(57)【要約】【課題】リフトオフ法に好適なスリットを有する振動素子において、スプリアスが発生しにくく、エッチング残渣の影響も受けにくい、振動素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】振動素子１０は、基部１１と、基部１１から同じ方向に延設された二本の振動腕部１２ａ，１２ｂと、振動腕部１２ａ，１２ｂの間の基部１１から延設された突起部１３と、振動腕部１２ａ，１２ｂの延設方向１０１と異なる方向に突起部１３の内側から外縁まで穿設されたスリット１４ａ，１４ｂと、を備えている。【選択図】図１
2014090298.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基部と、
この基部から同じ方向に延設された二本の振動腕部と、
これらの二本の振動腕部の間の前記基部から延設された突起部と、
前記振動腕部の延設方向と異なる方向に前記突起部の内側から外縁まで穿設されたスリットと、
を備えた水晶振動素子。
【請求項２】
前記スリットは、前記二本の振動腕部のそれぞれから等距離にありかつ前記延設方向に沿った中心線に対して、対称に一本ずつ設けられた、
請求項１記載の水晶振動素子。
【請求項３】
二本の前記スリットの穿設方向はそれぞれ前記延設方向に対して直角である、
請求項２記載の水晶振動素子。
【請求項４】
二本の前記スリットの穿設方向はそれぞれ前記延設方向に対して鋭角である、
請求項２記載の水晶振動素子。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一つに記載の水晶振動素子を製造する方法であって、
水晶基板上に耐食膜を成膜しパターン化する第一工程と、
前記耐食膜上及び前記スリットとなる前記水晶基板の露出部分上にレジストパターンを形成する第二工程と、
前記耐食膜で覆われていない前記水晶基板の露出部分をウェットエッチングで除去することにより前記基部、前記振動腕部、前記突起部及び前記スリットからなる水晶振動片を形成する第三工程と、
前記レジストパターンで覆われていない前記耐食膜を除去する第四工程と、
前記スリット内を除く前記水晶振動片の露出部分上及び前記レジストパターン上に電極膜を形成する第五工程と、
前記レジストパターン上に形成された前記電極膜を前記レジストパターンとともに除去する第六工程と、
前記レジストパターンが除去されたことにより露出した前記耐食膜を除去する第七工程と、
を含むことを特徴とする水晶振動素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子機器などに用いられる水晶振動素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータ、携帯電話又は小型情報機器等の電子機器には、電子部品の一つとして水晶振動子又は水晶発振器が搭載されている。この水晶振動子又は水晶発振器は、基準信号源やクロック信号源として用いられる。そして、水晶振動子や水晶発振器の内部には、水晶振動素子が含まれている。その水晶振動素子の一例として、音叉型屈曲水晶振動素子（以下「振動素子」と略称する。）を採り上げる。
【０００３】
特許文献１に、二本の振動腕部の股にスリット入りの突起部を設けた振動素子が開示されている。このスリットは、振動腕部にリフトオフ法で電極膜を形成する際に、電極膜の短絡を防ぐ役割を果たす。この振動素子を、関連技術１の振動素子とする。図９は、関連技術１の振動素子を示す平面図である。以下、この図面に基づき説明する。
【０００４】
本関連技術１の振動素子８０は、基部８１と、基部８１から同じ方向に延設された二本の振動腕部８２ａ，８２ｂと、振動腕部８２ａ，８２ｂの間の基部８１から延設された突起部８３と、振動腕部８２ａ，８２ｂの延設方向８０１と同じ方向に突起部８３の内側から外縁まで穿設されたスリット８４と、を備えている。振動腕部８２ａ，８２ｂには、それぞれ溝部８５ａ，８５ｂが穿設されている。基部８１、振動腕部８２ａ，８２ｂ及び突起部８３は、水晶振動片８６を構成する。振動素子８０は、水晶振動片８６の他に、パッド電極９１ａ，９１ｂ、励振電極９２ａ，９２ｂ、周波数調整用金属膜９３ａ，９３ｂ、配線パターン９４ａ，９４ｂなども備えている。
