(57)【要約】【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。【解決手段】液浸部材は、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部と、を備える。第２上面側の第１空間は、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分と、光路に対して第１部分の外側に配置され、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分と、を含む。【選択図】図４
2014086456.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、
前記液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部と、を備え、
前記第２上面側の第１空間は、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１部分と、前記光路に対して前記第１部分の外側に配置され、前記第１部材と前記第２部材との間隙が前記第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分と、を含む液浸部材。
【請求項２】
前記第１空間において前記露光光の光路を囲むように配置される第１壁部を有し、
前記第２部分は、前記第１壁部によって規定される請求項１に記載の液浸部材。
【請求項３】
前記第１壁部は、前記第１下面及び前記第２下面の一方又は両方に配置される請求項２に記載の液浸部材。
【請求項４】
前記第１下面及び前記第２上面の一方又は両方に配置され、前記第１空間の液体の少なくとも一部を誘導する誘導部を備える請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項５】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、
前記液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部と、
前記第１下面及び前記第２上面の一方又は両方に配置され、前記第２上面側の第１空間の前記液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材。
【請求項６】
前記第１供給部からの前記液体の少なくとも一部が,前記第１下面の内側エッジと前記第２上面との間の開口を介して前記第１空間に流入する請求項４又は５に記載の液漬部材。
【請求項７】
前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動し、
前記誘導部は、前記液体の少なくとも一部を前記第２部材の移動方向と平行な方向に誘導する請求項４〜６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項８】
前記誘導部は、前記液体の少なくとも一部が前記露光光の光路から外側に向かうように誘導する請求項４〜７のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項９】
前記誘導部は、前記露光光の光路を囲むように配置される第２壁部と、前記第２壁部の一部に形成されるスリットとを有する請求項４〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２壁部は、前記第１下面及び前記第２上面の一方又は両方に配置される請求項９に記載の液浸部材。
【請求項１１】
前記第２上面側の第１空間に面し、前記第１空間に液体を供給する第２供給部を備え、
前記誘導部は、前記露光光の光路に対して前記第２供給部の外側に配置される請求項４〜１０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１２】
前記第２上面側の第１空間に面し、前記第１空間に液体を供給する第２供給部を備える請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１３】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、
前記液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部と、
前記第２上面側の第１空間に面し、前記第１空間に液体を供給する第２供給部と、を備える液浸部材。
【請求項１４】
前記第２供給部は、前記第１下面に配置される請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１５】
前記第２部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動する請求項１〜１４のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１６】
前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部を有し、
前記回収部の少なくとも一部は、前記露光光の光路に対して前記第２部分の外側に配置される請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１７】
前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部を有し、
前記回収部の少なくとも一部は、前記露光光の光路に対して前記誘導部の外側に配置される請求項４〜１０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１８】
前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部を有し、
前記回収部の少なくとも一部は、前記露光光の光路に対して前記第２供給部の外側に配置される請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１９】
前記回収部は、前記物体が対向可能な第１回収部と、前記第１空間に面する第２回収部と、を含む請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２０】
前記物体が対向可能であり、前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する第１回収部を有する請求項１〜１５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２１】
前記第１回収部は、前記第２下面側の第２空間からの液体の少なくとも一部を回収する請求項１９又は２０に記載の液浸部材。
【請求項２２】
前記第１回収部は、前記第２部材に対して相対移動可能である請求項１９〜２１のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２３】
前記第２部材が前記第１部材に対して移動する期間の少なくとも一部において、前記第１回収部は前記第１部材に対して移動可能である請求項１９〜２２のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２４】
前記第２部材が前記第１部材に対して移動する期間の少なくとも一部において、前記第１回収部は、前記第１部材に対する前記第２部材の相対速度よりも低い相対速度で前記第１部材に対して移動する請求項２３に記載の液浸部材。
【請求項２５】
前記第２部材が前記第１部材に対して移動する期間の少なくとも一部において、前記第１回収部は前記第１部材に対して実質的に静止する請求項２３又は２４に記載の液浸部材。
【請求項２６】
前記第２部材が前記第１部材に対して移動する期間の少なくとも一部において、前記第１回収部は前記第２部材と一緒に移動する請求項１９〜２５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２７】
前記第２部材の少なくとも一部は、前記第１回収部と対向する請求項１９〜２６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２８】
前記第１回収部は、前記第１部材に配置される請求項１９〜２７のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２９】
前記第１回収部は、前記第２部材に配置される請求項１９〜２８のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３０】
前記第１回収部は、前記第１空間からの液体の少なくとも一部も回収可能である請求項１９〜２９のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３１】
前記第１回収部は、前記第１空間の液体を回収しない請求項１９〜２９に記載の液浸部材。
【請求項３２】
前記第１回収部は、多孔部材を含む請求項１９〜３１のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３３】
前記第１空間に面し、前記第１空間の液体の少なくとも一部を回収可能な第２回収部を有する請求項１〜１５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３４】
前記第２回収部は、前記第１部材に配置される請求項１９又は３３に記載の液浸部材。
【請求項３５】
前記第２回収部は、多孔部材を含む請求項３３又は３４に記載の液浸部材。
【請求項３６】
前記第２上面の一部に接続され、駆動装置の作動によって移動する支持部材と、
前記第１空間に結ばれるように前記第１部材に形成され、前記支持部材の少なくとも一部が配置される貫通孔と、を有し、
前記第１空間に面する前記貫通孔の端部は、前記第１部分に面する請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３７】
前記第２上面の一部に接続され、駆動装置の作動によって移動する支持部材と、
前記第１空間に結ばれるように前記第１部材に形成され、前記支持部材の少なくとも一部が配置される貫通孔と、を有し、
前記第１空間に面する前記貫通孔の端部は、前記露光光の光路に対して前記誘導部の外側に配置される請求項４〜１０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３８】
前記第２上面の一部に接続され、駆動装置の作動によって移動する支持部材と、
前記第１空間に結ばれるように前記第１部材に形成され、前記支持部材の少なくとも一部が配置される貫通孔と、を有し、
前記第１空間に面する前記貫通孔の端部は、前記露光光の光路に対して前記第２供給部の外側に配置される請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３９】
前記第１部材は、前記露光光が通過可能な第１開口を有し、
前記第２部材は、前記露光光が通過可能な第２開口を有する請求項１〜３８のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４０】
前記液浸空間が形成されている状態において、前記第２部材は移動可能である請求項１〜３９のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４１】
前記液浸空間の液体が接触された状態で、前記第２部材は移動可能である請求項１〜３９のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４２】
前記射出面から前記露光光が射出される期間の少なくとも一部において、前記第２部材は移動可能である請求項１〜４１のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４３】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
請求項１〜４２のいずれか一項に記載の液浸部材を備える露光装置。
【請求項４４】
前記物体は、前記基板を含み、
前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動後、第２経路を移動し、
前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、
前記第２部材は、前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第３方向に移動する請求項４３に記載の露光装置。
【請求項４５】
前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光が照射され、前記第２経路を移動するときに前記露光光が照射されない請求項４４に記載の露光装置。
【請求項４６】
前記基板は、前記第２経路を移動した後に、第３経路を移動し、
前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
前記第２部材は、前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記第２方向の反対の第４方向に移動する請求項４４又は４５に記載の露光装置。
【請求項４７】
前記物体は、前記基板を保持して移動する基板ステージを含む請求項４３〜４６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４８】
請求項４３〜４７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項４９】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、及び液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部を含み、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１部分と前記光路に対して前記第１部分の外側に配置され前記第１部材と前記第２部材との間隙が前記第１寸法よりも小さい第２部分とが前記第２上面側の第１空間において形成された液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
【請求項５０】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部及び前記第１下面及び前記第２上面の一方又は両方に配置され前記第２上面側の第１空間の前記液体の少なくとも一部を誘導する誘導部を含む液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
【請求項５１】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部、及び前記第２上面側の第１空間に面し前記第１空間に液体を供給する第２供給部を含む液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を含む露光方法。
【請求項５２】
請求項４９〜５１のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項５３】
コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、及び液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部を含み、前記第１部材と前記第２部材との間隙が第１寸法の第１部分と前記光路に対して前記第１部分の外側に配置され前記第１部材と前記第２部材との間隙が前記第１寸法よりも小さい第２部分とが前記第２上面側の第１空間において形成された液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
【請求項５４】
コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部、及び前記第１下面及び前記第２上面の一方又は両方に配置され前記第２上面側の第１空間の前記液体の少なくとも一部を誘導する誘導部を含む液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
【請求項５５】
コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部、及び前記第２上面側の第１空間に面し前記第１空間に液体を供給する第２供給部を含む液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動することと、を実行させるプログラム。
【請求項５６】
請求項５３〜５５のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第７８６４２９２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、露光光の光路の液体中に異物（気泡、パーティクルなど）が存在すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部と、を備え、第２上面側の第１空間は、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分と、光路に対して第１部分の外側に配置され、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２寸法の第２部分と、を含む液浸部材が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部と、第１下面及び第２上面の一方又は両方に配置され、第２上面側の第１空間の液体の少なくとも一部を誘導する誘導部と、を備える液浸部材が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部と、第２上面側の第１空間に面し、第１空間に液体を供給する第２供給部と、を備える液浸部材が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１、第２、及び第３のいずれか一つの態様の液浸部材を備える露光装置が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、第４の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、及び液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部を含み、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分と光路に対して第１部分の外側に配置され第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２部分とが第２上面側の第１空間において形成された液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部及び第１下面及び第２上面の一方又は両方に配置され第２上面側の第１空間の液体の少なくとも一部を誘導する誘導部を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。
【００１３】
本発明の第８の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部、及び第２上面側の第１空間に面し第１空間に液体を供給する第２供給部を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を含む露光方法が提供される。
【００１４】
本発明の第９の態様に従えば、第６、第７、及び第８のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１５】
本発明の第１０の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、及び液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部を含み、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分と光路に対して第１部分の外側に配置され第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２部分とが第２上面側の第１空間において形成された液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１６】
本発明の第１１の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部、及び第１下面及び第２上面の一方又は両方に配置され第２上面側の第１空間の液体の少なくとも一部を誘導する誘導部を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１７】
