(57)【要約】【課題】堆積物の除去作業を簡易化することが可能な成膜装置を提供すること。【解決手段】本発明の一側面はプラズマビームによって成膜材料Ｍａを加熱し、成膜材料Ｍａから気化した成膜材料粒子Ｍｂを被処理物１１に付着させる成膜装置１である。成膜装置１は、成膜材料Ｍａが充填されると共に、プラズマビームＰを成膜材料Ｍａへ導く主陽極である主ハース２１と、主ハース２１の周囲に配置されると共に、プラズマビームＰを誘導する補助陽極である輪ハース６と、主ハース２１と輪ハース６との間に配置されたアウターリム２８と、主ハース２１に対してアウターリム２８を電気的に絶縁させるインシュレータ２２と、主ハース２１とアウターリム２８とに電気的に接続可能な電源４２を有する回路部４１と、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマビームによって成膜材料を加熱し、前記成膜材料から気化した粒子を被成膜物に付着させる成膜装置であって、
前記成膜材料が充填されると共に、前記プラズマビームを前記成膜材料へ導く主陽極である主ハースと、
前記主ハースの周囲に配置されると共に、前記プラズマビームを誘導する補助陽極である輪ハースと、
前記主ハースと前記輪ハースとの間に配置されたアウターリムと、
前記主ハースに対して前記アウターリムを電気的に絶縁させる絶縁体と、
前記主ハースと前記アウターリムとに電気的に接続可能な電源を有する回路部と、
を備えることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記回路部は、前記電源に並列接続された第１のスイッチを更に有することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記回路部は、前記電源に直列接続された第２のスイッチを更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記主ハースは、前記成膜材料が充填された筒状の充填部と、前記充填部から突出したフランジ部と、を有し、
前記アウターリムは、前記充填部を取り囲む側壁部と、前記フランジ部側における前記側壁部の端部に設けられた底部と、を有し、
前記絶縁体は、前記フランジ部と前記底部との間に挟まれていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
被処理物の表面に膜を形成する成膜方法には、例えばイオンプレーティング法がある。イオンプレーティング法では、蒸発させた成膜材料を真空容器内に拡散させて、被処理物の表面に成膜材料を付着させる。イオンプレーティング法のための成膜装置では、拡散させた成膜材料の一部が当該成膜材料付近に留まり、成膜材料を保持する主ハース（主陽極）や主ハースの周囲に配置された輪ハースに堆積することがある。主ハースや輪ハースへの成膜材料の堆積量が増加すると、被処理物の表面に形成される膜の均一性に影響を及ぼすおそれがある。さらに、堆積量が増加して主ハースと輪ハースとが互いに短絡されると、成膜の実施を妨げるおそれがある。そこで、成膜装置内に堆積した成膜材料を除去する必要性が生じていた。
【０００３】
上述した必要性に対処した方法には、例えば、主ハースと輪ハースとの間にカバーを配置し、成膜材料が堆積したカバーを定期的に交換する方法がある。また、特許文献１には、堆積物を除去可能な付着物除去装置を備えた蒸着装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−００８５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の装置によれば、その都度、熟練した技量を有する作業員が付着物除去装置を操作して堆積物を除去する必要がある。また、量産機では、堆積物の除去作業の頻度が増加することもある。そのため、当該技術分野では、成膜装置内の堆積物を除去する作業の一層の簡易化が求められている。
