(57)【要約】【課題】塗布装置の予備塗布処理における処理液の吐出状態の検査の作業性を改善する。【解決手段】塗布装置は、基板を保持する保持部と、直線状の吐出口から処理液を吐出可能なノズルと、ノズルを基板に対して相対移動させて処理液の吐出走査を行わせる移動機構と、ノズルに対してノズルの進行方向の前方側に相対的に固定される保護部材と、基板に対してノズルの進行方向の後方側に離間して設けられる円筒状のローラと、ローラと基板との間に位置するように配設された長尺の照明部とを備える。そして、移動機構は、吐出走査に先立ってノズルをローラの上方に移動する。ノズルは、ローラの上方に移動された状態で、回転しているローラに向けて処理液を吐出することによりローラに処理液を塗布する予備塗布処理を行う。照明部は、予備塗布処理を行っているノズルの吐出口と、ローラとの間の隙間に向けて光を照射する。【選択図】図１
2014065011.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理液を塗布する塗布装置であって、
前記基板を略水平に保持する保持部と、
略水平な第１方向に沿って延びる直線状の吐出口から前記処理液を吐出可能なノズルと、
前記第１方向と直交する略水平な第２方向に、前記ノズルを前記基板に対して相対移動させて前記ノズルに前記基板に対する前記処理液の吐出走査を行わせる移動機構と、
前記第１方向に沿って延び、下端の位置が前記吐出口の下端よりも下方となるように、前記ノズルに対して前記吐出走査における前記ノズルの進行方向の前方側に相対的に固定されて前記ノズルを保護する保護部材と、
前記保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルの前記進行方向の後方側に離間して設けられるとともに、前記第１方向に沿った対称軸を有し、前記対称軸を回転軸として回転可能な円筒状のローラと、
前記ローラと、前記保持部材に保持された前記基板との間に位置するように配設され、前記第１方向に延びた長尺の照明部と、
を備え、
前記移動機構は、
前記吐出走査に先立って、前記ノズルを前記ローラの上方に移動し、
前記ノズルは、
前記移動機構によって前記ローラの上方に移動された状態で、回転している前記ローラに向けて前記処理液を吐出することにより前記ローラに前記処理液を塗布する予備塗布処理を行い、
前記照明部は、
前記予備塗布処理を行っている前記ノズルの前記吐出口と、前記ローラとの間の隙間に向けて光を照射する塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記照明部は、
前記ノズルが前記予備塗布処理を行うときの前記保護部材の下端を通る水平面を基準として、前記水平面を下限面とする上空間、および前記水平面を上限面とする下空間のうちの何れかの空間に配設される塗布装置。
【請求項３】
請求項２に記載の塗布装置であって、
前記照明部は、
前記下空間において、前記ノズルが前記予備塗布処理を行うときの前記保護部材と、前記保持部材に保持された前記基板との間に配設される塗布装置。
【請求項４】
請求項２に記載の塗布装置であって、
前記照明部は、
前記上空間において、前記保護部材の表面のうち前記ノズルに対向し前記第１方向に延びた面に配設される塗布装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４の何れか１つの請求項に記載の塗布装置であって、
前記照明部の前記第１方向の長さは、前記ノズルの前記吐出口の前記第１方向の長さ以上である塗布装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５の何れか１つの請求項に記載の塗布装置であって、
前記照明部は、
光を吸収することにより発光する蓄光部材である塗布装置。
【請求項７】
塗布装置によって基板に処理液を塗布する塗布方法であって、
前記塗布装置は、
前記基板を略水平に保持する保持部と、
略水平な第１方向に沿って延びる直線状の吐出口から前記処理液を吐出可能なノズルと、
前記第１方向と直交する略水平な第２方向に、前記ノズルを前記基板に対して相対移動させて前記ノズルに前記基板に対する前記処理液の吐出走査を行わせる移動機構と、
前記第１方向に沿って延び、下端の位置が前記吐出口の下端よりも下方となるように、前記ノズルに対して前記吐出走査における前記ノズルの進行方向の前方側に相対的に固定されて前記ノズルを保護する保護部材と、
前記保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルの前記進行方向の後方側に離間して設けられるとともに、前記第１方向に沿った対称軸を有し、前記対称軸を回転軸として回転可能な円筒状のローラと、
前記ローラと、前記保持部材に保持された前記基板との間に位置するように配設され、前記第１方向に延びた長尺の照明部と、
を備え、
当該塗布方法は、
前記吐出走査に先立って、前記ノズルを前記ローラの上方に移動する移動ステップと、
前記移動ステップによって前記ローラの上方に移動された前記ノズルから、回転している前記ローラに向けて前記処理液を吐出することにより前記ローラに前記処理液を塗布する予備塗布ステップと、
前記予備塗布ステップにおいて前記処理液を吐出している前記ノズルの前記吐出口と、前記ローラとの間の隙間に向けて前記照明部から光を照射する照明ステップと、
を備える塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、略水平に保持された基板に処理液を塗布する塗布技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶用ガラス角形基板、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルター用基板など各種基板の製造工程においては、基板の表面に処理液を塗布する塗布装置が用いられている。このような塗布装置としては、スリットノズルの下端部となる吐出口と基板とが近接された状態で、スリットノズルから処理液を吐出しつつ該スリットノズルを基板に対して相対的に移動させることにより基板全体に処理液を塗布するスリットコートを行うスリットコータ（例えば、特許文献１参照）や、スリットコートの後に基板を回転させるスリット・スピンコータなどが知られている。
【０００３】
これらの塗布装置においては、基板への塗布処理に先立って、対称軸の周りに自転している円筒状のローラの表面にスリットノズルを近接させた状態で、スリットノズルからローラに対して処理液を吐出することによってローラに処理液を塗布する予備塗布処理（「プリディスペンス」）が行われる。予備塗布処理によって、スリットノズルから吐出される処理液の吐出状態が調整される。また、スリットノズルの吐出口の近辺に付着したレジストなどの異物が、吐出された処理液とともに除去される。予備塗布処理が終了した後に、スリットノズルが基板に対して相対的に移動されつつ基板に処理液を吐出することによって、基板に対するスリットコートによる塗布処理が行われる。そして、塗布処理が終了した基板に代えて新たな基板が塗布装置にセットされて、再び予備塗布処理と、基板に対する塗布処理とが繰り返される。
