(57)【要約】【課題】  吸着反転装置等の移動体を定められた停止位置で、確実かつ衝撃を和らげて停止させることのできる緩衝機構を提供する。【解決手段】  装置Ａのフレーム１に少なくとも一方向へ移動可能に組み込まれた移動体Ｃの移動速度を、停止位置近傍で低減させる緩衝機構Ｆであって、該緩衝機構Ｆは、停止位置に向かって移動する移動体Ｃに対して弾力的に当接する当接部５０を備え、該当接部５０は、移動体Ｃとの当接後に移動体Ｃの移動に伴って弾力に抗して後退し、移動体Ｃの停止位置でも移動体Ｃとの当接を維持するように構成する。【選択図】図７
2014185065.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置のフレームに少なくとも一方向へ移動可能に組み込まれた移動体の移動速度を、停止位置近傍で低減させる緩衝機構であって、
前記緩衝機構は、前記停止位置に向かって移動する前記移動体に対して弾力的に当接する当接部を備え、該当接部は、前記移動体との当接後に前記移動体の移動に伴って弾力に抗して後退し、前記移動体が前記停止位置で停止したときも前記移動体との当接を維持するように形成されている緩衝機構。
【請求項２】
前記当接部は、前記フレームに回動可能に取り付けられ、かつ弾性体によって弾力が付与された揺動アームの先端部分に形成され、
前記移動体には前記当接部に接触する接触部が設けられており、
前記接触部は、前記移動体の移動方向に対向する押圧面と、前記移動体の移動方向に平行な接触面とを備え、前記押圧面は、前記当接部を前記移動体のさらなる進行によって前記接触面に誘導するように傾斜面で形成されている請求項１に記載の緩衝機構。
【請求項３】
前記揺動アームは、前記移動体が離れているときは、弾性体に引っ張られて前記当接部が前記接触部の移動軌跡上に突出するように形成されており、前記当接部が前記接触部と接触した後は、前記移動体の進行に伴い弾性体の弾力に抗して揺動後退するように形成されており、
前記揺動アームに該揺動アームの回動を規制して前記当接部の突出姿勢を保持する止めピンが設けられている請求項２に記載の緩衝装置。
【請求項４】
前記当接部がローラである請求項２または３のいずれかに記載の緩衝機構。
【請求項５】
前記当接部が前記移動体の移動軌跡の両終端近傍に設けられている請求項１〜４のいずれかに記載の緩衝機構。
【請求項６】
前記フレームに前記移動体の停止位置を感知する位置感知部材と出没可能なロックピンとが設けられるとともに、前記移動体に前記ロックピンが係入する係合穴が設けられており、
前記位置感知部材が前記移動体の位置を感知すると、前記ロックピンが動作して前記係合穴に係入するように形成されている請求項１〜５のいずれかに記載の緩衝機構。
【請求項７】
前記移動体が、脆性材料基板を吸着して反転させる吸着反転装置であり、該吸着反転装置は、基板受け渡し位置から基板反転位置まで往復移動するように形成されている請求項１〜６のいずれかに記載の緩衝機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス、シリコン、セラミック、化合物半導体等の脆性材料からなる基板に分断用のスクライブラインを加工したり、このスクライブラインに沿って基板を分断したりする基板加工装置で用いられる吸着反転装置等の移動体の緩衝機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、テーブル上に載置した基板に対し、カッターホイール（スクライビングホイールともいう）を所定のスクライブ圧を加えた状態で転動させたり、レーザービームの照射による熱歪を利用したりして、互いに直交する複数条の平行なスクライブラインを形成し、その後に、基板を表裏反転させて、当該スクライブラインを設けた面とは反対側の面からブレイクバーを押し当てて基板を撓ませることにより基板を分断し、単位製品を取り出す方法が、例えば特許文献１等で知られている。
【０００３】
