(57)【要約】【課題】複数の電子放出源１と、この複数の電子放出源１にそれぞれ対応して設けられた複数の放射線発生ターゲット１０と、電子放出源１から放出された電子が通過する開口８ｂを複数の電子放出源１に対応して備えた中間電極３と、複数の電子放出源１のうちの選択された一の電子放出源１から電子を放出させる選択駆動回路と、放射線発生ターゲット１０と電子放出源１の電位差を規定する電圧源と、中間電極３の電位を規定する中間電極電位規定手段を有するマルチ放射線発生管において、得られる複数の放射線の強度分布を均一化できるようにする。【解決手段】複数の電子放出源１のそれぞれについて、放射線発生ターゲット１０への所定の電子の照射状態を得るための中間電極３の静電制御条件を記憶する記憶手段と、選択駆動回路で選択された電子放出源１からの電子の放出時に、選択された電子放出源１について記憶手段に記憶された静電制御条件に基づいて中間電極３の静電制御条件を変更する変更手段とを設ける。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電子放出源と、該複数の電子放出源にそれぞれ対応して設けられた複数の放射線発生ターゲットと、前記電子放出源と前記放射線発生ターゲットの間に位置し、前記電子放出源から放出された電子が通過する開口を前記複数の電子放出源に対応して備えた中間電極と、前記複数の電子放出源のうちの選択された一の電子放出源から電子を放出させる選択駆動回路と、前記放射線発生ターゲットと前記電子放出源の電位差を規定する電圧源と、前記中間電極の電位を規定する中間電極電位規定手段を有するマルチ放射線発生管において、
前記複数の電子放出源のそれぞれについて、前記放射線発生ターゲットへの所定の電子の照射状態を得るための前記中間電極の静電制御条件を記憶する記憶手段と、前記選択駆動回路で選択された電子放出源からの電子の放出時に、前記選択された電子放出源について前記記憶手段に記憶された静電制御条件に基づいて前記中間電極の静電制御条件を変更する変更手段とを有することを特徴とするマルチ放射線発生管。
【請求項２】
前記中間電極の静電制御条件が、各電子放出源からの電子を照射した時の放射線焦点の大きさを一定にする条件であることを特徴とする請求項１に記載のマルチ放射線発生管。
【請求項３】
前記中間電極の静電制御条件が、前記中間電極に付与する電位であることを特徴とする請求項１又は２に記載のマルチ放射線発生管。
【請求項４】
前記変更手段が、前記中間電極に付与る電位を切り替えるためのスイッチング回路であることを特徴とする請求項３に記載のマルチ放射線発生管。
【請求項５】
前記中間電極の静電制御条件が、前記中間電極と前記電子放出源との間の距離であることを特徴とする請求項１又は２に記載のマルチ放射線発生管。
【請求項６】
前記変更手段が、前記中間電極と前記電子放出源との間の距離を変えるための圧電素子であることを特徴とする請求項５に記載のマルチ放射線発生管。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のマルチ放射線発生管と、該マルチ放射線発生管から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、前記マルチ放射線発生管と前記放射線検出装置とを連携制御する制御装置とを備えていることを特徴とする放射線撮影システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば医療機器、非破壊検査装置等に適用できるマルチ放射線発生管及びそれを用いた放射線撮影システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、放射線発生管は、電子放出源から放出される電子を高エネルギに加速し、所望の形状の電子ビームを成形した後に、放射線発生ターゲットに照射して放射線を発生させている。
【０００３】
従来、電子放出源と放射線発生ターゲットとをそれぞれ複数用い、複数の放射線を発生させることができるマルチ放射線発生管が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２６５９８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、マルチ放射線発生管において発生する複数の放射線の強度分布は、それぞれの放射線焦点の大きさに依存し、各放射線焦点の大きさは各電子放出源の特性に依存する。複数の電子放出源の特性が一様でない場合、それぞれの電子放出源に対応して放出される放射線の強度分布の一様性が保たれない。その結果、例えばこれを放射線撮影システムに利用した場合、撮影された画像のコントラストの均一性が低下する等、画像全体としての画質の低下を招く。
