(57)【要約】【課題】記録再生特性に優れた光記録媒体を提供する。【解決手段】基板１上に少なくとも第１保護層２、第１記録層３、記録補助層４、第２記録層５、第２保護層６をこの順に設けた記録再生機能層を有する光記録媒体において、前記記録補助層４の融点と分解温度のうち低い方の温度を、前記第１記録層３及び前記第２記録層５の融点と分解温度のうち最も低い温度より低くする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に少なくとも第１保護層、第１記録層、記録補助層、第２記録層、第２保護層をこの順に設けた記録再生機能層を有する光記録媒体において、前記記録補助層の融点と分解温度のうち低い方の温度が、前記第１記録層及び前記第２記録層の融点と分解温度のうち最も低い温度より低いことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
基板上に少なくとも第１保護層、第１記録層、記録補助層、第２記録層、第２保護層をこの順に設けた記録再生機能層を有する光記録媒体において、前記記録補助層が、前記第１記録層及び前記第２記録層より低い温度で光学的変化を起こすことを特徴とする光記録媒体。
【請求項３】
前記第１保護層及び前記第２保護層の融点と分解温度のうち低い方の温度が、前記第１記録層及び前記第２記録層の融点と分解温度のうち最も低い温度より低いことを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記第１記録層及び前記第２記録層の融点と分解温度のうち最も低い温度が、２０００℃より高いことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記記録補助層の融点と分解温度のうち低い方の温度が、５００℃より高いことを特徴とする請求項１〜４に記載の光記録媒体。
【請求項６】
前記第１記録層及び／又は前記第２記録層が、ニオブ窒化物及びマンガン窒化物を主成分とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項７】
記録層を複数有する多層型の光記録媒体において、透過型記録再生機能層に、前記記録再生機能層を用いた
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関する。特に多層追記型光記録媒体における半透明な記録再生機能層に用いることができる記録材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報量の増大に伴い、ますます高容量の光記録媒体が望まれている。高容量化の最も効率的な方法として、別個の情報を記録可能な複数の記録層を光記録媒体の厚み方向に積み重ねることにより、光記録媒体の面記録密度を増加させることのできる多層化技術が挙げられる。つまり、１つの記録層とその記録層に記録再生を行うために必要とされる反射層、保護層等の集合（以下、この集合を「記録再生機能層」という。）を、光学的に分離できる程度に距離を離して複数積み重ねることにより多層型の光記録媒体とし、記録容量を大幅に増やす技術である。
【０００３】
多層型の光記録媒体のレーザー光の入射側から最も遠い記録再生機能層（以下、「最外記録再生機能層」という。）では、一般的に、透過率を大きくする必要が無いため、一層型の光記録媒体と同様な光記録媒体の設計が可能である。
【０００４】
その一方で最外記録再生機能層以外の記録再生機能層（以下、「透過型記録再生機能層」という。）においては、自身よりもレーザー光の入射側から遠い記録再生機能層に所定の強度のレーザー光を到達させる必要があるため、一定以上の透過率が必要とされ、入射レーザー光の一部しか信号の記録再生に使用できない。また、自身のレーザー光入射側にも記録再生機能層が存在する場合は、やはり入射光の一部しか信号の記録再生に使用できないことになる。したがって、多層型の光記録媒体における各記録再生機能層は、一層型の光記録媒体と比較して、得られる信号強度が著しく小さくなってしまう。そのため、多層型の光記録媒体の再生系は信号強度の小さい場合に対応できることが必要であり、そのような再生技術が近年多く開発されている。
【０００５】
一方、１回のみの記録が可能な追記型の光記録媒体の無機系記録材料の記録原理としては、相変化型、分解型、２層の合金化型などによる光学的変化を用いる方法が知られているが、高密度記録媒体として知られる青色レーザーを用いた一層型の追記型光記録媒体は、分解型の無機系記録材料により実用化されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−０１８９８１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
多層型の光記録媒体では、前述の通り、透過型記録再生機能層には所定の透過率が必要となる。また、多層化が進むほど、即ち、記録再生機能層の数が増すほど、各記録再生機能層の透過率を更に大きくする必要が生じ、必然的に反射率、再生信号強度は小さくなるため、現存の記録材料の特性では必ずしも十分ではなくなってきている。特に、記録条件が最適の条件から多少ずれた場合であっても記録状態が大きく変化しないことが実用上重要となる。実際の記録においては最適の条件で記録が行われるとは限らないし、そもそも記録ドライブによりレーザー波形やレーザースポット形の違い等もあるため、光記録媒体にはある程度広い範囲の記録条件で優れた信号品質が得られることが求められるのである。代表的な記録再生特性として、記録パワー変化に対してどの程度の記録パワー範囲で、所定の記録特性が維持できるかという指標、すなわち記録パワーマージンが挙げられるが、この記録パワーマージンを大きくすることが重要な課題となる。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものである。即ち、本発明の目的は、記録再生特性に優れた光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の要旨は、基板上に少なくとも第１保護層、第１記録層、記録補助層、第２記録層、第２保護層をこの順に設けた記録再生機能層を有する光記録媒体において、前記記録補助層の融点と分解温度のうち低い方の温度が、前記第１記録層及び前記第２記録層の融点と分解温度のうち最も低い温度より低いことを特徴とする光記録媒体に存する。
【００１０】
また、本発明の別の要旨は、基板上に少なくとも第１保護層、第１記録層、記録補助層、第２記録層、第２保護層をこの順に設けた記録再生機能層を有する光記録媒体において、前記記録補助層が、前記第１記録層及び前記第２記録層より低い温度で光学的変化を起こすことを特徴とする光記録媒体に存する。
【００１１】
ここで、前記第１保護層及び前記第２保護層の融点と分解温度のうち低い方の温度が、前記第１記録層及び前記第２記録層の融点と分解温度のうち最も低い温度より低いことが好ましい。
