(57)【要約】【課題】  磁気特性、清浄度および磁石素体とヨークとの密着性に優れ、低背化した磁石組立体を提供すること。【解決手段】磁石素体４と、接着層８を介して磁石素体４と接着されるヨーク６とからなる磁石組立体である。接着層８と接する部分を除く磁石素体４の表面およびヨーク６の表面に清浄度向上用樹脂層１０が一体的に形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁石素体と、
接着層を介して前記磁石素体と接着されるヨークとからなる磁石組立体であって、
前記磁石組立体の表面に清浄度向上用樹脂層が形成されていることを特徴とする磁石組立体。
【請求項２】
前記清浄度向上用樹脂層がポリパラキシリレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂のいずれかで構成してある請求項１に記載の磁石組立体。
【請求項３】
前記磁石素体が、Ｒ−Ｔ−Ｂ系磁石素体である請求項１または２に記載の磁石組立体。
【請求項４】
少なくとも前記磁石組立体の表面と前記清浄度向上用樹脂層との間に化成処理層が形成されている請求項１〜３のいずれかに記載の磁石組立体。
【請求項５】
前記化成処理層がリン酸亜鉛処理によって形成される請求項４に記載の磁石組立体。
【請求項６】
前記磁石素体が焼結粒子を含み、少なくとも前記磁石素体の表面に存在する前記焼結粒子間には、含浸相が形成してある請求項１〜５のいずれかに記載の磁石組立体。
【請求項７】
前記含浸相は、アクリル系樹脂を含む請求項６に記載の磁石組立体。
【請求項８】
前記磁石素体と前記ヨークとを前記接着層を介して接着し、前記磁石組立体を得る工程と、
前記磁石組立体の表面に前記清浄度向上用樹脂層を形成する工程と、を有する請求項１〜７のいずれかに記載の磁石組立体を製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁石組立体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、磁石の表面に各種被覆層を形成することで、磁石の耐久性を向上させることが行われている。
【０００３】
たとえば、下記の特許文献１には、希土類・鉄系永久磁石表面にクロメート被膜とシランカップリング剤およびポリパラキシリレンの被膜を積層することにより耐食性を改善した永久磁石が記載されている。
【０００４】
また、特許文献２には、希土類系永久磁石表面にＮｉめっき膜を形成し、前記Ｎｉめっき膜の表面付近に存在する空孔をケイ酸系高分子材料やポリパラキシリレン樹脂等によって封孔することにより、耐久性を向上させた永久磁石が記載されている。
【０００５】
ところで、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）の磁気ヘッド駆動用のボイスコイルモータ（ＶＣＭ）に組み込まれる磁石には、ディスク表面の潤滑材が汚染されないように、該磁石またはＮｉコートからの粒子の脱落等に起因する発塵やイオンの放出を抑制することが求められる。
【０００６】
従来のＶＣＭ用途に用いられる磁石としては、Ｎｉコートを施した磁石が知られている。しかしながら、Ｎｉコートは、金属メッキ設備を必要とし、磁石の製造コストを増大させる要因となっている。また、Ｎｉコートは通常、Ｃｕコートと組み合わせるため、３層構造となる。そのため、Ｎｉコートは膜厚が大きくなる傾向がある。Ｎｉコートを用いて十分な清浄度を得るには、片側３０μｍ程度の膜厚が必要である。近年では磁気ヘッドの小型化のために、高性能で低背化した磁石が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平０２−２０８９０４号公報
【特許文献２】特開２００４−０６４８９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、磁気特性、清浄度および磁石素体とヨークとの密着性に優れ、低背化した磁石組立体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明に係る磁石組立体は、磁石素体と、接着層を介して前記磁石素体と接着されるヨークとからなる磁石組立体であって、前記磁石組立体の表面に清浄度向上用樹脂層が形成されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明では、清浄度向上用被膜層が形成してあるために、発塵の抑制およびイオン溶出の防止を図ることが可能になり、本発明の磁石組立体は、特に清浄度が要求される部分に好適に用いることができる。また、本発明では、清浄度向上用被膜層が樹脂で構成されるため、従来のＮｉコート層と比較して膜厚を低減することができ、磁石組立体の低背化を図ることができる。
