(57)【要約】【課題】支持基材上に配向層とホモジニアス配向の液晶組成物層が形成される液晶フィルムにおいて、配向層と液晶組成物層との密着性および高温高湿等の過酷環境下での耐久性を高めることを課題とする。【解決手段】ホモジニアス配向の重合性液晶組成物層に、剥離防止剤として、分子内にラジカル重合する重合性基とカチオン重合する重合性基とを有する非液晶性の重合性化合物を併用する。【選択図】図３
2014219659.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基材上に、少なくとも配向層と液晶組成物層をこの順に有するフィルムであって、
液晶組成物層は重合性液晶組成物層に含まれる重合性液晶化合物の配向を固定化して得られ、その配向状態がホモジニアス配向であり、
重合性液晶組成物層が、分子内にラジカル重合する重合性基とカチオン重合する重合性基を有する剥離防止剤を１種又は２種以上含有することを特徴とするフィルム。
【請求項２】
剥離防止剤のラジカル重合する重合性基が、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、マレイミド基、またはビニルケトン基である請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
剥離防止剤のカチオン重合する重合性基が、オキシラニル基、オキセタニル基、またはビニルエーテル基である請求項１又は２に記載のフィルム。
【請求項４】
１種または２種以上の剥離防止剤を重合性液晶化合物の全重量に対して、０．１〜２０重量％含む請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項５】
配向層が（メタ）アクリレート系ポリマーであり、このポリマーの形成に用いるモノマーが感光部位として光二量化又は光異性化する構造を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項６】
重合性液晶化合物の配向方向の制御方法がラビング法、光配向処理法、ナノインプリンティング法、および延伸法のいずれかである請求項１〜５のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のフィルムを用いた液晶表示素子。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶表示素子を適用した立体画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、剥離防止剤を含む重合性液晶組成物を用いて得られる光学異方性を有するフィルム（光学異方性フィルム）、およびこの光学異方性フィルムを含有する液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光板、偏光反射板、位相差板などの光学異方性フィルムに重合性液晶化合物が利用されている（特許文献１）。この化合物が液晶状態において光学異方性を示し、重合によりこの異方性が固定化されるためである。光学異方性フィルムに必要な光学的特性は目的によって異なるので、目的にあった特性を有する化合物が必要である。光学異方体の用途に使用される化合物は、単独では前記の異方性を制御することが困難であることが多いため、種々の化合物と組み合わせ、組成物として利用されることがある。
【０００３】
重合性液晶組成物は、その塗布性を調製する目的で有機溶剤を加えたインキとして使用されることがある。重合性液晶組成物を使用して光学異方性を有するフィルムを製造するには、重合性液晶化合物、光重合開始剤、界面活性剤などを有機溶剤に溶解させて溶液粘度、レベリング性などを調整したインキを調製する。このインキを配向処理した基材に塗布し、溶剤を乾燥させ、重合性液晶組成物を基材上に配向させる。次に紫外線を照射して重合させ、配向状態を固定化する。
【０００４】
これまでに本発明者らは重合性液晶化合物を支持基材上に配向層を形成しなくても、ガラス基材上やプラスチック基材上で均一なホメオトロピック配向が形成でき、かつ密着性に優れた重合性液晶化合物を見いだしている（特許文献６、７）。
【０００５】
また、観察者に対して立体画像を認識させる装置として、右目用の画像と左目用の画像をそれぞれ異なる領域に表示させる画像生成部、および、二つの異なる領域に入射した偏光の偏光軸を互いに直交させる偏光軸制御板を含む画像表示装置が知られている（例えば、特許文献２〜４を参照）。当該立体画像表示装置に用いられる位相差板は、主にパターン化配向処理を行った配向層上に位相差材料として液晶相を有する重合性液晶化合物を塗布、光硬化させることでパターン化位相差板としたものである。このパターン化位相差板に主に用いられる重合性液晶組成物はホモジニアス配向を形成する組成物であり、ホモジニアス配向を形成するには配向層が不可欠である。配向層としてポリアミック酸を加熱してイミド化した、ポリイミドが広く用いられているが、イミド化には200℃以上の加熱が必要であり、プラスチック基材には使えない。ポリイミドを使わずに、プラスチック基材を直接ラビングする方法もあるが、ラビングによって発生する塵や静電気の除去は特別な設備が必要である。
【０００６】
そこで、近年はあるポリマー溶液をプラスチック基材に塗布後、偏光紫外線を照射して配向能を付与させる、光配向の手法も用いられている。しかし、重合性液晶化合物のみからなるパターン化位相差板では配向層と液晶組成物層の界面の密着性や耐久性が不十分であるという課題を有している。密着性や耐久性が不十分であると、例えば、パターン化位相差板上に輸送時の傷つきや汚れ防止等のために保護フィルムを貼り付けた場合に、その保護フィルムを取り外す際にパターン化位相差板の液晶組成物層が保護フィルムの粘着面側に付着し、パターン化位相差板が損傷してしまうことがある。このようなトラブルを解決するために、剥離防止剤を含む液晶組成物層からなるパターン化位相差板が望まれていた（特許文献５参照）。上記特許文献６、７では、垂直配向の液晶組成物層の密着性についての検討は行っているものの、ホモジニアス配向の液晶組成物層における、密着性およ
び耐久性の検討は行っていなかった。特に、高温高湿等の過酷環境下での耐久性については検討されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−３７２６２３号公報
【特許文献２】特開平１０−２３２３６４号公報
【特許文献３】特開２００４−２６４３３８号公報
【特許文献４】特開２００８−３０４９０９号公報
【特許文献５】国際公開第２０１１／０４９３２６号
【特許文献６】特開２００８−２６６５５０号公報
【特許文献７】特開２００８−２６６６３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、支持基材上に配向層とホモジニアス配向の液晶組成物層が形成される液晶フィルムにおいて、配向層と液晶組成物層との密着性および高温高湿等の過酷環境下での耐久性を高めることである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは位相差板を形成するホモジニアス配向の重合性液晶組成物に、剥離防止剤として分子内にラジカル重合する重合性基とカチオン重合する重合性基とを有する非液晶性の重合性化合物を併用すると、支持基材上に形成される配向処理した配向層と液晶組成物層の密着性および高温高湿等の過酷環境下での耐久性が向上することを見出し、本発明を完成するに至った。剥離防止剤は、重合性基を２つ以上有しており、重合性液晶化合物と同様に重合可能である。本発明は以下の通りである。
【００１０】
［１］
支持基材上に、少なくとも配向層と液晶組成物層をこの順に有するフィルムであって、
液晶組成物層は重合性液晶組成物層に含まれる重合性液晶化合物の配向を固定化して得られ、その配向状態がホモジニアス配向であり、
重合性液晶組成物層が、分子内にラジカル重合する重合性基とカチオン重合する重合性基を有する剥離防止剤を１種又は２種以上含有することを特徴とするフィルム。  
【００１１】
［２］
剥離防止剤のラジカル重合する重合性基が、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、マレイミド基、またはビニルケトン基である［１］に記載のフィルム。
［３］
剥離防止剤のカチオン重合する重合性基が、オキシラニル基、オキセタニル基、またはビニルエーテル基である［１］または［２］に記載のフィルム。
［４］
１種または２種以上の剥離防止剤を重合性液晶化合物の全重量に対して、０．１〜２０重量％含む［１］〜［３］のいずれかに記載のフィルム。
［５］
配向層が（メタ）アクリレート系ポリマーであり、このポリマーの形成に用いるモノマーが感光部位として光二量化又は光異性化する構造を含む、［１］〜［４］のいずれかに記載のフィルム。
［６］
重合性液晶化合物の配向方向の制御方法がラビング法、光配向処理法、ナノインプリンティング法、および延伸法のいずれかである［１］〜［５］のいずれかに記載のフィルム
。
［７］
［１］〜［６］のいずれかに記載のフィルムを用いた液晶表示素子。
［８］
［７］に記載の液晶表示素子を適用した立体画像表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
分子内にラジカル重合する重合性基とカチオン重合する重合性基とを有する剥離防止剤を重合性液晶化合物に加えることで、支持基材上に配向層とホモジニアス配向の位相差板が形成される重合性液晶フィルムにおいて、配向層と液晶組成物層との密着性および高温高湿等の過酷環境下での耐久性を向上させることができる。それにより、当該フィルムを用いた立体画像表示装置の生産性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】隣接する領域において液晶組成物層の厚みが同一で、配向方向が互いに異なる状態をとるパターン化位相差板を用いた立体画像表示装置の例である。
【図２】隣接する領域の液晶組成物層が液晶相を消失した等方相で硬化している状態をとるパターン化位相差板を用いた立体画像表示装置の例である。
【図３】隣接する領域において液晶組成物層の厚みが同一で、配向方向が互いに異なる状態をとるパターン化位相差板の概略図である。
【図４】隣接する領域の液晶組成物層が液晶相を消失した等方相で硬化している状態をとるパターン化位相差板の概略図である。
【図５】ホモジニアス配向を示すリタデーションの図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。
支持基材は、ガラスまたは光学用プラスティックフィルムの総称である。
液晶化合物は、液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶相はネマチック相、スメクチック相、コレステリック相などであり、多くの場合ネマチック相を意味する。液晶相はその温度範囲より高い温度になると液晶状態（異方性）が消失し、液体状態となる。この液体状態が等方相の状態である。重合性は、光、熱、触媒などの手段により単量体が重合し、重合体を与える能力を意味する。式（Ｍ１）、式（Ｍ２）で表される化合物を化合物（Ｍ１）、化合物（Ｍ２）と表記することがある。その他の式で表される化合物についても同様である。（メタ）アクリレート[(meth)acrylate]は、アクリレート（acrylate）およびメタクリレート（methacrylate）の一方または両方を表す。化学式において、結合手がベンゼン環を構成する炭素原子のどれとも結合していないように表示されているベンゼン環の置換基は、その結合位置が任意であることを示す。
【００１５】
本発明において、重合性液晶化合物は、重合性液晶化合物の単体での使用、または複数種併用した化合物群の総称である。重合性液晶化合物の割合を明示しやすくするために、便宜上溶剤を含まない系として説明される。そして、この重合性液晶化合物と溶剤とからなる溶液は、重合性液晶化合物の溶液と表記される。溶剤を含む場合は、溶剤に重合性液晶化合物の各成分を溶解することによって重合性液晶化合物の溶液が調製される。  
【００１６】
重合性液晶化合物の配向は、チルト角の大きさなどに基づいてホモジニアス（homogeneous；平行）、ホメオトロピック（homeotropic；垂直）、チルト（tilted；傾き）、ツイスト（twisted；ねじれ）などに分類される。チルト角は、重合性液晶化合物の配向状態および支持基材の間の角度である。ホモジニアスは、重合性液晶化合物の配向状態が基材に平行で、かつ所定の配向処理領域で一方向に並んでいる状態をいう。ホモジニアス配向
におけるチルト角の例は０度から５度である。ホメオトロピックは、配向状態が基材に垂直である状態をいう。ホメオトロピック配向におけるチルト角の例は、８５度から９０度である。チルトは、配向状態が基材から離れるにしたがって、平行から垂直に立ちあがっている状態をいう。チルト配向におけるチルト角（傾き角）の例は５度から８５度である。ツイストは、配向状態が基材に平行ではあるが、らせん軸を中心に階段状にねじれている状態をいう。ツイスト配向におけるチルト角の例は０度から５度である。  
