(57)【要約】      （修正有）【課題】可動部を所望の振幅に一括調整可能な複数の光走査装置の製造方法を提供する。【解決手段】個片化されると光走査装置となる複数の領域を有する構造体を作製する構造体作製工程と、構造体の各領域に形成された光走査部と対向するよう開口部を備えた遮蔽板を配置する遮蔽板配置工程と、遮蔽板を介し各光走査部と対向するよう光走査部の質量を増加させることが可能な質量増加手段を配置する質量増加手段配置工程と、各光走査部を所定の駆動周波数で揺動させると共に、開口部を介し各光走査部の方向に質量増加手段から照射物を照射する照射物照射工程とを有し、構造体作製工程において各光走査部の共振周波数が所定の駆動周波数よりも高くなるよう構造体を作製し、遮蔽板配置工程において光走査部が所定の振幅以上の場合には質量増加手段側から視て光走査部が開口部内に露出せず、所定の振幅未満の場合には光走査部の一部が露出するよう遮蔽板を配置する。【選択図】図４
2014115523.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の軸に対して揺動自在に支持されている光走査部を備えた光走査装置の製造方法であって、
個片化されると前記光走査装置となる複数の領域を有する構造体を作製する構造体作製工程と、
前記構造体の各々の前記領域に形成された各々の前記光走査部と対向するように開口部を備えた遮蔽板を配置する遮蔽板配置工程と、
前記遮蔽板を介して各々の前記光走査部と対向するように、各々の前記光走査部の質量を増加させることが可能な質量増加手段を配置する質量増加手段配置工程と、
各々の前記光走査部を所定の駆動周波数で揺動させると共に、前記開口部を介して各々の前記光走査部の方向に前記質量増加手段から照射物を照射する照射物照射工程と、を有し、
前記構造体作製工程において、各々の前記光走査部の共振周波数が前記所定の駆動周波数よりも高くなるように前記構造体を作製し、
前記遮蔽板配置工程において、前記光走査部が所定の振幅以上の場合には前記質量増加手段側から視て前記光走査部が前記開口部内に露出せず、前記光走査部が所定の振幅未満の場合には前記質量増加手段側から視て前記光走査部の一部が前記開口部内に露出するように、前記遮蔽板を配置することを特徴とする光走査装置の製造方法。
【請求項２】
前記照射物照射工程において、前記質量増加手段側から視て前記光走査部の一部が前記開口部内に露出する場合には、前記光走査部の一部に前記照射物が付着し、前記光走査部の質量が増加して前記共振周波数が低下し前記所定の駆動周波数に近づくことを特徴とする請求項１記載の光走査装置の製造方法。
【請求項３】
所定の軸に対して揺動自在に支持されている光走査部を備えた光走査装置の製造方法であって、
個片化されると前記光走査装置となる複数の領域を有する構造体を作製する構造体作製工程と、
前記構造体の各々の前記領域に形成された各々の前記光走査部と対向するように開口部を備えた遮蔽板を配置する遮蔽板配置工程と、
前記遮蔽板を介して各々の前記光走査部と対向するように、各々の前記光走査部の質量を減少させることが可能な質量減少手段を配置する質量減少手段配置工程と、
各々の前記光走査部を所定の駆動周波数で揺動させると共に、前記開口部を介して各々の前記光走査部の方向に前記質量減少手段から照射物を照射する照射物照射工程と、を有し、
前記構造体作製工程において、各々の前記光走査部の共振周波数が前記所定の駆動周波数よりも低くなるように前記構造体を作製し、
前記遮蔽板配置工程において、前記光走査部が所定の振幅以上の場合には前記質量減少手段側から視て前記光走査部が前記開口部内に露出せず、前記光走査部が所定の振幅未満の場合には前記質量減少手段側から視て前記光走査部の一部が前記開口部内に露出するように、前記遮蔽板を配置することを特徴とする光走査装置の製造方法。
【請求項４】
前記照射物照射工程において、前記質量減少手段側から視て前記光走査部の一部が前記開口部内に露出する場合には、前記光走査部の一部が前記照射物と衝突し除去され、前記光走査部の質量が減少して前記共振周波数が上昇し前記所定の駆動周波数に近づくことを特徴とする請求項３記載の光走査装置の製造方法。
【請求項５】
前記照射物照射工程において、全ての前記光走査部の共振周波数が前記所定の駆動周波数と一致するまで、各々の前記光走査部を所定の駆動周波数で揺動させると共に、前記開口部を介して各々の前記光走査部の方向に前記照射物を照射することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項記載の光走査装置の製造方法。
