(57)【要約】【課題】欠陥を修正する場合にインク塗布回数を減らして所望のインク塗布量を塗布可能なカラーフィルタ欠陥修正装置を提供する。【解決手段】透明基板上に、ブラックマトリックス及び赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の色インクからなる各着色層を所定のパターンで配列して構成されたカラーフィルタに発生した異物等の欠陥部を除去した後、塗布針によって前記欠陥除去部に修正インクを塗布して修正する装置であって、  体積測定手段７３と、修正インク粘度調整手段７５と、修正インク塗布手段７６と、修正インク塗布制御手段７６ａと、修正インク硬化手段７７と、を備え、修正インク粘度調整手段７５で粘度調整された修正インクを体積測定手段７３によって測定された欠陥除去部の体積に基づいて、修正インク塗布手段７６によって欠陥除去部に塗布する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、ブラックマトリックス及び赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の色インクからなる各着色層を所定のパターンで配列して構成されたカラーフィルタに発生した異物等の欠陥部を除去した後、塗布針によって前記欠陥除去部に修正インクを塗布して修正する装置であって、
体積測定手段と、修正インク粘度調整手段と、修正インク塗布手段と、修正インク塗布制御手段と、修正インク硬化手段と、を備え、
体積測定手段は前記欠陥除去部の体積を測定する手段であって、
修正インク粘度調整手段は、前記欠陥除去部の体積測定結果に基づいて、前記修正インクの粘度を調整する手段であって、
修正インク塗布手段は、粘度が調整された修正インクの一部を塗布針に付着させて、付着させたインクを前記欠落部に塗布する手段であって、
修正インク塗布制御手段は、前記欠陥除去部の体積測定結果に基づいて、修正インク塗布手段の動作速度を制御する手段である、
ことを特徴とするカラーフィルタ欠陥修正装置。
【請求項２】
さらに欠陥部を除去する欠陥部除去手段を備え、この欠陥部除去手段は短波長のレーザ光を発するエキシマレーザであることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
【請求項３】
前記修正インク粘度調整手段は紫外線照射装置であることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
【請求項４】
前記修正インク粘度調整手段はヒーター装置であることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
【請求項５】
前記修正インク硬化手段は、熱風、紫外線（ＵＶ）、赤外線（ＩＲ）、半導体レーザ、及びＹＡＧレーザのいずれか１種の処理装置であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
【請求項６】
前記修正インク塗布制御手段によって制御される塗布針の動作速度は、粘度が調整された修正インクに塗布針を押し込む速度と、押し込んだ塗布針を静止する時間と、修正インクから引き上げる速度と、欠陥部に向かって下降する速度と、欠陥部で静止する時間と、欠陥部から引き上げる速度のうち、少なくとも１つの速度であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のカラーフィルタ欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ欠陥修正装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１に基板の例としてカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板の一例を断面で示す。カラーフィルタ１は、透明なガラス基板（以下、基板）２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。
【０００３】
