(57)【要約】【課題】被処理物の連続処理による処理量の増大と、乾溜生成物の品質劣化を抑制するという両方の課題を達成することが可能な乾溜炉を提供することを目的とする。【解決手段】被処理物Ｓを供給する供給部１０と、供給部１０から被処理物Ｓが供給される供給位置Ｐ１と、処理済みの被処理物Ｓが回収される回収位置Ｐ４とを循環する複数の搬送パンＭと、搬送パンＭによる搬送途中において被処理物Ｓを加熱する加熱部２０とを備え、加熱部２０は、搬送パンＭの上方に配置された加熱盤２２と、加熱盤２２の上側に形成された加熱室２１と、加熱室２１に燃焼ガスＨを送る燃焼器２７とを備える。【選択図】図１
2014024948.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を供給する供給部と、前記供給部から被処理物が供給される供給位置と、処理済みの被処理物が回収される回収位置とを循環する複数の搬送パンと、前記搬送パンによる搬送途中において被処理物を加熱する加熱部とを備え、
前記加熱部は、搬送パンの上方に配置された加熱盤と、前記加熱盤の上側に形成された加熱室と、前記加熱室に燃焼ガスを送る燃焼器とを備える乾溜炉。
【請求項２】
前記搬送パンは、前記供給位置から前記回収位置までの移送経路が、前記回収位置から前記供給位置までの移動経路の上方に配置される請求項１記載の乾溜炉。
【請求項３】
前記搬送パンは、前記供給位置から前記回収位置を介して前記供給位置まで戻る移送経路が、水平方向に環状に配置される請求項１記載の乾溜炉。
【請求項４】
前記加熱盤は、前記搬送パンの移送方向に沿って凹凸形状が設けられる請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の乾溜炉。
【請求項５】
前記凹凸形状は、上方に向けた複数の半円形状である請求項４記載の乾溜炉。
【請求項６】
前記凹凸形状は、上方に向けた複数の半楕円形状である請求項４記載の乾溜炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般家庭ゴミや産業廃棄物などの被処理物を乾溜処理する乾溜炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、一般家庭ゴミや産業廃棄物などの被処理物を乾溜処理する方法としては、次の方法が提案されている。先ず、炉中に堆積した被処理物を炉内の空気を用いて燃焼させる。この燃焼による酸化で空気中の酸素を二酸化炭素に変えて消費し、炉内を無酸素化するとともに、燃焼による熱で高温無酸素ガスを発生させる。そして、発生した高温無酸素ガスが炉内の被処理物の間を通過するとき、被処理物内の炭化水素物と高温無酸素ガスとの間で乾溜反応が起こる。このようにして、被処理物から新たに炭化水素物（油、可燃ガス、固体カーボン）が生成される。特許文献１では、炉内で高温無酸素ガスを発生させて被処理物を乾溜する技術が開示されており、連続して被処理物を投入可能な連続燃焼乾溜方式が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−２９１９２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１の提案では、炉内に取り込んだ空気を用いて被処理物を燃焼させるため、高温無酸素ガスの発生過程で窒素を含むガスが発生する。この窒素を含むガスの存在により乾溜生成物の品質劣化を生じさせる原因となる。これを解消するため、被処理物を加熱するための燃焼ガスを生成する空間と、被処理物を投入して乾溜処理する空間とを別室とする技術も考えられる。この技術では、乾溜処理する空間内で被処理物を燃焼させないので、窒素を含むガスによって乾溜生成物の品質劣化を招く恐れは少ないものの、被処理物を所定の室内に投入して加熱した後にこれを取り出すといったバッチ式で行うので、被処理物を連続的に投入して乾溜処理することができないといった課題がある。従って、被処理物の時間当たりの処理量を増加させるためには、被処理物を投入する空間を大型化するしかなく、その結果、装置全体の大型化を招くといった課題を有している。
【０００５】
