(57)【要約】【課題】解像力をより向上させることができる層間絶縁膜の製造方法を提供する【解決手段】（１）基板上に感光性樹脂組成物を塗布する工程、（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程、（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する工程、（４）露光された感光性樹脂組成物を、溶剤を主成分とする現像液を用いて現像する工程、及び（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するベーク工程を含み、前記感光性樹脂組成物は、（Ａ）（ａ１）酸基を有する構成単位、及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位、を有する重合体、（Ｂ）キノンジアジド化合物、ならびに（Ｃ）溶剤を含有し、前記（ａ２）架橋性基を有する構成単位が、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基）で表される基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位を含有する、層間絶縁膜の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）基板上に感光性樹脂組成物を塗布する工程、
（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程、
（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する工程、
（４）露光された感光性樹脂組成物を、溶剤を主成分とする現像液を用いて現像する工程、及び
（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するベーク工程を含み、
前記感光性樹脂組成物は、
（Ａ）（ａ１）酸基を有する構成単位、及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位、を有する重合体、
（Ｂ）キノンジアジド化合物、ならびに
（Ｃ）溶剤
を含有し、
前記（ａ２）架橋性基を有する構成単位が、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基）で表される基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位を含有する、層間絶縁膜の製造方法。
【請求項２】
前記溶剤を主成分とする現像液のｐＨが６〜８である、請求項１に記載の層間絶縁膜の製造方法。
【請求項３】
前記溶剤を主成分とする現像液中の主成分の溶剤の分子量が５０〜２５０である、請求項１又は２に記載の層間絶縁膜の製造方法。
【請求項４】
前記溶剤を主成分とする現像液の主成分の溶剤の溶解パラメーター（ＳＰ値）が７〜１５である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の層間絶縁膜の製造方法。
【請求項５】
前記溶剤を主成分とする現像液は、ケトン系溶剤、エステル系溶剤及びアルコール系溶剤から選ばれた少なくとも１種を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の層間絶縁膜の製造方法。
【請求項６】
前記現像する工程後、前記ベーク工程前に、現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の層間絶縁膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物を用いた層間絶縁膜の製造方法、層間絶縁膜、上記層間絶縁膜を用いた各種画像表示装置に関する。
さらに詳しくは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品の層間絶縁膜に好適な、層間絶縁膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と記す。）型液晶表示素子や磁気ヘッド素子、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜が設けられている。層間絶縁膜を形成する材料としては、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なくしかも十分な平坦性を有するものが好ましい。そのため、感光性樹脂組成物が幅広く使用されている。このような感光性樹脂組成物としては、例えば、特許文献１に開示されたものが挙げられる。
特許文献２には、放射に敏感な材料を用いて製作したパターンのつぶれを低減するための組成物及び方法について開示されている。
特許文献３には、感光性樹脂組成物を用いたパターンの解像力を高める技術として、ネガ型現像液と、ポジ型レジスト組成物とを組み合わせたパターン形成方法について開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２０９６８１号公報
【特許文献２】特開２０１１−２１５６１７号公報
【特許文献３】特開２００８−２９２９７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、層間絶縁膜として、端部がきれいに現像されたものが要求されている。本願発明者が鋭意検討を行った結果、特許文献１〜３に開示された技術では、例えば図１に示すように、感光性樹脂組成物１０１を露光、現像して得られる層間絶縁膜１０４の端部１０４ａがきれいに現像されずに残ってしまう場合があり、解像力をより向上させることが要求されていた。
本願発明は、以上のような事情を鑑みなされたものであり、解像力をより向上させることができる層間絶縁膜の製造方法を提供することを目的とする。さらに、この層間絶縁膜の製造方法により得られた層間絶縁膜、この層間絶縁膜を用いた有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
かかる状況のもと本願発明者が鋭意検討を行った結果、層間絶縁膜の端部がきれいに現像されない原因が、酸基を有する構成単位及び架橋性基を有する構成単位を有する重合体を配合した感光性樹脂組成物を、アルカリ性の現像液を用いて現像（ポジ型現像）を行っていたことであり、この組成物を、溶剤を主成分とする現像液（ネガ型現像液）を用いて現像することにより、解像力をさらに向上させることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
具体的には、以下の解決手段＜１＞により、好ましくは、＜２＞〜＜６＞により、上記課題は解決された。
＜１＞（１）基板上に感光性樹脂組成物を塗布する工程、
（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程、
（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する工程、
（４）露光された感光性樹脂組成物を、溶剤を主成分とする現像液を用いて現像する工程、及び
（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するベーク工程を含み、
前記感光性樹脂組成物は、
（Ａ）（ａ１）酸基を有する構成単位、及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位、を有する重合体、
（Ｂ）キノンジアジド化合物、ならびに
（Ｃ）溶剤
を含有し、
前記（ａ２）架橋性基を有する構成単位が、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基）で表される基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位を含有する、層間絶縁膜の製造方法。
＜２＞前記溶剤を主成分とする現像液のｐＨが６〜８である、＜１＞に記載の層間絶縁膜の製造方法。
＜３＞前記溶剤を主成分とする現像液中の主成分の溶剤の分子量が５０〜２５０である、＜１＞又は＜２＞に記載の層間絶縁膜の製造方法。
＜４＞前記溶剤を主成分とする現像液の主成分の溶剤の溶解パラメーター（ＳＰ値）が７〜１５である、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の層間絶縁膜の製造方法。
＜５＞前記溶剤を主成分とする現像液は、ケトン系溶剤、エステル系溶剤及びアルコール系溶剤から選ばれた少なくとも１種を含む、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の層間絶縁膜の製造方法。
＜６＞前記現像する工程後、前記ベーク工程前に、現像された感光性樹脂組成物を全面露光する工程を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の層間絶縁膜の製造方法。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、解像力の高い層間絶縁膜を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】従来の層間絶縁膜の製造方法の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の層間絶縁膜の製造方法の一例を示す概略図である。
【図３】液晶表示装置の一例の構成概念図を示す。液晶表示装置におけるアクティブマトリックス基板の模式的断面図を示し、層間絶縁膜である硬化膜１７を有している。
【図４】有機ＥＬ表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜４を有している。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
なお、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
【０００９】
［層間絶縁膜の製造方法］
本発明の層間絶縁膜の製造方法は、
（１）基板上に感光性樹脂組成物を塗布する工程、
（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程、
（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する工程、
（４）露光された感光性樹脂組成物を、溶剤を主成分とする現像液を用いて現像する工程、及び
（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するベーク工程を含み、
前記感光性樹脂組成物は、
（Ａ）（ａ１）酸基を有する構成単位、及び（ａ２）架橋性基を有する構成単位、を有する重合体、
（Ｂ）キノンジアジド化合物、ならびに
（Ｃ）溶剤を含有し、
前記（ａ２）架橋性基を有する構成単位が、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基）で表される基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位を含有する。
以下、本発明の層間絶縁膜の製造方法について、各工程を順に説明する。
【００１０】
（１）基板上に感光性樹脂組成物を塗布する工程
（１）の塗布工程における基板への感光性樹脂組成物の塗布方法は、特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、流延塗布法、スリットアンドスピン法等の方法を用いることができ、スピンコート法が特に好ましい。塗布したときの湿潤膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じた膜厚で塗布することができるが、通常は０．５〜１０μｍの範囲で使用され、２．０〜５．０μｍの範囲が特に好ましい。