【０００６】
本発明は、堆積物の除去作業を簡易化することが可能な成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による成膜装置は、プラズマビームによって成膜材料を加熱し、成膜材料から気化した粒子を被成膜物に付着させる成膜装置であって、成膜材料が充填されると共に、プラズマビームを成膜材料へ導く主陽極である主ハースと、主ハースの周囲に配置されると共に、プラズマビームを誘導する補助陽極である輪ハースと、主ハースと輪ハースとの間に配置されたアウターリムと、主ハースに対してアウターリムを電気的に絶縁させる絶縁体と、主ハースとアウターリムとに電気的に接続可能な電源を有する回路部と、を備えることを特徴としている。
【０００８】
このような成膜装置によれば、主ハースとアウターリムとの間に電位差を生じさせて、主ハースとアウターリムとの間で放電を生じさせることが可能である。この放電によりアウターリムに堆積した成膜材料の堆積物を除去することができる。従って、主ハースとアウターリムとの間で放電を生じさせるだけで、アウターリムに堆積した堆積物を除去することが可能となり、堆積物の除去作業を容易化することができる。
【０００９】
また、回路部は、主ハースとアウターリムとを短絡させる第１のスイッチを更に有している。この第１のスイッチにより、絶縁体で電気的に絶縁状態となるように配置されている主ハースとアウターリムとの間を短絡させることができる。
【００１０】
また、回路部は、電源に直列接続された第２のスイッチを更に有しているので、主ハース及びアウターリムに対して電圧を印可又は遮断することができる。
【００１１】
また、主ハースは、成膜材料が充填された筒状の充填部と、充填部から突出したフランジ部と、を有し、アウターリムは、充填部を取り囲む側壁部と、フランジ部側における側壁部の端部に設けられた底部と、を有し、絶縁体は、フランジ部と底部との間に挟まれている。主ハースのフランジ部とアウターリムの底部との間に絶縁体が挟まれているので、主ハースとアウターリムとの間を確実に電気的に絶縁することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、主ハース又はアウターリムに堆積した堆積物の除去作業を容易化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明による成膜装置の一実施形態の構成を示す側断面図である。
【図２】図１中の主ハース及びアウターリムを拡大して示す断面図である。
【図３】図１中の主ハース及びアウターリムを拡大して示す断面図であり、成膜運転モード実行時のスイッチの開閉状態を示す図である。
【図４】図１中の主ハース及びアウターリムを拡大して示す断面図であり、清掃運転モード実行時のスイッチの開閉状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、添付図面を参照しながら本発明による成膜装置の一実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１５】
図１は、本発明の成膜装置の一実施形態の構成を示す側断面図である。図２は、図１中の主ハースおよびアウターリムを拡大して示す断面図である。本実施形態の成膜装置１は、いわゆるイオンプレーティング法に用いられるイオンプレーティング装置である。なお、説明の便宜上、図１には、ＸＹＺ座標系を示す。Ｘ軸方向は、後述する被処理物が搬送される方向である。Ｚ軸方向は、被処理物と後述するハース機構とが対向する方向である。Ｙ軸方向は、Ｘ方向とＺ方向とに直交する方向である。
【００１６】
