(57)【要約】      （修正有）【課題】スクリューフィーダの腐食を抑制することができ、長期間に亘り安定してガラスを熔解することができるガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】準備工程と原料調整工程とを有し、原料調整工程において調整されたガラス原料を熔解工程において熔解する。準備工程では、スクリューフィーダ１０を構成する金属からなる金属試料を用意すると共に、ガラス基板の組成の供給源となる原料である含水原料と、無水原料と、酸性ガス含有原料と、無酸性ガス原料とを、異なる含有率で含む複数の原料試料を用意する。準備工程では、さらに原料試料を金属試料と隣接させて加熱することで、原料試料から生成される水分および酸性ガスの量と、金属試料の腐食量との相関関係を得る。原料調整工程では、上記相関関係に基づいて、上記腐食量が低減するように、ガラス原料に含まれる含水原料、無水原料、酸性ガス含有原料および無酸性ガス原料の含有率を調整する。【選択図】図１
2014105122.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属製のスクリューフィーダを用いてガラス原料を熔解槽に導入して熔解する熔解工程を有するガラス基板の製造方法であって、
前記スクリューフィーダを構成する金属からなる金属試料を用意すると共に、
前記ガラス基板の組成の供給源となる原料であり、加熱により水分を生成する含水原料と、加熱により水分を生成しない無水原料と、加熱により酸性ガスを生成する酸性ガス含有原料と、加熱により酸性ガスを生成しない無酸性ガス原料とを、異なる含有率で含む複数の原料試料を用意し、
前記原料試料を前記金属試料と隣接させて加熱することで、前記原料試料から生成される水分および酸性ガスの量と、前記金属試料の腐食量との相関関係を得る準備工程と、
前記相関関係に基づいて、前記腐食量が低減するように、前記ガラス原料に含まれる前記含水原料、前記無水原料、前記酸性ガス含有原料および前記無酸性ガス原料の含有率を調整する原料調整工程と、を有し、
前記原料調整工程において調整されたガラス原料を、前記熔解工程において熔解することを特徴とする、
ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記含水原料が、Ａｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３および塩基性炭酸マグネシウムから選ばれる一種以上であり、
前記無水原料が、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３およびＭｇＯから選ばれる一種以上である、
請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記酸性ガスが、ＮＯ２であり、
前記酸性ガス含有原料が、Ｓｒ（ＮＯ３）２およびＢａ（ＮＯ３）２の少なくとも一方であり、
前記無酸性ガス原料が、ＳｒＣＯ３およびＢａＣＯ３の少なくとも一方である、
請求項１または請求項２に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記スクリューフィーダは、前記ガラス原料を移送する前記金属製の移送管と、前記移送管の先端に設けられ、前記ガラス原料を前記熔解槽へ吐出する吐出口とを有し、
前記移送管は、前記吐出口の先端が前記熔解槽の内壁面に位置するように位置合わせして配置される、
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記スクリューフィーダを構成する金属が鉄であり、
前記準備工程において得られた、前記含水原料から生成される水分の量が１５ｗｔ％以上であり、かつ前記酸性ガス含有原料から生成される酸性ガスの量が２ｗｔ％以下である場合、または、前記前記含水原料から生成される水分の量が１５ｗｔ％未満であり、かつ前記酸性ガス含有原料から生成される酸性ガスの量が３ｗｔ％以下である場合に、前記腐食量が低減する相関関係に基づき、
前記原料調整工程において、前記腐食量が低減するように、前記ガラス原料に含まれる前記含水原料、前記無水原料、前記酸性ガス含有原料および前記無酸性ガス原料の含有率を調整する、
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記ガラス基板が、質量％表示で、
ＳｉＯ２：５０〜７０％、
Ａｌ２Ｏ３：０〜２５％、
Ｂ２Ｏ３：０〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１０％、
ＣａＯ：０〜２０％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜１５％、
ＲＯ：５〜３０％（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａから選ばれる少なくとも１種であり、ガラス基板が含有するものである)、
Ｒ’２Ｏ：０〜３０％（ただし、Ｒ’はＬｉ、Ｎａ及びＫから選ばれる少なくとも１種であり、ガラス基板が含有するものである)、
を含むガラスからなる、
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示パネルや有機ＥＬ表示パネル等のフラットパネルディスプレイ用のガラス基板が広く用いられている。ガラス基板に用いられるガラス原料は、一般に、ガラス組成を元に各種原料を調合したバッチを単独で用いる場合と、細かく砕いたガラスカレットを前記バッチに混合して使用する場合がある。前記ガラス原料は、粉体の状態で熔解槽に供給される。熔解槽では、ガラス原料は熔解槽内部の輻射熱や天然ガスを用いた酸素燃焼熱等で加熱され、熔融ガラスとなる。
【０００３】
ガラス原料を熔融槽に供給する装置としてスクリューフィーダが広く使用されている。このスクリューフィーダは、スクリューが組み込まれた外筒の先端部を熔融槽内に配置し、スクリューの回転によりガラス原料を先端に向かって送り、外筒の先端に設けられている排出口から熔融槽に供給する。
【０００４】
