(57)【要約】【課題】回転機器の製造時間の増大を抑えつつ、その構成部品に付着する異物を低減しうる回転機器の製造技術を提供する。【解決手段】回転機器は、磁気記録ディスクが載置されるべきハブとハブを回転自在に支持するベースとを有する。ベースおよびハブのうちの少なくとも一方をワークと呼ぶとき、回転機器の製造方法は、ワークを形成する形成工程と、形成されたワークに固体の粒子を吹き付ける吹付工程と、粒子が吹き付けられたワークを、洗浄液を使用して洗浄する洗浄工程と、洗浄されたワークを使用して回転機器を組み立てる組立工程と、を含む。粒子は洗浄工程において気化するかまたは洗浄液に溶ける性質を有する。【選択図】図３
2014064985.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録ディスクが載置されるべきハブとハブを回転自在に支持するベースとを有する回転機器の製造方法であって、ベースおよびハブのうちの少なくとも一方をワークと呼ぶとき、本製造方法は、
ワークを形成する形成工程と、
形成されたワークに固体の粒子を吹き付ける吹付工程と、
前記粒子が吹き付けられたワークを、洗浄液を使用して洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄されたワークを使用して前記回転機器を組み立てる組立工程と、を含み、
前記粒子は前記洗浄工程において気化するかまたは前記洗浄液に溶ける性質を有することを特徴とする回転機器の製造方法。
【請求項２】
前記吹付工程は、粒子を３０μｍ以下の大きさに粉砕する粉砕工程を含み、粉砕された粒子を吹き付けることを特徴とする請求項１に記載の回転機器の製造方法。
【請求項３】
前記形成工程は、ワークに切削面を形成する切削工程を含み、
前記吹付工程においてワークに吹き付けられる粒子の大きさは前記切削面の切削ピッチ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の回転機器の製造方法。
【請求項４】
前記吹付工程においてワークに吹き付けられる粒子は、ワークより軟らかい材料からなることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の回転機器の製造方法。
【請求項５】
前記洗浄工程は、
前記粒子が吹き付けられたワークを第１洗浄液に接触させる第１接触工程と、
前記第１洗浄液に接触したワークを第２洗浄液に接触させる第２接触工程と、
を含み、
前記第２接触工程は、前記第１接触工程の雰囲気よりクリーン度が高いクリーンルーム内において実行されることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の回転機器の製造方法。
【請求項６】
前記洗浄工程は、洗浄槽中の洗浄液に超音波発生器から超音波を印加しながらワークを浸す超音波印加工程を含み、
前記超音波印加工程は、当該洗浄液の液面の位置を所定の範囲に調整する液面調整手段を使用して、前記洗浄液中の前記超音波のパワー密度が１０Ｗ／Ｌ以上になるように前記超音波発生器から前記液面の鉛直距離を調整して実行されることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の回転機器の製造方法。
【請求項７】
前記超音波印加工程は、前記超音波発生器から当該液面の鉛直距離を当該超音波の半波長のｎ倍（ｎは４から１０の範囲の整数）に調整されて実行されることを特徴とする請求項６に記載の回転機器の製造方法。
【請求項８】
前記超音波発生器は８０ｋＨｚから２００ｋＨｚの範囲の周波数の超音波を印加することを特徴とする請求項６または７に記載の回転機器の製造方法。
【請求項９】
ワークがハブであるとき、前記洗浄工程において、ハブは、その載置面と超音波が伝搬する方向とが略平行となるよう支持されていることを特徴とする請求項６から８のいずれかに記載の回転機器の製造方法。
【請求項１０】
前記洗浄工程は、前記洗浄槽から前記洗浄液をポンプで汲み出して気泡核増加手段を通じて前記洗浄槽に注入する工程を含み、
前記気泡核増加手段は超音波振動を作用させることによって前記洗浄液中の所定の性質を有する気泡核の量を増加させることを特徴とする請求項６から９のいずれかに記載の回転機器の製造方法。
【請求項１１】
前記洗浄工程は、エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを、エステル及びエーテルの合計と界面活性剤との質量比で１：１〜１：４の範囲で含有する水溶液である洗浄液を使用してワークを洗浄する工程を含むことを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載の回転機器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転機器を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
回転機器の一例としてハードディスクドライブなどのディスク駆動装置がある。現在、装置の小型化、大容量化が進み、２．５インチ型で２．０ＴＢ程度のモデルが登場している。この傾向により、従来は主にデスクトップパソコンに搭載されていたディスク駆動装置が、ノートパソコンや録画装置をはじめとする種々の電子機器に搭載されはじめた。特許文献１には、このようなディスク駆動装置を製造する方法が提案されている。ハイビジョン動画など大容量コンテンツの普及にともない、ディスク駆動装置には、さらなる大容量化が求められている。
【０００３】
大容量化の手法として、記録トラックの幅を狭くし、磁気ヘッドを磁気記録ディスクの表面により接近させる技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１２３９８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ディスク駆動装置では、ハブやベースなどの構成部品に付着していた異物が振動などにより剥がれ、ディスクに付着することがある。気化−再凝縮などを経て付着することもある。ディスクに付着した異物は、リード／ライトエラーを引き起こしうる。
【０００６】
大容量化によって記録トラックの幅が狭くなると、その幅に対して異物が相対的に大きくなるため、リード／ライト動作への悪影響が顕著になる。また、磁気ヘッドとディスクの表面の隙間が狭くなると、付着した異物が記録再生ヘッドに干渉しやすくなり、同じくリード／ライト動作への悪影響が顕著になる。つまり、従来許容されていた微少あるいは少量の異物であっても、大容量化した場合には動作に悪影響を及ぼす可能性がある。