図１に示すように、本実施形態の成膜装置１は、被処理物の板厚方向が略鉛直方向となるように被処理物が真空容器内に配置されて搬送されるいわゆる横型の成膜装置である。この場合には、Ｘ軸及びＹ軸方向は水平方向であり、Ｚ軸方向は鉛直方向且つ被処理物の板厚方向となる。一方、本発明による成膜装置の一実施形態では、被処理物の板厚方向が水平方向となるように、被処理物を直立又は直立させた状態から傾斜した状態で、被処理物が真空容器内に配置されて搬送される、いわゆる縦型の成膜装置であってもよい。この場合には、Ｘ軸方向は水平方向であり、Ｙ軸方向が鉛直方向であり、Ｚ軸方向は水平方向且つ板厚方向となる。なお、以下の実施形態では、横型の場合を例に、本発明の成膜装置の一実施形態を説明する。
【００１７】
本実施形態の成膜装置１は、ハース機構２、搬送機構３、輪ハース６、プラズマ源７、圧力調整装置８及び真空容器１０を備えている。
【００１８】
真空容器１０は、成膜材料の膜が形成される被処理物１１を搬送するための搬送室１０ａと、成膜材料Ｍａを拡散させる成膜室１０ｂと、プラズマ源７から照射されるプラズマビームＰを真空容器１０に受け入れるプラズマ口１０ｃとを有している。搬送室１０ａ、成膜室１０ｂ、及びプラズマ口１０ｃは互いに連通している。搬送室１０ａは、所定の搬送方向（図中の矢印Ａ）に（Ｘ軸に）沿って設定されている。また、真空容器１０は、導電性の材料からなり接地電位に接続されている。
【００１９】
搬送機構３は、成膜材料Ｍａと対向した状態で被処理物１１を保持する被処理物保持部材３２を搬送方向Ａに搬送する。搬送機構３は、搬送室１０ａ内に設置された複数の搬送ローラ３１によって構成されている。搬送ローラ３１は、搬送方向Ａに沿って等間隔に配置され、被処理物保持部材３２を支持しつつ搬送方向Ａに搬送する。なお、被処理物１１は、例えばガラス基板やプラスチック基板などの板状部材が用いられる。
【００２０】
プラズマ源７は、圧力勾配型であり、その本体部分が成膜室１０ｂの側壁に設けられたプラズマ口１０ｃを介して成膜室１０ｂに接続されている。プラズマ源７において生成されたプラズマビームＰは、プラズマ口１０ｃから成膜室１０ｂ内へ出射される。プラズマビームＰは、プラズマ口１０ｃに設けられたステアリングコイル（不図示）によって出射方向が制御される。
【００２１】
圧力調整装置８は、真空容器１０に接続され、真空容器１０内の圧力を調整する。圧力調整装置８は、例えば、ターボ分子ポンプやクライオポンプ等の減圧部と、真空容器１０内の圧力を測定する圧力測定部とを有している。
【００２２】
ハース機構２は、成膜材料Ｍａを保持するための機構である。ハース機構２は、真空容器１０の成膜室１０ｂ内に設けられ、搬送機構３から見てＺ軸方向の負方向に配置されている。ハース機構２は、プラズマ源７から出射されたプラズマビームＰを成膜材料Ｍａに導く主陽極又はプラズマ源７から出射されたプラズマビームＰが導かれる主陽極である主ハース２１を有している。
【００２３】
図２に示すように、主ハース２１は、成膜材料Ｍａが充填されたＺ軸方向の正方向に延びた筒状の充填部２１ａと、充填部２１ａから突出したフランジ部２１ｂとを有している。主ハース２１は、真空容器１０が有する接地電位に対して正電位に保たれているため、プラズマビームＰを吸引する。このプラズマビームＰが入射する主ハース２１の充填部２１ａには、成膜材料Ｍａを充填するための貫通孔２１ｃが形成されている。そして、成膜材料Ｍａの先端部分が、この貫通孔２１ｃの一端において成膜室１０ｂに露出している。
【００２４】
輪ハース６は、プラズマビームＰを誘導するための電磁石を有する補助陽極である。輪ハース６は、成膜材料Ｍａを保持する主ハース２１の充填部２１ａの周囲に配置されている。輪ハース６は、コイル６ａと永久磁石６ｂと環状の容器６ｃを有し、コイル６ａ及び永久磁石６ｂは輪状の容器６ｃに収容されている。輪ハース６は、コイル６ａに流れる電流の大きさに応じて、成膜材料Ｍａに入射するプラズマビームＰの向き、または、主ハース２１に入射するプラズマビームＰの向きを制御する。
【００２５】
