(57)【要約】【課題】カバー基板の遮光層に起因する粘着材における気泡の発生を抑制して、偏光板の劣化を抑制する。【解決手段】少なくとも一方の表面に偏光板３６が貼り付けられた表示パネル３５ａと、表示パネル３５ａの偏光板３６側に貼り付けられたタッチパネル２０ａと、タッチパネル２０ａに紫外線硬化型の粘着材４５を介して貼り付けられ、粘着材４５側の周端部に枠状の遮光層４２が設けられたカバー基板４１とを備え、タッチパネル２０ａは、粘着材４５側に設けられた紫外線を吸収する透明基板１１ｂと、透明基板１１ｂの偏光板３６側に設けられたタッチパネル層１６ａとを備えている。【選択図】図１
2014013266.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方の表面に偏光板が貼り付けられた表示パネルと、
上記表示パネルの上記偏光板側に貼り付けられたタッチパネルと、
上記タッチパネルに紫外線硬化型の粘着材を介して貼り付けられ、該粘着材側の周端部に枠状の遮光層が設けられたカバー基板とを備え、
上記タッチパネルは、上記粘着材側に設けられた紫外線を吸収する透明基板と、該透明基板の上記偏光板側に設けられたタッチパネル層とを備えている、表示装置。
【請求項２】
上記透明基板は、３６５ｎｍ以下の波長の光を吸収する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
上記透明基板は、ポリイミド基板である、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
上記カバー基板は、ガラス基板である、請求項１〜３の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
上記表示パネルは、液晶表示パネルである、請求項１〜４の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
上記表示パネルは、有機エレクトロルミネセンス表示パネルである、請求項１〜４の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
上記タッチパネル層は、静電容量方式のタッチパネルを構成する、請求項１〜６の何れか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
紫外線を吸収する透明基板及び該透明基板に設けられたタッチパネル層を備えたタッチパネルの該タッチパネル層側に、少なくとも一方の表面に偏光板が貼り付けられた表示パネルを該偏光板側から貼り付けるパネル貼付工程と、
上記表示パネルを貼り付けたタッチパネルの上記透明基板側に、枠状の遮光層が周端部に設けられたカバー基板を該遮光層側から紫外線硬化型の粘着材を介して配置する基板配置工程と、
上記透明基板及びカバー基板の間の粘着材に該カバー基板側から紫外線を照射する紫外線照射工程とを備える、表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置及びその製造方法に関し、特に、タッチパネルを備えた表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルを備えた表示装置は、例えば、表示画面に表示されたアイコンなどにタッチパネルを介して触れることにより、その操作が可能に構成されている。そして、タッチパネルを備えた表示装置は、近年、携帯電話機に搭載され、多機能なスマートフォンとして注目されている。ここで、スマートフォンやタブレット端末などのモバイル用途の電子機器では、例えば、液晶表示パネルなどの表示パネルの表面に、投影型の静電容量方式などのタッチパネルが貼り付けられ、そのタッチパネルの表面にガラス基板などのカバー基板が貼り付けられた構成が主流になっている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、液晶表示パネルを構成するカラーフィルター基板の表面に接着した上偏光板にアクリル系の粘着材を介してタッチパネルが貼り付けられ、そのタッチパネルの表面にアクリル系の粘着材を介して（上記カバー基板に相当する）フロントウインドウが貼り付けられた液晶表示装置が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、表示装置の表示面にタッチパネルを貼着固定する際に用いられるリワーク性に優れた両面粘着シートが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−６１０２６号公報
