(57)【要約】【解決手段】未硬化のゴム表面に厚さが５〜１５０μｍの範囲である離型フィルムを介して所定の形状に加工した凹凸形成フィルムを設置し、それらを平坦な面を有する板状材で加圧し、上記未硬化のゴム表面に上記凹凸形成フィルムの形状に対応する凸凹を転写し、次いで未硬化のゴムを硬化し、凹凸形成フィルムと離型フィルムを剥離することにより、ゴム表面に凹凸を形成する方法。【効果】本発明のゴム表面に微細な凹凸を形成する方法は、金型や凹凸形状を有するプレートを作製する必要がないので、比較的短納期で安価に凹凸形成フィルムを作製することができ、微細な凹凸の高さの調整や複雑なパターン形状の凹凸を精密に形成することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
未硬化のゴム表面に厚さが５〜１５０μｍの範囲である離型フィルムを介して所定の形状に加工した凹凸形成フィルムを設置し、それらを平坦な面を有する板状材で加圧し、上記未硬化のゴム表面に上記凹凸形成フィルムの形状に対応する凸凹を転写し、次いで未硬化のゴムを硬化し、凹凸形成フィルムと離型フィルムを剥離することにより、ゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項２】
凹凸形成フィルムが、ゴム表面が凸部となる部分が該凸部に対応する形状の貫通孔部として形成され、凹部となる部分が上記貫通孔部以外の領域となる平坦フィルム状であることを特徴とする請求項１に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項３】
凹凸形成フィルムが、樹脂フィルム、金属箔又はこれらの複合フィルムにて形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項４】
凹凸形成フィルムの厚さが１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項５】
抜型により凹凸形成フィルムを所定の形状に加工することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項６】
カッティングプロッターにより凹凸形成フィルムを所定の形状に加工することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項７】
離型フィルムが、耐熱性があり柔軟性を有する樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項８】
離型フィルムが、シリコーン処理あるいはフッ素処理したものであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項９】
未硬化のゴム、離型フィルム、凹凸形成フィルム、平坦な面を有する板状材を順次積層してから、加圧しゴムを熱硬化する工程に熱プレス成形機を用いることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【請求項１０】
ゴム材料を有機溶剤に溶解・希釈したコーティング液を離型フィルム上に所定の厚さにコーティングしてから有機溶剤を揮発させ、未硬化のゴムシートを作製することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゴム表面に刻印、模様や特定のパターン形状を形成する方法であり、特に高さが微細な凹凸や複雑なパターン形状の凹凸をゴム表面に精密に形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ゴム表面に精密に凹凸を成形するには、通常金型の表面に所定の凹凸形状を形成し、この中に未硬化のゴム材料を加圧充填し、加熱等によりゴム材料を硬化することで、金型の凹凸形状をゴム表面に転写する方法が行われる。この場合、金型に所定の凹凸形状を形成するのに手間がかかり、また多額な金型作製費用が必要になる。更に、凹凸形状が変わるごとに金型を作製する必要がある。
この点を改良するため、凹凸形状を有するプレートを別途作製し、プレートを金型に取り付けてからゴム材料を充填し硬化する方法が種々提案されている。
【０００３】
実開昭５８−６６９３０号公報には、金型との接触表面が平坦なフランジを有する着脱可能な刻印用プレートを金型の段差付浅溝内に装着し、金型の内面とプレートとがほぼ同一平面をなすゴム加硫用金型が提案されている。特開昭５８−８１１４９号公報には、ゴムボール加硫用金型の内面に凸凹を付けた薄い刻印プレートを当接した状態で未加硫のゴムを加硫する方法が提案されている。特開２００４−９８６２１号公報には、マークの形状に切り抜いたマーク形成体を未加硫ゴムの表面と金型の成形面の間に介在される成形方法が提案されている。
