(57)【要約】【課題】配向膜における欠陥を精度良く検出して修正することができる配向膜の修正方法を提供する。【解決手段】本発明に係る配向膜欠陥の修正方法は、基板の表面に形成された配向膜の表面における画素パターン（１つの繰り返しパターン）の画像を取得する工程（ａ）と、画素パターンの画像を中心として、隣接する画像（上下左右に位置する４つの画像）を取得する工程（ｂ）と、画素パターンの画像と隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像を合成する工程（ｃ）と、繋ぎ合わせた画像内における画素パターンの画像と隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像とを比較することにより、配向膜の欠陥を特定する工程（ｄ）とを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルにおける一対の基板のうち液晶層側に形成された配向膜の欠陥を修正する方法であって、
基板の表面に形成された配向膜の表面における画素パターンの画像を取得する工程（ａ）と、
前記画素パターンの画像を中心として、隣接する画像を取得する工程（ｂ）と、
前記画素パターンの画像と前記隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像を合成する工程（ｃ）と、
前記繋ぎ合わせた画像内における前記画素パターンの画像と前記隣接する画像とを比較することにより、前記配向膜の欠陥を特定する工程（ｄ）と
を含む、修正方法。
【請求項２】
前記画素パターンは、前記液晶パネルにおける繰り返しパターンである、請求項１に記載の修正方法。
【請求項３】
前記繰り返しパターンは、互いに隣接する二画素分の画素パターンである、請求項２に記載の修正方法。
【請求項４】
前記工程（ａ）においては、１つのカメラを用いて、前記画素パターンの画像および前記画素パターンを中心として上下左右に位置する４つの隣接する画像を取得し、
前記工程（ｃ）においては、前記１つのカメラを用いて取得された前記画像を合成する、請求項１から３の何れか１つに記載の修正方法。
【請求項５】
前記工程（ｂ）においては、前記画素パターンの画像を中心として、上下左右および右斜め上下および左斜め上下に位置する８つの隣接する画像を取得し、
前記工程（ｃ）においては、前記画素パターンと前記８つの隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像を合成する、請求項１から３の何れか１つに記載の修正方法。
【請求項６】
前記工程（ｄ）の後に、前記特定された欠陥の位置をセンタリングする工程と、
前記センタリングの後に、前記特定された欠陥を修正する工程と
を含む、請求項１から５の何れか１つに記載の修正方法。
【請求項７】
前記配向膜の欠陥は、前記配向膜上に形成された異物および前記配向膜に形成されたホールの少なくとも一方である、請求項１から６の何れか１つに記載の修正方法。
【請求項８】
前記配向膜が形成された基板は、マザーガラス基板である、請求項１から７の何れか１つに記載の修正方法。
【請求項９】
請求項１から８の何れか１つに記載の修正方法を用いて修正された基板を用意する工程と、
前記基板を貼り合わせる工程と
を含む、液晶パネルの製造方法。
【請求項１０】
液晶パネルにおける一対の基板のうち液晶層側に形成された配向膜の欠陥を修正する装置であって、
基板の表面に形成された配向膜の表面における画素パターンの画像、および、前記画素パターンの画像を中心として隣接する画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部で取得された前記画素パターンの画像と前記隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像を合成する画像合成部と、
前記繋ぎ合わせた画像内における前記画素パターンの画像と前記隣接する画像とを比較することによって前記配向膜の欠陥を特定する欠陥特定部と
