(57)【要約】【課題】アレルギー物質の含有量が低減された物質の取得方法を提供すること。【解決手段】アレルギー物質の含有量が低減された物質の取得方法であり、以下の（ａ）および（ｂ）の性質を有する非タンパク質性高分子物質とアレルギー物質を含む混合物とを接触させる第一工程、第一工程後、前記非タンパク質性高分子物質を除去することにより得られる残部を回収する第二工程を含むことを特徴とする方法等。＜非タンパク質性高分子物質が有する性質＞（ａ）分子量が５万を超える。（ｂ）システイン残基を１個以上含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アレルギー物質の含有量が低減された物質の取得方法であり、
以下の（ａ）および（ｂ）の性質を有する非タンパク質性高分子物質とアレルギー物質を含む混合物とを接触させる第一工程、第一工程後、前記非タンパク質性高分子物質を除去することにより得られる残部を回収する第二工程を含むことを特徴とする方法。
＜非タンパク質性高分子物質が有する性質＞
（ａ）分子量が５万を超える。
（ｂ）システイン残基を１個以上含む。
【請求項２】
アレルギー物質が、皮膚感作性物質であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記非タンパク質性高分子物質が、システイン構造と、非タンパク質性高分子担体と、これら両者を結合するスペーサー構造とからなる化合物である請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
前記非タンパク質性高分子物質が、式（１）
2014015409.tif 000027
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子又は非タンパク質性高分子担体を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｍが０である場合には、Ｒ１は非タンパク質性高分子担体であり、Ｒ２は水素原子ある。ｍが１である場合には、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方が非タンパク質性高分子担体である。）
で示される高分子物質であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の方法。
【請求項５】
前記非タンパク質性高分子物質が、式（２）
2014015409.tif 000028
（式中、Ｒ１１は非タンパク質性高分子担体を表す。）
で示される高分子物質であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の方法。
【請求項６】
前記非タンパク質性高分子物質が、式（３）
2014015409.tif 000029
（式中、Ｒ１１は非タンパク質性高分子担体を表す。）
で示される高分子物質であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の方法。
【請求項７】
グルタチオンをアルカリ存在下、二炭酸ジ-ｔｅｒｔ−ブチル（Ｂｏｃ２Ｏ）と反応させることにより、式（４）
2014015409.tif 000030
で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンを得て、得られた式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンと式（５）
2014015409.tif 000031
（式中、Ｒ１１は非タンパク質性高分子担体を表す。）
で示される末端アミノ非タンパク質性高分子担体とを脱水縮合することにより、
式（６）及び式（７）
2014015409.tif 000032
（式中、Ｒ１１は上記と同じ意味を表す。）
で示される高分子物質を得て、得られた高分子物質が有する保護基を、脱保護剤を用いて脱離させる反応を行う工程を含むことを特徴とする、式（２）及び式（３）
2014015409.tif 000033
で示される高分子物質の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アレルギー物質の含有量が低減された物質の取得方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
皮膚感作性を有する化学物質等のようなアレルギー物質が皮膚に接触するとアレルギー反応が惹起されることがあることから、例えば、化粧品等皮膚に接触する可能性がある化学製品を工業的に開発するに際しては、皮膚感作性を有する不純物等を除去する必要がある。
従来、例えば、グルタチオン等のぺプチドやアルブミン等のタンパク質性高分子のシステイン残基を含有する物質と皮膚感作性陽性物質との結合性を利用して、被験物質の皮膚感作性を検定する方法が報告されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１０１５４号公報
【特許文献２】特開２００３−１４７６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、アレルギー物質の含有量が低減された物質の取得方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、このような状況下、アレルギー物質の含有量が低減された物質の取得方法を開発すべく鋭意検討した結果、本発明に至った。
即ち、本発明は、
１．アレルギー物質の含有量が低減された物質の取得方法であり、
以下の（ａ）および（ｂ）の性質を有する非タンパク質性高分子物質とアレルギー物質を含む混合物とを接触させる第一工程、第一工程後、前記非タンパク質性高分子物質を除去することにより得られる残部を回収する第二工程を含むことを特徴とする方法（以下、本発明取得方法と記すこともある。）；
