(57)【要約】【課題】液晶汚染を抑制することができ、かつ、保存安定性、接着性、信頼性、及び、塗布性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供する。また、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。【解決手段】硬化性樹脂と、無機充填剤と、ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、前記硬化性樹脂は、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂を含有し、前記無機充填剤は、エポキシシラン処理されたタルクを含有する液晶滴下工法用シール剤。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性樹脂と、無機充填剤と、ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、
前記硬化性樹脂は、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂を含有し、
前記無機充填剤は、エポキシシラン処理されたタルクを含有する
ことを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。
【請求項２】
イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂は、イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリル樹脂であることを特徴とする請求項１記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項３】
硬化性樹脂は、エポキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する樹脂を含有することを特徴とする請求項１又は２記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項４】
イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂１００重量部に対して、エポキシシラン処理されたタルクを５０〜２００重量部含有することを特徴とする請求項１、２又は３記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項５】
エポキシシラン処理されたタルクは、処理量が２〜１５％であることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の液晶滴下工法用シール剤。
【請求項６】
請求項１、２、３、４又は５記載の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有することを特徴とする上下導通材料。
【請求項７】
請求項１、２、３、４若しくは５記載の液晶滴下工法用シール剤及び／又は請求項６記載の上下導通材料を用いて製造されることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶汚染を抑制することができ、かつ、保存安定性、接着性、信頼性、及び、塗布性に優れる液晶滴下工法用シール剤に関する。また、本発明は、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示セル等の液晶表示素子の製造方法は、タクトタイム短縮、使用液晶量の最適化といった観点から、例えば、特許文献１、特許文献２に開示されているような光硬化性樹脂、光重合開始剤、熱硬化性樹脂、及び、熱硬化剤を含有する光、熱併用硬化型のシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶滴下方式が用いられている。
【０００３】
滴下工法では、まず、２枚の電極付き透明基板の一方に、ディスペンスにより長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線等の光を照射して仮硬化を行う。その後、液晶アニール時に加熱して本硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができ、現在この滴下工法が液晶表示素子の製造方法の主流となっている。
【０００４】
特許文献３には、液晶滴下工法用シール剤に配合する硬化性樹脂として、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂を用いることにより、液晶汚染性が低く、かつ、保存安定性に優れるシール剤を得る方法が開示されている。しかしながら、硬化性樹脂としてイソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂を用いた場合、シール剤が接着性に劣るものとなったり、硬化物の透湿性が高くなり、得られる液晶表示素子が高温高湿下に曝した後の信頼性に劣るものとなったりするという問題があった。
【０００５】
シール剤の接着性を向上させ、かつ、シール剤の硬化物の透湿性を低下させるためには、無機充填剤を用いることが考えられ、なかでも、タルクを用いることが効果的であるが、シール剤の硬化物の透湿性を充分低くするためには多量のタルクを配合する必要があり、多量のタルクを配合すると粘度やチクソ性が高くなりすぎ、シール剤が塗布性に劣るものとなるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−１３３７９４号公報
【特許文献２】国際公開第０２／０９２７１８号パンフレット
【特許文献３】特許第４２２４５２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、液晶汚染を抑制することができ、かつ、保存安定性、接着性、信頼性、及び、塗布性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、硬化性樹脂と、無機充填剤と、ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有する液晶滴下工法用シール剤であって、上記硬化性樹脂は、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂を含有し、上記無機充填剤は、エポキシシラン処理されたタルクを含有する液晶滴下工法用シール剤である。