また、２枚のガラス基板を貼り合わせた基板の分断方法についても、例えば特許文献２（図４５等）には、以下に示す手順で分断する方法が開示されている。すなわち、スクライブ装置のテーブル上に載置された基板に対して、カッターホイールを転動させることにより、基板の一方の面であるａ面にスクライブラインを形成する。次いで、吸着反転装置で基板を吸着し反転させた後、ブレイク装置のテーブル上に載置し、基板ａ面の裏面となる基板ｂ面をブレイクバー等で押圧して基板ａ面をブレイクする。次いで、上記と同様に、基板ｂ面にスクライブラインを形成し、基板を反転させた後、基板ａ面をブレイクバー等で押圧して基板ｂ面を分断する。この後、分断された基板をブレイク装置から除材して次の工程へ移行するようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００５／０５３９２５号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２００２／０５７１９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような基板の加工方法において、基板を反転させるのに用いられる吸着反転装置は、基板を吸着して反転させる吸着板を備えている。この吸着板は、テーブル等の載置台から基板を受け取った後、載置台の上方で反転に必要な高さまで上昇させて反転させるか、或いは、載置台上方から反転に必要な空間を有する反転位置まで横方向に移動させて反転させるなどの手段がとられている。
前者の載置台の上方で基板を反転させる手段では、反転に必要な空間を確保するために長い昇降ストロークを必要とし、昇降のための支柱や昇降機構が大掛かりとなってコスト高になるといった問題点がある。これに対し、反転位置まで横方向に吸着板を移動させて反転させる後者の手段では、載置台から基板を受け取った際に載置台に接触しない程度に持ち上げるだけでよいので、吸着板を昇降させる機構として簡単な構成でコンパクトに形成することが可能となる。
【０００６】
しかし、後者の手段において、吸着板を水平方向に移動させて、基板反転位置または基板受け渡し位置で、早い速度のままストッパ等に当接させて停止させると、機器に大きな衝撃が加わることになる。このような強い衝撃は、吸着反転装置の反転駆動機構や走行機構並びに吸着板に連なるエア配管の接続部分等に大きな負荷を与え、機器を破損する原因となる。また、停止時の衝撃が大きいと、その反動によって吸着板が正確な停止位置からずれて、吸着板の反転時や基板の受け渡し時に吸着板が装置のフレームに取り付けられた付帯設備や配管部分に接触したり、定められた位置で基板を受け渡しすることができないなどのトラブルの原因となる。したがって、吸着板の停止直前には移動速度を十分に低下させて衝撃を緩和する必要がある。
【０００７】
そこで本発明は、上記した従来課題に鑑み、吸着反転装置等の移動体を定められた停止位置で、確実かつ衝撃を和らげて停止させることのできる緩衝機構を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために本発明では次のような技術的手段を講じた。すなわち、本発明は、装置のフレームに少なくとも一方向へ移動可能に組み込まれた移動体の移動速度を、停止位置近傍で低減させる緩衝機構であって、前記緩衝機構は前記停止位置に向かって移動する前記移動体に対して弾力的に当接する当接部を備え、該当接部は、前記移動体との当接後に前記移動体の移動に伴って弾力に抗して後退し、前記移動体が前記停止位置で停止したときも前記移動体との当接を維持するように形成されている構成とした。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の緩衝機構では、移動体が停止位置近傍へ移動したときに、当接部が弾力的に当接して移動体の移動速度を低減して停止時の衝撃を緩和すると共に、移動体の停止位置でも移動体との当接を維持するようにしているので、移動体を別途設けたロック機構等により停止位置で保持したときに、移動体のブレやガタツキ等をなくして安定した姿勢を維持することができる。また、移動体を手動で移動させる場合には、移動体が停止位置近傍へ移動したときに、当接部が移動体に当たって当接音が発生するので、移動体が停止位置に近づいたことを作業者に知らせることができ、これにより移動力を緩めて停止位置での衝撃をさらに和らげることができるといった効果がある。
【００１０】