＜非タンパク質性高分子物質が有する性質＞
（ａ）分子量が５万を超える。
（ｂ）システイン残基を１個以上含む。
２．アレルギー物質が、皮膚感作性物質であることを特徴とする前項１記載の方法；
３．前記非タンパク質性高分子物質が、システイン残基と、非タンパク質性高分子担体と、これら両者を結合するスペーサー構造とからなる化合物である前項１又は２記載の方法；
４．前記非タンパク質性高分子物質が、式（１）
2014015409.tif 000002
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子又は非タンパク質性高分子担体を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｍが０である場合には、Ｒ１は非タンパク質性高分子担体であり、Ｒ２は水素原子ある。ｍが１である場合には、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方が非タンパク質性高分子担体である。）
で示される高分子物質であることを特徴とする前項１、２又は３記載の方法；
５．前記非タンパク質性高分子物質が、式（２）
2014015409.tif 000003
（式中、Ｒ１１は非タンパク質性高分子担体を表す。）
で示される高分子物質であることを特徴とする前項１、２又は３記載の方法；
６．前記非タンパク質性高分子物質が、式（３）
2014015409.tif 000004
（式中、Ｒ１１は非タンパク質性高分子担体を表す。）
で示される高分子物質であることを特徴とする前項１、２又は３記載の方法；
７．グルタチオンをアルカリ存在下、二炭酸ジ-ｔｅｒｔ−ブチル（Ｂｏｃ２Ｏ）と反応させることにより、式（４）
2014015409.tif 000005
で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンを得て、得られた式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンと式（５）
2014015409.tif 000006
（式中、Ｒ１１は非タンパク質性高分子担体を表す。）
で示される末端アミノ非タンパク質性高分子担体とを脱水縮合することにより、
式（６）及び式（７）
2014015409.tif 000007
（式中、Ｒ１１は上記と同じ意味を表す。）
で示される高分子物質を得て、得られた高分子物質が有する保護基を、脱保護剤を用いて脱離させる反応を行う工程を含むことを特徴とする、式（２）及び式（３）
2014015409.tif 000008
で示される高分子物質の製造方法；
等を提供するものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、化粧品等皮膚に接触する可能性がある化学製品から、皮膚感作性を有する化学物質等のようなアレルギー物質を選択的に且つ簡便に除去することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００８】
本発明取得方法は、アレルギー物質の含有量が低減された物質の取得方法であり、以下の（ａ）および（ｂ）の性質を有する非タンパク質性高分子物質（以下、本高分子物質と記すこともある。）とアレルギー物質を含む混合物とを接触させる第一工程、第一工程後、前記非タンパク質性高分子物質を除去することにより得られる残部を回収する第二工程を含むことを特徴とする。
＜本高分子物質が有する性質＞
（ａ）分子量が５万を超える。
（ｂ）システイン残基を１個以上含む。
【０００９】
アレルギー物質としては、例えば、皮膚感作性物質等を挙げることができる。本高分子物質としては、例えば、システイン残基と、非タンパク質性高分子担体と、これら両者を結合するスペーサー構造とからなる化合物等を挙げることができる。
【００１０】
ここで「スペーサー」としては、例えば、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＨＮ−Ｃ（＝ＮＨ）−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ−（Ｒはアルキル基）、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ａｒ−、−ＣＯ−Ａｒ−ＮＲ−、および、これらの組み合わせ等の２価の連結基を含む。
【００１１】
また「非タンパク質性高分子担体」としては、例えば、末端アミノ樹脂、末端アミノシリカゲル、末端クロロ樹脂、TentaGel（登録商標）、Toyopearl（登録商標）、AffiGel（登録商標）等を挙げることができる。
【００１２】
本高分子物質の製造方法としては、例えば、両末端がチオール基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボニル基、マレイミド基、又は、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子で置換されたアルキル基、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子でα位の炭素原子に結合する水素原子が置換されたハロカルボニル基等であるスペーサー原料を用い、順次、当該スペーサー原料の一方の末端と非タンパク質性高分子担体のクロロスルホニル基、フルホロスルホニル基、クロロカルボニル基、カルボキシル基、マレイミド基、アミノ基、イソチオシアニル基、塩素、臭素、ヨウ素等のハライドとの反応により連結し、そして、もう一方の末端と、必要に応じて保護基が導入されたシステイン誘導体のアミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等との縮合反応により連結し、必要に応じて前記脱保護を行う方法等を挙げることができる。尚、このような製造方法では、公知化合物から公知の合成方法等を利用すればよい。