【０００６】
本発明は、上記従来のマルチ放射線発生管の問題点に鑑みてなされたもので、マルチ放射線発生管で得られる複数の放射線の強度分布を均一化できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１は、上記目的のために、複数の電子放出源と、該複数の電子放出源にそれぞれ対応して設けられた複数の放射線発生ターゲットと、前記電子放出源と前記放射線発生ターゲットの間に位置し、前記電子放出源から放出された電子が通過する開口を前記複数の電子放出源に対応して備えた中間電極と、前記複数の電子放出源のうちの選択された一の電子放出源から電子を放出させる選択駆動回路と、前記放射線発生ターゲットと前記電子放出源の電位差を規定する電圧源と、前記中間電極の電位を規定する中間電極電位規定手段を有するマルチ放射線発生管において、
前記複数の電子放出源のそれぞれについて、前記放射線発生ターゲットへの所定の電子の照射状態を得るための前記中間電極の静電制御条件を記憶する記憶手段と、前記選択駆動回路で選択された電子放出源からの電子の放出時に、前記選択された電子放出源について前記記憶手段に記憶された静電制御条件に基づいて前記中間電極の静電制御条件を変更する変更手段とを有することを特徴とするマルチ放射線発生管を提供するものである。
【０００８】
また、本発明の第２は、上記本発明の第１に係るマルチ放射線発生管と、該マルチ放射線発生管から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、前記マルチ放射線発生管と前記放射線検出装置とを連携制御する制御装置とを備えていることを特徴とする放射線撮影システムを提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の放射線発生管によれば、中間電極の静電制御条件を変更することで、いずれの電子放出源を選択しても、放射線発生ターゲットへの電子の照射領域の大きさをほぼ一定とすることができる。このため、いずれの電子放出源を選択しても、電子線焦点の大きさがほぼ一定となり、得られる放射線の強度分布をほぼ一定に保つことができる。したがって、この本発明に係る放射線発生管を用いた放射線撮影システムによれば、撮影する画像の画質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係るマルチ放射線発生管の一例を示す構成図である。
【図２】本発明に係るマルチ放射線発生管における電位の付与方法を示す図で、（ａ）は電気回路図、（ｂ）は電位分布の説明図である。
【図３】中間電極により形成される等電位曲線によるレンズ作用の説明図である。
【図４】放射線焦点の大きさの測定方法の説明図である。
【図５】中間電極の電位と、電子放出源と引き出し電極の電位差のタイムチャートである。
【図６】中間電極に選択した電位を与えるスイッチング回路の説明図である。
【図７】中間電極の位置を制御する圧電素子の説明図である。
【図８】中間電極の位置と、電子放出源と引き出し電極の電位差のタイムチャートである。
【図９】本発明に係る放射線撮影システムの一例を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明に実施の形態を図面に基づいて説明する。以下に参照する図面において、同じ符号は同様の構成要素を示す。
【００１２】
本発明に係るマルチ放射線発生管の一例を説明する。
【００１３】
図１に示されるように、電子ビームを発生させる電子銃と、電子ビームを衝突させて放射線を発生させる放射線発生ターゲット１０とを備えている。
【００１４】
電子銃は、電子放出源（カソード）１と、電子放出源１から電子を引き出す強電界を印加するための引き出し電極２と、引き出した電子を収束させて電子ビームとする電界を印加するための中間電極３とを備えている。これらは真空容器７内に設けられている。電子銃を構成する電子放出源１としては、冷陰極型電子放出源、熱陰極型電子放出源等を適宜適用することが可能である。また、大電流の電子ビームを安定して取り出せる点では、例えば液体金属含浸型であって、ヒーター加熱による高温条件下で電子を引き出すタイプのものを好適に用いることができる。引き出し電極２と中間電極３は、例えばモリブデン等の導電性金属で構成することができる。中間電極３は、電子放出源１と放射線発生ターゲット１０の間に位置し、引き出し電極３は、電子放出源１と中間電極３の間に位置している。
