(57)【要約】【課題】マスクの剛性を保ちつつ、非着膜領域に対する成膜材料の付着を防ぐことができる成膜装置及び成膜用マスクを提供する。【解決手段】成膜用のマスクＭの開口部Ｍ１を介して基板の成膜領域に薄膜を形成する成膜装置において、マスクＭは、開口部Ｍ１が形成されたマスク本体Ｍ２と、開口部Ｍ１を除く領域のうち少なくとも一部に、基板との間で弾性変形するシール部材Ｅとを備え、シール部材Ｅは、マスク本体Ｍ２の押さえ荷重による弾性変位量が、少なくとも該シール部材Ｅの取付位置でのマスク本体Ｍ２の歪み量以上である。【選択図】図２
2014047379.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜用のマスクの開口部を介して基板の成膜領域に薄膜を形成する成膜装置において、
前記マスクは、
前記開口部が形成されたマスク本体と、
前記開口部を除く領域のうち少なくとも一部に、前記基板との間で弾性変形する弾性部材とを備え、
前記弾性部材は、前記マスク本体の押さえ荷重による弾性変位量が、少なくとも該弾性部材の取付位置での前記マスク本体の歪み量以上であることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記弾性部材は、先端が曲面状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記弾性部材は、内側に空洞部を有している請求項１又は２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記弾性部材は、前記開口部に対して間隔を設けた位置に形成されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記弾性部材はゴムからなり、そのゴム硬度が１０以上５０以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項６】
基板の成膜領域に薄膜を形成する成膜装置に用いられる成膜用マスクであって、
前記成膜領域を露出するための開口部が形成されたマスク本体と、
前記開口部を除く領域のうち少なくとも一部に、前記基板との間で弾性変形する弾性部材とを備え、
前記弾性部材は、前記マスクの押さえ荷重による弾性変位量が、前記マスク本体の歪み量以上であることを特徴とする成膜用マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜装置及び成膜装置のマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
蒸着装置、ＣＶＤ装置、スパッタ装置等の成膜装置では、基板の成膜領域を露出する開口部と非成膜領域を被覆する被覆部とを備えた成膜用マスクが用いられている。成膜工程では、成膜用マスクを基板に対してアライメントした後、成膜材料を成膜用マスクの開口部を介して基板に付着させることによって、その成膜領域に薄膜を形成する。
【０００３】
ところで、例えばデバイスを大量生産する場合や、取り出し電極と同一面に成膜する場合等には、基板のうち着膜を防止しなければならない非着膜領域が存在する。成膜工程において基板と成膜用マスクとの間に隙間があると、この隙間から成膜材料が介入し、非着膜領域に成膜材料が付着する虞があった。
【０００４】
