(57)【要約】【課題】サファイアやＳｉＣ等の基板を精度良く、さらに高速に研削する基板の研削装置を提供する。【解決手段】  保持テーブル４上に保持された基板Ｗの研削装置において、基板Ｗを粗研削する粗研削ポジションｂと、基板Ｗを中研削する中研削ポジションｃと、基板Ｗを仕上げ研削する仕上げ研削ポジションｄとを設定し、粗研削ポジションｂと、中研削ポジションｃと、仕上げ研削ポジションｄとにそれぞれ研削装置を設けるとともにこれらの研削装置を直線状に配置して構成し、基板Ｗを粗研削、中研削、仕上げ研削の順に直列的に処理するようにする。【選択図】図１
2014065082.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保持テーブル上に保持された基板の研削装置において、
前記基板を粗研削する粗研削ポジションと、
前記基板を中研削する中研削ポジションと、
前記基板を仕上げ研削する仕上げ研削ポジションとを設定し、
前記粗研削ポジションと、中研削ポジションと、仕上げ研削ポジションとにそれぞれ研削装置を設けるとともにこれらの研削装置を直線状に配置して構成し、前記基板を粗研削、中研削、仕上げ研削の順に直列的に処理するようにしたことを特徴とする基板の研削装置。
【請求項２】
保持テーブル上に保持された基板の研削装置において、
水平に設けられるとともにその上面に三角配置となるように３本の支柱が立設された本体ベースと、
前記本体ベース上に設けられるとともに前記支柱と対向する３箇所にそれぞれ突出部が設けられた本体フレームと、
前記本体フレームに対して昇降動自在に設けられるとともに回転自在に設けられた研削ヘッドと、
基板をその上面で保持するとともに回転及び水平動が自在な保持テーブルとを備え、
前記３本の支柱は、前記本体フレームの３箇所の突出部にそれぞれ貫通されるとともに、前記突出部を挟んでそれぞれ上下に螺子溝が形成され、
前記螺子溝に上下１対のナットを螺合せしめて前記本体フレームの突出部を挟持することで前記本体ベース上に前記本体フレームを３点で支持するように構成し、
前記ナットのそれぞれを上下方向に位置調整することで前記本体フレームを傾斜せしめることで研削ヘッドの傾斜状態を調整可能にしたことを特徴とする請求項１に記載の基板の研削装置。
【請求項３】
前記突出部の上面及び下面にそれぞれ外側が凸となるように球面座金を設け、これら球面座金を介してナットを螺合させることにより、全方向への本体フレームの傾斜を円滑に行うようにしたことを特徴とする請求項２に記載の基板の研削装置。
【請求項４】
前記粗研削ポジション、中研削ポジション及び仕上げ研削ポジションのそれぞれに基板を反転させる反転機構を設け、基板の両面をインラインで研削するように構成した基板の研削装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サファイア、ＳｉＣ、ＧａＮ等の基板の研削装置に関する。さらに詳しくは、前記基板を研磨する基板の研磨装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ワイヤソーや内周刃等の切断手段でウエハ状に切り出されたサファイアやＳｉＣ、ＧａＮ等の基板（以後、単にウエハという）は、複数の研削・研磨工程を経て、表面に回路等が形成され、裏面研磨で薄厚化された後、ダイシング工程を経てチップ化されている。
【０００３】
例えば、上記研削・研磨工程においては、研削、端面の面取り加工、ラッピング、ポリッシング、ケミカルメカニカルポリッシング（以下、単にＣＭＰという）工程があり、必要によりウエハの歪みを加熱処理によって除去するアニール工程が行われている。また、これらの各工程は、それぞれ単独の装置で行なわれており、それぞれの装置は、バッチ方式により、複数枚のウエハを一括で処理することが一般的に行われている。
【０００４】
上記ラッピング工程は、例えば円盤状のセラミックプレート（キャリアに相当）に複数枚のウエハを一体に保持しておき、これらウエハと対向するように設けた研削定盤を前記セラミックプレート上のウエハに回転させながら押し当てるとともに研磨液を前記ウエハ上に供給することで行なわれている（例えば特許文献１）。
【０００５】
