(57)【要約】【課題】アクリル樹脂基材と配向層との密着性に優れ、且つ配向不良が低減された位相差フィルムが得られる位相差フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】酸化防止剤及び紫外線吸収剤の少なくとも１つを含むアクリル樹脂基材を準備する工程と、前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上であり、且つ前記光配向性化合物の２３℃における溶解度が３．０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上である溶剤と、光配向性化合物とを含む配向層形成用組成物を準備する工程と、前記アクリル樹脂基材の一面側に配向層を形成する工程と、前記配向層上に位相差層を形成する工程とを有することを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。【選択図】図１
2014199332.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル樹脂基材の一面側に、配向層と、位相差層とがこの順に設けられた位相差フィルムの製造方法であって、
酸化防止剤及び紫外線吸収剤の少なくとも１つを含むアクリル樹脂基材を準備する工程と、
前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上であり、且つ前記光配向性化合物の２３℃における溶解度が３．０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上である溶剤と、光配向性化合物とを含む配向層形成用組成物を準備する工程と、
前記アクリル樹脂基材の一面側に、前記配向層形成用組成物を塗布、乾燥し、光照射をすることにより、配向層を形成する工程と、
前記配向層上に、液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を塗布し、前記液晶化合物を配向させて、位相差層を形成する工程とを有することを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記配向層を形成する工程の前に、さらに、前記アクリル樹脂基材の一面側を、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）未満である溶剤を用いて、洗浄する工程を有する、請求項１に記載の位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より液晶表示装置においては、視角依存性の問題を改善するために、様々な技術が開発されており、その１つとして、複屈折性を示す位相差層を有する位相差フィルムが液晶セルと偏光板との間に配置された液晶表示装置が知られている（例えば、特許文献１〜２）。
上記位相差層を有する位相差フィルムとしては、基材上に、液晶化合物を一定方向に配列させる配向規制力を有する配向層と、当該配向層上に形成され、一定方向に配列された液晶化合物を含有する位相差層とを有するものが用いられている。
【０００３】
また、フラットパネルディスプレイとしては、従来、２次元表示のものが主流であったが、近年においては３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集め始めている。そして、今後のフラットパネルディスプレイにおいては３次元表示可能であることが、その性能として当然に求められる傾向にあり、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。
【０００４】
フラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、視聴者に対して何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを別個に表示することが必要とされる。右目用の映像と左目用の映像とを別個に表示する方法としては、例えば、パッシブ方式というものが知られている。このようなパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図２はパッシブ方式で３次元映像を表示可能な液晶表示装置の一例を示す概略図である。図２に示すようにこの方式では、まず、フラットパネルディスプレイを構成する画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の２種類の画素に分類し、ディスプレイ表示領域に右目用の画素と左目用の画素が隣接し合うようなパターン状に配列する。一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。また、直線偏光板と当該画素の配列パターンに対応したパターン状の位相差層が形成されたパターン位相差フィルム（以下、単にパターン位相差フィルムということがある。）とを用い、右目用の映像と、左目用の映像とをそれぞれ円偏光に変換する。さらに、視聴者には右目用レンズと左目用レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用の映像が左目用のレンズのみを通過するようにする。このようにして右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることによって３次元表示が可能となる。
このようなパッシブ方式では、上記パターン位相差フィルムと、対応する円偏光メガネとを用いることにより、容易に３次元表示が可能なものにできるという利点がある。
【０００５】
上記パターン位相差フィルムとしては、例えば、特許文献３に、ガラス基板上に配向規制力がパターン状に制御された光配向層と、当該光配向層上に形成され、液晶化合物の配列が上記光配向層のパターンに対応するようにパターニングされた位相差層（液晶層）とを有するパターン位相差板が開示されている。
【０００６】
ここで、位相差フィルムやパターン位相差フィルムが優れた光学性能を発揮するためには、厚み方向のリタデーションの値の変化が小さいことや、液晶化合物が配向層によって一定方向に配列されることにより、フィルム全体で或いはフィルム中の各パターン内で光軸が一定であることが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平３−６７２１９号公報
【特許文献２】特開平４−３２２２２３号公報
【特許文献３】特開２００５−４９８６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本発明者らは、位相差フィルムの光学性能を更に向上させるために、位相差フィルムに用いられる樹脂基材として、従来主流であったトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材の代わりに、膜厚方向の位相差が小さいアクリル樹脂基材を用いることを検討した。
しかしながら、基材の溶剤耐性や、基材と当該基材上に形成される塗膜との密着性を考慮すると、アクリル樹脂基材を用いる場合は、基材に直接塗布する塗工液に使用可能な溶剤の種類が限定される。
さらに、アクリル樹脂基材上に塗布する配向層用塗工液中の溶剤として、基材の溶剤耐性や基材と塗膜の密着性の観点からは使用可能なものを用いても、形成された配向層に配向不良が生じる場合があった。
