(57)【要約】      （修正有）【課題】溶剤溶解性に優れ、得られる膜の塗布面状、防汚性及び耐擦傷性に優れる重合性組成物、それを用いた反射防止フィルム、前記反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置、並びに撥水ないし撥油膜を提供する。【解決手段】パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び４つ以上の重合性基を有し、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）を含有する重合性組成物。2014070165.tif 000058Ｒｆ及びＲｆ’は、各々独立に、パーフルオロアルキレン基を表す。Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。Ｘ３及びＸ４は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び４つ以上の重合性基を有し、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）を含有する重合性組成物。
【化１】
2014070165.tif 000051
上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒｆ及びＲｆ’は、各々独立に、下記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
ｎ１は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ１個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
ｎ２は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ２個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２は、各々独立に、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１０のパーフルオロアルキレン基を表す。
Ｌ１は、脂肪族の（ｐ１＋１）価の連結基を表し、Ｌ２は脂肪族の（ｐ３＋１）価の連結基を表す。
Ｌ３は、脂肪族の（ｐ６＋１）価の連結基を表し、Ｌ４は脂肪族の（ｐ８＋１）価の連結基を表す。
ｐ２及びｐ４は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ５及びｐ７は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ１及びｐ３は、各々独立に、２以上の整数を表す。
ｐ６及びｐ８は、各々独立に、２以上の整数を表す。
Ｙ１及びＹ２は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｙ３及びＹ４は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
Ｘ３及びＸ４は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
【化２】
2014070165.tif 000052
上記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）中、
Ｒｆ３〜Ｒｆ６、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２、及びＲｆ４３〜Ｒｆ５６は、各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜１０の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１１の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。
【請求項２】
前記一般式（ＩＩＩ−１）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３〜Ｒｆ６で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−２）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−３）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−４）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−５）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−６）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６で表される基の種類及び前記基の数が同一である、請求項１に記載の重合性組成物。
【請求項３】
前記一般式（ＩＩＩ−１）における、Ｒｆ３〜Ｒｆ６の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−２）における、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−３）における、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−４）における、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−５）における、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−６）における、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基である、請求項１又は２に記載の重合性組成物。
【請求項４】
前記Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２が、各々独立に、下記式のいずれかで表される基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性組成物。
【化３】
2014070165.tif 000053
上記式中、ｎ３は１〜１０の整数を表す。
【請求項５】
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、及びＬ４が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の重合性組成物。
【化４】
2014070165.tif 000054
上記式中、Ｒはアルキル基を表し、＊は、前記一般式（Ｉ）中の隣接する酸素原子に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＹ３若しくはＹ４に接続する部位、＊＊は前記一般式（Ｉ）中のＹ１若しくはＹ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＸ３若しくはＸ４に接続する部位を表す。
【請求項６】
Ｙ１及びＹ２、並びにＹ３及びＹ４が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基である、請求項１〜５いずれか１項に記載の重合性組成物。
【化５】
2014070165.tif 000055
上記式中、ｎ４、ｎ５及びｎ６は、各々独立に、２〜１０の整数を表す。
＊１は、前記一般式（Ｉ）中のＬ１若しくはＬ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中の隣接する酸素原子に接続する部位、＊２は前記一般式（Ｉ）中のＸ１若しくはＸ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＬ３若しくはＬ４に接続する部位を表す。
【請求項７】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３又はＸ４についての重合性基を有する基が（メタ）アクリロイル基である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の重合性組成物。
【請求項８】
（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）有機溶剤を更に含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の重合性組成物。
【請求項９】
透明支持体上に少なくとも１層の低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層が、請求項１〜８のいずれか１項に記載の重合性組成物から形成される、反射防止フィルム。
【請求項１０】
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムとを有し、該保護フィルムの少なくとも一方が請求項９に記載の反射防止フィルムである、偏光板。
【請求項１１】
請求項９に記載の反射防止フィルム又は請求項１０に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する、画像表示装置。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の重合性組成物から形成される撥水ないし撥油膜。
【請求項１３】
パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び４つ以上の重合性基を有し、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物。
【化６】
2014070165.tif 000056
上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒｆ及びＲｆ’は、各々独立に、下記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
ｎ１は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ１個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
ｎ２は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ２個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２は、各々独立に、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１０のパーフルオロアルキレン基を表す。
Ｌ１は、脂肪族の（ｐ１＋１）価の連結基を表し、Ｌ２は脂肪族の（ｐ３＋１）価の連結基を表す。
Ｌ３は、脂肪族の（ｐ６＋１）価の連結基を表し、Ｌ４は脂肪族の（ｐ８＋１）価の連結基を表す。
ｐ２及びｐ４は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ５及びｐ７は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ１及びｐ３は、各々独立に、２以上の整数を表す。
ｐ６及びｐ８は、各々独立に、２以上の整数を表す。
Ｙ１及びＹ２は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｙ３及びＹ４は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
Ｘ３及びＸ４は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
【化７】
2014070165.tif 000057
上記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）中、
Ｒｆ３〜Ｒｆ６、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２、及びＲｆ４３〜Ｒｆ５６は、各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜１０の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１１の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。
【請求項１４】
透明支持体上に少なくとも１層の低屈折率層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、請求項１〜８のいずれか１項に記載の重合性組成物を塗布、乾燥することにより該低屈折率層を形成する工程を有する反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の重合性組成物から形成される撥水ないし撥油膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合性組成物、それを用いた反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板、及び該反射防止フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置、並びに撥水ないし撥油膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）などの画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようディスプレイの最表面に配置される。そのため、反射防止フィルムには高い反射防止性能の他に、指紋や皮脂などの油脂成分に対する高い防汚性、及び高い物理強度（耐擦傷性など）、高い透過率、耐薬品性、耐候性（耐湿熱性、耐光性）が要求される。
そのような反射防止フィルムとして、単層の光学干渉層を有するフィルムが知られている。しかし、更なる低反射化を達成する観点から、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層などの複数の光学干渉層を有する多層型の反射防止フィルムが開発されているのが現状である。
