(57)【要約】【課題】水系の毛髪化粧料において、塗布後の髪垂れを抑制し、高湿度下においても長時間セット力を保持し得るものとすること。【解決手段】次の成分(A)〜(D)を含有する毛髪化粧料。  (A) 皮膜形成樹脂  (B) シクロデキストリン  (C) 一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物2014047151.tif 000010〔Ｒは水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する２つのＲが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Ｘは酸素原子又は窒素原子を示し、Ｘが酸素原子である場合Ｙは水素原子を、Ｘが窒素原子である場合ＹはＸに結合するカルボニル基を示す。Ｚ+は１価のカチオンを示す。〕  (D) 水  50〜95質量％【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分(A)〜(D)を含有する毛髪化粧料。
(A) 皮膜形成樹脂
(B) シクロデキストリン
(C) 一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物
【化１】
2014047151.tif 000008
〔式中、Ｒは同一若しくは異なって水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する２つのＲが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Ｘは酸素原子又は窒素原子を示し、Ｘが酸素原子である場合Ｙは水素原子を、Ｘが窒素原子である場合ＹはＸに結合するカルボニル基を示す。Ｚ+は１価のカチオンを示す。〕
(D) 水  50〜95質量％
【請求項２】
成分(C)が、パラトルエンスルホン酸、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、サッカリン及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１記載の毛髪化粧料。
【請求項３】
霧状の形態で塗布される剤型である、請求項１又は２記載の毛髪化粧料。
【請求項４】
成分(B)が、α-シクロデキストリンである、請求項１〜３のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【請求項５】
成分(A)が、アニオン性ビニルポリマー、カチオン性ビニルポリマー、両性ビニルポリマー、ノニオン性ビニルポリマー、ウレタン系ポリマー、多糖類系ポリマーから選ばれる少なくとも１種のポリマーである、請求項１〜４のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【請求項６】
成分(A)が、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも１種の構成単位を含む重合体又は共重合体である、請求項１〜５のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【化２】
2014047151.tif 000009
〔式中、Ｒ1及びＲ3は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜24のアルキル基、又は-(ＡＯ)nＲ5で表される置換基（ＡＯはエチレンオキサイド基及び／又はプロピレンオキサイド基、ｎは平均値で１〜15の数、Ｒ5は水素原子又はメチル基）を示し、Ｒ4は炭素数１〜12個のアルキル基、又はアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基若しくはトリメチルアミノ基を有する炭素数１〜12のアルキル基を示す。〕
【請求項７】
Ｒ2が炭素数１〜22のアルキル基であり、Ｒ4が炭素数１〜10のアルキル基である、請求項６記載の毛髪化粧料。
【請求項８】
成分(A)の含有量が、毛髪化粧料中の0.01〜20質量％である、請求項１〜７のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【請求項９】
成分(B)の含有量が、毛髪化粧料中の0.1〜15質量％である、請求項１〜８のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【請求項１０】
