(57)【要約】【課題】タッチパネル用基材上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を有する保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法、そのような保護膜を形成することができる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに、保護膜付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネルを提供すること。【解決手段】本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法は、タッチパネル用基材上に、（メタ）アクリル酸由来の構成単位を３〜２０質量％含むバインダーポリマーと、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の所定部分以外を除去し、上記基材の一部又は全部を被覆する上記感光層の上記所定部分の硬化物からなる保護膜を形成することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネル用基材上に、（メタ）アクリル酸由来の構成単位を３〜２０質量％含むバインダーポリマーと、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記基材の一部又は全部を被覆する前記感光層の前記所定部分の硬化物からなる保護膜を形成する、保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項２】
前記光重合性化合物が、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及びグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む、請求項１に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項３】
前記感光層は、４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上である、請求項１又は２に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項４】
前記感光層は、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項５】
前記感光性樹脂組成物が、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項６】
前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項７】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた前記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を前記基材上に転写して前記感光層を設ける、請求項１〜６のいずれか一項に記載の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法。
【請求項８】
（メタ）アクリル酸由来の構成単位を３〜２０質量％含むバインダーポリマーと、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、タッチパネル用基材の保護膜形成に用いられる、感光性樹脂組成物。
【請求項９】
前記光重合性化合物が、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及びグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む、請求項８に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
保護膜を形成したときの可視光線透過率の最小値が９０％以上である、請求項８又は９に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
保護膜を形成したときのＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０である、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１２】
トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有する、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１３】
前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１４】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた請求項８〜１３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える、感光性エレメント。
【請求項１５】
前記感光層の厚みが１０μｍ以下である、請求項１４に記載の感光性エレメント。
【請求項１６】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法により得られる保護膜付きタッチパネル用基材を備える、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法に関し、特には静電容量方式タッチパネルの電極の保護に好適な保護膜の形成方法、これに用いる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコン、テレビ等の大型電子機器からカーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器などには液晶表示素子又はタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これらの液晶表示素子又はタッチパネルには透明導電電極材からなる電極が設けられている。透明導電電極材としては、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、酸化インジウム又は酸化スズが知られている。これらの材料は高い可視光透過率を示すことから液晶表示素子用基板等に用いる電極材として主流になっている。
【０００３】
タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されている。近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、導電体である指先がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間で静電容量が結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。
【０００４】
特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備える。その操作性の良さから、携帯電話、携帯型音楽プレーヤといった小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として、投影型静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。
【０００５】
一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸とによる２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、当該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。これらの電極としてはＩＴＯが用いられる。
【０００６】
ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために、金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。一般的には金属配線には、銅が使用される。
【０００７】
しかしながら、上述のようなタッチパネルにおいては、指先に接触される際に水分、塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、金属配線が腐食し、電極と駆動用回路との間の電気抵抗の増加、又は、断線のおそれがあった。
【０００８】
金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁層を形成した静電容量方式の投影型タッチパネルが開示されている（例えば、特許文献１）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法はプラズマＣＶＤ法を用いるため、高温処理が必要となり基材が限定される、製造コストが高くなる等の問題があった。
【０００９】
ところで、必要な箇所にレジスト膜を設ける方法として、所定の基材上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設けて、この感光層を露光及び現像する方法が知られている（例えば、特許文献２〜４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１１−２８５９４号公報
【特許文献２】特開平７−２５３６６６号公報
【特許文献３】特開２００５−９９６４７号公報
【特許文献４】特開平１１−１３３６１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
感光性樹脂組成物による保護膜の作製は、プラズマＣＶＤ法に比べてコストの削減が期待できる。しかし、タッチパネル用基材上に保護膜を形成する場合、保護膜の厚みが大きいと、膜がある箇所と膜がない箇所とで段差が目立つことがある。そのため、保護膜はできるだけ薄くする必要がある。しかし、厚み１０μｍ以下のレベルにおいて、感光性樹脂組成物から形成される保護膜の防錆性について検討された例はなかった。
【００１２】
本発明は、所定のタッチパネル用基材上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を有する保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法を提供することを目的とする。そのような保護膜を形成することができる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに、保護膜付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、特定のバインダーポリマー、特定の光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物が充分な現像性を有するとともに、光硬化によって形成した保護膜が１０μｍ以下の厚みであっても充分な防錆性を示し、銅等の金属の腐食を充分に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法は、タッチパネル用基材上に、（メタ）アクリル酸由来の構成単位を３〜２０質量％含むバインダーポリマーと、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の所定部分以外を除去し、上記基材の一部又は全部を被覆する上記感光層の上記所定部分の硬化物からなる保護膜を形成することを特徴とする。
