(57)【要約】【課題】各受光素子の受光量の差異を低減する。【解決手段】撮像装置１００は、複数の受光素子１４が配置された受光領域Ｘを有する受光部１０と、受光部１０と被写体２００との間に配置された光源部３６とを具備する。光源部３６は、被写体２００に光を照射する発光部５０と、被写体２００から到来する光を受光部１０側に透過させる透過部６０とを有する。発光部５０は、平面視で受光領域Ｘに重なる第１領域Ｙ1と、平面視で受光領域Ｘの外側に位置する第２領域Ｙ2とに配置される【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の受光素子が配置された受光領域を有する受光部と、
前記受光部と被写体との間に配置された光源部とを具備し、
前記光源部は、前記被写体に光を照射する発光部と、前記被写体から到来する光を前記受光部側に透過させる透過部とを有し、
前記発光部は、平面視で前記受光領域に重なる第１領域と、平面視で前記受光領域の外側に位置する第２領域とに配置される
撮像装置。
【請求項２】
前記発光部は、前記受光領域の垂線に対して傾斜した方向に特定波長の光を出射し、
前記透過部は、前記被写体側から到来する光のうち前記特定波長の光を選択的に前記受光部側に透過させる
請求項１の撮像装置。
【請求項３】
前記被写体から到来する光を集光して前記受光部側に出射する集光部
を具備する請求項１または請求項２の撮像装置。
【請求項４】
前記第２領域は、前記第１領域の全周縁にわたり設けられている
請求項１から請求項３の何れかの撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被写体を撮像する撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
生体認証のために生体の静脈像を撮像する各種の技術が従来から提案されている。例えば特許文献１には、被写体（被認証者の手指）を挟んで相互に対向するように光源部と撮像部とを配置し、光源部から出射して被写体を透過した光を撮像部で撮像する指認証装置が開示されている。
【０００３】
特許文献１の技術では、被写体を挟んで対向するように光源部と撮像部とを配置する必要があるため、装置の小型化が困難であるという問題がある。以上の問題を解決する観点から、例えば特許文献２には、光源層と検出層とを基板の表面に積層した構造の撮像装置が開示されている。光源層に設けられた光源素子により被写体に光を照射して、被写体を通過した光が検出層の各受光素子で検出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３０６３２号公報
【特許文献２】特開２００９−３８２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の技術において、１個の受光素子には、周囲の複数の光源素子から出射して被写体を経由した光が入射する。すなわち、１個の受光素子に入射する光量は、各受光素子の周囲に存在する光源素子の個数に依存する。したがって、例えば、複数の光源素子が配置された領域と複数の受光素子が配置された領域（以下「受光領域」という）とが平面視で合致する構成を想定すると、受光領域の周縁付近に位置する受光素子は、受光領域の中央付近に位置する受光素子に比べ、周囲に位置する光源素子の個数が少ない。したがって、受光領域の周縁付近の受光素子の受光量が受光領域の中央付近の受光素子の受光量を下回るという受光量のバラつきが発生し、被写体を鮮明に撮像できない可能性がある。以上の事情を考慮して、本発明は、各受光素子の受光量の差異を低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以上の課題を解決するために、本発明の撮像装置は、複数の受光素子が配置された受光領域を有する受光部と、受光部と被写体との間に配置された光源部とを具備し、光源部は、被写体に光を照射する発光部と、被写体から到来する光を受光部側に透過させる透過部とを有し、発光部は、平面視で受光領域に重なる第１領域と、平面視で受光領域の外側に位置する第２領域とを含む。