(57)【要約】【課題】ハードディスク駆動装置の構成部品の清浄度を高める技術を提供する。【解決手段】本発明のある態様は、記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、を備えるハードディスク駆動装置の製造方法である。当該製造方法は、ベース部材、ハブ部材、及び軸受部の構成部材をワークと呼ぶとき、エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを、エステル及びエーテルの合計と界面活性剤との質量比で１：１〜１：４の範囲で含有する洗浄剤を用いて、少なくとも１つのワークに付着した、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくとも一方と炭化水素とを除去する洗浄工程と、洗浄工程を経たワークを使用してハードディスク駆動装置を組み立てる工程とを含む。【選択図】図４
2014002804.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、
前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、
を備えるハードディスク駆動装置の製造方法であって、
前記ベース部材、前記ハブ部材、及び前記軸受部の構成部材をワークと呼ぶとき、
エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを、エステル及びエーテルの合計と界面活性剤との質量比で１：１〜１：４の範囲で含有する洗浄剤を用いて、少なくとも１つの前記ワークに付着した、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくとも一方と炭化水素とを除去する洗浄工程と、
前記洗浄工程を経た前記ワークを使用して前記ハードディスク駆動装置を組み立てる工程と、
を含むことを特徴とするハードディスク駆動装置の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄剤は、前記エステル及び前記エーテルの分子量が１１８〜１８８である請求項１に記載のハードディスク駆動装置の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄工程は、前記洗浄剤を含む７０℃以下の水溶液に前記ワークを接触させることを含む請求項１又は２に記載のハードディスク駆動装置の製造方法。
【請求項４】
前記エステルは、脂肪酸ジエステルを含む請求項１乃至３のいずれか１項に記載のハードディスク駆動装置の製造方法。
【請求項５】
前記洗浄剤は、有機酸をさらに含有する請求項１乃至４のいずれか１項に記載のハードディスク駆動装置の製造方法。
【請求項６】
切削剤を供給して未加工の素材を切削加工し、前記ワークを形成する工程を含み、
前記脂肪酸、前記脂肪酸エステル及び前記炭化水素は、前記切削剤に由来するものである請求項１乃至４のいずれか１項に記載のハードディスク駆動装置の製造方法。
【請求項７】
記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、
前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、
を有するハードディスク駆動装置の製造方法であって、
前記ベース部材、前記ハブ部材、及び前記軸受部の構成部材をワークと呼ぶとき、
少なくとも１つの前記ワークを、エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを含有する洗浄剤で洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程を経た前記ワークを使用して前記ハードディスク駆動装置を組み立てる工程と、
を含むことを特徴とするハードディスク駆動装置の製造方法。
【請求項８】
記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、
前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、
を備えるハードディスク駆動装置の製造方法であって、
前記ベース部材、前記ハブ部材、及び前記軸受部の構成部材をワークと呼ぶとき、
少なくとも１つの前記ワークに付着した、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくとも一方と炭化水素とを除去する洗浄工程と、
前記洗浄工程を経た前記ワークを使用して前記ハードディスク駆動装置を組み立てる工程と、
を含むことを特徴とするハードディスク駆動装置の製造方法。
【請求項９】
記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、
前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、
を備え、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のハードディスク駆動装置の製造方法を用いて製造されることを特徴とするハードディスク駆動装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク駆動装置の製造方法、及びその製造方法により製造されるハードディスク駆動装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスク駆動装置や光ディスク駆動装置などの回転機器は、流体動圧軸受ユニットを備えることにより回転精度が飛躍的に向上した。それに伴い回転機器は、一層の高密度・大容量化が求められるようになった。例えば磁気的にデータを記録するハードディスク駆動装置では、記録トラックを形成した記録ディスクを高速で回転させておき、磁気ヘッドがその記録トラック上を僅かな浮上隙間を介してトレースしながらデータのリード／ライトを実行する。このようなハードディスク駆動装置を高密度・大容量化するためには記録トラックの幅を狭くする必要がある。そして、トラック幅の狭幅化に伴い、磁気ヘッドと記録ディスクとの隙間をさらに狭くする必要が生じている。その浮上隙間はデータのリード／ライト信頼性を考慮すると、例えば１０ｎｍ以下の極狭にしたいという要求がある。そのため、ハードディスク駆動装置を構成する部品の寸法や表面の平面度は高精度が要求される。
【０００３】
また、高密度化のため、磁気ヘッドに磁気抵抗効果型素子(以下、ＭＲ素子という)が多用されている。その一方で、極狭な浮上隙間でＭＲ素子を用いることにより、サーマルアスペリティ障害（以下、ＴＡ障害という）やヘッドクラッシュ障害の発生が一段と深刻となる。磁気ヘッドの浮上トレース中、ＭＲ素子にディスク表面上の微小な異物が接触することにより発生する運動エネルギーに起因して、ＭＲ素子に瞬間的な発熱が発生する。ＴＡ障害は、ＭＲ素子が瞬間的に加熱、冷却されることにより、ＭＲ素子の抵抗値が瞬間的に変動し再生信号にノイズとして重畳され、再生信号の読み出し精度の低下を引き起こす障害である。
【０００４】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、ＴＡ障害等のリード／ライト信頼性の低下を引き起こす事象は、回転機器に付着していた異物（以下、パーティクル「Ｐａｒｔｉｃｌｅ」と総称する）が、記録ディスク表面に移動することで発生するとの知見を得た。なお、回転機器の一例である光ディスク駆動装置においても、パーティクルが記録ディスク表面に付着すると、パーティクルの付着領域での記録信号の読み書きが阻害されて、リード／ライト信頼性の低下が引き起こされる。