【特許文献２】特開２００３−３４２５４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記構成のモバイル用途の電子機器では、カバー基板の表面が外部に露出するので、カバー基板の裏面の周端部に枠状の遮光層を配置する構成が主流になっている。ここで、遮光層の厚さは、例えば、光遮蔽効果が高い黒色の樹脂材料を用いても、１０μｍ〜２０μｍ程度になるので、カバー基板及びタッチパネルの間に配置する粘着材には、遮光層の厚さに起因して形成されるカバー基板の表面段差に沿って気泡が残存する場合がある。なお、この気泡の残存を防ぐためには、粘着材の厚さを表面段差の１０倍以上、すなわち、１００μｍ〜２００μｍ程度以上にする必要があるので、モバイル用途の電子機器における薄型化のトレンドに逆行してしまう。そこで、一般的な粘着材では、段差に対する追従性が低いので、低い粘弾性を有し、紫外線の照射により接着性が付与される紫外線硬化型の粘着材を用いることにより、カバー基板とタッチパネルとの間に配置する粘着材の厚さを薄くすることが提案されている。しかしながら、紫外線硬化型の粘着材を用いる場合には、タッチパネルと他の粘着材を介してタッチパネルに予め貼り付けられた表示パネルとの間に配置する偏光板にも紫外線が照射されるので、偏光板が劣化してしまうという問題がある。
【０００７】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、カバー基板の遮光層に起因する粘着材における気泡の発生を抑制して、偏光板の劣化を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、タッチパネル及びカバー基板の間に紫外線硬化型の粘着材を配置し、タッチパネルの透明基板が紫外線を吸収するようにしたものである。
【０００９】
具体的に本発明に係る表示装置は、少なくとも一方の表面に偏光板が貼り付けられた表示パネルと、上記表示パネルの上記偏光板側に貼り付けられたタッチパネルと、上記タッチパネルに紫外線硬化型の粘着材を介して貼り付けられ、該粘着材側の周端部に枠状の遮光層が設けられたカバー基板とを備え、上記タッチパネルは、上記粘着材側に設けられた紫外線を吸収する透明基板と、該透明基板の上記偏光板側に設けられたタッチパネル層とを備えている。
【００１０】
上記の構成によれば、タッチパネルの透明基板と枠状の遮光層が周端部に設けられたカバー基板とが紫外線硬化型の粘着材を介して貼り付けられているので、カバー基板に遮光層に起因する表面段差が形成されていても、一般的に粘弾性の低い紫外線硬化型の粘着材が表面段差に追従して拡がることにより、粘着材における気泡の発生が抑制される。そして、紫外線硬化型の粘着材に接着性を付与するために、その粘着材に紫外線を照射する際には、タッチパネルのタッチパネル層側に表示パネルが偏光板と一緒に貼り付けられていても、タッチパネルの透明基板が紫外線を吸収するので、表示パネルの少なくも一方の表面に貼り付けられた偏光板に紫外線が到達し難くなり、偏光板の劣化が抑制される。したがって、カバー基板の遮光層に起因する粘着材における気泡の発生を抑制して、偏光板の劣化が抑制される。
【００１１】
上記透明基板は、３６５ｎｍ以下の波長の光を吸収してもよい。
【００１２】
上記の構成によれば、透明基板が３６５ｎｍ以下の波長の光を吸収するので、紫外線硬化型の粘着材に接着性を付与するために照射される紫外線の多くがタッチパネルの透明基板に吸収される。
【００１３】
上記透明基板は、ポリイミド基板であってもよい。
【００１４】
上記の構成によれば、透明基板が樹脂製のポリイミド基板であるので、タッチパネルが軽量化される。
【００１５】
上記カバー基板は、ガラス基板であってもよい。
