(57)【要約】【課題】面発光パネルの寸法を大型化した際においても、光量の低下を抑制し、良好な照射光を照射することができる面発光パネルを提供すること。【解決手段】複数の有機ＥＬ素子を備える面発光パネルであって、前記複数の有機ＥＬ素子が形成される複数の素子形成領域、及び前記複数の素子形成領域のそれぞれの少なくとも一辺に沿い且つ前記素子形成領域の外側に形成された溝を表面に備える透明基板と、少なくとも前記素子形成領域内に形成され、透光性を備える第１電極と、前記第１電極上に形成された有機層と、前記有機層上に形成された第２電極と、前記溝の内部に形成されるとともに前記第１電極に電気的に接続され、前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに電力を供給する主配線と、を有すること。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の有機ＥＬ素子を備える面発光パネルであって、
前記複数の有機ＥＬ素子が形成される複数の素子形成領域、及び前記複数の素子形成領域のそれぞれの少なくとも一辺に沿い且つ前記素子形成領域の外側に形成された溝を表面に備える透明基板と、
少なくとも前記素子形成領域内に形成され、透光性を備える第１電極と、
前記第１電極上に形成された有機層と、
前記有機層上に形成された第２電極と、
前記溝の内部に形成されるとともに前記第１電極に電気的に接続され、前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに電力を供給する主配線と、を有することを特徴とする面発光パネル。
【請求項２】
前記溝は、前記複数の素子形成領域のそれぞれを区画するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の面発光パネル。
【請求項３】
前記主配線は、前記第１電極を構成する導電材料よりも低い抵抗率を備える導電材料から構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の面発光パネル。
【請求項４】
前記第１電極と直接的に接続されるとともに、前記素子形成領域内に設けられた少なくとも１本以上の線状の第３電極を更に有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の面発光パネル。
【請求項５】
前記第３電極は、前記第１電極と前記透明基板との間に形成されていることを特徴とする請求項４に記載の面発光パネル。
【請求項６】
前記第３電極は、前記第１電極上であって前記透明基板とは逆側に形成されていることを特徴とする請求項４に記載の面発光パネル。
【請求項７】
前記主配線が第１絶縁膜で覆われている請求項１乃至６のいずれか１項に記載の面発光パネル。
【請求項８】
前記第３電極が第２絶縁膜で覆われている請求項４乃至７のいずれか１項に記載の面発光パネル。
【請求項９】
非透光性の材料が、前記溝の底面と前記主配線との間に堆積されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の面発光パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明に用いる面発光パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
照明用機器として白熱電球や蛍光灯が、従来から広く使用されている。これに対し、近年の面発光照明機器が、そのソフトな印象の光を照射できることや省エネルギー性能に優れていることなどの理由から次世代照明として注目を浴びており、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ（Electro Luminescence）、ＯＥＬ：Organic Electro Luminescence）、無機エレクトロルミネッセンス、あるいは発光ダイオードと導光板を組合せたものが開発されている。これらの中において、有機ＥＬは、機器の小型軽量化が可能であり、発熱量も小さいといった点で注目されている。
【０００３】
有機ＥＬは有機物質からなる発光材料に電圧を印可してエネルギーを付与し、励起された当該発光材料が元の状態に戻る際に、光としてエネルギーを放出する現象のことをいう。有機ＥＬ技術を用いた発光素子である有機ＥＬ素子には、有機物質からなる発光材料を含む有機層と、当該有機層を挟むように対向した２個の電極（陰極及び陽極）と、を基板上に順次積層した構造が一般的に用いられている。
【０００４】
有機ＥＬは、発光材料の種類を変えることによって発光波長を変更することができるため、例えば赤色、緑色、青色の３種類の発光材料を混合することにより、有機ＥＬ素子から白色光を得ることができる。また、例えば異なる発光材料を含んだ２種類以上の有機ＥＬ素子をストライプ状に交互に形成することにより、各々の有機ＥＬ素子に独立して電流を供給する可変色の照明パネルを得ることができる。
【０００５】
このような照明パネルは、一般的な照明用途に用いることができる他、建屋内、乗物内のインテリア、またはエクステリアなどに用いることも可能である。有機ＥＬ素子を用いた発光パネルを一般的な照明として用いた例が、例えば、特許文献１に記載されている。
【０００６】
また、有機ＥＬ素子を用いた照明においては、単位面積あたりの輝度が従来の電球又は蛍光灯に比べて一般的に小さく、光量を増加するために発光部分の面積をより大きくすることが求められる。このため、面発光パネルを複数配列し、発光部分の面積をより大きくする方法が用いられている。例えば、特許文献２には、発光部分の大型化がなされた面発光パネルが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１１−１８４８３号公報
【特許文献２】特開２０１０−１７７０４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
有機ＥＬ素子を用いた面発光照明では、上述したような多数の面発光パネルを並べることにより、大型の発光体を形成することができる。しかしながら、小型の面発光パネルを多数製造することは、大型の面発光パネルを小数製造することに比べて単位面積あたりの生産コストが高くなる。更に、各面発光パネルに供給する電力線及び信号線等の種々の配線が複雑となる上、その取り付け作業の負担も大きい。従って、大型の発光体（パネル群）の形成には、大型の面発光パネルを使用することが望まれる。
【０００９】
しかしながら、従来の技術では面発光パネルの寸法を大きくすると、部分的に有機ＥＬ素子の電極の電圧降下が生じるという問題があった。通常の有機ＥＬの面発光パネルにおいては、透明な基板上に透明電極である陽極、有機層、陰極が順に積層され、有機層で生じた光が透明電極および基板を透過して面発光パネルの外部に放射される。透明電極への電力供給はパネル端部の電力供給端子を介してなされるが、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）等の透明電極はアルミニウム（Ａｌ）及び銅（Ｃｕ）等の低抵抗金属に比べると抵抗が高いため、パネル中央部等の電力供給端子から距離が離れた位置では電圧降下が生じることになる。このような電圧降下を抑制するために、Ａｌなどの細線からなる補助電極を透明電極に接して設ける方法があるが、金属製の補助電極は不透明であるため、光量の低下を避ける観点から比較的太い補助電極を使用することができず、補助電極の抵抗を十分に下げることができなかった。従って、面発光パネルの寸法が非常に大きくなると、電力供給端子から離れた位置ではやはり電圧降下が生じ、発光輝度が低下して面発光パネル自体が暗くなってしまう。このような問題を鑑みて、良好な特性を得られる面発光パネルの寸法が１０ｃｍ角程度に制限されていた。
