(57)【要約】【課題】プレート部材の主表面に形成された凸部と、この凸部を覆うように形成された反射膜とを備えた加飾プレートにおいて、意匠性の向上が図られた加飾プレートの製造方法および加飾プレートを提供する。【解決手段】加飾プレートの製造方法は、厚さ方向に配列する第１主表面１７および第２主表面１６を有する透光基板１４を準備し、第１主表面１７に透光基板１４とは異なる透光部材を用いて凸部３０を形成する工程と、凸部３０が形成された第１主表面１７上に光干渉膜である反射層３１を形成する工程と、反射層３１上に遮光層３２を形成する工程とを備え、反射層３１は、入射した光の一部を反射する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を有する透光基板を準備し、前記第１主表面に前記透光基板とは異なる透光部材を用いて凸部を形成する工程と、
前記凸部が形成された前記第１主表面上に光干渉膜である反射層を形成する工程と、
前記反射層上に遮光層を形成する工程とを備え、
前記反射層は、入射した光の一部を反射する、加飾プレートの製造方法。
【請求項２】
前記透光基板は、ダイレクト成形によって形成されたガラス部材である、請求項１に記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項３】
前記透光基板は、リヒートプレス成形によって形成されたガラス部材である、請求項１に記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項４】
前記凸部は、前記透光基板に透明樹脂を印刷することで形成された、請求項１または３に記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項５】
前記透明樹脂上に形成された前記反射層に装飾を施す工程をさらに備えた、請求項４に記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項６】
前記反射層を真空薄膜製法で形成することで、前記反射層に装飾を施す、請求項５に記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項７】
前記真空薄膜製法は、ＲＡＳ（Radical  Assisted  Sputtering）法またはイオンビームアシスト蒸着（Ion-beam.  Assisted  Deposition：ＩＡＤ）法である、請求項６に記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項８】
前記反射層に装飾を施す工程は、前記透明樹脂および前記反射層に加熱処理を施す工程である、請求項５に記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項９】
前記加熱処理を施す工程は、前記遮光層を形成した後に前記遮光層を加熱乾燥する工程である、請求項８に記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項１０】
前記第１主表面からの前記凸部の高さは、４０μｍより小さい、請求項１から請求項９のいずれかに記載の加飾プレートの製造方法。
【請求項１１】
厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を有する透光基板と、
前記第１主表面に前記透光基板とは異なる透光部材を用いて形成された凹部と、
前記第１主表面を覆うように形成された反射層と、
前記反射層上に形成された遮光層と、
を備え、
前記反射層は、光干渉膜であり、入射した光の一部を反射する、加飾プレート。
【請求項１２】
前記凸部は、透明樹脂によって形成された、請求項１１に記載の加飾プレート。
【請求項１３】
前記反射層には、シワまたは割れが形成された、請求項１１または請求項１２に記載の加飾プレート。
【請求項１４】