（１）の塗布工程では、例えば図２に示すように、後述する本発明に用いられる組成物１０５を基板１００上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とすることが好ましい。感光性樹樹脂組成物を基板へ塗布する前にアルカリ洗浄やプラズマ洗浄といった基板の洗浄を行うことが好ましく、さらに基板洗浄後にヘキサメチルジシラザンで基板表面を処理することがより好ましい。この処理を行うことにより、感光性樹脂組成物の基板への密着性が向上する傾向にある。ヘキサメチルジシラザンで基板表面を処理する方法としては、特に限定されないが、例えば、ヘキサメチルジシラザン蒸気に中に基板を晒しておく方法等が挙げられる。
前記の基板としては、無機基板、樹脂、樹脂複合材料などが挙げられる。
無機基板としては、例えばガラス、石英、シリコーン、シリコンナイトライド、及び、それらのような基板上にモリブデン、チタン、アルミ、銅などを蒸着した複合基板が挙げられる。
樹脂としては、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリベンズアゾール、ポリフェニレンサルファイド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素樹脂、液晶ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、シアネート樹脂、架橋フマル酸ジエステル、環状ポリオレフィン、芳香族エーテル、マレイミドーオレフィン、セルロース、エピスルフィド化合物等の合成樹脂からなる基板が挙げられる。
これらの基板は、前記の形態のまま用いられる場合は少なく、通常、最終製品の形態によって、例えばＴＦＴ素子のような多層積層構造が形成されている。
また、基板に本発明で用いられる組成物を塗布する前に、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されているような、所謂プリウェット法を適用することも可能である。
【００１１】
（２）感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程
（２）の溶剤除去工程では、塗布された前記感光性樹脂組成物膜から、減圧（バキューム）及び／又は加熱により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させることが好ましい。溶剤除去工程の加熱条件は、好ましくは７０〜１３０℃で３０〜３００秒間であり、より好ましくは８０〜１１０℃で３０〜１２０秒間である。温度と時間が前記範囲である場合、パターンの密着性がより良好で、且つ残渣もより低減できる傾向にある。
【００１２】
（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線により露光する工程
（３）の露光工程では、例えば図２に示すように、溶剤が除去された本発明に用いられる組成物１０５からなる塗膜を設けた基板１００に所定のパターンを有するマスク１０２を介して、活性光線１０３を照射する。
活性光線による露光光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ＬＥＤ光源、エキシマレーザー発生装置などを用いることができ、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）などの波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。
露光装置としては、ミラープロジェクションアライナー、ステッパー、スキャナー、プロキシミティ、コンタクト、マイクロレンズアレイ、レンズスキャナ、レーザー露光、など各種方式の露光機を用いることができる。
【００１３】
（４）露光された感光性樹脂組成物を、溶剤を主成分とする現像液を用いて現像する工程
（４）の現像工程では、例えば図２に示すように、（３）の露光工程で露光された本発明の組成物１０５を、溶剤を主成分とする現像液（以下、単にネガ型現像液ともいう。）により現像（以下、ネガ型現像ともいう。）する。本願発明者は、本発明に用いられる組成物を、溶剤を主成分とする現像液を用いて現像することにより、できあがる層間絶縁膜の解像力を向上させることができることを見出した。
本発明に用いられる現像液のｐＨは、好ましくは６．０〜８．０であり、より好ましくは６．５〜７．５であり、さらに好ましくは６．８〜７．２である。このようなｐＨの現像液を用いることにより、より効果的に本発明の効果を達成することができる。
【００１４】
例えば、本発明に用いられる現像液としては、溶剤を主成分とする現像液、特に、有機溶剤を含有する有機系現像液を使用することが好ましい。ここで、溶剤を主成分とするとは、現像液中の溶剤の含有量が５０質量％以上であることをいう。現像液中の溶剤の含有量としては、好ましくは９７質量％以上であり、より好ましくは９９質量％以上であり、特に好ましくは１００質量％である。
ネガ型現像を行う際に使用し得る有機系現像液としては、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤等の極性溶剤及び炭化水素系溶剤を用いることができ、特に、ケトン系溶剤、エステル系溶剤及びアルコール系溶剤から選ばれた少なくとも１種を含むものが好ましい。
本発明において、ケトン系溶剤とは分子内にケトン基を有する溶剤のことであり、エステル系溶剤とは分子内にエステル基を有する溶剤のことであり、アルコール系溶剤とは分子内にアルコール性水酸基を有する溶剤のことであり、アミド系溶剤とは分子内にアミド基を有する溶剤のことであり、エーテル系溶剤とは分子内にエーテル結合を有する溶剤のことである。これらの中には、１分子内に上記官能基を複数種類有する溶剤も存在するが、その場合は、その溶剤の有する官能基を含むいずれの溶剤種にも該当するものとする。
例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテルは、前記分類中の、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤いずれにも該当するものとする。また、炭化水素系溶剤とは、置換基を有さない炭化水素溶剤のことである。
ケトン系溶剤としては、例えば、１−オクタノン、２−オクタノン、メチルアミルケトン、１−ノナノン、２−ノナノン、アセトン、４−ヘプタノン、１−ヘキサノン、２−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、フェニルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、イオノン、ジアセトニルアルコール、アセチルカービノール、アセトフェノン、メチルナフチルケトン、イソホロン、プロピレンカーボネート、γ-ブチロラクトン等を挙げることができる。これらのケトン系溶剤の中では、２−ノナノン及びメチルアミルケトンが好ましい。
エステル系溶剤としては、例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２−メトキシブチルアセテート、３-メトキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテート、３-メチル-３-メトキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセテート、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキシペンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネート、プロピル−３−メトキシプロピオネート等を挙げることができる。これらのエステル系溶剤の中では、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート及びジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートが好ましい。
エステル系溶剤としては、後述する一般式（１）で表される溶剤又は後述する一般式（２）で表される溶剤を用いることが好ましく、一般式（１）で表される溶剤を用いることがより好ましく、酢酸アルキルを用いることがさらに好ましく、酢酸ブチルを用いることが特に好ましい。
アルコール系溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−ヘプチルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−デカノール、３−メトキシ−１−ブタノール等のアルコールや、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，３−ブチレングリコール等のグリコール系溶剤や、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等の水酸基を含有するグリコールエーテル系溶剤等を挙げることができる。これらの中でもアルコール又はグリコールエーテル系溶剤を用いることが好ましく、１，３−ブチレングリコール及びｎ−プロピルアルコールがより好ましい。
エーテル系溶剤としては、例えば、上記水酸基を含有するグリコールエーテル系溶剤の他、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の水酸基を含有しないグリコールエーテル系溶剤、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、パーフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。好ましくは、グリコールエーテル系溶剤を用いる。
アミド系溶剤としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等が使用できる。
炭化水素系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン、２，２，４−トリメチルペンタン、２，２，３−トリメチルヘキサン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶剤、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、１−メチルプロピルベンゼン、２−メチルプロピルベンゼン、ジメチルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、エチルジメチルベンゼン、ジプロピルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。これらの中でも、芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。
上記の溶剤は、複数混合してもよいし、上記以外の溶剤や水と混合し使用してもよい。
【００１５】
ネガ型現像液として、下記一般式（１）−１、（１）−２で表される溶剤を用いることが好ましい。
【００１６】
【化１】
2014191298.tif 000002
【化２】
2014191298.tif 000003
【００１７】
一般式（１）−１、及び（１）−２中、Ｒ及びＲ’は、各々独立に、水素原子、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルコキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。Ｒ及びＲ’は、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ及びＲ’としては水素原子又は直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましく、Ｒ及びＲ’の有するアルキル基は、水酸基やカルボニル基、シアノ基などで置換されていても良い。
【００１８】
一般式（１）−１で表される溶剤としては、例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等を挙げることができる。
【００１９】
一般式（１）−２で表される溶剤としては、例えば１−オクタノン、２−オクタノン、メチルアミルケトン、１−ノナノン、２−ノナノン、アセトン、４−ヘプタノン、１−ヘキサノン、２−ヘキサノン、ジイソブチルケトンを挙げることができる。
【００２０】