このような多層型の反射防止フィルムは、低反射化を達成し得る反面、各層の層厚や屈折率が変動すると反射色が変化してしまうことがある。特に塗膜の表面に指紋や皮脂が付着すると、拭き取ったとしても油脂成分が僅かに残っているだけで屈折率の変化から、光学干渉層が単層の場合よりも付着跡が色味変化として視認されることが目立ち、映像の視認性が低下しやすい。したがって、多層型の反射防止フィルムでは、指紋や皮脂などの油脂成分に対する高い防汚性が特に要求されている。
【０００３】
防汚性を付与する技術としては、ポリジメチルシロキサン構造を有するシリコーン化合物やフッ素系の化合物を用いて塗膜表面の表面自由エネルギーを低下させる方法が一般的に知られている。例えば、長鎖のパーフルオロポリエーテル鎖（ＰＦＰＥ）と多官能の重合性不飽和基を有する化合物を用いて防汚性能を付与することが提案されている（例えば、特許文献１、２参照。）。
しかしながら、これらの化合物はソルベイソレクシス社製のＰＦＰＥ（フルオロリンクＤ）を原材料して用いていることから、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−で表される繰り返し構造と−（ＣＦ２Ｏ）ｎ−で表される繰り返し構造との２種類の繰り返し構造を有する化合物である。フルオロリンクＤは、ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＨ２ＯＨで表される。
なお、特許文献１の段落００２０に記載の化合物１の構造において、繰り返し構造が−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−で表されているが、これは誤りであり、実際には、特許文献１の化合物１における繰り返し構造は、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−で表される繰り返し構造と（ＣＦ２Ｏ）ｎ−で表される繰り返し構造との２種類の繰り返し構造からなることが分かっている。
ＰＦＰＥ構造同士の疎水性相互作用増加による表面張力低下能の向上を考えれば、−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−構造などの単独構造を有するＰＦＰＥ構造が望まれていたが、下記製造スキームに示したように、フルオロリンクＤの製造プロセスから単一の−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−構造のみからなる繰り返し構造を得ることは困難であった（例えば、非特許文献１参照）。
【０００４】
【化１】
2014070165.tif 000002
【０００５】
また、低屈折率層に防汚性を付与するために、防汚性及び耐擦傷性の更なる改善が要求されている。
更に、このようなＰＦＰＥ構造を有する化合物は、その表面自由エネルギーの低さゆえに、組成物中の塗布溶剤や他の成分に対する溶解性が低くなる傾向にあり、このような化合物を含有する組成物を塗布して形成される塗布膜の塗布面状の向上が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２５６５９７号公報
【特許文献２】特許第４５５６１５１号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】フッ素化学入門  基礎と応用の最前線２０１０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記従来技術の問題点に鑑み、溶剤溶解性に優れ、得られる膜の塗布面状、防汚性及び耐擦傷性に優れる重合性組成物、それを用いた反射防止フィルム、前記反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置、並びに撥水ないし撥油膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより前記課題を解決し目的を達成しうることを見出し、上記知見に基づき、本発明を完成するに至った。
【００１０】
〔１〕
パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び４つ以上の重合性基を有し、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）を含有する重合性組成物。
【００１１】
【化２】
2014070165.tif 000003
【００１２】
上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒｆ及びＲｆ’は、各々独立に、下記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
ｎ１は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ１個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
ｎ２は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ２個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２は、各々独立に、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１０のパーフルオロアルキレン基を表す。
Ｌ１は、脂肪族の（ｐ１＋１）価の連結基を表し、Ｌ２は脂肪族の（ｐ３＋１）価の連結基を表す。
Ｌ３は、脂肪族の（ｐ６＋１）価の連結基を表し、Ｌ４は脂肪族の（ｐ８＋１）価の連結基を表す。
ｐ２及びｐ４は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ５及びｐ７は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ１及びｐ３は、各々独立に、２以上の整数を表す。
ｐ６及びｐ８は、各々独立に、２以上の整数を表す。
Ｙ１及びＹ２は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｙ３及びＹ４は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
Ｘ３及びＸ４は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
【００１３】
【化３】
2014070165.tif 000004
【００１４】
上記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）中、
Ｒｆ３〜Ｒｆ６、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２、及びＲｆ４３〜Ｒｆ５６は、各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜１０の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１１の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。
〔２〕
前記一般式（ＩＩＩ−１）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３〜Ｒｆ６で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−２）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−３）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−４）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−５）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２で表される基の種類及び前記基の数が同一であり、前記一般式（ＩＩＩ−６）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６で表される基の種類及び前記基の数が同一である、〔１〕に記載の重合性組成物。
〔３〕
前記一般式（ＩＩＩ−１）における、Ｒｆ３〜Ｒｆ６の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−２）における、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−３）における、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−４）における、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−５）における、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であり、前記一般式（ＩＩＩ−６）における、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基である、〔１〕又は〔２〕に記載の重合性組成物。
〔４〕
上記Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２が、各々独立に、下記式のいずれかで表される基である、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の重合性組成物。
【００１５】
【化４】
2014070165.tif 000005
【００１６】
上記式中、ｎ３は１〜１０の整数を表す。
〔５〕
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、及びＬ４が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基である、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の重合性組成物。
【００１７】
【化５】
2014070165.tif 000006
【００１８】
上記式中、Ｒはアルキル基を表し、＊は、前記一般式（Ｉ）中の隣接する酸素原子に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＹ３若しくはＹ４に接続する部位、＊＊は前記一般式（Ｉ）中のＹ１若しくはＹ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＸ３若しくはＸ４に接続する部位を表す。
〔６〕
Ｙ１及びＹ２、並びにＹ３及びＹ４が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基である、〔１〕〜〔５〕いずれか１項に記載の重合性組成物。
【００１９】
【化６】
2014070165.tif 000007
【００２０】
上記式中、ｎ４、ｎ５及びｎ６は、各々独立に、２〜１０の整数を表す。
＊１は、前記一般式（Ｉ）中のＬ１若しくはＬ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中の隣接する酸素原子に接続する部位、＊２は前記一般式（Ｉ）中のＸ１若しくはＸ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＬ３若しくはＬ４に接続する部位を表す。
〔７〕
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３又はＸ４についての重合性基を有する基が（メタ）アクリロイル基である、〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の重合性組成物。
〔８〕
（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）有機溶剤を更に含有する、〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の重合性組成物。
〔９〕
透明支持体上に少なくとも１層の低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層が、〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の重合性組成物から形成される、反射防止フィルム。
〔１０〕
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムとを有し、該保護フィルムの少なくとも一方が〔９〕に記載の反射防止フィルムである、偏光板。
〔１１〕
〔９〕に記載の反射防止フィルム又は〔１０〕に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する、画像表示装置。
〔１２〕
〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の重合性組成物から形成される撥水ないし撥油膜。
〔１３〕
パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び４つ以上の重合性基を有し、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物。
【００２１】
【化７】
2014070165.tif 000008
【００２２】
上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒｆ及びＲｆ’は、各々独立に、下記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
ｎ１は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ１個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