これらの提案には、凹凸形状を有するプレートを作製するのに時間と費用がかかることと、成形時にプレートを金型に取り付けた界面にゴム材料が流れ込み、バリが発生する問題がある。
バリ発生の問題を解決するため、実開平４−１２６８３８号公報では、マーク用プレートを金型に取り付ける際、プレートの外周端縁部にゴム又は合成樹脂材からなるパッキンを介装したゴム製品成形金型が提案されている。
【０００４】
バリの出ない成形方法として、特開昭５３−２２５７８号公報には、ゴム配合物からなるシートに熱可塑性フィルムを介して多数の孔を設けた多孔型板を載置し、加圧・加熱してゴムシートに半球状突起を成形したのち、熱可塑性フィルムを剥離する製造方法が提案されている。この方法ではゴムの半球状突起の形状を精度よく成形できない欠点がある。
【０００５】
金型を用いないでゴム表面に凹凸を成形する方法として、特公昭３３−６４８９号公報には、ゴムシートと一緒に凹凸模様を形成した紙版、布帛又は金属箔版を巻き取り、ゴムを加硫した後に型版を離脱する製造方法が提案されている。この方法ではゴム表面につく凹凸の高さを調整するのが難しいことと、型版の凹凸の中にゴムが食い込み加硫後のゴムと型版の剥離が悪くなる問題がある。
【０００６】
また、特開２００４−３５１８３６号公報には、熱可塑性エラストマーやゴム組成物などの高分子材料からなるシートの一面に金網、パンチングメタルや繊維網等から選択される凹凸形成部材を、シート状離型体を介させて重ね合わせて配置し、これらを加圧・加熱したのち、凹凸形成部材及びシート状離型体を剥がすことにより、シート材に凹凸を形成する方法が提案されている。この方法ではゴム表面につく凹凸の高さを調整するのが難しいことと、単純な形状の凹凸しかつけられない欠点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】実開昭５８−６６９３０号公報
【特許文献２】特開昭５８−８１１４９号公報
【特許文献３】特開２００４−９８６２１号公報
【特許文献４】実開平４−１２６８３８号公報
【特許文献５】特開昭５３−２２５７８号公報
【特許文献６】特公昭３３−６４８９号公報
【特許文献７】特開２００４−３５１８３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、金型や凹凸形状を有するプレートを作製しなくても安価にゴム表面に精密な凹凸を形成することができ、バリが発生することなく凹凸を形成でき、微細な高さの凹凸を調整でき、更に複雑なパターン形状の凹凸を形成できるゴム表面に対する凹凸形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記目的を達成する手段として、未硬化のゴム表面に厚さが５〜１５０μｍの範囲である離型フィルムを介して所定の形状に加工した凹凸形成フィルムを設置し、それらを平坦な面を有する板状材で加圧してからゴムを硬化し、凹凸形成フィルムと離型フィルムを剥離することにより、ゴム表面に凹凸を形成する方法が有効であることを知見し、本発明をなすに至った。
【００１０】
即ち、本発明は、下記のゴム表面に凹凸を形成する方法を提供する。
〔１〕
未硬化のゴム表面に厚さが５〜１５０μｍの範囲である離型フィルムを介して所定の形状に加工した凹凸形成フィルムを設置し、それらを平坦な面を有する板状材で加圧し、上記未硬化のゴム表面に上記凹凸形成フィルムの形状に対応する凸凹を転写し、次いで未硬化のゴムを硬化し、凹凸形成フィルムと離型フィルムを剥離することにより、ゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔２〕
凹凸形成フィルムが、ゴム表面が凸部となる部分が該凸部に対応する形状の貫通孔部として形成され、凹部となる部分が上記貫通孔部以外の領域となる平坦フィルム状であることを特徴とする〔１〕に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔３〕
凹凸形成フィルムが、樹脂フィルム、金属箔又はこれらの複合フィルムにて形成されたことを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔４〕
凹凸形成フィルムの厚さが１ｍｍ以下であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔５〕
抜型により凹凸形成フィルムを所定の形状に加工することを特徴とする〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔６〕
カッティングプロッターにより凹凸形成フィルムを所定の形状に加工することを特徴とする〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔７〕