本発明の第１２の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部、及び第２上面側の第１空間に面し第１空間に液体を供給する第２供給部を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１８】
本発明の第１３の態様に従えば、第１０、第１１、及び第１２のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図４】第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を示す図である。
【図５】第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。
【図６】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す分解斜視図である。
【図７】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す分解斜視図である。
【図８】第１実施形態に係る第１部材の一例を示す図である。
【図９】第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。
【図１０】第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。
【図１１】第１実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための模式図である。
【図１２】第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための模式図である。
【図１３】第２実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１４】第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１５】第４実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図１６】第４実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図１７】第４実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１８】第４実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。
【図１９】第４実施形態に係る液浸部材の一例を示す斜視図である。
【図２０】第４実施形態に係る第１部材を下方から見た図である。
【図２１】液浸部材の一例を示す図である。
【図２２】液浸部材の一例を示す図である。
【図２３】基板ステージの一例を示す図である。
【図２４】デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００２２】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００２３】
本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。
【００２４】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。
【００２５】
また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０とを備えている。防振装置１０は、ばね装置などを含む。本実施形態において、防振装置１０は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム及び基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムの一方又は両方が基準フレーム８Ａに支持されてもよい。
【００２６】
また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９を備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材５、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。
【００２７】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００２８】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００２９】
照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００３０】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１１は、リニアモータを含んでもよい。
【００３１】
投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影光学系ＰＬは、縮小系である。投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／４である。なお、投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／５、又は１／８等でもよい。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。
【００３２】
投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ方向を向いている。射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。射出面１２は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面１２は、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。
【００３３】
終端光学素子１３の光軸と平行な方向に関して、射出面１２側が−Ｚ側であり、入射面側が＋Ｚ側である。投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向に関して、投影光学系ＰＬの像面側が−Ｚ側であり、投影光学系ＰＬの物体面側が＋Ｚ側である。
【００３４】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。
【００３５】
基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。Ｚ軸方向に関して、射出面１２と第１保持部に保持された基板Ｐの上面との距離は、射出面１２と第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しい。なお、Ｚ軸方向に関して、射出面１２と基板Ｐの上面との距離が射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しいとは、射出面１２と基板Ｐの上面との距離と射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離との差が、基板Ｐの露光時における射出面１２と基板Ｐの上面との距離（所謂、ワーキングディスタンス）の例えば１０％以内であることを含む。なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。例えば、Ｚ軸方向に関して、基板Ｐの上面との位置とカバー部材Ｔの上面の位置とが異なってもよい。例えば、基板Ｐの上面とカバー部材Ｔの上面との間に段差があってよい。なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよいし、カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。
【００３６】
基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１５は、リニアモータを含んでもよい。
【００３７】
計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットを含む。なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。
【００３８】
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。
【００３９】
次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。なお、液浸部材を、ノズル部材、と称してもよい。図２は、ＸＺ平面と平行な液浸部材５の断面図である。図３は、図２の一部を拡大した図である。図４は、液浸部材５の動作の一例を示す図である。図５は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。図６及び図７は、液浸部材５の分解斜視図である。
【００４０】
液浸部材５は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。
【００４１】
終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能である。その物体は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、液浸部材５の下方で移動可能であり、液浸部材５と対向可能である。本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば基板ステージ２のカバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。基板Ｐの露光において、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００４２】
以下の説明においては、物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。
【００４３】
液浸空間ＬＳは、２つの物体を跨ぐように形成される場合がある。例えば、液浸空間ＬＳは、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように形成される場合がある。液浸空間ＬＳは、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。
【００４４】
液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。
【００４５】
液浸部材５は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１と、第１部材２１の下方において光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される第２部材２２とを備えている。第２部材２２は、第１部材２１に対して可動である。
【００４６】
液浸空間ＬＳが形成されている状態において、第２部材２２は移動可能である。液浸空間ＬＳの液体ＬＱが接触された状態で、第２部材２２は移動可能である。液浸空間ＬＳに配置された状態において、第２部材２２は移動可能である。
【００４７】
第１部材２１は、第２部材２２よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置される。なお、第２部材２２は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置されなくてもよい。
【００４８】
第１部材２１は、−Ｚ方向を向く下面２３を有する。第２部材２２は、＋Ｚ方向を向く上面２５と、−Ｚ方向を向く下面２６とを有する。
【００４９】
第２部材２２は、下面２３に対向可能である。第２部材２２の上面２５の少なくとも一部は、下面２３と間隙を介して対向する。上面２５の少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。なお、上面２５が射出面１２と対向しなくてもよい。
【００５０】
基板Ｐ（物体）は、下面２６に対向可能である。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、下面２６と間隙を介して対向する。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。
【００５１】
Ｚ軸方向において、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法は、基板Ｐの上面と下面２６との間隙の寸法よりも大きい。なお、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と下面２６との間隙の寸法と実質的に等しくてもよい。なお、基板Ｐ（物体）の上面と射出面１２との間隙の寸法が、基板Ｐの上面と下面２６との間隙の寸法よりも小さくてもよい。
【００５２】
上面２５側に第１空間ＳＰ１が形成される。第１空間ＳＰ１は、下面２３と上面２５との間の空間を含む。下面２６側に第２空間ＳＰ２が形成される。第２空間ＳＰ２は、下面２６と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間を含む。
【００５３】
Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法は、第２空間ＳＰ２の寸法よりも小さい。なお、Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法が、第２空間ＳＰ２の寸法と実質的に等しくてもよいし、第２空間ＳＰ２の寸法よりも大きくてもよい。
【００５４】
上面２５は、液体ＬＱに対して撥液性である。本実施形態において、上面２５は、フッ素を含む樹脂の膜の表面を含む。上面２５は、ＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）の膜の表面を含む。なお、上面２５が、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）の膜の表面を含んでもよい。液体ＬＱに対する上面２５の接触角は、９０度よりも大きい。なお、液体ＬＱに対する上面２５の接触角が、１００度よりも大きくてもよいし、１１０度よりも大きくてもよいし、１２０度よりも大きくてもよい。
【００５５】
上面２５が液体ＬＱに対して撥液性であるため、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱに気体部分が生成されたり、液体ＬＱに気泡が混入したりすることが抑制される。
【００５６】
なお、液体ＬＱに対する上面２５の接触角が、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも大きくてもよい。なお、液体ＬＱに対する上面２５の接触角が、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも小さくてもよい。なお、液体ＬＱに対する上面２５の接触角が、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角と実質的に等しくてもよい。
【００５７】
なお、上面２５が液体ＬＱに対して親液性でもよい。液体ＬＱに対する上面２５の接触角が、９０度よりも小さくてもよいし、８０度よりも小さくてもよいし、７０度よりも小さくてもよい。これにより、第１空間ＳＰ１において液体ＬＱが円滑に流れる。
【００５８】
なお、下面２３が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。例えば、下面２３及び上面２５の両方が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。液体ＬＱに対する下面２３の接触角は、９０度よりも大きくてもよいし、１００度よりも大きくてもよいし、１１０度よりも大きくてもよいし、１２０度よりも大きくてもよい。
【００５９】
なお、下面２３が液体ＬＱに対して撥液性で、上面２５が液体ＬＱに対して親液性でもよい。液体ＬＱに対する下面２３の接触角が、液体ＬＱに対する上面２５の接触角よりも大きくてもよい。
【００６０】
なお、下面２３が液体ＬＱに対して親液性でもよい。例えば、下面２３及び上面２５の両方が液体ＬＱに対して親液性でもよい。液体ＬＱに対する下面２３の接触角は、９０度よりも小さくてもよいし、８０度よりも小さくてもよいし、７０度よりも小さくてもよい。
【００６１】
なお、下面２３が液体ＬＱに対して親液性で、上面２５が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。液体ＬＱに対する下面２３の接触角が、液体ＬＱに対する上面２５の接触角よりも小さくてもよい。
【００６２】
本実施形態において、下面２６は、液体ＬＱに対して親液性である。液体ＬＱに対する下面２６の接触角が、９０度よりも小さくてもよいし、８０度よりも小さくてもよいし、７０度よりも小さくてもよい。本実施形態において、液体ＬＱに対する下面２６の接触角は、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも小さい。なお、液体ＬＱに対する下面２６の接触角は、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも大きくてもよいし、実質的に等しくてもよい。
【００６３】
第１部材２１は、終端光学素子１３の側面１３Ｆと対向する内側面２８と、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して外側を向く外側面２９とを有する。第２部材２２は、外側面２９と間隙を介して対向する内側面３０を有する。
【００６４】
第１部材２１の内側面２８は、終端光学素子１３の側面１３Ｆと間隙を介して対向する。内側面２８側に第３空間ＳＰ３が形成される。第３空間ＳＰ３は、側面１３Ｆと内側面２８との間の空間を含む。
【００６５】
終端光学素子１３の側面１３Ｆは、射出面１２の周囲に配置される。側面１３Ｆは、露光光ＥＬを射出しない非射出面である。露光光ＥＬは、射出面１２を通過し、側面１３Ｆを通過しない。
【００６６】
本実施形態において、下面２３は、ＸＹ平面と実質的に平行である。上面２５も、ＸＹ平面と実質的に平行である。下面２６も、ＸＹ平面と実質的に平行である。すなわち、下面２３と上面２５とは、実質的に平行である。上面２５と下面２６とは、実質的に平行である。
【００６７】
なお、下面２３が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２３は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【００６８】
なお、上面２５が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。上面２５は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【００６９】
なお、下面２６が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２６は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【００７０】
なお、下面２３と上面２５とは、平行でもよいし、非平行でもよい。上面２５と下面２６とは、平行でもよいし、非平行でもよい。下面２３と下面２６とは、平行でもよいし、非平行でもよい。
【００７１】
第１部材２１は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３４を有する。第２部材２２は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３５を有する。開口３４の内側に終端光学素子１３の少なくとも一部が配置される。開口３４の下端の周囲に下面２３が配置される。開口３５の上端の周囲に上面２５が配置される。開口３５の下端の周囲に下面２６が配置される。
【００７２】
本実施形態において、光路Ｋに面する開口３５を規定する第２部材２２の内面３５Ｕの少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。これにより、第２部材２２の内面３５Ｕが液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材２２は円滑に移動可能である。また、第２部材２２の内面３５Ｕが液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材２２が移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動することが抑制される。
【００７３】