上記発明において、前記当接部は、前記フレームに回動可能に取り付けられ、かつ弾性体によって弾力が付与された揺動アームの先端部分に形成され、前記移動体には前記当接部に接触する接触部が設けられており、前記接触部は、前記移動体の移動方向に対向する押圧面と、前記移動体の移動方向に平行な接触面とを備え、前記押圧面は、前記当接部を前記移動体のさらなる進行によって前記接触面に誘導するように傾斜面で形成されている構成とするのがよい。
【００１１】
これにより、接触部の押圧面に対して弾力的に当接する当接部を、移動体の停止位置までのさらなる進行によって、移動体の移動方向に平行な接触面に誘導して待機させることができる。したがって、停止位置での移動体に、移動体の移動方向と直交する方向に弾力が付与されて、移動体を戻そうとする力が緩和され、移動体の停止姿勢を保持するためのロックピン等への負荷を軽減するとともに、移動体のブレやガタツキ等をさらに効果的に抑制することができる。
【００１２】
上記発明において、前記揺動アームは、前記移動体が離れているときは、弾性体に引っ張られて前記当接部が前記接触部の移動軌跡上に突出するように形成されており、前記当接部が前記接触部と接触した後は、前記移動体の進行に伴い弾性体の弾力に抗して揺動後退するように形成されており、前記揺動アームに該揺動アームの回動を規制して前記当接部の突出姿勢を保持する止めピンが設けられている構成とするのがよい。
これにより、前記移動体が離れた状態のときに、当接部を接触部の移動軌跡上に突出させることができ、移動体が接近したときに確実に受け止めて緩衝させることができる。
【００１３】
本発明において、前記フレームに前記移動体の停止位置を感知する位置感知部材と出没可能なロックピンとが設けられるとともに、前記移動体に前記ロックピンが係入する係合穴が設けられており、前記位置感知部材が前記移動体の位置を感知すると、前記ロックピンが動作して前記係合穴に係入するように形成されている構成とするのがよい。
これにより、移動体を基板の停止位置で確実に位置決めして保持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】移動体としての吸着反転装置を組み込んだ基板加工装置の全体構成を示す斜視図。
【図２】図１の基板加工装置におけるスクライブ装置の概略的な正面図。
【図３】図１の基板加工装置における吸着反転装置の全体構成を示す斜視図。
【図４】図３の吸着反転装置の一部拡大断面図。
【図５】図３の吸着反転装置における吸着板の下動状態を示す図４同様の断面図。
【図６】図３の吸着反転装置の反転回動機構部分を示す側面図。
【図７】図３の吸着反転装置の緩衝機構を示す平面図。
【図８】図７の緩衝機構の動作を示す平面図。
【図９】図１の基板加工装置における吸着昇降装置を示す斜視図。
【図１０】基板加工装置による基板加工工程の第１段階を示す説明図。
【図１１】基板加工工程の第２段階を示す説明図。
【図１２】基板加工工程の第３段階を示す説明図。
【図１３】基板加工工程の第４段階を示す説明図。
【図１４】基板加工工程の第５段階を示す説明図。
【図１５】基板加工工程の第６段階を示す説明図。
【図１６】基板加工工程の第７段階を示す説明図。
【図１７】基板加工工程の第８段階を示す説明図。
【図１８】基板加工工程の第９段階を示す説明図。
【図１９】基板加工工程の第１０段階を示す説明図。
【図２０】基板加工工程の第１１段階を示す説明図。
【図２１】基板加工装置に取り付けられた操作パネルを示す図。
【図２２】基板加工装置に組み込まれるブレイク装置を示す正面図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る移動体の緩衝機構について図面に基づいて詳細に説明する。なお、ここでは、「移動体」を、脆性材料基板を受け取り位置で受け取って反転位置まで移動して反転させる吸着反転装置とし、この吸着反転装置（移動体）を、基板加工装置に組み込んだ実施例に基づいて説明する。
【００１６】
基板加工装置Ａは、図１に示すように、基板Ｗの表面にスクライブラインを加工するスクライブ装置Ｂと、基板Ｗを反転させる吸着反転装置Ｃと、スクライブ装置Ｂのテーブルの上方に配置され基板Ｗを吸着して昇降させる吸着昇降装置Ｄとを備えている。
