(57)【要約】【課題】タクトタイムを短縮して、生産性を向上する。【解決手段】共通して設けられた制御部Ｃが、レディ信号２０ｒを出力している露光部２０，３０，４０，５０…のうち１つの露光部を選択してアライメント開始信号を出力すると、この選択された露光部において、駆動部２３によるアライメント動作を実行するとともに、露光照射用光源２６ａの照度変化に対応する露光時間を露光条件信号として出力する。【選択図】図１
2014085649.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、
被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、
前記マスク保持部と前記ワーク保持部とを相対的に駆動する駆動部と、
前記マスクに形成されたマスク側アライメントマーク及び前記ワークに形成されたワーク側アライメントマークを検出可能なアライメントカメラと、
アライメント開始可能であることを出力するレディ信号出力手段と、
を備え前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する露光部が複数設けられ、
これら複数の露光部において、それぞれ前記アライメントカメラによって検出された前記両アライメントマークのずれ量に基づいて、前記駆動部を駆動制御してアライメント動作を実行するための制御部が共通して設けられるとともに、
前記制御部が、前記レディ信号を出力している前記露光部のうち１つの露光部を選択してアライメント開始信号を出力することで、この選択された露光部において、前記両アライメントマークのずれ量が露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となるよう前記駆動部によるアライメント動作を実行する露光装置において、
前記露光部が露光照射用光源と、露光時間を制御するシャッタと、前記露光照射用光源の照度変化を検出する検出手段とを備え、
前記制御部が、前記露光照射用光源の照度変化に対応する露光時間を露光条件信号として出力することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記ワークが、予め強化処理が施されたガラス基板とされてなることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部が、前記選択した露光部において、前記駆動部に前記アライメント開始信号を出力した後、前記レディ信号が再度出力される前に、前記レディ信号を出力している他の露光部を選択して前記アライメント開始信号を出力することを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記ワーク保持部が複数のワークを保持可能とされることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に用いて好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、タッチパネルは、例えばＡＴＭ、自動販売機、携帯情報端末、携帯ゲーム機、電子案内表示板、カーナビゲーション、携帯電話等に広く用いられている。
タッチパネルを液晶パネルの上に載せて使う従来方法に対して、タッチパネル機能を液晶パネルの中に一体化する方法の研究が盛んになっている。このタッチパネルと液晶パネルの一体化には、近年、タッチパネルセンサの薄型化と製造工程の簡単化のトレンドとして、インセル方式、オンセル方式と並んで、カバーガラスに直接パターニングする方法が検討されている。
【０００３】
現在市場に流通しているカバーガラスは、最終的に得られる製品のサイズ・形状にカットした後に強化処理を行っている。この工程を逆にすることが技術的障壁であり、カットされたカバーガラスヘのパターニングが行われている。即ち、強化処理を行った複数取りの大型ガラス基板を露光・パターニング後にカットすると、クラックが入るなどして製品化ができない、また、最終的に得られる製品の形状が矩形ではなくなり、単純にカットできないのが現状である。
【０００４】
そこで、製品サイズ・形状にカットされたガラス基板に対して露光処理を行う露光装置が求められているが、そのような露光装置ではタクトタイムが大きくなってしまい、生産性向上の妨げとなっている。
【０００５】
また、従来から、露光処理に必要な時間をより一層短縮する生産性の向上を安価に実現したいという要望は存在した。
また、露光処理後にエッチングにより形成した線状部分の幅を所望の状態にするために、露光条件として、線幅に対する適切な露光エネルギーを所定の値に設定する必要がある。具体的なパラメータとしては、露光時間や、照度などとされるランプパワーが適応されるが、これらが変動した場合には線状部分の幅が変動してしまうため、露光パラメータをモニタリングする必要があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−２９７９７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような従来の実情に鑑みて考案されたものであり、個別形状にカットされた基板などに対して露光処理を行う露光装置において、タクトタイムを短縮して、生産性を向上できる露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
また、本発明の露光装置において、露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、
被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、
前記マスク保持部と前記ワーク保持部とを相対的に駆動する駆動部と、
前記マスクに形成されたマスク側アライメントマーク及び前記ワークに形成されたワーク側アライメントマークを検出可能なアライメントカメラと、
アライメント開始可能であることを出力するレディ信号出力手段と、
を備え前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する露光部が複数設けられ、
これら複数の露光部において、それぞれ前記アライメントカメラによって検出された前記両アライメントマークのずれ量に基づいて、前記駆動部を駆動制御してアライメント動作を実行するための制御部が共通して設けられるとともに、
前記制御部が、前記レディ信号を出力している前記露光部のうち１つの露光部を選択してアライメント開始信号を出力することで、この選択された露光部において、前記両アライメントマークのずれ量が露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となるよう前記駆動部によるアライメント動作を実行する露光装置において、
前記露光部が露光照射用光源と、露光時間を制御するシャッタと、前記露光照射用光源の照度変化を検出する検出手段とを備え、
前記制御部が、前記露光照射用光源の照度変化に対応する露光時間を露光条件信号として出力する手段を採用することもできる。
また、前記ワークが、予め強化処理が施されたガラス基板とされてなることができる。
本発明においては、前記制御部が、前記選択した露光部において、前記駆動部に前記アライメント開始信号を出力した後、前記レディ信号が再度出力される前に、前記レディ信号を出力している他の露光部を選択して前記アライメント開始信号を出力することが望ましい。
さらに、前記ワーク保持部が複数のワークを保持可能とされることが可能である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、前記制御部が、前記レディ信号を出力している前記露光部のうち１つの露光部を選択してアライメント開始信号を出力することで、この選択された露光部において、前記両アライメントマークのずれ量が露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となるよう前記駆動部によるアライメント動作を実行することにより、共通となる制御部で複数の露光部を制御して露光を並列的におこなう際に、一つの露光部で駆動部によるアライメント中に、他の露光部でアライメントカメラからの画像に基づく駆動量の演算とアライメント信号の出力をおこなうことで、制御部を共通として複数の露光部を制御してタクトタイムを短縮するとともに装置の製造コストを削減するという効果を奏することができる。
【００１０】
本発明によれば、予め強化処理が施されたガラス基板に対しても、効率的に露光処理を行うことができ、安価にタクトタイムを短縮して、生産性を向上できる露光装置を提供することができる。
【００１１】
本発明においては、前記制御部が、前記選択した露光部において、前記駆動部に前記アライメント開始信号を出力した後、前記レディ信号が再度出力される前に、前記レディ信号を出力している他の露光部を選択して前記アライメント開始信号を出力することにより、共通の制御部における空き時間を短縮して、複数の露光部において効率的にタクトタイムを短縮することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係る露光装置の第１実施形態を示す模式図である。