【０００５】
突起部８３の先端側には、延設方向８０１に沿ってスリット８４が設けられている。スリット８４は、突起部８３の厚み方向に貫通している。このスリット８４は、振動腕部８２ａ，８２ｂの側面に励振電極９２ａ，９２ｂをリフトオフ法にて形成する際に、振動腕部８２ａの側面の励振電極９２ａと振動腕部８２ｂの側面の励振電極９２ｂとを切り離す作用をする。
【０００６】
次に、このスリットの８４の作用を説明するために、振動素子８０の製造方法を簡単に説明する。
【０００７】
まず、水晶ウェハ（図示せず）の表裏に、耐食膜（図示せず）をスパッタリングにて成膜する。続いて、水晶ウェハ表裏の耐食膜上に感光性レジスト（ポジ型）を形成し、表裏の両面に音叉形状の耐食膜が残るようにその感光性レジストをパターン化（露光、現像、乾燥）し、音叉形状以外の耐食膜をエッチングで除去する。
【０００８】
続いて、表裏の耐食膜上に、電極の形状を決定するために再び感光性レジスト（ポジ型）をパターン化する。スリット８４となる水晶部分は、耐食膜を介することなく、感光性レジストで直接覆われる。
【０００９】
続いて、露出している水晶部分をウェットエッチングで除去する。このとき、スリット８４の形状と水晶振動片８６の外形とが、同時に形成される。つまり、この感光性レジストを残した状態で、基部８１と振動腕部８２ａ，８２ｂと突起部８３とが形成される。なお、突起部８３を覆う感光性レジストは、スリット８４を跨いだ状態で残されている。
【００１０】
続いて、水晶振動片８６の表裏面に露出した耐食膜を、エッチングで除去する。これにより、水晶表面を得る。
【００１１】
続いて、感光性レジストを残した状態の水晶振動片８６の全面に、電極膜（図示せず）をスパッタリングにより形成する。このとき、突起部８３を覆う感光性レジストにより、スリット８４を跨いで突起部８３の側面に電極膜が形成される。なぜなら、スリット８４は平面の隙間が感光性レジストで覆われかつ側面の隙間も狭いので、スリット８４内には電極膜が形成されないからである。
【００１２】
続いて、水晶振動片８６の表裏に形成した感光性レジストと、その上に形成された電極膜と、を剥離する。これは、感光性レジストを溶解する液に、これらを浸すことにより実現される。このとき、スリット８４を跨いでいた感光性レジストも除去されるため、感光性レジスト上の電極膜を介して接続されていた振動腕部８２ａの側面の励振電極９２ａと振動腕部８２ｂの側面の励振電極９２ｂとが、切断された状態となる。
【００１３】
最後に、感光性レジストの下で残っていた耐食膜を、エッチングにより除去する。
【００１４】
このようにして、水晶振動片８６に電極が形成されるので、リフトオフ法を用いても、振動腕部８２ａの側面の励振電極９２ａと振動腕部８２ｂの側面の励振電極９２ｂとをスリット８４で切断した状態にすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開２０１１−１５１５６７号公報
【特許文献２】特開２００４−２３６００８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
しかしながら、関連技術１の振動素子８０には次のような問題があった。
【００１７】
振動腕部８２ａ，８２ｂの延設方向８０１に対して突起部８３が長いほど又は大きいほど、スプリアスが発生しやすい。これは、スリット８４付きの突起部８３の形状が振動腕部８２ａ，８２ｂの相似形となっていることにより、寄生振動が発生しているためと考えられる。
【００１８】
