(57)【要約】【課題】有機発光層から発した光を外部に向けて効率よく出射させ、高輝度に発光可能な発光デバイス、表示装置、及び照明装置を提供する。【解決手段】第一電極（下部電極）１２を所定の領域（例えば画素）毎に複数に区画するバンク（絶縁層）１５は、少なくとも光反射性を有する材料から構成される。光反射性を有する材料としては、色調が白色の材料を用いることが好ましい。更に、光反射性に加えて光拡散性を有する材料を用いることも好ましい。【選択図】図１
2014225329.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性の基板の一面に順に積層された第一電極および第二電極と、該第一電極および第二電極の間に形成された有機発光層と、を有する発光デバイスであって、
少なくとも前記第一電極を所定の領域毎に複数に区画するバンクを備え、
該バンクは光反射性を有する材料から構成されることを特徴とする発光デバイス。
【請求項２】
前記第二電極は遮光性を有する材料から構成されることを特徴とする請求項１記載の発光デバイス。
【請求項３】
前記第一電極は光透過性を有する材料から構成されることを特徴とする請求項１または２記載の発光デバイス。
【請求項４】
前記バンクは白色材料から構成されることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記載の発光デバイス。
【請求項５】
前記バンクは光反射性に加えて更に光拡散性を有する材料から構成されることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１項記載の発光デバイス。
【請求項６】
前記バンクは樹脂中に微細な光反射性粒子を分散させてなることを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の発光デバイス。
【請求項７】
前記光反射性粒子は、粒径が２００ｎｍ〜５μｍであることを特徴とする請求項６記載の発光デバイス。
【請求項８】
前記基板と前記第一電極との間に、前記基板よりも屈折率の低い低屈折率層を更に形成したことを特徴とする請求項１ないし７いずれか１項記載の発光デバイス。
【請求項９】
請求項１ないし８いずれか１項記載の発光デバイスに対して、該発光デバイスの発光を制御する駆動部を配置したことを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１ないし８いずれか１項記載の発光デバイスに対して、該発光デバイスの発光を制御する駆動部を配置したことを特徴とする照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光層に電圧を印加して発光させる発光デバイス、およびこれを備えた表示装置、照明装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、社会の高度情報化に伴い、フラットパネルディスプレイのニーズが高まっている。フラットパネルディスプレイとしては、例えば、非自発光型の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、自発光型のプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、無機エレクトロルミネセンス（無機ＥＬ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネセンス（以下、「有機ＥＬ」または「有機ＬＥＤ」とも言う）ディスプレイ等が挙げられる。
【０００３】
これらフラットパネルディスプレイの中でも、特に有機ＥＬ（Organic light emitting diode）ディスプレイなど、有機発光層を用いた発光素子は、薄型・広視野角などの特長から次世代ディスプレイの主流になりうる候補技術として注目されている。
しかし一方で、有機ＥＬには、発光効率が低い、消費電力が大きい、寿命が短い、信頼性が低いなどの課題が残っている。発光効率は、一般的にηφ（ext）（External Quantum Efficiency）＝ηext×ηφ＝ηext×γ×ηｒ×φｆで表される。ここで、ηφ（ext）は外部量子効率、ηextは外部光取出し効率、ηφは内部量子効率、γはキャリアバランス、ηｒは励起子生成確率、φｆは蛍光量子収率である。
【０００４】
近年、材料の進歩に伴い、内部量子効率は着実に向上しており、特に、三重項状態を利用するりん光材料の進展に伴い大幅に改善されてきている。しかし一方、光取出し効率は大きな課題として残っている。有機ＥＬ素子においては、用いられる有機発光層、透明電極層、ガラス基板などの屈折率が空気より大きいため、スネルの法則に基づく全反射条件から光を効率よく取り出せない。取り出せる光の量は通常、１５〜３０％程度であり、大半の光が外部に出射されることなく失われていることになる。
【０００５】
こうした課題に対して、例えば、特許文献１においては、透明導電層の発光層と反対の面に屈折率１．０１〜１．３の範囲となる低屈折率層を設けた発明が開示されている。
また、特許文献２においては、透明電極層と光透過性の基板との間に、低屈折率材料からなるマトリクス樹脂中に光を散乱させる粒子を拡散させた浸み出し光拡散層を設けた発明が開示されている。
また、特許文献３においては、光を取り出す側の基板面に、多数の微小粒子からなる光取出し層を設けた発明が開示されている。
更に、特許文献４には、画素を凹状構造にすることによって光取出し効率を向上させた発明が開示されている。
特許文献５には、画素の側面に反射層を設けることにより光取出し効率を向上させた発明が開示されている。
特許文献６には、蛍光体層を有機ＥＬ発光部と組み合わせた有機ＥＬ素子において、蛍光体層の側面に反射膜を設けることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２７８４７７号公報
【特許文献２】特開２００４−２９６４３７号公報
【特許文献３】特開２０１１−１０８３９５号公報
【特許文献４】特開２０１１−００９０１７号公報
【特許文献５】特開２０１０−００９７９３号公報
【特許文献６】特開平１１−３２９７２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した特許文献１〜４に開示された発明では、光取出し効率を向上させることができるとされているものの、光取出し効率の向上効果が限定的であるという課題があった。即ち、有機発光層や電極を介して面方向に沿って光が伝播し、外部へ出射される光が減少することへの対策が全くなされていなかった。
【０００８】
例えば、有機発光層の典型的な屈折率が１．８程度、絶縁層（バンク）の典型的な屈折率が１．５〜１．８程度、透明電極層であるＩＴＯの典型的な屈折率が２．１〜２．２程度であるため、低屈折率層（屈折率１．０〜１．３程度）との屈折率差のために、低屈折率層との界面で全反射されてしまう成分が多い。この全反射された成分は、有機発光層、絶縁層、透明電極層などを介して面方向に沿って伝播し、外部に出射されることなく損失する。
【０００９】
透明電極層を有機発光層の画素領域ごとに区画する絶縁層（バンク）は、従来、ポリメチルメタクリレート、ポリイミドなどの高分子材料やＳｉＯ２等の無機材料から構成されており、色調は透明か黒色であった。このため、面方向に沿って広がった光は、絶縁層（バンク）が黒色の場合は、この絶縁層に吸収されて損失する。また、絶縁層（バンク）が透明（光透過性）の場合は、この絶縁層を介して隣接する有機発光層や透明電極層に向けて光が伝播して損失する。
【００１０】
また、特許文献５及び６には、発光部分の側面に反射膜を形成することにより光取出し効率を向上させる技術が開示されており、さらに、特許文献６には反射膜として金属粉、金属粒子もしくは白色顔料を含む樹脂からなることが開示されているが、構造上、プロセス上の課題があった。
【００１１】
特許文献５の技術においては、側面の反射膜が導電性であるため、反射膜状にさらに絶縁層を設ける必要があり、プロセスが複雑になる欠点があった。しかも、反射膜が形成されている部分が、基板に対して斜めになっている隔壁側面であるため、生産時のプロセス制御性が困難であるばかりでなく、パターン形成のための露光位置合わせマージンなどを考えると、画素開口部が小さくなるという課題があった。画素開口部が小さくなると、ディスプレイとしての所望の輝度を得るために、画素開口部での発光輝度を上げる必要があった。
【００１２】
特許文献６の技術においては、蛍光体層の側面に反射膜を形成する技術、反射膜として金属粉、金属粒子もしくは白色顔料を含む樹脂からなる技術が開示されているが、この技術を有機ＥＬ発光部分に適用することについてはなんら開示も示唆もされていない。また、この技術を有機ＥＬ発光部に適用し、有機発光部の側面に反射膜を形成しようとすると構造上、プロセス上の課題が生じる。
まず、有機ＥＬの発光部分に用いられる有機材料は水分、酸素、溶剤などに対して極めて弱く、この有機ＥＬ発光部分の側面に反射膜を形成することはプロセス上極めて困難である。また、この技術は有機ＥＬの各画素ごとに発光層が分離形成されている場合はともかく、発光層が画素ごとに分離させず全面形成された構造には適用できないという課題もある。さらに、有機ＥＬ発光部からの光導波による光損失を考えるときには、電極など発光部分以外からの導波も考えなければならないが、特許文献６には、それらについてはなんら開示も示唆もされていない。
【００１３】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、有機発光層から発した光を外部に向けて効率よく出射させ、高輝度に発光可能な発光デバイス、表示装置、及び照明装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明のいくつかの態様は次のような発光デバイス、表示装置、及び照明装置を提供した。
すなわち、本発明の発光デバイスは、光透過性の基板の一面に順に積層された第一電極および第二電極と、該第一電極および第二電極の間に形成された有機発光層と、を有する発光デバイスであって、
少なくとも前記第一電極を所定の領域毎に複数に区画するバンクを備え、該バンクは光反射性を有する材料から構成されることを特徴とする。