【請求項６】
前記遮蔽板は前記開口部を開閉する開閉部を備え、
前記開閉部は、前記所定の駆動周波数で前記光走査部を駆動する駆動信号がゼロクロスするタイミングで前記開口部を全開にするように動作することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載の光走査装置の製造方法。
【請求項７】
前記光走査部の一部は、前記所定の軸に対して直交する方向の前記光走査部の両端部であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項記載の光走査装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を走査する光走査装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、多数個の水晶振動板が一体形成されたウェハにおいて、各水晶振動板の表裏主面に形成された電極膜の質量を削減することによって、水晶振動板の周波数の調整を行う周波数調整方法が知られていた。この周波数調整方法では、ウェハの全ての電極膜に対してイオンビームを一括照射して電極膜の質量を削減し、目的の周波数範囲に達した水晶振動板に対して、水晶振動板の電極膜を覆う遮蔽体を形成して電極膜の質量が削減されないようにしている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１０３９１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記周波数調整方法では、加工精度のばらつき等により水晶振動板毎に共振周波数が異なっている場合には、一括調整しても所望の振幅を得られない振動板（可動部）が発生する問題があった。
【０００５】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたもので、各々が光を走査する可動部を備えた複数の光走査装置において、各可動部を所望の振幅に一括調整可能な光走査装置の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
光走査装置の製造方法の一の形態は、所定の軸に対して揺動自在に支持されている光走査部を備えた光走査装置の製造方法であって、個片化されると前記光走査装置となる複数の領域を有する構造体を作製する構造体作製工程と、前記構造体の各々の前記領域に形成された各々の前記光走査部と対向するように開口部を備えた遮蔽板を配置する遮蔽板配置工程と、前記遮蔽板を介して各々の前記光走査部と対向するように、各々の前記光走査部の質量を増加させることが可能な質量増加手段を配置する質量増加手段配置工程と、各々の前記光走査部を所定の駆動周波数で揺動させると共に、前記開口部を介して各々の前記光走査部の方向に前記質量増加手段から照射物を照射する照射物照射工程と、を有し、前記構造体作製工程において、各々の前記光走査部の共振周波数が前記所定の駆動周波数よりも高くなるように前記構造体を作製し、前記遮蔽板配置工程において、前記光走査部が所定の振幅以上の場合には前記質量増加手段側から視て前記光走査部が前記開口部内に露出せず、前記光走査部が所定の振幅未満の場合には前記質量増加手段側から視て前記光走査部の一部が前記開口部内に露出するように、前記遮蔽板を配置することを要件とする。
【０００７】
光走査装置の製造方法の他の形態は、所定の軸に対して揺動自在に支持されている光走査部を備えた光走査装置の製造方法であって、個片化されると前記光走査装置となる複数の領域を有する構造体を作製する構造体作製工程と、前記構造体の各々の前記領域に形成された各々の前記光走査部と対向するように開口部を備えた遮蔽板を配置する遮蔽板配置工程と、前記遮蔽板を介して各々の前記光走査部と対向するように、各々の前記光走査部の質量を減少させることが可能な質量減少手段を配置する質量減少手段配置工程と、各々の前記光走査部を所定の駆動周波数で揺動させると共に、前記開口部を介して各々の前記光走査部の方向に前記質量減少手段から照射物を照射する照射物照射工程と、を有し、前記構造体作製工程において、各々の前記光走査部の共振周波数が前記所定の駆動周波数よりも低くなるように前記構造