(57)【要約】【課題】液晶表示パネルが複数形成されたマザー基板から液晶表示パネルを分離する場合に、ガラス基板が薄くなった場合においても、スクライブ線および破断線を正確に形成する。【解決手段】マザー基板における個々の液晶表示パネルの境界部に柱状スペーサ１０を形成する。柱状スペーサ１０に対応してマザー基板の対向基板側およびＴＦＴ基板側にスクライブ線２０を形成する。その後、マザー基板に曲げ応力を加えてスクライブ線２０間に破断線３０を形成し、個々の液晶表示パネルをマザー基板から分離する。スクライブ線２０に対応する部分に柱状スペーサ１０が形成されているので、この部分における強度が大きくなり、ガラス基板が０．１５ｍｍ程度と、薄くなった場合でも、正確なスクライブ線と破断線を形成することが出来る。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板とブラックマトリクスおよびカラーフィルタが形成された対向基板がシール材によって接着し、内部に液晶を有する液晶表示装置であって、
前記ＴＦＴ基板は前記対向基板よりも大きく形成され、前記ＴＦＴ基板が１枚となっている部分は端子部となっており、
前記液晶表示装置の端部には柱状スペーサあるいはその一部が存在し、前記液晶と前記柱状スペーサあるいは柱状スペーサの一部の間にシール材が存在しており、
前記ＴＦＴ基板あるいは前記対向基板の端部にはシール材は存在していないことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクスおよびオーバーコート膜の積層膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクス、カラーフィルタ層およびオーバーコート膜の積層膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクス、２層のカラーフィルタ層およびオーバーコート膜の積層膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクス、３層のカラーフィルタ層およびオーバーコート膜の積層膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
ＴＦＴおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板とブラックマトリクスおよびカラーフィルタが形成された対向基板がシール材によって接着し、内部に液晶を有する液晶表示装置であって、
前記ＴＦＴ基板は前記対向基板よりも大きく形成され、前記ＴＦＴ基板が１枚となっている部分は端子部となっており、
前記対向基板と前記ＴＦＴ基板が重なっている３辺においては、端部に柱状スペーサあるいは柱状スペーサの一部とシール材が存在し、
前記対向基板が前記端子部と対向する辺においては、端部に柱状スペーサあるいは柱状スペーサの一部が存在し、前記柱状スペーサあるいはその一部と前記液晶の間にシール材が存在していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクスおよびオーバーコート膜の積層膜の上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクス、カラーフィルタ層およびオーバーコート膜の積層膜の上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクス、２層のカラーフィルタ層およびオーバーコート膜の積層膜の上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクス、３層のカラーフィルタ層およびオーバーコート膜の積層膜の上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
ＴＦＴおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板とブラックマトリクスおよびカラーフィルタが形成された対向基板がシール材によって接着し、内部に液晶を有し、前記ＴＦＴ基板は前記対向基板よりも大きく形成され、前記ＴＦＴ基板が１枚となっている部分は端子部となっている液晶表示パネルを有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記液晶表示パネルはマザー基板に複数形成され、
前記対向基板が前記端子部と対向する辺においては、柱状スペーサを前記対向基板の端部に分離線に対応し、かつ、前記シール材とは分離して形成し、
