(57)【要約】【課題】レンズ基材上に反射防止膜を構成する光学塗膜を形成する際のムラの発生を抑制できる塗料、該塗料から形成された光学塗膜、該光学塗膜を備える光学素子の提供。【解決手段】レンズ基材上に設けられる反射防止膜を構成する塗膜を形成する塗料であって、溶剤（Ａ）と、重合性官能基を有する化合物（Ｂ）と、金属酸化物粒子（Ｃ）と、を含有し、前記溶剤（Ａ）が、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶剤（Ａ１）を含有し、前記重合性官能基を有する化合物（Ｂ）が、１分子内にウレタン結合を２以上含む化合物（Ｂ１）または金属アルコキシド（Ｂ２）を含有することを特徴とする塗料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ基材上に設けられる反射防止膜を構成する光学塗膜を形成する塗料であって、
溶剤（Ａ）と、重合性官能基を有する化合物（Ｂ）と、金属酸化物粒子（Ｃ）と、を含有し、
前記溶剤（Ａ）が、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶剤（Ａ１）を含有し、
前記重合性官能基を有する化合物（Ｂ）が、１分子内にウレタン結合を２以上含む化合物（Ｂ１）または金属アルコキシド（Ｂ２）を含有することを特徴とする塗料。
【請求項２】
前記溶剤（Ａ）が、γ−ブチロラクトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよび３−メトキシ−１−ブタノールからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶剤（Ａ２）をさらに含有し、
前記溶剤（Ａ２）の含有量が、当該塗料の総質量に対して０．５〜５質量％である、請求項１に記載の塗料。
【請求項３】
レンズ基材上に設けられる反射防止膜を構成する光学塗膜であって、
請求項１または２に記載の塗料から形成されたものであることを特徴とする光学塗膜。
【請求項４】
レンズ基材と、該レンズ基材上に設けられた反射防止膜とを備える光学素子であって、
前記反射防止膜が、３層以上の層が積層した多層膜であり、
前記多層膜を構成する層のうち、少なくとも１層が、請求項１または２に記載の塗料から形成された光学塗膜であることを特徴とする光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗料、光学塗膜および光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
レンズの光学面には、反射を抑制し、光線透過率を上げて撮像性能を向上させるために、反射防止膜が形成される。反射防止膜は、屈折率が異なる複数の層が積層した多層構成をとることが多い。このような多層構成とすることで、広い波長領域にわたって反射率を低く抑えることができる。
基材の表面に光学薄膜を形成する方法としては、従来、真空蒸着法が用いられている。
真空蒸着法では、特定の屈折率を有する固体材料を真空下、高温加熱して気化し、基材の表面に堆積させて薄膜を形成する。この薄膜を多層構成にして反射防止膜とするためには、屈折率の異なる固体材料それぞれを順次真空加熱して薄膜形成する。
【０００３】
しかし、真空蒸着法に代表される乾式法（ドライプロセス）は、真空下、高温加熱するため、光学薄膜の成膜時間が長い問題があった。特に多層構成の反射防止膜をドライプロセスで形成する場合、成膜プロセスを複数回繰り返すため、成膜時間の問題が大きい。
上記問題の解決のために、近年では、大気圧下で光学薄膜を形成するウェットコート法が提案されている。ウェットコート法では、膜形成成分とこれを溶解する溶剤とを含む塗料を基材に塗布し、乾燥等の処理を行うことで塗膜（光学薄膜）を形成する。
【０００４】
反射防止膜の形成に用いられる塗料としては、紫外線照射または加熱により硬化する硬化型塗料が主流である。硬化型塗料は、基材への塗布後、紫外線照射または加熱により硬化塗膜となる。
硬化型塗料に、屈折率の調整のため、無機微粒子を含有させることが提案されている（たとえば特許文献１〜２）。この場合、形成される塗膜は、樹脂のマトリクス中に無機微粒子が分散したものとなる。無機微粒子の屈折率を調整することで、形成される塗膜の屈折率を調整することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１８５９５６号公報
【特許文献２】特開２０１０−０８３９６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、無機微粒子を含有する硬化型塗料で塗膜を形成する場合、無機微粒子を含有しない場合に比べ、塗料を塗布してから硬化させるまでのプロセスで、異物や膜厚のムラが発生しやすい。
異物や膜厚のムラはレンズの光学性能に不具合を発生させる。特に膜厚のムラは、反射防止性能への影響が大きく、ムラがあると同一面内で反射率に違いが生じることから改善が求められる。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、レンズ基材上に反射防止膜を構成する光学塗膜を形成する際のムラの発生を抑制できる塗料、該塗料から形成された光学塗膜、該光学塗膜を備える光学素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決する本発明は、以下の態様を有する。
［１］レンズ基材上に設けられる反射防止膜を構成する光学塗膜を形成する塗料であって、
溶剤（Ａ）と、重合性官能基を有する化合物（Ｂ）と、金属酸化物粒子（Ｃ）と、を含有し、
前記溶剤（Ａ）が、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶剤（Ａ１）を含有し、
前記重合性官能基を有する化合物（Ｂ）が、１分子内にウレタン結合を２以上含む化合物（Ｂ１）または金属アルコキシド（Ｂ２）を含有することを特徴とする塗料。
［２］前記溶剤（Ａ）が、γ−ブチロラクトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよび３−メトキシ−１−ブタノールからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶剤（Ａ２）をさらに含有し、