成膜材料Ｍａには、ＩＴＯやＺｎＯなどの透明導電材料が例示される。成膜材料Ｍａが導電性物質からなる場合、主ハース２１にプラズマビームＰが照射されると、プラズマビームＰが成膜材料Ｍａに直接入射し、成膜材料Ｍａの先端部分が加熱されて気化し、プラズマビームＰによりイオン化された成膜材料粒子Ｍｂが成膜室１０ｂ内に拡散する。成膜室１０ｂ内に拡散した成膜材料粒子Ｍｂは、成膜室１０ｂの上方（Ｚ軸正方向）へ移動し、搬送室１０ａ内において被処理物１１の表面に付着する。なお、成膜材料Ｍａは、所定長さの円柱形状に成形された固体物であり、一度に複数の成膜材料Ｍａがハース機構２に充填される。そして、最上部の成膜材料Ｍａの先端部分が主ハース２１の上端との所定の位置関係を保つように、成膜材料Ｍａの消費に応じて、成膜材料Ｍａがハース機構２の下方向から順次押し出される。
【００２６】
また、ハース機構２は、主ハース２１の周囲に配置されたアウターリム２８を更に有している。このアウターリム２８は、成膜材料Ｍａが成膜時に主ハース２１の周囲に堆積することによる主ハース２１と輪ハース６との短絡を防止する。
【００２７】
アウターリム２８は、円筒状の有底容器である。アウターリム２８は、主ハース２１の充填部２１ａを取り囲む側壁部２８ｂと、主ハース２１のフランジ部２１ｂ側における側壁部２８ｂの端部に設けられた底部２８ｃとを有している。アウターリム２８の底部２８ｃには、主ハース２１の充填部２１ａが挿通される円形の開口２８ａが形成されている。そして、アウターリム２８の側壁部２８ｂの上部は、アウターリム２８の側方へ向けて徐々に反っており、成膜室１０ｂ側に開口している。
【００２８】
また、ハース機構２は、主ハース２１とアウターリム２８との間にインシュレータ２２を更に有している。インシュレータ２２は、主ハース２１とアウターリム２８とを電気的に絶縁するための絶縁体であり、例えば、セラミック等を用いることができる。インシュレータ２２は、環状の形状を有し、主ハース２１が挿通される開口２２ａを有している。図２では、インシュレータ２２の外周縁の直径はアウターリム２８における底部２８ｃの外周縁の直径と同等とされているが、インシュレータ２２の外周縁の直径は底部２８ｃの外周縁の直径よりも大きくてもよいし小さくてもよい。また、図２では、インシュレータ２２の開口２２ａの内径はアウターリム２８の開口２８ａの内径と同等とされているが、開口２２ａの内径は底部２８ｃの内径よりも大きくてもよいし小さくてもよい。インシュレータ２２の主面２２ｂは、アウターリム２８の底部２８ｃに接触している。インシュレータ２２の裏面２２ｃは、主ハース２１のフランジ部２１ｂに接触している。すなわち、インシュレータ２２は、主ハース２１のフランジ部２１ｂとアウターリム２８の底部２８ｃとの間に挟まれている。従って、主ハース２１とアウターリム２８とは互いに接触していない。なお、インシュレータ２２の形状は、主ハース２１とアウターリム２８とを電気的に絶縁することが可能であれば、環状に限定されることはない。例えば、インシュレータ２２の形状は、主ハース２１を挿通させるための開口を有する平面形状が矩形等の多角形状であってもよい。
【００２９】
本実施形態の成膜装置１は、主ハース２１又はアウターリム２８に堆積した堆積物を除去するための回路部４１を更に有している。回路部４１は、主ハース２１とアウターリム２８との間に電位差を発生させて、主ハース２１とアウターリム２８上の堆積物との間で放電を生じさせる、又は、主ハース２１上の堆積物とアウターリム２８上の堆積物との間で放電を生じさせることにより、堆積物を除去する。回路部４１は、電源４２と、電源４２を主ハース２１に電気的に接続するための第１の配線４３と、電源４２をアウターリム２８に電気的に接続するための第２の配線４４とを有している。回路部４１は、電源４２を主ハース２１及びアウターリム２８に電気的に接続可能にするための切り替えスイッチ（第２スイッチ）Ｓ２を有している。この切り替えスイッチＳ２は、電源４２とアウターリム２８の間に直列接続されている。