(57)【要約】【課題】信頼性および安定性の向上した磁気ヘッド、およびこの磁気ヘッドを備えたヘッドジンバルアッセンブリおよびディスク装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、磁気ヘッドは、ヘッドスライダ４２と、空気流に対してヘッドスライダの流出側端部内に設けられた記録素子６５および再生素子６６と、を備えている。ヘッドスライダの支持面４３は、空気流に対して流入側端部に設けられたリーディングステップ５２と、流入側端に設けられヘッドスライダの幅方向に延在するスカート部７２と、リーディングステップ上に設けられているとともにその幅方向中央部に前記スカート部まで延びる連結部５３ｂを有するリーディングパッド５３と、連結部の両側に設けられスカート部の下流側中央部に連続する第１溝面７４と、第１溝面の上流側に設けられ、第１溝面よりも深い第２溝面７６と、第２溝面とスカート部との間で、第１溝面の幅方向両側に設けられ、第２溝面よりも深い負圧発生溝７８と、を備えている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体の表面に対向する支持面と前記表面と前記支持面との間に生じる空気流に対する流入側端部と流出側端部とを有するヘッドスライダと、
前記ヘッドスライダの流出側端部内に設けられた記録素子および再生素子と、を備え、
前記支持面は、流入側端部に設けられたリーディングステップと、前記流入側端部に設けられ前記ヘッドスライダの幅方向に延在するスカート部と、前記リーディングステップ上に設けられているとともにその幅方向中央部に前記スカート部まで延びる連結部を有するリーディングパッドと、前記連結部の両側に設けられ前記スカート部の下流側中央部に連続する第１溝面と、前記第１溝面の上流側に設けられ、前記第１溝面よりも深い第２溝面と、前記第２溝面と前記スカート部との間で、前記第１溝面の幅方向両側に設けられ、第２溝面よりも深い負圧発生溝と、を備えている磁気ヘッド。
【請求項２】
前記連結部の片側において、前記ヘッドスライダの幅方向に沿った前記第１溝面の幅は、前記ヘッドスライダの全幅に対して５から３０％に形成されている請求項１に記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
前記支持面は、前記リーディングステップの下流側に設けられ支持面の幅方向に沿って延びる負圧発生溝を備えている請求項１又は２に記載の磁気ヘッド。
【請求項４】
前記支持面は、前記流出側端部に設けられたトレーリングステップと、前記トレーリングステップ上に設けられているとともに前記流出側端部の端面から流入側に隙間を置いて位置する流出端を有するトレーリングパッドと、を備えている請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
前記記録素子および再生素子は、その一部が前記トレーリングパッドに露出して設けられている請求項４に記載の磁気ヘッド。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気ヘッドと、
ジンバルを介して前記磁気ヘッドを支持するサスペンションと、を備えるヘッドジンバルアッセンブリ。
【請求項７】
ディスク状の記録媒体と、
前記記録媒体を回転する駆動部と、
前記記録媒体に対し情報処理を行うための請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気ヘッドと、を備えるディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ここで述べる実施形態は、磁気ディスク装置等のディスク装置に用いる磁気ヘッド、このヘッドを備えたヘッドジンバルアッセンブリ、およびディスク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスク装置として、例えば、磁気ディスク装置は、ケース内に配設された記録媒体としての磁気ディスクと、磁気ディスクを支持および回転するスピンドルモータと、磁気ディスクに対して情報のリード／ライトを行う磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気ディスクに対して移動自在に支持したキャリッジアッセンブリと、を備えている。磁気ヘッドは、キャリッジアッセンブリのサスペンションに取り付けられたヘッドスライダ、およびヘッドスライダに設けられたヘッド部を有し、このヘッド部は、ライト用の記録素子とリード用の再生素子とを含んで構成されている。
