(57)【要約】【課題】脱硫設備の排水の処理に際し、総合排水処理後に、ホウ素の回収除去を行った際に生じる再生水を脱硫設備に供給することにより、系外への処理後の排水の排出量を低減することができるホウ素含有排水の処理方法を提供する。【解決手段】脱硫設備１から排出される排水を排水処理した後に、この処理後の排水からホウ素を回収除去する。ホウ素の回収除去に際して生じた再生水を、脱硫設備１に供給される工業用水の少なくとも一部に代えて脱硫設備１に供給する。再生水の性状および／または脱硫設備１から排出される排水の性状に係わる特定の制御指標を監視し、この制御指標に基づいて、工業用水の少なくとも一部に代えて脱硫設備１に供給される再生水の供給量を制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
脱硫設備の排水からのホウ素の回収除去に用いた設備の再生により生じた再生水を、前記脱硫設備に供給される工業用水の少なくとも一部に代えて前記脱硫設備に供給するホウ素含有排水の処理方法であって、
前記再生水の性状および／または前記脱硫設備の前記排水の性状に係わる特定の制御指標を監視し、前記制御指標に基づいて、前記工業用水の少なくとも一部に代えて前記脱硫設備に供給される前記再生水の供給量を制御することを特徴とするホウ素含有排水の処理方法。
【請求項２】
前記再生水および／または前記脱硫設備の前記排水における前記制御指標が、ＴＤＳ、ＳＳ、塩素、珪素、ナトリウムの含有量であることを特徴とする請求項１に記載のホウ素含有排水の処理方法。
【請求項３】
前記脱硫設備の前記排水のナトリウム濃度が１０００〜４０００ｍｇ／Ｌに制御されることを特徴とする請求項２に記載のホウ素含有排水の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排水からホウ素を回収除去する処理後に系外に放流される排水量を低減するためのホウ素含有排水の処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ホウ素は、人間の中枢神経に障害をきたしたり、植物の成長阻害を起こしたりすることから環境規制の対象となっている一方、ネオジウム磁石等の新エネルギー素材としての用途が高く評価されており、有価金属として排水から回収される場合がある。
このようなホウ素を含有するホウ素含有排水の処理方法として、イオン交換樹脂等のホウ素を吸着する樹脂により、排水からのホウ素の回収除去が行われている（例えば、特許文献１参照）。これにより、排水からホウ素を除去できるだけでなく、ホウ素を回収することが可能になる。
ホウ素が吸着されてホウ素濃度が低下した排水は、系外に放流される。
【０００３】
また、樹脂に吸着されたホウ素は、酸溶液やアルカリ溶液や薬品等を用いて樹脂から脱着され、この脱着に用いられた溶液を例えば精製塔で精製して高純度のホウ酸を回収する。
また、このようなホウ素を含む排水としては、例えば、火力発電所等のボイラーの排気から亜硫酸ガス等の硫黄酸化物を除去する脱硫設備からの排水が知られており、この排水からホウ素を回収除去することが行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２３３８６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、脱硫設備では、例えば、補給水として工水（工業用水）を連続供給しており、工水を比較的多量に必要とする。
また、上述のように樹脂に吸着されたホウ素を脱着して精製して高純度のホウ酸を得る際に、ホウ素を吸着する樹脂の再生や、精製塔の再生のために工業用水が用いられ、排水が増えることになる。
【０００６】
