(57)【要約】【課題】視差バリアとして使用される遮光膜にピンホールやパターン不良、あるいはキズ等が発生しても、表示品位の低下を防止して、表示品位に優れた液晶表示装置を提供する。【解決手段】互いの主面が向き合うように間隔を開けて対向配置され、その間に液晶層１４０を保持する第１および第２の透明基板１２０および１１０と、第１の透明基板１２０の外側の主面上に配設され、画像を表示する画素について、特定方向より視認できる画素と別の特定方向より視認できる画素とに光学的に分離する視差バリア１２６と、第２の透明基板１１０の内側の主面上に配列され、液晶を駆動する電圧を印加する複数のスイッチング素子とを備え、視差バリア１２６は、複数配列して設けられ光を透過する透過部１２６Ｔと、透過部の周囲に設けられ光を遮光する遮光部１２６Ｂとを有し、遮光部１２６Ｂは、二層以上の遮光膜の積層膜を含んでいる。【選択図】図１
2014002275.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示装置であって、
互いの主面が向き合うように間隔を開けて対向配置され、その間に液晶層を保持する第１および第２の透明基板と、
前記第１の透明基板の外側の主面上に配設され、画像を表示する画素について、特定方向より視認できる画素と別の特定方向より視認できる画素とに光学的に分離する視差バリアと、
前記第２の透明基板の内側の主面上に配列され、液晶を駆動する電圧を印加する複数のスイッチング素子と、を備え、
前記視差バリアは、
複数配列して設けられ光を透過する透過部と、前記透過部の周囲に設けられ光を遮光する遮光部と、を有し、
前記遮光部は、二層以上の遮光膜の積層膜を含む、液晶表示装置。
【請求項２】
前記透過部は、前記第１の透明基板の前記外側の主面から突出するように配設された透明膜によって構成され、
前記透明膜の断面形状は、前記透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状を有する、請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記透明膜は、前記第１の透明基板の屈折率に比べて同じ、あるいは低い屈折率の材料で構成される、請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記透過部は、前記第１の透明基板の前記外側の主面から突出し前記第１の透明基板と一体をなす突起部によって構成され、
前記突起部の断面形状は、前記透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状を有する、請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記遮光部は、下層側となる第１の遮光膜と上層側となる第２の遮光膜との二層膜で構成される、請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記視差バリア上に配設された透明な保護膜をさらに備える、請求項１〜５の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記透過部および前記遮光部は、それらの上端面が同一平面をなすように平坦化され、
平坦化された前記視差バリア上に偏光板が配設される、請求項１〜５の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１記載の液晶表示装置の製造方法であって、
(ａ)前記第１の透明基板の前記外側の主面上の前記視差バリアの前記透過部に対応する領域において突出するように透明膜を形成する工程と、
(ｂ)前記透明膜が形成された前記第１の透明基板の前記外側の主面上に、二層以上の遮光膜の積層膜を形成することで、前記視差バリアの前記遮光部を形成する工程と、を備え、
前記工程(ａ)は、
前記透明膜の断面形状が、前記第１の透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状となるように、前記透明膜をパターニングする工程を含む、液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記工程（ｂ)は、
前記遮光膜の積層膜の厚さが、前記透明膜の厚さよりも薄くなるように前記遮光膜の積層膜を形成する工程を含む、請求項８記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記工程(ｂ)の後に、
(ｃ)前記透明膜の上端面が露出するように、前記遮光膜の積層膜が形成された前記第１の透明基板の前記外側の主面上を平坦化する工程をさらに備える、請求項８または請求項９記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１記載の液晶表示装置の製造方法であって、
(ａ)前記第１の透明基板の前記外側の主面上の前記視差バリアの前記透過部に対応する領域に前記第１の透明基板と一体をなす突起部を形成する工程と、
(ｂ)前記突起部が形成された前記第１の透明基板の前記外側の主面上に、二層以上の遮光膜の積層膜を形成することで、前記視差バリアの前記遮光部を形成する工程と、を備え、
前記工程(ａ)は、
前記突起部の断面形状が、前記第１の透明基板に対して、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状となるように、前記第１の透明基板をパターニングする工程を含む、液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記工程（ｂ)は、
前記遮光膜の積層膜の厚さが、前記突起部の厚さよりも薄くなるように前記遮光膜の積層膜を形成する工程を含む、請求項１１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記工程(ｂ)の後に、
(ｃ)前記突起部の上端面が露出するように、前記遮光膜の積層膜が形成された前記第１の透明基板の前記外側の主面上を平坦化する工程をさらに備える、請求項１１または請求項１２記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に関し、特に、視差バリア方式の液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の表示面に対して左方向から視認される表示と右方向から視認される表示の２画面表示が可能な液晶表示装置（２画面ＬＣＤ）が提案されている。
【０００３】
この２画面ＬＣＤは、自動車内の運転者と同乗者など、左右の異なる位置から見る場合に異なる画面を表示する表示装置や、一人の観察者の左右の目に異なる画面を表示することで立体表示を行う３次元（３Ｄ）表示装置に適用されている。
【０００４】
このような２画面ＬＣＤは、画像を表示する画素について、特定方向より視認できる画素と別の特定方向より視認できる画素とに光学的に分離することで実現されており、画素を視認できる方向（視野方向）を左右の２方向に限らずに多方向で視認できるように分離手段を変更することで、マルチ画面表示も可能となる。