【図２】本発明に係る露光装置の第１実施形態における露光処理状態を示すタイムチャートである。
【図３】本発明に係る露光装置の第１実施形態における露光処理状態を示すタイムチャートである。
【図４】本発明に係る露光装置の第２実施形態における露光部を示す斜視図（ａ）、上面図（ｂ）、断面図（ｃ）である。
【図５】本発明に係る露光装置の第３実施形態における露光部を示す上面図である。
【図６】本発明に係る露光装置の第３実施形態における他の例を示す上面図である。
【図７】本発明に係る露光装置の第１実施形態における照射光学系（露光ユニット）の一構成例を模式的に示す図である。
【図８】本発明に係る露光装置の第１実施形態における照射光学系（露光ユニット）の他の構成例を模式的に示す図である。
【図９】本発明に係る露光装置の第１実施形態における照射光学系（露光ユニット）の他の構成例を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明に係る露光装置の第１実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態における露光装置を示す模式図であり、図において、符号１は、露光装置である。
【００１４】
本実施形態における露光装置１は、制御部Ｃと、この制御部Ｃに接続された複数の露光部２０，３０，４０，５０・・・とを有する。露光部の台数は特に限定されるものではないが、本実施形態では、４台分のみを用いて説明する。
【００１５】
露光部２０，露光部３０，露光部４０，露光部５０は、いずれも、ほぼ等しい構成とされるため、代表して符号２０を付したものについて説明する。また、これ以降の説明において、それぞれの露光部における構成は、符号２０およびこれから派生した２０番台の構成要素が、符号３０，４０，５０およびこれから派生した３０番台、４０番台、５０番台の構成要素に読み替えられるものとして記載する。
【００１６】
露光部２０は、マスクＭを保持するマスクステージ（マスク保持部）２１と、ガラス基板（被露光材としてのワーク）Ｗを保持するワークステージ（ワーク保持部）２２と、ワークステージ２２をＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸方向に移動し、且つワークステージ２２のチルト調整を行うワークステージ移動機構（駆動部）２３と、アライメントカメラ２４と、レディ信号出力手段２５と、照射光学系２６と、ワークＷをロード・アンロードする搬送系２７とを有する。
【００１７】
なお、ガラス基板Ｗ（以下、単に「ワークＷ」と称する。）は、露光時にはマスクＭに対向配置され、このマスクＭに描かれたマスクパターンを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面側）に感光剤が塗布されている。また、マスクＭは、溶融石英からなり、長方形状に形成されている。
【００１８】
マスクステージ（マスク保持部）２１は、例えば、中央部に矩形形状の開口部が形成されるマスクステージベースと、マスクステージベースの開口部にＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動可能に装着されるマスク保持枠（マスク保持部）と、マスク保持枠に取り付けられ、マスクＭを吸着保持するチャック部と、マスク保持枠とチャック部とをＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動させ、このマスク保持枠に保持されるマスクＭの位置を調整するマスク位置調整機構（マスク駆動部）とを備えることができる。マスクステージベースは、Ｚ軸移動装置によりＺ軸方向に移動可能に支持され、ワークステージの上方に配置される。Ｚ軸移動装置は、例えば、モータ及びボールねじ等からなる電動アクチュエータ、或いは空圧シリンダ等を備え、単純な上下動作を行うことにより、マスクステージを所定の位置まで昇降可能とする。また、マスク位置調整機構は、マスク保持枠のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられるＹ軸方向駆動装置と、マスク保持枠のＹ軸方向に沿う一辺に取り付けられる２台のＸ軸方向駆動装置とを備え、マスク保持枠をθ方向に移動（Ｚ軸回りの回転）させることができる。
【００１９】
さらに、マスクステージ２１の上側には、マスクＭのアライメントマーク２１ａとワークＷのアライメントマーク２２ａを撮像するためのアライメントカメラ２４が設けられる。アライメントカメラ２４は、移動機構を介してＸ軸，Ｙ軸方向に移動可能に保持され、平面視してマスク保持枠内に配置可能である。
【００２０】
ワークステージ（ワーク保持部）２２は、は、ワークステージ移動機構２３上に設置されており、ワークＷをワークステージ２２に保持するための吸着面を上面に有するワークチャックを備える。なお、ワークチャックは、真空吸着によりワークＷを保持可能である。
【００２１】
ワークステージ移動機構２３は、ワークステージをＹ軸方向に移動させるＹ軸送り機構と、ワークステージ２２をＸ軸方向に移動させるＸ軸送り機構と、ワークステージ２２のチルト調整を行うと共に、ワークステージ２２をＺ軸方向に微動させるＺ−チルト調整機構とを備える。なお、駆動部としてはマスクＭとガラス基板Ｗとが相対移動可能であればよく、ワークステージ移動機構２３およびマスク位置調整機構（マスク駆動部）とを含めた構成とすることができる。
【００２２】
搬送系２７は、所定位置にワークＷをロードし、露光終了後にアンロード可能であればどのような構成でもよく、たとえば、多関節系のロボットハンドや、一方向に流れるコンベアなどが採用できる。なお、図１においては、模式的に搬送系２７を示している。
【００２３】
レディ信号出力手段２５は、所定位置にワークＷが位置してアライメント開始可能である状態を出力するものとされ、搬送系２７、あるいは、アライメントカメラ２４などからの信号出力手段とすることができる。または、搬送系２７の動作を制御部Ｃで制御する場合などには、制御部Ｃがレディ信号をＯＮとして、制御部Ｃ自身をレディ信号出力手段２５とすることもできる。
【００２４】
照射光学系２６は、露光照射が可能な構成であれば特に限定されることはないが、例えば、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ（露光照射用光源）２６ａと、照射光を制御するとともに照射光路を構成する光学系要素２６ｂと、照射光路を開閉制御する露光制御用シャッタ２６ｃと、照度計（検出手段）２６ｄとを備える構成とすることができる。
光学系要素は、たとえば、高圧水銀ランプから照射された光を集光する凹面鏡、この凹面鏡の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ、光路の向きを変えるための複数の平面ミラー及び球面ミラーなどからなる構成を例示でき、この場合、露光制御用シャッタ２６ｃが、平面ミラーとオプチカルインテグレータとの間に配置されることができる。
【００２５】
高圧水銀ランプ２６ａは、露光装置１の駆動中は基本的に常時点灯とされている。
露光制御用シャッタ２６ｃは、制御部Ｃからの信号で開閉状態を制御されて、露光開始および露光終了をおこなうものである。
照度計２６ｄは、制御部Ｃに接続され、ランプ２６ａの状態を出力可能となっている。
【００２６】
図７は、照射光学系（露光ユニット）の一構成例を模式的に示す図である。図７（ａ）に示すように、露光ユニット９０においては、光源（露光照射用光源）９１から発せられた光は、集光鏡９２によって下方に配された第一平面鏡９３に向けて進む。第一平面鏡９３で反射された光は、インテグレータ９４を通過した後、第二平面鏡９５に向けて進む。その際、インテグレータ９４を通過した光の一部は、照射監視装置９６に入射する。第二平面鏡９５で反射された光は、コリメーター９７、マスク９８を順に通過した後、図１等におけるワークＷに対応する複数の基板２の処理面２αに対して露光処理を行う。露光制御用シャッタ９０Ａが、第一平面鏡９３とインテグレータ９４との間に配置されることができる。また、この例では、照度計（検出手段）は図示していない。
【００２７】
なお、図７（ｂ）には、図７（ａ）におけるマスク９８と複数の基板２の処理面２αとの関係を拡大して示す図である。マスク９８と処理面２αの隙間ｄを数μｍから数十μｍに設定する場合（ｄ≠０）は、プロキシミティ方式と呼ばれる。一方、マスク９８と処理面２αを完全に接触させる場合（ｄ＝０）は、コンタクト方式と呼ばれる。何れの方式をも適用することができる。
つまり、上記の露光処理を成立させる為には、複数の基板２の処理面２αに対して、露光処理する光、すなわちコリメーター９７を通過した光が、同一距離の光路となるように、コリメーター９７と複数の基板２との相対的な位置を合わせる必要がある。
【００２８】
図８は、照射光学系（露光ユニット）の他の構成例を模式的に示す図である。図８（ａ）に示すように、露光ユニット３００においては、光源３０１と、光源３０１から出射された光を集光する楕円鏡３０２と、楕円鏡３０２により集光反射された光を平行光とするコリメータレンズ３０３と、パターンが形成されたマスク３０４を透過した光を集光してワークＷ上に投射するための投影レンズ３０５とからなる。また、楕円鏡３０２とコリメータレンズ３０３との間には、２枚のシャッタ３０７，３０８が配設されている。このシャッタ３０７，３０８はモータおよびギア列からなる駆動機構３１２により回転軸Ｘ０の周囲に互いに逆方向に回転するように制御される。なお、駆動機構３１２をシャッタ３０７，３０８に別々に設けてもよい。この例では、照度計（検出手段）は図示していない。
