(57)【要約】【課題】  本発明は疎水処理された多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤を含有した湿式成形色調化粧料及びその製造方法に関するものである。【解決手段】  より詳しくは多孔性シリカの表面をシリレーション(Silylation)反応を通じて疎水化処理した後、有機紫外線遮断剤を堆積させ得られた疎水処理された多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤を含有した湿式成形色調化粧料を提供するものである。これを通じて本発明は多孔性シリカの表面を疎水処理することで有機紫外線遮断剤を安定的に堆積させ湿式成形色調化粧料を製造するのに揮発性溶剤と分散及び乾燥時に有機紫外線遮断剤が多孔性シリカの外部に出て消失することを防ぎ製形化の安定性を確保できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリレーション反応を通じて疎水処理された多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤を含んだ湿式成形色調化粧料。
【請求項２】
第1項において、
シリレーション反応はHexamethyldisilazane、1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-diphenyldisilazane及びN,N′-Bis(trimethylsilyl)ureaの中から選択されたシリレーション物質を使用して遂行されたことを特徴とする湿式成形色調化粧料。
【請求項３】
第2項において、
シリレーション物質は多孔性シリカの総重量100重量部に対して0.1〜10.0重量部で使用されることを特徴とする湿式成形色調化粧料。
【請求項４】
第1項において、
有機紫外線遮断剤はエチルヘキシルメトキシシンナーメイト、エチルヘキシルシリケート、オキシルディメチルパラ-アミノベンゾオキサン、ブチルメトキシディベンゾイルメタン、オキシルメキトシシンナーメイト、オクチルサリチルレート、オキトクリルレン、ブチルメトキシディベンゾイルメタン、オキシベンゾン、オキシルトリアゾン、メンチルアントラニルレート、3、4-メチルベンジルリデンケンパー及びビス-エチルオキシペノルメトキシペニルトリアジンの中で選択された少なくとも一つ含むこと特徴とする湿式成形色調化粧料。
【請求項５】
第1項において、
疎水処理された多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤は疎水処理された多孔性シリカの総重量100重量部に対して有機紫外線遮断剤を20〜100重量部含むことを特徴とする湿式成形色調化粧料。
【請求項６】
第1項において、
湿式成形色調化粧料は疎水処理された多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤を含むパウダー成分及びバインダー成分を含むことを特徴とする湿式成形色調化粧料。
【請求項７】
第1項又は第5項において、
湿式成形色調化粧料は疎水処理された多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤を有機紫外線遮断剤の量を基準に0.1〜10.0重量％で含むことを特徴とする湿式成形色調化粧料。
【請求項８】
多孔性シリカの表面をシリレーションを通じて疎水化させる段階；前段階から得られた疎水処理された多孔性シリカに有機紫外線遮断剤を堆積させる段階；及び前段階から得られた疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含むパウダー成分及びバインダー成分を混合した後粉砕して粉砕混合物を得て、上記粉砕混合物をエタノール、水、グリセリンからなる揮発性溶剤に分散させスラリー状で製造した後、スラリー状を成形器上に一定量充填させた後、成形物を乾燥して揮発性溶剤を除去する段階；を含む湿式成形色調化粧料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は多孔性シリカに有機紫外線遮断剤を安定して堆積して製形化の安定性を強化できる湿式成形色調化粧料及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近わが国で紫外線による皮膚疾患が増加し、特に20〜30台の若者層でもシミや皮膚癌患者が急増したことがわかり、紫外線遮断の重要性が台頭している。特に男性は野外活動が多いにもかかわらず紫外線遮断に無関心な傾向があり、大韓皮膚科学会の調査によると20〜30台男性の皮膚癌患者が10年前に比べ5倍も増加したとされている。このように紫外線は美容だけではなく健康とも密接な関係にある。
【０００３】
