(57)【要約】【課題】燃焼室に配置するスクレーパの寿命をより増大させる。【解決手段】処理装置Ａは、一方の端部１ａ側に排ガスの供給口７を、供給口７から離隔した位置にバーナー８を設けた燃焼室１と、端部１ａを貫通して回転可能に配置された軸２ｃと、該軸に取り付けられた掻き取り部材２ａと、を有するスクレーパ２と、端部１ａの外側に配置され、軸２ｃを回転可能に支持すると共に冷却媒体を供給する軸受部材３と、を有し、掻き取り部材２ａには略全長にわたって冷却媒体通路１１が形成され、軸２ｃには冷却媒体通路１１と連通した冷却媒体供給通路１２と該冷却媒体供給通路と連通した冷却媒体供給口１２ａが形成され、軸受部材には軸を嵌合したとき冷却媒体供給口と対応する部位にリング状の溝１６ｂが形成されており、該溝を介してスクレーパ２に冷却媒体を供給し得るように構成した。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
排ガスを高温にして燃焼或いは分解して排気する排ガスの処理装置であって、
一方の端部を閉鎖した筒体からなり、該一方の端部又は端部側に排ガスの供給口を設けると共に該排ガスの供給口から離隔した位置にバーナーを設け、他方の端部を開口させて排気し得るように構成された燃焼室と、
前記燃焼室の一方の端部を貫通して回転可能に配置された軸と、該軸に取り付けられ前記燃焼室の内面に付着した付着物を掻き取る掻き取り部材と、を有するスクレーパと、
前記燃焼室の一方の端部の外側に配置され、前記スクレーパの軸を回転可能に支持すると共に冷却媒体を供給する軸受部材と、を有し、
前記スクレーパの掻き取り部材には略全長にわたって冷却媒体通路が形成され、且つ前記スクレーパの軸には前記掻き取り部材に形成された冷却媒体通路と連通した冷却媒体供給通路と該冷却媒体供給通路と連通した冷却媒体供給口が形成され、
前記軸受部材には前記スクレーパの軸を嵌合したとき、該軸に形成された冷却媒体供給口と対応する部位にリング状の溝が形成されており、該溝を介して前記スクレーパに冷却媒体を供給し得るように構成したことを特徴とする排ガスの処理装置。
【請求項２】
前記スクレーパの掻き取り部材は前記燃焼室の全長と略等しい長さを有しており、掻き取り部材の全長にわたって形成された冷却媒体通路は該掻き取り部材の自由端が開放されると共に、前記燃焼室に設けたバーナーと対向する位置に冷却媒体を噴射する噴射口が形成されていることを特徴とする請求項１に記載した排ガスの処理装置。
【請求項３】
前記冷却媒体は、空気又は窒素を含む気体であることを特徴とする請求項１又は２に記載した排ガスの処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体の製造工程から排出された排ガスを燃焼或いは熱分解させて除害処理するための排ガスの処理装置であって、冷却媒体によって強制的に冷却したスクレーパによって燃焼室に付着した固形物を掻き取るように構成した排ガスの処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体製造工程に於ける特定の工程から、人体に対する毒性の強い有害なガスや、地球環境に悪影響を与えるガスが生成することが知られている。このような有害なガスを大気へ放出する際には、有毒性物質の除去、除害が要求されている。このため、このような排ガスを燃焼或いは分解させた後、大気へ放出することで前記要求を満足させることが出来る排ガスの処理装置が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載された技術は、上記のような排ガスを一端が閉鎖された筒状の燃焼室に導入し、該燃焼室に配置されたバーナーにより水素、メタン、エタン、プロパン、ブタン等の燃料ガスが燃焼するとき生成する高温部で分解し、或いは助燃用空気の作用により燃焼することで除害し、その後、燃焼排ガス搬送通路を通って水スクラバに供給し、該水スクラバで冷却すると共に粉末状の固形物や有害な燃焼副生成ガス等を吸収し、所定の煙道を通して大気に排出するものである。