【０００４】
予備塗布処理において、例えば、図９に示されるように、スリットノズル１４１の先端の吐出口とローラ１６１との間の隙間（空間）の全体が処理液１９５によって漏れなく満たされていれば、その後の基板への塗布処理において塗布抜けの無い良好な処理液の塗布が行われる。一方、例えば、図１０に例示されるように、スリットノズル１４１の吐出口とローラ１６１との間の隙間の一部が処理液１９５により満たされない吐出不良の状態であれば、基板１９０（図１１）への塗布処理において、処理液１９５を吐出しているスリットノズル１４１の矢印Ｘ１１（図１１）方向への吐出走査が行われると、例えば、図１１に例示されるように、処理液１９５の塗布漏れ（「プアコーティング」とも称される）１９９などの塗布不良が生ずる。
【０００５】
そこで、逆に、塗布処理が行われた基板の塗布状態の検査において、吐出不良が作業者に検知された場合や、装置が何らかの異常を検知して自動的に停止した場合などには、スリットノズルがローラ上方の所定位置に移動されて予備塗布処理が行われ、スリットノズルからローラに吐出される処理液の吐出状態が検査される。
【０００６】
塗布装置におけるローラに限らず、ローラの表面との間に形成される隙間の検査においては、簡便な検査手法の一つとして、隙間に対して一方の側から隙間に向けて光を照射し、隙間を通過した光を反対側から観察する手法が採用されてきた。上述した塗布装置に異常が検知された際の予備塗布処理において、スリットノズルの長尺の吐出口のうち正常な吐出が行われる部分とローラとの間の隙間には、吐出された処理液が満たされて、光が通過しない。一方、スリットノズルの吐出口のうち詰まりがある部分とローラとの間の隙間には処理液が存在せず光が通過する。このため、異常が検出されたときの予備塗布処理における処理液の吐出状態の検査においても光を用いる上述した検査手法が採用されてきた。
【０００７】
具体的には、装置本体は、通常、略真っ暗な筐体の内部に格納された状態で動作する。異常が検知された際には、筐体のローラ側に設けられた検査用の扉が開けられて予備塗布処理が実行される。該扉が開放された状態でも検査対象部分の周囲は略真っ暗である。そして、予備塗布処理が実行された状態で、例えば、二人の作業者によって、ローラとスリットノズルとの隙間に関する検査が行われる。該検査では、二人の作業者のうち一人が懐中電灯をローラとスリットノズルとの間の隙間に沿って移動させながら隙間を照らし、他の一人が隙間を通過した光の状態を観察することなどによって隙間の検査が行われる。そして、スリットノズルの直線状の吐出口のうち処理液の吐出が正常に行われていない部位の特定などが行われる。
【０００８】
ここで、スリットコータなどは、通常、例えば、特許文献１の塗布装置のように、スリットノズルの進行方向の前方側に長尺の保護部材を備えており、スリットノズルが基板の表面に付着した異物と接触する前に、この保護部材と異物とを接触させ、異物を排除している。また、例えば、Ｇ８サイズの基板に対して塗布処理を行う装置では、スリットノズルとローラとの隙間の長さは、２５００ｍｍ程度に達する。
【０００９】
このため、上述した検査においては、一人が狭い空間においてローラの裏側から懐中電灯から照射される光が保護部材によって遮られてしまわないように留意しつつ、懐中電灯をローラとスリットノズルとの隙間の長さ方向に移動させることで、当該隙間を全面にわたって照らしていく必要がある。このように、保護部材の存在や、処理液の吐出状態の検査対象である隙間が非常に長尺であることなどに起因して、検査の作業性は良くない。
【００１０】
特許文献２には、２つのローラ間の隙間の間隔を測定する他の検査方法が示されている。当該検査方法では、隙間間隔を観察する側から２つのローラ間の隙間に向けて観察の妨げとならないように斜め方向から、隙間を通るように絞られたレーザ光が照射される。そして、隙間に対して観察側と反対側に設けられた拡散板によってレーザ光が拡散反射され、当該反射光によって形成される２つのローラのシルエット画像が撮影される。そして、撮影されたシルエット画像に対して画像処理が行われて２つのローラ間の隙間間隔が測定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００７−５０３４５号公報
【特許文献２】特開平５−３４０７２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献２の方法が、塗布不良が発生した塗布装置の予備塗布処理におけるローラとスリットノズルとの隙間の検査に適用されたとしても、観察の妨げとならないようにするために、観察側に配置されたレーザ光源を長尺の隙間に沿って少しずつ移動させながら検査する必要がある。このため特許文献２の方法が採用されたとしても検査の作業性が改善されないといった問題がある。
【００１３】
本発明は、こうした問題を解決するためになされたもので、スリットノズルを用いて基板に処理液を塗布する塗布装置に塗布不良などの異常が検知されたときに行われる予備塗布処理において、スリットノズルとローラとの間の隙間における処理液の吐出状態の検査の作業性を改善できる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の課題を解決するために、第１の態様に係る塗布装置は、基板に処理液を塗布する塗布装置であって、前記基板を略水平に保持する保持部と、略水平な第１方向に沿って延びる直線状の吐出口から前記処理液を吐出可能なノズルと、前記第１方向と直交する略水平な第２方向に、前記ノズルを前記基板に対して相対移動させて前記ノズルに前記基板に対する前記処理液の吐出走査を行わせる移動機構と、前記第１方向に沿って延び、下端の位置が前記吐出口の下端よりも下方となるように、前記ノズルに対して前記吐出走査における前記ノズルの進行方向の前方側に相対的に固定されて前記ノズルを保護する保護部材と、前記保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルの前記進行方向の後方側に離間して設けられるとともに、前記第１方向に沿った対称軸を有し、前記対称軸を回転軸として回転可能な円筒状のローラと、前記ローラと、前記保持部材に保持された前記基板との間に位置するように配設され、前記第１方向に延びた長尺の照明部とを備え、前記移動機構は、前記吐出走査に先立って、前記ノズルを前記ローラの上方に移動し、前記ノズルは、前記移動機構によって前記ローラの上方に移動された状態で、回転している前記ローラに向けて前記処理液を吐出することにより前記ローラに前記処理液を塗布する予備塗布処理を行い、前記照明部は、前記予備塗布処理を行っている前記ノズルの前記吐出口と、前記ローラとの間の隙間に向けて光を照射する。
【００１５】
第２の態様に係る塗布装置は、第１の態様に係る塗布装置であって、前記照明部は、前記ノズルが前記予備塗布処理を行うときの前記保護部材の下端を通る水平面を基準として、前記水平面を下限面とする上空間、および前記水平面を上限面とする下空間のうちの何れかの空間に配設される。