以下に本発明を詳述する。
【０００９】
本発明者らは、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂とエポキシシラン処理されたタルクとを組み合わせて用いることにより、液晶汚染を抑制し、優れた保存安定性を維持しつつ、接着性、信頼性、及び、塗布性に優れる液晶滴下工法用シール剤を得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、無機充填剤を含有する。
上記無機充填剤は、エポキシシラン処理されたタルクを含有する。エポキシシラン処理されたタルクは、未処理のタルクや他の表面処理を行ったタルクに比べ、シール剤に多量に配合しても粘度やチクソ性が高くなりすぎることがない。そのため、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂と組み合わせて用いることにより、液晶汚染を抑制することができ、かつ、保存安定性、接着性、信頼性、及び、塗布性に優れる液晶滴下工法用シール剤を得ることができる。
【００１１】
上記タルクをエポキシシラン処理する方法としては、例えば、タルクと、エポキシ基を有するシランカップリング剤等のエポキシシラン化合物とを、加熱攪拌する方法等が挙げられる。
【００１２】
上記エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００１３】
上記エポキシシラン処理されたタルクの平均粒子径の好ましい下限は０．１μｍ、好ましい上限は３．０μｍである。上記エポキシシラン処理されたタルクの平均粒子径が０．１μｍ未満であると、粘度やチクソ性が高くなりすぎ、得られる液晶滴下工法用シール剤が塗布性に劣るものとなることがある。上記エポキシシラン処理されたタルクの平均粒子径が３．０μｍを超えると、ギャップ不良から液晶表示素子に表示むらが生じることがある。上記エポキシシラン処理されたタルクの平均粒子径のより好ましい上限は２．０μｍである。
なお、本明細書において上記エポキシシラン処理されたタルクの平均粒子径は、走査型電子顕微鏡を用いて、５０００倍の倍率で観察した粒子１０個の粒子径（長径）の平均値を意味する。また、上記走査型電子顕微鏡としては、Ｓ−４３００（日立ハイテクノロジーズ社製）等を用いることができる。
【００１４】
エポキシシラン処理されたタルクは、処理量の好ましい下限が２％、好ましい上限が１５％である。上記処理量が２％未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤が、接着性及び信頼性と塗布性とを両立させることができなくなることがある。上記処理量が１５％を超えると、エポキシシランの凝集等による異物が発生することがある。上記処理量のより好ましい下限は３％、より好ましい上限は１０％である。
なお、本明細書において、上記「処理量」とは、エポキシシラン処理に使用したエポキシシラン化合物の重量をタルクの重量で除して百分率で示したものを意味する。
【００１５】
上記エポキシシラン処理されたタルクの含有量は、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が５０重量部、好ましい上限が２００重量部である。上記エポキシシラン処理されたタルクの含有量が５０重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤が接着性に劣るものとなって剥離したり、硬化物が信頼性に劣るものとなったりすることがある。上記エポキシシラン処理されたタルクの含有量が２００重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度やチクソ性が高くなり、塗布性に劣るものとなることがある。上記エポキシシラン処理されたタルクの含有量のより好ましい上限は１５０重量部である。
【００１６】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、本発明の目的を阻害しない範囲において、上記エポキシシラン処理されたタルク以外のその他の無機充填剤を含有してもよい。
上記その他の無機充填剤は特に限定されず、例えば、未処理又はエポキシシラン処理以外の処理を施したタルク、シリカ、アルミナ、酸化チタン、炭酸カルシウム等が挙げられる。
【００１７】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、硬化性樹脂を含有する。
上記硬化性樹脂は、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂を含有する。
上記イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂を用いることにより、本発明の液晶滴下工法用シール剤は、液晶汚染性が低く、かつ、保存安定性に優れるものとなる。
上記イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂を用いた液晶滴下工法用シール剤は、保存安定性に優れるが、一方で透湿性を低下させてしまう恐れがあった。これに対し本発明者らは、エポキシシラン処理されたタルクを用いることにより透湿性を改良できることを見出した。即ち、本発明は、イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂とエポキシシラン処理されたタルクとを併用することにより、保存安定性、接着性、信頼性、及び、塗布性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。
【００１８】
上記イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂としては、イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
