(57)【要約】【課題】溶湯の冷却段階で、安価に、初晶Ｓｉおよび共晶を微細化することができるＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法を提供する。【解決手段】Ａｌ−Ｓｉ系合金からなる溶湯の冷却過程の際に溶湯を加振する工程を少なくとも含むＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法である。溶湯を加振する工程は、Ａｌ−Ｓｉ系合金を溶融した溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期から前記溶湯が共晶温度に到達するまでの冷却期間のうち、溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期を少なくとも含む期間に、溶湯に超音波振動を付与することにより初晶Ｓｉを微細化する第１の加振工程と、第１の加振工程後の溶湯を鋳型内に流し込む際に、溶湯を共晶温度よりも高い温度で加振することにより、前記溶湯に共晶を析出させると共に該共晶を微細化する第２の加振工程とを少なくとも含む。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａｌ−Ｓｉ系合金を溶融してＡｌ−Ｓｉ系合金からなる溶湯を得る溶融工程と、前記溶湯の冷却過程の際に、前記溶湯を加振する工程と、加振された溶湯を鋳型内に流し込んで鋳造する工程とを少なくとも含むＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法であって、
前記溶湯を加振する工程は、Ａｌ−Ｓｉ系合金を溶融した溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期から前記溶湯が共晶温度に到達するまでの冷却期間のうち、前記溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期を少なくとも含む期間に、前記溶湯に超音波振動を付与することにより前記初晶Ｓｉを微細化する第１の加振工程と、
前記第１の加振工程後の溶湯を鋳型内に流し込む際に、該溶湯を共晶温度よりも高い温度で加振することにより、前記溶湯に共晶を析出させると共に該共晶を微細化する第２の加振工程とを少なくとも含むことを特徴とするＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法。
【請求項２】
前記第２の加振工程において、前記鋳型内に流し込む流動中の溶湯を超音波振動素子に接触させながら、前記溶湯を加振することを特徴とする請求項１に記載のＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法。
【請求項３】
前記第２の加振工程は、樋を介して前記鋳型内に前記溶湯を流し込むものであり、前記樋を振動させることにより、前記樋を流れる溶湯を加振することを特徴とする請求項１または２に記載のＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法。
【請求項４】
前記第１の超音波付与工程において、前記溶湯の湯面から所定の距離を空けて配置した超音波振動素子により、前記溶湯に超音波振動を非接触で付与することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ａｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法に係り、特に溶湯を冷却させる際に超音波振動を利用したＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、超音波を液体に照射したとき、液体中への音響流や超音波キャビテーションの発生が広く知られている。金属液相プロセスへの超音波の適用も多数報告されており、中でも超音波による凝固組織の微細化は古くから知られている。このような凝固組織の微細化は、金属を溶融した溶湯に超音波振動した際に、溶湯内に発生するキャビテーションなどの物理現象が密接に関係すると言われおり、超音波振動をアルミニウム合金の鋳造プロセスに適用することは公知となっている。
【０００３】