を備える、修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配向膜の修正方法、配向膜の修正装置および液晶パネルの製造方法に関する。特に、配向膜の欠陥検出を精度良く行いながら配向膜を自動的に修正する方法および修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の構成部品である液晶パネルは、一対の基板を所定のギャップを確保した状態で対向させた構造を有している。この基板間のギャップには、液晶分子を含む液晶層が封入されている。また、両基板の液晶層に接する面には、液晶分子の配向状態を規制するための配向膜が形成されている。
【０００３】
この配向膜には、異物の付着やピンホールの形成という欠陥が生じる場合がある。すなわち、配向膜の成膜工程で異物が混入することによって、配向膜の表面にその異物が付着することがある。また、その異物を除去することに伴い、配向膜に局所的にピンホールが形成されたり、成膜時に配向膜材料がはじかれてピンホールが生じたりする場合がある。配向膜にこうした欠陥が生じた場合、欠陥は数十ミクロンと小さいものの、欠陥が生じた箇所で正常に画像が表示されずに不良となることがある。そこで、配向膜に生じた欠陥に配向膜材料を再度塗布して修正して、良品化する方法が提案されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２０１１／１２５９８２公報
【特許文献２】特開２００８−７７３７９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
配向膜の欠陥が生じている場合、欠陥修正装置を用いてその欠陥を修復するが、その修復動作では、まず、欠陥修正装置によって修復箇所（欠陥箇所）を検出する必要がある。さらに説明すると、配向膜が形成された基板を欠陥修正装置に配置する前に予め欠陥位置（座標）を特定している場合でも、当該基板を欠陥修正装置に配置した時点で、座標ズレが生じるため、欠陥修正装置での修正において欠陥の正確な位置を特定しておく必要がある。もちろん、欠陥修正装置に配置する前に欠陥位置（座標）が特定されていない場合には、欠陥修正装置にて欠陥およびその位置を検出する必要がある。
【０００６】
配向膜に生じた欠陥を検出する方法の一つとして、差分法（隣接比較法）を用いてその位置を特定することが考えられる。この方法では、一の最小繰り返しパターンに対応する領域をその少なくとも上下左右に位置する最小繰り返しパターン（例えば、画素領域）に対応する領域と比較し、最も変化量の大きい箇所を欠陥として認定する。
【０００７】
さらに説明すると、まず、カメラによって入力された繰り返しパターンを含んだ原画像において、注目画素に対してパターンピッチだけ離れた比較画素を設定する。そして、注目箇所（例えば、注目画素）と比較ポイント（例えば、比較画素）との輝度値をもとに良否判定する画像処理プロセスを実行する。この処理を実行すると、正常な繰り返しパターンのみが消去され、パターン中の欠陥が検出される。この一連の画像処理によってなされるパターン消去から欠陥検出の過程が差分法（隣接比較法）と呼ばれる。特に、比較箇所（比較画素）を注目箇所（注目画素）の周囲上下左右に４点設定するものを十字比較法と呼ぶことがある。
【０００８】
差分法（隣接比較法）では、比較的距離が短い画素同士で良否判定を行うため、繰り返しパターンのズレ、照明ムラなどによる輝度値のばらつきが要因となる欠陥誤検出を減らすことができる。すなわち、理想のマスター画像データ（比較画素データ）と、注目箇所（注目画素データ）とを比較した場合、照明ムラの影響を受けてしまい、正しく欠陥を検出することができない可能性が高くなるが、差分法の場合、そのような影響を緩和することができる。
【０００９】
しかしながら、差分法（隣接比較法）を用いて欠陥の検出を行う場合には、既存の欠陥修正装置のカメラで取得できる画像サイズには上限（例えば１．７９μｍ×２．３７μｍの矩形）が存在するという問題がある。このため、上下左右比較に必要な数の最小繰り返しパターンに対応する領域を取得しようとしても、その領域が欠陥修正装置のカメラによって撮像できる範囲に入りきらないということになる。この問題を解消しようとすると、複数のカメラを配置して、上下左右比較に必要な数の最小繰り返しパターンに対応する領域の画像を取得する必要があるが、その場合、カメラの搭載コストが高くなり、カメラを搭載するための既存の装置改造コストが必要になるという問題がある。
【００１０】
