(57)【要約】【課題】ガラス基板の端面を高品質に仕上げ、表面品質と加工精度を両立させる安定した研削加工を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、ガラス基板の端面に回転砥石を接触させて研削することにより端面を加工する端面加工処理において、ガラス基板の端面と接触する面に溝形状を有する砥石を用いて、ガラス基板の主表面と直交する軸に対して回転砥石の回転軸を傾斜させた状態で当該回転砥石を当該ガラス基板の端面に当接させてガラス基板の側壁面と面取り面とを同時に研削加工した後、ガラス基板の端面をブラシ研磨する。【選択図】図１
2014216042.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に円孔を有する円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給し、前記ガラス基板の端面である側壁面と前記ガラス基板の主表面および前記側壁面を介在する面取り面に砥石を接触させて研削することにより前記ガラス基板の端面を加工する端面加工処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記端面加工処理は、
前記ガラス基板の主表面と直交する軸に対して回転砥石の回転軸を傾斜させた状態で当該回転砥石を当該ガラス基板の端面に当接させて前記ガラス基板の側壁面と面取り面とを同時に研削加工する第１の加工工程と、
該第１の加工工程の後に行われ、該第１の加工工程によって加工されたガラス基板の側壁面および面取り面を、回転軸を有するブラシを当接させることにより研磨する第２の加工工程と
を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記ガラス基板の端面において、前記第１の加工工程による加工軌跡と、前記第２の加工工程による加工軌跡とが重ならないことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記第１の加工工程において、前記ガラス基板の主表面と直交する軸と回転砥石の回転軸との間の角度は、２度〜３０度の範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記第２の加工工程では、かつ、ブラシ毛の植毛角度がブラシの回転軸に対して傾斜しているブラシを用いて、ガラス基板の主表面と直交する軸と上記ブラシの回転軸とが平行になる条件で研磨するものであり、ブラシの植毛角度と、前記第１の加工工程におけるガラス基板の主表面および回転砥石の回転面との間の角度が互いに異なっていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
ガラス基板の端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取り面との両方の面が形成されたガラス基板に対して、前記第１の加工工程を行うことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ（以下、「ＨＤＤ」と略記する。）などの磁気記録装置に搭載される磁気ディスクの製造に用いられる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及びこの製造方法によるガラス基板を用いる磁気ディスクの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
今日、情報記録技術、特に磁気記録技術は、急速なＩＴ産業の発達に伴い飛躍的な技術革新が要請されている。ＨＤＤ等の磁気記録装置に搭載される記録媒体である磁気ディスクでは、高容量化の要請により、磁気ディスク１枚あたり、７５０GB以上の情報記録密度を実現できる技術が求められている。
【０００３】
ところで、磁気ディスク等の情報記録媒体用基板としては、従来はアルミニウム系合金基板が広く用いられていたが、最近では、高記録密度化に適した磁気ディスク用基板として、ガラス基板の占める比率が高くなってきている。ガラス基板は、アルミニウム系合金基板に比べて剛性が高いので、磁気ディスク装置の高速回転化に適し、また、平滑な表面が得られるので、磁気ヘッドの浮上量を低下させることが容易となり、記録信号のS/N比を向上させることが出来るので好適である。
【０００４】
また、磁気ディスクの高記録密度化のためには、ガラス基板の加工精度にも高度なものが要求されており、それはガラス基板の主表面のみならず、端面形状においても同様である。
磁気ディスク用ガラス基板は、通常、円板状に成形したガラス基板に、研削、研磨、化学強化等の工程を順次施して製造される。
【０００５】
