(57)【要約】【課題】ブランケットの一方面および板状物体の一方面を密着した後で両者を剥離して両一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に安定して高い生産性で転写する。【解決手段】転写位置Ｐ１に位置決めされた第１ステージ２１１に保持されるブランケットＢＬの一方面と、第２ステージ２４１に保持される板状物体ＰＰ（ＳＢ）の一方面とを互いに押し付けて密着させることでブランケットＢＬの一方面および板状物体ＰＰ（ＳＢ）の一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に転写する工程と、ブランケットＢＬを第１ステージ２１１で保持するとともにブランケットＢＬに板状物体ＰＰ（ＳＢ）を密着させた状態のまま第１ステージ２１１を転写位置Ｐ１から剥離位置Ｐ１２に移動させて位置決めする工程と、剥離位置Ｐ１２に位置決めされた第１ステージ２１１に保持されるブランケットＢＬから板状物体ＰＰ（ＳＢ）を剥離する工程とを備える。【選択図】図３
2014188721.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブランケットを保持しながら転写位置と剥離位置との間を往復自在に設けられる第１ステージと、
前記第１ステージを移動させて前記転写位置および前記剥離位置に位置決めするステージ移動手段と、
前記ステージ移動手段により前記転写位置に位置決めされた前記第１ステージにより保持される前記ブラケットの一方面に板状物体の一方面を対向させながら前記板状物体を保持する第２ステージと、
前記転写位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットの一方面と、前記第２ステージに保持される前記板状物体の一方面とを互いに押し付けて密着させることで前記ブランケットの一方面および前記板状物体の一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に転写する押付手段と、
前記ブランケットの一方面に前記板状物体の一方面を密着させた状態のまま前記ステージ移動手段により前記転写位置から前記剥離位置に移動して位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットから前記板状物体を剥離する剥離手段と
を備えることを特徴とする転写剥離装置。
【請求項２】
請求項１に記載の転写剥離装置であって、
前記第１ステージは前記ブランケットの一方面を上方に向けて保持し、
前記第２ステージは前記転写位置に位置決めされた前記第１ステージの上方に配置され、
前記剥離手段は前記剥離位置に位置決めされた前記第１ステージの上方に配置される転写剥離装置。
【請求項３】
請求項２に記載の転写剥離装置であって、
前記板状物体の平面サイズは前記ブランケットの平面サイズよりも小さく、
前記第１ステージは前記ブランケットの他方面全体を吸着保持し、
前記押付手段は前記板状物体の一方面全体と前記ブランケットの一方面中央部とを互いに押し付けて密着させる転写剥離装置。
【請求項４】
転写位置に位置決めされた第１ステージにより保持されたブランケットの一方面に板状物体の一方面を対向させながら前記板状物体を第２ステージにより保持する工程と、
前記転写位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットの一方面と、前記第２ステージに保持される前記板状物体の一方面とを互いに押し付けて密着させることで前記ブランケットの一方面および前記板状物体の一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に転写する工程と、
前記ブランケットを前記第１ステージで保持するとともに前記ブランケットに前記板状物体を密着させた状態のまま前記第１ステージを前記転写位置から剥離位置に移動させて位置決めする工程と、
前記剥離位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットから前記板状物体を剥離する工程と
を備えることを特徴とする転写剥離方法。
【請求項５】
版の一方面に設けられるパターンの反転パターンを基板の一方面に形成するパターン形成システムであって、
請求項１ないし３のいずれか一項に記載の転写剥離装置と、
前記転写位置に位置決めされた前記第１ステージにブランケットを搬送するブランケット搬入装置と、
基板および版を前記板状物体として前記第２ステージに搬送する板状物体搬入装置と、
前記剥離手段により前記ブランケットから剥離された前記版および前記基板を前記剥離手段から搬送する板状物体搬出装置とを備え、
前記転写位置に位置決めされた前記第１ステージが前記ブランケット搬入装置により搬送される前記ブランケットを保持するとともに、前記第２ステージが前記板状物体搬入装置により搬送される前記版を保持し、
前記押付手段が前記版と前記ブランケットを密着させて前記版のパターンを前記ブランケットの一方面に転写してパターニングし、
前記ブランケットの一方面に前記版の一方面を密着させた状態のまま、前記ステージ移動手段が前記第１ステージを前記転写位置から前記剥離位置に移動させて位置決めし、
前記剥離手段が前記剥離位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットから前記版を剥離して前記ブランケットの一方面に前記パターンの反転パターンが形成し、
前記板状物体搬出装置が剥離された前記版を前記剥離手段から搬送し、
前記反転パターンが形成された前記ブランケットを前記第１ステージで保持した状態のまま前記ステージ移動手段が前記第１ステージを前記剥離位置から前記転写位置に移動させて位置決めし、
前記第２ステージが前記板状物体搬入装置により搬送される前記基板を保持し、
前記押付手段が前記基板と前記ブランケットを密着させることで前記ブランケットの前記反転パターンを前記基板の一方面に転写し、
前記ブランケットの一方面に前記基板の一方面を密着させた状態のまま前記ステージ移動手段が前記第１ステージを前記転写位置から前記剥離位置に移動させて位置決めし、
前記剥離手段が前記剥離位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットから前記基板を剥離して前記基板の一方面に前記反転パターンを形成する
ことを特徴とするパターン形成システム。
【請求項６】
版の一方面に設けられるパターンの反転パターンを基板の一方面に形成するパターン形成システムであって、
ブランケットを保持しながら第１転写位置、第１剥離位置、第２転写位置および第２剥離位置の間を移動自在に設けられる第１ステージと、
前記第１ステージを移動させて前記第１転写位置、前記第１剥離位置、前記第２転写位置および前記第２剥離位置に位置決めするステージ移動手段と、
前記ステージ移動手段により前記第１転写位置に位置決めされた前記第１ステージに前記ブラケットを搬送するブランケット搬入装置と、
前記ステージ移動手段により前記第１転写位置に位置決めされた前記第１ステージにより保持される前記ブラケットの一方面に版の一方面を対向させながら前記版を保持する第２ステージと、
前記第２ステージに前記版を搬送する版搬入装置と、
前記第１転写位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットの一方面と、前記第２ステージに保持される前記版の一方面とを互いに押し付けて密着させることで前記版のパターンを前記ブランケットの一方面に転写してパターニングする第１押付手段と、
前記ブランケットの一方面に前記版の一方面を密着させた状態のまま前記ステージ移動手段により前記第１転写位置から前記第１剥離位置に移動されて位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットから前記版を剥離して前記ブランケットの一方面に前記パターンの反転パターンを形成する第１剥離手段と、
前記反転パターンが形成された前記ブランケットを保持した状態のまま前記ステージ移動手段により前記第１剥離位置から前記第２転写位置に移動されて位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットの一方面に前記基板の一方面を対向させながら前記基板を保持する第３ステージと、
前記第３ステージに前記基板を搬送する基板搬入装置と、
前記第２転写位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットの一方面と、前記第２ステージに保持される前記基板の一方面とを互いに押し付けて密着させることで前記ブランケットの前記反転パターンを前記基板の一方面に転写する第２押付手段と、
前記ブランケットの一方面に前記基板の一方面を密着させた状態のまま前記ステージ移動手段により前記第２転写位置から前記第２剥離位置に移動されて位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットから前記基板を剥離して前記基板の一方面に前記反転パターンを形成する第２剥離手段と
を備えることを特徴とするパターン形成システム。
【請求項７】
請求項６に記載のパターン形成システムであって、
前記第１ステージは前記ブランケットの一方面を上方に向けて保持し、
前記第２ステージは前記第１転写位置に位置決めされた前記第１ステージの上方に配置され、
前記第１剥離手段は前記第１剥離位置に位置決めされた前記第１ステージの上方に配置され、
前記第３ステージは前記第２転写位置に位置決めされた前記第１ステージの上方に配置され、
前記第２剥離手段は前記第２剥離位置に位置決めされた前記第１ステージの上方に配置されるパターン形成システム。
【請求項８】
請求項７に記載のパターン形成システムであって、
前記版および前記基板の平面サイズはいずれも前記ブランケットの平面サイズよりも小さく、
前記第１ステージは前記ブランケットの他方面全体を吸着保持し、
前記第１押付手段は前記版の一方面全体と前記ブランケットの一方面中央部とを互いに押し付けて密着させ、
