(57)【要約】【課題】耐熱透明性、高硬度、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する高い密着性を有する膜が得られ、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対してグラビアオフセット印刷可能である、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）成分：カルボキシル基を含有するアクリルポリマー、（Ｂ）成分：４官能以上の多官能（メタ）アクリレート又は脂環式エポキシ化合物、（Ｃ）成分：ラジカル開始剤、及び、（Ｄ）成分：沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒を含有することを特徴とするグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）成分：カルボキシル基を含有するアクリルポリマー
（Ｂ）成分：４官能以上の多官能（メタ）アクリレート又は脂環式エポキシ化合物
（Ｃ）成分：ラジカル開始剤、及び
（Ｄ）成分：沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒
を含有することを特徴とするグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物。
【請求項２】
（Ｅ）成分として界面活性剤をさらに含有する、請求項１に記載のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物。
【請求項３】
（Ｆ）成分としてシランカップリング剤をさらに含有する、請求項１又は請求項２に記載のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物から形成された絶縁膜。
【請求項５】
請求項４に記載の絶縁膜を有するタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物、当該組成物から形成された絶縁膜、及び当該絶縁膜を有するタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイ一体型の入力装置としてのタッチパネルは、使い勝手のよさから広く利用されている。タッチパネルの方式には様々な種類があり、抵抗膜方式、静電容量方式等が知られている（特許文献１、２参照）。タッチパネルの透明電極間には絶縁膜が介在しており、この絶縁膜の透過率が低いとタッチパネルの透明性が低下し、表示精度が損なわれる（特許文献３参照）。そのためこの絶縁膜には透明性が高く、基板の高温処理を行っても透明性を損なわない絶縁材料が求められている。またこうした絶縁材料には、透明電極及び基板との高い密着性、タッチパネルの製造工程で傷が発生しないだけの高い硬度も求められている。
【０００３】
高透明性、高硬度といった特性を持つ硬化膜が得られる材料として、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂と光ラジカル開始剤、多官能モノマー、シランカップリング剤を組み合わせた組成物が知られている（特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−４８６２５号公報
【特許文献２】特開２００６−１１５２３号公報
【特許文献３】実開平５−４３１２４号公報
【特許文献４】特開２０１２−８８６１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述の組成物はネガ型感光性樹脂組成物であるため、絶縁膜を形成するためには、材料を基板へ塗布後、焼成、露光、現像、更なる焼成というフォトリソグラフィー工程を行う必要があり、製造を行う上で工程数が多いことが課題とされていた。
【０００６】
本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、高耐熱透明性、高硬度、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する高い密着性を有する膜が得られ、従来の工程数の多いフォトリソグラフィー工程を経ることなく、グラビアオフセット印刷法、スクリーン印刷法といった印刷法を用いてより少ない工程にて硬化膜を形成できる、新たな絶縁膜形成組成物、及び当該組成物から形成された絶縁膜、及び当該絶縁膜を有するタッチパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー、硬化剤、ラジカル開始剤及び沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒を使用することにより本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（Ａ）成分：カルボキシル基を含有するアクリルポリマー
（Ｂ）成分：４官能以上の多官能（メタ）アクリレート又は脂環式エポキシ化合物
（Ｃ）成分：ラジカル開始剤、及び
（Ｄ）成分：沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒
を含有することを特徴とするグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物は、高耐熱透明性、高硬度、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する高い密着性を有する膜を形成することができる。
また該組成物は、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対してグラビアオフセット印刷又はスクリーン印刷可能であるため、従来の絶縁材料として提案された感光性樹脂組成物で必要とされた複数工程を要するリソグラフィー工程を必要とせず、印刷（塗布）、焼成の僅かな工程で、微細なパターンにて硬化膜（絶縁膜）を形成できる。
そして得られた硬化膜は、上述の如く耐熱透明性や硬度が高く、基板及び電極への高い密着性を有することから、タッチパネル用絶縁膜として好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
上述したように、従来のリソグラフィー技術を適用した感光性樹脂組成物を用いた絶縁膜（硬化膜）の形成には、複数の工程を経る必要があり、より少ない工程で膜形成できる絶縁材料が求められていたが、耐熱透明性、高硬度、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する高い密着性等を備える絶縁材料はこれまでに報告されていない。
そこで本発明者らは、フォトリソグラフィー工程を経由することなく基板に直接絶縁膜を印刷でき、また、絶縁膜の形成パターンを微細に構築できる方法として、グラビアオフセット印刷法又はスクリーン印刷法を採用した場合に使用可能な絶縁材料を種々検討し、本発明を完成させたものである。
而して本発明は、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー、硬化剤、ラジカル開始剤及び沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒を使用することで、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対してグラビアオフセット印刷法又はスクリーン印刷法により目的とする絶縁膜のパターン形成が可能となり、また印刷後に得られた絶縁膜が高耐熱透明性、高硬度、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する高い密着性を有することに特徴がある。
【００１０】
すなわち本発明は、
（Ａ）成分：カルボキシル基を含有するアクリルポリマー、