回路部４１は、主ハース２１とアウターリム２８とを互いに短絡させるための切り替えスイッチ（第１スイッチ）Ｓ１とを有している。この切り替えスイッチＳ１は、電源４２及び切り替えスイッチＳ２に並列接続されている。切り替えスイッチＳ１，Ｓ２は、有接点スイッチ（機械式スイッチ）に限定されず、無接点スイッチでもよい。切り替えスイッチＳ１，Ｓ２は制御信号により電気的にＯＮ／ＯＦＦの切り替えがなされるものでもよく、オペレーターの操作により機械的にＯＮ／ＯＦＦの切り替えがなされるものでもよい。また、電源４２、切り替えスイッチＳ１，Ｓ２は真空容器１０の内部に配置されてもよいし、真空容器１０の外部に配置されてもよい。電源４２、切り替えスイッチＳ１，Ｓ２を真空容器１０の外部に配置した場合には、切り替えスイッチＳ１，Ｓ２をオペレーターの手動操作によりＯＮ／ＯＦＦの切り替えを実施することができる。
【００３０】
成膜装置１は、切り替えスイッチＳ１，Ｓ２を制御するための制御部４６を更に有している。制御部４６は、切り替えスイッチＳ１，Ｓ２を制御することにより、被成膜物に成膜材料を付着させて成膜する運転状態である成膜運転モードと、例えば、主ハース２１上の堆積物とアウターリム２８上の堆積物との間で放電を生じさせて堆積物を除去する清掃運転モードとを切り替える切り替え手段である。制御部４６は、真空容器１０外に配置され、切り替えスイッチＳ１，Ｓ２に電気的に接続されている。制御部４６は、切り替えスイッチＳ１，Ｓ２に指令信号を送信することにより、ＯＮ／ＯＦＦ状態の切り替えを行う。
【００３１】
制御部４６は、切り替えスイッチＳ２をＯＦＦ状態とし、切り替えスイッチＳ１をＯＮ状態とすることで、主ハース２１とアウターリム２８との間を短絡させることにより成膜運転モードへの切り替えを行う。
【００３２】
制御部４６は、切り替えスイッチＳ２をＯＮ状態とし、切り替えスイッチＳ１をＯＦＦ状態とすることで、主ハース２１とアウターリム２８との間に電位差を生じさせて、清掃運転モードへの切り替えを行う。
【００３３】
また、制御部４６は、圧力調整装置８を制御するための指令信号を生成し、圧力調整装置８に送信する。圧力調整装置８は、指令信号に基づいて真空容器１０内を所定の圧力に調整する。所定の圧力とは、主ハース２１とアウターリム２８との間で放電を好適に生じさせることができる圧力とされている。
【００３４】
また、制御部４６は、成膜運転モードでの運転時間を積算しておき、運転時間の積算値が、運転モードの切り替えを判定するための判定閾値に達したか否かの判定を行う機能を有している。成膜装置１には、運転時間の積算値が判定閾値に達していることを報知する警告手段が設けられている。制御部４６は、成膜運転モードによる運転時間の積算値が判定閾値に達した場合に、警告手段であるアラームランプやモニター画面を用いた警告を行い、清掃運転モードへの切り替え操作の実行をオペレーターに報知することができる。オペレーターは、警告手段による警告を受け、所定の操作を行い清掃運転モードへの切り替えを行う。このような構成を有する制御部４６によれば、例えば、モニター画面に表示された操作画面において清掃運転モードを選択することにより、清掃運転モードに切り替えることができるので、除去作業を簡易化できる。
【００３５】
なお、運転時間の積算値が判定閾値に達した場合に、清掃運転モードへの切り替えを自動的に実行可能としてもよい。このような機能を有する制御部４６によれば、オペレーターの手動の操作によらず、堆積物の除去を自動的に行うことができる。また、制御部４６に運転時間の積算値に基づいて判定閾値に達したか否かの判定を行う機能を設けずに、カメラなどを用いて、オペレーターが堆積物の量を確認して、清掃運転モードへの切り替え時期を判定してもよい。
【００３６】
次に、成膜装置１を用いた成膜方法について説明する。まず、主ハース２１へ成膜材料Ｍａを装着するとともに、被処理物１１を保持した被処理物保持部材３２を搬送機構３に複数セットする。そして、真空容器１０内を減圧し、真空状態とする。