例えば、このような技術の一例として、溶湯に液相線温度を挟んだ温度領域で超音波振動を付加して凝固結晶組織を微細化する鋳造方法であって、流動中の溶湯に連続して超音波振動を付加する鋳造方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。具体的には、溶湯の流動案内通路に、超音波振動発生器のホーンを配置し、該超音波発生器によって、流動案内通路内の溶湯を振動さている。この技術によれば、流動中の溶湯に対して連続して超音波振動を付加するので、従来に比較し超音波振動の付加時間を極短時間で処理ができるようになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２７２８１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した特許文献１の技術では、液相線を挟んだ領域でしか、溶湯を加振していないため、初晶Ｓｉを微細化することができたとしても、共晶を微細化することができない。そこで、共晶が析出する領域を狙って溶湯を加振した場合には、初晶Ｓｉが先に析出してしまうおそれがある。
【０００６】
そこで、初晶Ｓｉの晶出から共晶が晶出するまでの時間を短縮すべく、超音波振動発生溶湯の冷却速度を高めようとした場合には、超音波振動発生器のホーンが熱衝撃による破損するおそれがあった。
【０００７】
また、ホーン上を流れる溶湯の流動距離をより長くして、ホーン上で、初晶Ｓｉの晶出から共晶が晶出するまで、溶湯に超音波振動を付与することも考えられるが、このような場合には、ホーンを大型化する必要があり、設備が大型化し、設備コストが高価なものになってしまう。
【０００８】
本発明は、このような点を鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、溶湯の冷却段階で、安価に、初晶Ｓｉおよび共晶を微細化することができるAｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を鑑みて、本発明に係るＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法は、Ａｌ−Ｓｉ系合金を溶融してＡｌ−Ｓｉ系合金からなる溶湯を得る溶融工程と、前記溶湯の冷却過程の際に、前記溶湯を加振する工程と、加振された溶湯を鋳型内に流し込んで鋳造する工程とを少なくとも含むＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法であって、前記溶湯を加振する工程は、Ａｌ−Ｓｉ系合金を溶融した溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期から前記溶湯が共晶温度に到達するまでの冷却期間のうち、前記溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期を少なくとも含む期間に、前記溶湯に超音波振動を付与することにより前記初晶Ｓｉを微細化する第１の加振工程と、前記第１の加振工程後の溶湯を鋳型内に流し込む際に、該溶湯を共晶温度よりも高い温度で加振することにより、前記溶湯に共晶を析出させると共に該共晶を微細化する第２の加振工程とを少なくとも含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、第１の加振工程において、溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期から前記溶湯が共晶温度に到達するまでの期間のうち、前記溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期を少なくとも含む期間に、溶湯に超音波振動を付与する。この期間において、超音波振動を溶湯に付与することにより、溶湯内にキャビテーション気泡は発生する。このキャビテーション気泡が、初晶Ｓｉの異質生成時の核となると考えられる。
【００１１】
この結果、超音波振動を付与しないものに比べて、初晶Ｓｉをより多く晶出させることができる。晶出した初晶Ｓｉは、超音波振動を付与しないものに比べて、微細化された初晶Ｓｉであり、この初晶Ｓｉが溶湯内において均一に分散する。なお、本発明でいう「微細化する」とは、超音波振動を溶湯に付与しない場合に比べて、その結晶が微細化することをいう。
【００１２】
