(57)【要約】【課題】薬液の適用粘度域が広く、薬液の使用効率に優れた薬液塗布装置、薬液塗布ユニット、および薬液塗布方法を提供する。【解決手段】搬送機構２０は、粘着剤の層が既に形成された保持体９３を送りローラ２１から送り出して水平方向に沿って搬送する。搬送される保持体９３の上面には一定間隔で基材シートが供給されて貼設される。吐出部１０には薬液供給部３０から薬剤を含む薬液が送給される。吐出部１０は、柱状で薬液を吐出した状態で、線状の移動軌跡に沿って移動される。この方式では機構的な加圧方式の吐出部などを採用することが可能であって、それによって薬液の適用粘度域が広く、また、制御部８０によって線状の移動軌跡を設定することで、基材シート以外の箇所に着液される薬液を減らし、薬剤の使用効率を向上させることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材シート上に離散的に配列された複数の塗布領域のそれぞれに薬液を塗布する薬液塗布装置であって、
所定の保持面上に保持された前記基材シート上の前記複数の塗布領域に前記薬液を柱状で吐出する吐出部と、
前記吐出部に対して前記保持面を相対的かつ１次元的に搬送するとともに、前記吐出部と前記保持面とを前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させる搬送移動機構と、
前記吐出部における前記薬液の吐出制御、および前記搬送移動機構の駆動制御を行なう制御部と、
を備え、
前記制御部が、前記吐出部から前記薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、前記搬送移動機構の駆動制御を行なうことによって、連続的な線状の軌跡に沿って前記吐出部の吐出口を前記基材シートに対して相対的に移動させ、それによって前記複数の塗布領域への前記薬液の塗布が順次に行われることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の薬液塗布装置であって、
前記搬送移動機構は、
所定の保持面上に前記基材シートを保持して前記基材シートを１次元的に搬送する搬送機構と、
前記吐出部と前記保持面とを、前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させる相対的移動機構と、
を備えることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の薬液塗布装置であって、
前記軌跡が、前記複数の塗布領域のそれぞれにおいて所定の２次元的パターンを描く軌跡であり、
前記パターンに従った前記薬液の線状の塗布が、前記基材シート上における前記薬液の着液後の拡散によって各塗布領域に面状塗布状態をもたらすものであることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３に記載の薬液塗布装置であって、
前記軌跡は、前記搬送の方向に沿って隣接する２つの塗布領域の間を１本の線分で結ぶ経路となっていることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の薬液塗布装置であって、
（ａ）前記吐出部から吐出される前記薬液を受ける液受け部と、
（ｂ）前記液受け部を、
前記吐出部から吐出される前記薬液の流路から離れた第１の位置と、
前記吐出部と前記保持面との間において、前記吐出部から吐出される前記薬液の流れを阻止する第２の位置と、
の間で移動させる液受け部移動機構と、
をさらに備え、
前記薬液が前記複数の塗布領域のいずれかに向けて吐出される第１期間では、前記液受け部が前記第１の位置に移動された状態とされ、
前記薬液が前記複数の塗布領域の外に向けて吐出される第２期間では、前記液受け部が前記第２の位置に移動された状態とされることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項６】
請求項５に記載の薬液塗布装置であって、
前記液受け部によって受けた前記薬液を回収する薬液回収部をさらに備えることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の薬液塗布装置であって、
前記制御部は、前記搬送を間欠的に行い、
前記搬送がいったん停止している期間内に、前記吐出部と前記保持面とを前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させて、その時点で塗布対象となっている塗布領域の塗布を完了させることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項８】
請求項７に記載の薬液塗布装置であって、
前記複数の塗布領域のそれぞれにおける塗布開始位置と塗布終了位置とが、前記搬送の方向に沿って所定の距離だけ隔たっており、
第１の塗布領域の塗布完了時点から第２の塗布領域の塗布開始時点までの期間に、
1)  前記搬送が、前記複数の塗布領域の配列間隔だけ前記基材シートを送る搬送であるとともに、
2)  前記相対移動が、前記吐出口の位置を前記距離だけ戻すように前記吐出部を移動させる帰線区間を含むことにより、前記複数の塗布領域での前記塗布開始位置を共通化していることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の薬液塗布装置であって、
前記吐出部が、連続的加圧機構によって前記薬液を等圧で連続的に吐出させることを特徴とする薬液塗布装置。
【請求項１０】
基材シート上に離散的に配列された複数の塗布領域のそれぞれに薬液を塗布する薬液塗布ユニットであって、
所定の保持面上に保持されて所定の搬送機構によって搬送される前記基材シート上の前記複数の塗布領域に前記薬液を柱状で吐出する吐出部と、
前記吐出部と前記保持面とを、前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させる相対的移動機構と、
前記吐出部における前記薬液の吐出制御、および前記相対的移動機構の駆動制御を行なう制御部と、
を備え、
前記制御部が、前記吐出部から前記薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、前記相対的移動機構の駆動制御を行なうことによって、連続的な線状の軌跡に沿って前記吐出部の吐出口を相対的に移動させ、それによって前記複数の塗布領域への前記薬液の塗布が順次に行われることを特徴とする薬液塗布ユニット。
【請求項１１】
基材シート上に離散的に配列された複数の塗布領域のそれぞれに薬液を塗布する薬液塗布方法であって、
所定の保持面上に保持される前記基材シート上の前記複数の塗布領域に前記吐出部から前記薬液を柱状で吐出する吐出工程と、
前記吐出部に対して前記保持面を相対的かつ１次元的に搬送する搬送工程と、
前記吐出部と前記保持面とを、前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させる相対的移動工程と、
を有し、
前記吐出工程において前記吐出部から前記薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、前記搬送工程および前記相対的移動工程を行なうことによって、連続的な線状の軌跡に沿って前記吐出部の吐出口を前記基材シートに対して相対的に移動させ、それによって前記複数の塗布領域への前記薬液の塗布が順次に行われることを特徴とする薬液塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上に規定されて離散的に配列された複数の塗布領域に薬液を塗布する薬液塗布装置、当該装置に使用される薬液塗布ユニット、および薬液塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
皮膚に貼着して使用される医療用の貼付剤は、数cm程度の矩形あるいは円形の形状を有しており、従来、その製造にあたって、比較的大きな樹脂シートなどの基材シート上に薬剤を塗布した後、当該基材シートを打ち抜いて多数の貼付剤を得るというプロセスが知られている。
【０００３】
そして、このような薬剤の塗布は、基材シートの面上に薬剤を展延塗布（いわゆるベタ塗り）して製造され、その塗布工程にはバーコーターやダイコーターなどが用いられている（例えば、特許文献１参照）。より具体的には、帯状の基材シートに薬剤を展延塗布し、そこから必要な部分を打ち抜くとともに、不要な部分を除去して個々の貼付剤が製造される（例えば、特許文献２，３参照）。
【０００４】
すなわち、貼付剤として最終的に使用されるのは、基材シート上に離散的に配列された複数の領域だけであるが、薬液の塗布は基材シートのほぼ全域に対して行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１０８００６号公報
【特許文献２】特開２００６−２２３６１１号公報
【特許文献３】特開平３−８５１６０号公報
【特許文献４】特開２０１１−１２０１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記の技術によって貼付剤を製造すると、不要部分に塗布されていた高価な薬剤も除去されることとなるため、薬剤の使用効率が悪く、貼付剤の製造コスト低減を阻害するという問題が生じていた。
【０００７】
また、これらの問題を解決する発明として、薬液を塗布対象の一部領域にのみ塗布する液滴ジェット方式を採用した薬剤塗布装置が開発されている（例えば、特許文献４）。しかし、このような液滴ジェット方式を採用する装置においては、使用できる薬液の適用粘度域が狭く、当該適用粘度域を超える薬液に対しては塗布装置を使用できないという新たな問題が生じる。
【０００８】