以上の構成では、平面視で受光領域の周縁付近に位置する受光素子に、発光部の第１領域から出射して被写体側から到来する光に加え、第２領域から出射して被写体側から到来する光が入射されるから、例えば複数の受光素子が配置された受光領域と発光部が形成された領域とが平面視で合致する構成と比較して、受光領域の周縁付近の受光素子と中央付近の受光素子とに入射される光量の差異が低減される。したがって、被写体を鮮明に撮像することが可能である。
【０００７】
ところで、発光部から被写体の表面に対して小さい入射角で出射光を照射した場合、被写体の表面で反射した出射光が直接的に受光素子に到達することがある。この場合、被写体の表面のうち特定の領域が極端に高輝度な状態となり、被写体の明確な撮像が困難であるという問題が生じる。そこで、本発明の好適な態様において、発光部は受光領域の垂線に対して傾斜した方向に特定波長の光を出射し、透過部は、被写体側から到来する光のうち特定波長の光を選択的に受光部側に透過させる。以上の構成によれば、被写体の表面で反射した出射光が直接的に受光素子に到達することを防止することができる。
【０００８】
本発明の好適な態様において、被写体から到来する光を集光して受光部側に出射する集光部を具備する。以上の構成においては、被写体からの撮像光が集光部で集光されたうえで受光部に到達するから、被写体から受光部に到達する光量を充分に確保できるという利点がある。
【０００９】
本発明の好適な態様において、第２領域は、第１領域の全周縁にわたり設けられている。以上の構成においては、第１領域の一部の周縁のみに沿って第２領域を形成した構成と比較して、受光領域に対する被写体の位置に関わらず被写体を鮮明に撮像することができる。
【００１０】
以上の各態様に係る撮像装置は、各種の電子機器に好適に利用される。電子機器の具体例としては、撮像装置が撮像した静脈像を利用して生体認証を実行する生体認証装置や、撮像装置が撮影した画像（例えば静脈像）から血中アルコール濃度や血糖値等の生体情報を推定する医療機器（血中アルコール濃度推定装置や血糖値推定装置等の生体情報推定装置）が例示され得る。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る撮像装置の断面図である。
【図２】撮像装置の分解断面図である。
【図３】撮像装置の各要素の位置関係を示す平面図である。
【図４】配線層および光源部の拡大断面図である。
【図５】発光部から撮像光が出射する様子の模式図である。
【図６】被写体を大きい入射角で照明した場合に顕在化する陰影の説明図である。
【図７】被写体を小さい入射角で照明した場合に顕在化するグレアの説明図である。
【図８】光源部と受光領域との位置関係を示す平面図である。
【図９】第１領域のみに受光部を形成した構成の平面図である。
【図１０】図９におけるＸ-Ｘ線の断面図である。
【図１１】図８におけるＸＩ-ＸＩ線の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
＜実施形態＞
図１は、本発明のひとつの実施形態に係る撮像装置１００の断面図であり、図２は、撮像装置１００の分解断面図である。本実施形態の撮像装置１００は、特定の波長の照明光（以下「撮像光」という）を照射した状態で被写体２００を撮像するセンシング装置であり、例えば生体（典型的には人間の手指）の静脈像を撮像する生体認証装置（静脈センサー）に好適に利用される。撮像光は特定の波長（以下「撮像波長」という）λの近傍で強度がピークとなる所定帯域の光成分である。撮像波長λが８５０ｎｍである近赤外光を以下では撮像光として例示するが、撮像波長λは被写体２００の光学的特性（透過率や反射率）等に応じて適宜に変更され得る。
