(57)【要約】【課題】シールドフィルムの高周波領域でのシールド特性が良好なシールドフィルム、及び、シールドプリント配線板を提供する。【解決手段】シールドフィルム１は、信号回路６ａが形成されたベースフィルム５と、信号回路６ａを覆って当該ベースフィルム５上の全面に設けられる絶縁フィルム７と、を有するフレキシブルプリント配線板８に設けられる。シールドフィルム１は、絶縁フィルム７上の全面に積層される導電性接着剤層１５と、導電性接着剤層１５上の全面に積層された金属層１１と、を有する。【選択図】図１
2014022460.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号用配線パターンが形成されたベース部材と、前記信号用配線パターンを覆って当該ベース部材上の全面に設けられる絶縁フィルムと、を有するプリント配線板に設けられるシールドフィルムであって、
前記絶縁フィルム上の全面に積層される導電性接着剤層と、
前記導電性接着剤層上の全面に積層された金属層と、
を有することを特徴とするシールドフィルム。
【請求項２】
前記金属層は、銅を主成分とした金属箔であることを特徴とする請求項１に記載のシールドフィルム。
【請求項３】
前記金属層は、層厚が２μｍ〜１２μｍに加工されていることを特徴とする請求項２に記載のシールドフィルム。
【請求項４】
前記金属層は、表面に防錆処理が施されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載のシールドフィルム。
【請求項５】
前記金属層上の全面に積層されためっき層をさらに有していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載のシールドフィルム。
【請求項６】
前記めっき層は、少なくとも一層がソフトニッケルで形成された層であることを特徴とする請求項５に記載のシールドフィルム。
【請求項７】
前記めっき層は、少なくとも一層が軟質金めっきで形成された層であることを特徴とする請求項５又は６に記載のシールドフィルム。
【請求項８】
前記めっき層は、少なくとも一層が表面が黒色に形成されていることを特徴とする請求項５乃至７の何れか１項に記載のシールドフィルム。
【請求項９】
最小幅が１０ｍｍ以下に形成されていることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載のシールドフィルム。
【請求項１０】
前記プリント配線板は、前記ベース部材にグランド用配線パターンが形成され、前記絶縁フィルムが前記グランド用配線パターンの少なくとも一部を露出するものであり、
前記導電性接着剤層は、前記グランド配線パターンの露出箇所と接続されることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載のシールドフィルム。
【請求項１１】
前記プリント配線板と、前記プリント配線板に設けられた請求項１乃至１０の何れか１項に記載のシールドフィルムと、を有することを特徴とするシールドプリント配線板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯機器、パーソナルコンピュータ、イヤホンジャク、及び、カメラモジュール等に使用されるシールドフィルム、及び、シールドプリント配線板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、シールドフィルムは、ノイズの抑制や外部への電磁波のシールドを目的として、主にプリント配線板に用いられている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、ベースフィルム上にプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムの少なくとも片面に、シールドフィルムを被覆してなるシールドフレキシブルプリント配線板において、シールドフィルムが、カバーフィルムの片面に少なくとも導電性接着剤層を含むシールド層を設けたフィルムであって、その導電性接着剤層が前記基体フィルムに接着するように被覆してなり、一部が前記シールドフィルムのシールド層に接続され、他の一部が露出してその近傍のグランド部に接続可能に形成されたグランド部材を有することを特徴とするシールドフレキシブルプリント配線板、が開示されている。
【０００４】
このように、一般的にプリント配線板のシールド層にグランド部材を積層して外部からグランド接続することで、シールドフィルムが効果的に電磁波シールド機能を発揮することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−０８６９０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、近年では、携帯機器、パーソナルコンピュータ、イヤホンジャク、及び、カメラモジュール等の小型化により、シールドフレキシブルプリント配線板にも小型化・薄型化の要求が高まってきている。一方、高速通信化の要求から大容量の信号処理（信号処理の高速化）が実現されているため、電磁波シールド性をより高くすることがが求められている。
