(57)【要約】【課題】ガス供給管からガスを供給しながら被熱処理物の熱処理を行う熱処理炉において、熱処理領域における温度のばらつきを抑制する。【解決手段】炉体内部２の熱処理領域１２を、所定の搬送方向に搬送することにより被熱処理物１５を連続的に熱処理する熱処理炉１０において、搬送方向Ａに沿う複数の位置に、搬送方向に直交するようにガス供給管４を炉体内部に挿入するとともに、ガス供給管として、炉体内部に挿入された先端１４ａは封止され、周壁１４ｂの長手方向に沿う複数の位置にガスを炉体内部に噴出させるためのガス噴出口２４が設けられ、先端とは逆側の解放端１４ｃからガスが供給されるように構成されたガス供給管を用い、かつ、炉体内部に挿入された複数のガス供給管のうち、搬送方向において、互いに隣り合う一対のガス供給管についてみた場合に、一方のガス供給管４ａと他方の供給ガス供給管４ｂとを、互いに逆側から炉体内部に挿入する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉体内部の熱処理領域を、所定の搬送方向に搬送することにより被熱処理物を連続的に熱処理する熱処理炉であって、
前記搬送方向に沿う複数の位置に、前記搬送方向に直交するようにガス供給管が炉体内部に挿入されているとともに、
前記ガス供給管として、周壁の長手方向に沿う複数の位置に、ガスを前記炉体内部に噴出させるためのガス噴出口が設けられ、炉体外部に位置する解放端からガスが供給されるように構成されたガス供給管が用いられており、かつ、
複数の前記ガス供給管のうち、搬送方向において、互いに隣り合う一対のガス供給管についてみた場合に、一方の前記ガス供給管と他方の前記ガス供給管とが、互いに逆側から前記炉体内部に挿入されていること
を特徴とする熱処理炉。
【請求項２】
前記一方のガス供給管の複数の前記ガス噴出口と、前記他方のガス供給管の複数の前記ガス噴出口が、前記搬送方向に沿う方向についてみた場合に互いに対応する、前記搬送方向に平行な同一線上の位置に設けられていることを特徴とする請求項１記載の熱処理炉。
【請求項３】
前記一方のガス供給管の複数の前記ガス噴出口と、前記他方のガス供給管の複数の前記ガス噴出口が、前記搬送方向に沿う方向についてみた場合に互いに対応しない、前記搬送方向に平行な同一線上ではない位置に設けられていることを特徴とする請求項１記載の熱処理炉。
【請求項４】
前記一対のガス供給管の前記ガス噴出口が、前記ガス供給管の前記炉体内部に位置する領域のうち、搬送方向に直交する方向における前記炉体内部の中央より奥側に位置するガス供給管先端側領域にのみ配設されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の熱処理炉。
【請求項５】
炉体内部の熱処理領域を、所定の搬送方向に搬送することにより被熱処理物を連続的に熱処理する熱処理炉であって、
前記搬送方向に沿う複数の位置のそれぞれに、前記搬送方向に直交する同一線上に軸心が位置する２本のガス供給管が、互いに逆側から、先端が前記搬送方向に直交する方向における前記炉体内部の中央に達し、かつ、前記先端が互いに正対するような態様で挿入されているとともに、
前記ガス供給管として、周壁の長手方向に沿う複数の位置に、ガスを前記炉体内部に噴出させるためのガス噴出口が設けられており、炉体外部に位置する解放端からガスが供給されるように構成されたガス供給管が用いられていること
を特徴とする熱処理炉。
【請求項６】
炉体内部の熱処理領域を、所定の搬送方向に搬送することにより被熱処理物を連続的に熱処理する熱処理炉であって、
前記搬送方向に沿う複数の位置のそれぞれから前記炉体内部に、前記搬送方向に直交し、かつ、前記炉体内部を貫通するようにガス供給管が挿入されているとともに、
前記ガス供給管として、両端が解放端となり、中央部で連通が遮断され、周壁の長手方向に沿う複数の位置に、ガスを前記炉体内部に噴出させるためのガス噴出口が設けられ、前記両端の解放端のそれぞれから供給されたガスが、前記ガス噴出口を経て、前記炉体内部に供給されるように構成されたガス供給管が用いられていること