【００１０】
このような電圧降下の問題を解決して面発光パネルを大型化するには、電圧降下が問題にならない寸法に基板上の発光領域を分割し、発光領域へ電力を供給する低抵抗の主配線を発光領域間に設ける方法が考えられる。
【００１１】
しかしながら、このような場合であっても、当該主配線の抵抗値を十分に小さくするためには、当該主配線の断面積を十分大きくする必要があり、低抵抗の確保のために当該主配線の幅を広げると、上述した場合と同様に発光領域間の非発光部が広がって光量の低下を招き、更には面発光照明としての全体的な一体感が無くなってしまう。また、当該主配線の高さが大きくなり、当該主配線の頂部が基板面に対して大きく突出してしまうと、有機層又は対向電極を真空プロセスで作成する際、当該主配線近傍の領域が当該主配線の影の影響を受けることによって良好に成膜できないという問題が生じる。更には、インクジェット塗布を用いる際にも、ノズルが当該主配線に衝突する問題が生じる可能性がある。
【００１２】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、面発光パネルの寸法を大型化した際においても、光量の低下を抑制し、良好な照射光を照射することができる面発光パネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するため、本発明の面発光パネルは、複数の有機ＥＬ素子を備える面発光パネルであって、前記複数の有機ＥＬ素子が形成される複数の素子形成領域、及び前記複数の素子形成領域のそれぞれの少なくとも一辺に沿い且つ前記素子形成領域の外側に形成された溝を表面に備える透明基板と、少なくとも前記素子形成領域内に形成され、透光性を備える第１電極と、前記第１電極上に形成された有機層と、前記有機層上に形成された第２電極と、前記溝の内部に形成されるとともに前記第１電極に電気的に接続され、前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれに電力を供給する主配線と、を有することを特徴とする。
【００１４】
上述した面発光パネルにおいて、前記溝は、前記複数の素子形成領域のそれぞれを区画するように形成されていてもよい。
【００１５】
上述したいずれかの面発光パネルにおいて、前記主配線は、前記第１電極を構成する導電材料よりも低い抵抗率を備える導電材料から構成されていることが好ましい。
【００１６】
上述したいずれかの面発光パネルにおいて、前記第１電極と直接的に接続されるとともに、前記素子形成領域内に設けられた少なくとも１本以上の線状の第３電極を更に有してもよい。
【００１７】
上述した第３電極を有する場合において、前記第３電極は、前記第１電極上であって前記透明基板とは逆側に形成されていてもよく、又は前記第１電極と前記透明基板との間に形成されていてもよい。
【００１８】
上述したいずれかの面発光パネルにおいて、前記主配線が第１絶縁膜で覆われていてもよい。
【００１９】
上述した第３電極を有する場合において、前記第３電極が第２絶縁膜で覆われていてもよい。
【００２０】
上述したいずれかの面発光パネルにおいて、非透光性の材料が、前記溝の底面と前記主配線との間に堆積されていてもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る面発光パネルにおいては、透明基板に形成された溝内に主配線が形成されている。このような構造を用いることにより、主配線の幅をより小さくすることができる。これにより、面発光パネルの非発光領域の面積が小さくなり、十分な光量の確保を図ることができるとともに非発光領域を発光領域と比較して目立たなくすることができ、更には面発光パネルを面発光照明に使用した場合に、当該面発光照明の全体的な一体感を向上することができる。
【００２２】
以上のことから、本発明に係る面発光パネルは、大型化された際にも、上述した非発光領域の増大に伴う光量の低下を抑制し、良好な照射光を提供することができることになる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施例１に係る面発光パネルの一例を示す模式的な底面図である。
【図２】図１中のII−II線に沿う面発光パネルの断面図である。
【図３】図１中のIII−III線に沿う面発光パネルの断面図である。
【図４】図１中のIV−IV線に沿う面発光パネルの断面図である。
【図５】図２における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
【図６】図２における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
【図７】図２における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
【図８】図２における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
【図９】図２における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
【図１０】図２における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
【図１１】図２における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
【図１２】図２と同様の断面で示す変形例に係る面発光パネルの断面図である。
【図１３】図６と同様の断面で示す変形例に係る透明基板の断面図である。
【図１４】実施例２に係る面発光パネルの一例を示す模式的な底面図である。
【図１５】図１４中のXV−XV線に沿う面発光パネルの断面図である。
【図１６】図１４中のXVI−XVI線に沿う面発光パネルの断面図である。
【図１７】図１４中のXVII−XVII線に沿う面発光パネルの断面図である。
【図１８】図１７における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
【図１９】図１７における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
【図２０】図１７における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
【図２１】図１７における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
【図２２】図１７における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
【図２３】図１７における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
【図２４】図１７における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態について、実施例及び変形例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は以下に説明する内容に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において任意に変更して実施することが可能である。また、各実施例及び変形例の説明に用いる図面は、いずれも本発明による面発光パネルを模式的に示すものであって、理解を深めるべく部分的な強調、拡大、縮小、または省略などを行っており、各構成部材の縮尺や形状等を正確に表すものとはなっていない場合がある。更に、各実施例及び変形例で用いる様々な数値は、いずれも一例を示すものであり、必要に応じて様々に変更することが可能である。
【実施例１】
【００２５】