このようなスクリューフィーダにおいて、外筒先端部が非常な高温になってガラス原料が焼き付くのを防止する為に水冷ジャケットを付設されたスクリューフィーダが開示されている（特許文献１）。また、溶融炉を重油の燃焼により加熱してガラス原料を熔融する際、重油中の硫黄分の一部が硫酸ガスとなって外筒先端部の金属部分が腐食するのを抑制するために、外筒先端部の冷却媒体として従来の水の代わりに空気を用いる技術であって、外筒先端部およびカバーがＮｉ‐Ｃｒ合金（Ｎｉ：６１．５質量％、Ｃｒ：２９．０質量％、Ｆｅ：９．０質量％）で形成された先端部冷却装置を有したスクリューフィーダが開示されている（特許文献２）。
【０００５】
特許文献１記載のスクリューフィーダでは、溶融炉を重油の燃焼により加熱してガラス原料を熔融する際、重油中の硫黄分の一部が硫酸ガスとなって外筒先端部の金属部分を腐食させる不具合があったが、特許文献２に記載のスクリューフィーダでは、冷却媒体が空気であるため、従来の水冷方法ほど大きな問題が生じない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】実公平１−３３６１２
【特許文献２】特開２００５−１７９１２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
熔解温度が高いフラットパネルディスプレイ用のガラスの製造においては、重油燃焼ではなく硫酸ガスの発生の無い天然ガスを用いた酸素燃焼が主流であり、燃焼ガス中の硫酸ガスによる腐食の虞はない。しかしながら、特許文献１に記載のスクリューフィーダを用いてフラットパネルディスプレイ用のガラスを製造すると、外筒先端部が腐食し、水漏れを起こす不具合が発生する場合がある。腐食の原因を考察した結果、原料に起因することが分かった。
【０００８】
一方、特許文献２に開示の技術では、外筒先端部およびカバーを形成するＮｉ‐Ｃｒ合金が酸化し、生成した金属酸化物が熔融槽に落下し、ガラスに混入する虞がある。特に、Ｎｉ‐Ｃｒ合金に含まれるクロムの酸化物はフラットパネルディスプレイ用のガラスには溶け難いため、ガラス基板に混入し、欠点となり不良率の増加の虞がある。
そこで、本発明は、ガラス原料に起因するスクリューフィーダの腐食を抑制することができるガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様は、金属製のスクリューフィーダを用いてガラス原料を熔解槽に導入して熔解する熔解工程を有するガラス基板の製造方法である。このガラス基板の製造方法は、前記スクリューフィーダを構成する金属からなる金属試料を用意すると共に、前記ガラス基板の組成の供給源となる原料であり、加熱により水分を生成する含水原料と、加熱により水分を生成しない無水原料と、加熱により酸性ガスを生成する酸性ガス含有原料と、加熱により酸性ガスを生成しない無酸性ガス原料とを、異なる含有率で含む複数の原料試料を用意し、前記原料試料を前記金属試料と隣接させて加熱することで、前記原料試料から生成される水分および酸性ガスの量と、前記金属試料の腐食量との相関関係を得る準備工程と；前記相関関係に基づいて、前記腐食量が低減するように、前記ガラス原料に含まれる前記含水原料、前記無水原料、前記酸性ガス含有原料および前記無酸性ガス原料の含有率を調整する原料調整工程と；を有し、前記原料調整工程において調整されたガラス原料を、前記熔解工程において熔解する。
【００１０】
上記の態様のガラス基板の製造方法において、前記含水原料が、Ａｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３および塩基性炭酸マグネシウムから選ばれる一種以上であってもよい。また、前記無水原料が、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３およびＭｇＯから選ばれる一種以上であってもよい。
【００１１】
上記の態様のガラス基板の製造方法において、前記酸性ガスは、ＮＯ２であってもよい。この場合、前記酸性ガス含有原料が、Ｓｒ（ＮＯ３）２及びＢａ（ＮＯ３）２の少なくとも一方であってもよい。また、前記無酸性ガス原料が、ＳｒＣＯ３及びＢａＣＯ３の少なくとも一方であってもよい。
【００１２】
上記の態様のガラス基板の製造方法において、前記スクリューフィーダは、前記ガラス原料を移送する前記金属製の移送管と、前記移送管の先端に設けられ、前記ガラス原料を前記熔解槽へ吐出する吐出口とを有してもよい。この場合、前記移送管は、前記吐出口の先端が前記熔解槽の内壁面に位置するように位置合わせして配置されてもよい。
【００１３】
上記の態様のガラス基板の製造方法において、前記スクリューフィーダを構成する金属が鉄であってもよい。この場合、前記準備工程において得られた、前記含水原料から生成される水分の量が１５ｗｔ％以上であり、かつ前記酸性ガス含有原料から生成される酸性ガスの量が２ｗｔ％以下である場合、または、前記前記含水原料から生成される水分の量が１５ｗｔ％未満であり、かつ前記酸性ガス含有原料から生成される酸性ガスの量が３ｗｔ％以下である場合に、前記腐食量が低減する相関関係に基づき、前記原料調整工程において、前記腐食量が低減するように、前記ガラス原料に含まれる前記含水原料、前記無水原料、前記酸性ガス含有原料および前記無酸性ガス原料の含有率を調整してもよい。
【００１４】
上記の態様のガラス基板の製造方法は、前記ガラス基板が、質量％表示で、ＳｉＯ２：５０〜７０％、Ａｌ２Ｏ３：０〜２５％、Ｂ２Ｏ３：０〜１５％、ＭｇＯ：０〜１０％、ＣａＯ：０〜２０％、ＳｒＯ：０〜２０％、ＢａＯ：０〜１０％、ＲＯ：５〜３０％（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａから選ばれる少なくとも１種であり、ガラス基板が含有するものである)、Ｒ’２Ｏ：０〜３０％（ただし、Ｒ’はＬｉ、Ｎａ及びＫから選ばれる少なくとも１種であり、ガラス基板が含有するものである)、を含むガラスからなっていてもよい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の一態様であるガラス基板の製造方法によれば、ガラス原料に起因するスクリューフィーダの腐食を抑制することができ、長期間に亘り安定してガラス基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本実施形態のスクリューフィーダを模式的に示す図である。
