(57)【要約】【課題】均一な表示が可能な表示装置および表示装置の調整方法を提供する。【解決手段】実施形態によれば、表示装置の調整方法が提供される。表示装置は、複数の光源、導光体、光取り出し部、及び、制御部を含む。導光体は、光が入射する入射端部と、入射端部とは反対側の他端部と、を有する。光取り出し部は、導光体と共に、複数の画素を形成する。制御部は、光取り出し部に光取り出し状態と非光取り出し状態とを形成させる。光強度取得処理では、光取り出し状態であるときの、他端部の光の第１強度と、非光取り出し状態であるときの第２強度と、を２つ以上の画素について取得する。変化量算出処理では、過去の第１強度と第２強度と、の差の絶対値に対する、第１強度と第２強度との差の比を算出する。光強度変更処理では、１つの画素に対応する光源の光の強度を、上記の差の絶対値に応じて、低下させる。【選択図】図１
2014219478.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を出射する複数の光源と、
前記光が入射する入射端部と、前記入射端部とは反対側の他端部と、前記入射端部から前記他端部に向かう第１方向に沿って延在する側面と、を有し、前記光が前記入射端部から前記他端部に向けて伝搬する複数の導光体であって、前記複数の導光体は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って並ぶ複数の導光体と、
前記第２方向に沿って延在し前記複数の導光体のそれぞれの前記側面に対向し前記第１方向に沿って並ぶ複数の光取り出し部であって、前記複数の光取り出し部と前記複数の導光体の側面とが対向する複数の部分のそれぞれに複数の画素のそれぞれを形成する複数の光取り出し部と、
前記複数の光取り出し部に電気信号を供給して、前記複数の光取り出し部に、前記電気信号に応じて、前記複数の導光体を伝搬する前記光を前記複数の画素のそれぞれから取り出させる光取り出し状態と、前記光取り出し状態よりも取り出される光の強度が低い非光取り出し状態と、を形成させる制御部と、
を含む表示装置の調整方法であって、
第１の明るさ及び第１の色の表示を行うための前記光を前記複数の光源から出射させる第１階調状態において、前記複数の画素のそれぞれが前記光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第１強度と、前記複数の画素のそれぞれが前記非光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第２強度と、を前記複数の画素のうちの２つ以上の画素について取得する第１光強度取得処理と、
前記第１光強度取得処理よりも前に取得された、前記第１階調状態において前記複数の画素のそれぞれが前記光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第１過去強度と、前記複数の画素のそれぞれが前記非光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第２過去強度と、の差の絶対値に対する、前記第１強度と前記第２強度との差の絶対値の比を、前記２つ以上の前記画素について算出する第１変化量算出処理と、
前記２つ以上の前記画素のうちの第１画素について前記算出された前記比である第１値が、予め定められた第１しきい値よりも高く、前記２つ以上の前記画素のうちの第２画素について前記算出された前記比である第２値よりも低いときに、前記複数の導光体のうちの前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの強度を、前記第１値の前記第２値に対する比に応じて、低下させる第１光強度変更処理と、
を備えた表示装置の調整方法。
【請求項２】
前記第１光強度変更処理は、
前記第１光強度変更処理を実施した後の、前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの前記強度と、
前記第１光強度変更処理を実施する前の、前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの前記強度に、前記第１値の前記第２値に対する比を乗じた値と、
の差の絶対値を、
前記第１光強度変更処理を実施する前の、前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの前記強度と、
前記比を乗じた前記値と、
の差の絶対値よりも小さくすることを含む請求項１記載の表示装置の調整方法。
【請求項３】
前記第１光強度変更処理は、
前記第１光強度変更処理を実施した後の、前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの前記強度を、
前記第１光強度変更処理を実施する前の、前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの前記強度に、前記第１値の前記第２値に対する比を乗じた値にすることを含む請求項１記載の表示装置の調整方法。
【請求項４】
前記第１光強度変更処理において低下させられた、前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの強度を記憶する第１変更後光強度記憶処理をさらに備えた請求項１〜３のいずれか１つに記載の表示装置の調整方法。
【請求項５】
前記第１光強度変更処理の後における、前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの強度を前記第１過去強度と置換し、
前記第１光強度変更処理の後における、前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の前記第２画素が前記非光取り出し状態になるときの強度を前記第２過去強度と置換する補正値置換処理をさらに備えた請求項１〜３のいずれか１つに記載の表示装置の調整方法。
【請求項６】
前記第１の明るさとは異なる第２の明るさ及び前記第２の色とは異なる第２の色の少なくともいずれかを有する表示を行うための前記光を前記複数の光源から出射させる第２階調状態において、前記複数の画素のそれぞれが前記光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第３強度と、前記複数の画素のそれぞれが前記非光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第４強度と、を前記複数の画素のうちの２つ以上の画素について取得する第２光強度取得処理と、
前記第２光強度取得処理よりも前に取得された、前記第２階調状態において前記複数の画素のそれぞれが前記光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第３過去強度と、前記複数の画素のそれぞれが前記非光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第４過去強度と、の差の絶対値に対する、前記第３強度と前記第４強度との差の絶対値の比を、前記２つ以上の前記画素について算出する第２変化量算出処理と、
前記２つ以上の前記画素のうちの第３画素について前記算出された前記比である第３値が、予め定められた第２しきい値よりも高く、前記２つ以上の前記画素のうちの第４画素について前記算出された前記比である第３値よりも低いときに、前記複数の導光体のうちの前記第４画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第４画素が前記光取り出し状態になるときの強度を、前記第３値の前記第４値に対する比に応じて、低下させる第２光強度変更処理と、
をさらに備えた表示装置の調整方法。
【請求項７】
前記表示装置は、前記複数の画素による映像表示動作を行う表示期間を有し、
前記第１光強度取得処理と、前記第１変化量算出処理と、前記第１光強度変更処理と、の少なくとも一部は、前記表示期間とは異なる期間に実施される請求項１〜６のいずれか１つに記載の表示装置の調整方法。
【請求項８】
前記第１過去強度と、前記第２過去強度と、を取得する第１初期光強度取得処理と、
前記複数の画素のうちの１つの画素について前記第１初期光強度取得処理で取得された前記第１過去強度と前記第２過去強度との差が、予め定められた初期しきい値よりも大きく、前記複数の画素のうちの前記１つの画素とは異なる別の画素について取得された前記第１過去強度と前記第２過去強度との差よりも小さいときに、前記複数の導光体のうちの前記別の画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記別の画素が前記光取り出し状態になるときの強度を、前記１つの画素における前記第１過去強度と前記第２過去強度との差の、前記別の画素における前記第１過去強度と前記第２過去強度との差に対する比に応じて、低下させる第１初期光強度変更処理と、
