(57)【要約】【課題】反射率の低下が抑えられ、耐久性に優れたフィルムミラー及びその製造方法を提供する。【解決手段】樹脂基材と、樹脂中間層と、金属を含む反射層と、厚みが３０μｍ以下であり、外径１０μｍ以上の異物の個数が５０個／ｃｍ２以下である保護層と、をこの順に有している。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と、樹脂中間層と、金属を含む反射層と、厚みが３０μｍ以下であり、外径１０μｍ以上の異物の個数が５０個／ｃｍ２以下である保護層と、をこの順に有するフィルムミラー。
【請求項２】
前記保護層は、前記反射層の表面に接している請求項１のフィルムミラー。
【請求項３】
前記樹脂中間層の厚みが０．０５μｍ以上３μｍ以下であり、外径１μｍ以上の異物の個数が５０個／ｍｍ２以下である請求項１又は請求項２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記反射層の厚みが０．０５μｍ以上０．５μｍ以下であり、外径１μｍ以上の異物の個数が５０個／ｍｍ２以下である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記反射層に含まれる金属が、銀である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
前記樹脂中間層は、金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項７】
太陽光の集光に用いられる請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載のフィルムミラーと支持材とを備えた太陽光反射板。
【請求項９】
保護層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上１０μｍ以下の濾材を用いて濾過する第１の濾過工程と、
濾過後の保護層形成用組成物を、樹脂基材と樹脂中間層と金属を含む反射層とをこの順に有する重層構造の前記反射層の上に付与して保護層を形成する保護層形成工程と、
を有するフィルムミラーの製造方法。
【請求項１０】
反射層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上５μｍ以下の濾材を用いて濾過する第２の濾過工程と、
濾過後の反射層形成用組成物を、前記重層構造を構成する前記樹脂中間層上に付与することにより、前記金属を含む反射層を形成する反射層形成工程と、
をさらに有する請求項９に記載のフィルムミラーの製造方法。
【請求項１１】
前記第２の濾過工程は、前記反射層形成用組成物として銀めっき液を濾過し、
前記反射層形成工程は、濾過後の銀めっき液を用いためっき法により、前記金属を含む反射層として、銀反射層を形成する請求項１０に記載のフィルムミラーの製造方法。
【請求項１２】
樹脂中間層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上５μｍ以下の濾材を用いて濾過する第３の濾過工程と、
濾過後の樹脂中間層形成用組成物を、前記重層構造を構成する前記樹脂基材上に付与することにより、前記樹脂中間層を形成する樹脂中間層形成工程と、
をさらに有する請求項９〜請求項１１のいずれか１項に記載のフィルムミラーの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラー及びその製造方法並びに太陽光反射板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、石炭、天然ガスに代表される化石燃料に代わる代替エネルギーの研究が盛んに行なわれている。特に、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーは、資源の枯渇、地球温暖化等の懸念がなく、クリーンなエネルギーとして注目されている。これらの中でも、太陽光を利用する太陽エネルギーは、安定供給が可能なエネルギーとして更なる開発が期待されている。
【０００３】
しかしながら一方で、太陽エネルギーにはエネルギー密度が低いという問題がある。この問題を解決するため、近年では、巨大な反射鏡を用いて太陽光を集光しようという試みがなされている。
これまで、太陽光を集光するための反射鏡は、屋外に設置され、太陽光に含まれる紫外光、太陽光に起因する熱、風雨、砂塵等に晒されるため、ガラス製のものが用いられてきた。しかしながら、ガラス製の反射鏡は、耐候性に優れるものの、重量があり、破損しやすく、かつ、柔軟性に欠けるため、取り扱い性に改良の余地があるという問題があった。
【０００４】
上記問題に対しては、ガラス製の反射鏡を、軽量で柔軟性のある樹脂製の反射鏡（フィルムミラー）に置き換えることが考えられている。フィルムミラーはガラス製の反射鏡に比べて耐候性を付与することが難しいが、樹脂基材と金属反射層の表面に金属酸化物を有するガスバリア層を設ける等、高い耐候性を実現するための技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
一方、上記のような樹脂に由来して低下する耐候性の向上技術とは別に、反射層や保護層を接着するための粘着剤層の外観欠陥を低減するため、粘着剤層の原料となる粘着剤塗布液中の異物を除去することが開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００６】
また、レーザー反射鏡として良好な反射面を形成するため、合金の溶湯を孔径１０μｍ以下のろ過材を通過させることが開示されている（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２０１１／０９６１５１号パンフレット
【特許文献２】特開２０１２−２２９３０５号公報
【特許文献３】特開昭５９−１５７２３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記のように、従来から、塗布液等に混入している異物を除去することについては、種々の技術分野で行なわれている。しかしながら、屋外に設置され、太陽光に起因する紫外光や熱、風雨、砂塵等に常時曝される過酷な環境下で使用されるフィルムミラーの分野において、樹脂材料を用いるために、微小な欠陥を通じて金属のマイグレーションを招き、ひいては著しい耐久性（光反射率）の低下を引き起こすことに対する防止技術については、充分に確立されていないのが実情である。
【０００９】
フィルムミラーでは、その構成層中に異物が混入する等の原因により、例えば最外層を構成する保護層（いわゆるオーバーコート層）に局所的に薄い部分ができたり、層表面に異物が存在する等により、経時で異物近傍が劣化しやすく、構成層に亀裂や穴等ができやすくなる。このような異物やその近傍にできた亀裂等の欠陥は、フィルムミラーにおいては、内部の金属の腐食を促進させる起点となる。すなわち、異物の存在する部分は層の厚みが必然的に薄く経時劣化しやすいばかりか、異物近傍にできた隙間が原因で雰囲気中の酸素や硫黄系のガス又は水分が極少量ながら浸透し、結果、著しい耐久性の低下を招来する。
【００１０】
また、樹脂基材と保護層の間に配設された反射層や樹脂中間層（いわゆるアンダーコート層）に異物が混入している場合においては、さらに金属の劣化が促進される。すなわち、反射層及び樹脂中間層は一般に保護層より厚みが薄いため、異物の混入で層がより薄化して裂けやすく、金属を含む反射層へ直接的にガスや水分が浸入することになり、腐食が進行しやすい。
また、異物で一様な樹脂中間層が形成されていない場合は、層の電気伝導が悪くなって例えばめっき法で樹脂中間層上に反射層を形成する場合に一様な反射層が得られず、反射率は低下することになる。
【００１１】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、反射率の低下が抑えられ、耐久性に優れたフィルムミラー及びその製造方法、並びに太陽光反射板を提供することを目的とし、この目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、フィルムミラーの最外層として比較的薄い保護層（いわゆるオーバーコート層）が設けられている場合、保護層中に異物が所定量混入していると、フィルムミラー内部の金属反射層のマイグレーションの起点になるとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
【００１３】
上記の課題を達成するための具体的な手段は、以下の通りである。すなわち、
第１の態様に係る本発明は、
＜１＞  樹脂基材と、樹脂中間層と、金属を含む反射層と、厚みが３０μｍ以下であり、外径１０μｍ以上の異物の個数が５０個／ｃｍ２以下である保護層と、をこの順に有するフィルムミラーである。
＜２＞  前記保護層は、前記反射層の表面に接している＜１＞のフィルムミラーである。
＜３＞  前記樹脂中間層の厚みが０．０５μｍ以上３μｍ以下であり、外径１μｍ以上の異物の個数が５０個／ｍｍ２以下である＜１＞又は＜２＞に記載のフィルムミラーである。
＜４＞  前記反射層の厚みが０．０５μｍ以上０．５μｍ以下であり、外径１μｍ以上の異物の個数が５０個／ｍｍ２以下である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のフィルムミラーである。
＜５＞  前記反射層に含まれる金属が、銀である＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のフィルムミラーである。
＜６＞  前記樹脂中間層は、金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のフィルムミラーである。
＜７＞  太陽光の集光に用いられる＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載のフィルムミラーである。
【００１４】
次に、第２の態様に係る本発明は、
＜８＞  ＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載のフィルムミラーと支持材とを備えた太陽光反射板である。
次に、第３の態様に係る本発明は、
＜９＞  保護層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上１０μｍ以下の濾材を用いて濾過する第１の濾過工程と、濾過後の保護層形成用組成物を、樹脂基材と樹脂中間層と金属を含む反射層とをこの順に有する重層構造の前記反射層の上に付与して保護層を形成する保護層形成工程と、を有するフィルムミラーの製造方法である。