【図２】図１に示す熔解工程から切断工程までを行う装置を模式的に示す図である。
【図３】本実施形態のガラス基板の製造方法の工程を説明する工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本実施形態のガラス基板の製造方法について説明する。
図１は、本実施形態のガラス基板の製造方法に用いられるスクリューフィーダ１０を模式的に示す図である。スクリューフィーダ１０は、ガラスを熔解する熔解槽１０１にガラス原料を供給するための装置である。スクリューフィーダ１０は、駆動モータ１１と、軸受け１２と、ホッパー１３と、移送管であるケーシング１４と、スクリュー軸１５と、スクリュー本体１６と、を主に有する。駆動モータ１１、軸受け１２及びケーシング１４は、それぞれ台車１７に固定されている。
【００１８】
駆動モータ１１は、駆動軸と減速器とを備え、駆動軸が減速器を介してスクリュー軸１５と連結されている。駆動モータ１１は、図示されない制御装置と接続され、この制御装置から供給される電力により駆動軸が回転駆動される。駆動モータ１１は、台車１７上に固定されている。
軸受け１２は、内部にベアリング及びベアリングを保護するシール材を有し、スクリュー軸１５を回転可能に支持している。軸受け１２は台車１７上に固定されている。
ホッパー１３は、ケーシング１４の上方で、ケーシング１４の軸受け１２側の後端部近傍に設けられている。ホッパー１３は、供給された粉体状のガラス原料を貯留し、ホッパー１３の下方のケーシング１４へガラス原料を供給するように構成されている。
【００１９】
ケーシング１４は、ガラス原料を移送する金属製の移送管である。本実施形態においては、ガラス原料にクロム等の不純物が混入することを防止するために、クロム（Ｃｒ）を含有しない鉄製のケーシング１４を用いているが、熔解するガラスの種類によっては、例えばステンレス鋼など、鉄以外の金属を用いてもよい。また、クロムを含有しないＮｉ合金を用いてもよい。ケーシング１４は、台車１７上に固定されている。ケーシング１４の内径は、スクリュー本体１６の外径よりやや大きく形成され、ケーシング１４の内側にスクリュー軸１５及びスクリュー本体１６を回転可能に収容している。ケーシング１４は、冷却水を循環させてケーシング１４の温度上昇を抑制する不図示の冷却装置を備えている。
【００２０】
ケーシング１４は、ホッパー１３からガラス原料を受け入れる原料入口１４ａと、熔解槽１０１へガラス原料を吐出する吐出口１４ｂと、を有する。ケーシング１４は、吐出口１４ｂの先端が熔解槽１０１の内壁面に位置するように位置合わせして配置されている。すなわち、吐出口１４ｂの先端は、熔解槽１０１の内壁面と段差なく配置され、熔解槽１０１の内壁面と同一の平面上に配置される。ケーシング１４の軸受け１２側の端には、ケーシング１４の端を塞ぐ端部材１４ｃが設けられている。端部材１４ｃには、スクリュー軸１５が貫通するための貫通穴が設けられている。貫通穴は、軸部１６ａが軸振れしても接触しないように、また、軸部１６ａとの間の隙間からガラス原料が漏れ難い程度の隙間を有する。
【００２１】
スクリュー軸１５は、軸受け１２によって回転可能に支持され、駆動モータ１１の駆動軸に減速器を介して連結され、駆動モータ１１によって回転させられる。
スクリュー本体１６はスクリュー軸１５の外周面にらせん状に設けられ、スクリュー軸１５の回転によりガラス原料をスクリュー軸１５の軸方向に移送するように設けられている。
台車１７はキャスターを備え、熔解槽１０１に接近し、あるいは熔解槽１０１から離れるように移動可能に設けられている。台車１７を移動させることにより、ケーシング１４の吐出口１４ｂの先端の熔解槽１０１の内壁面に対する位置を調整することができる。また、ケーシング１４を熔解槽１０１から抜き取ってメンテナンスを行うことができる。
【００２２】
ホッパー１３に供給されて貯留されたガラス原料は、ホッパー１３の下方に接続されたケーシング１４の原料入口１４ａを介してケーシング１４の内部へ常時供給される。ケーシング１４の内部に配置されたスクリュー軸１５は、軸受け１２によって支持された状態でモータ１１の回転駆動によって回転し、スクリュー本体１６が回転する。ケーシング１４の内部に供給された粉状体のガラス原料は、スクリュー本体１６の回転により原料入口１４ａから吐出口１４ｂへ向けてスクリュー軸１５の軸方向に移送され、吐出口１４ｂの先端から熔解槽１０１の内部へ吐出される。熔解槽１０１の内部へ吐出されたガラス原料は、熔解槽１０１内に設けられた不図示の酸素バーナーから発する火焔及びその火焔に熱せられた炉壁からの輻射熱により加熱されて熔解し、熔融ガラスＭＧが作られる。熔解槽１０１に貯留された熔融ガラスＭＧは、不図示の電極を用いて通電加熱される。
【００２３】
スクリューフィーダ１０によって熔解槽１０１にガラス原料を供給する際には、ケーシング１４の吐出口１４ｂの先端の下側は、吐出口１４ｂから吐出されて熔解槽１０１内の熔融ガラスＭＧの液面に落下するガラス原料によって覆われた状態になる。吐出口１４ｂの先端の下側を覆うガラス原料は、熔解槽１０１内の酸素バーナーから発する火焔、その火焔に熱せられた炉壁からの輻射熱、及び熔融ガラスＭＧからの伝熱輻射熱により加熱され、順次熔解槽１０１内の熔融ガラスに落下する。しかし、ケーシング１４が冷却装置によって冷却されているため、ガラス原料によって覆われたケーシング１４の吐出口１４ｂの先端の下側の表面温度は、例えば１００℃以下になる場合がある。このような場合、従来のガラス基板の製造方法においては、ケーシング１４の吐出口１４ｂの先端の下側の腐食が問題になる。
【００２４】
