(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィー法によるパターン加工性を有し、透明性に優れ、熱処理や薬品処理後に高温高湿条件下等においても無機材料表面との接着性に優れ、高硬度である硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、（Ａ）光重合性モノマー、（Ｂ）透明樹脂、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）溶剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ａ）光重合性モノマーを２官能であるメタクリル系モノマーとし、シランカップリング剤を全固形分量中に１．０重量％以上３．０重量％以下の範囲内で含有している。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光重合性モノマー、（Ｂ）透明樹脂、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）溶剤を含有する感光性樹脂組成物であって、
前記（Ａ）光重合性モノマーを２官能であるメタクリル系モノマーとし、
シランカップリング剤を全固形分量中に１．０重量％以上３．０重量％以下の範囲内で含有したことを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記シランカップリング剤を少なくとも一分子中にエポキシ基を有するカップリング剤としたことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記メタクリル系モノマーを少なくとも一分子中に脂環基を有するモノマーとしたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を含んだことを特徴とするタッチパネル用材料。
【請求項５】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするタッチパネル保護膜。
【請求項６】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするタッチパネル絶縁膜。
【請求項７】
請求項５に記載のタッチパネル保護膜と請求項６に記載のタッチパネル絶縁膜の少なくともいずれか一方を用いて作製したことを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物とそれを含むタッチパネル用材料、該感光性樹脂組成物を硬化させてなるタッチパネル保護膜及びタッチパネル絶縁膜、並びに該タッチパネル保護膜とタッチパネル絶縁膜の少なくともいずれか一方を用いて作製したタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、表示画面上の透明な面を操作者が指またはペンでタッチすることにより、接触した位置を検出してデータ入力できる入力装置の構成要素となるものである。このタッチパネルは、キー入力より直接的、かつ直感的な入力を可能とすることから、近年、多用されるようになってきた。
タッチパネルの検出方式には、抵抗膜式、静電容量式、超音波式、光学式などがあり、これまでは、製造コストの点で比較的優れていた抵抗膜式が主流であった。しかし、２枚の透明導電膜の間に空気層を設ける構造を有する抵抗膜式タッチパネルは、光学特性（透過率）が低く、耐久性や動作温度特性においても充分とは言えない。
【０００３】
一方、可動部分を有しない静電容量式タッチパネルは、光学特性（透過率）が高く、耐久性や動作温度特性においても抵抗膜式より優れているため、採用するメーカーが増えてきている。
しかしながら、静電容量式タッチパネルでは、基板上に導電膜、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜等が形成されるため、その導電膜を保護する目的で表面保護膜を形成する必要がある。そして、静電容量式タッチパネルでは、導電膜の上層に表面保護層を設けた後にその導電膜に対して回路接続を目的としたパターン加工を行う必要がある。このため、表面保護膜には、感光性に加えて、熱処理や薬品処理におけるより高い接着性が求められる。
【０００４】
これに対して、静電容量式タッチパネルとして、例えば、ＩＴＯ膜付きガラスを基板に用い、高硬度な無機系のＳｉＯ２、ＳｉＮｘや透明樹脂等で形成された保護膜を有するものが開示されている（例えば、特許文献１参照）。しかし、無機系保護膜は、ＳｉＯ２やＳｉＮｘをＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やスパッタリング法などにより形成するために、エネルギー消費量が増加する。また、ガラス基板が大型化すると成膜に長時間が必要となり、生産効率を低下させる。さらに、上記無機系保護膜は感光性を有しないため、回路接続を目的とした保護膜加工を別途行う必要があり、これによりプロセス数が増加するなど、製造コストが高くなる課題があった。
【０００５】
一方、有機系保護膜材料として、重合性基含有オリゴマー、モノマー、光重合開始剤及びその他添加剤を含有するＵＶ硬化型コーティング組成物が知られている（例えば、特許文献２参照）。これらの組成物からなる膜はパターン加工性を有し、且つ、これらの組成物を用いた場合、高い硬度と透明性を有する硬化膜を得ることができる。しかしながら、特許文献２に記載されたような組成物は有機成分を多く含むため、無機系保護膜に比べ、製造中の熱処理や薬品処理後、製造後の高温高湿条件下等において、ガラス基板表面や導電膜等の無機材料層表面と十分な接着性が得られないという課題を有していた。
【０００６】
上記状況から、タッチパネル保護膜及びタッチパネル絶縁膜としてフォトリソグラフィー法によるパターン加工性を有し、透明性に優れ、熱処理や薬品処理後に高温高湿条件下等においても無機材料表面との接着性に優れ、高硬度である感光性樹脂組成物の開発が望まれていた。
また、タッチパネルにおいては、ガラス基板やフィルム基板上の導電膜からなる電極上や電極間に絶縁膜が必要となる構成があり、同様に導電膜を形成する無機材料表面と十分な接着性が得られる感光性樹脂組成物が望まれていた。なお、電極間に絶縁膜が必要となる構成としては、例えば、静電容量式タッチパネルの投影型が挙げられ、該投影型ではセンサー部にＸ軸方向及びＹ軸方向の２層の透明電極間に絶縁膜が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−２７９８１９号公報