【０００７】
しかしながら、特許文献１の場合、シールドフィルム表面を開口してシールド層を露出させ、当該シールド層に対してグランド部材を接着して近傍のグランド部に接地させる。そのため、開口箇所はシールド性能が劣化する可能性があり、当該開口箇所にはプリント配線板の信号線を配設することが制限されてしまっていた。従って、シールドフィルムのグランド部への接続態様がプリント配線板の配線を制限してしまうという問題があった。
また、特許文献１には、シールドフィルムにグランド部材を埋設するという方法も記載されているが、シールドフィルムの側部からグランド部材をはみ出して露出させる必要があり、シールドフィルムの適用する携帯機器の形状を制限してしまうという問題があった。
また、シールドプリント配線板が小型化された場合、グランド部材の取り付けが困難になるという問題がある。
さらに、グランド部材をシールド層に積層させる必要があるため、薄型化が制限されるという問題がある。
【０００８】
そこで、本発明は、電磁波シールド効果を有し外部からの任意の場所からのグランド接続が可能であると共に、小型化及び薄型化が可能なシールドフィルム、及び、シールドプリント配線板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のシールドフィルムは、信号用配線パターンが形成されたベース部材と、前記信号用配線パターンを覆って当該ベース部材上の全面に設けられる絶縁フィルムと、を有するプリント配線板に設けられるシールドフィルムであって、前記絶縁フィルム上の全面に積層される導電性接着剤層と、前記導電性接着剤層上の全面に積層された金属層と、を有することを特徴とする。
【００１０】
上記構成によれば、シールドフィルムにおいて、金属層がプリント配線板を覆う導電性接着剤層の全面に積層されており、金属層のいずれの箇所であっても外部グランドに接続可能となっている。その結果、シールドフィルムに一般的なグランド部材を設けることなく、金属層を外部グランドに接続することができ、金属層が電磁波シールド機能を効果的に発揮することができる。さらに、グランド部材を積層することが不要であるため薄型化が可能であると共に、グランド部材によってプリント配線板上の回路パターンが制限されないため小型化が可能となる。
【００１１】
また、本発明のシールドフィルムにおいて、前記金属層は、銅を主成分とした金属箔であってもよい。
上記の構成によれば、良好な加工性及び導電性を得ることができると共に、安価なシールドフィルムを得ることができる。
【００１２】
また、本発明のシールドフィルムにおいて、前記金属層は、層厚が２μｍ〜１２μｍに加工されていてもよい。
上記の構成によれば、良好なシールド特性を得ることができる。
【００１３】
また、本発明のシールドフィルムにおいて、前記金属層は、表面に防錆処理が施されていてもよい。
上記の構成によれば、導電性を有したまま金属層の表面の劣化を軽減することができる。
【００１４】
また、本発明のシールドフィルムにおいて、前記金属層上の全面に積層されためっき層をさらに有していてもよい。
上記の構成によれば、使用環境による金属層表面の劣化を軽減し、抵抗値等の電気特性を長期に亘って安定させることができる。これにより、安定した電磁波シールド効果を得ることができる。
【００１５】
また、本発明のシールドフィルムにおいて、前記めっき層は、少なくとも一層がソフトニッケルで形成された層であってもよい。
上記の構成によれば、良好な変形特性を得ることができる。
【００１６】
また、本発明のシールドフィルムにおいて、前記めっき層は、少なくとも一層が軟質金めっきで形成された層であってもよい。
上記の構成によれば、良好な変形特性を得ることができる。
【００１７】
また、本発明のシールドフィルムにおいて、前記めっき層は、少なくとも表面が黒色に形成されていてもよい。
プリント配線板に貼り付けられる一般的なシールドフィルムは黒色である。上記構成によれば、一般的なシールドフィルムを貼り付けない本発明のような場合でも従来の見た目に準じることができる。
【００１８】
また、本発明のシールドフィルムは、最小幅が１０ｍｍ以下に形成されていてもよい。
上記構成によれば、最小幅が１０ｍｍ以下であっても、グランド接続可能であり、シールド特性が良好なプリント配線板を提供することができる。
【００１９】
また、本発明のシールドフィルムが設けられる前記プリント配線板は、前記ベース部材にグランド用配線パターンが形成され、前記絶縁フィルムが前記グランド用配線パターンの少なくとも一部を露出するものであり、シールドフィルムの前記導電性接着剤層は、前記グランド配線パターンの露出箇所と接続される構成であってもよい。
上記構成によれば、グランド部材が接続可能な金属層は、プリント配線板上のグランド用配線パターンにも接続することが可能となっている。これにより、金属層は、さらに電磁波シールド特性が向上される。
【００２０】
