(57)【要約】  【課題】  高精度の印刷が可能でかつ連続印刷性能に優れるオフセット印刷用ブランケットを提供する。  【解決手段】  本発明は、基材フィルム２に表面印刷層３を積層して成り、表面印刷層３を、イオン液体を添加して一次加硫後に一次加硫時の温度より高温で二次加硫したシリコーンゴムにて構成し、シリコーンゴムが１０ｋＶの静電気をチャージした後、その帯電圧が５ｋＶになる半減期が５秒以内の帯電防止能を有するオフセット印刷用ブランケット１およびその製造方法に関する。【選択図】図１
2014065272.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムに表面印刷層を積層して成り、
上記表面印刷層を、イオン液体を添加して一次加硫後に一次加硫時の温度より高温で二次加硫したシリコーンゴムにて構成し、
上記シリコーンゴムは、１０ｋＶの静電気をチャージした後、その帯電圧が５ｋＶになる半減期が５秒以内の帯電防止能を有することを特徴とするオフセット印刷用ブランケット。
【請求項２】
前記イオン液体は、ピリジニウム系イオン液体、脂肪族系イオン液体またはホスホニウム系イオン液体であることを特徴とする請求項１に記載のオフセット印刷用ブランケット。
【請求項３】
前記イオン液体は、それを含まないシリコーンゴム材料１００質量部に対して、１質量部以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のオフセット印刷用ブランケット。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のオフセット印刷用ブランケットを製造する方法であって、
未硬化状態のシリコーンゴム材料にイオン液体を添加するイオン液体添加工程と、
上記イオン液体添加工程後のシリコーンゴム材料を一次加硫して成形を行う一次加硫工程と、
上記一次加硫後の成形物を、一次加硫時の温度より高温にて二次加硫して表面印刷層を製造する二次加硫工程と、
基材フィルムと上記表面印刷層とを積層して貼り合せる積層工程と、
を含むオフセット印刷用ブランケットの製造方法。
【請求項５】
前記イオン液体は、ピリジニウム系イオン液体、脂肪族系イオン液体またはホスホニウム系イオン液体であることを特徴とする請求項４に記載のオフセット印刷用ブランケットの製造方法。
【請求項６】
前記イオン液体は、それを含まない前記シリコーンゴム材料１００質量部に対して、１質量部以下であることを特徴とする請求項４または請求項５に記載のオフセット印刷用ブランケットの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オフセット印刷用のブランケットおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
オフセット印刷は、印刷イメージが形成されている版と紙等の被印刷物とを接触させないで印刷を行う印刷技法をいう。オフセット印刷では、インクロール（版）からのインクを、一旦、ブランケットと称する転写体に転写した後、ブランケットから被印刷物に印刷を行う。オフセット印刷は、一度に同一印刷物を大量に生産できることから、従来から新聞や雑誌等の紙媒体への印刷に汎用的に用いられてきたが、比較的高精度な印刷が可能なことから、近年では、それに加えて、電子部品等の分野にも拡がっている。
【０００３】
ブランケットは、基材に印刷層を積層した構造を有し、版からのインクを当該印刷層で受ける機能を有する。近年広がりを見せてきている電子部品用分野で使用される主なブランケットは、ポリエチレンテレフタレート製の基材フィルム上に、均一な厚みのシリコーンゴムを積層した構造を有する。インクの受理と転写とを繰り返すオフセット印刷用ブランケットは、版および被印刷物と接触するために帯電し、その結果、インクの受理および転写に悪影響を及ぼす場合がある。このような帯電を防止する手段として、シリコーンゴム中にイオン導電性帯電防止剤を混合する方法が知られている（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−０５６７５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記従来のオフセット印刷用ブランケットは、次のような解決すべき課題を有する。従来のオフセット印刷用ブランケットは、シリコーンゴム中に多くの低分子シロキサンや遊離シリコーンオイル（「低分子シロキサン等」という。）を有し、シロキサンの架橋反応が十分に進行していないため、ブランケットの印刷層として要求される機械的特性や化学的特性等に代表される物性が不十分である。その結果、印刷初期から長期に亘って安定して良好な印刷を担保できない。また、シリコーンゴムは帯電し易いことから版および被印刷物と接触する際に帯電し、これが原因となりインクを被印刷物に転写すると、印刷形状に細いヒゲ状突起が発生し、リーク等の品質に問題が生じることがあり、良好な印刷を担保できなくなる。
