(57)【要約】【課題】プラズマ処理により、被処理物を覆う被覆を被処理物表面の酸化を抑制しつつ選択的かつ高速で除去する。【解決手段】被覆除去装置１は、反応性ガスとしてO2を含む混合ガス（Ar/O2）のプラズマを線材２に照射する大気圧プラズマ処理部１５Ａ，１５Ｂと、反応性ガスとしてH2を含む混合ガス（Ar/H2）のプラズマを線材２に照射する大気圧プラズマ処理部１６Ａ，１６Ｂとを備える。反応性ガスとしてO2を含む混合ガス（Ar/O2）のプラズマで被覆４が分解され、反応性ガスとしてH2を含む混合ガス（Ar/H2）のプラズマで芯材３，３の表面が還元され酸化膜が除去される。【選択図】図１
2014099246.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料からなる被覆を有する被処理物を保持する保持部と、第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを吹き出す誘導結合型プラズマ発生部と、第２の不活性ガスとO2ガスの混合ガス領域と前記一次プラズマとが衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る第１の二次プラズマを発生するプラズマ展開部とを有し、前記第１の二次プラズマを前記被処理物に照射する第１の大気圧プラズマ照射部と、
前記被処理物を保持する保持部と、前記第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを吹き出す誘導結合型プラズマ発生部と、前記第２の不活性ガスとH2ガスの混合ガス領域と前記一次プラズマとが衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る第２の二次プラズマを発生するプラズマ展開部とを有し、前記第２の二次プラズマを前記被処理物に照射する第２の大気圧プラズマ照射部と
を備えるプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記第１及び第２の大気圧プラズマ照射部毎に、
前記大気圧プラズマ照射部との間に配置されて前記二次プラズマの前記被処理物に対する照射領域を制限するマスクと、
前記被処理物に対して前記大気圧プラズマ照射部及び前記マスクとは反対側に配置された接地電極と
をさらに備える請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記被処理物は線材であり、
前記保持部に保持される線材に対して張力を付与する張力付与部をさらに備える、請求項１から請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマを第２の不活性ガスとO2ガスの混合ガスに衝突させることによりプラズマ化した混合ガスから成る第１の二次プラズマを発生させ、
前記第１の二次プラズマを有機材料からなる被覆を有する被処理物に照射し、
前記第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマを前記第２の不活性ガスとH2ガスの混合ガスに衝突させることによりプラズマ化した混合ガスから成る第２の二次プラズマを発生させ、
前記第２の二次プラズマを前記被処理物の前記第１の二次プラズマが照射された領域に照射する、プラズマ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理材から被覆を除去するためのプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
線材のポリイミド被覆除去方法としては、刃物やリユータにより物理的に削り落とす方法が知られている。しかし、この方法は被覆除去に長時間を要し効率的でない。また、燃焼ガスや放電で炭化されることでポリイミド被覆を除去する方法も知られている（特許文献１参照）。しかし、この方法では、線材の芯材が銅等の場合に表面の酸化を生じやすい。被覆除去時に銅等の芯材の表面が酸化していると、はんだ接合時の不具合の原因となる。芯材表面の酸化を防止するには、被覆除去に十分な時間をかける必要があり、高速での被覆除去が困難となる。
【０００３】
特許文献２には、絶縁チャンバ内にガスを供給しつつ上下電極で高周波電力を供給して大気圧プラズマを発生させ、この大気圧プラズマに近接して被処理物を配置することで被覆を化学分解して除去する方法が記載されている。しかし、この方法では狭いチャンバ内に被処理物を配置する必要があり、被処理物の所望の箇所の被覆を選択的に除去することはできない。
【０００４】
線材を電子回路や部品に接合する際には、一般に、はんだ漕に線材を直接浸漬させて被覆を剥離している。しかし、被覆が除去された部分の線材のはんだ漕内への溶出や、被覆残渣による接合不良等の不具合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−１２４９３１号公報
