(57)【要約】      （修正有）【課題】入射した外光の正反射光を拡散し、また、後方散乱光の発生を抑制し、高コントラスト、高輝度の表示を可能とするカバーパネルと、外光反射が抑制され優れた視認性を可能とするタッチパネル、タッチパネル一体型カバーパネルと、これらの製造方法を提供する。【解決手段】カバーパネル１を、光透過性基材２と、この光透過性基材２の少なくとも一部に位置する光散乱機能層層３とを有するものとし、光散乱機能層３は有機膜４と高屈折率膜５とが積層されたものであり有機膜４側が光透過性基材２側に位置しており、有機膜４は高屈折率膜５との界面が凹凸面４ａとなっており、有機膜４の屈折率は高屈折率膜５の屈折率よりも小さく、光散乱機能層３のヘーズ値は１０〜８０の範囲であるように構成する。【選択図】図１
2014188843.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材と、該光透過性基材の少なくとも一部に位置する光散乱機能層と、を有し、該光散乱機能層は有機膜と高屈折率膜とが積層されたものであって該有機膜側が前記光透過性基材上に位置し、前記有機膜は前記高屈折率膜との界面が凹凸面となっており、前記有機膜の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、前記光散乱機能層のヘーズ値は１０〜８０の範囲であることを特徴とするカバーパネル。
【請求項２】
前記高屈折率膜は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、炭化珪素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズまたは酸化タンタルに、ガリウム、セリウム、アルミニウム、カーボン、スズおよびボロンのいずれかをドープさせた群から選ばれる１種以上の材料を含むことを特徴とする請求項１に記載のカバーパネル。
【請求項３】
前記有機膜の前記凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）は、１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカバーパネル。
【請求項４】
前記光散乱機能層の前記高屈折率膜上に平坦化層を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のカバーパネル。
【請求項５】
前記平坦化層の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、かつ、前記平坦化層の屈折率と前記有機膜の屈折率との差は±０．３以下であることを特徴とする請求項４に記載のカバーパネル。
【請求項６】
前記高屈折率膜の屈折率と前記有機膜の屈折率との差が０．１以上であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のカバーパネル。
【請求項７】
光透過性基材の所望領域に加飾層を有することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のカバーパネル。
【請求項８】
透明基板と、タッチパネル部と、光散乱機能部とを任意の順序で積層して備え、
前記タッチパネル部は位置検知用の透明電極と、該透明電極の周囲に位置する外周金属配線とを有し、
前記光散乱機能部は少なくとも光散乱機能層を備え、該光散乱機能層は有機膜と高屈折率膜とが積層されたものであり、前記有機膜は前記高屈折率膜との界面が凹凸面となっており、前記有機膜の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、前記光散乱機能層のヘーズ値は１０〜８０の範囲であることを特徴とするタッチパネル。
【請求項９】
前記高屈折率膜は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、炭化珪素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズまたは酸化タンタルに、ガリウム、セリウム、アルミニウム、カーボン、スズおよびボロンのいずれかをドープさせた群から選ばれる１種以上の材料を含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記有機膜の前記凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）は、１０μｍ以下であることを特徴とする請求項８または請求項９に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記光散乱機能部は、前記光散乱機能層の前記高屈折率膜上に平坦化層を備えることを特徴とする請求項８乃至請求項１０のいずれかに記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記平坦化層の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、かつ、前記平坦化層の屈折率と前記有機膜の屈折率との差は±０．３以下であることを特徴とする請求項１１に記載のタッチパネル。
【請求項１３】
前記高屈折率膜の屈折率と前記有機膜の屈折率との差が０．１以上であることを特徴とする請求項８乃至請求項１２のいずれかに記載のタッチパネル。
【請求項１４】
透明基板と、タッチパネル部と、光散乱機能部とを任意の順序で積層して備え、
前記タッチパネル部は加飾層と、位置検知用の透明電極と、前記加飾層に位置する外周金属配線とを有し、
前記光散乱機能部は少なくとも光散乱機能層を備え、該光散乱機能層は有機膜と高屈折率膜とが積層されたものであり、前記有機膜は前記高屈折率膜との界面が凹凸面となっており、前記有機膜の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、前記光散乱機能層のヘーズ値は１０〜８０の範囲であることを特徴とするタッチパネル一体型カバーパネル。
【請求項１５】
前記高屈折率膜は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、炭化珪素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズまたは酸化タンタルに、ガリウム、セリウム、アルミニウム、カーボン、スズおよびボロンのいずれかをドープさせた群から選ばれる１種以上の材料を含むことを特徴とする請求項１４に記載のタッチパネル一体型カバーパネル。
【請求項１６】
前記有機膜の前記凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）は、１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１４または請求項１５に記載のタッチパネル一体型カバーパネル。
【請求項１７】
前記光散乱機能部は、前記光散乱機能層の前記高屈折率膜上に平坦化層を備えることを特徴とする請求項１４乃至請求項１６のいずれかに記載のタッチパネル一体型カバーパネル。
【請求項１８】
前記平坦化層の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、かつ、前記平坦化層の屈折率と前記有機膜の屈折率との差は±０．３以下であることを特徴とする請求項１７に記載のタッチパネル一体型カバーパネル。
【請求項１９】
前記高屈折率膜の屈折率と前記有機膜の屈折率との差が０．１以上であることを特徴とする請求項１４乃至請求項１８のいずれかに記載のタッチパネル一体型カバーパネル。
【請求項２０】
透明基板にタッチパネル部と光散乱機能部とを当該順序で積層して備えるタッチパネルの製造方法において、
透明基板上に位置検知用の透明電極と、該透明電極の周囲に位置する外周金属配線とを形成するタッチパネル部形成工程と、
前記タッチパネル部を被覆するように平坦化層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより、前記タッチパネル部に当接する面と反対側の表面に凹凸面を有する平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、
前記平坦化層の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜を少なくとも前記凹凸面上に形成して、凹凸面を有する有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成する光散乱機能部形成工程と、を有することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項２１】
透明基板と、タッチパネル部と、光散乱機能部とを任意の順序で積層して備えるタッチパネルの製造方法において、
位置検知用の透明電極と、該透明電極の周囲に位置する外周金属配線とを形成するタッチパネル部形成工程と、
有機膜形成用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより凹凸面を有する有機膜を形成し、該有機膜の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜を少なくとも前記凹凸面上に形成して、凹凸面を有する有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成する光散乱機能部形成工程と、を有することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項２２】
透明基板にタッチパネル部と光散乱機能部とを当該順序で積層して備えるタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法において、
透明基板上に加飾層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を露光し、現像することによる加飾層の形成と、位置検知用の透明電極の形成と、該透明電極の周囲に位置するとともに前記加飾層に位置する外周金属配線の形成と、を行うタッチパネル部形成工程と、
前記タッチパネル部を被覆するように平坦化層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより、前記タッチパネル部に当接する面と反対側の表面に凹凸面を有する平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、