従来のガラス基板の端面の加工方法としては、円板状に成形したガラス基板の端面部分に研削液を供給しながら、ガラス基板の外周側端面および内周側端面に研削砥石を接触回転させて研削加工を行い、ガラス基板の外周側端面および内周側端面に所定の面取り加工を施していた（特許文献１など）。この場合に砥石は、一般には総形砥石とも呼ばれているもので、ガラス基板の端面形状を形成するための溝形状を有しており、この砥石をガラス基板の端面と接触させて加工することにより、砥石の溝形状をガラス基板の端面に形状転写している。また、この面取り加工の後に、ガラス基板の端面を鏡面に加工するために、ブラシ研磨が行われていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−２８６４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
情報化社会の進展とともに、磁気ディスクの高記録密度化の要求は高まるばかりである。磁気ディスク用のガラス基板の端面形状においても、更なる表面品質（平滑化など）の向上や、加工精度（形状精度など）の向上が求められてきている。
その理由は、たとえばＨＤＤに搭載された時の磁気ヘッドの位置決め精度を得るための内径寸法精度の高精度化、媒体主表面に対するコロージョン発生などのコンタミ要因の低減要請に基づく外径端面の高品位化の達成が要求されるからである。
【０００８】
ところが、上述したような従来の総形砥石による研削加工と、ブラシ研磨による端面鏡面化加工の組合せでは、以下のような問題がある。
つまり、形状精度を重視しようとすると、ブラシ研磨での取代が少なくなり、総形砥石による研削加工で形成された研削条痕が取りきれず粗さが大きくなりやすい。一方、加工後の表面品質を重視しようとすると、ブラシ研磨での取代が増える結果、総形砥石による研削加工で形成された形状精度が悪化する。そこで、ブラシ研磨での取代は少なくして表面品質と形状精度の両方を得ようとすると、上記研削加工の条件を出来るだけ品位良く仕上げようとするために加工速度を出来るだけ低くするという生産効率を犠牲にした加工条件を採用する必要が生じる。
要するに、量産加工が前提の磁気ディスク用ガラス基板製造において、ガラス基板の内外径端部の加工精度と表面品質を両立させることは、従来の加工方法では困難である。
【０００９】
従来は、加工精度と表面品質のいずれかを重視することでユーザーの要求は満たされていたので然程問題は生じていなかったが、上述のとおり、近年では、磁気ディスクの更なる高記録密度化の要求に伴って、磁気ディスク用のガラス基板の端面形状においても、更なる表面品質の向上と、加工精度の向上が求められてきており、表面品質と加工精度の両立は急務となっている。
【００１０】
以上のとおり、高記録密度化などの観点から、ガラス基板の端面の寸法形状精度や面取り加工の仕上がり面品位など、磁気ディスク用ガラス基板に対する品質要求は従来に増して高まる一方であり、従来の研削方法や研磨方法を用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造した場合、高まるガラス基板の品質要求に安定的に応えることが困難になってきている。
【００１１】
そこで、本発明は、信頼性の確保が急務となっている磁気ディスクの高記録密度化の要請に応える観点から、磁気ディスク用ガラス基板の端面を効率良く高品質に仕上げることができ磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを第１の目的とする。、また、このような製造方法によるガラス基板を利用する磁気ディスクの製造方法を提供することを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
そこで、本発明者は、上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、本発明を完成するに到ったものである。
すなわち、本発明は、前記課題を解決するため、以下の構成としている。
【００１３】
（構成１）
中心に円孔を有する円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給し、前記ガラス基板の端面である側壁面と前記ガラス基板の主表面および前記側壁面を介在する面取り面に砥石を接触させて研削することにより前記ガラス基板の端面を加工する端面加工処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記端面加工処理は、前記ガラス基板の主表面と直交する軸に対して回転砥石の回転軸を傾斜させた状態で当該回転砥石を当該ガラス基板の端面に当接させて前記ガラス基板の側壁面と面取り面とを同時に研削加工する第１の加工工程と、該第１の加工工程の後に行われ、該第１の加工工程によって加工されたガラス基板の側壁面および面取り面を、回転軸を有するブラシを当接させることにより研磨する第２の加工工程とを含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【００１４】
（構成２）
