(57)【要約】【課題】  耐光試験後のハードコート層との密着性に優れ、表面硬度に優れ、かつ、表面の面状に優れた光学フィルムの提供。【解決手段】  セルロースアシレートと、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とを含有することを特徴とする。一般式（Ｉ）中、ＬはＡ1−Ａ2間を連結する原子数が８以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表す。ただし、ｎ１＋ｎ２は２以上の整数を、ｎ１は１以上の整数を、ｎ２は０以上の整数を表す。Ａ1は一般式（ＩＩ）で表される基を表し、Ａ2は一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す。2014225003.tif 000054【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースアシレートと、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とを含有する、光学フィルム；
一般式（Ｉ）
【化１】
2014225003.tif 000047
一般式（Ｉ）中、ＬはＡ1−Ａ2間を連結する原子数が８以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表す；ただし、ｎ１＋ｎ２は２以上の整数を、ｎ１は１以上の整数を、ｎ２は０以上の整数を表す；Ａ1は一般式（ＩＩ）で表される基を表し、Ａ2は一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す；
一般式（ＩＩ）
【化２】
2014225003.tif 000048
一般式（ＩＩ）中、Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表し、Ｒ1〜Ｒ4は互いに結合して非芳香族環を形成していてもよい；Ｒ5は水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す；但し、Ｒ1〜Ｒ5の１つは、一般式（Ｉ）中のＬとの結合部位を表す；
一般式（ＩＩＩ）
【化３】
2014225003.tif 000049
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ6およびＲ7は各々独立に置換もしくは無置換のフェニル基、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す；但し、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一方は、一般式（Ｉ）中のＬとの結合部位を表す。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）において、Ｌが第３級炭素又は第４級炭素を少なくとも一つ含む、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）において、ＬはＡ1−Ａ2間を連結する原子数が５以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基である、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の分子量が３００〜１０００である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記一般式（ＩＩ）において、Ｌとの結合部位がＲ5である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記一般式（Ｉ）において、ｎ１が２〜５の整数を表し、ｎ２が０を表す、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記一般式（Ｉ）において、ｎ１が２〜３の整数を表す、請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記一般式（ＩＩ）において、Ｒ1〜Ｒ4が結合し、互いに５員環または６員環の脂肪族環を形成している、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記一般式（Ｉ）において、ｎ１が１を表し、ｎ２が１〜５の整数を表す、請求項１〜５および８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記一般式（ＩＩＩ）において、Ｌとの結合部位がＲ7である、請求項１〜５、８および９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
前記一般式（ＩＩ）において、Ｒ1〜Ｒ4が各々独立に水素原子、アルキル基、アシル基、アルコキカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表す、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
前記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ6が、置換もしくは無置換のフェニル基または置換もしくは無置換のアルキル基を表す、請求項１〜５および８〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１３】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、セルロースアシレート１００質量部に対して、３〜６０質量部である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１４】
前記光学フィルムが、視認側用偏光板の保護フィルム用である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１５】
さらにハードコート層を有する、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１７】
請求項１６に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１８】
下記一般式（Ｉ−３）または（Ｉ−５）で表される化合物；
一般式（Ｉ−３）
【化４】
2014225003.tif 000050
一般式（Ｉ−３）中、Ｌ3は、第３級炭素又は第４級炭素を少なくとも一つ含む、窒素原子間を連結する原子数が８以下の２価の連結基を表す；Ｒ21およびＲ22はメチル基を表す；ｎ２１およびｎ２２は、それぞれ、０または１の整数を表す；
一般式（Ｉ−５）
【化５】
2014225003.tif 000051
一般式（Ｉ−５）中、Ｌ5は、下記の連結基群Ａから選択される連結基を表し、Ｒ41は、メチル基を表し、ｎ４１は０または１の整数を表；Ｒ16は、下記置換基群Ｂから選択される置換基を表し、複数存在する前記置換基は、同一であっても異なってもよい；ｎ４Ａは、それぞれ１〜３の整数を表す；
連結基群Ａ：
【化６】
2014225003.tif 000052
＊は窒素原子との結合部位を表し、＊＊は酸素原子との結合部位を表す；Ｒ51は、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す；
置換基群Ｂ：
【化７】
2014225003.tif 000053
＊＊＊はカルボニル基との結合部位を表し、Ｒ8はアルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基またはアルコキシ基を表し、Ｒ9は、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、シアノ基、またはヒドロキシル基を表す；ｍは０〜３の整数を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、偏光板および液晶表示装置に関する。特に、視認側偏光板保護フィルムとして有用な光学フィルム、並びにこれを用いた偏光板および上記偏光板を有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＴＶ用途を中心に液晶表示装置の大型化・薄型化が進んでおり、これに伴って構成部材である光学フィルムも薄型化が必要とされている。従来より、光学フィルムは加工性の観点からも適切な硬度、良好な裁断性が重要視されてきたが、薄型化した光学フィルムにはさらにその向上が求められるようになった。
特に、液晶表示装置等の表示装置の視認側に設けられる光学フィルムは、薄膜化した場合、硬度が低いと傷つきやすいため、硬度を持たせることを目的として、通常ハードコート層が施されることが多い。このようなハードコート層を有する光学フィルムにおいても、その硬度を向上させるためには、基材フィルムの硬度を向上させることが重要である。
【０００３】
一方、光学フィルムに対して、特許文献１〜２に記載されているような化合物を添加剤として加える技術が知られている（特許文献１〜２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１２３２９２号公報
【特許文献２】特開２００９−１５０４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１には、高いレターデーションを発現し、脆性および耐久性を向上させるための添加剤が記載されている。また、特許文献２には、表面加工性、高コントラスト、および高温高湿耐久性を向上させるための添加剤が記載されている。しかしながら、本発明者が特許文献１及び特許文献２に記載の添加剤を検討したところ、これらの光学フィルムは、耐光試験後のハードコート層の密着性に問題があることが分かった。
また、上述のとおり薄型化した際の液晶表示装置では、フィルムにおいて適切な表面硬度が求められる他、良好な表示性能を可能とするために、透明性に優れた均一なフィルムが求められる。このため、フィルムのヘイズを抑制する必要がある。
本願発明はかかる問題点を解決することを目的としたものであって、適度な表面硬度を有し、耐光試験後のハードコート層との密着性に優れ、かつ、ヘイズの低い光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的のもと、本発明者が鋭意検討を行った結果、特許文献１および２に記載の添加剤では、自然光に含まれる紫外領域の光を吸収しやすい構造となっているため、耐光試験後のハードコート層の密着性に問題があることが分かった。そして、本発明では、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物を用いることにより、耐光試験後のハードコート層との密着性に優れることを見出した。さらに、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物を配合すると、表面硬度に優れ、かつ、フィルムのヘイズ抑制に優れた光学フィルムを提供可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。いかなる理論にも拘泥されるものではないが、一般式（Ｉ）で表される化合物は、セルロースアシレートのエステル結合やヒドロキシル基などの局所的な部位や分子鎖と相互作用し、フィルム中に存在するセルロースアシレートの分子鎖間の空隙すなわち自由体積を小さくするため、光学フィルムの硬度が向上すると考えられる。
具体的には、下記手段＜１＞により、好ましくは、＜２＞〜＜１８＞により上記課題は解決された。
【０００７】
＜１＞セルロースアシレートと、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とを含有する、光学フィルム。