ウェットエッチングで水晶振動片８６を形成する工程では、エッチング速度の結晶軸異方性に起因するエッチング残渣が突起部８３の周囲に生じやすい。その結果、左右の振動腕部８２ａ，８２ｂに互いに異なる大きさ及び形状で生じたエッチング残渣に、それらの中間にある突起部８３のエッチング残渣が加わって、左右の振動腕部８２ａ，８２ｂの剛性がアンバランスになることにより、ＣＩ（Crystal Impedance）増加などの悪影響が生じる。これは、突起部８３がエッチング液の流れを妨げることにより、エッチング残渣の発生を助長しているためと考えられる。
【００１９】
一方、特許文献２には、二本の振動腕部の股（基部）に、振動腕部の延設方向に沿ったスリットを入れた、振動素子が開示されている。以下、この振動素子を、関連技術２の振動素子という。関連技術２の振動素子におけるスリットは、リフトオフ法に用いるのでなく、エッチング異方性に起因して左右の振動腕部に剛性の違いが生じる場合に、この影響を抑制するためのものである。
【００２０】
このような基部にスリットを入れる構造を、関連技術１に適用してリフトオフ法で用いるには、スリットをある程度長くしなければならない。短いスリットでは、電極を切断できないからである。そうすると、次のような諸問題が発生する。
【００２１】
(1)スリットが基部の中心付近まで達するので、スリットが破損の起点となることにより、基部の耐衝撃性が低下する。(2)左右の振動腕部はそれぞれの振動エネルギを基部で互いに交換しているが、この交換をスリットが遮るため、ＣＩが増加する。(3)基部上でスリットを避けて配線パターンを引き回すため、配線パターンの専有面積が増加する。
【００２２】
これらの諸問題を解決するには、基部をある程度大きくしなければならない。これは、昨今の振動素子の小型化の要求に反するものであり、関連技術１に関連技術２を組み合わせることは技術的に意味の無いことである。
【００２３】
そこで、本発明の目的は、リフトオフ法に好適なスリットを有する振動素子において、スプリアスが発生しにくく、エッチング残渣の影響も受けにくい、振動素子及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明に係る振動素子は、
基部と、
この基部から同じ方向に延設された二本の振動腕部と、
これらの二本の振動腕部の間の前記基部から延設された突起部と、
前記振動腕部の延設方向と異なる方向に前記突起部の内側から外縁まで穿設されたスリットと、
を備えたものである。
【００２５】
本発明に係る振動素子の製造方法は、
本発明に係る振動素子を製造する方法であって、
水晶基板上に耐食膜を成膜しパターン化する第一工程と、
前記耐食膜上及び前記スリットとなる前記水晶基板の露出部分上にレジストパターンを形成する第二工程と、
前記耐食膜で覆われていない前記水晶基板の露出部分をウェットエッチングで除去することにより前記基部、前記振動腕部、前記突起部及び前記スリットからなる水晶振動片を形成する第三工程と、
前記レジストパターンで覆われていない前記耐食膜を除去する第四工程と、
前記スリット内を除く前記水晶振動片の露出部分上及び前記レジストパターン上に電極膜を形成する第五工程と、
前記レジストパターン上に形成された前記電極膜を前記レジストパターンとともに除去する第六工程と、
前記レジストパターンが除去されたことにより露出した前記耐食膜を除去する第七工程と、
を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、振動腕部の延設方向と異なる方向に突起部の内側から外縁まで穿設されたスリットを備えたことにより、振動腕部の延設方向に対して突起部を短く又は小さくできる。そのため、突起部での寄生振動が小さくなるので、スプリアスの発生を抑制できる。また、突起部が短く又は小さくなる分、エッチング液の流れが良くなるので、エッチング残渣の影響も低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】実施形態１の振動素子を示す平面図である。
【図２】図１における突起部周辺を示す部分拡大図である。
【図３】図１におけるIII−III線縦断面図である。
【図４】図１におけるIV−IV線縦断面の製造工程を示す断面図であり、図４［１］、図４［２］、図４［３］、図４［４］の順に工程が進行する。