ＸＹ平面内における開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。Ｘ軸方向に関して、開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。Ｙ軸方向に関して、開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。本実施形態において、射出面１２の直下に第１部材２１は配置されない。第１部材２１の開口３４は、射出面１２の周囲に配置される。開口３４は、射出面１２より大きい。終端光学素子１３の側面１３Ｆと第１部材２１との間に形成された間隙の下端は、第２部材２２の上面２５に面する。第２部材２２の開口３５は、射出面１２と対向するように配置される。本実施形態において、ＸＹ平面内における開口３５の形状は、長方形状である。開口３５は、Ｘ軸方向に長い。なお、開口３５の形状は、Ｘ軸方向に長い楕円形でもよいし、Ｘ軸方向に長い多角形でもよい。
【００７４】
なお、開口３４の寸法が開口３５の寸法よりも小さくてもよい。なお、開口３４の寸法が開口３５の寸法と実質的に等しくてもよい。
【００７５】
第１部材２１は、終端光学素子１３の周囲に配置される。第１部材２１は、環状の部材である。第１部材２１は、終端光学素子１３に接触しないように配置される。第１部材２１と終端光学素子１３との間に間隙が形成される。第１部材２１は、射出面１２と対向しない。なお、第１部材２１の一部が、射出面１２と対向してもよい。すなわち、第１部材２１の一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。なお、第１部材２１は環状でなくてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲において複数配置されてもよい。
【００７６】
第２部材２２は、光路Ｋの周囲に配置される。第２部材２２は、環状の部材である。第２部材２２は、第１部材２１に接触しないように配置される。第２部材２２と第１部材２１との間に間隙が形成される。
【００７７】
第１部材２１は、支持部材２１Ｓを介して装置フレーム８Ｂに支持される。なお、第１部材２１が支持部材を介して基準フレーム８Ａに支持されてもよい。
【００７８】
第２部材２２は、支持部材２２Ｓを介して装置フレーム８Ｂに支持される。支持部材２２Ｓは、光路Ｋに対して第１部材２１の外側で第２部材２２に接続される。なお、第１部材２１が支持部材を介して基準フレーム８Ａに支持されていてもよい。
【００７９】
第２部材２２は、第１部材２１に対して移動可能である。第２部材２２は、終端光学素子１３に対して移動可能である。第２部材２２と第１部材２１との相対位置は、変化する。第２部材２２と終端光学素子１３との相対位置は、変化する。
【００８０】
第２部材２２は、終端光学素子１３の光軸と垂直なＸＹ平面内において移動可能である。第２部材２２は、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。図４に示すように、本実施形態において、第２部材２２は、少なくともＸ軸方向に移動可能である。なお、第２部材２２が、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。 
【００８１】
本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１も、実質的に移動しない。
【００８２】
第２部材２２は、第１部材２１の少なくとも一部の下方で移動可能である。第２部材２２は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。
【００８３】
第２部材２２がＸＹ平面内において移動することにより、第１部材２１の外側面２９と第２部材２２の内側面３０との間隙の寸法が変化する。換言すれば、第２部材２２がＸＹ平面内において移動することによって、外側面２９と内側面３０との間の空間の大きさが変化する。例えば、図４に示す例では、第２部材２２が−Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外側面２９と内側面３０との間隙の寸法が小さくなる（外側面２９と内側面３０との間の空間が小さくなる）。第２部材２２が＋Ｘ方向に移動することにより、終端光学素子１３に対して＋Ｘ側における外側面２９と内側面３０との間隙の寸法が大きくなる（外側面２９と内側面３０との間の空間が大きくなる）。本実施形態においては、第１部材２１（外側面２９）と第２部材２２（内側面３０）とが接触しないように、第２部材２２の移動可能範囲（可動範囲）が定められる。
【００８４】
本実施形態において、第２部材２２は、駆動装置３２によって移動する。駆動装置３２は、第１部材２１に対して第２部材２２を移動可能である。駆動装置３２は、制御装置６に制御される。
【００８５】
本実施形態において、駆動装置３２は、支持部材２２Ｓを移動する。支持部材２２Ｓが駆動装置３２により移動されることにより、第２部材２２が移動する。駆動装置３２は、例えばモータを含み、ローレンツ力を使って第２部材２２を移動する。
【００８６】
駆動装置３２は、支持部材３２Ｓを介して、装置フレーム８Ｂに支持される。第２部材２２は、支持部材２２Ｓ、駆動装置３２、及び支持部材３２Ｓを介して、装置フレーム８Ｂに支持される。第２部材２２の移動により振動が発生しても、防振装置１０によって、その振動が基準フレーム８Ａに伝達されることが抑制される。
【００８７】
第２部材２２は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。
【００８８】
第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。
【００８９】
第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動方向に移動されてもよい。例えば、基板Ｐが移動される期間の少なくとも一部において、第２部材２２は、基板Ｐの移動方向に移動されてもよい。例えば、基板ＰがＸＹ平面内における一方向（例えば＋Ｘ方向）に移動されるとき、第２部材２２は、その基板Ｐの移動と同期して、ＸＹ平面内における一方向（＋Ｘ方向）に移動されてもよい。
【００９０】
液浸部材５は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する液体供給部３１を有する。液体供給部３１は、第１部材２１に配置される。本実施形態において、液体供給部３１は、第１部材２１の内側面２８に配置される。液体供給部３１は、第１部材２１の内側面２８に配置される開口（液体供給口）を含む。液体供給部３１は第３空間ＳＰ３に面するように配置される。液体供給部３１は、側面１３Ｆに対向するように配置される。液体供給部３１は、側面１３Ｆと内側面２８との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。本実施形態において、液体供給部３１は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。なお、液体供給部３１は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対してＹ軸方向に配置されてもよいし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部３１は、一つでもよい。
【００９１】
なお、液体供給部３１は、第２部材２２に配置されてもよい。液体供給部３１は、第２部材２２の上面２５に配置されてもよい。液体供給部３１は、射出面１２と対向する上面２５の一部分に配置されてもよい。液体供給部３１は、第２部材２２の下面２６に配置されてもよい。液体供給部３１は、光路Ｋに面するように第２部材２２の内面３５Ｕに配置されてもよい。なお、液体供給部３１は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。なお、液体供給部３１は、第２部材２２に配置され、第１部材２１に配置されなくてもよい。なお、液体供給部３１は、第１部材２１に配置され、第２部材２２に配置されなくてもよい。なお、液体供給部３１は、第１部材２１及び第２部材２２とは異なる部材に配置されてもよい。
【００９２】
液浸部材５は、第１空間ＳＰ１に面し、その第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する液体供給部４１を有する。液体供給部４１は、第１部材２１に配置される。本実施形態において、液体供給部４１は、第２部材２２の下面２３に配置される。液体供給部４１は、第１部材２１の下面２３に配置される開口（液体供給口）を含む。液体供給部４１は、上面２５に対向するように配置される。液体供給部４１は、上面２５と下面２３との間の第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する。本実施形態において、液体供給部４１は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。なお、液体供給部４１は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対してＹ軸方向に配置されてもよいし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部４１は、一つでもよい。
【００９３】
なお、液体供給部４１は、第１空間ＳＰ１に面するように、第２部材２２に配置されてもよい。液体供給部４１は、第２部材２２の上面２５に配置されてもよい。液体供給部４１が、第２部材２２の上面２５に配置される開口（液体供給口）を含んでもよい。液体供給部４１は、下面２３に対向するように配置されてもよい。なお、液体供給部４１は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。なお、液体供給部４１は、第２部材２２に配置され、第１部材２１に配置されなくてもよい。なお、液体供給部４１は、第１部材２１に配置され、第２部材２２に配置されなくてもよい。なお、液体供給部４１は、第１空間ＳＰ１に面するように、第１部材２１及び第２部材２２とは異なる部材に配置されてもよい。
【００９４】
以下の説明において、液体供給部３１を適宜、第１供給部３１、と称し、液体供給部４１を適宜、第２供給部４１、と称する。
【００９５】
光路Ｋに対する放射方向に関して、第２供給部４１は、第１供給部３１の外側に配置される。第２供給部４１は、第１空間ＳＰ１に面するように光路Ｋに対して第１供給部３１の外側に配置される。なお、第１供給部３１及び第２供給部４１の両方が第１部材２１に配置されてもよいし、第２部材２２に配置されてもよい。例えば、第１供給部３１が射出面１２と対向可能な上面２５の一部分（又は内面３５Ｕ）に配置され、第２供給部４１が第１空間ＳＰ１に面するように（下面２３に対向するように）光路Ｋに対して第１供給部３１の外側において上面２５の一部分に配置されてもよい。
【００９６】
本実施形態において、第１供給部（液体供給口）３１は、第１部材２１の内部に形成された供給流路３１Ｒを介して、液体供給装置３１Ｓと接続される。液体供給装置３１Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを第１供給部３１に供給可能である。第１供給部３１は、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置３１Ｓからの液体ＬＱを供給する。
【００９７】
本実施形態において、第２供給部（液体供給口）４１は、第１部材２１の内部に形成された供給流路３１Ｒを介して、液体供給装置３１Ｓと接続される。すなわち、本実施形態において、供給流路３１Ｒは、液体供給装置３１Ｓと接続される主流路と、主流路から分岐され、第１供給部３１に接続される第１分岐流路と、主流路から分岐され、第２供給部４１に接続される第２分岐流路とを含む。本実施形態において、液体供給装置３１Ｓからの液体ＬＱは、第１供給部３１及び第２供給部４１のそれぞれに供給される。本実施形態において、第２供給部４１から供給される液体ＬＱは、第１供給部３１から供給される液体ＬＱと同じ液体である。
【００９８】
なお、第１部材２１の内部に、第１供給部３１に接続される第１供給流路と、第２供給部４１に接続され、第１供給流路とは別の第２供給流路との両方が設けられてもよい。なお、なお、液体供給装置３１Ｓが、それら第１供給流路及び第２供給流路の両方に液体ＬＱを供給してもよい。なお、第１液体供給装置が第１供給流路に液体ＬＱを供給し、第１液体供給装置とは別の第２液体供給装置が第２供給流路に液体ＬＱを供給してもよい。なお、それら第１、第２液体供給装置は、同じ種類の液体を供給してもよい。なお、それら第１、第２液体供給装置は、異なる種類の液体を供給してもよい。すなわち、第１供給部３１から供給される液体の種類と第２供給部４１から供給される液体の種類とが異なってもよい。例えば、第２供給部４１から供給される液体の粘度が、第１供給部３１から供給される液体の粘度よりも高くてもよいし、低くてもよい。
【００９９】
本実施形態において、下面２３の内側のエッジと上面２５との間に、開口４０が形成される。射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の光路Ｋを含む光路空間ＳＰＫと、下面２３と上面２５との間の第１空間ＳＰ１とは、開口４０を介して結ばれる。光路空間ＳＰＫは、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面１２と上面２５との間の空間を含む。開口４０は、光路Ｋに面するように配置される。側面１３Ｆと内側面２８との間の第３空間ＳＰ３と、第１空間ＳＰ１とは、開口４０を介して結ばれる。
【０１００】
第１供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４０を介して、下面２３と上面２５との間の第１空間ＳＰ１に供給される（流入する）。液浸空間ＬＳを形成するために第１供給部３１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３４及び開口３５を介して、射出面１２と対向する基板Ｐ（物体）上に供給される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされる。第１供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部は、下面２６と基板Ｐ（物体）の上面との間の第２空間ＳＰ２に供給される。
【０１０１】
液浸部材５は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する流体回収部２４７を有する。本実施形態において、流体回収部２４７は、基板Ｐ（物体）が対向可能な第１回収部２７と、第１空間ＳＰ１に面する第２回収部２４とを含む。第１回収部２７及び第２回収部２４はそれぞれ、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。
【０１０２】
本実施形態において、第１供給部３１は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対する放射方向に関して流体回収部２４７の内側に配置される。すなわち、本実施形態において、第１供給部３１は、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１回収部２７及び第２回収部２４それぞれの内側に配置される。
【０１０３】
本実施形態において、第２供給部４１は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対する放射方向に関して流体回収部２４７の内側に配置される。すなわち、本実施形態において、第２供給部４１は、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１回収部２７及び第２回収部２４それぞれの内側に配置される。
【０１０４】
本実施形態において、第１回収部２７は、第２部材２２に配置される。第２回収部２４は、第１部材２１に配置される。第１部材２１に対して第２部材２２が移動した場合、第１回収部２７は第２部材２２と一緒に移動する。第１部材２１に対して第２部材２２が移動した場合、第１回収部２７は第１部材２１（第２回収部２４）に対して移動する。
【０１０５】
基板Ｐ（物体）は、第１回収部２７の少なくとも一部に対向可能である。第１回収部２７は、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。第２部材２２は、第２回収部２４に対向可能である。第２回収部２４は、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【０１０６】
第１部材２１の下面２３は、液体ＬＱを回収しない。下面２３は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第１部材２１の下面２３は、第２部材２２との間で液体ＬＱを保持可能である。
【０１０７】
第２部材２２の上面２５は、液体ＬＱを回収しない。上面２５は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第２部材２２の上面２５は、第１部材２１との間で液体ＬＱを保持可能である。
【０１０８】
第２部材２２の下面２６は、液体ＬＱを回収しない。下面２６は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第２部材２２の下面２６は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。
【０１０９】
内側面２８、外側面２９、及び内側面３０は、液体ＬＱを回収しない。内側面２８、外側面２９、及び内側面３０は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。
【０１１０】
第１回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して下面２６の外側に配置される。第１回収部２７は、下面２６の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、第１回収部２７は、下面２６の周囲に配置される。第１回収部２７は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。なお、第１回収部２７は、下面２６の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第１回収部２７は、下面２６の周囲において複数配置されてもよい。第１回収部２７は、第２空間ＳＰ２に面するように配置される。第１回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【０１１１】
第１回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１の外側に配置される。第１回収部２７は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１空間ＳＰ１の外側に配置される。
【０１１２】
第２回収部２４は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して下面２３の外側に配置される。第２回収部２４は、下面２３の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、第２回収部２４は、下面２３の周囲に配置される。第２回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。なお、第２回収部２４は、下面２３の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第２回収部２４は、下面２３の周囲において複数配置されてもよい。第２回収部２４は、第１空間ＳＰ１に面するように配置される。第２回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【０１１３】
本実施形態においては、上面２５側の第１空間ＳＰ１及び下面２６側の第２空間ＳＰ２の一方から他方への液体ＬＱの移動が抑制されている。第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材２２によって仕切られている。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、開口３５を介して第２空間ＳＰ２に移動できる。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、開口３５を介さずに第２空間ＳＰ２に移動できない。光路Ｋに対して開口３５よりも外側の第１空間ＳＰ１に存在する液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動できない。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、開口３５を介して第１空間ＳＰ１に移動できる。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、開口３５を介さずに第１空間ＳＰ１に移動できない。光路Ｋに対して開口３５よりも外側の第２空間ＳＰ２に存在する液体ＬＱは、第１空間ＳＰ１に移動できない。すなわち、本実施形態において、液浸部材５は、開口３５以外に、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とを流体的に接続する流路を有しない。