また、ホウ素回収後に系外に放流する排水量が多い場合に、排水排出量規制への対応や周囲の環境への対応や、設備上の問題、例えば、排水の排出量に限界がある既設の排水設備を用いる場合等の理由により排水量を減容化する必要に迫られる場合がる。このような場合に、処理済みの排水の貯槽にスチームを導入し、排水を放散させて減容化することが行われる。この場合に、最終的に系外に排水を放流する前に、エネルギーを必要とするとともにそれに伴ってコストがかかることになる。また、蒸気を発生するためにボイラー等の設備を必要とし、設備コストも高くなる。
【０００７】
本発明は、前記事情に鑑みて為されたものであり、脱硫設備から排出される排水の処理に際し、脱硫設備から排出される排水の処理に際し、総合排水処理後に、ホウ素の回収除去を行った際に生じるホウ素吸着樹脂・精製樹脂の洗浄排水（以下、単に「再生水」という。）を脱硫設備に補給水として供給することにより、系外への処理後の排水の排出量を低減することができるホウ素含有排水の処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するために、本発明のホウ素含有排水の処理方法は、
脱硫設備の排水からのホウ素の回収除去に用いた設備の再生により生じた再生水を、前記脱硫設備に供給される工業用水の少なくとも一部に代えて前記脱硫設備に供給するホウ素含有排水の処理方法であって、
前記再生水の性状および／または前記脱硫設備の前記排水の性状に係わる特定の制御指標を監視し、前記制御指標に基づいて、前記工業用水の少なくとも一部に代えて前記脱硫設備に供給される前記再生水の供給量を制御することを特徴とするホウ素含有排水の処理方法。
。
【０００９】
このような構成によれば、比較的多くの工業用水（工水）を必要とする脱硫設備に工水の少なくとも一部に代えて、ホウ素の回収除去の際に生じた再生水を脱硫設備に供給することにより、工業用水の使用量を削減できるとともに、系外に放流される排水量を低減することができる。
【００１０】
また、再生水の性状および／または脱硫設備から排出される前記排水の性状に係わる特定の制御指標に基づいて再生水の脱硫設備への供給量を制御しているので、例えば、脱硫設備からの排水または再生水の制御指標が排水や再生水の性状の悪化、例えば、排水の溶解物濃度の増加や、浮遊物質の増加を示す場合に、再生水の供給量を減らし、工業用水を増やすことにより、脱硫設備に供給される水の性状を好適な状態に維持することができる。
これにより、再生水の循環利用により脱硫設備に悪影響（所謂、不活性化現象）が生じるのを防止することができる。
【００１１】
本発明の前記構成において、前記再生水および／または前記脱硫設備の前記排水における前記制御指標が、ＴＤＳ、ＳＳ、塩素、珪素、ナトリウムの含有量であることが好ましい。
【００１２】
このような構成によれば、特定指標が、ＴＤＳ（Ｔｏｔａｌ  Ｄｉｓｓｏｌｖｅｄ  Ｓａｌｔ）、ＳＳ（Ｓｕｓｐｅｎｄｅｄ  Ｓｏｌｉｄ）、塩素、珪素、ナトリウムの含有量とされており、これらの含有量が高くなる場合に、脱硫設備への再生水の供給量を減少させることにより、脱硫設備で使用される水における水質の悪化を防止できる。なお、ナトリウムについては、後述のような効果があり、排水や再生水に所定濃度以上含まれていることが好ましい。
【００１３】
また、本発明の前記構成において、前記脱硫設備の前記排水のナトリウム濃度が１０００〜４０００ｍｇ／Ｌに制御されることが好ましい。
【００１４】