【０００９】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、アクリル樹脂基材と配向層との密着性に優れ、且つ配向不良が低減された位相差フィルムが得られる位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る位相差フィルムの製造方法は、アクリル樹脂基材の一面側に、配向層と、位相差層とがこの順に設けられた位相差フィルムの製造方法であって、
酸化防止剤及び紫外線吸収剤の少なくとも１つを含むアクリル樹脂基材を準備する工程と、
前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上であり、且つ前記光配向性化合物の２３℃における溶解度が３．０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上である溶剤と、光配向性化合物とを含む配向層形成用組成物を準備する工程と、
前記アクリル樹脂基材の一面側に、前記配向層形成用組成物を塗布、乾燥し、光照射をすることにより、配向層を形成する工程と、
前記配向層上に、液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を塗布し、前記液晶化合物を配向させて、位相差層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００１１】
本発明に係る位相差フィルムの製造方法は、前記配向層を形成する工程の前に、さらに、前記アクリル樹脂基材の一面側を、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）未満である溶剤を用いて、洗浄する工程を有することが、配向性をさらに向上する点から好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、アクリル樹脂基材と配向層との密着性に優れ、且つ配向不良が低減された位相差フィルムが得られる位相差フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る位相差フィルム製造方法により得られる位相差フィルムの一例を示す概略図である。
【図２】パッシブ方式で３次元映像を表示可能な液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明に係る位相差フィルムの製造方法について説明する。
なお、本発明において光軸とは、遅相軸を意味する。
また、本発明において、位相差フィルムとは、特に断りがない限りパターン位相差フィルムをも含むものである。
また、本発明において（メタ）アクリルとは、アクリル及びメタクリルの各々を表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの各々を表す。
【００１５】
本発明に係る位相差フィルムの製造方法は、アクリル樹脂基材の一面側に、配向層と、位相差層とがこの順に設けられた位相差フィルムの製造方法であって、
酸化防止剤及び紫外線吸収剤の少なくとも１つを含むアクリル樹脂基材を準備する工程と、
前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上であり、且つ前記光配向性化合物の２３℃における溶解度が３．０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上である溶剤と、光配向性化合物とを含む配向層形成用組成物を準備する工程と、
前記アクリル樹脂基材の一面側に、前記配向層形成用組成物を塗布、乾燥し、光照射をすることにより、配向層を形成する工程と、
前記配向層上に、液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を塗布し、前記液晶化合物を配向させて、位相差層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００１６】
図１に、本発明に係る位相差フィルム製造方法により得られる位相差フィルムの一例の概略図を示す。図１に例示される位相差フィルム１は、アクリル樹脂基材２の少なくとも一面側に、配向層３と位相差層４とがこの順に設けられたものである。
【００１７】
位相差フィルムの製造に用いられる配向層形成用組成物中の溶剤としては、基材の溶剤耐性や基材と塗膜の密着性の観点から、使用可能なものを選択して用いる必要がある。しかし、基材としてアクリル樹脂基材を用いた場合においては、これらの観点から適切な溶剤を用いても、形成された配向層に配向不良が生じる場合がある。
本発明者らは鋭意検討の結果、アクリル樹脂基材に添加剤が含まれており、当該添加剤が、基材上に塗布された塗工液中の溶剤に溶解することで配向層へ溶出し、配向層中に不純物が混入するため、配向不良が生じるとの知見を得た。さらに、本発明者らは、配向不良を生じさせるアクリル樹脂基材中の典型的な添加剤として酸化防止剤と紫外線吸収剤に着目した。
また、配向層形成用組成物に含まれる溶剤は、基材と配向層との密着性の観点から、アクリル樹脂基材に浸透できる程度にアクリル樹脂基材に対する溶解度を有する必要があり、配向規制力の観点から、用いられる光配向性化合物を均一に溶解できる程度に、当該光配向性化合物に対する溶解度を有する必要がある。
そこで、本発明者らは、配向層形成用組成物に含まれる溶剤として、アクリル樹脂基材中に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の溶解度が小さく、且つアクリル樹脂基材及び配向層中の光配向性化合物の溶解度は所定値以上である溶剤を、これら各材料の種類に応じて適宜選択して用いて位相差フィルムを製造することにより、アクリル樹脂基材と配向層との密着性に優れ、且つ配向層の配向阻害が抑制され、均一な配向規制力を有する配向性に優れた位相差フィルムが得られることを見出した。
【００１８】
本発明に係る位相差フィルムの製造方法は、アクリル樹脂基材準備工程、配向層形成用組成物準備工程、配向層形成工程、位相差層形成工程を有し、好ましくは、前記配向層形成工程の前に、さらにアクリル樹脂基材の洗浄工程を有する方法であり、さらに、必要に応じて他の工程を有していてもよい。
以下、本発明の製造方法における各工程について、順に説明する。
【００１９】
＜アクリル樹脂基材準備工程＞
本発明に用いられるアクリル樹脂基材のアクリル樹脂としては、光学フィルム用途として従来公知のアクリル樹脂基材に用いられるものの中から適宜選択すればよい。例えば、（メタ）アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸又はその誘導体等の単量体を重合して得られるアクリル樹脂等が挙げられる。これらの中で、透明性及び耐候性の点で、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル単位を主構成成分とする共重合体、又はスチレン−メタクリル酸メチル共重合体が好ましい。
【００２０】
また、本発明に用いられるアクリル樹脂基材は、添加剤として少なくとも酸化防止剤又は紫外線吸収剤を含む。
本発明における酸化防止剤とは、アクリル樹脂の酸化を抑制するために添加される添加剤をいい、ラジカル連鎖禁止作用、三重項の消去作用、ハイドロパーオキサイドの分解作用の何れかをもつものである。また、本発明において酸化防止剤には、従来酸化防止剤として用いられている公知のものに加え、上記酸化防止剤の作用をもたらすことができる化合物等も含まれる。
前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えば、フェノール系、アミン系、硫黄系、リン系の酸化防止剤等が挙げられる。
【００２１】