（面発光パネルの構成）
図１は、本実施例に係る面発光パネル１の一例を示す模式的な底面図である。なお、図１においては、面発光パネル１内の後述する主配線及び補助電極の構造の理解を容易にするために、後述する陽極、有機層及び陰極が図示されていない。図２は、図１中のII−II線に沿う面発光パネル１の断面図である。図３は、図１中のIII−III線に沿う面発光パネル１の断面図である。図４は、図１中のIV−IV線に沿う面発光パネル１の断面図である。
【００２６】
図１乃至図４から分かるように、面発光パネル１は、透明基板２、透明基板２内に設けられた主配線３、主配線３に接続された補助電極４、補助電極４を被覆するように設けられた陽極５、陽極５上に設けられた有機層６、及び有機層６上に設けられた陰極７から構成されている。すなわち、本発明における、第１電極が陽極５、第２電極が陰極７、第３電極が補助電極４に相当する。後述する実施例２においても同様である。また、本実施例においては、陽極５、有機層６、及び陰極７から構成される有機ＥＬ素子８が２個形成されている。なお、有機ＥＬ素子８の数量は２個に限定されることなく、面発光パネル１の使用用途等に応じて適宜変更することができる。
【００２７】
本実施例において、透明基板２は、透光性を有するガラス製の基板であり、その平面形状は長方形である。なお、透明基板２は、可視光を透過する特性を有する基板であればよく、例えば、セラミックス、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン等の樹脂などの各種材料から構成されてもよい。
【００２８】
また、図１乃至図４に示すように、透明基板２の第１面２ａ側には、溝１１が形成され、当該溝１１の内部には主配線３が形成されている。より具体的には、図１から分かるように、透明基板２の第１面２ａには、短辺方向に延在する３本の溝１１ａが形成されるとともに、当該３本の溝１１ａの一端を連結するように長辺方向に延在する１つの溝１１ｂが形成されている。３本の溝１１ａのうちの１つは、透明基板２の外縁にまで到達している。なお、以下において、溝１１ａ及び溝１１ｂのいずれかを特定しない場合には、単に溝１１とも称する。また、本実施例における透明基板２においては、透明基板２の第１面２ａとは反対側に位置する面を第２面２ｂと定義する。
【００２９】
溝１１の深さは、溝１１内に形成される主配線３の抵抗値を十分に小さくするために、０．１ｍｍ以上が好ましい。より好ましくは０．２ｍｍ以上である。また、溝１１が深すぎると、溝１１が形成されている部分の透明基板２の厚さが小さくなり、機械的耐久性を確保することが困難となるため、溝１１が形成されている部分の透明基板２の厚さは、０．１ｍｍ以上であることが好ましい。より好ましくは０．２ｍｍ以上である。なお、透明基板２が樹脂から形成されている場合には、ガラス等に比べ薄い厚みであっても耐久性があるため、溝１１が形成されている部分の基板の厚みは、０．０１ｍｍ以上であることが好ましい。より好ましくは０．０２ｍｍ以上である。
【００３０】
溝１１の深さと同様に、溝１１の幅は、溝１１内に形成される主配線３の抵抗値を十分に小さくするために、０．１ｍｍ以上であることが好ましい。より好ましくは０．３ｍｍ以上である。また、溝１１の幅が広すぎると、溝１１内に形成される主配線３の幅が大きくなり、透明基板２の発光面（すなわち、光放射面である第２面２ｂ）における非発光部分が増大するため、溝１１の幅は３ｍｍ以下であることが好ましい。より好ましくは２．０ｍｍ以下である。
【００３１】
このような溝１１ａ及び溝１１ｂが透明基板２の第１面２ａに形成されることにより、透明基板２の第１面２ａ上には、第１面２ａ上における３方向が溝１１によって囲まれた２個の素子形成領域２ｃが形成されることになる。換言すれば、素子形成領域２ｃのそれぞれの３つ辺に沿い且つ素子形成領域２ｃの外側に、溝１１が形成されていることになる。
【００３２】
図２乃至図４から分かるように、本実施例における溝１１の断面形状は、正方形又は長方形等の四角形であるが、補助電極４との接続及び比較的低い抵抗値を確保することができればこのような形状に限定されることはない。例えば、溝１１の断面形状は半円であってもよい。
【００３３】
上述したように、溝１１の内部には主配線３が形成されている。すなわち、主配線３は、素子形成領域２ｃを囲むように形成されており、有機ＥＬ素子８に電力を供給することができるように、有機ＥＬ素子８の陽極５と電気的に接続されている。なお、当該電気的な接続は後述する。また、図１に示すように、主配線３の一端は、透明基板２の外縁に到達しており、透明基板２の側面から露出した部分が外部接続端子１２として機能することになる。このような主配線３の構成により、面発光パネル１の外部から有機ＥＬ素子８に対して、駆動用の電力を容易に供給することが可能になる。
【００３４】
主配線３の材料は、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、銅（Ｃｕ）、又はアルミニウム（Ａｌ）等の比較的に抵抗値が小さい低抵抗金属から構成されることが好ましい。また、耐腐食性及び機械的強度の向上を図るために、上述した低抵抗金属にチタン（Ｔｉ）、シリコン（Ｓｉ）、インジウム（Ｉｎ）、ホウ素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、又はリン（Ｐ）を等の添加物を添加してもよい。更には、主配線３の材料として、ポリ（エチレンジオキシ−チオフェン）−ポリスチレンスルホン酸（ＰＤＯＴ：ＰＳＳ）を用いてもよい。
【００３５】
陽極５における電圧降下を防ぐという目的から、主配線３は、陽極５を構成する導電材料よりも低い抵抗率を備える導電材料から構成されていることが好ましい。なお、図２乃至４において、主配線３は溝１１を丁度完全に埋めるように設けられているが、主配線３が溝１１を完全に埋めないか、あるいは溝１１を多少はみ出る場合も有りうる。
【００３６】
図１、図２、及び図４から分かるように、透明基板２及び主配線３の一部の上に、ストライプ状の補助電極４が形成されている。より具体的に、補助電極４は、溝１１ｂに平行であって溝１１ａ内に位置する主配線３同士を接続するように、素子形成領域２ｃ内に設けられている。また、補助電極４は、その両端において主配線３と直接的に接続されている。本実施例においては、素子形成領域２ｃ内に１２本の補助電極４が形成されているが、その数量は限定されることなく、素子形成領域２ｃの寸法、面発光パネル１の特性等に応じて適宜変更することができる。
【００３７】
補助電極４の材料は、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、又はＡｌ等の比較的に抵抗値が小さい低抵抗金属から構成されることが好ましい。また、耐腐食性及び機械的強度の向上を図るために、上述した低抵抗金属にＴｉ、Ｓｉ、Ｉｎ、Ｂ、Ｃ、又はＰ等の添加物を添加してもよい。更には、補助電極４の材料として、ＰＤＯＴ：ＰＳＳを用いてもよい。
【００３８】
補助電極４の幅は、主配線３の幅（すなわち、溝１１の幅）と比較して小さい。ここで、補助電極４の幅は、例えば０．８ｍｍ以下が好ましい。これは、補助電極４の材料が低抵抗金属等の透光性を有さない材料が使用されるため、素子形成領域２ｃに形成される有機ＥＬ素子８から外部に放射される光が遮断され、面発光パネル１自体の非発光部分が増大することを防ぐためである。また、補助電極４の抵抗値をより小さくするためにも、補助電極４の幅は、例えば０．０５ｍｍ以上が好ましい。これは、後述するように、陽極５の電圧低下を抑制するために補助電極４が設けられているためである。
【００３９】
