(57)【要約】【課題】簡易な構成で、高精度な収差補正を行いつつ、多波長に適応した被検査物の撮像を実現する。【解決手段】撮像装置は、測定光を照射した被検査物からの戻り光のうち第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を測定し、戻り光のうち第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を補正するための第一の空間光変調器を、測定された収差に基づいて前記第一の波長に対応するように制御し、戻り光のうち第一の偏光成分および第一の波長とは異なる第二の偏光成分および第二の波長を有する光の収差を補正する第二の空間光変調器を、測定された収差に基づいて第二の波長に対応するように制御し、第二の空間光変調器により補正された収差の光を用いて、被検査物の画像を形成する。【選択図】            図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定光を照射した被検査物からの戻り光のうち第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を測定する測定手段と、
前記第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を補正する第一の空間光変調手段と、
前記戻り光のうち前記第一の偏光成分および第一の波長とは異なる第二の偏光成分および第二の波長を有する光の収差を補正する第二の空間光変調手段と、
前記測定手段の測定結果に基づいて前記第一の波長に対応するように前記第一の空間光変調手段を制御し、前記測定手段の測定結果に基づいて前記第二の波長に対応するように前記第二の空間光変調手段を制御する制御手段と、
前記第二の空間光変調手段により補正された収差の光を用いて、前記被検査物の画像を形成する形成手段と、を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記測定手段の測定結果に基づいて前記第一の空間光変調手段における前記第一の波長に対応する第一の変調量と、前記測定手段の測定結果に基づいて前記第二の空間光変調手段における前記第二の波長に対応する第二の変調量とを取得する変調量取得手段を備え、
前記制御手段が、前記取得された第一および第二の変調量に基づいて、前記第一および第二の空間光変調手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記被検査物に対して前記第一および第二の波長を有する前記測定光を走査する走査手段と、
前記第一の空間光変調手段を介して前記第一の波長を有する光を受光する第一の受光手段と、
前記第二の空間光変調手段を介して前記第二の波長を有する光を受光する第二の受光手段と、を備え、
前記形成手段が、前記第一および第二の受光手段の受光結果に基づいて、前記被検査物の第一および第二の画像を形成することを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記被検査物に対して前記第一の波長を有する光を前記測定光として前記測定光として走査する走査手段と、
前記第二の空間光変調手段を介して前記測定光を前記被検査物に照射することにより生じた前記第二の波長を有する光を受光する受光手段と、を備え、
前記形成手段は、前記受光手段の受光結果に基づいて、前記被検査物の画像を形成することを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記被検査物は被検眼であり、
前記受光手段が、前記測定光を励起光として照射した前記被検眼の蛍光を前記第二の波長を有する光として受光することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記受光手段が前記戻り光のうち前記第二の波長を有する光を受光するように、前記戻り光の波長を制限する波長制限手段をさらに備えることを特徴とする請求項４または５に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記波長制限手段が、前記測定手段が前記戻り光のうち前記第一の波長を有する光の収差を測定するように、前記戻り光の波長を制限することを特徴とする請求項６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記第一の受光手段が前記戻り光のうち前記第一の波長を有する光を受光し、前記第二の受光手段が前記第二の波長を有する光を受光するように、前記戻り光の波長を制限する第一の波長制限手段と、
前記測定手段が前記戻り光のうち前記第一の波長を有する光の収差を測定するように、前記戻り光の波長を制限する第二の波長制限手段と、をさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記測定手段が前記戻り光のうち前記第一の偏光成分を有する光の収差を測定するように、偏光成分を制限する偏光制限手段をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記第一の空間光変調手段および前記第二の空間光変調手段は、それぞれ前記第一の偏光成分の光および前記第二の偏光成分の光に対応した、液晶を用いた空間位相変調器であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、
前記第一の波長の光について、前記測定手段で測定された収差を補正するように前記第一の空間光変調手段を制御し、
前記第二の波長の光について、前記測定手段で測定された収差を補正するように前記第二の空間光変調手段を制御することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
測定光を照射した被検査物からの戻り光のうち第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を測定する工程と、
前記戻り光のうち前記第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を補正するための第一の空間光変調手段を、前記測定する工程における測定結果に基づいて前記第一の波長に対応するように制御する工程と、
前記戻り光のうち前記第一の偏光成分および第一の波長とは異なる第二の偏光成分および第二の波長を有する光の収差を補正する第二の空間光変調手段を、前記測定する工程における測定結果に基づいて前記第二の波長に対応するように制御する工程と、
前記第二の空間光変調手段により補正された収差の光を用いて、前記被検査物の画像を形成する工程と、を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１３】
前記第一の波長と前記第二の波長を有する複数の測定光を前記被検査物に照射する工程を更に含み、
