(57)【要約】【課題】耐光性を高めることができ、更にエレクトロウェッティングディスプレイ用インク中での分散性を高めることができるエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子を提供する。【解決手段】本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子２１は、基材粒子２２と、基材粒子２２内に含有されている染料とを有する。エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子２１では、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されているか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材粒子と前記基材粒子内に含有されている染料とを有し、
粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されているか、又は、
粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されている、エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子。
【請求項２】
前記基材粒子と前記基材粒子内に含有されている前記染料とを有する染料含有粒子材料を用いて、
粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されるか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されるように、染料含有粒子材料を表面処理することで得られる、エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子と、疎水性溶媒とを含む、エレクトロウェッティングディスプレイ用インク。
【請求項４】
対向している第１，第２の基板と、
前記第１，第２の基板間において前記第１の基板側に配置された第１の液体と、
前記第１，第２の基板間において前記第２の基板側に配置されたエレクトロウェッティングディスプレイ用インクとを備え、
前記エレクトロウェッティングディスプレイ用インクが、請求項１又は２に記載のエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子と、疎水性溶媒とを含む、エレクトロウェッティングディスプレイ。
【請求項５】
基材粒子内に染料を含有させて、前記基材粒子と前記基材粒子内に含有されている前記染料とを有する染料含有粒子材料を得る工程と、
前記染料含有粒子材料を表面処理することで、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されているか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されているエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子を得る工程とを備える、エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載のエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子の製造方法により得られるエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子と、疎水性溶媒とを含む、エレクトロウェッティングディスプレイ用インク。
【請求項７】
対向している第１，第２の基板と、
前記第１，第２の基板間において前記第１の基板側に配置された第１の液体と、
前記第１，第２の基板間において前記第２の基板側に配置されたエレクトロウェッティングディスプレイ用インクとを備え、
前記エレクトロウェッティングディスプレイ用インクが、請求項５に記載のエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子の製造方法により得られるエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子と、疎水性溶媒とを含む、エレクトロウェッティングディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロウェッティングディスプレイに用いられる染料含有粒子及び染料含有粒子の製造方法に関する。また、本発明は、上記染料含有粒子を用いたエレクトロウェッティングディスプレイ用インク及びエレクトロウェッティングディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、エレクトロウェッティング効果を利用したエレクトロウェッティングディスプレイ（以下、ＥＷＤと記載することがある）が注目されている。ＥＷＤは、対向している２つの基板間に、親水性液体と疎水性液体とを備える。上記疎水性液体は一般に、着色成分を含む。ＥＷＤでは、上記親水性液体と誘電率の高い疎水性界面とが電界により電気二重層を形成することによって、上記疎水性液体が疎水性界面からはじき出される。この結果、疎水性液体（オイル層）が移動して、透明部分などが露出することで、画像が表示される。
【０００３】
上記疎水性液体の一例として、下記の特許文献１には、染料とオイルとを含む組成物が開示されている。該組成物は、着色成分として上記染料を含む。上記染料の具体例としては、Ｓｕｄａｎ  Ｒｅｄ  ５００、Ｓｕｄａｎ  Ｂｌｕｅ  ６７３、及びＳｕｄａｎ  Ｙｅｌｌｏｗ  １７２（ＢＡＳＦ社製）が挙げられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＷＯ２００５／０９８５２４Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１では、染料とオイルとを含む組成物を、ＥＷＤ用インクとして用いている。染料は、一般的に耐光性及び耐熱性が低く、所謂、耐候性が低いという問題がある。このため、染料を含む上記組成物をＥＷＤ用インクとして用いると、染料が劣化して、ＥＷＤの表示画像の色相が変化するなどして、使用期間中にＥＷＤの表示品質が悪くなることがある。特に、ＥＷＤが屋外に設置された場合に、ＥＷＤの表示品質の低下が大きな問題となることがある。
【０００６】
また、ＥＷＤ用インクにおいて、従来の着色成分を疎水性液体中に分散させると、着色成分の分散性が低かったり、分散性を高めるために界面活性剤を多く用いなければならなかったりするという問題がある。ＥＷＤ用インクにおいては、ＥＷＤの表示品質を良好にするためには、着色成分の分散性は高いことが望ましい。
【０００７】
本発明の主な目的は、耐光性を高めることができ、更にエレクトロウェッティングディスプレイ用インク中での分散性を高めることができるエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子及びエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子の製造方法を提供することである。
【０００８】
本発明の限定的な目的は、エレクトロウェッティングディスプレイ用インク中での染料の溶出を抑えることができるエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子及びエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子の製造方法を提供することである。
【０００９】
また、本発明の目的は、上記エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子を用いたエレクトロウェッティングディスプレイ用インク及びエレクトロウェッティングディスプレイを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の広い局面によれば、基材粒子と前記基材粒子内に含有されている染料とを有し、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されているか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されている、ＥＷＤ用染料含有粒子が提供される。
【００１１】