＜１０＞  反射層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上５μｍ以下の濾材を用いて濾過する第２の濾過工程と、濾過後の反射層形成用組成物を、前記重層構造を構成する前記樹脂中間層上に付与することにより、前記金属を含む反射層を形成する反射層形成工程と、をさらに有する＜９＞に記載のフィルムミラーの製造方法である。
＜１１＞  前記反射層形成工程は、銀めっき液を用いためっき法により、前記金属を含む反射層として、銀反射層を形成する＜１０＞に記載のフィルムミラーの製造方法である。
＜１２＞  樹脂中間層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上５μｍ以下の濾材を用いて濾過する第３の濾過工程と、濾過後の樹脂中間層形成用組成物を、前記重層構造を構成する前記樹脂基材上に付与することにより、前記樹脂中間層を形成する樹脂中間層形成工程と、をさらに有する＜９＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載のフィルムミラーの製造方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、反射率の低下が抑えられ、耐久性に優れたフィルムミラー及びその製造方法、並びに太陽光反射板が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明のフィルムミラー及びその製造方法について詳細に説明し、該説明を通じて本発明の太陽光反射板についても説明することとする。
【００１７】
＜フィルムミラー及びその製造方法＞
本発明のフィルムミラーは、樹脂基材の上に、樹脂中間層と、金属を含む反射層（以下、「金属反射層」ともいう。）と、厚みが３０μｍ以下であり、外径１０μｍ以上の異物の個数が５０個／ｃｍ２以下である保護層と、をこの順に設けて構成されている。
【００１８】
従来から、基材上に層を形成する際、形成される層中に不要な粒子状物が多く混入されないように、層の形成前にあらかじめ液に濾過処理を施すことが一般に行なわれている。ところが、この濾過処理は、層表面に凸状に盛り上がった部分や波打ち等の膜面不良が生じるのを危惧し、厚みの均一性や表面の平滑さ等の観点から施されるのが通例である。そのため、層の厚みが比較的厚い場合にも通常プロセスとして濾過処理がなされており、その場合のフィルタも、粗大な粒子状物を取り除くことができる程度の孔径が選択されているに過ぎないのが実情である。
しかしながら、フィルムミラーのように、屋外に設置され、太陽光に起因する紫外光や熱、風雨、砂塵等に常時曝される過酷な環境下で使用される製品については、その層中又は層表面にマイグレーションを引き起こす原因が存在すると、その原因部分を起点に耐久性の著しい低下が生じやすい。
そのため、本発明においては、特にフィルムミラーの最外層に位置して苛酷な設置環境の影響を直接的に受けやすいにも関わらず、入射光の透過性を保つため、厚み３０μｍ以下の薄膜に形成される保護層において、外径１０μｍ以上の異物の個数を５０個／ｃｍ２以下の極めて少量の範囲とする。これにより、異物が混入した箇所が部分的に薄厚になって経時で例えば局所的に亀裂や穴等の欠陥ができるのを防ぎ、異物を起点に層内部に酸素等のガスや水分が透過することで反射層に劣化を来たすことが抑制される。結果、フィルムミラーにおける光の反射率の低下が抑えられ、耐久性に優れたものとなる。
【００１９】
本発明のフィルムミラーは、少なくとも樹脂基材、樹脂中間層、金属反射層、及び保護層をこの順に設けた重層構造を有しており、必要に応じて、更に、他の層を付設して構成された構造を有してもよい。
【００２０】
−保護層−
本発明のフィルムミラーは、太陽光が入射する側に後述の金属反射層の上層として配置され、設置環境の影響を受けやすい最外層として保護層を備えている。本発明における保護層は、３０μｍ以下の厚みで形成されると共に、層中に含まれる外径１０μｍ以上の異物の個数を、５０個／ｃｍ２以下にして構成されている。
保護層は、太陽光、雨水、砂塵等によるフィルムミラーの劣化や破損を防止し、鏡面性の安定化を図る機能を担うものである。
【００２１】
本発明における保護層の厚みは、３０μｍ以下とされる。厚みが３０μｍ以下であることは、保護層が薄層であることを意味している。厚みが３０μｍ以下の薄い層である場合に、外径１０μｍ以上の異物が混入することによる影響が大きい。すなわち、層に異物が存在する箇所は、異物の体積分の膜成分が減って厚みが薄くなるため、本来保護層が有すべき耐候性が得られず、異物近傍で層が劣化し、ひいては層内にガスや水分が浸透する起点ができやすい。そのため、厚み３０μｍ以下である場合に、外径１０μｍ以上の異物数を５０個／ｃｍ２以下にすることによる効果が大きい。
【００２２】
保護層の厚みとしては、０．５μｍ以上３０μｍ以下の範囲であることが好ましく、１μｍ以上２０μｍ以下の範囲がより好ましく、更に好ましくは１μｍ以上１５μｍ以下である。
厚みが０．５μｍ以上であることで、保護層としての機能がより良好に得られ、フィルムミラーの耐久性を確保する点でより有利である。
【００２３】
本発明における保護層は、層中に含まれる外径１０μｍ以上の異物の個数が、５０個／ｃｍ２以下とされる。保護層の厚みに照らし、外径１０μｍ以上の異物の含有数が５０個／ｃｍ２を超えていると、保護層としての機能を長期に亘り保持できず、フィルムミラーの耐久性が低下する。具体的には、外径１０μｍ以上の比較的サイズの大きい異物が５０個／ｃｍ２を超えて多く存在することで、保護膜の厚みを一様に保てないために局部的な劣化を招きやすく、異物近傍に亀裂や穴等ができて、これが環境中のガスや水分がフィルム内に浸透する起点となってしまう。
混入している異物数は、少ないほど望ましいが、異物を全く含まないことは難しいことから、フィルムミラーとして要求される耐久性を確保する観点からは、単位面積あたり３０個／ｃｍ２以下が好適であり、更には１５個／ｃｍ２以下である。
【００２４】
異物とは、不定形の粒子状物のことであり、主として製造過程で雰囲気中に散在する粉塵（粒状、繊維状などの種々の形態を含む。）が混入したものを指す。
【００２５】
異物の外径とは、外観上、最も長い部分の長さ（最大長さ）をいう。外径は、顕微鏡で保護層を拡大して観察される異物を計測して得られる値である。
また、異物の個数は、所定面積の複数の領域に存在する外径１０μｍ以上の異物数（個／ｍｍ２）を計測した後、複数の領域の計測値の平均値として求められる。
【００２６】
本発明における保護層において、外径１０μｍ以上の異物の個数を５０個／ｃｍ２以下とする方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。すなわち、
（1）保護層形成用組成物（例えば塗布液）を濾過フィルタで濾過処理する。
（2）保護層を形成するための工程、具体的には、保護層形成用組成物を調製する工程や、保護層形成用組成物を塗布等して保護層を形成する工程、等の一部の工程あるいは一連の全ての工程をクリーン環境で行なう。
クリーン環境として、クリーンルーム、クリーンブース、又はクリーンベンチなどの、所定の清浄度レベルに清浄されている雰囲気が挙げられる。クリーン環境は、例えば清浄用フィルタ等で内部雰囲気を循環する等により形成することができる。また、クリーン環境における浮遊微粒子等の清浄度レベルは、クラス１００００以下の高清浄度に制限されることが好ましい。
上記の方法（1）〜（2）は、目的や所望とする異物量など、必要に応じていずれか一方を選択して行なってもよいし、方法（1）〜（2）の両方を行なってもよい。
【００２７】
本発明における保護層を構成する材料は、特に制限されるものではなく、例えば、樹脂、ガラス、セラミックスなどが挙げられる。中でも、フレキシブル性に優れる点で、樹脂が好ましい。
保護層の形成に用いられる樹脂材料としては、フィルム又は層を形成しうる樹脂であって、形成されたフィルム又は層の強度、耐久性、空気や水分の遮断性、さらには、保護層と隣接する層、例えば、腐食防止層等との密着性に加え、透明性、特にフィルムミラーが必要とする波長の光に対する高い透過性を達成しうる樹脂を選択することが好ましい。
【００２８】
樹脂の例としては、セルロースエステル系樹脂（例えば、セルロースジアセテート樹脂、セルローストリアセテート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂）、カーボネート系樹脂、アリレート系樹脂、スルフォン（ポリエーテルスルフォンも含む）系樹脂、エステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ビニル系樹脂（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、エチレンビニルアルコール樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂）、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、アミド系樹脂、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂（例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、オレフィン系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体等）、ポリウレタン系樹脂、等を挙げることができる。
中でも、カーボネート系樹脂、エステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂、アクリル樹脂、フッ素系樹脂（例えば、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ））、オレフィン系樹脂、ウレタン系樹脂等が好ましい。具体的な好ましい例としては、ポリフッ化ビニリデン及びポリメチルメタクリレートであり、光透過性の観点からは、ＰＭＭＡが更に好ましい。
【００２９】
保護層には、例えば、紫外線吸収剤、光重合開始剤、帯電防止剤、塗布助剤（レベリング剤）、酸化防止剤、消泡剤等の添加剤が含有されていてもよい。
【００３０】
保護層は、後述する金属反射層の入射光側の表面に隣接して設けられていることが好ましい。保護層中の異物が起点となってガスや水分等がフィルム内に浸入して劣化を招く場合、金属反射層が保護層に隣接した構造の場合に、金属反射層中の金属の劣化が進みやすく、金属反射層の光反射性の低下を伴ないやすい。すなわち、保護層が金属反射層に隣接配置されている場合に、本発明の効果がより効果的に奏される。
【００３１】
−金属反射層−
本発明のフィルムミラーは、保護層の下層（樹脂基材が配置されている側の層）として、金属を含む反射層（金属反射層）を備えている。この金属反射層によって、上記した保護層を通過して入射した光を反射する。