【図５】図１におけるIV−IV線縦断面の製造工程を示す断面図であり、図５［５］、図５［６］、図５［７］の順に工程が進行する。
【図６】実施形態２の振動素子を示す平面図である。
【図７】図６における突起部周辺を示す部分拡大図である。
【図８】実施形態３の振動素子を示す平面図である。
【図９】関連技術１の振動素子を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、添付図面を参照しながら、本発明を実施するための形態（以下「実施形態」という。）について説明する。なお、図面に描かれた形状は、当業者が理解しやすいように描かれているため、実際の寸法及び比率とは必ずしも一致していない。
【００２９】
図１は、実施形態１の振動素子を示す平面図である。図２は、図１における突起部周辺を示す部分拡大図である。図３は、図１におけるIII−III線縦断面図である。以下、これらの図面に基づき説明する。
【００３０】
本実施形態１の振動素子１０は、基部１１と、基部１１から同じ方向に延設された二本の振動腕部１２ａ，１２ｂと、振動腕部１２ａ，１２ｂの間の基部１１から延設された突起部１３と、振動腕部１２ａ，１２ｂの延設方向１０１と異なる方向に突起部１３の内側から外縁まで穿設されたスリット１４ａ，１４ｂと、を備えている。
【００３１】
スリット１４ａ，１４ｂは、振動腕部１２ａ，１２ｂのそれぞれから等距離にありかつ延設方向１０１に沿った中心線１０２に対して、対称に一本ずつ設けられている。スリット１４ａ，１４ｂの穿設方向１０ａ，１０ｂは、それぞれ延設方向１０１に対して直角である。
【００３２】
スリット１４ａ，１４ｂは、突起部１３のうち、突起部１３と基部１１との境界に設けられている。スリット１４ａ，１４ｂの形状は、図示するような直線状に限らず、曲線状や折れ線状でもよい。スリット１４ａ，１４ｂを含めた突起部１３の形状は、延設方向１０１が短辺となり、延設方向１０１に垂直な方向が長辺となる、矩形状である。
【００３３】
振動腕部１２ａ，１２ｂには、それぞれ溝部１５ａ，１５ｂが穿設されている。基部１１、振動腕部１２ａ，１２ｂ及び突起部１３は、水晶振動片１６を構成する。振動素子１０は、水晶振動片１６の他に、パッド電極２１ａ，２１ｂ、励振電極２２ａ，２２ｂ、周波数調整用金属膜２３ａ，２３ｂ、配線パターン２４ａ，２４ｂなども備えている。
【００３４】
次に、振動素子１０の構成について更に詳しく説明する。
【００３５】
基部１１は、平面視略四角形の平板となっている。水晶振動片１６は、基部１１と振動腕部１２ａ，１２ｂとが一体となって音叉形状をなしており、成膜技術、フォトリソグラフィ技術、化学エッチング技術により製造される。
【００３６】
振動腕部１２ａ，１２ｂの長さ方向には、それぞれ溝部１５ａ，１５ｂを設けてもよい。それらの溝部１５ａ，１５ｂは、例えば振動腕部１２ａの表裏面に二本ずつ及び振動腕部１２ｂの表裏面に二本ずつ、基部１１との境界部分から振動腕部１２ａ，１２ｂの先端に向って、振動腕部１２ａ，１２ｂの長さ方向と平行に所定の長さで設けられる。なお、溝部１５ａ，１５ｂは、本実施形態１では振動腕部１２ａの表裏面に二本ずつ及び振動腕部１２ｂの表裏面に二本ずつ設けられているが、それらの本数に制限はなく、例えば振動腕部１２ａの表裏面に一本ずつ及び振動腕部１２ｂの表裏面に一本ずつ設けてもよく、また、表裏のどちらか片面にのみ設けてもよい。
【００３７】
振動腕部１２ａには、水晶を挟んで対向する平面同士が同極となるように、両側面に励振電極２２ａが設けられ、表裏面の溝部１５ａの内側及び当該二つの溝部１５ａの間に励振電極２２ｂが設けられる。同様に、振動腕部１２ｂには、水晶を挟んで対向する平面同士が同極となるように、両側面に励振電極２２ｂが設けられ、表裏面の溝部１５ｂの内側及び当該二つの溝部１５ｂの間に励振電極２２ａが設けられる。したがって、振動腕部１２ａにおいては両側面に設けられた励振電極２２ａと溝部１５ａ内に設けられた励振電極２２ｂとが異極同士となり、振動腕部１２ｂにおいては両側面に設けられた励振電極２２ｂと溝部１５ｂ内に設けられた励振電極２２ａとが異極同士となる。