また、本発明のシールドプリント配線板は、前記プリント配線板と、前記プリント配線板に設けられた上記のシールドフィルムと、を有することを特徴とするシールドプリント配線板であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】シールドフィルムが設けられたシールドプリント配線板の断面を示す模式図である。
【図２】抵抗値特性の測定装置の概略を示す図である。
【図３】抵抗値特性の実施例の測定結果を示すグラフである。
【図４】抵抗値特性の比較例の結果を示すグラフである。
【図５】ＫＥＣ法で用いられるシステムの構成を示す図である。（ａ）が電界波シールド効果評価装置を示す図である。（ｂ）が磁界波シールド効果評価装置を示す図である。
【図６】（ａ）ＫＥＣ法による電界波シールド性能の測定結果を示す図である。（ｂ）ＫＥＣ法による磁界波シールド性能の測定結果を示す図である。
【図７】信号出力波形特性を測定するシステム構成図である。
【図８】（ａ）ビットレートが１．０Ｇｂｐｓである場合の出力波形特性の測定結果を示す図である。（ｂ）ビットレートが３．０Ｇｂｐｓである場合の出力波形特性の測定結果を示す図である。
【図９】比較例に用いた従来のシールドフィルムが設けられたシールドプリント配線板の断面を示す模式図である。
【図１０】シールドフィルムの一例を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の好適な実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００２３】
（シールドフィルム１の構成）
図１に示すように、シールドフィルム１は、信号回路６ａ（信号用配線パターン）が形成されたベースフィルム５（ベース部材）と、信号回路６ａを覆って当該ベースフィルム５上の全面に設けられる絶縁フィルム７と、を有するフレキシブルプリント配線板８（プリント配線板）に設けられている。シールドフィルム１は、絶縁フィルム７上の全面に積層される導電性接着剤層１５と、導電性接着剤層１５上の全面に積層された金属層１１と、を有する。
【００２４】
尚、シールドフィルム１の面方向の形状は特に限定されるものではない。ここで、シールドフィルムを備えたシールドプリント配線板の上面図の例を図１０に示す。このようにシールドプリント配線板１１０は、図１０に示すような複雑な形状で形成されていてもよい。具体的に、シールドプリント配線板１１０は、複数のブロック部１２０（ブロック部１２１・１２２・１２３・１２４・１２５）とこれらブロックを接続する接続部１３０（接続部１３１・１３２・１３３・１３４）からなり、電磁波シールドが必要な箇所にシールドフィルムが貼られている。
上記のような構成のシールドプリント配線板１１０は、各ブロック部１２０が、ブロック部１２０よりも細長く形成された接続部１３０によって接続される構成となっている。また、各ブロック部１２０には配線パターンに接続される各種電子部品が設けられ、接続部１３０に形成された配線パターンによって各電子部品を電気的に接続するようになっている。
また、シールドプリント配線板１１０は、各接続部１３０が屈曲されて筐体等に立体的に収納されると共に、各ブロック部１３０に形成された貫通孔を介してねじ等が螺合されることにより筐体等に固設される。
このように、シールドプリント配線板１１０は、接続部１３０のような幅が細く形成された領域を有している。シールドフィルムにおいてこのように細く形成された箇所においてもグランド接続する必要があるが、本実施形態のシールドフィルムであれば、例えば、接続部１３０の最小幅が１０ｍｍ以下に形成されるような場合であっても、金属層がプリント配線板を覆う導電性接着剤層の全面に積層されているため、接続部１３０のいずれの箇所であっても外部グランドに接続可能である。
尚、シールドプリント配線板（シールドフィルム）の形状は、上記のようなブロック部が接続部によって接続される形状に限定されない。例えば、多角形、円形、楕円形、これらに凹凸を加えた形状、及び、これらに貫通孔又は貫通孔を形成するための突出部を加えた形状、等であってもよい。また、上述のように、最小幅が１０ｍｍ以下に形成されてもよい。
次に、図１に示す各層について具体的に説明する。
【００２５】
（金属層１１）
本実施形態の金属層１１は、銅を主成分とした金属箔で形成されている。即ち、金属層１１は、最外面にめっき層１２を有している。
尚、金属層は、この構成に限定されない。例えば、金属層は、２層以上であってもよい。
【００２６】
金属層１１は、圧延加工により形成されることが好ましい。これにより、シールドフィルムは良好な形状保持性を有することができる。従って、シールドフィルムを貼り付けたフレキシブル基板等を組み付ける際の作業性を良好にすることができる。例えば、シールドフィルムを備えたフレキシブルプリント配線板を屈曲させて携帯機器等に組み付けた場合、前記シールドフィルムはその良好な形状保持性があることによりフレキシブルプリント配線板がその屈曲状態を維持するため、作業者が折り曲げ状態を維持する必要が無く、携帯機器等の組み付け作業の負荷を軽減することができ良好な作業性が得られる。さらに、金属層１１が圧延加工により形成された場合、エッチングにより層厚が調整されることが好ましい。