従来のガラス基板の製造方法においては、ガラス原料の組成によっては、ガラス原料が加熱されると、ガラス原料から水蒸気と酸性ガスが発生する場合がある。発生した水蒸気はケーシング１４の表面で１００℃以下に冷却されて凝縮し、吐出口１４ａの先端の下側に水が付着する。この場合、付着した水に酸性ガスが溶け込んで酸性の液体となり、ケーシング１４を構成する金属を腐食させる。あるいは、水蒸気と酸性ガスと反応したガスが、ケーシング１４の表面で１００℃以下に冷却されて凝縮し、吐出口１４ｂの先端の下側の表面に酸性の液体が付着して、ケーシング１４を構成する金属を腐食させる。すなわち、ガラス原料から発生する水蒸気と酸性ガスが、ケーシング１４の吐出口１４ｂの先端の下側を腐食させることが見出された。
【００２５】
そのため、本実施形態のガラス基板の製造方法は、金属製のスクリューフィーダ１０を用いてガラス原料を溶解槽１０１に導入して熔解する熔解工程を実施する前に、準備工程を実施する。
準備工程では、スクリューフィーダを構成する金属からなる金属試料を用意する。また、ガラス原料の試料であり、ガラス基板の組成の供給源となる原料を含む原料試料を用意する。具体的には、スクリューフィーダ１０のケーシング１４を構成する金属である鉄製の板を金属試料として用意する。また、ガラス基板の組成の供給源となる原料として、加熱により水分を生成する含水原料と、加熱により水分を生成しない無水原料と、加熱により酸性ガスを生成する酸性ガス含有原料と、加熱により酸性ガスを生成しない無酸性ガス原料と、を用意する。そして、これらの原料を異なる含有率で含む複数の原料試料を用意する。
【００２６】
さらに、準備工程では、用意した各々の原料試料を金属試料と隣接させて加熱することで、原料試料から生成される水分および酸性ガスの量と、金属試料の腐食量との相関関係を得る。ここで、原料試料を金属試料と隣接させるとは、原料試料と金属試料とを間に空間を有するように配置することだけでなく、原料試料と金属試料とを接触させて配置することも含む。なお、原料試料から生成される水分の量は、後述するように、含水原料の化学式と、原料試料中の含水原料の含有率と、から求めることができる。同様に、原料試料から生成される酸性ガスの量は、後述するように、酸性ガス含有原料の化学式と、原料試料中の酸性ガス含有原料の含有率とから求めることができる。
【００２７】
本実施形態において製造するガラス基板は、例えば以下の組成を有する。以下に示す組成の含有率表示は、質量％である。
ＳｉＯ２：５０〜７０％、
Ａｌ２Ｏ３：０〜２５％、
Ｂ２Ｏ３：０〜１５％、
ＭｇＯ：０〜１０％、
ＣａＯ：０〜２０％、
ＳｒＯ：０〜２０％、
ＢａＯ：０〜１５％、
ＲＯ：５〜３０％（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａから選ばれる少なくとも１種であり、ガラス基板が含有するものである)、
Ｒ’２Ｏ：０〜３０％（ただし、Ｒ’はＬｉ、Ｎａ及びＫから選ばれる少なくとも１種であり、ガラス基板が含有するものである)、
を含有するガラスであることが、好ましい。
【００２８】
なお、例えばディスプレイ用ガラス基板において、アルカリ金属を含有させる場合、Ｒ’２Ｏの合計が０．１０％以上０．５％以下、好ましくは０．２０％以上０．５％以下(ただし、Ｒ’はＬｉ、Ｎａ及びＫから選ばれる少なくとも１種であり、ガラス基板が含有するものである)含むことが好ましい。
また、本実施形態のガラス基板の製造方法を適用する場合は、ガラス組成物が、上記各成分に加えて、質量％表示で、ＳｎＯ２：０．０１〜１％（好ましくは０．０１〜０．５％）、Ｆｅ２Ｏ３：０〜０．２％（好ましくは０．０１〜０．０８％）を含有し、環境負荷を考慮して、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＰｂＯを実質的に含有しないようにガラス原料を調製してもよい。
【００２９】
上記のガラスの各成分の供給源として、本実施形態のガラス原料は以下の表１に示す原料の粉状体を含むものが用いられる。表１に示すように、本実施形態のガラス原料は、ガラス基板が含有するＡｌ２Ｏ３の供給源として、Ａｌ２Ｏ３及びＡｌ（ＯＨ）３の少なくとも一方を含む。また、本実施形態のガラス原料は、ガラス基板が含有するＢ２Ｏ３の供給源として、Ｂ２Ｏ３及びＨ３ＢＯ３の少なくとも一方を含む。また、本実施形態のガラス原料は、ガラス基板が含有するＭｇＯの供給源として、ＭｇＯ及び塩基性炭酸マグネシウムの少なくとも一方を含む。さらに、本実施形態のガラス原料は、ガラス基板が含有するＳｒＯの供給源として、Ｓｒ（ＮＯ３）２及びＳｒＣＯ３の少なくとも一方を含む。また、本実施形態のガラス原料は、ガラス基板が含有するＢａＯの供給源として、Ｂａ（ＮＯ３）２及びＢａＣＯ３の少なくとも一方を含む。
【００３０】
【表１】
2014105122.tif 000003
【００３１】
ガラスの組成によっては、上記の物質以外から水分が生成される場合があるが、例えば表１に示す原料を含むガラス原料では、Ａｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３及び塩基性炭酸マグネシウム（代表表記：４ＭｇＣＯ３・Ｍｇ（ＯＨ）２・4Ｈ２Ｏ）から水分が生成される。一方、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３およびＭｇＯからは水分が生成されない。すなわち、Ａｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３および塩基性炭酸マグネシウムは含水原料であり、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３およびＭｇＯは無水原料である。
本実施形態のガラス原料に含まれる含水原料であるＡｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３及び４ＭｇＣＯ３・Ｍｇ（ＯＨ）２・4Ｈ２Ｏは、ガラス組成に含まれるＡｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３及びＭｇＯに変化する際に、それぞれ水分を３４．６ｗｔ％（質量％）、４３．７ｗｔ％及び１９．３ｗｔ％生成する。
【００３２】