前記溶剤（Ａ２）の含有量が、当該塗料の総質量に対して０．５〜５質量％である、［１］に記載の塗料。
［３］レンズ基材上に設けられる反射防止膜を構成する光学塗膜であって、
［１］または［２］に記載の塗料から形成されたものであることを特徴とする光学塗膜。
［４］レンズ基材と、該レンズ基材上に設けられた反射防止膜とを備える光学素子であって、
前記反射防止膜が、３層以上の層が積層した多層膜であり、
前記多層膜を構成する層のうち、少なくとも１層が、［１］または［２］に記載の塗料から形成された光学塗膜であることを特徴とする光学素子。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、レンズ基材上に反射防止膜を構成する光学塗膜を形成する際のムラの発生を抑制できる塗料、該塗料から形成された光学塗膜、該光学塗膜を備える光学素子を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の光学素子の一実施形態例を模式的に示す断面図である。
【図２】比較例１で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図３】実施例１で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図４】実施例２で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図５】比較例２で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図６】比較例３で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図７】実施例３で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図８】実施例４で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図９】実施例５で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図１０】実施例６で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図１１】実施例７で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図１２】実施例８で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図１３】比較例４で作製した光学塗膜のムラ評価（２）の結果を示すグラフである。
【図１４】実施例９で作製した光学素子の反射率測定の結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［塗料］
本発明の塗料は、レンズ基材上に設けられる反射防止膜を構成する光学塗膜を形成する塗料であって、
溶剤（Ａ）と、重合性官能基を有する化合物（Ｂ）（以下、「（Ｂ）成分」という。）と、金属酸化物粒子（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」という。）と、を含有する。
（Ｂ）成分が有する重合性官能基が、ラジカル重合性官能基である場合、本発明の塗料は、光重合開始剤（Ｄ）（以下、「（Ｄ）成分」という。）をさらに含有することが好ましい。
【００１２】
＜溶剤（Ａ）＞
溶剤（Ａ）は、塗膜形成成分である（Ｂ）成分を均質に溶解するための溶媒である。
溶剤（Ａ）は、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶剤（Ａ１）を含有する。
溶剤（Ａ１）を含有することにより、レンズ基材上に当該塗料を塗布し、乾燥、硬化させて光学塗膜を形成する際に、膜厚のムラが発生するのを抑制でき、膜厚均一性に優れた光学塗膜を形成できる。
溶剤（Ａ１）としては、１種を単独で用いても、２種以上を任意の割合で併用してもよい。
塗料中の溶剤（Ａ１）の含有量は、当該塗料の総質量に対して、７０〜９９質量％であることが好ましく、８５〜９７質量％であることがより好ましい。７０質量％以上であれば、膜厚のムラの発生を充分に抑制でき、９９質量％以下であれば、光学薄膜として好適な厚さの塗膜を形成することができる。
【００１３】
塗料に含まれる溶剤（Ａ）は、溶剤（Ａ１）のみであってもよいが、γ−ブチロラクトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよび３−メトキシ−１−ブタノールからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶剤（Ａ２）をさらに含有することが好ましい。
溶剤（Ａ２）をさらに含有することにより、膜厚のムラの発生を抑制する効果がさらに向上する。また、光学塗膜を形成する際の異物の発生も抑制できる。
溶剤（Ａ２）としては、１種を単独で用いても、２種以上を任意の割合で併用してもよい。
ただし塗料中の溶剤（Ａ２）の含有量は、当該塗料の総質量に対して５質量％以下とする。溶剤（Ａ２）の含有量が５質量％を超えると、塗料を塗布した後に乾燥しにくく、成膜性が低下するおそれがある。
これらのことを考慮すると、塗料中の溶剤（Ａ２）の含有量は、当該塗料の総質量に対して０．５〜５質量％であることが好ましく、１〜３質量％であることがより好ましい。
【００１４】
溶剤（Ａ）は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、溶剤（Ａ１）および（Ａ２）以外の他の溶剤（以下、「溶剤（Ａ３）」という。）を含有してもよい。
溶剤（Ａ３）としては、たとえば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、エチルラクテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、２−メトキシエタノール、ハイドロフルオロエーテル類等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いても、２種以上を任意の割合で併用してもよい。
【００１５】