また、上記ポリッシング工程は、例えば円盤状のキャリアに複数枚のウエハを一体に保持しておき、これらウエハと対向するように設けられた表面に研磨布が貼着されたポリッシングプレートをウエハに回転させながら押し当てるとともに研磨液を前記ウエハ上に供給することで行なわれる。
【０００６】
また、サファイア基板を研磨するにあたり、上記バッチ方式の一括処理に替え、インデックステーブル上に粗研削、ＣＭＰポジションを設定し、１枚ずつサファイア基板を研削・研磨する研磨装置も知られている（例えば特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−４５２６２号公報
【特許文献２】特開平１０−１６６２５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、従来の研削・研磨工程では、上記ウエハの研削・研磨は、セラミックプレートでの複数枚のウエハの一括研削、ラッピングあるいは研磨布を使用したポリッシングにて行われている。
【０００９】
上記特許文献１の装置では、１度に複数枚のウエハを処理できるもののＣＭＰを行なえるレベルの平坦度とするために相当時間を要するものであり、例えばサファイア基板では、数時間を要すものである。
【００１０】
また、上記特許文献１においては、研削やラッピングを行なうと研磨液の状態変化で研削条件が変化するため、ウエハと研削定盤との間隔の調整や平行度の調整が必要であり、また、研磨液の状態変化（粘度、粒径、濃度等の変化）により研磨が安定に精度良く行なえない問題や、装置の調整に時間がかかる問題がある。
【００１１】
また、ポリッシングにおいても、上記のラッピングと同様に研磨布や研磨剤の状態変化で研削条件が変化し、研磨が安定に行えない問題や、平行度の調整に時間がかかる問題がある。
【００１２】
また、上記特許文献２の装置においては、粗研削を行なった後、装置内で並行的にＣＭＰを行なうようになっているが、ＣＭＰは、化学的な反応を利用して基板表面を溶解しながら研磨するものである。従って、化学的な反応に時間がかかり、工程として相当な時間を要すことに対し、研削は比較的早く終わるため、特許文献２のインデックス方式の研削研磨装置では、ＣＭＰの終了までの待ち時間に依存して効率が非常に悪くなる問題がある。
【００１３】
また、上記特許文献１及び特許文献２の装置においては、装置内で両面の処理を行えないため、片面の研磨が終了すると一旦装置からウエハを取り出して、反転させて再投入する必要があり、非常に効率が悪い問題がある。
【００１４】
また、特許文献１の装置では、ウエハを一括で研削・研磨するため、枚葉状に切断後のウエハのばらつきに応じて設定を変えることができず、１枚毎の精度にばらつきが出る問題がある。
【００１５】
特許文献２の装置においては、インデックステーブルの平坦度のばらつきによってそれぞれのターンテーブルの傾斜状態が異なるため、使用するターンテーブルごとに研削・研磨のばらつきが生じる問題がある。また、剛性を高めるためにはインデックステーブルを強化する必要があり、装置が大型化したり、それぞれのポジションを配置するために制約が生じたりする問題がある。
【００１６】
そこで、本発明の目的は、装置を必要以上に大型化させることなく装置の剛性を高め、一つの工程での研削・研磨時間の影響を受けることなく、研削可能な装置を提供することにある。また、装置剛性を保ったまま研削ヘッドを傾動可能とし、研削時間の短縮と研削精度を向上した研削装置を提供するとともにラッピング及びポリッシングの工程を廃して研削のみでＣＭＰに供することができる研削装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
そこで請求項１の発明は、
保持テーブル上に保持された基板の研削装置において、
前記基板を粗研削する粗研削ポジションと、
前記基板を中研削する中研削ポジションと、
前記基板を仕上げ研削する仕上げ研削ポジションとを設定し、
前記粗研削ポジションと、中研削ポジションと、仕上げ研削ポジションとにそれぞれ研削装置を設けるとともにこれらの研削装置を直線状に配置して構成し、前記基板を粗研削、中研削、仕上げ研削の順に直列的に処理するようにした構成を採用した基板の研削装置である。