【０００３】
ヘッドスライダは、磁気ディスクの記録面と対向する支持面（エアベアリングサーフェース：ＡＢＳ）を有している。ヘッドスライダは、サスペンションにより、磁気ディスクの磁気記録層に向う方向に所定のヘッド荷重が印加されている。磁気ディスク装置の動作時、回転する磁気ディスクとヘッドスライダとの間に空気流が発生し、ヘッドスライダの支持面には、空気流体潤滑の原理により、ヘッドスライダを磁気ディスク記録面から浮上させる力（正圧）が作用する。この浮上力とヘッド荷重とを釣り合わせることにより、ヘッドスライダは磁気ディスクの記録面と隙間を保って浮上する。
【０００４】
近年、記録密度増大の要求に伴い、ヘッド浮上量低減、また、低浮上量領域でのヘッド浮上制御が重要視され、ヘッド浮上量を動的に制御する技術開発が急速に進んでいる。現状、磁気ヘッドにおけるＲ／Ｗ素子近辺のヘッドスライダと磁気ディスクとの浮上隙間は、１０ｎｍ以下となり、更に、動的に再生素子／記録素子（Ｒ／Ｗ素子）を突出させて磁気スペーシングを制御する技術(ＤＦＨ)の併用により、再生／記録時のＲ／Ｗ素子とメディアとの隙間は数ｎｍにまで近づいている。
【０００５】
その結果、磁気ディスク上を浮上するヘッドスライダの支持面にはディスク表面に塗布した潤滑剤（有機系液状物）の移着が起こり、磁気スペーシングを拡大させたり、ヘッドスライダの浮上を不安定にさせるなどの課題が顕在化してきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１１０６１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
磁気ヘッドのスライダの支持面に移着した潤滑剤は、空気流によってヘッドスライダの空気流出側端面に移動して蓄積する。この移着潤滑剤が過剰に蓄積すると、スライダの浮上量が不安定になる。これにより、記録再生信号が不安定になる問題(ハイフライライト、ＨＦＷ)が生じる。また、磁気ディスク装置の停止中に磁気ヘッドがアンロードしている間に、支持面側のＲ／Ｗ素子部に潤滑剤が拡散して戻ることで、磁気ディスク装置の起動時に再生信号が変動する問題が生じてしまう。
【０００８】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたもので、その課題は、安定した記録再生を行うことができ、信頼性の向上した磁気ヘッド、これを備えたヘッドジンバルアッセンブリ、および、磁気ディスク装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
実施形態によれば、磁気ヘッドは、記録媒体の表面に対向する支持面と前記表面と前記支持面との間に生じる空気流に対する流入側端部と流出側端部とを有するヘッドスライダと、前記空気流に対して前記ヘッドスライダの流出側端部内に設けられた記録素子および再生素子と、を備えている。前記ヘッドスライダの支持面は、前記空気流に対して流入側端部に設けられたリーディングステップと、前記流入側端に設けられ前記ヘッドスライダの幅方向に延在するスカート部と、前記リーディングステップ上に設けられているとともにその幅方向中央部に前記スカート部まで延びる連結部を有するリーディングパッドと、前記連結部の両側に設けられ前記スカート部の下流側中央部に連続する第１溝面と、前記第１溝面の上流側に設けられ、前記第１溝面よりも深い第２溝面と、前記第２溝面と前記スカート部との間で、前記第１溝面の幅方向両側に設けられ、第２溝面よりも深い負圧発生溝と、を備えている。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、実施形態に係るＨＤＤを示す平面図。