【００１７】
剥離防止剤は、液晶組成物層と配向処理された配向層との剥離を防止するための重合性基を有する重合性化合物またはポリマーの総称である。
【００１８】
重合性液晶化合物の配向に関する「パターン化」は、本発明においては、隣接する領域において液晶組成物層の厚みが同一で配向方向が互いに異なる状態（図３参照）、あるいは、隣接する領域の液晶組成物層を溶剤等で除去している状態か液晶相を消失させた等方相の状態で硬化している状態（図４を参照）であることを示す。
【００１９】
「フィルム」とは「位相差板」を指し、支持基材上に少なくとも液晶組成物層が形成された積層体である。液晶組成物層は重合性液晶組成物層に含まれる重合性液晶化合物の配向を固定化することで得られる。「位相差板」には「パターン化」された位相差板も含まれる。
【００２０】
本発明に係るフィルムは立体画像表示装置に用いることができる。立体画像表示装置は、図１または図２のようにパターン化位相差板１０３またはパターン化位相差板２０１を用いると立体画像を表示することができる。図３は隣接する領域において液晶組成物層３０３の厚みが同一で、配向方向が互いに異なる状態を利用したパターン化位相差板の概略図である。図４は隣接する液晶組成物層を等方相で硬化させた状態を利用したパターン化位相差板の概略図である。図２および４では、液晶組成物層を２種設けている。第１の液晶組成物層は２０４および４０２であり、第２の液晶組成物層は、２０１および４０４である。第１の液晶組成物層は面内の配向方向が同一の位相差板であり、第２の液晶組成物層は面内の隣あう領域で配向方向が異なる（パターン化された）位相差板であり、第１の液晶組成物層と第２の液晶組成物層の材料は同じであってもよいし異なっていてもよい。
【００２１】
図３で示されるパターン化位相差板は、以下のように配向層３０２を事前に処理することで得ることができる。隣接する領域において液晶組成物層３０３の厚みが同一で、配向方向が互いに異なる状態を作るには、例えばラビング法、光配向法、ナノインプリンティング法がある。ラビング法では、ポリイミドやポリビニルアルコール等の配向層３０２を支持基材３０１上に形成後、まず全領域をラビング処理し、次にマスクを配向層３０２上に設置した状態で１回目のラビング方向と異なる方向にラビングを行う。あるいは、国際公開第２０１１／０４９３２６号に記載の方法等が挙げられる。
【００２２】
光配向法を用いる場合は、紫外線に反応する部位を有する光配向層３０２を支持基材３０１上に形成し、フォトマスクを用いて偏光紫外線を光配向層に照射する。次にフォトマスクをずらし、偏光紫外線が未照射の部分に1回目の偏光紫外線の偏光軸方向とは異なる偏光軸の偏光紫外線を照射する。あるいは、特開２０１２−１４０６４号公報記載の方法等が挙げられる。このような事前処理をした配向層に重合性液晶化合物を塗布、加熱、光硬化させると図１におけるパターン化位相差板１０３が得られる。
あるいは、ナノインプリンティング法を用いて、重合性液晶組成物層に直接モールドを押し付ける方法が挙げられる。例えば、Journal of Nanoscience and Nanotechnology Vol.8 p.4775-4778 (2008)に記載の方法のように配向した重合性液晶組成物層へモールドを押し付ける方法等が挙げられる。
【００２３】
図４で示されるパターン化位相差板は、支持基材３０１上に配向層４０１を形成後、ラビング処理、光配向処理あるいはナノインプリント処理を行い、重合性液晶化合物を塗工、加熱、光硬化させて第１の液晶組成物層４０２を形成する。ここでは、第１の液晶組成物層４０２と配向層４０１の代わりに延伸処理された光学フィルムを用いてもよい。次に第２の液晶組成物層４０４を第１の液晶組成物層４０２あるいは第１の延伸処理された光学フィルムに直接あるいは配向層を介して塗工する。その後、フォトマスクを利用して部分的に光硬化させ、未硬化部分を溶剤で除去あるいは加熱して等方相の状態で光または熱硬化させることでパターン化位相差板２０１が得られる。例えば、SID 2008 DIGEST p.260-263に記載の方法等が挙げられる。
【００２４】
剥離防止剤は、２種以上の重合性基を有し、かつ、その重合性基は一つの分子内に異なる重合機構の重合性基を２つ以上有する化合物から成る。本発明では、剥離防止剤として、一つの分子内にラジカル重合性基とカチオン重合性基とを有する化合物を用いる。このような剥離防止剤は市販品でもよい。これらの化合物は配向層の重合性基や極性基と相互作用する。相互作用の機構は様々、考えられるが、水素結合や分子間相互作用が中心であると考えられる。それらの相互作用で剥離防止剤と配向層の密着力が促進され、重合性液晶化合物と剥離防止剤が共重合することでパターン化位相差板としての密着性が確保されると推定される。
ラジカル重合する重合性基としては、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、マレイミド基、またはビニルケトン基が挙げられる。
カチオン重合する重合性基としては、オキシラニル基、オキセタニル基、またはビニルエーテル基が挙げられる。
【００２５】
このような剥離防止剤の１種又は２種以上を用いることができる。剥離防止剤は、重合性液晶化合物の全重量に対して、０．１〜２０重量％添加することが好ましく、より好ましくは０．５〜１５重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％である。
【００２６】
剥離防止剤としては、下記一般式（Ａ１）や（Ａ２）で表されるものが好ましい。  
【００２７】
【化１】
2014219659.tif 000003
【００２８】
（Ａ１）および（Ａ２）において、Ｚ１は独立して水素またはメチルであり；Ｚ２は独立して水素、メチルまたはエチルであり；ｎは１から１０の整数であり；ｄは０または１である。
【００２９】
（Ａ１）および（Ａ２）の具体例としては、グリシジルメタクリレート（日油株式会社製ブレンマー（登録商標）Ｇシリーズ）、メチルグリシジルメタクリレート（ダイセル株式会社製Ｍ−ＧＭＡ）、オキセタンアクリレート（大阪有機化学工業株式会社製ＯＸＥ-１０）、オキセタンメタクリレート（大阪有機化学工業株式会社製ＯＸＥ−３０）、エポキシシクロヘキシルメタクリレート（ダイセル株式会社製）等が挙げられる。  
【００３０】
重合性液晶化合物として用いられるものは、好ましくは１種または２種以上の重合性基を有する液晶化合物である。本発明に用いられる重合性液晶化合物は、フーベン・ヴァイル（Houben Wyle, Methoden der Organischen Chemie, Georg Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、オーガニック・シンセセーズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などに記載された、有機化学における合成方法を適切に組み合わせることにより合成できる。具体例としては、特開２０１１−１４８７６２号公報、国際公開第９３／２２３９７号、国際公開第９５／２２５８６号、国際公開第９７／００６００号、英国特許出願公開第２３５１７３４号明細書、独国特許出願公開第１９５０４２２４号明細書、欧州特許出願公開第０２６１７１２号明細書等である。これらの文献中に記載の重合性液晶化合物は、例示であり、本発明の範囲を限定するものではない。
【００３１】
重合性液晶化合物としては下記式のものが挙げられるが、例示にすぎず、本発明の範囲を限定するものではない。
【００３２】
【化２】
2014219659.tif 000004
【００３３】
式（Ｍ１）および式（Ｍ２）において、
Ｐ１は独立して重合性基であり、好ましくはアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、プロペニルエーテル基、グリシジル基、グリシジルエーテル基、オキセタニル基、オキセタニルエーテル基、マレイミド基、マレイミドカルボキシル基、チオール基、またはスチリル基である。
Ｒ１は独立して、水素、フッ素、塩素、−ＣＮまたは炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて、任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
Ａ１は独立して１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルであるが、任意の水素はハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい。
Ｘ１は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよい。
Ｚ１は独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、または−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−である。
ｓは独立して１〜５の整数である。
【００３４】
より具体的には、以下のようなものが挙げられる。
【化３】
2014219659.tif 000005
【００３５】
上記記載の−ＣＯ２−は、−ＣＯＯ−と同義である。
式（Ｍ１ａ）〜（Ｍ２ｃ）において、Ｐ１は独立して重合性基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、プロペニルエーテル基、グリシジル基、グリシジルエーテル基、オキセタニル基、オキセタニルエーテル基、マレイミド基、マレイミドカルボキシル基、チオール基、またはスチリル基である。好ましくはアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジル基、グリシジルエーテル基、オキセタニル基、オキセタニルエーテル基である。
Ｒ１は独立して水素、フッ素、塩素、−ＣＮまたは炭素数１〜２０のアルキルであり、このアルキルにおいて、任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
環Ａ３は独立して、１，４−シクロへキシレン、または１，４−フェニレンである。
Ｗ１は独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキルである。
Ｘ１は独立して単結合または炭素数１〜２０のアルキレンであり、このアルキレン中の任意の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよい。
Ｚ１は独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、また
は−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−である。
ｐおよびｑは独立して０または１である。
ｎは独立して０〜２０の整数である。
【００３６】
【化４】
2014219659.tif 000006
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０で
ある。
【００３７】
【化５】
2014219659.tif 000007
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。  
【００３８】
【化６】
2014219659.tif 000008
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。  
【００３９】
【化７】
2014219659.tif 000009
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。  
【００４０】
【化８】
2014219659.tif 000010
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。
【００４１】
【化９】
2014219659.tif 000011
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。
【００４２】
【化１０】
2014219659.tif 000012
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。
【００４３】
【化１１】
2014219659.tif 000013
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。
【００４４】
【化１２】
2014219659.tif 000014
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。
【００４５】
【化１３】
2014219659.tif 000015
ｎは独立して０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１５、より好ましくは２〜１０である。
【００４６】