体を作製し、前記遮蔽板配置工程において、前記光走査部が所定の振幅以上の場合には前記質量減少手段側から視て前記光走査部が前記開口部内に露出せず、前記光走査部が所定の振幅未満の場合には前記質量減少手段側から視て前記光走査部の一部が前記開口部内に露出するように、前記遮蔽板を配置することを要件とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、各々が光を走査する可動部を備えた複数の光走査装置において、各可動部を所望の振幅に一括調整可能な光走査装置の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１の実施の形態に係る光走査装置を例示する図である。
【図２】第１の実施の形態に係る光走査装置の製造工程を例示する図（その１）である。
【図３】第１の実施の形態に係る光走査装置の製造工程を例示する図（その２）である。
【図４】第１の実施の形態に係る光走査装置の製造工程を例示する図（その３）である。
【図５】第１の実施の形態の変形例に係る光走査装置の製造工程を例示する図である。
【図６】第２の実施の形態に係る光走査装置の製造工程を例示する図である。
【図７】開閉部が開閉するタイミングについて説明する図（その１）である。
【図８】開閉部が開閉するタイミングについて説明する図（その２）である。
【図９】開閉部が開閉するタイミングについて説明する図（その３）である。
【図１０】開閉部が開閉するタイミングについて説明する図（その４）である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【００１１】
〈第１の実施の形態〉
［光走査装置の構造］
まず、光走査装置の構造について説明する。図１は、第１の実施の形態に係る光走査装置を例示する図であり、図１（ａ）は図１（ｂ）のＡ−Ａ線に沿う断面図、図１（ｂ）は平面図である。
【００１２】
図１を参照するに、光走査装置１０は、筐体２０と、励振部３０と、基板４０とを有する。光走査装置１０は、例えば、車両に搭載されるレーザレーダとして利用できる。レーザレーダは、光源であるレーザから照射される光を光走査装置１０により自車両の前方に走査し、自車両の前方を走行する車両や人間等を検知する機器である。但し、光走査装置１０は、車載用には限定されない。
【００１３】
筐体２０は、基板４０を固定等するための部材であり、平板部２１と、平板部２１の外縁部に立設された枠部２２とを有する。筐体２０は、例えば、ガラスやシリコン等により形成することができる。筐体２０は、セラミックや金属、樹脂等により形成してもよい。但し、平板部２１と枠部２２とは一体に形成されたものでもよいし、別体を接着等したものでもよい。
【００１４】
励振部３０は、後述の可動部４２を励振する部分である。励振部３０は、例えば、電気的エネルギーにより静電気を発生させて静電気力により可動部４２を駆動することができる。或いは、励振部３０において、磁力、圧電、熱等を利用した駆動方式を採用してもよい。なお、励振部３０は、筐体２０に内蔵されている必要はなく、可動部４２を励振（駆動）できれば、任意の位置に配されてよい。
【００１５】
基板４０は、筐体２０の枠部２２の一端部に固定されている固定部４１と、平面視において、固定部４１の内側に配置されている可動部４２と、固定部４１と可動部４２とを所定位置で連結し固定部４１に対して可動部４２を支持する一対の支持部４３とを有する。基板４０は、例えば、５インチ等のシリコンウェハを加工して形成されたものである。
【００１６】
本実施の形態では、一対の支持部４３は、平面視において、可動部４２を挟んで対向するように配置されている。つまり、一対の支持部４３は弾性変形可能な一軸を形成しており、一軸の回りに可動部４２が図１（ａ）の矢印方向に揺動自在な状態で支持されている。このように、可動部４２は、所定の軸（一軸）に対して揺動自在に支持されている光走査部である。
【００１７】
なお、平面視とは、図１（ｂ）に示すように、可動部４２が駆動されていない状態で（可動部４２が固定部４１と略同一平面に位置する状態で）、可動部４２の上面（筐体２０の平板部２１と対向しない側の面）に対して垂直な方向から視ることをいう。
【００１８】
