(57)【要約】      （修正有）【課題】優れた耐熱性を有し、さらに、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供する。【解決手段】式（１）：2014111713.tif 000021で表される少なくとも１種類の金属錯体と、特定の式で表わされるトリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾイミダソール誘導体などの少なくとも１種類の窒素含有複素環式化合物とマトリックス材料とを含む紫外線吸収部材用組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
2014111713.tif 000019
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である。
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子であり、
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基である。なお、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
また、Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６であり、
Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または置換基を有していてもよい炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。なお、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
Ｍは金属原子を示す。）
で表される少なくとも１種類の金属錯体と、式（２）： 
【化２】
2014111713.tif 000020
（式中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれお互いに独立しており、窒素原子、炭素原子または−ＮＲ１２ＣＲ１３−を表す。Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれお互いに独立しており、存在しないか、または水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基である。
但し、Ｘ１、Ｘ２またはＸ３のいずれかが−ＮＲ１２ＣＲ１３−である場合、−ＮＲ１２ＣＲ１３−であるＸ１、Ｘ２またはＸ３に結合するＲ８、Ｒ９またはＲ１０は存在せず、また、Ｘ１、Ｘ２またはＸ３のいずれかにおいて、Ｒ１３は１以上存在することを条件とする。
Ｘ１およびＸ２が共に炭素原子である場合、Ｒ８およびＲ９は一緒になって、１以上の置換基を有していてもよい６員の芳香族環を形成し得る。
Ｒ７は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基、または存在しないか、水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、ニトロ基、メルカプト基、もしくはカルバモイル基である。
Ｒ８〜Ｒ１０は、それぞれお互いに独立しており、これらに結合するＸ１、Ｘ２またはＸ３が窒素原子である場合、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基、または存在しないか、水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、ニトロ基、メルカプト基、もしくはカルバモイル基であり；
また、これらに結合するＸ１、Ｘ２またはＸ３が炭素原子である場合、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲノ基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、カルバモイル基、ハロゲノフェニル基、ピリジル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数１〜４のシアノアルキル基である。
Ｒ１１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲノ基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、カルバモイル基、ハロゲノフェニル基、ピリジル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数１〜４のシアノアルキル基である）
で表わされる少なくとも１種類の窒素含有複素環式化合物とマトリックス材料とを含む紫外線吸収部材用組成物。
【請求項２】
式（１）における金属原子Ｍが、銅原子またはコバルト原子である請求項１に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【請求項３】
式（２）における窒素含有複素環式化合物が、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾイミダソール誘導体、またはその組合せである請求項１または２に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１種類の特定の金属錯体と、少なくとも１種類の窒素含有複素環式化合物とを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いて作製される紫外線吸収部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、可視光線を十分に透過すると同時に、紫外線を選択的に遮蔽する機能を有する部材が様々な分野で使用されている。例えば、自動車のウインドウガラスや建築物の窓ガラス等においては、日焼けや内装材の劣化を引き起こす紫外線を遮蔽するために紫外線遮蔽ガラスが広く使用されている。
【０００３】
また、カーポート、ショーウインドウ、ショーケース、照明用透明シェード等に使用される透明樹脂板や、各種透明容器等の用途においても、紫外線遮蔽機能を付与したアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の透明な熱可塑性樹脂の成形体が用いられている。
【０００４】
このように、ガラスや樹脂等の基材に紫外線を遮蔽する機能を付与するためには、紫外線吸収剤として無機系金属酸化物微粒子や有機系紫外線吸収剤を用いる方法が一般的に知られている。
【０００５】
しかしながら、無機系金属酸化物微粒子、有機系紫外線吸収剤を問わず、従来公知の紫外線吸収剤においては、遮蔽可能な紫外線は３８０ｎｍ以下のものに限られ、３８０〜４００ｎｍのＵＶ−Ａと呼ばれる紫外線を十分に遮蔽でき、かつ長期間に渡って光を照射しても劣化せず、かつ十分に可視光を透過するような紫外線吸収剤はほとんど知られていない。
【０００６】
ここでＵＶ−Ａとは、比較的波長の長い紫外線（３２０〜４００ｎｍ）であり、この領域の光は皮膚深部まで浸透し、皮膚老化を招き、さらには皮膚がんを引き起こすことが知られている。
【０００７】
ＵＶ−Ａを遮断することが可能な有機紫外線吸収剤としては特許文献１〜３に記載の錯体がある。しかし、この紫外線吸収剤は優れた近紫外線吸収性能を有しているが、例えば、ガラスを作製する際の高温での焼成工程等のような高温に曝される処理による熱分解、吸収能の劣化や着色の問題を引き起こす可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２０１１／０８９７９４号パンフレット
【特許文献２】国際公開ＷＯ２０１２／００８３１８号パンフレット
【特許文献３】特開２０１２−１２４７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、優れた耐熱性を有し、さらに、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、以下に示すとおりの紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。
【００１１】
項１．式（１）：
【００１２】
【化１】
2014111713.tif 000002
【００１３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である。
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４はそれぞれ互いに独立して、ＮＨ、ＮＲ５、酸素原子または硫黄原子であり、
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属されるＮＲ５のＲ５は、炭素数１〜８のアルキル基または置換基を有してもよい炭素数６〜１５のアリール基である。なお、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
また、Ｚ１およびＺ２はそれぞれ互いに独立して、窒素原子、ＣＨまたはＣＲ６であり、
Ｚ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６は、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１５のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４〜１２のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数５〜１２のヘテロアラルキル基または置換基を有していてもよい炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。なお、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
Ｍは金属原子を示す。）
で表される少なくとも１種類の金属錯体と、式（２）： 
【００１４】
【化２】
2014111713.tif 000003
【００１５】
（式中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれお互いに独立しており、窒素原子、炭素原子または−ＮＲ１２ＣＲ１３−を表す。Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれお互いに独立しており、存在しないか、または水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基である。
但し、Ｘ１、Ｘ２またはＸ３のいずれかが−ＮＲ１２ＣＲ１３−である場合、−ＮＲ１２ＣＲ１３−であるＸ１、Ｘ２またはＸ３に結合するＲ８、Ｒ９またはＲ１０は存在せず、また、Ｘ１、Ｘ２またはＸ３のいずれかにおいて、Ｒ１３は１以上存在することを条件とする。
Ｘ１およびＸ２が共に炭素原子である場合、Ｒ８およびＲ９は一緒になって、１以上の置換基を有していてもよい６員の芳香族環を形成し得る。
Ｒ７は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基、または存在しないか、水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、ニトロ基、メルカプト基、もしくはカルバモイル基である。
Ｒ８〜Ｒ１０は、それぞれお互いに独立しており、これらに結合するＸ１、Ｘ２またはＸ３が窒素原子である場合、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基、または存在しないか、水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、ニトロ基、メルカプト基、もしくはカルバモイル基であり；
また、これらに結合するＸ１、Ｘ２またはＸ３が炭素原子である場合、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲノ基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、カルバモイル基、ハロゲノフェニル基、ピリジル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数１〜４のシアノアルキル基である。
Ｒ１１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲノ基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、カルバモイル基、ハロゲノフェニル基、ピリジル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数１〜４のシアノアルキル基である）
で表わされる少なくとも１種類の窒素含有複素環式化合物とマトリックス材料とを含む紫外線吸収部材用組成物；
【００１６】
項２：式（１）における金属原子Ｍが、銅原子またはコバルト原子である、項１に記載の紫外線吸収部材用組成物；
【００１７】
項３：式（２）における窒素含有複素環式化合物が、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾイミダソール誘導体、またはその組合せである項１または２に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【００１８】
項４：項１〜３のいずれかに記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によると、優れた耐熱性を有し、さらに、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、式（１）で表される少なくとも１種類の金属錯体と、式（２）で表わされる少なくとも１種類の窒素含有複素環式化合物とマトリックス材料とを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供するものである。
【００２１】
式（１）：
【００２２】
【化３】
2014111713.tif 000004
【００２３】
式（１）におけるＹ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４、Ｚ１およびＺ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＭについて以下に例示する。なお、各Ｒ１〜Ｒ６およびＹ１〜Ｙ４において、各基が有してもよい置換基として、例えば、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数６〜１５のアリール基等が挙げられる。