重合性液晶化合物としては上記のうち１種又は２種以上を選択して用いることができる。上記の中でも、（Ｍ１ａ−１）〜（Ｍ１ａ−３）、（Ｍ１ａ−５）〜（Ｍ１ａ−１１）、（Ｍ１ａ−１３）〜（Ｍ１ａ−１７）、（Ｍ２ａ−１）〜（Ｍ２ａ−６）、（Ｍ２ａ−９）、（Ｍ２ｂ−２）〜（Ｍ２ｂ−４）、（Ｍ２ｂ−６）〜（Ｍ２ｂ−９）、（Ｍ２ｂ−
１２）、（Ｍ２ｂ−１６）〜（Ｍ２ｂ−１７）、（Ｍ２ｂ−１９）、（Ｍ２ｃ−２）〜（Ｍ２ｃ−３）、（Ｍ２ｃ−７）および（Ｍ２ｃ−１１）から選択されるものが好ましい。
（Ｍ１ａ−１）〜（Ｍ１ａ−３）、（Ｍ１ａ−５）〜（Ｍ１ａ−１１）、（Ｍ１ａ−１３）〜（Ｍ１ａ−１７）から選択される１種以上を１０〜６０重量％、（Ｍ２ａ−１）〜（Ｍ２ａ−５）から選択される１種以上を０．１〜６０重量％、（Ｍ２ｂ−２）〜（Ｍ２ｂ−４）、（Ｍ２ｂ−６）〜（Ｍ２ｂ−９）から選択される１種以上を１０〜７０重量％、（Ｍ２ｃ−２）〜（Ｍ２ｃ−３）から選択される１種以上を１０〜５０重量％の範囲で用いることが好ましい。
また、（Ｍ２ａ−６）、（Ｍ２ａ−９）から選択される１種以上を１〜６０重量％、（Ｍ２ｂ−１２）、（Ｍ２ｂ−１６）〜（Ｍ２ｂ−１７）、（Ｍ２ｂ−１９）から選択される１種以上を１０〜７０重量％、（Ｍ２ｃ−７）および（Ｍ２ｃ−１１）から選択される１種以上を１０〜５０重量％の範囲で用いることが好ましい。
【００４７】
特に好ましくは、（Ｍ１ａ−５）、（Ｍ１ａ−７）、（Ｍ２ａ−４）および（Ｍ２ｂ−２）の組み合わせであり、（Ｍ１ａ−５）を２０〜３０重量％、（Ｍ１ａ−７）を２０〜３０重量％、（Ｍ２ａ−４）を０．１〜５重量％、（Ｍ２ｂ−２）を３５〜４５重量％の範囲で用いることが好ましい。
また、特に好ましくは、（Ｍ２ａ−６）、（Ｍ２ａ−９）および（Ｍ２ｃ−７）の組み合わせであり、（Ｍ２ａ−６）、（Ｍ２ａ−９）から選択される１種以上を３〜６０重量％、（Ｍ２ｃ−７）を３０〜５０重量％の範囲で用いることが好ましい。
また、ビス［４−［４−（アクリロイルオキシ）ブトキシカルボニルオキシ］安息香酸］２−メチル−１，４−フェニレン（ＢＡＳＦ製：ＬＣ−２４２）も好ましく例示でき、ＬＣ−２４２と、上記の重合性液晶化合物から選択される１種以上とを組み合わせて用いることもできる。
【００４８】
本発明に係る重合性液晶化合物には、重合性液晶化合物と異なるその他の重合性化合物を含有してもよい。重合性基を１つ有する化合物の例は、スチレン、核置換スチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリドン、脂肪酸ビニル（例：酢酸ビニル）、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル（アルキルの炭素数が、１〜１８）、（メタ）アクリル酸のヒドロキシアルキルエステル（ヒドロキシアルキルの炭素数が、１〜１８）、（メタ）アクリル酸のアミノアルキルエステル（アミノアルキルの炭素数が、１〜１８）、（メタ）アクリル酸のエーテル酸素含有アルキルエステル（エーテル酸素含有アルキルの炭素数が、３〜１８、例：メトキシエチルエステル、エトキシエチルエステル、メトキシプロピルエステル、メチルカルビルエステル、エチルカルビルエステル、およびブチルカルビルエステル）、Ｎ−ビニルアセトアミド、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸ビニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、２，２−ジメチルブタン酸ビニル、２，２−ジメチルペンタン酸ビニル、２−メチル−２−ブタン酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、２−エチル−２−メチルブタン酸ビニル、ジシクロペンタニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシルエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジメチルアダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレートである。          
【００４９】
重合性基を２つ有する化合物の例は、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡ  ＥＯ付加ジアクリレート、ビスフェノールＡグリシジルジアクリレート（ビスコート  Ｖ＃７００）、ポリエチレングリコールジアクリレート、およびこれらの化合物の
メタクリレート化合物などである。「ビスコート」は大阪有機化学株式会社の商品名である。これらの化合物は、重合体の被膜形成能をさらに高めるのに適している。  
【００５０】
重合性基を３つ以上有する化合物の例は、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールＥＯ付加トリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、トリス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ビスコート  Ｖ＃８０２（官能基数＝８）、ビスコート  Ｖ＃１０００（官能基数＝平均１４）である。「ビスコート」は大阪有機化学株式会社の商品名である。官能基が１６以上のものはＰｅｒｓｔｏｒｐ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓが販売しているＢｏｌｔｏｒｎ  Ｈ２０（１６官能）、Ｂｏｌｔｏｒｎ  Ｈ３０（３２官能）、Ｂｏｌｔｏｒｎ  Ｈ４０（６４官能）を原料にそれらをアクリル化することで得られる。
【００５１】
本発明に用いられる重合性液晶化合物には添加剤を含むことができる。添加剤としては、例えば、界面活性剤、重合開始剤、光増感剤、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、連鎖移動剤、カップリング剤、希釈剤、反応性希釈剤、チキソ剤（レオロジーコントロール剤）、着色剤、染料、またはその他の補助剤である。  
【００５２】
界面活性剤は、シリコン系、フッ素系、ポリエーテル系、アクリル酸共重合物系、チタネート系化合物、イミダゾリン、４級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族または芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物、ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキル基と親水性基とを有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基と親油性基とを有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基を有するウレタン、水酸基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、水酸基を有するポリエステルポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、水酸基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、およびポリエステル変性ポリアルキルシロキサン等の種々の化合物を用いることができる。界面活性剤は重合性液晶組成物を支持基材などに塗布するのを容易にするなどの効果を有する。界面活性剤は市販のものを用いることもでき、例えば、ＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ＦＴＸ−２１８（商品名、ネオス株式会社）、ポリフローＮｏ．７７（商品名、共栄社化学株式会社）等が挙げられる。界面活性剤の好ましい割合は、界面活性剤の種類、重合性液晶化合物の組成比などにより異なるが、重合性液晶化合物１００重量部に対して、０．０１〜５重量部であり、より好ましくは０．１〜３重量部である。
【００５３】
重合性液晶化合物の重合速度を最適化するために、公知の光重合開始剤を用いてもよい。光重合開始剤の好ましい添加量は、重合性液晶化合物１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部である。この重量比のより好ましい範囲は０．１〜１５重量部である。さらに好ましい範囲は１〜１５重量部である。光重合開始剤の例は、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（Ｄａｒｏｃｕｒ（登録商標）１１７３）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）６５１）、１−ヒドロキシ−シクロヘキ
シル−フェニル−ケトン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ５００（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４とベンゾフェノンの混合物）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１３００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１７００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８５０、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８７０、Ｄａｒｏｃｕｒ４２６５、ＤａｒｏｃｕｒＭＢＦ、ＤａｒｏｃｕｒＴＰＯ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、およびＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０２である。上記のＤａｒｏｃｕｒおよびＩｒｇａｃｕｒｅはどちらもＢＡＳＦジャパン株式会社から販売されている商品の名称である。これらに公知の増感剤（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート（ＤａｒｏｃｕｒＥＤＢ）、２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート（ＤａｒｏｃｕｒＥＨＡ）など）を添加してもよい。
【００５４】
光ラジカル重合開始剤のその他の例は、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物、ベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物などである。
【００５５】
１種または２種以上の連鎖移動剤を重合性液晶組成物に加えて、重合体の機械特性を制御することが可能である。連鎖移動剤を用いることによりポリマー鎖の長さまたはポリマーフィルムにおける２つの架橋ポリマー鎖の長さを制御することができる。これらの長さを同時に制御することもできる。連鎖移動剤の量を増大させると、ポリマー鎖の長さは減少する。好ましい連鎖移動剤は、チオール化合物である。単官能性チオールの例はドデカンチオール、２−エチルへキシル−（３−メルカプトプロピオネートである。多官能性チオールの例は、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン（カレンズＭＴ  ＢＤ１）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（カレンズＭＴ  ＰＥ１）、および１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（カレンズＭＴ  ＮＲ１）である。「カレンズ」は昭和電工株式会社の商品名であり、登録商標である。
【００５６】
重合性液晶組成物には、保存時の重合開始を防止するために重合防止剤を添加することができる。公知の重合防止剤を使用できるが、その好ましい例は、２，５−ジ（ｔ−ブチル）ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ハイドロキノン、メチルブルー、ジフェニルピクリン酸ヒドラジド（ＤＰＰＨ）、ベンゾチアジン、４−ニトロソジメチルアニリン（ＮＩＤＩ）、ｏ−ヒドロキシベンゾフェノンなどである。
【００５７】
重合性液晶組成物の保存性を向上させるために、酸素阻害剤を添加することもできる。組成物内で発生するラジカルは雰囲気中の酸素と反応しパーオキサイドラジカルを与え、重合性化合物との好ましくない反応が促進される。これを防ぐ目的で酸素阻害剤を添加することが好ましい。酸素阻害剤の例はリン酸エステル類である。
【００５８】
重合性液晶組成物の耐候性を更に向上させるために、紫外線吸収剤、光安定剤（ラジカ
ル捕捉剤）および酸化防止剤等を添加してもよい。紫外線吸収剤の例は、ＴＩＮＵＶＩＮ
