(57)【要約】【課題】最表面に配置される、有機ケイ素化合物の加水分解縮合物である酸化ケイ素膜の硬度を向上させた反射防止膜を提供する。【解決手段】透明基材フィルム上に（Ａ）ハードコート層と、（Ｂ）低屈折率層とが積層されている光学積層フィルムにおいて、（Ｂ）低屈折率層は４官能アルコキシシランおよびその加水分解物よりなる群から選択される一種以上の縮合物である酸化ケイ素を含む膜であり、（Ｂ）低屈折率層は粒径が２５〜１００ｎｍの中実のコロイダルシリカ粒子を含有する。（Ｂ）低屈折率層は、更に中空のコロイダルシリカ粒子を含有することが好ましく、耐スクラッチ試験において垂直力３５μＮ以上且つ水平力−１７μＮ以下の硬度を有することが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルム上の一面側に、少なくとも（Ａ）ハードコート層と、（Ｂ）低屈折率層とが積層されている光学積層フィルムであって、
前記（Ｂ）低屈折率層は、４官能アルコキシシランおよびその加水分解物よりなる群から選択される一種以上の縮合物である酸化ケイ素を含む膜であり、
前記（Ｂ）低屈折率層は、平均粒径が２５〜１００ｎｍの中実のコロイダルシリカ粒子を含有し、耐スクラッチ試験において垂直力３５μＮ以上且つ水平力−１７μＮ以下の硬度を有する光学積層フィルム。
【請求項２】
前記（Ｂ）低屈折率層は、更に、中空のコロイダルシリカ粒子を含有する請求項１に記載の光学積層フィルム。
【請求項３】
前記中実のコロイダルシリカ粒子と前記中空のコロイダルシリカ粒子の含有比率が、質量比で１００：１０〜１００：２００である請求項１または請求項２に記載の光学積層フィルム。
【請求項４】
前記（Ｂ）低屈折率層中に、光硬化性反応基を分子内に有するアルコキシシラン及びその加水分解物の縮合物を含有する、請求項１から請求項３のいずれかに記載の光学積層フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層が、粒子径１ｎｍ〜１００ｎｍの金属酸化物微粒子を含有する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学積層フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、たとえば、ディスプレイの最表面に反射防止膜として配置される光学積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等においては、表示画面の表面が光を反射すると、表示されている画像等が見難くなる。表示画面の反射を解消するための技術としては、表示画面に反射防止膜を積層して反射を抑えるものが公知である。反射防止膜に関する技術は、例えば、特許文献１に記載されている。反射防止膜は、表示画面の最上層に形成されるため、傷がつくことによって表示画像の視認性が損なわれる。このため、反射防止膜には、表面に硬さが要求されるものがある。
【０００３】
表面に硬さが求められる反射防止膜としては、例えば、ハードコート層上に、金属アルコキシドの加水分解物（この場合、金属はＳｉ）、いわゆるゾルゲル層を反射防止層として積層して形成されるものが公知になっている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−７７８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のような酸化ケイ素のゾルゲル層でも表面硬度はなお不十分であり、更なる表面硬度の向上が求められていた。本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、表面硬度が高く、傷が付き難い光学積層フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
具体的には本発明は以下のものを提供する。
【０００７】
（１）透明基材フィルム上の一面側に、少なくとも（Ａ）ハードコート層と、（Ｂ）低屈折率層とが積層されている光学積層フィルムであって、
前記（Ｂ）低屈折率層は、４官能アルコキシシランおよびその加水分解物よりなる群から選択される一種以上の縮合物である酸化ケイ素を含む膜であり、
前記（Ｂ）低屈折率層は、平均粒径が２５〜１００ｎｍの中実のコロイダルシリカ粒子を含有し、耐スクラッチ試験において垂直力３５μＮ以上且つ水平力−１７μＮ以下の硬度を有する光学積層フィルム。
【０００８】
（２）前記（Ｂ）低屈折率層は、更に、中空のコロイダルシリカ粒子を含有する（１）に記載の光学積層フィルム。
【０００９】
（３）前記中実のコロイダルシリカ粒子と前記中空のコロイダルシリカ粒子の含有比率が、質量比で１００：１０〜１００：２００である（１）または（２）に記載の光学積層フィルム。
【００１０】
（４）前記（Ｂ）低屈折率層中に、光硬化性反応基を分子内に有するアルコキシシラン及びその加水分解物の縮合物を含有する、（１）から（３）のいずれか１項に記載の光学積層フィルム。
【００１１】