【０００４】
排ガスの燃焼に伴って、各種排ガスに含まれた固形化成分が粉体になって発生し、一部が燃焼室の内面に付着して残留するという問題が生じる。燃焼室の内面に粉体が付着した場合、燃焼室内の気体の流れが変化して良好な燃焼や分解が行われなくなる虞があるため、付着した粉体を掻き落とすスクレーパを利用することが提案されている（例えば特許文献２参照）。
【０００５】
特許文献２に記載された技術では、スクレーパを回転させることで、燃焼室に付着する紛体の量を略一定に保持することができ、燃焼室内の気体の流れが安定し、排ガスの良好な燃焼、分解を実現することができる。しかし、燃焼室内の温度が高いため、スクレーパの消耗が激しくなり、交換の頻度が多くなるという問題が生じた。
【０００６】
特許文献２に記載されたスクレーパが有する上記問題を解決するために、スクレーパに冷却媒体を流通させて冷却することが提案されている（例えば特許文献３参照）。この技術では、スクレーパに冷却媒体を流通させて端部から放出することで、該スクレーパを冷却することができ、寿命の延長をはかることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第２９６３７９２号公報
【特許文献２】特開２００３−３４３８２６号公報
【特許文献３】特開２００６−２７５３０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献３に記載した排ガスの処理装置では、スクレーパの内部に冷却媒体を流通させることで、該スクレーパに対し効果的な冷却を実現することができ、その結果、寿命を増加させることができる。しかし、この技術であっても全く問題がないわけではなく、使用期間の増加に伴って変形し破断に至る虞がある。このため、より寿命を向上させたスクレーパを有する排ガスの処理装置の開発が要求されている。
【０００９】
本発明の目的は、燃焼室に配置するスクレーパの寿命をより増大させることができるようにした排ガスの処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために本発明に係る排ガスの処理装置は、排ガスを高温にして燃焼或いは分解して排気する排ガスの処理装置であって、一方の端部を閉鎖した筒体からなり、該一方の端部又は端部側に排ガスの供給口を設けると共に該排ガスの供給口から離隔した位置にバーナーを設け、他方の端部を開口させて排気し得るように構成された燃焼室と、前記燃焼室の一方の端部を貫通して回転可能に配置された軸と、該軸に取り付けられ前記燃焼室の内面に付着した付着物を掻き取る掻き取り部材と、を有するスクレーパと、前記燃焼室の一方の端部の外側に配置され、前記スクレーパの軸を回転可能に支持すると共に冷却媒体を供給する軸受部材と、を有し、前記スクレーパの掻き取り部材には略全長にわたって冷却媒体通路が形成され、且つ前記スクレーパの軸には前記掻き取り部材に形成された冷却媒体通路と連通した冷却媒体供給通路と該冷却媒体供給通路と連通した冷却媒体供給口が形成され、前記軸受部材には前記スクレーパの軸を嵌合したとき、該軸に形成された冷却媒体供給口と対応する部位にリング状の溝が形成されており、該溝を介して前記スクレーパに冷却媒体を供給し得るように構成したものである。
【００１１】
上記排ガスの処理装置に於いて、前記スクレーパの掻き取り部材は前記燃焼室の全長と略等しい長さを有しており、掻き取り部材の全長にわたって形成された冷却媒体通路は該掻き取り部材の自由端が開放されると共に、前記燃焼室に設けたバーナーと対向する位置に冷却媒体を噴射する噴射口が形成されていることが好ましい。
【００１２】
