(57)【要約】【課題】リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法において、工程でのコストロスや納期の過大な遅延を発生することの無い、フォトマスクデータの検査方法を提供することを課題とする。【解決手段】製造されたフォトマスクの検査をするための測長パターンの幅と座標の測長データと、フォトマスクの描画データの測長パターンの幅と座標の測長データと、から、描画データの測長パターンの幅と測長データの測長パターンの幅との差を算出するＣＤ差分算出工程と、算出された前記の差を画面に表示する工程と、を有することを特徴とする。【選択図】図１
2014026099.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法において、
製造されたフォトマスクの検査をするための測長パターンの幅と座標の測長データと、フォトマスクの描画データの測長パターンの幅と座標の測長データと、から、描画データの測長パターンの幅と測長データの測長パターンの幅との差を算出するＣＤ差分算出工程と、
算出された前記の差を画面に表示する工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクデータ検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスクを用い、露光装置で露光して、被露光基板に加工を行うリソグラフィ技術で精密部品を製造することは、広く実施されている。また、パターン加工の微細化が進み、それに伴い精密部品を構成する微細パターンの量も年々増大している。その結果、フォトマスクにおける微細パターンの量も増大し、その品質を保証するための検査の負荷も増大している。特に半導体集積回路（ＬＳＩ）においては、その負荷の増大は顕著である。
【０００３】
一般にＬＳＩのフォトマスクの製造は、ＬＳＩとして実現する電子回路のパターンを設計したデータを加工して露光装置による描画のためのデータを作成し、ガラス基板にフォトレジストを塗布した基板に、描画データを描画、現像して製造する。
また、電子回路のパターンを設計したデータから検査用データを作成し、製造後、外観検査を行ない、品質を保証している。この検査のため、描画データや製造されたフォトマスクに測長パターンが設けられている。
【０００４】
このようなフォトマスク製造において、フォトマスク製造メーカでは、顧客より支給されたレイアウト設計データを基に、フラクチャリング・ツール（レイアウト設計データを各種マスク描画装置のフォーマットに変換するソフトウェア）を利用して描画データに変換した上でフォトマスクを製造し、顧客より支給された検査情報（特定箇所の寸法など）が規定値に収まっているか検査（測長）をする。
【０００５】
検査結果では、顧客より支給されたデータに起因する不具合が起こることがあり、顧客支給情報の不備による問題（設計データと検査情報の矛盾）として、
・指示座標にパターンがない
・素子寸法の値が異なる
・白黒データが逆
などが例示される。
【０００６】
これらは、実際にフォトマスクを試作して、測長を行なうことで初めて発覚する問題となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第４７３３０６５号公報
【特許文献２】特開２００５−０２６３６０号公報
【特許文献３】特開２００６−２９２８７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このようなフォトマスク製造上の不具合で、特に顧客支給情報の不備による不具合は、外観検査工程での異常検出で発見され、その時点までの描画・プロセス・検査を経るため
、これらの工程におけるコストロス（装置稼働時間、材料、人件費）が発生してしまう。さらに、顧客への情報確認のため、納期が遅延してしまう。
【０００９】
本願発明は、係る問題点を解決するもので、リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法において、製造工程でのコストロスや納期の過大な遅延を発生することの無い、フォトマスクデータの検査方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は係る課題に鑑みなされたものであり、本発明は、
リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法において、
製造されたフォトマスクの検査をするための測長パターンの幅と座標の測長データと、フォトマスクの描画データの測長パターンの幅と座標の測長データと、から、描画データの測長パターンの幅と測長データの測長パターンの幅との差を算出するＣＤ差分算出工程と、
算出された前記の差を画面に表示する工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクデータ検査方法としたものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のフォトマスクデータ検査方法は以上のような構成であって、
顧客より支給される設計データ（図形情報）を座標上の位置情報として把握して、顧客より支給される検査情報（素子寸法情報）と対比する処理・操作を新たに具備する。
