(57)【要約】【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、転写のときに被成形体での微細な気泡の発生を無くすとともに、効率よく転写を行うことができるものを提供する。【解決手段】モールドＭと被成形体Ｗとを真空雰囲気内で貼り合わせる真空貼り合わせ部３と、真空貼り合わせ部３で貼り合わされた状態で搬送されてきた被成形物ＷにモールドＭの微細な転写パターンＭ１を転写する転写部５とを有する転写装置である。【選択図】図１
2014043038.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、
前記モールドと前記被成形体とを真空雰囲気内で貼り合わせる真空貼り合わせ部と、
前記真空貼り合わせ部で貼り合わされた状態で搬送されてきた前記被成形物に前記モールドの微細な転写パターンを転写する転写部と、
を有することを特徴とする転写装置。
【請求項２】
請求項１に記載の転写装置において、
前記モールドはシート状に形成されており、
モールド原反設置部とモールド巻き取り部とを有し、
前記モールドが、前記モールド原反設置部に設置されているモールド原反から前記モールド巻き取り部まで所定の張力で張られて延びるようになっており、
前記真空貼り合わせ部は、前記モールド原反設置部と前記モールド巻き取り部との間で延びているモールドの、前記モールド原反設置部側に設置されており、
前記転写部は、前記モールド原反設置部と前記モールド巻き取り部との間で延びているモールドの、前記モールド巻き取り部側に設置されていることを特徴とする転写装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の転写装置において、
前記転写部は、前記モールドと前記被成形体とを挟み込んで押圧する押圧部と、この押圧部で押圧された前記被成形体の被成形物を硬化する硬化部と、前記硬化部で硬化されることで前記被成形体にくっついている前記モールドを前記被成形体から分離する分離部とを備えて構成されていることを特徴とする転写装置。
【請求項４】
請求項３に記載の転写装置において、
前記転写部は、前記被成形体を保持する被成形体保持体を備えて構成されており、
前記押圧部は、第１のローラを備えて構成されており、前記第１のローラは、前記被成形体保持体に保持されている被成形体とこの被成形体に貼り付いているモールドとを、前記転写をするために前記被成形体保持体と協働して挟み込み、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して相対的に移動することで、前記挟み込んでいる前記モールドと前記被成形体との部位を移動させるように構成されており、
前記分離部は、第２のローラと第３のローラとを備えて構成されており、前記第２のローラは、前記押圧部での押圧がさなれ前記硬化部での硬化がなされた後前記被成形体にくっついている前記モールドを前記被成形体から離すために前記モールドを巻き掛け、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して相対的に移動することで、前記被成形体に設置されている被成形体にくっついているモールドを前記被成形体から剥がすように構成されており、
前記第３のローラは、前記第２のローラに巻き掛けられ前記第２のローラから延出している前記モールドが、前記被成形体保持体に保持されている被成形体から離れるように巻き掛けられ、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して前記第２のローラとともに相対的に移動するように構成されていることを特徴とする転写装置。
【請求項５】
請求項１に記載の転写装置において、
前記転写部は、前記モールドと前記被成形体とを挟み込んで押圧する押圧部と、この押圧部で押圧された前記被成形体の被成形物を硬化する硬化部と、前記押圧部で押圧され前記硬化部で硬化されることで前記被成形体にくっついている前記モールドを前記被成形体から分離する分離部とを備えて構成されており、
前記転写部は、前記被成形体を設置する被成形体設置部を備えて構成されており、
前記押圧部は、第１のローラを備えて構成されており、前記第１のローラは、前記被成形体保持体に保持されている被成形体とこの被成形体に貼り付いているモールドとを、前記転写をするために前記被成形体保持体と協働して挟み込み、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して相対的に移動することで、前記挟み込んでいる前記モールドと前記被成形体との部位を移動させるように構成されており、
前記分離部は、第２のローラと第３のローラとを備えて構成されており、前記第２のローラは、前記押圧部での押圧がさなれ前記硬化部での硬化がなされた後前記被成形体にくっついている前記モールドを前記被成形体から離すために前記モールドを巻き掛け、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して相対的に移動することで、前記被成形体に設置されている被成形体にくっついているモールドを前記被成形体から剥がすように構成されており、
前記第３のローラは、前記第２のローラに巻き掛けられ前記第２のローラから延出している前記モールドが、前記被成形体保持体に保持されている被成形体から離れるように巻き掛けられ、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して前記第２のローラとともに相対的に移動するように構成されていることを特徴とする転写装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の転写装置において、
前記第３のローラには、巻き掛けられた前記モールドの微細な転写パターンの接触を回避するための小径部が形成されていることを特徴とする転写装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の転写装置を用いて微細な転写パターンが形成されたことを特徴とする被成形体。
【請求項８】
モールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写方法において、
前記モールドと前記被成形体とを真空雰囲気内で貼り合わせる真空貼り合わせ工程と、
前記真空貼り合わせ工程で貼り合わされた状態で搬送されてきた前記被成形物に前記シート状のモールドの微細な転写パターンを転写する転写工程と、
を有することを特徴とする転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写装置、被成形体および転写方法に係り、特に、微細な転写パターンを転写するもの（微細な転写パターンが転写されたもの）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターン（微細な転写パターン）を形成して型（モールド）を作製し、被成型品に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（たとえば、非特許文献１参照）。
【０００３】
また、従来、図１５で示すような転写装置３０１が知られている。転写装置３０１は、除振台３０２とベース（基板保持用チャック）３０３と転写部３０５とモールド支持部３０７とを備えて構成されている。
【０００４】
ベース３０３は、除振台３０２に一体的に設けられており、板状の被成形体３０９をたとえば真空吸着によって保持するようになっている。
【０００５】
転写部３０５は、図１５の紙面に直交する方向に延びている中心軸Ｃ１５ａ，Ｃ１５ｂを回転中心にしサーボモータ（図示せず）によって回転する一対のローラ３１１Ａ，３１１Ｂと、この一対のローラ３１１Ａ，３１１Ｂをサーボモータ３１３により上下方向で移動位置決めするローラ駆動部３１５と、紫外線発生装置３１７とを備えて構成されている。