溶剤（Ａ）中の溶剤（Ａ１）と溶剤（Ａ２）との合計量は、本発明の効果の点で、溶剤（Ａ）の総質量に対し、３５質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、１００質量％が特に好ましい。すなわち、溶剤（Ａ）は、溶剤（Ａ１）からなるか、または溶剤（Ａ１）と溶剤（Ａ２）とからなることが好ましい。
【００１６】
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分は、重合性官能基を有する化合物である。（Ｂ）成分は、紫外線等の活性エネルギー線の照射または熱により重合（硬化）する塗膜形成成分である。
重合性官能基は、紫外線、赤外線、電子線等の活性エネルギー線の照射または加熱によって重合（ラジカル重合、カチオン重合、重縮合等）反応し得る官能基であり、たとえば（メタ）アクリロイル基等のラジカル重合性官能基、グリシジル基などのカチオン重合性官能基、金属原子に結合したアルコキシ基の加水分解により形成される水酸基等が挙げられる。
なお、本明細書において、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基の両方を意味する。
（Ｂ）成分は、１分子中に１つの重合性官能基を有する単官能化合物でも、１分子中に複数の重合性官能基を有する多官能化合物でもよく、多官能化合物であることが好ましい。
本発明の塗料は、（Ｂ）成分として、１分子内にウレタン結合を２以上含む化合物（Ｂ１）（以下、「（Ｂ１）成分」という。）または金属アルコキシド（Ｂ２）（以下、「（Ｂ２）成分」という。）を含有する。これにより、ムラの発生を効果的に抑制できる。また、塗料を塗布面に滴下し、スピンコート等により塗り広げた時に、塗料が塗布されていない不濡れ部分が生じにくい。
【００１７】
（Ｂ１）成分は、１分子内にウレタン結合（−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）を２以上含む化合物である。
（Ｂ１）成分が有する重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基等のラジカル重合性官能基が好ましく、（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。
（Ｂ１）成分が有する重合性官能基の数は、６以上が好ましく、８〜１０がより好ましい。
（Ｂ１）成分として具体的には、ビス（２，２−ビス（アクリロキシメチル）−３−アクリロキシプロピル−Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルカルバメート、１，３，５−トリス（６−（２，２−ビス（アクリロキシメチル）−３−アクリロキシプロピルオキシ）カルボニルアミノヘキシル）−１，３，５−トリアジン−２，４−６−トリオン、ビス（２，２−ビス（アクリロキシメチル）−３−（２，２−ビス（アクリロキシメチル）−３−アクリロキシプロピル）プロピル）−Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルジカーバメート等が挙げられる。これらの化合物は、いずれか１種を単独で用いても、２種以上を任意の割合で併用してもよい。
【００１８】
（Ｂ２）成分は、金属アルコキシドである。金属アルコキシドは、金属原子と、金属原子に結合したアルコキシ基とを有する化合物である。金属アルコキシドは、加水分解によりアルコキシ基が水酸基となる。金属原子に結合した水酸基を有する分子同士の重縮合反応により−Ｏ−Ｍ−Ｏ−結合（Ｍは金属原子）が形成される。
金属アルコキシドとしては、たとえば、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。
（Ｒ’）ｍ−ｎＭ（ＯＲ）ｎ    …（Ｉ）
式中、Ｍは金属原子であり、ｍはＭの価数であり、ｎは２以上ｍ以下の整数である。
Ｍにおける金属原子としては、ケイ素原子等が挙げられる。
Ｒはアルキル基であり、炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。
Ｒ’は非加水分解性の有機基であり、たとえば、置換基（たとえばメチル基、エチル基等）を有していてもよい炭化水素基（たとえばアルキル基、アルケニル基、アリール基等）が挙げられる。
【００１９】
金属アルコキシドとしては、特に、前記式（Ｉ）中のＭがＳｉ、ｍが４である化合物（アルコキシシラン）が好ましい。
アルコキシシランとして具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルコキシシラン；などを挙げることができる。これらの化合物は、いずれか１種を単独で用いても、２種以上を任意の割合で併用してもよい。
【００２０】
本発明の塗料は、（Ｂ）成分として、（Ｂ１）成分および（Ｂ２）成分以外の化合物（以下、「（Ｂ３）成分」という。）をさらに含有してもよい。
（Ｂ３）成分は、（Ｂ１）成分または（Ｂ２）成分と重合可能なものであればよい。
たとえば（Ｂ１）成分と重合可能な（Ｂ３）成分の具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートなどのポリオールポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの化合物は、いずれか１種を単独で用いても、２種以上を任意の割合で併用してもよい。
【００２１】
塗料中の（Ｂ）成分の含有量は、当該塗料の総質量（１００質量％）に対して、１〜２０質量％であることが好ましく、３〜１０質量％であることがより好ましい。１質量％以上であれば、所望の膜厚の塗膜を容易に形成でき、光学特性を充分に発揮できる。２０質量％以下であれば、（Ｂ）成分が溶剤（Ａ）に充分に均一に溶解するため、成膜性が向上するとともに、膜厚のムラや異物の少ない塗膜を形成できる。
（Ｂ）成分中、（Ｂ１）成分または（Ｂ２）成分の割合は、本発明の効果の点で、（Ｂ）成分の総量に対し、５０質量％以上が好ましく、１００質量％が特に好ましい。すなわち、（Ｂ）成分は、（Ｂ１）成分からなるか、または（Ｂ２）成分からなることが特に好ましい。
【００２２】
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は、金属酸化物粒子である。
（Ｃ）成分は、形成される光学塗膜の屈折率を調整するために用いられる。