そしてこれは、医療用の貼付剤に限らず、基材上に規定されて離散的に配列された複数の塗布領域に薬液を塗布する装置について一般に生じる問題である。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、薬剤の使用効率に優れ、かつ薬液の適用粘度域が広い、薬液塗布装置、薬液塗布ユニットおよび薬液塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、基材シート上に離散的に配列された複数の塗布領域のそれぞれに薬液を塗布する薬液塗布装置であって、所定の保持面上に保持された前記基材シート上の前記複数の塗布領域に前記薬液を柱状で吐出する吐出部と、前記吐出部に対して前記保持面を相対的かつ１次元的に搬送するとともに、前記吐出部と前記保持面とを前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させる搬送移動機構と、前記吐出部における前記薬液の吐出制御、および前記搬送移動機構の駆動制御を行なう制御部と、を備え、前記制御部が、前記吐出部から前記薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、前記搬送移動機構の駆動制御を行なうことによって、連続的な線状の軌跡に沿って前記吐出部の吐出口を前記基材シートに対して相対的に移動させ、それによって前記複数の塗布領域への前記薬液の塗布が順次に行われることを特徴とする。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の薬液塗布装置であって、前記搬送移動機構は、所定の保持面上に前記基材シートを保持して前記基材シートを１次元的に搬送する搬送機構と、前記吐出部と前記保持面とを、前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させる相対的移動機構と、を備えることを特徴とする薬液塗布装置。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の薬液塗布装置であって、前記軌跡が、前記複数の塗布領域のそれぞれにおいて所定の２次元的パターンを描く軌跡であり、前記パターンに従った前記薬液の線状の塗布が、前記基材シート上における前記薬液の着液後の拡散によって各塗布領域に面状塗布状態をもたらすものであることを特徴とする。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし請求項３に記載の薬液塗布装置であって、前記軌跡は、前記搬送の方向に沿って隣接する２つの塗布領域の間を１本の線分で結ぶ経路となっていることを特徴とする。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の薬液塗布装置であって、（ａ）前記吐出部から吐出される前記薬液を受ける液受け部と、（ｂ）前記液受け部を、前記吐出部から吐出される前記薬液の流路から離れた第１の位置と、前記吐出部と前記保持面との間において、前記吐出部から吐出される前記薬液の流れを阻止する第２の位置と、の間で移動させる液受け部移動機構と、をさらに備え、前記薬液が前記複数の塗布領域のいずれかに向けて吐出される第１期間では、前記液受け部が前記第１の位置に移動された状態とされ、前記薬液が前記複数の塗布領域の外に向けて吐出される第２期間では、前記液受け部が前記第２の位置に移動された状態とされることを特徴とする。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の薬液塗布装置であって、前記液受け部によって受けた前記薬液を回収する薬液回収部をさらに備えることを特徴とする。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の薬液塗布装置であって、前記制御部は、前記搬送を間欠的に行い、前記搬送がいったん停止している期間内に、前記吐出部と前記保持面とを前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させて、その時点で塗布対象となっている塗布領域の塗布を完了させることを特徴とする。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の薬液塗布装置であって、前記複数の塗布領域のそれぞれにおける塗布開始位置と塗布終了位置とが、前記搬送の方向に沿って所定の距離だけ隔たっており、第１の塗布領域の塗布完了時点から第２の塗布領域の塗布開始時点までの期間に、1)前記搬送が、前記複数の塗布領域の配列間隔だけ前記基材シートを送る搬送であるとともに、2)前記相対移動が、前記吐出口の位置を前記距離だけ戻すように前記吐出部を移動させる帰線区間を含むことにより、前記複数の塗布領域での前記塗布開始位置を共通化していることを特徴とする。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし請求項８のいずれかに記載の薬液塗布装置であって、前記吐出部が、連続的加圧機構によって前記薬液を等圧で連続的に吐出させることを特徴とする。
【００１９】
請求項１０に記載の発明は、基材シート上に離散的に配列された複数の塗布領域のそれぞれに薬液を塗布する薬液塗布ユニットであって、所定の保持面上に保持されて所定の搬送機構によって搬送される前記基材シート上の前記複数の塗布領域に前記薬液を柱状で吐出する吐出部と、前記吐出部と前記保持面とを、前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させる相対的移動機構と、前記吐出部における前記薬液の吐出制御、および前記相対的移動機構の駆動制御を行なう制御部と、を備え、前記制御部が、前記吐出部から前記薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、前記相対的移動機構の駆動制御を行なうことによって、連続的な線状の軌跡に沿って前記吐出部の吐出口を相対的に移動させ、それによって前記複数の塗布領域への前記薬液の塗布が順次に行われることを特徴とする。
【００２０】
請求項１１に記載の発明は、基材シート上に離散的に配列された複数の塗布領域のそれぞれに薬液を塗布する薬液塗布方法であって、所定の保持面上に保持される前記基材シート上の前記複数の塗布領域に前記吐出部から前記薬液を柱状で吐出する吐出工程と、前記吐出部に対して前記保持面を相対的かつ１次元的に搬送する搬送工程と、前記吐出部と前記保持面とを、前記保持面に平行な面内で２次元的に相対移動させる相対的移動工程と、を有し、前記吐出工程において前記吐出部から前記薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、前記搬送工程および前記相対的移動工程を行なうことによって、連続的な線状の軌跡に沿って前記吐出部の吐出口を前記基材シートに対して相対的に移動させ、それによって前記複数の塗布領域への前記薬液の塗布が順次に行われることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１ないし請求項９に記載の薬液塗布装置、請求項１０に記載の薬液塗布ユニット、および請求項１１に記載の薬液塗布方法では、吐出部から薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、連続的な線状の軌跡に沿って吐出部の吐出口を移動させ、それによって塗布領域への薬液の塗布が行われる。
【００２２】
このため、多数のミクロな吐出素子を多数配列して薬液を微細な液滴にして吐出させる必要がなく、吐出部が使用できる薬液の適用粘度域が広い。また、薬液は吐出部から連続的に吐出されているため、吐出開始時および吐出終了時にみられる流量の不安定な状態の薬液が塗布領域に着液されることがない。さらに、制御部によって上記連続的な線状の軌跡を設定することで、塗布領域に着液される薬液のパターンを設定することが可能となる。
【００２３】
特に、請求項５に記載の薬液塗布装置では、薬液が塗布領域に向けて吐出される場合には液受け部が第１の位置（薬液の流路に干渉しない位置）に移動され、薬液が塗布領域外に向けて吐出される場合には液受け部が第２の位置（薬液の流れを阻止する位置）に移動される。
【００２４】
このため、塗布領域上にのみ薬液が塗布され、塗布領域以外の箇所に向けて吐出される薬液は液受け部によって液受けされる。その結果、塗布領域には薬液がより均一に塗布されることとなり、薬剤の効能を均一にすることができるとともに、塗布後の当該領域の外観もよくなる。
【００２５】
特に、請求項６に記載の薬液塗布装置は、液受け部によって受けた薬液を回収する薬液回収部をさらに備える。その結果、塗布領域以外の箇所に向けて吐出される薬液は、液受け部によって液受けされた後、薬液回収部に回収される。したがって、薬液塗布装置のユーザは、薬液回収部に貯留される薬液を回収し、その物性（例えば、粘度や各薬剤の濃度）を計測することで、当該薬液の再利用を図ることができる。
【００２６】
特に、請求項７の薬液塗布装置においては、基材シートの搬送を間欠的に行い、塗布領域上への塗布走査は搬送がいったん停止している期間内に完了させるため、基材シートに対する液柱の移動走査速度に搬送速度が影響することはなく、塗布領域上各部での着液量の一定性が確保される。
【００２７】
特に、請求項８の薬液塗布装置では、各塗布領域のそれぞれにおける塗布開始位置と塗布終了位置とが異なっており、ひとつの塗布領域から他の塗布領域へと塗布処理を進めるための期間内に、その隔離距離だけ吐出口を戻すような帰線制御を行うことにより、複数の塗布領域での塗布開始位置を共通化する。これによって、周期的なパターン走査に特に適した装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】第１実施形態に係る薬液塗布装置の要部構成の概略を示す図である。
【図２】第１実施形態に係る薬液塗布装置の外観を示す斜視図である。
【図３】第１実施形態に係る吐出部の内部構成を示す平面図である。
【図４】第１実施形態に係る制御部の構成を示すブロック図である。
【図５】第１実施形態に係る移動パターンＰＨａ（塗布パターンＰＴ１と戻りパターンＲＰＴ１）を示す図である。