太陽光線は波長の長さによって大きく可視光線、赤外線、紫外線に区別される。その中でも紫外線は可視光線の紫色より短い光線でUV(Ultraviolet)と呼ばれ、三つの領域に分かれる。紫外線A(UV-A)は皮膚を黒くする主原因であり、皮膚の真皮まで浸透して皮膚の再生機能を妨害し、しわを作り老化を促進させる。紫外線B(UV-B)はUV-Aより波長が短く真皮まで浸透しないが、角質層を厚くし皮膚を乾燥させ、皮膚表面を荒くしメラニン色素を生成してシミやソバカスなどを作る。また紅斑や火傷、水疱のような炎症も起こす。紫外線C(UV-C)は波長が最も短いが、最も強い紫外線であり皮膚癌を誘発させるところ、今まではオゾン層で完全遮断されあまり意識されなかったが、近時の環境汚染でオゾン層が破壊し、安心できない状況となっている。このような紫外線は皮膚だけでなく視力低下や体の免疫機能低下にも影響を及ぼし、過多露出は健康に悪いことがわかっている。
【０００４】
現在化粧品業界で使用される紫外線遮断剤は大きく有機紫外線遮断剤と無機紫外線遮断剤に分かれる。有機紫外線遮断剤は科学的紫外線遮断剤とも呼ばれ、紫外線を皮膚に吸収して化学的反応を起こして分解する原理で伸びがよく使用感も良いが、光安定性が低く時間が立つと更に塗り重ねる必要があり、皮膚に吸収されそれ自体が刺激を起こすか光反応による生成物のため敏感な肌には刺激性接触皮膚炎を起こす可能性があり、大多数の有機紫外線遮断剤は使用において多くの制約がある。また、無機紫外線遮断剤は物理的紫外線遮断剤とも呼ばれ、皮膚表面に膜を形成して日射を反射させる原理で、皮膚には刺激が少なく安全だが塗る度にべたつく使用感で不快感を誘発し、皮膚上に白濁現象を起こして肌を白くテカるようにしてしまう。無機紫外線遮断剤は1次粒子のサイズ調整及び表面個質、シリカ及びその他粉体を利用した複合体を使用して使い心地がよく白濁現象が起きないようにする多くの研究がなされている。しかし有機紫外線遮断剤は1次合成研究部分も微々たるもので、2次個質を通じた研究は皆無しの状態である。多くの研究が多孔性パウダーを利用して堆積する技術(KR 10-1221190 B1, KR 10-1175623 B1)に限られている。
【０００５】
先行技術1(KR 10-1221190 B1)は気空内金属酸化物を 堆積させた中形気空性無機複合粉体と有機紫外線遮断剤を含んだ紫外線遮断用化粧料調整物に関するものであり、先行技術2(KR 10-1175623 B1)は有機紫外線遮断剤が持った中空性球形シリカ複合顔料の製造方法及びこれを含んだ紫外線遮断用化粧料調整物に関するものである。上記のような技術は乾式パウダー製形にのみ利用可能であり、揮発性溶媒を利用した湿式成形色調化粧料助成物は揮発性溶媒(アルコール類、パラピン類、水など)を溶剤として利用したパウダー状を分散させた後、揮発性溶剤を吸入、乾燥して完成品を製造する方法である。上記湿式成形色調化粧料助成物は製造工程上パウダー状態が揮発性溶媒で分散されるが、この状態で多孔性シリカに堆積させた紫外線遮断剤は外部に出され剤形が不安定となるため紫外線遮断効果が急激に減少する。
【０００６】
したがって、上記のように有機紫外線遮断剤をもった多孔性シリカを利用して湿式成形色調化粧料を製造する場合、パウダー状態が揮発性溶剤に分散されながら多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤がシリカの気空内部で安定化できず外部に出されることになる。
【０００７】
本明細書全体にわたって多数の論文及び特許文献が参照されその引用が表示される。引用された論文及び特許文献の開示内容はそれ全体として本明細書に参照として挿入され本発明が属する技術分野の水準及び本発明の内容がより明確に説明される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】韓国特許１０−１２２１１９０−Ｂ１
【特許文献１】韓国特許１０−１１７５６２３−Ｂ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明者らは従来有機紫外線遮断剤を堆積させた多孔性シリカが乾式パウダー剤形にのみ利用が可能であり、揮発性溶剤を利用した湿式成形色調化粧料助成物では揮発性溶剤をパウダー状に分散時多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤が外部に出されるため使用が不可能であることを発見し、これを解決するため研究をしてきた。その結果疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含んだ湿式成形色調化粧料及びその製造方法を完成した。
【００１０】
本発明ではシリレーション反応に使用される疎水化物質であるHexamethyldisilazane、1,1,3,3-Tetramethyl-1、3-diphenyldisilazane、またはN,N′-Bis(trimethylsilyl)ureaの疎水性作用基であるメチル基(-CH3)をシリカの気空表面に付着させた後、ここで有機紫外線遮断剤を堆積させた場合、シリカの気空内部から前具体間に固まる現象を増進させ、湿式成形色調化粧料に使用される揮発性溶剤と分散及び乾燥時有機紫外線遮断剤が外部に出されず固まったままで安定化することを確認した。