をさらに備えた請求項１〜７のいずれか１つに記載の表示装置の調整方法。
【請求項９】
光を出射する複数の光源と、
前記光が入射する入射端部と、前記入射端部とは反対側の他端部と、前記入射端部から前記他端部に向かう第１方向に沿って延在する側面と、を有し、前記光が前記入射端部から前記他端部に向けて伝搬する複数の導光体であって、前記複数の導光体は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って並ぶ複数の導光体と、
前記第２方向に沿って延在し前記複数の導光体のそれぞれの前記側面に対向し前記第１方向に沿って並ぶ複数の光取り出し部であって、前記複数の光取り出し部と前記複数の導光体の側面とが対向する複数の部分のそれぞれに複数の画素のそれぞれを形成する複数の光取り出し部と、
前記複数の光取り出し部に電気信号を供給して、前記複数の光取り出し部に、前記電気信号に応じて、前記複数の導光体を伝搬する前記光を前記複数の画素のそれぞれから取り出させる光取り出し状態と、前記光取り出し状態よりも取り出される光の強度が低い非光取り出し状態と、を形成させる制御部と、
前記複数の導光体のそれぞれの前記他端部に到達する光の強度を検出する光検出部と、
第１の明るさ及び第１の色の表示を行うための前記光を前記複数の光源から出射させる第１階調状態において、前記複数の画素のそれぞれが前記光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第１過去強度と、前記複数の画素のそれぞれが前記非光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第２過去強度と、を記憶する記憶部と、
を備え、
前記制御部は、
前記第１階調状態において、前記複数の画素のそれぞれが前記光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第１強度と、前記複数の画素のそれぞれが前記非光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第２強度と、を前記複数の画素のうちの２つ以上の画素について、前記光検出部に検出させる第１光強度取得処理と、
前記記憶部に記憶された、前記第１過去強度と、前記第２過去強度と、の差の絶対値に対する、前記第１強度と前記第２強度との差の絶対値の比を、前記２つ以上の前記画素について算出する第１変化量算出処理と、
前記２つ以上の前記画素のうちの第１画素について前記算出された前記比である第１値が、予め定められた第１しきい値よりも高く、前記２つ以上の前記画素のうちの第２画素について前記算出された前記比である第２値よりも低いときに、前記複数の導光体のうちの前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの強度を、前記第１値の前記第２値に対する比に応じて、低下させる第１光強度変更処理と、
を実施する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置および表示装置の調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
導光構造を用いた表示装置が提案されている。この表示装置においては、例えば一列に並べられた複数の光源と、光源のそれぞれに接続される導光体と、各導光体の表面に対向する複数の光取り出し部と、が設けられる。光取り出し部を物理的または化学的に変化させることにより、それぞれの導光体の側面からの、光の取り出しと、非取り出しと、が制御される。これにより、表示装置は、画像を表示する。このような表示装置において、表示が均一であることが望まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２２１５９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の実施形態は、均一な表示が可能な表示装置および表示装置の調整方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の実施形態によれば、表示装置の調整方法が提供される。前記表示装置は、複数の光源と、複数の導光体と、複数の光取り出し部と、制御部と、を含む。前記複数の光源は、光を出射する。前記複数の導光体のそれぞれは、前記光が入射する入射端部と、前記入射端部とは反対側の他端部と、前記入射端部から前記他端部に向かう第１方向に沿って延在する側面と、を有する。前記複数の導光体において、前記光が前記入射端部から前記他端部に向けて伝搬する。前記複数の導光体は、前記第１方向と交差する第２方向に沿って並ぶ。前記複数の光取り出し部は、前記第２方向に沿って延在し前記複数の導光体のそれぞれの前記側面に対向し前記第１方向に沿って並ぶ。前記複数の光取り出し部は、前記複数の光取り出し部と前記複数の導光体の側面とが対向する複数の部分のそれぞれに複数の画素のそれぞれを形成する。前記制御部は、前記複数の光取り出し部に電気信号を供給して、前記複数の光取り出し部に、前記電気信号に応じて、前記複数の導光体を伝搬する前記光を前記複数の画素のそれぞれから取り出させる光取り出し状態と、前記光取り出し状態よりも取り出される光の強度が低い非光取り出し状態と、を形成させる。本調整方法は、第１光強度取得処理と、第１変化量算出処理と、第１光強度変更処理と、を含む。前記第１光強度取得処理では、第１の明るさ及び第１の色の表示を行うための前記光を前記複数の光源から出射させる第１階調状態において、前記複数の画素のそれぞれが前記光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第１強度と、前記複数の画素のそれぞれが前記非光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第２強度と、を前記複数の画素のうちの２つ以上の画素について取得する。前記第１変化量算出処理では、前記第１光強度取得処理よりも前に取得された、前記第１階調状態において前記複数の画素のそれぞれが前記光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第１過去強度と、前記複数の画素のそれぞれが前記非光取り出し状態であるときに前記他端部に伝搬する光の第２過去強度と、の差の絶対値に対する、前記第１強度と前記第２強度との差の絶対値の比を、前記２つ以上の前記画素について算出する。前記第１光強度変更処理では、前記２つ以上の前記画素のうちの第１画素について前記算出された前記比である第１値が、予め定められた第１しきい値よりも高く、前記２つ以上の前記画素のうちの第２画素について前記算出された前記比である第２値よりも低いときに、前記複数の導光体のうちの前記第２画素に対応する前記導光体の前記入射端部に前記光を入射させる前記光源の前記光の、前記第２画素が前記光取り出し状態になるときの強度を、前記第１値の前記第２値に対する比に応じて、低下させる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】第１の実施形態に係る表示装置を示す模式的平面図である。
【図２】第１の実施形態に係る表示装置を示す模式的断面図である。
【図３】図３（ａ）〜図３（ｄ）は、第１の実施形態に係る表示装置の一部を示す模式的断面図である。
【図４】図４（ａ）〜図４（ｄ）は、第１の実施形態に係る表示装置の動作を示す模式的断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る表示装置の調整方法を示すフローチャート図である。
【図６】第２の実施形態に係る表示装置の調整方法を示すフローチャート図である。
【図７】第３の実施形態に係る表示装置を示す模式的平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。  
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。  
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【０００８】
（第１の実施形態）  
図１は、第１の実施形態に係る表示装置を例示する模式的平面図である。  
図１に表したように、本実施形態に係る表示装置１１０は、複数の光源２０と、複数の導光体１０と、複数の光取り出し部３０と、制御部４０と、光検出部５０と、記憶部６０と、を含む。
【０００９】
複数の光源２０は、光を出射する。光源２０には、例えばＬＥＤなどの発光素子が用いられる。光源２０においては、例えば、発光素子から放出された光が導光され、導光された光が出射されても良い。
【００１０】
複数の導光体１０のそれぞれは、光源２０から出射した光が入射する入射端部１０ａと、入射端部１０ａとは反対側の他端部１０ｂと、を有する。
【００１１】
