(57)【要約】【課題】微生物反応槽に導入するガスを工夫することで、低コストで、微生物による被処理物の分解効率を向上させる。【解決手段】合成ガス生成システムは、ガス化原料をガス化させて合成ガスＸ１を生成するガス化炉１１６と、生成された合成ガスＸ２を水で洗浄する洗浄部２１４と、洗浄部２１４において生じた排水Ｚ１中に含まれる被処理物を微生物で分解して浄化する微生物反応槽３１６と、空気から酸素を分離することで、空気よりも窒素の含有率が高い窒素リッチガスを製造する窒素製造装置４００とを備え、窒素製造装置４００において排気ガスとして分離された、空気よりも酸素の含有率が高い酸素リッチガスＯＲは、微生物反応槽３１６に導入される。【選択図】図２
2014227450.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス化原料をガス化させて合成ガスを生成するガス化炉と、
生成された前記合成ガスを水で洗浄する洗浄部と、
前記洗浄部において生じた排水中に含まれる被処理物を微生物で分解して浄化する微生物反応槽と、
空気から酸素を分離することで、空気よりも窒素の含有率が高い窒素リッチガスを製造する窒素製造装置と、
を備え、
前記窒素製造装置において排気ガスとして分離された、空気よりも酸素の含有率が高い酸素リッチガスは、前記微生物反応槽に導入されることを特徴とする合成ガス生成システム。
【請求項２】
ガス化原料をガス化させて合成ガスを生成する工程と、
生成した前記合成ガスを水で洗浄する工程と、
前記洗浄する工程において生じた排水と微生物とを微生物反応槽に収容し、該排水中に含まれる被処理物を該微生物で分解して浄化する工程と、
空気から酸素を分離することで、空気よりも窒素の含有率が高い窒素リッチガスを製造する工程と、
前記窒素リッチガスを製造する工程において排気ガスとして分離された、空気よりも酸素の含有率が高い酸素リッチガスを前記微生物反応槽に導入する工程と、
を有することを特徴とする合成ガス生成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合成ガスを生成する合成ガス生成システム、および、合成ガス生成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油に代えて、石炭やバイオマス、タイヤチップ等のガス化原料をガス化して合成ガスを生成する技術が開発されている。このようにして生成された合成ガスは、発電システムや、水素の製造、合成燃料（合成石油）の製造、化学肥料（尿素）等の化学製品の製造等に利用されている。合成ガスの原料となるガス化原料のうち、特に石炭は、可採年数が１５０年程度と、石油の可採年数の３倍以上であり、また、石油と比較して埋蔵地が偏在していないため、長期に亘り安定供給が可能な天然資源として期待されている。
【０００３】
従来、石炭のガス化プロセスは、酸素や空気を用いて部分酸化することにより行われていたが、２０００℃といった高温で部分酸化する必要があるため、ガス化炉のコストが高くなるといった欠点を有していた。
【０００４】
この問題を解決するために、水蒸気を利用し、７００℃〜９００℃程度で石炭をガス化する技術が開発されている。この技術では、温度を低く設定することでコストを低減することが可能となるが、生成された合成ガスには、２０００℃の高温で部分酸化して生成した合成ガスと比較して、タールが多く含まれることになる。このとき、合成ガスを利用するプロセスにおいて合成ガスの温度が低下すると、合成ガスに含まれるタールが凝縮し、配管の閉塞、プロセスで使用する機器の故障、触媒の被毒等の問題が生じてしまう。
【０００５】
そこで、ガス化炉で生成された合成ガスに水を噴霧することで、合成ガスに含まれるタール等の粒子を除去する技術が開発されている。また、このように合成ガスからタールを除去することで生じた排水には、タールやアンモニア等が含まれているため、好気性の微生物（活性汚泥）を収容した微生物反応槽に当該排水を導入し、タールやアンモニア等を微生物で分解して排水を浄化している。
【０００６】
このように微生物を用いて排水中のタールやアンモニア等（以下、「被処理物」と称する）を分解する場合、微生物による被処理物の分解効率を向上させるために、空気を曝気する処理が遂行されるが、空気を曝気するためのブロワの消費電力が莫大となってしまうという問題があった。