（Ｃ）成分における金属酸化物としては、たとえば、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２、ＳｉＯ２等が挙げられ、（Ｃ）成分の所望の屈折率に応じて適宜選択できる。
（Ｃ）成分の平均粒子径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、２〜７０ｎｍであることがより好ましい。平均粒子径が１００ｎｍを超えると、形成した塗膜に光散乱が発生して白濁してしまい、光学用途に適さない場合がある。
（Ｃ）成分の粒子形状に特に制限はなく、球状、針状、塊状など任意に選択することができる。
（Ｃ）成分は、緻密な結晶構造の中実粒子であってもよく、内部に空孔を有する粒子（中空状、ポーラス状等）であってもよく、（Ｃ）成分の所望の屈折率に応じて適宜選択できる。粒子を構成する材質（金属酸化物）が同じでも、内部の空孔率が高いほど、空気が含まれることで、粒子の屈折率が低くなる。
（Ｃ）成分は、いずれか１種を単独で用いても、２種以上を任意の割合で併用してもよい。
【００２３】
（Ｃ）成分は、形成しようとする光学塗膜の所望の屈折率に応じたものが選択される。
たとえば、光学塗膜として、後述する図１に示す実施形態の反射防止膜２０における高屈折率層２２を形成する場合、（Ｃ）成分としては、屈折率が１．８〜２．４である粒子（以下、「（Ｃ１）成分」ともいう。）が好ましい。（Ｃ１）成分としては、通常、中実粒子が用いられ、たとえば、ＴｉＯ２中実粒子、Ｂｉ２Ｏ３中実粒子、ＳｎＯ２中実粒子、Ｙ２Ｏ３中実粒子、ＺｒＯ２中実粒子、ＺｎＯ中実粒子、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）中実粒子、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）中実粒子等が挙げられる。
光学塗膜として、後述する図１に示す実施形態の反射防止膜２０における低屈折率層２３を形成する場合、（Ｃ）成分としては、屈折率が１〜１．５である粒子（以下、「（Ｃ２）成分」ともいう。）が好ましく、１．１〜１．２であるものがより好ましい。（Ｃ２）成分としては、通常、内部に空孔を有する粒子が用いられ、たとえば、ＳｉＯ２中空粒子が挙げられる。
【００２４】
塗料中の（Ｃ）成分の含有量は、当該塗料の総質量（１００質量％）に対して、０．０１〜５質量％であることが好ましく、０．１〜３質量％であることがより好ましい。０．１質量％以上であれば、低屈折率な塗膜を形成することができる。３質量％以下であれば、ムラのない塗膜を形成することができる。
【００２５】
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分は光重合開始剤である。（Ｂ）成分が有する重合性官能基が、（メタ）アクリロイル基等のラジカル重合性官能基である場合、（Ｄ）成分を併用することで、活性エネルギー線による硬化が進行しやすくなる。
（Ｄ）成分としては、ラジカルを発生するものであれば特に制限されないが、光開裂型光重合開始剤、水素引き抜き型光重合開始剤などが挙げられる。
光開裂型光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−アクリルベンゾイン等のベンゾイン系、ベンジル、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、ベンジルメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、４−（２−アクリロイル−オキシエトキシ）フェニル−２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、ジエトキシアセトフェノンなどが挙げられる。
これらの市販品としては、例えばＢＡＳＦ社製の「イルガキュア９０７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「ＺＬＩ３３３１」「ルシリンＴＰＯ」「ＣＧＩ１７００」；メルク社製の「ダロキュア１１７３」、「ダロキュア１１１６」；ラムベルティ社製の「エサキュアーＫＩＰ１００」；日本油脂社製の「ＢＴＴＢ」などが挙げられる。
【００２６】
水素引き抜き型光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ｐ−メチルベンゾフェノン、ｐ−クロルベンゾフェノン、テトラクロロベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、アセトフェノン等のアリールケトン系開始剤、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、ｐ−メチルアミノ安息香酸イソアミル、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン等のジアルキルアミノアリールケトン系開始剤、チオキサントン、キサントン系のおよびそのハロゲン置換系の多環カルボニル系開始剤などが挙げられる。
【００２７】
（Ｄ）成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
塗料中の（Ｄ）成分の含有量は、（Ｂ）成分１００質量部に対して２〜１０質量部が好ましく、３〜７質量部がより好ましい。（Ｄ）成分の含有量が２質量部以上であれば、充分な硬化性を確保できる。一方、（Ｄ）成分の含有量が１０質量部以下であれば、耐擦傷性に優れた塗膜が得られやすくなる。また、得られた塗膜が黄変するのを防止できるので、透明性が向上する。
【００２８】
＜その他＞
本発明の塗料は、（Ｂ）成分として（Ｂ２）成分を含有する場合、金属アルコキシドの加水分解に水が必要となるため、水をさらに含有することが好ましい。
水の含有量は、金属アルコキシドのモル数に対し、０．５〜２倍含有することが好ましい。
【００２９】
本発明の塗料は、（Ｂ）成分として（Ｂ２）成分を含有する場合、金属アルコキシドの加水分解および重縮合反応を促進するための触媒（Ｅ）（以下、「（Ｅ）成分」という。）をさらに含有してもよい。
（Ｅ）成分としては、たとえば、塩酸、酢酸、硫酸、硝酸等の酸、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮＨ４ＯＨ等が挙げられる。
（Ｅ）成分の含有量は、当該塗料の総質量（１００質量％）に対して、０．００１〜０．５質量％であることが好ましく、０．０１〜０．１質量％であることがより好ましい。