【０００５】
この視野方向を光学的に分離する手段としては、レンズなどを用いる方法も提案されているが、異なる表示を行う画素に対応して１つの開口部（透過部）が形成された遮光膜（視差バリア）により、画素を視認できる視野方向を分離する視差バリア方式が一般的となりつつある。
【０００６】
例えば、特許文献１には、カラーフィルタ（ＣＦ）−ブラックマトリクス（ＢＭ）面を通過した光は、視差バリアによって、特定の視野方向以外の方向への進行が遮られるため、液晶表示装置の表示面に対して左方向から視認される表示と右方向から視認される表示とが異なる仕組みが開示されている。
【０００７】
また、視差バリアの形成について、従来は液晶セルとは別に視差バリアを形成したガラス基板を準備し、液晶セルの外側に貼り付ける方法を採っていたが、特許文献１では、ＣＦガラス面に直接形成する方法が提案されている。
【０００８】
また、特許文献２では、特許文献１のように、ＣＦ基板の表面と裏面にそれぞれブラックマトリクスに用いる遮光膜と視差バリアに用いる遮光膜の両者を形成した後に液晶セルを組み立てるのではなく、液晶セルを形成した後に、ＣＦ基板の薄型化を実施し、その後に視差バリアを形成する方法が開示されている。
【０００９】
また、特許文献３では、ＣＦガラス面に形成されたブラックマスク（ブラックマトリクス）に用いる遮光膜に関して、ごみの付着等に起因するピンホールの発生を抑制するために、２層の積層膜を採用し、下層の遮光膜を形成した後、上層の遮光膜を形成する前に、ごみ等を除去する洗浄を行う方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−０７２４７６号公報
【特許文献２】特開２０１１−１２８５４７号公報
【特許文献３】特開平０９−１６６７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
特許文献１および特許文献２に開示されるように、ＣＦガラス面に視差バリアを直接形成する構成では、ＣＦ基板の裏面（すなわち表示装置の前面）に遮光膜で構成される視差バリアが配設されることとなる。
【００１２】
ところが、従来の遮光膜の製造方法では、遮光膜の形成前よりガラス基板上に残っている異物や遮光膜の形成時において付着した異物等により、遮光膜にピンホールが発生したり、パターン不良が発生する可能性がある。
【００１３】
このような、ピンホールやパターン不良部分は、輝点になる場合や、明るさにムラを生じさせる場合があり、表示品位を低下させることとなる。また、遮光膜が最外面に露出しているため、遮光膜形成後にキズ等が入りやすいという問題もある。遮光膜にキズが入ると遮光膜としての機能が損なわれるため、こちらも表示品位を落とす原因となる。
【００１４】
上記、異物などを起因とするピンホールやパターン不良については、特許文献３でも課題として認識されている。しかし、特許文献３は、ＣＦ基板における液晶パネルのセルの内側に配設されるブラックマスクに用いる遮光膜に関する発明であり、ＣＦ基板の裏面に形成される遮光膜に関する発明ではない。特許文献３では、液晶パネルのセルの形成後は、セルの内側にブラックマスクが存在することになるので、特許文献１や特許文献２のように、遮光膜がセルの外側に露出することによる問題は発生せず、液晶パネルのセルの外側に配設された遮光膜（視差バリア）におけるキズの発生という課題を解決する構成は、開示も示唆もされていない。
【００１５】
本発明は、上記のような問題点を解消するためになされたもので、視差バリアとして使用される遮光膜にピンホールやパターン不良、あるいはキズ等が発生しても、表示品位の低下を防止して、表示品位に優れた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明に係る液晶表示装置の態様は、互いの主面が向き合うように間隔を開けて対向配置され、その間に液晶層を保持する第１および第２の透明基板と、前記第１の透明基板の外側の主面上に配設され、画像を表示する画素について、特定方向より視認できる画素と別の特定方向より視認できる画素とに光学的に分離する視差バリアと、前記第２の透明基板の内側の主面上に配列され、液晶を駆動する電圧を印加する複数のスイッチング素子とを備え、前記視差バリアは、複数配列して設けられ光を透過する透過部と、前記透過部の周囲に設けられ光を遮光する遮光部とを有し、前記遮光部は、二層以上の遮光膜の積層膜を含んでいる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る液晶表示装置によれば、視差バリアの遮光部が、二層以上の遮光膜の積層膜を含んでいるので、上層の遮光膜にキズ等が発生しても、下層の遮光膜が、光透過を防止するので表示品位が低下することを防止して、表示品位に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係る液晶表示装置における液晶パネルの平面図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置における液晶パネルの断面図である。
【図３】本発明に係る液晶表示装置における液晶パネルの組み立て工程を示すフローチャートである。
【図４】本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図５】本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図６】本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図７】本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図８】本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図９】テーパー形状を有する透明膜による効果を説明する図である。
【図１０】遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口する場合の開口部の形状を示す平面図である。
【図１１】遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口する場合の開口部の形状を示す平面図である。
【図１２】遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口する場合の開口部の形状を示す断面図である。
【図１３】遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口する場合の開口部の形状を示す断面図である。
【図１４】遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口した場合に、保護膜を形成した状態を示す断面図である。
【図１５】遮光膜の積層膜のそれぞれを個別に開口した場合に、保護膜を形成した状態を示す断面図である。