を特徴とする熱処理炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、セラミック電子部品の製造工程などにおいて用いられる熱処理炉に関し、詳しくは、ガス供給管からガス（雰囲気ガス）を供給しながら、連続的に被熱処理物の熱処理を行う熱処理炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、積層セラミックコンデンサなどのセラミック電子部品は、通常、未焼成のセラミック積層体（セラミック成形体）を熱処理してバインダーを除去する脱バインダー工程、その後に本焼成を行う焼成工程などを経て製造されており、上記脱バインダー工程や焼成工程は、雰囲気や温度などを制御することができるように構成された熱処理炉を用いて実施されている。
【０００３】
そのような熱処理炉の１つに、図１３に示すような熱処理炉が提案されている。この熱処理炉は、炉体１０１の長さ方向に沿って多数のローラ１０３が列設され、これらローラ１０３の回転により焼成室１０２内を被焼成物Ｍが移送される焼成炉において、ローラ１０３が中空筒状で、その筒壁に多数の噴気孔１０５が形成され、これらローラ１０３の外部開放端１０３ａにガス供給源１０６が連通接続された構造を有している。
【０００４】
この熱処理炉においては、ローラ１０３の一方側の端部である外部解放端１０３ａ側から雰囲気ガスが供給されるため、外部解放端１０３ａに近い位置に存在する噴気孔１０５から供給されるガスと、外部解放端１０３ａから遠い位置に存在する噴気孔１０５から供給されるガスとでは、温度差が大きくなる。すなわち、外部解放端１０３ａに近い噴気孔１０５から供給されるガスは温度が低いが、ローラ１０３が燃焼室で加熱されるため、外部解放端１０３ａから遠い噴気孔１０５から供給されるガスは温度が高くなる。
【０００５】
その結果、焼成室１０２内に温度分布が生じて、均一な焼成を行うことが困難になり、焼成状態にばらつきが発生するという問題点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平６−３０７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するものであり、ガス供給管からガスを供給しながら、連続的に被熱処理物の熱処理を行う熱処理炉において、熱処理領域における温度のばらつきが少なく、安定した焼成を行うことが可能な熱処理炉を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の熱処理炉は、
炉体内部の熱処理領域を、所定の搬送方向に搬送することにより被熱処理物を連続的に熱処理する熱処理炉であって、
前記搬送方向に沿う複数の位置に、前記搬送方向に直交するようにガス供給管が炉体内部に挿入されているとともに、
前記ガス供給管として、周壁の長手方向に沿う複数の位置に、ガスを前記炉体内部に噴出させるためのガス噴出口が設けられ、炉体外部に位置する解放端からガスが供給されるように構成されたガス供給管が用いられており、かつ、
複数の前記ガス供給管のうち、搬送方向において、互いに隣り合う一対のガス供給管についてみた場合に、一方の前記ガス供給管と他方の前記ガス供給管とが、互いに逆側から前記炉体内部に挿入されていること
を特徴としている。
【０００９】
なお、本発明において、被熱処理物の搬送方向に直交するようにガス供給管が炉体内部に挿入されているとは、文字どおり、搬送方向に直交するようにガス供給管が挿入されている場合に限らず、実装置において生じるような挿入方向のばらつきなどは許容する概念である。
【００１０】
また、本発明の熱処理炉においては、前記一方のガス供給管の複数の前記ガス噴出口と、前記他方のガス供給管の複数の前記ガス噴出口が、前記搬送方向に沿う方向についてみた場合に互いに対応する、前記搬送方向に平行な同一線上の位置に設けられていることが好ましい。