【図２】図２は、前記ＨＤＤにおける磁気ヘッド部分を拡大して示す側面図。
【図３】図３は、前記磁気ヘッドのヘッドスライダの支持面側を示す斜視図。
【図４】図４は、前記ヘッドスライダの支持面側を示す平面図。
【図５】図５は、第２溝面を持たないヘッドスライダについて、第１溝面の幅ｄとヘッドスライダ全幅Ｄとの比と、浮上ピッチ変化率と、の関係を示す図。
【図６】図６は、第１溝面および第２溝面を有するヘッドスライダについて、第１溝面の幅ｄとヘッドスライダ全幅Ｄとの比と、浮上ピッチ変化率と、の関係を示す図。
【図７】図７は、図５に示す浮上ピッチ変化率と図６に示す浮上ピッチ変化率との差を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照しながら、ディスク装置をハードディスクドライブ（以下、ＨＤＤと称する）に適用した実施形態について詳細に説明する。  
図１は、筐体のトップカバーを取外した、ＨＤＤの内部構造を示し、図２は、浮上状態の磁気ヘッドを示している。図１に示すように、ＨＤＤは筐体１０を備えている。筐体１０は、上面の開口した矩形箱状のベース１２と、複数のねじによりベースにねじ止めされてベースの上端開口を閉塞する図示しないトップカバーと、を有している。
【００１２】
筐体１０内において、ベース１２上に、記録媒体としての磁気ディスク１６、および機構部が設けられている。機構部は、磁気ディスク１６を支持および回転させるスピンドルモータ１８、磁気ディスク１６に対して情報の記録、再生を行なう複数、例えば、２つの磁気ヘッド４０、これらの磁気ヘッド４０を磁気ディスク１６の表面に対して移動自在に支持したキャリッジアッセンブリ２２、キャリッジアッセンブリ２２を回動および位置決めするボイスコイルモータ（以下ＶＣＭと称する）２４を備えている。また、ベース１２上には、磁気ヘッド４０が磁気ディスクの最外周に移動した際、磁気ヘッドを磁気ディスクから離間した位置に保持するランプロード機構２５、およびプリアンプ、ヘッドＩＣ等の電子部品が実装された基板ユニット２１等が設けられている。
【００１３】
ベース１２の底壁外面には、基板ユニット２１を介してスピンドルモータ１８、ＶＣＭ２４、および磁気ヘッド４０の動作を制御する図示しない制御回路基板がねじ止めされる。
【００１４】
図１および図２に示すように、磁気ディスク１６は、例えば、直径約２．５インチ（約６３．５ｍｍ）の円板状に形成され非磁性体からなる基板１９を有している。基板１９の各表面には、磁気記録層２０が積層され、その上に図示しない保護膜が形成され、更に最上層に、１ｎｍ程度の厚さで潤滑剤（例えば、オイル、有機系液状物）２３が塗布されている。
【００１５】
磁気ディスク１６は、スピンドルモータ１８の図示しないハブの外周に嵌合されているとともに、クランプばね１７によってハブ上に固定されている。これにより、磁気ディスク１６は、ベース１２の底壁と平行に位置した状態に支持されている。磁気ディスク１６は、スピンドルモータ１８により所定の速度、例えば、５４００ｒｐｍあるいは７２００ｒｐｍの速度で矢印Ｂ方向に回転される。
【００１６】
キャリッジアッセンブリ２２は、ベース１２の底壁上に固定された軸受部２６と、軸受部から延出した複数のアーム３２と、を備えている。これらのアーム３２は、磁気ディスク１６の表面と平行に、かつ、互いに所定の間隔を置いて位置しているとともに、軸受部２６から同一の方向へ延出している。キャリッジアッセンブリ２２は、弾性変形可能な細長い板状のサスペンション３８を備えている。サスペンション３８は、板ばねにより構成され、その基端がスポット溶接あるいは接着によりアーム３２の先端に固定され、アームから延出している。各サスペンション３８は対応するアーム３２と一体に形成されていてもよい。
【００１７】