入射端部１０ａから他端部１０ｂに向かう方向を第１方向（例えばＹ軸方向）とする。導光体１０は、第１方向に沿って延在する。導光体１０は、第１方向に延在する側面１０ｓを有している。光は、導光体１０中を、入射端部１０ａから他端部１０ｂに向けて伝搬する。複数の導光体１０は、第２方向（例えば、Ｘ軸方向）に沿って並ぶ。第２方向は、第１方向と交差する方向である。この例では、第２方向は、第１方向と直交している。
【００１２】
導光体１０には、例えば、アクリル等の光透過性の樹脂や、光透過性のガラスなどが用いられる。導光体１０の断面（第１方向に対して垂直な平面で切断した断面）の形状は、例えば、四角形、円形、または、楕円形などである。実施形態において、導光体１０の断面の形状は、任意である。
【００１３】
複数の光取り出し部３０のそれぞれは、第２方向に沿って延在する。複数の光取り出し部３０は、第１方向に沿って並ぶ。光取り出し部３０は、複数の導光体１０のそれぞれの側面１０ｓに対向する。光取り出し部３０と、導光体１０の側面１０ｓと、が対向する部分が、画素８０となる。表示装置１１０においては、第１方向と第２方向とに沿って、複数の画素８０が並ぶ。すなわち、複数の光取り出し部３０と、複数の導光体１０の側面１０ｓと、が対向する複数の部分のそれぞれにおいて、複数の画素８０のそれぞれが形成される。
【００１４】
光取り出し部３０は、導光体１０中を伝搬する光を、導光体１０の側面１０ｓ（すなわち、画素８０）から取り出す動作が可能である。光取り出し部３０の構成の例については、後述する。
【００１５】
制御部４０は、複数の光取り出し部３０に電気信号を供給する。そして、制御部４０は、複数の光取り出し部３０に、電気信号に応じて、光取り出し状態と、非光取り出し状態と、を形成させる。光取り出し状態は、導光体１０を伝搬する光を、複数の画素８０のそれぞれから取り出させる状態である。非光取り出し状態は、光取り出し状態よりも、画素８０から取り出される光の強度が低い状態である。光取り出し状態は、選択状態に対応し、非光取り出し状態は、非選択状態に対応する。光取り出し状態における、光源２０から出射した光の強度が、表示の明るさ（明状態及び暗状態など）に対応する。光取り出し部３０は、光取り出し状態と、非光取り出し状態と、を変更可能なスイッチとして機能する。
【００１６】
光検出部５０は、複数の導光体１０の他端部１０ｂから出射する光の強度を検出する。他端部１０ｂから出射する光は、画素８０から導光体１０の外に取り出されずに、導光体１０中を通って他端部１０ｂに到達する光である。他端部１０ｂから出射する光の強度は、画素８０から取り出されなかった光の強度に関する情報を含む。他端部１０ｂから出射する光の強度は、光源２０から出射する光の強度に関する情報も含む。従って、他端部１０ｂから出射する光の強度は、画素８０から取り出された光の強度に関する情報を含む。光検出部５０には、例えば、フォトダイオードなどが用いられる。
【００１７】
記憶部６０は、導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の強度を記憶する。例えば、記憶部６０は、画素８０が光取り出し状態であるときと、その画素８０が非光取り出し状態であるときと、に関して、導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の強度を記憶する。具体的には、例えば、記憶部６０は、所定の表示を行うときの階調状態（例えば、第１階調状態）において、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度（第１強度）と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度（第２強度）と、を記憶する。記憶部６０に記憶された情報は、例えば、後述するように、表示を均一化する処理、すなわち、表示装置の調整処理等に利用される。
【００１８】
本願明細書において、他端部１０ｂに伝搬する光の強度は、他端部１０ｂにおける光の強度に比例した値でも良い。この比例係数は、例えば、光の強度を検出する装置（例えば後述する光検出部５０など）により定められる係数である。比例係数は１でも良い。すなわち、上記の第１強度は、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値である。上記の第２強度は、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値である。第１強度における比例係数は、第２強度における比例係数と同じである。他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値が得られれば、その光の検出は、例えば、他端部１０ｂにおいて行われなくても良く、導光体１０の他の位置（例えば入射端部１０ａなど）で行われても良い。
【００１９】
第１階調状態は、例えば、所定の明るさ（第１の明るさ）、及び、所定の色（第１の色の）表示を行うための光を、複数の光源２０から出射させる状態を含む。
【００２０】
たとえば、Ｘ軸方向に沿って、Ｍ個の光源２０及びＭ個の導光体１０が並べられる。一方、Ｙ軸方向に沿って、Ｎ個の光取り出し部３０が並べられる。これにより、Ｘ軸方向にＭ個で、Ｙ軸方向にＮ個の画素８０が形成される。２次元的に、複数の画素８０が配置される。
【００２１】
１つの光取り出し部３０を１ラインとする。Ｙ軸方向の一方の端の光取り出し部３０が、第１ラインとなる。Ｙ軸方向の他方の端の光取り出し部３０が、第Ｎラインとなる。例えば、第１ラインから、第Ｎラインに向けて、ライン単位で、順次切り替えて、光取り出し部３０を走査する。これにより、以下のように、複数の画素８０を用いて、画像を表示することができる。
【００２２】
第ｉ（ｉ＝１〜Ｎ）ラインの表示において、第ｉラインの画像データを光源２０に供給する。光源２０は、第ｉラインの画像データに対応する強度及び色の光を出射する。これらの光は、各光源２０に対応する導光体１０内を、Ｙ軸方向に沿って伝播する。
【００２３】
この光に同期して、制御部４０から、第ｉ番目の光取り出し部３０に、駆動信号を供給する。駆動信号が与えられた第ｉ番目の光取り出し部３０は、例えば、光取り出し状態となる。一方、駆動信号が与えられない光取り出し部３０（第ｉ番目以外の光取り出し部３０）は、非取り出し状態となる。
【００２４】
導光体１０を伝播した光（すなわち、第ｉラインの画像データに対応する強度と色を有する光）は、第ｉ番目の光取り出し部３０から取り出される。
【００２５】
第ｉラインにおける上記の動作の後に、第（ｉ＋１）ラインの画像データを光源２０に供給する。そして、制御部４０は、第（ｉ＋１）番目の光取り出し部３０を選択して、駆動信号を供給する。これにより、第（ｉ＋１）番目の画像データに対応する光が、第（ｉ＋１）番目の光取り出し部３から取り出される。
【００２６】
上記の動作を、第１〜第Ｎラインにおいて実施することで、所望の光が取り出される。これを繰り返すことで、所望の表示が得られる。
【００２７】
この例では、１つの光取り出し部３０と、１つの導光体１０と、の交差部に、１つの画素８０が形成される。実施形態において、複数の光取り出し部３０が、１つの画素８０を形成してもよい。
【００２８】
図２は、第１の実施形態に係る表示装置を例示する模式的断面図である。  
図２は、図１のＡ１−Ａ２線断面図である。  
図２に表したように、光取り出し部３０は、例えば、第１基板部３１と、第２基板部３２と、絶縁膜３３と、スペーサ３４と、を含む。
【００２９】
第１基板部３１と導光体１０との間に、第２基板部３２が配置される。第１基板部３１は、第１基板３１ａと第１電極３１ｂとを含む。第１電極３１ｂは、第１基板３１ａと、第２基板部３２との間に設けられる。第２基板部３２は、第２基板３２ａと、第２電極３２ｂと、を含む。第２電極３２ｂは、第１基板部３１と第２基板３２ａとの間に設けられる。
【００３０】
絶縁膜３３は、第１電極３１ｂと第２電極３２ｂとの間に設けられる。この例では、絶縁膜３３は、第２電極３２ｂの上に設けられている。スペーサ３４は、第１基板部３１と第２基板部３２と、を互いに離間させる。
【００３１】
第１基板３１ａには、例えば、樹脂フィルム（例えばポリイミドフィルムなど）が用いられる。第１基板３１ａの厚さは、例えば約１００μｍである。第１電極３１ｂには、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの光透過性の導電膜が用いられる。第１電極３１ｂの厚さは、例えば、約１００ｎｍである。
【００３２】
第２基板３２ａには、例えば、光透過性の基板が用いられる。第２電極３２ｂにも、ＩＴＯなどの光透過性の導電膜が用いられる。第２電極３２ｂの厚さは、例えば、約１００ｎｍである。第２電極３２ｂの上に、絶縁膜３３として、例えば、光透過性のアクリル樹脂膜が設けられる。絶縁膜３３の厚さは、約３μｍである。絶縁膜３３の上に、スペーサ３４となる所定のパターンの樹脂層が形成される。スペーサ３４は、例えば、感光性樹脂を用いて形成される。スペーサ３４の厚さは、約５μｍである。