【特許文献２】特開２００７−５９３０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、プラズマ処理により、被処理物を覆う被覆を被処理物表面の酸化を抑制しつつ選択的かつ高速で除去することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様は、有機材料からなる被覆を有する被処理物を保持する保持部と、第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを吹き出す誘導結合型プラズマ発生部と、第２の不活性ガスとO2ガスの混合ガス領域と前記一次プラズマとが衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る第１の二次プラズマを発生するプラズマ展開部とを有し、前記第１の二次プラズマを前記被処理物に照射する第１の大気圧プラズマ照射部と、前記被処理物を保持する保持部と、前記第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを吹き出す誘導結合型プラズマ発生部と、前記第２の不活性ガスとH2ガスの混合ガス領域と前記一次プラズマとが衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る第２の二次プラズマを発生するプラズマ展開部とを有し、前記第２の二次プラズマを前記被処理物に照射する第２の大気圧プラズマ照射部とを備えるプラズマ処理装置を提供する。
【０００８】
第１の大気圧プラズマ照射部では誘導結合プラズマ発生部からの一次プラズマ（Arプラズマ）がプラズマ展開部中の第２の不活性ガスと反応性ガス（ArガスとO2ガス）の混合ガス領域に導入され、混合ガス中の第２の不活性ガス（Arガス）を励起して拡大した第１の二次プラズマ（Arプラズマ）とする。そして、この第１の二次プラズマ（Arプラズマ）が反応性ガスを構成する元素（酸素）を活性化する。活性化された酸素は保持部に保持され被処理物表面に被覆で化学反応を行い、被覆を分解除去する。
【０００９】
第２の大気圧プラズマ照射部では誘導結合プラズマ発生部からの一次プラズマ（Arプラズマ）がプラズマ展開部中の第２の不活性ガスと反応性ガス（ArガスとH2ガス）の混合ガス領域に導入され、混合ガス中の第２の不活性ガス（Arガス）を励起して拡大した第１の二次プラズマ（Arプラズマ）とする。そして、この第１の二次プラズマ（Arプラズマ）が反応性ガスを構成する元素（水素）を活性化する。活性化された水素は第１の大気圧プラズマ処理部での被覆除去時に酸化した被処理物表面で化学反応を行い、酸化膜を還元除去する。
【００１０】
好ましくは、前記第１及び第２の大気圧プラズマ照射部毎に、前記大気圧プラズマ照射部との間に配置されて前記二次プラズマの前記被処理物に対する照射領域を制限するマスクと、前記被処理物に対して前記大気圧プラズマ照射部及び前記マスクとは反対側に配置された接地電極とを備える。
【００１１】
さらに好ましくは、前記被処理物は線材であり、前記保持部に保持される線材に対して張力を付与する張力付与部をさらに備える。
【００１２】
本発明の第２の態様は、第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマを第２の不活性ガスとO2ガスの混合ガスに衝突させることによりプラズマ化した混合ガスから成る第１の二次プラズマを発生させ、前記第１の二次プラズマを有機材料からなる被覆を有する被処理物に照射し、前記第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマを前記第２の不活性ガスとH2ガスの混合ガスに衝突させることによりプラズマ化した混合ガスから成る第２の二次プラズマを発生させ、前記第２の二次プラズマを前記被処理物の前記第１の二次プラズマが照射された領域に照射する、プラズマ処理方法を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法によれば、不活性ガスとO2ガスの混合ガスをプラズマ化した第１の二次プラズマを被処理物のうちマスクで規定された部分の被覆に対して接地電極とは反対側から照射し、その後に不活性ガスとH2ガスの混合ガスをプラズマ化した第２の二次プラズマを照射するので、被処理物表面の酸化を抑制しつつ被覆を選択的かつ高速で除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態に係る被覆除去装置の模式図。
【図２】大気圧プラズマ照射部の模式図。
【図３】混合器周辺の模式的な断面図。
【図４】冷却部の模式的な斜視図。
【図５】大気圧プラズマ照射部の保持部及びマスクの模式的な一部断面図。