【００１１】
しかも本発明のように、磁石素体とヨークとを接着させてから清浄度向上用樹脂で被膜した磁石組立体は、磁石素体とヨークとをそれぞれ清浄度向上用樹脂で被膜させてから磁石素体とヨークとを接着させた磁石組立体と比較して、磁石素体とヨークとの密着強度を向上させることができる。その理由は、樹脂同士の接着力および樹脂と金属体との接着力は、金属体同士の接着力と比較して弱いためである。さらに、本発明では、その理由は明らかではないが、Ｎｉコートに比較して、トータルフラックスなどの磁気特性を向上できることが確認されている。
【００１２】
好ましくは、清浄度向上用樹脂層がポリパラキシリレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂のいずれかで構成してある。これらの樹脂で清浄度向上用樹脂層を形成することで、被膜の厚みが薄くとも、磁石組立体からの発塵を効果的に抑制することができると共に、磁気特性を向上させることができる。
【００１３】
好ましくは、磁石素体が、金属磁石素体、さらに好ましくは希土類・鉄系の磁石素体、特に好ましくはＲ−Ｔ−Ｂ磁石（Ｒはネオジム、プラセオジムのいずれか一方または両方を主成分として含む１種以上の希土類元素を表し、Ｔは鉄、または、鉄とコバルトの両方を主成分として含む１種以上の遷移元素を表し、Ｂはホウ素またはホウ素と炭素を表す）である。これらの磁石に清浄度向上用樹脂層を形成し、磁石素体からの発塵を抑制しつつ、かつ清浄度向上用樹脂層を形成した磁石とヨークとの密着性を向上させることが困難であった。
【００１４】
好ましくは、少なくとも磁石組立体の表面と清浄度向上用樹脂層との間に化成処理層が形成されている。当該化成処理層を形成することで、表面に微細な柱状粒子のようなものが多数形成され、ポリパラキシレン系樹脂などの清浄度向上用樹脂層との密着性が特に向上する。
【００１５】
好ましくは、化成処理層がリン酸亜鉛処理によって形成される。
【００１６】
好ましくは、磁石素体が焼結粒子を含み、少なくとも磁石素体の表面に存在する前記粒子間には、含浸相が形成してある。含浸相を形成することで、パラキシレン系樹脂などの清浄度向上用樹脂層との密着性がさらに向上する。
【００１７】
好ましくは、含浸相は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｌ、Ｆのいずれか一つ以上の無機成分を含む相、あるいはアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、シリコーン系樹脂のうちから選ばれる少なくとも一つ以上を含む相で構成してある。これらの中でも、前記含浸相としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂が好ましく、特に好ましくはアクリルモノマーを重合させたものを含むアクリル系樹脂である。このような成分を含む相を含浸相として用いることで、粒子自体の脱落防止や、磁石素体内部からの放出ガスや、溶出イオンを良好に防止することができると共に、割れや欠けなどのチッピング防止の効果も図れる。
【００１８】
含浸相は、焼結粒子間に存在している。その結果、複数の焼結粒子は含浸相を通じて連結固定されるため、焼結粒子の脱落を効果的に抑制することができる。
【００１９】
含浸相と清浄度向上用樹脂層との境界では、清浄度向上用樹脂層が、焼結粒子および含浸相の双方に接触するように、磁石素体の外表面を覆っている。このため、清浄度向上用樹脂層と磁石素体の密着性が向上し、焼結粒子の脱落を低減することができる。
【００２０】
本発明に係る磁石組立体の製造方法は、磁石素体とヨークとを接着層を介して接着し、磁石組立体を得る工程と、磁石組立体の表面に清浄度向上用樹脂層を形成する工程と、を有する。
【００２１】