【０００７】
上述した従来の製造方法は、構成部品に付着する異物を低減して清浄度を高めることができる。しかし、ディスク駆動装置のさらなる大容量化のためには、より高い清浄度への要求が絶えることはない。従来の洗浄方法では、清浄度を高めるためには洗浄時間を長くするほかない。これが製造コストを押し上げ、タイムリーな生産の足かせになる。
【０００８】
このような課題は、ディスク駆動装置に限らず他の種類の回転機器でも起こりうる。
【０００９】
本発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は回転機器の製造時間の増大を抑えつつ、その構成部品に付着する異物を低減する回転機器の製造技術の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明のある態様の回転機器の製造方法は、記録ディスクが載置されるべきハブとハブを回転自在に支持するベースとを有する回転機器の製造方法であって、ベースおよびハブのうちの少なくとも一方をワークと呼ぶとき、本製造方法は、ワークを形成する形成工程と、形成されたワークに固体の粒子を吹き付ける吹付工程と、粒子が吹き付けられたワークを、洗浄液を使用して洗浄する洗浄工程と、洗浄されたワークを使用して回転機器を組み立てる組立工程と、を含む。粒子は洗浄工程において気化するかまたは洗浄液に溶ける性質を有する。
【００１１】
この態様によると、ワークに付着する異物の量を低減できる。
【００１２】
なお、以上の構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、回転機器の製造時間の増大を抑えつつ、その構成部品に付着する異物を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１（ａ）、図１（ｂ）は、実施の形態に係る製造方法により製造される回転機器を示す上面図および側面図である。
【図２】図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】ハブを製造する工程を示す模式的な製造工程図である。
【図４】図３の吹付工程の様子を示す模式図である。
【図５】図３の第１接触工程の様子を示す模式図である。
【図６】ハブを１槽で洗浄したときの清浄度と、３槽に分けて洗浄したときの清浄度とを示す図である。
【図７】ハブを、様々な条件で洗浄したときの清浄度の分布を示す図である。
【図８】図８（ａ）、図８（ｂ）、図８（ｃ）は、洗浄液を介してハブに超音波を当てるときの様子を示す模式図である。
【図９】図３の第２接触工程と乾燥工程の様子を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、各図面に示される同一または同等の構成要素、部材、工程には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、各図面における部材の寸法は、理解を容易にするために適宜拡大、縮小して示される。また、各図面において実施の形態を説明する上で重要ではない部材の一部は省略して表示する。
【００１６】
実施の形態に係る製造方法によって製造される回転機器は、記録ディスクが載置されるべきハブと、ハブを回転自在に支持するベースと、を有する。そのような回転機器は、磁気記録ディスクを回転駆動するディスク駆動装置、特にハードディスクドライブを含む。
【００１７】
まず、本発明の実施形態を得るに至った経緯を説明する。本発明者らは、ディスク駆動装置の容量が、例えばディスク１枚当たり５００ＧＢから１ＴＢへと飛躍的に増大したことにともない、その構成部品に残留する切削剤成分量を従来の１／２０以下にする必要があるとの知見を得た。すなわち、従来の構成部品の清浄度のままでは、ディスク表面に付着した異物に信号の読み書きを行うヘッドが乗り上げて、記録信号の読み書きが阻害されてしまう場合があった。また、本発明者らは、ディスク駆動装置の構成部品に付着する切削剤成分について鋭意研究した結果、構成部品に残留する切削剤成分には、炭化水素に加えて脂肪酸エステルやこの脂肪酸エステルが加水分解して生じる脂肪酸が含まれること、および、この脂肪酸エステルや脂肪酸（以下、「変性物等」という。）がディスク駆動装置の構成部品に残留すると、飛散や気化−凝縮により記録ディスク表面に付着するため、ディスク駆動装置の大容量化の障害となることを見出した。そして、構成部品に残留した変性物等を従来の洗浄方法により除去しようとすると洗浄時間が長くかかることを認識した。
【００１８】
また、ディスク駆動装置の構成部品は、一般に、金属材料から、少なくとも一部に切削加工が施されて形成される。例えば、ハブは、金属材料により形成され、少なくともディスクの中央の孔やその縁が接する部分には寸法精度を向上するよう切削加工が施される。この切削加工の作業時間の短縮あるいは寸法精度を向上するため、金属材料には、例えば、Ｍｎ、Ｓ、Ｔｅ、Ｐｂなどのいわゆる快削成分が添加されている。本発明者らは、快削成分が含まれる金属材料を切削加工すると、切削面に快削成分などがマイクロ突起として付着することがあり、このマイクロ突起が剥がれてディスク表面に移動すると、上述したような障害の原因となりうることを見出した。そして、このような切削面のマイクロ突起を従来の洗浄方法により除去しようとすると洗浄時間が長くかかることを認識した。以上の知見から、本発明者らは本発明の実施形態を得るに至った。
【００１９】
本実施の形態に係る製造方法では、回転機器の構成部品に固体の粒子を吹き付ける。これにより、構成部品に付着した炭化水素（炭化水素の変性物等を含む）、快削成分のマイクロ突起、その他異物を吹き飛ばすことができる。あるいは、吹き飛ばせないまでも異物と構成部品との付着力を弱めることができ、後続の工程で容易に異物を低減することができる。また、本実施の形態に係る製造方法では、粒子が吹き付けられた構成部品を、洗浄液を使用して洗浄する。これにより、構成部品に付着する異物の量を低減することができる。粒子が洗浄液に溶ける性質を有している場合は、この洗浄により、構成部品に付着した粒子も除去できる。そして、これらを、本洗浄の前に実施することで、比較的短い本洗浄時間で所望の清浄度を得ることができる。
【００２０】
（回転機器）
