(57)【要約】      （修正有）【課題】分散体の状態や塗膜方法に依らない、真に高輝度なカラーフィルタを提供する。【解決手段】有機顔料を含有するカラーフィルタであって、超小角エックス線散乱法に基づき、カラーフィルタ中の有機顔料の超小角エックス線プロファイルを測定する工程（Ａ）と、該散乱プロファイル上で湾曲点を算出する工程（Ｂ）と、該湾曲点から設定される解析領域（ｃ１）を算出する工程（Ｃ）と、解析領域ｃ１での傾きパラメータを算出する工程（Ｄ）とを有する、有機顔料の散乱プロファイル解析において、解析領域（ｃ１）での傾きパラメータが２以下である。また、このパラメータを有する有機顔料が、ガラス基板上で形成された塗膜に分散されたカラーフィルタである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機顔料を含有するカラーフィルタであって、
超小角エックス線散乱法に基づき、カラーフィルタ中の有機顔料の超小角エックス線プロファイルを測定する工程（Ａ）と、該散乱プロファイル上で湾曲点を算出する工程（Ｂ）と、該湾曲点から設定される解析領域（ｃ１）を算出する工程（Ｃ）と、解析領域ｃ１での傾きパラメータを算出する工程（Ｄ）とを有する、有機顔料の散乱プロファイル解析において、
解析領域（ｃ１）での傾きパラメータが２以下であることを特徴とする、カラーフィルタ。
【請求項２】
上記有機顔料の散乱プロファイル解析において、解析領域（ｃ１）での傾きパラメータが１．５以下である、請求項１に記載のカラーフィルタ。
【請求項３】
上記有機顔料の極大透過波長が６００ｎｍ以上７００ｎｍ以下である、請求項１または２に記載のカラーフィルタ。
【請求項４】
上記有機顔料の極大透過波長が５００ｎｍ以上６００ｎｍ以下である、請求項１または２に記載のカラーフィルタ。
【請求項５】
上記有機顔料の極大透過波長が４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、請求項１または２に記載のカラーフィルタ。
【請求項６】
上記有機顔料が、ガラス基板上で形成された塗膜に分散されたものである、請求項１〜５に記載のカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高輝度なカラーフィルタを提供する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、カラーフィルタの輝度、コントラスト、色調などの発色特性は、有機顔料の粒子径や粒度分布に加えて凝集状態に大きく影響されることが経験的に知られている。従来では、透過型電子顕微鏡を用いて直接観察し、視野中の顔料粒子の大きさを測定する方法や凝集状態を目視で観察する方法がとられている。
【０００３】
しかしながら、この方法では、精度を上げるために１００個以上の顔料粒子を複数回計測しなければならないため手間がかかることや、粒子が重なって写っている場合、そのサイズを判別するのが難しく計測対象から外してしまうため、計測対象の粒子を選別する作業に計測者による恣意が働きやすいこと等があり、このようにして求めた粒子径やその粒径分布が、カラーフィルタ全体を代表した精密な数値であるのか疑問があるという問題があった。
【０００４】
また有機顔料は、塗膜中では一次粒子の状態だけで存在しておらず一部は二次粒子、三次粒子といった高次の凝集体を形成しているとされている。これら高次の凝集構造は色材としての特性、つまりはカラーフィルタの輝度、コントラストや色調等に強く影響するため、真に高輝度なカラーフィルタを得るには、カラーフィルタの状態での顔料の凝集状態の程度を知ることが必要であった。
【０００５】
例えば、文献１においては、平均一次粒子が５ｎｍから４０ｎｍの顔料を含有するカラーフィルタが開示されているが、この場合の一次粒子は塗膜化する前の分散体の状態で測定したものであり、塗膜化したときに高輝度なカラーフィルタとなるかどうかは、塗膜条件やベークの有無なので変わってしまうという問題があった。
【０００６】
また、特許文献２においては、原子間力顕微鏡によって観察される二次粒子が２次粒子の占有率が４０％以下であるカラーフィルタが開示されている。しかし、原子間力顕微鏡での測定では、塗膜の状態での一次粒子や三次粒子は特定できておらず、二次粒子の占有率が４０％以下であっても、一次粒子や三次粒子の状態、顔料の凝集程度によっては高輝度にならないという課題は解決されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−２８８６０９
【特許文献２】特開２００９−９８６９１
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ｃによるスプライン関数  データ解析／ＣＧ／微分方程式  、桜井明  監修、東京電機大学出版局、１９９３．９.３０発行
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
我々は、分散体の状態や塗膜方法に依らない、真に高輝度なカラーフィルタを提供することを課題とした。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
我々は鋭意検討した結果、有機顔料を含有するカラーフィルタであって、超小角エックス線散乱法に基づき、カラーフィルタ中の有機顔料の超小角エックス線プロファイルを測定する工程（Ａ）と、該散乱プロファイル上で湾曲点を算出する工程（Ｂ）と、該湾曲点から設定される解析領域（ｃ１）を算出する工程（Ｃ）と、解析領域ｃ１での傾きパラメータを算出する工程（Ｄ）とを有する、有機顔料の散乱プロファイル解析において、解析領域（ｃ１）での傾きパラメータが２以下であることを特徴とする、カラーフィルタを提供することで、上記課題を解決できることを見出した。