【００３３】
スペーサ３４を介して、第２基板部３２の上に、第１基板部３１を配置する。例えば、加熱圧着処理により、スペーサ３４と第１基板部３１とが固定される。例えば、第１基板３１ａの外側面（第１電極３１ｂが設けられている面とは反対側の面）には、微小な凹凸（図示していない）が設けられている。微小な凹凸により、第１基板３１ａから外界への、光の取り出し効率が向上する。
【００３４】
第１電極３１ｂと第２電極３２ｂとが、制御部４０に電気的に接続される。制御部４０により、第１電極３１ｂと第２電極３２ｂとの間の電圧Ｖａが制御される。
【００３５】
例えば、電圧が印加されている状態が、光取り出し状態ＳＴ１に対応する。電圧が印加されていない、または、印加される電圧が低い状態が、非光取り出し状態ＳＴ２に対応する。光取り出し部３０の構成によっては、電圧が印加されている状態が、非光取り出し状態ＳＴ２に対応し、電圧が印加されていない、または、印加される電圧が低い状態が、光取り出し状態ＳＴ１に対応しても良い。
【００３６】
この例では、電圧が印加されている状態が、光取り出し状態ＳＴ１に対応し、電圧が印加されていない状態が、非光取り出し状態ＳＴ２に対応する。電圧が印加されない状態において、導光体１０中を伝搬する光２１ｂは、第２基板部３２を通過し、絶縁膜３３で全反射して、導光体１０に戻る。
【００３７】
第１電極３１ｂと第２電極３２ｂとの間に電圧Ｖａが印加されると、電極間の静電力により、第１基板部３１の一部が、絶縁膜３３を介して、第２電極３２ｂと接触する。このため、導光体１０中を伝播する光２１ａの少なくとも一部は、第２基板部３２及び絶縁膜３３を通過して第１基板部３１に到達する。さらに、光２１ａは、第１基板３１ａの表面の凹凸で進行方向が変えられ、外部に出射する。
【００３８】
上記のように、電極に印加する電圧によって、導光体１０からの光取り出しが電気的に切り替えられる。例えば、印加する電圧Ｖａは、約２００Ｖである。このとき、光取り出し部３０における、光取り出し状態ＳＴ１と非光取り出し状態ＳＴ２との間の切り替えの時間は、約１００μｓ（マイクロ秒）程度であり、高速に応答する。表示装置１１０は、動画も表示できる。例えば、光取り出し部３０における信号遅延に起因する、画面内の明るさむら、または、動作不良は、実質的に生じない。
【００３９】
図３（ａ）〜図３（ｄ）は、第１の実施形態に係る表示装置の一部を例示する模式的断面図である。  
これらの図は、導光体１０の他端部１０ｂを含む部分ＢをＹ−Ｚ平面で切断した断面の例を示している。これらの図は、光検出部５０の例を示している。
【００４０】
図３（ａ）に表したように、光検出部５０は、導光体１０の他端部１０ｂの端面１０ｂｓに対向するように設けられている。端面１０ｂｓは、導光体１０の第１方向（例えばＹ軸方向）と交差する（例えば垂直な）面である。端面１０ｂｓは、第１方向に対して傾斜していても良い。この例では、光検出部５０は、導光体１０の第１方向に沿う延長上に設けられている。
【００４１】
図３（ｂ）に表したように、光検出部５０は、導光体１０の他端部１０ｂの側面１０ｓに対向するように設けられている。この例では、導光体１０の他端部１０ｂの側面１０ｓに、凹部１０ｃ（例えば切り欠き部）が設けられている。凹部１０ｃに対向するように、光検出部５０が設けられている。
【００４２】
図３（ｃ）に表したように、光検出部５０は、導光体１０の他端部１０ｂの端面１０ｂｓの一部に対向するように設けられている。端面１０ｂｓの他の一部に対向するように、反射層１５が設けられている。
【００４３】
図３（ｄ）に表したように、導光体１０の他端部１０ｂの側面１０ｓに設けられた凹部１０ｃに対向するように、光検出部５０が設けられている。導光体１０の他端部１０ｂの端面１０ｂｓに対向するように、反射層１５が設けられている。  
反射層１５を設けることで、例えば、光の利用効率が向上できる。
【００４４】
図３（ａ）〜図３（ｄ）に例示したいずれの場合も、光検出部５０は、導光体１０中を伝搬し、他端部１０ｂに到達した光の強度を検出することができる。光検出部５０は、導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の強度が検出できる任意の位置に設けられる。光検出部５０が検出する強度は、他端部１０ｂに到達する光の強度に比例する強度でも良い。この場合、比例係数は、予め定められた値であり、比例係数は１でも良い。
【００４５】
図４（ａ）〜図４（ｄ）は、第１の実施形態に係る表示装置の動作を例示する模式的断面図である。  
これらの図は、Ｙ−Ｚ平面で切断した断面の例を示している。
【００４６】
図４（ａ）及び図４（ｂ）においては、光検出部５０は、導光体１０の他端部１０ｂの端面１０ｂｓに対向して設けられている。図４（ｃ）及び図４（ｄ）においては、光検出部５０は、導光体１０の他端部１０ｂの側面１０ｓに設けられた凹部１０ｃに対向している。
【００４７】
図４（ａ）及び図４（ｃ）は、光取り出し部３０の１つが光取り出し状態ＳＴ１である場合に対応する。図４（ｂ）及び図４（ｄ）は、光取り出し部３０が非光取り出し状態ＳＴ２である場合に対応する。
【００４８】
図４（ａ）及び図４（ｃ）に表したように、光源２０から出た光２１は、導光体１０中を、他端部１０ｂに向けて伝播する。光取り出し状態ＳＴ１の光取り出し部３０から、光２１ｅが取り出される。このとき、他端部１０ｂには、光２１のうちで、光取り出し部３０によって取り出された光２１ｅを除く光２１ｆが到達する。この光２１ｆを、光検出部５０は検出する。
【００４９】
図４（ｂ）及び図４（ｄ）に表したように、光取り出し部３０が非光取り出し状態ＳＴ２の場合は、光２１は、そのまま導光体１０中を伝搬し、他端部１０ｂには、そのままの光２２ｆが到達する。この光２２ｆを、光検出部５０は検出する。
【００５０】
このように、光取り出し部３０が光取り出し状態ＳＴ１のときは、光２１の一部が光取り出し部３０から導光体１０の外に取り出され、光２１の残りの部分は、導光体１０中を伝播して、他端部１０ｂにおいて、光検出部５０に入射する。
【００５１】
従って、光取り出し部３０が光取り出し状態ＳＴ１であるときの他端部１０ｂにおける光強度と、光取り出し部３０が非光取り出し状態ＳＴ２であるときの他端部１０ｂにおける光強度と、の差が、光取り出し部３０から取り出された光強度に比例した値になる。光取り出し部３０から取り出された光強度は、表示の明るさに対応する。
【００５２】
従って、上記の差の値をモニタすることで、取り出された光強度がモニタでき、すなわち、各画素の明るさに比例する量が、モニタできる。この性質は、導光体１０と光取り出し部３０とを用いる表示装置に特有の性質である。
【００５３】
このような表示装置１１０において、表示が不均一になる場合がある。例えば、複数の光源２０における特性のばらつき、複数の導光体１０における特性のばらつき、及び、複数の光取り出し部３０における特性のばらつきに起因して、表示が不均一になる場合がある。さらに、これらの部品の組み立てのときのばらつきに起因して表示が不均一になる場合がある。例えば、これらに起因して、画素８０ごとの明るさに、違いが生じる場合がある。
【００５４】
これらのばらつきに起因する表示の不均一は、表示装置を組み立てた後に、各画素８０の明るさが均一になるように、補正を行うことで、表示を均一にすることができる。
【００５５】
しかしながら、表示装置の動作時間が長くなると、表示の均一性が劣化することが分かった。
【００５６】
表示の均一性の劣化の１つの原因は、部品の特性の劣化の程度が、複数の部品によって異なることである。例えば、光源２０または光取り出し部３０においては、性能が劣化する傾向がある。例えば、光源２０としてＬＥＤなどを用いた場合において、長期の使用において、特性が劣化する。このような性能劣化においては、複数の部品（例えば複数の光源２０）どうしの差が大きい。
【００５７】
表示の均一性の劣化の他の原因は、表示画像に応じて、表示箇所に対応する部品（光源２０など）の動作条件が異なることである。例えば、表示画像によっては、特定の表示箇所に対応する部品（光源２０など）の動作条件が、他の表示箇所に対応する部品の動作条件よりも過酷になる場合がある。これに起因して、複数の部品（例えば光源２０）において、劣化の進行の程度が異なる状態が発生する。
【００５８】
このように、複数の部品で生じる特性の差、及び、表示画像に依存して生じる複数の部品への動作条件の差、などにより、表示の均一性（各画素８０の明るさの均一性）が、経時変化により劣化する。
【００５９】
このように、複数の部品（複数の光源２０、複数の光取り出し部３０、及び、複数の導光体１０）を組み合わせる表示装置１１０においては、使用時間が長くなると、複数の部品間において生じる特性の変化の差に起因して、表示が不均一になることが分かった。このような経時変化によって生じる表示の不均一性を低減し、均一な表示を行うことは重要である。
【００６０】