前記ガラス基板の端面において、前記第１の加工工程による加工軌跡と、前記第２の加工工程による加工軌跡とが重ならないことを特徴とする構成１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成３）
前記第１の加工工程において、前記ガラス基板の主表面と直交する軸と回転砥石の回転軸との間の角度は、２度〜３０度の範囲であることを特徴とする構成１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【００１５】
（構成４）
前記第２の加工工程では、かつ、ブラシ毛の植毛角度がブラシの回転軸に対して傾斜しているブラシを用いて、ガラス基板の主表面と直交する軸と上記ブラシの回転軸とが平行になる条件で研磨するものであり、ブラシの植毛角度と、前記第１の加工工程におけるガラス基板の主表面および回転砥石の回転面との間の角度が互いに異なっていることを特徴とする構成１乃至３のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成５）
ガラス基板の端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取り面との両方の面が形成されたガラス基板に対して、前記第１の加工工程を行うことを特徴とする構成１乃至４のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【００１６】
（構成６）
構成１乃至５のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、磁気ディスク用ガラス基板の端面を効率良く高品質に仕上げることができ、表面品質と加工精度を両立させる安定した研削加工が可能である。
また、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板を用いる磁気ディスクの製造方法によれば、基板の端面の表面品質と加工精度を両立させて高品質に仕上げることができ、基板端面の表面状態や加工精度が起因する障害の発生を防止し、より一層の高記録密度化を実現できる信頼性の高い磁気ディスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明における第１の加工工程の一実施の形態を示すもので、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）とは向きを変えた正面図である。
【図２】本発明における第１の加工工程の他の実施の形態を示すもので、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）とは向きを変えた正面図である。
【図３】本発明における第１の加工工程による加工軌跡と、第２の加工工程による加工軌跡の一例を模式的に示す図である。
【図４】本発明における第１の加工工程に用いる砥石の溝形状の一例を示す断面図である。
【図５】ガラス基板の端面形状の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明を実施するための形態について詳述する。
図５は、本発明が適用される磁気ディスク用ガラス基板１の外周側端部の断面図である。該ガラス基板１は、図５には示されていないが、中心部に円孔４を有する全体が円板状に形成され（図１等を参照）、その表裏の主表面１ａ，１ａと、これら主表面１ａ，１ａ間に形成される外周側の端面と内周側の端面を有する。
上記ガラス基板１の外周側の端面は、その主表面１ａと直交する側壁面１ｂと、この側壁面１ｂと表裏の主表面１ａ，１ａとの間にそれぞれ形成されている２つの面取り面（面取りした面）１ｃ、１ｃとからなる形状に形成されている。また、上記ガラス基板１の内周側の端面については図示していないが、上記外周側端面と同様に、その主表面１ａと直交する側壁面と、この側壁面と表裏の主表面１ａ，１ａとの間にそれぞれ形成されている２つの面取り面（面取りした面）とからなる形状に形成されている。
【００２０】
そして磁気ディスク、例えば、２．５インチディスクの場合は、ガラス基板１の外径が６５ｍｍ、内径が２０ｍｍに仕上げられる。ここで、内径とは、ガラス基板１の中心部の円孔の内径のことである。
【００２１】
磁気ディスク用ガラス基板１の主表面１ａ、外周側端面および内周側端面はいずれも、最終的にはそれぞれ所定の表面粗さとなるように研磨（鏡面研磨）仕上げされる。ガラス基板１の外周側端面及び内周側端面はいずれも、上述のような端面形状に仕上げられ、なお且つ、表面粗さが例えばＲｍａｘで１μｍ以下、Ｒａで０．１μｍ以下の鏡面状態に仕上げられることが通常求められる。
【００２２】
磁気ディスク用ガラス基板１は、通常、例えばダイレクトプレス等により所定の円板状に成形したガラス基板（ガラスディスク）１に、端面の研削、研磨、主表面の鏡面研磨、化学強化等の工程を順次施して製造される。
まず、上記ガラス基板１の端面の研削・研磨工程について説明する。