【０１１４】
本実施形態において、第１回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱを回収しない。第２回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収し、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱを回収しない。
【０１１５】
また、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第１空間ＳＰ１の外側（外側面２９の外側）に移動した液体ＬＱは、内側面３０によって、基板Ｐ上（第２空間ＳＰ２）に移動することが抑制される。
【０１１６】
第２回収部２４は、第１部材２１の下面２３の周囲の少なくとも一部に配置される開口（流体回収口）を含む。第２回収部２４は、上面２５に対向するように配置される。第２回収部２４は、第１部材２１の内部に形成された回収流路（空間）２４Ｒを介して、液体回収装置２４Ｃと接続される。液体回収装置２４Ｃは、第２回収部２４と真空システムとを接続可能である。第２回収部２４は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、第２回収部２４を介して回収流路２４Ｒに流入可能である。
【０１１７】
本実施形態において、第２回収部２４は、多孔部材３６を含み、流体回収口は、多孔部材３６の孔を含む。本実施形態において、多孔部材３６は、メッシュプレートを含む。多孔部材３６は、上面２５が対向可能な下面と、回収流路２４Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。第２回収部２４は、多孔部材３６の孔を介して液体ＬＱを回収する。第２回収部２４（多孔部材３６の孔）から回収された第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、回収流路２４Ｒに流入し、その回収流路２４Ｒを流れて、液体回収装置２４Ｃに回収される。
【０１１８】
本実施形態においては、第２回収部２４を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置６は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが多孔部材３６の孔を通過して回収流路２４Ｒに流入し、気体は通過しないように、多孔部材３６の下面側の圧力（第１空間ＳＰ１の圧力）と上面側の圧力（回収流路２４Ｒの圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号などに開示されている。
【０１１９】
なお、多孔部材３６を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。なお、第１部材２１に多孔部材３６が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。
【０１２０】
本実施形態において、第２回収部２４の下面は、多孔部材３６の下面を含む。第２回収部２４の下面は、下面２３の周囲に配置される。本実施形態において、第２回収部２４の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、第２回収部２４の下面と下面２３とは、同一平面内に配置される（面一である）。
【０１２１】
なお、第２回収部２４の下面が下面２３よりも＋Ｚ側に配置されてもよいし、−Ｚ側に配置されてもよい。なお、第２回収部２４の下面が下面２３に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【０１２２】
なお、第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）を回収するための第２回収部２４が、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材２２に配置されてもよい。第２部材２２に配置された第２回収部２４から回収された液体ＬＱが流れる回収流路２４Ｒが、第２部材２２の内部に形成されてもよい。第２部材２２に配置された第２回収部２４が多孔部材３６を含んでもよい。第２回収部２４は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよい。第２回収部２４は、第１部材２１に配置され、第２部材２２に配置されなくてもよい。第２回収部２４は、第２部材２２に配置され、第１部材２１に配置されなくてもよい。
【０１２３】
第１回収部２７は、第２部材２２の下面２６の周囲の少なくとも一部に配置される開口（流体回収口）を含む。第１回収部２７は、基板Ｐ（物体）の上面に対向するように配置される。第１回収部２７は、第２部材２２の内部に形成された回収流路（空間）２７Ｒを介して、液体回収装置２７Ｃと接続される。液体回収装置２７Ｃは、第１回収部２７と真空システムとを接続可能である。第１回収部２７は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、第１回収部２７を介して回収流路２７Ｒに流入可能である。
【０１２４】
本実施形態において、第１回収部２７は、多孔部材３７を含み、流体回収口は、多孔部材３７の孔を含む。本実施形態において、多孔部材３７は、メッシュプレートを含む。多孔部材３７は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能な下面と、回収流路２７Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。第１回収部２７は、多孔部材３７の孔を介して流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）を回収する。第１回収部２７（多孔部材３７の孔）から回収された第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、回収流路２７Ｒに流入し、その回収流路２７Ｒを流れて、液体回収装置２７Ｃに回収される。
【０１２５】
回収流路２７Ｒは、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して内側面３０の外側に配置される。回収流路２７Ｒは、第１回収部２７の上方に配置される。第２部材２２が移動することにより、第２部材２２の第１回収部２７及び回収流路２７Ｒが、第１部材２１の外側面２９の外側で移動する。
【０１２６】
第１回収部２７を介して液体ＬＱとともに気体が回収される。なお、多孔部材３７を介して液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されてもよい。なお、第２部材２２に多孔部材３７が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第２空間ＳＰ２の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。
【０１２７】
本実施形態において、第１回収部２７の下面は、多孔部材３７の下面を含む。第１回収部２７の下面は、下面２６の周囲に配置される。本実施形態において、第１回収部２７の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、第１回収部２７の下面は、下面２６よりも＋Ｚ側に配置される。
【０１２８】
なお、第１回収部２７の下面と下面２６とが同一平面内に配置されてもよい（面一でもよい）。第１回収部２７の下面が下面２６よりも−Ｚ側に配置されてもよい。なお、第１回収部２７の下面が下面２６に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【０１２９】
本実施形態においては、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給動作と並行して、第１回収部２７からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。
【０１３０】
また、本実施形態においては、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給動作、及び第１回収部２７からの流体の回収動作と並行して、第２回収部２４からの流体の回収動作が実行される。
【０１３１】
また、本実施形態においては、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給動作、及び第２供給部４１からの液体ＬＱの供給動作と並行して、第１回収部２７からの流体の回収動作、及び第２回収部２４からの流体の回収動作が実行される。
【０１３２】
本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される。
【０１３３】
本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される。
【０１３４】
本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。
【０１３５】
以下の説明において、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第１界面ＬＧ１、と称する。第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される界面ＬＧを適宜、第２界面ＬＧ２、と称する。終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される界面ＬＧを適宜、第３界面ＬＧ３、と称する。
【０１３６】
本実施形態において、第１界面ＬＧ１は、第２回収部２４の下面と上面２５との間に形成される。第２界面ＬＧ２は、第１回収部２７の下面と基板Ｐ（物体）の上面との間に形成される。
【０１３７】
本実施形態においては、第１界面ＬＧ１が第２回収部２４の下面と上面２５との間に形成され、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが第２回収部２４の外側の空間（例えば外側面２９と内側面３０との間の空間）に移動することが抑制されている。外側面２９と内側面３０との間の空間には液体ＬＱが存在しない。外側面２９と内側面３０との間の空間は気体空間である。
【０１３８】
外側面２９と内側面３０との間の空間は、空間ＣＳと接続される。換言すれば、外側面２９と内側面３０との間の空間は、雰囲気に開放される。空間ＣＳの圧力が大気圧である場合、外側面２９と内側面３０との間の空間は、大気開放される。そのため、第２部材２２は円滑に移動可能である。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。
【０１３９】
図８は、第１部材２１を下面２３側から見た図である。本実施形態においては、第１部材２１の下面２３に、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を誘導する誘導部３８が配置される。本実施形態において、誘導部３８は、第１供給部３１からの液体ＬＱの少なくとも一部を誘導可能である。すなわち、誘導部３８は、開口４０から第１空間ＳＰ１に流入した液体ＬＱの少なくとも一部を誘導可能である。また、本実施形態において、誘導部３８は、第２供給部４１から第１空間ＳＰ１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部を誘導可能である。
【０１４０】
誘導部３８は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部が露光光ＥＬの光路Ｋから外側に向かうように誘導する。図８に示すように、本実施形態において、第２回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して誘導部３８の外側に配置される。誘導部３８は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を第２回収部２４に誘導する。
【０１４１】
誘導部３８は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を、第２部材２２の移動方向と平行な方向に誘導する。誘導部３８の形状は、第２部材２２の移動方向に基づいて定められる。誘導部３８は、第２部材２２の移動方向と平行な方向の液体ＬＱの流れを促進するように設けられる。
【０１４２】
例えば、第２部材２２がＸ軸方向に移動する場合、第１空間ＳＰ１において液体ＬＱがＸ軸方向と平行な方向に流れて第２回収部２４に到達されるように、誘導部３８の形状が定められる。例えば、第２部材２２が＋Ｘ方向に移動する場合、誘導部３８によって、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、＋Ｘ方向に流れる。第２部材２２が−Ｘ方向に移動する場合、誘導部３８によって、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、−Ｘ方向に流れる。
【０１４３】
本実施形態において、誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の外側に配置される。第２回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の外側に配置される。
【０１４４】
誘導部３８は、下面２３に設けられた凸部を含む。本実施形態において、誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される壁部３８Ｒと、その壁部３８Ｒの一部に形成されるスリット（開口）３８Ｋとを有する。壁部３８Ｒは、第１空間ＳＰ１において露光光ＥＬの光路Ｋを囲むように配置される。また、壁部３８Ｒは、開口３４を囲むように配置される。スリット３８Ｋは、Ｘ軸方向と平行な方向の液体ＬＱの流れが促進されるように、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに形成される。
【０１４５】
誘導部３８により、第２部材２２の移動方向と平行な方向に関して、第１空間ＳＰ１における液体ＬＱの流速が高められる。本実施形態においては、誘導部３８により、第１空間ＳＰ１におけるＸ軸方向に関する液体ＬＱの流速が高められる。すなわち、第２回収部２４の下面と上面２５との間の空間に向かって流れる液体ＬＱの速度が高められる。これにより、第１部材２１に対する第１界面ＬＧ１の位置が変動したり、第１界面ＬＧ１の形状が変化したりすることが抑制される。そのため、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが、第１空間ＳＰ１の外側に流出することが抑制される。
【０１４６】
なお、スリット３８Ｋが形成される位置は、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側に限定されない。例えば、第２部材２２がＹ軸と平行にも移動する場合、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側に、スリット３８Ｋが追加されてもよい。第２部材２２がＹ軸と平行に移動しない場合でも、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側に、スリット３８Ｋが追加されてもよい。
【０１４７】
また、第２部材２２の移動方向に基づいて、誘導部３８の形状（スリット３８Ｋの位置など）が定められなくてもよい。例えば、光路Ｋの全周囲において、光路Ｋに対して放射状に液体ＬＱが流れるように、誘導部３８の形状が定められてもよい。
【０１４８】
なお、壁部３８Ｒは、開口３４（露光光ＥＬの光路Ｋ）を囲んでいなくてもよい。例えば、壁部３８Ｒは、開口３４（露光光ＥＬの光路Ｋ）の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置され、＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれには配置されなくてもよい。
【０１４９】
なお、誘導部３８は、第２部材２２に配置されてもよい。誘導部３８は、上面２５の少なくとも一部に配置されてもよい。誘導部３８は、上面２５に設けられた凸部を含んでもよい。誘導部３８は、第２部材２２の上面２５において露光光ＥＬの光路Ｋ（開口３４）を囲むように配置される壁部３８Ｒと、その壁部３８Ｒの一部に形成されるスリット（開口）３８Ｋとを有してもよい。なお、誘導部３８は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよいし、第１部材２１及び第２部材２２のいずれか一方に配置されてもよい。誘導部３８は、下面２３及び上面２５の一方又は両方に配置されてもよい。誘導部３８は、下面２３に設けられる凸部及び上面２５に設けられる凸部の両方を含んでもよい。
【０１５０】
また、本実施形態においては、第１空間ＳＰ１は、第１部材２１と第２部材２２との間隙が第１寸法の部分ＳＰ１ａと、露光光ＥＬの光路Ｋに対して部分ＳＰ１ａの外側に配置され、第１部材２１と第２部材２２との間隙が第１寸法よりも小さい第２寸法の部分ＳＰ１ｂとを含む。本実施形態において、部分ＳＰ１ｂは、第１空間ＳＰ１において露光光ＥＬの光路Ｋを囲むように配置される壁部３８Ｒによって規定される。例えば、壁部３８Ｒが下面２３に配置される場合、部分ＳＰ１ａは、下面２３と上面２５との間の空間を含み、部分ＳＰ１ｂは、上面２５とその上面２５に対向する壁部３８Ｒの下面との間の空間を含む。壁部３８Ｒが上面２５に配置される場合、部分ＳＰ１ａは、下面２３と上面２５との間の空間を含み、部分ＳＰ１ｂは、下面２３とその下面２３に対向する壁部３８Ｒの上面との間の空間を含む。なお、壁部３８Ｒは、下面２３及び上面２５の両方に配置されてもよい。
【０１５１】
本実施形態において、第２回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して部分ＳＰ１ｂの外側に配置される。また、第１回収部２７も、露光光ＥＬの光路Ｋに対して部分ＳＰ１ｂの外側に配置される。
【０１５２】
本実施形態において、第２部材２２は、下面２３の全部と対向可能である。例えば図２などに示すように、終端光学素子１３の光軸と開口３５の中心とが実質的に一致する原点に第２部材２２が配置されているときに、下面２３の全部と第２部材２２の上面２５とが対向する。また、第２部材２２が原点に配置されているときに、射出面１２の一部と第２部材２２の上面２５とが対向する。また、第２部材２２が原点に配置されているときに、第２回収部２４の下面と第２部材２２の上面２５とが対向する。
【０１５３】
また、本実施形態においては、第２部材２２が原点に配置されているときに、開口３４の中心と開口３５の中心とが実質的に一致する。
【０１５４】
次に、第２部材２２の動作の一例について説明する。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動と協調して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と独立して移動可能である。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して移動可能である。第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成された状態で移動可能である。第２部材２２は、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在する状態で移動可能である。
【０１５５】
第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）とが対向しないときに移動してもよい。例えば、第２部材２２は、その第２部材２２の下方に物体が存在しないときに移動してもよい。なお、第２部材２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが存在しないときに移動してもよい。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されていないときに移動してもよい。
【０１５６】