【図１６】本発明に係る実施の形態２の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図１７】本発明に係る実施の形態３の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図１８】本発明に係る実施の形態４の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図１９】本発明に係る実施の形態４の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図２０】本発明に係る実施の形態４の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【図２１】本発明に係る実施の形態４の液晶表示装置における視差バリアの形成工程を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
＜実施の形態１＞
＜液晶パネルの全体構成＞
本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置における液晶パネル１００の構成について、図１および図２を用いて説明する。
【００２０】
図１は、液晶パネル１００の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１におけるＡ−Ａ断面線における断面図を示している。ここでは、一例としてＴＦＴ（Thin Film Transistor)方式の２画面ディスプレイ液晶パネルを例に採って説明するものとする。
【００２１】
図１に示されるように、液晶パネル１００は、スイッチング素子としてＴＦＴがアレイ状に配置されるＴＦＴアレイ基板（以下、アレイ基板）１１０と、カラーフィルタなどが形成されるカラーフィルタ基板（以下、ＣＦ基板）１２０と、両者の間の間隙を密封するメインシールパターン１３０とを備えている。なお、図１において水平方向をＸ、垂直方向をＹとする。
【００２２】
メインシールパターン１３０は、アレイ基板１１０とＣＦ基板１２０との間において、液晶パネル１００が動作した際に画像を表示する表示面に対応する領域である表示領域２００を少なくとも囲うように配置されている。
【００２３】
また、図２に示すように、アレイ基板１１０とＣＦ基板１２０との間には、基板間に所定範囲の間隙を形成し保持する柱状スペーサー１３３、換言すると、基板間の距離を一定範囲内に保持する柱状スペーサー１３３が表示領域２００内に複数配置されている。なお、図２において水平方向をＸ、厚み方向をＺとする。
【００２４】
このメインシールパターン１３０により密封され、柱状スペーサー１３３により保持されたＣＦ基板１２０とアレイ基板１１０との間の間隙の少なくとも表示領域２００に対応する領域に液晶材料が保持されることにより、液晶層１４０が形成されている。換言すると、液晶材料は、アレイ基板１１０とＣＦ基板１２０とメインシールパターン１３０とで規定される空間（セル）内に封止されている。
【００２５】
ここでは、液晶材料として一般的なＴＮ（Twisted Nematic）タイプの液晶材料を用いる。なお、表示領域２００という文言については、液晶パネル１００のアレイ基板１１０上、ＣＦ基板１２０上、あるいは両基板間に挟まれる領域の全てにおいて使用することとし、本明細書中においては全て同様の意味にて使用する。
【００２６】
アレイ基板１１０は、図１および図２に示されるように、透明基板である厚み０．７ｍｍ程度の一般的なガラスで構成されるガラス基板１１１の一方の主面（ＣＦ基板１２０と対向する側の主面）上に、液晶を駆動する電圧を印加する画素電極１１３、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子であるＴＦＴ１１４、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５、ＴＦＴ１１４に信号を供給する配線である複数のゲート配線１１６およびソース配線１１７、ＴＦＴ１１４に供給される信号を外部から受け入れる信号端子１１８、信号端子１１８から入力された信号を対向電極１２３へ伝達するためのトランスファ電極（図示省略）などが配設されている。そして、ガラス基板１１１の上記一方の主面上の表示領域２００に対応する領域には、液晶を配向させる配向膜１１２が設けられている。また、ガラス基板１１１の他方の主面上には偏光板１３４が設けられている。
【００２７】
ＣＦ基板１２０は、透明基板である厚み０．１ｍｍ程度の極薄ガラスよりなるガラス基板１２１の一方の主面（アレイ基板１１０と対向する側の主面）上に、カラーフィルタ１２４およびカラーフィルタ１２４間を遮光するため、あるいは表示領域２００に対応する領域外側に配置される額縁領域を遮光するための遮光膜であるブラックマトリクス（ＢＭ：Black Matrix）１２５が設けられ、それらの上にアレイ基板１１０上の画素電極１１３との間に電界を生じさせて液晶を駆動する共通電極１２３が設けられ、共通電極１２３上に液晶を配向させる配向膜１２２が設けられている。
【００２８】
カラーフィルタ１２４としては、樹脂中に顔料などを分散させた色材層が選択でき、赤、緑、青などの特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能し、これら異なる色の色材層を規則的に配列して構成されている。
【００２９】
ＢＭ１２５は、カラーフィルタ１２４間以外に表示領域２００外側の額縁領域にも配置され、ＣＦ基板１２０における額縁領域のほぼ全域に渡って形成されており、表示に不要な額縁領域におけるＣＦ基板１２０中の光の透過を遮光している。
【００３０】
また、ガラス基板１２１の他方の主面上には、２画面ＬＣＤとして、視野方向を二方向に分離する遮光膜である視差バリア１２６が形成されている。そして、視差バリア１２６の上には保護膜１３２が設けられ、保護膜１３２上には偏光板１３５が設けられている。
【００３１】
視差バリア１２６は、光を透過する透過部１２６Ｔと、透過部１２６Ｔの周囲に設けられ光を遮光する遮光部１２６Ｂとで構成され、透過部１２６Ｔは、画素間（カラーフィルタ１２４間）に配置されるＢＭ１２５の間のカラーフィルタ１２４とは平面方向での位置をずらして形成され、１つの透過部１２６Ｔに対して、二方向の視野方向に対応する一対のカラーフィルタ１２４が設けられている。なお、透過部１２６Ｔの平面視形状は、例えば、画素間に配置されるＢＭ１２５の幅と概ね同じ幅を有した細長いスリット形状であり、一体に形成された遮光部１２６Ｂの形成領域内で、一対のカラーフィルタ１２４間に一つの割合で複数配列して設けられる。また、透過部１２６Ｔは、画素単位ごとの長さのスリット形状に設けても良いし、表示領域２００の一辺の長さで連続して設けるなど、複数の画素の長さで連続したスリット形状に設けても良いが、何れにしても複数配列して設けられる。
【００３２】
なお、視差バリア１２６における透過部１２６Ｔと、ＢＭ１２５間のカラーフィルタ１２４の平面的な（水平方向での）位置関係と、視差バリア１２６とＢＭ１２５を垂直方向に隔てる距離に対応するガラス基板１２１の厚み（本実施の形態では厚み０．１ｍｍ程度）によって、二方向の視野方向が決定され、水平方向での位置関係（解像度）などが一定であれば、ガラス基板１２１の厚みが薄いほど、二方向の視野方向の角度の差が大きくなる。