一般式（Ｉ）
【化１】
2014225003.tif 000002
（一般式（Ｉ）中、ＬはＡ1−Ａ2間を連結する原子数が８以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表す。ただし、ｎ１＋ｎ２は２以上の整数を、ｎ１は１以上の整数を、ｎ２は０以上の整数を表す。Ａ1は一般式（ＩＩ）で表される基を表し、Ａ2は一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す。）
一般式（ＩＩ）
【化２】
2014225003.tif 000003
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表し、Ｒ1〜Ｒ4は互いに結合して非芳香族環を形成していてもよい。Ｒ5は水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。但し、Ｒ1〜Ｒ5の１つは、一般式（Ｉ）中のＬとの結合部位を表す。）
一般式（ＩＩＩ）
【化３】
2014225003.tif 000004
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ6およびＲ7は各々独立に置換もしくは無置換のフェニル基、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。但し、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一方は、一般式（Ｉ）中のＬとの結合部位を表す。）
＜２＞前記一般式（Ｉ）において、Ｌが第３級炭素又は第４級炭素を少なくとも一つ含む、＜１＞に記載の光学フィルム。
＜３＞前記一般式（Ｉ）において、ＬはＡ1−Ａ2間を連結する原子数が５以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基である、＜１＞または＜２＞に記載の光学フィルム。
＜４＞前記一般式（Ｉ）で表される化合物の分子量が３００〜１０００である、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜５＞前記一般式（ＩＩ）において、Ｌとの結合部位がＲ5である、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜６＞前記一般式（Ｉ）において、ｎ１が２〜５の整数を表し、ｎ２が０を表す、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜７＞前記一般式（Ｉ）において、ｎ１が２〜３の整数を表す、＜６＞に記載の光学フィルム。
＜８＞前記一般式（ＩＩ）において、Ｒ1〜Ｒ4が結合し、互いに５員環または６員環の脂肪族環を形成している、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜９＞前記一般式（Ｉ）において、ｎ１が１を表し、ｎ２が１〜５の整数を表す、＜１＞〜＜５＞および＜８＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜１０＞前記一般式（ＩＩＩ）において、Ｌとの結合部位がＲ7である、＜１＞〜＜５＞、＜８＞および＜９＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜１１＞前記一般式（ＩＩ）において、Ｒ1〜Ｒ4が各々独立に水素原子、アルキル基、アシル基、アルコキカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表す、＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜１２＞前記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ6が、置換もしくは無置換のフェニル基または置換もしくは無置換のアルキル基を表す、＜１＞〜＜５＞および＜８＞〜＜１１＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜１３＞前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、セルロースアシレート１００質量部に対して、３〜６０質量部である、＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜１４＞前記光学フィルムが、視認側用偏光板の保護フィルム用である、＜１＞〜＜１３＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜１５＞さらにハードコート層を有する、＜１＞〜＜１４＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜１６＞＜１＞〜＜１５＞のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを有することを特徴とする偏光板。
＜１７＞＜１６＞に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
＜１８＞下記一般式（Ｉ−３）または（Ｉ−５）で表される化合物。
一般式（Ｉ−３）
【化４】
2014225003.tif 000005
（一般式（Ｉ−３）中、Ｌ3は、第３級炭素又は第４級炭素を少なくとも一つ含む、窒素原子間を連結する原子数が８以下の２価の連結基を表す。Ｒ21およびＲ22はメチル基を表す。ｎ２１およびｎ２２は、それぞれ、０または１の整数を表す。）
一般式（Ｉ−５）
【化５】
2014225003.tif 000006
（一般式（Ｉ−５）中、Ｌ5は、下記の連結基群Ａから選択される連結基を表し、Ｒ41は、メチル基を表し、ｎ４１は０または１の整数を表す。Ｒ16は、下記置換基群Ｂから選択される置換基を表し、複数存在する前記置換基は、同一であっても異なってもよい。ｎ４Ａは、それぞれ１〜３の整数を表す。）
連結基群Ａ：
【化６】
2014225003.tif 000007
（＊は窒素原子との結合部位を表し、＊＊は酸素原子との結合部位を表す。Ｒ51は、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。）
置換基群Ｂ：
【化７】
2014225003.tif 000008
（＊＊＊はカルボニル基との結合部位を表し、Ｒ8はアルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基またはアルコキシ基を表し、Ｒ9は、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、シアノ基、またはヒドロキシル基を表す。ｍは０〜３の整数を表す。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、耐光試験後のハードコート層との密着性に優れ、表面硬度に優れ、かつ、ヘイズの低い光学フィルムを提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の偏光板と液晶表示装置の位置関係を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。本明細書において、アルキル基等の「基」は、特に述べない限り、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。さらに、炭素数が限定されている基の場合、上記炭素数は、置換基が有する炭素数を含めた数を意味している。
【００１１】
＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートと、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とを含有することを特徴とする。このような化合物を用いることにより、耐光試験後のハードコート層との密着性に優れ、表面硬度に優れ、かつ、表面の面状に優れた光学フィルムが得られる。
一般式（Ｉ）
【化８】
2014225003.tif 000009
（一般式（Ｉ）中、ＬはＡ1−Ａ2間を連結する原子数が８以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表す。ただし、ｎ１＋ｎ２は２以上の整数を、ｎ１は１以上の整数を、ｎ２は０以上の整数を表す。Ａ1は一般式（ＩＩ）で表される基を表し、Ａ2は一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す。）
一般式（ＩＩ）
【化９】
2014225003.tif 000010
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表し、Ｒ1〜Ｒ4は互いに結合して非芳香族環を形成していてもよい。Ｒ5は水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。但し、Ｒ1〜Ｒ5の１つは、一般式（Ｉ）中のＬとの結合部位を表す。）
一般式（ＩＩＩ）
【化１０】
2014225003.tif 000011
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ6およびＲ7は各々独立に置換もしくは無置換のフェニル基、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。但し、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一方は、一般式（Ｉ）中のＬとの結合部位を表す。）
【００１２】
＜＜一般式（Ｉ）＞＞
一般式（Ｉ）において、Ｌは、Ａ1−Ａ2間を連結する原子数が８以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表す。Ａ1−Ａ2間を連結する原子数を８以下とすることにより、分子構造が相対的に小さくなるため、セルロースアシレート中でセルロースアシレートのエステル結合やヒドロキシル基などの局所的な部位や分子鎖と相互作用し、セルロースアシレート中に存在する自由体積を減少させることができ、結果としてフィルムの硬度を向上させることができる。Ｌとしては、Ａ1−Ａ2間を連結する原子数が５以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基が好ましく、Ａ1−Ａ2間を連結する原子数が２以上５以下の（ｎ１＋ｎ２）価の連結基がより好ましい。
ここで、Ａ1−Ａ2間を連結する原子数とは、Ａ1−Ａ2間を連結する最短の原子数をいい、同一分子中に複数のＬが存在する場合、Ａ1−Ａ2間を連結する原子数は、その中で最長の連結基における原子数を数えるものとする。例えば、以下の化合物は原子数が２となる。
【化１１】
2014225003.tif 000012
【００１３】
Ｌとしては、第３級炭素又は第４級炭素を少なくとも一つ含むことが好ましい。このような構成とすることにより、上述したような一般式（Ｉ）で表される化合物とセルロースアシレートとの相互作用がより高まるため、フィルムの硬度がより向上する傾向にある。
Ｌは、直鎖、分岐または環状の脂肪族基および芳香族基の少なくとも１種を含む基であることが好ましく、分岐または環状の脂肪族基を含む基であることがより好ましい。Ｌは、直鎖、分岐または環状の脂肪族基および芳香族基の少なくとも１種のみからなっていてもよく、これらの基と酸素原子、窒素原子、カルボニル基、直鎖または分岐のアルキレン基、および直鎖または分岐のアリーレン基との組み合わせであることも好ましい。
