(57)【要約】【課題】本発明は、高い光透過率とともに、低い表面抵抗率（Ω／□）を有する光透過性導電性フィルムを提供することを目的とする。【解決手段】（Ａ）光透過性支持層；（Ｂ）高屈折率層；及び（Ｃ）光透過性導電層を含有し、前記高屈折率層は、前記光透過性支持層と前記光透過性導電層との間に配置されており、かつ前記高屈折率層は、１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジンに由来する構成単位を含有する多分岐重合体を含有する光過性導電性フィルム。【選択図】図１
2014091277.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）高屈折率層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記高屈折率層は、前記光透過性支持層と前記光透過性導電層との間に配置されており、かつ
前記高屈折率層は、１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジンに由来する構成単位を含有する多分岐重合体を含有する
光過性導電性フィルム。
【請求項２】
前記多分岐重合体が、前記１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジンと重合可能な１種以上の他の単量体に由来する構成単位を更に含有する、請求項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
前記他の単量体が、ビニル系単量体、アクリレート単量体、メタクリレート単量体、アリル系単量体、及びマレイン酸系単量体からなる群より選択される１種以上である、請求項２記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項４】
前記他の単量体の１種が、多官能アクリレート単量体である、請求項３に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項５】
前記高屈折率層が、前記多分岐重合体、及び架橋剤を含有する樹脂組成物から形成される層である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項６】
前記高屈折率層がハードコート層である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項７】
少なくとも１つの前記光透過性導電層が酸化インジウムを含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項８】
少なくとも１つの前記光透過性導電層がＩＴＯからなる層である、請求項７のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項９】
前記光透過性導電層の厚さが３０ｎｍ未満であり、かつ
前記光透過性導電層の、外側の面の平均表面粗さＲａが０．１〜１ｎｍである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項１０】
（Ｄ）光透過性アンダーコート層
を更に含有し、
当該光透過性アンダーコート層は、前記光透過性支持層と前記光透過性導電層の間に配置され、かつ前記光透過性導電層が前記光透過性アンダーコート層に隣接している、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項１１】
前記光透過性アンダーコート層が、酸化ケイ素を含有する、請求項９又は１０に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルムを含有する、静電容量型タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム及びそれを有する静電容量型タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォン、及びタブレットＰＣの普及に伴い、タッチパネルの生産量も増大している。タッチパネルには、光透過性導電性フィルムが使用されており、このような光透過性導電性フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等から形成される光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等から形成される光透過性導電層が積層されている多層フィルムが汎用されている。
【０００３】
特に、このＩＴＯにおけるインジウムは貴重な金属であるので、タッチパネル等に使用される光透過性導電性フィルムの需要が増加している状況下において、その使用量の削減が望まれている。この理由などから、光透過性導電性フィルムの光透過性導電層の厚さは、より薄いことが望ましい。
【０００４】
ところで、タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムについては、一般に、光透過率が高いこと、及び光の反射が抑制されていることが望まれる。また、一般に、ＩＴＯ層のエッチングパターンは見えないことが望まれる。このような目的において、従来、多層フィルムである光透過性導電性フィルムに、光透過性支持層、及び光透過性導電層に加えて、当該光透過性支持層よりも高い屈折率を有する層である高屈折率層を用いることが行われている。また、通常、樹脂層に高屈折率を付与することは、ジルコニア、チタニア又はアルミナ等のコロイド粒子等を樹脂層中に分散されることによって達成されている（特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２７００９９公報
【特許文献２】特開２００７−３０８６３１公報
【特許文献３】特開２００３−０３９５８６公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者らは、光透過性支持層の一方の面上に光透過性導電層が積層されている光透過性導電性フィルムの光透過性導電層の厚さを薄くする研究を行っていた。しかし、当該研究において、高屈折率層を有する従来の構成の光透過性導電性フィルムにおいて単に光透過性導電性層を薄くした場合には、光透過性導電性フィルムの表面抵抗率（Ω／□）が高くなりすぎるので、静電容量型タッチパネルに用いる光透過性導電性フィルムとしては好ましくないことが明らかになった。
【０００７】
