(57)【要約】      （修正有）【課題】安定して蒸気発生をさせることができる、又は安定した蒸気発生と材料供給を両立できる蒸発源及びそれを用いた真空蒸着装置を提供する。【解決手段】坩堝１０内において、溶融蒸着材料１１に、その一部が浸漬するように設けられた蒸気発生部１Ａを有し、該蒸気発生部は溶融蒸着材料に浸漬する部分から蒸着材料の蒸気を放出する開口部に向けて温度勾配を持たせる。蒸着材料を収容する坩堝と、前記蒸発した蒸着材料の蒸気を放出する開口部と、該坩堝内の前記蒸着材料が溶融した溶融蒸着材料に、その一部が浸漬するように設けられ、前記一部の反対側が前記開口部に向けて設けられた蒸気発生部と、前記蒸気発生部の周囲であって前記開口部側に設けられた第１の加熱手段と、を備える。【選択図】図３
2014065957.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着材料を収容する坩堝と、
前記蒸発した蒸着材料の蒸気を放出する開口部と、
該坩堝内の前記蒸着材料が溶融した溶融蒸着材料に、その一部が浸漬するように設けられ、前記一部の反対側が前記開口部に向けて設けられた蒸気発生部と、
前記蒸気発生部を加熱するための第１の加熱手段と、
を備えることを特徴とする蒸発源。
【請求項２】
請求項１に記載の蒸発源において、
前記第１の加熱手段は、前記蒸気発生部の周囲であって、前記開口部側に設けられていることを特徴とする蒸発源。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の蒸発源において、
前記蒸気発生部は、前記蒸着材料と濡れ性がよく高温でも反応しない濡れ上がり部材で構成されていることを特徴とする蒸発源。
【請求項４】
請求項３に記載の蒸発源において、
前記濡れ上がり部材は、棒状、又は長手方向に中空の穴が開いている中空部材、或いは多孔質部材で構成されたものであることを特徴とする蒸発源。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の蒸発源において、
前記蒸気発生部は前記濡れ上がり部材を複数本束ねられたものであることを特徴とする蒸発源。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の蒸発源において、
前記蒸気発生部を取り囲むように設けられた蒸気遮蔽部を備えたことを特徴とする蒸発源。
【請求項７】
請求項５に記載の蒸発源において、
前記蒸気遮蔽部の少なくとも一部を取り囲むように前記第１の加熱手段を設けたことを特徴とする蒸発源。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の蒸発源において、
前記坩堝に、前記蒸着材料を投入できるように、材料投入口を設けたことを特徴とする蒸発源。
【請求項９】
請求項８に記載の蒸発源において、
前記材料投入口の位置が、前記蒸着材料の濡れ上がる温度より低くなるように設置したことを特徴とする蒸発源。
【請求項１０】
請求項８に記載の蒸発源において、
前記坩堝の濡れ上がり部材が存在する底部を加熱する第２の加熱手段と、前記材料投入口から投入された前記蒸着材料を冷却する坩堝冷却部とを設けたことを特徴とする蒸発源。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれかに記載の蒸発源において、
材料投入口から投入する材料の形態が粒状、ワイヤー状または液体のいずれかであること、を特徴とする蒸発源。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれかに記載の蒸発源において、
前記第１の加熱手段自体が温度勾配を持つことを特徴とする蒸発源。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２のいずれかに記載の１個以上の蒸発源と、
前記蒸発源によって基板への蒸着量を検出する膜厚モニタと、
前記膜厚モニタの検出結果に基づいて、前記蒸発源を制御する制御部と、