フェノール系酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（エーピーアイコーポレーション社製ヨシノックスＢＨＴ）、４，４’−ブチリデンビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）（エーピーアイコーポレーション社製ヨシノックスＢＢ）、２，２’−メチレンビス−（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（エーピーアイコーポレーション社製ヨシノックス２２４６Ｇ）、２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（エーピーアイコーポレーション社製ヨシノックス４２５）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール（エーピーアイコーポレーション社製２５０）、１，１，３−トリス（２−メチル−４ヒドロキシ−５−ブチルフェニル）ブタン（エーピーアイコーポレーション社製ヨシノックス９３０）、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（エーピーアイコーポレーション社製トミノックスＳＳ）、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（エーピーアイコーポレーション社製トミノックスＴＴ）、トリエチレングリコールビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］（エーピーアイコーポレーション社製トミノックス９１７）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン（商品名：IRGANOX １３３０ チバ・ジャパン社製）、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（商品名：IRGANOX １０１０ チバ・ジャパン社製）、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート（商品名：Sumilizer ＧＭ 住友化学社製）、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート（商品名：Sumilizer ＧＳ 住友化学社製）、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）（商品名：IRGANOX １０９８ チバ・ジャパン社製）、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（商品名：IRGANOX ２５９ チバ・ジャパン社製）、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］１，１−ジメチルエチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５.５］ウンデカン(商品名：Sumilizer ＧＡ−８０ 住友化学社製) 、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート（商品名：IRGANOX ３１１４ チバ・ジャパン社製）、イソオクチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（商品名：IRGANOX １１３５ チバ・ジャパン社製）、４，４′−チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）（商品名：Sumilizer ＷＸ−Ｒ 住友化学社製）、および６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン（商品名：Sumilizer ＧＰ 住友化学社製）、トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸（Cyanox １７９０、サイテック製）等が挙げられる。
【００２２】
アミン系酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えば、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン（川口化学工業社製Ａｎｔａｇｅ ３Ｃ）、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン（川口化学工業社製Ａｎｔａｇｅ ６Ｃ）、６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（川口化学工業社製Ａｎｔａｇｅ ＡＷ）、オクチルジフェニルアミン、Ｎ−ｎ−ブチル−ｐ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノメチルメタクリレート等が挙げられる。
【００２３】
硫黄系酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート（エーピーアイコーポレーション社製ＤＬＴＰ）、ジステアリルチオジプロピオネート（エーピーアイコーポレーション社製ＤＳＴＰ）、ジミリスチルチオジプロピオネート（エーピーアイコーポレーション社製ＤＭＴＰ）、ジトリデシルチオジプロピオネート（エーピーアイコーポレーション社製ＤＴＴＰ）等が挙げられる。
【００２４】
リン系酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えば、トリフェニルホスファイト（ＴＴＰ）、トリイソデシルホスファイト（ＴＤＰ）等が挙げられる。
【００２５】
前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤としては、これらの中でもフェノール系酸化防止剤が好適に用いられている。
【００２６】
本発明において紫外線吸収剤とは、波長３８０ｎｍ以下の紫外線領域に吸収スペクトルを持つ化合物をいい、従来紫外線吸収剤として用いられている公知のものに加え、紫外線吸収機能を発揮できるものも含まれる。
前記アクリル樹脂基材に含まれる紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系；２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール等のトリアジン系；オクタベンゾン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシフェノン等のベンゾフェノン系；フェニルサリシレート等のサリシレート系；２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系等の有機系紫外線吸収剤、並びに、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等の無機系紫外線吸収剤等が挙げられる。前記アクリル樹脂基材に含まれる紫外線吸収剤としては、中でもベンゾフェノン系やベンゾトリアゾール系が好適に用いられている。
【００２７】
前記アクリル樹脂基材の全固形分中における前記酸化防止剤及び前記紫外線吸収剤の合計含有量は、特に限定されないが、酸化防止効果及び紫外線吸収効果のうち少なくともいずれかを十分に発揮することができ、アクリル樹脂基材からの酸化防止剤及び紫外線吸収剤のブリードアウトを防ぐことができる点から、通常０．０１〜１０質量％程度である。
【００２８】
前記アクリル樹脂基材の厚みは、位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性を付与できる範囲内で適宜設定すればよく、通常０．０２〜１０ｍｍ程度の範囲内である。