また、前記第１記録層及び前記第２記録層の融点と分解温度のうち最も低い温度が、２０００℃より高いことが好ましい。
また、前記記録補助層の融点と分解温度のうち低い方の温度が、５００℃より高いことが好ましい。
また、前記第１記録層及び／又は前記第２記録層が、ニオブ窒化物及びマンガン窒化物を主成分とすることが好ましい。
【００１２】
さらに、記録層を複数有する多層型の光記録媒体において、透過型記録再生機能層に、前記記録再生機能層を用いることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、特に多層型の光記録媒体において、透過型記録再生機能層におけるジッタの記録パワーマージンの大きい、記録再生特性に優れた光記録媒体を得ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の単層型の追記型光記録媒体の層構成を模式的に表す断面図である。
【図２】本発明の多層型の追記型光記録媒体の層構成を模式的に表す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
［１．基本概念］
本発明の光記録媒体は、基板上に少なくとも第１保護層、第１記録層、記録補助層、第２記録層、第２保護層をこの順に設けた光記録媒体において、記録補助層の融点と分解温度のうち低い方の温度が、第１記録層及び第２記録層の融点と分解温度のうち低い方の温度より、低いことを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の別の要旨は、基板上に少なくとも第１保護層、第１記録層、記録補助層、第２記録層、第２保護層をこの順に設けた光記録媒体において、記録補助層が、第１記録層及び第２記録層より低い温度で光学的変化を起こすことを特徴とする光記録媒体に存する。
【００１７】
本発明者らは、本発明に至る過程において、ニオブ窒化物等の比較的安定な材料が記録層材料として機能する場合があることを見出した。つまり、特許文献１に示唆されているように、従来、融点及び分解温度が１５００℃以上と比較的高い材料については、単独では記録層材料に適さないと考えられていたが、このような高融点及び高分解温度を有する安定な材料でも、光記録媒体として優れた記録再生特性が得られる可能性を見出した。さらに、これらの材料を記録層として用いた場合に、層構成を前述の通り工夫することで、ジッタの記録パワーマージン等の記録再生特性の改善が可能であることを見出し本発明に至った。このような効果が得られる理由は必ずしも明らかではないが、本発明者らは、実験を積み重ねた結果、以下のような現象が関係しているのではないかと推測した。
【００１８】
前記の窒化ニオブのように、融点及び分解温度が比較的高い材料を記録層に用いた場合は、最適な記録パワーにおいては良好なジッタ値が得られるものの、記録パワーマージンが狭い傾向にあった。この理由は、融点及び分解温度が比較的高いために、低記録パワーでは光学的変化が発生しにくいためであると考えられる。ここで、より低記録パワー、すなわちより低温で光学的変化が発生する材料、すなわち融点及び分解温度が比較的低い材料を、前記記録層に組み合わせることで、広い記録パワー範囲において良好なジッタ特性を得ることができると考えた。つまり、より低い記録パワーにおいては、融点及び分解温度が比較的低い材料が光学的変化の発生を支配し、より高い記録パワーにおいては、融点及び分解温度が比較的高い材料が光学的変化の発生を支配することで、全体として広い記録パワー範囲で良好な記録再生特性がえられる、すなわち記録パワーマージンの良好な光記録媒体が実現できるのではないかと考えたのである。
そして、上記２種類の材料をどのように組み合わせるかについて鋭意検討した結果、本願発明の層構成に到達したものである。
【００１９】
本願発明において、第１記録層、第２記録層及び記録補助層は、光記録媒体の記録再生用のレーザー光の照射により、何らかの光学的変化を起こす材料であることが必要である。ここで、光学的変化とは、記録用のレーザー光の照射の前後において、反射率あるいは屈折率といった光学特性が変化することである。光学的変化が発生するということは、記録用のレーザー光の照射により到達する温度（以下、「記録温度」と記載）において、これらの材料の少なくとも一部が、例えば、融解、分解、蒸発、あるいは昇華等の、物理的もしくは化学的変化を起こしている可能性が高いものと考えられる。
【００２０】
なお、本願発明における、記録層及び記録補助層の融点及び分解温度は、記録層及び補助層を形成する材料のバルクの値とする。薄膜層状態での厳密な融点及び分解温度の同定は困難であり、バルクの値を用いても、相対関係に対する影響は小さいと考えるためである。また、後述するように、記録層及び記録補助層の材料としては、窒化物や酸化物が好適に用いられるが、窒化あるいは酸化度合によって、融点及び分解温度は若干影響を受けるものと考えられるが、薄膜層状態での厳密な組成の同定は困難であるため、窒化物及び酸化物の場合は、最も安定な組成における融点及び分解温度を、その記録層もしくは記録補助層の融点及び分解温度とみなすこととする。
【００２１】
さらに、本願発明を物性的な面から捉えると、記録補助層の融点と分解温度のうち低い方の温度（以下、Ｔｓｍと記載）が、第１記録層及び第２記録層の融点と分解温度のうち最も低い温度（以下、Ｔｒｍと記載）より、低いことが必要であるといえる。すなわち、Ｔｒｍ−Ｔｓｍ＞０であることが必要である。Ｔｒｍ−Ｔｓｍが大きいほど、記録パワーマージンを大きくできる傾向にあるが、あまり大きすぎると、記録パワーの変化による記録状態の推移が不連続となる可能性があり好ましくない。Ｔｒｍ−Ｔｓｍの値は１００℃以上が好ましく、３００℃以上が更に好ましく、５００℃以上が特に好ましい。また、２４００℃以下が好ましく、２２００℃以下が更に好ましく、２０００℃以下が特に好ましい。
【００２２】
ここで、第１保護層及び第２保護層の融点と分解温度のうち低い方の温度（以下、Ｔｐｍと記載）が、光学的変化の観点から、Ｔｒｍより低いことが好ましい。すなわち、Ｔｒｍ−Ｔｐｍ＞０であることが好ましい。Ｔｒｍ−Ｔｐｍが大きいほど、保護層材料が記録層の変形を柔軟に助長し、信号振幅が増大する傾向にあるが、あまり大きすぎると、界面での剥離が生じる可能性があり好ましくない。Ｔｒｍ−Ｔｐｍの値は３００℃以上が好ましく、４００℃以上が更に好ましく、５００℃以上が特に好ましい。また、２９００℃以下が好ましく、２７００℃以下が更に好ましく、２５００℃以下が特に好ましい。
【００２３】
また、Ｔｒｍの絶対値としては高いほど信号振幅が大きくなる傾向にあるため、２０００℃以上が好ましく、更に好ましくは２２００℃以上である。ただし、Ｔｒｍが高すぎると記録感度が劣化するため、４０００℃以下が好ましく、３２００℃以下が更に好ましい。
【００２４】
また、良好なパワーマージンを得るため、Ｔｓｍの絶対値としては、Ｔｒｍより低いことが必要とされるが、あまりに低すぎると、記録パワーの変化による記録状態の推移が不連続となる可能性があるため、５００℃より高いことが好ましく、更に好ましくは７００℃以上である。
