(57)【要約】【課題】放射線検出装置のシンチレータ層に加わる応力を緩和するための技術を提案する。【解決手段】放射線検出装置は、光を電荷に変換する光電変換部を有するセンサパネルと、センサパネルの光電変換部の上にあり、光電変換部が変換可能な波長の光に放射線を変換するシンチレータ層と、シンチレータ層の上にあり、シンチレータ層で発生した光の一部をセンサパネルへ向けて反射する反射層と、シンチレータ層を反射層の上から覆う保護層とを備え、シンチレータ層はセンサパネルに固定され、反射層は保護層に固定され、シンチレータ層及び反射層が保護層及びセンサパネルによって封止されるように、保護層の一部が接着剤でセンサパネルに接着され、シンチレータ層の上面は反射層に固定されていない部分を含む。【選択図】図１
2014185857.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を電荷に変換する光電変換部を有するセンサパネルと、
前記センサパネルの前記光電変換部の上にあり、前記光電変換部が変換可能な波長の光に放射線を変換するシンチレータ層と、
前記シンチレータ層の上にあり、前記シンチレータ層で発生した光の一部を前記センサパネルへ向けて反射する反射層と、
前記シンチレータ層を前記反射層の上から覆う保護層とを備え、
前記シンチレータ層は前記センサパネルに固定され、
前記反射層は前記保護層に固定され、
前記シンチレータ層及び前記反射層が前記保護層及び前記センサパネルによって封止されるように、前記保護層の一部が接着剤で前記センサパネルに接着され、
前記シンチレータ層の上面は前記反射層に固定されていない部分を含むことを特徴とする放射線検出装置。
【請求項２】
前記接着剤は、前記反射層及び前記シンチレータ層から離れていることを特徴とする請求項１に記載の放射線検出装置。
【請求項３】
前記センサパネルは前記光電変換部が配されたセンサ基板を有し、
前記反射層の熱膨張係数は、前記センサ基板の熱膨張係数よりも大きく、前記保護層の熱膨張係数よりも小さいことを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線検出装置。
【請求項４】
前記シンチレータ層の上面の一部は前記反射層に接していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項５】
前記シンチレータ層の上面の一部と前記反射層との間に隙間を有することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項６】
前記シンチレータ層は、蒸着によって形成された柱状結晶の集合体を含み、
前記柱状結晶の集合体のうち異常成長した柱状結晶の先端が前記反射層に埋め込まれていることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項７】
前記保護層は金属材料を含むことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項８】
前記保護層は絶縁体であることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項９】
前記反射層は、粒子状の無機材料と、前記無機材料を保持する有機材料とを含むことを特徴とする請求項８に記載の放射線検出装置。
【請求項１０】
前記光電変換部が変換可能な波長のうち少なくとも一部の波長の光について、前記反射層の反射率は８０％以上であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項１１】
前記反射層は、前記シンチレータ層の上面を覆う第１部分と、前記シンチレータ層の側面を覆う第２部分とを有し、
前記第１部分と前記第２部分との間に切り込みを有することを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項１２】
前記反射層は、前記シンチレータ層の上面を覆う第１部分と、前記シンチレータ層の側面を覆う第２部分とを有し、