成分(C)の含有量が、毛髪化粧料中の0.1〜20質量％である、請求項１〜９のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、毛髪化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
整髪用化粧料としては、例えば、霧状整髪剤、泡状整髪剤、ヘアジェル、ヘアクリーム、ヘアワックス等の頭髪用化粧料、マスカラ等の睫毛用化粧料がある。これら整髪用化粧料には、整髪性を付与するために皮膜形成樹脂が配合される。被膜形成樹脂には様々なものがあるが、通常、被膜形成樹脂はエタノールのような溶媒に溶解させることで、整髪用化粧料中に安定に配合されている。
【０００３】
昨今、環境問題等の理由から、エタノールのような有機溶媒の使用を低減させることが要望されている。
特許文献１には、有機溶媒の使用を低減させた水系整髪組成物において、整髪用ポリマーの溶解性を向上させるためにシクロデキストリンを使用することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第2002/38113号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、水系毛髪化粧料には、毛髪への塗布時に水が髪に浸透することで髪垂れ（髪のへたり）を生じ、セットがくずれてしまうという問題がある。更に、毛髪のセット後に、高湿度下ではセット力を長時間保持できず、セット力が低下してしまうという問題がある。
【０００６】
本発明の課題は、水系の毛髪化粧料において、塗布後の髪垂れを抑制し、高湿度下においても長時間セット力を保持し得るものとすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、次の成分(A)〜(D)を含有する毛髪化粧料を提供するものである。
(A) 皮膜形成樹脂
(B) シクロデキストリン
(C) 一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物
【０００８】
【化１】
2014047151.tif 000002
【０００９】
〔式中、Ｒは同一若しくは異なって水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する２つのＲが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Ｘは酸素原子又は窒素原子を示し、Ｘが酸素原子である場合Ｙは水素原子を、Ｘが窒素原子である場合ＹはＸに結合するカルボニル基を示す。Ｚ+は１価のカチオンを示す。〕
(D) 水  50〜95質量％
【発明の効果】
【００１０】
本発明の毛髪化粧料は、塗布後の髪垂れを抑制し、高湿度下においても長時間セット力を保持することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
〔(A)：皮膜形成樹脂〕
本発明の毛髪化粧料は、成分(A)として、皮膜形成樹脂を含有する。
【００１２】
成分(A)の皮膜形成樹脂としては、アニオン性ビニルポリマー、カチオン性ビニルポリマー、両性ビニルポリマー、ノニオン性ビニルポリマー、ウレタン系ポリマー、多糖類系ポリマーを用いることができる。具体例としては、以下の皮膜形成樹脂を挙げることができ、いずれかを単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１３】
＜アニオン性ビニルポリマー＞
アニオン性ビニルポリマーとしては、以下のものが挙げられる。
【００１４】
〔クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、イタコン酸のいずれか由来の構成単位を含むアニオン性ビニルポリマー〕
クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、イタコン酸のいずれか由来の構成単位を含んでいれば特に限定されないが、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルアルコール類の１種以上と共重合されているものが好ましく、メチルビニルエーテル／マレイン酸アルキル共重合体（ISP社製ガントレッツES-225，同ES-425，同SP-215等）、酢酸ビニル／クロトン酸共重合体（ナショナル・スターチ社製レジン28-1310等）、酢酸ビニル／クロトン酸／ネオデカン酸ビニル共重合体（ナショナル・スターチ社製レジン28-2930等）、酢酸ビニル／クロトン酸／プロピオン酸ビニル共重合体（BASF社製ルビセットCAP等）、ビニルアルコール／イタコン酸共重合体（クラレ社製KM-118等）がより好ましく、メチルビニルエーテル／マレイン酸アルキル共重合体、酢酸ビニル／クロトン酸共重合体、酢酸ビニル／クロトン酸／ネオデカン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル／クロトン酸／プロピオン酸ビニル共重合体が更に好ましい。
