(57)【要約】【課題】インクジェットヘッドに清浄化されたレジストを安定して供給可能なインプリント装置等を提供する。【解決手段】メインタンク４に収容されているレジスト２をインクジェットヘッド３０に供給する吐出ユニット５０を備えたインプリント装置１００において、レジスト２は、異物がフィルタ１０ａにより除去されて清浄化された後、その清浄度を保ちつつ流動させながらインクジェットヘッド３０に供給される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジストを転写基板に吐出する吐出ユニットと、
凹凸パターンが形成された型材を用いて前記レジストを成型することにより前記転写基板上に前記凹凸パターンを転写する転写ユニットと、を備えたインプリント装置において、
前記吐出ユニットは、
前記レジストを収容する収容タンクと、
当該収容タンクから送り出される前記レジストに含まれる異物を除去するフィルタユニットと、
前記フィルタユニットによって清浄化されたレジストを流動させる流動ユニットと、
前記レジストを吐出するインクジェットヘッドと、を具備することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記フィルタユニットを複数並列に設けたことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記フィルタユニットによって清浄化されたレジストを貯留する貯留タンクをさらに備えることを特徴とする請求項１又は２記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記流動ユニットは、前記貯留タンクと、前記貯留タンク内で前記レジストを攪拌する攪拌装置とを含むことを特徴とする請求項３記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記貯留タンクには、前記貯留タンク内の前記レジストを再び前記貯留タンク内に送る循環経路が接続され、
前記流動ユニットは、前記貯留タンクと、前記循環経路とを含むことを特徴とする請求項３記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記貯留タンクと前記インクジェットヘッドの間に前記レジストを貯留するサブタンクをさらに備え、
前記サブタンクは負圧制御部を有することを特徴とする請求項２〜５の何れか１項に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記収容タンクと前記インクジェットヘッドとを連絡する連絡経路には、常に液体が充填されるよう、前記液体を密閉するための弁を有していることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
凹凸パターンが形成された型材を用いて、転写基板に吐出されたレジストを成型するインプリント方法であって、
前記レジストが収容されている収容タンクから当該レジストが供給されるインクジェットヘッドに至る連絡経路に配置されるフィルタユニットと流動ユニットによって、前記レジストを清浄化した後に、そのレジストの清浄度を保ちつつ流動させながら当該レジストを前記インクジェットヘッドに供給し、
前記インクジェットヘッドから前記レジストを前記転写基板に吐出し、
吐出された前記レジストと前記型材を接触させ、前記レジストに光を照射して前記レジストを成型することを特徴とするインプリント方法。
【請求項９】
前記連絡経路には、常に前記レジストを含む液体が充填されていることを特徴とする請求項８に記載のインプリント方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリント装置及びインプリント方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フォトリソグラフィ技術に代わる微細なパターン形成技術として、インプリント方法を用いたパターン形成技術が注目されている。インプリント方法は、微細な凹凸構造を備えた型材（モールド）を用い、凹凸構造をインプリント材料に転写することで微細構造を等倍転写するパターン形成技術である。例えば、インプリント材料として光硬化性樹脂組成物を用いたインプリント方法では、転写基板の表面に光硬化性樹脂組成物を供給し、凹凸パターンを有するモールドと転写基板とを近接させて凹凸パターン内に光硬化性樹脂組成物を充填し、この状態で光を照射して光硬化性樹脂組成物を硬化させ、その後、テンプレートを樹脂層から引き離すことにより、テンプレートが備える凹凸が反転した凹凸構造を有するパターン構造体を形成する。