【０００６】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、高精度の印刷が可能でかつ連続印刷性能に優れるオフセット印刷用ブランケットを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明の一形態は、基材フィルムに表面印刷層を積層して成り、その表面印刷層を、イオン液体を添加して一次加硫後に一次加硫時の温度より高温で二次加硫したシリコーンゴムにて構成し、シリコーンゴムが、１０ｋＶの静電気をチャージした後、その帯電圧が５ｋＶになる半減期が５秒以内の帯電防止能を有するオフセット印刷用ブランケットである。
【０００８】
本発明の別の形態は、さらに、イオン液体を、ピリジニウム系イオン液体、脂肪族系イオン液体またはホスホニウム系イオン液体としたオフセット印刷用ブランケットである。
【０００９】
本発明の別の形態は、また、イオン液体の添加量を、それを含まないシリコーンゴム材料１００質量部に対して１質量部以下としたオフセット印刷用ブランケットである。
【００１０】
本発明の一形態は、上述のオフセット印刷用ブランケットを製造する方法であって、未硬化状態のシリコーンゴム材料にイオン液体を添加するイオン液体添加工程と、イオン液体添加工程後のシリコーンゴム材料を一次加硫して成形を行う一次加硫工程と、一次加硫後の成形物を、一次加硫時の温度より高温にて二次加硫して表面印刷層を製造する二次加硫工程と、基材フィルムと表面印刷層とを積層して貼り合せる積層工程と、を含むオフセット印刷用ブランケットの製造方法である。
【００１１】
本発明の別の形態は、さらに、イオン液体を、ピリジニウム系イオン液体、脂肪族系イオン液体またはホスホニウム系イオン液体としたオフセット印刷用ブランケットの製造方法である。
【００１２】
本発明の別の形態は、また、イオン液体の添加量を、それを含まないシリコーンゴム材料１００質量部に対して１質量部以下としたオフセット印刷用ブランケットの製造方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、高精度の印刷および優れた連続印刷性を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の実施の形態に係るオフセット印刷用ブランケットの断面図を示す。
【図２】図２は、図１に示すオフセット印刷用ブランケットの製造工程の一例を示す。
【図３】図３は、実施例１の条件で作製したオフセット印刷用ブランケットを用いて印刷した細線の拡大図（３Ａ）と、比較例２の条件で作製したオフセット印刷用ブランケットを用いて印刷した細線の拡大図（３Ｂ）とを比較して示す。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
次に、本発明に係るオフセット印刷用ブランケットおよびその製造方法の好適な実施の形態について説明する。
【００１６】
１．オフセット印刷用ブランケットの構成
図１は、本発明の実施の形態に係るオフセット印刷用ブランケットの断面図を示す。
【００１７】
図１に示すように、本発明の実施の形態に係るオフセット印刷用ブランケット１は、基材フィルム２に、表面印刷層３を積層して成る。以下、基材フィルム２と表面印刷層３について説明する。
【００１８】
（１）基材フィルム
オフセット印刷用ブランケット１を構成する基材フィルム２は、樹脂製のフィルムであって、好適にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）あるいはポリイミド（ＰＩ）から成り、さらに好適には、比較的安価であって均一な厚みを持つフィルムが得られる材料の一つであるＰＥＴから成る。基材フィルム２の厚みは、好適には５０〜４００μｍであり、さらに好適には１５０〜３００μｍである。
【００１９】
（２）表面印刷層
オフセット印刷用ブランケット１を構成する表面印刷層３は、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）を主骨格とするシリコーンゴムから主に構成され、未硬化状態にあるシリコーンゴム材料を架橋して成る。ここで、シリコーンゴム材料は、シリコーンのみを重合させたものの他、シリコーンと有機モノマーとを共重合させたシリコーン変性ポリマーをも含むように広義に解釈される。また、シリコーンゴム材料は、イオン液体の割合の基準として論ずる場合において、加硫剤を添加する必要のある場合でも、加硫剤を含まない意味に解釈される。表面印刷層３は、シリコーンゴム材料を一次加硫後に、一次加硫時の温度より高温にて二次加硫を行って製造される。また、シリコーンゴム材料には、別途、イオン液体が混合される。この結果、シリコーンゴム製の表面印刷層３は、１０ｋＶの静電気をチャージした後、その帯電圧が５ｋＶになる半減期が５秒以内の帯電防止能を有する。
【００２０】
