(57)【要約】【課題】担持体から転写媒体への被転写物の転写および転写後の担持体と転写媒体との剥離を連続して効率よく行うことのできる技術を提供する。【解決手段】パターンを担持するブランケットＢＬを、互いに独立して昇降可能な複数のハンド対３０１〜３０６により支持する。パターンが転写される基板ＳＢは上ステージ７１の下面に吸着保持される。転写ローラ５０１によりブランケットＢＬを押し上げて基板ＳＢに当接させながら、転写ローラ５０１をＹ方向に移動させる。転写ローラ５０１の前方側（進行方向下流側）では転写ローラ５０１の接近に伴ってハンド対を順次下降させ、転写ローラ５０１の後方側（進行方向上流側）ではハンド対をブランケットＢＬに再当接させた後、ブランケットＢＬを吸着保持しながら下降することにより、ブランケットＢＬを基板ＳＢから剥離させる。【選択図】図６
2014188913.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担持面に被転写物を担持する平板状の担持体を、前記担持面と反対側の他方面に部分的に当接する複数の保持部により保持する担持体保持手段と、
前記複数の保持部を個別に、前記他方面に対して接近および離間する方向に移動させる保持部駆動機構と、
転写面に前記被転写物が転写される転写媒体を、前記転写面を前記担持面に近接対向させて保持する転写媒体保持手段と、
前記担持面に略平行な第１方向に沿って延びるローラ状に形成され、前記他方面に当接して前記担持体を部分的に前記転写媒体側に押し遣ることで前記被転写物を前記転写媒体に当接させるとともに、前記他方面に当接しながら前記担持面に平行で前記第１方向と直交する第２方向に移動するローラ部材と
を備え、
前記複数の保持部の各々には前記他方面を吸着可能な吸着部が前記第１方向に延設されまたは前記第１方向に沿って複数配列されるとともに、前記複数の保持部が前記第２方向に沿って配列され、
前記保持部駆動機構は、
前記ローラ部材に対して前記第２方向の下流側で前記他方面に当接する前記保持部のうち最上流側の前記保持部を、前記担持体から離間させて前記ローラ部材と干渉しない退避位置まで移動させ、前記ローラ部材の通過後に当該保持部を前記他方面に再び当接させる一方、
前記ローラ部材に対して前記第２方向の上流側で前記他方面に当接する前記保持部を、上流側から順に、前記吸着部による前記他方面の吸着を維持したまま前記担持体から離間する方向に移動させる
ことを特徴とする転写装置。
【請求項２】
前記ローラ部材は、前記他方面のうち、前記第２方向の上流側端部よりも下流の当接開始位置から、前記第２方向の下流側端部よりも上流で前記当接開始位置よりも下流の当接終了位置までの領域に当接し、
前記当接開始位置から前記当接終了位置までの間に複数の前記保持部が設けられ、さらに、前記当接開始位置よりも前記第２方向の上流側および前記当接終了位置よりも前記第２方向の下流側に、それぞれ少なくとも１つの前記保持部が設けられる請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
前記保持部の各々では、前記吸着部が、前記保持部駆動機構による前記担持体からの離間移動に先立って吸着を解除し、再当接後に吸着を再開する請求項１または２に記載の転写装置。
【請求項４】
前記吸着部は、再当接後には解除前よりも強い吸着力で前記他方面を吸着する請求項３に記載の転写装置。
【請求項５】
前記保持部は、前記第１方向に延設されて前記他方面に当接する当接面を有するとともに、該当接面に前記吸着部としての吸着パッドを配設するための凹部が設けられており、前記吸着パッドは、前記当接面よりも前記凹部内に後退した後退位置と、前記当接面と同一面までまたは前記当接面よりも進出する吸着位置との間で進退可能となっている請求項４に記載の転写装置。
【請求項６】
担持面に被転写物を担持する平板状の担持体を、前記担持面と反対側の他方面に部分的に当接する複数の保持部により保持する第１工程と、
転写面に前記被転写物が転写される転写媒体を、前記転写面を前記担持面に近接対向させて保持する第２工程と、
前記担持面に略平行な第１方向に沿って延びるローラ状に形成されたローラ部材を、前記他方面に当接させて前記担持体を部分的に前記転写媒体側に押し遣ることで前記被転写物の一部を前記転写媒体に当接させる第３工程と、
前記ローラ部材を前記他方面に当接させながら前記担持面に平行で前記第１方向と直交する第２方向に移動させるとともに、前記ローラ部材に対して前記第２方向の下流側で前記他方面に当接する前記保持部のうち最上流側の前記保持部を、前記担持体から離間させて前記ローラ部材と干渉しない退避位置まで移動させ、前記ローラ部材の通過後に当該保持部を前記他方面に再び当接させる第４工程と、
前記ローラ部材に対して前記第２方向の上流側で前記他方面に当接する前記保持部を、上流側から順に、前記担持体を保持させたまま前記担持体から離間する方向に移動させる第５工程と
を備える転写方法。
【請求項７】
前記第４工程の実行中に前記第５工程を実行する請求項６に記載の転写方法。
【請求項８】
前記保持部の各々は前記他方面を吸着により保持し、前記第４工程では、前記担持体からの離間移動に先立って吸着を解除し、再当接後に吸着を再開する請求項６または７に記載の転写方法。
【請求項９】
前記保持部の各々は、再当接後には解除前よりも強い吸着力で前記担持体の前記他方面を吸着する請求項８に記載の転写方法。
【請求項１０】
前記第２工程と前記第３工程との間に、前記複数の保持部を一体的に前記担持面と平行な方向に移動させて前記担持体と前記転写媒体との位置合わせを行う第６工程をさらに備える請求項６ないし９のいずれかに記載の転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、担持体に担持された被転写物を転写媒体に転写する転写装置および転写方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板や半導体基板などの基板に薄膜やパターン（以下、「パターン等」という）を形成する技術として、パターン等を担持する担持体を転写媒体に密着させてパターン等を転写するものがある（例えば、特許文献１参照）。また、パターン等の転写を完成させるためには、上記のようにして密着された担持体と転写媒体とを剥離して再び離間させる必要がある。このような剥離を目的とした技術としては、例えば特許文献２に記載されたものがある。
【０００３】
上記従来技術に示されるように、これまでは、担持体と転写媒体とを密着させてパターン等を転写するためのプロセス技術と、転写後の担持体と転写媒体とを剥離させるプロセス技術とは互いに独立して研究されてきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−０３６４９９号公報
【特許文献２】特開２００８−２８７９４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