前記平坦化層の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜を少なくとも前記凹凸面上に形成して、凹凸面を有する有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成する光散乱機能部形成工程と、を有することを特徴とするタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法。
【請求項２３】
透明基板と、タッチパネル部と、光散乱機能部とを任意の順序で積層して備えるタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法において、
加飾層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を露光し、現像することによる加飾層の形成と、位置検知用の透明電極の形成と、該透明電極の周囲に位置するとともに前記加飾層に位置する外周金属配との形成を行うタッチパネル部形成工程と、
有機膜形成用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより凹凸面を有する有機膜を形成し、該有機膜の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜を少なくとも前記凹凸面上に形成して、凹凸面を有する有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成する光散乱機能部形成工程と、を有することを特徴とするタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、外光反射が抑制されるカバーパネル、タッチパネル、タッチパネル一体型カバーパネルと、これらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットディスプレイとして液晶ディスプレイが種々の用途に使用されており、また、液晶ディスプレイとは異なる表示原理を用いたものとして、有機あるいは無機のエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと略す場合がある）表示装置、プラズマディスプレイパネル、ライトエミッティングダイオード表示装置、蛍光表示管表示装置、および、フィールドエミッションディスプレイ等の自発光型と呼ばれるフラットディスプレイの開発も活発に行われている。自発光型のフラットディスプレイは、液晶ディスプレイに比較して、電力消費が少ない、コントラストに優れる、視野角依存性がほとんどない、応答時間が高速であり動画残像の問題が生じない等の優れた特徴を有している。このような特徴を活かして、自発光型のフラットディスプレイは、主として車載ナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラ等のモバイル製品、タッチパネル装置等の入力装置等で実用化されている。
例えば、モバイル製品はその携帯性から様々な環境下で使用されており、特に屋外での使用頻度が高いものであり、太陽光のような外光が装置内部で反射されて発生する外光正反射光の影響によって、コントラストの低下や混色の発生等が生じ、表示品位が低下するとういう問題があった。
このような外光の影響を抑制するために、例えば、フラットディスプレイの前面板に円偏光板を配設すること（特許文献１）、円偏光板の代わりに着色層を設けること（特許文献２）、微粒子を含有する光散乱層を設けること（特許文献３）が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２０５８４９号公報
【特許文献２】特開２００５−３１７２７１号公報
【特許文献３】特開２００７−２８７６９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、円偏光板を使用した場合、フラットディスプレイからの光の利用効率が悪く、表示装置の輝度が不十分であり、また、円偏光板のコストが高く、モバイル製品等の製造コストの低減に限界があるという問題があった。
円偏光板の代わりに着色層を使用した場合、フラットディスプレイからの光の利用効率は高いものの、色味等に影響が生じ表示品位が低下するという問題があった。
また、光散乱層により外光を適度に散乱させて反射光を抑制する場合、フラットディスプレイからの光の利用効率は良好であるものの、光散乱層により後方散乱光が発生し、表示が白くにごることによる表示品位の低下とういう問題があった。また、光散乱層に含有される微粒子の分散性が悪いと、外光の適度な散乱が得られず、このため光散乱層形成における工程管理が煩雑であるという問題もあった。
さらに、反射防止部材として、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された多層フィルムが知られているが、見る角度により色づき（視野角依存）が発生するという問題があった。また、金型を使用した微細な凹凸構造（モスアイとも呼ばれる）は、外光の反射防止の点で優れるものの、製造コストが高いという問題があった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、入射した外光の正反射光を拡散し、また、後方散乱光の発生を抑制し、高コントラスト、高輝度の表示を可能とするカバーパネルと、外光反射が抑制され優れた視認性を可能とするタッチパネル、タッチパネル一体型カバーパネルと、これらの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような課題を解決するために、本発明のカバーパネルは、光透過性基材と、該光透過性基材の少なくとも一部に位置する光散乱機能層と、を有し、該光散乱機能層は有機膜と高屈折率膜とが積層されたものであって該有機膜側が前記光透過性基材上に位置し、前記有機膜は前記高屈折率膜との界面が凹凸面となっており、前記有機膜の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、前記光散乱機能層のヘーズ値は１０〜８０の範囲であるような構成とした。
【０００６】
本発明の他の態様として、前記高屈折率膜は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、炭化珪素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズまたは酸化タンタルに、ガリウム、セリウム、アルミニウム、カーボン、スズおよびボロンのいずれかをドープさせた群から選ばれる１種以上の材料を含むような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機膜の前記凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）は、１０μｍ以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記光散乱機能層の前記高屈折率膜上に平坦化層を備えるような構成とし、また、前記平坦化層の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、かつ、前記平坦化層の屈折率と前記有機膜の屈折率との差は±０．３以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記高屈折率膜の屈折率と前記有機膜の屈折率との差が０．１以上であるような構成とした。
本発明の他の態様として、光透過性基材の所望領域に加飾層を有するような構成とした。
【０００７】
本発明のタッチパネルは、透明基板と、タッチパネル部と、光散乱機能部とを任意の順序で積層して備え、前記タッチパネル部は位置検知用の透明電極と、該透明電極の周囲に位置する外周金属配線とを有し、前記光散乱機能部は少なくとも光散乱機能層を備え、該光散乱機能層は有機膜と高屈折率膜とが積層されたものであり、前記有機膜は前記高屈折率膜との界面が凹凸面となっており、前記有機膜の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、前記光散乱機能層のヘーズ値は１０〜８０の範囲であるような構成とした。
【０００８】
本発明の他の態様として、前記高屈折率膜は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、炭化珪素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズまたは酸化タンタルに、ガリウム、セリウム、アルミニウム、カーボン、スズおよびボロンのいずれかをドープさせた群から選ばれる１種以上の材料を含むような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機膜の前記凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）は、１０μｍ以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記光散乱機能部は、前記光散乱機能層の前記高屈折率膜上に平坦化層を備えるような構成とし、また、前記平坦化層の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、かつ、前記平坦化層の屈折率と前記有機膜の屈折率との差は±０．３以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記高屈折率膜の屈折率と前記有機膜の屈折率との差が０．１以上であるような構成とした。
【０００９】
本発明のタッチパネル一体型カバーパネルは、透明基板と、タッチパネル部と、光散乱機能部とを任意の順序で積層して備え、前記タッチパネル部は加飾層と、位置検知用の透明電極と、前記加飾層に位置する外周金属配線とを有し、前記光散乱機能部は少なくとも光散乱機能層を備え、該光散乱機能層は有機膜と高屈折率膜とが積層されたものであり、前記有機膜は前記高屈折率膜との界面が凹凸面となっており、前記有機膜の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、前記光散乱機能層のヘーズ値は１０〜８０の範囲であるような構成とした。
【００１０】
