(57)【要約】【課題】ロールの表面にレジスト層を設けるレジスト塗布ベーク装置において、レジスト層の形態を正確なものにする。【解決手段】ロール３に未硬化のレジスト６を塗布するレジスト塗布部７と、レジスト塗布部７で生成されたレジスト層５を調整するドクターブレード９と、ドクターブレード９で調整されたレジスト層５を硬化させるレジストベーク部１１とを有するレジスト塗布ベーク装置１である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロールに未硬化のレジストを塗布するレジスト塗布部と、
前記レジスト塗布部で生成されたレジスト層を調整するドクターブレードと、
前記ドクターブレードで調整されたレジスト層を硬化させるレジストベーク部と、
を有することを特徴とするレジスト塗布ベーク装置。
【請求項２】
請求項１に記載のレジスト塗布ベーク装置において、
前記ドクターブレードで調整されたレジスト層の外径を測定するセンサと、
前記ロールに対する前記ドクターブレードの位置の調整をする位置調整装置と、
前記センサの測定結果に応じて、前記レジスト層の外径が目標値になるように、前記位置調整装置を制御する制御部と、
を有することをレジスト塗布ベーク装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のレジスト塗布ベーク装置において、
前記ロールの回転中心軸は水平方向に延伸しており、
前記ドクターブレードは、前記ロールの頂上部に設けられていることを特徴とするレジスト塗布ベーク装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のレジスト塗布ベーク装置を用いて、硬化したレジスト層が設けられたレジスト設置済みロール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト塗布ベーク装置およびレジスト設置済みロールに係り、特に、ロールの側面に硬化したレジスト層を設けるもの、もしくは、ロールの側面に硬化したレジスト層が設けられているものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、図３で示すように、円柱状のロール２０１（（ａ）参照）の側面に塗布ヘッド２０３を用いてレジスト層２０５を設け（（ｂ）参照）、露光部２０７を用いてレジスト層２０５を適宜露光することで（（ｃ）参照）、表面に微細な転写パターン２０９が形成されたモールド２１１を生成する（（ｄ）参照）技術が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
なお、レジスト層２０５を設けたり、レジスト層２０５を露光をする場合には、図３の紙面に直交する方向に延びているロール２０１の中心軸Ｃ１を中心にして、ロール２０１が適宜回転している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１１８０４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記従来の技術でロール２０１の側面にレジスト層２０５を設ける方式として、スリット式、ディップ式、スプレー式が存在するが、いずれの方式を用いても、レジスト層の厚さを正確なものにすることが困難であるという問題がある。
【０００６】
たとえば、図４で示すように、塗布の開始部２１３ではレジスト層２０５が薄くなり、塗布の終端部２１５では、レジスト層２０５が厚くなり、レジスト層２０５の厚さの均一性が無くなっている。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ロールの表面にレジスト層を設けるレジスト塗布ベーク装置およびロールの表面にレジスト層が設けられたレジスト設置済みロールにおいて、レジスト層の形態を正確なものにすることができるものを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、ロールに未硬化のレジストを塗布するレジスト塗布部と、前記レジスト塗布部で生成されたレジスト層を調整するドクターブレードと、前記ドクターブレードで調整されたレジスト層を硬化させるレジストベーク部とを有するレジスト塗布ベーク装置である。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のレジスト塗布ベーク装置において、前記ドクターブレードで調整されたレジスト層の外径を測定するセンサと、前記ロールに対する前記ドクターブレードの位置の調整をする位置調整装置と、前記センサの測定結果に応じて、前記レジスト層の外径が目標値になるように、前記位置調整装置を制御する制御部とを有するレジスト塗布ベーク装置である。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載のレジスト塗布ベーク装置において、前記ロールの回転中心軸は水平方向に延伸しており、前記ドクターブレードは、前記ロールの頂上部に設けられているレジスト塗布ベーク装置である。