【００１３】
このようにして製造される本高分子物質の具体的な例としては、
（Ｉ）式（１）
2014015409.tif 000009
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子又は非タンパク質性高分子担体を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｍが０である場合には、Ｒ１は非タンパク質性高分子担体であり、Ｒ２は水素原子ある。ｍが１である場合には、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方が非タンパク質性高分子担体である。）
で示される高分子物質（以下、高分子物質（１）と記すこともある。）；
（ＩＩ）式（２）
2014015409.tif 000010
（式中、Ｒ１１は非タンパク質性高分子担体を表す。）
で示される高分子物質（以下、高分子物質（２）と記すこともある。）；
（ＩＩＩ）式（３）
2014015409.tif 000011
（式中、Ｒ１１は非タンパク質性高分子担体を表す。）
で示される高分子物質（以下、高分子物質（３）と記すこともある。）
等を挙げることができる。
【００１４】
このような高分子物質（即ち、高分子物質（２）及び高分子物質（３））のより具体的な製造方法について、以下で説明する。
【００１５】
まず、式（４）
2014015409.tif 000012
で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンと式（５）
2014015409.tif 000013
（式中、Ｒ１１は上記と同じ意味を表す。）
で示される末端アミノ非タンパク質性高分子担体とを脱水縮合することにより、
式（６）及び式（７）
2014015409.tif 000014
（式中、Ｒ１１は上記と同じ意味を表す。）
で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジーｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）を得る。得られた高分子物質が有する保護基を、脱保護剤を用いて脱離させる反応を行うことにより、上記の高分子物質（即ち、高分子物質（２）及び高分子物質（３））を製造することができる（下記のスキーム１参照）。
2014015409.tif 000015
【００１６】
次に、式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンの製造方法について説明する。
【００１７】
式（４）
2014015409.tif 000016
で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンは、例えば、特開２０１０−１３８１２６号公報等に記載される方法に準じて、グルタチオンをアルカリ存在下、二炭酸ジ-ｔｅｒｔ−ブチル（Ｂｏｃ２Ｏ）と反応させることにより、製造することができる。（下記のスキーム２参照。）
2014015409.tif 000017
【００１８】
上記反応で原料となるグルタチオンや、試薬である二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（Ｂｏｃ２Ｏ）は、市販されるものを用いればよい。その使用量としては、例えば、グルタチオンに対して２当量以上、好ましくは２当量〜５当量等を挙げることができる。
【００１９】
上記反応で用いられるアルカリは、市販されるものを用いればよい。具体的には例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルイミダゾール、ジイソプロピルエチルアミン等を挙げることができる。好ましくは、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を挙げることができる。その使用量は制限されないが、例えば、グルタチオンに対して４当量〜１０当量の範囲を用いればよい。
【００２０】
上記反応で用いられる溶媒としては、例えば、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドラフラン、１，４−ジオキサン、アニソール等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン等のハロゲン系溶媒等を挙げることができる。また、これら溶媒を２種以上混合して使用してもよい。好ましくは、例えば、水と容易に混合するジオキサン等の水溶性有機溶媒と水との混合溶媒等を挙げることができる。その好ましい使用量は、用いられる溶媒に応じて適宜決定すればよく、通常、グルタチオンを溶解することができる量を用いればよい。
【００２１】
式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンの製造は、グルタチオンをアルカリ存在下、二炭酸ジ-ｔｅｒｔ−ブチル（Ｂｏｃ２Ｏ）と溶媒中混合することにより、実施することができる。反応温度としては、例えば、−１０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲を挙げることができる。好ましくは、例えば、０℃〜５０℃の範囲を挙げることができる。反応時間としては、反応で用いられるアルカリの種類、反応温度等で異なるが、例えば、３分間から１５時間までの範囲を挙げることができる。尚、必要に応じて、反応後、例えば、抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等の後処理操作を実施してもよい。