【０００５】
これに対し、特許文献１〜４には、回転機器を構成する部材を洗浄する工程を含む、回転機器の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−０５０２１２号公報
【特許文献２】特開２０１１−１６５２８６号公報
【特許文献３】特開２０１１−１２３９８４号公報
【特許文献４】特開２０１０−２４４６２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、記録ディスク表面へのパーティクルの付着は、次のようにして起こることを見出した。すなわち、回転機器の構成部品は、切削加工で製造されることが多い。例えば、記録ディスクを載置して高速で回転するハブは、金属の素材を切削加工して所望の形状及び寸法を確保している。切削加工の場合、素材と加工刃物との間等に切削油等の切削剤を供給し、これにより切削時の切削抵抗を低減させて、加工精度の向上や素材や加工刃物のダメージ低減を図ることが一般的である。この切削剤が構成部品に付着したまま回転機器が組み立てられると、残留する切削剤成分がパーティクルとなる。この切削剤成分
は、時間の経過とともに揮発して回転機器内を移動し、記録ディスクの記録面に付着してしまう場合がある。
【０００８】
上述した従来の回転機器の製造方法においても、構成部品を洗浄することで付着する切削剤成分を除去して清浄度（クリーン度）をある程度高めることができる。しかしながら、近年回転機器のさらなる大容量化が図られる中で、構成部品にはより高い清浄度が要求されるようになってきた。そして、このような状況において本発明者らは、例えば回転機器の一例である光ディスク駆動装置では許容されうる量の切削剤成分の残留が、ハードディスク駆動装置においては許容できない場合があることを認識するに至った。
【０００９】
すなわち、光ディスク駆動装置では、駆動装置におけるディスクが置かれる雰囲気（以下では適宜、「ディスク雰囲気」という）が、駆動装置の外気に開放されている。そのため、たとえディスク雰囲気中に切削剤成分が放散されても、切削剤成分は速やかに駆動装置の外気に拡散される。また、記録ディスクは、光ディスク駆動装置に出し入れされるものであり、ディスク雰囲気中に永続的に置かれることは極めて少ない。よって、記録ディスク表面への切削剤成分の付着は起こりにくい。これに対し、ハードディスク駆動装置では、ディスク雰囲気がほぼ密閉された空間であるため、ディスク雰囲気に放散された切削剤成分は、外気に拡散することなくディスク雰囲気中に留まる。そして、ディスク雰囲気における切削剤成分の濃度は、時間とともに上昇する。また、記録ディスクは駆動装置に出し入れされるものではなく、ディスク雰囲気中にほぼ永続的に置かれる。よって、記録ディスク表面への切削剤成分の付着が起こりやすい。
【００１０】
さらに、ハードディスク駆動装置は、光ディスク駆動装置に比べて記録密度が二桁以上高い。また、光ディスク駆動装置ではヘッドと記録ディスク表面との距離が、例えば０．１〜１ｍｍ程度であるのに対し、ハードディスク駆動装置では当該距離が０．１ｎｍ程度と極めて狭い。そのため、ハードディスク駆動装置では、記録ディスク表面に付着したパーティクルの影響をより一層受けやすい。
【００１１】
本発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、ハードディスク駆動装置の構成部品の清浄度を高める技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明のある態様は、ハードディスク駆動装置の製造方法である。このハードディスク駆動装置の製造方法は、記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、を備えるハードディスク駆動装置の製造方法であって、前記ベース部材、前記ハブ部材、及び前記軸受部の構成部材をワークと呼ぶとき、エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを、エステル及びエーテルの合計と界面活性剤との質量比で１：１〜１：４の範囲で含有する洗浄剤を用いて、少なくとも１つの前記ワークに付着した、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくとも一方と炭化水素とを除去する洗浄工程と、前記洗浄工程を経た前記ワークを使用して前記ハードディスク駆動装置を組み立てる工程と、を含むことを特徴とする。
【００１３】
この態様によれば、ハードディスク駆動装置の構成部品の清浄度を高めることができる。
【００１４】
本発明の他の態様もまた、ハードディスク駆動装置の製造方法である。このハードディスク駆動装置の製造方法は、記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、を有するハードディスク駆動装置の製造方法であって、前記ベース部材、前記ハブ部材、及び前記軸受部の構成部材をワークと呼ぶとき、少なくとも１つの前記ワークを、エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを含有する洗浄剤で洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程を経た前記ワークを使用して前記ハードディスク駆動装置を組み立てる工程と、を含むことを特徴とする。
【００１５】
本発明のさらに他の態様もまた、ハードディスク駆動装置の製造方法である。このハードディスク駆動装置の製造方法は、記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、を備えるハードディスク駆動装置の製造方法であって、前記ベース部材、前記ハブ部材、及び前記軸受部の構成部材をワークと呼ぶとき、少なくとも１つの前記ワークに付着した、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくとも一方と炭化水素とを除去する洗浄工程と、前記洗浄工程を経た前記ワークを使用して前記ハードディスク駆動装置を組み立てる工程と、を含むことを特徴とする。
【００１６】
本発明のさらに他の態様は、ハードディスク駆動装置である。このハードディスク駆動装置は、記録ディスクが載置されるべきハブ部材と、前記ハブ部材を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材と、を備え、上記いずれかの態様のハードディスク駆動装置の製造方法を用いて製造されることを特徴とする。
【００１７】
なお、以上の構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、ハードディスク駆動装置の構成部品の清浄度を高める技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】実施形態に係る製造方法により製造されるハードディスク駆動装置の内部構成を説明する説明図である。
【図２】本実施形態の製造方法により製造されるハードディスク駆動装置における、ベース部材に軸受ユニットとハブ部材等の回転体部を組み付けたサブアッセンブリの状態の概略を示す平面図である。
【図３】図２のＭ−Ｎ線に沿った断面図である。
【図４】実施形態に係るハードディスク駆動装置の製造方法における、ワークの製造工程を説明する説明図である。
