(57)【要約】【課題】基板の表面及び裏面のそれぞれの位置における検査を、互いに干渉させることなく行なう。【解決手段】この基板検査装置は、検査光１０ａを照射する側の約半分の受光領域に散乱光の受光を遮るように構成された空間フィルタ１５を備えている。検査光１０ａが基板１内を進行して裏面から出射する時に、基板１裏面の異物１ｃに照射したとしてもその異物１ｃからの散乱光は空間フィルタ１５によって除去され、光学系に受光されなくなる。これによって、裏面異物１ｃからの散乱光を除去し、基板１の表面及び裏面のそれぞれの位置における検査を、互いに干渉させることなく実行する。空間フィルタ１５は、検査光１０ａを照射する側とは反対側、すなわち検査光１０ａの進行方向側の約半分の受光領域に散乱光を受光するための開口を設ける遮蔽板によって構成される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対的に移動する基板に対して、前記移動方向と直交する方向が長手方向となるような長尺状の検査光を、投光系から前記移動方向に沿って斜めに照射し、前記基板から散乱される散乱光を受光系にて受光することによって、前記基板を検査する基板検査方法であって、前記受光系の受光側であって前記検査光の照射側の約半分の受光領域に前記散乱光の受光を遮るための空間フィルタ手段を設けたことを特徴とする基板検査方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板検査方法において、前記空間フィルタ手段を、前記受光系の前面に、前記検査光の照射側と反対側の約半分の受光領域に前記散乱光を通過させるための開口を備えた遮蔽板で構成したことを特徴とする基板検査方法。
【請求項３】
相対的に移動する基板に対して、前記移動方向と直交する方向が長手方向となるような長尺状の検査光を、前記移動方向に沿って斜めに照射する投光系手段と、
前記基板から散乱される散乱光を受光する受光系手段と、
前記受光系手段の受光側であって前記検査光の照射側の約半分の受光領域に前記散乱光の受光を遮るように設けられた空間フィルタ手段と
前記受光系手段からの信号に基づいて前記基板を検査する検査手段と
を備えたことを特徴とする基板検査装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板検査装置において、前記空間フィルタ手段を、前記受光系手段の前面に、前記検査光の照射側と反対側の約半分の受光領域に前記散乱光を通過させるための開口を備えた遮蔽板で構成したことを特徴とする基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示用パネル等の製造に用いられるガラス基板やプラスチック基板等の基板を検査する基板検査方法及び装置に係り、特に基板の表裏両面の異物の分離精度を向上することのできる基板検査方法及び装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、フォトリソグラフィー技術により、ガラス基板やプラスチック基板等の上にパターンを形成して行われる。その際、基板表面や内部に傷や異物等の欠陥が存在すると、パターンが良好に形成されず、不良の原因となる。このため、基板検査装置を用いて、基板表面及び内部の傷や異物等の欠陥の検査を行なっている。
【０００３】
基板検査装置は、レーザ光等の検査光を基板へ照射し、基板からの反射光又は散乱光又は透過光を受光して、基板表面、裏面及び内部の傷や異物等の欠陥を検出するものである。このような基板検査装置としては、特許文献１に記載されたものが知られている。特許文献１に記載された基板検査装置は、ガラス基板の表面、裏面、または内部に存在する３種の欠陥を検出して、これらの種別を判定するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−２５７６４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図１は、従来の基板検査装置の概要を示す図である。図１では、基板１に照射された検査光であって、基板１の表面からの散乱光を受光する受光光学系を示している。図１に示すように、検査光１０ａは、基板１の表面に所定の入射角θで照射される。基板１の表面、裏面及び内部に傷や異物等の欠陥が存在しない場合は、基板１に斜めに照射された検査光１０ａの一部は基板１の表面で反射し、残りの検査光は基板１の内部を透過して基板１の裏面から射出する。基板１の表面又は裏面に傷や異物等の欠陥がある場合は、基板１に照射された検査光１０ａの中で基板１の表面又は裏面の傷や異物等の欠陥に照射された光は散乱して散乱光となり、それ以外の箇所に照射した光は前述と同様に、その一部は表面で反射し、残りは透過する。