【００１６】
上記の構成によれば、カバー基板がガラス基板であるので、例えば、端面が強化されたガラス基板によりタッチパネルが保護される。
【００１７】
上記表示パネルは、液晶表示パネルであってもよい。
【００１８】
上記の構成によれば、表示パネルが液晶表示パネルであるので、液晶表示パネルの両方の表面に貼り付けられた直線偏光板の劣化が抑制される。
【００１９】
上記表示パネルは、有機エレクトロルミネセンス表示パネルであってもよい。
【００２０】
上記の構成によれば、表示パネルが有機エレクトロルミネセンス（electroluminescence、以下、「ＥＬ」とも称する）表示パネルであるので、有機ＥＬ表示パネルのタッチパネル側の表面に反射防止膜として貼り付けられた円偏光板の劣化が抑制される。
【００２１】
上記タッチパネル層は、静電容量方式のタッチパネルを構成してもよい。
【００２２】
上記の構成によれば、タッチパネル層が静電容量方式のタッチパネルを構成するので、多点検出（マルチタッチ）が可能な投影型や単純な構造で低コストの表面型の静電容量方式のタッチパネルを備えた表示装置が具体的に構成される。
【００２３】
また、本発明に係る表示装置の製造方法は、紫外線を吸収する透明基板及び該透明基板に設けられたタッチパネル層を備えたタッチパネルの該タッチパネル層側に、少なくとも一方の表面に偏光板が貼り付けられた表示パネルを該偏光板側から貼り付けるパネル貼付工程と、上記表示パネルを貼り付けたタッチパネルの上記透明基板側に、枠状の遮光層が周端部に設けられたカバー基板を該遮光層側から紫外線硬化型の粘着材を介して配置する基板配置工程と、上記透明基板及びカバー基板の間の粘着材に該カバー基板側から紫外線を照射する紫外線照射工程とを備える。
【００２４】
上記の方法によれば、タッチパネルのタッチパネル層側に、少なくとも一方の表面に偏光板が貼り付けられた表示パネルを貼り付けるパネル貼付工程の後に行う基板配置工程において、タッチパネルの透明基板側に、枠状の遮光層が周端部に設けられたカバー基板を紫外線硬化型の粘着材を介して配置するので、カバー基板に遮光層に起因する表面段差が形成されていても、一般的に粘弾性の低い紫外線硬化型の粘着材が表面段差に追従して拡がることにより、粘着材における気泡の発生が抑制される。そして、その後の紫外線照射工程において、紫外線硬化型の粘着材にカバー基板側から紫外線を照射するので、タッチパネルの透明基板が紫外線を吸収することにより、表示パネルの少なくも一方の表面に貼り付けられた偏光板に紫外線が到達し難くなり、偏光板の劣化が抑制される。したがって、カバー基板の遮光層に起因する粘着材における気泡の発生を抑制して、偏光板の劣化が抑制される。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、タッチパネル及びカバー基板の間に紫外線硬化型の粘着材を配置し、タッチパネルの透明基板が紫外線を吸収するので、カバー基板の遮光層に起因する粘着材における気泡の発生を抑制して、偏光板の劣化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】実施形態１に係る表示装置の断面図である。
【図２】実施形態１に係る表示装置を構成するタッチパネルのタッチパネル層を模式的に示す平面図である。
【図３】実施形態１に係る表示装置の製造工程を断面で示す第１の説明図である。
【図４】実施形態１に係る表示装置の製造工程を断面で示す第２の説明図である。
【図５】実施形態１に係る表示装置の製造工程を断面で示す第３の説明図である。
【図６】実施形態１に係る表示装置の製造工程を断面で示す第４の説明図である。
【図７】実施形態２に係る表示装置の断面図である。
【図８】実施形態３に係る表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００２８】
《発明の実施形態１》
図１〜図６は、本発明に係る表示装置及びその製造方法の実施形態１を示している。ここで、図１は、本実施形態の液晶表示装置５０ａの断面図である。また、図２は、液晶表示装置５０ａを構成するタッチパネル２０ａのタッチパネル層１６ａを模式的に示す平面図である。なお、図１の断面図において、タッチパネル２０ａの部分は、図２中のＡ−Ａ線に沿ったものである。