従って、本発明は、高い光透過率とともに、低い表面抵抗率（Ω／□）を有する光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）高屈折率層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、高屈折率層として、１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジンに由来する構成単位を含有する多分岐重合体を含有する高屈折率層を使用することにより前記課題を解決できることを見出し、更なる研究の結果、本発明を完成させた。
【０００９】
すなわち、本発明は、下記の態様を含む。
【００１０】
項１．
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）高屈折率層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記高屈折率層は、前記光透過性支持層と前記光透過性導電層との間に配置されており、かつ
前記高屈折率層は、１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジンに由来する構成単位を含有する多分岐重合体を含有する
光過性導電性フィルム。
項２．
前記多分岐重合体が、前記１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジンと重合可能な１種以上の他の単量体に由来する構成単位を更に含有する、項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
前記他の単量体が、ビニル系単量体、アクリレート単量体、メタクリレート単量体、アリル系単量体、及びマレイン酸系単量体からなる群より選択される１種以上である、項２記載の光透過性導電性フィルム。
項４．
前記他の単量体の１種が、多官能アクリレート単量体である、項３に記載の光透過性導電性フィルム。
項５．
前記高屈折率層が、前記多分岐重合体、及び架橋剤を含有する樹脂組成物から形成される層である、項１〜４のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
項６．
前記高屈折率層がハードコート層である、項１〜５のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
項７．
少なくとも１つの前記光透過性導電層が酸化インジウムを含有する、項１〜６のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
項８．
少なくとも１つの前記光透過性導電層がＩＴＯからなる層である、項７のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
項９．
前記光透過性導電層の厚さが３０ｎｍ未満であり、かつ
前記光透過性導電層の、外側の面の平均表面粗さＲａが０．１〜１ｎｍである、項１〜８のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１０．
（Ｄ）光透過性アンダーコート層
を更に含有し、
当該光透過性アンダーコート層は、前記光透過性支持層と前記光透過性導電層の間に配置され、かつ前記光透過性導電層が前記光透過性アンダーコート層に隣接している、項１〜９のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルム。
項１１．
前記光透過性アンダーコート層が、酸化ケイ素を含有する、項９又は１０に記載の光透過性導電性フィルム。
項１２．
項１〜１１のいずれか１項に記載の光透過性導電性フィルムを含有する、静電容量型タッチパネル。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光透過性導電性フィルムは、高い光透過率とともに、低い表面抵抗率（Ω／□）を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の光透過性導電性フィルムの一態様の概要を示す断面概略図である。
【図２】本発明の光透過性導電性フィルムの別の一態様の概要を示す断面概略図である。
【図３】本発明の光透過性導電性フィルムの更に別の一態様の概要を示す断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
１．  光過性導電性フィルム
本発明の光過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）高屈折率層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記高屈折率層は、前記光透過性支持層と前記光透過性導電層との間に配置されており、かつ
前記高屈折率層は、１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジンに由来する構成単位を含有する多分岐重合体を含有する。
【００１４】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１５】
本明細書において、光透過性支持層の一方の面上に配置される複数の層のうちの２つの層の相対的な位置関係について言及する場合、「上方」とは、光透過性支持層を基準にして、光透過性支持層からの距離がより大きいことを意味し、「下方」とは当該距離がより小さいことを意味する。
【００１６】
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層１の一方の面の上方に高屈折率層２が配置され、当該高屈折率層２の一方の面の上方に光透過性導電層３が配置されている。ここで、高屈折率層２は光透過性支持層１に隣接しており、光透過性導電層３は高屈折率層２に隣接している。
なお、各図は、理解し易さを優先するため、各寸法の比を正確に表してはいない。また、各図において同じ構成要素には同じ符号を付して、説明を省略する場合がある。
【００１７】
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の一態様を示す。この態様では、光透過性支持層１の両方の面の上方に高屈折率層２がそれぞれ配置され、当該各高屈折率層２の一方の面の上方に光透過性導電層３がそれぞれ配置されている。ここで、高屈折率層２は光透過性支持層に隣接しており、光透過性導電層３は高屈折率層２に隣接している。
【００１８】
１．１  光透過性支持層