前記分離線に沿ってスクライブ線を形成し、
その後、マザー基板に応力を加えて前記ＴＦＴ基板の前記端子部から前記マザー基板の一部を除去する工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記柱状スペーサは前記対向基板に形成されたブラックマトリクスおよびオーバーコート膜の上に形成することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記柱状スペーサは前記対向基板に形成されたブラックマトリクス、カラーフィルタおよびオーバーコート膜の積層膜上に形成することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に係り、ガラス基板を薄くした場合の、マザー基板から個々の液晶表示パネルを形成する場合の分離方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に使用される液晶表示パネルでは、画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ、Thin Film Transistor））等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、ＴＦＴ基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。液晶はＴＦＴ基板と対向基板を接着するシール材によって封止されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
【０００３】
液晶表示装置は小型で薄型にできることから、携帯電話やＤＳＣ（Digital Still Camera）等、種々の用途に使用されている。このような小型の液晶表示装置では、液晶表示パネルを薄型にしたいという要求が強まっている。液晶表示パネルにおける厚さについては、ＴＦＴ基板あるいは対向基板等のガラス基板の厚さの影響が最も大きい。したがって、液晶表示パネルを薄くするためには、ガラス基板の厚さを小さくする必要がある。
【０００４】
ガラス基板の厚さは、例えば０．５ｍｍというように、市場では規格化されている。規格化された以外のガラス基板を市場から入手するのは困難である。また、非常に薄い基板は、製造工程において、機械的な強度が弱く、撓み等が発生し、製造ラインを流すことが困難である。
【０００５】
また、個々の液晶表示パネルを製造することは効率が悪いので、マザー基板に複数の液晶表示パネルを形成し、その後、個々の液晶表示パネルを分離する方法が用いられている。そして、多数の液晶表示パネルが形成されたマザー基板を研磨することによって、マザー基板に形成されているＴＦＴ基板あるいは対向基板を薄くしている。
【０００６】
一方、液晶表示パネルでは、液晶表示パネルの厚さを小さくしたいという要求に加えて、表示領域はそのままにして、液晶表示パネルの外形を小さくしたいという要求も強い。この要求に応えるために、「特許文献１」には、マザー基板において、個々の液晶表示パネルの分離線を挟んで、シール部を形成し、マザー基板において、一つのシール部を隣り同士の液晶表示パネルで共用し、切断時に、個々の液晶表示パネル用にシール部を分離するするいわゆるシール部切断の方法が記載されている。
【０００７】
この場合、切断部分にシール材が存在していると、個々の液晶表示パネルが分離しにくくなるために、「特許文献１」では、切断部分に柱状スペーサを形成し、切断部分におけるシール材の量を少なくすることによって、マザー基板からの個々の液晶表示パネルの分離を容易にする構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１２−３２５０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図２２は、液晶表示パネルの概略平面図である。図２２において、ＴＦＴ基板１００の上に対向基板２００が重ねられ、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間に図示しないシール材を介して液晶が封入されている。ＴＦＴ基板１００は対向基板２００よりも大きく形成され、ＴＦＴ基板１００が１枚となっている部分には、ＩＣドライバを搭載したり、フレキシブル配線基板接続したりするための端子部１５０が形成されている。対向基板２００とＴＦＴ基板１００が重なり、液晶が封入された領域に表示領域が形成されている。図２３は、図２２のＤ−Ｄ断面図である。図２３において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００との間には、図示しない、シール材を介して液晶が封入されている。