また、例えば、特許文献１には、マスクを金属箔から構成し、基板をマスクに対して押し付けるための基板押え機構を備えた装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１５３３３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、特許文献１のように、成膜用マスクを薄くすると、そのマスクを基板に密着させることができるが、マスク自体の剛性が下がるため、マスクの搬送が困難になったり、基板に対するアライメント精度が低下することがあった。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、マスクの剛性を保ちつつ、非着膜領域に対する成膜材料の付着を防ぐことができる成膜装置及び成膜用マスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記問題点を解決するために、請求項１に記載の発明は、成膜用のマスクの開口部を介して基板の成膜領域に薄膜を形成する成膜装置において、前記マスクは、前記開口部が形成されたマスク本体と、前記開口部を除く領域のうち少なくとも一部に、前記基板との間で弾性変形する弾性部材とを備え、前記弾性部材は、前記マスク本体の押さえ荷重による弾性変位量が、少なくとも該弾性部材の取付位置での前記マスク本体の歪み量以上であることを要旨とする。
【０００９】
請求項１に記載の発明によれば、マスクは、開口部を除く領域のうち少なくとも一部に、マスクと基板との間で弾性変形する弾性部材を備える。このため、該隙間から、成膜材料の付着を防がなくてはならない領域に、成膜材料が侵入することを抑制することができる。さらに、弾性部材の変位量は、少なくとも弾性部材取付位置のマスク本体の歪み量以上である。即ち、弾性部材は、基板とマスク本体との間で弾性変形することにより、マスク本体の歪みを吸収することができる。このため、マスク本体の歪みによってマスクと基板との間に微小な隙間が生じることを防ぐことができる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記弾性部材は、先端が曲面状に形成されていることを要旨とする。
請求項２に記載の発明によれば、弾性部材は、その先端部が曲面状に形成されているので、弾性部材が基板に接触した際における弾性部材の先端と基板とがなす角度を小さくすることができる。このため、成膜時には、弾性部材の先端部付近の薄膜を薄くすることができるので、マスクを基板から剥がす際に、マスクに付着した薄膜と、基板に形成された薄膜とが、その薄く形成された箇所で切断されやすい。このため、マスクを基板から剥がす際に、マスクに付着した薄膜につられて、基板に形成された薄膜が剥がれることを抑制することができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の成膜装置において、前記弾性部材は、内側に空洞部を有していることを要旨とする。
請求項３に記載の発明によれば、弾性部材は内側に空洞部を有しているので、基板に押し付けられた際に潰されやすくなる。このため、基板に接触した弾性部材の先端部付近に形成された薄膜を薄く形成することができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載の成膜装置において、前記弾性部材は、前記開口部に対して間隔を設けた位置に形成されていることを要旨とする。
【００１３】
請求項４に記載の発明によれば、弾性部材は、開口部に対して間隔を設けた位置、即ち開口部の内側面から離間した位置に設けられている。このため、成膜用マスクを基板から剥がした際に、成膜用マスクに付着した薄膜につられて、成膜領域の外側の薄膜が若干剥がれたとしても、少なくとも基板の成膜領域に形成された薄膜が剥がされることを防ぐことができる。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載の成膜装置において、前記弾性部材はゴムからなり、そのゴム硬度が１０以上５０以下であることを要旨とする。