なお、本明細書においては、ダイレクトプレス等により所定の円板状に成形したガラスディスクから、このガラスディスクに加工、処理等を施して作製される最終製品のガラス基板にいたるまで、説明の便宜上、すべてガラス基板もしくは磁気ディスク用ガラス基板と呼ぶこととする。
【００２３】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、上記構成１にあるように、中心に円孔を有する円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給し、前記ガラス基板の端面である側壁面と前記ガラス基板の主表面および前記側壁面を介在する面取り面に砥石を接触させて研削することにより前記ガラス基板の端面を加工する端面加工処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記端面加工処理は、前記ガラス基板の主表面と直交する軸に対して回転砥石の回転軸を傾斜させた状態で当該回転砥石を当該ガラス基板の端面に当接させて前記ガラス基板の側壁面と面取り面とを同時に研削加工する第１の加工工程と、該第１の加工工程の後に行われ、該第１の加工工程によって加工されたガラス基板の側壁面および面取り面をブラシ研磨する第２の加工工程とを含む構成である。
換言すると、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、前記ガラス基板の端面に砥石を接触させて研削することにより前記ガラス基板の端面を加工する端面加工処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記端面加工処理は、前記ガラス基板の端面と接触する面に溝形状を有する砥石を用いて、前記ガラス基板の端面に当接する前記砥石の軌跡が一定とならないように、前記ガラス基板の端面と前記砥石とを接触させ且つ前記ガラス基板と前記砥石とを相対的に移動させることにより前記ガラス基板の端面を加工する第１の加工工程と、該第１の加工工程の後に行われ、該第１の加工工程によって加工されたガラス基板の端面をブラシ研磨する第２の加工工程とを含む構成としている。
【００２４】
最初に、上記第１の加工工程について説明する。図１は、上記第１の加工工程の一実施の形態を示すもので、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）とは向きを変えた正面図である。
中心部に孔明け加工を施し、円孔４を有するガラス基板１に対して、その外周側端面については砥石２を、内周側端面に対しては砥石３を用いて加工する。砥石２は、図示するように所定の大きさの円盤状に形成されており、その外周側には、ガラス基板の端面と接触する面に溝形状を有している。この溝形状は、例えば図４に示すように、断面視では内方に凹んだ凹形状６となっている。勿論、図４に図示する形状は一例であり、これに限定する趣旨ではない。また、砥石３は、図示するように所定の大きさの円柱状に形成されており、その外周側には、ガラス基板の端面と接触する面に溝形状（例えば図４に示すような凹形状）を有している。
【００２５】
本発明の第１の加工工程で用いる上記砥石（回転砥石）２と砥石（回転砥石）３としては、細かい粒度の砥粒をフェノール樹脂および/またはウレタン樹脂等の樹脂で固めたレジン砥石が好適である。この場合の砥粒の平均粒子径は、例えば６５μｍ以下の砥粒が好適であり、特に２μｍ以上６５μｍ以下の砥粒が好適である。換言すると、上記第１の加工工程で使用される砥石としては、粒度#400〜#8000の範囲内のものを用いることが好適である。
【００２６】
第１の加工工程では、ガラス基板の端面に当接する砥石の軌跡が一定とならないようにガラス基板の端面と砥石とを接触させて、加工が行われる。具体的には、ガラス基板の主表面と直交する方向に対して、回転砥石２または回転砥石３の回転軸が傾斜した状態、換言すると、ガラス基板の主表面と直交する軸と回転砥石の回転軸とがねじりの関係になる状態で、回転砥石２または回転砥石３とガラス基板とを当接させて、ガラス基板１の側壁面と面取り面とを同時に研削加工が行われる。これについて、以下に詳細に説明する。
図１に示されるように、基板外周側を加工する砥石２については、ガラス基板１の平面方向に対して砥石２の平面方向を角度αだけ傾けた状態で加工する。また、基板内周側を加工する砥石３については、ガラス基板１の回転軸方向に対して砥石３の回転軸方向を角度βだけ傾けた状態で加工する。砥石２については、ガラス基板１の外周側端面に対して図中の矢印１３方向（切込み方向）に接触し、砥石３については、ガラス基板１の内周側端面に対して図中の矢印１４方向（切込み方向）に接触する。この場合において、砥石２又は砥石３、及びガラス基板１をそれぞれ所定方向に回転させながら加工を行うことが好ましく、各々の周速度、周速度比については内外周側端面の加工に好適なように適宜設定されればよい。また、図１では、ガラス基板１は矢印１０方向に、砥石２は矢印１１方向に、砥石３は矢印１２方向にそれぞれ回転させているが、回転方向はこれに限定されるわけではない。砥石２又は砥石３とガラス基板１の回転方向は、同方向（カウンタ方向）、異方向（アンチカウンタ方向）のいずれでもよい。