【００１０】
図２２あるいは図２３に示す液晶表示パネルは、マザー基板に多数形成され、マザー基板から個々の液晶表示パネルに分離される。図２４は、マザー基板１０００から個々の液晶表示パネルを分離する方法を示す断面図である。マザー基板１０００は、ＴＦＴ基板１００が多数形成されたマザーＴＦＴ基板と対向基板２００が多数形成されたマザー対向基板が図示しないシール材を介して接着している。マザー基板１０００から個々の液晶表示パネルに分離するには、マザーＴＦＴ基板あるいはマザー対向基板にスクライブホイール等によって、スクライブ線２０を形成し、その後、スクライブ線２０の部分に曲げ応力をかけることによって、破断する。
【００１１】
図２４は、液晶表示パネルをマザー基板１０００から分離するための、スクライブ線２０および破断線３０の状態を示すものである、液晶表示パネルを他の液晶表示パネルから分離するための分離線は、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００との両方にスクライブ線２０を形成し、ＴＦＴ基板１００側と対向基板２００側の両方に破断線を形成する。一方、端子部１５０を形成するためには、対向基板２００側のみにスクライブ線２０を形成し、対向基板２００に曲げ圧力をかけて対向基板２００の一部を分離し、ＴＦＴ基板１００側に端子部１５０を形成する。
【００１２】
このような、マザー基板１０００からの液晶表示パネルの分離は、マザー基板１０００を研磨して、マザーＴＦＴ基板およびマザー対向基板を薄くした後に行われる。マザーＴＦＴ基板あるいはマザー対向基板が薄くなってくると、ガラス基板の撓み等の影響によってスクライブホイール等によるスクライブを正確に行うことが困難になる。すなわち、ガラス基板が薄くなるとガラス基板の撓みが激しくなり、スクライブホイールが空回りするという現象が生ずる。特に、マザーＴＦＴ基板あるいはマザー対向基板の厚さを０．１５ｍｍ程度にまで研磨して薄くするとこの問題は深刻な問題となる。
【００１３】
本発明は、マザー基板１０００を形成するガラス基板が薄くなっても、スクライブホイール等によって正確にスクライブ線を形成し、マザー基板１０００から個々の液晶表示パネルを歩留まり良く分離するための構成に関する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。
【００１５】
（１）ＴＦＴおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板とブラックマトリクスおよびカラーフィルタが形成された対向基板がシール材によって接着し、内部に液晶を有する液晶表示装置であって、前記ＴＦＴ基板は前記対向基板よりも大きく形成され、前記ＴＦＴ基板が１枚となっている部分は端子部となっており、前記液晶表示装置の端部には柱状スペーサあるいはその一部が存在し、前記液晶と前記柱状スペーサあるいは柱状スペーサの一部の間にシール材が存在しており、
前記ＴＦＴ基板あるいは前記対向基板の端部にはシール材は存在していないことを特徴とする液晶表示装置。
【００１６】
（２）前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクス、カラーフィルタ、オーバーコート膜等の積層膜の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００１７】
（３）ＴＦＴおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板とブラックマトリクスおよびカラーフィルタが形成された対向基板がシール材によって接着し、内部に液晶を有する液晶表示装置であって、前記ＴＦＴ基板は前記対向基板よりも大きく形成され、前記ＴＦＴ基板が１枚となっている部分は端子部となっており、前記対向基板と前記ＴＦＴ基板が重なっている３辺においては、端部に柱状スペーサあるいは柱状スペーサの一部とシール材が存在し、前記対向基板が前記端子部と対向する辺においては、端部に柱状スペーサあるいは柱状スペーサの一部が存在し、前記柱状スペーサあるいはその一部と前記液晶の間にシール材が存在していることを特徴とする液晶表示装置。
【００１８】
（４）前記対向基板が前記端子部に対向する辺において、前記柱状スペーサは、ブラックマトリクス、カラーフィルタ、オーバーコート膜等の積層膜の上に形成されていることを特徴とする（３）に記載の液晶表示装置。