【００１３】
図１および図２に示すように、本実施形態の撮像装置１００は、受光部１０と集光部２０と照明部３０とを具備する。照明部３０は受光部１０の被写体２００側（受光部１０と被写体２００との間）に配置され、集光部２０は照明部３０の被写体２００側（照明部３０と被写体２００との間）に配置される。すなわち、照明部３０は受光部１０と集光部２０との間に位置する。概略的には、照明部３０から出射した撮像光で照明された被写体２００からの入射光が集光部２０にて集光されたうえで照明部３０を透過して受光部１０に到達する。
【００１４】
受光部１０は、被写体２００を撮像する要素であり、基板１２と複数の受光素子１４とを含んで構成される。基板１２は、例えば半導体材料で形成された板状部材である。複数の受光素子１４は、基板１２の被写体２００側の表面（受光面）１２１のうち特定の領域（以下「受光領域」という）Ｘに形成され、図３に示すように平面視で（すなわち表面１２１に垂直な方向からみて）行列状に配列する。各受光素子１４は、受光量に応じた検出信号を生成する。各受光素子１４が生成した検出信号を画像処理することで被写体２００の画像が生成される。例えば公知のＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）センサーやＣＣＤ（Charge Coupled Device）センサーが受光部１０として好適に利用される。
【００１５】
図１の集光部２０は、被写体２００側から到来する撮像光を集光する要素であり、基板２２と複数のレンズ２４（マイクロレンズ）とを含んで構成される。図２に示すように、基板２２は、被写体２００に対向する表面２２１と表面２２１の反対側の表面２２２とを含む光透過性（撮像光を透過させる性質）の板状部材である。例えばガラス基板や石英基板が基板２２として好適に採用される。複数のレンズ２４は、基板２２の表面２２２に形成される。各レンズ２４は、被写体２００から基板２２の表面２２１に入射して基板２２を透過した撮像光を集光する凸レンズである。
【００１６】
図１から図３に示すように、集光部２０の各レンズ２４と受光部１０の各受光素子１４とは１対１に対応する。具体的には、図１に示すように、各レンズ２４の光軸Ｌ0は、そのレンズ２４に対応する受光素子１４（典型的には受光素子１４の中心）を通過する。したがって、複数のレンズ２４は、図３に示す通り、各受光素子１４と同様に平面視で行列状に配列する。
【００１７】
図１の照明部３０は、撮像光を生成して被写体２００を照明するとともに各レンズ２４が集光した撮像光を各受光素子１４側に透過させる要素であり、基板３２と遮光層３３と配線層３５と光源部３６と保護層３７とを含んで構成される。図２に示すように、基板３２は、集光部２０（各レンズ２４）に対向する表面３２１と表面３２１の反対側の表面３２２とを含む光透過性の板状部材（例えばガラス基板や石英基板）である。遮光層３３は、基板３２の表面３２２に形成された遮光性（撮像光を吸収または反射させる性質）の膜体である。図１から図３に示すように、遮光層３３には、各受光素子１４に対応する複数の円形状の開口部３４が形成される。
【００１８】
図１の配線層３５は、基板３２の表面３２１に形成され、光源部３６に電流を供給するための配線を含んで構成される。光源部３６は、配線層３５の表面に形成され、被写体２００を照明するとともに被写体２００側からの撮像光を各受光素子１４側に透過させる。図２および図３に示すように、光源部３６は、平面視（すなわち基板３２の表面３２１に垂直な方向からみた状態）で複数の発光部５０と複数の透過部６０とを具備する。各発光部５０は、被写体２００を照明する撮像光を生成して被写体２００側に出射する。各透過部６０は、被写体２００側からの入射光を各受光素子１４側に透過させる。