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のレジスト塗布ベーク装置を用いて、硬化したレジスト層が設けられたレジスト設置済みロールである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ロールの表面にレジスト層を設けるレジスト塗布ベーク装置およびロールの表面にレジスト層が設けられたレジスト設置済みロールにおいて、レジスト層の形態を正確なものにすることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置の概略構成を示す図である。
【図３】従来のレジスト塗布ベーク装置の概要を示す図である。
【図４】従来のレジスト塗布装置でロールにレジストを塗布した状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置１は、ロール３の表面にレジスト層５を設ける装置であり、図１に示すように、レジスト塗布部７とドクターブレード９とレジストベーク部１１とを備えて構成されている。
【００１５】
レジスト塗布部７は、円柱状のロール（ローラ）３の側面に未硬化のレジスト（液体状もしくは流動体状のレジスト）６（６Ａ）を供給して塗布するものである。この塗布により、図１では図示しないロール支持体（図２参照）に支持され中心軸Ｃ１を回転中心にして所定（たとえば一定）の角速度で回転しているロール３の側面に、未硬化のレジスト層５Ａが設けられるようになっている。
【００１６】
レジスト塗布部７は、塗布ヘッド１５を備えて構成されている。塗布ヘッド１５は、たとえば、ロール支持体１３に一体的に支持されており、スリット状の吐出部（吐出口）１７を備えている。吐出部１７は、ロール３の回転中心軸Ｃ１（ロール３の母線）と平行に延びており（図１の紙面に対して直交する方向に延びており）、ロール３の径方向でロール３の外周面から僅かに離れている。未硬化のレジスト６Ａは図示しないタンクに蓄えられており、このタンクから塗布ヘッド１５へ、図示しないポンプ等により未硬化のレジスト６Ａが適宜供給されるようになっている。
【００１７】
レジスト塗布部７によって塗布された未硬化のレジスト６Ａは、ロール３の側面をほぼ一定の厚さで覆うようになっている。また、ロール３は図示しないロール回転駆動部によって駆動され回転するようになっている。ロール回転駆動部によってロール３が１回転する間塗布ヘッド１５からレジスト６Ａを吐出し続けると、レジスト層５Ａが、薄い円筒状になってロール３の側面の全周を覆うようになっている。塗布ヘッド１５からの未硬化のレジスト６Ａの吐出と非吐出との切り換えは、たとえば、図示しない電磁バルブでなされるようになっている。
【００１８】
ドクターブレード９は、レジスト塗布部７での塗布がされたことで生成された未硬化のレジスト層５Ａの厚さや外径を調整するものである。
【００１９】
ドクターブレード９は、所定の幅の帯状になっており、幅方向の一端部で厚さが次第に薄くなり、幅方向の一端９Ａが鋭利な形状で尖っている。また、ドクターブレード９の幅方向の一端９Ａは、塗布ヘッド１５の吐出部１７と同様にして、ロール３の回転中心軸Ｃ１と平行に延びており、ロール３の径方向でロール３の外周面から僅かに離れている。
【００２０】
ドクターブレード９の幅方向の他端９Ｂは、ロール３の径方向でドクターブレード９の幅方向の一端９Ａよりもロール３から離れており、ロール３の周方向（回転方向）で、幅方向の一端９Ａよりも下流側に位置している。
【００２１】
ドクターブレード９は、たとえば、ロール支持体１３に支持されており、ロール３の回転方向で塗布ヘッド１５よりも下流側に位置しており、塗布ヘッド１５から吐出されて薄い膜状になってロール３の側面を覆っているレジスト層５Ａの余分な部位を、幅方向の一端部でかき取り（掬い角が正の値である態様でかき取り）、レジスト層５Ａの厚さ（ロール３の径方向の寸法；レジスト層５Ａの外径）を調整するようになっている。
【００２２】
なお、ドクターブレード９は、ロール３の１／４周程度塗布ヘッド１５の下流側に位置しており、ドクターブレード９でレジスト層５Ａの厚さや外径を調整する場合、ロール３は、レジスト塗布部７でレジスト層５Ａを生成するときと同様に回転している。
【００２３】
レジストベーク部１１は、ドクターブレード９で厚さや外径が調整されたレジスト層５Ａを硬化させるために設けられている。
【００２４】
レジストベーク部１１は、たとえば、ロール支持体１３に支持されており、ロール３の回転方向で、ロール３の１／４周程度、ドクターブレード９よりも下流側に位置している。レジストベーク部１１はたとえばヒータ１９を備えて構成されており、ロール３に設けられた未硬化のレジスト６Ａ（レジスト層５Ａ）を加熱することで硬化させるようになっている。
【００２５】