【００１５】
前記第二電極は遮光性を有する材料から構成されることを特徴とする。
また、前記第一電極は光透過性を有する材料から構成されることを特徴とする。
【００１６】
前記バンクは白色材料から構成されることを特徴とする。
また、前記バンクは光反射性に加えて更に光拡散性を有する材料から構成されることを特徴とする。
【００１７】
前記バンクは樹脂中に微細な光反射性粒子を分散させてなることを特徴とする。
また、前記光反射性粒子は、粒径が２００ｎｍ〜５μｍであることを特徴とする。
【００１８】
前記基板と前記第一電極との間に、前記基板よりも屈折率の低い低屈折率層を更に形成したことを特徴とする。
【００１９】
本発明の表示装置は、前記各項記載の発光デバイスに対して、該発光デバイスの発光を制御する駆動部を配置したことを特徴とする。
【００２０】
本発明の照明装置は、前記各項記載の発光デバイスに対して、該発光デバイスの発光を制御する駆動部を配置したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、高発光効率（高輝度）の発光デバイス、表示装置、及び照明装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第一実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図２】本発明の第二実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図３】本発明の第三実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図４】本発明の第四実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図５】本発明の第五実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図６】本発明の第六実施形態に係る表示装置を示す断面図である。
【図７】本発明の第七実施形態に係る表示装置を示す断面図である。
【図８】バンクの形状例を示した断面図である。
【図９】バンクの構成例を示した断面図である。
【図１０】本発明の第八実施形態に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図１１】第八実施形態の変形例を示す断面図である。
【図１２】本発明の発光デバイスの一適用例である表示装置を示す外観図である。
【図１３】本発明の発光デバイスの一適用例である照明装置を示す外観図である。
【図１４】第八実施形態の変形例に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図１５】第八実施形態の変形例に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図１６】第八実施形態の変形例に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図１７】第八実施形態の変形例に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図１８】第八実施形態の変形例に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図１９】第八実施形態の変形例に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図２０】第八実施形態の変形例に係る発光デバイスを示す断面図である。
【図２１】バンクの形状バリエーションを示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照して、本発明に係る発光デバイス、表示装置、及び電子機器の一実施形態について説明する。なお、以下に示す実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００２４】
（発光デバイス：第一実施形態）
図１は第一実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
発光デバイス１０は、光透過性の基板１１と、この基板１１の一面１１ａに順に積層された第一電極（下部電極）１２、第二電極（上部電極）１３と、この第一電極１２および第二電極１３の間に形成された有機発光層１４と、を有する。
【００２５】
また、基板１１の一面１１ａには、第一電極１２を所定の領域毎に複数に区画するバンク（絶縁層）１５が形成されている。このようなバンク１５は、例えば有機発光層１４の１画素に相当する領域に対応して、第一電極１２を複数に区画して、区画された第一電極１２どうしを互いに電気的に絶縁する。
【００２６】
作製プロセスとしては、例えば、基板１１上に第一電極（下部電極）１２を形成し、その後バンク１５を形成し、さらに有機発光層１４、第二電極（上部電極）１３を形成するプロセスなどを用いることができる。有機ＥＬに用いられる材料は水分、酸素などに極めて弱いため、有機発光層１４の形成前、すなわち、第一電極（下部電極）１２及びバンク１５を形成した後に、十分な脱水工程（ベーク工程、真空乾燥工程など）を行うことが好ましい。
【００２７】
基板１１は、光透過性の材料、例えば、ガラス、透明樹脂などから構成される。具体例として、液晶ディスプレイなどで頻繁に使われている０．７ｍｍ厚のガラス基板を用いることができる。
【００２８】
第一電極（下部電極）１２は、透明電極であればよく、例えば、ＩＴＯ（Indium-tin-oxide）や、ＺｎＯ（Zinc oxide）などが用いられる。第一電極１２の厚さは例えば、１００ｎｍ程度である。なお、第一電極１２は、通常はアノードであるが、カソードとすることも可能であり、その場合には低仕事関数の材料を用いる。また、配線抵抗を下げる目的等で補助配線を併設してもいい。補助配線は、例えばＡｌ， Ａｇ， Ｔａ， Ｔｉ， Ｎｉなどの金属材料で形成することができる。
【００２９】
第一電極（下部電極）１２は、バンク（絶縁層）１５によって、所定の領域毎に複数に区画されている。本発明の発光デバイスを表示装置（有機ＥＬディスプレイ）として用いる場合には、第一電極（下部電極）１２は、１画素に相当する領域毎に区画されていればよい。
【００３０】
第二電極（上部電極）１３は、遮光性である場合と光透過性である場合とがある。第二電極（上部電極）１３が遮光性や反射性など光不透過性である場合は、いわゆるボトムエミッション型の発光デバイスとなる。また、第二電極（上部電極）１３が光透過性である場合は、両面発光型の発光デバイスとなる。第二電極１３は、通常はカソードを成し、光不透過性の場合は、ＬｉＦ／Ａｌ， ＭｇＡｇ／Ａｌ， Ｂａ／Ａｌ， Ｃａ／Ａｇなどを用いることが出来る。また、光透過性の場合には、ＬｉＦ／ＩＴＯ， ＭｇＡｇ／ＩＺＯなどを用いることができる。なお、第二電極（上部電極）１３をアノードとすることも可能であり、その場合には、仕事関数の高い材料、例えば、ＩＴＯなどが好ましく用いられる。
【００３１】
これら以外にも、第一電極１２及び第二電極１３を形成する電極材料として、各種の公知の電極材料を用いることができる。アノードである場合には、有機発光層１４への正孔の注入をより効率よく行う観点から、仕事関数が４．５ｅＶ以上の金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）等の金属、及び、インジウム（Ｉｎ）と錫（Ｓｎ）からなる酸化物（ＩＴＯ）、錫（Ｓｎ）の酸化物（ＳｎＯ２）インジウム（Ｉｎ）と亜鉛（Ｚｎ）からなる酸化物（ＩＺＯ）等が透明電極材料として挙げられる。
【００３２】
また、カソードを形成する電極材料としては、有機発光層１４への電子の注入をより効率よく行う観点から、仕事関数が４．５ｅＶ以下のリチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、セリウム（Ｃｅ）、バリウム（Ｂａ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属、又は、これらの金属を含有するＭｇ：Ａｇ合金、Ｌｉ：Ａｌ合金等の合金が挙げられる。
【００３３】
第一電極１２及び第二電極１３は上記の材料を用いてＥＢ蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、抵抗加熱蒸着法等の公知の方法により形成することができるが、本発明はこれらの形成方法に限定されるものではない。また、必要に応じて、フォトリソグラフフィー法、レーザー剥離法により、形成した電極をパターン化することもでき、シャドーマスクと組み合わせることで直接パターン化した電極を形成することもできる。その膜厚は、５０ｎｍ以上が好ましい。膜厚が５０ｎｍ未満の場合には、配線抵抗が高くなることから、駆動電圧の上昇が生じるおそれがある。
【００３４】
有機発光層（有機ＥＬ発光体）１４は、第一電極１２と第二電極１３との間に印加された電圧によって、所定の波長帯の光を発する。有機発光層（有機ＥＬ発光体）１４は、単層でもよいが、通常は複数層からなり、例えば、α−ＮＰＤとＡｌｑ３の積層膜などを用いることができる。また、アノードである第一電極（下部電極）１２と、カソードである第二電極（上部電極）１３との間に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、ホールブロッキング層、電子輸送層、電子注入層などからなる複層の有機発光層を形成することも行われている。
【００３５】
これらの層以外に、ＭｏＯ３層、Ｃ６０層、フラーレン含有層、量子ドット含有層などさまざまな層を併用することも盛んに検討されており、いずれも本発明を適用できることは言うまでもない。量子ドット含有層を用いた発光素子は、QLED（Quantum-dot light emitting diode）と呼ばれている。また、発光領域を積層するいわゆるタンデム構造を用いることもできる。第一電極１２と第二電極１３との間に配置される層の膜厚は、通常、各層が数１０ｎｍ程度である。もちろん、本発明の技術は、本発明の構成をとるものであれば、現在まだ発明されていない発光素子、一般に認知されていない発光素子などにも適用可能であることはいうまでもない。
【００３６】