このようにして、Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンを得ることができる。
【００２２】
式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジーｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）の製造方法について説明する。
【００２３】
式（６）及び式（７）
2014015409.tif 000018
で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジーｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）の製造は、前述のように、式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンと式（５）
2014015409.tif 000019
（式中、Ｒ１１は上記と同じ意味を表す。）
で示される末端アミノ非タンパク質性高分子担体とを脱水縮合することにより、実施すればよい。（スキーム３）。
2014015409.tif 000020
【００２４】
式（５）で示される末端アミノ非タンパク質性高分子担体としては、例えば、末端アミノ樹脂、末端アミノシリカゲル、末端クロロ樹脂、NovaSyn TG（登録商標）、TentaGel（登録商標）、Toyopearl（登録商標）、AffiGel（登録商標）、Agrogel（登録商標）等を挙げることができる。
【００２５】
上記反応で用いられる脱水縮合剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ・ＨＣｌ）、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＢＯＰ）、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート（ＰｙＢＯＰ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＢＴＵ）、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  テトラフルオロボラート（ＴＢＴＵ）、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート（ＨＡＴＵ）、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート（ＴＡＴＵ）、１，１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール（ＣＤＩ）等を挙げることができる。その使用量としては、例えば、式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンに対して１当量〜５当量の範囲、好ましくは１当量〜３当量の範囲を挙げることができる。
【００２６】
上記反応で用いられる溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドラフラン、１，４−ジオキサン、アニソール等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン等のハロゲン系溶媒等を挙げることができる。また。これら溶媒を２種以上混合して使用してもよい。その好ましい使用量は、用いられる溶媒に応じて適宜決定すればよく、通常、式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンを溶解することができる量を用いればよい。
【００２７】
反応温度としては、例えば、−５０℃〜１００℃の範囲を挙げることができる。反応時間としては、反応で用いられる脱水縮合剤の種類、反応温度等で異なるが、例えば、３分間から１５時間までの範囲を挙げることができる。尚、必要に応じて、反応後、例えば、抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等の後処理操作を実施してもよい。
【００２８】
また、反応系内に電子吸引性官能基を有するヒドロキシ化合物や塩基を加えることにより、上記の反応を促進することができる。それらの使用量としては、式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンに対して、例えば、１当量〜５当量の範囲を挙げることができる。好ましくは、例えば、１当量〜２．５当量の範囲を挙げることができる。
【００２９】
上記反応で用いられる「電子吸引性官能基を有するヒドロキシ化合物」は、市販されるものを用いればよい。具体的には例えば、４−ニトロフェノール、ペンタフルオロフェノール、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド，Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
【００３０】
また、上記反応で用いられる「塩基」は、市販されるものを用いればよい。具体的には例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルイミダゾール、ジイソプロピルエチルアミン等を挙げることができる。
【００３１】