本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子のある特定の局面では、該ＥＷＤ用染料含有粒子は、前記基材粒子と前記基材粒子内に含有されている前記染料とを有する染料含有粒子材料を用いて、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されるか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されるように、前記染料含有粒子材料を表面処理することで得られる。
【００１２】
本発明の広い局面によれば、基材粒子内に染料を含有させて、前記基材粒子と前記基材粒子内に含有されている前記染料とを有する染料含有粒子材料を得る工程と、前記染料含有粒子材料を表面処理することで、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されているか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されているＥＷＤ用染料含有粒子を得る工程とを備える、ＥＷＤ用染料含有粒子の製造方法が提供される。
【００１３】
本発明の広い局面によれば、上述したＥＷＤ用染料含有粒子と、疎水性溶媒とを含む、ＥＷＤ用インクが提供される。
【００１４】
本発明の広い局面によれば、対向している第１，第２の基板と、前記第１，第２の基板間において前記第１の基板側に配置された第１の液体と、前記第１，第２の基板間において前記第２の基板側に配置されたＥＷＤ用インクとを備え、前記ＥＷＤ用インクが、上述したＥＷＤ用染料含有粒子と、疎水性溶媒とを含む、ＥＷＤが提供される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子は、基材粒子と該基材粒子内に含有されている染料とを有し、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されているか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されているので、エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子の耐候性を高めることができる。さらに、エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子のエレクトロウェッティングディスプレイ用インク中での分散性を高めることができる。
【００１６】
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子の製造方法は、基材粒子内に染料を含有させて、上記基材粒子と上記基材粒子内に含有されている上記染料とを有する染料含有粒子材料を得る工程と、上記染料含有粒子材料を表面処理することで、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されているか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されているエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子を得る工程とを備えるので、エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子の耐候性を高めることができる。さらに、エレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子のエレクトロウェッティングディスプレイ用インク中での分散性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ用染料含有粒子を用いたエレクトロウェッティングディスプレイを模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、図２に示すエレクトロウェッティングディスプレイの動作概念を説明するための模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の詳細を説明する。
【００１９】
（ＥＷＤ用染料含有粒子）
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイ（ＥＷＤ）用染料含有粒子は、基材粒子と、該基材粒子内に含有されている染料とを有する。また、本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子は、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである第１の化合物により形成されているか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である第２の化合物により形成されている。言い換えれば、上記ＥＷＤ用染料含有粒子は、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである第１の化合物により形成されている粒子表面を有するか、又は構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である第２の化合物により形成されている粒子表面を有する。上記構成原子の合計１００質量％は、上記第１，第２の化合物を構成している原子の合計の１００質量％である。上記第２の化合物の構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上である。上記第２の化合物において、炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である。
【００２０】
本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子は、上述した特定の原子構成を有する化合物により形成された粒子表面を有するので、基材粒子内に染料が含有されていても、ＥＷＤ用染料含有粒子の耐候性を高めることができる。このため、ＥＷＤの表示画像の色相の変化などが生じ難く、使用期間中にＥＷＤの表示品質を良好に維持できる。特に、ＥＷＤが屋外に設置されたとしても、ＥＷＤの表示品質の低下が生じ難い。
【００２１】
また、基材粒子に染料を含有させた粒子が、特定の上記粒子表面を有さない場合には、基材粒子に染料を含有させた粒子を疎水性溶媒中に分散させると、染料が疎水性溶媒中に溶出することがある。このため、疎水性溶媒が意図せずに着色することがある。この結果、使用期間中にＥＷＤの表示品質が悪くなるという問題がある。一方で、染料の溶出を抑えるために、基材粒子中に含有されている染料の量を少なくすると、ＥＷＤ用インクにおいて、染料含有粒子による隠蔽性が十分に得られない。ＥＷＤ用染料含有粒子では、十分に着色しており、隠蔽性が十分に得られることが重要な要件の１つである。
【００２２】
これに対して、本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子では、特定の上記粒子表面が形成されているので、基材粒子内に染料が含有されていても、疎水性溶媒中に分散されたときに、染料が疎水性溶媒中に溶出し難い。このことによっても、使用期間中にＥＷＤの表示品質を良好に維持できる。
【００２３】
また、基材粒子に染料を含有させた粒子が、特定の上記粒子表面を有さない場合には、染料は一般に極性基を有することから、基材粒子に染料を含有させた粒子の疎水性溶媒中での分散性が低くなる。
【００２４】
これに対して、本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子では、特定の上記粒子表面が形成されているので、粒子表面の疎水性を十分に高めることができる。従って、本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子をＥＷＤ用インクに用いることで、ＥＷＤ用インク中でのＥＷＤ用染料含有粒子の分散性を高めることができる。なお、上記第２の化合物における炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比（質量（Ｃ）／（質量（Ｏ）＋質量（Ｎ）＋質量（Ｓ））が大きいほど、ＥＷＤ用染料含有粒子の表面の疎水性が高くなる。
【００２５】
また、本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子では、染料を用いているので、染料を適宜選択することで、所望の色のＥＷＤ用インクを得ることができる。
