(57)【要約】【課題】真空チャンバ，予備排気室を有する真空処理システムの真空チャンバ機構において、予備排気室の圧力変化に伴う試料画像のシフト量を低減する。【解決手段】真空チャンバ筐体１０，予備排気室筐体２０それぞれの試料搬送口１８，２８が開口した接合面には、Ｏリング１６を介在配置して真空を維持している。このＯリング１６が介在配置される真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆと予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆとの間に、接合隙間部１４を設ける。【選択図】図３
2014026881.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
常時真空状態の真空チャンバを含み、該真空チャンバに連通する開口を有する真空チャンバ筐体と、
真空状態又は大気状態にすることが可能な圧力変化チャンバを含み、該圧力変化チャンバに連通する開口を有する圧力変化チャンバ筐体とを、
前記真空チャンバ筐体の開口が配置された筐体面と前記圧力変化チャンバ筐体の開口が配置された筐体面とを対向させ、前記真空チャンバ筐体の開口と前記圧力変化チャンバ筐体の開口とを連通させて、外部に対して気密に取り付けて構成された真空チャンバ機構であって、
前記真空チャンバ筐体又は前記圧力変化チャンバの中の少なくとも一方の前記筐体面には、取り付け相手側の前記筐体面と取り付け時には当接してしない、外部に対して気密に閉塞された隙間部が形成されている
ことを特徴とする真空チャンバ機構。
【請求項２】
前記隙間部は、前記真空チャンバ筐体又は前記圧力変化チャンバの中の少なくとも一方の前記筐体面に形成した凹部によって形成されている
ことを特徴とする請求項１記載の真空チャンバ機構。
【請求項３】
前記隙間部は、前記真空チャンバ筐体の前記筐体面と前記圧力変化チャンバ筐体の前記筐体面との取り付けに当たって、両者間に介在させてスペーサ部材によって形成されている
ことを特徴とする請求項１記載の真空チャンバ機構。
【請求項４】
前記真空チャンバ筐体と前記圧力変化チャンバ筐体とは、前記真空チャンバの幅寸法と前記圧力変化チャンバの幅寸法との違いに係わらず、前記真空チャンバ筐体の前記筐体面の幅寸法と前記圧力変化チャンバ筐体の前記筐体面の幅寸法とは略同寸法に形成され、
前記真空チャンバ筐体と前記圧力変化チャンバ筐体とは、当該略同寸法に形成された前記真空チャンバ筐体及び前記圧力変化チャンバ筐体それぞれの前記筐体面の幅方向の両端側部分を締結して取り付けてなる
ことを特徴とする請求項１記載の真空チャンバ機構。
【請求項５】
前記締結位置は、前記真空チャンバ筐体の前記筐体面側から眺めて、前記真空チャンバ筐体の奥行方向に延びる一対の壁部の厚さ部分に重なっている
ことを特徴とする請求項４記載の真空チャンバ機構。
【請求項６】
前記圧力変化チャンバ筐体の前記筐体面は、フランジ部を含んで形成され、該フランジ部を除いた前記圧力変化チャンバ筐体部分の幅寸法は、前記隙間部の幅寸法以下である
ことを特徴とする請求項４記載の真空チャンバ機構。
【請求項７】
前記真空チャンバ筐体は、前記筐体面を形成する筐体壁部を含み、上面が開口した筐体本体と、該筐体本体の開口上端面に締結されて前記筐体本体の上面開口を閉塞して前記真空チャンバを画成する蓋体とによって構成され、
前記筐体本体の前記筐体壁部の上面開口端の、前記隙間部の幅方向長さに対応する部分には、前記蓋体の締結部が配置されていない
ことを特徴とする請求項１記載の真空チャンバ機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空状態と大気状態とを制御可能な予備排気室と、真空を常時保持する真空チャンバとを有する真空処理システムの真空チャンバ機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子顕微鏡や電子ビーム描画装置等の荷電粒子ビーム装置、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置や蒸着装置等の成膜装置は、試料を観察、測定したり、試料に蒸着、パターン描画を行ったりするために、高真空状態を必要とする。そのため、これら装置（以下では、成膜装置も含め、荷電粒子ビーム装置と総称する）には、真空処理システムが設けられている。ここで、この荷電粒子ビーム装置に設けられた真空処理システム及びその真空チャンバ機構について、電子顕微鏡に設けられた真空処理システムを例に、図１０に基づいて説明する。
【０００３】
図１０は、電子顕微鏡に適用され、高真空状態を作り出す真空処理システム及びその真空チャンバ機構の概略構成図である。
真空チャンバ機構は、常時真空状態の真空チャンバ１１を内部に形成する真空チャンバ筐体１０と、真空状態と大気状態とで状態制御可能な予備排気室（圧力変化チャンバ）２１を内部に形成する予備排気室筐体（圧力変化チャンバ筐体）２０とを備えた構成になっている。
【０００４】
両筐体１０，２０は、互いの一側面同士が接続固定され、この接続固定されるそれぞれの一側面には、真空チャンバ１１と予備排気室２１との間で試料を搬送するための試料搬送口１８，２８が、接続固定状態で、互いに対向するように開口形成されている。
【０００５】
真空チャンバ筐体１０は、筐体本体１０Ａの上面開口を施蓋密閉した構造になっており、その蓋体１０Ｂには、電子顕微鏡の鏡体４０が取付固定される。鏡体４０は、試料に電子線を照射するための電子銃や、試料への電子線の照射によって得られた２次電子を検出する２次電子検出器等の、電子顕微鏡の電子光学系を収容している。そのため、蓋体１０Ｂには、電子線及び２次電子を通過させるための開口部が鏡体４０との接合部分に形成されている。
【０００６】
真空チャンバ筐体１０内には、電子線を照射する試料を電子光学系の光軸と垂直な面内で移動して、試料面上の観察場所を移動させるための試料ステージ３１が設けられている。試料ステージ３１上の試料は、試料が載置されている試料ホルダごと、真空チャンバ１１と予備排気室２１との間で、図示せぬ試料搬送機構により試料搬送口１８，２８を介して搬送可能になっている。そして、真空チャンバ１１は、真空チャンバポンプ３２と連通接続され、真空チャンバポンプ３２の作動制御によって常時高真空を維持されるようになっている。
【０００７】