【００２４】
式（１）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３またはＹ４に帰属される、前記のＮＲ５のＲ５としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
なお、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４のうち少なくとも２つがＮＲ５で表される場合、これらＮＲ５のＲ５はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
【００２５】
ここで、式（１）におけるＹ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４は、合成方法の簡便さの観点から、硫黄原子であることが特に好ましい。
【００２６】
式（１）中、Ｚ１またはＺ２に帰属される、前記のＣＲ６のＲ６としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等のアルキル基や、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基等のアリール基や、２−フリル基、２−チエニル基、５−クロロ−２−チエニル基、２−ピロリル基、２−オキサゾリル基、５−メチル−２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基等のヘテロアリール基や、４−ピリジルメチル基、４−キノリルメチル基、２−チエニルメチル基等のヘテロアラルキル基や、
４−アセトアミドベンジル基、３−アミノベンジル基、４−アミノベンジル基、３−メトキシベンジル基、２−メトキシフェネチル基、４−（ｎ−ペンチルオキシ）ベンジル基、２−アリルオキシフェネチル基、５−アリル−２−ヒドロキシ−３−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基、２−ブロモベンジル基、３−フェネチル基、４−ブロモベンジル基、２−クロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、６−ブロモ−２−ヒドロキシベンジル基、５−ブロモ−３−ニトロ−２−ヒドロキシフェネチル基、４−（ｎ−ブチル）ベンジル基、３−ブロモ−５−メトキシ−４−ヒドロキシベンジル基、４−ベンジルオキシベンジル基、６−ブロモ−３−メトキシ−２−ヒドロキシベンジル基、（１−ブロモ−２−ナフチル）−ｎ−プロピル基、２−ベンジルオキシベンジル基、３,５−ビストリフルオロメチルフェネチル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、５−ブロモ−２−フルオロベンジル基、３−ブロモ−４−メトキシベンジル基、５−ブロモ−２−メトキシベンジル基、３−ブロモ−５−クロロ−２−ヒドロキシベンジル基、４−ブロモ−２−フルオロベンジル基、２−ブロモ−４,５−ジメトキシフェネチル基、３,４−エチレンジオキシベンジル基、３−ブロモ−４−フルオロフェネチル基、６−ブロモ−３,４−メチレンジオキシベンジル基、３−ブロモ−４−ヒドロキシベンジル基、２−ブロモ−５−フルオロフェネチル基、４−シアノベンジル基、４−トリフルオロベンジル基、４−（４−クロロフェノキシ）フェネチル基、４−（Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ）ベンジル基、３,４−ジアセトキシベンジル基、４−（Ｎ,Ｎ−ジフェニルアミノ）ベンジル基、４−［Ｎ−（４,４−ジオキソチオモルホリノ）］ベンジル基、４−（Ｎ−ピロリジノ）ベンジル基、３−（２−ヒドロキシエトキシ）ベンジル基、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェネチル基、４−ヒドロキシ−３,５−ジメチルベンジル基、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−ｎ−プロピル基、４−イソプロピルベンジル基、４−イソブチルベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。
【００２７】
前記のＺ１またはＺ２に帰属されるＣＲ６のＲ６として例示したものの中では、合成方法の簡便さや反応性の観点から、アラルキル基であることが特に好ましい。
なお、Ｚ１およびＺ２がともにＣＲ６で表される場合、これらＣＲ６のＲ６はそれぞれ互いに独立した置換基を示す。
【００２８】
さらに、式（１）におけるＺ１およびＺ２は、合成方法の簡便さの観点から、窒素原子であることが特に好ましい。
【００２９】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、２−メトキシエチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、３−クロロ−ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、６−フェニル−ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。
【００３０】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
【００３１】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。
【００３２】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノスルホニル基、Ｎ−エチルアミノスルホニル基、Ｎ−イソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、Ｎ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−エチルイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノスルホニル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノスルホニル基等が挙げられる。
【００３３】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基としては、例えば、モルホリノスルホニル基、２−メチルモルホリノスルホニル基、３−メチルモルホリノスルホニル基、２−エチルモルホリノスルホニル基、３−ｎ−プロピルモルホリノスルホニル基、３−ｎ−ブチルモルホリノスルホニル基、２，３−ジメチルモルホリノスルホニル基、２，６−ジメチルモルホリノスルホニル基、３−フェニルモルホリノスルホニル基等が挙げられる。
【００３４】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基としては、例えば、ピペリジノスルホニル基、２−メチルピペリジノスルホニル基、３−メチルピペリジノスルホニル基、４−メチルピペリジノスルホニル基、２−エチルピペリジノスルホニル基、４−ｎ−プロピルピペリジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピペリジノスルホニル基、２，４−ジメチルピペリジノスルホニル基、２，６−ジメチルピペリジノスルホニル基、４−フェニルピペリジノスルホニル基等が挙げられる。
【００３５】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基としては、例えば、ピロリジノスルホニル基、２−メチルピロリジノスルホニル基、３−メチルピロリジノスルホニル基、２−エチルピロリジノスルホニル基、３−ｎ−プロピルピロリジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピロリジノスルホニル基、２，４−ジメチルピロリジノスルホニル基、２，５−ジメチルピロリジノスルホニル基、３−フェニルピロリジノスルホニル基等が挙げられる。
【００３６】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基としては、例えば、チオモルホルノスルホニル基、２−メチルチオモルホリノスルホニル基、３−メチルチオモルホリノスルホニル基、２−エチルチオモルホリノスルホニル基、３−ｎ−プロピルチオモルホリノスルホニル基、３−ｎ−ブチルチオモルホリノスルホニル基、２，３−ジメチルチオモルホリノスルホニル基、２，６−ジメチルチオモルホリノスルホニル基、３−フェニルチオモルホリノスルホニル基等が挙げられる。
【００３７】
式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３またはＲ４に帰属される、置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基としては、例えば、ピペラジノスルホニル基、２−メチルピペラジノスルホニル基、３−メチルピペラジノスルホニル基、２−エチルピペラジノスルホニル基、３−ｎ−プロピルピペラジノスルホニル基、３−ｎ−ブチルピペラジノスルホニル基、２，５−ジメチルピペラジノスルホニル基、２，６−ジメチルピペラジノスルホニル基、３−フェニルピペラジノスルホニル基、２−ピリミジルピペラジノスルホニル基等が挙げられる。
【００３８】
前記のＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個、好ましくは１または２個を置換することができ、４個のベンゼン環の水素原子を置換した置換基の全てはそれぞれ互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基であり、経済性すなわち原料の入手の簡便さや収率の観点から、存在しないか、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが好ましく、存在しないか、ハロゲノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基であることがより好ましく、存在しないことがさらに好ましい。
【００３９】
また、炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基、置換基を有していてもよいピペリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいピロリジノスルホニル基、置換基を有していてもよいチオモルホリノスルホニル基または置換基を有していてもよいピペラジノスルホニル基である場合には、溶媒に対する溶解性の面で特に有利であり、中でも置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキルアミノスルホニル基または置換基を有していてもよいモルホリノスルホニル基である場合に特に有利となる。
【００４０】
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４、Ｚ１およびＺ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ互いに独立したものであるが、合成方法の簡便さおよび取得する該金属錯体の品質（純度）管理の観点から、好ましくはＹ１＝Ｙ２かつＹ３＝Ｙ４かつＺ１＝Ｚ２かつＲ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４である。また、該金属錯体の各種溶媒に対する溶解性の観点から言えば、Ｙ１＝Ｙ３≠Ｙ２＝Ｙ４かつＺ１＝Ｚ２かつＲ１＝Ｒ３＝Ｒ２＝Ｒ４、またはＹ１＝Ｙ３＝Ｙ２＝Ｙ４かつＺ１＝Ｚ２かつＲ１＝Ｒ３≠Ｒ２＝Ｒ４であることが好ましい。
【００４１】
式（１）中、Ｍで表される金属原子として、例えば、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子、または亜鉛原子等が挙げられる。
【００４２】
これらの式（１）で表される金属錯体は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【００４３】
式（１）で表される金属錯体は、下記式（３）で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。
【００４４】
式（３）：
【００４５】
【化４】
2014111713.tif 000005
【００４６】
式（３）において、Ｙ１、Ｙ２、Ｚ１、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ式（１）中のＹ１（および/またはＹ３）、Ｙ２（および/またはＹ４）、Ｚ１（および/またはＺ２）、Ｒ１（および/またはＲ３）、Ｒ２（および/またはＲ４）に対応している。
【００４７】
式（１）で表わされる錯体および式（３）で表わされる配位子は、例えば、特許文献２に記載の方法で製造することができる。
【００４８】
前記窒素含有複素環式化合物は、式（２）：
【００４９】
【化５】
2014111713.tif 000006
【００５０】
で表される。
【００５１】
式（２）中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれお互いに独立しており、窒素原子、炭素原子または−ＮＲ１２ＣＲ１３−を表す。Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれお互いに独立しており、存在しないか、または水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基である。
但し、Ｘ１、Ｘ２またはＸ３のいずれかが−ＮＲ１２ＣＲ１３−である場合、−ＮＲ１２ＣＲ１３−であるＸ１、Ｘ２またはＸ３に結合するＲ８、Ｒ９またはＲ１０は存在しない。また、Ｘ１、Ｘ２またはＸ３のいずれかにおいて、Ｒ１３は１以上存在することを条件とする。
Ｘ１およびＸ２が共に炭素原子である場合、Ｒ８およびＲ９は一緒になって、１以上の置換基を有していてもよい６員の芳香族環を形成し得る。
６員の芳香族環の前記置換基として、例えば、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基、ハロゲノ基、ハロゲノフェニル基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基が挙げられる。
【００５２】