【００１５】
本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法によれば、上記特定の感光性樹脂組成物を用いることにより、現像性及び基材への密着性を確保しつつ、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。本発明によれば、感光性樹脂組成物を用いて美観と防錆性の双方が充分である保護膜を形成できることから、タッチパネルの製造における製造コストの低減を図ることが可能となる。
【００１６】
防錆性をより向上させる観点から、上記光重合性化合物が、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及びグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。
【００１７】
タッチパネルの視認性を充分に確保する観点から、上記感光層は４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０％以上であることが好ましい。この場合、センシング領域の電極を被覆する保護膜の形成に好適である。
【００１８】
また、タッチパネルの視認性を更に向上させる観点から、上記感光層はＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０であることが好ましい。この場合、センシング領域の電極を被覆する保護膜の形成に好適である。
【００１９】
さらに、現像性と防錆性とを両立させる観点から、上記感光性樹脂組成物がトリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有することが好ましい。この場合、現像性と防錆性とを両立することができ、良好なパターンで防錆性を有する保護膜を形成することができる。
【００２０】
光重合開始剤が、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。光開始剤として、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有させることにより、感光層が薄い場合であっても、充分な解像度でパターンを形成することができる。
【００２１】
タッチパネルの視認性及び美観を考慮すると、保護膜の透明性はより高いことが望ましい。しかし、その一方で、透明性が高い薄膜の感光層をパターニングする場合、解像性が低下する傾向にあることを本発明者らは見出している。この原因について本発明者らは、感光層の厚みが小さくなると、基材からの光散乱の影響を受けやすく、ハレーションが発生するためと考えている。
【００２２】
これに対し、本発明においては上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することによって、充分な解像度でパターン形成が可能となる。
【００２３】
なお、上記の効果が得られる理由を、オキシムエステル化合物に含まれるオキシム部位又はホスフィンオキサイド化合物に含まれるホスフィンオキサイド部位が、比較的高い光分解効率を有しつつも僅かな漏れ光では分解しない適度な閾値を有するために、漏れ光による影響が抑制された結果であると、本発明者らは推察する。
【００２４】
本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法においては、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を上記基材上に転写して上記感光層を設けることができる。この場合、感光性エレメントを用いることにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶媒乾燥工程が短縮できる等、製造工程の短縮及びコスト低減に大きく貢献することができる。
【００２５】
本発明はまた、（メタ）アクリル酸由来の構成単位を３〜２０質量％含むバインダーポリマーと、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、タッチパネル用基材の保護膜形成に用いられる感光性樹脂組成物を提供する。
【００２６】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、所定のタッチパネル用基材上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。
【００２７】
タッチパネルの視認性を充分に確保する観点から、本発明の感光性樹脂組成物は、保護膜を形成したときの可視光線透過率の最小値が９０％以上であることが好ましい。
【００２８】
また、タッチパネルの視認性を更に向上させる観点から、本発明の感光性樹脂組成物は、保護膜を形成したときのＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０であることが好ましい。
【００２９】
更に、本発明の感光性樹脂組成物は、現像性と防錆性を両立させる観点から、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を更に含有することが好ましい。
【００３０】
また、本発明の感光性樹脂組成物において、上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。この場合、充分な解像度を有するパターンで、透明性が高い薄膜の保護膜を形成することが可能となる。
【００３１】
本発明はまた、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記本発明に係る感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを提供する。
【００３２】
本発明の感光性エレメントによれば、所定のタッチパネル用基材上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。
【００３３】
上記感光層の厚みは１０μｍ以下とすることができる。
【００３４】
本発明はまた、タッチパネル用基材上に、上記本発明に係る方法により得られる保護膜付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネルを提供する。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、所定のタッチパネル用基材上に、薄膜であっても充分な防錆性を有する保護膜を有する保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法、そのような保護膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに、保護膜付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネルを提供することができる。
【００３６】
また、本発明によれば、静電容量式タッチパネルの金属電極を保護することができる。さらに、本発明によれば、水分、塩分等によって錆が発生しやすい銅等の金属層を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【図３】静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。
【図４】静電容量式のタッチパネルの別の例を示す模式上面図である。
【図５】（ａ）は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は、別の態様を示す部分断面図である。
【図６】透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す平面図である。
【図７】透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す一部切欠き斜視図である。
【図８】図７中のＶＩ−ＶＩ線に沿った部分断面図である。
【図９】透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は透明電極を備える基板を示す一部切欠き斜視図であり、（ｂ）は得られる静電容量式タッチパネルを示す一部切欠き斜視図である。
【図１０】透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は図９中のＶＩＩＩａ−ＶＩＩＩａ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は絶縁膜を設ける工程を示す部分断面図であり、（ｃ）は図９中のＶＩＩＩｃ−ＶＩＩＩｃ線に沿った部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。特に、本発明の感光性樹脂組成物は、透明性及び防錆性に優れるものであるため、タッチパネル（タッチセンサー）用の基材、特に電極又は配線の形成部位を保護する目的であれば、タッチパネルの構成の変化に寄らず好適に用いることができる。具体的には、タッチパネルの構成がカバーガラス、タッチパネル、液晶パネルの３枚構成から、カバーガラス一体型、オンセル型に変更された際にも、タッチパネル（タッチセンサー）の電極又は配線形成部位を保護する目的であれば好適に用いることができる。
【００３９】
本明細書においてタッチパネル用基材の保護膜は、電極を有するセンシング領域、金属配線を有する額縁領域、又はその他の領域に設けることができる。タッチパネル用基材の保護膜は、いずれかの領域のみに設けてもよく、複数の領域に設けてもよい。さらには、センシング領域に形成された電極の一部に設ける等、保護膜を設ける位置及び範囲は、その使用の目的等に応じて適宜選択することが可能である。
【００４０】
また、本明細書において、透明性に優れるとは、４００〜７００ｎｍの可視光を９０％以上透過することを意味し、光をある程度散乱しても透明の概念に含まれる。
【００４１】
なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。また、「（ポリ）オキシエチレン鎖」とは、オキシエチレン鎖又はポリオキシエチレン鎖を意味し、「（ポリ）オキシプロピレン鎖」とは、オキシプロピレン鎖又はポリオキシプロピレン鎖を意味する。さらに「（ＥＯ）変性」とは、（ポリ）オキシエチレン鎖を有することを意味する。
【００４２】
また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００４３】
さらに本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
【００４４】
図１は、本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、支持フィルム１０上に設けられた本発明に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０と、感光層２０の支持フィルム１０とは反対側に設けられた保護フィルム３０とからなる。
【００４５】
本実施形態の感光性エレメント１は、タッチパネル用基材の保護膜の形成に好適に用いることができる。
【００４６】