これに対し、予備排気室筐体２０は、真空チャンバ１１との間で試料を搬入・搬出する試料搬送口２８に加え、外部との間で試料を予備排気室２１に搬入・搬出するための試料搬送口２９も設けられている。予備排気室筐体２０内には、試料搬送口２８を開閉する真空チャンババルブ３３が設けられている。真空チャンババルブ３３は、その開閉に応じて真空チャンバ１１と予備排気室２１との間を連通・遮断し、真空チャンバ１１を予備排気室２１の圧力状態にかかわらず真空状態に維持する。そして、真空チャンババルブ３３の開状態では、試料搬送機構の作動によって、試料が載置されている試料ホルダが試料搬送口１８，２８を通過できるようになっている。また、予備排気室筐体２０には、試料搬送口２９を開閉する予備排気室バルブ３４も設けられている。予備排気室バルブ３４は、その開閉に応じて予備排気室２１を外部に対して開放・閉塞し、予備排気室２１に対して試料を搬入・搬出できるようになっている。そして、予備排気室２１は、予備排気室ポンプ３５及びリークバルブ３６にそれぞれ連通接続され、これら予備排気室ポンプ３５及びリークバルブ３６の作動制御によって、真空チャンバ１１とは独立に、真空状態又は大気と同じ圧力状態に維持されるようになっている。
【０００８】
次に、このような真空処理システムにあって、試料を真空チャンバ１１に配置する流れについて説明しておく。
真空チャンバ１１，予備排気室２１が共に真空状態の場合では、予備排気室２１内にある真空チャンババルブ３３は、真空チャンバ１１との試料搬送口１８を閉塞している。また、予備排気室バルブ３４も予備排気室２１への試料搬送口２９を閉塞している。予備排気室２１の真空度は、予備排気室ポンプ３５の作動によって真空チャンバ１１と同程度の真空状態となる。
【０００９】
装置外部から試料を真空チャンバ１１内に搬送する際は、予備排気室ポンプ３５を停止させた上で、リークバルブ３６の開放によって、リークバルブ３６を介して空気又は窒素といった気体を予備排気室２１に流入し、予備排気室２１内を大気と同じ圧力状態にする。その後、予備排気室バルブ３４を開き、試料が、この開放された試料搬送口２９を介して、装置外部から予備排気室２１に搬送される。
【００１０】
搬送後、予備排気室バルブ３４を閉じ、リークバルブ３６を閉塞した上で、予備排気室ポンプ３５を作動制御することによって、予備排気室２１を大気圧状態から真空状態にする。そして、予備排気室２１の真空度と真空チャンバ１１の真空度が同程度になった後、真空チャンババルブ３３を開き、予備排気室２１にある試料を真空チャンバ１１の試料ステージ３１に搭載する。そして、真空チャンババルブ３３を閉じ、電子光学系による試料の観察、測定が行われる。
【００１１】
以上が、試料を真空チャンバ１１に配置する流れである。また、観察、測定が済んだ試料を真空チャンバ１１から予備排気室２１に搬送したり、また予備排気室２１から外部に搬送する場合も、常時真空状態の真空チャンバ１１や大気圧状態の外部に対して、同様に、予備排気室２１の圧力を調整して行われる。
【００１２】
上述したような、電子顕微鏡をはじめとする真空処理システムを備えた荷電粒子ビーム装置が抱える問題の１つに、試料の観察、或いは測定中において、予備排気室内の圧力が試料の搬入・搬出に伴い変化すると、荷電粒子線源（電子顕微鏡では電子銃が該当）による荷電粒子ビーム（電子線が該当）の照射位置変動が発生し、得られていた試料画像が急激にシフトすることが挙げられる。このシフト量が大きい場合には、装置のモニタ視野から試料画像が外れ、試料を見失うことで工程がストップしてしまう。また、シフト量が小さい場合でも、シフトが発生した際の残像により寸法測定値が本来の試料寸法と大きく異なる結果となる。特に半導体試料を測定する電子顕微鏡の場合には、高速な測定処理が求められるため、真空チャンバで試料の測定中であっても、逐次、測定が済んだ半導体試料が予備排気室から搬出され、次に測定する半導体試料が予備排気室に搬入される。そのため、真空チャンバで試料を測定中に、必ず予備排気室内の圧力が変化することになってしまい、装置性能に影響を与えている。
【００１３】
このような真空処理システムが適用された荷電粒子ビーム装置にあって、試料画像のシフトによる観察、測定等への影響を低減するために用いられている従来技術として、次に述べるような技術がある。
【００１４】
１つ目の従来技術として、予備排気室の圧力が変化する際、真空チャンバでの試料の測定を一時中断する停止制御技術がある。
【００１５】
２つ目の従来技術として、試料画像のシフトに対して電子ビームを追従させることでシフト量を低減する電子ビーム制御技術がある。
【００１６】
３つ目の従来技術として、特許文献１に記載のように、真空チャンバ筐体の筐体本体上面と蓋体との間に垂直方向に複数の摩擦係数の小さいスペーサを挿入し、電子銃が配置された鏡体が取付固定された蓋体と真空チャンバの筐体本体との相対的な移動を低減することで、像シフトの低減を行う技術がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開２００７−２６６５７６公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
しかしながら、１つ目の従来技術としての停止制御技術の場合は、停止に伴う測定待ち時間の発生により、試料の測定処理時間が増加することが問題となる。
【００１９】
また、２つ目の従来技術としての電子ビーム制御技術の場合は、高度な制御技術が必要で、そのための高コスト化が問題となる。
【００２０】
また、３つ目の従来技術としてのスペーサ挿入技術の場合は、水平方向の相対的な移動をスペーサ同士のすべりによって低減するため、樹脂等の低摩擦係数のスペーサを複数重ねる必要がある。樹脂材料の場合、スペーサの高さ方向の寸法管理が極めて難しく、電子銃と試料ステージとの距離、すなわち電子銃と試料との距離に大きな機差（器差）が生じる。この機差は、真空チャンバが大型化する程、その寸法管理が困難となり、機差による分解能劣化、フォーカスのボケといった試料の画質低下につながる。この画質低下を抑えるために高精度で応答性のよい高さ方向のセンサによるフォーカス制御技術、或いは高さ方向にも試料を移動可能な試料ステージ（Ｚステージ）を必要とし、高コストで複雑なシステム構成となる。
【００２１】
本発明は、このような従来技術の問題点を鑑みなされたものであって、荷電粒子ビーム装置に適用される真空処理システムの真空チャンバ機構に係り、複雑な構造や制御技術によらずに、予備排気室内の圧力変化によって生じる試料画像のシフト量の低減をはかった真空処理システムの真空チャンバ機構を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上記課題を達成するために、本発明に係る真空処理システムの真空チャンバ機構は、予備排気室の圧力変化に左右されることなく真空チャンバに作用する外力を常に一定に保つために、真空チャンバ筐体と予備排気室筐体との取付固定部に隙間部を設けて、予備排気室の圧力変化によって生じる予備排気室筐体の変形が真空チャンバに外力として作用しにくい構造としたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係る真空処理システムの真空チャンバ機構を荷電粒子ビーム装置に適用することによって、予備排気室の圧力変動による荷電粒子源からの荷電粒子ビームの照射位置の位置変動に伴う試料画像のシフトを、複雑な構造や制御技術によらずに簡単な構成で、低コストで低減することが可能となる。