【特許文献２】特開２０１０−０２７０３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、フォトリソグラフィー法によるパターン加工性を有し、透明性に優れ、熱処理や薬品処理後に高温高湿条件下等においても無機材料表面との接着性に優れ、高硬度である硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物を提供することにある。さらに、本発明の目的は、その感光性樹脂組成物を含むタッチパネル用材料、その感光性樹脂組成物を硬化させてなるタッチパネル保護膜及びタッチパネル絶縁膜、並びにそのタッチパネル保護膜とタッチパネル絶縁膜の少なくともいずれか一方を用いて作製したタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様は、（Ａ）光重合性モノマー、（Ｂ）透明樹脂、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）溶剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）光重合性モノマーを２官能であるメタクリル系モノマーとし、シランカップリング剤を全固形分量中に１．０重量％以上３．０重量％以下の範囲内で含有したことを特徴とする感光性樹脂組成物である。
また、上記の感光性樹脂組成物において、前記シランカップリング剤を少なくとも一分子中にエポキシ基を有するカップリング剤としたこととしてもよい。
【００１０】
また、上記の感光性樹脂組成物において、前記メタクリル系モノマーを少なくとも一分子中に脂環基を有するモノマーとしたこととしてもよい。
また、本発明の別の態様は、上記記載の感光性樹脂組成物を含んだことを特徴とするタッチパネル用材料である。
また、本発明の別の態様は、上記記載の感光性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするタッチパネル保護膜である。
【００１１】
また、本発明の別の態様は、上記記載の感光性樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とするタッチパネル絶縁膜である。
また、本発明の別の態様は、上記記載のタッチパネル保護膜と上記記載のタッチパネル絶縁膜の少なくともいずれか一方を用いて作製したことを特徴とするタッチパネルである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の感光性樹脂組成物によれば、フォトリソグラフィー法によるパターン加工性を有し、透明性に優れ、熱処理や薬品処理後に高温高湿条件下等においても無機材料表面との接着性に優れ、高硬度である硬化膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る一例のタッチパネルの要部を示す断面図である。
【図２】本発明に係る一例のタッチパネルの要部を、保護膜を透視して示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の実施形態に係る感光性樹脂組成物は、（Ａ）光重合性モノマー、（Ｂ）透明樹脂、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）溶剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ａ）光重合性モノマーを２官能であるメタクリル系モノマーとし、シランカップリング剤を全固形分量中に１．０重量％以上３．０重量％以下の範囲内で含有したことを特徴とするものである。
【００１５】
本実施形態の（Ａ）光重合性モノマーは、２官能のメタクリル系モノマーであることが望ましい。官能基が２官能より多いと膜硬化が強くなりすぎ、膜の柔軟性が低下することから、基板に対する密着性の悪化に繋がる。また、メタクリル系モノマーはアクリル系モノマーよりも、膜の疎水性を向上させる効果を持つことから、酸を膜に取り込みにくくなるため、耐酸密着性に対する密着性が向上する。本実施形態の感光性樹脂組成物は、（Ａ）光重合性モノマーと、後述する（Ｃ）光重合開始剤とを含有することによって、光照射後に組成物中で（Ａ）光重合性モノマー同士、または（Ａ）光重合性モノマーと後述する（Ｂ）透明樹脂とが重合することで、組成物からなる膜等を良好に硬化させることができる。また、光の照射をマスクを介して行うことにより、光が照射された部分（露光部）と光が照射されなかった部分（未露光部）との物性や現像液に対する溶解性が異なるものとなることにより、良好にパターンを得ることができる。なお、本実施形態において「光」とは、可視光のみならず、赤外線、紫外線、各種放射線（Ｘ線、γ線、電子線等）も含む概念であって、本実施形態の（Ａ）光重合性モノマーは、後述する各種の光線によって良好に重合するものであることが好ましい。
【００１６】
（Ａ）光重合性モノマーとして具体的には、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性フタル酸ジアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物のトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加物のテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加物のペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのカプロラクトン付加物のペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールのエチレンオキサイド付加物のトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。特に、少なくとも一分子中に脂環基を有するメタクリル系モノマーが好ましく用いられる。
【００１７】