【図６】第１実施形態に係る塗布動作の様子を示す側面図である。
【図７】第１実施形態に係る塗布動作の流れを示すフロー図である。
【図８】第１実施形態に係る塗布動作の結果、薬液が着液された基材シート示す上面図である。
【図９】第１実施形態に係る塗布動作の結果、薬液が着液された保持体を示す上面図である。
【図１０】吐出流量と経過時間との関係を示す図である。
【図１１】第２実施形態に係る薬液塗布装置の要部構成の概略を示す図である。
【図１２】第２実施形態に係る薬液塗布装置の外観を示す斜視図である。
【図１３】第２実施形態に係る塗布動作の様子を示す側面図である。
【図１４】第２実施形態に係る塗布動作の流れを示すフロー図である。
【図１５】第２実施形態に係る塗布動作の結果、薬液が着液された保持体を示す上面図である。
【図１６】変形例に係る塗布パターンＰＴ２および塗布パターンＰＴ３を示す上面図である。
【図１７】事後カットタイプの装置における塗布領域の配列を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００３０】
＜１．  第１実施形態＞
＜１．１  薬液塗布装置１の全体構成＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る薬液塗布装置１の要部構成の概略を示す図である。また、図２は、第１実施形態に係る薬液塗布装置１の塗布動作中の外観を示す模式図である。なお、図２では、塗布動作に直接的に関係のない構成（乾燥部５０など）は省略されている。
【００３１】
薬液塗布装置１は、それぞれがほぼ円形の多数の基材シート９０を離散的に配列し、それらの上にあらかじめ規定されている各塗布領域ＤＴの上に、薬剤を含む薬液を順次に塗布して貼付剤を製造する装置である。この発明が適用可能な薬液塗布装置の典型例としては、
・あらかじめ小さな矩形や円形などにカットされた多数の小さな基材シート（単位基材シート）を保持体（保持シート）上に離散的に配列させてから薬液塗布を行うタイプ（事前カットタイプ）と、
・１枚の大サイズの基材シート上に離散的に配列された多数の小領域を塗布領域として、それらに対して薬液の塗布を行い、個々の貼付剤とするための打ち抜きを後で行うタイプ（事後カットタイプ）と、
の２つのタイプがあるが、この第１実施形態に係る薬液塗布装置１は前者の「事前カットタイプ」に相当する。後者の「事後カットタイプ」へのこの発明の適用については、後に説明する。
【００３２】
事前カットタイプとされた第１実施形態においては、長尺平面状の保持体９３上に円形の基材シート９０を複数列（図示例では２列）で一定間隔の配列となるよう行列形式で貼設し、各基材シート９０上の塗布領域ＤＴに吐出部１０から薬剤を吐出して、各塗布領域ＤＴに当該薬液を塗布する。塗布領域ＤＴは、薬液が塗布された後には、「薬液が塗布された領域」として把握されるが、薬液の塗布前には、「塗布の対象となる領域」としての意味を有しており、制御部８０にあらかじめ設定されているデジタルパターンデータとされている。
【００３３】
薬液塗布装置１は、保持体９３を水平方向に沿って間欠的に搬送する搬送機構２０と、搬送機構２０によって搬送される保持体９３に基材シート９０を貼設するシート供給機構６０と、基材シート９０の位置を検知し吐出部１０にその位置情報を送る位置検出センサ７０とを備える。また、この薬液塗布装置１には、基材シート９０に薬剤を含む薬液を吐出する吐出部１０と、吐出部１０に薬液を送給する薬液供給部３０と、吐出部１０を水平面に沿って移動させるＸＹ移動機構４０（図２参照）とが設けられるとともに、各基材シート９０に塗布された薬液を乾燥させる乾燥部５０も下流側に配置されている。薬液塗布装置１に設けられた上記の各要素は、制御部８０によって制御される。
【００３４】
搬送機構２０は、長尺シート状の支持体９２が巻回された送りローラ２１を有する。搬送機構２０は、図示を省略するテンションローラや補助ローラをも備えており、送りローラ２１から送り出された支持体９２を水平方向（＋Ｘ方向）に１次元的に搬送する。
【００３５】
支持体９２は粘着剤層９１と一体となって長尺シート状の保持体９３を形成しているため、搬送機構２０によって支持体９２が搬送されることで保持体９３全体が水平方向（＋Ｘ方向）に搬送される。支持体９２は、ネル生地、織布、メリヤス、不織布、樹脂フィルムなどにて形成することができ、支持体９２の幅は例えば６０ｍｍを採用することができる。
【００３６】
シート供給機構６０は、送りローラ２１から送り出された保持体９３の上面に、円板形状の基材シート９０を２つずつ供給する機構である（図２参照）。保持体９３の上面は粘着剤９１で構成されているため、供給された一対の基材シート９０は保持体９３に保持される。したがって、保持体９３の上表面としての保持面９３Ｓ（図２）が、各基材シート９０を保持する面としての機能を有していることになる。
【００３７】
基材シート９０は、吐出部１０より吐出される薬剤を直接担持する部分であるので、薬剤に対する不透過性を有する樹脂材料にて形成されており、第１実施形態ではＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）にて形成されている。なお、基材シート９０はＰＰ（ポリプロピレン）またはＰＥ（ポリエチレン）にて形成するようにしても良い。
【００３８】
また、シート供給機構６０は、吐出部１０よりも保持体９３の搬送方向上流側に設けられている。このため、吐出部１０の直下を搬送される保持体９３には、シート供給機構６０によって既に基材シート９０が貼設された状態となる。
【００３９】
吐出部１０（１０ａ、１０ｂ）は、その下端に位置する吐出口１５（１５ａ、１５ｂ）から柱状で薬液をほぼ鉛直下方に吐出する機構であり、吐出部１０の下方を保持体９３が搬送されるように（吐出部１０が保持面と対向するように）配置される。また、上述したように、吐出部１０の直下を搬送される保持体９３には既に基材シート９０が貼設されている。このため、当該吐出部１０によって基材シート９０上の塗布領域ＤＴに薬液を塗布することが可能となる。また、ＸＹ移動機構４０は、モータなどの駆動源４０ｂによって移動板４０ａを２次元的に移動させることにより、この移動板４０ａに保持された吐出部１０を水平面に沿って２次元的に移動させる機構である。
【００４０】
なお、吐出部１０には、薬液の貯留および物性調節（粘度調節・温度調節等）を行う薬液供給部３０から薬液が供給される。
【００４１】
＜１．２  薬液塗布装置１の各種構成＞
以下、本実施形態における薬液塗布装置１の各種構成、およびその動作について詳細に説明する。
【００４２】
本実施形態の薬液塗布装置１は、薬液を吐出する吐出部１０として、同一の構成である２つの吐出部１０ａ，１０ｂを備えている。なお、本明細書中では、２つの吐出部１０ａ，１０ｂのうち片方を特定して説明する場合には「吐出部１０ａ」、「吐出部１０ｂ」という表現を用い、片方を特定しない場合には、単に「吐出部１０」という表現を用いる。これは、吐出部１０を構成する各部材についても同様である。
【００４３】
２つの吐出部１０ａ，１０ｂは、Ｘ方向位置およびＺ方向位置は同じで、Ｙ方向に一定間隔ｄｙをあけて、移動板４０ａに固定されている。そして、この間隔ｄｙは、シート供給機構６０によって２つずつ供給される一対の基材シート９０のＹ方向の間隔と一致している。このため、吐出部１０ａ，１０ｂから薬液を吐出することで、一対の基材シート９０に同時に薬液を塗布することが可能となる（図２参照）。
【００４４】
また、移動板４０ａの駆動を行う駆動源４０ｂは制御部８０と電気的に接続されており、制御部８０のＲＡＭ８３に格納される２次元的パターン（以下、「移動パターンＰＨａ」とよぶ）に沿って駆動される。特に、吐出部１０ａ，１０ｂが一対の基材シート９０の上方に位置し各基材シート９０の塗布領域ＤＴに薬液を塗布する際には、移動パターンＰＨａのうち塗布パターンＰＴ１に従って移動板４０ａが駆動される（図５（ａ）参照）。
【００４５】
このように、本実施形態のＸＹ移動機構４０は、移動板４０ａと駆動源４０ｂとから構成される。なお、このＸＹ移動機構４０は、吐出部１０ａ，１０ｂと基材シート９０を保持する保持体９３（保持部）とを、保持面９３Ｓに平行な面内で２次元的に相対移動させる「相対的移動機構」として機能する。また、搬送機構２０とＸＹ移動機構４０との組合わせは、吐出部１０に対して保持面９３Ｓを相対的かつ１次元的に搬送するとともに、吐出部１０と保持面９３Ｓとを当該保持面９３Ｓに平行な面内で２次元的に相対移動させる「搬送移動機構」として機能する。
【００４６】
図３は、本実施形態における吐出部１０ａの内部構成を模式的に示す断面図である。
【００４７】
図３に示すように、本実施形態の吐出部１０ａは、シリンジ１１ａ、ノズル１２ａ、ピストン１３ａ、およびアクチュエータ１４ａを備えている。また、上述したように、塗布動作時には、吐出部１０ａは移動板４０ａに固定されて用いられる。
【００４８】
シリンジ１１ａは、基材シート９０に塗布する薬液を供給配管３２より供給され、当該薬液を貯留する部分である。また、ノズル１２ａは、シリンジ１１ａ内に貯留される薬液を基材シート９０に向けて吐出する吐出口１５ａを有する。
【００４９】
このため、アクチュエータ１４ａによってピストン１３ａが鉛直下方向（−Ｚ方向）に駆動されることによって、シリンジ１１ａ内の薬液が加圧され吐出口１５ａからほぼ鉛直下方に、液柱ＬＰを形成しつつ薬液が吐出される。この吐出部１０ａ（および吐出部１０ｂ）を用いた吐出系統は、連続的加圧機構によって薬液を等圧で連続的に吐出させるようになっている。なお、供給配管３２とシリンジ１１ａとの接続部には逆止弁（図示せず）が設けられている。これによって、シリンジ１１ａ内の気液が加圧されても供給配管３２に薬液が逆流することが防止される。
【００５０】