【００１１】
ガス噴出口が、搬送方向に沿う方向についてみた場合に、互いに対応する位置に設けられている（すなわち、搬送方向に平行な同一線上に位置している）ような構成とした場合、ガス噴出口から噴き出すガスどうしが衝突することにより、炉体内部の雰囲気を攪拌して、炉体内部の温度のばらつきを抑えることが可能になる。
【００１２】
また、本発明の熱処理炉においては、前記一方のガス供給管の複数の前記ガス噴出口と、前記他方のガス供給管の複数の前記ガス噴出口が、前記搬送方向に沿う方向についてみた場合に互いに対応しない、前記搬送方向に平行な同一線上ではない位置に設けられているような構成とすることも可能である。
【００１３】
ガス噴出口が、搬送方向に沿う方向についてみた場合に、互いに対応しない位置に設けられている（すなわち、搬送方向に平行な同一線上に位置していない）ような構成とした場合、対応する位置に設けられているガス噴出口から噴出するガスの影響を受けずに、炉体内部の温度のばらつきを抑えることが可能になる。
【００１４】
なお、本発明において、一方のガス供給管のガス噴出口と、他方のガス供給管のガス噴出口が互いに対応しない位置に設けられているとは、ガス噴出口が、搬送方向に平行な同一線上に位置しないことを意味する概念であり、一例としては、搬送方向に隣り合うガス供給管において、千鳥状にガス噴出口が配設されているような場合が挙げられる。なお、ガス噴出口が、搬送方向に沿う方向についてみた場合に、互いに対応する位置に設けられる構成とするか、あるいは互いに対応しない位置に設けられる構成とするかは、ガス噴出口の間隔などに基づいて、どちらがより炉体内部の温度のばらつきを抑えることができるかによって、適宜選択することができる。
【００１５】
また、前記一対のガス供給管の前記ガス噴出口が、前記ガス供給管の前記炉体内部に位置する領域のうち、搬送方向に直交する方向における前記炉体内部の中央より奥側に位置するガス供給管先端側領域にのみ配設されていることが好ましい。
【００１６】
ガス噴出口が、ガス供給管の炉体内部に位置する領域のうち、搬送方向に直交する方向における炉体内部の中央より奥側のガス供給管先端側領域にのみ配設された構成とした場合、供給されたガスが、ガス供給管を通過して炉体内部の中央を超える領域に達するまでの過程で十分に加熱され、炉体内部に供給されるガスの温度が高くなるため、炉体内部の温度のばらつきを抑制、防止することが可能になる。
【００１７】
また、本発明の他の熱処理炉は、
炉体内部の熱処理領域を、所定の搬送方向に搬送することにより被熱処理物を連続的に熱処理する熱処理炉であって、
前記搬送方向に沿う複数の位置のそれぞれに、前記搬送方向に直交する同一線上に軸心が位置する２本のガス供給管が、互いに逆側から、先端が前記搬送方向に直交する方向における前記炉体内部の中央に達し、かつ、前記先端が互いに正対するような態様で挿入されているとともに、
前記ガス供給管として、周壁の長手方向に沿う複数の位置に、ガスを前記炉体内部に噴出させるためのガス噴出口が設けられており、炉体外部に位置する解放端からガスが供給されるように構成されたガス供給管が用いられていること
を特徴としている。
【００１８】
また、本発明のさらに他の熱処理炉は、
炉体内部の熱処理領域を、所定の搬送方向に搬送することにより被熱処理物を連続的に熱処理する熱処理炉であって、
前記搬送方向に沿う複数の位置のそれぞれから前記炉体内部に、前記搬送方向に直交し、かつ、前記炉体内部を貫通するようにガス供給管が挿入されているとともに、
前記ガス供給管として、両端が解放端となり、中央部で連通が遮断され、周壁の長手方向に沿う複数の位置に、ガスを前記炉体内部に噴出させるためのガス噴出口が設けられ、前記両端の解放端のそれぞれから供給されたガスが、前記ガス噴出口を経て、前記炉体内部に供給されるように構成されたガス供給管が用いられていること