ＰＳ、ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ９９−２、ＴＩＮＵＶＩＮ  １０９、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２９、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３８４−２、ＴＩＮＵＶＩＮ
５７１、ＴＩＮＵＶＩＮ  ９００、ＴＩＮＵＶＩＮ  ９２８、ＴＩＮＵＶＩＮ  １１３０、ＴＩＮＵＶＩＮ  ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ  ４０５、ＴＩＮＵＶＩＮ  ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ  ４７９、ＴＩＮＵＶＩＮ  ５２３６、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３４、アデカスタブＬＡ−３６、アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブ１４１３、およびアデカスタブＬＡ−５１である。「ＴＩＮＵＶＩＮ」はＢＡＳＦジャパン株式会社の商品名である。また、「アデカスタブ」は株式会社ＡＤＥＫＡの商品名であり、登録商標である。
【００５９】
光安定剤の例は、ＴＩＮＵＶＩＮ  １１１ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ  １２３、ＴＩＮＵＶＩＮ  １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ  １５２、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２９２、ＴＩＮＵＶＩＮ  ６２２、ＴＩＮＵＶＩＮ  ７７０、ＴＩＮＵＶＩＮ  ７６５、ＴＩＮＵＶＩＮ  ７８０、ＴＩＮＵＶＩＮ  ９０５、ＴＩＮＵＶＩＮ  ５１００、ＴＩＮＵＶＩＮ  ５０５０、ＴＩＮＵＶＩＮ  ５０６０、ＴＩＮＵＶＩＮ  ５１５１、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  １１９ＦＬ、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  ９４４ＦＬ、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  ９４４ＬＤ、アデカスタブＬＡ−５２、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７、日本サイテックインダストリーズ株式会社製のサイアソーブＵＶ−３３４６、およびグッドリッチ社のグッドライトＵＶ−３０３４である。「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ」はＢＡＳＦジャパン株式会社の商品名であり、登録商標である。
【００６０】
酸化防止剤の例は、株式会社ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−６０、ＡＯ−８０、並びに住友化学株式会社から販売されているスミライザーＢＨＴ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、およびスミライザーＧＡ−８０、並びにＢＡＳＦジャパン株式会社から販売されているＩｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、およびＩｒｇａｎｏｘ２４５である。これらの市販品を用いてもよい。
【００６１】
重合性液晶化合物には、剥離防止剤の効果を阻害しない範囲で配向層との密着性を制御するために、シランカップリング剤をさらに添加してもよい。具体的には、ビニルトリアルコキシシシラン、３−アミノプロピルトリアルコキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリアルコキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、３−クロロトリアルコキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランなどである。別の例は、これらの化合物において、アルコキシ基（３つ）のうちの１つをメチルに置き換えられたジアルコキシメチルシランである。好ましいシランカップリング剤は、３−アミノプロピルトリエトキシシランである。
【００６２】
本発明に用いられる重合性液晶化合物はそのまま塗布できる。しかしながら、塗布を容易にするために、溶剤が支持基材や配向層を侵食しないようであれば重合性液晶化合物を溶剤で希釈してもよい。有機溶剤は、均一な厚さの塗膜を生成させるのに有用である。塗布後、加熱して有機溶剤を除去することで重合性液晶化合物の均一な厚さの塗膜が得られる。この溶剤は単独でも使用できるし、２つ以上を混合して使用してもよい。溶剤の例はエステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤および脂環式炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、およびアセテート系溶剤である。
【００６３】
エステル系溶剤の好ましい例は、酢酸アルキル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチルおよび酢酸イソペンチル）、トリフルオロ酢酸エチル、プロピオン酸アルキル（例：プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピルおよびプロピオン酸ブチル）、酪酸アルキル（例：酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イソブチルおよび酪酸プロピル）、マロン酸ジアルキル（例：マロン酸ジエチル）、グリコール酸アルキル（例：グリコール酸メチルおよびグリコール酸エチル）、乳酸アルキル（例：乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸イソプロピル、乳酸n-プロピル、乳酸ブチルおよび乳酸エチルヘキシル）、モノアセチン、γ−ブチロラクトンおよびγ−バレロラクトンである。
【００６４】
アミド系溶剤の好ましい例は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびジメチルイミダゾリジノンである。  
【００６５】
アルコール系溶剤の好ましい例は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ブタノール、２−エチルブタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、１−ドデカノール、エチルヘキサノール、３、５、５−トリメチルヘキサノール、ｎ−アミルアルコール、ヘキサフルオロ−２−プロパノール、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３−メチル−３−メトキシブタノール、シクロヘキサノールおよびメチルシクロヘキサノールである。
【００６６】
エーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ビス（２−プロピル）エーテル、１，４−ジオキサンおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）である。
【００６７】
グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノアルキルエーテル（例：エチレングリコールモノメチルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテル）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテル）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：プロピレングリコールモノブチルエーテル）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル）、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、トリエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート（例：ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、およびジエチレングリコールメチルエチルエーテルである。
【００６８】
芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール、
ｐ−サイメン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ｉ−プロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、ｔ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベンゼン、ｎ−ブチルベンゼン、およびテトラリンである。ハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤の好ましい例はクロロベンゼンである。脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、ヘキサンおよびヘプタンである。ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤の好ましい例は、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレンおよびテトラクロロエチレンである。脂環式炭化水素系溶剤の好ましい例は、シクロヘキサンおよびデカリンである。  
【００６９】
ケトン系溶剤の好ましい例は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、およびメチルプロピルケトンである。  
【００７０】
アセテート系溶剤の好ましい例は、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセト酢酸メチル、および１−メトキシ−２−プロピルアセテートである。
【００７１】
重合性液晶化合物の溶解性の観点からは、アミド系溶剤、芳香族炭化水素系、ケトン系溶剤の使用が好ましく、溶剤の沸点を考慮すると、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤の併用も好ましい。溶剤の選択に関して特に制限はないが、支持基材としてプラスチック基材を用いる場合は、基材の変形を防ぐために乾燥温度を低くすること、および溶剤が支持基材を侵食しないようにする必要がある。このような場合に好ましく用いられる溶剤としては、芳香族炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、アセテート系溶剤、グリコールモノアルキルエーテル系溶剤である。
【００７２】
重合性液晶化合物の溶液における溶剤の割合は、この溶液の全重量を基準として０〜９５重量％である。この範囲の下限は支持基材が溶剤による侵食を受ける場合を考慮した数値である。そしてその上限は、溶液粘度、溶剤コストおよび溶剤を蒸発させる際の時間や熱量といった生産性を考慮した数値である。この割合の好ましい範囲は０〜９０重量％であり、より好ましい範囲は０〜８５重量％である。
【００７３】
本発明のフィルム（位相差板）は次のようにして形成される。
支持基材上に配向層を形成し、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物またはその混合物の溶液を塗布、乾燥させて塗膜（重合性液晶組成物層）を形成させる。次に、その塗膜に光照射して重合させて、塗膜中の組成物が液晶状態で形成するネマチック配向を固定化する。本発明において、液晶組成物層は重合性液晶組成物層に含まれる重合性液晶化合物の配向を固定化して得られる。液晶組成物層は１層でもよいが、２層以上設けてもよい。
【００７４】
位相差板はパターン化されていてもよい。パターン化位相差板は次のようにして形成される。
形成の第１の方法は、支持基材上に形成された配向層をパターン処理し、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物またはその混合物の溶液を塗布、乾燥させて塗膜を形成させる。次に、その塗膜に光照射して重合させて、塗膜中の組成物が液晶状態で形成するネマチック配向を固定化する。
【００７５】
形成の第２の方法は、支持基材上に形成された配向層を均一配向処理し、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物またはその混合物の溶液を塗布、乾燥させて塗膜を形成させる。そして、同一方向に配向処理した重合性液晶組成物層にフォトマスクを介し光照射で重合させ、ネマチック配向を固定化する。ここで未照射領域を溶剤で除去する。  