前記被検査物からの前記戻り光は前記複数の測定光の反射光であることを特徴とする請求項１２に記載の撮像方法。
【請求項１４】
前記第一の波長を有する測定光を前記被検査物に照射する工程を更に有し、
前記被検査物から出射した光は、前記測定光の反射光と、前記測定光を前記被検査物に照射することにより生じた前記第二の波長を有する光とを含むことを特徴とする請求項１２または１３に記載の撮像方法。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載の撮像方法の各工程を、コンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１６】
測定光を照射した被検査物からの戻り光のうち第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を測定する測定手段と、
前記戻り光のうち前記第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を補正する第一の空間光変調手段と、
前記戻り光のうち前記第一の偏光成分および第一の波長とは異なる第二の偏光成分および第二の波長を有する光の収差を補正する第二の空間光変調手段と、
前記測定手段の測定結果に基づいて前記第一の波長に対応するように前記第一の空間光変調手段を制御し、前記測定手段の測定結果に基づいて前記第二の波長に対応するように前記第二の空間光変調手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする補償光学装置。
【請求項１７】
補償光学装置による収差補正方法であって、
測定光を照射した被検査物からの戻り光のうち第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を測定する工程と、
前記戻り光のうち前記第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を補正するための第一の空間光変調手段を、前記測定する工程における測定結果に基づいて前記第一の波長に対応するように制御する工程と、
前記戻り光のうち前記第一の偏光成分および第一の波長とは異なる第二の偏光成分および第二の波長を有する光の収差を補正する第二の空間光変調手段を、前記測定する工程における測定結果に基づいて前記第一の波長に対応するように制御する工程と、を有することを特徴とする収差補正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撮像装置、撮像方法、補償光学装置および収差補正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、眼科用の撮像装置として、眼底に２次元的にレーザ光を照射してその反射光を受光して画像化するＳＬＯ（Scanning Laser Ophthalmoscope：走査レーザ検眼鏡）や、低コヒーレンス光の干渉を利用したイメージング装置が開発されている。低コヒーレンス光の干渉を利用したイメージング装置は、ＯＣＴ（Optical Coherence Tomography：光干渉断層装置あるいは光干渉断層法）と呼ばれ、特に、眼底あるいはその近傍の断層像を得る目的で用いられている。ＯＣＴの種類としては、ＴＤ−ＯＣＴ（Time Domain OCT：タイムドメイン法）や、ＳＤ−ＯＣＴ（Spectral Domain OCT：スペクトラルドメイン法）等を含め、種々のものが開発されてきている。
【０００３】
近年において、このような眼科用の撮像装置は、照射レーザの高ＮＡ（開口数）化等によってさらなる高解像度化が進められている。しかしながら、眼底を撮像する場合には、角膜や水晶体等の眼の光学組織を通して撮像をしなければならない。そのため、高解像度化が進むに連れて、これら角膜や水晶体で生じる収差が撮像画像の画質に大きく影響するようになってきた。
【０００４】
そこで、被検眼の収差を測定し、その収差を補正する補償光学（Adaptive Optics：ＡＯ）機能を光学系に組み込んだ、ＡＯ−ＳＬＯやＡＯ−ＯＣＴの研究が進められている。ＡＯ−ＳＬＯやＡＯ−ＯＣＴは、一般的にはシャックハルトマン波面センサ方式によって眼の波面を測定する。シャックハルトマン波面センサ方式とは、被検眼に測定光を入射し、被検眼からの反射光をマイクロレンズアレイを通してＣＣＤカメラに受光することによって波面を測定するものである。測定した波面を補正するように空間位相変調器を駆動し、それらを通して眼底の撮像を行うことにより、ＡＯ−ＳＬＯやＡＯ−ＯＣＴは高分解能な撮像を可能としている。
【０００５】
一般に、高分解能化のために照射レーザを高ＮＡ化すると、角膜や水晶体等の眼の光学組織による収差量が増大すると共に、収差形状も複雑な形状となる。補償光学（ＡＯ）によってこの収差を補正するのであるが、大きい収差量や複雑な形状の収差を補正するためには、高い分解能で収差測定を行い、高い分解能で波面補正デバイスを駆動することが必要である。そのような波面補正デバイスとして、高い分解能で波面を補正する事が可能な、液晶を用いた空間位相変調器（すなわち、液晶空間位相変調器（ＬＣＯＳ−ＳＬＭ、以下、単にＬＣＯＳと記載する））が用いられる。
【０００６】
近年では、眼科撮影装置においても、撮影対象に応じて複数の波長を切り替えて撮影すること、すなわち複数の波長を用いた撮影が可能であることが望まれている。この場合、複数の波長の光について波面補正が可能であることが必要である。さらに、眼底に対して蛍光物質励起用のレーザ光を照射し、眼底内もしくは外部から導入された蛍光物質が発した蛍光を観察することによって疾患等の有無を判断出来ることが知られている。このような観察を実現するためには、レーザ光と蛍光という異なる波長の光について波面補正を可能とすることが要求される。
【０００７】
しかしながら、一般に液晶空間位相変調器は高い分解能で波面を補正する事が可能であるが、液晶の屈折率は波長依存性を持つために、特定の波長に合わせて制御した場合には他の波長に対しては適正な制御とならない。よって、複数の波長を用いた眼底観察装置や蛍光眼底観察装置の収差補正器として液晶空間位相変調器を採用することは困難であった。また、液晶空間位相変調器には特定の偏光成分の光を変調するという偏光依存性があり、多様な偏光を含む眼底からの反射光あるいは蛍光を適切に変調して収差補正することが困難であった。
【０００８】
特許文献１には、ＬＣＯＳの波長依存性を解消するべく、波長により分離された２つの光路を設け、各光路に各波長に対応した変調を施すＬＣＯＳを配置した構成が記載されている。また、特許文献２には、異なる偏光に対応した光路を設けて各偏光に対応したＬＣＯＳにより変調を行なうことにより、偏光状態に因らない波面補正を実現する構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１１−０９２５９５号公報