本発明は、被処理物の連続処理による処理量の増大と、乾溜生成物の品質劣化を抑制するという両方の課題を達成することが可能な乾溜炉を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の乾溜炉は、被処理物を供給する供給部と、供給部から被処理物が供給される供給位置と、処理済みの被処理物が回収される回収位置とを循環する複数の搬送パンと、搬送パンによる搬送途中において被処理物を加熱する加熱部とを備え、加熱部は、搬送パンの上方に配置された加熱盤と、加熱盤の上側に形成された加熱室と、加熱室に燃焼ガスを送る燃焼器とを備える。これによれば、加熱室内の燃焼ガスと被処理物とは加熱盤によって仕切られ、被処理物が間接的に加熱される構造である。よって、加熱部内の搬送パンの搬送による連続乾溜処理においても、被処理物と高温無酸素ガスとの反応時に燃焼ガスを含む外部気体の侵入が抑制される。従って、外部気体の混合による乾溜生成物の品質劣化が抑制される。
【０００７】
また、搬送パンは、供給位置から回収位置までの移送経路が、回収位置から供給位置までの移動経路の上方に配置されてもよい。また、搬送パンは、供給位置から回収位置を介して供給位置まで戻る移送経路が、水平方向に環状に配置されてもよい。また、加熱盤は、搬送パンの移送方向に沿って凹凸形状が設けられてもよい。また、凹凸形状は、上方に向けた複数の半円形状であってもよい。更に、凹凸形状は、上方に向けた複数の半楕円形状であってもよい。
【０００８】
搬送パンについて、供給位置から回収位置までの移送経路を、回収位置から供給位置までの移動経路の上方に配置した場合は、搬送パンの移送経路を上下に重ねるので乾溜炉の設置面積を縮小させることができる。また、搬送パンについて、供給位置から回収位置を介して供給位置まで戻る移送経路を、水平方向に環状に配置した場合は、搬送パンを環状へ移送させるだけでよく、搬送パンの移送を容易に行うことができる。また、加熱盤の少なくとも一部を凹凸形状とすることで、加熱面積を増やし、加熱速度を増大することが可能となり、処理量の増大が見込まれる。また、より幅広く均等な加熱が可能となり、乾溜生成物の品質向上が望める。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、被処理物を連続処理することにより処理量の増大を図ることができ、さらに、乾溜生成物の品質劣化を抑制することができる。また、加熱盤の少なくとも一部を凹凸形状とすることにより、被処理物に対する加熱効率を向上させることができる。これにより、乾溜生成物の量及び質をより一層向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る乾溜炉の第１実施形態を示す部分断面図である。
【図２】（Ａ）は加熱部の他の実施形態を示す断面図、（Ｂ）は加熱部の他の実施形態を示す断面図である。
【図３】（Ａ）は本発明に係る乾溜炉の第２実施形態を示す断面図、（Ｂ）は搬送パンの斜視図である。
【図４】図３に示す乾溜炉の平面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明に係る乾溜炉の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図面においては説明のために縮尺を部分的に変えて記載している。
＜第１実施形態＞
図１は、乾溜炉の第１実施形態の一例を示す部分断面図である。本実施形態の乾溜炉１は、乾溜炉１の上方側部に配置され被処理物Ｓを供給する供給部１０と、供給部１０から被処理物Ｓが供給される供給位置Ｐ１と処理物を回収する回収位置Ｐ４を循環する複数の搬送パンＭと、供給部１０に隣接して搬送パンＭによる搬送途中で被処理物Ｓを加熱する加熱部２０と、加熱部２０の下方に配置されて搬送パンＭを回収位置Ｐ４から供給位置Ｐ１までの移送経路を形成する搬送室３０と、搬送室３０内の回収位置Ｐ４の下方に配置されて乾溜処理後の処理物を回収する冷却回収部４０とから構成される。
【００１２】