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法を用いることが知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法による製造工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、前処理として基板を洗浄処理する工程（Ｃ１）、基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｃ２）、基板を洗浄処理する工程（Ｃ３）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｃ４）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ５）、着色フォトレジストを露光処理する工程（Ｃ６）、現像処理する工程（Ｃ７）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ８）、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ９）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ１０）がこの順に行われ製造される。
【０００４】
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、基板を洗浄処理する工程（Ｃ３）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｃ８）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色フォトレジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。
【０００５】
上記ＢＭ形成工程（Ｃ２）における露光工程、着色フォトレジストを露光処理する工程（Ｃ６）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ１０）では、基板上にレジストを焼き付けてパターンを形成する。
【０００６】
図３にカラーフィルタ製造ラインの一例を示す。図３はある特定の１色（例えばＲ画素）の着色パターンを形成するための製造ラインを詳しく示す図で、製造ライン１１はストッカ装置１２と、ストッカ装置から処理装置に投入する搬入装置１３と、洗浄装置１４と、塗布装置１５と、露光装置１６と、現像装置１７と、ベーク装置１８と、ガラス基板をストッカ装置に搬出する搬出装置１９とを備えている。また、塗布装置１５の後には着色フォトレジストの膜厚や塗布ムラを検査する検査装置２７が設けられ、現像装置１７の後には異物やパターンの欠けを検査する検査装置２８が設けられている。上記各工程の処理を行う装置や検査装置は搬送装置（１）２１から搬送装置（６）２６によって接続されている。更に、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の３色の画素が形成された後に、搬送装置（６）２６の外に設けられた検査装置２９や修正装置３０によって検査や修正が行われ、その後搬出装置１９を経てストッカ装置１２に搬出される。
【０００７】
このような方法で作製されたカラーフィルタは、カラーフィルタ面内のゴミや異物の発生によって、全くの無欠陥でカラーフィルタを製造することは困難であり、カラーフィルタに発生したピンホールや異物等による欠陥部は上記修正装置３０で修正されて良品化される。
【０００８】
上記欠陥部の修正箇所は、通常のカラーフィルタ部（画素部）の大きさは、（６０〜１２０μｍ）×（１００〜３００μｍ）角の大きさであり、修正個所の大きさは最近では、ますます微細化の方向にある。
【０００９】
また、異物が付着、あるいは埋め込まれている欠陥の箇所は、一般的には除去されその後除去された部分には修正インクが塗布される。
【００１０】
上記欠陥部分にインクを塗布する方法として、（１）塗布針方式、（２）ディスペンス方式、（３）インクジェット方式がある。
【００１１】
次に、従来の異物が付着しているカラーフィルタの欠陥修正方法の１実施例を、図４に基づいて（２）ディスペンス方式を例として説明する。
【００１２】
先ず、液晶パネルに用いられるカラーフィルタは、図４（ａ）に示すように、透明基板２上に、ブラックマトリックス３、及び、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の色インキからなるＲ画素４−１、Ｇ画素４−２、Ｂ画素４−３が所定のパターンで配列されている。例えば、このカラーフィルタの緑色（Ｇ）の色インキからなるＧ画素４−２に異物４０が存在する場合を図４（ｂ）に示す。レーザにより異物４０を含めＧ画素４−２の一部分を除去して、図４（ｃ）に示すような形状の欠落部４１を形成する。次に、図４（ｄ）に示すように、欠落部４１に直接ディスペンサ装置により、色修正用の緑色（Ｇ）の色インキ４３をインキ吐出部４２より吐出させる。この場合、色インキ４３を塗布するディスペンサは、コントローラによって、インキ吐出部４２に連なるシリンジ空間に、一定時間、一定の空気圧力をかけることにより、インキ吐出部４２から、一定量の修正液を吐出する。