これらスクライブ装置Ｂ、吸着反転装置Ｃ並びに吸着昇降装置Ｄは、基板加工装置Ａのフレーム１に組み込まれている。フレーム１は、金属製の枠材によって長方体の形態で組み付けられており、図１の平面視において長手方向に沿ったラインをＸ方向とし、Ｘ方向に直交する方向をＹ方向として以下説明する。
【００１７】
スクライブ装置Ｂは、図１、２に示すように、フレーム１内のＸ方向に沿った一端側（本実施例では図１の右側）に組み込まれており、台板２上でＹ方向に延びるレール３に沿って移動するテーブル４を備えている。台板２は、平面視でＹ方向に延びる長方形で形成され、その一端部分がフレーム１から延出されている。
テーブル４は、その上面に多数の吸着孔を有する吸着面４ａを備え、モータを内蔵する回転駆動部５により水平面内で回動できるようになっている。また、テーブル４並びに回転駆動部５は、レール３に沿って移動する移動ステージ６上に取り付けられており、モータ８によって回転するネジ軸９によりＹ方向に移動するように形成されている。また、フレーム１には、ガイド１０を有するビーム（横桟）１１がＸ方向に沿って設けられ、ガイド１０にはカッターホイール１２を有する昇降可能なスクライブヘッド１３がＸ方向に移動できるように取り付けられている。
【００１８】
吸着反転装置Ｃは、図１、図３〜５に示すように、左右の側枠１４、１４によって支持されたＹ方向に延びる水平な回転軸１５と、該回転軸１５に水平に取り付けられ、回転軸１５と共に回転する支持部材１６と、この支持部材１６に複数の、本実施例では４つの押下げ部材１７を介して上下動可能に支持された水平な吸着板１８とを備えている。吸着板１８は下面に多数の吸着孔を有する吸着面１８ａを備え、復帰スプリング１９によって常時上方に向かって付勢されている。本実施例では上記した押下げ部材１７として、ＯＮ動作で下動し、ＯＦＦ動作で押下げ力を解除するピストンを備えたエアシリンダで形成されている。このエアシリンダ１７をＯＮ動作させることにより、図５に示すように、吸着板１８を復帰スプリング１９に抗して下動させ、エアシリンダ１７をＯＦＦ動作させることにより、復帰スプリング１９の復元力によって吸着板１８を図４の元位置に復帰できるように形成されている。
また、押下げ部材１７であるエアシリンダのピストン１７ａは、その突出ストロークが調整できるように形成されている。これにより、基板Ｗの厚み等の作業条件に応じて吸着板１８の降下量を適切に調整することができるようになっている。なお、押下げ部材であるエアシリンダ１７は、配管を介して別途設けたエア供給源（図示外）に接続されている。
【００１９】
吸着反転装置Ｃの回転軸１５は、反転回動機構４２によって１８０度回転できるように形成されている。この反転回動機構４２は、図６に示すように、その一端部にピニオン２０を備え、このピニオン２０にかみ合うラック２１をシリンダ２２で移動させることにより、１８０度回転できるように形成されている。これにより、吸着板１８の吸着面１８ａが下向きの姿勢から上向きの姿勢に、また逆に、上向きの姿勢から下向きの姿勢に反転できるようになっている。
また、図１に示すように、フレーム１のＸ方向に延びる上部枠材１ａ、１ａの上面にはレール２３、２３が設けられ、吸着反転装置Ｃの側枠１４、１４の上端部には、該レール２３、２３に沿ってスライドするガイド部２４、２４が設けられている。さらに、吸着反転装置Ｃを手動で移動させるための把手２５が、一方のガイド部２４に連なってフレーム１の外側に延出して設けられている。これにより、吸着板１８を、反転可能なスペースを確保したフレーム１内の図１における左側、すなわち基板反転位置から、スクライブ装置Ｂのテーブル４の上方、すなわち基板受け渡し位置まで手動で移動できるように形成されている。
【００２０】
さらに、左右の側枠１４、１４の上端を橋架する連結板２６には、フレーム１に取り付けられた出没可能なロックピン２８、２８が係入する係合穴２７が設けられている。
ロックピン２８は、上記した基板反転位置と基板受け渡し位置とにそれぞれ配置されており、吸着反転装置Ｃが基板反転位置並びに基板受け渡し位置にきたときに、位置感知部材２９が感知して自動的に係合穴２７に係入するように形成されている。ロックピン２８としては、例えば電磁石のＯＮ／ＯＦＦによって出没するソレノイドで形成することができる。また、位置感知部材２９としては光センサやリミットスイッチなどを利用することができる。
