(57)【要約】【課題】  複数のパターン要素を含むパターンをより短い時間で分割してマスクデータを作成する。【解決手段】  複数のパターン要素を含むパターンのデータを取得するステップと、取得したパターンのデータを用いて、各パターン要素が各升目に配置されるようにパターンの領域を複数の升目で区切り、各升目においてパターン要素の有無を表す情報を付したマップデータを作成し、１つの升目とその周辺の升目とを含む制約領域において同一のマスク個体情報の設定を禁止する制約条件及びマップデータを用いて、パターン要素の有る升目ごとに複数のマスク個体情報のうち１つのマスク個体情報を設定し、設定されたマスク個体情報を用いて複数のマスク個体情報に対応する複数のマスクのデータを作成する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１マスクを用いて基板をパターニングした後、第２マスクを用いて前記基板をパターニングする多数回パターニングに用いられる前記第１マスク及び前記第２マスクを含む複数のマスクのデータをコンピュータを用いて作成するマスクデータ作成方法であって、
複数のパターン要素を含むパターンのデータを取得するステップと、
取得した前記パターンのデータを用いて、各パターン要素が各升目に配置されるように前記パターンの領域を複数の升目で区切り、各升目において前記パターン要素の有無を表す情報を付したマップデータを作成するステップと、
１つの升目とその周辺の升目とを含む制約領域において同一のマスク個体情報の設定を禁止する制約条件及び前記マップデータを用いて、前記パターン要素の有る升目ごとに複数のマスク個体情報のうち１つのマスク個体情報を設定する設定ステップと、
設定されたマスク個体情報を用いて、前記複数のマスク個体情報に対応する前記複数のマスクのデータを作成するステップとを有することを特徴とするマスクデータ作成方法。
【請求項２】
前記制約領域は、１つの升目とその升目を中心とした周辺の升目の領域であることを特徴とする請求項１に記載のマスクデータ作成方法。
【請求項３】
前記制約領域は、１つの升目とその升目の隣りの升目の領域であることを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクデータ作成方法。
【請求項４】
前記設定ステップにおいて、
前記複数の升目のうち１つ選択するステップと、
選択した升目を含む前記制約領域において前記パターン要素の有る升目に、選択した升目に設定されたマスク個体情報とは異なるマスク個体情報を設定するステップと、を前記複数の升目について繰り返すことによって、複数のマスク個体情報を設定することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載のマスクデータ作成方法。
【請求項５】
前記設定ステップにおいて、前記複数のマスク個体情報のうち、前記制約領域において使用されていない前記マスク個体情報からランダムに選択されたマスク個体情報を設定することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のマスクデータ作成方法。
【請求項６】
前記設定ステップにおいて、整数計画法を用いて前記マスク個体情報を設定することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のマスクデータ作成方法。
【請求項７】
前記整数計画法において、前記マスク個体情報の数をコスト関数として、前記コスト関数を最小化するように前記マスク個体情報を設定することを特徴とする請求項６に記載のマスクデータ作成方法。
【請求項８】
前記設定ステップにおいて、前記複数の升目のうち前記パターン要素の有る升目を点とした場合に、同一のマスク個体情報の設定が禁止される前記制約領域において点同士を線で繋いで制約条件として設定し、前記線分で繋がった点の升目には同一のマスク個体情報を設定しないように前記整数計画法を用いて前記マスク個体情報を設定することを特徴とする請求項６又は７に記載のマスクデータ作成方法。
【請求項９】
前記マスク個体情報は番号データまたは色データであることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載のマスクデータ作成方法。
【請求項１０】
コンピュータに請求項１乃至９の何れか１項に記載のマスクデータ作成方法を実行させるプログラム。
【請求項１１】
