(57)【要約】【課題】加熱条件下でガラス物品に対して熱ＣＶＤ法を行うことにより、当該ガラス物品上に透明導電膜を成膜するにあたり、原料ガスの吹き付けによるガラス物品の位置ずれを抑制して原料ガスの吹き付け不良を防止し、ガラス物品の表面に均一な厚さの透明導電膜を形成することを可能とするガラス物品搬送装置を提供する。【解決手段】加熱条件下で載置部１０に載置したガラス物品１に原料ガスを吹き付けて化学気相蒸着（ＣＶＤ）を行いながら搬送するガラス物品搬送装置１００であって、載置部１０は、ガラス物品１より粗い表面粗さに仕上げられている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱条件下で載置部に載置したガラス物品に原料ガスを吹き付けて化学気相蒸着（ＣＶＤ）を行いながら搬送するガラス物品搬送装置であって、
前記載置部は、前記ガラス物品より粗い表面粗さに仕上げられているガラス物品搬送装置。
【請求項２】
前記載置部と前記ガラス物品とが同じ材料で構成されている請求項１に記載のガラス物品搬送装置。
【請求項３】
前記載置部は、１ｍｍ〜１０ｍｍの厚みを有する板状体で構成されている請求項１又は２に記載のガラス物品搬送装置。
【請求項４】
前記載置部の表面粗さは、Ｒａ値で０．１μｍ〜１．０μｍである請求項１〜３の何れか一項に記載のガラス物品搬送装置。
【請求項５】
前記載置部は、再利用可能又は交換可能に構成されている請求項１〜４の何れか一項に記載のガラス物品搬送装置。
【請求項６】
前記載置部は、３０〜７５０℃において、−１０〜１０×１０−７／℃の平均線熱膨張係数を有する結晶化ガラス板で構成されている請求項１〜５の何れか一項に記載のガラス物品搬送装置。
【請求項７】
前記結晶化ガラス板は、主結晶構造としてβ−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を含有する請求項６に記載のガラス物品搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱条件下で載置部に載置したガラス物品に原料ガスを吹き付けて化学気相蒸着（ＣＶＤ）を行いながらガラス物品を搬送するガラス物品搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池パネルや熱線反射ガラスに利用されるガラス物品は、表面に透明導電膜（スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）膜等）を形成している。ガラス物品への透明導電膜の形成（成膜）は、例えば、ＣＶＤ装置を使用し、熱ＣＶＤ法により実施される。
【０００３】
熱ＣＶＤ法では、セッターと呼ばれる載置部に成膜対象のガラス物品を載置し、これをＣＶＤ装置の反応炉に搬送する。反応炉の内部は透明導電膜が結晶可能な温度に加熱されており、この加熱条件下でガラス物品に原料ガスを吹き付けることにより、ガラス物品の表面に透明導電膜の結晶を形成している。
【０００４】
熱ＣＶＤ法によりガラス物品への成膜を行うにあたっては、形成される透明導電膜の膜厚をできるだけ均一にすることが求められている。特に近年は、光学部品等の高性能化に伴い、透明導電膜に許容される膜厚ムラのレベルが大変厳しくなっている。ここで、載置部に載置したガラス物品を加熱する際に、ガラス物品の上面と下面との間に温度差が生じると、ガラス物品に反りが生じ、ガラス物品の表面に均一な厚みの透明導電膜を形成することが困難となる問題があった。
【０００５】
特許文献１の成膜装置では、成膜炉内にベルトコンベアのベルトの一部を支持する底壁面を有しており、底壁面を含む外壁面が加熱される構成となっている。さらに、ベルトは、断面が略楕円の扁平形状に形成された金属線をメッシュ状に編んでいることから、ベルトは成膜炉の底壁面と面接触することとなり、底壁面から効率よくベルトに対して熱が伝達される。その結果、ガラス物品の上面と下面との間に温度差が生じることが抑えられ、ガラス物品の反りを防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−７０３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の成膜装置に使用されるベルトコンベアのベルトは、その構造上、ガラス物品に吹き付けた透明導電膜の原料ガスが成膜炉の底壁面と金属線のメッシュ状のベルトの間に入り込み、吹き付けた原料ガスの圧力でガラス物品に位置ずれを生じさせる可能性がある。