【００１９】
（５）ＴＦＴおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板とブラックマトリクスおよびカラーフィルタが形成された対向基板がシール材によって接着し、内部に液晶を有し、前記ＴＦＴ基板は前記対向基板よりも大きく形成され、前記ＴＦＴ基板が１枚となっている部分は端子部となっている液晶表示パネルを有する液晶表示装置の製造方法であって、前記液晶表示パネルはマザー基板に複数形成され、前記対向基板が前記端子部と対向する辺においては、柱状スペーサを前記対向基板の端部に分離線に対応し、かつ、前記シール材とは分離して形成し、前記分離線に沿ってスクライブ線を形成し、その後、マザー基板に応力を加えて前記ＴＦＴ基板の前記端子部から前記マザー基板の一部を除去する工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、液晶表示パネルが多数形成されたマザー基板から個々の液晶表示パネルを分離する際、マザー基板におけるガラス基板を研磨によって薄くした場合であっても、正確なスクライブ線および破断線を形成することが出来、正確な外形寸法を有する液晶表示パネルを形成することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】マザー基板における液晶表示パネルの配置例を示す平面図である。
【図２】実施例１における図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】実施例１における図１のＢ−Ｂ断面図である。
【図４】実施例１における図１のＣ−Ｃ断面図である。
【図５】実施例２における図１のＣ−Ｃ断面図である。
【図６】実施例２における図１のＣ−Ｃ断面図の他の例である。
【図７】実施例２における図１のＣ−Ｃ断面図のさらに他の例である。
【図８】実施例２における図１のＣ−Ｃ断面図のさらに他の例である。
【図９】実施例３における図１のＡ−Ａ断面図である。
【図１０】実施例３における図１のＢ−Ｂ断面図である。
【図１１】実施例４における図１のＡ−Ａ断面図である。
【図１２】実施例４における図１のＢ−Ｂ断面図である。
【図１３】実施例４における図１のＣ−Ｃ断面図である。
【図１４】実施例５における図１のＣ−Ｃ断面図である。
【図１５】実施例５における図１のＣ−Ｃ断面図の他の例である。
【図１６】実施例５における図１のＣ−Ｃ断面図のさらに他の例である。
【図１７】実施例５における図１のＣ−Ｃ断面図のさらに他の例である。
【図１８】実施例１乃至３における柱状スペーサを対向基板側から見た平面図である。
【図１９】実施例１乃至３における柱状スペーサを対向基板側から見た他の例の平面図である。
【図２０】実施例４および５における柱状スペーサを対向基板側から見た平面図である。
【図２１】実施例４および５における柱状スペーサを対向基板側から見た他の例の平面図である。
【図２２】液晶表示パネルの平面図模式図である。
【図２３】図２２のＤ−Ｄ断面図である。
【図２４】マザー基板から液晶表示パネルを分離する際のスクライブ線および破断線の例である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
【実施例１】
【００２３】
図１は、液晶表示パネルが複数形成されたマザー基板１０００の平面図である。図１では、マザー基板１０００には液晶表示パネルは６個形成されているが、これは例であり、小型の液晶表示パネルの場合は、マザー基板には多数の液晶表示パネルが形成される。
【００２４】
図１において、マザー基板１０００には、個々の液晶表示パネルを分離するためのスクライブ線２０が記載されている。これらのスクライブ線２０のうち、スクライブ線ｔは端子部１５０を形成するために対向基板２００側にのみ形成されるスクライブ線２０であり、他のスクライブ線２０は他の液晶表示パネルと分離するために対向基板１００側とＴＦＴ基板１００側の両方に形成されるスクライブ線２０である。
【００２５】
図２は、本実施例における図１のＡ−Ａ断面を示す。図２において、第１の液晶表示パネルと第２の液晶表示パネルの境界にスクライブ線２０が形成されており、スクライブ線に対応する部分に柱状スペーサ１０が形成されている。柱状スペーサ１０は対向基板２００側に形成されたオーバーコート膜２０５の上に形成されている。これが実施例１の特徴である。柱状スペーサ１０の左側には、第１の液晶表示パネルのシール材２１０が形成され、柱状スペーサ１０の右側には、第２の液晶表示パネルのシール材２１０が形成されている。