請求項１乃至９の何れか１項に記載のマスクデータ作成方法を実行する情報処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスクデータ作成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程のリソグラフィ工程において露光装置が用いられる。リソグラフィ工程とは、半導体デバイスの回路パターンを基板（シリコン基板、ガラス基板、ウエハなどと呼ばれる）上に転写する工程のことである。露光装置は、光源からの光を用いて照明光学系がマスク（レチクル）を照明し、マスクに形成された回路パターンを投影光学系などを介してウエハに転写する。
【０００３】
近年、半導体デバイスの更なるパターン微細化が進み、複数のマスクを用いて複数回ウエハをパターニングすることによって、ウエハ上の１つの層に複数のマスクのパターンを合わせて形成する多数回パターニングが行われている。
【０００４】
露光装置の解像限界は、ｈｐ＝ｋ１×λ／ＮＡで表される。ここで、ｈｐはハーフピッチの略で隣接するパターンの最短距離の半分、ｋ１はプロセスファクター、λは露光波長、ＮＡは露光装置の開口数である。多数回パターニングでは、露光装置の解像限界のハーフピッチよりも小さなハーフピッチを持つパターンを複数のマスクのパターンに分割して露光することで、従来の１回の露光で十分な露光マージンが得られなくなる解像限界よりも細かなパターンを解像させる技術である。
【０００５】
１つのレイアウト（パターン）を複数のマスクのパターンに分割する方法は、色を塗り分けるような特性を持つことから一般的に彩色問題といわれる。以下、パターンの分割のことを、色を塗り分けるような表現を用いることがある。元のターゲットパターンを複数のマスクのパターンに分割する方法は、特許文献１、特許文献２に示されている。
【０００６】
特許文献１には、繰り返し法により分割ルールを適用する方法が示されている。具体的には、分割ルールを決定し、着目しているパターンを分割ルールに基づいてマスクを第１のマスクに属するか、第２のマスクに属するかを決定し、それをパターン毎に繰り返していく方法である。
【０００７】
特許文献２には、コンフリクトグラフと数理計画法を用いたパターン分割方法が示されている。コンフリクトグラフとは、点と辺からなり、パターン分割の例では、各マスクパターンが点で示され、解像限界を超えるパターン同士が辺で結ばれる。整数計画法を用いて辺の両側のマスク番号が異なる番号になるようにパターン分割をしている。
【０００８】
一方、ｌｏｗ  ｋ１化などにより従来の２次元レイアウト（縦横方向に延びる）パターンでは所望のパターンをウェハ上に忠実に転写することが困難となってきた。そこで近年では、非特許文献１のような、１次元レイアウト技術と呼ばれる回路パターンの作製方法が考え出されてきた。この方法は、単一ピッチのラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）パターンを形成し、その後、複数の位置において同一像寸法で等グリッド上にホールパターンやカットパターンなどの複数のパターン要素を露光する。そうすることで、単一ピッチのＬ／Ｓパターンをパターン要素で切断して回路パターンを作製する。この方法により、従来の２次元的なパターンよりも露光面積を縮小できるだけでなく、露光が技術的に容易となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００７／００３１７４０号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２０１１／００７８６３８号明細書
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】Ｍｉｃｈａｅｌ  Ｃ．Ｓｍａｙｌｉｎｇ  ｅｔ．ａｌ．，“Ｌｏｗ  ｋ１  Ｌｏｇｉｃ  Ｄｅｓｉｇｎ  ｕｓｉｎｇ  Ｇｒｉｄｄｅｄ  Ｄｅｓｉｇｎ  Ｒｕｌｅｓ”Ｐｒｏｃ．ｏｆ  ＳＰＩＥ  Ｖｏｌ．６９２５（２００８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
特許文献１および２では、縦横方向に延びた２次元レイアウトのパターンを前提としてパターン分割をおこなっている。特許文献１では、着目パターンとその他のパターンが分割ルールに適合するかどうかの関係を、２次元レイアウトのパターンの全てについて求めなければならず、計算時間が長くなっていた。特許文献２では、コンフリクトグラフを作成するために、２次元レイアウトの全てのパターン間の距離等の関係を求めなければならず、計算時間が長くなっていた。