【００１５】
〔（メタ）アクリル酸由来の構成単位を含むアニオン性ビニルポリマー〕
（メタ）アクリル酸由来の構成単位を含むビニルポリマーであれば特に限定されないが、（メタ）アクリル酸アルキルエステルあるいはN-アルキル（メタ）アクリルアミドの１種以上との共重合体が好ましい。
より好ましくは、アクリル酸／エチルアクリレート／N-t-ブチルアクリルアミド共重合体（BASF社製ウルトラホールド８，ウルトラホールド・ストロング等）、オクチルアクリルアミド／アクリル酸共重合体（アクゾノーベル社製アンフォーマーHC等）、アクリレート／メタクリレート／アクリル酸／メタクリル酸共重合体（ユニオンカーバイド社製アマホールドDR25等）、アクリレーツ／ジアセトンアクリルアミド共重合体（互応化学工業社製プラスサイズL-9540B（当該共重合体の2-アミノ-2-メチル-1-プロピルアルコール中和物）等）、アクリレーツ／C1-18アルキルアクリレーツ／C1-8アルキルアクリルアミド共重合体（互応化学工業社製プラスサイズL-9909B（当該共重合体の2-アミノ-2-メチル-1-プロピルアルコール中和物）等）が挙げられ、アクリレート／メタクリレート／アクリル酸／メタクリル酸共重合体、アクリレーツ／ジアセトンアクリルアミド共重合体、アクリレーツ／C1-18アルキルアクリレーツ／C1-8アルキルアクリルアミド共重合体がより好ましい。
【００１６】
＜両性ビニルポリマー＞
両性ビニルポリマーとしては、アクリル酸オクチルアミド／アクリル酸ヒドロキシプロピルプロピル／メタクリル酸ブチルアミノエチル共重合体（アクゾノーベル社製AMPHOMER SH30、AMPHOMER LV-71、AMPHOMER 28-4910）、メタクリロイルオキシエチルカルボキシベタイン／メタクリル酸アルキル共重合体（三菱化学社製ユカフォーマーR205、ユカフォーマー301、ユカフォーマーSM、ユカフォーマーM-75、ユカフォーマー104D等、大阪有機化学工業社製RAMレジン-1000、RAMレジン-2000、RAMレジン-3000、RAMレジン-4000）、塩化ジメチルジアリルアンモニウム／アクリル酸共重合体（ナルコ社製マーコート280、マーコート295）、塩化ジメチルジアリルアンモニウム／アクリルアミド／アクリル酸共重合体（ナルコ社製マーコートプラス3330、マーコートプラス3331）等が挙げられる。
【００１７】
＜カチオン性ビニルポリマー＞
カチオン性ビニルポリマーとしては、ビニルピロリドン／メタクリル酸ジメチルアミノエチル共重合体ジエチル硫酸塩（大阪有機化学工業社製H.C.ポリマー1S(M)、H.C.ポリマー２、ISP社製ガフコート755N）、ビニルピロリドン／ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド／ラウリルジメチルアミノプロピルメタクリルアミド共重合体（ISP社製スタイリーゼW-20）、ビニルピロリドン／メタクリル酸N,N-ジメチルアミノエチル／アクリル酸アルキル／ジアクリル酸トリプロピレングリコール共重合体（大阪有機化学工業社製コスカットGA467，コスカットGA468）、ポリ塩化ジメチルメチレンピペリジニウム（ナルコ社製マーコート100）、塩化ジメチルジアリルアンモニウム／アクリルアミド共重合体（ナルコ社製マーコート550）、塩化トリメチルアンモニオプロピルアクリルアミド／ジメチルアクリルアミド共重合体、アルキルアクリルアミド／アクリレート／アルキルアミノアルキルアクリルアミド／ポリエチレングリコールメタクリレート共重合体（特開平2-180911号公報参照）、t-ブチルアクリルアミド／ジメチルアクリルアミド／ジメチルアミノプロピルアクリルアミド／メトキシポリエチレングリコール(PEG400)メタクリレート共重合体（特開平8-291206号公報参照）等が挙げられる。
【００１８】
＜ノニオン性ビニルポリマー＞
ノニオン性ビニルポリマーとしては、ポリビニルピロリドン（BASF社製ルビスコールK17、ルビスコールK30、ルビスコールK90、ISP社製PVP K）、ビニルピロリドン／酢酸ビニル共重合体（ISP社製PVP/VA S-630、PVP/VA E-735、PVP/VA E-335、BASF社製ルビスコールVA73W、ルビスコール37E、大阪有機化学工業社製PVA-6450）、ビニルピロリドン／メタクリルアミド／ビニルイミダゾール共重合体（BASF社製ルビセットクリア）、ポリビニルカプロラクタム（ルビスコールプラス（BASF社製））等が挙げられる。
