(57)【要約】【課題】単純な制御で均一にガラスフリットを焼成できる焼成装置及びその制御方法を提供することを課題とする。【解決手段】素子側基板１０ａの発光面１０ａ１の周囲に、閉図形となる塗布パターンを描画するように塗布されたガラスペースト１１に照射されるレーザ光を発射するレーザ光源３と、ガラスペースト１１が塗布された素子側基板１０ａを駆動する移動装置２ａ，２ｂと、制御装置５と、を備える焼成装置１とする。そして、制御装置５は、塗布パターン上の照射開始点から塗布パターンに沿ってレーザ光がガラスペースト１１に照射されるように素子側基板１０ａを移動させ、塗布パターンの全周に亘ってレーザ光が照射された後で照射開始点がレーザ光で再度照射されたときに、塗布パターン１１ａを外れた位置にレーザ光が照射されるように素子側基板１０ａを移動させることを特徴とする焼成装置およびその制御方法。【選択図】図１
2014015363.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光パネルのガラス基板に形成された発光面の周囲に、閉図形となる塗布パターンを描画するように連続して塗布されたペースト状の液体材料に照射されるレーザ光を発射するレーザ光源と、
前記液体材料が塗布された前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させる移動装置と、
前記移動装置を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記塗布パターン上に設定された照射開始点から当該塗布パターンに沿って前記レーザ光が前記液体材料に照射されるように前記移動装置を制御して前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させ、
前記塗布パターンの全周に亘って前記レーザ光が照射された後で前記照射開始点が前記レーザ光で再度照射されたときに、前記移動装置を制御して前記塗布パターンを外れた位置に前記レーザ光が照射されるように前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させることを特徴とする焼成装置。
【請求項２】
前記制御装置は、
前記塗布パターンの全周に亘って前記レーザ光が前記液体材料に照射された後で前記照射開始点が前記レーザ光で再度照射されたときに、前記塗布パターンを外れた前記発光面の外側の位置に前記レーザ光が照射されるように前記移動装置を制御することを特徴とする請求項１に記載の焼成装置。
【請求項３】
前記塗布パターンが矩形であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の焼成装置。
【請求項４】
発光パネルのガラス基板に形成された発光面の周囲に、閉図形となる塗布パターンを描画するように連続して塗布されたペースト状の液体材料に照射されるレーザ光を発射するレーザ光源と、
前記液体材料が塗布された前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させる移動装置と、を備える焼成装置の制御装置が実行し、
前記塗布パターン上に設定された照射開始点から当該塗布パターンに沿って前記レーザ光が前記液体材料に照射されるように前記移動装置を制御して前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させるステップと、
前記塗布パターンの全周に亘って前記レーザ光が照射された後で前記レーザ光の照射点が前記照射開始点に戻ったと判定するステップと、
前記照射点が前記照射開始点に戻ったと判定したときに前記移動装置を制御して前記塗布パターンを外れた位置に前記レーザ光が照射されるように前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させるステップと、を有することを特徴とする制御方法。
【請求項５】
前記制御装置は、
前記照射点が前記照射開始点に戻ったと判定したときに前記移動装置を制御して前記塗布パターンを外れた位置に前記レーザ光が照射されるように前記ガラス基板と前記レーザ光源を相対的に移動させるステップでは、