図１（ａ）、図１（ｂ）は、本実施の形態に係る製造方法により製造される回転機器１を示す上面図および側面図である。図１（ａ）は、回転機器１の上面図である。図１（ａ）では、回転機器１の内側の構成を示すため、トップカバー２を外した状態が示される。回転機器１は、ベース４と、ロータ６と、磁気記録ディスク８と、データリード／ライト部１０と、トップカバー２と、を備える。回転機器１は、磁気記録ディスク８を回転させるハードディスクドライブである。
以降ベース４に対してロータ６が搭載される側を上側として説明する。
【００２１】
磁気記録ディスク８は、直径が６５ｍｍのガラス製の２．５インチ型磁気記録ディスクであり、その中央の孔の直径は２０ｍｍ、厚みは０．６５ｍｍである。
磁気記録ディスク８は、ロータ６に載置され、ロータ６の回転に伴って回転する。ロータ６は、図１（ａ）では図示しない軸受ユニット１２を介してベース４に対して回転可能に取り付けられる。
【００２２】
ベース４はアルミニウムの合金をダイカストにより成型して形成される。ベース４は、回転機器１の底部を形成する底板部４ａと、磁気記録ディスク８の載置領域を囲むように底板部４ａの外周に沿って形成された外周壁部４ｂと、を有する。外周壁部４ｂの上面４ｃには、６つのねじ穴２２が設けられる。
【００２３】
データリード／ライト部１０は、記録再生ヘッド（不図示）と、スイングアーム１４と、ボイスコイルモータ１６と、ピボットアセンブリ１８と、を含む。記録再生ヘッドは、スイングアーム１４の先端部に取り付けられ、磁気記録ディスク８にデータを記録し、磁気記録ディスク８からデータを読み取る。ピボットアセンブリ１８は、スイングアーム１４をベース４に対してヘッド回転軸Ｓの周りに揺動自在に支持する。ボイスコイルモータ１６は、スイングアーム１４をヘッド回転軸Ｓの周りに揺動させ、記録再生ヘッドを磁気記録ディスク８の上面上の所望の位置に移動させる。ボイスコイルモータ１６およびピボットアセンブリ１８は、ヘッドの位置を制御する公知の技術を用いて構成される。
【００２４】
図１（ｂ）は回転機器１の側面図である。トップカバー２は、６つのねじ２０を用いてベース４の外周壁部４ｂの上面４ｃに固定される。６つのねじ２０は、６つのねじ穴２２にそれぞれ対応する。特にトップカバー２と外周壁部４ｂの上面４ｃとは、それらの接合部分から回転機器１の内側へリークが生じないように互いに固定される。
【００２５】
図２は、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。回転機器１は、積層コア４０と、コイル４２と、をさらに備える。積層コア４０は円環部とそこから半径方向（すなわち回転軸Ｒに直交する方向）外側に伸びる１２本の突極とを有し、ベース４の上面４ｄ側に固定される。積層コア４０は、４枚の薄型電磁鋼板を積層しカシメにより一体化して形成される。積層コア４０の表面には電着塗装や粉体塗装などによる絶縁塗装が施される。それぞれの突極にはコイル４２が巻回される。このコイル４２に３相の略正弦波状の駆動電流が流れることにより突極に沿って駆動磁束が発生する。ベース４の上面４ｄには、ロータ６の回転軸Ｒを中心とする円環状の環状壁部４ｅが設けられる。積層コア４０は環状壁部４ｅの外周面４ｇに圧入されもしくは隙間ばめによって接着固定される。
【００２６】
ベース４には、ロータ６の回転軸Ｒに沿って貫通孔４ｈが形成される。軸受ユニット１２は、ハウジング４４と、スリーブ４６と、を含み、ロータ６をベース４に対して回転自在に支持する。ハウジング４４は、円筒部と底部とが一体に形成された有底カップ形状を有する。すなわち、ハウジング４４は、回転軸Ｒを中心とし上方に開いた凹部４４ａを有する。ハウジング４４は底部を下にしてベース４の貫通孔４ｈに接着により固定される。
【００２７】
スリーブ４６は、ハウジング４４の凹部４４ａに挿入され接着固定される円筒状の部材である。スリーブ４６の上端には半径方向外側に向けて張り出した張出部４６ａが形成されている。この張出部４６ａは、スラスト部材３０と協働してロータ６の軸方向の移動を制限する。
【００２８】
スリーブ４６にはシャフト２６が収まる。ロータ６の一部であるシャフト２６およびハブ２８およびスラスト部材３０とステータの一部である軸受ユニット１２との間の空間には潤滑剤４８が注入される。
スリーブ４６の内周面には、上下に離間した１組のヘリングボーン形状のラジアル動圧溝５０が形成される。ハウジング４４の上面に対向するスラスト部材３０の下面には、ヘリングボーン形状の第１スラスト動圧溝（不図示）が形成される。張出部４６ａの下面に対向するスラスト部材３０上面には、ヘリングボーン形状の第２スラスト動圧溝（不図示）が形成される。ロータ６の回転時には、これらの動圧溝が潤滑剤４８に生成する動圧によって、ロータ６は半径方向および軸方向に支持される。
【００２９】
なお、１組のヘリングボーン形状のラジアル動圧溝をシャフト２６に形成してもよい。また、第１スラスト動圧溝をハウジング４４の上面に形成してもよく、第２スラスト動圧溝を張出部４６ａの下面に形成してもよい。
【００３０】
ロータ６は、シャフト２６と、ハブ２８と、スラスト部材３０と、円筒状マグネット３２と、を含む。ハブ２８は、軟磁性を有する例えばＳＵＳ４３０Ｆ等の鉄鋼材料から形成される。ハブ２８は、鉄鋼材料を切削加工することにより形成され、略カップ状の所定の形状に形成される。快削性を向上するため、ハブ２８の鉄鋼材料には、Ｍｎ、Ｓ、Ｔｅ、Ｐｂなどの成分が添加されている。ハブ２８は、ハブ突出部２８ｇと、ハブ突出部２８ｇより半径方向外側に設けられた載置部２８ｈと、ハブ突出部２８ｇの下面２８ｊから下側に突出して軸受ユニット１２を環囲する下垂部２８ｄと、を有する。
【００３１】
ハブ突出部２８ｇには回転軸Ｒに沿ってシャフト孔２８ｃが設けられる。シャフト２６の上端部はシャフト孔２８ｃに圧入される。すなわち、シャフト孔２８ｃの周面はシャフト２６とハブ２８との接触部分となる。シャフト２６は、ハブ２８の原材料よりも硬い、例えばＳＵＳ４２０Ｊ２等の鉄鋼材料から形成される。
【００３２】
磁気記録ディスク８は、ハブ突出部２８ｇの外周面２８ｉに嵌められ、載置部２８ｈの上面であるディスク載置面２８ａ上に載置される。ハブ突出部２８ｇの上面２８ｂには３つのディスク固定用ねじ穴３４がロータ６の回転軸Ｒの周りに１２０度間隔で設けられている。クランパ３６は、３つのディスク固定用ねじ穴３４に螺合される３つのディスク固定用ねじ３８によってハブ突出部２８ｇの上面２８ｂに圧着されるとともに磁気記録ディスク８をディスク載置面２８ａに圧着させる。
【００３３】
スラスト部材３０は円環形状を有し、スラスト部材３０の断面は、逆Ｌ字形状を有する。スラスト部材３０は、ハブ２８の下垂部２８ｄの内周面２８ｅに接着により固定される。