【０００６】
また、転写部３０５（一対のローラ３１１Ａ，３１１Ｂや紫外線発生装置３１７）は、サーボモータを含む駆動装置（図示せず）によって、除振台３０２に対して水平方向（図１５の左右方向）で移動位置決め自在になっている。
【０００７】
モールド支持部３０７で支持されるモールド３２３は、薄い板状に形成されており、厚さ方向の一方の面（図１５では、モールド３２３の下側の面）に微細な転写パターン（図示せず）が形成されている。
【０００８】
モールド支持部３０７は、第１のチャック部３１９と第２のチャック部３２１とを備えて構成されている。
【０００９】
第１のチャック部（モールド保持体）３１９は、除振台３０２の上面近傍でベース３０３の一端（図１５では右端）から側方（図１５では右方）に離れている。そして、モールド３２３の一端（図１５では右端）を把持して保持するようになっている。
【００１０】
第２のチャック部３２１は、除振台３０２の上側でベース３０３の他端（図１５では左端）から側方（図１５では左方）に離れている。第２のチャック部３２１は、モールド保持体３２５と回動支持体３２７と支柱３２９と支柱支持体３３１とを備えて構成されている。
【００１１】
モールド保持体３２５は、モールド３２３の他端部を把持して保持するようになっている。回動支持体３２７は、モールド保持体３２５を支持している。回動支持体３２７に支持されているモールド保持体３２５は、図１５の紙面に直交する方向に延びている軸Ｃ１５ｃを中心にして、回動支持体３２７に対して回動するようになっている。
【００１２】
支柱３２９は、回動支持体３２７を支持している。支柱３２９に支持されている回動支持体３２７は、サーボモータ（図示せず）によって、支柱３２９に対し上下方向で移動位置決めされるようになっている。
【００１３】
支柱３２９は支柱支持体３３１に一体的に設けられている。支柱支持体３３１は、サーボモータ（図示せず）によって、除振台３０２に対し水平方向（図１５では左右方向）で移動位置決めされるようになっている。
【００１４】
次に、転写装置３０１を用いて、モールド３２３の微細な転写パターンを被成形体３０９に転写する場合について説明する。
【００１５】
まず、初期状態では、モールド支持部３０７でモールド３２３が支持されており、ベース３０３に被成形体３０９が設置されており、各ローラ３１１Ａ，３１１Ｂが、ベース３０３の右端から右側に離れている。
【００１６】
また、上記初期状態では、モールド３２３の左右方向の中間部がローラ３１１Ａの下部に巻き掛けられており、上下方向におけるローラ３１１Ａの下端とベース３０３の上面との間の距離は、モールド３２３の厚さと被成形体３０９の厚さの和程度になっている。
【００１７】
また、上記初期状態では、ローラ３１１Ａと第１のチャック部３１９との間でモールド３２３が水平方向に延びており（ローラ３１１Ａよりも右側に位置しているモールド３２３が水平方向に延びており）、ローラ３１１Ａと第２のチャック部３２１との間でモールド３２３が斜め上方に延びている（ローラ３１１Ａよりも左側に位置しているモールド３２３が斜め上方に延びている）。
【００１８】
さらに、上記初期状態では、モールド３２３が、所定の張力を持って緩みの無い状態になっており、図１５の紙面に直交する方向で所定の幅になっており、モールド３２３とベース３０３に設置されている被成形体３０９とは非接触の状態になっている。
【００１９】
上記初期状態から、転写部３０５（各ローラ３１１Ａ，３１１Ｂや紫外線発生装置３１７）を左側に移動して、ローラ３１１Ａ（ローラ３１１Ｂはバックアップローラ）とベース３０３とで協働して被成形体３０９とモールド３２３とを挟み込んで押圧し、紫外線発生装置３１７から被成形体３０９に紫外線を照射して、被成形体３０９（被成形体３０９の紫外線硬化樹脂３３３）にモールド３２３に形成されている微細な転写パターンを転写する。
【００２０】
転写が終了したときには、転写部３０５（各ローラ３１１Ａ，３１１Ｂや紫外線発生装置３１７）は、ベース３０３の左端から左側に離れる。
【００２１】
転写部３０５（各ローラ３１１Ａ，３１１Ｂ）をたとえば右から左に移動するとき、モールド３２３の形態が変化することにあわせて（モールド３２３の張力を一定にしモールド３２３に弛みが発生しないようにする等のために）、回動支持体３２７を支柱３２９に対して上下方向で移動位置決めし、支柱支持体３３１を除振台３０２に対して左右方向で移動位置決めしている。
【００２２】
なお、上記従来の技術に関連する特許文献として、たとえば特許文献１を掲げることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２３】
【特許文献１】特開２０１０−２８００６５号公報
【非特許文献】
【００２４】
【非特許文献１】Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２５】
ところで、従来の転写装置３０１では、転写部３０５を右側から左側に移動し、ローラ３１１Ａとベース３０３とで被成形体３０９とモールド３２３とを挟み込み転写をするのであるが、このときに、空気を巻き込み被成形体３０９に微細な気泡が生成されてしまうおそれがあるという問題がある。
【００２６】
空気の巻き込みを防止する方法として、ローラ３１１Ａ，３１１Ｂの移動速度を極端に遅くすることが考えられる。しかし、この方法では、転写速度が遅くなってしまうという問題がある。転写速度が遅くなることで量産には適さなくなる。
【００２７】
そこで、ローラ３１１Ａ，３１１Ｂやベース３０３等を真空雰囲気内に位置させて転写を行う方法が考えられる。
【００２８】
しかしこの方法では、真空雰囲気を生成した後に転写（各ローラ３１１Ａ，３１１Ｂの移動）をするので、真空雰囲気の生成と転写とを同時に行うことができず、転写の効率が落ちてしまうという問題がある。
【００２９】
さらに、被成形体が大きくなる（たとえば１ｍ×１ｍ以上の大きさになる）と、ローラ３１１Ａ，３１１Ｂやベース３０３等が大型化し真空雰囲気内に設置することも難しくなる。
【００３０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置および転写方法において、転写のときに被成形体での微細な気泡の発生を無くすとともに、効率よく転写を行うことができるものを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００３１】
請求項１に記載の発明は、モールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、前記モールドと前記被成形体とを真空雰囲気内で貼り合わせる真空貼り合わせ部と、前記真空貼り合わせ部で貼り合わされた状態で搬送されてきた前記被成形物に前記モールドの微細な転写パターンを転写する転写部とを有する転写装置である。
【００３２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の転写装置において、前記モールドはシート状に形成されており、モールド原反設置部とモールド巻き取り部とを有し、前記モールドが、前記モールド原反設置部に設置されているモールド原反から前記モールド巻き取り部まで所定の張力で張られて延びるようになっており、前記真空貼り合わせ部は、前記モールド原反設置部と前記モールド巻き取り部との間で延びているモールドの、前記モールド原反設置部側に設置されており、前記転写部は、前記モールド原反設置部と前記モールド巻き取り部との間で延びているモールドの、前記モールド巻き取り部側に設置されている転写装置である。