Ｌに含まれる脂肪族基は、飽和脂肪族基および不飽和脂肪族基のいずれであってもよく、飽和脂肪族基であることが好ましい。
Ｌに含まれる分岐または環状の脂肪族基を含む基としては、１−メチルエチレン基、１，３−シクロヘキシレン基、１，２−シクロヘキシレン基などが挙げられる。
具体的に、Ｌが表す連結基は、以下に例示される連結基が好ましい。＊は、Ａ1またはＡ2と結合する位置を表す。Ｒは、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。
【化１２】
2014225003.tif 000013
【００１４】
これらのＬが表す連結基の中でも、Ｌ−１、Ｌ−２、Ｌ−５、Ｌ−７〜Ｌ−１５に例示される連結基がより好ましい。上記の中でも、Ｌ−１、Ｌ−２、Ｌ−５、Ｌ−８〜Ｌ−１０、Ｌ−１２〜Ｌ−１５に例示される連結基がさらに好ましい。
【００１５】
Ｌが表す連結基は、さらに置換基を有していてもよく、置換基としては、下記置換基群Ｔが挙げられる。Ｌが表す連結基は置換基を有さない方が好ましい。
【００１６】
置換基群Ｔ：
アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜１０、より好ましくは２〜８、特に好ましくは２〜６であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜１０、より好ましくは２〜８、特に好ましくは２〜６であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１５、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜１５、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１５、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜１５、より好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜８であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜１５、より好ましくは２〜１０、特に好ましくは２〜８であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜１５、より好ましくは２〜１０、特に好ましくは２〜８であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜１５、より好ましくは２〜１０、特に好ましくは２〜８であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜１５、より好ましくは２〜１０、特に好ましくは２〜８であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜１５、より好ましくは７〜１３、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜１５、より好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜８であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜１５、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜８であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜１５、より好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜８であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜１５、より好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜８であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１５、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、及びシリル基（好ましくは、炭素原子数３〜２０、より好ましくは３〜１５、特に好ましくは３〜１０であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が２つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
上記の中でも、Ｌが表す連結基が有する置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル基、アルキルチオ基、ウレイド基、ヒドロキシル基、シアノ基、カルボキシル基、またはシリル基が好ましい。
【００１７】
ｎ１＋ｎ２は２以上の整数を表し、ｎ１は１以上の整数を表し、ｎ２は０以上の整数を表す。ｎ１＋ｎ２は２〜５の整数が好ましく、２〜４の整数がより好ましい。ｎ１は１〜５の整数が好ましく、１〜３の整数がより好ましい。ｎ２は０〜４の整数が好ましく、０〜３の整数がより好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物としては、ｎ１が２〜５の整数を表す場合、ｎ２が０〜２を表すことが好ましく、０を表すことがより好ましい。ｎ１が２〜３の整数を表す場合、ｎ２が０を表すことがより好ましい。ｎ１が２を表し、ｎ２が０を表すことが特に好ましい。
また、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、ｎ１が１を表す場合、ｎ２が１〜５の整数を表すことが好ましく、ｎ２が２〜３の整数を表すことがより好ましい。
【００１８】
＜＜一般式（ＩＩ）＞＞
Ａ1は、一般式（ＩＩ）で表される基を表す。
一般式（ＩＩ）
【化１３】
2014225003.tif 000014
（一般式（ＩＩ）中、Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表し、Ｒ1〜Ｒ4は互いに結合して非芳香族環を形成していてもよい。Ｒ5は水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。但し、Ｒ1〜Ｒ5の１つは、Ｌとの結合部位を表す。）
【００１９】
Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表す。Ｒ1〜Ｒ4がイミド構造と直結した二重結合を有さないため、吸収を短波化することができ、自然光に含まれる紫外領域の光吸収を抑制することができる。結果として、光学フィルム中に一般式（Ｉ）で表される化合物を含有させた場合、光照射によるセルロースアシレートの劣化を抑制することができるため、耐光密着性を向上させることができる。
置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がさらに好ましい。
置換もしくは無置換のアシル基としては、炭素数１〜１５のアシル基が好ましく、炭素数１〜１０のアシル基がより好ましく、炭素数１〜６のアシル基がさらに好ましい。
置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基としては、炭素数１〜１５のアルコキシカルボニル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基がさらに好ましい。
置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素数１〜１５のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜１０のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１〜６のアルコキシ基がさらに好ましい。
置換もしくは無置換のアリールオキシ基としては、炭素数６〜２０のアリールオキシ基が好ましく、炭素数６〜１５のアリールオキシ基がより好ましく、炭素数６〜１２のアリールオキシ基がさらに好ましい。
置換もしくは無置換のアルキルチオ基としては、炭素数１〜１５のアルキルチオ基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキルチオ基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキルチオ基がさらに好ましい。
置換もしくは無置換のアリールチオ基としては、炭素数６〜２０のアリールチオ基が好ましく、炭素数６〜１５のアリールチオ基がより好ましく、炭素数６〜１２のアリールチオ基がさらに好ましい。
置換もしくは無置換のカルバモイル基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がさらに好ましい。
これらの基は、直鎖、分岐または環状であってもよく、アルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、カルバモイル基、およびアリールチオ基が有していてもよい置換基としては、前記置換基群Ｔが挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル基、アルキルチオ基、ウレイド基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル基、またはシリル基であることが好ましい。
Ｒ1またはＲ2とＲ3またはＲ4とは互いに結合して非芳香族環を形成していてもよい。非芳香族環は、芳香族環以外の環をいい、単環であっても、二環式以上の多環を形成していてもよい。非芳香族環としては、５員環または６員環を有する単環または多環の脂肪族環が好ましく、５員環または６員環の脂肪族環がより好ましく、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環がさらに好ましい。
【００２０】
Ｒ5は水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がさらに好ましい。
Ｒ1〜Ｒ5の１つは、Ｌとの結合部位を表すが、Ｒ5がＬと結合している（Ｌとの結合部位である）ことが好ましい。
【００２１】
一般式（ＩＩ）は、下記一般式（ＩＩ−１）で表されることが好ましい。
一般式（ＩＩ−１）
【化１４】
2014225003.tif 000015
（一般式（ＩＩ−１）中、環Ａは非芳香族環を表し、Ｒ11およびＲ12は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、または置換もしくは無置換のアリールチオ基を表す。Ｒ5は水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。但し、Ｒ11、Ｒ12、またはＲ5の１つは、一般式（Ｉ）中のＬとの結合部位を表す。）
【００２２】
環Ａは非芳香族環を表し、単環であっても、二環式以上の多環を形成していてもよく、酸素原子を介した環であってもよい。また、同一の環Ａの環構造を介して一般式（ＩＩ−１）で表される構造が連結していてもよい。非芳香族環としては、５員環または６員環を有する単環または多環の脂肪族環が好ましく、５員環または６員環の脂肪族環がより好ましく、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環がさらに好ましい。