【０００７】
そこで、酸素製造装置と、当該酸素製造装置によって製造された酸素を用いてオゾンを生成するオゾナイザを備えたプラントにおいて、酸素製造装置によって製造された酸素（純度９３％程度）や、オゾナイザで生成されたオゾンが分解されることによって得られた酸素を微生物反応槽に導入する技術が開示されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−２１９１８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、特許文献１の技術において、酸素製造装置が製造する酸素は、純度が９３％程度と極めて高い。このような酸素製造装置で製造された酸素や、オゾンが分解されることによって得られた酸素といった高純度の酸素を微生物反応槽に導入すると、微生物内で活性酸素が過剰に生成されてしまったり、微生物の内生呼吸が促進されてバルキング等のトラブルを起こしたり、動物細胞のような高度な細胞を有する微生物にダメージを与えてしまったりすることがあり、微生物による被処理物の分解効率が却って低下するおそれがある。
【００１０】
また、一般的な配管に、純度が極めて高い酸素を流すと、配管の内壁に残留した油脂類等の可燃物と酸素とが摩擦熱や静電気によって反応、引火し、その燃焼熱によって配管が溶融してしまうおそれがあるため、高純度酸素専用の配管を敷設する必要がありコスト高となる。
【００１１】
そこで、本発明は、微生物反応槽に導入するガスを工夫することで、低コストで、微生物による被処理物の分解効率を向上させることが可能な合成ガス生成システム、および、合成ガス生成方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明の合成ガス生成システムは、ガス化原料をガス化させて合成ガスを生成するガス化炉と、生成された合成ガスを水で洗浄する洗浄部と、洗浄部において生じた排水中に含まれる被処理物を微生物で分解して浄化する微生物反応槽と、空気から酸素を分離することで、空気よりも窒素の含有率が高い窒素リッチガスを製造する窒素製造装置と、を備え、窒素製造装置において排気ガスとして分離された、空気よりも酸素の含有率が高い酸素リッチガスは、微生物反応槽に導入されることを特徴とする。
【００１３】
上記課題を解決するために、本発明の合成ガス生成方法は、ガス化原料をガス化させて合成ガスを生成する工程と、生成した合成ガスを水で洗浄する工程と、洗浄する工程において生じた排水と微生物とを微生物反応槽に収容し、排水中に含まれる被処理物を微生物で分解して浄化する工程と、空気から酸素を分離することで、空気よりも窒素の含有率が高い窒素リッチガスを製造する工程と、窒素リッチガスを製造する工程において排気ガスとして分離された、空気よりも酸素の含有率が高い酸素リッチガスを微生物反応槽に導入する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、微生物反応槽に導入するガスを工夫することで、低コストで、微生物による被処理物の分解効率を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】合成ガス生成システムを説明するための説明図である。
【図２】合成ガス精製装置および排水処理装置を説明するための図である。
【図３】微生物反応槽、窒素製造装置、酸素リッチガス導入配管の具体的な構成を説明するための図である。
【図４】合成ガス生成方法の処理の流れを説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
【００１７】
（合成ガス生成システム１００）
図１は、合成ガス生成システム１００を説明するための図である。図１に示すように、合成ガス生成システム１００は、ガス化装置１１０と、合成ガス精製装置２００と、排水処理装置３００と、窒素製造装置４００とを含んで構成される。図１中、ガスの流れを実線の矢印で、流動媒体やガス化原料といった固体の流れを一点鎖線の矢印で、水、油等の液体の流れを破線の矢印で示す。
【００１８】