【０００６】
図１において、受光光学系は、集光レンズ２８、結像レンズ２９、及びＣＣＤラインセンサ３０を含んで構成される。集光レンズ２８は、基板１の表面又は裏面の傷や異物等の欠陥に照射された光のうち、基板１の表面又は裏面の傷や異物等の欠陥によって散乱した光（散乱光）を集光する。結像レンズ２９は、基板１の表面にて散乱した散乱光であって、集光レンズ２８で集光された散乱光をＣＣＤラインセンサ３０の受光面に結像させる。ＣＣＤラインセンサ３０は、受光面に受光した散乱光の強度に応じた検出信号をディジタル信号に変換して、図示していない信号処理回路へ出力する。
【０００７】
図１に示した基板検査装置の受光光学系は、基板１の表面に焦点が合致しているため、ＣＣＤラインセンサ３０には、基板１の表面からの散乱光の情報に混じって、基板１の内部及び裏面からの散乱光の情報も検出されることがある。すなわち、図１に示すように、検査光１０ａの通過範囲であって、基板１の表面に異物１ａが存在する場合、その異物１ａに検査光１０ａが照射され、そこからの散乱光がＣＣＤラインセンサ３０に取り込まれることになる。一方、基板１の裏面に異物１ｂが存在する場合、その異物１ｂには検査光１０ａが照射されないので、そこからの散乱光はＣＣＤラインセンサ３０に取り込まれることはない。これは、基板１の板厚ｔ１が約０．７［ｍｍ］以上の厚みの場合である。一方、基板１の板厚ｔ２が図１の点線で示すように、板厚ｔ１の約半分程度の厚みの場合、基板１の裏面であって、受光光学系の焦点位置よりも若干−Ｘ方向に離間した位置に、点線で示す異物１ｃが存在すると、それに検査光１０ａの一部が照射することになる。すると、異物１ｃからの散乱光がＣＣＤラインセンサ３０の視野範囲に取り込まれることとなり、基板検査装置の受光光学系では、基板１の表面の異物検出と、基板１の裏面の異物検出が互いに干渉する場合があり、問題であった。
【０００８】
この発明は、上述の点に鑑みなされたものであり、基板の表面及び裏面のそれぞれの位置における検査を、互いに干渉させることなく行なうことのできる基板検査方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る基板検査方法の第１の特徴は、相対的に移動する基板に対して、前記移動方向と直交する方向が長手方向となるような長尺状の検査光を、投光系から前記移動方向に沿って斜めに照射し、前記基板から散乱される散乱光を受光系にて受光することによって、前記基板を検査する基板検査方法であって、前記受光系の受光側であって前記検査光の照射側の約半分の受光領域に前記散乱光の受光を遮るための空間フィルタ手段を設けたことにある。この発明では、検査光を照射する側の約半分の受光領域に散乱光の受光を遮るように構成された空間フィルタ手段を設けている。従って、検査光が基板内を進行して裏面から出射する時に、基板裏面の異物に照射したとしてもその異物からの散乱光は空間フィルタ手段によって除去され、光学系に受光されなくなる。これによって、裏面異物からの散乱光を除去し、基板の表面及び裏面のそれぞれの位置における検査を、互いに干渉させることなく実行することができる。
【００１０】
本発明に係る基板検査方法の第２の特徴は、前記第１の特徴に記載の基板検査方法において、前記空間フィルタ手段を、前記受光系の前面に、前記検査光の照射側と反対側の約半分の受光領域に前記散乱光を通過させるための開口を備えた遮蔽板で構成したことにある。この発明は、空間フィルタ手段の構成を具体的にしたものである。検査光を照射する側とは反対側、すなわち検査光の進行方向側の約半分の受光領域に散乱光を受光するための開口を設けることによって空間フィルタ手段を形成している。
【００１１】