図３に示すように、各透過部６０は平面視で円形状に形成される。光源部３６の各透過部６０と集光部２０の各レンズ２４（または受光部１０の各受光素子１４）とは１対１に対応する。具体的には、図３に示すように、各レンズ２４の光軸Ｌ0は、そのレンズ２４に対応する透過部６０（典型的には透過部６０の中心）を通過する。したがって、各透過部６０は、図３に示す通り、各レンズ２４や各受光素子１４と同様に平面視で行列状に配列する。また、各発光部５０は、図３に示す通り、各透過部６０で囲まれた領域に形成される。したがって、各発光部５０も各レンズ２４や各受光素子１４と同様に平面視で行列状に配列する。図１の保護層３７は、光源部３６を封止して外気や水分から保護する要素（封止層）であり、光透過性の絶縁材料（例えば樹脂材料）で形成される。
【００１９】
受光部１０と照明部３０とは、例えば光透過性の接着剤１８で相互に間隔をあけて固定される。また、集光部２０と照明部３０とは、各々の外周部が相互に固定される。図１では、集光部２０の各レンズ２４の表面と照明部３０の保護層３７の表面とが接触するように集光部２０と照明部３０とを接合した構成が例示されている。ただし、各レンズ２４の表面と保護層３７の表面とが相互に間隔をあけて対向するように集光部２０と照明部３０とを相互に固定することも可能である。
【００２０】
以上に説明した構成において、光源部３６の発光部５０から出射した撮像光が集光部２０（基板２２および各レンズ２４）を透過して被写体２００に照射されるとともに被写体２００の内部の静脈にて透過または反射して集光部２０に入射し、各レンズ２４で集光されたうえで光源部３６の透過部６０と基板３２と遮光層３３の開口部３４とを通過して受光素子１４に到達する。したがって、被写体２００の静脈像が撮像される。
【００２１】
以上に説明した構成では、受光部１０の各受光素子１４と被写体２００との間に光源部３６が設置されるから、被写体２００を挟んで相互に対向するように光源部と撮像部とが設置される特許文献１の技術と比較して装置の小型化が容易である。しかも、本実施形態では、光源部３６により照明された被写体２００からの撮像光が集光部２０の各レンズ２４で集光されたうえで受光素子１４に到達するから、撮像光を集光する要素が存在しない特許文献２の技術と比較して、被写体２００から各受光素子１４に到達する光量を充分に確保できるという利点がある。
【００２２】
図４は、配線層３５および光源部３６を拡大した断面図である。図４に示されるように、配線層３５は、基板３２の表面３２１に形成された配線３５１と、表面３２１の全域に形成されて配線３５１を覆う光透過性の絶縁層３５２とを含んで構成される。配線層３５の配線３５１は、平面視で発光部５０に重複する領域内に形成され、各透過部６０とは重複しない。図４に示すように、光源部３６は、反射層３６１と誘電体多層膜３６２と第１電極層３６３と絶縁層３６４と発光層３６５と第２電極層３６６とを含んで構成される。
【００２３】
反射層３６１は、配線層３５（絶縁層３５２）の表面のうち発光部５０に対応する領域に形成され、発光層３６５が生成する光を被写体２００側に反射させる光反射性の薄膜である。反射層３６１は、例えば銀やアルミニウムなどの導電材料で形成される。図４に示されるように、反射層３６１は透過部６０には形成されない。
【００２４】
誘電体多層膜３６２は、反射層３６１が形成された配線層３５（絶縁層３５２）の面上に発光部５０および透過部６０の双方にわたり形成される。誘電体多層膜３６２は、屈折率が異なる複数の光透過性の誘電体層を積層した誘電体ミラーであり、入射光の一部を透過して他の一部を反射する半透過反射層（ハーフミラー）として機能する。誘電体多層膜３６２を反射層３６１の表面に形成することにより、反射層３６１のみを形成した場合と比較して光反射率を向上させることができる。
【００２５】