レジストベーク部１１でレジスト６Ａを硬化させるとき、レジスト塗布部７でレジスト層５Ａを生成するときや、ドクターブレード９でかき取りするときと同様にして、ロール３は回転している。すなわち、ロール３の回転が停止することなくロール３が連続して回転しているときに、レジスト塗布部７によるロール３への未硬化のレジスト６Ａの設置と、ドクターブレード９による未硬化のレジスト６Ａのかき取りと、レジストベーク部１１によるレジスト６Ａの硬化とが、なさなれるようになっている。ただし、レジスト６Ａの設置とレジスト６Ａのかき取りとレジスト６Ａの硬化とは、必ずしも同時になされるわけではなく、時間のずれがある場合がある。
【００２６】
未硬化のレジスト６Ａは、ロール３への塗布を考慮してある程度の粘性に調整されている。この粘性の調整は、たとえば、レジスト（レジストの主成分）に揮発性の成分を混ぜることでなされている。そして、レジストベーク部１１のヒータ１９により揮発成分を蒸発させることで、レジスト６が硬化するようになっている。
【００２７】
ロール３にレジスト層５を設けるときのロール３の回転数は、たとえば、２０ｒｅｖ／ｍｉｎ〜３０ｒｅｖ／ｍｉｎ（回転／分）であり、ヒータ１９により加熱されたレジスト６Ｂ（レジスト層５Ｂ）の温度は、たとえば、６０℃〜７０℃である。
【００２８】
レジストベーク部１１によって硬化したレジスト層５Ｂは、重力によって垂れる等の変形をすることが無くなり、一定の厚さや外径を維持することができるようになっている。
【００２９】
ドクターブレード９は、図示しない位置調整部（ドクターブレード位置調整部）を介してロール支持体１３に支持されており、たとえば図示しない調整ネジを手動で操作することで、位置と姿勢とを変更し調整することができるようになっている。すなわち、ロール３（ロール支持体１３）に対して矢印Ａ１で示すように直線的に移動し位置決めされるようになっている（位置の調整がされるようになっている）。また、ロール３（ロール支持体１３）に対し、図１の紙面に直交する方向に延びている軸Ｃ３を回動中心にして、矢印Ａ３で示すように回動し位置決めされるようになっている（姿勢の調整がされるようになっている）。
【００３０】
余分な未硬化のレジスト６Ａをかき取るときには、ドクターブレード９の一端９Ａからこの近傍にかけての部位が、ロール３の側面で層状になっている未硬化のレジスト層５Ａ内に入り込んで、余分なレジスト６をかき取るようになっている。余分なレジスト６Ａをかき取るときの、ロール３（ロール支持体１３）に対するドクターブレード９の位置と姿勢とは、たとえば一定になっている。
【００３１】
なお、位置調整部が、ドクターブレード９の位置のみを調整するように構成されていてもよいし、もしくは、ドクターブレードの姿勢のみを調整するように構成されていてもよい。すなわち、図１に矢印Ａ１で示す方向、図１に矢印Ａ３で示す方向のうちの少なくともいずれかの方向で位置決めされるように構成されていてもよい。
【００３２】
また、レジスト塗布部７の塗布ヘッド１５が、図示しない位置調整部（塗布部位置調整部）を介してロール支持体１３に支持されていてもよい。そして、ドクターブレード９の場合と同様にして、位置を手動で変更し調整することができるようになっていてもよい。
【００３３】
さらに、レジスト塗布部７の塗布ヘッド１５から突出される未硬化のレジスト６Ａの吐出圧力を変更し、もしくは、吐出部１７の幅を変更することで、未硬化のレジスト層５の厚さを調整することができるようになっていてもよい。
【００３４】
レジスト塗布ベーク装置１には、制御部（ＣＰＵを備えた制御装置）２１が設けられている。制御部２１は、サーボモータ等のアクチュエータを備えたロール回転駆動部（図示せず）によってロール３が回転しているときに、所定のタイミングで、レジスト塗布部７の塗布ヘッド１５から所定の圧力で未硬化のレジスト６Ａを吐出してロール３に未硬化のレジスト６Ａを塗布し、ドクターブレード９で余分なレジスト６がかき取られたレジスト６（レジスト層５）をレジストベーク部１１で硬化する制御をするようになっている。
【００３５】
なお、すでに理解されるように、レジスト６の塗布開始から、レジスト６の硬化が終えるまで、ロール３は、一定の角速度で回転し続けているが、ロール３の回転角速度を適宜変更してもよい。
【００３６】
ロール支持体１３には、ロール３の回転角度を検出する回転角度検出装置（たとえばロータリエンコーダ；図示せず）が設けられている。制御部２１は、ロータリエンコーダの検出値に応じてロール３がちょうど１回転する間、塗布ヘッド１５から未硬化のレジスト６を吐出するようになっている。
【００３７】
ドクターブレード９でかき取られドクターブレード９の上に残っている未硬化のレジスト６Ａは、レジスト層５が硬化した後、制御部２１の制御の下、たとえば、図示しないレジスト吸引装置で吸引されて、ドクターブレード９の上から除去されるようになっている。
【００３８】
また、レジスト塗布ベーク装置１には、ドクターブレード９で厚さが調整されたレジスト層５の外径を測定するセンサ（たとえばレーザ変位計等の非接触センサ）２３が設けられている。
【００３９】