【００３３】
なお、車載用途などの運転席と助手席とで異なる画像を視認可能な２画面ＬＣＤにおいて、適当な視野方向となる２０〜４０度方向を一般的な画素解像度の範囲で実現するためには、ガラス基板１２１は厚みが０．０５〜０．１ｍｍ程度の極薄ガラスを選択する。
【００３４】
ただし、視野方向や解像度に対する要求仕様によっては、ガラス基板１２１は０．３ｍｍ程度の一般的な厚みであっても良い。従って、ガラス基板１２１の厚みは、０．０５〜０．５ｍｍの範囲から適宜選択すれば良い。
【００３５】
また、視差バリア１２６を構成する遮光部１２６Ｂは、下層側（ガラス基板１２１側）となる遮光膜１２６１と上層側となる遮光膜１２６２との２層膜により構成され、透過部１２６Ｔは透明樹脂膜などで構成されている。
【００３６】
なお、ＢＭ１２５を構成する遮光膜としては、クロムと酸化クロムの積層膜などを用いた金属系の材料や樹脂中に黒色粒子を分散させた樹脂系の材料（樹脂ＢＭ）などを選択することができ、視差バリア１２６を構成する遮光部１２６Ｂとしては、後に説明するように、透過部１２６Ｔを形成後に遮光性の樹脂材を塗布して形成する方法により自己整合的に形成するので、樹脂系の材料を選択することが望ましい。
【００３７】
なお、配向膜より下層に、カラーフィルタ１２４とＢＭ１２５を覆うように透明樹脂膜で構成されるオーバーコート層を設ける構成としても良い。
【００３８】
先に説明したように、ＴＦＴ１１０基板とＣＦ基板１２０はメインシールパターン１３０を介して貼り合わされており、表示領域２００に配置される柱状スペーサー１３３により所定の基板間隔に保持されている。
【００３９】
また、トランスファ電極（図示省略）と共通電極１２３とは、トランスファ材により電気的に接続されており、信号端子１１８から入力された信号が共通電極１２３に伝達される。トランスファ材については、メインシールパターン１３０中に導電性の粒子などを混合することにより代用でき、省略することも可能である。
【００４０】
なお、本実施の形態では、導電性の粒子などを混合したメインシールパターン１３０を用い、図１、図２に示されるようにメインシールパターン１３０と共通電極１２３は接触していることから、トランスファ電極をメインシールパターン１３０に平面的に重なるように配置し、メインシールパターン１３０と接触させることにより、トランスファ電極と共通電極１２３とをメインシールパターン１３０を介して電気的に接続した構成としている。
【００４１】
以上説明した構成の他に、液晶パネル１００は、駆動信号を発生する制御基板１３６、制御基板１３６を信号端子１１８に電気的に接続するＦＦＣ（Flexible Flat Cable）１３７、光源となるバックライトユニット（通常は、表示面となるＣＦ基板１２０側とは反対側に設けられたアレイ基板１１０の外側に、アレイ基板１１０の主面に対向して配置されるが、ここでは図示せず）などを備えている。そして、これら部材と共に表示面となる表示領域２００におけるＣＦ基板１２０の外側の部分が開口部となった筐体（図示せず）の中に収納されて本実施の形態に係る液晶表示装置を構成する。
【００４２】
＜液晶表示装置の製造方法＞
＜全体的製造フロー＞
次に、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶パネル１００の製造方法について、図１、図２を参照しつつ、図３を用いて説明する。
【００４３】
通常、液晶パネルは最終形状よりも大きなマザー基板から、液晶パネルを１枚あるいは複数枚（多面取り）切り出して製造される。
【００４４】
図３は、液晶パネル１００の組み立て工程を示すフローチャートである。まず、ステップＳ１において基板を準備する。すなわち、互いに貼り合わされる前のアレイ基板１１０を切り出すマザーアレイ基板と、ＣＦ基板１２０を切り出すマザーＣＦ基板を準備する。
【００４５】
ＣＦ基板１２０は最終的にガラスを薄型化加工して極薄ガラスに形成されるが、マザーアレイ基板およびマザーＣＦ基板については、以降の工程の実施が容易となるように、途中までは、厚み０．５〜１．５ｍｍ程度のガラスにより構成される。ここでは、マザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板を、共に厚み０．７ｍｍのガラスにより構成されたガラス基板として準備される。
【００４６】
上述したマザーアレイ基板の準備工程には、図１、図２に示した画素電極１１３、ＴＦＴ１１４、絶縁膜１１５、ゲート配線１１６、ソース配線１１７および信号端子１１８などを基板上に作り込む工程を含んでいるが、これらの作り込みは一般的な液晶パネルにおけるアレイ基板の製造方法と同様であるので、製造方法に関する詳細な説明は省略する。
【００４７】
また、マザーＣＦ基板の準備工程には、図１、図２に示したカラーフィルタ１２４、ＢＭ１２５および共通電極１２３などを基板上に作り込む工程を含んでいるが、これらの作り込みは柱状スペーサーを用いた一般的な液晶パネルにおけるＣＦ基板の製造方法と同様であるので、製造方法に関する詳細な説明は省略する。
【００４８】
続いて、ステップＳ２の基板洗浄工程において、ステップＳ１で準備されたマザーアレイ基板を洗浄する。
【００４９】
次に、ステップＳ３の配向膜材料塗布工程において、マザーアレイ基板の一方の主面に、配向膜材料を塗布する。この工程は、例えば、印刷法により有機材で構成される配向膜材料を塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる工程を含んでいる。
【００５０】
その後、ステップＳ４の配向処理工程において、配向膜材料にラビングを行い、配向膜材料の表面を配向処理して配向膜１１２を形成する。
【００５１】
ステップＳ４の配向処理は、液晶の配向方向を規定するための処理であり、液晶パネルを作る上で重要な工程である。
【００５２】
なお、マザーＣＦ基板についても、ステップＳ２〜Ｓ４と同様の、基板洗浄工程、配向膜材料塗布工程および配向処理工程を施すことで、配向膜１２２を形成する。
【００５３】
次に、ステップＳ５のシール剤塗布工程において、スクリーン印刷装置を用いて、マザーアレイ基板あるいはマザーＣＦ基板の一方の主面に、シール剤を印刷ペーストとして塗布し、最終的に表示領域２００を囲う形状のメインシールパターン１３０を形成する。
【００５４】
この段階では、メインシールパターン１３０には液晶を注入するための開口部である注入口が形成されている。
【００５５】
続いて、ステップＳ６の貼り合せ工程において、マザーアレイ基板とマザーＣＦ基板とを貼り合せてマザーセル基板を形成する。その後、ステップＳ７のシール剤硬化工程でシールパターン１３０を完全に硬化する。
【００５６】