前記保護層と前記反射層との間に、前記反射層の前記第２部分を、前記第２部分で覆われる前記シンチレータ層の側面に向けて押さえる浮き防止部材をさらに有することを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れか１項に記載の放射線検出装置と、
前記放射線検出装置によって得られた信号を処理する信号処理手段と
を備えることを特徴とする放射線検出システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線検出装置及び放射線検出システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、光電変換素子を有するアレイ基板の上にシンチレータ層を形成した放射線検出装置を提案する。シンチレータ層はＡＬからなる防湿層によって覆われており、この防湿層は、シンチレータで発生した光のうちアレイ基板とは逆方向に進む光をセンサパネルへ向けて反射するための反射層としても機能する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−３７４５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載された放射線検出装置では、解像度を向上するために、シンチレータ層の上面を覆う防湿層がシンチレータ層に密着している。そのため、防湿層が熱膨張した場合に、シンチレータ層に応力がかかり、シンチレータ層が剥がれる可能性がある。そこで、本発明は放射線検出装置のシンチレータ層に加わる応力を緩和するための技術を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題に鑑みて、本発明の１つの側面に係る放射線検出装置は、光を電荷に変換する光電変換部を有するセンサパネルと、前記センサパネルの前記光電変換部の上にあり、前記光電変換部が変換可能な波長の光に放射線を変換するシンチレータ層と、前記シンチレータ層の上にあり、前記シンチレータ層で発生した光の一部を前記センサパネルへ向けて反射する反射層と、前記シンチレータ層を前記反射層の上から覆う保護層とを備え、前記シンチレータ層は前記センサパネルに固定され、前記反射層は前記保護層に固定され、前記シンチレータ層及び前記反射層が前記保護層及び前記センサパネルによって封止されるように、前記保護層の一部が接着剤で前記センサパネルに接着され、前記シンチレータ層の上面は前記反射層に固定されていない部分を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
上記手段により、放射線検出装置のシンチレータ層に加わる応力を緩和するための技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の実施形態に係る放射線検出装置の構成例を説明する図。
【図２】本発明の実施形態に係る反射層の反射率を説明するグラフ。
【図３】本発明の実施形態に係る放射線検出装置の変形例を説明する図。
【図４】本発明の実施形態に係る放射線検出装置の製造方法例を説明する図。
【図５】本発明の実施形態に係る放射線検出装置の製造方法の別の例を説明する図。
【図６】本発明の実施形態に係る放射線検出システムの構成例を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
添付の図面を参照しつつ本発明の実施形態について以下に説明する。様々な実施形態を通じて同様の要素には同一の参照符号を付して重複する説明を省略する。また、各実施形態は適宜変更、組み合わせが可能である。
【０００９】
図１を参照して、一部の実施形態に係る放射線検出装置１００の構成例を説明する。図１は放射線検出装置１００の断面図である。放射線検出装置１００は、センサパネル１１０、シンチレータ層１２０、反射層１３０及びシンチレータ保護層１４０を有しうる。
【００１０】