【００１６】
第３の態様に係る塗布装置は、第２の態様に係る塗布装置であって、前記照明部は、前記下空間において、前記ノズルが前記予備塗布処理を行うときの前記保護部材と、前記保持部材に保持された前記基板との間に配設される。
【００１７】
第４の態様に係る塗布装置は、第２の態様に係る塗布装置であって、前記照明部は、前記上空間において、前記保護部材の表面のうち前記ノズルに対向し前記第１方向に延びた面に配設される。
【００１８】
第５の態様に係る塗布装置は、第１から第４の何れか１つの態様に係る塗布装置であって、前記照明部の前記第１方向の長さは、前記ノズルの前記吐出口の前記第１方向の長さ以上である。
【００１９】
第６の態様に係る塗布装置は、第１から第５の何れか１つの態様に係る塗布装置であって、前記照明部は、光を吸収することにより発光する蓄光部材である。
【００２０】
第７の態様に係る塗布方法は、塗布装置によって基板に処理液を塗布する塗布方法であって、前記塗布装置は、前記基板を略水平に保持する保持部と、略水平な第１方向に沿って延びる直線状の吐出口から前記処理液を吐出可能なノズルと、前記第１方向と直交する略水平な第２方向に、前記ノズルを前記基板に対して相対移動させて前記ノズルに前記基板に対する前記処理液の吐出走査を行わせる移動機構と、前記第１方向に沿って延び、下端の位置が前記吐出口の下端よりも下方となるように、前記ノズルに対して前記吐出走査における前記ノズルの進行方向の前方側に相対的に固定されて前記ノズルを保護する保護部材と、前記保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルの前記進行方向の後方側に離間して設けられるとともに、前記第１方向に沿った対称軸を有し、前記対称軸を回転軸として回転可能な円筒状のローラと、前記ローラと、前記保持部材に保持された前記基板との間に位置するように配設され、前記第１方向に延びた長尺の照明部とを備え、当該塗布方法は、前記吐出走査に先立って、前記ノズルを前記ローラの上方に移動する移動ステップと、前記移動ステップによって前記ローラの上方に移動された前記ノズルから、回転している前記ローラに向けて前記処理液を吐出することにより前記ローラに前記処理液を塗布する予備塗布ステップと、前記予備塗布ステップにおいて前記処理液を吐出している前記ノズルの前記吐出口と、前記ローラとの間の隙間に向けて前記照明部から光を照射する照明ステップとを備える。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、ローラと、保持部材に保持された基板との間に位置するように配設され、略水平な第１方向に延びた長尺の照明部が設けられる。そして、予備塗布処理を行ってローラに向けて処理液を吐出しているノズルの吐出口と、ローラとの間の隙間に向けて照明部から光が照射される。従って、隙間を通過した光が、該隙間に対して照明部と反対側から観察されることによって、照明部を隙間に沿って移動させることなく処理液の吐出状態が検査され得るので、検査の作業性が改善されて検査工数が低減される。また、ローラと基板との間の設置スペースが狭い場合でも照明部の設置が容易になるとともに、照明部の移動機構が不要であるため装置構成が簡略化される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施形態１に係るスリットコータの概略構成の一例を示す斜視図である。
【図２】図１のスリットコータのノズル調整部と、その周辺部分の構成例を模式的に示す図である。
【図３】予備塗布処理においてスリットノズルからローラ上に吐出される処理液を例示する模式図である。
【図４】予備塗布処理における図１のスリットコータのスリットノズルとローラ等との位置関係を例示する図である。
【図５】実施形態２に係るスリットコータの概略構成の一例を示す斜視図である。
【図６】図５のスリットコータのノズル調整部と、その周辺部分の構成例を模式的に示す図である。
【図７】スリットコータの基本的な動作を例示するフローチャートである。
【図８】処理液の吐出状態の検査手順を例示するフローチャートである。
【図９】参考技術を示す図である。
【図１０】参考技術を示す図である。
【図１１】参考技術を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図面では同様な構成および機能を有する部分に同じ符号が付され、下記説明では重複説明が省略される。また、各図面は模式的に示されたものであり、例えば、各図面における表示物のサイズおよび位置関係等は必ずしも正確に図示されたものではない。また、一部の図面には、方向を説明するためにＸＹＺの直交座標系の座標軸が附されている。Ｘ軸及びＹ軸方向は水平方向、Ｚ軸方向は鉛直方向（＋Ｚ側が上側）である。また、便宜上、Ｘ軸方向を奥行方向（＋Ｘ側が正面側、−Ｘ側が背面側）とし、Ｙ軸方向を左右方向（正面側からみたとき、＋Ｙ側が右側、−Ｙ側が左側）とする。
【００２４】
＜Ａ．実施形態１＞
＜Ａ−１．塗布装置の概要＞
図１は、実施形態１に係る塗布装置であるスリットコータ１０Ａの概略構成を示す斜視図である。スリットコータ１０Ａは、基板９０の表面にレジスト液などの処理液を塗布するスリットコートと呼ばれる塗布処理を行う塗布装置であり、基板９０の表面に形成された電極層などを選択的にエッチングするプロセスなどに利用される。スリットコータ１０Ａの塗布対象となる基板９０は、代表的には液晶表示装置の画面パネルを製造するための角形のガラス基板であるが、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルター用基板などの他の基板であってもよい。
【００２５】
図１に示すように、スリットコータ１０Ａは、装置全体を制御する制御部１と、塗布処理を実施する塗布処理部２とに大別される。塗布処理部２は、図示省略の筐体の内部に格納されている。該筐体は作業用の扉が設けられているが、該扉が閉じられた状態では、該筐体内部は、略真っ暗な状態に保たれる。該扉が開けられれば、ローラ６１側からスリットコータ１０Ａのへのアクセスが可能となる。
【００２６】
制御部１は、塗布処理部２の各部と電気的に接続されており、塗布処理部２の各部の動作を統括的に制御する。制御部１は、ＣＰＵ、ＲＡＭ及びＲＯＭなどから構成されるマイクロコンピュータを備えている。制御部１による各種の制御機能は、ＣＰＵが所定のプログラムやデータに従ってＲＡＭを利用しつつ演算処理を行うことにより実現される。また、制御部１には、オペレータからの入力操作を受け付ける操作部１１と各種データを表示する表示部１２とが設けられており、これらはユーザインタフェースとして機能する。
【００２７】
塗布処理部２は主として、基板９０を略水平に保持するためのステージ（「保持部」）３と、ステージ３に保持された基板９０に対して処理液を吐出する吐出機構４と、吐出機構４を所定の方向に移動させる移動機構５とから構成される。
【００２８】
ステージ３は略直方体の形状を有する花崗岩等の石材で構成されており、その上面は略水平な平坦面に加工されて基板９０の保持面３０として機能する。保持面３０には多数の真空吸着口が分散して形成されている。これらの真空吸着口により基板９０が吸着されることにより、塗布処理の際に基板９０が所定の位置に略水平状態に保持される。