また、シリンジ１１ａ内の薬液が不足した場合には、アクチュエータ１４ａによってピストン１３ａが鉛直上方向（＋Ｚ方向）に駆動され、供給配管３２より薬液が供給される。この結果、シリンジ１１ａ内に薬液が供給され、ピストン１３ａが鉛直上方向に駆動されるので、薬液の吐出を開始可能な状態となる。なお、吐出口１５ａにも逆止弁（図示せず）が設けられている。このため、シリンジ１１ａへの薬液の供給を行う際に、ピストン１３ａが鉛直上方向に駆動することでシリンジ１１ａ内が負圧状態となっても、外部の空気等が吐出口１５ａよりシリンジ１１内に流入することが防止される。
【００５１】
以上、吐出部１０ａの構成を例に挙げて説明したが、吐出部１０ｂについても同様である。すなわち、吐出部１０ｂは、シリンジ１１ｂ、ノズル１２ｂ、ピストン１３ｂ、およびアクチュエータ１４ｂによって構成される。
【００５２】
また、本実施形態における薬液塗布ユニット２は、上記の各要素のうち、吐出部１０と、ＸＹ移動機構４０と、吐出部１０の吐出制御およびＸＹ移動機構４０の駆動制御を行なう制御部８０とを主要素とする部分であり、薬液塗布装置１を構成する特定の部分に相当する。
【００５３】
図１に戻り、吐出部１０に薬液を供給する薬液供給部３０について説明する。
【００５４】
薬液タンク３１は、供給配管３２を介して吐出部１０ａ，１０ｂに連通接続されている。したがって、供給配管３２としては、上流側（薬液タンク３１側）は１本で、下流側（吐出部１０ａ，１０ｂ側）では２本に分岐している配管が採用される。また、吐出部１０はＸＹ移動機構４０によってＸＹ平面上を移動する。このため、供給配管３２も当該移動に対応可能な柔軟性を有している配管が採用される。
【００５５】
供給配管３２の経路途中には異物除去フィルター３６および脱気フィルター３３が介挿されている。薬液タンク３１は、常に一定量の薬液を貯留しており、調合タンク３３１から適宜薬液タンク３１に薬液が補充される。
【００５６】
ここで、薬液とは薬剤を含む液体である。本発明の装置で使用される薬剤は、特に限定されるものではないが、皮膚を通して投与し得るもの、すなわち経皮吸収可能な薬剤が代表例である。そのような薬剤として、より具体的には、インドメタシン、ケトプロフェン、フルルビプロフェン、イブプロフェン、ビロキシカム、サリチル酸メチル、サリチル酸グリコール、l-メントール、dl-カンフル、ノニル酸ワリニリルアシド、カプサイシンなどの鎮痛消炎剤があげられる。また、ニトログリセリン、ニフェジピン、イソソルバイドナイトレートなどの冠血管拡張剤、または、プロカテロール、ツロブテロールなどの喘息薬を薬剤として使用しても良い。さらに、上記の他にも薬剤としては、全身性麻酔薬、催眠・鎮静薬、抗てんかん薬、鎮暈薬、精神神経用薬、骨格筋弛緩薬、自律神経用薬、鎮痙薬、抗パーキンソン薬、抗ヒスタミン薬、強心薬、不整脈用薬、利尿薬、血圧降下薬、血管収縮薬、末梢血管拡張薬、動脈硬化用薬、循環器用薬、呼吸促進薬、鎮咳去痰薬、ホルモン薬、化膿性疾患用外用薬、鎮痛・鎮痒・収斂・消炎用薬、寄生性皮膚疾患用薬、止血用薬、痛風治療用薬、糖尿病用薬、抗悪性腫瘍用薬、抗生物質、化学療法薬、麻薬、抗うつ用薬、禁煙補助薬（ニコチン）などを使用することができる。
【００５７】
このような薬剤が溶媒中に溶解されて薬液とされている。溶媒としては、薬剤の性質に応じて、水、または、アルコールを用いることができる。薬剤が溶媒中に溶解された所定濃度の薬液が調合タンク３３１にて調合され、その薬液が調合タンク３３１から供給されて薬液タンク３１に貯留される。薬液タンク３１に貯留されている薬液は、吐出部１０が薬液を吐出したときにノズル内に生じる毛管現象によって各ノズル１２に送給される。薬液の送給過程において、供給配管３２を流れる薬液から異物および気泡が異物除去フィルター３６および脱気フィルター３３によってそれぞれ取り除かれる。なお、薬液には、基材シート９０への密着性を高めるバインダー、および／または、添加剤がさらに含まれていても良い。
【００５８】
また、第１実施形態の薬液供給部３０は溶媒添加部３４を備える。溶媒添加部３４は、調合タンク３３１の薬液にさらに薬剤の溶媒を添加して薬液の粘度および表面張力を調整する。これによって、薬液の粘度および表面張力を、吐出部１０から適切に吐出可能な範囲内に調整することが可能となる。ここで、「適切に吐出可能」とは、吐出流量や吐出方向が製造上必要な精度で薬液を吐出可能な状態を指す。なお、溶媒添加部３４としては、所定量の溶媒を調合タンク３３１に供給できるものであれば良く、例えば秤量槽またはマスフロコントローラなどを用いて構成することができる。
【００５９】
薬液供給部３０は保湿剤添加部３５を備える。保湿剤添加部３５は、調合タンク３３１の薬液に、例えば０．５vol％〜１０vol％の保湿剤を添加する。保湿剤は薬液の乾燥速度を低下させるために添加される。これによって、薬液の乾燥速度を低下させることができ、ノズル１２内での薬液の乾燥等を防止する。添加する保湿剤としては、グリセリン、プロピレングリコール、ソルビトールなどの人体に影響の少ない多価アルコールを用いることができる。なお、保湿剤添加部３５としては、所定量の保湿剤を調合タンク３３１に供給できるものであれば良く、例えば秤量槽またはマスフロコントローラなどを用いて構成することができる。また、調合タンク３３１の内部には、保湿剤添加部３５から供給された保湿剤および溶媒添加部３４から供給された溶媒を調合タンク３３１の薬液と十分に混合するための攪拌機３３８が設けられている。薬液タンク３１の内部にも同様の攪拌機３８が設けられている。
【００６０】
さらに、調合タンク３３１および薬液タンク３１の下部にはヒータ３４０およびヒータ３４１がそれぞれ付設されている。ヒータ３４０，３４１はそれぞれ調合タンク３３１および薬液タンク３１内の薬液の温度を例えば３０℃に温調する。
【００６１】
シート供給機構６０は、送りローラ２１から送り出された保持体９３に、円板形状の基材シート９０を２つずつ供給する機構である。このとき、２つずつ供給される一対の基材シート９０は、吐出部１０ａ，１０ｂの位置関係と対応して、Ｘ方向位置が同じでＹ方向に間隔ｄｙ離れて供給される。また、一対の基材シート９０は、Ｘ方向に一定の配列間隔ｄｘをあけて順次に供給される（図２参照）。このように、各基材シート９０は一定間隔（ｄｘ、ｄｙ）をあけて離散的に配列される。
【００６２】
乾燥部５０は、吐出部１０よりも基材シート９０の搬送方向下流側に設けられている。乾燥部５０は、その内側を通過する基材シート９０に塗布されている薬液を乾燥させる。乾燥部５０としては、基材シート９０の表面に常温のドライエアーまたは加熱したドライエアー（温風）を送風するものなど公知の種々の乾燥装置を用いることができる。また、乾燥部５０としては、単なる熱風（特段の除湿を行っていない）を供給する熱風乾燥炉や遠赤外線ヒータを用いた乾燥炉を用いるようにしても良い。
【００６３】
位置検出センサ７０は、基材シート９０の搬送方向に対して、吐出部１０よりも上流側でシート供給機構６０より下流側に設けられている（図１参照）。このため、位置検出センサ７０の下方を通過する保持体９３は、シート供給機構６０によって既に基材シート９０が貼設されているが、吐出部１０による薬剤の吐出は未だ行なわれていない状態である。
【００６４】
そして、位置検出センサ７０によって、保持体９３上における基材シート９０の位置が検出される。その後、位置検出センサ７０によって検出された基材シート９０の位置情報に基づいて、その基材シート９０上の塗布領域ＤＴに正確に薬液が着液されるように制御部８０が搬送機構２０およびＸＹ移動機構４０を制御する。
【００６５】
位置検出センサ７０としては、反射式若しくは透過式の光学式センサ、または、超音波センサなどの各種センサを用いることができる。また、位置検出センサ７０に代えて撮像カメラを設け、その撮像カメラによって保持体９３上面を撮像して得られた画像データを処理することによって基材シート９０の位置を検出するようにしても良い。
【００６６】
制御部８０は、薬液塗布装置１に設けられた上記の種々の動作機構を制御する。図４は、制御部８０の構成を示すブロック図である。制御部８０のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部８０は、各種演算処理を行うＣＰＵ８１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ８２、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ８３、および処理プログラムＰＲやデータなどを記憶しておく固定ディスク８４をバスライン８９に接続して構成されている。また、ＲＡＭ８３には、移動パターンＰＨａが記憶されている。
【００６７】
ここで、移動パターンＰＨａについて説明する。移動パターンＰＨａは、ＸＹ移動機構４０によって移動される吐出部１０（吐出口１５）の連続的な線状の軌跡を規定している。なお、移動パターンＰＨａは、塗布パターンＰＴ１および戻りパターンＲＰＴ１により構成されている。
【００６８】
図５（ａ）は、本実施形態の薬液塗布装置１において、いずれかの塗布領域ＤＴ上に薬液を塗布するときに用いられる吐出口１５の移動軌跡である塗布パターンＰＴ１を示す図である。図５（ｂ）は、本実施形態の薬液塗布装置１において、塗布領域ＤＴ外に薬液を塗布するときに用いられる吐出口１５の移動軌跡である戻りパターンＲＰＴ１を示す図である。図に示すように、塗布パターンＰＴ１は、位置Ｐ１から位置Ｐ２に向けて拡大方向に周回するいわゆる渦巻き型の移動軌跡を採用している。また、戻りパターンＲＰＴ１は、位置Ｐ２から位置Ｐ１に向けて距離Ｄｋだけ戻る直線型の移動軌跡を採用している。
【００６９】
この移動パターンＰＨａ（特に、塗布パターンＰＴ１）は、演算により生成してＲＡＭ８３に記憶させるようにしても良いし、記録媒体ＲＭから読み出してＲＡＭ８３に記憶させるようにしても良い。移動パターンＰＨａ（特に、塗布パターンＰＴ１）を演算により生成する際には、基材シート９０の大きさ、形状、吐出口１５の口径、パターン形状を、いわゆるレシピデータとして入力装置８７から入力する。そして、このレシピデータに基づいてＣＰＵ８１が演算を行って移動パターンＰＨａ（特に、塗布パターンＰＴ１）を算出し、その演算結果をＲＡＭ８３に記憶させるようにすれば良い。