【００３２】
金属反射層の形成材料は、可視光及び赤外光を反射する金属材料であれば、特に限定されず、例えば、銀、アルミニウム等が挙げられる。光の反射性能の観点からは、銀、又は銀を含む合金が好ましい。銀、又は銀を含む合金は、フィルムミラーの可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。可視光領域とは、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域を意味する。
ここで、入射角とは、膜面に対して垂直な線に対する角度を意味する。
【００３３】
銀を含む合金としては、反射層の耐久性をより向上させる点から、反射層の反射特性に影響がない程度において、他の金属、例えば、金、パラジウム、銅、ニッケル、鉄、ガリウム、インジウム、チタン、及びビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属を含んでいてもよく、銀とその他の金属とからなる合金を用いることも好ましい態様である。銀合金としては、銀と金、銅、ニッケル、鉄、パラジウムから選ばれる１種以上の金属との合金が、耐湿熱性、反射率等の観点から特に好ましい。
【００３４】
例えば、金属反射層が銀合金からなる膜である場合、銀の含有量は、金属反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０原子％〜９９．８原子％が好ましい。また、他の金属の含有量は、耐久性の点から０．２原子％〜１０原子％が好ましい。
【００３５】
金属反射層の光が入射する側の算術表面粗さ（Ｒａ）は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることが更に好ましい。この範囲内とすることで、フィルムミラーの反射率がより向上し、効率良く集光することができる。
なお、本発明において、算術表面粗さ（Ｒａ）とは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−２００１に規定されたものである。
【００３６】
金属反射層の形成方法としては、特に制限はなく、湿式法又は乾式法のいずれを採用してもよい。
湿式法としては、例えば、電気めっき法が挙げられる。乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
【００３７】
以下、金属反射層をめっき法により形成する場合について説明する。
めっき法は、真空蒸着法やスパッタ法などの気相成膜法やゾルゲル法や溶剤塗布法などに比べて、成膜対象の表面形状に対応した成膜が可能であることから、均一な膜厚で金属反射層を形成できるので好ましい。
めっき法としては、従来公知の方法を用いることができる。なお、本工程のめっきに用いられる金属としては、銅、クロム、鉛、ニッケル、金、銀、すず、亜鉛などが挙げられ、フィルムミラーの初期反射性の観点から、銀が好ましい。
【００３８】
めっきに用いられる金属化合物としては、例えば、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀等の銀化合物が挙げられる。これらの中でも、環境影響や平滑性の観点から、メタンスルホン酸銀が好ましい。
【００３９】
本工程のめっきに用いられる金属としては、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン、及びビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属とを同時に用いる方が、耐久性が向上する点から好ましい。その中でも、銀と金とを同時に用いる方が、耐湿熱性、反射率等の観点から特に好ましい。
【００４０】
その場合、金属反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、銀の含有量を９０原子％〜９９．８原子％に、また、他の金属の含有量を０．２原子％〜１０原子％がとなるようにめっきする事が、耐久性の点から好ましい。
【００４１】
本発明においては、樹脂基材と金属反射層との密着性の観点から、樹脂基材上に樹脂中間層を有していてもよく、樹脂中間層は、易接着層及びめっき下塗りポリマー層から選択される１層又は２層から構成されてよい。また、めっき下塗りポリマー層は還元された金属粒子を含んでいてもよい
めっき下塗りポリマー層が電極としての機能を有する場合、めっき下塗りポリマー層に対して電気めっきを行なうことにより、金属反射層を形成することができる。
【００４２】
なお、めっき下塗りポリマー層と金属反射層との間には、例えば、銅、ニッケル、クロム、鉄等の他の金属を含有する金属層を下地金属層として有していてもよい。
また、電気めっき法により得られる金属反射層の膜厚は、めっき浴中に含まれる金属濃度、又は、電流密度を調整することで制御することができる。適切な厚みの下地金属層を入れることで、表面平滑化による反射率向上やピンホール低減が可能となる。
【００４３】
また、本発明においては、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を利用して真空蒸着等の乾式めっきを行なうことにより、金属反射層を形成してもよい。この方法によれば、めっき下塗りポリマー層の表面が金属で覆われているため、通常の蒸着等よりも密着性がよく、かつ、熱に対しても強い金属反射層を形成することができる。
【００４４】
めっきの後、金属反射層の反射性能や耐久性を向上させるために、金属反射層を強酸や強アルカリ等で処理してもよい。また、金属表面に、無機皮膜や金属酸化皮膜を形成してもよい。また、変色防止剤を含有する変色防止剤層を更に設けてもよい。
変色防止剤層は、金属反射層の変色防止に機能する。変色防止剤としては、チオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、チアジアゾール系等の変色防止剤が挙げられる。
変色防止剤層は、大別して、金属を吸着する吸着基を有するものや、酸化防止剤が好ましく用いられる。
【００４５】
また、本発明においては、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を利用して、真空蒸着等の乾式法で金属反射層を形成してもよい。この方法によれば、めっき下塗りポリマー層の表面が金属で覆われているため、通常の蒸着等よりも密着性がよく、かつ、熱に対しても強い金属反射層を形成することができる。
【００４６】
金属反射層の厚みは、０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲が好ましく、０．０５μｍ以上０．５μｍ以下の範囲が好ましい。厚みがこの範囲にある場合に、金属反射層の反射率の低下抑制効果が大きく、耐久性がより効果的に向上する。また、ピンホールなく反射膜を形成する点、及び金属反射層の表面に光を散乱させるような凹凸ができない点でも好ましい。
金属反射層のより好ましい厚みは、０．０７μｍ以上０．２μｍ以下である。
【００４７】
また、本発明における金属反射層は、層中に含まれる外径１μｍ以上の異物の個数が５０個／ｍｍ２以下とされることが好ましい。外径１μｍ以上の異物数が５０個／ｍｍ２以下であることで、保護膜の厚みを一様に保つことができ、異物近傍に亀裂や穴等ができにくい。
金属反射層の厚みを上記範囲とした場合に、外径１μｍ以上の異物が混入することによる影響が大きい。すなわち、金属反射層に異物が存在する箇所は、異物の体積分の膜成分が減って厚みが薄くなるため、本来反射層が有すべき耐候性を保てず、異物近傍で層が劣化し、ひいては層内にガスや水分が浸透する起点ができやすい。金属反射層に起点ができると、金属反射層中の金属が直接的に酸化等を受けるため、より耐久性の低下が進行しやすい。そのため、保護層のみならず、金属反射層において、外径１μｍ以上の異物数を５０個／ｍｍ２以下にすることで、反射層の反射率の低下抑制効果が大きく現れ、フィルムミラーの耐久性をより効果的に高めることができる。
【００４８】
混入している異物数は、少ないほど望ましいが、異物を全く含まないことは難しいことから、フィルムミラーとして要求される耐久性をより高める観点からは、単位面積あたり３０個／ｍｍ２以下が好適であり、更には１５個／ｍｍ２以下である。
【００４９】
本発明における金属反射層において、外径１μｍ以上の異物の個数を５０個／ｍｍ２以下とする方法としては、例えば、既述の保護層において異物の個数を５０個／ｍｍ２以下とする方法と同様の方法を適用することができる。方法の詳細は、保護層の項での既述の通りである。
【００５０】
−樹脂中間層−
本発明のフィルムミラーは、既述の反射層と後述の樹脂基材との間に樹脂中間層を備えている。樹脂中間層を設けることで、樹脂基材と反射層との間の密着性を向上させることができる。
【００５１】
樹脂中間層としては、金属を接着しやすくするための易接着層や、金属反射層をめっき法により形成する場合に有用なめっき下塗りポリマー層などが挙げられ、これらは単層構成であっても２層以上の複数層から構成されるものであってもよい。
【００５２】
〔易接着層〕
本発明においては、樹脂基材と金属反射層との接着性を向上させるために易接着層を設けてもよい。また、易接着層上にめっき下塗りポリマー層を設ける場合には、易接着層により樹脂基材とめっき下塗りポリマー層との接着性が向上し、結果、樹脂基材と金属反射層との接着性をより向上させることができる。
【００５３】
易接着層は、隣接する樹脂基材との密着性の観点から、樹脂基材を構成する樹脂と同じ樹脂、あるいは樹脂基材を構成する樹脂と親和性を有する樹脂を含むことが好ましい。
易接着層に含まれる樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂でも熱可塑性樹脂でもまたそれらの混合物でもよい。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリオレフィン系樹脂、イソシアネート系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテルイミド等が挙げられる。
熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。２種以上の樹脂の併用は、それぞれの欠点が補うことでより優れた効果を発現させる目的で行われる。
【００５４】
熱可塑性樹脂を使用する場合には、必要に応じて、架橋剤を用いることが好ましい。架橋剤の種類としては、熱可塑性樹脂が有するカルボン酸基、水酸基、アミノ基、メルカプタン基などの官能基と反応する反応性基を複数有する架橋剤が好ましい。好ましい反応性基の種類としては、カルボジイミド基、オキサゾリン基、イソシアネート基、エポキシ基、メラミンなどが挙げられる。これらの反応性基を複数有する化合物としては、上市されている市販品として、例えば、カルボジライト（日清紡社製）、エポクロス（日本触媒社製）、デナコール（ナガセケムテックス社製）、ベッカミン（北日本ＤＩＣ社製）などの架橋剤を挙げることができる。