【００１５】
放射線発生ターゲット１０は、放射線を透過させる材料からなる支持基板５上に、電子ビームの照射によって放射線を発生するターゲット層４を積層したものとなっている。放射線を透過させる支持基板５の構成材料としては、ベリリウムやダイヤモンドのような低原子番号材料が好ましい。ターゲット層４の構成材料としては、放射線の発生効率の点から、原子番号２６以上の重金属材料を用いることが好ましい。具体的には、タングステン、モリブデン、クロム、銅、コバルト、鉄、ロジウム又はレニウム若しくはこれらの合金材料を用いることができる。放射線発生ターゲット１０は、電子放出源１にターゲット層４を向けて、真空容器７を貫通して設けられた筒状の支持台６内の中空部の中間部を仕切るように設けられている。支持台６と放射線発生ターゲット１０は、真空容器７の壁面の一部をなしており、真空容器７内の真空気密保持に寄与している。
【００１６】
本発明のマルチ放射線発生管１００は、複数の電子線放出源１を有し、この複数の電子放出源１にそれぞれ対応して設けられた複数の放射線発生ターゲット１０を有している。また、引き出し電極２と中間電極３は、それぞれ電子放出源１から放出された電子が通過する開口８ａ，８ｂを複数の電子放出源１に対応して備えている。本例における引き出し電極２と中間電極３は、それぞれ単一の電極材料に複数の開口８ａと開口８ｂを形成したものとなっている。但し、引き出し電極２と中間電極３は、それぞれ複数の電子放出源１に対応して複数枚に分割したものとし、それぞれの分割片に開口８ａ，８ｂを形成しておくこともできる。
【００１７】
本発明のマルチ放射線発生管１００における電位の与え方の一例を図２に示す。図２に示される例においては、真空容器７は接地電位となっている。真空容器７と放射線発生ターゲット１０は同電位、すなわち接地電位である。また、放射線発生ターゲット１０と電子放出源１間の電位差を規定する電圧源９ａと、引き出し電極２の電位を規定する引き出し電極電位規定手段としての電圧源９ｂと、この電圧源９ｂと共に中間電極３の電位を規定する中間電極電位規定手段としての電圧源９ｃとを有している。電子ビームを加速して放射線発生ターゲット１０に衝突させるために、電子銃には負の電位を与える。電子放出源１と引き出し電極２と中間電極３と電子線発生ターゲット１０の各電位ＶK，ＶG1，ＶG2，ＶAの関係は、ＶK＜ＶG1＜ＶG2＜ＶAである。電子放出源１と引き出し電極２の電位差は５０〜５００Ｖ程度である。引き出し電極２と中間電極３の電位差は１〜１０ｋＶ程度である。電子放出源１と放射線発生ターゲット１０の電位差は１０〜１５０ｋＶ程度である。すなわち、電子放出源１から引き出された電子ビームは１０〜１５０ｋｅＶ程度のエネルギを持って放射線発生ターゲット１０のターゲット層４に衝突し放射線を発生させる。
【００１８】
本発明のマルチ放射線発生管１００は複数の放射線焦点を有するが、それら全てから同時に放射線を発生させることはなく、一個ずつ時分割で放射線を発生させる。すなわち、複数の電子放出源１のうちの選択された一の電子放出源１から電子を放出させる選択駆動回路を備えており、時分割で一個の放射線焦点に対してのみ電子ビームを衝突させるものとなっている。
【００１９】
本発明のマルチ放射線発生管１００に含まれる中間電極３は電子ビームに対して静電レンズとして作用する。図３にその様子を示す。中間電極３により形成される電界分布を調節することにより、電子ブームの放射線発生ターゲット１０への照射状態を制御することができる。具体的には、電子ビームが放射線発生ターゲット１０に衝突することによって得られる放射線焦点の大きさを制御することができる。ここで、放射線焦点とは、放射線の発生領域を言い、この放射線の発生領域は放射線発生ターゲット１０のターゲット層４への電子の照射領域である。この放射線焦点の大きさは、電子ビームの断面の大きさを調整することにより制御することができる。電子ビームの断面の大きさは、静電レンズとして作用する中間電極３の静電制御条件を変え、中間電極３が形成する電界分布を変化させることで調整することができる。
【００２０】