本発明に係る基板検査装置の第１の特徴は、相対的に移動する基板に対して、前記移動方向と直交する方向が長手方向となるような長尺状の検査光を、前記移動方向に沿って斜めに照射する投光系手段と、前記基板から散乱される散乱光を受光する受光系手段と、前記受光系手段の受光側であって前記検査光の照射側の約半分の受光領域に前記散乱光の受光を遮るように設けられた空間フィルタ手段と、前記受光系手段からの信号に基づいて前記基板を検査する検査手段とを備えたことにある。これは、前記基板検査方法の第１の特徴に記載のものを実現した基板検査装置の発明である。
【００１２】
本発明に係る基板検査装置の第２の特徴は、前記第１の特徴に記載の基板検査装置において、前記空間フィルタ手段は、前記受光系手段の前面に、前記検査光の照射側と反対側の約半分の受光領域に前記散乱光を通過させるための開口を備えた遮蔽板で構成されることにある。これは、前記基板検査方法の第２の特徴に記載のものを実現した基板検査装置の発明である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板の表面及び裏面のそれぞれの位置における検査を、互いに干渉させることなく行なうことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】従来の基板検査装置の概要を示す図である。
【図２】本発明に係る基板検査装置を上側から見た上面図である。
【図３】図２の基板検査装置を紙面手前方向から見た側面図である。
【図４】本発明の一実施の形態に係る基板検査装置の光学系及び制御系の概略構成を示す図である。
【図５】図４の受光光学系の概要を示す図である。
【図６】この実施の形態に係る基板検査装置の受光系の概要を示す図である。
【図７】この実施の形態に係る基板検査装置の効果を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。図２は、本発明に係る基板検査装置を上側から見た上面図であり、図３は、図２の基板検査装置を紙面手前方向から見た側面図である。ガラス基板検査装置１００は、大別して、基台フレーム２、検査ステージ２ａ、光学部３、リフトピン９で構成されている。
【００１６】
基台フレーム２は、複数の角パイプの溶接構造体から構成され、下部に脚を持つことで床上に設置される。検査ステージ２ａは、基台フレーム２の上部の基板投入口側に寄って固定されている。光学部３は、門型のガントリ構造をしており、基台フレーム２の上部であって、基板１の投入方向に沿って並列設置されているリニアガイド７ａ、７ｂ上に移動可能に搭載されている。光学部３は、基台フレーム２の側面に設けられた光学部Ｘ駆動部５によって、ガラス基板投入方向であるＸ方向へ往復動作を行う。光学系ユニット４ａ，４ｂは、基板１表面の欠陥や異物の検査を行うものであり、光学部３の側面Ｙ方向に沿って設けられたガイド８ａ，８ｂに従って、光学部Ｙ駆動部（図示せず）によるＸ方向の動作１回につきＸ方向と直角方向であるＹ方向へシフト動作を行うようになっている。
【００１７】
ガラス基板検査装置１００による検査は、検査光を基板１の表面又は内部に照射し、散乱された散乱光を受光することによって行われる。このとき光学系ユニット４ａ，４ｂが基板１の表面や内部を検査できるのは、検査ステージ２ａの載置バー間の凹み部分のみである。そのために、一度走査を完了したら基板１をＹ方向にずらして、残りの部分を検査している。光学部３のＸ方向往復動作及びＹ方向シフト動作、リフトピン９によるガラス基板Ｙ方向のシフト動作により、基板１全面の検査を可能とする。
【００１８】
図２に示すように基台フレーム２の内部には、リニアガイド１２ａ，１２ｂがＹ方向並列に設置され、その上にピンＹ駆動部１１及びピン上下駆動部１０を搭載した第１リフタ上下基台１３が設置されている。検査ステージ２ａには、基板１を持ち上げるための複数のリフトピン９を通過させるための複数の穴が設けられている。リフトピン９は、ピン上下駆動部１０上に搭載されたリフタユニット基台１４の上面側に複数本設置されている。リフトピン９は、基板１の受け取り時に上昇し、受け取り後下降することで検査ステージ２ａへ基板１の受け渡しを行う。また、リフトピン９が上昇し、基板１を持ち上げ、Ｙ方向へシフト動作を行う。
【００１９】