【００１８】
また、請求項２の発明は、保持テーブル上に保持された基板の研削装置において、
水平に設けられるとともにその上面に三角配置となるように３本の支柱が立設された本体ベースと、
前記本体ベース上に設けられるとともに前記支柱と対向する３箇所にそれぞれ突出部が設けられた本体フレームと、
前記本体フレームに対して昇降動自在に設けられるとともに回転自在に設けられた研削ヘッドと、
基板をその上面で保持するとともに回転及び水平動が自在な保持テーブルとを備え、
前記３本の支柱は、前記本体フレームの３箇所の突出部にそれぞれ貫通されるとともに、前記突出部を挟んでそれぞれ上下に螺子溝が形成され、
前記螺子溝に上下１対のナットを螺合せしめて前記本体フレームの突出部を挟持することで前記本体ベース上に前記本体フレームを３点で支持するように構成し、
前記ナットのそれぞれを上下方向に位置調整することで前記本体フレームを傾斜せしめることで研削ヘッドの傾斜状態を調整可能にした構成を採用した請求項１に記載の基板の研削装置である。
【００１９】
また、請求項３の発明は、前記突出部の上面及び下面にそれぞれ外側が凸となるように球面座金を設け、これら球面座金を介してナットを螺合させることにより、全方向への本体フレームの傾斜を円滑に行うようにした構成を採用した請求項２に記載の基板の研削装置である。
【００２０】
また、請求項４の発明は、前記粗研削ポジション、中研削ポジション及び仕上げ研削ポジションのそれぞれに基板を反転させる反転機構を設け、基板の両面をインラインで研削するように構成した請求項１乃至３のいずれかに記載の基板の研削装置である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は、粗研削、中研削、仕上げ研削を直列的に処理できるよう粗研削ポジション、中研削ポジション、仕上げ研削ポジションをそれぞれ設定し、ポジション毎に研削装置を配置したので、それぞれのポジションをほぼ同時間で処理することができ、効率良い研削が行える。なお、ＣＭＰは、この仕上げ研削が終了したウエハを複数枚でバッチ処理を行うか、複数台のＣＭＰ装置で並行的にウエハを研磨処理するようにすれば、各工程の処理時間を揃えることができ、効率が高まる。
【００２２】
本発明は、インデックステーブルを用いないので、装置の配置の自由度が高まる。また、それぞれの装置に反転機構を設ければ、インラインで基板の両面を研削できる。
【００２３】
インデックステーブルを用いた場合、インデックステーブル自体が広い面積を持つので、装置剛性を高めようとすると、その広い部分に渡って装置の補強が必要となるので、装置自体が大型化したり、重量化したりする問題があることに対し、本発明では個別に剛性を高めることができるので研削精度を高めることができる。このように装置自体の個別の研削精度を高めることが可能となったので、粗研削、中研削、仕上げ研削にて基板をＣＭＰに供する状態にまで研削することが可能となる。また、従来サファイア基板等で行われていたラッピングやポリッシングの工程を廃することができるので、研削・研磨工程の加工時間を大幅に短縮できる。
【００２４】
研削ヘッド毎に傾斜状態の調整が外部から容易に行えるので、切断後の基板の状態に合わせて、装置の調整が容易であり、精度の良い研削が行える。
【００２５】
また、装置の本体フレームを球面状のワッシャを介して３点で本体ベース上に支持するようにしたので、本体フレームの傾斜に依存することなく本体フレームを安定に本体ベース上に支持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】は、本発明の基板の研削装置の一実施形態を表す全体概略平面図である。
【図２】は、本発明の基板の研削装置の正面図である。
【図３】は、本発明の基板の研削装置の一部を切欠いた側面図である。
【図４】は、図１のＡ−Ａ方向断面矢視図である。
【図５】は、本発明の基板の研削装置の平面図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は、研削ヘッドを傾斜させる際の拡大説明図である。