【０００３】
また、上記のインプリント方法を実行するためのインプリント装置として、インクジェット方式を用いて転写基板にレジストを塗布するものがある（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４７９２０２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、インプリントにおいては、インクジェットヘッドにより安定した吐出を得るためには、吐出されるレジストに異物が存在しないことが好ましい。また、インプリントによるリソグラフィでは、インクジェットヘッドから吐出されるレジストに異物が存在すると、リソグラフィにおける欠陥に繋がるため、吐出されるレジストに異物が存在しないことが好ましい。
【０００６】
しかしながら、単純にレジストが収容されている収容タンクとインクジェットヘッドとを連絡する経路中に微細なフィルタを設けてレジストに含まれる異物を除去する場合、フィルタの網目は非常に細かいものを用いる必要があるため、圧損が生じ、単位時間当たりに使用可能なレジストの総量が制限され、吐出するためのレジストが確保できないなどの問題が生じる。
【０００７】
また、フィルタとインクジェットヘッドを連絡する経路に一時的にレジストを貯留させる貯留タンクを設け、この貯留タンクにフィルタを通過したレジストを貯留しておくことが考えられるが、フィルタリングした後の時間経過に伴い固形成分が析出する場合がある。
【０００８】
そこで、本発明は上記問題を課題の一例として為されたもので、インクジェットヘッドに清浄化されたレジストを安定して供給可能なインプリント装置及びインプリント方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明は次のような構成を採用する。
【００１０】
すなわち、請求項１に係るインプリント装置（１００）は、レジスト（２）を転写基板（５１）に吐出する吐出ユニット（５０）と、凹凸パターン（５５ａ）が形成された型材（５５）を用いて前記レジストを成型することにより前記転写基板上に前記凹凸パターンを転写する転写ユニット（６０）と、を備えたインプリント装置において、前記吐出ユニットは、前記レジストを収容する収容タンク（４）と、当該収容タンクから送り出される前記レジストに含まれる異物を除去するフィルタユニット（１０）と、前記フィルタユニットによって清浄化されたレジストを流動させる流動ユニット（２０）と、前記レジストを吐出するインクジェットヘッド（３０）と、を具備することを特徴とする。
【００１１】
また、請求項２に係るインプリント装置は、請求項１に記載のインプリント装置において、前記フィルタユニットを複数並列に設けたことを特徴とする。
【００１２】
また、請求項３に係るインプリント装置は、請求項１又は２記載のインプリント装置において、前記フィルタユニットによって清浄化されたレジストを貯留する貯留タンク（２１）をさらに備えることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項４に係るインプリント装置は、請求項３記載のインプリント装置において、前記流動ユニットは、前記貯留タンクと、前記貯留タンク内で前記レジストを攪拌する攪拌装置（２６）とを含むことを特徴とする。
【００１４】
また、請求項５に係るインプリント装置は、請求項３記載のインプリント装置において、前記貯留タンクには、前記貯留タンク内の前記レジストを再び前記貯留タンク内に送る循環経路（２２）が接続され、前記流動ユニットは、前記貯留タンクと、前記循環経路とを含むことを特徴とする。
【００１５】
また、請求項６に係るインプリント装置は、請求項２〜５の何れか１項に記載のインプリント装置において、前記貯留タンクと前記インクジェットヘッドの間に前記レジストを貯留するサブタンク（４０）をさらに備え、前記サブタンクは負圧制御部（Ｐ３）を有することを特徴とする。
【００１６】