前記加飾プレートは、ディスプレイ装置の表示領域を覆うように設けられるカバープレートである、請求項１１から請求項１３のいずれかに記載の加飾プレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加飾プレートの製造方法および加飾プレートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から加飾ガラスについて各種提案されている。たとえば、特開２０１１−２５１５３８号公報（特許文献１）に記載された装飾体は、光を透過する透明層と、透明層下に設けられた画素層と、画素層下に設けられた平凸レンズ層と、平凸レンズ層下に設けられた反射層とを含む。画素層は、複数の画素を含む。平凸レンズ層は、アレイ状に配列する複数の平凸レンズを含む。平凸レンズの平面側から目視した際に、画素越しに目視できる球面状の平凸レンズが反射層で反射された光を集光することによって、画素の集合体からなる画像が現出する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２５１５３８号公報
【特許文献２】特開２００７−３８５５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特開２０１１−２５１５３８号公報（特許文献１）に記載された装飾体は、外光を用いて、観察者に画像を視認させる必要がある。装飾体に設けられた反射層は入射した外光を全反射すると共に、平凸レンズは、反射した光を所定位置に集光する必要がある。
【０００５】
その一方で、複数の画素を用いて画像を表示することを目的とせず、ガラス部材の主表面に形成した凹凸部と、この凹凸部を覆う反射層とで装飾性の向上を図る場合には、外光からの光をそのまま反射したのでは、加飾ガラスの意匠性が悪い。
【０００６】
本発明は、上記のような課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、プレート部材の主表面に形成された凸部と、この凸部を覆うように形成された反射膜とを備えた加飾プレートにおいて、意匠性の向上が図られた加飾プレートの製造方法および加飾プレートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る加飾プレートの製造方法は、厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を有する透光基板を準備し、上記第１主表面に上記透光基板とは異なる透光部材を用いて凸部を形成する工程と、上記凸部が形成された上記第１主表面上に光干渉膜である反射層を形成する工程と、上記反射層上に遮光層を形成する工程とを備え、上記反射層は、入射した光の一部を反射する。
【０００８】
好ましくは、上記透光基板は、ダイレクト成形によって形成されたガラス部材である。
好ましくは、上記透光基板は、リヒートプレス成形によって形成されたガラス部材である。
【０００９】
好ましくは、上記凸部は、上記透光基板に透明樹脂を印刷することで形成されている。
好ましくは、上記透明樹脂上に形成された上記反射層に装飾を施す工程をさらに備えている。
【００１０】
好ましくは、上記反射層を真空薄膜製法で形成することで、上記反射層に装飾を施す。
好ましくは、上記真空薄膜製法は、ＲＡＳ（Radical  Assisted  Sputtering）法またはイオンビームアシスト蒸着(Ion-beam.  Assisted  Deposition：ＩＡＤ)法である。
【００１１】
好ましくは、上記反射層に装飾を施す工程は、上記透明樹脂および上記反射層に加熱処理を施す工程である。
【００１２】
好ましくは、上記加熱処理を施す工程は、上記遮光層を形成した後に上記遮光層を加熱乾燥する工程である。
【００１３】
好ましくは、上記第１主表面からの上記凸部の高さは、４０μｍより小さい。
本発明に係る加飾プレートは、厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を有する透光基板と、上記第１主表面に上記透光基板とは異なる透光部材を用いて形成された凹部と、上記第１主表面を覆うように形成された反射層と、上記反射層上に形成された遮光層と、を備え、上記反射層は、光干渉膜であり、入射した光の一部を反射する。
【００１４】
好ましくは、上記凸部は、透明樹脂によって形成されている。
好ましくは、上記反射層には、シワまたは割れが形成されている。
【００１５】
好ましくは、上記加飾プレートは、ディスプレイ装置の表示領域を覆うように設けられるカバープレートである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る加飾プレートの製造方法および加飾プレートによれば、意匠性の向上が図られた加飾プレートを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】ディスプレイ装置を示す分解斜視図である。