前記第２押付手段は前記基板の一方面全体と前記ブランケットの一方面中央部とを互いに押し付けて密着させるパターン形成システム。
【請求項９】
版の一方面に設けられるパターンの反転パターンを基板の一方面に形成するパターン形成システムであって、
請求項１ないし３のいずれか一項に記載の転写剥離装置と同一構成を有する第１転写剥離装置および第２転写剥離装置と、
前記第１転写剥離装置の前記第１ステージにブランケットを搬送するブランケット搬入装置と、
版を前記板状物体として前記第１転写剥離装置の前記第２ステージに搬送する版搬入装置と、
基板を前記板状物体として前記第２転写剥離装置の前記第２ステージに搬送する基板搬入装置と、
前記第１転写剥離装置の前記第１ステージから前記第２転写剥離装置の前記第１ステージにブランケットを搬送する中間搬送手段とを備え、
前記第１転写剥離装置では、
前記転写位置に位置決めされた前記第１ステージが前記ブランケット搬入装置により搬送される前記ブランケットを保持するとともに、前記第２ステージが前記版搬入装置により搬送される前記版を保持し、
前記押付手段が前記版と前記ブランケットを密着させて前記版のパターンを前記ブランケットの一方面に転写してパターニングし、
前記ブランケットの一方面に前記版の一方面を密着させた状態のまま、前記ステージ移動手段が前記第１ステージを前記転写位置から前記剥離位置に移動させて位置決めし、
前記剥離手段が前記剥離位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットから前記版を剥離して前記ブランケットの一方面に前記パターンの反転パターンが形成し、
前記中間搬送手段は、一方面に前記反転パターンが形成された前記ブランケットを前記第１転写剥離装置の前記第１ステージから前記第２転写剥離装置の前記第１ステージにブランケットを搬送し、
前記第２転写剥離装置では、
前記第２ステージが前記基板搬入装置により搬送される前記基板を保持し、
前記押付手段が前記基板と前記ブランケットを密着させることで前記ブランケットの前記反転パターンを前記基板の一方面に転写し、
前記ブランケットの一方面に前記基板の一方面を密着させた状態のまま前記ステージ移動手段が前記第１ステージを前記転写位置から前記剥離位置に移動させて位置決めし、
前記剥離手段が前記剥離位置に位置決めされた前記第１ステージに保持される前記ブランケットから前記基板を剥離して前記基板の一方面に前記反転パターンを形成する
ことを特徴とするパターン形成システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ブランケットの一方面および板状物体の一方面とを密着した後で両方の一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に転写した後、ブランケットと板状物体とを剥離する転写剥離技術、および当該転写剥離技術を利用して版に設けられたパターンの反転パターンを基板に形成するパターン形成システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子部品を製造する発明として、例えば特許文献１に記載された発明が従来より知られている。この特許文献１に記載の発明では、平板ブランケットを下部ステージの上面に固定する一方、パターンが形成された面を下方に向けた状態、つまりフェースダウン状態で凸版を上部ステージにより吸着固定し、下部ステージの中心付近に設けられた開口部から圧縮気体を噴射させ、平板ブランケットを押し出す。こうして、凸版に対してブランケットを加圧接触させて凸版のパターンを平板ブランケットに転写して平板ブランケットの上面をパターニングする。そして、互いに接触された平板ブランケットと凸版とを剥離させることによって、凸版のパターンを反転させた反転パターンが平板ブランケット上に形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１５８７９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記したように特許文献１では同一装置内で転写処理と剥離処理とを連続して行っており、転写処理を行うための構成は記載されている。しかしながら、剥離処理を行うための具体的な構成は記載されていない。また、転写処理と剥離処理とは互いに異なるものであるため、それぞれを高精度に実行するのに適した構成や機構も必然的に相違してくる。したがって、それらの構成および機構を全て一つの装置に装備させることによって、装置構成の複雑化を招いてしまう。また、この問題を含め、製品を量産化する場合のタクトタイムやメンテナンス性を考慮すると、転写処理を単一的に行う転写ユニットと剥離処理を単一的に行う剥離ユニットとをライン化するのが望ましい。つまり、転写ユニットにおいて凸版とブランケットとを相互に加圧接触させることで密着させて凸版のパターンを平板ブランケットに転写した後、密着体（＝凸版＋ブランケット）を剥離ユニットに搬送し、当該剥離ユニットで凸版とブランケットとを分離させる方が量産性に優れている。
【０００５】
しかしながら、ライン化した場合には、転写ユニットで作成される密着体を転写ユニットから取り出し、剥離ユニットに搬入する必要がある。ここで、密着体の搬送時に凸版またはブランケットに外力が加わると、両者の間に位置ずれが生じてしまい、製品を良好に製造することができなくなる。
【０００６】
さらに、特許文献１に記載の装置では、凸版の平面サイズはブランケットの平面サイズより小さく、凸版のパターン形成面がブランケットの被パターニング面の中央部に密着される。このため、密着体の中央部に重量が集中し、逆にブランケットの周縁部の剛性は低下している。したがって、このように凸版とブランケットの平面サイズが異なる場合には、それに適合する搬送態様を採用して搬送中に密着体が破損するのを防止するのが望まれる。なお、このような問題や要望は、凸版とブランケットとを密着させた後で両者を剥離して凸版のパターンを反転させた反転パターンをブランケットに形成する場合のみならず、反転パターンを有するブランケットと基板とを密着させた後で両者を剥離してブランケットの反転パターンを基板に形成する場合も同様である。
【０００７】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ブランケットの一方面および板状物体の一方面を密着した後で両者を剥離して両一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に安定して高い生産性で転写することができる転写剥離技術、ならびに当該転写剥離技術を用いて版のパターンを反転させた反転パターンを基板に安定的かつ高生産性で形成するパターン形成技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明にかかる転写剥離装置は、ブランケットを保持しながら転写位置と剥離位置との間を往復自在に設けられる第１ステージと、第１ステージを移動させて転写位置および剥離位置に位置決めするステージ移動手段と、ステージ移動手段により転写位置に位置決めされた第１ステージにより保持されるブラケットの一方面に板状物体の一方面を対向させながら板状物体を保持する第２ステージと、転写位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットの一方面と、第２ステージに保持される板状物体の一方面とを互いに押し付けて密着させることでブランケットの一方面および板状物体の一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に転写する押付手段と、ブランケットの一方面に板状物体の一方面を密着させた状態のままステージ移動手段により転写位置から剥離位置に移動して位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットから板状物体を剥離する剥離手段とを備えることを特徴としている。
【０００９】
また、この発明にかかる転写剥離方法は、転写位置に位置決めされた第１ステージにより保持されたブランケットの一方面に板状物体の一方面を対向させながら板状物体を第２ステージにより保持する工程と、転写位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットの一方面と、第２ステージに保持される板状物体の一方面とを互いに押し付けて密着させることでブランケットの一方面および板状物体の一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に転写する工程と、ブランケットを第１ステージで保持するとともにブランケットに板状物体を密着させた状態のまま第１ステージを転写位置から剥離位置に移動させて位置決めする工程と、剥離位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットから板状物体を剥離する工程とを備えることを特徴としている。
【００１０】
このように構成された発明では、ブランケットの一方面と板状物体の一方面とを互いに押し付けて密着させてパターンを転写する転写処理は転写位置で実行されるのに対し、ブランケットから板状物体を剥離する剥離処理は転写位置と異なる剥離位置で行われる。したがって、転写処理と剥離処理とを同一位置で連続的に行う転写剥離発明（例えば特許文献１に記載の発明）に比べ、本発明は量産性やメンテナンス性において優れている。ただし、転写処理によりブランケットと板状物体との密着体を転写位置から剥離位置に移動させる必要があり、密着体の搬送時にブランケットと板状物体との間で位置ずれが発生するのが最も懸念される。しかしながら、本発明では、ブランケットを第１ステージに保持した後、その保持状態を継続したまま転写処理、転写位置から剥離位置への搬送処理および剥離処理が実行される、つまりそれらの処理を行っている間、ブランケットは常時第１ステージで保持されている。したがって、密着体の搬送中においてもブランケットと板状物体との間で位置ずれが発生するのを効果的に防止することができる。
【００１１】
