(57)【要約】      （修正有）【課題】化粧料の塗布部と非塗布部の境界が目立たないメーキャップ装置及びメーキャップ方法を提供する。【解決手段】メーキャップ領域に化粧料を塗布するメーキャップ装置であって、メーキャップ領域のサイズが噴射ノズルが１ショットで霧化塗布する１ショット塗布部のサイズよりも小さい時は、メーキャップ領域の中央位置に霧化塗布することにより１ショット塗布部を形成し、メーキャップ領域のサイズが１ショット塗布部のサイズよりも大きい時は、メーキャップ領域の抽出された輪郭よりも内側に色差に対応して設定された間隔ｒをおいて霧化塗布を実施する。【選択図】図６
2014090872.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
肌上のメーキャップ領域に化粧料を塗布するメーキャップ装置であって、
前記メーキャップ領域を含む画像を読み取る画像取得手段と、
前記メーキャップ領域に化粧料を霧化塗布する塗布手段と、
前記画像から、前記メーキャップ領域と当該メーキャップ領域の輪郭とを抽出する抽出手段と、
抽出された前記メーキャップ領域のサイズを検出するサイズ検出手段と、
抽出された前記メーキャップ領域と該メーキャップ領域の外部領域の色差を検出する色差検出手段と、
前記化粧料の塗布位置を設定し、前記塗布手段を制御することにより当該塗布位置に前記化粧料を塗布させる制御手段とを有し、
前記制御手段は、
前記サイズ検出手段により検出された前記メーキャップ領域のサイズが、前記塗布手段が１ショットで霧化塗布するサイズよりも小さい時は、前記塗布手段により前記メーキャップ領域の中央位置に１ショットの霧化塗布を実施し、
前記サイズ検出手段により検出された前記メーキャップ領域のサイズが、前記塗布手段が１ショットで霧化塗布するサイズよりも大きい時は、前記抽出手段により抽出された前記輪郭よりも内側に、前記色差に対応して設定された間隔をおいて前記塗布手段による霧化塗布を実施することを特徴するメーキャップ装置。
【請求項２】
前記制御手段は、
前記間隔を、前記外部領域と前記メーキャップ領域の色差に応じて変化させることを特徴とする請求項１記載のメーキャップ装置。
【請求項３】
前記間隔は、前記色差が大きいほど小さく設定することを特徴とする請求項２記載のメーキャップ装置。
【請求項４】
前記メーキャップ領域内に前記間隔を一辺とする正三角形を配置する塗布位置設定手段を更に設け、
前記制御手段は、前記塗布位置設定手段により設定された前記正三角形の頂点の位置を前記塗布位置に設定することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のメーキャップ装置。
【請求項５】
化粧料を塗布するメーキャップ領域を含む肌の画像を撮像手段により読み取り、当該画像に基づき前記メーキャップ領域に化粧料を塗布手段を用いて霧化塗布するメーキャップ方法であって、
前記画像から、前記メーキャップ領域と当該メーキャップ領域の輪郭とを抽出する抽出ステップと、
抽出された前記メーキャップ領域のサイズを検出するサイズ検出ステップと、
抽出された前記メーキャップ領域と該メーキャップ領域の外部領域の色差を検出する色差検出ステップと、
前記サイズ検出ステップで検出された前記メーキャップ領域のサイズが、前記塗布手段が１ショットで霧化塗布するサイズよりも小さい時は、前記塗布手段により前記メーキャップ領域の中央位置に１ショットの霧化塗布を実施し、前記メーキャップ領域のサイズが、前記塗布手段が１ショットで霧化塗布するサイズよりも大きい時は、前記抽出ステップで抽出された前記輪郭よりも内側に、前記色差に対応して設定された間隔をおいて前記塗布手段による霧化塗布を実施する第１の塗布ステップと
を有することを特徴するメーキャップ方法。
【請求項６】
前記間隔を、前記外部領域と前記メーキャップ領域の色差に応じて変化させることを特徴とする請求項５記載のメーキャップ方法。
【請求項７】
前記間隔は、前記色差が大きくなるのに従い小さくなるよう設定されることを特徴とする請求項６記載のメーキャップ方法。
【請求項８】
前記メーキャップ領域内に前記間隔を一辺とする正三角形を配置する塗布位置設定ステップを更に設け、
前記第１の塗布ステップでは、前記塗布位置設定ステップで設定された前記正三角形の頂点の位置を塗布位置に設定することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載のメーキャップ方法。
【請求項９】
前記第１の塗布ステップを実施する前又は実施した後に、前記メーキャップ領域を含む肌上に前記第１の塗布ステップで使用する化粧料に比べて低濃度の化粧料を塗布する第２の塗布ステップを実施することを特徴とする請求項５乃至８のいずれか一項に記載のメーキャップ方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メーキャップ領域に液状の化粧料を吐出して塗布するメーキャップ装置及びメーキャップ方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、化粧料をブラシ等により塗布するのに代えて、化粧を行おうとする部位の画像（例えば顔等の画像）を撮像カメラ等により撮影し、この画像データを用いて化粧を行うメーキャップ領域を抽出し、このメーキャップ領域にノズルから液状の化粧料を吐出しメーキャップを行うメーキャップ装置が提案されている（特許文献１）。
【０００３】
このメーキャップ装置によれば、顔のシミやそばかす等の色差がある部分に、適量の化粧料を塗布することが可能となり、よって顔のシミやそばかす等を違和感なく簡便に補正することが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２７１６５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、化粧料と肌色とには光学特性（明度、色相、質感）の差異が生ずるため、化粧料を塗布したメーキャップ領域と、それ以外の部分とには見た目の差が生ずる。この差は塗布量が多いほど大きい。しかしながら、化粧料の塗布量が十分でないと、色ムラの補正効果が得られないという問題点があった。