ｎ２は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ２個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２は、各々独立に、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１０のパーフルオロアルキレン基を表す。
Ｌ１は、脂肪族の（ｐ１＋１）価の連結基を表し、Ｌ２は脂肪族の（ｐ３＋１）価の連結基を表す。
Ｌ３は、脂肪族の（ｐ６＋１）価の連結基を表し、Ｌ４は脂肪族の（ｐ８＋１）価の連結基を表す。
ｐ２及びｐ４は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ５及びｐ７は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ１及びｐ３は、各々独立に、２以上の整数を表す。
ｐ６及びｐ８は、各々独立に、２以上の整数を表す。
Ｙ１及びＹ２は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｙ３及びＹ４は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
Ｘ３及びＸ４は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
【００２３】
【化８】
2014070165.tif 000009
【００２４】
上記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）中、
Ｒｆ３〜Ｒｆ６、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２、及びＲｆ４３〜Ｒｆ５６は、各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜１０の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１１の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。
〔１４〕
透明支持体上に少なくとも１層の低屈折率層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の重合性組成物を塗布、乾燥することにより該低屈折率層を形成する工程を有する反射防止フィルムの製造方法。
〔１５〕
〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の重合性組成物から形成される撥水ないし撥油膜の製造方法。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の重合性組成物は、溶剤溶解性に優れ、得られる膜の塗布面状、防汚性及び耐擦傷性に優れる。また、撥水ないし撥油膜も形成することができる。
本発明の反射防止フィルムは、前記重合性組成物を用いてなるので、指紋や皮脂等の油脂成分が付着しても拭き取りやすく防汚性に優れ、塗布面状及び耐擦傷性に優れる。
本発明の反射防止フィルムによれば、塗布面状、防汚性及び耐擦傷性に優れる偏光板及び画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明について説明する。ただし、本発明は以下の記載により制限されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリロイル基」、「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００２７】
本発明の重合性組成物は、パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位、及び４つ以上の重合性基を有し、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）を含有する。
【００２８】
【化９】
2014070165.tif 000010
【００２９】
上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒｆ及びＲｆ’は、各々独立に、下記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表す。
ｎ１は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ１個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
ｎ２は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、５〜５０の整数を表す。ｎ２個の前記繰り返し単位は同一であっても異なっていてもよい。
Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２は、各々独立に、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１０のパーフルオロアルキレン基を表す。
Ｌ１は、脂肪族の（ｐ１＋１）価の連結基を表し、Ｌ２は脂肪族の（ｐ３＋１）価の連結基を表す。
Ｌ３は、脂肪族の（ｐ６＋１）価の連結基を表し、Ｌ４は脂肪族の（ｐ８＋１）価の連結基を表す。
ｐ２及びｐ４は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ５及びｐ７は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｐ１及びｐ３は、各々独立に、２以上の整数を表す。
ｐ６及びｐ８は、各々独立に、２以上の整数を表す。
Ｙ１及びＹ２は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｙ３及びＹ４は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数４以上の、脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｘ１及びＸ２は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
Ｘ３及びＸ４は、各々独立に、重合性基を有する基を表す。
【００３０】
【化１０】
2014070165.tif 000011
【００３１】
上記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）中、
Ｒｆ３〜Ｒｆ６、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２、及びＲｆ４３〜Ｒｆ５６は、各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜１０の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１１の直鎖状パーフルオロアルキル基を表す。
【００３２】
まず、パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位及び４つ以上の重合性基を有し、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）（以下、単に「一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）」ともいう）について説明する。
本発明において、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）は防汚剤、撥水剤、撥油剤等として機能する。
【００３３】
本発明において、撥水ないし撥油とは、相対表面自由エネルギーが１００未満であることを指す。
【００３４】
Ｒｆ及びＲｆ’は、各々独立に、前記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基を表し、パーフルオロアルキレン構造が短い方が分子の運動性が高く、指紋拭き取り性が良い観点から前記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−３）のいずれかで表されるパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
上記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）中、Ｒｆ３〜Ｒｆ６、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２、及びＲｆ４３〜Ｒｆ５６についての炭素数１〜１０の直鎖状パーフルオロアルキル基としては、炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基などが挙げられ、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基又はパーフルオロオクチル基であることが好ましい。
Ｒｆ３〜Ｒｆ６、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２、及びＲｆ４３〜Ｒｆ５６についての少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１１の直鎖状パーフルオロアルキル基としては、少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましい。また、−ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２）ｍ１Ｆで表される基（ｍ１は１〜９の整数を表す。）であることも好ましい。ｍ１は２〜８の整数であることが好ましい。
Ｒｆ３〜Ｒｆ６、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２、及びＲｆ４３〜Ｒｆ５６としては、炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数２〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
ｎ１、ｎ２は前記繰り返し単位の繰り返し数を表し、各々独立に、５〜５０の整数を表し、８〜３０の整数であることが好ましい。
【００３５】
前記一般式（ＩＩＩ−１）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３〜Ｒｆ６の各々が異なっていてもよいが、Ｒｆ３〜Ｒｆ６で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式（ＩＩＩ−１）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３〜Ｒｆ６で表される基の位置（パーフルオロポリエーテル構造主鎖への結合位置）が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−２）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２の各々が異なっていてもよいが、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式（ＩＩＩ−２）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−３）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０の各々が異なっていてもよいが、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式（ＩＩＩ−３）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−４）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０の各々が異なっていてもよいが、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式（ＩＩＩ−４）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−５）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２の各々が異なっていてもよいが、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式（ＩＩＩ−５）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−６）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６の各々が異なっていてもよいが、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６で表される基の種類及び前記基の数が同一であることが好ましい。前記一般式（ＩＩＩ−６）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６で表される基の位置が異なる位置異性であってもよい。
【００３６】
前記一般式（ＩＩＩ−１）において、Ｒｆ３〜Ｒｆ６の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Ｒｆ３〜Ｒｆ６の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−２）において、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−３）において、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−４）において、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０の少なくとも１つが炭素数２〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−５）において、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