前記塗布パターンを外れた前記発光面の外側の位置に前記レーザ光が照射されるように前記移動装置を制御することを特徴とする請求項４に記載の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、焼成装置及びその制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子を発光させて映像等を表示する有機ＥＬパネルなどの発光パネルの製造工程には、素子面側のガラス基板（素子側基板）に、封止用のガラス基板（封止基板）を貼り合わせる工程が含まれる。この工程では、素子側基板に塗布された、ガラスフリットを含むペースト（ガラスペースト）などの封止材を介して封止基板が貼り合わされ、さらに、焼成装置でレーザ光を照射してガラスフリットを焼成し、貼り合わされた封止基板を固着する。
この技術分野の背景技術として、例えば、特許文献１には「ガラス基板２上の封着材料ペーストの枠状塗布層８にレーザ光９Ａ、９Ｂを照射し、少なくとも一方を枠状塗布層８に沿って走査しながら照射して封着材料層を形成する。照射開始点と照射終了点の少なくとも一方で、一対のレーザ光の外周の一部が重なる、外周が隣接する、もしくはレーザ光のビーム径以下の間隔で外周が離間するように、レーザ光９Ａ、９Ｂを照射する。」と記載されている（要約参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２５６０９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に示すように、ペースト（ガラスペースト）の枠状塗布層に沿ってレーザ光を照射して封着材料（ガラスフリット）を焼成する場合、レーザ光の照射開始点と照射終了位置が一致すると、照射終了位置（照射開始点）にはレーザ光が過剰に照射されてガラスフリットを均一に焼成できない場合がある。
特許文献１に係る技術は、２つのレーザ光源を制御して照射終了位置でのレーザ光の過剰な照射を抑制するように構成される。
しかしながら、特許文献１に係る技術では２つのレーザ光源を制御する必要があるため、制御が複雑になるという問題がある。また、２つのレーザ光源が必要となるため、レーザ焼成装置の生産コストが高くなるという問題も生じる。
【０００５】
そこで本発明は、単純な制御で均一にガラスフリットを焼成できる焼成装置及びその制御方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するため本発明は、閉図形となる塗布パターンを描画するように連続してガラス基板に塗布されたペースト状の液体材料に照射されるレーザ光を発射するレーザ光源と、液体材料が塗布されたガラス基板とレーザ光源を相対的に移動させる移動装置と、移動装置を制御する制御装置と、を備える焼成装置とする。そして、制御装置は、塗布パターン上に設定された照射開始点から当該塗布パターンに沿ってレーザ光が液体材料に照射されるように移動装置を制御し、塗布パターンの全周に亘ってレーザ光が照射された後で照射開始点がレーザ光で再度照射されたときに、塗布パターンを外れた位置にレーザ光が照射されるようにガラス基板とレーザ光源を相対的に移動させるという特徴を有する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、単純な制御で均一にガラスフリットを焼成できる焼成装置及びその制御方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施例に係る焼成装置を示す斜視図である。
【図２】（ａ）は有機ＥＬパネルの構造を示す斜視図、（ｂ）は有機ＥＬパネルの製造工程を示す図である。
【図３】（ａ）はレーザ光の照射点が照射開始点にある状態を示す図、（ｂ）はレーザ光の照射点が照射開始点から角部Ｐ１まで移動する状態を示す図、（ｃ）はレーザ光の照射点が角部Ｐ１から角部Ｐ２まで移動する状態を示す図である。
【図４】（ａ）はレーザ光の照射点が角部Ｐ２から角部Ｐ３まで移動する状態を示す図、（ｂ）はレーザ光の照射点が角部Ｐ３から角部Ｐ４まで移動する状態を示す図、（ｃ）はレーザ光の照射点が角部Ｐ４から照射開始点まで移動する状態を示す図である。
【図５】（ａ）はレーザ光の照射点が照射開始点に戻った状態を示す図、（ｂ）はレーザ光の照射点が塗布パターンを外れた位置にある状態を示す図である。