【００３８】
基部１１には、パッド電極２１ａ，２１ｂと、パッド電極２１ａ，２１ｂと励振電極２２ａ，２２ｂとを電気的に接続する配線パターン２４ａ，２４ｂとが設けられる。パッド電極２１ａ、励振電極２２ａ、周波数調整用金属膜２３ａ及び配線パターン２４ａは、互いに電気的に導通している。パッド電極２１ｂ、励振電極２２ｂ、周波数調整用金属膜２３ｂ及び配線パターン２４ｂも、互いに電気的に導通している。ただし、突起部１３の側面の金属膜２２ｃはどこにも接続されない。
【００３９】
これらパッド電極２１ａ，２１ｂ、励振電極２２ａ，２２ｂ、周波数調整用金属膜２３ａ，２３ｂ、配線パターン２４ａ，２４ｂ及び金属膜２２ｃは、同じ金属膜からリフトオフ法によって形成され、例えばＴｉ層の上にＰｄ又はＡｕ層が設けられた積層構造となっている。
【００４０】
音叉型の振動素子１０を振動させる場合、パッド電極２１ａ，２１ｂに交番電圧を印加する。印加後のある電気的状態を瞬間的に捉えると、振動腕部１２ａの表裏の溝部１５ａに設けられた励振電極２２ｂはプラス電位となり、振動腕部１２ａの両側面に設けられた励振電極２２ａはマイナス電位となり、プラスからマイナスに電界が生じる。このとき、振動腕部１２ｂの表裏の溝部１５ｂに設けられた励振電極２２ａはマイナス電位となり、振動腕部１２ｂの両側面に設けられた励振電極２２ｂはプラス電位となり、振動腕部１２ａに生じた極性とは反対の極性となり、プラスからマイナスに電界が生じる。この交番電圧で生じた電界によって、振動腕部１２ａ，１２ｂに伸縮現象が生じ、所定の共振周波数の屈曲振動モードが得られる。
【００４１】
スリット１４ａ，１４ｂは、突起部１３の厚み方向に貫通しており、振動腕部１２ａ，１２ｂの側面に励振電極２２ａ，２２ｂをリフトオフ法にて形成する際に、振動腕部１２ａの側面の励振電極２２ａと振動腕部１２ｂの側面の励振電極２２ｂとを切り離す役割を果たす。
【００４２】
図４及び図５は、図１におけるIV−IV線縦断面に相当する各工程での断面図である。以下、図１乃至図５に基づき、振動素子１０の製造方法について説明する。
【００４３】
本実施形態１の製造方法は、次の第一乃至第七工程を含む。
【００４４】
図４［１］に示す第一工程では、水晶基板３１上に、耐食膜３２を成膜しパターン化する。例えば、水晶基板３１の表裏に、Ｃｒ又はＣｒ＋Ａｕなどの耐食膜３２をスパッタリングにて成膜する。そして、耐食膜３２上に感光性レジスト（ポジ型）を形成し、水晶基板３１の表裏に音叉形状の耐食膜３２が残るようにその感光性レジストをパターン化（露光、現像、乾燥）し、音叉形状以外の耐食膜３２をエッチングで除去する。
【００４５】
図４［２］に示す第二工程では、耐食膜３２上及びスリット１４ａ，１４ｂとなる水晶基板３１の露出部分３１１上に、レジストパターン３３を形成する。例えば、水晶基板３１の表裏の耐食膜３２上に電極の形状を決定するために、感光性レジスト（ポジ型）をパターン化する。
【００４６】
図４［３］に示す第三工程では、耐食膜３２で覆われていない水晶基板３１の露出部分をウェットエッチングで除去することにより、水晶振動片１６を形成する。このとき、スリット１４ａ，１４ｂは、水晶振動片１６と同時に形成され、レジストパターン３３の下からアンダーエッチングによって形成される。そのため、レジストパターン３３は、スリット１４ａ，１４ｂを跨いだ状態で少なくとも突起部１３に残されている。すなわち、レジストパターン３３を残した状態で、基部１１と振動腕部１２ａ，１２ｂと突起部１３とが形成される。
【００４７】
なお、振動腕部１２ａ，１２ｂに溝部１５ａ，１５ｂを設ける場合は、この第三工程で水晶振動片１６の形状と同時に溝部１５ａ，１５ｂを形成してもよい。ただし、振動腕部１２ａ，１２ｂの表裏面に溝部１５ａ，１５ｂを設ける場合は、溝部１５ａ，１５ｂの貫通を避けるために、溝部１５ａ，１５ｂ内にエッチング抑制パターンを形成することが望ましい。