図２に示すように、各磁気ヘッド４０は、ほぼ直方体形状のヘッドスライダ４２とこのヘッドスライダ４２に設けられた記録再生用のヘッド部４４とを有し、サスペンション３８の先端部に設けられたジンバル４１に固定されている。サスペンション３８において、ジンバル４１のヘッド取付け部と対向する位置、すなわち、磁気ヘッド４０の中心部と対向する位置、に、ディンプル、ここでは、磁気ヘッド側に突出するほぼ半球状の突起３７が形成されている。突起３７は、ジンバル４１を介してヘッドスライダ４２の平面のほぼ中央部に当接している。ジンバル４１は、自身の弾性により、突起３７に弾性的に押し付けられている。これにより、ジンバル４１のヘッド取付け部および磁気ヘッド４０は、突起３７の回りで、ピッチ方向、ロール方向に変位し、あるいは、上下方向に変位することができる。更に、磁気ヘッド４０はサスペンション３８のばね力により磁気ディスク１６表面に向かって所定のヘッド荷重Ｌが印加される。
【００１８】
サスペンション３８、ジンバル４１、磁気ヘッド４０、およびアーム３２は、ヘッドジンバルアッセンブリを構成している。なお、ヘッドジンバルアッセンブリはアーム３２を含まないものとしてもよい。
【００１９】
図１に示すように、キャリッジアッセンブリ２２は、軸受部２６からアーム３２と反対の方向へ延出した支持枠４６を有し、この支持枠により、ＶＣＭ２４の一部を構成するボイスコイル４７が支持されている。支持枠４６は、合成樹脂によりボイスコイル４７の外周に一体的に成形されている。ボイスコイル４７は、ベース１２に固定された一対のヨーク４９間に位置し、これらのヨーク、および一方のヨークに固定された図示しない磁石とともにＶＣＭ２４を構成している。ボイスコイル４７に通電することにより、軸受部２６の回りでキャリッジアッセンブリ２２が回動し、磁気ヘッド４０は磁気ディスク１６の所望のトラック上に移動および位置決めされる。
【００２０】
ランプロード機構２５は、ベース１２の底壁に設けられているとともに磁気ディスク１６の外側に配置されたランプ５１と、各サスペンション３８の先端から延出したタブ４８と、を含む。キャリッジアッセンブリ２２が、磁気ディスク１６の外側の退避位置まで回動する際、各タブ４８は、ランプ５１に形成されたランプ面と係合し、その後、ランプ面の傾斜によって引き上げられ、磁気ヘッド４０のアンロード動作を行う。
【００２１】
次に、磁気ヘッド４０の構成について詳細に説明する。図３は磁気ヘッドのヘッドスライダ４２を示す斜視図、図４はヘッドスライダの平面図である。  
図３および図４に示すように、磁気ヘッド４０は浮上型のヘッドとして構成され、ヘッドスライダ４２と記録再生用のヘッド部４４とを有している。ヘッドスライダ４２は、例えば、アルミナとチタンカーバイドの焼結体（アルチック、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ）により、全体としてほぼ直方体状に形成され、磁気ディスク１６の表面に対向する矩形状の支持面（エアベアリングサーフェース、ＡＢＳ）４３、支持面と直交して延びた流入側端面４２ａ、支持面と直交して延びた流出側端面４２ｂ、およびそれぞれ支持面４３と直交し流入側端面４２ａと流出側端面４２ｂとの間を延びた一対の側面４２ｃを有している。ヘッド部４４は、ヘッドスライダ４２の流出側端に薄膜で形成さている。
【００２２】
支持面４３の長手方向を第１方向Ｘ、これと直交する幅方向を第２方向Ｙとする。ヘッドスライダ４２は、第１方向Ｘの長さＬが１．２５ｍｍ以下、例えば、０．８５ｍｍ、第２方向Ｙに沿った幅Ｗが１．０ｍｍ以下、例えば、０．７ｍｍに形成され、いわゆるフェムトスライダとして構成されている。
【００２３】
ヘッドスライダ４２は、磁気ディスク１６の回転によってディスク表面と支持面４３との間に生じる空気流Ｃ（図２参照）により浮上する。ＨＤＤの動作時、ヘッドスライダ４２の支持面４３はディスク表面に対し隙間を保って対向している。ここで、空気流Ｃの方向は、磁気ディスク１６の回転方向Ｂと一致している。ヘッドスライダ４２は、磁気ディスク１６表面に対し、支持面４３の第１方向Ｘが空気流Ｃの方向とほぼ一致するように配置されている。