【００３３】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の転写装置において、前記転写部は、前記モールドと前記被成形体とを挟み込んで押圧する押圧部と、この押圧部で押圧された前記被成形体の被成形物を硬化する硬化部と、前記硬化部で硬化されることで前記被成形体にくっついている前記モールドを前記被成形体から分離する分離部とを備えて構成されている転写装置である。
【００３４】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の転写装置において、前記転写部は、前記被成形体を保持する被成形体保持体を備えて構成されており、前記押圧部は、第１のローラを備えて構成されており、前記第１のローラは、前記被成形体保持体に保持されている被成形体とこの被成形体に貼り付いているモールドとを、前記転写をするために前記被成形体保持体と協働して挟み込み、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して相対的に移動することで、前記挟み込んでいる前記モールドと前記被成形体との部位を移動させるように構成されており、前記分離部は、第２のローラと第３のローラとを備えて構成されており、前記第２のローラは、前記押圧部での押圧がさなれ前記硬化部での硬化がなされた後前記被成形体にくっついている前記モールドを前記被成形体から離すために前記モールドを巻き掛け、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して相対的に移動することで、前記被成形体に設置されている被成形体にくっついているモールドを前記被成形体から剥がすように構成されており、前記第３のローラは、前記第２のローラに巻き掛けられ前記第２のローラから延出している前記モールドが、前記被成形体保持体に保持されている被成形体から離れるように巻き掛けられ、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して前記第２のローラとともに相対的に移動するように構成されている転写装置である。
【００３５】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の転写装置において、前記転写部は、前記モールドと前記被成形体とを挟み込んで押圧する押圧部と、この押圧部で押圧された前記被成形体の被成形物を硬化する硬化部と、前記押圧部で押圧され前記硬化部で硬化されることで前記被成形体にくっついている前記モールドを前記被成形体から分離する分離部とを備えて構成されており、前記転写部は、前記被成形体を設置する被成形体設置部を備えて構成されており、前記押圧部は、第１のローラを備えて構成されており、前記第１のローラは、前記被成形体保持体に保持されている被成形体とこの被成形体に貼り付いているモールドとを、前記転写をするために前記被成形体保持体と協働して挟み込み、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して相対的に移動することで、前記挟み込んでいる前記モールドと前記被成形体との部位を移動させるように構成されており、前記分離部は、第２のローラと第３のローラとを備えて構成されており、前記第２のローラは、前記押圧部での押圧がさなれ前記硬化部での硬化がなされた後前記被成形体にくっついている前記モールドを前記被成形体から離すために前記モールドを巻き掛け、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して相対的に移動することで、前記被成形体に設置されている被成形体にくっついているモールドを前記被成形体から剥がすように構成されており、前記第３のローラは、前記第２のローラに巻き掛けられ前記第２のローラから延出している前記モールドが、前記被成形体保持体に保持されている被成形体から離れるように巻き掛けられ、中心軸を回転中心にして回転し前記被成形体保持体に対して前記第２のローラとともに相対的に移動するように構成されている転写装置である。
【００３６】
請求項６に記載の発明は、請求項４または請求項５に記載の転写装置において、前記第３のローラには、巻き掛けられた前記モールドの微細な転写パターンの接触を回避するための小径部が形成されている転写装置である。
【００３７】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の転写装置を用いて微細な転写パターンが形成された被成形体である。
【００３８】
請求項８に記載の発明は、モールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写方法において、前記モールドと前記被成形体とを真空雰囲気内で貼り合わせる真空貼り合わせ工程と、前記真空貼り合わせ工程で貼り合わされた状態で搬送されてきた前記被成形物に前記シート状のモールドの微細な転写パターンを転写する転写工程とを有する転写方法である。
【発明の効果】
【００３９】
本発明によれば、シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置および転写方法において、転写のときに被成形体での微細な気泡の発生を無くすとともに、効率よく転写を行うことができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の実施形態に係る転写装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係る転写装置の真空貼り合わせ部の概略構成を示す図である。
【図３】発明の実施形態に係る転写装置の転写部の概略構成を示す図である。
【図４】図１におけるＩＶ−ＩＶ矢視図である。
【図５】図１におけるＶ−Ｖ矢視図である。
【図６】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図８】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図９】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図１４】転写について説明する図である。
【図１５】従来の転写装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
本発明の実施形態に係る転写装置１は、シート状（薄い板状）のモールド（型）Ｍの厚さ方向の一方の面に形成されている微細な転写パターンＭ１をシート状（薄い板状）の被成形体Ｗに転写する装置であり（図１４参照）、真空貼り合わせ部３と転写部５とを備えて構成されている（図１参照）。
【００４２】
ここで、説明の便宜のために水平な一方向をＸ軸方向とし、水平な他の一方向であってＸ軸方向に対して直交する方向をＹ軸方向とし、Ｘ軸方向とＹ軸方向とに対して直交する上下方向をＺ軸方向とする。
【００４３】
真空貼り合わせ部３は、モールドＭと被成形体Ｗとを真空雰囲気内（真空の環境下）で貼り合わせるものである。
【００４４】
転写部５は、真空貼り合わせ部３から離れて真空貼り合わせ部３とは別個に設置されており、真空貼り合わせ部３で貼り合わされた状態で搬送されてきたシート状のモールドＭと被成形体Ｗとを押圧するとともに被成形体Ｗの被成形物Ｗ１を硬化することで、被成形物Ｗ１にシート状のモールドＭの微細な転写パターンＭ１を転写するものである。
【００４５】
なお、微細な転写パターンが転写された被成形体Ｗ（図１４（ｂ）参照）は、たとえば、導光板、光学フィルタ等の光学素子として使用される。
【００４６】
シート状のモールドＭの微細な転写パターンＭ１は、ピッチや高さが、たとえば可視光線の波長程度である凹凸で形成されている。転写によって、モールドＭに形成されている転写パターンＭ１が被成形体Ｗに転写され、モールドＭに形成されている転写パターンＭ１とは逆形態の転写パターンＷ２が被成形体Ｗに形成されるようになっている。