なお、本明細書において、上記「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味し、上記「（メタ）アクリル樹脂」とは、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する樹脂を意味し、上記「（メタ）アクリロイルオキシ基」とは、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を意味する。
【００１９】
上記イソシアヌル骨格を有する（メタ）アクリル樹脂としては、例えば、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリメタクリレート、カプロラクトン変性エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート、カプロラクトン変性エトキシ化イソシアヌルトリメタクリレート等が挙げられる。なかでも、接着性に優れることから、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレートが好ましい。
【００２０】
上記イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂の含有量は、硬化性樹脂全体１００重量部に対して、好ましい下限が１５重量部、好ましい上限が９０重量部である。上記イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂の含有量が１５重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤が、液晶汚染を引き起こしたり、保存安定性に劣るものとなったりすることがある。上記イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂の含有量が９０重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の硬化物の透湿性が高くなり、信頼性に劣るものとなることがある。上記イソシアヌル骨格を有する硬化性樹脂の含有量のより好ましい上限は７０重量部である。
【００２１】
上記硬化性樹脂は、エポキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する樹脂を含有することが好ましい。
上記エポキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する樹脂としては、部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂が挙げられる。
なお、本明細書において上記部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂とは、１分子中にエポキシ基と（メタ）アクリロイルオキシ基とをそれぞれ１つ以上有する樹脂を意味する。上記部分（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂は、例えば、２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂の一部分のエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得ることができる。
【００２２】
上記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スルフィド型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルキルポリオール型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、グリシジルエステル化合物等が挙げられる。
【００２３】
上記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート８２８ＥＬ、エピコート１００４（いずれも三菱化学社製）、エピクロン８５０（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート８０６、エピコート４００４（いずれも三菱化学社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＥＸＡ１５１４（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等が挙げられる。
上記水添ビスフェノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＥＸＡ７０１５（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＰ−４０００Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
上記レゾルシノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ビフェニル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコートＹＸ−４０００Ｈ（三菱化学社製）等が挙げられる。
上記スルフィド型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（新日鐵化学社製）等が挙げられる。
上記ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（新日鐵化学社製）等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＰ−４０８８Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
上記ナフタレン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれもＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記フェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＮ−７７０（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンＨＰ７２００（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等が挙げられる。