本発明の光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層とは、光透過性導電層等を支持する役割を果たす層である。本発明の光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層の数は通常１である。
【００１９】
光透過性支持層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２０】
光透過性支持層の素材は、支持層として機能できる限り、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。
有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。
ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。
光透過性支持層の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、中でも特にＰＥＴが好ましい。
光透過性支持層は、これらのうちいずれか単独から形成されるものであってもよいし、複数種から形成されるものであってもよい。
【００２１】
光透過性支持層の厚さは、光透過性支持層が支持層として機能できる限り、特に限定されないが、通常、２〜３００μｍの範囲内である。
【００２２】
１．２  高屈折率層
本発明において高屈折率層とは、光透過性支持層よりも高い屈折率を有する層である。
【００２３】
本発明の光透過性導電性フィルムにおいて、高屈折率層は、前記光透過性支持層の一方又は両方の面の上方に配置され、及び前記光透過性支持層と、後記で説明する光透過性導電層との間に存在する。当該光透過性支持層と当該光透過性導電層との間に存在する高屈折率層の数は１又はそれ以上であることができる。高屈折率層の数が２以上である場合、これらは、互いに隣接していてもよく、あるいは、他の層を介して互いに離間していてもよい。
【００２４】
高屈折率層が存在することにより、本発明の光透過性導電性フィルムは、光の反射が抑制される。また、例えば、本発明の光透過性導電性フィルムをタッチパネル等に用いた場合の「映り込み（reflected glare）」も抑制される。
【００２５】
１．２．１  多分岐重合体
前述のように、高屈折率層は、１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジンに由来する構成単位を含有する多分岐重合体を含有する。本明細書中、この多分岐重合体を、単に多分岐重合体と称する場合がある。
【００２６】
１．２．１．１  トリアジン単量体
当該「１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジン」は、好ましくは、下記の式（１）で表される化合物である。なお、本明細書中、「１個以上のビニル基含有置換基で置換された１，３，５−トリアジン」をトリアジン単量体と称する場合がある。
式（１）：
【化１】
2014091277.tif 000003
［式（１）中、
（ａ）Ａ１、Ａ２及びＡ３のうちの１つまたは２つは、
式（２ａ）：−Ｎ（−Ｒ１）−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２      （２ａ）
（式（２ａ）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１０の完全飽和炭化水素基または炭素数２〜１０の不完全飽和炭化水素基を表す。）
で表される基、又は
式（３ａ）：−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２      （３ａ）
で表される基
であり、
Ａ１、Ａ２及びＡ３のうちの残りは、
式（４ａ）：−Ｎ（−Ｒ２）（−Ｒ３）      （４ａ）
（式（４ａ）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、フェニル基またはナフチル基を表す。）で表される基、または
式（５ａ）：
【化２】
2014091277.tif 000004
で表される基
であるか、あるいは
（ｂ）Ａ１は、式（２ｂ）：
−Ｒ２−Ｔ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（−Ｒ１ｂ）＝ＣＨ２    （２ｂ）
（式（２ｂ）中、Ｒ１ｂは、水素原子またはメチル基を表し、Ｔは、炭素数１〜１０の２価の完全飽和炭化水素基を表し、Ｒ２ｂは、ＯまたはＮＨを表す。）
で表される基であり、
Ａ２及びＡ３は、互いに独立して、式（３ｂ）、式（４ｂ）、又は式（５ｂ）
【化３】
2014091277.tif 000005
Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、及びＲ５ｂは、互いに独立して、及び各出現において独立して、(i)炭素数１〜１０の完全飽和炭化水素基、(ii)１個以上の炭素数１〜１０の完全飽和炭化水素基で置換されていてもよいアリール基、又は(iii)１個以上の炭素数１〜１０の完全飽和炭化水素基で置換されていてもよいアリールオキシ基を表し、ｎｂ１、及びｎｂ３は、０〜５の整数であり、ｎｂ２は、０〜７の整数である。）
で表される基である。］
【００２７】
本明細書中、炭素数１〜１０の完全飽和炭化水素基は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。すなわち、炭素数１〜１０の完全飽和炭化水素基の例としては、炭素数１〜１０のアルキル基、及び炭素数３〜１０のシクロアルキル基等が挙げられる。