【００７６】
形成の第３の方法は、支持基材上に形成された配向層を均一配向処理し、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物またはその混合物の溶液を塗布、乾燥させて塗膜を形成させる。そして、同一方向に配向処理した重合性液晶組成物層にフォトマスクを介し光照射で重合させ、ネマチック配向を固定化する。ここで未照射領域を加熱により液晶相を発現しない等方相に変化させた状態で、光もしくは熱で重合させる。
【００７７】
使用できる支持基材は、ガラスおよびプラスチックフィルムである。プラスチックフィルムの例は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロースおよびその部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、およびシクロオレフィン系樹脂などのフィルムである。これらの中でも、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、フェノール樹脂、およびシクロオレフィン系樹脂等が好ましい。
【００７８】
シクロオレフィン系樹脂としてノルボルネン系樹脂、ジシクロペンタジエン系樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中で、不飽和結合を有さないか、又は不飽和結合が水素添加されたものが好適に用いられる。例えば、１種又は２種以上のノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体の水素添加物、１種又は２種以上のノルボルネン系モノマーの付加（共）重合体、ノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマー（エチレン、α−オレフィン等）との付加共重合体、ノルボルネン系モノマーとシクロオレフィン系モノマー（シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエン等）との付加共重合体、及び、これらの変性物等が挙げられる。具体的には、ＺＥＯＮＥＸ（商品名、登録商標）、ＺＥＯＮＯＲ（商品名、登録商標、日本ゼオン株式会社製）、ＡＲＴＯＮ（商品名、ＪＳＲ株式会社製）、ＴＯＰＡＳ（商品名、チコナ社製）、ＡＰＥＬ（商品名、三井化学株式会社製）、エスシーナ（商品名、登録商標、積水化学工業株式会社製）、ＯＰＴＯＲＥＺ（商品名、日立化成株式会社製）等が挙げられる。
【００７９】
これらのプラスチックフィルムは、一軸延伸フィルムであってよく、二軸延伸フィルムであってもよい。これらのプラスチックフィルムは、例えば、コロナ処理やプラズマ処理などの親水化処理、あるいは疎水化処理などの表面処理を施したものであってもよい。親水化処理の方法は特に制限はないが、コロナ処理あるいはプラズマ処理が好ましく、特に好ましい方法はプラズマ処理である。プラズマ処理は、特開２００２−２２６６１６号公報、特開２００２−１２１６４８号公報などに記載されている方法を用いてもよい。また、液晶フィルムとプラスチックフィルムとの密着性を改良するためにアンカーコート層を形成させてもよい。このようなアンカーコート層は配向層やパターン化位相差板とプラスチックフィルムの密着性を高めるものであれば、無機系、有機系のいずれの材料であっても何ら問題はない。また、プラスチックフィルムは積層フィルムであってもよい。プラスチックフィルムに代えて、表面にスリット状の溝をつけたアルミニウム、鉄、銅などの金属基材や、表面をスリット状にエッチング加工したアルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスなどのガラス基材などを用いることもできる。
【００８０】
これらのガラス、プラスチックフィルム等の支持基材には、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物の塗膜形成に先立って、ラビング等による物理的、機械的な表面処理が行われてもよい。パターン化位相差板の一部にホメオトロピック配向を用いる場合はラビング等の表面処理を行わない場合が多いが、配向欠陥等を防止する点でラビング処理を行ってもよい。ラビング処理には任意の方法が採用できるが、通常はレーヨン、綿、ポリアミドなどの素材からなるラビング布を金属ロールなどに捲き付け、支持基材または配向層に接
した状態でロールを回転させながら移動させる方法、ロールを固定したまま支持基材側を移動させる方法などが採用される。ラビング処理は支持基材に直接施されていてもよく、または支持基材上に予め配向層を設け、その配向層にラビング処理を施してもよい。ラビング処理の方法は前述のとおりである。支持基材の種類によっては、その表面に酸化ケイ素を傾斜蒸着して配向能を付与することもできる。
【００８１】
重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物またはその溶液を塗布する際、均一な膜厚を得るための塗布方法の例は、スピンコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、メニスカルコート法およびダイコート法である。特に、塗布時に液晶化合物にせん断応力がかかるワイヤーバーコート法等を、ラビング等による支持基材の表面処理を行わないで重合性液晶化合物の配向を制御する場合に用いてもよい。
【００８２】
重合性液晶化合物と剥離防止剤あるいはその混合物を塗布する際には溶剤を添加することがある。少なくとも重合性液晶化合物と剥離防止剤、および溶剤を含む本発明の混合物を総称して、重合性液晶組成物の溶液と表記される。以下の組み合わせも同様である。
重合性液晶化合物と剥離防止剤、添加剤、溶剤、その他の重合性化合物の組み合わせ。
重合性液晶化合物と剥離防止剤、添加剤、溶剤の組み合わせ。
なお、少なくとも重合性液晶化合物および剥離防止剤の組み合わせ、すなわち溶剤を含まない場合は重合性液晶組成物と表記される。例えば、重合性液晶化合物と剥離防止剤、添加剤、その他の重合性化合物の組み合わせとなる場合である。
【００８３】
重合性液晶組成物の溶液を塗布するときには、塗布後に溶剤を除去して、支持基材上に膜厚の均一な重合性液晶組成物層、即ち重合性液晶組成物から成る層を形成させる。溶剤除去の条件は特に限定されない。溶剤がおおむね除去され、重合性液晶組成物から成る塗膜の流動性がなくなるまで乾燥すればよい。室温での風乾、ホットプレートでの乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなどを利用して溶剤を除去することができる。重合性液晶化合物の種類と組成比によっては、塗膜を乾燥する過程で、塗膜中のネマチック配向が完了していることがある。従って、乾燥工程を経た塗膜は、後述する熱処理工程を経由することなく、重合工程に供することができる。
【００８４】
塗膜を熱処理する際の温度および時間、光照射に用いられる光の波長、光源から照射する光の量などは、重合性液晶化合物の種類と組成比、重合開始剤の添加の有無やその添加量などによって、好ましい範囲が異なる。従って、以下に説明する塗膜の熱処理の温度および時間、光照射に用いられる光の波長、および光源から照射する光の量についての条件は、あくまでもおよその範囲を示すものである。
【００８５】
塗膜の熱処理は、溶剤が除去され重合性液晶化合物の均一配向性が得られる条件で行うことが好ましい。重合性液晶化合物の液晶相転移点以上で行ってもよい。熱処理方法の一例は、前記重合性液晶化合物がネマチック液晶相を示す温度まで塗膜を加温して、塗膜中の重合性液晶化合物にネマチック配向を形成させる方法である。重合性液晶化合物がネマチック液晶相を示す温度範囲内で、塗膜の温度を変化させることによってネマチック配向を形成させてもよい。この方法は、上記温度範囲の高温域まで塗膜を加温することによって塗膜中にネマチック配向を概ね完成させ、次いで温度を下げることによってさらに秩序だった配向にする方法である。上記のどちらの熱処理方法を採用する場合でも、熱処理温度は、通常２５℃〜１２０℃である。この温度の好ましい範囲は２５℃〜１００℃であり、より好ましい範囲は２５℃〜９０℃、さらに好ましい範囲は２５℃〜８０℃である。熱処理時間は、通常５秒〜２時間である。この時間の好ましい範囲は１０秒〜４０分であり、より好ましい範囲は２０秒〜２０分である。重合性液晶組成物層の温度を所定の温度まで上昇させるためには、熱処理時間を５秒以上にすることが好ましい。生産性を低下させ
ないためには、熱処理時間を２時間以内にすることが好ましい。このようにして本発明の重合性液晶組成物層が得られる。
【００８６】
重合性液晶組成物層中に形成された重合性液晶化合物のネマチック配向状態は、光照射により重合することによって固定化される。光照射に用いられる光の波長は特に限定されない。電子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）などを利用することができる。通常は、紫外線または可視光線を用いればよい。波長の範囲は、通常１５０〜５００ｎｍである。好ましい範囲は２５０〜４５０ｎｍであり、より好ましい範囲は３００〜４００ｎｍである。光源の例は、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などである。光源の好ましい例は、メタルハライドランプやキセノンランプ、超高圧水銀ランプおよび高圧水銀ランプである。光源と重合性液晶組成物層との間にフィルターなどを設置して特定の波長領域のみを通すことにより、照射光源の波長領域を選択してもよい。光源から照射する光量は、通常２〜５０００ｍＪ／ｃｍ2である。光量の好ましい範囲は１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であり、より好ましい範囲は１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。光照射時の温度条件は、上記の熱処理温度と同様に設定されることが好ましい。また、重合環境の雰囲気は窒素雰囲気、不活性ガス雰囲気、空気雰囲気のいずれでもよいが、窒素雰囲気あるいは不活性ガス雰囲気が硬化性を向上させる観点から好ましい。
【００８７】
重合性液晶組成物層、およびこれを光や熱などにより重合させたパターン化位相差板（液晶フィルム）を様々な光学素子に用いる場合、または液晶表示装置に用いる光学補償素子として適用する場合には、厚み方向におけるチルト角の分布の制御が極めて重要となる。
【００８８】
チルト角を制御する方法の一つは、重合性液晶化合物の種類や組成比などを調整する方法である。この重合性液晶化合物に他の成分を添加することによっても、チルト角を制御することができる。チルト角は、溶剤の種類や溶質濃度、他の成分の１つとして加える界面活性剤の種類や添加量などによっても制御することができる。支持基材または配向層の種類や配向処理条件、重合性液晶化合物と剥離防止剤の混合物からなる塗膜の乾燥条件や熱処理条件などによっても、チルト角を制御することができる。さらに、配向後の光重合工程での照射雰囲気や照射時の温度などもチルト角に影響を与える。即ち、パターン化位相差板の製造プロセスにおけるほとんど全ての条件が多少なりともチルト角に影響を与えると考えてよい。従って、重合性液晶化合物の最適化と共に、パターン化位相差板の製造プロセスの諸条件を適宜選択することにより、任意のチルト角にすることができる。本発明においては、液晶組成物層の配向状態をホモジニアス配向で用いる。
【００８９】
ホモジニアス配向にするために配向層を支持基材上に形成する場合は、配向方向の制御が必要となる。重合性液晶化合物の配向方向の制御方法としてはラビング法、光配向処理法、ナノインプリンティング法、延伸法等が用いられる。
ラビング法を用いる場合は、配向層としてポリイミド系、ポリビニルアルコール系材料の配向膜が用いられる。光配向処理法を用いる場合は、配向層として（メタ）アクリレート系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、シロキサン系ポリマー等を主成分とする光配向膜が用いられる。光配向膜を用いる場合は、感光性を有する部位がポリマー構造に必要であり、重合性液晶化合物を配向させるためには、感光部位がアゾ部位である光異性化型ポリマー、シンナメート部位あるいはカルコン部位を有する光二量化型ポリマー、シクロブタン部位を有する光分解型ポリマーが好ましく、感度の点からは光二量化型ポリマーがより好ましく用いられる。
光二量化型ポリマーとしては、（メタ）アクリレート系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、シロキサン系ポリマー等が好ましく、このポリマーの側鎖に、光二量化部位と
してシンナメート構造あるいはカルコン構造を有する（メタ）アクリレート系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマーが好ましく用いられる。