【図５】図５（Ａ）は、実施例１の洗浄剤溶液で洗浄したサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ｂ）は、実施例２の洗浄剤溶液で洗浄したサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ｃ）は、実施例３の洗浄剤溶液で洗浄したサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ｄ）は、比較例の洗浄剤溶液で洗浄したサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ｅ）は、未洗浄のサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。各図面に示される同一または同等の構成要素、部材には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、各図面における部材の寸法は、理解を容易にするために適宜拡大、縮小して示される。また、各図面において実施形態を説明する上で重要ではない部材の一部は省略して表示する。
【００２１】
まず、本発明の実施形態を得るに至った経緯を説明する。本発明者らは、ハードディスク駆動装置の容量が、例えばディスク１枚当たり５００ＧＢから１ＴＢへと飛躍的に増大したことにともない、構成部品に残留する切削剤成分量を従来の１／２０以下にする必要があるとの知見を得た。すなわち、従来の構成部品の清浄度のままでは、ハードディスク駆動装置のディスク表面上のパーティクル付着部に、信号の読み書きを行うヘッドが乗り上げて、記録信号の読み書きが阻害されてしまう場合があった。また、本発明者らは、ハードディスク駆動装置の構成部品に付着する切削剤成分について鋭意研究した結果、構成部品に残留する切削剤成分には、炭化水素に加えて脂肪酸エステルやこの脂肪酸エステルが加水分解して生じる脂肪酸が含まれること、及び、この脂肪酸エステルや脂肪酸が、ハードディスク駆動装置の構成部品に残留し、飛散や蒸発−凝縮により記録ディスク表面に付着するため、ハードディスク駆動装置の大容量化の障害となることを見出した。また、本発明者らは、構成部品の洗浄に用いられていた従来の洗浄剤が主剤としての界面活性剤と、共溶剤としてのアルコール系溶剤とを含有するものであったため、脂肪酸エステルや脂肪酸を十分に除去できていなかったことを見出した。以上の知見から、本発明者らは本発明の実施形態を得るに至った。
【００２２】
続いて、本実施形態の製造方法により製造されるハードディスク駆動装置の構成について説明する。図１は、実施形態に係る製造方法により製造されるハードディスク駆動装置の内部構成を説明する説明図である。なお、図１は、内部構成を露出させるためにカバーを取り外した状態を示している。以下では、ベース部材１２に対して記録ディスク２０が搭載される側をハードディスク駆動装置１０の上側として説明する。
【００２３】
ハードディスク駆動装置１０は、記録ディスク２０が載置されるべきハブ部材２６と、ハブ部材２６を軸受部を介して回転自在に支持するベース部材１２とを主な構成として備える。より詳細には、ベース部材１２の上面には、ブラシレスモータ１４、アーム軸受部１６、ボイスコイルモータ１８等が載置される。ブラシレスモータ１４は、記録ディスク２０を搭載するためのハブ部材２６を回転軸上に支持し、例えば磁気的にデータを記録可能な記録ディスク２０を回転駆動する。ブラシレスモータ１４は、例えばスピンドルモータとすることができる。ブラシレスモータ１４はＵ相、Ｖ相、Ｗ相からなる３相の駆動電流により駆動される。
【００２４】
アーム軸受部１６は、スイングアーム２２を可動範囲ＡＢ内でスイング自在に支持する。ボイスコイルモータ１８は外部からの制御データにしたがってスイングアーム２２をスイングさせる。スイングアーム２２の先端には磁気ヘッド２４が取り付けられている。ハードディスク駆動装置１０が稼働状態にある場合、磁気ヘッド２４はスイングアーム２２のスイングに伴って記録ディスク２０の表面を僅かな隙間を介して可動範囲ＡＢ内を移動し、データをリード／ライトする。なお、図１において、点Ａは記録ディスク２０の最外周の記録トラックの位置に対応する点であり、点Ｂは記録ディスク２０の最内周の記録トラックの位置に対応する点である。スイングアーム２２は、ハードディスク駆動装置１０が停止状態にある場合には記録ディスク２０の脇に設けられる待避位置に移動してもよい。
【００２５】
なお、本実施形態において、記録ディスク２０、スイングアーム２２、磁気ヘッド２４、ボイスコイルモータ１８等のデータをリード／ライトする構造を全て含むものをハードディスク駆動装置１０と表現する場合もあるし、記録ディスク２０を回転駆動する部分のみをハードディスク駆動装置１０と表現する場合もある。
【００２６】
図２は、本実施形態の製造方法により製造されるハードディスク駆動装置における、ベース部材に軸受ユニットとハブ部材等の回転体部を組み付けたサブアッセンブリの状態の概略を示す平面図である。本実施形態では、このサブアッセンブリ２８に、記録ディスク２０、磁気ヘッド２４、スイングアーム２２、アーム軸受部１６、ボイスコイルモータ１８及び全体を覆うカバーが取り付けられて、ハードディスク駆動装置１０が完成する。
【００２７】
図３は、図２のＭ−Ｎ線に沿った断面図である。本実施形態に係るハードディスク駆動装置１０は、固定体部Ｓと、回転体部Ｒと、軸受部としての軸受ユニット３０と、駆動ユニット３２とにより構成されている。軸受ユニット３０は、ラジアル動圧溝ＲＢ１，ＲＢ２と潤滑材とで構成されるラジアル流体動圧軸受部と、スラスト動圧溝ＳＢ１，ＳＢ２で構成されるスラスト流体動圧軸受部とを含む。駆動ユニット３２は、これらの流体動圧軸受部を介して固定体部Ｓに対して回転体部Ｒを回転駆動する。図３は、一例として記録ディスク２０を支持するハブ部材２６とシャフト３４が一体となり回転する、いわゆるシャフト回転型のハードディスク駆動装置１０の構造を示す。なお、ハードディスク駆動装置１０の構成部材は、機能的に固定体部Ｓ、軸受ユニット３０、回転体部Ｒ、駆動ユニット３２で分けられるグループのうち複数のグループに含まれるものがある。例えば、シャフト３４は、回転体部Ｒに含まれると共に軸受ユニット３０にも含まれる。
【００２８】
固定体部Ｓは、ベース部材１２、ステータコア３６、コイル３８、スリーブ４０、カウンタープレート４２を含んで構成されている。ステータコア３６は、ベース部材１２に形成された円筒部１２ａの外壁面に固着されている。スリーブ４０は円筒状の部品であり、金属材料や導電性を有する樹脂材料で形成される。スリーブ４０の外周面は、軸受ユニット３０の外周面を形成している。軸受ユニット３０は、ベース部材１２の円筒部１２ａの内壁面で形成する軸受孔１２ｂに、例えば接着剤等で固定されている。スリーブ４０の一方の端部には、円盤状のカウンタープレート４２が固着され、記録ディスク２０等が収納されるベース部材１２の内部側を封止している。
【００２９】
ベース部材１２は、例えば、アルミダイキャストで製作された母材（素材）の表面にエポキシ樹脂コーティングを施した後に一部を切削加工するか、アルミ板をプレス加工して形成するか、鉄板をプレス加工後、ニッケルメッキを施して形成することができる。ステータコア３６は、ケイ素鋼板等の磁性板材が複数枚積層された後、表面に電着塗装や粉体塗装等による絶縁コーディングを施して形成される。また、ステータコア３６は、半径方向外方向に突出する複数の突極（図示せず）を有するリング状の部材であり、各突極にはコイル３８が巻回されている。例えば、ハードディスク駆動装置１０が３相駆動であれば、突極数は９極とされる。なお、コイル３８の巻き線端末は、ベース部材１２の底面に配設されたＦＰＣ（図示せず）上に半田付けされる。