【０００６】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、メーキャップ領域に十分な化粧料の塗布を行いつつ、化粧料の塗布部と非塗布部の境界が目立たないメーキャップ装置及びメーキャップ方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題は、第１の観点からは、
メーキャップ領域に化粧料を塗布するメーキャップ装置であって、
前記メーキャップ領域を含む画像を読み取る画像取得手段と、
前記メーキャップ領域に化粧料を霧化塗布する塗布手段と、
前記画像から、前記メーキャップ領域と当該メーキャップ領域の輪郭とを抽出する抽出手段と、
抽出された前記メーキャップ領域のサイズを検出するサイズ検出手段と、
抽出された前記メーキャップ領域と該メーキャップ領域の外部領域の色差を検出する色差検出手段と、
前記化粧料の塗布位置を設定し、前記塗布手段を制御することにより当該塗布位置に前記化粧料を塗布させる制御手段とを有し、
前記制御手段は、
前記サイズ検出手段により検出された前記メーキャップ領域のサイズが、前記塗布手段が１ショットで霧化塗布するサイズよりも小さい時は、前記塗布手段により前記メーキャップ領域の中央位置に１ショットの霧化塗布を実施し、
前記サイズ検出手段により検出された前記メーキャップ領域のサイズが、前記塗布手段が１ショットで霧化塗布するサイズよりも大きい時は、前記抽出手段により抽出された前記輪郭よりも内側に、前記色差に対応して設定された間隔をおいて前記塗布手段による霧化塗布を実施することを特徴するメーキャップ装置により解決することができる。
【０００８】
上記の課題は、第２の観点からは、
化粧料を塗布するメーキャップ領域を含む画像を撮像手段により読み取り、当該画像に基づき前記メーキャップ領域に化粧料を塗布手段を用いて霧化塗布するメーキャップ方法であって、
前記画像から、前記メーキャップ領域と当該メーキャップ領域の輪郭とを抽出する抽出ステップと、
抽出された前記メーキャップ領域のサイズを検出するサイズ検出ステップと、
抽出された前記メーキャップ領域と該メーキャップ領域の外部領域の色差を検出する色差検出ステップと、
前記サイズ検出ステップで検出された前記メーキャップ領域のサイズが、前記塗布手段が１ショットで霧化塗布するサイズよりも小さい時は、前記塗布手段により前記メーキャップ領域の中央位置に１ショットの霧化塗布を実施し、前記メーキャップ領域のサイズが、前記塗布手段が１ショットで霧化塗布するサイズよりも大きい時は、前記抽出ステップで抽出された前記輪郭よりも内側に、前記色差に対応して設定された間隔をおいて前記塗布手段による霧化塗布を実施する塗布ステップと
を有することを特徴するメーキャップ方法により解決することができる。
【発明の効果】
【０００９】
開示の発明によれば、メーキャップ領域に十分な化粧料の塗布を行いつつ、メーキャップ領域の輪郭における化粧料の塗布部と非塗布部の境界を目立たなくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の一実施形態であるメーキャップ装置の全体構成図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態であるメーキャップ装置の機能構成図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態であるメーキャップ装置のハード構成図である。
【図４】図４は、取り込む画像の領域の一例を示す図である。
【図５】図５は、画像領域内のメーキャップ領域を拡大して示す図である。
【図６】図６は、本発明の一実施形態であるメーキャップ装置が実施するメーキャップ処理を説明するためのフローチャートである。
【図７】図７は、塗布装置を構成する噴射ノズルを拡大して示す図である。
【図８】図８は、１ショット塗布部６０Ｄと噴射距離との関係を説明するための図である。
【図９】図９は、メーキャップ領域が１ショット塗布部よりも小さい時の塗布位置の決定方法を説明するための図である。
【図１０】図１０は、メーキャップ領域が１ショット塗布部よりも大きい時の塗布位置の決定方法を説明するための図である（その１）。
【図１１】図１０は、メーキャップ領域が１ショット塗布部よりも大きい時の塗布位置の決定方法を説明するための図である（その２）。
【図１２】図１２は、塗布位置間のピッチを決める方法を説明するための図である（その１）。
【図１３】図１３は、塗布位置間のピッチを決める方法を説明するための図である（その２）。
【図１４】図１４は、塗布位置間のピッチを決める方法を説明するための図である（その３）。
【図１５】図１５は、参考例である塗布位置の座標を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
次に、本発明の実施の形態について図面と共に説明する。
【００１２】
図１は、本発明の一実施形態であるメーキャップ装置１０の全体構成図を示している。同図に示すように、メーキャップ装置１０は、パーソナルコンピュータ１、画像取得手段１４、及び塗布手段１６等により構成されている。
【００１３】
このメーキャップ装置１０は図２に示す機能構成を有しており、入力手段１１，出力手段１２，記録手段１３，画像取得手段１４，画像解析手段１５，及び制御手段１７等を設けている。また、画像解析手段１５は、抽出手段１８、サイズ検出手段１９、及び色差検出手段２０を有して構成されている。
【００１４】
入力手段１１は、例えばキーボードや、マウス等のポインティングデバイス等からなり、ユーザ等からの画像取得指示や、画像解析指示、後述するメーキャップ処理の開始、終了等の入力を受け付ける。また本実施形態では、後述する画像取得手段１４により読み取られる画像も、この入力手段１１を介して入力される構成としている。
【００１５】
出力手段１２は、例えばディスプレイ等からなり、入力手段１１により入力された内容や、入力内容に基づいて実行された内容等の表示・出力を行う。また本実施形態では、後述する塗布手段１６の駆動も、この出力手段１２を介して実施される構成としている。
【００１６】