上記ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＥＳＮ−１６５Ｓ（新日鐵化学社製）等が挙げられる。
上記グリシジルアミン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート６３０（三菱化学社製）、エピクロン４３０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等が挙げられる。
上記アルキルポリオール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＺＸ−１５４２（新日鐵化学社製）、エピクロン７２６（ＤＩＣ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ゴム変性型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも新日鐵化学社製）、エポリードＰＢ（ダイセル化学工業社製）等が挙げられる。
上記グリシジルエステル化合物のうち市販されているものとしては、例えば、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記エポキシ樹脂のうちその他に市販されているものとしては、例えば、ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも新日鐵化学社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、エピコート１０３１、エピコート１０３２（いずれも三菱化学社製）、ＥＸＡ−７１２０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。
【００２４】
上記硬化性樹脂は、その他の硬化性樹脂を含有してもよい。
上記その他の硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ（メタ）アクリレートや、上述したエポキシ樹脂等が挙げられる。
なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。また、本明細書において上記エポキシ（メタ）アクリレートとは、エポキシ樹脂中の全てのエポキシ基を（メタ）アクリル酸と反応させた化合物のことを表す。
【００２５】
上記エポキシ（メタ）アクリレートは、例えば、（メタ）アクリル酸と上述したエポキシ樹脂とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応させることにより得られるもの等が挙げられる。
【００２６】
上記エポキシ（メタ）アクリレートのうち市販されているものとしては、例えば、ＥＢＥＣＲＹＬ８６０、ＥＢＥＣＲＹＬ３２００、ＥＢＥＣＲＹＬ３２０１、ＥＢＥＣＲＹＬ３４１２、ＥＢＥＣＲＹＬ３６００、ＥＢＥＣＲＹＬ３７００、ＥＢＥＣＲＹＬ３７０１、ＥＢＥＣＲＹＬ３７０２、ＥＢＥＣＲＹＬ３７０３、ＥＢＥＣＲＹＬ３８００、ＥＢＥＣＲＹＬ６０４０、ＥＢＥＣＲＹＬＲＤＸ６３１８２（いずれもダイセル・サイテック社製）、ＥＡ−１０１０、ＥＡ−１０２０、ＥＡ−５３２３、ＥＡ−５５２０、ＥＡ−ＣＨＤ、ＥＭＡ−１０２０（いずれも新中村化学工業社製）、エポキシエステルＭ−６００Ａ、エポキシエステル４０ＥＭ、エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル２００ＰＡ、エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、エポキシエステル３００２Ａ、エポキシエステル１６００Ａ、エポキシエステル３０００Ｍ、エポキシエステル３０００Ａ、エポキシエステル２００ＥＡ、エポキシエステル４００ＥＡ（いずれも共栄社化学社製）、デナコールアクリレートＤＡ−１４１、デナコールアクリレートＤＡ−３１４、デナコールアクリレートＤＡ−９１１（いずれもナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
【００２７】
上記硬化性樹脂全体における（メタ）アクリロイルオキシ基とエポキシ基との合計量に対するエポキシ基の比率の好ましい上限は５０モル％である。上記エポキシ基の比率が５０モル％を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の液晶に対する溶解性が高くなって液晶汚染を引き起こし、得られる液晶表示素子が表示性能に劣るものとなることがある。上記エポキシ基の比率のより好ましい上限は２０モル％である。
【００２８】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤を含有する。
上記ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤は、上記硬化性樹脂の種類によって適当なものが選択される。
【００２９】
上記ラジカル重合開始剤のうち、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、チオキサントン等を好適に用いることができる。
また、上記光ラジカル重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０１、ルシリンＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ  Ｊａｐａｎ社製）、ベンソインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル（いずれも東京化成工業社製）等が挙げられる。なかでも吸収波長域が広いことから、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ベンゾインイソプロピルエーテル、及び、ルシリンＴＰＯが好適である。これらの光ラジカル重合開始剤は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３０】