本発明の他の態様として、前記高屈折率膜は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、炭化珪素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズまたは酸化タンタルに、ガリウム、セリウム、アルミニウム、カーボン、スズおよびボロンのいずれかをドープさせた群から選ばれる１種以上の材料を含むような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機膜の前記凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）は、１０μｍ以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記光散乱機能部は、前記光散乱機能層の前記高屈折率膜上に平坦化層を備えるような構成とし、また、前記平坦化層の屈折率は前記高屈折率膜の屈折率よりも小さく、かつ、前記平坦化層の屈折率と前記有機膜の屈折率との差は±０．３以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記高屈折率膜の屈折率と前記有機膜の屈折率との差が０．１以上であるような構成とした。
【００１１】
本発明のタッチパネルの製造方法は、透明基板にタッチパネル部と光散乱機能部とを当該順序で積層して備えるタッチパネルの製造方法であって、透明基板上に位置検知用の透明電極と、該透明電極の周囲に位置する外周金属配線とを形成するタッチパネル部形成工程と、前記タッチパネル部を被覆するように平坦化層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより、前記タッチパネル部に当接する面と反対側の表面に凹凸面を有する平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、前記平坦化層の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜を少なくとも前記凹凸面上に形成して、凹凸面を有する有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成する光散乱機能部形成工程と、を有するような構成とした。
【００１２】
また、本発明のタッチパネルの製造方法は、透明基板と、タッチパネル部と、光散乱機能部とを任意の順序で積層して備えるタッチパネルの製造方法であって、位置検知用の透明電極と、該透明電極の周囲に位置する外周金属配線とを形成するタッチパネル部形成工程と、有機膜形成用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより凹凸面を有する有機膜を形成し、該有機膜の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜を少なくとも前記凹凸面上に形成して、凹凸面を有する有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成する光散乱機能部形成工程と、を有するような構成とした。
【００１３】
本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法は、透明基板にタッチパネル部と光散乱機能部とを当該順序で積層して備えるタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法であって、透明基板上に加飾層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を露光し、現像を行うことにより、前記透明基板の所望部位に加飾層を形成し、その後、位置検知用の透明電極と、該透明電極の周囲に位置し前記加飾層上に位置する外周金属配線とを配設するタッチパネル部形成工程と、前記タッチパネル部を被覆するように平坦化層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより、前記タッチパネル部に当接する面と反対側の表面に凹凸面を有する平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、前記平坦化層の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜を少なくとも前記凹凸面上に形成して、凹凸面を有する有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成する光散乱機能部形成工程と、を有するような構成とした。
【００１４】
また、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法は、透明基板と、タッチパネル部と、光散乱機能部とを任意の順序で積層して備えるタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法であって、加飾層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を露光し、現像することによる加飾層の形成と、位置検知用の透明電極の形成と、該透明電極の周囲に位置するとともに前記加飾層に位置する外周金属配との形成を行うタッチパネル部形成工程と、有機膜形成用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより凹凸面を有する有機膜を形成し、該有機膜の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜を少なくとも前記凹凸面上に形成して、凹凸面を有する有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成する光散乱機能部形成工程と、を有するような構成とした。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のカバーパネルは、入射した外光の正反射光を拡散し、後方散乱光の発生を抑制するので、外光による表示品位の低下を防止することができ、また、ヘーズ値が適正な範囲に設定されているので、モバイル製品、タッチパネル装置等の入力装置、画像表示装置等の前面板として配することにより、反射防止機能と光の高利用効率を兼ね備えた保護部材としての機能を奏することができる。
また、本発明のタッチパネルは、タッチパネルを構成する光散乱機能部が、タッチパネルに入射した外光の正反射光を拡散し、後方散乱光の発生を抑制するので、外光による表示品位の低下を防止することができ、また、ヘーズ値が適正な範囲に設定されているので、表示パネルの光の利用効率が良好であり、これにより、外光反射が抑制され、高コントラスト、高輝度の表示を可能とする。
【００１６】
また、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルは、表示パネルの前面側に配置することができ、タッチパネル一体型カバーパネルを構成する光散乱機能部が、入射した外光の正反射光を拡散し、後方散乱光の発生を抑制するので、外光による表示品位の低下を防止することができ、また、ヘーズ値が適正な範囲に設定されているので、表示パネルの光の利用効率が良好であり、さらに、タッチパネル一体型カバーパネルを構成する加飾層が、タッチパネル部の配線の不要な認識を阻害することができ、これにより、外光反射が抑制され、高コントラスト、高輝度の表示を可能とする。
本発明のタッチパネルの製造方法、タッチパネル一体型カバーパネルの製造方法では、平坦化層形成工程において凹凸面を有する有機膜が平坦化層と同時に形成されるので、工程の簡略化、製造コストの低減が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明のカバーパネルの一実施形態を示す断面図である。
【図２】図２は、本発明のカバーパネルの他の実施形態を示す断面図である。
【図３】図３は、本発明のカバーパネルの他の実施形態を示す断面図である。
【図４】図４は、本発明のカバーパネルの他の実施形態を示す断面図である。
【図５】図５は、本発明のタッチパネルの一実施形態を示す概略構成図である。
【図６】図６は、静電容量方式のタッチパネル部の一例を示す図である。
【図７】図７は、本発明のタッチパネルの他の実施形態を示す概略構成図である。
【図８】図８は、本発明のタッチパネルの他の実施形態を示す概略構成図である。
【図９】図９は、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの一実施形態を示す概略構成図である。
【図１０】図１０は、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの他の実施形態を示す概略構成図である。
【図１１】図１１は、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの他の実施形態を示す概略構成図である。
【図１２】図１２は、本発明のタッチパネルの製造方法の一実施形態を説明するための工程図である。
【図１３】図１３は、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法の一実施形態を説明するための工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。尚、図面は模式的または概念的なものであり、各部材の寸法、部材間の大きさの比等は、必ずしも現実のものと同一とは限らず、また、同じ部材等を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比が異なって表される場合もある。
【００１９】
［カバーパネル］
図１は、本発明のカバーパネルの一実施形態を示す断面図である。図１において、カバーパネル１は、光透過性基材２と、この光透過性基材２上に配設された光散乱機能層３とを備えている。
カバーパネル１を構成する光散乱機能層３は、有機膜４と高屈折率膜５とが積層されたものであり、有機膜４側が光透過性基材２上に位置している。有機膜４は高屈折率膜５との界面が凹凸面４ａとなっており、かつ、有機膜４の屈折率は高屈折率膜５の屈折率よりも小さいものである。さらに、この光散乱機能層３のヘーズ値は、１０〜８０、好ましくは２０〜６０の範囲である。
【００２０】
次に、本発明のカバーパネルの各構成について説明する。
＜光透過性基材＞
