(57)【要約】【課題】軽量で柔軟性があるというフィルムミラーの特性を維持しつつ、支持体と金属反射層との密着性が良好で、かつ、過酷な環境下での長期使用にも耐え得る耐候性に優れたフィルムミラーを提供する。【解決手段】樹脂製支持体上に、金属反射層と、下記一般式（１）で表される化合物を含有する紫外線吸収剤含有層と、をこの順に有するフィルムミラー。一般式（１）中、Ｒ１ａ〜Ｒ１ｅは、それぞれ水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。Ｒ１ｇ〜Ｒ１ｐはそれぞれ、水素原子又は１価の置換基を表す。2014199330.tif 000025【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製支持体上に、金属反射層と、下記一般式（１）で表される化合物を含有する紫外線吸収剤含有層と、をこの順に有するフィルムミラー。
【化１】
2014199330.tif 000023
（前記一般式（１）中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐはそれぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐが１価の置換基を表す場合、任意の２以上が互いに結合して環を形成してもよい。）
【請求項２】
前記一般式（１）において、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐは、水素原子又は酸性基を有しない１価の置換基を表す、請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
下記一般式（ＴＳ−Ｉ）、一般式（ＴＳ−ＩＩ）、一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）、一般式（ＴＳ−ＶＩ）、及び一般式（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物を含有する光安定化剤含有層を有する請求項１又は請求項２に記載のフィルムミラー。
【化２】
2014199330.tif 000024
（前記一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ９１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）を表し、Ｒ９７、Ｒ９８、及びＲ９９はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、又はアリールオキシ基を表す。Ｘ９１は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（−Ｒ１００）−を表し、Ｒ１００は前記Ｒ９１と同義である。Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、及びＲ９６はそれぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｒ９１とＲ９２、Ｒ１００とＲ９６、Ｒ９１とＲ１００とは、それぞれ互いに結合して隣接する炭素原子とともに５員〜７員環を形成してもよく、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４とは、それぞれ互いに結合して、隣接する炭素原子とともに５員〜７員環、スピロ環、又は、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、及びＲ１００のすべてが水素原子であることはなく、一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物に含まれる総炭素数は９以上である。
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、及びＲ１０４は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアルケニル基を表し、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４とは、それぞれ互いに結合して、隣接する炭素原子とともに５員〜７員環を形成してもよい。Ｘ１０１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、又はオキシラジカル基を表す。Ｘ１０２は、炭素原子及び窒素原子と共に５員〜７員環を形成するのに必要な非金属原子団を表す。
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ１０５及びＲ１０６はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、又は芳香族スルホニル基を表し、Ｒ１０７は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、又はヒドロキシ基を表し、Ｒ１０５とＲ１０６の双方が水素原子であることはなく、Ｒ１０５とＲ１０６に含まれる総炭素数は７以上である。Ｒ１０５とＲ１０６、Ｒ１０６とＲ１０７、Ｒ１０５とＲ１０７とは、それぞれ互いに結合し、隣接する窒素原子と共に５員〜７員環を形成してもよいが、形成された環構造は２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成することはない。
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ１１１及びＲ１１２はそれぞれ独立に脂肪族基を表し、該脂肪族基は更に置換基を有してもよく、Ｒ１１１とＲ１１２に含まれる総炭素数は１０以上である。Ｒ１１１とＲ１１２は互いに結合し、隣接する硫黄原子とともに５員〜７員環を形成してもよい。ｎは０、１、又は２を表す。
前記一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ１２１及びＲ１２２はそれぞれ独立に脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２３は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２１、Ｒ１２２及びＲ１２３に含まれる総炭素数は１０以上である。ｍは０又は１を表す。Ｒ１２１とＲ１２２、Ｒ１２１とＲ１２３とは、それぞれ互いに結合し、隣接するリン原子とともに５〜８員環を形成してもよい。）
【請求項４】
前記紫外線吸収剤含有層と光安定化剤含有層が同一の層である請求項３に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記紫外線吸収剤含有層の厚みが、３μｍ以上３０μｍ以下である、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
前記紫外線吸収剤含有層が、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、エチレン酢酸ビニル樹脂、及びエチレンアクリル酸エステル共重合樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂を含有する、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項７】
前記紫外線吸収剤含有層が、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、及びエポキシ化合物からなる群より選ばれ少なくとも１種の架橋剤を含有する、請求項１〜請求項６に記載のフィルムミラー。
【請求項８】
前記紫外線吸収剤含有層において、前記一般式（１）で表される化合物の含有量をＡとし、前記架橋剤の含有量をＢとしたとき、両者の比（Ａ／Ｂ）が質量基準で０．０５以上１０以下である請求項７に記載のフィルムミラー。
【請求項９】
前記紫外線吸収剤含有層上に、さらに表面被覆層を有する、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項１０】
前記金属反射層が、銀を含有する請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項１１】
前記樹脂製支持体上と、前記金属反射層との間に、さらにめっき下塗りポリマー層を有し、前記金属反射層がめっきにより形成されてなる請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項１２】
太陽光集光用に用いる請求項１〜請求項１１のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項１３】
請求項１〜請求項１２のいずれか１項に記載のフィルムミラーが、粘着層を介して、樹脂、金属、若しくはセラミックのいずれかからなる基板に貼り合されてなるか、或いは、固定治具を介して、樹脂、金属、若しくはセラミックのいずれかからなる枠に取り付けられてなる太陽光反射板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラー及びそれを用いてなる太陽光反射板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、石炭、天然ガスに代表される化石燃料に代わる代替エネルギーの研究が盛んに行なわれている。特に、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーは、資源の枯渇、地球温暖化等の懸念がなく、クリーンなエネルギーとして注目されている。これらの中でも、太陽光を利用する太陽エネルギーは、安定供給が可能なエネルギーとして更なる開発が期待されている。
【０００３】
しかしながら一方で、太陽エネルギーにはエネルギー密度が低いという問題がある。この問題を解決するため、近年では、巨大な反射鏡を用いて太陽光を集光しようという試みがなされている。
これまで、太陽光を集光するための反射鏡は、屋外に設置され、太陽光に起因する紫外線や熱、風雨、砂塵等に晒されるため、ガラス製のものが用いられてきた。しかしながら、ガラス製の反射鏡は、耐候性に優れるものの、重量があり、破損しやすく、かつ、柔軟性に欠けるため、取り扱い性に改良の余地があるという問題があった。
【０００４】
上記問題に対しては、ガラス製の反射鏡を、軽量で柔軟性のある樹脂製の反射鏡に置き換えることが考えられている。例えば、第１の延伸フィルムと第２の延伸フィルムとが、第１の延伸フィルム上に設けられた銀反射層を挟む形で、接着層を介して積層されたフィルムミラーが開示されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１によれば、第１の延伸フィルム及び第２の延伸フィルムの主たる延伸方向を特定の交角で交差させることで、過酷な環境下で長期間用いられた場合であっても、ミラー面の歪みが発生せず、正反射率の低下が抑制されたフィルムミラーが提供できるとされている。
また、フィルムミラーにおける金属反射層としては、優れた反射率を達成するため銀反射層が好ましいとされている。ガラス製の反射鏡に比べて耐候性に劣るフィルムミラーにおいて、より高い耐候性を実現するために金属反射層の表面に保護層を設け、保護層に特定の紫外線吸収剤を含有させる技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−８３５２７号公報
【特許文献２】特開特開２０１２−１７３３７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者らの検討によれば、金属反射層は優れた反射率を達成するものの、紫外光、特に、ＵＶ−Ｂ領域における反射性が低く、このため、特許文献１に開示されている如き樹脂を支持体として用いた場合には、紫外線による樹脂製支持体の劣化が懸念される。
このような樹脂製支持体の劣化を抑制するために、例えば、特許文献１に記載の如き樹脂製支持体を有するフィルムミラーに特許文献２に記載の如き、表面保護層を適用すると、保護層を構成する樹脂材料に起因して反射率が低下するという問題が生じることが判明した。また、該表面保護層と金属反射層との物性の相違から、フィルムミラーが厳しい条件下にて長期間使用された場合、表面保護層と金属反射層との界面で剥離が生じ、金属反射層の平面性が損なわれて、反射率の低下を引き起こすことが判明した。このため、保護層は、金属反射層との密着性に優れ、且つ、薄層であっても充分な紫外線遮断性が必要となることが見出された。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、軽量で柔軟性があるというフィルムミラーの特性を維持しつつ、過酷な環境下においても、紫外線に起因する劣化が抑制され、高い反射率を長期間にわたり維持しうる耐候性に優れたフィルムミラーを提供することにある。
また、本発明の他の課題は、本発明のフィルムミラーを用いて作製された、軽量で耐候性に優れた太陽光反射板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための具体的な手段は、以下の通りである。
＜１＞  樹脂製支持体上に、金属反射層と、下記一般式（１）で表される化合物を含有する紫外線吸収剤含有層と、をこの順に有するフィルムミラー。
【０００９】
【化１】
2014199330.tif 000002
【００１０】
（前記一般式（１）中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐはそれぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐが１価の置換基を表す場合、任意の２以上が互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、「樹脂製支持体、金属反射層、及び紫外線吸収剤含有層、をこの順に有する」とは、これらの層が記載順に設けられることを意味し、その上下、間に設けられる任意の層、例えば、バックコート層、中間層、表面被覆層などの存在を否定するものではない。
＜２＞  前記一般式（１）において、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐは、それぞれ独立に、水素原子又は酸性基を有しない１価の置換基を表す、＜１＞に記載のフィルムミラー。
【００１１】
＜３＞  下記一般式（ＴＳ−Ｉ）、一般式（ＴＳ−ＩＩ）、一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）、一般式（ＴＳ−ＶＩ）、及び一般式（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物を含有する光安定化剤含有層を有する、＜１＞又は＜２＞に記載のフィルムミラー。
【００１２】
【化２】
2014199330.tif 000003
【００１３】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ９１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）を表し、Ｒ９７、Ｒ９８、及びＲ９９はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、又はアリールオキシ基を表す。Ｘ９１は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（−Ｒ１００）−を表し、Ｒ１００は前記Ｒ９１と同義である。Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、及びＲ９６はそれぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｒ９１とＲ９２、Ｒ１００とＲ９６、Ｒ９１とＲ１００とは、それぞれ互いに結合して隣接する炭素原子とともに５員〜７員環を形成してもよく、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４とは、それぞれ互いに結合して、隣接する炭素原子とともに５員〜７員環、スピロ環、又は、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、及びＲ１００のすべてが水素原子であることはなく、一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物に含まれる総炭素数は９以上である。
【００１４】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、及びＲ１０４は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアルケニル基を表し、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４とは、それぞれ互いに結合して、隣接する炭素原子とともに５員〜７員環を形成してもよい。Ｘ１０１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、又はオキシラジカル基を表す。Ｘ１０２は、炭素原子及び窒素原子と共に５員〜７員環を形成するのに必要な非金属原子団を表す。
【００１５】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ１０５及びＲ１０６はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、又は芳香族スルホニル基を表し、Ｒ１０７は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、又はヒドロキシ基を表し、Ｒ１０５とＲ１０６の双方が水素原子であることはなく、Ｒ１０５とＲ１０６に含まれる総炭素数は７以上である。Ｒ１０５とＲ１０６、Ｒ１０６とＲ１０７、Ｒ１０５とＲ１０７とは、それぞれ互いに結合し、隣接する窒素原子と共に５員〜７員環を形成してもよいが、形成された環構造は２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成することはない。
【００１６】
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ１１１及びＲ１１２はそれぞれ独立に脂肪族基を表し、該脂肪族基は更に置換基を有してもよく、Ｒ１１１とＲ１１２に含まれる総炭素数は１０以上である。Ｒ１１１とＲ１１２は互いに結合し、隣接する硫黄原子とともに５員〜７員環を形成してもよい。ｎは０、１、又は２を表す。
前記一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ１２１及びＲ１２２はそれぞれ独立に脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２３は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２１、Ｒ１２２及びＲ１２３に含まれる総炭素数は１０以上である。ｍは０又は１を表す。Ｒ１２１とＲ１２２、Ｒ１２１とＲ１２３とは、それぞれ互いに結合し、隣接するリン原子とともに５〜８員環を形成してもよい。）
【００１７】
＜４＞  前記紫外線吸収剤含有層と光安定化剤含有層とが同一の層である、＜３＞に記載のフィルムミラー。
＜５＞  紫外線吸収剤含有層の厚みが、３μｍ以上３０μｍ以下である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
＜６＞  紫外線吸収剤含有層が、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、エチレン酢酸ビニル樹脂、及びエチレンアクリル酸エステル共重合樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂を含有する、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
＜７＞  紫外線吸収剤含有層が、カルボジイミド、イソシアネート、及びエポキシからなる群より選ばれ少なくとも１種の架橋剤を含有する、＜１＞〜＜６＞に記載のフィルムミラー。
＜８＞  紫外線吸収剤含有層において、前記一般式（１）で表される化合物の含有量をＡとし、架橋剤の含有量をＢとしたとき、両者の比（Ａ／Ｂ）が質量基準で０．０５以上１０以下である＜７＞に記載のフィルムミラー。
【００１８】