【００１１】
また、上記有機顔料が、ガラス基板上で形成された塗膜に分散されたものである、カラーフィルタを提供することで、上記課題を解決する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、分散体の状態や塗膜方法に依らない、真に高輝度なカラーフィルタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】カラーフィルタの透過スペクトルである。
【図２】カラーフィルタの透過スペクトルである。
【図３】カラーフィルタの超小角散乱プロファイルである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
〔カラーフィルタ〕
本発明におけるカラーフィルタとは、有機顔料を含有することで、ある特定の波長を吸収することで、それ以外の特定の波長の光を透過するものをいう。
基材としては、光を透過するものであればよく、用途によって適時選択すればよい。例えば樹脂や無機材料が挙げられ、ガラスが特に好ましい。
【００１５】
上記カラーフィルタは、基材と有機顔料を有し、有機顔料は基材中に分散していてもよいし、基材の表面にのみ存在していてもかまわない。樹脂中に有機顔料を分散し、成形してもよく、基材の表面に塗膜として分散させてもよい。例えば、顔料の分散液をガラス基材の表面に塗工したカラーフィルタであれば、液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子のような発光型表示素子等に好適に用いることができる。
【００１６】
カラーフィルタの形状は任意であり、板状、フィルム状、レンズ状、球体、一部に三次元の凹凸を有するものや、表面に微細な凹凸加工をしたものなど、どのような形状でも構わない。
【００１７】
〔有機顔料〕
本発明の有機顔料としては、フタロシアニン系、不溶性アゾ系、アゾレーキ系、アントラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アントラピリミジン系、アンザンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、チオインジゴ系、トリアリールメタン系、イソインドリノン系、イソインドリン系、金属錯体系、キノフタロン系、染付レーキ系等が挙げられる。
透過したい波長に合わせて、顔料種は適時選択すればよい。
【００１８】
赤色カラーフィルタの場合、赤色系顔料を用いればよく、具体的には６００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の透過波長における透過度が高い顔料が挙げられる。当該顔料は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましく使用できる顔料の具体例として、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ８１、同  １２２、同  １７７，同  ２０９，同  ２４２，同  ２５４，Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９が挙げられる。中でもＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４が特に好ましい。
また、前記赤色カラーフィルタは、調色用として更に、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３８、同７１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０、同２１５、同１８５、同１３８、同１３９からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機顔料を含有することも可能である。
【００１９】
緑色カラーフィルタの場合、緑色系顔料を用いればよく、５００ｎｍ以上６００ｎｍ以下に極大透過波長を持つ顔料が挙げられる。当該顔料は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましく使用できる顔料の具体例として、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７、同  ３６、同  ５８が挙げられる。中でも同  ５８が特に好ましく、その極大透過波長は、５１０ｎｍから５５０ｎｍの間にある。
前記緑色カラーフィルタは、調色用として更に、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０、同２１５、同１８５、同１３８からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機顔料を含有することも可能である。
【００２０】