ドクターブレード９で調整されたレジスト層５の外径を測定する場合、センサ２３で、レジストベーク部１１で硬化がなされる前のレジスト層５の外径（ドクターブレード９で厚さが調整されたレジスト層５Ａでの、レジスト層５Ａ付きロール３の半径；ドクターブレード９で厚さが調整されたレジスト層５Ａでの、ロール３の回転中心Ｃ１とレジスト層５Ａの表面との間の距離）を測定するようになっている。
【００４０】
なお、上述したセンサ２３による測定に代えてもしくは加えて、センサ２３で、レジストベーク部１１で硬化がなされたレジスト層５Ｂの外径を測定するようにしてもよい。
【００４１】
レジスト層５の外径の測定は、たとえば、次のようにしてなされる。センサ２３は、所定の波長の光（たとえばレーザ光）を発する発光部と、この発光部が発光した光を検知する受光部を備えて構成されている。発光部が発した光は、レジスト層５の表面で反射するようになっている。センサ２３は、発光部で所定のごく短い時間だけ光を発し、レジスト層５で反射してもどってきた光を受光部で検知し、光を発した時刻と光を検知した時刻との差により、レジスト層５の外径を測定するようになっている。
【００４２】
また、レジスト塗布ベーク装置１には、位置調整装置（ドクターブレード位置調整部）２５が設けられている。位置調整装置２５は、ロール３に対するドクターブレード９の位置（ロール３との距離、ロール３に対する姿勢の少なくともいずれか）の調整をするようになっている。なお、位置調整装置２５が塗布部位置調整部として、上述した位置の調整に代えてもしくは加えて、ロール３に対するレジスト塗布部７の塗布ヘッド１５の位置（ロール３との距離）の調整をおこなうようにしてもよい。
【００４３】
位置調整装置２５が、ドクターブレード９とロール３との間の距離（ドクターブレード９の尖った先端９Ａと、ロール３の回転中心Ｃ１との間の距離）の調整をする構成について説明する。
【００４４】
ドクターブレード９は、図示しないリニアガイドベアリングを介してロール支持体１３に支持されており、図１に示す矢印Ａ１の方向で直線的に移動自在になっている。なお、ドクターブレード９が図１に示す矢印Ａ１と交差する所定の方向（ロール３に接近しもしくはロール３から離反する任意の方向）に移動自在になっていてもよい。また、ドクターブレード９は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、制御部２１の制御の下、移動位置決めされるようになっている。
【００４５】
位置調整装置２５が、ロール３に対するドクターブレード９の姿勢（ロール３に対するドクターブレード９の回動角度）の調整をする構成について説明する。
【００４６】
ドクターブレード９は、図示しないベアリングを介してロール支持体１３に支持されており、図１に示す軸Ｃ３を回動中心にして矢印Ａ３の方向で回動自在になっている。また、ドクターブレード９は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、制御部２１の制御の下、回動位置決めされるようになっている。
【００４７】
位置調整装置２５が、ドクターブレード９とロール３との間の距離の調整と、ロール３に対するドクターブレード９の姿勢との両方の調整をする構成について説明する。図示しないドクターブレード支持体が、図示しないリニアガイドベアリングを介してロール支持体１３に支持されており、図１に示す矢印Ａ１の方向で直線的に移動自在になっている。また、上記ドクターブレード支持体は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、制御部２１の制御の下、移動位置決めされるようになっている。ドクターブレード９は、図示しないベアリングを介して上記ドクターブレード支持体に支持されており、図１に示す軸Ｃ３を回動中心にして矢印Ａ３の方向で回動自在になっている。また、ドクターブレード９は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、制御部２１の制御の下、回動位置決めされるようになっている。
【００４８】
位置調整装置２５が塗布ヘッド１５の位置の調整をする構成も、ドクターブレード９の位置の調整と同様にしてなされるようになっている。
【００４９】
制御部２１は、センサ２３の測定結果に応じて、レジスト層５の外径が目標値になるように（たとえば、閾値内の一定値になるように）、位置調整装置２５を制御するようになっている。
【００５０】
すなわち、センサ２３で測定したレジスト層５の外径が目標値よりも大きい場合、レジスト塗布ベーク装置１は、位置調整装置２５で塗布ヘッド１５をロール３から僅かに離すか、塗布ヘッド１５からの未硬化のレジスト６Ａの吐出圧力を僅かに下げるか、ドクターブレード９をロール３に僅かに近づけるか、ドクターブレード９を図１に示す軸Ｃ３を中心にして反時計まわりに若干回動するか等の、少なくともいずれかの動作をするようになっている。
【００５１】