【図６】（ａ）はレーザ光が過剰に照射された過焼成の状態を示す図、（ｂ）は発光面と反対側が膨張したガラスペーストの状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、適宜図を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。なお、以下の説明では有機ＥＬパネルを発光パネルの一例とするが、本発明は有機ＥＬパネルの他の発光パネルにも適用できる。有機ＥＬパネルの他の発光パネルとして、プラズマディスプレイパネル、液晶表示パネル、などがある。本発明は、有機ＥＬパネルに限定されず、２枚のガラス基板をガラスフリットの焼成で固着する構成の発光パネルに広く適用できる。
【実施例】
【００１０】
図１は本実施例に係る焼成装置を示す斜視図、図２の（ａ）は有機ＥＬパネルの構造を示す斜視図、（ｂ）は有機ＥＬパネルの製造工程を示す図である。
図１に示すように、本実施例の焼成装置１は、有機ＥＬパネル１０が載置されるテーブル２を有し、テーブル２に載置された有機ＥＬパネル１０にレーザ光を照射する。
有機ＥＬパネル１０は、有機ＥＬ素子（発光素子）が配置されて発光面１０ａ１が形成されているガラス基板（素子側基板１０ａ）に、ガラス粒子からなるフリット（以下、ガラスフリットという）を含むペースト状の液体材料（以下、ガラスペースト１１という）を介して、発光面１０ａ１の側から封止用のガラス基板（封止基板１０ｂ）が貼り合わされて形成される。
つまり、本実施例において、ガラスペースト１１は、ガラス粒子からなるガラスフリットを含むペースト材料（ペースト状の液体材料）になる。
有機ＥＬパネル１０の発光面１０ａ１は、図示しない有機ＥＬ素子を含んだ回路が配置される面であり、有機ＥＬパネル１０は、図示しない制御部によって有機ＥＬ素子の発光が制御される。
【００１１】
テーブル２は焼成装置１のステージ１ａに配置され、移動装置２ａ，２ｂによって、ステージ１ａとなる平面上で、交差する２方向に移動可能に構成される。
ステージ１ａには、テーブル２が移動する２方向をそれぞれＸ軸，Ｙ軸とする座標軸が設定され、テーブル２は移動装置２ａによってＸ軸に沿った方向（Ｘ軸方向）に移動し、移動装置２ｂによってＹ軸に沿った方向（Ｙ軸方向）に移動するように構成される。
なお、移動装置２ａにテーブル２のＸ軸方向への移動距離を検出するセンサ（位置検出センサなど）が備わり、移動装置２ｂにテーブル２のＹ軸方向への移動距離を検出するセンサ（位置検出センサなど）が備わる構成が好ましい。
【００１２】
また、焼成装置１には、テーブル２に載置された有機ＥＬパネル１０に、上方からレーザ光を発射するレーザ光源３が備わる。レーザ光源３は、ステージ１ａの上方に横架されるガントリ４に取り付けられ、下方のステージ１ａ上で２方向（Ｘ軸方向，Ｙ軸方向）に移動するテーブル２に向けてレーザ光を発射するように構成される。レーザ光源３が発射するレーザ光は限定されない。半導体レーザ、炭酸ガスレーザなど、汎用のレーザ光を利用することができる。
なお、図１には１つのレーザ光源３が備わる焼成装置１が図示されているが、２つ以上のレーザ光源３が備わる構成の焼成装置１であってもよい。
【００１３】
また、本実施例では、移動装置２ａ，２ｂによってテーブル２がステージ１ａ上で移動し、レーザ光源３が取り付けられるガントリ４はステージ１ａに対して固定される。
この構成では、テーブル２が移動装置２ａ，２ｂで移動することによって、テーブル２に載置される有機ＥＬパネル１０とレーザ光源３を相対的に移動させることができる。
つまり、移動装置２ａ，２ｂは、有機ＥＬパネル１０とレーザ光源３を相対的に移動させる機能を有する。
このような構成の他、レーザ光源３やガントリ４がＸ軸方向およびＹ軸方向に移動する構成であってもよい。または、テーブル２がＸ軸方向とＹ軸方向の一方に移動し、レーザ光源３（ガントリ４）がＸ軸方向とＹ軸方向の他方に移動する構成であってもよい。
いずれの構成であっても、レーザ光源３とテーブル２（有機ＥＬパネル１０）を相対的に移動させることが可能である。
【００１４】
焼成装置１は制御装置５によって制御される。制御装置５は、移動装置２ａ，２ｂを制御してテーブル２を適宜移動する。また、制御装置５はレーザ光源３を制御してレーザ光の発射をＯＮ／ＯＦＦする。
さらに、制御装置５はテーブル２のＸ軸方向およびＹ軸方向の移動距離をセンサによって取得し、テーブル２を任意の位置に移動するように移動装置２ａ，２ｂを制御する。
【００１５】
このように構成される焼成装置１では、テーブル２に載置される有機ＥＬパネル１０に向かってレーザ光源３からレーザ光を発射し、有機ＥＬパネル１０に塗布されているガラスペースト１１にレーザ光を照射して、ガラスペースト１１に含まれるガラスフリットを焼成する。