有機発光層１４の層構造としての具体的として、下記の構成が挙げられるが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
（１）有機発光層
（２）正孔輸送層／有機発光層
（３）有機発光層／電子輸送層
（４）正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
（５）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層
（７）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／正孔防止層／電子輸送層
（８）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／正孔防止層／電子輸送層／電子注入層
（９）正孔注入層／正孔輸送層／電子防止層／有機発光層／正孔防止層／電子輸送層／電子注入層
ここで、有機発光層、正孔注入層、正孔輸送層、正孔防止層、電子防止層、電子輸送層及び電子注入層の各層は、単層構造でも多層構造でもよい。
【００３７】
有機発光層１４は、以下に例示する有機発光材料のみから構成されていてもよく、発光性のドーパントとホスト材料の組み合わせから構成されていてもよく、任意に正孔輸送材料、電子輸送材料、添加剤（ドナー、アクセプター等）等を含んでいてもよく、また、これらの材料が高分子材料（結着用樹脂）又は無機材料中に分散された構成であってもよい。発光効率・寿命の観点からは、ホスト材料中に発光性のドーパントが分散されたものが好ましい。
【００３８】
有機発光材料としては、有機発光層用の公知の発光材料を用いることができる。このような発光材料は、低分子発光材料、高分子発光材料等に分類され、これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。また、上記発光材料は、蛍光材料、燐光材料等に分類されるものでもよく、低消費電力化の観点で、発光効率の高い燐光材料を用いる事が好ましい。
ここで、具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
【００３９】
発光層に任意に含まれる発光性のドーパントとしては、有機発光層用の公知のドーパント材料を用いることができる。このようなドーパント材料としては、例えば、紫外発光材料としては、ｐ−クォーターフェニル、３，５，３,５テトラ-ｔ-ブチルセクシフェニル、３，５，３,５テトラ-ｔ-ブチル-ｐ−クィンクフェニル等の蛍光発光材料等が挙げられる。青色発光材料として、スチリル誘導体等の蛍光発光材料、ビス［（４，６−ジフルオロフェニル）−ピリジナト−Ｎ，Ｃ２‘］ピコリネート  イリジウム（III）（ＦＩｒｐｉｃ）、ビス（４’,６‘−ジフルオロフェニルポリジナト）テトラキス（１−ピラゾイル）ボレート  イリジウム（III）（ＦＩｒ６）等の燐光発光有機金属錯体等が挙げられる。
【００４０】
また、ドーパントを用いる時のホスト材料としては、有機ＥＬ用の公知のホスト材料を用いることができる。このようなホスト材料としては、上述した低分子発光材料、高分子発光材料、４，４‘−ビス（カルバゾール）ビフェニル、９，９−ジ（４−ジカルバゾール−ベンジル）フルオレン（ＣＰＦ）、３，６−ビス（トリフェニルシリル）カルバゾール（ｍＣＰ）、（ＰＣＦ）等のカルバゾール誘導体、４−（ジフェニルフォスフォイル）−Ｎ，Ｎ-ジフェニルアニリン（ＨＭ−Ａ１）等のアニリン誘導体、１，３−ビス（９−フェニル−９Ｈ−フルオレン−９−イル）ベンゼン（ｍＤＰＦＢ）、１，４−ビス（９−フェニル−９Ｈ−フルオレン−９−イル）ベンゼン（ｐＤＰＦＢ）等のフルオレン誘導体等が挙げられる。
【００４１】
電荷注入輸送層は、電荷（正孔、電子）の電極からの注入と発光層への輸送（注入）をより効率よく行う目的で、電荷注入層（正孔注入層、電子注入層）と電荷輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）に分類され、以下に例示する電荷注入輸送材料のみから構成されていてもよく、任意に添加剤（ドナー、アクセプター等）等を含んでいてもよく、これらの材料が高分子材料（結着用樹脂）又は無機材料中に分散された構成であってもよい。
【００４２】
電荷注入輸送材料としては、有機発光層用の公知の電荷輸送材料を用いることができる。このような電荷注入輸送材料は、正孔注入輸送材料及び電子注入輸送材料に分類され、これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
【００４３】
正孔注入・正孔輸送材料としては、例えば、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）、酸化モリブデン（ＭｏＯ２）等の酸化物、無機ｐ型半導体材料、ポルフィリン化合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＤ）等の芳香族第三級アミン化合物、ヒドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチリルアミン化合物等の低分子材料、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、ポリアニリン−樟脳スルホン酸（ＰＡＮＩ−ＣＳＡ）、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネイト（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリ（トリフェニルアミン）誘導体（Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリ（ｐ−ナフタレンビニレン）（ＰＮＶ）等の高分子材料等が挙げられる。
【００４４】
また、アノードからの正孔の注入・輸送をより効率よく行う点で、正孔注入層として用いる材料としては、正孔輸送層に使用する正孔注入輸送材料より最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位が低い材料を用いることが好ましく、正孔輸送層としては、正孔注入層に使用する正孔注入輸送材料より正孔の移動度が、高い材料を用いることが好ましい。
【００４５】
また、より正孔の注入・輸送性を向上させるため、前記正孔注入・輸送材料にアクセプターをドープする事が好ましい。アクセプターとしては、有機発光層用の公知のアクセプター材料を用いることができる。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
【００４６】
アクセプター材料としては、Ａｕ、Ｐｔ、Ｗ，Ｉｒ、ＰＯＣｌ3 、ＡｓＦ6 、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）、酸化モリブデン（ＭｏＯ２）等の無機材料、ＴＣＮＱ（７，７，８，８，−テトラシアノキノジメタン）、ＴＣＮＱＦ4 （テトラフルオロテトラシアノキノジメタン）、ＴＣＮＥ（テトラシアノエチレン）、ＨＣＮＢ（ヘキサシアノブタジエン）、ＤＤＱ（ジシクロジシアノベンゾキノン）等のシアノ基を有する化合物、ＴＮＦ（トリニトロフルオレノン）、ＤＮＦ（ジニトロフルオレノン）等のニトロ基を有する化合物、フルオラニル、クロラニル、ブロマニル等の有機材料が挙げられる。この内、ＴＣＮＱ、ＴＣＮＱＦ4 、ＴＣＮＥ、ＨＣＮＢ、ＤＤＱ等のシアノ基を有する化合物がよりキャリア濃度を効果的に増加させることが可能であるためより好ましい。
【００４７】
電子注入・電子輸送材料としては、例えば、ｎ型半導体である無機材料、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、チオピラジンジオキシド誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体、ベンゾジフラン誘導体等の低分子材料；ポリ（オキサジアゾール）（Ｐｏｌｙ−ＯＸＺ）、ポリスチレン誘導体（ＰＳＳ）等の高分子材料が挙げられる。特に、電子注入材料としては、特にフッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）等のフッ化物、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）等の酸化物等が挙げられる。
【００４８】
電子のカソードからの注入・輸送をより効率よく行う点で、電子注入層として用いる材料としては、電子輸送層に使用する電子注入輸送材料より最低空分子軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位が高い材料を用いることが好ましく、電子輸送層として用いる材料としては、電子注入層に使用する電子注入輸送材料より電子の移動度が高い材料を用いることが好ましい。
【００４９】
また、より電子の注入・輸送性を向上させるため、前記電子注入・輸送材料にドナーをドープする事が好ましい。ドナーとしては、有機発光層用の公知のドナー材料を用いることができる。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
【００５０】
ドナー材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｉｎ等の無機材料、アニリン類、フェニレンジアミン類、ベンジジン類（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（フェニル）−ベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン等）、トリフェニルアミン類（トリフェニルアミン、４，４’４''−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニル−アミノ）−トリフェニルアミン、４，４’４''−トリス（Ｎ−３−メチルフェニル−Ｎ−フェニル−アミノ）−トリフェニルアミン、４，４’４''−トリス（Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ）−トリフェニルアミン等）、トリフェニルジアミン類（Ｎ，Ｎ’−ジ−（４−メチル−フェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，４−フェニレンジアミン）等の芳香族３級アミンを骨格にもつ化合物、フェナントレン、ピレン、ペリレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン等の縮合多環化合物（ただし、縮合多環化合物は置換基を有してもよい）、ＴＴＦ（テトラチアフルバレン）類、ジベンゾフラン、フェノチアジン、カルバゾール等の有機材料がある。この内特に、芳香族３級アミンを骨格にもつ化合物、縮合多環化合物、アルカリ金属がよりキャリア濃度を効果的に増加させることが可能であるためより好ましい。