供給部１０は、乾溜炉１上方側部から被処理物Ｓが搬送されるホッパ１１と、ホッパ１１の下端を開閉する第一ダンパＤ１とが設けられる。ホッパ１１の下方は、被処理物Ｓの供給位置Ｐ１となる。第一ダンパＤ１は、図示しない駆動系によって左右方向Ａ１に移動可能であり、ホッパ１１の下端を開閉してホッパ１１に貯留している所定量の被処理物Ｓを下方へ投下する。第一ダンパＤ１は、被処理物Ｓを供給する場合はホッパ１１の下端を開状態とし、それ以外はホッパ１１の下端を閉状態としている。後述する搬送パンＭは、ホッパ１１の下方である供給位置Ｐ１に配置される。なお、第一ダンパＤ１による被処理物Ｓの供給量は、搬送パンＭの搬送量によって決定される。また、供給部１０には、搬送パンＭを供給位置Ｐ１から押し出すための第一プッシャ１２が設けられる。第一プッシャ１２は、油圧または空圧のシリンダ装置が用いられ、第一プッシュロッド１２ａを水平方向（図１では左方）へ駆動可能としている。搬送パンＭは、第一プッシュロッド１２ａによって供給位置Ｐ１から加熱部２０へ向けて押し出される。
【００１３】
加熱部２０は、供給部１０と加熱位置Ｐ２とを分離するための第二ダンパＤ２と、搬送パンＭの加熱位置Ｐ２の上方に配置された加熱盤２２と、加熱盤２２の上側に形成された加熱室２１と、燃焼ガスＨを加熱室２１へ送り込む燃焼器２６と、加熱位置Ｐ２と回収位置Ｐ４とを分離するための第三ダンパＤ３とを備えている。また、加熱部２０は、加熱盤２２や加熱室２１を収納して、加熱位置Ｐ２へ外気が侵入するのを抑制している。また、加熱部２０は、被処理物Ｓの乾溜処理によって生じた乾溜ガスＧを加熱位置Ｐ２から取り出すための導出管２５が設けられている。
【００１４】
導出管２５から導出される乾溜ガスＧは、微粒子分離工程５０、ガス液体分離工程５１、ガス精製工程５２を経て発電システム５３へ供給される。微粒子分離工程５０では、乾溜ガスからカーボン粉末や残渣の粉末等が除去される。ガス液体分離工程５１では、乾溜ガス中から水分や液状の炭化水素等が除去される。ガス精製工程５２では、乾溜ガスから窒素ガスや炭酸ガスなどの不燃性ガスを除去するとともに、発電システム５３の燃料として使用可能な可燃ガスに乾溜ガスを精製する。発電システム５３は、乾溜ガスを燃料としたガスタービン発電システムが用いられる。なお、この発電システム５３の排熱を回収してボイラや給湯設備の熱源としてもよい。
【００１５】
第二ダンパＤ２は、供給部１０と加熱部２０との接続部分に設けられ、図示しない駆動系によって上下方向Ａ２に開閉可能である。第二ダンパＤ２が開状態のとき、搬送パンＭは加熱位置Ｐ２へ進入可能となる。この第二ダンパＤ２が閉状態となることにより、供給部１０から加熱位置Ｐ２へ外気が入り込むことが抑制される。なお、第一プッシャ１２は、第二ダンパＤ２が開状態のときに駆動されるように制御されている。
【００１６】
加熱盤２２は、平板状の部材であって、加熱室２１に導入された燃焼ガスＨによって加熱されて、加熱位置Ｐ２の搬送パンＭに積載された被処理物Ｓを加熱する。なお、加熱盤２２は、搬送パンＭの搬送方向に沿って、複数の搬送パンＭに対応する長さ（図１では搬送パンＭ４台に対応する長さ）を有している。加熱室２１は、加熱盤２２の上側に設けられた矩形の空間であり、導入管２３を介して燃焼器２６の燃焼ガスＨを導入した後に、排出管２４から燃焼ガスＨを外部に排出する。なお、導入管２３は、加熱室２１において搬送パンＭの搬送方向における下流側に設けられ、一方、排出管２４は、加熱室２１の上流側に設けられている。従って、燃焼ガスＨは、加熱室２１の下流側から上流側へ移動するに伴って加熱盤２２を加熱した後に排出管２４から排出される。
【００１７】
第三ダンパＤ３は、加熱部２０と搬送室３０との間に設けられ、図示しない駆動系によって上下方向Ａ３に開閉可能である。第三ダンパＤ３が開状態のとき、搬送パンＭは加熱部２０から後段の待機位置Ｐ３へ移動可能となる。加熱部２０から搬送パンＭが移動する方法としては、搬送パンＭが自走して移動する場合や、加熱部２０内に設けられたローラコンベヤ等を駆動して移動する場合の他に、後ろの搬送パンＭに押し出される場合などがある。なお、第三ダンパＤ３が閉状態となることにより、搬送室３０から加熱位置Ｐ２へ外気が入り込むことが抑制される。
【００１８】