これらの中でも、一般式（１）−１で表される溶剤は、Ｒ及びＲ’が無置換のアルキル基であることが好ましく、酢酸アルキルであることがより好ましく、酢酸ブチルであることが特に好ましい。
また、（１）−２で表される溶剤は、Ｒ及びＲ’が無置換のアルキル基であることが好ましく、２−ノナノン及びメチルアミルケトンが好ましい。
【００２１】
一般式（１）−１、及び（１）−２で表される溶剤は、他の溶剤１種以上と併用して用いても良い。この場合の併用溶剤としては、一般式（１）−１、及び（１）−２で表される溶剤に分離することなく混合できれば特に制限は無く、一般式（１）−１、及び（１）−２で表される溶剤同士を併用して用いても良いし、一般式（１）−１、及び（１）−２で表される溶剤を他のエステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤から選択される溶剤に混合して用いても良い。併用溶剤は１種以上用いることができるが、安定した性能を得る上では、１種であることが好ましい。併用溶剤１種を混合して用いる場合の、一般式（１）で表される溶剤と併用溶剤の混合比は、通常２０：８０〜９９：１、好ましくは５０：５０〜９７：３、より好ましくは６０：４０〜９５：５、最も好ましくは６０：４０〜９０：１０である。
【００２２】
ネガ型現像を行う際に使用し得る現像液としては、下記一般式（２）で表される溶剤も好ましい。
【００２３】
【化３】
2014191298.tif 000004
【００２４】
一般式（２）において、Ｒ’’及びＲ’’’’は、各々独立に、水素原子、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルコキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。Ｒ’’及びＲ’’’’は、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ’’及びＲ’’’’は、水素原子又は直鎖状又は分岐状のアルキル基であることが好ましい。
一般式（２）において、Ｒ’’’は、アルキレン基又は環状のアルキレン基を表す。
Ｒ’’及びＲ’’’’が有するアルキル基は、水酸基やカルボニル基、シアノ基などで置換されていても良い。
一般式（２）における、Ｒ’’’のアルキレン基は、アルキレン鎖中にエーテル結合を有していてもよい。
【００２５】
一般式（２）で表される溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネート、プロピル−３−メトキシプロピオネート、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、２−メトキシブチルアセテート、３-メトキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテート、３-メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセテート、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキシペンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、等を挙げることができる。
【００２６】
一般式（２）で表される溶剤は、他の溶剤１種以上と併用して用いても良い。この場合の併用溶剤としては、一般式（２）で表される溶剤に分離することなく混合できれば特に制限は無く、一般式（２）で表される溶剤同士を併用して用いても良いし、一般式（２）で表される溶剤を他のエステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤から選択される溶剤に混合して用いても良い。併用溶剤は１種以上用いることができるが、安定した性能を得る上では、１種であることが好ましい。併用溶剤１種を混合して用いる場合の、一般式（２）で表される溶剤と併用溶剤の混合比は、通常２０：８０〜９９：１、好ましくは５０：５０〜９７：３、より好ましくは６０：４０〜９５：５、最も好ましくは６０：４０〜９０：１０である。
【００２７】
本発明に用いられる現像液としては、現像に用いる溶剤のコスト削減の観点から、ハロゲン原子を含まない有機溶剤が好ましい。ネガ型現像の際に使用する全溶剤中におけるハロゲン原子を含まない有機溶剤の含有量は、通常６０質量％以上であり、好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上、特に好ましくは９７質量％以上である。
【００２８】
本発明に用いられる溶剤を主成分とする現像液中の主成分の溶剤の分子量は、５０〜２５０であることが好ましく、８０〜２５０であることがより好ましく、９５〜２２０であることがさらに好ましく、１００〜２１０であることがさらに好ましい。このような分子量の現像液を用いることによって、本発明の効果をより効果的に達成することができる。
【００２９】
本発明に用いられる溶剤を主成分とする現像液中の主成分の溶剤の溶解パラメータ（ＳＰ値：Solubility Parameter）は、７〜１５であることが好ましく、８〜１２であることがより好ましく、８〜１０であることがさらに好ましい。このような溶解パラメータの現像液を用いることによって、本発明の効果をより効果的に達成することができる。
ここで、溶解パラメータ（ＳＰ値）とは、Ｆｅｄｏｒｓ法よって算出される値を意味し、この溶解パラメータの値が低いほど、本発明に用いられる現像液が低極性であることを示す。
また、現像液の溶解パラメータ（ＳＰ値）は、例えば、Ｆｅｄｏｒｓ法により、現像液の化学構造から推算することができる（「溶解パラメータ値（Solubility Parameter Values）」、ポリマーハンドブック（Polymer Handbook）、第４版（J,Brandrup他編集）参照）。
【００３０】
本発明に用いられる溶剤を主成分とする現像液中の主成分の溶剤の沸点は、５０℃〜２５０℃が好ましく、１００〜２００℃がより好ましい。本発明に用いられる現像液の発火点は、２００℃以上が好ましい。
【００３１】
本発明に用いられる現像液には、必要に応じて溶剤以外の成分が添加されていてもよい。例えば、本発明に用いられる現像液には、界面活性剤を適当量添加することができる。
界面活性剤としては、特に限定されないが、イオン性や非イオン性のフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤等を用いることができる。これらのフッ素及び／又はシリコン系界面活性剤として、例えば特開２００８−２９２９７５号公報の段落番号０３８４に記載のものが挙げられ、好ましい範囲も同様であり、この内容は本願明細書に組み込まれる。
界面活性剤を配合する場合の使用量は、現像液の全量に対して、通常０．００１〜５質量％、好ましくは０．００５〜２質量％、さらに好ましくは０．０１〜０．５質量％であることが好ましい。
【００３２】
本発明のネガ型現像の現像方法としては、例えば、現像液が満たされた槽中に基板を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、基板表面に現像液を表面張力によって盛り上げて一定時間静止することで現像する方法（パドル法）、基板表面に現像液を噴霧する方法（スプレー法）、一定速度で回転している基板上に一定速度で現像液塗出ノズルをスキャンしながら現像液を塗出しつづける方法（ダイナミックディスペンス法）などを適用することができ、これらの方法の中でも、パドル法、スプレー法が、均一性の観点から好ましい。
本発明のネガ型現像の現像時間は、現像温度にもよるが、例えば、２０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましく、３５秒以上がさらに好ましい。現像時間の上限は特に限定されないが、１２０秒以下が好ましく、１００秒以下がより好ましく、９５秒以下がさらに好ましい。
本発明のネガ型現像の温度は、現像時間にもよるが、例えば、１５〜９０℃が好ましく、１８〜５０℃がより好ましく、２０〜４５℃がさらに好ましく、２０〜３０℃が特に好ましい。
また、ネガ型現像を行う工程の後に、他の溶媒に置換しながら、現像を停止する工程を実施してもよい。
【００３３】
ネガ型現像を行う工程の後には、有機溶剤を含むリンス液を用いて洗浄する工程を含むことが好ましい。リンス液を用いて洗浄する工程については、例えば特開２００８−２９２９７５号公報の段落番号０３８７〜０３９２に記載の方法が挙げられ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
【００３４】
（５）現像された感光性樹脂組成物を熱硬化するベーク工程
（５）ベーク工程では、前記（４）の現像工程で現像された感光性樹脂組成物を熱硬化することにより、本発明の組成物中の酸基を架橋させることにより、例えば図２に示す層間絶縁膜１０６を形成することができる。
この加熱は、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温度、例えば１８０〜２５０℃で所定の時間、例えばホットプレート上なら５〜９０分間、オーブンならば３０〜１２０分間、加熱処理をすることが好ましい。加熱時間は、１０〜９０分が好ましく、２０〜６０分がより好ましい。このように架橋反応を進行させることにより、耐熱性、硬度等により優れた保護膜や層間絶縁膜を形成することができる。また、加熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより、透明性をより向上させることもできる。
ポストベークの前に、比較的低温でベークを行った後にポストベークすることもできる（ミドルベーク工程の追加）。ミドルベークを行う場合は、９０〜１５０℃で１〜６０分加熱した後に、２００℃以上の高温でポストベークすることが好ましい。また、ミドルベーク、ポストベークを３段階以上の多段階に分けて加熱する事もできる。このようなミドルベーク、ポストベークの工夫により、パターンのテーパー角を調整することができる。これらの加熱は、ホットプレート、オーブン、赤外線ヒーターなど、公知の加熱方法を使用することができる。
なお、ポストベークに先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により全面再露光（ポスト露光）することが、透明性向上の観点から好ましい。ポスト露光工程を含む場合の好ましい露光量としては、１００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、１００〜２，０００ｍＪ／ｃｍ2が特に好ましい。
【００３５】
さらに、本発明に用いられる組成物より得られた層間絶縁膜は、ドライエッチングレジストとして使用することもできる。ポストベーク工程により熱硬化して得られた層間絶縁膜をドライエッチングレジストとして使用する場合、エッチング処理としてはアッシング、プラズマエッチング、オゾンエッチングなどのドライエッチング処理を行うことができる。
【００３６】
［感光性樹脂組成物］
続いて、本発明に用いられる組成物について説明する。
本発明に用いられる組成物は、下記（Ａ）重合体成分、（Ｂ）キノンジアジド化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有する。
本発明に用いられる組成物は、例えば、活性光線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、前記ネガ型現像液に対する溶解度が減少する組成物である。本発明の組成物は、（ａ１）酸基を有する構成単位を有することにより、ネガ型現像でも溶解させることができる。ここで、組成物の現像液に対する溶解度の指標として、疑似的に成分（Ａ）と現像液の溶解パラメータ（ＳＰ値）の差で表すことができる。この場合、成分（Ａ）の溶解パラメータと現像液の溶解パラメータの差が小さいほど溶解度が大となると考えることができる。本発明では、溶解パラメータ（ＳＰ値）の差が０．２以上あれば、溶解度が増減したと言える。
【００３７】
＜（Ａ）重合体成分＞
本発明で用いる（Ａ）重合体成分は、（ａ１）酸基を有する構成単位と、（ａ２）架橋性基を有する構成単位を含む重合体（以下、（Ａ）重合体ともいう。）である。（Ａ）重合体成分は、本発明の組成物の溶剤を除く成分の主成分となるものであり、全固形分の６０質量％以上を占めることが好ましい。