上記した以外の、課題、構成及び効果は、以下の実施の形態の説明により明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】電子顕微鏡に適用され、高真空状態を作り出す真空処理システム及びその真空チャンバ機構の一実施の形態についての全体構成図である。
【図２】図１に示した真空チャンバ機構を構成する真空チャンバ筐体と予備排気室筐体との組み付け説明図である。
【図３】図２に示した真空チャンバ機構を構成する真空チャンバ筐体と予備排気室筐体とを、図２中で、III−III矢視方向に眺めた図である。
【図４】図３に示した真空チャンバ筐体を、図３中で、IＶ−IＶ矢視方向に眺めた図である。
【図５】図３に示した予備排気室筐体を、図３中で、Ｖa−Ｖa矢視方向、Ｖb−Ｖb矢視方向にそれぞれ眺めた図である。
【図６】図１０に示した真空チャンバ機構を構成する真空チャンバと予備排気室の変形を示した図である。
【図７】真空チャンバが真空状態における、真空チャンバ筐体の変形と真空チャンバに作用する外力を示す図である。
【図８】真空チャンバ筐体の１つの壁部に予備排気室筐体が複数組み付け固定された真空チャンバ機構の実施例の構成図である。
【図９】真空チャンバ筐体の筐体本体の複数の壁部それぞれに予備排気室筐体がそれぞれ組み付け固定された真空チャンバ機構の実施例の構成図である。
【図１０】電子顕微鏡に適用され、高真空状態を作り出す真空処理システム及びその真空チャンバ機構の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明に係る真空処理システムの真空チャンバ機構の実施の形態について、図面を基に説明する。説明に当たっては、電子顕微鏡に設けられた真空処理システムを例に説明するが、本発明に係る真空処理システムの真空チャンバ機構は、電子顕微鏡に限らず、成膜装置も含めた荷電粒子ビーム装置における真空処理システムに適用可能である。また、説明に当たって、図１０に示した真空処理システム及びその真空チャンバ機構の構成と対応する構成については、同一符号を付し、重複する説明については一部省略する。
【００２６】
図１は、電子顕微鏡に適用され、高真空状態を作り出す真空処理システム及びその真空チャンバ機構の一実施の形態についての全体構成図である。
図１に示すように、真空処理システムは、真空チャンバ１１を内部に形成する真空チャンバ筐体１０と、予備排気室２１を内部に形成する予備排気室筐体２０とを備えた真空チャンバ機構を有する構成になっている。
【００２７】
両筐体１０，２０は、互いの一側面同士が接続固定され、この接続固定されるそれぞれの一側面には、真空チャンバ１１と予備排気室２１との間で試料を搬送するための試料搬送口１８，２８が、互いに対向するように開口形成されている。
【００２８】
真空チャンバ筐体１０は、筐体本体１０Ａの上面開口を施蓋密閉した構造になっており、その蓋体１０Ｂには、電子顕微鏡の鏡体４０が取付固定されている。
【００２９】
真空チャンバ筐体１０内には、試料ステージ３１が設けられ、試料ステージ３１上の試料は、試料が載置されている試料ホルダごと、真空チャンバ１１と予備排気室２１との間で搬送可能になっている。そして、真空チャンバ１１は、真空チャンバポンプ３２と連通接続され、真空チャンバポンプ３２の作動制御によって常時高真空を維持されるようになっている。
【００３０】
これに対し、予備排気室筐体２０は、真空チャンバ１１との間で試料を搬入・搬出する試料搬送口２８に加え、外部との間で試料を予備排気室２１に搬入・搬出するための試料搬送口２９も設けられている。予備排気室筐体２０内には、試料搬送口２８を開閉する真空チャンババルブ３３が設けられている。真空チャンババルブ３３は、その開閉に応じて真空チャンバ１１と予備排気室２１との間を連通・遮断し、真空チャンバ１１を予備排気室２１の圧力状態にかかわらず真空状態に維持する。また、予備排気室筐体２０には、試料搬送口２９を開閉する予備排気室バルブ３４も設けられている。予備排気室バルブ３４は、その開閉に応じて予備排気室２１を外部に対して開放・閉塞し、予備排気室２１に対して試料を搬入・搬出できるようになっている。そして、予備排気室２１は、予備排気室ポンプ３５及びリークバルブ３６にそれぞれ連通接続され、これら予備排気室ポンプ３５及びリークバルブ３６の作動制御によって、真空チャンバ１１とは独立に、真空状態又は大気と同じ圧力状態に維持されるようになっている。
【００３１】
このように、真空処理システムは、真空チャンバ筐体１０と予備排気室筐体２０とを一体的に接続固定して構成された真空チャンバ機構に、電子光学系を収容する鏡体４０が取付固定され、真空チャンバ１１の圧力を真空状態に維持する真空チャンバポンプ３２や、予備排気室２１の圧力を真空状態又は大気圧状態に維持する予備排気室ポンプ３５及びリークバルブ３６等の機器が設けられて構成されている。
【００３２】
次に、図１に示した真空チャンバ機構を構成する真空チャンバ筐体１０及び予備排気室筐体２０それぞれのより具体的な構成について、図２〜図５に基づいて説明する。
【００３３】
図２は、図１に示した真空チャンバ機構を構成する真空チャンバ筐体と予備排気室筐体との組み付け説明図である。
図３は、図２に示した真空チャンバ機構を構成する真空チャンバ筐体と予備排気室筐体とを、図２中で、III−III矢視方向に眺めた図である。
【００３４】
図４は、図３に示した真空チャンバ筐体を、図３中で、IＶ−IＶ矢視方向に眺めた図である。
図５は、図３に示した予備排気室筐体を、図３中で、Ｖa−Ｖa矢視方向、Ｖb−Ｖb矢視方向にそれぞれ眺めた図である。
【００３５】
なお、図２〜図５では、真空チャンバ筐体１０内に設けられた試料ステージ３１や、予備排気室筐体２０内に設けられた真空チャンババルブ３３等の機器については、図示省略してある。
【００３６】
図２及び図３に示すように、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａは、本体底部壁１０ｂと、予備排気室筐体２０との接続固定面側の本体正面壁部１０ｆ，本体正面壁部１０ｆに本体底部壁１０ｂを挟んで対向する本体背面壁部１０ｒ，本体正面壁部１０ｆと本体背面壁部１０ｒとの間を接続する一対の本体側面壁部１０ｓｒ，１０ｓｌからなる側面壁部１０ｓとを備えている。これら各壁部によって画成された略直方体形状の空間部は、その上面開口が本体上部壁１０ｔを構成する蓋体１０Ｂによって施蓋密閉されて、真空チャンバ１１を形成する。蓋体１０Ｂは、筐体本体１０Ａの上面開口端に、ガスケットやＯリング等のシール部材１３を介して接合面の気密性をはかって、ネジ５１で締結される。予備排気室筐体２０との接続固定面になる本体正面壁部１０ｆには、本体正面壁部１０ｆを貫通する試料搬送口１８が形成されている。