離型フィルムが、耐熱性があり柔軟性を有する樹脂フィルムであることを特徴とする〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔８〕
離型フィルムが、シリコーン処理あるいはフッ素処理することにより離型性をより向上させたものであることを特徴とする〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔９〕
未硬化のゴム、離型フィルム、凹凸形成フィルム、平坦な面を有する板状材を順次積層してから、加圧しゴムを熱硬化する工程に熱プレス成形機を用いることを特徴とする〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
〔１０〕
ゴム材料を有機溶剤に溶解・希釈したコーティング液を離型フィルム上に所定の厚さにコーティングしてから有機溶剤を揮発させ、未硬化のゴムシートを作製することを特徴とする〔１〕〜〔９〕のいずれかに記載のゴム表面に凹凸を形成する方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のゴム表面に微細な凹凸を形成する方法は、金型や凹凸形状を有するプレートを作製する必要がないので、比較的短納期で安価に凹凸形成フィルムを作製することができ、微細な凹凸の高さの調整や複雑なパターン形状の凹凸を精密に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係る凹凸形成方法の一例を示す断面図で、（Ａ）は部材構成、（Ｂ）は部材積層工程、（Ｃ）は加工・ゴム硬化工程、（Ｄ）は得られた凹凸形成ゴムを示す。
【図２】実施例１〜４及び比較例１，２で用いた凹凸形成フィルムの形状を示した平面図である。
【図３】実施例５〜８及び比較例３で用いた凹凸形成フィルムの形状を示した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明に係るゴム表面に精密な凹凸を形成する方法は、図１に示したように、未硬化のゴム１の表面に離型フィルム２を積層し、その上に凹凸形成フィルム３を積層した状態で、凹凸形成フィルム３の上から平坦な面を有する板状材４を押しつける［（Ａ），（Ｂ）参照］。これにより図１（Ｃ）に示したように、上記凹凸形成フィルム３の形状に対応する凸凹が未硬化のゴム１の表面に転写形成され、この状態で未硬化のゴム１を硬化する。ゴムの硬化後、凹凸形成フィルム３と離型フィルム２を剥離することにより、図１（Ｄ）に示したように、表面に凹凸が形成された硬化ゴム１’が得られるものである。
【００１４】
ここで、本発明におけるゴム材料としては一般的なものでよく、具体的には、シリコーンゴム（Ｑ）、アクリルゴム（ＡＣＭ）、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ウレタンゴム（Ｕ）、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＭ、ＥＰＤＭ）、クロロスルホン化ポリエチレン（ＣＳＭ）、エピクロルヒドリンゴム（ＣＯ、ＥＣＯ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、スチレン・ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、フッ素ゴム（ＦＫＭ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）等から特性、用途に応じて種々選択できる。
【００１５】
ゴム材料の硬化剤としては、それぞれのゴム材料で通常使用するものでよく、熱で硬化促進する硬化剤を用いると成形サイクルを上げることができる。
【００１６】
例えば、シリコーンゴムの場合、オルガノポリシロキサンに充填剤、特に補強性シリカを用いることができる。この場合、オルガノポリシロキサンは、下記平均組成式（１）
ＲnＳｉＯ(4-n)/2                          （１）
（ｎは１．９５〜２．０５の正数）
で示されるもので、式中Ｒは非置換又は置換の好ましくは炭素数１〜１０、特に１〜８の一価炭化水素基を表し、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、あるいはこれらの水素原子が部分的に塩素原子、フッ素原子などで置換されたハロゲン化炭化水素基等が例示されるが、一般的にはオルガノポリシロキサンの主鎖がジメチルシロキサン単位からなるもの、あるいはこのオルガノポリシロキサンの主鎖にビニル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基などを導入したものが好ましい。また、分子鎖末端がトリオルガノシリル基又は水酸基で封鎖されたものとすればよいが、このトリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、ジメチルビニルシリル基、トリビニルシリル基などが例示される。