式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジーｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）の製造は、式（４）で示されるＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンと式（５）で示される末端アミノ非タンパク質性高分子担体とを溶媒中、脱水縮合剤、また、必要に応じて電子吸引性官能基を有するヒドロキシ化合物や塩基を混合することにより、実施することができる。反応温度としては、例えば、−１０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲を挙げることができる。好ましくは、例えば、０℃〜５０℃の範囲を挙げることができる。反応時間としては、反応で用いられるアルカリの種類、反応温度等で異なるが、例えば、３分間から２４時間までの範囲を挙げることができる。反応後、反応液を遠心分離または濾過することにより、式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジーｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）を得ることができる。尚、必要に応じて、例えば、有機溶媒、アルカリ水及び酸性水等で洗浄することにより精製してもよい。
【００３２】
次に、式（２）で示される高分子物質（即ち、高分子物質（２））及び式（３）で示される高分子物質の製造方法（即ち、高分子物質（３））について説明する。
高分子物質（２）及び高分子物質（３）の製造は、
式（６）及び式（７）
2014015409.tif 000021
（式中、Ｒ１１は上記と同じ意味を表す。）
で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジーｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）が有する保護基を、脱保護剤を用いて脱離させる反応を行うことにより、実施できる。（下記のスキーム４参照）
2014015409.tif 000022
【００３３】
上記反応で用いられる「脱保護剤」としては、例えば、トリアルキルシランを含む含水トリフルオロ酢酸（尚、調製方法は、例えば、Tetrahedron Letter 1989, 30, 2739参照）を挙げることができる。ここで「トリアルキルシラン」としては、例えば、トリエチルシラン、トリイソプロピルシラン等を挙げることができる。それらの使用量としては、トリフルオロ酢酸に対して体積比で、例えば、０．０１倍量〜０．５倍量の範囲を挙げることができる。
【００３４】
高分子物質（２）及び高分子物質（３）の製造は、式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジーｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）が有する保護基を、脱保護剤を用いて脱離させる反応を行うことにより、実施できる。反応温度としては、例えば、−１０℃〜５０℃の範囲を挙げることができる。好ましくは、例えば、０℃〜３０℃の範囲を挙げることができる。反応時間としては、反応で用いられる脱水縮合剤の種類、反応温度等で異なるが、例えば、３分間から２４時間までの範囲を挙げることができる。反応後、反応液を遠心分離または濾過することにより、高分子物質（２）及び高分子物質（３）を沈殿物として得ることができる。尚、必要に応じて、例えば、沈殿物を更に有機溶媒、アルカリ水及び酸性水等で洗浄することにより精製してもよい。
【００３５】
本発明取得方法における第一工程では、本高分子物質とアレルギー物質を含む混合物とを接触させる。具体的には例えば、下記のように実施すればよい。
まず、本高分子物質を、例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等のリン酸アルカリ金属塩の無機塩類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸アンモニウム等の酢酸塩等の有機酸塩等を含む水性緩衝液、若しくは、水、又は、これらとアセトニトリル等の有機溶媒との混合溶媒、又は、有機溶媒に、例えば、約０．０１μｍｏｌ／Ｌ〜約１ｍｏｌ／Ｌの範囲である濃度、好ましくは、例えば、約０．１μｍｏｌ／Ｌ〜約１００ｍｍｏｌ／Ｌの範囲である濃度、となるように混合することにより、本高分子物質含有液を得る。
一方、アレルギー物質を含む混合物は、例えば、メタノール、エタノール、アセトニトリル、アセトン等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒に、例えば、約０．０１μｍｏｌ／Ｌ〜約１ｍｏｌ／Ｌの範囲である濃度、好ましくは、例えば、約０．１μｍｏｌ／Ｌ〜約５０ｍｍｏｌ／Ｌの範囲である濃度、となるように溶解することにより、アレルギー物質含有液を得る。
次いで、上記の本高分子物質含有液とアレルギー物質含有液とを、本高分子物質に含まれるシステイン残基とアレルギー物質とのモル比が、例えば、１：１〜１００：１となるように混合することにより、本高分子物質とアレルギー物質を含む混合物とを接触させる。このような接触操作では、約４℃〜約６０℃の温度範囲にて保温しながら、約１０分間〜約２日間の範囲で振とう、撹拌又は静置等の単位操作を実施すればよい。
【００３６】
本発明取得方法における第二工程では、第一工程後、前記非タンパク質性高分子物質（即ち、アレルギー物質が結合した本高分子物質）を除去することにより得られる残部を回収する。
第一工程により、本高分子物質とアレルギー物質とが結合する。このため、前記感作性物質が結合した本高分子物質を、遠心分離、デカンテーションや濾過等の通常の分離操作を用いて除去することにより、前記アレルギー物質の含有量が低減された物質を残部として容易に回収することができる。
【実施例】
【００３７】
以下に実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［実施例１］