光透過性基材２は、可視光を透過可能な基材であれば特に限定されるものではなく、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。
尚、本発明において可視光を透過可能とは、サンプルにおける全光線透過率が８５％以上、好ましくは９９％以上であることを意味する。尚、全光線透過率の測定は、（株）村上色彩技術研究所製のヘーズメーター（ＨＭ−１５０型）を用いて測定することができる。
【００２１】
＜光散乱機能層＞
光散乱機能層３は、光透過性基材２側からカバーパネル１に入射した光を適度に散乱させることにより、カバーパネル１内部で反射して光透過性基材２側へ戻る光（後方散乱光）の発生を抑制するとともに、カバーパネル１を透過した後に反射されて光散乱機能層３側から再度カバーパネル１に入射して光透過性基材２側へ戻る光（外光正反射光）を拡散するための層であり、上述のように、ヘーズ値が１０〜８０、好ましくは２０〜６０の範囲である。光散乱機能層３のヘーズ値が１０未満であると、光散乱機能層３による光散乱機能が不十分であり、また、７０を超えると、カバーパネル１を表示装置等に使用したときの発光体からの光の利用効率が低く、輝度が不十分となり好ましくない。ここで、ヘーズ値とは、（拡散光線透過率／全光線透過率）×１００で求められ、（株）村上色彩技術研究所製のヘーズメーター（ＨＭ−１５０型）を用いて測定することができる。
【００２２】
このような光散乱機能層３は、上述のように、有機膜４と高屈折率膜５とが積層されたものであり、有機膜４側が光透過性基材２側に位置している。また、光散乱機能層３を構成する有機膜４は、高屈折率膜５との界面が凹凸面４ａとなっており、かつ、有機膜４の屈折率は高屈折率膜５の屈折率よりも小さいものである。ここで、屈折率は、分光エリプソメーター（ジョバン−イーボン社製  ＵＶＩＳＥＬ）により測定することができる。
光散乱機能層３を構成する有機膜４は、高屈折率膜５の屈折率よりも小さい屈折率を具備する透明樹脂等からなるものであってよい。透明樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マイレン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を単独で、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。
【００２３】
尚、有機膜４は、透明樹脂中に所望の色材を含有したものであってよい。色材としては、黒色色材、着色色材を適宜使用することができる。黒色色材は、有機膜４の透過率を調整する機能とともに、有機膜４の凹凸面４ａと高屈折率膜５との界面における外光の光散乱において後方散乱光が発生した場合に、後方散乱光を吸収する機能を発現するために使用することができ、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、窒化チタン、窒化酸化チタン、炭化チタン等を挙げることができる。また、例えば、有機膜４の凹凸面４ａと高屈折率膜５との界面における外光の光散乱において後方散乱光が発生し、黄色味を帯びるような色シフトが生じた場合、着色色材として青色色材を使用することにより黄色を帯びることを抑制することができる。したがって、有機膜４に所望の着色色材を含有させることにより、外光に起因する色シフトの調整機能を光散乱機能層３にもたせることができる。このような着色色材としては、青色色材の他に、緑色色材、赤色色材、黄色色材、紫色色材等を挙げることができ、また、これらの着色色材を組み合わせて使用することができる。
【００２４】
有機膜４の凹凸面４ａは、光透過性基材２側から入射した外光を、有機膜４と高屈折率膜５との界面において適度に散乱させ、また、高屈折率膜５側からカバーパネル１に入射した光を適度に拡散するためるために設けられており、凹凸面４ａの最大粗さ（Ｒｍａｘ）は１０μｍ以下、好ましくは０．５〜８μｍの範囲であることが好適である。凹凸面４ａの最大粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍを超えると、有機膜４と高屈折率膜５との界面で反射して光透過性基材２側へ戻る光（後方散乱光）の発生の抑制効果が不十分となり、また、カバーパネル１を一度透過した後に反射され、再度高屈折率膜５側からカバーパネル１に入射した光（外光正反射光）の拡散効果が不十分となり好ましくない。ここで、凹凸面４ａの最大粗さ（Ｒｍａｘ）は、原子間力顕微鏡（タカノ（株）製  ＡＳ−７Ｂ−Ｍ）と触針式膜厚計（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ  Ｊａｐａｎ（株）製  Ｐ−１５）を用いて測定することができる（Ｒｍａｘが１μｍ未満の場合に原子間力顕微鏡を用い、Ｒｍａｘが１μｍ以上の場合は触針式膜厚計を用いる）。また、高屈折率膜５の厚みのバラツキが０．１μｍ以下である場合には、有機膜４の凹凸面４ａの形状が高屈折率膜５の表面に反映されていると考えられ、高屈折率膜５の最大粗さ（Ｒｍａｘ）を測定して、凹凸面４ａの最大粗さ（Ｒｍａｘ）とすることができる。尚、高屈折率膜５の厚みは、触針式膜厚計（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ  Ｊａｐａｎ（株）製  Ｐ−１５）を用いて測定することができる。
【００２５】
有機膜４の厚みは、０．１〜１０μｍ、好ましくは１〜８μｍの範囲であるあることが好適である。有機膜４の厚みは、光透過性基材２との界面から凹凸面４ａまでの厚みの平均である。このような有機膜４の厚みは、触針式膜厚計（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ  Ｊａｐａｎ（株）製  Ｐ−１５）を用いて測定することができる。有機膜４の厚みが０．１μｍ未満であると、凹凸面の形成が不十分となるため外光の影響を低減できず、十分な表示品位を得ることができない。一方、１０μｍを超えると、輝度が低下し表示品位が劣化することがあり好ましくない。
このような有機膜４は、例えば、光硬化性樹脂組成物を使用して有機膜形成用の有機樹脂層を形成し、その後、フォトリソグラフィーによるパターニングを行うことにより形成することができる。例えば、露光量の相違部位が生じるように多段露光、階調露光等の露光を行い、その後、現像を行うことにより、凹凸面４ａを備えた有機膜４を形成することができる。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）が比較的低い樹脂材料、例えば、Ｔｇが１５０℃以下であるような樹脂材料で有機膜形成用の有機樹脂層を形成し、この有機樹脂層上に高屈折率膜５を形成し、その後、加熱処理を施して有機樹脂層を収縮させて高屈折率膜５との界面に凹凸面４ａを生じさせ、有機膜４と高屈折率膜５との積層である光散乱機能層３を形成してもよい。
【００２６】
光散乱機能層３を構成する高屈折率膜５は、光透過性基材２側から入射した外光を、有機膜４との界面において適度に散乱させるために設けられている。このような高屈折率膜５は、有機膜４の屈折率よりも大きな屈折率を具備する材料を含むものであり、材料としては無機材料、有機材料、無機有機複合材料のいずれであってもよい。無機材料としては、例えば、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、炭化珪素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズまたは酸化タンタルに、ガリウム、セリウム、アルミニウム、カーボン、スズおよびボロンのいずれかをドープさせた群から選ばれる１種以上の無機材料を挙げることができ、スパッタリング法等の真空成膜法、化学気相蒸着法等により高屈折率膜５を形成することができる。
【００２７】
このような高屈折率膜５の屈折率と有機膜４の屈折率との差は、０．１以上、好ましくは０．４以上であり、両者の屈折率の差が０．１未満であると、高屈折率膜５と有機膜４の凹凸面４ａとの界面における光散乱が不十分となり好ましくない。また、高屈折率膜５の厚みは、特に制限はなく、真空成膜法により形成した高屈折率膜５では、例えば、０．０１〜０．５μｍの範囲、化学気相蒸着法により形成した高屈折率膜５では、例えば、１〜１０μｍの範囲で適宜設定することができる。
図１に示される例では、有機膜４は凹凸面４ａを有する連続した膜で構成されているが、光散乱機能層３を構成する有機膜４は、図２に示されるように、複数の微細な凸状体４′が近接して配設されたものであってもよい。図２に示されるような例においても、有機膜４の凹凸面４ａの最大粗さ（Ｒｍａｘ）は１０μｍ以下、好ましくは０．５〜８μｍの範囲である。また、有機膜４の厚みは、０．１〜１０μｍ、好ましくは１〜８μｍの範囲である。尚、有機膜４を構成する凸状体４′は、その周縁部において相互に接触するものであってもよく、一方、図２に示されるように、周辺部が相互に離間している場合、光透過性基材２上に平坦な高屈折率膜５が形成されないような範囲での離間が許容される。
【００２８】
図３は、本発明のカバーパネルの他の実施形態を示す断面図である。図３において、カバーパネル１１は、光透過性基材１２と、この光透過性基材１２上に配設された光散乱機能層１３、平坦化層１６を備えている。
カバーパネル１１を構成する光透過性基材１２は、上述のカバーパネル１を構成する光透過性基材２と同様とすることができる。また、カバーパネル１１を構成する光散乱機能層１３は、有機膜１４と高屈折率膜１５とが積層されたものであり、上述のカバーパネル１を構成する光散乱機能層３と同様とすることができる。
【００２９】
カバーパネル１１を構成する平坦化層１６の屈折率は、高屈折率膜１５の屈折率よりも小さく、また、平坦化層１６の屈折率と有機膜１４の屈折率との差は±０．３以下であり、その差が０であることが好ましい。このような平坦化層１６は、例えば、上述のカバーパネル１において、光散乱機能層３の有機膜４を構成する透明樹脂として挙げた樹脂材料から適宜選択して形成することができる。平坦化層１６の厚みは、高屈折率膜１５と反対側の面１６ａが平坦面となるように適宜設定することができる。
図４は、本発明のカバーパネルの他の実施形態を示す断面図である。図４において、カバーパネル２１は、光透過性基材２２と、この光透過性基材２２の周辺部を除く所望領域に光散乱機能層２３を備えるものである。そして、光散乱機能層２３の周囲の光透過性基材２２には加飾層２７を備え、光散乱機能層２３および加飾層２７を被覆するように配設された平坦化層２６を備えている。