可動部４２の上面は、走査面（反射ミラー）を形成している。光走査装置１０の外部に配置された図示しない光源から可動部４２の上面（走査面）に照射された光は、励振部３０に駆動されて可動部４２が揺動することにより所定方向に走査される。可動部４２の上面（走査面）には、アルミニウム（Ａｌ）や金（Ａｕ）等の反射率の高い金属膜が形成されていてもよい。可動部４２の上面（走査面）は、例えば、平坦面とすることができる。
【００１９】
なお、図１（ｂ）の例では可動部４２の平面形状を矩形状としているが、これには限定されず、可動部４２の平面形状は、例えば、円形状や楕円形状、多角形状等の任意の形状として構わない。又、可動部４２は、必ずしも一軸で駆動されるものでなくてもよく、２軸等の複数の軸に対して駆動されるものであってもよい
可動部４２は、所定の共振周波数ｆｃを有する。可動部４２の共振周波数ｆｃは、一対の支持部４３の硬さや可動部４２の質量等により決定される。励振部３０は、可動部４２を共振周波数ｆｃで駆動可能に構成されている。つまり、駆動周波数ｆｄ＝共振周波数ｆｃである。
【００２０】
但し、駆動周波数ｆｄと共振周波数ｆｃとは厳密に一致していなくてもよく、本発明の所定の効果を奏する範囲内であれば（全ての可動部が所望の振幅以上で揺動可能に調整されていれば）、多少ずれていてもよい。本願では、本発明の所定の効果を奏する範囲内で駆動周波数ｆｄと共振周波数ｆｃとがずれている場合も、駆動周波数ｆｄと共振周波数ｆｃとが一致している（等しい）と表現するものとする。
【００２１】
このように、励振部３０が、可動部４２の共振周波数ｆｃと等しい駆動周波数ｆｄで可動部４２を駆動することにより、少ないエネルギーで所望の振幅を得ることができる。換言すれば、小さな駆動力で広範囲（広角度）を走査できる。
【００２２】
［光走査装置の製造方法］
次に、光走査装置の製造方法について、可動部４２の共振周波数の調整方法を中心に説明する。図２〜図４は、第１の実施の形態に係る光走査装置の製造工程を例示する図であり、図１（ａ）又は図１（ｂ）に対応する図である。
【００２３】
まず、図２（ａ）に示す工程では、個片化されると光走査装置１０（図１参照）となる複数の領域を有する構造体を作製する。図２（ａ）に示す構造体は、例えば、周知のＭＥＭＳ技術等を用いて形成できる。図２（ａ）に示す構造体における光走査装置１０となる複数の領域の数は特に限定されないが、例えば、数１０〜数１００個程度とすることができる。
【００２４】
なお、図２（ａ）に示す工程では、個片化されると光走査装置１０となる複数の領域において、各々の可動部４２の共振周波数ｆｃが励振部３０による駆動信号の駆動周波数ｆｄよりも高くなるように構造体を作製しておく。つまり、この時点では、全ての可動部４２において、共振周波数ｆｃ＞駆動周波数ｆｄである。
【００２５】
但し、各々の可動部４２の共振周波数ｆｃは、加工精度のばらつき等により完全には一致せず、共振周波数ｆｃ＞駆動周波数ｆｄの範囲内において、比較的共振周波数が高い可動部４２や比較的共振周波数が低い（駆動周波数ｆｄに近い）可動部４２が混在している。
【００２６】
次に、図２（ｂ）及び図２（ｃ）に示す工程では、図２（ａ）に示す工程で作製した構造体の各々の領域に形成された各々の可動部４２と対向するようにマスク１００を配置する。なお、便宜上、図２（ｃ）において、マスク１００を梨地模様で示している。
【００２７】
マスク１００には、例えば、平面形状が矩形状の開口部１００ｘが複数個設けられている。より詳しくは、開口部１００ｘは、可動部４２が所定の振幅以上の場合には後述の蒸着源１１０側から視て可動部４２が開口部１００ｘ内に露出せず、可動部４２が所定の振幅未満の場合には後述の蒸着源１１０側から視て可動部４２の一部が開口部１００ｘ内に露出するようにマスク１００に設けられている。なお、マスク１００は、本発明に係る遮蔽板の代表的な一例である。
【００２８】
所定の振幅は、設計都合により適宜決定できるが、例えば、所望の振幅（共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなった場合の振幅）の半分の振幅とすることができる。この場合、所望の振幅の半分の振幅以上の場合には可動部４２が開口部１００ｘ内に露出せず、所望の振幅の半分の振幅未満の場合には可動部４２の一部が開口部１００ｘ内に露出することになる。
【００２９】
図２（ｂ）及び図２（ｃ）の場合には、開口部１００ｘ内に露出する可動部４２の一部は、一対の支持部４３が形成する軸に対して直交する方向の可動部４２の両端部である。図２（ｂ）及び図２（ｃ）に示す工程では、可動部４２が駆動されていない状態なので、可動部４２は当然に所定の振幅未満であるため、可動部４２の両端部が開口部１００ｘ内に露出している。