支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなるフィルムが挙げられる。
【００４７】
支持フィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましく、２０〜３５μｍであることが特に好ましい。
【００４８】
感光層２０を構成する本発明に係る感光性樹脂組成物は、（メタ）アクリル酸由来の構成単位を３〜２０質量％含むバインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、を含有する。
【００４９】
本実施形態において、（Ａ）成分であるバインダーポリマーは、（ａ１）（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有する重合体である。（Ａ）成分としては、（ａ１）（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、及び（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。
【００５０】
（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、及び（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステルが挙げられる。
【００５１】
上記重合体及び上記共重合体は、更に、（ａ１）成分及び／又は（ａ２）成分と共重合しうるその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。
【００５２】
上記の（ａ１）成分及び／又は（ａ２）成分と共重合し得るその他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、スチレン、及びビニルトルエンが挙げられる。（Ａ）成分であるバインダーポリマーを合成する際、上記のモノマーは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５３】
（Ａ）成分における（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量は、（Ａ）成分を構成するモノマーの全質量を基準として、３〜２０質量％であるが、防錆性にさらに優れる点では、１９質量％以下であることが好ましく、１８質量％以下であることがより好ましく、１７質量％以下であることが更に好ましく、１６質量％以下であることが特に好ましい。また、上記含有量は、アルカリ現像性に優れる点では、４質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、８質量％以上であることが更に好ましく、１０質量％以上であることが特に好ましい。
【００５４】
本実施形態においては、（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量が上記範囲内にある（Ａ）成分と、上記条件を満たす（Ｂ）成分とを組み合わせて用いることにより、現像性及び基材への密着性を確保しつつ、１０μｍ以下の厚みで充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。よって、本実施形態に係る感光性樹脂組成物によれば、美観と防錆性とを両立できる保護膜を形成することができる。
【００５５】
膜特性を考慮した従来の感光性エレメントでは、通常１０μｍを超える厚みで感光層が形成され、このときの現像性を確保するために感光性樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーの（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量を調整することが行われる。現像性を確保する観点から、通常、（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量は２０質量％より大きい値に設定される。このような感光性樹脂組成物を用いた場合、電極上に１０μｍ以下の厚みで保護膜を形成すると、充分な防錆性を得ることができなかった。この原因を本発明者らは、１０μｍ以下の薄膜の場合、水分、塩分等の腐食成分が膜内に含まれやすくなり、さらにこの傾向はバインダーポリマーに含まれるカルボキシル基によって大きくなるためと推察する。酸価が低すぎると、充分な現像性又は基材への密着性を確保することが困難となる傾向にあるが、本実施形態においては、適度な（メタ）アクリル酸由来の構成単位の含有量を有する上記（Ａ）成分と、防錆性を更に向上させることができる上記（Ｂ）成分とを組み合わせることにより、防錆性と現像性とを高水準で両立できると考えられる。
【００５６】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、次のようにして測定することができる。
すなわち、まず、酸価の測定対象であるバインダーポリマー１ｇを精秤する。上記精秤したバインダーポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１Ｎの水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用いて滴定を行う。測定対象であるバインダーポリマーのアセトン溶液を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を算出することで、酸価を求める。バインダーポリマーを合成溶媒、希釈溶媒等と混合した溶液を測定対象とする場合には、次式により酸価を算出する。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定したバインダーポリマーを含有する溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定したバインダーポリマーを含有する溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
なお、バインダーポリマーを合成溶媒、希釈溶媒等の揮発分と混合した状態で配合する場合は、精秤前に予め、揮発分の沸点よりも１０℃以上高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去してから酸価を測定することもできる。
【００５７】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの分子量は、特に制限はないが、塗布性及び塗膜強度、現像性の見地から、通常、重量平均分子量が１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、５０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量の測定条件は本願明細書の実施例と同一の測定条件とする。
【００５８】
（Ｂ）成分である、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタアクリル酸等）を反応させて得られる化合物、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物などが挙げられる。
【００５９】
上記少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物は、防錆性に優れる点では、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。
【００６０】
本実施形態の感光性樹脂組成物においては、電極腐食の抑制力及び現像容易性の観点から、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、及びグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。
【００６１】
ここで、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジペンタエリスリトールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が６であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜５の化合物が混合していてもよい。
【００６２】
また、上記トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物とは、トリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が３であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜２の化合物が混合していてもよい。
【００６３】
上記少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物の中でも、電極腐食の抑制力及び現像容易性をより向上させる観点から、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタン（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性グリセリン（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、から選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート化合物及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むことがより好ましい。
【００６４】
上記アルキレンオキサイド変性テトラメチロールメタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートを用いることができる。ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートは、ＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製）として入手可能である。
【００６５】
上記の化合物は、１種を単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
【００６６】
本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、それぞれ（Ａ）成分が４０〜８０質量部、（Ｂ）成分が２０〜６０質量部であることが好ましく、（Ａ）成分が５０〜７０質量部、（Ｂ）成分が３０〜５０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が５５〜６５質量部、（Ｂ）成分が３５〜４５質量部であることが更に好ましい。
【００６７】
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、塗布性あるいは感光性エレメントでのフィルム性を充分に確保しつつ、充分な感度が得られ、光硬化性、現像性、及び電極腐食の抑制力を充分に確保することができる。
【００６８】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、上記（Ｂ）成分以外の光重合性化合物を含有することができる。光重合性化合物として、例えば、上記（Ｂ）成分と、一官能モノマー及び二官能モノマーのうちの１種以上とを組み合わせて用いることができる。