【００３０】
回転体部Ｒは、ハブ部材２６、ヨーク２７、シャフト３４、フランジ４４、マグネット４６を含んで構成される。ハブ部材２６は、略カップ形状の部材であり、中心孔２６ａと、中心孔２６ａと同心の外周円筒部２６ｂと、外周円筒部２６ｂの下端に外延する外延部２６ｃとを有する。外延部２６ｃの内壁面にはリング状のヨーク２７が固着され、ヨーク２７の内壁面にはリング状のマグネット４６が固着されている。ハブ部材２６は、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属を切削加工して形成することができる。ヨーク２７は、鉄などの磁性材料により形成することができる。ヨーク２７は、ハブ部材２６の外延部２６ｃの内周面に接着及び圧入等により固定される。マグネット４６は、例えばＮｄ−Ｆｅ−Ｂ（ネオジウム−鉄−ボロン）系の材料で形成され、表面には電着塗装やスプレー塗装などによる防錆処理が施されている。本実施形態において、マグネット４６の内周側は例えば１２極に着磁されている。マグネット４６は、ヨーク２７の内周面に接着固定される。したがって、マグネット４６は、ヨーク２７を介してハブ部材２６に固定されると言える。
【００３１】
シャフト３４は、ハブ部材２６に形成された中心孔２６ａに一端が固定され、他端には、円盤状のフランジ４４が固定されている。シャフト３４は、例えばステンレスなどの導電性を有する金属で形成することができる。フランジ４４は、金属材料や導電性を有する樹脂材料で形成することができる。スリーブ４０の一端には、フランジ４４を収納するフランジ収納空間部４０ａが形成されている。したがって、スリーブ４０は、フランジ４４が固定されたシャフト３４を、円筒内壁面４０ｂ及びフランジ収納空間部４０ａで囲む空間で、相対回転を許容しながら支持する。
【００３２】
回転体部Ｒのフランジ４４付きシャフト３４が、固定体部Ｓのスリーブ４０の円筒内壁面４０ｂに沿って挿入される。その結果、回転体部Ｒは、ラジアル動圧溝ＲＢ１，ＲＢ２と潤滑剤で構成されるラジアル流体動圧軸受部、及びスラスト動圧溝ＳＢ１，ＳＢ２と潤滑剤で構成されるスラスト流体動圧軸受部を介して、固定体部Ｓに回転自在に支持される。駆動ユニット３２は、ステータコア３６とコイル３８とマグネット４６とを含んで構成されている。このとき、ハブ部材２６は、ステータコア３６及びマグネット４６と共に磁気回路を構成する。したがって、外部に設けられた駆動回路の制御により各コイル３８に順次通電することにより、回転体部Ｒが回転駆動される。
【００３３】
なお、本実施形態では、ハブ部材２６の外周円筒部２６ｂが記録ディスク２０の中心穴と係合すると共に、外延部２６ｃが記録ディスク２０を位置決め支持する。記録ディスク２０の上面にはクランパ４８が載せられ、当該クランパ４８がスクリュー５０によってハブ部材２６に固定される。これにより、記録ディスク２０がハブ部材２６に一体的に固定され、ハブ部材２６と共に回転可能となる。
【００３４】
軸受部としての軸受ユニット３０は、シャフト３４、フランジ４４、スリーブ４０及びカウンタープレート４２を含んで構成されている。したがって、シャフト３４、フランジ４４、スリーブ４０及びカウンタープレート４２は、軸受部の構成部材に相当する。スリーブ４０の円筒内壁面４０ｂと、それに対向するシャフト３４の外周面はラジアル空間部を形成している。そして、スリーブ４０の円筒内壁面４０ｂとシャフト３４の外周面の少なくとも一方には、ラジアル方向の支持を行うための動圧を発生する、ラジアル動圧溝ＲＢ１、ＲＢ２が形成されている。ラジアル動圧溝ＲＢ１はハブ部材２６から近い側に形成され、ラジアル動圧溝ＲＢ２はラジアル動圧溝ＲＢ１よりハブ部材２６から遠い側に形成されている。ラジアル動圧溝ＲＢ１，ＲＢ２は、シャフト３４の軸方向に離隔して配置された、例えばヘリングボーン状またはスパイラル状の溝である。ラジアル空間部には、オイル等の潤滑剤５２が充填されている。したがって、シャフト３４が回転することにより潤滑剤５２に圧力の高い部分が生じる。その圧力によりシャフト３４を周囲の壁面から離間させて、シャフト３４をラジアル方向において実質的に非接触の回転状態とする。
【００３５】
シャフト３４の下端には、シャフト３４と一体的に回転するフランジ４４が固定されている。そして、スリーブ４０の下面の中央部分には、フランジ４４を回転自在に収納するフランジ収納空間部４０ａが形成されている。フランジ収納空間部４０ａは、一端がカウンタープレート４２により封止されている。これにより、フランジ収納空間部４０ａ及びそれに続くシャフト３４の収納空間の気密を維持できるようになっている。
【００３６】
シャフト軸方向において対向する、フランジ４４及びスリーブ４０の面の少なくとも一方に、スラスト動圧溝ＳＢ１が形成されている。また、同方向において対向する、フランジ４４及びカウンタープレート４２の面の少なくとも一方に、スラスト動圧溝ＳＢ２が形成されている。そして、スラスト動圧溝ＳＢ１，ＳＢ２と潤滑剤５２との協働により、スラスト流体動圧軸受部が形成されている。スラスト動圧溝ＳＢ１，ＳＢ２は、例えばスパイラル状又はヘリングボーン状に形成されて、ポンプインの動圧を発生させる。つまり、固定体部Ｓ側であるスリーブ４０及びカウンタープレート４２に対して、回転体部Ｒ側であるフランジ４４が回転することにより、ポンプインの動圧が発生する。動圧が発生した結果、この動圧によりフランジ４４を含む回転体部Ｒが固定体部Ｓに対して軸方向に所定の間隙をもって実質的に非接触の状態となり、ハブ部材２６を含む回転体部Ｒが固定体部Ｂに対して非接触状態で支持される。
【００３７】
本実施形態の場合、ラジアル流体動圧軸受部及びスラスト流体動圧軸受部における間隙に充填された潤滑剤５２は、互いに共用される。スリーブ４０の開放端側は、スリーブ４０の内周とシャフト３４の外周との隙間が外側に向かって徐々に拡がるようにしたキャピラリーシール部ＴＳを構成している。ラジアル動圧溝ＲＢ１，ＲＢ２、スラスト動圧溝ＳＢ１，ＳＢ２を含む空間と、キャピラリーシール部ＴＳの途中までには、潤滑剤５２が満たされている。キャピラリーシール部ＴＳは、毛細管現象により潤滑剤５２が充填領域から外部へ漏出することを防止している。
【００３８】
上述した構成を備えるハードディスク駆動装置１０の製造方法について説明する。以下では、ベース部材１２、ハブ部材２６、及び軸受ユニット３０の構成部材をワークと呼ぶ。本実施形態に係るハードディスク駆動装置１０の製造方法は、ワークを製造する工程と、製造されたワークを組み合わせてハードディスク駆動装置１０を組み立てる工程とを主な工程として含む。以下、ハブ部材２６を例として、ワークの製造工程について説明する。図４は、実施形態に係るハードディスク駆動装置の製造方法における、ワークの製造工程を説明する説明図である。
【００３９】
ワークとしてのハブ部材２６の製造工程は、切削加工工程４０１、第１洗浄工程４０２、ヨーク取付工程４０３、仕上げ加工工程４０４、第２洗浄工程４０５、マグネット取付工程４０６、第３洗浄工程４０７、及び第４洗浄工程４０８を含む。
【００４０】
切削加工工程４０１では、ＩＮ側で鋳造アルミニウムなどからなる未加工の素材が投入される。そして、水溶性切削油等の切削剤を供給しながら、素材を所定の形状に切削加工して、ハブ部材２６を形成する。切削剤は、切削機械と素材との摩擦低減、切削機械や素材の冷却、切り屑の除去等のために用いられる。切削剤は、炭化水素と、脂肪酸エステルと、炭化水素乳化用の界面活性剤とを含有する。切削加工工程４０１において、素材が切削機械のチャックにより固定され、ノズルから加工刃物と素材との接触部分に切削剤が供給されて、素材の切削加工が実施される。