イオン液体としては、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオン、ピロリジニウムイオン、イミダゾリウムイオン、グアニジニウムイオン、アンモニウムイオン、イソウロニウムイオン、チオウロニウムイオン、ピペリジニウムイオン、ピラゾリウムイオン、スルホニウムイオンなどに代表されるカチオン成分と、ハロゲンイオン、硝酸イオン、硫酸イオン、燐酸イオン、過塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、チオ硫酸イオン、亜硫酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ギ酸イオン、シュウ酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、アルキルスルホン酸イオンなどに代表されるアニオン成分と、を有するものを例示できる。その中でも、特に、カチオン成分がピリジニウム系、脂肪族系またはホスホニウム系のものをより好適に用いることができる。
【００２１】
ピリジニウム系イオン液体は、式（Ｉ）の一般構造式にて示される。式（Ｉ）中のＲ１およびＲ２は、水素、炭化水素含有基またはアルキル基であり、互いに同一か否かを問わない。式（Ｉ）中のＸ−は、Ｂｒ−、Ｃｌ−、Ｉ−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、Ｂ（Ｃ２Ｏ４）２−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＦ３ＣＯＯ−、ＣＨ３ＳＯ４−、Ｃ６Ｈ４ＣＨ３ＳＯ３−、ＳＣＮ−、〔Ｐ（Ｃ２Ｆ５）３Ｆ３〕−、〔Ｂ（ＣＮ）４〕−、（ＮＣ）２Ｎ−、ＦｅＣｌ４−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−、ＣＨ３ＣＨ２ＯＳＯ３−、ＣＨ３（ＯＣＨ２ＣＨ２）２ＯＳＯ３−、（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ−、ＡｌＣｌ４−、Ｃ（ＣＮ）３−などのアニオンである。ピリジニウム系イオン液体としては、１−ブチル−３−メチルピリジニウムブロミド、１−ブチル−４−メチルピリジニウムブロミド、１−ブチル−３−メチルピリジニウムクロリド、１−ブチル−４−メチルピリジニウムクロリド、１−ブチル−４−メチルピリジニウムヘキサフルオロホスファート、１−ブチルピリジニウムブロミド、１−ブチルピリジニウムクロリド、１−ブチルピリジニウムヘキサフルオロホスファート、１−ブチルピリジニウムテトラフルオロボラート、１−エチル−３−（ヒドロキシメチル）ピリジニウムエチルスルファート、１−エチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチルピリジニウムエチルスルファート、１−エチルピリジニウムブロミド、１−エチルピリジニウムクロリドなどを例示できる。
【００２２】
【化１】
2014065272.tif 000003
【００２３】
脂肪族系イオン液体は、式（ＩＩ）の一般構造式にて示される。式（ＩＩ）中のＲ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、水素、炭化水素含有基またはアルキル基であり、互いに同一か否かを問わない。式（ＩＩ）中のＸ−は、前述の式（Ｉ）中のＸ−と同様のアニオンである。脂肪族系イオン液体としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラメチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルプロピルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルブチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルペンチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルヘキシルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルヘプチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルオクチルアンモニウム、トリメチルオクチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルデシルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルドデシルアンモニウム、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアンモニウム、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルブチルアンモニウム、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキシルアンモニウム、２−メトキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエチルアンモニウム、２−エトキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエチルアンモニウム、２−プロポキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエチルアンモニウム、Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアンモニウム、Ｎ−（２−メトキシエチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルブチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−プロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルピペリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムテトラフルオロホウ酸塩などを例示できる。
【００２４】
【化２】
2014065272.tif 000004
【００２５】
ホスホニウム系イオン液体は、式（ＩＩＩ）の一般構造式にて示される。式（ＩＩＩ）中のＲ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、水素、炭化水素含有基またはアルキル基であり、互いに同一か否かを問わない。式（ＩＩＩ）中のＸ−は、前述の式（Ｉ）中のＸ−と同様のアニオンである。ホスホニウム系イオン液体としては、トリブチルメチルホスホニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニウムイミド、トリエチルオクチルホスホニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニウムイミド、トリプロピルオクチルホスホニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニウムイミド、トリブチルオクチルホスホニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニウムイミド、トリブチルドデシルホスホニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニウムイミド、テトラブチルホスホニウムメチル硫酸塩、テトラブチルホスホニウムニトラート、テトラブチルメチルホスホニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニウムイミド、テトラブチルホスホニウム＝ビストリフルオロメタンスルホニウムイミド、テトラブチルホスホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムビス（２，２，４−トリメチルペンチル）次亜燐酸塩、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムブロマイド、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムクロライド、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムデカン酸塩、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムジシアナミド、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリヘキシルテトラデシルホスホニウムテトラフルオロボレートなどを例示できる。
【００２６】
【化３】
2014065272.tif 000005
【００２７】
イオン液体の添加量としては、イオン液体あるいはシリコーンゴム材料の種類によっても変動するが、イオン液体そのものを除くシリコーンゴム材料（加硫剤を要する場合には加硫剤を含まない）１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．１〜３質量部がさらに好ましく、０．２〜１質量部がより好ましい。イオン液体をシリコーンゴム材料１００質量部に対して１質量部以下にすると、表面印刷層３の機械的強度を低下させずに帯電防止能を付与することができる。
【００２８】
表面印刷層３は、シリコーンゴム材料とイオン液体との混合物を８０℃以上の温度にて一次加硫して硬化させ、その後、一次加硫時の温度より高温にて二次加硫した層である。一次加硫時の温度は、シリコーンゴム材料の種類や加硫剤の種類などに応じて適宜変動するが、少なくとも８０℃以上であって、特に好適には８０〜２００℃、さらに好適には１２０〜１７０℃である。また、二次加硫時の温度は、一次加硫時の温度より高温であるという前提の下、１００℃以上であって、特に好適には１００〜２２０℃、さらに好適には１５０〜２００℃である。一次加硫は、シリコーンゴム中のシロキサンの架橋を促進させ、二次加硫は、一次加硫時に残った低分子シロキサンを低減するのに、それぞれ有効に寄与する。
【００２９】