また、請求項７に係るインプリント装置は、請求項１〜６の何れか一項に記載のインプリント装置において、前記収容タンクと前記インクジェットヘッドとを連絡する連絡経路には、常に液体が充填されるよう、前記液体を密閉するための弁を有していることを特徴とする。
【００１７】
また、請求項８に係るインプリント方法は、凹凸パターンが形成された型材を用いて、転写基板に吐出されたレジストを成型するインプリント方法であって、前記レジストが収容されている収容タンクから当該レジストが供給されるインクジェットヘッドに至る連絡経路に配置されるフィルタユニットと流動ユニットによって、前記レジストを清浄化した後に、そのレジストの清浄度を保ちつつ流動させながら当該レジストを前記インクジェットヘッドに供給し、前記インクジェットヘッドから前記レジストを前記転写基板に吐出し、吐出された前記レジストと前記型材を接触させ、前記レジストに光を照射して前記レジストを成型することを特徴とする。
【００１８】
また、請求項９に係るインプリント方法は、請求項８に記載のインプリント方法において、前記連絡経路には、常に前記レジストを含む液体が充填されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、清浄化されたレジストの清浄度を維持し、その清浄化されたレジストをインクジェットヘッドに供給することができるので、スループットを維持して安定して清浄化されたレジストを常に供給可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に係るインプリント装置を示す模式図である。
【図２】吐出ユニットにおけるインク供給系の概念を示す模式図である。
【図３】フィルタユニットの他の実施例を示す模式図である。
【図４】他のインク供給系の概念を示す模式図である。
【図５】他のインク供給系の概念を示す模式図である。
【図６】本発明の一実施形態に係るインプリント方法を示す工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について図面に基づいて説明する。
【００２２】
＜インプリント装置＞
（第１の実施形態）
本発明の一実施形態に係るインプリント装置１００は、図１に示すように、レジスト２の液滴を転写基板５１に吐出する吐出ユニット５０と、凹凸パターン５５ａが形成された型材（以下、「モールド５５」と称する。）を用いてレジスト２を成型し、転写基板５１上に凹凸パターン５５ａを転写させる転写ユニット６０と、を備える。なお、吐出ユニット５０については後で詳述するため、説明の便宜上、図示を一部省略している。
【００２３】
転写ユニット６０は、転写基板５１を保持して移動可能なステージ６２と、モールド５５を転写基板５１と対峙させて保持する保持体６４と、図１中の矢印に示すように、このモールド５５を転写基板５１に接触させるとともに、モールド５５を転写基板５１から引き離す移動ユニット（図示せず）と、表面にレジスト２の液滴が供給された転写基板５１にモールド５５を接触させた際にレジスト２を硬化させる光Ｌを照射する照射ユニット７０と、を備えている。
【００２４】
そして、ステージ６２が吐出ユニット５０の下方を移動し、吐出ユニット５０から適宜にレジスト２が吐出されることで得られる、レジスト２の液滴が配列された転写基板５１に対して、透明部材によって形成されたモールド５５を接触させ、毛管力などを利用してレジスト２がモールド５５と転写基板５１との間に充填される。この状態でモールド側から照射ユニット７０によってレジスト２に光Ｌを照射することでレジスト２が硬化して成型され、凹凸パターン５５ａを転写基板５１に転写させる。なお、転写基板５１は、レジスト２が成型された後にモールド５５が離間することで外部に取り出される。
【００２５】
なお、インプリント装置１００の転写ユニットは一般的な機構を採用することができ、各構成の詳細な説明は省略するものとする。また、本実施形態のインプリント装置１００は、モールド５５に透明部材を用い、モールド側に照射ユニット７０を設けて光Ｌをレジスト２に照射するように構成されているが、転写基板５１に透明部材を用いて、転写基板側に照射ユニット７０を設けて光Ｌをレジスト２に照射するようにしてもかまわない。
【００２６】