請求項５に記載の発明によれば、弾性部材は、ゴム硬度が上記範囲であるので、基板に重ねられた際に十分に撓むことができる。このため、マスクや基板に歪みがあっても、ゴムの撓みにより、マスクと基板との隙間を閉塞することができる。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、基板の成膜領域に薄膜を形成する成膜装置に用いられる成膜用マスクであって、前記成膜領域を露出するための開口部が形成されたマスク本体と、前記開口部を除く領域のうち少なくとも一部に、前記基板との間で弾性変形する弾性部材とを備え、前記弾性部材は、前記マスクの押さえ荷重による弾性変位量が、少なくとも該弾性部材取付位置の前記マスク本体の歪み量以上であることを要旨とする。
【００１６】
請求項６に記載の発明によれば、成膜用マスクは、開口部を除く領域のうち少なくとも一部に、マスクと基板との間で弾性変形する弾性部材を備える。このため、該隙間から、成膜材料の付着を防がなくてはならない領域に、成膜材料が侵入することを抑制することができる。さらに、弾性部材の変位量は、少なくとも弾性部材取付位置のマスク本体の歪み量以上である。即ち、弾性部材は、基板とマスク本体との間で弾性変形することにより、マスク本体の歪みを吸収することができる。このため、マスク本体の歪みによる、マスクと基板との間に微小な隙間が生じても、この隙間からの成膜材料の侵入を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の成膜装置を具体化した第１実施形態の重合蒸着装置の模式図。
【図２】本発明の成膜用マスクを具体化した第１実施形態であって、マスクを底面側からみた斜視図。
【図３】（ａ）は同マスクの断面図、（ｂ）は同マスクに設けられた弾性部材付近を拡大した端面図。
【図４】同マスクの作用を説明する断面図。
【図５】成膜後の同マスクの弾性部材付近を拡大した断面図。
【図６】成膜後に基板から剥がす際の同マスクの断面図。
【図７】本実施形態に対する比較であって、（ａ）は弾性変位量がマスク本体の歪み未満であるマスクの要部断面図、（ｂ）は成膜後のマスクの弾性部材付近を拡大した要部断面図、（ｃ）は成膜後に基板から剥がす際のマスクの要部断面図。
【図８】本発明の成膜用マスクを具体化した第２実施形態であって、該マスクの断面図。
【図９】同マスクの作用を説明する断面図。
【図１０】本発明の成膜用マスクを具体化した変形例であって、マスクを底面側からみた斜視図。
【図１１】（ａ）及び（ｂ）は本発明の成膜用マスクを具体化した変形例をそれぞれ示し、同マスクに設けられた弾性部材付近を拡大した端面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（第１実施形態）
以下、本発明の成膜装置、成膜方法及び成膜用マスクを具体化した一実施形態を図１〜図７にしたがって説明する。本実施形態では、成膜装置を、真空中で複数のモノマーを加熱及び蒸発させ、基板上でモノマー同士を重合反応させて高分子を成膜する重合蒸着装置に具体化して説明する。
【００１９】
図１に示すように、重合蒸着装置１１は、真空圧まで減圧可能に構成されたチャンバ１２を備えている。チャンバ１２には、図示しない搬送口及びゲートバルブが連結されるとともに、チャンバ内の気体を排出する排出路１３が連結されている。この排出路１３には、圧力調整バルブ、ターボ分子ポンプ等からなる排気機構１４が接続されている。チャンバ１２内は、圧力調整バルブを開状態として、ポンプを駆動することによって排気されるとともに、所定の圧力に維持される。
【００２０】
またチャンバ１２内には、基板Ｓを載置するための基板ステージ１５が設けられている。基板ステージ１５は、図示しない冷却機構及び加熱機構を備え、基板Ｓを所定温度に冷却及び加熱可能に構成される。この基板ステージ１５には、基板Ｓが、鉛直方向上側にマスクＭを重ねた状態で載置される。
【００２１】
さらに、チャンバ１２内には、成膜材料を基板ステージ１５上の基板に向かって吐出する吐出部１６が、基板ステージ１５の上方に設けられている。吐出部１６の底部には、多数の供給孔１７ａを備えたシャワープレート１７が固定されている。
【００２２】