【００３０】
次に、図３（ａ）に示す工程では、マスク１００を介して各々の可動部４２と対向するように、各々の可動部４２の質量を増加させることが可能な蒸着源１１０を配置する。蒸着源１１０としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等を用いることができる。なお、蒸着源１１０は、本発明に係る質量増加手段の代表的な一例である。質量増加手段の他の例としては、スパッタ等を挙げることができる。
【００３１】
次に、図３（ｂ）に示す工程では、励振部３０により各々の可動部４２を駆動周波数ｆｄで駆動して揺動させると共に、開口部１００ｘを介して各々の可動部４２の方向に蒸着源１１０から蒸着物（照射物）を照射し、所定の可動部４２の上面に製膜する。なお、図３（ｂ）では、各可動部４２が実線の位置（初期状態）と破線の位置との間で揺動している様子を示している（以降の図においても同様）。
【００３２】
前述のように、各々の可動部４２の共振周波数ｆｃは励振部３０による駆動周波数ｆｄよりも高くなるように形成されているが、各々の共振周波数ｆｃは加工精度のばらつき等により若干異なる値となっている。すなわち、共振周波数ｆｃ＞駆動周波数ｆｄの範囲内において、共振周波数ｆｃが駆動周波数ｆｄと比較的近い可動部４２も存在すれば、共振周波数ｆｃが駆動周波数ｆｄから比較的遠い可動部４２も存在する。
【００３３】
共振周波数ｆｃが駆動周波数ｆｄと比較的近い可動部４２は、図３（ｂ）左側の可動部４２のように、比較的大きな振幅で揺動する。一方、共振周波数ｆｃが駆動周波数ｆｄから比較的遠い可動部４２は、図３（ｂ）右側の可動部４２のように、比較的小さな振幅で揺動する。
【００３４】
これにより、図４（ａ）に示す工程のように、比較的大きな振幅で揺動しておりマスク１００の開口部１００ｘから両端部が露出している期間が短い図４（ａ）左側の可動部４２の上面の両端部には蒸着物１１０ａが製膜され難い。一方、比較的小さな振幅で揺動しておりマスク１００の開口部１００ｘから両端部が露出している期間が長い図４（ａ）右側の可動部４２の上面の両端部には蒸着物１１０ａが製膜され易い。
【００３５】
図４（ａ）右側の可動部４２において、上面の両端部に蒸着物１１０ａが製膜されるにつれて可動部４２の質量が増加するため、共振周波数ｆｃが低下し駆動周波数ｆｄに徐々に近づいてくる。その結果、図４（ａ）右側の可動部４２の振幅は大きくなって蒸着物１１０ａが製膜され難くなり、やがて共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなる。
【００３６】
図４（ｂ）左側の可動部４２は、比較的大きな振幅で揺動しているため蒸着物１１０ａが製膜され難いが、図４（ａ）右側の可動部４２と比べて僅かずつ蒸着物１１０ａが製膜され、やがて共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなる。このようにして、一定時間経過後には、全ての可動部４２において、共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなる。すなわち、全ての可動部４２が駆動周波数ｆｄで駆動されて所望の振幅で揺動するようになる。
【００３７】
なお、蒸着物１１０ａがアルミニウム（Ａｌ）等の反射率の高い金属等であれば、蒸着物１１０ａが付着する各可動部４２の両端部も光の走査に使用することは可能であるが、蒸着物１１０ａが付着する各可動部４２の両端部を光の走査には使用しないような設計としてもよい。
【００３８】
次に、図４（ｂ）に示す工程では、全ての可動部４２において共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなった後に、各可動部４２の駆動及び蒸着物１１０ａの蒸着を停止し、切断線Ｃに沿ってダイサー等により切断する。これにより、図１に示す光走査装置１０が複数個製造される。
【００３９】