実際のパターン形成プロセスにおいては当然に、転写プロセスと剥離プロセスとの両方が必須となる。しかしながら、上記のように転写プロセスと剥離プロセスとがそれぞれ別の処理装置で実行される場合、処理装置間での処理対象物の搬送が必要となる上、一方の処理装置での処理の実行中に他方が手待ち状態になることがあり、これまでは転写から剥離に至る一連のプロセスを効率よく行うには至っていなかった。また、２つの処理装置を設置する必要があることから、装置コストおよび設置スペースが大きくなるという問題も残されていた。
【０００６】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、担持体から転写媒体への被転写物の転写および転写後の担持体と転写媒体との剥離を連続して効率よく行うことのできる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明にかかる転写装置は、上記目的を達成するため、担持面に被転写物を担持する平板状の担持体を、担持面と反対側の他方面に部分的に当接する複数の保持部により保持する担持体保持手段と、複数の保持部を個別に、他方面に対して接近および離間する方向に移動させる保持部駆動機構と、転写面に被転写物が転写される転写媒体を、転写面を担持面に近接対向させて保持する転写媒体保持手段と、担持面に略平行な第１方向に沿って延びるローラ状に形成され、他方面に当接して担持体を部分的に転写媒体側に押し遣ることで被転写物を転写媒体に当接させるとともに、他方面に当接しながら担持面に平行で第１方向と直交する第２方向に移動するローラ部材とを備え、複数の保持部の各々には他方面を吸着可能な吸着部が第１方向に延設されまたは第１方向に沿って複数配列されるとともに、複数の保持部が第２方向に沿って配列され、保持部駆動機構は、ローラ部材に対して第２方向の下流側で他方面に当接する保持部のうち最上流側の保持部を、担持体から離間させてローラ部材と干渉しない退避位置まで移動させ、ローラ部材の通過後に当該保持部を他方面に再び当接させる一方、ローラ部材に対して第２方向の上流側で他方面に当接する保持部を、上流側から順に、吸着部による他方面の吸着を維持したまま担持体から離間する方向に移動させる。
【０００８】
また、この発明にかかる転写方法は、上記目的を達成するため、担持面に被転写物を担持する平板状の担持体を、担持面と反対側の他方面に部分的に当接する複数の保持部により保持する第１工程と、転写面に被転写物が転写される転写媒体を、転写面を担持面に近接対向させて保持する第２工程と、担持面に略平行な第１方向に沿って延びるローラ状に形成されたローラ部材を、他方面に当接させて担持体を部分的に転写媒体側に押し遣ることで被転写物の一部を転写媒体に当接させる第３工程と、ローラ部材を他方面に当接させながら担持面に平行で第１方向と直交する第２方向に移動させるとともに、ローラ部材に対して第２方向の下流側で他方面に当接する保持部のうち最上流側の保持部を、担持体から離間させてローラ部材と干渉しない退避位置まで移動させ、ローラ部材の通過後に当該保持部を他方面に再び当接させる第４工程と、ローラ部材に対して第２方向の上流側で他方面に当接する保持部を、上流側から順に、担持体を保持させたまま担持体から離間する方向に移動させる第５工程とを備えている。
【０００９】
これらの発明では、被転写物を担持する担持体と、被転写物が転写される転写媒体とを近接対向配置し、ローラ部材で担持体を部分的に転写媒体側に押し遣って被転写物を転写媒体に当接させるとともに、その状態からローラ部材を担持体に沿って移動させる。これにより、担持体に担持された被転写物の全体が転写媒体に密着する。
【００１０】
担持体は複数の保持部によって保持されるとともに、ローラ部材の移動に伴って、ローラ部材の移動方向（第２方向）下流側の保持部を退避位置に移動させることで、担持体の他方面に当接する保持部と、担持体の他方面に当接しながら第２方向に進行するローラ部材との干渉が避けられる。ローラ部材の下流側に位置する保持部のうち最上流側のもののみを離間させることで、ローラ部材による当接を受ける前の担持体の姿勢を維持することができるので、被転写物が転写媒体に当接する前に担持体と転写媒体との間で位置ずれが生じるのを防止することができる。
【００１１】
一方、ローラ部材よりも上流側、つまりローラ部材によって担持体と転写媒体とが被転写物を介して密着された側では、再当接した保持部が担持体を保持したまま離間方向に移動される。したがって、担持体が転写媒体から引き離される方向に移動し、両者が剥離される。担持体にローラ部材を当接させながら転写媒体から離間させることで、剥離の進行を制御することができる。
【００１２】
このように、本発明における保持部は、被転写物が転写媒体に当接する前の担持体の姿勢を維持する機能を有するとともに、当接後は担持体を転写媒体から引き離す機能を有する。一方、ローラ部材は、被転写物を転写媒体に当接させる機能と、剥離の進行を制御する機能とを兼備する。このような構成を有する本発明によれば、担持体から転写媒体への被転写物の転写および転写後の担持体と転写媒体との剥離を、一体の装置で連続的に効率よく行うことができる。
【００１３】
本発明においては、例えば、ローラ部材は、担持体の他方面のうち、第１方向の上流側端部よりも下流の当接開始位置から、第２方向の下流側端部よりも上流で当接開始位置よりも下流の当接終了位置までの領域に当接し、当接開始位置から当接終了位置までの間に複数の保持部が設けられ、さらに、当接開始位置よりも第２方向の上流側および当接終了位置よりも第２方向の下流側に、それぞれ少なくとも１つの保持部が設けられる構成であってもよい。
【００１４】
被転写物を介して転写媒体と当接する前の担持体の姿勢を維持しつつ当接後の担持体を転写媒体から引き離すために、ローラ部材の移動範囲、つまり当接開始位置から当接終了位置までの間に複数の保持部材が必要である。一方、ローラ部材の移動範囲外でも担持体の姿勢を保持し、また転写媒体からの剥離を確実に行うために、ローラ部材の移動範囲の上流側および下流側にそれぞれ少なくとも１つの保持部を配置することが望ましい。
【００１５】
また例えば、保持部の各々は、担持体からの離間移動に先立って吸着を解除し、再当接後に吸着を再開する構成であってもよい。吸着を解除してから保持部を離間移動させることで、保持部の離間移動に担持体が付随することが回避される。この場合、例えば、再当接後には解除前よりも強い吸着力で担持体を吸着する構成であってもよい。被転写物を介して転写媒体と当接する前の担持体については、担持体の姿勢を維持することができれば足りる。その一方、転写媒体から担持体を引き離すためには強い吸着保持力が必要であるから、再当接後の吸着力を吸着解除前よりも大きくすることが望ましい。
【００１６】
これを可能とするために、例えば、保持部は第１方向に延設されて他方面に当接する当接面を有するとともに、該当接面に吸着部としての吸着パッドを配設するための凹部が設けられており、吸着パッドは、当接面よりも凹部内に後退した後退位置と、当接面と同一面までまたは当接面よりも進出する吸着位置との間で進退可能となった構成であってもよい。吸着位置に進出させた吸着パッドを担持体の他方面に当接させることにより、比較的強い吸着力で担持体を吸着保持することができる。一方、吸着パッドを後退位置に後退させ担持体から離間させることで、強い吸着力により担持体が部分的に変形することが回避される。