【特許文献２】特開２０１１−１０４３３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、補償光学系において、複数の波長の光をそれらの偏光を考慮しながら波面補正を行なうように特許文献１と特許文献２に記載された構成を用いた場合、波長と偏光の組合わせの数、ＬＣＯＳおよび光路（光学系）が必要となる。そのため、光学系の配列の高精度化、光学系の大型化を招いてしまう。
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、簡易な構成で、高精度な収差補正を行いつつ、多波長に適応した被検査物の撮像を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的を達成するための本発明の一態様による撮像装置は以下の構成を備える。すなわち、
測定光を照射した被検査物からの戻り光のうち第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を測定する測定手段と、
前記第一の偏光成分および第一の波長を有する光の収差を補正する第一の空間光変調手段と、
前記戻り光のうち前記第一の偏光成分および第一の波長とは異なる第二の偏光成分および第二の波長を有する光の収差を補正する第二の空間光変調手段と、
前記測定手段の測定結果に基づいて前記第一の波長に対応するように前記第一の空間光変調手段を制御し、前記測定手段の測定結果に基づいて前記第二の波長に対応するように前記第二の空間光変調手段を制御する制御手段と、
前記第二の空間光変調手段により補正された収差の光を用いて、前記被検査物の画像を形成する形成手段と、を備える。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、簡易な構成で、高精度な収差補正を行いつつ、多波長に適応した被検査物の撮像が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】第一実施形態における補償光学系を備えたＳＬＯによる眼底撮像装置の構成例の模式図。
【図２】第一実施形態における波面補正デバイスの一例を示す模式図。
【図３】シャックハルトマンセンサの構成を示す模式図。
【図４】波面を測定する光線がＣＣＤセンサ上に集光された状態を示す模式図。
【図５】球面収差を持つ波面を測定した際の模式図。
【図６】眼底撮像装置の従来技術における制御ステップを示すフローチャート。
【図７】第二実施形態における補償光学系を備えた蛍光ＳＬＯによる眼底撮像装置の構成例の模式図。
【図８】第三実施形態における補償光学系を備えた蛍光ＳＬＯによる眼底撮像装置の構成例の模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、添付の図面を参照して本発明の実施形態のいくつかを説明する。但し、本発明は以下の実施形態の構成によって何ら限定されるものではない。
【００１６】
［第一実施形態：２波長の光それぞれでＡＯ−ＳＬＯ撮像］
第一実施形態として、本発明を適用した眼底撮像装置の構成について図１を用いて説明する。なお、本実施形態においては、測定対象あるいは撮像対象である被検査物を眼（以下、被検眼）とし、被検眼で発生する収差を補償光学系で補正し、複数の波長で眼底を撮像する構成を例示して説明する。
【００１７】
図１は、第一実施形態における補償光学系を備えたＳＬＯ（ＡＯ−ＳＬＯ）による眼底撮像装置の構成例を示す模式図である。図１において、１０１−１は第一の光源であり、第一の波長（８４０ｎｍ）を有するＳＬＤ光源（Super Luminescent Diode）が用いられている。１０１−２は第二の光源であり、第二の波長（９２５ｎｍ）を有するＳＬＤ光源（Super Luminescent Diode）が用いられている。このように、異なる波長の光を用いることにより、眼底の深さ方向に異なる位置における画像を観察することができる。なお、第一の光源１０１−１および第二の光源１０１−２の波長は特に上記例に制限されるものではない。但し、眼底撮像用としては被検者が感じる眩しさの軽減と撮像の分解能維持のために、第一、第二の波長ともにおよそ８００〜１５００ｎｍの範囲とするのが好適である。また、本実施形態においてはＳＬＤ光源を用いたが、これに限られるものではなく、レーザ等を光源として用いてもよい。
【００１８】
第一の光源１０１−１から照射された光は、単一モード光ファイバ１０２を通って、コリメータ１０３−１により、平行光線の測定光となる。コリメータ１０３−１から出射される測定光は、単一モード光ファイバ１０２の経路に具備された偏光調整器１１９−１によりその偏光が調整されている。なお、偏光調整器１１９−１の替わりに、コリメータ１０３−１の出射側に偏光板等の偏光光学素子を具備した構成としても良い。本実施形態においては、コリメータ１０３−１から出射される光の偏光が図１の紙面に水平な偏光成分となるように偏光調整器１１９−１が調整されている。以下、この偏光成分の光を第一の偏光成分の光とする。
【００１９】
コリメータ１０３−１から出射された測定光はビームスプリッタからなる光分割部１０４−１を透過し、ダイクロイックミラー１２０に導光される。ダイクロイックミラー１２０は、第一の波長の光の大部分を透過するように構成されている。
【００２０】
他方、第二の光源１０１−２から照射された光は、単一モード光ファイバを通って、コリメータ１０３−２により、平行光線の測定光となる。コリメータ１０３−２から出射される測定光は、単一モード光ファイバの経路に具備された偏光調整器１１９−２によりその偏光が調整されている。なお、偏光調整器１１９−２の替わりに、コリメータ１０３−２の出射側に偏光板等の偏光光学素子を具備した構成としても良い。本実施形態においては、コリメータ１０３−２から出射される光の偏光が図１の紙面に垂直な偏光成分となるように偏光調整器１１９−２が調整されている。以下、この偏光成分の光を第二の偏光成分の光とする。すなわち第二の偏光成分の光は、第一の偏光成分の光とは異なる偏光状態の光であり、たとえば、Ｐ偏光とＳ偏光である。
【００２１】
コリメータ１０３−２から出射された測定光は、ビームスプリッタからなる光分割部１０４−２を透過し、ダイクロイックミラー１２０に導光される。ダイクロイックミラー１２０は、第二の波長の光の大部分を反射するように構成されている。こうして、第一の波長の測定光と第二の波長の測定光はダイクロイックミラー１２０で融合されて、複数の光（複数の偏光成分の光）からなる測定光１０５として補償光学系に導光される。
【００２２】
補償光学系は、光分割部１０６、波面センサ１１５、波面補正デバイス１０８−１、１０８−２および、それらに導光するための反射ミラー１０７−１〜６を具備する。ここで、反射ミラー１０７−１〜６は、少なくとも被検眼１１１の瞳と波面センサ１１５、波面補正デバイス１０８−１、１０８−２とが光学的に共役関係になるように設置されている。また、光分割部１０６として、本実施形態ではビームスプリッタを用いている。