合成ガス生成システム１００は、石油に代えて、石炭やバイオマス、タイヤチップ等のガス化原料をガス化して合成ガスを生成する技術である。石炭としては、泥炭、亜炭、褐炭、亜瀝青炭、瀝青炭、半無煙炭、無煙炭が挙げられる。
【００１９】
合成ガス生成システム１００では、流動媒体が流動層を形成しているガス化炉内で、水蒸気を利用して、７００℃〜９００℃程度でガス化原料をガス化する（水蒸気ガス化）。この合成ガス生成システム１００では、温度を低く設定することで昇温にかかるコストを低減することが可能となるが、生成された合成ガスには、２０００℃の高温で部分酸化して生成した合成ガスと比較して、タールが多く含まれることとなる。そこで、生成された合成ガスを精製するために、合成ガス精製装置２００が利用される。また、合成ガス精製装置２００で生じた排水を処理するために排水処理装置３００が利用される。
【００２０】
さらに、合成ガス生成システム１００のような可燃性ガス（ここでは、合成ガス）を取り扱うプラントでは、窒素製造装置４００が敷設されている。具体的に説明すると、合成ガス生成システム１００では、合成ガスを払い出したり、合成ガスの組成を調整したりするために窒素が利用されている。また、ガス化装置１１０や合成ガス精製装置２００を、予め定められた期間停止した状態で維持する際に、ガス化装置１１０内や合成ガス精製装置２００内を窒素で置換（パージ）することにより、ガス化装置１１０内や合成ガス精製装置２００内から酸素や水を除去して腐食を防止している。さらに、窒素は、消火や洗浄にも用いられる。
【００２１】
窒素製造装置４００は、空気から窒素を分離して収集することで、空気よりも窒素の含有率が高い（窒素濃度が９０％以上）、窒素リッチガスを製造する。窒素製造装置４００としては、例えば、ＰＳＡ（Pressure Swing Absorption）方式、ＶＳＡ（Vacuum Swing Absorption）方式、深冷分離方式の群から選択された方式を採用することができる。窒素製造装置４００によって製造された窒素リッチガスは、上記合成ガスの払出、組成調整、パージ、消火、洗浄等に利用される。なお、窒素製造装置４００では、排気ガスとして、空気よりも酸素の含有率が高い（酸素濃度が２５％〜３５％）、酸素リッチガスＯＲが排気される。
【００２２】
従来、窒素製造装置４００から排気された酸素リッチガスＯＲはそのまま廃棄（大気に放出）されていた。そこで、本実施形態の合成ガス生成システム１００では、従来廃棄されていた酸素リッチガスＯＲを有効利用する。以下、ガス化装置１１０、合成ガス精製装置２００、排水処理装置３００の具体的な構成について、その順に説明する。
【００２３】
（ガス化装置１１０）
図１に示すようにガス化装置１１０は、燃焼炉１１２と、媒体分離装置（サイクロン）１１４と、ガス化炉１１６とを含んで構成される。
【００２４】
ガス化装置１１０では、全体として、粒径が３００μｍ程度の硅砂（珪砂）等の砂で構成される流動媒体を熱媒体として循環させている。具体的には、まず、流動媒体は、燃焼炉１１２で１０００℃程度に加熱され、二酸化炭素（ＣＯ２）を含む燃焼排ガスとともに媒体分離装置１１４に導入される。媒体分離装置１１４においては、高温の流動媒体と燃焼排ガスとが分離され、当該分離された高温の流動媒体が、ガス化炉１１６に導入される。そして、ガス化炉１１６に導入された流動媒体は、ガス化炉１１６の底面から導入されるガス化剤（水蒸気、窒素、空気、酸素、不活性ガス等）によって流動層化された後、最終的に、燃焼炉１１２に戻される。
【００２５】
ガス化炉１１６は、例えば、気泡流動層（バブリング流動層）ガス化炉であり、ガス化原料として、例えば、褐炭等の低品位燃料を７００℃〜９００℃程度でガス化させて合成ガスを生成する。本実施形態では、ガス化炉１１６に水蒸気を供給することにより、ガス化原料をガス化させて合成ガスを生成する（水蒸気ガス化）。
【００２６】
そして、ガス化炉１１６で生成された合成ガスＸ１には、タール、スラッジ、水蒸気等が含まれているため、後段の合成ガス精製装置２００に送出されて精製される。
【００２７】
なお、ここでは、循環流動層方式のガス化炉１１６を例に挙げて説明するが、ガス化原料をガス化するガス化炉であれば、単なる流動層方式のガス化炉や、流動媒体が自重で鉛直下方向に流下することで移動層を形成する移動層方式のガス化炉であってもよい。
【００２８】
（合成ガス精製装置２００）