【００１２】
特許文献１および２に記載のパターン分割方法を、１次元レイアウトのホールパターンやカットパターンなどの複数のパターン要素について適用した例はない。仮に適用したとしても、複数のパターン要素のデータをそのまま用いてパターン要素の全てについてパターン要素間の距離を求め、距離の制約条件を満たしているかどうかを判断する必要があり、計算時間が長くなる。
【００１３】
そこで、本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、複数のパターン要素を含むパターンをより短い時間で分割してマスクデータを作成することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の一側面としてのマスクデータ作成方法は、第１マスクを用いて基板にパターニングした後、第２マスクを用いて前記基板をパターニングする多数回パターニングに用いられる前記第１マスク及び前記第２マスクを含む複数のマスクのデータをコンピュータを用いて作成するマスクデータ作成方法であって、複数のパターン要素を含むパターンのデータを取得するステップと、取得した前記パターンのデータを用いて、各パターン要素が各升目に配置されるように前記パターンの領域を複数の升目で区切り、各升目において前記パターン要素の有無を表す情報を付したマップデータを作成するステップと、１つの升目とその周辺の升目とを含む制約領域において同一のマスク個体情報の設定を禁止する制約条件及び前記マップデータを用いて、前記パターン要素の有る升目ごとに複数のマスク個体情報のうち１つのマスク個体情報を設定する設定ステップと、設定されたマスク個体情報を用いて、前記複数のマスク個体情報に対応する前記複数のマスクのデータを作成するステップとを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、複数のパターン要素を含むパターンをより短い時間で分割してマスクデータを作成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施例１におけるマスクデータの作成方法のフローチャートの図である。
【図２】パターンとマップデータを表す図である。
【図３】制約領域を表す図である。
【図４】マスク番号の設定例を示す図である。
【図５】従来例におけるパターン要素間の距離算出を説明するための図である。
【図６】分割対象となるパターンの一例を示す図である。
【図７】実施例２におけるマスクデータの作成方法のフローチャートの図である。
【図８】コンフリクトグラフの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（実施例１）
本発明は、ＩＣ、ＬＳＩなどの半導体チップ、液晶パネルなどの表示素子、磁気ヘッドなどの検出素子、ＣＣＤなどの撮像素子等の各種デバイスの製造やマイクロメカニクスで用いられるマスク（原版）のパターンのデータを生成する際に適用することができる。
【００１８】
本実施例におけるマスクデータ作成方法を説明する。図１は本実施例におけるマスクデータの作成方法のフローチャートである。かかる作成方法は、コンピュータなどの情報処理装置によって実行され、マスクパターンの像を基板に露光（パターニング）する露光装置（パターニング装置）に用いられるマスクのデータが作成される。
【００１９】
まず、コンピュータは、分割対象のパターンのデータを取得する（Ｓ１０１）。図２（ａ）は、１次元レイアウト技術に用いられるホールパターンやカットパターンであって、複数のパターン要素２０を含むパターン２の図である。パターン要素２０は矩形状であり、パターン２は同一形状のパターン要素２０で構成されている。本実施例ではパターン２を、第１マスク、第２マスク、第３マスクなど複数のマスクのパターンに分割する。一般的に、マスクに描画するためのレイアウトパターンのデータは一般的にｇｄｓ ＩＩなどのポリゴンデータの形式で表記、保存されており、コンピュータはパターン２のポリゴンデータを取得する。
【００２０】