（Ａ）光重合性モノマーは、上記材料のうち１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）光重合性モノマーの含有割合は特に限定されるものではないが、（Ｂ）透明樹脂１００質量部に対して、（Ａ）光重合性モノマーが３０質量部以上１５０質量部以下の範囲内であることが好ましく、３０質量部以上１００質量部以下の範囲内であることがより好ましく、４０質量部以上８０質量部以下の範囲内であることがさらに好ましい。３０質量部以上とすることにより、パターン加工時の現像性及び感度を特に向上させることができ、１５０質量部以下とすることにより、無機材料表面との接着性を特に良好とすることができる。
【００１８】
本実施形態の（Ｂ）透明樹脂を構成する共重合体としては、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、無水フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、クロトン酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネート、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノテトラヒドロフタレート、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノフタレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノヘキサヒドロフタレート、（メタ）アクリル酸のカプロラクトン付加物などのカルボキシル基含有モノマー；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリレート；（メタ）アクリルアミド、ブトキシメチロール（メタ）アクリルアミドなどのアミド基含有モノマー；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート等のアルキルアクリレートが挙げられる。なお、本実施形態において「（メタ）アクリル酸」及び「（メタ）アクリレート」とは、アクリル酸とメタクリル酸との両方を総称していう。
【００１９】
これらの中でも（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルエチルモノフタレート、（メタ）アクリロイルエチルモノヘキサヒドロフタレート、（メタ）アクリロイルエチルモノテトラヒドロフタレート、（メタ）アクリル酸のカプロラクトン付加物などのカルボキシル基含有モノマーを共重合に用いることが好ましい。
【００２０】
本実施形態の（Ｃ）光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；チオキサンソン、２−クロロチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、２−イソプロピルチオキサンソン等の硫黄化合物；ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル]−１−ブタノン等のアルキルフェノン類；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；２−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４−トリクロロメチル−（４’−メトキシフェニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（４’−メトキシナフチル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン類等が挙げられる。
【００２１】
（Ｃ）光重合開始剤は、上記材料のうち１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｃ）光重合開始剤の含有割合は特に限定されるものではないが、（Ｂ）透明樹脂１００質量部に対して、（Ｃ）光重合開始剤が５質量部以上２０質量部以下の範囲内であることが好ましく、５質量部以上１５質量部以下の範囲内であることがより好ましく、５質量部以上１０質量部以下の範囲内であることがさらに好ましい。５質量部以上とすることにより、パターン加工時の感度を特に向上させることができ、２０質量部以下とすることにより、透明性を特に良好とすることができる。
【００２２】
本実施形態の（Ｄ）溶剤としては、メタノール、エタノール、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、ジグライム、シクロヘキサノン、エチルベンゼン、キシレン、酢酸イソアミル、酢酸ｎ−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコール、トリエチリングリコールモノメチルエーテル、トリエチリングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、液体ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸エステル、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネートなどが挙げられる。
【００２３】
（Ｄ）溶剤は、上記材料のうち１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｄ）溶剤の含有割合は特に限定されるものではないが、全感光性樹脂組成物における固形分割合が２０質量％以上３０質量％以下の範囲内となるように用いることが好ましい。固形分割合を上記範囲内とすることにより、感光性樹脂組成物の粘度を適度なものとすることができ、無機材料（基板）上に塗布して膜を形成する際の塗工性が特に向上する。
【００２４】
本実施形態に用いられるシランカップリング剤とは、下地である無機基板や有機材との密着性改良の為に用いられるものである。ここで言うシランカップリング剤には、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネ−トプロピルトリエトキシシラン等を用いることができる。これらシランカップリング剤の中でもメタクリロキシ系またはアクリロキシ系のシランカップリング剤である３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、が好ましく用いられる。特に、少なくとも一分子中にエポキシ基を有するシランカップリング剤が好ましく用いられる。