【００１７】
このオルガノポリシロキサンは、１分子中に少なくとも２個のケイ素原子に結合するアルケニル基を有することが好ましく、Ｒの内０．００１〜５モル％、特に０．０１〜１モル％のビニル基を含有することが好ましい。
【００１８】
補強性シリカは機械的強度に優れたシリコーンゴムを得るために配合されるものであり、ＢＥＴ法比表面積が５０ｍ2／ｇ以上、特に１００〜４００ｍ2／ｇであることが好ましい。この補強性シリカとしては、煙霧質シリカ（乾式シリカ）、沈降シリカ（湿式シリカ）等が例示される。また、補強性シリカの表面をオルガノポリシロキサン、オルガノシラザン、クロロシラン、アルコキシシラン等で疎水化処理を行ってもよい。
【００１９】
この補強性シリカの添加量は、特に制限されるものではないが、オルガノポリシロキサン１００質量部に対して５質量部未満では十分な補強効果が得られないおそれがあり、１００質量部より多くすると成形加工性が悪くなる場合があるので、５〜１００質量部の範囲、好ましくは２０〜８０質量部の範囲である。
【００２０】
このシリコーンゴム組成物には、補強性シリカ以外にアルミナ、水酸化アルミニウム、窒化ホウ素等の熱伝導性フィラー、カーボンブラック、銀粉等の導電性フィラー、着色顔料等の充填剤、耐熱性向上剤、難燃性向上剤、受酸剤などの各種添加剤やフッ素系の離型剤、あるいは補強性シリカ分散剤として各種アルコキシシラン、ジフェニルシランジオール、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含有シロキサンなどを添加してもよい。
【００２１】
シリコーンゴム組成物を硬化させ、ゴム弾性体とする硬化剤としては、通常シリコーンゴム組成物の硬化に使用されている従来公知のものでよく、これはラジカル反応に使用されるジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジクミルパーオキサイドなどの有機過酸化物、付加反応硬化剤として、オルガノポリシロキサンがアルケニル基を有する場合、ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンと白金族金属系触媒とからなるもの、縮合反応硬化剤として、オルガノポリシロキサンがシラノール基を含有する場合、アルコキシ基、アセトキシ基、ケトオキシム基、プロペノキシ基などの加水分解性の基を２個以上有する有機ケイ素化合物等が例示されるが、この硬化剤の添加量は通常のシリコーンゴム組成物と同様にすればよい。
【００２２】
本発明における離型フィルムは、耐熱性があり柔軟性を有する樹脂フィルムであり、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリ４−メチルペンテン−１（ＰＭＰ）、ポリエチレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、フッ素樹脂（ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡ）等から特性に応じて種々選択できる。これらの中では、価格が比較的安く、色々な厚さのフィルムを入手し易いポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が適している。
【００２３】
離型フィルムの厚さが５μｍ未満ではフィルムの強度が不足して凹凸形成時に破壊するおそれがあり、１５０μｍを超えると凹凸形成フィルムの形状がゴム表面にうまく転写できなくなるため、５〜１５０μｍの範囲、好ましくは１０〜１００μｍ、特に１０〜８０μｍの範囲である。
【００２４】
更に、離型フィルムのゴムに接触する面をシリコーン処理あるいはフッ素処理することによりゴムとフィルムとの離型性が向上し、硬化後のゴム表面の微細な凸部が離型フィルムに取られる欠陥を防ぐことができる。
【００２５】
本発明における凹凸形成フィルムは、樹脂フィルム、金属箔、これらの複合フィルム等から選択される耐熱性のあるシート状物であり、具体的には、樹脂フィルムとしては離型フィルムと同じ材質のフィルム、金属箔としてはアルミニウム箔、銅箔、ステンレス箔等が挙げられる。これらの中で、樹脂フィルムが加工のし易さ、折れによりシワが発生しにくい点で優れている。
【００２６】