式（２）中、Ｒ７は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基、または存在しないか、水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、ニトロ基、メルカプト基、もしくはカルバモイル基である。
【００５３】
式（２）中、Ｒ８〜Ｒ１０は、それぞれお互いに独立しており、これらに結合するＸ１、Ｘ２またはＸ３が窒素原子である場合、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基、または存在しないか、水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、ニトロ基、メルカプト基、もしくはカルバモイル基であり；
また、これらに結合するＸ１、Ｘ２またはＸ３が炭素原子である場合、Ｒ８〜Ｒ１０は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲノ基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、カルバモイル基、ハロゲノフェニル基、ピリジル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数１〜４のシアノアルキル基である。
【００５４】
式（２）中、Ｒ１１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲノ基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、カルバモイル基、ハロゲノフェニル基、ピリジル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数１〜４のシアノアルキル基である。
【００５５】
前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基等のごとき、式（２）中の各置換基の具体例は、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体またはベンゾイミダソール誘導体につき後述されるものに同じである。
【００５６】
窒素含有複素環式化合物としては、例えば、後述の式（４）、（５）および（６）で表される、各々、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体およびベンゾイミダソール誘導体が挙げられる。
【００５７】
これらの窒素含有複素環式化合物は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【００５８】
前記窒素含有複素環式化合物の使用量は、金属錯体１００質量部に対し、０．１〜１００００質量部、好ましくは１．０〜１００質量部、さらに好ましくは２．５〜５０質量部の範囲とすることが好ましい。０．１質量部未満では、耐熱性向上効果が十分に発揮されないおそれがあり、１００００質量部を超えて添加しても添加量に見合う効果が得られず経済的でない。
【００５９】
前記窒素含有複素環式化合物として、例えば、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体およびベンゾイミダソール誘導体が挙げられる。
【００６０】
前記トリアジン誘導体は、下記式（４）：
【００６１】
【化６】
2014111713.tif 000007
【００６２】
（式中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は、水素原子またはトリアジン環の置換基であり、すべての置換基はそれぞれお互いに独立しており、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、置換基を有していてもよい炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基である。）として表わされる。
これらの中でも、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は置換基を有していてもよいアミノ基が好ましく、置換基を有していない第一級アミノ基がより好ましい。また、さらに好ましくは、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６すべてが第一級アミノ基である。
【００６３】
式（４）中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６の前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、２−メトキシエチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、３−クロロ−ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、６−フェニル−ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。
【００６４】
前記の置換基を有していてもよい芳香族基としては、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，５−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、４−ビフェニル基、１−ナフチル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−クロロフェニル基、２−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基等が挙げられる。
【００６５】
前記の置換基を有していてもよい炭素数２〜６のアルケニル基としては、エテニル基（ビニル基）、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−１−エテニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−エチルエテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ｎ−プロピルエテニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、２−エチル−２−プロペニル基、２−メチル−１−ブテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニル基、３−メチル−１−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−３−ブテニル基、１，１−ジメチル−２−プロペニル基、１−ｉ−プロピルエテニル基、１，２−ジメチル−１−プロペニル基、１，２−ジメチル−２−プロペニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１−メチル−１−ペンテニル基、１−メチル−２−ペンテニル基、１−メチル−３−ペンテニル基、１−メチル−４−ペンテニル基、１−ｎ−ブチルエテニル基、２−メチル−１−ペンテニル基、２−メチル−２−ペンテニル基、２−メチル−３−ペンテニル基、２−メチル−４−ペンテニル基、２−ｎ−プロピル−２−プロペニル基、３−メチル−１−ペンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、３−メチル−３−ペンテニル基、３−メチル−４−ペンテニル基、３−エチル−３−ブテニル基、４−メチル−１−ペンテニル基、４−メチル−２−ペンテニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、４−メチル−４−ペンテニル基、１，１−ジメチル−２−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、１，２−ジメチル−１−ブテニル基、１，２−ジメチル−２−ブテニル基、１，２−ジメチル−３−ブテニル基、１−メチル−２−エチル−２−プロペニル基、１−ｓ−ブチルエテニル基、１，３−ジメチル−１−ブテニル基、１，３−ジメチル−２−ブテニル基、１，３−ジメチル−３−ブテニル基、１−ｉ−ブチルエテニル基、２，２−ジメチル−３−ブテニル基、２，３−ジメチル−１−ブテニル基、２，３−ジメチル−２−ブテニル基、２，３−ジメチル−３−ブテニル基、２−ｉ−プロピル−２−プロペニル基、３，３−ジメチル−１−ブテニル基、１−エチル−１−ブテニル基、１−エチル−２−ブテニル基、１−エチル−３−ブテニル基、１−ｎ−プロピル−１−プロペニル基、１−ｎ−プロピル−２−プロペニル基、２−エチル−１−ブテニル基、２−エチル−２−ブテニル基、２−エチル−３−ブテニル基、１，１，２−トリメチル−２−プロペニル基、１−ｔ−ブチルエテニル基、１−メチル−１−エチル−２−プロペニル基、１−エチル−２−メチル−１−プロペニル基、１−エチル−２−メチル−２−プロペニル基、１−ｉ−プロピル−１−プロペニル基、１−ｉ−プロピル−２−プロペニル基等が挙げられる。
【００６６】
前記の炭素数１〜８のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ｉｓｏ−ペントキシ基、ｎｅｏ−ペントキシ基、２−メチルブトキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｉ−ヘキソキシ基、ｎ−ヘプトキシ基、ｉ−ヘプトキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｉ−オクトキシ基２−エチル−ヘキソキシ基等が挙げられる。
【００６７】
前記の置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｉｓｏ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、アニリノ基、カルボキシアニリノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ビス（メトキシメチル）アミノ基、ジアリルアミノ基等が挙げられる。
【００６８】
前記のハロゲノ基としては、ブロモ基、クロロ基、フルオロ基等が挙げられる。
【００６９】
トリアジン誘導体としては、１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール、２−クロロ−４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン、２，４，６−ペンタフルオロエチル−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ヘプタフルオロプロピル）−１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４−エチルアミノ−６−イソプロピルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ペンタデカフルオロヘプチル）−１，３，５−トリアジン、６−（ジブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、２−メトキシ−４−メチル−６−（メチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、６−アニリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、２−（３−カルボキシアニリノ）−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリ（２−ピリジル）−１，３，５−トリアジン、６−アミノ−２，４−ジヒドロキシ−１，３，５−トリアジン、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［２−（２−エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］−フェノール、２，４，６−トリス[ビス(メトキシメチル)アミノ]−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メトキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジエチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２−ビニル−４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ブチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−（シクロプロピルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２−（２−メチル−１−イミダゾリル）エチル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２−（２−ウンデシル−１−イミダゾリル）エチル］−１，３，５−トリアジン、メラミン等が挙げられ、これらの中でも、１，３，５−トリアジン、２，４−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリ（２−ピリジル）−１，３，５−トリアジン、６−アミノ−２，４−ジヒドロキシ−１，３，５−トリアジン、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［２−（２−エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］−フェノール、２，４，６−トリス[ビス(メトキシメチル)アミノ]−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１，３���５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メトキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジエチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２−ビニル−４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ジアリルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ブチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−（シクロプロピルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２−（２−メチル−１−イミダゾリル）エチル］−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２−（２−ウンデシル−１−イミダゾリル）エチル］−１，３，５−トリアジン、メラミンが好ましく、メラミンがより好ましい。