＜９＞  紫外線吸収剤含有層上に、さらに表面被覆層を有する、＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
＜１０＞  金属反射層が、銀を含有する＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
＜１１＞  樹脂製支持体上と、金属反射層との間に、さらにめっき下塗りポリマー層を有し、金属反射層がめっきにより形成されてなる＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
＜１２＞  太陽光集光用に用いる＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
＜１３＞  ＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載のフィルムミラーが、粘着層を介して、樹脂、金属、若しくはセラミックのいずれかからなる基板に貼り合されてなるか、或いは、固定治具を介して、樹脂、金属、若しくはセラミックのいずれかからなる枠に取り付けられてなる太陽光反射板。
【００１９】
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
「（メタ）アクリル」との記載は「アクリル」及び「メタクリル」のいずれか或いは双方を意味する。（メタ）アクリレートの記載も同様に、「アクリレート」及び「メタクリレート」のいずれか或いは双方を意味する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、軽量で柔軟性があるというフィルムミラーの特性を維持しつつ、過酷な環境下においても、紫外線に起因する劣化が抑制され、高い反射率を長期間に維持しうる耐候性に優れたフィルムミラーを提供することができる。
また、本発明によれば、本発明のフィルムミラーを用いて作製された、軽量で耐候性に優れた太陽光反射板を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。
【００２２】
［フィルムミラー］
本発明のフィルムミラーは、樹脂製支持体上に、金属反射層と、以下に詳述する一般式（１）で表される化合物を含有する紫外線吸収剤含有層と、をこの順に有する。
フィルムミラーの支持体としては、安価で、かつ、機械的強度に優れるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等のポリエステルフィルムに代表される樹脂基材が選択される。しかしながら、通常、樹脂材料は、紫外線による劣化を受けやすく、太陽光、太陽熱、風雨、砂塵等に長期間晒されるフィルムミラーの使用態様を考慮すると、優れた紫外線遮断性を有する紫外線吸収剤含有層を形成することは重要である。
このため、特に、長波紫外線から短波紫外線まで広い領域で紫外線を吸収しうる化合物として、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤が用いられている。しかしながら、極大吸収波長（λｍａｘ）が長波紫外線領域にあるものは耐光性が悪く、紫外線遮蔽効果が時間とともに減少していってしまうという問題があった。このため、ＵＶ−Ａ領域〜ＵＶ−Ｂ領域までひろい紫外線遮蔽効果を示し、かつこれまで以上の耐光性に優れた紫外線吸収能を有する化合物として、本発明に使用される下記一般式（１）で表される化合物（以下、適宜、（１）特定化合物と称する）を選択したものである。
（１）特定化合物を用いることで、薄層でも優れた紫外線遮断性を示し、金属反射層の反射率を低下させることなく、フィルムミラーを太陽光、太陽熱、風雨、砂塵等に長期間晒される過酷な環境下で使用した場合にも優れた耐候性を発現するに至ったものである。
以下、本発明のフィルムミラーを構成する各材料について、詳細に説明する。
まず、本発明の重要な要件である紫外線吸収剤含有層から説明する。
【００２３】
＜紫外線吸収剤含有層＞
本発明のフィルムミラーでは、太陽光、雨水、砂塵等による金属反射層、樹脂製支持体、あるいは、所望により設けられるめっき下塗りポリマー層の劣化や破損を防止し、鏡面性の安定化を図るために、以下に詳述する金属反射層の入射光側の表面上に（１）特定化合物を含有する紫外線吸収剤含有層が設けられる。
〔樹脂〕
本発明における紫外線吸収剤含有層は、樹脂を含有する。紫外線吸収剤含有層の形成に用いられる樹脂材料としては、フィルム又は層を形成しうる樹脂であって、形成されたフィルム又は層の強度、耐久性、空気や水分の遮断性、さらには、紫外線吸収剤含有層と隣接する層、例えば、金属反射層や表面被覆層等との密着性に加え、透明性、特にフィルムミラーが必要とする波長の光に対する高い透過性を有する樹脂が好ましい。
【００２４】
具体的には、例えば、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスルフォン（ポリエーテルスルフォンも含む）系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロースジアセテート樹脂、セルローストリアセテート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、エチレンビニルアルコール樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、及びエチレンアクリル酸エステル共重合体、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリアミド、フッ素系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、オレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。
これらのなかでも、透明性、下記一般式（１）で表される化合物との親和性、及び、紫外線吸収剤含有層と金属反射層との密着性の観点から、紫外線吸収剤含有層に含有される樹脂としては、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、エチレン酢酸ビニル樹脂、及びエチレンアクリル酸エステル共重合体から選ばれる１種以上の樹脂が好ましい。
【００２５】
〔一般式（１）で表される化合物〕
本発明に係る紫外線吸収剤含有層には、下記一般式（１）で表される化合物を含有する。（１）特定化合物は紫外線吸収能を有する。
【００２６】
【化３】
2014199330.tif 000004
【００２７】
前記一般式（１）中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、及びＲ１ｅは、それぞれ独立に、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐはそれぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐが１価の置換基を表す場合、任意の２以上が互いに結合して環を形成してもよい。
なかでも、紫外線吸収剤含有層と隣接する金属反射層の酸化による反射率の低下が抑制され、耐候性がより向上されるといった観点からは、前記一般式（１）において、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐは、それぞれ独立に、水素原子又は酸性基を有しない１価の置換基を表すことが好ましい。即ち、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、Ｒ１ｅ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐが１の置換基である場合に、それらのいずれもが酸性基を有しないことで、金属反射層の反射率が長期間高いレベルに維持されると共に、紫外線吸収剤含有層中に含まれる樹脂への酸性基による影響がないため、樹脂の安定性の観点からもより好ましいといえる。
ここで酸性基とは、ｐＫａが５．０以下である基、より具体的には、スルホン酸基、硝酸基、カルボン酸基、ホスホン酸基などを指す。
【００２８】
ここで、ハメット則のσｐ値が正である１価の置換基としては、−ＣＯＯＲｒ、−ＣＯＮＲｓ２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基及び−ＳＯ３Ｍ［Ｒｒ及びＲｓはそれぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基を表し、Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］などが挙げられ、−ＣＯＯＲｒ［Ｒｒは、水素原子又は１価の置換基を表す。］が好ましい。
また、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、及びＲ１ｅ、或いは、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐがそれぞれ１価の置換基を表す場合の１価の置換基としては、特開２０１２−１２６８８２号公報の段落〔００１９〕〜〔００３２〕に記載の置換基が挙げられ、なかでも、置換或いは無置換のアルキル基、アルキレンオキシ基、ニトロ基、アミド基などが好ましい。
一般式（１）で表される化合物としては、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、及びＲ１ｅの少なくともいずれか１つ、より好ましくは、Ｒ又はＲ１ｄがハメット則のσｐ値が正である１価の置換基であり、且つ、Ｒ１ｇ、Ｒ１ｈ、Ｒ１ｉ、Ｒ１ｊ、Ｒ１ｋ、Ｒ１ｍ、Ｒ１ｎ、及びＲ１ｐがそれぞれ水素原子である態様が好ましい。
【００２９】
一般式（１）で表される化合物については、特開２０１２−１２６８８２号公報に詳細に記載されている。
なかでも、本発明に特に好適に使用される上記一般式（１）で表される化合物の例として、以下に例示化合物（ＵＶＡ−１）〜（ＵＶＡ−６）を挙げるが、本発明はこの例示化合物に制限されるものではない。これらのなかでも、Ｒ１ａ〜Ｒ１ｅに酸性基を有しない（ＵＶＡ−１）〜（ＵＶＡ−５）がより好ましい。
【００３０】
【化４】
2014199330.tif 000005
【００３１】
【化５】
2014199330.tif 000006
【００３２】
前記一般式（１）で表される化合物はＲ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ１ｄ、及びＲ１ｅの少なくともいずれか１つにハメット則のσｐ値が正である置換基を有するため、電子求引性基によりＬＵＭＯが安定化される。このため、励起寿命が短くなり、（１）特定化合物は優れた耐光性を有し、紫外線吸収能が長期間持続する。例えば、紫外線吸収剤として、既知のトリアジン系化合物を用いた場合は、長時間使用した場合は分解して黄変するなど、含有される紫外線吸収剤含有層に悪影響を及ぼすが、前記一般式（１）で表される化合物は優れた耐光性を有するため長時間使用した場合でも分解せず黄変することがないという利点をも有する。
前記一般式（１）で表される化合物の極大吸収波長は、特に限定されないが、好ましくは２５０ｎｍ〜４００ｎｍであり、より好ましくは２８０ｎｍ〜３８０ｎｍである。半値幅は好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは４０ｎｍ〜８０ｎｍである。
本発明に係る前記（１）特定化合物は、フィルムミラーの反射率低下を抑制するという観点からは可視域に吸収がないことが好ましい。
本発明において規定される極大吸収波長及び半値幅は、当業者が容易に測定することができる。測定方法に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座７分光ＩＩ」（丸善，１９９２年）１８０〜１８６ページなどに記載されている。具体的には、適当な溶媒に試料を溶解し、石英製又はガラス製のセルを用いて、試料用と対照用の２つのセルを使用して分光光度計によって測定される。用いる溶媒は、試料の溶解性と合わせて、測定波長領域に吸収を持たないこと、溶質分子との相互作用が小さいこと、揮発性があまり著しくないこと等が要求される。上記条件を満たす溶媒であれば、任意のものを選択して使用しうるが、前記一般式（１）で表される化合物の溶解性の点から、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、又はニトリル系溶媒が好ましい。
【００３３】
前記一般式（１）で表される化合物は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては、代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明の化合物に含まれる。
前記一般式（１）で表される化合物は、同位元素（例えば、２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１５Ｎ、１７Ｏ、１８Ｏなど）を含有していてもよい。
【００３４】
前記一般式（１）で表される化合物は、任意の方法で合成することができる。
公知の特許文献や非特許文献、例えば、特開平７−１８８１９０号公報、特開平１１−３１５０７２、特開２００１−２２０３８５号公報、「染料と薬品」第４０巻１２号（１９９５）のｐ３２５〜ｐ３３９などを参考にして合成できる。
【００３５】
本発明にかかる紫外線吸収剤含有層形成用組成物において、一般式（１）で表される化合物は、所望の性能を付与するために必要な任意の量を含有させることができる。一般式（１）で表される化合物の含有量としては紫外線吸収剤含有層形成用組成物中０質量％より大きく３０質量％以下であることが好ましく、０質量％より大きく１０質量％以下であることがより好ましく、０．０５質量％以上５％質量以下であることがさらに好ましい。含有量が上記の範囲であれば紫外線吸収剤含有層による十分な紫外線遮蔽効果が得られ、且つ、経時による紫外線吸収剤のブリードアウトが抑制される。
【００３６】
〔架橋剤〕
本発明に係る紫外線吸収剤含有層には、更に架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤を含有することで、紫外線吸収剤含有層中に架橋構造が形成されることにより、強度がより向上し、さらに、隣接する金属反射層との密着性がより向上するなどの利点を有することになる。
架橋剤としては、紫外線吸収剤含有層を構成する樹脂との相関により選択することができ、例えば、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メラミン化合物、ビスビニルスルオン化合物などが挙げられ、効果の観点からは、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、及びエポキシ化合物からなる群より選ばれ少なくとも１種の架橋剤が好ましい。
架橋剤は、市販品を使用してもよく、例えば、日清紡ケミカル（株）製、カルボジライトＶ−０５（商品名）、三井化学（株）製、タケネートＤ１１０Ｎ（商品名）、ナガセケムテックス（株）製、デナコールＥＸ−６１４Ｂ（商品名）などが挙げられる。
紫外線吸収剤含有層に架橋剤を含有させる場合の含有量としては、前記一般式（１）で表される化合物の含有量をＡとし、前記架橋剤の含有量をＢとしたとき、両者の比（Ａ／Ｂ）が質量基準で０．０５以上１０以下であることが好ましく、０．５以上２以下であることがより好ましい。
上記比率で架橋剤を用いることで、金属反射層との密着性がより向上し、架橋剤と一般式（１）で表される紫外線吸収剤との間にも相互作用が形成され、（１）特定化合物のブリードアウト抑制効果もより向上するという効果をも奏する。
紫外線吸収剤含有層中に架橋構造が形成されたことは、赤外吸収スペクトルによる架橋剤の反応性基に対応するピークの消失により確認される。また、簡易な確認方法としては、形成された紫外線吸収剤含有層（乾燥膜）の耐溶剤性が向上することによる確認方法が挙げられ、具体的には、所定時間、乾燥膜を溶剤に浸漬した後の重量変化の対比、或いは、紫外線吸収剤含有層表面に溶剤を滴下し、滴下箇所の膨潤、溶解状態を目視にて対比することで確認しうる。
紫外線吸収剤含有層には、前記各成分に加え、例えば、光重合開始剤、帯電防止剤、塗布助剤（レベリング剤）、酸化防止剤、消泡剤等の添加剤が含有されていてもよい。
【００３７】
〔紫外線吸収剤含有層の形成方法〕
本発明における紫外線吸収剤含有層の形成方法としては、特に制限はなく、例えば、一般式（１）で表される化合物、樹脂、及び所望により併用される各成分を含む紫外線吸収剤含有層形成用組成物を溶剤に溶解させ、金属反射層上に塗布した後、溶剤を減じて紫外線吸収剤含有層を形成する方法、上記紫外線吸収剤含有層形成用組成物に含まれる樹脂が溶融する温度まで加熱して、金属反射層上にキャストして紫外線吸収剤含有層を形成する方法、上記紫外線吸収剤含有層形成用組成物を用いて予めフィルム状に成形し、得られたフィルムを、接着剤を介して金属反射層に貼り合わせるか、或いは、熱ラミネート等の方法で金属反射層に融着させるなどの方法により紫外線吸収剤含有層を形成する方法等が挙げられる。
【００３８】
以下に、本発明における紫外線吸収剤含有層を形成する方法の一例として、少なくとも（１）特定化合物と樹脂とを含む組成物を溶剤に溶解させ、金属反射層上に塗布した後、紫外線吸収剤含有層を形成する方法について説明する。
この方法では、紫外線吸収剤含有層に含まれる（１）特定化合物及び樹脂を溶剤に溶解させて、紫外線吸収剤含有層形成用塗布液組成物を調製した後、金属反射層の表面上に塗布し、乾燥させて、金属反射層の表面に紫外線吸収剤含有層形成用塗布液組成物層を形成する。その後、この紫外線吸収剤含有層形成用塗布液組成物層を硬化させることにより、紫外線吸収剤含有層を形成する。架橋剤を含む紫外線吸収剤含有層形成用塗布液組成物を用いる場合には、加熱により、架橋構造を形成させる方法をとってもよい。
紫外線吸収剤含有層を形成するための樹脂材料の溶解に用いる溶剤としては、樹脂に適するものであれば、特に限定されず、例えば、例えば、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、エチルベンゼン等が挙げられる。溶剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
また、前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の溶解性が良好であるという観点からは、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、ｎ−デカン）、ハロゲン系溶媒（例えばテトラクロロエタン，クロロベンゼン、クロロナフタレン）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、シクロヘキサノール、フェノール）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ−ピコリン、２，６−ルチジン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）等が好ましく用いられる。
【００３９】
密着性に優れた紫外線吸収剤含有層を均一に形成するという観点からは、紫外線吸収剤含有層形成用塗布液組成物の固形分濃度は、１質量％〜３０質量％の範囲であることが好ましい。
金属反射層の表面に塗布した樹脂の膜を硬化させる方法は、特に限定されず、加熱や紫外線照射等、紫外線吸収剤含有層を形成するために用いた樹脂材料に応じた方法を適宜選択すればよい。
溶剤に溶解させた樹脂の塗布方法には、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ロールコート法、エアナイフコート法、スクリーンコート法、バーコート法、カーテンコート法等の従来公知のコーティング方法が使用できる。
金属反射層の表面に塗布した樹脂の膜を硬化させる方法は、特に限定されず、加熱や紫外線照射等、紫外線吸収剤含有層を形成するために用いた樹脂材料に応じた方法を適宜選択すればよい。
【００４０】
紫外線吸収剤含有層の膜厚は、２μｍ以上あればよく、光反射能と保護機能のバランスを考慮すれば５０μｍ以下であることが好ましい。必要な保護機能と耐久性とを達成し、且つ、光反射能低減を抑制するといった観点から、３μｍ〜３０μｍの範囲であることが好ましく、５μｍ〜１０μｍの範囲であることがより好ましい。
【００４１】
＜光安定化剤含有層＞
本発明のフィルムミラーでは、太陽光、雨水、砂塵等による金属反射層、樹脂製支持体、あるいは、所望により設けられるめっき下塗りポリマー層の劣化や破損を防止し、鏡面性の安定化を図るために、以下に詳述する金属反射層の入射光側に（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−ＶＩ）から選ばれる光安定化剤と樹脂とを含有する光安定化剤含有層を設けてもよい。