第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて移動する。制御装置６は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して第２部材２２を移動する。制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成され続けるように、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給と第１回収部２７及び第２回収部２４からの液体ＬＱの回収とを行いながら、第２部材２２を移動する。
【０１５７】
本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が小さくなるように移動可能である。また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との相対移動が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対移動よりも小さくなるように移動可能である。例えば、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と同期して移動してもよい。
【０１５８】
相対移動は、相対速度、及び相対加速度の少なくとも一方を含む。例えば、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が小さくなるように移動してもよい。また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が小さくなるように移動してもよい。また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動してもよい。また、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、すなわち、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在している状態で、基板Ｐ（物体）との相対加速度が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との相対加速度よりも小さくなるように移動してもよい。
【０１５９】
第２部材２２は、例えば基板Ｐ（物体）の移動方向に移動可能である。例えば、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ方向（または−Ｘ方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ方向（または−Ｘ方向）に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が＋Ｘ方向に移動しつつ＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に移動するとき、第２部材２２は＋Ｘ方向に移動可能である。また、基板Ｐ（物体）が−Ｘ方向に移動しつつ＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に移動するとき、第２部材２２は−Ｘ方向に移動可能である。すなわち、本実施形態においては、基板Ｐ（物体）がＸ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２はＸ軸方向に移動する。例えば、Ｘ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＸ軸方向に移動してもよい。
【０１６０】
なお、第２部材２２がＹ軸方向に移動可能でもよい。基板Ｐ（物体）がＹ軸方向の成分を含むある方向に移動する場合、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。例えば、Ｙ軸方向の成分を含むある方向への基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第２部材２２がＹ軸方向に移動してもよい。
【０１６１】
図９は、第２部材２２が移動する状態の一例を示す図である。図９は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。
【０１６２】
以下の説明においては、第２部材２２はＸ軸方向に移動することとする。なお、上述のように、第２部材２２は、Ｙ軸方向に移動してもよいし、Ｘ軸方向（又はＹ軸方向）の成分を含むＸＹ平面内における任意の方向に移動してもよい。
【０１６３】
基板Ｐ（物体）がＸ軸方向（又はＸ軸方向の成分を含むＸＹ平面内における所定方向）に移動する場合、第２部材２２は、図９（Ａ）〜図９（Ｃ）に示すように、Ｘ軸方向に移動する。
【０１６４】
本実施形態において、第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して規定された移動可能範囲（可動範囲）を移動可能である。図９（Ａ）は、移動可能範囲の最も−Ｘ側の端に第２部材２２が配置された状態を示す。図９（Ｂ）は、移動可能範囲の中央に第２部材２２が配置された状態を示す。図９（Ｃ）は、移動可能範囲の最も＋Ｘ側の端に第２部材２２が配置された状態を示す。
【０１６５】
以下の説明において、図９（Ａ）に示す第２部材２２の位置を適宜、第１端部位置、と称し、図９（Ｂ）に示す第２部材２２の位置を適宜、中央位置、と称し、図９（Ｃ）に示す第２部材２２の位置を適宜、第２端部位置、と称する。なお、図９（Ｂ）に示すように、第２部材２２が中央位置に配置される状態は、第２部材２２が原点に配置される状態を含む。
【０１６６】
本実施形態においては、射出面１２からの露光光ＥＬが開口３５を通過するように、第２部材２２の移動可能範囲の寸法に基づいて開口３５の寸法が定められる。第２部材２２の移動可能範囲の寸法は、Ｘ軸方向に関する第１端部位置と第２端部位置との距離を含む。第２部材２２がＸ軸方向に移動しても、射出面１２からの露光光ＥＬが第２部材２２に照射されないように、開口３５のＸ軸方向の寸法が定められる。
【０１６７】
図９において、Ｘ軸方向に関する開口３５の寸法Ｗ３５は、露光光ＥＬ（投影領域ＰＲ）の寸法Ｗｐｒと、第２部材２２の移動可能範囲の寸法（Ｗａ＋Ｗｂ）との和よりも大きい。寸法Ｗ３５は、第２部材２２が第１端部位置と第２端部位置との間において移動した場合でも、射出面１２からの露光光ＥＬを遮らない大きさに定めされる。これにより、第２部材２２が移動しても、射出面１２からの露光光ＥＬは、第２部材２２に遮られずに基板Ｐ（物体）に照射可能である。
【０１６８】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
【０１６９】
液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給と、第１回収部２７からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。
【０１７０】
露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給と並行して第１回収部２７からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。
【０１７１】
本実施形態においては、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給及び第１回収部２７からの液体ＬＱの回収と並行して、第２回収部２４からの液体ＬＱの回収が行われる。
【０１７２】
また、本実施形態においては、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給と並行して、第２供給部４１からの液体ＬＱの供給が行われる。すなわち、本実施形態においては、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給及び第２供給部４１からの液体ＬＱの供給と並行して、第１回収部２７からの液体ＬＱの回収及び第２回収部２４からの液体ＬＱの回収が行われる。
【０１７３】
制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【０１７４】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【０１７５】
図１０は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置される。制御装置６は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬに対して、第１保持部に保持されている基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動しつつ、射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、射出面１２から射出された露光光ＥＬで、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。
【０１７６】
例えば基板Ｐの１つのショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から射出される露光光ＥＬ（投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介してそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像がそのショット領域Ｓに投影され、そのショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。
【０１７７】
そのショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、そのショット領域Ｓの露光を開始する。
【０１７８】
制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域のそれぞれを順次露光する。
【０１７９】
以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光終了後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。
【０１８０】
本実施形態において、スキャン移動動作は、あるショット領域Ｓが露光開始位置に配置されている状態から露光終了位置に配置される状態になるまで基板ＰがＹ軸方向に移動する動作を含む。ステップ移動動作は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に配置されている状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置される状態になるまで基板ＰがＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に移動する動作を含む。
【０１８１】
露光開始位置は、あるショット領域Ｓの露光のために、そのショット領域ＳのＹ軸方向に関する一端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。露光終了位置は、露光光ＥＬが照射されたそのショット領域ＳのＹ軸方向に関する他端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。
【０１８２】
ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作開始位置を含む。ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作終了位置を含む。
【０１８３】
ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作終了位置を含む。ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓの露光終了後、次のショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作開始位置を含む。
【０１８４】
以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光のためにスキャン移動動作が行われる期間を適宜、スキャン移動期間、と称する。以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始のためにステップ移動動作が行われる期間を適宜、ステップ移動期間、と称する。
【０１８５】
スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓの露光開始から露光終了までの露光期間を含む。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの基板Ｐの移動期間を含む。
【０１８６】
スキャン移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。スキャン移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射される。ステップ移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出されない。ステップ移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射されない。
【０１８７】
制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、主にＹ軸方向に関する等速移動である。ステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動及びＸ軸方向に関する加減速移動の一方又は両方を含む。
【０１８８】
なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される場合がある。スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板Ｐと基板ステージ２（カバー部材Ｔ）とを跨ぐように形成される場合がある。基板ステージ２と計測ステージ３とが接近又は接触した状態で基板Ｐの露光が行われる場合、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板ステージ２（カバー部材Ｔ）と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。
【０１８９】
制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。
【０１９０】
露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓの配列情報（基板Ｐにおける複数のショット領域Ｓそれぞれの位置）を含む。また、露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓのそれぞれの寸法情報（Ｙ軸方向に関する寸法情報）を含む。
【０１９１】
制御装置６は、記憶装置７に記憶されている露光条件（露光制御情報）に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。
【０１９２】
一例として、本実施形態においては、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図１０中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して複数のショット領域Ｓのそれぞれを露光光ＥＬで順次露光する。制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。
【０１９３】
基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれが順次露光された後、基板ステージ２が基板交換位置に移動され、露光後の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）から搬出（アンロード）する処理が行われる。
【０１９４】
以下、上述の処理が繰り返され、複数の基板Ｐが順次露光される。
【０１９５】
本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材２２の移動と並行して、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。なお、スキャン移動動作中に第２部材２２が移動しなくてもよい。すなわち、射出面１２からの露光光ＥＬの射出と並行して第２部材２２が移動しなくてもよい。第２部材２２は、例えば基板Ｐ（基板ステージ２）がステップ移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように、移動してもよい。また、第２部材２２は、基板Ｐ（基板ステージ２）がスキャン移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ２）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように、移動してもよい。
【０１９６】
図１１は、基板Ｐを＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動を行いながら、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ、及びショット領域Ｓｃのそれぞれを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃは、Ｘ軸方向に配置される。
【０１９７】
図１１に示すように、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるとき、基板Ｐは、終端光学素子１３の下において、位置ｄ１からその位置ｄ１に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ２までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２からその位置ｄ２に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ３までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３からその位置ｄ３に対して−Ｙ側に隣り合う位置ｄ４までの経路Ｔｐ３、位置ｄ４からその位置ｄ４に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ５までの経路Ｔｐ４、及び位置ｄ５からその位置ｄ５に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ６までの経路Ｔｐ５を順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。
【０１９８】
経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。経路Ｔｐ１は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが−Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが＋方向を主成分とする方向に移動する経路である。
【０１９９】
液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｃに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４を移動するとき、露光光ＥＬは照射されない。
【０２００】
基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作、経路Ｔｐ３を移動する動作、及び経路Ｔｐ５を移動する動作のそれぞれは、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作のそれぞれは、ステップ移動動作を含む。
【０２０１】
すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間、経路Ｔｐ３を移動する期間、及び経路Ｔｐ５を移動する期間のそれぞれは、スキャン移動期間（露光期間）である。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間、及び経路Ｔｐ４を移動する期間のそれぞれは、ステップ移動期間である。
【０２０２】