ガラス物品に位置ずれが発生すると、ガラス物品の表面に原料ガスを一様に吹き付けることができなくなり、その結果、ガラス物品に形成する透明導電膜に膜厚ムラが生じる虞がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、加熱条件下でガラス物品に対して熱ＣＶＤ法（以下、「ＣＶＤ処理」とする。）を行うことにより、当該ガラス物品上に透明導電膜を成膜するにあたり、原料ガスの吹き付けによるガラス物品の位置ずれを抑制して原料ガスの吹き付け不良を防止し、ガラス物品の表面に均一な厚さの透明導電膜を形成することを可能とするガラス物品搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するための本発明に係るガラス物品搬送装置の特徴構成は、
加熱条件下で載置部に載置したガラス物品に原料ガスを吹き付けて化学気相蒸着（ＣＶＤ）を行いながら搬送するガラス物品搬送装置であって、
前記載置部は、前記ガラス物品より粗い表面粗さに仕上げられていることにある。
【００１０】
本構成のガラス物品搬送装置は、載置部がガラス物品より粗い表面粗さに仕上げられていることから、ガラス物品と載置部との間に一定以上の摩擦力が作用し、ガラス物品は最初に載置部に載置した場所に留まり易い。その結果、ガラス物品に原料ガスが吹き付けられても、ガラス物品の位置ずれが起こり難くなる。従って、本構成のガラス物品搬送装置では、原料ガスの吹き付け不良が防止され、ガラス物品の表面に均一な厚みの膜を形成することが可能となる。
【００１１】
本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部と前記ガラス物品とが同じ材料で構成されていることが好ましい。
【００１２】
ガラス物品とガラス物品を載置する載置部とが異なる材料で構成されている場合、ガラス物品に原料ガスを吹き付けてＣＶＤ処理を行うと、載置部に由来する微細粒子が原料ガスに混入し、形成した膜やガラス物品にコンタミネーションが発生する虞がある。コンタミネーションは、膜やガラス物品の性能や品質を低下させることになる。これに対して、本構成のガラス物品搬送装置は、載置部とガラス物品とが同じ材料で構成されていることから、そもそも微細粒子（ガラス粉）が発生し難い。仮に載置部から微細粒子（ガラス粉）が発生し、これが原料ガスに混入しても、ガラスは熱的及び化学的に安定であるため、膜の性能及び品質への影響は小さい。また、ガラス物品に同じ材料からなる微細粒子（ガラス粉）が付着しても、ガラス物品の性能や品質にはほとんど影響がない。
【００１３】
本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部は、１ｍｍ〜１０ｍｍの厚みを有する板状体で構成されていることが好ましい。
【００１４】
本構成のガラス物品搬送装置は、載置部が板状体であり、１ｍｍ〜１０ｍｍの十分な厚みを有していることから、載置部が搬送時に反ることは無い。また、予備加熱後、ガラス物品に膜を形成する際にガラス物品に低温の原料ガスを吹き付けても、載置部は十分な厚みに由来する大きな保有熱を有していることから、載置部の温度を均等に維持することができる。従って、載置部からガラス物品に対して熱が均等に伝達されるため、ガラス物品の温度を一定に維持することができる。これにより、ガラス物品の反りを防ぐことができ、ガラス物品の表面に均一な厚みの膜を形成することができる。
【００１５】
本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部の表面粗さは、Ｒａ値で０．１μｍ〜１．０μｍであることが好ましい。
【００１６】
本構成のガラス物品搬送装置は、載置部の表面粗さがＲａ値で０．１μｍ〜１．０μｍであることから、ガラス物品と載置部との間に十分な摩擦力が作用し、原料ガスの吹き付けによるガラス物品の位置ずれを確実に抑制することができる。従って、本構成のガラス物品搬送装置では、原料ガスの吹き付け不良が防止され、ガラス物品の表面に均一な厚みの膜を形成することが可能となる。