架橋剤の添加量は、熱可塑性樹脂が有する官能基と架橋剤の反応性基とが等量となるように調合することが好ましいが、適切な膜物性を得るために、架橋剤の添加量を適宜増減してもよい。
【００５５】
易接着層上にめっき下塗りポリマー層を設ける場合には、易接着層は、以下に詳述するめっき下塗りポリマー層に含まれる、金属粒子又はその前駆体と相互作用する官能基及び重合性基を有する高分子化合物との間で、相互作用し得る活性点を発生する活性種を含有することが好ましい。易接着層は、例えば、ラジカル重合開始剤を含有する重合開始層や、重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる重合開始層であることが好ましい。より具体的には、易接着層は、高分子化合物とラジカル重合開始剤とを含む層や、重合性化合物とラジカル重合開始剤とを含む層、又は重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる層が好ましい。
重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる層としては、例えば、特開２００５−３０７１４０号公報の段落［００１８］〜［００７８］に記載の重合開始部位を骨格中に有するポリイミドが挙げられる。
【００５６】
さらに、易接着層を形成する際に、層内での架橋を進めるために重合性の二重結合を有する化合物、具体的には、アクリレート化合物、メタクリレート化合物を用いてもよく、特に、多官能のものを用いることが好ましい。その他、重合性の二重結合を有する化合物として、熱硬化性樹脂、又は熱可塑性樹脂、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等に対し、その一部を、メタクリル酸やアクリル酸等を用いて、（メタ）アクリル化させた樹脂を用いてもよい。
【００５７】
本発明における易接着層には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、接着性付与剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤を１種又は２種以上添加してもよい。
【００５８】
本発明における易接着層の厚みは、一般に、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲が好ましく、０．０５μｍ〜５μｍの範囲がより好ましく、０．０５μｍ〜３μｍの範囲が更に好ましい。
【００５９】
〔めっき下塗りポリマー層〕
本発明におけるめっき下塗りポリマー層は、めっき下塗りポリマーと、還元された金属粒子とを少なくとも有する。本発明におけるめっき下塗りポリマー層は、金属反射層を湿式法であるめっき法により形成する際に好適に用いられる。
【００６０】
めっき下塗りポリマー層は、金属前駆体と後述するめっき下塗りポリマーとを含む組成物を用いて、樹脂基材上に塗布等の方法により金属前駆体を含むめっき下塗りポリマー層を形成するか、あるいは、後述のめっき下塗りポリマーを含む組成物を用いて樹脂基材上に層を形成した後、この層に金属前駆体を含む組成物を浸漬等の方法によって接触させることにより金属前駆体を含むポリマー層を形成し、さらにめっき下塗りポリマー層に含まれる金属前駆体を還元することで、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を形成することが好ましい。
【００６１】
（めっき下塗りポリマー）
めっき下塗りポリマーは、金属前駆体と相互作用する官能基（以後、適宜「相互作用性基」と称する。）を少なくとも有するとともに、耐水性、耐薬品性の観点から、必要に応じて、重合性基を有することが好ましい。
めっき下塗りポリマーの主骨格としては、アクリルポリマー、ポリエーテル、ポリアクリルアミド、ポリアミド、ポリイミド、メタクリルポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、エチレンアクリル酸共重合体等が好ましいが、アクリルポリマーであることがより好ましい。
めっき下塗りポリマーは、目的に応じて、重合性基を含む構成単位、及び相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位を含んでいてもよい。重合性基を含む構成単位、及び相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位（以下、適宜、他の構成単位と称する。）を含むことによって、めっき下塗り組成物としたときに、水又は有機溶剤への溶解性に優れ、均一なめっき下塗り層を形成することができる。
【００６２】
めっき下塗りポリマーの好ましい態様として、相互作用性基としての酸性基と重合性基とを側鎖に有するアクリルポリマーが挙げられる。
以下、めっき下塗りポリマーに含まれる重合性基、相互作用性基、及びその特性等について詳述する。
【００６３】
−重合性基−
めっき下塗りポリマーが有する重合性基は、コロナ処理、プラズマ処理などのエネルギー付与により、ポリマー同士、又は、ポリマーと下地層（樹脂基材若しくは樹脂基材上に設けられた易接着層又は下塗り層）との間で化学結合を形成し得る官能基であればよい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基等が挙げられる。なかでも、反応性の観点から、ラジカル重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、スチリル基、ビニル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。なかでも、メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、及びメタクリルアミド基が好ましく、中でも、ラジカル重合反応性、及び合成汎用性の点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、アクリルアミド基、及びメタクリルアミド基が好ましく、耐アルカリ性の観点からアクリルアミド基、及びメタクリルアミド基が更に好ましい。
なかでも、アクリルポリマーに導入される重合性基としては、（メタ）アクリレート基又は（メタ）アクリルアミド基等の（メタ）アクリル基、カルボン酸のビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基等の各種重合性基が好ましい。
【００６４】
−相互作用性基−
めっき下塗りポリマーが有する相互作用性基は、金属前駆体と相互作用する官能基（例えば、配位性基、金属イオン吸着性基等）であり、金属前駆体と静電相互作用を形成可能な官能基、あるいは、金属前駆体と配位形成可能な含窒素官能基、含硫黄官能基、含酸素官能基等を使用することができる。
相互作用性基としてより具体的には、アミノ基、アミド基、イミド基、ウレア基、トリアゾール環、イミダゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピロリジン基、ピラゾール基、アルキルアミン構造を含む基、シアノ基、シアネート基（Ｒ−Ｏ−ＣＮ）等の含窒素官能基；エーテル基、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、カーボネート基、カルボニル基、エステル基、Ｎ−オキシド構造を含む基、Ｓ−オキシド構造を含む基、Ｎ−ヒドロキシ構造を含む基等の含酸素官能基；チオフェン基、チオール基、チオウレア基、スルホキシド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル構造を含む基等の含硫黄官能基；ホスフォート基、ホスフォロアミド基、ホスフィン基、リン酸エステル構造を含む基等の含リン官能基；塩素、臭素等のハロゲン原子を含む基等が挙げられ、塩構造をとり得る官能基においては、それらの塩も使用することができる。
相互作用性基としては、非解離性官能基であっても、イオン性極性基であってもよく、これらが同時に含まれていてもよいが、イオン性極性基が好ましい。
【００６５】
イオン性極性基からなる相互作用性基としては、上記相互作用性基の中でも、めっき下塗りポリマーの樹脂基材（樹脂基材上に上記易接着層が形成されている場合には、易接着層）に対する密着性の観点から、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びボロン酸基が挙げられ、中でも適度な酸性（他の官能基を分解しない）を有する点、他の官能基に影響を与える懸念が少ない点、めっき層との親和性に優れる点、及び原料が入手容易であるという点から、カルボン酸基が特に好ましい。
【００６６】
カルボン酸基等のイオン性極性基は、酸性基を有するラジカル重合性化合物を共重合させることにより、めっき下塗りポリマーに導入することができる。
以下、本発明の使用されるめっき下塗りポリマーの好適な構成については、ラジカル重合性基と非解離性官能基からなる相互作用性基を有するポリマーとして、特開２００９−００７５４０号公報の段落［０１０６］〜［０１１２］に記載のポリマー等が使用できる。また、ラジカル重合性基とイオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２００６−１３５２７１号公報の段落［００６５］〜［００７０］に記載のポリマー等が使用できる。ラジカル重合性基と、非解離性官能基からなる相互作用性基と、イオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２０１０−２４８４６４号公報の段落［００１０］〜［０１２８］、特開２０１０−８４１９６号公報、及び米国特許出願公開２０１０−０８０９６４号明細書の段落［００３０］〜［０１０８］に記載のポリマー等が使用できる。
【００６７】
なお、後述する金属前駆体は、めっき下塗りポリマー層形成後に付与してもよく、また、めっき下塗りポリマー層用組成物に当初から含有させてもよい。めっき下塗りポリマー層形成用組成物に金属前駆体を含有させる場合の金属前駆体の含有量としては、組成物全量に対して、０．５質量％〜１００質量％が好ましく、１質量％〜５０質量％がより好ましい。
【００６８】
めっき下塗りポリマー層は、エネルギー付与に対する感度を高めるために、光重合開始剤、熱重合開始剤等のラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、一般に公知のものが使用される。