【００２７】
金属層１１を形成する金属材料としては、銅を主成分としていることが好ましい。これにより、良好な導電性を得ることができると共に、安価にシールドフィルムを製造することができる。尚、金属層１１は、銅を主成分とすることに限定されず、ニッケル、銅、銀、錫、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、及び、亜鉛の何れか、またはこれらの２つ以上を含む合金等であってもよい。
尚、金属層１１は、圧延加工により形成された金属箔であることに限定されず、特殊電解めっき法によって、金属箔と同様に結晶が面方向に広がった構造を有するように形成された金属層であってもよい。これにより、圧延加工と同様に、良好な形状保持性を得ることができる。
【００２８】
尚、金属層１１の厚みの下限は、２μｍが好ましく、６μｍがより好ましい。また、金属層１１の厚みの上限は、１８μｍが好ましく、１２μｍがより好ましい。
【００２９】
尚、金属層１１は、めっき層を形成しない場合は、表面に防錆処理が施されていることが好ましい。防錆剤としては水溶性のものが好適であり、主成分としてはベンゾトリアゾールやイミダゾール化合物が含有されていることが好ましい。具体的には四国化成工業株式会社製のタフエース（商標）シリーズ等を使用することができ、銅表面に０．２〜０．３μｍの被膜を形成することができる。
【００３０】
（めっき層１２）
めっき層１２は、金属層１１の全面に積層されている。例えば、めっき層１２は、電解めっき法、無電解めっき法等によって形成される。めっき層１２が最外面に形成されることにより、導電性を有したまま金属層１１の表面の劣化を軽減することができる。めっき層１２の金属材料として、例えば、金、ニッケル、銅、銀、錫、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、及び、これらの材料の何れか１つ以上を含む合金などを挙げることができる。
尚、めっき層１２の厚みの下限は、０．１μｍが好ましく、０．３μｍがより好ましい。また、めっき層１２の厚みの上限は、５μｍが好ましく、３μｍがより好ましい。
【００３１】
めっき層１２の金属材料にニッケルを用いる場合はソフトニッケルであることが好ましい。尚、ソフトニッケルとは、ニッケルめっき浴としてスルファミン酸浴を使用して形成されたものを示す。ソフトニッケルは、ワット浴を使用して形成した場合と比べて電着応力が低く、内部応力を軽減できるため、曲げに強い等の良好な変形特性を得ることができる。また、めっき層１２の金属材料に金を用いる場合は、純度が９９．９９％以上の軟質金めっきであることが好ましい。これにより、良好な変形特性を得ることができる。
また、一般的なシールドフィルムの色である黒に合わせて、めっき層の少なくとも表面が黒色に形成されていることが好ましい。例えば、めっき層１２は、ニッケル錫合金めっき等により黒色のめっきに形成されていても良いし、めっき表面に黒色の導電性接着剤層を形成してもよい。
【００３２】
本実施形態では、めっき層１２は、金属層１１に対して、ニッケルめっき処理を行ってソフトニッケル層を形成した後に、金めっき処理を行って軟質金めっき層を形成するものである。即ち、めっき層１２は、２層で形成されるものであるがこれに限定されない。例えば、めっき層は、単層であってもよいし、３層以上であってもよい。即ち、めっき処理は１回以上行われたらよい。
【００３３】
（導電性接着剤層１５）
導電性接着剤層１５は、厚み方向のみだけ電気的な導電状態が確保された異方導電性を有する異方導電性接着剤層が、伝送特性やコストの面から好ましいが、これに限定されない。例えば、導電性接着剤層１５は、厚み方向および幅方向、長手方向からなる三次元の全方向に電気的な導電状態が確保された等方導電性を有する等方導電性接着剤層であってもよい。導電性接着剤層１５は、接着剤に難燃剤や導電性フィラーが添加されて形成される。
シールドフィルム１をＦＰＣ（フレキシブルプリント配線板）に適用する場合、導電性接着剤層１５の厚みの下限は、２μｍが好ましく、３μｍがより好ましい。また、導電性接着剤層１５の厚みの上限は、１５μｍが好ましく、９μｍがより好ましい。
【００３４】