【００２７】
なお、上述の砥石２のガラス基板１に対する傾斜角度αは任意に設定することができるが、上述の作用効果をより良く発揮させるためには、例えば２〜３０度の範囲内とすることが好適である。また、上述の砥石３のガラス基板１に対する傾斜角度βについても任意に設定することができるが、上述の作用効果をより良く発揮させるためには、例えば２〜３０度の範囲内とすることが好適である。
【００２８】
研削性や加工能率の観点からは、例えば砥石２の周速度は、１２００〜１７００ｍ／分、砥石３の周速度は、３００〜７００ｍ／分、ガラス基板１の周速度は、３〜１０ｍ／分程度とすることが好適である。
また、本発明に使用する研削液（クーラント）としては、特に制約はないが、冷却効果が高く、生産現場において安全性の高い水溶性の研削液が特に好適である。
【００２９】
次に、上記第１の加工工程の後に行う上記第２の加工工程について説明する。
上記第２の加工工程は、第１の加工工程によって加工されたガラス基板の端面をブラシ研磨する工程である。
本発明におけるブラシ研磨に使用するブラシの構成は特に制約は無いが、ブラシ毛に線毛材を使用したブラシ等が適当である。また、ブラシ毛の植毛角度が回転軸方向に対して傾斜しているブラシを用いることも好適である。但し、本発明においては、上記第１の加工工程による加工軌跡と、上記第２のブラシ研磨による加工工程による加工軌跡とが重ならないように基板端面の加工を行うことが望ましく、ブラシ研磨に使用するブラシ毛の植毛角度は、上記の観点からも適宜選択することが好ましい。
【００３０】
また、本発明のブラシ研磨工程で使用する砥粒の種類は特に限定は無い。また、砥粒の粒径としては、平均粒子径が０．０１μｍ〜２．０μｍの範囲のものが好ましい。上記範囲とすることで、ブラシ研磨による取代が少なくて済むためである。
また、加工能率の観点からは、研磨ブラシの周速度は、６００ｍ／分、ガラス基板１の周速度は、１０ｍ／分程度とすることが好適である。
また、ブラシ研磨工程に使用する研削液（クーラント）としては、特に制約はないが、冷却効果が高く、生産現場において安全性の高い水溶性の研削液が特に好適である。
上記第１の加工工程による砥石研削条痕と第２の加工工程によるブラシ研磨軌跡との両者の重複を避けながらブラシ研磨軌跡の均等化を図るために適宜、ブラシ軸とワーク軸の両者の軸並行方向で揺動運動を加えても良い。
【００３１】
上記第１の加工工程では、ガラス基板１の端面に当接する例えば砥石２の軌跡が一定とならないように、たとえば本実施の形態では、ガラス基板１の平面方向に対して砥石２の平面方向を角度αだけ傾けた状態でガラス基板１の外周側端面と砥石２とを接触させながら加工している。これによって、ガラス基板１の端面に当接する砥石２の軌跡が一定とはならないで、砥石２の凸部（砥粒）が基板端面に対してランダムな位置に当接、作用するため、基板へのダメージが少なく、研削加工面の表面粗さやその面内ばらつきも小さくなり、研削加工面をより高平滑に仕上げることができる。従って、この第１の加工工程の後に行うブラシ研磨工程では、加工取代を減らせて、しかも端面品質（鏡面品位）を向上できる。
【００３２】
図３は、本発明における第１の加工工程による加工軌跡と、第２の加工工程による加工軌跡の一例を模式的に示す図である。
本発明においては、上記第１の加工工程による回転砥石による加工軌跡と、上記第２のブラシ研磨による加工工程による加工軌跡とが重ならないように基板端面の加工を行うことが望ましい。例えば、前述の第１の加工工程におけるガラス基板の傾き角度や、第２の加工工程において用いるブラシのブラシ毛の植毛角度を調整することによって、第１の加工工程による加工軌跡と、第２のブラシ研磨による加工工程による加工軌跡とが重ならないようにすることが可能である。図３よりわかるように、第１の加工工程による加工軌跡１６と、第２の加工工程による加工軌跡１５とは重なり合わずに、所定の角度（例えば外周側端面の加工においては前述の角度α）だけ異なっている場合、第１の加工工程による加工軌跡１６と、第２の加工工程による加工軌跡１５の重複が起こらないので、第２の加工工程では、第１の加工工程で発生した加工軌跡（研削痕など）を除去し、第１の加工工程で得られた端面の形状精度を維持しつつ、少ない取代で鏡面仕上げ加工を行うことが可能である。つまり、ガラス基板の端面加工において、表面品質と加工精度を両立させることが可能である。
【００３３】
本発明においては、第１の加工工程における回転砥石による加工軌跡と、第２のブラシ研磨による加工工程による加工軌跡との成す角度は、例えば２度以上９０度未満とすることが好ましい。
【００３４】
図２は、上記第１の加工工程の他の実施の形態を示すもので、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）とは向きを変えた正面図である。