【００１３】
図５に（１）塗布針方式の一例を示す。図５（ａ）は塗布針５１の先端部にインク５４を付着させた状態を示す図、図５（ｂ）は図５（ａ）の符号５１ａで示す部分の拡大図である。図５（ａ）、（ｂ）において、塗布針５１の先端部にはテーパ部５２が形成され、また塗布針５１の先端には平坦面５３が形成されている。
【００１４】
塗布針５１の先端部をインク容器内のインクに浸漬させた後、塗布針５１を引き上げると、表面張力によりテーパ部５２の上部にインク溜まり５４が発生し、平坦面５３およびその近傍は薄いインク層５５で覆われる。平坦面５３をカラーフィルタの欠陥部に当接させることにより、平坦面５３のインク層５５を欠陥部（図４（ｃ）に示される欠落部４１）に塗布することができる。この場合、一定のインク膜厚を得るために、上記浸漬〜塗布を複数回繰り返して塗布する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】登録特許第３３８１９１１号公報
【特許文献２】特開２００６−１４５７８６号公報
【特許文献３】特開２００６−０３０２８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
従来のディスペンサは上述のように構成されていたため、微少量を吐出する場合、圧力および圧力印加時間の条件設定は、かなりの時間を要するという問題点があった。さらに、シリンジ内の修正液残量が変わると、吐出量も変わってしまい、そのたびに、条件設定が必要となり、作業効率が悪いという問題点があった。
【００１７】
また、塗布針方式の場合には、欠落部４１に色修正用のインクが必要以上に多量に塗布された場合には、欠陥部分以外あるいは、隣接する他の色の画素にインクが付着して、最終製品となった時に黒点として見えてしまうため不良品と判定される。
【００１８】
また、上記のように多量に塗布されないが必要以上に、もしくは必要量以下で塗布された場合には、塗布部分のインクの膜厚が周辺と異なって段差が生じ、その結果、液晶配向不良の原因となり、最終製品となった時に不良品と判定される。
【００１９】
そこで、欠落部４１に塗布される色修正用のインクの量は適量となるように調整される必要がある。
【００２０】
しかしながら、上記ディスペンサ方式の場合には、塗布するインクの粘度を上げることで微少量のインクを塗布することが可能であるが、短時間でインク吐出ノズルが目詰まりを起こしてしまうため、多額のノズル交換コストがかかってしまうといった問題がある。
【００２１】
また、ディスペンサ方式やインクジェット方式の場合は、インク吐出ノズルからインクを噴き出すための上記のように空気圧制御を行う必要があるが、この空気圧制御に起因する塗布精度のばらつきや、塗布回数が多くなるといった問題がある。
【００２２】
塗布針方式の場合には、インク塗布量は、一般的には塗布針の種類と塗布回数で決まるが、インク塗布量を増やすためには、同一箇所へインクを複数回塗布することで必要なインク塗布量を確保していた。しかしこの方法では必要なインク塗布量が多ければ多いほど、塗布回数が増加するため、修正処理時間が増えてしまうといった問題があった。
【００２３】
また、微小欠陥を修正する場合には、必要量以上のインクが塗布されてしまう、あるいは塗布量が少なすぎるためにインクが塗布針先端から離れずに塗布できないといった問題があった。そのため、微小欠陥を修正する場合には、その都度塗布量の少ない塗布針に交換する必要があるため、塗布針交換のための時間を要し、修正処理時間が増えてしまうといった問題がある。
【００２４】
そこで本発明では、欠陥を修正する場合にインク塗布回数を減らして所望のインク塗布量を塗布可能なカラーフィルタ欠陥修正装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
そこで本発明の請求項１に記載の発明は、
透明基板上に、ブラックマトリックス及び赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の色インクからなる各着色層を所定のパターンで配列して構成されたカラーフィルタに発生した異物等の欠陥部を除去した後、塗布針によって前記欠陥除去部に修正インクを塗布して修正する装置であって、
体積測定手段と、修正インク粘度調整手段と、修正インク塗布手段と、修正インク塗布制御手段と、修正インク硬化手段と、を備え、
体積測定手段は前記欠陥除去部の体積を測定する手段であって、
修正インク粘度調整手段は、前記欠陥除去部の体積測定結果に基づいて、前記修正インクの粘度を調整する手段であって、
修正インク塗布手段は、粘度が調整された修正インクの一部を塗布針に付着させて、付着させたインクを前記欠落部に塗布する手段であって、