【００２４】
図３および図４に示すように、支持面４３のほぼ中央部に、第２方向Ｙの全長に亘って延びる帯状の負圧発生溝（第１負圧発生溝）５０が形成されている。ヘッドスライダ４２の厚さを、例えば０．２３ｍｍとした場合、負圧発生溝５０の深さは８００〜１５００ｎｍ、例えば１５００ｎｍに形成されている。負圧発生溝５０を設けることにより、ＨＤＤで実現される全てのヨー角において、支持面４３中心部で負圧を発生させることができる。
【００２５】
支持面４３において、流入側端に細長いスカート部７２が形成され、ヘッドスライダ４２の第２方向Ｙのほぼ全長に亘って延在している。スカート部７２の下流側にほぼ矩形状のリーディングステップ５４が形成され、ヘッドスライダ４２の第２方向Ｙのほぼ全長に亘って延びている。スカート部７２およびリーディングステップ５２は、負圧発生溝５０の底面に対して突出して設けられ、かつ、空気流Ｃに対して負圧発生溝５０の流入側に位置している。
【００２６】
磁気ヘッド４０のピッチ角を維持するため、リーディングステップ５２上には、空気膜によってヘッドスライダ４２を支えるリーディングパッド５３が突設されている。リーディングパッド５３およびスカート部７２は、同一の高さに形成されている。リーディングパッド５３は、流入側に向かって複数個所が開放するＭ字形状に形成されている。リーディングパッド５３は、その幅方向中央部でヘッドスライダの中心軸線Ｃ上をスカート部７２の中央部まで延びる、つまり、中央部に繋がる、連結部５３ｂを有している。
【００２７】
ヘッドスライダ４２の流入側端部において、連結部５３ｂの幅方向両側およびリーディングパッド５３の上流側に、第１溝面７４が形成されている。第１溝面７４は、スカート部７２の下流側中央部に連続している。第１溝面７４の上流側に、第１溝面よりも深い第２溝面７６が形成され、更に、第２溝面７６とスカート部７２との間で、第１溝面７４の幅方向両側に負圧発生溝（第２負圧発生溝）７８が設けられている。負圧発生溝７８は、第２溝面７６よりも深く形成され、例えば、負圧発生溝（第１負圧発生溝）５０と同一の深さに形成されている。
【００２８】
図４に示すように、ヘッドスライダ４２の第２方向Ｙの全幅をＤ、連結部５３ｂの幅方向両側にそれぞれ位置する第１溝面（接続ステップ）７４の第２方向Ｙに沿った幅（連結部の各片側における第１溝面の幅）をｄとすると、この第１溝面７４の幅ｄは、全幅Ｄの５から３０％程度に形成されている。
【００２９】
第１溝面７４を設けるにあたり、その幅ｄの最適値を示す。ここで指す最適値とは、「ヘッドスライダの浮上ピッチ姿勢を維持できる範囲内での最大幅」を意味している。有機系液状物の凝集を防ぐという観点からは、第１溝面７４の幅ｄは広いほど望ましい。一方、広げすぎると、低隙間面積の増加に伴い空気流量不足になると考えられ、ヘッドスライダのリーディング端側の正圧が低下し、ヘッドスライダの浮上ピッチ姿勢を維持することが困難となる。本実施形態によれば、第１溝面（接続ステップ）７４および第２溝面（中間溝）７６を設けている。また、図５ないし図７に示すように、第１溝面７４の幅ｄをヘッドスライダ４２の全幅Ｄの約５％以上３０％程度までとすることで、第１溝面の幅ｄを広げても必要な正圧を発生し、浮上ピッチ姿勢の低下を抑制することができる。
【００３０】
図５は、第２溝面（中間溝）７６のないヘッドスライダの解析結果を示し、横軸は、ヘッドスライダの全幅Ｄに対する第１溝面の幅ｄの比を示し、縦軸は、基本モデルに対する浮上ピッチの変化率を示している。ここで、基本モデルとは、例えば、ヘッドスライダの全幅Ｄが７００μｍ、第１溝面の幅ｄが１５０μｍの磁気ヘッドであり、この基本モデルの浮上ピッチを１００％としている。更に、磁気ディスクの５つの半径位置にてピッチ変化率を解析し、これらを比較して示している。
【００３１】
図６は、第１溝面７４および第２溝面（中間溝）７６を有するヘッドスライダの解析結果を示し、横軸は、ヘッドスライダの全幅Ｄに対する第１溝面の幅ｄの比を示し、縦軸は、基本モデルに対する浮上ピッチの変化率を示している。上記と同様の基本モデルの浮上ピッチを１００％としている。