次に、ポリゴンデータ形式のパターン２のデータを、複数の升目２１で区切ったマップデータに変換する（Ｓ１０２）。マップデータの例を図２（ｂ）に示す。各パターン要素２０が各升目２１に配置されるように、パターン２の領域を等間隔に複数の升目２１に区切る。そして、各升目２１において、パターン要素２０がある升目には１、パターン要素２０がない升目には０の数値を付加する。ホールパターンやカットパターンの各パターン要素２０はグリッドデザインルールに基づいて等グリッド上に設計されているため、各パターン要素２０は、等間隔に区切られた各升目２１に１対１で対応する。このように、パターン２のデータを、各升目２１においてパターン要素２０の有無を表す情報を付したマップデータに変換することができる。なお、各升目の形状は矩形に限らず、各パターン要素が各升目に対応すればどんな形状でもよい。また、各升目の中心などの位置をグリッド（格子）の交点に対応させて、各パターン要素２０の配置をグリッドの各交点の座標で表現したグリッドマップデータをマップデータとして用いてもよい。
【００２１】
次に、マスク個体情報の設定に関する制約条件を定める（Ｓ１０３）。図３を用いて説明する。まず、１つの升目３０１と、升目３０１を中心とした周辺の升目３０２との領域を制約領域とする。図３では、１つの升目３０１（★で示す）と、その上下、左右、斜め隣りの位置にある升目３０２（×で示す）とを制約領域とした。この制約領域においては、升目同士の距離が小さいため、それらの升目にあるパターン要素を同一マスクに形成して露光すると、パターン要素の解像度が低下する場合がある。したがって、この制約領域においては、各升目に同一のマスク個体情報の設定を禁止するという制約条件を定める。
【００２２】
マスク個体情報は、例えばマスクの番号データや色データである。マスク番号は例えば１、２、３など、各マスクに対応する個体の個体番号である。なお、制約領域は上下、左右、斜め隣りに限らず、解像性能が低下する任意の位置の升目を含めることができる。例えば、１つの升目（評価対象の升目）から升目３つ分だけ離れた位置の升目としてもよい。
【００２３】
次に、複数の升目のなかから評価対象とする１つの升目を選択する（Ｓ１０４）。この際、パターン要素２１がある升目、つまり、値が１の升目を選択する。例えば、図４（ａ）に示す升目４０１を選択する。そして、升目４０１を中心とした制約領域４０２において、マスク個体情報の設定を行う。まず、制約領域４０２において、既に設定されているマスク個体情報を調べる（Ｓ１０５）。そして、評価対象の升目４０１に、制約領域４０２において既に設定されているマスク個体情報とは異なるマスク個体情報を設定する（Ｓ１０６）。
【００２４】
例えば、図４（ｂ）に示すように既にマスク個体情報（マスク番号）が一部決まっている場合を考える。４０４を評価対象の升目とすると、４０５が制約領域となる。制約領域４０５の中には、既にマスク番号１が使用されていることがわかる。そのため、升目４０４にはマスク番号２を設定する。
【００２５】
そして、パターン要素２１のある複数の升目のうち、まだマスク個体情報を設定していない升目があるかどうかを判断する（Ｓ１０７）。まだマスク個体情報を設定していない升目がある場合は、Ｓ１０４に戻り、マスク個体情報を設定すべき別の評価対象の升目を選択する。そして、Ｓ１０５〜Ｓ１０７を繰り返す。Ｓ１０４において、パターン要素２１がある升目（値が１の升目）を選択して、選択した升目を中心とした制約領域を設定したが、升目の選択はこれに限らない。例えば、パターン要素の有無に関わらずすべての升目について順次選択し、選択した升目を中心に制約領域を設定してもよい。
【００２６】
このようにして、パターン要素２１のあるすべての升目についてマスク個体情報を設定し、データを出力する。図４（ｃ）に、パターン要素２１のあるすべての升目についてマスク個体情報を設定したマップデータを示す。各升目に設定されたマスク個体情報のマスク番号が示されている。
【００２７】
そして、マスク個体情報別にマスクのパターンのデータを作成することで、パターン２を複数のマスクのパターンに分割する。具体的には、パターン２は、図４（ｃ）に示すマスク番号１に対応するパターン要素を含む第１のマスクと、マスク番号２に対応するパターン要素を含む第２のマスクと、マスク番号３に対応するパターン要素を含む第３のマスクとの各マスクのパターンに分割される。
【００２８】
なお、Ｓ１０６におけるマスク個体情報の設定の仕方は、いくつか考えられる。例えば、制約領域において使用されていないマスク番号のうち最小の数を設定する方法がある。例えば、図４（ｂ）の例では、４０４の評価対象の升目のマスク番号を決めるとき、制約領域４０５内で既にマスク番号１が使用されているため、使用されていない番号のうち最小の番号である２を設定する。また、あらかじめ最大のマスク番号（少なくとも２）を決めておき、制約領域内で使用されていない番号のうち、最大のマスク番号までの間でランダムに選ぶ方法もある。例えば、図４（ｂ）の例では、評価対象の升目４０４のマスク番号を決めるとき、制約領域４０５内で既にマスク番号１が使用されている。そのため、あらかじめ決められた最大のマスク番号が３である場合、マスク番号を２にするか３にするかをランダムに決定するというものである。この方法をランダム番号法と表現する。