【００２５】
また、第１記録層及び／又は第２記録層が、ニオブ窒化物及びマンガン窒化物を主成分とすることが好ましい。この理由を、本発明者等は以下のように推測している。
【００２６】
多くの金属窒化物を検討する中で、より融点の低い材料において、特に記録レーザーパワーが高い場合に、再生波形に歪が生じる傾向にあることが判明した。おそらく、光記録媒体に形成される一つの記録マーク内において、反射率が一定とならずに変化してしまうことにより、再生波形が歪んでしまうものと考えられる。光学計算の結果、記録層と保護層との界面（以下、単に「記録層界面」と記載することがある）で、記録層の膜が保護層から剥離し、空気等（屈折率１程度）の層が加わるとすると、空気の層が薄いときには反射率が下がり空気の層が厚くなると反射率が上がると思われることがわかった。したがって、再生波形が歪むという前記現象は、記録時の温度上昇で記録層界面がダメージを受け、記録膜が剥がれ、界面に空隙が生じたときに得られる波形であると考えられる。そして、ニオブ窒化物及びマンガン窒化物は、比較的高融点であること等の理由から、記録膜が剥がれにくい構造をとるような変化をするために良好な記録再生特性が得られるものと考えている。
【００２７】
また、透過型記録再生機能層においては、透過率を高めるために反射層を設けないことが好ましいが、反射層には記録時に記録層からの放熱を促進する機能があるため、反射層を設けない場合は記録層がより高温になることが予想される。本願発明の記録層は、上述の通り比較的Ｔｒｍが高い材料からなり、高温で記録膜が剥がれにくい特性を持つと考えられるため、記録層を複数有する多層型の光記録媒体における、反射層を有さない透過型記録再生機能層の記録層としても適していると考えられる。
【００２８】
以下、本発明の好ましい態様である追記型光記録媒体を例にとり、本発明の各実施形態についてより詳細に説明する。当然ながら、本発明に用いられる光記録媒体は、下記の追記型光記録媒体の態様に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で任意に変更して実施することができる。
【００２９】
なお、本発明の追記型光記録媒体において、本発明の記録層は第１記録層及び第２記録層からなり、本発明の記録再生機能層は、第１保護層、第１記録層、記録補助層、第２記録層、第２保護層から構成される。このため、単層型の追記型記録媒体という場合、本発明の記録再生機能層を１層有することをいい、２層型の追記型記録媒体という場合、本発明の記録再生機能層を２層有することをいい、多層型の追記型光記録媒体という場合、本発明の記録再生機能層を２層以上有することをいう。
【００３０】
［２．第１実施形態］
（Ａ）単層型の追記型光記録媒体について
図１は本発明の一実施形態に係る単層型の追記型光記録媒体１０１の一例を模式的に示す断面図である。図１に示すように、この追記型光記録媒体１０１は少なくとも、基板１上に第１保護層２、第１記録層３、記録補助層４、第２記録層５、レーザー光入射側の第２保護層６、光透過層７をこの順序で積層して構成されており、光透過層７側から記録再生用レーザー光８（以下、単に「レーザー光」と記載することがある）を入射して記録及び再生を行うものである。
【００３１】
層構成は図１の構成に限定する必要はない。例えば、第１保護層２と基板１の間に反射層を設けてもよいし、各層の界面に、必要に応じて界面層を設けることも可能である。また、各層それぞれの機能を向上させるため、異なる材料からなる複数の層を積層させることにより、各層を構成してもよい。
以下、各層について詳しく説明する。
【００３２】
（１）基板１について
本発明の追記型光記録媒体１０１に用いられる基板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリオレフィンなどの樹脂；ガラス；アルミニウム等の金属；を用いることができる。基板に深さ１０〜２５０ｎｍ程度の案内溝を設ける場合は、案内溝を射出成形によって形成できる樹脂製の基板が好ましい。
【００３３】
基板の厚さは、用途に応じて適宜決定されるものであり、通常下限が０．３ｍｍ以上、好ましくは０．５ｍｍ以上であり、上限が通常３ｍｍ以下、好ましくは２ｍｍ以下である。
【００３４】
（２）第１保護層２及び第２保護層６について
第１保護層２及び第２保護層６は、通常、以下の３つの役割を有する。すなわち、記録時に発生する熱が基板などの他の層に拡散するのを防止する役割、光記録媒体の反射率を光干渉効果により制御する役割、及び、高温・高湿環境下での水分を遮断するバリア層としての役割である。
【００３５】
第１保護層２及び第２保護層６（以下、単に「保護層」と記載することがある）を形成する材料としては、高透過率であることが前提であるため、通常、誘電体材料を挙げることができる。誘電体材料としては、例えば、Ｓｃ、Ｙ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｂ、及びＴｅ等の酸化物；Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｂ、及びＰｂ等の窒化物；Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、及びＳｉ等の炭化物；を挙げることができる。さらに、これら酸化物、窒化物及び炭化物の混合物を挙げることができる。また、他の誘電体材料としては、Ｚｎ、Ｙ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、及びＢｉ等の硫化物、セレン化物もしくはテルル化物、Ｍｇ、Ｃａ等のフッ化物、又はこれらの混合物を挙げることができる。
【００３６】
上記の材料の中でも、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＳｉＯ２、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＳｉＯＮ等が、高透過率、高成膜速度、低膜応力、温度変化による体積変化率の小ささ及び優れた耐候性から好ましい。
更に好ましくは、上記材料の混合物である、ＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２及びＺｎＳ−ＳｉＯ２である。
【００３７】
図１におけるレーザー光入射側の第２保護層６の膜厚は、通常２ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上である。上記範囲とすれば、基板や記録層の熱による変形を抑制する効果が得やすい。一方、第２保護層６の膜厚は通常１００ｎｍ以下、好ましくは８０ｎｍ以下、より好ましくは６０ｎｍ以下である。上記範囲とすれば膜自体の内部応力によるクラックの発生を防ぎ、生産性も良好に保つことができる。
【００３８】