【００３２】
図７は、図６に示す浮上ピッチ変化率から図５に示す浮上ピッチ変化率を差し引いたピッチ変化率の差分、すなわち、ヘッドスライダが第２溝面７６を有している場合と有していない場合との浮上ピッチ変化率の差、を示している。
【００３３】
図５ないし図７に示すように、第１溝面７４の幅ｄをヘッドスライダ４２の全幅Ｄの約５％以上３０％程度までとすることで、第１溝面７４の幅ｄを広げても必要な正圧を発生し、浮上ピッチ姿勢の低下を抑制することができる。また、第２溝面７６を設けることにより、ピッチ変化率が減少し、より安定した浮上ピッチ姿勢を維持できることが分かる。
【００３４】
一方、図３および図４に示すように、支持面４３のほぼ中央部から流出端側に渡って、凹所からなる負圧キャビティ５４が形成されている。負圧キャビティ５４は、負圧発生溝５０の流出端側に位置し、ヘッドスライダ４２の流出側端面４２ｂに向かって開放している。負圧キャビティ５４は、負圧発生溝５０よりも浅く形成され、すなわち、負圧発生溝５０の底面よりも高い位置に形成されている。
【００３５】
支持面４３において負圧キャビティ５４を囲うようにリブ状の中間ステップ５６、および一対のサイドステップ５８が形成されている。中間ステップ５６は、負圧発生溝５０と負圧キャビティ５４との間に位置し、第２方向Ｙに沿って支持面４３の両側縁間を延びている。中間ステップ５６は、負圧キャビティ５４の底面に対して突出して設けられ、かつ、空気流Ｃに対して負圧キャビティ５４の流入側に位置している。
【００３６】
一対のサイドステップ５８は、支持面４３の各側縁に沿って形成され、中間ステップ５６から支持面４３の流出端側に延出している。これらのサイドステップ５８は負圧キャビティ５４の底面に対して突出している。
【００３７】
中間ステップ５６、および一対のサイドステップ５８は、全体として、上流側が閉塞され、下流側に向かって開放したほぼＵ字形状に形成されている。そして、中間ステップ５６、および一対のサイドステップ５８により負圧キャビティ５４が規定されている。
【００３８】
図３および図４に示すように、ヘッドスライダ４２は、空気流Ｃの方向に対して、支持面４３の流出側の端部に形成されたトレーリングステップ６２を有している。トレーリングステップ６２は、負圧キャビティ５４の底面に対して突出して形成され、その突出高さは、リーディングステップ５２と同一の高さに形成されている。トレーリングステップ６２は、支持面４３の第２方向Ｙのほぼ中央に位置している。トレーリングステップ６２の上面には、空気膜によってヘッドスライダ４２を支えるトレーリングパッド６３が突設されている。
【００３９】
トレーリングパッド６３は、トレーリングステップ６２の流出側端面、ここでは、ヘッドスライダ４２の流出側端面４２ｂから流入側に隙間を置いて設けられている。トレーリングパッド６３は、リーディングパッド５３、中間ステップ５６、サイドステップ５８と同一高さレベルに形成され、ヘッドスライダ４２の最上面となり支持面４３を構成している。トレーリングステップ６２およびトレーリングパッド６３は、第２圧力発生部を構成している。
【００４０】
磁気ヘッド４０のヘッド部４４は、磁気ディスク１６に対して情報の記録再生を行う記録素子６５および再生素子６６を有している。これら記録素子６５および再生素子６６は、空気流Ｃの方向に対して、ヘッドスライダ４２の下流側端部内、ここでは、トレーリングステップ６２内に埋め込まれている。記録素子６５および再生素子６６の先端部は、トレーリングパッド６３の位置で支持面４３に露出している。
【００４１】
ヘッドスライダ４２の支持面４３は、第１方向Ｘに沿って、中間ステップ５６からトレーリングステップ６２まで延びる細長い一対のセンタレール６８を有している。一対のセンタレール６８は、ヘッドスライダ４２の中心軸線Ｃの両側に位置し、第２方向Ｙに隙間を置いて、互いに対向している。センタレール６８は、負圧キャビティ５４の底面からの高さが、中間ステップ５６およびトレーリングパッド６３の高さと同一に形成されている。一対のセンタレール６８間に、空気流をトレーリングステップ６２およびトレーリングパッド６３に導くガイド溝７０が形成されている。このガイド溝７０は、中心軸線Ｃに沿って形成され、負圧発生溝５０を通り、更に、リーディングステップ５２まで延びている。