【００１６】
焼成装置１には、前の工程で、素子側基板１０ａにガラスペースト１１を介して封止基板１０ｂが貼り合わされた状態の有機ＥＬパネル１０が搬送手段２０で搬送される。
図２の（ａ）に示すように、素子側基板１０ａは略矩形であり発光面１０ａ１も略矩形に形成される。そして、ガラスペースト１１は発光面１０ａ１の周囲に矩形のパターン（塗布パターン１１ａ）を描画するように連続して塗布される。矩形は囲まれる領域（発光面１０ａ１）が閉じた領域となる閉図形であり、塗布パターン１１ａは閉図形となる。
そして、ガラスペースト１１に封止基板１０ｂが貼り合わされる。また、発光面１０ａ１と封止基板１０ｂの間は、例えば真空状態であり、閉図形を呈する塗布パターン１１ａを描画するように発光面１０ａ１の周囲に塗布されるガラスペースト１１に封止基板１０ｂが固着されることによって真空状態が維持される。なお、真空については後記する。
【００１７】
なお、有機ＥＬパネル１０の形状（素子側基板１０ａ，封止基板１０ｂ，発光面１０ａ１の形状）は矩形に限定されず、塗布パターン１１ａも矩形に限定されない。
例えば、円形や楕円形の塗布パターン１１ａであってもよいし、ｎ角形（ｎは３以上の自然数）の塗布パターン１１ａであってもよい。
【００１８】
有機ＥＬパネル１０は、焼成装置１に搬送される前に、図示しない製造装置によって製造される。有機ＥＬパネル１０は、図２の（ｂ）に示すように、主な５つの工程で製造される。
第１工程（ＰＳ１）では、素子側基板１０ａにガラスペースト１１が塗布される。例えば、図示しない塗布手段（ディスペンサなど）によって、素子側基板１０ａの発光面１０ａ１の周囲にガラスペースト１１が連続的に塗布される。発光面１０ａが矩形の場合、ガラスペースト１１が描画する塗布パターン１１ａは矩形となる。
第２工程（ＰＳ２）では、ガラスペースト１１を乾燥する。例えば、１００〜１２０℃の温度環境にガラスペースト１１が塗布された素子側基板１０ａを設置してガラスペースト１１を乾燥する。
第３工程（ＰＳ３）では、４００〜５００℃でガラスペースト１１に含まれるガラスフリットを仮焼成する。この仮焼成でガラスペースト１１に含まれるガラスフリットが素子側基板１０ａに溶着される。
第４工程（ＰＳ４）では、素子側基板１０ａにガラスペースト１１を介して封止基板１０ｂ（図２の（ａ）参照）が貼り合わされる。
第５工程（ＳＰ５）では、封止基板１０ｂが貼り合わされた有機ＥＬパネル１０の上下を反転する。したがって、素子側基板１０ａが上方になる。
【００１９】
このように、有機ＥＬパネル１０は、主に第１工程（ＰＳ１）〜第５工程（ＰＳ５）を実施する製造装置で製造され、素子側基板１０ａが上方になった状態で搬送手段２０（図１参照）によって焼成装置１（図１参照）に搬送される。そして、焼成装置１で、有機ＥＬパネル１０には素子側基板１０ａの側からレーザ光がガラスペースト１１に照射されてガラスペースト１１に含まれるガラスフリットが焼成され、封止基板１０ｂが素子側基板１０ａに固着される。
このとき制御装置５（図１参照）は、レーザ光が塗布パターン１１ａ（図２の（ａ）参照）に沿って照射されるように、テーブル２（図１参照）を移動する。
【００２０】
なお、第１工程（ＰＳ１）〜第５工程（ＰＳ５）および焼成装置１によるガラスフリットの焼成が真空の環境（例えば気圧が５０〜８０ｋＰａ程度の環境）で実施される構成とすれば、有機ＥＬパネル１０の発光面１０ａ１と封止基板１０ｂの間（つまり、ガラスペースト１１で囲まれた領域）を真空状態とすることができる。
【００２１】
また、搬送手段２０は、例えば、図１に示すように搬送コンベアとすればよいが、搬送ロボットなどであってもよく、搬送手段２０の構成は限定されない。
図１に示すように、搬送手段２０で焼成装置１に搬送された有機ＥＬパネル１０はテーブル２に載置されて適宜固定される。テーブル２に有機ＥＬパネル１０を固定する構成は限定するものではない。例えば、テーブル２の側から有機ＥＬパネル１０を吸引して固定する構成とすればよい。
制御装置５はテーブル２に有機ＥＬパネル１０が載置（固定）されると、移動装置２ａ，２ｂを制御してテーブル２を移動し、有機ＥＬパネル１０を所定の焼成開始位置に移動する。焼成開始位置は、レーザ光源３が発射するレーザ光が塗布パターン１１ａの照射開始点１１Ｓ（図３参照）に照射される有機ＥＬパネル１０の位置である。
【００２２】
