(57)【要約】      （修正有）【課題】排気に含まれる廃液を気体から分離する分離手段の隔壁に加工屑が付着することを抑制可能な加工装置を提供する。【解決手段】一端が加工室に連通すると共に他端がファンに連通して加工室内の雰囲気を排気する排気路とを備えた加工装置であって、加工室から排気路に流入した排気に含まれる廃液を気体から分離する分離手段４８を備えている。分離手段４８は、漏斗状の下チャンバー５０と下チャンバー５０の上端から立ち上がる円筒状の上チャンバー５２とで構成された分離チャンバー５４と、吸入された排気が気体排出口へ直に流入することを防止する吸気口に対面して上チャンバー５０内部に形成された隔壁６０と、吸気口に対面した隔壁６０の表面に液体を供給して加工屑が隔壁６０に付着するのを防止する液体供給手段６４と、を有している。隔壁６０に供給された液体が排気の流れによって液体の層を形成し、隔壁６０に加工屑が付着することを抑制する。【選択図】図４
2014034068.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルで保持された被加工物を加工する加工手段と、該加工手段と被加工物とに加工液を供給する加工液供給手段と、該チャックテーブルと該加工手段と該加工液供給手段とを囲繞する加工室と、一端が該加工室に連通すると共に他端がファンに連通して該加工室内の雰囲気を排気する排気路とを備えた加工装置であって、
該加工室と該ファンとの間の該排気路中に配設され、該加工室から該排気路に流入した排気に含まれる加工屑を含んだ廃液を気体から分離する分離手段を更に具備し、
該分離手段は、漏斗状の下チャンバーと該下チャンバーの上端から立ち上がる円筒状の上チャンバーとで構成された分離チャンバーと、
該上チャンバーの側面に形成された該加工室に連通する吸気口と、
該上チャンバーの上端に形成された該ファンに連通する気体排出口と、
該吸気口から吸入された排気が該気体排出口へ直に流入することを防止する該吸気口に対面して該上チャンバー内部に形成された隔壁と、
該下チャンバーの下端に形成された廃液排出口と、
該吸気口に対面した該隔壁の表面に液体を供給して該加工屑が該隔壁に付着するのを防止する液体供給手段と、を有し、
該吸気口から吸入された排気が該隔壁によって該上チャンバーの内周面に沿って流動して該分離チャンバー内に渦巻き気流が発生することで、該排気に含まれる廃液が該廃液排出口を介して排出されるとともに、該排気は該気体排出口を介して排出され、該隔壁に供給された該液体が該排気の流れによって液体の層を形成し、該隔壁に該加工屑が付着することを抑制することを特徴とする加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を加工する加工装置に関し、特に、加工室内の雰囲気を排気するファンと排気路とを備えた加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス製造プロセスでは、シリコンやガリウム砒素等の半導体材料からなるウエーハの表面に格子状の分割予定ラインが設定され、分割予定ラインで区画された各領域にＩＣ、ＬＳＩ等のデバイスが形成される。
【０００３】
このようなウエーハは、裏面が研削されて所定の厚みに薄化された後、分割予定ラインに沿って切断することにより、多数のデバイスチップに分割される。このようにして得られたデバイスチップは、樹脂やセラミックスでパッケージングされ、各種電気機器に実装される。
【０００４】
ウエーハを分割する装置としては、回転する切削ブレードを分割予定ラインに沿ってウエーハに切り込ませて切削する切削装置が一般的であり、ウエーハの裏面研削には、ウエーハの裏面に回転する砥石を押し付けて研削する研削装置が用いられる。
【０００５】
この種の切削装置や研削装置といった加工装置においては、密閉された加工室内においてチャックテーブルで保持した被加工物を切削ブレードや研削砥石等の加工手段で加工する構成が一般的である。
【０００６】
そして加工の際には、加工手段が被加工物に接する加工点に加工液を供給しながら加工が遂行される。加工液は、加工によって生じる加工屑を被加工物から除去したり加工点を冷却したりする目的で供給され、加工屑が混入した加工液は廃液として加工装置外に排出される。
【０００７】
一方、加工室内の雰囲気はダクト（排気路）を通じて装置外に排気され、ダクトの途中には、加工室内の雰囲気をダクト内に吸入して排気口に送り込むファンが設けられている。加工装置の中には、ダクト及びファンが内蔵されているタイプのものもある（例えば、特開２０００−１２４１６５号公報参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−１２４１６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、このような構成の加工装置では、加工室からの排気中に加工屑が混じった加工液（廃液）が混入すると、ファンに加工屑が付着し、ファンの回転が低下したり振動が発生して吸引力が低下する恐れがある。