さらに説明すると、センサ（ロール３の回転方向でドクターブレード９とレジストベーク部１１との間に存在しているセンサ）２３で、レジスト層５の外径が目標値よりも大きいことを検知した場合、レジスト塗布ベーク装置１は、レジストベーク部１１を稼動することなく（レジスト６を硬化させることなく）、ロール３を回転したまま、たとえば、ドクターブレード９をロール３に僅かに近づけるようになっている。そして、レジスト塗布ベーク装置１は、センサ２３での検出値が目標値になってからロール３が少なくとも１回転する間センサ２３による測定を続け、上記１回転の間におけるセンサ２３の検出値が目標値になっている場合に、レジストベーク部１１を稼動してレジスト６を硬化するようになっている。
【００５２】
一方、センサ２３で測定したレジスト層５の外径が目標値よりも小さい場合、レジスト塗布ベーク装置１は、塗布ヘッド１５をロール３に僅かに近づけるか、塗布ヘッド１５からの未硬化のレジスト６Ａの吐出圧力を僅かに上げるか等の、少なくともいずれかの動作をするようになっている。
【００５３】
さらに説明すると、センサ（ロール３の回転方向でドクターブレード９とレジストベーク部１１との間に存在しているセンサ）２３で、レジスト層５の外径が目標値よりも小さいことを検知した場合、レジスト塗布ベーク装置１は、レジストベーク部１１を稼動することなく（レジスト６を硬化させることなく）、たとえば、塗布ヘッド１５から未硬化のレジスト６を吐出し、ロール３の側面に未硬化のレジスト６を供給してさらなる塗布をするようになっている。すなわち、ロール３が２回転等の複数回転する間、レジストベーク部１１を稼動することなく塗布ヘッド１５から未硬化のレジスト６を吐出するようになっている。
【００５４】
なお、センサ２３で、レジストベーク部１１で硬化がなされたレジスト層５Ｂの外径を測定する場合、この測定結果は、たとえば、次にロール３にレジスト層５を設ける場合に反映させるものとする。ただし、レジスト層５Ｂの外径を測定した結果、硬化したレジスト層の外径が目標値よりも小さい場合、硬化したレジスト層５Ｂの上にレジスト層５を重ねて設け、レジスト層５の外径を所定の値にしてもよい。
【００５５】
また、ロール３の回転中心軸Ｃ１は水平方向に延伸している。レジスト塗布部７の塗布ヘッド１５は、ロール３の回転方向でロール３の頂上部よりも上流側のロール３の側部のところに設けられている。ドクターブレード９は、ロール３の頂上部のところに設けられている。レジストベーク部１１は、ロール３の回転方向でロール３の頂上部よりも下流側のロール３の側部のところに設けられている。
【００５６】
次に、レジスト塗布ベーク装置１を用いて、硬化したレジスト層５Ｂが設けられたレジスト設置済みロール２７について説明する。
【００５７】
硬化したレジスト層５Ｂが形成されたレジスト設置済みロール２７から、微細な転写パターン（たとえば、可視光線の波長程度のピッチの微細な凹凸）が形成されたモールドが生成される。
【００５８】
すなわち、硬化したレジスト層５Ｂは、フォトレジストもしくは熱反応型レジスト等で構成されている。そして、レジスト設置済みロール２７の硬化したレジスト層５Ｂに、たとえば微細なスポットのレーザ光を適宜照射することで、レーザ光の照射されたレジスト層５Ｂの一部（転写パターンとなる部位）に化学的変化や物理的な変化が生じる。
【００５９】
この後、レジスト層５Ｂの化学的変化や物理的な変化が生じていない部位を、たとえばエッチングにより除去することで、ロール３の表面（側面）に微細な転写パターンが形成されたモールドが生成される（たとえば、特開２０１１−１１８０４９号公報参照）。
【００６０】
このようにして生成されたモールドは、たとえばシート状に微細な凹凸を形成するための型として使用される。すなわち、ロールｔｏロールで送られるシート状の被成形物を、モールドの外周に巻き掛け、モールドの回転にあわせてシート状の被成形物を一方のロール（被成形物が巻かれているロール原反）から他方のロール（被成形物を巻き取る巻き取りロール）に送ることで、シート状の厚さ方向の一方の面の微細な転写パターンが転写される。
【００６１】
なお、レジスト設置済みロール２７に、ただちに、微細な転写パターンが形成されることなく、レジスト設置済みロール２７がある長さの時間放置されることがある。このように放置された場合であっても、レジストベーク部１１によりレジスト層５Ｂが硬化しているので、重力によるレジスト層５Ｂの変形等の不具合は発生しない。
【００６２】
次に、レジスト塗布ベーク装置１の動作について説明する。
【００６３】
まず、初期状態として、レジスト層５が設けられていないロール３がロール支持体１３に支持され一定の角速度で回転しているものとする。また、ドクターブレード９は位置決めがされており、レジストベーク部１１は稼動していないものとする。
【００６４】
上記初期状態において、塗布ヘッド１５が未硬化のレジスト６Ａを吐出するとともに、レジストベーク部１１を稼動する。
【００６５】