搬送室３０には、加熱部２０の下流側に設けられた第三ダンパＤ３に隣接して、待機位置Ｐ３にトレイ３２が設けられる。トレイ３２は、搬送パンＭの搬送方向と直交する方向（図１の紙面と垂直方向）の回転軸３３を備え、搬送パンＭを着脱可能に保持するとともに回転軸３３を軸として回転可能である。待機位置Ｐ３の下方には回収位置Ｐ４が配置される。トレイ３２は、第一エレベータ３１により待機位置Ｐ３と回収位置Ｐ４との間を上下に移動可能である。回収位置Ｐ４では、不図示の駆動手段により移送トレイ３２を搬送パンＭと共に回転軸３３を軸として回転方向Ｒへ回転させることができる。回収位置Ｐ４にある搬送パンＭの側方位置には、第二プッシュロッド３４ａを備える第二プッシャ３４が配置される。第二プッシャ３４は、第一プッシャ１２と同様に、油圧または空圧のシリンダ装置が用いられ、第二プッシュロッド３４ａを水平方向（図１では右方）へ駆動可能としている。搬送パンＭは、第二プッシュロッド３４ａによって回収位置Ｐ４から搬送室３０の底面３５（復路位置Ｐ５）へ向けて押し出される。
【００１９】
また、搬送室３０には、復路位置Ｐ５の先であって回収位置Ｐ４と反対側の待機位置Ｐ６に位置にトレイ３７が設けられる。トレイ３７は、搬送パンＭを載置して保持するとともに、第二エレベータ３６により待機位置Ｐ６と供給位置Ｐ１との間を上下に移動可能である。なお、搬送室３０内の復路位置Ｐ５には、空となった搬送パンＭに対して内部を清掃するための清掃機構が設けられてもよい。
【００２０】
搬送パンＭのそれぞれは、供給位置Ｐ１から加熱位置Ｐ２、待機位置Ｐ３、回収位置Ｐ４、復路位置Ｐ５、待機位置Ｐ６を介して再度供給位置Ｐ１に戻るといった経路で循環する。なお、搬送パンＭは、上方を解放した矩形状の容器であり、所定量の被処理物Ｓを積載して搬送する。この搬送パンＭは、供給部１０のホッパ１１や回収冷却部４０等に合わせた大きさのものが用いられる。また、図１の乾溜炉１では１０台の搬送パンＭが用いられる。また、搬送パンＭの下面には、自走するための駆動用の車輪等が設けられてもよい。なお、加熱盤２２の下方や搬送室３０の底面３５には、搬送パンＭを移動させるためのローラコンベヤ等が設けられてもよい。
【００２１】
冷却回収部４０は、搬送室３０の回収位置Ｐ４に接続されており、回収位置Ｐ４の下方に貯留水Ｗを貯留している。トレイ３２に伴う搬送パンＭの回転により、搬送パンＭに残留していた処理物（乾溜処理された被処理物Ｓのうち固形分）は回収位置Ｐ４から貯留水Ｗへ投入される。貯留水Ｗに投入された処理物のうち、比重の軽いカーボンは貯留水Ｗの上方や液面に残り、比重の重い残滓は貯留水Ｗ内を底部４２へ向けて降下する。貯留水Ｗの上方位置では、不図示のカーボン回収装置が設けられ、回収されたカーボンをカーボン回収工程３６へ送るようにしている。また、貯留水Ｗの下方、すなわち冷却回収部４０の底部４２には不図示の残滓回収装置が設けられ、回収された残滓を残滓処理工程３５へ送るようにしている。
【００２２】
続いて、第１実施形態の乾溜炉１の動作について図１を参照しながら説明する。先ず、燃焼器２６から導入管２３を介して燃焼ガスＨを加熱室２１に導入する。これにより、加熱盤２２を介して加熱位置Ｐ２の空間は所定温度まで加熱される。加熱位置Ｐ２の空間を２５０℃以上、例えば７００℃以上まで加熱することで被処理物Ｓの乾溜処理が実現可能となる。また、この加熱作業と並行して、ホッパ１１により被処理物Ｓが第一ダンパＤ１上まで移送される。次いで、第一ダンパＤ１を駆動してホッパ１１の下端を開放することにより、所定量の被処理物Ｓは、供給位置Ｐ１にある搬送パンＭに投下される。搬送パンＭはトレイ３７に保持された状態となっている。また、第一ダンパＤ１がホッパ１１の下端を閉鎖した段階でホッパ１１から再度所定量の被処理物Ｓが第一ダンパＤ１上まで移送される。
【００２３】
搬送パンＭに被処理物Ｓが投入されると、第二ダンパＤ２が上方へ移動して加熱位置Ｐ２への入り口を開放するとともに、第一プッシャ１２を駆動させて第一プッシュロッド１２ａにより搬送パンＭをトレイ３７上から加熱部２０へ押し込む。供給位置Ｐ１から搬送パンＭが移動すると、第二エレベータ３６によってトレイ３７を待機位置Ｐ６まで下方へ移動させて、再度トレイ３７上に空の搬送パンＭを保持する。また、第一プッシュロッド１２ａが元の位置に戻ると、トレイ３７に保持された待機位置Ｐ６の搬送パンＭは、第二エレベータ３６によって上方へ移動し、供給位置Ｐ１に配置される。そして、この供給位置Ｐ１の搬送パンＭに対して、第一ダンパＤ１を開放することにより所定量の被処理物Ｓが搬送パンＭに投入される。なお、供給位置Ｐ１では、このような空の搬送パンＭに対して所定量の被処理物Ｓを投入する動作が繰り返される。