【００４７】
シート状のモールドＭは、シート状の基材（モールド用基材）Ｍ２と転写パターン形成体Ｍ３とで構成されている。
【００４８】
シート状のモールド用基材Ｍ２は、たとえば、紫外線が透過可能なＰＥＴ樹脂等の樹脂材料で板状に形成されている。
【００４９】
微細な転写パターンＭ１が形成されている転写パターン形成体Ｍ３は、たとえば、紫外線が透過可能な硬化した紫外線硬化樹脂（熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等の他の樹脂であってもよい。）で薄い膜状に形成されている。転写パターン形成体Ｍ３は、この厚さ方向がモールド用基材Ｍ２の厚さ方向と一致するようにして、シート状のモールド用基材Ｍ２の厚さ方向の一方の面でモールド用基材Ｍ２に一体に設けられている。
【００５０】
また、シート状のモールドＭは、可撓性を備えている。さらに説明すると、シート状のモールドＭは、この厚さ方向に対して直交する方向の引張り力が加えられても弾性変形をほとんどせずほぼ剛体とみなせるが、紙幣等のように厚さ方向でめくれるような変形（厚さ方向に対して直交する方向に延伸している軸まわりのモーメントによる変形）を容易にするようになっている。したがって、モールドＭは、この厚さ方向が円柱状のローラの径方向と一致して、ローラの外周に容易に巻き付くことができるようになっている。
【００５１】
真空貼り合わせ部３は、被成形体ＷがモールドＭから離れている状態で、被成形体ＷとモールドＭとを真空雰囲気内に位置させ、この真空雰囲気を維持したまま、被成形体ＷをモールドＭに相対的に近づけ、被成形体Ｗの被成形物Ｗ１を、モールドＭの微細な転写パターンＭ１に接触させ後、真空雰囲気を大気圧にするように構成されている。
【００５２】
また、転写装置１には、モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９が設けられている。モールドＭは、モールド原反設置部７に設置されているモールド原反（巻き出しロール）１１からモールド巻き取り部９（巻き取りロール１３）まで所定の張力で張られて、シート状（板状）になって延びるようになっている。
【００５３】
真空貼り合わせ部３は、モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９との間でシート状になって延びているモールドＭの、モールド原反設置部７側に設置されている。
【００５４】
転写部５は、モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９との間でシート状になって延びているモールドＭの、モールド巻き取り部９側に設置されている。
【００５５】
モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９との間で、平板状になっているシート状モールド（平板状のシート状モールド）Ｍには、この長手方向（モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９とをお互いにむすぶたとえば水平な方向；Ｘ軸方向）で所定の張力がかかっている。これによって、平板状の形態を保つようになっている。微細な転写パターンＭ１は、図６〜図１３では図示してはいないが、平板状のシート状モールドＭの下面に形成されている（図１等参照）。
【００５６】
モールド原反（反物状のモールド）１１は、転写に使用される前のロール状のモールドＭである。モールド原反１１は、シート状のモールドＭを、円柱状の芯材の外周に、この外周の周方向とシート状のモールドＭの長手方向とがお互いに一致するようにして巻き重ね、円筒状もしくは円柱状に形成されている。
【００５７】
モールド巻き取り部９で巻き取られた巻き取り済みモールドＭ（巻き取りロール１３）は、転写に使用されたモールドＭであり、モールド原反１１と同様にしてロール状になっている。
【００５８】
モールド原反設置部７に設置されているモールド原反１１は、この中心軸（たとえば水平なＹ軸方向に延びている軸；図１等の紙面に直交する方向に延出している軸）Ｃ１を回転中心にして回転するようになっている。モールド巻き取り部９で巻き取られる巻き取り済みモールドＭ（巻き取りロール１３）も、この中心軸（Ｙ軸方向に延びている軸）Ｃ２を回転中心にして回転するようになっている。
【００５９】
転写部５は、モールドＭと被成形体Ｗとを挟み込んで押圧する押圧部１５と、この押圧部１５で押圧された被成形体Ｗの被成形物Ｗ１を硬化する硬化部１７と、押圧部１５で押圧され硬化部１７で硬化されることで被成形体ＷにくっついているモールドＭを被成形体Ｗから分離する分離部１９と、被成形体Ｗを設置する被成形体設置部（被成形体保持体）２１とを備えて構成されている。
【００６０】
押圧部１５は、第１のローラ２３を備えて構成されている。第１のローラ２３は、円柱状に形成されている。第１のローラ２３は、被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗとこの被成形体Ｗに貼り付いているモールドＭとを、転写をするために被成形体保持体２１と協働して挟み込むようになっている。そして、第１のローラ２３は、Ｙ軸方向に延びている中心軸Ｃ３を回転中心にして回転し、被成形体保持体２１に対して相対的にＸ軸方向に移動することで、挟み込んでいるモールドＭと被成形体Ｗとの部位を移動させるように構成されている。
【００６１】
分離部１９は、第２のローラ２５と第３のローラ２７とを備えて構成されている。第２のローラ２５は、円柱状に形成されている。第２のローラ２５には、押圧部１５での押圧がなされ硬化部１７での硬化がなされた後被成形体ＷにくっついているモールドＭを被成形体Ｗから離すためにモールドＭが巻き掛けられるようになっている。そして、第２のローラ２５は、第１のローラ２３と平行な中心軸Ｃ４を回転中心にして、第１のローラ２３と同期して回転し、被成形体保持体２１に対して相対的にＸ軸方向に移動することで、被成形体保持体２１に設置されている被成形体ＷにくっついているモールドＭを被成形体Ｗから剥がすように構成されている。
【００６２】
第３のローラ２７も、円柱状に形成されおり、モールドＭが巻き掛けられるように構成されており、たとえば、第２のローラ２５よりもＺ軸方向で被成形体保持体２１から離れている。
【００６３】
第３のローラ２７には、第２のローラ２５に巻き掛けられ第２のローラ２５から延出しているモールドＭ（第２のローラ２５から延出しているモールドＭの長手方向の他方の側）が、被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗから離れるように巻き掛けられる。
【００６４】
そして、第３のローラ２７は、第２のローラ２５の中心軸Ｃ４と平行な中心軸Ｃ５を回転中心にして、第２のローラ２５と同期して回転し、被成形体保持体２１に対して第２のローラ２５とともに相対的に移動するように構成されている。
【００６５】
さらには、第２のローラ２５と第３のローラ２７とは、被成形体保持体２１に対し第１のローラ２３とともに相対的に移動するように構成されている。第１のローラ２３と第２のローラ２５と第３のローラ２７とは、これらが移動してもお互いの中心軸Ｃ３，Ｃ４，Ｃ５の位置関係が常に一定になっている。
【００６６】
また、第３のローラ２７には、巻き掛けられたモールドＭの微細な転写パターンＭ１の接触を回避するための小径部２９が形成されている（図５参照）。
【００６７】
転写装置１に設置されているモールドＭにおける、真空貼り合わせ部３側モールド部位Ｍ４と反真空貼り合わせ部側モールド部位Ｍ５とは、お互いが平行になっている。
【００６８】
真空貼り合わせ部３側モールド部位Ｍ４は、第２のローラ２５から第１のローラ２３と真空貼り合わせ部３とを通って真空貼り合わせ部３を超えた所定の箇所まで平板状になって延伸している（第２のローラ２５から左側に延伸している）部位である。
