(57)【要約】【課題】その一端が開口する円筒室を備える搬送装置において、その円筒室内に負圧を発生させて被搬送物を保持する際に、その被搬送物が当該円筒室内に進入し、その開口縁と接触することにより損傷を受けることを防止する。【解決手段】搬送装置１０は、旋回流形成体１と、この旋回流形成体１に取り付けられる邪魔板２とを備える。旋回流形成体１は、被搬送物を吸引する部材である。邪魔板２は、旋回流形成体１により吸引される被搬送物が、旋回流形成体１の円筒室に進入するのを阻害するための部材である。【選択図】図１
2014227260.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
旋回流形成体と邪魔板とを備える搬送装置であって、
前記旋回流形成体は、
柱状の本体と、
前記本体の内部に形成され、その一端が開口している円筒室と、
前記本体の、前記円筒室が開口する側の面に形成される平坦状の端面と、
前記円筒室の内周面に設けられる噴出口と、
前記本体の外面に設けられる流体導入口と、
前記噴出口と前記流体導入口とを連結する流体通路と
を備え、
前記邪魔板は、前記旋回流形成体の前記端面に取り付けられ、前記円筒室内への被搬送物の進入を阻害する
ことを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記邪魔板は、
十字を形成するように前記円筒室の開口部に架け渡される棒状部材と、
前記棒状部材により形成される前記十字の交点を中心とする複数の同心円状の環状部材と
を有することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記環状部材は、前記円筒室内に形成される旋回流によって当該円筒室の中央部に発生する負圧によって吸引される流体の当該円筒室内への流入を阻害しないように設けられることを特徴とする請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記環状部材は、前記円筒室の開口部の中央部を覆うように設けられないことを特徴とする請求項３に記載の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、難吸着材料を搬送する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体ウェーハやガラス基板等の板状部材を非接触で搬送するための装置が開発されている。例えば、特許文献１では、ベルヌーイの定理を用いて板状部材を非接触で搬送する装置が提案されている。この装置では、装置下面に開口する円筒室内に旋回流を発生させ、当該旋回流の中心部の負圧によって板状部材を吸引する一方、当該円等室から流出する流体によって当該装置と板状部材との間に一定の距離を保つことで、板状部材の非接触での搬送を可能としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−５１２６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、その一端が開口する円筒室を備える搬送装置において、その円筒室内に負圧を発生させて被搬送物を保持する際に、その被搬送物が当該円筒室内に進入し、その開口縁と接触することにより損傷を受けることを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するため、本発明は、旋回流形成体と邪魔板とを備える搬送装置であって、前記旋回流形成体は、柱状の本体と、前記本体の内部に形成され、その一端が開口している円筒室と、前記本体の、前記円筒室が開口する側の面に形成される平坦状の端面と、前記円筒室の内周面に設けられる噴出口と、前記本体の外面に設けられる流体導入口と、前記噴出口と前記流体導入口とを連結する流体通路とを備え、前記邪魔板は、前記旋回流形成体の前記端面に取り付けられ、前記円筒室内への被搬送物の進入を阻害することを特徴とする搬送装置を提供する。
【０００６】
好ましい態様において、前記邪魔板は、十字を形成するように前記円筒室の開口部に架け渡される棒状部材と、前記棒状部材により形成される前記十字の交点を中心とする複数の同心円状の環状部材とを有してもよい。
【０００７】
より好ましい態様において、前記環状部材は、前記円筒室内に形成される旋回流によって当該円筒室の中央部に発生する負圧によって吸引される流体の当該円筒室内への流入を阻害しないように設けられてもよい。