【００２６】
図２において、ＴＦＴ基板１００の上には絶縁層１０１が形成されているが、これは、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜、無機パッシベーション膜、有機パッシベーション膜等、ＴＦＴ基板に形成される絶縁膜が積層されたものである。製品によって、あるいは、分離線の部分によって、この絶縁膜の積層の種類は異なるが、本発明とは本質的な関係は無いので、絶縁層１０１で総称している。
【００２７】
第１の液晶表示パネルおよび第２の液晶表示パネルのシール材２１０の内側には、液晶３００が充填されている。なお、液晶３００の充填方法には、滴下法式（ＯＤＦ、Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）と、真空吸入方法とがあるが、図２の場合は、マザー基板１０００の状態においてすでに液晶３００が充填されている滴下法を使用した場合を示している。但し、本発明は、液晶３００を真空吸入方法によって充填する場合も同様に適用することが出来る。
【００２８】
図２において、スクライブ線２０に対応する部分に柱状スペーサ１０が形成されているので、この部分おけるマザー基板の曲げ強度が大きくなり、ガラス基板が０．１５ｍｍ程度に薄くなった場合でも、スクライブ線２０を正確に形成することが出来る。スクライブ線２０を形成した後、ＴＦＴ基板１００側および対向基板２００側に曲げ応力を加えることによって、第１の液晶表示パネルと第２の液晶表示パネルを、図２の点線で示す破断線３０にしたがって分離する。
【００２９】
第１の液晶表示パネルと第２の液晶表示パネルの境界に形成される柱状スペーサ１０は、中央から破断線３０に沿って分断される。柱状スペーサ１０は、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定するもので、液晶表示パネルの表示領域内に多数形成されるが、図２における第１と第２の液晶表示パネルの境界に形成される柱状スペーサ１０も、表示領域内に形成される柱状スペーサと同時に形成される。
【００３０】
実施例１における柱状スペーサ１０の断面は台形状であり、上底径ｄは２００μｍ程度である。破断線３０は、柱状スペーサ１０の上底径である２００μｍ以内の精度で形成される。したがって、液晶表示パネルにおいて、破断した柱状スペーサ１０の一部と液晶との間にシール材２１０が存在することになる。
【００３１】
図３は、本実施例における図１のＢ−Ｂ断面図である。図３においては、スクライブ線２０の左側にのみ液晶表示パネルが存在している。スクライブ線２０はＴＦＴ基板１００側と対向基板２００側の両方に形成され、ＴＦＴ基板１００側および対向基板２００側に曲げ応力を加えることによって液晶表示パネルを分離することは図２と同様である。柱状スペーサ１０は液晶表示パネルの端部に形成され、スクライブ線２０および破断線３０は柱状スペーサ１０を分断していることも図２と同様である。この場合においても、分断された柱状スペーサ１０の一部と液晶３００との間にシール材２１０が存在することになる。
【００３２】
図４は本実施例における図１のＣ−Ｃ断面図である。図４において、スクライブ線２０は対向基板２００側にのみ形成され、対向基板２００側に曲げ応力を加えることによって、対向基板２００側の一部を破断線３０に沿って分離し、ＴＦＴ基板１００側に端子部１５０を形成する。この場合も分断された柱状スペーサ１０の一部と液晶３００との間にシール材２１０が存在している。
【実施例２】
【００３３】
実施例１の図４において、端子部１５０を形成するための、対向基板２００側を一部分離する工程において、破断線３０が正確に形成されない問題が生じた。実施例１の図４に示す断面が図２あるいは図３に示す断面と異なる点は、対向基板２００側にのみスクライブ線ｔが形成され、対向基板２００側の一部のみ分離することである。すなわち、図４においては柱状スペーサ１０には、対向基板２００側からのみ破断線３０が形成され、曲げ応力も対向基板２００側にのみ加えられる。このため、図４に示すように、柱状スペーサ１０がＴＦＴ基板１００側に接触していない場合、柱状スペーサ１０や破断線３０が所定の位置に形成されない場合や、柱状スペーサ１０が完全に分断されない場合が生ずる。
【００３４】