【００１７】
また例えば、ローラ部材よりも上流側での剥離については、ローラ部材の移動中にこれと並行して行われてもよい。すなわち、本発明にかかる転写方法では、第４工程の実行中に第５工程を実行する構成であってもよい。このような構成では、ローラ部材よりも下流側では被転写物の転写媒体への当接が行われる一方、上流側ではこれと並行して、転写媒体からの担持体の剥離が行われる。このため、担持体と転写媒体との当接およびそれらの剥離を連続的に短時間で行うことができる。また、ローラ部材による剥離の進行制御が最も効果的に作用することとなる。
【００１８】
また、担持体と転写媒体を対向配置させた後、複数の保持部を一体的に担持面と平行な方向に移動させて担持体と転写媒体との位置合わせを行う構成であってもよい。このような構成では、転写媒体への被転写物の転写位置精度を高めることができ、転写媒体の適正位置に被転写物を転写することができる。
【発明の効果】
【００１９】
この発明によれば、保持部により担持体の姿勢を維持しながらローラ部材を当接させることで、担持体に担持された被転写物を転写媒体に当接させ、ローラ部材の通過後は保持部材が担持体を転写媒体から引き離すことで剥離が行われる。そのため、担持体から転写媒体への被転写物の転写および転写後の担持体と転写媒体との剥離を、一体の装置で連続して効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】この発明の一実施形態にかかる転写装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１の転写装置の主要部を示す図である。
【図３】ハンド先端の構造をより詳しく示す拡大図である。
【図４】この実施形態における転写処理を示すフローチャートである。
【図５】転写処理における装置各部の位置関係を模式的に示した第１の図である。
【図６】転写処理における装置各部の位置関係を模式的に示した第２の図である。
【図７】転写処理における装置各部の位置関係を模式的に示した第３の図である。
【図８】この発明にかかる転写装置の他の構成例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１はこの発明の一実施形態にかかる転写装置の概略構成を示す図である。また図２は図１の転写装置の主要部を示す図である。以下の各図における方向を統一的に示すために、図１に示すようにＸＹＺ直交座標軸を設定する。ここでＸＹ平面が水平面、Ｚ軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、（＋Ｚ）方向が鉛直上向き方向を表している。
【００２２】
この転写装置１は、互いに分離した状態で搬入される２枚の板状体を密着させ、その後に再びそれらを分離させるための装置である。例えばガラス基板や半導体基板等の基板の表面に所定のパターンを形成するパターン形成プロセスの一部において用いられる。より具体的には、このパターン形成プロセスでは、被転写体である基板に転写すべきパターンを一時的に担持する担持体としてのブランケット表面にパターン形成材料を均一に塗布し（塗布工程）、パターン形状に応じて表面加工された版をブランケット上の塗布層に押し当てることによって塗布層をパターニングし（パターニング工程）、こうしてパターンが形成されたブランケットを基板に密着させることで（転写工程）、パターンをブランケットから基板に最終転写する。
【００２３】
このとき、パターニング工程においては版とブランケットとを密着させた後に剥離するプロセスが、また転写工程においては基板とブランケットとを密着させた後に剥離するプロセスがある。これらの目的のために、本装置を好適に適用することが可能である。もちろんこれらの両方に用いられてもよく、これ以外の用途で用いられても構わない。例えば担持体に担持された薄膜を基板に転写する転写プロセスにも適用することができる。
【００２４】
以下では上記した転写工程、つまりブランケット上に形成されたパターンを基板に転写するプロセスにこの転写装置１が用いられることを前提に説明する。しかし、パターニング工程に適用された場合でも装置構成および動作は基本的に同じであり、以下の説明における「基板」を「版」に読み替えればよい。
【００２５】
この転写装置１は、筺体に取り付けられたベース部１１の上に取り付けられてブランケットＢＬを保持するブランケット保持ブロック３と、ベース部１１に取り付けられた転写ローラブロック５と、それらの上部に配置されて基板ＳＢを保持する基板保持ブロック７とを有している。図１では装置の内部構造を示すために筐体の図示を省略している。また、これらの各ブロックの他に、この転写装置１は各ブロックを制御する制御ブロック９を備えている。
【００２６】
ブランケット保持ブロック３は、アライメントステージ３０上に複数の昇降ハンドユニットがＸ方向およびＹ方向に配列された構造を有している。より具体的には、アライメントステージ３０の（＋Ｘ）側端部に沿って、複数の（この例では６個）の昇降ハンドユニット３１０，３２０，３３０，３４０，３５０，３６０がＹ方向に配列されている。またこれと同数の昇降ハンドユニット３１５，３２５，３３５，３４５，３５５，３６５がアライメントステージ３０の（−Ｘ）側端部に沿ってＹ方向に配列されている。
【００２７】
各昇降ハンドユニットは同一構造を有している。例えば昇降ハンドユニット３１０は、上部が水平方向に延びてその上面がブランケットＢＬの下面に当接することでブランケットＢＬを下方から支持するハンド３１１と、該ハンド３１１を支持するとともに上下方向（Ｚ方向）に昇降させるハンド昇降機構３１２とを備えている。ハンド昇降機構３１２は、制御ブロック９に設けられたハンド昇降制御部９４からの制御信号に応じてハンド３１１を昇降させる。
【００２８】
他の昇降ハンドユニットも同様であり、ここでは、昇降ハンドユニット３１５，３２０，３２５，３３０，３３５，３４０，３４５，３５０，３５５，３６０，３６５に備えられたハンドにそれぞれ符号３１６，３２１，３２６，３３１，３３６，３４１，３４６，３５１，３５６，３６１，３６６を付す。また、昇降ハンドユニット３１５，３２０，３２５，３３０，３３５，３４０，３４５，３５０，３５５，３６０，３６５に備えられたハンド昇降機構にそれぞれ符号３１７，３２２，３２７，３３２，３３７，３４２，３４７，３５２，３５７，３６２，３６７を付す。
【００２９】
アライメントステージ３０の（＋Ｘ）側端部に配置された昇降ハンドユニット３１０，３２０，３３０，３４０，３５０，３６０は、それぞれハンドの先端を（−Ｘ）側に向けて、またアライメントステージ３０の（−Ｘ）側端部に配置された昇降ハンドユニット３１５，３２５，３３５，３４５，３５５，３６５は、それぞれハンドの先端を（＋Ｘ）側に向けて設置されている。すなわち、（＋Ｘ）側端部に配置された昇降ハンドユニットと、（−Ｘ）側端部に配置された昇降ハンドユニットとは、ハンドを内向きにして互いに向かい合って配置されている。