【００２９】
図８（ｂ）はシャッタ３０７，３０８の構成を示す図である。図に示すようにシャッタ３０７，３０８は、円盤の一部に切欠が形成されてなるシャッタ羽根３０９，３１０からなり、これらのシャッタ羽根３０９，３１０は駆動機構３１２により互いに逆方向に同期して回転される。図８（ｂ）に示すように、シャッタ３０７，３０８が閉じた状態においては、シャッタ羽根３０９，３１０は、光軸Ｘ１を遮断するようにわずかに重なった状態となる。一方、シャッタが開いた状態においては、シャッタ羽根３０９，３１０は図８（ｂ）に示す状態から相対的に切欠の中心角に等しい角度（４分円対応）たけ回転した互いにほぼ重なった状態にあり、光軸Ｘ１は開放された状態となる。このシャッタ羽根３０９，３１０の回転が制御部Ｃから出力された信号により制御される。
【００３０】
図９は、照射光学系（露光ユニット）の他の構成例を模式的に示す図である。図９（ａ）に示すように、露光ユニット４００は、シャッタとしての液晶表示素子４０２と光を遮蔽する仕切りによって、光源が設置されているランプハウス４０３と、露光に不要な外光が遮蔽されているブラックボックス４０４の空間に分けられている。液晶表示素子４０２は、ランプハウス４０３からの光を透過又は遮蔽させる制御装置として用いられ、液晶表示素子４０２のブラックボックス４０４側には、蝿の目状に無数のレンズが設けられたフライアイレンズ４０５が設けられており光斑及び光の拡散を防いでいる。また液晶表示素子４０２は光を透過又は遮蔽させるだけでよい。ランプハウス４０３には、露光用の光を発生させる光源である水銀ランプ４０６と、水銀ランプ４０６からの光を集光させる楕円ミラー４０７と、水銀ランプ４０６から発生した光を液晶表示素子４０２に向かって反射させる反射板４０８を備えている。ブラックボックス４０４には、液晶表示素子４０２により制御された光を均一にするフレネルレンズ４０９と、液晶表示素子４０２を透過した光をフレネルレンズ４０９に向かって反射させる反射板４１０と、光が照射されると不溶化する被露光膜であるネガ型レジストが塗布されているガラス基板Ｗと、ガラス基板Ｗを載置し露光位置まで可動させるステージ４１２と、光を透過する透過領域と光を遮蔽する遮蔽領域が配線パターン状に形成されているマスク４１３とを備える。
【００３１】
液晶表示素子４０２には駆動用電力供給部が接続されており液晶表示素子４０２の液晶層にかかる電圧を制御することにより液晶層の配向状態を変化させ、液晶表示素子４０２に入射された光を透過又は遮蔽させている。露光ユニット４００の動作について説明すると、水銀ランプ４０６から発生した光は、楕円ミラー４０７によって一方向に集められ、集光された光は、第１の反射板４０８によって反射されフライアイレンズ４０５を備えた液晶表示素子４０２に入射される。液晶表示素子４０２は制御部Ｃからの制御信号によって液晶分子の配向状態が変えられ入射された光の透過又は遮蔽が制御される。液晶表示素子４０２が遮蔽状態のときは、ステージ４１２を動作させ既に露光の終了したガラス基板Ｗを退避させたり、露光用レジストの塗布されたガラス基板Ｗを設置させたりする。露光状態である液晶表示素子４０２の透過状態のときは、液晶表示素子４０２から通過した光は反射板４１０によって反射されフレネルレンズ４０９に入射される。フレネルレンズ４０９によって均一にされた光はマスク４１３に入射され、配線パターンに加工された光は、露光用レジストが塗布されているガラス基板Ｗに照射される。
【００３２】
照射光学系２６においては、高圧水銀ランプ（露光照射用光源）２６ａの照度を検出し、その状態変化に追従して露光処理における照射時間の設定を行う必要がある。これは、多くの場合、高圧水銀ランプ（露光照射用光源）２６ａは常時点灯状態とされ、露光制御用シャッタ２６ｃの開閉時間をコントロールすることにより、露光状態を所望の範囲とするものである。つまり、経時変化などの原因によって照度が低下した状態では、露光時間を長くし、また、照度が高い場合には露光時間を短くするように露光制御用シャッタ２６ｃの開閉時間をコントロールする。これにより、フォトレジスト等である被露光部の露光状態が照度に起因して変化してしまうことを防止できる。言い換えると、露光による「焼き加減」の変動を低減して所望の露光結果を維持し、エッチング等の露光後処理を経て形成された線幅などのパラメータが変動するといった不具合を防止することが可能となる。
同時に、複数の照射光学系（露光ユニット）において、照度のバラツキ機差に起因する露光処理のバラツキをフィードバックにより低減することが可能となる。露光エネルギーと線幅との関係を維持するための冗長性を少なくし、コストを削減することが可能となる。
【００３３】
この照度計（検出手段）２６ｄによる照射光の照度（輝度）の変動に基づいた露光制御用シャッタ２６ｃの開閉時間変化の制御は、制御部Ｃにおいて、照度計２６ｄから所定間隔で出力される検出信号に基づいて演算された開閉時間のデータを露光条件信号として、後述する露光開始信号に含めて出力し、露光制御用シャッタ２６ｃが動作するものとすることができる。または、あらかじめ記憶させた開閉時間をメモリ（記憶手段）から読み出して、露光条件信号として露光開始信号と同時に出力することができる。
【００３４】
なお、検出手段としては、照度計以外にも、高圧水銀ランプ（露光照射用光源）２６ａへの電力供給量をモニターする電力（電圧・電流）計などを採用することも可能である。
また、露光ユニット９０、露光ユニット３００、露光ユニット４００においても同様の作用効果を奏することができる。
【００３５】
このように構成された露光装置１における露光方法を説明するために、まず、露光部２０が単一の状態での動作を説明する。
【００３６】
図２は、本実施形態の露光装置１における露光処理状態を示すタイムチャートである。図２において、符号２０ｒは、露光部２０におけるレディ信号のＯＮ・ＯＦＦ、２０Ａは、露光部２０におけるアライメント駆動状態のＯＮ・ＯＦＦ、２０Ｅは、露光部２０におけるアライメント終了後処理のＯＮ・ＯＦＦ、Ｃａｌは、制御部Ｃにおけるアライメント演算状態のＯＮ・ＯＦＦを示すものである。
【００３７】
このように構成された露光装置１を用いて、露光処理をおこなう際には、まず、ガラス基板Ｗを、搬送系２７によってワークステージ２２に搬送し所定範囲の位置にロードする。このワークＷには、パターニングする対象となる薄膜が形成されるとともにアライメントマーク（ワーク側アライメントマーク）２２ａが形成されたものとされる。
【００３８】
ガラス基板Ｗがロードされたことを検知したレディ信号出力手段２５は、レディ信号２０ｒをＯＮ状態とする。
この初期状態では、図２において時刻ｔ０で示すように、駆動部２３におけるアライメント動作であるアライメント駆動２０ＡはＯＦＦ、アライメント終了後の処理として照射光学系２６における露光処理および搬送系２７による露光処理が終了したガラス基板Ｗのアンロードと次に処理するための未処理のガラス基板Ｗのロードとを含めた処理状態である後処理２０ＥもＯＦＦとされる。
【００３９】
制御部Ｃは、アライメントを開始する場合には、レディ信号がＯＮであることを確認した後、図２において時刻ｔ１で示すように、制御部Ｃがアライメント開始信号を出力してアライメント演算状態ＣａｌがＯＮとなる。
アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになると、レディ信号がＯＦＦとなるとともに、アライメントカメラ２４から出力された画像が制御部Ｃに入力されて、制御部Ｃは、この画像を処理してマスクＭのアライメントマーク２１ａとガラス基板Ｗのアライメントマーク２２ａとの位置関係を演算し、この演算結果から、これらのアライメントマーク２１ａ，２２ａを一致させる等の露光のために設定された位置関係とのずれ量、すなわち、アライメントするためのベクトルデータを算出し、この結果を、駆動部２３への駆動信号のデータとして出力する。
【００４０】
駆動部２３への駆動信号はアライメント動作実行信号とされて、このアライメント動作実行信号の出力により、図２において時刻ｔ２で示すように、アライメント演算状態ＣａｌがＯＦＦとなるとともに、駆動部２３がアライメントステージ２１を駆動して、アライメント駆動状態２０ＡがＯＮとなる。
【００４１】
駆動部２３の駆動が終了すると、図２において時刻ｔ３で示すように、アライメント駆動状態２０ＡがＯＦＦとなるとともに、再度、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。
時刻ｔ３でアライメント演算状態ＣａｌがＯＮになると、時刻ｔ１と同様に、アライメントカメラ２４から出力された画像が制御部Ｃに入力されて、制御部Ｃは、この画像を処理して、ｔ２からｔ３までのアライメント動作による変化後のマスクＭのアライメントマーク２１ａとガラス基板Ｗのアライメントマーク２２ａとの位置関係を演算し、この演算結果から、これらのアライメントマーク２１ａ，２２ａが露光のために設定された位置範囲となっていない場合には、そのずれ量、すなわち、アライメントするためのベクトルデータを算出し、この結果を、駆動部２３へのリトライ信号としての駆動データを出力する。