図２は、合成ガス精製装置２００および排水処理装置３００を説明するための図である。図２に示すように合成ガス精製装置２００は、改質炉（酸化改質炉）２１０と、第１熱交換器２１２と、洗浄部２１４と、第２熱交換器２１６と、沈降分離部２１８とを含んで構成される。図２中、ガスの流れを実線の矢印で、水、油等の液体の流れを破線の矢印で示す。
【００２９】
改質炉２１０は、ガス化炉１１６で生成された合成ガスＸ１に酸素や空気を加え、９００℃〜１５００℃程度にして、合成ガスＸ１に含まれるタールを改質（酸化改質）する。第１熱交換器２１２は、改質炉２１０で改質された合成ガスＸ２と水蒸気との熱交換を行い、合成ガスＸ２の顕熱を水蒸気で回収し、合成ガスＸ２の出口温度を３００℃〜６００℃程度にする。
【００３０】
洗浄部２１４は、タールが改質された合成ガスＸ２を水で洗浄することで、合成ガスＸ２からタール、スラッジ等を除去する。具体的に説明すると、洗浄部２１４は、スプレー塔と、ミストセパレータとを含んで構成される。
【００３１】
スプレー塔は、合成ガスＸ２に４０℃程度の冷却水をスプレー噴霧することにより、第１熱交換器２１２によって３００℃〜６００℃程度となった合成ガスＸ２を７０℃程度に冷却する。これにより、合成ガスＸ２に含まれるタールやスラッジが凝縮して、合成ガスＸ２から除去され、粗精製合成ガスと排水Ｙ１が生成される。そして、スプレー塔は、粗精製合成ガスを後段のミストセパレータに供給し、タールおよびスラッジを含む排水Ｙ１を沈降分離部２１８に送出する。
【００３２】
ミストセパレータは、粗精製合成ガスに、４０℃程度の冷却水を、スプレー塔における粒径よりも小さい水滴としてスプレー噴霧する。これにより、スプレー塔では、十分に分離、除去できなかった粗精製合成ガスに含まれる霧状のタールやスラッジ等が凝縮して、粗精製合成ガスから除去され、精製合成ガスＸ３と排水Ｙ１が生成される。そして、ミストセパレータは、精製合成ガスＸ３を後段の第２熱交換器２１６に供給し、タールおよびスラッジを含んで構成される排水Ｙ１を沈降分離部２１８に送出する。
【００３３】
第２熱交換器２１６は、海水、ブライン等を用いて、精製合成ガスＸ３を３０℃以下にさらに冷却する。これにより、残存した水およびタールが凝縮し、精製合成ガスＸ３から除去されて、精製合成ガスＸ４が生成される。第２熱交換器２１６で生じた、水、タールおよびスラッジを含んで構成される排水Ｙ２は、排水処理装置３００に送出される。
【００３４】
沈降分離部２１８は、洗浄部２１４から送出された排水Ｙ１を、比重の違いによって、上澄液Ｙ３と、沈降物Ｔとに分離する。そうすると、上澄液Ｙ３には、軽質タールが含まれることとなり、沈降物Ｔには、重質タールおよびスラッジが含まれることとなる。ここで、軽質タールは、水よりも比重が小さいタールであり、３環未満の芳香族、例えば、ベンゼンが含まれる。また、重質タールは、水よりも比重が大きいタールであり、３環以上の芳香族、例えば、アントラセンが含まれる。
【００３５】
沈降分離部２１８によって沈降分離された沈降物Ｔは、上記ガス化装置１１０のガス化炉１１６に返送される。沈降物Ｔには重質タールが多く含まれているため、ガス化炉１１６に沈降物Ｔを返送することにより、ガス化原料に由来する重質タールをガス化原料として、ガス化炉１１６でガス化することができる。したがって、沈降分離部２１８において沈降分離された沈降物Ｔを廃棄することなく有効利用でき、廃棄に要するコストを削減することが可能となる。また、ガス化炉１１６において導入されるガス化原料の量を低減することが可能となるため、ガス化原料に要するコストも削減することができる。
【００３６】
一方、沈降分離部２１８によって分離された上澄液Ｙ３は、第２熱交換器２１６で生じた排水Ｙ２とともに排水処理装置３００に送出される。
【００３７】
（排水処理装置３００）
図２に示すように、排水処理装置３００は、バッファタンク３１０と、加圧浮上槽３１２と、アンモニア除去部３１４と、微生物反応槽３１６と、最終沈殿槽３１８と、酸素リッチガス導入配管３２０とを含んで構成される。
【００３８】