なお、各可動部４２の駆動及び蒸着物１１０ａの蒸着を停止するタイミングは、例えば、実験的に求めることができる。例えば、図２（ａ）に示す工程において作製される各可動部４２の共振周波数ｆｃのばらつきの最大値を取得する。又、各可動部４２の共振周波数ｆｃのばらつきが最大である場合に、図４（ａ）に示す工程において全ての可動部４２において、共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなる時間のデータを取得する。取得した時間を各可動部４２の駆動及び蒸着物１１０ａの蒸着を継続する時間とし、その時間を経過後各可動部４２の駆動及び蒸着物１１０ａの蒸着を停止すればよい。
【００４０】
このように、第１の実施の形態では、各々の可動部４２の共振周波数ｆｃを予め励振部３０の駆動周波数ｆｄよりも高めに設定し、各々の可動部４２を駆動周波数ｆｄで揺動させる。そして、所定の振幅未満の場合に可動部４２の一部が露出するように開口部１００ｘが設けられたマスク１００を介して、蒸着源１１０から蒸着物１１０ａを各々の可動部４２側に照射する。
【００４１】
その結果、所定の振幅未満の可動部４２に優先的に蒸着物１１０ａが製膜されて可動部４２の質量が増加し、共振周波数ｆｃが低下して駆動周波数ｆｄに徐々に近づいてくる。そして、一定時間経過後には、全ての可動部４２において、共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなり、全ての可動部４２が所望の振幅で揺動するようになる。つまり、各々の可動部４２を所望の振幅に一括調整できる。
【００４２】
〈第１の実施の形態の変形例〉
第１の実施の形態では、各可動部４２に質量を付与することで共振周波数ｆｃを調整する例を示したが、第１の実施の形態の変形例では、各可動部４２から質量を除去することで共振周波数ｆｃを調整する例を示す。なお、第１の実施の形態の変形例において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
【００４３】
まず、第１の実施の形態の図２（ａ）に示す工程において、個片化されると光走査装置１０（図１参照）となる複数の領域を有する構造体を作製する。但し、本実施の形態では、個片化されると光走査装置１０となる複数の領域において、各々の可動部４２の共振周波数ｆｃが励振部３０による駆動信号の駆動周波数ｆｄよりも低くなるように構造体を作製しておく。つまり、この時点では、全ての可動部４２において、共振周波数ｆｃ＜駆動周波数ｆｄである。
【００４４】
次に、第１の実施の形態の図２（ｂ）及び図２（ｃ）と同様の工程を実行後、第１の実施の形態の図３（ａ）に示す工程において、蒸着源１１０に代えて、イオンミリングやエッチング等の質量減少手段１１５（図５（ａ）参照）を準備する。そして、第１の実施の形態の図３（ｂ）に示す工程では、励振部３０により各々の可動部４２を駆動周波数ｆｄで駆動して揺動させると共に、開口部１００ｘを介して各々の可動部４２の方向に質量減少手段１１５から照射物を照射して所定の可動部４２の上面に衝突させ、所定の可動部４２の上面を部分的に除去する。
【００４５】
共振周波数ｆｃが駆動周波数ｆｄと比較的近い可動部４２は、第１の実施の形態の図３（ｂ）左側の可動部４２のように、比較的大きな振幅で揺動する。一方、共振周波数ｆｃが駆動周波数ｆｄから比較的遠い可動部４２は、第１の実施の形態の図３（ｂ）右側の可動部４２のように、比較的小さな振幅で揺動する。
【００４６】
これにより、図５（ａ）に示す工程のように、比較的大きな振幅で揺動しておりマスク１００の開口部１００ｘから両端部が露出している期間が短い図５（ａ）左側の可動部４２の上面の両端部は除去され難い。一方、比較的小さな振幅で揺動しておりマスク１００の開口部１００ｘから両端部が露出している期間が長い図５（ａ）右側の可動部４２の上面の両端部は除去されて凹部１１５ａが形成され易い。
【００４７】
図５（ａ）右側の可動部４２において、上面の両端部に凹部１１５ａが形成されるにつれて可動部４２の質量が減少するため、共振周波数ｆｃが上昇し駆動周波数ｆｄに徐々に近づいてくる。その結果、図５（ａ）右側の可動部４２の振幅は大きくなって凹部１１５ａが形成され難くなり、やがて共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなる。
【００４８】
図５（ｂ）左側の可動部４２は、比較的大きな振幅で揺動しているため凹部１１５ａが形成され難いが、図５（ａ）右側の可動部４２と比べて僅かずつ凹部１１５ａが形成され、やがて共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなる。このようにして、一定時間経過後には、全ての可動部４２において、共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなる。すなわち、全ての可動部４２が駆動周波数ｆｄが駆動されて大きな振幅で揺動するようになる。