【００３７】
そのため、真空チャンバ１１の奥行寸法は、本体正面壁部１０ｆの内壁面と本体背面壁部１０ｒの内壁面との間の距離で規定され、真空チャンバ１１の幅寸法は、一対の本体側面壁部１０ｓｒ，１０ｓｌの内壁面間の距離で規定され、真空チャンバ１１の高さ寸法は、蓋体１０Ｂの内壁面から本体底部壁１０ｂの内壁面までの距離で規定される。
【００３８】
また、図示の例では、試料搬送口１８は、その搬送方向に垂直な断面の幅が真空チャンバ１１の幅寸法以下で、その幅方向の中心位置が真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆの幅方向中心位置と一致するようになっている。また、試料搬送口１８は、その搬送方向に垂直な断面の高さ方向寸法が、真空チャンバ１１の高さ寸法よりも小さくなっており、真空チャンバ筐体１０における真空チャンバ１１の高さ寸法範囲内に収まるようになっている。試料搬送口１８は、試料が載置されている試料ホルダごと、試料が通過可能な大きさを有する。
【００３９】
これに対し、予備排気室筐体２０は、本体底部壁２０ｂと、本体上部壁２０ｔと、真空チャンバ筐体１０との接続固定面側の本体正面壁部２０ｆ，本体正面壁部２０ｆに本体底部壁２０ｂを挟んで対向する本体背面壁部２０ｒ，本体正面壁部２０ｆと本体背面壁部２０ｒとの間を接続する一対の本体側面壁部２０ｓｒ，２０ｓｌからなる側面部２０sとを備えている。これら各壁部によって画成された略直方体形状の空間部は、予備排気室２１を形成する。真空チャンバ筐体１０との接続固定面になる本体正面壁部２０ｆ、及び図示の例では、この本体正面壁部２０ｆと対向する本体背面壁部２０ｒに、それぞれの壁部２０ｆ，２０ｒを貫通する試料搬送口２８，２９が形成されている。
【００４０】
そのため、予備排気室２１の奥行寸法は、本体正面壁部２０ｆの内壁面と本体背面壁部２０ｒの内壁面との間の距離で規定され、予備排気室２１の幅寸法は、一対の本体側面壁部２０ｓｒ，２０ｓｌの内壁面間の距離で規定され、予備排気室２１の高さ寸法は、本体底部壁２０ｂの内壁面と本体上部壁２０ｔの内壁面との間の距離で規定される。
【００４１】
また、図示の例では、試料搬送口２８は、その搬送方向に垂直な断面の幅が予備排気室筐体２０の幅寸法以下で、その幅方向の中心位置が予備排気室２１の本体正面壁部１０ｆの幅方向中心位置と一致するようになっている。また、試料搬送口２８は、その搬送方向に垂直な断面の高さ方向寸法が、予備排気室筐体２０の予備排気室２１の高さ寸法よりも小さくなっており、予備排気室２１の高さ寸法範囲内に収まるようになっている。試料搬送口２８，２９は、試料が載置されている試料ホルダごと、試料が通過可能な大きさを有する。
【００４２】
加えて、図示の例では、予備排気室筐体２０は、真空チャンバ筐体１０との接続固定面になる本体正面壁部２０ｆ側の、一対の本体側面壁部２０ｓｒ，２０ｓｌ及び本体底部壁２０ｂの各端部の外面からは、本体正面壁部２０ｆとともに真空チャンバ筐体１０との接続固定面を一体的に形成するフランジ部２０Ｃが形成されている。
【００４３】
図示の例では、フランジ部２０Ｃを含めた予備排気室筐体２０の幅Ｄ２０は、真空チャンバ筐体１０の幅寸法Ｄ１０と略等しくなっており（Ｄ２０≒Ｄ１０）、その両側に位置する各フランジ部分の幅Ｄｆは、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａの本体側面壁部１０ｓｒ，１０ｓｌそれぞれの壁厚Ｄｓと略等しいか、それ以上になっている（Ｄｓ≦Ｄｆ）。また、フランジ部２０Ｃを除いた予備排気室筐体２０の幅Ｄ２０’は、真空チャンバ筐体１０における真空チャンバ１１の幅寸法Ｄ１１と略等しいか、それ以下になっている（Ｄ２０’≦Ｄ１１）。
【００４４】
その上で、予備排気室筐体２０との接続固定面になる真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆと、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａとの接続固定面になる予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆとは、前述した試料搬送口１８と試料搬送口２８とを対向させて一体的に組み付け固定される。
【００４５】
この予備排気室筐体２０と真空チャンバ筐体１０との組み付け固定に当たり、本実施の形態に係る真空チャンバ機構では、予備排気室２１の圧力変動による荷電粒子源からの荷電粒子ビームの照射位置の位置変動に伴う試料画像のシフトを低減するために、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆと接合される、真空チャンバ筐体１０における筐体本体１０Ａの本体正面壁部１０ｆには、試料搬送口１８の予備排気室側開口を内方に含み、接合方向である奥行方向に凹んだ接合隙間部１４が形成されている。
【００４６】
接合隙間部１４は、その幅方向寸法Ｄ１４が、試料搬送口１８の幅方向寸法よりも大きく、予備排気室筐体２０の予備排気室２１の幅方向寸法Ｄ２１の大きさ以上で、フランジ部２０Ｃを除いた予備排気室筐体２０の幅方向寸法Ｄ２０’、若しくは真空チャンバ筐体１０における真空チャンバ１１の幅寸法Ｄ１１と略等しいか、それ以上になっている（Ｄ１４≧Ｄ１１）。
【００４７】
接合隙間部１４は、その高さ方向寸法Ｈ１４が、試料搬送口１８の高さ方向寸法よりも大きく、予備排気室筐体２０の予備排気室２１の高さ方向寸法Ｈ２１と略等しいか、それ以上になっている（Ｈ１４≧Ｈ２１）。
【００４８】
その上で、筐体本体１０Ａの本体正面壁部１０ｆには、接合隙間部１４の周りに、フランジ部２０Ｃを含む予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆと組み付け時に当接可能な環状縁部面１５が、図４において薄墨部で示したように接合隙間部１４を取り囲むように形成されるようになっている。この場合、本体正面壁部２０ｆの幅方向に係り、接合隙間部１４の幅方向両側にそれぞれ形成される環状縁部面１５の幅寸法Ｄ１５は、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａの本体側面壁部２０ｓｒ，２０ｓｌそれぞれの壁厚Ｄｓと略等しいか、それ以下になっている（Ｄ１５≦Ｄｓ）。
【００４９】