また、インプリント装置１００は、上記のように転写基板５１とステージ６２が移動するのではなく、吐出ユニット５０や、保持体６４を含むモールド側が移動しても構わない。ただし本発明では、レジスト２の滞留を防ぐことを目的としているため、ステージ６２が駆動し、吐出ユニット５０が固定されており、駆動域を持たずに設置されていることが好ましい。レジスト２の滞留要素となる配管の冗長な長さや、接続部や駆動部、伸縮部等を持たないようにすることで、異物の発生要因となる、流動状態が変化する部分を低減することが可能となるからである。
【００２７】
一方、吐出ユニット５０は、図１乃至図３に示すように、インクジェットヘッド３０を備え、このインクジェットヘッド３０のノズル３１から転写基板５１の表面にレジスト２の液滴が吐出される。
【００２８】
この吐出ユニット５０は、図２に示すように、上流に配置されたレジスト２を収容するメインタンク４（本願の収容タンク）と、メインタンク４から送液されるレジスト２に含まれる異物を除去するためのフィルタユニット１０と、フィルタユニット１０により清浄化されたレジスト２を流動させる流動ユニット２０と、清浄化されたレジスト２を流動させつつ、その液滴を吐出するインクジェットヘッド３０と、を備えている。
【００２９】
そして、この吐出ユニット５０では、この上流に位置するメインタンク４にあるレジスト２が、下流に位置するインクジェットヘッド３０へと送液される。
【００３０】
ここで、レジスト２には、例えば、光硬化性樹脂組成物が用いられ、所定の光Ｌを照射することで硬化する。なお、本明細書においては、転写基板５１に供給される被成形材料のことをレジスト２と称し、当該レジスト２を硬化させ成型されたレジスト２を樹脂パターン２Ａと称する。
【００３１】
そして、本実施形態の吐出ユニット５０は、フィルタユニット１０によってレジスト２に含まれる異物を除去した後にそのレジスト２を常に流動させて清浄度を保ち、この清浄化されたレジスト２をインクジェットヘッド３０に供給することが好ましい。なお、ここでいう「常に」とは、必ずしも連続した時間である「常時」を意味するものではない。これは、上述したようにレジスト２の滞留による固形成分の析出など、異物の発生要因が生じることが問題なのであって、例えばこのような問題を防止できる状態や時間内にあれば、常にレジスト２を流動させる必要はなく、間欠的にレジスト２を流動させても良いし、流動の速度を低速化するなどしても良い。更に具体的な例を挙げるならば、次のようになる。インクジェットヘッド３０からレジスト２を吐出している状態、すなわちインクジェットを実施している間は、レジスト２は流れを有している状態であるのだから、本発明による流動を必ずしも用いなくてもよい。一方、インクジェットヘッド３０からのレジスト２の吐出を停止している場合には、レジスト２は滞留しているのだから、本発明による流動へ切り替えるということを実施してよい。またメインタンク４から流動ユニット２０へレジスト２を流動させる際に、泡立ち等を防ぐことを目的として一時的に流動を停止させても良い。
【００３２】
なお、インクジェットヘッド３０は、レジスト２を吐出するためのノズル３１を備え、図示しない制御部によりノズル３１からのレジスト２の吐出量が制御される。なお、インクジェットヘッド３０の構成は、従来から公知であるためその詳細な説明は省略するものとする。
【００３３】
以下、吐出ユニット５０の各構成部材について説明する。
【００３４】
メインタンク４は、例えばレジスト２に含まれる成分の揮発や異物の混入を防ぐために密閉された筐体を有しており、この筐体には、レジスト２が収容される。このメインタンク４には、フィルタユニット１０と連絡する第１流路６が取り付けられており、この第１流路６には、メインタンク４からフィルタユニット１０にレジスト２を送り出すためのポンプＰ１が設けられている。第１流路６はチューブ等の管状部材により形成されており、レジスト２は、ポンプＰ１の作用によりこのチューブ内を流れてフィルタユニット１０へと送り出される。
【００３５】
フィルタユニット１０は、図３に示すように、少なくともイオン、パーティクル、溶存気体のいずれか１つの除去を目的とする単数、又は複数の用途に対応したフィルタ１０ａを備えている。
【００３６】
フィルタユニット１０には、流動ユニット２０に連絡するチューブ等の管状部材で形成された第２流路７が取り付けられており、フィルタ１０ａを通過して清浄化されたレジスト２が、ポンプＰ１の作用によりこのチューブ内を流れて流動ユニット２０の貯留タンク２１に供給される。