【００１９】
＜ウレタン系ポリマー＞
ウレタン系ポリマーとしては、ヨドゾールPUD（アクゾノーベル社製）、ルビセットP.U.R.（BASF社製）、特開2006-213706号公報に記載されたポリマー等、アクリル−ウレタン系として、DynamX（アクゾノーベル社製）、特願2006-183144号公報に記載されたポリマー等が挙げられる。
【００２０】
＜多糖類系ポリマー＞
多糖類系ポリマーとしては、アラビアガム、グルカン、サクシノグリカン、カラギーナン、カラヤガム、トラガカントガム、グアガム、ローカストビーンガム、ガラクトマンナンガム、キサンタンガム、デンプン、キャロブガム、クインスシード（マルメロ）、カゼイン、デキストリン、ゼラチン、ペクチン酸ナトリウム、アラギン酸ナトリウム、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、結晶セルロース、塩化O-[2-ヒドロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)プロピル]ヒドロキシエチルセルロース、塩化O-[2-ヒドロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)プロピル]グアガム、塩化O-[2-ヒドロキシ-3-(トリメチルアンモニオ)プロピル]ローカストビーンガム、塩化ヒドロキシプロピルトリモニウムでんぷん等が挙げられる。
【００２１】
上記の皮膜形成樹脂の中でも、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも１種の構成単位を含む重合体又は共重合体を好適に使用し得る。これらの中でも、一般式(2)で表される構成単位及び一般式(3)で表される構成単位を含む共重合体が、高い整髪力とごわつきのなさとを両立させる観点から好ましい。
【００２２】
【化２】
2014047151.tif 000003
【００２３】
〔式中、Ｒ1及びＲ3は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜24のアルキル基、又は-(ＡＯ)nＲ5で表される置換基（ＡＯはエチレンオキサイド基及び／又はプロピレンオキサイド基、ｎは平均値で１〜15の数、Ｒ5は水素原子又はメチル基）を示し、Ｒ4は炭素数１〜12のアルキル基、又はアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基若しくはトリメチルアミノ基を有する炭素数１〜12のアルキル基を示す。〕
【００２４】
なお、皮膜形成樹脂の一分子中における一般式(2)又は(3)で表される各構成単位は、それぞれ１種の構成単位であってもよいし、置換基が異なる２種以上の構成単位を含んでいてもよい。
【００２５】
Ｒ2は、好ましくは炭素数１〜22のアルキル基、更に好ましくは１〜20のアルキル基である。
Ｒ4は、好ましくは炭素数１〜10のアルキル基、更に好ましくは１〜８のアルキル基である。
【００２６】
成分(A)の皮膜形成樹脂は、一般式(2)又は(3)で表される構成単位以外に、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸モノエステル等由来の構成単位を含有してもよいが、塗布後の毛髪の垂れを抑制し、毛髪のセット性を保持する観点から、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも１種の構成単位を、皮膜形成樹脂の一分子中に40〜100質量％含有することが好ましく、更には50〜100質量％、更には60〜100質量％、更には70〜100質量％、更には80〜100質量％、更には90〜100質量％含有することが好ましい。
【００２７】
皮膜形成樹脂の重量平均分子量（ゲルろ過クロマトグラフィー（ポリエチレングリコール換算）による）は、重合条件を選択すれば1,000〜1,000,000に制御でき、本発明においては、重量平均分子量10,000〜500,000、更には20,000〜200,000のものが好ましい。
【００２８】
成分(A)の皮膜形成樹脂は、高い整髪力とごわつきのなさとを両立させる観点から、毛髪化粧料中に好ましくは0.01〜20質量％、更に好ましくは0.1〜10質量％、更に好ましくは0.5〜７質量％含有する。
【００２９】
〔(B)：シクロデキストリン〕