【００２９】
液晶表示装置５０ａは、図１に示すように、液晶表示パネル３５ａと、液晶表示パネル３５ａの両方の表面、すなわち、図中上面及び下面にそれぞれ貼り付けられた直線偏光板３６及び３７と、液晶表示パネル３５ａの直線偏光板３６側に粘着材２５を介して貼り付けられた投影型の静電容量方式のタッチパネル２０ａと、タッチパネル２０ａの後述する透明基板１１ｂ側に粘着材４５を介して貼り付けられたカバー基板４１と、液晶表示パネル３５ａの直線偏光板３７側に設けられたバックライト（不図示）とを備えている。
【００３０】
液晶表示パネル３５ａは、図１に示すように、例えば、互いに対向するように設けられたＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板３１ａ及びＣＦ（Color Filter）基板３２ａと、ＴＦＴ基板３１ａ及びＣＦ基板３２ａの間に設けられた液晶層３３ａと、ＴＦＴ基板３１ａ及びＣＦ基板３２ａを互いに接着すると共に、ＴＦＴ基板３１ａ及びＣＦ基板３２ａの間に液晶層３３ａを封入するために設けられたシール材３４ａとを備えている。
【００３１】
ＴＦＴ基板３１ａは、例えば、厚さ０．２５ｍｍ程度のガラス基板と、そのガラス基板上に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線と、各ゲート線を覆うように設けられたゲート絶縁膜と、そのゲート絶縁膜上に各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線と、各ゲート線及び各ソース線の交差部分毎、すなわち、画像の最小単位である各副画素毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴと、各ＴＦＴを覆うように設けられた層間絶縁膜と、その層間絶縁膜上にマトリクス状に設けられ、各ＴＦＴにそれぞれ接続された複数の画素電極と、各画素電極を覆うように設けられた配向膜とを備えている。
【００３２】
ＣＦ基板３２ａは、例えば、厚さ０．１５ｍｍ程度のガラス基板と、そのガラス基板上に格子状に設けられたブラックマトリクスと、そのブラックマトリクスの各格子間にそれぞれ設けられた赤色層、緑色層及び青色層などの複数の着色層と、各着色層及びブラックマトリクスを覆うように設けられた共通電極と、その共通電極上に柱状に設けられた複数のフォトスペーサと、各フォトスペーサ及び共通電極を覆うように設けられた配向膜とを備えている。
【００３３】
液晶層３３ａは、例えば、電気光学特性を有するネマチックの液晶材料などにより構成されている。
【００３４】
タッチパネル２０ａは、図１に示すように、粘着材４５側に設けられた透明基板１１ｂと、透明基板１１ｂの直線偏光板３６側に設けられたタッチパネル層１６ａとを備えている。また、タッチパネル２０ａの端部には、図１に示すように、例えば、外部の位置検出回路などに接続するためのＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）１９がＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film、不図示）を介して圧着されている。
【００３５】
透明基板１１ｂは、例えば、３６５ｎｍ以下の波長の光、すなわち、紫外線を吸収する厚さ３μｍ〜２０μｍ程度のポリイミド基板である。なお、本実施形態では、透明基板１１ｂとして、ポリイミド基板を例示したが、透明基板１１ｂは、例えば、紫外線を吸収するアクリル基板などであってもよい。
【００３６】