表示装置を製造した直後における初期の表示の不均一性については、工場内で特性を調整することで、均一にできる。しかしながら、上記のように、使用時間の経過と共に生じる表示の不均一性は、工場内で実施するような調整によって均一にすることは困難である。
【００６１】
本実施形態においては、このような使用中に生じる表示の不均一性を改善して、均一な表示を可能にする。表示の均一性を向上する方法（表示むら補正方法）は、例えば、表示装置の調整方法である。以下、表示装置１１０の動作の例について説明する。
【００６２】
図５は、第１の実施形態に係る表示装置の調整方法を例示するフローチャート図である。  
まず、初期補正係数決定処理（ステップＳ１）においては、各画素８０の補正係数（初期の補正係数）を決定する。  
例えば、表示装置１１０を、特定の階調の光が各画素８０から出射されるべき状態に設定する。例えば、光源２０は、予め定められた信号（所定の階調を表示するための信号）が供給される。そして、光取り出し部３０を光取り出し状態にする。このとき、複数の光源２０のそれぞれから出射する光２１の強度は、複数の光源２０のばらつきにより必ずしも均一ではない。さらに、各光取り出し部３０の特性のばらつきにより、各画素から出射する光２１ｅの強度は必ずしも均一ではない。
【００６３】
特定の階調の光が各画素８０から出射されるべき状態に設定し、そのときの各画素８０の明るさを測定する。例えば、画面を撮像装置（デジタルカメラなど）で撮像しても良い。各画素８０の明るさを、数値化する。各画素８０の明るさの測定においては、全ての光取り出し部３０を光取り出し状態ＳＴ１にして行ってもよく、複数の光取り出し部３０のそれぞれを順次光取り出し状態ＳＴ１にして行ってもよい。全ての画素８０において明るさを一度に測定しても良く、各画素８０の明るさを順番に測定しても良い。
【００６４】
測定された各画素８０の明るさに基づいて、各画素８０について、補正係数（初期の補正係数）を求める。例えば、補正係数は、全ての画素８０の明るさの中で最も暗い画素８０の明るさに一致するように、他の各画素８０の光源２０の明るさを各画素８０に対して定められる比率で低下させるための補正係数である。例えば、最も暗い画素８０とは異なる他の各画素８０における補正係数は、最も暗い画素８０の明るさの、他の各画素８０の明るさに対する比である。例えば、各光源２０の補正後の明るさを、補正前の明るさに補正係数を乗じた明るさにする。これにより、各画素８０の明るさを互いに実質的に同じにでき、画面を均一にすることができる。
【００６５】
初期モニタ光強度記憶処理（ステップＳ２）においては、上記の補正係数を定めたときの状態で、光検出部５０により、光取り出し状態ＳＴ１におけるモニタ光（光２１ｆ）の強度と、非光取り出し状態ＳＴ２におけるモニタ光（光２２ｆ）の強度と、を、例えば、全ての画素８０について記憶する。２つの光の強度の差は、補正後の明るさに比例した量となる。
【００６６】
表示装置の初期状態における表示の均一化の処理は、上記のステップＳ１及びＳ２により行われる。この処理は、たとえば、表示装置の工場出荷前に行ってもよい。また、使用者が、表示装置を使い始める初期状態において、行ってもよい。
【００６７】
以下の処理は、長時間の表示動作の後に、光源２０などの経時変化のばらつき等により生じた表示の不均一さを補正する処理である。
【００６８】
例えば、モニタ光強度取得処理（ステップＳ３）においては、光取り出し状態ＳＴ１におけるモニタ光（光２１ｆ）の強度と、非光取り出し状態ＳＴ２におけるモニタ光（光２２ｆ）の強度と、を、たとえば、全ての画素８０について測定する。
【００６９】
モニタ光強度変化算出処理（ステップＳ４）においては、初期状態のステップＳ２で得られたモニタ光強度の差に対する、表示動作後のステップＳ３で得られたモニタ光強度の差の比を求める。この値は、画素８０から取り出された光の、初期状態（ステップＳ２の状態）から、表示動作後の状態（ステップＳ３の状態）への、低下の比率を表している。
【００７０】
補正係数算出処理（ステップＳ５）においては、例えば、ステップＳ４で得られた全ての画素８０中のモニタ光強度の差の比の最小値を、各画素８０のモニタ光強度の差で除した値を求める。そして、この値に、初期の補正において設定された各光源２０の、各画素８０に対して定められた補正係数（初期の補正係数）に乗じて得られた値を、新たな補正係数とする。
【００７１】
すなわち、各画素８０においては経時変化により光取り出し量（明るさ）は低下する。このとき、最も低下した画素８０の明るさに合うように、他の画素８０の明るさを低下させる。このように、補正係数を修正することで、画面全体を均一にすることができる。
【００７２】
モニタ光強度記憶処理（ステップＳ６）においては、例えば、各画素８０について求めたモニタ光強度を、記憶部６０に記憶する。
【００７３】
補正を再度行う場合は、上記のステップＳ３〜ステップＳ６を行う。このとき、例えば、前回（過去）に実施したステップＳ６で求めたモニタ光強度を、ステップＳ２におけるモニタ光の光量として、ステップＳ４及びＳ５を実施する。
【００７４】
経時変化に伴い、例えば、光源２０または光取り出し部３０が動作しなくなる場合がある。このときには、画素８０から取り出される光の強度が、極端に低下する。このような場合には、ステップＳ５において、モニタ光強度の差の比の最小値が著しく小さくなる。このとき、その画素８０の明るさに他の画素８０の明るさを合わせると、画面全体が極端に暗くなってしまう。
【００７５】
そこで、上記のように光取り出しの極端な低下が生じる場合、すなわち、モニタ光強度の差の比の最小値が、予め定められた値（しきい値）以下になった場合は、その画素８０を、不良とみなして、表示の均一化のための補正処理（ステップＳ５）の対象から除外しても良い。これにより、画面全体の明るさが低下せずに、表示を均一にできる。
【００７６】
以上の補正処理（ステップＳ３〜ステップＳ６）を、例えば、一定期間ごとに行う。不定の期間ごとに実施しても良い。補正を実施することで、面内の経時変化に伴う画素の明るさのばらつきを抑えることができる。
【００７７】
上記の補正処理（ステップＳ３〜Ｓ６）は、例えば、所定の時間（例えば１００時間）ごとに実施される。補正処理は、例えば、電源をオンにして表示動作を開始する際に、実施しても良い。補正処理は、電源がオフにされて表示動作を終了する際に、実施しても良い。
【００７８】
例えば、表示装置１１０は、複数の画素８０による映像表示動作を行う表示期間を有している。上記の補正処理（ステップＳ３〜ステップＳ６）は、表示期間とは異なる期間に実施しても良い。
【００７９】
補正処理の実施のための時間は短いため、補正処理は、表示には実質的に影響しない。補正処理の少なくとも一部を、表示動作を実施しながら実施しても良い。例えば、表示動作におけるフレーム周期の中で、上記の補正処理の少なくとも一部を、複数の画素８０の少なくとも一部において実施しても良い。
【００８０】
例えば、初期の調整により、光検出部５０により検出されたモニタ光強度の差が小さく調整される（例えば実質的に差がない）。このため、初期状態においては、光検出部５０により検出されたモニタ光強度の差は小さい。すなわち、表示むらは小さい。経時変化により、この差が拡大し、すなわち、明るさのむらが大きくなる。この明るさのむらを上記の補正により小さくする。  
上記の補正処理においては、光検出部５０により検出された、モニタ光強度の差が、経時変化前に行った補正処理（初期の調整も含む）の後の状態と同様に、小さくされる。導光体１０ごとに、取り出す光の比率が異なっていても良い。
【００８１】
実施形態において、補正処理（表示の均一化のための処理）の少なくとも一部は、複数の画素８０のうちの一部について行ってもよい。
【００８２】
例えば、第１の明るさ及び第１の色の表示を行うための光２１を複数の光源２０から出射させる第１階調状態において、以下の第１光強度取得処理（ステップＳ１０３）を行う（図５参照）。ステップＳ１０３は、例えばステップＳ３の少なくとも一部に対応する。例えば、第１光強度取得処理（ステップＳ１０３）においては、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光（光２１ｆ）の第１強度と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光（光２２ｆ）の第２強度と、を複数の画素８０のうちの２つ以上の画素について取得する。
【００８３】
このとき、第１光強度取得処理（ステップＳ１０３）よりも前に、第１階調状態において複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光（光２１ｆ）の第１過去強度と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光（光２２ｆ）の第２過去強度と、が取得されている。これらの値は、例えば記憶部６０に記憶されている。これらの値に関する情報が、表示装置１１０とは別に設けられる記憶部に記憶されていても良い。
【００８４】