記録手段１３は、画像取得手段１４により取得された画像、画像解析手段１５によって解析された結果等の各種データを記録する。また、記録手段１３は、必要に応じて記録されている各種データを読み出すことができる。
【００１７】
画像取得手段１４は、メーキャップを実施する者（以下、施術者Ａという）のメーキャップ領域を含む所定の領域の画像を撮影する。本実施形態では、施術者Ａの顔に発生したシミ、そばかす等の色差がある部位に化粧料を塗布するメーキャップを例に挙げて説明する。
【００１８】
このため本実施形態では、図４に示すように施術者Ａのシミ、そばかす等の色差がある部位を含む領域を画像取得手段１４により画像を読み取る領域（以下、この領域を画像領域３０という）としている。施術者Ａの肌ＡＡは凹凸を有しているが、この画像領域３０のサイズは擬似的に肌ＡＡを平面とみなすことができるサイズに設定されている。具体的には、部位により異なるが、画像領域３０は例えば□5cm以下のサイズで設定される。
【００１９】
なお以下の説明において、シミ、そばかす等の外部に対して色差がある部位であって、施術者Ａが化粧料を塗布しようとする領域をメーキャップ領域４０というものとする。従って、画像領域３０にはメーキャップ領域４０が含まれることとなる。
【００２０】
画像解析手段１５は、抽出手段１８，サイズ検出手段１９，色差検出手段２０を有しており、画像取得手段１４によって取得された画像を解析する。
【００２１】
抽出手段１８は、画像取得手段１４により取得された画像領域３０から、メーキャップ領域４０を抽出する（図５参照）。この際、抽出手段１８はメーキャップ領域４０の輪郭４５も合わせて抽出する。
【００２２】
サイズ検出手段１９は、抽出手段１８で抽出されたメーキャップ領域４０のサイズ（ここでは、面積及び形状を含めサイズという）を抽出する。
【００２３】
色差検出手段２０は、メーキャップ領域４０と、このメーキャップ領域４０の外部に領域の色差を検出する。また、色差検出手段２０は、メーキャップ領域４０の内部も色差に応じて複数の色素領域に区分する。本実施形態では、図５に示すように、色差検出手段２０によりメーキャップ領域４０が第１〜第３色素領域４１〜４３の三つの色素領域に区分された例について説明するものとする。
【００２４】
上記した各手段１８〜２０で求められたメーキャップ領域４０、このメーキャップ領域４０の輪郭４５、メーキャップ領域４０のサイズ、メーキャップ領域４０の外部領域４６に対する色差等は、記憶手段１３に記憶される。なお、上記した各手段１８〜２０の処理の詳細については、説明の便宜上、後述するものとする。
【００２５】
塗布手段１６は、ロボット５０と噴射ノズル５１により構成されている。ロボット５０は、水平多関節型産業用４軸ロボットを使用した。このロボット５０は、制御手段１７から出力手段１２を介して送られる駆動制御信号に基づき、後述するように噴射ノズル５１を施術者Ａの化粧料を塗布する位置に移動させる。
【００２６】
噴射ノズル５１は、図７に拡大して示すように、本体５２、化粧料供給配管５３、エア供給配管５４、噴射通路５６、ニードル弁５７、及び調整ノブ５８等により構成されている。施術者Ａに噴霧塗布される化粧料は、化粧料供給配管５３から供給される。この化粧料供給配管５３は噴射通路５６に接続されており、噴射通路５６の図中左端部は噴霧口となっている。
【００２７】
噴射通路５６の内部には、ニードル弁５７が挿入されている。このニードル弁５７の図中右端部は、調整ノブ５８に接続されている。よって、調整ノブ５８を操作することにより、ニードル弁５７は噴射通路５６内で進退することができる。
【００２８】
一方、エア供給配管５４には圧縮空気（エア）が供給される。この圧縮空気は、噴射通路５６の先端の噴霧口に接続されており、よって化粧料供給配管５３から供給されニードル弁５７の先端部に至った化粧料は、エア供給配管５４から供給された圧縮空気に付勢されて噴霧される。よって、噴射ノズル５１を施術者Ａの肌ＡＡに対向させていた場合、噴射ノズル５１から噴霧された化粧料５９は肌ＡＡに霧化塗布される。
【００２９】
本実施形態では、噴射ノズル５１は連続的な噴霧を行うのではなく、所定の塗布位置に移動された際、１ショットずつの霧化噴霧を行う。これにより、塗布位置Ｐには図９（Ａ）に示すような擬似円形状の塗布部が形成される（以下、この塗布部を１ショット塗布部６０という）。
【００３０】
この１ショット塗布部６０は、中央位置に最も化粧料が多く塗布され、この中央位置から外側に向かうにつれて塗布される化粧料が漸次少なくなっている。また、１ショット塗布部６０の化粧料の塗布量及び粒径は、噴射ノズル５１を構成する各構成要素を調整することにより可変することができる。
【００３１】
例えば、化粧料の塗布量については、化粧料供給配管５３に供給する化粧料の圧力を大きくすることにより、ニードル弁５７を図７における右方向に移動させ開弁度を大きくすることにより、更にニードル弁５７による開弁時間を長くすることにより調整することができる。また化粧料の粒径については、エア供給配管５４に配設されている弁体５５を調整することにより行うことができる。
【００３２】
更に、肌ＡＡと噴射ノズル５１との距離（図７に矢印Ｗ１で示す距離。以下、噴射距離Ｗ１という）を調整することによっても、１ショット塗布部６０の濃度を調整することができる。これについて、図８を用いて説明する。
【００３３】
図８は、上記した１ショット塗布部６０の濃度を可変しうるパラメータを全て一定にした状態で、噴射距離Ｗ１のみを変化させた時の１ショット塗布部６０の濃度を示している。同図に示す例では、噴射距離Ｗ１を10mm，15mm，20mm，30mmとした例を示している。
【００３４】
同図に示すように、噴射距離Ｗ１を10mmとした１ショット塗布部６０Ａは、中央位置の濃度が最も高く、またその面積は最も小さくなった。これに対し、噴射距離Ｗ１が15mm〜30mmに漸次長くなるに従い、１ショット塗布部６０Ｂ〜６０Ｄの中央位置の濃度は漸次薄くなり、またその面積(擬似円形の直径)も漸次大きくなった。これは、噴射距離Ｗ１が長くなることにより噴霧された化粧料は拡散し、これに伴い肌ＡＡに塗布される化粧料の濃度も低く、また塗布される面積は大きくなることに起因している。
【００３５】