【００７０】
また、前記トリアゾール誘導体は、下記式（５）：
【００７１】
【化７】
2014111713.tif 000008
【００７２】
（式中、Ｘ４、Ｘ５は、それぞれお互いに独立しており、窒素原子または炭素原子を表す。ただし、Ｘ４、Ｘ５のどちらか一方は、必ず窒素原子である。
Ｒ１７は存在しないか、もしくは水素原子である。
Ｒ１８、Ｒ１９は、存在しないか、もしくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、カルバモイル基、ヒドラジノ基である。
Ｒ２０は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、カルバモイル基である。）として表される。
【００７３】
式（５）中、Ｒ１８、Ｒ１９の前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ一プロピル基、イソプロピル基、ｎ一ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ一ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ一ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基および前記炭素数１〜１２のアルキル基の水素原子の少なくとも一つがアミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基に置換されたアルキル基等が挙げられる。
【００７４】
前記の置換基を有していてもよいフェニル基としては、フェニル基の水素原子の少なくとも一つがアミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲノ基に置換されたフェニル基等が挙げられる。
【００７５】
前記の置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｉｓｏ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、アニリノ基、カルボキシアニリノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ビス（メトキシメチル）アミノ基、ジアリルアミノ基等が挙げられる。
【００７６】
式（５）中、Ｒ２０の前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基としては、式中、Ｒ１８の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基と同様のアルキル基が挙げられる。
【００７７】
前記の炭素数１〜６のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ヘキソキシ基が挙げられる。
【００７８】
前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。
【００７９】
前記の置換基を有していてもよいフェニル基としては、式中、Ｒ１８の置換基を有していてもよいフェニル基と同様のアルキル基が挙げられる。
【００８０】
前記の置換基を有していてもよいアミノ基としては、式中、Ｒ１８の置換基を有していてもよいアミノ基と同様のアミノ基等が挙げられる。
【００８１】
前記の炭素数１〜３アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基等が挙げられる。
【００８２】
トリアゾール誘導体としては、例えば、４−アミノ−３−ヒドラジノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチルチオ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３，５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１，２，４−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、１Ｈ−１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール−３−カルボキサミド等が挙げられる。
【００８３】
これらの中でも、４−アミノ−３−ヒドラジノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチルチオ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３，５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール−３−カルボキサミドが好ましく、さらに、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３，５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール−３−カルボキサミドがより好ましい。
【００８４】
さらに、前記ベンゾイミダソール誘導体は、下記式（６）：
【００８５】
【化８】
2014111713.tif 000009
【００８６】
（式中、Ｒ２１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、ハロゲノ基、ハロゲノフェニル基、ピリジル基、アミノ基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、メルカプト基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数１〜４のシアノアルキル基である。
Ｒ２２は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基である。
Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６は、ベンゼン環の置換基であり、すべての置換基はそれぞれお互いに独立しており、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基、ハロゲノ基、ハロゲノフェニル基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基である。）として表わされる。
【００８７】
式（６）中、Ｒ２１の前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ一プロピル基、イソプロピル基、ｎ一ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ一ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ一ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基および前記炭素数１〜１２のアルキル基の水素原子の少なくとも一つがアミノ基、メルカプト基、ハロゲノ基に置換されたアルキル基等が挙げられる。
【００８８】
前記のハロゲノ基としては、ブロモ基、クロロ基、フルオロ基等が挙げられる。
【００８９】
前記のハロゲノフェニル基としては、ブロモフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基等が挙げられる。
【００９０】
前記の炭素数１〜４のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基等が挙げられる。
【００９１】
前記の炭素数１〜４のシアノアルキル基としては、シアノメチル基、シアノエチル基、シアノ−ｎ−プロピル基、シアノ−ｎ−ブチル基等が挙げられる。
【００９２】
前記のヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、ヒドロキシ−ｎ−ブチル基等が挙げられる。
【００９３】
式（６）中、Ｒ２２は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基である。
【００９４】
前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基としては、式中、Ｒ２１の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基と同様のアルキル基が挙げられる。
【００９５】
式（６）中、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６は、ベンゼン環の置換基であり、すべての置換基はそれぞれお互いに独立しており、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基、ハロゲノ基、ハロゲノフェニル基、アミノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基である。
【００９６】
前記の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基としては、式中、Ｒ２１の置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基と同様のアルキル基が挙げられる。
【００９７】
前記の炭素数１〜６のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ヘキソキシ基が挙げられる。
【００９８】
前記のハロゲノ基としては、式中、Ｒ２１のハロゲノ基と同様のハロゲノ基が挙げられる。
【００９９】
前記のハロゲノフェニル基としては、式中、Ｒ２１のハロゲノフェニル基と同様のハロゲノフェニル基が挙げられる。
【０１００】
前記の炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられる。
【０１０１】
ベンゾイミダゾール誘導体としては、例えば、ベンゾイミダゾール、５−メチルベンゾイミダゾール、５−クロロベンゾイミダゾール、２−アミノベンゾイミダゾール、２−アミノ−５−ｎ−プロピルスルホニルベンゾイミダゾール、５，６−ジメチルベンゾイミダゾール、１−メチルベンゾイミダゾール、２−メチルベンゾイミダゾール、５−ニトロベンゾイミダゾール、２−（メチルチオ）ベンゾイミダゾール、２−クロロベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、５−ベンゾイミダゾールカルボン酸、５−アミノ−２−メルカプトベンゾイミダゾール、５−クロロ−２−メチルベンゾイミダゾール、２−ヒドロキシベンゾイミダゾール、５，６−ジクロロ−２−メチルベンゾイミダゾール、（２−ベンゾイミダゾリル）アセトニトリル、１，２−ジメチルベンゾイミダゾール、２−（ヒドロキシメチル）ベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メチルベンゾイミダゾール、２−ノニルベンゾイミダゾール、５−クロロ−２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−（３−ヒドロキシプロピル）ベンゾイミダゾール、２−（１−ヒドロキシエチル）ベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−ニトロベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−ベンゾイミダゾールカルボン酸、５，６−ジクロロ−１−エチル−２−メチルベンゾイミダゾール、５−エトキシ−２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−フェニルベンゾイミダゾール、２−（４−ブロモフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（４−クロロフェニル）ベンゾイミダゾール、４−メチル−２−プロピル−６−ベンゾイミダゾールカルボン酸、２−（２−ピリジル）ベンゾイミダゾール、２−フェニル−５−ベンゾイミダゾールスルホン酸等が挙げられる。
【０１０２】
これらの中でも、ベンゾイミダゾール、２−アミノベンゾイミダゾール、２−アミノ−５−ｎ−プロピルスルホニルベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、５−アミノ−２−メルカプトベンイミダゾール、２−メルカプト−５−メチルベンゾイミダゾール、５−クロロ−２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−ニトロベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−ベンゾイミダゾールカルボン酸、５−エトキシ−２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−（２−ピリジル）ベンゾイミダゾールが好ましく、さらに、２−アミノベンゾイミダゾール、２−アミノ−５−ｎ−プロピルスルホニルベンゾイミダゾール、５−アミノ−２−メルカプトベンゾイミダゾールがより好ましい。
【０１０３】
前記のトリアジン誘導体、トリアゾール誘導体およびベンゾイミダソール誘導体のごとき窒素含有複素環式化合物は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【０１０４】
マトリックス材料としては、ポリシロキサン、ポリチタノキサン、ポリジルコノキサン、ポリアルミノキサン、ポリスタノキサンなどのポリメタロキサン等が挙げられる。この場合、ポリメタロキサンの前駆体として金属アルコキシドおよび／または金属アルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液等を好適に用いることができる。
また、これらのマトリックス材料として、ポリシロキサンを好適に用いることができ、この場合、シリコンアルコキシドおよび／またはシリコンアルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液を好適に用いることができる。
【０１０５】
なお、本発明において使用する「マトリックス材料」という表現は、前記金属アルコキシドおよび／または金属アルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液等のマトリックス前駆体も含む。