本発明の毛髪化粧料は、成分(B)として、シクロデキストリンを含有する。シクロデキストリンは、室温で水100mL中0.1ｇ以上の溶解度を有することが好ましく、更には５ｇ以上、更には10ｇ以上の溶解度を有することが好ましい。シクロデキストリンとしては、置換又は非置換のα-シクロデキストリン、置換又は非置換のβ-シクロデキストリン、置換又は非置換のγ-シクロデキストリンが好ましく、なかでも、塗布後の毛髪の垂れを抑制し、毛髪のセット性を保持する観点及び水溶性の観点から、置換又は非置換のα−シクロデキストリンがより好ましい。
【００３０】
成分(B)のシクロデキストリンは、塗布後の毛髪の垂れを抑制し、毛髪のセット性を保持する観点から、毛髪化粧料中に好ましくは0.1〜15質量％、更に好ましくは１〜10質量％、更に好ましくは２〜６質量％含有する。
【００３１】
〔(C)：一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物〕
本発明の毛髪化粧料は、成分(C)として、一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物を含有する。
【００３２】
【化３】
2014047151.tif 000004
【００３３】
〔式中、Ｒは同一若しくは異なって水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する２つのＲが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Ｘは酸素原子又は窒素原子を示し、Ｘが酸素原子である場合Ｙは水素原子を、Ｘが窒素原子である場合ＹはＸに結合するカルボニル基を示す。Ｚ+は１価のカチオンを示す。〕
【００３４】
Ｒのうち一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基が挙げられ、炭素数１〜８（好ましくは１〜４）のアルキル基、炭素数６〜10（好ましくは６〜８）のアリール基又はアラルキル基が好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t-ブチル基、フェニル基、ベンジル基等が挙げられる。
【００３５】
隣接する２つのＲが一緒になって形成される飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルキリデン基が挙げられ、炭素数２〜６（好ましくは２〜４）のアルキレン基又はアルキリデン基が好ましく、例えば、エチレン基、エチリデン基、ビニレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、1-プロペニレン基、テトラメチレン基、2-メチルトリメチレン基、1-メチルトリメチレン基、2-プロペニレン基、2-ブテニレン基、ブタ-1,3-ジエン-1,4-ジイル等が挙げられる。具体的には、隣接する２つのＲが一緒になってブタ-1,3-ジエン-1,4-ジイル、テトラメチレン基、1-プロペニレン基、2-プロペニレン基、トリメチレン基を形成する場合、芳香族スルホン化合物として、それぞれナフタレンスルホン酸、テトラヒドロナフタレンスルホン酸、インデンスルホン酸、インダンスルホン酸が形成されるが、中でもナフタレンスルホン酸が好ましい。
【００３６】
Ｘが酸素原子である場合、Ｙは水素原子を示すが、Ｒはアルキル基であるか、隣接する２つのＲが一緒になってアルキリデン基を形成するのが好ましい。他方Ｘが窒素原子である場合、ＹはＸに結合するカルボニル基を示すが、Ｒの全ては水素原子であるのが好ましい。
【００３７】
また、成分(C)の芳香族スルホン化合物は、カウンターカチオンとして任意の１価カチオンＺ+を有することができるが、Ｚ+としてはプロトン、アルカリ金属イオン（例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン）、アンモニウムイオンが好ましい。
【００３８】
成分(C)の芳香族スルホン化合物のより好ましい例としては、ベンゼンスルホン酸又はその塩、パラトルエンスルホン酸又はその塩、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸又はその塩、2,5-ジメチルベンゼンスルホン酸又はその塩、ナフタレンスルホン酸又はその塩、サッカリン又はその塩等が挙げられる。中でも、パラトルエンスルホン酸又はその塩、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸又はその塩、ナフタレンスルホン酸又はその塩、サッカリン又はその塩がより好ましい。これらは単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００３９】