【００３０】
本発明の塗料は、本発明の効果を損なわない範囲内で、上述した（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分以外の他の成分を含有してもよい。
該他の成分としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防曇剤、難燃剤、可塑剤、重合抑制剤、界面活性剤、防カビ剤、スリップ剤、消泡剤、帯電防止剤、増粘剤、分散剤など、通常の光学用塗料に用いられる添加剤が挙げられる。
【００３１】
本発明の塗料の好ましい実施形態として、以下の第一実施形態、第二実施形態等が挙げられる。
【００３２】
（第一実施形態）
第一実施形態の塗料は、前記（Ｂ）成分として前記（Ｂ１）成分を含有し、前記（Ｃ）成分として前記（Ｃ１）成分を含有するものである。
第一実施形態の塗料においては、前記（Ｂ１）成分が、重合性官能基として、（メタ）アクリロイル基等のラジカル重合性官能基を有するものであり、（Ｄ）成分をさらに含有することが好ましい。
（Ｃ１）成分としては、ＴｉＯ２中実粒子、Ｂｉ２Ｏ３中実粒子、ＳｎＯ２中実粒子、Ｙ２Ｏ３中実粒子、ＺｒＯ２中実粒子、ＺｎＯ中実粒子、ＩＴＯ中実粒子、ＡＴＯ中実粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【００３３】
第一実施形態の塗料は、光学塗膜としたときの屈折率が１．７０〜２．００であることが好ましく、１．８０〜１．９０であることがより好ましい。屈折率が上記の範囲内であれば、該光学塗膜が、反射防止膜として３層以上の層を積層した多層膜を形成する場合に、該多層膜中の層のうち最も屈折率が高い高屈折率層（たとえば後述する図１に示す実施形態の反射防止膜２０における高屈折率層２２）として有用である。
光学塗膜としたときの屈折率は、（Ｃ）成分の種類と含有量により調整できる。たとえや（Ｃ１）成分の含有量が多いほど、光学塗膜としたときの屈折率が高くなる。
【００３４】
（第二実施形態）
第二実施形態の塗料は、前記（Ｂ）成分として前記（Ｂ２）成分を含有し、前記（Ｃ）成分として前記（Ｃ２）成分を含有する含有するものである。
第二実施形態の塗料においては、水をさらに含有することが好ましく、（Ｅ）成分をさらに含有することがより好ましい。
（Ｃ２）成分としては、ＳｉＯ２中空粒子が好ましい。
【００３５】
第二実施形態の塗料は、光学塗膜としたときの屈折率が１．２〜１．４０であることが好ましく、１．２５〜１．３５であることがより好ましい。屈折率が上記の範囲内であれば、該光学塗膜が、反射防止膜として３層以上の層を積層した多層膜を形成する場合に、該多層膜中の層のうち最も屈折率が低い低屈折率層（たとえば後述する図１に示す実施形態の反射防止膜２０における低屈折率層２３）として有用である。
光学塗膜としたときの屈折率は、（Ｃ）成分の種類と含有量により調整できる。たとえや粒子（Ｃ２）の含有量が多いほど、光学塗膜としたときの屈折率が低くなる。
【００３６】
ここで、本発明に記載する「屈折率」とは、波長５５０ｎｍにおける値を指す。
（Ｃ）成分の屈折率は、（Ｃ）成分を分散した濃度の異なる溶液を複数種作製し、これらの溶液の濃度と屈折率の関係から外挿して求めることができる。溶液の屈折率は、ＫＰＲ−２００（島津デバイス製造社）により測定できる。
光学塗膜の屈折率は、以下のようにして測定できる。
すなわち、塗料をガラス基材上に塗布し、乾燥、硬化させて形成した塗膜の反射率ｒを測定し、該塗膜の屈折率を下記式（ＩＩ）より求める。
ｒ＝（ｎ０−ｎ１）２／（ｎ０＋ｎ１）２      …（ＩＩ）
式（ＩＩ）中、「ｎ０」は空気の屈折率であり、「ｎ１」は塗膜の屈折率である。
【００３７】
＜作用効果＞
以上説明した本発明の塗料は、溶剤（Ａ１）を含有するため、当該塗料をレンズ基材上の塗布面に塗布してから硬化させるまでの間に、膜厚のムラが発生しにくく、膜厚均一性に優れた光学塗膜を形成できる。膜厚均一性に優れることから、当該光学塗膜は、光学性能のムラも少ない。
上記効果を奏する理由として、溶剤（Ａ１）の揮発速度が速すぎないこと、溶剤（Ａ２）の（Ｂ）成分溶解性や（Ｃ）成分分散性が良いことが考えられる。
従来、光学塗膜の形成用の塗料の溶剤（Ａ）としては、乾燥時間が短く生産性がよい点などから、比較的揮発しやすい溶剤が用いられている。このような塗料を、たとえばスピンコートにより塗布した場合、塗料を光学塗膜形成面に塗り広げる途中で溶剤（Ａ）の揮発により塗料の粘度が上昇し、塗膜の表面（液面）が波打った状態になったり、塗料で濡れていない（不濡れ）部分が生じ、この状態で塗膜が乾燥することでムラになっていたと考えられる。
本発明では、溶剤（Ａ）が溶剤（Ａ１）を含むことで、塗料の粘度の低下、それに伴う塗膜表面の波打ちや不濡れが改善され、ムラが改善したと考えられる。また、（Ｂ）成分溶解性や（Ｃ）成分分散性が良いため、塗料中で（Ｂ）成分が安定に溶解し、また（Ｃ）成分が安定に分散していることで、（Ｂ）成分の析出物や（Ｃ）成分の凝集物の発生による膜厚のムラが抑制されると考えられる。
（Ｂ）成分として（Ｂ１）成分または（Ｂ２）成分を用いることで、ムラをさらに改善することができる。たとえば光学塗膜形成面が、ガラス等の親水性の高い材料で構成される場合、（Ｂ１）成分や（Ｂ２）成分の極性が高いため、これを含有する塗料の光学塗膜形成面に対する濡れ性が高まり、不塗れ部分が生じにくく、ムラがさらに改善する。
【００３８】
本発明の塗料が溶剤（Ａ２）をさらに含有する場合は、ムラの改善効果に加え、異物の発生抑制効果も得られる。
上記効果を奏する理由として、溶剤（Ａ２）の揮発速度が、溶剤（Ａ１）よりもさらに遅いこと、溶剤（Ａ２）の（Ｂ）成分溶解性や（Ｃ）成分分散性が溶剤（Ａ１）よりもさらに良いことが考えられる。
溶剤（Ａ２）の揮発速度が、溶剤（Ａ１）よりもさらに遅いことで、上記のような、溶剤（Ａ１）を用いたことによる効果がさらに向上する。溶剤（Ａ２）の揮発速度は遅いが、塗料中の含有量を５質量％以下とすることで、成膜性を充分に確保できる。
また、溶剤（Ａ２）の（Ｂ）成分溶解性や（Ｃ）成分分散性がさらに良いことで、塗料中での（Ｂ）成分の析出や（Ｃ）成分の凝集が効果的に抑制され、（Ｂ）成分の析出物や（Ｃ）成分の凝集物が塗膜中に発生したり塗膜表面に付着することを防止できる。
【００３９】