（Ｂ）成分：４官能以上の多官能（メタ）アクリレート又は脂環式エポキシ化合物、
（Ｃ）成分：ラジカル開始剤、及び
（Ｄ）成分：沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒
を含有することを特徴とするグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物である。
また本発明は、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分に加えて、更に、（Ｅ）成分として界面活性剤及び／又は（Ｆ）成分としてシランカップリング剤をも含有することのできるグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物である。
以下、各成分について詳細に説明する。
【００１１】
＜（Ａ）成分＞
本発明の組成物に用いられる（Ａ）成分は、カルボキシル基を有するセグメントを含む共重合体（Ｉ）（すなわち下記式（Ｉ）に示す（メタ）アクリル酸由来の構造単位と（メタ）アクリル酸エステルモノマー由来の構造単位とを含む共重合体）、もしくはカルボキシル基を有するセグメントを含む共重合体（Ｉ）に一分子中に一個以上の（メタ）アクリル基とエポキシ基を有するエポキシ基含有不飽和化合物を開環付加反応させて得られる共重合体（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）である。なお、本明細書では（メタ）アクリル酸とは、ア
クリル酸とメタクリル酸の両方を表し、（メタ）アクリル基は、アクリル基とメタクリル基の両方を表し、（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタクリレートの両方を表す。
【化１】
2014088504.tif 000002
（式中、２つのＲ１は同一又は異なってもよく水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１乃至５の直鎖又は分岐鎖構造のアルキル基を表す。）
【化２】
2014088504.tif 000003
【化３】
2014088504.tif 000004
（式中、４つのＲ１は同一又は異なってもよく水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１乃至５の直鎖又は分岐鎖構造のアルキル基を表す。）
【００１２】
共重合体（Ｉ）としては、例えば、メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体が挙げられる。
【００１３】
アクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、２−プロピル−２−アダマンチルアクリレート、アクリロイルオキシ−γ−ブチロラクトン、８−メチル−８−トリシクロデシルアクリレート、８−エチル−８−トリシクロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、カプロラクトン２−（アクリロイルオキシ）エチルエステル、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルアクリ
レート、及び５−アクリロイルオキシ−６−ヒドロキシノルボルネン−２−カルボキシリック−６−ラクトンが挙げられる。
【００１４】
メタクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、２−メチル−２−アダマンチルメタクリレート、メタクリロイルオキシ−γ−ブチロラクトン、２−プロピル−２−アダマンチルメタクリレート、８−メチル−８−トリシクロデシルメタクリレート、８−エチル−８−トリシクロデシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン２−（メタクリロイルオキシ）エチルエステル、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルメタクリレート及び５−メタクリロイルオキシ−６−ヒドロキシノルボルネン−２−カルボキシリック−６−ラクトンが挙げられる。
【００１５】
（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。中でも、メチルメタクリレート（メタクリル酸メチル）を用いると、硬化膜形成時の加熱処理を経ても高い透明性を維持することができるために好ましい。
【００１６】
共重合体（Ｉ）は、（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸エステルモノマーを共重合することにより製造される。重合方法としては、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等を採用し得る。これらのうち、特にラジカル重合が好ましく、具体的には、溶媒中、上記重合性化合物（（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルモノマー）を重合開始剤の存在下で加熱し、重合させればよい。
【００１７】
上記重合開始剤としては、従来公知のものから適宜選択して用いることができる。例えば、パーロイルＩＢ、パークミルＮＤ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＩＰＰ、パーロイルＳＢＰ，パーオクタＮＤ、パーロイルＴＣＰ、パーロイルＯＰＰ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ、パーヘキシルＰＶ、パーブチルＰＶ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーオクタＯ、パーロイルＳＡ、パーヘキサ２５０、パーヘキシルＯ、ナイパーＰＭＢ、パーブチルＯ、ナイパーＢＭＴ、ナイパーＢＷ、パーヘキサＭＣ、パーヘキサＴＭＨ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーテトラＡ、パーヘキシルＩ、パーブチルＭＡ、パーブチル３５５、パーブチルＬ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキシルＺ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーヘキサ２２、パーブチルＺ、パーヘキサパーＶ、パーブチルＰ、パークミルＤ、パーヘキシルＤ、パーヘキサ２５Ｂ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーメンタＨ、パーヘキシン２５Ｂ、パークミルＰ、パーオクタＨ、パークミルＨ、パーブチルＨ、ノフマーＢＣ（以上、日油株式会社製）、Ｖ−７０、Ｖ−６５、Ｖ−６０、Ｖ−５９、Ｖ−４０、Ｖ−３０、ＶＡ−０４４、ＶＡ−０４６Ｂ、ＶＡ−０６１、Ｖ−５０、ＶＡ−０５７、ＶＡ−０８６、ＶＦ−０９６、ＶＡｍ−１１０、Ｖ−６０１、Ｖ−５０１（以上、和光純薬工業株式会社）が挙げられる。
【００１８】
上記重合開始剤の使用量は、前記重合性化合物に対して、０．０１質量％乃至１０質量％程度が好ましい。重合時の反応温度は０℃から使用する溶媒の沸点までで適宜設定すればよいが、５０℃乃至１２０℃程度が好ましい。反応時間は、０．１時間乃至３０時間程度が好ましい。
【００１９】