【００２４】
加熱部２０に入り込んだ搬送パンＭは、加熱位置Ｐ２を下流へ向けて移動する。この間、加熱盤２２からの熱により被処理物Ｓは加熱されて乾溜処理が行われる。なお、搬送パンＭが加熱部２０に入り込むと第二ダンパＤ２は降下して加熱位置Ｐ２の空間を閉塞するので、加熱部２０から外部へ熱が漏れるのを防止するとともに、外気が加熱位置Ｐ２へ入り込むのを抑制している。なお、搬送パンＭは、搬送する被処理物Ｓの乾溜処理がほぼ終了する時間をかけて加熱位置Ｐ２を移動する。なお、乾溜処理に時間を要する場合は、搬送パンＭの移動を加熱位置Ｐ２において停止させてもよい。ここで、図示しないバーナーにより加熱初期段階のみ被処理物Ｓを燃焼させ、加熱位置Ｐ２の空間を無酸素状態とすることで、初期の乾溜処理を促進させることも可能である。
【００２５】
乾溜処理によって生じた乾溜ガスＧは導出管２５から導出される。微粒子分離工程５０では、サイクロン等によって微細な粒子（カーボンや微粉状の残滓など）が乾溜ガスＧから分離回収される。回収されたカーボンや微粉状の残滓は、カーボン回収工程５４や残滓処理工程５５へ送られてそれぞれ処理される。ガス液体分離工程５１では、熱交換機などにより冷媒と熱交換して乾溜ガスＧを冷却し、乾溜ガスＧから液体成分（水分や油分）が分離回収される。油分については、ボイラ等の燃料として用いられる。ガス液体分離工程５１を経た乾溜ガスＧは、ガス精製工程５２に送られる。ガス精製工程５２は、乾溜ガスＧから、発電システム５３のガスタービン設備の燃料として供給可能なガスを抽出するとともに、二酸化炭素や窒素ガス等の不燃性ガスを分離回収する。ガス精製工程５２を経た乾溜ガスＧは、発電システム５３のガスタービン設備等の燃料として用いられる。なお、発電システム５３で生じた電力は、この乾溜炉１を含めた被処理物Ｓの処理システムに必要な電力として用いられる。
【００２６】
乾溜処理が終了した搬送パンＭは、第三ダンパＤ３が上方に移動して加熱部２０の出口が開放されると待機位置Ｐ３のトレイ３２上へ移動する。なお、搬送パンＭがトレイ３２に載置された段階で第三ダンパＤ３は降下して加熱部２０の出口を閉鎖する。これにより、加熱部２０から外部へ熱が漏れるのを防止するとともに、外気が加熱位置Ｐ２へ入り込むのを抑制している。なお、待機位置Ｐ３にトレイ３２がない場合は、第一エレベータ３１によってトレイ３２が上昇するのを待ってトレイ３２上へ移動する。待機位置Ｐ３でトレイ３２に保持された搬送パンＭは、第一エレベータ３１により待機位置Ｐ３から回収位置Ｐ４に向けて下方へ移送される。
【００２７】
回収位置Ｐ４では、不図示の駆動手段によりトレイ３２が搬送パンＭと共に回転軸３３を軸として回転方向Ｒへ回転し、乾溜処理済みの被処理物Ｓを冷却回収部４０へ投下した後に、元の回転開始位置へ戻る。冷却回収部４０への投下が終了すると、第二プッシャ３４を駆動させ、第二プッシュロッド３４ａにより搬送パンＭを搬送室３０の底面３５へ押し込む。回収位置Ｐ４から搬送パンＭが押し出されると、第一エレベータ３１によってトレイ３２は待機位置Ｐ３まで上方へ移動する。回収位置Ｐ４では、このような乾溜処理された被処理物Ｓを回収する動作が繰り返される。
【００２８】
搬送室３０の底面３５（復路位置Ｐ５）を移送された搬送パンＭは、待機位置Ｐ６のトレイ３７上まで移動し、このトレイ３７に保持される。なお、待機位置Ｐ６にトレイ３７がない場合は、第二エレベータ３６によってトレイ３７が降下するのを待ってトレイ５７上へ移動する。待機位置Ｐ６でトレイ３７に保持された搬送パンＭは、第二エレベータ３６により待機位置Ｐ６から供給位置Ｐ１に向けて上方へ移送される。このように、供給位置Ｐ１から移動を開始した搬送パンＭは、再度供給位置Ｐ１に戻るといった循環経路を移動する。
【００２９】