本発明に係る磁石組立体の製造方法によれば、本発明の磁石組立体を容易に製造することができる。磁石素体とヨークとを接着層を介して接着して得られた磁石組立体の表面に清浄度向上用樹脂層を形成するため、磁石素体と接着層との間およびヨークと接着層との間に清浄度向上用樹脂層が形成されない。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は本発明の一実施形態に係る磁石組立体の概略断面図である。
【図２】図２は図１に示す磁石組立体の表面の要部拡大断面図である。
【図３】図３（Ａ）および図３（Ｂ）は化成処理のプロセスを示す要部拡大概略断面図である。
【図４】図４（Ａ）は本発明の一実施形態に係る製造工程を示すチャートであり、図４（Ｂ）は比較例の工程を示すチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。図１に示すように、本実施形態に係る磁石組立体２は、磁石素体４と、接着層８を介して磁石素体と接着されるヨーク６とを有する。接着層８と接する部分を除く磁石素体４の表面および接着層８と接する部分を除くヨーク６の表面には、清浄度向上用樹脂層１０が一体的に形成されている。
【００２４】
ヨーク６の素材は、軟磁性を示す部材であれば特に限定はないが、たとえば鉄または鉄合金などが例示される。
【００２５】
磁石素体４の種類は特に限定されないが、好ましくは金属磁石素体、さらに好ましくは希土類・鉄系の磁石素体、特に好ましくはＲ−Ｔ−Ｂ磁石である。
【００２６】
また、磁石素体４およびヨーク６のサイズは特に限定されないが、ヨーク６は磁石素体４よりもサイズが大きいことが一般的である。磁石素体４の厚みは特に限定されないが、たとえば０．１〜５．０ｍｍであり、ヨーク６の厚みも特に限定されないが、たとえば０．１〜５．０ｍｍである。
【００２７】
磁石素体４とヨーク６とは、接着層８を介して接合してある。接着層８の厚さに特に限定はないが、０．１〜３０．０μｍであることが好ましい。接着層８は、磁石素体４およびヨーク６を接着できる接着剤からなる接着層であれば特に限定はないが、好ましくは、アクリレート系接着剤、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、シリコーンゴム系接着剤などが挙げられ、より好ましくは、アクリレート系接着剤、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤である。また、接着剤の種類についても特に限定は無く、たとえば嫌気性硬化型、加熱硬化型、紫外線硬化型、感圧型、硬化剤混合型、湿気硬化型などが挙げられる。
【００２８】
清浄度向上用樹脂層１０は、接着層８で接着された磁石素体４およびヨーク６を、一体的にコーティングできる樹脂であれば特に限定はなく、たとえばポリパラキシリレン系樹脂、エポキシ系樹脂、またはポリイミド系樹脂が挙げられる。その中でもポリパラキシリレン系樹脂を用いることが、粒子脱落やイオン溶出を有効に低減することができるため好ましい。
【００２９】
ポリパラキシリレン系樹脂の種類に特に限定はなく、たとえばポリクロロパラキシリレン樹脂、ポリジクロロパラキシリレン樹脂、ポリパラキシリレン樹脂などが挙げられる。清浄度向上用樹脂層１０の膜厚に特に限定はないが、好ましくは、３０μｍ未満、さらに好ましくは０．１〜２０．０μｍである。
【００３０】
磁石素体４の表面と清浄度向上用樹脂層１０との間には、化成処理層が形成されていることが好ましい。磁石素体４の表面と清浄度向上用樹脂層１０との間に化成処理層が形成されていることにより、清浄度向上用樹脂層１０の磁石素体４に対する密着性を向上させることができる。
【００３１】
さらに、図２に示すように、ヨーク６の表面と清浄度向上用樹脂層１０との間にも、化成処理層７が形成されていることが好ましい。ヨーク６の表面と清浄度向上用樹脂層１０との間に化成処理層７が形成されていることにより、清浄度向上用樹脂層１０の磁石素体６に対する密着性を向上させることができる。
【００３２】
さらに、化成処理層は、磁石素体４の表面と接着層８との間、およびヨーク６の表面と接着層８との間にも、同様に形成されていてもよい。
【００３３】
化成処理層は、磁石素体４およびヨーク６の表面を化成処理して得ることができる。化成処理層の種類は特に限定されず、例えば、リン酸塩、クロム酸塩、塩基性塩、酸化物、硫化物などによる処理層が挙げられる。
【００３４】