中間電極３の静電制御条件を変えることで中間電極３が形成する電界分布を調節する方法の１つは、中間電極３に与える電位を変化させることである。放射線発生ターゲット１０、電子放出源１及び引き出し電極２に与える電位に対して、中間電極３に与える電位を変化させれば、電子の飛翔方向に対する中間電極３の前後の電界分布が変化してそこを通過する電子ビームの軌道に影響を与える。そして、これによって電子ビームの断面の大きさを変動させることで、放射線焦点の大きさを制御することができる。
【００２１】
中間電極３の静電制御条件を変えることで中間電極３が形成する電界分布を調節する方法のもう１つは、中間電極３の位置を電子の飛翔方向に対して前後に変化させることである。放射線発生ターゲット１０と中間電極３との距離、引き出し電極２と中間電極３との距離を変化させれば、電子の飛翔方向に対する中間電極３の前後の電界分布が変化してそこを通過する電子ビームの軌道に影響を与える。そして、これによって電子ビームの断面の大きさを変動させることで、放射線焦点の大きさを制御することができる。
【００２２】
中間電極３に与えるべき電位条件又は位置条件は、中間電極３の電位又は位置と放射線焦点の大きさとの関係から確定できる。中間電極３に与える静電制御条件を変化させて放射線焦点の大きさ（径）を測定することにより、その関係を明らかにすることができる。放射線焦点の大きさを測定する方法は、図４にその概略を示すように、ピンホールレンズ１２と放射線イメージセンサ１１を使用する方法がある。放射線焦点と放射線イメージセンサ１１の間にピンホールレンズ１２を配置し、放射線焦点から放射線を放射させれば、放射線イメージセンサ１１への放射線の照射領域は放射線焦点を拡大投影した相似形状となっている放射線イメージセンサ１１への放射線の照射領域を検出すれば放射線焦点の大きさを測定することができる。このようにして、複数の電子放出源１のそれぞれについて、中間電極３に与える静電制御条件と放射線焦点の大きさとの関係を明らかにして、それを記憶手段にて記憶する。本発明に係るマルチ放射線発生管１００を、前記選択駆動回路で選択された電子放出源１から電子を放出させて駆動する時に、選択された電子放出源１について記憶手段に記憶された静電制御条件を読みだすことで、通関電極３の静電制御条件を適切な条件に制御することができる。つまり、駆動される電子放出源１に応じた静電制御条件を中間電極３に付与することで、いずれの電子放出源１が作動した場合でも放射線焦点の大きさを一定に保持することができる。
【００２３】
上記静電制御条件の設定とそれに基づく制御について更に具体的に説明する。
【００２４】
３個の放射線発生ターゲット１０から順次放射線を発生させる時に、それぞれを駆動している期間に中間電極３に与える電位条件を変化させて、それぞれの放射線焦点の大きさを制御する例（第１の例）を説明する。放射線発生ターゲット１０と電子放出源１はそれぞれ３個あり、一対一に対応して設けられているものとする。引き出し電極２と中間電極３はそれぞれ１枚ずつで、３個の電子放出源１からの電子に対して共通に作用するものとする。
【００２５】
あらかじめ放射線発生ターゲット１０を接地電位とした時に、電子放出源１と引き出し電極２と中間電極３に与える電位条件を明らかにしておく。そのために、図４に示されるように、ピンホールレンズ１２と放射線イメージセンサ１１を使用して、電位条件を変化させながら放射線焦点の大きさを測定する。得られた電位条件の組合せを記憶手段に記憶しておく。この測定は、例えば電子放出源１と放射線発生ターゲット１０間の電位差を１０〜１５０ｋＶ程度の範囲内で一定値とし、放射線発生ターゲット１０を接地した電位条件下で行うことができる。
【００２６】
放射線焦点の大きさの測定例を説明する。放射線発生ターゲット１０に電子ビームを衝突させることで放射線を発生させる。発生させる放射線の特性は電子ビームの特性により決まる。この電子ビームの特性を決めるのは、電子放出源１、引き出し電極２及び中間電極３に与える電位である。放射線強度は、放射線発生ターゲット１０に衝突する電流で決まる。この電流は電子放出時の電子放出源１と引き出し電極２間の電位差で決まる。放射線焦点の大きさは、電子ビームが放射線発生ターゲット１０に衝突する広さ（電子ビームの太さ）によって決まる。電子ビームの太さは、電流量及び中間電極３に与える電位条件によって決まる。
【００２７】
初めに放射線強度を決めるために、電子放出源１と引き出し電極２の電位差を変化させて、電子ビームの電流量を必要な値に合わせる。例えば、必要な電流を５〜３０ｍＡ程度とした場合、マルチ放射線発生管１００の構造や大きさにもよるが、そのときの電子放出源１と引き出し電極２の電位差は５０〜５００Ｖ程度とすることができる。