【図７】は、研削ヘッドを傾斜させた状態の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の基板の研磨装置の実施形態について図１乃至図７に基づいて説明する。
【００２８】
図１は、本発明の基板の研磨装置の一実施形態を表す全体概略平面図である。図示下段からウエハ供給部ａ、粗研削ポジションｂ、中研削ポジションｃ、仕上げ研削ポジションｄ、ウエハ収納部ｅが直線状に並べて配置されている。
【００２９】
前記ウエハ供給部ａは、多段状にウエハＷが収納された収納カセット１が載置され、エレベーター機構で収納カセット１が昇降動しながら、ウエハＷが１枚ずつ供給されるようになっている。
【００３０】
前記ウエハ供給部ａから供給されるウエハＷは、粗研削ポジションｂのウエハ搬送部３に設けられた図示しない適宜なロボットハンドで吸着保持され、粗研削装置２ａの保持テーブル４上に載置される。
【００３１】
前記ウエハＷが載置された保持テーブル４は、ウエハＷを吸着保持しながら、粗研削装置２ａの研削位置へと水平動するようになっている。前記研削位置へと搬送されたウエハＷは、粗研削装置２ａで片面が研削された後、後述する反転機構でウエハＷが反転され、続いて裏面が研削される。
【００３２】
粗研削装置２ａで両面が研削されたウエハＷは、保持テーブル４に吸着保持された状態でウエハ搬送部３へと後退した後、中研削ポジションｃの保持テーブル４へ図示しない適宜のロボットハンドで受け渡される。
【００３３】
前記中研削ポジションｃの保持テーブル４上に保持されたウエハＷは、中研削装置２ｂの研削位置へと搬送され、粗研削ポジションｂと同様にウエハＷの両面に対して中研削が行われる。
【００３４】
中研削装置２ｂで両面が研削されたウエハＷは、保持テーブル４がウエハ搬送部３へと後退した後、仕上げ研削ポジションｄの保持テーブル４へ図示しない適宜のロボットハンドで受け渡される。
【００３５】
仕上げ研削ポジションｄの保持テーブル４上に保持されたウエハＷは、仕上げ研削装置２ｃの研削位置へと搬送され、両面が仕上げ研削された後、保持テーブル４がウエハ搬送部３へと後退する。この後、ウエハＷは、図示しない適宜のロボットハンドでウエハ収納部ｅの収納カセット５に順次収納される。
【００３６】
次に図２乃至図５に基づいて研削装置の構成を説明する。なお、粗研削装置２ａ、中研削装置２ｂ、仕上げ研削装置２ｃの構成は、基本部分が共通しており、研削ヘッドに用いられる研削ホイールの砥石の番手が異なるのみであるので前記３つの研削装置を総合した研削装置２として構成を説明する。
【００３７】
前記研削装置２は、本体ベース１０と本体フレーム１１の２つの部分に分けて構成されている。
【００３８】
前記本体ベース１０は、矩形状に形成され、その上面中央には前後方向に沿って２本のレール３５、３５が敷設されている。また、前記本体ベース１０上には、その側方部及び後方部に沿ってコの字状にベース枠１０ａが形成されている。
【００３９】
また、前記ベース枠１０ａ上の両側方部及び後方部のそれぞれに支柱１２が立設されている。前記支柱１２は、図５のようにそれぞれ前記ベース枠１０ａ状に二等辺三角形となるように配置されている。また、前記支柱１２には図６のように、上端部と下端付近に螺子溝が形成されている。
【００４０】
また、前記本体ベース１０の中央部には開口部１０ｂが設けられ、後述する保持テーブル４の駆動源が本体ベース１０と干渉しないようになっている。
【００４１】
前記本体フレーム１１は、ほぼコの字状のブロックに形成され、前記本体ベース１０のベース枠１０ａ上に設けられている。また、前記本体フレーム１１のベース枠１０ａ上に立設された支柱１２と対向する位置には、それぞれ切欠部１１ｂが設けられ、この切欠部１１ｂの下端部分が外側に突出して突出部１１ａを形成している。
【００４２】
前記３箇所の突出部１１ａのそれぞれには貫通穴が設けられ、前記支柱１２が挿通されている。前記突出部１１ａに挿通された支柱１２には、前記突出部１１ａを挟んで上下に球面座金１５が設けられ、前記球面座金１５を介して前記支柱１２の上下の螺子溝と螺合するようにナット１６がそれぞれ設けられている。すなわち、上下のナット１６、１６を締め付けることで、前記突出部１１ａが支柱１２に締結され、本体フレーム１１が前記本体ベース１０に３点で支持されるようになっている。
