(57)【要約】【課題】バスバー間の冷却効率の差を小さくすることができる半導体装置を提供すること。【解決手段】三相インバータ装置１０は、セラミック基板２１と、セラミック基板２１の表面に設けられた金属板２２〜２５と、金属板２２〜２５の表面に設けられた半導体素子４１〜４６と、セラミック基板２１の裏面に熱的に接合された冷却器１１とを備える。第４の金属板２５には、正極用バスバー３４が接合されている。半導体素子４２，４４，４６には負極用バスバー２９が接合されている。負極用バスバー２９は、接合面２９ａの面積に対する非接合面の面積の割合が、正極用バスバー３４の接合面３４ａに対する非接合面の面積の割合よりも大きい。負極用バスバー２９の抵抗値は、正極用バスバー３４に比べて小さい。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層と、
前記絶縁層の一面に設けられた配線層と、
前記配線層の一面に設けられた半導体素子と、
前記絶縁層の他面に熱的に接合された冷却器と、
前記半導体素子又は前記配線層に対し接合面を介して接合される第１のバスバーと、
前記半導体素子又は前記配線層に対し接合面を介して接合される第２のバスバーと、を備え、
前記第１のバスバー及び前記第２のバスバーにおける前記半導体素子又は前記配線層に対し接合されない部位の表面積を非接合面とすると、前記接合面の面積に対する前記非接合面の割合が、前記第１のバスバーに比べて前記第２のバスバーの方が大きい半導体装置であって、
前記第２のバスバーの抵抗値を前記第１のバスバーの抵抗値に比べて小さくしたことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記第２のバスバーは、前記第１のバスバーに比べて、電流が流れる方向に直交する方向での電流通路断面積が大きいことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第２のバスバーは、前記第１のバスバーに比べて導電性の高い材料からなることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記絶縁層、前記配線層、前記半導体素子、前記第１のバスバー及び前記第２のバスバーは、前記冷却器に対して樹脂モールドされていることを特徴とする請求項１〜請求項３のうちいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記第２のバスバーには、フィンが形成されることを特徴とする請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載の半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、絶縁層の一面に設けられた配線層に半導体素子を設けた半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、電力変換装置などの半導体装置としては、特許文献１に記載の半導体装置が挙げられる。
特許文献１に記載の半導体装置は、放熱ブロックの上面に半導体素子（ＩＧＢＴ）のコレクタ電極と、ダイオードの裏面電極とが半田によって接合されている。放熱ブロックは、半導体素子及びダイオードの発する熱の放熱手段と、半導体素子とダイオードを接続する配線との双方を兼ねている。半導体素子のエミッタ電極とダイオードの表面電極は、リードによって接合されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２０２８８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、半導体装置に電流を流すと、放熱ブロック及びリードに電流が流れて、発熱する。放熱ブロックは、放熱手段を兼ねているため、発熱しても放熱されやすいが、リードは放熱ブロックに比べて放熱性能が劣り、放熱ブロックとリードとの間で冷却効率に差が生じてしまう。
【０００５】