したがって、ガラス原料に含まれるＡｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３及び塩基性炭酸マグネシウムの含有率をそれぞれ、ａ（ｗｔ％），ｂ（ｗｔ％）及びｃ（ｗｔ％）とすると、ガラス原料から生成される水分の量Ｗ（ｗｔ％）は、下記の式（１）により求められる
Ｗ＝（３４．６ａ＋４３．７ｂ＋１９．３ｃ）／１００  …（１）
本実施形態では、含水原料であるＡｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３及び塩基性炭酸マグネシウムの含有率ａ（ｗｔ％），ｂ（ｗｔ％）及びｃ（ｗｔ％）のうち、少なくとも１つを調節することで、ガラス原料から生成される水分の量を調節することができる。なお、含有率ａ，ｂおよびｃの値は、それぞれ０であってもよい。すなわち、ガラス基板の組成であるＡｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＭｇＯの供給源として、無水原料である無水酸化物を用いることができる。
【００３３】
また、表１に示す原料を含む本実施形態のガラス原料では、Ｓｒ（ＮＯ３）２、Ｂａ（ＮＯ３）２から酸性ガスであるＮＯ２が生成される。ガラス原料の組成によっては、酸性ガスとして、Ｃｌ２、ＳＯ３またはＦ２が生成される場合がある。一方、ＳｒＣＯ３およびＢａＣＯ３からは、酸性ガスであるＮＯ２が生成されない。すなわち、Ｓｒ（ＮＯ３）２およびＢａ（ＮＯ３）２は酸性ガス含有原料であり、ＳｒＣＯ３およびＢａＣＯ３は無酸性ガス原料である。本実施形態のガラス原料に含まれるＳｒ（ＮＯ３）２及びＢａ（ＮＯ３）２は、ガラス組成に含まれるＳｒＯ及びＢａＯに変化する際に、ＮＯ２をそれぞれ４３．５ｗｔ％及び３５．２ｗｔ％生成する。
【００３４】
したがって、ガラス原料に含まれるＳｒ（ＮＯ３）２及びＢａ（ＮＯ３）２の含有率を，それぞれｄ（ｗｔ％）及びｅ（ｗｔ％）とすると、ガラス原料から生成される酸性ガスの量Ｇ（ｗｔ％）は、下記の式（２）により求められる。
Ｇ＝（４３．５ｄ＋３５．２ｅ）／１００  …（２）
本実施形態では、酸性ガス含有原料であるＳｒ（ＮＯ３）２及びＢａ（ＮＯ３）２の含有率ｄ（ｗｔ％）及びｅ（ｗｔ％）のうち、少なくとも１つを調節することで、ガラス原料から生成される酸性ガスの量を調節することができる。なお、含有率ｄ及びｅの値は、それぞれ０であってもよい。すなわち、ガラス原料として、無酸性ガス原料である炭酸塩原料のみを用いることができる。
【００３５】
上述の組成のガラス基板を製造する場合、上記の準備工程において用意する複数種の原料試料は、含水原料であるＡｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３及び塩基性炭酸マグネシウムの含有率、無水原料であるＡｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３及びＭｇＯの含有率、酸性ガス含有原料であるＳｒ（ＮＯ３）２及びＢａ（ＮＯ３）２の含有率、並びに、無酸性ガス原料であるＳｒＣＯ３およびＢａＣＯ３の含有率のいずれかを異ならせたものである。準備工程では、これらの原料試料を、金属試料である鉄製の板と隣接させて加熱する。例えば、上記の複数種の原料試料がそれぞれ投入されて鉄製の板で密閉された坩堝を、それぞれ電気炉内で所定の時間に亘って加熱する。各原料試料は、例えば後述する熔解工程におけるスクリューフィーダ１０のケーシング１４の吐出口１４ｂの先端の近傍における温度まで加熱する。その後、鉄製の板の腐食の状態を観察して、腐食量を判定する。
上記各種の原料試料から生成される水分及び酸性ガスの量は、それぞれ上記の式（１）及び（２）によって求めることができる。したがって、上記の準備工程を実施することで、原料試料から生成される水分および酸性ガスの量と、金属試料の腐食量との相関関係を得ることができる。
【００３６】
その後、上記の準備工程で得られた相関関係に基づいて、スクリューフィーダ１０のケーシング１４を構成する金属の腐食量が低減するように、ガラス原料に含まれる含水原料、無水原料、酸性ガス含有原料および無酸性ガス原料の含有率を調整する原料調整工程を実施する。具体的には、準備工程で得られた相関関係に基づいて、ケーシング１４を構成する金属の腐食量が低減するように、ガラス原料中の含水原料であるＡｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３および塩基性炭酸マグネシウムの含有率ａ，ｂ，ｃ及び酸性ガス含有原料であるＳｒ（ＮＯ３）２およびＢａ（ＮＯ３）２の含有率ｄ，ｅを調整する。
【００３７】
本実施形態によれば、上記のようにガラス原料を熔解する熔解工程の前に、準備工程と原料調整工程とを実施することで、熔解工程においてガラス原料が加熱されたときに発生する水分と酸性ガスの量を適切な範囲に抑制し、ケーシング１４の吐出口１４ａの先端の下側の表面における水と酸性ガスとによる腐食を効果的に防止できる。したがって、本実施形態によれば、スクリューフィーダ１０の腐食を抑制することができ、長期間に亘り安定してガラス基板を製造することができる。
【００３８】
また、本実施形態においては、図１に示すように、スクリューフィーダ１０のケーシング１４の吐出口１４ｂの先端が、熔解槽１０１の内壁面に位置するように位置合わせして配置されている。すなわち、吐出口１４ｂの先端は、熔解槽１０１の内壁面と段差なく配置され、熔解槽１０１の内壁面と同一の平面上に配置される。したがって、スクリューフィーダ１０のケーシング１４の吐出口１４ｂの先端の近傍に、ガラス原料が滞留することが防止され、吐出口１４ｂの先端から常にガラス原料が熔解槽１０１に落下するようになる。したがって、ガラス原料がケーシング１４の吐出口１４ｂの先端の近傍に滞留する場合と比較して、ガラス原料から発生する水分と酸性ガスとがケーシング１４の吐出口１４ｂの先端に与える影響を最小限に留めることができる。なお、ケーシング１４の吐出口１４ｂの先端は、やや熔解槽１０１内に突出するように配置しても良いが、ケーシング１４に対する熱の影響を考慮すると、ケーシング１４の吐出口１４ｂの先端は、熔解槽１０１の内壁面に位置し、熔解槽１０１の内壁面と段差なく配置されることが好ましい。