吐出部１６内には、混合室１６ａが設けられ、この混合室１６ａには、１対の成膜材料供給部２０Ａ，２０Ｂが接続されている。成膜材料供給部２０Ａ，２０Ｂは、それぞれ異なるモノマーＡ，Ｂが収容された原料タンク２１Ａ，２１Ｂを備える。また、原料タンク２１Ａ，２１Ｂは、モノマーＡ，Ｂを加熱するヒータ（図示略）を備える。これらの原料タンク２１Ａ，２１Ｂに収容された各モノマーＡ，Ｂは、基板上で重合して、所定の高分子からなる膜を形成する。
【００２３】
また、成膜材料供給部２０Ａ，２０Ｂは、各原料タンク２１Ａ，２１Ｂと混合室１６ａとを接続する連通管２４Ａ，２４Ｂを備える。連通管２４Ａ，２４Ｂの外周には、コイルヒータ２５Ａ，２５Ｂが巻きつけられ、連通管２４Ａ，２４Ｂ内に供給される原料ガスを加熱する。
【００２４】
連通管２４Ａ，２４Ｂの途中には、流量調整バルブ２２Ａ，２２Ｂと、混合室１６ａの手前で成膜材料を加熱するヒータ２３Ａ，２３Ｂが設けられている。尚、図示は省略したが、吐出部１６等にも成膜材料を加熱するヒータを設けるようにしてもよい。
【００２５】
排気機構１４により、チャンバ１２内が真空圧まで減圧されると、各流量調整バルブ２２Ａ，２２Ｂが開かれ、原料タンク２１Ａ，２１Ｂとの圧力差により、チャンバ１２に向かって原料ガスが供給される。
【００２６】
また、基板Ｓには、成膜用のマスクＭが重ねられている。このマスクＭについて図２に従って説明する。本実施形態では、成膜用マスクを、１つの成膜領域が区画された基板Ｓに対応するマスクＭに具体化している。
【００２７】
図２に示すように、マスクＭは、開口部Ｍ１が形成されたマスク本体Ｍ２と、開口部Ｍ１を囲むように設けられた四角環状のシール部材Ｅとを備える。開口部Ｍ１は、マスクＭが基板Ｓに重ねられた際に、基板Ｓの成膜領域を露出する。
【００２８】
マスク本体Ｍ２は、金属からなり、例えば、インバー、コバール、ＳＵＳ４３０等のステンレス鋼等から構成される。またマスク本体Ｍ２は、搬送しやすさや基板とのアライメント精度のための剛性を確保するために、５ｍｍ以上１５ｍｍ以下の厚さに形成されている。マスク本体Ｍ２が５ｍｍ未満の場合には、搬送する際や、マスクＭと基板Ｓとのアライメントのために必要な剛性が不足してしまう。
【００２９】
弾性部材としてのシール部材Ｅは、樹脂、ゴム等といった弾性体から構成されていればよいが、特にゴムから形成され、ＪＩＳ−Ｋ−６２５３に準ずるゴム硬度が１０以上５０以下を示すものが好ましい。ゴム材は、その硬度を示すものであればよく、イソプレンゴム、ブチルゴム等、どのゴム材を用いてもよい。
【００３０】
図３（ａ）に示すように、シール部材Ｅは、開口部Ｍ１の周縁であって開口部Ｍ１の内側面よりも基板端部側へ若干偏移した位置に設けられている。即ち、シール部材Ｅは、マスクＭが基板Ｓに重ねられた際に、基板Ｓのうち着膜を防止しなければならない非着膜領域Ｚ２と、成膜領域、又は着膜してもよい領域との境目に設けられている。尚、非着膜領域Ｚ２とは、デバイスの不具合等を抑制するために成膜材料の付着を防がなくてはならない領域であり、基板Ｓの成膜領域Ｚ１を除く領域の全ての場合もあるし、一部である場合もある。
【００３１】
図３（ｂ）に示すように、シール部材Ｅは、マスク本体Ｍ２に固定される嵌合部Ｅ３と、マスク本体Ｍ２から突出するシール部Ｅ５とを備えている。嵌合部Ｅ３は、先端に拡径部Ｅ４を備え、マスク本体Ｍ２に穿孔された被嵌合部Ｍ３に嵌合されることによって、シール部材Ｅをマスク本体Ｍ２に固定する。この嵌合部Ｅ３は、シール部材Ｅの周方向に亘って環状に形成されていてもよいし、シール部材Ｅの複数個所に間欠的に形成されていてもよい。
【００３２】
図３（ｂ）に示すように、シール部Ｅ５は、断面略カマボコ状に形成されている。即ち、シール部Ｅ５は、基端部側に設けられて外側面がマスク本体Ｍ２の主面から垂直に延びる垂直部Ｅ１と、垂直部Ｅ１よりも先端に設けられ曲面状に形成された曲面部Ｅ２とを備えている。