【００２９】
吐出機構４は主として、処理液を吐出可能なスリットノズル（「ノズル」）４１と、スリットノズル４１を固定保持するノズル保持部４２とから構成される。
【００３０】
スリットノズル４１は、図外の供給機構から供給される処理液を、下端部に形成された直線状の吐出口４１ａ（図２）から基板９０の上面へ吐出する。このスリットノズル４１は、その吐出口４１ａが略水平にＹ軸方向（第１方向）に沿って直線状に延びるように、ノズル保持部４２によって固定支持される。塗布対象の基板がＧ８サイズである場合には、吐出口４１ａの長さは、２５００ｍｍ程度になる。
【００３１】
ノズル保持部４２は、スリットノズル４１を固定する固定部材４２ａと、固定部材４２ａを支持するとともに昇降させる２つの昇降機構４２ｂとから構成される。固定部材４２ａは、Ｙ軸方向を長手方向とするカーボンファイバ補強樹脂等の断面矩形の棒状部材で構成される。
【００３２】
２つの昇降機構４２ｂは固定部材４２ａの左右両端部に連結されており、それぞれＡＣサーボモータ及びボールネジ等を備えている。これらの昇降機構４２ｂにより、固定部材４２ａ及びそれに固定されたスリットノズル４１が鉛直方向（Ｚ軸方向）に昇降され、スリットノズル４１の下端部たる吐出口４１ａと基板９０との間隔（隙間）、すなわち、基板９０に対する吐出口の相対的な高さが調整される。なお、固定部材４２ａの鉛直方向の位置は、例えば、昇降機構４２ｂの側面に設けられた図示省略のスケール部と、当該スケール部に対向してスリットノズル４１の側面などに設けられた図示省略の検出センサとを備えて構成される図示省略のリニアエンコーダにより検出される。
【００３３】
これらの固定部材４２ａ及び２つの昇降機構４２ｂにより形成されるノズル保持部４２は、図１に示すように、ステージ３の左右両端部をＹ軸方向に沿って掛け渡し、保持面３０を跨ぐ架橋構造を有している。移動機構５は、この架橋構造体としてのノズル保持部４２と、それに固定保持されたスリットノズル４１とを含む吐出機構４の全体を基板９０に対してＸ軸方向（第２方向）に沿って相対移動させることになる。
【００３４】
図に示すように移動機構５は、左右対称（＋Ｙ側と−Ｙ側とでの対称）構造となっており、左右のそれぞれにおいて、吐出機構４の移動をＸ軸方向に案内する走行レール５１と、吐出機構４を移動するための移動力を発生するリニアモータ５２と、スリットノズル４１の吐出口の位置を検出するためのリニアエンコーダ５３とを備えている。
【００３５】
２つの走行レール５１はそれぞれ、ステージ３のＹ軸方向の端部（左右端部）にＸ軸方向に沿って延設されている。これら２つの走行レール５１に沿って２つの昇降機構４２ｂの下端部がそれぞれ案内されることにより、吐出機構４の移動方向がＸ軸方向に規定される。
【００３６】
２つのリニアモータ５２はそれぞれ、固定子５２ａと移動子５２ｂとを有するＡＣコアレスリニアモータとして構成される。固定子５２ａは、ステージ３のＹ軸方向の側面（左右側面）にＸ軸方向に沿って設けられている。一方、移動子５２ｂは、昇降機構４２ｂの外側に対して固設されている。リニアモータ５２は、これら固定子５２ａと移動子５２ｂとの間に生じる磁力によって吐出機構４を移動する。
【００３７】
また、２つのリニアエンコーダ５３はそれぞれ、スケール部５３ａと検出部５３ｂとを有している。スケール部５３ａはステージ３に固設されたリニアモータ５２の固定子５２ａの下部にＸ軸方向に沿って設けられている。一方、検出部５３ｂは、昇降機構４２ｂに固設されたリニアモータ５２の移動子５２ｂのさらに外側に固設され、スケール部５３ａに対向配置される。リニアエンコーダ５３は、スケール部５３ａと検出部５３ｂとの相対的な位置関係に基づいて、Ｘ軸方向におけるスリットノズル４１の吐出口の位置を検出する。
【００３８】
以上のような構成によって、スリットノズル４１は、基板９０が保持される保持面３０の上部空間を、略水平なＸ軸方向に、保持面３０に対して相対的に移動可能とされる。
【００３９】
基板９０の各辺の端部から所定の幅（例えば、２〜３ｍｍ）の領域は、処理液の塗布対象とならない領域（「非塗布領域」）となっている。そして、基板９０のうち、この非塗布領域を除いた矩形領域が、処理液を塗布すべき領域（「塗布対象領域」）となっている。したがって、この塗布対象領域に対して塗布処理が行われる。
【００４０】
塗布処理を行う際には、吐出口４１ａから処理液を吐出しているスリットノズル４１が、移動機構５によってＸ軸方向に所定の速度で水平移動される。これにより、基板９０の塗布対象領域に対するスリットノズル４１による走査（「吐出走査」）がなされる。この吐出走査の結果、基板９０の塗布対象領域の全域にわたって均一に処理液が塗布され、塗布対象領域の上に所定の膜厚の処理液の層が形成される。本実施の形態のスリットコータ１０Ａでは、塗布処理におけるスリットノズル４１の移動の向きは＋Ｘ向き（正面側、図２の矢印Ｘ１の向き）となっている。
【００４１】
塗布処理においては、基板９０の表面からの吐出口４１ａの高さは、昇降機構４２ｂにより、例えば、５０μｍ〜２００μｍとの範囲で基板９０上の膜厚に応じた高さに調整される。そして、この高さが維持された状態で、スリットノズル４１は＋Ｘ向きへ移動される。
【００４２】
塗布処理においてスリットノズル４１の吐出口４１ａが移動する領域には、基板９０の上面に付着した異物が存在することがある。このような異物が存在したまま塗布処理を強行した場合、異物と吐出口４１ａとが接触し、スリットノズル４１の破損などが生じるおそれがある。このため、スリットコータ１０Ａでは、スリットノズル４１の吐出口４１ａがこのような異物等と接触する前に、その異物等と接触させてスリットノズル４１の吐出口４１ａを保護する保護部材７が、図１に示すように、スリットノズル４１の＋Ｘ側（正面側）に、ビスなどの図示省略の固定機構によって固定されている。
【００４３】
保護部材７は断面が略矩形の板状部材であり、例えばステンレスなどの金属で構成され、Ｙ軸方向に沿って延びて配置されている。保護部材７の下端の位置が吐出口４１ａの下端よりも下方（−Ｚ側）となるように、保護部材７は、スリットノズル４１に対して基板９０への吐出走査におけるスリットノズル４１の進行方向の前方側（＋Ｘ側）に相対的に固定される。従って、スリットノズル４１と保護部材７との相対的な位置関係が固定された状態でスリットノズル４１および保護部材７は、移動機構５によって移動される。基板９０への処理液の塗布処理において、基板９０上に異物が存在するとしても、該異物はスリットノズル４１と接触する前に保護部材７と接触して、除去される。従って、スリットノズル４１は、基板９０上の異物から保護される。
【００４４】
また、塗布処理が行われないときには、スリットノズル４１は、基板９０の搬入・搬出が可能なように、基板９０の保持面３０から背面側（−Ｘ側）に外れた待避エリア３１に待避される（図１に示す状態）。待避エリア３１と、ステージ３に保持された基板９０との間の区間においては、スリットノズル４１の吐出口４１ａは、通常、基板９０への塗布処理における吐出口４１ａの鉛直方向の位置よりも高い位置に保持される。待避エリア３１の下方（−Ｚ側）には、塗布処理の前にスリットノズル４１の吐出口の状態を整える予備塗布処理のためのノズル調整部６が備えられている。