【００４２】
駆動部２３へのリトライ信号は再度アライメント動作実行信号とされて、このアライメント動作実行信号の出力により、図２において時刻ｔ４で示すように、アライメント演算状態Ｃａｌが再度ＯＦＦとなるとともに、駆動部２３がアライメントステージ２１を駆動して、アライメント駆動状態２０Ａが再度ＯＮとなる。
【００４３】
駆動部２３のリトライ駆動が終了すると、図２において時刻ｔ５で示すように、アライメント駆動状態２０ＡがＯＦＦとなるとともに、もう一度、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。
時刻ｔ５でアライメント演算状態ＣａｌがＯＮになると、時刻ｔ３と同様に、アライメントカメラ２４から出力された画像が制御部Ｃに入力されて、制御部Ｃは、この画像を処理して、ｔ４からｔ５までのリトライ動作による変化後のマスクＭのアライメントマーク２１ａとガラス基板Ｗのアライメントマーク２２ａとの位置関係を演算し、この演算結果から、これらのアライメントマーク２１ａ，２２ａが露光のために設定された位置関係となった場合には、露光処理を開始するための露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系２６に出力する。
【００４４】
照射光学系２６への露光開始信号の出力により、図２において時刻ｔ６で示すように、アライメント演算状態ＣａｌがＯＦＦとなるとともに、後処理２０ＥがＯＮとなる。
後処理２０ＥがＯＮとなったことにより、照射光学系２６では、露光制御用シャッタを開制御し、高圧水銀ランプから照射された光がマスクステージ２１に保持されるマスクＭ、さらにはワークステージ２２に保持されるワークＷの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射される。これにより、マスクＭのマスクパターンがワークＷ上に露光転写される。必要であれば複数回ショットをおこない露光転写を繰り返して露光を終了した後、搬送系２７を駆動して、露光処理の終わったガラス基板Ｗをアンロードするとともに、未処理のガラス基板Ｗをロードする。
【００４５】
未処理のガラス基板Ｗをロードが完了したことを確認したレディ信号出力手段２５は、図２において時刻ｔ７で示すように、レディ信号２０ｒをＯＮ状態とする。同時に、後処理２０ＥがＯＦＦとなり、露光部２０は、制御部Ｃからのアライメント開始信号を待機するレディ状態となる。
【００４６】
このように、単機の露光部２０のみを駆動した場合には、アライメント動作中である時刻ｔ２から時刻ｔ３およびリトライ動作中である時刻ｔ４から時刻ｔ５、露光処理を含む後処理中である時刻ｔ６から時刻ｔ７は、制御部Ｃは演算を行っていない。
【００４７】
次に、露光装置１における複数の露光部２０，３０，４０，５０を並列に処理する状態での動作を説明する。
【００４８】
図３は、本実施形態の露光装置１における露光処理状態を示すタイムチャートである。図３において、符号３０，４０，５０およびこれから派生した要素は、上述したように、符号２０から派生したレディ信号２０ｒ、アライメント駆動状態２０Ａ、アライメント終了後処理２０Ｅに読み替えられるものとして記載する。
また、各時刻におけるそれぞれの露光部３０，４０，５０での各ＯＮ・ＯＦＦにかかわる部分において、上記の図２に示した露光部２０での動作と同じ部分は、対応する符号を付してその説明を省略する。
【００４９】
説明のため各露光部２０，３０，４０，５０は、図３において時刻ｔ００で示すように、いずれもレディ信号がＯＮの状態とされている。
制御部Ｃは、図３において時刻ｔ０１で示すように、これらレディ信号がＯＮとなっている複数の露光部から露光部２０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号２０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部２０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ０２で示すように、露光部２０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態２０ＡがＯＮとなる。
【００５０】
制御部Ｃは、露光部２０へのアライメント動作実行信号を出力した後、駆動部２３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ０３で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部３０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号３０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部３０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ０４で示すように、露光部３０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態３０ＡがＯＮとなる。
【００５１】
制御部Ｃは、露光部３０へのアライメント動作実行信号を出力した後、駆動部２３および駆動部３３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ０５で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部４０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号４０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部４０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ０６で示すように、露光部４０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態４０ＡがＯＮとなる。
【００５２】
制御部Ｃは、露光部４０へのアライメント動作実行信号を出力した後、駆動部２３、駆動部３３および駆動部４３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ０７で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部５０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号５０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部５０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ０８で示すように、露光部５０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態５０ＡがＯＮとなる。
【００５３】
駆動部２３の駆動が終了すると、駆動部３３、駆動部４３および駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ０９で示すように、アライメント駆動状態２０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ０２からｔ０９までのアライメント動作後の露光部２０に対する演算処理を開始する。
【００５４】
図３において時刻ｔ１０で示すように、アライメントマーク２１ａ，２２ａが露光のために設定された位置範囲となっていない場合には、制御部Ｃは、演算結果を駆動部２３へのリトライ信号として出力し、アライメント演算状態Ｃａｌが再度ＯＦＦとなるとともに、アライメント駆動状態２０Ａが再度ＯＮとなる。
【００５５】
駆動部３３の駆動が終了すると、駆動部２３、駆動部４３および駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ１１で示すように、アライメント駆動状態３０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ０４からｔ１１までのアライメント動作後の露光部３０に対する演算処理を開始する。
【００５６】
図３において時刻ｔ１２で示すように、アライメントマーク３１ａ，３２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理３０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系３６および搬送系３７等に出力し、露光部３０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００５７】
駆動部４３の駆動が終了すると、駆動部２３および駆動部５３がアライメント動作実行中かつ照射光学系３６または搬送系３７が後処理実行中である図３において時刻ｔ１３で示すように、アライメント駆動状態４０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ０６からｔ１３までのアライメント動作後の露光部４０に対する演算処理を開始する。