【００２６】
図１に、本発明の一実施形態に係るエレクトロウェッティングディスプレイ（ＥＷＤ）用染料含有粒子を模式的に断面図で示す。
【００２７】
図１に示すＥＷＤ用染料含有粒子２１は、基材粒子２２と、基材粒子２２の表面上に配置されており、かつ粒子表面を構成している表面部２３とを備える。表面部２３は、表面層であることが好ましい。表面部２３が、上記第１の化合物により形成されていることが好ましく、上記第２の化合物により形成されていることも好ましい。
【００２８】
上記ＥＷＤ用染料含有粒子では、粒子表面が、上記第１の化合物により形成されていることが好ましく、上記第２の化合物により形成されていることも好ましい。
【００２９】
また、本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子では、ＥＷＤ用インク中における界面活性剤の添加量が少量であっても、更にＥＷＤ用インク中に界面活性剤を添加しなくても、ＥＷＤ用染料含有粒子の耐候性、耐染料溶出性及び分散性を高めることができる。ＥＷＤ用インクにおいて界面活性剤を用いなかったり、界面活性剤の添加量を少なくしたりすることで、ＥＷＤ用インクのＥＷＤ駆動応答性がより一層良好になる。
【００３０】
なお、本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子の粒子表面の全領域が、上記原子構成を有する化合物により形成された粒子表面でなくてもよい。上記ＥＷＤ用染料含有粒子の粒子表面の全表面積のうち上記原子構成を有する化合物により形成された粒子表面の表面積は、好ましくは５０％以上、より好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９５％以上、最も好ましくは９９％以上である。上記原子構成を有する化合物により形成された粒子表面部分が大きいほど、ＥＷＤ用染料含有粒子の耐候性が高くなり、ＥＷＤ用染料含有粒子の表面の疎水性が高くなり、ＥＷＤ用染料含有粒子の疎水性溶媒中での分散性が高くなる。
【００３１】
粒子表面を上述した原子構成とすることが容易であることから、上記染料含有粒子は、上記基材粒子と上記基材粒子内に含有されている上記染料とを有する染料含有粒子材料を用いて、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されるか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されるように、上記染料含有粒子材料を表面処理することで得られることが好ましい。
【００３２】
粒子表面を上述した原子構成とすることが容易であることから、上記ＥＷＤ用染料含有粒子は、コアと、上記コアの表面を被覆しているシェルとを有することが好ましい。上記ＥＷＤ用染料含有粒子は、コアシェル粒子であることが好ましい。上記コアが上記基材粒子であることが好ましい。上記コア内に、上記染料が含有されていることが好ましい。上記シェルが上記表面部であることが好ましい。
【００３３】
上記コアの表面の全領域が上記シェルにより被覆されていなくてもよい。上記コアの表面の全表面積のうち上記シェルにより被覆されている表面積は、好ましくは５０％以上、より好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９５％以上、最も好ましくは９９％以上である。上記シェルにより被覆されている部分が大きいほど、上記シェルに由来して、ＥＷＤ用染料含有粒子の表面の疎水性が高くなる。さらに、上記シェルにより被覆されている部分が大きいほど、ＥＷＤ用染料含有粒子の耐染料溶出性、耐候性及び分散性がより一層高くなる。
【００３４】
上記ＥＷＤ用染料含有粒子の平均粒子径は、好ましくは２０ｎｍ以上、より好ましくは４０ｎｍ以上、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２５０ｎｍ以下である。上記平均粒子径が上記下限以上及び上記上限以下であると、染料含有粒子による隠蔽性がより一層高くなり、かつ、インク中での染料含有粒子の分散性がより一層高くなり、インク中での染料含有粒子の流動性がより一層高くなる。
【００３５】
上記平均粒子径は、動的光散乱粒度分布計を用いて測定される体積基準での粒度分布において、積算値５０％における粒径を意味する。
【００３６】
上記ＥＷＤ用染料含有粒子の比重は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下である。上記比重が上記上限以下であると、インク中での染料含有粒子の分散性がより一層高くなる。
【００３７】
ＥＷＤ用染料含有粒子の分散性をより一層高める観点からは、上記ＥＷＤ用染料含有粒子は、球状であることが好ましい。球状であるＥＷＤ用染料含有粒子の平均アスペクト比は１．５以下である。上記ＥＷＤ用染料含有粒子の平均アスペクト比は１．５以下であることが好ましい。上記アスペクト比は、長径の短径に対する比（長径／短径）である。上記平均アスペクト比が上記上限以下であると、染料含有粒子による光の散乱が等方的になりやすく、より一層良好な表示画像が得られる。
【００３８】
以下、上記ＥＷＤ用染料含有粒子を得る際に用いられる各成分を説明する。
【００３９】
［基材粒子］
上記基材粒子は、染料を含有可能であれば特に限定されない。上記基材粒子としては、有機粒子、金属を除く無機粒子及び有機無機複合粒子等が挙げられる。上記基材粒子は、有機粒子であることが好ましく、樹脂粒子であることが好ましい。上記樹脂粒子は、樹脂により形成されている。
【００４０】
上記有機粒子及び上記樹脂粒子を形成するための樹脂としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブタジエン、ブチレン、メチルペンテン等のオレフィン類及びその誘導体；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、クロロメチルスチレン等のスチレン誘導体；フッ化ビニル；塩化ビニル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類；メチルビニルエーテル等のビニルエーテル；アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ステアリル、エチレングリコール（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル誘導体；フタル酸等のジカルボン酸類；ジアミン類；ジアリルフタレート；ベンゾグアナミン；トリアリルイソシアネート等の重合性単量体用いた重合体、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテル、ポリビニルアルコール、ポリアセタール、アリル樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂、ポリウレタン、フッ素樹脂、ビニル樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、（不）飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルフォン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、糖、澱粉、セルロース、ポリペプチド等を主成分とする縮合体及び重合体等が挙げられる。上述した重合性単量体は１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。上記有機粒子及び上記樹脂粒子を形成するための樹脂は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。上記有機粒子及び上記樹脂粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記有機粒子及び上記樹脂粒子を形成するための樹脂は、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を１種又は２種以上重合させた重合体であることが好ましい。
【００４１】
上記基材粒子は、重合によりπ共役系重合体を形成する重合性化合物を用いて、上記重合性化合物を重合させることにより得られることも好ましい。上記重合性化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００４２】