ここで、凹凸形成フィルムとしては、図１（Ａ）に記載されているように、ゴム表面が凸部となる部分が該凸部に対応する形状の貫通孔部１１として形成され、ゴム表面が凹部となる部分が上記貫通孔部１１以外の領域（陸部）１２となる平坦フィルム状に形成されたものを使用することができる。この場合、貫通孔部１１の形状は、ゴム表面に形成すべき凸部形状に対応したものであればよく、例えば図２に示す凹凸形成フィルムの例にあっては、貫通孔部１１が円弧リング状長孔の形状、図３に示す凹凸形成フィルムの例にあっては、貫通孔部１１が円形孔形状のものである。
【００２７】
本発明では、凹凸形成フィルムが離型フィルムを介して当接する陸部１２に対応するゴム表面が凹面となり、凹凸形成フィルムの厚さにより凹凸の高さを調整することができる。凹凸形成フィルムと離型フィルムの厚さはゴム表面に形成される凹凸の高さと転写精度に関係があり、薄い離型フィルムを用いると凹凸形成フィルムの厚さに近い凹凸の高さになり、凹凸形成フィルムの形状が精度よく転写される。反対に厚い離型フィルムを用いると凹凸の高さが凹凸形成フィルムの厚さより小さくなり、転写される凹凸の形状が不鮮明になる。
【００２８】
ゴム表面の凸部は、凹凸形成フィルムの切り抜かれた箇所（貫通孔部）に離型フィルムが変形してゴムと一緒に入り込むことにより形成される。凹凸形成フィルムの厚さが厚くなると離型フィルムが凹凸形成フィルムに沿って追従できなくなり、ゴム表面の凹凸のエッジ部がきれいに形成できなくなるおそれがある。凹凸のエッジ部をきれいに成形するには、凹凸形成フィルムの厚さは薄い方がよく、厚さ１ｍｍ以下が好ましく、厚さ０．５ｍｍ以下がより好ましく、更に好ましくは１５０μｍ以下、特に８０μｍ以下である。なお、厚さは１０μｍ以上が好ましい。
【００２９】
所定の形状に凹凸形成フィルムを加工する方法としては、抜型を用いる方法が最も簡便で費用がかからない。抜型には、トムソン型あるいはビク型と呼ばれるベニヤ板や樹脂板に鋼製の刃を埋め込んだ型と、ピナクル型と呼ばれる金属をエッチングすることで刃（腐食刃）を形成し、刃先をシャープニング加工した型がある。トムソン型は速く作製でき比較的安価であり、ピナクル型は抜き精度に優れている。
【００３０】
凹凸形成フィルムを加工する別の方法としては、カッティングプロッターを用いる方法がある。カッティングプロッターは装置的にはペン式のプロッターとほぼ同じであるが、ペンの代わりに鋭利なナイフを取り付けてあり、フィルムを任意の形状を切り抜くことができる。ＣＡＤデータ等から複雑なパターン形状を短時間で作製でき、装置の導入には費用がかかるが、抜型のようにパターン形状ごとに型を作製する必要がない。
【００３１】
本発明のゴム表面に精密な凹凸を形成する方法としては、硬化剤を添加した未硬化のゴムシートの表面に離型フィルムを介して所定の形状に加工した凹凸形成フィルムを設置し、それらを平坦な面を有する板状材で加圧して凹凸形成フィルムのパターン形状を離型フィルムを介してゴム表面に転写してからゴムを硬化し、凹凸形成フィルムと離型フィルムを剥離することで達成される。ゴム材料と凹凸形成フィルムの間に離型フィルムが存在するので、バリの発生がなく、凹凸形成フィルムを複数回使用することもできる。
【００３２】
また、未硬化のゴムシート、離型フィルム、凹凸形成フィルム、平坦な面を有する板状材を順次積層してから、加圧し熱硬化する工程に熱プレス成形機を用いて加圧力と温度を調整することにより、短時間で精度よくゴム表面に凹凸を形成することができる。
【００３３】
未硬化のゴムを一定の厚さに分出しするには、通常二本ロールやカレンダーロールが用いられる。更に、薄くゴムを分出しするには、未硬化のゴム材料を有機溶剤に溶解・希釈したコーティング液を離型フィルム上に所定の厚さにコーティングしてから有機溶剤を揮発させ未硬化のゴムシートを作製すればよい。
【００３４】
本発明の成形で用いる平坦な面を有する板状材としては、鉄、ステンレススチール、アルミニウム合金等の金属製の板材で厚さが２ｍｍ以上あるものがよい。厚さが２ｍｍより薄くなると強度が不足し、板材が変形するおそれがある。また、ソリや歪のない平面度の良好な板材を用い、表面を研磨し微細な凹凸をなくすことが好ましい。
【００３５】
金属板とゴムを貼り合わせ、更にゴム表面に凹凸を形成する場合は、金属板にそれぞれのゴム材料に適したプライマーを塗布し、その上に順次、硬化剤を添加した未硬化のゴムの分出しシート、離型フィルム、凹凸形成フィルム、ステンレス板等の板状材を設置してから、熱プレス成形機を用いて加圧力と温度をかけゴムを硬化することで、金属板とゴムの接着、ゴム表面の凹凸形成を同時に行うことができる。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるものではない。
【００３７】
［実施例１〜４、比較例１，２］