図２乃至図４から分かるように、補助電極４を被覆するように、陽極５が透明基板２の第１面２ａ上に形成されている。また、陽極５は、主配線３に対して直接的に接続されず、補助電極４を介して主配線３に電気的に接続されている。すなわち、陽極５は、素子形成領域２ｃ内のみに形成されていることになる。このような構成により、外部接続端子１２から供給される電力が、主配線３及び補助電極４を経由して陽極５に供給されることになる。
【００４０】
本実施例においては、陽極５は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）から構成されている。ＩＴＯから陽極５が構成されることにより、陽極５は、発光層として機能する有機層６に正孔を注入する機能を有し、且つ有機層６における各色の発光に対して透光性を備えている。すなわち、陽極５は透明電極として機能する。
【００４１】
なお、陽極５は、ＩＴＯから構成されていることに限定されることなく、有機層６に正孔を注入する機能を有し、且つ有機層６における各色の発光に対して透光性を備えていれば、例えば、インジウム亜鉛酸化物等の金属酸化物、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリピロール等の導電性高分子等から構成されてもよい。
【００４２】
図２乃至図４に示すように、陽極５上には、有機層６が積層されている。有機層６は、例えば、複数の層が積層された低分子積層形のＥＬ材料から構成されている。より具体的に、有機層６は、陽極５側から正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層の順に積層された構造を有している。
【００４３】
正孔注入層及び正孔輸送層は、正孔輸送性の材料から形成されることが好ましく、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ベンジルフェニル誘導体、フルオレン基で３級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン誘導体、シラザン誘導体、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、カーボン等が挙げられる。また、電子輸送層は、電子輸送性の材料から形成されることが好ましく、例えば、８−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体、１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、３−ヒドロキシフラボン金属錯体、５−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン、キノキサリン化合物、フェナントロリン誘導体、２−ｔ−ブチル−９，１０−Ｎ，Ｎ’−ジシアノアントラキノンジイミン、ｎ型水素化非晶質炭化シリコン、ｎ型硫化亜鉛、ｎ型セレン化亜鉛などが挙げられる。電子注入層は、仕事関数の低い金属からなることが好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属などが挙げられる。
【００４４】
また、本実施例における面発光パネル１から白色光を照射させるため、発光層は、更に３層の積層構造を有している。具体的には、赤色光を放射する赤色発光層、緑色光を放射する緑色発光層、及び青色光を放射する青色発光層から構成される。赤色発光層には、例えば、ＤＣＭ（４−（ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）−２−ｍｅｔｈｙｌ−６−（ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｔｙｒｙｌ）−４Ｈ−ｐｙｒａｎ）系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等の発光材料を用いてもよい。緑色発光層には、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、Ａｌ（Ｃ9Ｈ6ＮＯ）3等のアルミニウム錯体等の発光材料を用いてもよい。青色発光層には、ナフタレン、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン、ｐ−ビス（２−フェニルエテニル）ベンゼン及びそれらの誘導体等の発光材料を用いてもよい。上述した発光材料は、各発光層において、いずれか１種類のみを用いてもよく、２種類以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
【００４５】
このように、本実施例における発光層からは、赤色光、緑色光、及び青色光が放射されるため、これらの合成光である擬似的な白色光が有機ＥＬ素子８から放射されることになり、本実施例に係る面発光パネル１は擬似的な白色光を照射することが可能になる。
【００４６】
なお、有機層６は、赤色光用の発光材料、緑色光用の発光材料、及び青色光用の発光材料が均一に分散された高分子分散型のＥＬ材料から構成されてもよい。
【００４７】
図２乃至図４に示すように、有機層６上には、陰極７が積層されている。本実施例においては、陰極７は、透光性を有する必要がないため、アルミニウムから構成されている。なお、陰極７は、アルミニウムに限定されること無く、例えば、スズ（Ｓｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、インジウム（Ｉｎ）、カルシウム（Ｃａ）、Ａｇ等の金属又はそれらの合金等が用いられてもよい。合金の具体例としては、Ｍｇ−Ａｇ合金、Ｍｇ−Ｉｎ合金、Ａｌ−リチウム（Ｌｉ）合金等の低仕事関数の合金電極等が挙げられる。
【００４８】
なお、図示していないが、面発光パネル１の陰極７側の表面には、通常、有機ＥＬ素子８の酸化による劣化を防ぐための封止構造が設けられる。封止構造は、樹脂等で有機ＥＬ素子８の全面を覆ってもよいし、有機ＥＬ素子８を全体的に覆うようなプラスチック等のカバーであってもよい。また、上記封止構造の上に、更に保護層や光拡散部等を備えてもよい。以下の実施例においても同様である。
【００４９】
（面発光パネルの製造方法）
次に、図５乃至図１１を参照しつつ、本実施例に係る面発光パネル１の製造方法を説明する。図５乃至図１１は、図２における断面図に対応した各製造工程における断面図である。
【００５０】
先ず、ガラスからなる透明基板２を準備する（図５）。次に、準備した透明基板２の第１面２ａに溝１１を形成する。具体的には、透明基板２の第１面２ａに、公知のウエットエッチング又はドライエッチングを施すことにより、溝１１を形成する。また、透明基板２を加熱して第１面２ａを軟化させた後に、溝１１に対応した型を押し当てることにより溝１１を形成する方法を用いてもよい。また、透明基板２が樹脂材料からなる場合は、金型を用いて射出成型により透明基板２と溝１１を同時に形成してもよい。溝１１が形成されることにより、透明基板２の第１面２ａが区画され、素子形成領域２ｃが形成されることになる（図６）。
【００５１】
溝１１を形成した後、溝１１の内部に低抵抗金属からなる主配線３を形成する（図７）。具体的には、低抵抗の金属微粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用いて主配線３を形成する。また、溝１１に対応するような開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリングによって溝１１内に成膜して主配線３を成膜してもよく、或いはフォトリソグラフィを用いて溝１１内のみに金属膜が残るようにして主配線３を形成してもよい。
【００５２】
本実施例に係る面発光パネル１の製造方法においては、主配線３が透明基板２の第１面２ａに形成された溝１１内に形成されているため、主配線３が形成された状態の透明基板２の第１面２ａは平坦である。このため、後述する陽極５、有機層６、及び陰極７の各製造工程において、主配線３が製造プロセスの妨げになることがなくなり、透明基板２の第１面２ａ上に、有機ＥＬ素子８を容易に形成することができる。