【００６９】
一官能モノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分のバインダーポリマーの合成に用いられる好適なモノマーとして例示した（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及びそれらと共重合可能なモノマーが挙げられる。
【００７０】
二官能ビニルモノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリオキシエチレンポリオキシプロピレンジ（メタ）アクリレート（即ち、２，２−ビス（４−アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、水酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）と多価カルボン酸（無水フタル酸等）とのエステル化物等が挙げられる。
【００７１】
（Ｂ）成分である光重合性化合物と、一官能ビニルモノマー又は二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、これらのモノマーの配合割合に特に制限はないが、光硬化性及び電極腐食の抑制力を得る観点から、（Ｂ）成分である光重合性化合物の割合が、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることが更に好ましい。
【００７２】
（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−フェニルグリシン誘導体；クマリン化合物；オキサゾール化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。
【００７３】
これらの中でも、形成される保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物が好ましい。
【００７４】
タッチパネルの視認性及び美観を考慮すると、保護膜の透明性はより高いことが好ましい。一方で、透明性が高い薄膜の感光層をパターニングする場合、解像性が低下する傾向にあることを本発明者らは見出している。この原因については、感光層の厚みが小さくなると、基材からの光散乱の影響を受けやすく、ハレーションが発生するためであると本発明者らは考えている。これに対し、（Ｃ）成分として、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することによって、充分な解像度でパターン形成が可能となる。
【００７５】
なお、上記の効果が得られる理由を、オキシムエステル化合物に含まれるオキシム部位又はホスフィンオキサイド化合物に含まれるホスフィンオキサイド部位が、比較的高い光分解効率を有しつつも僅かな漏れ光では分解しない適度な閾値を有するために、漏れ光による影響が抑制された結果であると、本発明者らは推察する。
【００７６】
オキシムエステル化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）及び一般式（Ｃ−２）で表される化合物が挙げられるが、速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物が好ましい。
【００７７】
【化１】
2014235385.tif 000002
【００７８】
上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を示す。なお、本発明の効果を阻害しない限り、上記一般式（Ｃ−１）中の芳香環上に置換基を有していてもよい。
【００７９】
上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ１は、炭素数３〜１０のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数４〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましい。
【００８０】
【化２】
2014235385.tif 000003
【００８１】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を示し、Ｒ４は、炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ５は、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。ｐ１は０〜３の整数を示す。なお、ｐ１が２以上である場合、複数存在するＲ４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。なお、カルバゾール上には本発明の効果を阻害しない範囲で置換基を有していてもよい。
【００８２】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく、エチル基であることが更に好ましい。
【００８３】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ３は炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましい。
【００８４】
上記一般式（Ｃ−１）で表される化合物としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］等が挙げられる。上記一般式（Ｃ−２）で表される化合物としては、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１（ＢＡＳＦ（株）製、商品名）として入手可能である。また、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２（ＢＡＳＦ（株）製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００８５】
上記一般式（Ｃ−１）の中でも、特に１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が極めて好ましい。上記一般式（Ｃ−２）の中でも、特にエタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）が極めて好ましい。
【００８６】
上記ホスフィンオキサイド化合物としては、下記一般式（Ｃ−３）及び一般式（Ｃ−４）で表される化合物が挙げられる。速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−３）で表される化合物が好ましい。
【００８７】
【化３】
2014235385.tif 000004
【００８８】
上記一般式（Ｃ−３）中、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。一般式（Ｃ−４）中、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。
【００８９】
上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ６、Ｒ７又はＲ８が炭素数１〜２０のアルキル基の場合、及び、上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ９、Ｒ１０又はＲ１１が、炭素数１〜２０のアルキル基の場合、該アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。また該アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。
【００９０】
上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ６、Ｒ７又はＲ８がアリール基の場合、及び、上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ９、Ｒ１０又はＲ１１がアリール基の場合、該アリール基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。
【００９１】
これらの中でも、上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ６、Ｒ７、及びＲ８が、アリール基であることが好ましい。また、上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ９、Ｒ１０及びＲ１１が、アリール基であることが好ましい。
【００９２】
上記一般式（Ｃ−３）で表わされる化合物としては、形成される保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドが好ましい。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドは、例えば、ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）社製、商品名）として商業的に入手可能である。
【００９３】
（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましく、２〜５質量部であることが更に好ましい。
【００９４】
（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、光感度が充分となるとともに、活性光線を照射する際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となること、可視光透過率が低下する等の不具合を抑制することができる。
【００９５】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、防錆性と現像性を両立する点から、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）を更に含有することが好ましい。
【００９６】
上記トリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール、３−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物、３−アミノ−５−メルカプトトリアゾール等のアミノ基を含むトリアゾール化合物が挙げられる。
【００９７】
上記チアジアゾール化合物としては、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２，１，３−ベンゾチアジアゾール等が挙げられる。
【００９８】
上記テトラゾール化合物としては、下記一般式（Ｄ−１）で表わされる化合物が挙げられる。
【００９９】
上記一般式（Ｄ−１）中のＲ１１及びＲ１２は、各々独立に、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アミノ基、メルカプト基、又はカルボキシメチル基を示す。
【０１００】
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【０１０１】
上記一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物の具体例としては、例えば、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−エチル−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾール等が挙げられる。