【００２９】
もし、従来例のように、マップデータに置き換えずにポリゴンデータのままパターンの分割を行った場合を図５を用いて説明する。まず、図５に示すように評価対象のパターン要素５０１のマスク番号を決定するために、評価対象のパターン要素５０１と、周囲の全てのパターン要素との中心位置の距離を計算する。更に、パターン要素間の距離の制約条件を満たしていないパターン要素を探す。そして、その制約条件を満たさないパターン要素に既にマスク個体情報が付されているかどうか判定し、既に設定されている場合は、設定されたマスク個体情報とは異なるマスク個体情報を設定する。評価対象のパターン要素５０１の周囲の全てのパターン要素が多ければ多いほど、計算時間が長くなってしまう。
【００３０】
一方、本実施例では、各升目に各パターン要素を対応させたマップデータに変換して、範囲が限られた制約領域を設定しているために、いたずらにすべてのパターン要素について距離を計算する必要がなく、より短い時間で計算することができる。
【００３１】
実際に、図６に示す５６００個の矩形状のパターン要素を分割した結果を示す。上記の従来例のようにポリゴンデータのまま全てのパターン要素間の中心位置の距離を計算し、距離の制約条件を満たしていない升目には互いに異なるマスク個体情報を設定する方法を実行した場合には、計算時間は４．９９秒であった。一方、本実施例のようにパターンをマップデータに置き換えて、ランダム番号法でマスク番号を設定した場合には０．５１秒であった。このように、およそ１／１０だけ計算時間が短くなった。
【００３２】
（実施例２）
次に第２の実施例を説明する。図７は本実施例におけるマスクデータの作成方法のフローチャートである。
【００３３】
実施例１と同様に、コンピュータは、分割対象のパターンのデータを取得する（Ｓ７０１）。次に、ポリゴンデータ形式のパターンのデータを、複数の升目で区切ったマップデータに変換する（Ｓ７０２）。次に、制約領域を設定する（Ｓ７０３）。ここまでは実施例１と同様である。
【００３４】
次に、マップデータを基にコンフリクトグラフを作成する（Ｓ７０４）。コンフリクトグラフとは、パターン要素を点で示し、解像限界を超える点同士を線分で示したグラフである。まず、パターン要素のある１つの升目を選択し、選択された升目に対する制約領域内において、パターン要素がある升目と選択された升目とを線分で結ぶ。これをパターン要素のあるすべての升目について行う。このグラフの線分の両端には互いに異なるマスク個体情報を設定しなければならない。このように、マスク個体情報の設定に関する制約条件を定める。図２（ｂ）に示すマップデータについて、図３に示す制約領域を設定してコンフリクトグラフを作成した結果を図８に示す。
【００３５】
次に、整数計画法を用いてマスク個別情報を設定する（Ｓ７０５）。マスクの数を最小化することを目的とした整数計画法のプログラムの一例を以下の数式に示す。
【００３６】
（１）変数の説明
【００３７】
【数１】
2014013376.tif 000003
【００３８】
【数２】
2014013376.tif 000004
【００３９】
【数３】
2014013376.tif 000005
【００４０】
【数４】
2014013376.tif 000006
【００４１】
【数５】
2014013376.tif 000007
【００４２】
（２）数式の説明
コスト関数（目的関数）は以下のように示される。
【００４３】
【数６】
2014013376.tif 000008
【００４４】
これは、使うマスク番号の数を最小化しなさいという意味である。
【００４５】
【数７】
2014013376.tif 000009
【００４６】
数式７がマスク番号の数と等しくなるので、たとえばマスク番号の数が２から３に１増えれば、数式７の値が２から３となる。ここで示すマスク番号の数は、パターンが分割されてできるマスクの枚数となるため、マスクの費用の観点からなるべく少ないマスクの数に分割することが重要となる。
【００４７】
制約条件は以下の式で表される。
【００４８】
【数８】
2014013376.tif 000010
【００４９】
【数９】
2014013376.tif 000011
【００５０】
【数１０】
2014013376.tif 000012
【００５１】