磁石素体４がＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体などの金属磁石素体である場合には、化成処理層はリン酸塩が好ましい。図２に示すように、ヨーク６および磁石素体４の表面上に化成処理層（リン酸塩処理層）を形成し、その後に清浄度向上用樹脂層１０を形成したときに、ヨーク６の表面および磁石素体４の表面上に柱状のリン酸塩処理層が形成される。このため、清浄度向上用樹脂層１０のヨーク６の表面および磁石素体４の表面に対する密着性が大きく向上する。
【００３５】
リン酸塩の種類は特に限定されないが、好ましくは、リン酸亜鉛、リン酸マンガン、リン酸カルシウム、リン酸鉄である。その中でもリン酸亜鉛が特に好ましい。
【００３６】
磁石素体４の表面が焼結粒子で構成してある場合には、磁石素体４の表面が焼結粒子間に導入される含浸相を有することが好ましい。磁石素体４の表面が含浸相を有することにより、ポリパラキシレン系樹脂などの清浄度向上用樹脂層との密着性がさらに向上し、焼結粒子の剥がれ防止効果を向上させる。
【００３７】
含浸相は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｌ、Ｆのいずれか一つ以上の無機成分を含む相、アクリルモノマー、エポキシモノマー、ウレタンモノマー、イミドモノマー、アミドモノマー、シリコーンモノマーのいずれか一つ以上のモノマーを含む相、あるいはアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、シリコーン系樹脂のいずれか一つ以上の樹脂を含む相で構成してある。また、含浸相が酸化物で構成されている場合には、ＳｉＯ２  、ＡｌＯｘ  、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＦｅＯｘ  等を含むことが好ましい。
【００３８】
また、磁石素体４がＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体である場合には、含浸相としてアクリルモノマーを含む相で構成することが好ましい。アクリルモノマーの例としてはアクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、アクリレートエステルモノマー、メタクリレートエステルモノマーなどが挙げられる。
【００３９】
次に、本実施形態に係る磁石組立体の製造方法の一例を、図４（Ａ）を参照しながら説明する。
【００４０】
（ステップＳ１）
まず、磁石素体４を準備する。本実施形態では、表面が焼結粒子からなるＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体を用いる。次に、必要に応じて磁石素体４の外表面を洗浄して乾燥させる。磁石素体および／または磁石素体の外表面に存在する粒子の表面およびそれらの隙間に存在する油分や水分を除去するためである。洗浄する方法は特に制限されないが、たとえば、スポンジ等で洗浄し、さらに超音波洗浄等を行ってもよい。洗浄後、洗浄に用いた溶媒を磁石素体４から除去する。
【００４１】
（ステップＳ２）
次に、必要に応じて含浸相を形成するための原料（封孔処理剤）を準備する。封孔処理剤は、磁石素体４の外表面に存在する粒子間の隙間（ポア）に確実に含浸させるために、液状あるいはガス状の原料として準備することが好ましい。
【００４２】
本実施形態では、封孔処理剤としては、アクリルモノマーを用いる。封孔処理に際しては、以下に示す方法が広く用いられているが、それに限定されない。まず、洗浄および乾燥後の磁石素体４を、真空タンクの内部に投入し、その後に減圧し、磁石素体４のポア中に残った空気を取り除く。その後、減圧用のバルブを閉め、別のラインから封孔処理剤を注入し、磁石素体４全体を浸漬させた状態で、タンク内部を大気圧に戻し、その後に加圧することで、封孔処理剤の浸透を促進させる。
【００４３】
その後に、タンクの内部から磁石素体４を取りだし、表面についた余剰な封孔処理剤をスピンドライなどで吹き払うまたはリンスするなどしてもよい。さらにその後に、常温放置、もしくは加熱処理することで、磁石素体４の少なくとも表面付近において、前記粒子間の隙間で封孔処理剤が硬化して含浸相が形成される。また、磁石素体４の外表面にも含浸相が形成される。
【００４４】
（ステップＳ３）