を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ELディスプレイ）などの薄膜デバイスを大形基板に形成する際に、大型基板に対して材料蒸気を放出し成膜する蒸発源及び真空蒸着装置に関する。また、本発明は有機ＥＬに限らず、他のＦＰＤ(フラットパネルディスプレイ)、半導体、太陽電池等の分野に適用可能である。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機ＥＬディスプレイ装置は、視野角が広いだけでなく、応答性も良いため、次世代のディスプレイとして注目されている。有機ＥＬディスプレイを構成する発光素子は、アノードとカソードの両電極にはさまれた有機膜の発光層からなる。発光効率を高めるため、さらに電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層ならびに正孔注入層などの中間層を、選択的に挿入している。これらの電極、発光層並びに中間層は、数nmから数百nmの薄膜である。この薄膜を形成する技術の一つが真空蒸着（以下、蒸着という）である。
【０００３】
蒸着装置は、一般的に以下の要素から構成される。蒸着材料を封入する坩堝、非接触または一部部材を介して坩堝を加熱するヒータ、ヒータの周囲に設けて蒸発源の周囲に熱を漏らさないための断熱材、上記の要素を収めるハウジングである。坩堝は、主に加熱により気化した蒸着材料を放射するノズル、蒸着材料を収納する材料室から構成される。坩堝の加熱は、ヒータからの熱輻射のみで加熱する方法、坩堝の一部と接して加熱する方法がある。
【０００４】
有機ＥＬ材料などの蒸着材料を蒸着する際に、メンテナンスの時間を短くして、長時間稼働させるという要求がある。また、長時間稼働させることで、蒸発源のメンテナンス時間を減らすこともできる。長時間稼働に必要な条件として、第１に坩堝に存在する蒸着材料を無駄なく基板に蒸着させ利用効率を高めること、第２に坩堝内に充填できる材料量の大容量化が挙げられる。しかし、材料充填量を増やすことは、坩堝の熱容量を増加させるため、ヒータに投入する電力が大きくなり、その結果基板に到達する熱量が増大し、基板温度の上昇をもたらす。また、材料消費によるノズルから蒸発する蒸気量の変化が大きくなり、長時間の膜厚安定性が得られなくなる。さらに、坩堝の大型化に伴うコストアップも懸念される。
【０００５】
蒸着材料の充填容量を抑えつつ、長時間稼働させるためには、坩堝を小形化し、材料が消費される分だけその都度坩堝に投入する方法が考えられる。しかし、材料投入方法によっては問題が生じる。材料投入をノズル側から行えば、蒸発面の温度が変化して蒸発量が変化し、蒸発量が安定するまで時間がかかる。また、ノズル以外に材料投入口を設ける場合、そこから蒸発した材料が噴出しないような配慮が必要である。
【０００６】
この場合、材料投入口は融点よりやや高い直上の低温、ノズル側では高温にすることによって、材料投入口と蒸発面を分離し、材料投入口側からの蒸気の漏れを最小限に抑える方法が提案された（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−３９８０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来では、坩堝に対してノズルと別に材料投入口を作り、材料投入口の温度を材料の融点以上で蒸気圧の十分低い低温、ノズル側では蒸気圧の高い高温にすることにより、材料投入口と蒸発面を分離する方法がとられてきた。しかし、溶融した材料自体が対流により高温部分と低温部分が交じり合うため、溶融した材料に温度勾配をつけるのが難しく、安定した蒸気発生をさせることが困難である。
【０００９】
本発明の第１の目的は、このような問題点を鑑み、安定して蒸気発生をさせることができる蒸発源及びそれを用いた真空蒸着装置を提供することである。
【００１０】
また、本発明の第２の目的は、より材料投入口と蒸発面の温度勾配をつけ、安定して蒸気発生と材料供給を両立する蒸発源及びそれを用いた真空蒸着装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は上記の目的を達成するために少なくとも下記の特徴を有する。
【００１２】
本発明は、坩堝内において、溶融蒸着材料に、その一部が浸漬するように設けられた蒸気発生部を有し、該蒸気発生部は溶融蒸着材料に浸漬する部分から蒸着材料の蒸気を放出する開口部に向けて温度勾配を持たせることが特徴である。
【００１３】