また、焼成装置１には、テーブル２に載置された有機ＥＬパネル１０を所定の基準位置に移動させるための位置決め手段が備わることが好ましい。
位置決め手段の構成は限定するものではない。例えば、有機ＥＬパネル１０にあらかじめマーキングされた基準点（Ｇ１，Ｇ２）を画像認識用カメラ等で読み取り、読み取った基準点Ｇ１，Ｇ２が所定の位置になるように制御装置５がテーブル２を移動する構成とすればよい。図１には２つの基準点Ｇ１，Ｇ２がマーキングされている例を示す。このように、マーキングされた基準点Ｇ１，Ｇ２が所定の位置になる有機ＥＬパネル１０の位置が有機ＥＬパネル１０の基準位置となる。
また、例えば、有機ＥＬパネル１０に２個以上の基準点Ｇ１，Ｇ２がマーキングされ、テーブル２がステージ１ａに平行な面内で回転可能な構成とすれば、制御装置５は、全ての基準点Ｇ１，Ｇ２が所定の位置になるようにテーブル２を回転させることができる。このことによって、矩形の塗布パターン１１ａの一辺をステージ１ａに設定される座標軸（Ｘ軸，Ｙ軸）と平行にすることができる。
【００２３】
図３，４は、塗布パターンに沿ってレーザ光の照射点が移動する状態を示す図である。
図３の（ａ）に示すように、制御装置５（図１参照）は、レーザ光の照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの照射開始点１１Ｓとなるようにテーブル２を移動する。なお、照射点ＬＰは、レーザ光源３（図１参照）が発射したレーザ光が有機ＥＬパネル１０（素子側基板１０ａに塗布されたガラスペースト１１）を照射する点である。
また、塗布パターン１１ａにおける照射開始点１１Ｓは、矩形の塗布パターン１１ａの場合、例えば任意の直線部に形成されることが好ましい。この照射開始点１１Ｓは、焼成装置１（図１参照）の性能等によって適宜決定される位置に形成されればよい。
【００２４】
本実施例の塗布パターン１１ａは矩形を呈し、４つの角部（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４）を有する形状を呈する。また、有機ＥＬパネル１０が前記した基準位置にあるとき、角部Ｐ４と角部Ｐ１を結ぶ一辺および角部Ｐ２と角部Ｐ３を結ぶ一辺がＸ軸方向に延伸し、角部Ｐ１と角部Ｐ２を結ぶ一辺および角部Ｐ３と角部Ｐ４を結ぶ一辺がＹ軸方向に延伸するように、有機ＥＬパネル１０がテーブル２（図１参照）に載置される。
そして、Ｘ軸方向に延伸する一辺（例えば、角部Ｐ４と角部Ｐ１を結ぶ一辺）に照射開始点１１Ｓが形成される。
【００２５】
また、制御装置５（図１参照）の図示しない記憶部には、塗布パターン１１ａの形状を示すデータが記憶されていることが好ましい。
塗布パターン１１ａを示すデータは、例えば、角部Ｐ４と角部Ｐ１，角部Ｐ２と角部Ｐ３の距離（Ｘ軸方向に延伸する一辺の長さ）を示すデータと、角部Ｐ１と角部Ｐ２，角部Ｐ３と角部Ｐ４の距離（Ｙ軸方向に延伸する一辺の長さ）を示すデータである。また、角部Ｐ４と角部Ｐ１を結ぶ一辺に照射開始点１１Ｓが形成される場合、角部Ｐ１と照射開始点１１Ｓの距離を示すデータが制御装置５の図示しない記憶部に記憶されていることが好ましい。
【００２６】
これらのデータは、例えば、焼成装置１のステージ１ａ（図１参照）に設定される座標軸上の座標データ（座標点）として制御装置５（図１参照）の図示しない記憶部に記憶されている構成とすればよい。
例えば、有機ＥＬパネル１０の角部（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４）、照射開始点１１Ｓ、基準点Ｇ１，Ｇ２の位置が、ステージ１ａに設定される座標軸上の座標データで表される構成とすればよい。
【００２７】
有機ＥＬパネル１０の各位置を示す座標データは、例えば、素子側基板１０ａにガラスペースト１１を塗布するときの座標データと同じであってもよい。
この構成であれば、素子側基板１０ａにガラスペースト１１を塗布する塗布手段（図示しないディスペンサなど）で使用する座標データと、焼成装置１で使用する座標データを共用することも可能であり、座標データを作成する工数の軽減が可能となる。
【００２８】
有機ＥＬパネル１０の位置を基準位置に移動した後、制御装置５はテーブル２を移動して、ステージ１ａの座標軸上で有機ＥＬパネル１０の基準点Ｇ１，Ｇ２を表す位置に基準点Ｇ１，Ｇ２を移動する。つまり、制御装置５は、ステージ１ａに設定される座標軸上で基準点Ｇ１，Ｇ２の位置を表す座標データの位置に、有機ＥＬパネル１０にマーキングされた基準点Ｇ１，Ｇ２が移動するようにテーブル２を移動する。