この図８に示す結果より、噴射ノズル５１と肌ＡＡとの噴射距離Ｗ１を変化させると、１ショット塗布部６０の濃度及び面積を調整できることが判る。この噴射距離Ｗ１は、ロボット５０を制御することにより容易に設定することが可能である。よって本実施形態では、この噴射距離Ｗ１を変化させることにより、１ショット塗布部６０の濃度及び面積を制御する例について説明するものとする。
【００３６】
制御手段１７は、上記したメーキャップ装置１０を構成する各手段１１〜１６，１８〜２０の制御を行う。制御手段１７は、入力手段１１からの指示等に基づいて、画像取得手段１４により施術者Ａの画像領域３０の画像を取得し、画像解析手段１５により画像領域３０を解析してメーキャップ領域４０を抽出する。
【００３７】
そして、サイズ検出手段１９及び色差検出手段２０を制御することによりメーキャップ領域４０のサイズ及び色差を検出し、これに基づき塗布手段１６による施術者Ａの肌ＡＡに対する塗布位置及び噴射距離等を設定し、塗布手段１６を制御することにより化粧料の塗布を行う。なお、この制御手段１７の実施するメーキャップ処理の詳細については、後に詳述する。
【００３８】
上記したメーキャップ処理を実行する各手段１１〜２０は、コンピュータにより実行させるプログラム（以下、メーキャッププログラムという）として生成することができ、これを汎用のパーソナルコンピュータ、サーバ等にインストールすることにより、本発明におけるメーキャップ装置１０を実現することができる。本実施形態では、このメーキャッププログラムをパーソナルコンピュータ１にインストールすることによりメーキャップ装置１０を実現している。なお、上気したコンピュータ１，画像読み取り手段１４，塗布手段１６等を一体化した専用機としてメーキャップ装置１０を構成することも可能である。
【００３９】
図３は、パーソナルコンピュータ１のハードウェア構成例を示している。パーソナルコンピュータ１は、入力装置２１、出力装置２２、ドライブ装置２３、補助記憶装置２４、メモリ装置２５、及び各種制御を行うＣＰＵ(Central  Processing  Unit)２６等を有しており、これらはシステムバスＢで相互に接続されている。
【００４０】
入力装置２１及び出力装置２２は、前記した入力手段１１及び出力手段１２に相当するものである。補助記憶装置２４は、ハードディスク等のストレージ手段であり、本実施形態に係るメーキャッププログラム（実行プログラム）や、パーソナルコンピュータ１に設けられた制御プログラム等を記憶し、必要に応じて入出力を行うことができる。
【００４１】
メモリ装置２５は、ＣＰＵ２６により補助記憶装置２４から読み出されたメーキャッププログラム等を格納する。なお、メモリ装置２５は、ＲＯＭ(Read  Only  Memory)やＲＡＭ(Random  Access  Memory)等からなる。
【００４２】
ＣＰＵ２６は、ＯＳ(Operating  System)等の制御プログラム、及びメモリ装置２５に格納されている各種実行プログラムに基づいて、各種演算や各ハードウェア構成部とのデータの入出力等、コンピュータ全体の処理を制御して、化粧肌評価処理等の各処理を実現することができる。なお、プログラム実行中に必要な各種情報等は、補助記憶装置２４から取得することができ、また実行結果等を格納することもできる。
【００４３】
上述したハードウェア構成により、本実施形態に係るメーキャップ処理を実行することができる。また、プログラムをインストールすることにより、汎用のパーソナルコンピュータ１で本実施形態に係るメーキャップ処理を容易に実現することができる。
【００４４】
なお、コンピュータ１にインストールされるメーキャッププログラムは、例えば、ＵＳＢ(Universal  Serial  Bus)メモリやＣＤ−ＲＯＭ等の可搬型の記録媒体２８等により提供することが可能である。
【００４５】
次に、本実施形態におけるメーキャップ処理について、図６に示すフローチャートを用いて具体的に説明する。
【００４６】
図６に示すメーキャップ処理が起動すると、ＣＰＵ２６はメーキャッププログラムに従い、画像取得手段１４を用いて肌ＡＡのメーキャップ領域４０を含む画像領域３０（図４参照）の読み取りを行う（ステップ１０。なお、図では「ステップ」を「Ｓ」と略して示している）。
【００４７】
この画像領域３０を撮影する際、本実施形態ではアナログカラーカメラ（ＪＡＩ製）に円偏向板を取り付けたものを使用することができる。また、撮影時には画像領域３０に対して照明を行うが、この照明を行う際に拡散板を利用することにより均一な照度の画像を得ることができる。
【００４８】
画像領域３０が取り込まれると、この画像領域３０からメーキャップ領域４０の抽出処理が行われる（ステップ１１）。このメーキャップ領域４０の抽出処理では、メーキャップ領域４０の輪郭４５も合わせて抽出される。
【００４９】
本実施形態に係るメーキャップ処理は、シミやそばかす等の通常の肌ＡＡの色に対して色差がある部分に化粧料を塗布するものである。このため、肌ＡＡに発生したシミやそばかすを他の部位から抽出するため、先ずカラーフィルタを用いて撮影されたカラー画像（ＲＧＢ画像）を明度情報に基づきグレースケール化する。このグレースケール化された画像データは、ノイズ除去のためのフィルタリング処理を実施した後、照明ライトによる明度差を除去する背景処理が行われる。
【００５０】
このようにノイズ除去処理が行われた画像データは、続いて二値化処理が実施される。この二値化処理では、シミやそばかす等の発生箇所の明度を閾値とし、この閾値を用いてシミやそばかす等が発生しているメーキャップ領域４０と、発生してない外部領域４６とを抽出する。
【００５１】
なお閾値については、シミやそばかす等の濃さに応じて複数の閾値を設定することが可能である。よって、メーキャップ領域４０をシミやそばかす等の濃さにより領域区分することが可能である。本実施形態では、後述するように３つの領域に区分している。
【００５２】
また上記のようにして得られた画像データにはエッジ処理も実施され、メーキャップ領域４０の輪郭４５も抽出される（ステップ１２）。この輪郭抽出処理を行う際、メーキャップ領域４０が上記のように複数の閾値を用いて複数の区分に区分分けされる場合には、各区分毎に輪郭抽出処理が実施される。