（５）前記ハードコート層が、粒子径１ｎｍ〜１００ｎｍの金属酸化物微粒子を含有する（１）から（４）のいずれか１項に記載の光学積層フィルム。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、表面硬度が高く、傷が付き難い光学積層フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の光学積層フィルムを用いた反射防止膜の層構成の一例を説明するための図である。
【図２】実施例におけるスクラッチ試験の結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施形態について説明する。なお、本実施形態では、光学積層フィルムを、反射防止膜に適用した例について説明する。図１は、本実施形態の反射防止膜を説明するための模式図である。本実施形態の反射防止膜は、透明基材フィルム１０３上に、ハードコート層１０２と、低屈折率層１０１とが積層されている光学積層フィルムである。そして、低屈折率層１０１が、粒径が２５〜１００ｎｍのコロイダルシリカ粒子１１１を含有している。ここで、コロイダルシリカ粒子１１１は、中実（内部に部材が詰まっている）のコロイダルシリカである。この実施形態においては、低屈折率層１０１は、中実のコロイダルシリカ粒子１１１と共に、中空のコロイダルシリカ粒１１２を含有している。
【００１５】
以下、図１に示した各層について、具体的に説明する。
＜透明基材フィルム＞
透明基材フィルム１０３の材質は、特に限定されないが、反射防止フィルムに用いられる一般的な材料を用いることができ、例えば、セルロースアシレート、シクロオレフィンポリマー、アクリレート系ポリマー、又はポリエステルを主体とするものが好ましい。ここで、「主体とする」とは、基材構成成分の中で最も含有割合が高い成分を示すものである。
【００１６】
セルロースアシレートの具体例としては、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。シクロオレフィンポリマーとしては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が挙げられ、より具体的には、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製スミライトＦＳ‐１７００、ＪＳＲ（株）製アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製  オプトレッツＯＺ‐１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。アクリレート系ポリマーの具体例としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル‐（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等が挙げられる。ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
【００１７】
本発明にあっては、透明基材フィルム１０３の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは３０μｍ以上２００μｍ以下である。透明基材フィルムは、その上にハードコート層１０２を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。
＜ハードコート層＞
ハードコート層１０２は、アクリル系の活性エネルギー線硬化型樹脂を含む膜Ａで構成されている。アクリル系の活性エネルギー線硬化型樹脂としては特に限定されず、従来公知のものが使用できる。たとえば、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合体を用いて形成すればよい。
【００１８】
多官能性モノマーとしては、１，４−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エボキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
【００１９】
ハードコート層用組成物に前記微粒子が含まれる場合、前記微粒子の含有量は、ハードコート層用組成物の全固形分に対して１０〜７０質量％含まれることが好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。前記微粒子の含有量が１０質量％未満ではハードコート層に十分な硬度を付与することが難しく、７０質量％を超えると、充填率が上がり過ぎ、かえってハードコート層の硬度を低下させてしまう恐れがある。
【００２０】
前記微粒子は無機微粒子でも有機微粒子でも良いが、硬度付与の観点から無機微粒子であることが好ましい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物微粒子などが挙げられる。金属微粒子、金属硫化物微粒子、金属窒化物微粒子等を用いても良い。
硬度が高い点からは、シリカ、又は酸化アルミニウムが好ましい。
【００２１】
ハードコート層１０２の膜厚は１μｍから２０μｍが好ましい。好ましい屈折率は１．４５以上１．７０以下である。また、ハードコート層１０２に平均粒子径１ｎｍから１００ｎｍの無機微粒子又は有機物微粒子を混合分散させて屈折率を調整してもよく、又、ハードコート層１０２の表面形状を凹凸にさせてもよい。