【００６９】
反真空貼り合わせ部側モールド部位Ｍ５は、第３のローラ２７から平板状になって延伸している（第３のローラ２７から右側に伸している）部位である。
【００７０】
ところで、転写パターン形成体Ｍ３の微細な転写パターンＭ１は、転写パターン形成体Ｍ３の表面（厚さ方向における一方の面であって、モールド用基材Ｍ２に接している面とは反対の面）に形成されている。なお、転写パターン形成体Ｍ３の微細な転写パターンＭ１は、図示しないマスターモールドに形成されている微細な転写パターンを転写することで生成されたものである。
【００７１】
モールド用基材Ｍ２は、たとえば、長い矩形な板状（帯板状）に形成されている。モールド用基材Ｍ２の幅寸法（従来のモールド３２３と同様な幅寸法）はモールド用基材Ｍ２の厚さ寸法に比べてかなり大きくなっており、モールド用基材Ｍ２の長さ寸法は、モールド用基材Ｍ２の幅寸法に比べてかなり大きくなっている。
【００７２】
転写パターン形成体Ｍ３も、たとえば、矩形な板状に形成されている。転写パターン形成体Ｍ３は、幅方向がモールド用基材Ｍ２の幅方向と一致し、長さ方向がモールド用基材Ｍ２の長さ方向と一致するようにしてモールド用基材Ｍ２に設けられている。
【００７３】
また、転写パターン形成体Ｍ３は、モールド用基材Ｍ２の長さ方向で所定の間隔をあけて断続的に複数設けられている。なお、転写パターン形成体Ｍ３がモールド用基材Ｍ２の長さ方向で連続して設けられていてもよい。転写パターン形成体Ｍ３の幅寸法は、モールド用基材Ｍ２の幅寸法よりも狭くなっている。
【００７４】
モールド用基材Ｍ２の一部には、転写パターン形成体Ｍ３が非存在な部位が、モールド用基材Ｍ２の長手方向に連続して延びて形成されている。たとえば、転写パターン形成体Ｍ３の幅寸法がモールド用基材Ｍ２の幅寸法よりも狭くなっていることで、モールドＭ（モールド用基材Ｍ２）の幅方向に両端部に、モールド用基材Ｍ２のみになっている部位（基材端部部位）３１が形成されている（図５参照）。
【００７５】
被成形体Ｗは、基材（被成形体用基材）Ｗ３と被成形物Ｗ１とを備えて構成されている。
【００７６】
シート状の被成形体用基材Ｗ３は、たとえば、ＰＥＴ樹脂等の樹脂材料で板状に形成されている。シート状のモールドＭの微細な転写パターンＭ１が転写されて形成される被成形物Ｗ１は、たとえば、紫外線硬化樹脂（熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等の他の樹脂であってもよい。）で薄い膜状に形成されている。
【００７７】
被成形体用基材Ｗ３は、たとえば矩形な板状に形成されている。被成形体用基材Ｗ３の幅寸法は、モールド用基材Ｍ２の幅寸法と同程度になっており、被成形体用基材Ｗ３の長さ寸法は、シート状のモールド用基材Ｍ２に断続的に設けられている１つの転写パターン形成体Ｍ３の長さ寸法よりも僅かに大きくなっている。
【００７８】
被成形物Ｗ１も矩形な板状になって設けられている。被成形物Ｗ１は、この厚さ方向が被成形体用基材Ｗ３の厚さ方向と一致するようにして、シート状の被成形体用基材Ｗ３の厚さ方向の一方の面で被成形体用基材Ｗ３に設けられている。また、被成形物Ｗ１は、幅方向が被成形体用基材Ｗ３の幅方向と一致しており、長さ方向が被成形体用基材Ｗ３の長さ方向と一致している。被成形物Ｗ１の幅寸法は、被成形体用基材Ｗ３の幅寸法と同程度になっており、被成形物Ｗ１の長さ寸法は、シート状のモールド用基材Ｍ２に断続的に設けられている１つの転写パターン形成体Ｍ３の長さ寸法と同程度になっている。
【００７９】
被成形物Ｗ１の微細な転写パターンＷ２は、被成形物Ｗ１の表面（厚さ方向における一方の面であって、被成形体用基材Ｗ３に接している面とは反対の面）に形成されるようになっている。
【００８０】
被成形物Ｗ１が紫外線硬化樹脂や熱硬化性樹脂である場合、モールドＭの微細な転写パターンＭ１が転写される前の被成形物（未硬化の樹脂）Ｗ１は、液体状もしくは流動体状になっている。転写がなされるときに、被成形物Ｗ１が硬化し、転写終了時には、被成形物Ｗ１は硬化している。
【００８１】
被成形体保持体２１は、たとえば、矩形な平板状に形成されており、被成形体Ｗを保持するための平面（厚さ方向の一方の面；上面；被成形体設置面）３３を備えている。被成形体Ｗは、この裏面（被成形体用基材Ｗ３の厚さ方向の一方の面であって被成形物Ｗ１が設けられている面とは反対側の面）の全面が、被成形体保持体２１の被成形体設置面３３に面接触し、たとえば真空吸着によって、被成形体保持体２１に保持されるようになっている。
【００８２】
被成形体保持体２１に設置された被成形体Ｗは、この幅方向、長さ方向が被成形体保持体２１の幅方向、長さ方向と一致している。
【００８３】
第１のローラ２３の外径と第２のローラ２５の外径と第３のローラ２７の外径はお互いがほぼ等しくなっており、第１のローラ２３の長さ（幅）と第２のローラ２５の長さ（幅）と第３のローラ２７の長さ（幅）とはお互いがほぼ等しくなっている。
【００８４】
第１のローラ２３の幅寸法は、被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗの幅寸法よりも大きくなっている。第１のローラ２３の軸Ｃ１の延伸方向（幅方向；Ｙ軸方位王）は、被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗの幅方向と一致しており、第１のローラ２３の幅方向の中心と、被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗの幅方向の中心とは、お互いが一致している。
【００８５】
また、第１のローラ２３は、被成形体保持体２１の被成形体設置面３３に直交する方向（Ｚ軸方向）で移動位置決め自在になっている。
【００８６】
第１のローラ２３が、モールドＭと被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗとを被成形体保持体２１と協働して挟み込んでいるとき、第１のローラ２３の中心軸Ｃ３と被成形体設置面３３との間の距離は、第１のローラ２３の半径とモールドＭの厚さと被成形体Ｗの厚さとの和とほぼ等しいか、ごく僅かに小さくなっている。これによって上述した挟み込みがなされるようになっている。
【００８７】
第１のローラ２３で挟まれているモールドＭの幅方向と、第１のローラ２３の幅方向とはお互いに一致しており、第１のローラ２３で挟まれているモールドＭの幅方向の中心と、第１のローラ２３の幅方向の中心とはお互いがほぼ一致している。
【００８８】
第１のローラ２３が、モールドＭと被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗとを被成形体保持体２１と協働して挟み込んでいるとき、モールドＭは、第１のローラ２３の１本の母線（Ｙ軸方向の延びている母線）のところで、第１のローラ２３に接触している。
【００８９】
すなわち、第１のローラ２３に接触しているモールドＭは、モールド用基材Ｍ２の裏面（厚さ方向の他方の面であって転写パターン形成体Ｍ３が設けられている面とは反対側の面）が、第１のローラ２３の外周に接触しており、この接触している部位は、Ｙ軸軸方向の延びた直線的状になっている。
【００９０】
第２のローラ２５は、Ｘ軸方向で第１のローラ２３を間にして真空貼り合わせ部３とは反対側に位置しており、第２のローラ２５の中心軸Ｃ４は、第１のローラ２３の中心軸Ｃ３と平行になっている。
【００９１】
第２のローラ２５の幅方向の中心と、被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗの幅方向の中心とは、お互いが一致している。
【００９２】
また、第２のローラ２５は、第１のローラ２３とともに被成形体保持体２１の被成形体設置面３３に直交する方向（Ｚ軸方向）で移動位置決め自在になっている。