【００３０】
アライメントステージ３０の（＋Ｘ）側端部および（−Ｘ）側端部のそれぞれで最も（−Ｙ）側に配置された昇降ハンドユニット３１０，３１５は、Ｙ方向において同一位置に配置されている。したがって、昇降ハンドユニット３１０のハンド３１１と昇降ハンドユニット３１５のハンド３１６とはＹ方向において同一位置にある。また、これらのハンド３１１，３１６は常時互いに同一高さ（Ｚ方向位置）に位置決めされ、ハンド昇降制御部９４からの制御信号により一体的に昇降する。すなわち、Ｙ方向における位置が同じである１対の昇降ハンドユニット３１１，３１５はハンドユニット対（第１ハンドユニット対）３１をなす。
【００３１】
同様に、Ｙ方向位置が互いに同じである昇降ハンドユニット３２０，３２５は第２ハンドユニット対３２を、昇降ハンドユニット３３０，３３５は第３ハンドユニット対３３を、昇降ハンドユニット３４０，３４５は第４ハンドユニット対３４を、昇降ハンドユニット３５０，３５５は第５ハンドユニット対３５を、昇降ハンドユニット３６０，３６５は第６ハンドユニット対３６を、それぞれなしている。
【００３２】
各昇降ハンドユニット３１０〜３６５に設けられたハンド３１１〜３６６が同一高さに位置決めされることにより、これらのハンド３１１〜３６６が一体的にブランケットＢＬを水平姿勢に保持することができる。なお、各ハンドユニット対に含まれる１対のハンド（例えばハンドユニット対３１における１対のハンド３１１，３１６）は常時同じ高さとされる一方、異なるハンドユニット対の間では、ハンド昇降制御部９４はそれらに含まれるハンドの高さを互いに独立して制御することが可能である。図２では、一例として第２ハンドユニット対３２のハンド３２１，３２６が他のハンドよりも下方に位置した状態が示されている。
【００３３】
以下の説明では、第Ｎハンドユニット対（Ｎ＝１〜６）に含まれるハンドの対を「第Ｎハンド対」と称する。すなわち、第１ハンドユニット対３１に含まれる１対のハンド３１１，３１６を「第１ハンド対」と称し符号３０１を付す。同様に、第２ハンドユニット対３２に含まれる１対のハンド３２１，３２６を第２ハンド対３０２と、第３ハンドユニット対３３に含まれる１対のハンド３３１，３３６を第３ハンド対３０３と、第４ハンドユニット対３４に含まれる１対のハンド３４１，３４６を第４ハンド対３０４と、第５ハンドユニット対３５に含まれる１対のハンド３５１，３５６を第５ハンド対３０５と、第６ハンド対ユニット３６に含まれる１対のハンド３６１，３６６を第６ハンド対３０６と、それぞれ称する。また、これらのハンド対３０１〜３０６の集合体を「ブランケット保持機構」と総称し、符号３００を付す。
【００３４】
図２に示すように、６対のハンドユニット対３１〜３６のうち、Ｙ方向の両端部に位置するものを除いた中央部のハンドユニット対３２〜３５は、これらのハンドユニット対に含まれるハンド３２１〜３５６が基板ＳＢの平面サイズに対応する領域に分散配置されるような配置とされる。一方、Ｙ方向の両端部に位置するハンドユニット対３１，３６については、これらのハンドユニット対に含まれるハンド３１１，３１６，３６１，３６６がＹ方向におけるブランケットＢＬの端部近傍の下面に当接する位置に配置される。
【００３５】
また、アライメントステージ３０は、ベース部１１に取り付けられた複数のアライメント機構３７により支持されている。アライメント機構３７は例えばクロスローラベアリングからなる可動機構である。制御ブロック９のアライメント制御部９５からの制御信号に応じて複数のアライメント機構３７が協働することにより、アライメントステージ３０をＸＹ平面（水平面）内およびＺ軸（鉛直軸）周りに所定範囲で移動させることができる。
【００３６】
アライメントステージ３０にはさらに、ベース部１１から立設された柱部材（図示省略）に取り付けられた２基のアライメントカメラ３８１，３８２が設けられている。アライメントカメラ３８１，３８２は上向きに設置されており、ブランケットＢＬに予め形成されたアライメントマークを撮像する。アライメント制御部９５は、これらのアライメントカメラ３８１，３８２の撮像結果からブランケットＢＬの位置検出を行い、必要に応じてアライメント機構３７を作動させることで、装置内でのブランケットＢＬの位置調整を行う。
【００３７】
また、ベース部１１にはさらに、転写ローラブロック５が設けられている。転写ローラブロック５は、ベース部１１に固定されてＹ方向に延設されるガイドレール５１と、ガイドレール５１に沿ってＹ方向に移動自在に構成されたローラユニット５０とを備えている。
【００３８】
ローラユニット５０は、Ｘ方向に延設された円柱形状の転写ローラ５０１と、転写ローラ５０１のＸ方向両端部を回転自在に支持する支持フレーム５０２と、支持フレーム５０２のＸ方向略中央部で下向きに延びる支持脚５０３と、支持脚５０３を支持するとともにガイドレール５１に係合されてＹ方向に移動するベース部５０４とを備えている。支持脚５０３のＸ方向における寸法は、各ハンド対を構成するハンドの先端間の間隔よりも小さい。図示を省略しているが、ベース部５０４は支持脚５０３を昇降させる昇降機構を備えている。支持脚５０３の昇降により、これに支持される転写ローラ５０１がＺ方向に移動し、ブランケット保持機構３００に保持されたブランケットＢＬに対して近接・離間移動する。ガイドレール５１に沿ったベース部５０４のＹ方向への移動およびベース部５０４による支持脚５０３の昇降は、制御ブロック９に設けられたローラ駆動部９３により制御される。
【００３９】
一方、基板保持ブロック７は、下面が基板ＳＢとほぼ同じ平面サイズの保持平面となった上ステージ７１と、上ステージ７１を上下方向（Ｚ方向）に昇降させるステージ昇降機構７２とを備えている。図示を省略しているが、上ステージ７１の下面には基板ＳＢを吸着保持するための機構として吸着孔、吸着溝および吸着パッドの少なくとも１つが設けられており、該吸着機構に、制御ブロック９に設けられた負圧供給部９２から供給される負圧が制御バルブ９２１を介して付与される。したがって、上ステージ７１はその下面に基板ＳＢの上面を吸着保持することができる。
【００４０】
ステージ昇降機構７２は、制御ブロック９の上ステージ制御部９１からの制御信号に応じて上ステージ７１を昇降させ、ブランケット保持機構３００により保持されたブランケットＢＬの上面に近接対向する近接位置と、ブランケットＢＬから上方に大きく離間した離間位置との間で、上ステージ７１に保持された基板ＳＢを移動させる。
【００４１】
図３はハンド先端の構造をより詳しく示す拡大図である。ここでは代表的にハンド３１１の構造について説明するが、前記した通り各ハンド３１１〜３６６の構造は同じである。図３（ａ）に示すように、Ｘ方向に沿って延びるハンド３１１の先端部では、その上面３１１ａが平坦に仕上げられてブランケットＢＬ下面に当接する当接面となるとともに、開口径の異なる２種類の貫通孔が穿設されている。より詳しくは、ハンド３１１には、開口径が比較的大きい複数の第１の貫通孔３１１ｂがＸ方向に一定間隔で設けられており、各貫通孔３１１ｂには、上端３１３ａが例えばシリコンゴムのような弾性部材により形成された吸着パッド３１３が挿通されている。各吸着パッド３１３は、制御部９の制御バルブ９２２を介して負圧供給部９２に接続されている。