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、バスバー間の冷却効率の差を小さくすることができる半導体装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、絶縁層と、前記絶縁層の一面に設けられた配線層と、前記配線層の一面に設けられた半導体素子と、前記絶縁層の他面に熱的に接合された冷却器と、前記半導体素子又は前記配線層に対し接合面を介して接合される第１のバスバーと、前記半導体素子又は前記配線層に対し接合面を介して接合される第２のバスバーと、を備え、前記第１のバスバー及び前記第２のバスバーにおける前記半導体素子又は前記配線層に対し接合されない部位の表面積を非接合面とすると、前記接合面の面積に対する前記非接合面の割合が、前記第１のバスバーに比べて前記第２のバスバーの方が大きい半導体装置であって、前記第２のバスバーの抵抗値を前記第１のバスバーの抵抗値に比べて小さくしたことを要旨とする。
【０００７】
これによれば、半導体装置に電流が流れるときに、抵抗値の大小の関係から、第１のバスバーの発熱量（ジュール熱）に比べて第２のバスバーの発熱量（ジュール熱）のほうが少なくなる。ここで、第２のバスバーは、第１のバスバーに比べて接合面の面積に対する非接合面の面積の割合が大きいため、第２のバスバーは、半導体素子又は配線層を介した冷却器による冷却効率が、第１のバスバーに比べて低い。よって、冷却器による冷却効率が低い第２のバスバーの発熱量を少なくすることで、第１のバスバーと第２のバスバー間の冷却効率の差を小さくすることができる。
【０００８】
また、前記第２のバスバーは、前記第１のバスバーに比べて、電流が流れる方向に直交する方向での電流通路断面積が大きくてもよい。
これによれば、電流通路断面積を大きくすることで第２のバスバーの抵抗値を第１のバスバーに比べて小さくすることができる。
【０００９】
また、前記第２のバスバーは、前記第１のバスバーに比べて導電性の高い材料からなっていてもよい。
これによれば、第２のバスバーを第１のバスバーに比べて導電性の高い材料で形成することで、第２のバスバーの抵抗値を第１のバスバーの比べて小さくすることができる。
【００１０】
また、前記絶縁層、前記配線層、前記半導体素子、前記第１のバスバー及び前記第２のバスバーは、前記冷却器に対して樹脂モールドされていてもよい。
これによれば、半導体装置に電流が流れ、配線層が発熱して熱膨張しようとすると、樹脂によって配線層の熱膨張を抑えることができる。このため、配線層の変形に伴い、配線層が絶縁層から剥離することが抑制される。
【００１１】
また。前記第２のバスバーには、フィンが形成されていてもよい。
これによれば、第２のバスバーの放熱面積が増えることで、第２のバスバーに対する冷却効率を向上させて、第１のバスバーと第２のバスバー間での冷却効率の差を更に小さくすることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、バスバー間の冷却効率の差を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施形態における三相インバータ装置の分解斜視図。
【図２】実施形態における三相インバータ装置の平面図。
【図３】実施形態における三相インバータ装置を示す図２の３−３線断面図。
【図４】実施形態における三相インバータ装置を示す図２の４−４線断面図。
【図５】（ａ）は実施形態における負極用バスバーの裏面を示す平面図、（ｂ）は正極用バスバーの裏面を示す平面図。
【図６】実施形態における三相インバータ装置の電気的構成を示す回路図。
【図７】別例の三相インバータ装置を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の半導体装置を三相インバータ装置に具体化した一実施形態を図１〜図６にしたがって説明する。
図１に示すように、半導体装置としての三相インバータ装置１０は、回路基板２０の一面に６個の半導体素子４１〜４６が接合されるとともに、回路基板２０の他面に冷却器１１が熱的に接合されている。
【００１５】
図１及び図２に示すように、回路基板２０は、絶縁層としての矩形板状のセラミック基板２１と、セラミック基板２１の表面（一面）に接合された第１の金属板２２、第２の金属板２３、第３の金属板２４及び第４の金属板２５とを有している。各金属板２２〜２５は、それぞれ、アルミニウムなどの導電材料から形成されている。各金属板２２〜２５は、それぞれ、配線層として機能する。
【００１６】