【図６】線材の斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１は本発明の実施形態に係る被覆除去装置（プラズマ処理装置）１を示す。この被覆除去装置１はプラズマ処理により被処理物の表面に被覆を除去するものである。本実施形態において、被覆除去の対象となる被処理物は図６に模式的に示す線材２である。この線材２は、本実施形態で銅製である２本の芯材３，３と、これらの芯材３，３を覆うポリイミド樹脂からなる被覆４を備える。芯材３，３の直径は例えば０．０３ｍｍ以上０．１以下ｍｍ程度である。また、被覆４の厚みは例えば１５μ以上３０μｍ以下である。芯材３，３の材質は銅に限定されず、例えばニッケル等の他の金属でもよい。また、被覆４の材質はポリイミド等のイミド系樹脂に限定されず、他の有機材料でもよい。本実施形態では２本の芯材３，３を並設して配置し、その外周を被覆４で覆っているが、芯材は２本に限定されず１本あるいは３本以上の複数本であってもよい。また、本実施形態では芯材３自体は単体の線材であるが、芯材は複数の芯線で構成されるものでもよい。
【００１６】
線材２は供給部１１から巻き出され、被覆が除去された後に回収部１２に巻き取られる。供給部１１は、被覆除去処理前の線材２を巻き付けたドラム１１ａと、このドラム１１ａを線材２を巻き出す方向に回転駆動する駆動機構１１ｂを備える。回収部１２は被覆除去済みの線材を巻き付けるためのドラム１２ａと、このドラム１２ａを線材２を巻き取る方向に回転駆動する駆動機構１２ｂを備える。
【００１７】
供給部１１に対して線材２の送り方向下流側に隣接する位置と、回収部１２に対して線材２の送り方向上流側に隣接する位置には、線材２に張力を付与するための張力付与部１３Ａ，１３Ｂが設けられている。これらの張力付与部１３Ａ，１３Ｂは、それぞれ固定の支持軸１３ａに回転自在に支持された一対の固定ローラ１３ｂ，１３ｂと、鉛直方向に延びるガイドレール１３ｃ上を移動自在な可動の支軸１３ｄに回転自在に支持された可動ローラ１３ｅを備える。可動ローラ１３ｅは一対の固定ローラ１３ｂ，１３ｂ間に配置されている。固定ローラ１３ｂ，１３ｂと可動ローラ１３ｅに巻掛けられた線材２には、可動ローラ１３ｅが昇降することで張力が付与される。線材２に適切な張力を付与できる限り、張力付与部１３Ａ，１３Ｂの具体的な構成は特定に限定されない。
【００１８】
供給部１１側の張力付与部１３Ａから回収部１２側の張力付与部１３Ｂに到る線材２の経路には、冷却部１４Ａ、大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂ、大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂ、及び冷却部１４Ｂが順に設けられている。
【００１９】
図４を併せて参照すると、冷却部１４Ａ，Ｂは台座１４ａの上に、例えばペルチエ素子で冷却される冷却部材１４ｂを備える。冷却部材１４ｂには貫通孔１４ｃが形成れており、線材２は冷却部材１４ｂからの直接又は間接的な熱伝達により冷却される。線材２を適切に冷却できる限り冷却部１４の具体的な構成は特に限定されない。
【００２０】
後述するように、大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂでは線材２のマスク２２の開口２２ａから露出する部分にプラズマが照射される。線材２のプラズマが照射された部分の熱は、線材２内に残る。大気圧プラズマ照射部１５Ａ，Ｂよりも線材２の送り方向上流側に配置された冷却部１４Ａは、大気圧プラズマ照射部１５Ａ，Ｂで線材２のプラズマが照射される部分からの熱が線材２の上流側へ伝わるのを抑制ないし低減する。その結果、大気圧プラズマ照射部１５Ａ，Ｂで線材２のプラズマが照射される部分から伝わる熱によって、プラズマが照射される部分よりも上流側の線材２において被覆４の炭化、被覆４の溶融ないし軟化による形状の不安定な部分の拡大を抑制できる。
【００２１】
後述するように、大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂでは線材２のマスク２２の開口２２ａから露出する部分にプラズマが照射される。線材２のプラズマが照射された部分の熱は、線材２内に残る。大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂよりも線材２の送り方向下流側に配置された冷却部１４Ｂは、大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂで線材２のプラズマが照射される部分からの熱が線材２の下流側へ伝わるのを抑制ないし低減する。その結果、大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂで線材２のプラズマが照射される部分から伝わる熱によって、プラズマが照射される部分よりも下流側の線材２において被覆４の炭化、被覆４の溶融ないし軟化による形状の不安定な部分の拡大を抑制できる。また、冷却部１４Ｂは、後述するように大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂでのプラズマの照射により線材２のうち芯材３の表面の酸化膜が還元除去された部分を冷却し、この部分の再酸化を防止している。なお、プラズマ照射による線材２の温度上昇を適切に抑制できるのであれば、上流側の冷却部１４Ａと下流側の冷却部１４Ｂのうちのいずれか一方のみを設けてもよい。逆に、冷却部１４Ａ，１４Ｂに加え、大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂと大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂとの間にさらに別の冷却部を設けてもよい。