また、上記何れかの排ガスの処理装置に於いて、前記冷却媒体は、空気又は窒素を含む気体であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る排ガスの処理装置（以下単に「処理装置」という）では、燃焼室の一方の端部を貫通して設けた軸に掻き取り部材をとりつけて構成したスクレーパを有しており、軸はリング状に形成された溝を有する軸受部材に回転可能に支持され、掻き取り部材には全長にわたって冷却媒体通路が形成されており、且つ軸には前記冷却媒体通路と連通した冷却媒体供給通路が形成されているため、軸受部材の溝に供給された冷却媒体は、軸から掻き取り部材を通ってスクレーパを冷却することができる。
【００１４】
特に、軸受部材にリング状の溝を形成して該溝に冷却媒体を供給するため、軸の回転が軸受部材の溝に接続したホースや配管に影響を与えることがなく、円滑な冷却媒体の供給を実現することができる。
【００１５】
また、スクレーパの掻き取り部材が燃焼室の全長と略等しい長さを有し、掻き取り部材の全長にわたって形成された冷却媒体通路は該掻き取り部材の自由端が開放されると共に、燃焼室に設けたバーナーと対向する位置に冷却媒体を噴射する噴射口が形成されていることによって、バーナーと対向した最も過酷な部位を効率良く冷却することができる。
【００１６】
また、冷却媒体が空気又は窒素を含む気体であることで、入手がし易く且つ供給の制御が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】処理装置の全体構成を説明する模式図である。
【図２】燃焼室とスクレーパを説明する図である。
【図３】スクレーパの構成を説明する図である。
【図４】スクレーパの軸受部分の構成を説明する図である。
【図５】燃焼室に於けるスクレーパの停止位置を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明に係る処理装置について説明する。本発明に係る処理装置は、半導体や液晶パネル等の製造工程から生成するシラン、ジシラン、ジボラン、ホスフィン、アルシンや、三フッ化窒素、フッ化水素、塩化水素、フッ化珪素、塩化珪素など毒性を持つ特殊材料ガス、或いは四フッ化炭素や六フッ化硫黄など地球環境に悪影響を与えるフロンガス等の排ガスを燃焼或いは分解させて除害して排出するものである。
【００１９】
本発明に係る処理装置は、一方の端部側に排ガスの供給口を設けると共に該排ガスの供給口から離隔した位置にバーナーを設け、他方の端部を開口させた燃焼室と、該燃焼室の内面に付着した付着物を掻き取る掻き取り部材を有するスクレーパと、スクレーパの軸を回転可能に支持すると共に冷却媒体を供給する軸受部材と、を有して構成される。このため、燃焼室に供給された排ガスを燃焼させ、或いは分解させた燃焼ガスを排気することが可能である。
【００２０】
スクレーパの掻き取り部材には略全長にわたって冷却媒体通路が形成されており、且つスクレーパの軸には掻き取り部材に形成された冷却媒体通路と連通した冷却媒体供給通路と該冷却媒体供給通路と連通した冷却媒体供給口が形成されている。また、軸受部材にはスクレーパの軸を嵌合したとき、該軸に形成された冷却媒体供給口と対応する部位にリング状の溝が形成されており、該溝を介してスクレーパに冷却媒体を供給し得るように構成されている。このため、スクレーパの軸及び掻き取り部材を冷却媒体によって冷却することが可能となり、交換頻度を軽減することが可能である。
【００２１】
燃焼室は、供給された排ガスを、バーナーの火炎によって燃焼或いは分解させ、生成した燃焼排ガスを排気するものである。このため、燃焼室の形状や容量、或いは燃焼室の姿勢は限定するものではなく、処理すべき排ガスの種類や量、及び処理装置の構成等の条件に対応させて適宜設計される。同様にバーナーの数や燃料ガスの性質も特に限定するものではなく、処理すべき排ガスの種類や量に対応させて適宜設定される。
【００２２】
特に、処理すべき排ガスに三フッ化窒素などが含まれている場合、処理温度を高温にすることが必要となり、燃焼室を高温に耐え得るような構造とすることが必要となる。このため、燃焼室の内周面に耐火材を敷設することによって、該燃焼室に充分な耐高温性を発揮させることが好ましい。耐火材の材料としては、特に限定するものではなく、高い耐火性を有すると共に良好な成形性を有するものであることが好ましい。
