も容易である。そのため、リニアガイドレール２１２の延長が可能な限り、基板ステージ２２のＹ方向の駆動範囲を拡張することができ、ステージ装置２０の大型化、長ストローク化に容易に対応することができる。即ち、第１実施形態のステージ装置は、エアベアリングによる振動の抑制を有しつつ、ステージ装置２０の大型化および長ストローク化に容易に対応することができる。
【００２５】
＜第２実施形態＞
本発明の第２実施形態のステージ装置８０について、図６を参照して説明する。図６は、第２実施形態のステージ装置８０をＸ方向から見たときの側面図である。第２実施形態のステージ装置８０は、第１実施形態のステージ装置２０と比較して、第１ステージ２１０の大きさ（Ｙ方向の長さ）が異なり、基板Ｗを露光する際に第２ステージ２０４が第１ステージ２１０上で移動しない構成となっている。
【００２６】
第２実施形態では、第１ステージ２１０におけるＹガイド２０８および軸部材２０９（ＹＡＷガイド）は第２ステージ２０４のＹ方向の長さ分しかなく、第２ステージ２０４は第１ステージ２１０上を移動することができない。そのため、基板を露光する際には、第１実施形態とは異なり、第２ステージ２０４を第１ステージ２１０に対して相対的に移動させずに、第１ステージ２１０をステージ定盤２１３上で移動させる。このように、基板Ｗを露光する際に第１ステージ２１０を移動させると、第１ステージ２１０はステージ定盤２１３によりリニアガイド２８０を介して支持されているため、第１ステージ２１０の移動に伴う振動が発生してしまう。しかしながら、第２ステージ２０４はエアベアリングを介して第１ステージ２１０により支持されているため、第１ステージ２１０の移動により振動が発生したとしても、その振動が第２ステージ２０４に伝わることを抑制することができる。
【００２７】
上述したように、第２実施形態のステージ装置は、第１実施形態のステージ装置と同様に、エアベアリングによる振動の抑制を有しつつ、ステージ装置２０の大型化および長ストローク化に容易に対応することができる。さらに、第２実施形態のステージ装置は、第１ステージ２１０に配置されたＹガイド２０８、軸部材２０９（ＹＡＷガイド）および第１ステージ２１０自体の大きさを最小限の大きさにしているため、ガイド部材の材料費や加工コストを低く抑えることができる。
【００２８】
ここで、第２実施形態において、Ｘスライダ２０３をＸ方向に駆動させるためのアクチュエータ２７０の固定子２０６は、図６では第２ステージ２０４に接続されているが、それに限られるものではなく、例えば第１ステージ２１０に接続しても良い。この場合、Ｘスライダ２０３がＸ方向に移動した際の反力は第２ステージ２０４には伝わらず、第１ステージ２１０に直接伝わるため、第２ステージのヨーイングを小さくすることができる。即ち、第１ステージ２１０と第２ステージ２０４との間に備えられた抑制部２５０において、例えば、静圧パッド２２１の枚数を少なくするなど、抑制部２５０の規模を小さくすることができる。
【００２９】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかける物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３０】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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