【００２２】
＜低屈折率層＞
低屈折率層１０１は、上記のハードコート層上に表面処理なしで直接形成され、有機ケイ素化合物の加水分解縮合物である酸化ケイ素膜を主として含む膜で構成される。いわゆる酸化ケイ素のゾルゲル法によって得られる熱硬化型の酸化ケイ素膜である。これにより十分な硬度が得られる。
【００２３】
有機ケイ素化合物は、いわゆる多官能のアルコキシシランであり、なかでも、４官能のアルコキシシランを用いることが膜硬度の点から好ましい。
【００２４】
４官能のアルコキシシランである、Ｓｉ（ＯＲ）４（Ｒはアルキル基）としては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］４、Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４が挙げられ、これらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
【００２５】
なお、３官能以下のアルコキシシランやフッ素置換アルキル基を有するアルコキシシラン、たとえば、ＣＨ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３等を併用してもよい。
【００２６】
上記の有機ケイ素化合物を主成分とするコーティング溶液は溶媒で希釈して塗布すればよい。希釈溶媒として用いられるものは、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【００２７】
コーティング溶液は、従来公知のウエットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法等）によりハードコート層上に塗工される。その後、加熱工程を経て低屈折率層１０１を形成する。
【００２８】
低屈折率層１０１の膜厚は１０ｎｍから２００ｎｍが好ましい。好ましい屈折率は１．３０以上１．４７以下である。
【００２９】
＜コロイダルシリカ粒子＞
次に、本発明の特徴である平均粒径が２５〜１００ｎｍの中実（中空ではないの意味である）のコロイダルシリカ粒子について説明する。本発明においては、中実のコロイダルシリカ粒子によって耐スクラッチ性が大幅に向上する。
【００３０】
コロイダルシリカ粒子の平均粒径は２５〜１００ｎｍである。２５ｎｍ未満であると耐スクラッチ性において好ましくなく、１００ｎｍを超えると透明性が損なわれるため好ましくない。
【００３１】
このようなコロイダルシリカ粒子は市販品を用いることができ、たとえば日産化学工業社製のＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｍ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＭＡ−ＳＴ−Ｍ、スノーテックスＯＬ、スノーテックスＯ、ＭＡ−ＳＴ−Ｌ、メタノールシリカゾル、ＣＩＫナノテック社製のＳＩＲＷ３０ＷＴ％−Ｆ１２、ＳＩＲＷ３０ＷＴ％−Ｆ１１、ＳＩＲＷ３０ＷＴ％−Ｈ０５、ＳＩＲＷ３０ＷＴ％−Ｈ０７などが例示できる。
【００３２】
低屈折率層中におけるコロイダルシリカ粒子の含有量は、膜中における質量比で１０％以上７０％以下である。上記範囲とすることで表面が滑らかで耐スクラッチ性に優れている層が得られる。
【００３３】
なお、本発明においては、屈折率の調整のために、更に中空のコロイダルシリカ粒子を膜中における質量比で１０％以上６０％以下含有することが好ましい。通常、中空のコロイダルシリカ粒子の存在は耐スクラッチ性を低下させるが、本発明においては、中実のコロイダルシリカ粒子と併用することによって耐スクラッチ性の低下を防止することができる。中空のコロイダルシリカ粒子と前記中実のコロイダルシリカ粒子の含有比率が、質量比で１００：１０〜１００：２００であることが好ましい。
【実施例】
【００３４】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り以下の実施例に限定されるものではない。
【００３５】
（ハードコート層の形成）
透明基材としてのＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ、屈折率１．４９）上に下記組成の活性エネルギー線硬化被膜層形成用塗液を塗布し、８０℃×６０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより、ハードコート層５μｍを形成させた。
・アクリレートモノマー（ＤＰＨＡ：東亞合成社製）  ５０質量部
・光重合開始剤（イルガキュア１８４：チバジャパン社製）  ５質量部
・溶剤  メチルエチルケトン  ４５質量部
【００３６】
（低屈折率層の形成）
次に、上記のハードコート層上に、下記実施例及び比較例となる熱硬化被膜層用塗液を塗布し、８０℃×６０秒オーブンで乾燥することで低屈折率層１００ｎｍを形成して反射防止フィルムを作成した。
【００３７】
（製造例１：熱硬化被膜形成用組成物の予備調整物１の調製）
以下の各成分を混合して室温下で攪拌し、熱硬化被膜形成用組成物の予備調整物1を得た。