但し、エネルギー付与により、めっき下塗りポリマーが樹脂基材や易接着層と相互作用する活性点を生成し得る場合、即ち、上述したポリマー骨格中に重合開始部位を有するポリマーを用いるような場合には、これらのラジカル重合開始剤を添加しなくてもよい。
【００６９】
めっき下塗りポリマー層形成用組成物に含有させるラジカル重合開始剤の量は、めっき下塗りポリマー層形成用組成物の構成に応じて選択されるが、一般的には、めっき下塗りポリマー層形成用組成物中に、０．０５質量％〜３０質量％程度であることが好ましく、０．１質量％〜１０．０質量％程度であることがより好ましい。
【００７０】
めっき下塗りポリマー層は、還元された金属粒子を含むことが好ましい。めっき下塗りポリマー層に含まれる還元された金属粒子は、めっき下塗りポリマー層に、金属前駆体を付与し、この金属前駆体を還元して、金属前駆体を還元された金属粒子とすることによって得られる。金属前駆体をめっき下塗りポリマー層に付与すると、上記相互作用性基に、金属前駆体が相互作用により付着する。
【００７１】
金属前駆体は、還元反応により金属に変化させることで電極として機能するものであれば、特に限定されない。また、金属前駆体としては、金属反射層の形成において、めっきの電極として機能するものが好ましく挙げられる。そのため、金属前駆体は、金属に還元させることで電極として機能するものが好ましい。具体的には、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどの金属イオンが用いられる。金属前駆体である金属イオンは、めっき下塗りポリマーを含む組成物（めっき下塗りポリマー層形成用組成物）に含まれており、樹脂基材上に層を形成した後、還元反応によって０価の金属粒子となる。金属前駆体である金属イオンは、金属塩としてめっき下塗りポリマー層形成用組成物に含まれることが好ましい。
金属イオンとしては、配位可能な官能基の種類、数、及び触媒能の点で、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ｐｄイオンが好ましい。
Ａｇイオンとしては、以下に示す銀化合物が解離したものを好適に用いることができる。銀化合物の具体例としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硝酸銀が好ましい。
Ｃｕイオンを用いる場合、以下に示すような銅化合物が解離したものを好適に用いることができる。銅化合物の具体例としては、硝酸銅、酢酸銅、硫酸銅、シアン化銅、チオシアン酸銅、塩化銅、臭化銅、クロム酸銅、クロラニル酸銅、サリチル酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミド酸銅、ｐ−トルエンスルホン酸銅が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硫酸銅が好ましい。
【００７２】
金属前駆体は、分散液又は溶液（金属前駆体液）として、めっき下塗りポリマー層に付与されることが好ましい。
付与の方法としては、例えば、めっき下塗りポリマーを含む組成物を用いて樹脂基材上にめっき下塗りポリマーを含むポリマー層を形成した後、このめっき下塗りポリマーを含むポリマー層上に金属前駆体を含む組成物（分散液又は溶液）を塗布する方法、あるいは、上めっき下塗りポリマーを含む記ポリマー層が形成された樹脂基材を、金属前駆体を含む組成物（分散液又は溶液）に浸漬する方法が挙げられる。
上記のように、金属前駆体を含む分散液又は溶液を上記ポリマー層に接触させることで、めっき下塗りポリマー中の相互作用基に、ファンデルワールス力のような分子間力による相互作用、又は、孤立電子対による配位結合による相互作用を利用して、金属前駆体を吸着させることができる。
【００７３】
金属前駆体の吸着を充分に行なわせるという観点から、金属前駆体を含む分散液又は溶液中の金属前駆体の濃度は、０．００１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．００５質量％〜３０質量％であることがより好ましい。
金属前駆体の分散液及び溶液に用いる溶媒には、水や有機溶媒が用いられる。水や有機溶剤を含有することで、ポリマー層に対する金属前駆体の浸透性が向上し、相互作用性基に効率よく金属前駆体を吸着させることができる。
【００７４】
金属前駆体のめっき下塗りポリマー層への付与に分散液を用いる場合、金属前駆体の粒子径は、１ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましく、１ｎｍ〜６０ｎｍであることが更に好ましい。この粒子径とすることで、還元された金属粒子の粒子径を所望の大きさに制御することができる。
なお、ここで粒子径とは、平均１次粒子径（体積換算）のことであり、ＳＥＭ（Ｓ−５２００、（株）日立ハイテクマニファクチャ＆サービス製）の画像から読み取ったものである。
【００７５】
さらに、分散液や溶液には、目的に応じて他の添加剤を含有させてもよい。他の添加剤としては、例えば、膨潤剤や、界面活性剤等が挙げられる。
【００７６】
めっき下塗りポリマー層に付与した金属前駆体である金属イオンは、金属活性化液（還元液）により還元する。金属活性化液は、金属前駆体（主に金属イオン）を０価金属に還元できる還元剤と、該還元剤を活性化するためのｐＨ調製剤からなる。
金属活性化液全体に対する還元剤の濃度は、０．０５質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜３０質量％であることがより好ましい。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボランのようなホウ素系還元剤、ホルムアルデヒド、次亜リン酸等の還元剤を用いることが可能である。特に、ホルムアルデヒドを含有するアルカリ水溶液で還元することが好ましい。
【００７７】
金属活性化液全体に対するｐＨ調整剤の濃度は、０．０５質量％〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましい。
ｐＨ調整剤としては、酢酸、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使用することが可能である。
還元時の温度は、１０℃〜１００℃が好ましく、２０℃〜７０℃が更に好ましい。
これら濃度や温度範囲は、還元の際の、金属前駆体の粒子径、ポリマー層の表面粗さ、導電性（表面抵抗値）、還元液の劣化の観点からこの範囲であることが好ましい。
【００７８】
めっき下塗りポリマー層に含まれる還元された金属粒子の粒子径は、反射性能の観点から、１ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましく、１ｎｍ〜６０ｎｍであることが更に好ましい。この範囲内にあることで、めっき後の反射率が良好となる。
なお、粒子径とは、ＳＥＭ（日立ハイテクマニファクチャ＆サービス社製  Ｓ−５２００）画像から読み取ったものである。
【００７９】
還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面抵抗値は、０．００１Ω／□以上１００Ω／□以下であることが好ましく、０．０３Ω／□以上５０Ω／□以下であることがより好ましい。この範囲内であると、均一及び平滑にめっき面が形成され反射率が良好となる。
また、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
このようにして得られた金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層は、既述の金属反射層を湿式法であるめっき法により形成する際に好適に用いられ、めっき下塗りポリマー層を用いてめっき法により形成された金属反射層は、樹脂基板との密着性と表面平滑性に優れる。
【００８０】
樹脂中間層の厚みは、０．０５μｍ以上１０μｍ以下であるのが好ましい。厚みがこの範囲にある場合に、金属反射層の反射率の低下をより抑制する効果が期待され、耐久性がより効果的に高めることができる。樹脂中間層のより好ましい厚みは、０．０５μｍ以上３μｍ以下である。
【００８１】
また、本発明における樹脂中間層は、層中に含まれる外径１μｍ以上の異物の個数が５０個／ｍｍ２以下とされることが好ましい。外径１μｍ以上の異物数が５０個／ｍｍ２以下であることで、樹脂中間層の厚みを一様に保つことができ、異物近傍に亀裂や穴等ができにくい。
樹脂中間層の厚みを上記範囲とした場合に、外径１μｍ以上の異物が混入することによる影響が大きい。すなわち、樹脂中間層に異物が存在する箇所は、異物の体積分の膜成分が減って厚みが薄くなるため、本来樹脂中間層が有すべき耐候性を保てず、異物近傍で層が劣化し、ひいては層内にガスや水分が浸透する起点ができやすい。そのため、保護層のみならず、樹脂中間層において、外径１μｍ以上の異物数を５０個／ｍｍ２以下にすることで、反射層の反射率の低下抑制効果が大きく現れ、ひいてはフィルムミラーの耐久性の向上効果により優れる。
【００８２】
樹脂中間層に混入する異物数は、少ないほど望ましいが、異物を全く含まないことは難しいことから、フィルムミラーとして要求される耐久性をより高める観点から、単位面積あたり３０個／ｍｍ２以下が好適であり、更には１５個／ｍｍ２以下である。
【００８３】
本発明における樹脂中間層において、外径１μｍ以上の異物の個数を５０個／ｍｍ２以下とする方法としては、例えば、既述の保護層において異物の個数を５０個／ｍｍ２以下とする方法と同様の方法を適用することができる。方法の詳細は、保護層の項での既述の通りである。
【００８４】
−樹脂基材−
本発明のフィルムミラーは、樹脂基材を備えている。
樹脂基材を構成する樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；ポリフェニレンサルファイド系樹脂；ポリエーテルサルフォン系樹脂；ポリエチレンサルファイド系樹脂；ポリフェニレンエーテル系樹脂；スチレン系樹脂；セルロースアセテートなどのセルロース系樹脂；等が挙げられる。
これらのうち、フィルムミラーの透明性や耐候性が良好である点で、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂などが好ましい。
【００８５】
樹脂基材の形状については、特に制限はなく、目的とする使用態様により適宜選択すればよい。樹脂基材の形状は、例えば、シート状（平面状）、拡散面、凹面、凸面等の表面形状を有する基材のいずれであってもよい。
【００８６】
樹脂基材の厚みは、基材の形状やフィルムミラーの設置場所などによって適宜選択することができる。樹脂基材が平面状である場合、樹脂基材の厚みの下限値は、力学強度の観点から、２５μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましく、１００μｍ以上が更に好ましい。樹脂基材の厚みの上限値は、特に限定されるものではなく、フレキシブル性、軽量化、及び生産時のハンドリングの観点から規定すればよいが、ロールツーロール（Roll-to-Roll）による製造という観点から、１０００μｍ以下が好ましく、６００μｍ以下がより好ましく、５００μｍ以下が更に好ましい。