そして、環状縁部面１５には、予備排気室筐体２０と真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａとがネジ５１で締結されて一体的に組み付け固定された状態で、その接合面の気密性をはかって、接合隙間部１４及び試料搬送口１８，２８内の雰囲気を外部雰囲気に対して隔絶するため、シール部材として、例えばＯリング１６が設けられている。Ｏリング１６は、環状縁部面１５に形成された取付溝１７に保持され、接合隙間部１４と外部雰囲気との圧力差によって縮径されて接合隙間部１４及び試料搬送口１８，２８内に引き込まれないようになっている。
【００５０】
これにより、予備排気室筐体２０と真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａとがネジ５１で締結されて一体的に組み付け固定された状態では、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆにおける、図５（ｂ）において薄墨部で示した、試料搬送口２８を含む中央部側部分２０ｆｃは、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける、本体正面壁部１０ｆに形成された接合隙間部１４と対向するようになる。これにより、真空チャンバ筐体１０や予備排気室筐体２０が膨縮によって変形していない状態では、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆにおける中央部側部分２０ｆｃは、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける本体正面壁部１０ｆとの間に、接合隙間部１４による隙間距離Ｄｄ分の空間が形成されることになる。
【００５１】
この接合隙間部１４によって形成される隙間距離Ｄｄ、すなわち接合隙間部１４の隙間深さＤｄとしては、予備排気室筐体２０及び真空チャンバ筐体１０の材質等によって変化するが、概ね０.３ｍｍ程度である。
【００５２】
また、図示の例では、真空チャンバ筐体１０の、蓋体１０Ｂと筐体本体１０Ａとを締結するためのネジ孔５２は、本体正面壁部１０ｆにおける、接合隙間部１４が形成された部分の開口側上端には設けられていない。すなわち、蓋体１０Ｂと筐体本体１０Ａとの締結位置は、一対の本体側面壁部１０ｓｒ，１０ｓｌ及び本体背面壁部１０ｒの開口側上端に配置するようにしている。
【００５３】
また、図示の例では、真空チャンバ筐体１０と予備排気室筐体２０とを締結するためのネジ孔は、予備排気室筐体２０の幅方向に係り、フランジ部２０Ｃを除いた予備排気室筐体２０の幅Ｄ２０’に該当する部分には設けられていない。すなわち、真空チャンバ筐体１０と予備排気室筐体２０との締結位置は、それぞれの幅方向に係り、接合隙間部１４両側の本体側面壁部１０ｓｒ，１０ｓｌそれぞれの壁厚Ｄｓに該当する部分と、予備排気室筐体２０の幅方向に突出したフランジ部２０Ｃとに配置するようにしている。
【００５４】
次に、この接合隙間部１４と、ネジ５１及びネジ孔５２の配置とによって、予備排気室２１内の圧力変動による試料の像シフトが低減できる理由を、以下に説明する。
【００５５】
図６は、図１０に示した真空チャンバ機構を構成する真空チャンバと予備排気室の変形を示した図である。
図６（ａ）は、真空チャンバと予備排気室が共に真空状態での変形状態を示した図である。
図６（ｂ）は、真空チャンバが真空状態で、予備排気室が大気状態での変形状態を示した図である。
【００５６】
従来の考え方では、真空チャンバ１１と予備排気室２１が共に真空状態になると、大気圧が真空チャンバ機構の全ての外壁面に加わるため、真空チャンバ筐体１０の本体背面壁部１０ｒ，一対の側面壁部１０ｓ（１０ｓｒ，１０ｓｌ）、及び予備排気室筐体２０の本体背面壁部２０ｒ，一対の側面壁部２０ｓ（２０ｓｒ，２０ｓｌ）は、それぞれ凹形状になると考えられていた。
【００５７】
しかしながら、本願発明者は、詳細なモデルによる構造解析の結果、鏡体４０が筐体上面に搭載された真空チャンバ筐体１０については、真空チャンバ１１が真空状態になると、図６（ａ），（ｂ）に示すように、真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆ，本体背面壁部１０ｒ，一対の側面壁部１０ｓ（１０ｓｒ，１０ｓｌ）が、真空チャンバ１１の真空状態と鏡体４０の重量とが相まって、凹形状ではなく、凸形状となることが分かった。
【００５８】
これに対し、予備排気室筐体２０については、予備排気室２１が真空状態になると、図６（ａ）に示すように、その本体正面壁部２０ｆ，本体背面壁部２０ｒ，一対の側面壁部２０ｓ（２０ｓｒ，２０ｓｌ）は、大気圧によって凹形状となる。
【００５９】
そのため、予備排気室筐体２０が、予備排気室２１の真空状態から大気圧状態への圧力変化によって、その本体正面壁部２０ｆ，本体背面壁部２０ｒ，一対の側面壁部２０ｓ（２０ｓｒ，２０ｓｌ）の形状が、図６（ｂ）に示すように変化するのに対して、真空チャンバ１１が常時真空状態に保たれている真空チャンバ筐体１０は、その本体正面壁部１０ｆ，本体背面壁部１０ｒ，一対の側面壁部１０ｓ（１０ｓｒ，１０ｓｌ）が常に凸形状である。この結果、真空チャンバ筐体１０のこれら壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌには、予備排気室２１の真空状態から大気圧状態への圧力変化により、予備排気室筐体２０との接続固定面になる真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆと、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａとの接続固定面になる予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆとの接触状態が変化し、予備排気室筐体２０が真空チャンバ筐体１０に対して及ぼす外力も変化する。
【００６０】
これにより、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａを構成する本体正面壁部１０ｆ，本体背面壁部１０ｒ，一対の側面壁部１０ｓ（１０ｓｒ，１０ｓｌ）それぞれの開口側上端とネジで固定される、鏡体４０が搭載された真空チャンバ筐体１０の蓋体１０Ｂに加わる外力も、真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆと予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆとの接触状態の変化を受けて変化するため、真空チャンバ１１に対する鏡体４０の相対位置が変化してしまう。
【００６１】