【００５８】
図３において時刻ｔ１４で示すように、アライメントマーク４１ａ，４２ａが露光のために設定された位置範囲となっていない場合には、制御部Ｃは、演算結果を駆動部４３へのリトライ信号として出力し、アライメント演算状態Ｃａｌが再度ＯＦＦとなるとともに、アライメント駆動状態４０Ａが再度ＯＮとなる。
【００５９】
駆動部５３の駆動が終了すると、駆動部２３および駆動部４３がアライメント動作実行中かつ照射光学系３６または搬送系３７が後処理実行中である図３において時刻ｔ１５で示すように、アライメント駆動状態５０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ０８からｔ１５までのアライメント動作後の露光部５０に対する演算処理を開始する。
【００６０】
図３において時刻ｔ１６で示すように、アライメントマーク５１ａ，５２ａが露光のために設定された位置範囲となっていない場合には、制御部Ｃは、演算結果を駆動部５３へのリトライ信号として出力し、アライメント演算状態Ｃａｌが再度ＯＦＦとなるとともに、アライメント駆動状態５０Ａが再度ＯＮとなる。
【００６１】
照射光学系３６または搬送系３７の後処理が終了すると、駆動部２３、駆動部４３および駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ１７で示すように、後処理３０ＥをＯＦＦ、レディ信号３０ｒをＯＮとして、露光部３０は待機状態となる。
【００６２】
駆動部２３の駆動が終了すると、駆動部４３および駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ１８で示すように、アライメント駆動状態２０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ１０からｔ１８までのリトライ動作後の露光部２０に対する演算処理を開始する。
【００６３】
図３において時刻ｔ１９で示すように、アライメントマーク２１ａ，２２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理２０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系２６および搬送系２７等に出力し、露光部２０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００６４】
制御部Ｃは、図３において時刻ｔ２０で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部３０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号３０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部３０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ２１で示すように、露光部３０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態３０ＡがＯＮとなる。
【００６５】
駆動部４３の駆動が終了すると、駆動部３３および駆動部５３がアライメント動作実行中かつ照射光学系２６または搬送系２７が後処理実行中である図３において時刻ｔ２２で示すように、アライメント駆動状態４０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ１４からｔ２２までのリトライ動作後の露光部４０に対する演算処理を開始する。
【００６６】
図３において時刻ｔ２３で示すように、アライメントマーク４１ａ，４２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理４０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系４６および搬送系４７等に出力し、露光部４０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００６７】
駆動部５３の駆動が終了すると、駆動部３３がアライメント動作実行中かつ照射光学系２６または搬送系２７、照射光学系４６または搬送系４７が後処理実行中である図３において時刻ｔ２４で示すように、アライメント駆動状態５０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ１６からｔ２４までのリトライ動作後の露光部５０に対する演算処理を開始する。
【００６８】
照射光学系２６または搬送系２７の後処理が終了すると、駆動部３３がアライメント動作実行中かつ照射光学系４６または搬送系４７が後処理実行中である図３において時刻ｔ２５で示すように、後処理２０ＥをＯＦＦ、レディ信号２０ｒをＯＮとして、露光部２０は待機状態となる。
【００６９】
図３において時刻ｔ２６で示すように、アライメントマーク５１ａ，５２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理５０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系５６および搬送系５７等に出力し、露光部５０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００７０】
制御部Ｃは、図３において時刻ｔ２７で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部２０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号２０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部２０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ２８で示すように、露光部２０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態２０ＡがＯＮとなる。
【００７１】
照射光学系４６または搬送系４７の後処理が終了すると、駆動部２３、駆動部３３がアライメント動作実行中かつ照射光学系５６または搬送系５７が後処理実行中である図３において時刻ｔ２９で示すように、後処理４０ＥをＯＦＦ、レディ信号４０ｒをＯＮとして、露光部４０は待機状態となる。
【００７２】
駆動部３３の駆動が終了すると、駆動部２３がアライメント動作実行中かつ照射光学系５６または搬送系５７が後処理実行中である図３において時刻ｔ３０で示すように、アライメント駆動状態３０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ２１からｔ３０までのアライメント動作後の露光部３０に対する演算処理を開始する。
【００７３】
照射光学系５６または搬送系５７の後処理が終了すると、駆動部２３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ３１で示すように、後処理５０ＥをＯＦＦ、レディ信号５０ｒをＯＮとして、露光部５０は待機状態となる。
【００７４】
図３において時刻ｔ３２で示すように、アライメントマーク３１ａ，３２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理３０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系３６および搬送系３７等に出力し、露光部３０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００７５】
制御部Ｃは、駆動部２３がアライメント動作実行中かつ照射光学系３６または搬送系３７が後処理実行中である図３において時刻ｔ３３で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部４０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号４０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部４０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ３４で示すように、露光部４０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態４０ＡがＯＮとなる。
【００７６】
制御部Ｃは、駆動部２３、駆動部４３がアライメント動作実行中かつ照射光学系３６または搬送系３７が後処理実行中である図３において時刻ｔ３５で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部５０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号５０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部５０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ３６で示すように、露光部５０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態５０ＡがＯＮとなる。