重合反応に用いられる溶媒としては、特に限定されないが、上記重合反応で一般的に使用されている各種溶媒から適宜選択して用いればよい。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、メチルフェニルエーテル、１，４−ジオキサン、ジエチルアセタール、ブタノール、２−ブタノール、イソアミルアルコール、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、酢酸イソブチル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、デカン、ドデカン、ｐ−メンタン、ジペンテン、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、メトキシメトキシエタノール、エチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリグリコールジクロリド、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１−ブトキシエトキシプロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリメチレングリコール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタジオール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコール、グリセリン、ヘキサクロロエタン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、ジクロロエチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ｎ−ヘキシルエーテル、エチルフェニルエーテル、エチルベンジルエーテル、シオネール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチルヘキサノール、３，５，５−トリメチルヘキサノール、ノナノール、ｎ−デカノール、トリメチルノニルアルコール、２−メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、α−テルピネオール、アビエチノール、セトニルアセトン、ホロン、イソホロン、アセトフェノン、酢酸メトキシブチル、酢酸−２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ベンジル、酪酸イソアミル、ステアリン酸ブチル、アセト酪酸エチル、イソ吉草酸イソアミル、乳酸（ｎ−，ｉｓｏ−）ブチル、乳酸−ｎ−アミル、乳酸−ｉｓｏ−アミル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、サリチル酸メチル、シュウ酸ジブチル、マロン酸ジエチル、無水酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、２−エチル酸、カプリル酸、２−エチルヘキサン酸、トリクロロ酢酸、乳酸、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、α−トルニトリル、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、２−ピロリドンが挙げられる。これらの溶媒は単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。
【００２０】
なお、本発明に用いられる共重合体（Ｉ）は、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体のいずれでもよい。
【００２１】
共重合体（ＩＩ）は、前記共重合体（Ｉ）に対して一分子中に一個以上の（メタ）アク
リル基とエポキシ基を有するエポキシ基含有不飽和化合物、具体的には（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレートを開環付加反応により付加させることにより得られる。
なお、共重合体（ＩＩ）に該当する製品としては、例えば、ダイセル・サイテック株式会社製「サイクロマーＰ」が市販されており、本発明において（Ａ）成分として使用できる。前記サイクロマーＰには、（ＡＣＡ）Ｚ２５０、（ＡＣＡ）Ｚ２５１、（ＡＣＡ）Ｚ３００、（ＡＣＡ）Ｚ３２０の４銘柄が市販されており、いずれの銘柄の製品も本発明において（Ａ）成分として使用できる。
【００２２】
共重合体（ＩＩＩ）は、前記共重合体（Ｉ）に対して一分子中に一個以上の（メタ）アクリル基とエポキシ基を有するエポキシ基含有不飽和化合物、具体的にはグリシジル（メタ）アクリレートを開環付加反応により付加させることにより得られる。
【００２３】
前記共重合体（Ｉ）と一分子中に一個以上の（メタ）アクリル基とエポキシ基を有するエポキシ基含有不飽和化合物（（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート又はグリシジル（メタ）アクリレート）との開環付加反応は、例えば、特開平１０−１０７２６号公報、特開平１０−８７７２５号公報に開示されているように、溶媒及びトリフェニルホスフィンなどの触媒の存在下に反応温度６０℃乃至１２０℃で実施することができる。
なお前記共重合体（Ｉ）の共重合時に、一分子中に一個以上の（メタ）アクリル基とエポキシ基を有するエポキシ基含有不飽和化合物を投入し、共重合と同時に付加させてもよい。
【００２４】
本発明に含まれる（Ａ）成分は、グラビアオフセット印刷法又はスクリーン印刷法を用いて、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対して目的とする絶縁膜のパターンの形成を可能にする、すなわち印刷性と基板及び電極に対する密着性に関連する成分である。
（Ａ）成分である共重合体（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の含有量は、本発明のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物の固形分中１０質量％乃至９０質量％がよく、より好ましくは固形分中２０質量％乃至７０質量％である。含有量が固形分中１０質量％未満では印刷性が悪化し、固形分中７０質量％を超える場合でもグラビアオフセット印刷を行った際に、印刷性が悪化する場合がある。
（Ａ）成分である共重合体（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）の重量平均分子量は、２，０００乃至１００，０００がよく、より好ましくは５，０００乃至５０，０００である。重量平均分子量が２，０００未満であると耐熱透明性が悪化する場合があり、重量平均分子量が５０，０００を超えると高粘度となり、グラビアオフセット印刷を行った際に、印刷性が悪化する場合がある。
【００２５】
＜（Ｂ）成分＞
本発明の組成物に用いられる（Ｂ）成分は、４官能以上の多官能（メタ）アクリレート又は脂環式エポキシ化合物であり、本成分は硬化剤として含まれる。
【００２６】
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、テトラペンタエリスリトールノナアクリレート、テトラペンタエリスリトールデカアクリレート、ペンタペンタエリスリトールウンデカアクリレート、ペンタペンタエリスリトールドデカアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、テトラペンタエリスリトールノナメタクリレート、テトラペンタエリスリトールデカメタクリレート、ペンタペンタエリスリトールウンデカメタクリ
レート又はペンタペンタエリスリトールドデカメタクリレートが挙げられる。
【００２７】
これらの４官能以上の多官能（メタ）アクリレートは単独で、又は２種類以上を混合して使用することができる。１分子に４個以上のアクリル基又はメタクリル基を持つアクリレート又はメタクリレートを用いると、高硬度な絶縁膜が得られるため好ましい。特に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレートを用いることが好ましい。
【００２８】