炭素数１〜１０の完全飽和炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロブチル、１−メチル−シクロプロピル、２−メチル−シクロプロピル、ｎ−ペンチル、１−メチル−ｎ−ブチル、２−メチル−ｎ−ブチル、３−メチル−ｎ−ブチル、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル、１−エチル−ｎ−プロピル、シクロペンチル、１−メチル−シクロブチル、２−メチル−シクロブチル、３−メチル−シクロブチル、１，２−ジメチル−シクロプロピル、２，３−ジメチル−シクロプロピル、１−エチル−シクロプロピル、２−エチル−シクロプロピル、ｎ−ヘキシル、１−メチル−ｎ−ペンチル、２−メチル−ｎ−ペンチル、３−メチル−ｎ−ペンチル、４−メチル−ｎ−ペンチル、１，１−ジメチル−ｎ−ブチル、１，２−ジメチル−ｎ−ブチル、１，３−ジメチル−ｎ−ブチル、２，２−ジメチル−ｎ−ブチル、２，３−ジメチル−ｎ−ブチル、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル、１−エチル−ｎ−ブチル、２−エチル−ｎ−ブチル、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピル、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピル、シクロヘキシル、１−メチル−シクロペンチル、２−メチル−シクロペンチル、３−メチル−シクロペンチル、１−エチル−シクロブチル、２−エチル−シクロブチル、３−エチル−シクロブチル、１，２−ジメチル−シクロブチル、１，３−ジメチル−シクロブチル、２，２−ジメチル−シクロブチル、２，３−ジメチル−シクロブチル、２，４−ジメチル−シクロブチル、３，３−ジメチル−シクロブチル、１−ｎ−プロピル−シクロプロピル、２−ｎ−プロピル−シクロプロピル、１−イソプロピル−シクロプロピル、２−イソプロピル−シクロプロピル、１，２，２−トリメチル−シクロプロピル、１，２，３−トリメチル−シクロプロピル、２，２，３−トリメチル−シクロプロピル、１−エチル−２−メチル−シクロプロピル、２−エチル−１−メチル−シクロプロピル、２−エチル−２−メチル−シクロプロピル、２−エチル−３−メチル−シクロプロピル等が挙げられる。
【００２８】
本明細書中、炭素数２〜１０の不完全飽和炭化水素基は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。炭素数２〜１０の不完全飽和炭化水素基の例としては、アルケニル基、シクロアルケニル基等が挙げられる。炭素数２〜１０の不完全飽和炭化水素基の具体例としては、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−１−エテニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、１−エチルエテニル、１−メチル−１−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−ｎ−プロピルエテニル、１−メチル−１−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−エチル−２−プロペニル、２−メチル−１−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、３−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、３−メチル−３−ブテニル、１，１−ジメチル−２−プロペニル、１−イソプロピルエテニル、１，２−ジメチル−１−プロペニル、１，２−ジメチル−２−プロペニル、１−シクロペンテニル、２−シクロペンテニル、３−シクロペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、１−メチル−１−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、１−ｎ−ブチルエテニル、２−メチル−１−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、２−ｎ−プロピル−２−プロペニル、３−メチル−１−ペンテニル、３−メチル−２−ペンテニル、３−メチル−３−ペンテニル、３−メチル−４−ペンテニル、３−エチル−３−ブテニル、４−メチル−１−ペンテニル、４−メチル−２−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−４−ペンテニル、１，１−ジメチル−２−ブテニル、１，１−ジメチル−３−ブテニル、１，２−ジメチル−１−ブテニル、１，２−ジメチル−２−ブテニル、１，２−ジメチル−３−ブテニル、１−メチル−２−エチル−２−プロペニル、１−ｓ−ブチルエテニル、１，３−ジメチル−１−ブテニル、１，３−ジメチル−２−ブテニル、１，３−ジメチル−３−ブテニル、１−イソブチルエテニル、２，２−ジメチル−３−ブテニル、２，３−ジメチル−１−ブテニル、２，３−ジメチル−２−ブテニル、２，３−ジメチル−３−ブテニル、２−イソプロピル−２−プロペニル、３，３−ジメチル−１−ブテニル、１−エチル−１−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−ｎ−プロピル−１−プロペニル、１−ｎ−プロピル−２−プロペニル、２−エチル−１−ブテニル、２−エチル−２−ブテニル、２−エチル−３−ブテニル、１，１，２−トリメチル−２−プロペニル、１−ｔ−ブチルエテニル、１−メチル−１−エチル−２−プロペニル、１−エチル−２−メチル−１−プロペニル、１−エチル−２−メチル−２−プロペニル、１−イソプロピル−１−プロペニル、１−イソプロピル−２−プロペニル、１−メチル−２−シクロペンテニル、１−メチル−３−シクロペンテニル、２−メチル−１−シクロペンテニル、２−メチル−２−シクロペンテニル、２−メチル−３−シクロペンテニル、２−メチル−４−シクロペンテニル、２−メチル−５−シクロペンテニル、２−メチレン−シクロペンチル、３−メチル−１−シクロペンテニル、３−メチル−２−シクロペンテニル、３−メチル−３−シクロペンテニル、３−メチル−４−シクロペンテニル、３−メチル−５−シクロペンテニル、３−メチレン−シクロペンチル、１−シクロヘキセニル、２−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニル等が挙げられる。
【００２９】
本明細書中、アリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等の炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。
【００３０】
本明細書中、アリールオキシ基としては、フェノキシ、ナフチルオキシ、アントラニルオキシ等の炭素数６〜２０のアリールオキシ基等が挙げられる。
【００３１】
本明細書中、炭素数１〜１０の２価の完全飽和炭化水素基は、前記「炭素数１〜１０の完全飽和炭化水素基」（すなわち、炭素数１〜１０の１価の完全飽和炭化水素基）から１個の水素原子を除去することにより導かれる基であり、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。２価の完全飽和炭化水素基の例としては、アルキレン基（鎖）が挙げられる。その具体例としては、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、プチレン基等が挙げられる。