本発明においては、密着性および耐久性という観点から、配向層が上記（メタ）アクリレート系ポリマーを含むことが好ましい。配向層に用いるポリマーのうち上記（メタ）アクリレート系ポリマーの占める割合は、３０〜１００重量％であることが好ましく、５０〜１００重量％がより好ましい。配向層が（メタ）アクリレート系ポリマーであることが特に好ましい。
【００９０】
配向層が（メタ）アクリレート系ポリマーを含む場合、（メタ）アクリレート系ポリマー以外には、例えば、イタコン酸誘導体、ビニルエーテル、スチレン又はその誘導体、ビニルエステル、マレイミド又はその誘導体、アリル化合物又はその誘導体、アクリロニトリル又はその誘導体等その他ビニルモノマーなどを用いてもよい。これら他のモノマーは１種単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
従来では、ホモジニアス配向する組成物で密着が良好なものとしては、環状エーテル組成物等が知られていた。一方、これまで密着性および耐久性に劣るとされていた（メタ）アクリル系ポリマーでも前記特定の剥離防止剤を添加することで密着性が向上することを見出した。さらに（メタ）アクリル系ポリマー自体はホモジニアス配向する組成であれば何でも良く、剥離防止剤の添加で配向を乱さずに密着性を向上させることができる。  
【００９１】
（メタ）アクリレート系ポリマーの形成に用いるモノマーは、感光部位として光二量化又は光異性化する構造を含むことが好ましい（当該モノマーを、以下、光配向性モノマーともいう）。光二量化する構造（光配向性基）としては、シンナメート構造（シンナメート基に由来する構造）、カルコン構造（カルコンに由来する構造）等が挙げられる。また、光異性化する構造としては、アゾ基等が挙げられる。
（メタ）アクリレート系ポリマーには、光配向性モノマーのホモポリマー、又は光配向性モノマーと他の非光二量化（非光配向性）(メタ）アクリル系モノマーとのコポリマーを用いることが好ましい。
【００９２】
上記（メタ）アクリレート系ポリマーのうち光配向性基を有するモノマーとしては、下記式（Ｉ−１−１）、（Ｉ−２−１）、又は（Ｉ−３−１）で表される構成単位となるモノマーを例示することができる。このようなモノマーは公知の方法により得ることができる。
【００９３】
【化１４】
2014219659.tif 000016
（上記式中、Ｒ1は水素、又は任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｒ８は水素、メチル基、又は下記式（ＩＩ）で表される基を示し、Ｒ９は水素、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、又は任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基を示し、Ｚ１は単結合、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を示し、ｏは２〜６の整数、ｐは０〜２の整数、ｑは０又は１を表し、ｗはモル分率であり、ｗ＜１の関係を満たし、フェニレン基の少なくとも１つの水素はフッ素、メチル基、又はメトキシ基で置き換えられていてもよい。）
【００９４】
【化１５】
2014219659.tif 000017
（上記式中、Ｒ１０は水素又はメチル基を示し、ｔは０又は１を表す。）
【００９５】
上記式（Ｉ−１−１）の構成単位となる光配向性モノマーとしては、例えば、下記式（Ｉ−１−１−ａ）〜（Ｉ−１−１−ｌ）、及び式（Ｉ−１−１−ｍ）〜（Ｉ−１−１−ｘ）で表されるモノマー（下記式中、Ｒ１１は水素又はメチル基、Ｒ１２は水素または炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）などが挙げられる。
【００９６】
【化１６】
2014219659.tif 000018
【００９７】
【化１７】
2014219659.tif 000019
【００９８】
上記式（Ｉ−２−１）の構成単位となる光配向性モノマーとしては、例えば、下記式（Ｉ−２−１−ａ）〜（Ｉ−２−１−ｌ）、及び式（Ｉ−２−１−ｍ）〜（Ｉ−２−１−ｘ）で表されるモノマー（下記式中、Ｒ１１は水素又はメチル基、Ｒ１２は水素または炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）などが挙げられる。
【００９９】
【化１８】
2014219659.tif 000020
【０１００】
【化１９】
2014219659.tif 000021
【０１０１】
上記式（Ｉ−３−１）の構成単位となる光配向性モノマーとしては、例えば、下記式（Ｉ−３−１−ａ）〜（Ｉ−３−１−ｉ）、及び式（Ｉ−３−１−ｊ）〜（Ｉ−３−１−ｒ）で表されるモノマー（下記式中、Ｒ１１は水素又はメチル基、Ｒ１２は水素または炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）などが挙げられる。
【０１０２】
【化２０】
2014219659.tif 000022
【０１０３】
【化２１】
2014219659.tif 000023
【０１０４】
これらモノマーは単独でも異なる２種以上のモノマーを用いることもできる。中でも、式（Ｉ−３−１）の構成単位となる光配向性モノマーが好ましく、上記式（Ｉ−３−１）で表され、Ｒ８がメチル基、ｑ＝０、ｏ＝２、ｐ＝０、Ｒ１がメチル基の構成単位となる光配向性モノマー（すなわち、２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エチル＝２−メチルアクリラート）がより好ましい。
【０１０５】
（メタ）アクリレート系ポリマーに使用するモノマー混合物中、光配向性モノマーの含有量は、全モノマーに対して、通常２０重量％以上１００重量％未満であり、好ましくは４０〜９９．９９重量％、より好ましくは６０〜９５重量％である。
配向層を形成する方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができるが、塗布により形成することが好ましい。塗布の際には溶剤を用いてもよく、溶剤としては重合性液晶化合物の塗布に用いるものと同様のものを用いることができる。なかでも、シクロヘキサン、トルエン、シクロペンタノンから選択される溶剤を組み合わせて用いることが好ましい。塗布の方法も重合性液晶化合物の塗布と同様の方法を採用することができる。  
【０１０６】
上記（メタ）アクリレート系ポリマーのうち非光配向性のモノマーとしては、アルキルモノ（メタ）アクリレート、アリールモノ（メタ）アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビニルエーテル、スチレン又はその誘導体、ビニルエステル等その他ビニルモノマーなどが挙げられる。これら他のモノマーは１種単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
【０１０７】
非光配向性のモノマーとしてしては例えば、（メタ）アクリル酸；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキルモノ（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のアリールモノ（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、及び３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレート；ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、及び２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノ（メタクリレート）及びヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレート以外の水酸基含有モノ（メタ）アクリレート；１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、及びモノヒドロキシペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のシリコーン基、フッ素置換アルキル基、及び光配向性基を有さない多官能（メタ）アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビニルエーテル、スチレン又はその誘導体、ビニルエステル、マレイン酸又はその誘導体、マレイミド又はその誘導体、フマル酸又はその誘導体、及びイタコン酸等その他ビニルモノマーなどが挙げられる。
【０１０８】
これら他のモノマーの中でも、配向層と液晶組成物層との密着性および耐久性を考慮すると、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキルモノ（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、及び３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレートが好ましい。
（メタ）アクリレート系ポリマーに用いる光配向性モノマーおよび非光配向性モノマーの組み合わせとしては、光配向性モノマーである２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エチル＝２−メチルアクリラートと、非光配向性モノマーとして２−ヒドロキシエチルメタクリレート、メチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸などが特に好ましい。
【０１０９】
なお、支持基材を直接ラビング処理する方法や、延伸処理したフィルムを支持基材として適用することでも重合性液晶化合物がホモジニアス（水平）配向となる場合がある。  
【０１１０】
本発明に係る液晶組成物層の厚さは、目的とする素子に応じたレタデーションや構成する重合性液晶化合物の複屈折率（Δｎ）によって厚さが異なる。好ましい厚さは、０．０５〜５０μｍである。そして、より好ましい範囲は０．１〜２０μｍであり、さらに好ましい範囲は０．２〜１０μｍである。
本発明に係るフィルムの好ましいヘイズ値は、通常１．５％以下であり、好ましい透過率は８０％以上である。より好ましいヘイズ値は１．０％以下であり、より好ましい透過率は９５％以上である。透過率については、可視光領域でこれらの条件を満たすことが好ましい。図４のように液晶組成物層を積層して用いる場合は、第２の液晶組成物層を第１の液晶組成物層上に第１の液晶組成物層の厚みを基準として、通常０．４倍〜１０．０倍、好ましくは１．０倍〜６．０倍、より好ましくは１．２倍〜６．０倍となるように設けるとよい。
【０１１１】
パターン化位相差板は、液晶表示素子（特に、アクティブマトリックス型およびパッシブマトリックス型の液晶表示素子）に適用する光学素子や有機エレクトロルミネッセンスに適用する光学素子として有効である。このパターン化位相差フィルムを使用するのに適している液晶表示素子の型の例は、ＩＰＳ型（イン・プレーン・スイッチング）、ＯＣＢ型（光学的に補償された複屈折）、ＴＮ型（ツィステッド・ネマティック）、ＳＴＮ型（スーパー・ツィステッド・ネマティック）、ＥＣＢ型（電気的に制御された複屈折）、ＤＡＰ型（整列相の変形効果）、ＣＳＨ型（カラー・スーパー・ホメオトロピック）、ＶＡＮ／ＶＡＣ型（垂直配向したネマチック／コレステリック）、ＯＭＩ型（光学モード干渉）、ＳＢＥ型（超複屈折効果）などである。さらにゲスト−ホスト型、強誘電性型、反強誘電性型などの表示素子として使用することもできる。なお、パターン化位相差板に求められるチルト角の厚み方向の分布や厚みなどのパラメーターの最適値は、補償すべき液晶表示素子の種類とその光学パラメーターに強く依存するので、素子の種類によって異なる。パターン化位相差板としては、１／４λ板や１／２λ板がある。これらは重合性液晶化合物がホモジニアス配向をした場合に得られる。
【０１１２】
上記液晶表示素子は立体画像表示装置に適用することができる。立体画像表示装置としては、欧州特許出願公開第０８２９７４４号明細書、欧州特許出願公開第０８８７６６６号明細書、欧州特許出願公開第０８８７６９２号明細書、米国特許第６０４６８４９号明細書、米国特許第６４３７９１５号明細書等に記載されている立体画像表示装置を用いることが好ましい。有機エレクトロルミネッセンス表示素子に適用する場合、直線偏光がパネルから出射される構成のとき、本願発明のパターン化位相差板を用いることにより立体画像表示が行えるようになる。
【０１１３】
パターン化位相差板は、偏光板などと一体化した光学素子としても使用することができ、この場合は液晶セルの外側に配置させられる。しかしながら、パターン化位相差板は、セルに充填された液晶への不純物の溶出がないかまたは少ないので、液晶セルの内部に配置させることも可能である。フォトリソグラフィー技術を適用すれば、液晶表示素子の青、緑、赤などの波長域の異なる画素ごとに、または１画素を分割して区分された所定の領域に、光学パラメーターの異なるパターン化位相差板を配置することができる。例えば、特開２００１−２２２００９号公報に開示されている方法を応用すれば、１画素を反射表示部と、液晶フィルムからなる１／４λ板を配置した透過表示部に分割することによって、光利用効率が改善された半透過反射型液晶表示素子を構築することができる。即ち、液晶表示素子の表示性能を更に向上させることが可能である。