【００１１】
したがって本発明は疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含んだ湿式成形色調化粧料及びその製造方法を提供するところにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、シリレーション反応を通じて疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含んだ湿式成形色調化粧料を提供する。
【００１３】
上記シリレーション反応はHexamethyldisilazane、1,1,3,3-Tetramethyl-1、3-diphenyldisilazane、及びN,N′-Bis(trimethylsilyl)ureaの中から選択された少なくとも一つのシリレーション物質を使用して遂行されるものである。
この際、シリレーション物質は多孔性シリカの総重量100重量部に対して0.1〜10.0重量部で使用できる。
【００１４】
上記有機紫外線遮断剤はエチルヘキシルメトキシシンナーメイト、エチルヘキシルシリケート、オキシルディメチルパラ-アミノベンゾオキサン、ブチルメトキシディベンゾイルメタン、オキシルメキトシシンナーメイト、オクチルサリチルレート、オキトクリルレン、ブチルメトキシディベンゾイルメタン、オキシベンゾン、オキシルトリアゾン、メンチルアントラニルレート、3、4-メチルベンジルリデンケンパー及びビス-エチルオキシペノルメトキシペニルトリアジンの中で選択された少なくとも一つを含みうる。
【００１５】
上記疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤は疎水処理された多孔性シリカの総重量100重量部に対して有機紫外線遮断剤を20〜100重量部で含むものでありうる。
上記湿式成形色調化粧料は疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含むパウダー成分及びバインダー成分を含むものでありうる。
【００１６】
上記湿式成形色調化粧料は疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を有機紫外線遮断剤の量を基準に0.1〜10.0重量％で含むものでありうる。
【００１７】
本発明は多孔性シリカの表面をシリレーションを通じて疎水化させる段階；前段階から得られた疎水処理された多孔性シリカに有機紫外線遮断剤を堆積させる段階；及び前段階から得られた疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含むパウダー成分及びバインダー成分を混合した後粉砕して粉砕混合物を得て、上記粉砕混合物をエタノール、水、グリセリンからなる揮発性溶剤に分散させスラリー状で製造した後、スラリー状を成形器上に一定量充填させた後、成形物を乾燥して揮発性溶剤を除去する段階；を含む湿式成形色調化粧料の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は多孔性シリカの表面をシリレーション(Silylation)反応を通じて疎水化させた後、上記疎水処理された多孔性シリカに有機紫外線遮断剤を安定的に堆積させてこれを含む湿式成形色調化粧料及びその製造方法を提供する。上記疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含む湿式成形色調化粧料は湿式成形色調化粧料を製造するに使用される揮発性溶剤と分散時、有機紫外線遮断剤が気空内部で固まる現象を増進させ外部に失われることを防ぎ、製形の安定性を確保できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は多孔性シリカの電界放出走査顕微鏡(Leo Supra 55, Germany)の写真である。(ア)多孔性シリカ、(イ)疎水処理された多孔性シリカ、(ウ)有機紫外線遮断剤が堆積させた多孔性シリカ。
【図２】図２は多孔性シリカの窒素等温吸着線及び気空分布曲線を表すグラフである。(ア)多孔性シリカ、(イ)疎水処理された多孔性シリカ、(ウ)有機紫外線遮断剤が堆積させた多孔性シリカ。
【図３】図３は温度変化による多孔性シリカの熱重量変化を表すグラフである。(ア)多孔性シリカ、(イ)疎水処理された多孔性シリカ、(ウ)有機紫外線遮断剤が堆積させた多孔性シリカ。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明はシリレーション反応を通じて疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含む湿式成形色調化粧料を提供する。
【００２１】