上記重合性化合物は、モノマー又は分子量が１，０００以下であるオリゴマーであることが好ましい。上記オリゴマーの分子量は好ましくは５００以下である。上記重合性化合物の具体例としては、フラン、ピロール、チオフェン、アセチレン及びそれらの誘導体等が挙げられる。上記誘導体は、フラン骨格、ピロール骨格、チオフェン骨格又はアセチレン骨格を有する。上記重合性化合物は、２〜４量体であってもよい。これら以外の重合性化合物を用いてもよい。
【００４３】
上記π共役系重合体の具体例としては、ポリフラン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレン及びそれらの誘導体等が挙げられる。上記誘導体は、ポリフラン骨格、ポリピロール骨格、ポリチオフェン骨格又はポリアセチレン骨格を有する。これら以外のπ共役系重合体であってもよい。上記π共役系重合体は、上記重合性化合物を出発物質として用いて、酸化重合により得られた重合体であってもよい。
【００４４】
重合性と取扱い性とをより一層高める観点から、上記重合性化合物は、ピロール、ピロールの誘導体、チオフェン又はチオフェンの誘導体であることが好ましく、ピロール又はピロールの誘導体であることがより好ましい。
【００４５】
［染料］
上記染料としては、ＥＷＤ用染料含有粒子に求められる適宜の色相を有する染料が用いられる。
【００４６】
上記染料としては、好ましくは有機溶媒に溶解する染料が挙げられ、アゾ系、アントラキノン系、トリアリルメタン系、フタロシアニン系、キノリン系、スチリル系、インドアニリン系、メチン系等の染料が挙げられる。
【００４７】
上記染料の具体例としては、一般的な染料であるＳｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  ３、５、７、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １６、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２９、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３３、Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２０１、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ７７、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｄ  １９、１２２、１３０、２３３、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２７、１６８、２０７、Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２６、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｕｌｅ  ６３、６７、７０、９５、１３６、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  ５，３５，４５等が挙げられる。
【００４８】
日本化薬社製の染料としては、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｂｌａｃｋ  Ｋ−Ｒ、Ａ−Ｎ、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｂｌａｃｋ  Ｓ−２００、ＥＸ−ＳＦ  ３００、Ｇ−ＳＦ、ＢＲ−ＳＦ、２Ｂ−ＳＦ  ２００、ＴＡ−ＳＦ  ２００、ＡＵＬ−Ｓ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  Ｋ−ＣＬ、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４Ｇ−Ｅ、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｌｉｇｈｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ５Ｇ−Ｓ、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｒｅｄ  Ｋ−ＢＬ、Ｋａｙａｃｅｌｏｎ  Ｒｅｄ  Ｅ−ＢＦ、ＳＭＳ−５、ＳＭＳ−１２、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｒｅｄ  ＴＬ−ＳＦ、ＢＲ−Ｓ、ＢＬ−Ｅ、ＨＬ−ＳＦ、３ＢＬ−Ｓ２００、ＡＵＬ−Ｓ、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｌｉｇｈｔ  Ｒｅｄ  Ｂ−Ｓ２００、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｒｕｂｉｎｅ  ＢＬ−Ｓ２００、Ｋａｙａｓｅｔ  Ｂｌｕｅ  Ｎ、Ｋ−ＦＬ、ＭＳＢ−１３、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｂｌｕｅ  ＢＲ−ＳＦ、Ｔ−Ｓ、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｌｉｇｈｔ  Ｂｌｕｅ  ＢＧＬ−Ｓ２００、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｔｕｒｑ  Ｂｌｕｅ  ＧＬ−Ｓ２００、Ｋａｙａｌｏｎ  Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ  Ｂｌｕｅ  Ｇｒｅｅｎ  ＦＣＴ−Ｓ等が挙げられる。
【００４９】
オリエント化学工業社製の染料としては、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｂｌａｃｋ  ３８０６、３８１０、３８２０、Ｏｉｌ  Ｂｌａｃｋ  ＢＳ、ＢＹ、Ｂ−８５、８６０、Ｗａｔｅｒ  Ｙｅｌｌｏｗ  ６Ｃ、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １１０１、１１０５、３１１０、３１２０、４１２０、４１２６、Ｏｐｌａｓ  Ｙｅｌｌｏｗ  １３０、１４０、Ｏｉｌ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＧＧ−Ｓ、１０５、１０７、１２９、８１８、Ｗａｔｅｒ  Ｒｅｄ  ２７、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｒｅｄ  １３０６、１３５５、２３０３、３３１１、３３２０、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３２１０、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２４０２、Ｏｉｌ  Ｒｅｄ  ５Ｂ、Ｏｉｌ  Ｐｉｎｋ  ３１２、Ｏｉｌ  Ｂｒｏｗｎ  ＢＢ、Ｖａｌｉｆａｓｔ  Ｂｌｕｅ  １６０１、１６０３、１６０５、２６０６、３８０６、３８２０、Ｏｉｌ  Ｂｌｕｅ  ＃１５、＃６１３、６１３、Ｎ１４、ＢＯＳ等が挙げられる。
【００５０】
住友化学工業社製の染料としては、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｂｌａｃｋ  Ｓ−ＢＬ、Ｓ−ＢＦ  ｅｘｔｒａ  ｃｏｎｃ．、Ｓ−ＲＰＤ、Ｓ−ＸＥ  ３００％、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＳＥ−４Ｇ、ＳＥ−５Ｇ、ＳＥ−３ＧＬ  ｃｏｎｃ．、ＳＥ−ＲＰＤ、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  Ｓ−１０Ｇ、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｒｅｄ  Ｅ−ＦＢＬ、Ｅ−ＲＰＤ（Ｅ）、Ｓ−ＲＰＤ（Ｓ）、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｒｅｄ  Ｓ−ＢＦ、Ｓ−ＢＬＦ、ＳＥ−ＢＬ、ＳＥ−ＢＧＬ、ＳＥ−２ＢＦ、ＳＥ−３ＢＬ（Ｎ）、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｒｅｄ  Ｅ−ＦＢＬ、Ｅ−ＲＰＤ（Ｅ）、Ｓ−ＲＰＤ（Ｓ）、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｒｅｄ  Ｓ−ＢＦ、Ｓ−ＢＬＦ、ＳＥ−ＢＬ、ＳＥ−ＢＧＬ、ＳＥ−２ＢＦ、ＳＥ−３ＢＬ（Ｎ）、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｂｌｕｅ  Ｓ−ＢＬ、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ  Ｔｕｒｑｕｏｉｓｅ  Ｂｌｕｅ  Ｓ−ＧＬ、Ｓ−ＧＬＦｇｒａｉｎ等が挙げられる。