ここで、第１ステージがブランケットの一方面、つまり板状物体と密着する面を上方に向けて保持するように構成してもよく、この場合、第２ステージおよび剥離手段については第１ステージの上方に配置すればよい。この場合、第１ステージ上にブランケットおよび板状物体が積層された状態で密着体は第１ステージにより搬送される。このように第１ステージが下方から密着体を支持しながら搬送することで、密着体をより安定して搬送することができ、その結果、密着体の搬送中における位置ずれの発生をさらに効果的に防止することができる。
【００１２】
また、上記したように第１ステージが下方から密着体を支持しながら搬送するという構成は、板状物体の平面サイズがブランケットの平面サイズより小さい場合に、特に有益である。というのも、板状物体とブランケットとの平面サイズが上記した関係を有する場合、板状物体の一方面全体とブランケットの一方面中央部とを互いに押し付けて密着させるのが一般的であり、密着体の重量や剛性が平面内で不均一となるが、このような不均一性を克服しながら密着体を安定して搬送することができるからである。すなわち、このようなケースでは、密着体の中央部に重量が集中する一方、ブランケットの周縁部の剛性は大幅に低下する。しかしながら、第１ステージがブランケットを下方から支持することで密着体の中央部はもちろんのこと、剛性が低下したブランケットの周縁部についてもしっかりと保持することができ、搬送の安定性を確保することができる。
【００１３】
ところで、上記転写剥離装置については、それ単独で使用してもよいが、ブランケットや板状物体を搬送する搬送手段と組み合わせてパターン形成システムを構成し、当該パターン形成システムにより、版の一方面に設けられるパターンの反転パターンを基板の一方面に形成してもよい。
【００１４】
この発明にかかるパターン形成システムの第１態様は、上記した転写剥離装置と、転写位置に位置決めされた第１ステージにブランケットを搬送するブランケット搬入装置と、基板および版を板状物体として第２ステージに搬送する板状物体搬入装置と、剥離手段によりブランケットから剥離された版および基板を剥離手段から搬送する板状物体搬出装置とを備え、転写位置に位置決めされた第１ステージがブランケット搬入装置により搬送されるブランケットを保持するとともに、第２ステージが板状物体搬入装置により搬送される版を保持し、押付手段が版とブランケットを密着させて版のパターンをブランケットの一方面に転写してパターニングし、ブランケットの一方面に版の一方面を密着させた状態のまま、ステージ移動手段が第１ステージを転写位置から剥離位置に移動させて位置決めし、剥離手段が剥離位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットから版を剥離してブランケットの一方面にパターンの反転パターンが形成し、板状物体搬出装置が剥離された版を剥離手段から搬送し、反転パターンが形成されたブランケットを第１ステージで保持した状態のままステージ移動手段が第１ステージを剥離位置から転写位置に移動させて位置決めし、第２ステージが板状物体搬入装置により搬送される基板を保持し、押付手段が基板とブランケットを密着させることでブランケットの反転パターンを基板の一方面に転写し、ブランケットの一方面に基板の一方面を密着させた状態のままステージ移動手段が第１ステージを転写位置から剥離位置に移動させて位置決めし、剥離手段が剥離位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットから基板を剥離して基板の一方面に反転パターンを形成することを特徴としている。
【００１５】
このように構成されたパターン形成システムの第１態様では、第１ステージを転写位置と剥離位置とを交互に移動しながら転写処理および剥離処理を繰り返しており、上記した転写剥離装置と同様の作用効果（高い量産性および優れたメンテナンス性）が発揮される。また、ブランケットは常時第１ステージで保持されており、ブランケットと版との密着体の搬送中ならびにブランケットと基板との密着体の搬送中においてもブランケットと版および基板との間で位置ずれが発生するのを効果的に防止することができる。その結果、版のパターンを反転させた反転パターンを基板に安定的かつ高生産性で形成することができる。
【００１６】
また、この発明にかかるパターン形成システムの第２態様は、ブランケットを保持しながら第１転写位置、第１剥離位置、第２転写位置および第２剥離位置の間を移動自在に設けられる第１ステージと、第１ステージを移動させて第１転写位置、第１剥離位置、第２転写位置および第２剥離位置に位置決めするステージ移動手段と、ステージ移動手段により第１転写位置に位置決めされた第１ステージにブラケットを搬送するブランケット搬入装置と、ステージ移動手段により第１転写位置に位置決めされた第１ステージにより保持されるブラケットの一方面に版の一方面を対向させながら版を保持する第２ステージと、第２ステージに版を搬送する版搬入装置と、第１転写位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットの一方面と、第２ステージに保持される版の一方面とを互いに押し付けて密着させることで版のパターンをブランケットの一方面に転写してパターニングする第１押付手段と、ブランケットの一方面に版の一方面を密着させた状態のままステージ移動手段により第１転写位置から第１剥離位置に移動されて位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットから版を剥離してブランケットの一方面にパターンの反転パターンを形成する第１剥離手段と、反転パターンが形成されたブランケットを保持した状態のままステージ移動手段により第１剥離位置から第２転写位置に移動されて位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットの一方面に基板の一方面を対向させながら基板を保持する第３ステージと、第３ステージに基板を搬送する基板搬入装置と、第２転写位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットの一方面と、第２ステージに保持される基板の一方面とを互いに押し付けて密着させることでブランケットの反転パターンを基板の一方面に転写する第２押付手段と、ブランケットの一方面に基板の一方面を密着させた状態のままステージ移動手段により第２転写位置から第２剥離位置に移動されて位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットから基板を剥離して基板の一方面に反転パターンを形成する第２剥離手段とを備えることを特徴としている。
【００１７】
このように構成されたパターン形成システムの第２態様では、第１転写位置、第１剥離位置、第２転写位置および第２剥離位置でそれぞれ異なる処理が実行されるため、上記した転写剥離装置と同様の作用効果（高い量産性および優れたメンテナンス性）が発揮される。また、ブランケットは常時第１ステージで保持されており、ブランケットと版との密着体を第１転写位置から第１剥離位置に搬送する間、ならびにブランケットと基板との密着体を第２転写位置から第２剥離位置に搬送する間のいずれにおいてもブランケットと版および基板との間で位置ずれが発生するのを効果的に防止することができる。その結果、版のパターンを反転させた反転パターンを基板に安定的かつ高生産性で形成することができる。
【００１８】
さらに、この発明にかかるパターン形成システムの第３態様は、上記転写剥離装置と同一構成を有する第１転写剥離装置および第２転写剥離装置と、第１転写剥離装置の第１ステージにブランケットを搬送するブランケット搬入装置と、版を板状物体として第１転写剥離装置の第２ステージに搬送する版搬入装置と、基板を板状物体として第２転写剥離装置の第２ステージに搬送する基板搬入装置と、第１転写剥離装置の第１ステージから第２転写剥離装置の第１ステージにブランケットを搬送する中間搬送手段とを備え、第１転写剥離装置では、転写位置に位置決めされた第１ステージがブランケット搬入装置により搬送されるブランケットを保持するとともに、第２ステージが版搬入装置により搬送される版を保持し、押付手段が版とブランケットを密着させて版のパターンをブランケットの一方面に転写してパターニングし、ブランケットの一方面に版の一方面を密着させた状態のまま、ステージ移動手段が第１ステージを転写位置から剥離位置に移動させて位置決めし、剥離手段が剥離位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットから版を剥離してブランケットの一方面にパターンの反転パターンが形成し、中間搬送手段は、一方面に反転パターンが形成されたブランケットを第１転写剥離装置の第１ステージから第２転写剥離装置の第１ステージにブランケットを搬送し、第２転写剥離装置では、第２ステージが基板搬入装置により搬送される基板を保持し、押付手段が基板とブランケットを密着させることでブランケットの反転パターンを基板の一方面に転写し、ブランケットの一方面に基板の一方面を密着させた状態のままステージ移動手段が第１ステージを転写位置から剥離位置に移動させて位置決めし、剥離手段が剥離位置に位置決めされた第１ステージに保持されるブランケットから基板を剥離して基板の一方面に反転パターンを形成することを特徴としている。
【００１９】
このように構成されたパターン形成システムの第３態様では、上記転写剥離装置と同一構成を有する第１転写剥離装置および第２転写剥離装置のいずれにおいても、第１ステージを転写位置と剥離位置とを交互に移動しながら転写処理および剥離処理を行っており、上記した転写剥離装置と同様の作用効果（高い量産性および優れたメンテナンス性）が発揮される。また、第１転写剥離装置および第２転写剥離装置では、ブランケットは第１ステージで保持されており、ブランケットと版との密着体の搬送中ならびにブランケットと基板との密着体の搬送中においてもブランケットと版および基板との間で位置ずれが発生するのを効果的に防止することができる。その結果、版のパターンを反転させた反転パターンを基板に安定的かつ高生産性で形成することができる。