このとき、図３の（ａ）に示すように、塗布パターン１１ａ上の照射開始点１１Ｓの位置は、レーザ光源３が発射するレーザ光がステージ１ａを照射する照射点ＬＰの位置となる。このように、照射開始点１１Ｓの位置が、レーザ光の照射点ＬＰの位置となるテーブル２の位置が焼成開始位置となる。
【００２９】
制御装置５（図１参照）はテーブル２を焼成開始位置に移動したら（図３の（ａ）参照）、レーザ光源３（図１参照）を制御してレーザ光を発射する。レーザ光源３が発射したレーザ光は照射開始点１１Ｓを照射し、照射開始点１１Ｓが焼成される。
さらに、制御装置５は、移動装置２ａ，２ｂを制御してレーザ光の照射点ＬＰが塗布パターン１１ａ上を移動するようにテーブル２を移動する。
例えば、図３の（ｂ）に示すように、制御装置５は移動装置２ａを制御してテーブル２をＸ軸方向に移動し、照射点ＬＰを照射開始点１１Ｓから角部Ｐ１に向けて移動させる。照射開始点１１Ｓから角部Ｐ１の間にレーザ光が照射されてこの区間が焼成される。
制御装置５がテーブル２を移動する速度（焼成速度）は、ガラスペースト１１に含まれるフリットの成分や溶融温度、レーザ光源３が発射するレーザ光の出力に応じて適宜設定される。
【００３０】
制御装置５（図１参照）は、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの角部Ｐ１に到達したと判定したら移動装置２ａを制御してテーブル２のＸ軸方向への移動を停止する。制御装置５は、図示しない記憶部に記憶された、角部Ｐ１と照射開始点１１Ｓの座標データに基づいて照射点ＬＰが角部Ｐ１に到達したことを判定する。
例えば、制御装置５は、照射開始点１１Ｓの位置を示す座標データのＸ軸方向の成分と、角部Ｐ１の位置を示す座標データのＸ軸方向の成分と、の差から角部Ｐ１と照射開始点１１Ｓの距離を演算する。そして、制御装置５は、テーブル２が演算した距離だけ移動したときに照射点ＬＰが角部Ｐ１に到達したと判定する。
【００３１】
そして、制御装置５は、図３の（ｃ）に示すように移動装置２ｂを制御してテーブル２をＹ軸方向に移動する。照射点ＬＰは角部Ｐ１から角部Ｐ２に向かって移動し、角部Ｐ１から角部Ｐ２の間にレーザ光が照射されてこの区間が焼成される。
【００３２】
制御装置５（図１参照）は、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの角部Ｐ２に到達したと判定したら移動装置２ｂを制御してテーブル２のＹ軸方向への移動を停止する。制御装置５は、図示しない記憶部に記憶された、角部Ｐ１と角部Ｐ２の座標データに基づいて照射点ＬＰが角部Ｐ２に到達したことを判定する。
例えば、制御装置５は、角部Ｐ１の位置を示す座標データのＹ軸方向の成分と、角部Ｐ２の位置を示す座標データのＹ軸方向の成分と、の差から角部Ｐ１と角部Ｐ２の距離を演算する。そして、制御装置５は、テーブル２が演算した距離だけ移動したときに照射点ＬＰが角部Ｐ２に到達したと判定する。
【００３３】
そして、制御装置５は、図４の（ａ）に示すように移動装置２ａを制御してテーブル２をＸ軸方向に移動する。照射点ＬＰは角部Ｐ２から角部Ｐ３に向かって移動し、角部Ｐ２から角部Ｐ３の間にレーザ光が照射されてこの区間が焼成される。
【００３４】
制御装置５（図１参照）は、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの角部Ｐ３に到達したと判定したら移動装置２ａを制御してテーブル２のＸ軸方向への移動を停止する。制御装置５は、図示しない記憶部に記憶された、角部Ｐ２と角部Ｐ３の座標データに基づいて照射点ＬＰが角部Ｐ３に到達したことを判定する。
例えば、制御装置５は、角部Ｐ２の位置を示す座標データのＸ軸方向の成分と、角部Ｐ３の位置を示す座標データのＸ軸方向の成分と、の差から角部Ｐ２と角部Ｐ３の距離を演算する。そして、制御装置５は、テーブル２が演算した距離だけ移動したときに照射点ＬＰが角部Ｐ３に到達したと判定する。
【００３５】
そして、制御装置５は、図４の（ｂ）に示すように移動装置２ｂを制御してテーブル２をＹ軸方向に移動する。照射点ＬＰは角部Ｐ３から角部Ｐ４に向かって移動し、角部Ｐ３から角部Ｐ４の間にレーザ光が照射されてこの区間が焼成される。
【００３６】