このような構成によれば、ナトリウムの影響により、上記不活性化現象の防止のみならず、硫黄酸化物を石膏として排水から分離する場合に、石膏の脱水分離性能の向上に繋げることができる。なお、この場合も、例えば、上述のナトリウム濃度範囲において、ナトリウム濃度が高くなる場合に再生水の脱硫設備への供給量を減少させ、ナトリウム濃度が低くなる場合に再生水の供給量を増やすことで対応することができる。また、再生水を供給してもナトリウム濃度が低い場合に、脱硫設備の吸収液が貯留されている吸収槽や、供給する再生水や工業用水にナトリウムを添加してもよい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、脱硫設備から排出される排水の排水処理後にホウ素を回収除去する処理を行う場合に、ホウ素の回収除去の際に生じた再生水を脱硫設備に戻すことにより、工業用水の使用量と、排水の排出量を低減することができる。
また、再生水の供給量を再生水および脱硫設備の排水の制御指標に基づいて制御することにより、水の性状の悪化によって脱硫設備に悪影響（不活性化現象）が生じるのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態におけるホウ素含有排水の処理方法で用いられる脱硫設備およびホウ素処理設備を含む排水処理のシステムを示す概略図である。
【図２】脱硫設備の吸収液中ナトリウム濃度による未反応炭化カルシウム濃度の変化を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
図１に示すように、この実施の形態のホウ素含有排水の処理方法では、排煙脱硫装置を備える脱硫設備１から排出される排水を総合排水処理設備２で処理した後に、処理後の排水からホウ素を回収除去し、このホウ素の回収除去により生じた再生水を工水の少なくとも一部に代えて脱硫設備１に供給するようになっている。
【００１８】
ここで、脱硫設備１では、例えば、石灰（炭酸カルシウム）スラリーを含む吸収液に排煙としての排気ガスが気液接触させられ、主に亜硫酸ガスである硫黄酸化物が吸収液に吸収され、吸収された亜硫酸ガスが酸化させられるとともに石灰と反応して石膏（硫酸カルシウム）となる。前記吸収液と排ガスとが気液接触させられる吸収槽では、石膏とともに吸収液が抜き出され、石膏が分離された吸収液が排水として排出される。それに対応して前記吸収槽には、補給水として工水（工業用水）が導入されている。また、吸収液を有する吸収槽を備える吸収塔では、デッキ等の内部構造物の洗浄のために工水（洗浄水）が用いられている。これら脱硫設備１で用いられる工水の一部が上述の再生水に代えられることになる。
【００１９】
この実施の形態においては、上述の補給水や洗浄水の少なくとも一部が工水から再生水に代えられることになる。
上述の総合排水設備２では、脱硫設備１以外の、例えば、システム内に配置されるボイラーやその他の設備から発生する排水も処理するようになっている。脱硫設備１以外の設備から排出される排水には、塩素濃度の高い高塩素排水と、塩素濃度の低い低塩素排水とが含まれる。
【００２０】
脱硫設備１から排出される排水は、経路１１を通って総合排水処置設備２に送られる。この総合排水設備２では、各種規制値を下回るように周知の排水処理が行われ、この排水処理で処理された処理水は、ホウ素を除けば系外に放流可能となっている。総合排水設備２から排出される処理水には、ホウ素が含まれており、このホウ素を含む処理水が経路１２を通ってホウ素吸着塔３に送られる。
【００２１】
ホウ素吸着塔３内には、ホウ素を吸着する樹脂が充填されている。ここでは、例えば、ホウ素に対応する陰イオン交換樹脂が充填されている。この陰イオン交換樹脂が充填されたホウ素吸着塔３内に総合排水処理設備２から排出された処理水を通水する。ホウ素吸着塔３内に通水された処理水は陰イオン交換樹脂と接触しながらホウ素吸着塔３内の入口から出口に流動して排出される。この際に、陰イオン交換樹脂にホウ素が吸着されて回収され、所定の規定値以下となるようにホウ素が処理水から除去される。
【００２２】