【００２９】
＜配向層形成用組成物準備工程＞
配向層は、光配向性化合物又はその反応生成物を含むものであり、偏光紫外線の照射により、位相差層に含まれる屈折率異方性を有する液晶化合物を、一定方向に配列させることができる配向規制力を有する層である。
本発明において、配向層の形成に用いられる配向層形成用組成物の組成は、前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上であり、且つ前記光配向性化合物の２３℃における溶解度が３．０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上である溶剤と、光配向性化合物とを含めば、特に限定されず、必要に応じて他の成分を含んでもよいものである。
ここで、光配向性化合物は、偏光紫外線照射により配向規制力を発現できる化合物を指すものである。また、「配向規制力」とは、後述する液晶化合物を配列させる相互作用を意味するものとする。
【００３０】
このような光配向性化合物としては、偏光を照射することにより上記配向規制力を発現するものであれば特に限定されるものではない。このような光配向性化合物はシス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本発明においては上記光異性化材料、および、上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。上述したように光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力の経時安定性において優れるからである。
【００３１】
上記光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および、光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においては上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも、安定性および反応性（感度）等の観点から光二量化型材料を用いることがより好ましい。
【００３２】
本発明に用いられる光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されない。中でも、光二量化反応を生じる光の波長が２８０ｎｍ以上であることが好ましく、特に２８０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、さらには３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００３３】
このような光二量化型材料としては、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、シンナミリデン酢酸、及びこれらの誘導体を有するポリマーを例示することができる。なかでも工程においてはシンナメート、または、クマリンの少なくとも一方を有するポリマー、シンナメートおよびクマリンを有するポリマー、並びにこれらの誘導体が好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、および、ＷＯ２０１０／１５０７４８号公報、ＷＯ２０１１／１２６０１９号公報、ＷＯ２０１１／１２６０２１号公報、ＷＯ２０１１／１２６０２２号公報に記載された化合物を挙げることができる。
【００３４】
上記シンナメート、および、クマリンとしては、下記式Ｉａ、Ｉｂで表されるものが好適に用いられる。
【００３５】
【化１】
2014199332.tif 000003
【００３６】
上記式中、Ａは、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェニレン、２，５−フラニレン、１，４−もしくは２，６−ナフチレンを表すか、非置換であるか、フッ素、塩素または炭素原子１〜１８個の環式、直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル残基（非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、１個以上の隣接しない−ＣＨ２−基が独立してＺ１によって置換されていてもよい）によって一または多置換されているフェニレンを表す。
前記Ｚ１は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（Ｒ１は水素原子または低級アルキルを表す）から選択される基を表す。
上記式中、Ｂは、水素原子を表すか、第二の物質、たとえばポリマー、オリゴマー、モノマー、光活性ポリマー、光活性オリゴマー、光活性モノマー、もしくは表面と反応または相互作用することができる基を表す。
上記式中、Ｓ１およびＳ２は、互いに独立して、単結合またはスペーサー単位、たとえば炭素原子１〜４０個の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキレン基（非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、１個以上の隣接しない−ＣＨ２−基が独立してＺ２によって置換されていてもよいが、酸素原子が互いに直接的には結合していない）を表す。
前記Ｚ２は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−および−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（Ｒ１は水素原子または低級アルキルを表す）から選択される基、芳香族基または脂環式基を表す。
上記式中、Ｑは、酸素原子または−ＮＲ１−（Ｒ１は水素原子または低級アルキルを表す）を表す。
上記式中、ＸおよびＹは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、シアノ、炭素原子１〜１２個のアルキル（場合によってはフッ素によって置換されており、場合によっては１個以上の隣接しないアルキル−ＣＨ２−基が−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−および／または−ＣＨ＝ＣＨ−によって置換されている）を表す。
なお、このような光二量化型材料としては、具体的には、ＷＯ０８／０３１２４３号公報やＷＯ０８/１３０５５５号公報ではＲｏｌｉｃ社からＲＯＰ−１０３（商品名）として市販されているものを用いることができる。
【００３７】
また、本発明に用いられる光配向性化合物としては、屈折率異方性を有するものであっても良い。このような屈折率異方性を有する光配向性化合物としては、具体的には、特開２００２−８２２２４号公報に記載されるものを用いることができる。
【００３８】
なお、本発明に用いられる光配向性化合物は、１種類のみであってもよく、または、２種類以上を用いてもよい。
【００３９】
前記配向層形成用組成物は、少なくとも光配向性化合物を含むものであるが、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。
このような他の化合物としては、配向層の配向規制力を損なわないものであれば特に限定されないが、一つ以上の官能基を持つモノマー又はオリゴマーが好適に用いられる。このようなモノマー又はオリゴマーを含むことにより、配向層上に屈折率異方性を有する液晶化合物を含む位相差層を形成した場合に、位相差層との密着性に優れたものにできる。
【００４０】