【００２２】
大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂは、前者が後述する二次プラズマ４７を線材２の上側に対して上方から照射するのに対し、後者は二次プラズマ４７を線材２の下側に対して下方から照射する点でのみことなる。言い換えれば、大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂは、上下方向の配置姿勢が天地逆である点のみが異なる。同様に、大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂは、上下方向の配置姿勢が天地逆である点のみが異なる。大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂと大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂは、前者が混合ガスとしてAr/O2を使用するのに対し、後者は混合ガスとしてAr/H2を使用する点が異なるがその他の構成は同様である。以下、大気圧プラズマ照射部１５Ａについて説明し、残りの３個の大気圧プラズマ照射部１５Ｂ，１６Ａ，１６Ｂについても必要に応じて言及する。
【００２３】
大気圧プラズマ照射部１５Ａは、プラズマ照射装置２０、保持部２１、及びマスク２２を備える。
【００２４】
図３及び図５を参照すると、保持部２１は、底壁２１ａと、この底壁２１ａから上方に延びる互いに対向する一対の側壁２１ｂ，２１ｂを備える。個々の側壁２１ｂ，２１ｂの上端には線材２を通過させるための切欠２１ｃが形成されている。底壁２１ａには接地電極２３が配置されている。接地電極２３と保持部２１を通過する線材２との隙間は０．５ｍｍ以上１ｍｍ以下程度に設定される。側壁２１ｂ，２１ｂの上端にマスク２２が取り付けられている。マスク２２は絶縁性と耐熱性を有し、例えばセラミック材料からなる。マスク２２の中央には線材２のうちプラズマ照射装置２０からのプラズマが照射される領域を規定するための開口２２ａが設けられている。開口２２ａの幅は例えば２ｍｍ以上５ｍｍ以下程度に設定される。保持部２１、マスク２２、及び接地電極２３の具体的な構造は図示のものに限定されない。なお、プラズマ照射時に図示しないクランプ機構等で線材２を保持して位置決めしてもよい。
【００２５】
プラズマ照射装置２０は保持部２１の上方に配置され保持部２１を通過する線材２のうちマスク２２の開口２２ａを介して露出する部分にプラズマ（後述する二次プラズマ４７）を照射する。
【００２６】
図２及び図３を参照して、大気圧プラズマ照射部１５Ａのプラズマ照射装置２０を説明する。
【００２７】
プラズマ照射装置２０は、固定のプラズマヘッド３１に収容され、断面円形の反応空間３２を形成する誘電体からなる円筒状の放電管（誘導結合型プラズマ発生部）３３を備える。放電管３３の外側には波線形状で平板型のアンテナ３４が設けられている。アンテナ３４には整合回路３５を介して高周波電源３６が接続されている。放電管３３の上端側には、不活性ガスであるArガスを放電管３３に供給する第１ガス源１７Ａが接続されている。
【００２８】
プラズマヘッド３１の下端側には混合器（プラズマ展開部）４１が装着されている。混合器４１は下端に開口（プラズマ噴出口４２ａ）が形成された混合室４２を備える。プラズマ噴出口４２ａが保持部２１を通過する線材２の対象物２の上方に間隔をあけて位置している。この間隔は例えば０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下に設定される。放電管３３の下端は混合器４１の混合室４２内に進入している。また、混合室４２の周壁部には、１個あるいは複数のガス供給口４３が設けられている。これらのガス供給口４３は、第２ガス源３７Ｂに接続されている。第２ガス源３７Ｂは、不活性ガスとしてのArガスと反応性ガスとしてのO2ガスとの混合ガス（Ar/O2ガス）を供給する。
【００２９】
アンテナ３４に対して整合回路３５を介して高周波電源３６から高周波電圧を印加され、それによって放電管３３に高周波電界が印加される。放電管３３の上端から反応空間３２へ第１ガス源３７Ａが流量制御装置３８Ａを介してArガスを供給する。点火装置（図示せず）で高電圧を印加して点火することで、放電管３３の下端から、Arガスがプラズマ化されたものであり、プラズマ密度が高く、高温の誘導結合型プラズマ（熱プラズマ）である一次プラズマ４６が混合器４１の混合室４２へ吹き出される。