【００７７】
駆動部２３の駆動が終了すると、駆動部４３、駆動部５３がアライメント動作実行中かつ照射光学系３６または搬送系３７が後処理実行中である図３において時刻ｔ３７で示すように、アライメント駆動状態２０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ２８からｔ３７までのアライメント動作後の露光部２０に対する演算処理を開始する。
【００７８】
照射光学系３６または搬送系３７の後処理が終了すると、駆動部４３および駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ３８で示すように、後処理３０ＥをＯＦＦ、レディ信号３０ｒをＯＮとして、露光部３０は待機状態となる。
【００７９】
図３において時刻ｔ３９で示すように、アライメントマーク２１ａ，２２ａが露光のために設定された位置範囲となっていない場合には、制御部Ｃは、演算結果を駆動部２３へのリトライ信号として出力し、アライメント演算状態Ｃａｌが再度ＯＦＦとなるとともに、アライメント駆動状態２０Ａが再度ＯＮとなる。
【００８０】
制御部Ｃは、図３において時刻ｔ４０で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部３０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号３０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部３０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ４１で示すように、露光部３０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態３０ＡがＯＮとなる。
【００８１】
駆動部４３の駆動が終了すると、駆動部２３、駆動部３３および駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ４２で示すように、アライメント駆動状態４０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ３４からｔ４２までのアライメント動作後の露光部４０に対する演算処理を開始する。
【００８２】
図３において時刻ｔ４３で示すように、アライメントマーク４１ａ，４２ａが露光のために設定された位置範囲となっていない場合には、制御部Ｃは、演算結果を駆動部４３へのリトライ信号として出力し、アライメント演算状態Ｃａｌが再度ＯＦＦとなるとともに、アライメント駆動状態４０Ａが再度ＯＮとなる。
【００８３】
駆動部５３の駆動が終了すると、駆動部２３、駆動部３３および駆動部４３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ４４で示すように、アライメント駆動状態５０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ０８からｔ１５までのアライメント動作後の露光部５０に対する演算処理を開始する。
【００８４】
図３において時刻ｔ４５で示すように、アライメントマーク５１ａ，５２ａが露光のために設定された位置範囲となっていない場合には、制御部Ｃは、演算結果を駆動部５３へのリトライ信号として出力し、アライメント演算状態Ｃａｌが再度ＯＦＦとなるとともに、アライメント駆動状態５０Ａが再度ＯＮとなる。
【００８５】
駆動部２３の駆動が終了すると、駆動部３３、駆動部４３および駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ４６で示すように、アライメント駆動状態２０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ３９からｔ４６までのリトライ動作後の露光部２０に対する演算処理を開始する。
【００８６】
図３において時刻ｔ４７で示すように、アライメントマーク２１ａ，２２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理２０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系２６および搬送系２７等に出力し、露光部２０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００８７】
駆動部３３の駆動が終了すると、駆動部２３、駆動部４３および駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ４８で示すように、アライメント駆動状態３０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ４１からｔ４８までのアライメント動作後の露光部３０に対する演算処理を開始する。
【００８８】
図３において時刻ｔ４９で示すように、アライメントマーク３１ａ，３２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理３０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系３６および搬送系３７等に出力し、露光部３０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００８９】
駆動部４３の駆動が終了すると、駆動部５３がアライメント動作実行中かつ照射光学系２６または搬送系２７、照射光学系３６または搬送系３７が後処理実行中である図３において時刻ｔ５０で示すように、アライメント駆動状態４０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ４３からｔ５０までのリトライ動作後の露光部４０に対する演算処理を開始する。
【００９０】
照射光学系２６または搬送系２７の後処理が終了すると、駆動部３３がアライメント動作実行中かつ照射光学系４６または搬送系４７が後処理実行中である図３において時刻ｔ５１で示すように、後処理２０ＥをＯＦＦ、レディ信号２０ｒをＯＮとして、露光部２０は待機状態となる。
【００９１】
図３において時刻ｔ５２で示すように、アライメントマーク４１ａ，４２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理４０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系４６および搬送系４７等に出力し、露光部４０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００９２】
駆動部５３の駆動が終了すると、駆動部３３がアライメント動作実行中かつ照射光学系２６または搬送系２７、照射光学系４６または搬送系４７が後処理実行中である図３において時刻ｔ５３で示すように、アライメント駆動状態５０ＡがＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌがＯＮになる。制御部Ｃは、ｔ４５からｔ５３までのリトライ動作後の露光部５０に対する演算処理を開始する。
【００９３】
照射光学系３６または搬送系３７の後処理が終了すると、照射光学系４６または搬送系４７が後処理実行中である図３において時刻ｔ５４で示すように、後処理３０ＥをＯＦＦ、レディ信号３０ｒをＯＮとして、露光部３０は待機状態となる。
【００９４】
図３において時刻ｔ５５で示すように、アライメントマーク５１ａ，５２ａが露光のために設定された位置範囲となっている場合には、制御部Ｃは、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理５０ＥをＯＮとし、露光開始信号を露光条件信号とともに照射光学系照射光学系５６および搬送系５７等に出力し、露光部５０に対する露光処理、処理済みガラス基板Ｗのアンロード、未処理ガラス基板Ｗのロードまで一連の処理を連続させる。
【００９５】
制御部Ｃは、図３において時刻ｔ５６で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部２０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号２０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部２０に対する演算処理を開始する。
図３において時刻ｔ５７で示すように、露光部２０に対する演算処理が終了すると、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態２０ＡがＯＮとなる。
【００９６】
制御部Ｃは、図３において時刻ｔ５８で示すように、レディ信号がＯＮとなっている露光部３０を選択して、アライメント開始信号を出力し、レディ信号３０ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとし、露光部３０に対する演算処理を開始する。
【００９７】