【００４１】
切削加工工程４０１に続いて第１洗浄工程４０２が実施される。第１洗浄工程４０２は、純水を用いた洗浄であり、シャワー洗浄や洗浄槽を用いた浸漬洗浄が単独で又は組み合わせて実施される。洗浄槽内で超音波を発生させて超音波洗浄を実施してもよい。本実施形態では、ワークを純水でシャワー洗浄した後、水温４０〜４５℃の純水で満たされた複数の洗浄槽に順に１０〜２０分間浸漬し、周波数４０ｋＨｚの超音波を印加する。その後、ワークに温風を吹き付けて乾燥させる。ワークの乾燥には、自然乾燥や真空乾燥が用いられてもよい。
【００４２】
第１洗浄工程４０２に続いてヨーク取付工程４０３が実施される。ヨーク取付工程４０３では、ヨーク２７が、ハブ部材２６の外延部２６ｃの内周面に接着及び圧入により固定される。ヨーク２７の接着には、例えばエポキシ系熱硬化型接着剤を用いることができる。本実施形態では、ハブ部材２６の外延部２６ｃの内周面及び／又はヨーク２７に接着剤を塗布した後、ヨーク２７をハブ部材２６に圧入する。そして、８０℃で３０分加熱して接着剤を硬化させる。これにより、ヨーク２７がハブ部材２６に取り付けられる。ヨーク取付工程４０３に続いて仕上げ加工工程４０４が実施される。仕上げ加工工程４０４では、バランス取りや平面度出しを目的として、切削加工工程４０１と同様に切削剤を供給しながらハブ部材２６を切削する。
【００４３】
仕上げ加工工程４０４に続いて第２洗浄工程４０５が実施される。本発明者らは、種々の実験を行った結果、ハードディスク駆動装置１０の大容量化のためにはワークに残留する切削剤由来の炭化水素に加えて、同じく切削剤由来の脂肪酸エステルや、この脂肪酸エステルから生じる脂肪酸の付着量を低減させることが有効であるとの結論を得た。そして、この脂肪酸エステルや脂肪酸をワークの表面から除去するために、特定の洗浄剤を用いてワークを洗浄することが好適であることを見出した。そこで、第２洗浄工程４０５では、エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを含有する洗浄剤（以下では適宜、「本実施形態の洗浄剤」という）を用いたワークの洗浄が実施される。洗浄剤がエステル及びエーテルの少なくとも一方を含有することで、ワーク表面に残留する脂肪酸エステル及び／又は脂肪酸の洗浄剤溶液中への溶解を促進させることができる。その結果、ワークに付着した脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくとも一方を効率的に除去することができる。洗浄剤中で、エステル及びエーテルは、界面活性剤の疎水基に結合した状態をとり、ワーク表面に固着した脂肪酸エステルや脂肪酸を、界面活性剤の疎水基に吸着させやすくする。
【００４４】
また、ワーク表面に残留する炭化水素のうち比較的分子量が大きく融点の高いもの（以下では適宜、「高融点炭化水素」という）は、常温でワックス状となってワーク表面に固着しており、アルコール系溶剤を含有する従来の洗浄剤では除去効率が低かった。これに対し、本実施形態の洗浄剤を用いることで、この高融点炭化水素についても、洗浄剤溶液中に溶解させてワーク表面から効率的に除去することができる。なお、本実施形態の洗浄剤によれば、従来の洗浄剤と同様に、高融点炭化水素の融点未満の融点を有する炭化水素についても溶解・除去することができる。前記「高融点炭化水素」は、例えば炭素数１８〜４０の炭化水素である。高融点炭化水素の一例を表１に示す。また、洗浄対象となる脂肪酸は、例えば主鎖を構成するアルキル基の炭素数が１８〜４０の脂肪酸であり、洗浄対象となる脂肪酸エステルは、この脂肪酸を含むエステルである。なお、炭素数が４０より大きい炭化水素は融点が十分に高くなり、ハードディスク駆動装置１０の通常の動作において、ワークの温度がこの融点を上回ることは稀であるため、この炭化水素のワーク表面から記録ディスク表面への移動は起こりにくい。したがって、現実的には炭素数が４０より大きい炭化水素がワーク表面に残留していても、ハードディスク駆動装置１０の動作への影響は小さい。
【００４５】
【表１】
2014002804.tif 000003
【００４６】
例えば、第２洗浄工程４０５では、本実施形態の洗浄剤を含む水溶液にワークを接触させることでワークの洗浄が実施される。水溶液へのワークの接触は、例えば当該水溶液で満たされた洗浄槽にワークを浸漬させることで行われる。また、本実施形態では、洗浄剤を含む水溶液にワークを浸漬させた状態で、周波数４０ｋＨｚの超音波を３０〜１８０秒間印加する。
【００４７】
ワーク表面に残留する脂肪酸、脂肪酸エステル及び高融点炭化水素の溶解と、界面活性剤及び水との混和との両立を図る上で、洗浄剤はエステルを含有することが好ましい。洗浄剤が含有するエステルは、脂肪酸ジエステルを含むことがより好ましい。洗浄剤が脂肪酸ジエステルを含むことで、ワーク表面に残留する切削剤成分をより効率的に除去することができる。本実施形態の洗浄剤が含有する脂肪酸ジエステルとしては、下記式（１）で表される２−メチルペンタン二酸ジメチルエステル（2-Methylpentanedioic acid dimethyl ester）、下記式（２）で表されるグルタン酸ジメチルエステル（Glutaric Acid Dimethyl Ester）、下記式（３）で表される２−メチルグルタン酸ジエチルエステル（2-Methylglutaric acid diethyl ester）等の脂肪酸ジアルキルエステルを例示することができる。
【００４８】
【化１】
2014002804.tif 000004
【００４９】
【化２】
2014002804.tif 000005
【００５０】
【化３】
2014002804.tif 000006
【００５１】
洗浄剤が含有するエーテルとしては、例えばグリコールエーテルを例示することができる。また、グリコールエーテルとしては、ジエチレングリコールジエチルエーテル等を含むジアルキルグリコールエーテル類を例示することができる。
【００５２】
洗浄剤が含有するエステル及びエーテルは、その分子量が１１８〜１８８であることが好ましい。エステル及びエーテルの分子量を１１８以上とすることで、洗浄剤が有する残留切削剤成分の除去性能をより高めることができる。また、エステル及びエーテルの分子量を１８８以下とすることで、エステル及びエーテルの水への溶解度の低下を抑制することができ、洗浄剤溶液中のエステル及びエーテルの濃度の低下を抑制することができるため、残留切削剤成分の除去性能をより高めることができる。また、エステル及びエーテルの分子量を１１８〜１８８とすることで、従来のハードディスク駆動装置のタクトタイムの中でワークに残留する切削剤成分を従来に比べてより除去することができ、ハードディスク駆動装置１０の大容量化を図っても、リード／ライトエラーの増大を抑制できることを発明者らは実験により確認している。
【００５３】
また、本実施形態の洗浄剤は、エステル及びエーテルの少なくとも一方と、界面活性剤とを、エステル及びエーテルの合計と界面活性剤との質量比で１：１〜１：４の範囲で含有することが好ましい。洗浄剤におけるエステル及びエーテルの合計の含有量に対して、界面活性剤の含有量を質量比で１：１以上とすることで、エステル及びエーテルを洗浄剤溶液中へより確実に溶解させることができる。また、当該質量比を１：４以下とすることで、洗浄剤溶液中のエステル及びエーテルの濃度の低下を抑制することができ、残留切削剤成分の除去性能をより高めることができる。また、洗浄剤におけるエステル及びエーテルの合計の含有量と界面活性剤の含有量とを、質量比で１：１〜１：４とすることで、従来のハードディスク駆動装置のタクトタイムの中で、ワークに残留する切削剤成分をより除去することができ、ハードディスク駆動装置１０の大容量化を図っても、リード／ライトエラーの増大を抑制できることを発明者らは実験により確認している。