センサパネル１１０は、光を電荷に変換できればどのような構成であってもよく、例えば既存の構成であってもよいので、その一例を以下に簡単に説明する。１つの例におけるセンサパネル１１０は、センサ基板１１１と、センサ基板１１１に形成された画素アレイ１１２と、画素アレイ１１２を覆うセンサ保護層１１３とを有しうる。センサ基板１１１は、例えばガラス、耐熱性プラスチック等の材料で形成されうる。画素アレイ１１２は光電変換部として機能しうる。画素アレイ１１２は、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）等の半導体を用いて形成された光電変換素子及びスイッチ素子を含む複数の画素、スイッチ素子に駆動信号を供給するための信号線などを有しうる。複数の画素は二次元アレイ状に配置されてもよい。光電変換素子はＭＩＳ型、ＰＩＮ型などの何れの構成であってもよく、光を電荷に変換する。スイッチ素子はＴＦＴなどのトランジスタで形成されうる。センサ保護層１１３は画素アレイ１１２を全面的に覆って画素アレイ１１２を保護する。すなわち、センサ保護層１１３の上面の面積は、画素アレイ１１２の上面の面積よりも大きい。センサ保護層１１３は、例えばシリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、パラキシリレンやアクリル等の有機物質を含む樹脂で形成され、特に熱硬化型のポリイミド系樹脂で形成されてもよい。センサ保護層１１３は、シンチレータ層１２０の蒸着やアニール処理のような高温条件を伴う処理において劣化しないように、耐熱性を有する樹脂を用いて形成されてもよい。
【００１１】
シンチレータ層１２０は、センサパネル１１０の画素アレイ１１２を覆う位置に配され、放射線検出装置１００に入射した放射線を、画素アレイ１１２の光電変換素子が変換可能な波長の光（例えば、可視光）に変換する。放射線は、例えばＸ線、α線、β線又はγ線でありうる。放射線は放射線検出装置１００に対して、シンチレータ層１２０側（図面上側）から入射してもよいし、センサパネル１１０側（図面下側）から入射してもよい。シンチレータ層１２０は、例えばハロゲン化アルカリのシンチレータによって形成されうる。シンチレータ層１２０は、センサパネル１１０のセンサ保護層１１３にＣｓＩ：ＮａおよびＣｓＩ：Ｔｌ等のハロゲン化アルカリを蒸着することによって、柱状結晶の集合体が形成されてもよい。この場合に、シンチレータ層１２０はセンサパネル１１０に固定される。シンチレータ層１２０はセンサパネル１１０の画素アレイ１１２の全面を覆う位置に配されうる。画素アレイ１１２が四角形である場合に、シンチレータ層１２０の上面及び底面も四角形であってもよく、シンチレータ層１２０の上面及び底面は、画素アレイ１１２よりも大きくてもよい。また、シンチレータ層１２０の４つの側面は、センサパネル１１０の表面（例えば、センサ保護層１１３の上面）に対して直交してもよいし、傾斜していてもよい。図１に示される例では、シンチレータ層１２０の側面は、側面と底面とのなす角が鋭角となるように傾斜している。
【００１２】
反射層１３０は、シンチレータ層１２０で発生した光の一部をセンサパネル１１０へ向けて反射する。シンチレータ層１２０が柱状結晶の集合体である場合に、シンチレータ層１２０で発生した光は、この結晶に沿って上下に向かう。このうち、上方向（センサパネル１１０から離れる方向）に進んだ光は反射層１３０で反射して下方向（センサパネル１１０に近づく方向）に戻り、センサパネル１１０に入射する。このように、放射線検出装置１００が反射層１３０を有することによって、センサパネル１１０に到達する光の量を増やすことができる。
【００１３】
反射層１３０を金属等の導電性物質で形成すると、シンチレータ層１２０の影響によって反射層１３０に電気化学的腐食が発生する可能性がある。そこで、本実施形態では、反射層１３０を絶縁体で形成する。反射層１３０は、例えば粒子状の無機材料を、有機材料のバインダー樹脂（保持部材）に練りこんでシート状に加工した部材でありうる。無機材料として、例えば二酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、二酸化珪素酸化チタン等を用いうる。反射層１３０の材料として、液晶用バックライトの反射板用途で市販されている白色フィルムや白色ＰＥＴを使用してもよい。より具体的には、反射層１３０の材料として、東レ株式会社製のルミラー（登録商標）Ｅ２０、株式会社きもと製のレフホワイト、三井化学株式会社製のホワイトレフスター（登録商標）等を用いてもよい。