【００２３】
排ガスは半導体の製造設備や液晶パネルの製造設備から発生するものであり、該排ガスには多くの珪素成分が含まれ、燃焼室に於ける燃焼、分解に伴って酸化珪素としての固形物となる。この酸化珪素は生成した段階では微小な粉末からなる粉塵（以下「粉塵」という）であり、落下して滞留したときに強固な塊状になる。
【００２４】
燃焼排ガスに含まれる粉塵は燃焼室の内面に塊状に付着するものもあり、燃焼排ガスと共に排出されるものもある。特に、燃焼室の内面に塊状に付着した粉塵は該燃焼室内の気体の流れを阻害して良好な燃焼や分解に支障を来す虞があるため、燃焼室の内面に付着した粉塵の塊を掻き落とすためのスクレーパが設けられる。
【００２５】
スクレーパは、掻き落とし部材が燃焼室の内面に沿って周方向に移動し、この移動過程で内面に付着した粉塵の塊を掻き落とす。このため、スクレーパとしては前記機能を有するものであれば利用することが可能であり、内面に付着している粉塵の塊を掻き落とすのに充分な強度を有するものであれば良い。
【００２６】
燃焼室に供給される排ガスが熱分解温度の高い四フッ化炭素や六フッ化硫黄等を含むような場合、燃焼室内が高温となることから、スクレーパを構成する掻き落とし部材に、熱影響と付着した粉塵による損傷が生じる虞がある。このため、掻き落とし部材は耐熱性と高温域に於ける高い強度を有することが好ましい。
【００２７】
スクレーパを構成する軸には、冷却媒体供給口が形成されると共に該冷却媒体供給口から掻き落とし部材の冷却媒体通路に至る冷却媒体供給通路が形成されている。また、軸受部材には、軸の冷却媒体供給口に対応する位置にリング状の溝が形成されている。このため、軸受部材の溝に冷却媒体を供給すると、この冷却媒体は軸に形成された冷却媒体供給口、冷却媒体供給通路を介して冷却媒体通路に流通し、掻き落とし部材を冷却することが可能である。
【００２８】
冷却媒体としては特に限定するものではなく、スクレーパを効率的に冷却し得るものであれば利用することが可能である。このような冷却媒体として、空気や窒素ガス等の気体、或いは水や液体窒素等の液体を選択的に利用することが可能であるが、取扱いの容易さを考慮すると、エアコンプレッサによって供給することが可能な空気や、ボンベにより供給することが可能な窒素ガスであることが好ましい。
【００２９】
以下、本実施例に係る処理装置の全体構成について図１を用いて簡単に説明する。図に於いて、処理装置Ａは、一方の端部側から供給された排ガスを分解、燃焼させる燃焼室１と、燃焼室１の内面に付着した粉塵を掻き落とすスクレーパ２と、スクレーパ２を回転可能に支持する軸受部材３と、燃焼室１から排出された燃焼ガスを排気する燃焼排ガス通路４と、夫々所定位置に配置された燃焼室１、燃焼排ガス通路４を一体化して納める筐体５と、を有して構成されている。
【００３０】
燃焼室１は、図示しない半導体の製造設備や液晶パネルの製造設備から排出された除害すべき排ガスを燃焼させ、或いは熱分解させて無害化するものであり、一方側の端部１ａは閉鎖され、他方の端部１ｂは開口して燃焼排ガス通路４に連結されている。燃焼室１は円筒状の筒体を横方向に設置した形状を有しており、内周面には全面にわたって耐火材が敷設されている。しかし、燃焼室１の設置方向は本実施例のような横方向にのみ限定するものではなく、縦方向に設置して燃焼排ガスの流れの方向が上方から下方となるものであっても良い。
【００３１】
燃焼室１の端部１ａ側には処理すべき排ガスが供給される排ガス供給配管７が接続されている。しかし、排ガス供給配管７の燃焼室１の端部１ａ側に於ける位置は限定するものではなく、閉塞された端部１ａを貫通するように接続されていても良く、本実施例のように、端部１ａから離隔した位置に接続されていても良い。
【００３２】