を特徴としている。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の熱処理炉は、上述のように、搬送方向に沿う複数の位置に、搬送方向に直交するようにガス供給管が炉体内部に挿入されており、ガス供給管として、周壁の長手方向に沿う複数の位置にガスを炉体内部に噴出させるためのガス噴出口が設けられ、炉体外部に位置する解放端からガスが供給されるように構成されたガス供給管を用い、炉体内部に挿入された複数のガス供給管のうち、搬送方向において、互いに隣り合う一対のガス供給管についてみた場合に、一方のガス供給管と他方のガス供給管とを、互いに逆側から炉体内部に挿入するようにしている。したがって、一方のガス供給管では、先端側に向かってガスの温度が徐々に上昇することになり、他方のガス供給管では、上記一方のガス供給管の場合とは逆側に位置する先端側に向かってガスの温度が徐々に上昇することになる。すなわち、一方のガス供給管と他方のガス供給管から供給されるガスの、被熱処理物の搬送方向に直交する方向における温度分布は、互いに対称の関係になるため、それらが混ざり合うことで、炉体内部の温度のばらつきが小さくなり、安定した雰囲気中で、良好な熱処理を行うことが可能になる。
【００２０】
また、本発明の他の熱処理炉（本発明の第２の熱処理炉）では、搬送方向に沿う複数の位置のそれぞれに、搬送方向に直交する同一線上に軸心が位置する２本のガス供給管を、互いに逆側から、先端が前記搬送方向に直交する方向における前記炉体内部の中央に達し、かつ、前記先端が互いに正対するような態様で挿入するようにしている。したがって、一方側から挿入されるガス供給管のガス噴出口の位置と、他方側から挿入されるガス供給管のガス噴出口の位置とが、点対称の関係になるため、温度分布もほぼ対称の関係になる。そして、かかるガス噴出口から噴出するガスが混ざり合うことで、炉体内部の温度のばらつきが小さくなり、安定した雰囲気中で、良好な熱処理を行うことが可能になる。
【００２１】
また、本発明のさらに他の熱処理炉（本発明の第３の熱処理炉）では、搬送方向に沿う複数の位置のそれぞれから炉体内部に、搬送方向に直交し、かつ、炉体内部を貫通するように、両端が解放端となり、中央部で連通が遮断され、周壁の長手方向に沿う複数の位置にガスを炉体内部に噴出させるためのガス噴出口が設けられ、両端の解放端のそれぞれから供給されたガスが、ガス噴出口を経て、炉体内部に供給されるように構成されたガス供給管を挿入した構成としている。したがって、炉体内部を貫通するように挿入された一本のガス供給管により、両側から炉体内部にガスを供給することが可能になり、上述の本発明の第２の熱処理炉の場合に準じるような作用効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態（実施形態１）にかかる熱処理炉の構成を示す側面断面図である。
【図２】本発明の実施形態１にかかる熱処理炉の構成を示す平面断面図である。
【図３】本発明の実施形態１にかかる熱処理炉の構成を示す正面断面図である。
【図４】本発明の実施形態１にかかる熱処理炉のガス供給管の配設態様を模式的に示す図である。
【図５】比較用の熱処理炉におけるガス供給管の配設態様を模式的に示す図である。
【図６】実施形態１および比較用の熱処理炉について調べた炉体内部の温度のばらつきを示す図である。
【図７】本発明の実施形態２にかかる熱処理炉のガス供給管の配設態様を模式的に示す図である。
【図８】本発明の実施形態３にかかる熱処理炉のガス供給管の配設態様を模式的に示す図である。
【図９】本発明の実施形態４にかかる熱処理炉のガス供給管の配設態様を模式的に示す図である。
【図１０】本発明の実施形態５にかかる熱処理炉のガス供給管の配設態様を模式的に示す図である。
【図１１】本発明の実施形態６にかかる熱処理炉のガス供給管の配設態様を模式的に示す図である。
【図１２】本発明の実施形態７にかかる熱処理炉のガス供給管の配設態様を模式的に示す図である。