【００３４】
円筒状マグネット３２は、略カップ形状のハブ２８の内側の円筒面に相当する円筒状内周面２８ｆに接着固定される。円筒状マグネット３２は、例えば、希土類磁石材料やフェライト磁石材料によって形成される。本実施の形態ではネオジウム系希土類磁石材料によって形成される。円筒状マグネット３２にはその周方向（回転軸Ｒを中心とし回転軸Ｒに垂直な円の接線方向）に１２極の駆動用着磁が施される。円筒状マグネット３２の表面には電着塗装やスプレー塗装などによる表面層形成処理が施され、例えば、発錆が抑制される。円筒状マグネット３２は、積層コア４０の９本の突極と半径方向（すなわち回転軸Ｒに直交する方向）に対向する。
【００３５】
（製造方法）
本実施の形態に係る製造方法によって上述の回転機器１を製造する場合を説明する。以下では、ハブ２８、ベース４、その他構成部品をまとめていうときには「ワーク」とよぶ。
実施の形態に係る製造方法は、ワークを製造する工程と、製造されたワークを組み合わせることで回転機器１を組み立てる工程と、組み立てられた回転機器１の外観、動作、機能等を検査する工程と、を備える。組み立てる工程は公知の組み立て技術を使用して構成されてもよい。検査する工程は公知の検査技術を使用して構成されてもよい。
【００３６】
図３は、ワークを製造する工程を示す模式的な生産工程図である。ワークを製造する工程は、形成工程Ｓ１０２と、吹付工程Ｓ１０４と、洗浄工程Ｓ１０５と、乾燥工程Ｓ１１０と、を含む。以下、基本的にはハブ２８を例として各工程について説明する。
【００３７】
形成工程Ｓ１０２では、ＳＵＳ４３０Ｆ等の鉄鋼材料を切削し、ハブ２８を形成する。この際、冷却と潤滑とのために切削剤が使用される。切削剤は炭化水素を多く含む。したがって、切削加工後のハブ２８には炭化水素やその変性物等が多く付着している。また、切削面には、鉄鋼材料に添加されている快削成分がマイクロ突起として付着していることがある。つまり、ハブ２８には異物が付着している。
【００３８】
吹付工程Ｓ１０４では、ハブ２８に粒子を吹き付ける。その粒子の運動エネルギーによりハブ２８に付着している異物に衝撃が加わり異物が除去される。
【００３９】
ここで、ワークに吹き付ける粒子について説明する。まず液体粒子を吹き付けるとすると、液体はその表面張力の作用により粒子径を小さくすることが難しく、また液体粒子は表面張力により弾性体のように振る舞うと考えられ、衝突時の運動エネルギーは液体粒子の全体に分散され、異物に与える衝撃が小さくなる可能性がある。一方、固体粒子は、表面張力の影響が小さいため粒子径を小さくしやすい。また、弾性体のように振る舞うことはないと考えられ、衝突時の運動エネルギーが分散され難く、微少な異物に大きな衝撃を与えて効率的に除去しうると考えられる。これより、吹き付ける粒子としては、少なくともワークに接触するまでは固体である粒子が好ましい。
また、ワークへの傷付けを抑制するため、ワークより硬度が低く軟らかい素材の粒子が好ましい。また、洗浄後のワークへの残留を防止するため、粒子は、後の洗浄工程Ｓ１０５において気化するか、洗浄液に溶ける性質を有することが好ましい。さらに、洗浄槽などの洗浄設備の発錆を抑制するため金属に錆を生じ難い性質を有する素材の粒子が好ましい。
【００４０】
このような固体粒子の種類には特別の制限はないが、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウムなどの塩の粒子、ドライアイスなど室温で気体である物質を固化した粒子、氷など室温で液体である物質を固化した粒子を用いることができる。例えば塩の粒子は安価で取り扱いが容易である点で好ましい。室温で気体あるいは液体である物質を固化した粒子は洗浄後に除去が容易である点で好ましい。これらの固体粒子は単独にあるいは複数の種類の粒子を併用して用いることも可能である。以下の実施の形態においては固体粒子として炭酸水素ナトリウムを単独で用いる例を説明する。
【００４１】
次に、吹き付ける粒子の大きさについて説明する。例えば切削引き目のような凹凸を有する面に粒子を吹き付ける場合は、粒子の大きさは凹凸の間隔（例えば引き目ピッチ）以下である方が、凹凸の凹部（例えば引き目）に付着する異物を効果的に除去できる。しかし、一般に入手可能な材料の粒子の大きさは大きくまた不揃いである場合が多く、このような粒子をそのまま用いると異物剥離効果にばらつきを生じる。このため、吹付工程Ｓ１０４の前に、例えば、粉ひき器や粉砕器などを用いて粒子の大きさを細かくする粉砕工程を含むようにしてもよい。この結果、安定した異物剥離効果を得ることができる。
【００４２】
具体的には引目ピッチが３０μｍ〜３００μｍである場合には粒子の大きさは３０μｍ以下であることが望ましい。ここで、「粒子の大きさが３０μｍ以下である」とは、粒子を３０μｍ間隔のスリットの篩にかけたときに、５０％以上が通過する粒子の大きさをいう。粒子を過剰に細くすると余分に手間が掛かり、また粒子の質量が小さくなりすぎて異物に与える衝撃が小さくなり異物剥離効果が不安定になる。このため、粒子の大きさは５μｍ以上とされることが望ましい。また、粒子は保存されている間に粒子同士が固着して結果として粒子の大きさが大きくなることがある。このため、粉砕工程に連続して吹付工程Ｓ１０４を実行することが望ましい。
【００４３】
図４は、吹付工程Ｓ１０４の様子を示す模式図である。ここでは、ハブ２８に炭酸水素ナトリウムの個体粒子を吹き付ける。吹付工程Ｓ１０４は、炭酸水素ナトリウムの粒子が周辺に飛び散らないよう閉じられた作業空間２０２内で行われる。
【００４４】
吹付工程Ｓ１０４では、まず、支持台２０４ごとハブ２８を搬入口（不図示）から作業空間２０２に入れる。ハブ２８は、ハブ突出部２８ｇの上面２８ｂが上に向いた状態で支持される。次に、支持台２０４のプレート２０４ａを回転させ、ハブ２８を回転軸Ｒの周りで回転させる。この状態のハブ２８の上面２８ｂおよびディスク載置面２８ａに向けて、圧縮空気とともに炭酸水素ナトリウムの粒子をノズル２０６から吹き付ける。これにより、ハブ２８の主に上面２８ｂおよびディスク載置面２８ａに付着した炭化水素（炭化水素の変性物等を含む）、快削成分のマイクロ突起、その他異物が吹き飛ばされる。あるいは、吹き飛ばされないまでも、ハブ２８との付着力を弱めることができる。本発明者による実験では、ハブ２８の回転速度が０．５〜５０Ｈｚの範囲、圧縮空気の圧力が０．２〜０．５Ｍｐａの範囲、流量が８０〜２００Ｌ／ｍｉｎの範囲、上面２８ｂおよびディスク載置面２８ａと吹き付け方向とがなす角θが鋭角１５〜６０度の範囲で、異物等の除去効果が確認された。なお、ハブ２８を回転させる速度、ハブ２８に圧縮空気を吹き付ける角度θ、その圧縮空気の圧力、流量は所望の洗浄効果を得るように変更してもよい。