【００８７】
樹脂基材を備えていることで、フィルムミラーは、金属基材と接着させることなく、必要な強度と耐久性とを実現すると共に、可撓性をも有する。
【００８８】
〜フィルムミラーの製造方法〜
本発明のフィルムミラーの製造方法は、保護層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上１０μｍ以下の濾材を用いて濾過する第１の濾過工程と、濾過後の保護層形成用組成物を、樹脂基材と樹脂中間層と金属を含む反射層とをこの順に有する重層構造の反射層の上に付与して保護層を形成する保護層形成工程と、を設けて構成されている。本発明のフィルムミラーの製造方法は、必要に応じて、更に、反射層や樹脂中間層を形成する工程をさらに設けて構成することができる。
【００８９】
樹脂基材と、樹脂中間層と、反射層と、保護層と、をこの順で有するフィルムミラーを製造できれば、工程の順序はどのようなものであってもよい。例えば、樹脂基材に対して、樹脂中間層、反射層、保護層を順次形成してもよいし、保護層を有する部材に対して、反射層、樹脂中間層を順次形成した後、樹脂基材を貼り合せてもよい。
【００９０】
以下、本発明のフィルムミラーの製造方法の各工程について、詳細に説明する。
［第１の濾過工程］
本発明における第１の濾過工程では、保護層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上１０μｍ以下の濾材を用いて濾過する。組成物を所定のろ過精度を有する濾材で濾過することで、液中の異物を除去することができ、外径１０μｍ以上の異物の個数を減らすことができる。具体的には、塗布等して形成された保護層の、単位面積あたりにおける外径１０μｍ以上の異物の個数を５０個／ｃｍ２以下に調整することができる。
濾過は、単一の塗布液に対して、１回施してもよいし、２回以上施してもよい。
【００９１】
濾材としては、上市されている市販品を用いることができ、ろ過精度が０．１μｍ以上１０μｍ以下の孔サイズを有する濾過フィルタを適宜選択して用いることができる。具体的な例として、メルクミリポア社製のマイレレクス−ＬＧ、ＬＨなどのシリンジフィルターや、親水性デュラポア、オムニポア、疎水性シュラポア、フロリナート、マイテックスなどのメンブレンフィルター、アドバンテック社製ＤＩＳＭＩＣ−２５ＨＰ，１３ＨＰなどのシリンジフィルターや、親水製ＰＴＦＥタイプのメンブレンフィルター、ポール社製アクロディスクＰＴＦＥシリンジフィルター、ＴＦ（ＰＴＦＥ）ディスクフィルター、プロファイルII、ネクシスＮＸＡ、ネクシスＮＸＴなどのデプスフィルター、プロファイルスターなどのプリーテッドデプスフィルター、ＨＤＣII、ポリファインIIなどのプリーツフィルターなどが挙げられる。
ろ過精度は、保護層を形成したときの外径１０μｍ以上の異物の個数をより低減する観点から、０．１μｍ以上５μｍ以下の範囲であるのが好ましい。
【００９２】
本明細書中において、「ろ過精度」とは、定格ろ過精度で定義されるものである。
「定格ろ過精度」は、ＡＮＳＩ（米国規格協会）の規格（Ｂ９３．３１）に準拠して作成された統一規格であるシングルパス−Ｆ２試験法によって得られるろ過精度であり、フィルター前後の粒子径の比をベータ値（β値）として算出し、βx＝５０００のときの粒径Ｘミクロンを定格ろ過精度とするものである。
【００９３】
また、保護層の異物の個数を５０個／ｃｍ２以下に調整するため、第１の濾過工程は、クリーン環境下で行なわれることが望ましい。クリーン環境下で行なうことで、雰囲気中の浮遊微粒子等の組成物中への混入を抑制することができる。クリーン環境とする方法や清浄度レベル等の詳細については、既述の通りである。
【００９４】
［保護層形成工程］
本発明のフィルムミラーの製造方法は、既述の第１の濾過工程を経て得られた保護層形成用組成物を、樹脂基材と樹脂中間層と金属を含む反射層とをこの順に有する重層構造の反射層の上に付与して保護層を形成する。
【００９５】
保護層の形成方法は、特に限定されず、保護層を構成する材料に適した形成方法であれば、塗布法、キャスト法、貼り合せなど、熱ラミネート法など、任意の形成方法を選択することができる。
但し、保護層を形成したときの異物の個数を５０個／ｃｍ２以下に調整するため、保護層形成工程は、クリーン環境下で行なわれることが望ましい。クリーン環境下で行なうことで、雰囲気中の浮遊微粒子等の保護層中への混入を抑制することができる。クリーン環境とする方法や清浄度レベル等の詳細については、既述の通りである。
また、塗布により保護層を形成する場合、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコーター法、ロールコーター法、エアナイフコーター法、スクリーンコーター法、バーコーター法、カーテンコーター法等の従来公知の塗布法を適用できる。    
【００９６】
以下、樹脂を有する保護層を形成する場合について説明する。
本発明における保護層の形成方法としては、例えば、樹脂及び所望により併用される各成分を含む保護層形成用組成物を溶剤に溶解させ、金属反射層の上に塗布した後、溶剤を減じて保護層を形成する方法、保護層形成用組成物に含まれる樹脂が溶融する温度まで加熱した後、金属反射層の上にキャストして保護層を形成する方法、保護層形成用組成物を用いて予めフィルム状に成形し、得られたフィルムを、粘着剤を介して金属反射層の上に貼り合わせるか、あるいは、熱ラミネート等の方法で金属反射層の上に融着させる等の方法により保護層を形成する方法、等が挙げられる。
【００９７】
密着性に優れた保護層を均一に形成するという観点からは、保護層形成用組成物の固形分濃度は、１質量％〜３０質量％の範囲であることが好ましい。
【００９８】
［第２の濾過工程］
本発明のフィルムミラーの製造方法では、後述の反射層形成工程前に、あらかじめ反射層形成用組成物を濾過する第２の濾過工程を設けることが好ましい。第２の濾過工程を設けることで、反射層中の、外径１μｍ以上の異物の個数を５０個／ｍｍ２以下に調整することができる。
【００９９】
第２の濾過工程では、反射層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上５μｍ以下の濾材を用いて濾過する。組成物を所定のろ過精度を有する濾材で濾過することで、液中の異物を除去することができ、外径１μｍ以上の異物の個数を減らすことができる。具体的には、塗布等して形成された反射層の、単位面積あたりにおける外径１μｍ以上の異物の個数を５０個／ｍｍ２以下に調整することができる。
濾過は、単一の塗布液に対して、１回施してもよいし、２回以上施してもよい。
【０１００】
第２の濾過工程で使用可能な濾材には、上市されている市販品を用いることができ、ろ過精度が０．１μｍ以上５μｍ以下の孔サイズを有する濾過フィルタを適宜選択して用いることができる。具体的な例として、メルクミリポア社製のマイレレクス−ＬＧ、ＬＨなどのシリンジフィルターや、親水性デュラポア、オムニポア、疎水性シュラポア、フロリナート、マイテックスなどのメンブレンフィルター、アドバンテック社製ＤＩＳＭＩＣ−２５ＨＰ，１３ＨＰなどのシリンジフィルターや、親水製ＰＴＦＥタイプのメンブレンフィルター、ポール社製アクロディスクＰＴＦＥシリンジフィルター、ＴＦ（ＰＴＦＥ）ディスクフィルター、プロファイルII、ネクシスＮＸＡ、ネクシスＮＸＴなどのデプスフィルターなどが挙げられる。
ろ過精度は、保護層を形成したときの外径１μｍ以上の異物の個数をより低減する観点から、０．１μｍ以３μｍ以下の範囲であるのが好ましい。
【０１０１】
反射層の異物の個数を５０個／ｍｍ２以下に調整するため、第２の濾過工程は、クリーン環境下で行なわれることが望ましい。クリーン環境下で行なうことで、雰囲気中の浮遊微粒子等の組成物中への混入を抑制することができる。クリーン環境とする方法や清浄度レベル等の詳細については、既述の通りである。
【０１０２】
［反射層形成工程］
本発明のフィルムミラーの製造方法は、既述の第２の濾過工程を経て得られた反射層形成用組成物を、樹脂中間層の上に付与して反射層を形成する工程を設けて構成されている態様が好ましい。
【０１０３】
反射層の形成方法は、特に制限されるものではなく、湿式法又は乾式法のいずれを適用してもよい。湿式法の例として、電気めっき法などのめっき法が挙げられる。乾式法の例として、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
但し、反射層を形成したときの異物の個数を５０個／ｍｍ２以下に調整するため、保護層形成工程は、クリーン環境下で行なわれることが望ましい。クリーン環境下で行なうことで、雰囲気中の浮遊微粒子等の保護層中への混入を抑制することができる。クリーン環境とする方法や清浄度レベル等の詳細については、既述の通りである。
【０１０４】
以下、金属反射層をめっき法により形成する場合について説明する。
めっき法は、真空蒸着法やスパッタ法などの気相成膜法やゾルゲル法や溶剤塗布法などに比べて、成膜対象の表面形状に対応した成膜が可能であることから、均一な膜厚で金属反射層を形成できるので好ましい。
めっき法としては、従来公知の方法を用いることができる。本工程でのめっきに用いられる金属としては、銅、クロム、鉛、ニッケル、金、銀、すず、亜鉛などが挙げられ、フィルムミラーの初期反射性の観点から、銀が好ましい。銀を用いる場合、銀めっき液を調製し、銀めっき液を樹脂中間層又は保護層上に付与してめっき法により銀反射層を形成することができる。
【０１０５】
めっきに用いられる金属化合物としては、例えば、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀等の銀化合物が挙げられる。これらの中でも、環境影響や平滑性の観点から、硝酸銀又はメタンスルホン酸銀が好ましい。
【０１０６】
［第３の濾過工程］
本発明のフィルムミラーの製造方法では、後述の樹脂中間層形成工程前に、あらかじめ樹脂中間層形成用組成物を濾過する第３の濾過工程を設けることが好ましい。第３の濾過工程を設けることで、樹脂中間層中の、外径１μｍ以上の異物の個数を５０個／ｍｍ２以下に調整することができる。
【０１０７】
第３の濾過工程では、樹脂中間層形成用組成物を、ろ過精度が０．１μｍ以上５μｍ以下の濾材を用いて濾過する。組成物を所定のろ過精度を有する濾材で濾過することで、液中の異物を除去することができ、外径１μｍ以上の異物の個数を減らすことができる。具体的には、塗布等して形成された樹脂中間層の、単位面積あたりにおける外径１μｍ以上の異物の個数を５０個／ｍｍ２以下に調整することができる。