バーナー８は燃焼室１に対する排ガス供給配管７の接続位置よりも端部１ｂ側（排ガスの供給方向下流側）に設けられており、燃料ガス供給配管８ａが接続されている。燃焼室１に設けるバーナー８の数は限定するものではなく、１又は複数であって良い。特に、複数のバーナー８を設ける場合、所定数のバーナー８を同一円周上に配置するか、燃焼室１の軸方向にずらして配置するかも限定するものではない。燃焼室１に設けるべきバーナー８の数や配置位置等は、除害すべき排ガスの性質（例えば、排ガスを除害するのに必要な温度）に対応させて適宜設定することが必要である。
【００３３】
本実施例では、図５に示すように、燃焼室１の円周上に５つのバーナー８を配置している。各バーナー８は燃焼室１の中心を指向することなく、夫々が異なる角度で燃焼室１の周壁１ｃに配置されている。このため、バーナー８による火炎は、燃焼室１の内部で渦巻状に形成される。
【００３４】
燃焼室１の端部１ｂに接続された燃焼排ガス通路４は縦方向の煙道を構成している。燃焼排ガス４の下端４ａは筐体５内で開口し、上端４ｂは図示しない水スクラバ及び吸引装置に接続されている。そして、吸引装置を作動させるのに伴って、燃焼排ガス通路４には負圧が作用し、燃焼室１の内部及び筐体５の内部を吸引し得るように構成されている。
【００３５】
燃焼室１には後述するように構成されたスクレーパ２が配置されており、該スクレーパ２は駆動装置６によって駆動され、燃焼室１の周壁１ｃの内面に付着した粉塵を掻き落としている。駆動装置６は、モータ６ａと、モータ６ａの回転を伝動するチェーン６ｂと、スクレーパ２の軸２ｃに取り付けられチェーン６ｂと噛合するスプロケットホイール６ｃと、を有して構成されている。
【００３６】
また、スクレーパ２を常時駆動するか完結的に駆動するかは限定するものではなく、燃焼室１に付着する粉塵の量等の条件に対応させて適宜設定することが好ましい。
【００３７】
筐体５は気密性を有する箱体として構成されており、所定位置（本実施例では天井）に空気を取り入れるための吸引口５ａが形成されている。また、筐体５には、燃焼室１、排ガス供給配管７、燃焼排ガス通路４、駆動装置６及び図示しない必要な機器類が配置されており、夫々安定した状態で支持されている。
【００３８】
尚、図に於いて、９ａは燃焼室１に於けるバーナー８と端部１ｂの間に配置された温度センサであり、燃焼室１の内部温度を検出して図示しない表示部に表示している。また、９ｂは排ガス供給配管７に配置された温度センサであり、該排ガス供給配管７の内部温度を検出して図示しない表示部に表示している。また、９ｃは燃焼排ガス通路４に配置された温度センサであり、該燃焼排ガス通路４の内部温度を検出して図示しない表示部に表示している。
【００３９】
次にスクレーパ２と軸受部材３の構成について図２〜図５により説明する。スクレーパ２は、燃焼室１が円筒状に形成されることから、周壁１ｃの内面に沿って回転し、該回転に伴って付着した粉塵を掻き落とすように構成されている
【００４０】
スクレーパ２は、燃焼室１の長さと略等しい長さを持った掻き取り部材２ａと、掻き取り部材２ａの一方側の端部に接続された支持部材２ｂと、支持部材２ｂの所定位置に接続されスクレーパ２の回転中心となる軸２ｃと、支持部材２ｂに沿って取り付けられた補強部材２ｄとを有して構成されている。
【００４１】
スクレーパ２は、掻き取り部材２ａが燃焼室１の内部に配置されると共に、軸２ｃが燃焼室１の閉塞された端部１ａを貫通して配置され、軸受部材３に回転可能に支持されている。また、軸２ｃの軸受部材３から突出した端部にはスプロケットホイール６ｃが取り付けられている。そして、軸２ｃにスプロケットホイール６ｃ、チェーン６ｂを介してモータ６ａの回転が伝達されることで、掻き取り部材２ａが燃焼室１の周壁１ｃの内面に沿って回転し得るように構成されている。
【００４２】
掻き取り部材２ａには長手方向の全長にわたって冷却媒体通路１１が形成されており、該冷却媒体通路１１は支持部材２ｂにも連続して形成されている。この冷却媒体通路１１は、掻き取り部材２ａの自由端（支持部材２ｂとは反対側の端部）に開口１１ａが形成されている。また、スクレーパ２を燃焼室１に設置したとき、掻き取り部材２ａに於けるバーナー８と対向する位置には、冷却媒体通路１１と連通する複数の噴射口１１ｂが形成されている。