ガラス基板の内周側端面の加工方法については、上述の図１に示す実施の形態と同様であるが、外周側端面については、ガラス基板が内包されるような大きさの円筒状に形成された砥石５を用いて加工を行う点が異なる。砥石５の内周側には、ガラス基板の端面と接触する面に溝形状を有している。この溝形状は、例えば前述の図４に示すような凹形状６となっている。
【００３５】
本実施の形態においても、ガラス基板１の端面に当接する砥石５の軌跡が一定とならないように、ガラス基板１の平面方向に対して砥石５の平面方向を角度αだけ傾けた状態でガラス基板１の外周側端面と砥石５の内周側とを接触させながら加工している。従って、第１の加工工程による加工軌跡と、第２のブラシ研磨加工工程による加工軌跡の重複が起こらないようにブラシ研磨加工を行えば、第２のブラシ研磨加工工程では、第１の加工工程で発生した加工軌跡（研削痕など）を除去し、第１の加工工程で得られた端面の形状精度を維持しつつ、少ない取代で鏡面仕上げ加工を行うことが可能であり、その結果、ガラス基板の端面加工において、表面品質と加工精度を両立させることが可能である。
【００３６】
また、本発明においては、ガラス基板の端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取り面との両方の面が形成されたガラス基板に対して、前記第１の加工工程を行うことがより好適な実施の形態である。この場合、上記第１の加工工程における加工負荷が減らせ、より端面品質を重視した加工条件を設定することが可能になる。なお、ガラス基板の端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取り面との両方の面が形成されたガラス基板を得る方法は特に限定されないが、加工精度、加工効率の点で有利な所謂総形砥石を用いた研削加工が好ましい。
【００３７】
本発明における端面加工処理においては、上記第１の加工工程と第２の加工工程における加工取代の比が、４：１〜１０：１であることが好適である。上記範囲とすることにより、端面品質を従来と比べてより一層向上し、かつ、端面形状の精度がより一層向上するため好ましい
【００３８】
磁気ディスク用ガラス基板に用いる硝種としては特に限定を設けないが、ガラス基板の材質としては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、又は結晶化ガラス等のガラスセラミックス等が挙げられる。なかでもアルミノシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
以上のようにして、基板の外周側及び内周側端面の研削、研磨工程を終えたガラス基板に、続いて主表面の鏡面研磨工程、化学強化工程、等を施すことにより、図５に示すような磁気ディスク用ガラス基板１が得られる。
【００３９】
また、本発明は、上述の本発明による磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に少なくとも磁性層を形成する磁気ディスクの製造方法についても提供する。
すなわち、例えば上述の本発明に係る実施の形態により得られる磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することにより磁気ディスクが得られる。通常は、例えばガラス基板上に、付着層、軟磁性層、下地層、磁性層、保護層、潤滑層などを設けた磁気ディスクとするのが好適である。
【００４０】
例えば磁性層としては、垂直磁気記録媒体用としては例えばCo系のhcp結晶構造をもつ合金などが挙げられる。
また、保護層としては、例えば、炭素系保護層などが好ましく挙げられる。また、保護層上の潤滑層を形成する潤滑剤としては、PFPE（パーフロロポリエーテル）系化合物が挙げられる。
ガラス基板上に上記各層を成膜する方法については、公知のスパッタリング法などを用いることができる。炭素系保護層の成膜についてはプラズマＣＶＤ法も好ましく用いられる。また、潤滑層の成膜にはディップ法などを用いることができる。
【００４１】
本発明による磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板を用いて磁気ディスクを製造することにより、基板の端面を高品質に仕上げることができ、基板端面の表面状態や形状精度が起因する障害の発生を防止し、より一層の高記録密度化を実現できる磁気ディスクを提供することができる。
【実施例】
【００４２】
以下に実施例を挙げて、本発明の実施の形態についてさらに具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
まず、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより直径６６ｍｍφ、厚さ１．０ｍｍの円盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板（ガラスディスク）を得た。
【００４３】