【図１３】従来の熱処理炉の構成を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態を示して、本発明をさらに詳しく説明する。
なお、以下の各実施形態では、セラミック電子部品を製造する場合に、未焼成のセラミック成形体を熱処理する際に用いられる熱処理炉を例にとって説明する。
【００２４】
［実施形態１］
図１は、本発明の一実施形態（実施形態１）にかかる熱処理炉１０の構成を示す側面断面図、図２はその平面断面図、図３は正面断面図である。
【００２５】
この熱処理炉１０は、図１，２，３に示すように、炉体１の内部（炉体内部）２に、加熱手段（ヒータ）３と、雰囲気を調整するためのガスを供給するガス供給管４と、被熱処理物（未焼成のセラミック成形体が収容された匣）１５を、所定の搬送方向（図１，２において矢印Ａで示す方向）に搬送するための、ローラ６などを備えた搬送機構７を備えている。
【００２６】
また、炉体内部２には、各領域でのガス量および温度を制御する機能を果たす堰８が設けられている。
【００２７】
この熱処理炉１０は、複数の被熱処理物１５が、順次、炉体内部２の熱処理領域１２を通過する（矢印Ａ（図１，２）の方向に通過する）ことにより、連続的に熱処理が行われるように構成されている。
【００２８】
そして、この実施形態１の熱処理炉１０においては、複数のガス供給管４が、図１，２，３に示すように、上記搬送方向Ａに沿う複数の位置に、搬送方向Ａに直交するように炉体内部２に挿入されている。
【００２９】
そして、炉体内部２に挿入された複数のガス供給管４のうち、搬送方向において、互いに隣り合う一対のガス供給管４（例えば、図２の４ａ，４ｂ）についてみた場合に、一方のガス供給管４（４ａ）と他方のガス供給管４（４ｂ）とが、互いに逆側から炉体内部２に挿入されている。
【００３０】
そして、各ガス供給管４（４ａ，４ｂ）は、いずれか一方の炉壁側から炉体内部２に挿入され、先端側が他方の炉壁に支持されることにより、炉体１に安定して支持されるように構成されている。
【００３１】
なお、ガス供給管４としては、通常、例えばセラミックや耐熱金属などの耐熱性を備えた材料からなるものが用いられる。
【００３２】
また、発明の理解を容易にするため、図４に、一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）に着目した、ガス供給管の配設態様を模式的に示す。
【００３３】
ガス供給管４（４ａ，４ｂ）は、図２、図３、図４などに示すように、炉体内部２に挿入された先端１４ａは封止され、図３、図４に示すように、周壁１４ｂの長手方向に沿う複数の位置には、ガスを炉体内部２に噴出させるためのガス噴出口２４が設けられ、先端１４ａとは逆側の炉体１の外部に位置する解放端１４ｃからガス供給管４に供給されたガスが、ガス噴出口２４から炉体内部２に供給されるように構成されている。
【００３４】
なお、この実施形態１および以下の各実施形態において、ガス噴出口２４は、例えば、ガスが真下に向かって噴き出すように構成されていてもよく、また、前後や左右にある程度の角度をもって噴き出すように構成されていてもよい。
ガスの噴き出し方向を適切に制御することにより、雰囲気の制御を効率よく行うことが可能になる場合がある。
【００３５】
ただし、実施形態１および以下の各実施形態においては、ガス噴出口２４から真下に向かってガスを噴き出させるようにした場合を例にとって説明する。
【００３６】
また、この実施形態１では、ガス供給管４として、炉体内部２に位置する領域に、長手方向に沿って、約２０個のガス噴出口２４を備えたガス供給管４を用いている。ただし、ガス噴出口２４の配設個数になんら制約はなく、熱処理炉の実際の構造や寸法などの種々の条件を考慮して、配設個数を設定することができる。
【００３７】
また、ガス供給管４の寸法や具体的な形状さらには配設ピッチや配設数などに関しても、特に制約はない。
【００３８】
また、この実施形態１では、一方のガス供給管４（４ａ）と他方のガス供給管４（４ｂ）において、ガス噴出口２４は、搬送方向Ａに沿う方向についてみた場合に、互いに対応する位置に形成されている（すなわち、搬送方向Ａに平行な同一線上に位置するように形成されている）。