【００１７】
本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部は、再利用可能又は交換可能に構成されていることが好ましい。
【００１８】
本構成のガラス物品搬送装置は、載置部が再利用可能又は交換可能に構成されていることから、載置部を繰り返し使用することが可能となり、経済的である。また、長期間の使用により載置部が破損したとしても、載置部を交換するだけでガラス物品のＣＶＤ処理を容易に再開することができる。
【００１９】
本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部は、３０〜７５０℃において、−１０〜１０×１０−７／℃の平均線熱膨張係数を有する結晶化ガラス板で構成されていることが好ましい。
【００２０】
本構成のガラス物品搬送装置は、載置部が、３０〜７５０℃において、−１０〜１０×１０−７／℃の平均線熱膨張係数を有する結晶化ガラス板で構成されていることから、常温時だけでなく加熱時においても載置部に反りが発生しない。このため、ガラス物品は載置部に常に密着するように接触し、ガラス物品に対して熱を均一に伝達することができる。従って、ガラス物品に反りが生じることはなく、また、原料ガスの吹き付け不良が防止されるため、ガラス物品の表面に均一な厚みの膜を形成することが可能となる。
【００２１】
本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記結晶化ガラス板は、主結晶構造としてβ−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を含有することが好ましい。
【００２２】
本構成のガラス物品搬送装置は、載置部の結晶化ガラス板が主結晶構造としてβ−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を含有することから、耐熱性及び耐久性に優れており、加熱条件下でＣＶＤ処理を行うガラス物品の載置部として好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、ガラス物品搬送装置の全体構成図である。
【図２】図２は、ガラス物品搬送装置の要部構成図である。
【図３】図３は、ガラス物品搬送装置の成膜部におけるガラス物品の動きを示す説明図である。
【図４】図４は、ガラス物品搬送装置の載置部の別実施形態を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明のガラス物品搬送装置に関する実施形態を図１〜４に基づいて説明する。ただし、本発明は、以下に説明する実施形態や図面に記載される構成に限定されることを意図しない。
【００２５】
＜ガラス物品搬送装置の全体構成＞
図１は、ガラス物品搬送装置１００の全体構成図である。ガラス物品搬送装置１００は、ガラス物品１に対してＣＶＤ処理を行うことにより、ガラス物品１の表面に膜を形成するために使用される。ガラス物品１としては、例えば、太陽電池パネル用のガラス基板、熱線反射ガラス用のガラス板等が挙げられる。膜としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）膜等の透明導電膜や熱線反射膜などが挙げられる。本発明のガラス物品搬送装置１００は、ガラス物品１の表面に透明導電膜を形成するものであるが、ＣＶＤ処理で形成可能な膜であれば、他の種類の膜の形成に適用することも可能である。図２は、ガラス物品搬送装置１００の要部構成図であり、後述するガラス物品搬送装置１００の成膜部７を示している。図２は、図１の点線で囲まれた部分を拡大したものである。
【００２６】
ガラス物品搬送装置１００は、ガラス物品１の表面に透明導電膜を形成する成膜室２と、成膜室２の内部を通過するようにガラス物品１を搬送する搬送手段３とを備えている。ガラス物品１の搬送方向は、図１中の矢印Ｄの方向である。なお、実際の操業においては、ガラス物品１を搬送方向Ｄにおいて多少前後に移動させる場合がある。従って、搬送方向Ｄは、全体的に見てガラス物品１が移動する方向とする。成膜室２には、搬送方向Ｄから見て、搬送手段３の上流側端部にガラス物品１を搬入するための搬入部４が設けられ、下流側端部にＣＶＤ処理の終えたガラス物品１を搬出するための搬出部５が設けられる。さらに、成膜室２には、搬入部４から搬出部５に向かって、ガラス物品１を所定温度に加熱する予備加熱部６と、所定温度に加熱されたガラス物品１の表面にＣＶＤ処理を行って透明導電膜を形成する成膜部７と、成膜されたガラス物品１を所定温度まで冷却する冷却部８とが順に配設されている。