【００２３】
光分割部１０６を透過した測定光１０５は、反射ミラー１０７−１と１０７−２で反射されて波面補正デバイス１０８−１に入射する。波面補正デバイス１０８−１で反射された測定光１０５は、さらに反射ミラー１０７−３と１０７−４で反射されて波面補正デバイス１０８−２に入射し、反射ミラー１０７−５に出射される。
【００２４】
本実施形態では、それぞれ異なる偏光に対応した第一の収差補正と第二の収差補正を行なうために、第一の空間光変調部、第二の空間光変調部としての波面補正デバイス１０８−１と波面補正デバイス１０８−２が用いられる。そのような波面補正デバイス１０８−１と波面補正デバイス１０８−２として、本実施形態では、液晶を用いた空間位相変調器（ＬＣＯＳ）を用いている。ただし、第一の空間光変調部、第二の空間光変調部としては、ＬＣＯＳのような反射型の変調器に限られるものではなく、透過型の変調器を用いてもよい。図２に波面補正デバイス１０８−１，１０８−２として使用される反射型液晶光変調器の構成例を模式図で示す。図２に示される変調器は、ベース部１２８とカバー１２９に挟まれた空間に液晶分子１２５が封入されている構造となっている。ベース部１２８には複数の画素電極１２４が配置され、カバー１２９には不図示の透明な対向電極が配置されている。電極間に電圧を印加していない場合には、液晶分子は１２５−１のような配向をしており、電圧を印加すると１２５−２のような配向状態に遷移し、入射光に対する屈折率が変化する。各画素電極１２４の電圧を制御して各画素の屈折率を変化させることにより、空間的な位相変調が可能となる。例えば入射光１２６が本変調器に入射した場合、液晶分子１２５−２を通過する光は液晶分子１２５−１を通過する光よりも位相が遅れ、結果として図２の点線１２７で示すような波面を形成する。一般的に反射型液晶光変調器は、数万〜数十万個の画素から構成されている。
【００２５】
上記のような液晶光変調器は特定の偏光成分の光を主に変調する。ゆえに、本実施形態においては、第１の波長の光と第２の波長の光の両方の偏光成分を個別に変調するために、変調する偏光成分が互いに直行している波面補正デバイス１０８−１および１０８−２の２つを使用している。すなわち、波面補正デバイス１０８−１が第一の偏光成分の光を変調し、波面補正デバイス１０８−２が第一の偏光成分と異なる偏光状態の（本例では互いに直交する）第二の偏光成分の光を変調する。たとえば、偏光依存性を有する２つの空間位相変調器を、それぞれ第一、第二の偏光に揃えて配置することで、それぞれに対応した偏光成分の光について収差補正を行なわせることができる。
【００２６】
図１に戻り、反射ミラー１０７−５、６で反射された光は、走査光学系１０９によって、１次元もしくは２次元に走査される。本実施形態では走査光学系１０９に主走査用（眼底水平方向）と副走査用（眼底垂直方向）として２つのガルバノスキャナを用いた構成となっている。より高速な撮像のために、走査光学系１０９の主走査用に共振スキャナを用いてもよい。また、走査光学系１０９内の各スキャナを光学的な共役状態にするために、各スキャナの間にミラーやレンズといった光学素子を用いる場合もある。
【００２７】
走査光学系１０９で走査された測定光１０５は、接眼レンズ１１０−１および１１０−２を通して被検眼１１１に照射される。被検眼１１１に照射された測定光１０５は眼底で反射もしくは散乱され、戻り光となる。接眼レンズ１１０−１および１１０−２の位置を調整することによって、被検眼１１１の視度にあわせて最適な照射を行うことが可能となる。ここでは、接眼部にレンズを用いたが、球面ミラー等で構成しても良いことは明らかである。
【００２８】
被検眼１１１の網膜から反射もしくは散乱された反射光は、戻り光として入射した時の経路を逆向きに進行し、光分割部１０６に到達する。ここで、戻り光は、測定光１０５と同様の複数の光（複数の偏光成分の光）を含む。光分割部１０６に到達した反射光の一部は、光分割部１０６により波面センサ１１５へ向けて反射され、被検眼１１１から出射した光の波面を測定するために用いられる。
【００２９】
本実施形態では、波面センサ１１５の一例としてシャックハルトマンセンサを用いている。図３にシャックハルトマンセンサの模式図を示す。図３（ａ）において、光線１３１は波面の測定対象であり、マイクロレンズアレイ１３２を通して、ＣＣＤセンサ１３３上の焦点面１３４に集光される。図３（ａ）のＡ−Ａ’で示す位置から見た様子を示す図が図３（ｂ）であり、マイクロレンズアレイ１３２が、複数のマイクロレンズ１３５から構成されている様子を示したものである。光線１３１は各マイクロレンズ１３５を通してＣＣＤセンサ１３３上に集光されるため、光線１３１はマイクロレンズ１３５の個数分のスポットに分割されて集光される。
【００３０】
図４にＣＣＤセンサ１３３上に集光された状態を示す。各マイクロレンズ１３５を通過した光線は、図４に示すようなスポット１３６に集光される。そして、この各スポット１３６の位置から、入射した光線の波面が計算される。図５（ａ）に球面収差を持つ波面を測定した場合の例を模式図により示す。光線１３１は点線１３７で示すような波面で形成されている。光線１３１はマイクロレンズアレイ１３２によって、波面の局所的な垂線方向の位置に集光される。この場合のＣＣＤセンサ１３３上の集光状態（スポット）を図５（ｂ）に示す。光線１３１が球面収差を持つため、スポット１３６は中央部に偏った状態で集光される。したがって、これらのスポットの位置を計算することによって、光線１３１の波面が分かる。なお、本実施形態では波面センサにシャックハルトマンセンサを用いたが、それに限定されるものではなく、曲率センサのような他の波面測定方法や、結像させた点像から逆計算で求めるような方法を用いても良い。
【００３１】
図１に戻り、波面センサ１１５の前方には、波面センサ１１５へ到達する光の偏光制限をする偏光板１２１および波長制限をする光フィルタ１２２が設置されている。これらにより、被検眼１１１からの反射光のうち特定の波長の特定の偏光成分が波面センサ１１５に入射するような構成となっている。本実施形態では、偏光板１２１と光フィルタ１２２によって、光分割部１０６で分割された反射光のうち、第一の波長を有する第一の偏光成分の光が波面センサ１１５に入射するようにしている。
【００３２】
また、図１において、光分割部１０６を透過した反射光はダイクロイックミラー１２０に到達し、第一の波長成分（第一の波長の反射光）は光分割部１０４−１に、第二の波長成分（第二の波長の反射光）は光分割部１０４−２にそれぞれ導光される。すなわち、ダイクロイックミラー１２０は、光強度センサ１１４−１が第一の波長を有する光を受光し、光強度センサ１１４−２が第二の波長を有する光を受光するように波長を制限する第一の波長制限部として機能している。また、光分割部１０６と光フィルタ１２２は、波面センサ１１５が第一の波長の光を有する光の収差を測定するように戻り光の波長を制限する第二の波長制限部として機能している。