【００３８】
＜＜（ａ１）酸基を有する構成単位＞＞
（Ａ）重合体成分に、（ａ１）酸基を有する構成単位を含むことにより、アルカリ性の現像液に溶けやすくなり、本発明の効果がより効果的に発揮される。酸基は、通常、酸基を形成しうるモノマーを用いて、酸基を有する構成単位として、重合体に組み込まれる。このような酸基を有する構成単位を重合体中に含めることにより、アルカリ性の現像液に対して溶けやすくなる傾向にある。
本発明で用いられる酸基としては、カルボン酸基、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、スルホン酸基、スルホニルイミド基に由来する構成単位等が例示され、カルボン酸基及び／又はフェノール性水酸基に由来する構成単位がより好ましい。特に、本発明で用いられる（ａ１）酸基を有する構成単位は、カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を有する繰り返し単位であることが好ましい。例えば、特開２０１２−８８４５９号公報の段落番号００２１〜００２３及び段落番号００２９〜００４４記載の化合物を用いることができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
本発明で用いられる酸基を有する構成単位は、スチレンに由来する構成単位や、ビニル化合物に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構成単位であることが好ましい。例えば、特開２０１２−８８４５９号公報の段落番号００２１〜００２３及び段落番号００２９〜００４４記載の化合物を用いることができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
【００３９】
これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、４−ヒドロキシフェニルメタクリレート、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン等が、共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性及び入手の容易性からより好ましい。これらの化合物は、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。
【００４０】
（Ａ）重合体成分の全構成単位中、構成単位（ａ１）が３〜７０モル％含有されていることが好ましく、５〜６０モル％含有されていることがより好ましく、１０〜５０モル％含有されていることがさらに好ましい。構成単位（ａ１）の使用割合を上記範囲とすることで、（Ａ）重合体成分のアルカリ水溶液に対する溶解性を最適化すると共に、感度に優れる感放射線性樹脂組成物が得られる。
【００４１】
＜＜（ａ２）架橋性基を有する構成単位＞＞
（Ａ）重合体は、（ａ２）架橋性基を有する構成単位を有する。上記架橋性基は、加熱処理で硬化反応を起こす基であれば特に限定はされない。架橋性基を有する構成単位の好ましい態様としては、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基）で表される基及びエチレン性不飽和基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位が挙げられ、エポキシ基、オキセタニル基及びＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基）で表される基から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。より詳細には、以下のものが挙げられる。
【００４２】
＜＜＜（ａ２−１）エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位＞＞＞
上記（Ａ）重合体は、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）を含有することが好ましい。
【００４３】
エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、α−エチルアクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第４１６８４４３号公報の段落番号００３１〜００３５に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、特開２００１−３３０９５３号公報の段落番号００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルや、特開２０１２−０８８４５９公報の段落番号００２７に記載されている化合物などが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
上記エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。
【００４４】
これらの中でも好ましいものは、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、及び、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルが、共重合反応性及び硬化膜の諸特性の向上の観点から好ましい。これらの構成単位は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００４５】
上記エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２−１）の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。
【００４６】
【化４】
2014191298.tif 000005
【００４７】
＜＜＜（ａ２−２）エチレン性不飽和基を有する構成単位＞＞＞
上記架橋性基を有する構成単位（ａ２）として、エチレン性不飽和基を有する構成単位（ａ２−２）が挙げられる。構成単位（ａ２−２）としては、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位が好ましく、末端にエチレン性不飽和基を有し、炭素数３〜１６の側鎖を有する構成単位がより好ましい。
その他、構成単位（ａ２−２）構成単位については、特開２００８−２５６９７４の段落番号００１３〜００３１に記載の化合物等が好ましいものとして挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００４８】
＜＜＜（ａ２−３）−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基）で表される基を有する構成単位＞＞＞
上記架橋性基を有する構成単位（ａ２）として、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基）で表される基を有する構成単位（ａ２−３）も好ましい。構成単位（ａ２−３）を有することで、緩やかな加熱処理で硬化反応を起こすことができ、諸特性に優れた硬化膜を得ることができる。ここで、Ｒは炭素数１〜９のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。また、アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基のいずれであってもよいが、好ましくは、直鎖又は分岐のアルキル基である。構成単位（ａ２−３）は、より好ましくは、下記一般式（ａ２−３０）で表される基を有する構成単位である。
一般式（ａ２−３０）
【化５】
2014191298.tif 000006
（一般式（ａ２−３０）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）
Ｒ2は、炭素数１〜９のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がさらに好ましい。また、アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基のいずれであってもよいが、好ましくは、直鎖又は分岐のアルキル基である。
Ｒ2の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、シクロヘキシル基、及びｎ−ヘキシル基を挙げることができる。中でもｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、メチル基が好ましい。
【００４９】
（Ａ）重合体成分の全構成単位中、構成単位（ａ２）が２０〜８０モル％含有されていることが好ましく、２０〜７０モル％含有されていることがより好ましく、２０〜６５モル％含有されていることがより好ましい。構成単位（ａ２）の使用割合を上記範囲とすることで、諸特性に優れる硬化膜を形成できる。
【００５０】
＜＜（ａ３）その他の構成単位＞＞
本発明において、（Ａ）重合体は、上記構成単位（ａ１）及び（ａ２）に加えて、これら以外の他の構成単位（ａ３）を有していてもよい。その他の構成単位（ａ３）となるモノマーとしては、上記構成単位（ａ１）及び（ａ２）以外の不飽和化合物であれば特に制限されるものではない。構成単位（ａ３）を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えばメタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、アクリル酸鎖状アルキルエステル、アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物、マレイミド化合物、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、下記式（４）で表される骨格を含む不飽和化合物及びその他の不飽和化合物等が挙げられる。構成単位（ａ３）を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、特開２０１２−８８４５９号公報の段落番号００４６〜００６５記載の化合物等を用いることができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
【００５１】
【化６】
2014191298.tif 000007
【００５２】
上記式（４）中、Ｒ23は、水素原子又はメチル基である。ｓは１以上の整数である。
【００５３】
これらの構成単位（ａ３）のうち、メタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、マレイミド化合物、テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、上記式（４）で表される骨格を有する不飽和化合物、不飽和芳香族化合物、アクリル酸環状アルキルエステル、アクリロイルモルホリンが好ましい。これらのうち、スチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ラウリル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、ｐ−メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（ｎ＝２〜１０）モノ（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイルオキシテトラヒドロフラン−２−オン、アクリロイルモルホリンが、共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点からより好ましい。これらの（ａ３）化合物は、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。
【００５４】