導電性接着剤層１５に含まれる接着剤は、接着性樹脂として、ポリスチレン系、酢酸ビニル系、ポリエステル系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリアミド系、ゴム系、アクリル系などの熱可塑性樹脂や、フェノール系、エポキシ系、ウレタン系、メラミン系、アルキッド系などの熱硬化性樹脂で構成されている。尚、接着剤は、上記樹脂の単体でも混合体でもよい。また、接着剤は、粘着性付与剤をさらに含んでいてもよい。粘着性付与剤としては、脂肪酸炭化水素樹脂、Ｃ５／Ｃ９混合樹脂、ロジン、ロジン誘導体、テルペン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂、熱反応性樹脂などのタッキファイヤーが挙げられる。また、導電性接着剤層１５に添加される導電性フィラーは、金属材料により一部または全部が形成されている。例えば、導電性フィラーは、銅粉、銀粉、ニッケル粉、銀コート銅粉（ＡｇコートＣｕ粉）、金コート銅粉、銀コートニッケル粉（ＡｇコートＮｉ粉）、金コートニッケル粉があり、これら金属粉は、アトマイズ法、カルボニル法などにより作製することができる。また、上記以外にも、金属粉に樹脂を被覆した粒子、樹脂に金属粉を被覆した粒子を用いることもできる。そして、導電性接着剤層１５には、１以上の種類の導電性フィラーが混合されて添加されてもよい。尚、導電性フィラーは、ＡｇコートＣｕ粉、またはＡｇコートＮｉ粉であることが好ましい。この理由は、安価な材料により導電性の安定した導電性粒子を得ることができるからである。
【００３５】
導電性フィラーは、導電性接着剤層１５の全体量に対して、異方導電性接着剤層の場合、３ｗｔ％〜３９ｗｔ％の範囲で添加され、等方導電性接着剤層の場合は３９ｗｔ％を超えた割合で添加される。また、導電性フィラーの平均粒径は、２μｍ〜２０μｍの範囲が好ましいが、導電性接着剤層１５の厚みによって最適な値を選択すればよい。金属フィラーの形状は、球状、針状、繊維状、フレーク状、樹枝状のいずれであってもよい。
【００３６】
（シールドプリント配線板１０の構成）
次に、図１を用いて、上記のシールドフィルム１をＦＰＣ（フレキシブルプリント配線板）に貼り付けしたシールドプリント配線板１０について説明する。尚、本実施形態では、シールドフィルムをＦＰＣに貼り付けした場合について説明するがこれに限定されない。例えば、ＣＯＦ（チップオンフレックス）、ＲＦ（リジットフレックスプリント板）、多層フレキシブル基板、リジット基板などに利用できる。
【００３７】
図１に示すように、シールドプリント配線板１０は、上述したシールドフィルム１と、フレキシブルプリント配線板８とが積層されて形成されている。フレキシブルプリント配線板８は、ベースフィルム５、プリント回路６、及び、絶縁フィルム７が順次積層されてなるものである。
プリント回路６の表面は、信号回路６ａとグランド回路６ｂとからなり、グランド回路６ｂの少なくとも一部（絶縁除去部６ｃ）を除いて、絶縁フィルム７によって被覆されている。また、絶縁フィルム７は、内部にシールドフィルム１の導電性接着剤層１５の一部が流れ込んでいる絶縁除去部７ａを有している。これにより、グランド回路６ｂと金属層１１とが電気的に接続される。
そして、信号回路６ａ及びグランド回路６ｂは、導電性材料をエッチング処理することにより配線パターンが形成される。また、グランド回路６ｂは、グランド電位を保つパターンのことを指す。即ち、ベースフィルム５には、グランド用配線パターンであるグランド回路６ｂが形成されている。
【００３８】
尚、ベースフィルム５に形成される配線パターンは、信号回路６ａのみである構成であってもよい。換言すれば、ベースフィルム５に形成される配線パターンにグランド回路６ｂが含まれていなくてもよい。この場合、絶縁フィルム７に絶縁除去部６ｃが形成されない。
【００３９】
このように、シールドプリント配線板１０は、信号用配線パターン（信号回路６ａ）が形成されたベース部材（ベースフィルム５）と、信号用配線パターンを覆う絶縁フィルム７と、を有している。そして、絶縁フィルム７上に、シールドフィルム１が、導電性接着剤層１５の接着により貼り付けされている。
より具体的に言えば、シールドプリント配線板１０は、信号用配線パターン（信号回路６ａ）とグランド用配線パターン（グランド回路６ｂ）とが形成されたベース部材（ベースフィルム５）と、信号用配線パターンを覆うと共にグランド用配線パターンの少なくとも一部を露出した状態でベース部材上に設けられた絶縁フィルム７と、を有している。そして、絶縁フィルム７上に、シールドフィルム１が、導電性接着剤層１５の接着により貼り付けされている。
【００４０】
尚、ベースフィルム５とプリント回路６との接合は、接着剤によって接着しても良いし、接着剤を用いない、所謂、無接着剤型銅張積層板と同様に接合しても良い。また、絶縁フィルム７は、可撓性絶縁フィルムを接着剤を用いて張り合わせても良いし、感光性絶縁樹脂の塗工、乾燥、露光、現像、熱処理などの一連の手法によって形成しても良い。接着剤を用いて絶縁フィルム７を貼り付ける場合は、この接着剤のグランド回路６ｂの箇所についても絶縁除去部７ａを形成する。また、更には、フレキシブルプリント配線板８は、ベースフィルムの一方の面にのみプリント回路を有する片面型ＦＰＣ、ベースフィルムの両面にプリント回路を有する両面型ＦＰＣ、この様なＦＰＣが複数層積層された多層型ＦＰＣ、多層部品搭載部とケーブル部を有するフレクスボード（登録商標）や、多層部を構成する部材を硬質なものとしたフレックスリジッド基板、或いは、テープキャリアパッケージの為のＴＡＢテープ等を適宜採用して実施することができる。
【００４１】