［光学塗膜］
本発明の光学塗膜は、レンズ基材上に設けられる反射防止膜を構成する光学塗膜であって、前記本発明の塗料から形成されたものであることを特徴とする。
光学塗膜の膜厚は、１０〜２００ｎｍであることが好ましく、２０〜１５０ｎｍがより好ましい。膜厚が１０ｎｍ以上であれば、これを含有する反射防止膜が、充分な光学特性を発揮する。一方、膜厚が２００ｎｍ以下であれば、硬化時の収縮を抑制できる。
【００４０】
本発明の光学塗膜は、たとえば、基材（レンズ基材等）上に、本発明の塗料を塗布し、乾燥して塗膜を形成し、該塗膜を硬化させることにより形成できる。乾燥と硬化は同時進行的に行ってもよい。
塗布方法としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ロールコート法、インクジェット法等が挙げられる。これらのなかでも、膜厚制御の点で、スピンコート法が好適である。スピンコート法では、たとえば、塗料を基材上に滴下し、基材を高速回転させる。滴下された塗料は、遠心力によって短時間のうちに基材表面に沿って拡がる。同時に溶剤（Ａ）の揮発も進み、塗膜が形成される。
塗布時の塗料の温度は、１５〜３５℃が好ましい。
乾燥は、２０〜１５０℃の温度条件で行うことが好ましい。
【００４１】
塗膜の硬化は、活性エネルギー線の照射または熱処理により行うことができる。
塗膜の硬化を活性エネルギー線の照射により行う場合、活性エネルギー線としては、紫外線、赤外線、電子線等を用いることができる。これらの中でも、硬化時間の点で、紫外線が好ましい。紫外線を照射する場合、その光源種は特に限定されないが、例えばＬＥＤ光源、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどの光源を使用できる。また、これらを組み合わせて使用してもよい。
塗膜の硬化を熱処理により行う場合、その熱処理温度は、（Ｂ）成分の種類に応じて適宜選択できる。たとえば（Ｂ２）成分の場合、１０〜３００℃が好ましく、２０〜１５０℃がより好ましい。
【００４２】
本発明の光学塗膜は、本発明の塗膜から形成されたものであるため、上述したように、膜厚均一性に優れたものである。膜厚均一性に優れることから、光学性能のムラも少ない。特に、本発明の塗料として、溶剤（Ａ２）をさらに含有するものを用いた場合は、異物も少ないものとなる。
【００４３】
［光学素子］
本発明の光学素子は、レンズ基材と、該レンズ基材上に設けられた反射防止膜とを備える光学素子であって、
前記反射防止膜が、３層以上の層が積層した多層膜であり、
前記多層膜を構成する層のうち、少なくとも１層が、前記本発明の塗料から形成された光学塗膜（すなわち本発明の光学塗膜）であることを特徴とする。
【００４４】
図１に、本発明の光学素子の一実施形態例を模式的に示す断面図を示す。
この実施形態の光学素子１は、レンズ基材１０と、該基材１０上に形成された多層膜２０とを備える。
【００４５】
レンズ基材１０の材質としてはガラス、プラスチックなどが挙げられる。プラスチックとしては、各種ポリカーボネートやシクロオレフィンポリマー等が挙げられる。これらの中でも、反射防止効果を顕著に得られる点で、より高屈折率（高反射率）であるガラスが特に好ましい。
レンズ基材１０の形状は、たとえば平面、凹面、凸面などが挙げられるが、その形状は特に限定されるものではない。
【００４６】
多層膜２０は、レンズ基材１０上に形成された中屈折率層２１と、該中屈折率層２１上に形成された高屈折率層２２と、該高屈折率層２２上に形成された低屈折率層２３とからなる。
中屈折率層２１の屈折率は、１．５５〜１．６０であることが好ましい。屈折率が上記の範囲内であれば、他の層（高屈折率層２２、低屈折率層２３等）との屈折率差を容易に得ることができる。
高屈折率層２２の屈折率は、１．７０〜２．００であることが好ましい。屈折率が上記範囲内であれば、中屈折率層２１との屈折率差が得られやすいため、反射防止性能に優れる光学素子１の製造が容易となる。
低屈折率層２３の屈折率は、１．２５〜１．４０であることが好ましい。屈折率が上記範囲内であれば、広い波長領域に渡って反射率を低く抑えるのに有効であり、直入射光だけでなく広い角度範囲から入射する光に対しても反射率を低く抑えることができることから光学薄膜として有用である。
多層膜２０は、屈折率の異なる３層が積層して構成されているので、広い波長領域にわたって反射率を低く抑えることができ、対応できる波長範囲が広い。よって、多層膜２０は反射防止膜として好適である。
【００４７】
本実施形態においては、上記のうち、高屈折率層２２が、本発明の第一実施形態の塗料から形成された光学塗膜であり、低屈折率層２３が、本発明の第二実施形態の塗料から形成された光学塗膜である。ただし本発明はこれに限定されるものではなく、少なくとも１層が、本発明の塗料から形成された光学塗膜であればよい。
【００４８】
中屈折率層２１を構成する材料としては、特に限定されないが、溶剤（Ａ）と、（Ｂ）成分とを含有する塗料（以下、「中屈折率層用塗料」ともいう。）から形成された光学塗膜であることが好ましい。
溶剤（Ａ）としては、前記と同様のものが挙げられ、溶剤（Ａ１）を含有することが好ましい。これにより、レンズ基材１０の表面に、膜厚のムラの少ない中屈折率層２１を形成できる。
溶剤（Ａ）は、溶剤（Ａ１）に加えて、溶剤（Ａ２）を含有することがより好ましい。これにより、レンズ基材１０の表面に、膜厚のムラが少なく、異物も少ない中屈折率層２１を形成できる。
膜厚のムラや異物が少ないことで、その上に形成される高屈折率層２２や低屈折率層２３を形成する際の不具合（ムラ、異物、不濡れ等）も抑制できる。
ただし溶剤（Ａ２）の含有量は、本発明の塗料と同様、当該塗料の総質量に対して５質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
（Ｂ）成分としては、前記と同様のものが挙げられ、（Ｂ１）成分または（Ｂ２）成分が好ましい。
中屈折率層用塗料は、（Ｃ）成分を含有しても含有しなくてもよく、含有しないことが好ましい。
中屈折率層用塗料は、必要に応じて、（Ｄ）成分または（Ｅ）成分をさらに含有してもよい。
中屈折率層用塗料は、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分以外の他の成分をさらに含有してもよい。該他の成分としては前記と同様のものが挙げられる。