【００３９】
図２は、本実施形態におけるガラス基板を製造する装置の一例を模式的に示す図である。図２に示すように、ガラス基板の製造装置は、主に熔解装置１００と、成形装置２００と、切断装置３００と、を有する。熔解装置１００は、熔解槽１０１と、清澄槽１０２と、攪拌槽１０３と、ガラス供給管１０４，１０５，１０６と、を有する。
図２に示す熔解装置１００では、スクリューフィーダ１０によって熔解槽１０１にガラス原料が投入される。清澄槽１０２では、熔融ガラスＭＧの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスＭＧの清澄が行われる。さらに、攪拌槽１０３では、スターラ１０３ａによって熔融ガラスＭＧが攪拌されて均質化される。成形装置２００では、成形体２１０を用いたオーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスＭＧからシートガラスＳＧが成形される。
【００４０】
図３は、本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。
本実施形態のガラス板の製造方法は、熔解工程（ＳＴ１）と、清澄工程（ＳＴ２）と、均質化工程（ＳＴ３）と、供給工程（ＳＴ４）と、成形工程（ＳＴ５）と、徐冷工程（ＳＴ６）と、切断工程（ＳＴ７）と、を主に有する。なお、熔解工程（ＳＴ１）の前には、上述のように、準備工程及び原料調整工程が行われる。この他に、外周部の研削工程および研磨工程、洗浄工程、検査工程、並びに梱包工程等を有し、梱包工程で積層された複数のガラス板は、納入先の業者に搬送される。
【００４１】
熔解工程（ＳＴ１）は熔解槽１０１で行われる。
熔解槽１０１では、上記の原料調整工程において調整されたガラス原料を、スクリューフィーダ１０を用いて熔解槽１０１に蓄えられた熔融ガラスＭＧの液面に投入し、ガラス原料を加熱することにより熔融ガラスＭＧを作る。このとき、スクリューフィーダ１０のケーシング１４の吐出口１４ｂの近傍でガラス原料から生成される水分と酸性ガスの量が、ケーシング１４を構成する金属である鉄の腐食を減少させるように調整されている。したがって、ケーシング１４の腐食が抑制され、ガラス原料を長期間に亘って安定的に熔解することができる。
【００４２】
さらに、熔解槽１０１の内側側壁の１つの底部に設けられた流出口から下流の工程に向けて熔融ガラスＭＧを流す。
熔解槽１０１の熔融ガラスＭＧの加熱は、熔融ガラスＭＧに通電することで発生するジュール熱により熔融ガラスＭＧを加熱する通電加熱に加えて、酸素バーナーによる火焔を補助的に与えてガラス原料を熔解する。
ガラス原料には、清澄剤が添加される。清澄剤として、ＳｎＯ２，Ａｓ２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３等を用いることができるが、環境負荷低減の点から、清澄剤としてＳｎＯ２（酸化錫）を用いることが好ましい。
【００４３】
清澄工程（ＳＴ２）は、少なくとも清澄槽１０２において行われる。清澄工程では、清澄槽１０２内の熔融ガラスＭＧが昇温されることにより、熔融ガラスＭＧ中に含まれるＯ２、ＣＯ２、空気あるいはＳＯ２を含んだ泡が、清澄剤の還元反応により生じたＯ２を吸収して成長し、熔融ガラスＭＧの液面に泡は浮上して放出される。さらに、清澄工程では、熔融ガラスＭＧの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスＭＧに残存する泡中のＯ２等のガス成分が熔融ガラスＭＧ中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄剤による酸化反応及び還元反応は、熔融ガラスＭＧの温度を制御することにより行われる。なお、清澄工程は、減圧雰囲気の空間を清澄槽１０１に形成し、熔融ガラスＭＧに存在する泡を減圧雰囲気で成長させて脱泡させる減圧脱泡方式を用いることもできる。
【００４４】
均質化工程（ＳＴ３）では、清澄槽１０２から延びる配管１０５を通って供給された攪拌槽１０３内の熔融ガラスを、スターラ１０３ａを用いて攪拌することにより、ガラス成分及び温度の均質化を行う。これにより、脈理等の原因であるガラスの組成ムラを低減することができる。なお、攪拌槽１０３は１つ設けても、２つ設けてもよい。
供給工程（ＳＴ４）では、攪拌槽１０３から延びる配管１０６を通して熔融ガラスＭＧが成形装置２００に供給される。
【００４５】
成形装置２００では、成形工程（ＳＴ５）及び徐冷工程（ＳＴ６）が行われる。
成形工程（ＳＴ５）では、熔融ガラスＭＧをシートガラスＳＧに成形し、シートガラスＳＧの流れを作る。成形は、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程（ＳＴ６）では、成形されて流れるシートガラスＳＧが所望の厚さ範囲になり、内部歪が、さらに、反りが所望の値以下となるように冷却される。
切断工程（ＳＴ７）では、切断装置３００において、成形装置２００から供給されたシートガラスＳＧを所定の長さに切断することで、ガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板を得る。この後、ガラス基板は、端面研削、端面研磨、および洗浄が行われ、さらに、気泡等の異常欠陥の有無が検査された後、検査合格品のガラス基板が最終製品として梱包される。
【００４６】
以上説明したように、本実施形態のガラス基板の製造方法によれば、熔解工程（ＳＴ１）においてスクリューフィーダ１０の腐食を抑制することができ、長期間に亘り安定してガラス基板を製造することができる。
なお、本発明は上記の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよい。
【実施例】
【００４７】
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