【００２５】
本実施形態に用いられるシランカップリング剤の含有割合は、全固形分量中に１．０重量％以上３．０重量％以下の範囲内である。シランカップリング剤の含有割合が１．０重量％未満では組成物中の有機物と無機基板との水素結合や化学結合といった結合が弱いため、十分な密着性が得られない。また、シランカップリング剤の含有割合が３．０重量％を超えると、組成物中の有機物と無機基板との水素結合や化学結合が急速に形成されるため、感光性樹脂組成物の取り扱いが不便となる。また、上記含有割合が３．０重量％を超えると、上述の水素結合や化学結合の形成に用いられなかったシランカップリング剤の分量が増加するため、形成された膜の強度が低下するとともに十分な密着性も得られない。また、形成された膜の透明性も低下する。
【００２６】
上述した本実施形態の感光性樹脂組成物は、タッチパネル用材料として用いることができる。具体的には、本実施形態の感光性樹脂組成物を含むタッチパネル用材料を基板上に塗布し、光を照射して硬化させることで、本実施形態の感光性樹脂組成物を含む膜を形成することができる。また、マスクを介して光を照射し、現像した後、必要に応じて加熱処理することにより、本実施形態の感光性樹脂組成物を含む膜をパターン加工することも可能である。
【００２７】
本実施形態の感光性樹脂組成物を硬化させてなる膜は透明性に優れるため、タッチパネル用の膜として好適に用いることができる。タッチパネルにおける用途は特に限定されるものではないが、中でもタッチパネル用の保護膜または絶縁膜として用いることが好ましく、タッチパネル保護膜として用いられることが特に好ましい。本実施形態の感光性樹脂組成物を硬化させてなる膜は、透明性に優れるため、タッチパネル用途に好適に用いることができる。
【００２８】
本実施形態の感光性樹脂組成物を硬化させてなるタッチパネル保護膜及びタッチパネル絶縁膜は、無機材料層表面と良好に接着するため、下層となる無機材料層表面にタッチパネル保護膜やタッチパネル絶縁膜を形成した際の機械的強度を高めることができる。また、本実施形態のタッチパネル保護膜及びタッチパネル絶縁膜は、熱及び薬品耐性、並びに高温高湿条件下における耐性を有する。このため、これらの膜がタッチパネル製造工程において熱や薬品に晒された場合や、製造後のタッチパネルが高温高湿下に置かれた場合であっても、良好に機能することが可能となる。さらに、本実施形態のタッチパネル保護膜及びタッチパネル絶縁膜は、パターン加工性を有するため、所望のパターンを有する保護膜や絶縁膜を製造することができる。
【００２９】
本実施形態の感光性樹脂組成物を用いるタッチパネルの種類は特に限定されるものではないが、静電容量式のタッチパネルであることが好ましく、静電容量式且つ投影型のタッチパネルであることが特に好ましい。
本実施形態の感光性樹脂組成物を用いた静電容量式（投影型）タッチパネルの一構成について以下に詳細に説明する。なお、本実施形態のタッチパネルはその要旨を超えない限り以下の構成に限定されるものではない。
【００３０】
図１は本発明の一例のタッチパネルの要部を示す断面図であり、図２は本発明の一例のタッチパネルの要部を、保護膜を透視して示す平面図である。
本発明の一例である本実施形態に係るタッチパネルは基板１上に透明電極２、金属配線３、絶縁膜４及び透明電極２にて導通しているパターンと直交する配列を接続するための透明電極あるいは金属電極５を有する。絶縁膜４は透明電極２にて形成された導通パターンと直交する配列のパターンを接続する際に両パターンの導通を防止するために配設されている。また、本実施形態のタッチパネルはさらに、保護膜６を有することもできる。
【００３１】
基板１としては、特に限定されるものではないが、例えば、ソーダ石灰ガラス、低アルカリ硼珪酸ガラス、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスなどのガラス板、あるいはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などからなるプラスチック板、プラスチックフィルムが用いられる。
【００３２】
透明電極２としては、基板１表面に配設することができるものであれば特に限定されるものではないが、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）などの無機導電材料、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸）、ポリアニリン、ポリピロールなどの有機導電材料を用いることができる。これら材料は１種のみで用いてもよく、２種以上を併用してもよい。中でも、透明電極２としては、ＩＴＯを用いることが好ましい。
金属配線３としては、Ｍｏ（モリブデン）、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）、Ｐｄ（パラジウム）などの金属材料を用いることができ、ＭｏとＡｌのいずれか一方以上を用いることが好ましい。透明電極あるいは金属電極５としては、透明電極２の材料や金属配線３の材料と同様のものを用いることができる。
【００３３】
本実施形態のタッチパネルにおいて、絶縁膜４と保護膜６の少なくともいずれか一方は、本実施形態の感光性樹脂組成物を含むタッチパネル用材料を硬化させてなるものである。いずれか他方は、従来、絶縁膜や保護膜に用いられていた公知の材料を用いて形成されてもよいが、絶縁膜４及び保護膜６の両方が本実施形態のタッチパネル用材料を硬化させてなるものであることが好ましい。本実施形態のタッチパネル用材料を静電容量式且つ投影型のタッチパネルに用いることにより、上述したような効果を有するタッチパネルを得ることができる。
【００３４】