以上が、予備排気室２１の圧力変化に伴い、真空チャンバ１１に対する鏡体４０の相対位置が変化し、荷電粒子線源（電子顕微鏡では電子銃が該当）による荷電粒子ビーム（電子線が該当）の照射位置をシフト変化させてしまうメカニズムであるとの知見を得た。
【００６２】
次に、図７を用いて、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａを構成する本体正面壁部１０ｆ，本体背面壁部１０ｒ，一対の側面壁部１０ｓ（１０ｓｒ，１０ｓｌ）が、真空チャンバ１１の真空状態で真空チャンバ１１の真空状態と鏡体４０の重量とが相まって、凹形状ではなく、凸形状となる理由について説明する。
【００６３】
図７は、真空チャンバが真空状態における、真空チャンバ筐体の変形と真空チャンバに作用する外力を示す図である。
真空チャンバ筐体１０の蓋体１０Ｂには、大気圧７１と鏡体４０の重力（重量）７２とが加わり、筐体本体１０Ａを構成する本体正面壁部１０ｆ，本体背面壁部１０ｒ，一対の側面壁部１０ｓ（１０ｓｒ，１０ｓｌ）には、さらに蓋体１０Ｂの重力（重量）７３が加わり、蓋体１０Ｂが凹状態に撓むため、筐体本体１０Ａのこれら壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌには、２つの外力が作用することになる。
【００６４】
１つは、蓋体１０Ｂに作用する大気圧７１及び鏡体４０の重力（重量）７２と蓋体１０Ｂの重力（重量）７３とによる、筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌを大気側に押しつける力７４であり、蓋体１０Ｂを筐体本体１０Ａに対して固定するネジ５１を介して、筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌそれぞれを凸状態に変形させる方向に力を加える曲げモーメント７５である。
【００６５】
さらに、この２つの外力７４，７５以外にも、筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌには、これら壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌを凹状態に変形させる方向に大気圧による力７６が加わる。
【００６６】
すなわち、筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌには、壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌに対しての変形方向が異なる力７３，７４，７５と力７６が複数作用するため、条件によって壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌの変形状態が異なる。具体的には、荷電粒子源を収容した鏡体４０の重量が重く、さらに蓋体１０Ｂが大きい場合には、筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌを大気圧による力７６に抗して凸状態に変形させる力７３，７４，７５が支配的となる。反対に、鏡体４０の重量が軽く、蓋体１０Ｂが小さい場合には、筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌを力７３，７４，７５に抗して凹状態に変形させる大気圧による力７６が支配的となる。
【００６７】
そこで、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌが真空チャンバ１１の真空状態で凹状態になるような、鏡体４０の重量や、真空チャンバ筐体１０のサイズが設計可能であれば、予備排気室２１の圧力が真空状態から大気状態へ変化して、予備排気室筐体２０の壁部２０ｆ，２０ｒ，２０ｓｒ，２０ｓｌの形状が凸状態に変化しても、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌと、予備排気室筐体２０の壁部２０ｆ，２０ｒ，２０ｓｒ，２０ｓｌとは、常に接触しないで済む。
【００６８】
すなわち、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌに作用する外力７３，７４，７５，７６には変化がないため、試料画像のシフトも発生しない。しかし、実際には、試料の大型化により真空チャンバ１１のサイズは大きくなり、荷電粒子源である電子銃の高性能化により鏡体４０の重量は増加するため、真空チャンバ１１の真空状態では、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌは、真空状態での形状が凸形状となることが多い。
【００６９】
したがって、予備排気室２１の圧力状態にかかわらず、鏡体４０の位置変動による、荷電粒子源からの荷電粒子ビームの照射位置の位置変動に伴う試料画像のシフトが生じないようにするためには、真空状態で凸形状となっている筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌに対して及ぼされている外力が、外力７３，７４，７５，７６で常に外力が一定の状態を保つこと、すなわち、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａの壁部１０ｆ，１０ｒ，１０ｓｒ，１０ｓｌと、予備排気室筐体２０の壁部２０ｆ，２０ｒ，２０ｓｒ，２０ｓｌとの接触状態が、予備排気室筐体２０の壁部２０ｆ，２０ｒ，２０ｓｒ，２０ｓｌの形状の変化にもかかわらず、常に一定となっていることが重要である。
【００７０】
そこで、図１〜図５に基づき説明した真空処理システムの真空チャンバ機構では、予備排気室筐体２０と真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａとがネジ５１で締結されて一体的に組み付け固定された状態で、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆにおける、図５（ｂ）において薄墨部で示した、試料搬送口２８を含む中央部側部分２０ｆｃは、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける、本体正面壁部１０ｆに形成された接合隙間部１４と対向する構成とした。これにより、真空チャンバ筐体１０や予備排気室筐体２０が膨縮によって変形していない状態で、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆにおける中央部側部分２０ｆｃは、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける本体正面壁部１０ｆとの間に、接合隙間部１４による隙間距離Ｄｄ分の空間が形成される。