図１２は、第２部材２２の動作の一例を示す模式図である。図１２は、第２部材２２を上面２５側から見た図である。基板Ｐが位置ｄ１にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ａ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｂ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｃ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｄ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）と同じ＋Ｘ方向に移動する。基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｅ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｆ）に示す位置に配置される。基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｇ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）と同じ＋Ｘ方向に移動する。基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、第２部材２２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して図１２（Ｈ）に示す位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン動作移動中に、第２部材２２は、基板Ｐのステップ移動の方向（＋Ｘ方向）とは逆の−Ｘ方向に移動する。
【０２０３】
本実施形態において、図１２（Ａ）、図１２（Ｄ）、図１２（Ｇ）に示す第２部材２２の位置は、第２端部位置を含む。図１２（Ｂ）、図１２（Ｅ）、図１２（Ｈ）に示す第２部材２２の位置は、第１端部位置を含む。図１２（Ｃ）、図１２（Ｆ）に示す第２部材２２の位置は、中央位置を含む。
【０２０４】
以下の説明においては、図１２（Ａ）、図１２（Ｄ）、図１２（Ｇ）に示す第２部材２２の位置が、第２端部位置であることとし、図１２（Ｂ）、図１２（Ｅ）、図１２（Ｈ）に示す第２部材２２の位置が、第１端部位置であることとし、図１２（Ｃ）、図１２（Ｆ）に示す第２部材２２の位置が、中央位置であることとする。
【０２０５】
基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ａ）に示す状態から図１２（Ｂ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｂ）に示す状態から図１２（Ｃ）に示す状態を経て図１２（Ｄ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第１端部位置から中央位置を経て第２端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｄ）に示す状態から図１２（Ｅ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｅ）に示す状態から図１２（Ｆ）に示す状態を経て図１２（Ｇ）に示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第１端部位置から中央位置を経て第２端部位置へ移動する。基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、第２部材２２は、図１２（Ｇ）に示す状態から図１２（Ｈ）に示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。すなわち、第２部材２２は、第２端部位置から中央位置を経て第１端部位置へ移動する。
【０２０６】
すなわち、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２に沿って移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐとの相対移動が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。換言すれば、第２部材２２は、基板Ｐが＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作する期間の少なくとも一部に、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。同様に、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４に沿って移動する期間の少なくとも一部において、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、＋Ｘ方向に移動する。
【０２０７】
また、本実施形態において、第２部材２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３に沿って移動する期間の少なくとも一部において、−Ｘ方向に移動する。これにより、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４の移動において、第２部材２２が＋Ｘ方向に移動しても露光光ＥＬは開口３５を通過可能である。基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ５を移動する場合も同様である。
【０２０８】
すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように第２部材２２が第１端部位置から第２端部位置へ＋Ｘ方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部材２２が再度＋Ｘ方向に移動できるように、第２部材２２が第２端部位置から第１端部位置へ戻る。すなわち、基板Ｐが経スキャン移動動作する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が−Ｘ方向に移動するので、開口３５の寸法が必要最小限に抑えられる。
【０２０９】
また、本実施形態においては、第２部材２２が第１端部位置（第２端部位置）に配置されても、第１回収部２７の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。これにより、例えばステップ移動動作において、第１回収部２７は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収することができる。
【０２１０】
なお、図１１及び図１２を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が第２端部位置に配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材２２が、第２端部位置と中央位置との間に配置されてもよいし、中央位置に配置されてもよい。
【０２１１】
なお、図１１及び図１２を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が第１端部位置に配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材２２が、第１端部位置と中央位置との間に配置されてもよいし、中央位置に配置されてもよい。
【０２１２】
また、本実施形態において、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、中央位置とは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、例えば第１端部位置と中央位置との間に配置されてもよいし、第２端部位置と中央位置との間に配置されてもよい。
【０２１３】
以上説明したように、本実施形態によれば、第１部材２１の下方において移動可能な第２部材２２を設けたので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ等の物体がＸＹ平面内において移動しても、例えば液体ＬＱが液浸部材５と物体との間の空間から流出したり、物体上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。また、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに気泡（気体部分）が発生することも抑制される。
【０２１４】
また、本実施形態によれば、第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する第２供給部４１を設けたので、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱに気体部分（気泡を含む）が生成されたり、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱに異物（気泡及びパーティクルの一方又は両方を含む）が入り込んだりすることが抑制される。また、第２供給部４１を設けたので、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱに異物が入り込むことが抑制される。
【０２１５】
すなわち、第２供給部４１から第１空間ＳＰ１に液体ＬＱが供給されることによって、第１空間ＳＰ１を液体ＬＱで満たし続けることができる。これにより、第１空間ＳＰ１において気体部分（気泡を含む）が発生することが抑制される。また、第１空間ＳＰ１において気体部分が発生することが抑制されるため、その第１空間ＳＰ１から光路空間ＳＰＫに気体部分が入り込むことが抑制される。また、第２供給部４１から第１空間ＳＰ１に液体ＬＱが供給されることによって、液浸部材５の外部空間（例えば外側面２９と内側面３０との間の気体空間）から第１空間ＳＰ１に異物が侵入することが抑制される。また、液浸部材５の外部空間から第１空間ＳＰ１に異物が侵入したとしても、第２供給部４１から液体ＬＱが供給されることによって、その異物が第２供給部４１の内側（光路空間ＳＰＫ側）に移動することが抑制される。また、本実施形態においては、第２回収部２４が、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の外側に配置される。したがって、液体ＬＱに存在する異物は、第２供給部４１から供給された液体ＬＱとともに第２回収部２４から回収される。これにより、光路空間ＳＰＫに異物が入り込むことが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０２１６】
また、本実施形態によれば、誘導部３８を設けたので、第１空間ＳＰ１において液体ＬＱを望みの部分（方向）に誘導することができる。例えば、誘導部３８が、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を露光光ＥＬの光路Ｋから外側に向かうように誘導することによって、例えば光路空間ＳＰＫに異物が入り込むことが抑制される。すなわち、例えば第１空間ＳＰ１の液体ＬＱに異物が存在しても、誘導部３８によって液体ＬＱは光路Ｋ（光路空間ＳＰＫ）から外側に向かうように流れるため、その異物が光路空間ＳＰＫに入り込むことが抑制される。また、本実施形態においては、第２回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋ（光路空間ＳＰＫ）に対して誘導部３８の外側に配置され、誘導部３８によって誘導された液体ＬＱの少なくとも一部は、第２回収部２４によって回収される。したがって、液体ＬＱに存在する異物は、誘導部３８によって誘導された液体ＬＱとともに第２回収部２４から回収される。これにより、光路空間ＳＰＫに異物が入り込むことが効果的に抑制される。
【０２１７】
また、本実施形態によれば、壁部３８Ｒ（凸部）によって、第１空間ＳＰ１において部分ＳＰ１ａと部分ＳＰ１ｂとが形成される。壁部３８Ｒ（部分ＳＰ１ｂ）が設けられたことにより、第１空間ＳＰ１（部分ＳＰ１ａ）の液体ＬＱが、光路Ｋに対して第１空間ＳＰ１（部分ＳＰ１ａ）の外側の空間に流出することが抑制される。また、光路Ｋに対して第１空間ＳＰ１（部分ＳＰ１ｂ）の外側の空間（液浸部材５の外側空間）から第１空間ＳＰ１に侵入した異物が、第１空間ＳＰ１（部分ＳＰ１ａ）に流入することが抑制される。
【０２１８】
また、本実施形態においては、誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の外側に配置されている。したがって、第２供給部４１から供給された液体ＬＱが光路Ｋの外側に向かって流れることが促進される。
【０２１９】
また、本実施形態においては、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する第１供給部３１が第１部材２１に配置され、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収する第１回収部２７が第１部材２１と間隙を介して配置される第２部材２２に配置される。これにより、第１回収部２７から流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されることによって、第２部材２２の温度が変化しても、第１部材２１の温度が変化することが抑制される。したがって、第１供給部３１から供給される液体ＬＱの温度が変化することが抑制される。
【０２２０】
また、本実施形態においては、第１供給部３１から供給された液体ＬＱは、第１部材２１の内側面２８及び下面２３に接触するように流れる。その液体ＬＱによって、第１部材２１の温度変化が抑制される。また、その液体ＬＱによって、第１部材２１の温度が調整される。また、第１供給部３１から供給された液体ＬＱは、第２部材２２の上面２５及び下面２６に接触するように流れる。その液体ＬＱによって、第２部材２２の温度変化が抑制される。また、その液体ＬＱによって、第２部材２２の温度が調整される。
【０２２１】
また、本実施形態においては、第２部材２２は、第１回収部２７を有するため、第１回収部２７の下面と基板Ｐ（物体）の上面との間に形成される第２界面ＬＧ２の形状が変化することが抑制される。これにより、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間から流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。
【０２２２】
また、本実施形態においては、基板Ｐ（物体）との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように第２部材２２を移動することにより、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体が高速度で移動しても、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりすることが抑制される。
【０２２３】
また、本実施形態においては、第１部材２１は終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置されているので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体が移動したり、第２部材２２が移動したりした場合においても、終端光学素子１３と第１部材２１との間において圧力が変動したり、液体ＬＱの第３界面ＬＧ３の形状が大きく変動したりすることが抑制される。したがって、例えば液体ＬＱに気泡が発生したり、終端光学素子１３に過剰な力が作用したりすることが抑制される。また、本実施形態においては、第１部材２１は実質的に移動しないため、終端光学素子１３と第１部材２１との間において圧力が大きく変動したり、液体ＬＱの第１界面ＬＧ１の形状が大きく変動したりすることが抑制される。
【０２２４】
なお、本実施形態において、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給と並行して第２供給部４１からの液体ＬＱの供給が行われなくてもよい。本実施形態においては、少なくとも、基板Ｐの最初のショット領域Ｓの露光開始から最後のショット領域Ｓの露光終了までの間において、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給と並行して、第１回収部４１からの液体ＬＱの回収が行われる。第２供給部４１からの液体ＬＱの供給は、基板Ｐの最初のショット領域Ｓの露光開始から最後のショット領域Ｓの露光終了までの間において連続的に行われてもよいし、断続的に行われてもよい。また、第２供給部４１からの液体ＬＱの供給量（単位時間当たりの液体供給量）が、基板Ｐの最初のショット領域Ｓの露光開始から最後のショット領域Ｓの露光終了までの間において変化してもよい。
【０２２５】
例えば、第１部材２１に対する第２部材２２の移動条件に基づいて、第２供給部４１の液体供給条件が制御されてもよい。第２部材２２の移動条件は、第１部材２１に対する第２部材２２の移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを含む。
【０２２６】
例えば、第２部材２２の移動速度が第１速度（規定速度）よりも高い場合に、第２供給部４１からの液体ＬＱの供給が行われ、第２部材２２の移動速度が第１速度よりも低い場合（あるいは第２部材２２の移動速度が零の場合）に、第２供給部４１からの液体ＬＱの供給が停止されてもよい。また、第２部材２２の移動速度が第１速度（規定速度）よりも高い場合に、第２供給部４１から第１供給量で液体ＬＱの供給が行われ、第２部材２２の移動速度が第１速度よりも低い場合（あるいは第２部材２２の移動速度が零の場合）に、第２供給部４１から第１供給量よりも少ない第２供給量で液体ＬＱの供給が行われてもよい。また、第２部材２２の加速度が第１加速度（規定加速度）よりも高い場合に、第２供給部４１から第１供給量で液体ＬＱの供給が行われ、第２部材２２の加速度が第１加速度よりも低い場合（あるいは第２部材２２の加速度が零の場合）に、第２供給部４１から第１供給量よりも少ない第２供給量で液体ＬＱの供給が行われてもよい。また、第２部材２２の移動距離（本実施形態においてはＸ軸方向に関する移動距離）が第１距離（規定距離）よりも長い場合に、第２供給部４１から第１供給量で液体ＬＱの供給が行われ、第２部材２２の移動距離が第１距離よりも短い場合に、第２供給部４１から第１供給量よりも少ない第２供給量で液体ＬＱの供給が行われてもよい。
【０２２７】
なお、本実施形態において、誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の外側に配置されなくてもよい。誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の内側に配置されてもよい。この場合においても、光路空間ＳＰＫの液体ＬＱ（開口４０から第１空間ＳＰ１に流入した液体ＬＱ）の少なくとも一部は、誘導部３８によって光路Ｋ（光路空間ＳＰＫ）の外側に向かって流れることができる。また、第２供給部４１からの液体ＬＱによって、液浸部材５の外部空間（外側面２９と内側面３０との間の空間）から第１空間ＳＰ１に異物などが侵入することが抑制される。
【０２２８】
なお、本実施形態において、誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋから外側に向かうように液体ＬＱを誘導しなくてもよい。誘導部３８は、第１空間ＳＰ１の異物が光路空間ＳＰＫに侵入することが抑制されるように液体ＬＱを誘導してもよい。誘導部３８は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが光路空間ＳＰＫに流れ込むことを抑制しつつ、例えば第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが開口３４の周囲を流れるように、その第１空間ＳＰ１の液体ＬＱを誘導してもよい。
【０２２９】
なお、本実施形態において、第２回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して誘導部２８の外側に配置されなくてもよい。第２回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して誘導部２８の内側に配置されてもよい。また、誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して誘導部３８の外側に配置されていない第２回収部２４（例えば誘導部３８よりも内側に配置されている第２回収部２４）に液体ＬＱを誘導してもよい。
【０２３０】
なお、本実施形態において、第２回収部２４が、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の外側に配置されなくてもよい。第２回収部２４は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の内側に配置されてもよい。
【０２３１】