第１電極層３６３は、誘電体多層膜３６２の表面のうち発光部５０に対応する領域に形成される。図４に示されるように、第１電極層３６３は、誘電体多層膜３６２と絶縁層３５２とを貫通する導通孔を介して配線層３５の配線３５１に電気的に接続され、発光層３６５に電流を供給する電極（陽極）として機能する。第１電極層３６３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の光透過性の導電材料で略一定の膜厚（例えば２０ｎｍ程度）に形成される。第１電極層３６３は、透過部６０には形成されない。第１電極層３６３が形成された誘電体多層膜３６２の面上には、発光部５０と透過部６０との境界を規定する絶縁層３６４が形成される。
【００２６】
発光層３６５は、第１電極層３６３および絶縁層３６４を覆うように発光部５０および透過部６０の双方にわたり略一定の膜厚に形成される。図４に示されるように、発光層３６５は、発光部５０においては第１電極層３６３の面上に位置し、透過部６０においては誘電体多層膜３６２の面上に位置する。発光層３６５は、電流を供給することにより発光する電気光学層であり、例えば有機ＥＬ（Electroluminescence）材料で形成される。なお、図４では便宜的に発光層３６５を単層として図示したが、発光層３６５の発光効率を向上するための電荷輸送層（正孔輸送層，電子輸送層）や電荷注入層（正孔注入層，電子注入層）を形成することも可能である。
【００２７】
第２電極層３６６は、発光層３６５の表面の全域にわたり連続に形成され、第１電極層３６３との間で発光層３６５に電流を供給する電極（陰極）として機能する。また、第２電極層３６６は、入射光の一部を透過して他の一部を反射する半透過反射性の導電膜（ハーフミラー）である。例えば銀やアルミニウム等の導電材料を非常に薄い膜厚に成膜することで第２電極層３６６は形成される。
【００２８】
光源部３６のうち相対向する第１電極層３６３と第２電極層３６６とが両者間の発光層３６５に接触する領域（すなわち第１電極層３６３と第２電極層３６６との間の電流が発光層３６５に供給される領域）が発光部５０として機能する。他方、透過部６０は、光源部３６のうち絶縁層３６４の周縁で包囲された領域である。透過部６０には第１電極層３６３が形成されないから透過部６０内の発光層３６５は発光しない。
【００２９】
発光部５０においては、誘電体多層膜３６２と第２電極層３６６とが発光層３６５および第１電極層３６３を挟んで相互に対向する。したがって、発光層３６５からの出射光は誘電体多層膜３６２と第２電極層３６６との間で往復し、誘電体多層膜３６２と第２電極層３６６との間の光学的距離（以下「共振長」という）Ｌ1に応じた波長の共振成分が選択的に増幅されたうえで第２電極層３６６を透過して被写体２００側に出射する。すなわち、発光層３６５から出射した撮像光を誘電体多層膜３６２と第２電極層３６６との間で共振させる共振構造（バンドパスフィルター）が発光部５０に形成される。共振長Ｌ1は、発光層３６５の膜厚と第１電極層３６３の膜厚との和に対応する。
【００３０】
透過部６０においては、誘電体多層膜３６２と第２電極層３６６とが発光層３６５を挟んで相互に対向する。したがって、発光層３６５からの出射光は誘電体多層膜３６２と第２電極層３６６との間で往復し、誘電体多層膜３６２と第２電極層３６６との間の共振長Ｌ2に応じた波長の共振成分が選択的に増幅されたうえで第２電極層３６６を透過して受光部１０側に出射する。すなわち、発光層３６５から出射した撮像光を誘電体多層膜３６２と第２電極層３６６との間で共振させる共振構造（バンドパスフィルター）が透過部６０にも形成される。ただし、発光部５０に形成された第１電極層３６３が透過部６０には形成されないから、透過部６０の共振長Ｌ2は、発光部５０の共振長Ｌ1とは相違する。すなわち、透過部６０の共振長Ｌ2は、第１電極層３６３の膜厚分だけ発光部５０の共振長Ｌ1を下回る。