前記モノマー又はオリゴマーとしては、例えば、アクリレート系の官能基を有する単官能モノマー（例えば、反応性エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン）及び多官能モノマー（例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリエチレン（ポリプロピレン）グリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ポリ(メタ）アクリレート（例えば、イソシアヌル酸ＥＯジアクリレート等））や、ビスフェノールフルオレン誘導体（例えば、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレンジエポキシ（メタ）アクリレート）等を単体もしくは混合したものとして用いることができる。
【００４１】
さらに、上記モノマー又はオリゴマーは、常温（２０〜２５℃）において固体であるものを用いることが好ましい。これにより、位相差フィルムがロール巻きされた状態で保管される場合でも、基材の裏面に配向層が貼り付くことに起因するブロッキングが生じることを防止できるからである。
【００４２】
前記モノマー又はオリゴマーの含有量としては、本工程により形成される配向層の配向規制力を損なわず、かつ所望の密着性等を発揮できるものであれば特に限定されるものではないが、前記光配向性化合物の質量に対して０．０１倍〜３倍の範囲内が好ましく、特に０．０５倍〜１．５倍の範囲内であることが好ましい。
【００４３】
配向層形成用組成物において、光配向性化合物を含む溶剤以外の固形分の含有量は、適宜調整すればよく、特に限定されないが、溶剤を含んだ配向層形成用組成物全体に対して２〜５０質量％であることが好ましい。
【００４４】
前記配向層形成用組成物に含まれる溶剤は、前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上であり、且つ前記光配向性化合物の２３℃における溶解度が３．０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上である。
なお、前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下とは、前記アクリル樹脂基材に酸化防止剤及び紫外線吸収剤の両方共が含まれる場合、酸化防止剤の２３℃における溶解度が１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であり、且つ、紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であることをいう。また、酸化防止剤がアクリル樹脂基材に２種以上含まれる場合には、各酸化防止剤に対して、２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であることをいう。
また、前記配向層形成用組成物に含まれる溶剤は、前記アクリル樹脂基材の変形やクラックを防止する観点から、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が３（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であることが好ましい。
【００４５】
このような溶剤としては、使用するアクリル樹脂基材、並びに当該アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤、紫外線吸収剤及び光配向性化合物により、適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、２−プロパノール（ＩＰＡ）、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール（ＰＧＭＥ）等のアルコール系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）、乳酸エチル等のエステル系溶剤；アセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等のケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の塩素系脂肪族炭化水素系溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素系芳香族炭化水素系溶剤；アセトニトリル等のニトリル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶剤；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素含有溶剤等が挙げられる。
【００４６】
これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。前記配向層形成用組成物に含まれる溶剤として混合溶剤が用いられる場合は、当該混合溶剤として、上記特定の溶解度の条件を満たしているように適宜選択される。
アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤に対する溶解度については、アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の構造を予め特定し、当該酸化防止剤及び紫外線吸収剤を対象として、溶剤を選定する。
アクリル樹脂基材中の酸化防止剤及び紫外線吸収剤は、例えば、アクリル樹脂基材を当該アクリル樹脂基材の良溶媒に溶解させて、ガスクロマトグラフ質量分析を行って構造を特定することができる。或いは、アクリル樹脂基材を溶剤に溶解させることなく、二次イオン質量分析を行うことにより、アクリル樹脂基材中の酸化防止剤及び紫外線吸収剤の構造を特定してもよい。
【００４７】
また、混合溶剤とする場合の目安としては、中でも、位相差フィルムの配向不良を防止する点から、酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１３（ｇ／１００ｇ溶剤）以下の溶剤を、溶剤全体の７０質量％以上含むことが好ましく、更に８０質量％以上含むことが好ましく、より更に９０質量％以上含むことがより好ましい。
例えば１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸のようなフェノール系酸化防止剤の２３℃における溶解度が１３（ｇ／１００ｇ溶剤）以下の溶剤としては、例えば、ＩＰＡ、ＰＧＭＥ、エタノール等が挙げられる。
また、前記溶剤としては、位相差フィルムの配向不良を防止する点から、酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以上の溶剤の含有量が、溶剤全体の３０質量％以下であることが好ましく、更に２０質量％以下であることが好ましい。
例えば１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸のようなフェノール系酸化防止剤の２３℃における溶解度が１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以上の溶剤としては、例えば、ＰＧＭＥＡ、ＭＩＢＫ等が挙げられる。
また、前記溶剤としては、位相差フィルムの配向不良を防止する点から、酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々２０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上の溶剤の含有量が、溶剤全体の１０質量％未満であることが好ましく、更に５質量％未満であることが好ましい。