修正インク塗布制御手段は、前記欠陥除去部の体積測定結果に基づいて、修正インク塗布手段の動作速度を制御する手段である、
ことを特徴とするカラーフィルタ欠陥修正装置である。
【００２６】
本発明の請求項２に記載の発明は、
さらに欠陥部を除去する欠陥部除去手段を備え、この欠陥部除去手段は短波長のレーザ光を発するエキシマレーザであることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ欠陥修正装置である。
【００２７】
本発明の請求項３に記載の発明は、
前記修正インク粘度調整手段は紫外線照射装置であることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ欠陥修正装置である。
【００２８】
本発明の請求項４に記載の発明は、
前記修正インク粘度調整手段はヒーター装置であることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ欠陥修正装置である。
【００２９】
本発明の請求項５に記載の発明は、
前記修正インク硬化手段は、熱風、紫外線（ＵＶ）、赤外線（ＩＲ）、半導体レーザ、及びＹＡＧレーザのいずれか１種の処理装置であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のカラーフィルタ欠陥修正装置である。
【００３０】
本発明の請求項６に記載の発明は、
前記修正インク塗布制御手段によって制御される塗布針の動作速度は、粘度が調整された修正インクに塗布針を押し込む速度と、押し込んだ塗布針を静止する時間と、修正インクから引き上げる速度と、欠陥部に向かって下降する速度と、欠陥部で静止する時間と、欠陥部から引き上げる速度のうち、少なくとも１つの速度であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のカラーフィルタ欠陥修正装置である。
【発明の効果】
【００３１】
本発明に係るカラーフィルタ欠陥修正装置は、透明基板上に、ブラックマトリックス及び赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の色インキからなる各着色層を所定のパターンで配列して構成されたカラーフィルタに発生した異物等の欠陥部を修正する装置であって、前記カラーフィルタの異物等の欠陥部を含む着色層をレーザ光により除去した後、欠落部に粘度が調整された修正用の色インキを塗布することによって、インク塗布回数を減らして所望のインク塗布量を塗布することが可能で、その結果、インク塗布量の精度が向上し修正処理時間を短縮し、また修正費用を抑制することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板の一例を断面で示す図。
【図２】フォトリソグラフィー法によるカラーフィルタ基板製造工程を示すフロー図。
【図３】カラーフィルタ製造ラインの一例を示す図。
【図４】従来の異物が付着しているカラーフィルタの欠陥修正方法の１実施例をディスペンス方式を例として説明するための図。（ａ）はカラーフィルタの断面を示す図。（ｂ）はＧ画素４−２に異物４０が存在する場合を示す図。（ｃ）は除去する異物４０を含めた部分示す図。（ｄ）は色インキ４３をインキ吐出部４２より吐出する様子を示す図。
【図５】塗布針方式の一例を示す図。（ａ）は塗布針５１の先端部にインク５４を付着させた状態を示す図。（ｂ）は図５（ａ）の符号５１ａで示す部分の拡大図。
【図６】本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置が適用されるカラーフィルタの一例を示す図。
【図７】本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置の概略構成図。
【図８】本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置による欠陥修正フロー図。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明に係るカラーフィルタ欠陥修正装置の実施の形態を図を用いて説明する。
【００３４】
図６は本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置が適用されるカラーフィルタの一例を示す図である。カラーフィルタは、透明基板６０上にブラックマトリックス６１及び赤色（Ｒ）着色層６２、緑色（Ｇ）着色層６３、青色（Ｂ）着色層６４を所定のパターンで配列して構成されている。
【００３５】