より具体的には、本発明は、蒸着材料を収容する坩堝と、前記蒸発した蒸着材料の蒸気を放出する開口部と、該坩堝内の前記蒸着材料が溶融した溶融蒸着材料に、その一部が浸漬するように設けられ、前記一部の反対側が前記開口部に向けて設けられた蒸気発生部と、前記蒸気発生部の周囲であって前記開口部側に設けられた第１の加熱手段と、を備える。
【００１４】
また、前記蒸気発生部は、前記蒸着材料と濡れ性がよく高温でも反応しない濡れ上がり部材で構成してもよい。
さらに、前記蒸気発生部を取り囲むように設けられた蒸気遮蔽部を備えてもよい。
【００１５】
また、前記坩堝に、前記蒸着材料を投入できるように、材料投入口を設けてもよい。
さらに、前記材料投入口の位置が、前記蒸着材料の濡れ上がる温度より低くなるように設置してもよい。
【００１６】
また、前記坩堝の濡れ上がり部材が存在する底部を加熱する第２の加熱手段と、前記材料投入口から投入された前記蒸着材料を冷却する坩堝冷却部とを設けてもよい。
【００１７】
さらに、本発明の真空蒸着装置は、上記のいずれかに記載の蒸発源を１個以上備え、前記蒸発源によって基板への蒸着量を検出する膜厚モニタと、前記膜厚モニタの検出結果に基づいて、前記蒸発源を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、溶融蒸着材料に浸漬し、開口部に向けて設けられた温度勾配をつけ、溶融蒸着材料を濡れ上がらせる蒸気発生部を設けることで、安定して蒸気発生をさせることができる。
【００１９】
また、本発明によれば、材料投入機構を持つ蒸発源において、より材料投入口と蒸発面の温度勾配をつけることにより、安定して蒸発面からは蒸気を放出することができる。
【００２０】
さらに、本発明によれば、材料投入口からは蒸気の発生を心配することなく材料投入ができる。この結果、材料投入のタイミングの目安となる溶融蒸着材料の液面管理が容易になり、材料投入機構も簡略にすることができる。(材料機構の簡略は具体的に言及していないので優先順位を下げた。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】立直した基板に蒸着材料を蒸着する本発明の蒸発源が適用な縦型真空蒸着装置の一実施形態を示す図である。
【図２】水平に配置された基板に蒸着材料を蒸着する本発明の蒸発源が適用な横型真空蒸着装置の一実施形態を示す図である。
【図３】本発明の蒸発源の第１の実施例を示す図である。
【図４】実施例１の特徴を示す構成の断面図と、濡れ上がり部材の理想的な温度分布を示す図である。
【図５】蒸発源上面から見た濡れ上がり部材の例を示す。
【図６】本発明による蒸発源の第１の実施例における濡れ上がり部材の温度分布の解析結果を示した図である。
【図７】アルミニウムの蒸気圧曲線を示す図である。
【図８】本発明による蒸発源の第２の実施例を示す蒸発源断面図を示す図である。
【図９】本発明による蒸発源の第２の実施例の改良構造を示す蒸発源断面図を示す図である。
【図１０】ヒータ短絡の典型的な例を図３の蒸発源の実施例において示す図である。
【図１１】本発明による蒸発源の第２の実施例の改良構造における温度分布を示す図である。
【図１２】本発明による蒸発源の第４の実施例を示す蒸発源断面図を示す図である。
【図１３】本発明による蒸発源の第５の実施例を示す蒸発源断面図と、坩堝の温度制御機構を設けた際の蒸発源の温度分布を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施例を図を用いて詳細に説明する。
【００２３】
図１は、立直した基板に蒸着材料を蒸着する本発明の蒸発源が適用な縦型真空蒸着装置の一実施形態を示す図である。図２は、水平に配置された基板に蒸着材料を蒸着する本発明の蒸発源が適用な横型真空蒸着装置の一実施形態を示す図である。
【００２４】
両真空蒸着装置は、蒸着室５内に、基板３１、蒸発源１００、膜厚モニタ７があり、両真空蒸着装置には、例えば、蒸発源１００に示すように外部から電源が供給されている。
一方、蒸着室５外には、膜厚を制御するための膜厚制御計８、蒸発源の温度を制御するための蒸発源電源９、膜厚制御計８と蒸発源電源９を連動させて制御し、蒸着データを記録するための制御部である制御用パソコン３０がある。
【００２５】
図１に示す縦型真空蒸着装置では、基板６と蒸発源列１３２は相対的に位置を変えることにより、基板全面に成膜できる。本実施形態では、蒸発源１００を所望の基板サイズに合わせて、縦に並べて、蒸発源列１３２を横の一軸だけ移動するだけで、成膜可能である。また、蒸発源１００を所望の基板サイズに合わせて、横に並べて、蒸発源列１３２を上下の一軸だけ移動するだけでも、成膜可能である。なお、蒸発源列１３２を固定して基板６を移動させてもよい。