【００７０】
具体的には、図５（ａ）において、吐出口１５の移動軌跡における走査間隔Ｄａは、互いに平行に隣接する２つの軌跡部分の間の間隔として定義される。そして、この走査間隔Ｄａの値は、
1)  吐出部１０から吐出される液柱ＬＰの直径以上で、かつ
2)  吐出口１５を塗布時の所定速度で水平移動させつつ吐出部１０から薬液の吐出を行わせたときに、薬液の液柱ＬＰが吐出口１５から落下して基材シート９０に着液して、基材シート９０上を拡散して広がる幅（拡散幅）以下、
の値とされることが好ましい。これにより、渦巻き型ないしは螺旋型の塗布パターンＰＴ１に沿った線状軌跡で塗布走査を行うことによって、塗布領域ＤＴを２元的に覆う面状塗布状態となった薬液層を好適に形成できる。
【００７１】
さらに好ましくは、走査間隔Ｄａは、上記の拡散幅と近似的に一致するような値に選択され、それによって塗布領域ＤＴ上における薬液の面分布の均一性が高まる。
【００７２】
このような走査間隔Ｄａについてのこれらの好ましい選択は、後述する図１６の塗布パターンＰＴ２、ＰＴ３などにおいても同様である。なお、移動パターンＰＨａ（塗布パターンＰＴ１および戻りパターンＲＰＴ１）を用いた吐出部１０（吐出口１５）の移動動作については、後述する＜１．３  添付剤の製造処理＞で詳細に説明する。
【００７３】
図４に戻って、制御部８０についての説明を続ける。バスライン８９には、吐出部１０、搬送機構２０、薬液供給部３０、ＸＹ移動機構４０、乾燥部５０、シート供給機構６０および位置検出センサ７０が接続されている。制御部８０のＣＰＵ８１は、固定ディスク８４に格納されている処理プログラムＰＲを実行することにより、薬液塗布装置１に係る各動作機構を制御して貼付剤製造処理を進行させる。
【００７４】
また、バスライン８９には、表示装置８６および入力装置８７が電気的に接続されている。表示装置８６は、例えば液晶ディスプレイ等を用いて構成されており、処理結果やメッセージ等の種々の情報を表示する。入力装置８７は、例えばキーボードやマウス等を用いて構成されており、コマンドやパラメータ等の入力を受け付ける。装置のオペレータは、表示装置８６に表示された内容を確認しつつ入力装置８７からコマンドやパラメータ等の入力を行うことができる。なお、表示装置８６と入力装置８７とを一体化してタッチパネルとして構成するようにしても良い。
【００７５】
さらに、バスライン８９には、ＤＶＤやＣＤ−ＲＯＭなどの記録媒体ＲＭから記録内容を読み取る読取装置８８が接続されている。処理プログラムＰＲは、記録媒体ＲＭから読取装置８８によって読み出されて固定ディスク８４に格納されるようにしてもよい。また、ネットワーク経由で外部の情報処理装置からダウンロードされるようにしてもよい。
【００７６】
上記の構成以外にも薬液塗布装置１は、詳細な説明を省略する種々の機構を備えている。例えば、乾燥部５０よりもさらに搬送下流側には、薬液が塗布された基材シート９０に剥離ライナーを貼り合わせる機構や保持体９３を裁断する機構が設けられている。
【００７７】
＜１．３  添付剤の製造処理＞
上記構成を有する薬液塗布装置１において貼付剤の製造処理を行うときには、制御部８０のＣＰＵ８１が処理プログラムＰＲを実行して薬液塗布装置１の各動作機構を制御する。
【００７８】
制御部８０の制御下にて、搬送機構２０が保持体９３を水平Ｘ方向に沿って間欠的に搬送するとともに、シート供給機構６０が保持体９３の上面に対して一対の基材シート９０を一定間隔ｄｘ毎に供給する。
【００７９】
送りローラ２１から送り出されて水平方向に搬送される保持体９３の上面には粘着剤９１の層が予め形成されているため、供給された一対の基材シート９０は保持体９３上に一定間隔ｄｘ毎に貼設される。
【００８０】
保持体９３上に貼設されたそれぞれの基材シート９０の位置は位置検出センサ７０によって検出されて、位置情報として制御部８０に伝達される。吐出部１０から薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、上記位置情報に基づいて制御部８０が搬送機構２０およびＸＹ移動機構４０の駆動制御を行い、薬液を基材シート９０上の塗布領域ＤＴに向けて吐出する（塗布動作）。
【００８１】
図６は、塗布動作の一例を模式的に示す側面図である。なお、図６は、薬液塗布装置１を−Ｙ方向側から見たＸＺ平面を示す側面図であるので、Ｙ方向に並んだ各対の基材シート９０および吐出部１０ａ，１０ｂのうち、それぞれの手前側のものだけが図中に現れている。また、塗布動作に直接的に関連のない構成（乾燥部５０など）は適宜省略して描かれている。
【００８２】
図７は、塗布動作の流れを示すフローチャートである。以下、図６および図７を参照しつつ、塗布動作について詳細に説明する。
【００８３】
まず、基材シート９０に供給される薬液の物性調節が行われる（ステップＳＴ１）。より具体的には、溶媒添加部３４が調合タンク３３１の薬液に溶媒を添加して攪拌機３３８で攪拌して薬液の粘度および表面張力を調整する。また、必要に応じて、ヒータ３４０およびヒータ３４１が薬液を温調することによって薬液の粘度を補助的に調整する。また、保湿剤添加部３５が調合タンク３３１の薬液に保湿剤を添加して薬液の乾燥速度を低下させる。
【００８４】
ステップＳＴ１の後、図６（ａ）に示すように、吐出部１０（より正確にはその吐出口１５）の直下にシート９０（ＢＳ１）が搬送されてくるよりも前の時点、すなわち吐出口１５の直下にはいずれの基材シート９０も存在しない状態で、薬液の吐出を開始する（ステップＳＴ２）。このように、吐出部１０から薬液を吐出する工程が、本発明における「吐出工程」に相当する。
【００８５】
一般に、薬液塗布装置１のような塗布装置においては、吐出の開始時や終了時に吐出流量が不安定となる傾向がある。そのため、ステップＳＴ２の工程で、吐出口１５の直下には基材シート９０が存在しない状態で薬液の吐出を開始することで、流量の不安定な薬液が基材シート９０に塗布される可能性を減らすことができる。
【００８６】
なお、本実施形態の薬液塗布装置１において最終的に製品化されるのは、保持体９３のうち、基材シート９０に係る部分のみであり、それ以外の部分は後述する裁断工程において除去される部分である。したがって、ステップＳＴ２において基材シート９０外の部分に塗布流量の不安定な薬剤が塗布されても問題ない。
【００８７】
そして、ステップＳＴ２における吐出開始から一定時間経過後、吐出流量が安定したタイミングで、搬送機構２０によって保持体９３および基材シート９０が、吐出口１５の直下に位置するまで搬送される（ステップＳＴ３）。この搬送ＣＶは、薬液の吐出を行いつつ行われる。したがって、基材シート９０を保持した保持体９３がＸ方向に搬送されることで、保持体９３の表面が液柱ＬＰの着液点ＲＰによって相対的に−Ｘ方向に走査されることなる。また、後述するステップＳＴ５でＹｅｓに分岐した後にステップＳＴ３で行なわれる搬送ＣＶは、塗布領域ＤＴの配列間隔ｄｘに相当する一定距離だけ行われる。なお、ステップＳＴ３のように基材シート９０を搬送する工程が、本発明における「搬送工程」に相当する。
【００８８】
そして、着液点ＲＰが最初の一対の基材シート９０（ＢＳ１）上に到達すると、搬送ＣＶはいったん停止する。この一旦停止タイミングは、最初の一対の基材シート９０（ＢＳ１）が吐出部１０ａ，１０ｂ（吐出口１５ａ，１５ｂ）の直下に位置した時点に対応する（図６（ｂ）参照）。このとき、吐出部１０の吐出口１５は、塗布パターンＰＴ１における初期位置Ｐ１（図５（ａ））に位置決めされている。
【００８９】
搬送ＣＶがいったん停止されると、ＸＹ移動機構４０によって吐出部１０が塗布パターンＰＴ１に沿ってＸＹ面内で２次元的に移動され、それによって液柱ＬＰの着液点ＲＰがＸＹ面内で２次元的に塗布パターンＰＴ１を描く（ステップＳＴ４）。より具体的には、ステップＳＴ４の工程では、保持体９３およびその上の各基材シート９０が搬送中でない（つまり静止した）状態で、薬液を吐出している吐出部１０の吐出口１５が塗布パターンＰＴ１に沿って渦巻き状に運動しつつ位置Ｐ１から位置Ｐ２へ移動される。このように、吐出部１０と基材シート９０とをＸＹ面内で２次元的に移動させる工程が、本発明における「相対的移動工程」に相当する。
【００９０】
図８は、ステップＳＴ４の工程によって、吐出部１０ａ，１０ｂが薬液を吐出しつつ塗布パターンＰＴ１に沿って運動した際の、一対の基材シート９０を示す上面図である。なお、図８（ａ）は、薬液が着液された直後の基材シート９０の上面を示しており、図８（ｂ）は、薬液が着液された後一定時間経過後の基材シート９０の上面を示している。
【００９１】
上述したように、本実施形態における塗布パターンＰＴ１は、位置Ｐ１から位置Ｐ２に向けて拡大方向に吐出部１０を周回させるいわゆる渦巻き型のパターンである（図５（ａ）参照）。また、ステップＳＴ４の工程では、基材シート９０が動かず吐出部１０のみが移動される。したがって、図８（ａ）に示すように、保持体９３上の着液点ＲＰを結んだ軌跡線（以下、「着液線９６」とよぶ）のうち、塗布領域ＤＴ上の着液線９６は塗布パターンＰＴ１に対応した渦巻き型の形状となる。
【００９２】
また、着液された薬液の線（帯）は、時間経過とともに、その粘度や表面張力に応じて基材シート９０上で線幅（帯幅）方向に拡散し、隣接する２つの線部分が互いに連結して、図８（ｂ）に示すような円形の薬液層９７を形成する。
【００９３】
このような添付剤の製造においては、図８（ｂ）に示すように塗布領域ＤＴの範囲内に均一かつ必要十分な厚さで薬液層９７が形成されることが好ましい。このような好ましい薬液層９７の形成のための塗布パラメータは、
(a)  薬液の粘度（または表面張力）、
(b)  吐出部１０の吐出口１５からの単位時間あたりの薬液の吐出量（吐出流量）、
(c)  液柱ＬＰの径、
(d)  塗布パターン形成の際の２次元走査速度、
(e)  塗布パターンにおいて隣接する線（帯）部分の間隔、