【００５４】
本実施形態の洗浄剤は、有機酸をさらに含有することが好ましい。ワークが金属材料からなる場合、ワークを形成する金属が洗浄剤中のアルカリ成分と反応して水酸化物等を生成することが考えられる。例えば、ワークがアルミニウム又はその合金からなる場合、ワーク表面が洗浄剤中のアルカリ成分と反応し、水酸化アルミニウムやアルミナ水和物（ベーマイト）が生成される。これにより、ワーク表面が変色（黒色化）してしまう。これに対し、洗浄剤に有機酸を含有させることで、この変色を抑制することができる。すなわち、有機酸がｐＨ調整剤として機能し、洗浄剤に有機酸を含有させることで洗浄剤溶液のｐＨを酸性側に傾けることができる。これにより、ワーク表面の変色を抑制することができる。
【００５５】
本実施形態の洗浄剤に用いられる有機酸としては、例えばシュウ酸（Ｃ２Ｈ２Ｏ４）、酢酸（Ｃ２Ｈ４Ｏ２）、乳酸（Ｃ３Ｈ６Ｏ３）、マロン酸（Ｃ３Ｈ４Ｏ４）、リンゴ酸（Ｃ４Ｈ６Ｏ５）、クエン酸（Ｃ６Ｈ８Ｏ７）、グルコン酸（Ｃ６Ｈ１２Ｏ７）等を例示することができる。洗浄剤における有機酸の含有量は、洗浄剤におけるエステル及びエーテルの合計含有量１００質量部に対して、２５〜５０質量部であることが好ましい。有機酸の含有量を、エステル及びエーテルの合計含有量１００質量部に対して２５質量部以上とすることで、有機酸によるｐＨ調整効果をより確実に発揮させることができる。また、有機酸の含有量を、エステル及びエーテルの合計含有量１００質量部に対して５０質量部以下とすることで、ワーク表面が有機酸によりエッチングされてしまうことをより確実に抑制することができる。また、洗浄剤における有機酸の含有量を、エステル及びエーテルの合計含有量１００質量部に対して２５〜５０質量部とすることで、従来のハードディスク駆動装置のタクトタイムの中でワークに残留する切削剤成分をより除去することができ、ハードディスク駆動装置１０の大容量化を図っても、リード／ライトエラーの増大を抑制できることを発明者らは実験により確認している。
【００５６】
第２洗浄工程４０５では、洗浄剤を含む７０℃以下の水溶液にワークを接触させて、ワークを洗浄することが好ましい。また、第２洗浄工程４０５では、より好ましくは、３５℃〜７０℃、さらに好ましくは３５℃〜５５℃の洗浄剤水溶液にワークを接触させる。洗浄剤溶液の温度を７０℃以下とすることで、洗浄装置や超音波振動子に要求される耐熱性を低減させることができるため、製造設備の簡略化や省スペース化、ハードディスク駆動装置１０の製造コストの低減等が可能となる。また、超音波のキャビテーション効果を高めてワーク洗浄効果を向上させることができる。また、上述したワーク表面の変色をより抑制することができる。さらに、洗浄槽から発生する蒸気の量を抑えることができるため、より良い工場環境の維持に貢献する。また、洗浄剤溶液の温度を３５℃以上とすることで、本実施形態の洗浄剤によるワーク表面の洗浄効果をより確実に確保することができる。
【００５７】
なお、上述した洗浄装置等に要求される耐熱性の低減、超音波による洗浄効果の向上、ワーク表面の変色抑制、良好な工場環境の維持等を目的として、洗浄剤溶液の温度を低減させた場合、高融点炭化水素や脂肪酸エステル、脂肪酸が固化しやすくなるため、洗浄剤によるワークの洗浄効果が低下しうる。そのため、従来のアルコール系洗浄剤では、洗浄剤溶液の温度を低減させることは困難であった。これに対し、本実施形態の洗浄剤は、エステル及びエーテルの少なくとも一方を含有し、従来に比べて高い洗浄能力を備えるため、洗浄剤の洗浄効果の維持と、洗浄剤溶液の温度低減との両立を図ることができる。
【００５８】
洗浄剤に含まれる界面活性剤は、エステル型、エーテル型、エステル・エーテル型等の、従来公知の界面活性剤から適宜選択することが可能である。界面活性剤の具体例としては、例えば、Ｌａｕｒｅｔｈ−５（ポリオキシエチレンラウリルエーテル：Polyoxyethylene lauryl ether（Ｃ２２Ｈ４６Ｏ６））、Ｌａｕｒｅｔｈ−７（３，６，９，１２，１５−ペンタオキサヘプタコサン−１−オール：3,6,9,12,15-pentaoxaheptacosan-1-ol（Ｃ２５Ｈ５４Ｏ８））、Ｌａｕｒｅｔｈ−９（ノナエチレングリコールモノドデシルエーテル：Nonaethylene glycol monododecyl ether（Ｃ３０Ｈ６２Ｏ１０））、Ｌａｕｒｅｔｈ−１２（エトキシ化ラウリルアルコール類：Ethoxylated Lauryl Alcohols（Ｃ３６Ｈ７４Ｏ１３））等を挙げることができる。
【００５９】
また、界面活性剤は、エチレンオキシドの付加モル数が５〜１２であることが好ましい。エチレンオキシドの付加モル数を５以上とすることで、ＨＬＢ値を８以上とすることができ、水への溶解度を確保してより安定的に洗浄剤水溶液を形成することができる。また、エチレンオキシドの付加モル数を１２以下とすることで、洗浄剤中のエステル及びエーテルとの相溶性を確保して、エステル等の相分離を抑制することができる。また、界面活性剤におけるエチレンオキシドの付加モル数を５〜１２とすることで、従来のハードディスク駆動装置のタクトタイムの中で、ワークに残留する切削剤成分を従来に比べてより除去することができ、ハードディスク駆動装置１０の大容量化を図った場合であっても、リード／ライトエラーの増大を抑制することができることを発明者らは実験により確認している。
【００６０】
ここで、洗浄剤溶液の温度と界面活性剤の曇点との関係について説明する。一般に洗浄剤には、曇点が洗浄剤溶液の温度以下の界面活性剤が用いられる。そのため、上述のように超音波の効きの向上等を目的として洗浄剤溶液の温度を低下させると、要求される界面活性剤の曇点も低下する。一方、曇点が低い界面活性剤は一般的にその分子量が小さく、分子量が小さい界面活性剤はエステル及びエーテルとの相溶性が低い。したがって、洗浄剤溶液の相分離が起こりやすく、洗浄剤の洗浄効果が低減しやすい。また、ワークに付着した切削剤成分も溶解しにくくなるため、洗浄効果が低下しうる。逆に、洗浄剤溶液の温度を上げると、要求される界面活性剤の曇点も高くなるため、洗浄剤溶液の相分離を防ぐことができ、ひいては洗浄剤の洗浄効果の低下を抑制することができる。また、ワークに付着した切削剤成分も溶解しやすくなるため、洗浄効果が向上しうる。しかしながら、超音波の効きの向上が抑制されるため、この点で洗浄効果が低下しうる。
【００６１】
これに対し本発明者らは、本実施形態の洗浄剤を用いた場合、界面活性剤の曇点が洗浄剤溶液の温度と同等又はやや高くなる温度条件で良好な洗浄効果が得られることを、実験により確認した。洗浄剤溶液の温度と界面活性剤の曇点とは、洗浄剤溶液の温度範囲を３５℃〜７０℃とした場合、界面活性剤の曇点の範囲を４０℃〜６５℃とすることが好ましく、５０℃〜６０℃とすることがより好ましい。例えば、洗浄剤溶液の温度を３５℃とし、曇点が４０℃〜６５℃の界面活性剤を用いた場合に良好な洗浄効果が得られた。また、洗浄剤溶液の温度を３５℃とし、曇点が５０℃〜６０℃の界面活性剤を用いた場合により良好な洗浄効果が得られた。また、例えば、洗浄剤溶液の温度を５５℃とした場合、曇点が５２〜５８℃の界面活性剤を用いることが好ましい。
【００６２】