【００５３】
上記のようにメーキャップ領域４０が抽出されると、画像領域３０内におけるメーキャップ領域４０と、メーキャップ領域４０以外の外部領域４６との色差を求める処理が実施される（ステップ１３）。色差検出手段２０は、色判定を行う色判定手段（図示せず）を有しており、この色判定手段によりメーキャップ領域４０と外部領域４６との色差が求められる。なお、外部領域４６は化粧料が塗布されない非塗布部である。
【００５４】
図４及び図５は、色差検出処理により求められたメーキャップ領域４０（４０Ａ，４０Ｂ）の一例を示している。本実施形態では、色差の大きさにより、メーキャップ領域４０を第１色素領域４１、第２色素領域４２、及び第３色素領域４３に区分している。第１色素領域４１が外部領域４６に対して最も色差があり、第２色素領域４２及び第３色素領域４３の順に漸次色差は小さくなるよう設定されている。
【００５５】
図４（Ａ）及び図５（Ａ）に示すメーキャップ領域４０Ａは、中央位置から外部領域４６に向けて色差が大きく変化する例を示している。このメーキャップ領域４０Ａでは、中央に最も色差が大きい第１色素領域４１が位置し、その外周に第２色素領域４２に位置し、更にその外周に第３色素領域４３が位置している。
【００５６】
これに対して図４（Ｂ）及び図５（Ｂ）に示すメーキャップ領域４０Ｂは、個々の領域では色差は殆ど変化しないが、複数種類の色差を有する領域が点在した例を示している。
【００５７】
図４（Ｂ）及び図５（Ｂ）では、説明の便宜上、第１色素領域４１、第２色素領域４２、及び第３色素領域４３に対応する領域がそれぞれ一つずつ、合計３箇所存在する例について説明する。また、図４（Ｂ）及び図５（Ｂ）に示す例では、第１色素領域４１、第２色素領域４２、及び第３色素領域４３を纏めてメーキャップ領域４０Ｂというものとする。更に、以下の説明においてメーキャップ領域４０Ａ，４０Ｂを纏めて説明する場合には、メーキャップ領域４０と示して説明するものとする。
【００５８】
なお、メーキャップ領域４０（４０Ａ，４０Ｂ）内の色差による区分は、本実施形態のように３区分に限定されるものではなく、適宜設定することが可能なものである。
【００５９】
続くステップ１４では、メーキャップ領域４０のサイズの検出が行われる。このメーキャップ領域４０のサイズは、ステップ１２で求められたメーキャップ領域４０の輪郭４５に基づき実施される。
【００６０】
この際、図４（Ａ），図５（Ａ）に示すメーキャップ領域４０Ａの場合には、最外周に位置する第３色素領域４３の最外周位置が輪郭４５とされる。また、図４（Ｂ），図５（Ｂ）に示すメーキャップ領域４０Ｂの場合には、個々の第１〜第３色素領域４１〜４３の各最外周位置が輪郭４５Ａ〜４５Ｃとなる。
【００６１】
メーキャップ領域４０のサイズが検出されると、メーキャップ領域４０のサイズと、噴射ノズル５１により行われる１ショット塗布部６０のサイズの比較が行われる（ステップ１５）。この際、メーキャップ領域４０Ｂの場合には、個々の第１〜第３色素領域４１〜４３のサイズと、噴射ノズル５１により行われる１ショット塗布部６０のサイズの比較が行われる。
【００６２】
本実施形態では、このステップ１５において判断の基準とされる１ショット塗布部６０のサイズは、図８において最も塗布面積が小さい１ショット塗布部６０Ａのサイズとしている。なお、このステップ１５において判断の基準とされる１ショット塗布部６０のサイズは、これに限定されるものではなく、適宜設定することが可能なものである。
【００６３】
ステップ１５で行われるサイズの比較は、１ショット塗布部６０によりメーキャップ領域４０Ａ或いはメーキャップ領域４０Ｂを構成する各々の第１〜第３色素領域４１〜４３が覆われるか否かを検出するものである。よって、単にメーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３の面積と１ショット塗布部６０の面積を比較するばかりでなく、メーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３の形状も考慮し１ショット塗布部６０で覆うことができるかどうかが判断される。
【００６４】
即ち、シミやそばかすの形状は必ずしも円形状であると限らないため、１ショット塗布部６０の面積がメーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３よりも大きいにも拘わらず、擬似円形状の１ショット塗布部６０からメーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３がはみ出す可能性がある。このためステップ１５では、１ショット塗布部６０がメーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３を確実に被覆できるか否かが判断される。
【００６５】
図９に示す例では、図９（Ａ）に示す１ショット塗布部６０のサイズは、図９（Ｂ）に示すメーキャップ領域４０Ａのサイズよりも大きく、またメーキャップ領域４０Ａの形状を考慮に入れても１ショット塗布部６０によりメーキャップ領域４０Ａを被覆することは可能である。この図９に示すような場合は、ステップ１５はメーキャップ領域４０Ａのサイズは１ショット塗布部６０のサイズよりも小さいと判断する。
【００６６】
ステップ１５において、メーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３のサイズが１ショット塗布部６０のサイズよりも小さいと判断されると、処理はステップ１６に進み、制御手段１７はメーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３の中央位置（図９（Ｂ）に示す例では矢印Ｃで示す位置）を噴射ノズル５１による化粧料の塗布位置Ｐに設定する（ステップ１６）。
【００６７】
ステップ１６において塗布位置Ｐが設定されると、制御手段１７はロボット５０及び噴射ノズル５１（塗布手段１６）を駆動制御し、噴射ノズル５１をステップ１６において設定された塗布位置Ｐ（メーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３の中央位置）に移動させる。続いて、制御手段１７は噴射ノズル５１を駆動して塗布位置Ｐに対して化粧料の霧化塗布を行う（ステップ１７）。