ホウ素吸着塔３を通過した処理水は、ホウ素が除去されて系外に放流可能な状態となっており、経路１３を通して系外に排出される。
【００２３】
また、ホウ素吸着塔３は、複数並列に設けられており、これら並列のホウ素吸着塔３を順次切り替えて使用するようになっている。すなわち、例えば、１つ（複数でも可）のホウ素吸着塔３に所定量の処理水を流し、吸着可能なホウ素量が飽和状態に近づいた際に、処理水を流すホウ素吸着塔３を切り替える。処理水の流入が停止されたホウ素吸着塔３では、吸着したホウ素の脱着が行われる。
【００２４】
ホウ素の脱着に際しては、アルカリ溶液や酸溶液やその他の薬品等が用いられるが、ホウ素の脱着に際しては、ホウ素吸着塔３で工水による洗浄が複数回行われ、最終的にホウ素吸着用の樹脂が再生された状態となる。これにより、主に洗浄水として用いられた再生水は、経路１４を通して全て貯槽５に送られる。
【００２５】
ホウ素の脱着に用いられ、脱着されたホウ酸を含む溶液は、経路１５を通って精製塔４に送られる。
精製塔４に送られたホウ素を含む溶液は、精製塔４で精製されるとともに濃縮されて、例えば、９９％以上の高純度のホウ酸が回収される。また、精製塔４においても、洗浄水等として再生のために工水が用いられ、精製塔４で用いられた洗浄用の工水等に基づく再生用排水(再生水)は、経路１６を通って貯槽５に送られる。
【００２６】
貯槽５では、送られてくる再生水を貯留するようになっている。また、貯槽５に付設されている排水減容化設備６に貯槽５から再生水が送られることにより、この排水減容化設備６に貯留された再生水は、蒸気により排水量が削減された後、貯槽５に返送され、経路１７を通って系外に排出される。また、排水減容化設備６に貯留されている再生水の一部は、経路１８を通って脱硫設備１に送られる。上述のホウ素吸着塔３、精製塔４、貯槽５、排水減容化設備６からホウ素処理設備が構成されている。
【００２７】
貯槽５に付設された排水減容化設６へ供給される蒸気により貯留している再生水が加温されて再生水の一部を放散することにより、再生水を減容化している。
脱硫設備１に送られる工水の量は工水用のバルブ７で調整され、脱硫設備１に経路１８を通って貯槽５から送られる再生水の量は経路１８に設けられた再生水用のバルブ８により調整される。
【００２８】
これらバルブ７，８の開閉および開度は、制御装置９により制御される。制御装置９には、制御指標として、貯槽５から経路１８を通って脱硫設備に送られる再生水のＴＤＳ、ＳＳ、塩素、珪素、ナトリウムの含有量の測定値が各含有量を測定可能なセンサまたは測定装置から送信されている。同様に、脱硫設備１から排出される排水のＴＤＳ、ＳＳ、塩素、珪素、ナトリウムの含有量の測定値が各含有量を測定可能なセンサまたは測定装置から制御装置９に送信される。
これら排水、再生水のＴＤＳ，ＳＳ、塩素、珪素、ナトリウムの含有量には、貯槽５から脱硫設備に送られる再生水および脱硫設備から排出される排水に対して、それぞれ上限値が設定されている。また、ナトリウムの含有量については下限値も設定されている。
【００２９】
再生水におけるＴＤＳの上限値は、５，０００〜１０，０００ｍｇ／Ｌであり、ＳＳの上限値は、５０〜１００ｍｇ／Ｌであり、塩素の上限値は、５０〜１００ｍｇ／Ｌであり、珪素の上限値は、５０ｍｇ／Ｌである。
【００３０】
脱硫設備から排出される排水におけるＴＤＳの上限値は、３０，０００〜５０，０００ｇ／Ｌであり、ＳＳの上限値は、２００，０００〜３００，０００ｍｇ／Ｌであり、塩素の上限値は、１０，０００〜３０，０００ｍｇ／Ｌである。
【００３１】