【図２】図１に示すＩＩ−ＩＩ線における断面図である。
【図３】ディスプレイ装置を示す斜視図である。
【図４】図３に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線における断面図である。
【図５】図４中のＶで囲まれた領域の部分拡大断面図である。
【図６】樹脂部および反射層を示す写真である。
【図７】図６に示す樹脂部および反射層を模式的に示す図である。
【図８】加飾カバープレートの製造工程の第１工程を示す断面図である。
【図９】ガラス基板を示す断面図である。
【図１０】加飾カバープレートの製造工程の第２工程を示す断面図である。
【図１１】図１０に示す樹脂部およびその周囲を示す断面図である。
【図１２】主表面上に印刷された樹脂部を示す写真である。
【図１３】加飾カバープレートの製造工程の第３工程を示す断面図である。
【図１４】光学薄膜層を形成した時における樹脂部および光学薄膜層を示す写真である。
【図１５】加飾カバープレートの製造工程の第４工程を示す断面図である。
【図１６】加飾カバープレートの製造工程の第５工程を示す断面図である。
【図１７】変形例１に係る加飾カバープレートの一部を示す写真であり、図１８は、図を模式的に示した模式図である。
【図１８】ガラス基板の主表面側から観察したときの平面図である。
【図１９】図１８におけるＸＩＸ−ＸＩＸ線における断面図である。
【図２０】脂部の表面にシワが形成された加飾カバープレートの製造方法を示す断面図である。
【図２１】図２０に示す工程時における樹脂部および反射層を示す写真である。
【図２２】図２１を模式的に示す平面図である。
【図２３】実施例１に係る加飾カバープレートの加飾層を示す断面図である。
【図２４】図２３に示すように光を入射させたときの光の反射率（％）を示す図である。
【図２５】本実施の形態における加飾カバープレートの他の形態を示す部分拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明に基づいた実施の形態および各実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および各実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および各実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。
【００１９】
本実施の形態に係る加飾プレート、当該加飾プレートを備えた画像表示装置および加飾プレートの製造方法について説明する。ディスプレイ装置１００は、上方に向けて開口する開口部が形成されたケース１と、ケース１内に収容された表示ユニット２と、表示ユニット２の上面に配置された接着フィルム３と、接着フィルム３上に配置された加飾カバープレート４とを備える。
【００２０】
図２は、図１に示すＩＩ−ＩＩ線における断面図である。この図２に示すように、ケース１は、有底状に形成されている。表示ユニット２は、液晶表示装置１０と、液晶表示装置１０上に設けられたタッチパネル１１とを含む。液晶表示装置１０は、画像が表示される画像表示領域１２と、画像が表示されない非表示領域１３とを含む。
【００２１】
非表示領域１３には、たとえば、使用者によって操作されるボタン２０、図示しない駆動回路およびスピーカなどが設けられている。駆動回路には、配線基板、プリント基板および電子機器などが含まれる。
【００２２】
タッチパネル１１は、少なくとも画像表示領域１２を覆うように設けられている。タッチパネル１１は、画像表示領域１２に表示された画像を観察者が観察可能なように形成されている。タッチパネル１１は、透明基板と、この透明基板の上面上に形成された透明電極と、この透明電極を覆うように形成された透明樹脂などを含む。タッチパネル１１は、使用者が指などで触った位置を検知可能なように形成されている。タッチパネル１１には、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種の方式がある。タッチパネル１１は、必ずしも必須の構成ではない。
【００２３】
接着フィルム３は、粘着性のシートであり、加飾カバープレート４を接着フィルム３の上面上に接着させる。接着フィルム３には、ボタン２０の形状に対応した開口部２１が形成されている。スピーカーの形状に対応した開口部を形成してもよい。