【００４２】
〔一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−ＶＩ）で表される化合物〕
光安定化剤含有層は、フィルムミラーの耐候性をさらに向上させるために設けられる任意の層であり、下記一般式（ＴＳ−Ｉ）、一般式（ＴＳ−ＩＩ）、一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）、一般式（ＴＳ−ＶＩ）、一般式（ＴＳ−Ｖ）、及び一般式（ＴＳ−ＶＩ）で表される化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有する。これらの化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有させる光安定化剤含有層をさらに備えることで、フィルムミラーの耐候性がより優れたものとなる。本明細書では、以下、適宜これらの化合物群に属するものを「光安定化剤」と称することがある。
【００４３】
【化６】
2014199330.tif 000007
【００４４】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ９１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は−Ｓｉ（Ｒ９７）（Ｒ９８）（Ｒ９９）を表し、Ｒ９７、Ｒ９８、及びＲ９９はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、又はアリールオキシ基を表す。Ｘ９１は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ（−Ｒ１００）−を表し、Ｒ１００は前記Ｒ９１と同義である。Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、及びＲ９６はそれぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｒ９１とＲ９２、Ｒ１００とＲ９６、Ｒ９１とＲ１００とは、それぞれ互いに結合して隣接する炭素原子とともに５員〜７員環を形成してもよく、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４とは、それぞれ互いに結合して、隣接する炭素原子とともに５員〜７員環、スピロ環、又は、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、及びＲ１００のすべてが水素原子であることはなく、一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物に含まれる総炭素数は９以上である。
【００４５】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、及びＲ１０４は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアルケニル基を表し、Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４とは、それぞれ互いに結合して、隣接する炭素原子とともに５員〜７員環を形成してもよい。Ｘ１０１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、又はオキシラジカル基を表す。Ｘ１０２は、炭素原子及び窒素原子と共に５員〜７員環を形成するのに必要な非金属原子団を表す。
【００４６】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ１０５及びＲ１０６はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、又は芳香族スルホニル基を表し、Ｒ１０７は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、又はヒドロキシ基を表し、Ｒ１０５とＲ１０６の双方が水素原子であることはなく、Ｒ１０５とＲ１０６に含まれる総炭素数は７以上である。Ｒ１０５とＲ１０６、Ｒ１０６とＲ１０７、Ｒ１０５とＲ１０７とは、それぞれ互いに結合し、隣接する窒素原子と共に５員〜７員環を形成してもよいが、形成された環構造は２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成することはない。
【００４７】
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ１１１及びＲ１１２はそれぞれ独立に脂肪族基を表し、該脂肪族基は更に置換基を有してもよく、Ｒ１１１とＲ１１２に含まれる総炭素数は１０以上である。Ｒ１１１とＲ１１２は互いに結合し、隣接する硫黄原子とともに５員〜７員環を形成してもよい。ｎは０、１、又は２を表す。
前記一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ１２１及びＲ１２２はそれぞれ独立に脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２３は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ１２１、Ｒ１２２及びＲ１２３に含まれる総炭素数は１０以上である。ｍは０又は１を表す。Ｒ１２１とＲ１２２、Ｒ１２１とＲ１２３とは、それぞれ互いに結合し、隣接するリン原子とともに５〜８員環を形成してもよい。）
本発明に使用しうる光安定化剤は、特開２０１２−１２６８８２号公報に詳細に記載され、同公報の段落〔００９５〕〜〔０１６６〕に記載される例示化合物は本発明にも好適に使用される。なかでも、一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物がより長期間効果を持続しうるという点で好ましい。以下、本発明に使用しうる光安定化剤の例を挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
【００４８】
【化７】
2014199330.tif 000008
【００４９】
〔樹脂〕
本発明における光安定化剤含有層は、樹脂を含有する。
光安定化剤含有層の形成に用いられる樹脂材料としては、フィルム又は層を形成しうる樹脂であって、形成されたフィルム又は層の強度、耐久性、空気や水分の遮断性、さらには、光安定化剤含有層と隣接する層、例えば、金属反射層や紫外線吸収剤層、表面被覆層等との密着性に加え、透明性、特にフィルムミラーが必要とする波長の光に対する高い透過性を有する樹脂が好ましい。
【００５０】
具体的には、例えば、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスルフォン（ポリエーテルスルフォンも含む）系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロースジアセテート樹脂、セルローストリアセテート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、エチレンビニルアルコール樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、及びエチレンアクリル酸エステル共重合体、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリアミド、フッ素系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、オレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。
これらのなかでも、透明性、下記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−ＶＩ）で表される化合物との親和性、及び、隣接する各層、例えば、紫外線吸収剤含有層や金属反射層との密着性の観点から、光安定化剤含有層に含有される樹脂としては、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、エチレン酢酸ビニル樹脂、及びエチレンアクリル酸エステル共重合体から選ばれる１種以上の樹脂が好ましい。
【００５１】
〔光安定化剤含有層の形成方法〕
本発明における光安定化剤含有層の形成方法としては、特に制限はなく、例えば、一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−ＶＩ）で表される化合物、樹脂、及び所望により併用される各成分を含む光安定化剤含有層形成用組成物を溶剤に溶解させ、金属反射層上に塗布した後、溶剤を減じて光安定化剤含有層を形成する方法、上記光安定化剤含有層形成用組成物に含まれる樹脂が溶融する温度まで加熱して、金属反射層上にキャストして光安定化剤含有層を形成する方法、上記光安定化剤含有層形成用組成物を用いて予めフィルム状に成形し、得られたフィルムを、接着剤を介して金属反射層に貼り合わせるか、或いは、熱ラミネート等の方法で金属反射層に融着させるなどの方法により光安定化剤含有層を形成する方法等が挙げられる。
【００５２】
以下に、本発明における光安定化剤含有層を形成する方法の一例として、少なくとも（１）特定化合物と樹脂とを含む組成物を溶剤に溶解させ、金属反射層上に塗布した後、光安定化剤含有層を形成する方法について、説明する。
この方法では、光安定化剤含有層に含まれる（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−ＶＩ）で表される光安定化剤及び樹脂を溶剤に溶解させて、光安定化剤含有層形成用塗布液組成物を調製した後、金属反射層の表面上に塗布し、乾燥させて、金属反射層の表面に光安定化剤含有層形成用塗布液組成物層を形成する。その後、この光安定化剤含有層形成用塗布液組成物層を硬化させることにより、光安定化剤含有層を形成する。架橋剤を含む光安定化剤含有層形成用塗布液組成物を用いる場合には、加熱により、架橋構造を形成させる方法をとってもよい。
光安定化剤含有層を形成するための樹脂材料の溶解に用いる溶剤としては、樹脂に適するものであれば、特に限定されず、例えば、例えば、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、エチルベンゼン等が挙げられる。溶剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
また、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−ＶＩ）で表される光安定化剤の溶解性が良好であるという観点からは、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、ｎ−デカン）、ハロゲン系溶媒（例えばテトラクロロエタン，クロロベンゼン、クロロナフタレン）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、シクロヘキサノール、フェノール）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ−ピコリン、２，６−ルチジン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）等が好ましく用いられる。
【００５３】
密着性に優れた光安定化剤含有層を均一に形成するという観点からは、光安定化剤含有層形成用塗布液組成物の固形分濃度は、１質量％〜３０質量％の範囲であることが好ましい。
溶剤に溶解させた樹脂の塗布方法には、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコート法、ロールコート法、エアナイフコート法、スクリーンコート法、バーコート法、カーテンコート法等の従来公知のコーティング方法が使用できる。
金属反射層の表面に塗布した樹脂の膜を硬化させる方法は、特に限定されず、加熱や紫外線照射等、光安定化剤含有層を形成するために用いた樹脂材料に応じた方法を適宜選択すればよい。
【００５４】
光安定化剤含有層の膜厚は、必要な保護機能と耐久性とを達成し、且つ、光反射能低減を抑制するといった観点から、３μｍ〜３０μｍの範囲であることが好ましく、５μｍ〜１０μｍの範囲であることがより好ましい。
光安定化剤含有層を単独で設ける場合の位置は、金属反射層と、紫外線吸収剤含有層との間、紫外線吸収剤含有層の入射光側の表面のいずれであってもよい。
【００５５】
紫外線吸収剤含有層と光安定化剤含有層とは既述のように別々に設けてもよく、これらを同一の層として設けてもよい。即ち、紫外線吸収剤と光安定化剤を同一の層に含有させることで、紫外線吸収剤含有層が光安定化剤含有層としての機能をも有することになる。この場合、紫外線吸収剤と光安定化剤の相乗効果により高い耐光性、耐候性が期待できるため好ましい。
光安定化剤の少なくとも１種を紫外線吸収剤含有層に含有させることで、前記一般式（１）で表される化合物を含む紫外線吸収剤含有層に用いられる樹脂の安定性がより向上し、耐候性がより優れたものとなる。
【００５６】
本発明に用いられる前記一般式（１）で表される化合物と前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）から選ばれる少なくとも１種の化合物とを同一の層に含有させる場合の混合質量比率は、特に限定はされないが、これらの成分を含有させることでより向上する耐光性と（１）特定化合物の樹脂からのブリードアウト抑制効果とのバランスの観点から、好まくは１：０．０５〜１：５、更に好ましくは１：０．５〜１：２、より好ましくは１：１である。
また、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物群より選択される少なくとも１種の化合物の総含有量は、紫外線吸収剤含有層を構成する組成物全体に対して、好ましくは０質量％より大きく３０質量％以下であり、より好ましくは０質量％以上１０質量％以下であり、特に好ましくは０．０５質量％以上５質量％以下である。含有量が上記の範囲であれば耐光性、耐候性のさらなる向上とブリードアウト抑制が両立できるため好ましい。
【００５７】
本発明のフィルムミラーは、以下に述べるように、ポリエステルフィルムなどの樹脂支持体を有している。支持体を構成する樹脂についても架橋構造を有するなど耐候性を向上させる傾向にはあるが、更に耐候性を良好なものとするために、上述のように、紫外線吸収剤含有層に、特定の紫外線吸収剤を含有するものである。本発明においては、反射率の観点から、金属反射層の金属として銀を含有するものが好ましいとされているが、銀含有金属反射層は、ＵＶ−Ｂが透過しやすい傾向にあるため、上記（１）特定化合物が紫外線吸収剤含有層に含有されることが樹脂支持体の耐候性向上のために重要である。
紫外線吸収剤含有層における（１）特定化合物の含有量は、紫外線吸収剤含有層全質量に対して、０．１質量％〜２０質量％、好ましくは１質量％〜１５質量％、更に好ましくは３質量％〜１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【００５８】
＜樹脂製支持体＞
本発明のフィルムミラーは、支持体として樹脂製支持体を用いる。支持体を構成する樹脂は特に限定されず、目的に応じて適宜選択される。
支持体を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；ポリフェニレンサルファイド系樹脂；ポリエーテルサルフォン系樹脂；ポリエチレンサルファイド系樹脂；ポリフェニレンエーテル系樹脂；スチレン系樹脂；セルロースアセテートなどのセルロース系樹脂；等が挙げられる。
これらのうち、フィルムミラーの透明性や耐候性が良好であるという観点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂などが好ましい。
【００５９】
本発明においては、支持体の形状は特に限定されず、目的とする使用態様により適宜選択される。形状としては、例えば、シート状（平面状）、拡散面、凹面、凸面等の表面形状を有するもののいずれであってもよい。
支持体の厚さは、樹脂基材の形状やフィルムミラーの設置箇所により、適宜選択されるが、支持体が平面状である場合は、２５μｍ〜４００μｍが好ましく、５０μｍ〜３００μｍがより好ましく、５０μｍ〜２５０μｍが更に好ましい。本発明における支持体は、その厚みを２５μｍ以上とすることで力学強度が向上する傾向があり、４００μｍ以下とすることでコスト的に有利となる。
【００６０】
＜樹脂中間層＞
本発明のフィルムミラーは、支持体上に樹脂中間層を有する。本発明において、樹脂中間層は、支持体と金属反射層との密着性の観点から設けられる。樹脂中間層は、易接着層及びめっき下塗りポリマー層から選択される１層又は２層から構成される。なお、樹脂中間層が、易接着層及びめっき下塗りポリマー層の２層から構成される場合には、支持体上に、易接着層、めっき下塗りポリマー層の順で形成される。
【００６１】
〔易接着層〕
本発明においては、支持体と金属反射層との接着性を向上させるために易接着層を設けてもよい。また、易接着層上にめっき下塗りポリマー層を設ける場合には、易接着層が支持体とめっき下塗りポリマー層との接着性を向上させることで、結果として、支持体と金属反射層との接着性がより向上する。
【００６２】
本発明において、易接着層は、隣接する支持体との密着性の観点から、支持体を構成する樹脂と同じ樹脂、或いは、支持体を構成する樹脂と親和性を有する樹脂を含んでいることが好ましい。支持体を構成する樹脂と親和性を有する樹脂としては、ガラス転移点や弾性率、線膨張係数といった熱的物性が互いに近い樹脂が挙げられる。また、易接着層上に直接金属反射層を設ける場合には、形成される金属反射層に含まれる金属と親和性のある官能基を有する樹脂、或いは、形成された層の表面が接着性、粘着性を有することによって金属をより受容しやすくなるという観点から接着層を形成しうる樹脂を用いることが好ましい。
易接着層に含まれる樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂でも熱可塑性樹脂でもまたそれらの混合物でもよい。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリオレフィン系樹脂、イソシアネート系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテルイミド等が挙げられる。
熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。２種以上の樹脂の併用は、それぞれの欠点が補うことでより優れた効果を発現させる目的で行われる。
【００６３】
易接着層は、めっき下塗りポリマー層と支持体との間に設けられる場合には、以下に詳述するめっき下塗りポリマー層に含まれるめっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基及び重合性基を有する高分子化合物との間で、相互作用し得る活性点を発生する活性種を含有することが好ましい。このような易接着層は、例えば、ラジカル重合開始剤を含有する重合開始層や、重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる重合開始層であることが好ましい。より具体的には、易接着層は、高分子化合物とラジカル重合開始剤とを含む層や、重合性化合物とラジカル重合開始剤とを含む層、又は重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる層が好ましい。
重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる層としては、例えば、特開２００５−３０７１４０号公報の段落［００１８］〜［００７８］に記載の重合開始部位を骨格中に有するポリイミドが挙げられる。
【００６４】
さらに、易接着層を形成する際に、層内での架橋を進めるために重合性の二重結合を有する化合物、具体的には、アクリレート化合物、メタクリレート化合物を用いてもよく、特に、多官能のものを用いることが好ましい。その他、重合性の二重結合を有する化合物として、熱硬化性樹脂、又は熱可塑性樹脂、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等に対し、その一部を、メタクリル酸やアクリル酸等を用いて、（メタ）アクリル化させた樹脂を用いてもよい。