【００３７】
フィルタ１０ａは、例えば、メッシュ（網目）状に形成されたカートリッジ式のフィルタが用いられ、この網目によって、レジスト２に含まれる異物が捕捉される。なお、その網目の大きさや形状は、目的とする用途に応じて適宜設定される。
【００３８】
このようなフィルタ１０ａは、網目が細かいほど圧損が大きくなり、例えば、フィルタ１０ａのろ過精度が１０ｎｍ程度の場合には、流動ユニット２０に供給するレジスト２が足りなくなるおそれがある。したがって、このような場合には、複数のろ過系統を並列に配置することが好ましい。
【００３９】
このとき系統を並列にするための継手部の数は、最小となるように配管することが好ましい。また、配管の内径は同一とすることが好ましい。これは配管内部ではレジスト２が常に一方向に流れるようにするためであり、流動抵抗の発生による滞留や逆流の発生を抑えるためである。
【００４０】
また、フィルタユニット１０は、図３に示すように、フィルタ１０ａを通過したレジスト２を再度、フィルタ１０ａに供給する循環経路１１を備えてもよい。循循環経路１１は、チューブ等の管状部材により形成されており、第２経路７の途中にバルブ１２を介して連絡される。このバルブ１２は、レジスト２を再度フィルタ１０ａに通過させる際には、貯留タンク２１に連絡する経路を遮断し、フィルタ１０ａを通過したレジスト２を流動ユニット２０に供給する際には、フィルタ１０ａへと戻る経路を遮断する。
【００４１】
ただし、これらバルブ１２等の操作により配管の連絡および遮断を実施する際には、各配管の内部にはレジスト２やレジスト２の洗浄液等の液が充填されていることが好ましい。これは乾燥によって配管内部に残留していた液に起因した固形物が生じ、再び同配管が使用される際にレジスト２へと含まれてしまうことを避けるためである。これは本実施形態の配管等、レジストと接触する全てに言える。よって、液体を密閉可能な弁を有することが好ましく、必要に応じて液の残留を確認するためのセンサを有していても構わない。
【００４２】
また、フィルタ１０ａによってレジスト２に含まれる異物は除去できるものの、このレジスト２がインクジェットヘッド３０に供給されるまでに所定の時間を超える場合には、滞留により凝集物が生じることが懸念される。そこで、本実施形態では、フィルタユニット１０とインクジェットヘッド３０とを連絡する経路中に独立して、レジスト２を常に流動させる流動ユニット２０を配置することで、レジスト２が滞留することを防止している。
【００４３】
流動ユニット２０は、フィルタユニット１０から供給されるレジスト２を一時的に貯留する貯留タンク２１と、この貯留タンク２１に貯留されるレジスト２を循環させる循環装置２５と、を備えている。本実施形態の流動ユニット２０は、この循環装置２５の一例として、貯留タンク２１内でレジスト２を攪拌する攪拌装置２６を備える。攪拌装置２６は、スクリューとして機能する攪拌部材２７と、この攪拌部材２７を回転駆動する駆動装置Ｍと、を備え、駆動装置Ｍにより駆動されて攪拌部材２７が回転することで、レジスト２は常に攪拌される。
【００４４】
この攪拌部材２７には、例えば、攪拌装置２６に取り付けられた軸に接続する羽根や、電磁力等で駆動するスターラーと称される部材が用いられる。また、攪拌部材２７の回転数は、なるべく流速を速く、且つ攪拌されるレジスト２が泡立たない程度に適宜設定されることが好ましい。例えば、攪拌部材２７の回転数を５０〜５００rpmに制御するとよい。
【００４５】
貯留タンク２１は、例えば、大気開放された筐体を有しており、フィルタユニット１０によって清浄化されたレジスト２が一時的に貯留される。この貯留タンク２１には、インクジェットヘッド３０と連絡する第３経路８が取り付けられており、この第３経路８には、貯留タンク２１からインクジェットヘッド３０にレジスト２を送り出すためのポンプＰ２が設けられている。第３経路８はチューブ等の管状部材により形成されており、レジスト２は、インクジェットヘッド３０の駆動とともにポンプＰ２の作用によりこのチューブ内を流れてインクジェットヘッド３０へと送り出される。
【００４６】
なお、この貯留タンク２１には、例えば、レジスト２の液体の液面を検知するセンサを備えており、規定の液面位置よりも低い場合にポンプＰ１を駆動させることによって液面が実質的に一定に保たれる。
【００４７】