（Ａ）重合体成分の全構成単位中、構成単位（ａ３）が１〜９０モル％含有されていることが好ましく、５〜８０モル％含有されていることがより好ましく、７〜６０モル％含有されていることがさらに好ましい。構成単位（ａ３）の使用割合を上記範囲とすることで、諸特性に優れる硬化膜を形成できる。
【００５５】
＜＜（Ａ）重合体の分子量＞＞
（Ａ）重合体の分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で、好ましくは１，０００〜２００，０００、より好ましくは２，０００〜５０，０００の範囲である。上記の数値の範囲内であると、諸特性が良好である。
数平均分子量と重量平均分子量の比（分散度）は１．０〜５．０が好ましく１．５〜３．５がより好ましい。
【００５６】
＜＜（Ａ）重合体の製造方法＞＞
また、（Ａ）重合体成分の合成法についても、様々な方法が知られているが、一例を挙げると、少なくとも上記（ａ１）及び上記（ａ２）で表される構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体を含むラジカル重合性単量体混合物を有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。また、いわゆる高分子反応で合成することもできる。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、２，２'−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１'−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物及び過酸化水素が挙げられる。
（Ａ）重合体の製造方法は、例えば、特開２０１２−８８５４９号公報の段落番号００６７〜００７３の記載の方法を用いることができ、かかる内容は本願明細書に組み込まれる。
【００５７】
＜（Ｂ）キノンジアジド化合物＞
本発明の組成物に用いられる（Ｂ）キノンジアジド化合物としては、例えば、活性光線の照射によりカルボン酸を発生する１，２−キノンジアジド化合物を用いることができる。１，２−キノンジアジド化合物としては、フェノール性化合物又はアルコール性化合物（以下、「母核」と称する）と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。これらの化合物の具体例としては、例えば特開２０１２−０８８４５９公報の段落番号００７５〜００７８の記載を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
【００５８】
フェノール性化合物又はアルコール性化合物（母核）と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応においては、フェノール性化合物又はアルコール性化合物中のＯＨ基数に対して、好ましくは３０〜８５モル％、より好ましくは５０〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。縮合反応は、公知の方法によって実施することができる。
【００５９】
また、１，２−キノンジアジド化合物としては、上記例示した母核のエステル結合をアミド結合に変更した１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミド類、例えば２，３，４−トリアミノベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸アミド等も好適に使用される。
【００６０】
これらの（Ｂ）キノンジアジド化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。本発明の感光性樹脂組成物における（Ｂ）キノンジアジド化合物の配合量は、前記感光性樹脂組成物中の全固形分に対し、１〜５０質量％が好ましく、１０質量％を超え４０質量％以下であることがより好ましく、１２質量％を超え４０質量％以下であることがさらに好ましい。
また、本発明の感光性樹脂組成物における（Ｂ）キノンジアジド化合物の配合量は、前記（Ａ）重合体の合計１００質量部に対し、５〜１００質量部であることが好ましく、１０〜５０質量部であることがより好ましく、１０〜３５質量部であることがさらに好ましい。
（Ｂ）キノンジアジド化合物の配合量を上記範囲とすることで、現像液となるアルカリ水溶液に対する活性光線の照射部分と未照射部分との溶解度の差が大きく、パターニング性能が良好となり、また得られる硬化膜の耐溶剤性が良好となる。
【００６１】
＜（Ｃ）溶剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｃ）溶剤を含有する。本発明の感光性樹脂組成物は、本発明の必須成分と、さらに後述の任意の成分を（Ｃ）溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。本発明の組成物の調製に用いられる溶剤としては、必須成分及び任意成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。
本発明の感光性樹脂組成物に使用される（Ｃ）溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。また、本発明の感光性樹脂組成物に使用される溶剤の具体例としては特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号０１７４〜０１７８に記載の溶剤、特開２０１２−１９４２９０公報の段落番号０１６７〜０１６８に記載の溶剤も挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００６２】
また、これらの溶剤にさらに必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。これら溶剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。本発明に用いることができる溶剤は、１種単独、又は、２種を併用することが好ましく、２種を併用することがより好ましく、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類又はジアルキルエーテル類、ジアセテート類とジエチレングリコールジアルキルエーテル類、あるいは、エステル類とブチレングリコールアルキルエーテルアセテート類とを併用することがさらに好ましい。
【００６３】
また、溶剤としては、沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤、沸点１６０℃以上の溶剤、又は、これらの混合物であることが好ましい。
沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点１５８℃)、プロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル（沸点１５５℃）、プロピレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテル（沸点１３１℃）が例示できる。
沸点１６０℃以上の溶剤としては、３−エトキシプロピオン酸エチル（沸点１７０℃）、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（沸点１７６℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（沸点１６０℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点２１３℃）、３−メトキシブチルエーテルアセテート（沸点１７１℃）、ジエチレングリコールジエチエルエーテル（沸点１８９℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点１６２℃）、プロピレングリコールジアセテート（沸点１９０℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点２２０℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点１７５℃）、１，３−ブチレングリコールジアセテート（沸点２３２℃）が例示できる。
【００６４】
本発明の感光性樹脂組成物における（Ｃ）溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の全成分１００質量部当たり、５０〜９５質量部であることが好ましく、６０〜９０質量部であることがさらに好ましい。
【００６５】
＜その他の成分＞
本発明の組成物は、前記成分に加え、本発明の効果を損なわない範囲で必要に応じて、架橋剤、酸化防止剤、現像促進剤、アルコキシシラン化合物（シランカップリング剤）、界面活性剤、接着助剤、耐熱性向上剤、感熱性酸発生剤等の任意成分を含有できる。これらの任意成分は、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。これらの化合物としては、例えば特開２０１２−８８４５９号公報の段落番号０２０１〜０２２４に記載の化合物を使用することができ、、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００６６】
＜＜アルコキシシラン化合物＞＞
本発明の感光性樹脂組成物は、密着改良剤としてアルコキシシラン化合物を含有していることが好ましい。アルコキシシラン化合物を用いると、本発明の感光性樹脂組成物により形成された膜と基板との密着性を向上できたり、本発明の感光性樹脂組成物により形成された膜の性質を調整することができる。本発明の感光性樹脂組成物に用いることができるアルコキシシラン化合物は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、モリブデン、チタン、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物であることが好ましい。具体的には、公知のシランカップリング剤等も有効である。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましく、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランがさらに好ましく、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランがよりさらに好ましい。これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００６７】
また、下記の一般式で表される化合物も好ましく採用できる。
（Ｒ1A）4-n−Ｓｉ−（ＯＲ2A）n
一般式中、Ｒ1Aは反応性基を有さない炭素数１〜２０の炭化水素基であり、Ｒ2Aは炭素数１〜３のアルキル基又はフェニル基であり、ｎは１〜３の整数である。
具体例として以下の化合物をあげることができる。
【００６８】
【化７】
2014191298.tif 000008
【００６９】
【化８】
2014191298.tif 000009
【００７０】
上記において、Ｐｈはフェニル基である。
【００７１】
本発明の感光性樹脂組成物におけるアルコキシシラン化合物は、特にこれらに限定することなく、公知のものを使用することができる。
本発明の感光性樹脂組成物におけるアルコキシシラン化合物の含有量は、前記（Ａ）重合体成分の合計１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜２０質量部がより好ましい。
【００７２】
＜＜界面活性剤＞＞
本発明の感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含有していることが好ましい。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン界面活性剤である。本発明の組成物に用いられる界面活性剤としては、例えば、特開２０１２−８８４５９号公報の段落番号０２０１〜０２０５に記載のものや、特開２０１１−２１５５８０号公報の段落番号０１８５〜０１８８に記載のものを用いることができ、これらの記載は本願明細書に組み込まれる。
ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。また、以下商品名で、ＫＰ−３４１、Ｘ−２２−８２２（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．９９Ｃ（共栄社化学（株）製）、エフトップ（三菱マテリアル化成社製）、メガファック（ＤＩＣ（株）製）、フロラードノベックＦＣ−４４３０（住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−２４２（ＡＧＣセイミケミカル社製）、ＰｏｌｙＦｏｘＰＦ−６３２０（ＯＭＮＯＶＡ社製）、ＳＨ−８４００（東レ・ダウコーニングシリコーン）、フタージェントＦＴＸ−２１８Ｇ（ネオス社製）等を挙げることができる。
本発明の感光性樹脂組成物中における界面活性剤の添加量は、前記（Ａ）重合体の合計１００質量部に対し、１０質量部以下であることが好ましく、０．００１〜１０質量部であることがより好ましく、０．０１〜５質量部であることがさらに好ましい。界面活性剤は複数を併用することもでき、その場合は界面活性剤を全て合算して含有量を計算する。
【００７３】
＜＜架橋剤＞＞
本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ、架橋剤を含有してもよい。架橋剤を添加することにより、本発明の感光性樹脂組成物により得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。
架橋剤としては、熱によって架橋反応が起こるものであれば制限は無い（前記（Ａ）成分を除く）。例えば、分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有架橋剤、又は、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物等を添加することができる。
【００７４】
本発明の感光性樹脂組成物中における架橋剤の添加量は、前記（Ａ）重合体の合計１００質量部に対し、０．０１〜５０質量部であることが好ましく、０．１〜３０質量部であることがより好ましく、０．５〜２０質量部であることがさらに好ましい。この範囲で添加することにより、機械的強度及び耐溶剤性に優れた硬化膜が得られる。架橋剤は複数を併用することもでき、その場合は架橋剤を全て合算して含有量を計算する。
【００７５】
＜＜＜分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物＞＞＞
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【００７６】
これらは市販品として入手できる。例えば、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５７Ｓ７０、ＪＥＲ１５７Ｓ６５、ＪＥＲ８０６、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ１００７（（株）三菱ケミカルホールディングス製）など、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号０１８９に記載の市販品などが挙げられる。
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することが好ましい。
【００７７】
＜＜＜ブロックイソシアネート化合物＞＞＞
本発明の感光性樹脂組成物では、架橋剤として、ブロックイソシアネート系化合物も好ましく採用できる。ブロックイソシアネート化合物は、ブロックイソシアネート基を有する化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子内に２以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。
本発明の感光性樹脂組成物におけるブロックイソシアネート化合物の母構造としては、ビウレット型、イソシアヌレート型、アダクト型、２官能プレポリマー型等を挙げることができる。
前記ブロックイソシアネート化合物のブロック構造を形成するブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。これらの中でも、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物から選ばれるブロック剤が特に好ましい。
【００７８】
本発明の感光性樹脂組成物に使用できるブロックイソシアネート化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ−５０（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＢ−８３０、Ｂ−８１５Ｎ、Ｂ−８２０ＮＳＵ、Ｂ−８４２Ｎ、Ｂ−８４６Ｎ、Ｂ−８７０Ｎ、Ｂ−８７４Ｎ、Ｂ−８８２Ｎ（以上、三井化学（株）製）、デュラネート１７Ｂ−６０ＰＸ、１７Ｂ−６０Ｐ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｘ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、ＭＦ−Ｂ６０Ｘ、ＭＦ−Ｂ６０Ｂ、ＭＦ−Ｋ６０Ｘ、ＭＦ−Ｋ６０Ｂ、Ｅ４０２−Ｂ８０Ｂ、ＳＢＮ−７０Ｄ、ＳＢＢ−７０Ｐ、Ｋ６０００（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、デスモジュールＢＬ１１００、ＢＬ１２６５  ＭＰＡ／Ｘ、ＢＬ３５７５／１、ＢＬ３２７２ＭＰＡ、ＢＬ３３７０ＭＰＡ、ＢＬ３４７５ＢＡ／ＳＮ、ＢＬ５３７５ＭＰＡ、ＶＰＬＳ２０７８／２、ＢＬ４２６５ＳＮ、ＰＬ３４０、ＰＬ３５０、スミジュールＢＬ３１７５（以上、住化バイエルウレタン（株）製）等を好ましく使用することができる。
【００７９】
＜＜酸化防止剤＞＞
本発明の感光性樹脂組成物は、酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。
このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、アミド類、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤、アミド系酸化防止剤、ヒドラジド系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤が最も好ましい。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合してもよい。
具体例としては、特開２００５−２９５１５号公報の段落番号００２６〜００３１に記載の化合物、特開２００１-２２７１０６号公報の段落番号０１０６〜０１１６に記載の化合物を挙げる事ができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
好ましい市販品として、アデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−３０、アデカスタブＡＯ−４０、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−７０、アデカスタブＡＯ−８０、アデカスタブＡＯ−３３０、イルガノックス１７２６、イルガノックス１０３５、イルガノックス１０９８を挙げる事ができる。
【００８０】
酸化防止剤の含有量は、前記（Ａ）重合体の合計１００質量部に対し、０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．２〜７質量部であることがより好ましく、０．５〜５質量部であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、且つ、パターン形成時の感度も良好となる。
【００８１】
＜感光性樹脂組成物の調製方法＞
本発明の組成物は、各成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解することによって調製することができる。例えば、各成分を、それぞれ予め上述した溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して樹脂組成物を調製することもできる。以上のように調製した組成物溶液は、例えば孔径０．２μｍのフィルター等を用いてろ過した後に、使用することもできる。
【００８２】
［層間絶縁膜］
本発明の層間絶縁膜は、上述した本発明の層間絶縁膜の製造方法により得られた層間絶縁膜であることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物により、絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜が得られる。本発明の感光性樹脂組成物を用いてなる層間絶縁膜は、高い透明性を有し、硬化膜物性に優れるため、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置の用途に有用である。
本発明の層間絶縁膜は、膜厚が１．５〜６．０μｍであることが好ましく、２．０〜４．１μｍであることがより好ましい。
【００８３】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、本発明の層間絶縁膜を具備することを特徴とする。
本発明の液晶表示装置としては、上記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の液晶表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の液晶表示装置が具備するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）の具体例としては、アモルファスシリコン−ＴＦＴ、低温ポリシリコンーＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴ等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのＴＦＴに組み合わせて好ましく用いることができる。
また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶駆動方式としてはＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｓ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）方式などが挙げられる。
パネル構成においては、ＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ  ｏｎ  Ａｌｌａｙ）方式の液晶表示装置でも本発明の硬化膜を用いることができ、例えば、特開２００５−２８４２９１の有機絶縁膜（１１５）や、特開２００５−３４６０５４の有機絶縁膜（２１２）として用いることができる。また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶配向膜の具体的な配向方式としてはラビング配向法、光配向方などが挙げられる。また、特開２００３−１４９６４７号公報や特開２０１１−２５７７３４号公報に記載のＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術によってポリマー配向支持されていてもよい。
また、本発明の感光性樹脂組成物及び本発明の硬化膜は、上記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、カラーフィルターの保護膜や、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルター上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。