【００３３】
本実施形態では、前記第一の受光部および第二の受光部としての光強度センサ１１４−１および光強度センサ１１４−２を用いて、それぞれの受光部の受光結果に基づいて、被検眼の第一および第二の画像が形成される。すなわち、光分割部１０４−１に到達した第一の波長の反射光は、一部が反射されて偏光板１２３−１を通り、第一の偏光成分の光がコリメータ１１２−１、光ファイバ１１３を通して光強度センサ１１４−１に導光される。光強度センサ１１４−１で光は電気信号に変換され、制御部１１７によって眼底画像として画像に構成されて、ディスプレイ１１８に第一の波長の撮像画像として表示される。
【００３４】
光分割部１０４−２に到達した第二の波長の反射光は、一部が反射されて偏光板１２３−２を通り、第二の偏光成分がコリメータ１１２−２、光ファイバを通して光強度センサ１１４−２に導光される。光強度センサ１１４−２で光は電気信号に変換され、制御部１１７によって眼底画像として画像に構成されて、ディスプレイ１１８に第二の波長の撮像画像として表示される。
【００３５】
波面センサ１１５は補償光学制御部１１６に接続されており、受光した光の波面を補償光学制御部１１６に伝える。波面補正デバイス１０８−１および１０８−２も補償光学制御部１１６に接続されており、補償光学制御部１１６から指示された変調を行う。補償光学制御部１１６において、変調量取得部１１６ａは波面センサ１１５の測定結果に基づいて（取得された波面に基づいて）収差のない波面へと補正するような変調量（補正量）を取得する。補償光学制御部１１６は、波面補正デバイス１０８−１および１０８−２に、変調量取得部１１６ａが取得した変調量に従った変調を実現するように指令を出す。波面の測定と波面補正デバイスへの指示は繰り返し処理され、常に最適な波面となるようにフィードバック制御が行われる。すなわち、第一実施形態では、反射光のうちの第一の波長の第一の偏光成分の光の収差を測定し、波面補正デバイス１０８−１が第一の波長の収差を、波面補正デバイス１０８−２が第二の波長の収差を補正するように補正量を決定し、駆動する。これにより、波面補正デバイス１０８−１により第一の波長の光（第一の偏光成分）の波面の収差が補正され、波面補正デバイス１０８−２により第二の波長の光（第二の偏光成分）の波面の収差が補正される。
【００３６】
本実施形態の眼底撮像装置における収差補正および撮像の制御の一例を、図６のフローチャートを用いて説明する。本実施形態において、以下に説明される処理は補償光学制御部１１６、制御部１１７により実行される。以下に説明される処理はＣＰＵ（不図示）がたとえばＲＯＭのようなメモリ（不図示）に記憶されているプログラムを実行することにより実現されるものとする。但し、補償光学制御部１１６と制御部１１７のそれぞれに個別にＣＰＵが設けられてもよいし、補償光学制御部１１６と制御部１１７が一つのＣＰＵにより実現されるようにしてもよい。
【００３７】
ステップＳ１０１において補償光学制御部１１６、制御部１１７は制御を開始する。補償光学制御部１１６は、
・波面センサ１１５により収差を測定し（ステップＳ１０２）、
・測定した結果を元に補正量を計算し（ステップＳ１０４）、
・計算された補正量に基づいて波面補正デバイス１０８−１および１０８−２を駆動する（ステップＳ１０５）こと、を繰り返し実行する。
【００３８】
図１に示す眼底撮像装置は第一の波面補正デバイス１０８−１と第二の波面補正デバイス１０８−２の２つの波面補正デバイスを有するため、補償光学制御部１１６は、補正量を計算するステップＳ１０４をそれぞれの波面補正デバイスについて行う。そのため、図６では、ステップＳ１０４−１とＳ１０４−２の２つのステップが実行されることが示されている。また、波面補正デバイスを駆動するステップＳ１０５に関しても、補償光学制御部１１６が２つの波面補正デバイスを個別に駆動するため、ステップＳ１０５−１とＳ１０５−２が存在する。
【００３９】
本例においては波面センサ１１５で測定される収差は第一の波面補正デバイス１０８−１が補正する第一の波長の光（第一の偏光成分）の収差である。そのため、ステップＳ１０４−１において補償光学制御部１１６は波面センサで取得された収差を打ち消すような変調量が計算される。そして、ステップＳ１０５−１において、補償光学制御部１１６は、ステップＳ１０４−１で計算された変調量を用いて第一の波面補正デバイス１０８−１を駆動する。
【００４０】
一方、補償光学制御部１１６は、ステップＳ１０４−２において波面センサ１１５から得られた情報（収差）に対して、波長の違いによる影響回避のための変換処理を行ったうえで第二の波面補正デバイス１０８−２の駆動量を計算する。たとえば、第二の波面補正デバイス１０８−２が第二の波長の光（第二の偏光成分）を変調するため、補償光学制御部１１６は第一の波長に関して得られた変調量から第二の波長に対応する変調量を算出し、第二の波面補正デバイス１０８−２を駆動する。或いは、波面センサ１１５から得られた収差を補正するための変調量を各波長毎に記録したテーブルを用意しておき、ステップＳ１０４−１、Ｓ１０４−２では、このテーブルを参照して各波面補正デバイスの変調量を決定してもよい。要するに、ステップＳ１０４−１、Ｓ１０４−２では、変調量取得部１１６ａが、波面センサ１１５から得られた収差を打ち消すための変調量として、第一の波長の光に対応した第一の変調量と、第二の波長の光に対応した第二の変調量を取得する。そして、補償光学制御部１１６は、変調量取得部１１６ａが取得した第一の変調量により第一の波面補正デバイス１０８−１を、第二の変調量により第二の波面補正デバイス１０８−２を駆動する。このような第一、第二の波面補正デバイスの駆動制御により第一の波長の光と第二の波長の光の収差補正が適切になされることになる。
【００４１】
また、波面補正デバイス１０８−１および１０８−２はそれぞれ製造上の誤差による初期のひずみを持っており、そのひずみをキャンセルするための補正も必要である。一般にそのようなひずみをキャンセルするための補正も、補正デバイスが変調する波長によって異なるので、ステップＳ１０４−１およびステップＳ１０４−２で変調量を計算する際には、変調する波長に応じた初期ひずみの補正値が適用される。
【００４２】
以上のステップＳ１０４−１からステップＳ１０５−２までの処理は、ステップＳ１０２で測定された収差の収差量が予め設定された収差量の基準値を下回るまで繰り返される（ステップＳ１０３）。すなわち、補償光学制御部１１６は、ステップＳ１０３において収差量と基準値を比較し、収差量が基準値を上回っている場合には、ステップＳ１０４−１以降の処理を実行し、収差量が基準値を下回っている場合には処理をステップＳ１０６に進める。なお、本実施形態において収差量とは、求めた収差から得られる波面の乱れの総量を指すが、基準波面（平坦波面）からのズレの総量等であってもよい。また、収差量の基準値は装置固有の値でも良いし、撮像者が設定しても良い。