【００４５】
図２は、スリットコータ１０Ａのノズル調整部６と、その周辺部分の構成例を、模式的に示す図である。図２では、スリットコータ１０ＡがＹ軸方向の略中央部分においてＸＺ面で切断された断面の概略が示されている。
【００４６】
図２に示されるように、ノズル調整部６は、スリットノズル４１からの処理液の吐出対象となるローラ６１を備えている。ローラ６１は、ステージ３の保持面３０に保持された基板９０に対してスリットノズル４１の吐出走査における進行方向の後方側（−Ｘ側）に離間して設けられている。また、ローラ６１は、Ｙ軸方向に沿った対称軸６７を有する円筒状の形状を有している。ローラ６１は、対称軸６７を回転軸として、スリットノズル４１に接触することなく、矢印Ｒ１の向きに回転（自転）可能である。ローラ６１は、図示省略の回転機構によって回転駆動されることにより、基板９０に対する塗布処理の期間などを除いて、通常、常時回転している。また、ローラ６１は、その上端の高さが、ステージ３の保持面３０の高さよりも下方（−Ｚ側）になるように設置される。
【００４７】
ローラ６１の下部には、ローラ６１に塗布された処理液を溶解可能なシンナーなどの溶剤６５が貯留されたトレイ６２を備えている。また、シリコーン製などのブレード６３が、その一端がローラ６１の外周面に接触するように設けられている。
【００４８】
図３は、予備塗布処理においてスリットノズル４１からローラ６１の外周面に吐出される処理液を例示する模式図である。図３に示されるように、ローラ６１の外周面にスリットノズル４１を近接させた状態で吐出口４１ａから一定の処理液９５を吐出させると、吐出口４１ａに当該処理液の液溜りが形成される。このようにＹ軸方向に延びた直線状の吐出口４１ａの全長にわたって液溜りが均一に形成されると、その後の塗布処理を高精度に遂行することが可能となる。この処理は、本来の基板９０に対する塗布処理の前に行われるため「予備塗布処理（プリディスペンス）」と呼ばれる。従って、予備塗布処理においては、移動機構５によってスリットノズル４１がローラ６１の上方に移動されて位置決めされた状態で、回転しているローラ６１に向けてスリットノズル４１が処理液を吐出することによりローラ６１に処理液が塗布される。
【００４９】
スリットコータ１０Ａにおいては、基板９０に処理液を塗布する塗布処理に先立って、予備塗布処理が実行され、処理液の吐出状態が整えられた状態で基板９０に対する塗布処理が行われる。また、塗布処理の進行に伴って、スリットノズル４１の吐出口４１ａの周囲部分には汚れた処理液が付着していく。付着した処理液は、良好な吐出の妨げや、基板９０に形成される膜の汚れの原因になる。予備塗布処理が行われれば、吐出口４１ａの周囲に付着した汚れた処理液が、吐出口４１ａから新たに吐出される処理液に結合してローラ６１の外周面に吐出され、吐出口４１ａの周囲部分から除去される。処理液が吐出されたローラ６１の外周面には、基板９０への塗布処理において基板９０上に塗布される処理液の膜厚と略同じ膜厚の処理液の層が形成される。ローラ６１の外周面に吐出された処理液は、ローラ６１の対称軸６７周りの自転によって、トレイ６２に貯留された溶剤６５に浸漬されて溶かされた状態となった後、ブレード６３によってローラ６１の外周面からかき取られる。ローラ６１の外周面のうち処理液がかき取られた部分は、ローラ６１の自転によって吐出口４１ａの下方に移動し、再度、吐出口４１ａから処理液が吐出される。
【００５０】
図４は、予備塗布処理におけるスリットコータ１０Ａのスリットノズル４１と保護部材７とローラ６１との位置関係を例示する図である。
【００５１】
予備塗布処理におけるローラ６１の外周面とスリットノズル４１の吐出口４１ａとの間隔ｄ２は、基板９０に対する塗布処理が行われるときの基板９０と吐出口４１ａとの間隔と同じ間隔に設定される。保護部材７の下端は、吐出口４１ａよりも下方に位置し、吐出口４１ａと保護部材７の下端との間隔ｄ１は、例えば、間隔ｄ２の数分の１程度に設定される。
【００５２】
ところで、スリットノズル４１から吐出されるレジスト液などの処理液は、通常、非常に乾燥しやすく、スリットコータ１０Ａが停止状態でしばらく放置されることなどにより、吐出口４１ａにおける処理液が乾燥してしまう場合がある。この状態から、スリットコータ１０Ａが再び塗布処理を行う場合には、吐出口４１ａのうち処理液が乾燥した部分からは、処理液が吐出されない吐出不良が発生する。このように、スリットコータ１０Ａがしばらく放置された状態から再起動される場合や、連続的な塗布処理の結果の検査においてプアコーティングなどの塗布不良が検知された場合、またはスリットコータ１０Ａが異常を検知して停止した場合などには、処理液が吐出口４１ａから正常に吐出されているか否かを検査する必要がある。そこで、スリットコータ１０Ａは、当該検査のために、Ｙ軸方向に延びた長尺の照明部１５Ａを備えている。
【００５３】
照明部１５Ａは、予備塗布処理を行っているスリットノズル４１の吐出口４１ａと、ローラ６１との間の隙間に向けて検査用の光を照射する。照明部１５Ａは、例えば、直径５ｍｍ〜１０ｍｍの円筒状のランプなど光源により構成される。照明部１５ＡのＹ軸方向の長さは、スリットノズル４１の吐出口４１ａのＹ軸方向の長さ以上である。従って、基板９０がＧ８サイズであれば、照明部１５Ａの長さは２５００ｍｍ以上となる。照明部１５Ａからは、観察者や観察装置が観測可能な波長の光が、処理液の吐出状態の検査用の光として照射される。
【００５４】
左右（水平）方向の位置に関して、照明部１５Ａは、図１、図２に示されるように、ローラ６１（ローラ６１と吐出口４１ａとの間の隙間）と、ステージ３に保持された基板９０との間に、より詳細には、スリットノズル４１が予備塗布処理を行う位置に位置決めされたときの保護部材７と、ステージ３に保持された基板９０との間に、図示省略の保持部材に保持されて、ノズル調整部６に対して相対的に固定された位置関係で配設されている。
【００５５】
鉛直方向の位置に関して、照明部１５Ａは、スリットノズル４１が予備塗布処理を行うときの保護部材７の下端を通る水平面５７（図２）を横切らないように、水平面５７を基準として、水平面５７を下限面とする上空間７３（図２）、および水平面５７を上限面とする下空間７４（図２）のうちの何れかの空間に配設される。より詳細には、照明部１５Ａは、下空間７４に配設される。具体的には、照明部１５Ａは、例えば、ローラ６１と吐出口４１ａとの間の隙間と、保護部材７の下端の下方とのそれぞれを通過する面５８（図２）よりも照明部１５Ａの上端が下方に位置するように配設される。
【００５６】
ローラ６１と、基板９０を保持するステージ３との間の空間は、当該空間のサイズ自体が小さく、さらに、ローラ６１の外周面に対して吐出口４１ａを平行に保つ調整に使用される図示省略のリニアゲージなども当該空間に設けられているため、より狭くなっている。しかしながら、照明部１５Ａは、Ｙ軸方向に長尺で小径の光源を備えていることから、スリットコータ１０Ａの他の構成部材と接触することなく、上述した位置に設置可能である。