第１の金属板２２、第２の金属板２３及び第３の金属板２４は、セラミック基板２１の長手方向に並んで設けられている。また、第４の金属板２５は、第１の金属板２２、第２の金属板２３及び第３の金属板２４のそれぞれと、セラミック基板２１の短手方向に並んで設けられている。
【００１７】
第１の金属板２２、第２の金属板２３及び第３の金属板２４の表面（一面）には、それぞれ、半導体素子４２，４４，４６が１個ずつ接合されている。第４の金属板２５の表面（一面）には、３個の半導体素子４１，４３，４５が接合されている。
【００１８】
図６に示すように、各半導体素子４１〜４６は、それぞれ、１個のスイッチング素子Ｑ１〜Ｑ６と１個のダイオードＤが一つのデバイスとして組み込まれて構成されている。各スイッチング素子Ｑ１〜Ｑ６としては、例えば絶縁ゲートバイポーラ型トランジスタ（insulated gate bipolar transistor：ＩＧＢＴ）やパワーＭＯＳＦＥＴ（metal oxide semiconductor field effect transistor）等のパワー半導体素子が用いられる。各半導体素子４１〜４６の表面には、それぞれ、各スイッチング素子Ｑ１〜Ｑ６のゲート電極及びエミッタ電極が設けられている。各半導体素子４１〜４６の裏面には、それぞれ、各スイッチング素子Ｑ１〜Ｑ６のコレクタ電極が設けられている。また、各半導体素子４１〜４６の表面には、それぞれ、ダイオードＤのアノードが設けられるとともに、裏面には、それぞれ、ダイオードＤのカソードが設けられている。
【００１９】
図１及び図２に示すように、金属板２２〜２４には、それぞれ、板状の接続部材２６〜２８が接合されている。接続部材２６の長手方向一端の裏面は、第１の金属板２２の表面に接合されるとともに、長手方向他端の裏面は、半導体素子４１の表面に設けられたゲート電極、エミッタ電極及びアノードに電気的に接合されている。接続部材２７の長手方向一端の裏面は、第２の金属板２３の表面に接合されるとともに、長手方向他端の裏面は、半導体素子４３の表面に設けられたゲート電極、エミッタ電極及びアノードに電気的に接合されている。接続部材２８の長手方向一端の裏面は、第３の金属板２４の表面に接合されるとともに、長手方向他端の裏面は、半導体素子４５の表面に設けられたゲート電極、エミッタ電極及びアノードに電気的に接合されている。また、半導体素子４２の裏面に設けられたコレクタ電極とカソードは、第１の金属板２２に電気的に接合されている。半導体素子４４の裏面に設けられたコレクタ電極とカソードは、第２の金属板２３に電気的に接合されている。半導体素子４６の裏面に設けられたコレクタ電極とカソードは、第３の金属板２４に電気的に接合されている。半導体素子４１，４３，４５それぞれの裏面に設けられたコレクタ電極とカソードは、第４の金属板２５に電気的に接合されている。
【００２０】
図２に示すように、半導体素子４２，４４，４６の表面には、電源の負極に電気的に接続される負極用バスバー２９が接合されている。負極用バスバー２９は、平面視矩形状をなす板状の本体部３０と、本体部３０の長手方向に沿って本体部３０の短手方向に向けて３箇所から突出する平面視矩形状をなす板状の接続部３１〜３３とを有している。接続部３１〜３３は全て同一寸法となっている。接続部３１の先端の裏面は、半導体素子４２の表面に設けられたゲート電極、エミッタ電極及びアノードに電気的に接合されている。接続部３２の先端の裏面は、半導体素子４４の表面に設けられたゲート電極、エミッタ電極及びアノードに電気的に接合されている。接続部３３の先端の裏面は、半導体素子４６の表面に設けられたゲート電極、エミッタ電極及びアノードに電気的に接合されている。負極用バスバー２９によって、半導体素子４２，４４，４６と電源の負極とは電気的に接続されている。
【００２１】
スイッチング素子Ｑ１，Ｑ３，Ｑ５のコレクタ電極はそれぞれ、第４の金属板２５及び正極用バスバー３４を介して電源の正極に接続されている。スイッチング素子Ｑ２，Ｑ４，Ｑ６のエミッタ電極はそれぞれ、負極用バスバー２９を介して電源の負極に接続されている。
【００２２】
図３に示すように、第４の金属板２５には、電源の正極に接続される平面視矩形状をなす板状の正極用バスバー３４が接合されている。正極用バスバー３４の長手方向一端の裏面は、第４の金属板２５の表面に接合されている。正極用バスバー３４によって、第４の金属板２５と電源の正極とは電気的に接続されている。負極用バスバー２９と正極用バスバー３４は、同一の導電性材料（例えば、銅）から形成されている。