一方、図１における基板側の第１保護層２の膜厚は、通常２ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上とする。この範囲とすれば、記録層の過度の変形を有効に抑制できるようになる。一方、基板側の第１保護層２の膜厚は、通常１００ｎｍ以下、好ましくは８０ｎｍ以下である。この範囲とすれば、記録層等に対する冷却効果が得られ、記録マーク長の制御性を確保できるようになる。
【００３９】
また、第１保護層２及び第２保護層６はいずれも、異なる材料を複数積層させた構成をとってもよい。異なる材料を積層させることで、保護層としての機能をより向上させることができる可能性がある。
【００４０】
保護層は通常スパッタリング法で形成されるが、ターゲットそのものの不純物量や成膜時に混入する水分や酸素量も含めて、全不純物量を２原子％未満とするのが好ましい。このため、保護層をスパッタリング法によって形成する際、プロセスチャンバの到達真空度は１×１０−３Ｐａ未満とすることが望ましい。
【００４１】
（３）第１記録層３及び第２記録層５について
本発明の第１記録層３及び第２記録層５（以下、単に「記録層」と記載することがある）は、前述の通り比較的高い記録パワーで光学的変化を起こす材料を用いる必要があり、且つ、記録時の温度上昇で記録層界面がダメージを受けることを避けるため、融点もしくは分解温度が比較的高い材料が用いられる。しかしながら、あくまでＴｒｍがＴｓｍより大きいという相対関係が重要であるため、記録層の材料も記録補助層との組み合わせにより種々の材料が利用可能である。一方で、比較的透過率の高い材料が望まれるため、金属窒化物、金属酸化物、金属炭化物、金属フッ化物等が好ましい。中でも、生産性等の面から、金属窒化物、金属酸化物が好ましい。
【００４２】
このような金属酸化物、金属窒化物としては、Ｎｂ、Ｍｎ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａの群から選ばれる少なくとも１種の窒化物及び酸化物が挙げられる。もちろん、これらの窒化物及び／又は酸化物を２種類以上混合した材料を用いても良い。
これらの中でも特に好ましいのは、Ｎｂ窒化物及びＭｎ窒化物である。
また、第１記録層３と第２記録層５は、異なる材料を用いてもよいし、同じ材料を用いてもよいが、生産性の面からは同じ材料を用いることが好ましい。
【００４３】
第１記録層３及び第２記録層５の膜厚は、用途、望まれる特性に応じて適宜決定されるものであるが、それぞれ、通常２ｎｍ以上、好ましくは３ｎｍ以上、更に好ましくは５ｎｍ以上である。この範囲とすることにより、入射したレーザー光の吸収が大きくなり感度が良好となる上、記録信号の振幅も十分高いものとなる。一方、第１記録層及び第２記録層の膜厚は、それぞれ、通常４０ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以下である。この範囲とすることにより、記録層でのレーザー光の吸収を低く抑えられるため反射率及び透過率が低下しにくく、ジッタも良好となる傾向にある。
【００４４】
記録層は、スパッタリング法によって形成することが好ましい。複数の元素から成る記録層を形成する場合は、合金ターゲットを用いてもよいし、複数の単体のターゲットから同時に放電させるコスパッタリング法により形成してもよい。また、窒素や酸素といったガス元素を含有させる場合は、ターゲットに含有させてもよいし、一般的なスパッタガスであるＡｒ等に、窒素あるいは酸素等を混合させ、反応性スパッタリング法を用いて記録層に含有させても良い。
【００４５】
（４）記録補助層４について
記録補助層４は、前述の通り、融点もしくは分解温度が比較的低い材料が用いられる。また、保護層と同様、比較的透過率の高い材料が望まれるため、例としては保護層と同様の材料が挙げられる。これらの中でも特に好ましいのは、ＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、Ｚｎ酸化物、Ｉｎ酸化物、Ｓｉ酸化物である。
【００４６】
記録補助層４は記録層とともに記録に寄与するため、記録補助層４の好ましい膜厚は記録層と同様であり、通常２ｎｍ以上、好ましくは３ｎｍ以上、更に好ましくは５ｎｍ以上であり、通常４０ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以下である。
記録補助層４も、スパッタリング法で形成することが好ましく、製造方法については保護層、記録層と同様である。
【００４７】
（５）第１記録層３と記録補助層４と第２記録層５との関係について
本発明の記録層は、記録時の温度上昇で記録層界面がダメージを受け、保護層から剥がれて界面に空隙が生じるのを避けるため、保護層と接する面には、融点もしくは分解温度が比較的高い第１記録層３及び第２記録層５を設けることが好ましい。また、融点及び分解温度が比較的高い材料を用いる第１記録層３及び第２記録層５に、融点及び分解温度が比較的低い材料を用いる記録補助層４を組み合わせることで、広い記録パワー範囲において良好なジッタ特性を得る観点から、記録補助層４は、第１記録層３及び第２記録層５の間に設けることが好ましい。すなわち、本発明において、第１保護層２と第２保護層６との間には、第１記録層３、記録補助層４、及び第２記録層５をこの順で設けることが好ましい。
【００４８】
本発明の追記型光記録媒体１０１は、第１記録層３、記録補助層４、及び第２記録層５をこの順で設けているため、主に、第１記録層３、記録補助層４、及び第２記録層５が光学的変化を起こすことで、情報の記録が行われる。
【００４９】
記録再生用レーザー光８による良好な記録・再生特性を得るために、第１記録層３、記録補助層４、及び第２記録層５の合計の膜厚は、通常９ｎｍ以上、好ましくは１２ｎｍ以上、さらに好ましくは１５ｎｍ以上であり、通常３５ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以下である。
【００５０】
（６）光透過層７について
本発明の光記録媒体において、光透過層７は必ずしも設ける必要は無いが、以下の役割があるため、適当な光透過層７を設けることが好ましい。
本発明の光透過層７は、記録層等を水分や塵埃から保護する役割を有する。また、記録再生用レーザー光に対して透明で複屈折の少ない材料が選ばれ、通常は、プラスチック板（シートと呼ぶ）を接着剤で貼り合せるか、放射線硬化性樹脂もしくは熱硬化性樹脂等を塗布後、放射線、または熱等で硬化させることにより形成する。光透過層７は、記録再生光の波長λに対して透過率７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【００５１】
シート材として用いられるプラスチックは、ポリカーボネート、ポリオレフィン、アクリル、三酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート等である。接着には、光、放射線硬化、熱硬化樹脂や、感圧性の接着剤が用いられる。感圧性接着剤としては、また、アクリル系、メタクリレート系、ゴム系、シリコン系、ウレタン系の各ポリマーからなる粘着剤を使用できる。