バッファタンク３１０は、第２熱交換器２１６から送出された排水Ｙ２、および、沈降分離部２１８から送出された上澄液Ｙ３（以下、排水Ｙ２および上澄液Ｙ３を「排水Ｚ１」と称する）を貯留し、加圧浮上槽３１２へ送出する。加圧浮上槽３１２は、加圧した空気を排水Ｚ１に導入し、排水Ｚ１に含まれるスラッジ等の浮遊物質を浮上させて除去する。アンモニア除去部３１４は、浮遊物質が除去された排水Ｚ２からアンモニア（ＮＨ３）を除去する。
【００３９】
微生物反応槽３１６には、好気性の微生物（活性汚泥）が収容されており、微生物反応槽３１６に、アンモニアが除去された排水Ｚ３が導入されると、排水Ｚ３に含まれる軽質タール等の有機物（被処理物）が微生物によって分解されて除去される。本実施形態において、微生物反応槽３１６には、後述する酸素リッチガス導入配管３２０によって酸素リッチガスＯＲが導入されるが、その詳細については後述する。
【００４０】
最終沈殿槽３１８には、微生物と、有機物が除去された排水Ｚ５との混合液Ｚ４が導入され、最終沈殿槽３１８は、混合液Ｚ４から、微生物と、有機物が除去された排水Ｚ５とを分離する。そして、最終沈殿槽３１８で分離された排水Ｚ５は、放流、または廃棄され、微生物は、必要に応じて微生物反応槽３１６に返送される。
【００４１】
酸素リッチガス導入配管３２０は、窒素製造装置４００の排気口と、微生物反応槽３１６とを接続する配管であり、窒素製造装置４００において排気ガスとして分離された、酸素リッチガスＯＲは、酸素リッチガス導入配管３２０を通って微生物反応槽３１６に導入される。
【００４２】
図３は、微生物反応槽３１６、窒素製造装置４００、酸素リッチガス導入配管３２０の具体的な構成を説明するための図である。図３に示すように、酸素リッチガス導入配管３２０は、微生物反応槽３１６内に設けられた散気管と、当該散気管と窒素製造装置４００の排気口とを接続する配管とで構成されており、窒素製造装置４００から排気された酸素リッチガスＯＲは、酸素リッチガス導入配管３２０を通って、微生物反応槽３１６に導入される。そうすると、微生物反応槽３１６に収容された微生物は、酸素リッチガスＯＲによって曝気されることとなる。
【００４３】
上述したように微生物反応槽３１６に収容される微生物は好気性の微生物であるため、微生物反応槽３１６に酸素リッチガスＯＲを導入することで、微生物反応槽３１６において微生物を活性化することができ、微生物反応槽３１６における有機物（軽質タール）の分解効率を向上させることが可能となる。
【００４４】
また、窒素製造装置４００から排気される酸素リッチガスＯＲは、空気よりも酸素濃度が高い（酸素濃度が２５％〜３５％）ため、空気を導入する場合と比較して、微生物による有機物の分解効率を向上させることが可能となる。
【００４５】
さらに、窒素製造装置４００から排気される酸素リッチガスＯＲの圧力は、５ｋＰａ程度と高いため、酸素リッチガスＯＲを昇圧して微生物反応槽３１６に送り込むためのブロワ等の装置を省略することができる。したがって、酸素リッチガスＯＲを昇圧するための装置自体のコスト、および、当該装置の消費電力を削減することが可能となる。
【００４６】
また、窒素製造装置４００から排気される酸素リッチガスＯＲは従来廃棄されていたが、酸素リッチガスＯＲを微生物反応槽３１６に導入する構成により、酸素リッチガスＯＲを微生物による分解効率の向上に役立てることができ、酸素リッチガスＯＲを有効利用することが可能となる。
【００４７】
さらに、窒素製造装置４００から排気される酸素リッチガスＯＲは、酸素製造装置が生成する酸素と比較して酸素濃度が高くないため、微生物反応槽３１６に導入しても、微生物内で活性酸素が過剰に生成されてしまったり、微生物の内生呼吸が促進されてバルキング等のトラブルを起こしたり、動物細胞のような高度な細胞を有する微生物にダメージを与えてしまったりする事態を回避することが可能となる。
【００４８】
また、窒素製造装置４００から排気される酸素リッチガスＯＲは、酸素製造装置が生成する酸素と比較して酸素濃度が高くないため、高純度酸素専用の配管を敷設する必要がなく、配管に要するコストを低減することができる。
【００４９】
（合成ガス生成方法）
続いて、合成ガス生成システム１００を用いた合成ガス生成方法について説明する。図４は、合成ガス生成方法の処理の流れを説明するためのフローチャートである。なお、本実施形態において、窒素製造装置４００は、常時窒素リッチガスを製造し、排気ガスとして酸素リッチガスＯＲを排気しているものとする。