上記ラジカル重合開始剤のうち、熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤は特に限定されず、過酸化物やアゾ化合物が挙げられ、市販されているものとしては、例えば、パーブチルＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＰＶ（いずれも日油社製）、Ｖ−３０、Ｖ−５０１、Ｖ−６０１、ＶＰＥ−０２０１（いずれも和光純薬工業社製）等が挙げられる。
【００３１】
上記ラジカル重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が０．０１重量部、好ましい上限が１０重量部である。上記ラジカル重合開始剤の含有量が０．０１重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤を充分に硬化させることができないことがある。上記ラジカル重合開始剤の含有量が１０重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤が保存安定性に劣るものとなることがある。
【００３２】
上記熱硬化剤としては、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、有機酸ヒドラジドが好適に用いられる。
【００３３】
上記有機酸ヒドラジドとしては、例えば、１，３−ビス［ヒドラジノカルボエチル−５−イソプロピルヒダントイン］、セバシン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド等が挙げられ、市販されているものとしては、例えば、アミキュアＶＤＨ、アミキュアＵＤＨ（いずれも、味の素ファインテクノ社製）、ＳＤＨ、ＩＤＨ（いずれも、大塚化学社製）、ＡＤＨ（日本ファインケム社製）等が挙げられる。
【００３４】
上記熱硬化剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が１重量部、好ましい上限が５０重量部である。上記熱硬化剤の含有量が１重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤を充分に熱硬化させることができないことがある。上記熱硬化剤の含有量が５０重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度が高くなり、塗布性が悪くなることがある。上記熱硬化剤の含有量のより好ましい上限は３０重量部である。
【００３５】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。上記シランカップリング剤は、主にシール剤と基板等とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。
【００３６】
上記シランカップリング剤は特に限定されないが、基板等との接着性を向上させる効果に優れ、硬化性樹脂と化学結合することにより液晶中への硬化性樹脂の流出を抑制することができることから、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３７】
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、必要に応じて、粘度調整の為の反応性希釈剤、パネルギャップ調整の為のポリマービーズ等のスペーサー、３−Ｐ−クロロフェニル−１，１−ジメチル尿素等の硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤等の添加剤を含有してもよい。
【００３８】
本発明の液晶滴下工法用シール剤を製造する方法は特に限定されず、例えば、ホモディスパー、ホモミキサー、万能ミキサー、プラネタリウムミキサー、ニーダー、３本ロール等の混合機を用いて、硬化性樹脂と、無機充填剤と、ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤と、必要に応じて添加するシランカップリング剤等の添加剤とを混合する方法等が挙げられる。
【００３９】
本発明の液晶滴下工法用シール剤に導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。このような本発明の液晶滴下工法用シール剤と導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の１つである。
【００４０】
上記導電性微粒子は特に限定されず、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、透明基板等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。
【００４１】
本発明の液晶滴下工法用シール剤及び／又は本発明の上下導通材料を用いて製造される液晶表示素子もまた、本発明の１つである。
【００４２】
本発明の液晶表示素子を製造する方法としては、例えば、ＩＴＯ薄膜等の電極付きのガラス基板やポリエチレンテレフタレート基板等の２枚の透明基板の一方に、本発明の液晶滴下工法用シール剤等をスクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により長方形状のシールパターンを形成する工程、本発明の液晶滴下工法用シール剤等が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに別の基板を重ね合わせる工程、及び、本発明の液晶滴下工法用シール剤等のシールパターン部分に紫外線等の光を照射してシール剤を仮硬化させる工程、及び、仮硬化させたシール剤を加熱して本硬化させる工程を有する方法等が挙げられる。
【発明の効果】
【００４３】
本発明によれば、液晶汚染を抑制することができ、かつ、保存安定性、接着性、信頼性、及び、塗布性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。
【００４５】