【００２７】
搬送手段３は、複数のローラ９を備えており、載置部１０上に載置されたガラス物品１を搬入部４から搬出部５に向けて搬送する。搬送手段３の搬送速度は、５０ｍｍ／分〜１００００ｍｍ／分の範囲で調整可能である。複数のローラ９は、成膜室２の予備加熱部６から冷却部８に亘って、ガラス物品１の搬送方向Ｄと直交する方向に水平に配置されている。隣接するローラ９は、載置部１０の全長より十分に短い離間距離で、同一間隔で離間されており、載置部１０を搬入部４から搬出部５に向けて安定した状態で水平に移動させることができる。ローラ９は、棒状又は円筒状をなし、成膜室２の外部からモーター（図示せず）によって同一の速度で同一方向に回転駆動可能に構成されている。ローラ９には、シリカローラを好適に利用することができる。シリカローラは耐熱性を有しており、構成成分がガラス質であり、化学的にも安定であることから、ＣＶＤ処理を行う際の透明導電膜に対するコンタミネーションの影響が少ない。
【００２８】
ガラス物品搬送装置１００には、ガラス物品１を載置し、成膜室２内を移動させるための載置部１０が備えられている。載置部１０は、平面視で矩形状の板状体をなし、複数のローラ９によりその下面が支持された状態で成膜室２の搬入部４に配置され、ローラ９が回転することにより成膜室２の搬入部４から搬出部５に向かって搬送される。載置部１０のサイズは、搬送方向Ｄから見て、幅（搬送方向Ｄと直交する方向）が８５０〜１５００ｍｍ、長さ（搬送方向Ｄと平行な方向）が１３００〜２５００ｍｍに形成される。載置部１０のサイズは、載置するガラス物品１のサイズより大きくなるように選択される。載置部１０の詳細については後述する。
【００２９】
予備加熱部６は、加熱手段として、電熱ヒーター１１ａ（１１）を備えている。電熱ヒーター１１ａは、熱源に燃焼ガス等を使用しないため、ガラス物品１へのコンタミネーションの混入を抑えることができる。予備加熱部６の内部温度は、電熱ヒーター１１ａの出力を制御することにより、所定温度（例えば、３００〜５００℃）に維持される。電熱ヒーター１１ａは、予備加熱部６の内部では搬送手段３の上方及び下方に設けられており、搬送される載置部１０上のガラス物品１の上方及び下方から万遍なく加熱を行うことができる。ガラス物品１は、予備加熱部６を通過する間に上記所定温度付近まで加熱され、後段の成膜部７に搬送される。
【００３０】
成膜部７には、ガラス物品１の表面に透明導電膜を形成するための原料ガスを吹き付けるガス噴射部１２（第一ガス噴射部１２ａ及び第二ガス噴射部１２ｂ）と、成膜部７の内部温度を所定温度（例えば、４５０〜６３０℃）に維持するための電熱ヒーター１１ｂ（１１）とが設けられている。第一ガス噴射部１２ａ及び第二ガス噴射部１２ｂは、夫々の下方を通過するガラス物品１の表面に原料ガスを吹き付けて原料ガスを反応させるＣＶＤ処理を行うことにより、ガラス物品１の表面に２００〜１０００ｎｍの厚みを有する透明導電膜を形成する。ガス噴射部１２の夫々には、供給された原料ガスを下方に向けて吹き出す噴射口１３が設けられ、噴射口１３の搬送方向Ｄの上流側及び下流側には残留した原料ガスを吸引して成膜室２から排出する一対の排気口１４が設けられている。噴射口１３及び排気口１４は、ガラス物品１の搬送方向Ｄと直交する方向に延在するように設けられている。図２中の矢印に示すように、噴射口１３から噴射された原料ガスは、ガラス物品１の表面に到達した後、両側に分かれてガラス物品１の表面に略平行な層流を形成しながら反応し、ガラス物品１の表面に透明導電膜を形成する。未反応の原料ガス及び副生成物のガスは、排気口１４に吸い込まれてガラス物品搬送装置１００の外部に排出される。これにより、ガラス物品１の幅方向（搬送方向Ｄと直交する方向）において、均一な厚みの透明導電膜を形成することができる。