青色カラーフィルタの場合、青色系顔料を用いればよく、４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下に極大透過波長を持つ顔料が挙げられる。当該顔料は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。好ましく使用できる顔料の具体例として、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：３，同１５：６，トリアリールメタン顔料として、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １，及び／又は下記一般式（１）（式中、Ｒ１〜Ｒ６は各々独立して水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表す。Ｒ１〜Ｒ６が置換基を有していてもよいアルキル基を表す場合、隣接するＲ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ５とＲ６が結合して環構造を形成してもよい。Ｘ１及びＸ２は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ｚ−は（Ｐ２ＭｏｙＷ１８−ｙＯ６２）６−／６で表され、ｙ＝０、１、２または３の整数であるヘテロポリオキソメタレートアニオンか、（ＳｉＭｏＷ１１Ｏ４０）４−／４であるヘテロポリオキソメタレートアニオンか、欠損ドーソン型リンタングステン酸ヘテロポリオキソメタレートアニオンから選ばれる少なくとも一種のアニオンである。１分子中に複数の式（１）が含まれる場合、それらは同じ構造であっても異なる構造であってもよい。）で表されるトリアリールメタン顔料が挙げられる。
一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ６は同一でも異なるものであってもよい。従って、−ＮＲＲ（ＲＲは、Ｒ１Ｒ２、Ｒ３Ｒ４、及びＲ５Ｒ６のいずれかの組み合わせを表す。）基は対称であっても非対称であってもよい。
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：３の極大透過波長は、４４０ｎｍから４８０ｎｍの間にあり，同１５：６の極大透過波長は、４３０ｎｍから４７０ｎｍの間にあり、  トリアリールメタン顔料の極大透過波長は、４１０ｎｍから４５０ｎｍの間にある。
前記青色カラーフィルタは、調色用として更にＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３、同３７、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５、同１５：１、同１５：２、同１５：４からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機顔料を含有することも可能である。  
【００２１】
【化１】
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【００２２】
上記有機顔料を、顔料分散体とした上で基材に塗布する方法で、カラーフィルタを製造することができる場合、顔料分散体としては、有機顔料のほかに公知の顔料分散剤や溶媒等を含有してもかまわない。有機顔料を予め溶剤や顔料分散剤で分散させた分散液を調整し、得られた分散液を基材に塗布すればよく、塗布方法としては例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等、スプレーコート法、印刷法等が挙げられる。  
【００２３】
有機顔料を基材に塗布して乾燥させた状態でカラーフィルタとしてもよいし、顔料分散体に硬化性樹脂が含まれる場合、熱や活性エネルギー線により硬化することでカラーフィルタとしてもよい。また、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により、１００〜２８０℃で、所定時間加熱処理（ポストベーク）することによって、塗膜中の揮発性成分を除去する工程を行ってもかまわない。
【００２４】
〔カラーフィルタにおける顔料の粒子状態〕
本発明のカラーフィルタは、有機顔料の凝集程度の指標となる傾きパラメータが２以下であることを特徴とするものである。カラーフィルタにおいて、カラーフィルタの状態での有機顔料の状態が、もっとも輝度に貢献する。カラーフィルタとなった状態での有機顔料粒子の凝集程度の指標となる傾きパラメータを規定することで、塗工方法や後処理工程に左右されない、高輝度なカラーフィルタとなる。傾きパラメータが小さい値ほど凝集程度は小さくなるので、より好ましくは傾きパラメータが１．５以下である。
【００２５】
上記有機顔料において、１０００ｎｍより大きいような粗大粒子は輝度に悪影響を及ぼし好ましくないため、１％以下である必要がある。これは、カラーフィルタ表面を適当な光学顕微鏡等で観察すればよい。
【００２６】
〔超小角エックス線散乱プロファイル〕
有機顔料の凝集程度を示す傾きパラメータを算出するには、超小角エックス線散乱法に基づいた超小角Ｘ線散乱プロファイルを解析することで求めることができる。
具体的には、超小角エックス線散乱法に基づき、有機顔料の超小角エックス線散乱プロファイル（測定散乱プロファイル）を測定する工程（Ａ）と、該散乱プロファイル上で湾曲点を算出する工程（Ｂ）と、該湾曲点から設定される解析領域（ｃ１）を決定する工程（Ｃ）と、解析領域ｃ１での傾きパラメータを算出する工程（Ｄ）とを有する測定方法である。
【００２７】