(f)  吐出口１５と基材シート９０との間の距離、
などを含むことが可能である。そして、事前の実験によって特定したこれらの好ましいパラメータの値を設定して上記のような吐出走査制御を行うことができる。
【００９４】
より実際的には、これらのうちで最も調整しやすいパラメータは、(d)塗布パターン形成の際の２次元走査速度と、(e)塗布パターンにおいて隣接する線（帯）部分の間隔、である。これらは制御部８０に設定される走査制御プログラムの数値パラメータを変更するだけで対応できるからである。
【００９５】
ステップＳＴ４によって、塗布パターンＰＴ１に沿っての塗布領域ＤＴ上への薬液の塗布が完了されると、後続の基材シート９０（より搬送方向上流側の基材シート９０）に対して薬液を塗布するか否かについての判断がなされる（ステップＳＴ５）。
【００９６】
そして、後続の基材シート９０（ＢＳ２：図６（ｃ））に対して続けて塗布動作を行う場合には、ステップＳＴ３（基材シート９０の搬送ＣＶ）およびステップＳＴ４（塗布パターンＰＴ１に沿った薬液塗布）が繰り返される。なお、この際に行なわれるステップＳＴ３では、直前に塗布領域ＤＴ上への薬液の塗布を完了した基材シート９０と後続の基材シート９０との間の距離ｄｘに相当する一定距離だけ、基材シート９０の搬送ＣＶが行われる。
【００９７】
また、上述したように、ステップＳＴ３によって保持体９３および各基材シート９０を搬送する過程においても、吐出部１０からの薬液の吐出を中断することはなく、薬液の吐出は絶え間なく連続的に行われる。したがって、搬送ＣＶの方向に沿って先行する基材シート９０（ＢＳ１）上と、それに後続する基材シート９０（ＢＳ２）上との間には、一方の基材シート９０（ＢＳ１）上に塗布パターンＰＴ１を描いた液柱ＬＰが他方の基材シート９０（ＢＳ２）上に塗布パターンＰＴ１を描きはじめるまでの間に、着液点ＲＰが描いた薬液の線（帯）ＣＢが保持体９３上に形成される。この帯ＣＢは、離散的に配置された基材シート９０（ＢＳ１，ＢＳ２，…）の間での着液点ＲＰの移行過程での軌跡であることから、以下では「移行線部ＣＢ」と呼ぶことにする（図９参照）。
【００９８】
また、本実施形態の塗布パターンＰＴ１は移動軌跡の始点位置Ｐ１と終点位置Ｐ２とが異なり、搬送の方向（Ｘ方向）に沿って距離Ｄｋだけ隔たっている（図５参照）。このため、ステップＳＴ３において、吐出口１５の直下に位置するまで後続の基材シート９０を搬送する期間内に、戻りパターンＲＰＴ１に沿って吐出部１０（吐出口１５）が、終端位置Ｐ２から始点位置Ｐ１へ距離Ｄｋだけ戻り方向（＋Ｘ方向）に直線移動される（図６（ｃ）、図６（ｄ）参照）。この結果、後続の基材シート９０（ＢＳ２）について薬液の塗布を開始するするタイミング（ステップＳＴ４の開始時）には、吐出部１０（吐出口１５）は始点位置Ｐ１に到達しており、上述した塗布パターンＰＴ１に沿って薬液を塗布することが可能となる。
【００９９】
このように、吐出部１０ａ，１０ｂは、始点位置Ｐ１から終点位置Ｐ２への渦巻き軌跡に沿った螺旋的な移動（塗布パターンＰＴ１）と、終点位置Ｐ２から始点位置Ｐ１への直線的な戻り移動（戻りパターンＲＰＴ１）とが交互に繰り返される。したがって、地面に固定した絶対座標系での吐出部１０ａ，１０ｂ（吐出口１５ａ，１５ｂ）の動きは、「閉じた一筆書き」のパターン（移動パターンＰＨａ）を一定の空間範囲で周期的に繰り返すような動きであるが、これを、基材シート９０の配列を保持した保持体９３についての間欠的な１次元方向（Ｘ方向）の搬送と組みあわせると、Ｘ方向に延びた「開いた一筆書き」のパターンを形成することになる（図９（ａ）参照）。これによって、複数の塗布領域ＤＴへの薬液の塗布が順次に行われる。
【０１００】
また、薬液塗布装置１の定期メンテナンス等で塗布動作を終了する場合、薬液塗布装置１を構成する各種装置の不具合により塗布動作を一旦停止する場合など、後続の基材シート９０に対して薬液を塗布しない場合には、ステップＳＴ６へ移行する。
【０１０１】
ステップＳＴ６では、最後の対の基材シート９０への塗布が完了すると、その基材シート９０が吐出部１０ａ，１０ｂの直下から離れるように基材シート９０の保持体９３を＋Ｘ方向に一定距離搬送し、当該吐出部１０ａ，１０ｂの直下にどの基材シート９０も存在ない状態（ただし保持体９３は吐出部１０ａ，１０ｂの直下に存在している状態）で薬液の吐出を終了する。こうすることで、吐出の終了時に生じうる吐出流量の不安定な状態の薬液が、いずれかの基材シート９０に吐出されることを避けることができる。
【０１０２】
図９は、以上説明した塗布動作（ステップＳＴ１〜ステップＳＴ６）により、薬液が保持体９３上に着液された様子を示す上面図である。図９（ａ）は、保持体９３上に着液された薬液の軌跡である着液線９６を示しており、図９（ｂ）は、図９（ａ）の状態から一定時間が経過し保持体９３上に着液線９６が拡がった様子を示している。
【０１０３】
図９（ａ）に示すように、本実施形態の薬液塗布装置１による塗布動作では、吐出部１０ａ，１０ｂの連続的な線状の移動軌跡（移動パターンＰＨａ）に対応して、着液線９６が連続線となっている。
【０１０４】
この着液線９６のうち塗布領域ＤＴに係る部分は、基材シート９０に固定した座標系で見ると、吐出部１０の吐出口１５の連続的な線状の塗布パターンＰＴ１に一致している。その一方で、着液線９６のうち塗布領域ＤＴ以外の部分（移行線部ＣＢの軌跡部分）は主として搬送機構２０による搬送機能によってもたらされたものであり、絶対座標系で見た吐出口１５自身の軌跡としては、図５（ｂ）に示した２次元的な戻りパターンＲＰＴ１となる。
【０１０５】
そして、図９（ａ）の状態から一定時間が経過すると図９（ｂ）に示すように、線状の着液線からの拡散によって隣接する軌跡部分が連結し、基材シート９０の塗布領域ＤＴに、面状塗布状態の薬液層９７が形成されることとなる。薬液層９７された基材シート９０は乾燥部５０に搬送されて薬液の乾燥処理が行われる。さらにその後、薬液層９７が形成された基材シート９０に剥離ライナーが貼り合わされ、保持体９３が所定のサイズに裁断されて（裁断工程）、それぞれの基材シート９０に係る部分が貼付剤として製造される。
【０１０６】
＜１．４  第１実施形態の薬液塗布装置１の効果＞
以上説明したように、本実施形態の薬液塗布装置１では、吐出部１０から薬液を柱状で連続的に吐出させた状態で、搬送機構２０およびＸＹ移動機構４０の駆動制御を行なうことによって、連続的な線状の軌跡に沿って吐出部１０（吐出口１５）を移動させ、それによって塗布領域ＤＴへの薬液の塗布が行なわれる。また、薬液の吐出の開始時および終了時は、吐出部１０の直下に基材シート９０がない状態で行なわれる。
【０１０７】
図１０は、吐出部１０から吐出される薬液の流量と経過時間との関係を示した模式図である。図１０（ａ）は、吐出部１０から連続的に薬液を吐出する場合の流量と経過時間との関係について示しており、図１０（ｂ）は、吐出部１０から非連続的に薬液を吐出する場合の流量と経過時間との関係について示している。図１０に示すように、薬液の吐出の開始時および終了時は、薬液の吐出流量が不安定な時間帯Ｔ１が生じ、それから一定時間経過後に薬液の吐出流量が安定な時間帯Ｔ２が生じる。なお、時間帯Ｔ３は、薬液が吐出されない時間帯である。
【０１０８】
そして、本実施形態の薬液塗布装置１では、
１）薬液を柱状で連続的に吐出させ、
２）かつ、薬液の吐出の開始時および終了時（時間帯Ｔ１）は、吐出部１０の直下に基材シート９０が位置しないよう、
制御部８０によって搬送機構２０およびＸＹ移動機構４０が駆動制御される。
【０１０９】
この結果、流量が安定している状態（時間帯Ｔ２）で、基材シート９０に薬液が塗布される。したがって、基材シート９０上の塗布領域ＤＴでは薬液がムラなく均一に塗布されることとなり、薬剤の効能を均一にすることができる。また、当該領域の美観も維持されることとなる。
【０１１０】
また、本実施形態における薬液塗布装置１では、基材シート９０上の塗布領域ＤＴには塗布パターンＰＴ１に沿って薬液が塗布されるのに対して、基材シート９０とその後続の基材シート９０との間に塗布される薬液は直線的である（図９参照）。このため、保持体９３の全面に薬液をべた塗りするコーター形式に比べ、基材シート９０（最終的に製品化される部位）以外に塗られる薬液が少なく、薬剤の使用効率が向上される。
【０１１１】
また、本実施形態の薬液塗布装置１では、ある基材シート９０の塗布領域ＤＴ（第１の塗布領域）の塗布完了時点からその後続の基材シート９０の塗布領域ＤＴ（第２の塗布領域）の塗布開始時点までの期間に、
1)  搬送機構が、複数の塗布領域ＤＴの配列間隔（距離ｄｘ）だけ各対の基材シート９０を搬送するとともに、
2)  ＸＹ移動機構４０が、吐出口１５の位置を距離Ｄｋだけ戻すように吐出部１０を戻りパターンＲＰＴ１に沿って移動させる。
【０１１２】
このように、吐出部１０を位置Ｐ２から位置Ｐ１に移動させる「帰線区間」が設けてあることによって、複数の塗布領域ＤＴでの塗布開始位置を位置Ｐ１として共通化している。その結果、移動パターンＰＨａは「閉じた一筆書き」となり、複数の塗布領域ＤＴのいずれについても同じ共通の開始位置Ｐ１から塗布を開始すればよいという周期的制御が可能となる。また、戻りパターンＲＰＴ１は隣接する２つの塗布領域ＤＴの間を１本の線分で結ぶ経路となっており、最終的な製品と関係のない箇所（基材シート９０以外の部分）に使用される薬液の吐出量を最小化することができる。
【０１１３】
また、本実施形態における薬液塗布装置１は、薬液を柱状で連続的に吐出するディスペンサー形式の吐出部１０を採用しているため、薬液の液滴を吐出するインクジェット形式の吐出部を採用する塗布装置（例えば、特開２０１１−１２０１０号公報）に比べ、吐出対象となる薬液の適用可能な粘度域が広い。このため、本実施形態における薬液塗布装置１は、広範な薬液に対して利用可能である。
【０１１４】
また、本実施形態では、吐出部１０と保持体９３（したがって基材シート９０）との相対移動のうち、１方向（＋Ｘ方向）への搬送は搬送機構２０で行い、２次元的かつ周期的な相対移動をＸＹ移動機構４０によって行うことにより、それぞれに適した機構の長所を併用できる。