【００４３】
前記球面座金１５は、前記突出部１１ａと接する側に半球状の平面部が位置するように設けられ、ナット１６側に球面が位置するようになっている。また、詳細は後述するが、前記本体フレーム１１の傾動に応じて球面座金１５が球面で本体フレーム１１を受けるようになっているので、全方向への傾動に追従できるようになっている。
【００４４】
また、前記支柱１２の上部には、本体フレーム１１に固定されたダイヤルゲージ１４が設けられている。前記ダイヤルゲージ１４は、測定針が前記支柱１２の上端に接するようになっており、本体フレーム１１の傾動状態を目盛で読み取るようになっている。
【００４５】
前記本体フレーム１１は、前面側の上下方向に沿って２本のレール１３、１３が間隔を開けて敷設されている。また、前記両レール１３、１３の間には、本体フレーム１１に凹部が形成され、その凹部の窪みの前面側に前記レール１３と平行に２本のレール１９、１９が間隔を開けて敷設されている。また、前記凹部内に研削ホイール２４を支持するホイール支持枠２０が設けられている。
【００４６】
前記ホイール支持枠２０は、前面側が開口したボックス形状に形成され、両側面の上下方向に沿って支持板１７が左右に突出するように設けられている。前記両支持板１７、１７は、前記両レール１３、１３にそれぞれ対向するように設けられ、両支持板１７、１７の背面側にはスライドガイド２１がそれぞれ設けられるとともに、前記スライドガイド２１は、前記レール１３に摺動自在に嵌合している。
【００４７】
また、本体フレーム１１上にはモーター固定枠３０が立設され、その上部にモーター３１が固定されている。前記モーター３１には下方に向けてボールネジ３２が接続され、このボールネジ３２は、前記レール１９、１９間の凹部に上下方向に沿って設けられている。
【００４８】
また、前記ホイール支持枠２０の背面側には、ナット部材２２が設けられ、前記ボールネジ３２と螺合している。従って、前記モーター３１を駆動することで前記ホイール支持枠２０はレール１３及びレール１９に沿って上下動するようになっている。
【００４９】
また、前記本体フレーム１１の上部には間隔を開けて２枚の錘支持枠５０が前後方向に沿って立設されている。また、前記両錘支持枠５０、５０の上端には、その前後にスプロケット５１、５２が軸支されている。これらのスプロケット５１、５２には、チェーン５３が掛け渡され、前記チェーン５３は、スプロケット５１を経て下方に導かれ、その下端に前記支持板１７が吊り下げられている。また、前記チェーン５３はスプロケット５２を経て下方に導かれその下端に錘５４が吊り下げられている（なお、図示しないが、錘５４は適宜のガイド部材で上下方向以外に揺動しないように支持されている）。
【００５０】
前記左右の錘５４、５４は、ホイール支持枠２０に支持されているスピンドル２３や研削ホイール２４などの荷重を打ち消す重さに形成されている。これらの錘５４、５４により、ホイール支持枠２０を駆動するボールネジ３２や本体フレーム１１の撓みを抑制し、これらボールネジ３２や本体フレーム１１への負荷を低減している。
【００５１】
前記ホイール支持枠２０は、内部中央にスピンドル２３が固定され、該スピンドル２３の下方に該ホイール支持枠２０を介して研削ホイール２４が軸支されている。また、前記ホイール支持枠２０の前記スピンドル２３の上方には、前方に向けて水平にモーター固定枠２５が設けられ、該モーター固定枠２５上にモーター２６が設けられている。
【００５２】
また、図４のように前記モーター２６のモーター軸には駆動プーリー２８が軸止されている。また、前記駆動プーリー２８と並設するように前記スピンドル２３の上方に従動プーリー２７が設けられ、該スピンドル２３の軸に軸止されている。また、前記駆動プーリー２８と従動プーリー２７とにはベルト２９が掛け渡され、前記モーター２６を駆動することで前記スピンドル２３を介して研削ホイール２４が回転自在になっている。なお、図示しないが研削ホイール２４の内側から適宜な加工液（冷却水等）が噴出するようになっており、加工時に前記加工液が噴出するようになっている。
【００５３】