【００５１】
発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層及び電子注入層等の有機発光層は、上記の材料を溶剤に溶解、分散させた有機発光層形成用の塗液を用いて、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法等の塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等の印刷法等による公知のウエットプロセス、上記の材料を抵抗加熱蒸着法、電子線（ＥＢ）蒸着法、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、スパッタリング法、有機気相蒸着（ＯＶＰＤ）法等の公知のドライプロセス、又は、レーザー転写法等により形成することができる。なお、ウエットプロセスにより有機発光層を形成する場合には、有機発光層形成用の塗液は、レベリング剤、粘度調整剤等の塗液の物性を調整するための添加剤を含んでいてもよい。
【００５２】
上記の有機発光層１４を構成する各層の膜厚は、通常１〜１０００ｎｍ程度であるが、１０〜２００ｎｍが好ましい。膜厚が１０ｎｍ未満であると、本来必要とされる物性（電荷の注入特性、輸送特性、閉じ込め特性）が得なれない。また、ゴミ等の異物による画素欠陥が生じるおそれがある。また、膜厚が２００ｎｍを超えると有機発光層の抵抗成分により駆動電圧の上昇が生じ、消費電力の上昇に繋がる懸念がある。
【００５３】
第一電極（下部電極）１２を所定の領域（例えば画素）毎に複数に区画するバンク（絶縁層）１５は、少なくとも光反射性を有する材料から構成される。光反射性を有する材料としては、色調が白色の材料を用いることが好ましい。更に、光反射性に加えて光拡散性を有する材料を用いることも好ましい。
【００５４】
単に光反射性のみの場合には、バンク側面の基板に対する角度やバンクの形状によって、取り出される光のプロファイルが大きく変わるため、所望の光プロファイルを得るためには、バンク側面の基板に対する角度やバンクの形状を適切なものに制御する必要も出てくる。これに対し、バンクが光反射性に加えて、白色性、光散乱性を有していると、バンクで反射する光の方向が広がるため、取り出される光のプロファイルは、バンク側面の基板に対する角度やバンクの形状にそれほど依存せず、自然な発光プロファイルが得られやすい。
【００５５】
一例として、バンク（絶縁層）１５を、例えば、特開２００７−３２２５４６号公報， 特開２００８−２１１０３６号公報， 特開２０１１−６６２６７号公報など開示されている高反射率の白色ソルダーレジストを利用して形成することができる。あるいは、ポリイミド系やアクリル系などの感光性樹脂にＴｉＯ２などの粒子を分散させて、光反射性、光散乱性、白色性などの機能を付与することも有効な手法である。
【００５６】
バンク（絶縁層）１５は、光透過性の基板１１の一面１１ａ上に、所定のパターンで形成される。バンク１５を所定の形状にパターン化するためには、光感光性樹脂に酸化チタン粒子などを添加したものをフォトリソグラフィーを用いてパターン化する方法、樹脂に酸化チタン粒子などを添加したものを全面形成し、その上にフォトレジストをパターン形成して、酸化チタン粒子を添加した樹脂層を所定のパターンにエッチングする方法など、半導体製造工程や液晶パネル製造工程などで用いられる公知の製造工程を適用することができる。
【００５７】
バンク１５の膜厚は、例えば１μｍ〜５μｍが概ね適切な範囲ではあるが、目的に合わせて適宜膜厚を選定してもよい。例えば、１００ｎｍ〜数１０μｍの高さのバンクも使用可能であり、いずれの場合であっても本発明の効果を得ることができる。
【００５８】
バンク１５によって有機発光層１４から発した光を反射する前に、全反射を繰り返してそのたびごとに光がロスするのは好ましくないので、互いに隣接するバンク１５どうしの間隔（開口径）はあまり大きくないほうがよい。隣接するバンク１５どうしの間隔は、５０ｍｍ，２０ｍｍ，１０ｍｍ，５ｍｍ，１ｍｍ，５００μｍ，１００μｍ，５０μｍ，２０μｍなどである。
【００５９】
バンク１５に光散乱性を持たせる場合には、バンク１５を構成する樹脂中に微細な光反射性粒子を分散させることが好ましい。光反射性粒子は、粒径が２００ｎｍ〜５μｍであることが好ましい。これによって、バンク１５は光反射性を持つとともに、光の反射方向をランダムにする光散乱性も持つことができる。
【００６０】
バンク１５は、また、第一電極（下部電極）１２のエッジ部分でのリークを防ぐ役割も果たす。即ち、第一電極１２に有機発光層１４を形成した場合、第一電極１２の端面で有機発光層１４の膜厚が薄くなる。このため第一電極１２と第二電極１３との間でショートが起こりやすくなる。バンク１５をこうした領域に配置することによって、ショートを防止することができる。この場合、バンク１５は、一般的にエッジカバー、ないし絶縁層などと称される構成物となる。
【００６１】
バンク１５は、また、インクジェットなどウェットプロセスによって有機発光層１４を形成する場合に、基板１１のある画素領域に塗布された液体が、隣接する画素領域に流れることを防止する。こうした機能をより高めるために、バンク１５に更に撥液性を付与する処理を施すことも好ましい。
【００６２】
以上のような構成の発光デバイスの作用について説明する。
図１に示すように、発光デバイス１０の第一電極（下部電極）１２と第二電極（上部電極）１３との間に、所定の電圧値の電圧が印加されると、有機発光層１４中に注入された電子と正孔との再結合によって生じた励起子（エキシトン）によって、有機発光層１４が発光する。
【００６３】
有機発光層１４で発光した光（励起光）のうち、透明な第一電極（下部電極）１２に向かう方向に出射された光Ｆ１は、第一電極１２および透明な基板１１を透過して外部に出射される。
また、有機発光層１４で発光した光（励起光）のうち、光不透過性の第二電極（上部電極）１３に向かう方向に出射された光Ｆ２は、第二電極１３の表面で反射され、再び有機発光層１４を透過し、第一電極１２および透明な基板１１を透過して外部に出射される。
【００６４】
一方、有機発光層１４で発光した光（励起光）のうち、面広がり方向（積層方向に直角な方向）に向けて出射された光Ｆ３は、バンク１５に入射する。バンク１５に入射した光は、バンク１５が光反射性を有する材料から構成されているため、入射した光を反射、および好ましくは拡散させる。そして、バンク１５で反射された光Ｆ３も、第一電極１２および基板１１を透過して外部に出射される。
【００６５】
このように、本実施形態の発光デバイス１０によれば、バンク１５に光反射性があるため、バンク１５に向かって出射された光Ｆ３が、バンク１５で吸収されてしまったり、バンク１５内を導波して損失することがない。そして、バンク１５に向かって出射された光Ｆ３をバンク１５で反射させて基板１１から外部に出射させることによって、光取出し効率を格段に向上させることが可能になる。
【００６６】
即ち、従来の発光デバイスは、有機発光層の屈折率や散乱性、あるいは形状の制御によって光取出し効率を上げるという発想に対して、本発明においては、有機発光層において発光した光を、バンク１５で囲われた領域内に閉じ込め、バンク１５の方向に伝播させないことにある。こうした構成によって、光の出射を光を取り出したい方向にだけ限定でき、光をロスすることなく効率よく取り出せる。これによって、従来知られている発光デバイスと比較して、光取出し効率を格段に向上させることができる。
【００６７】
なお、バンク１５は、光反射性は必須であるが、更に加えて正反射ではなく、乱反射性、散乱性を有する材料から構成することがより好ましい。正反射よりも、乱反射、散乱の方が、バンク１５に入射した光がランダムな方向に反射されるため、光の取り出し効率をより一層高められる。
【００６８】
また、バンク１５を配置する位置は、理想的には、所定の形状にパターン化された第一電極（下部電極）１２の周辺すべてをバンク１５で覆うことが好ましい。しかし、その一部のみをバンク１５覆っても、光取出し効率の向上効果は得られる。ただし、第一電極（下部電極）１２の周辺長さに対して、例えば、１％の長さに対してのみ光反射性のバンクを配置しただけでは、残り９９％の長さの部分からは光が面広がり方向に導波して損失することになり、光取出し効率の向上効果は限定的である。
【００６９】
有機発光層１４で発光した光が面広がり方向に導波して逃げてゆくか、あるいは光反射性のバンク１５によって反射されて、基板１１側から取り出されるかは、第一電極１２の周辺長さに対して、バンク１５が配置されている長さの割合が相関している。例えば、光反射性のバンクを用いない場合の光取出し効率が２５％と仮定すると、損失分は７５％となる。第一電極１２の周辺長さに対して、バンク１５が配置されている長さの割合が１０％であれば、概算で約７．５％の光が取り出される可能性があり、トータルの光取出し効率は３２．５％となり、光反射性のバンク１５を形成しない場合の取り出し効率２５％に対して、約３０％の効率向上となる。
【００７０】
しかし、第一電極１２の周辺長さに対して、バンク１５が配置されている長さの割合が１％であれば、最大でも０．７５％しか光取出しは向上せず、トータルの光取出し効率は２５．７５％にしかならない。これは、光反射性のバンク１５を設けない場合の光取出し効率２５％に対して、僅か３％の改善でしかなく、得られる効果はあまりに小さい。
【００７１】
この様な観点から、第一電極（下部電極）１２の周辺長さに対して、バンク１５が配置されている長さの割合は、理想的には１００％であるが、概ね５％以上あれば、相応の光取り出し効率の向上効果は得られることになる。