【発明の効果】
【００２０】
以上のように、本発明によれば、ブランケットを保持する第１ステージを転写位置および剥離位置の間を移動させながら転写位置での転写処理および剥離位置での剥離処理を行っているため、ブランケットの一方面および板状物体の一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に安定して高い生産性で転写することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明にかかるパターン形成システムの第１実施形態の概略構成を示す斜視図である。
【図２】図１のパターン形成システムの構成を示すブロック図である。
【図３】転写剥離装置の構成を示す図である。
【図４】下ステージおよび押付部の概略構成を示す図である。
【図５】押付部による転写手順を示す模式図である。
【図６】剥離部の動作を模式的に示す図である。
【図７】剥離部の動作を模式的に示す図である。
【図８】図１のパターン形成システムの動作を示すフローチャートである。
【図９】パターン形成システムの第２実施形態を示す斜視図である。
【図１０】図９に示すパターン形成システムの動作を示すフローチャートである。
【図１１】パターン形成システムの第３実施形態を示す斜視図である。
【図１２】図１１に示すパターン形成システムの動作を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図１は本発明にかかる転写剥離装置の一実施形態を装備したパターン形成システムの第１実施形態の概略構成を示す斜視図である。また、図２は図１のパターン形成システムの構成を示すブロック図である。パターン形成システム１は、転写剥離装置２と、ブランケットＢＬを転写剥離装置２に搬入するブランケット搬入装置３（図２）と、版ＰＰおよび基板を転写剥離装置２に搬入する版／基板搬入装置４（図２）と、使用済みの版ＰＰおよびパターン形成済みの基板ＳＢを転写剥離装置２から搬出する版／基板搬出装置５（図２）と、使用済みのブランケットＢＬを搬出するブラケット搬出装置６（図２）と、システム全体を制御する制御装置７（図２）とを備えている。なお、各図における方向を統一的に示すために、図１右下に示すようにＸＹＺ直交座標軸を設定する。ここでＸＹ平面が水平面、Ｚ軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、（＋Ｚ）方向が鉛直上向き方向を表している。また、転写剥離装置２内でのブランケットＢＬ、版ＰＰおよび基板ＳＢの搬送はＹ軸方向に沿ってなされる。
【００２３】
図３は転写剥離装置の構成を示す図である。ここでは、転写剥離装置２の全体概略を図１ないし図３を参照しつつ説明した後で、各部の詳細構成および動作について説明する。この転写剥離装置２では、基台２００上に下ステージ部２１０がＹ方向に移動自在に設けられている。この下ステージ部２１０は最上部にブランケットＢＬを保持する下ステージ２１１を有しており、下ステージ移動機構２３０から与えられる駆動力を受けてＹ方向に移動し、転写処理を行う転写位置Ｐ１と剥離処理を行う剥離位置Ｐ２とに位置決めされる。例えば図１の実線で示すように下ステージ部２１０が転写位置Ｐ１に位置決めされると、ブランケット搬入装置３（図２）によりブランケットＢＬを下ステージ部２１０の下ステージ２１１に搬入可能となる。そして、下ステージ２１１は搬入されたブランケットＢＬの下面を吸着して保持する。
【００２４】
転写位置Ｐ１に位置決めされた下ステージ部２１０の（＋Ｚ）方向には、上ステージ部２４０が配置されている。この上ステージ部２４０は最下部に上ステージ２４１を有している。この上ステージ２４１に対して版／基板搬入装置４（図２）がアクセスして版ＰＰや基板ＳＢをいわゆるフェースダウン状態で搬入すると、それを受け取った上ステージ２４１は版ＰＰおよび基板ＳＢを吸着保持する。これによって、版ＰＰおよび基板ＳＢの下面とブランケットＢＬの上面とが互いに対向する。
【００２５】
転写剥離装置２は押付部２５０を有しており、対向状態にある版ＰＰ（または基板ＳＢ）とブランケットＢＬとを互いに押し付けて相互に密着させる。例えば上ステージ２４１に版ＰＰを保持している場合には、転写位置Ｐ１で版ＰＰの下面に設けられているパターン（図示省略）がブランケットＢＬの上面に塗布されている塗布層（図示省略）と密着して当該塗布層をパターニングしてパターン層を形成する。また、こうしてパターニングされたブランケットＢＬが下ステージ２１１で保持されるとともに上ステージ２４１で基板ＳＢが保持されている場合には、ブランケットＢＬの上面に形成されたパターン層が基板ＳＢの下面にパターン転写される。このように転写位置Ｐ１では、版ＰＰおよび基板ＳＢとブランケットＢＬとの密着体を形成して転写処理を行う。
【００２６】
転写処理により下ステージ２１１はブランケットＢＬの上面に版ＰＰ（または基板ＳＢ）が密着した状態のままブランケットＢＬを吸着保持する、つまり密着体を吸着保持している。そして、上ステージ２４１による版ＰＰ（または基板ＳＢ）の保持を解除した後、下ステージ移動機構２３０により下ステージ部２１０の（＋Ｙ）方向への移動を開始すると、下ステージ２１１は密着体の下面、つまりブランケットＢＬの下面の吸着保持を継続したまま移動する。そして、下ステージ部２１０が剥離位置Ｐ２に達すると、ステージ移動が停止される。
【００２７】
こうして剥離位置Ｐ２に位置決めされた下ステージ部２１０の（＋Ｚ）方向には、図３に示すように剥離部２６０が配置されている。この剥離部２６０は複数の吸着パッド２６１とローラ２６２とを有しており、これらを利用してブランケットＢＬと版ＰＰ（または基板ＳＢ）を剥離する。ブランケットＢＬから上方に分離された版ＰＰ（または基板ＳＢ）は上記した吸着パッド２６１に一時的に保持された後、剥離部２６０にアクセスしてきた版／基板搬出装置５（図２）に受け渡されて剥離部２６０から搬出される。一方、ブランケットＢＬは剥離処理後も下ステージ２１１に吸着保持されたまま残っているが、さらに次の転写剥離処理を行う必要があるか否かに応じて異なる動作が実行される。つまり、上記剥離処理によりブランケットＢＬから版ＰＰを剥離した場合には、当該剥離によって版ＰＰによりパターニングされたパターン層がブランケットＢＬに残っており、この場合、さらに転写剥離処理を行って当該パターン層を基板ＳＢの下面に転写する必要がある。したがって、下ステージ移動機構２３０により下ステージ部２１０はパターン層を有するブランケットＢＬを吸着保持したまま（−Ｙ）方向に移動して転写位置Ｐ１に戻される。一方、上記剥離処理によりブランケットＢＬから基板ＳＢを剥離した場合には、当該剥離によってブランケットＢＬのパターン層が基板ＳＢの下面にパターン転写される。この場合、ブラケット搬出装置６（図２）が剥離位置Ｐ２に位置決めされている下ステージ部２１０にアクセスして使用済みのブランケットＢＬを搬出する。また、こうしてブランケットＢＬが除去されると、下ステージ移動機構２３０により下ステージ部２１０は空状態（ブランケットＢＬを保持しない状態）で（−Ｙ）方向に移動して転写位置Ｐ１に戻される。
【００２８】
次に、上ステージ部２４０の構成および動作について図２および図３を参照しつつ説明する。上ステージ部２４０は、上述のように、転写位置Ｐ１に位置決めされた下ステージ部２１０の（＋Ｚ）方向に配置されている。上ステージ部２４０では、上ステージ２４１が鉛直方向Ｚに昇降自在に設けられており、制御装置７のモータ制御部７３からの動作指令に応じてステージ昇降モータ２４２（図２）を作動させることで上ステージ２４１は昇降移動し、鉛直方向Ｚにおける上ステージ２４１の高さ位置を任意に調整可能となっている。
【００２９】
また、図示を省略しているが、ステージ２４１の下面には複数の吸着孔や吸着溝などの吸着機構が設けられている。また、吸着機構の各開口に対して配管の一方端が接続されるとともに、配管の他方端は吸着バルブ２４３（図２）を介して負圧供給部（図示省略）に接続されている。このため、版／基板搬入装置４（図２）により上ステージ部２４０に版ＰＰおよび基板ＳＢが搬入されるのに対応して制御装置７のバルブ制御部７４が吸着バルブ２５３を開くと、版ＰＰおよび基板ＳＢは上ステージ２４１の下面で吸着保持される。一方、上記したように転写処理が完了した後に、制御装置７のバルブ制御部７４が吸着バルブ２５３を閉じて負圧供給を停止するとともに吸着機構の各開口を大気開放することで上ステージ２４１による版ＰＰおよび基板ＳＢの保持を解除することが可能となっている。
【００３０】
次に、下ステージ部２１０、下ステージ移動機構２３０および押付部２５０の構成および動作について図１ないし図５を参照しつつ説明する。図４は下ステージおよび押付部の概略構成を示す図である。また、図５は押付部による転写手順を示す模式図である。転写剥離装置２では、図１に示すように基台２００の上面にＹ方向に延びる２本のガイドレール２３１がＸ方向に所定間隔だけ離間して並列して固定配置されている。これらのガイドレール２３１に沿って２つのスライダ２３２がＹ方向に摺動自在に取り付けられている。そして、これらのスライダ２３２上に下ステージ部２１０が取り付けられている。これにより、下ステージ部２１０がＹ方向に移動自在となっている。また、下ステージ部２１０には、ステッピングモータ、リニアモータ、ボールねじなどの公知の下ステージ駆動部２３３（図２）が接続されており、制御装置７により下ステージ駆動部２３３が作動することで下ステージ部２１０が移動し、上記した転写位置Ｐ１および剥離位置Ｐ２に正確に位置決めされる。このように、本実施形態では、ガイドレール２３１、スライダ２３２および下ステージ駆動部２３３により本発明の「ステージ移動手段」の一例が構成されている。
【００３１】
下ステージ部２１０は、上記した下ステージ２１１以外に、矩形形状のベースプレート２１２、アライメントステージ２１３、中間プレート２１４、柱部材２１５およびリフトピン機構２１６を有している。下ステージ部２１０では、ベースプレート２１２が２つのスライダ２３２で下方から支持されるようにスライダ２３２に固定されており、スライダ２３２とともにＹ方向に移動自在となっている。
【００３２】