図７は、本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置の概略構成を示す図である。本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置は、欠陥部位置特定手段７１と、欠陥部除去手段７２と、体積測定手段７３と、修正インク粘度調整用基板７４と、修正インク粘度調整手段７５と、修正インク塗布手段７６と、修正インク塗布制御手段７６ａと、修正インク硬化手段７７と、を備えている。
【００３６】
欠陥部位置特定手段７１は修正対象のカラーフィルタ１００の欠陥部発生位置を特定する手段であって、別に設けられた欠陥検査機６９で検出された欠陥の位置（座標）データを受け取り、欠陥位置を特定する手段である。
【００３７】
欠陥部除去手段７２は欠陥部位置特定手段７１によって特定された位置の欠陥を含む部分を除去する手段であって、短波長のレーザ光を発するエキシマレーザを用いることが出来る。
【００３８】
体積測定手段７３は前記除去された部分の体積を測定する手段であって、一般的に使用される光学的体積測定装置を用いることが出来る。
【００３９】
修正インク粘度調整用基板７４はカラーフィルタ１００の近辺に設けられた基板であり、基板上に修正インク１１０が図示しない滴下装置で滴下され、その滴下された修正インク１１０の粘度を調整するための基板であり、透明基板６０（図６参照）と同じ材質の基板を用いることが出来る。
【００４０】
修正インク粘度調整手段７５は前記修正インク粘度調整用基板７４に滴下された修正インク１１０の粘度を調整する手段であって、紫外線照射装置やヒーター装置を用いて塗布直前に粘度を調整する。この場合、紫外線照射装置やヒーター装置の照射時間、照射距離、電流、電圧、周波数のいずれか、もしくは複数を変えることによって粘度調整することが出来る。例えば、修正インク粘度調整用基板７４に滴下される修正インクは１ｍＬ以下とし、粘度調整前の粘度が１０ｍＰａ・ｓ〜５００ｍＰａ・ｓの修正インキを２００ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓまで上げて調整される。
【００４１】
修正インク塗布手段７６は、前記修正インク粘度調整基板７３で粘度が調整された修正インクの一部を付着させ、前記異物等の欠陥が除去された欠落部１０１に修正インクを塗布する手段であって、塗布針７６を用いることができる。この場合、塗布針７６は先ず矢印７８で示す方向に下降して粘度が調整された修正インクの一部を付着させ、その後上昇させ、更に欠落部１０１の上方まで矢印７９で示す方向に移動した後、矢印８０で示す方向に下降して付着させたインクを塗布する。
【００４２】
この場合のインクの塗布量は、前記除去された部分の体積測定結果に基づいて、
（Ａ）修正用のインクの粘度と、
（Ｂ）塗布針７６の昇降速度（矢印７８、矢印８０で示される方向の昇降速度を指す）と、とインク付着時間（塗布針７６が修正インク１１０の一部のインクを付着させるための停止時間を指す）と
（Ｃ）塗布時間（塗布針７６が欠落部１０１で停止してインクを塗布するための停止時間を指す）と、をパラメータとして決定される。
【００４３】
上記３つのパラメータは、インクの種類や色によって予め条件出しを行うことによって求めることが出来る。
【００４４】
上記３つのパラメータのうち、（Ａ）の修正用のインクの粘度は、上記修正インク粘度調整手段７５によって調整される。（Ｂ）の塗布針７６の昇降速度と、インク付着時間と、（Ｃ）の塗布時間は修正インク塗布制御手段によって修正インク塗布手段である塗布針の動作速度を制御して行われる。
【００４５】
上記修正インク塗布制御手段によって制御される塗布針の動作速度は、粘度が調整された修正インクに塗布針を押し込む速度と、押し込んだ塗布針を静止する時間と、修正インクから引き上げる速度と、欠陥部に向かって下降する速度と、欠陥部で静止する時間と、欠陥部から引き上げる速度のうち、少なくとも１つの速度を制御して塗布される。
【００４６】
修正インク硬化手段７７は前記欠落部に塗布された修正インクを硬化させるもので、熱風、紫外線（ＵＶ）、赤外線（ＩＲ）、半導体レーザ、及びＹＡＧレーザのいずれか１種の処理装置を用いることが出来、カラーフィルタ１００の表面、裏面のどちらから照射しても良い。
【００４７】
本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置による欠陥修正フローを図８のフロー図と図７のカラーフィルタ欠陥修正装置の概略構成図を用いて説明する。
【００４８】
本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置は、先ず別に設けられた欠陥検査機６９で欠陥を検出し（Ｓ１）、欠陥位置を特定する手段７１で、検出された欠陥の位置を特定する（Ｓ２）。