【００３７】
続いて、接地電位にある真空容器１０を挟んで、負電圧をプラズマ源７に、正電圧を主ハース２１に印加して放電を生じさせプラズマビームＰを生成する。このとき、制御部４６は、切り替えスイッチＳ２をＯＦＦ状態とし、切り替えスイッチＳ１をＯＮ状態として主ハース２１とアウターリム２８とを同じ電位とする（図３を参照）。プラズマビームＰは、輪ハース６に案内されて主ハース２１へ照射される。プラズマビームＰによって昇華し、活性化された成膜材料粒子Ｍｂは、成膜室１０ｂ内をＺ軸方向の正方向に上昇する。
【００３８】
他方、被処理物１１は、搬送機構３によって搬送されて成膜室１０ｂの上方に達し、成膜室１０ｂ内を拡散している成膜材料粒子Ｍｂに曝される。そして、主ハース２１と対向する被処理物１１の成膜面に、成膜材料Ｍａのイオン化粒子が膜状に付着する。被処理物１１が一定速度で搬送されながら成膜材料粒子Ｍｂに所定時間曝されることにより、被処理物１１の表面に所定厚さの膜が形成される。こうして、被処理物１１の表面に所望の膜が形成される。
【００３９】
以上の成膜工程においては、複数の被処理物１１を搬送しながらこれら被処理物１１に対して成膜する。また、主ハース２１には複数の成膜材料Ｍａを装着することが可能となっている。従って、真空容器１０の真空状態を維持したまま長時間にわたって成膜作業を行うことができる。ここで、図３に示すように、長時間の成膜作業の結果、アウターリム２８の側壁部２８ｂの内側面や主ハース２１の充填部２１ａの側壁上に成膜材料Ｍａの堆積物Ｄが堆積する。この堆積物Ｄは、蒸発した成膜材料Ｍａが上昇せずに主ハース２１の周囲に留まることにより次第に大きく形成される。そして、堆積物Ｄは、アウターリム２８の側壁部２８ｂ上や主ハース２１の充填部２１ａ上に膜状に堆積しつつ、所定の条件が整う場所では突起状に成長する。
【００４０】
図４に示すように、制御部４６は、成膜運転モードから清掃運転モードへの切り替えを行う。このとき、制御部４６は、切り替えスイッチＳ１をＯＦＦ状態とした後に、切り替えスイッチＳ２をＯＮ状態とすることで、主ハース２１とアウターリム２８との間に電位差を生じさせて、清掃運転モードへの切り替えを行う（図４参照）。
【００４１】
ところで、従来の堆積物を除去する方法では、成膜材料が堆積したアウターリムを定期的に交換していた。しかし、アウターリムを交換する場合には、真空容器を大気開放して手作業で交換する必要があるため、交換作業に時間を要していた。また、真空容器を大気開放することなく堆積物を除去することが可能な成膜装置では、除去作業に熟練を要する場合もあり、堆積物を容易に除去することが困難であった。
【００４２】
このような成膜装置１によれば、主ハース２１とアウターリム２８との間に電位差を生じさせて、主ハース２１とアウターリム２８との間で放電Ｃを生じさせることが可能である。より詳細には、主ハース２１とアウターリム２８に堆積した堆積物Ｄとの間で放電Ｃを生じさせることが可能である。また、主ハース２１に堆積した堆積物Ｄとアウターリム２８との間で放電Ｃを生じさせることが可能である。さらに、主ハース２１に堆積した堆積物Ｄとアウターリム２８に堆積した堆積物Ｄとの間で放電Ｃを生じさせることが可能である。この放電Ｃによりアウターリム２８に堆積した成膜材料Ｍａの堆積物Ｄを加熱して、再び昇華させることができる。特に、この放電Ｃは、突起状に成長した堆積物Ｄの先端で生じることが多いため、突起状に成長した堆積物Ｄを効率的に除去することができる。従って、主ハース２１とアウターリム２８との間で放電Ｃを生じさせるだけで、アウターリム２８に堆積した堆積物Ｄを除去することが可能となり、堆積物Ｄの除去作業を容易化することができる。
【００４３】
また、成膜装置１によれば、堆積物Ｄを除去する場合に、真空容器１０を大気開放する必要がないため、堆積物Ｄの除去作業を効率的に実施することができる。
【００４４】