【００６８】
この際、噴射ノズル５１と肌ＡＡとの噴射距離Ｗ１は、ロボット５０を制御することにより１ショット塗布部６０Ａ（図８参照）を行いうる距離（10mm）に設定されている。なお、この時に塗布される化粧料は、肌ＡＡの色（外部領域４６の色）に近似した色、或いはそれより明度・色相を変化させた補正効果を有する色のものが予め選定されている。
【００６９】
前記にように、１ショット塗布部６０Ａのサイズはメーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３を被覆できるサイズである。このため、塗布位置Ｐに１ショット塗布部６０Ａを形成することにより、メーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３に位置するシミやそばかすは１ショット塗布部６０Ａにより覆われる。
【００７０】
１ショット塗布部６０Ａも中央位置が最も化粧料の濃度が高く、これより外側に向かうに従い化粧料の濃度は漸次小さくなる（色が薄くなる）。よって、メーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３の中央位置に１ショット塗布部６０Ａを形成することにより、メーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３の中央位置においてはシミやそばかすを確実に隠すことができ、メーキャップ領域４０Ａ或いは第１〜第３色素領域４１〜４３の外縁である輪郭４５，４５Ａ〜４５Ｃにおいては化粧料の塗布を目立たなくさせることができる。
【００７１】
一方、図１０に示す例では、図１０（Ａ）に示す１ショット塗布部６０のサイズは、図１０（Ｂ）に示すメーキャップ領域４０のサイズよりも小さくなっている。このような場合、噴射ノズル５１の１ショットの噴霧塗布処理ではメーキャップ領域４０を覆うことはできず、メーキャップ領域４０の多数箇所に塗布位置Ｐを設定し、各塗布位置Ｐに噴霧塗布処理を実施する必要がある。
【００７２】
この図１０に示すような場合は、ステップ１５においてメーキャップ領域４０のサイズは１ショット塗布部６０のサイズよりも大きいと判断される。ステップ１５において、メーキャップ領域４０のサイズが１ショット塗布部６０のサイズよりも大きいと判断されると、処理はステップ１８に進む。
【００７３】
ステップ１８では、ステップ１３で設定した第１〜第３色素領域４１〜４３に適合した１ショット塗布部の選定を行う。以下、図５及び図８を主に用いて、この選定方法について説明する。
【００７４】
第１色素領域４１は、外部領域４６に対する色差が最も大きい領域である。よって、この第１色素領域４１を化粧料で確実に隠すためには、１ショット塗布部６０として高濃度で化粧料を塗布できるものが望ましい。
【００７５】
そこで本実施形態では、第１色素領域４１に適用する１ショット塗布部６０として、濃い濃度で化粧料を塗布しうる１ショット塗布部６０Ａを選定した。具体的には、１ショット塗布部６０の選定は、施術者Ａの肌ＡＡと噴射ノズル５１との噴射距離Ｗ１を設定することにより行うことができるため、噴射距離Ｗ１を10mmに設定した。
【００７６】
また、第２色素領域４２は、第１色素領域４１に比べ、外部領域４６との色差は小さくなっている。しかしながら、第３色素領域４３に比べては大きな色差を有する領域である。
【００７７】
そこで本実施形態では、第２色素領域４２に適用する１ショット塗布部６０として、１ショット塗布部６０Ａに比べては低い濃度で化粧料を塗布する１ショット塗布部６０Ｂを選定した。具体的には、噴射距離Ｗ１を15mmに設定した。
【００７８】
更に、第３色素領域４３は、外部領域４６に対する色差が最も小さい領域である。そこで本実施形態では、第３色素領域４３に適用する１ショット塗布部６０として、図８に示す１ショット塗布部の内、低濃度で化粧料を塗布する１ショット塗布部６０Ｄを選定した。具体的には、噴射距離Ｗ１を30mmに設定した。
【００７９】
上記のようにメーキャップ領域４０の各色素領域４１〜４３毎に噴射距離Ｗ１（１ショット塗布部６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｄ）が設定されると、塗布位置Ｐを設定する座標が各色素領域４１〜４３毎に設定される。
【００８０】
前記のように、メーキャップ領域４０のサイズが１ショット塗布部６０のサイズよりも大きい場合には、噴射ノズル５１により霧化塗布を行う塗布位置Ｐをメーキャップ領域４０内に多数設定する必要がある。本実施形態では、メーキャップ領域４０内に座標系を設け、この座標系に基づき塗布位置Ｐを設定している。
【００８１】
この座標系は、前記のように画像領域３０のサイズは擬似的に肌ＡＡを平面とみなすことができるサイズとされているため、二次元座標として実現することができる。また、一般的な座標系の設け方として、図１５に示すようにＸ−Ｙ座標を設定し、所定ピッチで形成される格子の交点を塗布位置Ｐとて設定することが考えられる。
【００８２】
しかしながら、前記のように塗布位置Ｐに形成される１ショット塗布部６０は擬似円形状であるため、格子の交点を塗布位置Ｐとした場合には、隣接する１ショット塗布部６０間に濃淡が発生し、良好なメーキャップを行うことができなくなる。
【００８３】
そこで本実施形態では、図１１に示すような、隣接する頂点間の間隔（以下、この間隔をピッチｒという）が等しい正三角形を一つの単位とし、この正三角形をＸ方向及びＹ方向に列設した座標系を設定した。
【００８４】
いま、この座標系の図１１に矢印Ｐ0で示す位置を原点とし、この位置Ｐ0の座標をＰ0（Ｘ0，Ｙ0）とする。また、図示されるようにＸ軸と平行な塗布位置Ｐの行をＪ（Ｊ＝1,2,3…）とし、Ｙ軸と平行な塗布位置Ｐの列をＫ（Ｋ＝1,2,3…）とすると、任意の位置ＰJ,Kにおける座標ＰJ,K（ＸJ,K，ＹJ,K）は、ピッチｒを用いて次のように示される。
【００８５】
ＸJ,K＝Ｘ0＋Ｊ×ｒ＋Ｋ×ｒcos60°
ＹJ,K＝Ｙ0＋Ｋ×ｒsin60°
【００８６】