【００７２】
第一電極１２の周辺長さに対して、バンク１５が配置されている長さの割合が５％の場合、光反射性のバンク１５によって取り出される光は最大３．７５％（７５％×５％）であり、トータル２７．７５％となる。これは光反射性のバンク１５を設けない場合の光取出し効率２５％に対して、１５％の向上であり、意味のある改善といえる。
ただし、実質的には、他の構成部での光損失や、基板１１内での導波によるロスなどがあるため、好ましくは、第一電極１２の周辺長さに対して、光反射性のバンク１５が配置されている長さの割合が５０％以上が好ましく、特に１００％にすることが好ましい。
【００７３】
第一電極１２の周辺長さに対して、バンク１５が配置されている長さの割合をどれくらいにするかは、例えば、バンク１５をパターン化する際の形状で決めることができる。一般的なケースで考えれば、第一電極１２の周辺をすべてバンク１５で覆うことはなんら困難ではなく、第二電極１３と第一電極１２との間のリークの抑制、およびウェットプロセスで形成する場合の隣接画素への流れ込み防止という観点も考えると、第一電極（下部電極）１２の周辺をすべて光反射性バンク１５で覆うことが好ましい。
【００７４】
また、発光デバイス１０は、信頼性確保のため、適切な方法で周囲を封止するのが好ましい。封止の方法は、公知の方法などを用いることができる。例えば、缶封止と乾燥剤を用いる方法、キャップガラスと乾燥剤を用いる方法、ガラスフリット封止、透湿性を抑えた膜とガラスとで張り合わせる方法などが挙げられる。
【００７５】
（発光デバイス：第二実施形態）
図２は第二実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
発光デバイス２０は、光透過性の基板２１と、この基板２１の一面２１ａに順に積層された第一電極（下部電極）２２、第二電極（上部電極）２３と、この第一電極２２および第二電極２３の間に形成された有機発光層２４と、を有する。また、基板２１の一面２１ａには、第一電極２２を所定の領域毎に複数に区画する光反射性のバンク（絶縁層）２５が形成されている。
【００７６】
そして、この実施形態においては、有機発光層２４を、例えば画素毎に区切って形成している。即ち、第一実施形態においては、有機発光層１４はバンク１５を乗り越えて一連の層として形成されていたが（図１参照）、第二実施形態においては、有機発光層２４はバンク２５の上部（第二電極側）で区切られて複数に分割されている。これによって、有機発光層２４を伝播して面広がり方向に伝播していく光を遮断し、光取出し効率を更に向上させることができる。
【００７７】
（発光デバイス：第三実施形態）
図３は第三実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
発光デバイス３０は、光透過性の基板３１と、この基板３１の一面３１ａに順に積層された第一電極（下部電極）３２、第二電極（上部電極）３３と、この第一電極３２および第二電極３３の間に形成された有機発光層３４と、を有する。また、基板３１の一面３１ａには、第一電極３２、および有機発光層３４とを所定の領域毎に複数に区画する光反射性のバンク（絶縁層）３５が形成されている。
【００７８】
この実施形態においては、有機発光層３４はバンク３５によって、例えば画素毎に区画されている。即ち、第一実施形態においては、有機発光層１４はバンク１５を乗り越えて一連の層として形成されていたが（図１参照）、第三実施形態においては、有機発光層２４はバンク３５で複数に区画されている。これによって、有機発光層２４を伝播して面広がり方向に伝播していく光を遮断し、かつ、有機発光層２４の側断面（厚み方向の断面）から出射された光も光反射性のバンク３５によって反射させることができ、光取出し効率を更に一層向上させることができる。
【００７９】
なお、これら第二実施形態や第三実施形態において、有機発光層２４，３４の形成領域を所定の範囲内に限定して形成する方法としては、例えば、マスク蒸着法、インクジェット法、印刷などによるウェット法を用いた塗わけ、ＬＩＴＩ（Laser Induced Thermal imaging）、ＬＩＰＳ（laser Induced Pattern wise Sublimation）などのレーザーを用いる手法、フォトブリーチ法などの方法を適宜用いればよい。
【００８０】
（発光デバイス：第四実施形態）
図４は第四実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
発光デバイス４０は、光透過性の基板４１と、この基板４１の一面４１ａに順に積層された低屈折率層４６、第一電極（下部電極）４２、第二電極（上部電極）４３と、この第一電極４２および第二電極４３の間に形成された有機発光層４４と、を有する。また、低屈折率層４６の一面には、第一電極４２を所定の領域毎に複数に区画する光反射性のバンク（絶縁層）４５が形成されている。
【００８１】
この実施形態においては、基板４１と第一電極（下部電極）４２との間に、基板４１よりも屈折率の低い低屈折率層４６を形成している。低屈折率層の屈折率は基板の屈折率より低いことが好ましく、理想的には空気の屈折率と同じ１．０がもっとも好ましい。
【００８２】
このような低屈折率層４６を形成することによって、光取出し効率を更に向上させることができる。即ち、空気（外気）の屈折率を１．０、基板４１の屈折率を１．５と仮定した時に、低屈折率層４６を設けない場合は、有機発光層から出た光は基板から空気（外気）界面までは直進するが、基板と空気（外気）との界面における屈折率差のため、法線からの角度が４２°より大きな光は全反射してしまう。
【００８３】
これに対して、図４のように、例えば屈折率が１．２の低屈折率層４６を設けた場合、基板４１と空気（外気）との界面においては、法線からの角度５３°より大きな光は全反射しまうが、反射された光は光反射性のバンク４５などで反射されて外部に取り出される可能性が高まる。図４に示す実施形態においても、基板４１と空気（外気）との界面においては、法線からの角度が４２°〜５３°の光は全反射取り出せないが、有機発光層４４から出る光の角度で言えば、４２°〜５３°の光だけが取り出せないだけであり、低屈折率層４６を形成したことによる光取り出し効率の向上効果は大きい。
【００８４】
なお、図４に示した構成における厚みは、有機発光層４４から第一電極４２と低屈折率層４６との界面までの距離は、概略１００ｎｍ〜数１０μｍ程度、第一電極４２と低屈折率層４６との界面から基板４１と空気（外気）との界面までの距離は０．５ｍｍ〜０．７ｍｍである。
【００８５】
なお、光反射性のバンクを設けずに、低屈折率層４６を形成しただけでは、第一電極４２と低屈折率層４６との界面で跳ね返った光が正反射を繰り返して面広がり方向に逃げてゆくことになり、光取出し効率はそれほど向上しない。ゆえに、光反射性のバンク４５と低屈折率層４６を組み合わせて用いることによって、光取出し効率の大幅な向上効果を得ることができる。
【００８６】
（発光デバイス：第五実施形態）
図５は第五実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。
発光デバイス５０は、光透過性の基板５１と、この基板５１の一面５１ａに順に積層された低屈折率層５６、第一電極（下部電極）５２、第二電極（上部電極）５３と、この第一電極５２および第二電極５３の間に形成された有機発光層５４と、を有する。また、低屈折率層５６の一面には、第一電極５２、および有機発光層５４を所定の領域毎に複数に区画する光反射性のバンク（絶縁層）５５が形成されている。
【００８７】
この実施形態においては、有機発光層５４はバンク５５によって、例えば画素毎に区画されている。即ち、第四実施形態においては、有機発光層４４はバンク４５を乗り越えて一連の層として形成されていたが（図４参照）、第五実施形態においては、有機発光層５４はバンク５５で複数に区画されている。これによって、有機発光層５４を伝播して面広がり方向に伝播していく光を遮断し、かつ、有機発光層５４の側断面（厚み方向の断面）から出射された光も光反射性のバンク５５によって反射させることができ、低屈折率層５６の形成ととともに、光取出し効率を更に一層向上させることができる。
【００８８】
（バンクの形状例）
バンクの形状はさまざまな形状にすることができる。図８は、バンクの形状例を示した断面図である。
図８（ａ）では、基板１０１に形成された第一電極（下部電極）１０２を区画するバンク１０３は、上部が狭まった台形となるように形成されている。
図８（ｂ）では、基板１０１に形成された第一電極（下部電極）１０２を区画するバンク１０４は、上部が広がった台形となるように形成されている。
図８（ｃ）では、基板１０１に形成された第一電極（下部電極）１０２を区画するバンク１０５は、上部が半円形ないし半楕円形となるように形成されている。
図８（ｄ）では、基板１０１に形成された第一電極（下部電極）１０２を区画するバンク１０６は、上部が半円形で、かつ頂部が平坦面となるように形成されている。
図８（ｅ）では、基板１０１に形成された第一電極（下部電極）１０２を区画するバンク１０７は、上部が三角形となるように形成されている。
【００８９】
これらバンクの形状のうち、図８（ａ）、図８（ｃ）、図８（ｄ）、図８(ｅ)のように、光の出射側、即ち基板１０１寄りが広がっている形状が、光がより出射されやすいという効果がある。こうした効果は、発光プロファイルにも影響を与えるので、表示装置にに適用した場合の広視野角化に寄与する。この広視野角という視点では、図８(ｅ)に示すバンク１０７の形状がもっとも好ましいが、一方、バンクに重ねて成膜する層がエッジ部分で切れてしまうことを抑制するためには、図８（ｃ）、図８（ｄ）のようにバンク１０５，１０６が丸みを帯びた形状が好ましい。
【００９０】
一方、パッシブ駆動有機ＥＬ表示装置でよく用いられる手法であるが、図８（ｂ）のような逆テーパー形状のバンク１０４を形成し、これによって、第二電極（上部電極）を全面形成したときに、バンク１０４のエッジ部分で段切れを生じさせ、第二電極（上部電極）をストライプ状に形成することも可能である。更に、図８（ｂ）のバンク１０４の構造は、プライベート使用を主たる目的とした有機ＥＬ表示装置において、視野角を狭くしてプライバシーフィルタの役割を果たすことにも有効である。