【００４３】
ステップＳ１０６において、制御部１１７は、光強度センサ１１４−１，１１４−２を用いて撮像を行い、ステップＳ１０７で終了確認を行う。終了要求が来ていない場合は、処理はステップＳ１０２に戻り、上述した処理が繰り返される。ステップＳ１０７で終了要求が確認された場合には、ステップＳ１０８で本制御を終了する。なお、本実施形態においては、撮像と収差補正の処理をシーケンシャルに行っているが、両者を並行して行うことも可能である。すなわち、収差補正を停止してから撮像を実行するようにしてもよいし、収差補正の動作を継続しながら撮像を実行するようにしてもよい。また、撮像時における光量を増加させるために、ステップＳ１０６において、光分割部１０６を光路から退避させて撮像を行なうように構成してもよい。
【００４４】
また、本実施形態においては、波面センサ１１５の前部に設けられた偏光板１２１と光フィルタ１２２を固定としているがこれに限られるものではない。たとえば、偏光板１２１や光フィルタ１２２を回転もしくは差し替え、抜去するなどにより、第一の波長の光と第二の波長の光を選択的に波面センサ１１５に到達させるようにしてもよい。この場合、ステップＳ１０４−１では第一の波長の光（第一の偏光成分）を波面センサ１１５に到達させて波面を計測し、波面補正デバイス１０８−１の補正量を計算する。また、ステップＳ１０４−２では第二の波長の光（第二の偏光成分）を波面センサ１１５に到達させて波面を計測し、波面補正デバイス１０８−２の補正量を計算する。
【００４５】
このような処理を行うことにより、複数の波長それぞれに最適な収差補正が可能となり、それぞれの波長においても高画質な撮像が可能となる。また、それぞれの波長の光により得られる、深さ方向に異なる複数位置の眼底像を、同時に観察したり、撮像したりすることが可能である。
【００４６】
なお、上記第一実施形態では、光分割部１０６としてビームスプリッタを用いて、戻り光の一部を波面センサ１１５へ導いたが、これに限られるものではない。たとえば、光分割部１０６として第一の波長の光の一部を反射するとともに第二の波長の光を透過するダイクロイックミラーを用いてもよい。その場合、波長を制限する光フィルタ１２２を省略することができる。また、第一の波長の光を撮像（測定）に用いないのであれば、光分割部１０６として第一の波長の光の全部を反射し、第二の波長の光を透過するダイクロイックミラーを用いることもできる。
【００４７】
また、第一実施形態では、第一の波長および第一の偏光成分の光が波面センサ１１５に到達するように、偏光板１２１や光フィルタ１２２が設けられているが、これらを省略した構成とすることも可能である。但し、その場合、第一の波長および第一の偏光成分の光と第二の波長および第二の偏光成分の光が波面センサ１１５に到達し、それらが混合した収差を測定することになる。
【００４８】
［第二実施形態：２つのＬＣＯＳを直列配置したＡＯ−ＳＬＯ装置で蛍光撮像］
第二実施形態として、本発明を適用した蛍光眼底撮像装置の構成について図７を用いて説明する。蛍光眼底撮像装置とは、被検眼に励起光を照射して眼底の蛍光物質から発せられる蛍光を撮像する装置である。
【００４９】
図７において、１０１は光源であり、たとえば第一の波長（５６８ｎｍ）の光を発生するＳＬＤ光源（Super Luminescent Diode）が用いられる。光源１０１から照射された光は、単一モード光ファイバ１０２を通って、コリメータ１０３により、平行光線の測定光として出射される。コリメータ１０３から出射される光の偏光は、単一モード光ファイバ１０２の経路に具備された偏光調整器１１９により調整される。なお、偏光調整器１１９の替わりに、コリメータ１０３の出射側に偏光板等の偏光光学素子を具備した構成としても良い。なお、本実施形態においては、コリメータ１０３から出射される光の偏光が図７の紙面に水平な偏光成分となるように偏光調整器１１９を調整してある。このような偏光状態の光を第一の偏光成分の光とする。
【００５０】
コリメータ１０３から出射された測定光はビームスプリッタからなる光分割部１０４を透過し、ダイクロイックミラー１２０に導光される。ダイクロイックミラー１２０は第一の波長（５６８ｎｍ）の光の大部分を透過するように構成されている。なお、ダイクロイックミラー１２０は、後述する第二の波長（６２４ｎｍ）の光はその大部分を反射するように構成されている。
【００５１】
ダイクロイックミラー１２０を通過した光は測定光１０５として補償光学の光学系に導光される。光分割部１０６は、第一の波長の光の一部を反射し、第二の波長の光を透過するように設計されたダイクロイックミラーである。以降の光学系の構成は第一実施形態（図１）と同様である。
【００５２】
第一の波長の測定光１０５が被検眼１１１に照射されると、照射された測定光により眼底の蛍光物質が励起され、蛍光物質から第二の波長（６２４ｎｍ）の蛍光が発せられる。したがって、測定光１０５を照射した被検眼１１１からの戻り光は、測定光１０５の反射光と蛍光を含み、測定光１０５が入射した時の経路を逆向きに進む。ここで、眼底に照射される測定光１０５は第１の偏光成分の光であるが、この測定光１０５により励起して蛍光物質から発せられる蛍光は、偏光状態に関してランダムな自然光である。そのため、被検眼１１１から出射した蛍光は、測定光１０５が入射した時の経路を逆向きに進行し、光分割部１０６に到達するまでに、蛍光に含まれる第一、第二の偏光成分の光がそれぞれ波面補正デバイス１０８−１、１０８−２により位相変調されることになる。しかしながら、後述するように、蛍光の観察や撮像には第二の偏光成分が用いられる。そのため、第二の波面補正デバイス１０８−２を蛍光が有する波長の光の波面を補正するように調整しておくことで、正しく収差補正された蛍光（第二の偏光成分）を用いた観察、撮像が可能になる。
【００５３】
また、被検眼１１１に照射された第一の波長の光（測定光１０５）も眼底で反射散乱されて第一の波長の反射光となって被検眼１１１から出射し、第二の波長の蛍光と同様に入射した時の経路を逆向きに進み、第一の波面補正デバイス１０８−１により位相変調（収差補正）されて光分割部１０６に到達する。第一の波面補正デバイス１０８−１は、測定光の波長の光について正しく波面を補正するように調整されている。光分割部１０６に到達した第一の波長の反射光は、一部が波面センサ１１５へ向けて反射され、光線の波面を測定するために用いられる。第二の波長の蛍光は光分割部１０６を透過してダイクロイックミラー１２０に導光される。
【００５４】
光分割部１０６において波面センサ１１５側に反射された第一の波長の反射光は、偏光板１２１によって第一の偏光成分の反射光が波面センサ１１５に入射する。波面センサ１１５は補償光学制御部１１６に接続され、受光した波面を補償光学制御部１１６に伝える。波面補正デバイス１０８−１および１０８−２も補償光学制御部１１６に接続されており、補償光学制御部１１６から指示された変調を行う。補償光学制御部１１６は、波面センサ１１５の測定結果による取得された波面を基に、収差のない波面へと補正するような変調量（補正量）を計算し、波面補正デバイス１０８−１および１０８−２にそのように変調するように指令する。波面の測定と波面補正デバイス１０８−１，１０８−２への指示は繰り返し処理され、常に最適な波面となるようにフィードバック制御が行われる。