均一な厚みを持ったシリコーンゴム製の表面印刷層３を得るためには、ＪＩＳ  Ｋ７１７７に準拠する「単一円筒回転粘度計を用いた粘度測定法」により測定される粘度が２５００Ｐａ・ｓ以下の液状シリコーンゴム材料を用いるのが好ましい。ただし、高圧力をかけることのできるプレス装置やカレンダー装置を用いる場合には、硬化前の状態が天然ゴムあるいは合成ゴムの未加硫状態のものに類似するミラブルゴムを用いても良い。
【００３０】
２．オフセット印刷用ブランケットの製造方法
図２は、図１に示すオフセット印刷用ブランケットの製造工程の一例を示す。
【００３１】
この実施の形態に係るオフセット印刷用ブランケット１の製造工程は、未硬化状態のシリコーンゴム材料にイオン液体を添加するイオン液体添加工程と、イオン液体添加工程後のシリコーンゴム材料を一次加硫して成形を行う一次加硫工程と、一次加硫後の成形物を、一次加硫時の温度より高温にて二次加硫して表面印刷層３を製造する二次加硫工程と、基材フィルム２と二次加硫工程後の表面印刷層３とを積層して貼り合せる積層工程と、を含む。以下、図２を参照しながら、各製造工程を説明する。
【００３２】
まず、未硬化状態のシリコーンゴム材料に、帯電防止剤としてのイオン液体を添加して混合する（ステップ１０１：  イオン液体添加工程）。加硫剤を添加する必要のある場合には、この工程で加硫剤を添加するのが好ましい。イオン液体としては、ピリジニウム系イオン液体、脂肪族系イオン液体あるいはホスホニウム系イオン液体を特に好適に用いることができる。次に、イオン液体添加工程後のシリコーンゴム材料を一次加硫して成形を行う（ステップ１０２：  一次加硫工程）。一次加硫時の加熱温度は、少なくとも８０℃以上であって、特に好適には８０〜２００℃、さらに好適には１２０〜１７０℃である。成形の際には、一般的には金型を用いて行うが、金型を用いずにロール間を通して成形しても良い。次に、一次加硫後の成形物を、一次加硫時の温度より高温にて二次加硫する（ステップ１０３：  二次加硫工程）。二次加硫時の温度は、一次加硫時の温度より高温であるという前提の下、１００℃以上であって、特に好適には１００〜２２０℃、さらに好適には１５０〜２００℃である。二次加硫工程は、低分子シロキサン等の低減を目的に行われ、一般的には、金型を用いずに開放系にて行われる。ただし、金型を用いることもできる。次に、基材フィルム２と二次加硫工程後の表面印刷層３とを積層して貼り合せる（ステップ１０４：  積層工程）。ここで、積層工程に先立ち、予め用意した基材フィルム２および二次加硫後の表面印刷層３の少なくともいずれか一方の貼り合せ面に対して、紫外線、コロナ、プラズマまたはエキシマ光によって表面励起させる改質処理を施すこともできる。また、基材フィルム２および二次加硫後の表面印刷層３の少なくともいずれか一方の貼り合せ面に対して、シランカップリング剤あるいはプライマー等によって改質処理を施しても良い。積層工程では、基材フィルム２と二次加硫後の表面印刷層３を常温にて貼り合せ、あるいは接着剤を介在させて貼り合せることもできる。
【００３３】
３．本実施の形態の作用・効果
以上のように、本実施の形態に係るオフセット印刷用ブランケット１は、基材フィルム２に表面印刷層３を積層して成り、表面印刷層３を、イオン液体を添加して一次加硫後に一次加硫時の温度より高温で二次加硫したシリコーンゴムにて構成して成る。シリコーンゴムは、１０ｋＶの静電気をチャージした後、その帯電圧が５ｋＶになる半減期が５秒以内の帯電防止能を有する。また、そのオフセット印刷用ブランケット１を製造する方法は、未硬化状態のシリコーンゴム材料に、イオン液体を添加するイオン液体添加工程（ステップ  １０１）と、該イオン液体添加工程後のシリコーンゴム材料を一次加硫して成形を行う一次加硫工程（ステップ  １０２）と、一次加硫後の成形物を、一次加硫時の温度より高温にて二次加硫して表面印刷層３を製造する二次加硫工程（ステップ  １０３）と、基材フィルム２と表面印刷層３とを積層して貼り合せる積層工程（ステップ  １０４）と、を含む。上記オフセット印刷用ブランケット１を用いて印刷を行うと、イオン液体をシリコーンゴム材料に混合して形成された表面印刷層３は、優れた帯電防止能を発揮でき、もって、印刷用のインクの受理と、被印刷物へのインクの転写とを精度良く行うことができる。したがって、高精度の印刷が可能となる。加えて、表面印刷層３は、二次加硫によって低分子シロキサン等を低減でき、シロキサンの架橋反応が十分に進行したものになる。このため、表面印刷層３は、要求される機械的特性や化学的特性等に代表される物性に優れ、その結果、印刷初期から長期に亘って安定して良好な印刷を行うことができる。
【００３４】
また、イオン液体として、特に、ピリジニウム系イオン液体、脂肪族系イオン液体またはホスホニウム系イオン液体を用いているので、耐溶剤性などの化学的性質に対して安定であり、長期に亘って安定した印刷が可能である。
【００３５】
特に、イオン液体の添加量を、それを含まないシリコーンゴム材料１００質量部に対して１質量部以下にすることにより、表面印刷層３の機械的強度を低下させずに帯電防止能を付与することができる。
【００３６】
４．その他の実施の形態
以上、本発明のオフセット印刷用ブランケットおよびその製造方法の好適な実施の形態について説明したが、本発明は、それに限定されず、種々変形して実施することができる。