図３は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置１０の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置１０は、背面にバックライトユニット１２を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた２枚のガラス基板１４，１５の間に配置されたすべての画素に対応するＴＦＴ１６の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜１７中に形成されたコンタクトホール１８を通して、画素電極を形成するＩＴＯ透明電極１９が配線されている。ＩＴＯ透明電極１９の上には、液晶２０の層とブラックマトリックスを配置したＲＧＢカラーフィルター２２が設けられている。
バックライトの光源としては、特に限定されず公知の光源を用いることができる。例えば白色ＬＥＤ、青色・赤色・緑色などの多色ＬＥＤ、蛍光灯（冷陰極管）、有機ＥＬなどを挙げる事ができる。
また、液晶表示装置は、３Ｄ（立体視）型のものとしたり、タッチパネル型のものとしたりすることも可能である。さらにフレキシブル型にすることも可能であり、特開２０１１−１４５６８６号公報に記載の第２層間絶縁膜（４８）や、特開２００９−２５８７５８号公報に記載の層間絶縁膜（５２０）として用いることができる。
【００８４】
［有機ＥＬ表示装置］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、本発明の硬化膜を具備することを特徴とする。
本発明の有機ＥＬ表示装置としては、上記本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の有機ＥＬ表示装置が具備するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）の具体例としては、アモルファスシリコン−ＴＦＴ、低温ポリシリコンーＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴ等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのＴＦＴに組み合わせて好ましく用いることができる。
図４は、有機ＥＬ表示装置の一例の構成概念図である。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜４を有している。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ3Ｎ4から成る絶縁膜３が形成されている。絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）が絶縁膜３上に形成されている。配線２は、ＴＦＴ１間又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
さらに、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上に平坦化層４が形成されている。
平坦化膜４上には、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子が形成されている。すなわち、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５が、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成されている。また、第一電極５は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
第一電極５の周縁を覆う形状の絶縁膜８が形成されており、この絶縁膜８を設けることによって、第一電極５とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
さらに、図４には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られる。
【００８５】
本発明の感光性樹脂組成物は、硬化性及び硬化膜特性に優れるため、ＭＥＭＳデバイスの構造部材として、本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成されたレジストパターンを隔壁としたり、機械駆動部品の一部として組み込んで使用される。このようなＭＥＭＳ用デバイスとしては、例えばＳＡＷフィルター、ＢＡＷフィルター、ジャイロセンサー、ディスプレイ用マイクロシャッター、イメージセンサー、電子ペーパー、インクジェットヘッド、バイオチップ、封止剤等の部品が挙げられる。より具体的な例は、特表２００７−５２２５３１、特開２００８−２５０２００、特開２００９−２６３５４４等に例示されている。
【００８６】
本発明の感光性樹脂組成物は、平坦性や透明性に優れるため、例えば特開２０１１−１０７４７６号公報の図２に記載のバンク層（１６）及び平坦化膜（５７）、特開２０１０−９７９３号公報の図４（ａ）に記載の隔壁（１２）及び平坦化膜（１０２）、特開２０１０−２７５９１号公報の図１０に記載のバンク層（２２１）及び第３層間絶縁膜（２１６ｂ）、特開２００９−１２８５７７号公報の図４（ａ）に記載の第２層間絶縁膜（１２５）及び第３層間絶縁膜（１２６）、特開２０１０−１８２６３８号公報の図３に記載の平坦化膜（１２）及び画素分離絶縁膜（１４）などの形成に用いることもできる。この他、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタのマイクロレンズにも好適に用いることができる。
【実施例】
【００８７】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【００８８】
以下の合成例において、共重合体の重量平均分子量Ｍｗの測定は、下記の装置及び条件のもと、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によった。
装置：ＧＰＣ−１０１（昭和電工（株）製）
カラム：ＧＰＣ−ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ−８０２、ＧＰＣ−ＫＦ−８０３及びＧＰＣ−ＫＦ−８０４を結合
移動相：テトラヒドロフラン
検出器：示差屈折計
標準物質：単分散ポリスチレン
【００８９】
＜（Ａ）重合体の合成＞
（Ｐ−１の合成）
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部とジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００質量部とを仕込んだ。引き続き、メタクリル酸１２質量部、メタクリル酸グリシジル５０質量部、３−（２−メタクリロイルオキシエチル）オキセタン８質量部、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１０質量部、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル１５質量部、アクリロイルモルホリン５質量部及びペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）２質量部を仕込んで窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、反応溶液温度が７０℃に達した時点で重合開始とした。その後、重合開始から３０分後にＮ−シクロヘキシルマレイミド３質量部、１時間後にＮ−シクロヘキシルマレイミド３質量部を反応溶液に滴下した。その後、３時間保持することによって共重合体（Ｐ−１）を含む重合体溶液を得た。共重合体Ｐ−１のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は９，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．０であった。
他の重合体についても、下記表の記載のモノマー（単量体成分（（ａ１）〜（ａ３）の原料））、重合開始剤、分子量調整剤、溶剤を用いてＰ−１と同様に合成した。
【００９０】
下記表中の特に単位を付していない数値は、質量部を単位とする。
【表１】
2014191298.tif 000010
【００９１】
＜感光性樹脂組成物の作製＞
下記表に記載の固形分比となるように、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、アルコキシシラン化合物及び界面活性剤を溶剤に固形分濃度４０質量％になるまで溶解混合し、口径０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過して、各種実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を得た。
実施例及び比較例に用いた各化合物を示す略号の詳細は、以下の通りである。
【００９２】
＜（Ａ）重合体＞
Ｐ−１〜Ｐ−１２：前記合成例に従って合成した重合体
＜（Ｂ）キノンジアジド化合物＞
Ｂ−１：４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（３．０モル）との縮合物
Ｂ−２：１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）との縮合物
Ｂ−３：２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル（２．４４モル）
＜アルコキシシラン化合物＞
Ｄ−１：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３、信越化学工業（株）製）
＜界面活性剤＞
Ｗ−１：シリコーン系界面活性剤（（株）東レ・ダウコーニング製の「ＳＨ ８４００ ＦＬＵＩＤ」）
Ｗ−２：フッ素系界面活性剤 ＦＴＸ−２１８（（株）ネオス製）
【００９３】
【表２】
2014191298.tif 000011
【００９４】
＜ネガ型現像による改良効果の評価＞
（実施例１〜１４、比較例１、２）
ガラス基板（ＥＡＧＬＥ  ＸＧ、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））を、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）蒸気下に３０秒曝し、前記表に記載の各感光性樹脂組成物をスピンコート塗布した後、９０℃／１２０秒ホットプレート上でプリベークして溶剤を揮発させ、膜厚３．０μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。
次に、感光性樹脂組成物層を、キヤノン（株）製  ＭＰＡ  ５５００ＣＦ（高圧水銀灯）を用いて、所定のマスクを介して露光した。そして、露光後の感光性樹脂組成物層を、酢酸ブチル（分子量：１１６．１６）で２３℃／６０秒間現像（ネガ型現像）した後、超純水で２０秒リンスしてレジストパターンを得た。
【００９５】
また、露光後の感光性樹脂組成物層を、アルカリ性現像液（２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（ＴＭＡＨ水溶液））で２３℃／６０秒間現像（ポジ型現像）したこと以外は同様にしてレジストパターンを得た。
得られた各パターンについて、パターンの断面形状を走査型電子顕微鏡（（株）日立製作所製Ｓ−９２２０）を用いて観察した。１０μｍホール径のパターンを解像する時の最小照射エネルギーを感度とし、この感度を示す照射量における限界解像力（ホールパターンが分離解像する最小ホール径）を解像力とした。
ネガ型現像による改良効果の評価は、以下のように行った。結果を下記表に示す。
Ａ：解像力の差（（ポジ型現像の場合の解像力）−（ネガ型現像の場合の解像力））Ｒが２．５μｍ以上
Ｂ：解像力の差（（ポジ型現像の場合の解像力）−（ネガ型現像の場合の解像力））Ｒが１．５μｍ以上２．５μｍ未満
Ｃ：解像力の差（（ポジ型現像の場合の解像力）−（ネガ型現像の場合の解像力））Ｒが０．５μｍ以上１．５μｍ未満
Ｄ：解像力の差（（ポジ型現像の場合の解像力）−（ネガ型現像の場合の解像力））Ｒが０．５未満
【００９６】
【表３】
2014191298.tif 000012
【００９７】
（実施例１５〜２６）
前記露光後の感光性樹脂組成物層について、現像液の種類、現像液の分子量、現像液のＳＰ値、現像条件を下記表のように変更したこと以外は、前記実施例１〜１４及び比較例１、２と同様にしてレジストパターンを得た。