冷却回収部４０へ投下された被処理物Ｓ（カーボン及び残滓）は、冷却回収部４０の貯留水Ｗに落下して冷却される。残滓は貯留水Ｗ中を降下して底部４２に堆積する。一方、カーボンは、残滓に比べて比重が軽いことから貯留水Ｗの液面または上方に溜まる。なお、残滓に付着しているカーボンも、残滓が貯留水Ｗを降下する途中で残滓から分離して貯留水Ｗの上方に溜まる。貯留水Ｗの液面または上方に溜まったカーボンは、不図示のカーボン回収装置により回収され、カーボン回収工程５４に送られる。なお、回収されたカーボンは、トナー原料や固形燃料等として用いられる。また、底部４２に堆積した残滓物は、不図示の残滓回収装置によって回収され、残滓処理工程５５へ送られる。残滓処理工程５５では、残滓から金属等の分離や加熱処理などが施される。なお、この残滓は、無機質を主成分としており、コンクリート構造物の骨材等として利用可能である。
【００３０】
以上のように、第１実施形態の乾溜炉によれば、燃焼室２１内の燃焼ガスＨと被処理物Ｓとは加熱盤２２によって仕切られており、被処理物Ｓを加熱盤２２を介して間接的に加熱している。従って、加熱部２０内（加熱位置Ｐ２）への外部気体の侵入が極力抑えられるため、乾溜処理の妨げとなる不要なガスの発生が抑制され、乾溜生成物の品質劣化が抑制される。また、加熱部２０へ被処理物Ｓを連続して投入可能であり、被処理物Ｓの処理効率を向上させることができる。
【００３１】
続いて、加熱部（加熱室及び加熱盤）の他の実施形態について説明する。図２（Ａ）は、加熱盤６２の一部に、上方（燃焼室６１内の方向）に向けて、凹凸形状として複数の半円部６３が設けられた加熱室６１を示している。なお、この加熱室６１においては図１に示す加熱室２１と同様に、加熱盤６２の上側に形成されるとともに、燃焼器２６からの導入管２３や排出口２４が設けられる。従って、燃焼ガスＨが燃焼室６１内に導入されて排出される点は加熱室２１と同様であるので、その説明を省略する。この加熱室６１は、加熱盤６２に、搬送パンＭの搬送方向に沿って等間隔で所定半径の半円部６３が設けられる。なお、この半円部６３のそれぞれは、搬送方向と直交する方向（紙面に対して垂直方向）に連続した溝状となっている。
【００３２】
この加熱室６１では、溝状の半円部６３によって加熱盤６２の加熱面積が増大しており、加熱位置Ｐ２（図１参照）において、被処理物Ｓを効率よく加熱することが可能となる。また、各半円部６３の焦点６４が加熱盤６２付近に形成されるため、この焦点６４から下方へ向けて加熱分布が形成され、搬送パンＭに搬送された被処理物Ｓに対して均等な加熱が可能となる。また、加熱盤６２からの輻射熱を考えた場合も、半円部６３により下方へ向けて効率よく加熱することができる。
【００３３】
図２（Ｂ）は、加熱盤７２の一部に、上方（燃焼室７１内の方向）に向けて、凹凸形状として複数の半楕円部７３が設けられた加熱室７１を示している。なお、この加熱室７１においては図１に示す加熱室２１と同様に、加熱盤７２の上側に形成されるとともに、燃焼器２６からの導入管２３や排出口２４が設けられる。従って、燃焼ガスＨが燃焼室７１内に導入されて排出される点は加熱室２１と同様であるので、その説明を省略する。この加熱室７１は、加熱盤７２に、搬送パンＭの搬送方向に沿って等間隔で所定形状の半楕円部７３が設けられる。なお、この半楕円部７３のそれぞれは、搬送方向と直交する方向（紙面に対して垂直方向）に連続した溝状となっている。
【００３４】
この加熱室７１では、溝状の半楕円部７３によって、図２（Ａ）に示す加熱室６１と同様に加熱盤７２の加熱面積が増大しており、加熱位置Ｐ２（図１参照）において、被処理物Ｓを効率よく加熱することが可能となる。また、各半楕円部７３の焦点７４は半楕円部７３内に形成されるとともに、第二焦点が加熱盤７２下方に生じた状態となる。従って、これら焦点から加熱位置Ｐ２の下方へ向けて大きな加熱分布が形成され、搬送パンＭに搬送された被処理物Ｓに対してより一層均等な加熱が可能となる。加熱盤７２からの輻射熱を考えた場合も、半楕円部７３により下方へ向けて効率よく加熱することができる。
【００３５】
＜第２実施形態＞