成分(C)の芳香族スルホン化合物は、塗布後の毛髪の垂れを抑制し、毛髪のセット性を保持する観点、及び毛髪化粧料の粘度を調整し、噴霧性を良好にする観点から、毛髪化粧料中に好ましくは0.1〜20質量％、更に好ましくは0.5〜10質量％、更に好ましくは１〜７質量％含有する。
【００４０】
〔(D)：水〕
本発明の毛髪化粧料は、成分(D)として、水を50〜95質量％含有する。成分(D)の水は、有機溶媒の使用を低減させる観点から、毛髪化粧料中に好ましくは60〜95質量％、更に好ましくは70〜95質量％、更に好ましくは80〜95質量％含有する。
【００４１】
〔溶媒〕
溶媒としては、低級アルコール（エタノール、イソプロパノール等）、ラクトン類等の水以外の溶媒を含有してもよいが、水以外の溶媒は、毛髪化粧料に含まれる各成分の溶解性を向上させる観点から、毛髪化粧料中に好ましくは０〜45質量％、更に好ましくは０〜30質量％、更に好ましくは０〜20質量％、更に好ましくは０〜15質量％、更に好ましくは０〜10質量％である。
【００４２】
〔任意成分〕
本発明の毛髪化粧料中には、上記成分のほかに、本発明の効果を妨げない限度内で、化粧料用油剤を添加することができ、毛髪化粧料中における含有量は好ましくは0.1〜10質量％である。このような化粧料用油剤としては、ヒマシ油、カカオ油、ミンク油、アボカド油、オリーブ油等のグリセライド類；ミツロウ、鯨ロウ、ラノリン、カルナウバロウ等のロウ類；セチルアルコール、オレイルアルコール、ヘキサデシルアルコール、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、2-オクチルドデカノール等の高級アルコール類；ミリスチン酸イソプロピル、ラウリン酸ヘキシル、乳酸セチル、モノステアリン酸プロピレングリコール、オレイン酸オレイル、2-エチルヘキサン酸ヘキサデシル、ミリスチン酸オクチルドデシル酸のエステル類；流動パラフィン、ワセリン、スクワラン、水添ポリイソブテン等の炭化水素油類；ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル等のシリコーン誘導体；ポリプロピレングリコールなどが挙げられる。更にこれらの化粧料用油剤を乳化安定化するために乳化剤を添加することができる。乳化剤としてはアニオン性、両性、カチオン性、非イオン性のいずれの界面活性剤も使用することができる。
【００４３】
更に、本発明の毛髪化粧料には、商品価値を高めるために香料や色素、毛髪化粧料の経日的変質防止のために防腐剤や酸化防止剤を添加することができ、また、更に必要に応じて、グリセリン、プロピレングリコール等の調湿剤、硬化剤、帯電防止剤、界面活性剤、消泡剤、分散剤、増粘剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防腐剤、有色染料、染料定着剤、噴射剤等を添加することもできる。
【００４４】
〔剤型〕
本発明の毛髪化粧料の剤型としては、特に制限はなく、透明液状、ローション状、乳液状、霧状（ヘアミスト、ヘアスプレー）、泡状（ヘアムース）などが可能であるが、なかでも霧状の形態で塗布する剤型とすることが好ましい。
なお、本発明の毛髪化粧料を、エアゾール原液と噴射剤からなるエアゾール式毛髪化粧料として用いる場合、各成分の含有量は、噴射剤を含まないエアゾール原液の全組成中の含有量をいうものとする。
【００４５】
〔粘度〕
本発明の毛髪化粧料は、毛髪への塗布時に適度な粘着性を生じさせるために、粘度が0.1mPa・s以上100mPa・s以下であることが好ましく、更には20mPa・s以下、更には10mPa・s以下であることが好ましい。霧状の形態として用いる場合、粘度を0.1mPa・s以上100mPa・s以下、更には20mPa・s以下、更には10mPa・s以下とすることで、毛髪化粧料を良好な霧状で噴霧することが可能となり、更に例えば噴霧装置のノズルに詰まる等の問題を低減させることができる。
粘度は、25℃、東機産業株式会社製Ｂ型回転粘度計（モデルTVB-10H）で、ローターNo.19（L/Adp）を用い、30rpmで１分間回転させた後の値とする。なお、測定は25℃の恒温槽において測定する。
【００４６】
〔pH〕
本発明の毛髪化粧料のpHは、ガラス電極式水素イオン濃度計F-14（株式会社堀場製作所製）を用いて、サンプルの温度を25℃に調整し、直接電極をサンプルに入れて測定する。本発明の毛髪化粧料のpHは、２〜９が好ましく、更には３〜８が好ましい。
【００４７】