【００９３】
第１のローラ２３が、モールドＭと被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗとを被成形体保持体２１と協働して挟み込んでいるとき、第２のローラ２５の中心軸Ｃ４と被成形体設置面３３との間の距離も、第１のローラ２３の場合と同様にして、第２のローラ２５の半径とモールドＭの厚さと被成形体Ｗの厚さとの和とほぼ等しいか、ごく僅かに小さくなっている。
【００９４】
第３のローラ２７の幅方向の中心と、被成形体保持体２１に保持されている被成形体Ｗの幅方向の中心とは、お互いが一致している。
【００９５】
また、第３のローラ２７も、第１のローラ２３や第２のローラ２５とともに被成形体保持体２１の被成形体設置面３３に直交する方向（Ｚ軸方向）で移動位置決め自在になっている。
【００９６】
モールドＭは、第２のローラ２５に半周程度に巻き掛けられ、第３のローラ２７も半周程度に巻き掛けられようになっている。
【００９７】
第２のローラ２５に巻き掛けられているモールドＭは、モールド用基材Ｍ２の裏面（厚さ方向の他方の面であって転写パターン形成体Ｍ３が設けられている面とは反対側の面）が、第２のローラ２５の外周に面接触している。
【００９８】
第３のローラ２７に巻き掛けられているモールドＭは、モールド用基材Ｍ２の表面（厚さ方向一方の面であって転写パターン形成体Ｍ３が設けられている面）が、第３のローラ２７側に位置している。
【００９９】
第２のローラ２５に巻き掛けられ第２のローラ２５から延出しているモールドＭの長手方向（Ｘ軸方向）の他方の側（第１のローラ２３側；図１では左側）は、被成形体設置面３３から僅かに離れ（被成形体Ｗの厚さ程度離れ）、被成形体設置面３３と平行になって、被成形体保持体２１の長さ方向の一端側（真空貼りあわせ部３側）に延出している。
【０１００】
第３のローラ２７は、Ｚ軸方向で、たとえば、第２のローラ２５を間にして、被成形体保持体２１とは反対側に位置している。そして、被成形体設置面３３に対して直交する方向（Ｚ軸方向）から見ると、第２のローラ２５と第３のローラ２７とはお互いが重なっている。
【０１０１】
第２のローラ２５に巻き掛けられ第２のローラ２５から延出しているモールドＭの長手方向の他方の側は、第３のローラ２７に半周程度に巻き掛けられている。なお、第２のローラ２５や第３のローラ２７の中心軸Ｃ４，Ｃ５の延伸方向から見ると、第２のローラ２５と第３のローラ２７とに巻き掛けられているモールドＭの部位は、「Ｓ」字状もしくは逆「Ｓ」字状になっている。
【０１０２】
第２のローラ２５の中心軸Ｃ４および第３のローラ２７の中心軸Ｃ５の、第１のローラ２３の中心軸Ｃ３に対する位置関係は常に一定であり、第２のローラ２５および第３のローラ２７は、第１のローラ２３といっしょになって、被成形体保持体２１の被成形体設置面３３に直交する方向（Ｚ軸方向）で移動位置決め自在になっている。
【０１０３】
第３のローラ２７から延出しているモールドＭ（反真空貼り合わせ部側モールド部位Ｍ５）は、第２のローラ２５から延出しているモールドＭ（真空貼り合わせ部側モールド部位Ｍ４）と平行になっている。
【０１０４】
すなわち、第２のローラ２５から延出しているモールドＭ（Ｍ４）の厚さ方向と、第３のローラ２７から延出しているモールドＭの厚さ方向とはお互いが一致しており、第２のローラ２５から延出しているモールドＭ（Ｍ５）の長さ方向と、第３のローラ２７から延出しているモールドＭの長さ方向とはお互いが一致している。
【０１０５】
また、第３のローラ２７から延出しているモールドＭ（Ｍ５）と被成形体保持体２１との間の距離（Ｚ軸方向の寸法）は、第２のローラ２５の直径と第３のローラ２７の直径との和よりも僅かに大きくなっている。
【０１０６】
各ローラ（第１のローラ２３および第２のローラ２５および第３のローラ２７）は、すでに理解されるように、被成形体Ｗの長手方向（Ｘ軸方向）でも被成形体保持体２１に対して相対的に移動自在になっている。すなわち、各ローラ２３，２５，２７は、被成形体保持体２１の長手方向で、被成形体保持体２１の長手方向の一端から僅かに離れた位置（図１３参照）と、被成形体保持体２１の長手方向の他端から僅かに離れた位置（図６等参照）との間で、移動するようになっている。
【０１０７】
被成形体保持体２１に被成形体Ｗが設置され、モールドＭが各ローラ２３，２５，２７に巻き掛けられ、第１のローラ２３が被成形体設置面３３に対して直交する方向（Ｚ軸方向）で、被成形体設置面３３から被成形体Ｗの厚さとモールドＭの厚さとの和程度の距離（転写をするための距離）だけ離れており、各ローラ２３，２５，２７が被成形体保持体２１の長手方向の他端から僅かに離れたところに位置している状態（初期状態）では、図６に示すように、第１のローラ２３から図６の左側に延出しているモールドＭが、被成形体保持体２１の真上に位置しており、第３のローラ２７から図６の右側に延出しているモールドＭが被成形体保持体２１から離れている。
【０１０８】
すなわち、上記初期状態を被成形体設置面３３に対して直交する方向（Ｚ軸方向）から見ると、第１のローラ２３から延出しているモールドＭの部位が、被成形体設置面３３と重なっており、第３のローラ２７（第２のローラ２５）から延出しているモールドＭの部位は、被成形体設置面３３から右側に離れている。
【０１０９】
上記初期状態から、各ローラ２３，２５，２７が被成形体保持体２１の長手方向の一端側（図６や図１１の左側）に移動すると、第１のローラ２３と被成形体保持体２１とで挟み込んでいるモールドＭと被成形体Ｗとの部位（被成形体保持体２１の幅方向に延びている直線状の部位）が、右側から左側に向かって移動するようになっている（図１２参照）。このとき、各ローラ２３，２５，２７とモールドＭとの間、モールドＭと被成形体Ｗとの間には、当然に滑りは発生していない。また、第１のローラ２３、第２のローラ２５は、モールドＭを間にし、被成形体保持体２１に設置された被成形体Ｗに対して、ころがり対偶をなしている。
【０１１０】
また、被成形体Ｗの被成形物Ｗ１が、紫外線硬化樹脂である場合、被成形物Ｗ１を硬化させるための紫外線発生装置３５が設けられている。紫外線発生装置３５は、第１のローラ２３と第２のローラ２５との間に設けられており、各ローラ２３，２５，２７とともに移動位置決めされるようになっている。そして、第１のローラ２３と被成形体保持体２１とが被成形体ＷとモールドＭとを挟み込んでいるところの近傍で、被成形体Ｗの被成形物Ｗ１を硬化させ、モールドＭの微細な転写パターンＭ１が被成形体Ｗに転写されるようになっている。
【０１１１】
すなわち、各ローラ２３，２５，２７を移動しているときに、第１のローラ２３の後側（被成形体保持体２１の長手方向の他端側）でモールドＭを通して被成形体Ｗの被成形物Ｗ１に紫外線発生装置３５が発した紫外線を照射し、被成形物Ｗ１を右側から左側に向かって順に硬化するようになっている。
【０１１２】
また、各ローラ２３，２５，２７を移動しているときに、紫外線発生装置３５の後側に位置している第２のローラ２５と第３のローラ２７とで、被成形体保持体２１に保持されている被成形体ＷにくっついているモールドＭを巻き取り、モールドＭを被成形体Ｗから引き剥がすようになっている。
【０１１３】
ここで、転写装置１についてさらに詳しく説明する。転写装置１は、ベース体３７を備えている。
【０１１４】
転写部５には、図３等で示すように、除振台３９が設けられている。除振台３９は、ベース体３７の上側でベース体３７に一体的に設けられている。
【０１１５】
被成形体保持体２１は、除振台３９の上面で除振台３９に一体的に設けられている。
【０１１６】
被成形体保持体２１には、リフトピン４１が設けられている。リフトピン４１は、図示しない制御装置（ＣＰＵを備えて構成された制御装置）の制御の下、図示しない空気圧シリンダ等のアクチュエータでＺ軸方向に移動するようになっている。