【００２３】
図３及び図４に示すように、負極用バスバー２９の本体部３０と、正極用バスバー３４とは、その厚み方向に対向している。また、負極用バスバー２９の各接続部３１〜３３のそれぞれ及び本体部３０と、各接続部材２６〜２８のそれぞれとは、その厚み方向に対向している。
【００２４】
セラミック基板２１の裏面には、アルミニウムなどの金属板からなる応力緩和部材３５が設けられている。応力緩和部材３５には、厚み方向に貫通する貫通孔３５ａが形成されている。
【００２５】
セラミック基板２１の裏面（他面）には、応力緩和部材３５を介して、冷却器１１が熱的に接合されている。冷却器１１の内部には、直線状に延びる複数の冷媒通路１１ａが区画されている。冷却器１１には、図示しない冷媒流入部及び冷媒流出部が形成されており、冷媒流入部から流入した冷媒が、冷媒通路１１ａを流通して冷媒流出部から流出するように構成されている。
【００２６】
正極用バスバー３４は、第４の金属板２５、セラミック基板２１及び応力緩和部材３５を介して冷却器１１に熱的に接合されている。また、負極用バスバー２９は、半導体素子４２，４４，４６、第１の金属板２２、第２の金属板２３、第３の金属板２４、セラミック基板２１及び応力緩和部材３５を介して冷却器１１に熱的に接合されている。そして、冷却器１１の冷媒通路１１ａを冷媒が流通することで、正極用バスバー３４及び負極用バスバー２９は、冷却される。
【００２７】
図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、負極用バスバー２９の裏面は、半導体素子４２，４４，４６の表面と接合されており、半導体素子４２，４４，４６の表面と接合される接合面２９ａを斜線で示している（図２にも同様に示すものとする）。また、正極用バスバー３４の裏面は、第４の金属板２５の表面に接合されており、第４の金属板２５に接合される接合面３４ａを斜線で示している。一方、負極用バスバー２９及び正極用バスバー３４において、接合面２９ａ，３４ａ以外の部位の表面積を非接合面とする。
【００２８】
正極用バスバー３４と負極用バスバー２９を比較すると、幅Ｔ２は同一の幅となっている。また、長さＴ１は、正極用バスバー３４よりも、負極用バスバー２９の本体部３０の方が長い。同様に、長さＴ１は、正極用バスバー３４よりも、負極用バスバー２９のそれぞれの接続部３１〜３３のほうが長い。図３に示すように、正極用バスバー３４と負極用バスバー２９を比較すると、厚さＴ３は、負極用バスバー２９の方が厚い。
【００２９】
図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、正極用バスバー３４と負極用バスバー２９を比較すると、接合面２９ａ，３４ａの長さＴ４は、負極用バスバー２９のほうが長い。正極用バスバー３４と負極用バスバー２９の幅Ｔ２は、同一であるため、接合面２９ａ，３４ａの面積は、負極用バスバー２９の方が大きい。また、非接合面の面積も負極用バスバー２９の方が大きい。
【００３０】
そして、負極用バスバー２９と正極用バスバー３４を比較すると、接合面２９ａ，３４ａの面積に対する非接合面の面積の割合は、負極用バスバー２９の方が大きい。したがって、本実施形態では、正極用バスバー３４が第１のバスバーとなり、負極用バスバー２９が第２のバスバーとなる。
【００３１】
図３及び図４に示すように、負極用バスバー２９の本体部３０及び接続部３１〜３３は、電流が流れる方向に直交する方向での電流通路断面積が、正極用バスバー３４の電流通路断面積よりも大きくなっている。
【００３２】
三相インバータ装置１０は、冷却器１１上に設けられた部材が、絶縁性の樹脂１２によって冷却器１１に対して樹脂モールドされている。具体的にいえば、樹脂１２は、冷却器１１の表面に形成されており、樹脂１２は、各半導体素子４１〜４６、各金属板２２〜２５、セラミック基板２１、応力緩和部材３５、接続部材２６〜２８、負極用バスバー２９及び正極用バスバー３４を覆っている。正極用バスバー３４の一部及び負極用バスバー２９の本体部３０の一部は、樹脂１２から突出しており、この部分に対して外部電極などを介して電源が電気的に接続される。
【００３３】
本実施形態の三相インバータ装置１０の電気的構成について説明する。