このベースプレート２１２の上面にアライメントステージ２１３が設けられている。アライメントステージ２１３は、ベースプレート２１２上に固定されるステージベース２１３ａと、ステージベース２１３ａの鉛直上方（＋Ｚ）に配置されるステージトップ２１３ｂとを有している。これらステージベース２１３ａおよびステージトップ２１３ｂはいずれも矩形形状を有しており、それらの間には、鉛直方向Ｚに延びる回転軸を回転中心とする回転方向、Ｘ方向およびＹ方向の３自由度を有する、例えばクロスローラベアリング等の支持機構２１３ｃがステージトップ２１３ｂの各角部近傍に配置されている。また、各支持機構２１３ｃに対してボールねじ機構（図示省略）が設けられるとともに、各ボールねじ機構に下ステージ駆動モータ２１７（図２）が取り付けられている。そして、制御装置７のモータ制御部７３からの動作指令に応じて各下ステージ駆動モータ２１７を作動させることで、ステージトップ２１３ｂを水平面内で移動させるとともに、鉛直軸を回転中心として回転させて下ステージ部２１０の下ステージ２１１を位置決め可能となっている。
【００３３】
このアライメントステージ２１３上に矩形形状の中間プレート２１４が固定されている。また、中間プレート２１４の上面角部から柱部材２１５が（＋Ｚ）に立設され、各頂部が下ステージ２１１を支持している。
【００３４】
この下ステージ２１１は例えばアルミニウム合金などの金属プレートで構成されており、上方からの平面視で矩形形状を有しており、その上面２１１ａでブランケットＢＬを吸着保持可能となっている。また、下ステージ２１１の上面２１１ａと、ブランケット搬入装置３（図２）およびブラケット搬出装置６（図２）との間でブランケットＢＬの受け渡しを行うために、リフトピン機構２１６が設けられている。リフトピン機構２１６では、リフトプレート２１６ａが下ステージ２１１と中間プレート２１４との間で昇降自在に設けられている。このリフトプレート２１６ａの上面から鉛直上方（＋Ｚ）に複数のリフトピン２１６ｂが立設されている。一方、リフトプレート２１６ａの下面には、ピン昇降シリンダ２１６ｃ（図２）が接続されている。そして、制御装置７のバルブ制御部７４がピン昇降シリンダ２１６ｃに接続されるバルブの開閉を切り替えることで、ピン昇降シリンダ２１６ｃを作動させてリフトプレート２１６ａを昇降させる。その結果、下ステージ２１１の上面２１１ａ、つまり吸着面に対し、全リフトピン２１６ｂが進退移動する。例えば、リフトピン２１６ｂが下ステージ２１１の上面２１１ａから（＋Ｚ）方向に突出することで、ブランケット搬入装置３（図２）およびブラケット搬出装置６（図２）によりブランケットＢＬがリフトピン２１６ｂの頂部に載置可能となる。そして、ブランケットＢＬの載置に続いて、リフトピン２１６ｂが下ステージ２１１の上面２１１ａよりも（−Ｚ）方向に後退することで、ブランケットＢＬが下ステージ２１１の上面２１１ａに移載される。
【００３５】
この下ステージ２１１の各角部の近傍領域には、アライメントマーク撮像用の石英窓（図示省略）がそれぞれ設けられている。また、下ステージ２１１の上面２１１ａには、石英窓を取り囲むように溝２１１ｂが設けられるとともに、溝２１１ｂにより囲まれる内部領域では、石英窓を除き、左右方向Ｘに延びる複数の溝２１１ｃが方向Ｙに一定間隔で設けられている。
【００３６】
なお、本明細書では、吸着溝（スリット溝）２１１ｂ、２１１ｃの形成位置に応じて各開口を区別するため、図５に示すように、下ステージ２１１のブランケット保持面２１１ａの中央位置に形成された開口を「開口Ｐ（０）」とし、開口Ｐ（０）から前方向（＋Ｙ）に配列されるスリット溝２１１ｃの開口をそれぞれ「開口Ｐ（＋１）」、「開口Ｐ（＋２）」、…とし、さらに開口Ｐ（０）から後方向（−Ｙ）に配列されるスリット溝２１１ｃの開口をそれぞれ「開口Ｐ（−１）」、「開口Ｐ（−２）」、…と称する。そして、これらを用いながら、転写動作について図５を参照しつつ詳述する。
【００３７】
図５中の矢印線は各スリット溝２１１ｃの開口に供給される圧力状態、つまり、
上向き矢印実線…正圧供給
下向き矢印実線…負圧供給
矢印なしの点線…供給停止
をそれぞれ示している。また、符号ＯＦＡはブランケット保持面２１１ａのうちスリット溝２１１ｃを設けた領域を示し、符号ＥＰＡ、ＮＰＡはそれぞれブランケットＢＬの「有効パターンエリア」および「非パターンエリア」を示している。
【００３８】
この転写動作の開始直前では、ブランケットＢＬは下ステージ２１１のブランケット保持面２１１ａ全面で吸着されている。すなわち、制御装置７のバルブ制御部７４は全てのバルブ２５１を閉じる一方、全てのバルブ２５３を開いて各開口に負圧を供給している。そして、バルブ制御部７４が上面中央位置の開口Ｐ（０）に接続されるバルブ２５３を閉じるとともにバルブ２５１を開いて開口Ｐ（０）から正圧を供給することで、転写動作が開始される。この正圧供給によってブランケットＢＬの中央部とブランケット保持面２１１ａとの間に加圧エアーが入り込んで加圧空間ＳＰが形成され、これによってブランケットＢＬの中央部が浮き上がり、版ＰＰ（または基板ＳＢ）の下面ＰＰａ（またはＳＢａ）に当接する。一方、開口Ｐ（０）より（＋Ｙ）端縁側および（−Ｙ）端縁側に位置する開口Ｐ（＋１）、Ｐ（＋２）、…、Ｐ（−１）、Ｐ（−２）、…はいずれも負圧が供給されてブランケットＢＬを吸着保持している。
【００３９】
次に、制御装置７のバルブ制御部７４は、現時点での第２開口のうち開口Ｐ（０）に隣接する開口Ｐ（＋１）に接続されるバルブ２５１を閉じたままバルブ２５３を開状態から閉状態に切り替えて開口Ｐ（＋１）への負圧供給を停止する。すると、開口Ｐ（＋１）近傍では、加圧空間ＳＰ内の加圧力に対するブランケットＢＬを保持する力が次第に弱くなる。そして、それに伴って加圧空間ＳＰ内の気体成分が、ブランケットＢＬの開口Ｐ（＋１）の鉛直上方部分とブランケット保持面２１１ａとの間に流入して当該ブランケット部分をブランケット保持面２１１ａから浮き上がらせて版ＰＰ（または基板ＳＢ）の下面ＰＰａ（またはＳＢａ）に当接させる。このように、上記加圧空間ＳＰ内の圧力が急激に変動するのを抑制しつつ版ＰＰ（または基板ＳＢ）に当接するブランケットＢＬの領域、つまり当接領域ＣＡが中央部から（＋Ｙ）端縁側に緩やかに安定して拡幅される。したがって、この拡幅中に残留気泡が版ＰＰ（または基板ＳＢ）とブランケットＢＬとの間に入り込むのを確実に防止することができる。
【００４０】
このように（＋Ｙ）端縁側への当接領域ＣＡの拡幅が完了すると、次に（−Ｙ）端縁側への当接領域ＣＡの拡幅工程が実行される。つまり、制御装置７のバルブ制御部７４は、現時点での第２開口のうち開口Ｐ（０）に隣接する開口Ｐ（−１）に接続されるバルブ２５１を閉じたままバルブ２５３を開状態から閉状態に切り替えて開口Ｐ（−１）への負圧供給を停止する。すると、（＋Ｙ）端縁側への当接領域ＣＡの拡幅工程と同様に、開口Ｐ（−１）近傍では、加圧空間ＳＰ内の加圧力に対するブランケットＢＬを保持する力が次第に弱くなり、加圧空間ＳＰ内の圧力が急激に変動するのを抑制しつつ当接領域ＣＡが中央部から（−Ｙ）端縁側に緩やかに安定して拡幅される（図５（ａ））。したがって、この拡幅中にも残留気泡が基板ＳＢとブランケットＢＬとの間に入り込むのを確実に防止することができる。
【００４１】
また、上記拡幅工程を行うことで加圧空間ＳＰが広がり、ブランケットＢＬを版ＰＰ（または基板ＳＢ）に押しつける加圧力（あるいは押圧力）が低下するおそれがある。そこで、拡幅工程を一定回数だけ実行した後に、制御装置７のバルブ制御部７４は負圧供給を停止した開口Ｐ（＋１）、Ｐ（−１）に接続されるバルブ２５１を閉状態から開状態に切り替え、各開口Ｐ（＋１）、Ｐ（−１）への正圧供給を開始する。この正圧供給追加工程によって、加圧空間ＳＰが広がった分だけ新たな正圧供給が加わり、ブランケットＢＬを基板ＳＢに押しつける加圧力（あるいは押圧力）を安定させることができる。
【００４２】
本実施形態では、上記した拡幅工程および正圧供給追加工程を繰り返して行うことで、開口形成エリアＯＦＡ内の全開口Ｐ（０）、Ｐ（＋１）、Ｐ（−１）、…、Ｐ（＋ｍ）、Ｐ（−ｍ）、Ｐ（＋ｎ）、Ｐ（−ｎ）のうちの中央部に位置する開口Ｐ（０）、Ｐ（＋１）、Ｐ（−１）、…に正圧を供給するとともに残りの開口Ｐ（＋ｍ）、Ｐ（−ｍ）、Ｐ（＋ｎ）、Ｐ（−ｎ）等への圧力供給を停止し、ブランケットＢＬの中央部、つまり開口形成エリアＯＦＡ内と対向するブランケット部分を版ＰＰ（または基板ＳＢ）に浮上させる。これにより、ブランケットＢＬを版ＰＰ（または基板ＳＢ）に良好に当接させて版ＰＰ（または基板ＳＢ）とブランケットＢＬとを密着させる（同図（ｂ））。
【００４３】
なお、上記転写動作を行っている間、開口２１１ｂには常時負圧を供給してブランケットＢＬの周縁部、より詳しくは開口形成エリアＯＦＡよりも外側の縁部を下ステージ２１１に密着させておくことができ、転写動作の安定化を図っている。また、転写動作が完了すると、正圧供給を停止するとともに全開口に対して負圧を供給する（同図（ｃ））。このとき、上ステージによる版ＰＰ（または基板ＳＢ）の吸着保持を解除する。これによって、ブランケットＢＬの上面に対して版ＰＰ（または基板ＳＢ）を密着させた状態のままブランケットＢＬの下面が下ステージ２１１で吸着され、剥離位置Ｐ２への移動準備が完了する。
【００４４】
次に、剥離部２６０の構成および動作について図２、図３、図６および図７を参照しつつ説明する。剥離部２６０は、剥離位置Ｐ２に位置決めされた下ステージ部２１０（図３中の１点鎖線参照）の上方に配置されている。そして、剥離部２６０では、４列の吸着パッド列２６１ａ〜２６１ｄが当該下ステージ部２１０の下ステージ２１１により吸着保持される密着体（＝ブランケットＢＬと版ＰＰおよび基板ＳＢとの積層体）の上方で一定間隔をもってＹ方向に配置されている。図３では、各吸着パッド列２６１ａ〜２６１ｄの（＋Ｘ）側吸着パッド２６１のみが図示されているが、各吸着パッド列２６１ａ〜２６１ｄとも複数の吸着パッド２６１がＸ方向に配列されている。また、吸着パッド列２６１ａ〜２６１ｄ毎にパッド昇降シリンダ２６３（図２）および吸着バルブ２６４（図２）が設けられている。例えば吸着パッド列２６１ａでは、これに連結されるパッド昇降シリンダ２６３が駆動することで、吸着パッド列２６１ａを構成する複数の吸着パッド２６１が同時に昇降移動し、吸着パッド２６１の先端が下ステージ２１１上の密着体の上面（版ＰＰおよび基板ＳＢの上面）に当接および離間する。また、吸着パッド列２６１ａを構成する複数の吸着パッド２６１に対して１つの吸着バルブ２６４が接続されており、当該吸着バルブ２６４の開閉制御によって吸着パッド２６１による吸着動作および吸着停止動作が切り替えられる。なお、その他の吸着パッド列２６１ｂ〜２６１ｄも同様である。