脂環式エポキシ化合物としては、エポキシ基又はオキシラン環を有する化合物であり、例えば、エポリード（登録商標）ＧＴ−４０１、同ＰＢ３６００、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０００、同３０００、ＥＨＰＥ３１５０、同ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ、サイクロマー（登録商標）Ｍ１００（以上、株式会社ダイセル製）が挙げられる。
【００２９】
これらの脂環式エポキシ化合物は単独で、又は２種類以上を混合して使用することができる。これらの中で、得られる絶縁膜の硬度及び耐熱透明性の観点から、エポキシ基を２つ以上有する脂環式エポキシ化合物であるエポリード（登録商標）ＧＴ−４０１及びセロキサイド（登録商標）２０２１Ｐを用いることが好ましい。
【００３０】
４官能以上の多官能（メタ）アクリレート又は脂環式エポキシ化合物は、基板の高温処理により自己重合が進行し、本発明のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物から形成される硬化膜に硬度を付与させることができる。グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物における（Ｂ）成分の４官能以上の多官能（メタ）アクリレート又は脂環式エポキシ化合物の含有量は、前記組成物の固形分中１質量％乃至８０質量％がよく、より好ましくは固形分中５質量％５０質量％である。含有量が固形分中３質量％未満では硬度を得ることができず、固形分中５０質量％を超える場合はグラビアオフセット印刷を行った際に、印刷性が悪化する。
【００３１】
＜（Ｃ）成分＞
本発明の組成物に用いられる（Ｃ）成分であるラジカル開始剤は、すなわち熱ラジカル発生剤である。熱ラジカル発生剤としては、例えば、パーロイルＩＢ、パークミルＮＤ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＩＰＰ、パーロイルＳＢＰ，パーオクタＮＤ、パーロイルＴＣＰ、パーロイルＯＰＰ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ、パーヘキシルＰＶ、パーブチルＰＶ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーオクタＯ、パーロイルＳＡ、パーヘキサ２５０、パーヘキシルＯ、ナイパーＰＭＢ、パーブチルＯ、ナイパーＢＭＴ、ナイパーＢＷ、パーヘキサＭＣ、パーヘキサＴＭＨ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーテトラＡ、パーヘキシルＩ、パーブチルＭＡ、パーブチル３５５、パーブチルＬ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキシルＺ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーヘキサ２２、パーブチルＺ、パーヘキサパーＶ、パーブチルＰ、パークミルＤ、パーヘキシルＤ、パーヘキサ２５Ｂ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーメンタＨ、パーヘキシン２５Ｂ、パークミルＰ、パーオクタＨ、パークミルＨ、パーブチルＨ、ノフマーＢＣ（以上、日油株式会社製）、Ｖ−７０、Ｖ−６５、Ｖ−６０、Ｖ−５９、Ｖ−４０、Ｖ−３０、ＶＡ−０４４、ＶＡ−０４６Ｂ、ＶＡ−０６１、Ｖ−５０、ＶＡ−０５７、ＶＡ−０８６、ＶＦ−０９６、ＶＡｍ−１１０、Ｖ−６０１、Ｖ−５０１（以上、和光純薬工業株式会社製）が挙げられる。
【００３２】
上記（Ｃ）成分であるラジカル開始剤は、基板の高温処理によってラジカルが発生し、このラジカルによって（Ａ）成分である共重合体（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）と（Ｂ）成分である４官能以上の多官能（メタ）アクリレート又は脂環式エポキシ化合物との重
合が進行し、これにより、本発明のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物から形成される硬化膜に更なる硬度を付与させることができる。
熱ラジカル発生剤の含有量に特に制限はなく、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物の固形分中０．０１質量％乃至１０質量％であることが好ましい。上記範囲で使用することで、ラジカル硬化を十分に進めることができる。
【００３３】
＜（Ｄ）成分＞
本発明の組成物に用いられる（Ｄ）成分は、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒である。沸点を１００℃以上にすることで、グラビアオフセット又はスクリーン印刷時に溶媒が乾燥することなく良好な印刷性が得られる。一方、沸点を３００℃以下にした場合、熱処理後の絶縁膜中の残存溶媒量を少なく抑えることができる。
沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下である溶媒としては、具体的には、トルエン、キシレン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、メチルフェニルエーテル、１，４−ジオキサン、ジエチルアセタール、ブタノール、２−ブタノール、イソアミルアルコール、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、酢酸イソブチル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、デカン、ドデカン、ｐ−メンタン、ジペンテン、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、メトキシメトキシエタノール、エチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリグリコールジクロリド、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１−ブトキシエトキシプロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリメチレングリコール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタジオール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコール、グリセリン、ヘキサクロロエタン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、ジクロロエチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ｎ−ヘキシルエーテル、エチルフェニルエーテル、エチルベンジルエーテル、シオネール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチルヘキサノール、３，５，５−トリメチルヘキサノール、ノナノール、ｎ−デカノール、トリメチルノニルアルコール、２−メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、α−テルピネオール、アビエチノール、アセトニルアセトン、ホロン、イソホロ���、アセトフェノン、酢酸メトキシブチル、酢酸−２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ベンジル、酪酸イソアミル、ステアリン酸ブチル、アセト酪酸エチル、イソ吉草酸イソアミル、乳酸（ｎ−，ｉｓｏ−）ブチル、乳酸−ｎ−アミル、乳酸−ｉｓｏ−アミル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、サリチル酸メチル、シュウ酸ジブチル、マロン酸ジエチル、無水酪酸、吉