【００７１】
また、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける本体正面壁部１０ｆにおいて、筐体本体１０Ａの本体側面壁部１０ｓｒ，１０ｓｌそれぞれの壁厚Ｄｓ部分に該当する、本体正面壁部１０ｆの幅方向両側の部分は、筐体本体１０Ａの角部を形成し、剛性が高く、筐体本体１０Ａの変形が非常に小さい部分である。そこで、図５，図６に示すように、筐体本体１０Ａの本体正面壁部１０ｆの幅方向両側の部分、及び筐体本体１０Ａのこの部分に対向させるように予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆに形成したフランジ部２０Ｃに、それぞれネジ孔５２を配置して、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａと予備排気室筐体２０との締結位置とした。
【００７２】
本実施の形態に係る真空チャンバ機構では、このような接合隙間部１４を有した、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａと予備排気室筐体２０との締結構成を採用することによって、予備排気室筐体２０が予備排気室２１の圧力変化に伴って図６（ａ），（ｂ）に示すように変形しても、図５（ｂ）において薄墨部で示した、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆの試料搬送口２８を含む中央部側部分２０ｆｃは、図４において薄墨部で示した、真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆの、試料搬送口１８を含む中央部側部分に形成した接合隙間部１４と対向している。これにより、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆにおいて変形が顕著な中央部側部分２０ｆｃが、接合隙間部１４と対向しているので、その隙間距離Ｄｄ分だけ、予備排気室２１の圧力変化に伴って、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆの中央部側部分２０ｆｃが真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆと当接しにくくなる。
【００７３】
また、筐体本体１０Ａの本体正面壁部１０ｆにおける接合隙間部１４の周りの、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆと組み付け時に当接可能な環状縁部面１５には、シール部材であるＯリング１６が接合隙間部１４を取り囲むように配置されている。これにより、予備排気室２１の圧力変化に伴う予備排気室筐体２０の変形に対し、この環状縁部面１５において、シール部材であるＯリング１６が緩衝材の役割も果たすため、変形した予備排気室筐体２０から筐体本体１０Ａに対して作用する外力も低減されることになる。
【００７４】
このようにして、本実施の形態に係る真空チャンバ機構では、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａには、前述した真空チャンバ１１が真空状態になっている状況では変化がない外力７３，７４，７５，７６以外の外力が、筐体本体１０Ａを含む真空チャンバ筐体１０に作用するのを低減できる構成としたから、試料画像のシフトを安価に低減することが可能となる。
【００７５】
また、接合隙間部１４を、予備排気室筐体２０との接続固定面になる筐体本体１０Ａの本体正面壁部１０ｆに設けると同時に、真空チャンバ１１が真空状態にあるとき、筐体本体１０Ａの本体正面壁部１０ｆを凸形状にする原因になっている外力７３，７４，７５，７６の中の曲げモーメント７５を低減するために、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける、接合隙間部１４が形成された本体正面壁部１０ｆの開口側上端には、幅方向両端側の筐体本体１０Ａの角部を除き、蓋体１０Ｂを固定するためのネジ孔５２は配置されておらず、蓋体１０Ｂの締結位置になっていない。図示の例では、真空チャンバ筐体１０の、蓋体１０Ｂと筐体本体１０Ａとを締結するためのネジ孔５２、すなわち、蓋体１０Ｂと筐体本体１０Ａとの締結位置は、一対の本体側面壁部２０ｓｒ，２０ｓｌ及び本体背面壁部２０ｒの開口側上端に配置するようにし、さらに、その中でも、剛性が高く、筐体本体１０Ａの変形が非常に小さい部分である筐体本体１０Ａの角部になるべき配置するようにしている。これにより、真空チャンバ１１が真空状態にあるときの、本体正面壁部１０ｆに係る凸形状の変形を、ネジ５１を介して作用する曲げモーメント７５が低減する分だけ、抑えることができる。この結果、上述した接合隙間部１４と相まって、真空チャンバ１１が真空状態になっている状況では変化がない外力７３，７４，７５，７６以外の外力、具体的には、予備排気室２１の圧力変化に伴う予備排気室筐体２０の変形に起因する外力が、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａに作用するのを低減することができる。
【００７６】
この点からは、図示の例では、蓋体１０Ｂと筐体本体１０Ａとをネジ５１を使用して締結する構成として説明したが、この曲げモーメント７５だけについては、可能であるならば、ネジ５１を使用せず、鏡体４０が搭載された蓋体１０Ｂの重量のみで真空チャンバ１１を真空封止する等、ネジ５１を使用しない接合、固定構成としてもよい。
【００７７】
以上のように、本実施の形態に係る真空処理システムの真空チャンバ機構は構成されるが、その具体的な構成については種々の変形例が可能である。
【００７８】
例えば、上述した実施の形態では、予備排気室２１の圧力変化に伴う予備排気室筐体２０の変形に起因する外力が真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａに作用するのを低減するため、接合隙間部１４を真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける本体正面壁部１０ｆに形成する構成としたが、接合隙間部１４は、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆに形成しても、また、真空チャンバ筐体１０及び予備排気室筐体２０両方の本体正面壁部１０ｆ，２０ｆそれぞれに形成してもよい。
【００７９】