第一ガス噴射部１２ａ及び第二ガス噴射部１２ｂの夫々の噴射口１３からの原料ガスの噴射量は、５５Ｌ／分〜５５０Ｌ／分に調整可能である。成膜部７の内部では、電熱ヒーター１１ｂは搬送手段３の下方に配置され、載置部１０上のガラス物品１を下方から加熱し、上記所定温度に維持している。なお、本実施形態では、ガス噴射部１２として、第一ガス噴射部１２ａ及び第二ガス噴射部１２ｂにより二段階でＣＶＤ処理を行っているが、単一のガス噴射部１２を設けて一段階でＣＶＤ処理を行うものであってもよく、あるいは、ガス噴射部１２を三箇所以上設けて三段階以上でＣＶＤ処理を行うようにしても構わない。ガス噴射部１２を複数箇所設ける場合、夫々のガス噴射部１２から噴射する原料ガスの種類を異ならせることで、ガラス物品１の上に複層の薄膜を形成することも可能となる。
【００３１】
ガラス物品１にＣＶＤ処理を行うための原料ガスは、スズ原料及びフッ素原料に酸化剤として水やエタノール等を添加し、これを１５０〜２００℃程度で加熱して気化させたものが使用される。スズ原料としては、例えば、ジメチルジクロロスズ（ＤＭＴＣ）、モノブチルトリクロロスズ（ＭＢＴＣ）、四塩化スズ（ＳｎＣｌ４）が挙げられる。フッ素原料としては、例えば、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）、フッ化水素（ＨＦ）、フッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）が挙げられる。
【００３２】
冷却部８は、冷却手段１５を備える。成膜部７で表面に透明導電膜が形成されたガラス物品１は、冷却手段１５からの冷気（冷風）を受けて所定温度（例えば、室温〜５０℃）まで冷却される。冷却手段１５としては、冷媒を通過させる冷却管が用いられるが、空冷ファンを用いることもできる。なお、冷却部８の全長（すなわち、冷却時間）を十分に確保できる場合は、冷却手段１５を設けずに自然冷却によってガラス物品１の冷却を行うことも可能である。
【００３３】
＜載置部の構造＞
本発明のガラス物品搬送装置１００に使用する載置部１０は、加熱条件下で行われるＣＶＤ処理に適するように構成される。初めに、ガラス物品１の成膜時における載置部１０とガラス物品１との関係について説明する。図３は、ガラス物品搬送装置１００の成膜部７におけるガラス物品１の動きを示す説明図である。図３（ａ）は、搬送手段３が停止状態にある場合にガラス物品１の端部１ａに原料ガスが吹き付けられたときの状態を示している。図３（ｂ）は、搬送手段３を前後に動作させた場合にガラス物品１が搬送方向Ｄに対して前後に移動したときの状態を示している。図中、点線の矢印ｄはガラス物品１の移動方向を示し、点線で示したガラス物品１は移動後のガラス物品１の位置を示す。
【００３４】
載置部１０は、平面視で矩形状の板状体に形成され、その表面（上面）にガラス物品１が載置され、成膜室２の搬入部４から搬送手段３のローラ９によって搬出部５まで搬送される。ガラス物品１は、成膜部７において透明導電膜が形成されるが、ガラス物品１の成膜状態に応じて、ガラス物品１の搬送速度を遅くして原料ガスを吹き付けたり、搬送方向Ｄと逆方向に移動させて原料ガスを吹き付けたり、又は搬送を一時停止して原料ガスを吹き付けたりして、ガラス物品１の表面に均一な厚みの透明導電膜が形成されるように、搬送手段３の動作が制御される。
【００３５】
ガラス物品１に透明導電膜を形成する際に、例えば、図３（ａ）に示すように、搬送手段３の搬送を停止してガラス物品１の表面に成膜を行う場合、ガス噴射部１２から噴射された原料ガスがガラス物品１の搬送方向Ｄの端部１ａに吹き付けられ、その圧力によりガラス物品１が載置部１０上を水平方向に移動し、位置ずれが生じる場合がある。また、図３（ｂ）に示すように、均一な厚みに成膜するために搬送手段３を搬送方向Ｄの前後方向に動作させた場合、載置部１０上のガラス物品１に慣性力が作用し、ガラス物品１が載置部１０を上滑りして位置ずれが生じる場合がある。このように、載置部１０の上でガラス物品１が意図しない動きをすることにより、ガラス物品１に対して原料ガスがうまく吹き付けられず（すなわち、吹き付け不良が発生し）、透明導電膜の膜厚にムラが生じることがある。
【００３６】