【００４３】
このため、冷却媒体通路１１に供給された冷却媒体は該冷却媒体通路１１を流通する過程で掻き取り部材２ａを冷却し、開口１１ａから燃焼排ガス通路４に放出されてバーナー８からの輻射を軽減し、同時に噴射口１１ｂから燃焼室１の内部に放出される。
【００４４】
前述したように掻き取り部材２ａは燃焼室１の壁面１ｃに付着した粉塵を掻き落とす機能を有する。特に、掻き取り部材２ａは高温に曝された状態で動作し、且つ壁面１ｃに対し強固に固まった状態で付着した粉塵を掻き落とすため、高い曲げ強度を有することが必要となる。
【００４５】
このため、本実施例に於いて、掻き取り部材２ａは断面が四角形に形成されており、冷却媒体通路１１は扁平な四角形に形成されている。この掻き取り部材２ａは、厚さの異なる２種類のバー材２ａ１、２ａ２を長手方向に溶接することによって構成されている。即ち、薄いバー材２ａ１の一方の面に長手方向の溝を形成して他方の面から該溝に連通する複数の噴射口１１ｂを形成し、該バー材２ａ１を燃焼室１の中心側に、厚いバー材２ａ２を燃焼室１の壁面１ｃ側に配置して両者を接合して溶接することで、掻き取り部材２ａを構成している。そして、バー材２ａ１に形成した溝によって、冷却媒体通路１１が形成されている。
【００４６】
特に、掻き取り部材２ａは高温となる燃焼室１に配置された状態で回転するため、補強部材２ｄによる補強がされていない自由端側が、燃焼室１の周壁１ｃ側に変形するような虞がある。このため、掻き取り部材２ａのバー材２ａ２の周壁１ｃと対向する面は、自由端から補強部材２ｄにかけて斜面２ｅが形成されている。斜面２ｅの傾斜角度は、掻き取り部材２ａを構成する材質や、燃焼室１に想定された温度等の条件に対応させて適宜設定することが好ましい。
【００４７】
スクレーパ２を構成する軸２ｃには、掻き取り部材２ａ、支持部材２ｂに形成された冷却媒体通路１１と連通する冷却媒体供給路１２が形成されている。また、軸２ｃの所定位置には、該軸２ｃを太さ方向に貫通して冷却媒体供給路１２と連通する冷却媒体供給口１２ａが形成されている。従って、冷却媒体供給口１２ａは冷却媒体供給路１２を介して冷却媒体通路１１と連通し、供給された冷却媒体を軸２ｃ、支持部材２ｂ、掻き取り部材２ａを通して開口１１ａ、噴射口１１ｂから放出することが可能となる。
【００４８】
また、軸２ｃには掻き取り部材２ａと同じ方向にキー溝２ｆが形成されており、該キー溝２ｆに嵌合させたキー１３を介してスプロケットホイール６ｃが取り付けられている。
【００４９】
軸受部材３は、スクレーパ２を構成する軸２ｃを回転可能に支持すると共に、該軸２ｃを介して冷却媒体を供給する機能を有する。このため、軸受部材３は、燃焼室１に設けたブラケット１５に取り付けられ軸２ｃを遊嵌する孔１６ａが形成されたハウジング１６と、ハウジング１６の孔１６ａの両端に対応する部位に配置され軸２ｃを嵌合して回転可能に支持する軸受３ａと、を有して構成されている。
【００５０】
ハウジング１６には、孔１６ａにスクレーパ２の軸２ｃを嵌合したとき、該軸２ｃに形成された冷却媒体供給口１２ａと対応する位置にリング状の溝１６ｂが形成されおり、該溝１６ｂを挟んで両側にＯリング１７が配置されている。また、ハウジング１６の溝１６ｂと対応する位置には冷却媒体供給用の配管１８（図１参照）が取り付けられており、該配管１８が溝１６ｂと連通して冷却媒体を供給し得るように構成されている。
【００５１】
従って、上記の如く構成された軸受部材３では、スクレーパ２の軸２ｃを軸受３ａ、ハウジング１６の孔１６ａに嵌合させると共に、キー１３を介してスプロケットホイール６ｃを取り付けたとき、溝１６ｂに冷却媒体供給口１２ａが開口する。この状態で配管１８からハウジング１６の溝１６ｂに冷却媒体を供給すると、供給された冷却媒体はスクレーパ２の軸２ｃに形成された冷却媒体供給口１２ａを介して冷却媒体供給路１２に供給される。特に、軸２ｃと孔１６ａとの間隙はＯリング１７によってシールされるため、溝１６ｂに供給された冷却媒体の漏洩を防ぐことが可能である。