図６に示すように、半導体素子４１，４３，４５のそれぞれに組み込まれた第１のスイッチング素子Ｑ１、第３のスイッチング素子Ｑ３及び第５のスイッチング素子Ｑ５は、三相インバータ装置１０の上アーム用スイッチング素子として機能している。半導体素子４２，４４，４６のそれぞれに組み込まれた第２のスイッチング素子Ｑ２、第４のスイッチング素子Ｑ４及び第６のスイッチング素子Ｑ６は、三相インバータ装置１０の下アーム用スイッチング素子として機能している。
【００３４】
第１のスイッチング素子Ｑ１と第２のスイッチング素子Ｑ２、第３のスイッチング素子Ｑ３と第４のスイッチング素子Ｑ４、第５のスイッチング素子Ｑ５と第６のスイッチング素子Ｑ６はそれぞれ接続部材２６，２７，２８及び金属板２２〜２４を介して直列に接続されている。
【００３５】
各スイッチング素子Ｑ１〜Ｑ６のエミッタとコレクタ間には、それぞれダイオードＤが逆並列に、すなわちカソードがエミッタにアノードがコレクタに対応する状態に接続されている。
【００３６】
第１のスイッチング素子Ｑ１と第２のスイッチング素子Ｑ２の接続点、第３のスイッチング素子Ｑ３と第４のスイッチング素子Ｑ４の接続点及び第５のスイッチング素子Ｑ５と第６のスイッチング素子Ｑ６の接続点は、負荷５１（例えば、三相モータ）に接続されている。そして、三相インバータ装置１０は、バッテリＢから供給される直流電力を交流電力に変換して負荷５１に供給する。
【００３７】
次に、本実施形態の三相インバータ装置１０の作用について説明する。
負荷５１を駆動すべく、バッテリＢから三相インバータ装置１０に電流が供給されると、電流が流れることで、各部材（電流が流れる部材）が発熱する。正極用バスバー３４及び負極用バスバー２９が発熱すると、正極用バスバー３４で発した熱は、第４の金属板２５、セラミック基板２１及び応力緩和部材３５を介して冷却器１１に伝導する。負極用バスバー２９で発した熱は、半導体素子４２，４４，４６、第１の金属板２２、第２の金属板２３、第３の金属板２４、セラミック基板２１及び応力緩和部材３５を介して冷却器１１に伝導する。
【００３８】
このとき、正極用バスバー３４及び負極用バスバー２９は、接合面２９ａ，３４ａの面積（半導体素子４２，４４，４６又は金属板２５に接合される面積）が大きいほど、冷却器１１によって冷却されやすい。一方、正極用バスバー３４及び負極用バスバー２９は、非接合面の面積が大きいほど冷却されにくい。したがって、接合面２９ａ，３４ａの面積に対する非接合面の面積の割合が大きいほど冷却器１１による冷却効率は低い。
【００３９】
そして、負極用バスバー２９の電流通路断面積を大きくすることで、負極用バスバー２９の抵抗値を低下させている。したがって、電流が負極用バスバー２９を流れるときに発する熱（ジュール熱）は、電流が正極用バスバー３４を流れるときに発する熱（ジュール熱）に比べて少なくなっている。このため、正極用バスバー３４と負極用バスバー２９の間では発熱時の温度差が小さくなる。
【００４０】
ところで、負極用バスバー２９の接合面２９ａの面積（半導体素子４２，４４，４６と接合される面積）を増加させることで、冷却器１１による負極用バスバー２９に対する冷却効率を向上させて、正極用バスバー３４と負極用バスバー２９との発熱時の温度差を小さくすることも考えられる。しかしながら、負極用バスバー２９の接合面２９ａの面積を増加させる場合には、負極用バスバー２９を接合する被接合部（本実施形態では、半導体素子４２，４４，４６の上面）の面積を確保する必要がある。このため、負極用バスバー２９の接合面２９ａの面積を増加させるためには、被接合部も増加させる必要があり、三相インバータ装置１０全体が大型化してしまうおそれがあり、現実的ではない。
【００４１】
したがって、上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）負極用バスバー２９は、正極用バスバー３４に比べて接合面２９ａ，３４ａの面積に対する非接合面の面積の割合が大きい。この負極用バスバー２９の電流通路断面積を正極用バスバー３４よりも大きくすることで、三相インバータ装置１０に電流が流れたときの、負極用バスバー２９の発熱量（ジュール熱）が、正極用バスバー３４の発熱量（ジュール熱）に比べて少なくなっている。冷却器１１による冷却効率が低い負極用バスバー２９の発熱量を少なくすることで、正極用バスバー３４と負極用バスバー２９間の冷却効率の差を小さくすることができる。
【００４２】