【００９１】
（バンクの構造例）
上述した各実施形態では、バンク自体を白色樹脂など光反射性の樹脂で形成した例を示したが、バンクの構造はこれに限定されない。
図９は、バンクに光反射性を付与するための構造例を示す断面図である。
図９（ａ）では、基板１１１に形成された第一電極（下部電極）１１２を区画するバンク１１３は、樹脂層１１３ａと、光反射性の金属層１１３ｂとから構成される。
樹脂層１１３ａは透明、光反射性、光散乱性、白色または着色である。樹脂層１１３ａは、第一電極ごとに異なる電圧を印加する場合には絶縁性であることが必要である。これは例えば、ディスプレイ用途において、第一電極が各画素ごとに形成されている場合や、照明用途において、第一電極毎に異なる発光色の有機層を配置して、調光作用をもたせる場合などである。
【００９２】
一方、均一に光らせればよい通常の照明用途などの場合のように、すべての第一電極に同じ電圧を印加すれば良い場合には、樹脂層１１３ａが絶縁性である必要はない。樹脂層１１３ａが着色しており、特に黒色の場合には、外光反射の低下という効果を併せ持つことになり、特にディスプレイ用途などにおいては効果がある。樹脂層１１３ａが赤、緑、青などに着色している場合には、外部から見てこの色が見えることになる。これは照明用途などの場合、デザイン性の観点から好ましい。また、樹脂層１１３ａが光反射性、光散乱性、白色などの場合には、基板１１１や有機層などを伝播して横方向に逃げてゆく光が、樹脂層１１３ａに当たって方向を変え、基板１１１の外に取り出される確率を高める効果がある。
【００９３】
図９（ｂ）では、基板１１１に形成された第一電極（下部電極）１１２を区画するバンク１１４は反射性金属または樹脂層から構成されている。そして、このバンク１１４は、第一電極（下部電極）１１２どうしの間に、第一電極１１２とは離間して配置されている。ディスプレイ用途において、第一電極が各画素ごとに形成されている場合や、照明用途において、第一電極毎に異なる発光色の有機層を配置して、調光作用をもたせる場合などのように、第一電極ごとに異なる電圧を印加する場合においても、バンク１１４が反射性金属であってもこの構造であれば、絶縁性が確保される。バンク１１４が樹脂層である場合、樹脂層は光反射性、光散乱性または白色である。樹脂層は、他の実施形態で説明したように、横方向に伝播する光を反射して正面方向に取り出す確率を高める作用をする。
【００９４】
図９（ｃ）では、基板１１１に形成された第一電極（下部電極）１１２を区画するバンク１１５は反射性金属体１１５ａと、これを覆う樹脂層１１５ｂとから構成されている。樹脂層１１５ｂは透明、光反射性、光散乱性、または白色である。樹脂層１１５ｂが透明である場合、デバイス内を横方向に伝播する光は、反射性金属体１１５ａによって反射されて光の進行方向が変わるため、光取り出し効率が向上する。また、樹脂層１１５ｂが光反射性、光散乱性、または白色である場合、樹脂層１１５ｂによってデバイス内を横方向に伝播する光が反射または散乱するとともに、樹脂層１１５ｂで反射または散乱されない光も反射性金属体１１５ａで反射されるため、光取出し効率が向上する。
【００９５】
この形態では、反射性金属体１１５ａの上部も樹脂層１１５ｂで覆われてもかまわないが、この領域から光が伝播する可能性を考慮すると、樹脂層１１５ｂの上部の厚さを薄くなるように形成することが好ましい。更にはこの部分には樹脂を形成しない形状も好ましい。樹脂層１１５ｂは、ディスプレイ用途において、第一電極が各画素ごとに形成されている場合や、照明用途において、第一電極毎に異なる発光色の有機層を配置して、調光作用をもたせる場合などのように、第一電極ごとに異なる電圧を印加する場合においては絶縁性であることが必要である。一方、均一に光らせればよい通常の照明用途などの場合のように、すべての第一電極に同じ電圧を印加すれば良い場合には、樹脂層１１５ｂが絶縁性である必要はない。
【００９６】
図９（ｄ）では、基板１１１に形成された第一電極（下部電極）１１２を区画するバンク１１６は反射性金属体１１６ａと、これを覆う樹脂層１１６ｂと、更に上部反射層１１６ｃとから構成されている。樹脂層１１６ｂは透明、光反射性、光散乱性、または白色である。樹脂層１１６ｂが透明である場合、デバイス内を横方向に伝播する光は、反射性金属体１１６ａ、上部反射層１１６ｃによって反射されて光の進行方向が変わるため、光取り出し効率が向上する。また、樹脂層１１６ｂが光反射性、光散乱性、または白色である場合、樹脂層１１６ｂによってデバイス内を横方向に伝播する光が反射または散乱するとともに、樹脂層１１６ｂで反射または散乱されない光も反射性金属体１１６ａ、上部反射層１１６ｃで反射されるため、光取出し効率が向上する。
【００９７】
樹脂層１１６ｂは、ディスプレイ用途において、第一電極が各画素ごとに形成されている場合や、照明用途において、第一電極毎に異なる発光色の有機層を配置して、調光作用をもたせる場合などのように、第一電極ごとに異なる電圧を印加する場合においては絶縁性であることが必要である。一方、均一に光らせればよい通常の照明用途などの場合のように、すべての第一電極に同じ電圧を印加すれば良い場合には、樹脂層１１６ｂが絶縁性である必要はない。
【００９８】
図９（ｅ）では、基板１１１に形成された第一電極（下部電極）１１２を区画するバンク１１７は、第一電極（下部電極）１１２の少なくとも側面を覆う反射性金属層からまたは樹脂層から構成されている。そして、このバンク１１７は、第一電極（下部電極）のエッジを覆うように配置され、異なる第一電極１１２を覆うバンク１１７同士は接触していない。ディスプレイ用途において、第一電極が各画素ごとに形成されている場合や、照明用途において、第一電極毎に異なる発光色の有機層を配置して、調光作用をもたせる場合などのように、第一電極ごとに異なる電圧を印加する場合においても、バンク１１７が反射性金属であってもこの構造であれば、絶縁性が確保される。バンク１１７が樹脂層である場合、樹脂層は光反射性、光散乱性または白色である。樹脂層は、他の実施形態で説明したように、横方向に全般する光を反射して正面方向に取り出す確率を高める作用をする。
【００９９】
図９（ｆ）では、基板１１１に形成された第一電極（下部電極）１１２を区画するバンク１１８は、樹脂体１１８ａと、この樹脂体１１８ａを覆う反射性金属層１１８ｂとから構成される。樹脂層１１８ａは透明、光反射性、光散乱性、または白色である。樹脂層１１８ａが透明である場合、デバイス内を横方向に伝播する光は、反射性金属体１１８ｂによって反射されて光の進行方向が変わるため、光取り出し効率が向上する。樹脂層１１８ａが光反射性、光散乱性、または白色である場合、樹脂層１１８ａによってデバイス内を横方向に伝播する光が反射または散乱するとともに、樹脂層１１８ａで反射または散乱されない光も反射性金属体１１８ｂで反射されるため、光取出し効率が向上する。
【０１００】
樹脂層１１８ａは、ディスプレイ用途において、第一電極が各画素ごとに形成されている場合や、照明用途において、第一電極毎に異なる発光色の有機層を配置して、調光作用をもたせる場合などのように、第一電極ごとに異なる電圧を印加する場合においては絶縁性であることが必要である。一方、均一に光らせればよい通常の照明用途などの場合のように、すべての第一電極に同じ電圧を印加すれば良い場合には、樹脂層１１８ａが絶縁性である必要はない。
【０１０１】
なお、これら図９に示したバンクの各構造例では、第一電極（下部電極）１１２は基板１１１に直接接するように形成しているが、第一電極１１２と基板１１１との間に、上述した実施形態四、五で示した低屈折率層を更に形成することも好ましい。
【０１０２】
（表示装置：第六実施形態）
図６は第六実施形態に係る表示装置を示す概略断面図である。
この実施形態では、発光デバイスをアクティブマトリクス駆動させた有機ＥＬ表示装置を示す。有機ＥＬ表示装置（表示装置）６０は、光透過性の基板６１、第一電極（下部電極）６２、第二電極（上部電極）６３と、この第一電極６２および第二電極６３の間に形成された有機発光層６４と、第一電極６２を所定の領域毎に複数に区画する光反射性のバンク（絶縁層）６５とからなる発光デバイス６７を備えている。
【０１０３】
また、基板６１と第一電極（下部電極）６２との間には、駆動部の一例であるアクティブマトリックス駆動素子（駆動部）７０が形成される。基板６１上に、ゲート電極７０ａ、ゲート酸化膜６８が形成される。ゲート酸化膜６８上には、活性層７０ｄ、ソース電極７０ｂ、ドレイン電極７０ｃが形成され、さらに、層間絶縁膜６９が形成される。層関絶縁膜６９にはコンタクトホールが設けられており、ドレイン電極７０ｃと第一電極６２が電気的に接合される。アクティブマトリックス駆動素子７０は、ゲート電極７０ａ、ゲート酸化膜６８、ソース電極７０ｂ、ドレイン電極７０ｃおよび活性層７０ｄなどからなる。
【０１０４】
発光デバイス６７の発光を制御する駆動部の一例であるアクティブマトリックス駆動素子（駆動部）７０は、スイッチング用及び駆動用として機能する。こうしたアクティブマトリックス駆動素子７０は公知の材料、構造及び形成方法を用いて形成することができる。
活性層７０ｄの材料としては、例えば、非晶質シリコン（アモルファスシリコン）、多結晶シリコン（ポリシリコン）、微結晶シリコン、セレン化カドミウム等の無機半導体材料、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化ガリウム−酸化亜鉛等の酸化物半導体材料又は、ポリチオフェン誘導体、チオフエンオリゴマー、ポリ（ｐ−フェリレンビニレン）誘導体、ナフタセン、ペンタセン等の有機半導体材料が挙げられる。また、ＴＦＴの構造としては、例えば、スタガ型、逆スタガ型、トップゲート型、コプレーナ型が挙げられる。
【０１０５】