次いで、ガラス基板に寸法精度及び形状精度を向上させるためラッピング工程を行った。このラッピング工程は両面ラッピング装置を用いて行なった。
【００４４】
次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔を空けると共に、前述の第１の加工工程と第２の加工工程を行い、基板の外周端面の研削、研磨加工を行った。
第１の加工工程では、レジン砥石を使用した。第１の加工工程は、前述の図１に示すガラス基板と砥石との配置関係で行った。第１の加工工程において、ガラス基板に対する砥石の傾き角度αは１５度に設定した。また、ガラス基板と砥石の各々の周速度、回転方向は適宜設定した。
また、第２のブラシ研磨加工工程では、回転軸周りにブラシ毛が回転軸に対して傾斜して設けられている回転ブラシを使用した。このとき、回転ブラシの回転軸とガラス基板の主表面と直交する軸とは互いに平行になるようにして、研磨加工を行った。また、ブラシ毛の回転軸における傾斜角と、前記第１の加工工程におけるガラス基板に対する砥石の傾き角度と、が互いに異なるような回転ブラシを用いて研磨を行った。また、ガラス基板と研磨ブラシの各々の周速度、回転方向は適宜設定した。
【００４５】
以上のようにして、１００枚のガラス基板の端面加工を行った。
得られた１００枚のガラス基板について、端面の側壁面と面取り面の形状精度を確認するために、側壁面と面取り面との成す角部Ａ（図５参照）の曲率半径を微細輪郭形状測定器を用いて測定し、基板１００枚の平均値とバラツキ（標準偏差）の結果を表１に示した。また、面取り面の表面粗さＲｚを、粗さ測定機による測定値を元に算出し、その結果についても表１に示した。
【００４６】
また、参考例（参考例１）として、本発明の第１の加工工程に代えて従来の総形砥石を用いた研削加工を行った後、上記と同様にブラシ研磨により仕上げ加工を行い、１００枚のガラス基板の端面加工を行った。総形砥石加工の方法、条件については公知例の条件を参考に適宜設定した。
また、別の参考例（参考例２）として、上記と同様の第１の加工工程のみを行い、１００枚のガラス基板の端面加工を行った。但し、用いる砥石の種類（硬さ）を変えて２段階で加工を行った。
【００４７】
【表１】
2014216042.tif 000003
【００４８】
上記表１の結果から明らかなように、本発明の端面加工法によれば、側壁面と面取り面との成す角部の曲率半径に関する基板間バラツキは小さく、しかも面取り面は鏡面に仕上がっており、表面品質と形状精度のいずれもが良好である。
これに対し、従来の総形砥石による加工とブラシ研磨加工とを組合わせた参考例１の端面加工法によれば、加工後の表面品質を重視して加工を行ったために、面取り面は鏡面状態に仕上がったが、ブラシ研磨による加工取代が大きく、形状精度が劣化してしまった。
また、基板に対して砥石を傾けた状態で加工する参考例２の端面加工法によれば、加工後の表面品質を重視して加工を行うと、面取り面は鏡面状態に仕上がるが、良好な形状精度が得られなかった。
【００４９】
（実施例２）
上述の本発明による端面加工法において、上記第１の加工工程と第２の加工工程における加工取代の比を以下の表２に示すように変更したこと以外は実施例１と同様にしてガラス基板を作製した。
得られたガラス基板の端面からの発塵を以下の方法で評価し、以下の基準で判定した。
ガラス基板を水中に浸漬し、超音波（200kHz）を付加して1分間加振した。処理後、ＬＰＣを用いて発塵数をカウントし、取代比（第１の加工工程：第２の加工工程）が６：１（例５）の場合を１としたときに、他の例における発塵数を評価した。
また、第２の加工工程後のガラス基板の端面形状、すなわち、側壁面と面取り面との成す角部Ａ（図５参照）の曲率半径のばらつきを示す標準偏差について、例３を１としたときの、他の例における標準偏差を評価した。なお、この値としては、１より小さい場合は、例３と比べて良化、１より大きい場合には悪化していることを示している。
その判定の結果を表２に示した。
【００５０】
【表２】
2014216042.tif 000004
【００５１】
上記表２の結果から明らかなように、研磨取代が増えるに従って端面からの発塵は良化することが分かるが、一方で研磨取代が増えるにつれて曲率バラツキによる形状精度の悪化が顕著になるため、研磨取代の比は適宜選定する必要がある事が分かる。つまり、上記第１の加工工程と第２の加工工程における加工取代の比が、４：１〜１０：１の範囲内が好ましいことがわかる。
【符号の説明】
【００５２】
１  磁気ディスク用ガラス基板
２，５  外周側端面研削砥石
３  内周側端面研削砥石
６  溝
１ａ  ガラス基板の主表面
１ｂ  側壁面
１ｃ  面取り面
【図１】
2014216042.tif 000005
【図２】
2014216042.tif 000006
【図３】
2014216042.tif 000007
【図４】
2014216042.tif 000008
【図５】
2014216042.tif 000009