このような問題は、図４における柱状スペーサ１０をＴＦＴ基板１００側に接触させることによって防止できることがわかった。図５は実施例２における、図１のＣ−Ｃ断面図である。図５において、柱状スペーサ１０はブラックマトリクス２０１およびオーバーコート膜２０５の上に形成されている。ブラックマトリクス２０１の厚さの分、例えば１．５μｍ程度、柱状スペーサ１０の先端は、ＴＦＴ基板１００に近づくことになる。
【００３５】
したがって、図４における柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００の間隔ｓが１．５μｍ程度であれば、柱状スペーサ１０の先端をＴＦＴ基板１００に接触させることが出来る。これによって、対向基板２００の一部を正確に除去し、端子部１５０を安定的に形成することが出来る。なお、図５におけるブラックマトリクス２０１は島状に形成されているが、これは例であって、表示領域から連続的に形成されていてもよい。
【００３６】
図６は、図１に示すスクライブ線２０の部分における柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００との間隔がさらに大きい場合に、柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００とを接触させるための構成である。図６では、ブラックマトリクス２０１の上に赤カラーフィルタ２０２、オーバーコート膜２０５が積層され、その上に柱状スペーサ１０が形成されている。
【００３７】
赤カラーフィルタ２０２の厚さは例えば２μｍであり、ブラックマトリクス２０１の厚さを例えば１．５μｍ程度とすると、図４における柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００との間隔ｓが３．５μｍ程度の場合は、図６の構成によって、柱状スペーサ１０の先端をＴＦＴ基板１００に接触させることが出来る。
【００３８】
図７は、図１に示すスクライブ線２０の部分における柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００との間隔ｓがさらに大きい場合に、柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００とを接触させるための構成である。図７では、ブラックマトリクス２０１の上に赤カラーフィルタ２０２、緑カラーフィルタ２０３およびオーバーコート膜が積層され、その上に柱状スペーサ１０が形成されている。
【００３９】
赤カラーフィルタ２０２および緑カラーフィルタ２０３の厚さは例えば２μｍであり、ブラックマトリクス２０１の厚さを例えば１．５μｍ程度とすると、図４における柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００との間隔ｓが５．５μｍ程度の場合は、図７の構成によって、柱状スペーサ１０の先端をＴＦＴ基板１００に接触させることが出来る。
【００４０】
図８は、図１に示すスクライブ線２０の部分における柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００との間隔がさらに大きい場合に、柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００とを接触させるための構成である。図７では、ブラックマトリクス２０１の上に赤カラーフィルタ２０２、緑カラーフィルタ２０３、青カラーフィルタ２０４およびオーバーコート膜２０５が積層され、その上に柱状スペーサ１０が形成されている。
【００４１】
赤カラーフィルタ２０２、緑カラーフィルタ２０３および青カラーフィルタ２０４の厚さは例えば２μｍであり、ブラックマトリクス２０１の厚さを例えば１．５μｍ程度とすると、図４における柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００との間隔が７．５μｍ程度の場合は、図８の構成によって、柱状スペーサ１０の先端をＴＦＴ基板１００に接触させることが出来る。
【００４２】
なお、図５乃至８では、カラーフィルタを島状に形成した例を示したが、島状に形成した場合、カラーフィルタの厚さが例えば、表示領域におけるカラーフィルタの厚さよりも小さくなる場合がある。このような場合は、必要に応じて、カラーフィルタの層数を調整すれよい。
【実施例３】
【００４３】
特に小型の液晶表示パネルにおいては、表示領域を大きく保ったまま、外形を小さくしたいという要求が強い。このような場合、額縁が小さくなり、シール材２１０を形成する領域を十分に取れなくなる。一般的には、液晶表示パネルのガラスの端部とシール材２１０の端部の間には僅かな間隔が存在しているが、上記のような狭額縁の製品においては、この間隔を節約して、シール部とする構成をとる。