タッチパネル層１６ａは、図１及び図２に示すように、透明基板１１ｂに互いに平行に延びるように設けられた複数の第１透明配線パターン１２と、各第１透明配線パターン１２と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数の第２透明配線パターン１４と、複数の第１透明配線パターン１２及び複数の第２透明配線パターン１４の交差する部分にそれぞれ島状に設けられ、各々、第１透明配線パターン１２及び第２透明配線パターン１４を電気的に絶縁するための複数の絶縁層１３と、各第１透明配線パターン１２、各絶縁層１３及び各第２透明配線パターン１４を覆うように設けられた保護膜１５とを備えている。ここで、第１透明配線パターン１２及び第２透明配線パターン１４は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などの透明導電膜により構成されている。また、絶縁層１３及び保護膜１５は、例えば、無色透明な樹脂材料により構成されている。
【００３７】
カバー基板４１は、例えば、ウエットエッチングなどで端面のクラックを除去して、端面が強化されたガラス基板である。また、カバー基板４１の粘着材４５側の周端部には、図１に示すように、枠状の遮光層４２が設けられている。ここで、遮光層４２は、例えば、黒色顔料が分散された樹脂材料により厚さ１０μｍ〜２０μｍ程度に形成されている。なお、本実施形態では、カバー基板４１としてガラス基板を例示したが、カバー基板４１は、無色透明な樹脂基板であってもよい。
【００３８】
粘着材２５は、例えば、厚さ５０μｍ程度のアクリル系の透明粘着シートである。
【００３９】
粘着材４５は、例えば、厚さ１０μｍ〜５０μｍ程度の紫外線硬化型の透明粘着シートである。ここで、粘着材４５の粘弾性は、例えば、常温（２５℃程度）時において、１×１０５Ｐａ程度であり、加熱（５０℃程度）時において、１×１０４Ｐａ程度である。
【００４０】
上記構成の液晶表示装置５０ａは、ＴＦＴ基板３１ａ及びＣＦ基板３２ａの間の液晶層３３ａに各副画素毎に所定の電圧を印加することにより、バックライトから液晶表示パネル３５ａを透過する光の透過率を調整して、タッチパネル２０ａを介して画像表示を行うと共に、タッチパネル２０ａ上のカバー基板４１の表面がタッチされることにより、第１透明配線パターン１２及び第２透明配線パターン１４の交点上で発生する静電容量の変化に基づいて、位置検出回路がタッチされた位置を計算して検出するように構成されている。
【００４１】
次に、本実施形態の液晶表示装置５０ａの製造方法について、図３〜図６を用いて説明する。ここで、図３、図４、図５及び図６は、液晶表示装置の製造工程を断面でそれぞれ示す第１、第２、第３及び第４の説明図である。なお、本実施形態の液晶表示装置５０ａの製造方法は、液晶表示パネル作製工程、タッチパネル作製工程、パネル貼付工程、基板配置工程及び紫外線照射工程を備える。
【００４２】
＜液晶表示パネル作製工程＞
まず、ガラス基板の表面に、周知の方法を用いて、ゲート線、ソース線、ＴＦＴ、画素電極などを形成することにより、ＴＦＴ基板３１ａを作製する。
【００４３】
また、ガラス基板の表面に、周知の方法を用いて、ブラックマトリクス、着色層、共通電極、フォトスペーサなどを形成することにより、ＣＦ基板３２ａを作製する。
【００４４】
続いて、例えば、ディスペンサを用いて、ＣＦ基板３２ａの表面にシール材３４ａを枠状に描画する。
【００４５】
その後、シール材３４ａが描画されたＣＦ基板３２ａのシール材３４ａに囲まれた領域に液晶材料（３３ａ）を滴下する。
【００４６】
そして、液晶材料（３３ａ）が滴下されたＣＦ基板３２ａとＴＦＴ基板３１ａとを、減圧下で貼り合わせた後に、大気圧に開放することにより、ＴＦＴ基板３１ａ及びＣＦ基板３２ａの各表面を加圧し、さらに、シール３４ａを硬化させることにより、ＴＦＴ基板３１ａ及びＣＦ基板３２ａの間に液晶層３３ａが封入された液晶表示パネル３５ａを作製する。
【００４７】
さらに、液晶表示パネル３５ａの両方の表面に直線偏光板３６及び３７を貼り付ける。
【００４８】
＜タッチパネル作製工程＞
まず、ガラス基板１０の表面に、図３（ａ）に示すように、例えば、スリットコーターＣを用いて、液状のポリイミド樹脂材料を塗布することにより、ポリイミド樹脂からなる塗布膜１１ａを形成した後に、図３（ｂ）に示すように、塗布膜１１ａを焼成して、イミド化することにより、透明基板１１ｂを形成する。ここで、塗布膜１１ａとなるポリイミド樹脂材料は、例えば、ジメチルアセトアミドやＮ−メチルピロリドンなどの有機溶剤にポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を溶解させたものである。