【００６５】
本発明における易接着層には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、接着性付与剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤を１種又は２種以上添加してもよい。
これらの材料を添加する場合は、いずれも、主成分となる樹脂に対して、０質量％を超え、２００質量％以下の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０質量％を超え８０質量％以下の範囲で添加される。
【００６６】
易接着層に、めっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基及び重合性基を有する高分子化合物と相互作用し得る活性点（活性種）を発生させるためには、何らかのエネルギーを付与すればよく、付与しうるエネルギーとしては、光（紫外線、可視光線、Ｘ線等）、プラズマ（酸素、窒素、二酸化炭素、アルゴン等）、熱、電気等が用いられる。さらに、酸化性の液体（過マンガン酸カリウム溶液）等によって表面を化学的に分解することで活性点を発生させてもよい。
【００６７】
活性点を発生させる材料の例としては、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。具体的には、特開２００７−１５４３０６公報の段落［００４４］に記載されているものや、特開２００４−１６１９９５公報の段落［００１１］〜［０１５８］に記載の、重合開始能を有する官能基が側鎖にペンダントしてなるポリマー等が挙げられ、ここに代表される公知の重合開始剤を目的に応じて、適宜選択して用いることができる。中でも、光重合を利用することが製造適性の観点から好適であり、このため、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤は、照射される活性光線に対して活性であり、活性点を発現し得るものであれば、特に限定されず、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等を用いることができるが、反応性の観点からはラジカル重合開始剤が好ましい。
【００６８】
易接着層に重合開始剤を用いる場合の重合開始剤の含有量は、固形分で０．１質量％〜５０質量％であることが好ましく、１．０質量％〜３０質量％であることがより好ましい。
【００６９】
〔易接着層の形成方法〕
本発明における易接着層は、上述のような各成分を溶解可能な溶媒に溶解させた後、塗布等の方法で支持体に付与し、加熱又は光照射により硬膜化させることにより形成することができる。
易接着層は、加熱及び／又は光照射による硬膜により形成することが好ましい。特に、加熱により乾燥した後、光照射を行って予備硬膜しておくと、重合性化合物を含んでいる場合には、ある程度の硬化が予め行なわれるので、易接着層上にめっき下塗りポリマー層を固定した後に、易接着層ごと脱落するといった事態を効果的に抑制し得るため、好ましい。
加熱温度と時間は、塗布溶剤が充分乾燥し得る条件を選択すればよいが、製造適正の点からは、温度が１００℃以下、乾燥時間は３０分以内が好ましく、乾燥温度４０℃〜８０℃、乾燥時間１０分以内の範囲の加熱条件を選択することがより好ましい。
【００７０】
易接着層は、支持体の表面に、塗布法、転写法、印刷法等の公知の層形成方法を適用して形成されることが好ましい。
易接着層を塗布にて形成する際に用いる溶媒は、上述のような各成分を溶解し得るものであれば特に制限されない。乾燥の容易性、作業性の観点からは、沸点が高すぎない溶媒が好ましく、具体的には、沸点４０℃〜１５０℃程度のものを選択すればよい。
具体的には、特開２００７−１５４３０６公報の段落［００４５］に記載されている、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等を使用することができる。上記の例示溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。塗布溶液中の固形分の濃度は、２質量％〜５０質量％が適当である。
【００７１】
本発明における易接着層の厚みは、一般に、０．１μｍ〜１０μｍの範囲であることが好ましく、０．２μｍ〜５μｍの範囲であることがより好ましい。
【００７２】
〔めっき下塗りポリマー層〕
本発明におけるめっき下塗りポリマー層は、還元された金属粒子と、後述のめっき下塗りポリマーとを少なくとも有する。
本発明においては、金属前駆体と後述のめっき下塗りポリマーとを含む組成物を用いて、支持体上に塗布等の方法により金属前駆体を含むめっき下塗りポリマー層を形成するか、あるいは、後述のめっき下塗りポリマーを含む組成物を用いて支持体上に層を形成し、その後、金属前駆体を含む組成物を支持体上に設けた前記層に浸漬等の方法によって接触させることにより金属前駆体を含むポリマー層を形成し、然る後、金属前駆体を含むめっき下塗りポリマー層が有する該金属前駆体を還元して、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を形成することが好ましい。
【００７３】
（めっき下塗りポリマー）
まず、めっき下塗りポリマー層を形成するために用いられるめっき下塗りポリマーについて説明する。
本発明におけるめっき下塗りポリマー層を形成するために用いられるめっき下塗りポリマーは、重合性基、及び金属前駆体と相互作用する官能基（以後、適宜「相互作用性基」と称する。）を少なくとも有する。
めっき下塗りポリマーの主骨格としては、アクリルポリマー、ポリエーテル、アクリルアミド、ポリアミド、ポリイミド、アクリルポリマー、ポリエステル等が好ましいが、アクリルポリマーであることがより好ましい。
【００７４】
めっき下塗りポリマーは、分子内に重合性基と相互作用性基を有すればよく、重合性基はポリマーの主鎖末端及び側鎖の少なくともいずれかに有すればよい。例えば、重合性基を有する構成単位と、相互作用性基を有する構成単位とを含んで構成されるポリマー等が挙げられ、同一の構成単位に重合性基と相互作用性基とを含んでいてもよい。また、２種以上の重合性基を含んでいてもよく、２種以上の相互作用性基を含んでいてもよい。重合性基はポリマーの作製後に高分子反応により導入されてもよい。
めっき下塗りポリマーは、目的に応じて、重合性基を含む構成単位、及び相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位を含んでいてもよい。重合性基を含む構成単位、及び相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位（以下、適宜、他の構成単位と称する。）を含むことによって、めっき下塗り組成物としたときに、水又は有機溶剤への溶解性に優れ、均一なめっき下塗り層を形成することができる。
【００７５】
めっき下塗りポリマーの好ましい態様として、相互作用性基としての酸性基と重合性基とを側鎖に有するアクリルポリマーが挙げられる。
以下、めっき下塗りポリマーに含まれる重合性基、相互作用性基、及びその特性等について詳述する。
【００７６】
−重合性基−
めっき下塗りポリマーが有する重合性基は、エネルギー付与により、ポリマー同士、又は、ポリマーと下地層（支持体若しくは支持体上に設けられた易接着層又は下塗り層）との間で化学結合を形成し得る官能基であればよい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基等が挙げられる。なかでも、反応性の観点から、ラジカル重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、スチリル基、ビニル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。なかでも、メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、及びメタクリルアミド基が好ましく、中でも、ラジカル重合反応性、及び合成汎用性の点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、アクリルアミド基、及びメタクリルアミド基が好ましく、耐アルカリ性の観点からアクリルアミド基、及びメタクリルアミド基が更に好ましい。
なかでも、アクリルポリマーに導入される重合性基としては、（メタ）アクリレート基又は（メタ）アクリルアミド基等の（メタ）アクリル基、カルボン酸のビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基等の各種重合性基が好ましい。
【００７７】
−相互作用性基−
めっき下塗りポリマーが有する相互作用性基は、金属前駆体と相互作用する官能基（例えば、配位性基、金属イオン吸着性基等）であり、金属前駆体と静電相互作用を形成可能な官能基、あるいは、金属前駆体と配位形成可能な含窒素官能基、含硫黄官能基、含酸素官能基等を使用することができる。
相互作用性基としてより具体的には、アミノ基、アミド基、イミド基、ウレア基、３級のアミノ基、アンモニウム基、トリアジン環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール基、イミダゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピロリジン基、ピラゾール基、アルキルアミン構造を含む基、シアノ基、シアネート基（Ｒ−Ｏ−ＣＮ）等の含窒素官能基；エーテル基、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、カーボネート基、カルボニル基、エステル基、Ｎ−オキシド構造を含む基、Ｓ−オキシド構造を含む基、Ｎ−ヒドロキシ構造を含む基等の含酸素官能基；チオフェン基、チオール基、チオウレア基、スルホキシド基、スルホン基、サルファイト基、スルホン酸基、スルホン酸エステル構造を含む基等の含硫黄官能基；ホスフォート基、ホスフォロアミド基、ホスフィン基、リン酸エステル構造を含む基等の含リン官能基；塩素、臭素等のハロゲン原子を含む基等が挙げられ、塩構造をとり得る官能基においては、それらの塩も使用することができる。
相互作用性基としては、非解離性官能基であっても、イオン性極性基であってもよく、これらが同時に含まれていてもよいが、イオン性極性基が好ましい。
【００７８】
イオン性極性基からなる相互作用性基としては、上記相互作用性基の中でも、めっき下塗りポリマーの支持体（支持体上に上記易接着層が形成されている場合には、易接着層）に対する密着性の観点から、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びボロン酸基が挙げられ、中でも適度な酸性（他の官能基を分解しない）を有する点、他の官能基に影響を与える懸念が少ない点、めっき層との親和性に優れる点、及び原料が入手容易であるという点から、カルボン酸基が特に好ましい。
【００７９】
カルボン酸基等のイオン性極性基は、酸性基を有するラジカル重合性化合物を共重合させることにより、めっき下塗りポリマーに導入することができる。
以下、本発明の使用されるめっき下塗りポリマーの好適な構成について詳細に説明する。
【００８０】
上述した本発明におけるめっき下塗りポリマーとして好適に用いられるアクリルポリマーを、より具体的に説明すると、酸性基としてカルボン酸基を含有するアクリル樹脂に、環状エーテル基含有重合性化合物、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、桂皮酸等の不飽和脂肪酸のグリシジルエステルや、脂環式エポキシ基（例えば、同一分子中にシクロヘキセンオキシド等のエポキシ基）と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物等のエポキシ基含有の重合性化合物を付加させて得られる化合物等が挙げられる。また、酸性基及び水酸基を含有するアクリル樹脂に、イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基含有の重合性化合物を付加させて得られる化合物、無水物基を含有するアクリル樹脂に、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等の水酸基を含有する重合性化合物を付加させて得られる化合物等も挙げられる。また、グリシジルメタクリレート等の環状エーテル基含有重合性化合物と（メタ）アクリロイルアルキルエステル等のビニルモノマーとを共重合し、側鎖のエポキシ基に（メタ）アクリル酸を付加させて得られる化合物等も挙げられる。
これらのポリマーの具体例は、特許２７６３７７５号公報、特開平３−１７２３０１号公報、特開２０００−２３２２６４号公報等の公報に記載され、ここに記載のポリマーは本発明にも好適に使用しうる。
【００８１】
これらのなかでも、上記アクリルポリマーが、高分子化合物の酸性基の一部に環状エーテル基（例えば、エポキシ基、オキセタン基を部分構造に有する基）含有重合性化合物を付加させたもの、及び高分子化合物の環状エーテル基の一部又は全部にカルボキシル基含有重合性化合物を付加させたもののいずれかから選択された高分子化合物であることが、更に好ましい。この場合、酸性基と環状エーテル基を有する化合物との付加反応は、触媒存在下で実施するのが好ましく、特に、その触媒が酸性化合物及び中性化合物から選択されるものであることが好ましい。
【００８２】
カルボン酸基に代表される酸性基は、酸性基を有するラジカル重合性化合物を共重合させることにより、めっき下塗りポリマーに付与することができる。
上記カルボン酸基を有するラジカル重合性化合物は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、ｐ−カルボキシルスチレン等が挙げられ、これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸、及びｐ−カルボキシルスチレンが好ましい。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８３】
カルボン酸基等の酸性基のめっき下塗りポリマーにおける含有量は、１．０ｍｅｑ／ｇ〜１０．０ｍｅｑ／ｇであり、２．０ｍｅｑ／ｇ〜９．０ｍｅｑ／ｇが好ましく、２．５ｍｅｑ／ｇ〜８．０ｍｅｑ／ｇがより好ましい。カルボン酸基の含有量をこの範囲とすることにより、めっき層との親和力が十分となり、アルカリ水などを用いた後処理によるめっき面上の損傷をより低減させることができる。
【００８４】
本発明において、めっき下塗りポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。また、めっき下塗りポリマーとは構造が異なる他の高分子化合物を混合して用いてもよい。この場合、他の高分子化合物のめっき下塗りポリマーにおける含有量は、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
【００８５】
本発明におけるめっき下塗りポリマーの重量平均分子量は、１０００〜７０万が好ましく、更に好ましくは２０００〜２０万であり、さらに好ましくは１００００〜１０万である。重量平均分子量をこの範囲とすることにより、さらに高い密着強度が得られ、且つ、アルカリ水等の処理液耐性が得られ、経時保存性もより良好である。特に、重合感度の観点から、本発明におけるめっき下塗りポリマーの重量平均分子量は、２００００以上であることが好ましい。なお、合成中のゲル化抑制の観点から、分子量の上限値は１５万であることが好ましく、更に好ましくは１０万以下である。
なお、ここで記載の重量平均分子量とは、ＧＰＣ（使用溶媒：Ｎ−メチルピロリドン）を用いて測定されるポリスチレン換算値であり、例えば、次の条件で測定することができる。
・カラム：ガードカラム；ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍ  Ｓｕｐｅｒ  ＡＷ
−Ｈ
分離カラム；ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ  ＡＷＭ−Ｈ
（サイズ６．０ｍｍ×１５ｃｍを３本連結）
・溶離液：Ｎ−メチルピロリドン（ＬｉＢｒ１０ｍＭ含有）
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・検出方法：ＲＩ
・温度：カラム４０℃、インレット４０℃、ＲＩ４０℃
・サンプル濃度：０．１ｗｔ％
・注入量：６０μＬ
また、本発明におけるめっき下塗りポリマーの重合度としては、１０量体以上のものを使用することが好ましく、更に好ましくは２０量体以上のものである。また、１５００量体以下が好ましく、１０００量体以下がより好ましい。
【００８６】
めっき下塗りポリマーの具体例としては、ラジカル重合性基と非解離性官能基からなる相互作用性基を有するポリマーとして、特開２００９−００７５４０号公報の段落［０１０６］〜［０１１２］に記載のポリマー等が使用できる。また、ラジカル重合性基とイオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２００６−１３５２７１号公報の段落［００６５］〜［００７０］に記載のポリマー等が使用できる。ラジカル重合性基と、非解離性官能基からなる相互作用性基と、イオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２０１０−２４８４６４号公報の段落［００１０］〜［０１２８］、特開２０１０−８４１９６号公報、及び米国特許出願公開２０１０−０８０９６４号明細書の段落［００３０］〜［０１０８］に記載のポリマー等が使用できる。
【００８７】
めっき下塗りポリマー層を形成するための組成物（以下、めっき下塗りポリマー層形成用組成物と称する。）中のめっき下塗りポリマーの含有量は、特に制限されないが、組成物全量に対して、２質量％〜５０質量％が好ましく、５質量％〜３０質量％がより好ましい。この範囲内であれば、組成物の取扱い性に優れ、ポリマー層の厚さの制御がしやすい。
【００８８】
めっき下塗りポリマーがアクリルポリマーの場合には、めっき下塗りポリマー層形成用組成物の固形分に対するめっき下塗りポリマーの含有量は、１質量％〜８０質量％が好ましく、２質量％〜７０質量％がより好ましい。めっき下塗りポリマーの含有量を、上記範囲とすることにより、塗布膜の面状がより良好となり、塗布液が高粘化することもなく、所望の塗布膜厚を得ることが更に容易となる。
【００８９】
なお、後述する金属前駆体は、めっき下塗りポリマー層形成後に付与してもよく、また、めっき下塗りポリマー層用組成物に当初から含有させてもよい。めっき下塗りポリマー層形成用組成物に金属前駆体を含有させる場合の金属前駆体の含有量としては、組成物全量に対して、０．５質量％〜１００質量％が好ましく、１質量％〜５０質量％がより好ましい。
【００９０】
めっき下塗りポリマー層は、エネルギー付与に対する感度を高めるために、光重合開始剤、熱重合開始剤等のラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、一般に公知のものが使用される。
但し、エネルギー付与により、めっき下塗りポリマーが支持体や易接着層と相互作用する活性点を生成し得る場合、即ち、上述したポリマー骨格中に重合開始部位を有するポリマーを用いるような場合には、これらのラジカル重合開始剤を添加しなくてもよい。
【００９１】
めっき下塗りポリマー層形成用組成物に含有させるラジカル重合開始剤の量は、めっき下塗りポリマー層形成用組成物の構成に応じて選択されるが、一般的には、めっき下塗りポリマー層形成用組成物中に、０．０５質量％〜３０質量％程度であることが好ましく、０．１質量％〜１０．０質量％程度であることがより好ましい。
【００９２】
〔めっき下塗りポリマー層の形成方法〕
（ポリマー層の形成）
−めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物の塗布−
めっき下塗りポリマーを含むポリマー層（以下、適宜、ポリマー層と称する。）は、例えば、上記支持体、あるいは、上記支持体上に設けられた易接着層の表面上に、めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物の塗布液を塗布等した後、エネルギーを付与することにより形成することができる。
上記支持体上に、ポリマー層を直接設ける場合には、予め支持体の表面にエネルギーを付与する等の易接着処理を施しておくことが好ましい。