草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、２−エチル酸、カプリル酸、２−エチルヘキサン酸、トリクロロ酢酸、乳酸、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、α−トルニトリル、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、２−ピロリドンが挙げられる。
【００３４】
これらの溶媒は単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。これらの中で、印刷性の観点から、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルが特に好ましい。
【００３５】
溶媒の含有量は、特に制限なく任意の量を用いることができるが、特にグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物全体の３０質量％乃至７０質量％とするのが好ましい。
【００３６】
＜（Ｅ）成分＞
本発明においては（Ｅ）成分として界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンアセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤；１，１，２，２−テトラフルオロオクチル（１，１，２，２−テトラフルオロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロペンチル）エーテル、パーフルオロドデシルスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフルオロドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロデカン、Ｎ−［３−（パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル］−Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）、モノパーフルオロアルキルエチルリン酸エステルなどの末端、主鎖及び側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオロアルキル又はフルオロアルキレン基を有する化合物からなるフッ素系界面活性剤を挙げることができる。また市販品としては、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ４７５（以上、ＤＩＣ株式会社製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（三菱マテリアル電子化成株式会社製）、フロラードＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（住友スリーエム株式会社製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子株式会社製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００
（ＢＭケミー社製）、ＮＢＸ−１５、ＦＴＸ−２１８、ＤＦＸ−２１８（株式会社ネオス製）などのフッ素系界面活性剤がある。
シリコーン系界面活性剤の市販品としては、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ９４ＰＡ（いずれも東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ−３３３（ビックケミー・ジャパン株式会社製）が挙げられる。
【００３７】
これらの界面活性剤は単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。界面活性剤を用いることで、グラビアオフセット印刷法、スクリーン印刷法の印刷性が向上する場合もある。
【００３８】
＜（Ｆ）成分＞
本発明においては（Ｆ）成分としてシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤を用いることで、ガラス基板に対する密着性を向上させることができる。シランカップリング剤の例としては、具体的には、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリメトキシシラン、〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（３−トリメトキシシリルプロピル）コハク酸イミド、トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートが挙げられる。
【００３９】
シランカップリング剤の添加量に特に制限は無いが、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物全体に対して０．１質量％乃至１０質量％であることが好ましい。添加量が０．１質量％より少ないと添加による密着性向上の効果が十分ではなく、１０質量％より多いと上記組成物を保管中にシランカップリング剤同士が縮合反応し、ゲル化の原因となる。
【００４０】
＜絶縁膜形成組成物の調製方法＞
本発明のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、並びに所望により（Ｅ）成分及び／又は（Ｆ）成分が均一に混合した状態であればよい。また、（Ａ）成分乃至（Ｆ）成分を混合する際の順序は、均一な溶液が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該調製方法としては、例えば、（Ａ）成分に（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分を所定の割合で混合する方法が挙げられる。また、これに更に（Ｆ）成分を混合し、均一な溶液とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
【００４１】
＜絶縁膜及びタッチパネル＞
上述の本発明のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物から形成された絶縁膜、並びに該絶縁膜を有するタッチパネルも本発明の対象である。
上記絶縁膜は、まず前記グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物を、ガラス基板並びに基板上に形成された電極の上に、グラビアオフセット印刷又はスクリーン印刷した後、ホットプレート、オーブン等で予備乾燥して有機溶媒を除去し塗膜を形成する。塗膜は厚さ０．１μｍ乃至５０μｍ、乾燥温度は組成物に含まれる有機溶媒にもよるが、おおよそ８０℃乃至１５０℃の温度で行うことが好ましい。
次いで、得られた塗膜を加熱処理することにより、絶縁膜として使用できる硬化膜を形成する。上記加熱処理の方法としては特に限定されるものではないが、適切な雰囲気下、即ち大気、窒素等の不活性ガス、真空中等で、ホットプレート又はオーブンを用いて行う方法を例示することができる。加熱温度は、電極配線等の酸化を防ぎ、配線と基材との密着性を低下させないよう、例えば１００℃乃至２５０℃のから適宜選択される。このようにして得られた本発明の絶縁膜は、その膜厚（高さ）が０．５μｍ乃至３０μｍが好ましく、より好ましくは０．５μｍ乃至１０μｍである。
【実施例】
【００４２】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。下記合成例で得られる共重合体の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による測定結果から導出した。
装置：株式会社島津製作所製ＧＰＣシステム
ＧＰＣカラム：Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＫＬ−８０４Ｌ及び８０３Ｌ