本発明の望ましい様態に従うと、多孔性シリカの表面を疎水化させるためのシリレーション物質はHexamethyldisilazane、1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-diphenyldisilazane及びN,N′-Bis(trimethylsilyl)ureaの中から選択された少なくとも一つを使用できる。
上記シリレーション反応のため使用可能なシリレーション物質の化学構造は表1の通りである。
【表１】
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【００２２】
このようなシリレーション物質で処理された多孔性シリカに有機紫外線遮断剤を堆積させる場合、上記疎水化物質の疎水性作用其であるメチル其(-CH3)がシリカ表面に付着され電球体と周形表面との相互作用を減らし気空内部から電球体間の固まる現象を増進させ多孔性シリカ内に有機紫外線遮断剤が固まるようになり安定化する。
【００２３】
このように有機紫外線遮断剤が疎水処理された多孔性シリカに安定的に堆積させることで、湿式成形色調化粧料を製造する工程中揮発性有機溶剤での分散及ぶ乾燥を経ても多孔性シリカから有機紫外線遮断剤が漏れず最終的に得られる湿式成形色調化粧料内に意図して有機紫外線遮断剤の量が残存する。すなわち、湿式成形肯定を通じて製形化の安定性を向上できる。
【００２４】
本発明の望ましい様態に従えば、上記シリレーション反応のために使用される疎水化物質は多孔性シリカの総重量100重量部に対し0.1〜10.0重量部を使用できる。疎水化物質が多孔性シリカ100重量部に対して0.1重量部未満で含まれる場合には、多孔性シリカ表面のシリレーション反応が微々で疎水化特性が現れず、10.0重量部を超える場合にはシリレーション反応に必要以上の量が投入されることになり10.0重量部以上の投入は無意味である。
【００２５】
本発明の望ましい様態に従えば、有機紫外線遮断剤はエチルヘキシルメトキシシンナーメイト、エチルヘキシルシリケート、オキシルディメチルパラ-アミノベンゾオキサン、ブチルメトキシディベンゾイルメタン、オキシルメキトシシンナーメイト、オクチルサリチルレート、オキトクリルレン、ブチルメトキシディベンゾイルメタン、オキシベンゾン、オキシルトリアゾン、メンチルアントラニルレート、3、4-メチルベンジルリデンケンパー及びビス-エチルオキシペノルメトキシペニルトリアジンの中で選択された少なくとも一つでありうるが、このような有機紫外線遮断剤らは熱、有機溶媒または周辺環境によって簡単に破壊されるため安定化が必要であり、本発明の意図に符合するものといえる。
【００２６】
本発明の望ましい様態に従えば、疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤は疎水処理された多孔性シリカの総重量100重量部に対して有機紫外線遮断剤を20〜100重量部を含みうる。有機紫外線遮断剤を疎水処理された多孔性シリカ100重量部に対して20重量部未満が含まれる場合、湿式成形色調化粧料に適用時紫外線遮断効果が微々であり、100重量部を超える場合には多孔性シリカの気空体積(1.14cc/g)に比べて過料の有機紫外線遮断剤が堆積させるため気空内全量が入りきれない可能性がある。
【００２７】
本発明の望ましい様態に従えば、湿式成形色調化粧料は疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含む成分はパウダー成分及びバインダー成分を含みうる。上記水及びグリセリンを混合して作った揮発性溶剤は湿式成形色調化粧料を製造する最終段階で乾燥後除去して使用しうる。疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤以外のパウダー成分やバインダー成分には特に限定があるわけではなく、通常の色調化粧料に含まれるものを使用しうるのはもちろんである。
【００２８】
本発明の望ましい様態に従えば、湿式成形色調化粧料は疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を有機紫外線遮断剤量の基準に0.1〜10.0重量％で含みうる。疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を有機紫外線遮断剤の量を基準に0.1重量％未満で含む場合には紫外線遮断効果が微々であり、10.0重量％を超える場合には湿式成形色調化粧料製品製形性及び品質が低下する。
【００２９】