【００４５】
また、炭酸水素ナトリウムの粒子を吹き付けている間に、ハブ２８に対してノズル２０６と反対側に設けられた吸引機２０８によりハブ２８の周囲の雰囲気を吸引する。これにより、剥がれた異物が作業空間２０２内で飛散するのを抑え、ハブ２８に再付着するのを抑えることができる。吸引された異物と炭酸水素ナトリウムの粒子とは、フィルタ２１０で分離され、それぞれ異物回収容器２１２と重曹回収容器２１４とに回収される。
【００４６】
次に、洗浄工程Ｓ１０５について説明する。洗浄工程Ｓ１０５では、洗浄槽中の洗浄液にハブ２８を浸して洗浄する。
ここで、発明者は、洗浄槽中の洗浄液においてワークに残留する快削成分のマイクロ突起や変性物等を効率的に除去する方法について検討した。そして、ワークが浸された洗浄槽中の洗浄液に超音波発生器から超音波を印加するときに、洗浄効果がバラツキあるいは低下する要因について以下のような知見を得た。
【００４７】
まず、超音波のパワー密度について説明する。
超音波出力が一定である場合に、洗浄槽中の洗浄液の体積を大きくすると洗浄効果がバラツキあるいは低下し、洗浄液の体積を小さくすると洗浄効果が向上することが判明した。また、洗浄槽中の洗浄液の体積が一定である場合に、超音波出力を小さくすると洗浄効果がバラツキあるいは低下し、超音波出力を大きくすると洗浄効果が向上することが判明した。つまり、超音波出力Ｐ（Ｗ）と洗浄槽中の洗浄液の体積Ｖ（Ｌ）の比である超音波のパワー密度Ｐ／Ｖ（Ｗ／Ｌ）を大きくすることによって洗浄効果が向上する。また、検討によって超音波のパワー密度Ｐ／Ｖ（Ｗ／Ｌ）が１０（Ｗ／Ｌ）以上である場合に顕著に洗浄効果のバラツキが小さくなり洗浄効果が向上することが確認された。
【００４８】
ここで、単に超音波出力Ｐ（Ｗ）を大きくすると、併せて耳障りな騒音が大きくなり作業環境が悪化することが考えられる。また、超音波出力Ｐ（Ｗ）を大きくするために超音波発生器に大きな電力を供給すると、超音波発生器の寿命が短くなり信頼性が低下する傾向にある。一方、洗浄槽中の洗浄液の体積Ｖ（Ｌ）を小さくして超音波のパワー密度Ｐ／Ｖ（Ｗ／Ｌ）を大きくする場合は、相対的に作業環境の悪化や超音波発生器の信頼性の低下は抑制される。具体的には、洗浄槽中の洗浄液の液面の位置を所定の範囲に調整する液面調整手段を使用して、洗浄液の超音波のパワー密度が１０（Ｗ／Ｌ）以上の所望の大きさになるように、洗浄槽中の洗浄液の体積を制御することができる。液面調整手段は、所定のタイミングで所定の量の洗浄液を洗浄槽に補充する手段と、洗浄槽中の洗浄液の液面が設定高さを超えたら洗浄液を排出する手段と、を含んで構成できる。
【００４９】
次に、超音波の周波数について説明する。
まず、超音波について２０ｋＨｚ〜４０ｋＨｚなどの最大可聴周波数の１倍〜２倍の周波数の超音波を用いて超音波の出力を高める方法を検討した。しかし、このような帯域の超音波を用いると併せて耳障りな騒音を発するため作業環境が悪化することが考えられる。また、２０ｋＨｚ〜４０ｋＨｚなどの帯域で超音波出力を高めると、超音波発生器に近い領域でエロージョンにより洗浄対象のワークの表面荒れを生じる可能性が高くなり、また超音波発生器の寿命が短くなる可能性が高くなることが考えられる。また、最大可聴周波数の４倍〜１０倍の周波数である８０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚの範囲の超音波を用いて超音波の出力を高める場合は、耳障りな騒音を抑制し作業環境の悪化を抑制する効果が見られた。
【００５０】
次に、超音波の有効洗浄範囲について説明する。
ここで、洗浄液中の超音波発生器をその出力方向が鉛直上向きになるように配置し、超音波発生器からワークに向かって延伸する直線と出力方向とがなす角であるワーク角について検討した。ワーク角が大きくい場合は洗浄効果が低下しあるいはバラツキを生じることが判明した。つまり、洗浄槽中の洗浄液中をワークが水平に移動する場合にワークが有効に洗浄されるのは、超音波発生器の真上付近に限られ、それ以外の領域では洗浄の効率が低くなる。なお、ワークが有効に洗浄される領域を広くするために超音波発生器の数を増やしたり、洗浄槽を多く設置すると設備が高価になる。
【００５１】
次に、液面調整手段を使用して洗浄液の液面を変化させて洗浄効果の変化を確認した。この結果、超音波発生器から液面までの鉛直距離が概ね超音波の半波長の整数倍である場合に顕著に洗浄効果が向上することが判明した。このことにより洗浄液中を上昇する超音波の振動と液面で反射して下降する超音波の振動との位相が合致して相互に強め合い、振動の減衰が抑制されると考えられる。ここで、当該鉛直距離が短すぎると、被洗浄体が液面からはみ出す可能性がある。一方、当該鉛直距離が長すぎると洗浄液の超音波のパワー密度が低下することが考えられる。少なくとも、当該鉛直距離が概ね超音波の半波長の４から１０の範囲の整数倍である場合には、被洗浄体が液面からはみ出す可能性が実用上で問題なく、洗浄液の超音波のパワー密度も所望の範囲に維持できることが確認されている。また、超音波発生器から液面までの鉛直距離が概ね超音波の半波長の整数倍である場合は、有効洗浄範囲も拡大し超音波の減衰も抑制されて、洗浄槽中の洗浄液中をワークが水平に移動する場合に超音波発生器の真上付近以外の領域でもワークに付着する快削成分のマイクロ突起や変性物等を所定の製造タクト時間の範囲で効率的に除去できることが判明した。
【００５２】
次に、気泡核増加手段について説明する。
検討により、ワークに付着する快削成分のマイクロ突起や変性物等の除去にかかる作業時間は日によって一様でなく変化することが観測された。これは同一の洗浄条件でも洗浄液中の気泡核の含有量が少ない場合に、超音波によるキャビテーションの発生が少なくなり洗浄効果が低下するものと考えられる。気泡核は洗浄液中の１００μｍ以下のごく微小な気体で、超音波の作用を受けると膨張と収縮とによりキャビテーションを発生させる性質を有し、気泡核が少ないとキャビテーションの発生の効率が低下する。このため洗浄液中の気泡核を増加させる工程を追加することができる。例えば、洗浄槽から洗浄液をポンプで汲み出して気泡核増加手段を通じて洗浄槽に注入する工程を含むようにしてもよい。気泡核増加手段は、例えば、洗浄液に超音波振動を作用させて洗浄液中にキャビテーションの核となる気泡核の量を増加させる。
【００５３】