【００２４】
加飾カバープレート４は、板状に形成された透明基板としてのガラス基板１４を含み、その厚さ方向に配列する主表面１６と主表面１７とを有する。主表面１６は、ディスプレイ装置１００の外表面側の面である。主表面１７は、ディスプレイ装置１００の内側に位置する面である。ガラス基板１４の主表面１７側には、加飾層１５が形成されている。
【００２５】
加飾層１５は、非表示領域１３の上方に形成されている。加飾層１５には、画像表示領域１２およびタッチパネル１１が外部から観察可能なように開口部１８が形成されている。加飾層１５の具体的な構成については後述する。
【００２６】
図３は、ディスプレイ装置１００を示す斜視図であり、図４は、図３に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線における断面図である。
【００２７】
図３および図４において、ボタン２０は、接着フィルム３に形成された開口部２１と、加飾カバープレート４に形成された開口部２２とを通り外部に露出する。
【００２８】
ディスプレイ装置１００を外部から観察すると、観察者は、加飾層１５が形成された加飾領域Ｒ１３では、ガラス基板１４を通して加飾層１５を観察する。これにより、非表示領域１３に設けられた駆動回路などが観察者によって見られることが抑制されている。加飾層１５が形成される領域および形状は、非表示領域１３の形状に合わせて適宜変更される。
【００２９】
観察者がディスプレイ装置１００を観察すると、観察者は、加飾層１５が形成されていない観察領域Ｒ１２において、ガラス基板１４、開口部１８および接着フィルム３を通して、タッチパネル１１および画像表示領域１２を観察する。
【００３０】
図５は、図４中のＶで囲まれた領域の部分拡大断面図であり、加飾層１５およびその周囲に位置する部材の構成を示す断面図である。この図５に示すように、加飾層１５は、ガラス基板１４の主表面１７に形成されている。
【００３１】
加飾層１５は、主表面１７に間隔をあけて形成された複数の樹脂部３０と、この樹脂部３０を覆うように形成された反射層３１と、この反射層３１を覆うように形成された遮光層３２とを含む。
【００３２】
遮光層３２としては、たとえば、黒色樹脂などを採用することができる。遮光層３２の膜厚は、数μｍ〜数十μｍ程度であり、たとえば、４０μｍ以下である。換言すれば、加飾層１５の主表面１７からの高さＨ２は、４０μｍ以下とされている。
【００３３】
凸部を構成する樹脂部３０は、透明樹脂によって形成されており、たとえば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂などを採用することができる。本実施の形態では、隣接する樹脂部３０同士の間において凹部が形成され、全体として、加飾層１５には、凹凸形状が形成される。
【００３４】
樹脂部３０の高さＨ１は、たとえば、４０μｍより低い。好ましくは、樹脂部３０の高さＨ１は、２０μｍ未満である。さらに、好ましくは、樹脂部３０の高さＨ１は、１μｍ以上１０μｍ以下である。
【００３５】
反射層３１は、複数の光学薄膜層３３，３４を積層させることで形成されている。光学薄膜層３３，３４は、互いに光学的効果が異なる金属酸化物、シリコン酸化膜などから形成されている。
【００３６】
たとえば、光学薄膜層３３，３４をＲＡＳ（Radical  Assisted  Sputtering）法で形成する場合には、ＳｉＯ２，Ｎｂ２Ｏ５などを採用することができる。光学薄膜層３３，３４をイオンビームアシスト蒸着(Ion-beam  Assisted  Deposition：ＩＡＤ)法で形成する場合には、ＳｉＯ２，Ｎｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Substance  Ｈ４(メルク社製：ＬａＴｉＯｘ)などを採用することができる。このように、遮光層３２の上面上に、光の屈折率の異なる屈折率材料を積層することで、反射層３１は、光干渉膜として機能する。
【００３７】
反射層３１が設けられていないと、遮光層３２の屈折率と樹脂部３０の屈折率とが近いため、観察者は、樹脂部３０によって形成された凹凸を視認し難い。このため、反射層３１が形成されていない場合には、加飾層１５の意匠効果が低くなる。
【００３８】