【数１１】
2014013376.tif 000013
【００５２】
境界条件は以下の式で表される。
【００５３】
【数１２】
2014013376.tif 000014
【００５４】
数式８は、マスク番号は小さい順に使いなさいという意味を持つ制約条件である。ｙ１＝０つまり１番目のマスク番号は使わないにも関わらず、ｙ２＝１つまり２番目のマスク番号を使うということがないようにするための制約条件である。
【００５５】
数式９は、ｉ番目のパターン要素のｘｉには、どれか１つのマスク番号だけ設定しなさいという意味を持つ。ｉ番目のパターン要素に１番目のマスク番号と２番目のマスク番号の両方を設定することがないようにするための制約条件である。
【００５６】
数式１０は、使わないマスク番号では設定しないという制約条件である。ｊ番目のマスク番号を使わない（ｙｉ＝０）にも関わらず、ｉ番目のパターン要素でｊ番目のマスク番号が使われる（ｘｉｊ＝１）ことがないようにする制約条件である。
【００５７】
数式１１は、コンフリクトグラフに基づくパターンの制約条件である。この条件はｉ番目のパターンと、ｉ´番目のパターンが線分でつながれている、つまり同じマスク番号にしてはいけないときにつける制約条件である。よって、全てのパターン要素にこの制約条件がつくわけではなく、制約領域内にあるパターン要素同士にこの制約条件がつく。
【００５８】
境界条件としては、数式１２に示すように１番目のマスク番号は使用しなさいという条件をつける。
【００５９】
Ｓ７０５では、以上の数式を整数計画法の実行ソフトに入力することで計算を行い、マスク個別情報を設定する。そして、各升目にマスク個別情報を付したデータを出力する。
【００６０】
本実施例においても、より短い時間でパターンを分割して複数のマスクのパターンのデータを作成することができる。
【００６１】
本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行する処理である。
【００６２】
以上のようにして作成されたマスクのデータをマスク描画装置に入力して、複数のマスクが製造する。製造されたマスクは露光装置内のマスクステージに搭載され、照明光学系によって照明されて、ウエハ上にマスクのパターンの像が露光される。製造されたマスクのうち１つのマスクでウエハを露光した後、ウエハ上の同じレイヤーに別のマスクを用いてウエハを露光することによって多数回パターニングでウエハ上の１つのレイヤーにパターンを形成することできる。
【００６３】
次に、デバイス（液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、上記のように製造されたマスクを露光装置に搭載して、感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。
【００６４】
上述の露光装置（パターニング装置）としては、光源からの光を用いて照明光学系がマスクを照明し、マスクに形成された回路パターンを投影光学系などを介してウエハに転写するものを説明した。しかし上記のものに限らず、パターニング装置としては、モールドに形成されたパターンと基板上の樹脂とを接触させた状態で樹脂を硬化させることで基板上にパターンを形成（パターニング）するインプリント装置であっても良い。この場合、分割されたマスクのパターンのデータは、モールドに形成されたパターンとなる。また、上記実施形態で説明したパターニング装置として、荷電粒子線（電子線）で基板上に描画を行う装置であっても良い。この場合、分割されたマスクのパターンのデータに基づき、描画を行う装置を制御する。また、分割されたマスクのパターン毎に上述したパターニング装置を組み合わせてパターンの像を形成しても良い。
【００６５】
上述の露光装置を利用したデバイス製造方法は、液晶表示デバイスの他に、例えば、半導体デバイス等のデバイスの製造にも好適である。前記方法は、上記のように製造されたマスクを露光装置に搭載して、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、前記デバイス製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含みうる。
【００６６】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014013376.tif 000021
【図８】
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