【０１０６】
前記金属アルコキシドのゾル溶液は、通常、有機溶媒中で酸触媒存在下、金属アルコキシドに水を添加し、加水分解・重縮合させることにより、調製することができるが、市販のゾル溶液を使用してもよい。
【０１０７】
（金属アルコキシド）
前記金属アルコキシドとしては、シリコンアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコニアアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、スズアルコキシド等が挙げられる。
【０１０８】
シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン、ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランが挙げられる。
【０１０９】
チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラ（２−エチルヘキソシド）チタン等が挙げられる。
【０１１０】
ジルコニアアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラ（１−メトキシ−２−メチル−２−プロポキシ）ジルコニウム等が挙げられる。
【０１１１】
アルミニウムアルコキシドとしては、例えば、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリプロポキシアルミニウム、トリブトキシアルミニウム、ジエチルエトキシアルミニウム等が挙げられる。
【０１１２】
スズアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシスズ、テトラエトキシスズ、テトラプロポキシスズ、テトラブトキシスズ等が挙げられる。
【０１１３】
これらの金属アルコキシドは、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【０１１４】
前記マトリックス材料中、得られる膜の状態や強度、経済性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランから選択される１種類または２種類以上のシリコンアルコキシドを用いて調製することによって得られるゾル溶液がより好ましい。
【０１１５】
これらのシリコンアルコキシドは、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【０１１６】
以下、金属アルコキシドのゾル溶液の調製方法を、シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を例に、具体的に説明する。
【０１１７】
（酸触媒）
酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸や、ギ酸、酢酸、シュウ酸等の有機酸が挙げられる。加水分解・重縮合反応終了後に酸が残存すると、縮合安定性が悪化するため、低沸点で揮発性が高く、ｐＫａの小さなギ酸を用いることが好ましい。
【０１１８】
酸触媒の添加量としては、十分な触媒作用を発揮する限り、特に限定されるものではないが、通常シリコンアルコキシド１ｍｏｌに対して０．０１ｍｏｌ以上、より好ましくは０．３ｍｏｌ以上を配合することが好ましい。０．０１ｍｏｌ未満では十分な触媒作用が得られないおそれがあり、また過剰に添加した場合には、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液が、残存する酸により経時的に劣化するおそれがある。よって、シリコンアルコキシド１ｍｏｌに対して１ｍｏｌ以下の割合で配合することが好ましい。
【０１１９】
（水）
上記シリコンアルコキシドの加水分解を引き起こし得る限り、特に限定されないが、シリコンアルコキシド１ｍｏｌに対し、２〜６ｍｏｌの割合で水を添加することが好ましい。２ｍｏｌ未満では十分に加水分解が進行しないおそれがあり、６ｍｏｌを超えると加水分解が速く進行しすぎてしまい、続く重縮合反応の進行を妨げることに加え、反応後に除去する水の量が多くなり効率的でない。
【０１２０】
（反応溶媒）
シリコンアルコキシド、水、酸触媒に加えて反応溶媒を使用することにより、加水分解速度を適度に低め、確実に加水分解・重縮合を進行させることができる。さらに、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の粘度をハンドリングしやすいレベルにまで調整するための希釈剤としての役割も兼ねる。
【０１２１】
反応溶媒としては、前記シリコンアルコキシドが溶解するものであれば特に限定されることなく、適宜選択し使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【０１２２】
反応性や経済性の観点から、好ましくは、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類等である。
【０１２３】
後工程において、該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に式（１）で表される金属錯体を溶解・混合する場合には、あらかじめ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を該シリコンアルコキシドのゾル溶液の調整における反応溶媒として使用することで、該金属錯体を溶解・混合する際の労力を軽減することができる。
【０１２４】
ただし、該金属錯体の貧溶媒を用いて本工程におけるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を調製した場合であっても、該金属錯体を溶解・混合する前に該シリコンアルコキシドのゾル溶液の溶媒を該金属錯体の良溶媒に置換する、あるいは該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に該金属錯体の良溶媒を添加することによって、溶解・混合することも可能である。
【０１２５】
前記反応溶媒の使用量は、シリコンアルコキシド１００質量部に対し、５０〜１０００質量部、好ましくは１００〜５００質量部の範囲とすることが望ましい。５０質量部未満では、加水分解・重縮合反応を適度な反応速度で進行させることが困難になるおそれがあり、１０００質量部を超えると、加水分解・重縮合反応の速度が低下するため効率的でないことに加えて、後述の減圧・留去工程に長時間を必要とするおそれがある。
【０１２６】
まず、１種類または２種類以上のシリコンアルコキシドを、酸触媒、水および溶媒と混合する。この溶液を０〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃の温度に維持することにより、加水分解・重縮合反応を進行させる。０℃未満では、加水分解・重縮合反応が進行しにくくなるおそれがある。また１５０℃を超えると加水分解・重縮合反応が急速に進行するため、未反応のアルコキシ基が残存したり、ゲル化や着色を招くおそれがある。加水分解・重縮合反応の時間は、温度条件にもよるが、通常１〜２４時間、より好ましくは２〜８時間である。１時間未満では、十分に加水分解・重縮合反応が進行しないおそれがあり、２４時間を超えてもそれ以上反応が進まないことから経済的でない。
【０１２７】
加水分解・重縮合反応により副生するアルコールと水を系外に除去するために、反応終了後、あるいは反応中に、反応液を減圧留去することが好ましい。減圧留去しながら反応を進行させれば、重縮合反応の反応速度を向上させる効果も見込めるためより好ましい。この工程において、前記酸触媒としてギ酸等の低沸点で揮発性の高い触媒を用いれば、溶媒とともに酸触媒も系外に除去でき、反応終了後のゾル溶液の安定性を確保することができる。
【０１２８】
このようにして加水分解・重縮合反応の進行により、ポリメタロキサンとしての金属アルコキシドのゾル溶液を得ることができる。他の金属アルコキシドについても同様に調製することができる。
【０１２９】
マトリックス材料の使用量は、金属錯体１００質量部に対し、５００〜１０００００質量部、好ましくは１０００〜３００００質量部の範囲とすることが好ましい。５００質量部未満では、膜強度が得られないおそれがあり、１０００００質量部を超えると紫外線吸収部材に十分な紫外線吸収性能を付与できないおそれがある。
【０１３０】
本発明の紫外線吸収部材用組成物において、これらの式（１）で表される金属錯体、式（２）で表される窒素含有複素環式化合物、およびマトリックス材料は、それぞれ、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【０１３１】
≪紫外線吸収部材用組成物の製造方法≫
本発明の紫外線吸収部材用組成物は、前記の式（１）で表される少なくとも１種類の金属錯体と、前記の式（２）で表わされる少なくとも１種類の窒素含有複素環式化合物と、前記マトリックス材料とを混合することにより製造される。これらの各成分を混合する方法としては、特に限定されず、混合装置および器具の使用を含めた従来公知の混合方法が挙げられる。
【０１３２】
また、前記の金属錯体、窒素含有複素環式化合物およびマトリックス材料の混合において、それらに溶解性が良好な溶媒を用いてもよい。
前記の金属錯体と、窒素含有複素環式化合物とマトリックス材料との相溶性が良好であり、かつ前記の金属錯体の溶解性が良好な溶媒としては、前記の金属錯体と、窒素含有複素環式化合物とマトリックス材料の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。
【０１３３】
前記の金属錯体、窒素含有複素環式化合物、ポリメタロキサンおよび／またはポリメタロキサン前駆体としての金属アルコキシドおよび／または金属アルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液の溶解性が良好な溶媒としては、該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【０１３４】
これらの中で、該金属錯体の溶解性の観点からより好ましいものを挙げると、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等である。
【０１３５】
さらに好ましくは、アルコール類としてはテトラフルオロプロパノール等が、ハロゲン化炭化水素類としてはクロロホルム、ジクロロメタン等が、ケトン類としてはＭＥＫ、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が、エステル類としてはγ−ブチロラクトン、乳酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル等が、エーテル類としてはシクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が、芳香族類としてはトルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンが、ラクタム類としては２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等が、グリコールエーテル類としては２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、ＰＧＭＥＡ等が、その他スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【０１３６】
前記溶媒の使用量は、所望する紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の濃度や、使用する溶媒の種類、使用するマトリックス材料の前駆体の溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の溶解性の観点から言えば、通常該金属錯体１００質量部に対して５０〜１０００００質量部、好ましくは１００〜５０００質量部、より好ましくは２００〜３０００質量部である。５０質量部より少ないと、該金属錯体が完全に溶解しないおそれがあり、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率の低下を招くおそれがある。また１０００００質量部よりも多いと、紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体濃度が低下し、最終的に得られる紫外線吸収部材に十分な紫外線吸収能を付与できない可能性がある。
【０１３７】
これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合溶媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。
【０１３８】
該金属錯体と、ポリメタロキサンおよび／またはポリメタロキサン前駆体としての金属アルコキシドおよび／または金属アルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液および窒素含有複素環式化合物を溶媒中に溶解させる際には、事前に窒素含有複素環式化合物とポリシロキサンおよび／またはポリメタロキサン前駆体としての金属アルコキシドおよび／または金属アルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液を溶媒中に溶解させておき、ここに該金属錯体を添加し溶解させてもよいし、事前に該金属錯体を溶媒に溶解させ、この溶液に窒素含有複素環式化合物とポリメタロキサンおよび／またはポリメタロキサン前駆体としての金属アルコキシドおよび／または金属アルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液を混合し溶解させてもよいし、あるいは該金属錯体と窒素含有複素環式化合物とポリメタロキサンおよび／またはポリメタロキサン前駆体としての金属アルコキシドおよび／または金属アルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液を同時に溶媒と混合し溶解させてもよい。
【０１３９】
ここで、用いるマトリックス材料が、溶液状態であり、かつ該溶液状態での溶媒が前記の金属錯体と、窒素含有複素環式化合物の良溶媒である場合には、前記の金属錯体と、窒素含有複素環式化合物と該溶液状態でのマトリックス材料とを混合するだけでもよい。
【０１４０】