【００２１】
さらに、吸着反転装置Ｃの吸着板１８が基板反転位置及び基板受け渡し位置の近傍にきたときに、その移動速度を低下させる緩衝機構Ｆがそれぞれの位置で左右一対ずつ設けられている。
緩衝機構Ｆは、図７並びに図８に示すように、停止位置に向かって移動する吸着反転装置Ｃに向かって弾力的に当接する当接部５０を備えている。本実施例において、この当接部５０は、フレーム１に固定されたベース５７に対して、枢軸５１を支点として回動可能に取り付けられた揺動アーム５２と、揺動アーム５２の先端部に設けられたローラ５３と、揺動アーム５２を弾力的に付勢するスプリング５４とから形成されている。
また、吸着反転装置Ｃの連結板２６には、上記ローラ５３に当接する接触部５５が設けられている。この接触部５５は、移動方向に対向して前後に形成された押圧面５５ａと、移動方向に平行な接触面５５ｂとを備え、前記押圧面５５ａは当接するローラ５３を接触面５５ｂに誘導するように傾斜面で形成されている。
前記揺動アーム５２は、吸着反転装置Ｃが離れているときはスプリング５４に引っ張られて揺動し、ローラ５３が接触部５５の移動軌跡上へ突出するように形成されており、吸着反転装置Ｃが接近すると、接触部５５の押圧面５５ａにローラ５３が当たってスプリング５４の弾力に抗して揺動後退するようになっている。なお、図中、符号５６は揺動アーム５２の回動を規制して突出姿勢を保持する止めピンである。この止めピン５６は、揺動アーム５２の下面に形成され、図７で示す揺動アーム５２の突出姿勢において、ベース５７のエッジに当たってその回動を規制する。
【００２２】
吸着昇降装置Ｄは、図９に示すように、フレーム１に固定された水平な固定板３０と、固定板３０に取り付けられ、かつ、鉛直下方に向かって往復運動をするピストン３１ａを有する流体シリンダ３１と、該流体シリンダ３１のピストン３１ａの下端に固定された吸着板３２とを備えている。吸着板３２は、上記したスクライブ装置Ｂのテーブル４の上方に配置され、下面には多数の吸着孔を有する吸着面３２ａが設けられている。
また、吸着板３２は、その上面から鉛直上方に延びて固定板３０を摺動可能に貫通する４本の垂直なガイド３３を備えており、これにより、吸着板３２が昇降する際に自由回転するのを阻止している。
【００２３】
本実施例において、吸着反転装置Ｃ並びに吸着昇降装置Ｄにおける吸着板１８、３２の昇降動作並びにバキューム動作、及び、吸着反転装置Ｃの吸着板１８を反転させる反転回動機構４２の駆動は、ボタンスイッチによるスイッチ操作によって手動で行うことができるようにしてある。
具体的には、図２１に示すように、吸着反転装置Ｃのロックピン２８、２８のロックを解除するための右側ロック解除ボタン３４並びに左側ロック解除ボタン３５、基板受け渡し位置で吸着板１８を下動させるために押下げ部材（エアシリンダ）１７をＯＮ／ＯＦＦ操作する昇降ボタン３６、吸着昇降装置Ｄの流体シリンダ３１を作動させるための操作ボタン３７、吸着反転装置Ｃの反転回動機構４２を駆動する反転操作ボタン４３が、基板加工装置Ａの正面に取り付けられた操作パネル３８（図１では省略）に設けられている。さらに、吸着反転装置Ｃの吸着板１８のバキュームボタン３９、吸着昇降装置Ｄの吸着板３２のバキュームボタン４０が上記操作パネル３８に設けられている。
【００２４】
上記したスクライブ装置Ｂのテーブル４、並びに吸着昇降装置Ｄの吸着板３２の各吸着面、４ａ、３２ａの吸着孔は、前記した吸着反転装置の吸着板１８と同様に、吸気用の配管を介して上記したエア吸引装置（図示外）に接続されており、吸引エアによって基板Ｗを吸着保持できるように形成されている。図面上では、これら吸気用の配管並びにその付帯設備は、図面の複雑化を避けるために省略してある。また、吸着反転装置Ｃの吸着板１８と昇降装置Ｄの吸着板３２とはバキュームボタン４０を押すことにより切換バルブ（図示外）によってエア吸引が切り換わるようになっている。
【００２５】
次に、上記した基板加工装置Ａによって、単板の基板Ｗの上面にスクライブラインを加工した後、この基板Ｗを反転させる工程を、図１、図７〜２０を用いて順を追って説明する。