未硬化のレジスト６Ａの吐出は、ロール３が１回転する間連続してなされる。レジストベーク部１１は、塗布ヘッド１５が未硬化のレジスト６Ａの吐出を開始してから、ロール３が少なくとも１．５回転する間稼動する。なお、レジスト６Ａが硬化しきれない場合には、塗布ヘッド１５が未硬化のレジスト６Ａの吐出を開始してから、ロール３が複数回転する間、レジストベーク部１１が稼動する。
【００６６】
センサ（未硬化のレジスト層５Ａの外径を測定するセンサ）２３を使用する場合には、上記初期状態において、レジストベーク部１１を停止しておき、塗布ヘッド１５が未硬化のレジスト６Ａを吐出する。未硬化のレジスト６Ａの吐出は、ロール３が１回転する間連続してなされる。
【００６７】
センサ２３で測定された未硬化のレジスト層５Ａの外径が目標値になっていない場合には、ドクターブレード９の位置や塗布ヘッド１５からの未硬化のレジスト６Ａの吐出を適宜行う。
【００６８】
センサ２３で測定された未硬化のレジスト層５Ａの外径が目標値になってから、少なくとロール３が１回点する間、センサ２３での測定を連続しておこない、この結果、未硬化のレジスト層５Ａの外径が目標値になったときに、レジストベーク部１１を稼動し、レジスト層５Ａを硬化させる。
【００６９】
レジスト塗布ベーク装置１によれば、ドクターブレード９で余分な未硬化のレジスト６を除去しているので、レジスト層５の形態（たとえば円筒度）を正確なものにすることができる。
【００７０】
また、レジスト塗布ベーク装置１によれば、ドクターブレード９で余分な未硬化のレジスト６Ａを除去した後ただちに（ロール３がたとえば１／４回転する程度の時間で）、レジストベーク部１１でレジスト６の硬化を開始するので、ベークするまでにレジスト層５が自重で垂れ下がってきて、レジスト層５の膜厚が不均一になる等の事態が回避され、硬化したレジスト層５Ｂの形態を正確なものにすることができる。
【００７１】
また、レジスト塗布ベーク装置１によれば、ドクターブレード９で余分な未硬化のレジスト６Ａを除去した後ただちにレジストベーク部１１でレジスト６を硬化するので、たとえば、ロール３の芯ずれ等により、ロール３の側面の円筒度が若干悪くなっていても、硬化したレジスト層５Ｂの外周面の円筒度を良好なものにすることができる。
【００７２】
レジスト層の形態が正確になることにより、レジスト層によって生成される微細な転写パターンの形状が正確なものになる。
【００７３】
また、レジスト塗布ベーク装置１によれば、センサ２３の測定結果に応じてレジスト層５の外径が目標値になるように位置調整装置２５を制御するので、レジスト層５の形態をより正確なものにすることができる。
【００７４】
さらに説明する。センサ２３の測定結果に応じてレジスト層５の外径が目標値になるように位置調整装置２５を制御すると、ロール３の側面の円筒度にかかわり無く（円筒度が若干悪くなっていても）、レジスト層５の外周の円筒度を良好なものにすることができる。この場合、レジスト層５の厚さは、ロール３の側面の円筒度に応じて、若干の変化をしている。
【００７５】
また、レジスト塗布ベーク装置１によれば、ロール３の回転中心軸Ｃ１が水平方向に延伸しており、ドクターブレード９がロール３の頂上部に設けられているので、未硬化のレジスト層５Ａに薄くなっている部位が存在している場合、かき取られてドクターブレード９の上に載っている未硬化レジスト６Ａが重力で上記薄くなっている部位に落下し、レジスト層５の厚さを増やすことができる。そして、レジスト６の無駄を無くしつつレジスト層５の形態を正確なものにすることができる。
【００７６】
［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置１ａが第１の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置１と異なる主な点は、ロール３に未硬化のレジスト層５Ａを設けた後、レジスト層５Ａをレベリングすべく、ロール３を所定の時間回転し、その後、レジストベーク部１１ａでレジスト層５を硬化する点にある。そして、レジスト塗布ベーク装置１ａは、レジスト塗布ベーク装置１と同様の効果を奏する。
【００７７】
すなわち、第２の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置１ａは、図２で示すように、ロール３とロール回転駆動部２９とレジスト塗布部７とレジストベーク部１１ａと制御部２１とを備えて構成されている。
【００７８】
ロール３は、円柱状に形成されており、ロール支持体１３に支持されており、水平方向に延びている中心軸Ｃ１を回転中心にして回転するようになっている。ロール回転駆動部２９は、ロール３を回転するためのものである。
【００７９】
レジスト塗布部７は、ロール３の側面に未硬化のレジスト層５Ａを設けるべく未硬化のレジスト６Ａを供給して塗布するものであり、塗布ヘッド１５を備えて構成されている。レジストベーク部１１ａは、レジスト塗布部７で塗布されたレジスト６Ａを硬化するものである。
【００８０】
制御部２１は、レジスト塗布部７とロール回転駆動部２９とレジストベーク部１１ａとを制御するものであり、次に示す制御をするようになっている。