カバーパネル２１を構成する光透過性基材２２は、上述のカバーパネル１を構成する光透過性基材２と同様とすることができる。また、カバーパネル２１を構成する光散乱機能層２３は、有機膜２４と高屈折率膜２５とが積層されたものであり、上述のカバーパネル１を構成する光散乱機能層３と同様とすることができる。また、カバーパネル２１を構成する平坦化層２６は、上述のカバーパネル１１を構成する平坦化層１６と同様とすることができる。
【００３０】
カバーパネル２１を構成する加飾層２７は、カバーパネル２１をモバイル製品やタッチパネル等の前面板として使用した場合に、モバイル製品やタッチパネルの周囲の非表示領域に集められた配線を隠蔽することを目的とするものである。このような加飾層２７は遮光性を具備したものであってよく、黒色顔料、カーボンブラック等を含有した感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法により形成することができる。
尚、図示例のカバーパネル２１では、光散乱機能層２３を構成する高屈折率膜２５は、加飾層２７上にも配設されているが、加飾層２７上には高屈折率膜２５が配設されていないものであってもよい。また、加飾層２７上にも光散乱機能層２３が配設されたものであってもよい。さらに、平坦化層２６を具備しないものであってもよい。
【００３１】
このような本発明のカバーパネルは、入射した外光の正反射光を拡散し、後方散乱光の発生を抑制することができるので、外光による表示品位の低下を防止することができ、また、ヘーズ値が適正な範囲に設定されているので、フラットディスプレイ等の光の利用効率を高いものとすることができる。したがって、本発明のカバーパネルを、外光の反射を抑制する必要がある種々の製品、例えば、車載ナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラ等のモバイル製品、タッチパネル装置等の入力装置、画像表示装置等の前面板として配することにより、反射防止機能を有した保護部材として使用することが可能である。
上述のカバーパネルの実施形態は例示であり、本発明はこのような実施形態に限定されるものではない。
【００３２】
［タッチパネル］
図５は、本発明のタッチパネルの一実施形態を示す概略構成図である。図５において、本発明のタッチパネル４１は、透明基板４２と、この透明基板４２の一方の面に位置するタッチパネル部５１と、このタッチパネル部５１の背面側に平坦化層６０を介して位置する光散乱機能部６１とを備えている。図５では、矢印ａで示す方向が前面（観察者）側であり、タッチパネル４１は、背面側である光散乱機能部６１側において表示パネルに配設され使用することができる。
【００３３】
次に、本発明のタッチパネルの各構成について説明する。
＜透明基板＞
透明基板４２は、可視光を透過可能な基材であれば特に限定されるものではなく、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。尚、本発明において可視光を透過可能とは、サンプルにおける全光線透過率が８５％以上、好ましくは９９％以上であることを意味する。尚、全光線透過率の測定は、（株）村上色彩技術研究所製のヘーズメーター（ＨＭ−１５０型）を用いて測定することができる。
【００３４】
＜タッチパネル部＞
本発明のタッチパネルを構成するタッチパネル部は、静電容量方式、抵抗膜方式、接触方式、磁歪方式、誘電誘導方式、光学方式、超音波方式等の各種検知方式のものであってよい。図示例のタッチパネル４１を構成するタッチパネル部５１は、静電容量方式のタッチパネルであり、第１透明電極５３、絶縁層５４、第２透明電極５５、外周金属配線５６を有しており、これらを被覆するように平坦化層６０を有している。
第１透明電極５３、絶縁層５４、第２透明電極５５、および、外周金属配線５６の形状、配置は、静電容量方式のタッチパネル部５１を構成するように適宜設定することができる。図６は、静電容量方式のタッチパネル部５１の一例を示す図である。図６（Ａ）は、タッチパネル部５１の第１透明電極５３と外周金属配線５６の配置を示す図である。図６（Ａ）に示されるように、第１透明電極５３は接続部５３ａ′によって図示のＸ方向に接続され、Ｙ方向に非導通となるように配設された複数の菱形透明電極５３ａと、この菱形透明電極５３ａの非配設位置に菱形透明電極５３ａと電気的に絶縁状態で配設された複数の菱形透明電極５３ｂを備えている。そして、Ｘ方向の端部に位置する菱形透明電極５３ａは、それぞれ所定の外周金属配線５６に接続されており、また、Ｙ方向の端部に位置する菱形透明電極５３ｂは、それぞれ所定の外周金属配線５６に接続されている。
【００３５】
図６（Ｂ）は、タッチパネル部５１の第１透明電極５３上に位置する絶縁層５４を説明する図であり、図６（Ａ）にて一点鎖線で囲まれる領域（単位領域）を示している。絶縁層５４は第１透明電極５３を被覆するように配設されており、図６（Ｂ）では、絶縁層５４の下層として位置する第１透明電極５３を鎖線で示している。また、絶縁層５４は、各単位領域内において、接続部５３ａ′を介して対向する位置にある一対の菱形透明電極５３ｂに対応する位置に、それぞれ微細開口５４ａを備えている。
図６（Ｃ）は、タッチパネル部５１の絶縁層５４上に位置する第２透明電極５５を説明する図であり、図６（Ｂ）と同様に、図６（Ａ）にて一点鎖線で囲まれる領域（単位領域）を示している。第２透明電極５５は、単位領域内に存在する絶縁層５４の一対の微細開口５４ａ間に架け渡すように絶縁層５４上に配設され、微細開口５４ａに位置する菱形透明電極５３ｂに接続されている。したがって、第１透明電極５３において、電気的に絶縁状体で配設された菱形透明電極５３ｂは、第２透明電極５５によってＹ方向に導通されている。このように配設されている第１透明電極５３と第２透明電極５５は、位置検知用の透明電極である。
【００３６】
第１透明電極５３、第２透明電極５５は、例えば、インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物、アルミニウム亜鉛酸化物等の公知の透明導電材料からなるものであってよい。また、絶縁層５４は、透明樹脂であってよく、耐熱性の点から、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂等の硬化性樹脂とすることができる。さらに、外周金属配線５６は、例えば、金、銀、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデン等の金属、これら金属の任意の合金を用いて形成することができる。外周金属配線５６は、例えば、真空成膜法で上記の金属あるいは合金の薄膜を形成し、その後、フォトリソグラフィー法でパターニングして形成することができる。
タッチパネル４１を構成する平坦化層６０は、例えば、上述のカバーパネル１において、光散乱機能層３の有機膜４を構成する透明樹脂として挙げた樹脂材料から適宜選択して形成することができる。平坦化層６０の厚みは、透明基板４２と反対側の面６０ａが平坦面となるように適宜設定することができる。
【００３７】
＜光散乱機能部＞
本発明のタッチパネル４１を構成する光散乱機能部６１は、タッチパネル部５１を被覆する平坦化層６０の面６０ａ上に配設された光散乱機能層６３と、この光散乱機能層６３を被覆する平坦化層６６を備えている。
光散乱機能部６１を構成する光散乱機能層６３は有機膜６４と高屈折率膜６５とが積層されたものであり、有機膜６４側が平坦化層６０上に位置している。有機膜６４は高屈折率膜６５との界面が凹凸面６４ａとなっており、かつ、有機膜６４の屈折率は高屈折率膜６５の屈折率よりも小さいものである。さらに、この光散乱機能層６３のヘーズ値は、１０〜８０、好ましくは２０〜６０の範囲である。
【００３８】
このような光散乱機能部６１を構成する光散乱機能層６３は、上述の本発明のカバーパネル１を構成する光散乱機能層３と同様とすることができる。したがって、凹凸面６４ａの最大粗さ（Ｒｍａｘ）は１０μｍ以下、好ましくは０．５〜８μｍの範囲であることが好適であり、有機膜６４の厚みは、０．１〜１０μｍ、好ましくは１〜８μｍの範囲であるあることが好適である。また、平坦化層６６は、カバーパネル１１を構成する平坦化層１６と同様とすることができ、したがって、平坦化層６６の屈折率は高屈折率膜６５の屈折率よりも小さく、平坦化層６６の屈折率と有機膜６４の屈折率との差は±０．３以下であり、その差が０であることが好ましい。
【００３９】
このような本発明のタッチパネルは、表示パネルの前面側に配置することができ、タッチパネルを構成する光散乱機能部によって、タッチパネルに入射した外光の正反射光が拡散され、後方散乱光の発生を抑制することができるので、外光による表示品位の低下を防止することができ、また、ヘーズ値が適正な範囲に設定されているので、表示パネルの光の利用効率が良好であり、これにより、外光反射が抑制され、高コントラスト、高輝度の表示が可能である。
尚、本発明のタッチパネルと組み合わせて使用できる表示パネルとしては、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。このような表示パネルは、粘着シートを介してタッチパネルに配設することができる。
上述のタッチパネルの実施形態は例示であり、本発明はこのような実施形態に限定されるものではない。例えば、図５に示されるタッチパネル４１において、光散乱機能部６１を構成する平坦化層６６が存在しない構成であってもよい。また、光散乱機能部６１を構成する光散乱機能層６３が、平坦化層６０の面６０ａの全域に配設された構成であってもよい。
【００４０】
また、図５に示されるタッチパネル４１では、透明基板４２に対して、矢印ａと逆方向にタッチパネル部５１と光散乱機能部６１の順で積層されているが、本発明のタッチパネルは、透明基板に積層されるタッチパネル部と光散乱機能部の積層順序は限定されない。したがって、図７に示されるタッチパネル４１′のように、タッチパネル部５１と光散乱機能部６１の積層順序がタッチパネル４１と逆であってもよい。
また、図５に示されるタッチパネル４１では、透明基板４２に対して、矢印ａと逆方向にタッチパネル部５１と光散乱機能部６１が位置しているが、本発明のタッチパネルは、透明基板４２に対して、矢印ａの方向に、すなわち、透明基板４２よりも前面（観察者）側にタッチパネル部５１と光散乱機能部６１が位置していてもよい。したがって、図８に示されるタッチパネル４１″のように、透明基板４２よりも前面（観察者）側にタッチパネル部５１と光散乱機能部６１が位置していてもよい。この場合も、透明基板に積層されるタッチパネル部と光散乱機能部の積層順序は限定されない。