【００１４】
図２を参照して、上述の市販の材料の光の反射率を説明する。５５０ｎｍの波長の光に対するアルミシートの光沢面の反射率を１とした場合に、様々な材料と厚さの組合せについて、５５０ｎｍの波長の光に対する反射率を示す。反射率の測定には、大塚電子株式会社の瞬間マルチ測光システム（ＭＣＰＤ−７００）を用いた。いずれも、アルミシートよりも光の反射率が大きいことがわかる。具体的には、アルミシートの反射率が８０％であり、上述の市販の何れの材料も８０％以上の反射率を有していた。従って、これらの材料を用いて反射層１３０を形成することによって、アルミシートを用いて反射層を形成した場合よりも、効率よくセンサパネル１１０へ向けて光を反射することができる。また、反射層１３０の厚さは例えば１０〜５００μｍの範囲に含まれてもよく、工程内の作業性や特性バランスを考慮すると３８〜１８８μｍの範囲に含まれてもよい。図２のグラフでは５５０ｎｍの波長の光を例に挙げたが、これはシンチレータ層１２０がＣｓＩ：Ｔｌで形成された場合に、シンチレータ層１２０で発生する可視光のピークが５５０ｎｍ付近にあるためである。他の波長の光において、アルミシートの反射率よりも大きくなるような材料・厚さで反射層１３０を形成してもよい。例えば、センサパネル１１０の光電変換素子が可視光を変換可能である場合に、可視光の波長のうちの少なくとも一部の波長について、反射層１３０の反射率が８０％以上となるように材料・厚さを選択しうる。
【００１５】
図１に示される実施形態では、反射層１３０は、シンチレータ層１２０の上面と、４つの側面とを覆う形状を有する。他の実施形態では、反射層１３０はシンチレータ層１２０の上面のみを覆い、シンチレータ層１２０の側面の一部又は全部を覆わなくてもよい。反射層１３０は、シンチレータ層１２０の上面の一部に接していてもよい。これによって、シンチレータ層１２０の上面と反射層１３０との間での散乱光が低減し、放射線検出装置１００の解像度が向上する。さらに、シンチレータ層１２０の上面の一部と反射層１３０との間に隙間（空間）を有してもよい。この空間には気体が混入していてもよいし、真空であってもよい。
【００１６】
シンチレータ保護層１４０は、シンチレータ層１２０を外気からの水分の侵入や衝撃による構造破壊から保護しうる。シンチレータ保護層１４０は水分透過率の低い材料で形成されてもよく、例えばＡｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｎｉなどの金属材料で形成された箔、シート又は板形状や、これらの箔を混ぜ込んだ導電性塗料、ステンレス繊維を分散させた導電性高分子などが用いられる。例えば、加工性や材料価格等での優位性から、シンチレータ保護層１４０として、Ａｌを使用した箔・シート・板形状を用いてもよい。また、上記の金属箔をフィルム状の樹脂と貼り合わせることで、箔形状の安定化や作業性の向上を図ってもよい。この樹脂として、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、アクリル等のフィルム材料が用いられる。ここで、あらかじめシンチレータ保護層１４０に、反射層１３０を粘着シート等の保持層（不図示）で貼り合わせておくと、センサパネル１１０と反射層１３０との位置ずれを防止できる。
【００１７】
シンチレータ保護層１４０は、センサパネル１１０に対して接着剤１５０によって接着（固定）される。接着剤１５０の材料として、例えばポリイミド系、エポキシ系、ポリオレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリアミド系のホットメルト樹脂を用いうる。または、接着剤１５０の材料として、ゴム系接着剤、アクリル系接着剤、スチレン・共役ジエンブロック共重合体系接着剤、シリコーン系接着剤などを用いうる。接着剤１５０の厚さは、接着強度を確保するために、１μｍにしうる。接着剤１５０の厚さは、例えば、１〜８００μｍでありうる。シンチレータ層１２０は、接着剤１５０と、センサパネル１１０と、シンチレータ保護層１４０とによって気密に封止される。