【００８１】
ロール回転駆動部２９により所定の（たとえば一定の）角速度で回転しているロール３に、レジスト塗布部７でレジスト６Ａを塗布してレジスト層５Ａを形成し、この未硬化のレジスト層５Ａの形成後、レジスト層５Ａの膜厚を調整するために（レベリングするために）、ロール回転駆動部２９で所定の時間ロール３を回転（第１の実施形態の場合よりも高速で回転）する。そして、レジスト層５Ａの膜厚を調整（レジスト層５Ａの外径の調整）する。この後、ロール回転駆動部２９でロール３を回転しつつ、かつ、レジスト層５Ａの膜厚を調整してある状態を維持しつつ、レジスト層５Ａをレジストベーク部１１ａで硬化している。
【００８２】
なお、レジスト６の供給（塗布）開始から、レジスト６（レジスト層５）の硬化が終えるまで、ロール３は、一定の角速度で回転し続けているものとする。しかしながら、必ずしも、このようにロール３を回転させる必要は無い。膜厚が調整されたレジスト層５Ａ整が崩れなければ、ロール３の回転速度を落とす等して変化させてもよいし、停止させてもよい。たとえば、レジスト層５Ａの硬化がある程度進み、レジスト層５Ａの膜厚が変形するおそれが無くなったときに、ロール３の回転速度を落とす等して変化させてもよいし、停止させてもよい。第１の実施形態において、ロール３の回転の態様を同様に変えてもよい。
【００８３】
また、レジスト塗布ベーク装置１ａには、センサ（たとえば非接触センサ）２３が設けられている。センサ２３は、レジスト塗布部７で塗布されたレジスト層５Ａの外径を測定するようになっている。なお、第１の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置１と同様にして、センサ２３の設置形態を適宜変更してもよい。
【００８４】
制御部２１は、センサ２３で測定したレジスト層５Ａの外径の変動量が目標値よりも小さくなったとき（たとえば、閾値内に収まったときに）に、レジスト層５Ａの膜厚の調整（レジスト層５Ａの外径の調整）を終え、レジスト層５Ａをレジストベーク部１１ａで硬化するように、ロール回転駆動部２９とレジストベーク部１１ａとを制御するようになっている。
【００８５】
さらに説明すると、レジスト塗布ベーク装置１ａは、ロール３が少なくとも１回転する間センサ２３によるレジスト層５Ａの外径の測定をし続け、この結果、レジスト層５Ａの外径寸法のばらつきが許容値におさまっているときに、レジストベーク部１１ａを稼動してレジスト６（レジスト層５）を硬化するようになっている。
【００８６】
なお、レジスト塗布ベーク装置１ａにドクターブレード等を設置して、レジスト層５の外径のばらつきだけでなく、レジスト層の厚さもしくはレジスト層５の外径の絶対値を調整するようにしてもよい。
【００８７】
上記絶対値についてレジスト層５の厚さを例に掲げて詳しく説明する。
【００８８】
上述した変動量の調整だけでは、ロール３の全周におけるレジスト層５の厚さが０．２ｍｍ±０．０２ｍｍ（０．０２ｍｍが閾値；許容値）の範囲内であっても、０．４ｍｍ±０．０２ｍｍであっても良品となる。すなわち、絶対値である０．２ｍｍや０．４ｍｍの値は無視され、±０．０２ｍｍだけが良否の判断対象となる。そして、レジストベーク部１１ａでのレジスト６の硬化がなされる。
【００８９】
そこで、上記絶対値も目標値内におさめるために次のことをするようにしてもよい。
【００９０】
上記絶対値が、目標値よりも小さい場合、上述したようにレジストベーク部１１ａによるレジスト６の硬化をすることなく、塗布ヘッド１５から未硬化のレジスト６をさらに吐出する。
【００９１】
一方、ドクターブレード９等を設置することで、上記絶対値が、目標値よりも大きい場合、上述したように、ドクターブレード９により、未硬化のレジスト６をかき取る。
【００９２】
レジストベーク部１１ａは、レジスト塗布部７によりレジスト層５Ａが形成され、ロール回転駆動部２９によるレジスト層５の外径の調整がなされたロール（レジスト層付きロール）３を内部に収容するチャンバ３１と、チャンバ３１の内部を加熱するヒータ３３とを備えて構成されている。レジストベーク部１１ａによるレジスト層５の硬化は、上述したように、ロール３を回転させたまま行われる。
【００９３】
なお、レジスト塗布ベーク装置１ａには、基台３５が設けられており、ロール支持体１３で支持されているロール３は、ロール支持体１３とともに、基台３５上を適宜移動位置決めするようになっている。上記移動は、制御部２１の制御の下、図示しないロール支持体移動装置によってなされるようになっている。
【００９４】
また、レジストベーク部１１ａで、ロール３に設けられたレジスト層５Ａを加熱して硬化した後、冷却ノズル（図示せず）から冷風をチャンバ３１内に供給し、硬化したレジスト層５Ｂを冷却してもよい。その後、センサ２３で、レジスト層５Ｂの外径を測定し、この測定結果をフィードバックすることで、たとえば次のロール３にレジスト層５Ｂを設けるようにしてもよい。もしくは、センサ２３の測定結果を管理値としてロール３に対応させて保存しておいてもよい。