【００５１】
ＢＡＳＦ社製の染料としては、Ｂａｓａｃｒｙｌ  Ｂｌａｃｋ  Ｘ−ＢＧＷ、ＮａｏｚａｐｏｎＢｌａｃｋ  Ｘ−５１、Ｘ−５５、Ｎｅｏｚａｐｏｎ  Ｙｅｌｌｏｗ  ０８１、Ｌｕｒａｆｉｘ  Ｙｅｌｌｏｗ  １３８等、Ｚａｐｏｎ  Ｂｌｕｅ  ８０７、Ｎｅｏｚａｐｏｎ  Ｂｌｕｅ  ８０７、Ｌｕｒａｆｉｘ  Ｂｌｕｅ５９０、６６０等が挙げられる。
【００５２】
田岡化学工業社製の染料としては、Ｏｌｅｏｓｏｌ  Ｆａｓｔ  Ｂｌａｃｋ  ＡＲ、ＲＬ、Ｏｌｅｏｓｏｌ  Ｆａｓｔ  Ｐｉｎｋ  ＦＢ、Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ  Ａ、Ｂ、Ｂ  ｇｒａｎ．、Ｏｌｅｏｓｏｌ  Ｆａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２Ｇ、Ｏｌｅｏｓｏｌ  Ｆａｓｔ  Ｂｌｕｅ  ＥＬＮ等が挙げられる。
【００５３】
保土谷化学工業社製の染料としては、Ｓｐｉｌｏｎ  Ｂｌａｃｋ  ＢＮＨ、ＭＨ  ｓｐｅｃｉａｌ等が挙げられる。
【００５４】
ｃｉｂａ社製の染料としては、Ｏｒａｓｏｌ  Ｂｌａｃｋ  ＲＬＩ、ＲＬ、ＣＮ、Ｏｒａｃｅｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８ＧＦ、ＧＨＳ、Ｏｒａｓｏｌ  Ｒｅｄ  Ｇ、Ｏｒａｃｅｔ  Ｐｉｎｋ  ＲＰ、Ｏｒａｓｏｌ  Ｂｌｕｅ  ＧＬ、ＧＮ、２Ｒ等が挙げられる。
【００５５】
三井東圧化学工業社製の染料としては、ＰＳ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＧＧ、ＭＳ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＨＤ−１８０、ＰＳ  Ｒｅｄ  Ｇ、ＭＳ  Ｍａｇｅｎｔａ  ＶＰ等が挙げられる。
【００５６】
バイエル社製の染料としては、Ｃｅｒｅｓ  Ｂｌｕｅ  ＧＮ  ０１等が挙げられる。
【００５７】
住化カラー社製の染料としては、ＴＳ  Ｙｅｌｌｏｗ  １１８  ｃａｋｅ、ＥＳＣ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５５、Ｓｕｍｉｐｌａｓｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＨＬＲ、ＧＣ、ＴＳ  Ｔｕｒｑ  Ｂｌｕｅ  ６１８、６０６、ＥＳＣ  Ｂｌｕｅ  ６５５、６６０、Ｓｕｍｉｐｌａｓｔ  ＢｌｕｅＳ、ＯＡ等が挙げられる。
【００５８】
また、特開２００９−１３８１８９公報に例示されているピラゾールジスアゾ系染料や特表２０１２−５０３０５６に記載されているアントラキノン系、ナフトキノン系染料を用いることができる。
【００５９】
上記染料は、コア粒子の組成などによって適宜選択することができ、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００６０】
上記基材粒子に染料を含有させる方法は特に限定されない。上記基材粒子に染料を含有させる方法としては、染料を含む溶液中に、上記基材粒子を浸漬させる方法、上記重合性単量体などにより基材粒子を作製する際に、反応液中に染料を添加する方法、基材粒子を構成する樹脂と上記染料を水溶性有機溶剤に溶解させた後、水を添加し乳化させる方法、基剤粒子を構成する樹脂と上記染料を疎水性有機溶剤に溶解させ、水中にてエマルジョンを形成させた後、有機溶剤を除去する方法（液中乾燥法）等が挙げられる。
【００６１】
上記基材粒子に含有させる染料の使用量は特に限定されない。上記基材粒子と上記染料との使用量を例示すると、上記基材粒子１００質量部に対して、上記染料の使用量は好ましくは５質量部以上、より好ましくは１０質量部以上、好ましくは２００質量部以下、より好ましくは１００質量部以下である。
【００６２】
上記重合性化合物を重合させる際に、上記重合性化合物と上記染料との使用量は特に限定されない。上記重合性化合物と上記染料との使用量を例示すると、上記重合性化合物１００質量部に対して、上記染料の使用量は好ましくは３質量部以上、より好ましくは５質量部以上、好ましくは２００質量部以下、より好ましくは１００質量部以下である。
【００６３】
［ＥＷＤ用粒子表面形成材］
上記ＥＷＤ用染料含有粒子は、上記染料が含有された基材粒子と表面形成材とを用いて得られることが好ましい。上記表面形成材はシェル形成材であることが好ましい。上記表面形成材の使用により、粒子表面を上述した原子構成とすることが容易である。上記表面形成材は１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００６４】
ＥＷＤ用染料含有粒子の耐候性、耐染料溶出性及び分散性を効果的に高める観点からは、上記ＥＷＤ用染料含有粒子の粒子表面は、上記表面形成材により形成されていることが好ましく、上記表面部が、上記表面形成材により形成されていることが好ましい。上記ＥＷＤ用染料含有粒子の粒子表面の化合物は、上記表面形成材に由来する化合物であることが好ましく、上記表面部を構成している化合物は、上記表面形成材により形成されていることが好ましい。ＥＷＤ用染料含有粒子の耐候性、耐染料溶出性及び分散性を効果的に高める観点からは、上記ＥＷＤ用染料含有粒子は、上記基材粒子と、上記基材粒子の表面を被覆している上記表面形成材に由来するシェルとを有することが好ましい。また、上記ＥＷＤ用染料含有粒子は、上記染料を含有した粒子に由来するコアと、上記コアの表面を被覆している上記表面形成材に由来するシェルとを有することが好ましい。上記シェルが上記表面部であることが好ましい。
【００６５】
上記表面形成材の具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン等の長鎖状炭化水素、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートの重合体、ジエン化合物の重合体及びその水添物、イソブテン・イソプレン共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・イソプレン共重合体、ブタジエン・アクリロニトリル共重合体、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するアルキルビニルエーテルの重合体、α−オレフィンとアルキルビニルエーテルとの共重合体、及びα−オレフィンとジエン化合物との共重合体等が挙げられる。上記ジエン化合物としては、イソプレン及びブタジエン等が挙げられる。これら以外の表面形成材を用いてもよい。
【００６６】
ＥＷＤ用染料含有粒子の分散性をより一層高める観点からは、上記表面形成材では、構成原子が炭素原子と水素原子とのみであるか、又は、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上であることが好ましい。上記表面形成材が、炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子とを含む場合には、上記表面形成材における炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比は５以上であることが好ましい。
【００６７】