【００４９】
続いて、ガラス基板１０に形成された透明基板１１ｂ上に、周知の方法を用いて、第１透明配線パターン１２、絶縁層１３、第２透明配線パターン１４、保護膜１５などを形成することにより、タッチパネル層１６ａを形成して、図３（ｃ）に示すように、タッチパネル２０ａを作製する。
【００５０】
そして、タッチパネル２０ａを覆うように保護フィルム１７を貼り付けた後に、図４（ａ）に示すように、ガラス基板１０側からレーザー光Ｌを照射することにより、透明基板１１ｂからガラス基板１０を剥離させる。
【００５１】
さらに、図４（ｂ）に示すように、透明基板１１ｂの図中下側の表面に保護フィルム１８を貼り付け、図中上側の保護フィルム１７を除去した後に、透明基板１１ｂの端部にＡＣＦを介してＦＰＣ１９を圧着する。
【００５２】
＜パネル貼付工程＞
図５に示すように、上記液晶表示パネル作製工程で直線偏光板３６及び３７が貼り付けられた液晶表示パネル３５ａの直線偏光板３６の表面に粘着材２５を配置した後に、粘着材２５の表面に上記タッチパネル作製工程でＦＰＣ１９が圧着されたタッチパネル２０ａをタッチパネル層１６ａ側から配置することにより、タッチパネル２０ａのタッチパネル層１６ａ側に液晶表示パネル３５ａを直線偏光板３６側から貼り付ける。
【００５３】
＜基板配置工程＞
上記パネル貼付工程で液晶表示パネル３５ａが貼り付けられたタッチパネル２０ａの透明基板１１ｂの表面に粘着材４５を配置した後に、粘着材４５の表面に、遮光層４２が設けられたカバー基板４１を遮光層４２側から配置する（図６参照）。ここで、粘着材４５の表面にカバー基板４１を配置した後に、液晶表示パネル３５ａが貼り付けられたタッチパネル２０ａ、粘着材４５及びカバー基板４１を含む被処理体全体を、例えば、５０℃程度に加熱することにより、粘着材４５の粘度が低下して、カバー基板４１の遮光層４２に起因する表面段差に対し、粘着材４５が速やかに追従することになる。
【００５４】
＜紫外線照射工程＞
図６に示すように、上記基板配置工程で配置させた透明基板１１ｂ及びカバー基板４１の間の粘着材４５にカバー基板４１側から紫外線Ｕを照射することにより、粘着材４５に接着性を付与して（粘着材４５を硬化させて）、透明基板１１ｂ及びカバー基板４１を粘着材４５を介して互いに接着する。なお、遮光層４２に遮蔽される粘着材４５の部分は、カバー基板４１の表面に対して斜め方向に入射する紫外光、並びに透明基板１１ｂの表面（図６中の上面）及び遮光層４２の表面（図６中の下面）における紫外光の反射光などにより、硬化することになる。
【００５５】
以上のようにして、本実施形態の液晶表示装置５０ａを製造することができる。
【００５６】
以上説明したように、本実施形態の液晶表示装置５０ａ及びその製造方法によれば、タッチパネル２０ａのタッチパネル層１６ａ側に、両方の表面に直線偏光板３６及び３７が貼り付けられた液晶表示パネル３５ａを貼り付けるパネル貼付工程の後に行う基板配置工程において、タッチパネル２０ａの透明基板１１ｂ側に、枠状の遮光層４２が周端部に設けられたカバー基板４１を紫外線硬化型の粘着材４５を介して配置するので、カバー基板４１に遮光層４２に起因する表面段差が形成されていても、一般的に粘弾性の低い紫外線硬化型の粘着材４５が表面段差に追従して拡がることにより、粘着材４５における気泡の発生を抑制することができる。そして、その後の紫外線照射工程において、紫外線硬化型の粘着材４５にカバー基板４１側から紫外線Ｕを照射するので、タッチパネル２０ａの透明基板１１ｂが紫外線Ｕを吸収することにより、液晶表示パネルの両方の表面に貼り付けられた直線偏光板３６及び３７に紫外線Ｕが到達し難くなり、直線偏光板３６及び３７の劣化を抑制することができる。したがって、カバー基板４１の遮光層４２に起因する粘着材４５における気泡の発生を抑制して、直線偏光板３６及び３７の劣化を抑制することができ、高コントラストの表示品位を保持することができる。
【００５７】
また、本実施形態の液晶表示装置５０ａによれば、タッチパネル２０ａの透明基板１１ｂが紫外線Ｕを吸収するので、外光による直線偏光板３６及び３７の劣化も抑制することができ、信頼性を向上させることができる。