【００５２】
尚、冷却媒体としてどのようなものを使用するかは限定するものではないが、本実施例では、加圧空気を利用している。このため、配管１８は図示しない圧力調整器を介してエアコンプレッサに接続されている。
【００５３】
また、駆動装置６のモータ６ａを駆動したとき、該モータ６ａの回転がチェーン６ｂ、スプロケットホイール６ｃを介してスクレーパ２の軸２ｃに伝えられ、該スクレーパ２を回転させることが可能である。このとき、ハウジング１６が燃焼室１に設けたブラケット１５に強固に固定されているため、スクレーパ２の安定した回転を実現することが可能である。
【００５４】
処理装置Ａの稼働中、スクレーパ２を常時回転させる場合、掻き取り部材２ａはバーナー８の火炎を横断するようになり、火炎の影響を集中して受けることはない。しかし、スクレーパ２を間欠的な停止、回転を繰り返すように運転する場合、掻き取り部材２ａの停止位置によってはバーナー８の火炎が直接作用して集中した影響を受ける虞がある。
【００５５】
このため、スクレーパ２の停止位置を、掻き取り部材２ａがバーナー８に対向することのない位置に設定することが好ましい。
【００５６】
本実施例では、燃焼室１に配置されたバーナー８の位置を考慮して、スクレーパ２の軸２ｃに形成されたキー溝２ｆと軸２ｃに取り付けた掻き取り部材２ａとがなす角を設定している。そして、キー溝２ｆ（キー１３）が特定の回転位置に到達したことを認識してモータ６ａを停止させることで、掻き取り部材２ａをバーナー８と対向することのない位置で停止させるように構成している。
【００５７】
例えば、図５に示すように、燃焼室１に５つのバーナー８が配置されており、バーナー８の火炎による影響の最も少ない位置が水平軸から右下に１５度の位置である場合、スクレーパ２の軸２ｃに形成されたキー溝２ｆに対し、軸２ｃ側からみて掻き取り部材２ａを右７５度に設定してスクレーパ２を構成する。そして、軸受部材３に支持された軸２ｃのキー溝２ｆが真下にある状態を、スクレーパ２の停止位置とすることで、掻き取り部材２ａに対するバーナー８による火炎の影響を最小限に抑えることが可能である。
【００５８】
スクレーパ２の軸２ｃに形成されたキー溝２ｆが真下にあることを検出する手段は特に限定するものではなく、キー溝２ｆに取り付けたキー１３と接触して信号を発生するリミットスイッチを含む接触センサ、キー１３と接触することなく該キー１３を検出して信号を発生する近接スイッチや光電管スイッチを含む非接触センサ等のセンサを選択的に用いることが可能である。また、スクレーパ２の回転を検出する対象は必ずしもキー１３である必要はなく、軸２ｃの回転が同期して伝えられるものであれば良い。
【００５９】
また、上記センサとカウンタ及び駆動装置６の作動を開始させるスイッチとを組み合わせることで、１サイクル当たりのスクレーパ２の回転数を設定することも可能である。そして、スイッチを操作してスクレーパ２の回転を開始させ、この回転が予め設定された数に到達したとき、掻き取り部材２ａがバーナー８による影響を最も少なく受ける位置にある状態でスクレーパ２を停止させることが可能である。
【００６０】
次に、上記の如く構成された処理装置Ａによる排ガスの除害操作について簡単に説明する。先ず、燃焼排ガス通路４に接続された吸引装置を作動させる。吸引装置の作動開始に伴って、燃焼排ガス通路４、燃焼室１、筐体５に負圧が作用し、図１に示すように、筐体５の吸引口５ａから空気が吸引されて矢印ａ方向に流れ、燃焼排ガス通路４の下端４ａから矢印ｃ方向に流れる。
【００６１】
また、配管１８からハウジング１６の溝１６ｂに冷却媒体となる加圧空気を供給すると、供給された加圧空気は溝１６ｂからスクレーパ２の軸２ｃに形成された冷却媒体供給口１２ａ、冷却媒体供給路１２を介して掻き取り部材２ａに形成された冷却媒体通路１１に流れ、一部は噴射口１１ｂから燃焼室１の内部に噴射され、他は開口１１ａから燃焼排ガス通路４に放出される。そして、スクレーパ２の掻き取り部材２ａ、支持部材２ｂは冷却媒体通路１１を流れる加圧空気によって冷却される。