さらに、本発明のタッチパネルは、透明基板４２の一方の面にタッチパネル部５１が位置し、他方の面に光散乱機能部６１が位置するものであってもよい。この場合、透明基板４２よりも前面（観察者）側に位置するのは、タッチパネル部５１と光散乱機能部６１のいずれであってもよい。
【００４１】
［タッチパネル一体型カバーパネル］
図９は、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの一実施形態を示す概略構成図である。図９において、本発明のタッチパネル一体型カバーパネル７１は、透明基板７２と、タッチパネル部８１と、このタッチパネル部８１の背面側に位置する光散乱機能部９１とを備えている。図９では、矢印ａで示す方向が前面（観察者）側であり、タッチパネル一体型カバーパネル７１は、光散乱機能部９１側において表示パネルに配設され使用することができる。
【００４２】
次に、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの各構成について説明する。
＜透明基板＞
透明基板７２は、上述の本発明のタッチパネル４１を構成する透明基板４２と同様とすることができる。
＜タッチパネル部＞
本発明のタッチパネル一体型カバーパネルを構成するタッチパネル部は、静電容量方式、抵抗膜方式、接触方式、磁歪方式、誘電誘導方式、光学方式、超音波方式等の各種検知方式のものであってよい。図示例のタッチパネル一体型カバーパネル７１を構成するタッチパネル部８１は、静電容量方式のタッチパネルであり、透明基板７２の周辺部の所望部位に配設された加飾層８７、この加飾層８７に配設された外周金属配線８６、この外周金属配線８６と接続して所望のパターンで形成された第１透明電極８３、第２透明電極８５と、絶縁層８４を有しており、これらを被覆するように平坦化層９０を有している。
【００４３】
また、タッチパネル部８１を構成する第１透明電極８３、絶縁層８４、第２透明電極８５、および、外周金属配線８６は、外周金属配線８６が加飾層８７に配設されている他は、上述のタッチパネル４１を構成するタッチパネル部５１の第１透明電極５３、絶縁層５４、第２透明電極５５、外周金属配線５６と同様とすることができる。
さらに、タッチパネル７１を構成する平坦化層９０は、上述のタッチパネル４１を構成する平坦化層６０と同様とすることができる。
本発明のタッチパネル一体型カバーパネル７１を構成する加飾層８７は、タッチパネル部８１の外周金属配線８６を隠蔽することを目的とするものであり、図示例では、外周金属配線８６よりも前面（観察者）側、すなわち、矢印ａで示す方向側に位置している。この加飾部８７は、上述のカバーパネル２１を構成する加飾層２７と同様とすることができる。
【００４４】
＜光散乱機能部＞
本発明のタッチパネル一体型カバーパネル７１を構成する光散乱機能部９１は、タッチパネル部８１を被覆する平坦化層９０の面９０ａ上に配設された光散乱機能層９３と、この光散乱機能層９３を被覆する平坦化層９６を備えている。
光散乱機能部９１を構成する光散乱機能層９３は有機膜９４と高屈折率膜９５とが積層されたものであり、有機膜９４側が平坦化層９０上に位置している。有機膜９４は高屈折率膜９５との界面が凹凸面９４ａとなっており、かつ、有機膜９４の屈折率は高屈折率膜９５の屈折率よりも小さいものである。さらに、この光散乱機能層９３のヘーズ値は、１０〜８０、好ましくは２０〜６０の範囲である。
このような光散乱機能部９１を構成する光散乱機能層９３は、上述のカバーパネル１を構成する光散乱機能層３と同様とすることができる。したがって、凹凸面９４ａの最大粗さ（Ｒｍａｘ）は１０μｍ以下、好ましくは０．５〜８μｍの範囲であることが好適であり、有機膜９４の厚みは、０．１〜１０μｍ、好ましくは１〜８μｍの範囲であるあることが好適である。また、平坦化層９６は、カバーパネル１１を構成する平坦化層１６と同様とすることができ、したがって、平坦化層９６の屈折率は高屈折率膜９５の屈折率よりも小さく、また、平坦化層９６の屈折率と有機膜９４の屈折率との差は±０．３以下であり、その差が０であることが好ましい。
【００４５】
このような本発明のタッチパネル一体型カバーパネルは、表示パネルの前面側に配置することができ、タッチパネル一体型カバーパネルを構成する光散乱機能部によって、入射した外光の正反射光が拡散され、後方散乱光の発生を抑制することができるので、外光による表示品位の低下を防止することができ、また、ヘーズ値が適正な範囲に設定されているので、表示パネルの光の利用効率が良好であり、これにより、外光反射が抑制され、高コントラスト、高輝度の表示が可能である。さらに、タッチパネル部の配線の不要な認識が加飾層により阻害される。
尚、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルと組み合わせて使用できる表示パネルとしては、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。このような表示パネルは、粘着シートを介してタッチパネルに配設することができる。
【００４６】
上述のタッチパネル一体型カバーパネルの実施形態は例示であり、本発明はこのような実施形態に限定されるものではない。例えば、図７に示されるタッチパネル一体型カバーパネル７１において、光散乱機能部９１を構成する平坦化層９６が存在しない構成であってもよい。さらに、タッチパネル一体型カバーパネル７１の光散乱機能部９１を構成する光散乱機能層９３が、平坦化層９０の面９０ａの全域に配設された構成であってもよい。
また、図９に示されるタッチパネル一体型カバーパネル７１では、透明基板７２に対して、矢印ａと逆方向にタッチパネル部８１と光散乱機能部９１の順で積層されているが、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルは、透明基板に積層されるタッチパネル部と光散乱機能部の積層順序は限定されない。したがって、図１０に示されるタッチパネル一体型カバーパネル７１′のように、タッチパネル部８１と光散乱機能部９１の積層順序がタッチパネル一体型カバーパネル７１と逆であってもよい。
【００４７】
また、図９に示されるタッチパネル一体型カバーパネル７１では、透明基板７２に対して、矢印ａと逆方向にタッチパネル部８１および光散乱機能部９１が位置しているが、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルは、透明基板７２に対して、矢印ａの方向に、すなわち、透明基板７２よりも前面（観察者）側にタッチパネル部８１と光散乱機能部９１が位置していてもよい。したがって、図１１に示されるタッチパネル７１″のように、透明基板７２よりも前面（観察者）側にタッチパネル部８１と光散乱機能部９１が位置していてもよい。図１１に示される例では、加飾部８７は、外周金属配線８６よりも前面（観察者）側、すなわち、矢印ａで示す方向側に位置している。この場合も、透明基板に積層されるタッチパネル部と光散乱機能部の積層順序は限定されない。
さらに、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルは、透明基板７２の一方の面にタッチパネル部８１が位置し、他方の面に光散乱機能部９１が位置するものであってもよい。この場合、透明基板７２よりも前面（観察者）側に位置するのは、タッチパネル部８１と光散乱機能部９１のいずれであってもよい。
【００４８】
［タッチパネルの製造方法］
図１２は、本発明のタッチパネルの製造方法の一実施形態を説明するための工程図であり、上述の図５に示されるタッチパネル４１を例としている。
本発明では、タッチパネル部形成工程において、透明基板４２の一方の面に第１透明電極５３、絶縁層５４、第２透明電極５５、外周金属配線５６を形成してタッチパネル部５１とする（図１２（Ａ））。
第１透明電極５３と第２透明電極５５は位置検知用の透明電極であり、例えば、インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物、アルミニウム亜鉛酸化物等の公知の透明導電材料からなる薄膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングして形成することができる。また、外周金属配線５６は、例えば、金、銀、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデン等の金属、これら金属の任意の合金を用いて真空成膜法で薄膜を形成し、その後、フォトリソグラフィー法でパターニングして形成することができる。さらに、絶縁層５４は、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂等の硬化性樹脂を用いてフォトリソグラフィー法により形成することができる。
【００４９】
次に、平坦化層形成工程にて、タッチパネル部５１を被覆するように平坦化層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層６０′を形成する（図１２（Ｂ））。次いで、この感光性樹脂層６０′に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより平坦化層６０を形成する（図１２（Ｃ））。このようにタッチパネル部５１を被覆するように形成された平坦化層６０は、タッチパネル部５１の凹凸形状を吸収しており、かつ、平坦化層６０のタッチパネル部５１に当接する面と反対側の表面は、タッチパネル部５１の凹凸形状の影響がない平坦面に凹凸を有する構造となっている。この凹凸構造は、次の光散乱機能部形成工程において、凹凸面６４ａを有する有機膜６４として機能する。したがって、平坦化層形成工程では、凹凸面６４ａを有する有機膜６４が平坦化層６０の形成と同時に形成されることになる。
【００５０】