【０１０２】
（Ｄ）成分としては、上記一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物の水溶性塩を用いることができる。具体例としては、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。
【０１０３】
（Ｄ）成分としては、これらの中でも、電極腐食の抑制力、金属電極との密着性、現像容易性、透明性の観点から、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾールが特に好ましい。
【０１０４】
これらのテトラゾール化合物及びその水溶性塩は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０５】
また、保護膜を設ける電極表面が銅、銀、ニッケル等の金属を有している場合の現像性を更に向上させる観点から、感光性樹脂組成物は、上記化合物の中でもアミノ基を有するテトラゾール化合物を更に含有することが好ましい。この場合、現像残渣を低減することができ、良好なパターンで保護膜を形成することが容易となる。この理由としては、アミノ基を有するテトラゾール化合物の配合によって、現像液に対する溶解性と金属との密着力のバランスが良好となることが考えられる。
【０１０６】
アミノ基を有するテトラゾール化合物を含有する場合、上記の効果が得られることから、本実施形態に係る感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、銅などの金属層を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護するための保護膜の形成に好適である。
【０１０７】
本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜１０．０質量部とすることが好ましく、０．１〜２．０質量部とすることがより好ましく、０．２〜１．０質量部とすることが更に好ましい。
【０１０８】
（Ｄ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、現像性又は解像度が低下する等の不具合を抑制しつつ、電極腐食の抑制力及び金属電極との密着性を向上させる効果を充分に得ることができる。
【０１０９】
本実施形態の感光性樹脂組成物には、その他、必要に応じて、シランカップリング剤等の密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤などを（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【０１１０】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、保護膜を形成したときの４００〜７００ｎｍにおける可視光線透過率の最小値が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。
【０１１１】
ここで、感光性樹脂組成物の可視光透過率は以下のようにして求められる。
まず、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を含有する塗布液を乾燥後の厚みが１０μｍ以下となるように塗布し、これを乾燥することにより、感光性樹脂組成物層（感光層）を形成する。次に、ガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータを用いてラミネートする。こうして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された測定用試料を得る。次に、得られた測定用試料に紫外線を照射して感光層を光硬化した後、得られた保護膜（感光層の硬化物）について、紫外可視分光光度計を用いて、測定波長域４００〜７００ｎｍにおける透過率を測定する。
【０１１２】
一般的な可視光波長域である４００〜７００ｎｍの波長域における透過率の最小値が９０％以上であれば、例えば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合、タッチパネル（タッチセンサー）の額縁領域の金属層（例えば、ＩＴＯ電極上に銅層を形成した層など）を保護したときにセンシング領域の端部から保護膜が見える場合等において、センシング領域での画像表示品質、色合い、又は輝度が低下することを充分抑制することができる。
【０１１３】
また、本実施形態の感光性樹脂組成物は、タッチパネルの視認性を更に向上させる観点から、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０であることが好ましく、０．０〜０．７であることがより好ましく、０．１〜０．５であることが更に好ましい。可視光透過率の最小値が９０％以上である場合と同様に、センシング領域の画像表示品質、色合いの低下防止の観点からも、ｂ＊が、−０．２〜１．０であることが好ましい。なお、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊は、例えばコニカミノルタ製分光測色計「ＣＭ−５」を使用し、厚さ０．７ｍｍのガラス基板に厚みが１０μｍ以下の感光性樹脂組成物層を形成し、紫外線を照射して感光性樹脂組成物層を光硬化した後、Ｄ６５光源、視野角２°に設定して測定することにより求められる。
【０１１４】
本発明の感光性樹脂組成物は、タッチパネル用電極を有する基材上に感光層を形成するために用いることができる。たとえば、感光性樹脂組成物を溶媒に均一に溶解又は分散させて得ることのできる塗布液を調製し、基材上に塗布することで塗膜を形成し、乾燥により溶媒を除去することで感光層を形成することができる。
【０１１５】
溶媒としては、各成分の溶解性、塗膜形成のし易さ等の点から、ケトン、芳香族炭化水素、アルコール、グリコールエーテル、グリコールアルキルエーテル、グリコールアルキルエーテルアセテート、エステル、ジエチレングリコール、クロロホルム、塩化メチレンなどを用いることができる。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いてもよい。
【０１１６】
上記溶媒の中でも、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等を用いることが好ましい。
【０１１７】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、本実施形態の感光性エレメント１のように、感光性フィルムに製膜して用いることが好ましい。感光性フィルムを、タッパネル用電極を有する基材１００上に積層することにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶媒乾燥工程が短縮できる等、製造工程の短縮及びコスト低減に大きく貢献することができる。
【０１１８】
感光性エレメント１の感光層２０は、本実施形態の感光性樹脂組成物を含有する塗布液を調製し、これを支持フィルム１０上に塗布、乾燥することにより形成できる。塗布液は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を構成する各成分を溶媒に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
【０１１９】
溶媒としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム及び塩化メチレンが挙げられる。これら溶媒は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶媒からなる混合溶媒として用いてもよい。
【０１２０】
塗布方法としては、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【０１２１】
乾燥条件に特に制限はないが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３０秒〜３０分とすることが好ましい。
【０１２２】
感光層２０の厚みは、基材、電極等の保護に充分な防錆性等の効果を発揮し、かつ部分的な保護膜形成により生じるタッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が極力小さくなるよう、乾燥後の厚みで１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上９μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上８μｍ以下であることがさらに好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが更に好ましく、３μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１２３】
本実施形態においては、感光層２０の可視光透過率の最小値が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。また、感光層２０が、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０となるよう調整されることが好ましく、０．０〜０．７であることがより好ましく、０．１〜０．５であることが更に好ましい。
【０１２４】
感光層２０の粘度は、感光性エレメント１をロール状とした場合に、感光性エレメント１の端面から感光性樹脂組成物がしみ出すことを１カ月以上防止する点及び感光性エレメント１を切断する際に感光性樹脂組成物の破片が基板に付着して引き起こされる活性光線を照射する際の露光不良、現像残り等を防止する点から、３０℃において、１５〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ｍＰａ・ｓであることが更に好ましい。
【０１２５】
なお、上記の粘度は、感光性樹脂組成物から形成される直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの円形の膜を測定用試料とし、この試料の厚さ方向に、３０℃及び８０℃で１．９６×１０−２Ｎの荷重を加えたときの厚さの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。
【０１２６】
保護フィルム３０（カバーフィルム）としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、及びポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンとの積層フィルム等からなるフィルムが挙げられる。
【０１２７】
保護フィルム３０の厚さは、５〜１００μｍ程度が好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１２８】
感光性エレメント１は、ロール状に巻いて保管し、あるいは使用できる。
【０１２９】