第２洗浄工程４０５に続いてマグネット取付工程４０６が実施される。マグネット取付工程４０６では、マグネット４６がヨーク２７の内壁面に接着固定される。マグネット４６の接着には、例えば嫌気性のアクリル系紫外線硬化型接着剤を用いることができる。本実施形態では、ヨーク２７の内周面及び／又はマグネット４６に接着剤を塗布した後、３０分間紫外線を照射して接着剤を硬化させる。これにより、マグネット４６がヨーク２７に取り付けられる。マグネット取付工程４０６に続いて第３洗浄工程４０７が実施される。第３洗浄工程４０７は、純水を用いた洗浄であり、第１洗浄工程４０２と同様にして、洗浄から乾燥まで実施される。
【００６３】
第３洗浄工程４０７に続いて第４洗浄工程４０８が実施される。第４洗浄工程４０８は、溶剤としての水と、非イオン性界面活性剤と、ｐＨ緩衝剤としてのクエン酸等とを含有する洗浄剤溶液を用いて、ヨーク２７及びマグネット４６が取り付けられたハブ部材２６を洗浄する工程である。本実施形態では、温度６５℃の洗浄剤溶液で満たされた洗浄槽にハブ部材２６を１〜３分間浸漬し、周波数４０ｋＨｚの超音波を印加する。その後、ハブ部材２６を乾燥させる。乾燥したハブ部材２６は、ＯＵＴ側からハードディスク駆動装置１０の組立工程に搬送される。
【００６４】
ハブ部材２６以外のワークについても、それぞれ切削加工工程、洗浄工程等を経て製造される。例えば、ベース部材１２については、アルミダイカストで製作された素材が切削加工されて、軸受孔１２ｂ等が形成される。また、ベース部材１２は、ベース部材１２の外壁部にカバーをネジにより取り付けるためのタップ孔、ハードディスク駆動装置１０を他の機器にネジ止めするためのタップ孔を有し、切削加工工程でこれらのタップ孔も形成される。切削加工工程の後、上述した第２洗浄工程４０５と同様の、本実施形態の洗浄剤を用いた洗浄工程等を経て、ハードディスク駆動装置１０の組立工程に搬送される。
【００６５】
ハードディスク駆動装置１０の組立工程は、公知の組み立て技術を用いて実施することができる。例えば、ハードディスク駆動装置１０の組立工程は、クリーンルーム内で実施される。クリーンルーム内には清浄空気が満たされ、相対的に陽圧に調整されている。また、ワークの製造工程は、相対的に負圧に調整された部屋にて実施される。ハードディスク駆動装置１０の組立工程側を陽圧とすることで、ワークの製造工程側でワークから剥離したパーティクルが空気中に浮遊している場合でも、組立工程側にパーティクルが進入することを抑制できる。組立工程では、本実施形態の洗浄剤を用いた洗浄工程を経たワークを使用して、ハードディスク駆動装置１０が組み立てられる。より詳細には、ベース部材１２に軸受ユニット３０、ヨーク２７及びマグネット４６が一体となったハブ部材２６、シャフト３４等が組み付けられて、ハードディスク駆動装置１０が完成する。なお、ハードディスク駆動装置１０の組立工程を別のタイミングで行う場合は、加工が完了したワークに異物が付着しないように梱包して一時保管するようにしてもよい。
【００６６】
以上説明したように、本実施の形態係るハードディスク駆動装置１０の製造方法は、少なくとも１つのワークに付着した、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくとも一方と炭化水素とを除去する洗浄工程と、洗浄工程を経たワークを使用してハードディスク駆動装置を組み立てる工程とを含むことを特徴とする。これにより、ハードディスク駆動装置１０を構成するワークの清浄度をより高めることができる。そのため、時間の経過と共に記録ディスク２０に付着するパーティクルの量を低減することができる。その結果、リード／ライトエラーの低減が可能となり、大容量化に適したハードディスク駆動装置１０の構成部品を提供することができる。さらに大容量化が可能なハードディスク駆動装置１０を提供することができる。また、記録ディスク２０の長寿命化が可能となり、ひいてはハードディスク駆動装置１０の長寿命化が可能となる。
【００６７】
また、本実施形態に係るハードディスク駆動装置１０の製造方法は、少なくとも１つのワークを、エステル及びエーテルの少なくとも一方と界面活性剤とを含有する洗浄剤で洗浄する洗浄工程と、洗浄工程を経たワークを使用してハードディスク駆動装置を組み立てる工程とを含むことを特徴とする。これにより、上述のように、大容量化に適したハードディスク駆動装置１０の構成部品を提供することができる。また、本実施形態の洗浄剤を用いることで、ワーク表面に残留する切削剤成分を効率的に除去することができるため、洗浄時間の短縮、使用する洗浄剤量の低減等が可能となり、ハードディスク駆動装置１０の製造作業性の向上や製造コストの低減が可能である。
【００６８】
上述の実施形態に係るハードディスク駆動装置１０の製造方法及びハードディスク駆動装置１０は例示であり、本発明の原理、応用を示しているにすぎないことはいうまでもない。すなわち、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を加えることが可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれる。上述の実施の形態に変形が加えられた新たな実施の形態は、組み合わされる実施の形態及び変形それぞれの効果をあわせもつ。
【００６９】
上述の実施形態では、ワークを切削加工により形成する場合について説明したが、これに限られず、例えばワークをプレス加工により形成してもよい。この場合、ワークは、プレス加工機に付着しているプレス油由来の脂肪酸エステルや脂肪酸、炭化水素等で汚染される。また、ベース部材１２のようにダイカスト製品が用いられる場合は、ダイカスト用の装置に付着している油脂やトリミング時に使用されうる切削油由来の脂肪酸エステルや脂肪酸、炭化水素等で汚染される。本実施形態のハードディスク駆動装置１０の製造方法によれば、切削剤由来の脂肪酸エステル、脂肪酸及び炭化水素に限らず、プレス油由来の脂肪酸エステル等や、加工装置等の生産設備に付着している脂肪酸エステル等についても、ワークの表面から除去することができる。
【００７０】
また、上述の実施形態では、全てのワークについて本実施形態の洗浄剤を用いた洗浄工程を実施する場合について説明したが、これに限られず、少なくとも１つのワークについて本実施形態の洗浄剤を用いた洗浄工程を実施すればよい。少なくとも１つのワークについて脂肪酸エステルや脂肪酸等を除去して清浄度を高めることで、ハードディスク駆動装置１０におけるリード／ライトエラーの発生を従来よりも低減させることができる。なお、本実施形態の洗浄剤を用いた洗浄工程が実施されるワークを増やせば、当然リード／ライトエラーの発生をより低減できる。
【００７１】
また、上述の実施形態では、仕上げ加工工程４０４の後に、本実施形態の洗浄剤を用いた洗浄工程（第２洗浄工程４０５）を設けているが、これに限られない。例えば、本実施形態の洗浄剤を用いた洗浄工程を、切削加工工程４０１の直後や、マグネット取付工程４０６の直後に実施してもよい。あるいは、第１洗浄工程４０２や第３洗浄工程４０７、第４洗浄工程４０８を、本実施形態の洗浄剤を用いた洗浄工程としてもよい。洗浄工程の回数や実施タイミング、洗浄剤の使用の有無、使用する洗浄剤を従来の洗浄剤とするか本実施形態の洗浄剤とするか等は、要求されるワークの清浄度や製造時間等に応じて適宜設定することができる。
【００７２】
上述の実施形態では、ヨーク２７を介してマグネット４６がハブ部材２６に取り付けられているが、マグネット４６がハブ部材２６に直接取り付けられる構成であってもよい。
【実施例】
【００７３】
以下、本発明の実施例を説明するが、これら実施例は、本発明を好適に説明するための例示に過ぎず、なんら本発明を限定するものではない。
【００７４】