【０１１５】
より具体的には、搬送機構２０による搬送を間欠的に行い、保持体９３および基材シート９０が絶対座標系で静止している期間に塗布パターンＰＴ１を描くように吐出部１０の２次元的移動制御を行うことにより、搬送機構２０による搬送中に塗布パターンＰＴ１を描く場合（連続搬送の場合）と比較して、塗布される薬液の厚さの均一性が高くなる。
【０１１６】
すなわち、連続搬送の場合には、吐出部１０が＋Ｘ方向に移動している区間では基材シートの＋Ｘ方向の搬送速度だけ吐出部１０の移動速度が相対的に減少し、吐出部１０が−Ｘ方向に移動している区間では基材シートの−Ｘ方向の搬送速度だけ吐出部１０の移動速度が相対的に増加するため、単位時間あたりの着液量がそれらの間で異なることになる。したがって、連続搬送の場合に着液量を一定にしようとすれば吐出部１０の移動速度を＋Ｘ方向と−Ｘ方向とで変化させる必要があるが、本実施形態のような間欠搬送の場合には、基材シート９０に対する液柱の移動走査速度に搬送速度が影響することはなく、吐出部１０の移動速度を一定としても、塗布領域上各部での着液量の一定性が確保される。
【０１１７】
＜２．第２実施形態＞
＜２．１  第２実施形態における薬液塗布装置１の構成＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。図１１は、第２実施形態の薬液塗布装置１Ａの要部構成の概略を示す図である。図１２は、第２実施形態に係る薬液塗布装置１Ａの塗布動作中の外観を示す模式図である。また、図１２では、塗布動作に直接的に関連のない構成（乾燥部５０など）は適宜省略して描かれている。なお、図１１以降の各図において、第１実施形態と同一の要素については同じ符号を付している。
【０１１８】
第２実施形態の薬液塗布装置１Ａは、第１実施形態の薬液塗布装置１の構成に加えて、液受け部１００、スライド機構１１０、および薬液回収部１２０を備えている。また、制御部８０の制御対象として、図４に示した構成にスライド機構１１０が加わる。薬液塗布ユニット２Ａは、第１実施形態の薬液塗布ユニット２にこれらの要素を追加したユニットである。第２実施形態の薬液塗布装置１Ａおよび薬液塗布ユニット２Ａの残余の構成は第１実施形態と同様である。
【０１１９】
液受け部１００は、Ｙ軸方向に伸びる横長形でかつ底面の一部に排液口１０１を持つ箱形状の装置であり、そのＺ方向位置（高さ）が、吐出部１０の下端（吐出口１５）より低く、保持体９３の上面よりも高い位置に設けられる。また、液受け部１００の上面に設けられた開口部は、後述する第２の位置において、吐出部１０ａ，１０ｂから薬液が吐出された状態で移動板４０ａが位置Ｐ２から位置Ｐ１へ直線的に移動した場合に吐出される薬液を受けるのに十分な面積を有している。
【０１２０】
排液口１０１にはドレーン１０２が接続されており、当該ドレーン１０２のもう一方の端は薬液回収部１２０に接続されている。このため、吐出部１０から吐出される薬液が液受け部１００の底面に着液された場合、当該薬液は排液口１０１からドレーン１０２を通じて薬液回収部１２０に流れ、回収される。また、液受け部１００の底面には、排液口１０１が最も低くなるような傾斜床を採用することもできる。この場合、液受け部１００の底面に着液した薬液は当該傾斜床に沿って流れ、排液口１０１に流下しやすくなる。
【０１２１】
スライド機構１１０は、液受け部１００を保持し、水平面に沿って±Ｘ軸方向にスライドする機構であって、その移動のための駆動源、たとえばモータやエアーアクチュエータを内蔵している。そして、当該スライド機構１１０によって、液受け部１００は、吐出部１０から吐出される薬液の流路から離れており薬液の流れに干渉しない第１の位置（図１３（ｂ）、図１３（ｃ）参照）と、吐出部１０と保持体９３の上面との間に配され吐出部１０から吐出される薬液の流れを阻止する第２の位置（図１３（ａ）、図１３（ｄ）参照）との間で往復移動可能であって、これらのいずれかの位置で一時的に停止することができる。すなわち、スライド機構１１０は、液受け部１００を移動させる「液受け部移動機構」として機能する。
【０１２２】
薬液回収部１２０は、ドレーン１０２によって送液される薬液を貯留する機構である。このため、薬液塗布装置１Ａのユーザは、薬液回収部１２０に貯留される薬液を回収し、その物性（例えば、粘度や各薬剤の濃度）を計測することで、当該薬液の再利用を図ることができる。なお、薬液の物性を計測するためには、一定量の薬液が貯留されていることが望ましい。例えば、一日の作業の終了時に薬液回収部１２０に貯留される薬液を回収し、その物性を計測する態様が考えられる。
【０１２３】
＜２．２  第２実施形態における塗布動作＞
第２実施形態の薬液塗布装置１Ａにおいて貼付剤の製造処理を行うときには、制御部８０の制御下にて、搬送機構２０が保持体９３に貼設した一対の基材シート９０を水平方向に沿って間欠的に搬送するとともに、吐出部１０ａ，１０ｂが一対の基材シート９０の塗布領域ＤＴ上に薬液を吐出する。薬液の吐出から一定時間経過後、薬液層９７が形成された基材シート９０は乾燥部５０に搬送されて薬液の乾燥処理が行われる。さらにその後、基材シート９０に剥離ライナーが貼り合わされ、保持体９３が所定のサイズに裁断されて、基材シート９０に係る部分が貼付剤として製造される。
【０１２４】
このように、貼付剤の製造工程の基本的な流れは第１実施形態と同様であるが、第２実施形態においては塗布動作時にスライド機構１１０によって液受け部１００が移動して、吐出口１５ａ、１５ｂから流下する薬液の流れを受けとめることが可能とされている点で、第１実施形態とは異なる。
【０１２５】
図１３は、第２実施形態の塗布動作の一例を模式的に示す側面図であり、塗布動作に直接的に関連のない構成（乾燥部５０など）は適宜省略して描かれている。図１４は、第２実施形態における塗布動作の流れを示すフローチャートである。
【０１２６】
以下、図１３および図１４を参照しつつ、第２実施形態における塗布動作について詳細に説明する。なお、以下に説明するステップＳＴ２１〜ステップＳＴ２６は、第１実施形態のステップＳＴ１〜ステップＳＴ６に対応している。
【０１２７】
まず、各基材シート９０に供給される薬液の物性調節が行われる（ステップＳＴ２１）。ステップＳＴ２１はステップＳＴ１と同一である。すなわち、溶媒添加部３４が調合タンク３３１の薬液に溶媒を添加して攪拌機３３８で攪拌して薬液の粘度および表面張力を調整する。
【０１２８】
ステップＳＴ２１の後、図１３（ａ）に示すように、スライド機構１１０によって液受け部１００が第２の位置（薬液流の阻止位置）ＰＳ２に保持された状態で、薬液の吐出を開始する（ステップＳＴ２２）。この結果、吐出の開始時における吐出流量が不安定なタイミング（図１０に示す時間帯Ｔ１）に吐出される流量の不安定な薬液は、液受け部１００を介して薬液回収部１２０に回収される。
【０１２９】
そして、図１３（ｂ）に示すように、液受け部１００が第２の位置ＰＳ２に保持された状態のまま、最初の一対の基材シート９０（ＢＳ１）が吐出部１０の直下に位置するところまで保持体９３と各基材シート９０の配列との組み合わせが搬送される（ステップＳＴ２３）。第１実施形態と同様、このとき、吐出部１０（吐出口１５）は、塗布パターンＰＴ１における初期位置Ｐ１に移動される。
【０１３０】
このように、吐出部１０による薬液の吐出が開始されてから、当該吐出部１０の直下に基材シート９０（ＢＳ１）が搬送されるまでの間、液受け部１００はスライド機構１１０によって第２の位置ＰＳ２に保持される。このため、流量の不安定な状態（図１０の時間帯Ｔ１）の薬液が基材シート９０に着液される可能性を低下させるとともに、第１実施形態では基材シート９０以外の箇所（製品化されない箇所）に塗布されていた薬液を、薬液回収部１２０へと回収することができる。
【０１３１】
保持体９３の搬送がいったん停止されると、吐出部１０からの薬液の吐出流量が安定したタイミングで、スライド機構１１０によって液受け部１００が第１の位置（薬液流から待避した位置）ＰＳ１に矢印ＳＶａの方向にスライドされ、ＸＹ移動機構４０によって吐出部１０が移動される（ステップＳＴ２４）。したがって、ステップＳＴ２４の工程では、各基材シート９０が搬送されていない（静止した）状態で、薬液を吐出している吐出部１０の吐出口１５が塗布パターンＰＴ１に沿って位置Ｐ１から位置Ｐ２へ走査される（図１３（ｃ）、図１３（ｄ）参照）。
【０１３２】
ステップＳＴ２４によって、塗布領域ＤＴ上に塗布パターンＰＴ１に対応した薬液の着液が完了すると、スライド機構１１０によって液受け部１００が矢印ＳＶｂが示すようにスライド移動される。そして、図１３（ｅ）に示すように液受け部１００が第２の位置ＰＳ２となった状態で、後続の基材シート９０（ＢＳ２）に対して薬液を塗布するか否かについての判断がなされる（ステップＳＴ２５）。
【０１３３】
そして、後続の基材シート９０（ＢＳ２）に対して続けて塗布動作を行う場合には、図１３（ｅ）および図１３（ｆ）に示すように基材シート９０が搬送され、ステップＳＴ２３（基材シート９０の搬送）およびステップＳＴ２４（塗布パターンＰＴ１に沿った薬液塗布）が繰り返される。
【０１３４】
また、ステップＳＴ２５において、薬液塗布装置１Ａの定期メンテナンス等で塗布動作を終了する場合、薬液塗布装置１Ａを構成する各種装置の不具合により塗布動作を一旦停止する場合など、後続の基材シート９０に対して薬液を塗布しない場合には、ステップＳＴ２６へ移行する。
【０１３５】
ステップＳＴ２６では、液受け部１００が第２の位置ＰＳ２に保持された状態で、吐出部１０ａ，１０ｂからの薬液の吐出を終了する。こうすることで、吐出の終了時に生じうる吐出流量の不安定な状態（時間帯Ｔ１）の薬液が、塗布領域ＤＴ上に吐出されることを避けることができる。
【０１３６】
図１５は、第２実施形態における塗布動作（ステップＳＴ２１〜ステップＳＴ２６）により、薬液が塗布領域ＤＴ上に着液された様子を示す上面図である。図１５（ａ）は、塗布領域ＤＴ上に着液線９６が形成された様子を示しており、図１５（ｂ）は、図１５（ａ）の状態から一定時間が経過し塗布領域ＤＴ上に薬液層９７が形成された様子を示している。