本発明においては、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を、タッチパネル用電極を有する基材上に塗布し、乾燥して、感光性樹脂組成物からなる感光層２０を設けてもよい。この用途の場合においても、感光層は上述した、膜厚、可視光線透過率、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊の条件を満たすことが好ましい。
【０１３０】
次に、本発明に係る保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法について説明する。図２は、本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【０１３１】
本実施形態の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法は、タッチパネル用電極１１０及び１２０を有するタッチパネル用基材１００上に、上記の本実施形態に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０を設ける第１工程と、感光層２０の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、活性光線の照射後に感光層２０の所定部分以外（感光層の活性光線が照射されていない部分）を除去し、電極の一部又は全部を被覆する感光層の所定部分の硬化物からなる保護膜２２を形成する第３工程とを備える。こうして、保護膜付きタッチパネル用基材が得られる。得られる保護膜付きタッチパネル用基材は、保護膜付きタッチパネル用基材を備えるタッチパネル、タッチ入力シートである保護膜２２付きタッチパネル２００に用いることができる。
【０１３２】
本実施形態で使用されるタッチパネル用基材１００としては、一般にタッチパネル（タッチセンサー）用として用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基板が挙げられる。この基板上には、保護膜を形成する対象となるタッチパネル用電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極、ＴＦＴなどが挙げられる。また、基板上には、基板と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。
【０１３３】
図２に示されるタッチパネル用電極１１０及び１２０を有するタッチパネル用基材１００は、例えば、以下の手順で得ることができる。ＰＥＴフィルム等のタッチパネル用基材１００上に、ＩＴＯ、Ｃｕの順にスパッタ法より金属膜を形成した後、金属膜上にエッチング用感光性フィルムを貼り付け、所望のレジストパターンを形成し、不要なＣｕを塩化鉄水溶液等のエッチング液で除去した後、レジストパターンをはく離除去する。
【０１３４】
本実施形態の第１工程では、本実施形態の感光性エレメント１の保護フィルム３０を除去した後、感光性エレメント１を加熱しながら、基材１００のタッチパネル用電極１１０及び１２０が設けられている表面に感光層２０を圧着することにより転写し、積層する（図２の（ａ）を参照）。
【０１３５】
圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
【０１３６】
加熱圧着する場合の加熱温度は、感光層２０とタッチパネル用基材１００との密着性、並びに、感光層２０とタッチパネル用電極１１０及び１２０との密着性を充分確保しながら、感光層２０の構成成分が熱硬化あるいは熱分解されにくいよう、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更に好ましい。
【０１３７】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、感光層２０と基材１００との密着性を充分確保しながら、基材１００の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることが更に好ましい。
【０１３８】
感光性エレメント１を上記のように加熱すれば、基材を予熱処理することは必要ではないが、感光層２０と基材１００との密着性を更に向上させる点から、基材１００を予熱処理することが好ましい。このときの予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。
【０１３９】
本実施形態においては、感光性エレメント１を用いる代わりに、本実施形態の感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液を調製して基材１００のタッチパネル用電極１１０及び１２０が設けられている表面に塗布し、乾燥して感光層２０を形成することができる。
【０１４０】
感光層２０は、上述した膜厚、可視光線透過率、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊の条件を満たすことが好ましい。
【０１４１】
本実施形態の第２工程では、感光層２０の所定部分に、フォトマスク１３０を介して、活性光線Ｌをパターン状に照射する（図２の（ｂ）を参照）。
【０１４２】
活性光線を照射する際、感光層２０上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。感光層２０の保護という点からは、支持フィルム１０として透明な重合体フィルムを用い、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して活性光線を照射することが好ましい。
【０１４３】
活性光線Ｌの照射に用いられる光源としては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びキセノンランプが挙げられ、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【０１４４】
このときの、活性光線Ｌの照射量は、通常、１×１０２〜１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２未満では、光硬化の効果が不充分となる傾向があり、１×１０４Ｊ／ｍ２を超えると、感光層２０が変色する傾向がある。
【０１４５】
本実施形態の第３工程では、活性光線の照射後の感光層２０を現像液で現像して活性光線が照射されていない部分（すなわち、感光層の所定部分以外）を除去し、電極の一部又は全部を被覆する本実施形態の感光層の所定部分の硬化物からなる保護膜２２を形成する（図２の（ｃ）を参照）。形成される保護膜２２は所定のパターンを有することができる。
【０１４６】
なお、活性光線の照射後、感光層２０に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、活性光線が照射されていない部分を現像液により除去する現像が行われる。
【０１４７】
現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶媒等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましい。
【０１４８】
アルカリ水溶液の中でも炭酸ナトリウムの水溶液が好ましい。例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（０．５〜５質量％水溶液）が好適に用いられる。
【０１４９】
現像温度及び時間は、本実施形態の感光性樹脂組成物の現像性に合わせて調整することができる。
【０１５０】
また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶媒等を混入させることができる。
【０１５１】
また、現像後、光硬化後の感光層２０に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。
【０１５２】
さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。
【０１５３】
現像後、必要に応じて、活性光線の照射（例えば、５×１０３〜２×１０４Ｊ／ｍ２）により、硬化物を更に硬化させてもよい。なお、本実施形態の感光性樹脂組成物は、現像後の加熱工程なしでも金属に対して優れた密着性を示すが、必要に応じて、現像後の活性光線の照射の代わりに、又は活性光線の照射と合わせて、加熱処理（８０〜２５０℃）を施してもよい。
【０１５４】
上述のように、本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、タッチパネル用基材の保護膜形成のための使用に好適である。感光性樹脂組成物の上記使用については溶媒と混合した塗布液を用いて保護膜を形成することができる。
【０１５５】
また、本発明は、本発明に係る感光性樹脂組成物からなる感光層の硬化物であるタッチパネル用基材の保護膜の形成材料を提供することができる。このタッチパネル用電極の保護膜形成材料は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を含むことができ、さらに上述した溶媒を含有する塗布液であることが好ましい。
【０１５６】
次に、図３、図４及び図５を用いて、本発明に係る保護膜の使用箇所の一例を説明する。図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基板１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が基板１０１上に設けられている。透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置の静電容量の変化を検出し、Ｘ位置座標及びＹ位置座標とする。
【０１５７】
透明基板１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。本実施形態の感光性樹脂組成物は、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜１２２を形成するために好適に用いることができる。この際に、センシング領域（タッチ画面１０２）にある電極を同時に保護することもできる。図３では、保護膜１２２により、引き出し配線１０５、接続電極１０６、センシング領域の一部電極及び接続端子１０７の一部を保護しているが、保護膜を設ける箇所は適宜変更してもよい。例えば、図４に示すように、タッチ画面１０２を全て保護するように保護膜１２３を設けてもよい。
【０１５８】
図５を用いて、図３に示したタッチパネルにおいて、透明電極と引き出し配線との接続部の断面構造を説明する。図５は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、透明電極１０４と引き出し配線１０５の接続部を説明するための図である。図５の（ａ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。図５の（ａ）に示すように、透明電極１０４の一部、並びに、引き出し配線１０５及び接続電極１０６の全部が、保護膜１２２で覆われている。同様に、透明電極１０３と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。なお、図５の（ｂ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とが直接、電気的に接続されていてもよい。本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、上記構造部分の保護膜形成のための使用に好適である。
【０１５９】