2014015409.tif 000023
NovaSyn TG アミノレジンＨＬ（０．０５ｇ，アミノ基として０．０２５ｍｍｏｌ）、特開２０１０−１３８１２６号公報に記載された方法に準じて製造されたＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン（０．０５ｇ，０．１ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（１ｍＬ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（略称：ＥＤＣ、２０μＬ，０．１１ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（１５ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を混合した後、得られた混合物を１８時間室温で攪拌しながら反応した。反応後、得られた反応液を遠心分離し、沈殿物を回収した。回収された沈殿物を、アセトニトリル、１Ｍ硫酸水素ナトリウム水溶液、水、重曹水、水、アセトニトリルの順で洗浄することにより、式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）５０ｍｇを得た。
【００３８】
反応前のNovaSynTG アミノレジンＨＬと式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）とを１ｍｇ取り、それぞれにニンヒドリン／メタノール溶液を加えた後、得られた混合物を８０℃で５分間加熱した。前者（反応前のNovaSynTG）は青く発色したが、一方、後者（式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質））は発色しなかった。当該実験の結果から、前記高分子物質の表面上に存在するアミノ基に定量的にＮ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオンが結合していることが確認された。
【００３９】
2014015409.tif 000024
このようにして得られた式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）１０ｍｇを１．５ｍＬのサンプルチューブ内で０．１ｍＬの脱保護液（トリフルオロ酢酸／トリイソプロピルシラン／水  １０００：５０：５０（ｖ／ｖ／ｖ））と混合した後、得られた混合物を１５分間室温で撹拌しながら反応した。反応後、得られた反応液を遠心分離し、沈殿物をメタノール、水、アセトニトリルの順で洗浄することにより、システイン残基（又はグルタチオン残基）を有する高分子物質（即ち、高分子物質（２）及び高分子物質（３））１０ｍｇを得た。
【００４０】
式（６）及び式（７）で示される高分子物質（即ち、Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）とシステイン残基（又はグルタチオン残基）を有する高分子物質（即ち、高分子物質（２）及び高分子物質（３））とを１ｍｇを取り、それぞれを重曹水、メタノールの順で洗浄した後、得られた洗浄物それぞれにニンヒドリン／メタノール溶液を加えた後、得られた混合物を８０℃で５分間加熱した。前者（Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質）は発色しなかったが、一方、後者（高分子物質（２）及び高分子物質（３））は青く発色した。当該実験の結果から、システイン（又はグルタチオン）上の保護基が除去されていることが確認された。
【００４１】
２，４−ジニトロクロロベンゼン（皮膚感作性陽性）の０．０１ｍｇ／ｍＬアセトニトリル溶液２００μＬと、リン酸緩衝液（０．１Ｍ  ＮａＨＰＯ４−Ｎａ２ＨＰＯ４水溶液、ｐＨ７）溶液２００μＬと、システイン残基（又はグルタチオン残基）を有する高分子物質（即ち、高分子物質（２）及び高分子物質（３））５ｍｇとを混合した後、得られた混合物を３７℃で１２時間保温した（試料Ａ）。別途、システイン残基（又はグルタチオン残基）を有する高分子物質（即ち、高分子物質（２）及び高分子物質（３））の代わりに、Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質を用いて同様な試験を行った（試料Ｂ）。
【００４２】
試料Ａと試料Ｂとをそれぞれ遠心分離して得られた上澄みをＨＰＬＣ分析に供したところ、試料Ａの場合において得られた上澄み中の２，４−ジニトロクロロベンゼンの量（ピーク面積）は、試料Ｂの場合において得られた上澄み中の２，４−ジニトロクロロベンゼンの量（ピーク面積）よりも少量であった（小さかった）。
つまり、本非タンパク質性高分子物質と皮膚感作性物質を含む混合物とを接触させた後、前記非タンパク質性高分子物質を除去することにより得られる残部を回収すれば、前記皮膚感作性物質の含有量が低減された物質、即ち、アレルギー物質の含有量が低減された物質を残部として容易に回収できることが確認された。
【００４３】
［実施例２］
ｐ−ベンゾキノン（皮膚感作性陽性）の０．０１ｍｇ／ｍＬアセトニトリル溶液２００μＬと、リン酸緩衝液（０．１Ｍ  ＮａＨＰＯ４−Ｎａ２ＨＰＯ４水溶液、ｐＨ６．８）溶液２００μＬと、実施例１に記載されたシステイン残基（又はグルタチオン残基）を有する高分子物質（即ち、高分子物質（２）及び高分子物質（３））５ｍｇと混合した後、得られた混合物を３７℃で１２時間保温した（試料Ａ’）。別途、前記のシステイン残基（又はグルタチオン残基）を有する高分子物質（即ち、高分子物質（２）及び高分子物質（３））の代わりに、Ｎ，Ｓ−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルグルタチオン構造を有する高分子物質を用いて同様な試験を行った（試料Ｂ’）。