例えば１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸のようなフェノール系酸化防止剤の２３℃における溶解度が２０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上の溶剤としては、例えば、ＭＥＫ、酢酸エチル等が挙げられる。
【００４８】
また、前記溶剤としては、配向層形成時にアクリル樹脂基材に溶剤を浸透させることによりアクリル樹脂基材と配向層との密着性を向上する点から、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上の溶剤を用い、好ましくは、０．２（ｇ／１００ｇ溶剤）以上の溶剤を用いる。前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が低い溶剤に、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が比較的高い溶剤を添加することにより、混合溶剤の前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度を０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上とすることもできる。混合溶剤において、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が比較的高い溶剤を添加する量は、溶解度の大きさにも依存するため、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）以上になるように、適宜調整すれば良い。
混合溶剤を調製する場合の目安として、例えば、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．２（ｇ／１００ｇ溶剤）以上の溶剤を、溶剤全体の２質量％以上含むことが好ましい。
前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．２（ｇ／１００ｇ溶剤）以上の溶剤としては、例えば、ＰＧＭＥＡ、ＭＩＢＫ、ＭＥＫ、酢酸エチル等が挙げられる。
【００４９】
前記アクリル樹脂基材が例えば１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸のようなフェノール系酸化防止剤を含有する場合、好ましく用いられる溶剤としては、例えば、ＰＧＭＥとＰＧＭＥＡとの混合溶剤であって、ＰＧＭＥ：ＰＧＭＥＡ（質量比）が７０：３０〜９０：１０であり、より好ましくは７５：２５〜８５：１５の混合溶剤；ＰＧＭＥとＭＥＫとの混合溶剤であって、ＰＧＭＥ：ＭＥＫ（質量比）が９５：５〜９８：２の混合溶剤；ＰＧＭＥとＭＩＢＫとの混合溶剤であって、ＰＧＭＥ：ＭＩＢＫ（質量比）が８０：２０〜９５：５の混合溶剤；ＰＧＭＥと酢酸エチルとの混合溶剤であって、ＰＧＭＥ：酢酸エチル（質量比）が９５：５〜９８：２の混合溶剤等が挙げられる。
なお、混合溶剤の詳細な比率は、アクリル樹脂基材に含まれる各酸化防止剤及び紫外線吸収剤に応じて、適宜調整されれば良い。
【００５０】
配向層形成用組成物中の溶剤の含有量は、適宜調整すればよく、特に限定されないが、塗工性の点から、溶剤を含んだ配向層形成用組成物全体に対して５０〜９８質量％であることが好ましい。
【００５１】
＜アクリル樹脂基材洗浄工程＞
本発明の位相差フィルムの製造方法においては、後述する配向層形成工程の前に、配向層を形成するアクリル樹脂基材の一面側を、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）未満である溶剤を用いて、洗浄する工程を含むことが好ましい。当該洗浄工程により、アクリル樹脂基材に悪影響を与えることなく、アクリル樹脂基材表面に存在する酸化防止剤及び紫外線吸収剤を低減することができる。その結果、アクリル樹脂基材から配向層への添加剤の溶出をさらに防止することができるため、位相差フィルムの配向性を向上することができる。
また、前記洗浄工程に用いられる溶剤としては、特に限定されないが、アクリル樹脂基材上に存在する酸化防止剤及び紫外線吸収剤を除去する作用に優れる点から、前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が各々１０（ｇ／１００ｇ溶剤）以上であることが好ましい。なお、前記洗浄工程に用いられる溶剤の前記溶解度は、アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤を溶出しない点から、１５（ｇ／１００ｇ溶剤）以下であることが好ましい。
【００５２】
前記洗浄工程に用いられる溶剤としては、揮発性が低すぎると洗浄工程の乾燥に時間がかかることから、中でも相対蒸発速度が５０〜７００であるものが好適に用いられる。ここで相対蒸発速度とは、酢酸−ｎ−ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対的な蒸発速度をいう。
【００５３】
前記洗浄工程に用いられる溶剤としては、上記に規定するアクリル樹脂基材に対する溶解度を有するものであれば特に限定されず、使用する材料に応じて適宜選択することができる。例えば、酸化防止剤として例えば１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸のようなフェノール系酸化防止剤を含有するアクリル樹脂基材を用いる場合は、前記洗浄工程において用いることができる溶剤としては、１−メトキシ−２−プロパノール（ＰＧＭＥ）、２−プロパノール（ＩＰＡ）、エタノール等が挙げられる。
【００５４】
また、前記洗浄工程は、特に限定されないが、異なる溶剤を用いて複数回行ってもよい。中でも、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．１（ｇ／１００ｇ溶剤）未満である溶剤のうちから、前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度が相対的に高い溶剤を先の洗浄工程において用い、次に、前記アクリル樹脂基材に含まれる酸化防止剤及び紫外線吸収剤の２３℃における溶解度は相対的に低いが相対蒸発速度が相対的に高い溶剤に置換して早く乾燥することが、効率良く基材上の酸化防止剤及び紫外線吸収剤を洗浄除去することができる点から好ましい。例えば、酸化防止剤として１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸のようなフェノール系酸化防止剤を含有するアクリル樹脂基材を用いる場合は、前記洗浄工程としては、酸化防止剤の溶解度がより高い溶剤であるＰＧＭＥで洗浄した後、酸化防止剤の溶解度はより低いが相対蒸発速度がより高い溶剤であるＩＰＡで置換して洗浄することが好ましい。
【００５５】
前記洗浄工程におけるアクリル樹脂基材の洗浄方法は、特に限定されず、一般的な洗浄方法により行うことができるが、例えば、配向層を形成するアクリル樹脂基材の一面側を、一般的な洗浄装置等を用いて、ＰＧＭＥ等の上記の溶剤により洗浄した後、２０〜２５℃下、エアブロー等を用いて、０．１〜３分間空気を吹き付けながら溶剤を蒸発させることにより、速乾させる方法等が挙げられる。
【００５６】
＜配向層形成工程＞
配向層は、前記配向層形成用組成物を前記アクリル樹脂基材の一面側に塗布、乾燥し、光照射をすることにより形成される。
【００５７】
（塗布）
前記配向層形成用組成物を前記アクリル樹脂基材の一面側に塗布する方法は、アクリル樹脂基材表面に配向層形成用組成物を均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ブレードコート法、マイクログラビアコート法、スプレーコート法、スピンコート法等の公知の方法が用いられる。