（エポキシシラン処理されたタルクの調製）
タルク（日本タルク社製、「ナノエースＤ６００」）１００重量部と、エポキシシラン（信越シリコーン社製、「ＫＢＭ−４０３」）３重量部とを、加熱攪拌処理し、処理量３％のエポキシシラン処理されたタルク（３％エポキシシラン処理タルク）を調製した。また、エポキシシランの配合量を、１０重量部、５重量部に変更したこと以外は３％エポキシシラン処理タルクと同様にして、処理量１０％のエポキシシラン処理されたタルク（１０％エポキシシラン処理タルク）、処理量５％のエポキシシラン処理されたタルク（５％エポキシシラン処理タルク）をそれぞれ調製した。
【００４６】
（アルキル処理されたタルクの調製）
タルク（日本タルク社製、「ナノエースＤ６００」）１００重量部と、ヘキサメチルジシラザン（有機合成薬品社製、「ＨＭＤＳ」）３重量部とを、加熱攪拌し、処理量３％のメチル処理されたタルク（３％メチル処理タルク）を調製した。
【００４７】
（実施例１）
硬化性樹脂として、イソシアヌル骨格を有するアクリル樹脂（東亞合成社製、「アロニックスＭ３１５」）２重量部、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（ダイセル・サイテック社製、「ＥＢＥＣＲＹＬ３７００」）７重量部、及び、部分アクリル変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ダイセル・サイテック社製、「ＥＢＥＣＲＹＬ１５６１」）３重量部と、調製した３％エポキシシラン処理タルク４重量部と、光ラジカル重合開始剤（ＢＡＳＦ  Ｊａｐａｎ社製、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１」）０．２重量部と、熱硬化剤（日本ファインケム社製、「ＡＤＨ」）０．６重量部と、シランカップリング剤（信越シリコーン社製、「ＫＢＭ−４０３」）０．２重量部とを配合し、遊星式攪拌装置（シンキー社製、「あわとり練太郎」）にて攪拌した後、セラミック３本ロールにて均一に混合させて液晶滴下工法用シール剤を得た。
【００４８】
（実施例２〜４、比較例１〜５）
表１に記載された配合比に従い、各材料を、実施例１と同様にして、遊星式撹拌機（シンキー社製「あわとり練太郎」）を用いて混合した後、更に３本ロールを用いて混合することにより実施例２〜４、比較例１〜５の液晶滴下工法用シール剤を調製した。
【００４９】
＜評価＞
実施例及び比較例で得られた液晶滴下工法用シール剤について以下の評価を行った。結果を表１に示した。
【００５０】
（粘度及びチクソトロピックインデックス）
各実施例及び各比較例で得られた液晶滴下工法用シール剤について、Ｅ型粘度計（ブルックフィールド社製、「ＤＶ−ＩＩＩ」）を用いて２５℃、１ｒｐｍの条件における粘度を測定した。
また、同様にして２５℃、０．５ｒｐｍの条件における粘度と２５℃、５ｒｐｍの条件における粘度とを測定し、２５℃、０．５ｒｐｍの条件で測定した粘度を、２５℃、５ｒｐｍの条件で測定した粘度で除してチクソトロピックインデックス（ＴＩ値）を導出した。
【００５１】
（保存安定性）
各実施例及び各比較例で得られた液晶滴下工法用シール剤を、２５℃で１週間保管したときの粘度と、製造直後の初期粘度とを測定し、（２５℃、１週間保管後の粘度）／（初期粘度）を粘度変化率とし、粘度変化率が１．０５未満であるものを「○」、１．０５以上１．１０未満であるものを「△」、１．１０以上であるものを「×」として評価した。
なお、シール剤の粘度は、Ｅ型粘度計（ＢＲＯＯＫ  ＦＩＥＬＤ社製、「ＤＶ−ＩＩＩ」）を用い、２５℃において回転速度１ｒｐｍの条件で測定した。
【００５２】
（初期接着力）
各実施例及び各比較例で得られた液晶滴下工法用シール剤を極微量、ガラス基板の中央部に取り、その上に同じ大きさのガラス基板を重ね合わせて液晶滴下工法用シール剤を押し広げた。その状態で１００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３０秒照射した後、１２０℃で６０分加熱してシール剤を硬化させ、接着試験片を作製した。得られた接着試験片の接着強度を、ＥＺｇｒａｐｈ（島津製作所社製）を用いて測定した。
【００５３】
（プレッシャークッカー試験後接着力）
「（初期接着力）」と同様にして作製した接着試験片について、１２１℃、１００％ＲＨ、２気圧のプレッシャークッカー試験（ＰＣＴ）を２時間行った後の接着力を初期接着力と同様にして測定した。
【００５４】
（液晶表示素子の表示性能）
各実施例及び各比較例で得られた液晶滴下工法用シール剤１００重量部に対して平均粒子径５μｍのポリマービーズ（積水化学工業社製、「ミクロパールＳＰ」）１重量部を遊星式撹拌装置によって分散させて均一な液とし、得られた液をディスペンス用のシリンジ（武蔵エンジニアリング社製、「ＰＳＹ−１０Ｅ」）に充填し、脱泡処理を行った。次いで、ディスペンサー（武蔵エンジニアリング社製、「ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００」）を用いてＴＮ用配向膜ＳＥ７４９２（日産化学社製）付きＩＴＯガラス基板に長方形の枠を描く様にシール剤を塗布した。続いて、ＴＮ液晶（チッソ社製、「ＪＣ−５００１ＬＡ」）の微小滴を液晶滴下装置にて滴下塗布し、真空貼り合わせ装置にて１Ｐａの減圧下にて、別のガラス基板と貼り合わせた。貼り合わせた後の基板をＵＶ照射機に投入して１００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３０秒照射した後、１２０℃で６０分間加熱してシール剤を硬化させ、液晶表示素子を作製した。得られた液晶表示素子に電圧を印可し、目視で観察した。シール剤部周辺に色むらが全く見られなかった場合を「○」、少し薄い色むらが見えた場合を「△」、はっきりとした濃い色むらがあった場合を「×」として表示性能を評価した。
【００５５】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明によれば、液晶汚染を抑制することができ、かつ、保存安定性、接着性、信頼性、及び、塗布性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。