ＥＷＤ用染料含有粒子の分散性をより一層高める観点からは、上記表面形成材は、スチレン、イソプレン、イソブチレン及びブタジエンからなる群より選択された少なくとも１種の重合成分の重合体、又は、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートの重合体であることが好ましい。上記表面形成材は、スチレン、イソプレン、イソブチレン及びブタジエンからなる群より選択された少なくとも１種の重合成分の重合体であることが好ましく、炭素数１２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートの重合体であることも好ましい。上記スチレン、イソプレン、イソブチレン及びブタジエンからなる群より選択された少なくとも１種の重合成分の重合体の構成原子が炭素原子と水素原子とのみであることが好ましい。上記炭素数１２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートの重合体の構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であることが好ましい。上記炭素数１２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートの重合体における炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比は５以上であることが好ましい。
【００６８】
ＥＷＤ用染料含有粒子の分散性を効果的に高める観点からは、上記表面形成材は、有機高分子である表面形成材であることが好ましい。該有機高分子である表面形成材の重量平均分子量は好ましくは１０，０００以上、好ましくは１，０００，０００以下である。ＥＷＤ用染料含有粒子の粒子表面を形成している上記有機高分子である表面形成材の重量平均分子量は上記下限以上及び上記上限以下であることが好ましい。
【００６９】
上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されたポリスチレン換算での重量平均分子量を示す。ＧＰＣ測定に用いるカラムとしては、昭和電工社製「Ｓｈｏｄｅｘ  ＬＦ−８０４」等が挙げられる。
【００７０】
上記ＥＷＤ用染料含有粒子の粒子表面を上記表面形成材により容易に形成する観点からは、上記表面形成材は、後述する疎水性溶媒に可溶であることが好ましい。
【００７１】
上記基材粒子を表面処理する際に、上記表面形成材の使用量は特に限定されない。上記表面形成材の使用量を例示すると、上記基材粒子１００質量部に対して、上記表面形成材の使用量は、好ましくは０．０５質量部以上、より好ましくは０．１質量部以上、更に好ましくは０．５質量部以上、好ましくは５００質量部以下、より好ましくは１００質量部以下である。
【００７２】
上記重合性化合物を重合させる際に、上記表面形成材の使用量は特に限定されない。上記表面形成材の使用量を例示すると、上記重合性化合物１００質量部に対して、上記表面形成材の使用量は、好ましくは０．０５質量部以上、より好ましくは０．１質量部以上、更に好ましくは０．５質量部以上、好ましくは５００質量部以下、より好ましくは１００質量部以下である。
【００７３】
［疎水性溶媒］
上記ＥＷＤ用染料含有粒子は、疎水性溶媒中で、上記基材粒子を表面処理することにより得られることが好ましく、疎水性溶媒中で、染料が含有されている基材粒子を表面処理することにより得られることが好ましい。
【００７４】
上記疎水性溶媒は水と相溶しない。水と相溶するか否かは、水１００ｍＬと溶媒１００ｍＬとを常温（２３℃）で混合したときに、疎水性溶媒と水とが分離しているか否かで判断可能である。上記疎水性溶媒は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００７５】
水と相溶しないことから、上記疎水性溶媒のＳＰ値は９以下であることが好ましい。疎水性の高い疎水性溶媒の使用により、分散性により一層優れたＥＷＤ用染料含有粒子が得られ、更にインク中での染料含有粒子の分散性がより一層高くなる。
【００７６】
上記ＳＰ値（溶解度パラメータ）は、Ｆｅｄｏｒｓ法（Ｒ．Ｆ．Ｆｅｄｏｒｓ，Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，１４，１４７（１９７４））を用いて算出可能である。
【００７７】
上記疎水性溶媒の具体例としては、オクタン（ＳＰ値７．５）、ノナン（ＳＰ値７．５）、デカン（ＳＰ値７．６）、ウンデカン（ＳＰ値７．６）、ドデカン（ＳＰ値７．７）、トルエン（ＳＰ値８．８）及びキシレン（ＳＰ値８．８）等が挙げられる。これら以外の疎水性溶媒を用いてもよい。
【００７８】
上記基材粒子を表面処理する際に、上記基材粒子と上記疎水性溶媒との使用量は特に限定されない。上記基材粒子と上記疎水性溶媒との使用量を例示すると、上記基材粒子と上記疎水性溶媒との合計１００質量％中、上記基材粒子の使用量は好ましくは０．０５質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下である。
【００７９】
［他の成分］
上記基材粒子を表面処理する際に、酸・塩基調整剤及び界面活性剤を用いてもよい。上記重合性化合物を重合させる際に、π共役系重合体のドーパント、酸・塩基調整剤及び界面活性剤を用いてもよい。
【００８０】
上記界面活性剤の具体例としては、ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム、及びアルキルベンゼンスルホン酸塩等が挙げられる。
【００８１】
［ＥＷＤ用染料含有粒子の製造方法］
本発明に係るＥＷＤ用染料含有粒子の製造方法は、基材粒子内に染料を含有させて、上記基材粒子と上記基材粒子内に含有されている染料とを有する染料含有粒子材料を得る工程と、上記染料含有粒子材料を表面処理することで、粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである化合物により形成されているか、又は、粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である化合物により形成されているＥＷＤ用染料含有粒子を得る工程とを備える。
【００８２】
ＥＷＤ用染料含有粒子を形成する際に、上記表面形成材を用いてもよい。染料を含有するコア（粒子）を得た後、一段階又は多段階で、コアの表面を上記表面形成材などにより被覆してもよい。被覆方法としては、コアの表面に表面形成材を吸着させるコーティング法、コアの表面に表面形成材を化学的に結合させるグラフト反応法及びコアの表面から表面形成材を形成するモノマーを重合させるグラフト重合法等が挙げられる。
【００８３】
（エレクトロウェッティング用インク）
本発明に係るＥＷＤ用インクは、上述したＥＷＤ用染料含有粒子と、疎水性溶媒とを含む。上記疎水性溶媒は１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００８４】
上記ＥＷＤ用インクで使用可能な上記疎水性溶媒としては、上記基材粒子を表面処理する際に使用可能な上述した疎水性溶媒、並びに上記重合性化合物を重合させる際に使用可能な上述した疎水性溶媒と同様の溶媒が挙げられる。上記疎水性溶媒を用いて上記ＥＷＤ用染料含有粒子を得た後、上記疎水性溶媒から上記ＥＷＤ用染料含有粒子を取り出して、上記ＥＷＤ用染料含有粒子を上記疎水性溶媒に分散させて、上記ＥＷＤ用インクを得ることが好ましい。
【００８５】
上記ＥＷＤ用染料含有粒子の分散性をより一層高めるために、上記ＥＷＤ用インクは、界面活性剤を含んでいてもよい。但し、ＥＷＤ用インクのＥＷＤ駆動応答性をより一層良好にする観点からは、上記界面活性剤の含有量は少ないほどよい。従って、上記ＥＷＤ用インクは、界面活性剤を含まないか又は含み、かつインク１００質量％中の界面活性剤の含有量が５質量％以下であることが好ましい。
【００８６】
上記ＥＷＤ用インクで使用可能な上記界面活性剤としては、上記基材粒子を表面処理する際に使用可能な上述した界面活性剤、並びに上記重合性化合物を重合させる際に使用可能な上述した界面活性剤と同様の界面活性剤が挙げられる。
【００８７】
上記インク１００質量％中、上記ＥＷＤ用染料含有粒子の含有量は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下である。上記ＥＷＤ用染料含有粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、染料含有粒子による隠蔽性がより一層高くなり、かつ、インク中での染料含有粒子の流動性がより一層高くなるため、ＥＷＤのコントラストがより一層高くなる。
【００８８】
上記インク１００質量％中、上記疎水性溶媒の含有量は、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下である。上記疎水性溶媒の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、染料含有粒子による隠蔽性がより一層高くなり、インク中での染料含有粒子の分散性がより一層高くなり、かつインク中での染料含有粒子の流動性がより一層高くなる。