【００３０】
第２ガス源３７Ｂから流量制御装置３８Ｂを経てAr/O2ガスがガス供給口４３を介して混合室４２に供給される。放電管３３からの一次プラズマ４６（Arプラズマ）が混合室４２中のAr/O2ガス領域に導入され、混合ガス中の特にArガスを励起して混合ガスの二次プラズマ４７（Arプラズマ）を発生させる。二次プラズマ４７は、混合室４２の全領域に展開し、プラズマ噴出口４２ａから下方に吹き出して線材２に照射される。
【００３１】
前述のように大気圧プラズマ照射部１５Ｂは大気圧プラズマ１５Ａを天地逆の姿勢としているので、プラズマ照射装置２０は保持部２１の下方に配置され保持部２１を通過する線材２のうちマスク２２の開口２２ａを介して露出する部分にプラズマ（後述する二次プラズマ４７）を照射する。
【００３２】
大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂのプラズマ照射装置２０が備える第２ガス源３７Ｂは、不活性ガスとしてのArガスと反応性ガスとしてのH2ガスとの混合ガス（Ar/H2ガス）を供給する。従って、放電管３３からの一次プラズマ４６（Arプラズマ）が混合室４２中のAr/H2ガス領域に導入され、混合ガス中の特にArガスを励起して混合ガスの二次プラズマ４７（Arプラズマ）を発生させる。二次プラズマ４７は、混合室４２の全領域に展開し、プラズマ噴出口４２ａから吹き出して線材２に照射される。
【００３３】
図１及び図２に概念的に示す制御装置２５は、大気圧プラズマ照射部１５（特にプラズマ照射装置２０）を含む、被覆除去装置１全体の動作を制御する。
【００３４】
次に、本実施形態の被覆除去装置１の動作を説明する。
【００３５】
供給部１１から回収部１２に向けて線材２が間欠的に送られる。線材２には張力付与部１３Ａ，１３Ｂにより安定した張力が付与され、しかも冷却部１４で冷却されることで線材２の温度上昇が抑制されている。
【００３６】
大気圧プラズマ照射部１５Ａに到達した線材２にはプラズマ照射装置２０により上方から二次プラズマ４７が照射される。具体的に、線材２のうちマスク２２の開口２２ａを介して露出している部分の上側に対して選択的に二次プラズマ４７が照射される。二次プラズマ４７（Arプラズマ）が反応性ガスを構成する酸素を活性化する。活性化された酸素は保持部２１に保持された線材２の被覆４の上側で化学反応を行い、この部分の被覆４の上を分解除去する。
【００３７】
続いて、大気圧プラズマ照射部１５Ｂに到達した線材２にはプラズマ照射装置２０により下方から二次プラズマ４７が照射される。二次プラズマ４７で活性化された酸素は保持部２１に保持された線材２の被覆４の下側で化学反応を行い、この部分の被覆４の下側を分解除去する。
【００３８】
以上のように大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂでの大気圧プラズマ照射によって被覆４が選択的に除去され、被覆４が除去された部分では芯材３，３が露出している。
【００３９】
次に、大気圧プラズマ照射部１６Ａに到達した線材２にはプラズマ照射装置２０により上方から二次プラズマ４７が照射される。具体的に、線材２のうちマスク２２の開口２２ａを介して露出している部分の上側に対して選択的に二次プラズマ４７が照射される。二次プラズマ４７（Arプラズマ）が反応性ガスを構成する水素を活性化する。活性化された水素は大気圧プラズマ照射部１５Ａでの被覆除去時に酸化した芯材３，３の表面のうち上側部分で化学反応を行い、この部分の酸化膜を還元除去する。
【００４０】
続いて、大気圧プラズマ照射部１６Ｂに到達した線材２にはプラズマ照射装置２０により下方から二次プラズマ４７が照射される。二次プラズマ４７で活性化された水素は大気圧プラズマ照射部１５Ｂでの被覆除去時に酸化した芯材３，３の表面のうち下側部分で化学反応を行い、この部分の酸化膜を還元除去する。
【００４１】
以上のように大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂでの大気圧プラズマ照射により芯材３，３の表面が還元され酸化膜を除去される。
【００４２】
大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂのプラズマ照射装置２０は例えば以下のような条件で動作する。まず、高周波電源３６の電力は２０Ｗ以上５０Ｗ以下程度に設定される。また、第１ガス源３７ＡのAr流量は５０ｓｃｃｍ以上１００ｓｃｃｍ以下程度に設定される。第２ガス源３７ＢのAr/O2流量は１００ｓｃｃｍ以上４００ｓｃｃｍ以下程度に設定される。また、第２ガス源３７ＢでのO2濃度は１％以上２％以下程度の範囲に設定される。さらに、プラズマ照射時間は５秒以上１５秒以下程度の範囲に設定される。