本実施の形態に係る加飾層１５においては、樹脂部３０を覆う反射層３１が形成されている。この構成により、反射層３１からの反射光によって、複数の樹脂部３０によって形成された凹凸形状を明瞭に観察者は観察することができる。
【００３９】
このように、樹脂部３０上に光干渉膜である反射層３１を形成することで、観察者は、主表面１７に形成された凹凸形状を良好に視認することができる。
【００４０】
たとえば、反射層３１は、特定の波長域の光の反射率が高く、反射層３１を観察する方向の角度依存性を有する。
【００４１】
このため、反射層３１を見る方向によっては、例えば反射層３１が青色に見え、反射層３１を見る方向を変えると、反射層３１が紫色に見えたりする。
【００４２】
本実施の形態では、反射層３１は光学薄膜層３３，３４の２層で構成されているが、これに限るものではない。反射層３１は、１層でもいいし、３層以上でもよい。反射させたい色調に応じて、層数、膜厚、膜材料を適宜選択すればよい。反射色は無色（遮光層３２のため黒色）であっても凹凸形状を明瞭に観察することができるが、反射光に色がついているほうが意匠効果は高い。
【００４３】
図６は、樹脂部３０および反射層３１を示す写真であり、図７は、図６に示す樹脂部３０および反射層３１を模式的に示す模式図である。図６および図７においてはガラス基板１４の主表面１６側から観察したときの平面図である。図６および図７において、反射層３１のうち、樹脂部３０上に位置する部分には、割れ３５が形成されている。その一方で、この図６，７に示す例においては、反射層３１のうち、ガラス基板１４の主表面１７上に位置する部分には、割れ３５は形成されていない。
【００４４】
反射層３１のうち主表面１７上に位置する部分に、割れ３５が全く形成されていない場合に限られない。すなわち、反射層３１のうち主表面１７上に位置する部分に形成された割れ３５の割合よりも、反射層３１のうち樹脂部３０上に位置する部分に形成された割れ３５の割合の方が高い。
【００４５】
このように、反射層３１に割れ３５が形成されることで、樹脂部３０によって形成された凹凸形状の視認性をさらに向上させることができる。凹凸形状にマット状の装飾を施すことができ、意匠効果も高まる。
【００４６】
図５において、接着フィルム３は、加飾層１５を覆うと共に、開口部１８内に入り込み、開口部１８内に位置する主表面１７にも接触しており、加飾カバープレート４と表示ユニット２とを接着している。接着フィルム３としては、加飾カバープレート４と表示ユニット２とを接着する部材であれば、接着剤でもよく、両面テープであってもよい。
【００４７】
図８から図１６を用いて加飾カバープレート４の製造方法について説明する。図８に示すように、まず、成形用金型６０を準備する。下型６１の上面には平坦面状の成形面６３が形成されている。上型６２の下面には凹形状のキャビティー６６が形成されている。次に、成形面６３に、溶融ガラス７０（カバー本体素材）を成形面６３上に供給する。
【００４８】
上型６２が下型６１に向けて下降し、溶融ガラス７０がキャビティー６６内に入り込む。その後、溶融ガラス７０が冷却されることで、ガラス基板１４が形成される。このように、ガラス基板１４をダイレクトプレス法で形成してもよい。ダイレクトプレス法に限定されず、リヒートプレス法でガラス基板１４を形成するようにしてもよい。リヒートプレス法を使用する場合、ガラス板材から所定の形状を有するガラスゴブを形成し、そのガラスゴブを金型上で再溶融する。その後、再溶融したガラスゴブをプレス加工することにより、図９に示す、ガラス基板１４を得ることができる。ガラス基板１４には、上述したダイレクトプレス法およびリヒートプレス法で製造されたガラスに限定されず、フロートガラス、研磨ガラスであってもよい。
【００４９】
次に、図１０および図１１に示すように、ガラス基板１４の主表面１７に、ガラス基板１４とは異なる透光部材である樹脂材料を用いて、複数の樹脂部３０が印刷される。図１２は、主表面１７上に印刷された樹脂部３０を示す写真である。
【００５０】
次に、図１３に示すように、樹脂部３０を覆うように、主表面１７上に光学薄膜層３３および光学薄膜層３４を形成する。光学薄膜層３３，３４は、たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法などの真空薄膜製法を採用する。図１４は、光学薄膜層３３，３４を形成した時における樹脂部３０および光学薄膜層３３、３４を示す写真である。
【００５１】