このようなピッチｒ（一辺がｒ）の正三角形をＸ方向及びＹ方向に多数列設した構成の座標系を用い、各正三角形の頂点を噴射ノズル５１による塗布位置Ｐに設定することにより、隣接する塗布位置Ｐ間の距離は図１５に示した参考例に比べて等しくなる。このため、図１１に示す座標系を用いることにより、図１５に示した参考例に比べて粗密が生じにくいので、塗布後の状態を均一な外観とすることができる。
【００８７】
ところで、前記したようにメーキャップ領域４０は第１〜第３色素領域４１〜４３に区分されている。また、各色素領域４１〜４３に使用される１ショット塗布部６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｄは、その直径Ｅがそれぞれ異なっている。具体的には、１ショット塗布部６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｄの直径を図８に示すようにＥＡ，ＥＢ，ＥＤとすると、直径ＥＡ，ＥＢ，ＥＤは噴射距離Ｗ１により異なり、噴射距離Ｗ１が最も短い１ショット塗布部６０Ａの直径ＥＡが最も小さく、噴射距離Ｗ１が最も長い１ショット塗布部６０Ｄの直径ＥＤが最も大きくなる（ＥＡ＜ＥＢ＜ＥＤ）。
【００８８】
よって、図１１に示す座標系（以下、最密座標系という）においてピッチｒを各素領域４１〜４３に拘わらず一定の値にすると、次のような問題点が生じる。例えば、最密座標系において、ピッチｒを第３色素領域４３で用いる１ショット塗布部６０Ｄの直径ＥＤに適合した値に設定すると、隣接する塗布位置Ｐが長くなる。このため、この最密座標を第１色素領域４１に適用した場合、１ショット塗布部６０Ａの直径ＥＡは直径ＥＤに比べて小さいため、第１色素領域４１に塗布むらが発生してしまう。
【００８９】
そこで本実施形態ではステップ１９において、最密座標系のピッチｒを素領域４１〜４３の区分毎に設定する構成としている。具体的な設定方法について、図１２〜図１４を用いて説明する。
【００９０】
本実施形態では、最密座標系のピッチｒを１ショット塗布部６０の濃度の正規分布から求めている。図１２は、１ショット塗布部６０の濃度の正規分布の一例を示している。１ショット塗布部６０の濃度（塗布濃度）は、中央が最も濃度が濃く外側に向かうに従って濃度が薄くなるため、図１２に示すような正規分布f(x)を取る。
【００９１】
本実施形態では、この正規分布が５０％（f(x)＝５０％）となる位置と中心位置（平均値の位置）との距離（以下、この距離をＸ［f(x)＝５０％］と示す）の２倍となる距離をピッチｒに設定した。図１３（Ａ）は、二つの１ショット塗布部６０のピッチｒをｒ＝Ｘ［f(x)＝５０％］×２として形成し、この時の化粧料の塗布濃度を測定したものである。また図１３（Ｂ）は、二つの１ショット塗布部６０のピッチｒをＸ［f(x)＝５０％］×２よりも若干広くなるよう形成し（ｒ＞Ｘ［f(x)＝５０％］×２）、この時の塗布濃度を測定したものである。各図より、上記のようにピッチｒを設定した場合には、化粧料の塗布濃度が略一定になっていることが判る。
【００９２】
これに対し、図１４は、二つの１ショット塗布部６０のピッチｒをＸ［f(x)＝５０％］×２よりも近くなるよう形成し（ｒ＜Ｘ［f(x)＝５０％］×２）、この時の化粧料の塗布濃度を測定したものである。この場合には、化粧料の塗布濃度は一点において非常に濃くなる特性を示し、よって化粧料の噴霧塗布には適していないことが判る。そこで本実施形態では、図１２〜図１３に示す結果より、１ショット塗布部６０のピッチｒをｒ≧Ｘ［f(x)＝５０％］×２に設定した。
【００９３】
ところで、１ショット塗布部６０の正規分布は、図８に示す１ショット塗布部６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｄで異なる。即ち、１ショット塗布部６０Ａは平均値において高いピークを有する正規分布となるが、１ショット塗布部６０Ｄでは平均値におけるピークは低く、なだらかな正規分布となる。このため、最密座標のピッチｒは、各色素領域４１〜４３毎異なるものとなる。
【００９４】
外部領域４６との色差が最も大きい第１色素領域４１においては、最密座標のピッチｒAは最も短くなり、外部領域４６との色差が最も小さい第３色素領域４３においては、最密座標のピッチｒDは最も長くなり、第１色素領域４１と第３色素領域４３の中間に位置する第２色素領域４２では最密座標のピッチｒBはピッチｒAとピッチｒBの中間の長さとなる（ｒA＜ｒB＜ｒD）。このように、最密座標のピッチｒは、メーキャップ領域４０内の色差に応じて変化し、その色差が大きいほどピッチｒは小さく設定される。
【００９５】
本実施形態では第１色素領域４１（１ショット塗布部６０Ａ）に対応するピッチｒAを有した第１色素領域用最密座標と、第２色素領域４２（１ショット塗布部６０Ｂ）に対応するピッチｒBを有した第２色素領域用最密座標と、第３色素領域４３（１ショット塗布部６０Ｄ）に対応するピッチｒDを有した第３色素領域用最密座標とを予め設定しておき、これを記憶手段１３に格納している。
【００９６】
そしてステップ１９では、ステップ１３で設定された各色素領域４１〜４３の内部に、それぞれに適合する最密座標を配置する（入れ込む）処理を実施する。よって、噴射ノズル５１により霧化塗布が行われる塗布位置Ｐは、メーキャップ領域４０Ａ及びメーキャップ領域４０Ｂ（第１〜第３色素領域４１〜４３）の内部に設定される。
【００９７】
この際、メーキャップ領域４０（メーキャップ領域４０Ａ及び第１〜第３色素領域４１〜４３）の外縁である輪郭４５，４５Ａ〜４５Ｃと、これに最も近い塗布位置Ｐ（以下、この塗布位置を最外部塗布位置Ｐoutという）との距離が問題となる。この最外部塗布位置Ｐoutと輪郭４５との離間距離は、例えば図１０（Ｂ）に示す例では矢印ΔＬでされる距離となる。
【００９８】
この離間距離ΔＬが短いと、輪郭４５において塗布濃度の高い化粧料の塗布が行われ外部領域４６との境界が目立ってしまう。また離間距離ΔＬが長いと、実質的に外部領域４６が広くなりシミやそばかすを確実に隠せないおそれが生じる。
【００９９】