さらに、接合隙間部１４についても、上述した実施の形態では、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける本体正面壁部１０ｆに凹部を直接的に形成する構成として説明したが、本体正面壁部１０ｆは凹部が形成されていない平坦面とし、環状の剛性部材からなるスペーサ部材を挟持して、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける本体正面壁部１０ｆと、予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆとを組み付け固定することよって、環状スペーサ部材の孔を用いて凹部を間接的に形成し、接合隙間部１４とするようにしてもよい。
【００８０】
また、予備排気室筐体２０と真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａとの接合面の気密性をはかるために設けられたシール部材としてのＯリング１６によって、予備排気室２１の圧力変化に伴う予備排気室筐体２０の変形に起因する外力が真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａに作用するのを緩衝するように構成したが、Ｏリング１６に限らず、ガスケット等といった弾性を有するシール部材であるならば、その弾性変形によって同様な効果が期待できる。また、シール部材とは別の、別の緩衝部材を介在させるように構成してもよい。
【００８１】
次に、実際の電子顕微鏡や電子ビーム描画装置等の荷電粒子ビーム装置では、その真空チャンバ機構は、１つの真空チャンバ１１に対して予備排気室２１は必ずしも１つではないため、１つの真空チャンバ１１に対して複数の予備排気室２１が付設された構成の真空チャンバ機構の実施の形態について、次に説明する。
【００８２】
なお、説明に当たっては、上述した真空チャンバ機構の構成と対応する構成については、同一符号を付し、重複する説明については一部省略する。
【００８３】
図８は、真空チャンバ筐体の１つの壁部に予備排気室筐体が複数組み付け固定された真空チャンバ機構の実施例の構成図である。
図８において、真空チャンバ機構は、真空チャンバ１１が形成された１つの真空チャンバ筐体１０の本体正面壁部１０ｆに、予備排気室２１が形成された予備排気室筐体２０を複数（２つ）、それぞれの予備排気室筐体２０の本体正面壁部２０ｆを組み付け固定して構成されている。
【００８４】
このような場合は、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける本体正面壁部１０ｆの幅方向の中央部位置に、本体正面壁部１０ｆを、予備排気室筐体２０-１に対する本体正面壁部１０ｆ-１と、予備排気室筐体２０-２に対する本体正面壁部１０ｆ-２とに分けるに境界部１０ｄが形成される。
【００８５】
そこで、境界部１０ｄの、筐体本体１０Ａの奥行方向の厚さを、本体正面壁部１０ｆの壁厚よりも大きくし、境界部１０ｄは、本体底部壁１０ｂに立設された柱状の、真空チャンバ筐体１０のフレーム壁部として構成されている。そして、このフレーム壁部としての境界部１０ｄには、その予備排気室筐体２０-１，２０-２の接合側面に、予備排気室筐体２０-１，２０-２を組み付け固定するためのネジ孔が形成され、その開口側上端には、真空チャンバ筐体１０の蓋体１０Ｂ（図示せず）を組み付け固定するためのネジ孔５２が形成されている。
【００８６】
これにより、複数の予備排気室筐体２０-１，２０-２が組み付け固定される真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａには、本体正面壁部１０ｆの幅方向の中間部に、剛性の高い筐体本体１０Ａの角部に相当する境界部１０ｄが設けられていることになる。この結果、真空チャンバ筐体１０の筐体本体１０Ａにおける本体正面壁部１０ｆに、複数の予備排気室筐体２０-１，２０-２を組み付け固定してなる真空チャンバ機構であっても、図１〜図５に示した真空チャンバ機構と同様な作用・効果を奏することができる。
【００８７】
図９は、真空チャンバ筐体の筐体本体の複数の壁部それぞれに予備排気室筐体がそれぞれ組み付け固定された真空チャンバ機構の実施例の構成図である。
図９において、真空チャンバ機構は、真空チャンバ１１が形成された１つの真空チャンバ筐体１０の壁部１０ｆ，１０ｓｌ，１０ｒ，１０ｓｒそれぞれに試料搬送口１８-１〜１８-４が形成され、予備排気室２１が形成された予備排気室筐体２０-１〜２０-４が組み付け固定して構成されている。
【００８８】
このような場合は、壁部１０ｆ，１０ｓｌ，１０ｒ，１０ｓｒからなる筐体本体１０Ａの外周面において、相互に隣り合う２つの壁部の連接部に相当する筐体本体１０Ａの角部が、境界部１０ｄに該当することになる。そこで、壁部１０ｆ，１０ｓｌ，１０ｒ，１０ｓｒそれぞれについて、それぞれの幅方向の両端部分の奥行方向の厚さを、壁部の壁厚よりも大きく構成している。
【００８９】
これにより、筐体本体１０Ａの各角部には、本体底部壁１０ｂに立設された柱状の、真空チャンバ筐体１０のフレーム壁部が形成される。
【００９０】
この結果、真空チャンバ１１が形成された１つの真空チャンバ筐体１０の複数の壁部１０ｆ，１０ｓｌ，１０ｒ，１０ｓｒそれぞれに、予備排気室２１が形成された予備排気室筐体２０-１〜２０-４が組み付け固定してなる真空チャンバ機構であっても、図１〜図５に示した真空チャンバ機構と同様な作用・効果を奏することができる。
【００９１】
以上、真空処理システムの真空チャンバ機構の実施の形態について種々説明したが、その具体的な構成部については、種々の変形例の適用が可能である。
【符号の説明】
【００９２】
１０…真空チャンバ筐体、  １０Ａ…筐体本体、  １０ｂ…本体底部壁、
１０ｆ…本体正面壁部、  １０ｒ…本体背面壁部、  １０ｓｒ…本体右側面壁部、
１０ｓｌ…本体右側面壁部、  １０ｄ…境界部、  １０Ｂ…蓋体、
１１…真空チャンバ、  １２…試料ステージ、  １３…シール部材、
１４…接合隙間部、  １５…環状縁部面、  １６…Ｏリング、  １８…試料搬送口、
２０，２０-１〜２０-４…予備排気室筐体、  ２０ｂ…本体底部壁、
２０ｆ…本体正面壁部、  ２０ｒ…本体背面壁部、
２０ｓ…本体側面壁部、  ２０ｓｒ…本体右側面壁部、
２０ｓｌ…本体右側面壁部、  ２０Ｃ…フランジ部、  ２１…予備排気室、
２８…試料搬送口、  ２９…試料搬送口、  ３１…試料ステージ、
３２…真空チャンバポンプ、  ３３…真空チャンババルブ、
３４…予備排気室バルブ、  ３５…予備排気室ポンプ、  ３６…リークバルブ、
４０…鏡体、  ５１…ネジ、  ５２…ネジ孔。
【図１】
2014026881.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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