具体的には、洗浄槽中の洗浄液をポンプで汲み上げ、フィルタを通じて異物を濾過した後、気泡調整タンク内で超音波を印加して共振させることにより気泡核を増加させ、その後に洗浄槽に再注入する。気泡調整タンクをポンプの入力側に設ける方法も考えられるが、この場合洗浄液がポンプを通過する過程で気泡核が減少する可能性があり、気泡調整タンクはポンプの出力側に設ける構成が好ましい。このように気泡核増加手段を用いることにより、洗浄液中の気泡核の減少が防止され洗浄効果のバラツキを減らすことができる。
以下に、本実施の形態における洗浄工程Ｓ１０５について具体的な内容を説明する。
【００５４】
洗浄工程Ｓ１０５は、第１接触工程Ｓ１０６と第２接触工程Ｓ１０８とを含む。
図５は、第１接触工程Ｓ１０６の様子を示す模式図である。第１接触工程Ｓ１０６では、本洗浄である第２接触工程Ｓ１０８の予備洗浄としてハブ２８を洗浄する。具体的には、ハブ２８は、搬送装置３００によって搬送され、第１予備洗浄液３０４、第２予備洗浄液３０６、第３予備洗浄液３０８の順で各予備洗浄液中を移動しながら超音波洗浄される。
【００５５】
搬送装置３００は、ハブ２８を支持する支持台が取り付けられたチェーンコンベアである。ここでは、搬送装置３００は、時計回り方向にチェーン３０２を移動させ、支持台（不図示）ごとハブ２８を搬送する。
【００５６】
第１予備洗浄液３０４、第２予備洗浄液３０６、第３予備洗浄液３０８は、それぞれ第１予備洗浄槽３１０、第２予備洗浄槽３１２、第３予備洗浄槽３１４に貯められている。吹付工程Ｓ１０４でハブ２８に吹付けられた粒子、すなわち炭酸水素ナトリウムは、第１予備洗浄液３０４、第２予備洗浄液３０６、第３予備洗浄液３０８に溶ける性質を持っている。「溶ける性質を持っている」とは、２５℃、１００ｇの洗浄液に、例えば８ｇ以上の炭酸水素ナトリウムが溶けることをいう。第１予備洗浄液３０４は、界面活性剤を主な溶質とする水溶液であり、その温度は６０℃〜７０℃の範囲とされる。第２予備洗浄液３０６および第３予備洗浄液３０８は、実質的に純水とみなせる液体であり、その温度は常温程度とされる。具体的には、例えば２５℃〜３５℃の範囲とされる。また、第２予備洗浄液３０６は、第１ポンプ３３６、第１フィルタ３４０、第１気泡核増加手段３４４により、気泡核の量が増やされている。具体的には、第１ポンプ３３６により第２予備洗浄槽３１２から第２予備洗浄液３０６を汲み出し、第１フィルタ３４０で異物を濾過してから第１気泡核増加手段３４４に送り込む。そして、第１気泡核増加手段３４４で気泡核の量が増やされた後、第２予備洗浄液３０６は第２予備洗浄槽３１２に戻される。第３予備洗浄液３０８も、第２ポンプ３３８、第２フィルタ３４２、第２気泡核増加手段３４６により、気泡核の量が増やされている。第２ポンプ３３８、第２フィルタ３４２、第２気泡核増加手段３４６は、それぞれ第１ポンプ３３６、第１フィルタ３４０、第１気泡核増加手段３４４に対応する。
【００５７】
本実施の形態では、ハブ２８が各予備洗浄液中を移動する時間が約１００秒となるよう搬送装置３００の搬送速度などを設定し、第１超音波発生器３１６、第２超音波発生器３１８、第３超音波発生器３２０からそれぞれ２０ｋＨｚ〜３０ｋＨｚの超音波を各洗浄液に加える。また、洗浄効果を高めるため、超音波のパワー密度が１０Ｗ／Ｌ以上となるよう超音波の出力および洗浄液の量を調整する。第１予備洗浄液３０４、第２予備洗浄液３０６、第３予備洗浄液３０８の量の調整には、それぞれ第１液面調整手段３３０、第２液面調整手段３３２、第３液面調整手段３３４を用いる。
【００５８】
また、第１液面調整手段３３０により、第１予備洗浄液３０４の液面と第１超音波発生器３１６との距離Ｌ１が、第１超音波発生器３１６が第１予備洗浄液３０４に加える超音波の半波長の４から１０の範囲の整数倍となるよう調整してもよい。第２予備洗浄液３０６の液面と第２超音波発生器３１８との距離Ｌ２、第３予備洗浄液３０８の液面と第３超音波発生器３２０との距離Ｌ３についても、それぞれ第２液面調整手段３３２、第３液面調整手段３３４により同様に調整してもよい。
【００５９】
ここで、洗浄槽について説明する。
図６は、ハブ２８を１槽で洗浄したときの清浄度と、３槽に分けて洗浄したときの清浄度とを示す。より具体的には、ハブ２８の表面１平方センチメートル当たりに付着している粒径０．３μｍ以上の異物の数（以下、ＬＰＣとよぶ）を示す。図６の左側は１つの洗浄槽に約３００秒浸して超音波洗浄したときの清浄度を示し、図６の右側は３つの洗浄槽それぞれに約１００秒ずつ浸して超音波洗浄したときの清浄度を示す。両者を比較すると、洗浄槽を３槽（複数槽）にした方がＬＰＣの値が小さい、すなわち、清浄効果が高いことが分かる。したがって、本実施の形態では、洗浄槽を第１予備洗浄槽３１０、第２予備洗浄槽３１２、第３予備洗浄槽３１４の３槽とした。
なお、ハブ２８を１槽で洗浄する場合は、設備の設置スペースや設備金額が少ない点で有利であり、洗浄槽の数については所望の清浄度を勘案して選択してもよい。
【００６０】
また、第１予備洗浄液３０４、第２予備洗浄液３０６、第３予備洗浄液３０８に加える超音波の周波数について説明する。
まず、ハブ２８に付着した大きい異物の陰に小さい異物が付着している場合がある。この場合、小さい異物を効率的に除去するためには、先に大きい異物を除去することが好ましい。そのため、第１接触工程Ｓ１０６では比較的低周波の超音波を加えることとした。なお、後述する第２接触工程Ｓ１０８では比較的高周波の超音波を加える。
次に、超音波の周波数と洗浄時間との関係について調べる実験を行ったところ次の結果を得た。図７は、ハブ２８を、様々な条件で洗浄したときの清浄度の分布を示す。図７の左側は５分間洗浄したときの清浄度の分布を示し、図７の右側は６０分間洗浄したときの清浄度の分布を示す。この実験結果から、洗浄時間が６０分の場合、すなわち洗浄時間が比較的長い場合は、どの周波数でも同程度の洗浄効果が得られることが分かる。一方、洗浄時間が５分の場合、すなわち洗浄時間が比較的短い場合は、周波数が低いほど高い洗浄効果が得られることが分かる。特に、周波数が２５ｋＨｚの場合は、洗浄時間が６０分の場合と同程度の洗浄効果が得られることが分かる。なお、超音波の周波数を２０ｋＨｚより低くすると、超音波発生器自体の寿命が短くなるなど生産設備に悪影響を及ぼしかねない。
以上から、本実施の形態では、第１接触工程Ｓ１０６における超音波の周波数は２０ｋＨｚ〜３０ｋＨｚとした。
なお、超音波の周波数を３０ｋＨｚより高くした場合は、耳障りな騒音を抑制可能な点で有利であり、周波数は所望の条件を勘案して選択してもよい。