上記目的を達成するため、本発明は多孔性シリカの表面をシリレーションを通じて疎水化させる段階；上記疎水処理された多孔性シリカに有機紫外線遮断剤を堆積させる段階；及び上記疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含むパウダー成分及びバインダー成分を混合した後粉砕して粉砕混合物を得た後、上記粉砕混合物をエタノール、水及びグリセリンからなる揮発性溶剤で分散させスラリー状に製造した後、スラリー状を製形器上で一定量充填させた後、製形物を乾燥させ揮発性溶剤を除去する段階；を含む湿式成形色調化粧料を製造できる。このように湿式成形色調化粧料製造工程はパウダー成分とバインダー成分の粉砕混合物を揮発性溶剤に分散させ乾燥させて溶剤を除去できるか、特に揮発性溶剤の除去はサクション等の過酷な過程を随伴しうる。ここで有機紫外線遮断剤が多孔性シリカ内に安定期に堆積させられない場合、このような工程中に消失されうる。しかし疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤は安定化されこのような製形化でも安定性を保証できる。
【００３０】
以下、実施例を通じて本発明をより詳細に説明する。これら実施例は本発明をより具体的に説明するためだけのものであって、本発明の要旨によって本発明の範囲がこれら実施例に限られないことは本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者には自明である。
【実施例】
【００３１】
[実施例]疎水処理された多孔性シリカに堆積させた有機紫外線遮断剤を含む湿式成形色調化粧料製造
シリレーションを通じた多孔性シリカの疎水化工程
【００３２】
多孔性シリカ(SILNOS 350, ABC NANOTECH 社)3.0gを各々疎水化物質であるhexamethyldisilazane(99%、Fluka)、1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-diphenyldisilazane(99%、Fluka)0.3g及びN,N′-Bis(trimethylsilyl)urea(99%、Fluka) 0.3gとn-hexane(aldrich) 150mLが混合された溶液にいれ過熱しながら還流させた後、フィルター過程を通じて疎水処理された多孔性シリカを得た。
多孔性シリカを疎水処理化した具体的助成は表2にある。
【００３３】
これで疎水処理しなかった多孔性シリカ(対象球1)、hexamethyldisilazaneで疎水処理された多孔性シリカ(実施例1)、1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-diphenyldisilazaneで疎水処理された多孔性シリカ(実施例2)及びN,N′-Bis(trimethylsilyl)ureaで疎水処理された多孔性シリカ(実施例3)が得られた。
【表２】
2014189553.tif 000004
有機紫外線遮断剤を堆積させる過程
【００３４】
上記実施例から製造された各々の疎水処理された多孔性シリカ及び疎水処理されていない多孔性シリカ10gに80℃で加温した有機紫外線遮断剤の成分であるエチルヘキシルメトキシシンナーメイト4gを入れ含沈法(論文：イギリス化学会発刊学術誌「Chemical communications」、2009年、第6号、pp．650‐652)を利用した堆積させた。
【００３５】
これで有機紫外線遮断剤の成分であるエチルヘキシルメトキシシンナーメイトが堆積された疎水処理されていない多孔性シリカ(対照群2）、有機紫外線遮断剤の成分であるエチルヘキシルメトキシシンナーメイトが堆積された「Hexamethyldisilazane」で疎水処理された多孔性シリカ(実施例4)、有機紫外線遮断剤の成分であるエチルヘキシルメトキシシンナーメイトが堆積された「1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-diphenyldisilazane」で疎水処理された多孔性シリカ(実施例5)及び有機紫外線遮断剤の成分であるエチルヘキシルメトキシシンナーメイトが堆積された「N,N′-Bis(trimethylsilyl)urea」で疎水処理された多孔性シリカ(実施例6)が得られた。
【表３】
2014189553.tif 000005
湿式成形色調化粧料の製造
次のような工程に従い湿式成形色調化粧料を製造した。
(1)下記表4に記載されたパウダー成分(原料1〜14)を混合した。
(2)表4に記載されたバインダー成分(原料15〜19)を混合した後、80℃で加温した。
(3)上記(1)に上記(2)を噴射した後2回粉砕してパウダー状を製造した。
【００３６】
(4)表5の揮発性溶剤(原料1〜3)に(3)で製造したパウダー状をいれ約10分間分散させスラリー状に製造した。スラリー状を製形器上で一定量充填した後、製形布を当て約40〜50％揮発性溶剤を除去し、60℃から12時間乾燥させ揮発性溶剤を完全に除去した。
【表４】
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【表５】
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実験例1.電界放出走査顕微鏡で測定
【００３７】