【００２６】
図２に示す横型真空蒸着装置では、水平基板６に成膜する場合の構成図である。基板６と蒸発源列１３２は相対的に位置を変えることにより、基板全面に成膜できる。本実施形態では、蒸発源列１３２を固定して、異なった処理室に基板６を搬送するインライン方式の例を示す。
【００２７】
(実施例１)
図３は、本発明の蒸発源１００の第１の実施例１００Ａを示す図である。図３(ａ)は実施例１の上面図、図３(ｂ)は図３(ａ)におけるＡ−Ａ断面図を示す図である。なお、図３(ｂ)において図の煩雑さを避けるために、濡れ上がり部材１の本数を減らして示している。
蒸発源１００は、蒸着材料４を収納する坩堝１０と、蒸着材料４を坩堝に投入する材料投入口１２と、蒸着材料を加熱し溶融蒸着材料する加熱手段であるヒータ３と、一端が坩堝１０内の溶融蒸着材料１１に浸漬し、溶融蒸着材料を濡れ上がらせて放出する蒸気発生部１Ａとを備える。本実施例では、蒸気発生部１Ａは、複数本の棒状の濡れ上がり部材１で構成されている。また、蒸発源１００は、蒸発源の構成体を支持又は固定するハウジング１０１と、ハウジングの内壁の一部周囲に設けられ、外部への熱の流出を防ぐ断熱部材２０と、ヒータ３の貫通部に設けられた絶縁部材１３とを備える。なお、材料投入口から投入する材料の形態は粒状、ワイヤー状または液体のいずれかであってもよい。
なお、加熱手段は蒸気発生部を加熱することができれば良く、例えば、蒸気発生部の内部に設けることもできる。
【００２８】
図４は、実施例１の特徴を示す構成の断面図と、濡れ上がり部材１の理想的な温度分布を示す図である。図４に示す蒸発源１００の構成は、蒸着材料４を収納する坩堝１０と、蒸着材料を投入する材料投入口１２と、溶融蒸着材料１１を濡れ上がらせて放出するための濡れ上がり部材１である。以下、蒸着材料４は、溶融していない場合又は溶融蒸着材料を含めて代表して表現する場合をいう。
【００２９】
濡れ上がり部材１は、蒸着材料４に対して濡れ性が良く、高温でも反応しないものが好ましい。例えば、蒸着材料４がアルミニウムの時、濡れ上がり部材１はＢＮ(窒化ホウ素)、ＰＢＮ(熱分解性窒化ホウ素)などである。
【００３０】
図５に蒸気発生部１Ａの例を蒸発源上面から見た図を示す。一本又は図３に示したように複数本の棒状の濡れ上がり部材を束ねたもの(図５(ａ))、濡れ上がり部材１に長手方向に中空の穴を設けた中空部材のもの(図５(ｂ))、濡れ上がり部材１を多孔質部材で構成したもの(図５(ｃ))などを蒸気発生部１Ａとして使用できる。中空部材や多孔質部材も複数本束ねて蒸気発生部１Ａとして使用してもよい。中空部材や多孔質部材は、棒状の濡れ上がり部材を束ねたものに対してより緻密な細孔が開いているため、顕著な毛管現象による上部への溶融蒸着材料の吸い上げが期待できる。また、濡れ上がり部材には温度勾配を作る必要があるため、長手方向に対して熱伝導性の悪いものが好ましい。
【００３１】
図４の濡れ上がり部材１は、浸漬した側と反対側で蒸発を起こさせるため、溶融蒸着材料１１に浸された側を低温、反対側を高温にする必要がある。また、液体の表面張力は、一般的に温度上昇とともに減少していくため、重力に逆らって濡れ上がりの起こる温度にしておく必要がある。そのため、濡れ上がり部材１の先端側を加熱し、坩堝(浸漬)側に熱の吸い口を作るのが良い。そうすることで、濡れ上がり部材１の先端部分からのみ材料を蒸発させることができ、放射蒸気の制御がしやすくなる。このような構成にすることで、坩堝側を低温、即ち蒸気でない溶融蒸着材料１１状態に保つことが出来るため、材料を投入する目安となる液面観察を行って残蒸着材料の把握が可能となる。また、蒸着材料４を投入して坩堝の温度が下がっても、濡れ上がり部材１における蒸発面温度に影響しにくく、蒸発レートの急激な変化が起こりにくい。
【００３２】