照射光学系４６または搬送系４７の後処理が終了すると、駆動部２３、駆動部５３がアライメント動作実行中である図３において時刻ｔ５９で示すように、後処理４０ＥをＯＦＦ、レディ信号４０ｒをＯＮとして、露光部４０は待機状態となる。
【００９８】
これ以降、各露光部２０，３０，４０，５０を制御部Ｃが制御して、各露光部のうち、レディ信号がＯＮになっている露光部を選択して順次処理を開始する。これにより、本実施形態においては、これら複数の露光部を有する露光装置１において、ガラス基板の露光処理を並列的にかつ順次行うことができる。
特に、図２に示したように単独の露光部２０のみで処理をおこなった場合、時刻ｔ２〜ｔ３および時刻ｔ４〜ｔ５という制御部Ｃがなにもしていない時間が存在する。また、このような制御部と露光部とのセットを複数設けた露光装置においては、装置駆動時間の大半で制御部が動作していない時間を有することになる。これに対し、本実施形態においては、図３に示すように、制御部Ｃの動作していない時間を短縮することができるため、制御部Ｃを共通として装置コストを削減した状態で、各露光部２０，３０，４０，５０が駆動していないロスタイムを減少して、結果的に、タクトタイムを短縮して、生産効率を向上することが可能となる。
【００９９】
本発明においては、制御部Ｃによって複数の露光部２０，…集中コントロールすると、１台目の露光部２０で得られた情報を利用して、露光条件を他の露光部３０、…に転用すると、アライメントの短時間化をおこなうことができる。たとえば、２台目以降の露光部３０、…において、アライメント時間を半分程度以下に短縮できる。
ここで、微細化されたデザインルールでの処理においてアライメントしようとすると、一回でできないので、多段階で処理することになり、これをリトライという。アライメントは周囲の状態で狂う。たとえば、温度・湿度の環境因子によるモノが多い。リトライを行うと処理時間が２倍以上かかる。１回目のアライメントで、所望の状態になっていない場合、２回目以降の各回のアライメントは、１回目と同じだけ処理時間が必要である。従って回数が増える分だけ処理時間が必要となる。
また、ランプの照度のバラツキによって、露光処理そのものがばらつく場合がある。
【０１００】
これに対して、本発明においては、制御部Ｃにおいて、1台目の露光部２０におけるアライメントの結果から機械的要素の状態を考慮して、この状態を制御部Ｃのメモリに格納する。そして、２台目以降の露光部３０、…に対しては、この格納データに基づいて、アライメントにおける機械的要素の状態を予想する。その結果、最初のアライメントからリトライと同じように駆動部３３，…においてずれをキャンセルする傾向に駆動させる。このずれは、搬送系で発生するクセであり、たとえば、治具でガラス基板Ｗを載置した際に一方向にずれる・傾く等のクセを意味する。
また、ランプの照度のバラツキを読み取って、同様に露光処理の状態を予想する。その結果、照度変化をキャンセルする傾向に露光時間を制御する。
【０１０１】
つまり、1台目の露光部２０でそのクセを読み取ったことで、相対的なずれを微調整する方向がわかるので、２台目以降の露光部３０、…に対してクセをキャンセルするようにこれに対応する。あるいは、露光部２０で次回以降のガラス基板Ｗに対してクセをキャンセルするように対応するものである。これは、制御部Ｃにおいて、信号を一括で処理することにより、各露光部で、搬送系かロボットや治具系が共通しているか、ハンドリング機構が共通化している場合に非常に有効である。このようなクセに対するフィードフォアードによって、温度湿度などの処理雰囲気によって発生するクセの影響を低減して処理時間を削減し、生産性を向上することができる。
同時に、露光条件のクセに起因する機差も同様に低減することができる。
【０１０２】
本発明においては、露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記マスク保持部と前記ワーク保持部とを相対的に駆動する駆動部と、前記マスクに形成されたマスク側アライメントマーク及び前記ワークに形成されたワーク側アライメントマークを検出可能なアライメントカメラと、アライメント開始可能であることを出力するレディ信号出力手段と、を備え前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する露光部が複数設けられ、これら複数の露光部において、それぞれ前記アライメントカメラによって検出された前記両アライメントマークのずれ量に基づいて、前記駆動部を駆動制御してアライメント動作を実行するための制御部が共通して設けられた露光装置における露光方法であって、前記制御部が、前記レディ信号を出力している前記露光部のうち１つの露光部を選択してアライメント開始信号を出力する工程と、この選択された露光部において、前記両アライメントマークのずれ量が露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となるよう前記駆動部によるアライメント動作を実行する工程とを有する露光方法を採用することができる。
前記ワークが、予め強化処理が施されたガラス基板とされてなることができる。
また、前記制御部が、前記選択した露光部において、前記駆動部に前記アライメント開始信号を出力する工程の後、前記レディ信号が再度出力される前に、前記レディ信号を出力している他の露光部を選択して前記アライメント開始信号を出力する工程を有する露光方法とすることができる。
前記ワーク保持部が複数のワークを保持可能とされることができる。
本発明においては、露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記マスク保持部と前記ワーク保持部とを相対的に駆動する駆動部と、前記マスクに形成されたマスク側アライメントマーク及び前記ワークに形成されたワーク側アライメントマークを検出可能なアライメントカメラと、アライメント開始可能であることを出力するレディ信号出力手段と、を備え前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する露光部が複数設けられ、これら複数の露光部において、それぞれ前記アライメントカメラによって検出された前記両アライメントマークのずれ量に基づいて、前記駆動部を駆動制御してアライメント動作を実行するための制御部が共通して設けられた露光装置であって、前記制御部が、前記レディ信号を出力している前記露光部のうち１つの露光部を選択してアライメント開始信号を出力することで、この選択された露光部において、前記両アライメントマークのずれ量が露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となるよう前記駆動部によるアライメント動作を実行する露光装置を採用することができる。
前記ワークが、予め強化処理が施されたガラス基板とされてなることができる。
前記制御部が、前記選択した露光部において、前記駆動部に前記アライメント開始信号を出力した後、前記レディ信号が再度出力される前に、前記レディ信号を出力している他の露光部を選択して前記アライメント開始信号を出力することができる。
前記ワーク保持部が複数のワークを保持可能とされることができる。
【０１０３】
以下、本発明に係る露光装置の第２実施形態を、図面に基づいて説明する。
本実施形態における露光装置１は、第１実施形態とは、露光部に関する部分が異なり、これ以外の対応する構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。図４は、本実施形態の露光装置における露光部を示す斜視図（ａ）、上面図（ｂ）、断面図（ｃ）である。
【０１０４】
本実施形態における露光部１００は、第１実施形態の露光部２０，３０，４０，５０に対応するものとされる。
この露光部１００は、最終的に得られる製品の個別形状にカットされた基板Ｗに対して露光処理を行うものとされ、露光ユニット１１０と、前記基板Ｗが載置される基板保持ユニット１２０と、前記露光ユニット１１０を前記基板保持ユニット１２０の上方に支持するとともに、前記露光ユニット１１０を少なくとも鉛直方向に移動させる脚ユニット１３０と、を備える。
【０１０５】
前記基板Ｗは、最終的に得られる製品の個別形状にカットされるとともに、予め強化処理が施されたガラス基板である。本実施形態において、基板Ｗは、例えば化学強化ガラスからなる。このような化学強化ガラスは、温度が４００℃程度のカリウム塩溶融浴に浸漬して化学強化処理を行ったガラスであり、ガラス基板Ｗのナトリウムイオンがカリウムイオンにイオン交換されている。ここで、ナトリウムのイオン半径は９５ｎｍであるのに対して、カリウムイオンのイオン半径は１３３ｎｍであり、カリウムイオンの方がナトリウムイオンよりもイオン半径が大きい。このため、ガラス基板は、表面の化学強化層に起因する圧縮応力によって強度が強化された状態にある。
【０１０６】
また、本実施形態において、基板は、大型のガラス基板を切断した後、強化処理されてなる。このため、大型の強化ガラス基板を切断する必要がないので、製品サイズのガラス基板を効率よく生産することができる。なお、基板Ｗには、その表面にパターニングする対象となる薄膜が形成され、その薄膜表面にフォトレジスト膜が予め形成されていてもよい。
【０１０７】