【００４４】
図９はこのような液晶表示パネルを形成するための、マザー基板における液晶表示パネル間の分離部分を示す断面図である。図９は、本実施例における図１のＡ−Ａ断面に対応する部分である。シール材２１０が液晶表示パネルの分離線に形成されていると、スクライブ線２０とスクライブ線２０の間に破断線３０が生じにくく、液晶表示パネルどうしを所定の寸法のとおりに分離することが困難になる。そこで、図９に示すように、スクライブ線２０に対応する部分に柱状スペーサ１０を形成し、柱状スペーサ１０に破断線３０を形成することによって、各液晶表示パネルを正確に分離する方法をとることが出来る。
【００４５】
図１０は、本実施例における、図１のＢ−Ｂ断面に対応する部分である。構成は図９で説明したのと同様である。図９においては、シール材２１０の両側に液晶３００が存在しているのに対し、図１０では、シール材２１０の左側にのみ液晶３００が存在している。図１０においては、シール材２１０の右側には液晶表示パネルが形成されていないからである。
【００４６】
本実施例において、図１のスクライブ線ｔの部分の構成は、実施例１と同様である。図１のスクライブ線２０においては、隣接する液晶表示パネルとシール材２１０を共用しないので、あえて、シール材２１０の部分においてスクライブ線２０あるいは破断線３０を形成する必要が無いからである。また、図１のスクライブ線２０の部分において、柱状スペーサ１０をＴＦＴ基板１００に接触させたい場合、図１のスクライブ線ｔの部分においては、実施例２で説明した、ブラックマトリクス２０１あるいはカラーフィルタの積層構造を使用して破断線３０を正確に形成することが出来る。
【実施例４】
【００４７】
図１１は、本発明の実施例４における図１のＡ−Ａ断面図である。本実施例が実施例１と異なる点は、柱状スペーサ１０をスクライブ線２０を挟んで２個形成している点である。柱状スペーサ１０と柱状スペーサ１０の間隔、すなわち図１１に示す間隔ｄｄは２００μｍであり、この範囲にスクライブ線２０および破断線３０を形成する。
【００４８】
図１１における柱状スペーサ１０の断面も台形であるが、実施例１乃至３の柱状スペーサ１０に比較して台形の幅は小さい。図１１の台形における上底径ｄは例えば、１０μｍである。その他の構成は図２と同様である。本構成による効果は実施例１で説明したのと同様である。すなわち、図１１において、スクライブ線２０の両側に柱状スペーサ１０が形成されているので、この部分におけるマザー基板の曲げ強度が大きくなり、ガラス基板が０．１５ｍｍ程度に薄くなった場合でも、スクライブ線２０および破断線３０を正確に形成することが出来る。
【００４９】
本実施例においては、柱状スペーサ１０には破断線３０は存在していない。本実施例における柱状スペーサ１０も表示領域の柱状スペーサと同時に形成することが出来る。図１１の構成によって形成した液晶表示パネルにおいても、柱状スペーサ１０と液晶３００の間にシール材２１０が存在している構成となっている。
【００５０】
図１２は、実施例４における図１１のＢ−Ｂ断面図である。図１２の構成は、スクライブ線２０が２個の柱状スペーサ１０の間に形成されていることを除いては、実施例１における図３と同様である。この場合も柱状スペーサ１０と液晶３００の間にシール材２１０が存在していることになる。
【００５１】
図１３は、本実施例における図１のＣ−Ｃ断面に対応する断面図である。図１３においては、図１１および図１２と異なり、スクライブ線２０および破断線３０は対向基板２００側にのみ形成されている。図１３の構成は、スクライブ線２０が２個の柱状スペーサ１０の間に形成されていることを除いて、実施例１における図４と同様である。この場合も柱状スペーサ１０と液晶３００の間にシール材２１０が存在することになる。
【実施例５】
【００５２】
実施例４の図１３において、端子部１５０を形成するための、対向基板側の一部を分離する工程において、破断線３００が正確に形成されない問題が生じた。これは実施例２において説明したと同様である。この問題は、２個の柱状スペーサ１０の先端をＴＦＴ基板１００に接触させることによって解決することが出来る。その対策方法も、実施例２において述べたと同様である。
【００５３】
図１４は、２個の柱状スペーサ１０がブラックマトリクス２０１とオーバーコート膜２０５の積層膜の上に形成されている場合である。これによって、例えば、図１３における柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００との間隔ｓが１．５μｍ程度の場合に柱状スペーサ１０の先端とＴＦＴ基板１００とを接触させることが出来る。