次に、第２の加振工程において、前記第１の加振工程後の溶湯を鋳型内に流し込む際に、該溶湯を共晶温度よりも高い温度で加振する。これにより、（溶湯の未加振時の）共晶温度よりも高い温度において、溶湯内にキャビテーション気泡が発生することで溶湯の一部に圧力が付与される。この結果、従来では（溶湯の未加振時の）共晶温度においてＡｌ−Ｓｉの共晶が析出しつつ溶湯の凝固が促進されるところ、この共晶温度よりも高い温度（具体的には共晶温度よりも５０℃程度高い温度）において、溶湯の流動性がより高い状態でＡｌ−Ｓｉの共晶を析出させて、これを微細化することができる。
【００１３】
このようにして、第１および第２の加振工程を経た溶湯を鋳型内に流し込むことにより、初晶ＳｉおよびＡｌ−Ｓｉの共晶が微細化されたＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金を、簡易的かつ安価に製造することができる。
【００１４】
より好ましい態様としては、前記第２の加振工程において、前記鋳型内に流し込む流動中の溶湯を超音波振動素子に接触させながら前記溶湯を加振する。本発明によれば、第２の加振工程において、鋳型内に流し込む流動中の溶湯を超音波振動素子に接触させながら、直接的に溶湯を加振する（溶湯に超音波振動を付与する）ので、効率良くＡｌ−Ｓｉの共晶を析出させて、これを微細化することができる。
【００１５】
また、別の好ましい態様としては、前記第２の加振工程は、樋を介して前記鋳型内に前記溶湯を流し込むものであり、前記樋を振動させることにより、前記樋を流れる溶湯を加振する。本発明によれば、樋を介して間接的に樋を流れる溶湯を加振するので、加振装置そのものが直接溶湯に晒されることがなく、装置の長寿命化を図ることができる。
【００１６】
また、前記第１の超音波付与工程において、前記溶湯の湯面から所定の距離を空けて配置した超音波振動素子により、前記溶湯に超音波振動を非接触で付与することが好ましい。溶湯に超音波振動を非接触で付与することにより、超音波振動素子が直接溶湯に接触しないので、素子の長寿命化を図ることができるばかりでなく、溶湯中のノロ（Ａl２Ｏ３）の発生を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、溶湯の冷却段階で、安価に、初晶Ｓｉおよび共晶を微細化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態に係るＡｌ−Ｓｉ系合金溶湯に第１の加振を付与する工程を説明するための模式的概念図。
【図２】図１に示す第１の加振工程後、Ａｌ−Ｓｉ系合金溶湯に第２の加振を付与する工程を説明するための模式的概念図。
【図３】図２の第２の加振工程を行うための別の態様を説明するための模式図。
【図４】第１の加振および第２の加振工程において、溶湯を加振する期間を説明するための図。
【図５】実施例１および比較例１〜３に係るＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法により製造された鋳造品の上面図。
【図６】実施例１および比較例１〜３に係るＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の上部のミクロ組織を示す写真図。
【図７】実施例１および比較例１〜３に係るＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の下部のミクロ組織を示す写真図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
次に、発明の実施の形態を説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るＡｌ−Ｓｉ系合金溶湯に第１の加振を付与する工程を説明するための模式的概念図である。図２は、図１に示す第１の加振工程後、Ａｌ−Ｓｉ系合金溶湯に第２の加振を付与する工程を説明するための模式的概念図であり、図３は、図２の第２の加振工程を行うための別の態様を説明するための模式図である。図４は、第１の加振および第２の加振工程において、溶湯を加振する期間を説明するための図である。
【００２０】