次に、図１５に示すように、光学薄膜層３４上に遮光層３２を印刷する。次に、印刷された遮光層３２を乾燥させるために、遮光層３２が形成されたガラス基板１４に加熱処理を施す。この際、樹脂部３０の熱膨張係数は、光学薄膜層３３，３４の熱膨張係数よりも大きいため、光学薄膜層３３，３４に割れが発生し、図６および図７に示す割れ３５が形成される。
【００５２】
この際、ガラス基板１４の熱膨張係数と光学薄膜層３３，３４の熱膨張係数との差は、樹脂部３０の熱膨張係数と光学薄膜層３３，３４の熱膨張係数との差よりも小さいため、光学薄膜層３３，３４のうち、主表面１７上に位置する部分には、割れが発生し難い。
【００５３】
遮光層３２から露出する光学薄膜層３３，３４を除去することで、加飾カバープレート４を作製することができる。画像表示領域１２を覆う領域から光学薄膜層３３，３４を除去する方法としては、ガラス基板１４の遮光層３２を有さない領域（画像表示領域１２を覆う領域）に予めマスク処理を行った後に光学薄膜層３３，３４を形成し、マスクをガラス基板１４から剥離してもよい。
【００５４】
作製された加飾カバープレート４と、表示ユニット２などを組み付けて（図１および図２中のＡＲ１方向）ディスプレイ装置１００を作製する際には、図２に示すように、表示ユニット２と加飾カバープレート４とを接着フィルム３で接着させる。
【００５５】
この際、図５において、加飾層１５の高さＨ２が４０μｍ以下であるので、開口部１８の内周面と主表面１７とによって形成される角部に空気（気泡）が残留することを抑制することができる。
【００５６】
樹脂部３０の高さＨ１も４０μｍよりも小さく、このような高さに樹脂部３０を設定することで、樹脂部３０の間に気泡が入り込むことを抑制することができると共に、加飾層１５の高さＨ２を４０μｍ以下にすることができる。
【００５７】
樹脂部３０の高さは、好ましくは、高さＨ１は、２０μｍ未満である。このような高さに設定することで、遮光層３２の膜厚を確保しつつ、加飾層１５の高さＨ２が４０μｍ以下とすることができる。
【００５８】
樹脂部３０の高さＨ１は、１μｍ以上１０μｍ以下であり、１μｍよりも小さくなると、観察者が樹脂部３０によって形成された凹凸形状を視認し難くなる。樹脂部３０の高さを１０μｍ以下とすることで、遮光層３２の膜厚を確保しつつ、加飾層１５を薄くすることができる。これに伴い、加飾カバープレート４も薄くすることができる。
【００５９】
［変形例］
図１７から図１９を用いて、加飾カバープレート４の変形例について説明する。図１７は、変形例１に係る加飾カバープレート４の一部を示す写真であり、図１８は、図１７を模式的に示した図である。図１９は、図１８におけるＸＩＸ−ＸＩＸ線における断面図である。図１７および図１８は、ガラス基板１４の主表面１６側から観察したときの平面図である。
【００６０】
これら図１７から図１９に示すように、樹脂部３０の表面には、シワ３６が形成されており、光学薄膜層３３，３４は、シワ３６が形成された樹脂部３０の表面に沿って形成されている。
【００６１】
このように、シワ３６が形成されることで、樹脂部３０によって形成される凹凸形状にシボ調の装飾、マット状の装飾を施すことができる。これにより、加飾カバープレート４の意匠性を高めることができる。
【００６２】
このように、樹脂部３０の表面にシワ３６が形成された加飾カバープレート４の製造方法について、図２０を用いて説明する。
【００６３】
図２０に示すように、光学薄膜層３３，３４を樹脂部３０の上面に形成する工程において、光学薄膜層３３，３４を、ＲＡＳ（Radical  Assisted  Sputtering）法またはイオンビームアシスト蒸着（Ion-beam.  Assisted  Deposition：ＩＡＤ）法で形成する。
【００６４】
上記２つの真空薄膜法によれば、応力の高い光学薄膜層３３，３４を形成することができる。これにより、樹脂部３０が光学薄膜層３３，３４からの応力によって変形して、樹脂部３０の表面にシワ３６が形成される。
【００６５】
図２１は、図２０に示す工程時における樹脂部３０および反射層３１を示す写真であり、図２２は、図２１を模式的に示す平面図である。図２１および図２２は、ガラス基板１４の主表面１６側から観察したときの平面図である。
【００６６】
この図２１および図２２に示すように、樹脂部３０の表面にシワ３６が形成される。シワ３６は、反射層３１のうち、樹脂部３０上に位置する部分に形成され、反射層３１のうち、主表面１７上に位置する部分には殆ど形成されない。ガラス基板１４の硬度が高いため、光学薄膜層３３，３４からの応力によってガラス基板１４の主表面１７が変形しないためである。