【０１３７】
このように、第２実施形態の薬液塗布装置１Ａでは、第１実施形態の場合と同様に連続的な線状の移動パターンＰＨａに沿って吐出部１０が移動され、その期間にわたって保持体９３に向けて薬液を連続的に吐出するものの、着液線９６および薬液層９７は非連続になる（図１５参照）。これは、薬液が複数の塗布領域ＤＴのいずれかに向けて吐出される第１期間では液受け部１００が第１の位置ＰＳ１に移動された状態であり、薬液が複数の塗布領域ＤＴの外に向けて吐出される第２期間では液受け部１００が第２の位置ＰＳ２に移動された状態であるためである。
【０１３８】
＜２．３  第２実施形態の薬液塗布装置１Ａにおける効果＞
以上説明したように、第２実施形態の薬液塗布装置１Ａの場合、塗布領域ＤＴ上に薬液が塗布されるタイミングでは、液受け部１００が第１の位置に移動され、塗布パターンＰＴ１に沿って塗布領域ＤＴ上に薬液が着液される。
【０１３９】
一方、塗布領域ＤＴ以外の場所に薬液が塗布されるタイミングでは、液受け部１００が第２の位置に移動され、吐出部１０より吐出される薬液は液受け部１００に着液される。その結果、第１実施形態では塗布領域ＤＴ以外の箇所（製品化されない箇所）に塗布されていた薬液が、ドレーン１０２を通じて薬液回収部１２０へと流下し、薬液回収部１２０に貯留される。
【０１４０】
以上のような構成となっているため、第２実施形態の薬液塗布装置１Ａでは、塗布領域ＤＴ上にのみ薬液が塗布され、塗布領域ＤＴ以外の箇所に向けて吐出される薬液は回収される。このため、図９および図１５に示されるように、塗布領域ＤＴには薬液がより均一に塗布されることとなり、薬剤の効能を均一にすることができる。また、塗布後の当該領域の美観もいっそう高まる。
【０１４１】
また、第２実施形態の薬液塗布装置１Ａでは、薬液回収部１２０に貯留された薬液の再利用が図られるため、第１実施形態の薬液塗布装置１よりさらに薬液の使用効率に優れている。
【０１４２】
また、ディスペンサー形式の吐出部１０を採用しているためインクジェット形式の吐出部を採用する塗布装置に比べ吐出対象となる薬液の適用可能な粘度域が広いこと等、第１実施形態の薬液塗布装置１と同様の構成となっている事項に関しては、第１実施形態の薬液塗布装置１と同様の効果が得られることは言うまでもない。
【０１４３】
＜３．変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
【０１４４】
例えば、上記実施形態の吐出部１０では、アクチュエータ１４によってピストン１３を駆動させ薬液を吐出するマクロな可動圧力機構で構成される吐出機構を採用しているが、これに限られるものではない。圧空によって薬液を吐出するエア式の吐出機構を採用してもよい。
【０１４５】
上記実施形態においては、吐出部１０を水平面内で２次元的に移動させる「ＸＹ移動機構４０」と、基材シート９０を水平面に沿って１次元的に搬送する「搬送機構２０」との組合せを「搬送移動機構」として採用していたが、これに限られるものではない。
【０１４６】
例えば、吐出部１０に対して保持面９３Ｓを相対的かつ１次元的に搬送する構成として、搬送機構２０と併用するか、あるいは搬送機構２０を用いることなく、ＸＹ移動機構４０が吐出部１０をＸ方向に１次元的に移動させるような構成を採用してもよい。この場合には、ＸＹ移動機構４０が、吐出部１０をＸ方向に１次元的に移動させる機能と、吐出部１０をＸＹ面内で２次元的に移動させる機能とを合わせ持つことになる。そして、配列された複数枚の基材シート９０の塗布動作が完了すると、それらの既塗布の基材シート９０の組が搬出され、吐出部１０を初期位置に戻す。この戻り動作の間は吐出部１０からの薬液の吐出を中断してもよい。この戻り動作と並行して、新たな複数枚数の未塗布の基材シート９０が搬入されて保持面上に配列された後、吐出部１０のＸ方向の１次元的な移動と、ＸＹ面内の２次元移動との組み合わせ動作が再開される。
【０１４７】
また、吐出部１０と保持面９３Ｓとを当該保持面９３Ｓに平行な面内で２次元的に相対移動させる構成として、ＸＹ移動機構４０と併用するか、あるいはＸＹ移動機構４０を用いることなく、搬送機構２０を水平面内（ＸＹ面内）で移動させることによって、相対的なＸＹ移動を実現してもよい。この場合には、搬送機構２０における基材シート９０の保持面９３ＳをＹ方向に揺動可能な自由度を持たせてＹ方向に往復駆動させる手段を設ければ、搬送機構２０が本来有しているＸ方向の搬送機能と組みあわされることにより、１次元的な相対的搬送と２次元的な相対移動とを実現できる。
【０１４８】
また、上記実施形態の薬液塗布装置１，１Ａでは円形の基材シート９０および塗布領域ＤＴを採用していたが、これに限られるものではない。例えば、矩形状の基材シート９０および塗布領域ＤＴを採用してもよい。この場合、当該塗布領域ＤＴの形状に対応して種々の塗布パターンを採用することができる。
【０１４９】
図１６は、塗布領域ＤＴが矩形状である場合の２次元的な塗布パターンの例を示した図である。図１６（ａ）は、位置Ｐ１から位置Ｐ２へ拡大方向に周回的に移動する矩形の渦巻き型の塗布パターンＰＴ２を示している。また、図１６（ｂ）は、位置Ｐ１から位置Ｐ２へ移動する矩形の蛇腹状の塗布パターンＰＴ３を示している。
【０１５０】
また、上記実施形態においては、ＸＹ移動機構４０が２つの吐出部１０（１０ａ，１０ｂ）を一体として移動させる構成を採用していたが、これに限られるものでない。すなわち、複数の吐出部１０を採用する場合に、当該複数の吐出部１０のそれぞれにＸＹ移動機構４０を設けてもよい。この場合、複数の吐出部１０をそれぞれ独立して移動させることが可能となるため、吐出部１０毎に異なる塗布パターンを採用することができる。
【０１５１】
また、第２実施形態の薬液塗布装置１Ａにおいて、液受け部１００に排液口１０１の開閉を操作するバルブを設けてもよい。この場合、液受け部１００内に薬液が一定量貯留されるまで当該バルブを閉状態とし、薬液が一定量貯留された段階で当該バルブを開状態とすることで、液受け部１００に貯留された量の薬液をまとめてドレーン１０２を通じて薬液回収部１２０に送液することができる。このため、バルブを設けず順次に薬液を送液する場合に比べて、ドレーン１０２の内壁に付着し乾燥する薬液の量を減らすことができ、薬液の回収効率が高まる。
【０１５２】
また、第１実施形態および第２実施形態では、複数の基材シート９０がそれぞれの貼付剤ごとに島状に配列されている「事前カットタイプ」の薬液塗布装置１，１Ａが採用されているが、これに限られるものではない。すなわち、この発明は、「事後カットタイプ」の薬液塗布装置にも適用できる。
【０１５３】
図１７は、「事後カットタイプ」の基材シート９０Ｓを模式的に示す図である。図１７に示すように、「事後カットタイプ」の薬液塗布装置では、基材シート９０Ｓが１枚の大きなシートとされ、その中に円形などとされた複数の単位領域ＡＥからなる配列が規定されている。これらの単位領域ＡＥからなる配列は、制御装置８０においてその幾何学的配列が座標数値として記憶されている。各単位領域ＡＥ中に規定された塗布領域ＤＴも同様である。
【０１５４】
この基材シート９０Ｓは、第１実施形態と同様の保持体９３と重ね合わされてロール状として準備され、搬送機構２０によってそれを順次に繰り出すことによって、薬液の吐出対象物となる。薬液の吐出機構およびその制御部の構成や動作は第１実施形態や第２実施形態の薬液塗布装置１，１Ａと同様に構成可能であり、この発明の特徴に対応した薬液の連続吐出も同様に実行される。すなわち、搬送機構２０による間欠的な搬送軌跡ＣＶＰと、移動機構による吐出口１５の移動パターンＰＨｂとの組み合わせにより、図９に示す着液線９６と同様にＸ方向に延びた「開いた一筆書き」のパターンが基材シート９０上に形成される。そしてこの「事後カットタイプ」では、図１のシート供給機構６０は設けられず、薬液の塗布と乾燥とが完了した基材シートを個別の貼付剤にカット（打ち抜き）する機構によって、製品としての貼付剤が得られる。
【０１５５】
なお、上記実施形態および各種変形例をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、言うまでもない。
【符号の説明】
【０１５６】
１，１Ａ  薬液塗布装置
２，２Ａ  薬液塗布ユニット
１０，１０ａ，１０ｂ  吐出部
１５，１５ａ，１５ｂ  吐出口
２０  搬送機構
３０  薬液供給部
４０  ＸＹ移動機構
５０  乾燥部
６０  シート供給機構
７０  位置検出センサ
８０  制御部
９０  基材シート
９３  保持体
９６  着液線
９７  薬剤層
１００  液受け部
１１０  スライド機構
１２０  薬液回収部
ＤＰ  塗布領域
ＬＰ  液柱
ＲＰ  着液点
ＰＨａ，ＰＨｂ  移動パターン
ＰＳ１  液受け部１００の第１位置（薬液の流下許容位置）
ＰＳ２  液受け部１００の第２位置（薬液の阻止位置）
ＰＴ１〜ＰＴ３  塗布パターン
ＲＰＴ１  戻りパターン
【図１】
2014108368.tif 000003
【図２】
2014108368.tif 000004
【図３】
2014108368.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014108368.tif 000009
【図８】
2014108368.tif 000010
【図９】
2014108368.tif 000011
【図１０】
2014108368.tif 000012
【図１１】
2014108368.tif 000013
【図１２】
2014108368.tif 000014
【図１３】
2014108368.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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