リフタユニット基台１４は、第２リフタ上下基台１５上のボールベアリング１６上に乗っており、Ｘ方向及びＹ方向に自由に移動可能になっている。Ｘ方向及びＹ方向の移動は、図示していないリフタ上下基台１５上に取り付けられたＸ方向アライメントモータ、Ｙ方向ライメントモータの駆動により行われる。リフタ上下基台１５は、ピン上下駆動部１０の駆動によって上下方向に移動される。リフタ上下基台１５を上昇させることで、リフタユニット基台１４とリフトピン９も上昇し、検査ステージ２ａ上の基板１を、検査ステージ２ａを構成する載置バーから離反するように持ち上げ、アライメント及び検査動作時における基板１のシフト動作を行うことができるようになっている。
【００２０】
図４は、本発明の一実施の形態に係る基板検査装置の光学系及び制御系の概略構成を示す図である。光学系ユニット４ａは、検査光１０ａを基板１へ照射する投光系、基板１の表面からの表面反射光１１を検出する反射光検出系、及び基板１からの散乱光を受光する受光系を含んで構成される。光学系ユニット４ｂは、光学系ユニット４ａと同じ構成をしているので、説明を省略する。制御系は、焦点調節制御回路４０、信号処理回路５０、検査開始センサ５１、区間速度計測センサ５２、光学系移動制御回路６０、メモリ７０、通報装置８０、入出力装置９０及びＣＰＵ９５を含んで構成される。
【００２１】
図４において、検査光１０ａを基板１へ照射する投光系は、レーザ光源２１、レンズ群２２及びミラー２３を含んで構成される。レーザ光源２１は、検査光１０ａとなるレーザ光を発生する。レンズ群２２は、レーザ光源２１から発生された検査光１０ａを集光し、集光した検査光１０ａを基板移動方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）へ広げ、広げた検査光１０ａを基板移動方向（Ｘ方向）に集束させる。ミラー２３は、レンズ群２２によって集光された検査光１０ａを、基板１の表面に所定の入射角θで照射する。基板１の表面に照射された検査光１０ａは、基板１の表面上において、基板移動方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）が長手方向となるような長尺状（帯状）の検査光１０ａとなる。
【００２２】
基板１が基板移動方向（Ｘ方向）へ移動することにより、投光系から照射された検査光１０ａは、所定の幅で基板１を走査する。基板検査装置は、この走査領域における基板１の表裏両面の欠陥を検査する。すなわち、基板検査装置は、相対的に移動する基板１に対して、移動方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）が長手方向となるような長尺状の検査光１０ａを、移動方向（Ｘ方向）に沿って所定の入射角θで斜めに照射し、基板１から散乱される散乱光を受光することによって、基板を検査している。基板１の表面に傷や異物等の欠陥が存在しない場合は、基板１の表面に斜めに照射された検査光１０ａの一部は基板１の表面で反射し、表面反射光１１となり、残りの検査光１０ａは基板１の内部を透過して基板１の裏面から射出する。
【００２３】
図４において、反射光検出系は、ミラー２５、レンズ２６、及び反射光用ＣＣＤラインセンサ２７を含んで構成される。基板１の表面からの表面反射光１１は、ミラー２５を介してレンズ２６に入射する。レンズ２６は、基板１からの表面反射光１１を集束させ、反射光用ＣＣＤラインセンサ２７の受光面に結像させる。このとき、反射光用ＣＣＤラインセンサ２７の受光面に結像される表面反射光１１の位置は、光学系ユニット４ａと基板１の表面との間の相対的な高さによって変化する。このような変化は、基板１の大型化に伴った反りや板厚の不均一性によって発生する。
【００２４】
反射光用ＣＣＤラインセンサ２７は、受光面にて受光する表面反射光１１の強度に応じた検出信号を、焦点調節制御回路４０へ出力する。焦点調節制御回路４０は、ＣＰＵ９５からの指令に従って、反射光用ＣＣＤラインセンサ２７の検出信号に基づき、基板１の表面からの表面反射光１１が反射光用ＣＣＤラインセンサ２７の受光面の同じ位置（基準位置）で受光されるように、焦点調節機構４１を駆動して光学系ユニット４ａを上下方向に移動する。焦点調節機構４１は、パルスモータ４２、ボールネジ４３、ナット４４及びナット取り付け具４５を含んで構成される。パルスモータ４２の回転軸には、ボールネジ４３が取り付けられており、光学系ユニット４ａの側面には、ナット取り付け具４５を介してナット４４が取り付けられている。焦点調節制御回路４０からパルスモータ４２へ駆動パルスを供給することにより、パルスモータ４２が回転駆動されてボールネジ４３が回転し、ナット４４と共に光学系ユニット４ａが上下方向に移動されて、光学系ユニット４ａの焦点位置が調節制御される。