本体ベース１０上には、保持テーブル４が設けられている。前記保持テーブル４は、その上面に図示しない適宜なポーラス状の吸着部が形成され、この吸着部には、適宜な真空源が接続され、その上面でウエハＷを吸着保持するようになっている。
【００５４】
前記保持テーブル４はその下方に設けられたスピンドル３８の軸に固定されている。前記スピンドル３８は、水平に設けられたテーブル台３６に固定されている。前記テーブル台３６は、その下面の左右にそれぞれ間隔を開けてスライドガイド３７、３７が設けられている。前記スライドガイド３７、３７は、前記本体ベース１０上に設けられたレール３５、３５にそれぞれ摺動可能に嵌合している。
【００５５】
また、図２及び図３のように前記本体ベース１０の開口部１０ｂの中央右寄りには前後方向に沿って、ボールネジ４１が設けられている。前記ボールネジ４１の後端には支持板を介してモーター４２の軸が接続されている。
【００５６】
前記テーブル台３６の下面中央付近にはナット部材４０が設けられており、このナット部材４０と前記ボールネジ４１が螺合している。従って、モーター４２を駆動すると、テーブル台３６が、前記保持テーブル４とともにレール５７に沿ってウエハＷの供給位置となるウエハ搬送部３から研削位置へと移動するようになっている。
【００５７】
また、テーブル台３６の下面中央には、図４のようにプーリーを介してモーター３９が接続され、テーブル台上のスピンドル３８を介して保持テーブル４が回転自在になっている。なお、研削時は、前記保持テーブル４と研削ホイール２４とは互いに逆回転するようになっている。
【００５８】
図５は、本発明の基板の研削装置の一実施形態を表す平面図である。
【００５９】
図示手前にはウエハＷの供給位置となるウエハ搬送部３が設定されている。ウエハ搬送部３の側方には、保持テーブル４上にウエハＷを供給するとともに研削が終了したウエハＷを次の工程に受け渡す搬送ロボット６２が設けられている。
【００６０】
前記搬送ロボット６２は、図示しない適宜の駆動源が設けられた回転機構６３で回転自在になっている。また、回転機構６３の上部には支持枠５８が設けられ、この支持枠５８上にレール５９が敷設されている。また、支持枠５８上には、搬送アーム６４が設けられ、その先端下面に吸着パッド６１が設けられている。前記搬送アーム６４には、スライドガイド６０が設けられ、該スライドガイド６０が前記レール５９と摺動可能に嵌合している。また、前記搬送アーム６４は、適宜な駆動源を通じて保持テーブル４上にウエハＷを供給・排出したり、後述の反転アーム５５で表裏反転されたウエハＷを受け取って保持テーブル４上に供給したりするようになっている。
【００６１】
また、ウエハ搬送部３の手前側には、片面が研削されたウエハＷを吸着して反転させる反転アーム５５が設けられている。前記反転アーム５５は、保持テーブル４がウエハ搬送部３に位置した際に、図示しない適宜な上下機構により、保持テーブル４上に下降し、反転アーム５５の下面に設けられた吸着パッドによりウエハＷを吸着するようになっている。また、前記反転アーム５５には、反転モーター５７が接続されており、反転アーム５５で吸着したウエハＷを表裏反転させるようになっている。
【００６２】
以上が、本発明の一実施形態の構成であり、次に図６乃至図７に基づいて本発明の基板の研削装置の動作について説明する。
【００６３】
図６（ａ）及び（ｂ）は、図４の一点鎖線部分を拡大したものであり、前記研削ホイール２４を傾動させる場合の説明図である。なお、基板研削装置の前方側に位置する２本の支柱１２部分も基本的な構造は図６（ａ）及び（ｂ）と同様であるので、代表して図６（ａ）及び（ｂ）に基づいて説明する。
【００６４】
図６（ａ）は、研削ホイール２４を平坦な状態で使用する場合の状態を表しており、上下のナット１６の締め込みが均等であり、本体フレーム１１の突出部１１ａが平坦な状態を表している。
【００６５】
図６（ｂ）は、研削ホイール２４を傾斜させるために例えば、後端側の支柱１２部分の上側ナット１６を緩めるとともに下方側のナット１６を締め込んだ状態を表す。なお、理解が容易なように、実際より変化を極端に描いている。
【００６６】