支持体上にポリマー層を設ける方法は特に限定されず、めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物中に支持体を浸漬する方法や、めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物を支持体上に塗布する方法などが挙げられる。得られるポリマー層の厚みを制御しやすい点から、めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物を支持体上に塗布する方法が好ましい。塗布の方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
【００９３】
めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物の塗布量は、後述する金属前駆体との充分な相互作用形成性の観点から、固形分換算で０．０５ｇ／ｍ２〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、特に０．３ｇ／ｍ２〜５ｇ／ｍ２が好ましい。
支持体等へ塗布しためっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物の塗布液は、２０℃〜６０℃で１秒から２時間乾燥した後、６０℃を超える温度で１秒〜２時間乾燥することが好ましく、２０℃〜６０℃で１秒〜２０分乾燥した後、６０℃を超える温度で１秒〜２０分乾燥することがより好ましい。
【００９４】
めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物は、上記支持体、あるいは、上記支持体上に設けられた易接着層と接触させた後、エネルギーを付与することで、エネルギー付与領域においてポリマーが有する重合性基同士、あるいは、ポリマーが有する重合性基と、上記支持体、あるいは、上記支持体上に設けられた易接着層との間に相互作用が形成され、支持体上に（あるいは、易接着層を介して支持体上に）固定化されたポリマー層が形成される。これにより、支持体とポリマー層とが強固に密着する。
【００９５】
−エネルギーの付与−
エネルギー付与方法としては、例えば、加熱や露光が挙げられる。
露光によるエネルギー付与方法としては、具体的には、ＵＶランプ、可視光線等による光照射が可能である。露光で使用する光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線等がある。また、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使用される。
露光パワーは、重合を容易に進行させるため、また、ポリマーの分解を抑制するため、あるいは、ポリマーが良好な相互作用を形成するため、といった観点から１０ｍＪ／ｃｍ２〜８０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることがより好ましい。
なお、露光は、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスによる置換を行ない、酸素濃度を６００ｐｐｍ以下、好ましくは４００ｐｐｍ以下に抑制した雰囲気中で行なってもよい。
【００９６】
加熱によるエネルギー付与は、例えば、一般の熱ヒートローラー、ラミネーター、ホットスタンプ、電熱板、サーマルヘッド、レーザー、送風乾燥機、オーブン、ホットプレート、赤外線乾燥機、加熱ドラム等により行なうことができる。
また、加熱によりエネルギー付与を行なう場合、その温度は、重合を容易に進行させるため、また、支持体の熱変性を抑制するため、２０℃〜２００℃の範囲であることが好ましく、４０℃〜１２０℃の範囲であることがより好ましい。
【００９７】
−未反応めっき下塗りポリマーの除去−
エネルギー付与後は、更に適宜、未反応のポリマーを除去する工程を設けてもよい。除去方法としては、溶媒を使用する方法が挙げられ、例えば、ポリマーを溶解する溶剤や、アルカリ可溶性のポリマーの場合はアルカリ系現像液（炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液）等を、ポリマー層が形成された支持体に接触させることで未反応のポリマーを除去することができる。
【００９８】
上記方法により得られるポリマー層の膜厚は、特に限定されないが、上記支持体等との密着性の観点から、０．０５μｍ〜１０μｍであることが好ましく、０．３μｍ〜５μｍであることがより好ましい。
また、上記方法により得られるポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００９９】
−還元された金属粒子−
本発明におけるめっき下塗りポリマー層は、還元された金属粒子を含む。めっき下塗りポリマー層に含まれる還元された金属粒子は、上記支持体、あるいは、上記支持体上に設けられた易接着層の上に形成されためっき下塗りポリマー層に、金属前駆体を付与し、この金属前駆体を還元することによって、金属前駆体を還元された金属粒子とすることによって得られる。金属前駆体をめっき下塗りポリマー層に付与すると、上記相互作用性基に、金属前駆体が相互作用により付着する。
以下にめっき下塗りポリマー層に含まれる金属前駆体について説明する。
【０１００】
−金属前駆体−
本発明において用いられる金属前駆体は、還元反応により金属に変化させることで電極として機能するものであれば、特に限定されない。また、金属前駆体としては、金属反射層の形成において、めっきの電極として機能するものが好ましく挙げられる。そのため、金属前駆体は、金属に還元させることで電極として機能するものが好ましい。
具体的には、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどの金属イオンが用いられる。金属前駆体である金属イオンは、めっき下塗りポリマーを含む組成物（めっき下塗りポリマー層形成用組成物）に含まれており、支持体上に層を形成した後、還元反応によって０価の金属粒子となる。
金属前駆体である金属イオンは、金属塩としてめっき下塗りポリマー層形成用組成物に含まれることが好ましい。
使用される金属塩としては、適切な溶剤に溶解して金属イオンと塩基（陰イオン）とに解離されるものであれば特に制限はないが、配位可能な官能基の種類、数、及び触媒能の点で、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ｐｄイオンが好ましい。
【０１０１】
本発明で用いられる金属前駆体の好ましい例の一つとして、銀イオンが挙げられる。
銀イオンを用いる場合、以下に示すような銀化合物が解離したものを好適に用いることができる。銀化合物の具体例としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硝酸銀が好ましい。
また、金属前駆体としては、銅イオンが好ましい別の例として挙げられる。銅イオンを用いる場合、以下に示すような銅化合物が解離したものを好適に用いることができる。銅化合物の具体例としては、硝酸銅、酢酸銅、硫酸銅、シアン化銅、チオシアン酸銅、塩化銅、臭化銅、クロム酸銅、クロラニル酸銅、サリチル酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミド酸銅、ｐ−トルエンスルホン酸銅が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硫酸銅が好ましい。
【０１０２】
金属前駆体は、分散液又は溶液（金属前駆体液）として、めっき下塗りポリマー層に付与されることが好ましい。
付与の方法としては、例えば、めっき下塗りポリマーを含む組成物を用いて支持体上にポリマー層を形成した後、このポリマー層上に金属前駆体を含む組成物（分散液又は溶液）を塗布する方法、あるいは、上記ポリマー層が形成された支持体を、金属前駆体を含む組成物（分散液又は溶液）に浸漬する方法が挙げられる。
上記のように、金属前駆体を含む分散液又は溶液を上記ポリマー層に接触させることで、めっき下塗りポリマー中の相互作用基に、ファンデルワールス力のような分子間力による相互作用、又は、孤立電子対による配位結合による相互作用を利用して、金属前駆体を吸着させることができる。
【０１０３】
金属前駆体の吸着を充分に行なわせるという観点から、金属前駆体を含む分散液又は溶液中の金属前駆体の濃度は、０．００１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．００５質量％〜３０質量％であることがより好ましい。
金属前駆体の分散液及び溶液に用いる溶媒には、水や有機溶媒が用いられる。水や有機溶剤を含有することで、ポリマー層に対する金属前駆体の浸透性が向上し、相互作用性基に効率よく金属前駆体を吸着させることができる。
【０１０４】
金属前駆体のめっき下塗りポリマー層への付与に分散液を用いる場合、金属前駆体の粒子径は、１ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましく、１ｎｍ〜６０ｎｍであることが更に好ましい。この粒子径とすることで、還元された金属粒子の粒子径を所望の大きさに制御することができる。
なお、ここで粒子径とは、平均１次粒子径（体積換算）のことであり、ＳＥＭ（Ｓ−５２００、（株）日立ハイテクマニファクチャ＆サービス製）の画像から読み取ったものである。
【０１０５】
金属前駆体液に使用される水は、不純物を含まないことが好ましい。このような観点から、ＲＯ水や脱イオン水、蒸留水、精製水等を用いるのが好ましく、脱イオン水や蒸留水を用いるのが特に好ましい。金属前駆体液に使用される有機溶媒は、ポリマー層に浸透し得る溶媒であれば、特に限定されないが、金属前駆体との相溶性、及びポリマー層への浸透性の観点では、水又は水溶性の有機溶剤が好ましく、アセトン、ジメチルカーボネート、ジメチルセロソルブ、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルが好ましい。
さらに、分散液や溶液には、目的に応じて他の添加剤を含有させてもよい。他の添加剤としては、例えば、膨潤剤や、界面活性剤等が挙げられる。
【０１０６】
めっき下塗りポリマー層に付与した金属前駆体である金属イオンは、金属活性化液（還元液）により還元する。金属活性化液は、金属前駆体（主に金属イオン）を０価金属に還元できる還元剤と、該還元剤を活性化するためのｐＨ調製剤からなる。
金属活性化液全体に対する還元剤の濃度は、０．０５質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜３０質量％であることがより好ましい。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボランのようなホウ素系還元剤、ホルムアルデヒド、次亜リン酸等の還元剤を用いることが可能である。特に、ホルムアルデヒドを含有するアルカリ水溶液で還元することが好ましい。
【０１０７】
金属活性化液全体に対するｐＨ調整剤の濃度は、０．０５質量％〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましい。
ｐＨ調整剤としては、酢酸、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使用することが可能である。
還元時の温度は、１０℃〜１００℃が好ましく、２０℃〜７０℃が更に好ましい。
これら濃度や温度範囲は、還元の際の、金属前駆体の粒子径、ポリマー層の表面粗さ、導電性（表面抵抗値）、還元液の劣化の観点からこの範囲であることが好ましい。
【０１０８】
めっき下塗りポリマー層に含まれる還元された金属粒子の粒子径は、反射性能の観点から、１ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましく、１ｎｍ〜６０ｎｍであることが更に好ましい。この範囲内にあることで、めっき後の反射率が良好となる。
なお、ここで粒子径とは、ＳＥＭ（日立ハイテクマニファクチャ＆サービス社製  Ｓ−５２００）画像から読み取ったものである。
【０１０９】
還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面抵抗値は、０．００１Ω／□以上１００Ω／□以下であることが好ましく、０．０３Ω／□以上５０Ω／□以下であることがより好ましい。この範囲内であると、均一及び平滑にめっき面が形成され反射率が良好となる。
また、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
このようにして得られた金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層は、以下に詳述する金属反射層を湿式法であるめっき法により形成する際に好適に用いられ、めっき下塗りポリマー層を用いてめっき法により形成された金属反射層は、樹脂基板との密着性と表面平滑性に優れる。
【０１１０】
＜金属反射層＞
本発明における金属反射層は、樹脂支持体上に、直接設けられるか、或いは、所望により設けられる既述の樹脂中間層を介して設けられる。
金属反射層の形成材料は、可視光及び赤外光を反射する金属材料であれば、特に限定されず、例えば、銀、アルミニウム等が挙げられる。光の反射性能の観点からは、銀、又は銀を含む合金が好ましい。銀、又は銀を含む合金は、フィルムミラーの可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。可視光領域とは、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域を意味する。ここで、入射角とは膜面に対して垂直な線に対する角度を意味する。銀合金としては、銀含有金属層の耐久性が向上する点から、金属反射層の反射特性に影響がない程度において、他の金属、例えば、金、パラジウム、銅、ニッケル、鉄、ガリウム、インジウム、チタン、及びビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属を含んでいてもよく、銀とその他の金属とからなる合金を用いることも好ましい態様である。銀合金としては、銀と金、銅、ニッケル、鉄、パラジウムから選ばれる１種以上の金属との合金が、耐湿熱性、反射率等の観点から特に好ましい。
【０１１１】
例えば、金属反射層が銀合金からなる膜である場合、銀の含有量は、金属反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０原子％〜９９．８原子％が好ましい。また、他の金属の含有量は、耐久性の点から０．２原子％〜１０原子％が好ましい。
【０１１２】
本発明における金属反射層の表面粗さ（Ｒａ）は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることが更に好ましい。この範囲内とすることで、得られたフィルムミラーの反射率が向上し、太陽光を効率良く集光することが可能となる。
【０１１３】
〔金属反射層の形成方法〕
本発明における金属反射層の形成方法は、特に限定されず、湿式法又は乾式法のいずれを採用してもよい。
湿式法としては、例えば、電気めっき法が挙げられる。
乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
上述のように、本発明における樹脂支持体は、表面に設けられた紫外線吸収剤含有層により紫外線の影響を受けにくく、このため、金属反射層をめっき法により作製した場合であっても、樹脂製支持体において、めっき液が浸透するような微細な損傷の発生が抑制されるため、支持体が劣化し難いという利点をも有する。
【０１１４】
以下、金属反射層を電気めっき法により形成する場合について、説明する。
電気めっき法としては、従来公知の方法を用いることができる。
本発明においては、めっき下塗りポリマー層に含まれる金属粒子が電極としての機能を有するため、めっき下塗りポリマー層に対して電気めっきを行なうことにより、樹脂製支持体との密着性に優れた金属反射層を形成することができる。
めっきに用いられる金属化合物としては、例えば、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀等の銀化合物が挙げられる。これらの中でも、環境影響や平滑性の観点から、メタンスルホン酸銀が好ましい。
【０１１５】
なお、めっき下塗りポリマー層と金属反射層との間には、例えば、銅、ニッケル、クロム、鉄等の他の金属を含有する金属層を下地金属層として有していてもよい。
また、電気めっき法により得られる金属反射層の膜厚は、めっき浴中に含まれる金属濃度、又は、電流密度を調整することで制御することができる。適切な厚みの下地金属層を入れることで、表面平滑化による反射率向上やピンホール低減が可能となる。
金属反射層の膜厚は、ピンホールなく反射膜を形成する観点、及び金属反射層の表面に光を散乱させるような凹凸を作らないという観点から、０．０５μｍ〜２．０μｍであることが好ましく、０．０８〜０．５μｍであることがより好ましい。
【０１１６】
また、本発明においては、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を利用して真空蒸着等の乾式めっきを行なうことにより、金属反射層を形成してもよい。この方法によれば、めっき下塗りポリマー層の表面が金属で覆われているため、通常の蒸着等よりも密着性がよく、かつ、熱に対しても強い金属反射層を形成することができる。
【０１１７】
電気めっきの後、金属反射層の反射性能や耐久性を向上させるために、金属反射層を強酸や強アルカリ等で処理してもよい。また、金属表面に、無機皮膜や金属酸化皮膜を形成してもよい。また、変色防止剤を含有する変色防止剤層を設けてもよい。
変色防止剤層は、金属反射層の変色防止に機能する。変色防止剤としては、チオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、チアジアゾール系等の変色防止剤が挙げられる。
変色防止剤層は、大別して、金属を吸着する吸着基を有するものや、酸化防止剤が好ましく用いられる。
【０１１８】
＜表面被覆層＞
本発明のフィルムミラーは、前記紫外線吸収剤含有層上に、さらに表面被覆層を有していてもよい。表面被覆層を有することで、フィルムミラーの耐候性、耐傷性がより向上する。表面被覆層は紫外線吸収剤含有層表面に存在することで、フィルムミラー表面の物理的或いは化学的な損傷を防止しうるものであれば、公知の樹脂層などを任意に使用しうる。
即ち、表面被覆層は、硬さが１００Ｎ／ｍｍ２以下であり、かつ、弾性回復率が６０％以上である軟質な層であってもよく、表面が硬質な、所謂ハードコート層であってもよい。
【０１１９】
（軟質な表面被覆層）
まず、軟質な層について説明する。軟質な層の場合、表面被覆層の硬さ（以下、適宜、表面硬度と称する。）は、ＩＳＯ １４５７７−１（計装化押し込み硬さ）に準じて測定したマルテンス硬さで１００Ｎ／ｍｍ２以下の層を指す。表面硬度の測定は、例えば、超微小硬度計（ＤＵＨ−２０１Ｓ、島津製作所社製）を用いて測定することができる。
また、表面被覆層の弾性回復率は、ＩＳＯ １４５７７−１（計装化押し込み硬さ）に
おいて、最大押し込み深さ（ｈｍａｘ）と荷重除荷後の押し込み深さ（ｈｆ）とを測定し、これらの値の差として弾性回復量（ｈｍａｘ−ｈｆ）を算出することができ、また、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘから弾性回復率を算出することができる。例えば、超微小硬度計（ＤＵＨ−２０１Ｓ、島津製作所社製）を用いて測定することができる。
【０１２０】
本発明のフィルムミラーに、柔軟な特性を有する表面被覆層を設けることで、耐傷性が向上し、ヘイズ値の低下が抑制され、高い反射率がより長期間維持される。
この作用は明確ではないが、表面被覆層の硬さを１００Ｎ／ｍｍ２以下とすることにより、砂塵等に対する耐衝撃性が良好となり、かつ、表面被覆層の弾性回復率が６０％以上であることにより、砂塵等に対する微小領域における傷が自己修復するためと考えられる。
【０１２１】
本発明においては、フィルムミラーの耐傷性がより良好となり、ヘイズ値の低下が抑制され、反射率が高いレベルでより長期間維持されることから、軟質な表面被覆層の硬さは、１Ｎ／ｍｍ２〜７０Ｎ／ｍｍ２であることが好ましく、１Ｎ／ｍｍ２〜５０Ｎ／ｍｍ２であることがより好ましい。
また、同様の理由から、上記表面被覆層の弾性回復率は、７０％〜１００％であるのが好ましく、８０％〜１００％であるのがより好ましい。
【０１２２】
また、本発明においては、軟質な表面被覆層を形成する場合の厚さは特に限定されないが、フィルムミラーの耐傷性がより良好となり、ヘイズ値及び反射率の維持率もより高くなる理由から、１μｍ〜５０μｍであることが好ましく、３μｍ〜３０μｍであることがより好ましい。
【０１２３】