【００１８】
図１の例では、接着剤１５０は、センサ基板１１１の画素アレイ１１２が配された面（上面）のうち、画素アレイ１１２の周囲の部分に固定されるとともに、シンチレータ保護層１４０の底面のうち外周部分に固定される。これに代えて、接着剤１５０は、センサ基板１１１の側面や、画素アレイ１１２が配された面の反対側の面（裏面）に固定されてもよい。接着剤１５０はシンチレータ層１２０及び反射層１３０から離れて配される。本実施形態では、シンチレータ保護層１４０がシンチレータ層１２０に固定されない部分を有するので、シンチレータ保護層１４０の熱膨張や外部からの衝撃による変位がシンチレータ層１２０に伝わることを抑制できる。その結果、シンチレータ層１２０がセンサパネル１１０から剥離する可能性を低減できる。シンチレータ層１２０の上面は、反射層１３０に全く固定されなくてもよいし、一部のみが反射層１３０に固定されてもよい。これにより、放射線検出装置１００への熱衝撃によってシンチレータ層１２０に加わる応力を緩和できる。
【００１９】
反射層１３０の熱膨張係数が、センサ基板１１１の熱膨張係数よりも大きく、シンチレータ保護層１４０の熱膨張係数よりも小さくなるように、センサ基板１１１、反射層１３０及びシンチレータ保護層１４０のそれぞれの材料を選択してもよい。例えば、シンチレータ保護層１４０の材料をＡｌ（熱膨張係数は２３×１０-6）とし、反射層１３０の材料をルミラーＥ２０（熱膨張係数は１５×１０-6）とし、センサ基板１１１の材料をガラス（熱膨張係数は３．８×１０-6）とする。このように材料を選択することによって、放射線検出装置１００への熱衝撃によるシンチレータ保護層１４０、反射層１３０及びセンサ基板１１１の変位は、シンチレータ保護層１４０の変位が大きく、センサ基板１１１の変位が小さい。このように材料を選択することにより、放射線検出装置１００への熱衝撃によってシンチレータ層１２０に係る応力を緩和できる。
【００２０】
放射線検出装置１００は、配線基板１６０及び電気回路基板１７０をさらに有しうる。電気回路基板１７０は、例えばガラスエポキシ、紙フェノール、紙エポキシ等を素材とした基板に、銅箔など導電体で形成された回路パターンやＩＣ１７１が実装されたものである。ＩＣ１７１は、画素アレイ１１２の動作を制御するための集積回路である。配線基板１６０は、例えばポリイミドやポリエステルなどのフィルムの基材の上に、薄い銅箔の配線パターンを形成し、ＩＣ１６１を配置し、表面保護のための絶縁フィルムで被覆されたフレキシブル配線基板でありうる。センサ基板１１１と配線基板１６０、及び配線基板１６０と電気回路基板１７０は、例えば、銀や金等の導電フィラーと、アクリルやエポキシ等の樹脂バインダーとを混合した導電性接着剤で接続されうる。
【００２１】
続いて、図３を参照して、図１に示された放射線検出装置１００の変形例を説明する。図３（ａ）〜図３（ｄ）として、放射線検出装置１００の４つの変形例が説明されるが、これらのうちの２つ以上の任意に組み合わせることもできる。図３（ａ）は放射線検出装置１００の変形例の一部分に着目した断面図である。この変形例では、反射層１３０を、シンチレータ層１２０の上面を覆う部分１３０ａ（第１部分）とシンチレータ層１２０の側面を覆う部分１３０ｂ（第２部分）とに分けた場合に、反射層１３０は部分１３０ａと部分１３０ｂとの間に切り込み１３０ｃを有する。反射層１３０が切り込み１３０ｃを有することで、反射層１３０がシンチレータ層１２０の表面（上面及び側面）に追従しやすくなり、接着剤１５０が反射層１３０から受ける応力が低減する。その結果、接着剤１５０による封止効果の低減を抑制でき、放射線検出装置１００の耐湿性が向上する。この変形例は、反射層１３０の厚さが厚い場合（例えば、１００μｍ以上の場合）に効果的である。
【００２２】