同様に、前記一般式（ＩＩＩ−６）において、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基、又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜９の直鎖状パーフルオロアルキル基であることが好ましく、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６の少なくとも１つが炭素数１〜８の直鎖状パーフルオロアルキル基であることがより好ましい。
【００３７】
Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２についての炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基としては、炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基等の置換基を有していてもよく、炭素数１〜５のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２についての少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１０のパーフルオロアルキレン基としては、炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基等の置換基を有していてもよく、少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜５のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２としては炭素数１〜１０のパーフルオロアルキレン基であることが好ましく、炭素数１〜５のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。
上記Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２が、各々独立に、下記式のいずれかで表される基であることがより好ましい。
【００３８】
【化１１】
2014070165.tif 000012
【００３９】
上記式中、ｎ３は１〜１０の整数を表す。
上記Ｒｆ１、Ｒｆ’１、Ｒｆ２及びＲｆ’２が、各々独立に、下記式のいずれかで表される基であることが更に好ましい。
【００４０】
【化１２】
2014070165.tif 000013
【００４１】
上記式中、ｎ３は１〜１０の整数を表す。
【００４２】
ｐ２及びｐ４は、各々独立に、１以上の整数を表し、１〜８の整数であることが好ましく、１〜５の整数であることがより好ましい。
ｐ５及びｐ７は、各々独立に、１以上の整数を表し、１〜８の整数であることが好ましく、１〜５の整数であることがより好ましい。
ｐ１及びｐ３は、各々独立に、２以上の整数を表し、２〜６の整数であることが好ましく、２〜４の整数であることがより好ましく、２又は３であることが更に好ましい。
ｐ６及びｐ８は、各々独立に、２以上の整数を表し、２〜６の整数であることが好ましく、２〜４の整数であることがより好ましく、２又は３であることが更に好ましい。
【００４３】
Ｌ１は、脂肪族の（ｐ１＋１）価の連結基を表し、Ｌ２は脂肪族の（ｐ３＋１）価の連結基を表す。
Ｌ３は、脂肪族の（ｐ６＋１）価の連結基を表し、Ｌ４は脂肪族の（ｐ８＋１）価の連結基を表す。
Ｌ１についての脂肪族の（ｐ１＋１）価の連結基、Ｌ２についての脂肪族の（ｐ３＋１）価の連結基、Ｌ３についての脂肪族の（ｐ６＋１）価の連結基、Ｌ４についての脂肪族の（ｐ８＋１）価の連結基としては、エーテル結合、カルボニル基及びアミノ基よりなる群から選択される少なくとも１つと、分岐を有する炭化水素鎖とからなる連結基であることが好ましい。
前記分岐を有する炭化水素鎖としては、分岐を有する炭素数３〜１０の炭化水素鎖であることが好ましい。
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、及びＬ４は、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基であることが更に好ましい。
【００４４】
【化１３】
2014070165.tif 000014
【００４５】
上記式中、Ｒはアルキル基を表し、＊は、前記一般式（Ｉ）中の隣接する酸素原子に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＹ３若しくはＹ４に接続する部位、＊＊は前記一般式（Ｉ）中のＹ１若しくはＹ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＸ３若しくはＸ４に接続する部位を表す。
Ｒについてのアルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【００４６】
Ｙ１及びＹ２は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
Ｙ３及びＹ４は、各々独立に、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基を表す。
【００４７】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ａ）が、エーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基Ｙ１及びＹ２を有することにより、
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）が、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する２価以上の連結基Ｙ３及びＹ４を有することにより、
従来のＰＦＰＥ構造を有する化合物が、その表面自由エネルギーの低さゆえに、組成物中の塗布溶剤や他の成分に対する溶解性が低くなる傾向にあったのと比較して、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）は、溶剤溶解性が向上し、得られる膜の面状が均質になり面状を良好にすることができる。
【００４８】
また、前記一般式（ＩＩ）における連結基Ｙ３及びＹ４が有し得る炭素数４以上の脂肪族基は、エーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない。後述する偏光板用保護フィルムを作製する方法における鹸化処理等において、アミド結合は分解されるおそれがあるからである。
なお、一般式（Ｉ）の構造については、このようなアミド結合を有することによる分解のおそれは、化学構造上、少ないものと考えられる。
【００４９】
２価以上の連結基Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４としては、エーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基及び芳香族基よりなる群から選択される基を少なくとも１種と、それらを組合わせてなる２価以上の基が挙げられる。
２価以上の連結基Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４の価数としては２価以上であることが好ましく、３価以上であることがより好ましい。価数の上限値としては特に制限はないが、
１０価以下であることが好ましい。
２価以上の連結基Ｙ１及びＹ２が有し得るエーテル結合を有していてもよい炭素数４以上の脂肪族基、Ｙ３及びＹ４が有し得るエーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない炭素数４以上の脂肪族基としては、オリゴ（オキシエチレン基）、オリゴ（オキシプロピレン基）等のオリゴ（オキシアルキレン基）等が挙げられる。炭素数としては４以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましい。炭素数の上限値としては特に制限はないが、３０以下であることが好ましい。
２価以上の連結基Ｙ１及びＹ２が有し得るエーテル結合を有していてもよい芳香族基、Ｙ３及びＹ４が有し得るエーテル結合を有していてもよいが、アミド結合を有さない芳香族基としては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基等のフェニレン基が挙げられる。
【００５０】
Ｙ１及びＹ２、並びにＹ３及びＹ４が、各々独立に、下記式のいずれかで表される連結基であることが好ましい。
【００５１】
【化１４】
2014070165.tif 000015
【００５２】
上記式中、ｎ４、ｎ５及びｎ６は、各々独立に、２〜１０の整数を表す。
＊１は、前記一般式（Ｉ）中のＬ１若しくはＬ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中の隣接する酸素原子に接続する部位、＊２は前記一般式（Ｉ）中のＸ１若しくはＸ２に接続する部位、又は前記一般式（ＩＩ）中のＬ３若しくはＬ４に接続する部位を表す。
【００５３】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３又はＸ４についての重合性基を有する基としては、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基等のエポキシ基（オキシラニル基）を有する基、オキセタニル基を有する基、アルコキシシリル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基又はアミノ基が好ましく、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基等のエポキシ基（オキシラニル基）を有する基又はアルコキシシリル基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイル基であることが更に好ましい。
アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。
アリール基としては、フェニル基などが挙げられる。
ポリオキシアルキレン基としては、ポリオキシエチレン基などが挙げられる。
【００５４】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）の重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法によるポリスチレン換算値として、５００以上１００００未満が好ましく、８００以上５０００未満が更に好ましく、１０００以上３０００未満であることが最も好ましい。重量平均分子量が１００００未満であれば、有機溶剤（Ｃ）に対する溶解性が良好である観点から好ましい。また、重量平均分子量が５００以上であると防汚性が充分に発現する観点から好ましい。
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５５】
【化１５】
2014070165.tif 000016
【００５６】
【化１６】
2014070165.tif 000017
【００５７】
【化１７】
2014070165.tif 000018
【００５８】
【化１８】
2014070165.tif 000019
【００５９】
【化１９】
2014070165.tif 000020
【００６０】
【化２０】
2014070165.tif 000021
【００６１】
【化２１】
2014070165.tif 000022
【００６２】
【化２２】
2014070165.tif 000023
【００６３】
【化２３】
2014070165.tif 000024
【００６４】
【化２４】
2014070165.tif 000025
【００６５】
【化２５】
2014070165.tif 000026
【００６６】
【化２６】
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【００６７】
【化２７】
2014070165.tif 000028
【００６８】
【化２８】
2014070165.tif 000029
【００６９】
【化２９】
2014070165.tif 000030
【００７０】
【化３０】
2014070165.tif 000031
【００７１】
【化３１】
2014070165.tif 000032
【００７２】
【化３２】
2014070165.tif 000033
【００７３】
【化３３】
2014070165.tif 000034
【００７４】
【化３４】
2014070165.tif 000035
【００７５】
【化３５】
2014070165.tif 000036
【００７６】
本発明の重合性組成物において、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）の含有量は、組成物の全固形分を基準として、０．１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましく、５〜１０質量％であることが更に好ましい。
【００７７】
次に、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）の製造方法について説明する。
本発明の、パーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位及び４つ以上の重合性基を有し、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）の製造方法としては、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）を製造し得る限り特に制限はなく、例えば、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）におけるパーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位を、対応するポリエーテル構造を有する繰り返し単位を有する化合物をパーフルオロ化反応で処理するなどにより製造することができる。