【００３２】
本発明で用いられるトリアジン単量体は、特開２００６−１９２３９号公報に記載の方法、又は国際公開２０１１／０１８９９０号パンフレットに記載の方法のような公知の方法によって製造することができる。
【００３３】
本発明で用いられる多分岐重合体は、前記トリアジン単量体の単独重合体であってもよく、前記トリアジン単量体と、これと重合可能な他の単量体との共重合体であってもよく、または、この両者の組み合わせであってもよい。
当該多分岐重合体は、好ましくは、前記トリアジン単量体７０〜１００質量部、及び当該トリアジン単量体と重合可能な他の単量体０〜３０質量部の重合により得られる多分岐重合体である。
【００３４】
１．２．１．２  他の単量体
当該「他の単量体」としては、式（１）の単量体が有するビニル基の炭素−炭素二重結合と反応して共重合体を与える官能基を有するものであれば特に限定されず、例えば、ビニル系単量体、アクリレート単量体、メタクリレート単量体、多官能アクリレート単量体、アリル系単量体、マレイン酸系単量体等が挙げられる。
【００３５】
ビニル系単量体の具体例としては、芳香族系ビニル化合物（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、ジビニルナフタレン）、ビニルエステル類（例、酢酸ビニル、パーサチック酸ビニル、アジピン酸ビニル）、ビニルケトン類（例、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン）、ビニルエーテル類（例、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル）、ビニル基含有シリコーン類（例、末端にビニル基を有するポリジメチルシロキサン、末端にビニル基を有するポリジフェニルシロキサン、末端にビニル基を有するポリジメチルシロキサン−ポリジフェニルシロキサン共重合体、側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン、側鎖にビニル基を有するポリジフェニルシロキサン、側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン−ポリジフェニルシロキサン共重合体）等が挙げられる。
【００３６】
アクリレート単量体の具体例としては、アクリル酸及びそのエステル類（例、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ステアリル）、エポキシアクリレート類（例、ビスフェノール系エポキシ樹脂にアクリル酸を結合させたビスフェノールエポキシアクリレート、フェノールノボラックエポキシ樹脂にアクリル酸を結合させたフェノールノボラックエポキシアクリレート、クレゾールノボラックエポキシ樹脂にアクリル酸を反応させて得られるクレゾールノボラックエポキシアクリレート）、ポリエチレンフタレート又はポリプチレンフタレート等のポリエステルにアクリル酸を結合させたポリエステルアクリレート類、イソホロンジイソシアネート系ポリウレタン又はヘキサメチレンジイソシアネート系ポリウレタンにアクリル酸を結合させたウレタンアクリレート類等が挙げられる。
【００３７】
メタクリレート単量体の具体例としては、メタクリル酸及びそのエステル類（例、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ステアリル）、エポキシメタクリレート類（例、ビスフェノール系エポキシ樹脂にメタクリル酸を結合させたビスフェノールエポキシメタクリレート、フェノールノボラックエポキシ樹脂にメタクリル酸を結合させたフェノールノボラックエポキシメタクリレート、クレゾールノボラックエポキシ樹脂にメタクリル酸を結合させたクレゾールノボラックエポキシメタクリレート）、ポリエチレンフタレートやポリプチレンフタレート等のポリエステルにメタクリル酸を結合させたポリエステルメタクリレート類、イソホロンジイソシアネート系ポリウレタン又はヘキサメチレンジイソシアネート系ポリウレタンにメタクリル酸を結合させたウレタンメタクリレート類等が挙げられる。
【００３８】
アリル系単量体の具体例としては、芳香族アリルエステル類（例、ジアリルフタレート）、ヘテロ環含有アリル化合物（例、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート）等が挙げられる。
【００３９】
マレイン酸系単量体の具体例としては、マレイン酸及びそのエステル類（例、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸ジメチル）、無水マレイン酸とエチレングリコール又はネオペンチルグリコール等のポリオール類との反応により得られる不飽和ポリエステル類、無水マレイン酸とモノアミンとの反応により得られるモノマレイミド類（例、フェニルマレイミド、シクロへキシルマレイミド）、無水マレイン酸とジアミンとを反応させてできるビスマレイミド類（例、ジフェニルエーテルビスマレイミド）等が挙げられる。
【００４０】
本発明で用いられる多分岐重合体は、塊状重合、懸濁重合、溶液重合法等の公知の重合方法等の公知の方法、具体的には、特開２００６−１９２３９号公報に記載の方法、又は国際公開２０１１／０１８９９０号パンフレットに記載の方法、あるいはこれらに準じる方法によって製造することができる。
【００４１】
高屈折率層は、後記の「本発明の光過性導電性フィルムの製造方法」で説明するように、例えば、前記多分岐重合体が有機溶媒に溶解している樹脂組成物を基材等に塗布し、及び乾燥させることによって得られる。
【００４２】
高屈折率層が含有する多分岐重合体における当該「他の単量体」に由来する構成単位の比率は、好ましくは、５〜９５モル％である。
【００４３】
前記高屈折率層は、より好ましくは、前記多分岐重合体、及び架橋剤を含有する樹脂組成物から形成される層である。すなわち、前記多分岐重合体は、好ましくは架橋剤に由来する架橋又は基を有する。これにより、前記高屈折率層は、耐熱性等を有することができる。
【００４４】