【００３１】
図５は、共振構造が形成される発光部５０の任意の地点Ｐから被写体２００側に光が出射される様子の模式図である。図５の基準方向Ｄ0は、受光部１０の基板１２の表面１２１（受光領域Ｘ）の垂線の方向（各レンズ２４の光軸Ｌ0に平行な方向）である。
【００３２】
所定の波長の光が共振構造から出射する角度は、共振構造の共振長に依存する。具体的には、共振長が減少するほど所定の波長の光の出射角度は減少する。以上の傾向を考慮して、本実施形態では、図５に示すように、基準方向Ｄ0に対して所定の角度θ（０＜θ＜９０°）だけ傾斜した方向に向けて発光部５０から撮像波長λ（８５０ｎｍ）の光が出射するように、発光部５０の共振構造の共振長Ｌ1が選定される。すなわち、基準方向Ｄ0の直線を回転軸とした全周にわたり、基準方向Ｄ0に対して角度θの方向の撮像波長λの光が発光部５０の任意の地点Ｐから放射される。
【００３３】
ところで、例えば図６のように被写体２００の表面に対して傾斜したひとつの方向から被写体２００を発光部５０で照明した場合、被写体２００の表面構造（例えば指紋や皺）を反映した陰影が強調される。したがって、被写体２００の内部の静脈像を精細かつ明瞭に撮像することは困難であるという問題がある。本実施形態では、各発光部５０の任意の地点Ｐから、基準方向Ｄ0を回転軸とした全周にわたり出射角度θの方向に撮像波長λの撮像光が放射されるから、被写体２００の表面の任意の地点には、基準方向Ｄ0に対して出射角度θだけ傾斜した多様な方向から撮像波長λの撮像光が到達する。したがって、被写体２００の表面に対してひとつの方向から被写体２００を照明する図６の場合と比較して、被写体２００の表面構造（テクスチャ）を反映した陰影を抑制することが可能である。
【００３４】
他方、例えば図７のように被写体２００の表面に対して小さい入射角で発光部５０からの出射光を照射した場合、発光部５０からの出射光が被写体２００の表面で反射して直接的に受光素子１４に到達する（すなわち、撮影画像に発光部５０が映り込む）ため、被写体２００の表面のうち特定の領域が極端に高輝度な状態（以下では「グレア」と表記する）となる。したがって、例えば被写体２００の内部の静脈像を精細かつ明確に撮像することは困難であるという問題がある。被写体２００の表面のグレアを防止する観点からは、撮像光の出射角度θとして３０°以上が好適であるという知見が経験的に確認できた。また、基板２２は、撮像光の入射角が６０°を上回ると、反射率が急峻に増加するとともに透過率が急峻に減少するという傾向がある。以上の傾向を考慮し、本実施形態においては出射角度θが３０°以上かつ６０°以下の範囲内（例えば４５°）となるように、共振長Ｌ1が設定される。
【００３５】
他方、透過部６０における共振構造の共振長Ｌ2は、被写体２００側から到来する光のうち撮像波長λの撮像光を選択的に受光部１０側に透過させる（すなわち、撮像波長λ以外の光を低減する）ように設定される。したがって、発光部５０から角度θの方向に出射した撮像波長λの出射光は、被写体２００の表面や内部で反射または散乱したうえで、透過部６０を透過して各受光素子１４に到達する。他方、発光部５０から角度θ以外の方向に出射した光（すなわち撮像波長λ以外の波長の光）は、透過部６０で阻止されて各受光素子１４には到達しない。
【００３６】
図８は、光源部３６と受光部１０（受光領域Ｘ）との位置関係を示す平面図である。図８に示すように、受光領域Ｘは、基板１２の表面１２１のうち複数の受光素子１４が行列状に配列する矩形状の領域である。光源部３６は、図８に示される通り、平面視で第１領域Ｙ1と第２領域Ｙ2とに区分される。第１領域Ｙ1は、平面視で受光部１０の受光領域Ｘに重なる矩形状の領域である。第２領域Ｙ2は、平面視で受光領域Ｘ（または第１領域Ｙ1）の外側に位置する領域である。本実施形態の第２領域Ｙ2は、平面視で受光領域Ｘの全周縁（四辺）にわたる矩形枠状の領域である。第２領域Ｙ2の幅は、全周にわたり一定に維持される。以上の説明から理解される通り、光源部３６は、受光領域Ｘと比較して面積が大きい。