図３（ｂ）は、放射線検出装置１００の変形例において、放射線検出装置１００に取り付ける前の反射層１３０の平面図を示す。反射層１３０は四角形の形状を有し、その四隅に切り欠き１３０ｄを有する。これにより、放射層１３０のうちシンチレータ層１２０の側面を覆う部分１３０ｂ同士が分離する。このように切り欠き１３０ｄを有することによって、反射層１３０がシンチレータ層１２０の表面（上面及び側面）に追従しやすくなり、接着剤１５０が反射層１３０から受ける応力が低減する。
【００２３】
図３（ｃ）は、放射線検出装置１００の別の変形例の一部分に着目した断面図である。この変形例において、放射線検出装置１００は、反射層１３０とシンチレータ保護層１４０との間に浮き防止部材３０１をさらに有する。具体的には、浮き防止部材３０１は、反射層１３０のうちシンチレータ層１２０の側面を覆う部分１３０ｂに接する位置に配される。シンチレータ保護層１４０が接着剤１５０によってセンサパネル１１０に固定されているので、浮き防止部材３０１はシンチレータ保護層１４０に押されて、反射層１３０の部分１３０ｂをシンチレータ層１２０の側面に向けて押さえるように力が働く。放射線検出装置１００がこの位置に浮き防止部材３０１を有することによって、反射層１３０がシンチレータ層１２０から離れてしまうことを防止できる。浮き防止部材３０１は、反射層１３０を取り囲む一体部材であってもよいし、複数の部材からなり、それぞれの部材が反射層１３０の異なる位置に接してもよい。浮き防止部材３０１の厚さは接着剤１５０の厚さよりも大きくてもよい。ここで、浮き防止部材３０１の厚さとは、例えば反射層１３０との接点からシンチレータ保護層１４０との接点までの距離の最小値又は最大値でありうる。また、接着剤１５０の厚さとは、例えばセンサパネル１１０との接点からシンチレータ保護層１４０との接点までの距離の最小値又は最大値でありうる。浮き防止部材３０１は、例えばポリイミド系、エポキシ系、ポリオレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリアミド系のホットメルト樹脂で形成されうる。または、浮き防止部材３０１は、ゴム系接着剤、アクリル系接着剤、スチレン・共役ジエンブロック共重合体系接着剤、シリコーン系接着剤、発泡ゴム、多孔質ゴムやこれらの組み合せで形成されうる。
【００２４】
図３（ｄ）は、放射線検出装置１００の別の変形例の一部分に着目した断面図である。この変形例において、シンチレータ層１２０は、柱状結晶の異常成長によって周囲よりも高さが高い凸部１２０ａを有する。ＣｓＩ：ＮａおよびＣｓＩ：Ｔｌ等のハロゲン化アルカリを蒸着することによってシンチレータ層１２０を形成した場合に、このような凸部１２０ａが発生しうる。図１の例では、凸部１２０ａの先端は反射層１３０に埋め込まれている。反射層１３０の材料として、凸部１２０ａの高さ（凸部１２０ａの頂点と、凸部１２０ａの周辺の柱状結晶の頂点との差）よりも厚さが大きなものを用いてもよい。反射層１３０を十分な厚さとすることで、凸部１２０ａが反射層１３０を貫通してシンチレータ保護層１４０まで到達することを防止できる。これによって、シンチレータ保護層１４０が金属を含む場合に、この金属の電気化学的腐食を防止できる。反射層１３０とシンチレータ保護層１４０と粘着シート等の保持層（不図示）で貼り合わせている場合に、反射層１３０の厚さと保持層の厚さとの合計が、凸部１２０ａの高さよりも大きければよい。
【００２５】
続いて、図４を参照して、放射線検出装置１００の製造方法例を説明する。図４（ａ）に示されるように、まず、上述のセンサパネル１１０の上にシンチレータ層１２０が形成された構造体を準備する。この構造体は既存の方法で形成されてもよいので、その製造方法の説明を省略する。平坦な表面を有するステージの上に、シンチレータ層１２０がセンサパネル１１０の上にくるように設置し、シンチレータ層１２０の上から金属製のロールで加圧することによって、シンチレータ層１２０の異常成長による凸部の高さを低減してもよい。
【００２６】