得られた各パターンについて、実施例１〜１４及び比較例１、２と同様に解像力と、ネガ型現像による改良効果の評価を行った。結果を下記表に示す。
【００９８】
＜限界解像力における露光量の評価＞
実施例１５〜２６で得られた各パターンについて、限界解像力における露光量を評価した。結果を下記表に示す。数値が少ないほど高感度であり製造適性に優れていることを示す。
【００９９】
【表４】
2014191298.tif 000013
【０１００】
前記結果から明らかなとおり、本発明の層間絶縁膜の製造方法によれば、層間絶縁膜の解像力を向上させることができることがわかった。
【０１０１】
＜実施例２７＞
実施例２７は、実施例１において、露光機を、キヤノン（株）製  ＭＰＡ  ５５００ＣＦから、Ｎｉｋｏｎ（株）製ＦＸ−８０３Ｍ（ｇｈ−Ｌｉｎｅ  ステッパ）に変更した以外は同様に行った。感度の評価は実施例１と同レベルであった。
【０１０２】
＜実施例２８＞
実施例２８は、実施例１において、露光機を、キヤノン（株）製  ＭＰＡ  ５５００ＣＦから、３５５ｎｍレーザー露光機に変更して３５５ｎｍレーザー露光を行った以外は同様に行った。ここで、３５５ｎｍレーザー露光機としては、株式会社ブイテクノロジー社製の「ＡＥＧＩＳ」を使用し（波長３５５ｎｍ、パルス幅６ｎｓｅｃ）、露光量はＯＰＨＩＲ社製の「ＰＥ１０Ｂ−Ｖ２」を用いて測定した。
感度の評価は実施例１と同レベルであった。
【０１０３】
＜実施例２９＞
特許第３３２１００３号公報の図１に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、層間絶縁膜として硬化膜１７を以下のようにして形成し、実施例２９の液晶表示装置を得た。すなわち、実施例１の感光性樹脂組成物を用い、層間絶縁膜として硬化膜１７を形成した。
すなわち、特許第３３２１００３号公報の５８段落の基板と層間絶縁膜１７の濡れ性を向上させる前処理として、基板をヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）蒸気下に３０秒曝し、その後、実施例１の感光性樹脂組成物をスピンコート塗布した後、９０℃で２分ホットプレート上でプリベークして溶剤を揮発させ、膜厚３μｍの感光性樹脂組成物層を形成した。次に、得られた感光性樹脂組成物層を、キヤノン（株）製  ＭＰＡ  ５５００ＣＦ（高圧水銀灯）を用いて、１０μｍφのホールパターンのマスクを介して４０ｍＪ／ｃｍ2（エネルギー強度：２０ｍＷ／ｃｍ2、ｉ線）となるよう露光した。そして、露光後の感光性樹脂組成物層を、溶剤を主成分とする現像液（酢酸ブチル）で２３℃／６０秒間パドル現像した後、超純水で２０秒リンスした。続いて超高圧水銀灯を用いて積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ2（エネルギー強度：２０ｍＷ／ｃｍ2、ｉ線）となるように全面露光し、その後、この基板をオーブンにて２３０℃で３０分加熱して硬化膜を得た。
前記感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。
得られた液晶表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い液晶表示装置であることが分かった。
【０１０４】
＜実施例３０＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、基板の前処理であるヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）処理を省いて、実施例１の感光性樹脂組成物を塗布した場合でも、得られた硬化膜として、パターンの欠けや剥がれの無い良好な状態であった。また液晶表示装置としての性能も実施例２９と同様に良好であった。これは本発明に用いられる組成物が基板との密着性に優れるためであると思われる。生産性を向上させる観点では、前記基板の前処理の工程を省くことも好ましい。
【０１０５】
＜実施例３１＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、プリベーク後に減圧乾燥工程（ＶＣＤ）を導入しても、得られた硬化膜として、パターンの欠けや剥がれの無い良好な状態であった。また液晶表示装置としての性能も実施例２９と同様に良好であった。組成物の固形分濃度や膜厚に応じて、塗布ムラを抑制する観点から、減圧乾燥工程を導入することも好ましい。
【０１０６】
＜実施例３２＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、マスク露光してから現像工程の間にＰＥＢ工程を導入しても、得られた硬化膜として、パターンの欠けや剥がれの無い良好な状態であった。また液晶表示装置としての性能も実施例２９と同様に良好であった。寸法安定性を高める観点では、ＰＥＢ工程を導入することも好ましい。
【０１０７】
＜実施例３３＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、溶剤を主成分とする現像液（酢酸ブチル）から（1,3-フ゛チレンク゛リコール）に変更しても、得られた硬化膜として、パターンの欠けや剥がれの無い良好な状態であった。また液晶表示装置としての性能も実施例２８と同様に良好であった。これは本発明に用いられる組成物が基板との密着性に優れるためであると思われる。
【０１０８】
＜実施例３４＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、現像方法をパドル現像からシャワー現像に変更しても、得られた硬化膜として、パターンの欠けや剥がれの無い良好な状態であった。また液晶表示装置としての性能も実施例２９と同様に良好であった。これは本発明に用いられる組成物が基板との密着性に優れるためであると思われる。
【０１０９】
＜実施例３５＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、溶剤を主成分とする現像液（酢酸ブチル）から（2-ノナノン）に変更しても、得られた硬化膜として、パターンの欠けや剥がれの無い良好な状態であった。また液晶表示装置としての性能も実施例２９と同様に良好であった。これは本発明に用いられる組成物が基板との密着性に優れるためであると思われる。
【０１１０】
＜実施例３６＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、現像・リンス後の全面露光の工程を省いて、オーブンにて２３０℃で３０分加熱して硬化膜を得た。得られた液晶表示装置としての性能は実施例２９と同様に良好であった。これは本発明に用いられる組成物が薬品耐性に優れるためであると思われる。生産性を向上させる観点では、全面露光の工程を省くことも好ましい。
【０１１１】
＜実施例３７＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、全面露光の工程とオーブンでの２３０℃／３０分加熱工程の間に、１００℃で３分ホットプレート上で加熱する工程を追加した。得られた液晶表示装置としての性能は実施例２９と同様に良好であった。ホールパターンの形状を整えるという観点で、本工程を追加することも好ましい。
【０１１２】
＜実施例３８＞
実施例２９と以下のプロセスのみ変更して、同様の液晶表示装置を得た。すなわち、現像・リンスの工程と全面露光の工程の間に、１００℃で３分ホットプレート上で加熱する工程を追加した。得られた液晶表示装置としての性能は実施例２９と同様に良好であった。ホールパターンの形状を整えるという観点で、本工程を追加することも好ましい。
【０１１３】
薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を用いた有機ＥＬ表示装置を以下の方法で作製した（図４参照）。
ガラス基板６上にボトムゲート型のＴＦＴ１を形成し、このＴＦＴ１を覆う状態でＳｉ3Ｎ4から成る絶縁膜３を形成した。次に、この絶縁膜３に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してＴＦＴ１に接続される配線２（高さ１．０μｍ）を絶縁膜３上に形成した。この配線２は、ＴＦＴ１間又は、後の工程で形成される有機ＥＬ素子とＴＦＴ１とを接続するためのものである。
【０１１４】
さらに、配線２の形成による凹凸を平坦化するために、配線２による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜３上へ平坦化膜４を形成した。絶縁膜３上への平坦化膜４の形成は、実施例１の感光性樹脂組成物を基板上にスピン塗布し、ホットプレート上でプリベーク（９０℃／１２０秒）した後、マスク上から高圧水銀灯を用いてｉ線（３６５ｎｍ）を４５ｍＪ／ｃｍ2（エネルギー強度２０ｍＷ／ｃｍ2）照射した後、溶剤を主成分とする現像液（酢酸ブチル）にて現像してパターンを形成し、超高圧水銀灯を用いて積算照射量が３００ｍＪ／ｃｍ2（エネルギー強度：２０ｍＷ／ｃｍ2、ｉ線）となるように全面露光し、２３０℃／３０分間の加熱処理を行った。
感光性樹脂組成物を塗布する際の塗布性は良好で、露光、現像、焼成の後に得られた硬化膜には、しわやクラックの発生は認められなかった。さらに、配線２の平均段差は５００ｎｍ、作製した平坦化膜４の膜厚は２，０００ｎｍであった。
【０１１５】
次に、得られた平坦化膜４上に、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を形成した。まず、平坦化膜４上に、ＩＴＯからなる第一電極５を、コンタクトホール７を介して配線２に接続させて形成した。その後、レジストを塗布、プリベークし、所望のパターンのマスクを介して露光し、現像した。このレジストパターンをマスクとして、ＩＴＯエッチャント用いたウエットエッチングによりパターン加工を行った。その後、レジスト剥離液（リムーバ１００、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）を用いて前記レジストパターンを５０℃で剥離した。こうして得られた第一電極５は、有機ＥＬ素子の陽極に相当する。
【０１１６】
次に、第一電極５の周縁を覆う形状の絶縁膜８を形成した。絶縁膜８には、実施例１の感光性樹脂組成物を用い、前記と同様の方法で絶縁膜８を形成した。この絶縁膜８を設けることによって、第一電極５とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
【０１１７】
さらに、真空蒸着装置内で所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設けた。次いで、基板上方の全面にＡｌから成る第二電極を形成した。得られた前記基板を蒸着機から取り出し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止した。
【０１１８】
以上のようにして、各有機ＥＬ素子にこれを駆動するためのＴＦＴ１が接続してなるアクティブマトリックス型の有機ＥＬ表示装置が得られた。駆動回路を介して電圧を印加したところ、良好な表示特性を示し、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置であることが分かった。
【符号の説明】
【０１１９】
１：ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）、２：配線、３：絶縁膜、４：平坦化膜、５：第一電極、６：ガラス基板、７：コンタクトホール、８：絶縁膜、１０：液晶表示装置、１２：バックライトユニット、１４，１５：ガラス基板、１６：ＴＦＴ、１７：硬化膜、１８：コンタクトホール、１９：ＩＴＯ透明電極、２０：液晶、２２：カラーフィルタ、１００：基板、１０１：感光性樹脂組成物、１０２：マスク、１０３：活性光線、１０４：層間絶縁膜、１０４ａ：端部、１０５：感光性樹脂組成物、１０６：層間絶縁膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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