【００５０】
（合成ガス生成工程Ｓ５１０）
合成ガス生成システム１００のガス化炉１１６において、ガス化原料をガス化させて合成ガスＸ１を生成する。
【００５１】
（改質工程Ｓ５１２）
改質炉２１０は、合成ガス生成工程Ｓ５１０において生成された合成ガスＸ１に酸素や空気を加え、９００℃〜１５００℃程度にして、合成ガスＸ１に含まれるタールを改質（酸化改質）する。
【００５２】
（第１冷却工程Ｓ５１４）
第１熱交換器２１２は、改質工程Ｓ５１２において改質された合成ガスＸ２と水蒸気との熱交換を行い、合成ガスＸ２の顕熱を水蒸気で回収し、合成ガスＸ２の出口温度を３００℃〜６００℃程度に冷却する。
【００５３】
（洗浄工程Ｓ５１６）
洗浄部２１４は、第１冷却工程Ｓ５１４で冷却された合成ガスＸ２を水で洗浄することで、合成ガスＸ２からタール、スラッジ等を除去する。洗浄工程Ｓ５１６の処理を遂行することで、精製合成ガスＸ３が生成されるとともに、タールやスラッジ等を含む排水Ｙ１が生じることとなる。
【００５４】
（第２冷却工程Ｓ５１８）
第２熱交換器２１６は、海水、ブライン等を用いて、洗浄工程Ｓ５１６で生成された精製合成ガスＸ３を３０℃以下にさらに冷却する。第２冷却工程Ｓ５１８の処理を遂行することで精製合成ガスＸ４が生成されるとともに、タールやスラッジ等を含む排水Ｙ２が生じることとなる。
【００５５】
（沈降分離工程Ｓ５２０）
沈降分離部２１８は、洗浄工程Ｓ５１６の処理を遂行することで生じた排水Ｙ１を、比重の違いによって、上澄液Ｙ３と、沈降物Ｔとに分離する。分離された上澄液Ｙ３は、第２冷却工程Ｓ５１８で生じた排水Ｙ２とともにバッファタンク３１０で一旦貯留された後、加圧浮上槽３１２に送出され、沈降物Ｔは、ガス化炉１１６に返送される。
【００５６】
（加圧浮上工程Ｓ５２２）
加圧浮上槽３１２は、第２冷却工程Ｓ５１８で生じた排水Ｙ２と、沈降分離工程Ｓ５２０で生じた上澄液Ｙ３に、加圧した空気を導入し、排水Ｚ１（排水Ｙ２および上澄液Ｙ３）に含まれるスラッジ等の浮遊物質を浮上させて除去する。
【００５７】
（アンモニア除去工程Ｓ５２４）
アンモニア除去部３１４は、加圧浮上工程Ｓ５２２において浮遊物質が除去された排水Ｚ２からアンモニアを除去する。
【００５８】
（微生物反応工程Ｓ５２６）
アンモニア除去工程Ｓ５２４においてアンモニアが除去された排水Ｚ３と微生物とを微生物反応槽３１６に収容し、排水Ｚ３中に含まれる有機物（被処理物）を微生物で分解して浄化する。また、当該微生物反応工程Ｓ５２６において、窒素製造装置４００で排気ガスとして分離された酸素リッチガスＯＲは、酸素リッチガス導入配管３２０を通じて、微生物反応槽３１６に導入される。
【００５９】
（最終沈殿工程Ｓ５２８）
最終沈殿槽３１８は、微生物反応工程Ｓ５２６で生成された微生物と、有機物が除去された排水Ｚ５との混合液Ｚ４を、微生物と、排水Ｚ５とに分離する。そして、最終沈殿槽３１８で分離された排水Ｚ５は、放流、または廃棄され、微生物は、必要に応じて微生物反応槽３１６に返送される。
【００６０】
以上説明したように、本実施形態にかかる合成ガス生成システム１００、および、これを用いた合成ガス生成方法によれば、微生物反応槽３１６に導入するガスを工夫することで、低コストで、微生物による被処理物の分解効率を向上させることが可能となる。
【００６１】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００６２】
なお、本明細書の合成ガス生成方法の各工程は、必ずしもフローチャートとして記載された順序に沿って時系列に処理する必要はなく、並列的あるいはサブルーチンによる処理を含んでもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６３】
本発明は、合成ガスを生成する合成ガス生成システム、および、合成ガス生成方法に利用することができる。
【符号の説明】
【００６４】
１００  合成ガス生成システム
１１６  ガス化炉
２１４  洗浄部
３１６  微生物反応槽
４００  窒素製造装置
【図１】
2014227450.tif 000003
【図２】
2014227450.tif 000004
【図３】
2014227450.tif 000005
【図４】
2014227450.tif 000006