【００３９】
このように構成された熱処理炉１０の場合、互いに隣り合う一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）において、一方のガス供給管４（４ａ）と、他方のガス供給管４（４ｂ）とが互いに逆側から炉体内部２に挿入されているので、一方側から炉体内部２に挿入された一方のガス供給管４（４ａ）では、先端側に向かってガスの温度が徐々に上昇することになり、逆側から炉体内部２に挿入された他方のガス供給管４（４ｂ）でも、上記一方のガス供給管４（４ａ）の場合とは逆側の先端側に向かってガスの温度が徐々に上昇することになる。その結果、一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）から供給されるガスの、搬送方向Ａに直交する方向における温度分布は、互いに対称の関係になるため、それらが混ざり合うことで、炉体内部２の温度のばらつきが小さくなり、安定した雰囲気中で良好な熱処理を行うことが可能になる。
【００４０】
なお、比較のため、図５に模式的に示すように、すべてのガス供給管を同一方向から炉体内部２に挿入した熱処理炉、すなわち、隣り合う一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）が同一方向から炉体内部２に挿入されている熱処理炉（比較用の熱処理炉）１０ａを作製し、上記実施形態１の熱処理炉１０とともに、炉体内部２の温度の位置的なばらつきの大きさを調べた。
なお、比較用の熱処理炉１０ａの、他の条件は上述の実施形態１の熱処理炉１０の場合と同様である。
【００４１】
炉体内部２の温度の位置的なばらつきの大きさを調べるにあたっては、図４および図５に、符号１，２，３，４，５で示した５点の位置で、炉体内部２の温度を測定した。
【００４２】
その結果、図６に示すように、ガス供給管４を同一方向から炉体内部２に挿入した比較用の熱処理炉１０ａの場合、炉体内部２の温度のばらつきが大きいのに対して、互いに隣り合う一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）の一方と他方とを、互いに逆側から炉体内部２に挿入するようにした実施形態１の熱処理炉１０の場合、炉体内部２の温度のばらつきが小さくなることが確認された。
【００４３】
［実施形態２］
この実施形態２では、上記実施形態１の熱処理炉１０とは構成の異なる熱処理炉について説明する。
【００４４】
図７は、本発明の実施形態２にかかる熱処理炉１０の構成を模式的に示す図である。この実施形態２の熱処理炉１０においては、ガス供給管４として、互いに隣り合う一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）についてみた場合の、一方のガス供給管４（４ａ）および他方のガス供給管４（４ｂ）として、互いに逆側から炉体内部２の中央にまで達するような長さのガス供給管４（４ａ，４ｂ）が用いられている。
【００４５】
そして、一方のガス供給管４（４ａ）に形成されたガス噴出口２４と、他方のガス供給管４（４ｂ）に形成されたガス噴出口２４の位置は、点対称の関係になるように構成されている。
【００４６】
したがって、この実施形態２の熱処理炉１０の場合も、一方のガス供給管と他方のガス供給管から供給されるガスの搬送方向Ａに直交する方向における温度分布は、互いに対称の関係になるため、それらが混ざり合うことで、炉体内部の温度分布が小さくなり、炉体内部の温度のばらつきを抑制することができる。
【００４７】
［実施形態３］