【００５７】
そして、図２に示されるように、照明部１５Ａから各方向に照射された光のうち吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間に向けて斜め上方に照射された光Ｌ１は、保護部材７に遮られることなく当該隙間を通過して、当該隙間に対して照明部１５Ａと反対側から観察される。従って、照明部１５Ａから照射された光Ｌ１は、吐出口４１ａから吐出される処理液の吐出状態の検査に使用できる。
【００５８】
上記検査の所要時間は、例えば、吐出口４１ａとローラ６１のそれぞれの長さが２５００ｍｍであっても、１０分以内となる。スリットコータ１０Ａは、筐体内部に格納されており、スリットコータ１０Ａの周囲は非常に暗く、また、検査対象の隙間と照明部１５Ａとの距離も近く設定できるため、８０ｃｄ程度の光度の光源が採用されれば十分検査可能である。従って、照明部１５Ａとしては、例えば、８０ｃｄ以上の光度（luminous intensity）を持つものなどが採用される。
【００５９】
なお、照明部１５Ａとしては、Ｙ軸方向に長尺の円筒状の光源の他に、光を吸収することにより発光するＹ軸方向に長尺のシート状の蓄光部材や、ＥＬシートがＹ軸方向に長尺の平板状の基材に保持されたものなどが採用され得る。蓄光部材としては、検査の所要時間以上の時間にわたり連続発光可能なものが採用される。蓄光部材が採用される場合には、検査の開始に先立って、蓄光部材に光を照射して吸収させるための光源が照明部１５Ａの近傍に設けられる。また、装置内設けられる該光源に代えて、作業者が装置外部の光源によって検査開始前に照明部１５Ａに対して光を照射してもよい。
【００６０】
＜Ａ−２．スリットコータの基本動作＞
次に、スリットコータ１０Ａの基本的な動作の流れについて説明する。図７は、スリットコータ１０Ａの基本的な動作を例示するフローチャートである。この動作は、塗布対象となる一の基板９０ごとに実施されるものである。この動作の開始の時点では、スリットノズル４１は、図１に示す如く、待避エリア３１に待機されている。
【００６１】
まず、塗布処理部２の外部の搬送機構により、基板９０が塗布処理部２に搬入され、ステージ３の保持面３０に受け渡される。搬入された基板９０は、真空吸着口により吸着されて保持面３０の所定位置に略水平に保持される（ステップＳ１０）。
【００６２】
次に、スリットノズル４１をノズル調整部６のローラ６１上方の所定位置に位置決めする準備動作が行われ、その後、ノズル調整部６において予備塗布処理が行われる（ステップＳ２０）、予備塗布処理によって、スリットノズル４１の吐出口４１ａには、処理液の液溜りが吐出口４１ａの全長にわたって均一に形成される。なお、予備塗布処理は、ローラ６１がその円筒形状の対称軸を回転中心として回転している状態で行われる。予備塗布処理が終了すると、ローラ６１の回転は停止される。
【００６３】
次に、移動機構５により、スリットノズル４１の吐出口４１ａが処理液の吐出を開始すべき開始位置に位置するまで、スリットノズル４１が移動される（ステップＳ３０）。この移動においては、スリットノズル４１は、矢印Ｚ１（図２）の向きに、所定位置まで上昇した後、矢印Ｘ１（図２）の向きに開始位置の上方へ移動され、その後、矢印Ｚ２（図２）の向きに降下する。なお、開始位置とは、基板９０の非塗布領域と塗布対象領域との境界となる、塗布対象領域の背面側（−Ｘ側）の端部である。
【００６４】
スリットノズル４１の吐出口４１ａが開始位置に移動されると、次に、その吐出口４１ａから基板９０に向けて処理液の吐出が開始される（ステップＳ４０）。またこれと同時に、移動機構５により正面側（＋Ｘ側、矢印Ｘ１の向き）へ向けて所定速度でのスリットノズル４１の水平移動が開始される（ステップＳ５０）。
【００６５】
このようなスリットノズル４１の水平移動は、スリットノズル４１の吐出口４１ａが処理液の吐出を終了すべき終了位置、すなわち、塗布対象領域の正面側（＋Ｘ側）の端部となるまで継続される（ステップＳ５０，Ｓ６０）。
【００６６】
スリットノズル４１の吐出口４１ａが終了位置に位置すると処理液の吐出が停止され（ステップＳ７０）、移動機構５によりスリットノズル４１が待避エリア３１に移動される（ステップＳ８０）。待避エリア３１への移動過程で、スリットノズル４１は、矢印Ｚ１の向きに所定位置まで上昇した後、矢印Ｘ２（図２）の向きに水平移動される。そして、塗布処理が完了した基板９０が、塗布処理部２から搬出されることになる（ステップＳ９０）。
【００６７】
＜Ａ−３．塗布不良の検知時の塗布状態の検査＞
図７を参照しつつ説明した上述の動作が、スリットコータ１０Ａの基本的な動作であるが、ステップＳ３０及びステップＳ５０におけるスリットノズル４１の移動中に図示省略の振動センサなどによりスリットノズル４１の振動が検出された場合には、制御部１の制御により、スリットノズル４１の移動が強制的に停止される。そして、基板９０に対する上述した基本的な塗布処理動作の開始に先立って、作業者の手動操作や、自動制御により、予備塗布処理の実施によるスリットノズル４１からの処理液の吐出状態の検査が行われる。また、スリットコータ１０Ａがスリットノズル４１のメンテナンスを施されることなく所定時間以上放置された後に、基板への塗布処理を行う場合や、基板への塗布処理の結果の検査において、プアコーティングなどの塗布不良が検知された場合などにおいても、基板９０に対する基本的な塗布処理動作の開始に先立って、スリットノズル４１からの処理液の吐出状態の検査が行われる。
【００６８】
図８は、予備塗布処理の実施によるスリットノズル４１からの処理液の吐出状態の検査手順を例示するフローチャートである。図８のフローチャートは、照明部１５Ａとして電力の供給により発光するランプやＥＬシートなどが採用された場合に対応したものである。
【００６９】
スリットコータ１０Ａが起動されている状態で、作業者が吐出状態の検査用ボタンを操作することや、スリットコータ１０Ａ自体が当該検査の開始状態に装置状態を遷移させることなどにより、予備塗布処理の実施による吐出状態の検査が開始される。そして、スリットノズル４１がローラ６１の上方の所定位置に移動されて、位置決めされる（ステップＳ１１０）。
【００７０】
そして、制御部１の制御に応じて、ローラ６１は回転を開始し（ステップＳ１２０）、照明部１５Ａは、電力を供給されて検査用の光の照射を開始し（ステップＳ１３０）、スリットノズル４１は、処理液のローラ６１への吐出、すなわち、予備塗布処理を開始する（ステップＳ１４０）。
【００７１】