活性層７０ｄの形成方法としては、（１）プラズマ誘起化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法により成膜したアモルファスシリコンに不純物をイオンドーピングする方法、（２）シラン（ＳｉＨ４）ガスを用いた減圧化学気相成長（ＬＰＣＶＤ）法によりアモルファスシリコンを形成し、固相成長法によりアモルファスシリコンを結晶化してポリシリコンを得た後、イオン打ち込み法によりイオンドーピングする方法、（３）Ｓｉ２Ｈ６ガスを用いたＬＰＣＶＤ法又はＳｉＨ４ガスを用いたＰＥＣＶＤ法によりアモルファスシリコンを形成し、エキシマレーザー等のレーザーによりアニールし、アモルファスシリコンを結晶化してポリシリコンを得た後、イオンドーピングを行う方法（低温プロセス）、（４）ＬＰＣＶＤ法又はＰＥＣＶＤ法によりポリシリコン層を形成し、１０００℃以上で熱酸化することによりゲート絶縁膜を形成し、その上に、ｎ＋ポリシリコンのゲート電極を形成し、その後、イオンドーピングを行う方法（高温プロセス）、（５）有機半導体材料をインクジェット法等により形成する方法、（６）有機半導体材料の単結晶膜を得る方法等が挙げられる。
【０１０６】
ゲート絶縁膜６８は、公知の材料を用いて形成することができる。例えば、ＰＥＣＶＤ法、ＬＰＣＶＤ法等により形成されたＳｉＯ２又はポリシリコン膜を熱酸化して得られるＳｉＯ２等が挙げられる。また、ＴＦＴの信号電極線、走査電極線、共通電極線、第１駆動電極及び第２駆動電極は、公知の材料を用いて形成することができ、例えば、タンタル（Ｔａ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）等が挙げられる。
【０１０７】
層間絶縁膜６９は、公知の材料を用いて形成することができ、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、窒化シリコン（ＳｉＮ、又は、Ｓｉ２Ｎ４）、酸化タンタル（ＴａＯ、又は、Ｔａ２Ｏ５）等の無機材料、又は、アクリル樹脂、レジスト材料等の有機材料等が挙げられる。また、その形成方法としては、化学気相成長（ＣＶＤ）法、真空蒸着法等のドライプロセス、スピンコート法等のウエットプロセスが挙げられる。また、必要に応じてフォトリソグラフィー法等によりパターニングすることもできる。
【０１０８】
なお、アクティブマトリックス駆動素子７０を基板６１上に形成した場合には、その表面に凸凹が形成され、この凸凹によって発光デバイス６７の欠陥（例えば、画素電極の欠損、有機ＥＬ層の欠損、対向電極の断線、画素電極と対向電極の短絡、耐圧の低下等）等が発生するおそれがある。これらの欠陥を防止するために、層間絶縁膜６９上に更に平坦化膜を設けてもよい。
【０１０９】
こうした平坦化膜は、公知の材料を用いて形成することができ、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化タンタル等の無機材料、ポリイミド、アクリル樹脂、レジスト材料等の有機材料等が挙げられる。平坦化膜の形成方法としては、ＣＶＤ法、真空蒸着法等のドライプロセス、スピンコート法等のウエットプロセスが挙げられるが、本発明はこれらの材料及び形成方法に限定されるものではない。また、平坦化膜は、単層構造でも多層構造でもよい。
【０１１０】
また、上述した有機ＥＬ表示装置（表示装置）６０に、更にカラーフィルタ、色変換膜などを組み合わせても良い。カラーフィルタと組み合わせる場合には、通常、発光色を白色とする。また、色変換膜と組み合わせる場合には、通常、発光色を青色とする。
【０１１１】
（表示装置：第七実施形態）
図７は第七実施形態に係る表示装置を示す概略断面図である。
有機ＥＬ表示装置（表示装置）８０は、光透過性の基板８１、低屈折率層８６、第一電極（下部電極）８２、第二電極（上部電極）８３と、この第一電極８２および第二電極８３の間に形成された有機発光層８４と、第一電極８２を所定の領域毎に複数に区画する光反射性のバンク（絶縁層）８５とからなる発光デバイス８７を備えている。
【０１１２】
また、基板８１と第一電極（下部電極）８２との間には、駆動部の一例であるアクティブマトリックス駆動素子（駆動部）９０が形成される。基板８１上に、ゲート電極９０ａ、ゲート酸化膜８８が形成される。ゲート酸化膜８８上には、活性層９０ｄ、ソース電極９０ｂ、ドレイン電極９０ｃが形成され、さらに、層間絶縁膜８９が形成される。層関絶縁膜８９にはコンタクトホールが設けられており、ドレイン電極９０ｃと第一電極８２が電気的に接合される。アクティブマトリックス駆動素子９０は、ゲート電極９０ａ、ゲート酸化膜８８、ソース電極９０ｂ、ドレイン電極９０ｃおよび活性層９０ｄなどからなる。
【０１１３】
この実施形態においては、基板８１と第一電極（下部電極）８２との間に、基板８１よりも屈折率の低い低屈折率層８６を形成している。低屈折率層８６は、例えば、有機発光層８４から低屈折率材層８６に向けて入射する入射光の臨界角が、基板８１から外部に出射する出射光の臨界角よりも小さくなるような屈折率を持つことが好ましい。
このような低屈折率層８６を形成することによって、光取出し効率を更に向上させることができる。
【０１１４】
（発光デバイス：第八実施形態）
第一電極（下部電極）の導電性を高めるために、更に補助電極を備えた発光デバイスに、光反射性のバンクを形成することも好ましい。
図１０は、第八実施形態に係る発光デバイスを示す概略断面図である。なお、図１０（ａ）は発光デバイスを上から見たときの平面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＡ−Ａ線における断面図である。
【０１１５】
この実施形態の発光デバイス２００は、ガラスなどの光透過性の基板２０１に補助配線２０９が形成されている。補助配線２０９は１本または複数本配置すればよい。補助配線２０９は、通常はＡｌ， Ａｇなど、電気抵抗値の低い金属材料を用いる。複数本の補助配線２０９を配置する場合には、例えば、ストライプ状、あるいは格子状に配置することができる。
【０１１６】
補助配線２０９は第一電極（下部電極）２０２に覆われる。第一電極（下部電極）２０２は、例えば、ＩＴＯ， ＩＺＯなどの透明電極材料を用い、膜厚は、例えば１００ｎｍ〜３００ｎｍ程度である。第一電極２０２を所定の形状に形成するためには、フォトリソグラフィーなどを用いてパターンニングする方法、あるいは、マスク蒸着などを用いることができる。
【０１１７】
隣接する第一電極（下部電極）２０２どうしの間には、光反射性のバンク２０５が形成されている。バンク２０５は、第一電極（下部電極）２０２の周囲の一部のみカバーしても、光取出し効率向上の効果は得られるが、周囲全部を囲う方がもっとも光取出し効率向上に対して効果が高く、好ましい。なお、図１０においては、光反射性のバンク２０５の開口エリアは正方形の形状で描いているが、長方形、円形、その他の形状が可能である。バンク２０５の開口サイズであるが、開口径０．５ｍｍ，１ｍｍ，５ｍｍ，１０ｍｍ，５０ｍｍ，１００ｍｍなど、さまざまなサイズを選択することができ限定されるものではない。
【０１１８】
第一電極（下部電極）２０２の上には有機発光層２０４が形成されている。有機発光層２０４は、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、ホールブロッキング層、電子輸送層、電子注入層の積層膜などを用いることができる。有機発光層２０４の上には第二電極（上部電極）２０３が形成される。第二電極（上部電極）２０３はカソードとして、例えば、ＬｉＦ／Ａｌを用いればよい。
【０１１９】
更に、図１０には図示されていないが、発光デバイス２００を大気中の水分や酸素による腐食、変質から保護するために、対向基板などを用いて封止することが好ましい。
なお、バンク２０５の形状が逆テーパー形状となっているなどの理由で、第二電極（上部電極）２０３の段切れなどが懸念される場合には、図１１（ａ），図１１（ｂ）に示すように、段差のない部分を形成することが好ましい。
【０１２０】
以下、図１０に示した第八実施形態の変形例を図１４〜図２０に示す。なお、これら実施形態は、図１０と同一の部材は同一の番号を付し、その詳細な説明は省略する。また、図１４〜図２０において、（ａ）は発光デバイスを上から見たときの平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線における断面図である。
【０１２１】
補助配線２０９を配置する位置は、図１０に示すように発光エリア内に配置しても良いが、不透明電極によって補助配線を作る場合などには、補助配線が、発光した光をさえぎることになり必ずしも好ましくない。一方、図１４に示すように、発光エリア外に補助配線配置すると、発光した光がよりスムーズに取り出され好ましい。図１０に示す実施形態では、有機発光層２０４はバンク２０５内に形成しているが、図１４に示す実施形態の発光デバイス２１０のように、バンク２０５を乗り越える形で補助配線２０９を形成してもよい。生産性の面からは、基板面全面に形成するこの形態が効率的である。
【０１２２】
図１４において、有機発光層２０４で発光した光（励起光）のうち、透明な第一電極（下部電極）２０２に向かう方向に出射された光は、第一電極２０２を透過して基板２０１に入射する。
また、有機発光層２０４で発光した光（励起光）のうち、光不透過性の第二電極（上部電極）２０３に向かう方向に出射された光は、第二電極２０３の表面で反射され、再び有機発光層２０４を透過し、第一電極２０２を透過して基板２０１に入射する。
【０１２３】
一方、有機発光層２０４で発光した光（励起光）のうち、面広がり方向（積層方向に直角な方向）に向けて出射された光は、バンク２０５に入射する。バンク２０５に入射した光は、バンク２０５が光反射性を有する材料から構成されているため、入射した光を反射、および好ましくは拡散させる。そして、バンク２０５で反射された光も、第一電極２０２を透過して基板２０１に入射する。
【０１２４】
基板２０１に入射した光は、基板２０１と空気の界面に向かう。ここで、基板２０１と空気との屈折率差があるため、一部は外部に出射するが、基板２０１と空気との屈折率差によって規定される一定角度よりも浅い角度の光は、基板２０１と空気の界面で反射される。この反射された光のうち、一部はバンク２０５に当たった光は、反射、好ましくは散乱され、再び基板２０１と空気の界面に向かう。この際、バンク２０５での反射、好ましくは散乱によって角度が変わっているため、基板２０１と空気の界面で反射されない角度の光は外部に取り出される。このようなプロセスが繰り返されることにより、最終的には、多くの光が外部に取り出され、光取出し効率が上がることになる。
【０１２５】