なお、配向膜の欠陥を検出するために開示された差分法ではないが、特許文献２に開示された差分法は、図７に示した構成を有する画像検出装置を用いて行われる。さらに説明すると、まず、撮像して得られた初期背景画像データが、差分演算部３０１に与えられる。また、この初期背景画像データは、背景画像データ更新部３０４にも与えられる。次に、現時点における現フレーム画像データが差分演算部３０１に与えられる。差分演算部３０１では、現フレーム画像データと現時点における背景画像データとの差分を求めるための差分演算を行い、その差分演算結果を差分画像データとして出力する。次に、差分画像データに対して２値化処理部３０２が閾値判定を行い、２値化画像データを出力する。そして、２値化画像データをラベリング処理部３０３によってラベリング処理を行い、該差分画像領域に対するラベル値を出力している。ラベル値によって区別された差分画像領域ごとに、個々の差分画像領域に対する所定の判定を行っている。
【００１１】
そして、図７に示した構成を有する画像検出装置を用いて差分法を配向膜の欠陥を検出する場合に適用したとしても、上記と同様の問題が生じる。すなわち、特許文献２に開示された手法を適用した場合でも、配向膜における上下左右比較に必要な数の最小繰り返しパターンに対応する領域が、カメラによって撮像できる範囲に入りきらないという問題は解消されない。
【００１２】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、物理的な修正装置の改造を行うことなしに、配向膜における欠陥を精度良く検出して修正することができる配向膜の修正方法、配向膜の修正装置および液晶パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る修正方法は、液晶パネルにおける一対の基板のうち液晶層側に形成された配向膜の欠陥を修正する方法であり、基板の表面に形成された配向膜の表面における画素パターンの画像を取得する工程（ａ）と、前記画素パターンの画像を中心として、隣接する画像を取得する工程（ｂ）と、前記画素パターンの画像と前記隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像を合成する工程（ｃ）と、前記繋ぎ合わせた画像内における前記画素パターンの画像と前記隣接する画像とを比較することにより、前記配向膜の欠陥を特定する工程（ｄ）とを含む。
【００１４】
ある好適な実施形態において、前記画素パターンは、前記液晶パネルにおける繰り返しパターンである。
【００１５】
ある好適な実施形態において、前記繰り返しパターンは、互いに隣接する二画素分の画素パターンである。
【００１６】
ある好適な実施形態では、前記工程（ａ）においては、１つのカメラを用いて、前記画素パターンの画像および前記画素パターンを中心として上下左右に位置する４つの隣接する画像を取得し、前記工程（ｃ）においては、前記１つのカメラを用いて取得された前記画像を合成する。
【００１７】
ある好適な実施形態では、前記工程（ｂ）においては、前記画素パターンの画像を中心として、上下左右および右斜め上下および左斜め上下に位置する８つの隣接する画像を取得し、前記工程（ｃ）においては、前記画素パターンと前記８つの隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像を合成する。
【００１８】
ある好適な実施形態では、前記工程（ｄ）の後に、前記特定された欠陥の位置をセンタリングする工程と、前記センタリングの後に、前記特定された欠陥を修正する工程とを含む。
【００１９】
ある好適な実施形態において、前記配向膜の欠陥は、前記配向膜上に形成された異物および前記配向膜に形成されたホールの少なくとも一方である。
【００２０】
ある好適な実施形態において、前記配向膜が形成された基板は、マザーガラス基板である。
【００２１】
本発明に係る液晶パネルの製造方法は、上記修正方法を用いて修正された基板を用意する工程と、前記基板を貼り合わせる工程とを含む。
【００２２】