以上述べた本発明の実施形態について、以下に総括して示す。
【００４８】
＜１＞
次の成分(A)〜(D)を含有する毛髪化粧料。
(A) 皮膜形成樹脂
(B) シクロデキストリン
(C) 一般式(1)で表される芳香族スルホン化合物
【００４９】
【化４】
2014047151.tif 000005
【００５０】
〔式中、Ｒは同一若しくは異なって水素原子若しくは一価の炭化水素基を示すか、又は隣接する２つのＲが一緒になって、飽和若しくは不飽和の二価の炭化水素基を形成する。Ｘは酸素原子又は窒素原子を示し、Ｘが酸素原子である場合Ｙは水素原子を、Ｘが窒素原子である場合ＹはＸに結合するカルボニル基を示す。Ｚ+は１価のカチオンを示す。〕
(D) 水  50〜95質量％
【００５１】
＜２＞
成分(A)が、アニオン性ビニルポリマー、カチオン性ビニルポリマー、両性ビニルポリマー、ノニオン性ビニルポリマー、ウレタン系ポリマー、多糖類系ポリマーから選ばれる少なくとも１種のポリマーである＜１＞に記載の毛髪化粧料。
【００５２】
＜３＞
成分(A)が、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも１種の構成単位を含む重合体又は共重合体である＜１＞又は＜２＞に記載の毛髪化粧料。
【００５３】
【化５】
2014047151.tif 000006
【００５４】
〔式中、Ｒ1及びＲ3は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜24のアルキル基、又は-(ＡＯ)nＲ5で表される置換基（ＡＯはエチレンオキサイド基及び／又はプロピレンオキサイド基、ｎは平均値で１〜15の数、Ｒ5は水素原子又はメチル基）を示し、Ｒ4は炭素数１〜12のアルキル基、又はアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基若しくはトリメチルアミノ基を有する炭素数１〜12のアルキル基を示す。〕
【００５５】
＜４＞
成分(A)が、一般式(2)又は(3)で表される少なくとも１種の構成単位を、一分子中に40〜100質量％、好ましくは50〜100質量％、更に好ましくは60〜100質量％、更に好ましくは70〜100質量％、更に好ましくは80〜100質量％、更に好ましくは90〜100質量％含有する＜３＞に記載の毛髪化粧料。
【００５６】
＜５＞
Ｒ2が炭素数１〜22のアルキル基であり、Ｒ4が炭素数１〜10のアルキル基である、＜３＞又は＜４＞に記載の毛髪化粧料。
【００５７】
＜６＞
成分(A)の重量平均分子量が、10,000〜500,000、好ましくは20,000〜200,000である＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００５８】
＜７＞
成分(A)の含有量が、毛髪化粧料中の0.01〜20質量％、好ましくは0.1〜10質量％、更に好ましくは0.5〜７質量％である、＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００５９】
＜８＞
成分(B)が、α-シクロデキストリンである、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００６０】
＜９＞
成分(B)の含有量が、毛髪化粧料中の0.1〜15質量％、好ましくは１〜10質量％、更に好ましくは２〜６質量％である＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００６１】
＜10＞
成分(C)が、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸、2,5-ジメチルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、サッカリン及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種である＜１＞〜＜９＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００６２】
＜11＞
成分(C)が、パラトルエンスルホン酸、2,4-ジメチルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、サッカリン及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種である＜１＞〜＜９＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００６３】
＜12＞