また、本実施形態のインプリント装置１００は、インクジェットヘッド３０のヘッド面３０ａが、大気開放された貯留タンク２１内のレジスト２の液面Ａよりも高く配置されており、この液面Ａとヘッド面３０ａとの水頭差ｈを利用することでインクジェットヘッド３０内のレジストに負圧が作用し、この負圧の作用によりインクジェットヘッドからのレジストの漏れ出しが防止されている。
【００４８】
（第２の実施形態）
次に、図４を用いて流動ユニットを変更した実施形態を説明する。なお、本実施形態は上記実施形態と流動ユニット２０のみが異なり、その他の構成は基本的に同じである。したがって、上記流動ユニット２０との相違点のみを説明し、上記実施形態で示した同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。
【００４９】
上記流動ユニット２０が貯留タンク２１内でレジスト２を循環させるのに対して、本実施例の流動ユニット２０Ａは、貯留タンク２１内のレジスト２外部に送り出した後、再度、貯留タンク２１内に戻す点で異なる。
【００５０】
図４に示すように、本実施例の流動ユニット２０Ａは、フィルタユニット１０から供給されるレジスト２を一時的に貯留する貯留タンク２１と、この貯留タンク２１内のレジスト２を外部に送り出し、再度、貯留タンク２１内に戻す循環経路２２と、を備える。循循環経路２２はその途中で第３経路８とバルブ２９を介して連絡される。このバルブ２９は、貯留タンク２１内のレジスト２を循環させる際には、インクジェットヘッド３０へのレジスト２の供給を遮断し、貯留タンク２１内のレジスト２をインクジェットヘッド３０に供給する際には、貯留タンク２１へと戻る経路を遮断する。
【００５１】
また、循環経路２２には、貯留タンク２１内のレジスト２を送り出すためのポンプＰ２が設けられている。循環経路２２はチューブ等の管状部材により形成されており、レジスト２は、ポンプＰ２の作用により、このチューブ内を流れてインクジェットヘッド３０へと送り出されるか、若しくは、このチューブを介して貯留タンク２１内へと戻される。
【００５２】
この貯留タンク２１には、例えば、液体の液面を検知するセンサを備えており、規定の液面位置よりも低い場合にポンプＰ１を駆動させることによってメインタンク４からレジスト２が供給され液面が実質的に一定に保たれる。
【００５３】
また、循環経路２２を流れるレジスト２の流速は、脈動しない程度に速いほどよく、例えば、１０〜１００ｍｍ/ｓｅｃの範囲で適宜制御される。
【００５４】
また、レジスト２の粘度は、流速に応答可能であって、圧損を最低限にすることが可能なように、低いことが好ましく、例えば、４〜１５ｃｐｓの範囲で適宜設定され、より好ましくは、４〜１０ｃｐｓの範囲とする。
【００５５】
（第３の実施形態）
次に、図５を用いて吐出ユニット５０の他の態様を示す実施形態を説明する。なお、本実施形態は、上述した実施形態とインクジェットヘッド３０と貯留タンク２１との位置関係のみが異なり、その他の構成は基本的に同じである。したがって、上述した吐出ユニット５０との相違点のみを説明し、上記実施形態で示した同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する
まず、インクジェット方式の吐出ユニット５０における水頭管理及びその原理について説明する。
【００５６】
上記実施形態の吐出ユニット５０は、インクジェットヘッド３０のヘッド面３０ａが、貯留タンク２１の液面Ａよりも高く設定されており、この液面Ａとヘッド面３０ａとの水頭差ｈを利用することでインクジェットヘッド３０からのレジストの漏れ出しを防止している。また、インクジェットヘッドのヘッド面３０ａが貯留タンク２１の液面Ａと同じ高さに設定した場合も同様の効果が得られる。
【００５７】
一方で、図５に示す本実施例の吐出ユニット５０Ａのように、インクジェットヘッド３０のヘッド面３０ａが貯留タンク２１の液面Ａよりも低い位置にある場合、この液面Ａとヘッド面３０ａとの水頭差ｈにより、インクジェットヘッド３０からレジストが漏れ出すため、インクジェットヘッドのインク室内の圧力を負圧に制御する必要がある。したがって、本実施例では、インクジェットヘッド３０に連絡する第３経路８中にサブタンク４０を設け、サブタンク４０内を負圧制御している。
【００５８】