本発明に係る修正装置は、液晶パネルにおける一対の基板のうち液晶層側に形成された配向膜の欠陥を修正する装置であり、基板の表面に形成された配向膜の表面における画素パターンの画像、および、前記画素パターンの画像を中心として隣接する画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部で取得された前記画素パターンの画像と前記隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像を合成する画像合成部と、前記繋ぎ合わせた画像内における前記画素パターンの画像と前記隣接する画像とを比較することによって前記配向膜の欠陥を特定する欠陥特定部とを備える。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によると、配向膜の欠陥を修正する方法において、配向膜の表面における画素パターンおよび隣接する画像を取得した後、それらの画像を繋ぎ合わせた画像を合成し、次いで、繋ぎ合わせた画像内における前記画素パターンと前記隣接する画像とを比較することにより、配向膜の欠陥を特定する。したがって、複数のカメラを用いて、比較によって欠陥を特定するに必要な範囲の画像を取得しなくても、１つのカメラで欠陥を特定可能な範囲の画像を合成して作成することができる。その結果、ソフトウエア的に広い範囲の画像を繋ぎ合わせて生成することが可能となるので、修正装置における物理的な改造を行うことなしに、配向膜における欠陥を精度良く検出して修正することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施形態に係る配向膜の欠陥を修正する方法の概略構成を示すフローチャートである。
【図２】本発明の一実施形態に係る配向膜の欠陥を修正する装置の概略構成を示すブロック図である。
【図３】（ａ）は、配向膜の表面の取得画像の最大サイズと最小繰り返しパターンを示す図であり、そして、（ｂ）は、複数の取得画像を合成した合成画像を示す図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る配向膜の欠陥を修正する方法を説明するためのフローチャートである。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、配向膜の表面に形成された異物を修正する工程を説明するための工程断面図である。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は、配向膜の表面に形成されたピンホールを修正する工程を説明するための工程断面図である。
【図７】差分法を用いる画像検出装置３００の概略構造を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態を説明する。以下の図面においては、説明の簡潔化のために、同じ作用を奏する部材、部位には同じ符号を付し、重複する説明は省略または簡略化することがある。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚さ等）は、必ずしも実際の寸法関係を正確に反映するものではない。また、図中のハッチングは、構成要素の把握のし易さを主な目的として付しており、必ずしも材料の要素を表現するものではない。
【００２６】
また、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事項は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書及び図面によって開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。加えて、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２７】
図１は、本発明の一実施形態に係る配向膜の欠陥を修正する方法の概略構成を示すフローチャートである。図２は、本発明の一実施形態に係る配向膜の欠陥を修正する方法に用いる欠陥修正装置１００の概略構成を示すブロック図である。
【００２８】
本実施形態の液晶パネルは、一対の透光性基板、すなわち、薄膜トランジスタ（Thin-Film Transistor, ＴＦＴ）が形成されたアレイ基板と、カラーフィルタ層を含むカラーフィルタ基板（ＣＦ基板）とから構成されている。液晶パネルにおいては、アレイ基板およびＣＦ基板の間に電界を印加することにより、両基板の間に位置する液晶層中の液晶分子の配向状態を変化させて、画素ごとに光の透過量を制御することで所望の画像を表示する。
【００２９】
アレイ基板およびＣＦ基板は、それぞれ別々のガラス基板から構成され、液晶層側に面する表面には、例えば、液晶分子の配向状態を規制するための配向膜が形成されている。そして、配向膜が形成された基板は、液晶材料を滴下した後に互いに貼り合わせられて、それによって、液晶パネルを製造することができる。液晶パネルの製造工程においては、まず、アレイ側のガラス基板（マザーガラス）と、カラーフィルタ側のガラス基板（マ