【０１１４】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されな
い。
【実施例】
【０１１５】
［実施例１］
＜組成物（ＰＬＣ−１）の調製＞
化合物（Ｍ１ａ−５）（ｎ＝６）を３０重量％、化合物（Ｍ１ａ−７）（ｎ＝６）を３０重量％、化合物（Ｍ２ａ−４）（ｎ＝６）を５重量％、および化合物（Ｍ２ｂ−２）（ｎ＝６）を３５重量％からなる重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−１）を調製した。  
【０１１６】
次にこの重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−１）１００重量部に対して、剥離防止剤としてオキセタンメタクリレートＯＸＥ−３０（商品名、大阪有機化学工業株式会社製）を１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ２５０（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を１重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−１）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−１）とする。  
【０１１７】
＜重合性液晶フィルム（Ｆ−１）の作製＞
支持基材として、トリアセチルセルロースを使用した６０μｍ厚みのフィルムを用意した。この支持基材上に配向剤（２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エチル＝２−メチルアクリラート（Ａ成分）と２−ヒドロキシエチルメタクリレート（Ｂ成分）のコポリマー（共重合比＝Ａ成分／Ｂ成分＝９５／５（重量比）、重量平均分子量約７万、溶媒はシクロヘキサン／トルエン／シクロペンタノン＝１／６／３（重量比）、ポリマー濃度は５ｗｔ％）をバーコート塗布し、１００℃で１分間乾燥して厚み０．１μｍの配向層を形成した。この配向層の塗布面に対して９０°の方向から３１３ｎｍ付近の波長の直線偏光紫外線をストライプ状にパターニングしたフォトマスクを用いて露光した。露光においては、塗布する重合性液晶化合物の配列方向と支持基材の長手方向が平行となるように直線偏光を露光した。次にフォトマスクを外して最初の露光方向と直行する方向に直線偏光を露光した。このようにして、図３に示されるように、支持基材３０１上に、重合性液晶化合物の配向方向１０４が互いに異なる状態となるように重合性液晶化合物を配列するための配向層３０２を形成した。
【０１１８】
次にこの配向層に、重合性液晶組成物の溶液（ＰＬＣ−１）をバーコート塗布し、６０℃で１分乾燥することで重合性液晶化合物を配向層の各方向に配列させ、空気中において、室温で２５０Ｗの超高圧水銀灯を用い６５ｍＷ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の強度の光を６秒間試料に照射することで重合性液晶化合物の配向がパターン化された重合性液晶フィルム（Ｆ−１）を得た。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。シンテック株式会社製のＯＰＴＩＰＲＯ偏光解析装置を用いてこの重合性液晶フィルムのレタデーションを測定したところ、図５のような上に凸のグラフが得られた。これにより、この重合性液晶フィルムがホモジニアス配向をしていることがわかった。
レタデーション（retardation；位相遅れ）は、Δｎ×ｄで表される。記号Δｎは光学異方性であり、記号ｄは重合体フィルムの厚さである。重合体フィルムの厚さはテンコール社製アルファステップIQ等の触診式段差計や分光光度計などで測定でき、リタデーションの測定値と厚さの測定値よりΔｎを求めることができる。
【０１１９】
（密着性試験）
得られた重合性液晶フィルムをＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６の方法に従って、カッターナイフを用いて碁盤目状の１００マスの切り傷を付け、その上に一度セロテープ（登録商標）Ｎｏ．４０５産業用（ニチバン株式会社製）を密着させた後はがし、支持基材に残ったマスの数の１００目に対する割合を残膜率％として表し密着性の強さを評価した。（残
膜率の高いほうがより密着性が高いことを意味する。）その結果、残膜率は１００％であった。
【０１２０】
（耐久性試験）
得られた液晶フィルムを温度８０℃、湿度９０％に設定した環境試験機に投入し、一定時間経過後取り出し、再度密着性の強さを評価し、耐久性の評価とした。その結果、７２時間後の残膜率は９０％であった。
【０１２１】
［実施例２］
＜組成物（ＰＬＣ−２）の調製＞
実施例１に記載の重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−１）１００重量部に対して、剥離防止剤としてオキセタンアクリレートＯＸＥ−１０（商品名、大阪有機化学工業株式会社製）を１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−１）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−２）とする。  
【０１２２】
＜液晶フィルム（Ｆ−２）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（ＰＬＣ−２）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−２）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は１００％であった。さらに耐久試験の結果は残膜率が９５％であった。  
【０１２３】
［実施例３］
＜組成物（ＰＬＣ−３）の調製＞  
重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ製ＬＣ−２４２：ビス［４−［４−（アクリロイルオキシ）ブトキシカルボニルオキシ］安息香酸］２−メチル−１，４−フェニレン）１００重量部に対して、剥離防止剤としてオキセタンメタクリレートＯＸＥ−３０（商品名、大阪有機化学工業株式会社製）を１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−３）とする。  
【０１２４】
＜液晶フィルム（Ｆ−３）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物（ＰＬＣ−３）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−３）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１に記載の方法で、レタデーションを測定したところ、この重合性液晶フィルムはホモジニアス配向であった。また、実施例１に記載の方法で、このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は１００％であった。さらに耐久試験の結果は残膜率が９０％であった。
【０１２５】
［実施例４］
＜組成物（ＰＬＣ−４）の調製＞
実施例３に記載の重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ製ＬＣ−２４２）１００重量部に対して、剥離防止剤としてオキセタンアクリレートＯＸＥ−１０（商品名、大阪有機化学工業株式会社製）を１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を１重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し濃度が２５重量
％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−４）とする。
【０１２６】
＜液晶フィルム（Ｆ−４）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（ＰＬＣ−４）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−４）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は１００％であった。さらに耐久試験の結果は残膜率が９０％であった。  
【０１２７】
［実施例５］
＜組成物（ＰＬＣ−５）の調製＞
実施例３に記載の重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ製ＬＣ−２４２）１００重量部に対して、剥離防止剤としてグリシジルメタクリレートを１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン製）を５重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を１重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し、濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−５）とする。  
【０１２８】
＜液晶フィルム（Ｆ−５）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（ＰＬＣ−５）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−５）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この重合性液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は１００％であった。さらに耐久試験の結果は残膜率が９０％であった。  
【０１２９】
［実施例６］
＜組成物（ＰＬＣ−６）の調製＞
化合物（Ｍ１ａ−１）（ｎ＝１０）を４０重量％、実施例３に記載の重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ製ＬＣ−２４２）４０重量％、および化合物（Ｍ２ａ−５）（ｎ＝８）を２０重量％からなる重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−６）を調製した。
【０１３０】
次にこの重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−６）１００重量部に対して、剥離防止剤としてオキセタンアクリレートＯＸＥ−１０（商品名、大阪有機化学工業株式会社製）を１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをシクロヘキサノンに溶解し（ＭＩＸ−６）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−６）とする。  
【０１３１】
＜液晶フィルム（Ｆ−６）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（ＰＬＣ−６）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−６）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は１００％であった。さらに耐久試験の結果は残膜率が９５％であった。  
【０１３２】
［実施例７］
＜組成物（ＰＬＣ−７）の調製＞
化合物（Ｍ２ａ−１）（ｎ＝４）を５０重量％、化合物（Ｍ２ｂ−２）（ｎ＝６）２０重量％、および化合物（Ｍ２ｂ−２）（ｎ＝３）を３０重量％からなる重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−７）を調製した。
【０１３３】
次にこの重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−７）１００重量部に対して、剥離防止剤としてグリシジルメタクリレートを１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−７）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−７）とする。
【０１３４】
＜液晶フィルム（Ｆ−７）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（ＰＬＣ−７）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−７）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は１００％であった。さらに耐久試験の結果は残膜率が９０％であった。  