ここで、架橋剤としては、特に限定されるものではなく、この種の樹脂組成物に汎用されているものから適宜選択して用いることができ、例えば、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、およびアミノブラスト化合物から選ばれる１種または２種以上の架橋剤を用いることができる。
エポキシ化合物の具体例としては、液状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、固形ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、液状ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、固形ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、グリシジルメタクリレート重合体、グリシジルメタクリレート共重合体、エポキシ化大豆油などが挙げられる。
イソシアネート化合物の具体例としては、トルイレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等の２官能以上のイソシアネート化合物や、これらのイソシアネート化合物をカプロラクタムまたはオキシムと反応させて保護基としたブロックイソシアネート類が挙げられる。
なお、イソシアネート化合物の場合は、使用直前に樹脂組成物溶液に加えることが好ましい。
アミノブラスト化合物の具体例としては、分子内に２個以上のアルコキシメチル基を有する尿素樹脂、メラミン樹脂、またはベンゾグアナミン樹脂が挙げられ、これらの中でも、特に、分子内に２個以上のアルコキシメチル基を有するメラミン樹脂が好ましい。
【００４５】
前記高屈折率層は、ハードコート層であることができる。
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。前記高屈折率層がハードコート層として機能するためには、本発明の光透過性導電性フィルムの用途等に応じて適当な硬度を有する必要がある。
前記高屈折率層の硬度を高くするためには、例えば、前記「他の単量体」の１種として、前記のアクリレート単量体の中でも、複数のアクリロイル基を有するアクリレート単量体（多官能アクリレート単量体）を使用し、かつ当該単量体をより高い比率で使用すればよい。
このような場合、高屈折率層が含有する多分岐重合体における、当該単量体に由来する構成単位の比率は、好ましくは、１〜９５重量％である。
【００４６】
高屈折率層における前記多分岐重合体の含有量は、通常、１０〜１００重量％である。
【００４７】
高屈折率層は、前記多分岐重合体に加えて、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、及びアルキド系樹脂等から選択される１種以上の樹脂を含有していてもよい。このような樹脂の含有量は、通常、高屈折率層に対して５〜９５重量％である。
【００４８】
高屈折率層の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．７等が挙げられる。
【００４９】
高屈折率層の厚さは、通常０．１〜１０μｍ、好ましくは１〜７μｍ、より好ましくは２〜６μｍの範囲内である。なお、２つ以上の高屈折率層が互いに隣接している場合は、前記「高屈折率層の厚さ」は、その合計厚さであることができる。
【００５０】
１．３  光透過性導電層
光透過性導電層は、前記高屈折率層は、前記光透過性支持層と前記光透過性導電層との間に配置されている。本発明の光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層の数は通常１又は２である。前記光透過性導電層は必ずしも連続している必要はなく、例えばエッチング処理によって不連続になっていてもよい。
【００５１】
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層としては、特に限定されず、タッチパネル用光透過性導電性フィルム等における光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
【００５２】
光透過性導電層の素材としては、特に限定されず、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層は、これらのうちいずれか単独から形成されるものであってもよいし、複数種から形成されるものであってもよい。光透過性導電層としては、高い光透過率と低い表面抵抗率の両立の観点から、酸化インジウムを含む光透過性導電層が好ましく、酸化インジウムと酸化スズの混合物を含む光透過性導電層がより好ましく、特に好ましくは、酸化インジウムと酸化スズの混合物から形成される光透過性導電層である。すなわち、光透過性導電層は特に好ましくはＩＴＯ層である。
【００５３】
光透過性導電層の素材として酸化インジウムと酸化スズの混合物としては、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）と酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）の無機化合物（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。
【００５４】
前記光透過性導電層の外側の面（すなわち、前記光透過性支持層側とは反対側の面）は平滑であることが好ましく、その平均表面粗さＲａは、好ましくは０．１〜１ｎｍである。
これにより、本発明の光透過性導電性フィルムは、低い表面抵抗率（Ω／□）を有することができる。
当該平均表面粗さＲａは、走査型プローブ顕微鏡を用いて測定される粗さの算術平均を意味する。本発明における平均表面粗さＲａは、詳細には、市販の走査型プローブ顕微鏡（島津製作所社、ＳＰＭ−９７００、又はその同等品）を用いて、所定のコンタクトモードで１μｍ平方の測定面を探針で走査して得られる、平均線からの絶対偏差を平均した値である。
【００５５】
前記光透過性導電層の厚さは、好ましくは、２０ｎｍ未満である。
【００５６】
１．４  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、（Ａ）光透過性支持層；（Ｂ）高屈折率層；及び（Ｃ）光透過性導電層に加えて、他の層を有していてもよい。
【００５７】
このような層としては、例えば、光透過性アンダーコート層が挙げられる。
【００５８】
図３に、本発明の光透過性導電性フィルムの、光透過性アンダーコート層を有する一態様を示す。