【００５３】
主配線３を形成した後、透明基板２の第１面２ａ上であって溝１１によって区画された素子形成領域２ｃ内に、低抵抗金属からなる１２本の補助電極４を形成する（図８）。この際、１２本の補助電極４のそれぞれは、両端が主配線３と接触するように形成される。具体的な形成方法としては、蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスによって形成した低抵抗の金属膜をフォトリソグラフィによってパターニングして補助電極４を形成する方法がある。また、補助電極４の形成位置に対応した開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスによって開口の位置に低抵抗の金属膜を成膜して補助電極４を形成する方法を用いてもよい。更に、低抵抗の金属微粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用い、所望の位置にインクの印刷を施して補助電極４を形成する方法を用いてもよい。
【００５４】
補助電極４を形成した後、透明基板２の第１面２ａ上であって素子形成領域２ｃ内に、有機ＥＬ素子８の陽極５を形成する（図９）。この際、補助電極４を被覆するように陽極５が形成される。具体的な陽極５の形成方法としては、スパッタリングや真空蒸着等の公知の成膜方法を用い、素子形成領域２ｃ内にＩＴＯを成膜する。また、陽極５を形成した後に、陽極５に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させるために、紫外線照射やオゾン処理を陽極５に施すことが好ましい。
【００５５】
陽極５を形成した後、陽極５の上面を覆うように、有機層６を積層する（図１０）。具体的な有機層６の形成には、蒸着、スパッタリング、スピンコート、インクジェット印刷等の公知の有機ＥＬ成膜技術を用いることができる。なお、有機層６の形成方法は、面発光パネル１自体の寸法、及び有機層６を形成する発光材料の種類に応じて、適宜選択することができる。
【００５６】
有機層６を形成した後、有機層６の上面を覆うように、有機ＥＬ素子８の陰極７を積層する（図１１）。具体的な陰極７の形成方法としては、スパッタリングや真空蒸着等の公知の成膜方法を用い、有機層６の上面にアルミニウムを成膜する。また、陰極７を形成した後に、陰極７に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させるために、紫外線照射やオゾン処理を陰極７に施すことが好ましい。
【００５７】
なお、主配線３の頂部が基板面に対して大きく突出してしまうと、有機層６をインクジェットで形成する場合にインクジェットのノズルが主配線３に衝突する危険性がある。また、スパッタリングや真空蒸着等の際、飛来した粒子が主配線３に妨げられて近傍の領域の膜厚が薄くなってしまう、いわゆるシャドウイングという現象が生じる。本発明では主配線３を溝１１内に埋設することにより、透明基板２の表面からの主配線３の突出を抑制できる。これにより、上述したノズルの衝突、あるいは有機層６や陰極７の真空プロセス形成におけるシャドウイングを軽減することもできる。
【００５８】
上述した工程を経ることにより、陽極５、有機層６、及び陰極７からなる有機ＥＬ素子８が素子形成領域２ｃ内に形成される。そして、透明基板２の第１面２ａ上に２個の有機ＥＬ素子８が形成され、面発光パネル１の製造が完了することになる。
【００５９】
（本実施例の効果）
本実施例に係る面発光パネル１においては、透明基板２の第１面２ａに形成された溝１１内に主配線３が形成されている。このような構造を用いることにより、溝１１の深さ方向の長さを大きくすることによって、非発光領域である主配線３の幅をより小さくすることができる。すなわち、面発光パネル１の光放射面側（すなわち、透明基板２の第２面２ｂ側）における非発光領域（すなわち、主配線３が形成されている領域）の面積が小さくなり、十分な光量の確保を図ることができる。
【００６０】
また、主配線３の幅が小さくなることにより、素子形成領域２ｃである発光領域の間隔を小さくし、非発光領域を発光領域と比較して目立たなくすることができる。すなわち、面発光パネル１を面発光照明に使用した場合に、当該面発光照明の全体的な一体感を向上することができる。
【００６１】
以上のことから、本実施例に係る面発光パネル１は、大型化された際にも、上述した非発光領域の増大に伴う光量の低下を抑制し、良好な照射光を提供することができることになる。
【００６２】
本実施例に係る面発光パネル１においては、透光性を有する陽極５の表面上に、複数の補助電極４を形成している。補助電極４は、陽極５と比較してその抵抗値が小さいため、比較的に高い抵抗値を有する陽極５において生じる電圧降下が、補助電極４の存在により抑制されることになる。更に、本実施例においては、補助電極４の幅を小さくすることにより、面発光パネル１における光量の低下が抑制されている。
【００６３】
また、上記のように本発明では主配線３を溝１１内に埋設することで透明基板２の表面からの主配線３の突出を抑制できるので、インクジェットの場合の主配線３へのノズルの衝突、あるいは真空プロセスにおけるシャドウイングを軽減することもできる。
【００６４】
（溝の充填についての変形例）
上述した実施例において、主配線３自体は透明ではないことから、透明基板２の第２面２ｂ側から透明基板２を目視した場合に、主配線３の金属光沢が見えてしまい、面発光パネル１を使用した照明は美観を損なう可能性がある。このような問題を解消する面発光パネルを本実施例の変形例として、図１２を参照しつつ説明する。図１２は、図２と同様の断面で示す変形例に係る面発光パネルの断面図である。なお、上述した実施例に係る面発光パネル１と同一の構成部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００６５】
図１２に示すように、変形例に係る面発光パネル１’においては、溝３の底部に着色材料２１が設けられ、着色材料２１上に主配線３が積層されている。着色材料２１は、一般的な染料又は顔料であり、その色は特に限定されることがなく、素子形成領域２ｃ（すなわち、発光領域）から放射される光の色及び色温度等に応じて適宜変更してもよい。また、着色材料２１の形成方法としては、所望の色を有する着色材料粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用いて溝１１の底部に塗布する方法であってもよい。
【００６６】
また、着色材料２１に不透明な誘電体を用いることも可能であり、このような場合には、溝１１に対応するような開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリングによって溝１１内に当該誘電体を成膜して着色材料２１を形成することになる。
【００６７】
本変形例においては、着色材料２１を溝１１の底部に設けることにより、透明基板２の第２面２ｂ側から透明基板２を目視した際にも、主配線３が見えることが無くなる。そして、素子形成領域２ｂである発光領域の色と比較して、着色材料２１の色が目立たなくなるように着色材料２１の色を適宜選択することにより、透明基板２の第２面２ｂ側から透明基板２を目視した際にも、着色材料２１の影響が少なくなり、面発光パネル１を使用した照明は美観を損なうことがなくなる。
【００６８】
一方、着色材料２１の存在にデザイン性を持たせるように、着色材料２１の色を適宜選択してもよい。例えば、素子形成領域２ｂである発光領域のフレームとなるように着色材料２１の色を適宜選択することができる。このような場合においても、透明基板２の第２面２ｂ側から透明基板２を目視した際にも、面発光パネル１を使用した照明は美観を損なうことがなくなる。