【００４５】
また、図示を省略するローラ支持機構により回転自在に保持されたローラ２６２がＸ方向に延設配置されている。このローラ２６２はローラ昇降シリンダ２６５により上下方向Ｚに昇降し、これによって下ステージ２１１上の密着体の上面（版ＰＰおよび基板ＳＢの上面）に当接および離間する。また、ローラ２６２はローラ水平駆動モータ２６６によってＹ方向に移動される。ただし、ローラ２６２に対して回転駆動源は接続されておらず、ローラ２６２は密着体の上面と当接しながらＹ方向に移動する際、従動回転する。
【００４６】
図６および図７は剥離部の動作を模式的に示す図である。上記転写処理が完了すると、下ステージ部２１０はブランケットＢＬと版ＰＰ（基板ＳＢ）の密着体を吸着保持したまま剥離位置Ｐ２に移動し、上記のように構成された剥離部２６０の下方に位置決めされる。なお、剥離開始前および剥離完了後においては、図３に示すように、吸着パッド列２６１ａ〜２６１ｄおよびローラ２６２は下ステージ２１１上の密着体から上方に十分に離れた位置に退避している。
【００４７】
剥離処理が開始されると、図６（ａ）に示すように、最も（＋Ｙ）側に位置している吸着パッド列２６１ａが下降して吸着パッド列２６１ａを構成する吸着パッド２６１の先端部が版ＰＰの上面に当接する。そして、吸着パッド２６１に負圧が供給されて版ＰＰを吸着保持させる。これと同時に、ローラ２６２が（＋Ｙ）方向に移動して吸着パッド列２６１ａの（−Ｙ）側近傍に位置決めされた後に下降して吸着パッド２６１の（−Ｙ）側で版ＰＰの上面に当接させる。なお、ブランケットＢＬは、同図に示すように、上記転写処理および搬送処理に引き続いて下ステージ２１１に吸着保持されている。
【００４８】
次に、ローラ２６２を版ＰＰの上面に当接させた状態のまま吸着パッド列２６１ａのみが上昇する。この上昇初期段階で、図６（ｂ）に示すように、版ＰＰの（＋Ｙ）側端面からローラ当接位置までの範囲で版ＰＰの（＋Ｙ）側端部がブランケットＢＬから剥離される。そして、吸着パッド列２６１ａがさらに上昇するのに同期してローラ２６２が版ＰＰ上面に当接させたまま、剥離済みの領域とは反対方向、つまり（−Ｙ）方向へ移動する。吸着パッド２６１の上昇速度およびローラ２６２の移動速度はいずれも一定速度である。
【００４９】
図７（ａ）に示すように、吸着パッド２６１の上昇に応じて吸着パッド２６１に吸着された版ＰＰの端部がさらに持ち上げられ、ブランケットＢＬからの剥離が進む。つまり剥離境界線が（−Ｙ）方向に進行する。ただし、ローラ２６２を版ＰＰの上面に当接させることで、剥離境界線の進行はローラ２６２との当接位置までに限定される。また、ローラ２６２はＸ方向に延設されているから、剥離境界線もＸ方向に延びる直線状となっている。この実施形態では複数の吸着パッド２６１をＸ方向に並設させた吸着パッド列２６１ａを用いることで、高い吸着保持力を得ている。また、版ＰＰの端部にできるだけ近い位置で吸着することで、版ＰＰが確実に持ち上げられるようにしている。
【００５０】
そして、図７（ｂ）に示すように、ローラ２６２が吸着パッド列２６１ｂの下方を通過すると、吸着パッド列２６１ｂが下降して吸着パッド列２６１ｂを構成する吸着パッド２６１の先端部が剥離境界線近傍で剥離済みの領域に当接する。そして、これらの吸着パッド２６１への負圧供給によって版ＰＰを吸着保持した後、ローラ２６２の移動に同期して吸着パッド列２６１ｂが上昇する。これによって、剥離済みの領域はさらに（−Ｙ）方向に広がっていく。なお、先に上昇を開始した吸着パッド列２６１ａについては、初期の退避位置まで上昇すると、その位置で停止する。
【００５１】
さらに、図面への図示は省略しているが、ローラ２６２が吸着パッド列２６１ｃ、２６１ｄの下方を通過する毎と、吸着パッド列２６１ｂと同様に下降、版ＰＰの吸着および上昇を実行する。これによって、図７（ｃ）に示すように、版ＰＰ全体をブランケットＢＬから剥離させることができ、その剥離された版ＰＰについては、吸着パッド列２６１ａ〜２６１ｄによりブランケットＢＬの上方で吸着保持される。なお、ローラ２６２は版ＰＰの上面を通過すると、退避位置まで上昇して停止する。
【００５２】
次に、上記のように構成されたパターン形成システムの動作について図１および図８を参照しつつ説明する。図８は図１のパターン形成システムの動作を示すフローチャートである。このパターン形成システムの初期状態では、下ステージ部２１０は転写位置Ｐ１に位置決めされている。また、リフトピン２１６ｂが下ステージ２１１の上面２１１ａから（＋Ｚ）方向に突出してブランケットＢＬを受け入れ可能となっている。そして、版／基板搬入装置４が版ＰＰを転写剥離装置２の（−Ｙ）側から上ステージ部２４０に搬入すると、上ステージ２４１の下面で版ＰＰを吸着保持する（ステップＳ１０１）。ここで、版ＰＰを上ステージ２４１の下面で吸着保持する直前で、版／基板搬入装置４のハンド（図示省略）で保持されている版ＰＰをプリアライメントしてもよく、これによって後の精密アライメントを好適に行うことができる。これについては、次に説明するブランケットＢＬや後で説明する基板ＳＢについても同様である。
【００５３】
また、版ＰＰの搬入（ステップＳ１０１）後に、ブランケット搬入装置３がブランケットＢＬを転写剥離装置２の（＋Ｘ）側から下ステージ部２１０に搬入すると、下ステージ２１１の上面２１１ａから（＋Ｚ）方向に突出しているリフトピン２１６ｂの頂部にブランケットＢＬが載置される。そして、リフトピン２１６ｂが下ステージ２１１の上面２１１ａよりも（−Ｚ）方向に後退して下ステージ２１１の上面２１１ａにブランケットＢＬを移載し、下ステージ２１１が吸着保持する（ステップＳ１０２）。なお、本実施形態では、版／基板搬入装置４およびブランケット搬入装置３はそれぞれ転写剥離装置２の（−Ｙ）側および（＋Ｘ）側に配置されており、版ＰＰを（−Ｙ）側から搬入し、ブランケットＢＬを（＋Ｘ）側から搬入しているが、版ＰＰ（基板ＳＢ）およびブランケットＢＬの搬入方向はこれに限定されるものではない。例えば版ＰＰおよび基板ＳＢについては（＋Ｘ）方向側や（−Ｘ）方向側から搬入してもよいし、ブランケットＢＬについては（−Ｘ）方向側や（−Ｙ）方向側から搬入してもよい。また、本実施形態では、版ＰＰおよびブランケットＢＬの順序で転写剥離装置２に搬入しているが、これらを同時に行う、あるいは順番を入れ替えてもよい。
【００５４】
上記ステップＳ１０１、Ｓ１０２により、転写位置Ｐ１に位置決めされた下ステージ部２１０はブランケットＢＬの上面を上方に向けた状態でブランケットＢＬを保持する一方、上ステージ部２４０は、版ＰＰの両面のうち予めパターンが設けられた面を下方、つまりブランケットＢＬの上面に向けた状態、いわゆるフェースダウン状態で版ＰＰを保持する。そして、ステージ昇降モータ２４２が作動して上ステージ２４１を下方向（−Ｚ）に下降させて版ＰＰをブランケットＢＬの近傍に移動させ、鉛直方向Ｚにおける版ＰＰとブランケットＢＬの間隔、つまりギャップ量を正確に調整する。
【００５５】
それに続いて、上述したように加圧バルブ２５１と吸着バルブ２５３が動作して下ステージ２１１とブランケットＢＬとの間にエアーを部分的に供給することでブランケットＢＬが部分的に上ステージ２４１に保持された版ＰＰに押し付けられる。その結果、ブランケットＢＬの中央部が版ＰＰに密着して版ＰＰの下面に予め形成されたパターンがブランケットＢＬの上面に予め塗布された塗布層と当接して当該塗布層をパターニングして版ＰＰのパターンを反転させたパターン層を形成する（ステップＳ１０３：第１転写処理）。
【００５６】
こうして第１転写処理を行った後、上ステージ２４１による版ＰＰの吸着保持を解除するとともに、ステージ昇降モータ２４２が作動して上ステージ２４１を上方向（＋Ｚ）に上昇させて密着体（＝版ＰＰとブランケットＢＬとの積層体）から上方に退避させる。また、これと並行して適時、バルブ２５１、２５３の開閉状態を切替え、ブランケットＢＬに負圧を与えて下ステージ２１１側に引き寄せる。こうして、ブランケットＢＬの下面全体、つまり密着体全体が下ステージ２１１に吸着保持されると、下ステージ駆動部２３３が作動して下ステージ部２１０を転写位置Ｐ１から（＋Ｙ）方向に移動させ、図１の破線で示すように剥離位置Ｐ２に位置決めする（ステップＳ１０４）。
【００５７】
この剥離位置Ｐ２では、下ステージ部２１０は密着体の上面、つまり版ＰＰの上面（パターンが設けられていない面）を剥離部２６０に向けた状態で密着体の下面（ブランケットＢＬの下面）を保持している。そして、下ステージ部２１０がブランケットＢＬを吸着保持したまま、剥離部２６０が上述したように吸着パッドの昇降およびローラの回転移動によってブランケットＢＬから版ＰＰを剥離させる。剥離された使用済みの版ＰＰは転写剥離装置２の（＋Ｙ）側に配置されている版／基板搬出装置５（図２）に受け渡されて剥離部２６０から転写剥離装置２の外部、例えば版洗浄装置に搬出される（ステップＳ１０５）。これによって、下ステージ部２１０では、パターン層が上面に形成されたブランケットＢＬのみが下ステージ２１１のブランケット保持面２１１ａに吸着保持されている。
【００５８】
次のステップＳ１０６では、版ＰＰと同様にして、基板ＳＢが上ステージ部２４０に搬入され、上ステージ２４１に吸着保持される。また、ステップＳ１０６の実行後あるいは実行と並行して下ステージ駆動部２３３が作動して下ステージ部２１０を剥離位置Ｐ２から（−Ｙ）方向に移動させ、図１の実線で示すように転写位置Ｐ１に位置決めする（ステップＳ１０７）。そして、第１転写処理（ステップＳ１０３）と同様にして、ブランケットＢＬの上面（パターン層）と基板ＳＢの下面とを密着させて当該パターン層を基板ＳＢの下面にパターン転写する（ステップＳ１０８：第２転写処理）。