なお、本実施形態において、第１供給部３１は省略されてもよい。第２供給部４１から供給される液体ＬＱによって液浸空間ＬＳが形成されてもよい。
【０２３２】
なお、本実施形態において、第２供給部４１は省略されてもよい。第１供給部３１から供給される液体ＬＱによって液浸空間ＬＳが形成可能である。
【０２３３】
なお、本実施形態において、誘導部３８は省略されてもよい。
【０２３４】
なお、本実施形態において、第１部材２１が移動可能であってもよい。なお、第１部材２１は、終端光学素子１３に対して移動してもよい。第１部材２１は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向のうちの少なくとも一つの方向に移動してもよい。例えば、終端光学素子１３と第１部材２１との位置関係を調整したり、第１部材２１と第２部材２２との位置関係を調整したりするために、第１部材２１を移動してもよい。また、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して、第１部材２１を移動してもよい。例えば、ＸＹ平面内において第２部材２２よりも短い距離だけ移動してもよい。また、第１部材２１は、第２部材２２よりも低速度で移動してもよい。また、第１部材２１は、第２部材２２よりも低加速度で移動してもよい。
【０２３５】
なお、第１部材２１の温度を調整する第１温度調整装置が配置されてもよい。第１温度調整装置は、例えば第１部材２１の外面に配置されるペルチェ素子を含んでもよい。第１温度調整装置は、第１部材２１の内部に形成された流路に温度調整用の流体（液体及び気体の一方又は両方）を供給する供給装置を含んでもよい。なお、第２部材２２の温度を調整する第２温度調整装置が配置されてもよい。第２温度調整装置は、第２部材２２の外面に配置されるペルチェ素子を含んでもよいし、第２部材２２の内部に形成された流路に温度調整用の流体を供給する供給装置を含んでもよい。
【０２３６】
なお、本実施形態において、第２部材２２の移動条件に基づいて、第１供給部３１からの液体供給量が調整されてもよい。また、第２部材２２の位置に基づいて第１供給部３１からの液体供給量が調整されてもよい。例えば、第２部材２２が第１端部位置及び第２端部位置の少なくとも一方に配置されるときの第１供給部３１からの液体供給量が、第２部材２２が中央位置に配置されるときの第１供給部３１からの液体供給量よりも多くなるように調整されてもよい。また、第２部材２２が第２端部位置から第１端部位置へ移動するとき、光路Ｋに対して＋Ｘ側に配置されている第１供給部３１からの液体供給量を、−Ｘ側に配置されている第１供給部３１からの液体供給量よりも多くしてもよい。また、第２部材２２が第１端部位置から第２端部位置へ移動するとき、光路Ｋに対して−Ｘ側に配置されている第１供給部３１からの液体供給量を、＋Ｘ側に配置されている第１供給部３１からの液体供給量よりも多くしてもよい。こうすることにより、液体ＬＱに気泡が発生することが抑制される。
【０２３７】
なお、本実施形態においては、基板Ｐのステップ移動動作に起因する液体ＬＱの残留を抑えるために、基板Ｐのステップ移動動作に、第２部材２２をステップ方向（Ｘ軸方向）に移動するようにしているが、基板Ｐのスキャン移動動作に起因する液体ＬＱの残留を抑えるために、基板Ｐのスキャン移動動作に、第２部材２２をスキャン方向（Ｙ軸方向）に移動するようにしてもよい。
【０２３８】
＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０２３９】
図１３は、本実施形態に係る液浸部材５Ｂの一例を示す図である。液浸部材５Ｂは、第１部材２１Ｂと第２部材２２とを有する。第２部材２２の上面２５側に第１空間ＳＰ１が形成される。
【０２４０】
第１空間ＳＰ１は、第１部材２１Ｂと第２部材２２との間隙が寸法Ｗ１の部分ＳＰ１ｃと、露光光ＥＬの光路Ｋに対して部分ＳＰ１ｃの外側に配置され、第１部材２１Ｂと第２部材２２との間隙が寸法Ｗ２の部分ＳＰ１ｄとを含む。寸法Ｗ２は寸法Ｗ１よりも小さい。
【０２４１】
本実施形態において、液浸部材５Ｂは、第１空間ＳＰ１において露光光ＥＬの光路Ｋを囲むように配置される壁部２３６を有する。本実施形態において、壁部２３６は、第１部材２１Ｂに配置される。壁部２３６は、第１部材２１Ｂの下面２３に配置され、第２部材２２に向けて突出する凸部である。部分ＳＰ１ｄは、壁部２３６によって規定される。部分ＳＰ１ｄは、上面２５と、上面２５に対向する壁部２３６の下面との間の空間を含む。部分ＳＰ１ｃは、上面２５と下面２３との間の空間を含む。
【０２４２】
本実施形態において、壁部２３６は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２回収部２４の外側に配置される。部分ＳＰ１ｄは、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２回収部２４の外側に配置される。壁部２３６（部分ＳＰ１ｄ）は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第１回収部２７の内側に配置される。
【０２４３】
なお、壁部２３６は、第２部材２２に配置されてもよい。壁部２３６は、上面２５の少なくとも一部に配置されてもよい。壁部２３６は、上面２５に設けられた凸部を含んでもよい。なお、壁部２３６は、第１部材２１及び第２部材２２の両方に配置されてもよいし、第１部材２１及び第２部材２２のいずれか一方に配置されてもよい。壁部２３６は、下面２３及び上面２５の一方又は両方に配置されてもよい。壁部２３６は、下面２３に設けられる凸部及び上面２５に設けられる凸部の両方を含んでもよい。壁部２３６が上面２５に配置される場合、部分ＳＰ１ｃは、下面２３と上面２５との間の空間を含み、部分ＳＰ１ｄは、下面２３とその下面２３に対向する壁部２３６の上面との間の空間を含む。
【０２４４】
図１３に示す例において、上述の実施形態で説明したような誘導部３８が設けられてもよいし、設けられなくてもよい。誘導部３８が設けられる場合、部分ＳＰ１ｃは、上述の実施形態で説明した部分ＳＰ１ａ及び部分ＳＰ１ｂを含む。誘導部３８が設けられる場合、その誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して、壁部２３６（部分ＳＰ１ｄ）及び第２回収部２４の内側に配置されてもよい。なお、誘導部３８が設けられる場合、その誘導部３８は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２回収部２４の内側に配置されてもよいし、外側に配置されてもよい。誘導部３８は、例えば、露光光ＥＬの光路Ｋに対して、第２回収部２４の外側であって、壁部２３６の内側に配置されてもよい。
【０２４５】
また、図１３に示す例において、上述の実施形態で説明したような第２供給部４１が設けられてもよいし、設けられなくてもよい。第２供給部４１が設けられる場合、その第２供給部４１は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して、壁部２３６（部分ＳＰ１ｄ）及び第２回収部２３６の内側に配置されてもよい。なお、第２供給部４１が設けられる場合、その第２供給部４１は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２回収部２４の内側に配置されてもよいし、外側に配置されてもよい。第２供給部４１は、例えば、露光光ＥＬの光路Ｋに対して、第２回収部２４の外側であって、壁部２３６の内側に配置されてもよい。
【０２４６】
また、図１３に示す例において、誘導部３８及び第２供給部４１の両方が設けられてもよいし、いずれか一方のみが設けられてもよいし、両方が設けられなくてもよい。誘導部３８及び第２供給部４１の両方が設けられる場合、露光光ＥＬの光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって、第２供給部２７、誘導部３８、第２回収部２４、及び壁部２３６の順に配置されてもよいし、誘導部３８、第２供給部４１、第２回収部２４、及び壁部２３６の順に配置されてもよいし、第２回収部２４、第２供給部４１、誘導部３８、及び壁部２３６の順に配置されてもよいし、第２回収部２４、誘導部３８、第２供給部４１、及び壁部２３６の順に配置されてもよい。
【０２４７】
以上説明したように、本実施形態によれば、部分ＳＰ１ｃが設けられることにより、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱがその外側の空間に流出することが抑制される。また、第１空間ＳＰ１の外側の空間から異物が第１空間ＳＰ１（部分ＳＰ１ｃ）に侵入することが抑制される。
【０２４８】
＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０２４９】
図１４は、本実施形態に係る液浸部材５Ｃの一例を示す図である。本実施形態において、第１回収部２７は、第２部材２２Ｃに対して相対移動可能である。
【０２５０】
図１４において、液浸部材５Ｃは、第１部材２１と、第２部材２２Ｃと、第１回収部２７を有する回収部材４２と、第２部材２２Ｃと回収部材４２とを接続する接続部材４３とを有する。第２部材２２Ｃは、第１部材２１の下面２３と対向可能な上面２５Ｃと、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２６Ｃとを有する。接続部材４３は、変形可能な部材である。接続部材４３は、伸縮可能な伸縮部材を含んでもよい。接続部材４３は、弾性変形可能な弾性部材を含んでもよい。接続部材４３は、撓むことができる可撓性部材を含んでもよい。接続部材４３は、ベローズ部材を含んでもよい。
【０２５１】
第２部材２２Ｃは、駆動装置３２１Ｃの作動により移動可能である。回収部材４２は、駆動装置３２２Ｃの作動により移動可能である。第２部材２２Ｃと回収部材４２とは、変形可能な接続部材４３を介して接続されている。そのため、第２部材２２Ｃと回収部材４２とは相対移動可能である。
【０２５２】
また、本実施形態においては、第２部材２２Ｃと回収部材４２との間に接続部材４３が配置される。第２部材２２Ｃと回収部材４２との間に間隙は形成されない。上面２５Ｃ側の第１空間ＳＰ１及び下面２６Ｃ側の第２空間ＳＰ２の一方から他方への液体ＬＱの移動が抑制されている。
【０２５３】
第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は、第１部材２１に対して移動可能である。
【０２５４】
第１部材２１に対する第２部材２２Ｃの移動方向と回収部材４２（第１回収部２７）の移動方向とは同じ方向でもよいし、異なる方向でもよい。例えば、第２部材２２Ｃが＋Ｘ方向に移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は、＋Ｘ方向に移動してもよいし、−Ｘ方向に移動してもよい。また、第２部材２２ＣがＸ軸方向に移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）はＹ軸方向に移動されてもよい。
【０２５５】
また、第１部材２１に対する第２部材２２Ｃの相対速度と回収部材（第１回収部２７）の相対速度とが異なってもよい。例えば、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は、第１部材２１に対する第２部材２２Ｃの相対速度よりも低い相対速度で第１部材２１に対して移動してもよい。また、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は、第１部材２１に対する第２部材２２Ｃの相対速度よりも高い相対速度で第１部材２１に対して移動してもよい。例えば、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して速度Ｖａで＋Ｘ方向に移動し、回収部材４２（第１回収部２７）が第１部材２１に対して速度Ｖａとは異なる速度Ｖｂで＋Ｘ方向に移動してもよい。速度Ｖｂは、速度Ｖａよりも低くてもよいし、高くてもよい。
【０２５６】
また、第１部材２１に対する第２部材２２Ｃの相対加速度と回収部材（第１回収部２７）の相対加速度とが異なってもよい。例えば、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は、第１部材２１に対する第２部材２２Ｃの相対加速度よりも低い相対加速度で第１部材２１に対して移動してもよい。また、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は、第１部材２１に対する第２部材２２Ｃの相対加速度よりも高い相対加速度で第１部材２１に対して移動してもよい。例えば、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して加速度Ａａで＋Ｘ方向に移動し、回収部材４２（第１回収部２７）が第１部材２１に対して加速度Ａａとは異なる加速度Ａｂで＋Ｘ方向に移動してもよい。加速度Ａｂは、加速度Ａａよりも低くてもよいし、高くてもよい。
【０２５７】
また、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は、第２部材２２Ｃと一緒に移動してもよい。例えば、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して速度Ｖａで＋Ｘ方向に移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）が第１部材２１に対して速度Ｖａで＋Ｘ方向に移動してもよい。
【０２５８】
また、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は、第１部材２１に対して実質的に静止してもよい。換言すれば、第２部材２２Ｃが移動する期間の少なくとも一部において、回収部材４２（第１回収部２７）は移動しなくてもよい。
【０２５９】
また、第２部材２２Ｃが第１部材２１に対して移動する期間の少なくとも一部において、第１部材２１に対する回収部材４２（第１回収部２７）の相対速度が変化してもよい。例えば、回収部材４２の速度が、第１速度及び第１速度よりも高い第２速度の一方から他方に変化してもよい。回収部材４２の第１速度は第２部材２２Ｃの移動速度よりも低く、回収部材４２の第２速度は第２部材２２Ｃの移動速度よりも高くてもよい。回収部材４２の第１速度及び第２速度の両方が、第２部材２２Ｃの移動速度よりも高くてもよいし、低くてもよい。
【０２６０】
なお、本実施形態において、光路Ｋに対して開口３５よりも外側に、上面２５Ｃ側の第１空間ＳＰ１と下面２６Ｃ側の第２空間ＳＰ２とを流体的に接続する開口（孔）が形成されてもよい。その開口（孔）は、第２部材２２Ｃに形成されてもよいし、接続部材４３に形成されてもよい。
【０２６１】
なお、本実施形態において、接続部材４３は省略されてもよい。第２部材２２Ｃと回収部材４２とは別の部材であるため、第２部材２２Ｃと回収部材４２（第１回収部２７）とは相対移動可能である。また、第２部材２２Ｃと回収部材４２との間に間隙が形成されてもよい。その間隙を介して、上面２５Ｃ側の第１空間ＳＰ１と下面２６Ｃ側の第２空間ＳＰ２とが流体的に接続されてもよい。
【０２６２】
上面２５Ｃ側の第１空間ＳＰ１と下面２６Ｃ側の第２空間ＳＰ２とが流体的に接続されることによって、第１回収部２７は、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能であるとともに、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。
【０２６３】
なお、上述の第１、第２実施形態において、光路Ｋに対して開口３５よりも外側における第２部材２２の一部に、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とを流体的に接続する開口（孔）が形成されてもよい。この場合においても、第１回収部２７は、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能であるとともに、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。
【０２６４】
＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０２６５】
図１５は、本実施形態に係る液浸部材５Ｄを示すＹＺ平面と平行な断面図、図１６は、液浸部材５Ｄを示すＸＺ平面と平行な断面図、図１７は、図１５の一部を拡大した図、図１８は、液浸部材５Ｄを下側（−Ｚ側）から見た図、図１９は、液浸部材５Ｄの斜視図、図２０は、第１部材２１Ｄを下側（−Ｚ側）から見た図である。
【０２６６】
液浸部材５Ｄは、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１Ｄと、第１部材２１Ｄの下方において露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材２１Ｄに対して可動な第２部材２２Ｄとを有する。
【０２６７】
本実施形態において、第１部材２１Ｄは、終端光学素子１３の周囲に配置される。第１部材２１Ｄは、環状の部材である。本実施形態において、第２部材２２Ｄは、光路Ｋの周囲に配置される。第２部材２２Ｄは、環状の部材である。
【０２６８】
第１部材２１Ｄは、−Ｚ方向を向く下面２３Ｄを有する。第２部材２２Ｄは、＋Ｚ方向を向く上面２５Ｄと、−Ｚ方向を向く下面２６Ｄとを有する。基板Ｐ（物体）は、下面２６Ｄに対向可能である。上面２５Ｄは、下面２３Ｄと間隙を介して対向する。また、本実施形態においては、上面２５Ｄは、射出面１２と間隙を介して対向する。なお、上面２５Ｄが射出面１２と対向していなくてもよい。
【０２６９】
液浸部材５Ｄは、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する第１供給部３１と、上面２５Ｄ側の第１空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する第２供給部４１とを有する。
【０２７０】
第１供給部３１は、第３空間ＳＰ３に面する。第１供給部３１は、第１部材２１Ｄに配置される。第２供給部４１は、第１空間ＳＰ１に面する。第２供給部４１は、第１部材２１Ｄに配置される。
【０２７１】
なお、第１供給部３１は、第１部材２１Ｄ及び第２部材２２Ｄの一方又は両方に配置されてもよい。なお、第２供給部４１は、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材２２Ｄに配置されてもよい。なお、第２供給部４１は、第１部材２１Ｄ及び第２部材２２Ｄの一方又は両方に配置されてもよい。
【０２７２】
液浸部材５Ｄは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収部２７Ｄを有する。回収部２７Ｄは、第１部材２１Ｄに配置される。第２部材２２Ｄが第１部材２１Ｄに対して移動する期間において、回収部２７Ｄは第１部材２１Ｄに対して静止する。
【０２７３】
本実施形態において、第２部材２２Ｄの少なくとも一部は、回収部２７Ｄと対向する。なお、第２部材２２Ｄは、回収部２７Ｄに対向しなくてもよい。
【０２７４】
回収部２７Ｄは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して下面２３Ｄの外側に配置される。本実施形態において、基板Ｐ（物体）は、回収部２７Ｄの少なくとも一部に対向可能である。回収部２７Ｄは、上面２５Ｄが面する第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。また、回収部２７Ｄは、下面２６Ｄが面する第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。
【０２７５】
第２部材２２Ｄは、駆動装置１２７によって移動する。駆動装置１２７は、例えばモータを含み、ローレンツ力を使って第２部材２２Ｄを移動する。本実施形態において、第２部材２２Ｄの上面２５Ｄの少なくとも一部に支持部材１２８が接続される。本実施形態において、支持部材１２８は、光路Ｋ（終端光学素子１３）に対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに配置される。支持部材１２８は、駆動装置１２７の作動によって移動される。駆動装置１２７は、支持部材１２８を移動することによって、第２部材２２Ｄを移動する。
【０２７６】
なお、複数の支持部材１２８の配置は、＋Ｙ側及び−Ｙ側に限られない。例えば、＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置されてもよいし、＋Ｙ側、−Ｙ側、＋Ｘ側、−Ｘ側のそれぞれに配置されてもよい。また、１つの支持部材で第２部材２２Ｄを支持してもよい。
【０２７７】
本実施形態において、第１部材２１Ｄは、終端光学素子１３の側面１３Ｆと対向する内側面１３０と、内側面１３０の上端の周囲に配置される上面１３１とを有する。
【０２７８】