【００６９】
（透明基板の変形例）
上述した実施例において、透明基板２をガラス単体とし、透明基板２であるガラス板に対して直接的に溝１１を形成していたが、複数の材料を積層した積層体を透明基板とし、上層に位置する材料をパターニングすることにより、溝が形成された透明基板を作成してもよい。このような透明基板を変形例として、図１３を参照しつつ説明する。図１３は、図６と同様の断面で示す変形例に係る透明基板の断面図である。
【００７０】
図１３に示すように、本変形例に係る透明基板３１は、ガラスからなるガラス層３２と、ガラス層３２上に積層された樹脂層３３と、から構成されている。樹脂層３３は、パターニングが施され、その一部に開口が形成されている。本変形例においては、当該開口とガラス層３２の表面とによって、上述した実施例と同一の溝１１が透明基板３１に形成されている。
【００７１】
なお、透明基板３１は、上述したようなガラス層３２及び樹脂層３３の積層体に限定されることなく、有機ＥＬ素子８か放射される光が透過することができる材料であれば、公知の様々の材料を用いることができる。この際、開口を備える上層の材料は、スクリーン印刷等の公知の印刷技術以外にも、柔らかい樹脂に凹凸パターンの型を押し付けてから樹脂を硬化させる方法や、スピンコート等で形成した薄膜をフォトリソグラフィによってパターニングすることで形成されてもよい。
【００７２】
このような変形例においては、透光性を有しているが、加工を施すことが困難な材料についても、透明基板の部材として用いることが可能となり、透明基板の部材選択の幅を広げるととともに、コスト低減を図ることが可能になる。
【００７３】
また、上述した実施例において、溝１１は、並置された３本の溝１１ａ及び溝１１ａの一旦を結ぶ溝１１ｂを含んでいたが、溝１１の形状はこのような形状に限定されることはなく、素子形成領域２ｃのそれぞれの少なくとも１辺に沿い且つ素子形成領域２ｃの外側に形成されていればよい。例えば、３本の溝１１ａのうち、透明基板２の外縁側に位置する２個の溝１１ａを取り除いてもよい。このような場合であっても、透明基板２の第１面２ａの中央部に位置する溝１１ａのみよって２個の素子形成領域２ｃに区画され、当該中央部に位置する溝１１ａが素子形成領域２ｃのそれぞれの１辺に沿っていることになる。なお、主配線３は非発光領域であることから、できるかぎりその幅及び形成領域を小さくすることが好ましいため、溝１１ａの数量も少なくすることが好ましい。
【００７４】
（その他の変形例）
また、補助電極４が無くとも、面発光パネル１、１’全面の電圧低下を十分抑制できるほど、面発光パネルのサイズが小さい場合は、主配線３のみを設け、補助電極４を設けなくともよい。
【実施例２】
【００７５】
（面発光パネルの構成）
上述した実施例において、補助電極４は、透明基板２と陽極５との間に形成されていたが、補助電極４の形成位置はこのような場所に限定されることはない。補助電極４は、陽極５における電圧降下を抑制することができる位置であれば、例えば、陽極５上であって透明基板２とは逆側に補助電極４を形成してもよい。このように構成された面発光パネル１０１を実施例２として、図１４乃至図１７を参照しつつ説明する。
【００７６】
図１４は、本実施例に係る面発光パネルの一例を示す模式的な底面図である。なお、図１４においては、面発光パネル１０１内の後述する主配線及び補助電極の構造の理解を容易にするために、後述する陽極、有機層及び陰極が図示されていない。図１５は、図１４中のXV−XV線に沿う面発光パネル１０１の断面図である。図１６は、図１４中のXVI−XVI線に沿う面発光パネル１０１の断面図である。図１７は、図１４中のXVII−XVII線に沿う面発光パネル１０１の断面図である。
【００７７】
図１４乃至図１７から分かるように、面発光パネル１０１は、透明基板１０２、透明基板１０２内に設けられた主配線１０３、主配線１０３に接続された陽極（第１電極）１０５、陽極１０５上に設けられた補助電極１０４、補助電極１０４を被覆するように設けられた絶縁膜１４１、陽極１０５上であって絶縁膜１４１によって囲まれるように形成された有機層１０６、並びに絶縁膜１４１及び有機層１０６上に設けられた陰極（第２電極）１０７から構成されている。また、本実施例においては、絶縁膜１４１によって有機層１０６が１２個に分けられているため、陽極１０５、有機層１０６、及び陰極１０７から構成される有機ＥＬ素子１０８が１２個形成されていることになる。なお、有機ＥＬ素子１０８の数量は１２個に限定されることなく、面発光パネル１の使用用途等に応じて適宜変更することができる。
【００７８】
なお、本実施例２においては、補助電極１０４上に有機層１０６が存在しないため、補助電極１０４上の領域は後述する発光領域１５１とはならない。
【００７９】
本実施例においても実施例１と同様に、透明基板１０２は、透光性を有するガラス製の基板であり、その平面形状は長方形である。なお、透明基板１０２は、可視光を透過する特性を有する基板であればよく、例えば、セラミックス、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン等の樹脂などの各種材料から構成されてもよい。
【００８０】
また、図１４乃至図１７に示すように、透明基板１０２の第１面１０２ａ側には、溝１１１が形成され、当該溝１１１の内部には主配線１０３が形成されている。より具体的には、図１４から分かるように、透明基板１０２の第１面１０２ａには、短辺方向に延在する３本の溝１１１ａが形成されるとともに、当該３本の溝１１１ａの一端を連結するように長辺方向に延在する１つの溝１１１ｂが形成されている。３本の溝１１１ａのうちの１つは、透明基板１０２の外縁にまで到達している。なお、以下において、溝１１１ａ及び溝１１１ｂのいずれかを特定しない場合には、単に溝１１１とも称する。また、本実施例における透明基板１０２においては、透明基板１０２の第１面１０２ａとは反対側に位置する面を第２面１０２ｂと定義する。
【００８１】
このような溝１１１ａ及び溝１１１ｂが透明基板１０２の第１面１０２ａに形成されることにより、透明基板１０２の第１面１０２ａ上には、第１面１０２ａ上における３方向が溝１１１によって囲まれた２個の素子形成領域１０２ｃが形成されることになる。換言すれば、素子形成領域１０２ｃのそれぞれの３つ辺に沿い且つ素子形成領域１０２ｃの外側に、溝１１１が形成されていることになる。
【００８２】
なお、溝１１１の深さ、幅、及び形状は、実施例１の溝１１と同様であるため、その説明は省略する。
【００８３】
上述したように、溝１１１の内部には主配線１０３が形成されている。すなわち、主配線１０３は、素子形成領域１０２ｃを囲むように形成されており、有機ＥＬ素子１０８に電力を供給することができるように、有機ＥＬ素子１０８の陽極５と電気的に接続されている。なお、当該電気的な接続は後述する。また、図１４に示すように、主配線１０３の一端は、透明基板１０２の外縁に到達しており、透明基板１０２の側面から露出した部分が外部接続端子１１２として機能することになる。このような主配線１０３の構成により、面発光パネル１０１の外部から有機ＥＬ素子１０８に対して、駆動用の電力を容易に供給することが可能になる。
【００８４】
主配線１０３の材料は、実施例１の主配線３と同様に、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、又はＡｌ等の比較的に抵抗値が小さい低抵抗金属から構成されることが好ましく、耐腐食性及び機械的強度の向上を図るために、上述した低抵抗金属にＴｉ、Ｓｉ、Ｉｎ、Ｂ、Ｃ、又はＰを等の添加物を添加してもよい。また、実施例１の主配線３と同様に、主配線線１０３の材料として、ポリ（エチレンジオキシ−チオフェン）−ポリスチレンスルホン酸（ＰＤＯＴ：ＰＳＳ）を用いてもよい。