【００１２】
そのため、フォトマスクパターンのデータで描画する前に、製造されたフォトマスクの検査をするための測長パターンの幅と座標の測長データと、フォトマスクの描画データの測長パターンの幅と座標の測長データと、から、描画データの測長パターンの幅と測長データの測長パターンの幅との差であるＣＤ差分を算出し、画面で表示して検査できるので、工程でのコストロスや納期の過大な遅延を発生することの無い、フォトマスクデータの検査方法とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明のフォトマスクデータ検査方法の一例のフロー図である。
【図２】本発明のフォトマスクデータ検査方法による検査結果の表示例を示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下本発明を実施するための形態につき説明する。
【００１５】
本発明の検査方法は、リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査であることを前提とする。そして、顧客より支給された、製造されたフォトマスクの検査をするための測長パターンの幅と座標の測長データと、フォトマスクの描画データの測長パターンの幅と座標の測長データと、から、描画データの測長パターンの幅と測長データの測長パターンの幅との差を算出するＣＤ差分算出工程と、描画データの測長パターンの幅と測長データの測長パターンの幅との差を画面に表示する工程と、を有する。
【００１６】
すなわち、本形態例の検査方法では、フォトマスクパターンのデータで描画する前に、顧客より支給された、製造されたフォトマスクの検査をするための測長パターンの幅と座
標の測長データと、フォトマスクの描画データの測長パターンの幅と座標の測長データと、から、描画データの測長パターンの幅と測長データの測長パターンの幅との差であるＣＤ差分を算出し、画面で表示して検査をする。このため、露光装置による描画前に不具合を検出できるので、工程でのコストロスや納期の過大な遅延を発生することの無い、フォトマスクデータの検査方法とすることができる。
【００１７】
図１は、  本発明のフォトマスクデータ検査方法の一例のフロー図である。
【００１８】
まず、Ｊｏｂｄａｔａ、測定座標リストを用意し、読み込む（図１のＳ１の工程）。Ｊｏｂｄａｔａは、描画データを含む、データの描画に関する制御（例えばセルデータの配置方法）のためのデータである。測定座標リストは、フォトマスクの検査をするための測長パターンの幅と座標の測長データを含む検査のためのデータである。共に顧客より支給されたデータである。
【００１９】
次に、読み込んだＪｏｂｄａｔａ、測定座標リストから、測定結果をファイル出力し、測定結果及び規格値をデータベースに登録しておく（図１のＳ２の工程）。すなわち、読み込んだＪｏｂｄａｔａ、測定座標リストをもとに、製造されたフォトマスクの検査をするための測長パターンの幅と座標の測長データと、フォトマスクの描画データの測長パターンの幅と座標の測長データと、から、描画データの測長パターンの幅と測長データの測長パターンの幅との差であるＣＤ差分を算出し、測定結果としてファイル出力する。また、測定結果と測定座標リストを基に、測定結果及び規格値をデータベースに登録しておく。
【００２０】
測定結果及び測定座標リストは、データベース登録後は、グラフでモニタリングできるようにしておく。
【００２１】
図２に、グラフを例示する。図には、測定箇所（横軸（Ｘ）方向）に対し、ＣＤ差分、及びズレ率（縦軸（Ｙ）方向）をプロットしてある。ズレ率が大きい点が目視で容易に測定できる（図中、破線の円で示した部分）。
【００２２】
次に、測定方向が一致しているか判定する（図１のＳ３の工程）。すなわち、測長パターンのデータの測定方向（例えば、横軸（Ｘ）方向での測定）が、描画データと測定座標リストとで一致するかどうかをモニタでチェックする。一致しない場合、仕様書，Ｊｏｂｄａｔａを見直しする（図１のＳ８の工程）。
【００２３】
次に、白黒が一致しているかどうか、モニタでチェックする（図１のＳ４の工程）。同様にして、測長パターンのデータの白黒が、描画データと測定座標リストとで一致するかどうかをモニタでチェックする。一致しない場合、仕様書・JOB・DATAを見直しする（図１のＳ８の工程）。
【００２４】
次に、測定結果を判定表に入力する（図１のＳ５の工程）。判定表とは、フォトマスクの検査を実施するソフトのことである。通常は、予め測定座標リストのデータを入力しておき、検査機で測定された、製造されたフォトマスクの測定結果を入力し、その合否を出力する。この工程では、製造されたフォトマスクの結果の代わりに、上記工程（図１のＳ２の工程）で算出された測定結果を入力する。
【００２５】
次に、判定表に基づき、合否の判定を行う（図１のＳ６の工程）。合格しない場合、仕様書・JOB・DATAを見直しする（図１のＳ８の工程）。
【００２６】
次に、製造工程へ下版（図１のＳ７の工程）。描画工程以下のフォトマスク製造工程に
移行する。
【図１】
2014026099.tif 000003
【図２】
2014026099.tif 000004