図３及び図４は、本発明に係る乾溜炉の第２実施形態の一例を示している。なお、第３実施形態の説明においては、前掲の第１実施形態と同一または同等の構成要素には同符号を付して説明を適宜簡略もしくは省略する。この乾溜炉１０１は、被処理物Ｓを供給する供給部１１０と、被処理物Ｓが供給される供給位置Ｐ１と処理物を回収する回収位置Ｐ４を循環する複数の搬送パンＭ１と、搬送パンＭ１による搬送途中で被処理物Ｓを加熱する加熱部１２０と、回収位置Ｐ４の下方に配置されて乾溜処理後の処理物を回収する冷却回収部１４０とから構成される。供給部１１０は、被処理物Ｓが搬送されるホッパ１１１と、ホッパ１１を開閉する上段ダンパＤ１１及び下段ダンパＤ１２とを備えている。上段ダンパＤ１１及び下段ダンパＤ１２は、図示しない駆動系によってそれぞれ開閉し、ホッパ１１に貯留している被処理物Ｓを順次下方へ投下する。
【００３６】
搬送パンＭ１は、図３（Ｂ）に示すように、底面から三方を側面部Ｍａで囲むとともに、底面の一端を開放端Ｍｂとしている。また、複数の搬送パンＭ１は、解放端Ｍｂ側で接続されており、これによって、被処理物Ｓは搬送パンＭ１内に収容される。また、乾溜炉１０１は、搬送パンＭ１を移送するための搬送路として、環状の底面部１０２と、底面部１０２の外周縁から起立する外側筒状部１０３と、底面部１０２の内周縁から起立する内側筒状部１０４とを有している。複数の搬送パンＭ１は、これら外側筒状部１０３と内側筒状部１０４との間に形成された搬送路を矢印方向へ、不図示の駆動系によって移動する。すなわち、搬送パンＭ１のそれぞれは、供給位置Ｐ１から加熱位置Ｐ２、回収位置Ｐ４を介して再度供給位置Ｐ１に戻るといった環状の経路を循環する。なお、搬送パンＭ１の下面には移動を容易にするためのローラ等が設けられている。
【００３７】
加熱部１２０は、環状に配列された搬送パンＭ１の上方において、一部を切り欠いた環状に形成された加熱盤１２２と、この加熱盤１２２の上側に形成された加熱室１２１とを備えている。加熱室１２１内には、不図示の燃焼器で生成した燃焼ガスＨが導入管１２３から導入されて、排出管１２４から排出される。加熱盤１２２は、加熱室１２１に導入された燃焼ガスＨによって加熱されて、加熱位置Ｐ２の搬送パンＭ１に積載された被処理物Ｓを加熱する。搬送パンＭ１と加熱盤１２２との間は、仕切りローラー１０５が配置されており、加熱盤１２２の下方である加熱位置Ｐ２の空間を仕切っている。これにより、加熱位置Ｐ２の熱が外部に漏れることを抑制するとともに、加熱位置Ｐ２へ外気が侵入するのを抑制している。なお、仕切りローラー１０５は、図４に示すように、加熱部１２０の始端部及び終端部だけでなく、加熱位置Ｐ２の複数個所に配置されている。
【００３８】
また、加熱部１２０は、被処理物Ｓの乾溜処理によって生じた乾溜ガスＧを加熱位置Ｐ２から取り出すための導出管１２５が設けられている。導出管１２５から導出される乾溜ガスＧは、微粒子分離工程５０、ガス液体分離工程５１、ガス精製工程５２を経て発電システム５３へ供給される。これら微粒子分離工程５０等は第一実施形態と同様であり、説明を省略する。
【００３９】
冷却回収部１４０は、回収位置Ｐ４の下方に貯留水Ｗを貯留している。また、回収位置Ｐ４には、搬送パンＭ１を傾けるためのシリンダ装置１０６が設けられている。このシリンダ装置１０６によって搬送パンＭ１が傾けられることにより、搬送パンＭに残留していた処理物（乾溜処理された被処理物Ｓのうち固形分）は回収位置Ｐ４から貯留水Ｗへ投入される。貯留水Ｗに投入された処理物のうち、比重の軽いカーボンは貯留水Ｗの上方や液面からカーボン回収工程３６へ送られ、比重の重い残滓は貯留水Ｗの底部から残滓処理工程３５へそれぞれ送られる。
【００４０】
続いて、第２実施形態の乾溜炉１０１の動作について図３及び図４を参照しながら説明する。先ず、導入管１２３を介して燃焼ガスＨを加熱室１２１に導入し、加熱盤１２２を介して加熱位置Ｐ２の空間を所定温度まで加熱する。また、上段ダンパＤ１１及び下段ダンパＤ１２が順次開放されることにより、所定量の被処理物Ｓは、供給位置Ｐ１にある搬送パンＭ１に投下される。被処理物Ｓを積載した搬送パンＭ１は、矢印方向へ移動して加熱位置Ｐ２へ入り込む。同時に空の搬送パンＭ１が供給位置Ｐ１に位置し、この搬送パンＭ１へ被処理物Ｓが投下される。供給位置Ｐ１ではこのような動作が繰り返される。加熱部２０へ移動した搬送パンＭ１は、加熱位置Ｐ２を下流へ向けて移動する。この間、加熱盤１２２からの熱により被処理物Ｓは加熱されて乾溜処理が行われる。なお、搬送パンＭ１の移動は、間欠移動または連続移動のいずれであってもよい。乾溜処理によって生じた乾溜ガスＧは導出管２５から導出され、微粒子分離工程５０等で処置の処理が行われる点は第１実施形態と同様であり、説明を省略する。