本実施形態では、Ｓｉが１２質量％以上含有した過共晶Ａｌ−Ｓｉ系合金である溶湯１０からＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金を製造方法である。この製造方法では、まず、Ａｌ−Ｓｉ系合金の素材を溶融してＡｌ−Ｓｉ系合金からなる溶湯を得る（溶融工程）。
【００２１】
次に、図１〜図３に示す如く、溶湯の冷却過程の際に、溶湯１０を加振する（加振する工程）。加振工程は第１の加振工程と第２加振の工程からなる。第１の加振工程では、図１に示すように、凝固過程（冷却過程）の溶湯１０の湯面から所定の距離を空けて配置した超音波振動素子２０により、非接触で溶湯１０に超音波振動を付与する。
【００２２】
より具体的には、Ａｌ−Ｓｉ系合金を溶融した溶湯１０をラドルなどの処理容器３０に収容し、図４に示すように、溶湯１０に初晶Ｓｉが晶出し始める時期から前記溶湯が共晶温度に到達するまでの冷却期間のうち、溶湯１０に初晶Ｓｉが晶出し始める時期を少なくとも含む期間に、溶湯に超音波振動を付与し（具体的には、１９．１５ｋＨｚ）、初晶Ｓｉを微細化する。
【００２３】
図１に示す如く、溶湯１０に超音波振動が付与されると、溶湯１０の湯面近傍領域が振動するとともに、溶湯１０の湯面と超音波振動素子２０の間で空気の対流が起こって溶湯１０の湯面が冷却される。そのため、超音波振動素子２０に対向する溶湯１０の湯面の近傍領域において多数の結晶核１０ａ・１０ａ・・・が核生成する。また、溶湯１０に付与される超音波振動により、溶湯１０の内部に湯面から底部に向かう緩やかな強制対流が発生する。
【００２４】
このように、超音波振動を溶湯１０に付与することにより、溶湯内にキャビテーション気泡を発生させることにより、溶湯１０の一部に圧力を付与し、超音波振動を付与しないものに比べて、初晶Ｓｉをより多く晶出させることができる。晶出した初晶Ｓｉは、超音波振動を付与しないものに比べて、微細化された初晶Ｓｉとなる。さらに、溶湯１０に超音波振動を非接触で付与することにより、超音波振動素子２０が直接溶湯に接触しないので、素子の長寿命化を図ることができるばかりでなく、溶湯中のノロ（Ａl２Ｏ３）の発生を抑制することができる。
【００２５】
ここで、超音波振動素子２０は点ではなく、所定の面積を有し、湯面に対向する面から振動を発することから、超音波振動の共振が起こり、溶湯１０の湯面から振動子までの距離によっては超音波振動が増幅され、あるいは相殺される。従って、超音波振動素子２０と溶湯１０の湯面との間の所定の距離は、（１）超音波振動の共振が起こり、超音波振動が増幅される距離であって、かつ、（２）超音波振動素子２０の劣化等の影響が抑えられる範囲内で極力短いこと、が望ましい。
【００２６】
本明細書で、図４に示すように、溶湯１０に初晶Ｓｉが晶出し始める時期は、溶湯１０が液相線温度に到達した時期をいう。ここで、第１の加振工程の好ましい終了タイミングは、初晶Ｓｉの微細化、加振による共晶の析出を考慮すると、少なくとも共晶温度から＋４６℃〜５２℃程度の温度領域になるまでの期間である。
【００２７】
次に、図２に示すように、鋳型４０を用いて鋳造品を鋳造する。具体的には、鋳型４０の母材は、熱間工具鋼等の鉄系材料からなる一対の固定型４１および可動型４２により構成される。一方の固定型４１と可動型４２とを、連結部材４８で連結された型締ピン４７で型締めすることにより、鋳型４０には鋳造品の形状に応じたキャビティ４３が形成される。固定型４１には、金属が溶融した溶湯を注入するためのゲート４６が設けられている。ゲート４６を介して溶湯１０が、プランジャ４５によりキャビティ４３内に射出され、その内部に充填される。
【００２８】
本実施形態では、第１の加振工程後にラドル３０ａ内の溶湯１０を鋳型４０内に流し込む際に、溶湯１０を共晶温度よりも高い温度（具体的には共晶温度から＋４６℃〜５２℃程度）で加振することにより、溶湯１０に共晶を析出させると共に該共晶を微細化する。
【００２９】
具体的には、鋳型４０内に流し込む流動中の溶湯１０を超音波振動素子（ホーン）３５に接触させながら、溶湯１０を加振する（具体的には、１９．１５ｋＨｚ）。これにより、（溶湯の未加振時の）共晶温度よりも高い温度において、溶湯１０内にキャビテーション気泡が発生することで溶湯の一部に圧力が付与される。
【００３０】
この結果、従来では（溶湯の未加振時の）共晶温度においてＡｌ−Ｓｉの共晶が析出しつつ溶湯の凝固が促進されるところ、この共晶温度よりも高い温度（具体的には共晶温度よりも５０℃程度高い温度）において、溶湯１０の流動性がより高い状態でＡｌ−Ｓｉの共晶を析出させて、これを微細化することができる。