本実施形態に係るタッチパネルの製造方法について説明する。まず、基材１００上に設けられた透明電極１０１上に、透明電極（Ｘ位置座標）１０３を形成する。続いて、絶縁層（図示せず）を介して、透明電極（Ｙ位置座標）１０４を形成する。透明電極１０３及び透明電極１０４は、透明基材１００上に形成した透明電極層を、エッチングする方法等により形成することができる。
【０１６０】
次に、透明基板１０１の表面に、外部回路と接続するための引き出し配線１０５と、この引き出し配線と透明電極１０３及び透明電極１０４を接続する接続電極１０６を形成する。引き出し配線１０５及び接続電極１０６は、透明電極１０３及び透明電極１０４の形成後に形成してもよく、各透明電極形成時に同時に形成してもよい。引き出し配線１０５及び接続電極１０６の形成は、金属スパッタリング後、エッチング法等を用いて形成することができる。引き出し配線１０５は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を使って、スクリーン印刷法を用いて、接続電極１０６を形成するのと同時に形成することができる。次に、引き出し配線１０５と外部回路とを接続するための接続端子１０７を形成する。
【０１６１】
上記工程により形成された透明電極１０３及び透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６、並びに、接続端子１０７を覆うように、本実施形態に係る感光性エレメント１を圧着し、上記電極上に感光層２０を設ける。次に、転写した感光層２０に対し、所望の形状にフォトマスクを介してパターン状に活性光線Ｌを照射する。活性光線Ｌを照射した後、現像を行い、感光層２０の所定部分以外を除去することで、感光層２０の所定部分の硬化物からなる保護膜１２２を形成する。このようにして、保護膜１２２を備えるタッチパネル、すなわち保護膜１２２付きタッチパネル用基材（透明基板１０１）を備えるタッチパネルを製造することができる。
【０１６２】
次に、図６〜図１０を用いて、本発明に係る保護膜の使用箇所を説明する。本発明の保護膜は、例えば、図７〜図１０の保護膜（絶縁膜）１２４としても好適に使用することができる。
【０１６３】
図６は、透明電極（Ｘ位置座標）１０３及び透明電極（Ｙ位置座標）１０４が同一平面上に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す平面図であり、図７は、その一部切欠き斜視図である。図８は、図７中のＶＩ−ＶＩ線に沿った部分断面図である。上記静電容量式タッチパネルは、透明基板１０１上に、静電容量変化を検出して、Ｘ位置座標とする透明電極１０３と、Ｙ位置座標とする透明電極１０４とを有する。これらのＸ、Ｙ位置座標とするそれぞれの透明電極１０３及び透明電極１０４には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバ素子回路（図示せず）の制御回路に接続するための引き出し配線１０５ａ及び引き出し配線１０５ｂを有する。
【０１６４】
透明電極（Ｘ位置座標）１０３と透明電極（Ｙ位置座標）１０４とが交差する部分には、絶縁膜１２４が設けられている。
【０１６５】
透明電極（Ｘ位置座標）１０３及び透明電極（Ｙ位置座標）１０４が同一平面上に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法について説明する。
【０１６６】
静電容量式タッチパネルの製造方法は、例えば、透明導電材料を用いた公知の方法により、透明電極（Ｘ位置座標）１０３と、後にＹ位置座標を検出する透明電極１０４となる透明電極の一部を透明基板１０１上に予め形成した基板を用いてもよい。図９は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は透明電極を備える基板を示す一部切欠き斜視図であり、（ｂ）は得られる静電容量式タッチパネルを示す一部切欠き斜視図である。図１０は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図である。
【０１６７】
まず、図９（ａ）及び図１０（ａ）に示されるような、透明電極（Ｘ位置座標）１０３と、透明電極の一部１０４ａとが予め形成された基板を用意し、透明電極１０３の一部（透明電極の一部１０４ａに挟まれる部分）に絶縁膜１２４を設ける（図１０の（ｂ））。その後、公知の方法により、導電パターンが形成される。この導電パターンにより透明電極のブリッジ部１０４ｂを形成することができる（図１０（ｃ））。この透明電極のブリッジ部１０４ｂにより、予め形成された透明電極の一部１０４ａ同士を導通することができ、透明電極（Ｙ位置座標）１０４が形成される。
【０１６８】
予め形成された透明電極は、例えば、ＩＴＯ等を用いた公知の方法により形成されてもいてもよい。また、引き出し配線１０５ａ，１０５ｂは、透明導電材料の他、Ｃｕ、Ａｇ等の金属などを用いた公知の方法で形成することが可能である。また、引き出し配線１０５ａ,１０５ｂが予め形成された基板を用いてもよい。
【実施例】
【０１６９】
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１７０】
［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却器、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が１２質量％、重量平均分子量が約６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。
【０１７１】
［バインダーポリマー溶液（Ａ２）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が１７．５質量％、重量平均分子量が約８０，０００、酸価が１１５ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ２）を得た。
【０１７２】
［バインダーポリマー溶液（Ａ３）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が２４質量％、重量平均分子量が約３５，０００、酸価が１５６ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ３）を得た。
【０１７３】
［バインダーポリマー溶液（Ａ４）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が３０質量％、重量平均分子量が約４５，０００、酸価が１９５ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ４）を得た。
【０１７４】
［バインダーポリマー溶液（Ａ５）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、（メタ）アクリル酸由来の構成単位が２４質量％、重量平均分子量が約４５，０００、酸価が１５５ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ５）を得た。
【０１７５】
【表１】
2014235385.tif 000005
【０１７６】
なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
ＧＰＣ条件
ポンプ：日立  Ｌ−６０００型（（株）日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
試料濃度：ＮＶ（不揮発分濃度）５０質量％の樹脂溶液を１２０ｍｇ採取、５ｍＬのＴＨＦに溶解
注入量：２００μＬ
圧力：４．９ＭＰａ
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立  Ｌ−３３００型ＲＩ（（株）日立製作所製、製品名）
【０１７７】
［酸価の測定方法］
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、酸価を測定すべきポリマー１．０ｇを精秤した後、精秤したポリマーを三角フラスコに入れ、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、バインダーポリマーのアセトン溶液を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を算出することにより、酸価を求めた。
【０１７８】
（実施例１）
［感光性樹脂組成物を含有する塗布液（Ｖ−１）の調製］
表２に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、保護膜を形成するための感光性樹脂組成物を含有する塗布液（Ｖ−１）を調製した。
【０１７９】
【表２】
2014235385.tif 000006
【０１８０】
［感光性エレメント（Ｅ−１）の作製］
支持フィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、上記で調製した感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する塗布液（Ｖ−１）を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶媒を除去し、感光性樹脂組成物からなる感光層（感光性樹脂組成物層）を形成した。得られた感光層の厚さは５μｍであった。
【０１８１】
次いで、得られた感光層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、感光性エレメント（Ｅ−１）を作製した。
【０１８２】
［保護膜の透過率の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１８３】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化膜からなる保護膜を有する透過率測定用試料を得た。
【０１８４】
次いで、得られた試料を日立製作所製、紫外可視分光光度計（Ｕ−３３１０）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率の最小値を測定した。得られた保護膜の波長４００ｎｍにおける透過率は、波長７００ｎｍにおいて９７％、波長５５０ｎｍにおいて９６％、波長４００ｎｍにおいて９４％であり、４００〜７００ｎｍにおける透過率の最小値は９４％であり、良好な透過率を確保できていた。
【０１８５】
［保護膜のｂ＊の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持体フィルムが積層された基板を作製した。
【０１８６】
次いで、得られた感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持体フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化膜からなる保護膜を有するｂ＊測定用試料を得た。
【０１８７】
次いで、得られた試料をコニカミノルタ（株）製、分光測色計（ＣＭ−５）を使用して、光源設定Ｄ６５、視野角２°でＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊を測定した。
【０１８８】
保護膜のｂ＊は０．４４であり、良好なｂ＊を有していることが確認された。
【０１８９】