【００４１】
乾溜処理が終了した搬送パンＭ１は、加熱部１２０を出て回収位置Ｐ４へ移動する。回収位置Ｐ４では、シリンダ装置１０６によって搬送パンＭ１は傾けられる。これにより、搬送パンＭ１に積載していた処理物は、開放端Ｍｂから滑り落ちて、冷却回収部１４０の貯留水Ｗへ投下される。なお、処理物投下後の搬送パンＭ１は、シリンダ装置１４０によって元の状態に戻り、回収位置Ｐ４から供給位置Ｐ１へ送られる。このように、搬送パンＭ１は、供給位置Ｐ１から移動を開始し、再度供給位置Ｐ１に戻るといった循環経路を移動する。また、搬送パンＭ１が供給位置Ｐ１へ送られると、処理物を積載した次の搬送パンＭ１が回収位置Ｐ４に送られる。回収位置Ｐ４では、このような乾溜処理された被処理物Ｓを回収する動作が繰り返される。
【００４２】
冷却回収部４０へ投下された被処理物Ｓ（カーボン及び残滓）は、貯留水Ｗから回収されてそれぞれカーボン回収工程５４または残滓処理工程５５で処理される点は第１実施形態と同様であり、説明を省略する。
【００４３】
以上のように、第２実施形態の乾溜炉によれば、第１実施形態と同様に、燃焼室１２１内の燃焼ガスＨと被処理物Ｓとは加熱盤１２２で仕切られているため、加熱部１２０内（加熱位置Ｐ２）への外部気体の侵入が極力抑えられ、乾溜処理の妨げとなる不要なガスの発生が抑制されて乾溜生成物の品質劣化が抑制される。また、加熱部１２０へ被処理物Ｓを連続して投入可能であり、被処理物Ｓの処理効率を向上させることができる。また、第２実施形態の乾溜炉１０１では、加熱部１２０の加熱盤１２２として平板状のものが用いられているが、これに限定されず、第１実施形態と同様に、凹凸形状の加熱盤を用いてもよい。例えば、図２（Ａ）及び（Ｂ）に示すような、半円部６３や半楕円部７３が設けられた加熱盤を用いてもよい。
【００４４】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良などは本発明の含まれるものである。例えば、加熱盤の断面の凹凸形状については、半円形状又は楕円形状としているが、これに限定されず、波形やのこぎり形状など各種の形状が適用可能である。また、半円部６３や半楕円部７３を適宜組み合わせてもよい。また、半円部６３や半楕円部７３は格子状の溝であってもよい。さらに、半円部６３や半楕円部７３は、溝状に限定されず、半円部６３や半楕円部７３を散点させたものであってもよい。また、加熱盤の断面の凹凸形状は、加熱盤の全面にわたって形成することに限定されず、一部分に形成されるものであってもよい。
【符号の説明】
【００４５】
１，１０１    乾溜炉
１１，１１１  ホッパ
１２  第一プッシャ
２０，１２０  加熱部
２１，６１，７１，１２１  加熱室
２２，６２，７２，１２２  加熱盤
２３，１２３  導入管
２４，１２４  排気管
２５，１２５  導出管
２６  燃焼機
３０  搬送室
３１  第一エレベータ
３２  トレイ
３３  回転軸
３４  第二プッシャ３４
３６  第二エレベータ
３７  回帰トレイ
４０，１４０  冷却回収部
４２  底部
６３  半円部
６４，７４  焦点
７３  半楕円部
１０２  底面部
１０３  外側筒状部
１０４  内側筒状部
１０５  仕切りローラー
１０６  シリンダ装置
Ｓ  被処理物
Ｍ，Ｍ１  搬送パン
Ｍａ  側面部
Ｍｂ  開放端
Ｗ  貯留水
Ｄ１  第一ダンパ
Ｄ２  第二ダンパ
Ｄ３  第三ダンパ
Ｐ１  供給位置
Ｐ２  加熱位置
Ｐ３  待機位置
Ｐ４  回収位置
Ｐ５  復路位置
Ｐ６  待機位置
【図１】
2014024948.tif 000003
【図２】
2014024948.tif 000004
【図３】
2014024948.tif 000005
【図４】
2014024948.tif 000006