【００５４】
図１５は、図１３における柱状スペーサ１０の先端とＴＦＴ基板１００との間隔ｓがさらに大きい場合に２個の柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００を接触させるための構成である。図１５においては、ブラックマトリクス２０１、赤カラーフィルタ２０２およびオーバーコート膜２０５の上に２個の柱状スペーサ１０が形成されている。これによって、柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００を接触させ、端子部１５０を形成するための対向基板２００側の分離を正確に行うことが出来る。
【００５５】
図１６は、図１３における柱状スペーサ１０の先端とＴＦＴ基板１００との間隔ｓがさらに大きい場合に２個の柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００を接触させるための構成である。図１６においては、ブラックマトリクス２０１、赤カラーフィルタ２０２、緑カラーフィルタ２０３、オーバーコート膜２０５の上に２個の柱状スペーサ１０が形成されている。これによって、柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００を接触させ、端子部１５０を形成するための対向基板２００側の分離を正確に行うことが出来る。
【００５６】
図１７は、図１３における柱状スペーサ１０の先端とＴＦＴ基板１００との間隔ｓがさらに大きい場合に２個の柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００を接触させるための構成である。図１７においては、ブラックマトリクス２０１、赤カラーフィルタ２０２、緑カラーフィルタ２０３、青カラーフィルタ２０４およびオーバーコート膜２０５の上に２個の柱状スペーサ１０が形成されている。これによって、柱状スペーサ１０とＴＦＴ基板１００を接触させ、端子部１５０を形成するための対向基板２００側の分離を正確に行うことが出来る。
【００５７】
なお、図１４乃至１７では、カラーフィルタを島状に形成した例を示したが、島状に形成した場合、カラーフィルタの厚さが例えば、表示領域におけるカラーフィルタの厚さよりも小さくなる場合がある。このような場合は、必要に応じて、カラーフィルタの層数を調整すれよい。
【実施例６】
【００５８】
実施例１乃至５においては、柱状スペーサ１０の断面のみを示して説明した。図１８は実施例１乃至３に対応する柱状スペーサ１０を対向基板２００側から見た平面図であり、スクライブ線２０上に連続して形成されている。図１９は実施例１乃至３に対応する他の柱状スペーサ１０を対向基板２００側から見た平面図であり、柱状スペーサ１０がスクライブ線２０上に分離して形成されている場合である。図１８も図１９の場合も効果は同じである。図１９の場合、柱状スペーサ１０の間隔ｗ２が大きいと、効果が減殺される場合があるので、柱状スペーサ１０の幅ｗ１よりも柱状スペーサの間隔ｗ２が小さいほうがよい。
【００５９】
図２０は、実施例４および５に対応する柱状スペーサ１０を対向基板２００側から見た平面図であり、２個の柱状スペーサ１０はスクライブ線２０の両側に連続して形成されている場合である。図２１は、実施例４および５に対応する他の柱状スペーサ１０を対向基板２００側から見た平面図であり、スクライブ線２０の両側に２個の柱状スペーサ１０が分離して形成されている場合である。図２０も図２１の場合も効果は同じである。図２１の場合、柱状スペーサ１０の間隔ｗ２が大きいと、効果が減殺される場合があるので、柱状スペーサ１０の幅ｗ１よりも柱状スペーサ１０の間隔ｗ２が小さいほうがよい。
【符号の説明】
【００６０】
１０…柱状スペーサ、  ２０…スクライブ線、  ３０…破断線、  １００…ＴＦＴ基板、  １０１…絶縁層、  １５０…端子部、  ２００…対向基板、  ２０１…ブラックマトリクス、  ２０２…赤カラーフィルタ、  ２０３…緑カラーフィルタ、  ２０４…青カラーフィルタ、  ２０５…オーバーコート膜、  ２１０…シール材、  ３００…液晶
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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