【００８５】
図１５乃至図１７から分かるように、透明基板１０２及び主配線１０３の一部の上に、陽極１０５が形成されている。また、陽極１０５は、その両端及び中央部が主配線１０３に対して直接的に接続され、主配線１０３に対して電気的に接続されている。すなわち、陽極１０５は、素子形成領域１０２ｃ内に形成されていることになる。このような構成により、外部接続端子１１２から供給される電力が、主配線１０３を経由して陽極１０５に供給されることになる。
【００８６】
本実施例においても実施例１と同様に、陽極１０５は、透明電極として機能するＩＴＯから構成され、主配線１０３よりも高い抵抗率を有している。なお、陽極５と同様に、陽極１０５はＩＴＯから構成されることに限定されることなく、有機層１０６に正孔を注入する機能を有し、且つ有機層１０６における各色の発光に対して透光性を備えていれば、インジウム亜鉛酸化物等の金属酸化物、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリピロール等の導電性高分子等から構成されてもよい。
【００８７】
図１４乃至図１６から分かるように、陽極１０５上に、ストライプ状の補助電極１０４が形成されている。より具体的に、補助電極１０４は、溝１１１ｂに対して平行に並置されており、２個の素子形成領域１０２ｃ内のそれぞれに７本（合計１４本）設けられている。なお、素子形成領域１０２ｃ内に設けられた補助電極１０４の数量は１４本に限定されることなく、素子形成領域１０２ｃの寸法、面発光パネル１０１の特性等に応じて適宜変更することができる。
【００８８】
補助電極１０４の材料及び寸法は、実施例１の補助電極４と同様であるため、その説明は省略する。
【００８９】
図１４乃至図１６から分かるように、補助電極１０４を覆うように絶縁膜１４１が形成されている。また、絶縁膜１４１は、溝１１１及び主配線１０３の上方において、溝１１１及び主配線１０３に沿っても形成されている。このような絶縁膜１４１の構成により、２個の素子形成領域１０２ｃのそれぞれには、６個（合計１２個）のストライプ状の凹部が形成される。そして、当該凹部に有機層１０６が形成されることにより、２個の素子形成領域１０２ｃのそれぞれは、６個（合計１２個）のストライプ状の発光領域１５１に区画されることになる。
【００９０】
絶縁膜１４１の材料には、二酸化シリコン（ＳｉＯ2）、フッ素添加酸化シリコン（ＳｉＯＦ）、窒化シリコン（Ｓｉ3Ｎ4）等の無機材料や、アクリル系やエポキシ系などの有機材料からなる一般的な絶縁材料が用いられる。
【００９１】
絶縁膜１４１は、補助電極１０４と有機層１０６とが直接的に接触しないように設けられている。これにより、有機層１０６には、陽極１０５を介してのみ電力が供給されることになる。
【００９２】
なお、本実施例においては、単一の絶縁膜１４１が補助電極１０４を被覆しつつ、溝１１１及び主配線１０３の上方にも形成されていたが、補助電極１０４を被覆する絶縁膜と、溝１１１及び主配線１０３の上方に位置する絶縁膜とが、互いに異なる材料から形成されてもよい。すなわち、陽極１０５上には、２個の絶縁膜（第１絶縁膜、及び第２絶縁膜）が形成されてもよい。
【００９３】
図１６及び図１７に示すように、陽極１０５上であって絶縁膜１４１によって囲まれたストライプ状の各凹部内に、有機層１０６が積層されている。有機層１０６は、実施例１の有機層１０６と同様に、複数の層が積層された低分子積層形のＥＬ材料から構成されている。より具体的に、有機層６は、陽極５側から正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層の順に積層された構造を有している。これらの層の材料は、実施例１の各層と同一であるため、その説明は省略する。
【００９４】
本実施例において、有機層１０６は、絶縁膜１４１によって区画された１２個のストライプ状の凹部内に形成されるが、ストライプ状の各凹部内に形成される有機層１０６を構成する発光層の材料は異なっている。具体的には、１つの素子形成領域１０２ｃ内において区画された６個のストライプ状の凹部内において、赤色光を放射する赤色発光層のみを有する有機層１０６が２個、緑色光を放射する緑色発光層のみを有する有機層１０６が２個、青色光を放射する青色発光層のみを有する有機層１０６が２個設けられている。なお、赤色光を放射する赤色発光層のみを有する有機層１０６を有機層１０６Ｒ、緑色光を放射する緑色発光層のみを有する有機層１０６を有機層１０６Ｇ、青色光を放射する青色発光層のみを有する有機層１０６を有機層１０６とも称し、図面上においても括弧内にこれらの符号を記載する。
【００９５】
このように、有機層１０６の構成により、１つの素子形成領域１０２ｃ内に設けられた有機ＥＬ素子１０８から、赤色光、緑色光、及び青色光が放射されるため、これらの合成光である擬似的な白色光が１つの素子形成領域１０２ｃから放射されることになる。そして、本実施例に係る面発光パネル１０１は擬似的な白色光を照射することが可能になる。
【００９６】
なお、有機層１０６は、実施例１の有機層１０６と同一の構成として、発光層を３層構造としてもよく、又は赤色光用の発光材料、緑色光用の発光材料、及び青色光用の発光材料が均一に分散された高分子分散型のＥＬ材料から構成されてもよい。このような場合であっても、面発光パネル１０１から擬似的な白色光を照射されることになる。また、例えば赤色光用の発光材料と緑色光用の発光材料を混合して１層の発光層を設け、その上に青色発光用の発光材料からなる発光層を積層した２層構造により白色光を生成する構成としてもよい。
【００９７】
図１５乃至図１７に示すように、有機層１０６及び絶縁膜１４１上には、陰極１０７が積層されている。陰極１０７は、実施例１の陰極７と同様に、透光性を有する必要がないため、アルミニウムから構成されている。また、陰極１０７は、実施例１の陰極７と同様に、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｉｎ、Ｃａ、Ａｇ等の金属又はそれらの合金等が用いられてもよい。合金の具体例としては、Ｍｇ−Ａｇ合金、Ｍｇ−Ｉｎ合金、Ａｌ−リチウム（Ｌｉ）合金等の低仕事関数の合金電極等が挙げられる。
【００９８】
本実施例に係る面発光パネル１０１においても、実施例１の面発光パネル１と同様に、透明基板１０２の第１面１０２ａに形成された溝１１１内に主配線１０３が形成されており、溝１１１の深さ方向の長さを大きくすることによって溝１１１及び主配線１０３の幅をより小さくすることができる。ここで、非発光領域である主配線１０３の幅が小さくなることは、面発光パネル１０１の光放射面側（すなわち、透明基板１０２の第２面１０２ｂ側）における非発光領域（すなわち、主配線１０３が形成されている領域）の面積が小さくなることになり、面発光パネル１０１における光量の増加を図ることができる。
【００９９】
また、主配線１０３の幅が小さくなることにより、素子形成領域１０２ｃである発光領域の間隔が小さくなり、すなわち、非発光領域を発光領域と比較して目立たなくすることができる。そして、面発光パネル１０１を面発光照明に使用した場合に、当該面発光照明の全体的な一体感を向上することができる。
【０１００】
更に、本実施例に係る面発光パネル１０１においても、透光性を有する陽極１０５の表面上に、比較的に抵抗値が小さい複数の補助電極１０４を形成しているため、陽極１０５における電圧降下が抑制される。そして、補助電極１０４の幅を小さくすることにより、面発光パネル１０１における光量の低下を抑制することができる。
【０１０１】