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
流量：１ｍＬ／分
標準試料：ポリスチレン
【００４３】
（合成例１）メタクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体（Ｐ１）
１０００ｍＬの四つ口フラスコに、ジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）４８３．７ｇを入れ、窒素雰囲気下、８０℃（内温）で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業株式会社製）３００ｇ、メタクリル酸（東京化成工業株式会社製）１６．３ｇ、重合開始剤Ｖ−６０１（和光純薬工業株式会社製）６．２１ｇを混合させた溶液を２時間かけゆっくり滴下し、滴下後２０時間反応させた。反応後得られた固形分４０％の樹脂溶液をＰ１とした。重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算で３２，０００であった。
【００４４】
（合成例２）メタクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体（Ｐ２）
５００ｍＬの四つ口フラスコに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（東京化成工業株式会社製）１５０．７ｇを入れ、窒素雰囲気下、８０℃（内温）で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業株式会社製）８０ｇ、メタクリル酸（東京化成工業株式会社製）１７．２ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬工業株式会社製）３．２９ｇを混合させた溶液を２時間かけゆっくり滴下し、滴下後２０時間反応させた。反応後得られた固形分３９％の樹脂溶液をＰ２とした。重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算で３４，０００であった。
【００４５】
（合成例３）メタクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体（Ｐ３）
前記合成例２で得られた樹脂溶液（Ｐ２）に、グリシジルメタクリレート（東京化成工業株式会社製）７４．５４ｇ、トリフェニルホスフィン（東京化成工業株式会社製）０．７４５ｇ加えて、１００℃で１５時間反応させた。反応後得られた固形分５３％の樹脂溶液をＰ３とした。重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算で４２，０００であった。なおエポキシ価を測定した結果、グリシジルメタクリレートは全て反応していた。
【００４６】
（合成例４）メタクリル酸エステル重合体（Ｐ４）
１０００ｍＬの四つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（協和発酵ケミカル株式会社製）５０２．８ｇを入れ、窒素雰囲気下、８０℃（内温）で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業株式会社製）３００ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬工業株式会社製）６．５７ｇを混合させた溶液を２時間かけゆっくり滴下し、滴下後２０時間反応させた。反応後得られた固形分３８％の樹脂溶液をＰ４とした。重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算で３５，０００であった。
【００４７】
（合成例５）メタクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体（Ｐ５）
１０００ｍＬの四つ口フラスコに、メチルエチルケトン（東京化成工業株式会社製）４８３．７ｇを入れ、窒素雰囲気下、８０℃（内温）で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業株式会社製）３００ｇ、メタクリル酸（東京化成工業株式会社製）１６．３ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬工業株式会社製）６．２１ｇを混合させた溶液を２時間かけゆっくり滴下し、滴下後２０時間反応させた。反応後得られた固形分４０％の樹脂溶液をＰ５とした。重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算で２８，０００であった。
【００４８】
［グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物の調製］
＜実施例１＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）として樹脂溶液Ｐ１を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に６個のアクリル基を持つ４官能以上の多官能アクリレートＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬株式会社製）を１．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテルを２．６８ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１を調製した。
【００４９】
＜実施例２＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）として樹脂溶液Ｐ１を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に６個のアクリル基を持つ４官能以上の多官能アクリレートＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）を２．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を４．５４ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ２を調製した。
【００５０】
＜実施例３＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）として樹脂溶液Ｐ１を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に４個のアクリル基を持つ４官能以上のアクリレートＡ−ＴＭＭＴ（ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学工業株式会社製）を１．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を３．０９ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ３を調製した。
【００５１】
＜実施例４＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）として樹脂溶液Ｐ２を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に６個のアクリル基を持つ４官能以上の多官能アクリレートＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）を２．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、沸点が大気圧下１０
０℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を３．０９ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ４を調製した。
【００５２】
＜実施例５＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）として樹脂溶液Ｐ２を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に６個のアクリル基を持つ４官能以上の多官能アクリレートＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）を２．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を３．０９ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ５を調製した。
【００５３】
＜実施例６＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）として樹脂溶液Ｐ３を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に６個のアクリル基を持つ４官能以上の多官能アクリレートＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）を２．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を３．０９ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ６を調製した。
【００５４】
＜実施例７＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）としてサイクロマーＰ （ＡＣＡ）Ｚ２５０を８ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に
６個のアクリル基を持つ４官能以上の多官能アクリレートＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）を１．８０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．１０８ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を３．８６ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ７を調製した。
【００５５】
＜実施例８＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）としてサイクロマーＰ （ＡＣＡ）Ｚ２５０を８ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として脂環式エ
ポキシ化合物であるセロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ（３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、株式会社ダイセル製）を０．５４ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．１０ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を１．９７ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ８を調製した。
【００５６】
＜実施例９＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）としてサイクロマーＰ （ＡＣＡ）Ｚ３２０を８ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として脂環式エ
ポキシ化合物であるセロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ（株式会社ダイセル製）を０．６４ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０９６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を１．１ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ９を調製した。
【００５７】
＜比較例１＞
攪拌装置付きのフラスコに、成分（Ａ）の代わりにカルボキシル基を含有しないアクリルポリマーである樹脂溶液Ｐ４を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に６個のアクリル基を持つアクリレートＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）を１．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を２．６９ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１０を調製した。
【００５８】
＜比較例２＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）として樹脂溶液Ｐ１を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）の代わりに１分子に２個のアクリル基を持つアクリレートＮＰＧＤＡ（ネオペンチルグリコールジアクリレート、日本化薬株式会社製）を１．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を２．６９ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１１を調製した。
【００５９】
＜比較例３＞
攪拌装置付きのフラスコに、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に６個のアクリル基を持つアクリレートＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）を１．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．１５ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を５．１５ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１２を調製した。
【００６０】
＜比較例４＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）としてサイクロマーＰ （ＡＣＡ）Ｚ３２０を８ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ
（日油株式会社製）を０．０９６ｇ、沸点が大気圧下１００℃以上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を１．１４ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１３を調製した。
【００６１】
＜比較例５＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）として樹脂溶液Ｐ５を５ｇ、硬化剤としての成分（Ｂ）として１分子に６個のアクリル基を持つアクリレートＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）を１．０ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０６ｇ、溶媒（Ｄ）の代わりに沸点が大気圧下７８℃の溶媒であるメチルエチルケトンを２．６８ｇ入れ、混合し、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１４を調製した。