軟質な表面被覆層は、硬さが１００Ｎ／ｍｍ２以下であり、かつ、弾性回復率が６０％以上である層であれば、その形成材料は特に限定されない。
上記形成材料としては、具体的には、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、シリコーン（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂などの光硬化性樹脂；ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂（尿素樹脂）、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などの熱硬化性樹脂；等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１２４】
これらのうち、ウレタン結合を有する樹脂であるのが好ましく、具体的には、光硬化性樹脂を用いるのがより好ましく、フィルムミラーの硬度を調整しやすい理由から、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂であるのが更に好ましい。
上記ウレタンアクリレート樹脂は、例えば、ポリエステルポリオール（Ａ）とポリイソシアネート（Ｂ）とを反応させてイソシアネート基末端ウレタンプレポリマーを合成した後に、水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）を反応させて得られる生成物；ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂とイソシアネートとの重合体；等が好適に挙げられる。
【０１２５】
ここで、上記ポリエステルポリオール（Ａ）は、多塩基酸と多価アルコールとを反応させて得られるものであり、その具体例としては、ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ）、ポリオキシプロピレンジオール（ＰＰＧ）、ポリオキシエチレンジオール等が挙げられる。
また、上記ポリイソシアネート（Ｂ）は、分子中にイソシアネート基を２個以上有するものであれば特に限定されず、その具体例としては、２，４−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）等が挙げられる。
また、上記水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）としては、具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。
上述したポリエステルポリオール（Ａ）、ポリイソシアネート（Ｂ）及び水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）を用いて合成されるウレタン（メタ）アクリレート樹脂としては、市販品を用いることができ、具体的には、日本合成社製の紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等を用いることができる。
【０１２６】
一方、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂とイソシアネートとの重合体としては、特開２０１２−２５８２１号公報の［請求項２］及び［請求項３］ならびに［０１４２］〜［０１４８］に記載された方法により調製することができる。
【０１２７】
本発明においては、表面の防汚性、耐摩擦係数の低減（滑りやすさ）等の理由から、上記表面被覆層がフッ素原子を含有しているのが好ましい。
フッ素原子を含有させる方法としては、例えば、上述した水酸基含有（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）とともに、含フッ素アクリレートモノマーを併用する方法や、特開２０１１−１５８７５１号公報の［０１２４］段落等に記載されたフッ素化処理により、含有させることができる。
【０１２８】
また、本発明においては、上記表面被覆層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上述した光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を含有する硬化性組成物を、前記金属反射層上に設けられた紫外線吸収剤含有層の表面に塗布した後、紫外線照射による光硬化や加熱による加熱硬化する方法等が挙げられる。
上記硬化性組成物の塗布方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法など、或いは、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等の従来公知のコーティング手段を用いた塗布方法が使用できる。
【０１２９】
ここで、上記硬化性組成物は、上述した成分以外に、溶剤や各種添加剤を含有していてもよい。
用いうる溶剤としては、例えば、炭化水素類、ハロゲン化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類等の溶剤が挙げられ、具体的には、キシレン、ジブチルエーテルを好適に用いることができる。
また、添加剤としては、例えば、光重合開始剤、帯電防止剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、分散剤、シランカップリング等が挙げられる。
【０１３０】
（硬質な表面被覆層）
他方、表面被覆層としては、所謂ハードコート層として知られる硬質の表面被覆層であってもよい。最表面に硬質な表面被覆層を有することで、砂塵等により最表面が傷つくことによるヘイズ値の低下を抑制しうる。また、ハードコート層は薄層でも強度に優れるために、表面被覆層を薄くすることができ、表面被覆層を構成する樹脂による反射率の低下が抑制される。
【０１３１】
硬質な表面被覆層は、好ましくは、硬化後の表面被覆層の表面硬度が１００Ｎ／ｍｍ２超、弾性回復率が６０％以上の物性を有するように作製される。
また、樹脂の表層部分の炭素原子数に対するフッ素原子数の比、Ｆ／Ｃを０．２１〜１．００とすることで、防汚性により優れた表面被覆層を作製することができる。このような物性は、例えば、以下に示す（１）〜（３）の如き樹脂を用いることで達成できる。
硬質な表面被覆層を構成する樹脂としては、（１）少なくとも一種類以上の含フッ素アクリレートモノマーと、少なくとも一種類以上の非フッ素系多官能アクリレートモノマーを含むモノマーの重合体〔以下、（１）樹脂とも称する〕、（２）少なくとも一種類以上の含フッ素エポキシ及び／又はオキセタンモノマーと、少なくとも一種類以上の非フッ素系エポキシ及び／又はオキセタンモノマーを含むモノマーの重合体〔以下、（２）樹脂とも称する〕、（３）酸素による重合阻害が小さい重合性モノマーを含む重合体〔以下、（３）樹脂とも称する〕、などが挙げられる。これらの樹脂の各種モノマー間の質量比及び塗布後の硬化時の効果条件、例えば、露光条件を変化させて、上記物性を達成する。
表面被覆層に用いるアクリルモノマーの重合収縮率と樹脂製支持体や紫外線吸収剤含有層との熱収縮率とが同程度の場合、それぞれの収縮率が相殺されて、フィルムミラーのカールが低減されるので好ましい。
【０１３２】
硬質の表面被覆層を形成する樹脂は、前記（１）樹脂及び（２）樹脂の如く、少なくとも一種類以上の含フッ素モノマーを含むモノマーの重合体を含有することが好ましい。含フッ素モノマーとしては、含フッ素アクリレートモノマー、含フッ素オレフィンモノマー、含フッ素アセチレンモノマー、含フッ素エポキシモノマー、含フッ素オキセタンモノマー、含フッ素ビニルエーテルモノマー等が挙げられる。
【０１３３】
（１）少なくとも一種類以上の含フッ素アクリレートモノマーと、少なくとも一種類以上の非フッ素系多官能アクリレートモノマーを含むモノマーの重合体として具体的には以下の化合物が例示できる。
【０１３４】
本発明のフィルムミラーにおける硬質の表面被覆層に用いる（１）樹脂に含まれ得る含フッ素アクリレートモノマーは、特に限定されるものではないが、具体的には、特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００１８〕に記載の化合物ｆ−１〜ｆ−１０、及び段落番号〔００２３〕から〔００２７〕に記載のＸ−１〜Ｘ−３２や、下記の化合物（Ｘ−３３）、（Ｘ−３４）、（Ｘ−３５）も好ましく用いることができる。
【０１３５】
【化８】
2014199330.tif 000009
【０１３６】
また、国際公開第２００５／０５９６０１号パンフレットの段落番号〔０１３５〕から〔０１４９〕に記載の化合物、特開２００６−２９１０７７号公報の段落番号〔００１４〕から〔００２８〕に記載の化合物も好適に用いることができる。
【０１３７】
上記（１）樹脂に含まれ得る非フッ素系多官能アクリレートモノマーは、１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。これらの詳細は特開２０１０−０６１０４４号公報に記載されており、ここに記載の化合物は本発明にも使用しうる。
【０１３８】
（２）少なくとも一種類以上の含フッ素エポキシ及び／又はオキセタンモノマーと、少なくとも一種類以上の非フッ素系エポキシ及び／又はオキセタンモノマーを含むモノマーの重合体としては、具体的には以下の化合物が例示できる。
＜非フッ素系エポキシ及び／又はオキセタンモノマー＞
（２）樹脂に用い得るエポキシ化合物としては、以下の芳香族エポキシド、脂環式エポキシド及び脂肪族エポキシド等が挙げられる。芳香族エポキシドとしては、例えば、ビスフェノールＡ、あるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【０１３９】
脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等が挙げられる。脂環式エポキシド及び脂肪族エポキシドとしては特に限定はされないが、特開２０１２−１６３６９１号公報に記載の化合物が挙げられ、ここに記載の化合物は本発明に使用し得る。
【０１４０】
芳香族エポキシモノマーとしては、特に限定はされないが、例えば、特開２００９−２２４１０９号公報に記載の化合物が挙げられ、ここに記載の化合物は本発明に使用し得る。これらのエポキシモノマーは、１種のみが用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
【０１４１】
（２）樹脂に用い得るオキセタンモノマーとしては、特に限定はされないが、例えば、単官能又は２官能のオキセタンモノマーを用いることもできる。オキセタンモノマーとしては、例えば、特開２００１−２２０５２６号公報、同２００１−３１０９３７号公報、同２００９−２２４１０９号公報に記載されている公知のあらゆる官能又は２官能オキセタン化合物を使用できる。
【０１４２】
芳香族のオキセタンモノマーとしては、例えば、特開２００９−２２４１０９号公報、同２０１２−１６３６９１号公報に記載されている化合物が挙げられ、ここに記載の化合物は本発明に使用し得る。
【０１４３】
＜含フッ素オキセタンモノマー＞
オキセタン系モノマーは、カチオン重合開始剤によって硬化できる含フッ素オキセタン化合物であれば特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。また、その分子構造、分子量等も特に限定されない。
【０１４４】
（２）樹脂に用い得る含フッ素オキセタンモノマーとしては、分子中の水素原子の一部又は全てがフッ素で置換された化合物が特に好ましく、これらオキセタン系モノマーは、１種単独であるいは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【０１４５】
含フッ素オキセタン化合物しては、特に限定されず、既述のオキセタン化合物の水素原子の少なくとも一部がフッ素原子に置換された化合物がいずれも本発明に使用しうる。
含フッ素オキセタン化合物は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせてもちいてもよい。
【０１４６】
（２）樹脂に用い得る含フッ素エポキシ化合物としては、限定されないが、フッ素化合物とエピクロルヒドリン等のエポキシ化合物との反応物であり、これらの詳細は特開２００９−２２４１０９号公報に記載されている。ここに記載の化合物はいずれも本発明に使用しうる。
【０１４７】
（３）酸素による重合阻害が小さい重合性モノマーを含む重合体としては、具体的には以下の化合物が例示される。表面被覆層が酸素による重合阻害が小さい重合性モノマーを含む重合体を構成樹脂として含有する場合は、酸素存在下又は空気中での光硬化による表面被覆層の形成に好適である。
【０１４８】
本発明に用いる硬化時に酸素による重合阻害が小さい重合性モノマーとしては、限定されないが、下記一般式（２）又は下記一般式（３）で表される構造単位を形成しうる重合性モノマー、具体的には、以下に詳述する一般式（４）又は一般式（５）で表されるアクリルモノマーが好ましく挙げられる。
【０１４９】
【化９】
2014199330.tif 000010
【０１５０】
［一般式（２）及び一般式（３）中、Ｒ1は水素原子又は炭化水素基を表し、Ｒ2、Ｒ３及びＲ4は各々独立に炭化水素基を表す。Ｒ5は炭素鎖中にエーテル基が挿入されていてもよいアルキレン基を表し、Ｘ1、Ｘ２及びＸ3は各々独立に単結合又はカルボニル基を表す。］
【０１５１】
Ｒ1〜Ｒ4が炭化水素を表す場合の炭化水素基としては、飽和炭化水素基でも不飽和炭化水素基でもよく、置換基を有していてもよい。
該炭化水素基としては、より具体的には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アラアルキル基、アリール基等を挙げることができ、なかでもアルキル基が好ましい。
アルキル基として好ましいのは直鎖アルキル基又は分岐アルキル基であり、より好ましいのは直鎖アルキル基である。直鎖アルキル基の炭素数は、好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４である。
アルケニル基の具体例としては、上記アルキル基の炭素−炭素単結合の一部が二重結合に置換されたものを挙げることができる。
アリール基の具体例としてはフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基を挙げることができる。上記アラアルキル基の具体例としては、上記アルキル基の具体例であって上記アリール基の具体例のいずれかで置換されたものを挙げることができる。
上記炭化水素基が置換基を有する場合、導入可能な置換基としては、アルコキシ基、ヒドロキシル基等を挙げることができ、好ましいのはヒドロキシル基である。
一般式（２）においては、Ｒ1である炭化水素基同士が互いに結合してなる二量体構造をとりうるが、そのような態様をとる場合も、本発明における一般式（２）で表される繰り返し単位に包含されるものとする。
一般式（３）におけるＲ3とＲ4は同一であっても異なっていてもよいが、好ましいのはＲ3とＲ4が同一である場合である。また、一般式（３）におけるＸ2とＸ3は、ともにカルボニル基であることがより好ましい。
Ｒ5は鎖中にエーテル基が挿入されていてもよいアルキレン基であり、下記一般式
（６）で表される構造を有する。
−Ｒ１１−（Ｏ−Ｒ１２）ｎ−        一般式（６）
【０１５２】
前記一般式（６）において、Ｒ11及びＲ12は各々独立にアルキレン基を表し、置換基を有していてもよい。アルキレン基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。
アルキレン基として好ましいのは直鎖アルキレン基又は分岐アルキレン基であり、より好ましいのは直鎖アルキレン基である。直鎖アルキレン基の炭素数は、好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４である。アルキレン基の置換基としては、上記の炭化水素基の置換基として例示したものを挙げることができる。
一般式（６）において、ｎは０以上の整数を表す。ｎは０〜６が好ましく、０〜４がより好ましい。ｎが２以上であるとき、ｎ個のＲ12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【０１５３】
一般式（２）又は一般式（３）で表される構造は、表面被覆層中に複数種含まれていてもよいし、一種のみ含まれていてもよい。複数種含まれている場合は、一般式（２）で表される構造が複数種含まれていてもよいし、一般式（３）で表される構造が複数種含まれていてもよいし、一般式（２）で表される構造と一般式（３）で表される構造が混在していてもよい。
硬質な表面被覆層を構成する重合体は、下記一般式（４）又は下記一般式（５）で表されるモノマーを少なくとも１種含むモノマー混合物を重合させることによって製造することが好ましい。
【０１５４】
【化１０】
2014199330.tif 000011
【０１５５】
一般式（４）及び一般式（５）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ1、Ｘ２及びＸ3はそれぞれ、一般式（２）及び一般式（３）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ３、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ1、Ｘ２及びＸ3と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（４）又は一般式（５）で表されるモノマーの具体例を以下に例示するが、本発明で用いることができるモノマーはこれらに限定されない。これらの詳細は、特開２００９−２２６７１８号公報に記載されている。
【０１５６】
【化１１】
2014199330.tif 000012
【０１５７】
モノマー重合法としては特に限定は無いが、加熱重合、光（紫外線、可視光線）重合、電子ビーム重合、プラズマ重合、あるいはこれらの組み合わせが好ましく用いられる。これらのうち、光重合が特に好ましい。光重合を行う場合は、光重合開始剤を併用する。光重合開始剤の例としてはチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から市販されているイルガキュアー（Irgacure）シリーズ（例えばイルガキュアー６５１、イルガキュアー７５４、イルガキュアー１８４、イルガキュアー２９５９イルガキュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュアー３７９、イルガキュアー８１９など）、ダロキュア（Darocure)シリーズ（例えばダロキュアＴＰＯ、ダロキュア１１７３など）、クオンタキュア（Quantacure）ＰＤＯ、サートマー(Sartomer）社から市販されているエザキュア（Ezacure）シリーズ（例えばエザキュアＴＺＭ、エザキュアＴＺＴなど）等が挙げられる。
【０１５８】
照射する光は、通常、高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線である。照射エネルギーは９５ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2以上がより好ましい。一般にアクリレート、メタクリレートは、空気中の酸素によって重合阻害を受けるため、重合時の酸素濃度もしくは酸素分圧を低くすることが好ましい。重合時の酸素阻害を受け難いモノマーを用いる場合は、特に減圧や窒素置換による酸素濃度の低減を図らなくてもよいが、酸素濃度は５０％以下が好ましく、３０％以下が更に好ましく、大気中が通常含有する酸素濃度である２１％以下が特に好ましい。
【０１５９】
硬質な表面被覆層には、必要に応じてシリカ粒子等のフィラーを用いてもよい。フィラーの添加により、硬度の向上と重合収縮の低下が期待できる。硬質な表面被覆層に用い得るフィラーとしては特に限定されないが、例えば、無機粒子、有機粒子及び無機有機複合粒子などが挙げられる。フィラーの動的光散乱法により測定した平均粒子径は、５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲であることが好ましい。
無機粒子としては特に限定されないが、シリカ粒子、アルミナ粒子、ＺｎＯ粒子等が好ましく、シリカ粒子が好ましい。
有機粒子としては特に限定されないが、アクリル樹脂、アクリルニトリル樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド等の樹脂を用いて形成された粒子が挙げられ、アクリル樹脂粒子が好ましい。