まず、熔解工程の前に、準備工程を実施した。具体的には、上述の実施形態で示したガラス組成を有するガラス基板の各組成の供給源として、上記の表１に示す原料の粉状体を混合することで、以下の試料１から試料９までの原料試料を調合した。
【００４８】
試料１では、ガラス基板の各組成の供給源として、含水原料及び酸性ガス含有原料である硝酸塩を用いず、無水原料である無水酸化物及び無酸性ガス原料である炭酸塩原料を用いた。すなわち、ガラス組成のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の供給源として、それぞれ無水酸化物であるアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を用いた。また、ガラス組成の酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）及び酸化バリウム（ＢａＯ）の供給源として、それぞれ炭酸塩である炭酸ストロンチウム（ＳｒＣＯ３）及び炭酸バリウム（ＢａＣＯ３）を用いた。このとき、試料１から生成される水分の量を求めると、０ｗｔ％であった。すなわち、試料１では、Ａｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３及び塩基性炭酸マグネシウムの含有率を０ｗｔ％にすることで、生成される水分の量が０ｗｔ％になるよう原料を調合した。また、試料１では、Ｓｒ（ＮＯ３）２およびＢａ（ＮＯ３）２の含有率を０ｗｔ％にすることで、生成される酸性ガス量が０ｗｔ％となるように原料を調合した。
【００４９】
試料２では、試料１と同様に無水酸化物を用いた。また、ガラス組成の酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）の供給源として、炭酸ストロンチウム（ＳｒＣＯ３）および硝酸ストロンチウム（Ｓｒ（ＮＯ３）２）を半量ずつ用いた。また、ガラス組成の酸化バリウム（ＢａＯ）の供給源として、炭酸バリウム（ＢａＣＯ３）及び硝酸バリウム（Ｂａ（ＮＯ３）２）を半量ずつ用いた。このとき、試料２から生成される水分の量を求めると、０ｗｔ％であった。すなわち、試料２では、試料１と同様に、生成される水分の量が０ｗｔ％になるようにガラス原料を調合した。また、試料２では、上記のようにガラス原料中のＳｒ（ＮＯ３）２およびＢａ（ＮＯ３）２の含有率を調節することで、生成される酸性ガスの量が１．３ｗｔ％となるように原料を調合した。
【００５０】
試料３では、試料１と同様に無水酸化物を用いた。また、ガラス組成の酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）の供給源として、硝酸ストロンチウム（Ｓｒ（ＮＯ３）２）のみを用いた。また、ガラス組成の酸化バリウム（ＢａＯ）の供給源として、硝酸バリウム（Ｂａ（ＮＯ３）２）のみを用いた。このとき、試料３から生成される水分の量を求めると、０ｗｔ％であった。すなわち、試料３では、試料１と同様に、生成される水分の量が０ｗｔ％になるように原料を調合した。また、試料３では、上記のようにＳｒ（ＮＯ３）２およびＢａ（ＮＯ３）２の含有率を調節することで、生成される酸性ガスの量が２．５ｗｔ％となるように原料を調合した。
【００５１】
試料４では、ホウ酸以外は無水酸化物を用いた。すなわち、ガラス組成のアルミナ及び酸化マグネシウムの供給源として、それぞれ無水酸化物であるアルミナ及び酸化マグネシウムを用い、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）の供給源として含水原料であるホウ酸（Ｈ３ＢＯ３）を用いた。また、試料１と同様に、ガラス組成の酸化ストロンチウム及び酸化バリウムの供給源として、それぞれ炭酸塩である炭酸ストロンチウム及び炭酸バリウムを用いた。このとき、試料４から生成される水分の量を求めると、８．８ｗｔ％であった。すなわち、試料４では、Ａｌ（ＯＨ）３及び塩基性炭酸マグネシウムの含有率を０ｗｔ％にして、Ｈ３ＢＯ３の含有率を調節することで、生成される水分の量が８．８ｗｔ％になるように原料を調合した。また、試料４では、試料１と同様に、生成される酸性ガス量が０ｗｔ％となるよう原料を調合した。
【００５２】
試料５では、試料４と同様に、ホウ酸以外は無水酸化物を用いた。また、試料２と同様に、ガラス組成の酸化ストロンチウムの供給源として炭酸ストロンチウムおよび硝酸ストロンチウムを半量ずつ用い、ガラス組成の酸化バリウム供給源として炭酸バリウム及び硝酸バリウムを半量ずつ用いた。このとき、試料５から生成される水分の量を求めると、７．６ｗｔ％であった。すなわち、試料５では、試料４と同様に、生成される水分の量が７．６ｗｔ％になるように原料を調合した。また、試料５では、試料２と同様に、生成される酸性ガス量が１．２ｗｔ％となるようにガラス原料を調合した。
【００５３】
試料６では、試料４及び試料５と同様にホウ酸以外は無水酸化物を用いた。また、試料３と同様に、ガラス組成の酸化ストロンチウムの供給源として硝酸ストロンチウムを用い、ガラス組成の酸化バリウムの供給源として硝酸バリウムを用いた。このとき、試料６から生成される水分の量を求めると、７．５ｗｔ％であった。すなわち、試料６では、試料４及び試料５と同様に、生成される水分の量が７．５ｗｔ％になるように原料を調合した。また、試料６では、試料３と同様に、生成される酸性ガス量が２．３ｗｔ％となるように原料を調合した。
【００５４】
試料７では、ガラス基板の所定の成分の供給源として無水酸化物を用いず、含水原料のみを用いた。すなわち、ガラス組成のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）及び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の供給源として、それぞれ含水原料である水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）、ホウ酸（Ｈ３ＢＯ３）及び重炭酸マグネシウム（４ＭｇＣＯ３・Ｍｇ（ＯＨ）２・4Ｈ２Ｏ）を用いた。また、試料１と同様に、ガラス組成の酸化ストロンチウム及び酸化バリウムの供給源として、それぞれ炭酸塩である炭酸ストロンチウム及び炭酸バリウムを用いた。このとき、試料７から生成される水分の量を求めると、１５ｗｔ％であった。すなわち、試料７では、ガラス原料中のＡｌ（ＯＨ）３、Ｈ３ＢＯ３及び塩基性炭酸マグネシウムの含有率を調節することで、生成される水分の量が１５ｗｔ％になるように原料を調合した。また、試料７では、試料１と同様に、生成される酸性ガス量が０ｗｔ％となるように原料を調合した。