超小角エックス線散乱法（Ｕｌｔｒａ−Ｓｍａｌｌ  Ａｎｇｌｅ  Ｘ−ｒａｙ  Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ：ＵＳＡＸＳ）とは、散乱角が０．１＜（２θ）＜１０℃である小角領域だけでなく、０°＜（２θ）≦０．１°という超小角領域で生じる散漫な散乱・回折も同時に測定する方法である。小角エックス線散乱法では、物質中に１〜１００ｎｍ程度の大きさの電子密度の異なる領域があると、その電子密度差によりエックス線の散漫散乱を計測することができるが、この超小角エックス線散乱法では、物質中に１〜１０００ｎｍ程度の大きさの電子密度の異なる領域があると、その電子密度差によりエックス線の散漫散乱が計測される。この散乱角と散乱強度に基づいて測定対象物の傾きパラメータを求める。
【００２８】
超小角エックス線散乱法を実現する主要技術は、入射Ｘ線の波長幅やビーム径を絞り超小角領域のバックグラウンド散乱強度を低減する高度な光学系制御技術を用い、できるだけサンプルから検出器までの距離、いわゆるカメラ長を長くして散乱角の小さい部分を高精度に測定する２つの技術で達成される。実験室用の小型の装置では主に前者の技術で達成される。
【００２９】
また、Ｘ線小角散乱プロファイルから傾きパラメータを求めるためのプログラムとしては、汎用の微分計算やデータ補間処理ができるプログラムを用いることができるが、例えばＭＡＴＬＡＢ（ＭａｔｈＷｏｒｋｓ社）等のプログラムを用いることが好ましい。傾きパラメータを算出するための最小自乗法によるフィッティングには上記プログラムに加え、Ｅｘｃｅｌ（マイクロソフト社製）などのプログラムを用いることができる。  
【００３０】
有機顔料の散乱プロファイルを測定する場合、エックス線散乱装置の入射エックス線の輝度が１０６Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ（ｐｈｏｔｏｎｓ／ｓｅｃ／ｍｍ２／ｍｒａｄ２／０．１％ｂａｎｄｗｉｄｔｈ）以上であれば、十分な散乱強度を測定することが可能であり、好ましくは１０７Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ以上である。塗膜の基板がガラスなどの場合、エックス線を吸収しやすいため、入射エックス線の輝度が著しく不足するので、有機顔料の散乱プロファイルを精度よく測定するには、入射Ｘ線の輝度が１０１６Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ以上であることが好ましく、より好ましくは１０１８Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ以上である。
【００３１】
１０１６Ｂｒｉｌｌｉａｎｃｅ以上の高輝度エックス線源を得るために、前記の大型放射光施設、たとえば兵庫県のＳＰｒｉｎｇ−８や茨城県のＰｈｏｔｏｎ  Ｆａｃｔｏｒｙ等の光源を用いることができる。このような設備では、任意のカメラ長を選択することで目的の散乱領域を設定できる。また、十分な散乱強度を得るためや、試料ダメージを防ぐため、さらには検出器の保護のために入射側にアテネーターと呼ばれる数種の金属製の吸収板を使用したり、露光時間を０．５〜６０秒程度で任意で調整することにより、最適な測定条件を広範囲の目的から選択することができる。アテネーターは、例えばＡｕ、Ａｇ、モリブデン製の薄膜などが挙げられる。
【００３２】
測定の具体的な手順としては、まず、工程（Ａ）で、カラーフィルタを市販のエックス線回折装置の試料ホルダー、試料台等に設置した後、散乱角（２θ）が１０°未満の範囲の各散乱角（２θ）における散乱強度Ｉを測定して、小角エックス線散乱プロファイル（測定散乱プロファイル）を測定する。
【００３３】
基板がガラスである塗膜の場合に用いる放射光による超小角散乱装置は、蓄積リングと呼ばれる円形加速器から取り出した白色光を二結晶分光器で単色化し、Ｘ線領域の波長（例えば１Å）を線源とし、試料台に設置した塗膜に入射させ、散乱光を２次元検出器で一定時間露光し、同心円状に得られた散乱プロファイルを１次元に平均化し、散乱角（２θ）が１０°未満の範囲の各散乱角（２θ）における散乱強度Ｉに変換し、小角エックス線散乱プロファイル（測定散乱プロファイル）を得る作業を工程（Ａ）とする。
【００３４】
次いで、工程（Ｂ）では、得られた測定散乱プロファイルにおいて散乱ベクトルｑ＜０．５［ｎｍ−１］以下の領域における湾曲点を算出する。ここで言う湾曲点とは、散乱ベクトルｑと散乱強度Ｉをそれぞれ両対数プロットしたグラフであらわされる散乱プロファイルにおける、上に凸で現れる湾曲部分を意味している。
【００３５】
まず、散乱ベクトルｑおよび散乱強度Ｉのそれぞれを基数１０の対数Ｌｏｇ（ｑ）およびＬｏｇ（Ｉ）となる値に変換する。ここで便宜上、ｘとｙ座標のグラフにおける関数ｙ＝ｆ（ｘ）を考えたときの散乱プロファイルをＬｏｇ（Ｉ）  ＝Ｆ（Ｌｏｇ（ｑ））という関数で表されると仮定する。ここでさらに、Ｌｏｇ（ｑ）＝Ｑ、およびＬｏｇ（Ｉ）＝Ｊと表記すると、Ｊ＝Ｆ（Ｑ）という形で散乱プロファイルが表記されこれを散乱プロファイル関数と呼ぶことにする。
【００３６】
Ｊ＝Ｆ（Ｑ）であらわされる散乱プロファイル関数をスプライン関数によるスムージングを行い、さらにスムージング処理後の関数Ｇ（Ｑ）について１次微分関数Ｇ′（Ｑ）＝ｄＧ（Ｑ）／ｄＱを求める。前記スプライン関数によるスムージング処理後の関数Ｇ（Ｑ）および１次微分関数Ｇ′（Ｑ）の導出は例えば非特許文献１に記載されている手法を用いる。
【００３７】
次に、前記１次微分関数Ｇ′（Ｑ）において、Ｑ＝０からＱマイナス方向に向けて極小値Ｇ′ｍｉｎとそのｘ座標Ｘ＿ｇｍｉｎを求める。さらに同マイナス方向に向けて極大値Ｇ′ｍａｘとそのｘ座標Ｘ＿ｇｍａｘを求める。
次に、前記極大値Ｇ′ｍａｘと前記極小値Ｇ′ｍｉｎとの半値Ｇ′ｃ＝（Ｇ′ｍａｘ−Ｇ′ｍｉｎ）／２を求める。
前記Ｘ＿ｇｍａｘと前記Ｘ＿ｇｍｉｎの間のｘ座標範囲において、この半値Ｇ′ｃを示す点が、もとの散乱プロファイル関数Ｆ（Ｑ）における湾曲点に相当する。このときの湾曲点のｘ座標についてＱ＝Ｑ０と表す。湾曲点のｘ座標を散乱ベクトルｑで表記すると、Ｌｏｇ（ｑ０）＝Ｑ０の関係式からｑ＝ｑ０が散乱プロファイル上の湾曲点のｘ座標となる。
【００３８】
次いで、工程（Ｃ）では、まず散乱プロファイルの傾きを求めるための解析領域（ｃ１）を算出する。湾曲点のｘ座標Ｑ０よりも小さいＱの領域、つまりＱ＜Ｑ０の領域において、１次微分関数Ｇ′（Ｑ）がほぼ平坦になる領域を解析領域ｃ１とする。
このとき、微分していないもとの散乱プロファイル関数Ｆ（Ｑ）においては解析領域ｃ１である一定の傾きをもった直線に近似できるプロファイル部分となる。  
【００３９】
解析領域ｃ１は、端点１と端点２で区切られた領域となるように、端点１と端点２を決定する。それぞれの端点でのｘ軸の値は、端点１ではＱ＝Ｑ１となりＬｏｇ（ｑ）＝Ｌｏｇ（ｑ１），端点２ではＱ＝Ｑ２となりＬｏｇ（ｑ）＝Ｌｏｇ（ｑ２）で表されるとする。
まず、解析領域ｃ１の端点１は以下のように決定する。前記最大値Ｇ′ｍａｘと、端点１に設定したい点での値Ｇ′（Ｑ１）との値の差分Δ＝Ｇ′ｍａｘ−Ｇ′（Ｑ１）を計算し、湾曲点ｘ座標Ｑ０からＱが小さくなる方向へ順にデータを着目したときに差分Δ＜０．１となる最初の点を端点１とする。この端点１のｘ座標がＱ＝Ｑ１となりｑ＝ｑ１である。
【００４０】
端点２の決め方については、測定データによって最適な値を決める必要がある。具体的には、小さいｑの領域では実験時に用いたビームストッパー近傍における寄生散乱などの影響が強くなり散乱強度が大きくなってしまい顔料粒子に由来する散乱とは別の要因で散乱プロファイルの傾きが変化してしまう。つまり、端点２をＱが十分小さい超小角域側に決めて解析領域ｃ１を広くとるのは必ずしも適さない。一方で、端点２を端点１の近い位置にとってしまうのはデータのノイズの影響などが大きくなり最終的に次の工程（Ｄ）で解析領域ｃ１における傾きパラメータを最小自乗法で算出する解析上、意味を為さなくなる。
【００４１】
これらを考慮し、端点２のｘ座標を決定する必要がある。端点２のｘ座標の値はＱ２＝Ｌｏｇ（ｑ２）である。ｑ２の値の決定には先に決定したｑ１の値を用いて  ｑ２＝ｑ１／２  〜  ｑ１／３の範囲でできるだけ広く散乱プロファイルが直線で近似できるようにとるのが望ましい。
【００４２】
次に、工程（Ｄ）では、端点１と端点２で決定した解析領域ｃ１における散乱プロファイルの傾きパラメータを算出する。この解析領域ｃ１では散乱強度Ｉと散乱ベクトルｑが  Ｉ（ｑ）∝ｑ−ｄＭ  の関係にある。よって、両対数プロットで散乱プロファイルを表した散乱プロファイル関数Ｌｏｇ（Ｉ）  ＝Ｆ（Ｌｏｇ（ｑ））は解析領域ｃ１での理論相関関数として下記式（１）のように表される。
【００４３】
Ｌｏｇ（Ｉ）＝−ｄＭ×Ｌｏｇ（ｑ）＋Ｃ（Ｃ：定数）  ・・・（１）
【００４４】
上記式（１）において、ｄＭが解析領域ｃ１における傾きパラメータとなり、Ｃは定数である。
上記式（１）で表される理論相関関数と解析領域ｃ１における散乱プロファイルとの関数フィッティングを最小自乗法により実行することで傾きパラメータｄＭを算出する。
【００４５】
関数フィッティングにおける変数は上記のｄＭおよびＣである。関数フィッティングは理論相関関数と散乱プロファイル関数との残差二乗和Ｚ値が最小自乗法により最小となるよう実行され、この残差二乗和Ｚ値が小さいほどフィッティングの精度は高いとされる。一般にＺ値は２％未満になればフィッティングが収束したと判断してよい。好ましくはＺ値が１％未満であり、よりこのましくは０．５％未満である。
【００４６】
本工程における関数フィッティングが良好に収束しない場合、すなわちＺ値が２％以上である場合は解析領域ｃ１内のデータにばらつきが多いか、もしくは直線形状から大きく外れていることを意味する。この原因のひとつとして解析領域ｃ１が適切でないことが考えられる。とくに解析領域ｃ１を広くとりすぎて不要な散乱寄与を含んだデータになっている場合が考えられ、その場合は工程（Ｃ）で求めた端点２を端点１に近いところに調整してもよく、そのうえで工程（Ｄ）を繰り返す。
【００４７】
もう１つの原因としては、十分な強度のないエックス線で測定した場合において得られた散乱強度データが大きくばらついていることが原因として考えられる。その場合は、Ｓ／Ｎ比が良好な散乱強度データが得られるような、より強力なエックス線を照射できる実験施設での超小角散乱実験によって測定データを得る必要がある。
【００４８】
ここで、散乱プロファイルにおいて明瞭な湾曲部分が見られない場合、つまり前記極大値Ｇ′ｍａｘと前記極小値Ｇ′ｍｉｎの差分△Ｇ′ｍａｘ−ｍｉｎ＜０．１の場合には、仮想的に湾曲点Ｑ０（またはｑ０）を決める必要が生じる。もしこのとき、同じ顔料を用いている別のカラーフィルタ試料で散乱プロファイルに湾曲部が明瞭に現れている場合には、そのときの湾曲点Ｑ０を、湾曲部が明瞭に現れていない試料の湾曲点Ｑ０に代用することができる。散乱プロファイルにおいて明瞭な湾曲部分がみられず、代用できるＱ０が得られない場合には、ｑ＜０．５の範囲、Ｑ＜Ｌｏｇ（０．５）の範囲において散乱プロファイル上の任意の部分を解析領域ｃ１と設定することができる。その解析領域ｃ１において最小自乗法により傾きパラメータｄＭを求めればよい。