なお、本実施例の面発光パネル１０１においては、１２個の有機ＥＬ素子１０８の陽極１０５及び陰極１０７がそれぞれ共通化されているが、各有機ＥＬ素子１０８又は、同一色の光を発する有機ＥＬ素子１０８毎に、陽極１０５及び陰極１０７をそれぞれ独立して設けてもよい。これにより、面発光パネル１０１から照射される白色光の色及び色温度等の特性を適宜調整することが可能になる。
【０１０２】
（面発光パネルの製造方法）
次に、図１８乃至図２４を参照しつつ、本実施例に係る面発光パネル１０１の製造方法を説明する。図１８乃至図２４は、図１７における断面図に対応した、各製造工程における断面図である。
【０１０３】
先ず、ガラスからなる透明基板１０２を準備する。次に、準備した透明基板１０２の第１面１０２ａに溝１１１を形成する。具体的には、実施例１と同様に、透明基板１０２の第１面１０２ａに、公知のウエットエッチング又はドライエッチングを施すことにより、溝１１１を形成する。また、透明基板１０２を加熱して第１面１０２ａを軟化させた後に、溝１１１に対応した型を押し当てることにより溝１１１を形成する方法を用いてもよい。溝１１１が形成されることにより、透明基板１０２の第１面１０２ａが区画され、素子形成領域１０２ｃが形成されることになる（図１８）。
【０１０４】
溝１１１を形成した後、溝１１１の内部に低抵抗金属からなる主配線１０３を形成する（図１９）。具体的には、実施例１と同様に、低抵抗の金属微粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用いて主配線１０３を形成する。また、溝１１１に対応するような開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリングによって溝１１１内に成膜して主配線１０３を成膜してもよく、或いはフォトリソグラフィを用いて溝１１１内のみに金属膜が残るようにして主配線１０３を形成してもよい。
【０１０５】
本実施例に係る面発光パネル１０１の製造方法においても、実施例１と同様に、主配線１０３が透明基板１０２の第１面１０２ａに形成された溝１１１内に形成されているため、主配線１０３が形成された状態の透明基板１０２の第１面１０２ａは平坦である。このため、後述する陽極１０５の製造工程において、主配線１０３が製造プロセスの妨げになることがなくなり、透明基板１０２の第１面１０２ａ上に、陽極１０５を容易に形成することができる。
【０１０６】
主配線１０３を形成した後、透明基板１０２の第１面１０２ａ上であって溝１１１によって区画された素子形成領域１０２ｃ内に、有機ＥＬ素子１０８の陽極１０５を形成する（図２０）。この際、陽極１０５は、主配線１０３と直接的に接続されるように形成される。具体的な陽極１０５の形成方法としては、実施例１と同様に、スパッタリングや真空蒸着等の公知の成膜方法を用い、素子形成領域１０２ｃ内にＩＴＯを成膜する。また、陽極１０５を形成した後に、陽極１０５に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させるために、紫外線照射やオゾン処理を陽極１０５に施すことが好ましい。
【０１０７】
陽極１０５を形成した後、陽極１０５上に、低抵抗金属からなる１４本の補助電極１０４を形成する（図２１）。なお、図２１、１つの素子形成領域１０２ｃにおける断面図であるため、補助電極１０４が７本のみ示されている。具体的な形成方法としては、実施例１と同様に、蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスによって形成した低抵抗の金属膜をフォトリソグラフィによってパターニングして補助電極１０４を形成する方法がある。また、補助電極１０４の形成位置に対応した開口を備えるマスクを用い、蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスによって開口の位置に低抵抗の金属膜を成膜して補助電極１０４を形成する方法を用いてもよい。更に、低抵抗の金属微粒子を含むインク等をインクジェット印刷、スクリーン印刷、又は凸版印刷等の周知の印刷技術を用い、所望の位置にインクの印刷を施して補助電極１０４を形成する方法を用いてもよい。
【０１０８】
補助電極１０４を形成した後、補助電極１０４を被覆し、且つ溝１１１及び主配線１０３の上方において溝１１１及び主配線１０３に沿うように絶縁膜１４１を形成する（図２２）。この際、２個の素子形成領域１０２ｃのそれぞれには、更に６個（合計１２個）のストライプ状の凹部１６１が形成される。具体的な絶縁膜１４１の形成方法として、蒸着若しくはスパッタリング等の真空プロセス、又はスピンコート法、ダイコート法若しくはインクジェット法等の公知の湿式成膜法によって補助電極１０４及び陽極１０５上に絶縁材料を堆積し、フォトリソグラフィによって当該堆積した絶縁材料をパターニングして所望の形状の絶縁膜１４１を形成する方法が用いられる。あるいは、スクリーン印刷法により、所望の形状の絶縁膜１４１を直接形成することも可能である。
【０１０９】
絶縁膜１４１を形成した後、ストライプ状の凹部１６１内に、有機層１０６を積層する（図２３）。具体的な有機層１０６の形成には、実施例１と同様に、蒸着、スパッタリング、スピンコート、インクジェット印刷等の公知の有機ＥＬ成膜技術を用いることができる。このように、凹部１６１内に有機層１０６を形成することにより、２つの素子形成領域１０２ｃのそれぞれは、更に６個（合計１２個）の発光領域１５１に区画されることになる。
【０１１０】
有機層１０６を形成した後、有機層１０６及び絶縁膜１４１を覆うように、有機ＥＬ素子１０８の陰極１０７を積層する（図２４）。具体的な陰極１０７の形成方法としては、実施例１と同様に、スパッタリングや真空蒸着等の公知の成膜方法を用い、有機層１０６及び絶縁膜１４１を覆うようにアルミニウムを成膜する。また、陰極１０７を形成した後に、陰極１０７に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させるために、紫外線照射やオゾン処理を陰極１０７に施すことが好ましい。
【０１１１】
上述した工程を経ることにより、陽極１０５、有機層１０６、及び陰極１０７からなる有機ＥＬ素子１０８が素子形成領域１０２ｃ内に形成される。そして、透明基板１０２の第１面１０２ａ上に１２個の有機ＥＬ素子１０８が形成され、面発光パネル１０１の製造が完了することになる。
【０１１２】
本実施例に係る面発光パネル１０１は、実施例１に係る面発光パネル１と比較して、補助電極１０４の形成位置、絶縁膜１４１の有無の点で異なっているものの、透明基板１０２の溝１１１に主配線１０３が形成されている点は同一であり、実施例１に係る面発光パネル１と同一の効果を奏する。
【符号の説明】
【０１１３】
１、１’    面発光パネル
２    透明基板
２ａ    第１面
２ｂ    第２面
２ｃ    素子形成領域
３    主配線
４    補助電極（第３電極）
５    陽極（第１電極）
６    有機層
７    陰極（第２電極）
８    有機ＥＬ素子
１１、１１ａ、１１ｂ    溝
１２    外部接続端子
２１    着色材料
３１    透明基板
３２    ガラス層
３３    樹脂層
１０１    面発光パネル
１０２    透明基板
１０２ａ    第１面
１０２ｂ    第２面
１０２ｃ    素子形成領域
１０３    主配線
１０４    補助電極（第３電極）
１０５    陽極（第１電極）
１０６    有機層
１０７    陰極（第２電極）
１０８    有機ＥＬ素子
１１１、１１１ａ、１１１ｂ    溝
１１２    外部接続端子
１４１    絶縁膜
１５１    発光領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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