そこで、本発明では、載置部１０の表面がガラス物品１より粗い表面粗さを有するように仕上げられている。これにより、載置部１０は、ガラス物品１の端部１ａに原料ガスを吹き付けた場合や、載置部１０を搬送方向Ｄの前後方向に移動させた場合であっても、ガラス物品１と載置部１０との間に一定以上の摩擦力が作用するため、ガラス物品１は最初に載置部１０に載置した場所に留まり易いものとなる。このように、載置部１０をガラス物品１より粗い表面粗さに仕上げておけば、ガラス物品１の位置ずれが起こり難く、原料ガスの吹き付け不良が防止され、ガラス物品１の表面に均一な厚みの透明導電膜を形成することができる。
【００３７】
載置部１０の表面粗さは、Ｒａ値が０．１μｍ〜１．０μｍの範囲であることが好ましい。ここで、ガラス物品１の表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定された算術平均粗さであって、測定カットオフ値が０．８ｍｍ、測定長が４ｍｍの条件で測定した場合の値で示されている。ＣＶＤ処理の対象となるガラス物品１は、通常、表面粗さＲａ値が０．１ｎｍ〜０．３μｍの範囲にあるため、載置部１０の表面粗さはガラス物品１の表面粗さより粗く仕上げられていればよいが、Ｒａ値で０．１μｍ〜１．０μｍの範囲とすることにより、ガラス物品１と載置部１０との間に十分な摩擦力が作用し、原料ガスの吹き付けによるガラス物品１の位置ずれを確実に抑制することができる。載置部１０の好ましい表面粗さＲａ値は０．４μｍ〜１．０μｍであり、より好ましい表面粗さＲａ値は０．５〜１．０μｍである。表面粗さＲａ値が０．１μｍより低いと、ガラス物品１と載置部１０との間に十分な摩擦力が作用しないためガラス物品１の位置ずれを有効に抑制することができない。また、ガラス物品搬送装置１００から搬出されたガラス物品１と載置部１０とが密着して分離できなくなる虞がある。表面粗さＲａ値が１．０μｍを超えると、ガラス物品１と載置部１０との間に微細な隙間が発生するため、原料ガスがガラス物品１の裏面側に回り込んでしまう虞がある。また、ガラス物品１を載置部１０に載置する際に、ガラス物品１の位置合わせ等によりガラス物品１が載置部１０に対して摺動することがあり、この場合、載置部１０の表面粗さＲａ値が１．０μｍを超えていると、ガラス物品１に擦り傷がつく虞がある。
【００３８】
載置部１０は、ＣＶＤ処理を行うガラス物品１と同じ材料で構成されていることが好ましい。載置部１０の材料とガラス物品１の材料とが異なる場合、例えば、載置部１０を金属材料で構成し、ガラス物品１が結晶化ガラス基板である場合、結晶化ガラス基板に原料ガスを吹き付けてＣＶＤ処理を行うと、載置部１０の金属材料に由来する金属の微細粒子が原料ガスと混合し、結晶化ガラス基板上に形成する透明導電膜やガラス物品１にコンタミネーションが発生する虞がある。コンタミネーションは透明導電膜やガラス物品１の性能や品質を低下させることになる。そこで、本実施形態では、載置部１０の材料として、ガラス物品１と同じ材料を使用している。すなわち、載置部１０は、結晶化ガラス板で構成されている。結晶化ガラスは熱的及び化学的に安定であることから、微細粒子が飛散し難い。仮に原料ガスの吹き付け時に載置部１０から結晶化ガラスの微細粒子が発生し、これが原料ガスと混合しても、この微細粒子はガラス物品１（結晶化ガラス基板）と同じ材料であるため、透明導電膜の性能及び品質への影響は小さい。また、ガラス物品１に同じ材料からなる微細粒子（ガラス粉）が付着しても、ガラス物品１の性能や品質にはほとんど影響がない。
【００３９】
載置部１０を構成する結晶化ガラス板の厚みは、１ｍｍ〜１０ｍｍとすることが好ましい。載置部１０の厚みを１ｍｍより小さくすると、載置するガラス物品１の重みと加熱によって載置部１０に反りが生じ易くなる。載置部１０の厚みを１０ｍｍより大きくすると、載置部１０を所定の温度まで昇温させるのに時間を要することになる。載置部１０を上記厚み範囲とすることにより、搬送時において載置部１０に反りが生じることは無い。また、予備加熱後、ガラス物品１に透明導電膜を形成する際に、高温状態（５００〜６００℃）にあるガラス物品１に対してガス噴射部１２から低温（２００〜３００℃）の原料ガスを吹き付けても、載置部は十分な厚みに由来する大きな保有熱を有していることから、載置部１０の温度を均等に維持することができる。従って、載置部１０からガラス物品１に対して熱が均等に伝達されるため、ガラス物品１の温度を一定に維持することができる。これにより、ガラス物品１の反りを防ぐことができ、ガラス物品１の表面に均一な厚みの透明導電膜を形成することができる。