【００８９】
上記ＥＷＤ用インクには、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線防止剤、有機分散剤及び界面活性剤等を添加してもよい。
【００９０】
（エレクトロウェッティングディスプレイ）
本発明に係るＥＷＤは、対向している第１，第２の基板と、上記第１，第２の基板間において上記第１の基板側に配置された第１の液体と、上記第１，第２の基板間において上記第２の基板側に配置されたＥＷＤ用インク（第２の液体）とを備える。本発明に係るＥＷＤでは、上記ＥＷＤ用インクが、上述したＥＷＤ用染料含有粒子と、疎水性溶媒とを含む。
【００９１】
図２に、本発明の一実施形態に係るＥＷＤ用染料含有粒子を用いたＥＷＤを模式的に断面図で示す。図３は、ＥＷＤの動作概念を説明するための模式的な断面図である。なお、図３では、説明に不要な部分の構成については図示を簡略化している。
【００９２】
図２に示すＥＷＤ１は、第１の基板１１と、第２の基板１２とを有する。第１，第２の基板１１，１２は、第１の液体１３を介して対向するように配置されている。第１の液体１３は、第１，第２の基板１１，１２の外周に沿って設けられたシール材１７で区画される領域（セル）内に配置されている。
【００９３】
第１，第２の基板１１，１２間において、第１の基板１１側に第１の液体１３が配置されている。第１，第２の基板１１，１２間において、第２の基板１２側にＥＷＤ用インク１４が配置されている。
【００９４】
第１の液体１３は、親水性液体である。第１の液体１３は、ＥＷＤ用インク１４よりも親水性が高い。第１の液体１３は、高表面エネルギー液体である。高表面エネルギー液体とは、ＥＷＤ用インク１４に対して、相対的に表面エネルギーが高い状態を有する液体である。ＥＷＤ用インク１４は、第１の液体１３よりも疎水性が高い。ＥＷＤ用インク１４は、低表面エネルギー液体である。低表面エネルギー液体とは、第１の液体１３に対して、相対的に表面エネルギーが低い状態を有する液体である。
【００９５】
第１の液体１３のＳＰ値が１４以上であることが好ましい。ＥＷＤ用インク１４に含まれる疎水性溶媒のＳＰ値が９以下であることが好ましい。
【００９６】
第１の基板１１は、基材１１Ａと、コモン電極１１Ｂとを有する。第２の基板１２は、基材１２Ａと、ＴＦＴ１２Ｂと、配線部１２Ｃと、平坦化膜１２Ｄと、画素電極１２Ｅと、コモン電極１２Ｆと、絶縁膜１２Ｇとを有する。
【００９７】
基材１１Ａ，基材１２Ａとしては、例えば、ガラス、樹脂成型体及びフィルム等の表示材のパネル基板として通常使用される基材が用いられる。
【００９８】
コモン電極１１Ｂは透明電極であることが好ましい。コモン電極１１Ｂを構成する材料として、例えばＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）が用いられる。
【００９９】
第２の基板１２において、セル側の内表面を構成する絶縁膜１２Ｇの表面は、例えばフッ素樹脂の塗布及び熱処理などの公知の方法により、撥水化処理されている。
【０１００】
絶縁膜１２Ｇ上には、画素壁１５が形成されている。画素壁１５は格子状に形成されており、第２の基板１２上において複数の画素Ｇを区画している。１つの画素Ｇが１つのエレクトロウェテッィング（ＥＷ）素子１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃに対応している。
【０１０１】
画素電極１２Ｅ及びコモン電極１２Ｆは、平坦化膜１２Ｄ上に形成されており、コンタクトホール１２Ｄａを介してＴＦＴ１２Ｂ及び配線部１２Ｃに接続されている。また、画素電極１２Ｅ及びコモン電極１２Ｆは、各画素Ｇ内に一対ずつ配置されている。画素壁１５で区画された領域内には、ＥＷＤ用インク１４が格納されている。画素壁１５は、第１の液体１３となじみの良い表面を有する。
【０１０２】
画素電極１２Ｅ及びコモン電極１２Ｆを構成する電極材料として、ＩＴＯやＡｌ等が用いられる。電極材料としてＩＴＯを用いた場合、ＥＷＤ１は、第２の基板１２の背面側に光源（図示せず）を備えた透過型のディスプレイとなる。また、電極材料としてＡｌを用いた場合、ＥＷＤ１は、外光を電極表面で反射する反射型のディスプレイとなる。
【０１０３】
このようなＥＷＤ１において、図３に示すように、画素電極１２Ｅに所定の電圧ＥＶ（例えば３０Ｖ）を印加すると、画素電極１２Ｅと第１の液体１３とを電極とし、絶縁膜１２Ｇを誘電体とするキャパシタが形成される。この結果、絶縁膜１２Ｇの分極により第１の液体１３の高表面エネルギー基が静電作用で引きつけられる。この結果、画素電極１２Ｅ上のＥＷＤ用インク１４がコモン電極１２Ｆ上に押しのけられ、形状が変化する。
【０１０４】
このように電圧を印加することにより、画素Ｇ内のＥＷＤ用インク１４を選択的にコモン電極１２Ｆ上に移動させることができる。
【０１０５】
なお、図２に示すＥＷＤは一例にすぎず、ＥＷＤの構造等には適宜変形され得る。
【０１０６】
以下、実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。
【０１０７】
（実施例１）
染料含有コア粒子１（染料含有粒子材料）：
メタクリル酸ブチル（共栄社化学社製）４５質量部、ジメタクリル酸エチレングリコール（三菱レイヨン社製）５質量部及びエタノール１０質量部に、Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  ３（有本化学工業製）５０質量部を均一に溶解させ、溶解液を得た。得られた溶解液を、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（和光純薬工業社製）１質量％を含むイオン交換水１０００質量部に添加し、攪拌下、超音波ホモジナイザーＵＨ−６００（ＳＭＴ社製）にて、乳化し、２０００ｍＬ容量のセパラブルフラスコ内に入れた。
【０１０８】
冷却管、三方コック及び攪拌翼を備えた４ツ口セパラブルカバーに、上記セパラブルルフラスコを設置し、次に、攪拌下、３時間窒素パージを行った後、７５℃に昇温した。
【０１０９】
昇温後、過硫酸カリウム（和光純薬工業社製）１．２質量部を溶解させたイオン交換水５０質量部をセパラブルフラスコ内に入れ、重合を開始した。７５℃で１２時間重合させた後、室温に冷却し、重合を停止した。上述した操作により、染料含有コア粒子１を得た。得られた染料含有コア粒子１の平均粒径は６０ｎｍであった。
【０１１０】
ＥＷＤ用染料含有粒子１及びＥＷＤ用インク１：
得られた染料含有コア粒子１を遠心分離し、上澄みを除去した後、エタノールを添加し、超音波照射にて分散させた。この操作を２回繰り返し、固形分率２質量％の染料含有コア粒子１のエタノール分散液を得た。得られた染料含有コア粒子１のエタノール分散液５０質量部に、スチレン−イソプレンブロックポリマー（クラレ社製）１質量部を含むトルエン５０質量部を添加し、均一に攪拌した。更に、ウンデカン１００質量部を添加した後、エバポレーションにより、エタノール及びトルエンを留去した。その後、遠心分離及びウンデカン分散工程を２回行い、固形分濃度を所定濃度に調整することにより、スチレン−イソプレンブロックポリマーにより形成された表面部（表面層）を有するＥＷＤ用染料含有粒子１を得て、かつ該ＥＷＤ用染料含有粒子１がウンデカンに分散しているＥＷＤ用インク１（固形分率１０質量％）を得た。得られたＥＷＤ用染料含有粒子１の平均粒子径は６５ｎｍであった。
【０１１１】
（実施例２）
染料含有コア粒子２：
エタノール３００質量部に、染料であるＳｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  ３（有本化学工業製）１０質量部を溶解させた。得られた染料溶解液に、ソープフリー乳化重合で得られたポリスチレン粒子（平均粒子径１２０ｎｍ）の水分散液（固形分１０質量％）（積水メディカル社製）１００質量部を添加し、均一に分散させた。イオン交換水６００質量部を６時間かけて滴下した。上述した操作により、染料含有コア粒子２を得た。染料含有コア粒子２の平均粒子径は、１５０ｎｍであった。
【０１１２】
ＥＷＤ用染料含有粒子２及びＥＷＤ用インク２：
得られた染料含有コア粒子２について、実施例１と同様の操作にて、ＥＷＤ用染料含有粒子２及びＥＷＤ用インク２を得た。得られたＥＷＤ用染料含有粒子２の平均粒子径は１５５ｎｍであった。
【０１１３】
（実施例３）
スチレン−イソプレンブロックポリマーを、ポリメタクリル酸ドデシルに変更したこと以外は実施例１と同様の操作にて、ＥＷＤ用染料含有粒子３及びＥＷＤ用インク３を得た。得られたＥＷＤ用染料含有粒子３の平均粒子径は６５ｎｍであった。