【００５８】
また、アクリル樹脂基材上への配向層形成用組成物の塗工量は、得られる配向層が所望の配向規制力を発現するものであればよく、適宜調整すればよい。中でも、得られる配向層の厚さが５０〜３００ｎｍとなることが好ましく、１００〜２００ｎｍとなることがより好ましい。配向層の厚さが前記範囲内であれば、配向層は配向規制力に優れる。
【００５９】
（乾燥）
前記塗布方法のいずれかで塗布した後、配向層形成用組成物中に含まれる溶剤を乾燥する。
具体的には、塗布直後に、ブロアー等で空気を吹き付けながら乾燥してもよい。具体的な乾燥温度としては、例えば、３０℃〜１２０℃が挙げられ、４０〜１１０℃が好ましい。また、乾燥風速としては０．２ｍ／ｓ〜５０ｍ／ｓであることが好ましく、乾燥時間としては２０秒〜３分、好ましくは３０秒〜２分程度の範囲内で適宜調整することが好ましい。
なお、ここで配向層形成用組成物の固形分濃度、配向層形成用組成物の温度、乾燥温度、乾燥風の風速、乾燥時間、乾燥ゾーンの溶剤雰囲気濃度等を選定することにより、後述する浸透層の厚みを調整できる。特に、乾燥条件の選定によって浸透層の厚みを調整する方法が好ましい。
前記乾燥は、浸透層の厚みを厚くするために、空気を吹き付けず２０〜３０℃で自然乾燥してもよい。
【００６０】
（光照射）
光照射は、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。照射光としては、例えば、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用される。紫外線を照射する場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用することができる。
配向層形成用組成物が塗布された側から光照射をしてもよく、配向層形成用組成物が塗布された面とは反対のアクリル樹脂基材側から光照射をしてもよい。
照射量は、配向層形成用組成物中に含まれる光配向性化合物が配向できる露光量となるように適宜調整すればよい。
【００６１】
（浸透層）
本発明においては、光照射をすることで、乾燥した塗膜が、光配向すると同時に硬化することにより、配向層が形成されると共に、アクリル樹脂基材に前記光配向性化合物が浸透した浸透層を形成してもよい。ここで浸透層とは、少なくとも、アクリル樹脂基材の成分と、光配向性化合物とが混合した層をいう。
本発明においては、アクリル樹脂基材と配向層との密着性を向上することができる点から、浸透層を有することが好ましい。
当該浸透層の存在は、例えば、位相差フィルムの断面の電子顕微鏡写真、断面の顕微ＩＲによるマッピングやＴＯＦ−ＳＩＭＳ法によって、確認することができる。
【００６２】
＜位相差層形成工程＞
位相差層形成工程は、前記配向層上に、液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を塗布し、前記液晶化合物を配向させて、位相差層を形成する工程である。
位相差層は、前記配向層の配向規制力に沿って、液晶化合物が規則的に配列されることにより、所望の位相差性が付与されたものである。
また、位相差層形成用組成物は、少なくとも、液晶化合物と溶剤を含有するものであり、必要に応じて他の成分を含むものであってもよい。
【００６３】
前記液晶化合物としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す液晶性分子材料が挙げられ、中でも、規則的に配列させることが容易な点から、ネマチック液晶性分子材料が好ましい。さらに、ネマチック液晶性分子材料の中でも、柔軟性に優れ、透明性に優れた位相差フィルムを製造できる点から、メソゲン両端にスペーサを有するものがより好ましい。
【００６４】
また、前記液晶化合物としては、分子内に重合性官能基を有する重合性液晶化合物が好ましく、３次元架橋可能な重合性官能基を有する重合性液晶化合物がより好ましい。
重合性液晶化合物は、液晶分子内に重合性官能基を有し、光の照射によって光重合開始剤から発生したラジカル、または電子線等の作用により、液晶分子間で架橋することができるため位相差フィルムの安定性が向上する。重合性液晶化合物としては、例えば、重合性基を有する、ネマチック液晶性分子材料、コレステリック液晶性分子材料、カイラルネマチック液晶性分子材料、スメクチック液晶性分子材料、ディスコチック液晶性分子材料等を挙げることができる。
【００６５】
位相差層の形成方法としては、所望の厚みの位相差層を精度良く塗工できる方法であれば特に限定されるものではない。塗布、乾燥、硬化の方法については、上記配向層形成工程と同様の方法を用いることができる。
【００６６】
位相差層の厚みは、特に限定されないが、例えば１ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内で設定することができ、好ましくは、５００ｎｍ〜１５００ｎｍである。
【００６７】
また、パターン位相差フィルムの場合は、例えば、特開２０１２−１４０６４号公報に記載の方法等を参考にして製造することができる。
【実施例】
【００６８】
以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。なお、実施例における略号は以下の通りである。
・ＰＧＭＥ…１−メトキシ−２−プロパノール
・ＰＧＭＥＡ…プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート
・ＭＥＫ…メチルエチルケトン
・ＩＰＡ…２−プロパノール
【００６９】
（実施例１）
まず、位相差フィルムの製造に使用するアクリル樹脂基材と同種類のアクリル樹脂基材をＰＧＭＥに溶解させた溶液を得た。得られた溶液をガスクロマトグラフ質量分析することにより、当該アクリル樹脂基材中に酸化防止剤Ａ（１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸）が含有されていることを確認した。
【００７０】
次に、光二量化反応型の光配向性化合物Ａを４．５質量％と、ＰＧＭＥとＰＧＭＥＡを８０：２０（質量比）の割合で混合させた混合溶剤１を９５．５質量％含有する配向層形成用組成物を準備した。
混合溶剤１は、酸化防止剤Ａの２３℃における溶解度が１３（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．２（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、光配向性化合物Ａの２３℃における溶解度が４．５（ｇ／１００ｇ溶剤）であった。
【００７１】
次に、前記アクリル樹脂基材の一面側に、前記配向層形成用組成物を塗布し、１００℃で乾燥させて、乾燥後の膜厚が１５０ｎｍの塗膜とした。当該塗膜に、第一の偏光紫外線を幅５００μｍのストライプパターンを有するマスクを介して露光量１０ｍＪで照射した。次いで、第一の偏光紫外線の偏光軸とのなす角が９０°の偏光軸を有する第二の偏光紫外線をマスクを介さずに露光量１０ｍＪで照射して、ストライプパターンを有する膜厚が１５０ｎｍの配向層を形成した。
当該配向層上に、重合性液晶化合物とメチルイソブチルケトンを含む位相差層形成用組成物を塗布し、紫外線を照射することにより硬化させて、膜厚が１μｍの位相差層を形成し、実施例１の位相差フィルムを得た。
【００７２】
＜配向性評価＞
２枚の偏光板をクロスニコルに配置し、実施例１の位相差フィルムを、２枚の偏光板の間に入れて回転させ、黒輝度の濃淡ムラを目視で観察した。黒輝度に濃淡ムラがなければ、光軸ずれやリターデーションの変化がなく、配向層に部分的な配向不良が生じていないものと評価される。