また、ベースフィルム５、絶縁フィルム７はいずれもエンジニアリングプラスチックからなる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、架橋ポリエチレン、ポリエステル、ポリベンツイミダゾール、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）等の樹脂が挙げられる。あまり耐熱性を要求されない場合は、安価なポリエステルフィルムが好ましく、難燃性が要求される場合においては、ポリフェニレンサルファイドフィルム、さらに耐熱性が要求される場合にはポリイミドフィルムが好ましい。
尚、ベースフィルム５の厚みの下限は、１０μｍが好ましく、２０μｍがより好ましい。また、ベースフィルム５の厚みの上限は、６０μｍが好ましく、４０μｍがより好ましい。
また、絶縁フィルム７の厚みの下限は、１０μｍが好ましく、２０μｍがより好ましい。また、絶縁フィルム７の厚みの上限は、６０μｍが好ましく、４０μｍがより好ましい。
【００４２】
このように、シールドフィルム１は、グランド回路６ｂの一部が露出されたフレキシブルプリント配線板８の全面に、導電性接着剤層１５と金属層１１とが積層される。これにより、露出されたグランド回路６ｂは導電性接着剤層１５の全面に積層された金属層１１と電気的に接続されるため、金属層１１のいずれの箇所であっても外部グランドに接続可能になる。また、金属層１１はフレキシブルプリント配線板８の全面に設けられるため、シールドフィルム１のいずれの領域でもシールド機能を発揮することができる。
この結果、信号回路６ａの領域とグランド回路６ｂの領域との両方に対し、２種類に区分することなくシールドフィルム１を構成することができるため、フレキシブルプリント配線板８上の信号回路６ａ及びグランド回路６ｂの配設態様は制限されず小型化及び低コスト化を可能にすることができる。
【００４３】
（シールドフィルム１の製造方法）
本実施形態のシールドフィルム１の製造方法の一例について説明する。
先ず、金属層１１には、市販の銅箔（６μｍ）を用いる。銅箔をさらに薄くする場合は、エッチングにより薄くすることが好ましい。エッチングは、銅箔に対してポリエチレンテレフタレート等のフィルムを貼り付けた状態で行う。さらに、金属層１１の一方面については、めっき処理によってめっき層１２を形成する。そして、金属層１１の他方面に導電性接着剤を塗布して導電性接着剤層１５を形成する。このように、シールドフィルム１が作製される。
【００４４】
（シールドプリント配線板１０の製造方法）
先ず、フレキシブルプリント配線板８の絶縁フィルム７に対して、レーザー加工などによって穴を開けて絶縁除去部７ａを形成する。これにより、グランド回路６ｂの一部の領域が絶縁除去部７ａにおいて外部に露出される。
そして、フレキシブルプリント配線板８の絶縁フィルム７上に、シールドフィルム１の導電性接着剤層１５が接着される。この接着時においては、ヒーターによってシールドフィルム１を加熱しながら、プレス機によって上下方向からフレキシブルプリント配線板８とシールドフィルム１とを圧着する。これにより、シールドフィルム１の導電性接着剤層１５がヒーターの熱によって軟らかくなり、プレス機の加圧によって絶縁フィルム７上に接着される。この際、柔らかくなった導電性接着剤層１５の一部が絶縁除去部７ａに充填される。従って、絶縁除去部７ａで露出していたグランド回路６ｂの一部が充填された導電性接着剤層１５に接着する。これにより、グランド回路６ｂと金属層１１とが導電性接着剤層１５を介して電気的に接続されることになる。
【００４５】
以上、本発明の実施形態を説明した。尚、本発明は上記の実施形態に限定される必要はない。
【００４６】
例えば、本実施形態に係るシールドプリント配線板１０において、シールドフィルム１は片面に貼り付けされるものであったがこれに限定されない。例えば、シールドフィルムが両面に貼り付けされるものでもよい。
【００４７】
以上、本発明の実施例を説明したが、具体例を例示したに過ぎず、特に本発明を限定するものではなく、具体的構成などは、適宜設計変更可能である。また、発明の実施形態に記載された、作用および効果は、本発明から生じる最も好適な作用および効果を列挙したに過ぎず、本発明による作用および効果は、本発明の実施形態に記載されたものに限定されるものではない。
【実施例】
【００４８】
次に、本実施形態に係るシールドプリント配線板の実施例と比較例とを用いて、本発明を具体的に説明する。
実施例としては、図１に示すような構成のシールドプリント配線板１０を用いた。シールドフィルムのめっき層は、層厚０．１μｍのニッケルめっき上に０．０３μｍの金めっきを行ったものである。シールドフィルムの金属層は、層厚６μｍの圧延銅箔である。シールドフィルムの導電性接着剤層は、異方導電性を有するものを用い、層厚６μｍに形成した。