Ｒ11およびＲ12は各々独立に水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、または置換もしくは無置換のアリールチオ基を表す。置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がさらに好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が特に好ましい。
置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素数１〜１５のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜１０のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１〜６のアルコキシ基がさらに好ましく、炭素数１〜３のアルコキシ基が特に好ましい。
置換もしくは無置換のアリールオキシ基としては、炭素数６〜２０のアリールオキシ基が好ましく、炭素数６〜１５のアリールオキシ基がより好ましく、炭素数６〜１２のアリールオキシ基がさらに好ましく、炭素数６〜１０のアリールオキシ基が特に好ましい。
置換もしくは無置換のアルキルチオ基としては、炭素数１〜１５のアルキルチオ基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキルチオ基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキルチオ基がさらに好ましく、炭素数１〜３のアルキルチオ基が特に好ましい。
置換もしくは無置換のアリールチオ基としては、炭素数６〜２０のアリールチオ基が好ましく、炭素数６〜１５のアリールチオ基がより好ましく、炭素数６〜１２のアリールチオ基がさらに好ましく、炭素数６〜１０のアリールチオ基が特に好ましい。
アルキル基が有していてもよい置換基としては、前記置換基群Ｔが挙げられ、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル基、アルキルチオ基、ウレイド基、ヒドロキシル基、シアノ基、カルボキシル基、またはシリル基であることが好ましい。
一般式（ＩＩ−１）中のＲ5は、一般式（ＩＩ）中のＲ5と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（ＩＩ−１）におけるＬとの結合部位は、Ｒ5が好ましい。
【００２３】
具体的に、一般式（ＩＩ）で表される基は、以下の例示される基が好ましい。＊は、Ｌと結合する位置を表し、＊＊は置換基ＲaまたはＲbが結合する位置を表す（Ｒaはアルキル基を表し、Ｒbはアルキル基、環状アルキル基、または、アリール基を表す。）。一般式（ＩＩ）で表される基は、Ｌとの結合の様態によって生じる幾何異性体または鏡像異性体が混合していてもよい。ここで、Ａ1−２７、Ａ1−３２、Ａ1−３３に示す置換基の置換位置は特に定めるものではなく、６員環構造上のいずれかの位置に置換されていればよい。
ＲaまたはＲbが表すアルキル基としては炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜５のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が更に好ましい。
Ｒbが表す環状アルキル基としては、炭素数６〜１２の環状アルキル基が好ましく、炭素数６〜８の環状アルキル基が寄り好ましく、炭素数６〜８の環状アルキル基が更に好ましい。
Ｒbが表すアリール基としては、炭素数６〜１２のアリール基が好ましく炭素数６〜１０のアリール基がより好ましく、炭素数６〜８のアリール基が更に好ましい。
これらの基は、直鎖、分岐または環状であってもよく、アルキル基、環状アルキル基、アリール基、が有していてもよい置換基としては、前記置換基群Ｔが挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル基、アルキルチオ基、ウレイド基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル基、またはシリル基であることが好ましい。
【００２４】
【化１５】
2014225003.tif 000016
【化１６】
2014225003.tif 000017
【００２５】
これらの中でも、Ａ1−２１〜Ａ1−２８、Ａ1−３１、Ａ1−３３〜Ａ1−３４がより好ましい。
【００２６】
＜＜一般式（ＩＩＩ）＞＞
Ａ2は、一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す。
一般式（ＩＩＩ）
【化１７】
2014225003.tif 000018
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ6およびＲ7は各々独立に置換もしくは無置換のフェニル基、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。但し、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一方は、一般式（Ｉ）中のＬとの結合部位を表す。）
【００２７】
Ｒ6およびＲ7は各々独立に置換もしくは無置換のフェニル基、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がさらに好ましい。
フェニル基およびアルキル基が有していてもよい置換基としては、前記置換基群Ｔが挙げられる。
フェニル基の置換基としては、アルキル基（好ましくはメチル基）、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基が好ましく、無置換のフェニル基がより好ましい。
アルキル基の置換基としては、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシル基またはシアノ基が好ましく、シアノ基または無置換のアルキル基であることがより好ましい。
一般式（ＩＩＩ）で表される基を複数有する場合は、互いに結合して環を形成していてもよい。例えば、２つのＲ6が互いに結合して、ベンゼン環やシクロヘキサン環を形成している態様（例えば、下記Ａ2−２０、Ａ2−２１、Ａ2−２２、Ａ2−２３、Ａ2−２４、Ａ2−２５など）が例示される。一般式（ＩＩ）で表される基に含まれるイミド結合中のカルボニル基に加え、一般式（ＩＩＩ）で表される基に含まれるエステル結合中のカルボニル基も、セルロースアシレート中でセルロースアシレートと相互作用し、セルロースアシレート中に存在する自由体積を減少させることができるため、フィルムの硬度向上に寄与することができる。
一般式（ＩＩＩ）で表される基は、幾何異性体または鏡像異性体が混合していてもよい。
【００２８】
Ｒ6およびＲ7の少なくとも一方は、Ｌとの結合部位を表し、Ｒ6およびＲ7の一方がＬと結合していることが好ましく、Ｒ7がＬに結合していることがより好ましい。
【００２９】
具体的に、一般式（ＩＩＩ）で表される基は、以下の例示される基が好ましい。＊＊は、Ｌと結合する位置を表し、＊＊＊は置換基ＲaまたはＲbが結合する位置を表す（Ｒaはアルキル基を表し、Ｒbはアルキル基、環状アルキル基、または、アリール基を表す。）。
ＲaまたはＲbが表すアルキル基としては炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜５のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が更に好ましい。
Ｒbが表す環状アルキル基としては、炭素数６〜１２の環状アルキル基が好ましく、炭素数６〜８の環状アルキル基が寄り好ましく、炭素数６〜８の環状アルキル基が更に好ましい。
Ｒbが表すアリール基としては、炭素数６〜１２のアリール基が好ましく炭素数６〜１０のアリール基がより好ましく、炭素数６〜８のアリール基が更に好ましい。
これらの基は、直鎖、分岐または環状であってもよく、アルキル基、環状アルキル基、アリール基、が有していてもよい置換基としては、前記置換基群Ｔが挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル基、アルキルチオ基、ウレイド基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル基、またはシリル基であることが好ましい。）
【００３０】
【化１８】
2014225003.tif 000019
【００３１】
これらの中でも、Ａ2−１〜３、Ａ2−６、Ａ2−７、Ａ2−９、Ａ2−１１〜１６、Ａ2−１９、Ａ2−２０〜２５、Ａ2−２７〜２９がより好ましい。
【００３２】
＜＜一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい態様＞＞
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（Ｉ−１）で表される化合物であることが好ましい。
一般式（Ｉ−１）
【化１９】
2014225003.tif 000020
（一般式（Ｉ−１）中、Ｌ1は、原子数が８以下の（ｎ１Ａ）価の連結基を表す。ｎ１Ａは２〜４の整数を表す。Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表し、Ｒ1またはＲ2とＲ3またはＲ4とは互いに結合して非芳香族環を形成していてもよい。）
【００３３】
一般式（Ｉ−１）で表される化合物は、一般式（Ｉ）中のｎ１が２〜４の整数であり、ｎ２が０である態様である。
【００３４】
一般式（Ｉ−１）中のＬ1は、一般式（Ｉ）中のＬの説明のうち、２〜４価の基に対応する記載を参酌でき、好ましい範囲も同様である。
一般式（Ｉ−１）中のＲ1〜Ｒ4は、それぞれ、一般式（ＩＩ）中のＲ1〜Ｒ4と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００３５】
ｎ１Ａは、２〜４の整数を表し、２〜３の整数が好ましく、２が好ましい。
【００３６】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（Ｉ−２）で表される化合物であることがより好ましい。
一般式（Ｉ−２）
【化２０】
2014225003.tif 000021
（一般式（Ｉ−２）中、Ｌ2は、窒素原子−窒素原子間を連結する原子数が８以下の２価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表し、Ｒ1またはＲ2とＲ3またはＲ4とは互いに結合して非芳香族環を形成していてもよい。）
【００３７】
一般式（Ｉ−２）で表される化合物は、一般式（Ｉ）中のｎ１が２であり、ｎ２が０である態様である。
【００３８】
一般式（Ｉ−２）中のＬ2は、一般式（Ｉ）中のＬの説明のうち、２価の基に対応する記載を参酌でき、好ましい範囲も同様である。
一般式（Ｉ−２）中のＲ1〜Ｒ4は、それぞれ、一般式（ＩＩ）中のＲ1〜Ｒ4と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００３９】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（Ｉ−３）で表される化合物であることも好ましい。
一般式（Ｉ−３）
【化２１】
2014225003.tif 000022
（一般式（Ｉ−３）中、Ｌ3は、第３級炭素又は第４級炭素を少なくとも一つ含む、窒素原子−窒素原子間を連結する炭素数が８以下の２価の連結基を表す。Ｒ21およびＲ22はメチル基を表す。ｎ２１およびｎ２２は、それぞれ、０または１の整数を表す。）
【００４０】
Ｌ3は、第３級炭素又は第４級炭素を少なくとも一つ含む、窒素原子−窒素原子間を連結する炭素数が８以下の２価の連結基を表す。Ｌ3は、直鎖、分岐または環状の脂肪族基および芳香族基の１種のみからなり、分岐または環状の脂肪族基を含む基としては、１−メチルエチレン基、１，３−シクロヘキシレン基、１，２−シクロヘキシレン基などが挙げられる。