上記のように上下のナット１６を調整することで、突出部１１ａが押し上げられ、本体フレーム１１の上部が前方側に傾動する。この時のナット１６の締め付け量は、ダイヤルゲージ１４の表示目盛により読み取ることができる。これら３つのダイヤルゲージ１４の表示目盛から、適宜傾斜量を決定したり、傾斜角度を算出したりすることができる。傾斜角度は、支持されている３箇所の突出部１１ａで形成される三角形の平面の傾きから算出すれば良い。この傾きの算出は、予め設定した計算式で自動で行うようにすることができる。
【００６７】
前記本体フレーム１１の突出部１１ａは、外側が球面となる球面座金１５で挟持されている。従って、図６（ｂ）のように前記突出部１１ａが傾動しても、球面座金１５により球面で支持されているので、全方向に傾動しても前記突出部１１ａが無理なく追従することができ、装置に無理が生じないので装置耐久性が向上する。
【００６８】
前記図６（ｂ）のように後端側の突出部１１ａのみ上昇させることで、図７のごとく研削ホイール２４がθだけ、前方に傾斜下がりの状態となる。このように、研削ホイール２４をウエハＷに対して傾斜させなければ、ウエハＷと砥石２４ａが面接触し、負荷が大きくなり過ぎたり、また、ウエハＷの硬度が高い場合は、ウエハＷの表面から砥石２４ａが滑って、砥石２４ａが食い付いていかず研削できなくなる問題がある。
【００６９】
前記研削ホイール２４の傾斜量は、研削するウエハＷの材質や砥石２４ａの材質、粗さ、固定度合によっても左右されるので、適宜選択すれば良い。例えば、粗研削を行う場合は、研削ホイール２４の傾斜量を大きくし、仕上げ研削を行う場合は、粗研削よりも研削ホイール２４の傾斜量を小さくすることが好ましい。
【００７０】
上記のように粗研削、中研削、仕上げ研削の砥石番手を順次細かくなるように（例えば粗研削は＃２５０〜５００、中研削は＃１２００〜１８００、仕上げ研削は＃２５００〜３５００）設定し、研削ホイール２４の傾斜を適宜調整することで、今までラッピングやポリッシングで行なっていた研磨に代えて研削にて研磨を行うようにできるので、ラッピングやポリッシングを廃してＣＭＰに直接ウエハを供給できる。従って、ラッピングやポリッシングで要していた時間を大幅に短縮できる。
【００７１】
なお、本実施形態では、各研削ポジションでウエハＷの両面を研削するようにしたが、片面ずつ研磨し、別の研削装置で裏面を研削するようにしても良い。
【符号の説明】
【００７２】
Ｗ    基板（ウエハ）
ａ    ウエハ供給部
ｂ    粗研削ポジション
ｃ    中研削ポジション
ｄ    仕上げ研削ポジション
ｅ    ウエハ収納部
１    収納カセット
２    研削装置
２ａ  粗研削装置
２ｂ  中研削装置
２ｃ  仕上げ研削装置
３    ウエハ搬送部
４    保持テーブル
５    収納カセット
１０    本体ベース
１０ａ  ベース枠
１０ｂ  開口部
１１    本体フレーム
１１ａ  突出部
１１ｂ  切欠部
１２    支柱
１３    レール
１４    ダイヤルゲージ
１５    球面座金
１６    ナット
１７    支持板
１８    スライドガイド
１９    レール
２０    ホイール支持枠
２１    スライドガイド
２２    ナット部材
２３    スピンドル
２４    研削ホイール
２４ａ  砥石
２５    モーター枠
２６    モーター
２７    従動プーリー
２８    駆動プーリー
２９    ベルト
３０    モーター固定枠
３１    昇降モーター
３２    ボールネジ
３５    レール
３６    テーブル台
３７    スライドガイド
３８    スピンドル
３９    モーター
４０    ナット部材
４１    ボールネジ
４２    モーター
５０    錘支持枠
５１    スプロケット
５２    スプロケット
５３    チェーン
５４    錘
５５    反転アーム
５６    支持枠
５７    反転モーター
５８    支持枠
５９    レール
６０    スライドガイド
６１    吸着ハンド
６２    搬送ロボット
６３    回転機構
６４    搬送アーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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