平坦化層用の感光性樹脂組成物は、光散乱機能層６３を構成する有機膜６４を形成する感光性樹脂組成物であり、後工程で形成する高屈折率膜６５の屈折率よりも小さい屈折率を具備する透明樹脂を形成可能なものである。このような感光性樹脂組成物としては、例えば、アクリル系、エポキシ系、ポリビニルアルコール系、ポリイミド系、ビニルエーテル系、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体系、ウレタン系樹脂、エステル系、アミド系等の感光性樹脂組成物を単独で、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。形成する感光性樹脂層６０′の厚みは、タッチパネル部５１の凹凸を吸収して、感光性樹脂層６０′のタッチパネル部５１と反対側の表面が平坦となるような厚みであり、使用する感光性樹脂組成物の粘度等の特性に応じて適宜設定することができる。また、露光量の相違部位が生じるような露光は、例えば、多段露光、階調露光等により行うことができる。このような露光は、平坦化層６０と同時に形成された有機膜６４の凹凸面６４ａが、例えば、最大粗さ（Ｒｍａｘ）１０μｍ以下、好ましくは０．５〜８μｍの範囲となるように、露光条件を適宜設定することができる。
【００５１】
次に、光散乱機能部形成工程において、平坦化層６０の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜６５を、平坦化層６０と同時に形成された有機膜６４の凹凸面６４ａ上に形成する。これにより、凹凸面６４ａを有する有機膜６４と高屈折率膜６５との積層である光散乱機能層６３が得られ、光散乱機能部６１が形成される（図１２（Ｄ））。このように形成される光散乱機能層６３のヘーズ値は１０〜８０の範囲とする。
高屈折率膜６５の形成は、例えば、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、炭化珪素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズまたは酸化タンタルに、ガリウム、セリウム、アルミニウム、カーボン、スズおよびボロンのいずれかをドープさせた群から選ばれる１種以上の無機材料を用いて、スパッタリング法等の真空成膜法、化学気相蒸着法等により形成することができる。
上記のように形成した光散乱機能層６３上に平坦化層６６を形成することにより、図５に示されるタッチパネル４１が得られる。
【００５２】
また、本発明のタッチパネルの製造方法は、上記と同様のタッチパネル部形成工程まで行った後、平坦化層形成工程にて、上記の製造方法の例と異なり、平坦面に凹凸を有していない構造の平坦化層６０を、タッチパネル部５１を被覆するように形成してもよい。この場合、その後の光散乱機能部形成工程において、平坦化層６０を被覆するように有機膜形成用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより、平坦化層６０に当接する面と反対側の表面に凹凸面６４ａを有する有機膜６４を形成し、この有機膜６４の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜６５を凹凸面６４ａ上に形成する。これにより、凹凸面６４ａを有する有機膜６４と高屈折率膜６５との積層である光散乱機能層６３が得られ、光散乱機能部６１が形成される。そして、光散乱機能層６３上に平坦化層６６を形成することにより、図５に示されるタッチパネル４１が得られる。
【００５３】
［タッチパネル一体型カバーパネルの製造方法］
図１３は、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法の一実施形態を説明するための工程図であり、上述の図９に示されるタッチパネル一体型カバーパネル７１を例としている。
本発明では、タッチパネル部形成工程において、まず、透明基板７２の一方の面に加飾層８７を形成する（図１３（Ａ））。加飾層８７の形成は、黒色顔料、カーボンブラック等を含有した感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法により形成することができる。このような加飾層８７の形成部位は、タッチパネルの周囲の非表示領域に集められる配線を隠蔽するように設定することができる。その後、透明基板７２上に第１透明電極５３、絶縁層５４、第２透明電極５５を形成し、また、加飾層８７に外周金属配線５６を形成してタッチパネル部８１とする（図１３（Ｂ））。
第１透明電極８３と第２透明電極８５は位置検知用の透明電極であり、第１透明電極８３と第２透明電極８５の形成は、上述の第１透明電極５３と第２透明電極５５の形成と同様とすることができる。また、外周金属配線８６は、上述の外周金属配線５６の形成と同様にして形成することができる。
【００５４】
次に、平坦化層形成工程にて、タッチパネル部８１を被覆するように平坦化層用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層９０′を形成する（図１３（Ｃ））。次いで、この感光性樹脂層９０′に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより平坦化層９０を形成する（図１３（Ｄ））。タッチパネル部８１を被覆するように形成された平坦化層９０は、タッチパネル部８１の凹凸形状を吸収しており、かつ、平坦化層９０のタッチパネル部８１に当接する面と反対側の表面は、タッチパネル部８１の凹凸形状の影響がない平坦面に凹凸を有する構造となっている。この凹凸構造は、次の光散乱機能部形成工程において、凹凸面９４ａを有する有機膜９４として機能する。したがって、平坦化層形成工程では、凹凸面９４ａを有する有機膜９４が平坦化層９０の形成と同時に形成されることになる。このような平坦化層９０の形成は、上述の平坦化層６０の形成と同様とすることができる。
【００５５】
次に、光散乱機能部形成工程において、平坦化層９０の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜９５を、平坦化層９０と同時に形成された有機膜９４の凹凸面９４ａ上に形成する。これにより、凹凸面９４ａを有する有機膜９４と高屈折率膜９５との積層である光散乱機能層９３が得られ、光散乱機能部９１が形成される（図１３（Ｅ））。高屈折率膜９５の形成は、上述の高屈折率膜６５の形成と同様とすることができる。このように形成される光散乱機能層９３のヘーズ値は１０〜８０の範囲とする。
上記のように形成した光散乱機能層９３上に平坦化層９６を形成することにより、図９に示されるタッチパネル一体型カバーパネル７１が得られる。
【００５６】
また、本発明のタッチパネル一体型カバーパネルの製造方法は、上記と同様のタッチパネル部形成工程まで行った後、、平坦化層形成工程にて、上記の製造方法の例と異なり、平坦面に凹凸を有していない構造の平坦化層９０を、タッチパネル部８１を被覆するように形成してもよい。この場合、その後の光散乱機能部形成工程において、平坦化層９０を被覆するように有機膜形成用の感光性樹脂組成物を使用して感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層に対して露光量の相違部位が生じるような露光を行い、その後、現像を行うことにより、平坦化層９０に当接する面と反対側の表面に凹凸面９４ａを有する有機膜９４を形成し、この有機膜９４の屈折率よりも大きい屈折率を有する高屈折率膜９５を凹凸面９４ａ上に形成する。これにより、凹凸面９４ａを有する有機膜９４と高屈折率膜９５との積層である光散乱機能層９３が得られ、光散乱機能部９１が形成される。そして、光散乱機能層９３上に平坦化層９６を形成することにより、図９に示されるタッチパネル一体型カバーパネル７１が得られる。
【実施例】
【００５７】
次に、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
＜タッチパネル（試料１）の作製＞
（タッチパネル部の形成）
透明基板として、平面の大きさが１００ｍｍ×１００ｍｍであり、厚さが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製  １７３７ガラス）を準備した。
この透明基板の一方の面の全域にスパッタリング法によりＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）の薄膜（厚み０．０１μｍ）を形成して第１透明電極とし、この第１透明電極上にスピンコート法でアクリル系の樹脂からなる有機層間絶縁膜材料を塗布し硬化させて絶縁層を形成し、さらに、この絶縁層上にスパッタリング法によりＩＴＯの薄膜（厚み０．０１μｍ）を形成して第２透明電極とした。このように形成した第１透明電極、絶縁層、第２透明電極からなる３層構造を評価用のタッチパネル部とした。
【００５８】
（光散乱機能部の形成）
次に、下記組成のネガ型の光硬化性塗工液を平坦化層兼有機膜形成用の光硬化性塗工液として使用し、上記のように形成したタッチパネル部上にスピンコート法により塗布し、プリベイクを行い、円形開口部がピッチ９μｍで面心形状に配列されたフォトマスクを介して露光（照射量１０ｍＪ／ｃｍ2）を行い、次いで、現像、ポストベイクを行って、タッチパネル部を被覆するように平坦化層を形成した。この平坦化層は、タッチパネル部に当接する面と反対側の表面に凹凸面を有しており、この凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）を触針式膜厚計（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ  Ｊａｐａｎ（株）製  Ｐ−１５）を用いて測定した結果、４．０μｍであり、この凹凸面を除いた平坦化層の厚みは３μｍであった。これにより、平坦化層と同時に、凹凸面を有する有機膜を形成した。
【００５９】
尚、この平坦化層および有機膜の屈折率を分光エリプソメーター（ジョバン・イーボン社製  ＵＶＩＳＥＬ）により測定した結果、約１．５であった。
（平坦化層兼有機膜形成用の光硬化性塗工液）
・紫顔料                                              …  ０．３重量部
（Clariant社製  Novotex Violet BL-PC VP2429）
・青顔料（ＢＡＳＦ社製  ヘリオゲンブルーＬ６７００Ｆ）…  ０．３重量部
・顔料誘導体（アビシア社製  ソルスパース５０００      …  ０．０４重量部
・分散剤（ビックケミー社製  ディスパービック１６１）  …  ０．２重量部
・モノマー（サートマー社製  ＳＲ３９９）              …  ４．０重量部
・ポリマーＩ                                          …  ５．０重量部
・開始剤                                              …  １．４重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