Ｌ3は、具体的には下記に示す構造であることが好ましい（＊は窒素原子との結合部位を表す。）。
【化２２】
2014225003.tif 000023
ｎ２１およびｎ２２は、０が好ましい。
【００４１】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（Ｉ−４）で表される化合物であることも好ましい。
一般式（Ｉ−４）
【化２３】
2014225003.tif 000024
（一般式（Ｉ−４）中、Ｌ4は、窒素原子‐酸素原子間を連結する原子数が８以下の（ｎ２Ａ＋１）価の連結基を表す。ｎ２Ａは１〜４の整数を表す。Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシル基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、または、ヒドロキシル基を表し、Ｒ1またはＲ2とＲ3またはＲ4とは互いに結合して非芳香族環を形成していてもよい。Ｒ6は、置換もしくは無置換のフェニル基、または、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。）
【００４２】
一般式（Ｉ−４）中のＬ4は、一般式（Ｉ）中のＬの説明のうち、２〜４価の基に対応する記載を参酌でき、好ましい範囲も同様である。
一般式（Ｉ−４）中のＲ1〜Ｒ4は、それぞれ、一般式（ＩＩ）中のＲ1〜Ｒ4と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（Ｉ−４）中のＲ6は、一般式（ＩＩＩ）中のＲ6と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００４３】
ｎ２Ａは、１〜４の整数を表し、１〜３の整数が好ましい。
【００４４】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（Ｉ−５）で表される化合物であることも好ましい。
一般式（Ｉ−５）
【化２４】
2014225003.tif 000025
（一般式（Ｉ−５）中、Ｌ5は、下記の連結基群Ａから選択される連結基を表し、Ｒ41は、メチル基を表し、ｎ４１は０または１の整数を表す。Ｒ16は、下記置換基群Ｂから選択される置換基を表し、複数存在する前記置換基は、同一であっても異なってもよい。ｎ４Ａは、１〜３の整数を表す。）
連結基群Ａ：
【化２５】
2014225003.tif 000026
（＊は窒素原子との結合部位を表し、＊＊は酸素原子との結合部位を表す。Ｒ51は、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。）
置換基群Ｂ：
【化２６】
2014225003.tif 000027
（＊＊＊はカルボニル基との結合部位を表し、Ｒ8はアルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基またはアルコキシ基を表し、Ｒ9は、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、シアノ基、またはヒドロキシル基を表す。ｍは０〜３の整数を表す。）
【００４５】
Ｌ5は、上記の連結基群Ａから選択される連結基を表し、上記連結基群Ａのうち、ＬA−１〜ＬA−５がより好ましい。
Ｒ51は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基を表し、水素原子がより好ましい。
Ｒ16は、上記置換基群Ｂから選択される置換基を表し、上記置換基群Ｂのうち、ＲB−１が好ましい。
【００４６】
Ｒ8はアルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ基を表し、アルキル基がより好ましい。
ここで、アルキル基は、好ましくは、メチル基、エチル基、またはプロピル基である。アルコキシカルボニル基は、好ましくは、メトキシカルボニル基またはエトキシカルボニル基である。アシル基は、好ましくは、アセチル基である。アルコキシ基は、好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。
Ｒ9は、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、シアノ基またはヒドロキシル基が挙げられ、中でもシアノ基がより好ましい。
ｍは、０〜３の整数を表し、０〜２の整数がより好ましく０がさらに好ましい。
【００４７】
ｎ４Ａは、１〜３の整数を表す。
【００４８】
以下、本発明で好ましく用いられる一般式（Ｉ）で表される化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４９】
【化２７】
2014225003.tif 000028
【化２８】
2014225003.tif 000029
【化２９】
2014225003.tif 000030
【化３０】
2014225003.tif 000031
【化３１】
2014225003.tif 000032
【化３２】
2014225003.tif 000033
【化３３】
2014225003.tif 000034
【００５０】
【化３４】
2014225003.tif 000035
【化３５】
2014225003.tif 000036
【化３６】
2014225003.tif 000037
【化３７】
2014225003.tif 000038
【００５１】
一般式（Ｉ）で表される化合物は既知の方法により製造することができる。
例えば、一般式（Ｉ−１）で表される化合物については該当する酸無水物とアミンとの脱水縮合反応などにより得ることができる。また、一般式（Ｉ−４）で表される化合物については、該当する酸無水物とアミンとを脱水縮合反応により一般式（ＩＩ）で表される構造を形成したのち、アルコールと酸塩化物との反応により一般式（ＩＩＩ）で表される構造を形成することにより得ることができる。
【００５２】
一般式（Ｉ）で表される化合物の分子量としては、３００〜１０００が好ましく、３００〜７００がより好ましく、３００〜６００がさらに好ましい。
分子量が３００以上であればフィルムからの揮散を抑制するのに優れ、分子量が１０００以下であればセルロースアシレートとの相溶性が十分となり、ヘイズの上昇を防ぐことができるので好ましい。
【００５３】
前記一般式(Ｉ)で表される化合物の添加量は特に限定されないが、セルロースアシレート１００質量部に対して、３〜６０質量部であることが好ましく、５〜４０質量部であることがより好ましく、５〜２０質量部であることがさらに好ましく、５〜１５質量部であることが特に好ましい。なお、一般式(Ｉ)で表される化合物は２種以上添加してもよい。２種類以上添加する場合、その合計量が上記添加量となることが好ましい。
【００５４】
（セルロースアシレート）
本発明で用いられるセルロースアシレートは、セルロースと脂肪酸（芳香族脂肪酸を含む）とのエステルが好ましく、セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位の２位、３位及び６位にあるヒドロキシル基に上記脂肪酸のアシル基が置換してアシル化されたセルロースアシレートが好ましい。例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、また、２種類以上の脂肪酸のアシル基が置換したセルロースアシレートも好ましい。これらのセルロースアシレートは、更に置換された基を有していてもよい。前記ヒドロキシル基に置換するアシル基としては、炭素数２〜２２のアシル基を好ましく用いることができる。
【００５５】
セルロースアシレートの置換度は、セルロースの構成単位（（β）１，４−グリコシド結合しているグルコース）に存在している、３つのヒドロキシル基がアシル化されている割合を意味する。置換度（アシル化度）は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。本発明において、セルロース体の置換度はセルロース体を重水素置換されたジメチルスルフォキシド等の溶剤に溶解して13Ｃ−ＮＭＲスペクトルを測定し、アシル基中のカルボニル炭素のピーク強度比から求めることにより算出することができる。セルロースアシレートの残存ヒドロキシル基をセルロースアシレート自身が有するアシル基とは異なる他のアシル基に置換したのち、13Ｃ−ＮＭＲ測定により求めることができる。測定方法の詳細については、手塚他（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ．Ｒｅｓ．，２７３（１９９５）８３−９１）に記載がある。
【００５６】
本発明で使用するセルロースアシレートの置換度は、１．５〜３．０であることが好ましく、２．００〜２．９７であることがより好ましく、２．５０以上２．９７未満であることがさらに好ましく、２．７０〜２．９５であることが特に好ましい。
【００５７】
また、セルロースアシレートのアシル基としてアセチル基のみを用いたセルロースアシレートにおいては、置換度は、一般式（Ｉ）で表される化合物による硬度改善効果が大きい点で、２．０以上３．０以下であることが好ましく、２．３〜３．０であることがより好ましく、２．６０〜３．０であることがさらに好ましく、２．６〜２．９７であることがさらに好ましく、２．７０〜２．９５で特に好ましい。
本発明に用いることができるセルロースアシレートのアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が特に好ましく、アセチル基がより特に好ましい。
【００５８】
２種類以上のアシル基からなる混合脂肪酸エステルも本発明においてセルロースアシレートとして好ましく用いることができる。この場合も、アシル基としてはアセチル基と炭素数が３〜４のアシル基が好ましい。また、混合脂肪酸エステルを用いる場合、アシル基としてアセチル基を含む場合の置換度は２．５未満が好ましく、１．９未満がさらに好ましい。一方、炭素数が３〜４のアシル基を含む場合の置換度は０．１〜１．５であることが好ましく、０．２〜１．２であることがより好ましく、０．５〜１．１であることが特に好ましい。
本発明においては、置換基および／または置換度の異なる２種のセルロースアシレートを併用、混合して用いてもよいし、後述の共流延法などにより、異なるセルロースアシレートからなる複数層からなるフィルムを形成してもよい。
【００５９】
さらに特開２００８−２０８９６号公報の段落００２３〜００３８に記載の脂肪酸アシル基と置換もしくは無置換の芳香族アシル基とを有する混合酸エステルも本発明に好まく用いることができる。
【００６０】
本発明で用いられるセルロースアシレートは、２５０〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３００〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、４００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、６００００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７５０００〜２０００００の数平均分子量を有することが最も好ましい。
【００６１】