次に、作業者は、スリットノズル４１の吐出口４１ａからの処理液の吐出状態の検査を行う（ステップＳ１５０）。当該検査においては、吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間を照明部１５Ａが照射した光が通過するか否か、すなわち、光が観察されるか否かが調べられる。吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間から照明部１５Ａが照射した光が観察されなければ、吐出口４１ａの全域にわたって処理液が吐出されて、当該隙間が処理液によって満たされている正常吐出の状態であると判定される。逆に、当該隙間のうち一カ所以上の箇所において照明部１５Ａが照射した光が観察された場合には、吐出口４１ａのうち光が観察された箇所において処理液が正常に吐出されていない吐出不良の状態であると判定される。
【００７２】
検査が終了して作業者が操作部１１を操作することや、予め設定された時間の経過を制御部１が検出することなどによって、処理が、次ぎのステップが進められると、制御部１の制御に応じて、スリットノズル４１は、処理液のローラ６１への吐出（予備塗布処理）を終了し（ステップＳ１６０）、照明部１５Ａは、電力供給を停止されて検査用の光の照射を停止し（ステップＳ１７０）、ローラ６１は回転を停止し（ステップＳ１８０）、スリットノズル４１による処理液の吐出状態の検査は終了される。
【００７３】
なお、照明部１５Ａとして、蓄光部材が採用される場合には、ステップＳ１３０の処理に代えて、ステップＳ１５０の処理の開始までに、制御部１の制御に応じて、照明部１５Ａに光を照射して蓄積させる図示省略の光源から照明部１５Ａに光が照射される。当該照射の時間は、照明部１５Ａを検査の所要時間以上発光させ得る時間に設定される。そして、照明部１５Ａは、ステップＳ１５０の開始までに発光を開始する。また、時間が経過して照明部１５Ａに蓄積されたエネルギーが所定レベル以下に減少すると、照明部１５Ａからの発光が停止されるので、制御部１はステップＳ１７０に関する制御を行わない。
【００７４】
ステップＳ１５０での吐出状態の検査において吐出不良と判定された場合には、例えば、スリットノズル４１が、溶剤により吐出口４１ａに詰まった処理液を溶解させて除去する図示省略のノズルクリーナーまで移動される。そして、ノズルクリーナーによるクリーニングが行われ、再び、図８に示される手順に従って、吐出状態の検査が行われる。また、ステップＳ１５０での吐出状態の検査において正常吐出と判定された場合には、制御部１の処理状態は、図７に示される基板に対する基本的な塗布処理動作を実行可能な状態に遷移される。
【００７５】
以上のように構成された実施形態１に係るスリットコータ１０Ａによれば、ローラ６１（ローラ６１と吐出口４１ａとの間の隙間）と、ステージ３に保持された基板９０との間に位置するように配設され、略水平なＹ軸方向に延びた長尺の照明部１５Ａが設けられる。そして、予備塗布処理を行ってローラ６１に向けて処理液を吐出しているスリットノズル４１の吐出口４１ａと、ローラ６１との間の隙間に向けて照明部１５Ａから光が照射される。従って、隙間を通過した光が、該隙間に対して照明部１５Ａの反対側から観察されることによって、照明部１５Ａを隙間に沿って移動させることなく処理液の吐出状態が検査され得るので、検査の作業性が改善されて検査工数が低減される。また、ローラ６１と基板９０との間の設置スペースが狭い場合でも照明部１５Ａの設置が容易になるとともに、照明部１５Ａの移動機構が不要であるため装置構成が簡略化される。
【００７６】
また、以上のように構成された実施形態１に係るスリットコータ１０Ａによれば、照明部１５Ａは、スリットノズル４１が予備塗布処理を行うときの保護部材７の下端を通る水平面５７を基準として、水平面５７を下限面とする上空間７３、および水平面５７を上限面とする下空間７４のうち何れかの空間に配設される。より詳細には、照明部１５Ａは、下空間７４において、スリットノズル４１が予備塗布処理を行うときの保護部材７と、ステージ３に保持された基板９０との間に配設される。従来の光を用いた一般的な隙間の検査のように隙間の正面に正対するように光源が配置される場合には、隙間に向けて照射される光の多くが保護部材７によって遮られるために、効率的な検査ができない。しかしながら、スリットコータ１０Ａによれば、吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間に対して斜め下方向の位置に照明部１５Ａが設けられ、照明部１５Ａから隙間に向けて斜め上方向に照射された光は、保護部材７に遮られることなく隙間を通過して観察されるので、検査の作業性がさらに改善される。
【００７７】
＜Ｂ．実施形態２＞
＜Ｂ−１．塗布装置の概要＞
図５は、実施形態２に係るスリットコータ１０Ｂの概略構成の一例を示す斜視図である。図６は、スリットコータ１０Ｂのノズル調整部６と、その周辺部分の構成例を模式的に示す図である。図６では、スリットコータ１０ＢがＹ軸方向の略中央部分においてＸＺ面で切断された断面の概略が示されている。
【００７８】
図１、図２、図５、および図６に示されるように、実施形態１に係るスリットコータ１０Ａと、実施形態２に係るスリットコータ１０Ｂとの構成上の主な相違点は、予備塗布処理の実施によるスリットノズル４１からの処理液の吐出状態の検査の際に吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間に光を照射する照明部に関する相違である。
【００７９】
具体的には、スリットコータ１０Ａが、照明部１５Ａを備えているのに対して、スリットコータ１０Ｂは、保護部材７の表面のうちスリットノズル４１に対向しＹ軸方向に延びた面、すなわち背面側（−Ｘ側）の端面に、吐出口４１ａに対向するように照明部１５Ｂを備えている。照明部１５Ｂは、長尺のシート状の部材であり、接着などにより保護部材７に固定されている。
【００８０】
スリットコータ１０Ｂは、スリットコータ１０Ａと同様に、図７のフローチャートに従って基板９０に対する塗布処理の基本動作を行うとともに、図８のフローチャートに従って予備塗布処理の実施によるスリットノズル４１からの処理液の吐出状態の検査が行われる。また、当該吐出状態の検査も、スリットコータ１０Ａにおける吐出状態の検査と同様に、スリットコータ１０Ｂがしばらく放置された状態から再起動される場合や、連続的な塗布処理の結果の検査においてプアコーティングなどの塗布不良が検知された場合、またはスリットコータ１０Ａが異常を検知して停止した場合などに行われる。
【００８１】
以下では、スリットコータ１０Ｂが備える照明部１５Ｂについて説明し、スリットコータ１０Ｂの他の構成要素や動作に関する説明は省略する。
【００８２】
図６に示されるように、スリットコータ１０Ｂは、予備塗布処理の実施によるスリットノズル４１からの処理液の吐出状態の検査のために、Ｙ軸方向に延びた長尺の照明部１５Ｂを備えている。照明部１５Ｂは、予備塗布処理を行っているスリットノズル４１の吐出口４１ａと、ローラ６１との間の隙間に向けて検査用の光を照射する。
【００８３】
照明部１５Ｂは、例えば、Ｙ軸方向に沿った長尺のＥＬシートや、光を吸収することにより発光するＹ軸方向に長尺のシート状の蓄光部材などの光源により構成される。照明部１５Ｂの鉛直（Ｚ軸）方向の幅は、保護部材７のうちスリットノズル４１の下端から下方に突設された部分の長さよりも短く、例えば、３ｍｍ〜５ｍｍである。照明部１５ＢのＹ軸方向の長さは、照明部１５Ａの長さと同様に設定され、照明部１５Ａと同様に、照明部１５Ｂからは、観察者や観察装置が観測可能な波長の光が、処理液の吐出状態の検査用の光として照射される。