【００９５】
次に、レジスト塗布ベーク装置１ａの動作について説明する。
【００９６】
まず、初期状態として、レジスト層５が設けられていないロール３がロール支持体１３に支持され、図１の左側のステーションに位置しており、一定の角速度で回転しているものとする。また、レジストベーク部１１ａは稼動していないものとする。
【００９７】
上記初期状態において、塗布ヘッド１５が未硬化のレジスト６Ａを吐出する。未硬化のレジスト６Ａの吐出は、ロール３がたとえば１回転する間連続してなされる。
【００９８】
続いて、未硬化のレジスト６Ａにより未硬化のレジスト層５Ａが設けられたロール３を、基台３５上で移動し、図１の真ん中のステーションに位置させるとともに、ロール３を所定時間回転することで、未硬化のレジスト層５Ａの外径寸法を調整する。
【００９９】
続いて、外径寸法の調整がなされた未硬化のレジスト６Ａが設けられたロール３を、基台３５上で移動し、図１の右側のステーションに位置させるとともに、レジストベーク部１１ａのチャンバ３１内でレジスト６（ロール３）を加熱し、レジスト６（レジスト層５）を硬化させる。
【０１００】
センサ（未硬化のレジスト層５Ａの外径を測定するセンサ）２３を使用する場合には、未硬化のレジスト層５Ａの外径寸法を調整するときに、センサ２３で、レジスト層５Ａの外径を測定する。そして、レジスト層５Ａの外径の変化量が、ロール３が少なくとも１回転する間で目標値内におさまっている場合に、レジストベーク部１１ａでレジスト層５を硬化する。
【０１０１】
なお、上記動作において、ロール３は、上記初期状態からレジスト層５の硬化が終了するまで、一定の速度で回転しているものとする。
【０１０２】
また、レジスト塗布ベーク装置１ａは、次のレジスト塗布ベーク方法を実行するときに使用する装置の例である。
【０１０３】
ロール支持体に支持され水平方向に延びている中心軸を回転中心にして回転している円柱状のロールの側面に未硬化のレジストを塗布してレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層形成工程で未硬化のレジストを形成した後、円柱状のロールを所定時間回転することで、前記未硬化のレジスト層の外径寸法を調整するレジスト層調整工程（レベリング工程）と、前記レジスト層膜厚調整工程による未硬化のレジスト層の膜厚の調整がなされた後、前記レジスト層を硬化するレジスト層ベーク工程とを有するレジスト塗布ベーク方法。
【０１０４】
なお、第２の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置１ａにおいて、第１の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置１のレジストベーク部１１を用い、レジスト６を硬化させてもよい。また、第１の実施形態に係るレジスト塗布ベーク装置１において、冷却ノズルで硬化したレジスト層５Ｂを冷却してよい。
【０１０５】
レジスト塗布ベーク装置１ａによれば、レジスト層５の外径もしくは膜厚を調整するために、ロール回転駆動部２９で所定の時間ロール３を回転した後、レジスト層５Ａをレジストベーク部１１ａで硬化するので、レジスト層５が自重でたれたりすること等が無くなり、レジスト層５の形態を正確なものにすることができる。
【０１０６】
また、レジスト塗布ベーク装置１ａによれば、センサ２３で測定したレジスト層５Ａの外径の変動量もしくは膜厚の変動量が目標値よりも小さくなったときに、レジスト層５Ａの膜厚の調整を終え、レジスト層５Ａをレジストベーク部１１ａで硬化するので、レジスト層５の形態をより正確なものにすることができる。
【０１０７】
さらに説明すると、センサ２３の測定結果に応じてレジスト層５Ａの外径の変動量が目標値になるようにすると、ロール３の側面の円筒度にかかわり無く（円筒度が若干悪くなっていても）、レジスト層５の外周の円筒度を良好なものにすることができる。この場合、レジスト層５の厚さは、ロール３の側面の円筒度に応じて、若干の変化をしている。
【０１０８】
また、レジスト塗布ベーク装置１ａによれば、レジストベーク部１１ａが、ロール３を内部に収容するチャンバ３１と、このチャンバ３１の内部を加熱するヒータ３３とを備えて構成されているので、レジスト６Ａの加熱がロール３（レジスト層５Ａ）を包み込むようにしてなされ、他の部分との間での熱の移動を概ね遮断することができ。熱効率が良くなる。
【符号の説明】
【０１０９】
１  レジスト塗布ベーク装置
３  ロール
５  レジスト層
６  レジスト
７  レジスト塗布部
９  ドクターブレード
１１  レジストベーク部
２１  制御部
２３  センサ
２５  位置調整装置
Ｃ１  回転中心軸
【図１】
2014204055.tif 000003
【図２】
2014204055.tif 000004
【図３】
2014204055.tif 000005
【図４】
2014204055.tif 000006