本発明で用いられるセルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。前記アシル化剤が酸無水物である場合は、反応溶媒として有機酸（例えば、酢酸）や塩化メチレンが使用される。また、触媒として、硫酸のようなプロトン性触媒を用いることができる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒として塩基性化合物を用いることができる。工業的に最も一般的な合成方法では、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）またはそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースアシレートを合成する。
【００６２】
前記方法においては、綿花リンターや木材パルプのようなセルロースは、酢酸のような有機酸で活性化処理した後、硫酸触媒の存在下で、上記のような有機酸成分の混合液を用いてエステル化する場合が多い。有機酸無水物成分は、一般にセルロース中に存在するヒドロキシル基の量に対して過剰量で使用する。このエステル化処理では、エステル化反応に加えてセルロース主鎖（β）１，４−グリコシド結合）の加水分解反応（解重合反応）が進行する。主鎖の加水分解反応が進むとセルロースアシレートの重合度が低下し、製造する光学フィルムの物性が低下する。そのため、反応温度のような反応条件は、得られるセルロースアシレートの重合度や分子量を考慮して決定することが好ましい。
【００６３】
本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートおよび一般式（Ｉ）で表される化合物に加え、他の添加剤を含んでいても良い。これらの添加剤としては、公知の可塑剤、有機酸、色素、ポリマー、レターデーション調整剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤などが例示される。これらの記載は、特開２０１２−１５５２８７号公報の段落番号００６２〜００９７の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。これらの合計配合量はセルロースアシレートの全量に対し、５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。
【００６４】
本発明のフィルムの製造方法は、特に限定されるものではないが、溶融製膜法又は溶液製膜法により製造することが好ましく、溶液製膜法による製造がより好ましい。
溶融製膜法および溶液製膜法ともに、一般的に行われているセルロースアシレートフィルムの製造方法と同様に、本発明の光学フィルムを製造することができる。例えば、溶融製膜に関しては、特開２００６−３４８１２３号公報を、溶液製膜に関しては、特開２００６−２４１４３３号公報を参照し、製造することができる。
【００６５】
本発明の光学フィルムを溶液製膜法により製造する方法の詳細については、特開２００９−７９２１３号公報の段落番号００７９〜０１０４、特開２０１２−２３４１５９号公報の段落番号００９３〜００９４の記載を参考にできる。
【００６６】
本発明の光学フィルムは表面硬度を高めるために延伸処理を施してもよい。
セルロースアシレートフィルムの延伸方向はいずれの方向でもよく、通常、セルロースアシレートフィルム搬送方向（ＭＤ方向）とまたは搬送方向に直交する方向（ＴＤ方向）であるが、セルロースアシレートフィルム搬送方向に直交する方向（ＴＤ方向）であることが、後に続く上記セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板加工プロセスの観点から特に好ましい。
【００６７】
ＴＤ方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されており、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。ＭＤ方向の延伸の場合、例えば、セルロースアシレートフィルムの搬送ローラーの速度を調節して、セルロースアシレートフィルムの剥ぎ取り速度よりもセルロースアシレートフィルムの巻き取り速度の方を速くするとセルロースアシレートフィルムは延伸される。ＴＤ方向の延伸の場合、セルロースアシレートフィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもセルロースアシレートフィルムを延伸できる。セルロースアシレートフィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
【００６８】
セルロースアシレートフィルムを偏光子の保護フィルムとして使用する場合には、偏光板を斜めから見たときの光漏れを抑制するため、偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの面内の遅相軸を平行に配置することが好ましい。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、上記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状のセルロースアシレートフィルムからなる保護フィルムを連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護フィルムの面内遅相軸は、セルロースアシレートフィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従ってＴＤ方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。
【００６９】
ＴＤ方向の延伸倍率は５〜１００％が好ましく、より好ましくは５〜８０％、特に好ましくは５〜４０％である。なお、未延伸とは延伸倍率が０％であることを意味する。延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶剤量＝（残存揮発分質量／加熱処理後フィルム質量）×１００（質量％）が０．０５〜５０質量％で好ましく延伸することができる。残留溶剤量が０．０５〜５質量％の状態で５〜８０質量％延伸を行うことが特に好ましい。
【００７０】
表面硬度を高めることを目的とし、上述した延伸処理において、ＷＯ２００８／１１４３３２に記載されているような熱処理を施してもよい。熱処理において、セルロースアシレートフィルムの延伸方向はセルロースアシレートフィルム搬送方向（ＭＤ方向）と搬送方向に直交する方向（ＴＤ方向）のいずれでも好ましく、適宜調整することができる。
【００７１】
＜光学フィルムの物性＞
硬度：
本発明の光学フィルムは、一般式（Ｉ）で表される化合物を含有し、高い表面硬度を有する。本発明において光学フィルムの表面硬度はヌープ硬度によって測定され、ヌープ硬度は、一般式（Ｉ）で表される化合物の種類または含有量によって調整できる。
【００７２】
弾性率：
本発明の光学フィルム（特に、他の層が積層されていないセルロースアシレートフィルム）は実用上十分な弾性率を示す。弾性率の範囲は特に限定されないが、製造適性およびハンドリング性という観点から１．０〜７．０ＧＰａであることが好ましく、２．０〜６．０ＧＰａであることがより好ましい。本発明における一般式（Ｉ）で表される化合物は、セルロースアシレート中に添加されることにより、光学フィルムを疎水化することで弾性率を向上させる作用があり、その点も本発明における利点である。
【００７３】
光弾性係数：
光学フィルムの光弾性係数の絶対値は、好ましくは８．０×１０-12ｍ2／Ｎ以下、より好ましくは６×１０-12ｍ2／Ｎ以下、さらに好ましくは５×１０-12ｍ2／Ｎ以下である。光学フィルムの光弾性係数を小さくすることにより、本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして液晶表示装置に組み込んだ際に、高温高湿下におけるムラ発生を抑制できる。光弾性係数は、特に断らない限り、以下の方法により測定し算出するものとする。
光弾性率の下限値は特に限定されないが、０．１×１０-12ｍ2／Ｎ以上であることが実際的である。
【００７４】
光弾性係数の測定としては、光学フィルムを３．５ｃｍ×１２ｃｍに切り出し、荷重無し、２５０ｇ、５００ｇ、１０００ｇ、１５００ｇのそれぞれの荷重におけるＲｅ（６３３）をエリプソメーター（Ｍ２２０、日本分光（株））で測定し、応力に対するＲｅ変化の直線の傾きから算出することにより光弾性係数を測定する。
【００７５】
含水率：
光学フィルムの含水率は一定温湿度における平衡含水率を測定することにより評価することができる。平衡含水率は上記温湿度に２４時間放置した後に、平衡に達した試料の水分量をカールフィッシャー法で測定し、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出したものである。
光学フィルムの２５℃相対湿度８０％における含水率は５質量％以下であることが好ましく、４質量％以下がさらに好ましく、３質量％未満がさらに好ましい。光学フィルムの含水率を小さくすることにより、本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして液晶表示装置に組み込んだ際に、高温高湿下における液晶表示装置の表示ムラを発生しにくくすることができる。含水率の下限値は特に限定されないが、０．１質量％以上であることが実際的である。
【００７６】
透湿度：
光学フィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じ、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量を測定し、面積１ｍ2あたりの２４時間に通過する水蒸気の質量に換算することにより評価することができる。
光学フィルムの透湿度は、５００〜２０００ｇ／ｍ2・ｄａｙであることが好ましく、９００〜１３００ｇ／ｍ2・ｄａｙであることがより好ましく、１０００〜１２００ｇ／ｍ2・ｄａｙであることが特に好ましい。
【００７７】
ヘイズ：
光学フィルムは、ヘイズが１％以下であることが好ましく、０．７％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることが特に好ましい。ヘイズを上記上限値以下とすることにより、光学フィルムの透明性がより高くなり、光学フィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。ヘイズは、特に断らない限り、下記方法により測定し算出するものとする。ヘイズの下限値は特に限定されないが、０．００１％以上であることが実際的である。
ヘイズは、光学フィルム４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％の環境下で、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に従って測定する。
【００７８】
膜厚：
光学フィルムの平均膜厚は、用途に応じ適宜定めることができるが、例えば、２０〜１００μｍである。光学フィルムの平均膜厚は、１〜１００μｍが好ましく、５〜８０μｍがより好ましく、１０〜７０μｍがさらに好ましい。１０μｍ以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作製する際のハンドリング性が向上し好ましい。また、７０μｍ以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性を維持しやすい。
また、光学フィルムが３層以上の積層構造を有する場合、コア層の膜厚は３〜７０μｍが好ましく、５〜６０μｍがより好ましく、スキン層Ａおよびスキン層Ｂの膜厚は、ともに０．５〜２０μｍがより好ましく、０．５〜１０μｍが特に好ましく、０．５〜３μｍが最も好ましい。コア層とは、３層構造で中心部に位置する層のことをいい、スキン層とは３層構造で外側に位置する層のことをいう。
【００７９】
幅：