【００２５】
図５は、図４の受光光学系の概要を示す図である。図４では、検査光１０ａが基板１に照射され、基板１の表面における照射領域に存在する欠陥（異物等）によって散乱した散乱光を受光する受光光学系を示している。図４において、受光光学系は、空間フィルタ１５、集光レンズ２８、結像レンズ２９、及びＣＣＤラインセンサ３０を含んで構成される。集光レンズ２８は、基板１の表面又は裏面の傷や異物等の欠陥に照射された光の散乱光を集光する。結像レンズ２９は、基板１の表面にて散乱した散乱光であって、集光レンズ２８で集光された散乱光をＣＣＤラインセンサ３０の受光面にそれぞれ結像させる。ＣＣＤラインセンサ３０は、受光面に受光した散乱光の強度に応じた検出信号をディジタル信号に変換して、信号処理回路５０へ出力する。空間フィルタ１５は、集光レンズ２８に集光される散乱光であって、検査光１０ａの照射側の約半分を遮光するものである。空間フィルタ１５は、図５に示すように、集光レンズ２８の円形の半円に対応した半円状の開口を備えた遮光板で構成される。すなわち、空間フィルタ１５は、集光レンズ２８の受光領域を半円状の開口で形成されている。このような空間フィルタ１５を集光レンズ２８の受光面側に設けることによって、裏面の異物による散乱光を有効に除去することができる。
【００２６】
図６は、この実施の形態に係る基板検査装置の受光系の概要を示す図である。この実施の形態に係る基板検査装置の受光系が図１のものと異なる点は、図４及び図５にも示したように、検査光１０ａの照射側の集光レンズ２８の約半分の受光面に、基板１の表面からの散乱光を遮るための空間フィルタ（遮光板）１５を設けた点にある。すなわち、空間フィルタ１５は、検査光１０ａの照射側（＋Ｘ方向）と反対側（−Ｘ方向）の約半分の受光領域に散乱光を通過させるための半円状の開口を備えた遮蔽板である。なお、図４及び図６では、説明の便宜上、受光系の受光側（集光レンズ２８の前面）であって検査光１０ａの照射側（＋Ｘ方向）の約半分の受光領域に散乱光の受光を遮るための遮蔽板１５のみを示し、開口部及びその周囲の遮蔽板については図示を省略してある。
【００２７】
図６に示すように、基板１の同じ走査位置の表面及び裏面に異物１ａ，１ｂが存在する場合、検査光１０ａは、基板１の表面の異物１ａには照射されるが、基板１の裏面の異物１ｂには照射されない。すなわち、図６に示すように、検査光１０ａの通過範囲であって、基板１の表面に異物１ａが存在する場合、その異物１ａに検査光１０ａが照射され、そこからの散乱光がＣＣＤラインセンサ３０の視野範囲に取り込まれることになる。一方、基板１の裏面に異物１ｂが存在する場合、その異物１ｂには検査光１０ａが照射されないので、そこからの散乱光はＣＣＤラインセンサ３０に取り込まれることはない。
【００２８】
また、基板１の裏面であって、検査光１０ａの通過範囲に、受光光学系の焦点位置よりも若干−Ｘ方向に離間した位置に、点線で示す異物１ｃが存在すると、それに検査光１０ａの一部が照射することになる。ところが、この実施の形態では、ＣＣＤラインセンサ３０の視野範囲が空間フィルタ１５によって遮られているため、異物１ｃからの散乱光はＣＣＤラインセンサ３０に取り込まれることはない。従って、この実施の形態の受光光学系によれば、基板１の表面の異物１ａの検出と、基板１の裏面の異物１ｃの検出とを分離することができる。また、これらの異物１ａ，１ｃからの散乱光が同時に発生すること（基板の表裏両面における異物検出が互いに干渉すること）もなくなり、高精度の検査を行なうことができるようになる。
【００２９】
図４において、光学系移動制御回路６０は、ＣＰＵ９５からの指令に従って、図示しない駆動系に電力を供給し、光学系ユニット４ａを基板移動方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）へ移動して、光学系ユニット４ａの投光系からの所定の幅の検査光により走査される基板１の走査領域を基板毎に変更する。