【００５８】
また、本実施形態の液晶表示装置５０ａによれば、タッチパネル２０ａの透明基板１１ｂがポリイミド基板であるので、タッチパネル２０ａの軽量化を図ることができる。
【００５９】
《発明の実施形態２》
図７は、本実施形態の液晶表示装置５０ｂの断面図である。なお、以下の各実施形態において、図１〜図６と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００６０】
上記実施形態１では、投影型の静電容量方式のタッチパネル２０ａを備えた液晶表示装置５０ａを例示したが、本実施形態では、表面型の静電容量方式のタッチパネル２０ｂを備えた液晶表示装置５０ｂを例示する。
【００６１】
液晶表示装置５０ｂは、図７に示すように、液晶表示パネル３５ａと、液晶表示パネル３５ａの両方の表面、すなわち、図中上面及び下面にそれぞれ貼り付けられた直線偏光板３６及び３７と、液晶表示パネル３５ａの直線偏光板３６側に粘着材２５を介して貼り付けられた表面型の静電容量方式のタッチパネル２０ｂと、タッチパネル２０ｂの透明基板１１ｂ側に粘着材４５を介して貼り付けられたカバー基板４１と、液晶表示パネル３５ａの直線偏光板３７側に設けられたバックライト（不図示）とを備えている。
【００６２】
タッチパネル２０ｂは、図７に示すように、粘着材４５側に設けられた透明基板１１ｂと、透明基板１１ｂの直線偏光板３６側に設けられたタッチパネル層１６ｂとを備えている。また、タッチパネル２０ｂの端部には、図７に示すように、例えば、外部の位置検出回路などに接続するためのＦＰＣ１９がＡＣＦを介して圧着されている。
【００６３】
タッチパネル層１６ｂは、図７に示すように、透明基板１１ｂに矩形状に設けられた透明電極１２ａと、透明電極１２ａの周端に沿って枠状に設けられた額縁配線（リニアライゼーションパターン、不図示）と、額縁配線の４つの隅からそれぞれ引き出された４本の引出配線（不図示）と、透明電極１２ａ、額縁配線及び各引出配線を覆うように設けられた保護膜１５とを備えている。ここで、透明電極１２ａは、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などの透明導電膜により構成されている。また、額縁配線及び引出配線は、例えば、透明導電膜又は金属導電膜により構成されている。
【００６４】
本実施形態の液晶表示装置５０ｂは、上記実施形態１のタッチパネル作製工程において、透明基板１１ｂ上に、周知の方法を用いて、透明電極１２ａ、額縁配線、引出配線、保護膜１５などを形成して、タッチパネル層１６ａの代わりにタッチパネル層１６ｂを形成することにより、製造することができる。
【００６５】
以上説明したように、本実施形態の液晶表示装置５０ｂ及びその製造方法によれば、上記実施形態１と同様に、タッチパネル２０ｂ及びカバー基板４１の間に紫外線硬化型の粘着材４５を配置し、タッチパネル２０ｂの透明基板１１ｂが紫外線Ｕを吸収するので、カバー基板４１の遮光層４２に起因する粘着材４５における気泡の発生を抑制して、直線偏光板３６及び３７の劣化を抑制することができ、高コントラストの表示品位を保持することができる。
【００６６】
《発明の実施形態３》
図８は、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ｃの断面図である。
【００６７】
上記実施形態１及び２では、タッチパネルを備えた液晶表示装置５０ａ及び５０ｂをそれぞれ例示したが、本実施形態では、タッチパネルを備えた有機ＥＬ表示装置５０ｃを例示する。
【００６８】
有機ＥＬ表示装置５０ｃは、図８に示すように、有機ＥＬ表示パネル３５ｂと、有機ＥＬ表示パネル３５ｂの一方の表面、すなわち、図中上面に反射防止膜として貼り付けられた円偏光板３８と、有機ＥＬ表示パネル３５ｂの円偏光板３８側に粘着材２５を介して貼り付けられた投影型の静電容量方式のタッチパネル２０ａと、タッチパネル２０ａの透明基板１１ｂ側に粘着材４５を介して貼り付けられたカバー基板４１とを備えている。
【００６９】