【００２８】
次に放射線焦点の大きさを決める。先に決めた電子放出源１と引き出し電極２の電位差に対して中間電極３に与える電位を変化させて、そのとき発生する放射線を図４に示されるピンホールレンズ１２に通して放射線イメージセンサ１１に投影し、放射線イメージセンサ１１で放射線焦点の大きさを測定する。図４に示すように、放射線イメージセンサ１１で測定できる放射線焦点の拡大像は、放射線焦点と相似形である。その相似比は、放射線発生ターゲット１０とポンホールレンズ１２のピンホール１３間の距離と、ピンホールと１３放射線イメージセンサ１１間の距離との比に等しい。よって放射線イメージセンサ１１で測定した放射線焦点の拡大像から放射線焦点の大きさを知ることができる。例えば、必要な放射線焦点の大きさ（径）を０．２〜１ｍｍ程度とし、そのときの中間電極３と電子放出源１の電位差を１〜１０ｋＶ程度とし、このときの中間電極３に与える電位条件及び電子放出源１と引き出し電極３の電位条件を記憶手段に記憶しておく。
【００２９】
一の放射線発生ターゲット１０に対応した一の電子放出源１を選択駆動回路で選択して駆動し、当該電子放出源１から電子ビームを引き出すことにより、その放射線発生ターゲット１０から放射線を発生させることができる。この時、他の放射線発生ターゲット１０から放射線を発生させない。
【００３０】
図５のタイムチャートで電位の印加状況を説明する。なお、図５においては３個の電子放出源１として電子放出源Ａ〜Ｃを用いたものとする。放射線を発生させない放射線発生ターゲット１０に対応した電子放出源１に与える電位と引き出し電極２に与える電位の関係は、（引き出し電極２の電位）＜（電子放出源１の電位）となるようにする。これにより電子ビームが出ないようにしておく。図５の電子放出源Ａの駆動期間においては、電子放出源Ｂ及び電子放出源Ｃと引き出し電極２に与える電位の関係は、（引き出し電極２の電位）＜（電子放出源Ｂ及び電子放出源Ｃの電位）となっている。放射線を発生させる放射線発生ターゲット１０に対応した電子放出源１に与える電位と引き出し電極２に与える電位の関係は（引き出し電極２の電位）＞（電子放出源１の電位）となるようにする。これにより電子ビームを引き出す。図５の電子放出源Ａの駆動期間においては、電子放出源Ａと引き出し電極２に与える電位の関係は、（引き出し電極２の電位）＞（電子放出源Ａの電位）となっている。このとき電子放出源Ａに与える電位は記憶手段から読み出して決定する。
【００３１】
引き出した電子ビームが放射線発生ターゲット１０に衝突する時のビーム径を制御するために、中間電極３に電位を与える。このとき与える電位は記憶手段から読み出して決定する。中間電極３は３個の電子放出源１に共通して作用する構造になっているが、１個の電子放出源１から電子ビームを引き出しているため、その電子放出源１の電子ビームの放出条件に合った電位条件を中間電極３に与えればよい。すなわち、図５のタイムチャートに示すように、電子放出源Ａから電子ビームを放出させる時にはそれに対応した中間電極電位φAを与え、電子放出源Ｂ又はＣから電子ビームを放出させる時はそれぞれ中間電極電位φB又はφCを与える。中間電極３の静電制御条件の変更は変更手段によって行われる。この変更手段としては、例えば図６に示されるようなスイッチング回路１４を用いることができる。このようなスイッチング回路１４を用い、電子放出源１の駆動の切り替えに追従できるようにする。これにより３個の電子放出源１を時分割で１個ずつ駆動したときに、それぞれに対応する中間電極３の電位を与えることができ、電子ビームそれぞれを必要な特性に合わせることができる。
【００３２】
次に、複数の放射線発生ターゲット１０から順次放射線を発生させて、それぞれを駆動している期間に中間電極３に与える位置条件を変化させて、それぞれの放射線焦点の大きさを制御する例（第２の例）を説明する。放射線発生ターゲット１０と電子線発生源１はそれぞれ同数あり一対一で対応しているものとする。引き出し電極２と中間電極３はそれぞれ１枚であり、複数の電子放出源１に対して共通に作用するものとする。マルチ放射線発生管１００の構成及び放射線焦点の大きさの測定方法は、前記した第１の例と同様である。
【００３３】