【００６２】
更に、燃料ガス供給配管８ａからバーナー８に燃料ガスを供給して点火し、火炎を形成する。このとき、スクレーパ２が停止していても、掻き取り部材２ａはバーナー８から受ける影響が最も少ない位置にあり、且つ加圧空気によって冷却されているため、消耗を軽減することが可能となる。
【００６３】
排ガスは、排ガス供給配管７から矢印ｂ方向に流れて燃焼室１に供給される。燃焼室１に供給された排ガスは、バーナー８の火炎によって燃焼或いは分解されて燃焼排ガスとなり、燃焼排ガス通路４に吸引されて下端４ａから流れ込んだ空気と混合して冷却され、矢印ｃ方向に流れた後、大気に放出される。
【００６４】
排ガスに含まれた粉塵成分は、排ガスが燃焼室１内で燃焼、分解する過程で多くが落下する。落下した粉塵はスクレーパ２の掻き取り部材２ａによって燃焼室１の周壁１ｃから掻き取られ、燃焼排ガス通路４に流れ込んで矢印ｃ方向に排出される。
【００６５】
処理装置Ａの稼働時間が増加し、スクレーパ２の掻き取り部材２ａの温度が上昇して自由端側が燃焼室１の周壁１ｃ方向に向けて変形しても、予め斜面２ｅが形成されているため、周壁１ｃに接触することがない。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本発明に係る排ガスの処理装置は、半導体の製造工程から排出される排ガスや、液晶パネルの製造工程から排出される排ガスを除害する際に利用して有利である。
【符号の説明】
【００６７】
Ａ                  処理装置
１                  燃焼室
１ａ、１ｂ          端部
１ｃ                周壁
２                  スクレーパ
２ａ                掻き取り部材
２ａ１、２ａ２      バー材
２ｂ                支持部材
２ｃ                軸
２ｄ                補強部材
２ｅ                斜面
２ｆ                キー溝
３                  軸受部材
３ａ                軸受
４                  燃焼排ガス通路
４ａ                下端
４ｂ                上端
５                  筐体
５ａ                吸引口
６                  駆動装置
６ａ                モータ
６ｂ                チェーン
６ｃ                スプロケットホイール
７                  排ガス供給配管
８                  バーナー
８ａ                燃料ガス供給配管
９ａ〜９ｃ          温度センサ
１１                冷却媒体通路
１１ａ              開口
１１ｂ              噴射口
１２                冷却媒体供給路
１２ａ              冷却媒体供給口
１３                キー
１５                ブラケット
１６                ハウジング
１６ａ              孔
１６ｂ              溝
１７                Ｏリング
１８                配管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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