【０００８】
より好ましい態様において、前記環状部材は、前記円筒室の開口部の中央部を覆うように設けられないようにしてもよい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、その一端が開口する円筒室を備える搬送装置において、その円筒室内に負圧を発生させて被搬送物を保持する際に、その被搬送物が当該円筒室内に進入し、その開口縁と接触することにより損傷を受けることを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】搬送装置１０の斜視図である。
【図２】旋回流形成体１の斜視図である。
【図３】図２のＩ−Ｉ線断面図である。
【図４】図２のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図５】邪魔板２の平面図である。
【図６】邪魔板２の効果の説明図である。
【図７】邪魔板２の効果の説明図である。
【図８】邪魔板２Ａの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
１．実施形態
図１は、本発明の一実施形態に係る搬送装置１０の斜視図である。図１に示される搬送装置１０は、半導体ウェーハやガラス基板等の板状の部材を保持して搬送するための装置である。搬送装置１０は、図１に示されるように、旋回流形成体１と、この旋回流形成体１に取り付けられる邪魔板２とを備えている。旋回流形成体１は、被搬送物Ｗを吸引する部材である。邪魔板２は、旋回流形成体１により吸引される被搬送物Ｗが、後述する円筒室１１に進入するのを阻害するための部材である。
【００１２】
図２は、旋回流形成体１の斜視図である。図３は、図２のＩ−Ｉ線断面図である。図４
は、図２のＩＩ−ＩＩ線断面図である。旋回流形成体１は、その内部に、円柱状の空間を有するとともにその一端が開口している円筒室１１を有している。旋回流形成体１は、その円筒室１１が開口している面に、平坦状の端面１２を有する。円筒室１１の内周面には、２つの噴出口１３が設けられている。一方、旋回流形成体１の外周面には、２つの流体導入口１４が設けられている。噴出口１３と流体導入口１４とは、流体通路１５により連結されている。２本の流体通路１５は、互いに平行になるように配置される。また、円筒室１１の開口部には、傾斜面１６が形成されている。
【００１３】
図５は、邪魔板２の平面図である。邪魔板２は、図５に示されるように、円形の形状を有し、端面１２と同心となるように旋回流形成体１に取り付けられる。例えば、邪魔板２は、ネジ止めにより旋回流形成体１に取り付けられる。邪魔板２は、図５に示されるように、円形の開口部を有する円板部２１と、円板部２１の開口部に架け渡される複数の棒状部材２２ａ，２２ｂ（以下、総称して「棒状部材２２」という。）と、棒状部材２２ａ，２２ｂの間に架け渡される複数の環状部材２３ａ，２３ｂ（以下、総称して「環状部材２３」という。）とを有する。
【００１４】
円板部２１は、邪魔板２が旋回流形成体１に取り付けられた際に、その一方の面が旋回流形成体１の端面１２と接する。棒状部材２２ａ，２２ｂは、円板部２１の開口部の中心において互いに交差するように架け渡される。棒状部材２２ａ，２２ｂは、邪魔板２が旋回流形成体１に取り付けられた際には、円筒室１１の開口部に架け渡された状態となる。棒状部材２２ａ，２２ｂは、例えば十字を形成するように架け渡される。環状部材２３ａ，２３ｂは、棒状部材２２ａ，２２ｂが交差する交点を中心として、同心円状に架け渡される。
【００１５】
最も内側に配置される環状部材２３ａと棒状部材２２ａ，２２ｂの交点との間には隙間が設けられる。すなわち、環状部材２３ａは、邪魔板２が旋回流形成体１に取り付けられたときに、円筒室１１の開口部の中央部を覆わないように設けられる。よって、環状部材２３ａは、後述する原理により円筒室１１内に吸引される流体の流入を阻害しない。
【００１６】
以上説明した構成を有する搬送装置１０において、図示せぬ流体供給装置から流体導入口１４を介して流体（例えば、空気）が供給されると、その流体は、流体通路１５を通って噴出口１３から円筒室１１内に吐出される。円筒室１１内に吐出された流体は、円筒室１１内において旋回流となって整流され、その後円筒室１１の開口部から流出する。
【００１７】