また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、光吸収剤、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。
【０１４１】
《紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材》
かくして得られた紫外線吸収部材用組成物を用いて紫外線吸収部材を作製することができる。
【０１４２】
基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜（以下、マトリックス膜という）を有する積層体としての紫外線吸収部材
前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布し、乾燥および/または焼成して硬化することにより、基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。
【０１４３】
前記紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【０１４４】
基材は、所望によりフィルムでもボードでもよく、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス、金属板、セラミックス等の無機系基材や、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。
【０１４５】
塗布により形成されるコーティング被膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０５〜５００μｍ、好ましくは０．５〜１００μｍ、さらに好ましくは１〜１００μｍである。０．０５μｍ未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、５００μｍを超えると、乾燥時に溶媒（分散媒）等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、膜が白濁したり、クラックを生じ、可視光域における透明性が損なわれるおそれがある。
【０１４６】
乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒等の種類によって適宜設定することができる。
乾燥後、該金属錯体を含有する薄膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
【０１４７】
例えば、マトリックス材料としてポリシロキサンを用いた場合、前記乾燥工程の後に８０〜５００℃、好ましくは９０〜４００℃、より好ましくは１００〜３００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）溶液同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるコーティング膜の機械的強度をコントロールすることができる。
８０℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、コーティング膜中に含まれる該金属錯体が熱分解するおそれがある。
【０１４８】
焼成時間は、所望のコーティング膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、５分間〜５時間、好ましくは１０分間〜３時間である。５分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
【実施例】
【０１４９】
以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。
【０１５０】
実施例で用いた金属錯体の各配位子（Ｌ１〜Ｌ１０）は、特許文献２に記載の方法で製造した。
【０１５１】
＜金属錯体の製造方法＞
製造例１：金属錯体Ｃ１−Ｃｕ
配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）を温メタノール２２５０ｇ（６０℃）に溶解させ、ここに酢酸銅・１水和物１０．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）を温メタノール４００ｇに溶解させた溶液を滴下した。生じた析出物をろ別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、灰緑色の銅錯体（Ｃ１−Ｃｕ）２４．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して７８．９％であった。
【０１５２】
製造例２：金属錯体Ｃ１−Ｃｏ
製造例１において酢酸銅・１水和物１０．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）に代えて、酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１と同様にして、橙色のコバルト錯体（Ｃ１−Ｃｏ）２８．５ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して９１．４％であった。
【０１５３】
製造例３：金属錯体Ｃ２−Ｃｕ
製造例１において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）に代えて、配位子（Ｌ２）３３．９ｇ（０．１ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ２−Ｃｕ）２８．４ｇを得た。収率は配位子（Ｌ２）に対して７６．７％であった。
【０１５４】
製造例４：金属錯体Ｃ２−Ｃｏ
製造例３において酢酸銅・１水和物１０．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）に代えて、酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５ｍｏｌ）を用いた以外は製造例２と同様にして、橙色のコバルト錯体（Ｃ２−Ｃｏ）３２．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ２）に対して８７．８％であった。
【０１５５】
製造例５：金属錯体Ｃ３−Ｃｕ
製造例１において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）に代えて、配位子（Ｌ３）３５．２ｇ（０．１ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ３−Ｃｕ）２６．９ｇを得た。収率は配位子（Ｌ３）に対して７０．２％であった。
【０１５６】
製造例６：金属錯体Ｃ３−Ｃｏ
製造例５において酢酸銅・１水和物１０．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）に代えて、酢酸コバルト・４水和物１２．５ｇ（０．０５ｍｏｌ）を用いた以外は製造例２と同様にして、橙色のコバルト錯体（Ｃ３−Ｃｏ）３４．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ３）に対して９０．２％であった。
【０１５７】
製造例７： 金属錯体Ｃ４−Ｃｕ
製造例１において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）に代えて、配位子（Ｌ４）３４．３ｇ（０．１ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ４−Ｃｕ）２６．２ｇを得た。収率は配位子（Ｌ４）に対して７０．０％であった。
【０１５８】
製造例８： 金属錯体Ｃ５−Ｃｕ
製造例１において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）に代えて、配位子（Ｌ５）２８．２ｇ（０．１ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ５−Ｃｕ）２３．１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ５）に対して７７．４％であった。
【０１５９】
製造例９： 金属錯体Ｃ６−Ｃｕ
製造例１において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）に代えて、配位子（Ｌ６）２８．１ｇ（０．１ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ６−Ｃｕ）２３．６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ６）に対して７５．５％であった。
【０１６０】
製造例１０：金属錯体Ｃ７−Ｃｕ
製造例１において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）に代えて、配位子（Ｌ７）３０．２ｇ（０．１ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ７−Ｃｕ）２６．６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ７）に対して７９．９％であった。
【０１６１】
製造例１１：金属錯体Ｃ８−Ｃｕ
製造例１において配位子（Ｌ１）２８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）に代えて、配位子（Ｌ８）２８．２ｇ（０．１ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１と同様にして、灰緑色の銅錯体（Ｃ８−Ｃｕ）１６．６ｇを得た。収率は配位子（Ｌ８）に対して５５．９％であった。
【０１６２】
製造例１２：金属錯体Ｃ９−Ｃｕ
配位子（Ｌ９）４．０ｇ（０．００６ｍｏｌ）を温ＤＭＦ２４ｇ（７０℃）に溶解させ、ここに酢酸銅・１水和物０．６０ｇ（０．００３ｍｏｌ）を添加した。この混合物を７０℃で１時間攪拌し、室温まで冷却した後メタノール２０ｇを滴下した。生じた析出物をろ別し、メタノールで洗浄後、乾燥し、灰緑色の銅錯体（Ｃ９−Ｃｕ）２．９ｇを得た。収率は配位子（Ｌ９）に対して６８．５％であった。
【０１６３】
製造例１３：金属錯体Ｃ１０−Ｃｏ
製造例１２において配位子（Ｌ９）４．０ｇ（０．００６ｍｏｌ）に代えて、配位子（Ｌ１０）３．４９ｇ（０．００６ｍｏｌ）を、さらに、酢酸銅・１水和物０．６０ｇ（０．００３ｍｏｌ）に代えて酢酸コバルト・４水和物０．７５ｇ（０．００３ｍｏｌ）を用いた以外は製造例１２と同様にして、黄色のコバルト錯体（Ｃ１０−Ｃｏ）３．１４ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１０）に対して８５．８％であった。
【０１６４】
金属錯体における各配位子の構造式を表１に示す。
【０１６５】
【表１−１】
2014111713.tif 000010
【０１６６】
【表１−２】
2014111713.tif 000011
【０１６７】
製造例１４：マトリックス材料（１）
フェニルトリエトキシシラン（ＰＴＥＳ）６１．３ｇ（０．２５５モル）と、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）１０．６ｇ（０．０４５モル）と、イソプロパノール３０ｇとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸４．２ｇ（０．０９１モル）および水１６．２ｇを添加し、室温で３０分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を７０ ℃まで昇温し、２時間保温し、加水分解・重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに２時間加水分解・重縮合反応を進行させた。その後、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０．７ｇを添加することで、ポリシロキサン成分としての、シリコンアルコキシドの４０質量％ゾル/ＴＨＦ溶液を得た。
【０１６８】
製造例１５：マトリックス材料（２）
フェニルトリエトキシシラン（ＰＴＥＳ）５４．１ｇ（０．２２５モル）、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）６．７ｇ（０．０３８モル）およびグリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＧＰＴＭＳ）８．９ｇ（０．０３８モル）と、イソプロパノール３０ｇとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸４．２ｇ（０．０９１モル）および水１６．２ｇを添加し、室温で３０分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を７０ ℃まで昇温し、２時間保温し、加水分解・重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに２時間加水分解・重縮合反応を進行させた。その後、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５６．８ｇを添加することで、ポリシロキサン成分としての、シリコンアルコキシドの４０質量％ゾル/ＴＨＦ溶液を得た。
【０１６９】
【表２】
2014111713.tif 000012
【０１７０】
（紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材）
窒素含有複素環式化合物として、トリアジン誘導体、トリアゾール誘導体およびベンゾイミダソール誘導体を用いて、紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材を作製した。
【０１７１】
Ｉ．トリアジン誘導体
実施例Ｉ-１
製造例１４で得られたマトリックス材料（１）２．０ｇに金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇ、さらに、１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）を攪拌しながら加え、混合することにより紫外線吸収部材用組成物を得た。
得られた紫外線吸収部材用組成物を、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてカバーガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において５分間予備乾燥させた後に１５０℃で１時間焼成し、紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１７２】