シールパターン１３０を硬化した後、ステップＳ８の薄型化研磨工程において、マザーアレイ基板とマザーＣＦ基板の周辺部において、薬液が基板間に入ることを防止する周辺封止を実施した後、マザーアレイ基板のみに保護フィルムを貼付し、マザーセル基板全体をフッ酸系のエッチング液、例えば、ＨＦ（フッ化水素、フッ酸）を主成分とする薬液中に浸漬することでマザーＣＦ基板２０の表面を削り、薄型化する。この結果、マザーＣＦ基板のみが０．１ｍｍ程度の極薄ガラスに薄型化加工され、保護フィルムが貼付されたマザーアレイ基板は厚みを０．７ｍｍに維持したマザーセル基板を得ることができる。
【００５７】
次に、ステップＳ９の視差バリア形成工程において、薄型化されたマザーＣＦ基板の主面に２画面ディスプレイ液晶パネルとして機能させるための視差バリア１２６と保護膜１３２を形成する。この工程については後に説明する。
【００５８】
次に、ステップＳ１０のセル切断工程において、視差バリア１２６形成後のマザーセル基板をスクライブラインに沿って切断し、個々の液晶パネルに分割する。
【００５９】
パネル外形寸法への切り出しと、ＣＦ基板１２０の不要部の切り出しを行った後、ステップＳ１１の液晶注入工程においてアレイ基板１１０、ＣＦ基板１２０およびメインシールパターン１３０で規定されるセル内に液晶を充填する。
【００６０】
具体的には、切断した液晶パネルを真空チャンバー内に載置して、真空ポンプにより真空チャンバー内を真空状態とすることで、セル内を脱気する。その後、真空チャンバー内で液晶パネルの注入口（図示せず）に液晶を接触させてから、真空チャンバー内を大気圧に戻すことで、液晶パネルのセル内に液晶を吸引させる。
【００６１】
引き続いて、ステップＳ１２の注入口封止工程において、注入口にＵＶ硬化樹脂を塗布した後、ＵＶ（紫外）光を当てて樹脂を硬化させることで注入口を封止する。
【００６２】
その後、ステップＳ１３の偏光板貼付け工程において、アレイ基板１１０およびＣＦ基板１２０の最外面に、それぞれ偏光板１３４および１３５を貼付け、ステップＳ１３の制御基板実装工程において、信号端子１１８にＦＦＣ１３７を圧着することで制御基板１３６を実装する。そして、制御基板１３６を実装した液晶パネルを所定の筐体に組み込むことで、液晶表示装置１００が完成する。
【００６３】
＜視差バリアの形成工程＞
以下、視差バリア１２６の形成工程について図４〜図８を用いて説明する。なお、以下においては、より端的な説明を行うためと、図１、図２に示した液晶表示装置１００への適用に限定されないために、簡略化された構成を用いて説明する。
【００６４】
まず、図４に示す工程において、透明基板４（図１におけるガラス基板１２１に相当）上に、視差バリアの光を通したい領域（図１における透過部１２６Ｔを形成する領域）に突起状の透明膜１を形成する。
【００６５】
具体的には、例えば、透明な感光性樹脂膜を透明基板４上に塗布形成し、当該感光性樹脂膜をフォトリソグラフィによりパターニングすることで突起状の透明膜１のパターンを形成する。なお、感光性樹脂膜としては、例えばアクリル樹脂を使用することができる。なお、図４に示す工程は、図３を用いて説明した製造フローでは、薄型化されたマザーＣＦ基板の主面に感光性樹脂膜を塗布してパターニングする工程に相当する。
【００６６】
図４に示すように、透明膜１は、上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状（順テーパー）を有している。なお、図４は透明膜１の幅方向の断面形状が判るように透明基板４を切断した図であるが、視差バリア１２６の透過部１２６Ｔが細長い形状であるなら、長手方向の断面においても上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状（順テーパー）を有している。
【００６７】
なお、この突起状の透明膜１により、視差バリアの透過部が形成されることとなるので、上記パターニング工程は重要な工程となる。従って、透明膜１の形成工程後には、パターン欠陥検査工程を入れることが望ましい。すなわち、パターン欠陥検査工程により、パターン不良なく正常に透明膜１が形成されたことが確認された透明基板４のみを次工程に進めることで、パターン不良に起因して表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを抑制することができる。
【００６８】
ここでのパターン欠陥検査工程は、基板上に形成された繰り返しパターンの画像を光学的に取り込んで、隣接する繰り返しパターン間の画像を二値化などの画像処理でパターンを単純化した上で比較して、隣接するパターンと相違する部分をパターン欠陥(パターン不良)として検出する、パターン比較を用いた一般的なパターン欠陥検査工程で良い。
【００６９】
なお、フォトリソグラフィにおける感光性樹脂膜の現像処理直後であれば、パターン不良があったものは、アルカリ系のレジスト剥離液で透明膜１を除去することが可能であり、再度、透明膜１の形成工程をやり直すリワーク処理ができるので、全体としての製造歩留まりの低下を防止することができる。
【００７０】
なお、透明膜１の形成予定領域以外に透明膜１が残るようなパターン残不良の場合には、後に形成されるべき遮光部が形成されずに透過部となってしまうので、上述したリワーク処理を実施することが望ましい。
【００７１】
一方、形成予定領域の透明膜１が欠けるようなパターン欠不良については、開口部に対して欠ける面積が小さい場合には、不良として視認されない場合もあるので、リワーク処理を省略することも可能である。
【００７２】
次に、図５に示す工程において、透明膜１がパターニングされた透明基板４上に遮光膜２（図１における遮光膜１２６１に相当）を形成する。その際、遮光膜２の膜厚は、透明膜１の膜厚より、薄くなるように形成する。
【００７３】
また、遮光膜２を形成する際には塗布条件を調整し、できるだけ遮光膜２が透明膜１の上に形成されないようにし、例え形成された場合でも、透明膜１上では、より薄くなるようにすることが、後の遮光膜の除去工程を省略することや、短時間で済ませることができるという点で好ましい。
【００７４】
例えば、遮光性の樹脂材などを透明基板４を回転させながら塗布形成することで、透明膜１間の凹部に自己整合的に遮光膜２が形成され、その際に塗布する樹脂材の量を調整することで上述した条件を満たすことができる。
【００７５】
ただし、後に表面を平坦化するドライエッチング処理やＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）処理などを組合せることで、透明膜１上に形成された遮光膜を除去することも可能であるので、遮光層２が透明膜１を覆うように形成された構成を排除するものではない。
【００７６】
また、このとき、図５に示しているように、遮光膜２にピンホールやパターン不良などの欠陥部１４が発生していても構わない。
【００７７】
次に、図６に示す工程において、透明膜１および遮光膜２が形成された透明基板４上に、遮光膜２および透明膜１を覆うように（透明膜１の高さを超えるように）遮光膜３（図１における遮光膜１２６２に相当）を形成する。この遮光膜３も、遮光性の樹脂膜などを透明基板４を回転させながら塗布して形成すれば良い。
【００７８】