本発明から製造した疎水処理された多孔性シリカ及び有機紫外線遮断剤が堆積された多孔性シリカを疎水処理していない一般的多孔性シリカと比較して粒度及び外形の変化を確認した。(ア)多孔性シリカは対照群1、(イ)疎水処理された多孔性シリカは実施例1、(ウ)有機紫外線遮断剤が堆積された多孔性シリカは実施例4に選定して各々の多孔性シリカを電界放出走査顕微鏡(Leo Supra 55,
Germany)を利用して測定した。
【００３８】
その結果、図1で確認できるようにすべて10μm前後の粒度分布を表し、多孔性シリカと比較して疎水処理された多孔性シリカと有機紫外線遮断剤が堆積された多孔性シリカの粒度変化は起きず、外形も維持されたことが確認できた。
実験例2.比表面積及び気空の体積変化の測定
【００３９】
上記実験例1から選定された(ア)多孔性シリカ、(イ)疎水処理された多孔性シリカ及び(ウ)有機紫外線遮断剤が堆積された多孔性シリカを液体窒素温度から得られた窒素等温吸着線及び気空分布曲線を測定することで比表面積及び気空体積の変化を確認した。Micromeritics社のTriStarを利用し、等温吸着線の形態はtype-IVの拡張形態であり、これはHOLLOWタイプで典型的に現れる形態(図2参照)である。次の数式1であるBrunauer-Emmett-Teller法に基づき比表面積及び気空体積の値を算出してその結果を次の表6に表した。
【数１】
2014189553.tif 000008
【表６】
2014189553.tif 000009
【００４０】
その結果、上記Brunauer-Emmett-Tellerを通じて得られた比表面積の値は175m2/g
> 144m2/g > 63m2/gで急激に減少し、気空堆積も1.14cc/g >
1.12cc/g > 0.56cc/gで減少することを確認することで、多孔性シリカの疎水処理及び有機紫外線遮断剤の堆積がなされたことを間接的に確認できた。
実験例3.温度変化による熱重量の変化
【００４１】
上記実験例1から選定された(ア)多孔性シリカ、(イ)疎水処理された多孔性シリカ及び(ウ)有機紫外線遮断剤が堆積された多孔性シリカの温度変化による熱重量変化を時差熱重量分析機(Seiko
TG/DTA 7300、JAPAN)を利用して測定した。ただ、(ウ)有機紫外線遮断剤が堆積された多孔性シリカの場合は疎水処理された多孔性シリカ10gに2.3gの有機紫外線遮断剤を堆積させ得られたものを使用した。その結果、図3のように疎水処理された多孔性シリカは300℃以上で2.5重量％の質量減少が起き、有機紫外線遮断剤が堆積されたシリカでは20重量％の質量減少が発生することで多孔性シリカに疎水化処理のため適用されたHexamethyldisilazaneと多孔性シリカに有機紫外線遮断剤で適用されたエチルヘキシルメトキシシンナーメイトが堆積されていることを確認できた。
実験例4.多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤の含量分析
【００４２】
実施例7ないし9及び比較例1から得られた湿式成形色調化粧料の中で有機紫外線遮断剤の含量を高性能液体クロマトグラフィー分析(HPLC)を通じて分析して次の数式2に基づいて湿式成形による有機紫外線遮断剤の維持率を算出してその結果を次の表7に表した。
【数２】
2014189553.tif 000010
【表７】
2014189553.tif 000011
【００４３】
その結果、パウダー状を揮発性溶剤に分散して湿式成形色調化粧料を製造した場合、表7で確認できるように実施例7の場合は疎水処理された多孔性シリカに体積された有機紫外線遮断剤であるエチルヘキシルメトキシシンナーメイトは湿式成形工程を経た後も95％以上の維持率をみせ、実施例8は92％、実施例9は94％の維持率を表した。しかし、比較例1の場合、疎水処理をしなかった多孔性シリカ内に体積された有機紫外線遮断剤であるエチルヘキシルメトキシシンナーメイトは湿式成形工程を通じて35％のみ残存した。
【００４４】
実験結果を通じてもわかるように、疎水処理された多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤と疎水処理をしなかった多孔性シリカに堆積された有機紫外線遮断剤をいれ湿式成形色調化粧料を製造した以後、有機紫外線遮断剤の含量を分析した結果、溶剤を疎水処理された多孔性シリカ内に体積された有機紫外線遮断剤に包含する場合、有機紫外線遮断剤の量を基準に最初投入量に比べ90％以上残存するが、疎水処理をしなかった多孔性シリカ内に体積された有機紫外線遮断剤を包含する場合、有機紫外線遮断剤の量を基準に最初投入量に比べ35％だけ残存した。
【００４５】
これらから、本発明から製造された湿式成形色調化粧料は製造工程中多孔性シリカ内に体積された有機紫外線遮断剤が外部に出されることを最小化することで湿式成形工程を通じた有機紫外線遮断剤を利用した製形化の安定性を確保できたことを確認できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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