【００６７】
このように、樹脂部３０の上面に光学薄膜層３３，３４を形成した後、遮光層３２を印刷し、その後、遮光層３２から露出する光学薄膜層３３，３４を除去することで、変形例１に係る加飾カバープレート４を形成することができる。
【００６８】
上記実施の形態においては、加飾層１５に複数の樹脂部３０を形成することで、主表面１７に凹凸形状を形成しているが、樹脂部３０で文字、イラストを形成してもよい。
【００６９】
上記実施の形態においては、加飾カバープレート４をディスプレイ装置１００のカバーガラスに適用した例について説明したが、加飾カバープレート４の適用例としては、たとえば、デジタルカメラ、携帯電話の通信機器の筐体の加飾ガラスにも適用することができる。
【実施例１】
【００７０】
図２３および図２４を用いて、実施例１に係る加飾カバープレート４の反射特性について説明する。
【００７１】
図２３は、実施例１に係る加飾カバープレート４の加飾層１５を示す断面図である。この図２３に示す例においては、光学薄膜層３３はSubstance  Ｈ４であり、この光学薄膜層３３の屈折率（ｎ）は、５００ｎｍの光において、１．８５である。この光学薄膜層３３の膜厚は、１０７．２７（ｎｍ）である。
【００７２】
光学薄膜層３４は、ＴｉＯ２である。光学薄膜層３４の屈折率（ｎ）は、５００ｎｍの光において、２．２である。この光学薄膜層３３の膜厚は、２７．１１（ｎｍ）である。
【００７３】
図２４は、上記図２３に示すように光を入射させたときの光の反射率（％）を示すグラフである。このグラフに示すように、波長によって光の反射率が変化することが分かる。反射光の色度は、加飾カバープレート４に対して垂直方向から観察した場合、白色光源に対して、Ｘ＝０．２１４およびＹ＝０．１３５である。
【００７４】
（他の実施の形態）
図２５に、加飾カバープレート４の他の形態を示す。上記実施の形態では、厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を有する透光基板として、ガラス基板１４を用いた場合について説明したが、ガラス基板１４に限定されるものではない。図２５に示すように、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂などを用いた、透明樹脂基板１４Ａを用いてもよい。
【００７５】
以上、本発明に基づいた各実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された各実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明は、加飾プレートの製造方法および加飾プレートに適用することができる。
【符号の説明】
【００７７】
１  ケース、２  表示ユニット、３  接着フィルム、４  加飾カバープレート、１０  液晶表示装置、１１  タッチパネル、１２  画像表示領域、１３  非表示領域、１４  ガラス基板、１４Ａ  透明樹脂基板、１５  加飾層、１６，１７  主表面、１８，２１，２２  開口部、２０  ボタン、３０  樹脂部、３１  反射層、３２  遮光層、３３，３４  光学薄膜層、３５  割れ、３６  シワ、６０  成形用金型、６１  下型、６２  上型、６３  成形面、６６  キャビティー、７０  溶融ガラス。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１３】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図６】
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【図１２】
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【図１４】
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【図１７】
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【図２１】
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