【００５２】
塗布法によって光透過層７を形成する場合には、スピンコート法、ディップ法等が用いられるが、特に、ディスク状の光記録媒体に対してはスピンコート法を用いることが好ましい。塗布による光透過層７の材料としては、ウレタン、エポキシ、アクリル系の樹脂等を用い、塗布後、紫外線、電子線、放射線を照射し、ラジカル重合もしくは、カチオン重合を促進して硬化する。
【００５３】
前記光透過層７の材料としては、透明性、耐久性の観点から、アクリル系、メタクリレート系のオリゴマーおよび／またはモノマーからなる組成物が好ましい。より具体的には、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｉｓｏ−オクチルアクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレートモノマーの１種または２種以上が均一に混合された組成物が好ましい。オリゴマーの分子量調整、モノマーの種類および混合量の調整により、ガラス転移温度Ｔｇ、タック性能（低い圧力で接触させたときに直ちに形成される接着力）、剥離強度、せん断保持力等の物性を制御することができる。
【００５４】
また、光透過層７には、さらにその入射光側表面に耐擦傷性、耐指紋付着性といった機能を付与するために、表面に厚さ０．１μｍ〜５０μｍ程度のハードコート層を別途設けてもよい。光透過層７の厚みは、記録再生光の波長λや対物レンズ２８のＮＡ（開口数）にもよるが、０．０１ｍｍ以上が好ましく、０．０５ｍｍ以上がさらに好ましく、また、０．３ｍｍ以下が好ましく、０．１５ｍｍ以下がより好ましい。接着層やハードコート層等の厚みを含む全体の厚みは、光学的に許容される厚み範囲となるようにするのが好ましい。たとえば、いわゆるブルーレイディスクでは、１００μｍ±３μｍ程度以下に制御するのが好ましい。
【００５５】
（７）その他の層について
単層型の光記録媒体においては、記録再生機能層としての透過率を高くする必要性が低いため、図１における基板１と第１保護層の間に反射層を設けることが好ましい。高い反射率を実現できるからである。
【００５６】
反射層には、記録再生光の波長λに対する反射率が高く、７０％以上の反射率を有するものが好ましい。一般に、記録再生光として用いられる可視光の波長範囲で高反射率を示すものとして、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ及びこれらを主成分とする合金が挙げられる。この中でも、波長λ＝３５０〜４５０ｎｍでの反射率が高く、吸収が小さいＡｇを主成分とする合金が好ましい。Ａｇを主成分として、Ａｕ、Ｃｕ、希土類元素（特に、Ｎｄ、Ｅｕ）、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ等を０．０１原子％〜１０原子％加えることで、水分、酸素、硫黄等に対する耐食性が高めることができ好ましい。
【００５７】
反射層の膜厚は、好ましくは４０ｎｍ以上、さらに好ましくは６０ｎｍ以上、また好ましくは１２０ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下である。膜厚が厚いほど高い反射率が得られるが、生産性と記録再生特性のバランスを鑑みると、上記範囲が適当である。
【００５８】
反射層は、スパッタリング法、イオンプレーティング法や、電子ビーム蒸着法など公知の方法で形成することができるが、スパッタリング法で形成するのが好ましい。
【００５９】
［３．第２実施形態］
（Ｂ）多層型の追記型光記録媒体について
以下、本発明の特に好ましい態様である多層型の追記型光記録媒体を例にとり、本発明をより詳細に説明する。
【００６０】
先に述べたとおり、記録再生用のレーザー光の入射側から最も遠い記録再生機能層である最外記録再生機能層では、透過率を大きくする必要が低いが、最外記録再生機能層以外の記録再生機能層である透過型記録再生機能層においては、一定以上の透過率が必要とされる。記録再生用レーザー光における透過型記録再生機能層の透過率は、記録再生機能層の数にもよるが、少なくとも３０％以上、好ましくは４０％以上、更に好ましくは５０％以上あることが望ましい。
【００６１】
多層型の光記録媒体の透過型記録再生機能層には、上記の高透過率が要求されるため、記録層自身が高透過率であることが必要である。更に、記録再生機能層としても高透過率を有する必要があるため、反射層を有さずとも優れた記録再生特性を実現することが求められる。本発明の記録再生機能層は、上述の通り、記録層が比較的Ｔｒｍが高い材料からなり、記録時の温度上昇でダメージを受けにくい特性を持つと考えられ、反射層が無くとも優れた記録再生特性を得られるため、特に多層型光記録媒体の透過型記録再生機能層に好適に用いることができる。
【００６２】
図２は本発明を用いることができる２層型の追記型光記録媒体１０２の一例を示す断面図である。最外記録再生機能層２１は、図１に示した単層型の光記録媒体の構成から、基板と光透過層を除いた構成を用いればよい。
【００６３】
図２に示すように、２層型の追記型光記録媒体１０２は、基板１１上に最外記録再生機能層２１を設け、中間層２２を介して、少なくとも第１保護層１２、第１記録層１３、記録補助層１４、第２記録層１５、レーザー光入射側の第２保護層１６、光透過層１７をこの順序で積層して構成されており、光透過層１７側から記録再生用のレーザー光１８を入射して記録及び再生を行うものである。
【００６４】
層構成は図２の構成に限定する必要はない。例えば、最外記録再生機能層２１と基板１１との間に反射層を設けてもよいし、各層の界面に、必要に応じて界面層を設けることも可能である。また、各層それぞれの機能を向上させるため、異なる材料からなる複数の層を積層させることにより、各層を構成してもよい。
以下、各層について詳しく説明する。
【００６５】
（１）基板１１について
本発明の２層型の追記型光記録媒体１０２に用いられる基板１１は、単層型の追記型光記録媒体１０１の基板１と同様である。
【００６６】
（２）第１保護層１２及び第２保護層１６について
本発明の２層型の追記型光記録媒体１０２に用いられる第１保護層１２及び第２保護層１６は、膜厚以外の点については単層型の追記型光記録媒体１０２の第１保護層２及び第２保護層６と同様である。
第１保護層１２及び第２保護層１６の膜厚については、上述した保護層の役割を果たすため、通常２ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、更に好ましくは１０ｎｍ以上であり、通常１００ｎｍ以下、好ましくは８０ｎｍ以下、更に好ましくは６０ｎｍ以下である。
【００６７】
（３）第１記録層１３及び第２記録層１５について
本発明の２層型の追記型光記録媒体に用いられる記録層は、単層型の追記型光記録媒体の第１記録層３及び第２記録層５と同様である。
【００６８】
（４）記録補助層１４について
本発明の２層型の追記型光記録媒体に用いられる記録補助層は、単層型の追記型光記録媒体の記録補助層４と同様である。