【００４２】
本実施形態において、記録素子６５および再生素子６６の先端が露出しているトレーリングパッド６３の表面を含む支持面（ＡＢＳ）４３は、算術表面粗さが、ヘッドスライダ４２の他の部分の表面粗さ、ここでは、トレーリングステップ６２の上面の表面粗さ、および、負圧キャビティ５４の底面の表面粗さ、よりも粗くなるように形成されている。
【００４３】
以上のように構成されたＨＤＤによれば、磁気ヘッド４０は、磁気ディスク１６の回転によって磁気ディスク表面と支持面４３との間に生じる空気流Ｃにより浮上する。これにより、ＨＤＤの動作時、ヘッドスライダ４２の支持面４３は磁気ディスク表面に対し常に隙間を保って対向している。磁気ヘッド４０は、ヘッド部４４の記録素子６５、再生素子６６が最も磁気ディスク１６表面に接近した傾斜姿勢をとって浮上する。
【００４４】
一般的に、磁気ヘッド４０が磁気ディスク１６上を走行している時は、ヘッドスライダ４２の支持面４３上には強い空気の流れが生じるため、有機系液状物（磁気ディスク潤滑剤等）が付着しても流れて堆積しにくい。しかし、ヘッドスライダ４２の流入側端部でスカート部７２とリーディングステップ５２との間に形成された負圧発生溝７８の底面は、比較的空気の流れが弱く、液状物が堆積しやすい。負圧発生溝７８の底面に堆積した液状物が、磁気ヘッド４０のアンロード時（磁気ヘッドが磁気ディスク１６上から退避した状態）に支持面４３に拡散し、膜を形成すると、ロード（装置起動）時、形成された膜の膜厚分だけ磁気ヘッド４０の浮上量が増加し、リードライト特性の劣化を生じる。そこで、上述した本実施形態のように、リーディングパッド５３とスカート部７２との間に第１溝面７４および第２溝面７６を設けることにより、負圧発生溝７８への有機系液状物の凝集を防止することができる。更に、スカート部７２の中央部に続く第１溝面７４の幅ｄをヘッドスライダ４２の全幅Ｄの５から３０％程度とすることにより、第１溝面の幅ｄを広げても必要な正圧を発生し、ヘッドスライダ４２の浮上ピッチ姿勢の低下を抑制することができる。
【００４５】
以上のように、本実施形態によれば、潤滑剤等の液状物がヘッドに移着しても、浮上量変化が発生しにくく、安定した記録再生を行うことができ、信頼性の向上した磁気ヘッド、ヘッドジンバルアッセンブリ、及び磁気ディスク装置が得られる。
【００４６】
本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００４７】
例えば、ヘッドスライダは、フェムトスライダに限らず、ピコスライダ、ペムトスライダ、あるいは、より寸法の大きなスライダにも適用可能である。ヘッドスライダにおける、トレーリングステップ、トレーリングパッド、その他の部分の形状、寸法等は、必要に応じて変更可能である。ディスク装置において、磁気ディスクの枚数は１枚に限らず、増加可能である。
【符号の説明】
【００４８】
１２…ベース、１６…磁気ディスク、１８…スピンドルモータ
２２…キャリッジアッセンブリ、４０…磁気ヘッド、４２…ヘッドスライダ、
４３…支持面、４４…ヘッド部、５０…負圧発生溝（第１負圧発生溝）、
７８…負圧発生溝（第２負圧発生溝）、５２…リーディングステップ、
５３…リーディングパッド、５４…負圧キャビティ、６２…トレーリングステップ、
６３…トレーリングパッド、６５…記録素子、６６…再生素子、７２…スカート部、
７４…第１溝面、７６…第２溝面
【図１】
2014026692.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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