【０１１４】
（実施例４）
実施例１において、ウンデカンに分散ししているＥＷＤ用染料含有粒子１を得た後で、再度遠心分離、トルエンを用いた再分散を行い、分散溶媒をトルエンに変更したこと以外は実施例１と同様にして、ＥＷＤ用インク４を得た。
【０１１５】
（比較例１）
実施例１で得られた染料含有コア粒子１（料含有粒子材料）を、ＥＷＤ用染料含有粒子として用いた。このＥＷＤ用染料含有粒子２質量部を、疎水性溶媒であるウンデカン１８質量部に添加し、撹拌して、ＥＷＤ用インク５を得た。
【０１１６】
（比較例２）
実施例１で用いた染料であるＳｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  ３（有本化学工業製）をＥＷＤ用染料として用いた。このＥＷＤ用染料２質量部を、疎水性溶媒であるウンデカン１８質量部に添加し、撹拌して、ＥＷＤ用インク６を得た。
【０１１７】
（評価）
（１）粒子表面の化合物の原子構成
得られたＥＷＤ用染料含有粒子及びＥＷＤ用染料粒子の粒子表面の原子構造は下記の方法により算出した。
【０１１８】
［炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子の元素分析］
得られたＥＷＤ用染料含有粒子を真空オーブンで２４時間乾燥させた。その後、ジェイ・サイエンス・ラボ社製のマイクロコーダーＪＭ１０により、各原子の定量を行った。
【０１１９】
［比重測定］
得られたＥＷＤ用染料含有粒子及びＥＷＤ用染料粒子を真空オーブンで２４時間乾燥させた。その後、真比重測定装置（島津社製「ＡｃｃｕＰｙｃ１３３０」）により、測定を行った。
【０１２０】
［粒径測定］
ＳＴＥＭ用支持膜付マイクログリッド（ウルトラハイレゾリューションカーボン支持膜、応研商事社製）の上にマイクロピペットを用いてＥＷＤ用インクを滴下し、乾燥させた。日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡Ｓ−４８００を用いて、ＳＴＭＥ機能を利用して、染料含有粒子で形成されたコアの粒径と得られたＥＷＤ用染料含有粒子の粒径とを測定した。
【０１２１】
［リファレンス用染料含有粒子の合成と分析］
表面形成材を使用しないことを除いて、実施例及び比較例のＥＷＤ用染料含有粒子の製造方法と同様の方法により重合を行い、染料含有粒子を得た。得られた染料含有粒子の元素分析、比重測定及び粒径測定は、上記の方法により行った。
【０１２２】
［粒子表面の化合物の原子構成の算出］
ＥＷＤ用染料含有粒子の表面の化合物の元素Ｘ（原子Ｘ）の含有量（Ｘ）は、下記式で算出される。下記式において、ＭＸ：ＥＷＤ用染料含有粒子中の元素Ｘの含有量、ｍＸ：リファレンス用染料含有粒子中の元素Ｘの含有量、ＧＸ：ＥＷＤ用染料含有粒子の比重、ｇＸ：リファレンス用染料含有粒子の比重、ＲＸ：ＥＷＤ用染料含有粒子の粒径、ｒＸ：ＥＷＤ用染料含有粒子中の染料含有粒子で形成されたコアの粒径である。また、Ｘは、炭素、水素、酸素、窒素又は硫黄である。
【０１２３】
【数１】
2014129486.tif 000003
【０１２４】
また、炭素原子の質量（含有量（Ｃ））の、酸素原子の質量（含有量（Ｏ））と窒素原子の質量（含有量（Ｎ））と硫黄原子の質量（含有量（Ｓ））との合計の質量に対する比は、下記式により算出される。
【０１２５】
比＝含有量（Ｃ）／（含有量（Ｏ）＋含有量（Ｎ）＋含有量（Ｓ））
【０１２６】
粒子表面の化合物の原子構成を下記の基準で判定した。
【０１２７】
［粒子表面の化合物の原子構成の判定基準］
Ａ：粒子表面が、構成原子が炭素原子と水素原子とのみである第１の化合物により形成されている
Ｂ：粒子表面が、構成原子の合計１００質量％中の炭素原子と水素原子と酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計が９５質量％以上であり、かつ炭素原子の質量の酸素原子と窒素原子と硫黄原子との合計の質量に対する比が５以上である第２の化合物により形成されている
Ｃ：Ａ及びＢの双方の判定基準に相当しない
【０１２８】
（２）耐候性
作製直後のＥＷＤ用インクを、固形分０．０１質量％に調整し、５０ｍＬ容量のガラス容器に２０ｍｌ入れた。耐候性試験機（ＣＯ．ＦＯ．ＭＥ．ＧＲＡ社製ＳＯＬＡＲＢＯＸ）を用いて、容器内のＥＷＤ用インクに、２５０Ｗ／ｍ２で疑似太陽光を７日間照射した。
【０１２９】
照射前のＥＷＤ用インクと照射後のＥＷＤ用インクの吸光度を紫外可視分光光度計（島津製作所社製ＵＶ−ｍｉｎｉ１２４０）を用いて測定し、疑似太陽光の照射前後における吸光度の平均値の変化を算出し、耐光性を下記の基準で判定した。
【０１３０】
［耐候性の判定基準］
○：照射後の吸光度の平均値が、照射前の９５％以上を保持しており、耐光性に優れている
×：照射後の吸光度の平均値が、照射前の９５％よりも低下しており、耐光性に劣る
【０１３１】
（３）分散性１
作製直後のＥＷＤ用インクを、内径１ｃｍの管状容器に高さ１０ｃｍとなるように入れて、２４時間放置した。放置後のＥＷＤ用インクを観察して、分散性１を下記の基準で判定した。
【０１３２】
［分散性１の判定基準］
○：透明な上澄みが発生していない
×：ＥＷＤ用染料含有粒子又はＥＷＤ用染料粒子が沈降して、透明な上澄みが発生している
【０１３３】
（４）分散性２
作製直後のＥＷＤ用インク５ｇと水５ｇとを２０ｍＬサンプル瓶に入れ、撹拌した後、放置した。放置後のＥＷＤ用インクを観察して、分散性２を下記の基準で判定した。
【０１３４】
［分散性２の判定基準］
○○：７２時間放置しても、疎水性溶媒と水との界面で、ＥＷＤ用染料含有粒子又はＥＷＤ用染料粒子は凝集していない
○：２４時間放置しても、疎水性溶媒と水との界面で、ＥＷＤ用染料含有粒子又はＥＷＤ用染料粒子は凝集していないものの、７２時間放置すると、疎水性溶媒と水との界面で、ＥＷＤ用染料含有粒子又はＥＷＤ用染料粒子は凝集している
×：１時間放置すると、疎水性溶媒と水との界面で、ＥＷＤ用染料含有粒子又はＥＷＤ用染料粒子は凝集している
【０１３５】
（５）耐染料溶出性
作製直後のＥＷＤ用インクを、室温で２４時間放置した。その後、遠心分離を行い、上澄み液を採取した。得られた上澄み液の着色の有無を観察し、耐染料溶出性を下記の基準で判定した。
【０１３６】
［耐染料溶出性の判定基準］
○：染料が溶出しておらず、疎水性溶媒が着色していない
×：染料が溶出しており、疎水性溶媒が着色している
【０１３７】
結果を下記の表１に示す。なお、実施例１〜３で得られたＥＷＤ用染料含有粒子は、粒子表面の全領域に表面形成材に由来するシェルを有するコアシェル粒子であった。また、実施例１〜３で得られたＥＷＤ用染料含有粒子の比重はいずれも、２以下であった。また、実施例１〜３で得られたＥＷＤ用染料含有粒子の平均アスペクト比はいずれも、１．５以下であった。下記の表１において、「−」は評価していないことを示す。
【０１３８】
【表１】
2014129486.tif 000004
【０１３９】
なお、第１，第２の基板間に、第１の液体（親水性液体、高表面エネルギー液体）と、実施例１〜４及び比較例１〜３で得られた各ＥＷＤ用インクとを配置して、図２に示すＥＷＤを得た。実施例１〜４で得られた各ＥＷＤ用インクを用いたＥＷＤでは、十分な隠蔽性が得られ、駆動時に良好な表示画像が得られることを確認した。これに対して、比較例１，３で得られたＥＷＤでは、粒子の分散性が不十分なために、駆動時に良好な表示画像が得られなかった。また、実施例１〜４及び比較例１，２のＥＷＤを屋外に設置して、３０日間放置した。３０日間放置後でも、実施例１〜４のＥＷＤでは、良好な表示画像が得られることを確認した。これに対して、比較例１，２で得られたＥＷＤでは、耐候性が低く、コントラストが低下したことを確認した。
【符号の説明】
【０１４０】
１…エレクトロウェッティングディスプレイ（ＥＷＤ）
１１…第１の基板
１２…第２の基板
１３…第１の液体
１４…エレクトロウェッティングディスプレイ（ＥＷＤ）用インク
１５…画素壁
１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ…エレクトロウェッティング（ＥＷ）素子
１７…シール材
２１…エレクトロウェッティングディスプレイ（ＥＷＤ）用染料含有粒子
２２…染料含有粒子
２３…表面部
【図１】
2014129486.tif 000005
【図２】
2014129486.tif 000006
【図３】
2014129486.tif 000007