【００３３】
また、シール部Ｅ５は、その内側に空洞部Ｈが設けられることにより中空状に形成されている。空洞部Ｈは、シール部材Ｅの短手方向における断面において略円形状をなすとともに、シール部材Ｅの全周に亘って貫通している。このようにシール部材Ｅが中空状に形成されることにより、シール部材Ｅの可撓性が高められ、基板Ｓに押し付けられた際の潰れ量が大きくなる。
【００３４】
シール部材Ｅが上述した材料及び上述した形状であることにより、マスクＭが基板Ｓの鉛直方向上側に重ねられた際に、シール部材Ｅの弾性変位量は、マスク本体Ｍ２の押さえ荷重により、シール部材Ｅの取付位置でのマスク本体Ｍ２の歪み量以上である。尚、マスク本体Ｍ２の歪み量とは、マスク本体１０３の最も沈み込んだ位置と、任意の位置との高さの差をいう。また、弾性変位量とは、荷重が加えられていない自然状態とマスク本体Ｍ２の荷重が加わった状態との間のシール部材Ｅの鉛直方向における高さの変化量をいう。また、マスク本体Ｍ２の押さえ荷重とは、マスク本体Ｍ２の重量がシール部材Ｅに加える圧力である。即ち、マスク本体Ｍ２とシール部材Ｅとの接触面積が小さいほど、マスク押さえ荷重は大きくなる。
【００３５】
具体的には、マスク重量は、０．１ｇ／ｃｍ２以上１．０ｇ／ｃｍ２以下、マスク押さえ荷重は、０．１ｇ／ｃｍ２以上５．０ｇ／ｃｍ２以下、マスク歪み量は、０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下、であって、シール部材Ｅの変位量は、０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であるが好ましい。
【００３６】
また、マスクＭが基板Ｓに重ねられた際、シール部Ｅ５が横に広がる方向に押し潰される。このため、基板Ｓに押し付けられた際に曲面部Ｅ２と基板Ｓの主面とがなす角度が、小さくなる。
【００３７】
次に、重合蒸着装置１１の動作及び成膜用マスクＭの作用について説明する。アライメント室（図示略）でマスクＭが重ねられた基板Ｓは、搬送室を介して、チャンバ１２に設けられた搬送口からチャンバ１２内に搬送される。そして、図１に示すように、マスクＭが上側に重ねられた基板Ｓは、基板ステージ１５の所定の位置に載置される。
【００３８】
チャンバ１２内を密閉した後、排気機構１４を駆動して、チャンバ１２内を所定圧まで減圧する。また、原料タンク２１Ａ，２１Ｂのヒータが駆動され、モノマーＡ，Ｂが加熱されて蒸発又は昇華し、タンク内に充満した状態となる。
【００３９】
チャンバ１２内が所定圧まで減圧されると、流量調整バルブ２２Ａ，２２Ｂを開弁するとともに、ヒータ２３Ａ，２３Ｂ及びコイルヒータ２５Ａ，２５Ｂを駆動する。この際、流量調整バルブ２２Ａ，２２Ｂの開度を調整して、各モノマーＡ，Ｂからなる原料ガスの流量が調整される。その結果、チャンバ１２内と原料タンク２１Ａ，２１Ｂとの圧力差により、原料タンク２１Ａ，２１Ｂから原料ガスが送り出され、この原料ガスは、ヒータ２３Ａ，２３Ｂ及びコイルヒータ２５Ａ，２５Ｂによって加熱されながら、混合室１６ａに導入される。
【００４０】
混合室１６ａに導入された各原料ガスは、混合室１６ａで混合され、シャワープレート１７の供給孔１７ａからチャンバ１２内に吐出される。図４に示すように、モノマーＡ、モノマーＢは、基板上で重合して、高分子Ｐ１となる。高分子Ｐ１が基板Ｓ上に積層することにより薄膜が形成されるが、高分子Ｐ１は、金属分子等と異なり、基板Ｓに付着した後、再び空間中に放出される放出分子Ｐ２になることがある。放出分子Ｐ２は、基板ＳとマスクＭとの間に隙間がある場合、その隙間に入り込みやすく、非着膜領域Ｚ２にも高分子Ｐ１が付着してしまう。このため、高分子を成膜する場合は、金属膜を形成する場合に比べ、原料がマスクＭと基板Ｓとの間に回り込みやすいといえる。
【００４１】