【００４９】
なお、この傾きパラメータｄＭは、物理的には質量フラクタル次元数と呼ばれることがあり、解析領域ｃ１で精度良く傾きパラメータｄＭが求められるということは散乱光強度Ｉが  Ｉ（ｑ）∝ｑ−ｄＭで表されて散乱ベクトルｑのべき乗則に従っていることを示している。そのため、原理的にはｄＭは３以上の値をとらない。もし、ｄＭが３以上の値になった場合は、先述のような不適切な解析領域ｃ１やノイズの多いデータの原因が考えられるので、解析領域ｃ１の見直しや高強度エックス線による再実験を行い、あらためて工程（Ａ）から工程（Ｄ）を実施することで散乱プロファイルの傾きパラメータを解析結果として得られる。
【００５０】
以上のように解析領域ｃ１で精度良く傾きパラメータｄＭが求められるということはすなわち質量フラクタル次元数が明確に決定できていることであり、原理的、物理的にはカラーフィルタに含まれる有機顔料の凝集構造がフラクタル的な自己相似的構造をとっていることを示している。ｄＭで表される傾きパラメータが大きい値であるほど自己相似的凝集構造が大きいことを意味し、凝集程度が大きいことを示している。よって、このｄＭをカラーフィルタにおける顔料凝集程度の定量的指標とすることができる。
【実施例】
【００５１】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではない。また、特に言及がない場合、部及び％は質量換算である。
【００５２】
〈合成例１〉  共重合体ａの合成
キシレン１００部を、窒素気流中８０℃に保ち、攪拌しながらメタクリル酸エチル６８部、メタクリル酸２−エチルヘキシル２９部、チオグリコール酸３部、および重合開始剤（「パーブチル（登録商標）Ｏ」〔有効成分ペルオキシ２−エチルヘキサン酸ｔ−ブチル、日本油脂（株）製〕）０．２部からなる混合物を４時間かけて滴下した。滴下終了後、４時間ごとに「パーブチル（登録商標）Ｏ」０．５部を添加し、８０℃で１２時間攪拌した。反応終了後不揮発分調整のためキシレンを加え、不揮発分５０％の共重合体ａのキシレン溶液を得た。
【００５３】
〈合成例２〉  共重合体ｂの合成
キシレン１００部を、窒素気流中８０℃に保ち、攪拌しながらメタクリル酸エチル６６部、メタクリル酸２−エチルヘキシル２８部、チオグリコール酸６部、および重合開始剤（「パーブチル（登録商標）Ｏ」〔有効成分ペルオキシ２−エチルヘキサン酸ｔ−ブチル、日本油脂（株）製〕）０．３部からなる混合物を４時間かけて滴下した。滴下終了後、４時間ごとに「パーブチル（登録商標）Ｏ」０．５部を添加し、８０℃で１２時間攪拌した。反応終了後、不揮発分調整のため適宜量のキシレンを添加し、不揮発分５０％の、共重合体ｂのキシレン溶液を得た。
【００５４】
〈合成例３〉  ポリマーＰの合成
撹拌機，還流冷却器，窒素吹込み管、温度計を備えたフラスコに、キシレン５４．５部、合成例２で得た共重合体ａを１９．０部、共重合体ｂを３８．０部、およびポリアリルアミン１５％水溶液（日東紡績（株）製「ＰＡＡ−０５」、数平均分子量約５，０００）７．５部からなる混合物を仕込み、窒素気流下撹拌しながら１４０℃で撹拌し、分離装置を使用して水を溜去すると共に、キシレンを反応溶液に返流しながら８時間１４０℃で反応を行った。
反応終了後、不揮発分調整のため適宜量のキシレンを添加し、不揮発分４０％の、変性ポリアミンであるポリマーＰを得た。該樹脂の重量平均分子量は１１０００、アミン価は１６．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００５５】
〈製造例１〉粉末顔料１の製造  
ＤＩＣ株式会社製のＦＡＳＴＯＧＥＮ  Ｇｒｅｅｎ  Ａ１１０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ５８、臭素化塩素化亜鉛フタロシアニン）を、粉末顔料１とした。
【００５６】
〈製造例２〉粉末顔料２の製造
製造例１で得た粉末顔料１を１００部、ヘプタンを３００部、ポリマーＰを１０部混合し、１．２５ｍｍジルコニアビーズを３００部加えて、ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で常温にて、１時間撹拌したのち、ヘプタン２００部で希釈し、ジルコニアビーズを濾別し、顔料混合液を得た。
得られた顔料混合液の４００部を温度計、攪拌機、還流冷却器および窒素ガス導入管を備えたセパラブルフラスコに仕込んだ後、メタクリル酸メチルの５部およびエチレングリコールジメタクリレートの５部の重合性単量体組成物に２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）の２部を溶解したものを加えた。室温で３０分間攪拌を続けた後、８０℃に昇温し、同温度で１５時間反応を続けた。降温後、濾過を行い、得られたウエットケーキを熱風乾燥機により１００℃で５時間乾燥後、粉砕機にて粉砕を行い、粉末顔料２を得た。
【００５７】
〈製造例３〉粉末顔料３の製造（旧  粉末顔料２）  
製造例１で得た粉末顔料１を１０部、粉砕した塩化ナトリウムを１００部、ジエチレングリコール１０部を双腕型ニーダーで１００℃８時間混練した。混練後、８０℃の水１０００部を加え、一時間撹拌後、濾過、湯洗、乾燥、粉砕し、粉末顔料３を得た。
【００５８】
〈製造例４〉分散液１の製造
製造例１で得た粉末顔料１を５部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ
Ａ）を３３．３部、ポリマーＰを３部混合し、０．５ｍｍセプラビーズを６５部加えて、
ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で４時間撹拌した。得られた混合液からセプ
ラビーズを濾別し、分散液１を得た。
【００５９】
〈製造例５〉分散液２の製造  
製造例４において、粉末顔料１を粉末顔料２に、ポリマーＰをアジスパーＰＢ８２１（味の素ファインテクノ株式会社製）に変更し、更にキノリンを０．１部添加した以外は同様にして、分散液２を得た。
【００６０】
〈製造例６〉分散液３の製造  
製造例５において、粉末顔料２を５部、ＰＧＭＡを３３．３部、アジスパーＰＢ８２１を３部、キノリンをピロールに変更した以外は同様にして、分散液３を得た。
【００６１】
〈製造例７〉分散液４の製造  
製造例６において、ピロールをオキサゾールに変更した以外は同様にして、分散液４を得た。
【００６２】
〈製造例８〉分散液５の製造
製造例７において、オキサゾールをピロリジンに変更した以外は同様にして、分散液５を得た。
【００６３】
〈実施例１〉カラーフィルタ１の製造
カバーガラス（東京硝子器械社製、硼珪酸製カバーガラス）をスピンコーター（ミカサ（株）社製、Ｏｐｔｉｃｏａｔ  ＭＳ−Ａ１００）にセットし、製造例４で得た分散液１を１．５ｍｌ供し、６００ｒｐｍで塗工した。得られた塗工物を恒温機中で９０℃３分間乾燥させ、続けて２３０℃３時間加熱処理してカラーフィルタ１を得た。カラーフィルタ１の極大透過波長は、５２３ｎｍであった。透過スペクトルを図１に示す。
【００６４】
〔ＵＳＡＸＳでのカラーフィルタ１の測定〕
カラーフィルタをアルミ製試料ホルダーに固定した。その後、ホルダーを透過測定用試料台にセットした。以下の条件で超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出を行い、結果を表１に示した。
【００６５】
測定機器、測定方法は以下の通り。
測定装置：大型高輝度放射光施設：ＳＰｒｉｎｇ−８内のフロンティアソフトマター開発産学連合体が所有するビームライン：ＢＬ０３ＸＵ  第２ハッチ
測定モード：超小角Ｘ線散乱（ＵＳＡＸＳ）
測定条件：波長０．１ｎｍ、カメラ長６ｍ、ビームスポットサイズ  １４０μｍ×８０μ
ｍ、アテネーターなし、露光時間  ３０秒、２θ＝  ０．０１〜１．５°
解析ソフト：２次元データの画像化と１次元散乱プロファイル化をＦｉｔ２Ｄ  （Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ  Ｒａｄｉａｔｉｏｎ  Ｆａｃｉｌｉｔｙのホームページ［ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｓｒｆ．ｅｕ／ｃｏｍｐｕｔｉｎｇ／ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ／ＦＩＴ２Ｄ／］より入手）
散乱プロファイルの微分計算およびスムージング処理の解析をＭａｔｈＷｏｒｋｓ製ソフトＭＡＴＬＡＢで行った。次いでマイクロソフト社製ソフトウェアＥｘｃｅｌを用いて湾曲点の算出、解析領域の算出を経て傾きパラメータを得た。
Ｚ値：直線性の判断として２％以内とした。
【００６６】
〔輝度の測定〕
得られたカラーフィルタ１に対して、輝度の測定を行い、結果を表１に示した。
測定方法は以下の通り。
輝度（Ｙ値）は、大塚電子（株）製分光光度計ＭＣＰＤ−３０００を使用して、Ｃ２光源測色でＣＩＥ発色系色度におけるＹ値を測定した。ここでは、輝度（Ｙ値）が大きいほど視覚明度が高いと評価した。なお、用いたカラーフィルタは色度座標ｙ値が０．５０となるように作製したものである。
【００６７】
〈実施例２〉カラーフィルタ２の製造
実施例１において、分散液１を分散液２に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ２を得た。カラーフィルタ２の極大透過波長は、５２２ｎｍであった。透過スペクトルを図１に示す。得られたカラーフィルタ２については、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表１に示した。
【００６８】
〈実施例３〉カラーフィルタ３の製造
実施例１において、分散液１を分散液３に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ３を得た。カラーフィルタ３の極大透過波長は、５２３ｎｍであった。透過スペクトルを図１に示す。得られたカラーフィルタ３については、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表１に示した。
【００６９】
〈実施例４〉カラーフィルタ４の製造
実施例１において、分散液１を分散液４に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ４を得た。カラーフィルタ４の極大透過波長は、５２３ｎｍであった。透過スペクトルを図２に示す。得られたカラーフィルタ４については、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表１に示した。
【００７０】
〈実施例５〉カラーフィルタ５の製造
実施例１において、分散液１を分散液５に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ５を得た。得られたカラーフィルタ５については、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表１に示した。