【００１０】
また、加工液の循環路（循環ライン）を設けて加工液を循環して使用している加工装置の場合には、加工室からの排気中に加工液が混入すると加工液が循環ラインから排出されてしまうため、頻繁に加工液を補充しなければならないという問題がある。
【００１１】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、加工室からの排気中に混じった加工液（廃液）を排気から分離することでファンに異物が付着する恐れを低減し、ファンの吸引力低下を防止するとともに、排気に含まれる廃液を気体から分離する分離手段の隔壁に加工屑が付着することを抑制可能な加工装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明によると、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルで保持された被加工物を加工する加工手段と、該加工手段と被加工物とに加工液を供給する加工液供給手段と、該チャックテーブルと該加工手段と該加工液供給手段とを囲繞する加工室と、一端が該加工室に連通すると共に他端がファンに連通して該加工室内の雰囲気を排気する排気路とを備えた加工装置であって、該加工室と該ファンとの間の該排気路中に配設され、該加工室から該排気路に流入した排気に含まれる加工屑を含んだ廃液を気体から分離する分離手段を更に具備し、該分離手段は、漏斗状の下チャンバーと該下チャンバーの上端から立ち上がる円筒状の上チャンバーとで構成された分離チャンバーと、該上チャンバーの側面に形成された該加工室に連通する吸気口と、該上チャンバーの上端に形成された該ファンに連通する気体排出口と、該吸気口から吸入された排気が該気体排出口へ直に流入することを防止する該吸気口に対面して該上チャンバー内部に形成された隔壁と、該下チャンバーの下端に形成された廃液排出口と、該吸気口に対面した該隔壁の表面に液体を供給して該加工屑が該隔壁に付着するのを防止する液体供給手段と、を有し、該吸気口から吸入された排気が該隔壁によって該上チャンバーの内周面に沿って流動して該分離チャンバー内に渦巻き気流が発生することで、該排気に含まれる廃液が該廃液排出口を介して排出されるとともに、該排気は該気体排出口を介して排出され、該隔壁に供給された該液体が該排気の流れによって液体の層を形成し、該隔壁に該加工屑が付着することを抑制することを特徴とする加工装置が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の加工装置は、排気中に含まれる廃液を気体から分離する分離手段を排気路中に備え、更に分離手段の隔壁への加工屑付着防止用に液体供給手段を設けたことで、隔壁が液体の層で覆われ加工屑の付着を抑制することが可能となる。
また、液体は隔壁の比較的上流部分に供給するだけで、排気の流れが自動的に隔壁の表面全体へと液体を広げてくれるため、容易に隔壁全体を覆う液体の層を形成することが可能となり、液体を隔壁全体に吹き付ける機構が不要となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】切削装置の外観斜視図である。
【図２】切削装置の要部の縦断面図である。
【図３】分離手段の斜視図である。
【図４】図４（Ａ）は分離手段の横断面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）の４Ｂ−４Ｂ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図１を参照すると、加工装置の一種である本発明実施形態に係る切削装置（ダイシング装置）２の外観斜視図が示されている。切削装置２の前面側には、オペレータが加工条件等の装置に対する指示を入力するための操作パネル４が設けられている。
【００１６】
切削対象のウエーハＷは粘着テープであるダイシングテープＴに貼着され、ダイシングテープＴの外周縁部は環状フレームＦに貼着される。これにより、ウエーハＷはダイシングテープＴを介して環状フレームＦに支持された状態となり、ウエーハカセット６中にウエーハが複数枚（例えば２５枚）収容される。ウエーハカセット６は上下動可能なカセットエレベータ８上に載置される。
【００１７】
ウエーハカセット６の後方には、ウエーハカセット６から切削前のウエーハＷを搬出するとともに、切削後のウエーハをウエーハカセット６に搬入する搬出入手段１０が配設されている。ウエーハカセット８と搬出入手段１０との間には、搬出入対象のウエーハが一時的に載置される領域である仮置き領域１２が設けられており、仮置き領域１２には、ウエーハＷを一定の位置に位置合わせする位置合わせ手段１４が配設されている。