この態様の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層１、高屈折率層２、光透過性導電層３及び光透過性アンダーコート層４を含有する。
ここで、光透過性支持層１の一方の面の上方に高屈折率層２が配置され、当該高屈折率層２の一方の面の上方に光透過性アンダーコート層４が配置され、当該光透過性アンダーコート層４の一方の面の上方に光透過性導電層３が配置されている。
【００５９】
また、ここで、高屈折率層２は光透過性支持層１に隣接しており、光透過性アンダーコート層４は高屈折率層２に隣接している。光透過性導電層３は光透過性光透過性アンダーコート層４に隣接している。
【００６０】
１．４．１  光透過性アンダーコート層
光透過性アンダーコート層は、好ましくは、高屈折率層に隣接して配置される。また、光透過性アンダーコート層は、好ましくは、光透過性支持層に隣接して配置される。光透過性アンダーコート層は、好ましくは、高屈折率層よりも低い屈折率を有する。これにより、光透過性アンダーコート層及び高屈折率層の光学干渉作用により光透過性導電性フィルムの光透過性が向上する。
本発明の光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性アンダーコート層は、所望により、前記光透過性支持層の一方又は両方の面の上方に配置され、及び前記光透過性支持層と、後記で説明する光透過性導電層との間に存在する。当該光透過性支持層と当該光透過性導電層との間に存在する光透過性アンダーコート層の数は１又はそれ以上であることができる。光透過性アンダーコート層の数が２以上である場合、これらは、互いに隣接していてもよく、あるいは、他の層を介して互いに離間していてもよい。
【００６１】
光透過性アンダーコート層の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであることができる。光透過性アンダーコート層の素材としては、具体的には、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサンの及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン等が挙げられる。光透過性アンダーコート層は、これらのうちいずれか単独から形成されるものであってもよいし、複数種から形成されるものであってもあってもよい。
光透過性アンダーコート層は、好ましくは、酸化ケイ素を含有する。
【００６２】
光透過性アンダーコート層の屈折率は、好ましくは、１．４〜１．５である。
【００６３】
光透過性アンダーコート層の厚さは、通常１５〜２５ｎｍである。なお、２つ以上の光透過性アンダーコート層が互いに隣接している場合は、前記「光透過性アンダーコート層の厚さ」は、その合計厚さであることができる。
【００６４】
本発明の光過性導電性フィルムを構成する各層の間には、各層を互いに固着させるための接着層が存在してもよい。当該接着層としては、特に限定されず、例えば、タッチパネル用や太陽電池用等の公知の光透過性導電性フィルムにおいて用いられる接着剤から形成される層であることができる。
【００６５】
製造方法
本発明の光過性導電性フィルムは、その態様に応じて、例えば、多層フィルムである多層光過性導電性フィルムの製造において慣用の方法を用いて製造することができる。
例えば、図３の態様の光過性導電性フィルムであれば、光透過性支持層を用意すること、当該光透過性支持層の面上に高屈折率層を形成させること、当該高屈折率層の面上に光透過性アンダーコート層を形成させること、当該光透過性アンダーコート層の面上に光透過性導電層を形成させることを含む方法によって、製造することができる。
なお、各層は、各層について前述した方法によって用意すること、又は形成させることができる。
【００６６】
光透過性支持層は、樹脂フィルムの慣用の製造方法、例えば、溶融押出した、所望により圧延又は延伸することによって得られる。また、光透過性支持層は、市販品にて入手してもよい。
【００６７】
高屈折率層は、例えば、前記多分岐重合体が有機溶媒に溶解している樹脂組成物を隣接層の表面に塗布した後、硬化させるによって形成させることができる。硬化は、例えば、加熱により行うことができる。
【００６８】
前記多分岐重合体を溶液重合法を用いて得た場合、当該樹脂組成物として、重合後の溶液を、そのまま使用してもよい。ここで、所望により、微量の残留単量体の除去等の目的で、重合後の樹脂組成物の溶液をアルコールや炭化水素等の貧溶剤を加えて樹脂分を再沈殿させ、これをろ過して乾燥したものを、有機溶剤に再度溶解して樹脂組成物溶液を製造してもよい。
一方、前記多分岐重合体を塊状重合や懸濁重合法を用いて得た場合、得られた樹脂組成物を、有機溶剤に溶かして樹脂組成物溶液を製造できる。
ここで用いられる有機溶剤としては、前記多分岐重合体を溶解し得るものであれば特に限定されるものではないが、アミド系溶剤（例、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、環状エーテル系溶剤（例、テトラヒドロフラン）、ケトン系溶剤（例、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル系溶剤（例、ガンマブチロラクトン）などが好ましい。
【００６９】
光透過性アンダーコート層は、その素材等に応じた慣用の形成方法によって形成させることができる。例えば、光透過性アンダーコート層が、酸化ケイ素を含有する層である場合、湿式法又は湿式法によって形成させることができる。
湿式法としては、例えば、ゾル−ゲル法、並びに微粒子分散液、又はコロイド溶液を隣接層の表面に塗布する方法等が挙げられる。
乾式法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法により隣接層の表面に積層する方法等が挙げられる。
【００７０】
光透過性導電層は、慣用の光透過性導電層形成方法、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、又はパルスレーザーデポジション法等によって隣接層の表面に形成させることができる。
【００７１】
静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルム、及び必要に応じて、静電容量型タッチパネルに通常用いられるその他の部材を含有する。
【００７２】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成としては、例えば、