有機ＥＬ表示パネル３５ｂは、図８に示すように、例えば、互いに対向するように設けられた絶縁基板３１ｂ及び封止基板３２ｂと、絶縁基板３１ｂ及び封止基板３２ｂの間に設けられた有機ＥＬ構造体３３ｂと、絶縁基板３１ｂ及び封止基板３２ｂを互いに接着すると共に、絶縁基板３１ｂ及び封止基板３２ｂの間に有機ＥＬ構造体３３ｂを封入するために設けられたシール材３４ｂとを備えている。
【００７０】
有機ＥＬ構造体３３ｂは、絶縁基板３１ｂから封止基板３２ｂに向けて、例えば、正孔注入電極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入電極などが順に積層された構造を有している。
【００７１】
円偏光板３８は、例えば、直線偏光板と、その直線偏光板に積層された位相差板とを備えている。
【００７２】
本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ｃは、上記実施形態１の液晶表示パネル作製工程において、周知の方法を用いて、液晶表示パネル３５ａの代わりに有機ＥＬ表示パネル３５ｂを作製することにより、製造することができる。
【００７３】
以上説明したように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ｃ及びその製造方法によれば、タッチパネル２０ａのタッチパネル層１６ａ側に、一方の表面に円偏光板３８が貼り付けられた有機ＥＬ表示パネル３５ｂを貼り付けるパネル貼付工程の後に行う基板配置工程において、タッチパネル２０ａの透明基板１１ｂ側に、枠状の遮光層４２が周端部に設けられたカバー基板４１を紫外線硬化型の粘着材４５を介して配置するので、カバー基板４１に遮光層４２に起因する表面段差が形成されていても、一般的に粘弾性の低い紫外線硬化型の粘着材４５が表面段差に追従して拡がることにより、粘着材４５における気泡の発生を抑制することができる。そして、その後の紫外線照射工程において、紫外線硬化型の粘着材４５にカバー基板４１側から紫外線Ｕを照射するので、タッチパネル２０ａの透明基板１１ｂが紫外線Ｕを吸収することにより、有機ＥＬ表示パネル３５ｂの一方の表面に貼り付けられた円偏光板３８に紫外線Ｕが到達し難くなり、円偏光板３８の劣化を抑制することができる。したがって、カバー基板４１の遮光層４２に起因する粘着材４５における気泡の発生を抑制して、円偏光板３８の劣化を抑制することができ、高コントラストの表示品位を保持することができる。
【００７４】
なお、本実施形態では、上記実施形態１の投影型の静電容量方式のタッチパネル２０ａに有機ＥＬ表示パネル３５ｂを貼り付けた有機ＥＬ表示装置５０ｃを例示したが、上記実施形態２の表面型の静電容量方式のタッチパネル２０ｂに有機ＥＬ表示パネル３５ｂを貼り付けた有機ＥＬ表示装置であってもよい。
【００７５】
また、上記各実施形態では、表示装置として、液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置を例示したが、本発明は、エレクトロウエッティング方式やＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）方式などの他の表示装置にも適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
以上説明したように、本発明は、カバー基板の遮光層に起因する粘着材における気泡の発生を抑制して、偏光板の劣化を抑制することができるので、スマートフォンやタブレット端末などのモバイル用途の電子機器について有用である。
【符号の説明】
【００７７】
Ｕ        紫外線
１１ｂ    透明基板
１６ａ，１６ｂ    タッチパネル層
２０ａ，２０ｂ    タッチパネル
３５ａ    液晶表示パネル
３５ｂ    有機ＥＬ表示パネル
３６，３７    直線偏光板
３８      円偏光板
４１      カバー基板
４２      遮光層
４５      粘着材
５０ａ〜５０ｃ    表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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