・開始剤                                              …  ０．６重量部
（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−
テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール）
・溶剤                                                …  ５０．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【００６０】
尚、上記のポリマーＩは、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルメタクリレート＝１５．６：３７．０：３０．５：１６．９（モル比）の共重合体１００モル％に対して、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを１６．９モル％付加したものであり、重量平均分子量は４２５００である。
次に、スパッタリング法によるマスク成膜によって、上記の有機膜の凹凸面上にＩＴＯの薄膜（厚み０．１５μｍ）を成膜して高屈折率膜とし、有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成した。
尚、この高屈折率膜の形成操作と同様にして、上記の透明基板上に直接高屈折率膜を形成し、この高屈折率膜の屈折率を上記と同様に測定した結果、約２．０であった。また、上記の平坦化層（有機膜）と高屈折率膜の形成操作と同様にして、上記の透明基板上に直接光散乱機能層を形成し、この光散乱機能層のヘーズ値を（株）村上色彩技術研究所製のヘーズメーター（ＨＭ−１５０型）を用いて測定した結果、ヘーズ値は４０であった。
上記の操作により、タッチパネル（試料１）を作製した。
【００６１】
＜タッチパネル（試料２〜７）の作製＞
上記のタッチパネル（試料１）の平坦化層形成における露光条件の露光量と円形開口部のピッチを変更することにより、凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）が下記に示すような値となる６種の凹凸面を有する有機膜を、平坦化層の形成と同時に形成した。次いで、この有機膜の凹凸面上に、試料１と同様にして、ＩＴＯの薄膜（厚み０．１５μｍ）を成膜して高屈折率膜とし、有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成し、タッチパネル（試料２〜７）を作製した。
（有機膜の凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ））
試料２  ：  ４．６μｍ
試料３  ：  ５．０μｍ
試料４  ：  ２．０μｍ
試料５  ：  １．６μｍ
試料６  ：  １．０μｍ
試料７  ：  ５．９μｍ
また、上記の試料２〜７の平坦化層（有機膜）、高屈折率膜の形成操作と同様にして、上記の透明基板上に直接光散乱機能層を形成し、この光散乱機能層のヘーズ値を上記と同様に測定し、結果を下記の表１に示した。
【００６２】
＜タッチパネル（試料８）の作製＞
上記のタッチパネル（試料１）の形成と同様に、タッチパネル部を形成し、その後、上記と同じ平坦化層兼有機膜形成用の光硬化性塗工液として使用し、タッチパネル部上にスピンコート法により塗布し、プリベイクを行い、全面露光（照射量４０ｍＪ／ｃｍ2）を行い、現像、ポストベイクを行って、タッチパネル部を被覆するように平坦化層（厚み４μｍ）を形成した。
次に、このように形成した平坦化層上に、さらに、平坦化層兼有機膜形成用の光硬化性塗工液をスピンコート法により塗布し、プリベイクを行い、円形開口部がピッチ９μｍで面心形状に配列されたフォトマスクを介して露光（照射量１０ｍＪ／ｃｍ2）を行い、次いで、現像、ポストベイクを行って、凹凸面を有する有機膜を平坦化層上に形成した。この有機膜の凹凸面の最大粗さ（Ｒｍａｘ）を上記と同様に測定した結果、４．０μｍであった。
次に、この有機膜の凹凸面上にＩＴＯの薄膜（厚み０．１５μｍ）を成膜して高屈折率膜とし、有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成し、タッチパネル（試料８）を作製した。
【００６３】
＜タッチパネル（試料９）の作製＞
上記のタッチパネル（試料８）の形成と同様に、平坦化層の形成までを行った。
また、微粒子を含有する光散乱層形成用の塗工液を調製した。すなわち、重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、撹拌し溶解させた後、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間撹拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、および、ハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間撹拌し、硬化性樹脂組成物（固形分５０％）を得た。次に、下記の組成で各材料を混合し、室温で撹拌して、光散乱層形成用の塗工液を得た。
（光散乱層形成用の塗工液）
・硬化性樹脂組成物（固形分５０％）                    …  １６重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート            …  ２４重量部
（サートマー社製  ＳＲ３９９）
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂            …    ４重量部
（油化シェルエポキシ社製  エピコート１８０Ｓ７０）
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−
１−オン                                            …    ４重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                …  ５２重量部
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒子径１．２μｍ）        …    ５重量部
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒子径０．９μｍ）        …    ５重量部
【００６４】
次に、平坦化層上に、上記の光散乱層形成用の塗工液をスピンコート法により塗布し、プリベイクを行い、その後、所定のフォトマスクを介して露光し、現像、ポストベイクを行って、光散乱層（厚み２．０μｍ）を形成し、タッチパネル（試料９）を作製した。
尚、この光散乱層のヘーズ値を上記と同様に測定し、結果を下記の表１に示した。
＜タッチパネル（試料１０）の作製＞
比較として、有機膜と高屈折率膜との積層である光散乱機能層を形成しない他は、上記の試料８と同様にして、タッチパネル（試料１０）を作製した。
【００６５】
＜評  価＞
（透過効率）
上記の各タッチパネル（試料１〜１０）について透過率を測定し、下記の基準で透過効率を評価して、結果を下記の表１に示した。測定では、透過率（積分球を用いて測定する全光線透過率）を（株）村上色彩技術研究所製のヘーズメーター（ＨＭ−１５０型）を用いて測定し、光散乱機能層を有さないタッチパネル（試料１０）の透過率を１００として算出した。
（評価基準）      
◎  ：  透過率が８５〜１００の範囲であり、透過効率が極めて良好
○  ：  透過率が４１〜８５未満の範囲であり、実用に供し得る
×  ：  透過率が４１未満であり、実用に供し得ない
（外光正反射光の防止性）
表示パネルとして有機ＥＬディスプレイを準備し、上記のタッチパネル（試料１〜１０）の背面側（タッチパネル部と反対側）に接着剤（日東電工（株）製  ＮＴ−０１ＵＶ）を配して貼り合せ、評価用のタッチパネル装置を作製した。
上記の各タッチパネル装置のタッチパネル部の透明基板に対して、入射角４５°で光源（キセノンランプ）から光照射を行い、変角光度計（（株）村上色彩技術研究所製  ＧＣＭＳ−１１）を用いて変角反射分光測定（変角０度）を行い、光散乱機能層を有さないタッチパネル（試料１０）を備えたタッチパネル装置における外光正反射光の反射強度を１００とし、下記の基準で外光正反射光の防止性を評価して、結果を下記の表１に示した。
（評価基準）
◎  ：  反射強度が３３以下であり、極めて良好
○  ：  反射強度が３３より大きく７０以下の範囲であり、実用に供し得る
×  ：  反射強度が７０より大きく、実用に供し得ない
【００６６】
（明室下での視認性）
上記の各タッチパネル装置の表示パネルを消灯した状態で、標準光源（６５００ｋの蛍光灯）下における黒の閉まり具合を目視にて評価した。本評価は、後方散乱の防止性を判断するものであり、下記基準で評価して、結果を下記の表１に示した。
（評価基準）
○  ：  黒く沈んでみえる場合
×  ：  白くにごって見え、黒く沈んでみえない場合
【００６７】
【表１】
2014188843.tif 000003
表１で＊印を付した試料は比較例を示す。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
種々のモバイル製品、タッチパネル装置等の入力装置、画像表示装置等の製造に関連する幅広い分野で利用可能である。
【符号の説明】
【００６９】
１，１、２１…カバーパネル
２，１２，２２…光透過性基材
３，１３，２３…光散乱機能層
４，１４，２４…有機膜
４ａ，１４ａ，２４ａ…凹凸面
５，１５，２５…高屈折率膜
１６，２６…平坦化層
２７…加飾層
４１，４１′，４１″…タッチパネル
４２…透明基板
５１…タッチパネル部
６０…平坦化層
６１…光散乱機能部
６３…光散乱機能層
７１，７１′，７１″…タッチパネル一体型カバーパネル
７２…透明基板
８１…タッチパネル部
８７…加飾層
９０…平坦化層
９１…光散乱機能部
９３…光散乱機能層
【図１】
2014188843.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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