【００３７】
図８に示すように、発光部５０は、第１領域Ｙ1および第２領域Ｙ2の双方に配置される。具体的には、第１領域Ｙ1内には複数の発光部５０が行列状に配列され、第２領域Ｙ2内には、基板３２の外周縁（第２領域Ｙ2の内周縁）に沿うように複数の発光部５０が矩形枠状に配列される。したがって、図８から理解される通り、受光領域Ｘの中央部（周縁部以外の領域）に位置する受光素子１４１と受光領域Ｘの周縁部に位置する受光素子１４２および受光素子１４３との双方を含む全部の受光素子１４の各々の周囲には、平面視で４個の発光部５０が位置する。
【００３８】
図９は、受光領域Ｘに重なる第１領域Ｙ1のみに発光部５０を形成した構成（以下「対比例」という）の平面図である。対比例では、光源部３６の第１領域Ｙ1の外側（本実施形態の第２領域Ｙ2）には発光部５０が形成されない。したがって、受光領域Ｘの中央部（周縁部以外の領域）に位置する受光素子１４１は、平面視で４個の発光部５０に包囲されるのに対し、受光領域Ｘの周縁部に位置する受光素子１４２の周囲には平面視で２個の発光部５０しか存在せず、また、受光領域Ｘの四隅部に位置する受光素子１４３の周囲には平面視で１個の発光部５０しか存在しない。すなわち、対比例では、平面視で受光素子１４の周囲に位置する発光部５０の個数が、受光素子１４の位置に応じて相違する。
【００３９】
図１０は、対比例を図示した図９におけるＸ-Ｘ線の断面図である。発光部５０から出射角度θの方向に出射した撮像光は、被写体２００の表面や内部を経由し、その発光部５０に隣接する透過部６０を透過して受光素子１４に到達する。図１０に示すように、対比例では、受光領域Ｘの中央部の受光素子１４１には、平面視でその受光素子１４の両側に位置する各発光部５０（４個の発光部５０）から出射して被写体２００を経由した光が到達するのに対し、受光領域Ｘの周縁部の受光素子１４（１４２，１４３）には、平面視でその受光素子１４の片側に位置する発光部５０（１個または２個の発光部５０）からの出射光しか到達しない。すなわち、受光領域Ｘの周縁部に位置する受光素子１４１の受光量が中央部の受光素子１４２の受光量を下回る。したがって、撮像画像の周縁部が中央部と比較して暗くなるという問題がある。
【００４０】
図１１は、本実施形態を図示した図８におけるＸＩ-ＸＩ線の断面図である。図１１に示すように、受光領域Ｘの中央部の受光素子１４１には、対比例と同様に、平面視でその受光素子１４の両側に位置する第１領域Ｙ1内の各発光部５０（４個の発光部５０）から出射して被写体２００を経由した光が到達する。また、受光領域Ｘの周縁部の受光素子１４（１４２，１４３）には、第１領域Ｙ1内の発光部５０（受光素子１４２であれば２個、受光素子１４３であれば１個の発光部５０）からの出射光に加え、第２領域Ｙ2に位置する発光部５０（受光素子１４２であれば２個、受光素子１４３であれば３個の発光部５０）からの出射光も到達する。すなわち、受光領域Ｘの周縁部に位置する受光素子１４２および受光素子１４３の受光量と中央部の受光素子１４１の受光量との差異が低減される（理想的には双方の受光量が同等となる）。
【００４１】
以上に説明した通り、本実施形態においては、平面視で受光領域Ｘに重なる第１領域Ｙ1に加え、第１領域Ｙ1の外側に位置する第２領域Ｙ2にも発光部５０が配置されるから、第１領域Ｙ1内のみに発光部５０が配置された対比例と比較すると、受光領域Ｘの周縁部の受光素子１４（１４２，１４３）と受光領域Ｘの中央部の受光素子１４（１４１）との間の受光量の相違が低減される。したがって、撮像画像の周縁部が中央部と比較して暗くなるという前述の対比例の問題は緩和ないし解消され、受光領域Ｘの周縁を含む全域にわたり被写体２００を鮮明に撮像できるという利点がある。