しかし、本実施形態では、非着膜領域Ｚ２の内側にシール部材Ｅが設けられているので、その領域に高分子Ｐ１が付着することがない。具体的には、図５に示すように、シール部材Ｅは、マスク本体Ｍ２の押さえ荷重により、基板Ｓとマスク本体Ｍ２との間で押し潰される。このとき、シール部材Ｅは、空洞部Ｈが形成されていること、ゴム硬度が上述した範囲であることにより潰されやすくなっているので、マスク本体Ｍ２に歪みがあったとしても、シール部材Ｅの弾性変形によってその歪みを吸収し、基板ＳとマスクＭとの間に微小な隙間が生じることをより確実に防ぐことができる。
【００４２】
高分子からなる薄膜Ｆは、マスクＭの開口部Ｍ１を介して基板Ｓの成膜領域Ｚ１に所定の厚さで形成される。また、成膜領域Ｚ１に到達する前のモノマーＡ，Ｂの付着、放出分子Ｐ２が再付着すること等により、マスク表面、マスク本体Ｍ２の開口部Ｍ１の内側面、シール部材Ｅの内側面にも、厚さが不均一な薄膜Ｆが形成される。
【００４３】
また、シール部材Ｅの先端が曲面状に形成されているので、上述したようにシール部材Ｅと基板Ｓとがなす角度は小さくなっている。角度の範囲は成膜材料によって好ましい範囲が異なるが、少なくとも４５°以下である。このため、基板Ｓ上であってシール部材Ｅ付近に形成された薄膜Ｆは、シール部材Ｅに近づくにつれ、厚さが小さくなり、シール部材Ｅの頂点と基板Ｓとの隙間に形成された薄膜Ｆは、最も薄くなっている。
【００４４】
このため、図６に示すように、基板ＳからマスクＭを剥離すると、薄膜Ｆのうち、シール部材Ｅの頂点と基板Ｓとの隙間に形成された箇所において、成膜領域Ｚ１側の薄膜Ｆと、マスクＭに形成された薄膜Ｆとが切断される。このため、成膜領域Ｚ１に形成された薄膜Ｆは、マスクＭに形成された薄膜Ｆにつられて基板Ｓから剥がされない。また、シール部材Ｅは、開口部Ｍ１よりも外側に偏倚した位置に設けられているので、少なくとも成膜領域Ｚ１内の薄膜Ｆは、その端部においても剥がされたりちぎれたりすることがない。
【００４５】
一方、例えば、図７（ａ）〜（ｃ）に示すように、マスク本体１０３に、弾性変位量が小さいシール部材１０１が設けられたとする。シール部材１０１は、このマスク１００が基板Ｓに重ねられた際に、弾性変位量が、シール部材１０１の取付位置でのマスク本体１０３の歪み量よりも小さい材料からなる。
【００４６】
図７（ａ）に示すように、マスク本体１０３自体の歪みが大きいと、その歪みが、シール部材１０１の弾性変形によって吸収されず、シール部材１０１と基板Ｓとの間に微小な隙間１１０が生じる可能性がある。
【００４７】
また、図７（ｂ）に示すように、マスク本体１０３の歪みが小さくても、シール部材１０１の弾性変位量が小さいと、シール部材１０１の側面と基板Ｓとがなす角度は、ほぼ直角となる。このため、シール部材１０１と基板Ｓとで構成される隅部には放出分子Ｐ２や、基板Ｓに付着する前のモノマー等が溜まりやすいことから、この偶部に形成される薄膜Ｆの厚さは、本実施形態の場合に比べて厚くなる。
【００４８】
また、このマスク１００を用いる場合、図７（ｃ）に示すようにマスク１００を基板Ｓから剥がす際に、上記隅部に形成された薄膜Ｆが厚く容易には切断されにくい。このため、マスクＭに形成された薄膜につられて、基板Ｓ上の成膜領域Ｚ１に形成された薄膜Ｆが剥がされることがある。
【００４９】
これに対し、本実施形態のマスクＭでは、薄膜Ｆが、シール部材Ｅの頂点と基板Ｓとの隙間に形成された箇所で容易に切断されることにより、成膜領域Ｚ１の薄膜Ｆを剥がすことなく、マスクＭを基板Ｓから剥離することができる。
【００５０】