【００８４】
左右（水平）方向に位置に関して、照明部１５Ｂは、ローラ６１（ローラ６１と吐出口４１ａとの間の隙間）と、ステージ３に保持された基板９０との間に、より詳細には、上述したように、保護部材７の背面側（−Ｘ側）の端面に、吐出口４１ａに対向するように備えられている。従って、照明部１５Ｂは、スリットノズル４１に対する相対的位置関係を固定された状態で、スリットノズル４１とともに移動する。
【００８５】
鉛直方向の位置に関して、照明部１５Ｂは、スリットノズル４１が予備塗布処理を行うときの保護部材７の下端を通る水平面５７（図６）を横切らないように、水平面５７を基準として、水平面５７を下限面とする上空間７３（図６）、および水平面５７を上限面とする下空間７４（図６）のうち何れかの空間に配設される。より詳細には、照明部１５Ｂは、上空間７３に設けられている。従って、基板９０に対する塗布処理が行われる際に、照明部１５Ｂが基板９０に接触することもない。
【００８６】
照明部１５Ｂが設けられる空間は、吐出口４１ａと保護部材７との間の狭い空間に限定されるが、照明部１５Ｂは、Ｙ軸方向に長尺で鉛直方向に小幅であることから、スリットコータ１０Ｂの他の構成部材と接触することなく、設置可能である。
【００８７】
そして、スリットノズル４１が予備塗布処理用の位置に配置された状態で、照明部１５Ｂから吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間に向けて光が照射される。照射された光のうち主に斜め下方向に照射された光Ｌ２は、当該隙間を、直接、またはローラ６１により反射された後に通過して、当該隙間に対して照明部１５Ｂと反対側から観察されるので、光Ｌ２は、吐出口４１ａから吐出される処理液の吐出状態の検査に使用できる。
【００８８】
また、照明部１５Ｂは、保護部材７に対して吐出口４１ａ側に設けられるので、照明部１５Ｂから吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間に向けて照射された光を、当該隙間に対して照明部１５Ｂと反対側から観察する際に、保護部材７が観察の妨げにならない。従って、照明部１５Ｂが採用されれば、照明部１５Ｂから照射されて当該隙間を通過した光を広い角度範囲において観察可能である。観察における空間的な自由度が高められるので、スリットノズル４１から吐出される処理液の吐出状態の検査の作業性がより改善される。
【００８９】
照明部１５Ｂの光度、発光時間は、照明部１５Ａと同様に設定される。また、照明部１５Ｂとして蓄光部材が採用される場合には、検査の開始に先立って、蓄光部材に光を照射して吸収させるための光源から照明部１５Ｂに光が照射されて蓄光される。当該蓄光は、例えば、検査に先立ってスリットノズル４１が予備塗布処理の動作位置から上方に移動された状態で、作業者が装置外部の光源によって照明部１５Ｂに光を照射することなどによって行われる。
【００９０】
以上のように構成された実施形態２に係るスリットコータ１０Ｂによれば、ローラ６１（ローラ６１と吐出口４１ａとの間の隙間）と、ステージ３に保持された基板９０との間に位置するように配設され、略水平なＹ軸方向に延びた長尺の照明部１５Ｂが設けられる。そして、予備塗布処理を行ってローラ６１に向けて処理液を吐出しているスリットノズル４１の吐出口４１ａと、ローラ６１との間の隙間に向けて照明部１５Ｂから光が照射される。従って、隙間を通過した光が、該隙間に対して照明部１５Ｂの反対側から観察されることによって、照明部１５Ａを隙間に沿って移動させることなく処理液の吐出状態が検査され得るので、検査の作業性が改善されて検査工数が低減される。また、ローラ６１と基板９０との間の設置スペースが狭い場合でも照明部１５Ｂの設置が容易になるとともに、照明部１５Ｂの移動機構が不要であるため装置構成が簡略化される。
【００９１】
また、以上のように構成された実施形態２に係るスリットコータ１０Ｂによれば、照明部１５Ｂは、スリットノズル４１が予備塗布処理を行うときの保護部材７の下端を通る水平面を基準として、水平面５７を下限面とする上空間７３、および水平面５７を上限面とする下空間７４のうち何れかの空間に配設される。より詳細には、照明部１５Ｂは、上空間７３において、保護部材７の表面のうちスリットノズル４１に対向しＹ軸方向に延びた面に配設される。従って、照明部１５Ｂから吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間に向けて斜め下方向に照射された光は、保護部材７に遮られることなく隙間を通過して観察されるので、検査の作業性がさらに改善される。また、照明部１５Ｂが保護部材７よりも＋Ｘ側に設けられる場合に比べて、より広い角度範囲に照射された光が隙間を通過できるので、隙間を通過した光を観察可能な空間的な自由度がより高くなり、検査の作業性がさらに改善される。
【００９２】
また、以上のように構成された実施形態１および実施形態２の何れの実施形態に係るスリットコータによっても、照明部のＹ軸方向の長さは、スリットノズル４１の吐出口４１ａのＹ軸方向の長さ以上である。従って、照明部を吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間に沿って移動させたり、複数の照明部を用いることなく隙間の全長にわたって照明部から光を照射できるので、検査の作業性がより改善でき、検査工数を削減できるとともに、装置構成を簡略化できる。
【００９３】
本発明は詳細に示され記述されたが、上記の記述は全ての態様において例示であって限定的ではない。したがって、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。例えば、照明部１５Ａ、照明部１５Ｂのように照明部が配置されれば、スリットノズル４１から吐出される処理液の吐出状態の確認のみならず、スリットノズル４１の吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間の間隔や、隙間の長さ方向にわたる隙間間隔均一性（平行性）の調整にも有用である。この場合には、処理液が吐出口４１ａから吐出されない状態で調整が行われる。また、予備塗布処理におけるスリットノズル４１からの処理液の吐出状態の検査において、吐出口４１ａとローラ６１との間の隙間を通過した光が、当該光を検出可能な測定装置によって観察されても良い。
【符号の説明】
【００９４】
１０Ａ，１０Ｂ  スリットコータ（塗布装置）
１５Ａ，１５Ｂ  照明部
１  制御部
２  塗布処理部
３  ステージ
３０  保持面
３１  待避エリア
４  吐出機構
４１  スリットノズル
４１ａ  吐出口
５  移動機構
６  ノズル調整部
６１  ローラ
７  保護部材
９０  基板
９５  処理液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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