【０１１７】
リフトピン４１が下方に位置しているとき、リフトピン４１は、被成形体保持体２１内に埋没している。リフトピン４１が上方に位置しているとき、リフトピン４１は、被成形体保持体２１の被成形体設置面３３から上方に突出している。
【０１１８】
除振台３９の上方には、支柱４３と下側支柱保持体（図示せず）と上側支柱保持体４５とが設けられている。支柱４３と下側支柱保持体と上側支柱保持体４５とは一体化している。下側支柱保持体（支柱４３、上側支柱保持体４５）は、図示しないリニアガイドベアリングを介して除振台３９に支持されており、Ｘ軸方向で除振台３９に対して移動するようになっている。
【０１１９】
また、下側支柱保持体（支柱４３、上側支柱保持体４５）は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータやボールネジによって、制御装置の制御の下、除振台３９（被成形体保持体２１）に対してＸ軸方向で移動位置決めされるようになっている。
【０１２０】
支柱４３には、リニアガイドベアリング４７を介して移動体４９が支持されている。移動体４９は、Ｚ軸方向で支柱４３対して移動するようになっている。また、移動体４９は、サーボモータ５１等のアクチュエータとボールネジ５３によって、制御装置の制御の下、支柱４３（除振台３９、被成形体保持体２１）に対してＺ軸方向で移動位置決めされるようになっている。
【０１２１】
移動体４９には、ローラ支持体５５が一体的に設けられており、ローラ支持体５５が各ローラ２３，２５，２７を回転自在に支持している。これにより、各ローラ２３，２５，２７は、X軸方向およびＺ軸方向で被成形体保持体２１に対して移動位置決め自在になっている。
【０１２２】
なお、各ローラ２３，２５，２７は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータで回転するようになっているが、ローラ支持体５５が各ローラ２３，２５，２７をフリーの状態で回転自在に支持している構成であってもよい。
【０１２３】
また、ローラ支持体５５には、紫外線発生装置３５が一体的に設けられている。
【０１２４】
なお、下側支柱保持体（支柱４３、上側支柱保持体４５）を移動位置決めすることに代えてもしくは加えて、被成形体保持体２１を除振台３９に対して移動位置決めするように構成されていてもよい。
【０１２５】
モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９とは、ベース体３７に設けられている。モールド原反設置部７と真空貼り合わせ部３との間には、モールドＭが巻き掛けられるガイドローラ５７Ａ〜５７Ｄが設けられている。なお、ガイドローラ５７Ｂは、ダンサローラであり、Ｚ軸方向で移動位置決めされるようになっている。また、ガイドローラ５７Ｃ，５７Ｄは、ガイドローラ５７Ｃ，５７Ｄと第１ローラ２３との間でモールドＭが水平に展開するように、たとえば、第１ローラ２３のＺ軸方向の移動位置決めに応じて、Ｚ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【０１２６】
第３のローラ２７とモールド巻き取り部９との間には、Ｚ軸方向で移動位置決め自在なガイドローラ５９が設けられており、第３のローラ２７とガイドローラ５９との間でモールドＭが水平に展開するようになっている。
【０１２７】
次に、真空貼り合わせ部３について説明する。
【０１２８】
真空貼り合わせ部３には、図２等で示すように、下テーブル６１が設けられている。下テーブル６１は、ベース体３７の上側でベース体３７に一体的に設けられている。
【０１２９】
下テーブル６１の上側には被成形体載置体（基板ステージ）６３が設けられている。被成形体載置体６３の上面には、被成形体保持体２１の場合と同様にして、被成形体Ｗが一体的に設置されるようになっている。
【０１３０】
被成形体載置体６３は、ガイドロッド６５とリニアガイドベアリング６７とによって、下テーブル６１に支持されており、シリンダ６８等のアクチュエータにより、制御装置の制御の下、下テーブル６１に対してＺ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【０１３１】
被成形体載置体６３には、リフトピン６９が設けられている。リフトピン６９は、図示しない制御装置の制御の下、図示しない空気圧シリンダ等のアクチュエータでＺ軸方向に移動するようになっている。
【０１３２】
リフトピン６９が下方に位置しているとき、リフトピン６９は、被成形体載置体６３内に埋没している。リフトピン６９が上方に位置しているとき、リフトピン６９は、被成形体載置体６３の上面３３から上方に突出している。
【０１３３】
また、下テーブル６１の上側には、上テーブル７１が設けられている。上テーブル７１は、被成形体載置体６３よりも上方に位置している。上テーブル７１の下面は平面になっている。
【０１３４】
上テーブル７１は、ガイドロッド７３とリニアガイドベアリング７５とによって、下テーブル６１に支持されており、図示しないシリンダ等のアクチュエータにより、制御装置の制御の下、下テーブル６１に対してＺ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【０１３５】
上テーブル７１が上昇端に位置しているときには、ガイドローラ５７Ｃ，５７Ｄと第１のローラ２３との間で水平に延伸しているモールドＭの上方で、モールドＭから離れて上テーブル７１が位置するようになっている。
【０１３６】
上テーブル７１が下降端に位置しているときには、ガイドローラ５７Ｃ，５７Ｄと第１のローラ２３との間で水平に延伸しているモールドＭに、上テーブル７１の下面が面接触するようになっている。
【０１３７】
なお、Ｙ軸方向では、図４に示すように、左右のガイドロッド７３の間の距離よりも、ガイドローラ５７Ｃ，５７Ｄと第１のローラ２３との間で水平に延伸しているモールドＭの幅寸法のほうが小さくなっており、左右のガイドロッド７３の間の距離の中心と、モールドＭの中心とがお互いに一致している。
【０１３８】
下テーブル６１の上側には、第１の筒状体７７と第２の筒状体７９とが設けられている。第１の筒状体７７は、下テーブル６１の上面から起立して下テーブル６１に一体的に設けられている。被成形体載置体６３は、第１の筒状体７７の内側に設けられている。
【０１３９】
第２の筒状体７９は、第１の筒状体７７の外側で第１の筒状体７７を囲むように設けられおり、図示しないリニアガイドベアリングによって、第１の筒状体７７に支持されており、図示しないシリンダ等のアクチュエータにより、制御装置の制御の下、第１の筒状体７７に対してＺ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【０１４０】
なお、Ｙ軸方向では、図４に示すように、ガイドローラ５７Ｃ，５７Ｄと第１のローラ２３との間で水平に延伸しているモールドＭの幅寸法が、第２の筒状体７９のＹ軸方向の寸法のよりも大きくなっており、第２の筒状体７９の中心と、モールドＭの中心とがお互いに一致している。
【０１４１】
第２の筒状体７９が下降端に位置しているときには、第２の筒状体７９は、ガイドローラ５７Ｃ，５７Ｄと第１のローラ２３との間で水平に延伸しているモールドＭの下側で、モールドＭから所定の距離だけ離れている。
【０１４２】
第２の筒状体７９が上昇端に位置しているときには、第２の筒状体７９の上端が、ガイドローラ５７Ｃ，５７Ｄと第１のローラ２３との間で水平に延伸しているモールドＭに接触するようになっている。
【０１４３】
さらに説明すると、上テーブル７１が下降端に位置し、第２の筒状体７９が上昇端に位置することで、上テーブル７１と第２の筒状体７９（第２の筒状体７９の「ロ」字状の上面）とでモールドＭ（転写パターン形成体Ｍ３が形成されていないモールド用基材Ｍ２のみの部位）を挟み込み、真空チャンバ（閉空間）８１（図８等参照）が生成されるようになっている。