【００６１】
次に、超音波洗浄中のハブ２８の姿勢について説明する。図８（ａ）〜（ｃ）は、洗浄液を介してハブ２８に超音波を当てるときの様子を示す模式図である。図８（ａ）は、本実施の形態におけるハブ２８の姿勢を示し、図８（ｂ）、（ｃ）は比較例のハブ２８の姿勢を示す。図８（ａ）では、ハブ２８は、ハブ突出部２８ｇの上面２８ｂおよびディスク載置面２８ａと、超音波が伝搬する方向Ｄとが略平行となるよう支持される。一方、図８（ｂ）では、ハブ２８は、ハブ突出部２８ｇの上面２８ｂおよびディスク載置面２８ａと、超音波が伝搬する方向Ｄとが略直交で、かつ、上面２８ｂおよびディスク載置面２８ａが超音波発生器と反対側を向くよう支持される。図８（ｃ）では、ハブ２８は、ハブ突出部２８ｇの上面２８ｂおよびディスク載置面２８ａと、超音波が伝搬する方向Ｄとが略直交で、かつ、上面２８ｂおよびディスク載置面２８ａが超音波発生器側を向くよう支持される。
【００６２】
超音波は比較的高周波であるため、障害物の後ろ側に回り込む現象、いわゆる回折現象が生じにくい。このため、図８（ｂ）では、ハブ２８自体が障害物となって、ハブ突出部２８ｇの上面２８ｂの比較的広範囲に超音波が当たりにくい。同様に、図８（ｃ）では、ハブ２８自体が障害物となって、ハブ突出部２８ｇの下面２８ｊの比較的広範囲に超音波が当たりにくい。一方、本実施の形態のハブ２８の姿勢である図８（ａ）の姿勢では、ハブ２８の上面２８ｂにも下面２８ｊにも超音波が当たる。またハブ２８自体の影領域に入るのは外周面２８ｉのごく一部で狭く、またその影を生じる部分からの距離も短いから、全体としてハブ２８に付着した異物を効率的に除去できる。
【００６３】
図９は、第２接触工程Ｓ１０８と乾燥工程Ｓ１１０の様子を示す模式図である。これらの工程では搬送装置４００が使用される。搬送装置４００の構成は搬送装置３００と同様である。
【００６４】
第２接触工程Ｓ１０８では、吹付工程Ｓ１０４および第１接触工程Ｓ１０６を経たハブ２８をクリーンルーム４２６内で本洗浄する。クリーンルーム４２６は、清浄空気で満たされ、第１接触工程Ｓ１０６が行われる雰囲気よりクリーン度が高くなっている。クリーンルーム４２６のクリーン度は、例えばクラス１０００程度とすることができる。
ハブ２８は、搬送装置４００によって搬送され、第１本洗浄液４０４、第２本洗浄液４０６、第３本洗浄液４０８の順で各本洗浄液中を移動しながら洗浄される。第１本洗浄液４０４中および第２本洗浄液４０６中では超音波洗浄され、第３本洗浄液４０８中では水流洗浄される。
【００６５】
第１本洗浄液４０４、第２本洗浄液４０６、第３本洗浄液４０８は、それぞれ第１本洗浄槽４１０、第２本洗浄槽４１２、第３本洗浄槽４１４に貯められている。炭酸水素ナトリウムは、第１本洗浄液４０４、第２本洗浄液４０６、第３本洗浄液４０８に溶ける性質を持っていてもよい。第１本洗浄液４０４は、界面活性剤を主な溶質とする水溶液であり、その温度は６０℃〜７０℃の範囲とされる。第２本洗浄液４０６は、実質的に純水とみなせる液体であり、その温度は常温程度とされる。具体的には、例えば２５℃〜３５℃の範囲とされる。第２本洗浄液４０６は、第３ポンプ４３６、第３フィルタ４３８、第３気泡核増加手段４４０により、気泡核の量が増やされている。第３ポンプ４３６、第３フィルタ４３８、第３気泡核増加手段４４０は、それぞれ第１ポンプ３３６、第１フィルタ３４０、第１気泡核増加手段３４４に対応する。第３本洗浄液４０８は、実質的に純水とみなせる液体であり、その温度は４０℃〜５０℃の範囲とされる。第３本洗浄液４０８を常温より高い温度にすることで後続の乾燥工程Ｓ１１０の時間を短縮することができる。
【００６６】
本実施の形態では、ハブ２８が各本洗浄液中を移動する時間が５〜１０分となるよう搬送装置４００の搬送速度などを設定し、第４超音波発生器４１６から第１本洗浄液４０４に４０ｋＨｚの超音波を加える。第２本洗浄液４０６には、第５超音波発生器４１８、第６超音波発生器４２０からそれぞれ４０ｋＨｚ、６８ｋＨｚの超音波を加える。第５超音波発生器４１８、第６超音波発生器４２０からそれぞれ異なる周波数の超音波が加えられることにより、それらの超音波のビートである振動が発生する。その結果、超音波の周波数スペクトルが広がり、洗浄ムラが低減され、異物の除去能力を向上させることができる。また、第１接触工程Ｓ１０６同様、パワー密度が１０Ｗ／Ｌ以上となるよう超音波の出力および洗浄液の量を調整する。第１本洗浄液４０４、第２本洗浄液４０６の量の調整には、それぞれ第４液面調整手段４３０、第５液面調整手段４３２を用いる。また、第４液面調整手段４３０により、第１本洗浄液４０４の液面と第４超音波発生器４１６との距離Ｌ４が、第４超音波発生器４１６が第１本洗浄液４０４に加える超音波の半波長の４から１０の範囲の整数倍となるよう調整してもよい。第２本洗浄液４０６の液面と第５超音波発生器４１８および第６超音波発生器４２０との距離Ｌ５についても、第５液面調整手段４３２により同様に調整してもよい。
【００６７】
第３本洗浄液４０８では、噴射ノズル４２２から洗浄液を噴射し、第３本洗浄液４０８内に水流を発生させる。この水流により、それまでに除去し残した異物や他の洗浄液中で再付着した異物を剥離できる。
【００６８】
乾燥工程Ｓ１１０では、まずディスク載置面２８ａが上に向いた状態で支持されるよう、ハブ２８を支持する姿勢を変更する。次に、乾燥炉４２４内を移動するハブ２８に温風を吹き付ける。温風は、ディスク載置面２８ａ側とその反対側との両面から吹き付けられる。温風の温度と、その吹付け時間とは、実験で定めることができる。
【００６９】
乾燥工程Ｓ１１０が終了したハブ２８は組み立てる工程で使用される。
【００７０】
ハブ２８以外のワークについても、同様な形成、吹付、洗浄、乾燥工程を経て製造される。ベース４を製造する場合、ベース４はアルミニウムの合金をダイカストにより成型して形成される。なお、ベース４を製造する場合は、吹付工程Ｓ１０４を実施しなくてもよい。また、本洗浄である第２接触工程Ｓ１０８の前に、ベース４の６つのねじ穴２２を洗浄する工程を設けてもよい。ねじ穴２２を洗浄する工程は、公知の洗浄技術を使用して構成されてもよい。第１接触工程Ｓ１０６および第２接触工程Ｓ１０８において洗浄液に加える超音波のパワー密度は、素材に対応して調整してもよい。
【００７１】