成分(C)の含有量が、毛髪化粧料中の0.1〜20質量％、好ましくは0.5〜10質量％、更に好ましくは１〜７質量％である＜１＞〜＜11＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００６４】
＜13＞
成分(D)の含有量が、60〜95質量％、より好ましくは70〜95質量％、更に好ましくは80〜95質量％である＜１＞〜＜12＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００６５】
＜14＞
霧状の形態で塗布される剤型である＜１＞〜＜13＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００６６】
＜15＞
毛髪化粧料の粘度が、0.1mPa・s以上100mPa・s以下、好ましくは20mPa・s以下、更に好ましくは10mPa・s以下である＜１＞〜＜14＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【００６７】
＜16＞
毛髪化粧料のpHが、２〜９、好ましくは３〜８である＜１＞〜＜15＞のいずれかに記載の毛髪化粧料。
【実施例】
【００６８】
実施例１〜７及び比較例１〜６
表１に示す毛髪化粧料（ヘアミスト）を常法に従い調製し、以下の方法に従って、「塗布後の髪垂れ抑制効果」、「セット保持力（高湿度下）」及び「噴霧性」の評価を行った。
【００６９】
＜塗布後の髪垂れ抑制効果＞
長さ25.5cm、重さ３ｇの毛束を水で濡らし、直径2.2cmのロッド（管）に巻き、自然乾燥（24時間以上の室温放置）させた。乾燥後、ロッドを取り外し、毛束の見かけの長さ（Ｌ）を測定した。次いで、この毛束に各試料0.6ｇを吉野工業所製のトリガー付きスプレイヤー（PT-200噴口径：φ0.3mm）を用いて均一に塗布した後、常温常湿下に毛束を吊るし、30分後に再び毛束の見かけの長さ（Ｌ0）を測定した。
これらの測定値から髪垂れ抑制率を次式にて求めた。
髪垂れ抑制率（％）＝〔（25.5−Ｌ0）÷（25.5−Ｌ）〕×100
この数値が100に近いほど髪垂れ抑制効果が高いことを示す。
【００７０】
＜セット保持力（高湿度下）＞
長さ26cm、重さ１ｇの毛束に各試料0.75gをスポイトで均一に塗布し、直径2.2cmのロッド（管）に巻き、40℃の恒温室内に６時間放置して完全に乾燥させた。乾燥後、ロッドを取り外し、毛束の見かけの長さ（Ｌ）を測定した。次いで、温度25℃、湿度90％の恒温恒湿室に毛束を吊るし、２時間後に取り出し、再び毛束の見かけの長さ（Ｌ0）を測定した。これらの測定値からセット保持力を次式にて求めた。
セット保持力（％）＝〔（26−Ｌ0）÷（26−Ｌ）〕×100
この数値が100に近いほどセット保持力が強いことを示す。
【００７１】
＜噴霧性＞
吉野工業所製のトリガー付きスプレイヤー（PT-200噴口径：φ0.3mm）に各試料を封入し、噴霧したときの噴霧状態を観察した。
○：霧状に噴霧された（噴霧良好）
×：霧状にならず直線状に吐出した。あるいは、吐出しなかった（噴霧不良）
【００７２】
【表１】
2014047151.tif 000007
【００７３】
実施例８
以下に示すヘアミスト剤を常法により製造した。
（質量％）
ガントレッツES-225（ISP社製；50質量％水溶液）                 10
α-シクロデキストリン                                          3.5
β-ナフタレンスルホン酸Na                                      1.5
アミノメチルプロパノール                                       0.4
精製水                                                      バランス
【００７４】
実施例９
以下に示すヘアスプレー剤を常法により製造した。
（質量％）
ユカフォーマーM-75（三菱油化社製；30質量％エタノール液）      16.7
α-シクロデキストリン                                          3.5
β-ナフタレンスルホン酸Na                                      1.5
精製水                                                      バランス
ジメチルエーテル（DME）                                       10.0