次に、必要に応じて研磨処理を行う。本実施形態では、外表面にも含浸相が形成された磁石素体４を、たとえばバレル研磨、ラップ研磨、サンドブラスト、砥石研磨などの表面処理により研磨処理を行う。この研磨処理は、封孔処理剤の粗大な重合物などを取り除くことができる。よって、ステップＳ２で含浸相を形成した場合には本ステップＳ３で研磨処理を実施することが特に好ましい。
【００４５】
（ステップＳ４）
その後、必要に応じて磁石素体４の外表面をエッチングする。本実施形態では、エッチングは磁石素体４を希硝酸溶液に浸漬し、その後水洗する方法により行うが、他のエッチング方法も可能であり、特に限定はない。希硝酸溶液に浸漬するエッチングの条件にも特に制限はないが、５．０〜４０．０℃、０．５〜５．０ｖｏｌ．％の希硝酸溶液に０．５〜３０．０分、磁石素体４を浸漬することが好ましい。エッチングは、磁石素体４の表面を洗浄し、化成処理層を好ましく形成するために行う。
【００４６】
（ステップＳ５）
その後、必要に応じて磁石素体４の表面に化成処理層を形成する。本実施形態では、リン酸亜鉛処理によりリン酸亜鉛層を形成する。リン酸亜鉛処理の方法には特に限定がなく、浸漬、塗布、スプレー等、磁石素体の形状などに応じて選択することができる。
【００４７】
（ステップＳ１０、Ｓ１１）
ステップＳ１〜Ｓ５と平行して、ヨーク６を準備する。本実施形態では、ヨーク６としては、軟磁性を示す鉄合金部材を用いる。そして、ヨーク６の外表面を必要に応じて洗浄して乾燥させる。その後、必要に応じて磁石素体４と同様にリン酸亜鉛処理を行い、リン酸亜鉛により処理された化成処理層７を形成する。なお、洗浄およびリン酸亜鉛処理の方法や処理条件に特に限定は無い。
【００４８】
（ステップＳ２０）
次に、前記磁石素体４と前記ヨーク６とを前記接着層８を介して接着させる。本実施形態では、嫌気性硬化型のアクリレート系接着剤を用いる。接着方法は各接着剤における通常の接着方法を用いることができ、特に限定はない。なお、ＶＣＭ用磁石を製造する場合には、接着はクリーンルームで実施することが好ましい。
【００４９】
（ステップＳ２１）
その後、磁石素体４と、接着層８を介して磁石素体４と接着されるヨーク６とを有する磁石組立体２の表面に清浄度向上用樹脂層１０を形成する。清浄度向上用樹脂層１０に特に限定はないが、本実施形態においてはポリパラキシリレン系樹脂を用いる。
【００５０】
ポリパラキシリレン系樹脂によるコーティング方法に特に制限はないが、気相による蒸着法を用いることが好ましい。また、ＶＣＭ用磁石を製造する場合には、コーティングはクリーンルームで実施することが好ましい。なお、磁石組立体２の表面に、密着性向上処理を施した後に、清浄度向上用樹脂層１０を形成してもよい。この場合には、磁石組立体２の表面に対する清浄度向上用樹脂層１０の密着力がさらに向上する。密着性向上処理は、清浄度向上用樹脂層１０の材質などに応じて決定され、清浄度向上用樹脂層１０がポリパラキシリレン系樹脂の場合には、密着性向上処理として、脱脂洗浄、オゾン洗浄、イトロ処理、シラン処理などを用いることが好ましく、シラン処理を用いることが特に好ましい。
【００５１】
シラン処理に用いるシランに特に制限はない。たとえば３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
【００５２】
以上の方法により、本実施形態に係る磁石組立体２を得ることができる。本実施形態では、ポリパラキシリレン系樹脂から成る清浄度向上用被膜層１０が形成してあるために、発塵の抑制を図ることが可能になり、その磁石組立体２は、特に清浄度が要求される部分に好適に用いることができる。また、本実施形態では、清浄度向上用被膜層１０が樹脂で構成され、従来のＮｉコート層と比較して膜厚を低減することができ、磁石組立体２の低背化を図ることができる。また、メッキ設備を必要としないため、製造コストの低減も図れる。
【００５３】
しかも本実施形態のように、磁石素体４とヨーク６とを接着させてから清浄度向上用樹脂８で被膜した磁石組立体２は、磁石素体とヨークとをそれぞれ清浄度向上用樹脂で被膜させてから磁石素体とヨークとを接着させた磁石組立体と比較して、磁石素体とヨークとの密着強度を向上させることができる。その理由は、樹脂同士の接着力および樹脂と金属体との接着力は、金属体同士の接着力と比較して弱いためである。さらに、本実施形態では、その理由は明らかではないが、Ｎｉコートに比較して、トータルフラックスなどの磁気特性を向上できることが確認されている。
【００５４】