濾過は、単一の塗布液に対して、１回施してもよいし、２回以上施してもよい。
【０１０８】
第３の濾過工程で使用可能な濾材には、上市されている市販品を用いることができ、ろ過精度が０．１μｍ以上５μｍ以下の孔サイズを有する濾過フィルタを適宜選択して用いることができる。具体的な例として、メルクミリポア社製のマイレレクス−ＬＧ、ＬＨなどのシリンジフィルターや、親水性デュラポア、オムニポア、疎水性シュラポア、フロリナート、マイテックスなどのメンブレンフィルター、アドバンテック社製ＤＩＳＭＩＣ−２５ＨＰ，１３ＨＰなどのシリンジフィルターや、親水製ＰＴＦＥタイプのメンブレンフィルター、ポール社製アクロディスクＰＴＦＥシリンジフィルター、ＴＦ（ＰＴＦＥ）ディスクフィルター、プロファイルII、ネクシスＮＸＡ、ネクシスＮＸＴなどのデプスフィルター、プロファイルスターなどのプリーテッドデプスフィルター、ＨＤＣII、ポリファインIIなどのプリーツフィルターなどが挙げられる。
ろ過精度は、樹脂中間層を形成したときの外径１μｍ以上の異物の個数をより低減する観点から、０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲であるのが好ましい。
【０１０９】
樹脂中間層の異物の個数を５０個／ｍｍ２以下に調整するため、第３の濾過工程は、クリーン環境下で行なわれることが望ましい。クリーン環境下で行なうことで、雰囲気中の浮遊微粒子等の組成物中への混入を抑制することができる。クリーン環境とする方法や清浄度レベル等の詳細については、既述の通りである。
【０１１０】
［樹脂中間層形成工程］
本発明のフィルムミラーの製造方法は、既述の第３の濾過工程を経て得られた樹脂中間層形成用組成物を、樹脂基材の上に付与して樹脂中間層を形成する工程を設けて構成されている態様が好ましい。
【０１１１】
以下、樹脂中間層を形成する工程について詳述する。
樹脂中間層は、易接着層やめっき下塗りポリマー層を設けて構成することが可能であり、本発明のフィルムミラーの製造方法は、樹脂中間層形成工程として、易接着層を形成する工程、及びめっき下塗りポリマー層を形成する工程を設けて構成されてもよい。
【０１１２】
−易接着層の形成−
本発明における易接着層は、易接着層を構成する各成分を溶解可能な溶媒に溶解させた後、塗布等の方法で樹脂基材に付与し、加熱又は光照射により硬膜化させることにより形成することができる。
易接着層は、加熱及び／又は光照射による硬膜化により形成することが好ましい。特に、加熱により乾燥した後、光照射を行なって予備硬膜化しておくと、重合性化合物を含んでいる場合にはある程度の硬化が予め行なわれる。そのため、易接着層の面上にめっき下塗りポリマー層を固定した後に、易接着層ごと脱落するといった事態が効果的に抑制され得る。
加熱の温度及び時間は、塗布溶剤が充分乾燥し得る条件を選択すればよいが、製造適性の点からは、乾燥温度が１９０℃以下であり、かつ、乾燥時間が１０分以内であることが好ましく、乾燥温度が４０℃以上１８０℃以下であり、かつ、乾燥時間が５分以内であることがより好ましい。
【０１１３】
易接着層は、樹脂基材上に、塗布法、転写法、印刷法等の公知の層形成方法を適用して形成される。
易接着層を塗布にて形成する際に用いる溶媒は、上述のような各成分を溶解し得るものであれば特に制限されない。乾燥の容易性、作業性の観点からは、沸点が高すぎない溶媒が好ましく、具体的には、沸点４０℃以上１５０℃以下程度のものを選択すればよい。
具体的には、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等を使用することができる。上記の例示溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。塗布溶液中の固形分の濃度は、２質量％以上５０質量％以下が適当である。
【０１１４】
−めっき下塗りポリマー層の形成−
めっき下塗りポリマー及び還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層は、金属前駆体とめっき下塗りポリマーとを含む組成物を、樹脂基材又は樹脂基材上に設けられた易接着層の表面に、塗布等することでめっき下塗りポリマー層を形成し、エネルギーを付与する方法、又はめっき下塗りポリマーを含む組成物を用いて樹脂基材又は樹脂基材上に設けられた易接着層の表面に層を形成した後、この層に対して金属前駆体を含む組成物を浸漬等の方法で接触させて金属前駆体を含むポリマー層を形成し、エネルギーを付与する方法、等により好適に形成することができる。
【０１１５】
樹脂基材にめっき下塗りポリマー層を直接設ける場合には、予め樹脂基材の表面にエネルギーを付与する等の易接着処理を施しておくことが好ましい。
【０１１６】
めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物の塗布量は、後述する金属前駆体との充分な相互作用形成性の観点から、固形分換算で０．０５ｇ／ｍ２以上１０ｇ／ｍ２以下が好ましく、特に０．３ｇ／ｍ２以上５ｇ／ｍ２以下が好ましい。
樹脂基材等へ塗布しためっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物の塗布液は、２０℃〜６０℃で１秒から２時間乾燥した後、６０℃を超える温度で１秒〜２時間乾燥することが好ましく、２０℃〜６０℃で１秒〜２０分乾燥した後、６０℃を超える温度で１秒〜２０分乾燥することがより好ましい。
【０１１７】
めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物は、樹脂基材、又は樹脂基材上に設けられた易接着層と接触させた後、エネルギーを付与することで、エネルギー付与領域においてポリマーが有する重合性基同士、あるいは、ポリマーが有する重合性基と、樹脂基材又は易接着層との間に相互作用が形成され、樹脂基材上に（あるいは易接着層を介して樹脂基材上に）固定化されたポリマー層が形成される。これにより、樹脂基材とポリマー層とが強固に密着する。
【０１１８】
エネルギー付与方法としては、例えば、加熱や露光が挙げられる。
露光によるエネルギー付与方法としては、具体的には、ＵＶランプ、可視光線等による光照射が可能である。露光で使用する光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線等がある。また、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使用される。
露光パワーは、重合を容易に進行させるため、また、ポリマーの分解を抑制するため、あるいは、ポリマーが良好な相互作用を形成するため、といった観点から１０ｍＪ／ｃｍ２以上８０００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上３０００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲であることがより好ましい。
なお、露光は、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスによる置換を行ない、酸素濃度を６００ｐｐｍ以下、好ましくは４００ｐｐｍ以下に抑制した雰囲気中で行なってもよい。
【０１１９】
加熱によるエネルギー付与は、例えば、一般の熱ヒートローラー、ラミネーター、ホットスタンプ、電熱板、サーマルヘッド、レーザー、送風乾燥機、オーブン、ホットプレート、赤外線乾燥機、加熱ドラム等により行なうことができる。
また、加熱によりエネルギー付与を行なう場合、その温度は、重合を容易に進行させるため、また、樹脂基材の熱変性を抑制するため、２０℃以上２００℃以下の範囲であることが好ましく、４０℃以上１２０℃以下の範囲であることがより好ましい。
【０１２０】
エネルギー付与後は、更に適宜、未反応のポリマーを除去する工程を設けてもよい。
めっき下塗りポリマー層の膜厚は、特に限定されないが、樹脂基材等との密着性の観点から、０．０５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以上５μｍ以下であることがより好ましい。
また、上記方法により得られるポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０１２１】
＜太陽光反射板＞
本発明の太陽光反射板は、本発明のフィルムミラーと支持材とを設けて構成されている。本発明のフィルムミラー単体でも、太陽光の集光に用いることができるが、好ましくは、フィルムミラーを基板に貼り付ける等により保持し、太陽光反射板として好適に用いられる。
【０１２２】
本発明のフィルムミラーは、軽量かつ柔軟であるというフィルムミラーの特性を維持しつつ、耐久性に優れ、高い反射率を長期に亘り発現し得るので、このフィルムミラーを用いて作製された太陽光反射板は、特に太陽光発電用として好適である。
また、太陽の日周運動に追尾させる太陽光追尾システムを備えることで、より効率的な太陽光の集光を実現することが可能である。
【０１２３】
支持材としては、フィルムミラーを保持する基板や枠状の部材などが挙げられる。
基板としては、例えば、樹脂、金属、又はセラミック等が挙げられ、好ましくは金属である。金属基板としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、アルミニウムめっき鋼板、ステンレス鋼板、クロムめっき鋼板等の熱伝導率が高い基板が挙げられ、の中でも、耐食性の観点から、めっき鋼板、ステンレス鋼板、又はアルミニウム板が好ましい。
【０１２４】
フィルムミラーと基板とを貼り合わせる場合、貼り合わせに用いる材料としては、特に制限はなく、例えば、接着剤、ラミネート剤、ヒートシール剤等が挙げられ、鏡面性の観点から、接着剤が好ましい。接着剤としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ニトリルゴム等を主成分とするものが好ましく、耐光性及び接着性の観点から、アクリル系樹脂又はウレタン系樹脂を主成分とする接着剤が特に好ましい。アクリル系樹脂を主成分とするアクリル系接着剤は、特に、耐候性及び耐光性に優れている。また、ウレタン系樹脂を主成分とするウレタン系接着剤は、ポリイソシアネートとポリオールとからなる２液混合型の接着剤を用いることで、強固な接着強度を得ることが可能となる。
【実施例】
【０１２５】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０１２６】
［樹脂中間層の形成］
樹脂中間層として、以下のようにして、めっき下塗りポリマー層を形成した。
−めっき下塗りポリマー層形成用塗布液の調製−