【００５５】
ダイクロイックミラー１２０に到達した第二の波長の蛍光は、反射されて偏光板１２３−２を通り、第二の偏光成分の光がコリメータ１１２−２、光ファイバを通して光強度センサ１１４−２に導光される。光強度センサ１１４−２で光は電気信号に変換され、制御部１１７によって眼底画像として画像に構成されて、ディスプレイ１１８に蛍光撮像画像として表示される。
【００５６】
また、第一の波長である眼からの反射光は、光分割部１０４で一部が反射されて偏光板１２３−１を通り、第一の偏光成分の光がコリメータ１１２−１、光ファイバ１１３を通して光強度センサ１１４−１に導光される。光強度センサ１１４−１で光は電気信号に変換され、制御部１１７によって眼底画像として画像に構成されて、ディスプレイ１１８に第一の波長の撮像画像として表示される。
【００５７】
以上のような構成を備えた第二実施形態による蛍光眼底撮像装置の補償光学制御部１１６、制御部１１７による制御は、第一実施形態において図６のフローチャートを用いて説明したとおりである。なお、上記の構成においては、第一の波長である被検眼１１１からの反射光も撮像する構成であったが、蛍光の撮像機能で良い場合には、光分割部１０４、偏光板１２３−１、コリメータ１１２−１、光強度センサ１１４−１などの構成は省略できる。また、光分割部１０６は、第一の波長の光の全部を反射し、第二の波長の光の全部を透過するダイクロイックミラーとすることができる。
【００５８】
以上のような第二実施形態の構成によれば、照射光および蛍光それぞれに適した収差補正が可能となり、高画質な眼底蛍光撮像が可能となる。
【００５９】
［第三実施形態：２つのＬＣＯＳを並列配置したＡＯ−ＳＬＯ装置で蛍光撮像］
次に、第三実施形態として、本発明を適用した第二実施形態とは異なる構成の蛍光眼底撮像装置について図８を用いて説明する。上述のように、蛍光眼底撮像装置とは、被検眼に励起光を照射して眼底の蛍光物質から発せられる蛍光を撮像する装置である。第二実施形態では、２つの波面補正デバイス１０８−１、２の光路が共通の構成（２つのＬＣＯＳを直列配置）であったが、第三実施形態では、２つの波面補正デバイス１０８−１、２の光路を偏光ビームスプリッタにより分離した構成（２つのＬＣＯＳを並列配置）となっている。
【００６０】
図８において、１０１は光源であり、第一の波長（本例では５６８ｎｍ）のＳＬＤ光源（Super Luminescent Diode）が用いられている。光源１０１から照射された光は、単一モード光ファイバ１０２を通って、コリメータ１０３から平行光線の測定光として出射される。コリメータ１０３から出射される光の偏光は、単一モード光ファイバ１０２の経路に具備された偏光調整器１１９により調整される。偏光調整器１１９の替わりに、コリメータ１０３の出射側に偏光板等の偏光光学素子を具備した構成としても良い。本例においては、コリメータ１０３から出射された光の偏光が図８の紙面に水平な偏光成分となるように偏光調整器１１９が調整されている。以下、この光を第一の偏光成分の光とする。
【００６１】
コリメータ１０３から出射された測定光はビームスプリッタからなる光分割部１０４を透過し、ダイクロイックミラー１２０に導光される。ダイクロイックミラー１２０を通過した光は測定光１０５として、光分割部１０６を通過して補償光学の光学系に導光される。光分割部１０６として、第二実施形態と同様に、第一の波長の光の一部を反射し、第二の波長の光を透過するように設計されたダイクロイックミラーが用いられている。補償光学系は、光分割部１０６、波面センサ１１５、偏光ビームスプリッタ１４０−１、１４０−２、波面補正デバイス１０８−１、１０８−２および、それらに導光するための反射ミラー１０７−１〜６を有する。ここで、反射ミラー１０７−１〜６は、少なくとも被検眼１１１の瞳と波面センサ１１５、波面補正デバイス１０８−１、１０８−２とが光学的に共役関係になるように設置されている。
【００６２】
光分割部１０６を透過した測定光１０５は反射ミラー１０７−１で反射され、偏光ビームスプリッタ１４０−１へ導光される。偏光ビームスプリッタ１４０−１では、第一の偏光成分（ここでは第一の波長の光）が反射され、波面補正デバイス１０８−１を通る光路に導光される。また、偏光ビームスプリッタ１４０−１では第二の偏光成分が透過して波面補正デバイス１０８−２を通る光路に導光される。ここで光源１０１の方向から偏光ビームスプリッタ１４０−１に入射される光は、偏光調整器１１９で第一の偏光成分に制限されているので、偏光ビームスプリッタ１４０−１では測定光１０５が反射されることになる。
【００６３】
波面補正デバイス１０８−１は第一の偏光成分を変調して反射する。こうして、反射ミラー１０７−１，１０７−２，１０７−３、波面補正デバイス１０８−１で反射された測定光１０５は、偏光ビームスプリッタ１４０−２へ入射する。偏光ビームスプリッタ１４０−２では、第一の偏光成分は透過し、第二の偏光成分は反射される。したがって、測定光１０５は偏光ビームスプリッタ１４０−２を透過して反射ミラー１０７−６へ入射し、走査光学系１０９へ向けて反射される。
【００６４】
反射ミラー１０７−６で反射された光は、走査光学系１０９によって、１次元もしくは２次元に走査される。本実施形態では走査光学系１０９に主走査用（眼底水平方向）と副走査用（眼底垂直方向）として２つのガルバノスキャナを用いており、２次元の走査が行われる。なお、より高速な撮像のために、走査光学系１０９の主走査用に共振スキャナを用いた構成としてもよい。また、走査光学系１０９内の各スキャナを光学的な共役状態にするために、各スキャナの間にミラーやレンズといった光学素子を用いる装置構成としてもよい。
【００６５】
走査光学系１０９で走査された測定光１０５は、接眼レンズ１１０−１および１１０−２を通して被検眼１１１に照射される。被検眼１１１に照射された測定光は眼底で反射もしくは散乱される。接眼レンズ１１０−１および１１０−２の位置を調整することによって、被検眼１１１の視度にあわせて最適な照射を行うことが可能となる。ここでは、接眼部に接眼レンズを用いたが、球面ミラー等で構成しても良い。
【００６６】