制御装置９は、制御指標のいずれかが上限値に近づくと経路１８の再生水用のバルブを閉じるか開度を下げ、かつ、工水用のバルブを閉から開とするか、開度を上げる。これにより、脱硫設備１に供給する水のうちの再生水の量を減少させ、工水の量を増加させる。再生水の量が減少し、工水の量が増加すると、工水によって脱硫設備から排出される排水が薄められることになり、この排水において、各制御指標となるＴＤＳ、ＳＳ、塩素、珪素の含有量が減少する。これに基づいて、制御指標となる各含有量が上限値を超えないように再生水の脱硫設備１への導入量が決定される。また、再生水については、再生水の脱硫設備１への供給量を下げ、工水の脱硫設備１への供給量を上げても、直接的に再生水の制御指標が増減しない可能性があり、たとえば、フィードバック制御ではなく、再生水の前記制御指標に基づいて、再生水および工水の脱硫設備１への供給量が制御される。この際、再生水の上述の制御指標が上限値を超えてしまった場合に、再生水の脱硫設備１の供給を止めるものとしてもよい。
【００３２】
これにより、脱硫設備１に対する悪影響が生じないレベルで、脱硫設備１に再生水を供給することが可能になる。なお、制御指標として、再生水の制御指標に基づいて再生水の脱硫設備１への導入量を制御してもよいし、脱硫設備１から排出される排水の制御指標に基づいて再生水の脱硫設備１への導入量を制御してもよい。また、再生水と脱硫設備の排水との両方の制御指標に基づいて再生水の脱硫設備１への導入量を制御してもよい。
【００３３】
また、脱硫設備１から総合排水処理設備２に送られる排水においては、上述のようにナトリウム含有量が測定され、このナトリウム含有量が１０００〜４０００ｍｇ／Ｌとなるように、再生水への脱硫設備１の導入量が制御される。なお、ナトリウム濃度が低い場合、脱硫設備１における上述の気液接触を行う吸収槽内の石灰スラリーや、吸収槽に供給される工業用水および再生水にナトリウムを導入するものとしてもよい。例えば、脱硫設備１の排水のナトリウム濃度が低くいにも係わらず、上述のナトリウム以外の制御指標のいずれかが高く、再生水の導入量を下げるような場合に、上述のようにナトリウム（例えば、水酸化ナトリウム）を吸収槽に導入してもよい。
【００３４】
ナトリウム含有量を１０００ｍｇ／Ｌ以上とすることにより、脱硫装置内の不活性化現象が低下し、吸収液中の炭酸カルシウムの溶解度が高まり、吸収された硫黄酸化物との反応が促進され、吸収液中の未反応の炭酸カルシウム濃度が低下する。これにより、吸収液中の未反応の炭酸カルシウム濃度が高くなることにより未溶解の炭酸カルシウムイオンの溶解速度が遅くなるのを防止できる。
【００３５】
すなわち、脱硫反応での不活性化現象を示す不活性化度を抑制する効果がある。なお、不活性化度とは、吸収液中の炭酸カルシウム濃度が高まり、炭酸カルシウムの溶解速度が低下する度合いのことである。また、炭酸カルシウムの溶解速度が低下した場合に、硫黄酸化物を吸収するための吸収液中の溶解した炭酸カルシウムの供給速度が遅くなることから、炭酸カルシウムの供給量が足らないと判断されて炭酸カルシウムをさらに補給する状態となる虞があり、最終的に炭酸カルシウムの使用量が増加することになる。
【００３６】
また、ナトリウム含有量を１０００ｍｇ／Ｌ以上とすることにより、吸収液中で生成する石膏粒子の粒子径を大きく保つことができ、石膏の粒子径を大きくすることにより石膏の分離操作を円滑にすることが可能になる。
【００３７】
このようなホウ素含有排水の処理方法によれば、脱硫設備からの排水を排水処理した後に、ホウ素の回収除去を行うことにより、ホウ素吸着塔３や、精製塔４の洗浄等の再生用の排水が増加するのに対して、ホウ素を回収除去した際に生じた再生水を脱硫設備１に戻すことにより、系外に排出すべき排水の量を低減することができる。また、排水の減容化のために蒸気を用いて排水を放散させている場合に、この放散に必要とする熱エネルギーの低減を図ることができる。また、蒸気使用量を減らすことが可能なことから、排水減容化設備６等の蒸気が供給される設備への蒸気供給量を減らすことが可能になる。これにより、より小さな排水減容化設備となり、初期設備規模を縮小して設備コストの低減を図ることができる。