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々改変することができる。
【００５５】
たとえば、磁石素体４とヨーク６とを接着層８を介して接着するステップＳ２０の後に、磁石組立体の表面に清浄度向上用樹脂層１０を形成するステップ２１を実施するという順番が守られていれば、磁石素体４の外表面の洗浄、含浸相の形成、研磨、エッチング、化成処理層の形成およびヨーク６表面の化成処理層７の形成など、接着前のステップＳ２〜Ｓ５およびＳ１１のうち一部または全部を省略することが可能である。
【００５６】
また、接着時には、清浄度向上用被膜１０が形成されていないので、比較的高温で接着することが可能である。さらに、本磁石組立体を、冶具などを用いて組み立てる場合、ポリパラキシリレン系樹脂から成る清浄度向上用樹脂層１０は摺動に弱いため、ポリパラキシリレン系樹脂から成る清浄度向上用樹脂層１０に打痕や引っかき傷などが残りやすいという課題があることが、本発明者により見出されている。本発明では、接着や組立後に清浄度向上用樹脂層１０を形成するため、ポリパラキシリレン系樹脂から成る清浄度向上用樹脂層１０に打痕や引っかき傷などが残らないという利点もある。
【実施例】
【００５７】
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
【００５８】
（試料番号１〜１２）
まず、磁石素体として、Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石（寸法＝１５ｍｍ×１５ｍｍ×０．７５ｍｍ、質量＝１．３ｇ）を準備した。
【００５９】
このＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体の表面および隙間（ポア）に存在する油分や水分を除去するため、イソプロピルアルコールで洗浄し、その後、乾燥した。
【００６０】
その後、図４（Ａ）に示す工程（Ａ）に基づき、各種処理を行った。試料番号１〜１２では、含浸相形成、バレル研磨、リン酸亜鉛処理の有無並びにポリパラキシリレン樹脂層の厚さを変化させて磁石組立体を製造した。
【００６１】
封孔処理（含浸相の形成）
表１に示すように、所定の試料については、封孔処理（アクリルモノマー含浸相の形成）を行った。封孔処理では、まず、洗浄・乾燥後のＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体を、真空タンクに投入し、１ｔｏｒｒまで減圧し、ポア中に残った空気を取り除いた。その後、減圧用のバルブを閉め、別のラインから封孔処理剤を注入し、Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石素体全体を浸漬させた。このとき、封孔処理剤として、アクリルモノマー（Ｌｏｃｔｉｔｅ  Ｒｅｓｉｎｏｌ  ９０Ｃ、Ｈｅｎｋｅｌ社製）を用いた。
【００６２】
Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石素体が、封孔処理剤に十分に浸漬された状態で、タンク内の圧力を大気圧に戻し、ポア中に、封孔処理剤を浸透させた。さらに、タンク内の圧力を５ｋｇ／ｃｍ２  まで加圧することで、封孔処理剤の浸透を促した。
【００６３】
封孔処理剤が十分に浸透したＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体をタンクから取り出し、余剰封孔処理剤を除去するためにＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体の表面を水洗した後、９０℃に加熱して含浸相を形成した。
【００６４】
その後、バレル研磨を実施する試料については、以下の方法によりバレル研磨を実施した。
【００６５】
バレル研磨
表１に示すように、所定の試料については、バレル研磨を行った。バレル研磨では、Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石素体を、バレル装置（ＲＨ−５０（５０Ｌ）、株式会社チップトン製）に投入し、バレル研磨により表面処理を行った。バレル研磨の条件は、研磨石：ＨＳ−１５使用（３０ｋｇ／ＲＨ−５０投入）、砥材：ＧＣ♯８００（２００ｇ）、コンパウンド：なし、水：１５Ｌ、ワーク数：５００枚投入、回転数：３００ｒｐｍ、処理時間：１２０分、Ｒ付け量：Ｒ＝０．２であった。