表２に示す組成にしたがって、実施例１−４及び比較例に係る洗浄剤溶液を調製した。なお、表２におけるアルコールエチレンオキシドは、商品名レオコールＳＣ−９０（ライオン株式会社製）を用いた。
【００７５】
【表２】
2014002804.tif 000007
【００７６】
（洗浄性能評価試験）
実施例１−３及び比較例の洗浄剤溶液で洗浄したハブ部材の表面に付着するパーティクルについて、ガスクロマトグラフィー／質量分析法を用いて分析することで、各洗浄剤の洗浄性能を評価した。具体的には、まず実施例１−３及び比較例の洗浄剤溶液を水で希釈して、各洗浄剤溶液の１．０％濃度希釈液を調製した。各希釈液における洗浄剤（希釈液における水を除く成分全体）の実濃度は、それぞれ０．４５％、０．５％、０．４５％、０．７９％であった。
【００７７】
得られた各希釈液が入った洗浄槽のそれぞれに、サンプルとしてのハブ部材３個を浸漬し、溶液温度（洗浄温度）５５℃、超音波周波数４０ｋＨｚで２〜３分間洗浄した。その後、溶剤としてのヘキサン３０ｍＬが入った複数のビーカーを用意し、洗浄後のサンプルをヘキサン中に浸漬した。また、未洗浄のサンプルを用意し、他のサンプルと同様にヘキサン中に浸漬した。ヘキサンを撹拌しながら５分間放置して、サンプルに付着するパーティクルの抽出液を得た。続いて、抽出液からサンプルを取り出し、ヘキサン２ｍＬで各サンプルの表面をすすぎ、このすすいだ液を抽出液に加えた。そして、抽出液のヘキサンを蒸発させて、得られた乾燥抽出物に新たにヘキサン１ｍＬを添加した。この抽出液を遠心分離管に投入して濃縮した。窒素ガスで遠心分離管中の抽出液のヘキサンを蒸発させた後、得られた乾燥抽出物にヘキサン１００μＬを添加して、乾燥抽出物を再度ヘキサンに溶解させた。この抽出液をガスクロマトグラフィー用のバイアル瓶に移し、ヘキサンを蒸発させた。得られた乾燥抽出物に標準試薬アントラセン−Ｄ１０の塩化メチレン溶液（２ｐｐｍ品）５０μＬを添加し、分析サンプルとした。
【００７８】
得られた分析サンプルをガスクロマトグラフィー／質量分析法により分析した。分析には、ガスクロマトグラフ（型番７８９０Ａ  ＧＣ、アジレントテクノロジー株式会社製）及びマススペクトロメータ（型番５９７５Ｃ  ＭＳＤ、アジレントテクノロジー株式会社製）を用いた。カラムは、固定相として５％ジフェニル−９５％ジメチルシロキサンを内壁にコーティングした溶融シリカガラス管（外側はポリイミドをコーティング）を用いた。キャリアガスは、窒素ガスとした。ガスクロマトグラフ／マススペクトロメータ（ＧＣ／ＭＳ）の設定は、以下のとおりである。
注入口温度：３００℃、
初期カラム温度：３５℃
初期時間（Initial time）：１分
温度傾斜：１５℃／ｍｉｎ
最終温度：３００℃
全実行時間：約４０ｍｉｎ
ＭＳＤ補助温度（MSD auxiliary temperature）：３００℃
モード：スプリットレス（Splitless）
セプタムパージ（Septum purge）：１ｍＬ／分
ソルベントディレイ（Solvent delay）：４．５ｍｉｎ
カラム流量：約１ｍＬ／分
サンプル注入量：３μＬ
マスレンジ（Mass Range）：３３−７００ａｍｕ
【００７９】
図５（Ａ）は、実施例１の洗浄剤溶液で洗浄したサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ｂ）は、実施例２の洗浄剤溶液で洗浄したサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ｃ）は、実施例３の洗浄剤溶液で洗浄したサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ｄ）は、比較例の洗浄剤溶液で洗浄したサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ｅ）は、未洗浄のサンプルについてのガスクロマトグラフィー／質量分析の結果を示すチャートである。図５（Ａ）〜図５（Ｅ）において、縦軸はピーク強度（ａｂｕｎｄａｎｃｅ）を示し、横軸は保持時間を示す。また、図５（Ａ）〜図５（Ｅ）に示すチャートのピークに対して積分処理を行い、ピーク面積を計測して、サンプルであるハブ部材１つ当たりのパーティクル量（ｎｇ／ｐａｒｔ）を算出した。すなわち、標準物質としてのアントラセンを試料とともにガスクロマトグラフィー／質量分析法により分析し、アントラセンのエリア面積を基準として、試料の分析値を重量換算した。また、実施例４の洗浄剤溶液についても、上述した他の実施例、比較例の洗浄剤溶液と同様にガスクロマトグラフィー／質量分析を実施し、得られたチャートからハブ部材１つ当たりのパーティクル量（ｎｇ／ｐａｒｔ）を算出した。結果を表３に示す。
【００８０】
【表３】
2014002804.tif 000008
【００８１】
図５（Ａ）〜図５（Ｅ）及び表３から、実施例１−４の洗浄剤溶液によれば、比較例の洗浄剤溶液に比べて、良好な洗浄性能を有することが分かった。また、図５（Ｄ）に示されるように、比較例の洗浄剤溶液でワークを洗浄した場合は、複数のピークとともに、ブロードなピークが観測された。ブロードなピークが見られる原因は、ワーク表面に脂肪酸や脂肪酸エステルが多量に残存しており、この脂肪酸や脂肪酸エステルがそれぞれの極性により互いに相互作用し、その結果パーティクルの分子量に幅が生じるためであると考えられる。これに対し、図５（Ａ）〜図５（Ｃ）に示されるように、実施例１−３の洗浄剤溶液でワークを洗浄した場合は、ブロードなピークが観測されなかった。このことから、実施例１−３の洗浄剤によれば脂肪酸や脂肪酸エステルをワーク表面からより除去できることが分かる。なお、観測されたピークは、ワーク表面に残留する炭化水素に相当するものであると考えられる。
【００８２】
（洗浄温度評価試験）
実施例１の洗浄剤溶液を水で希釈して、実施例１の洗浄剤溶液の０．５％濃度希釈液、及び１．０％濃度希釈液を調製した。各希釈液における洗浄剤の実濃度は、それぞれ０．２３％、０．４５％であった。０．５％濃度希釈液が入った洗浄槽を３つ用意し、それぞれにサンプルとしてのハブ部材３個を浸漬し、各洗浄槽内の溶液温度を異なる３つの温度、具体的には４５℃、５５℃、６５℃に設定し、超音波周波数４０ｋＨｚで２〜３分間洗浄した。また、１．０％濃度希釈液が入った洗浄槽にハブ部材３個を浸漬し、溶液温度５５℃、超音波周波数４０ｋＨｚで２〜３分間洗浄した。その後、各サンプルについて上述した方法でガスクロマトグラフィー／質量分析を実施し、得られたチャートからハブ部材１つ当たりのパーティクル量（ｎｇ／ｐａｒｔ）を算出した。結果を表４に示す。
【００８３】
【表４】
2014002804.tif 000009
【００８４】
表４と表３の未洗浄及び比較例の結果とから、０．５％濃度希釈液の場合、溶液温度４５℃〜６５℃で、良好な洗浄性能を示すことが分かった。また、１．０％濃度希釈液の場合、溶液温度５５℃で、良好な洗浄性能を示すことが分かった。また、洗浄剤濃度が低い０．５％濃度希釈液が、溶液温度４５℃及び６５℃で良好な洗浄性能を示したことから、より洗浄剤濃度の高い１．０％濃度希釈液についても、溶液温度４５℃及び６５℃で良好な洗浄性能を示すことが予想される。
【符号の説明】
【００８５】
１０  ハードディスク駆動装置、  １２  ベース部材、  ２０  記録ディスク、  ２６  ハブ部材、  ２７  ヨーク、  ３０  軸受ユニット、  ４６  マグネット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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