【００６９】
（５）光透過層１７について
本発明の２層型の追記型光記録媒体に用いられる光透過層は、膜厚以外の点については単層型の追記型光記録媒体の光透過層７と同様である。
光透過層１７の厚みは、記録再生光の波長λや対物レンズ２８のＮＡ（開口数）にもよるが、０．０１ｍｍ以上が好ましく、０．０５ｍｍ以上がさらに好ましく、また、０．３ｍｍ以下が好ましく、０．１５ｍｍ以下がより好ましい。後述の中間層２２の厚みと光透過層１７の合計の厚みが、光学的に許容される厚み範囲となるようにするのが好ましい。たとえば、いわゆるブルーレイディスクでは、７５μｍ±３μｍ程度以下に制御するのが好ましい。
【００７０】
（６）最外記録再生機能層２１について
本発明の２層型の追記型光記録媒体に用いられる最外記録再生機能層２１は、前述した単層型の追記型光記録媒体の層構成から基板及び光透過層を除いた層構成としてもよいし、従来公知の記録再生機能層を用いてもよい。最外記録再生機能層２１におけるジッタの記録パワーマージンの向上の観点からは、本発明の単層型の追記型光記録媒体の層構成から基板及び光透過層を除いた層構成とすることが好ましい。
【００７１】
本発明の２層型の追記型光記録媒体１０２に用いられる最外記録再生機能層２１は、上述したとおり、基板側から、第３保護層、第３記録層、第２記録補助層、第４記録層、第４保護層をこの順序で順次積層して構成されているものである。
第３保護層、第３記録層、第２記録補助層、第４記録層、及び第４保護層は、それぞれ単層型の追記型光記録媒体の第１保護層２、第１記録層３、記録補助層４、第２記録層５、及び第２保護層６と同様である。
第３記録層と第２記録補助層と第４記録層との関係は、単層型の追記型光記録媒体の第１記録層３と記録補助層４と第２記録層５との関係と同様である。
【００７２】
（７）中間層２２について
多層型の光記録媒体においては、積層された異なる記録再生機能層に、個別にレーザー光を照射し記録再生を行う必要があるため、各記録再生機能層を光学的に分離する必要がある。そのため、各記録再生機能層の間に中間層２２を設けることが一般的である。中間層２２には、上記の機能を果たすために、記録再生用のレーザー光に対し十分な透過率を有し、一定以上の膜厚を有することが求められる。また、光記録媒体全体の反りを抑制するために、比較的柔らかく収縮率が小さい材料を用いることが望まれる。これらの要求を満たす材料として、放射線硬化性樹脂材料が好適に用いられる。放射線硬化性樹脂材料としては、電子線や紫外線の照射で硬化する材料を挙げることができるが、工業生産性を考慮すると、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。
上記観点から、中間層２２に用いる樹脂の記録再生用レーザー光の波長における透過率は通常９０％以上、好ましくは９５％以上である。
【００７３】
また、中間層２２に用いる樹脂の２５℃における弾性率は、通常１５００ＭＰａ以下、好ましくは５００ＭＰａ以下である。また、中間層２２に用いる樹脂の収縮率は、通常８％以下、好ましくは４％以下である。中間層２２に用いる樹脂の弾性率及び収縮率を上記範囲とすれば、光記録媒体の反りを効果的に抑制することができる。
【００７４】
また、図示していないが、本実施の形態において、中間層２２は単層構造であっても、複数層を積層した構造であってもよい。複数層を積層した構造として、それぞれの層に用いる樹脂の種類を適宜制御することにより、中間層全体の弾性率や収縮率を精密に制御して、光記録媒体の反りをより低減しやすくなる利点が発揮される。
【００７５】
中間層２２の膜厚は、通常１０μｍ以上、好ましくは１５μｍ以上である。一方、中間層の膜厚は、通常５０μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下である。このような範囲とすることで、記録再生に必要な各記録再生機能層の光学的分離状態を実現し、反りの小さな光記録媒体の実現が可能である。
【００７６】
紫外線硬化性樹脂は、通常、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製する。その後、この塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって、中間層２２を形成することができる。上記材料は単独または混合して用いても良い。
【００７７】
塗布方法としては、スピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられ、この中でもスピンコート法が好ましい。高粘度の樹脂を用いた中間層１８は、スクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、２０℃〜４０℃において液状であるものを用いると、生産性の観点から、溶媒を用いることなく塗布しやすくなるので好ましい。また、塗布液の粘度は２０ＭＰａ・ｓ〜１５００ＭＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。より好ましくは、塗布液の粘度を１０００ＭＰａ・ｓ以下とすることである。塗布液の粘度を上記範囲とすることで膜厚分布を均一にして塗布を行うことができる。
紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系紫外線硬化性樹脂とカチオン系紫外線硬化性樹脂とが挙げられ、いずれも使用することができる。
【００７８】
カチオン系紫外線硬化性樹脂は、収縮率が小さい性質を有するので、光記録媒体の反りを低減するために用いることが好ましい。以下、ラジカル系紫外線硬化性樹脂及びカチオン系紫外線硬化性樹脂について説明する。
【００７９】
ラジカル系紫外線硬化性樹脂は、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、従来公知の単官能（メタ）アクリレート及び多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。
更に、ラジカル系紫外線硬化性樹脂には、通常、光重合開始剤を配合する。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが好ましい。
また、これらの光重合開始剤とともに、増感剤を併用することができる。
【００８０】
カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、例えば、カチオン重合型の光重合開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ樹脂としては遊離した塩素及び塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量は、１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
【００８１】