なお、遮光膜２および３の材料としては、一般的なブラックマトリクスの形成に用いられる樹脂中に黒色顔料(カーボンブラックやチタンブラック)を分散させた樹脂系の材料（樹脂ＢＭ）を使用すれば良く、同じ材質であっても良く、異なる材質であっても良い。
【００７９】
なお、上述した回転塗布により、図６に示されるように、遮光膜３の表面が平坦化されて形成されるので、透明膜１上では、遮光膜３は相対的に薄く形成される。従って、その後、図７に示す工程において、遮光膜３を等方的に研磨、もしくはエッチング等を行うことにより、遮光膜３を残存させたまま透明膜１の上端面を露出させることができ、透明膜１を視差バリアの透過部として得ることができ、また、透明膜１間には遮光膜２および３が自己整合的に積層された遮光部を得ることができ、視差バリアが完成することとなる。
【００８０】
なお、透明膜１の上に遮光層２が形成されていた場合にも、上述した遮光膜３の研磨、もしくはエッチング等の工程によって同時に除去することが可能である。
【００８１】
また、図６および図７に示されるように、遮光膜２に発生していたピンホールやパターン不良などの欠陥部１４については、上層に塗布形成される遮光膜３が埋め込まれることで、光を透過する不良部とはならない。
【００８２】
また、図７に示されるように、遮光膜３を形成する際にも、ピンホールやパターン不良などの欠陥部１４が発生する可能性はあるが、遮光膜２に発生していたピンホールやパターン不良などの欠陥部１４と同じ場所に遮光膜３の欠陥部１４が発生する可能性は非常に低く、基本的には、遮光膜３の欠陥部１４の下部には遮光膜２が形成されているので、この場合も光を透過する不良部となることはない。
【００８３】
すなわち、遮光膜２および３の何れにおいて欠陥部１４が発生した場合でも、現実的に問題となる不良部となることはなく、２層の遮光膜による冗長性の効果が発揮される。
【００８４】
最後に、図８に示す工程において、上端面が露出した透明膜１および遮光膜３の上層に透明膜である保護膜１５を形成する。
【００８５】
保護膜１５としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂など透明樹脂膜の他に、無機絶縁膜（シリコン酸化膜、シリコン窒化膜など）を使用することができるが、本実施の形態では、表面のカバレッジ効果やキズ発生を防止する効果を勘案して、透明樹脂を透明基板４を回転させながら塗布形成することで保護膜１５を形成した。
【００８６】
なお、図８に示す工程は、図３を用いて説明した製造フローでは、マザーアレイ基板とマザーＣＦ基板とを貼り合わせたマザーセル基板の薄型化されたマザーＣＦ基板上の視差バリア１２６上に保護膜１３２を形成する工程に相当し、マザーセル基板が完成する。
【００８７】
なお、マザーアレイ基板とマザーＣＦ基板とを貼り合せる前のマザーＣＦ基板に対して上述した図４〜図８に示す工程に基づいて視差バリア１２６と保護膜１３２とを形成し、その後にマザーアレイ基板とマザーＣＦ基板とを貼り合せてマザーセル基板を完成させる方法を採ることもできる。
【００８８】
＜効果＞
以上説明したように、透明膜１と遮光膜２および３の積層膜とで構成される視差バリアの上部を保護膜１５で覆うことで、視差バリア形成以降の工程、すなわち図３に示したステップＳ１０以降の工程において、遮光膜２および３に対してキズが発生することを防止する効果が得られる。
【００８９】
上記効果は、保護膜１５を遮光膜２および３と比較して強度が高い材料で構成することでより顕著に得られるが、遮光膜２および３間の密着力に比べて、遮光膜３と保護膜１５との間の密着力を高く設定することで、仮に保護膜１５が剥がれるほどの強力な外力が作用したとしても、保護膜１５と強固に密着する遮光膜３のみが保護膜１５と共に剥がれ、遮光膜３との密着力が相対的に低い遮光膜２は剥がれにくいという効果も得られる。この結果、遮光膜２が残ることで、キズなどによる光透過を防止して、表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを防止できる。
【００９０】
また、遮光膜３を形成した後、遮光膜３を等方的に研磨、もしくはエッチング等を行うことにより、遮光膜３を残存させたまま透明膜１の上端面を露出させ、透明膜１を視差バリアの透過部として得ることができる。
【００９１】
また、透明膜１間には遮光膜２および３が積層された遮光部を自己整合的に得ることができるので、平坦化されて凸凹が少ない視差バリアを得ることができる。このため、視差バリア上に偏光板（図１の偏光板１３５に相当）を直接に貼り付けるような場合には、偏光板との間に気泡や凸凹ムラなどが発生する可能性を低減できる。
【００９２】
また、透明基板４上に形成した突起状の透明膜１は、図４に示すように上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状（順テーパー）を有している場合、視差バリアの透過部となった場合に、光の入射側より出射側の面積が狭くなるが、図９に示すように、遮光膜２および３の形状は逆テーパーとなる。このため、図９に示すように、透明基板４の下方から斜め方向に入射する光１３のうち、一部の光１３は逆テーパー状の遮光膜２および３によって遮光され、所定の方向でのコントラスト低下を防ぐなど、光学特性の向上が期待できる。
【００９３】
また、突起状の透明膜１が順テーパー形状であることから、塗布される遮光膜のカバレッジが良くなり、カバレッジ不良(隙間などの形成)を起こさないという利点もある。
【００９４】
なお、このような順テーパー形状の透明膜１を得るには、例えば、透明な感光性樹脂膜として、ＬＣＤ用材料として一般的な中程度の解像度の感光性樹脂膜を用い、一般的な１５０〜２４０℃程度のベーク温度範囲を設定することで、比較的容易に順テーパー形状を有した透明膜１を得ることができる。
【００９５】
＜変形例１＞
以上説明した本発明に係る実施の形態１においては、透明膜１と遮光膜２および３の積層膜とで構成される視差バリアの上部を保護膜１５で覆った構成について説明したが、保護膜１５（図１においては保護膜１３２）を設けない構成としても良い。
【００９６】
すなわち、遮光膜２および３による二層膜のみによっても、ある程度は、外的な接触などによるキズや剥離に対して表示品位の低下を防ぐ効果は得られる。
【００９７】
例えば、表層のみに外力がかかる程度の軽度なキズや剥離であれば、例え、上層に位置する遮光膜３にキズや剥離などを生じた場合でも、結果として、下層の遮光膜２が残ることで、キズなどによる光透過を生じず、表示品位が低下せずに不良とはならない。
【００９８】
また、例えば、上層に設けられる遮光膜３をキズに強い膜、具体的には、遮光膜２に比べて強度が高い材料で構成することで、外力によるキズが遮光膜２にまで及ぶ可能性を抑制できる。
【００９９】
あるいは、遮光膜２と遮光膜３との間の密着力を、透明基板４遮光膜２との間の密着力に比べて低く設定することで、仮に遮光膜３が剥がれるほどの強力な外力が作用したとしても、遮光膜３との密着力が相対的に低い遮光膜２は剥がれにくいという効果が得られる。この結果、遮光膜２が残ることで、キズなどによる光透過を防止して、表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを防止できる。