濡れ上がらせるためには、濡れ上がり部材１に温度勾配をつける必要がある。図６は図４の構成においてシミュレーションを行い、濡れ上がり部材１の温度分布の解析結果を示した図である。なお、材料投入口は省略している。ここで、蒸着材料４はアルミニウムを想定した。ヒータ３の設定温度は１８００℃とし、境界条件(蒸発源１００の周囲温度)は２７℃とした。また、坩堝１０は加熱されているとし、１２００℃とした。この結果、濡れ上がり部材１の下端はアルミニウムの濡れ上がりが始まる約１２００℃、また上端はアルミニウムの蒸発が顕著に起こる約１４５０℃となった。図７はアルミニウムＡｌの蒸気圧曲線を示す。濡れ上がり部材１の下端では約１２００℃であるため、蒸気圧曲線よりＡｌの蒸気圧は１.２Paとなる。一方、１４５０℃ではＡｌの蒸気圧は４２Paと、１２００℃の時の３５倍となった。また、坩堝内のアルミニウムＡｌ融液は１２００℃より低温になっているため、蒸気圧は濡れ上がり部材１の先端より低い。そのため、アルミニウム液面からの蒸発は少ない。
この結果、濡れ上がり部材１を設けることで、アルミニウム融液と蒸発部を離すことができ、材料の蒸発・析出による影響を気にすることなく、材料投入のタイミングの目安となる溶融蒸着材料の液面（残材料量）管理を行うことが出来る。
【００３３】
(実施例２)
図８は、本発明の蒸発源１００の第２の実施例１００Ｂを示す図である。実施例１００Ｂの実施例１００Ａと異なる点は、濡れ上がり部材１の先端側に蒸気の漏れ防止部材(蒸気遮蔽部)２を設けた点であり、その他の点は同じである。実施例１００Ｂでは、漏れ防止部材２を設けることにより、濡れ上がり部材１の先端で蒸発した材料が飛散する方向を制限した。これにより、蒸着方向以外への蒸気の飛散がなくなり、チャンバ内を蒸発材料の付着から保護できるとともに、材料の利用効率を高めることができる。漏れ防止部材に付着した材料は結露して液体に戻り、材料室へ戻ることから、材料消費量の節約にもなる。
【００３４】
(実施例３)
図９は、本発明の蒸発源１００の第３の実施例１００Ｃを示す図である。実施例１００Ｃの実施例１００Ａ、１００Ｂと異なる点は、図８に示す実施例１００Ｂの構成おいて、図３に示すヒータ３を漏れ防止部材２の外側に設け、漏れ防止部材２を介して濡れ上がり部材１を加熱する点である。この結果、漏れ防止部材２は、蒸発して蒸気となった蒸着材料１１のヒータ３への付着を防ぎ、蒸着材料１１が導電性である際のヒータ３への付着による短絡の防止をより確実に行うことができる。
【００３５】
なお、図１０は、上述の短絡の典型的な例を図３の蒸発源の実施例１００Ａにおいて示す図である。ヒータ３の短絡は、低温になりやすい部分で、導電性材料である蒸着材料４が析出し引き起こす。この短絡を防ぐ為に、漏れ防止部材２を設け、蒸着方向以外への蒸気の飛散を防ぐ。なお、図１０に示す短絡部２００は、ヒータ３の蒸発源への貫通部１３ａでの例である。
【００３６】
図１１は、図９の構成においてシミュレーションで温度分布を解析したものである。ヒータ３の設定温度は２０５０℃とし、蒸着材料は同じくアルミニウムＡｌとした。坩堝１０の温度は１２００℃であり、境界条件(蒸発源１００の周囲温度)は２７℃である。濡れ上がり部材１の先端側のみを暖めるため、ヒータ３は濡れ上がり部材１の先端側部分の近くに配設する構造とした。この構造では、漏れ防止部材２を介して濡れ上がり部材１を加熱しているため、ヒータの加熱効率は実施例１の構造より悪くなる。図１１の構造では、濡れ上がり部材１に約１２００℃、の最高温度約１４５０℃程度とするためには、約２５０℃のヒータ温度の上昇が必要であった。この必要ヒータ温度の上昇は、漏れ防止部材２の材質や大きさによっても異なってくる。
【００３７】
しかしながら、実施例１００Ｃは、ヒータ３が濡れ上がり部材１に近い分濡れ上がり部材１よりも高温となるため、蒸発した蒸着材料は結露しない利点がある。実施例１００Ｃでは、蒸気の漏れ防止部材２は蒸着材料１１と濡れ性の悪いものが好ましいが、濡れ性が良くても上記の効果を得ることができる。
【００３８】
また、実施例１００Ｃでは、より坩堝１０に近い場所では結露するが、下方に落ちれば坩堝へ戻り、また上方へ濡れ上がれば蒸発する。そのため、蒸気の漏れを防止する漏れ防止部材２を筒状にし、通常の蒸発源１００におけるノズルの役割を持たせても良い。その場合にも、蒸気は液面から蒸発してくるのではなく、溶融蒸着材料１１が濡れ上がり部材１を伝わって蒸発温度の部位に到達した後に蒸発するため、濡れ上がり部材１は必須である。この場合、漏れ防止部材２は、坩堝１０と濡れ上がり部材１に接触しないのが好ましい。また、漏れ防止部材２を濡れ上がり、漏れ防止部材２の下側から回り込んで外側に付着するのを防ぐため、漏れ防止部材２の坩堝１０近くを冷やしても良い。
【００３９】
(実施例４)