図８は、本発明のさらに他の実施形態（実施形態３）にかかる熱処理炉１０の構成を模式的に示す図である。この実施形態３では、ガス供給管４として、互いに隣り合う一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）についてみた場合の、一方のガス供給管４（４ａ）および他方のガス供給管４（４ｂ）として、上記実施形態２で用いたガス供給管４（４ａ，４ｂ）よりもさらに長さが短く、互いに逆側から炉体内部２に挿入した場合に、炉体内部２の中央にまで到達しないような長さのガス供給管４（４ａ，４ｂ）が用いられている。
【００４８】
ただし、この実施形態３においても、ガス供給管４ａに形成されたガス噴出口２４と、ガス供給管４ｂに形成されたガス噴出口２４の位置は、点対称の関係になるように構成されている。
【００４９】
したがって、この実施形態３の熱処理炉１０の場合も、一方のガス供給管４（４ａ）と他方のガス供給管４（４ｂ）から供給されるガスの搬送方向Ａに直交する方向における温度分布は、互いに対称の関係になるため、それらが混ざり合うことで、炉体内部の温度分布が小さくなり、炉体内部の温度のばらつきを抑制することができる。
【００５０】
［実施形態４］
図９は、本発明のさらに他の実施形態（実施形態４）にかかる熱処理炉１０の構成を模式的に示す図である。この上記実施形態４では、ガス供給管４として、互いに隣り合う一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）についてみた場合の、一方のガス供給管４（４ａ）および他方のガス供給管４（４ｂ）として、上記実施形態１において用いられているガス供給管と同じく、炉体内部２の一方端部から他方端部に至る長さを有するが、ガス噴出口２４の位置関係が、実施形態１において用いられているガス供給管とは異なるガス供給管４（４ａ，４ｂ）が用いられている。
【００５１】
すなわち、実施形態４では、一方のガス供給管４（４ａ）と他方のガス供給管（４ｂ）において、ガス噴出口２４が、搬送方向Ａに沿う方向についてみた場合に、互いに対応しない位置に形成されている（すなわち、搬送方向Ａに平行な同一線上に位置しないように、千鳥状に配設されている）。
【００５２】
この実施形態４の熱処理炉１０の場合、上記一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）において、ガス噴出口２４が、搬送方向Ａに沿う方向についてみた場合に、互いに対応しない位置に形成されているため、一方のガス供給管４（４ａ）のガス噴出口２４から噴出したガスと、他方のガス供給管４（４ｂ）のガス噴出口２４から噴出したガスが互いに干渉しないため、炉体内部２の温度のばらつきを抑制することが可能になる。
【００５３】
［実施形態５］
図１０は、本発明のさらに他の実施形態（実施形態５）にかかる熱処理炉１０の構成を模式的に示す図である。この上記実施形態５では、ガス供給管４として、互いに隣り合う一対のガス供給管４（４ａ，４ｂ）についてみた場合、一方のガス供給管４（４ａ）および他方のガス供給管４（４ｂ）として、上記実施形態１において用いられているガス供給管と同じく、炉体内部２の一方端部から他方端部に至る長さを有するが、ガス噴出口２４の位置関係が、実施形態１において用いられているガス供給管とは異なるガス供給管４（４ａ，４ｂ）が用いられている。
【００５４】
すなわち、実施形態５では、一方のガス供給管４（４ａ）と他方のガス供給管（４ｂ）のガス噴出口２４が、ガス供給管４（４ａ，４ｂ）の、炉体内部２に位置する領域のうち、搬送方向Ａに直交する方向における炉体内部２の中央より奥側のガス供給管先端側領域にのみ配設されている。
【００５５】
このように構成された実施形態５の熱処理炉１０の場合、ガス噴出口２４が、ガス供給管４（４ａ，４ｂ）の炉体内部２に位置する領域のうち、炉体内部２の中央より奥側の領域にのみ配設されているため、供給されたガスが、ガス供給管４（４ａ，４ｂ）を通過して炉体内部２の中央を超える領域に達するまでの過程で十分に加熱され、中央より奥側の領域にのみ配設されたガス噴出口２４から、炉体内部２に、温度が十分に上昇したガスを供給することが可能になり、炉体内部２の温度のばらつきを確実に抑制、防止することができる。