（２）冷却器１１上に設けられた部材は、絶縁性の樹脂１２によって冷却器１１に対して樹脂モールドされている。したがって、三相インバータ装置１０に電流が流れ、各金属板２２〜２５が発熱し、これに伴い各金属板２２〜２５が熱膨張しようとすると、樹脂１２によって各金属板２２〜２５の熱膨張を抑えることができる。このため、各金属板２２〜２５の変形に伴い、各金属板２２〜２５がセラミック基板２１から剥離することが抑制される。
【００４３】
（３）負極用バスバー２９の本体部３０と、正極用バスバー３４とは、その厚み方向に対向している。また、負極用バスバー２９の各接続部３１〜３３のそれぞれ及び本体部３０と、各接続部材２６〜２８のそれぞれとは、その厚み方向に対向している。負極用バスバー２９を流れる電流の向きと、正極用バスバー３４及び各接続部材２６〜２８を流れる電流の向きは、逆方向となるため、相互誘導作用により、三相インバータ装置１０のインダクタンスが低減する。
【００４４】
なお、実施形態は、以下のように変更してもよい。
○  図７に示すように、実施形態において、負極用バスバー２９の本体部３０に、本体部３０の上面から垂直に立設するフィン６１を形成してもよい。これによれば、負極用バスバー２９の放熱面積が増えることで、負極用バスバー２９に対する冷却効率を向上させて、正極用バスバー３４と負極用バスバー２９間での冷却効率の差を更に小さくすることができる。
【００４５】
○  実施形態において、負極用バスバー２９を正極用バスバー３４に比べて導電性の高い材料から形成することで、負極用バスバー２９の抵抗値を正極用バスバー３４に比べて小さくしてもよい。この場合、負極用バスバー２９と正極用バスバー３４の電流通路断面積が同一であってもよい。
【００４６】
○  実施形態において、冷却器１１上に設けられた部材を樹脂モールドしなくてもよい。
○  実施形態において、正極用バスバー３４の接合面３４ａの面積に対する非接合面の割合が負極用バスバー２９の接合面２９ａの面積に対する非接合面の面積の割合よりも大きい場合には、正極用バスバー３４の抵抗値を負極用バスバー２９の抵抗値よりも低下させる。すなわち、正極用バスバー３４が第２のバスバーとなり、負極用バスバー２９が第１のバスバーとなってもよい。
【００４７】
○  実施形態において、正極用バスバー３４が直接半導体素子４１，４３，４５の裏面に接合されていてもよい。この場合、正極用バスバー３４が金属板２５を兼ねる。
○  実施形態において、半導体素子４２，４４，４６の表面に配線層を設けて、負極用バスバー２９をこの配線層に接合してもよい。
【００４８】
○  本発明の半導体装置を三相インバータ装置１０以外に具体化してもよい。例えば、単層インバータ装置やＤＣＤＣコンバータに具体化してもよい。
次に、上記実施形態及び別例から把握できる技術的思想について以下に追記する。
（イ）絶縁層と、前記絶縁層の一面に設けられた配線層と、前記配線層の一面に設けられた半導体素子と、前記絶縁層の他面に熱的に接合された冷却器と、前記半導体素子又は前記配線層に対し接合面を介して接合される第１のバスバーと、前記半導体素子又は前記配線層に対し接合面を介して接合される第２のバスバーと、を備え、前記第１のバスバー及び前記第２のバスバーにおける前記半導体素子又は前記配線層に対し接合されない部位の表面積を非接合面とすると、前記非接合面の面積が前記第１のバスバーに比べて前記第２のバスバーの方が大きい半導体装置であって、前記第２のバスバーの抵抗値を前記第１のバスバーの抵抗値に比べて小さくしたことを特徴とする半導体装置。
【符号の説明】
【００４９】
１０…半導体装置としての三相インバータ装置、１１…冷却器、１２…樹脂、２１…絶縁層としてのセラミック基板、２２…配線層としての第１の金属板、２３…配線層としての第２の金属板、２４…配線層としての第３の金属板、２５…配線層としての第４の金属板、２６〜２８…接続部材、２９…第２のバスバーとしての負極用バスバー、２９ａ…接合面、３４…第１のバスバーとしての正極用バスバー、３４ａ…接合面、４１〜４６…半導体素子、６１…フィン。
【図１】
2014033096.tif 000003
【図２】
2014033096.tif 000004
【図３】
2014033096.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014033096.tif 000009