露光ユニット１１０は、光源１１１、前記光源１１１の下方に配されたフレーム部材１１２、前記フレーム部材１１２に取付けられたマスク１１３（フォトマスク）、フレーム部材１１２の（鉛直方向の）位置を調整可能な移動機構（アクチュエータ１１４）を備える。
光源１１１としては、例えば、波長３６５ｎｍを基準波長とする超高圧水銀ランプが好ましい。このランプを使用する場合、点灯／消灯制御を頻繁に行うことは現実的ではないので、継続点灯状態で用いる。そのため、光源からの光の出射／遮蔽動作を行うためには、２次デバイスが必要となる。この２次デバイスとしては通常、モータ駆動のメカニカルなシャッタが搭載される。後述するミラーデバイスは、このシャッタの代替要素の一例である。
【０１０８】
フレーム部材１１２は、マスク１１３を位置決めして保持する。マスク１１３は、例えば、ガラス等の透明基板上に、所定パターンの遮光膜が形成されることで構成される。アクチュエータ１１４は、マスク１１３を保持したフレーム部材１１２を、少なくともＹ軸の方向（鉛直方向）に移動可能である。これにより、基板保持ユニット１２０に載置された基板Ｗ上に形成される、照明領域の形状又は位置を調整することができる。
【０１０９】
本実施形態における露光部１００は、いわゆる、「プロキシミティ露光」装置を主な対象として検討されたものである。ここで、「プロキシミティ露光」とは、マスク（レチクル）とワーク（試料、基板）のギャップを求められる解像度に対応して数μｍから数百μｍ程度に設定して露光する非接触の露光方式を意味する。「プロキシミティ露光」は、マスクをワークに接触させる「コンタクト露光」に比較して、たとえばマスク表面にレジスト材料が展着するようなリスクを回避できる反面、マスク開口部を通過する光（マスク開口通過光）の放射成分（完全な平行光は作れない）によって、マスクパターン外のレジスト材にも微小に露光が進行し、解像度が劣化する。この解像劣化量は、ギャップ量に比例して進行するので、例えばタッチパネルの場合、ギャップ量としては１５０μｍ程度が好ましい。
【０１１０】
アクチュエータ１１４は、マスク１１３と基板Ｗとの間のギャップを精密に制御することが可能ものとされる。
露光ユニット１１０において、光源１１１とマスク１１３との間に、コンデンサレンズ（図示せず）が配されていてもよい。コンデンサレンズは、例えば一対の非球面レンズからなり、光源１１１からの照射光を略平行光とする。また、マスク１１３と基板保持ユニット１２０との間に、縮小投影レンズ（図示せず）が配されていてもよい。縮小投影レンズは、マスク１１３上のパターンを、基板保持ユニット１２０に載置された基板Ｗ上に縮小投影する。
【０１１１】
基板保持ユニット１２０は、その表面に、露光処理が施される被処理基板Ｗが載置される。基板保持ユニット１２０は、例えば真空吸着、静電吸着、メカニカルクランプなどにより基板２を固定する手段を有していてもよい。本実施形態において、前記基板保持ユニット１２０は、複数の基板Ｗを連続的に搬送するコンベア１２１の一部である。
コンベア１２１は、例えば、駆動用回転ローラ、回転ローラ、及びコンベアベルトを備える。モータを所定方向に回転させて、コンベアベルトを所定方向に回転させ、これにより、コンベアベルト上に載置された複数の基板Ｗを、連続的に搬送するとともに、光照射位置（露光ユニット１１０の下方位置）において、露光処理がなされる被処理基板Ｗを停止した状態で保持する。
【０１１２】
脚ユニット１３０は、前記露光ユニット１１０を前記基板保持ユニット１２０の上方に支持するとともに、前記露光ユニット１１０を少なくとも鉛直方向に移動させる。脚ユニット１３０は、昇降モータ（図示せず）に連結され鉛直方向に延びる昇降脚１３１を有し、この昇降脚１３１の上端部には、露光ユニット１１０が取り付けられている。昇降脚１３１の数は特に限定されるものではないが、複数とすることが好ましく、例えば３本とする。
【０１１３】
このような構成の露光部１００を用いて、ガラスからなる基板Ｗ表面に形成された薄膜をパターニングするには、まず、複数の基板２をコンベア１２１（基板保持ユニット１２０）に載置する。なお、基板Ｗは、その表面にパターニングする対象となる薄膜が形成され、その薄膜表面にフォトレジスト膜が予め形成されている。
【０１１４】
このとき、昇降ユニットは上昇し、その昇降脚１３１によって露光ユニット１１０を支持して上昇した状態とされている。コンベア１２１は、露光処理がなされる被処理基板Ｗを、処理が行われる所定位置（露光ユニット１１０の下方位置）まで搬送し、光照射位置において、被処理基板Ｗを停止した状態で保持する。この状態まで、レディ信号がＯＮとなっている。
【０１１５】
次いで、アライメント開始信号の出力により、駆動部である昇降ユニットの昇降脚１３１を下降させることで露光ユニット１１０を下降させ、その状態で、レディ信号１００ｒをＯＦＦ、アライメント演算状態ＣａｌをＯＮとした後、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、アライメント駆動状態１００ＡをＯＮとしてアライメントを行う。このとき、脚ユニット１３０により露光ユニット１１０の鉛直方向の位置を調整してもよい。また、アクチュエータ１１４により、マスク１１３を保持したフレーム部材１１２の少なくともＹ軸の方向（鉛直方向）の位置を調整してもよい。
【０１１６】
その後、アライメント演算状態ＣａｌをＯＦＦ、後処理１００ＥをＯＮとし、露光開始信号を出力し、基板Ｗに対して露光処理を行う。この状態で、光源１１１から光を発すると、その光がコンデンサレンズに照射され、コンデンサレンズで集光されて平行光束が形成され、マスク１１３に照射される。
【０１１７】
マスク１１３に照射された平行光束は、マスク１１３を透過した後、縮小投影レンズ１１５で縮小されて基板保持ユニット１２０に載置された基板表面に照射される。その結果、基板Ｗの表面のフォトレジスト膜の一部領域に、マスク１１３と同じパターンで、縮小された像を結像するように、フォトレジスト膜の一部領域が露光されて潜像が形成される。  露光処理終了後、昇降ユニットの昇降脚１３１を上昇させることで露光ユニット１１０を上昇させ、再びコンベア１２１を動作させることで処理済の基板Ｗを搬送するとともに、次に露光処理がなされる基板Ｗを、所定位置（露光ユニット１１０の下方位置）まで搬送し、レディ信号１００ｒをＯＮとする。
【０１１８】
このように、本発明の露光部１００によれば、個別形状にカットされた複数の基板Ｗに対して、迅速に露光処理を行うことができる。これによりタクトタイムを短縮して、生産性を向上することができる。
【０１１９】
なお、本実施形態の露光装置では、並行して配された複数の前記コンベア１２１と、
該複数のコンベア１２１のそれぞれに対応して配された、複数の前記露光ユニット１１０及び前記脚ユニット１３０と、を備えた構成とすることもできる。これにより、より多くの基板Ｗに対して露光処理をおこなうことができ、生産性をさらに向上することができる。
【０１２０】
以下、本発明に係る露光装置および露光方法の第３実施形態を、図面に基づいて説明する。
本実施形態における露光装置１は、第１実施形態とは、露光部に関する部分が異なり、これ以外の対応する構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。図５は、本実施形態の露光装置における露光部を示す模式平面図である。
【０１２１】
本実施形態における露光部２００は、第１実施形態の露光部２０，３０，４０，５０に対応し、照射光学系２２６下にアライメントステージを有するものとされる。
この露光部２００は、図５に示すように、搬送部２２７がロード用ロボットハンド２２７ａおよびアンロード用ロボットハンド２２７ｂを有するものとされる。露光部２００は、ストッカー２２７ｃの未処理基板をロード用ロボットハンド２２７ａによって照射光学系２２６下の所定位置にロードして、レディ信号がＯＮとする。また、露光部２００は、後処理２００ＥをＯＮとして露光処理を終了した後、アンロード用ロボットハンド２２７ｂによって照射光学系２２６下の処理済基板をストッカー２２７ｄにアンロードする。
本実施形態では、露光部２００において、第１実施形態のように基板Ｗを順次露光処理することができる。
【０１２２】
さらに、本実施形態では、露光部２００において、複数の基板Ｗを同一工程で露光処理することもできる。
この場合、 図６に示すように、トレイＴに載置された複数の基板Ｗを送部２２７にて搬送することや、図６に示すトレイＴに載置した状態のように、複数の基板Ｗを照射光学系２２６下のアライメントステージ上の所定位置に整列して載置し、一括して露光処理することができる。
これにより、本実施形態においては、処理時間を短縮し、より多くの基板Ｗに対して露光処理をおこなうことができ、生産性をさらに向上することができる。
【符号の説明】
【０１２３】
１…露光装置
Ｃ…制御部
２０，３０，４０，５０…露光部
Ｍ…マスク
２１…マスクステージ（マスク保持部）
Ｗ…ガラス基板（ワーク）
２２…ワークステージ（ワーク保持部）
２３…ワークステージ移動機構（駆動部）
２４…アライメントカメラ
２５…レディ信号出力手段
２６…照射光学系
２７…搬送系
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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