上記の第１過去強度は、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値である。上記の第２過去強度は、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値である。第１過去強度における比例係数は、第２過去強度における比例係数と同じである。比例係数は１でも良い。
【００８５】
第１光強度取得処理の後に、以下の第１変化量算出処理（ステップＳ１０４）を行う。ステップＳ１０４は、例えばステップＳ４の少なくとも一部に対応する。第１変化量算出処理（ステップＳ１０４）では、第１光強度取得処理よりも前に取得された、第１過去強度と、第２過去強度と、の差の絶対値に対する、第１強度と第２強度との差の絶対値の比を、上記の２つ以上の画素について算出する。
【００８６】
第１変化量算出処理の後に、以下の第１光強度変更処理（ステップＳ１０５）を行う。ステップＳ１０５は、例えば、ステップＳ５の少なくとも一部に対応する。例えば、第１光強度変更処理（ステップＳ１０５）においては、２つ以上の画素８０のうちの第１画素について算出された比である第１値が、予め定められた第１しきい値よりも高く、その２つ以上の画素８０のうちの第２画素について算出された比である第２値よりも低いときに、光強度の変更を行う。例えば、第１画素は、複数の画素８０のうちで最も暗い画素である。例えば、第１画素は、複数の画素８０のうちで最も劣化が進行した画素である。ただし、第１画素の明るさは、予め定められた第１しきい値よりも高く、不良の画素とは判定されていない画素である。第２画素は、その第１画素よりも明るい画素である。このとき、第１光強度変更処理においては、複数の導光体１０のうちの第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を、第１値の第２値に対する比に応じて、低下させる。
【００８７】
例えば、第１画素について算出された第１値の、第２画素について算出された第２値に対する比が、第２画素の補正係数となる。第２画素に対応する光源２０の光２１の補正後の強度を、補正前の値にこの補正係数を乗じた値になるように設定する。
【００８８】
これにより、均一な表示が可能になる表示装置の調整方法を提供できる。
【００８９】
例えば、補正係数は、第１値の第２値に対する比と完全に一致していなくても良い。例えば、補正係数は、第１値の第２値に対する比に応じた値でも良い。例えば、補正係数は、第１値の第２値に対する比に、所定の係数を乗じた値でも良い。実施形態において、表示が均一化されるように、補正係数が定められる。
【００９０】
例えば、第１光強度変更処理（ステップＳ１０５）では、第１光強度変更処理を実施した後の、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１を、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度と、第１光強度変更処理を実施する前の、その光源２０の光の強度に、第１値の第２値に対する比を乗じた値に近くなるようにする。
【００９１】
例えば、第１光強度変更処理では、以下を行う。  
第１の光強度を、第１光強度変更処理を実施した後の、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度とする。  
第２の光強度を、第１光強度変更処理を実施する前の、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度に、上記の第１値の第２値に対する比を乗じた値とする。この値が、補正における例えば目標値となる。  
第３の光強度を、第１光強度変更処理を実施する前の、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度とする。  
第１光強度変更処理では、第１の光強度と、第２の光強度(目標値）と、の差の絶対値を、第３の光強度と、第２の光強度（目標値）と、の差の絶対値よりも小さくする。すなわち、第１光強度変更処理後における第１の光強度を、その処理前よりも、例えば、上記目標値（第２の光強度）に近づける。  
これにより、表示が均一化できる。例えば、経時変化に伴う表示むらが軽減される。
【００９２】
例えば、第１光強度変更処理は、第１光強度変更処理を実施した後の、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を、第１光強度変更処理を実施する前の、その光源２０の光２１の強度に、第１値の第２値に対する比を乗じた値にしても良い。
【００９３】
このように、実施形態においては、表示の均一化の１回の処理は、複数の画素８０のうちの少なくとも２つ以上において実施されれば良い。例えば、複数の画素８０のうちの奇数番目の画素８０について補正処理を行い、別の時間に偶数番目の画素８０について補正処理を行ってもよい。例えば、補正処理が行われる頻度は、複数の画素８０によって異なっても良い。例えば、画面の周辺部における補正処理の頻度は、画面の中央部における補正処理の頻度よりも低くても良い。
【００９４】
例えば、上記の第１光強度取得処理と、第１変化量算出処理と、第１光強度変更処理と、の少なくとも一部を、表示期間とは異なる期間に実施しても良い。例えば、表示動作におけるフレーム周期の中で、上記の第１光強度取得処理、第１変化量算出処理及び第１光強度変更処理の少なくとも一部を、を複数の画素８０の少なくとも一部において実施しても良い。
【００９５】
本実施形態において、第１変更後光強度記憶処理（ステップＳ１０６）をさらに実施しても良い（図５参照）。ステップＳ１０６は、例えば、ステップＳ６の少なくとも一部に対応する。第１変更後光強度記憶処理（ステップＳ１０６）においては、例えば、第１光強度変更処理（ステップＳ１０５）において低下させられた、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を記憶する。第１変更後光強度記憶処理（ステップＳ１０６）においては、例えば、第１光強度変更処理（ステップＳ１０５）において低下させられた、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が非光取り出し状態ＳＴ２になるときの強度を記憶する。
【００９６】
例えば、これらの記憶された値のそれぞれを、第１過去強度及び第２過去強度とそれぞれ置換する。この補正値置換処理は、例えば、既に説明したステップＳ５において実施できる。補正値置換処理においては、例えば、第１光強度変更処理の後における、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を、上記の第１過去強度と置換する。そして、補正値置換処理においては、第１光強度変更処理の後における、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の第２画素が非光取り出し状態ＳＴ２になるときの強度を、第２過去強度と置換する。
【００９７】
これらの補正値置換処理において、置換された新たな第１過去強度及び第２過去強度を用いて、ステップＳ１０３〜ステップＳ１０５をさらに実施しても良い。
【００９８】
本実施形態に係る表示装置の調整方法は、初期の調整処理をさらに含んでも良い。例えば、図５に表したように、上記の、第１過去強度と第２過去強度とを取得する第１初期光強度取得処理（ステップＳ１０１）をさらに実施する。ステップＳ１０１は、例えば、ステップＳ１の少なくとも一部に対応する。
【００９９】
さらに、以下の第１初期光強度変更処理（ステップＳ１０２）を実施する。ステップＳ１０２においては、複数の画素８０のうちの１つの画素８０と、複数の画素８０のうちの、その１つの画素８０とは異なる別の画素８０と、について、以下の処理を行う。この１つの画素８０においては、第１初期光強度取得処理（ステップＳ１０１）で取得された第１過去強度と第２過去強度との差が、予め定められた初期しきい値よりも大きい。そして、その１つの画素８０で取得された第１過去強度と第２過去強度との差は、別の画素８０について取得された第１過去強度と第２過去強度との差よりも小さい。例えば、その１つの画素８０における、第１過去強度と第２過去強度との差は、複数の画素８０において最も小さい。このとき、複数の導光体１０のうちのその別の画素８０に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、別の画素８０が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を、その１つの画素８０における第１過去強度と第２過去強度との差の、別の画素８０における第１過去強度と第２過去強度との差に対する比に応じて、低下させる。
【０１００】
これにより、表示装置１１０の初期状態において、表示を均一化できる。  
（第２の実施形態）