【００４９】
なお、凹部１１５ａが形成された各可動部４２の両端部も光の走査に使用することは可能であるが、平坦度が低下しているため、凹部１１５ａが形成された各可動部４２の両端部を光の走査には使用しないような設計としてもよい。
【００５０】
次に、第１の実施の形態の図４（ｂ）に示す工程と同様にして、全ての可動部４２において共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなった後に、各可動部４２の駆動及び質量減少手段１１５による照射を停止し、切断線Ｃに沿ってダイサー等により切断する。これにより、図１に示す光走査装置１０が複数個製造される。
【００５１】
このように、第１の実施の形態の変形例では、各々の可動部４２の共振周波数ｆｃを予め励振部３０の駆動周波数ｆｄよりも低めに設定し、各々の可動部４２を駆動周波数ｆｄで揺動させる。そして、所定の振幅未満の場合に可動部４２の一部が露出するように開口部１００ｘが設けられたマスク１００を介して、質量減少手段１１５から照射物を各々の可動部４２側に照射する。
【００５２】
その結果、所定の振幅未満の可動部４２に優先的に照射物が照射されて可動部４２の上面の両端部に部分的に凹部１１５ａが形成さて可動部４２の質量が減少し、共振周波数ｆｃが上昇して駆動周波数ｆｄに徐々に近づいてくる。そして、一定時間経過後には、全ての可動部４２において、共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなり、全ての可動部４２が所望の振幅で揺動するようになる。つまり、各々の可動部４２を所望の振幅に一括調整できる。
【００５３】
〈第２の実施の形態〉
第２の実施の形態では、第１の実施の形態よりも更に精度よく共振周波数ｆｃを調整する例を示す。なお、第２の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
【００５４】
本実施の形態では、図６に示すように、マスク１００に開閉部１２０が追加されている。開閉部１２０は、マスク１００に設けられた開口部１００ｘを所定のタイミングで開閉可能に構成されている。図６（ａ）は、開閉部１２０が完全に閉じて、開口部１００ｘが全て遮蔽された状態を示している。又、図６（ｂ）は、開閉部１２０が完全に開いて、開口部１００ｘが全て露出された状態を示している。
【００５５】
ここで、図７〜図１０を参照しながら、開閉部１２０が開閉するタイミングについて詳細に説明する。図７及び図８は、可動部４２の共振周波数ｆｃが励振部３０の駆動周波数ｆｄよりも高い場合の動作について説明する図である。図７は、励振部の変位と可動部の変位と開閉部の開閉タイミングとの関係を例示する図（その１）であり、図８（ａ）〜（ｄ）は、各々図７の期間（ａ）〜（ｄ）の各タイミングにおける動作を示す断面図である。
【００５６】
図７において、Ｐは励振部３０の変位を、Ｑは可動部４２の変位を、Ｒは開閉部１２０が少しでも開いている（開口部１００ｘが少しでも露出している）タイミングを示している。換言すれば、Ｒ以外のタイミングでは、開閉部１２０が閉じて開口部１００ｘは完全に遮蔽されている。図７に示すように、開閉部１２０は、励振部３０の変位Ｐ（駆動信号）の位相９０度付近（駆動信号がゼロクロスするタイミング）で全開するように動作する。
【００５７】
図７に示すように、可動部４２の共振周波数ｆｃが励振部３０の駆動周波数ｆｄよりも高くなっている場合には、可動部４２が十分に揺動せず、励振部３０の変位Ｐ（駆動信号）と可動部４２の変位Ｑとは略同位相となる。
【００５８】
つまり、図８（ａ）に示すように、可動部４２の振幅が一方の側の最大になったときには、開閉部１２０が閉じているので、可動部４２の上面の両端部が平面視において開口部１００ｘと重複する位置にあったとしても蒸着はされない。図８（ｂ）に示すように、可動部４２の振幅が最小になったときには、開閉部１２０が開いているので、開口部１００ｘ内に露出している可動部４２の上面の両端部が蒸着される。
【００５９】