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム
（３）ガラス
が、この順に配置されている構成が挙げられる。
本発明の静電容量型タッチパネルは、従来の静電容量型タッチパネルの製造方法と同様の方法で製造することができる。
【実施例】
【００７３】
以下に本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００７４】
光透過性導電性フィルムの製造
以下のように、実施例１〜５及び比較例１〜２の光透過性導電性フィルムを製造した。
【００７５】
実施例１
光透過性支持層（Ａ）として、ＰＥＴフィルムを用いた。
トリアジン骨格を有するハイパーブランチポリマーの溶液日産化学製ＵＲ−101をグラビアロールコーターでＰＥＴフィルム上に塗布し、メタルハライドランプで紫外線を照射することで硬化して、高屈折率層（Ｂ）を得た。
ＤＣスパッタを用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物（ＩＴＯ）を高屈折率層（Ｂ）上に積層して、光透過性導電層（Ｃ）を得た。具体的には次のように行った。ＳｎＯ２  ７重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス９５％、及び酸素ガス５％の混合ガスを導入し真空度１０−４ＰａでＩＴＯ薄膜を積層した。これを１５０℃で１時間熱処理した。このようにして得られた光透過性フィルムの性能を表１に示す。
表面抵抗は、表面抵抗計（ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ 社製、商品名：Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ）を用いて、４端子法により測定した。膜厚は、大塚電子ＦＥ３０００で計測した。全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定した。
これから理解されるように、当該光透過性導電性フィルムは、図１に示す態様の構成を有する。
【００７６】
実施例２
光透過性支持層（Ａ）として、ＰＥＴフィルムを用いた。
下記化合物
【化４】
2014091277.tif 000006
のシクロヘキサン７０重量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）３０重量部の混合溶媒に、メチルメタクリレート８重量部、多官能アクリレート１２重量部を添加し溶解し溶液を作製した。
この溶液より実施例１と同様に高屈折率層（Ｂ）を得た。
さらに実施例１と同様にＤＣスパッタを用いて、光透過性導電層（Ｃ）であるＩＴＯ層を作製した。
これから理解されるように、当該光透過性導電性フィルムは、図１に示す態様の構成を有する。
【００７７】
実施例３
実施例１と同様に作製した高屈折率層上にゾル−ゲル法により光透過性支持層としてＳｉＯ２層を積層した。メテトラエトキシシランをイソプロピルアルコール中で加水分解し塗布溶液を作製した。これを塗布、乾燥、及び熱処理してＳｉＯ２層とした。さらにその上に実施例１と同様にＤＣスパッタを用いてＩＴＯ層を作製した。
これから理解されるように、当該光透過性導電性フィルムは、図３に示す態様の構成を有する。
【００７８】
実施例４
実施例１と同様に高屈折率層を設けたＰＥＴフィルムをロールツーロールで連続的に処理可能な複数のカソードを装備したスパッタ装置にセットし、上記ＰＥＴフィルムを走行させながら、Ｓｉターゲットをカソードに設置し酸素を導入した反応性スパッタにより連続的にＳｉＯ２層、及びＩＴＯターゲットによりＩＴＯ層を順次積層した。
これから理解されるように、当該光透過性導電性フィルムは、図３に示す態様の構成を有する。
【００７９】
実施例５
実施例１同様の処理をＰＥＴフィルムの両面に行った。
これから理解されるように、当該光透過性導電性フィルムは、図２に示す態様の構成を有する。
【００８０】
比較例１
光透過性支持層として、ＰＥＴフィルムを用いた。メチルメタクリレート、多官能アクリレート、及びジルコニアコロイドをＭＥＫ溶媒に混合分散し、液体である紫外線硬化性ハードコート剤を調製した。グラビアロールコーターで塗布し、メタルハライドランプで紫外線を照射することで硬化して、高屈折率層を積層した。これに実施例１と同様にしてＩＴＯ薄膜を作製した。
これから理解されるように、当該光透過性導電性フィルムは、図１に示す態様の構成を有する。
【００８１】
比較例２
比較例１の液体にジルコニアコロイドを加えなかったこと以外は比較例１の同様にして作製した。
これから理解されるように、当該光透過性導電性フィルムは、図１に示す態様の構成を有する。
【００８２】
光透過性導電性フィルムの評価
以下の評価方法により、実施例１〜５及び比較例１〜２の光透過性導電性フィルムを評価した。結果を表１に示す。
【００８３】
評価方法
（１）光透過性導電層（ＩＴＯ層）の表面粗さＲａ
光透過性導電層の平均表面粗さは、次のようにして測定した。走査型プローブ顕微鏡（島津製作所社、ＳＰＭ−９７００）を用いて、コンタクトモードで１μｍ平方の測定面を探針で走査して得られた平均線からの絶対偏差を平均した値を求めた。結果を表１に示す。
【００８４】
（２）光透過性導電層（ＩＴＯ層）の厚さ
膜厚は、大塚電子ＦＥ３０００で計測した。
【００８５】
（３）表面抵抗
表面抵抗は、ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製の表面抵抗計（商品名：Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ）を用いて、４探針法により測定した。
【００８６】
（４）光透過性導電性フィルムの全光線透過率
全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に記載の方法に基づいて測定した。
【００８７】
【表１】
2014091277.tif 000007
【００８８】
この表１の通り、本発明の光透過性導電性フィルムは、高い光透過率とともに、低い表面抵抗率（Ω／□）を有することが確認された。
【符号の説明】
【００８９】
１      光透過性支持層
２      高屈折率層
３      光透過性導電層
４      光透過性アンダーコート層
【図１】
2014091277.tif 000008
【図２】
2014091277.tif 000009
【図３】
2014091277.tif 000010