オルガノポリシロキサン（組成：ジメチルシロキサン単位９９．８５モル％とメチルビニルシロキサン単位０．１５モル％とからなる平均重合度８，０００のメチルビニルポリシロキサン）１００質量部に補強性シリカＡｅｒｏｓｉｌ２００［商品名、日本アエロジル（株）製］２０質量部、球状アルミナのアドマファインＡ０４１Ｒ［商品名、アドマテックス（株）製］２５０質量部、硬化剤の有機過酸化物２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン１質量部が配合された熱伝導性シリコーンゴム組成物にトルエン３００質量部を添加し、ホモジナイザーで均一に溶解してから、４００メッシュの金網でろ過してコーティング液を調製した。このコーティング液を表１に示した厚さのフッ素処理ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる離型フィルムにバーコートでコーティングしてから、６０℃の加熱オーブンでトルエンを揮発させ、厚さ３００μｍの未硬化のシリコーンゴムシートを作製した。
【００３８】
次に、表１に示した厚さのポリエチレンテレフタレートフィルムをトムソン型で図２の形状に打ち抜き加工し、凹凸形成フィルムを作製した。
【００３９】
厚さ３００μｍの未硬化のシリコーンゴムシートの離型フィルム側に図２の凹凸形成フィルムを設置し、シリコーンゴムシート側に工程フィルムとして厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを設置し、これらを２枚の厚さ３ｍｍのステンレス板で挟んだ。次に、５０ｔ熱プレス成形機を用いて圧力５ＭＰａ、温度１６０℃の条件で１０分間加圧・加熱することでシリコーンゴムを硬化させてから、凹凸形成フィルム、離型フィルム及び工程フィルムを剥離して、シリコーンゴムの表面に凹凸を形成した。
【００４０】
凹凸を形成した各シリコーンゴムシートの凹凸の深さと箇所Ａ〜Ｄの凹部の幅の測定結果、及び凹凸形状の鮮明性を表１に示した。
【００４１】
【表１】
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比較例１及び２は凹凸形状のエッジ部が不鮮明のため、箇所Ａ〜Ｄの凹部の幅を測定できない。
【００４２】
［実施例５〜８、比較例３］
補強性シリカ配合のシリコーンゴムコンパウンドＫＥ−９５１−Ｕ［商品名、信越化学工業（株）製］１００質量部に硬化剤の有機過酸化物ペーストＣ−８［商品名、信越化学工業（株）製］２質量部を添加し、二本ロールで混練り後、厚さ２．１ｍｍに分出しして未硬化のシリコーンゴムシートを調製した。
【００４３】
シリコーン変性エチレンプロピレンゴム（ＥＰＤＭ）ＳＥＰ−１４１１−Ｕ［商品名、信越化学工業（株）製］１００質量部に硬化剤の有機過酸化物ペーストＣ−１１［商品名、信越化学工業（株）製］２質量部を添加し、二本ロールで混練り後、厚さ２．１ｍｍに分出しして未硬化のシリコーン変性エチレンプロピレンゴムシートを調製した。
【００４４】
次に、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムをカッティングプロッターで図３の形状に切り抜き、凹凸形成フィルムを作製した。図３の形状はφ３ｍｍの穴の数が多く、各穴の距離が近いためトムソン型自体を作製できない。
【００４５】
未硬化の各シリコーンゴムシートの片面に離型フィルムとして、厚さ５０μｍのポリ４−メチルペンテン−１（ＰＭＰ）のフィルムであるオピュランＸ−８８Ｂ［商品名、三井化学東セロ（株）製］、その上に図３の凹凸形成フィルムを順次重ね合わせ、これらを厚さ２ｍｍのステンレス製の枠板内に設置し、上下を２枚の厚さ３ｍｍのステンレス板で挟んだ。次に、５０ｔ熱プレス成形機を用いて圧力５ＭＰａ、温度１６０℃の条件で１０分間加圧・加熱することでゴムを硬化させてから、凹凸形成フィルム及び離型フィルムを剥離して、ゴムの表面に凹凸を形成した。
【００４６】
次に、ＫＥ−９５１−Ｕ［前出］の未硬化のシリコーンゴムシートを用いて、離型フィルムとしてオピュランＸ−８８Ｂ［前出］をそれぞれ２枚、３枚、４枚と重ねて設置し、以降は同様な成形方法でゴムの表面に凹凸を形成した。
【００４７】
凹凸を形成した各シリコーンゴムシートの凹凸の深さとφ３ｍｍの穴箇所の凸部の径の測定結果、及び凹凸形状の鮮明性を表２に示した。
【００４８】
【表２】
2014091294.tif 000004
比較例３は凹凸形状のエッジ部が不鮮明のため、φ３ｍｍの穴箇所の凸部の径を測定できない。
【符号の説明】
【００４９】
１  未硬化のゴム
１’  硬化ゴム
２  離型フィルム
３  凹凸形成フィルム
４  板状材
１１  貫通孔部
１２  陸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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