中屈折率層用塗料としては、本発明の第一実施形態の塗料から（Ｃ）成分を除いたもの、または本発明の第二実施形態の塗料から（Ｃ）成分を除いたものが好ましい。
【００４９】
光学素子１は、たとえば以下のようにして製造できる。
まず、レンズ基材１０上に中屈折率層用塗料を塗布し、乾燥、硬化して光学塗膜（中屈折率層２１）を形成する。
次に、中屈折率層２１上に本発明の第一実施形態の塗料を塗布し、乾燥、硬化して光学塗膜（高屈折率層２２）を形成する。
次に、高屈折率層２２上に本発明の第二実施形態の塗料を塗布し、乾燥、硬化して光学塗膜（低屈折率層２３）を形成する。これにより、レンズ基材１０の表面に多層膜２０を有する光学素子１が得られる。
各光学塗膜の形成は、前記光学塗膜の説明において挙げた方法と同様にして実施できる。
【００５０】
本発明の光学素子は、図１に示す光学素子１に限定されない。図１に示す光学素子１が有する多層膜２０は、３層構造の多層膜であるが、本発明の光学素子が有する多層膜は、４層以上の層が積層した多層膜であってもよい。たとえば、多層膜２０における高屈折率層２２と低屈折率層２３との間に、第二の中屈折率層を有する４層構造の多層膜であってもよい。
本発明の光学素子が有する多層膜は、３層以上の層が積層したものであれば特に限定されないが、積層数が増えるほど、形成に手間がかかる。よって、反射防止性能と光学素子の生産性を考慮すると、多層膜は３〜５層の多層膜であることが好ましい。
【００５１】
本発明の光学素子は、例えばカメラ、顕微鏡、内視鏡、半導体露光装置等の光学機器の光学素子として好適である。
【実施例】
【００５２】
以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例、比較例で用いた使用原料、測定方法、評価方法を以下に示す。
【００５３】
［使用原料］
＜溶剤（Ａ１）＞
・ＰＮＰ：プロピレングリコールモノプロピルエーテル（和光純薬工業社製）。
・ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業社製）。
・ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（和光純薬工業社製）。
【００５４】
＜溶剤（Ａ２）＞
・ＧＢＬ：γ−ブチロラクトン（和光純薬工業社製）。
・ＨＭＰ：４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン（和光純薬工業社製）。
・ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン（三菱化学社製）。
【００５５】
＜溶剤（Ａ３）＞
・ＩＰＡ：イソプロピルアルコール（和光純薬工業社製）。
・ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン（和光純薬工業社製）。
【００５６】
＜（Ｂ）成分＞
・（Ｂ）−１：ビス（２，２−ビス（アクリロキシメチル）−３−（２，２−ビス（アクリロキシメチル）−３−アクリロキシプロピル）プロピル）Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルジカーバメート（ダイセル・サイテック社製、「ＫＲＭ８４５２」）。
・（Ｂ）−２：テトライソプロポキシシラン（信越化学工業社製）。
・（Ｂ）−３：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ダイセル・サイテック社製）。
【００５７】
＜（Ｃ）成分＞
・（Ｃ）−１：酸化チタン粒子（石原産業社製、「ＴＴＯ−５１（Ｎ）」、粒子径１０〜３０ｎｍ）。
・（Ｃ）−２：中空シリカ粒子分散液（日揮触媒化成社製、「スルーリア４３２０」、平均粒子径約６０ｎｍ）。
【００５８】
＜（Ｄ）成分＞
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製、「イルガキュア９０７」）。
【００５９】
＜その他＞
・ＨＣｌａｑ．：０．０１ｍｏｌ／Ｌ塩酸。
【００６０】
［比較例１、実施例１〜２］
＜塗料の調製＞
表１に示す溶剤、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分を、表１に示す配合量（ｇ）で遮光した容器に入れ、１０分間強く振って攪拌した後、ビーズミルにて１時間処理することにより、沈殿の発生がない白色液状の塗料を得た。
【００６１】
【表１】
2014091743.tif 000002
【００６２】
＜光学塗膜の作製＞
表面を鏡面研磨した直径３０ｍｍのレンズ基材（ガラス製、オハラ社製、「Ｓ−ＢＳＬ７」、厚さ１ｍｍ）の研磨面に、調製した塗料０．０５ｍＬを滴下し、スピンコーター（アクティブ社製、「ＡＣＴ−２２０ＤＩＩ」）を用いて３０００ｒｐｍで１０秒間スピンコートした。スピンコート後、ＵＶ光源（住田光学社製、「ＬＳ−１６５ＵＶ」）を用い、波長３６５ｎｍでの積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射した。これにより、ガラス基材上に光学塗膜（膜厚：１００ｎｍ）が形成された試験片を得た。
光学塗膜の膜厚は、分光測定器ＵＳＰＭ−ＲＵ（オリンパス）を用いて反射率を測定後、得られた結果をＦｉｌｍｓｔａｒ（ＦＴＧＳｏｆｔｗａｒｅ社製シミュレーションソフト）に入力して算出した。
【００６３】
＜光学塗膜の評価＞
｛ムラ評価（１）：外観観察｝
試験片の光学塗膜に、光源（オリンパス社製、「Ｍｏｄｅｌ  ＬＧＰＳ」より光を照射したときの塗膜外観を目視にて観察し、以下の評価基準で評価した。結果を表２に示す。
○：光学塗膜の色味が均一でない部分が確認されなかった。
×：光学塗膜の色味が均一でない部分が確認された。
【００６４】
｛異物評価｝
試験片の光学塗膜に、光源（オリンパス社製、「Ｍｏｄｅｌ  ＬＧＰＳ」より光を照射したときの塗膜外観を目視にて観察し、以下の評価基準で評価した。結果を表２に示す。
○：光学塗膜以外の不均質な異物が確認されなかった。
×：光学塗膜以外の不均質な異物が確認された。
【００６５】
｛ムラ評価（２）：反射率測定｝
同一試験片上の５か所（真円形状の試験片の中心の位置、中心から１２時、３時、６時、９時それぞれの方向に８ｍｍ離れた位置）で、光学塗膜の反射率を測定した。