この準備した構造体を、真空プレス機４００の加熱ステージ４０１の上に、シンチレータ層１２０がセンサパネル１１０の上にくるように設置する。その後、シンチレータ層１２０の上に、反射層１３０とシンチレータ保護層１４０とを順に配置する。シンチレータ保護層１４０の底面の外周部分には接着剤１５０が反射層１３０全体を囲むように塗布されている。接着剤１５０の材料として例えばホットメルト樹脂を用いうる。ホットメルト樹脂は例えばディスペンサを用いて塗布しうる。反射層１３０の材料として例えばルミラーＥ２０を用いる。反射層１３０とシンチレータ保護層１４０とは、粘着剤等で固定した後にシンチレータ層１２０の上に配置されてもよい。
【００２７】
次に、図４（ｂ）に示されるように、（ダイヤフラムゴムなどの）プレス部材４０２と加熱ステージ４０１との間の空間を減圧するとともに、プレス部材４０２とヒータ４０３との間の空間を加圧する。加圧圧力は例えば１〜５０ｋｇ／ｃｍ2の範囲になるように調整する。これとともに、加熱ステージ４０１でセンサ基板１１１を加熱するとともに、ヒータ４０３で真空プレス機４００内の空気を加熱する。これにより、プレス部材４０２によって、シンチレータ保護層１４０がセンサ基板１１１に向けて押圧され、接着剤１５０がセンサ基板１１１の表面に圧着される。その後、加熱ステージ４０１及びヒータ４０３の加熱を停止し、放熱により真空プレス機４００内の空気を冷却する。その後、真空プレス機４００内の空気圧を元に戻し、反射層１３０及びシンチレータ保護層１４０が取り付けられたセンサパネル１１０を取り出す。接着剤１５０を構成するホットメルト樹脂は溶融開始温度よりも１０〜６０℃程高い温度で、数秒〜数分加熱することで溶融し、接着可能になる。加熱加圧処理（ヒートシール）により、接着剤１５０の厚さが処理前よりも小さくなり、シンチレータ層１２０の耐湿性が向上する。また、シンチレータ層１２０の凸部１２０ａは反射層１３０よりも固いため、上述の加圧処理によって、凸部１２０ａの上部は反射層１３０に埋め込まれる。
【００２８】
次に、図５を参照して、図３（ｃ）に示される放射線検出装置１００の変形例の製造方法を説明する。まず、図５（ａ）に示されるように、反射層１３０の内側部分（放射線検出装置１００においてシンチレータ層１２０の上面を覆う部分）をシンチレータ保護層１４０に粘着シート等で貼り合わせる。シンチレータ保護層１４０には接着剤１５０が塗布されている。その後、反射層１３０の外側部分（放射線検出装置１００においてシンチレータ層１２０の側面を覆う部分）を中心側に折り曲げ、テープ等で仮固定する。その後、シンチレータ保護層１４０と反射層１３０との隙間に浮き防止部材３０１を配置し、仮固定に用いたテープ等を除去する。その後、図５（ｂ）に示されるように、反射層１３０とシンチレータ保護層１４０とをシンチレータ層１２０の上に設置し、図４と同様にしてシンチレータ保護層１４０をセンサ基板１１１の表面に圧着する。
【００２９】
図６は本発明に係る放射線用の検出装置の放射線診断システム（放射線検出システム）への応用例を示した図である。Ｘ線チューブ６０５０（放射線源）で発生した放射線としてのＸ線６０６０は、被験者又は患者６０６１の胸部６０６２を透過し、放射線検出装置６０４０に入射する。放射線検出装置６０４０は上述の放射線検出装置のいずれであってもよい。この入射したＸ線には患者６０６１の体内部の情報が含まれている。Ｘ線の入射に対応してシンチレータは発光し、これを光電変換して、電気的情報を得る。この情報はデジタル信号に変換され信号処理部となるイメージプロセッサ６０７０により画像処理され制御室の表示部となるディスプレイ６０８０で観察できる。なお、放射線検出システムは、放射線検出装置と、放射線検出装置からの信号を処理する信号処理部とを少なくとも有する。
【００３０】
また、この情報は電話回線６０９０等の伝送処理部により遠隔地へ転送でき、別の場所のドクタールームなど表示部となるディスプレイ６０８１に表示もしくは光ディスク等の記録部に保存することができ、遠隔地の医師が診断することも可能である。また記録部となるフィルムプロセッサ６１００により記録媒体となるフィルム６１１０に記録することもできる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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