ザーガラス）がそれぞれ別々の工程で加工が行われる。所定寸法の液晶パネル部分が多面取りされるマザーガラスは、例えば１辺が１メートル以上のガラス基板であり、第１０世代のマザーガラスの場合、例えば、２８８０ｍｍ×３１３０ｍｍの寸法を有している。なお、液晶パネルの具体的な構成や構築方法、および、配向膜の成分や形成方法などは、当業者の技術常識であるため、その具体的な説明は省略する。
【００３０】
図１に示すように、本実施形態の配向膜の欠陥修正方法では、まず、基板上に形成された配向膜の表面における複数の領域の画像を取得する（ステップＳ１０）。本実施形態では、基板の表面に形成された配向膜の表面における画素パターン（１つの繰り返しパターン）の画像と、その画素パターンの画像を中心として隣接する画像を取得する。具体的には、基板の表面に形成された配向膜の表面における１つの繰り返しパターンの画像（所定の画素領域）を取得するとともに、その１つの繰り返しパターンの画像を中心として、上下左右に位置する４つの画像を取得する。
【００３１】
次に、ステップＳ１０において取得された画像の合成を行う（ステップS１１）。本実施形態では、画素パターン（特定の画素パターン）の画像と、その画素パターンに隣接する画像とを繋ぎ合わせた画像を合成する。具体的には、１つの繰り返しパターンの画像と、それに隣接する上下左右の４つの画像を合成する。これにより、検出対象となる画像と、そこから周囲上下左右に４点設定することができる画像とを含む広い領域の画像（差分法または十字比較法を実行できる画像）を作成することができる。
【００３２】
次に、ステップS１１において合成した画像に基づき、差分法を用いて配向膜の欠陥を特定する。すなわち、合成して繋ぎ合わせた画像内における画素パターン（特定の画素パターン）の画像と隣接する画像とを比較することにより（例えば、輝度値による比較を行うことにより）、配向膜の欠陥を特定する。具体的には、ステップＳ１１での合成画像を用いて、差分演算を行う（ステップS１２）。本実施形態では、合成画像を構成する各領域間の輝度値に基づいた差分演算を行う。次に、ステップS１２で算出された差分演算結果データの２値化処理を行う（ステップS１３）。本実施形態では、差分演算結果データに対して例えば閾値判定を行うことによって、２値化データを得る。
【００３３】
その後、ステップS１３で得られた２値化データに基づいて、欠陥検出と欠陥位置を特定する（ステップS１４）。このステップＳ１４において、欠陥の存在しない最小繰り返しパターンに対応する領域部分のみが消去され、欠陥が存在する最小繰り返しパターンに対応する領域部分を検出することができる。
【００３４】
図２は、本実施形態の配向膜の欠陥修正装置１００の構成を示しており、図１に示したプロセス（ステップＳ１０〜Ｓ１４）を実行することができる。本実施形態の欠陥修正装置１００は、画像取得部２４、画像合成部２０、差分演算部２１、２値化処理部２２および欠陥判定部２３を備えており、各要素（２４、２０、２１、２２、２３）が上記プロセス（ステップＳ１０〜Ｓ１４）に対応する処理を行うことができる。
【００３５】
さらに説明すると、欠陥修正装置１００の画像取得部２４は、基板上に形成された配向膜の表面における複数の領域の画像を取得する。画像取得部２４は、カメラ（撮像装置）から構成されており、例えば、ＣＣＤイメージセンサ、または、ＣＭＯＳイメージセンサなどである。本実施形態の画像取得部２４は、基板を載置されたステージの上を、移動機構による動作によって所定の方向に移動し、配向膜の表面における複数の領域の画像を取得することができる。
【００３６】
また、本実施形態の欠陥修正装置１００を構成する各要素（２４、２０、２１、２２、２３）は、半導体集積回路からなり、例えばＭＰＵ（マイクロ・プロセッシング・ユニット）またはＣＰＵ（セントラル・プロセッシング・ユニット）、および、記憶装置から構成されている。記憶装置は、例えば、半導体メモリ、ハードディスク（ＨＤＤ）、光ディスク、光磁気ディスクなどである。本実施形態の欠陥修正装置１００には、さらに、入力装置（キーボード、マウス、タッチパネルなど）および出力装置（ディスプレイなど）が接続されている。そして、それらの要素は、汎用のＰＣ（パーソナル・コンピュータ）のものを利用することができる。なお、本実施形態の欠陥修正方法（欠陥検出方法、または、欠陥特定方法）は、欠陥特定プログラムの形態で欠陥修正装置１００の記憶装置に格納することができ、そして、その欠陥特定プログラムを起動することで、欠陥修正装置１００の機能を実現することができる。