・テトラエトキシシラン（エチルシリケート２８：コルコート社製）：５２質量部
・イソプロピルアルコール(ＩＰＡ)：１２質量部
・イオン交換水：５．５質量部
・２Ｎ規定塩酸：０．５質量部
【００３８】
（実施例1：熱硬化被膜層用塗液１の調製）
以下の各成分を混合し低反射層用組成物1を得た。
・製造例１で得られた熱硬化被膜形成用組成物の予備調整物１：１０質量部
・中空シリカ（スルーリア１１１０：日揮触媒化成社製）：３質量部
・イソプロピルアルコール(ＩＰＡ)：８４質量部
・中実コロイダルシリカ（ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ：日産化学工業社製、平均粒径４０〜５０ｎｍ）：３質量部
【００３９】
（比較例１：低反射層用組成物２の調製）
以下の各成分を混合し低反射層用組成物２を得た。
・製造例１で得られた熱硬化被膜形成用組成物の予備調整物１：２５質量部
・イソプロピルアルコール(ＩＰＡ)：７５質量部
【００４０】
（比較例２：低反射層用組成物３の調製）
以下の各成分を混合し低反射層用組成物３を得た。
・製造例１で得られた熱硬化被膜形成用組成物の予備調整物１：２２質量部
・中空シリカ（スルーリア１１１０：日揮触媒化成社製）：３質量部
・イソプロピルアルコール(ＩＰＡ)：７５質量部
【００４１】
（比較例３：低反射層用組成物４の調製）
以下の各成分を混合し低反射層用組成物４を得た。
・調合例１で得られた熱硬化被膜形成用組成物の予備調整物１：１０質量部
・中空シリカ（スルーリア１１１０：日揮触媒化成社製）：３質量部
・中実コロイダルシリカ（ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ：日産化学工業社製、平均粒径１７〜２３ｎｍ）：３質量部
・イソプロピルアルコール(ＩＰＡ)：８４質量部
【００４２】
（比較例４：低反射層用組成物５の調製）
以下の各成分を混合し低反射層用組成物５を得た。
・調合例１で得られた熱硬化被膜形成用組成物の予備調整物１：１０質量部
・中空シリカ（日揮触媒化成社製  スルーリア１１１０）：３質量部
・中実コロイダルシリカ（ＩＰＡ−ＳＴ：日産化学工業社製、平均粒径１０〜２０ｎｍ）：３質量部
・イソプロピルアルコール(ＩＰＡ)：８４質量部
【００４３】
（比較例５：低反射層用組成物６の調製）
実施例１において、層形成用組成物の予備調製物１のテトラエトキシシランの代わりに、ジメチルジメトキシシランを使用した以外は実施例１と同様にして低反射層用組成物6を得た。
【００４４】
（比較例６：低反射層用組成物７の調製）
比較例１の熱硬化被膜形成用組成物の予備調整物１を活性エネルギー線硬化性バインダー（ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトール ヘキサアクリレート、ＩＰＡ希釈し固形分１０％）に置き換え調製した。
【００４５】
（比較例７：低反射層用組成物８の調製）
特許文献１の実施例１にある低屈折率層の形成を参考にし、低反射層用組成物８を作製した。
【００４６】
〈スクラッチ試験評価〉
上記実施例及び上記比較例により得られた光学フィルムをＨＹＳＩＴＲＯＮ社製のＴＩ９５０  ＴｒｉｂｏIｎｄｅｎｔｅｒを用いて低反射層の硬度を評価した。測定はサンプル最表面から深さ方向に５０ｎｍ押し込み、その深さを一定とし３０秒間スクラッチ試験を実施し、その際の垂直応力、水平応力を測定した。４回の測定の平均値をもってスクラッチ試験とした。垂直力は数値が大きいほど、水平力は数値が小さいほど硬度が高いと評価する。結果を表１と図２に示した。
なお、図２中のＡで示したデータは上記した実施例１で得られた低反射層のデータである。また、Ｂで示したデータは上記した比較例７で得られた低反射層のデータであり、Ｃで示したデータは上記した比較例６で得られた低反射層のデータである。
【００４７】
【表１】
2014048431.tif 000003
【００４８】
＜落差試験評価＞
各組合せで得られたサンプルについて、塗工面を上側になるように水平面に対して４５度の傾斜角度で配置し、当該サンプルから１ｍの高さより、中心粒径６００〜８５０μｍのカーボンランダム＃２４を８００ｃｍ３落下させた。その後、光学フィルムを洗浄し、フィルムの傷つき度合いを目視評価により評価した。その結果を表２に示す。
○：キズなし
△：キズ本数をカウントできる
×：キズ多数
【００４９】
【表２】
2014048431.tif 000004
【００５０】
図２、表１、２の結果より、本発明の光学積層フィルムを用いた反射防止膜は、表面硬度が高く、耐スクラッチ性に優れることが理解できる。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明の光学積層フィルムを用いた反射防止膜は、電子機器のディスプレイ等の表面に設けられ、光の反射を防ぐことに好適である。
【符号の説明】
【００５２】
１０１    低屈折率層
１０２    ハードコート層
１０３    透明基材フィルム
１１１    中実コロイダル粒子
１１２    中空コロイダル粒子
【図１】
2014048431.tif 000005
【図２】
2014048431.tif 000006