【００４２】
各吸着パッド３１３は図示しない駆動機構により一体的に昇降可能となっており、図３（ｂ）に示すように吸着パッド３１３の上端３１３ａがハンド３１１の上面（当接面）３１１ａよりも下方に後退した後退位置と、図３（ｃ）に示すように吸着パッド３１３の上端３１３ａがハンド３１１の上面３１１ａよりも上方に進出する吸着位置との間を移動することができる。吸着パッド３１３が吸着位置に位置決めされたとき、負圧供給部９２から供給される負圧により、ブランケットＢＬを吸着パッド３１３で強力に吸着保持することができる。
【００４３】
一方、他方の貫通孔３１１ｃは貫通孔３１１ｂより開口径の小さい貫通孔であり、上記のようにＸ方向に等間隔で配列された貫通孔３１１ｂの間に設けられている。貫通孔３１１ｃは制御ブロック９の制御バルブ９２３を介して負圧供給部９２に接続されている。このため、各貫通孔３１１ｃに負圧が供給されることでブランケットＢＬの下面を吸着する吸着孔として機能する。ブランケットＢＬを吸着する力は吸着パッド３１３よりは弱い。
【００４４】
このように、ハンド３１１に吸着孔として機能する貫通孔３１１ｃと吸着パッド３１３とを併設し、それぞれへの負圧供給を独立して行うことにより、ハンド３１１によるブランケットＢＬの吸着力を多段階に設定することが可能である。
【００４５】
次に、上記のように構成された転写装置１の動作について説明する。前記したように、この転写装置１は、パターンを担持するブランケットＢＬと、該パターンが転写されるべき基板ＳＢとを密着させた後、これらを剥離することでパターンをブランケットＢＬから基板ＳＢに転写する。以下、この転写処理について説明するが、パターン形成材料による薄膜を担持したブランケットＢＬを版によりパターニングする際の動作も基本的に同じである。
【００４６】
図４はこの実施形態における転写処理を示すフローチャートである。また、図５ないし図７は転写処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示した図である。なお、図５ないし図７では各部の位置関係を明示するために、各部の寸法や間隔を一部誇張して示しており、これらは実際の寸法関係を表すものではない。
【００４７】
まず、パターンが転写される転写媒体としての基板ＳＢを装置に搬入し、パターンが転写される転写面を下向きにして上ステージ７１にロードする（ステップＳ１０１）。次に、基板ＳＢに転写すべきパターンを担持するブランケットＢＬを、パターンを担持する担持面を上向きにしてブランケット保持機構３００にロードする（ステップＳ１０２）。このとき、各ハンドの吸着パッド３１３は図３（ｂ）に示す後退位置にあり、ブランケットＢＬは貫通孔３１１ｃに付与される負圧により吸着保持される。なお、ロードの順序はこの逆でもよいが、上面にパターンを担持するブランケットＢＬの搬入を後にすることで、基板ＳＢをロードする際にブランケットＢＬ上のパターンを傷つけたり異物が落下したりする不具合を回避することができる。
【００４８】
図５（ａ）は基板ＳＢおよびブランケットＢＬが装置に搬入された後の状態を示している。これらの搬入の際、上ステージ７１はブランケット保持機構３００から上方に大きく離間した位置に位置決めされ、これにより上ステージ７１とブランケット保持機構３００との間に大きく開いた空間を介して基板ＳＢを搬入することができる。一方、ブランケットＢＬが搬入される際、各ハンド対３０１〜３０６を上昇させた位置に位置決めすることで、ブランケットＢＬの下面を支持する搬送用ハンドによる搬入が可能となる。また各ハンド対を同一高さにすることで、ブランケットＢＬを水平姿勢に保持することができる。
【００４９】
こうして基板ＳＢおよびブランケットＢＬが搬入されると、上ステージ７１を下降させて、基板ＳＢとブランケットＢＬとを所定のギャップを隔てて近接対向させる（ステップＳ１０３）。この目的のために、搬入に先立って基板ＳＢおよびブランケットＢＬの厚みが計測されることが望ましい。図５（ｂ）に示すように、このとき調整された基板ＳＢとブランケットＢＬとのギャップＧは、例えば数百μｍ程度である。
【００５０】
続いて、基板ＳＢとブランケットＢＬとを位置合わせするためのアライメント調整を実行する（ステップＳ１０４）。アライメント調整は例えば次のようにして行うことができる。基板ＳＢおよびブランケットＢＬの互いに対向する２箇所以上の位置にそれぞれ予めアライメントマークを形成しておき、装置に搬入され近接配置された基板ＳＢとブランケットＢＬとのそれぞれに形成されたアライメントマークをアライメントカメラ３８１，３８２によりそれぞれ撮像する。これにより基板ＳＢとブランケットＢＬとの相対的な位置関係が把握されるから、その位置関係を予め定められたものと一致させるようにアライメント機構３７によりアライメントステージ３０を移動させることにより、基板ＳＢとブランケットＢＬとの相対位置が調整される。
【００５１】
ブランケットＢＬに形成されたパターンを基板ＳＢの適正位置に転写するためには、基板ＳＢとブランケットＢＬとの、より具体的には基板ＳＢとブランケットＢＬ上のパターンとの相対的な位置合わせがなされれば足りる。また、アライメントマークを２箇所以上に設け、複数のアライメントカメラでそれぞれを撮像してアライメント調整に供することで、より高精度な位置合わせが可能となる。特に、Ｚ軸周りの回転方向における位置ずれに対しては、例えば基板ＳＢにおいて大きく離れた２点、例えば対角近傍に設けた２つのアライメントマークを用いてアライメント調整を行うことが有効である。
【００５２】
次に、転写ローラブロック５の転写ローラ５０１を所定の初期位置に位置決めする（ステップＳ１０５）。図５（ｂ）に示すように、転写ローラ５０１の初期位置は、上下方向にはブランケットＢＬから下方に離間した位置であり、またＹ方向には第１ハンド対３０１と第２ハンド対３０２との間で基板ＳＢの（−Ｙ）側端部の直下位置である。なお、転写ローラ５０１は当初からこの位置にあってもよく、またブランケットＢＬ等の搬入の際にブランケット保持機構３００から退避させておき、搬入後に初期位置に移動させる構成であってもよい。
【００５３】
そして、転写ローラ５０１を上方へ移動させてブランケットＢＬの下面に当接させ（ステップＳ１０６）、図５（ｃ）に示すように、ブランケットＢＬを押し上げて基板ＳＢに当接させる。ブランケットＢＬ下面のうち、このとき転写ローラ５０１が当接する位置を「当接開始位置」と称する。ブランケットＢＬにパターンが担持されているとき、パターンが基板ＳＢに密着する。次に、転写ローラ５０１をブランケットＢＬに当接させた状態のまま、転写ローラ５０１を（＋Ｙ）方向に移動開始させ（ステップＳ１０７）、その後は一定速度で（＋Ｙ）方向へ進行させる。これにより、ブランケットＢＬと基板ＳＢとが当接する領域が、（＋Ｙ）方向に広がってゆく。