【００６２】
＜比較例６＞
攪拌装置付きのフラスコに、カルボキシル基を含有するアクリルポリマー（Ａ）としてサイクロマーＰ （ＡＣＡ）Ｚ３２０を８ｇ、成分（Ｂ）の脂環式エポキシ化合物の代わ
りにポリグリシジルアミン型エポキシであるエポトート（登録商標）ＹＨ４３４Ｌ（東都化成株式会社（現：新日化エポキシ製造株式会社）製）を０．６４ｇ、ラジカル開始剤（Ｃ）としてパーブチルＰ（日油株式会社製）を０．０９６g、沸点が大気圧下１００℃以
上３００℃以下の溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールジエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）を１．１ｇ入れ、グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組
成物Ｇ１５を調製した。
【００６３】
［硬化膜（絶縁膜）の形成］
上述のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１〜Ｇ１５を用いて、タッチパネルの透明電極間に絶縁膜を形成することを想定して、以下のとおり硬化膜（絶縁膜）を作製した。
まず上記グラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１〜１５を、株式会社コムラテック製スマＬａｂｏ−ＩＩＩを用いてグラビアオフセット印刷法で、表面ＵＶ／オゾン洗浄したＩＴＯ透明電極パターン付きガラス基板（タッチパネルの透明電極を想定）上に印刷した。なお、後述の印刷性評価には、印刷パターンのサイズを種々替えて印刷した。次にホットプレートを用いて１１０℃、２分間加熱を行い、膜厚を２μｍとした。さらに、クリーンオーブンを用いて空気中２３０℃、１時間加熱し、硬化膜（絶縁膜）を形成した。
【００６４】
［耐熱透明性の評価］
得られた硬化膜（絶縁膜）の紫外可視吸収スペクトルを株式会社島津製作所製ＵＶ−３１００ＰＣを用いて測定し、波長４００ｎｍにおける膜厚２μｍあたりの透過率を評価した。透過率が９０％以上であるとき、硬化膜形成時の加熱処理を経ても高い透明性を有している、すなわち高耐熱透明性を有すると評価できる。透過率が９０％より低いと、タッチパネル用絶縁膜として用いた場合、バックライトが通過する際に色変化が起こり、白色表示が黄色味を帯びることがある。
【００６５】
［下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する密着性評価］
得られた硬化膜（絶縁膜）について、ＪＩＳ  Ｋ５４００碁盤目テープ試験に準じてセロハンテープによるピーリング試験（剥離試験）を行い、剥離の発生を観察し、以下の基準にて評価した。なお、４Ｂ以上の評価が望ましく、５Ｂであることが最も好ましい。３Ｂ以下の評価の場合、下地ガラス基板との密着は十分とはいえず、タッチパネルの製造工程において絶縁膜の剥離が生じ、タッチパネルの信頼性を損ねることがある。
＜評価基準＞
５Ｂ：剥離なし
４Ｂ：全体のうち５％剥離が発生している
３Ｂ：全体のうち５％から１５％剥離が発生している
２Ｂ：全体のうち１５％から３５％剥離が発生している
１Ｂ：全体のうち３５％から６５％剥離が発生している
０Ｂ：全体のうち６５％以上剥離が発生している
【００６６】
［硬度の評価］
得られた硬化膜（絶縁膜）について、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４鉛筆硬度試験を行い、硬化膜の硬度を評価した。なお、７５０ｇの荷重をかけたときの鉛筆硬度がＨ以上の硬度であることが望ましく、さらに好ましくは３Ｈである。その鉛筆硬度がＢ以下の硬度の場合、硬化膜の硬度は十分とはいえず、タッチパネルの製造工程において硬化膜に傷が生じ、タッチパネルの信頼性を損ねることがある。
【００６７】
［絶縁性の評価］
得られた硬化膜（絶縁膜）の絶縁性の評価を以下の通り行った。ＩＴＯ透明電極パターン付き基板に印刷された厚さ２μｍの硬化膜の一部を削り取り、ＩＴＯ透明電極を剥き出しにした。剥き出しになったＩＴＯ透明電極上及び硬化膜上へそれぞれ、アルミニウムを直径１ｍｍ、厚さ０．１μｍとなるように蒸着を行い、プローブを接触させて比誘電率測定を行った。比誘電率測定は、真空簡易プローバＭＪ−１０（株式会社メジャージグ製）及びＡＧ−４３１１Ｂ  ＬＣＲメータ（安藤電気株式会社製）を使用し、周波数１００ｋ
Ｈｚで測定を行った。なお比誘電率の値が３．５以下のとき、硬化膜の絶縁性は良好であり、３．５を超えた場合に不良であると判断した。
【００６８】
［印刷性の評価］
得られたＩＴＯ透明電極パターン付きガラス基板上の硬化膜（絶縁膜）のパターンを光学顕微鏡で観察した。最もパターンサイズの大きい硬化膜（縦３００μｍ、横３００μｍ、高さ２μｍ）及び、最もパターンサイズの小さい硬化膜（縦３００μｍ、横４０μｍ、高さ２μｍ）が、パターンのはみ出し等がなく目視にてきれいに印刷できたと判断したときに、印刷性は良好と判断した。
【００６９】
評価結果を表１及び表２に示す。
【表１】
2014088504.tif 000005
【表２】
2014088504.tif 000006
【００７０】
表１に示すように、実施例１乃至実施例９で調製したグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１〜Ｇ９より作製した硬化膜（絶縁膜）はいずれも高耐熱透明性、高硬度、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する高い密着性を有し、また、印刷性が良好であることが確認された。
一方、表２に示すように、比較例１乃至比較例６で調製したグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物Ｇ１０〜Ｇ１５より作製した硬化膜（絶縁膜）は、耐熱透明性、硬度、密着性及び印刷性の全てを満足できるとする結果は得られなかった。詳細には、カルボキシル基を含有しないアクリルポリマーを用いた比較例１では、密着性、印刷性に問題があった。１分子に２個のアクリル基を持つアクリレートＮＰＧＤＡを用いた比較例２では、得られる硬化膜の硬度が不足し、また密着性も不足していた。カルボキシル基を含有するアクリルポリマー自体を用いない比較例３では、印刷性そして密着性に問題があった。硬化剤を用いない比較例４では、得られる絶縁膜の硬度が不足し、また密着性も不足していた。沸点が大気圧下１００℃より低い溶媒を用いた比較例５では、印刷途中に溶媒が蒸発してしまい印刷ができなかった。脂環式エポキシ化合物を用いない比較例６では、オーブンを用いて空気中２３０℃で１時間加熱している間に、絶縁膜が黄変してしまい、満足できる透過率を得ることができなかった。
以上の結果より、本発明のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物は、印刷によって膜形成可能であり、得られた膜は高耐熱透明性、高硬度、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する高い密着性を有するものであることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明のグラビアオフセット又はスクリーン印刷用絶縁膜形成組成物を印刷して得られる膜は、高耐熱透明性、高硬度、下地ガラス基板とＩＴＯ透明電極に対する高い密着性を有するものであることから、絶縁膜として利用することができる。また、フォトリソグラフィー工程を経由することなく基板に直接絶縁膜を印刷できるので、タッチパネルを製造する上で、生産性を向上させることができる。