本実施形態において、複数の支持部材１２８は、第１部材２１Ｄに設けられた複数の孔１３２のそれぞれに移動可能に配置されている。本実施形態において、光路Ｋに対して、＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに孔１３２が設けられている。孔１３２のそれぞれは、第１空間ＳＰ１に結ばれるように第１部材２１Ｄに形成される。支持部材１２８の少なくとも一部は、孔１３２に配置される。
【０２７９】
孔１３２のそれぞれは、Ｚ軸方向に関して、第１部材２１Ｄの上側の空間（第３空間ＳＰ３を含む）と下側の空間（第１空間ＳＰ１を含む）とを結ぶように第１部材２１Ｄを貫通する。本実施形態において、孔１３２のそれぞれは、第１部材２１Ｄの内側面１３０と下面２３Ｄとを結ぶように形成されている。また、図１９などに示すように、孔１３２のそれぞれは、Ｘ軸方向に延びており、孔１３２に配置された支持部材２８は、Ｘ軸方向に移動可能である。駆動装置１２７は、内側面１３０側で支持部材１２８に接続されている。すなわち、本実施形態において、駆動装置１２７は、第１部材２１Ｄの上側空間で支持部材１２８に、直接的に、または別の部材を介して間接的に接続される。駆動装置１２７により支持部材１２８がＸ軸方向に移動されることによって、第２部材２２ＤがＸ軸方向に移動する。
【０２８０】
なお、支持部材１２８が配置される孔１３２の少なくとも一つは、第１部材２１Ｄの上面１３１と下面２３Ｄとを結ぶように形成されてもよい。なお、複数の駆動装置１２７で支持部材１２８が移動されてもよいし、一つの駆動装置１２７で一つの支持部材１２８が移動されてもよい。なお、複数の支持部材２８が連結部材（不図示）で接続され、その連結部材が駆動装置１２７で移動されてもよい。
【０２８１】
本実施形態において、第２部材２２Ｄ及び支持部材１２８は、第１部材２１Ｄと接触しない。第１部材２１Ｄと第２部材２２Ｄとの間に間隙が形成され、第１部材２１Ｄと支持部材１２８との間に間隙が形成される。駆動装置１２７は、第２部材２２Ｄ及び支持部材１２８と第１部材２１Ｄとが接触しないように、第２部材２２Ｄ及び支持部材１２８を移動可能である。なお、第２部材２２Ｄ及び支持部材１２８の少なくとも一方と第１部材２１Ｄとが接触してもよい。
【０２８２】
本実施形態において、第２部材２２Ｄは、Ｘ軸方向に移動可能である。第２部材２２Ｄは、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。なお、第２部材２２Ｄが、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能でもよい。
【０２８３】
本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１Ｄも、実質的に移動しない。第２部材２２Ｄは、第１部材２１Ｄの少なくとも一部の下方において、終端光学素子１３及び第１部材２１Ｄに対して相対移動可能である。第２部材２２Ｄは、第１部材２１Ｄと基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。
【０２８４】
第１部材２１Ｄは、内側面１３０の下端に接続され、下面２３Ｄの反対方向（＋Ｚ方向）を向く上面１３６を有する。上面１３６は、開口３４の上端の周囲に配置される。下面２３Ｄは、開口３４の下端の周囲に配置される。上面２５Ｄは、開口３５の上端の周囲に配置される。下面２６Ｄは、開口３５の下端の周囲に配置される。
【０２８５】
第１供給部３１から供給された液体ＬＱは、上面１３６を流れた後、上面２５Ｄに供給される。その上面２５Ｄに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第２部材２２Ｄに設けられた開口３５を介して基板Ｐ（物体）上に供給される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされる。また、開口３５からの液体ＬＱの少なくとも一部は、第２空間ＳＰ２に供給される。
【０２８６】
また、第１供給部３１から上面２５Ｄに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、下面２３Ｄと上面２５Ｄとの間の開口４０を介して、第１空間ＳＰ１に供給される。
【０２８７】
回収部２７Ｄの少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）が対向するように配置される。また、回収部２７Ｄの少なくとも一部は、第２部材２２Ｄが対向するように配置される。回収部２７Ｄは、液体ＬＱを回収するための回収口１３７を有する。回収口１３７は、第１部材２１Ｄの内部に形成された回収流路（空間）１３７Ｒを介して、液体回収装置と接続される。液体回収装置は、回収口１３７と真空システムとを接続可能である。
【０２８８】
回収口１３７は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口１３７を介して回収流路１３７Ｒに流入可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口１３７を介して回収流路１３７Ｒに流入可能である。また、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口１３７を介して回収流路１３７Ｒに流入可能である。
【０２８９】
本実施形態において、回収部２７Ｄは、多孔部材１３８を含み、回収口１３７は、多孔部材１３８の孔を含む。本実施形態において、多孔部材１３８は、メッシュプレートを含む。多孔部材１３８は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面１３９と、回収流路１３７Ｒに面する上面と、下面１３９と上面とを結ぶ複数の孔とを有する。回収口１３７（多孔部材１３８の孔）から回収された基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、回収流路１３７Ｒに流入する。
【０２９０】
本実施形態においては、第１供給部３１からの液体ＬＱの供給動作と並行して、回収部２７Ｄからの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５Ｄと、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。
【０２９１】
液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、液浸部材５Ｄと基板Ｐ（物体）との間に形成される。本実施形態においては、界面ＬＧは、第１部材２１Ｄと基板Ｐ（物体）との間に形成される。
【０２９２】
また、本実施形態においては、第３空間ＳＰ３の少なくとも一部が、液浸空間ＬＳの液体ＬＱで満たされる。液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。
【０２９３】
なお、本実施形態において、第１空間ＳＰ１に面し、その第１空間ＳＰ１の液体ＬＱを回収可能な第２回収部が設けられてもよい。第２回収部は、第１部材２１Ｄに設けられてもよいし、第２部材２２Ｄに設けられてもよいし、第１部材２１Ｄ及び第２部材２２Ｄの両方に設けられてもよい。
【０２９４】
液浸部材５Ｄは、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を誘導する誘導部３８０を有する。図２０に示すように、本実施形態において、誘導部３８０は、第１部材２１Ｄの下面２３Ｄに設けられた凸部を含む。誘導部３８０は、例えば開口４０を介して第１供給部３１から第１空間ＳＰ１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部を誘導可能である。また、誘導部３８０は、第２供給部４１から第１空間ＳＰ１に供給された液体ＬＱの少なくとも一部を誘導可能である。
【０２９５】
誘導部３８０は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部が露光光ＥＬの光路Ｋから外側に向かうように誘導する。図２０に示すように、本実施形態において、回収部２７Ｄは、露光光ＥＬの光路Ｋに対して誘導部３８０の外側に配置される。誘導部３８０は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収部２７Ｄに誘導する。
【０２９６】
本実施形態において、第２供給部４１は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して誘導部３８０の外側に配置される。回収部２７Ｄは、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の外側に配置される。
【０２９７】
また、本実施形態において、第１空間ＳＰ１に面する孔１３２の下端部は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して誘導部３８０の外側に配置される。第１空間ＳＰ１に面する孔１３２の下端部は、露光光ＥＬの光路Ｋに対して第２供給部４１の外側に配置される。
【０２９８】
誘導部３８０は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される壁部３８０Ｒと、その壁部３８０Ｒの一部に形成されるスリット（開口）３８０Ｋとを有する。壁部３８Ｒは、第１空間ＳＰ１において露光光ＥＬの光路Ｋを囲むように配置される。また、壁部３８０Ｒは、開口３４を囲むように配置される。スリット３８０Ｋは、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに形成される。また、本実施形態においては、スリット３８０Ｋは、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに形成される。
【０２９９】
なお、壁部３８０Ｒは、開口３４（露光光ＥＬの光路Ｋ）を囲んでいなくてもよい。例えば、壁部３８０Ｒは、開口３４（露光光ＥＬの光路Ｋ）の＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置され、＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれには配置されなくてもよい。
【０３００】
なお、誘導部３８０は、第２部材２２Ｄに配置されてもよい。なお、誘導部３８０は、第１部材２１Ｄ及び第２部材２２Ｄの両方に配置されてもよいし、第１部材２１Ｄ及び第２部材２２Ｄのいずれか一方に配置されてもよい。
【０３０１】
また、図１７及び図２０などに示すように、本実施形態においては、第１空間ＳＰ１は、第１部材２１Ｄと第２部材２２Ｄとの間隙が寸法Ｗ３の部分ＳＰ１ｅと、露光光ＥＬの光路Ｋに対して部分ＳＰ１ｅの外側に配置され、第１部材２１Ｄと第２部材２２Ｄとの間隙が寸法Ｗ３よりも小さい寸法Ｗ４の部分ＳＰ１ｆとを含む。本実施形態において、部分ＳＰ１ｆは、第１空間ＳＰ１において露光光ＥＬの光路Ｋを囲むように配置される壁部３９０によって規定される。
【０３０２】
本実施形態において、壁部３９０は第１部材２１Ｄの下面２３Ｄに配置される。壁部３９０が下面２３Ｄに配置される場合、部分ＳＰ１ｅは、下面２３Ｄと上面２５Ｄとの間の空間を含み、部分ＳＰ１ｆは、上面２５Ｄとその上面２５Ｄに対向する壁部３９０の下面との間の空間を含む。壁部３９０が上面２５Ｄに配置される場合、部分ＳＰ１ｅは、下面２３Ｄと上面２５Ｄとの間の空間を含み、部分ＳＰ１ｆは、下面２３Ｄとその下面２３Ｄに対向する壁部３９０の上面との間の空間を含む。なお、壁部３９０は、下面２３Ｄ及び上面２５Ｄの両方に配置されてもよい。
【０３０３】
本実施形態において、回収部２７Ｄは、露光光ＥＬの光路Ｋに対して部分ＳＰ１ｆの外側に配置される。
【０３０４】
また、本実施形態において、第１空間ＳＰ１に面する孔１３２の下端部は、部分ＳＰ１ｅに面する。
【０３０５】
以上説明したように、本実施形態においては、第２供給部４１、誘導部３８０、及び壁部３９０（部分ＳＰ１ｆ）が設けられるため、第１部材２１Ｄと基板Ｐ（物体）との間の空間から第１空間ＳＰ１に異物が入り込むこと、及び孔１３２を介して第１空間ＳＰ１に異物が入り込むことが抑制される。これにより、光路空間ＳＰＫに異物が入り込むことが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０３０６】
なお、本実施形態において、第２供給部４１が省略されてもよい。誘導部３８０及び壁部３９０の一方又は両方の作用によっても、光路空間ＳＰＫに異物が入り込むことが抑制される。
【０３０７】
なお、本実施形態において、誘導部３８０が省略されてもよい。第２供給部４１及び壁部３９０の一方又は両方の作用によっても、光路空間ＳＰＫに異物が入り込むことが抑制される。
【０３０８】
なお、本実施形態において、壁部３９０が省略されてもよい。第２供給部４１及び誘導部３８０の一方又は両方の作用によっても、光路空間ＳＰＫに異物が入り込むことが抑制される。
【０３０９】
なお、本実施形態において、第２部材２２Ｄの下面２６Ｄに、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収可能な回収部が設けられてもよい。
【０３１０】
なお、本実施形態において、第１部材２１Ｄ及び第２部材２２Ｄとは別の部材に回収部２７Ｄが設けられてもよい。その別の部材（回収部２７Ｄ）が第２部材２２Ｄに対して相対移動可能でもよい。また、その別の部材（回収部２７Ｄ）が第１部材２１Ｄに対して相対移動可能でもよい。また、その別の部材（回収部２７Ｄ）が第１部材２１Ｄに対する第２部材２２Ｄの相対速度よりも低い相対速度で第１部材２１Ｄに対して移動してもよい。また、その別の部材（回収部２７Ｄ）が第２部材２２Ｄと一緒に移動してもよい。
【０３１１】
なお、上述の第１〜第４実施形態において、図２１に示すように、第１部材２１４の少なくとも一部が、終端光学素子１３の射出面１２と対向してもよい。図２１に示す例において、第１部材２１４は、開口３４の周囲に配置された上面４４を有する。開口３４の上端の周囲に上面４４が配置される。開口３４の下端の周囲に下面２３が配置される。上面４４の一部が、射出面１２と対向する。また、図２１に示す例では、第２部材２２の上面２５の一部も、射出面１２と対向する。
【０３１２】
なお、図２２に示すように、第１部材の下面２３が、射出面１２よりも＋Ｚ側に配置されてもよい。なお、Ｚ軸方向に関する下面２３の位置（高さ）と射出面１２の位置（高さ）とが実質的に等しくてもよい。第１部材の下面２３が、射出面１２よりも−Ｚ側に配置されてもよい。
【０３１３】
なお、上述の各実施形態において、第１部材２１と終端光学素子１３との間の空間から液体ＬＱと気体の少なくとも一方を吸引する吸引口を第１部材２１に設けてもよい。
【０３１４】
なお、上述の各実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【０３１５】
なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
【０３１６】
記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。
【０３１７】
記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、及び液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部を含み、第１部材と第２部材との間隙が第１寸法の第１部分と光路に対して第１部分の外側に配置され第１部材と第２部材との間隙が第１寸法よりも小さい第２部分とが第２上面側の第１空間において形成された液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
【０３１８】
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部、及び第１下面及び第２上面の一方又は両方に配置され、第２上面側の第１空間の液体の少なくとも一部を誘導する誘導部を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。
【０３１９】
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と基板が対向可能な第２下面とを有する第２部材、液浸空間を形成するための液体を供給する第１供給部、及び第２上面側の第１空間に面し、第１空間に液体を供給する第２供給部を含む液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動することと、を実行させてもよい。
【０３２０】
記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。
【０３２１】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０３２２】
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
【０３２３】
なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
【０３２４】
なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
【０３２５】
また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
【０３２６】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
【０３２７】
また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図２３に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。
【０３２８】
また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０３２９】
露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。
【０３３０】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
【０３３１】
上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
【０３３２】
また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０３３３】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０３３４】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２４に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０３３５】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０３３６】
２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２２…第２部材、２２Ｓ…支持部材、２３…下面、２４…第２回収部、２５…上面、２６…下面、２７…第１回収部、２９…外側面、３０…内側面、３１…液体供給部、３２…駆動装置、３４…開口、３５…開口、３８…誘導部、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板。
【図１】
2014086456.tif 000003
【図２】
2014086456.tif 000004
【図３】
2014086456.tif 000005
【図４】
2014086456.tif 000006
【図５】
2014086456.tif 000007
【図６】
2014086456.tif 000008
【図７】
2014086456.tif 000009
【図８】
2014086456.tif 000010
【図９】
2014086456.tif 000011
【図１０】
2014086456.tif 000012
【図１１】
2014086456.tif 000013
【図１２】
2014086456.tif 000014
【図１３】
2014086456.tif 000015
【図１４】
2014086456.tif 000016
【図１５】
2014086456.tif 000017
【図１６】
2014086456.tif 000018
【図１７】
2014086456.tif 000019
【図１８】
2014086456.tif 000020
【図１９】
2014086456.tif 000021
【図２０】
2014086456.tif 000022
【図２１】
2014086456.tif 000023
【図２２】
2014086456.tif 000024
【図２３】
2014086456.tif 000025
【図２４】
2014086456.tif 000026