【００３０】
図４において、検査開始センサ５１及び区間速度計測センサ５２は、基板１の基板移動方向側の縁を検出し、その検出信号を信号処理回路５０へ出力する。一方、図５において、信号処理回路５０は、ＣＣＤラインセンサ３０からのディジタル信号を処理して、走査領域の基板１の欠陥を、予め定めた大きさのランク別に検出し、検出した欠陥の走査領域内での基板移動方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）の位置を検出する。信号処理回路５０は、また、検査開始センサ５１及び区間速度計測センサ５２からの検出信号を入力し、それぞれのセンサ間の検出経過時間に基づき、基板の搬送速度（移動速度）を検出し、それに基づいて欠陥の基板移動方向（Ｘ方向）の位置を補正して検出する。信号処理回路５０は、検出した欠陥データを、ＣＰＵ９５へ出力する。
【００３１】
図４において、メモリ７０は、ＣＰＵ９５の制御により、信号処理回路５０が検出した走査領域の基板１の欠陥データを、走査領域毎に記憶する。通報装置８０は、ＣＰＵ９５の制御により、各種通報を行う。入出力装置９０は、ライン停止命令等を入力し、また、ＣＰＵ９５の制御により、欠陥データ及び判定結果等の出力等を行う。
【００３２】
図７は、この実施の形態に係る基板検査装置の効果を説明する図である。図７は、標準粒子を裏面に塗布した基準サンプル基板を用いて裏面の異物を検出した場合の検査領域における検出レベル値のヒストグラムを示す図である。図７（Ａ）は、図１に示すように空間フィルタのない状態において検出された基板１の裏面の異物のヒストグラムを示し、図７（Ｂ）は、図４〜図６に示すように、集光レンズ２８の受光面側に空間フィルタ１５を設けた状態において検出された基板１の裏面の異物のヒストグラムを示す。空間フィルタ１５を集光レンズ１８の受光面直前に設けることによって、基板１の裏面の異物による散乱光を効率的に除去することができるという効果を確認することができる。
【００３３】
上述の実施の形態では、基板１の表面について検査する場合について説明したが、ＣＣＤラインセンサ３０を用いて、基板１の表面を検査して後に、光学系ユニット４ａの基板１からの高さを調節して基板１の裏面についても検査を行なうようにしてもよい。また、基板１の表裏両面に限らず、基板１の内部すなわち表裏両面の中間部分についても欠陥を検査するようにしてもよい。
また、上述の実施の形態では、空間フィルタ（遮蔽板）１５を、集光レンズ２８の前面に設ける場合について示したが、同様の効果を奏するように集光レンズ２８と結像レンズ２９との間、又は結像レンズ２９の後などに空間フィルタ（遮蔽板）設けてもよい。
【符号の説明】
【００３４】
１…基板、
１０…ピン上下駆動部、
１００…ガラス基板検査装置、
１０ａ…検査光、
１１…ピンＹ駆動部、
１１…表面反射光、
１２ａ，１２ｂ…リニアガイド、
１３…リフタ上下基台、
１４…リフタユニット基台、
１５…リフタ上下基台、
１５…空間フィルタ（遮蔽板）、
１６…ボールベアリング、
１８…集光レンズ、
１ａ，１ｂ，１ｃ…異物、
２…基台フレーム、
２１…レーザ光源、
２２…レンズ群、
２３，２５…ミラー、
２６…レンズ、
２７…反射光用ＣＣＤラインセンサ、
２８…集光レンズ、
２９…結像レンズ、
２Ａ…ハーフミラー、
２ａ…検査ステージ、
３…光学部、
３０…ＣＣＤラインセンサ、
４０…焦点調節制御回路、
４１…焦点調節機構、
４２…パルスモータ、
４３…ボールネジ、
４４…ナット、
４５…ナット取り付け具、
４ａ，４ｂ…光学系ユニット、
５…光学部Ｘ駆動部、
５０…信号処理回路、
５１…検査開始センサ、
５２…区間速度計測センサ、
６０…光学系移動制御回路、
７０…メモリ、
７ａ，７ｂ…リニアガイド、
８０…通報装置、
８ａ，８ｂ…ガイド、
９…リフトピン、
９０…入出力装置、
９５…ＣＰＵ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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