無機有機複合粒子としては、既述の無機粒子表面の少なくとも一部が、前記例示した樹脂により被覆されてなる粒子が挙げられる。
【０１６０】
硬質な表面被覆層には必要な場合は溶媒、可塑剤等を用いることができる。
溶剤としては、例えば、炭化水素類、ハロゲン化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類等の溶剤を用いることができ、具体的には、キシレン、ジブチルエーテルを好適に用いることができる。
また、添加剤としては、例えば、光重合開始剤、帯電防止剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、分散剤、シランカップリング等が挙げられる。
【０１６１】
硬質な表面被覆層の形成方法は、既述の硬質な表面被覆層を形成しうる各樹脂を適切な溶剤に溶解して、本発明に係る紫外線吸収剤含有層上に塗布し、乾燥する方法が使用できる。
塗布方法としては、特に制限はなく、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、或いは、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等、従来公知のコーティング手段を用いた塗布方法が適用できる。
【０１６２】
硬質な表面被覆層の厚さは、防汚性、耐傷性の観点から、０．１μｍ〜５０μｍが好ましく、より好ましくは０．１μｍ〜１０μｍである。
【０１６３】
＜フィルムミラーの物性＞
本発明のフィルムミラーは、１５０℃で３０分間加熱処理したときの熱収縮率が、０．６％以下であり、好ましくは０．５％以下である。本発明のフィルムミラーは、熱による変形が生じ難く、鏡面性が安定しているので、屋外に長期間置かれた場合であっても、フィルムミラーとしての機能（太陽光の集光等）が十分に発揮することができる。特に、昼と夜の寒暖差が大きい砂漠等での使用にも好適である。
本発明のフィルムミラーの熱収縮率は、樹脂中間層（易接着層及び／又はめっき下塗りポリマー層）を形成する際の乾燥温度条件により制御することができる。例えば、樹脂中間層を高温で乾燥させると、形成されたフィルムミラーの熱収縮率を低いものとすることができる。
なお、この熱収縮率は、以下の方法により得られた値である。
【０１６４】
間隔約１００ｍｍの標線を印した幅１０ｍｍ×長さ５００ｍｍのフィルムミラーに対して、温度１５０℃、荷重０．５ｇの条件下で３０分間熱処理を施す（ＪＩＳ−Ｃ２３１８（２００７）準拠）。そして、この熱処理の前後の標線間隙を、熱収縮率測定器（ＡＭＭ−１号機、（株）テクノニーズ製）を用いて測定する。得られた値に基づいて、下記式により熱収縮率（％）を算出する。
熱収縮率（％）＝｛（Ｌ０−Ｌ）／Ｌ０｝×１００
Ｌ０ ：加熱処理前の標線間隙（ｍｍ）
Ｌ  ：加熱処理後の標線間隙（ｍｍ）
【０１６５】
本発明のフィルムミラーにおいて、樹脂製支持体と表面被覆層との接収縮率の差は、小さいことが好ましい。具体的には、樹脂製支持体の１００℃における熱収縮率と表面被覆層の１００℃における熱収縮率の差は以下の条件を満たすことが好ましい、
［（樹脂製支持体の熱収縮率）−（表面被覆層の重合収縮率）]  ≦１０％
紫外線吸収剤含有層との熱収縮率の差も同様に測定され、双方の値がこの範囲であると耐カール性に優れるからである。好ましくは５％以下、さらには３％以下であるのが好ましい。耐カール性は複合フィルム又はフィルムミラーである積層体が熱履歴を受けて形状がそる変形に対する耐性をいう。
【０１６６】
＜太陽光反射板＞
本発明の太陽光反射板は、本発明のフィルムミラーを用いて作製されたものであり、具体的には、本発明の太陽光反射板は、樹脂、金属、又はセラミックのいずれかからなる基板に、本発明のフィルムミラーが粘着層を介して貼り合されている。
本発明のフィルムミラー単体でも、太陽光の集光に用いることができるが、好ましくは、樹脂等の基板上に貼り付けにより保持させて、太陽光反射板として用いる。
本発明のフィルムミラーは、軽量かつ柔軟であるというフィルムミラーの特性を維持しつつ、支持体と金属反射層との密着性が良好で、かつ、優れた耐候性を有するので、これを用いて作製された太陽光反射板は、特に、太陽光発電用として好適である。
【０１６７】
本発明のフィルムミラーを保持させる基板としては、樹脂、金属、又はセラミックのいずれかであり、好ましくは金属である。金属基板としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、アルミニウムめっき鋼板、ステンレス鋼板、クロムめっき鋼板等の熱伝導率が高いものが挙げられ、これらの中でも、耐食性の観点から、めっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板が好ましい。
【０１６８】
本発明のフィルムミラーと上記基板とを貼り合わせる粘着層の形成材料は、特に限定されず、例えば、粘着剤、ラミネート剤、ヒートシール剤等が挙げられ、好ましくは粘着剤である。
粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ニトリルゴム等を主成分とするものが好ましく、アクリル系樹脂を主成分とするアクリル系粘着剤が特に好ましい。
アクリル系粘着剤に含有されるアクリル系樹脂の重量平均分子量は、本発明のフィルムミラーと上記基板との密着性の観点から、２万〜１００万（ＧＰＣを用いたポリスチレン換算値）であることが好ましい。
【０１６９】
粘着層の膜厚は、粘着性、形成容易性等の観点から、１．５μｍ〜１００μｍの範囲であることが好ましい。
【実施例】
【０１７０】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【０１７１】
［フィルムミラーの作製］
＜実施例１〜１２＞
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（コスモシャインＡ−４３００、厚さ：１００μｍ、熱収縮率（カタログ値）：０．４％）上に下記工程により電気めっきにて銀含有金属反射層を設けた。
〔銀含有金属反射層の形成〕
（易接着層の形成）
上記ＰＥＴフィルムの一方の面に、７３０Ｊ／ｍ２の条件でコロナ放電処理を施した後、下記の易接着層形成用塗布液を乾燥重量が１２４ｍｇ／ｍ２となるようにバーコート法により塗布した。そして、これを１８０℃で１分間乾燥することにより、易接着層を形成した。
【０１７２】
−易接着層形成用塗布液の組成−
・ポリエステル樹脂水分散物                                            ４８質量部
（バイロナール１２４５、固形分：３０質量％、東洋紡（株）製・・・バインダー）
・ＰＭＭＡ樹脂微粒子                                                ０．５質量部
（ＭＰ−１０００、固形分：１００質量％、綜研化学（株）製・・・マット材）
・オキサゾリン化合物                                                    ３質量部
（エポクロスＷＳ−７００、固形分：２５質量％、日本触媒（株）製・・・架橋剤）
・カルボジイミド化合物                                                １７質量部
（カルボジライトＶ−０２−Ｌ２、固形分：４０質量％、日清紡（株）製・・架橋剤）
・ポリオキシアルキレンアルキルエーテル                            ０．１５質量部
（ナロアクティーＣＬ−９５、固形分：１００質量％、三洋化成工業（株）製）
【０１７３】
（めっき下塗りポリマー層の形成）
易接着層を形成したＰＥＴフィルムの易接着面に、下記の方法により調製しためっき下塗りポリマー層形成用塗布液を、乾燥後の膜厚が約０．５５μｍとなるように、バーコート法により塗布し、２５℃で１０分間、及び８０℃で５分間乾燥した後、紫外線照射装置（ＵＶランプ：メタルハライドランプ、ＧＳユアサ社製）を用いて、紫外線露光（波長：２５４ｎｍ、紫外線露光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）した。次いで、この紫外線露光後のＰＥＴフィルムを、１質量％の炭酸水素ナトリウム水溶液に５分間浸漬させた後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、未反応のポリマーを除去した。
【０１７４】
−めっき下塗りポリマー層形成用塗布液の調製−
下記構造のアクリルポリマー１（７質量部）、１−メトキシ−２プロパノール（７４質量部）、及び水（１９質量部）の混合溶液に、光重合開始剤（エサキュアＫＴＯ−４６、ランベルディー社製）（０．３５質量部）を添加し、攪拌することにより、めっき下塗りポリマー（アクリルポリマー１）の溶液を調製した。
【０１７５】
【化１２】
2014199330.tif 000013
（アクリルポリマー１）
【０１７６】
（金属前駆体の付与）
金属前駆体を含む溶液として、硝酸銀の１質量％水溶液を調製した。上記にて得られためっき下塗りポリマーが塗布されたＰＥＴフィルムを、２５℃に温調した１質量％の硝酸銀水溶液に５分間浸漬させた後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、金属前駆体の付与を行なった。
【０１７７】
（金属前駆体の還元）
還元液として、０．１４質量％の水酸化ナトリウムを含有する０．２５質量％のホルムアルデヒド水溶液を調製した。上記にて得られた金属前駆体が付与されたＰＥＴフィルムを、２５℃に温調した上記還元液に１分間浸漬させた後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、金属前駆体を還元した。
還元後の表面抵抗値を、表面抵抗計を用いて測定したところ、約１０Ω／□であった。また、表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、約７ｎｍであった。さらに、還元後の金属の粒子径を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて測定したところ、約５０ｎｍであった。
【０１７８】
（電気めっき）
電気めっきの前処理として、上記にて得られた還元された金属の粒子を含むめっき下塗りポリマー層を表面に有するＰＥＴフィルムを、２５℃に温調したダインクリーナーＡＣ１００（大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に３０秒間浸漬させた後、数回洗浄した。続けて、同じく電気めっき前処理として、ダインシルバーＡＣＣ（主成分：メタンスルホン酸、大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に１０秒間浸漬させた後、数回洗浄した。
次に、電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（主成分：メタンスルホン酸銀、大和化成（株）製）を、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ９．０に調整したものを調製した。そして、この電気めっき液に、上記還元された金属の粒子を含むめっき下塗りポリマー層を表面に有するＰＥＴフィルムを浸漬させ、０．５Ａ／ｄｍ２にて２０秒間めっきした。
電気めっきの後処理として、めっき後のＰＥＴフィルムを、ダインシルバーＡＣＣ（商品名：大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に９０秒間浸漬させた後、数回洗浄した。
めっき後処理後の表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、約４ｎｍであった。
【０１７９】
〔紫外線吸収剤含有層の作製〕
上記にて得られた金属反射層のめっき処理面上に、下記組成の質量比にて混合後、４０℃に過熱し、１時間攪拌することで調製した紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１）〜（ＯＣ−３６）を、乾燥後の厚みが下記表１〜表２に記載の膜厚となるように塗布し、８０℃で１分乾燥することで、下記表１〜表２に記載の膜厚の紫外線吸収剤含有層を有するフィルムミラーを製造した。
【０１８０】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １７．２０質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１８１】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２）の組成−
エスレックＫＳ−１０（積水化学工業（株）製）                    １７．２０質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−３）の組成−
ソアノールＤＣ３２１２（日本合成化学（株）製）                  １７．２０質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
水                                                              ４１．４０質量部
イソプロピルアルコール（以下、ＩＰＡと略記する）                ４１．４０質量部
【０１８２】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−４）の組成−
ＮＵＣ−６２２０（日本ユニカー（株）製）                        １７．２０質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−５）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １７．１１質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：下記構造  一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）
０．０９質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１８３】
【化１３】
2014199330.tif 000014
【０１８４】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−６）の組成−
エスレックＫＳ−１０（積水化学工業（株）製）                    １７．１１質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１８５】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−７）の組成−
ソアノールＤＣ３２１２（日本合成化学（株）製）                  １７．１１質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
水                                                              ４１．４０質量部
ＩＰＡ                                                          ４１．４０質量部      
【０１８６】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−８）の組成−
ＮＵＣ−６２２０（日本ユニカー（株）製）                        １７．１１質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１８７】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−９）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（商品名：架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）  ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１８８】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１０）の組成−
エスレックＫＳ−１０（積水化学工業（株）製）                    １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１８９】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１１）の組成−
ソアノールＤＣ３２１２（日本合成化学（株）製）                  １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
水                                                              ４１．４０質量部
ＩＰＡ                                                          ４１．４０質量部
【０１９０】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１２）の組成−
ＮＵＣ−６２２０（日本ユニカー（株）製）                        １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９１】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１３）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−２：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９２】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１４）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−３：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９３】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１５）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−４：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９４】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１６）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−５：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９５】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１７）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １３．４５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９６】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１８）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １５．０５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９７】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−１９）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １５．７４質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９８】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２０）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．６５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０１９９】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２１）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．８５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２００】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２２）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １７．０５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２０１】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２３）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．３６質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．３４質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２０２】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２４）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １４．６５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．３４質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２０３】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２５）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−６：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２０４】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２６）の組成−