このサブタンク４０は、例えば、密閉された筐体を有しており、清浄化されたレジスト２が一時的に貯留される。このサブタンク４０には、インクジェットヘッド３０と連絡する第４経路９が取り付けられており、流動ユニット２０から供給されるレジスト２が、このサブタンク４０を介して第４経路９に供給されてインクジェットヘッド３０へと供給される。
【００５９】
また、このサブタンク４０には、筐体内を負圧に制御するためのポンプＰ３が取り付けられており、このポンプＰ３の駆動により筐体内の圧力が常に負圧に制御される。
【００６０】
このように構成された本実施例の吐出ユニット５０Ａによれば、インクジェットヘッド３０からのレジスト２の漏れ出しを防止できる。
【００６１】
以上に説明したように本実施形態の吐出ユニット５０、５０Ａは、レジスト２に含まれる異物の除去を目的としたフィルタユニット１０と、滞留による凝集物の発生を防止することを目的とした流動ユニット２０と、を、インクジェットヘッド３０にレジスト２を供給する経路中に独立して設け、フィルタユニット１０によって清浄化されたレジスト２を流動させ、清浄度を維持しつつインクジェットヘッド３０に供給することによって、スループットを維持してインプリントを実施することができる。
【００６２】
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々変更可能である。例えば、本実施形態では、レジストの送り出しにポンプを用いているが、空圧による圧送でも構わない。
【００６３】
＜インプリント方法＞
本発明の一実施形態に係るインプリント方法について図６を参照して説明する。
【００６４】
本実施形態のインプリント方法は、上述したインプリント装置１００を用いて実行されるものである。
【００６５】
まず、転写基板５１に清浄化されたレジスト２をインクジェットヘッド３０のノズル３１から供給する（図６（ａ））。転写基板５１に供給されるレジスト２は、上述した実施形態において説明したように、メインタンク４からインクジェットヘッド３０に至る連絡経路に配置されるフィルタユニット１０と流動ユニット２０によって、清浄化された後に、そのレジストの清浄度を保ちつつ流動されるため、レジスト２の清浄度が保たれつつ滞留等による新たな異物の含有が抑制されている。
【００６６】
次に、転写基板５１にモールド５５を近接させ、このレジスト２に凹凸パターン５５ａが表面に形成されたモールド５５を接触させ、転写基板５１とモールド５５との間にレジスト２を充填する。なお、必要に応じて、レジスト２にモールド５５を接触させた後に、更にモールド５５に力を加えてレジスト２に対して圧力を加えても構わない（図６（ｂ））。
【００６７】
次に、転写基板５１に対するモールド５５の位置を保持しつつ、照射ユニット７０を用いてレジスト２を硬化させる光Ｌをレジスト２に照射することで、レジスト２を硬化させる（図６（ｃ））。
【００６８】
次に、転写基板５１からモールド５５を離間させ、転写基板５１上に樹脂パターン２Ａを形成する（図６（ｄ））。
【００６９】
そして、必要に応じてエッチング等によって、樹脂パターン２Ａの残膜２ａを除去する（図６（ｅ））。なお、必要に応じて更に樹脂パターン２Ａをもとに転写基板５１を加工し、レプリカモールド、磁気記録媒体、半導体装置等を作製してもよい。また単に硬化したレジスト２によって凹凸構造を得たいだけの場合には、残膜２ａの除去は必ずしも要しない。例えば反射防止膜やホログラム等の光学部材の製造や、ランダム構造の形成等を目的とした偽造防止加工などに適用することが出来る。
【００７０】
このような本発明の一実施形態に係る本実施形態のインプリント方法によれば、レジスト２がインクジェットヘッド３０に至るまでに清浄化され、その清浄度が保たれつつ循環されているため、滞留等による異物の含有が抑制され、その結果、異物の混入が低減された成型されたレジスト２を得ることができる。
【符号の説明】
【００７１】
２  レジスト
４  メインタンク
１０  フィルタユニット
２０  流動ユニット
３０  インクジェットヘッド
５０  吐出ユニット
５５  モールド
６０  転写ユニット
１００  インプリント装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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