【００５９】
この第２転写処理後、ステップＳ１０４と同様のステップＳ１０９を実行する。すなわち、上ステージ２４１による基板ＳＢの吸着保持を解除するとともに、ステージ昇降モータ２４２が作動して上ステージ２４１を上方向（＋Ｚ）に上昇させて密着体（＝基板ＳＢとブランケットＢＬとの積層体）から上方に退避させる。また、これと並行して適時、バルブ２５１、２５３の開閉状態を切替え、ブランケットＢＬに負圧を与えて下ステージ２１１側に引き寄せてブランケットＢＬの下面全体、つまり密着体全体を下ステージ２１１に吸着保持させる。それに続いて、下ステージ駆動部２３３が作動して下ステージ部２１０を再び転写位置Ｐ１から（＋Ｙ）方向に移動させ、図１の破線で示すように剥離位置Ｐ２に位置決めする。
【００６０】
そして、ステップＳ１０５と同様のステップＳ１１０を実行して下ステージ部２１０によりブランケットＢＬを吸着保持したままブランケットＢＬから基板ＳＢを剥離させる。なお、剥離された基板ＳＢは転写剥離装置２の（＋Ｙ）側に配置されている版／基板搬出装置５（図２）に受け渡されて剥離部２６０から次の基板処理装置に搬出される。そして、基板ＳＢへのパターン形成が完了すると、下ステージ部２１０に残っているブランケットＢＬは使用済みであるため、ブラケット搬出装置６によって転写剥離装置２の外部、例えばブランケット洗浄装置に搬出される（ステップＳ１１１）。すなわち、下ステージ２１１によるブランケットＢＬの吸着保持が解除されるとともに、リフトピン２１６ｂが下ステージ２１１の上面２１１ａから（＋Ｚ）方向に突出してブランケットＢＬを下ステージ２１１から上方に押し上げる。そして、剥離位置Ｐ２に位置決めされた下ステージ部２１０の（＋Ｘ）側に配置されたブラケット搬出装置６がリフトピン２１６ｂの頂部で支持されたブランケットＢＬを受け取り、搬出する。
【００６１】
こうして一連のパターン形成動作が完了すると、次のパターン形成を実行するために、下ステージ駆動部２３３が作動して下ステージ部２１０を再び剥離位置Ｐ２から（−Ｙ）方向に移動させて転写位置Ｐ１に位置決めする（ステップＳ１１２）。
【００６２】
以上のように、第１実施形態によれば、ブランケットＢＬを吸着保持する下ステージ部２１０を転写位置Ｐ１に位置決めした状態でブランケットＢＬの上面と板状物体（版ＰＰおよび基板ＳＢ）の下面とを互いに押し付けて密着させてパターンを転写している。そして、下ステージ部２１０は転写処理に続いてブランケットＢＬを吸着保持するとともにブランケットＢＬの上面に板状物体の下面を密着させた状態のまま転写位置Ｐ１から剥離位置Ｐ２に移動して位置決めされた後、剥離部２６０によってブランケットＢＬから板状物体を剥離している。このように転写処理（ステップＳ１０３、Ｓ１０８）と、剥離処理（ステップＳ１０５、Ｓ１０９）とは互いに異なる位置で行われており、転写処理と剥離処理とを同一位置で連続的に行う転写剥離発明（例えば特許文献１に記載の発明）に比べ、量産性やメンテナンス性に優れている。
【００６３】
また、本実施形態では、ブランケットＢＬを下ステージ部２１０の下ステージ２１１に吸着保持した後、その保持状態を継続したまま第１転写処理（ステップＳ１０３）、転写位置Ｐ１から剥離位置Ｐ２への搬送処理（ステップＳ１０４）、第１剥離処理（ステップＳ１０５）、剥離位置Ｐ２から転写位置Ｐ１への搬送処理（ステップＳ１０７）、第２転写処理（ステップＳ１０８）、転写位置Ｐ１から剥離位置Ｐ２への搬送処理（ステップＳ１０９）、第２剥離処理（ステップＳ１１０）を実行している。このように、パターン形成処理を行っている間、ブランケットＢＬは常時下ステージ２１１で吸着保持されているため、ブランケットＢＬと版ＰＰとの密着体の搬送中においても、またブランケットＢＬと基板ＳＢとの密着体の搬送中においても、ブランケットＢＬと板状物体（版ＰＰおよび基板ＳＢ）との間で位置ずれが発生するのを効果的に防止することができる。よって、ブランケットＢＬと版ＰＰとの間で行われる転写剥離処理、ならびにブランケットＢＬと版ＰＰとの間で行われる転写剥離処理のいずれにおいてもパターンを安定して高い生産性で転写することができる。そして、当該転写剥離装置２をパターン形成システムに組み込んでいるため、版ＰＰのパターンを反転させた反転パターンを基板ＳＢに安定的かつ高生産性で形成することができる。さらに、下ステージ２１１による吸着保持前にブランケットＢＬのプリアライメントを一度行うと、パターン形成が完了するまでプリアライメントを行う必要がなくなる。
【００６４】
また、本実施形態では、下ステージ２１１が下方からブランケットＢＬの下面全体を支持しながら当該ブランケットＢＬに板状物体（版ＰＰおよび基板ＳＢ）を密着させて転写位置Ｐ１から剥離位置Ｐ２に搬送しているため、密着体をより安定して搬送することができ、その結果、密着体の搬送中における位置ずれの発生をさらに効果的に防止することができる。さらに、本実施形態では、板状物体（版ＰＰおよび基板ＳＢ）の平面サイズはブランケットＢＬの平面サイズより小さく、板状物体の下面全体がブランケットＢＬの上面中央部に押し付けられて密着している。このため、密着体の中央部に重量が集中する一方、ブランケットＢＬの周縁部の剛性が大幅に低下しているが、下ステージ２１１がブランケットＢＬの下面全体を下方から支持しているため、重量および剛性の不均一性の影響を受けることなく、密着体を安定して搬送することができる。このような作用効果については、次に説明する第２実施形態および第３実施形態においても同様である。
【００６５】
図９はパターン形成システムの第２実施形態の概略構成を示す斜視図である。また、図１０は図９に示すパターン形成システムの動作を示すフローチャートである。第１実施形態では、第１転写処理（ステップＳ１０３）および第２転写処理（ステップＳ１０８）を同一の転写位置Ｐ１で実行するとともに、第１剥離処理（ステップＳ１０５）および第２剥離処理（ステップＳ１１０）を同一の剥離位置Ｐ２で行っている。これに対し、第２実施形態では、図９に示すように、第１転写処理（ステップＳ２０３）、第１剥離処理（ステップＳ２０５）、第２転写処理（ステップＳ２０８）および第２剥離処理（ステップＳ２１０）をそれぞれ異なる位置Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ２１、Ｐ２２で行っている。また、これに伴って、使用済み版ＰＰの搬出位置、基板ＳＢの搬入位置および使用済みブランケットＢＬの搬出位置を変更している。なお、その他の構成および動作は基本的に第１実施形態と同一であるため、同一構成については同一符号を付して説明を省略する。
【００６６】
この第２実施形態では、ガイドレール２３１が第１実施形態の約２倍に延長され、下ステージ部２１０は第１転写位置Ｐ１１、第１剥離位置Ｐ１２、第２転写位置Ｐ２１および第２剥離位置Ｐ２２に移動自在となっている。そして、第１転写位置Ｐ１１に位置決めされた下ステージ部２１０の上方には第１転写処理専用の上ステージ部２４０１が配置され、（−Ｙ）側には版ＰＰを上ステージ部２４０１に搬入する版搬入装置が配置されるとともに（＋Ｘ）側にブランケット搬入装置（図示省略）が配置されている。また、第１剥離位置Ｐ１２に位置決めされた下ステージ部２１０の上方には第１剥離処理専用の剥離部２６０１が配置されるとともに、（＋Ｘ）側に版搬出装置が配置されている。また、第２転写位置Ｐ２１に位置決めされた下ステージ部２１０の上方には第２転写処理用の上ステージ部２４０２が配置されるとともに、（＋Ｘ）側に基板搬入装置が配置されている。さらに、第２剥離位置Ｐ２２に位置決めされた下ステージ部２１０の上方には第２剥離処理専用の剥離部２６０２が配置され、（＋Ｙ）側に基板搬出装置が配置されるとともに、（＋Ｘ）側にブランケット搬出装置が配置されている。なお、図９では、搬入装置および搬出装置の図示を省略し、版ＰＰ、基板ＳＢおよびブランケットＢＬの動きのみを矢印で図示している。また、上ステージ部２４０１、２４０２はともに第１実施形態の上ステージ部２４０と同一構成を有し、剥離部２６０１、２６０２はともに第１実施形態の剥離部２６０と同一構成を有している。
【００６７】
このように構成された第２実施形態にかかるパターン形成システムでは、第１上ステージ部２４０１の上ステージ２４１に版ＰＰが吸着保持される（ステップＳ２０１）。そして、第１転写位置Ｐ１１に位置決めされた下ステージ部２１０の下ステージ２１１にブランケットＢＬが吸着保持され（ステップＳ２０２）、版ＰＰのパターンによるブランケットＢＬの上面のパターニング処理（第１転写処理）が実行される（ステップＳ２０３）。
【００６８】
それに続いて、上ステージ２４１による版ＰＰの吸着保持が解除された後、下ステージ部２１０が第１転写位置Ｐ１１から（＋Ｙ）方向に移動して第１剥離位置Ｐ１２に位置決めされる（ステップＳ２０４）。そして、ブランケットＢＬから版ＰＰが剥離されるとともに、剥離された使用済みの版ＰＰが版搬出装置により搬出される（ステップＳ２０５）。
【００６９】
次のステップＳ２０６では、第２上ステージ部２４０２の上ステージ２４１に基板ＳＢが吸着保持される。また、ステップＳ２０６の実行後あるいは実行と並行して下ステージ部２１０が第１剥離位置Ｐ１２から（＋Ｙ）方向に移動して第２転写位置Ｐ２１に位置決めされる（ステップＳ２０７）。そして、第２転写処理が実行される（ステップＳ２０８）。
【００７０】
この第２転写処理後、ステップＳ２０４と同様に、第２上ステージ部２４０２の上ステージ２４１による基板ＳＢの吸着保持が解除された後、下ステージ部２１０が第２転写位置Ｐ２１から（＋Ｙ）方向に移動して第２剥離位置Ｐ２２に位置決めされる（ステップＳ２０９）。そして、ステップＳ２０５と同様のステップＳ２１０を実行することで、第２剥離部２６０１によりブランケットＢＬから基板ＳＢが剥離されるとともに、剥離された基板ＳＢが基板搬出装置により第２剥離部２６０１から次の基板処理装置に搬出される。また、下ステージ部２１０に残っているブランケットＢＬがブラケット搬出装置によって搬出される（ステップＳ２１１）。その後で、次のパターン形成を実行するために、下ステージ部２１０が第２剥離位置Ｐ２２から（−Ｙ）方向に移動して第１転写位置Ｐ１に位置決めされる（ステップＳ２１２）。