【００４０】
載置部１０を構成する結晶化ガラス板は、ＣＶＤ処理を繰り返すことによりその表面が劣化したり、原料ガス成分が付着することがあるが、載置部１０を結晶化ガラス板で構成した場合、再生が容易となる。結晶化ガラス板の再生は、結晶化ガラス板の表面を研磨することにより行われる。劣化した結晶化ガラス板の表面を研磨すると、フレッシュな結晶化ガラス板の面が露出し、載置部１０として再利用することが可能となる。なお、劣化が進行した結晶化ガラス板については、未使用の結晶化ガラス板に交換することが可能である。載置部１０は、再利用可能又は交換可能に構成されていることから、載置部１０を繰り返し使用することが可能となり、経済的である。また、長期間の使用により載置部１０が破損したとしても、載置部１０を交換するだけでガラス物品１のＣＶＤ処理を容易に再開することができる。
【００４１】
載置部１０を構成する結晶化ガラス板は、３０〜７５０℃において、−１０〜１０×１０−７／℃の平均線熱膨張係数を有することが好ましい。ガラス物品搬送装置１００の成膜室２の内部は、５００〜６００℃の高温温度となっている。そこで、本実施形態では、載置部１０に上記平均線熱膨張係数を有する耐熱結晶化ガラス板が使用される。耐熱結晶化ガラス板を使用すれば、常温時だけでなく加熱時においても載置部１０に反りが発生しない。このため、ガラス物品１は載置部１０に常に密着するように接触し、ガラス物品１に対して熱を均一に伝達することができる。従って、ガラス物品１に反りが生じることはなく、また、原料ガスの吹き付け不良が防止されるため、ガラス物品１の表面に均一な厚みの透明導電膜を形成することが可能となる。
【００４２】
載置部１０を構成する結晶化ガラス板は、β−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を主結晶として析出させた結晶化ガラスからなる板状体であることが好ましい。この結晶化ガラス板は、耐熱性及び耐久性に優れており、加熱条件下でＣＶＤ処理を行うガラス物品１を載置する載置部１０として好適に利用することができる。なお、β−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を主結晶とする結晶化ガラス板は、ロールアウト法により製造されるものであり、通常１０ｍｍ以下の厚みに成型される。また、β−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を主結晶とする結晶化ガラス板は、研削や研磨等の加工がし易いため、上述した再生処理を容易に行うことができる。
【実施例】
【００４３】
次に、実施例として、本発明のガラス物品搬送装置を用いて実施した透明導電膜を有するガラス基板の製造試験例を以下に説明する。製造試験は、異なる載置部（実施例及び比較例）を用いて同一のガラス基板に対してＣＶＤ処理を行い、ガラス基板上の傷の有無、透明導電膜の膜厚の均一性、及びコンタミネーションの発生について評価した。
【００４４】
＜実施例＞
ガラス基板を載置する載置部として、結晶化ガラス（日本電気硝子株式会社製の耐熱結晶化ガラス：商品名「ネオセラム（登録商標）Ｎ−０」）からなる厚み５ｍｍの結晶化ガラス板を使用した。結晶化ガラス板の上面を研磨機でラッピングし、結晶化ガラス板の表面粗さをＲａ値で０．５μｍ〜０．６μｍに仕上げた。
＜比較例＞
ガラス基板を載置する載置部として、ステンレス製の金属板を使用した。この金属板の表面粗さは、Ｒａ値で０．１μｍ〜０．３μｍであった。
＜試験方法＞
夫々の載置部に厚さ４．０ｍｍの結晶化ガラス板状体からなるガラス基板を載置し、反応温度６００℃でＣＶＤ処理を実施し、ガラス基板の表面に透明導電膜を形成した。透明導電膜を形成した夫々のガラス基板について、裏面の傷の有無、透明導電膜の膜厚の均一性、及びコンタミネーションの有無について評価した。ガラス基板の裏面の傷の有無の確認は、蛍光灯程度の明るさの下で、目視により行った。透明導電膜の膜厚は、電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した。コンタミネーションの有無については、エネルギー分散型Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）により、組成分析を行うことにより確認した。