【００６６】
その後、Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石素体を２５℃の硝酸（３ｖｏｌ．％）に２分間浸漬してエッチングを行い、水洗した。
【００６７】
その後、リン酸亜鉛処理を実施する試料については、以下の方法によりリン酸亜鉛処理を実施した。
【００６８】
リン酸亜鉛処理（化成処理）
まず、洗浄したＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体を、パルボンドＬ４５（日本パーカライジング製）溶液に、６０℃、１０分間浸漬することにより行った。その後、水洗し、１５０℃で１５分乾燥した。
【００６９】
また、ヨークとして、軟磁性を示す鉄合金部材（２５ｍｍ×２５ｍｍ×１．２ｍｍ）を準備した。ヨークにも、Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石素体と同様な条件で、リン酸亜鉛処理を行った。
【００７０】
接着
以上の工程により得られたＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体とヨークとを接着剤を用いて接着し、磁石組立体を得た。プライマーとしてＬｏｃｔｉｔｅ７６４６（Ｈｅｎｋｅｌ社製）、接着剤としてＬｏｃｔｉｔｅ３６６（Ｈｅｎｋｅｌ社製）を使用し、ヨークにプライマーを塗布、磁石素体に接着剤を塗布し、常温で接着した。
【００７１】
樹脂コーティング
磁石組立体に樹脂コーティングを行い、清浄度向上用樹脂層を形成した。コーティング薬剤としてジクロロジパラキシリレンを用い、蒸着法によりポリクロロパラキシリレン層を形成した。
【００７２】
なお、本願における清浄度向上用樹脂層を形成するための樹脂コーティング方法は以下の通りである。まず、コーティング装置の蒸着室に前記磁石組立体を投入した。次いで真空ポンプで装置系内を減圧状態にし、その上で、気化炉中に入れたジクロロジパラキシリレンを加熱して気化させた。そして、ジクロロジパラキシリレンを、分解炉管内を通過させることでモノマーガスに分解し、蒸着室で高分子重合することで、磁石組立体の表面にポリクロロパラキシリレン層を形成した。
【００７３】
以上の方法により形成された磁石組立体について清浄度（ＬＰＣ、アニオン量）、シェアフォースおよびトータルフラックスを測定し、評価を行った。なお、ＬＰＣとは発塵量を表す指標であり、下記のように測定される。アニオン量とは、アニオンの溶出量を示し、表面の清浄度を表す指標であり、下記のようにして測定される。シェアフォースとは、前記磁石素体と前記ヨークとの密着性を表す指標である。トータルフラックスとは、磁気特性を表す指標である。
【００７４】
＜発塵量（ＬＰＣ試験）＞
最終的に得られた磁石組立体を、水中（超純水５００ｍＬが入ったビーカー）に配置し、２８ｋＨｚ−５分の条件で超音波を照射し、試料から水中へ脱離した浮遊粉塵（＞０．５μｍサイズ）を液中パーティクルカウンター（ＬＰＣ、ＰＭＳ社製、下限５０ｐｃｓ／ｃｃ、上限３００００ｐｃｓ／ｃｃ）にて測定した。本実施例では、ＬＰＣは５００以下を良好とした。好ましくは３００以下、さらに好ましくは２００以下である。
【００７５】
＜アニオン量測定＞
アニオン量測定は、イオンクロマトグラフィー装置ＩＣＳ−１５００（ダイオネクス製）を用いた。本実施例では、アニオン量は２０ｎｇ／ｃｍ２  以下を良好とした。好ましくは１５ｎｇ／ｃｍ２以下である。
【００７６】
＜シェアフォース測定＞
シェアフォースは、圧縮せん断測定により求めた。本実施例では、２０ｋｇｆ以上を良好とした。好ましくは４０ｋｇｆ以上、さらに好ましくは５０ｋｇｆ以上である。
【００７７】
＜トータルフラックス測定＞
トータルフラックスは、フラックスメーターを用いて測定した。本実施例では、２２０以上を良好とした。好ましくは２２２以上、さらに好ましくは２２３以上である。
【００７８】
【表１】
2014199846.tif 000003
【００７９】
（試料番号２１〜２６）