一般式（Ｉ）で表される化合物についてはパーフルオロポリエーテルに連結基Ｌ１及びＬ２を導入後、連結基（溶剤溶解性基）Ｙ１及びＹ２を導入することができる。連結基（溶剤溶解性基）Ｙ１及びＹ２の導入には末端のアルコールと（１）環状エーテル（エチレンオキシド）の開環反応によるアルキレングリコールユニットの導入、（２）ビスフェノールＡの芳香環上置換によるビスフェノールユニットの導入等により行うことができる。その後、重合性基を有する基Ｘ１及びＸ２を導入することで製造することができる。
一般式（ＩＩ）で表される化合物についてはパーフルオロポリエーテルに連結基（溶剤溶解性基）Ｙ３及びＹ４を導入し、その後、連結基Ｌ３及びＬ４を導入し、最後に重合性基を有する基Ｘ３及びＸ４を導入することにより製造することができる。
前記パーフルオロ化反応としては、公知の方法を用いることができ、例えば、液相フッ素化法、エアロゾルフッ素化法、電解フッ素化法、フッ化コバルトによるフッ素化法などが挙げられ、生成物の収率が高いという利点から、液相フッ素化法がより好ましい。
【００７８】
本発明の前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）の製造方法において、下記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−６）のいずれかで表される化合物を液相フッ素化法により処理することによりパーフルオロポリエーテル構造を有する繰り返し単位を得る工程を有することが好ましい。
【００７９】
【化３６】
2014070165.tif 000037
【００８０】
上記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−６）中、
Ａ１〜Ａ６及びＢ１〜Ｂ６は、各々独立に、水酸基の保護基を表す。
Ａ１〜Ａ６及びＢ１〜Ｂ６についての保護基としては、水酸基を保護し得る限り特に制限はないが、アシル基、アリールカルボニル基、アルキル基などが挙げられる。
Ｒ３〜Ｒ６、Ｒ７〜Ｒ１２、Ｒ１３〜Ｒ２０、Ｒ２１〜Ｒ３０、Ｒ３１〜Ｒ４２、及びＲ４３〜Ｒ５６は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基又は少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１０の直鎖状アルキル基を表す。
ｋ１〜ｋ６は、各々独立に、５〜５０の整数を表し、８〜３０の整数であることが好ましい。
炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基としては、炭素数１〜８の直鎖状アルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられる。
少なくとも１つのエーテル結合を有する炭素数２〜１０の直鎖状アルキル基としては、−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ１Ｈで表される基であることが好ましい。ｍ１は１〜９の整数を表し、１〜８の整数であることが好ましい。
前記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−６）のいずれかで表される化合物の具体例を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８１】
【化３７】
2014070165.tif 000038
【００８２】
液相フッ素化法を用いる場合、液相は化合物自身でもよいが、生成物や反応に関与しない溶媒であることが好ましい。該溶媒としては、パーフルオロ化反応に不活性な溶媒がより好ましく、さらには化合物を１質量％以上溶解させ得るパーフルオロ化反応に不活性な溶媒が特に好ましい。
該溶媒の具体的な例としては、液相フッ素化の溶媒として用いられている公知の溶媒、例えば、ＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔＦＣ−７２（商品名、３Ｍ社製）などのパーフルオロカーボン類、ＧＡＬＤＥＮ  ＨＴ−７０（商品名、Ｓｏｌｖａｙ  Ｓｏｌｅｘｉｓ社製）などのエーテル性酸素原子含有パーフルオロカーボン類、パーフルオロトリブチルアミンなどのパーフルオロアミン類、無水フッ化水素などが挙げられる。
前記反応で用いる溶媒としては、前記パーフルオロカーボン類であることが好ましく、沸点８５℃以下のパーフルオロカーボン類であることがより好ましい。前記反応で用いる溶媒の質量は、化合物の質量に対して３倍〜１００００倍であることが好ましく、５〜１０００倍であることがより好ましく、５〜２００倍であることが特に好ましい。
【００８３】
液相フッ素化法に用いるフッ素ガスは、そのまま用いてよいが、フッ素ガスに対して不活性なガス又は溶媒で希釈して用いることがより好ましく、さらにはフッ素ガスに対して不活性なガスで希釈して用いることが特に好ましい。
フッ素ガスに対して不活性なガスとしては、ヘリウムガスや窒素ガスなどが挙げられるが、経済的な理由から窒素ガスがより好ましい。窒素ガス中のフッ素ガスの体積濃度は、５％以上が好ましく、さらには１０％以上がより好ましい。フッ素化反応に用いるフッ素は、パーフルオロ化に供する化合物（例えば、前記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−６）のいずれかで表される化合物）をパーフルオロ化するために最低限必要な量の１〜１００倍が好ましく、１．１〜１０倍がより好ましい。パーフルオロ化するために最低限必要なフッ素の量は、パーフルオロ化され得る部分の数と、その部分をパーフルオロ化するために必要なフッ素の分子数の総和から算出される。パーフルオロ化され得る部分及び必要なフッ素の分子数の例としては、炭素−水素結合１箇所に対してフッ素１分子、炭素−炭素二重結合１箇所に対してフッ素１分子、炭素−炭素二重結合１箇所に対してフッ素２分子である。より具体的な例を挙げると、分子中に炭素−水素結合を６箇所及び炭素−炭素二重結合を２箇所及び炭素−炭素三重結合１箇所を有する化合物１モルをパーフルオロ化するために最低限必要なフッ素の量は、１０モルと算出される。
【００８４】
液相フッ素化法の反応形式は、バッチ式でも連続式でもよい。本発明の実施例ではバッチ式で行っている。
【００８５】
液相フッ素化法による反応温度は、溶媒の沸点以下にするのが好ましい。反応収率や工業的実施の点から−４０〜＋１００℃にすることがより好ましく、さらには−２０〜＋６０℃にすることが特に好ましい。
【００８６】
液相フッ素化法による反応圧力は、特に限定されないが、通常の場合、工業的実施の点から大気圧〜１ＭＰａにするのが好ましい。
【００８７】
液相フッ素化法による反応では、水素原子がフッ素原子に置換され、フッ化水素が副生成する。フッ化水素以外を溶媒とする場合、この副生成するフッ化水素を除去する目的で、反応器内にフッ化水素捕捉剤（例えばフッ化ナトリウムなど）を添加する、反応器のガス出口にフッ化水素捕捉器（例えばフッ化ナトリウムを充填したガス精製管など）を設置する、反応器のガス出口から出るガス（出口ガス）を冷却し液化フッ化水素を分離する、出口ガスをガス洗浄器に導き処理するなどの処理を行うことが好ましい。反応器中にフッ化水素捕捉剤を添加する場合、過剰の捕捉剤を添加することが好ましい。例えば、フッ化ナトリウムを捕捉剤として添加する場合、副生成するフッ化水素に対してモル比で１〜１００倍量を添加することが好ましく、モル比で１〜１０倍量を添加することがより好ましい。
【００８８】
前記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−６）のいずれかで表される化合物は、下記一般式（Ｖ−１）〜（Ｖ−６）のいずれかで表される化合物を開環重合して得ることが好ましい。これにより、前記一般式（ＩＩＩ−１）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３〜Ｒｆ６で表される基の種類及び前記基の数、前記一般式（ＩＩＩ−２）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ７〜Ｒｆ１２で表される基の種類及び前記基の数、前記一般式（ＩＩＩ−３）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ１３〜Ｒｆ２０で表される基の種類及び前記基の数、前記一般式（ＩＩＩ−４）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ２１〜Ｒｆ３０で表される基の種類及び前記基の数、前記一般式（ＩＩＩ−５）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ３１〜Ｒｆ４２で表される基の種類及び前記基の数、前記一般式（ＩＩＩ−６）における前記繰り返し単位間で、Ｒｆ４３〜Ｒｆ５６で表される基の種類及び前記基の数を、それぞれ、同一とすることができる。
【００８９】
【化３８】
2014070165.tif 000039
【００９０】
上記一般式（Ｖ−１）〜（Ｖ−６）中、
Ｒ３〜Ｒ６、Ｒ７〜Ｒ１２、Ｒ１３〜Ｒ２０、Ｒ２１〜Ｒ３０、Ｒ３１〜Ｒ４２、及びＲ４３〜Ｒ５６は、前記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−６）におけるＲ３〜Ｒ６、Ｒ７〜Ｒ１２、Ｒ１３〜Ｒ２０、Ｒ２１〜Ｒ３０、Ｒ３１〜Ｒ４２、及びＲ４３〜Ｒ５６と同義である。
前記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−６）のいずれかで表される化合物を得るための前記開環重合反応は「アルキレンオキシド重合体」（海文堂：柴田満太、斉藤政博、秋本新一共編）に基づいて行うことができる。
【００９１】
（Ｂ）光重合開始剤
本発明の重合性組成物は、光重合開始剤（Ｂ）を含有することが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤については、特開２００８−１３４５８５号公報の段落［０１４１］〜［０１５９］にも記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【００９２】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【００９３】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【００９４】
光重合開始剤は、重合性組成物全固形分に対して、０．１〜１５質量％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量％の範囲である。
【００９５】
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントンなどを挙げることができる。更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
【００９６】
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）」などが挙げられる。
【００９７】
（Ｃ）有機溶剤
本発明の重合性組成物は有機溶剤（Ｃ）を含有することが好ましい。
重合性組成物を形成するための前記各成分を含む組成物を溶解する溶媒としては、特に限定されないが、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤が好ましく用いられる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、メチルイソプロピルケトン、エチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｔ−ブチルケトン、ジアセチル、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、メシチルオキサイド、クロロアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等をあげることができる。この中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましい。これらの溶媒は単独で用いても、任意の混合比で混合して用いてもよい。
【００９８】
また、補助溶媒として、適宜、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、又はフッ素系溶剤（フッ素系アルコールなど）を用いることができる。これらの溶媒は単独で用いても、任意の混合比で混合して用いてもよい。
【００９９】
以下、本発明の反射防止フィルムについて説明する。
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に少なくとも１層の低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層が、前記重合性組成物から形成される。
（反射防止フィルムの製造方法）
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず低屈折率層用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【０１００】
塗布後、光照射あるいは加熱して、重合性組成物から形成される層を硬化する。これにより低屈折率層が形成される。必要に応じて、透明支持体上にあらかじめその他の層（以下に述べるフィルムを構成する層、例えば、ハードコート層、防眩層、中屈折率層、高屈折率層など）を塗設しておき、その上に低屈折率層が形成することができる。このようにして本発明の反射防止フィルムが得られる。
なお、以下に述べるフィルムを構成する層（例えば、ハードコート層、防眩層、中屈折率層、高屈折率層など）を塗設についても、上記と同様の塗布方法を適用することができる。
【０１０１】
（反射防止フィルムの層構成）
本発明の反射防止フィルムは、透明な支持体上に、低屈折率層、及び目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けることにより作製することができる。