【００４２】
また、平面視で第１領域Ｙ1の全周にわたり第２領域Ｙ2が枠状に形成されるため、第１領域Ｙの一部の周縁のみに沿って第２領域Ｙ2を形成した構成と比較して、受光領域Ｘに対する被写体２００の位置に関わらず被写体２００を鮮明に撮像することができる。
【００４３】
なお、本実施形態においては、受光素子１４は、平面視で最近傍に位置する発光部５０からの撮像光を受光する構成としたが、発光部５０からの出射角度θを適宜変更することにより、最近傍の発光部５０以外の発光部５０からの出射光を受光素子１４が受光する構成（最近傍の発光部５０からの出射光を受光するか否かは不問）も採用される。最近傍以外の発光部５０からの出射光も受光素子１４が受光する構成では、光源部３６における第２領域Ｙ2の面積（第２領域Ｙ2内の発光部５０の個数）を適宜に増加することより、受光領域Ｘの全域にわたり各受光素子１４の受光量を均一化することができる。
【００４４】
＜変形例＞
以上に例示した形態は多様に変形され得る。具体的な変形の態様を以下に例示する。以下の例示から任意に選択された２以上の態様は適宜に併合され得る。
【００４５】
（１）前述の形態では、相互に独立した複数の発光部５０を光源部３６が含む構成を例示したが、光源部３６における透過部６０以外の略全域にわたり連続するように発光部５０（例えば第１電極層３６３）を形成することも可能である。以上の構成では、発光部５０の面積が拡大することで発光部５０からの出射光量が増加するから、より明るい画像を撮像することができる。また、発光部５０としてＬＥＤ等の発光素子を用いてもよい。
【００４６】
（２）前述の形態で例示した各要素は適宜に省略され得る。例えば、遮光層３３や複数のレンズ２４を省略することも可能である。また、前述の形態で例示した各要素の位置関係は適宜に変更され得る。例えば、前述の形態では、トップエミッション型の発光素子を発光部５０として形成したが、ボトムエミッション型の発光素子を発光部５０として利用すれば、光源部３６を基板３２の表面３２２に形成することも可能である。各レンズ２４を光源部３６と受光部１０との間に配置した構成も採用され得る。また、前述の形態で例示した各要素間に任意の他の要素を介在させることも可能である。
【００４７】
（３）前述の形態では、生体認証用の静脈像を撮像する撮像装置１００（静脈センサー）を例示したが、本発明の用途は任意である。例えば、撮像装置１００が撮像した生体の静脈像から血中アルコール濃度を推定するアルコール検出装置や、撮像装置１００が撮像した生体の静脈像から血糖値を推定する血糖値推定装置等の医療機器にも本発明は適用され得る。撮像結果を利用した血中アルコール濃度の推定や撮像結果を利用した血糖値の推定には公知の技術が任意に採用され得る。また、印刷物から画像を読取る画像読取装置に本発明を適用することも可能である。なお、画像読取装置に本発明を適用する場合には可視光が撮像光として好適に利用される。
【符号の説明】
【００４８】
１００……撮像装置、２００……被写体、１０……受光部、１２，２２，３２……基板、１２１，２２１，２２２，３２１，３２２，……表面、１４，１４１，１４２，１４３……受光素子、１８……接着剤、２０……集光部、２４……レンズ、３０……照明部、３３……遮光層、３４……開口部、３５……配線層、３５１……配線、３５２……絶縁層、３６……光源部、３６１……反射層、３６２……誘電体多層膜、３６３……第１電極層、３６４……絶縁層、３６５……発光層、３６６……第１電極層、３７……保護層、５０……発光部、６０……透過部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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