制御装置５（図１参照）は、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの角部Ｐ４に到達したと判定したら移動装置２ｂを制御してテーブル２のＹ軸方向への移動を停止する。制御装置５は、図示しない記憶部に記憶された、角部Ｐ３と角部Ｐ４の座標データに基づいて照射点ＬＰが角部Ｐ４に到達したことを判定する。
例えば、制御装置５は、角部Ｐ３の位置を示す座標データのＹ軸方向の成分と、角部Ｐ４の位置を示す座標データのＹ軸方向の成分と、の差から角部Ｐ３と角部Ｐ４の距離を演算する。そして、制御装置５は、テーブル２が演算した距離だけ移動したときに照射点ＬＰが角部Ｐ４に到達したと判定する。
【００３７】
そして、制御装置５は、図４の（ｃ）に示すように移動装置２ａを制御してテーブル２をＸ軸方向に移動する。照射点ＬＰは角部Ｐ４から照射開始点１１Ｓに向かって移動し、角部Ｐ４から照射開始点１１Ｓの間にレーザ光が照射されてこの区間が焼成される。
【００３８】
図５の（ａ）はレーザ光の照射点が照射開始点に戻った状態を示す図、（ｂ）はレーザ光の照射点が塗布パターンを外れた位置にある状態を示す図である。
制御装置５（図１参照）は、図５の（ａ）に示すように、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの照射開始点１１Ｓに戻ったと判定したら移動装置２ｂを制御してテーブル２のＸ軸方向への移動を停止する。制御装置５は、図示しない記憶部に記憶された、角部Ｐ４と照射開始点１１Ｓの座標データに基づいて照射点ＬＰが照射開始点１１Ｓに到達した（戻った）ことを判定する。例えば、制御装置５は、角部Ｐ４の位置を示す座標データのＸ軸方向の成分と、照射開始点１１Ｓの位置を示す座標データのＸ軸方向の成分と、の差から角部Ｐ４と角照射開始点１１Ｓの距離を演算する。そして、制御装置５は、テーブル２が演算した距離だけ移動したときに照射点ＬＰが照射開始点１１Ｓに戻ったと判定する。
【００３９】
また、制御装置５は、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの照射開始点１１Ｓに戻ったと判定したらレーザ光源３（図１参照）にレーザ光の発射を停止する指令を与える。
つまり、制御装置５は、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの照射開始点１１Ｓに戻ったと判定したら塗布パターン１１ａの全周に亘ってレーザ光がガラスペースト１１に照射されてガラスペースト１１に含まれるガラスフリットが焼成されたと判定し、レーザ光の発射を停止するようにレーザ光源３を制御する。
【００４０】
さらに、本実施例の制御装置５は、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの照射開始点１１Ｓに戻ったとき、照射開始点１１Ｓにレーザ光が再度照射されると判定する。
これは、制御装置５がレーザ光源３（図１参照）にレーザ光の発射を停止する指令を与えてから実際にレーザ光の発射が停止するまで多少の時間を要するためである。
ちなみに、テーブル２（有機ＥＬパネル１０）が停止した状態で照射開始点１１Ｓにレーザ光が照射され続けると照射開始点１１Ｓにレーザ光が過剰に照射され、照射開始点１１Ｓが過焼成になる場合がある。
そこで制御装置５は、移動装置２ｂを制御してテーブル２をＹ軸方向に移動する。このとき、制御装置５は、図５の（ｂ）に示すように、照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの外側（発光面１０ａ１の外側）に向かって移動するようにテーブル２をＹ軸方向に移動させる。
そして、制御装置５はテーブル２をＹ軸方向に適宜移動させた後にテーブル２の移動を停止する。例えば、照射点ＬＰの移動方向に、他のガラスペースト１１が隣接して塗布されている場合、制御装置５は、当該ガラスペースト１１の位置に照射点ＬＰが到達する前にテーブル２の移動を停止するように構成される。
この構成によって、塗布パターン１１ａを外れた発光面１０ａ１の外側の位置がレーザ光で照射され、照射開始点１１Ｓへのレーザ光の照射が回避される。
【００４１】
図６の（ａ）はレーザ光が過剰に照射された過焼成の状態を示す図、（ｂ）は発光面と反対側が膨張したガラスペーストの状態を示す図である。