図１において、スクライブ装置Ｂのテーブル４上に載置されている基板Ｗは、その上面がカッターホイール１２によって既にスクライブラインが加工された状態にある。カッターホイール１２によるスクライブ加工は、テーブル４を台板２の延出端部まで移動させて加工すべき基板Ｗを載置した後、テーブル４をスクライブヘッド１３の位置まで移行させ、カッターホイール１２を降下させてカッターホイール１２またはテーブル４を相対的に移動させることにより行われる。また、テーブル４を回転駆動部５により９０度回転させることにより、Ｘ−Ｙ方向のスクライブラインを加工することができる。
【００２６】
上面にスクライブラインが加工されてテーブル４上に載置されている基板Ｗは、以下の工程を経て表裏反転される。
まず、吸着反転装置Ｃの左側のロックピン２８のロックを、左側ロック解除ボタン３５を操作して解除する。そして、把手２５を持って手動で図１０、１１に示すように吸着板１８をスクライブ装置Ｂのテーブル４の上方、すなわち、基板受け渡し位置まで移動させる。
吸着反転装置Ｃが基板受け渡し位置の近傍まで移動すると、吸着反転装置Ｃに設けられた接触部５５の押圧面５５ａが緩衝機構Ｆのローラ５３に当たって、スプリング５４の弾力に抗して後退し、吸着反転装置Ｃの移動速度を減衰する。また、接触部５５の押圧面５５ａが緩衝機構Ｆのローラ５３に当たったときには当接音が発生するので、作業者は吸着反転装置Ｃが停止位置に近づいていることを認識することができ、これにより手動による移動力を緩めて停止位置での衝撃の発生を和らげることができる。
ローラ５３が接触部５５の押圧面５５ａに押されて揺動アーム５２がさらに揺動すると、図８に示すように、押圧面５５ａの傾斜によりローラ５３が接触部５５の接触面５５ｂに移動するとともに、最終の基板受け渡し位置で位置感知部材２９（図１参照）が吸着反転装置Ｃの位置を感知して、自動的に右側のロックピン２８が係合穴２７に係入して吸着反転装置Ｃの位置がロックされる。この位置でローラ５３は接触部５５の接触面５５ｂに接触した姿勢で待機し、次の工程で吸着反転装置Ｃがローラ５３から遊離したときに図７の元姿勢へ復帰する。また、ロック位置で、左右のローラ５３、５３が左右の接触部５５、５５の接触面５５ｂに弾力的に接触して吸着反転装置Ｃを左右から挟みつけるように保持するので、吸着反転装置Ｃのブレやガタツキ等をなくすことができ、吸着反転装置Ｃの動作を円滑に行うことができる。
【００２７】
上記のようにして吸着反転装置Ｃを基板の受け渡し位置でロックした後、昇降ボタン３６を押して押下げ部材１７（図５参照）を作動させ、吸着板１８を図１２に示すようにテーブル４の基板Ｗに接する位置まで下動させる。この位置でバキュームボタン３９を押して基板Ｗを吸着板１８に吸着させる。この際、テーブル４の吸引エアによる吸着力は、別途設けたテーブル用の吸着解除ボタン（図示外）によって、バキュームボタン３９を押す前に解除しておくか、或いは前記したバキュームボタン３９を押す操作と連動して解除されるようにする。
次いで、再度昇降ボタン３６を押して押下げ部材１７の押下げ力を解除する。この解除により、吸着板１８は復帰スプリング１９（図３参照）の復元力によって図１３に示すように元位置に復帰する。
【００２８】
次いで、右側ロック解除ボタン３４を押して右側のロックピン２８のロックを解除した後、図１４に示すように、吸着反転装置Ｃを手動で基板反転位置まで移動させる。この際、吸着反転装置Ｃが停止位置近傍へ近づくと、先に説明したのと同様に、基板反転位置近傍に設けてある緩衝機構Ｆが動作して吸着反転装置Ｃの移動速度が減速されるとともに、基板反転位置で位置感知部材２９が感知して左側のロックピン２８が係合穴２７に係入して吸着反転装置Ｃの位置がロックされる。この位置で、図１５に示すように、反転操作ボタン４３を押して吸着板１８を反転させる。
【００２９】
吸着板１８を反転させた後、左側ロック解除ボタン３５を押してロックを解除し、吸着反転装置Ｃを手動で図１６の基板受け渡し位置まで移動させる。その後、吸着昇降装置Ｄの操作ボタン３７を押して、図１７に示すように、吸着板３２を吸着反転装置Ｃの吸着板１８に吸着されている基板Ｗ上に降下させる。この状態でバキュームボタン４０を押して吸着エアを吸着反転装置Ｃの吸着板１８から吸着昇降装置Ｄの吸着板３２に切り換え、基板Ｗを吸着板３２に吸着させた後、操作ボタン３７を押して、図１８に示すように、吸着昇降装置Ｄの吸着板３２を上昇させるとともに、前記した操作によって吸着反転装置Ｃのロックを解除して吸着反転装置Ｃ（吸着板１８）を基板反転位置に戻す。