【００４９】
次に、本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置に修正対象のカラーフィルタ１００を投入（Ｓ３）した後、カラーフィルタ欠陥修正装置に備えられたカラーフィルタ載置テーブルを特定された欠陥位置に基づいて移動する（Ｓ４）。
【００５０】
その後、欠陥を含む部分を短波長のレーザ光を発するエキシマレーザ７２で除去（Ｓ５）した後、除去された部分の体積を光学的体積測定装置７３で測定する（Ｓ６）。次に修正インク１１０を修正インク調整用基板７４に図示しないインク滴下装置で滴下する（Ｓ７）。
【００５１】
修正インク１１０に例えば紫外線照射装置でＵＶ光を照射して粘度を調整する（Ｓ８）。その後、塗布針７６を矢印７８の方向に下降させて粘度が調整された修正インク１００の一部を付着させた（Ｓ９）後、その後上昇させ、更に矢印７９で示す方向に移動させて（Ｓ１０）、次にカラーフィルタ１００の上方で矢印８０で示す方向に下降して塗布針７６に付着させたインクを欠落部１０１に塗布する（Ｓ１１）。
【００５２】
欠落部１０１に塗布された修正インクは、例えば熱風、紫外線（ＵＶ）、赤外線（ＩＲ）、半導体レーザ、及びＹＡＧレーザのいずれか１種の処理装置を用いて硬化され、（Ｓ１２）欠陥の修正は終了する（Ｓ１３）。このようにしてカラーフィルタの欠陥は修正される。
【００５３】
このように本発明のカラーフィルタ欠陥修正装置によれば、修正インクの粘度と塗布針の動作速度を調整し、更に欠陥除去部の体積に基づいて修正インク塗布量が制御されるために塗布量精度が良くなる。その結果、修正による良品化率が向上し、また従来困難であった微小サイズの欠陥修正が、修正インクの粘度調整をすることによって可能となる。
【符号の説明】
【００５４】
１・・・カラーフィルタ
２・・・透明ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーテイカルアライメント（ＶＡ）
Ｃ１・・・基板を洗浄処理する工程
Ｃ２・・・基板上にＢＭを形成処理する工程
Ｃ３・・・基板を洗浄処理する工程
Ｃ４・・・着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程
Ｃ５・・・着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程
Ｃ６・・・着色フォトレジストを露光処理する工程
Ｃ７・・・現像処理する工程
Ｃ８・・・着色フォトレジストを硬化処理する工程
Ｃ９・・・透明電極を成膜処理する工程
Ｃ１０・・・ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程
１１・・・製造ライン
１２・・・ストッカ装置
１３・・・ストッカ装置から処理装置に投入する搬入装置
１４・・・洗浄装置
１５・・・塗布装置
１６・・・露光装置
１７・・・現像装置
１８・・・ベーク装置
１９・・・搬出装置
２１〜２６・・・搬送装置（１）〜搬送装置（６）
２７、２８、２９・・・検査装置
３０・・・修正装置
４０・・・異物
４１・・・欠落部
４２・・・インキ吐出部
４３・・・色インキ
５１・・・塗布針
５１ａ・・・塗布針の先端部
５２・・・塗布針のテーパ部
５３・・・塗布針の先端の平坦面
５４・・・インク
６０・・・透明基板
６１・・・ブラックマトリックス
６２・・・赤色（Ｒ）着色層
６３・・・緑色（Ｇ）着色層
６４・・・青色（Ｂ）着色層
６９・・・欠陥検査機
７１・・・欠陥部位置特定手段
７２・・・欠陥部除去手段
７３・・・体積測定手段
７４・・・修正インク粘度調整用基板
７５・・・修正インク粘度調整手段
７６・・・修正インク塗布手段
７６ａ・・・修正インク塗布制御手段
７７・・・修正インク硬化手段
７８・・・塗布針の修正インク粘度調整用基板の上方での昇降方向
７９・・・塗布針の移動方向
８０・・・塗布針のカラーフィルタの上方での昇降方向
１００・・・修正対象のカラーフィルタ
１０１・・・欠落部
１１０・・・修正インク
【図２】
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【図３】
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【図８】
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【図１】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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