【００３７】
図３（ａ）は、欠陥修正装置１００の画像取得部（カメラ）２４によって取得可能な最大サイズの取得画像３０が示されている。具体的には、この例における最大サイズの取得画像の上限は、例えば２．３７μｍ×１．７９μｍ（矩形）である。また、最大サイズの取得画像３０内には、最小繰り返しパターンに対応する領域３１が示されている。図示した例では、基板の表面には、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のサブピクセル（絵素）からなる画素パターンが形成されており、ここでの最小繰り返しパターンは、２画素分の画素パターンからなる。なお、１画素分で最小繰り返しパターンになる場合には、その単位のものを１つの繰り返しパターンにすればよい。
【００３８】
本実施形態では、この最小繰り返しパターンに対応する領域３１が、画像取得部２４によって取得される。そして、図３（ａ）に示した例では、最小繰り返しパターンに対応する領域３１内に欠陥（欠損部位）３２が存在している。そして、図３（ｂ）は、複数の繰り返しパターン（最小繰り返しパターン）が配列された合成画像を示している。図３（ｂ）に示した例で説明すると、まず、画像取得部（カメラ）２４は、中央に位置する最小繰り返しパターンに対応する領域３１と、その上下左右に位置する最小繰り返しパターンに対応する領域３１ａおよびその左斜めおよび右斜めに位置する最小繰り返しパターンに対応する領域３１ｂの画像を取得する。その後、画像合成部２０により、これらの領域３１、３１ａ、３１ｂの画像を合成して、図３（ｂ）に示す全体の合成画像を生成する。なお、差分法を実行する上では、これらの領域３１および３１ａの画像を合成すれば十分であるが、さらに領域３１ｂの画像も合成することで精度を向上させることができる。
【００３９】
なお、所定の画素パターン（１つの繰り返しパターン）に対応する領域３１の画素データと、理想のマスター画像データ（比較画素データ）と比較するのではなく、隣接する画素データ（３１ａなど）と比較するのは、差分法による比較をより正確に行うためである。すなわち、隣接しない場所の画像データ（または、理想のマスター画像データ）と、注目画像データ（３１）と比較した場合には、基板の撓みによる反射光の違い、色味の違い、あるいは、照明条件の違いが影響して、正しい比較結果を得ることが難しい。注目画像データ（３１）と、隣接した画像データ（３１ａなど）とを比較する場合にはそのようなことを抑制することができる。なお、差分法で比較するには、最低３つの画像データ（注目画像データ、比較対象となる２つの画像データ）が必要であるが、最低の数に限らずに、十字比較法を用いる場合には上下左右の画像を取得するように処理すればよい。また、隣接する画像データを繋ぎ合わせて１つの大きな画像データにする理由は、つなぎ目の部分の欠陥をより検出しやすくするためである。
【００４０】
次に、図３（ｂ）に示した合成画像に基づき、差分演算部２１によって差分演算を行う。ここでは、差分演算部２１を用いて、合成画像を構成する各領域（３１、３１ａなど）間における輝度値に基づいた差分演算を行う。次いで、差分演算部２１による差分演算結果データに対して、２値化処理部２２において閾値判定を実行し、２値化データを得る。最後に、その２値化データに基づいて、欠陥判定部２３を用いて、欠陥検出の画像処理プロセスを実行すると、欠陥の存在しない最小繰り返しパターンに対応する領域部分のみが消去され、欠陥３２を検出し、その位置を特定することができる。本実施形態では、図３（ｂ）に示す合成画像において、最小繰り返しパターンに対応する領域部分３１ａ、３１ｂが消去されて、中央部分に位置する最小繰り返しパターンに対応する領域３１に欠陥が存在する形のデータに変換することができる。これにより、欠陥３２の検出、欠陥３２の位置特定を行うことができるので、本実施形態の欠陥修正装置１００によって欠陥修正を自動的に実行することができる。
【００４１】