【００３０】
次いで、操作ボタン３７を押して、図１９に示すように、吸着昇降装置Ｄの吸着板３２をスクライブ装置Ｂのテーブル４上まで降下させ、バキュームボタン４０を押して吸着板３２の吸着エアをＯＦＦにする。これにより、基板Ｗをテーブル４に受け渡す。この後、操作ボタン３７を押して、図２０に示すように、吸着昇降装置Ｄの吸着板３２を元の位置まで上昇させる。また、反転位置に戻された吸着反転装置Ｃの吸着板１８は、反転操作ボタン４３を押すことにより吸着面１８ａが下向きになるように反転させて次の基板反転作業のために待機させておく。
このようにして反転された基板Ｗは、次のブレイク工程のためにテーブル４から除材される。
【００３１】
上記した工程において、吸着反転装置Ｃの吸着板１８は、スクライブ装置Ｂのテーブル４から基板Ｗを受け取った後、基板反転位置に移動させて反転させるものであるから、テーブル４から基板Ｗを受け取った際にテーブル４に接触しない程度に持ち上げるだけでよい。したがって、図３〜５に示すように、吸着板１８を昇降させる機構として上下移動ストロークの小さな押下げ部材１７と、押下げ部材１７の押下げ力を解除したときに吸着板１８を元位置に復帰させる復帰スプリング１９とによる簡単な機構でコンパクトに形成することができる。
【００３２】
上記実施例において、スクライブ装置Ｂのテーブル４上の基板Ｗを反転するために、まず吸着反転装置Ｃでテーブル４上の基板Ｗを取り上げて反転させた後、吸着昇降装置Ｄに基板Ｗを受け渡してテーブル４に載置するようにしたが、この手順を代えて、まず吸着昇降装置Ｄで基板Ｗをテーブル４から取り上げて吸着反転装置Ｃに受け渡し、基板Ｗを反転させた後、吸着反転装置Ｃでテーブル４に基板Ｗを載置するようしてもよい。
【００３３】
また、基板加工装置Ａに組み込んだスクライブ装置Ｂに代えて、図２２に示すように、シリンダ４４によって昇降する板状のブレイクバー４５を備えたブレイク装置Ｅを組み込むことも可能である。この場合は、あらかじめ上面にスクライブラインが加工された基板Ｗを、上記したスクライブ装置Ｂのテーブル４と同じ移動機構を備えたテーブル４に載置し、吸着反転装置Ｃ並びに吸着昇降装置Ｄによって上記した工程と同じ手順を経て、スクライブラインが裏面側となるように基板Ｗを反転させてテーブル４に戻す。そして、テーブル４をブレイクバー４５の下方まで移動させてブレイクバー４５を基板Ｗに押し当てて基板Ｗを撓ませ、スクライブラインに沿って分断する。この後、分断された基板Ｗはテーブル４から除材されることになる。
【００３４】
以上本発明の代表的な実施例について説明したが、本発明は必ずしも上記の実施形態に特定されるものではない。例えば、上記実施例では、吸着反転装置Ｃ並びに吸着昇降装置Ｄにおける吸着板１８、３２の昇降動作並びにバキューム動作、及び、吸着反転装置Ｃの吸着板１８を反転させる反転回動機構４２の駆動は、ボタン操作によって手動で行うようにしたが、コンピュータ制御によって自動で行うように形成することも可能である。その他本発明では、その目的を達成し、請求の範囲を逸脱しない範囲内で適宜修正、変更することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明は、ガラス等の脆性材料基板にスクライブ加工やブレイク加工を行う基板加工装置において、基板を反転させる吸着反転装置等の移動体に利用される。
【符号の説明】
【００３６】
Ａ  基板加工装置
Ｂ  スクライブ装置
Ｃ  吸着反転装置（移動体）
Ｄ  吸着昇降装置
Ｆ  緩衝機構
Ｗ  基板（脆性材料基板）
１  フレーム
１４  側枠
１５  回転軸
１８  吸着板
２７  係合穴
２８  ロックピン
２９  位置感知部材
５０  当接部
５２  揺動アーム
５３  ローラ
５４  スプリング
５５  接触部
５５ａ  押圧面
５５ｂ  接触面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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