また、回路部４１は、主ハース２１とアウターリム２８とを短絡させる切り替えスイッチＳ１を有している。この切り替えスイッチＳ１により、絶縁体２２で電気的に絶縁状態となるように配置されている主ハース２１とアウターリム２８との間を短絡させることができる。
【００４５】
また、回路部４１は、電源４２に直列接続された切り替えスイッチＳ２を有しているので、主ハース２１及びアウターリム２８に対して電源４２により電圧を印可又は遮断することができる。
【００４６】
また、主ハース２１のフランジ部２１ｂとアウターリム２８の底部２８ｃとの間に絶縁体２２が挟まれているので、主ハース２１とアウターリム２８との間を確実に電気的に絶縁することができる。
【００４７】
また、成膜装置１によれば、堆積物Ｄを機械的な方法により除去するための機構を真空容器１０内に設置する必要がないので、成膜装置１の構成の複雑化を抑制し、成膜装置１の構成を簡素化できる。
【００４８】
以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。
【００４９】
成膜装置１の回路部４１は、主ハース２１とアウターリム２８との間の電位差を制御可能な構成であればよい。例えば、回路部４１は、主ハース２１と接地電位とに接続された第１の電源と、アウターリム２８と接地電位とに接続された第２の電源とを有していてもよい。制御部４６が、第１の電源と第２の電源とを同じ電圧に設定することにより、主ハース２１とアウターリム２８との間の電位差をなくして、成膜運転モードに設定することができる。また、制御部４６が、第１の電源と第２の電源とを互いに異なる電圧に設定することにより、主ハース２１とアウターリム２８との間に電位差を生じさせて、清掃運転モードに設定することができる。
【００５０】
また、回路部では、スイッチＳ２がトランジスタを用いたものであってもよい。このような回路部は、主ハースとアウターリムとの間に電位差を与えるための構成として、放電用電源と、スイッチ用トランジスタと、スイッチング用電源とを含んでいる。放電用電源の一端は、主ハースに接続されている。スイッチ用トランジスタは、コレクタが放電用電源の他端に接続され、エミッタがアウターリムに接続され、ベースがスイッチング電源の一端に接続されている。スイッチング電源の他端は、アウターリムに接続されている。このような回路構成によれば、スイッチング用電源を制御することにより、スイッチ用トランジスタのコレクタとエミッタとの間に流れる電流が制御されるので、主ハースとアウターリムとの間の電位差を制御することができる。
【００５１】
また、インシュレータ２２は、主ハース２１のフランジ部２１ｂとアウターリム２８の底部２８ｃとに挟まれた部位に加えて、アウターリム２８における開口２８ａの内側面と、主ハース２１の充填部２１ａの側面との間に挟まれた部位を有していてもよい。
【００５２】
また、成膜装置１は、真空容器１０を大気開放することなく堆積物Ｄを除去することが可能であるが、例えば、堆積物Ｄの除去以外の目的で真空容器１０を大気開放した後に所定の圧力まで減圧して堆積物Ｄを除去してもよい。
【符号の説明】
【００５３】
１…成膜装置、２…ハース機構、３…搬送機構、６…輪ハース、７…プラズマ源、８…圧力調整装置、１０…真空容器、１１…被処理物、２１…主ハース、２２…インシュレータ、２８…アウターリム、３１…搬送ローラ、３２…被処理物保持部材、４１…回路部、４２…電源、４３…第１の配線、４４…第２の配線、４６…制御部、Ｃ…放電、Ｄ…堆積物、Ｍａ…成膜材料、Ｐ…プラズマビーム、Ｓ１，Ｓ２…スイッチ。
【図１】
2014065938.tif 000003
【図２】
2014065938.tif 000004
【図３】
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【図４】
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