光学フィルムは、幅が７００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２８００ｍｍであることがより好ましく、１３００〜２５００ｍｍであることが特に好ましい。
【００８０】
レターデーション：
本発明の光学フィルムは、一般式（Ｉ）で表される化合物を含ませることでレターデーション（特に、Ｒｔｈ）を低減させることもできる。
【００８１】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（ＩＩＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００８２】
【数１】
2014225003.tif 000039
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ・・・・・・・・・・・式（ＩＩＩ）
【００８３】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
なお、屈折率の測定波長は、特に断らない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値であり、Ｒｅ及びＲｔｈの測定波長については、特に断らない限り、５５０ｎｍとする。
【００８４】
＜鹸化処理＞
前記光学フィルムはアルカリ鹸化処理することによりポリビニルアルコールのような偏光子の材料との密着性を付与し、偏光板保護フィルムとして用いることができる。
鹸化の方法については、特開２００７−８６７４８号公報の段落０２１１と段落０２１２に記載される方法を用いることができる。
【００８５】
例えば、光学フィルムに対するアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【００８６】
アルカリ鹸化処理の代わりに、特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
【００８７】
＜偏光板＞
次に、本発明の光学フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる態様について説明する。本発明の偏光板の一例は、偏光子とその両面を保護する二枚の偏光板保護フィルム（透明フィルム）からなり、本発明の光学フィルムを少なくとも一方の偏光板保護フィルムとして有する。
本発明の光学フィルムは、特に、上側偏光板１０の視認側用保護フィルムとして好ましく用いられる。図１は、本発明の偏光板と液晶表示装置の位置関係を示した一例であって、１は本発明の光学フィルムを、２は偏光子を、３は位相差フィルムを、４は液晶セルをそれぞれ示している。位相差フィルムは、本発明の光学フィルムとは異なる他の光学フィルムであってもよい。また、図１の上側が視認側になる。
【００８８】
図１に例示するとおり、本発明の光学フィルムが用いられない側の偏光板保護フィルムとしては、位相差フィルム３が好ましく用いられるが、かかる位相差フィルムとしては、光学フィルムに各種添加剤を配合したり、延伸して所望の位相差を発現させた位相差フィルムや、支持体の表面に液晶組成物からなる光学異方性層を有する位相差フィルムが例示される。具体的には、特開２００８−２６２１６１号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００８９】
また、偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素溶液中に浸漬して延伸したもの等を用いることができる。ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素溶液中に浸漬して延伸した偏光子を用いる場合、接着剤を用いて偏光子の少なくとも一方の面に本発明の光学フィルムの表面処理面を直接貼り合わせることができる。前記接着剤としては、ポリビニルアルコール又はポリビニルアセタール（例えば、ポリビニルブチラール）の水溶液や、ビニル系ポリマー（例えば、ポリブチルアクリレート）のラテックスを用いることができる。特に好ましい接着剤は、完全鹸化ポリビニルアルコールの水溶液である。
【００９０】
本発明の光学フィルムの前記偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と前記偏光板保護フィルムの遅相軸が実質的に平行となるように貼り合せることが好ましい。遅相軸の測定は、公知の種々の方法で測定することができ、例えば、複屈折計（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて行うことができる。
ここで、実質的に平行であるとは、偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが５°以内であることをいい、１°以内、好ましくは０．５°以内であることが好ましい。ずれが１°以内であれば、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下しにくく、光抜けが生じにくく好ましい。
【００９１】
＜偏光板の機能化＞
本発明の偏光板には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板としても好ましく使用される。これらの詳細は、特開２０１２−０８２２３５号公報の段落０２２９〜０２４２、段落０２４９〜０２５０、特開２０１２−２１５８１２公報の段落００８６〜０１０３の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００９２】
＜ハードコート層＞
本発明の光学フィルムまたは偏光板は、ハードコート層を有することが好ましく、偏光板の最表面（液晶表示装置の視認側最表面にハードコート層を有することがより好ましい。
ハードコート層としては、特開２０１２−０８２２３５号公報の段落０２２９〜０２４２、段落０２４９〜０２５０、特開２０１２−２１５８１２公報の段落００８６〜０１０３の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。本発明に利用可能なハードコート層の好ましい特性、好ましい材料等についても同様である。
【００９３】
ハードコート層の厚さは、１〜２０μｍであることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。
【００９４】
＜液晶表示装置＞
本発明の液晶表示装置は、本発明の偏光板を少なくとも１枚含むことを特徴とする。液晶表示装置の詳細は、特開２０１２−０８２２３５号公報の段落０２５１〜０２６０の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【実施例】
【００９５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
すべての合成した化合物の同定は、1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）を用いて行った。また、融点は、微量融点測定装置（ヤナコ製、ＭＰ−５００Ｄ）を用いて測定した。
【００９６】
＜合成例１＞
＜＜化合物（２１−１）の合成＞＞
【化３８】
2014225003.tif 000040
温度計、還流冷却管、撹拌機を取り付けた三口フラスコに、cis-シクロヘキサンジカルボン酸無水物１０．０ｇ（０．１３５ｍｏｌ）、トルエン３０ｍＬをとり、室温で撹拌し溶解させた。０℃の浴中で冷却し、１，２−プロパンジアミン４３．７ｇ（０．２８３ｍｏｌ）を１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応液を１３０℃に加熱し、４時間撹拌させた。反応液を濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物（２１−１）を得た。収量１６ｇ、収率３４％。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）  δ１．５−１．２（ｍ，１０Ｈ）、１．９−１．６（ｍ，９Ｈ）、２．９−２．６（ｍ，４Ｈ），３．５（ｄｄ、Ｊ＝１８．４Ｈｚ、３．２Ｈｚ，１Ｈ）、４．２−４．０（ｍ，１Ｈ）、４．５−４．３（ｍ，１Ｈ）
【００９７】
実施例（１−２）、（１−４）〜（１−１３）、（１−２１）〜（１−２２）、および比較例２で表されるイミド化合物は、それぞれ、合成例１と同様の方法により合成した。
実施例（１−１６）、（１−１７）で表されるイミド化合物は、ジアミンとイタコン酸無水物を用いて合成例１と同様の方法でイミドを形成した後、Ｃｈｍｉｓｔｒｙ−Ａｎ  Ａｓｉａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ，  ４,  １７４１（２００９）記載の方法で合成した。
【００９８】
＜合成例２＞
化合物（２１−２−１）の合成
【化３９】
2014225003.tif 000041
（工程１）
温度計、還流冷却管、撹拌機を取り付けた三口フラスコにcis-シクロヘキサンジカルボン酸無水物  ５０．０ｇ（０．３２４ｍｏｌ）、トルエン３２５ｍＬをとり、室温で撹拌した。原料が溶解後、０℃の浴中で冷却し、２−アミノエタノール１９．８ｇ（０．３２４  ｍｏｌ）を１５分かけて滴下した。その後、１３０℃に加熱し、４時間撹拌させた。反応液に酢酸エチル２００ｍＬを添加し、１規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、（２１−２−１−ａ）を得た。収量６３ｇ、収率９８％。
【００９９】
（工程２）
温度計、還流冷却管、撹拌機を取り付けた三口フラスコに、化合物（２１−２−１−ａ）３０ｇ、酢酸エチル３００ｍＬ、トリエチルアミン１６．９ｇ（０．１６７ｍｏｌ）をとり室温で撹拌した。反応液の温度を０℃に冷却し、塩化ベンゾイル２３．５ｇ（０．１６７ｍｏｌ）を滴下後、室温で１時間撹拌した。反応後、酢酸エチル２００ｍLを加え取り出し、１Ｎ塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物（２１−２−１）を得た。収量３５ｇ、収率７６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）  δ１．５−１．３（ｍ，４Ｈ）、２．０−１．７（ｍ，４Ｈ）、３．０−２．９（ｍ，２Ｈ）、３．９（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ）、４．５（ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．４（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、４．５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）
【０１００】
実施例（１−１４）〜（１−１５）、（１−１８）〜（１−２０）、（１−２３）〜（１−２６）で表されるイミド化合物は、それぞれ、合成例２と同様の方法により合成した。
【０１０１】
＜実施例１＞
＜＜光学フィルムの作製＞＞
＜＜＜セルロースアシレート溶液の調製＞＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０１０２】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８７、重合度３７０のセルロースアシレート
１００．０質量部
例示化合物（２１−１）                              １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ３５３．９質量部