下記構造のアクリルポリマー１を７部、１−メトキシ−２プロパノール７４部、及び水１９部の混合溶液に、光重合開始剤（エサキュアＫＴＯ−４６、ランベルディー社製）０．３５部を添加し、攪拌することにより、めっき下塗りポリマー層形成用塗布液（アクリルポリマー溶液；樹脂中間層形成用塗布液）を調製した。調製しためっき下塗りポリマー層形成用塗布液に対して、下記表１に示す濾過フィルタを通して濾過処理を施し、混入している異物を除去した。
【０１２７】
【化１】
2014199292.tif 000002
【０１２８】
−めっき下塗りポリマー層の形成−
樹脂基材としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（コスモシャインＡ−４３００、厚さ：１００μｍ、東洋紡社製）の表面に、上記の方法により調製しためっき下塗りポリマー層形成用塗布液を、乾燥後の膜厚が約０．５５μｍとなるようにバーコート法により塗布した。塗布後、２５℃で１０分間、及び８０℃で５分間乾燥させた。その後、ＵＶ照射装置（ＵＶランプ：メタルハライドランプ、ＧＳユアサ社製）を用いて、ＵＶ露光（波長：２５４ｎｍ、ＵＶ露光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）した。次いで、ＵＶ露光後のＰＥＴフィルムを、１質量％の炭酸水素ナトリウム水溶液に５分間浸漬させた後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、未反応のポリマーを除去した。
以上のようにして、ＰＥＴフィルムの表面に、樹脂中間層（アンダーコート層）として、厚み０．５μｍのめっき下塗りポリマー層を形成した。
【０１２９】
（３）還元金属粒子の付与
−金属前駆体の付与−
金属前駆体を含む溶液として、硝酸銀の１質量％水溶液を調製した。上記のようにめっき下塗りポリマー層が形成されたＰＥＴフィルムを、２５℃に温調した１質量％の硝酸銀水溶液に５分間浸漬させた。その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、金属前駆体の付与を行なった。
【０１３０】
−金属前駆体の還元−
続いて、還元液として、０．１４質量％の水酸化ナトリウムを含有する０．２５質量％のホルムアルデヒド水溶液を調製した。金属前駆体が付与されたＰＥＴフィルムを、２５℃に温調した上記の還元液に１分間浸漬させた。その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、金属前駆体を還元し、金属粒子を付着させた。
還元後の表面抵抗値を、表面抵抗計を用いて測定したところ、約１０Ω／□であった。また、表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、約７ｎｍであった。さらに、還元後の金属の粒子径を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて測定したところ、約５０ｎｍであった。
【０１３１】
上記の樹脂中間層を形成する一連の工程は、空気中の浮遊塵埃を低減するため、清浄用フィルタにより清浄しているクラス１００００のクリーン環境下で行なった。
【０１３２】
［銀反射層の形成］
−前処理−
電気めっきの前処理として、上記にて得られた還元された金属の粒子を含むめっき下塗りポリマー層を表面に有するＰＥＴフィルムを、２５℃に温調したダインクリーナーＡＣ１００（大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に３０秒間浸漬させた。その後、数回洗浄した。続けて、同じく電気めっきの前処理として、ダインシルバーＡＣＣ（主成分：メタンスルホン酸、大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に１０秒間浸漬させ、数回洗浄した。
【０１３３】
−電気めっき−
次に、電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（主成分：メタンスルホン酸銀、大和化成（株）製）を、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ８．０に調整した。ｐＨ調整後の電気めっき液に対して、下記表１に示す濾過フィルタを通して濾過処理を施し、混入している異物を除去した。続いて、この電気めっき液に、上記のようにして前処理を行なったＰＥＴフィルムを浸漬させ、０．５Ａ／ｃｍ２にて２０秒間めっきした。
その後、電気めっきの後処理として、めっき後のＰＥＴフィルムを、ダインシルバーＡＣＣ（商品名：大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に９０秒間浸漬させた後、数回洗浄した。
以上のようにして、厚み０．１μｍの銀反射層を形成した。この銀反射層の表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、約４ｎｍであった。
【０１３４】
上記の銀反射層を形成する一連の工程は、空気中の浮遊塵埃を低減するため、清浄用フィルタにより清浄しているクラス１００００のクリーン環境下で行なった。
【０１３５】
［保護層の形成］
下記組成中の各成分を混合し、下記表１に示す濾過フィルタを通して濾過処理を施して異物を除去することにより、保護層形成用塗布液を調製した。続いて、この保護層形成用塗布液を、銀反射層のめっき処理面に乾燥膜厚が１０μｍとなるようにバーコート法により塗布し、１３０℃で１分間乾燥させることにより、保護層を形成した。
【０１３６】
<保護層形成用塗布液の組成>
・アクリル樹脂                                              ・・・２１部
（ダイヤナールＢＲ−１０２、三菱レーヨン（株）製；バインダー）
・ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤                          ・・・４部
（Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０、住友化学（株）製；紫外線吸収剤）
・シクロヘキサノン（溶剤）                                  ・・・５部
・メチルエチルケトン（溶剤）                                ・・・７０部
・フッ素系界面活性剤                                        ・・・０．０４部
（メガファックＦ−７８０Ｆ（固形分：３０質量％）、ＤＩＣ（株）製；塗布助剤）
【０１３７】
上記の保護層を形成する一連の工程は、空気中の浮遊塵埃を低減するため、清浄用フィルタにより清浄しているクラス１００００のクリーン環境下で行なった。
【０１３８】
以上のようにして、ＰＥＴフィルム／めっき下塗りポリマー層／銀反射層／保護層の重層構造からなるフィルムミラーを作製した。
【０１３９】
［評価］
上記のようにして作製したフィルムミラーについて、下記の測定、評価を行なった。測定及び評価の結果は、下記表１に示す。
【０１４０】
−１．保護層における異物数−
作製した各フィルムミラーから１０ｃｍ角のサンプル片を５箇所から切り出し、その各々について、最外層である保護層を、デジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００（キーエンス社）で５００倍の倍率で観察して、外径（異物の最大長さ）が１０μｍ以上の異物の個数（個／ｃｍ２）を計測した。そして、計測値の平均値を求めた。
【０１４１】
−２．樹脂中間層における異物数−
作製した各フィルムミラーの保護層を、混合溶剤（シクロヘキサノン：ＭＥＫ［質量比］＝７０：５の混合液）で溶解除去し、アセトン洗浄した。その後、６０質量％濃硝酸水溶液で銀反射膜を溶解除去して、純水で洗浄したサンプルから１０ｃｍ角のサンプル片を５箇所から切り出した。そのサンプル片の各々について、デジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００（キーエンス社）で３０００倍の倍率で観察して、外径（異物の最大長さ）が１μｍ以上の異物の個数（個／ｍｍ２）を計測した。そして、計測値の平均値を求めた。
【０１４２】
−３．銀反射層における異物数−
作製した各フィルムミラーの保護層を、混合溶剤（シクロヘキサノン：ＭＥＫ［質量比］＝７０：５の混合液）で溶解除去し、アセトンで洗浄したサンプルから、１０ｃｍ角のサンプル片を５箇所から切り出した。そのサンプル片の各々について、デジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００（キーエンス社）で３０００倍の倍率で観察して、外径（異物の最大長さ）が１μｍ以上の異物の個数（個／ｍｍ２）を計測した。そして、計測値の平均値を求めた。
【０１４３】
−４．耐久性−
各フィルムミラーを恒温恒湿槽（エスペック社製、ＰＲ−３Ｊ）内に配置して、温度８５℃、湿度８５％ＲＨの環境条件下で１０００時間放置し、その際のフィルムミラーの波長４５０ｎｍの光の反射率の低下（＝放置前の反射率（％）−放置後の反射率（％））を求め、下記の評価基準に従って評価した。反射率の測定は、紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所社製）を用いて行なった。耐久性は、実用上の観点から、評価レベルＡ〜Ｃが許容範囲である。
<評価基準>
Ａ：反射率の低下が３％未満である。
Ｂ：反射率の低下が３％以上５％未満である。
Ｃ：反射率の低下が５％以上１０％未満である。
Ｄ：反射率の低下が１０％以上である。
【０１４４】
【表１】
2014199292.tif 000003
【０１４５】
表１中の濾過フィルタの詳細は以下の通りである。
・ろ過精度１０μｍの濾過フィルタ：オムニポアＪＣＷＰ（メルクミリポア社製）
・ろ過精度５μｍの濾過フィルタ：オムニポアＪＭＷＰ（メルクミリポア社製）
・ろ過精度１μｍの濾過フィルタ：オムニポアＪＡＷＰ（メルクミリポア社製）
・ろ過精度０．５μｍの濾過フィルタ：オムニポアＪＨＷＰ（メルクミリポア社製）
【０１４６】
表１に示すように、保護層中において、外径１０μｍ以上の異物数が５０個／ｃｍ２以下である実施例では、異物数が５０個／ｃｍ２を超える比較例に比べ、反射率の低下、すなわち銀の劣化が抑えられており、優れた耐久性能を示した。また、保護層中の異物数が５０個／ｃｍ２以下であっても、銀反射層及び／又は樹脂中間層における外径１μｍ以上の異物数が５０個／ｍｍ２を超えると、銀の劣化抑制効果が低下し、反射率の低下が生じて耐久性が低下する傾向がみられた。
一方、保護層中における外径１０μｍ以上の異物数が５０個／ｃｍ２を超える比較例では、いずれも経時での反射率の低下が著しく、所望とする耐久性を確保することができなかった。