上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）第１実施形態では、マスクＭは、開口部Ｍ１を除く領域のうち少なくとも一部に、マスク本体Ｍ２と基板Ｓとの間で弾性変形するシール部材Ｅを備えるので、該隙間から、成膜材料の付着を防がなくてはならない非着膜領域Ｚ２に、成膜材料が侵入することを抑制することができる。さらに、シール部材Ｅは、マスク本体Ｍ２の押さえ荷重による変位量が、少なくともシール部材Ｅの取付位置でのマスク本体Ｍ２の歪み量以上である。即ち、シール部材Ｅは、基板Ｓとマスク本体Ｍ２との間で弾性変形することにより、マスク本体Ｍ２の歪みを吸収することができる。このため、マスク本体Ｍ２の歪みによってマスクＭと基板Ｓとの間に微小な隙間が生じることを防ぐことができる。
【００５１】
（２）第１実施形態では、シール部材Ｅは、その先端部が曲面状に形成されている。このため、シール部材Ｅが基板Ｓに接触した際におけるシール部材Ｅの先端と基板とがなす角度を小さくすることができる。このため、成膜時には、シール部材Ｅの先端部付近の薄膜を薄くすることができるので、マスクＭを基板Ｓから剥がす際に、マスクＭに付着した薄膜と、基板Ｓに形成された薄膜とが、その薄く形成された箇所で切断されやすい。このため、マスクＭを基板Ｓから剥がす際に、マスクＭに付着した薄膜につられて、基板Ｓに形成された薄膜が剥がれることを抑制することができる。
【００５２】
（３）第１実施形態では、シール部材Ｅは内側に空洞部Ｈを有しているので、基板Ｓに押し付けられた際に潰されやすくなる。このため、基板Ｓに接触したシール部材Ｅの先端部付近に形成された薄膜を薄く形成することができる。
【００５３】
（４）上記実施形態では、シール部材Ｅは、開口部Ｍ１に対して間隔を設けた位置、即ち開口部Ｍ１の内側面から離間した位置に設けられている。このため、成膜用マスクＭを基板Ｓから剥がした際に、成膜用マスクＭに付着した薄膜につられて、成膜領域Ｚ１の外側の薄膜が若干剥がれたとしても、少なくとも基板Ｓの成膜領域Ｚ１に形成された薄膜が剥がされることを防ぐことができる。
【００５４】
（５）上記実施形態では、シール部材Ｅは、ゴム硬度が３０以下であるので、基板Ｓに重ねられた際に十分に撓むことができる。このため、マスクＭや基板Ｓに反りや歪みがあっても、ゴムの撓みにより、マスクＭと基板Ｓとの隙間を閉塞することができる。
【００５５】
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を図８〜図９にしたがって説明する。なお、第２実施形態は、第１実施形態の弾性部材を変更したのみの構成であるため、同様の部分についてはその詳細な説明を省略する。
【００５６】
図８に示すように、シール部材Ｅは、断面矩形状をなしている。このシール部材Ｅは、空洞部Ｈが形成されていないが、マスク本体Ｍ２の押さえ荷重による弾性変位量が、少なくともシール部材Ｅの取付位置でのマスク本体Ｍ２の歪み以上である材料から形成されている。具体的にはシール部材Ｅは、第１実施形態と同様に、ＪＩＳ−Ｋ−６２５３に準ずるゴム硬度が１０以上５０以下の材料からなる。このため、マスク本体Ｍ２と基板Ｓとの間でシール部材Ｅを容易に押し潰すことができる。
【００５７】
このマスクＭの作用を説明する。上述したように、シール部材Ｅが撓みやすい材料から形成されているため、図９に示すように、マスク本体Ｍ２が歪んでいても、シール部材Ｅは、弾性変形することにより、マスク本体Ｍ２の歪み量Ｑを吸収する。この歪み量Ｑは、マスク中央の最も沈み込んだ位置と、シール部材Ｅの取付位置とのマスク本体Ｍ２の高さの差である。このため、シール部材Ｅと基板Ｓとの間に隙間が生じることを防ぐことができる。
【００５８】
従って、第２実施形態によれば、第１実施形態に記載の（４）及び（５）の効果に加えて以下の効果を得ることができる。
（６）第２実施形態では、マスクＭは、開口部Ｍ１を除く領域のうち少なくとも一部に、マスク本体Ｍ２と基板Ｓとの間で弾性変形するシール部材Ｅを備えるので、該隙間から、成膜材料の付着を防がなくてはならない非着膜領域Ｚ２に、成膜材料が侵入することを抑制することができる。さらに、シール部材Ｅは、マスク本体Ｍ２の押さえ荷重による変位量が、少なくともシール部材Ｅの取付位置でのマスク本体Ｍ２の歪み量以上である。即ち、シール部材Ｅは、基板Ｓとマスク本体Ｍ２との間で弾性変形することにより、マスク本体Ｍ２の歪みを吸収することができる。このため、マスク本体Ｍ２の歪みによってマスクＭと基板Ｓとの間に微小な隙間が生じることを防ぐことができる。