【０１３５】
［実施例８］
＜組成物（ＰＬＣ−８）の調製＞
化合物（Ｍ１ａ−１６）（ｎ＝６）を１０重量％、化合物（Ｍ１ａ−１７）（ｎ＝８）を２０重量％、化合物（Ｍ２ｂ−３）（ｎ＝２）を６０重量％、および化合物（Ｍ２ｃ−２）（ｎ＝４）を１０重量％からなる重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−８）を調製した。
【０１３６】
次にこの重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−８）１００重量部に対して、剥離防止剤としてオキセタンメタクリレートＯＸＥ−１０（商品名、大阪有機化学工業株式会社製）を１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を１重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをシクロヘキサノンに溶解し（ＭＩＸ−８）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−８）とする。  
【０１３７】
＜液晶フィルム（Ｆ−８）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（ＰＬＣ−８）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−８）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は１００％であった。さらに耐久試験の結果は残膜率が９５％であった。  
【０１３８】
［実施例９］
＜組成物（ＰＬＣ−９）の調製＞
化合物（Ｍ２ａ−６）（ｎ＝４）を５５重量％、化合物（Ｍ２ａ−９）（ｎ＝６）を５重量％、および化合物（Ｍ２ｃ−７）（ｎ＝２）を４０重量％からなる重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−９）を調製した。
【０１３９】
次にこの重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−９）１００重量部に対して、剥離防止剤としてエポキシシクロヘキシルメタクリレートを１０重量部、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を３重量部、光増感剤として９，１０−ジプロポキシアントラセンを０．３重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−９）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（ＰＬＣ−９）とする。
【０１４０】
＜液晶フィルム（Ｆ−９）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（ＰＬＣ−９）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−９）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は１００％であった。さらに耐久試験の結果は残膜率が１００％であった。  
【０１４１】
［比較例１］
＜組成物（Ｈ−１）の調製＞
実施例１に記載の重合性液晶化合物の混合物（ＭＩＸ−１）１００重量部に対して、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−１）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（Ｈ−１）とする。
【０１４２】
＜液晶フィルム（Ｆ−Ｈ１）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（Ｈ−１）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−Ｈ１）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この重合性液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は０％であった。
【０１４３】
［比較例２］
＜組成物（Ｈ−２）の調製＞
実施例３に記載の重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ製ＬＣ−２４２）１００重量部に対して、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、界面活性剤としてＢＹＫ−３６１Ｎ（商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．２重量部添加して、これをトルエンに溶解し濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（Ｈ−２）とする。
【０１４４】
＜液晶フィルム（Ｆ−Ｈ２）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（Ｈ−２）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−Ｈ２）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。実施例１と同様の方法でレタデーションを測定したところ、この重合性液晶フィルムはホモジニアス配向であった。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は０％であった。
【０１４５】
[比較例３]
＜組成物（Ｈ−３）の調製＞
下記組成の組成物（ＭＩＸ−３）を調製した。この組成物（ＭＩＸ−３）１００重量部に対して、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、ＣＰＩ−１００Ｐ（商品名、サンアプロ株式会社製）を２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−３）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（Ｈ−３）とする。
【０１４６】
【化２２】
2014219659.tif 000024
【０１４７】
＜液晶フィルム（Ｆ−Ｈ３）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（Ｈ−３）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−Ｈ３）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。このサンプルは垂直配向を示した。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は０％であった。
【０１４８】
[比較例４]
＜組成物（Ｈ−４）の調製＞
下記組成の組成物（ＭＩＸ−４）を調製した。この組成物（ＭＩＸ−４）１００重量部に対して、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、ＣＰＩ−１００Ｐ（商品名、サンアプロ株式会社製）を２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−４）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（Ｈ−４）とする。
【０１４９】
【化２３】
2014219659.tif 000025
【０１５０】
＜液晶フィルム（Ｆ−Ｈ４）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（Ｈ−４）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−Ｈ４）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。このサンプルは垂直配向を示した。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は０％であった。
【０１５１】
[比較例５]
＜組成物（Ｈ−５）の調製＞
下記組成の組成物（ＭＩＸ−５）を調製した。この組成物（ＭＩＸ−５）１００重量部に対して、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、ＣＰＩ−１００Ｐ（商品名、サンアプロ株式会社製）を２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−５）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（Ｈ−５）とする。
【０１５２】
【化２４】
2014219659.tif 000026
【０１５３】
＜液晶フィルム（Ｆ−Ｈ５）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（Ｈ−５）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−Ｈ５）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。このサンプルは垂直配向を示した。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は０％であった。
【０１５４】
[比較例６]
＜組成物（Ｈ−６）の調製＞
下記組成の組成物（ＭＩＸ−１０）を調製した。この組成物（ＭＩＸ−１０）１００重量部に対して、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ９０７（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を５重量部、ＣＰＩ−１００Ｐ（商品名、サンアプロ株式会社製）を２重量部添加して、これをトルエンに溶解し（ＭＩＸ−１０）の濃度が２５重量％の溶液を調製した。この溶液を（Ｈ−６）とする。
【０１５５】
【化２５】
2014219659.tif 000027
【０１５６】
＜液晶フィルム（Ｆ−Ｈ６）の作製＞
実施例１記載の配向層上に重合性液晶組成物の溶液（Ｈ−６）を塗布したこと以外は実施例１と同様の方法で、重合性液晶フィルム（Ｆ−Ｈ６）を作製した。液晶組成物層の厚みは、１μｍであった。このサンプルは垂直配向を示した。このサンプルの密着性を評価したところ、残膜率は０％であった。
【０１５７】
上記の実施例および比較例の結果から、本発明に係るホモジニアス配向の液晶組成物層は配向層との密着性および高温高湿環境下での耐久性に優れていることが分かる。実施例で用いた液晶組成物層は、比較例において、垂直配向するための重合性化合物を用いた場合よりも密着性が高かった。
【産業上の利用可能性】
【０１５８】
本発明のフィルムは配向層と液晶組成物層との密着性および耐久性に優れていることから、画像表示装置と組み合わせる前の製造工程で保護フィルムが位相差板上に貼合わされていても位相差領域（液晶組成物層）が剥離することがない。また、画像表示装置に組み
込まれた後でも位相差板が装置から剥離することがないので、長期信頼性に優れた立体画像表示装置を得ることができる。
【符号の説明】
【０１５９】
１０１：立体画像表示装置
１０２：出射光の偏光方向
１０３：パターン化位相差板（パターン化処理された１／４λ板）
１０４：位相差板における液晶の配向方向
１０５：パターン化位相差板を通過することで得られる円偏光の状態の模式図
１０６：円偏光メガネ
１０７：偏光メガネにより右目用と左目用に分離された画像
２０１：パターン化位相差板（第２の液晶組成物層を用いてパターン化処理された１／２λ板）
２０２：パターン化位相差板における液晶の配向方向
２０３：パターン化位相差板を通過することで得られる直線偏光の状態
２０４：立体画像装置における、第１の液晶組成物層
２０５：立体画像装置における、第１の液晶組成物層の液晶の配向方向
２０６：立体画像装置における、第２の液晶組成物層を等方相で硬化あるいは溶剤で除去した領域
３０１：支持基材
３０２：パターン配向処理した配向層
３０３：液晶組成物層
４０１：単一配向処理した配向層
４０２：位相差板における、第１の液晶組成物層
４０３：位相差板における、第１の液晶組成物層の配向方向
４０４：位相差板における、第２の液晶組成物層
４０５：位相差板における、第２の液晶組成物層の配向方向
４０６：位相差板における、第２の液晶組成物層を等方相で硬化あるいは溶剤で除去した領域
【図１】
2014219659.tif 000028
【図２】
2014219659.tif 000029
【図３】
2014219659.tif 000030
【図４】
2014219659.tif 000031
【図５】
2014219659.tif 000032