【００４３】
大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂのプラズマ照射装置２０は例えば以下のような条件で動作する。まず、高周波電源３６の電力は２０Ｗ以上５０Ｗ以下程度に設定される。また、第１ガス源３７ＡのAr流量は５０ｓｃｃｍ以上１００ｓｃｃｍ以下程度に設定される。第２ガス源３７ＢのAr/H2流量は１００ｓｃｃｍ以上４００ｓｃｃｍ以下程度に設定される。また、第２ガス源３７ＢでのH2濃度は１％以上２％以下程度の範囲に設定される。さらに、プラズマ照射時間は５秒以上１５秒以下程度の範囲に設定される。
【００４４】
大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂにおいて反応性ガスとしてO2を含む混合ガス（Ar/O2）のプラズマで被覆４をより高速に分解し、その後に大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂにおいて反応性ガスとしてH2を含む混合ガス（Ar/H2）のプラズマで芯材３，３の表面を還元して酸化膜を除去することで、芯材３の酸化を抑制ししつ高速で被覆４を除去できる。
【００４５】
また、線材２のうちマスク２２の開口２２ａから露出している部分にのみ大気圧プラズマ照射部１５Ａ〜１６Ｂにおいてプラズマが照射されるので、線材２の所望の位置の被覆４を選択的に除去できる。
【００４６】
前述のように、大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂよりも線材２の送り方向上流側の冷却部１４Ａで大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂよりも上流側の線材２への熱伝達を低減することで、大気圧プラズマ照射部１５Ａ，１５Ｂよりも上流側の線材２において被覆４の炭化、被覆４の溶融ないし軟化による形状の不安定な部分の拡大を抑制できる。また、前述のように、大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂよりも線材２の送り方向下流側の冷却部１４Ｂで大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂよりも下流側の線材２への熱伝達を抑制することで、大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂよりも下流側の線材２において被覆４の炭化、被覆４の溶融ないし軟化による形状の不安定な部分の拡大を抑制できる。さらに、前述のように、線材２のうち酸化膜が大気圧プラズマ照射部１６Ａ，１６Ｂでプラズマ照射により還元除去された部分は、冷却部１４Ｂにより冷却されて温度が低下するので、再酸化を防止できる。
【００４７】
以上のように、本実施形態の被覆除去装置１により、芯材３，３の酸化を抑制しつつ被覆４を選択的かつ高速で除去することができる。
【００４８】
本発明は前記実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、反応性ガスとしてO2を含む混合ガス（Ar/O2）のプラズマを照射するための単一の大気圧プラズマ照射部を設け、この大気圧プラズマ照射部の上下姿勢を上向きと下向きに切換可能としてもよい。同様に、反応性ガスとしてH2を含む混合ガス（Ar/H2）のプラズマを照射するための単一の大気圧プラズマ照射部を設け、この大気圧プラズマ照射部の上下姿勢を上向きと下向きに切換可能としてもよい。
【符号の説明】
【００４９】
１  被覆除去装置（プラズマ処理装置）
２  線材
３  芯材
４  被覆
１１  供給部
１１ａ  ドラム
１１ｂ  駆動機構
１２  回収部
１２ａ  ドラム
１２ｂ  駆動機構
１３Ａ，１３Ｂ  張力付与部
１３ａ  支軸
１３ｂ  固定ローラ
１３ｃ  ガイドレール
１３ｄ  支軸
１３ｅ  可動ローラ
１４  冷却部  
１４ａ  台座
１４ｂ  冷却部材
１４ｃ  貫通孔
１５Ａ，１５Ｂ，１６Ａ，１６Ｂ  大気圧プラズマ照射部
２０  プラズマ照射装置
２１  保持部
２１ａ  底壁
２１ｂ  側壁
２１ｃ  切欠
２２  マスク
２２ａ  開口
２３  接地電極
２４  回収機構
２５  制御装置
３１  プラズマヘッド
３２  反応空間
３３  放電管
３４  アンテナ（誘導結合型プラズマ発生部）
３５  整合回路
３６  高周波電源
３７Ａ  第１ガス源
３７Ｂ  第２ガス源
３８Ａ，３８Ｂ  流量制御装置
４１  混合器（プラズマ展開部）
４２  混合室
４２ａ  プラズマ噴射口
４３  ガス供給口
４６  一次プラズマ
４７  二次プラズマ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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