また、比較例としては、従来のシールドフィルムの保護層を剥離し、シールド層にグランド部材を接続したものを用いた。図９に示すように、比較例のシールドフィルム５０１は、一部が剥離された層厚５μｍの絶縁層（保護層）５０４、層厚０．１μｍの銀で形成された金属層５０３、及び、層厚１０μｍの導電性接着剤層５０２が順次積層されてなるものである。また、グランド部材５２０は、層厚０．１μｍのニッケルめっき上に０．０３μｍの金めっき処理を行って形成しためっき層５２３、層厚６μｍの圧延銅箔５２２、及び、層厚６μｍの異方導電性接着剤層５２１が順次積層されてなるものである。
また、シールドフィルムを貼り付けるフレキシブルプリント配線板には、いずれも、図１に示すような構成のものを用いた。具体的に、フレキシブルプリント配線板は、プリント回路が設けられた層厚１２．５μｍのポリイミド製のベースフィルム５に、層厚１８μｍのグランド用銅配線パターンと信号用銅配線パターンとからなるプリント回路６が形成され、さらに層厚１５μｍの接着剤層と層厚１２．５μｍのポリイミド製フィルム層で層厚２７．５μｍの絶縁フィルム７が形成されたものである。
尚、比較例は、保護層５０４の一部が剥離されてグランド部材５２０が取り付けられた箇所を測定対象とした。
【００４９】
（抵抗値特性）
先ず、一定の荷重下におけるシールドフィルムの抵抗を測定した。図２に示すように、シールドプリント配線板１０の上に、夫々荷重１Ｗ（９．８Ｎ）をかねた電極となる２つの電極端子１１３ａ、１１３ｂが配置されている。両電極端子１１３ａ、１１３ｂはそれぞれ抵抗測定装置１４の電流入出力端子にそれぞれ接続されている。尚、電極端子１１３ａ、１１３ｂは、それぞれＬ×Ｌｍｍ２の正方形の底面を有する四角柱である。また、両電極端子電極端子１１３ａ、１１３ｂは距離Ｌだけ離れている。ここで、Ｌは約１０ｍｍである。
【００５０】
実施例及び比較例のシールドフィルムにおけるリフロー回数を変えて、シールドフィルムの抵抗の変化を測定した結果を図３及び図４に示す。尚、１回あたり、２４０℃のリフローを２５秒行った。図３は実施例の測定結果であり、図４は比較例の測定結果である。抵抗値特性の測定結果を見ると、比較例よりも実施例の抵抗が低くなっており、グランド線への接地を強化することが可能であることが示されている。
ここで、実施例のシールドフィルム１（図１参照）と、比較例のシールドフィルム５０１（図９参照）との層構造を比較すると、比較例はグランド部材を積層している分だけ層数が多くなっている。即ち、実施例では、電気が伝わる方向に接点が少ないため、抵抗を低くすることが可能となっている。
【００５１】
（電界波シールド特性）
次に、シールドフィルムの電界波及び磁界波シールド特性について、一般社団法人ＫＥＣ関西電子工業振興センターで開発された電磁波シールド効果測定装置２１１（電界波シールド効果評価装置２１１ａ、磁界波シールド効果評価装置２１１ｂ）を用いたＫＥＣ法により評価した。図５は、ＫＥＣ法で用いられるシステムの構成を示す図である。ＫＥＣ法で用いられるシステムは、電磁波シールド効果測定装置２１１と、スペクトラムアナライザ２２１と、１０ｄＢの減衰を行うアッテネータ２２２と、３ｄＢの減衰を行うアッテネータ２２３と、プリアンプ２２４とで構成される。
尚、スペクトラムアナライザ２２１には、株式会社アドバンテスト社製のＵ３７４１を用いた。また、アジレントテクノロジーズ社製のＨＰ８４４７Ｆを用いた。
【００５２】
図５に示すように、電界波及び磁界波シールド特性の測定で用いる治具（測定治具２１３・２１５）が夫々異なっている。図５（ａ）が電界波シールド効果評価装置２１１ａを示し、図５（ｂ）が磁界波シールド効果評価装置２１１ｂを示す。
電界波シールド効果評価装置２１１ａには、２つの測定治具２１３が対向して設けられている。この測定治具２１３・２１３間に、測定対象のシールドフィルム１（測定試料）が挟持されるように設置される。測定治具２１３には、ＴＥＭセル（Transverse Electro Magnetic Cell）の寸法配分が取り入れられ、その伝送軸方向に垂直な面内で左右対称に分割した構造になっている。但し、測定試料１の挿入によって短絡回路が形成されることを防止するために、平板状の中心導体２１４は各測定治具２１３との間に隙間を設けて配置されている。
また、電界波シールド効果評価装置２１１ａには、２つの測定治具２１５が対向して設けられている。この測定治具２１５・２１５間に、測定対象のシールドフィルム１が挟持されるように設置される。磁界波シールド効果評価装置２１１ｂは、磁界波成分の大きな電磁界を発生させるために、測定治具２１５にシールド型円形ループ・アンテナ２１６を使用し、９０度角の金属板と組み合わせて、ループ・アンテナの１／４の部分が外部に出ている構造になっている。
【００５３】
ＫＥＣ法は、先ず、スペクトラム・アナライザ２２１から出力した信号を、アッテネータ２２２を介して送信側の測定治具２１３又は測定治具２１５に入力する。そして、受信側の測定治具２１３又は測定治具２１５で受けてアッテネータ２２３を介した信号をプリアンプ２２４で増幅してから、スペクトラム・アナライザ２２１により信号レベルを測定する。尚、スペクトラム・アナライザ２２１は、シールドフィルムを電磁波シールド効果測定装置２１１に設置していない状態を基準として、シールドフィルムを電磁波シールド効果測定装置２１１に設置した場合の減衰量を出力する。