好ましい一つの態様としては、透明支持体上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムを挙げることができる。反射防止フィルムは、最も単純な構成では、透明支持体上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、透明支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、透明支持体側から高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（透明支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する透明支持体上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
【０１０２】
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層がこの順に透明支持体側から積層されており、
該中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６５であり、該中屈折率層の厚さが５０．０ｎｍ〜７０．０ｎｍであり、
該高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、該高屈折率層の厚さが９０．０ｎｍ〜１１５．０ｎｍであり、
該低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、該低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍである
ことが好ましい。
【０１０３】
本発明の反射防止フィルムは、上記構成の中でも、以下に示す構成（１）又は構成（２）が、特に好ましい。
構成（１）：
中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６４であり、中屈折率層の厚さが５５．０ｎｍ〜６５．０ｎｍであり、
高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが１０５．０ｎｍ〜１１５．０ｎｍであり、
低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
構成（２）：
中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６５であり、中屈折率層の厚さが５５．０ｎｍ〜６５．０ｎｍであり、
高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが９０．０ｎｍ〜１００．０ｎｍであり、
低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍである反射防止フィルム。
【０１０４】
各層の屈折率と厚みを上記範囲内とすることで反射色の変動をより小さくできる。構成（１）は反射色の変動を小さく抑えつつ、反射率を特に低くすることができる構成であり、特に好ましい。また、構成（２）は反射率の変動が構成（１）よりも更に小さく抑えられる構成であり、膜厚変動に対するロバスト性に優れるため、特に好ましい。
【０１０５】
そして、本発明においては、設計波長λ（＝５５０ｎｍ：視感度が最も高い波長域の代表）に対して、上記中屈折率層が下式（イ）を、上記高屈折率層が下式（ロ）を、上記低屈折率層が下式（ハ）をそれぞれ満足することが好ましい。
【０１０６】
式（イ）      λ／４×０．６８＜ｎ１ｄ１＜λ／４×０．７４
式（ロ）    λ／２×０．６６＜ｎ２ｄ２＜λ／２×０．７２
式（ハ）  λ／４×０．８４＜ｎ３ｄ３＜λ／４×０．９２
【０１０７】
（但し、式中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３＜ｎ１＜ｎ２である）
【０１０８】
上記式（イ）、式（ロ）、式（ハ）を満足する場合には、反射率が低くなり、且つ反射色の変化を抑制することができるために好ましい。また、これにより、指紋や皮脂等の油脂成分が付着した際に色味の変化が少ないために汚れが視認されにくくなるために好ましい。
【０１０９】
本発明における前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）、及び含フッ素多官能アクリレートを含有した低屈折率層と上記層構成とを組み合わせて用いることで、多層干渉膜構成にしてもマジックや指紋、皮脂等の油脂成分が付着しにくく、付着しても拭き取りやすくかつ目立たなくすることが可能となる。
本発明において、平均反射率は視認性の観点から１．２０％未満であることが好ましく、１．１６％未満であることがより好ましい。
また、画像表示装置の表面に設置した場合、平均反射率（鏡面反射率）の平均値を０．５％以下とすることにより、映り込みを著しく低減することができ、好ましい。
【０１１０】
鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”（日本分光（株）製）にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角θ（θ＝５〜４５°、５°間隔）における出射角−θの鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の各入射角の入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価することができる。
【０１１１】
各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を３〜５μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定することができる。本明細書では、「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ  部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用することができる。
各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）や、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、ＴＥＭによる膜厚測定が望ましい。その場合は、１０箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
【０１１２】
本発明の反射防止フィルムは、製造時の形態がフィルムをロール状に巻き取った形態をしていることが好ましい。その場合に、反射色の色味のニュートラリティーを得るためには、任意の１０００ｍ長の範囲の層厚の平均値ｄ（平均値）、最小値ｄ（最小値）、及び最大値ｄ（最大値）をパラメーターとする下記式（６）で算出される層厚分布の値が、薄膜層の各層につき、５％以下であることが好ましく、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以下、よりさらに好ましくは２．５％以下、２％以下が特に好ましい。
【０１１３】
式（６）：（最大値ｄ−最小値ｄ）×１００／平均値ｄ
【０１１４】
次に、本発明の反射防止フィルムを構成する透明支持体及び各層について詳細に説明する。
［透明支持体］
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、透明基材フィルムが好ましい。透明基材フィルムとしては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることがさらに好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常１００ｍ〜５０００ｍ、好ましくは５００ｍ〜３０００ｍのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることがさらに好ましい。
透明支持体については、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１６３］〜［０１６９］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１１５】
［ハードコート層］
本発明の反射防止フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【０１１６】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６０である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
【０１１７】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
又はハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。さらに、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１１８】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む重合性組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。具体的には下記重合性不飽和基を有する多官能モノマーで挙げた化合物を好ましく用いることができる。
（重合性不飽和基を有する多官能モノマー）
重合性不飽和基を有する多官能モノマーは、重合性不飽和基を３つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。前記重合性不飽和基を有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができる。後述の重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体と併用することで、耐擦傷性あるいは薬品処理後の耐擦傷性を向上させることもできる。
重合性不飽和基を有する多官能モノマーは、フッ素を含んでいないものでも、フッ素を含んでいるものでもよい。
【０１１９】
本発明に用いられる非含フッ素多官能モノマーについて説明する。該モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【０１２０】
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１２１】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１２２】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類（多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類）は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１２３】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
【０１２４】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を用いることが支持体とハードコート層の干渉による色味ムラを抑制するという観点から好ましい。
【０１２５】
（導電性化合物）
本発明におけるハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。
【０１２６】
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができ、特開２０１０−０８４４２５、特許第４００６０５号公報などに記載の化合物を好ましく用いることができる。
【０１２７】
（防眩層）
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１２８】
［高屈折率層及び中屈折率層］
高屈折率層の屈折率は、前記のように１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることがさらに好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
酸素濃度が好ましくは６体積％以下の雰囲気で硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。
【０１２９】
また、高屈折率層の屈折率制御に際しては、無機微粒子を使用することが好ましいが、本業界でよく用いられている二酸化チタン粒子は光触媒作用のために、耐光性が悪化するなどの問題が生じ、製造適性、耐久性などの面で問題となる場合がある。高屈折率層の屈折率を上述の範囲内とすることで、二酸化チタン粒子より低い屈折率の無機微粒子、例えば、酸化ジルコニウム粒子を使用することができ、製造適性、耐久性の面でも優れている。
【０１３０】
上述したように、中屈折率層は、高屈折率層と同様の材料を用いかつ同様にして得ることができる。
具体的には、中屈折率層、高屈折率層が前記式（Ｉ）、式（ＩＩ）の膜厚と屈折率を満足するように微粒子の種類、樹脂の種類を選択すると共にその配合比率を決め、主な組成を決定することが一例として挙げられる。
【０１３１】
上記全ての層を形成するための組成物には、低屈折率層用組成物と同様の溶剤を用いることができる。
【０１３２】
［低屈折率層］
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３５〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
【０１３３】
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９５゜以上であることが好ましい。更に好ましくは１０２゜以上である。特に、接触角が１０５°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、表面自由エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２３ｍＮ／ｍ以下であることが特に好ましく、２０ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、表面自由エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以下である。