実施例Ｉ-２
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、２，４−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００１４ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１７３】
実施例Ｉ-３
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、２，４，６−トリフェニル−１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１７４】
実施例Ｉ-４
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、２，４，６−トリ（２−ピリジル）−１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１７５】
実施例Ｉ-５
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、６−アミノ−２，４’−ジヒドロキシ−１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００１６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１７６】
実施例Ｉ-６
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［２−（２−エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］−フェノール０．２ｍｇ（０．０００４ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１７７】
実施例Ｉ-７
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、２，４，６−トリス［ビス（メトキシメチル）アミノ］−１，３，５−トリアジン２．０ｍｇ（０．０００５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１７８】
実施例Ｉ-８
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、２，４−ジアミノ−６−メチル−１，３，５−トリアジン４．０ｍｇ（０．００１６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１７９】
実施例Ｉ-９
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、２，４−ジアミノ−６−ブチルアミノ−１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００１１ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１８０】
実施例Ｉ-１０
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、２，４−ジアミノ−６−（２−（２−メチル−１−イミダゾール）エチル）−１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．０００９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１８１】
実施例Ｉ-１１
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、メラミン０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１８２】
実施例Ｉ-１２
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、メラミン０．２ｍｇ（０．００１６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１８３】
実施例Ｉ-１３
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、メラミン０．４ｍｇ（０．００３２ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１８４】
実施例Ｉ-１４
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、メラミン２．０ｍｇ（０．０１５９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１８５】
実施例Ｉ-１５
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）に代えて、メラミン４．０ｍｇ（０．０３１７ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１８６】
実施例Ｉ-１６
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ２−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１８７】
実施例Ｉ-１７
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ３−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１８８】
実施例Ｉ-１８
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ４−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は７μｍであった。
【０１８９】
実施例Ｉ-１９
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ５−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１９０】
実施例Ｉ-２０
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ６−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１９１】
実施例Ｉ-２１
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ７−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０１９２】
実施例Ｉ-２２
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ８−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１９３】
実施例Ｉ-２３
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ９−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例５と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１９４】
実施例Ｉ-２４
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ１−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１９５】
実施例Ｉ-２５
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ２−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１９６】
実施例Ｉ-２６
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ３−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例Ｉ−５と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１９７】
実施例Ｉ-２７
実施例Ｉ-１２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ１０−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例Ｉ-１２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１９８】
比較例Ｉ-１
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）を用いなかった以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１９９】
比較例Ｉ-２
実施例Ｉ-１において１，３，５−トリアジン０．２ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）を用いず、さらに、マトリックス材料（１）２．０ｇに代えてマトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例Ｉ-１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０２００】
比較例Ｉ-３
実施例Ｉ-２４においてメラミン０．２ｍｇ（０．００１６ｍｍｏｌ）を用いなかった以外は実施例Ｉ-２４と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０２０１】
II．トリアゾール誘導体
実施例II−１
製造例１４で得られたマトリックス材料（１）２．０ｇに金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇ、さらに、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）を攪拌しながら加え、混合することにより紫外線吸収部材用組成物を得た。
得られた紫外線吸収部材用組成物を、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてカバーガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において５分間予備乾燥させた後に１５０℃で１時間焼成し、紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０２０２】
実施例II−２
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）に代えて、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．２ｍｇ（０．００２４ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２０３】
実施例II−３
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）に代えて、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．８ｍｇ（０．００９５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２０４】
実施例II−４
実施例II−１において２−アミノトリアゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）に代えて、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール２．４ｍｇ（０．０２８５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２０５】
実施例II−５
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）に代えて、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール４．０ｍｇ（０．０４７６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２０６】
実施例II−６
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）に代えて、３、５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール０．２ｍｇ（０．００２０ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２０７】
実施例II−７
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）に代えて、１，２，４−トリアゾール−３−カルボキサミド０．２ｍｇ（０．００１８ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２０８】
実施例II−８
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）に代えて、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール０．２ｍｇ（０．００１７ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２０９】
実施例II−９
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）に代えて、３−アミノ−５−メチルチオ−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール０．２ｍｇ（０．００１５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２１０】
実施例II−１０
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ２−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２１１】
実施例II−１１
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ３−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０２１２】