【００５５】
試料８では、試料７と同様に、ガラス基板の所定の成分の供給源として無水酸化物を用いず、含水原料のみを用いた。また、試料２及び試料５と同様に、ガラス組成の酸化ストロンチウムの供給源として炭酸ストロンチウムおよび硝酸ストロンチウムをＳｒＯとして半量ずつ用い、ガラス組成の酸化バリウム供給源として炭酸バリウム及び硝酸バリウムをＢａＯとして半量ずつ用いた。このとき、試料８から生成される水分の量を求めると、１５ｗｔ％であった。すなわち、試料８では、試料７と同様に、生成される水分の量が１５ｗｔ％になるように原料を調合した。また、試料８では、試料２及び試料５と同様に、生成される酸性ガス量が１．１ｗｔ％となるように原料を調合した。
【００５６】
試料９では、試料７と同様に、ガラス基板の所定の成分の供給源として無水酸化物を用いず、含水原料のみを用いた。また、試料３及び試料６と同様に、ガラス組成の酸化ストロンチウムの供給源として硝酸ストロンチウムを用い、ガラス組成の酸化バリウムの供給源として硝酸バリウムを用いた。このとき、試料９から生成される水分の量を求めると、１５ｗｔ％であった。すなわち、試料９では、試料７と同様に、生成される水分の量が１５ｗｔ％になるように原料を調合した。また、試料９では、試料３及び試料６と同様に、生成される酸性ガス量が２．１ｗｔ％となるように原料を調合した。
【００５７】
次に、調合した試料１から試料９のガラス原料をそれぞれ５０ｇずつ１００ｍｌのアルミナ坩堝に投入し、スクリューフィーダのケーシングを構成する材料である鉄製の板でアルミナ坩堝の開口部を覆った。さらに、そのアルミナ坩堝を電気炉に入れて、電気炉内で６５０℃の温度で１８時間加熱した。その後、鉄製の板の表面の腐食の状態を確認した。以下の表２に、試料１から試料９のガラス原料から生成される水分量及び酸性ガス量と、各試料における鉄製の板の腐食の状態を示す。
【００５８】
【表２】
2014105122.tif 000004
【００５９】
表２示すように、試料１から試料６は、ガラス原料から生成される水分が１５ｗｔ％より小さく、かつガラス原料から生成される酸性ガスが３ｗｔ％以下、より具体的にはガラス原料から生成される水分が８．８ｗｔ％より小さく、かつガラス原料から生成される酸性ガスが２．５％以下である。この場合、鉄製の板に腐食は見られないか、あるいは腐食が比較的少なかった。
試料７及び試料８は、ガラス原料から生成される水分が１５ｗｔ％以上で、かつガラス原料から生成される酸性ガスが２ｗｔ％以下である。より具体的には、ガラス原料から生成される酸性ガスは１．１ｗｔ％以下である。この場合、鉄製の板の腐食は比較的少なかった。
【００６０】
試料１から試料３は、ガラス原料から生成される水分量が０ｗｔ％である。この場合、鉄製の板に腐食は見られなかった。すなわち、ガラス原料から生成される水分が０ｗｔ％であると、より効果的に鉄の腐食を抑制することができた。すなわち、鉄の腐食を抑制する場合、ガラス原料から生成される水分量は出来るだけ少ないことが好ましい。より具体的には、鉄の腐食を抑制する場合、ガラス原料から生成される水分量は、１０ｗｔ％以下であることが好ましく、５ｗｔ％以下であることがより好ましく、０ｗｔ％であることがさらに好ましい。
【００６１】
一方、試料９に示すように、ガラス原料から生成される水分が１５ｗｔ％以上で、かつガラス原料から生成される酸性ガスが２ｗｔ％より大きい場合、鉄製の板に著しい腐食が見られた。
【００６２】
すなわち、準備工程において、水分量Ｗ（ｗｔ％）および酸性ガス量Ｇ（ｗｔ％）と、鉄の腐食量とに、以下の相関関係が認められた。
以下の式（３）または（４）を満たすと、鉄の腐食量を低減することができる。
Ｗ≧１５（ｗｔ％）の場合、Ｇ≦２（ｗｔ％）  …（３）
Ｗ＜１５（ｗｔ％）の場合、Ｇ≦３（ｗｔ％）  …（４）
なお、ガラス原料から生成される水分量が１５ｗｔ％より小さい場合は、ガラス原料から生成される酸性ガス量を１０ｗｔ％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは３ｗｔ％以下にすると、鉄の腐食が抑制される。
また、上記の式（３）および（４）では、水分量Ｗに基づいて酸性ガス量Ｇが規定されているが、酸性ガス量Ｇに基づいて水分量Ｗを規定してもよい。
【００６３】
次に、準備工程において得られた式（３）または（４）を満たすと鉄の腐食量が低減する相関関係に基づいて、鉄の腐食を低減するように、ガラス原料に含まれる含水原料、無水原料、酸性ガス含有原料および無酸性ガス原料の含有率を調整する原料調整工程を実施した。具体的には、試料１から試料８までの原料の調合比率を採用し、ガラス原料を調合した。これにより、ガラス原料から生成される水分が１５ｗｔ％以上である場合は、ガラス原料から生成される酸性ガスが２ｗｔ％以下となり、ガラス原料から生成される水分が１５ｗｔ％よりも小さい場合は、ガラス原料から生成される酸性ガスが３ｗｔ％以下となるようにガラス原料を調合した。
次に、原料調整工程により調整したガラス原料を、金属製、特に鉄製のスクリューフィーダから熔解槽に導入して熔解したところ、スクリューフィーダの腐食を従来よりも低減することができた。
【符号の説明】
【００６４】
１０１  熔解槽
１０  スクリューフィーダ
１４  ケーシング（移送管）
１４ｂ  吐出口
【図１】
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【図２】
2014105122.tif 000006
【図３】
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