【００４８】
図４［４］に示す第四工程では、レジストパターン３３で覆われていない耐食膜３２を、除去する。つまり、水晶振動片１６の表裏面に露出した耐食膜３２をエッチングで除去することにより、水晶表面を得る。
【００４９】
図５［５］に示す第五工程では、スリット１４ａ，１４ｂ内を除く水晶振動片１６の露出部分上及びレジストパターン３３上に、電極膜３４を形成する。例えば、水晶振動片１６の全面に電極膜３４をスパッタリングにより形成する。このとき、スリット１４ａ，１４ｂを跨いで突起部１３を覆うレジストパターン３３により、スリット１４ａ，１４ｂを跨いで突起部１３の側面に電極膜３４が形成される。ただし、スリット１４ａ，１４ｂは平面の隙間がレジストパターン３３で覆われかつ側面の隙間も狭いので、スリット１４ａ，１４ｂ内に電極膜３４は形成されない。なお、スパッタリングの代わりに、蒸着などの成膜方法を用いてもよい。
【００５０】
図５［６］に示す第六工程では、レジストパターン３３上に形成された電極膜３４を、レジストパターン３３とともに除去する。つまり、水晶振動片１６の表裏に形成されたレジストパターン３３と、その上に形成された電極膜３４と、を剥離する。これは、感光性レジストを溶解する液（例えばアセトン）に、これらを浸すことにより容易に除去できる。ただし、レジストパターン３３の下にある耐食膜３２は残る。スリット１４ａ，１４ｂを跨いだレジストパターン３３も除去されるため、振動腕部１２ａの側面の励振電極２２ａと振動腕部１２ｂの側面の励振電極２２ｂとはスリット１４ａ，１４ｂで切断された状態となる。この第六工程の電極膜形成方法は、リフトオフ法と呼ばれる。
【００５１】
図５［７］に示す第七工程では、レジストパターン３３が除去されたことにより露出した耐食膜３２を、除去する。つまり、最後まで残った耐食膜３２をエッチングで除去する。
【００５２】
このようにして水晶振動片１６に励振電極２２ａ，２２ｂが形成されるので、リフトオフ法を用いても、振動腕部１２ａの側面の励振電極２２ａと振動腕部１２ｂの側面の励振電極２２ｂとをスリット１４ａ，１４ｂで切断した状態に形成できる。
【００５３】
次に、本実施形態１の振動素子１０について、関連技術１と比較した場合の作用及び効果を説明する。
【００５４】
本実施形態１の振動素子１０によれば、振動腕部１２ａ，１２ｂの延設方向１０１と異なる方向（穿設方向１０ａ，１０ｂ）に突起部１３の内側から外縁まで穿設されたスリット１４ａ，１４ｂを備えたことにより、振動腕部１２ａ，１２ｂの延設方向１０１に対して突起部１３を短く又は小さくできる。そのため、突起部１３での寄生振動が小さくなるため、スプリアスの発生を抑制できる。また、突起部１３が短く又は小さくなる分、前述の第三工程においてエッチング液の流れが良くなるので、エッチング残渣の影響も低減できる。
【００５５】
スリット１４ａ，１４ｂが中心線１０２に対して対称に一本ずつ設けられている場合は、次の効果を奏する。振動素子１０が中心線１０２に対して対称となることにより、振動腕部１２ａ，１２ｂのバランスが良くなるので、ＣＩが低下する。また、スリット１４ａ，１４ｂのどちらか一方が短絡していたとしても、他方が開放されていれば電気的に良品となるので、製造歩留まりを向上できる。
【００５６】
スリット１４ａ，１４ｂの穿設方向１０ａ，１０ｂがそれぞれ延設方向１０１に対して直角である場合は、延設方向１０１に対して突起部１３を最も短くできるので、スプリアスの発生をより抑制できるとともに、エッチング残渣の影響もより低減できる。
【００５７】
図６は、実施形態２の振動素子を示す平面図である。図７は、図６における突起部周辺を示す部分拡大図である。以下、これらの図面に基づき説明する。
【００５８】
本実施形態２の振動素子４０は、基部１１と、基部１１から同じ方向に延設された二本の振動腕部１２ａ，１２ｂと、振動腕部１２ａ，１２ｂの間の基部１１から延設された突起部４３と、振動腕部１２ａ，１２ｂの延設方向１０１と異なる方向に突起部４３の内側から外縁まで穿設されたスリット４４ａ，４４ｂと、を備えている。