本発明の実施形態によれば、配向膜の欠陥３２を修正する方法において、配向膜の表面における１つの繰り返しパターン３１および上下左右に位置する４つの画像３１ａ（さらには斜めに位置する４つの画像３１ｂ）を取得した後、それらの画像を合成し、合成した画像に基づいて差分法を用いて配向膜の欠陥３２を特定することができる。したがって、複数のカメラを用いて差分法が適用できる範囲の画像（３１、３１ａ）を取得しなくても、１つのカメラで差分法が適用できる範囲の画像にすることができる。その結果、ソフト的に広い範囲の画像を取得することが可能となるので、修正装置における物理的な改造を行うことなしに、配向膜における欠陥３２を精度良く検出して修正することができる。
【００４２】
一方、従来の技術によると、図３（ａ）に示したように、最小繰り返しパターン３１の一つからなる領域のみを含む画像しか取得できなかった場合には、差分法に必要な数の最小繰り返しパターンに対応する領域（３１、３１ａなど）を取得できない問題があった。そして、本実施形態によると、上述したように、差分法に必要な数の最小繰り返しパターンに対応する領域の画像を取得して合成画像を生成するため、差分法を用いて配向膜の欠陥検出を行うことができる。
【００４３】
さらに説明すると、単に、差分法が適用できる範囲の画像（３１、３１ａ）を取得したい場合は、複数のカメラを用いて画像取得領域を広げる他、高解像度で画像取得範囲の大きいカメラを用いることも可能である。しかしながら、最小繰り返しパターンは、液晶パネルを構成する基板ごとに異なるので、ある基板では、差分法を実行できたとしても、他の基板では、その広げた画像取得範囲でも、差分法を実行する上では足りないということにもなりかねない。もちろん、画像取得範囲がより広いカメラを用いればよいのであるが、必要以上に高スペックのものは設備費用を上げてしまうことになり、好ましくない。本実施形態の構成では、ソフトウエア的に、適切な画像取得範囲を持った合成画像を作成することができるので、低コストであるとともに、応用性が広いという利点がある。
【００４４】
次に、図４から図６を参照しながら、配向膜の修正プロセスを含めた本実施形態の方法について説明する。図４は、本実施形態の修正方法の全体構成例を示すフローチャートである。
【００４５】
図４に示すように、まず、ステップＳ４０において、配向膜を塗布する前に基板の洗浄を行う。基板は、上述したようにマザーガラス基板であるが、１枚の液晶パネルに相当する基板であっても構わない。次に、ステップＳ４１において、配向膜を基板に塗布する。配向膜は、例えばポリイミド（ＰＩ）膜からなり、本実施形態では、インクジェット方式で配向膜の塗布工程を実行するが、他の手法によって配向膜の塗布を行ってもよい。
【００４６】
次に、ステップＳ４２において、基板に塗布されＰＩ膜からなる配向膜を仮乾燥した後、ステップＳ４３において、検査機を用いてＰＩ配向膜を検査する。すなわち、ステップＳ４４においては、検査結果に基づいて、配向膜の修正が必要か否かを判定する。ステップＳ４４において「ＹＥＳ」、つまり、配向膜の修正が必要と判定した場合には、ステップＳ４５に進んで、修正工程を実施する。ここでの修正工程（欠陥検出工程、欠陥特定工程）は、上述の図１に示したステップＳ１０〜Ｓ１４の工程を基づくものである。なお、ステップＳ４４において「ＮＯ」、つまり、配向膜の修正が必要ないと判定した場合には、ステップＳ５０に進む。
【００４７】
次に、ステップＳ４５で欠陥を特定した後は、ステップＳ４６にて、配向膜の欠陥位置に基づいてその欠陥が中央に位置するようにセンタリングを行う。すなわち、図５および図６に示す修正手段が当該欠陥を修復可能なように、その欠陥の座標が中央に位置するような処理（センタリング）を行う。次に、ステップＳ４７において、センタリングされた欠陥（または、欠陥を含む最小繰り返しパターンに対応する領域）に、異物が存在するか否かを判定する。そして、異物が存在すると判定した場合にはステップＳ４８に進む。一方、異物が存在しないと判定した場合には、ステップＳ４９に進む。
【００４８】
ステップＳ４８では、図５（ａ）から（ｄ）に示す異物研磨工程を実施する。この例では、図５（ａ）に示すように、基板上の絶縁膜５０の上に形成された配向膜５１に局所的に異物３２ａが付着している。この場合、図５（ｂ）に示すように、研磨ヘッド５２を下方に荷重をかけながら研磨テープ５３を矢印の方向に移動させる。次いで、研磨ヘッド５２および研磨テープ５３を上昇させると、図５（ｃ）に示すように、上部が平坦化された異物３２ｂが形成される。異物の研磨が完了すると、図５（ｄ）に示すように、上部が平坦化された異物３２ｂとなり、欠陥部分を良品と判定することが可能となる。