図１２は、図９に示す第３の実施例１００Ｃの変形例を示す本発明の蒸発源の第４の実施例１００Ｄを示す図である。
【００４０】
第４の実施例の第３の実施例の異なる点は、加熱手段自体で温度勾配を形成するヒータ３Ａである点である。温度勾配を複数のヒータで形成してもよいし、抵抗値を変えて形成してもよい。前者の方が自由度がある。ヒータの長さは、本実施例では濡れ上がり部材１の長さと同程度したが実施例１００Ｃの長さとしてもよい。
【００４１】
(実施例５)
図１３は、図９に示す第３の実施例１００Ｃの構成をより具体化した本発明の蒸発源の第５の実施例１００Ｅを示し、右図は実施例１００Ｅの構造をシミュレーションで温度分布解析の結果を示す図である。
【００４２】
より具体的にした点は、次の点である。第１に、漏れ防止部材２には、ヒータ３が発する輻射熱を外部環境や坩堝１０へと漏らさないようにするため、断熱部材２０を追加した点である。第２の点は、漏れ防止部材２の構造を横コの字状に変更し、坩堝の濡れ上がり部材１付近まで壁を設けることで、濡れ上がり部材１の方向から侵入してくる僅かな蒸気の低減を図った点である。
【００４３】
第３の点は、次の点である。温度勾配をつけるため、濡れ上がり部材１は一般に熱伝導率が悪いものが好ましい。一方、蒸着材料１１は融解しており、熱伝導と対流の両方で熱を運ぶため、材料投入位置と濡れ上がり位置との温度勾配がつけにくい。そこで、坩堝１０の濡れ上がり部材１付近を加熱する坩堝用ヒータ２１と、材料投入口付近を冷却する坩堝冷却部２２と、を設けることにより、濡れ上がり部材１付近を濡れ上がりの始まる温度に、材料投入口付近を融点直上に制御可能とした。
【００４４】
シミュレーション条件は、ヒータ３の設定温度は２０５０℃であり、坩堝１０を加熱している坩堝用ヒータ２１の温度は１２００℃、坩堝冷却部２２の温度は８００℃である。
また、蒸着材料１１としては、アルミニウムＡｌを想定した。
この構成において、濡れ上がり部材１については先端付近で１５００℃付近、また下端では濡れ上がり温度である１２００℃付近となっている。坩堝１０においては、濡れ上がり部材１付近で１２００℃、材料投入口１２を想定した坩堝１０の外辺付近で融点直上の８００℃付近となった。この温度では、アルミニウムＡｌの蒸気圧は１×１０-4Paと、チャンバ真空度とほぼ同等であるため、蒸気の漏れは無いに等しいと考えられる。
【００４５】
以上説明した実施例１００Ｅによれば、坩堝１０内は蒸気圧の低い温度に制御しながら、蒸発部では蒸気圧の高い温度にすることが出来るため、坩堝１０の蒸気が発生しない部分に材料投入口１２・液面観察口を設けることができる。
【符号の説明】
【００４６】
１：濡れ上がり部材                      １Ａ：蒸気発生部
２：漏れ防止部材（蒸気遮蔽部）          ３：ヒータ
４：蒸着材料                            ５：蒸着室
６：基板                                ７；膜厚モニタ
８：膜厚制御計                          ９：蒸発源電源
１０：坩堝                              １１：溶融蒸着材料
１２：材料投入口                        １３ａ：貫通部
２０：断熱部材                          ２１：坩堝用ヒータ
２２：坩堝冷却部                        ３０：制御用パソコン
１００、１００Ａ乃至１００Ｅ：蒸発源    １３２：蒸発源列
【図１】
2014065957.tif 000003
【図２】
2014065957.tif 000004
【図３】
2014065957.tif 000005
【図４】
2014065957.tif 000006
【図５】
2014065957.tif 000007
【図６】
2014065957.tif 000008
【図７】
2014065957.tif 000009
【図８】
2014065957.tif 000010
【図９】
2014065957.tif 000011
【図１０】
2014065957.tif 000012
【図１１】
2014065957.tif 000013
【図１２】
2014065957.tif 000014
【図１３】
2014065957.tif 000015