本実施形態においては、複数の階調状態において、表示の均一化処理が行われる。  
図６は、第２の実施形態に係る表示装置の調整方法を例示するフローチャート図である。  
図６に表したように、ステップＳ１及びステップＳ２を含む第１ループＬ１が、互いに異なる複数の階調状態において行われる。そして、ステップＳ３〜ステップＳ６を含む第２ループＬ２が、互いに異なる複数の階調状態において複数回行われる。これ以外は、第１の実施形態について説明したものと同様なので説明を省略する。
【０１０１】
例えば、第１階調状態とは異なる第２階調状態においては、第１の明るさとは異なる第２の明るさ及び前記第２の色とは異なる第２の色の少なくともいずれかを有する表示を行うための光２１を複数の光源２０から出射させる。
【０１０２】
この第２階調状態において、第２光強度取得処理（別のステップＳ１０３）を実施する。例えば、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の第３強度と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の第４強度と、を、複数の画素８０のうちの２つ以上の画素８０について取得する。
【０１０３】
上記の第３強度は、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値である。上記の第４強度は、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値である。第３強度における比例係数は、第４強度における比例係数と同じである。比例係数は１でも良い。
【０１０４】
このときも、第２階調状態において複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の第３過去強度と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の第４過去強度と、が第２光強度取得処理の実施よりも前に取得されている。例えば、第２階調状態に関するこれらの値が、ステップＳ１０１及びステップＳ１０２において取得される。
【０１０５】
上記の第３過去強度は、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値である。上記の第４過去強度は、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の強度に比例した値である。第３過去強度における比例係数は、第４過去強度における比例係数と同じである。比例係数は１でも良い。
【０１０６】
そして、第２変化量算出処理（別のステップＳ１０４）において、第２光強度取得処理よりも前に取得された、第２階調状態における第３過去強度と第４過去強度との差の絶対値に対する、第３強度と第４強度との差の絶対値の比を、２つ以上の画素について算出する。
【０１０７】
そして、その２つ以上の画素８０のうちの第３画素について算出された上記の比である第３値は、予め定められた第２しきい値よりも高く、２つ以上の画素８０のうちの第４画素について算出された上記の比である第３値よりも低い。例えば、第３画素は、その２つ以上の画素８０のうちで、第２階調状態において最も暗い画素８０である。
【０１０８】
そのときに、第２光強度変更処理（別のステップＳ１０５）においては、複数の導光体１０のうちの第４画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第４画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を、第３値の第４値に対する比に応じて、低下させる。
【０１０９】
例えば、第３画素について算出された第３値の、第４画素について算出された第４値に対する比が、第２階調状態における、第４画素の補正係数となる。第４画素に対応する光源２０の光２１の補正後の強度を、補正前の値にこの補正係数を乗じた値に設定する。
【０１１０】
例えば、第２光強度変更処理を実施した後の、第４画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１を、第４画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度と、第４光強度変更処理を実施する前の、その光源２０の光の強度に、第３値の第４値に対する比を乗じた値と、の差の絶対値は、第２光強度変更処理を実施する前の、その光源２０の光２１の強度と、第２光強度変更処理を実施する前のその光源２０の光２１の強度に第３値の第４値に対する比を乗じた値と、の差の絶対値よりも小さくされる。  
これにより、第２階調状態における表示が均一にできる。
【０１１１】
本実施形態においては、複数の階調状態のそれぞれにおいて、補正係数が求められる。この階調状態ごとの補正係数を用いて、表示の均一性が補正される。これにより、さらに均一性が高まる。例えば、補正係数を求める階調状態の数に対応して、第１ループＬ１及び第２ループＬ２が行われる。
【０１１２】
階調状態は、光の強度と、色と、を含む。例えば、赤、緑及び青のそれぞれの色において、補正係数が求められる。例えば、各色で、光源２０の経時劣化が異なる場合がある。このとき、異なる色のそれぞれに対して補正係数を求めることで、より均一性の高い表示を行うことができる。
【０１１３】
（第３の実施形態）
図７は、第３の実施形態に係る表示装置を例示する模式的平面図である。  
図７に表したように、本実施形態に係る表示装置１１１においては、複数の導光体１０において、１つの光検出部５０が設けられる。これ以外の表示装置１１１における構成は、表示装置１１０と同様とすることができるので説明を省略する。
【０１１４】
例えば、１つの光検出部は、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに１つの導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の第１強度と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに１つの導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の第２強度と、を検出する。そして、その１つの光検出部は、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに別の導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の強度と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに別の導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の強度と、をさらに検出する。
【０１１５】
例えば、複数の光源２０を順次選択し、その選択された複数の光源２０に対応する導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の強度が、１つの光検出部５０により検出される。すなわち、複数の導光体１０のモニタ光（光２１ｆ及び光２２ｆ）が、１つの光検出部５０により検出される。
【０１１６】
本実施形態において、光検出部５０と導光体１０との間の距離が、複数の導光体１０のそれぞれにおいて異なる場合が生じる。この距離の差は、上記の補正処理に、実質的に影響を与えない。すなわち、上記の補正処理においては、光取り出し状態ＳＴ１におけるモニタ光（光２１ｆ）と、非光取り出し状態ＳＴ２におけるモニタ光（光２２ｆ）と、の差の比（経時変化前の値に対する経時変化後の値の比）に基づいて、処理が行われる。実施形態においては、これらの値に関して、相対的な変化を用いるため、各導光体１０において光検出部５０へ入射する光の強度のばらつきは実質的に影響を与えない。実施形態においては。導光体１０を伝播した光に対する、光検出部５０へ入射した光の強度の比が保たれていれば良い。
【０１１７】
本実施形態においては、光検出部５０の数が低減でき、装置を簡便化することができる。
【０１１８】
（第４の実施形態）  
本実施形態は、表示装置に係る。本実施形態に係る表示装置は、例えば、表示装置１１０及び１１１、または、それらの変形の表示装置を含む。本実施形態に係る表示装置においては、第１〜第３の実施形態に関して説明した表示装置の調整方法が実施可能である。
【０１１９】
本実施形態に係る表示装置は、複数の光源２０と、複数の導光体１０と、複数の光取り出し部３０と、制御部４０と、光検出部５０と、記憶部６０と、を含む。
【０１２０】
複数の光源２０、複数の導光体１０、及び、複数の光取り出し部３０は、上記の実施形態について説明した構成が適用される。
【０１２１】
光検出部５０は、複数の導光体１０のそれぞれの他端部１０ｂに到達する光の強度を検出する。既に説明したように、光検出部５０が検出する強度は、他端部１０ｂに到達する光の強度に比例する強度でも良い。