【００５４】
転写ローラ５０１から見て（＋Ｙ）側を、転写ローラ５０１が進行してゆく進行方向の前方または下流側と称する。また、転写ローラ５０１からみて（−Ｙ）側を、転写ローラ５０１の進行方向の後方または上流側と称する。
【００５５】
続いて、転写ローラ５０１の上流側に位置する第１ハンド対３０１の吸着パッドを図３（ｃ）に示す吸着位置に上昇させ、負圧供給部９２からの負圧を供給して吸着パッドによる吸着を開始するとともに、第１ハンド対３０１の下降を開始する（ステップＳ１０８）。ブランケットＢＬを吸着パッドにより強力に吸着しながらハンド対３０１が下降することで、ブランケットＢＬの（−Ｙ）側端部が下方へ引き下げられる。これにより、ブランケットＢＬと基板ＳＢとの間は基板ＳＢの（−Ｙ）側端部から次第に離間し、両者の剥離が開始される。
【００５６】
以後、転写ローラ５０１は（＋Ｙ）方向へ進行するが、その前方では各ハンド対３０２〜３０６がブランケットＢＬ下面を支持しており、転写ローラ５０１の進行と干渉する。これを回避するため、転写ローラ５０１の進行に合わせて各ハンド対を下降させ、転写ローラ５０１と干渉しない退避位置へ退避させる。具体的には次のようにする。
【００５７】
第Ｎハンド対（Ｎ＝２〜５）のそれぞれに対応して、当該ハンド対の下降を開始するべきタイミングを規定する転写ローラ５０１の位置が下降開始位置として予め定められる。この下降開始位置の意味するところは、（＋Ｙ）方向へ進んでくる転写ローラ５０１が当該下降開始位置に到達したときに第Ｎハンド対の下降を開始させれば、転写ローラ５０１が到達する前に第Ｎハンド対を転写ローラ５０１と干渉しない退避位置まで退避させることができるということである。
【００５８】
各ハンド対はブランケットＢＬを下方から当接することでブランケットＢＬを水平姿勢に保持するとともに基板ＳＢとのギャップＧを一定に保つ機能を有している。したがって、ハンド対を下降させるタイミングが早すぎるとブランケットＢＬが撓んでギャップ変動が生じる。これを回避するために、下降開始位置は、転写ローラ５０１とハンド対との干渉が生じない範囲でできるだけハンド対に近い位置であることが望ましい。
【００５９】
このように設定された下降開始位置に転写ローラ５０１が到達すると（ステップＳ１０９）、当該下降開始位置に対応する第Ｎハンド対の下降を開始させる（ステップＳ１１０）。当該ハンド対に設けられた吸着孔による吸着については、下降を開始する直前に解除する。これにより、ブランケットＢＬがハンド対の下降に追随して撓むのを防止することができる。弾性部材を用いた吸着パッドによる吸着では、負圧供給が停止されてから吸着が完全に解除されるまでに時間遅れがあり、これによりハンド対がブランケットＢＬを吸着したまま下降することがあり得るが、吸着孔による吸着とすることでこの問題は回避される。
【００６０】
図６（ａ）は第２ハンド対３０２が退避位置まで下降した状態を示している。退避位置は、ハンド上面が転写ローラ５０１の支持フレーム５０２の下面よりも下方となるようなハンドのＺ方向位置である。第２ハンド対３０２を構成するハンド５２１，５２６は先端部同士がＸ方向に離隔して配置されているから、転写ローラ５０１の支持脚５０３がハンド間の隙間を通って移動することができる。そして、転写ローラ５０１およびその支持フレーム５０２はハンドの上方を通過する。したがって、転写ローラ５０１と第２ハンド対３０２との干渉は回避される。
【００６１】
こうして第２ハンド対３０２が退避することで、転写ローラ５０１はさらに（＋Ｙ）方向へ移動することができる。転写ローラ５０１の通過後、第２ハンド対３０２は再び上昇し、ブランケットＢＬの下面に再当接する（ステップＳ１１１）。上昇とともに、第２ハンド対３０２のハンド３２１，３２６の吸着パッドが吸着位置に進出し、負圧供給部９２からの負圧供給が開始される。これにより、ブランケットＢＬの下面に再当接した第２ハンド対３０２は吸着パッドによりブランケットＢＬを離間前よりも強力に吸着する。吸着パッドによる吸着が開始された後、第２ハンド対３０２は再び下降に転じる。これにより、転写ローラ５０１の上流側においてブランケットＢＬがさらに下方へ引き下げられ、基板ＳＢからの剥離がさらに進行する。
【００６２】
より下流側に配置されたハンド対についても同様である。すなわち、転写ローラ５０１が基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部よりも（＋Ｙ）側に設定された終了位置に到達するまでステップＳ１０９〜Ｓ１１１の処理を繰り返すことで（ステップＳ１１２）、各ハンド対３０３〜３０５は、転写ローラ５０１が当該ハンド対に対応して設定された下降開始位置まで近づいてきたタイミングでブランケットＢＬ下面から離間して退避位置へ下降する。そして、転写ローラ５０１の通過後に再び上昇してブランケットＢＬを吸着した後、再度下方へ移動する。下降後のハンド対については、基板ＳＢから下方へ十分に離間した位置まで到達し、より下流側に位置するハンド対によるブランケットＢＬの剥離が開始された後はその位置に留まってよい。
【００６３】
図６（ｂ）は、転写ローラ５０１の通過後に第２ハンド対３０２がブランケットＢＬに向かって上昇する一方、転写ローラ５０１の接近を受けて第３ハンド対３０３が退避位置まで下降した状態を示している。また、図６（ｃ）は、転写ローラ５０１が第３ハンド対３０３の位置を通過し、第３ハンド対３０３がブランケットＢＬに向けて上昇する一方、転写ローラ５０１の前方にある第４ハンド対３０４が退避位置への下降を開始した状態を示している。
【００６４】
また図７（ａ）は、転写ローラ５０１通過後の第４ハンド対３０４が上昇に転じる一方、第５ハンド対３０５が退避位置に向けて下降し、また第３ハンド対３０３がブランケットＢＬを吸着しながら下降している状態を示している。さらに図７（ｂ）は、転写ローラ５０１が第５ハンド対３０５の位置を通過して基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部近傍まで到達した状態を示している。この状態では、ブランケットＢＬから基板ＳＢへのパターン転写がほぼ終了している。
【００６５】
図７（ｃ）に示すように、転写ローラ５０１が基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部またはそれよりさらに（＋Ｙ）側の終了位置まで到達すると、基板ＳＢの全体について、ブランケットＢＬの当接および剥離が完了する。転写ローラ５０１が基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部に到達するまでブランケットＢＬの姿勢を維持するために、基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部よりもさらに（＋Ｙ）側でブランケットＢＬを支持する第６ハンド対３０６が必要である。
【００６６】