静電容量式且つ投影型のタッチパネルにおいて、本実施形態のタッチパネル用材料からなる膜を形成する方法は特に限定されるものではないが、例えば、下層（例えば、絶縁膜４であれば、基板１及び透明電極２であり、保護膜６であれば、透明電極２、金属配線３及び金属電極５）上にスプレーコートやスピンコート、スリットダイコート、ロールコート、バーコート等の塗布方法で上記感光性樹脂組成物を塗布する。また、本実施形態のタッチパネル用材料からなる膜が、保護膜６であれば乾燥膜厚が０．５μｍ以上２０μｍ以下の範囲内、より好ましくは１．０μｍ以上１０μｍ以下の範囲内となるように、絶縁膜４であれば乾燥膜厚が０．２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内、より好ましくは０．５μｍ以上５μｍ以下の範囲内となるように、上記感光性樹脂組成物を塗布する。乾燥させた上記膜に、必要に応じてこの膜と接触あるいは非接触状態で所定のパターンを有するマスクを設け、そのマスクを通して露光を行う。露光の際の光線の種類は特に限定されるものではなく、可視光線、紫外線、遠赤外線、電子線、Ｘ線等が挙げられ、中でも紫外線が好ましい。光線の照度は特に限定されるものではないが、３６５ｎｍにおいて５ｍＷ／ｃｍ２以上１５０ｍＷ／ｃｍ２以下の範囲内であることが好ましく、１５ｍＷ／ｃｍ２以上３５ｍＷ／ｃｍ２以下の範囲内であることが特に好ましい。
【００３５】
その後、必要に応じて炭酸ナトリウムや水酸化ナトリウム等の水性アルカリ現像液に浸漬するか、もしくはスプレーなどにより現像液を噴霧して未硬化部を除去し所望のパターンを形成する。さらに、感光性樹脂組成物の重合を促進して硬膜化させるため、それぞれ必要に応じて加熱（ポストベーキング）を施す。
【実施例】
【００３６】
以下に、本発明に係る実施例を示す。なお、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
［共重合体の合成］
＜合成例＞
撹拌機を備えたフラスコに２，２−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）４質量部及びシクロヘキサノン２００質量部を仕込み、引き続きメタクリル酸２５質量部、グリシジル（メタ）アクリレート２５質量部、シクロヘキシルマレイミド５０質量部を仕込んで窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を８時間保持し、反応させた。
次いで、反応溶液の温度を室温まで下げて、共重合体を含む重合体溶液（固形分濃度＝３０．０質量％）を得た。ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーによればこの共重合体の分子量は５，０００であった。
【００３７】
＜比較例１＞
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（Ａ）光重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０質量部、（Ｂ）透明樹脂として共重合体を固形分で１００質量部、（Ｃ）光重合開始剤として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン１０質量部、（Ｄ）溶剤としてシクロヘキサノン４５０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を混合して、感光性樹脂組成物を調整した。
【００３８】
＜実施例１＞
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（Ａ）光重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート５０質量部、（Ｂ）透明樹脂として共重合体を固形分で１００質量部、（Ｃ）光重合開始剤として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン１０質量部、（Ｄ）溶剤としてシクロヘキサノン４５０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部、シランカップリング剤として３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−４０２信越化学社製）２．５部を混合して、感光性樹脂組成物を調整した。
【００３９】
＜実施例２＞
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（Ａ）光重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート５０質量部、（Ｂ）透明樹脂として共重合体を固形分で１００質量部、（Ｃ）光重合開始剤として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン１０質量部、（Ｄ）溶剤としてシクロヘキサノン４５０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部、シランカップリング剤として３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３信越化学社製）２．５部を混合して、感光性樹脂組成物を調整した。
【００４０】
＜実施例３＞
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（Ａ）光重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート５０質量部、（Ｂ）透明樹脂として共重合体を固形分で１００質量部、（Ｃ）光重合開始剤として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン１０質量部、（Ｄ）溶剤としてシクロヘキサノン４５０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部、シランカップリング剤として３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−５０２信越化学社製）２．５部を混合して、感光性樹脂組成物を調整した。
【００４１】
＜実施例４＞