反射率は、反射率測定機器（オリンパス社製、「ＵＳＰＭ−ＲＵ」）を用い、入射角９０°、４００ｎｍから７５０ｎｍの波長領域で測定した。
測定結果から、それぞれの位置における反射率（％）を縦軸、波長（ｎｍ）を横軸にとったグラフを作成した。各グラフを図２〜４に示す。
グラフ中の５本の曲線（５か所それぞれの測定結果）のずれが少ないほど、同一面内での反射率のずれが少なく、光学塗膜の膜厚のムラが少ないことを示す。
【００６６】
【表２】
2014091743.tif 000003
【００６７】
上記の結果に示すとおり、比較例１の光学塗膜は、ムラ評価（１）で色味が均一でない部分が確認され、またムラ評価（２）でも、グラフ中の５本の曲線にずれが見られた。また、異物も発生していた。
これに対し、実施例１〜２の光学塗膜は、使用した溶剤（Ａ）以外は塗料組成が同じであるにもかかわらず、ムラ評価（１）で色味が均一でない部分が確認されなかった。またムラ評価（２）でも、グラフ中の５本の曲線がほぼ一致しており、特に実施例２の結果が良好であった。これらのことから、ムラの少ない均一な膜厚の光学塗膜が形成されたことが確認できた。さらに、実施例２については、異物の発生も抑制されていた。
【００６８】
［比較例２〜３、実施例３〜８、比較例４］
＜塗料の調製＞
表３に示す溶剤、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、ＨＣｌａｑ．を、表３に示す配合量（ｇ）で容器に入れ、１０分間強く振って攪拌することにより塗料を得た。
【００６９】
【表３】
2014091743.tif 000004
【００７０】
＜光学塗膜の作製＞
表面を鏡面研磨した直径３０ｍｍのレンズ基材（ガラス製、オハラ社製、「Ｓ−ＢＳＬ７」、厚さ１ｍｍ）の研磨面に、調製した塗料０．０５ｍＬを滴下し、スピンコーター（アクティブ社製、「ＡＣＴ−２２０ＤＩＩ」）を用いて３０００ｒｐｍで１０秒間スピンコートした。スピンコート後、塗膜を２５℃で１時間乾燥した。これにより、ガラス基材上に光学塗膜（膜厚：１００ｎｍ）が形成された試験片を得た。
【００７１】
＜光学塗膜の評価＞
作製した試験片について、前記と同じ手順で、ムラ評価（１）、異物評価、ムラ評価（２）を行った。結果を表４、図５〜１３に示す。
【００７２】
【表４】
2014091743.tif 000005
【００７３】
上記の結果に示すとおり、比較例２〜３の光学塗膜は、ムラ評価（１）で色味が均一でない部分が確認され、またムラ評価（２）でも、グラフ中の５本の曲線にずれが見られた。また、異物も発生していた。
これに対し、実施例３〜８の光学塗膜は、使用した溶剤（Ａ）以外は塗料組成が同じであるにもかかわらず、ムラ評価（１）で色味が均一でない部分が確認されなかった。またムラ評価（２）でも、グラフ中の５本の曲線のずれが比較例２〜３よりも少なく、特に実施例６〜８ではほぼ一致していた。これらのことから、ムラの少ない均一な膜厚の光学塗膜が形成されたことが確認できた。さらに、実施例６〜８については、異物の発生も抑制されていた。
（Ｂ）成分として（Ｂ）−３を用いた比較例４は、比較例２〜３と同様、ムラ評価（１）で色味が均一でない部分が確認され、ムラ評価（２）でグラフ中の５本の曲線にずれが見られ、異物も発生していた。
【００７４】
［実施例９］
図１に示す構成の光学素子を以下の手順で測定した。
表面を鏡面研磨した直径３０ｍｍのレンズ基材（ガラス製、オハラ社製、「Ｓ−ＢＳＬ７」、厚さ１ｍｍ、屈折率１．５１６）の研磨面に、ＫＲＭ８４５２（ダイセルサイテック社製アクリレート）の５質量％ＰＮＰ溶液１００質量部に、イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社）を５質量部添加した塗料を０．０５ｍＬ滴下後、３０００ｒｐｍで１０秒間スピンコートした。この塗膜に、波長３６５ｎｍの光線が１，０００ｍＪ／ｃｍ２となるようにＵＶ光源（住田光学社製、「ＬＳ−１６５ＵＶ」）で照射して中屈折率層（屈折率１．５９、膜厚５６ｎｍ）を形成した。
中屈折率層の上に、実施例２で調製した塗料を用いて、実施例２と同じ手順で光学塗膜（高屈折率層、屈折率１．８４、膜厚１３２ｎｍ）を形成した。
高屈折率層の上に、実施例７で調製した塗料を用いて、実施例７と同じ手順で光学塗膜（低屈折率層、屈折率１．３４、膜厚９６ｎｍ）を形成した。
これにより、レンズ基材の表面に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の３層構成の多層膜を有する光学素子を得た。
各層の屈折率は、膜厚は、分光測定器ＵＳＰＭ−ＲＵ（オリンパス）を用いて反射率を測定後、得られた結果をＦｉｌｍｓｔａｒ（ＦＴＧＳｏｆｔｗａｒｅ社製シミュレーションソフト）に入力して算出した。
【００７５】
得られた光学素子の中心の位置で、多層膜の反射率を測定した。
反射率は、反射率測定機器（オリンパス社製、「ＵＳＰＭ−ＲＵ」）を用い、入射角９０°、３８０ｎｍから７８０ｎｍの波長領域で測定した。
測定結果から、反射率（％）を縦軸、波長（ｎｍ）を横軸にとったグラフを作成した。該グラフを図１４に示す。グラフ中、実線は反射率の測定結果を示す。破線は規格線を示す。波長４５０〜７００ｎｍの範囲内での反射率が１％以下であれば、反射防止膜として充分な反射防止性能を有する。
図１４に示すとおり、形成された多層膜は、反射防止膜として用いるのに充分な反射防止性能を有していた。
【符号の説明】
【００７６】
１  光学素子
１０  レンズ基材
２０  多層膜
２１  中屈折率層
２２  高屈折率層
２３  低屈折率層
【図１】
2014091743.tif 000006
【図２】
2014091743.tif 000007
【図３】
2014091743.tif 000008
【図４】
2014091743.tif 000009
【図５】
2014091743.tif 000010
【図６】
2014091743.tif 000011
【図７】
2014091743.tif 000012
【図８】
2014091743.tif 000013
【図９】
2014091743.tif 000014
【図１０】
2014091743.tif 000015
【図１１】
2014091743.tif 000016
【図１２】
2014091743.tif 000017
【図１３】
2014091743.tif 000018
【図１４】
2014091743.tif 000019