【００３１】
すなわち、第２の加振工程は、溶湯に加振することにより晶出点をずらし、共晶温度（例えば実施例では、共晶温度５６４℃）以上の温度領域（５６４℃＋４６℃〜５２℃）で、共晶を晶出させ、これを微細化することができる。このときに、通常、過共晶領域では晶出されないα−Ａｌも晶出する。
【００３２】
特に、本実施形態では、第２の加振工程において、鋳型４０内に流し込む流動中の溶湯１０を超音波振動素子３５に接触させながら、直接的に溶湯１０に超音波振動を付与するので、効率良くＡｌ−Ｓｉの共晶を析出させて、これを微細化することができる。
【００３３】
このような超音波振動素子３５は、溶湯１０を加振することができ、ゲートに溶湯１０に案内することができるのであれば、板状、スリット状、溝が形成された形状等、特に限定されるものではなく、共晶を晶出させて、これを微細化することができるのであれば、溶湯１０に超音波振動を付与しなくても、溶湯１０を加振させるだけでもよい。
【００３４】
また、第２の加振工程を図３に示す重力鋳造を行う際に行ってもよい。図３に示すように、鋳型４０Ａは、上型４１Ａおよび下型４２Ａを備えており、上型４１Ａおよび下型４２Ａを型締めすることにより、その内部にキャビティ４３Ａが形成されている。
【００３５】
上型４１Ａには、キャビティ４３Ａに連通するゲート４６Ａが形成れており、ゲート４６Ａの上方には、溶湯１０を注入するための樋５０が形成されている。樋５０の下方には、樋５０を振動させる加振装置３５Ａが配置されており、加振装置３５Ａをたとえば上下方向に振動させることにより、樋５０を流れる溶湯１０を加振することができる。そして、この加振された溶湯１０は、ゲート４６Ａを介して、キャビティ４３Ａ内に注入され、鋳造品が鋳造される。
【００３６】
この実施形態によれば、加振装置３５Ａにより樋５０を介して間接的に樋５０を流れる溶湯１０を加振する（具体的には、１０〜２０ｋＨｚ）ので、溶湯１０にＡｌ−Ｓｉの共晶を析出させてこれを微細化することができるばかりでなく、加振装置３５Ａそのものが直接溶湯１０に晒されることがなく、装置の長寿命化を図ることができる。
【００３７】
このようにして、図１および、図２または図３に示す装置を用いて、第１および第２の加振工程を経た溶湯１０を鋳型内に流し込むことにより、初晶ＳｉおよびＡｌ−Ｓｉの共晶が微細化されたＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金を、簡易的かつ安価に製造することができる。
【実施例】
【００３８】
以下に本実施形態を実施例により説明する。
【００３９】
〔実施例１〕
実施例１では、Ａｌ−Ｓｉ系鋳造合金を製造した。まず、過共晶のＡｌ−Ｓｉ合金（Ａ３９０，Ｓｉ：１６．５〜１７．５質量％、Ｃｕ：４．３〜４．３６質量％、Ｍｇ：０．３７〜０．５２質量％、残部Ａｌ）の素材を準備し（液相線温度６４８℃、共晶温度５６１℃、溶融温度６８２℃）を準備し、黒鉛るつぼ内に投入し、これを溶融炉内に投入した。大気雰囲気下で、溶融炉内の温度を７００℃にし、溶融温度に到達後２０分間、脱ガスとして、高純度Ａｒガス、０．７５ＭＰａ、１．０Ｌ／ｍｉｎの条件で供給し、２０分間静置した。
【００４０】
次に、図１に示す装置を用いて、第１の加振工程として、ラドルに入った溶湯に超音波振動を付与した（超音波を付与した）。具体的には、図４に示すように、冷却段階において、溶湯に初晶Ｓｉが晶出し始める時期（溶湯温度が液相線温度（６４８℃）に到達した時期）から溶湯温度が６４０℃（共晶温度よりも高い温度）に到達するまでの１５秒間超音波を付与した。超音波振動の周波数は、１９．１５ｋＨｚ、振幅は２２〜２５μｍとした。これにより、溶湯に晶出する初晶Ｓｉを微細化した。
【００４１】
次に、図２に示すように、ゲート（湯口）上方に、超音波素子を配置した。そして、第１の加振工程後、共晶温度５６１℃よりも高い温度６４２℃〜６０７℃の温度領域となった溶湯に対して、超音波振動素子に接触させながら流動中の溶湯を加振する（第２の加振工程）と共に、図３に示すような重力鋳造法により、鋳型内に溶湯を流し込んだ。第２の加振工程により、流動中の溶湯は、０．９〜１．２秒、加振されたことになる。超音波振動の周波数は、１９．１５ｋＨｚ、振幅は２２〜２５μｍとした。