【００３８】
また、脱硫設備へ供給される再生水の量は、上述の再生水および／または脱硫設備の排水の性状を示す制御指標に基づいて制御されるので、制御指標により排水や再生水の性状の悪化が認められる場合に、再生水の導入量を減らし、工水の導入量を増やすことにより性状を安定させることができる。
【００３９】
上述の制御指標は、再生水および／または排水の例えば、ＴＤＳ、ＳＳ、塩素、珪素、ナトリウムの含有量であり、再生水の導入量を減らして工水の導入量を増やすことにより、脱硫設備１において、これらの濃度が低下することになる。
【００４０】
脱硫設備の排水において、排水のナトリウム含有量の制御に際し、ナトリウ含有量を１０００〜４０００ｍｇ／Ｌの範囲に維持することにより、硫黄酸化物の吸収液への吸収と石膏化とを安定して行うことが可能になるとともに、吸収液に析出する石膏粒子の径を大きくするこができ、これにより石膏の分離操作を円滑に行うことが可能になる。
【実施例】
【００４１】
次に、本発明の実施例を説明する。
上述のように脱硫設備１から排出される排水を排水処理した後に、ホウ素を回収除去することにより生じた処理水等を再生水として、脱硫設備１で用いられる工水の少なくとも一部に代えて脱硫設備１に供給することになる。
【００４２】
この実施例の実験では、脱硫設備１から排出されるとともに排水処理された処理後の排水からホウ素を回収除去した際に、ホウ素吸着塔３や精製塔４を再生するための洗浄等に用いられた工水を再生水として、脱硫設備１に供給するようになっている。ここで、脱硫設備１から排出される排水の総合排水処理後におけるホウ素含量は、６５０ｍｇ／Ｌであった。なお、この排水には、脱硫設備１から排出される排水の他に、他の設備からの低塩素排水および高塩素排水が混合された状態で総合排水処理が行われている。
また、ホウ素吸着塔３によるホウ素の吸着により、ホウ素吸着塔３に通水された処理水のホウ素濃度は、略２３０ｍｇ／Ｌ以下（海域放流の場合）になるように樹脂量や通水時の流量等が設定されている。また、総合排水処理設備２から排出される処理水のホウ素濃度と、ホウ素吸着塔３から排出される処理水のホウ素濃度は、ホウ素濃度の自動分析計により計測されている。
【００４３】
実施例としてケース１とケース２とを行い、ケース１では精製塔４の再生に用いられた再生用排水（生水）を脱硫設備１に再生水として戻し、ケース２では、精製塔４の再生に用いられた再生用排水（再生水）と、ホウ素吸着塔３の再生に用いられた再生用排水（再生数位）との両方を脱硫設備１に再生水として戻している。
【００４４】
また、実験では、再生水を脱硫設備１のデッキの洗浄水として用いるものとした。なお、この洗浄水は、脱硫設備１の他の排水と同様に、脱硫設備１から排出されて排水として処理された後に、ホウ素の回収除去処理が行われることになる。
また、再生水を脱硫設備１に戻す際の再生水の流量を制御指標としてのＴＤＳ、ＳＳ、塩素、珪素の濃度で制御した。すなわち、ＴＤＳ濃度の上限を１００００ｍｇ／Ｌとし、ＳＳ濃度の上限を１００ｍｇ／Ｌとし、塩素濃度の上限を１００ｍｇ／Ｌとし、珪素濃度の上限を５０ｍｇ／Ｌとした。
【００４５】
例えばフィードバック制御等により、各濃度のいずれかが上限濃度に近づく場合に、再生水の脱硫設備１への導入量を減少させ、全ての濃度が上限濃度から離れている場合または離れる場合に再生水の導入量を増加するように制御する。また、脱硫設備１に供給される工水は、再生水の導入量に応じて、脱硫設備１に供給される水（再生水＋工水）の量が必要量となるように制御される。