【００５９】
スリット４４ａ，４４ｂは、振動腕部１２ａ，１２ｂのそれぞれから等距離にありかつ延設方向１０１に沿った中心線１０２に対して、対称に一本ずつ設けられている。スリット４４ａ，４４ｂの穿設方向４０ａ，４０ｂは、それぞれ延設方向１０１に対して鋭角である。
【００６０】
スリット４４ａ，４４ｂは、突起部４３のうち、突起部４３と基部１１との境界に設けられている。スリット４４ａ，４４ｂの形状は、図示するような直線状に限らず、曲線状や折れ線状でもよい。スリット４４ａ，４４ｂを含めた突起部４３の形状は、延設方向１０１に垂直な方向が底辺となり、延設方向１０１に斜めな方向が二辺となる、逆二等辺三角形状である。
【００６１】
本実施形態２の振動素子４０によれば、スリット４４ａ，４４ｂの穿設方向４０ａ，４０ｂを延設方向１０１に対して鋭角にしたことにより、振動腕部１２ａ，１２ｂの内側面とスリット４４ａ，４４ｂとのなす角度を鈍角にできるので（図６参照）、スリット４４ａ，４４ｂ内及びその近傍にエッチング液が入り込みやすくなり、これによりエッチング残渣を更に低減できる。また、スリットの穿設方向を直角にした場合に比べて、スリット４４ａ，４４ｂを長く形成できることにより、スリット４４ａ，４４ｂ内に入り込む電極材料を低減できるので、より確実に電極を切断できる。本実施形態２のその他の構成、作用及び効果は、実施形態１のそれらと同様である。
【００６２】
図８は、実施形態３の振動素子を示す平面図である。以下、この図面に基づき説明する。
【００６３】
本実施形態３の振動素子５０では、基部１１の振動腕部１２ａ，１２ｂ側に、それぞれ切り込み部５１ａ，５１ｂが設けられている。切り込み部５１ａ，５１ｂは、振動腕部１２ａ，１２ｂからパッド電極２１ａ，２１ｂ側へ、振動が漏れることを防ぐ作用がある。
【００６４】
関連技術１における基部の中心へ向けてスリットを入れる構造では、基部の左右に切り込み部を入れると、三方向からクラックが入りやすくなるので耐衝撃性が著しく低下する。これに対して、本実施形態３によれば、基部１１の中心へ向けてスリット４４ａ，４４ｂ入れる構造ではないので、基部１１の左右に切り込み部５１ａ，５１ｂを入れても、スリット４４ａ，４４ｂに起因する耐衝撃性の低下は起こらない。本実施形態３のその他の構成、作用及び効果は、実施形態１、２のそれらと同様である。
【００６５】
以上、上記各実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細については、当業者が理解し得るさまざまな変更を加えることができる。また、本発明には、上記各実施形態の構成の一部又は全部を相互に適宜組み合わせたものも含まれる。
【符号の説明】
【００６６】
１０  振動素子
１０１  延設方向
１０２  中心線
１０ａ，１０ｂ  穿設方向
１１  基部
１２ａ，１２ｂ  振動腕部
１３  突起部
１４ａ，１４ｂ  スリット
１５ａ，１５ｂ  溝部
１６  水晶振動片
２１ａ，２１ｂ  パッド電極
２２ａ，２２ｂ  励振電極
２２ｃ  金属膜
２３ａ，２３ｂ  周波数調整用金属膜
２４ａ，２４ｂ  配線パターン
３１  水晶基板
３１１  露出部分
３２  耐食膜
３３  レジストパターン
３４  電極膜
【００６７】
４０  振動素子
４０ａ，４０ｂ  穿設方向
４３  突起部
４４ａ，４４ｂ  スリット
５０  振動素子
５１ａ，５１ｂ  切り込み部
【００６８】
８０  振動素子
８０１  延設方向
８１  基部
８２ａ，８２ｂ  振動腕部
８３  突起部
８４  スリット
８５ａ，８５ｂ  溝部
８６  水晶振動片
９１ａ，９１ｂ  パッド電極
９２ａ，９２ｂ  励振電極
９３ａ，９３ｂ  周波数調整用金属膜
９４ａ，９４ｂ  配線パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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