【０１３４】
（低屈折率層の形成）
低屈折率層は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ａ）、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた重合性組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が０．５体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が０．１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．０５体積％以下、最も好ましくは０．０２体積％以下である。
【０１３５】
前記重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体は、低屈折率層皮膜を形成し、バインダーとして機能することができる。
前記重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体は、少なくとも一種の含フッ素ビニルモノマーを重合して得ることが好ましい。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。
【０１３６】
低屈折率層に用いる前記無機微粒子としては特に制限はないが、平均粒子サイズが５〜１２０ｎｍであることが好ましく、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
【０１３７】
無機微粒子としては、低屈折率の観点からフッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。
前記無機微粒子としては、多孔質又は中空微粒子も好ましい態様として挙げられる。
［多孔質又は中空微粒子の調製方法］
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第１段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。
【０１３８】
本発明の反射防止フィルムの構成の中でも特に以下の反射防止フィルムの構成（３）又は（４）とすることにより低反射率で反射色が均一でニュートラルであり、指紋や皮脂が付着した際に拭き取れやすく、かつ目立ちにくい優れた防汚性を示し、耐擦傷性にも優れるため、好ましい。
【０１３９】
構成（３）
透明支持体：トリセルロースアセテートフィルム（屈折率：１．４９、膜厚６０μｍ）
ハードコート層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤（屈折率１．４９、膜厚１０μｍ）
中屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．６２、膜厚６０ｎｍ）
高屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．７２、膜厚１１０ｎｍ）
低屈折率層：重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー（フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物）、前記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ａ）、光重合開始剤（屈折率：１．３６、膜厚９０ｎｍ）
構成（４）
透明支持体：トリセルロースアセテートフィルム（屈折率：１．４９、膜厚６０μｍ）
ハードコート層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤（屈折率１．４９、膜厚１０μｍ）
中屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、リン含有酸化錫微粒子又はアンチモンドープ酸化錫微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．６３５、膜厚６０ｎｍ）
高屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．７２、膜厚９５ｎｍ）
低屈折率層：重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー（フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物）、前記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ａ）、光重合開始剤（屈折率：１．３６、膜厚９０ｎｍ）
【０１４０】
［偏光板用保護フィルム］
本発明の反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１４１】
反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
【０１４２】
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、（１）予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の反射防止フィルムを構成する各層を塗設する手法、（２）透明支持体の一方の面に反射防止層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理する手法、（３）透明支持体の一方の面に反射防止層の一部を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理した後に残りの層を塗設する手法、の３手法があげられるが、（１）は反射防止層を塗設するべき面まで親水化され、透明支持体と反射防止層との密着性の確保が困難となるため、（２）の手法が特に好ましい。
【０１４３】
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記本発明の反射防止フィルムである。
【０１４４】
反射防止フィルムの透明支持体が、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１４５】
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
【０１４６】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記反射防止フィルムを用いて形成されており、該偏光板の反射防止フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１４７】
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１４８】
また、本発明の画像表示装置は、前記本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。
【０１４９】
［撥水ないし撥油膜］
また、本発明の重合性組成物を用いて撥水ないし撥油膜を形成することができる。
本発明は前記撥水ないし撥油膜に関するものでもある。
【実施例】
【０１５０】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。
【０１５１】
＜合成例１：前記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ａ）の合成＞
化合物（Ａ−１）の合成
下記合成スキーム１の通り製造した。
【０１５２】
【化３９】
2014070165.tif 000040
【０１５３】
（工程１）
「アルキレンオキシド重合体」（海文堂：柴田満太、斉藤政博、秋本新一共編）に基づいてエポキシ環を開環重合して得られるポリブチレングリコール（平均分子量：７００）６０．０ｇ、１，４-ジオキサン１５０ｍＬ、水酸化カリウム０．９０ｇをとり、０℃で撹拌させながら、アクリロニトリル２１．４ｇを滴下したのち、４０℃で８時間撹拌させた。反応液に酢酸エチル２００ｍＬ、ヘキサン２００ｍＬを添加し、１規定の塩酸、水、重層水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し化合物（１）を得た。収量５９．９６ｇ、収率８５．０％。
（工程２）
三口フラスコに化合物（１）６０．０ｇ、メタノール３００ｍＬをとり、０℃の浴中に設置した。反応容器の出口に、ガストラップ（水、１規定の水酸化ナトリウム水溶液）をそれぞれ設置した。塩化水素ガス（純度９９．７％以上、東亜合成株式会社製）を１００ｍＬ／分の速度で吹き込んだ。塩化水素が溶液中に飽和したところで、塩化水素ガスを３０ｍＬ／分の速度で３０分間吹き込んだ。塩化水素ガス吹き込み終了後、ＴＬＣにより化合物（１）の消失を確認した。反応液に水１００ｍＬを添加したのち、１５分間撹拌を行った。２規定の水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ７に調整し、酢酸エチルを３００ｍＬ、ヘキサン７００ｍＬで希釈後、有機層を取り出した。有機層を水、重層水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物（２）を得た。収量４７．１６ｇ、収率７３．０％。
【０１５４】
（工程３）
三口フラスコに水素化ホウ素ナトリウム１２．２ｇ、テトラヒドロフラン１５０ｍＬを取り、０℃で撹拌しながら、テトラヒドロフラン３０ｍＬで希釈した化合物（２）６０．０ｇをフラスコ中に滴下した。滴下終了後、室温（２５℃）に戻しそのまま１時間撹拌させた。反応液を酢酸エチル５００ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物（３）を得た。収量５３．８４ｇ、収率９５．５％。
（工程４）
三口フラスコに化合物（３）６０．０ｇ、酢酸エチル１５０ｍＬ、ピリジン１２．０ｇを取り、０℃で攪拌させながら、７Ｈ−ドデカフルオロヘプタン酸塩化物５０．２１ｇを加えた後、室温（２５℃）に戻しそのまま４時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル１５０ｍＬ、ヘキサン３５０ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物（４）を得た。収量７３．９５ｇ、収率７０．３％。
【０１５５】
（工程５）
フッ素樹脂製反応容器に含フッ素溶媒ＦＣ−７２（Ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ、３Ｍ社製）３００ｍＬ、フッ化ナトリウム３８．８ｇを取り、ヘリウム雰囲気下、０℃の浴中に設置した。反応容器の出口には、フッ化ナトリウムペレット充填層、及び−４０℃に保持した冷却器を直列に設置した。２５０ｍＬ／分の速度でヘリウムガスを１時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０％に希釈したフッ素ガス（以下、単に希釈フッ素ガスという）を２５０ｍＬ／分の速度で１０分間吹き込んだ。続いて希釈フッ素ガスを２５０ｍＬ／分の速度で吹き込みながら、化合物（４）６．０ｇ、含フッ素溶媒ＡＫ−２２５（アサヒクリン、旭硝子株式会社製）１２ｇ、ヘキサフルオロベンゼン０．１５ｇ溶液を４．０ｍＬ／時間の速度で添加した。添加終了後、希釈フッ素ガスを２５０ｍＬ／分の速度で１５分間吹き込んだ。この後、希釈フッ素ガスを２５０ｍＬ／分の速度で吹き込みながら、ヘキサフルオロベンゼン１０ｍＬを１０ｍＬ／時間の速度で添加した。添加終了後、希釈フッ素ガスを２５０ｍＬ／分の速度で１５分間吹き込み、さらにヘリウムガスを２５０ｍＬ／分の速度で１時間吹き込み、反応容器中の残存フッ素ガスを追い出した。ＧＣ及びＧＣ−ＭＳ分析により、ペルフルオロ化が完全に進行したことを確認した。
反応液から固形物を濾別した後、フッ化ナトリウム３８．８ｇを加え、室温下で攪拌させたメタノール溶液３００ｍＬ中に反応液を滴下した。２．５時間攪拌させた後、固形物を濾別した。反応液に含フッ素溶媒ＦＣ−７２を３００ｍＬを加え、重層水、水、飽和食塩水で洗浄した。その後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。精製は減圧蒸留により行い、化合物（５）を得た。収量４．９７ｇ、収率５０．４％。
【０１５６】
（工程６）
三口フラスコに水素化ホウ素ナトリウム０．４５ｇ、テトラヒドロフラン１５ｍＬを取り、０℃で撹拌しながら、テトラヒドロフラン５ｍＬで希釈した化合物（５）６．０ｇをフラスコ中に滴下した。滴下終了後、室温（２５℃）に戻しそのまま１時間撹拌させた。反応液を酢酸エチル５０ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物（６）を得た。収量５．４７ｇ、収率９３．３％。
（工程７）
フラスコに化合物（６）４．０ｇ、１，４−ジオキサン１５ｍＬ、炭酸カリウム０．９０ｇ、エピクロロヒドリン０．３３ｇを取り、４０℃で６時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル１５ｍＬ、ヘキサン３５ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。次に、濃縮物に水酸化カリウム０．３７ｇ、水３ｇ、１，４−ジオキサン３０ｍＬを取り、８０℃で６時間撹拌した。室温に戻した反応液に酢酸エチル５０ｍＬを加え、水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物（７）を得た。収量３．５４ｇ、収率８３．４％。
【０１５７】
（工程８）  
窒素ガスで満たした三口フラスコに化合物（７）３．０ｇ、水素化カリウム０．１０ｇ、テトラヒドロフラン（脱水）２０ｍＬを取り、溶液中に窒素ガスを導入しながら３時間撹拌した。その後、エチレンオキシドを０．５１ｇ導入した後、室温で１２時間撹拌した。反応液を酢酸エチル５０ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物（８）を得た。収量３．０７ｇ、収率８５．１％。
（工程９）