その際、邪魔板２に対向する位置に被搬送物Ｗが存在する場合には、円筒室１１内への外部空気の流入が制限され、旋回流の遠心力とエントレインメント効果により、旋回流中心部の単位体積あたりの流体分子の密度が小さくなり、負圧が発生する。この結果、被搬送物Ｗは周囲の空気によって押圧されて邪魔板２側に引き寄せられる。その一方で、邪魔板２と被搬送物Ｗとの距離が近づくにつれて、円筒室１１内から流出する空気の量が制限され、噴出口１３から円筒室１１内へ吐出される流体の速度が遅くなり、旋回流中心部の圧力が上昇する。この結果、被搬送物Ｗは邪魔板２とは接触せず、被搬送物Ｗと邪魔板２との間には一定の距離が保たれる。
【００１８】
しかし、被搬送物Ｗが難吸着材料の場合には、被搬送物Ｗと邪魔板２とが接触してしまう場合がある。ここで、難吸着材料とは、柔らかく通気性があって重い材料のことである。難吸着材料を搬送する場合には、搬送装置１０の吸引力を上げざるを得ず、その結果、被搬送物Ｗと邪魔板２とが接触してしまう場合がある。しかし、本実施形態に係る搬送装置１０の場合は、邪魔板２が存在するため、図６に示されるように、円筒室１１まで被搬送物Ｗを吸い込んでしまうことはない。
【００１９】
これに対して、邪魔板２が存在しない場合には、図７に示されるように、円筒室１１内まで被搬送物Ｗを吸い込んでしまう場合がある。この場合、被搬送物Ｗと円筒室１１の開口縁（特に、傾斜面１６）とが接触し（点線領域Ａ参照）、被搬送物Ｗにキズや痕をつけてしまう場合がある。
【００２０】
このように、本実施形態に係る搬送装置１０によれば、難吸着材料を搬送する場合であっても、当該材料が円筒室１１内に進入し、その開口縁と接触することにより損傷を受けることを防止することができる。
【００２１】
２．変形例
上記の実施形態は、以下のように変形してもよい。また、以下の変形例は、互いに組み合わせてもよい。
【００２２】
２−１．変形例１
邪魔板の形状は、上記の実施形態において採用されたものに限られない。例えば、図８に示されるように、上記の実施形態に係る邪魔板２と比較して、最も内側に配置される環状部材２３ａよりも内側の領域において、棒状部材２２ａ，２２ｂを切除した形状を採用してもよい。この形状を有する邪魔板２Ａは、図８に示されるように、円板部２１と、棒状部材２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆと、環状部材２３ａ，２３ｂとを有する。
【００２３】
棒状部材２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆは、それぞれ円板部２１の開口縁から、その開口部の中心に向かって延びる等長の部材である。棒状部材２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆは、それぞれ隣り合う棒状部材に対して垂直に延びる。環状部材２３ａは、その外周縁が各棒状部材２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆの先端と接するように配置される。環状部材２３ｂは、環状部材２３ａと同心となるように、各棒状部材２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆの間に架け渡される。
【００２４】
２−２．変形例２
上記の実施形態において、旋回流形成体１と邪魔板２とは、一体に成型されてもよい。
また、上記の実施形態において、旋回流形成体１の噴出口１３及び流体通路１５の数は、１つでも、又は、３つ以上であってもよい。上記の実施形態において、棒状部材２２及び環状部材２３の本数は、１本でも、又は、３本以上であってもよい。
また、上記の実施形態に係る搬送装置１０は、被搬送物Ｗの面積によっては、板状のフレームに複数取り付けて使用されてもよい。
【符号の説明】
【００２５】
１…旋回流形成体、２，２Ａ…邪魔板、１０…搬送装置、１１…円筒室、１２…端面、１３…噴出口、１４…流体導入口、１５…流体通路、１６…傾斜面、２１…円板部、２２，２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆ…棒状部材、２３，２３ａ，２３ｂ…環状部材、Ｗ…被搬送物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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