【００４４】
試料Ａ’と試料Ｂ’とをそれぞれ遠心分離して得られた上澄み５μＬをシリカゲル薄層クロマトグラフィープレートにスポットし、ＵＶランプ（２５４ｎｍ）で確認したところ、試料Ａ’のスポットの方が試料Ｂ’のスポットよりも弱かった。
つまり、本非タンパク質性高分子物質と皮膚感作性物質を含む混合物とを接触させた後、前記非タンパク質性高分子物質を除去することにより得られる残部を回収すれば、前記皮膚感作性物質の含有量が低減された物質、即ち、アレルギー物質の含有量が低減された物質を残部として容易に回収できることが確認された。
【００４５】
［実施例３］
2014015409.tif 000025
NovaSyn TG アミノレジンＨＬ（０．０５ｇ，アミノ基として０．０２５ｍｍｏｌ）、市販のＮ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システイン（０．０５ｇ，０．１ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（１ｍＬ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（略称：ＥＤＣ、２０μＬ，０．１１ｍｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（１５ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を混合した後、得られた混合物を１８時間室温で攪拌しながら反応した。反応後、得られた反応液を遠心分離し、沈殿物を回収した。回収された沈殿物を、アセトニトリル、１Ｍ硫酸水素ナトリウム水溶液、水、重曹水、水、アセトニトリルの順で洗浄することにより、Ｎ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システイン構造を有する高分子物質５０ｍｇを得た。
【００４６】
反応前のNovaSynTG アミノレジンＨＬとＮ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システイン構造を有する高分子物質とを１ｍｇ取り、それぞれにニンヒドリン／メタノール溶液を加えた後、得られた混合物を８０℃で５分間加熱した。前者（反応前のNovaSynTG）は青く発色したが、一方、後者（Ｎ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システイン構造を有する高分子物質）は発色しなかった。当該実験の結果から、前記高分子物質の表面上に存在するアミノ基に定量的にＮ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システインが結合していることが確認された。
【００４７】
2014015409.tif 000026
このようにして得られたＮ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システイン構造を有する高分子物質１０ｍｇを１．５ｍＬのサンプルチューブ内で０．１ｍＬの脱保護液（トリフルオロ酢酸／トリイソプロピルシラン／水  １０００：５０：５０（ｖ／ｖ／ｖ））と混合した後、得られた混合物を１５分間室温で撹拌しながら反応した。反応後、得られた反応液を遠心分離し、沈殿物をメタノール、水、アセトニトリルの順で洗浄することにより、システイン残基を有する高分子物質１０ｍｇを得た。
【００４８】
Ｎ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システイン構造を有する高分子物質とシステイン残基を有する高分子物質とを１ｍｇを取り、それぞれを重曹水、メタノールの順で洗浄した後、得られた洗浄物それぞれにニンヒドリン／メタノール溶液を加えた後、得られた混合物を８０℃で５分間加熱した。前者（Ｎ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システイン構造を有する高分子物質）は発色しなかったが、一方、後者（システイン残基を有する高分子物質）は青く発色した。当該実験の結果から、システイン上の保護基が除去されていることが確認された。
【００４９】
２，４−ジニトロクロロベンゼン（皮膚感作性陽性）の０．０１ｍｇ／ｍＬアセトニトリル溶液２００μＬと、リン酸緩衝液（０．１Ｍ  ＮａＨＰＯ４−Ｎａ２ＨＰＯ４水溶液、ｐＨ７）溶液２００μＬと、システイン残基を有する高分子物質５ｍｇと混合した後、得られた混合物を３７℃で１２時間保温した（試料Ａ’’）。別途、システイン残基を有する高分子物質の代わりに、Ｎ−Ｂｏｃ−Ｓ−Ｔｒｔ−システイン構造を有する高分子物質を用いて同様な試験を行った（試料Ｂ’’）。
【００５０】
試料Ａ’’と試料Ｂ’’とをそれぞれ遠心分離して得られた上澄みをＨＰＬＣ分析に供したところ、試料Ａ’’の場合において得られた上澄み中の２，４−ジニトロクロロベンゼンの量（ピーク面積）は、試料Ｂ’’の場合において得られた上澄み中の２，４−ジニトロクロロベンゼンの量（ピーク面積）よりも少量であった（小さかった）。
つまり、本非タンパク質性高分子物質と皮膚感作性物質を含む混合物とを接触させた後、前記非タンパク質性高分子物質を除去することにより得られる残部を回収すれば、前記皮膚感作性物質の含有量が低減された物質、即ち、アレルギー物質の含有量が低減された物質を残部として容易に回収できることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明によれば、化粧品等皮膚に接触する可能性がある化学製品から、皮膚感作性を有する化学物質等のようなアレルギー物質を選択的に且つ簡便に除去することができる。