また、紫外線硬化性樹脂には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤、及びエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
【００８２】
また、中間層２２の表面には、通常、その上に積層される記録再生機能層のために、案内溝が形成される場合がある。多層の記録層を有する光記録媒体において、基板表面以外の樹脂層に案内溝を形成する場合は、フォトポリメリゼーション法（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：以下、「２Ｐ法」と記載することがある。）と呼ばれる公知の製造方法を用いることが一般的である。
【００８３】
２Ｐ法の場合、基板表面以外の樹脂層への案内溝の形成は、通常以下のようにして行われる。すなわち、まず、基板上に最外記録再生機能層を形成した後に、紫外線硬化性樹脂原料等を塗布して樹脂層を形成した後、この上に案内溝の転写用の凹凸形状（以下適宜、「転写用凹凸形状」という）を有するスタンパを載置する。次いで、上記光硬化性樹脂原料等を硬化させた後に、スタンパを剥離する。このようにして、光硬化性樹脂の表面にスタンパの転写用凹凸形状を転写させて、凹凸形状を有する樹脂層を硬化性樹脂の硬化物によって形成することができるようになっている。
【００８４】
この場合、中間層２２を２種類の樹脂層により形成することが好ましい。すなわち、第１の樹脂層を形成後、より転写性に優れた材料である第２の樹脂層（以下、転写層と記載）を形成し、転写層上に案内溝を形成することが好ましい。その場合、上述のように転写層を形成する第２の樹脂層材料を塗布形成してからスタンパを載置してもよいが、転写層を形成する第２の樹脂層材料をスタンパに塗布形成して仮硬化を行い、その後、上記第１の樹脂層を形成した基板と貼り合せ、再度十分な硬化を行うことで第１の樹脂層と転写層を接着させた後に、スタンパを剥離し、転写層を含む中間層を形成する方法も好ましく用いられる。この場合、スタンパ剥離後に、更に硬化を行うことが好ましい。
【００８５】
（８）その他の層について
前述の通り、単層型の光記録媒体の場合とは異なり、透過型記録再生機能層においては反射層を設けない方が好ましいが、透過率の低下を極力抑えるために、膜厚を極端に薄くした半透明反射層を設けてもよい。
【００８６】
半透明反射層の好ましい材料としては、反射層の場合と同様であるが、膜厚は２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは１５ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。また、極端に薄すぎては放熱性悪化により後述のジッタ特性が不良となる可能性があるため、薄くても３ｎｍ以上が好ましい。
他の界面層等を設ける場合も、材料及び膜厚は透過率低下を極力抑えるように選択することが好ましい。
【００８７】
（９）３層以上の記録再生機能層を有する多層型光記録媒体について
図２においては、記録再生機能層を２層有する光記録媒体を例にとって説明したが、当然ながら記録再生機能層を３層以上有する光記録媒体においても、本発明は適用可能である。図２の層構成に対し、中間層と記録再生機能層を順次積層していけばよい。
【実施例】
【００８８】
本発明は、多層記録媒体における透過型記録再生機能層に適用することが好ましいため、以下のとおり厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート製の基板上に反射層の無い記録再生機能層を１層形成し、その上に７５μｍの厚さの紫外線硬化樹脂からなる光透過層を形成した光記録媒体を作製し評価した。基板上に形成した案内溝は、溝幅を０．１９５μｍ、溝深さを２０ｎｍ、トラックピッチを０．３２μｍとした。なお、光記録媒体への記録は、光透過層側から記録再生用のレーザー光を照射し、案内溝の凹凸のうち記録再生用レーザー光の入射側に近い凸部を記録トラックとして行った。上記溝深さ及び溝幅は、記録トラックである凸部の幅と深さである。光透過層以外の記録再生機能層はスパッタリング法を用いて形成した。光透過層はスピンコートにより塗布後、紫外線照射により硬化させて形成した。
【００８９】
＜記録再生特性（マルチトラックジッタ）の評価法＞
記録再生特性の評価には、パルステック社製ＯＤＵ１０００テスター（Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ用、波長約４０６ｎｍ、ＮＡ＝０．８５）を用いた。線速度４．９２ｍ／ｓ（１倍速）とし、光透過層側からレーザー光を入射させ記録トラック部にフォーカスサーボ及びトラッキングサーボをかけ、１−７ＰＰの記録符号化方式を用いた信号の記録再生特性を評価した。クロック周波数は、Ｂｌｕ−ｒａｙＤｉｓｃの１倍速における基準クロック周波数６６ＭＨｚとした。マルチトラックジッタは、連続する５トラックに記録した後、中心トラックの記録信号をリミットイコライザにより波形等化した後２値化をおこない、２値化した信号の立ち上がりエッジおよび立ち下がりエッジと周期信号の立ち上がりエッジとの時間差の分布をタイムインターバルアナライザにより測定し、基準クロック周期に対する百分率で表した数値を用いた（ｄａｔａ  ｔｏ  ｃｌｏｃｋ  ｊｉｔｔｅｒ）。記録信号には分割パルスを用い、基準クロック周期をＴとして、長さｎＴのマークを記録する場合に記録パワーを有するｎ−１個のパルスに分割する方式を用いた。パルス分割時の詳細な条件については、光記録媒体ごとに最適化したもの用いた。
【００９０】
ジッタ測定時は記録パワーを６〜１２ｍＷの範囲で変化させ、得られたマルチトラックジッタの記録パワーマージンを評価した。具体的には、マルチトラックジッタ値が１０．０％となる記録パワー値の内、低パワー側の数値をＰｊｌ、高パワー側の数値をＰｊｈとし、マルチトラックジッタの記録パワーマージンＰｊｍを、
Ｐｊｍ＝１００×（Ｐｊｈ−Ｐｊｌ）／（Ｐｊｈ＋Ｐｊｌ）（％）
として算出した。Ｐｊｍが大きいほど広い記録パワー範囲で良好なジッタが得られることとなり、記録再生特性が優れた光記録媒体であると言える。実用上、Ｐｊｍは１５％以上あることが好ましい。
【００９１】
（実施例１）
記録再生機能層として、基板側から第１保護層としてＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２（２０ｎｍ）、第１記録層としてＮｂ窒化物（膜厚５ｎｍ）、記録補助層としてＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２（膜厚１０ｎｍ）、第２記録層としてＮｂ窒化物（膜厚５ｎｍ）、第２保護層としてＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２（膜厚２０ｎｍ）、を順に設けた構成とした。
【００９２】
ＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２層は、ＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２ターゲットを用い、Ａｒ流量２５ｓｃｃｍ（約０．２８Ｐａ）、ＤＣ３００Ｗのスパッタ条件で形成した。Ｎｂ窒化物層はＮｂターゲットを用い、Ａｒ流量２５ｓｃｃｍ、Ｎ２流量３０ｓｃｃｍ（約０．５Ｐａ）、ＤＣ３００Ｗのスパッタ条件で形成した。なお、本明細書において単位ｓｃｃｍとは流量の単位で、大気圧（１０１０ｈＰａ）、室温（０℃）で規格化されたｃｃ／ｍｉｎ（立方センチメートル毎分）の単位を表わす。
【００９３】
（実施例２）
記録補助層を（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０（膜厚１０ｎｍ）としたこと以外は実施例１と同様の層構成とした。（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０層は（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０ターゲットを用い、Ａｒ流量２５ｓｃｃｍ（約０．２８Ｐａ）、ＲＦ５００Ｗのスパッタ条件で形成した。
【００９４】
（実施例３）
第１記録層及び第２記録層をＭｎ窒化物（膜厚５ｎｍ）としたこと以外は実施例１と同様の層構成とした。Ｍｎ窒化物層はＭｎターゲットを用い、Ａｒ流量２６ｓｃｃｍ、Ｎ２流量３０ｓｃｃｍ（約０．５Ｐａ）、ＤＣ３００Ｗのスパッタ条件で形成した。
【００９５】
（実施例４）
記録補助層をＺｎ酸化物（膜厚１０ｎｍ）としたこと以外は実施例１と同様の層構成とした。Ｚｎ酸化物層はＺｎ酸化物ターゲットを用い、Ａｒ流量３０ｓｃｃｍ、Ｏ２流量２０ｓｃｃｍ（約０．５５Ｐａ）、ＲＦ５００Ｗのスパッタ条件で形成した。
【００９６】
（実施例５）
記録補助層をＩｎ酸化物（膜厚１０ｎｍ）としたこと以外は実施例１と同様の層構成とした。Ｉｎ酸化物層はＩｎターゲットを用い、Ａｒ流量３０ｓｃｃｍ、Ｏ２流量２０ｓｃｃｍ（約０．５０Ｐａ）、ＲＦ３００Ｗのスパッタ条件で形成した。
【００９７】
（実施例６）
記録補助層をＳｉ酸化物（膜厚１０ｎｍ）としたこと以外は実施例１と同様の層構成とした。Ｓｉ酸化物層はＳｉターゲットを用い、Ａｒ流量３０ｓｃｃｍ、Ｏ２流量２０ｓｃｃｍ（約０．５０Ｐａ）、ＲＦ３００Ｗのスパッタ条件で形成した。
【００９８】
（比較例１）
記録再生機能層として、基板側から第１保護層としてＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２（膜厚２０ｎｍ）、記録層としてＮｂ窒化物（膜厚１０ｎｍ）、第２保護層としてＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２（膜厚２０ｎｍ）、を順に設けた構成とした。各材料のスパッタ条件は実施例１と同条件とした。
【００９９】
（比較例２）
記録層膜厚を２０ｎｍとしたこと以外は比較例１と同様の層構成とした。
【０１００】
（比較例３）
記録再生機能層として、基板側から第１保護層として（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０（膜厚２５ｎｍ）、記録層としてＮｂ窒化物（膜厚１０ｎｍ）、第２保護層として（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０（膜厚２５ｎｍ）、を順に設けた構成とした。各材料のスパッタ条件は実施例２と同条件とした。
【０１０１】
（比較例４）
記録層としてＭｎ窒化物（膜厚１０ｎｍ）としたこと以外は比較例３と同様の層構成とした。
【０１０２】
（比較例５）
記録補助層をＴｉ窒化物（膜厚１０ｎｍ）としたこと以外は実施例１と同様の層構成とした。Ｔｉ窒化物層はＴｉターゲットを用い、Ａｒ流量２６ｓｃｃｍ、Ｎ２流量３０ｓｃｃｍ（約０．５０Ｐａ）、ＤＣ３００Ｗのスパッタ条件で形成した。
【０１０３】
（評価結果）
各光記録媒体の諸元と、得られたマルチトラックジッタの記録パワーマージンの値を表１に、記録層及び記録補助層に用いた材料の融点又は分解温度の値を表２に示す。表２において、出典はそれぞれ以下の通りである。
文献１：丸善株式会社  カーク・オスマー化学大辞典  昭和６３年９月２０日発行
文献２：丸善株式会社  化学便覧  基礎編Ｉ  改訂５版  平成１６年２月２０日発行
文献３：株式会社岩波書店  岩波理化学辞典  第４版  １９９４年７月１８日発行
【０１０４】
【表１】
2014026685.tif 000003
【０１０５】
【表２】
2014026685.tif 000004
【０１０６】
なお、比較例１〜４は記録補助層が存在しないため記録層が単層であるが、同一膜厚、同一材料で第１記録層及び第２記録層を積層したものとみなして記載した。
【０１０７】
表２に示した通り、実施例１〜６において記録補助層として用いた材料はいずれも、第１及び第２記録層として用いたＮｂ窒化物及びＭｎ窒化物よりも融点もしくは分解温度が低い。一方、比較例５において記録補助層として用いたＴｉ窒化物は、第１及び第２記録層として用いたＮｂ窒化物よりも融点もしくは分解温度が高い。
【０１０８】
また、実施例１〜６、比較例１、２、５において第１及び第２保護層に用いたＳｎＯ２−ＺｎＯ−Ｉｎ２Ｏ３−ＳｉＯ２、及び比較例３、４において第１及び第２保護層に用いた（ＺｎＳ）８０（ＳｉＯ２）２０は、表２から、第１及び第２記録層として用いたＮｂ窒化物及びＭｎ窒化物よりも融点もしくは分解温度が低いと考えられる。
【０１０９】
表１に示した評価結果から、実施例１及び実施例２の光記録媒体は、記録補助層を設けなかった比較例１よりも、優れた記録パワーマージンを示した。比較例１から、記録層膜厚や保護層材料を変更した比較例２、３に対しても同様の結果であり、記録層膜厚や保護層材料を変更する以上の効果が実施例１及び２で得られていることが判る。
【０１１０】
同様に、第１及び第２記録層としてＭｎ窒化物を用いた実施例３においても、記録補助層を設けなかった比較例４と比べて優れた記録パワーマージンを示しており、異なる記録層材料を用いた場合でも、本願発明の効果が得られていることが明らかである。
【０１１１】
また、実施例４〜６の光記録媒体は、Ｔｒｍ−Ｔｓｍ＞０の関係を保ったまま、記録補助層に種々の材料を用いた例であり、比較例５は、Ｔｒｍ−Ｔｓｍ＜０となる記録補助層材料を選択した例である。比較例５に比べ、実施例４〜６は明らかに優れた記録パワーマージンを示しており、本願発明の効果が得られていることが明らかである。
【符号の説明】
【０１１２】
１、１１・・・基板
２、１２・・・第１保護層
３、１３・・・第１記録層
４、１４・・・記録補助層
５、１５・・・第２記録層
６、１６・・・第２保護層
７、１７・・・光透過層
８、１８・・・記録再生用レーザー光
２１    ・・・最外記録再生機能層
２２    ・・・中間層
１０１、１０２・・・追記型光記録媒体
【図１】
2014026685.tif 000005
【図２】
2014026685.tif 000006