三口フラスコに化合物（８）３．０ｇ、ピリジン０．３８ｇ、酢酸エチル１０ｍＬを取り、０℃で攪拌させながら、塩化アクリロイル０．３８ｇを加えた後、室温（２５℃）に戻しそのまま４時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル５０ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物（Ａ−１）を得た。収量２．９８ｇ、収率９３．０％。
【０１５８】
＜合成例２：前記一般式（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）の合成＞
化合物（Ａ−２）の合成
下記合成スキーム２の通り製造した。
【０１５９】
【化４０】
2014070165.tif 000041
【０１６０】
工程１から工程６までは合成例１と同様の方法により、化合物（６）を得た。
（工程７）
窒素ガスで満たした三口フラスコに化合物（７）４．０ｇ、水素化カリウム０．１２ｇ、テトラヒドロフラン（脱水）２０ｍＬを取り、溶液中に窒素ガスを導入しながら３時間撹拌した。その後、エチレンオキシドを０．６５ｇ導入した後、室温で１２時間撹拌した。反応液を酢酸エチル５０ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物（９）を得た。収量３．９２ｇ、収率８５．１％。
（工程８）
フラスコに化合物（９）３．０ｇ、エピクロロヒドリン０．２２ｇ、炭酸カリウム０．６１ｇ、１，４−ジオキサン２０ｍＬを取り、４０℃で６時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル１５ｍＬ、ヘキサン３５ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。次に、濃縮物に水酸化カリウム０．２５ｇ、水２ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを取り、８０℃で６時間撹拌した。反応液に酢酸エチル５０ｍＬを加え、水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物（１０）を得た。収量２．６８ｇ、収率８５．０％。
（工程９）
三口フラスコに化合物（１０）３．０ｇ、酢酸エチル１０ｍＬ、ピリジン０．４１ｇを取り、０℃で攪拌させながら、塩化アクリロイル０．４２ｇを加えた後、室温（２５℃）に戻しそのまま４時間攪拌させた。反応液を酢酸エチル５０ｍＬで希釈後、１規定の塩酸、水、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮し、化合物（Ａ−２）を得た。収量３．０３ｇ、収率９４．０％。
【０１６１】
［実施例１〜１１及び比較例１〜３］
〔反射防止フィルムの作製〕
下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製し、各層を形成して、実施例１〜１１及び比較例１〜３の反射防止フィルムを作製した。
【０１６２】
（ハードコート層用塗布液Ａの調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液Ａを調製した。
【０１６３】
（中屈折率層用塗布液Ａの調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【０１６４】
（中屈折率層用塗布液Ｂの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１４質量部、メチルエチルケトン６６．５質量部、メチルイソブチルケトン９．５質量部及びシクロヘキサノン１９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【０１６５】
（中屈折率層用塗布液Ｃの調製）
下記表２に示す各試料の屈折率となるように、中屈折率用塗布液Ａと中屈折率用塗布液Ｂとを適量混合し、中屈折率塗布液Ｃを調製した。
【０１６６】
（高屈折率層用塗布液Ａの調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）１５．７質量部に、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【０１６７】
（低屈折率層用塗布液の調製）
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０１６８】
【化４１】
2014070165.tif 000042
【０１６９】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。
【０１７０】
（中空シリカ粒子分散液Ａの調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ（イソプロピルアルコール）残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。
【０１７１】
（低屈折率層用塗布液の調製）
各成分を下記表１のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度５質量％の低屈折率層用塗布液Ｌｎ１〜Ｌｎ１４を作製した。
【０１７２】
【表１】
2014070165.tif 000043
【０１７３】
防汚剤として、下記化合物Ａ−１〜Ａ−１１、及びＡＣ−１〜ＡＣ−３を使用した。
なお、下記（ＡＣ−１）は、特開２００９−２５６５９７号公報に記載の化合物１、
下記（ＡＣ−２）は、特許４５５６１５１号に記載のフッ素化合物（３）、
下記（ＡＣ−３）は、特表２００４−５２７７８２号公報に記載の化合物である。
また、前述の通り、特開２００９−２５６５９７号公報に記載の化合物１（ＡＣ−１）実際には、下記（ＡＣ−１’）の構造である。
【０１７４】
【化４２】
2014070165.tif 000044
【０１７５】
【化４３】
2014070165.tif 000045
【０１７６】
【化４４】
2014070165.tif 000046
【０１７７】
【化４５】
2014070165.tif 000047
【０１７８】
その他、それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・Ｐ−１：パーフルオロオレフィン共重合体（１）
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・分散液Ａ：前記中空シリカ粒子分散液Ａ（アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度１８．２％）
・Ｉｒｇ１２７：光重合開始剤イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
・Ｍ−１：下記含フッ素多官能アクリレート（フッ素含有率４４．９質量％、４官能）
【０１７９】
【化４６】
2014070165.tif 000048
【０１８０】
（ハードコート層Ａの作製）
層厚６０μｍの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ６０ＵＬ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１０μｍのハードコート層Ａを形成した。
【０１８１】
ハードコート層Ａの上に、それぞれ所望の屈折率となるように調整した、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。なお、各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定した。「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ  部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。
【０１８２】
各層の膜厚は、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を積層後に反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用した。
【０１８３】
中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。
【０１８４】
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。
【０１８５】
（低屈折率層の作製）
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。
【０１８６】
以上の方法で作製した実施例１〜１１及び比較例１〜３の反射防止フィルムの作製に使用した塗布液、各層の屈折率及び層厚を表２に示す。
【０１８７】
【表２】
2014070165.tif 000049
【０１８８】
（反射防止フィルムの評価）
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８９】
（１）スチールウール耐傷性（ＳＷ耐性）評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
Ａ  ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
Ｂ  ：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
Ｃ  ：弱い傷が見える。
Ｄ  ：中程度の傷が見える。
Ｅ  ：一目見ただけで分かる傷がある。
【０１９０】
（２）相対表面自由エネルギー
接触角計［“ＣＡ−Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃／６５％ＲＨ）で、液体として純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これをフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とし、測定した。また、水の代わりにヨウ化メチレンを用いて接触角を測定し、以下の式より表面自由エネルギーを求めた。
表面自由エネルギー（γｓｖ：単位、ｍＮ／ｍ）とはＤ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、反射防止フィルム上で実験的に求めた純水Ｈ２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ２Ｉ２のそれぞれの接触角θＨ２Ｏ、θＣＨ２Ｉ２から以下の連立方程式ａ，ｂより求めたγｓｄとγｓｈの和で表される値γｓｖ（＝γｓｄ＋γｓｈ）で定義した。
ａ．１＋ｃｏｓθＨ２Ｏ＝
２√γｓｄ（√γＨ２Ｏｄ／γＨ２Ｏｖ）＋２√γｓｈ（√γＨ２Ｏｈ／γＨ２Ｏｖ）
ｂ．１＋ｃｏｓθＣＨ２Ｉ２＝
２√γｓｄ（√γＣＨ２Ｉ２ｄ／γＣＨ２Ｉ２ｖ）＋２√γｓｈ（√γＣＨ２Ｉ２ｈ／γＣＨ２Ｉ２ｖ）
γＨ２Ｏｄ＝２１．８、γＨ２Ｏｈ＝５１．０、γＨ２Ｏｖ＝７２．８、
γＣＨ２Ｉ２ｄ＝４９．５、γＣＨ２Ｉ２ｈ＝１．３、γＣＨ２Ｉ２ｖ＝５０．８
算出された実施例１〜１１及び比較例１〜３の表面自由エネルギーについて、比較例１の表面自由エネルギーを１００として、実施例１〜１１及び比較例２、３の反射防止フィルムの表面自由エネルギーを、その相対値として下記表３に示した。
【０１９１】
（３）溶剤溶解性
防汚剤  １００ｍｇをメチルエチルケトン５ｇに溶解させ、目視にて溶解性を確認した。
Ａ：防汚剤が完全に溶解している。
Ｂ：防汚剤が一部溶けず濁っている。
Ｃ：防汚剤が溶けていない。
【０１９２】
（４）防汚耐久性
フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で黒マジック「マッキー極細（商品名：ＺＥＢＲＡ製）」のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、１０秒後に１０枚重ねに折り束ねたベンコット（商品名、旭化成（株））でベンコットの束がへこむ程度の荷重で２往復拭き取る。マジック跡が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価した。消えなくなるまでの回数は１０回以上であることが好ましく、１５回以上であることが更に好ましい。
【０１９３】
（５）指紋拭き取り性１
試料の裏側に油性黒インキを塗った後、塗布面に指を押し付け指紋を付着させた。付着した指紋をティッシュペーパーで１０往復拭き取り、付着した指紋の残り跡を観察し評価した。
Ａ：指紋の付着跡が完全に見えない。
Ｂ：指紋の付着跡がわずかに見えるが気にならない。
Ｃ：指紋の付着跡が見え、気になる。
Ｄ：指紋の拭き取り跡がはっきりと視認でき気になる。
Ｅ：指紋が拭き取れない
【０１９４】
（６）指紋拭き取り性２
試料の裏側に油性黒インキを塗った後、塗布面に指を押し付け指紋を付着させた。付着した指紋をティッシュペーパーで拭き取り、付着した指紋の残り跡が完全に見えなくなるまでの拭き取り回数（往復）を評価した。少ない回数で完全に見えなくなるものが好ましい。
【０１９５】
（７）面状評価
上記のように低屈折率層用塗布液を塗布して得た低屈折率層のハジキ状の点欠陥を拡大鏡を用いて目視にてＡ〜Ｃで評価した。
Ａ：点欠陥がほとんどなく、均一かつ平滑な低屈折率層ができている。
Ｂ：低屈折率層表面に点欠陥が少し見られる。
Ｃ：低屈折率層表面に点欠陥が多数見られる。
【０１９６】
評価結果を表３に示す。
【０１９７】
【表３】
2014070165.tif 000050
【０１９８】
表３に示した結果から明らかなように、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）を満たさない防汚剤を使用した比較例１〜３は、防汚剤の溶剤溶解性が低く、低屈折率層の面状が悪く、相対表面自由エネルギーも高く、防汚耐久性も低く、指紋拭取り性にも劣ることがわかる。
一方、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物（Ａ）を使用した実施例１〜１１は、防汚剤の溶剤溶解性が高く、低屈折率層の面状に優れ、相対表面自由エネルギーも低く、防汚耐久性も高く、指紋拭取り性にも優れることがわかる。