そこで、本実施形態ではステップ１９においてメーキャップ領域４０Ａ及び第１〜第３色素領域４１〜４３の内部に最密座標を配置する際、最外部塗布位置Ｐoutと輪郭４５との離間距離ΔＬが１ショット塗布部の直径の半分以下となるよう設定している。
【０１００】
例えば、メーキャップ領域４０Ａ及びメーキャップ領域４０Ｂの第３色素領域４３の場合には、最外部塗布位置Ｐoutと輪郭４５，４５Ｃとの離間距離ΔＬを１ショット塗布部６０Ｄの直径ＥDの半分以下となるよう設定する（ΔＬ≦ＥD／２）。
【０１０１】
また、メーキャップ領域４０Ｂの第１色素領域４１の場合には、最外部塗布位置Ｐoutと輪郭４５Ａとの離間距離ΔＬを１ショット塗布部６０Ａの直径ＥAの半分以下となるよう設定する（ΔＬ≦ＥA／２）。更に、メーキャップ領域４０Ｂの第２色素領域４２の場合には、最外部塗布位置Ｐoutと輪郭４５Ｂとの離間距離ΔＬを１ショット塗布部６０Ａの直径ＥBの半分以下となるよう設定する（ΔＬ≦ＥB／２）。
【０１０２】
このように設定することにより、メーキャップ領域４０Ａ及びメーキャップ領域４０Ｂ（第１〜第３色素領域４１〜４３）と外部領域４６との境界を目立たなくすることができ、またシミやそばかすを確実に隠すことができる。
【０１０３】
なお、最外部塗布位置Ｐoutと輪郭４５，４５Ａ〜４５Ｃの離間距離ΔＬは、上記の構成に限定されるものではなく、外部領域４６と第１〜第３色素領域４１〜４３との色差に応じて適宜設定することが可能である。
【０１０４】
ステップ１９で上記のように最密座標が設定されると、制御手段１７はロボット５０及び噴射ノズル５１（塗布手段１６）駆動制御し、噴射ノズル５１をステップ１８で設定された各塗布位置Ｐに移動させ、各塗布位置Ｐにおいて化粧料の霧化塗布を行う（ステップ２０）。
【０１０５】
具体的には、第１色素領域４１においては第１色素領域用最密座標に従い各塗布位置Ｐに１ショット塗布部６０Ａを形成し、第２色素領域４２においては第２色素領域用最密座標に従い各塗布位置Ｐに１ショット塗布部６０Ｂを形成し、第３色素領域４３においては第３色素領域用最密座標に従い各塗布位置Ｐに１ショット塗布部６０Ｄを形成する。
【０１０６】
上述のように本実施形態に係るメーキャップ装置１０及びこれを用いたメーキャップ方法によれば、各色素領域４１〜４３と外部領域４６との色差に応じて設定された第１乃至第３色素領域用最密座標に従い、最も適したピッチｒA，ｒB，ｒDで１ショット塗布部６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｄが形成される。このためシミやそばかす等の隠蔽部を確実に行うことができると共に、外部領域４６との境界部分においてはその境界を目立たなくすることが可能となる。
【０１０７】
ところで、上記した実施形態では、ステップ１７及びステップ２０において塗布処理を行う際、特に下地処理を行うことなくシミやそばかす等を隠蔽する化粧料の塗布を行う構成としていたが、メーキャップ領域４０へのシミやそばかす等を隠蔽する化粧料の塗布を行う前後に、肌ＡＡに化粧料を低密度に塗布する処理を実施してもよい。これにより、ステップ１７及びステップ２０における塗布処理を実施した後の状態を自然な仕上がりにすることが可能となる。
【０１０８】
また上記した実施形態では、ステップ１８において、噴射距離Ｗ１を設定することにより使用する１ショット塗布部６０を選定することとしたが、１ショット塗布部６０の濃度及び面積は、各種パラメータにより可変可能なものである。よって、噴射距離Ｗ１以外の各種パラメータを設定することにより各色素領域に対応した１ショット塗布部６０を選定する構成としてもよい。
【０１０９】
また本実施形態では、シミやそばかす等の隠蔽部を覆うことを目的としたメーキャップに本願発明を適用したが、本発明はこれに限定されるものではなく、通常のメーキャップ処理にも適用できるものである。
【０１１０】
更に、肌ＡＡに対して紫外線ランプを照射することにより、まだ肉眼で認識されていない将来発生する可能性が高いシミやそばかす等を抽出してこれをメーキャップ領域４０とし、このメーキャップ領域４０に美白効果のある薬剤を塗布する構成とすることも可能である。
【０１１１】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は上記した特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能なものである。
【産業上の利用可能性】
【０１１２】
本発明に係るメーキャップ装置及び本発明に係るメーキャップ方法は、化粧品購入者の個々の特性に合わせて塗布色や塗布条件をカスタマイズすることが可能であるため、これを化粧品の販売店、エステティックサロン等に設置することが考えられる。
【符号の説明】
【０１１３】
１  パーソナルコンピュータ
１０  メーキャップ装置
１１  入力手段
１２  出力手段
１３  記憶手段
１４  画像取得手段
１５  画像解析手段
１６  塗布手段
１７  制御手段
１８  抽出手段
１９  サイズ検出手段
２０  色差検出手段
２１  入力装置
２２  出力装置
２３  ドライブ装置
２４  補助記憶装置
２５  メモリ装置
２６  ＣＰＵ
３０  画像領域
４０  メーキャップ領域
４１  第１色素領域
４２  第２色素領域
４３  第３色素領域
４５  輪郭
５０  ロボット
５１  噴射ノズル
５２  本体
５３  化粧料供給配管
５４  エア供給配管
５５  弁体
５６  噴射通路
５７  ニードル弁
５８  調整ノブ
６０  １ショット塗布部
【図１】
2014090872.tif 000003
【図２】
2014090872.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図６】
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【図７】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図５】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１５】
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