本実施の形態に係る製造方法によると、回転機器１の構成部品に粒子が吹き付けられる。これにより構成部品に付着している異物を低減することができる。また、その粒子は後に接触する洗浄液に溶ける性質を持っている。このため、そのような粒子が吹き付けられた構成部品を、洗浄剤に接触させことにより構成部品に付着している粒子を除去するとともに、構成部品に付着している異物を低減することができる。そして、これらを本洗浄の前に実施するため、比較的短い本洗浄時間で所望の洗浄度を得ることができる。つまり、従来より高い洗浄度が求められる場合でも、回転機器の製造時間の増大を抑えつつ、その構成部品に付着する異物を低減することができる。
【００７２】
吹付工程Ｓ１０４および第１接触工程Ｓ１０６を行うことで、第２接触工程Ｓ１０８の時間を短くできるため、本実施の形態の製造方法によるトータルの製造時間は、従来の製造方法より短くすることも可能である。
【００７３】
以上、実施の形態に係る回転機器の製造方法について説明した。この実施の形態は例示であり、各構成要素の組み合わせにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。
【００７４】
ハードディスクドライブである回転機器１を製造する場合について説明したが、製造の対象はハードディスクドライブに限られない。例えば、実施の形態の技術的思想は、製造工程において異物の除去を目的として構成部品を洗浄する必要がある任意の回転機器の製造方法に適用されうる。
【００７５】
実施の形態では、ハブ２８を切削加工により形成する場合について説明したが、これに限られず、例えばハブ２８をプレス加工などの塑性加工により形成してもよい。この場合、この加工の際に用いられる炭化水素などが形成後のハブ２８に移動して異物として付着しうる。したがって、実施の形態と同様の洗浄によりそのように付着した異物をハブ２８から除去できる。
【００７６】
実施の形態では、ベース４はアルミニウムダイカストにより成型して形成される場合について説明したが、これに限られない。例えば、ベース４はアルミニウム板や鉄板などの金属板からプレス加工によって形成されてもよい。この場合は、ベース４の一方の面には押し上げられて凸部が形成され、他方の面には当該凸部に対応して凹部が形成されるエンボス部を設けるようにしてもよい。所定の部位にエンボス部を設けることによりベース４の変形を抑制しうる。また、この場合ベース４にはめっきや樹脂コーティングなどの表面処理を施すようにしてもよい。例えば、鉄板からプレス加工によって形成した後、ニッケルめっき層とエポキシ樹脂の表面層とを設けるようにしてもよい。
【００７７】
ベース４は、アルミニウム板や鉄板などの金属板からプレス加工によって形成される板金部と、アルミニウムダイカストにより成型して形成されるダイカスト部を組み合わせて構成しても良い。例えば、底板部４ａは板金部を含んで構成し、外周壁部４ｂはダイカスト部を含んで構成してもよい。このように構成することによって、ねじ穴２２の剛性の低下を抑制できる。このようなベース４を製造する方法の例としては、形成済みの板金部をアルミニウムダイカスト用の金型に組み込んだ状態でアルミニウムダイカストによりダイカスト部を形成する方法がある。このような製造方法によると、板金部とダイカスト部の結合の手間が抑制され、板金部とダイカスト部の寸法精度が向上しうる。あるいは、板金部とダイカスト部とを結合するための別部材を小さくまたはなくすことが可能になり、この結果、ベース４を薄く構成することが容易になる。
【００７８】
このように形成されたベース４の場合、その加工の際に用いられる炭化水素などが形成後のベース４に移動して異物として付着しうる。したがって、実施の形態と同様の洗浄によりそのように付着した異物をベース４から除去できる。
【００７９】
実施の形態では、いずれかの洗浄液に界面活性剤を主な溶質とする水溶液を用いる場合について説明したが、これに限られない。例えば、エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを、エステル及びエーテルの合計と界面活性剤との質量比で１：１〜１：４の範囲で含有する水溶液を用いてもよい。構成部品に付着する脂肪酸エステルや脂肪酸を効率的に除去しうることが確認されている。この場合において、この場合において、（１）エステル及びエーテルの分子量が１１８〜１８８であるとき、（２）水溶液の温度が７０℃以下であるとき、（３）エステルが脂肪酸ジエステルであるとき、（４）水溶液がさらに有機酸を含むとき、にはそれぞれ洗浄の効果が高くなることが確認されている。
【００８０】
実施の形態では、ハブ２８を洗浄液に浸して超音波洗浄する場合について説明したが、これに限られず、シャワー洗浄やその他の洗浄方法を用いてもよい。
【００８１】
実施の形態では、第１接触工程Ｓ１０６および第２接触工程Ｓ１０８ともに、洗浄槽が３槽の場合について説明したが、これに限られず、１槽または２槽、あるいは４槽以上であってよい。
【００８２】
実施の形態では、切削によりハブ２８を形成した後、そのハブ２８単体を洗浄する場合について説明したが、これに限られない。例えば、ハブ２８の第１接触工程Ｓ１０６と第２接触工程Ｓ１０８との間に、ハブ２８に円筒状マグネット３２を取り付ける工程を設けてもよい。ハブ２８を洗浄・乾燥してからそれに円筒状マグネット３２を接着固定する場合、この接着固定作業の際にハブ２８や円筒状マグネット３２に作業員の手や生産設備から接着剤や油脂などが付着する懸念がある。これに対して本変形例に係る製造方法では、円筒状マグネット３２をハブ２８に取り付けてから洗浄するので、接着固定の際に付着した背着剤や油脂の量を洗浄により低減できる。
【００８３】
ベース４および積層コア４０についても同様である。すなわち、ベース４の第１接触工程Ｓ１０６と第２接触工程Ｓ１０８との間に、ベース４に積層コア４０を取り付ける工程を設けてもよい。この場合、第２接触工程では、積層コア４０が取り付けられた状態のベース４が洗浄液に漬けられて波洗浄される。
【符号の説明】
【００８４】
１  回転機器、  ２  トップカバー、  ４  ベース、  ４ｈ  貫通孔、  ６  ロータ、  ８  磁気記録ディスク、  １０  データリード／ライト部、  １２  軸受ユニット、  ２６  シャフト、  ２８  ハブ、  ４０  積層コア、  ４２  コイル、  Ｒ  回転軸、  Ｓ１０２  形成工程、  Ｓ１０４  吹付工程、  Ｓ１０６  第１接触工程、  Ｓ１０８  第２接触工程、  Ｓ１１０  乾燥工程。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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