転写ローラ５０１が終了位置に到達すると（ステップＳ１１２）、転写ローラ５０１の移動を停止するとともに（ステップＳ１１３）、転写ローラ５０１を下方へ移動させてブランケットＢＬから離間させる。ここでは、ブランケットＢＬ下面のうち、転写ローラ５０１が最後に当接する位置を「当接終了位置」と称する。さらに、各ハンド対３０１〜３０６を同じ高さに位置決めする。
【００６７】
この時点で、ブランケットＢＬは基板ＳＢから完全に離間されて、ブランケット支持機構３００の各ハンド対３０１〜３０６により支持された状態である。剥離が終了すると、ハンド対の吸着パッドによる吸着を解除し、吸着パッドを後退位置へ後退させる（ステップＳ１１４）。そして、上ステージ７１を上方に離間させてパターン転写後の基板ＳＢおよびブランケットＢＬをそれぞれ搬出することで（ステップＳ１１５）、転写処理が完了する。
【００６８】
転写処理における各ハンド対の動きを転写ローラ５０１側から見れば以下の通りである。転写ローラ５０１の進行方向前方側では、最も手前、つまり最上流側にあるハンド対が、転写ローラ５０１が所定距離まで近づくと下降して、転写ローラ５０１の進路を創出する。一方、転写ローラ５０１の後方、つまり進行方向の上流側では、退避位置まで下降していたハンド対が上昇してきてブランケットＢＬに再当接し、ブランケットＢＬを吸着して引き下げることで、基板ＳＢから剥離させてゆく。
【００６９】
このように、転写ローラ５０１の進行に伴って、転写ローラ５０１の進行方向前方（下流側）ではハンド対が順次下降して、転写ローラ５０１の進路が確保される。また、転写ローラ５０１がブランケットＢＬと当接する当接位置では、ブランケットＢＬの上面に担持されたパターンが基板ＳＢに押し付けられて、パターンが基板ＳＢに転写される。一方、転写ローラ５０１の進行方向後方（上流側）では、基板ＳＢに密着されたブランケットＢＬがハンド対により吸着保持されながら下方へ引き下げられて、基板ＳＢから剥離される。こうして転写ローラ５０１の上流側および下流側でその進行に同期して各ハンド対が上下動することにより、この実施形態では、ブランケットＢＬから基板ＳＢへのパターン転写と、基板ＳＢからのブランケットＢＬの剥離とを同時に進行させることができる。
【００７０】
この間、転写ローラ５０１の進行方向下流側では、転写ローラ５０１の到達直前までハンド対がブランケットＢＬを支持することで、ブランケットＢＬと基板ＳＢとのギャップが適正に維持される。このため、ギャップ変動に起因するブランケットＢＬの押し上げ量の変化によってパターンの転写位置ずれが生じるのを防止することができる。すなわちブランケットＢＬから基板ＳＢへのパターン転写を、パターンにダメージを与えることなく良好に行うことができる。
【００７１】
また転写ローラ５０１の進行方向上流側では、上流側に位置するハンド対から順に、ブランケットＢＬを吸着保持しながら下降することにより、ブランケットＢＬが基板ＳＢから剥離される。ブランケットＢＬが上流側から下流側に向けて一方向に剥離が進行し、またハンド対の下降速度により剥離の進行速度が制御されるので、基板ＳＢとブランケットＢＬとの剥離を良好に行うことができ、剥離の進行速度の変動に起因するパターンの損傷が防止される。したがって、パターン転写後のブランケットＢＬと基板ＳＢと剥離を、パターンにダメージを与えることなく良好に行うことができる。
【００７２】
特に、転写ローラ５０１の進行に応じて、転写ローラ５０１の上流側で転写ローラ５０１に最も近いハンド対でブランケットＢＬを吸着して基板ＳＢから剥離させることで、転写ローラ５０１とブランケットＢＬとが当接する当接領域の上流側端部、つまり剥離済み領域と未剥離領域との境界で基板ＳＢとブランケットＢＬとがなす角（例えば図６（ｃ）における角θ）をほぼ一定とすることができる。これにより、両者を引き離す剥離力をほぼ一定に保ちながら剥離を進行させることができる。このことは、剥離力の変動に起因してパターンに局所的な応力集中が作用するのを防止することにつながり、より良好に剥離を行うことができる。
【００７３】
すなわち、この実施形態において、ハンド３１１〜３６６は、転写ローラ５０１の進行方向前方（下流）側においてブランケットＢＬの姿勢および基板ＳＢとのギャップを維持する機能と、転写ローラ５０１の進行方向後方（上流）側においてブランケットＢＬを基板ＳＢから剥離する剥離手段としての機能とを兼備している。また、転写ローラ５０１は、ブランケットＢＬを基板ＳＢに押し当ててパターンを転写させる本来の転写ローラとしての機能と、その進行方向上流側で実行される基板ＳＢとブランケットＢＬとの剥離の進行を制御する剥離制御ローラとしての機能とを兼備している。
【００７４】
そして、この実施形態では、ブランケットＢＬから基板ＳＢへのパターン転写と、転写後の両者の剥離とが並行して行われることにより、転写から剥離に至る一連のパターン形成プロセスを短時間かつ連続的に効率よく終了させることができ、パターン形成のスループットを向上させることができる。また、転写と剥離とを一体の装置で実行することができ、これら２つの処理を個別の装置で実行する従来の装置に比べて装置のフットプリントを大幅に小さくすることができる。特にハンドおよび転写ローラがそれぞれ転写のための機能と剥離のための機能とを兼備するため、転写または剥離の単機能のみを実行する装置と同程度のサイズで両機能を実現することが可能となる。
【００７５】
以上説明したように、この実施形態では、ブランケットＢＬが本発明の「担持体」に相当しており、「被転写物」としてのパターンを担持するブランケットＢＬの上面が「担持面」に相当し、下面が「他方面」に相当する。そして、基板ＳＢが本発明の「転写媒体」に相当し、その下面が「被転写面」に相当している。また、この実施形態では、Ｘ方向が本発明の「第１方向」に相当する一方、Ｙ方向が「第２方向」に相当する。
【００７６】
また、上記実施形態では、各ハンド対３０１〜３０６がそれぞれ本発明の「保持部」として機能しており、これらの集合体であるブランケット保持機構３００が、本発明の「担持体保持手段」に相当している。また昇降機構３１２，３１７，３２２，３２７，３３２，３３７，３４２，３４７，３５２，３５７，３６２，３６７およびハンド昇降制御部９４が一体として本発明の「保持部駆動機構」として機能している。そして、ハンド３１１の上面３１１ａが本発明の「当接面」に相当し、貫通孔３１１ｂが本発明の「凹部」として、また貫通孔３１１ｃおよび吸着パッド３１３が本発明の「吸着部」として、それぞれ機能している。また、上記実施形態では、転写ローラ５０１が本発明の「ローラ部材」として機能している。
【００７７】
また、上記実施形態では、図４のステップＳ１０２が本発明の「第１工程」に相当し、ステップＳ１０１、Ｓ１０３が本発明の「第２工程」に相当する。また、ステップＳ１０６が本発明の「第３工程」に相当する。また、ステップＳ１０７、Ｓ１１０が本発明の「第４工程」に相当する一方、ステップＳ１０８，Ｓ１１１が本発明の「第５工程」に相当する。さらに、ステップＳ１０４が本発明の「第６工程」に相当している。