以上のように、光反射性このましくは光散乱性のバンク２０５があることによって光取出し効率が向上する。バンク２０５がなければ、面広がり方向（積層方向に直角な方向）に向けて出射された光は外部に取り出されることがないし、また、基板２０１と空気の界面で反射された光も素子内を面広がり方向（積層方向に直角な方向）に伝播してゆくだけであり、外部に取り出さない。
【０１２６】
図１４に示した実施形態では、補助配線２０９が第一電極（下部電極）２０２に覆わているが、それ以外にも、例えば、図１５に示す実施形態の発光デバイス２２０のように、バンク２０５に一部が接触するように補助配線２０９を形成してもよい。
【０１２７】
図１０に示した実施形態では、補助配線２０９が第一電極（下部電極）２０２に覆わているが、図１６に示す実施形態の発光デバイス２３０のように、第一電極（下部電極）２０２の上に補助配線２０９を形成しても良い。
【０１２８】
これら図１０、図１４及び図１５に示した実施形態の場合、製造工程としては、通常、（１）補助電極膜の成膜、（２）補助電極膜のパターンニング、（３）下部電極膜の成膜、（４）下部電極膜のパターンニングという４工程を取ることになる。それに対して、図１６に示した実施形態においては、（１）下部電極膜と補助電極膜とを連続成膜、その後、（２）補助電極膜のパターンニング、（３）下部電極膜のパターンニングを行うことによって３工程で製造でき、製造プロセス的にメリットがある。
【０１２９】
図１０に示した実施形態では、第一電極（下部電極）２０２がパターン化されており、その周囲を覆う形でバンク２０５が形成されているが、図１７に示す実施形態の発光デバイス２４０のように、第一電極（下部電極）２０２がパターン化されていなくても良い。また、この図１７に示す発光デバイス２４０では、各領域ごとに補助配線２０９が形成されるように描かれているが、補助配線２０９を適宜、間引いて形成しても良い。
【０１３０】
図１７に示す実施形態では、補助配線２０９が第一電極（下部電極）２０２に覆わているが、図１８に示す実施形態の発光デバイス２５０のように、第一電極（下部電極）２０２の上に補助配線２０９を形成しても良い。この図１８に示す実施形態では、各領域ごとに補助配線２０９が形成されているが、補助配線２０９を、適宜、間引いて形成しても良い。
【０１３１】
図１０、図１４及び図１５に示した実施形態の場合、製造工程としては、（１）補助電極膜の成膜、（２）補助電極膜のパターンニング、（３）下部電極膜の成膜、（４）下部電極膜のパターンニングという４工程を取ることになる。それに対して、図１８に示す実施形態の発光デバイス２５０の製造工程としては、（１）下部電極膜と補助電極膜とを連続成膜、その後、（２）補助電極膜パターンニング、（３）下部電極膜パターンニングを行うことによって３工程で製造でき、製造プロセス的にメリットがある。
【０１３２】
なお、バンク２０５の形状が逆テーパー形状となっているなどの理由で、第二電極（上部電極）２０３の段切れなどが懸念される場合において、図１１（ａ），図１１（ｂ）の変形例として、図１９に示すように、段差のない部分を形成するとともに、第一電極（下部電極）２０２がパターン化されていない形態の発光デバイス２６０であってもよい。
【０１３３】
図１１、図１９に示した実施形態では、バンク２０５が形成されていない部分が一直線上になるように描かれているが、この位置が別の位置にあってもかまわない。一直線上にある場合は、この方向に進む光はバンクに当たることがなく、そのために取り出されなくなる光が生じる懸念がある。それに対して、例えば、図２０に示した実施形態の発光デバイス２７０のように、バンク２０５が形成されていない部分が一直線にならないように形成するのも好ましい形態である。このようにすると、バンク２０５にあたることなくロスする光をなくすことができ、かつ、第二電極（上部電極）２０３の段切れ防止にも寄与する。
【０１３４】
図１０、図１１、図１４〜図２０にそれぞれ示した実施形態においては、補助配線２０９はストライプ状に配置されているが、照明用途などのように全面発光させればよい場合には、例えば格子状に形成しても良い。また、図１４〜図２０にそれぞれ示した実施形態においては、補助配線２０９は各領域の片側にストライプ状に配置されているが、各領域の両側に配置しても良い。
上述した図１０、図１１、図１４〜図２０にそれぞれ示した実施形態の発光デバイスは、図１３（Ａ），（Ｂ）に示すような照明用途に適用する場合などに特に好適である。
【０１３５】
これら実施形態に示したバンクの形成パターンは、さまざまな形態をとりうることが可能である。図２１（ａ）〜（ｉ）に、バンクの形成パターンの代表例を列記するが、バンクの形状はこれらの実施形態に限定されるものではない。
【０１３６】
図２１（ａ）は、各領域を四角形に形成したものである。
図２１（ｂ）は、各領域を円形に形成したものである。各領域を円形にすると、バンクで反射される光のプロファイルが各方向で等しくなるというメリットがある。また、有機層を塗布法で形成する場合などにおいては、四角形のように角部があると。その部分だけ液が濡れ広がりにくいといった課題が生じる場合があるが、円形の場合には角部がないため、液を均一に広げることができる。なお、この図２１（ｂ）では各領域を円形で描いているが、楕円や、四角形の角部に丸みを帯びさせた形状などに形成してもよい。
【０１３７】
図２１（ｃ）は、各領域の配置をヘキサゴナル配置にしたものである。ヘキサゴナル配置にすることによって、図２１（ｃ）の実施形態と比較して、発光エリアの比率を高めることができる。
図２１（ｄ）は、六角形の領域をヘキサゴナル配置したものである。
図２１（ｅ）は、各領域の一部にバンクを形成しない領域を配したものである。こうすることによって、第二電極がバンクを乗り越えるときに段切れすることを防止し、歩留まり、および信頼性を向上させることができる。
図２１（ｆ）は、各領域の一部にバンクを形成しない領域の位置を、一直線にさせないようにした例である。
【０１３８】
図９（ｅ）に示した実施形態の場合、バンクを形成していない領域において、横方向に導波する光がデバイスの端まで反射散乱されることがなく、損失となる。これに対して、図９（ｆ）では、バンクを形成していない領域において、横方向に導波してある領域から次の領域に進んで光が、次の領域ではバンクにあたる構造となっており、光の損失を抑制できる。図９（ｇ）、図９（ｈ）、図９（ｉ）は、図９（ｄ）、図９（ｂ）、図９（ｃ）の構成において、それぞれ各領域の一部にバンクを形成しない領域を配したものである。
【０１３９】
（発光デバイスの適用例）
発光デバイスの適用例として、図１２（Ａ）に示す携帯電話機、図１２（Ｂ）に示す有機ＥＬテレビなどが挙げられる。
図１２（Ａ）に示す携帯電話機１０００は、本体１００１、表示部１００２、音声入力部１００３、音声出力部１００４、アンテナ１００５、操作スイッチ１００６等を備えており、表示部１００２に前記各実施形態の発光デバイスが用いられている。
【０１４０】
図１２（Ｂ）に示すテレビ受信装置１１００は、本体キャビネット１１０１、表示部１１０２、スピーカー１１０３、スタンド１１０４等を備えており、表示部１１０２に前記各実施形態の発光デバイスが用いられている。
これら携帯電話機や有機ＥＬテレビにおいては、前記各実施形態の発光デバイスが用いられているため、輝度が高く表示品位に優れている。
【０１４１】
また、発光デバイスの適用例として、例えば、図１３（Ａ）に示すシーリングライト（照明装置）に適用できる。図１３（Ａ）に示すシーリングライト１４００は、照明部１４０１、吊具１４０２、及び電源コード１４０３等を備えている。そして、照明部１４０１として前記各実施形態の発光デバイスが好適に適用できる。本発明の一実施形態に係る発光デバイスをシーリングライト１４００の照明部１４０１に適用することによって、少ない消費電力で明るく、かつ自在な色調の照明光を得ることができ、光演出性の高い照明器具を実現することができる。また、均一な照度で色純度の高い面発光が可能な照明器具を実現することができる。
【０１４２】
また、発光デバイスの適用例として、例えば、図１３（Ｂ）に示す照明スタンドに適用できる。図１３（Ｂ）に示す照明スタンド１５００は、照明部１５０１、スタンド１５０２、電源スイッチ１５０３、及び電源コード１５０４等を備えている。そして、照明部１５０１として前記各実施形態の発光デバイスが好適に適用できる。本発明の一実施形態に係る発光デバイスを照明スタンド１５００の照明部１５０１に適用することによって、少ない消費電力で明るく、かつ自在な色調の照明光を得ることができ、光演出性の高い照明器具を実現することができる。また、均一な照度で色純度の高い面発光が可能な照明器具を実現することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１４３】
本発明は、発光素子に利用でき、より具体的には、表示装置、表示システム、照明装置、照明システムなどに利用できる。
【符号の説明】
【０１４４】
１０…発光デバイス、１１…基板、１２…第一電極（下部電極）、１３…第二電極（上部電極）、１４…有機発光層、１５…バンク。
【図１】
2014225329.tif 000003
【図２】
2014225329.tif 000004
【図３】
2014225329.tif 000005
【図４】
2014225329.tif 000006
【図５】
2014225329.tif 000007
【図６】
2014225329.tif 000008
【図７】
2014225329.tif 000009
【図８】
2014225329.tif 000010
【図９】
2014225329.tif 000011
【図１０】
2014225329.tif 000012
【図１１】
2014225329.tif 000013
【図１２】
2014225329.tif 000014
【図１３】
2014225329.tif 000015
【図１４】
2014225329.tif 000016
【図１５】
2014225329.tif 000017
【図１６】
2014225329.tif 000018
【図１７】
2014225329.tif 000019
【図１８】
2014225329.tif 000020
【図１９】
2014225329.tif 000021
【図２０】
2014225329.tif 000022
【図２１】
2014225329.tif 000023