照射開始点１１Ｓにレーザ光が過剰に照射されて過焼成になると、例えば、図６の（ａ）に示すようにガラスペースト１１が膨張して変形し、発光面１０ａ１の側に膨らむ場合がある。さらに、状況によっては、過焼成の箇所でガラスペースト１１が破損する。このような、発光面１０ａ１側へのガラスペースト１１の膨張やガラスペースト１１の破損部分を有する有機ＥＬパネル１０は不良品と判定される。したがって、過焼成が生じると有機ＥＬパネル１０の不良率が高くなって有機ＥＬパネル１０の生産歩留まりが悪化することになる。
【００４２】
照射点ＬＰが塗布パターン１１ａの照射開始点１１Ｓに戻った時点で制御装置５（図１参照）がテーブル２をＹ軸方向に移動させ、照射点ＬＰを塗布パターン１１ａからはずれた外側（発光面１０ａ１の反対側）に移動させることによって、照射点ＬＰが照射開始点１１Ｓから外れる。したがって、照射開始点１１Ｓへのレーザ光の過剰な照射が回避されて過焼成が抑制される。このとき、図６の（ｂ）に示すように、塗布パターン１１ａの外側にレーザ光が照射されて過焼成になる場合がある。そして、塗布パターン１１ａの外側（発光面１０ａ１の反対側）へガラスペースト１１が膨らむことがあるが、発光面１０ａ１側への膨らみは抑制されて有機ＥＬパネル１０は不良品とならない。したがって、有機ＥＬパネル１０の不良率を低く抑えることができ有機ＥＬパネル１０の生産歩留まりの悪化を防止できる。
【００４３】
以上のように、本実施例の焼成装置１（図１参照）は、矩形（閉図形）の塗布パターン１１ａ（図２の（ａ）参照）を描画するように塗布されたガラスペースト１１（図２の（ａ）参照）をレーザ光で焼成するときに、レーザ光の照射を開始する照射開始点１１Ｓ（図３の（ａ）参照）での過焼成を抑制できる。
具体的に制御装置５（図１参照）は、レーザ光の照射点ＬＰ（図３の（ａ）参照）が照射開始点１１Ｓから塗布パターン１１ａに沿って当該塗布パターン１１ａを一周して照射開始点１１Ｓに戻ったとき、テーブル２（図１参照）を移動しての照射点ＬＰを塗布パターン１１ａから外す。この構成によって、照射開始点１１Ｓにレーザ光が過剰に照射されることが回避され、照射開始点１１Ｓでの過焼成を防止できる。
【００４４】
このように、本実施例の焼成装置１（図１参照）は、レーザ光の照射点ＬＰ（図３の（ａ）参照）が、照射開始点１１Ｓに戻ったときにテーブル２を移動して照射点ＬＰを塗布パターン１１ａ（図３の（ａ）参照）から外すという簡単な制御で、照射開始点１１Ｓでの過焼成を防止でき、ガラスペースト１１に含まれるガラスフリットを均一に焼成できる。そして、有機ＥＬパネル１０の生産歩留まりの悪化を防止できる。
【００４５】
なお、本発明は、前記した実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜設計変更が可能である。
例えば、本実施例では、図６の（ｂ）に示すように、レーザ光の照射点ＬＰが照射開始点１１Ｓに戻ったときにテーブル２を移動して照射点ＬＰを塗布パターン１１ａの外側に外す構成とした。
しかしながら、照射開始点１１Ｓでのガラスペースト１１に含まれるガラスフリットの過焼成を回避する方法は、これに限定されない。
例えば、照射点ＬＰが照射開始点１１Ｓに戻った時点で、制御装置５がレーザ光の発射を停止するようにレーザ光源３（図１参照）を制御するとともに、レーザ光源３を上昇させる構成としてもよい。この場合、レーザ光源３は上下動可能にガントリ４（図１参照）に取り付けられる構成が好ましい。
【００４６】
また、本発明は前記した実施例や変形例に限定されるものではない。例えば、前記した実施例は本発明をわかりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。
また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。
【符号の説明】
【００４７】
１      焼成装置
２      テーブル
３      レーザ光源
２ａ，２ｂ  移動装置
５      制御装置
１０    有機ＥＬパネル（発光パネル）
１０ａ  素子側基板（ガラス基板）
１０ａ１  発光面
１０ｂ  封止基板（ガラス基板）
１１    ガラスペースト（液体材料）
１１ａ  塗布パターン
１１Ｓ  照射開始点
ＬＰ    照射点
【図１】
2014015363.tif 000003
【図２】
2014015363.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2014015363.tif 000007
【図６】
2014015363.tif 000008