【００７１】
〈比較例１〉カラーフィルタ６の製造
カバーガラス（東京硝子器械社製、硼珪酸製カバーガラス）をスピンコーター（ミカサ（株）社製、Ｏｐｔｉｃｏａｔ  ＭＳ−Ａ１００）にセットし、製造例６で得た分散液３を１．５ｍｌ供し、６００ｒｐｍで塗工した。得られた塗工物を恒温機中で９０℃３分間乾燥させ、カラーフィルタ６を得た。カラーフィルタ６の極大透過波長は、５１５ｎｍであった。透過スペクトルを図２に示す。得られたカラーフィルタ６については、実施例１と同様に、超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表１に示した。
【００７２】
【表１】
2014199408.tif 000003
【００７３】
〈製造例９〉  粉末顔料４及び分散液６の製造
ε型銅フタロシアニン顔料（ＤＩＣ株式会社製「ファストゲン  ブルー  ＥＰ−１９３」）を粉末顔料４とし、粉末顔料４を５部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）を３３．３部、ポリマーＰを３部混合し、０．５ｍｍセプラビーズを６５部加えて、ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で４時間撹拌した。得られた混合液からセプラビーズを濾別し、分散液６を得た
【００７４】
得られた粉末顔料４を５部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）を３３．３部、ポリマーＰを３部混合し、０．５ｍｍセプラビーズを６５部加えて、
ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で４時間撹拌した。得られた混合液からセプ
ラビーズを濾別し、分散液６を得た。
【００７５】
〈実施例７〉カラーフィルタ７の製造
実施例１において、分散液１を分散液６に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ７を得た。カラーフィルタ７の極大透過波長は、４３５ｎｍであった。得られたカラーフィルタ７について、実施例１と同様に超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表２に示した。
【００７６】
〈比較例２〉カラーフィルタ８の製造
比較例１において、製造例６で得た分散液３を製造例１０で得た分散液６に変えた以外は同様にして、カラーフィルタ８を得た。カラーフィルタ８の極大透過波長は、４３５ｎｍであった。得られたカラーフィルタ８について、実施例１と同様に超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表２に示した。
【００７７】
上記カラーフィルター７及び８に関しては、輝度（Ｙ値）は、大塚電子（株）製分光光度計ＭＣＰＤ−３０００を使用して、Ｃ２光源測色でＣＩＥ発色系色度におけるＹ値を測定した。ここでは、輝度（Ｙ値）が大きいほど視覚明度が高いと評価した。なお、用いたカラーフィルタは色度座標ｙ値が０．１１０となるように作製したものである。
【００７８】
〈製造例１０〉  粉末顔料５及び分散液７の製造
ジケトピロロピロール系赤色顔料ＰＲ２５４（チバスペシャリティケミカルズ社製「イルガフォアレッドＢ-ＣＦ」；Ｒ−１）を粉末顔料５とし、粉末顔料５を５部、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）を３３．３部、ポリマーＰを３部混合し、０．５ｍｍセプラビーズを６５部加えて、
ペイントシェーカー（東洋精機株式会社製）で４時間撹拌した。得られた混合液からセプ
ラビーズを濾別し、分散液７を得た。
【００７９】
〈実施例８〉カラーフィルタ９の製造
実施例１において、分散液１を分散液７に変更した以外は同様にして、カラーフィルタ９を得た。得られたカラーフィルタ１９について、実施例１と同様に超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表２に示した。
【００８０】
〈比較例３〉カラーフィルタ１０の製造
比較例１において、製造例６で得た分散液３を製造例１０で得た分散液７に変えた以外は同様にして、カラーフィルタ１０を得た。得られたカラーフィルタ１０について、実施例１と同様に超小角エックス線散乱測定および傾きパラメータ算出と、輝度の測定を行い、表２に示した。
【００８１】
上記カラーフィルター９及び１０に関しては、輝度（Ｙ値）は、大塚電子（株）製分光光度計ＭＣＰＤ−３０００を使用して、Ｃ２光源測色でＣＩＥ発色系色度におけるＹ値を測定した。ここでは、輝度（Ｙ値）が大きいほど視覚明度が高いと評価した。なお、用いたカラーフィルタは色度座標ｙ値が０．６４０となるように作製したものである。
【００８２】
【表２】
2014199408.tif 000004
【００８３】
上記実施例からわかるとおり、本発明の有機顔料から得られる散乱プロファイルの傾きパラメータが２以下のカラーフィルタは、従来よりも輝度の値を向上させることができることが明らかとなった。
【００８４】
特に傾きパラメータが１．５以下と小さい場合、より輝度の値を向上させることが明らかとなった。
【図１】
2014199408.tif 000005
【図２】
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【図３】
2014199408.tif 000007