【００５６】
［実施形態６］
図１１は、本発明のさらに他の実施形態（実施形態６）にかかる熱処理炉１０の構成を模式的に示す図である。
【００５７】
この上記実施形態６の熱処理炉１０は、搬送方向Ａに沿う複数の位置のそれぞれに、搬送方向Ａに直交する同一軸線上に位置する２本（一対）のガス供給管４（４ｃ，４ｄ）が、互いに逆側から、先端１４ａが搬送方向Ａに直交する方向における炉体内部２の中央に達し、かつ、先端１４ａどうしが互いに正対するような態様で挿入されており、炉体外部に位置するガスが解放端１４ｃからガスが供給されるように構成されている。
【００５８】
このように構成された実施形態６の熱処理炉１０の場合、一方側から挿入されるガス供給管４（４ｃ）のガス噴出口２４の位置と、他方側から挿入されるガス供給管４（４ｄ）のガス噴出口２４の位置とが、対称の関係になるため、炉体内部２の温度分布も上述のように対称の関係となり、炉体内部２の温度のばらつきを抑制、防止することが可能になる。その結果、安定した雰囲気中で良好な熱処理を行うことが可能になる。
【００５９】
［実施形態７］
図１２は、本発明のさらに他の実施形態（実施形態７）にかかる熱処理炉１０の構成を模式的に示す図である。
【００６０】
この実施形態７では、搬送方向Ａに沿う複数の位置のそれぞれから炉体内部２に、搬送方向Ａに直交し、かつ、炉体内部２を貫通するようにガス供給管４４が挿入されている。そして、このガス供給管４４としては、両端が解放端４４ａとなり、中央部４４ｃで連通が遮断され、中央部４４ｃの両側の周壁４４ｂの長手方向に沿う複数の位置に、ガスを炉体内部２に噴出させるためのガス噴出口２４が設けられた構成のものが用いられている。
そして、ガス供給管４４の両端の解放端４４ａのそれぞれから供給されたガスが、ガス噴出口２４を経て、炉体内部２に供給されるように構成されている。
【００６１】
このように構成された実施形態７の熱処理炉１０の場合、炉体内部２を貫通するように挿入された一本のガス供給管４４により、両側の解放端４４ａから炉体内部２にガスを供給することが可能になり、実施形態６の熱処理炉の場合と同様の作用効果を得ることができる。
【００６２】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、炉体内部の構造、搬送機構や加熱手段の具体的な構成などに関し、発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。
【符号の説明】
【００６３】
１            炉体
２            炉体内部
３            加熱手段（ヒータ）
４            ガス供給管
４ａ          一対のガス供給管のうちの一方のガス供給管
４ｂ          一対のガス供給管のうちの他方のガス供給管
４ｃ，４ｄ    同一軸線上に位置する２本のガス供給管
６            ローラ
７            搬送機構
８            堰
１０          熱処理炉
１０ａ        比較用の熱処理炉
１２          熱処理領域
１４ａ        ガス供給管の先端
１４ｂ        ガス供給管の周壁
１４ｃ        ガス供給管の解放端
１５          被熱処理物（未焼成のセラミック成形体が収容された匣）
２４          ガス噴出口
４４          両端が解放端となっているガス供給管
４４ａ        両端が解放端となっているガス供給管の解放端
４４ｂ        両端が解放端となっているガス供給管の周壁
４４ｃ        両端が解放端となっているガス供給管の中央部
Ａ            搬送方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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