【０１００】
このように、保護膜１５を設けない構成であっても、少なくとも二層の遮光膜が積層された構成を有していれば、実施の形態１と同様の効果を得ることができる。なお、視差バリアの遮光部を二層の遮光膜で構成する場合は、最も少ない製造コストで済むという利点がある。
【０１０１】
なお、上記効果は視差バリアの遮光膜が三層以上の多層構造である場合にも得ることができることは言うまでもない。
【０１０２】
＜変形例２＞
以上説明した本発明に係る実施の形態１においては、透明基板４上に透明膜１をパターニングした後、遮光膜２および３を順次に積層することで、視差バリアの遮光部を自己整合的に得る方法を開示したが、以下の方法を採っても良い。
【０１０３】
すなわち、透明基板４上に遮光膜２および３を順次に積層した後、遮光膜２および３に対して、フォトリソグラフィにより視差バリアの透過部に対応する領域を開口するパターニングを行い、得られた開口部を透過部として使用する構成としても良い。
【０１０４】
また、このような構成においても、遮光膜２および３の上部に保護膜１５を設けることで、実施の形態１と同様の効果を得ることができ、また、保護膜１５を設けない場合であっても、上述した変形例１と同様の効果を得ることができる。
【０１０５】
＜開口部を２回のパターニングで形成＞
また、以上説明した変形例２に係る構成を採る場合は、視差バリアの透過部に対応する領域を開口する際に、遮光膜２および３に対して１つのフォトマスクを用いて同時に開口する構成としても良いが、遮光膜２および３に対して、それぞれ別のフォトマスクを用いて個別に開口する構成としても良い。
【０１０６】
すなわち、透明基板４上に遮光膜２を形成した後、遮光膜２に対してフォトリソグラフィにより視差バリアの透過部に対応する領域を開口する第１のパターニング工程を行って第１の開口部を形成する。その後、遮光膜２上に遮光膜３を形成した後、遮光膜３に対してフォトリソグラフィにより視差バリアの透過部に対応する領域を開口する第２のパターニング工程を行って第２の開口部を形成する。この場合、第１の開口部と第２の開口部とは、ほぼ同じ位置に形成されるので、遮光膜２および３を貫通する１つの開口部となる。
【０１０７】
この方法では、遮光膜２および３をそれぞれ開口する第１および第２のパターニング工程において、露光不良やパターニングに用いたレジストに欠損などを生じたとしても、第１のパターニング工程と第２のパターニング工程とで、遮光膜２あるいは遮光膜３に形成される不良部分が一致する可能性は殆どないと言える。このため、パターニング不良に対しても、二層の遮光膜による冗長性が有効に発揮されることとなる。
【０１０８】
＜開口部の面積の設定について＞
また、以上説明したように、遮光膜２および３に対して、それぞれ別のフォトマスクを用いて個別に開口する場合、第１のパターニング工程において遮光膜２に形成された第１の開口部に対して、ほぼ同じ位置に第２のパターニング工程において遮光膜３に第２の開口部を形成することとなるが、第１の開口部と第２の開口部とで面積を同じにしても良いし、異なる面積としても良い。
【０１０９】
すなわち、図１０に示すように、遮光膜２の開口部５と遮光膜３の開口部６とで面積を同じとしても良いし、図１１に示すように、先に形成される遮光膜２の開口部５の面積より、後で形成される遮光膜３の開口部６の面積を大きくしても良い。何れを選択した場合にも、パターニング不良に対する、二層の遮光膜による冗長性が有効に発揮されることとなるが、これ以外にも以下のような効果が得られる。
【０１１０】
＜同じ開口面積とする場合のさらなる効果＞
遮光膜２の開口部５と遮光膜３の開口部６とで面積を同じとする場合、開口部５の形成時と遮光膜３の開口部６の形成時とで、フォトマスクの重ね合わせ位置がずれたような場合は、図１０に示すように、開口部５と開口部６とで形成位置がずれることとなる。この場合、実効的な開口面積は、開口部５と開口部６とが重なりあった部分の面積となる。
【０１１１】
このように、遮光膜２および３に対して、それぞれ別のフォトマスクを用いて個別に開口する場合であって、開口部５と開口部６とで同じ面積にする場合には、製造上のばらつきにより、視差バリアの透過部の面積にばらつきを生ずることとなるが、フォトマスクの重ね合わせ位置については、アライメント技術が格段に進歩した昨今においては大きなずれが生じる可能性はないと言える。すなわち、昨今の半導体メモリなどの製造に使用されるフォトマスクのアライメントの精度に比べれば、視差バリアの透過部を形成するためのフォトマスクのアライメントの精度はより低いもので充分であり、アライメントずれの問題は生じない。
【０１１２】
それよりも、遮光膜２の開口部５と遮光膜３の開口部６とで面積を同じとした場合には、遮光膜２の開口部５の形成時と遮光膜３の開口部６の形成時とで共通のフォトマスクを使用することができ、製造工程が簡略化でき、製造コストを低減できるという効果の方がより重要である。
【０１１３】
＜異なる開口面積とする場合のさらなる効果＞
一方、遮光膜２の開口部５と遮光膜３の開口部６とで異なる面積とする場合、小さく形成する遮光膜２の開口部５の面積を、視差バリアの透過部の形成面積と設定し、大きく形成する遮光膜３の開口部６の面積を、製造工程上のばらつき（開口幅のずれやアライメントすれなど）を考慮して設定することで、製造工程上のばらつきが生じた場合でも、開口部５上に開口部６の端縁部が重なることで開口部５の面積が実質的に減少することを回避できるという利点がある。
【０１１４】
図１２および図１３は、遮光膜２の開口部５と遮光膜３の開口部６とを形成した状態の断面図であり、図１１におけるＡ−Ａ線での断面図に相当する。なお、図１２および図１３においては、遮光膜２に欠陥部１４が存在する例を併せて示している。
【０１１５】
図１２に示すように、遮光膜２に開口部５を形成した後、遮光膜２上に遮光膜３を形成するが、その際に遮光膜２に存在する欠陥部１４にも遮光膜３が埋め込まれるので、パターニング不良に対する二層の遮光膜による冗長性が有効に発揮される。
【０１１６】
また、図１３に示すように、遮光膜２の開口部５を視差バリアの透過部の形成面積よりも広めに形成し、遮光膜３に開口部６を形成する際に、開口部６の断面形状をクレーター状とすることで、視差バリアの透過部の形成面積に近づける構成としても良い。この場合も、遮光膜２に存在する欠陥部１４にも遮光膜３が埋め込まれるので、パターニング不良に対する二層の遮光膜による冗長性が有効に発揮される。
【０１１７】
以上説明した変形例２によれば、遮光膜２に発生した欠陥部１４は遮光膜３により埋め込まれるので光透過を防止して、表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを防止でき、また遮光膜３に発生した欠陥部１４は、下層に遮光膜２が存在するので光透過を防止でき、表示品位が低下した液晶表示装置が製造されることを防止できる。
【０１１８】