エスレックＫＳ−１０（積水化学工業（株）製）                    １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−６：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２０５】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２７）の組成−
ソアノールＤＣ３２１２（日本合成化学（株）製）                  １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−６：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
水                                                              ４１．４０質量部
ＩＰＡ                                                          ４１．４０質量部
【０２０６】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２８）の組成−
ＮＵＣ−６２２０（日本ユニカー（株）製）                        １６．２５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−６：一般式（１）で表される化合物）
１．２０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２０７】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−２９）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １１．４５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１：一般式（１）で表される化合物）
６．００質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２０８】
−紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−３０）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １７．１５質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１）                            ０．３０質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２０９】
−比較用紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−３１）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １４．８２質量部
トリアジン系紫外線吸収剤（ＵＶＡ−１）                            ３．４２質量部
光安定化剤（ＬＳ−１：一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物）      ０．０９質量部
カルボジライトＶ−０５（架橋剤、日清紡ケミカル（株）製）          ０．８６質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２１０】
下記紫外線吸収剤含有層形成用塗布液ＯＣ−３２〜ＯＣ−３６は、本発明の範囲外の紫外線吸収剤を含有する比較用保護層形成用塗布液である。
−比較用紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−３２）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １７．２０質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ１５７７（ＢＡＳＦ（株）製）（下記構造）            １．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２１１】
【化１４】
2014199330.tif 000015
【０２１２】
−比較用紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−３３）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １７．２０質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ４６０（ＢＡＳＦ（株）製）（下記構造）              １．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２１３】
【化１５】
2014199330.tif 000016
【０２１４】
−比較用紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−３４）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １７．２０質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ３２６（ＢＡＳＦ（株）製）                          １．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２１５】
【化１６】
2014199330.tif 000017
【０２１６】
−比較用紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−３５）の組成−
ダイヤナールＢＲ−１０２（三菱レイヨン（株）製）                １７．２０質量部
ＵＶＩＮＡＬ３０５０（ＢＡＳＦ（株）製）                          １．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
【０２１７】
【化１７】
2014199330.tif 000018
【０２１８】
−比較用紫外線吸収剤含有層形成用塗布液（ＯＣ−３６）の組成−
ＡＣ−ＳＱ  ＳＩ−２０（東亞合成（株）製）                      １７．２０質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ４６０（ＢＡＳＦ（株）製）                          １．２０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０３質量部
メチルエチルケトン                                              ５７．８０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ２０．００質量部
シクロヘキサノン                                                  ５．００質量部
また、実施例１３〜実施例３８及び実施例４５〜４７のフィルムミラーでは、紫外線吸収剤含有層上に、さらに下記処方の表面被覆層形成用塗布液を塗布し、８０℃にて２分間乾燥して表面被覆層を形成した。
【０２１９】
＜表面被覆層塗布液の調製＞
表面被覆層塗布液は以下の組成・質量比で混合後、４０℃に過熱し、１時間攪拌することで調製した。
−表面被覆層形成用塗布液（ＴＣ−１）−
ナトコＵＶ自己治癒（ナトコ（株）製）                            ４８．０４質量部
メガファックＲＳ−７５（ＤＩＣ（株）製）                          ０．４０質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７（ＢＡＳＦ（株）製）                        １．５０質量部
メガファックＦ−７８０−Ｆ（ＤＩＣ（株）製）                      ０．０６質量部
メチルイソブチルケトン                                          ４５．００質量部
シクロヘキサン                                                    ５．００質量部
−表面被覆層形成用塗布液（ＴＣ−２）−
ディフェンサ  ＦＨ−７００（ＤＩＣ（株）製）                    ５０．００質量部
ＩＰＡ                                                          ５０．００質量部
【０２２０】
このようにして、支持体であるＰＥＴフィルム上に、易接着層とめっき下塗りポリマー層とからなる樹脂中間層、金属反射層、紫外線吸収剤含有層、所望により設けられる表面被覆層がこの順に形成された実施例１〜４７、比較例１〜５のフィルムミラーを作製した。
【０２２１】
【表１】
2014199330.tif 000019
【０２２２】
【表２】
2014199330.tif 000020
【０２２３】
前記実施例及び比較例に用いた紫外線吸収剤は、前記例示化合物において開示した化合物である。
【０２２４】
［評価］
上記にて作製した実施例１〜実施例４７、及び比較例１〜比較例５のフィルムミラーについて、下記基準にて評価を行なった。これらの結果を表３〜表４に示す。
＜フィルムミラーの性能評価＞
（１）反射性能
得られたフィルムミラーについて反射率を測定した。反射率は分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ、島津製作所製）を用いて測定した。フィルムミラー作製直後の反射率から、以下の基準にしたがって評価した。
Ａ：反射率が９５％以上
Ｂ：反射率が９０％以上、９５％未満
Ｃ：反射率が９０％未満
【０２２５】
（２）耐久性試験
得られたフィルムミラーについて、キセノンランプ耐光性試験機（ＡＴＬＡＳ社製、Ｃｉ５０００、パワー：１８０Ｗ、Ｂｌａｃｋ  Ｐａｎｅｌ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ：８３℃）内に配置して、温度５５℃、湿度５０％ＲＨの条件下で６０００時間放置し、その際のフィルムミラーの４５０ｎｍにおける反射率の低下（放置前の反射率（％）−放置後の反射率（％））を評価した。なお、反射率は、紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所社製）を用いて測定した。
（２−１）銀反射層耐久性試験
Ａ：銀反射層の反射率の低下が５％未満
Ｂ：反射率の低下が５％以上１０％未満
Ｃ：反射率の低下が１０％以上
（２−２）樹脂基材耐久性試験
樹脂基材耐久性については、裏面の樹脂基材を目視にて観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：目視で変化が認められない。
Ｂ：目視で黄変、表面の荒れ等が認められるが、指での引っ張りで容易には破断しない。
Ｃ：目視で黄変、表面の荒れ等が認められ、指での引っ張りで破断する。
（２−３）紫外線吸収剤含有層耐久性試験
紫外線吸収剤含有層耐久性については、紫外線吸収剤含有層表面を目視及び光学顕微鏡で観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：変化が認められない。
Ｂ：目視では変化が認められないが、光学顕微鏡による観察で微小な表面の荒れ等が認められる。
Ｃ：目視で明らかな黄変、表面の荒れの少なくともいずれかが認められる。
【０２２６】
（３）密着性
得られたフィルムミラーについて、クロスカット試験（ＪＩＳ  Ｋ５４００）を行った。剥離したマス目の数から、以下の基準にしたがって評価した。
Ａ：剥離したマス目の数が０マスである。
Ｂ：剥離したマス目の数が１〜５マスである。
Ｃ：剥離したマス目の数が６マス以上である。
（４）耐ブリードアウト性試験
紫外線吸収剤含有層塗布品について、室温４０℃、湿度６０％環境下で１ヶ月間静置し、（１）特定化合物の紫外線吸収剤含有層表面への析出物の有無を目視で観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：析出が認められない場合
Ｃ：析出が認められる場合
【０２２７】
（５）耐溶剤性試験
紫外線吸収剤含有層塗布品について、表面にエタノールを５０μＬ滴下後、自然乾燥し、液滴の跡を目視で観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：跡が認められないもの
Ｂ：跡が認められるものの、白濁には至っていないもの
Ｃ：跡が白濁しているもの
【０２２８】
（６）耐傷性試験
ＪＩＳ  Ｈ  ８５０３（１９８９年）に記載された「砂落とし磨耗試験方法」に準じて耐傷性試験を行った。具体的には、作製した実施例、比較例の各フィルムミラーを３ｃｍ角に切り出し、４５度の角度からＳｉＯ２粒子が衝突するように測定装置に固定した後、３２０ｇのＳｉＯ２粒子を１００ｃｍの高さから自由落下させて衝突させた。その後、試料を純水中で超音波洗浄し、付着した粒子を取り除いた。砂塵試験前後のヘイズ値の差（ΔＨ）を測定し、その結果より以下のように評価した。
ＡＡ：ΔＨが２％以下
Ａ：ΔＨが２％以上、５％未満
Ｂ：ΔＨが５％以上、１０％未満
Ｃ：ΔＨが１０％以上
【０２２９】
【表３】
2014199330.tif 000021
【０２３０】
【表４】
2014199330.tif 000022
【０２３１】
実施例１〜４は紫外線吸収剤含有層に、紫外光に対する安定性が良好な（１）特定化合物を含有しており、紫外線吸収能が長期間持続することで、高い耐久性を得られた。
実施例５〜８は、本発明に係る（１）特定化合物に加えて光安定化剤（ラジカル捕捉剤）を加えており、両者の相乗効果によってさらに高い耐久性が達成された。
実施例９〜１２では、さらに架橋剤を加えることで、金属反射層との密着と耐溶剤性がより向上していることから、紫外線吸収剤含有層中に架橋構造が形成されたことがわかる。
実施例２０〜３２では、紫外線吸収剤含有層上に、さらに表面被覆層を設けることで耐傷性が向上していることがわかる。
実施例３３〜３８、及び実施例４５、４６では紫外線吸収剤含有層の膜厚と諸性能の関係を示している。紫外線を遮蔽し、基材を保護するためには、単位面積当たりに一定の紫外線吸収材料が必要である。そのため、膜厚を薄くしていくに従い、紫外線吸収剤含有層に含まれる紫外線吸収剤濃度を上げることが好ましい。なお、実施例３３及び実施例４５では紫外線吸収剤含有層内の紫外線吸収剤濃度が高くなり、ヘイズが高くなることで反射性能がやや低下しているとともに、低分子量成分が増加することで密着性が低下している。しかしながら、実用上は問題のないレベルである。
また、紫外線吸収剤含有層上に表面被覆層を塗布する際に、塗布溶剤の影響により紫外線吸収剤が表面被覆層内に拡散され、紫外線硬化が阻害される懸念がある。その場合、耐傷性が所望の向上効果を得られないために、塗布溶剤を選択するなどの配慮が必要であると考えられる。
実施例３８では膜厚増加にともなって紫外線吸収剤含有層自身の光吸収が増大し、反射性能がやや低下している。実施例４６ではさらに膜厚が増加しており、ここでも反射性能の低下が見られるが、いずれも実用上問題のないレベルである
【０２３２】
実施例３９、４０、及び４７では紫外線吸収剤と架橋剤の比が諸性能に及ぼす影響を示している。紫外線吸収剤量が増加すると紫外線吸収剤のブリードアウトや表面被覆層への抽出を抑制するためにより高い架橋度が必要となる。そのため、紫外線吸収剤と架橋剤はそれぞれの絶対量とともにその比も重要となる。紫外線吸収剤／架橋剤の比が増大することで比較例１では紫外線吸収剤の移動を抑制できず、耐ブリードアウト性と表面被覆層の耐傷性が所望の性能を満足しなくなっている。
実施例４１〜４４は、紫外線吸収剤として、酸性基を含有するもの（例示化合物ＵＶＡ−６）を用いた場合であり、酸性基の影響により銀含有金属反射層中における銀の酸化が進行し、金属反射層の耐久性がやや低下していることがわかる。
比較例２〜４では紫外線吸収剤自体の紫外光に対する安定性が不足しているために分解して着色するとともに樹脂を紫外光から遮蔽できなくなり、樹脂の劣化も進行している。また、比較例２ではＴＩＮＵＶＩＮ４６０と樹脂の相溶性不足からブリードアウトが発生している。
比較例５では紫外線吸収剤自体の紫外光に対する安定性が不足しているために分解して着色しているものの、紫外線吸収剤含有層自身は耐光性良好なため劣化には至っていない。剥離性の高いシルセスキオキサン樹脂を用いているため、密着性を満足していない。また、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０と樹脂の相溶性不足からブリードアウトが発生している。
【０２３３】
［太陽光反射板の作製］
実施例２１〜実施例２４のフィルムミラー（Ｆ−１〜Ｆ−４）の各々について、金属反射層が設けられた面とは反対側の面に、厚さ０．６ｍｍのアルミ板を接着剤（ＳＫ−２０５７、綜研化学（株）製）を用いて貼り合わせ、実施例４８〜実施例５１の太陽光反射板を作製した。
作製した実施例４８〜実施例５１の太陽光反射板は、いずれもガラスミラーと同等の優れた鏡面性を示した。また、作製した実施例４８〜実施例５１の太陽光反射板を、キセノンランプ耐光性試験機（ＡＴＬＡＳ社製、Ｃｉ５０００、パワー：１８０Ｗ、Ｂｌａｃｋ  Ｐａｎｅｌ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ：８３℃）内に配置して、温度５５℃、湿度５０％ＲＨの条件下で６０００時間保持させたところ、反射率低下が少なく、表面の荒れや剥離等も認められず、良好な耐久性を示した。