同様に、図８（ｃ）に示すように、可動部４２の振幅が他方の側の最大になったときには、開閉部１２０が閉じているので、可動部４２の上面の両端部が平面視において開口部１００ｘと重複する位置にあったとしても蒸着はされない。図８（ｄ）に示すように、可動部４２の振幅が最小になったときには、開閉部１２０が開いているので、開口部１００ｘ内に露出している可動部４２の上面の両端部が蒸着される。
【００６０】
可動部４２の上面の両端部に蒸着物１１０ａが製膜されるにつれて可動部４２の質量が増加するため、共振周波数ｆｃが低下し駆動周波数ｆｄに徐々に近づいてくる。その結果、可動部４２の振幅は大きくなって蒸着物１１０ａが製膜され難くなり、やがて共振周波数ｆｃ＝駆動周波数ｆｄとなり、図９及び図１０に示すように動作する。
【００６１】
図９及び図１０は、可動部４２の共振周波数ｆｃが励振部３０の駆動周波数ｆｄと等しくなった場合の動作について説明する図である。図９は、励振部の変位と可動部の変位と開閉部の開閉タイミングとの関係を例示する図（その２）であり、図１０（ｅ）〜（ｈ）は、各々図９の期間（ｅ）〜（ｈ）の各タイミングにおける動作を示す断面図である。
【００６２】
図９において、図７と同様に、Ｐは励振部３０の変位を、Ｑは可動部４２の変位を、Ｒは開閉部１２０が少しでも開いている（開口部１００ｘが少しでも露出している）タイミングを示している。図９に示すように、可動部４２の共振周波数ｆｃが励振部３０の駆動周波数ｆｄと等しくなった場合には、可動部４２が十分に揺動し、励振部３０の変位Ｐ（駆動信号）と可動部４２の変位Ｑとは略９０度ずれた位相となる。
【００６３】
つまり、図１０（ｅ）に示すように、可動部４２の振幅が最小になったときでも、開閉部１２０が閉じているので、可動部４２の上面の両端部が平面視において開口部１００ｘと重複する位置にあったとしても蒸着はされない。図１０（ｆ）に示すように、可動部４２の振幅が一方の側の最大になったときには、開閉部１２０が開いていても、可動部４２の上面の両端部が開口部１００ｘ内に露出しないため蒸着されない。
【００６４】
同様に、図１０（ｇ）に示すように、可動部４２の振幅が最小になったときでも、開閉部１２０が閉じているので、可動部４２の上面の両端部が平面視において開口部１００ｘと重複する位置にあったとしても蒸着はされない。図１０（ｈ）に示すように、可動部４２の振幅が他方の側の最大になったときには、開閉部１２０が開いていても、可動部４２の上面の両端部が開口部１００ｘ内に露出しないため蒸着されない。
【００６５】
このように、第２の実施の形態では、マスク１００に開閉部１２０を追加し、励振部３０の変位Ｐ（駆動信号）がゼロクロスするタイミングで開閉部１２０が全開となるように制御する。これにより、可動部４２の共振周波数ｆｃが励振部３０の駆動周波数ｆｄと一致せずに小さな振幅で揺動している場合には開閉部１２０が全開となるタイミングで可動部４２の上面の両端部に蒸着物１１０ａが製膜されるが、可動部４２の共振周波数ｆｃが励振部３０の駆動周波数ｆｄと等しくなった場合には開閉部１２０が全開となるタイミングでも蒸着物１１０ａが製膜されない。その結果、第１の実施の形態よりも更に精度よく共振周波数ｆｃを調整することができる（第１の実施の形態よりも更に精度よく共振周波数ｆｃを駆動周波数ｆｄと一致させることができる）。
【００６６】
以上、本発明の好ましい実施の形態及び変形例について詳説したが、本発明は、上述した実施の形態及び変形例に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態及び変形例に種々の変形及び置換を加えることができる。
【００６７】
例えば、各実施の形態及びその変形例は、適宜組み合わせることができる。又、本発明は、複数の可動部（光走査部）を備えた光走査装置にも適用可能である。
【符号の説明】
【００６８】
１０  光走査装置
２０  筐体
２１  平板部
２２  枠部
３０  励振部
４０  基板
４１  固定部
４２  可動部
４３  支持部
１００  マスク
１００ｘ  開口部
１１０  蒸着源
１１０ａ  蒸着物
１１５  質量減少手段
１１５ａ  凹部
１２０  開閉部
Ｐ  励振部の変位
Ｑ  可動部  の変位
Ｒ  開閉部が開くタイミング
【図１】
2014115523.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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