【００４２】
図５は、実施例１に係るＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の製造方法により製造されたハンドル形状の鋳造品の上面図であり、紙面に垂直方向（重力方向）から、第２の加振工程を経た溶湯が流れ込み、白抜きの矢印に沿って流れ込み、キャビティ内に充填され、その後冷却、脱型後、ハンドル形状の鋳造品を得た。
【００４３】
〔比較例１〕
実施例１と同じようにＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金を製造した。実施例１と相違する点は、第１および第２の加振工程を経ることなく、７００℃に加熱した溶湯を鋳型内に流し込み、ハンドル形状の鋳造品を製造した点である。
【００４４】
〔比較例２〕
実施例１と同じようにＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金を製造した。実施例１と相違する点は、第１および第２の加振工程を経ることなく、７００℃に加熱した溶湯を鋳型内に流し込み、その後、超音波振動素子（ホーン）を湯口から浸漬し、凝固するまで実施例１と同様の条件で超音波振動を付与しながら、ハンドル形状の鋳造品を製造した点である。
【００４５】
〔比較例３〕
実施例１と同じようにＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金を製造した。実施例１と相違する点は、第１の加振工程を経ることなく、第２の加振工程のみを行い、ハンドル形状の鋳造品を製造した点である。
【００４６】
＜顕微鏡観察＞
実施例１および比較例１〜３のＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金からなる鋳造品において、図５に示す、Ａ〜Ｃの位置における上部および下部近傍の金属組織を顕微鏡観察した。この結果を図６および７に示す。図６は、実施例１および比較例１〜３に係るＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の上部のミクロ組織を示す写真図である。図７は、実施例１および比較例１〜３に係るＡｌ−Ｓｉ系鋳造合金の下部のミクロ組織を示す写真図である。なお、これらの写真は、同じ倍率（×４５０倍）で観察したものである。
【００４７】
（結果１）
図６および７に示すように、実施例１の場合には、比較例１〜３に比べて、上部および下部ともに、初晶Ｓｉ、α−Ａｌともに微細化され、共晶も微細化されていた。
【００４８】
一方、比較例１の場合には、実施例１に比べて、針状の共晶、粗大な初晶Ｓｉ、α−Ａｌが存在した。比較例１の場合には、第１および第２の加振工程を行わなかったことにより、初晶Ｓｉ、α−Ａｌ、および共晶が、微細化されなかったことによると考えられる。
【００４９】
比較例２の場合には、実施例１に比べて粗大な初晶Ｓｉが存在した。また、図７に示すように、比較例２の場合には、実施例１に比べて鋳造品の下部には針状の共晶が多い。これは、キャビティ内で下方に加振が伝わる前に、溶湯が先に流れて凝固してしまい、下部の共晶が微細化できなかったものと考えられる。
【００５０】
比較例３の場合には、実施例に比べて、下部には粗大な初晶Ｓｉ、α−Ａｌが存在した。これは、初晶Ｓｉが微細化されない状態で鋳込んでいるので、これにより粗大な結晶が下部で固まったものと考えられる。
【００５１】
以上、本発明の実施形態について詳述したが、本発明は、前記の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の精神を逸脱しない範囲で、種々の設計変更を行うことができるものである。
【符号の説明】
【００５２】
１０：溶湯、１０ａ：結晶核、２０：超音波振動素子、３０：処理容器、３０ａ：ラドル、３５：超音波振動素子、３５Ａ：加振装置、４０，４０Ａ：鋳型、４１：固定型、４１Ａ：上型、４２：可動型、４２Ａ：下型、４３，４３Ａ：キャビティ、４５：プランジャ、４６，４６Ａ：ゲート、４７：型締ピン、５０：樋
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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