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（Ａ）光重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート５０質量部、（Ｂ）透明樹脂として共重合体を固形分で１００質量部、（Ｃ）光重合開始剤として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン１０質量部、（Ｄ）溶剤としてシクロヘキサノン４５０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部、シランカップリング剤として３−メタクリロキシプロピルトリエトキシラン（ＫＢＭ−５０３信越化学社製）２．５部を混合して、感光性樹脂組成物を調整した。
【００４２】
＜実施例５＞
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（Ａ）光重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート５０質量部、（Ｂ）透明樹脂として共重合体を固形分で１００質量部、（Ｃ）光重合開始剤として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン１０質量部、（Ｄ）溶剤としてシクロヘキサノン４５０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部、シランカップリング剤として３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−８０２信越化学社製）２．５部を混合して、感光性樹脂組成物を調整した。
【００４３】
＜実施例６＞
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（Ａ）光重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート５０質量部、（Ｂ）透明樹脂として共重合体を固形分で１００質量部、（Ｃ）光重合開始剤として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン１０質量部、（Ｄ）溶剤としてシクロヘキサノン４５０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部、シランカップリング剤として３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−８０３信越化学社製）２．５部を混合して、感光性樹脂組成物を調整した。
【００４４】
＜実施例７＞
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（Ａ）光重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート５０質量部、（Ｂ）透明樹脂として共重合体を固形分で１００質量部、（Ｃ）光重合開始剤として２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン１０質量部、（Ｄ）溶剤としてシクロヘキサノン４５０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部、シランカップリング剤として３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３信越化学社製）２．５部を混合して、感光性樹脂組成物を調整した。
【００４５】
＜耐酸密着性評価＞
上記感光性樹脂組成物をスピンコート法により、ソーダ石灰ガラス基板、ＩＴＯ膜を有した基板、モリブデン膜を有した基板の３種類の基板上に塗布し、９０℃のホットプレート上で１分間プレベークして塗膜を形成し、超高圧水銀灯の光を１５０ｍＪ／ｃｍ２照射した（３６５ｎｍにおける照度：３０ｍＷ／ｃｍ２）。その後アルカリ現像液により６０秒現像を行い、２３５℃で２０分間加熱することにより、膜厚２．０μｍの塗膜基板を作製した。このようにして作製した塗膜を形成した基板を４３℃のリン酸と硝酸の混合水溶液へ５分間浸漬した。浸漬後の基板を水洗、乾燥させた後、作製した塗膜を形成した基板を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６のクロスカット法により塗膜の密着性を評価した。碁盤目１００個中、残った塗膜の面積の割合を示した。評価基準は、膜の剥がれが全く無い場合を◎、ほぼ剥がれの見られない場合を○、一部に剥がれが見られた場合を△とした。この結果を表１に示す。
【００４６】
＜高温高湿投入後密着性評価＞
上記感光性樹脂組成物をスピンコート法によりソーダ石灰ガラス基板上に塗布し、９０℃のホットプレート上で１分間プレベークして塗膜を形成し、超高圧水銀灯の光を１５０ｍＪ／ｃｍ２照射した（３６５ｎｍにおける照度：３０ｍＷ／ｃｍ２）。その後アルカリ現像液により６０秒現像を行い、２３５℃で２０分間加熱することにより、膜厚２．０μｍの塗膜基板を作製した。このようにして作製した塗膜を形成した基板を、６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に５００時間静置した。その後取り出した基板について、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６のクロスカット法により塗膜の密着性を評価した。碁盤目１００個中、残った塗膜の面積の割合を示した。評価基準は、膜の剥がれが全く無い場合を◎、ほぼ剥がれの見られない場合を○、一部に剥がれが見られた場合を△とした。この結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
2014206574.tif 000002
【００４８】
＜評価結果＞
実施例１〜７より、光重合性モノマーは２官能のメタクリル系モノマーにすることにより耐酸密着性は向上し、耐高温高湿にはシランカップリング剤ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＭ−５１０３の添加により密着性が改善し、特にエポキシ基を含有するＫＢＭ−４０３では非常に良好な密着性が示された。
【符号の説明】
【００４９】
１・・・基板、２・・・透明電極、３・・・金属配線
４・・・絶縁膜、５・・・透明電極あるいは金属電極、６・・・保護膜
【図１】
2014206574.tif 000003
【図２】
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