実施例１の位相差フィルムは、配向不良がほぼ認められず、配向性は良好であった。
【００７３】
＜クロスカット試験（密着性評価）＞
実施例１の位相差フィルムのアクリル樹脂基材と配向層との密着性を評価するために、ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠してクロスカット試験を行った。判定は１００マスのうち、剥離しないマス目の数で表し、剥離しない場合を１００／１００、完全に剥離する場合を０／１００として表す。剥離しないマス目の数が多いほど、密着性に優れる。
実施例１の位相差フィルムは、クロスカット試験にて１００／１００の結果を得て、基材と配向層の密着性に優れることが明らかにされた。
【００７４】
（実施例２）
配向層形成用組成物に含有させる溶剤として、ＰＧＭＥとＭＥＫを９８：２（質量比）の割合で混合させた混合溶剤２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２の位相差フィルムを得た。
混合溶剤２は、酸化防止剤Ａの２３℃における溶解度が１３（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．２（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、光配向性化合物Ａの２３℃における溶解度が４．５（ｇ／１００ｇ溶剤）であった。
【００７５】
実施例２の位相差フィルムについて、実施例１と同様に配向性評価及びクロスカット試験を行った。その結果、実施例２の位相差フィルムは、配向不良がほぼ認められず、配向性は良好であり、クロスカット試験にて１００／１００の結果を得て、基材と配向層の密着性に優れることが明らかにされた。
【００７６】
（実施例３）
配向層形成用組成物に含有させる配向性化合物として、光配向性化合物Ａとは異なる光配向性化合物Ｂを用いたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例３の位相差フィルムを得た。
また、混合溶剤２は、光配向性化合物Ｂの２３℃における溶解度が６．０（ｇ／１００ｇ溶剤）であった。
【００７７】
実施例３の位相差フィルムについて、実施例１と同様に配向性評価及びクロスカット試験を行った。その結果、実施例３の位相差フィルムは、配向不良がほぼ認められず、配向性は良好であり、クロスカット試験にて１００／１００の結果を得て、基材と配向層の密着性に優れることが明らかにされた。
【００７８】
（実施例４）
アクリル樹脂基材の一面側に配向層形成用組成物を塗布する前に、当該アクリル樹脂基材の一面側を、１００％ＰＧＭＥの溶剤で洗浄し、さらに１００％ＩＰＡで置換し、エアで溶剤を速乾させることにより洗浄したこと以外は、実施例３と同様にして、実施例４の位相差フィルムを得た。
１００％ＰＧＭＥは、酸化防止剤Ａの２３℃における溶解度が１０（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．０５（ｇ／１００ｇ溶剤）であった。
１００％ＩＰＡは、酸化防止剤Ａの２３℃における溶解度が０．８（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．０５（ｇ／１００ｇ溶剤）未満であった。
【００７９】
実施例４の位相差フィルムについて、実施例１と同様に配向性評価及びクロスカット試験を行った。その結果、実施例４の位相差フィルムは、配向不良が認められず、配向性は洗浄しない実施例３と比べて向上した。また、クロスカット試験にて１００／１００の結果を得て、基材と配向層の密着性に優れることが明らかにされた。
【００８０】
（比較例１）
配向層形成用組成物に含有させる溶剤として、１００％ＰＧＭＥを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の位相差フィルムを得た。
１００％ＰＧＭＥは、酸化防止剤Ａの２３℃における溶解度が１０（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．０５（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、光配向性化合物Ａの２３℃における溶解度が４．５（ｇ／１００ｇ溶剤）であった。
【００８１】
比較例１の位相差フィルムについて、実施例１と同様に配向性評価及びクロスカット試験を行った。その結果、比較例１の位相差フィルムは、配向不良がほぼ認められず、配向性は良好であったものの、クロスカット試験にて８０／１００の結果を得て、基材と配向層の密着性に劣ることが明らかにされた。
【００８２】
（比較例２）
配向層形成用組成物に含有させる溶剤として、ＰＧＭＥとＭＥＫを９０：１０（質量比）の割合で混合させた混合溶剤３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例２の位相差フィルムを得た。
混合溶剤３は、酸化防止剤Ａの２３℃における溶解度が２０（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、前記アクリル樹脂基材の２３℃における溶解度が０．３（ｇ／１００ｇ溶剤）であり、光配向性化合物Ａの２３℃における溶解度が４．５（ｇ／１００ｇ溶剤）であった。
【００８３】
比較例２の位相差フィルムについて、実施例１と同様に配向性評価及びクロスカット試験を行った。その結果、比較例２の位相差フィルムは、配向不良が多く認められ、配向性に劣っていた。クロスカット試験では１００／１００の結果を得て、基材と配向層の密着性に優れることが明らかにされた。
【００８４】
（参考例１〜４）
実施例１で用いた配向層形成用組成物に、酸化防止剤Ａをそれぞれ０質量％、０．３質量％、０．９質量％、１．５質量％添加した組成物を用意し、各組成物を硬化後の膜厚が１５０ｎｍとなるようにガラス基板に塗布し、１００℃で乾燥させた後、露光量１０ｍＪの紫外線照射により硬化させて配向層を形成した。当該配向層上に、実施例１と同様にして、位相差層を形成し、参考例１〜４の位相差フィルムを得た。
参考例１〜４の位相差フィルムについて、実施例１と同様にして配向性評価を行った。酸化防止剤Ａを添加しなかった参考例１では、配向性が良好だったが、酸化防止剤Ａを添加した参考例２〜４では配向不良が認められた。
【００８５】
（結果のまとめ）
実施例１〜４で得られた位相差フィルムは、本発明の位相差フィルムの製造方法により製造されたため、配向性が良好であり、アクリル樹脂基材と配向層との密着性に優れていた。また、アクリル樹脂基材の洗浄工程を行った実施例４で得られた位相差フィルムは、配向性がさらに向上した。
一方、比較例１で得られた位相差フィルムは、配向層形成用組成物に含まれる溶剤が、アクリル樹脂基材に対する溶解度が小さいものであったため、アクリル樹脂基材と配向層との密着性に劣っていた。
また、比較例２で得られた位相差フィルムは、配向層形成用組成物に含まれる溶剤が、アクリル樹脂基材中の酸化防止剤に対する溶解度が大きいものであったため、配向性に劣っていた。なお、参考例１〜４の結果から、配向層が酸化防止剤Ａを含有する場合に、配向不良が生じることがわかることから、比較例２において配向性が劣っていたのは、配向層中にアクリル樹脂基材中の酸化防止剤Ａが溶出したためと推定される。
【符号の説明】
【００８６】
１  位相差フィルム
２  アクリル樹脂基材
３  配向層
４  位相差層
【図１】
2014199332.tif 000004
【図２】
2014199332.tif 000005