【００１８】
仮置き領域１２の近傍には、ウエーハＷと一体となったフレームＦを吸着して搬送する旋回アームを有する搬送手段１６が配設されており、仮置き領域１２に搬出されたウエーハＷは、搬送手段１６により吸着されてチャックテーブル１８上に搬送され、このチャックテーブル１８に吸引されるとともに、複数のクランプ１９によりフレームＦが固定されることでチャックテーブル１８上に保持される。
【００１９】
チャックテーブル１８は、回転可能且つＸ軸方向に往復動可能に構成されており、チャックテーブル１８のＸ軸方向の移動経路の上方には、ウエーハＷの切削すべきストリートを検出するアライメントユニット２０が配設されている。
【００２０】
アライメントユニット２０は、ウエーハＷの表面を撮像する撮像ユニット２２を備えており、撮像により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の処理によって切削すべきストリートを検出することができる。撮像ユニット２２によって取得された画像は、図示を省略した表示モニタに表示される。
【００２１】
アライメントユニット２０の左側には、チャックテーブル１８に保持されたウエーハＷに対して切削加工を施す切削ユニット２４が配設されている。切削ユニット２４はアライメントユニット２０と一体的に構成されており、両者が連動してＹ軸方向及びＺ軸方向に移動する。
【００２２】
切削ユニット２４は、回転可能なスピンドル２６の先端に切削ブレード２８が装着されて構成され、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に移動可能となっている。切削ブレード２８は撮像ユニット２２のＸ軸方向の延長線上に位置している。
【００２３】
切削加工の終了したウエーハＷは搬送手段２５によりスピンナ洗浄装置２７まで搬送され、スピンナ洗浄装置２７で洗浄されるとともにスピン乾燥される。
【００２４】
切削装置２の上述したような機構部分は筐体３０内に収容されている。筐体３０はフレーム３２と、フレーム３２に装着されたアクリル樹脂等から形成された透明プレート３４から構成される。
【００２５】
オペレータは、取っ手３６を掴んでカバー３７を開閉することによりチャックテーブル１８にアクセスすることができ、取っ手３８を掴んでカバー３９を開閉することにより切削ユニット２４にアクセスすることができる。
【００２６】
更に、取っ手４０を掴んでカバー４１を開閉することによりカセットエレベータ８上にウエーハカセット６を載置したり、ウエーハカセット６をカセットエレベータ８上から取り出すことができる。
【００２７】
図２を参照すると、本発明実施形態に係る切削装置２の要部断面図が示されている。切削装置２の筐体３０内には加工室３１が画成されている。加工室３１内には、チャックテーブル１８に保持されたウエーハＷと、切削ユニット２４が収容されている。切削ユニット２４の切削ブレード２８の両側には切削液供給ノズル２９が配設されている。
【００２８】
加工室３１の後側（図２で左側）には隔壁４２が設けられており、この隔壁４２には排気口４３が形成されている。排気口４３には排気路（ダクト）４４の一端が連通されている。排気路４４の他端は切削装置２内に設置されたファン４５に連通しており、排気路４４の他端側には切削装置２の外部まで伸びる排気管４６が接続されている。
【００２９】
排気路４４の途中の加工室３１とファン４５との間には、排気を気体と液体とに分離する分離手段４８が配設されている。ここで、排気路４４を加工室３１と分離手段４８との間と、分離手段４８とファン４５との間の二つに分け、前者を上流側排気路４４Ａ、後者を下流側排気路４４Ｂとする。排気管４６は、下流側排気路４４Ｂの末端に接続されている。
【００３０】
図３及び図４（Ｂ）に示すように、分離手段４８は、漏斗状の下チャンバー５０と、下チャンバー５０の上端から立ち上がった円筒状の上チャンバー５２とから構成された分離チャンバー５４を含んでいる。下チャンバー５０と、上チャンバー５２は連結部５６で連結されている。
【００３１】
上チャンバー５２の側面には加工室３１に連通する吸気口５８が形成されており、上チャンバー５２の上部にはファン４５に連通する気体排出口６０が形成されている。一方、下チャンバー５０の下端には廃液排出口６２が形成されており、廃液排出口６２は図示しないドレーンに接続されている。
【００３２】
上チャンバー５２の内部には、吸気口５５から吸入された排気が気体排出口６０に直に流入することを防止する隔壁６１が吸気口５８に対面して配設されている。隔壁６１を上チャンバー５２内に設けたことにより、吸気口５８から吸入された排気は隔壁６１に衝突してから上チャンバー５２の内周面に沿って流動し、分離チャンバー５４内に渦巻き気流６３が発生する。