照射された測定光１０５により眼底の蛍光物質が励起され、蛍光物質から第二の波長（本例では６２４ｎｍ）の蛍光が発せられる。したがって、測定光１０５を照射した被検眼１１１からの戻り光は、測定光１０５の反射光と蛍光を含み、測定光１０５が入射した時の経路を逆向きに進む。被検眼１１１から出射した蛍光は、測定光が入射したときの経路を逆向きに進行し、反射ミラー１０７−６で反射されて偏光ビームスプリッタ１４０−２に入射する。上述したように偏光ビームスプリッタ１４０−２では第一の偏光成分が透過し、波面補正デバイス１０８−１で収差が補正される。また、第二の偏光成分は偏光ビームスプリッタ１４０−２で反射し、波面補正デバイス１０８−２へ入射する。波面補正デバイス１０８−２では第一の偏光成分と直行する第二の偏光成分の光を変調するため、偏光ビームスプリッタ１４０−２で反射された蛍光の第二の偏光成分の光の収差が波面補正デバイス１０８−２で補正される。
【００６７】
波面補正デバイス１０８−１、１０８−２で反射した光は、偏光ビームスプリッタ１４０−１を経て光分割部１０６に到達する。被検眼１１１に照射された第一の波長の光も眼底で反射散乱されて反射光となり、被検眼１１１からの戻り光の一部となる。被検眼１１１から出射した反射光は、蛍光と同様に測定光が入射したときの経路を逆向きに進み、光分割部１０６に到達する。
【００６８】
光分割部１０６は、第一の波長の光の一部を反射し、第二の波長の光を透過するように構成されている。光分割部１０６に到達した第一の波長の反射光の一部は波面センサ１１５へ反射され、光線の波面を測定するために用いられる。第二の波長の蛍光は光分割部１０６を透過してダイクロイックミラー１２０に導光される。
【００６９】
波面センサ１１５側に反射された第一の波長の反射光は、偏光板１２１によって第一の偏光成分の光が波面センサ１１５に入射する。波面センサ１１５は補償光学制御部１１６に接続されており、受光した光の波面を補償光学制御部１１６に伝える。波面補正デバイス１０８−１および１０８−２も補償光学制御部１１６に接続されており、補償光学制御部１１６から指示された変調を行う。補償光学制御部１１６は波面センサ１１５の測定結果として取得された波面の情報を基に、収差のない波面へと補正するような変調量（補正量）を計算し、波面補正デバイス１０８−１および１０８−２を計算された変調量の変調を実施するように指令する。波面の測定と波面補正デバイス１０８−１，１０８−２への指示は繰り返し処理され、常に最適な波面となるようにフィードバック制御が行われる。
【００７０】
ダイクロイックミラー１２０は第一の波長（５６８ｎｍ）の光の大部分を透過し、第二の波長（６２４ｎｍ）の光は大部分を反射するように構成されている。したがって、ダイクロイックミラー１２０に到達した第二の波長の蛍光は反射されて偏光板１２３−２へ入射する。偏光板１２３−２により、蛍光の第二の偏光成分がコリメータ１１２−２へ入射し、光ファイバを通して光強度センサ１１４−２に導光される。光強度センサ１１４−２で光は電気信号に変換され、制御部１１７によって眼底画像として画像に構成されて、ディスプレイ１１８に蛍光撮像画像として表示される。
【００７１】
第一の波長である眼からの反射光は、光分割部１０４で一部が反射されて偏光板１２３−１へ入射する。偏光板１２３−１において、第一の波長の反射光の第一の偏光成分がコリメータ１１２−１へ入射し、光ファイバ１１３を通して光強度センサ１１４−１に導光される。光強度センサ１１４−１で光は電気信号に変換され、制御部１１７によって眼底画像として画像に構成されて、ディスプレイ１１８に第一の波長の撮像画像として表示される。
【００７２】
以上のような構成を備えた第三実施形態による蛍光眼底撮像装置の補償光学制御部１１６、制御部１１７による制御は、第一実施形態において図６のフローチャートを用いて説明したとおりである。
【００７３】
なお、上述した第三実施形態では第一の波長である眼からの反射光も撮像する構成であったが、蛍光の撮像機能で良い場合には、光分割部１０４、偏光板１２３−１、コリメータ１１２−１、光強度センサ１１４−１などの構成は省略できる。また、光分割部１０６は、第一の波長の光の全部を反射し、第二の波長の光の全部を透過するダイクロイックミラーとすることができる。
【００７４】
以上のような構成により、照射光および蛍光それぞれに最適な収差補正が可能となり、高画質な眼底蛍光撮像が可能となる。
【００７５】
なお、上記第三実施形態では、第二実施形態の構成について２つの波面補正デバイス１０８−１、２の光路を分離したが、第一実施形態（図１）の構成に適用することもできる。この場合、図８の光分割部１０６から光分割部１０４までの構成を、図１の光分割部１０６から光分割部１０４−１までの構成に置き換えればよい。
【００７６】
なお、上記各実施形態では、光分割部１０６と偏光板１２１、あるいはこれらに光フィルタ１２２を加えた構成により第一の波長の光の第一の偏光成分の反射光が波面センサ１１５に入射するようにしている。しかしながら、被検眼から出射した光の収差を測定するための波面センサ１１５で利用する光はこれに限られるものではなく、たとえば、戻り光のうちの第２の波長の第一の偏光成分の光が波面センサ１１５へ入射するようにしてもよい。
【００７７】
また、上記実施形態では、互いに９０度異なる偏光成分を用いたがこれに限られるものではない。たとえば、４５度ずつ異なる偏光成分の光を用いることで、３つの波面補正デバイスを具備した、３つの光に対応した眼底撮像装置を提供することができる。
【００７８】
また、上記各実施形態において、２つの波長の測定光のうちの一方、あるいは、測定光と蛍光のうちの測定光について波面センサにより収差を測定し、その測定結果を２つの波長の測定光あるいは測定光と蛍光の収差補正に用いたがこれに限られるものではない。２つの波長の測定光の両方、あるいは測定光と蛍光の両方についてそれぞれの収差を測定して、波面補正デバイス１０８−１，１０８−２の収差補正のためのフィードバックに用いるようにしてもよい。但し、その場合、収差を測定するための波面センサと光学系が複数セット必要となり、その分、装置は大型化する。上記各実施形態のように、一方の測定光についての計測結果を他方の測定光又は蛍光の収差補正にも利用することで、装置の簡素化、小型化が達成されている。
【００７９】
また、第二、第三実施形態において、戻り光に含まれている測定光１０５の反射光に代えて蛍光を波面センサ１１５へ導くように構成することも可能であるが、波面センサに蛍光を導いた分、観察または撮像に用いる蛍光が減少する。このような蛍光の減少を解消するために、たとえば撮像時（図６のステップＳ１０６）において光分割部１０６を光路から退避させるような構成としてもよい。
【００８０】
以上のように、上記各実施形態によれば、複数の波長の光の収差を個別に補正するにおいて、観察、撮像に利用する偏光成分を波長毎に割り当てることにより、簡易な構成で、それぞれの波長の光の収差を適切に補正することが可能となる。
【００８１】
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行する処理である。
【図１】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図２】
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