【００４９】
次に、ステップＳ４９においては、図６（ａ）から（ｄ）に示すＰＩ膜のピンホールを修正する工程を実施する。この例では、図６（ａ）に示すように、基板上の絶縁膜６０の上に形成された配向膜６１に局所的にピンホール３２ｃが位置している。この場合、図６（ｂ）に示すように、ピンホール３２ｃが形成された領域を覆うように、絶縁膜６０および配向膜６１の上に、治具６２の先端に設けられた修正スタンプ６３を用いて修正インク６４を塗布する。次いで、塗布された修正インク６４を乾燥させると、図６（ｃ）に示すようなＰＩ膜の固形分６５を残存させることができる。その後は、図６（ｄ）に示すようにピンホール３２ｃを覆う修正ＰＩ膜６６により、ピンホール３２ｃによる欠陥を無くすことができ、その結果、欠陥部分を良品と判定することが可能となる。
【００５０】
その後、ステップＳ５０において、ＰＩ膜からなる配向膜を焼成する。以上のようにして、配向膜の形成を完了した後は、公知の基板貼り合せ工程へ進み、その後、液晶パネルが完成する。
【００５１】
以上、本発明を好適な実施形態により説明してきたが、こうした記述は限定事項ではなく、勿論、種々の改変が可能である。例えば、上述の実施形態では、基板として、液晶パネル用の基板、特にマザーガラス基板について説明したが、それに限定されるものではない。上述したように、マザーガラスに限らず、一枚の液晶パネルの基板における繰り返しパターンの欠陥検査・欠陥特定に、本実施形態の手法を適用することができる。さらには、液晶パネルに限らず、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイなどの表示装置を構成する基板の繰り返しパターンの検査（差分法を用いる手法）に適用することができる。
また、上述の実施形態では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の画素パターンについて説明したが、それに限らず、本実施形態の手法は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、黄（Ｙ）の４原色の画素パターンのものにも適用可能である。また、配向膜は、ラビング法を用いて配向制御されるものだけでなく、光配向法によって配向制御されるものも含まれ、その場合には光配向性の材料（例えば、光配向性のポリイミド材料）から構成され得る。
【００５２】
また、カメラの画像を合成して、差分法が適用可能な広範囲の画像にする点がポイントであるので、特定の差分法の具体的な方式に限定されるものではない。さらに、異物の研磨方法、ピンホールの修復方法についても特定の手法に限定されるものではない。加えて、１台のカメラで撮像した画像を合成する点がポイントであるが、大きな寸法の基板（マザーガラス）のエリアを分けて（例えば、右側・左側などの２分割）、複数のカメラ（２台のカメラ）で画像取得工程を同時に行うような場合にも適用することができる。すなわち、ここでの複数のカメラ（２台のカメラ）は、本発明の実施形態で説明した１台のカメラがそれぞれ異なる箇所で動作しているものにすぎないものである。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明によると、配向膜における欠陥を精度良く検出して修正することができる配向膜の修正方法を提供することができる。
【符号の説明】
【００５４】
２０   画像合成部
２２   ２値化処理部
２３   欠陥判定部
２４   画像取得部
３０   カメラの取得画像
３１   最小繰り返しパターンに対応する領域
３２   欠陥
３２ａ、３２ｂ       異物
３２ｃ ピンホール
５０   絶縁膜
５１   配向膜
５２   研磨ヘッド
５３   研磨テープ
６０   絶縁膜
６１   配向膜
６２   治具
６３   修正スタンプ
６４   修正インク
６５   固形分
６６   修正ＰＩ膜
１００ 欠陥修正装置
３００ 画像検出装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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