【００５９】
尚、上記各実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記各実施形態では、成膜用マスクを、１つの開口部Ｍ１を有するマスクに具体化したが、図１０に示すように、４つの開口部Ｍ１を有するマスクに具体化してもよい。各開口部Ｍ１の間が、非着膜領域である場合は、同図に示すように、各開口部Ｍ１を四角環状の各シール部材Ｅでそれぞれ囲う。また、左列の開口部Ｍ１と、右列の開口部Ｍ１との間に設けられ、基板Ｓの長手方向に沿って延びる領域を非着膜領域としない場合は、４つの開口部Ｍ１全体を、１つの四角環状のシール部材Ｅで囲うようにしてもよい。このように、非着膜領域に応じて、シール部材Ｅを設ける位置は変更可能である。
【００６０】
・先端が曲面状に形成されたシール部材Ｅは、第１実施形態以外の形状でもよい。例えば、図１１（ａ）に示すように、断面形状が半月状のシール部材Ｅでもよい。また、図１１（ｂ）に示すように、マスク本体Ｍ２の主面に垂直な垂直部Ｅ１０と、垂直部Ｅ１０の底面の略中央に設けられ垂直部Ｅ１０との間に段差を有する曲面部Ｅ１１とを備えるシール部材Ｅでもよい。
【００６１】
・上記各実施形態では、シール部材Ｅに、嵌合部Ｅ３を設けるようにしたが、これを省略してもよい。例えば、シール部材Ｅを、マスク本体Ｍ２に接着又は熱溶着する等して固定してもよい。
【００６２】
・上記各実施形態では、シール部材Ｅに空洞部Ｈを設けるようにしたが、シール部材Ｅを構成する材料が、可撓性のほか、強度、磨耗性等の実用性を満たす場合には、空洞部Ｈを設けなくてもよい。
【００６３】
・上記各実施形態では、シール部材Ｅを、開口部Ｍ１に対して間隔を設けた位置に設けた。この構成以外に、シール部材Ｅの側面と開口部内側面とが一致するように、即ち開口部Ｍ１との間にマージンを設けることなく、開口部Ｍ１の周縁にシール部材Ｅを設けるようにしてもよい。
【００６４】
・上記各実施形態では、シール部材Ｅを、ゴム硬度３０以下のゴムから形成したが、空洞部Ｈを大きく確保できる場合等、可撓性が十分である場合は、それ以外の材料から形成してもよい。
【００６５】
・上記各実施形態では、本発明の成膜装置及び成膜方法を、重合蒸着装置及び重合蒸着方法に具体化したが、蒸着材料を加熱することによって蒸発又は昇華させて成膜する単なる蒸着装置及び蒸着方法に具体化してもよい。或いは、ＣＶＤ装置及びＣＶＤ方法、スパッタ装置及びスパッタ方法に具体化してもよい。尚、重合蒸着装置及び重合蒸着方法以外の装置及び方法に具体化する際、マスクＭの弾性部材は、その成膜条件に応じた特性を有する材料を用いる。即ち、蒸着装置の場合には、その成膜温度に対する耐熱性を有するゴム材を用いる。
【符号の説明】
【００６６】
１１…成膜装置としての重合蒸着装置、Ｅ…弾性部材としてのシール部材、Ｆ…薄膜、Ｈ…空洞部、Ｍ…成膜用マスクとしてのマスク、Ｍ１…開口部、Ｍ２…マスク本体、Ｓ…基板、Ｚ１…成膜領域。
【図１】
2014047379.tif 000003
【図２】
2014047379.tif 000004
【図３】
2014047379.tif 000005
【図４】
2014047379.tif 000006
【図５】
2014047379.tif 000007
【図６】
2014047379.tif 000008
【図７】
2014047379.tif 000009
【図８】
2014047379.tif 000010
【図９】
2014047379.tif 000011
【図１０】
2014047379.tif 000012
【図１１】
2014047379.tif 000013