実施例II−１２
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ４−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２１３】
実施例II−１３
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ５−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２１４】
実施例II−１４
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ６−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２１５】
実施例II−１５
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ７−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０２１６】
実施例II−１６
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ８−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２１７】
実施例II−１７
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ９−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２１８】
実施例II−１８
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ１−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２１９】
実施例II−１９
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ２−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２２０】
実施例II−２０
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ３−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０２２１】
実施例II−２１
実施例II−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ１０−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例II−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２２２】
比較例II−１
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）を用いなかった以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２２３】
比較例II−２
実施例II−１において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．０８ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）を用いず、さらに、マトリックス材料（１）２．０ｇに代えてマトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例II−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２２４】
比較例II−３
実施例II−１８において３−アミノ−１，２，４−トリアゾール０．２ｍｇ（０．００２４ｍｍｏｌ）を用いなかった以外は実施例II−１８と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２２５】
III．ベンゾイミダソール誘導体
実施例III−１
製造例１４で得られたマトリックス材料（１）２．０ｇに金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇ、さらに、２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）を攪拌しながら加え、混合することにより紫外線吸収部材用組成物を得た。
得られた紫外線吸収部材用組成物を、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてカバーガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において５分間予備乾燥させた後に１５０℃で１時間焼成し、紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２２６】
実施例III−２
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）に代えて、２−アミノベンゾイミダゾール０．２ｍｇ（０．００１５ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２２７】
実施例III−３
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）に代えて、２−アミノベンゾイミダゾール０．８ｍｇ（０．００５９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０２２８】
実施例III−４
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）に代えて、２−アミノベンゾイミダゾール２．４ｍｇ（０．０１７６ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２２９】
実施例III−５
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）に代えて、２−アミノベンゾイミダゾール４．０ｍｇ（０．０２９４ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２３０】
実施例III−６
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）に代えて、５−アミノ−２−メルカプト−ベンゾイミダゾール０．２ｍｇ（０．００１２ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２３１】
実施例III−７
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）に代えて、ベンゾイミダゾール０．２ｍｇ（０．００１７ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２３２】
実施例III−８
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）に代えて、２−（２−ピリジル）ベンゾイミダゾール０．２ｍｇ（０．００１０ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２３３】
実施例III−９
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ２−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２３４】
実施例III−１０
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ３−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０２３５】
実施例III−１１
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ４−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２３６】
実施例III−１２
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ５−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２３７】
実施例III−１３
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ６−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２３８】
実施例III−１４
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ７−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２３９】
実施例III−１５
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ８−Ｃｕ８．０ｍｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０２４０】
実施例III−１６
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ９−Ｃｕ８．０ｍｇを、さらにマトリックス材料（１）２．０ｇに代えて、マトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２４１】
実施例III−１７
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ１−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２４２】
実施例III−１８
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ２−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０２４３】
実施例III−１９
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ３−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２４４】
実施例III−２０
実施例III−２において金属錯体Ｃ１−Ｃｕ８．０ｍｇに代えて、金属錯体Ｃ１０−Ｃｏ８．０ｍｇを用いた以外は実施例III−２と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０２４５】
比較例III−１
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）を用いなかった以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０２４６】
比較例III−２
実施例III−１において２−アミノベンゾイミダゾール０．０８ｍｇ（０．０００６ｍｍｏｌ）を用いず、さらに、マトリックス材料（１）２．０ｇに代えてマトリックス材料（２）２．０ｇを用いた以外は実施例III−１と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０２４７】
比較例III−３
実施例III−１７において２−アミノベンゾイミダゾール０．２ｍｇ（０．００１５ｍｍｏｌ）を用いなかった以外は実施例III−１７と同様にして、紫外線吸収部材用組成物および紫外線吸収部材を得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０２４８】
[紫外線吸収部材の評価]
前記実施例および比較例で得られた紫外線吸収部材について、以下の手順により実施した。
（１）耐熱性評価（金属錯体残存率）
実施例および比較例で得られた紫外線吸収部材について、分光光度計（株式会社日立製作所製、型番：Ｕ−４１００）を用いて特定波長（λ＝３７６ｎｍ：紫外線ＵＶ−Ａ）における透過率を測定し、紫外線吸収能（ＵＶ−Ａ吸収能）の評価を実施した。その後、紫外線吸収部材をホットプレート（アズワン製）上で２００℃１０分間加熱し、十分に室温まで冷却した後に、透過率を測定した。
なお、測定はガラス基材にマトリックス層を施した試験片（紫外線吸収剤は含まず、マトリックスの種類は測定対象試料と同じものをそれぞれ使用し、同条件で試験片を作製）を別途作製し、これをブランクとして用いてバックグラウンド補正を行った。すなわち、膜自体の透過性能は反映しておらず、専ら紫外線吸収剤に由来するものと見なすことができる。
耐熱性の評価方法としては、２００℃１０分間の加熱前後のλ＝３７６ｎｍにおける透過率より、次式を用いて金属錯体残存率（％）を算出した。
【０２４９】
【数１】
2014111713.tif 000013
【０２５０】
（２）耐熱性評価（色相変化）
実施例および比較例で得られた紫外線吸収部材について、耐熱性試験（２００℃１０分間）前後の色相を目視によって評価した。結果を表４〜６に示す。なお、実施例および比較例における金属錯体は１００質量部、マトリックス材料は２５０００質量部用いた。
【０２５１】
【表３】
2014111713.tif 000014
【０２５２】
（３）耐光性評価（金属錯体残存率）
得られた各硬化薄膜を、スガ試験機株式会社製キセノンウェザーメーターの試験炉内に設置し、放射照度６０Ｗ／ｍ２の光を７２時間照射した。耐光性の評価方法としては、７２時間照射前後のλ＝３７６ｎｍにおける透過率より、次式を用いて金属錯体残存率（％）を算出した。
【０２５３】
【数２】
2014111713.tif 000015
【０２５４】
【表４】
2014111713.tif 000016
【０２５５】
【表５】
2014111713.tif 000017
【０２５６】
【表６】
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【０２５７】
窒素含有複素環式化合物としてトリアジン誘導体、トリアゾール誘導体およびベンゾイミダソール誘導体を用いたすべての実施例において、残存率、色相変化共に優れていることが分かる。
これらの結果とは対照的に、窒素含有複素環式化合物を用いなかった比較例では、残存率、色相変化ともに、耐熱性および耐光性試験後に大きく劣化していることが分かる。