図４（Ｂ）に示すように、Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石素体とヨークを準備し、リン酸亜鉛処理する化成処理工程（ステップＳ５とステップＳ１１）までは試料番号１〜１２と同様に行った。その後、Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石素体とヨークについて、試料番号１〜１２とは接着と樹脂コーティングの順番を入れ替え、Ｒ−Ｔ−Ｂ磁石素体およびヨークを樹脂コーティング（ステップＳ２１ａ、Ｓ２１ｂ）してから接着（ステップＳ２０ａ）した。結果を表１に示す。
【００８０】
試料番号２１〜２６の結果を見ると、清浄度並びにトータルフラックスは実施例と同等程度に良好であったが、シェアフォースが試料番号１〜１２と比較して低下した。すなわち、磁石素体とヨークとの密着性が低下した。さらに、試料番号２１では、磁石素体とヨークとが接着できなかった。
【００８１】
（試料番号２７）
図４（Ｂ）に示すステップＳ２、Ｓ４、Ｓ５を行うことなく、ステップＳ２１ａ、２１ｂにおいて、樹脂コーティングに代えてＮｉめっきを行った以外は、試料番号２１〜２６と同様に行い磁石組立体を得た。結果を表１に示す。
【００８２】
試料番号２７では、清浄度向上用被膜層がＮｉめっき層となるため、膜厚が３０μｍとなり、試料番号１〜１２の樹脂コーティングと比較して厚くなった。また、清浄度試験ではＬＰＣについては良好であったが、アニオン量が３８．７ｎｇ／ｃｍ２  となり、清浄度向上用被膜層を形成するための樹脂コーティングと比較して劣る結果となった。さらに、トータルフラックスにおいても清浄度向上用被膜層を形成するための樹脂コーティングと比較して劣る結果となった。
【００８３】
（試料番号３１、３２）
封孔処理を以下のようにして行った以外は、試料番号１１および１２と同様の方法で磁石組立体を得た。封孔処理においては、封孔処理剤として、アクリルモノマーに代えてシリコーン樹脂封孔剤として、ＨＳ−１００（株式会社ディアンドディ製）を用いた。表２に示した通り、試料番号１１および１２と同等の試験結果が得られた。
【００８４】
【表２】
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【００８５】
（試料番号３３、３４）
リン酸亜鉛処理をリン酸鉄処理に変更した以外は、試料番号１１および１２と同様の方法で磁石組立体を得た。リン酸鉄処理は、磁石組体およびワークにホスニンＲ２００（理工協産株式会社製）溶液をスプレー塗布した後、ホスニンＲ２００溶液に５０℃、５分間浸漬することにより行った。その後、水洗し、１５０℃で１５分乾燥した。表２に示した通り、試料番号１１および１２と同等の試験結果が得られた。
【００８６】
（試料番号３５、３６）
リン酸亜鉛処理をリン酸マンガン処理に変更した以外は、試料番号１１および１２と同様の方法で磁石組立体を得た。リン酸マンガン処理は、磁石素体およびワークをホスニン１３２（理工協産株式会社）溶液に、７０℃、１０分間浸漬することにより行った。その後、水洗し、１５０℃で１５分乾燥した。表２に示した通り、試料番号１１および１２と同等の試験結果が得られた。
【００８７】
（試料番号４１〜４４）
リン酸亜鉛処理をＲ−Ｔ−Ｂ磁石素体およびヨークの一方のみに施す以外は試料番号９〜１２と同様の方法で磁石組立体を得た。表３に示した通り、試料番号９〜１２と同等の試験結果が得られた．
【００８８】
【表３】
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【００８９】
評価
以上より、表１に示す本発明の試料１から１２に係る磁石組立体は所望の特性を有したが、試料２１から２６に係る磁石組立体は、シェアフォースが大幅に低下することが確認できた。また、清浄度向上用被膜層にＮｉめっき層を用いた比較例に係る試料２７の場合には、本発明の実施例と比較して、清浄度向上用被膜層の膜厚が不可避的に厚くなってしまう上、清浄度が悪化し、トータルフラックスが低くなった。
【符号の説明】
【００９０】
２…  磁石組立体
４…  磁石素体
６…  ヨーク
７…  化成処理層
８…  接着層
１０…  清浄度向上用樹脂層
【図１】
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【図２】
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【図３】
2014199846.tif 000008
【図４】
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