【０１２２】
記憶部６０は、第１の明るさ及び第１の色の表示を行うための光２１を複数の光源２０から出射させる第１階調状態において、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の第１過去強度と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の第２過去強度と、を少なくとも記憶する。
【０１２３】
制御部４０は、複数の光取り出し部３０に電気信号を供給して、複数の光取り出し部３０に、光取り出し状態ＳＴ１と、非光取り出し状態ＳＴ２と、を形成させる。制御部４０は、以下の、第１光強度取得処理と、第１変化量算出処理と、第１光強度変更処理と、をさらに実施する。
【０１２４】
第１光強度取得処理においては、制御部４０は、第１階調状態において、複数の画素８０のそれぞれが光取り出し状態ＳＴ１であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の第１強度と、複数の画素８０のそれぞれが非光取り出し状態ＳＴ２であるときに他端部１０ｂに伝搬する光の第２強度と、を複数の画素８０のうちの２つ以上の画素８０について、光検出部５０に検出させる。これにより、第１強度と第２強度とが取得される。
【０１２５】
第１変化量算出処理においては、制御部４０は、記憶部６０に記憶された、第１過去強度と、第２過去強度と、の差の絶対値に対する、第１強度と第２強度との差の絶対値の比を、その２つ以上の画素８０について算出する。
【０１２６】
第１光強度変更処理においては、制御部４０は、以下の第１画素と第２画素とを求める。その２つ以上の画素８０のうちの第１画素について算出された上記の比である第１値は、予め定められた第１しきい値よりも高い。第１値は、その２つ以上の画素８０のうちの第２画素について算出された上記の比である第２値よりも低い。
【０１２７】
このとき、第１光強度変更処理においては、制御部４０は、複数の導光体１０のうちの第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を、第１値の第２値に対する比に応じて、低下させる。
【０１２８】
すなわち、制御部４０は、光源２０を、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を、第１値の第２値に対する比に応じて、低下するように、制御する。例えば、制御部４０は、上記のステップＳ１０３〜ステップＳ１０５に関して説明した処理を行う。  
本実施形態によれば、均一な表示が可能な表示装置を提供できる。
【０１２９】
例えば、制御部４０は、第１〜第３の実施形態に関して説明した表示装置の調整方法を実施しても良い。
【０１３０】
本実施形態において、制御部４０は、第１変更後光強度記憶処理（ステップＳ１０６）をさらに実施しても良い。例えば、制御部４０は、記憶部６０に、第１光強度変更処理の後における、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が光取り出し状態ＳＴ１になるときの強度を、上記の第１過去強度と置換させる。さらに、制御部４０は、記憶部６０に、第１光強度変更処理の後における、第２画素に対応する導光体１０の入射端部１０ａに光２１を入射させる光源２０の光２１の、第２画素が非光取り出し状態ＳＴ２になるときの強度を、第２過去強度と置換させる。
【０１３１】
制御部４０は、置換された新たな第１過去強度及び第２過去強度を用いて、ステップＳ１０３〜ステップＳ１０５をさらに実施しても良い。
【０１３２】
制御部４０は、初期の調整処理として、第１初期光強度取得処理（ステップＳ１０１）及び、第１初期光強度変更処理（ステップＳ１０２）を実施しても良い。
【０１３３】
制御部４０は、第１階調状態とは異なる第２階調状態において、上記の補正処理を行っても良い。
【０１３４】
本実施形態において、光検出部５０は、複数の光源２０に対応する導光体１０の他端部１０ｂに伝搬する光の強度を検出しても良い。すなわち、光検出部５０は、複数の導光体１０のモニタ光強度を検出しても良い。
【０１３５】
実施形態に係る表示装置、および、表示装置の調整方法（表示むら補正方法）においては、任意の階調において、導光体１０を伝播する光のうち、各画素８０の光取り出し状態ＳＴ１と非光取り出し状態ＳＴ２とにおける、表示に寄与しない光の一部を取り出す（モニタ光強度取得ステップ、ステップＳ３）。
【０１３６】
モニタ光強度記憶ステップで得られた、取り出し状態ＳＴ１と非取り出し状態ＳＴ２のモニタ光強度の差に対する、以降のモニタ光強度取得ステップで得られたモニタ光強度の差の比を求めるモニタ光強度変化を算出する（モニタ光強度変化算出ステップ、ステップＳ４）。
【０１３７】
さらに、モニタ光強度変化算出ステップで得られた全ての画素８０中のモニタ光強度の差の比の最小値を、各画素８０中のモニタ光強度の差の最小値で除した値を、予め設定された各光源２０の階調を下げるための画素ごとの補正係数に乗じ、新たな補正係数とする（補正係数更新ステップ、ステップＳ５）。
【０１３８】
各光源２０に新たな補正係数を乗じて階調表示をさせたときの、各画素８０の、光取り出し状態ＳＴ１及び非光取り出し状態ＳＴ２でのモニタ光強度を記憶部６０に記憶する（モニタ光強度記憶ステップ、ステップＳ６）。
【０１３９】
さらに、任意の階調に光源２０を設定した状態で全ての画素８０の明るさを測定し、最も暗い画素８０に他の画素８０の明るさが合うように、光源２０の階調を下げるための画素８０ごとの補正係数の初期値を決定する（初期補正係数決定ステップ、ステップＳ１）ことを実施しても良い。
【０１４０】
さらに、各光源２０に、その補正係数を乗じた階調表示をさせたときの、各画素８０の、光取り出し状態ＳＴ１と非光取り出し状態ＳＴ２とでのモニタ光強度の初期値を記憶部６０に記憶させる（初期モニタ光強度記憶ステップ、ステップＳ２）ことを実施しても良い。
【０１４１】
例えば、上記のモニタ光強度取得ステップは、映像表示期間以外に実施される。例えば、モニタ光強度及び補正係数は、複数の階調に対して測定および算出されても良い。例えば、モニタ光強度及び補正係数は、複数の色に対して測定および算出されても良い。
【０１４２】
モニタ光量の上記の差の比に対してしきい値を設定し、その差の比がそのしきい値以下になった時は、上記の補正処理から除外しても良い。モニター光量の上記の差に対して閾値を設定し、その差がその閾値以下になった時は、上記の補正処理から除外してもよい。
【０１４３】
実施形態によれば、均一な表示が可能な表示装置及び表示装置の調整方法が提供できる。実施形態によれば、経時変化に伴う表示むらが軽減された表示装置及び表示装置の調整方法が提供される。
【０１４４】
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。
【０１４５】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、表示装置に含まれる光源、導光体、光取り出し部、制御部、光検出部及び記憶部などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
【０１４６】
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【０１４７】
その他、本発明の実施の形態として上述した表示装置及び表示装置の調整方法を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置及び表示装置の調整方法も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【０１４８】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【０１４９】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１５０】
１０…導光体、  １０ａ…入射端部、  １０ｂ…他端部、  １０ｂｓ…端面、  １０ｃ…凹部、  １０ｓ…側面、  １５…反射層、  ２０…光源、  ２１、２１ａ、２１ｂ、２１ｅ、２１ｆ、２２ｆ…光、  ３０…光取り出し部、  ３１…第１基板部、  ３１ａ…第１基板、  ３１ｂ…第１電極、  ３２…第２基板部、  ３２ａ…第２基板、  ３２ｂ…第２電極、  ３３…絶縁膜、  ３４…スペーサ、  ４０…制御部、  ５０…光検出部、  ６０…記憶部、  ８０…画素、  １１０、１１１…表示装置、  Ｂ…部分、  Ｌ１、Ｌ２…第１、第２ループ、  ＳＴ１…光取り出し状態、  ＳＴ２…非光取り出し状態、  Ｖａ…電圧
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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