【００３７】
例えば、イオン液体として、ピリジニウム系イオン液体、脂肪族系イオン液体またはホスホニウム系イオン液体以外のものを用いても良く、例えば、イミダゾリウム系、ピロリジニウム系、ピペリジニウム系、スルホニウム系の各イオン液体を用いることもできる。
【実施例】
【００３８】
次に、本発明の実施例について、比較例と比較して説明する。ただし、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００３９】
１．オフセット印刷用ブランケットの製造
（１）実施例
（実施例１）：シリコーンゴム材料＋ピリジニウム系イオン液体の一次・二次加硫化
信越化学工業株式会社製のシリコーンゴム材料（品番：  ＫＥ−１９５０−５０Ａ／Ｂ）１００質量部に、東京化成工業株式会社製のピリジニウム系イオン液体（型番：  Ｅ０７５６、１−エチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド）０．８質量部を添加し、真空脱泡攪拌機を用いて混合した。次に、その混合物を１５０ｔ油圧プレス成形機により、１２０℃にて１０分間保持する条件で一次加硫を行い、厚さ０．４５ｍｍのシリコーンゴムシートを作製した。続いて、得られたシリコーンゴムシートを、２００℃にて２時間保持する条件で二次加硫を行った。次に、二次加硫後のシリコーンゴムシートに、信越化学工業株式会社製の一液型ＲＴＶゴム（品番：  ＫＥ−４５Ｔ）を接着剤として介在させ、東洋紡績株式会社製のＰＥＴフィルム（品番：  コスモシャインＡ４３００、厚さ：  ０．２５ｍｍ）とラミネートした。この結果、総厚０．７ｍｍのブランケットを得た。
（実施例２）：シリコーンゴム材料＋脂肪族系イオン液体の一次・二次加硫化
東京化成工業株式会社製のピリジニウム系イオン液体（品名：  Ｅ０７５６、１−エチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド）０．８質量部に代えて、キシダ化学株式会社製の脂肪族系イオン液体（型番：  ＩＬＤ−７７９７２、トリメチルオクチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド）２．０質量部添加した以外、実施例１と同様の工程にて、総厚０．７ｍｍのブランケットを得た。
（実施例３）：シリコーンゴム材料＋ホスホニウム系イオン液体の一次・二次加硫化
信越化学工業株式会社製のシリコーンゴム用の主剤（品番：  ＫＥ−９５１−Ｕ）１００質量部に、同社製の加硫剤（品番：  Ｃ−８）２．０質量部と、メルク株式会社製のホスホニウム系イオン液体（型番：  ４９０００８、トリヘキシル（テトラデシル）ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド）１．０質量部とを添加し、２本ロールで混練した。次に、その混練物を１５０ｔ油圧プレス成形機により、１７０℃にて５分間保持する条件で一次加硫を行い、厚さ０．４５ｍｍのシリコーンゴムシートを作製した。続いて、得られたシリコーンゴムシートを、２００℃にて２時間保持する条件で二次加硫を行った。その後、実施例１と同様のラミネート工程を経て、総厚０．７ｍｍのブランケットを得た。
【００４０】
（２）比較例
（比較例１）：  シリコーンゴム材料の一次加硫化のみ
信越化学工業株式会社製のシリコーンゴム材料（品番：  ＫＥ−１９５０−５０Ａ／Ｂ）を真空脱泡攪拌機にて攪拌し、それを１５０ｔ油圧プレス成形機により、１２０℃にて１０分間保持する条件で一次加硫を行い、厚さ０．４５ｍｍのシリコーンゴムシートを作製した。次に、一次加硫後のシリコーンゴムシートに、信越化学工業株式会社製の一液型ＲＴＶゴム（品番：  ＫＥ−４５Ｔ）を接着剤として介在させ、東洋紡績株式会社製のＰＥＴフィルム（品番：  コスモシャインＡ４３００、厚さ：  ０．２５ｍｍ）とラミネートした。この結果、総厚０．７ｍｍのブランケットを得た。
（比較例２）：  シリコーンゴム材料の一次・二次加硫化
一次加硫後のシリコーンゴムシートを、２００℃にて２時間保持する条件で二次加硫し、その二次加硫後のシリコーンゴムシートをラミネート処理に供する以外、比較例１と同様の工程にて、総厚０．７ｍｍのブランケットを得た。
（比較例３）：  シリコーンゴム材料＋ピリジニウム系イオン液体の一次加硫化のみ
信越化学工業株式会社製のシリコーンゴム材料（品番：  ＫＥ−１９５０−５０Ａ／Ｂ）１００質量部に、東京化成工業株式会社製のピリジニウム系イオン液体（型番：  Ｅ０７５６、１−エチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド）０．８質量部を添加した以外、比較例１と同様の工程にて、総厚０．７ｍｍのブランケットを得た。
（比較例４）：  シリコーンゴム材料＋脂肪族系イオン液体の一次加硫化のみ