本例では中間電極の位置を変更することにより放射線焦点径を必要な値に合わせる。前記第１の例と同様に、初めに電子放出源１と引き出し電極２の電位差を変化させて、電子ビームの電流量を必要な値に合わせる。そして、その条件下で中間電極３の位置を変化させて、そのとき発生する放射線焦点の大きさを測定する。放射線焦点の大きさの測定方法は前記したとおりである。必要な放射線焦点の大きさが得られるときの中間電極３の位置情報を記憶装置に記憶しておく。中間電極３の位置変化の一例としては、中間電極３の厚みを１〜５ｍｍ程度とした場合、放射線発生ターゲット１０との間隔を５〜５０ｍｍ程度、引き出し電極２との間隔を１〜１０ｍｍ程度とする範囲内で変化させることができる。
【００３４】
前記第１の例と同様に一の放射線発生ターゲット１０に対応した一の電子放出源１だけから電子ビームを引き出すことにより、その放射線発生ターゲット１０から放射線を発生させることができる。電子放出源１と引き出し電極２に与える電位は第１の例と同様である。
【００３５】
引き出した電子ビームが放射線発生ターゲット１０に衝突する時の電子ビーム径を制御するために、中間電極３の位置を変更する。このときの位置情報は記憶手段から読み出して決定する。中間電極３の位置を変更するための変更手段としては、図７に示す圧電素子１５を用いることができる。圧電素子１５は、電子ビームの飛翔方向と平行なＸ方向に伸縮し、Ｘ方向に沿って中間電極３を動かす。これによって中間電極３と引き出し電極２の相対位置が移動する。中間電極３は複数の電子発生源１に共通して作用する構造になっているが、１個の電子放出源１から電子ビームを引き出しているため、その電子放出源１の電子ビームの放出条件に合うように中間電極３の位置を決めればよい。すなわち、図８に示すように、電子放出源Ａから電子ビームを放出させる時にはそれに対応した中間電極３に位置ＸAを与え、電子放出源Ｂ又はＣから電子ビームを放出させる時はそれぞれ中間電極３に位置ＸB又はＸCを与える。これにより複数の電子放出部１を時分割で１個ずつ駆動した時に、それぞれに対応するように中間電極３の位置を決めることができ、電子ビームそれぞれを必要な特性に合わせることができる。
【００３６】
図９は本発明の放射線撮影システムの構成図である。既に説明したマルチ放射線発生管１００は、その駆動を制御する放射線駆動回路１０４と共に放射線発生ユニット１０１内に組み込まれている。マルチ放射線発生管１００で発生した放射線は、放射線発生ユニット１０１の放射線透過窓１０２から外部に放出されるものとなっている。放射線発生ユニット１０１は、その放射線透過窓１６部分に設けられた可動絞りユニット１０３と共に放射線発生装置２００を構成している。可動絞りユニット１０３は、放射線発生ユニット１０１から照射される放射線の照射野の広さを調整する機能を有する。また、可動絞りユニット１０３として、放射線の照射野を可視光により模擬表示できる機能が付加されたものを用いることもできる。
【００３７】
システム制御装置２０２は、放射線発生装置２００のマルチ放射線発生管１００と放射線検出装置２０１とを連携制御する。放射線駆動回路１０４は、システム制御装置２０２による制御の下に、放射線発生管２０に各種の制御信号を出力する。この制御信号により、放射線発生装置２００から放出される放射線の放出状態が制御される。放射線発生装置２００から放出された放射線は、被検体２０４を透過して検出器２０６で検出される。検出器２０６は、検出した放射線を画像信号に変換して信号処理部２０５に出力する。信号処理部２０５は、システム制御装置２０２による制御の下に、画像信号に所定の信号処理を施し、処理された画像信号をシステム制御装置２０２に出力する。システム制御装置２０２は、処理された画像信号に基づいて、表示装置２０３に画像を表示させるための表示信号を表示装置２０３に出力する。表示装置２０３は、表示信号に基づく画像を、被検体２０４の撮影画像としてスクリーンに表示する。放射線の代表例はＸ線であり、本発明の放射線発生ユニット１０と放射線撮影システムは、Ｘ線発生ユニットとＸ線撮影システムとして利用することができる。Ｘ線撮影システムは、工業製品の非破壊検査や人体や動物の病理診断に用いることができる。
【符号の説明】
【００３８】
１：電子放出源、２：引き出し電極、３：中間電極、４：ターゲット層、５：支持基板、６：支持台、７：真空容器、８ａ，８ｂ：開口、９ａ，９ｂ，９ｃ：電圧源、１０：放射線発生ターゲット、１１：放射線イメージセンサ、１２：ピンホールレンズ、１３：ピンホール、２０１：放射線検出装置、２０２：システム制御装置、２０４：被検体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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