【００３３】
更に、吸気口５５に対面した隔壁６１の表面に水等の液体を供給して加工屑が隔壁６１に付着することを防止する液体供給手段としての液体供給ノズル６４が配設されている。液体供給ノズル６４により液体を隔壁６１の比較的上流部分に供給すると、排気の流れが自動的に隔壁６１の表面全体へと液体を広げてくれるため、隔壁６１全体を覆う液体の層６６を容易に形成することができ、この液体の層６６により隔壁６１への加工屑の付着を抑制することができる。
【００３４】
本実施形態の切削装置２では、ファン４５を駆動すると、加工室３１内の雰囲気が排気口４３を介して上流側排気路４４Ａ内に吸入されて、分離手段４８の吸気口５８から分離チャンバー５４内に導入される。そして、分離チャンバー５４内を通って気体排出口６０を介して下流側排気路４４Ｂに排出され、排気管４６を経て切削装置２の外部に排気される。
【００３５】
このようにして、加工室３１内の雰囲気が排気されることにより、加工室３１内は清浄な雰囲気に維持される。排気が通過する分離手段４８においては、排気が上チャンバー５２内に形成された隔壁６１に衝突して分離チャンバー５４内に渦巻き気流６３が発生する。即ち、分離チャンバー５４内では、排気が渦巻状に回転してから上方の気体排出口６０を介して下流側排気路４４Ｂに排出されていく。
【００３６】
ウエーハＷの切削加工時には、切削液供給ノズル２９から切削液を供給しながら切削ブレード２８による切削加工が実施されており、切削液は回転する切削ブレード１８により跳ね上げられてミスト状に飛散する。
【００３７】
このミスト状となった切削液は廃液であって、その中には加工屑等の異物が混じっている場合が多く、排気に混入した状態で排気口４３から上流側排気路４４Ａを経て分離手段４８の吸気口５８を介して分離チャンバー５４内に導入される。
【００３８】
分離チャンバー５４内に導入された廃液５５を含む排気は、分離チャンバー５４内で渦巻き気流６３となって回転し、遠心分離作用で気体と液体、即ち排気と廃液に分離される。そして、排気のみが気体排出口６０から下流側排気路４４Ｂに排出され、異物を含む廃液５５は廃液排出口６２から落下して排出される。
【００３９】
このように、ミスト状の廃液を含む加工室３１内の雰囲気を排気しても、その排気が分離手段４８を通過することによって気体と液体とに分離され、気体のみが気体排出口６０から排出され、異物を含む廃液は廃液排出口６２から排出される。
【００４０】
従って、ミスト状の廃液がファン４５を通ることがなく、このため廃液に含まれる加工屑等の異物がファン４５に付着する恐れが低減される。その結果、ファン４５の吸引力の低下が防止される。
【００４１】
更に、本実施形態では、吸気口５８に対面した隔壁６１の表面に液体を供給する液体供給ノズル６４が配設されているため、液体供給ノズル６４から供給された液体が隔壁61の表面に液体の層６６を形成するため、隔壁６１に加工屑が付着することが抑制される。
【００４２】
液体供給ノズル６４から隔壁６１に供給する液体は排気の流れにより広げるため、できるだけ隔壁６１の上流側に供給するのが好ましい。流量としては、１．５リットル／分程度が好ましい。液体供給ノズル６４から供給された液体は廃液排出口６２から廃液とともに排出される。
【００４３】
加工装置２が加工液の循環ラインを設けて加工液を循環して使用している場合には、分離チャンバー５４の廃液排出口６２を濾過装置を介して循環ラインに接続することにより、加工液の消失を低減することができる。
【００４４】
上述した実施形態では、加工装置２内にファン４５及び分離手段４８を配設した例について説明したが、加工室内の雰囲気を排気するファンを有する排気設備が加工装置が設置された工場内に設けられている場合には、排気設備に分離手段４８を設けるようにしてもよい。
【００４５】
尚、上述した実施形態は本発明を切削装置に適用した例について説明したが、本発明は切削装置に限らず、研削装置、研磨装置、バイト切削装置等の各種加工装置に適用可能である。
【符号の説明】
【００４６】
２    切削装置
２４    切削ユニット
２８    切削ブレード
３０    筐体
３１    加工室
４４    排気路
４５    ファン
４６    排気管
４８    分離手段
５０    下チャンバー
５２    上チャンバー
５４    分離チャンバー
６０    隔壁
６４    液体供給ノズル
【図１】
2014034068.tif 000003
【図２】
2014034068.tif 000004
【図３】
2014034068.tif 000005
【図４】
2014034068.tif 000006