［保護膜の塩水噴霧試験（人工汗液耐性評価試験）］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１９０】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化膜からなる保護膜を有する人工汗液耐性評価用試料を得た。
【０１９１】
次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ  ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機（株）製ＳＴＰ−９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。
Ａ  ：  保護膜表面に全く変化なし。
Ｂ  ：  保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ  ：  保護膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ  ：  保護膜表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なく評価はＢであった。
【０１９２】
［感光層の現像残渣試験］
得られた感光性エレメントのカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１９３】
上記で得られた積層体を作製後、２３℃、６０％の条件で２４時間保管した後、活性光線透過部と活性光線遮光部が交互にパターニングされた、ライン／スペースが３００μｍ／３００μｍのフォトマスクを用い、支持フィルム上にフォトマスクを載置し、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、フォトマスク面垂直上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を像的に照射した。
【０１９４】
次いで、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で４０秒間スプレー現像して、感光層を選択的に除去し、パターン形成された保護膜を得た。得られた保護膜付き基板の、選択的に感光層を除去した部分の基材表面状態を顕微鏡で観察し、以下の評点に従って現像残渣を評価した。
Ａ  ：  基材表面に全く変化なし。
Ｂ  ：  基材表面の銅がわずかに変色するが、現像残渣はない。
Ｃ  ：  基材表面の銅がわずかに変色し、現像残渣がわずかに発生する。
Ｄ  ：  現像残渣が発生する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、基材表面の銅がわずかに変色し、現像残渣がわずかに発生し、評価はＣであった。
【０１９５】
［保護膜のクロスカット密着性試験］
得られた感光性エレメントのカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工（株）製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１９６】
次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化膜からなる保護膜を有するクロスカット密着性試験用試料を得た。
【０１９７】
次いで、ＪＩＳ規格（Ｋ５４００）を参考に、１００マスのクロスカット試験を実施した。試験面にカッターナイフを用いて、１×１ｍｍ四方の碁盤目の切り傷を入れ、碁盤目部分にメンディングテープ＃８１０（スリーエム（株）製）を強く圧着させ、テープの端をほぼ０°の角度でゆっくりと引き剥がした後、碁盤目の状態を観察し、以下の評点に従ってクロスカット密着性を評価した。
Ａ    ：  全面積のほぼ１００％が密着している。
Ｂ    ：  全面積のうち９５％以上１００％未満が密着し残っている。
Ｂ〜Ｃ：  全面積のうち８５％以上９５％未満が密着し残っている。
Ｃ    ：  全面積のうち６５％以上８５％未満が密着し残っている。
Ｃ〜Ｄ：  全面積のうち３５％以上６５％未満が密着し残っている。
Ｄ    ：  全面積のうち０％以上３５％未満が密着し残っている。
評価用試料の碁盤目の状態を観察したところ、スパッタ銅上に全面積のうち９５％以上が密着し残っている状態で、評価はＢであった。
【０１９８】
（実施例２〜１２）
表３、４（表中の数値の単位は質量部）に示す感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する溶液を用いた以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、透過率の測定、塩水噴霧試験、現像残渣試験、クロスカット密着性試験を行った。表５に示すように、実施例１〜１２においては、透過率の測定、塩水噴霧耐性評価、クロスカット密着性のいずれも良好な結果であった。
【０１９９】
【表３】
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【０２００】
【表４】
2014235385.tif 000008
【０２０１】
【表５】
2014235385.tif 000009
【０２０２】
（比較例１〜８）
表６、７（表中の数値の単位は質量部）に示す感光性樹脂組成物及び溶媒を含有する溶液を用いた以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、透過率の測定、ｂ＊の測定、塩水噴霧試験、現像残渣試験、クロスカット密着性試験を行った。
【０２０３】
【表６】
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【０２０４】
【表７】
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【０２０５】
【表８】
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【０２０６】
表８に示すように、バインダーポリマー（Ａ３）、（Ａ４）を使用した比較例１、２においては、塩水噴霧耐性（人工汗液耐性）が劣る結果であった。また、光重合性化合物としてエトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）、ポリエチレングリコール＃４００ジメタクリレート（９Ｇ、新中村化学工業（株）製）、ウレタンジアクリレート（ＵＡ−１１、新中村化学工業（株）製）を用いた比較例３〜６においても、塩水噴霧耐性が劣る結果であった。
【０２０７】
表２〜表４、表６、および表７中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ａ）成分
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ２）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１７．５／５２．５／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量８０，０００、酸価１１５ｍｇＫＯＨ／ｇ
他のバインダーポリマー
（Ａ３）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／メタクリル酸ブチル＝２４／４３．５／１５／１７．５（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量３５，０００、酸価１５６ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ４）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル＝３０／３５／３５（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量４５，０００、酸価１９５ｍｇＫＯＨ／ｇ
（Ａ５）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝２４／４６／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量４５，０００、酸価１５５ｍｇＫＯＨ／ｇ
【０２０８】
（Ｂ）成分
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製）
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬（株）製）
ＲＰ−１０４０：ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（日本化薬（株）製）
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）
他の光重合性化合物
ＢＰＥ−５００：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）
９Ｇ：ポリエチレングリコール＃４００ジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）
ＵＡ−１１：ウレタンジアクリレート（新中村化学工業（株）製）
【０２０９】
（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ（株）製）
Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ（株）製）
【０２１０】
（Ｄ）成分
１ＨＴ：１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績（株）製）
ＭＭＴ：１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績（株）製）
ＨＡＴ：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡績（株）製）
３ＭＴ：３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬（株）製）
ＡＴＴ：２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬（株）製）
ＡＭＴ：３−アミノ−５−メルカプトトリアゾール（和光純薬（株）製）
【０２１１】
その他の成分
Ａｎｔａｇｅ  Ｗ−５００：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学（株）製）
メチルエチルケトン：東燃化学（株）製
【符号の説明】
【０２１２】
１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、２０…感光層、２２…保護膜、３０…保護フィルム、１００…タッチパネル用基材、１０１…透明基板、１０２…タッチ画面、１０３…透明電極（Ｘ位置座標）、１０４…透明電極（Ｙ位置座標）、１０４a…透明電極の一部、１０４ｂ…透明電極のブリッジ部、１０５，１０５ａ,１０５ｂ…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１１０，１２０…タッチパネル用電極、１２２，１２３,１２４…保護膜、１３０…フォトマスク、２００…タッチパネル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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