東京化成工業株式会社製のピリジニウム系イオン液体（型番：  Ｅ０７５６、１−エチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド）０．８質量部に代えて、キシダ化学株式会社製の脂肪族系イオン液体（型番：  ＩＬＤ−７７９７２、トリメチルオクチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド）２．０質量部を添加した以外、比較例３と同様の工程にて、総厚０．７ｍｍのブランケットを得た。
（比較例５）：  シリコーンゴム材料＋ホスホニウム系イオン液体の一次加硫化のみ
信越化学工業株式会社製のシリコーンゴム用の主剤（品番：  ＫＥ−９５１−Ｕ）１００質量部に、同社製の加硫剤（品番：  Ｃ−８）２．０質量部と、メルク株式会社製のホスホニウム系イオン液体（型番：  ４９０００８、トリヘキシル（テトラデシル）ホスホニウムビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド）１．０質量部とを添加し、２本ロールで混練した。次に、その混練物を１５０ｔ油圧プレス成形機により、１７０℃にて５分間保持する条件で一次加硫を行い、厚さ０．４５ｍｍのシリコーンゴムシートを作製した。次に、一次加硫後のシリコーンゴムシートを、比較例１と同様のラミネート工程を経て、総厚０．７ｍｍのブランケットを得た。
【００４１】
２．印刷用インクの製造
ウレタンア樹脂１００質量部と、Ａｇ粉末（Ｄ５０値＝約０．５μｍ）９５０質量部と、ブチルカルビトールアセテート１００質量部とを混ぜて、導電ペーストから成るインクを用意した。
３．評価方法
（１）印刷条件および帯電性測定
被印刷体としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のシート（東レ株式会社製、品番：  ルミラーＳ１０）を用いた。帯電性については、ＪＩＳ  Ｌ  １０９４に基づき、シリコーンゴムに１０ｋＶの静電気をチャージし、その帯電圧が５ｋＶになる時間（半減期）を測定した。
（２）印刷形状
印刷形状に細いヒゲ状突起が発生している場合には、「×」と評価した。一方、印刷形状に細いヒゲ状突起が発生していない場合には、「○」と評価した。
（３）連続印刷性（印刷線幅の安定度）
版の線幅を３０μｍとして、最初の印刷時および１００枚印刷後の各線幅が３０±６μｍであれば、それぞれ「○」と評価した。一方、各印刷時に線幅が３０±６μｍを超えて太くなっている場合あるいは細くなっている場合には、「×」と評価した。
【００４２】
４．評価結果
表１に、各実施例および各比較例により製造した各ブランケットを用いてオフセット印刷時の印刷形状、連続印刷性およびシリコーンゴムへの帯電性をそれぞれ評価した結果と、その総合評価とをまとめて示す。総合評価は、全ての項目が合格の場合にのみ、「○」とした。
【００４３】
【表１】
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【００４４】
表１に示すように、シリコーンゴム材料にイオン液体を添加して一次加硫、二次加硫を行って表面印刷層を形成した実施例１〜３のオフセット印刷用ブランケットは、表面印刷層を形成しているシリコーンゴムの半減期が５秒以下であり、かつ連続印刷を行っても印刷精度の低下（印刷線幅の変化）は認められなかった。一方、イオン液体を添加せず、かつシリコーンゴム材料の二次加硫をも行わなかった場合には（比較例１）、半減期が長く、かつ連続印刷を行うと印刷精度の低下（印刷線幅の変化）が認められた。また、イオン液体を添加せず、かつシリコーンゴム材料の二次加硫を行った場合には（比較例２）、帯電していることから印刷形状にヒゲ状の突起が生じて印刷品質の低下が認められた。また、イオン液体を添加し、かつシリコーンゴム材料の二次加硫を行わなかった場合には（比較例３〜５）、半減期が５秒以下であるものの、連続印刷を行うと印刷精度の低下（印刷線幅の変化）が認められた。以上より、半減期を５秒以下と短くし、かつ連続印刷において印刷精度を維持するには、イオン液体の添加と、イオン液体を混ぜたシリコーンゴム材料の一次加硫および二次加硫を行うことが必要であると考えられる。
【００４５】
図３は、実施例１の条件で作製したオフセット印刷用ブランケットを用いて印刷した細線の拡大図（３Ａ）と、比較例２の条件で作製したオフセット印刷用ブランケットを用いて印刷した細線の拡大図（３Ｂ）とを比較して示す。
【００４６】
図３に示すように、イオン液体を混ぜて作製した表面印刷層を有するオフセット印刷用ブランケットを用いて印刷すると、細線を高精度に印刷できた。一方、イオン液体を混ぜない場合には、印刷用インクが本来の印刷部位から飛び出した。このことからも、イオン液体を用いることにより、高精度の印刷が可能であることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明は、オフセット印刷用のブランケットとして利用できる。
【符号の説明】
【００４８】
１    オフセット印刷用ブランケット
２    基材シート
３    表面印刷層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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