【００５４】
実施例、及び、比較例のシールドフィルムについて、１５ｃｍ四方に裁断したもの用いて測定を行った。尚、比較例については、上述のシールドフィルム５０１のみの構成を比較例１とし、シールドフィルム５０１にグランド部材５２０を積層したものを比較例２とした。また、１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数範囲で測定を行った。また、温度２５℃、相対湿度３０〜５０％の雰囲気で測定を行った。
【００５５】
ＫＥＣ法による電界波シールド性能の測定結果を図６（ａ）に、磁界波シールド性能の測定結果を図６（ｂ）に、それぞれ示す。これを見ると、実施例は、電界及び磁界のいずれにおいてもシールドフィルムのみの構成である比較例１よりも大きい減衰量を実現している。また、実施例は、電界及び磁界のいずれにおいてもシールドフィルムにグランド部材を積層した比較例２と同程度の減衰量を実現している。即ち、実施例は、簡易かつ薄型化した構成でありながら、従来と同程度の磁界波シールド性能を実現することができている。
【００５６】
（出力波形特性）
次に、シールドフィルムの出力波形特性について、図７に示すような、システム構成を用いて評価した。このシステムは、データジェネレータ３４１と、オシロスコープ３４２と、オシロスコープ３４２に取り付けられたサンプリングモジュール３４３と１対の接続用基板３３２とで構成される。
尚、データジェネレータ３４１には、アジレントテクノロジーズ社製の８１１３３Ａを用いた。オシロスコープ３４２には、テクトロニクス社製のＤＳＣ８２００を用いた。またサンプリングモジュール３４３は、テクトロニクス社製の８０Ｅ０３を用いた。
【００５７】
図７に示すように、接続用基板３３２は、入力端子と出力端子とを有しており、１対の接続用基板３３２との間に、測定対象のシールドフィルム１を空中に浮かした直線状態に支持されるように接続し、さらに、データジェネレータ３４１とサンプリングモジュール３４３とに接続してアイパターンの観測を行う。
【００５８】
尚、１５０ｍＶ／ｓｉｄｅ（３００ｍＶｄｉｆｆ）の入力振幅とした。また、データパターンは、ＰＲＢＳ２３とした。また、温度２５℃、相対湿度３０〜５０％の雰囲気で測定を行った。
【００５９】
オシロスコープ３４２で観測された、ビットレートが１．０Ｇｂｐｓである場合の測定結果を図８（ａ）に、ビットレートが３．０Ｇｂｐｓである場合の測定結果を図８（ｂ）に、それぞれ示す。これを見ると、いずれのビットレートにおいても、片面シールド又は両面シールドによらず、実施例よりも比較例のアイパターンで中央部分が空いている。即ち、実施例が比較例１及び２よりも高速信号処理に適したシールドフィルムであることが分かった。
【００６０】
（曲げ耐久特性）
次に、シールドフィルムの曲げ耐久特性について、めっきの種類を変えて評価した。シールドフィルムには、０．５μｍ以上のニッケルめっき層、層厚１８μｍの圧延銅箔層、及び、層厚１２．５μｍのポリイミド製フィルム層を用いた。ニッケルめっき層には、スルファミン酸浴により形成したソフトニッケルめっき、及び、ワット浴により形成したニッケルめっきの２種類を用いた。また、１０ｍｍ×１００ｍｍの試験体を用いた。
【００６１】
曲げ耐久試験について説明する。先ず、試験体が１０ｍｍ×１００ｍｍに広げられた初期状態から、試験体を１ｋｇの荷重によって長手方向に半分に折り曲げる。そして、この折り曲げ状態から再度初期状態のように展開する。この折り曲げと展開とをセットとして繰り返し、展開した状態で折り曲げ箇所に割れが発生するまでの回数を計測した。
【００６２】
曲げ耐久試験の結果、ソフトニッケルめっきを行ったシールドフィルムは６回目で割れが発生した。一方、ワット浴によるニッケルめっきを行ったシールドフィルムは３回目で割れが発生した。このように、ソフトニッケルめっきによるシールドフィルムの方が曲げに対する耐久性能が高く、良好な変形特性を得られることがわかった。
【符号の説明】
【００６３】
１    シールドフィルム
５    ベースフィルム
６    プリント回路
６ａ    信号回路
６ｂ    グランド回路
６ｃ    絶縁除去部
７    絶縁フィルム
７ａ    絶縁除去部
８    フレキシブルプリント配線板
１０    シールドプリント配線板
１１    金属層
１２    めっき層
１５    導電性接着剤層
【図１】
2014022460.tif 000003
【図２】
2014022460.tif 000004
【図３】
2014022460.tif 000005
【図４】
2014022460.tif 000006
【図５】
2014022460.tif 000007
【図６】
2014022460.tif 000008
【図７】
2014022460.tif 000009
【図８】
2014022460.tif 000010
【図９】
2014022460.tif 000011
【図１０】
2014022460.tif 000012