その結果、遮光膜のリペアなどを行わなくとも高歩留まりを維持することができるので、視差バリアを備えた液晶表示装置を低コストで製造することができる。
【０１１９】
また、図１４には、図１２の構成を採る場合に、遮光膜２および３の上層に保護膜１５を形成した例を示しており、図１５には、図１３の構成を採る場合に、遮光膜２および３の上層に保護膜１５を形成した例を示している。
【０１２０】
このように、遮光膜２および３の上層に保護膜１５が形成されることによって、視差バリアの形成以降の工程において、遮光膜２および３に対してキズが発生することを効果的に防止できるという効果は、実施の形態１と同様である。
【０１２１】
＜実施の形態２＞
以上説明した実施の形態１においては、図６を用いて説明したように、透明膜１の高さを超えるように遮光膜３を形成する例を示したが、遮光膜３の膜厚は、透明膜１の高さを超えない厚さに設定しても良い。
【０１２２】
図１６には、透明膜１および遮光膜２が形成された透明基板４上に、遮光膜２を覆うように（透明膜１の高さを超えないように）遮光膜３が形成された例を示している。このこの結果、透明膜１の膜厚が遮光膜２と遮光膜３とを合わせた厚みより厚くなる。
【０１２３】
この場合も図７を用いて説明したように、透明膜１を等方的に研磨、もしくはエッチング等を行うことにより、遮光膜３の上面と透明膜１の上端面とが同一平面内となるようにしても良い。
【０１２４】
このような平坦化を行うことで、平坦化されて凸凹が少ない視差バリアを得ることができ、視差バリア上に設ける偏光板（図１の偏光板１３５に相当）との間に気泡や凸凹ムラなどが発生する可能性を低減できる。
【０１２５】
また、遮光膜３の厚みを薄くすることで、遮光膜材料の使用量を減らすことができ、さらなる低コスト化が実現できる。
【０１２６】
＜実施の形態３＞
以上説明した実施の形態１および２においては、透明膜１は例えばアクリル樹脂で形成するものとして説明したが、アクリル樹脂の屈折率は１．４９であり、ガラス基板である透明基板４の屈折率よりは若干高い屈折率を有していた。
【０１２７】
これに対して、実施の形態３の液晶表示装置においては、透明膜１の屈折率が、透明基板４の屈折率に比べて同じ、あるいは低い屈折率となるように透明膜１の材料を選択する。
【０１２８】
これにより、図１７に示すように、透明基板４の下方から斜め方向に入射する光１３は、透明基板４と透明膜１との屈折率の違いにより、外側方向への屈折角度が大きくなって、所定方向でのコントラスト低下を防ぐなど、光学特性の向上を図ることができる。
【０１２９】
なお、透明基板４より低い屈折率を有する材料としては、例えば、フッ素樹脂のＰＴＦＥ（屈折率１．３５）、ＦＥＰ（屈折率１．３４）、テトラフルオロエチレン（屈折率１．３５）などを使用することができる。
【０１３０】
＜実施の形態４＞
以上説明した実施の形態１〜３においては、透明基板４上にアクリル樹脂やフッ素樹脂で透明膜１を形成するものとして説明したが、視差バリアの遮光部に相当する領域の透明基板４をエッチングにより突起状に加工した構成を採っても良い。以下、この製造方法について図１８〜図２１を用いて説明する。
【０１３１】
まず、図１８に示す工程において透明基板４を準備する。この透明基板４は、図３を用いて説明したステップ８の薄型化研磨工程後のマザーＣＦ基板に相当するが、この研磨工程では、視差バリアの透過部の厚さに相当する分だけの厚みを余分に残すようにマザーＣＦ基板を薄型化する。
【０１３２】
次に、図１９に示す工程において、透明基板４の視差バリアの透過部に対応する領域の上部がレジスト材で覆われるようにレジストマスクＲＭを形成し、当該レジストマスクＲＭをエッチングマスクとして透明基板４をウエットエッチングすることで、突起部１２を選択的に形成する。
【０１３３】
この場合のエッチング条件としては、例えば、透明基板４がガラス基板である場合、ガラスを研磨加工するのに一般的なエッチング液であるフッ酸系のエッチング液(バッファードフッ酸、希フッ酸など)を用いる。そして、使用するエッチング液によるガラスのエッチングレートと、形成したい突起部１２の高さ（視差バリアの厚みに相当する２、３μｍ程度）に応じてエッチング時間等を設定する。
【０１３４】
なお、上記方法によりエッチングを行う場合には、透明基板４の上主面に近いほどエッチングに曝される時間が長くなるために、結果として突起部１２は上端面が下端面よりも狭くなったテーパー形状（順テーパー）となる。
【０１３５】
レジストマスクＲＭを除去した後、図２０に示す工程において、突起部１２がパターニングされた透明基板４上に遮光膜２（図１における遮光膜１２６１に相当）を形成する。その際、遮光膜２の膜厚は、突起部１２の膜厚より、薄くなるように形成する。なお、遮光膜２の材質や形成方法は実施の形態１や実施の形態２と同じである。
【０１３６】
次に、図２１に示す工程において、突起部１２および遮光膜２が形成された透明基板４上に、遮光膜２および透明膜１を覆うように（突起部１２の高さを超えるように）遮光膜３（図１における遮光膜１２６２に相当）を形成する。なお、遮光膜３の材質や形成方法は実施の形態１や実施の形態２と同じである。その後、遮光膜３を等方的に研磨、もしくはエッチング等を行うことにより、遮光膜３を残存させたまま突起部１２の上端面を露出させることで、突起部１２を視差バリアの透過部として得ることができ、また、突起部１２間には遮光膜２および３が積層された遮光部を自己整合的に得ることで、視差バリアが完成することとなる。
【０１３７】
なお、突起部１２の形成方法は上述した方法に限定されるものではなく、機械的な研磨により形成することもでき、また、ドライエッチングを用いた方法により形成することもできる。例えば、エッチングガス種に酸素などのレジストを削るガス種を混入してエッチング処理することで、レジストマスクが小さくなりながら、透明基板４の深さ方向にもエッチングが進み、順テーパーの突起部１２を得ることも可能である。
【０１３８】
このようにして形成された突起部１２は、透明基板４と一体に形成される。この場合、透明基板４と突起部１２との間に境界部が形成されないことから、図２１に示されるように、境界部での光１３の反射が発生せず、光１３の利用効率を向上できる。
【０１３９】
また、突起部１２は、順テーパー形状であるので、その形状による効果は先に説明した透明膜１と同じであり、また、透明基板４の屈折率と同じ屈折率を有することで、所定方向でのコントラスト低下を防ぐなど、光学特性の向上を図ることができる。
【０１４０】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【０１４１】
１  透明膜、２，３  遮光膜、４  透明基板、１２  突起部、１５  保護膜、１００  液晶パネル、１１０  ＴＦＴ基板、１２０  ＣＦ基板、１２６  視差バリア、１２６Ｂ  遮光部、１２６Ｔ  透過部、１４０  液晶層。
【図１】
2014002275.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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