＜試験結果＞
実施例１の結晶化ガラス板を用いた載置部では、載置されたガラス基板の裏面に傷が認められず、略均一な膜厚の透明導電膜を形成することができ、コンタミネーションの発生も認められなかった。これに対して、比較例１のステンレス製の金属板を用いた載置部では、ガラス基板の裏面に傷が生じ、透明導電膜の膜厚の均一性についても実施例１と比較して劣っていた。また、ステンレス鋼に由来するとみられる鉄成分のコンタミネーションが認められた。
【００４５】
〔別実施形態〕
本発明のガラス物品製造装置１００に用いられる載置部１０は、上記実施形態で説明した構成以外にも様々な形態を採用することが可能である。図４は、ガラス物品搬送装置１００の載置部１０の別実施形態を示す説明図である。別実施形態の載置部１０について、以下の〔１〕〜〔４〕を例示する。
【００４６】
〔１〕図４（ａ）は、ガラス物品１が実質的に載置される領域のみについて、表面粗さをガラス物品１より粗く仕上げた載置部１０を示している。同図では、表面粗さを粗くした領域を斜線で示し、ガラス物品１を点線で示してある。表面粗さを粗くした領域と、それ以外の領域とでは光の反射率が異なるため、肉眼で容易に区別することができる。従って、作業者は、ガラス物品１の載置箇所を視認することにより、ガラス物品１の位置決めを正確且つ容易に行うことができる。また、ガラス物品１の下方には表面粗さを粗くした領域が存在するため、ガラス物品１の位置ずれも抑制される。
【００４７】
〔２〕図４（ｂ）は、搬送方向Ｄにおけるガラス物品１の幅に相当する全体領域について、表面粗さをガラス物品１より粗く仕上げた載置部１０を示している。同図では、表面粗さを粗くした領域を斜線で示し、ガラス物品１を点線で示してある。この場合、搬送方向Ｄに原料ガスの圧力や慣性力が大きく作用しても、ガラス物品１の位置ずれを確実に抑制することができる。また、作業者は目視によって表面粗さを粗くした領域の間にガラス物品１を載置することにより、ガラス物品１の位置決めを正確且つ容易に行うことができる。
【００４８】
〔３〕図４（ｃ）は、搬送方向Ｄにおけるガラス物品１の両端部に相当する領域について、表面粗さをガラス物品１より粗く仕上げた載置部１０を示している。同図では、表面粗さを粗くした領域を斜線で示し、ガラス物品１を点線で示してある。この場合、搬送方向Ｄに原料ガスの圧力や慣性力が作用しても、ガラス物品１の位置ずれを抑制することができる。また、作業者は目視によって表面粗さを粗くした二つの領域に合わせてガラス物品１を載置することにより、ガラス物品１の位置決めを正確且つ容易に行うことができる。
【００４９】
〔４〕図４（ｄ）は、搬送方向Ｄにおけるガラス物品１の幅に相当する全体領域、及び搬送方向Ｄに直交する方向におけるガラス物品１の長さに相当する全体領域について、表面粗さをガラス物品１より粗く仕上げた載置部１０を示している。同図では、表面粗さを粗くした領域を斜線で示し、ガラス物品１を点線で示してある。この場合、搬送方向Ｄに原料ガスの圧力や慣性力が大きく作用しても、ガラス物品１の位置ずれを確実に抑制することができるとともに、搬送方向Ｄに直交する方向でも不測の位置ずれを確実に抑制することができる。また、作業者は目視によって表面粗さを粗くした領域の間にガラス物品１を載置することにより、ガラス物品１の位置決めを正確且つ容易に行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明のガラス物品搬送装置は、太陽電池パネルや熱線反射ガラスに利用されるガラス物品へのＣＶＤ処理において利用可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１        ガラス物品
１０      載置部
１００    ガラス物品搬送装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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