【００４６】
したがって、制御指標となる各濃度が上限値より低い状態が続けば、再生水の脱硫設備１への供給量が増加し、それにより系外に放流される処理水の量が減少することになる。
それに対して、実験の比較例では、ホウ素吸着塔及び精製塔の再生水を脱硫設備１に戻すことなく、全て系外に放流するものとした。但し、実施例および比較例において、上述の蒸気を用いた放散により系外に放流される再生水の減容化を行っており、これにより再生水の放流量が減らされている。
【００４７】
この実験の実施例のケース１と、ケース２と、比較例の実験結果を表１に示す。
【００４８】
【表１】
2014188444.tif 000003
【００４９】
表１において、脱硫装置送液流量とは、貯槽５から経路１８（Ａ）を介して排煙脱硫装置を有する脱硫設備１に至る再生水の流量である。ケース１では、精製塔４の洗浄水等の再生用排水が再生水として一日当たり４８０ｍ３の流量で脱硫設備１に送液される。
【００５０】
また、ケース２では、精製塔４の再生用排水に加えてホウ素吸着塔３の再生用排水が脱硫設備１に送液されるので、一日当たりの流量が７８０ｍ３になる。
それに対して比較例では、再生水を脱硫設備１に送液していない。
減容化のために排水減容化設備６に送られる蒸気の蒸気使用量（Ｂ）は、後述のように系外に放流される水量が、実施例では比較例に対して減少するため、比較例に対して実施例の蒸気使用量を予め減らす設定としている。
【００５１】
脱硫設備１から排出され、総合排水処理設備２で処理されて経路１２を介してホウ素吸着塔３に通水される設備入口排水流量（Ｃ）は、実施例のケース１と、ケース２と、比較例とで同じ１０００ｍ３/ｄに設定した。
【００５２】
出口排水流量（Ｄ）が最終的にホウ素処理設備から系外に放流された排水の流量であり、比較例に対して実施例は出口排水流量を減少させている。特に、精製塔４からの再生処理水だけを脱硫設備１に送液したケース１よりも、精製塔４とホウ素吸着塔３の両方の再生用排水を脱硫設備１に送液したケース２の方が出口排水流量を大きく減らすことが可能になる。
【００５３】
したがって、制御指標に基づいて脱硫設備１に戻す排水の量を制御するものとしても、制御指標が上限になるまで余裕があるものと思われ、さらに脱硫設備１に戻す排水量の設定を増やすことにより、系外への排水の放流量を減らせる可能性がある。
【００５４】
また、実施例の実験として、脱硫設備１から排出される排水のナトリウム濃度が２０００ｍｇ／Ｌ（ｐｐｍ）となるように制御した場合と、ナトリウム濃度が０ｍｇ／Ｌ（ｐｐｍ）となるように制御した場合の脱硫設備１の吸収液（石膏スラリー）における未反応炭酸カルシウム濃度（ｍｍｏｌ／Ｌ）を求め、図２のグラフに示した。ナトリウム濃度が２０００ｐｐｍの場合に明らかに０ｐｐｍの場合に比較して、未反応炭酸カルシウムの濃度が減少している。
【００５５】
これは、ナトリウムにより炭酸カルシウムの溶解度が増し、硫黄酸化物との反応が促進され、未反応炭酸カルシウム濃度が低下するものである。
したがって、脱硫設備１から排出される排水のナトリウム濃度を１０００ｍｇ／Ｌから４０００ｍｇ／Ｌに制御し、炭酸カルシウムの溶解度を高めることによって、上述のように不活性化現象を防止し、かつ、石膏粒子の粒子径を大きくして石膏の分離を円滑にすることができる。
【符号の説明】
【００５６】
１      脱硫設備（排煙脱硫装置）
２      総合排水処理設備
３      ホウ素吸着塔
４      精製塔
５      貯槽
６      排水減容化設備
７      工水用バルブ
８      再生水用バルブ
９      制御装置
【図１】
2014188444.tif 000004
【図２】
2014188444.tif 000005