【００７８】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、Ｘ方向に並べて配置された１対の昇降ハンドユニットからなるハンドユニット対をＹ方向に複数対並べたものであるが、これは転写ローラ５０１の支持脚５０３を通過させる必要性から生じた構成であり、このような構成に限定されるものではない。例えば次のような構成であってもよい。
【００７９】
図８はこの発明にかかる転写装置の他の構成例を示す図である。図８（ａ）に示す例では、Ｙ方向に延びるガイドレール２０１，２０１がＸ方向に位置を異ならせて２本設けられ、転写ローラ２０２の両端部をそれぞれ支持する支持部材２０３が、それぞれガイドレール２０１に係合している。このような機構により、転写ローラ２０２はＹ方向に移動可能となっている。この場合、ハンドの間に転写ローラの支持脚を通すためのスペースが不要である。したがって、Ｘ方向に連続して延設されたハンド２１１〜２１６により、ブランケットＢＬを支持することが可能である。そして、Ｙ方向に配列された複数のハンド２１１〜２１６を転写ローラ２０２の進行に応じて昇降させることで、上記実施形態と同様に転写処理を実行することができる。
【００８０】
また、図８（ｂ）の例では、上記実施形態と同様のローラユニット５０を有するが、Ｘ方向に延設されるハンドに代えて、Ｘ方向に複数並べて配設された支持部材２２１によってブランケットＢＬを支持する。各支持部材２２１は上面に設けられた凹部に吸着パッド２２２を有している。Ｘ方向に配列された複数の支持部材２２１を同一高さに維持しつつ、Ｙ方向に並ぶ各支持部材２２１を順次昇降させることで、上記実施形態と同様に転写処理を実行することができる。このように、ブランケットＢＬを保持する保持部は、Ｘ方向に延設された部材によるもののみならず、Ｘ方向に配列された複数の部材によっても実現可能である。
【００８１】
また例えば、上記実施形態ではブランケットＢＬを基板ＳＢに向けて押し上げるのに先立ってアライメント調整を実行しているが、この処理は省くことも可能である。すなわち、基板ＳＢおよびブランケットＢＬが搬入される際に十分な位置精度を確保することができる場合や、高い位置合わせ精度を要求されない場合にはアライメント調整を省いてもよい。また、パターニング工程において本装置が使用される場合、ブランケットＢＬに形成されるアライメントマークがパターンと同じ材料によりパターンと同時にパターニングされるものであれば基板ＳＢに転写すべきパターンとアライメントマークとの間で位置ずれが生じることはない。したがって、パターニング工程において版とブランケットとを精密に位置合わせする必要はなく、アライメント調整を省くことができる。
【００８２】
また例えば、上記実施形態では剥離後に基板ＳＢとともにブランケットＢＬを搬出しているが、ブランケットＢＬを装置内に残置することが有効な場合もある。すなわち、ブランケットＢＬ上のパターン形成材料を版によりパターニングするパターニング工程と、パターニングされたパターンをブランケットＢＬから基板ＳＢに転写する転写工程とをいずれも本転写装置１で実行する場合には、パターニングされたブランケットＢＬを残置したまま版を搬出し、次いで基板ＳＢを搬入して転写を行うようにすれば、この間ブランケットＢＬを搬出する必要はない。
【００８３】
また例えば図６（ｂ）に示したように、上記実施形態では、いったんブランケットから離間したハンド対が再当接するよりも前に、当該ハンド対の下流側に隣接するハンド対の下降が始まっている。一方、これに代えて、いったん下降したハンド対がブランケットに再当接した後に次のハンド対が下降を開始する態様も考えられる。これらは主として装置の機構上の制約、例えばハンドの昇降速度やそのストローク、配列ピッチ、転写ローラのサイズや移動速度等に応じて適宜選択されるべきものであり、本発明がいずれかの態様に限定されるものではない。
【００８４】
また例えば、上記実施形態では本発明の保持部として合計６対のハンド対を設けているが、保持部の数はこれに限定されず、ブランケット（担持体）のサイズやその剛性に応じて適宜増減することができる。ただし、転写ローラが当接しない担持体の両端部の姿勢を保持するために、転写ローラの移動範囲よりも上流側および下流側にそれぞれ最低１つずつの保持部が設けられることが望ましい。また、転写ローラの移動中のブランケットの姿勢維持および基板からの剥離をスムーズに行うためには、転写ローラの移動範囲内に少なくとも２つの保持部を設けることが望ましい。もちろん保持部の数を多くすることでより細かな姿勢制御および剥離制御が可能となるが、保持部の配列ピッチが小さくなるため、幾つもの保持部を同時に下降させる必要が生じて数を多くした意義が薄れる可能性があり、また当然に制御が複雑となる。
【００８５】
また例えば、上記実施形態では、搬入されたブランケットＢＬを比較的弱い吸着力で吸着保持するための吸着孔として機能する貫通孔３１１ｃをハンド３１１等に設けているが、例えば吸着パッド３１３を貫通孔３１１ｂ内の後退位置に後退させブランケットＢＬ下面から離間させた状態で負圧を付与することで、貫通孔３１１ｂを吸着孔として機能させてもよい。
【００８６】
また、上記実施形態の制御ブロック９は負圧供給部９２を備えているが、例えば工場用力など外部から供給される負圧を利用可能である場合には、制御ブロック９が負圧供給部を備えていなくてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８７】
この発明は、被転写物を担持する担持体から該被転写物を転写媒体に転写する技術に適用することができる。特に、担持体と転写媒体を密着させた後に剥離することにより行う被転写物の転写を良好な品質かつ短時間で行うことができ、また装置の小型化を図ることも可能である。なお、被転写物はパターンに限らず、例えば保護膜やレジスト膜のような薄膜であってもよい。
【符号の説明】
【００８８】
１  転写装置
７１  上ステージ（転写媒体保持手段）
９４  ハンド昇降制御部（保持部駆動機構）
３００  ブランケット保持機構（担持体保持手段）
３０１〜３０６  ハンド対（保持部）
３１１，３１６，３２１，３２６，３３１，３３６，３４１，３４６，３５１，３５６，３６１，３６６  ハンド
３１１ａ  （ハンド３１１の）上面３１１ａ（当接面）
３１１ｂ  貫通孔（凹部）
３１１ｃ  貫通孔（吸着部）
３１２，３１７，３２２，３２７，３３２，３３７，３４２，３４７，３５２，３５７，３６２，３６７  昇降機構（保持部駆動機構）
３１３  吸着パッド（吸着部）
５０１  転写ローラ（ローラ部材）
Ｓ１０１、Ｓ１０３  第２工程
Ｓ１０２  第１工程
Ｓ１０４  第６工程
Ｓ１０６  第３工程
Ｓ１０７、Ｓ１１０  第４工程
Ｓ１０８，Ｓ１１１  第５工程
ＢＬ  ブランケット（担持体）
ＳＢ  基板（転写媒体）
【図１】
2014188913.tif 000003
【図２】
2014188913.tif 000004
【図３】
2014188913.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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