メタノール（第２溶媒）                              ８９．６質量部
ｎ−ブタノール（第３溶媒）                            ４．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１０３】
ドラム流延装置を用い、前記調製したセルロースアシレート溶液を流延した。ドープ中の残留溶媒量が略７０質量％の状態で剥ぎ取り、残留溶媒量が３〜５質量％の状態で乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、実施例１−１のセルロースアシレートフィルムを得た。製造されたセルロースアシレートフィルムの膜厚は６０μｍであった。例示化合物２１−１を表１中に記載された化合物に変更する以外は実施例１−１と同様として、実施例１−２〜１−２６、比較例１〜４のセルロースアシレートフィルムをそれぞれ作製した。
【０１０４】
＜＜ハードコート層付き光学フィルムの作製＞＞
上記で作製した各セルロースアシレートからなる単層の光学フィルムの表面に下記の硬化組成物のハードコート層溶液を塗布し、紫外線を照射して硬化させ、厚み６μｍのハードコート層を形成したハードコート層付き光学フィルムをそれぞれ作製した。
【０１０５】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
ハードコート層溶液の硬化組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
モノマー  ペンタエリスリトールトリアクリレート／
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（混合質量比３／２）
５３．５質量部
ＵＶ開始剤  ＩｒｇａｃｕｒｅＴＭ９０７
（ＢＡＳＦ製）                                    １．５質量部
酢酸エチル                                              ４５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１０６】
＜評価＞
＜＜レターデーションＲｅ、Ｒｔｈの評価＞＞
光学フィルムを波長５５０ｎｍでＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨを用いて測定した。
【０１０７】
＜＜光学フィルムの表面硬度（ヌープ硬度）の測定＞＞
フィッシャーインスツルメンツ（株）社製“フッシャースコープＨ１００Ｖｐ型硬度計”を用い、圧子の短軸の向きをセルロースアシレートフィルム製膜時の搬送方向（長手方向；鉛筆硬度試験での試験方向）に対して平行に配置したヌープ圧子により、ガラス基板に固定したサンプル表面を負荷時間１０ｓｅｃ、クリープ時間５ｓｅｃ、除荷時間１０ｓｅｃ、最大荷重５０ｍＮの条件で測定した。押し込み深さから求められる圧子とサンプルとの接触面積と最大荷重の関係より硬度を算出し、この５点の平均値を表面硬度とした。
また、フィッシャーインスツルメンツ（株）社製“フッシャースコープＨ１００Ｖｐ型硬度計”を用い、ＪＩＳ  Ｚ  ２２５１の方法に準じてガラス基板に固定したサンプル表面を負荷時間１０ｓｅｃ、クリープ時間５ｓｅｃ、除荷時間１０ｓｅｃ、押し込み荷重５０ｍＮの条件で測定し、押し込み深さから求められる圧子とサンプルとの接触面積と最大荷重の関係より硬度を算出した。なお、ＪＩＳ  Ｚ  ２２５１はＩＳＯ４５４５を基に作成した日本工業規格である。
さらに、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を１０°ずつ回転させて測定される合計１８方位等角度回転させて測定して全方位のヌープ硬度の測定を行ない、最小値を求めたところ、上記のヌープ圧子の短軸の向きをセルロースアシレートフィルム製膜時の搬送方向（長手方向；鉛筆硬度試験での試験方向）に対して平行に配置して測定した表面硬度と一致した。単位は、Ｎ／ｍｍ2で表し、下記の基準に沿って評価した結果を表中に記載した。
Ａ：ヌープ硬度  ２１０Ｎ／ｍｍ2以上
Ｂ：ヌープ硬度  ２０５Ｎ／ｍｍ2以上、２１０Ｎ／ｍｍ2未満
Ｃ：ヌープ硬度  ２００Ｎ／ｍｍ2以上、２０５Ｎ／ｍｍ2未満
Ｄ：ヌープ硬度  １９５Ｎ／ｍｍ2以上、２００Ｎ／ｍｍ2未満
Ｅ：ヌープ硬度  １９５Ｎ／ｍｍ2未満
【０１０８】
＜＜耐光密着性評価方法＞＞
上記の各ハードコート層付き光学フィルムについて、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００に準処した碁盤目試験を行った。具体的には、硬化済みハードコート層付き光学フィルムをＸｅランプで４８時間照射した。Ｘｅランプの照射後のハードコート層に１ｍｍ間隔で縦横に１１本の切れ込みを入れて１ｍｍ角の碁盤目を１００個作った。この上にセロハンテープおよびマイラーテープを貼り付け、素早く剥がす操作を３回繰り返し、剥がれた箇所を目視観察により密着評価した。なお、Ｘｅの照射はスガ試験機株式会社製のスーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５を用いた。
密着性は下記基準で評価した。評価が「Ｂ」以上であると、セルロースアシレートフィルムとハードコート層との密着性が高く、実用上要求される光耐久性を超える優れた光耐久性を発揮する。
Ａ：剥がれ箇所  ０〜５マス
Ｂ：剥がれ箇所  ６〜１５マス
Ｃ：剥がれ箇所  １６〜２５マス
Ｄ：剥がれ箇所  ２６〜３５マス
Ｅ：剥がれ箇所  ３６マス以上
【０１０９】
＜＜ヘイズ評価＞＞
上記で得られた各光学フィルム中のヘイズを測定しＡ〜Ｃで評価した。
Ａ：ヘイズが０．５％未満
Ｂ：ヘイズが０．５％以上、０．７％未満
Ｃ：ヘイズが０．７％以上
【０１１０】
＜＜総合評価＞＞
ヌープ硬度評価、耐光密着評価においてＡ：５点、Ｂ：４点、Ｃ：３点、Ｂ：２点、Ｅ：１点とし、ヘイズ評価においてＡ：５点、Ｂ：３点、Ｃ：１点とした際、ヌープ硬度評価点及び耐光密着評価点及び面状評価点の合計点数によりＡ〜Ｅで評価した。
Ａ：合計点数が１５〜１４点
Ｂ：合計点数が１３〜１２点
Ｃ：合計点数が１１〜９点
Ｄ：合計点数が８〜７点
Ｅ：合計点数が６点以下
【０１１１】
＜他の実施例および比較例＞
実施例１において、一般式（Ｉ）で表される化合物を以下の表に記載の通り変更し、他は同様に行って実施例および比較例の光学フィルムを得た。
【０１１２】
【表１】
2014225003.tif 000042
【０１１３】
比較化合物１
【化４０】
2014225003.tif 000043
比較化合物２
【化４１】
2014225003.tif 000044
比較化合物３
【化４２】
2014225003.tif 000045
【０１１４】
比較化合物１は、特開２０１２−１２３２９２号公報に記載のＡ−０８９である。比較化合物２は、合成例１の方法により合成した。比較化合物３は、特開２００９−１５０４５号公報に記載の化合物４−５である。
【０１１５】
上記表から明かなとおり、セルロースアシレートに一般式（Ｉ）で表される化合物を配合してフィルムを製造することで、比較化合物１〜３を添加した場合と比較して、良好な耐光密着性を発現することがわかった。また、比較例４と比べてヌープ硬度が向上し、一般式（Ｉ）で表される化合物がフィルムの表面硬度の改善効果を有することがわかった。さらに、比較例１、３に比べてフィルム面状がよい（ヘイズが低い）ことがわかった。比較例１では添加剤中の飽和脂肪環が多くセルロースアシレートとの相溶性が悪いと考えられる。比較例２、比較例３ではイミド環内に不飽和結合を有するため、耐光試験においてセルロースアシレートが分解した結果、耐光密着性が悪化すると考えられる。
比較例３のＲｅ、Ｒｔｈについてはフィルム面状が悪く測定することができなかった。
【０１１６】
(鉛筆硬度評価)
各ハードコート層付きセルロースアシレートフィルムを、２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、５００ｇのおもりを用いて各硬度の鉛筆でハードコート層表面を５回繰り返し引っ掻き、傷が１本までの硬度を測定した。なお、ＪＩＳ−Ｋ５４００で定義される傷は塗膜の破れ、塗膜のすり傷であり、塗膜のへこみは対象としないと記載されているが、本評価では、塗膜のへこみも含めて傷と判断した。実用上は、３Ｈ以上が好ましく、数値が高いほど、高硬度なため好ましい。実施例１−１、１−２、１−１０のセルロースアシレートフィルムを用いて鉛筆硬度評価を実施した結果、いずれも３Ｈと高評価であることがわかった。
【０１１７】
＜実施例２＞
セルロースアシレートの置換度、各添加剤の種類とを下表のとおりに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２−１〜２−７のセルロースアシレートフィルムをそれぞれ作製した。
各特性の評価は実施例１と同様にして行った。
【表２】
2014225003.tif 000046
＊一般式（Ｉ）で表される化合物の添加量は、セルロースアシレート１００質量部に対する質量部である。
【０１１８】
上記表に記載のとおり、本発明の化合物では、セルロースアシレートの置換度によらず、好ましいヌープ硬度、耐光密着、ヘイズ抑制効果を発現できることがわかった。
【０１１９】
＜実施例３＞
＜＜偏光板の作製＞＞
偏光板保護フィルムの鹸化処理
実施例１で得られた実施例１−１、１−２、１−１０のセルロースアシレートフィルムを、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、各セルロースアシレートフィルムについて表面の鹸化処理を行った。また、比較例として、一般式（Ｉ）で表される化合物を加えずに作製したセルロースアシレートフィルムについても同様の処理を行った。
【０１２０】
偏光板の作製
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
上述のように鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に同様の鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で作製した各セルロースアシレートフィルムを貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に鹸化処理後のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と得られたセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行するように配置した。また、偏光子の透過軸と市販のセルローストリアセテートフィルムの遅相軸については、直交するように配置した。
このようにして実施例１−１、１−２、１−１０のセルロースアシレートフィルムを各々用いて偏光板を作製した。
【０１２１】
＜実施例３００＞
＜＜液晶表示装置の作製＞＞
市販の液晶テレビ（ＳＯＮＹ（株）のブラビアＪ５０００）の視認側の偏光板をはがし、本発明の偏光板として、上記実施例で作製した各偏光板を、上記実施例のうち実施例１−１、１−２、１−１０の偏光板保護フィルムが液晶セル側と反対側となるように、粘着剤を介して、観察者側に一枚ずつ貼り付けて液晶表示装置を得た。いずれの液晶表示装置においても良好な表示性能を示すことを確認した。
【符号の説明】
【０１２２】
１    本発明の光学フィルム
２    偏光子
３    位相差フィルム
４    液晶セル
１０  上側偏光板
【図１】
2014225003.tif 000055