【００７１】
以上のように、第２実施形態では、ブランケットＢＬを下ステージ部２１０の下ステージ２１１に吸着保持した後、その保持状態を継続したまま第１転写位置Ｐ１１、第１剥離位置Ｐ１２、第２転写位置Ｐ２１および第２剥離位置Ｐ２２でそれぞれ第１転写処理、第１剥離処理、第２転写処理および第２剥離処理を行っている。したがって、第１実施形態と同様に、版ＰＰのパターンを反転させた反転パターンを基板ＳＢに安定的かつ高生産性で形成することができる。
【００７２】
図１１はパターン形成システムの第３実施形態の概略構成を示す斜視図である。また、図１２は図１１に示すパターン形成システムの動作を示すフローチャートである。第１実施形態は１つの転写剥離装置２を用いてパターン形成システム１を構成している。つまり、１台の下ステージ部２１０によりブランケットＢＬを吸着保持しながら転写位置Ｐ１と剥離位置Ｐ２との間を往復し、第１転写処理（ステップＳ１０３）および第２転写処理（ステップＳ１０８）を同一の転写位置Ｐ１で実行するとともに、第１剥離処理（ステップＳ１０５）および第２剥離処理（ステップＳ１１０）を同一の剥離位置Ｐ２で行っている。これに対し、第３実施形態では、図１１に示すように、２つの転写剥離装置２１、２２を用いてパターン形成システム１を構成しており、基台２００上に２台の下ステージ部２１０１、２１０２が設けられている。すなわち、（−Ｙ）側の下ステージ部２１０１は基台２００の（−Ｙ）側部分に設けられた下ステージ移動機構２３０１によりは第１転写位置Ｐ１１および第１剥離位置Ｐ２１に移動自在となっている。一方、（＋Ｙ）側の下ステージ部２１０２は基台２００の（＋Ｙ）側部分に設けられた下ステージ移動機構２３０２によりは第２転写位置Ｐ２１および第２剥離位置Ｐ２２に移動自在となっている。
【００７３】
そして、２つの転写位置Ｐ１１、Ｐ２１を設けたことに対応して第２実施形態と同様に２つの上ステージ部２４０１、２４０２が配置されるとともに、２つの剥離位置Ｐ１２、Ｐ２２を設けたことに対応して第２実施形態と同様に２つの剥離部２６０１、２６０２が配置されている。具体的には、第１転写位置Ｐ１１に位置決めされた第１下ステージ部２１０１の上方に第１転写処理専用の上ステージ部２４０１が配置され、（−Ｙ）側には版ＰＰを上ステージ部２４０１に搬入する版搬入装置が配置されるとともに（＋Ｘ）側にブランケット搬入装置が配置されている。また、第１剥離位置Ｐ１２に位置決めされた下ステージ部２１０１の上方には第１剥離処理専用の剥離部２６０１が配置されるとともに、（＋Ｘ）側に版搬出装置が配置されている。また、第２転写位置Ｐ２１に位置決めされた下ステージ部２１０２の上方には第２転写処理用の上ステージ部２４０２が配置されるとともに、（＋Ｘ）側に基板搬入装置が配置されている。さらに、第２剥離位置Ｐ２２に位置決めされた下ステージ部２１０２の上方には第２剥離処理専用の剥離部２６０２が配置され、（＋Ｙ）側に基板搬出装置が配置されるとともに、（＋Ｘ）側にブランケット搬出装置が配置されている。なお、図１１では、搬入装置および搬出装置の図示を省略し、版ＰＰ、基板ＳＢおよびブランケットＢＬの動きのみを矢印で図示している。また、上ステージ部２４０１、２４０２はともに第１実施形態の上ステージ部２４０と同一構成を有し、剥離部２６０１、２６０２はともに第１実施形態の剥離部２６０と同一構成を有している。
【００７４】
また、上記した下ステージ部２１０１、２１０２の間に中間搬送装置８が配置されている。この中間搬送装置８はブランケットＢＬを保持するハンド８１を有しており、当該ハンド８１によって第１剥離位置Ｐ１２に位置決めされる第１下ステージ部２１０１から版ＰＰによりパターニングされたブランケットＢＬを受取可能となっている。また、ハンド８１は受け取ったブランケットＢＬを第２転写位置Ｐ２１に位置決めされる第２下ステージ部２１０２に移載可能となっている。なお、下ステージ部２１０１、２１０２の構成はともに第１実施形態の下ステージ部２１０と同一である。
【００７５】
このように構成された第３実施形態にかかるパターン形成システムでは、第１上ステージ部２４０１の上ステージ２４１に版ＰＰが吸着保持される（ステップＳ３０１）。そして、第１転写位置Ｐ１１に位置決めされた第１下ステージ部２１０１の下ステージ２１１にブランケットＢＬが吸着保持され（ステップＳ３０２）、版ＰＰのパターンによるブランケットＢＬの上面のパターニング処理（第１転写処理）が実行される（ステップＳ３０３）。
【００７６】
それに続いて、上ステージ２４１による版ＰＰの吸着保持が解除された後、第１下ステージ部２１０１が第１転写位置Ｐ１１から（＋Ｙ）方向に移動して第１剥離位置Ｐ１２に位置決めされる（ステップＳ３０４）。そして、ブランケットＢＬから版ＰＰが剥離されるとともに、剥離された使用済みの版ＰＰが版搬出装置により搬出される（ステップＳ３０５）。これにより、第１下ステージ部２１０１の下ステージ２１１には、版ＰＰによりパターニングされたパターン層が形成されたブランケットＢＬのみが吸着保持されている。
【００７７】
次のステップＳ３０６では、中間搬送装置８により第１下ステージ部２１０１上のブランケットＢＬが第２転写位置Ｐ２１に位置決めされている第２下ステージ部２１０２の下ステージ２１１に移載され、吸着保持される。この移載動作が完了した時点で第１下ステージ部２１０１からのブランケットＢＬの除去が完了しているため、次の第１転写処理に備えて第１下ステージ部２１０１は（−Ｙ）方向に移動して第１転写位置Ｐ１１に位置決めされる（ステップＳ３０７）。
【００７８】
また、これと並行して、第２上ステージ部２４０２の上ステージ２４１に基板ＳＢが吸着保持された（ステップＳ３０８）後、第２転写処理が実行される（ステップＳ３０９）。
【００７９】
この第２転写処理後、ステップＳ３０４と同様に、第２上ステージ部２４０２の上ステージ２４１による基板ＳＢの吸着保持が解除された後、第２下ステージ部２１０２が第２転写位置Ｐ２１から（＋Ｙ）方向に移動して第２剥離位置Ｐ２２に位置決めされる（ステップＳ３１０）。そして、ステップＳ３０５と同様のステップＳ３１１を実行することで、第２剥離部２６０１によりブランケットＢＬから基板ＳＢが剥離されるとともに、剥離された基板ＳＢが基板搬出装置により第２剥離部２６０１から次の基板処理装置に搬出される。また、第２下ステージ部２１０２に残っているブランケットＢＬがブラケット搬出装置によって搬出される（ステップＳ３１２）。その後で、再びパターン層が形成されたブランケットＢＬを受け取るために、次のステップＳ３０６を実行するまでに、第２下ステージ部２１０２が第２剥離位置Ｐ２２から（−Ｙ）方向に移動して第２転写位置Ｐ２１に位置決めされる（ステップＳ３１３）。
【００８０】
以上のように、第３実施形態では、第１下ステージ部２１０１および第２下ステージ部２１０２のいずれにおいても、ブランケットＢＬを下ステージ２１１に吸着保持した後、その保持状態を継続したまま転写処理および剥離処理を行っている。したがって、第１実施形態と同様に、版ＰＰのパターンを反転させた反転パターンを基板ＳＢに安定的かつ高生産性で形成することができる。
【００８１】
このように第１実施形態では、下ステージ２１１および上ステージ２４１がそれぞれ本発明の「第１ステージ」および「第２ステージ」の一例に相当している。また、第２実施形態および第３実施形態では、下ステージ２１１、（−Ｙ）側上ステージ部２４０１の上ステージ２４１および（＋Ｙ）側上ステージ部２４０２の上ステージ２４１がそれぞれ本発明の「第１ステージ」、「第２ステージ」および「第３ステージ」の一例に相当している。また、第１実施形態では、版／基板搬入装置４（図２）および版／基板搬出装置５（図２）がそれぞれ本発明の「板状物体搬入装置」および「板状物体搬出装置」の一例に相当している。
【００８２】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したものに対して種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記実施形態では、上ステージ２４１によって版ＰＰや基板ＳＢなどの板状物体を吸着保持しているが、当該物体の保持態様はこれに限定されるものではない。
【００８３】
また、上記実施形態では、版ＰＰや基板ＳＢの平面サイズは同一であるが、板状物体の外形サイズは単一であることは必須ではなく、相互に異なる場合にも、本発明を適用可能である。
【００８４】
また、上記実施形態では、ブランケットＢＬの中央部とブランケット保持面２１１ａとの間に加圧エアーを供給することでブランケットＢＬの中央部を浮き上がらせて版ＰＰや基板ＳＢに押し付けているが、押付態様はこれに限定されるものではなく、例えば板状物体（版ＰＰや基板ＳＢ）側から押し付けてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明は、ブランケットの一方面および板状物体の一方面とを密着した後で両方の一方面のうち一方に形成されるパターンを他方に転写した後、ブランケットと板状物体とを剥離する転写剥離技術全般に好適に適用することができる。
【符号の説明】
【００８６】
１…パターン形成システム
２、２１、２２…転写剥離装置
３…ブランケット搬入装置
４…版／基板搬入装置（板状物体搬入装置）
５…版／基板搬出装置（板状物体搬出装置）
６…ブラケット搬出装置
７…制御装置
８…中間搬送装置
２１０、２１０１、２１０２…下ステージ部
２１１…下ステージ
２１１ａ…ブランケット保持面
２３０、２３０１、２３０２…下ステージ移動機構
２４０、２４０１、２４０２…上ステージ部
２４１…上ステージ
２６０、２６０１、２６０２…剥離部
ＢＬ…ブランケット
Ｐ１、Ｐ１１、Ｐ２１…転写位置
Ｐ２、Ｐ１２、Ｐ２２…剥離位置
ＰＰ…版（板状物体）
ＳＢ…基板（板状物体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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