【０１４４】
閉空間８１内の空気は、制御装置の制御の下、真空ポンプ８３で抜き取られるようになっている。
【０１４５】
また、下テーブル６１の上側には、モールドＭに貼り付いた被成形体Ｗの重量を支持して被成形体ＷをモールドＭとともに搬送する搬送ローラ８５が設けられている。
【０１４６】
搬送ローラ８５は、図示しないリニアガイドベアリングによって、下テーブル６１に支持されており、図示しないシリンダ等のアクチュエータにより、制御装置の制御の下、下テーブル６１に対してＺ軸方向で移動位置決め自在になっている。
【０１４７】
搬送ローラ８５は、図示しないシリンダ等のアクチュエータにより、制御装置の制御の下、Ｚ軸方向で、図１で示す下端位置と図９で示す上端位置との間を移動するようになっている。なお、被成形体設置体６３には、搬送ローラ８５が通り抜けることができる長方形状等の貫通孔（図示せず）が設けられている。
【０１４８】
また、真空貼り合わせ部３と転写部５との間には、搬送ローラ８５と同様に被成形体Ｗの重量を支持する搬送ローラ８９等で構成されて搬送部８７が設けられている。
【０１４９】
次に、転写装置１の動作について説明する。
【０１５０】
初期状態として、図６に示すように、モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９との間で、モールドＭが板状になって延びて停止しているものとする。
【０１５１】
真空貼り合わせ部３では、上テーブル７１が上昇しており、被成形体載置体６３が下降しており、リフトピン６９が下降しており、第２の筒状体７９が下降しており、搬送ローラ８５が下降している。また、モールドＭの転写パターン形成体Ｍ３（微細な転写パターンＭ１）が、被成形体載置体６３の上面と対向している。
【０１５２】
転写部５では、各ローラ２３，２５，２７が、Ｘ軸方向では、被成形体保持体２１から離れモールド巻き取り部９側に位置しており、Ｚ軸方向では、転写をするための位置決めがなされている。また、リフトピン４１は下降しており、紫外線発生装置３５は紫外線を発していない。
【０１５３】
上記初期状態で、ロボット（図示せず）等を用いて被成形体Ｗを被成形体載置体６３の上面から突出しているリフトピン６９の上に載置する。このとき、被成形体Ｗの被成形物Ｗ１は、未硬化状態になっており、モールドＭと対向している。
【０１５４】
続いて、制御装置の制御の下、上テーブル７１を下降し、第２の筒状体７９を上昇し、リフトピン６９を下降して被成形体Ｗを被成形体載置体６３で保持する（図７参照）。これにより、被成形体Ｗが被成形体載置体６３の上面に面接触している。また、上テーブル７１の下面がモールドＭの上面に面接触し、第２の筒状体７９の「ロ」字状の上面がモールドＭの下面に面接触し、上テーブル７１と第２の筒状体７９とでモールドＭが挟み込まれている。そして、真空チャンバ８１が形成され、真空チャンバ８１の中に、被成形体Ｗと被成形体載置体６３とモールドＭの下面（微細な転写パターンＭ１が設けられている面）が存在している。
【０１５５】
続いて、真空ポンプ８３で真空チャンバ８１内を真空状態にしてから、被成形体載置体６３を上昇し、被成形体Ｗの被成形物Ｗ１をモールドＭに接触させる（図８参照）。これにより、小さい力ではあるが被成形体ＷがモールドＭに貼り付く。
【０１５６】
なお、真空チャンバ８１内を真空にすることで、被成形体載置体６３での被成形体Ｗの保持（真空吸着による保持）が働かず、被成形体Ｗが動いてしまうのであれば、被成形体載置体６３にネジやシリンダ等を用いたクランプ装置を別途設けて、被成形体Ｗを保持するようにしてもよい。
【０１５７】
続いて、真空チャンバ８１内を大気圧に戻し、上テーブル７１を上昇し、第２の筒状体７９を下降し、被成形体載置体６３を下降し、搬送ローラ８５を上昇する（図９参照）。これにより、上テーブル７１と第２の筒状体７９と被成形体載置体６３がモールドＭや被成形体Ｗから離れ、搬送ローラ８５が被成形体Ｗに接し、モールドＭや被成形体Ｗが搬送ローラ８５に載置される。
【０１５８】
続いて、モールド巻き取り部９でモールドＭを所定の長さだけ巻き取り（図１０、図１１参照）、モールドＭに貼り付いている被成形体Ｗを被成形体保持体２１のところに位置させ、被成形体保持体２１で被成形体Ｗを保持する（図１１参照）。
【０１５９】
続いて、紫外線発生装置３５から紫外線を発し、各ローラ２３，２５，２７をＸ軸方向で真空貼り合わせ部３側に移動する（図１２参照）。これにより、被成形体Ｗの被成形物Ｗ１に微細な転写パターンＷ２が転写されるとともに、被成形体ＷからモールドＭが剥がされる（図１３、図１４（ｂ）参照）。
【０１６０】
続いて、リフトピン４１を上昇して（図１３参照）、微細な転写パターンＷ２が転写された被成形体Ｗをロボット等で搬出する。
【０１６１】
続いて、リフトピン４１を下降し、各ローラ２３，２５，２７をモールド巻き取り部９側に戻す等することで、上述した初期状態に戻る。
【０１６２】
なお、上記説明では、真空貼り合せ部３の動作が終えてから転写部５が動作をするようになっているが、真空貼り合せ部３の動作と転写部５が動作とは並行してなされるものとする。すなわち、転写部５で被成形体Ｗへの転写がなされているときに、次の被成形体ＷのモールドＭへの貼り合せを真空貼り合せ部３で行うようになっている。
【０１６３】
転写装置１によれば、真空貼り合わせ部３が転写部５とは別個に設けられているので、転写のときに被成形体Ｗでの微細な気泡の発生を無くすとともに効率よく転写を行うことができる。
【０１６４】
すなわち、真空貼り合わせ部３で、モールドＭと被成形体Ｗとを真空雰囲気内で貼り合わせ、この貼り合わされたものを転写部５まで搬送して転写を行うことで、連続的に貼り合わせと転写とを行うことができ（真空雰囲気内で貼り合わせと転写とを同時に並行して行うことができ）、効率よく転写を行うことができる。
【０１６５】
また、真空貼り合わせ部３では、貼り合わせだけを行えばよいので、被成形体Ｗが大きくても（たとえば、幅寸法が１ｍ以上であり長さ寸法が１ｍ以上であっても、さらには、幅寸法が１ｍ〜２ｍ程度であり、長さ寸法が１ｍ〜２ｍ程度であっても）容易に真空雰囲気を生成することができ、転写の際における空気の巻き込みを無くすことができる。
【０１６６】
また、転写装置１によれば、モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９とを備えているので、モールドＭの交換を正確かつ容易に行うことができる。
【０１６７】
詳しく説明すると、図１５に示す被成形体３０９の大きさは、長さ寸法（図１５の左右方向の寸法）や、幅寸法（図１５の紙面に直交する方向の寸法）が１ｍ（１０００ｍｍ）〜１．５ｍ程度になっている場合が多い。モールド３２３も被成形体３０９の大きさにあわせて同様に大きくなっている。
【０１６８】
また、図１５で示す転写装置３０１では、モールド３２３を１回の転写をする毎にもしくは数回の転写をする毎に、転写装置３０１から取り外し、新しいモールド３２３を設置する必要がある。ただし、モールド３２３が大きいので、取り扱いが困難であるとともに、転写装置３０１に精度良く設置することが難しくなっている（転写装置３０１のチャック部３１９，３２１にモールド３２３を設置するとき、モールド３２３が曲がって設置されてしまうことが多々ある）。
【０１６９】
これに対して、転写装置１では、モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９とが設けられているので、モールドＭの交換をするとき、モールド巻き取り部９で所定の長さだけモールドＭを巻き取り、モールド原反設置部７からモールドＭの新しい部分（転写に使用されていない部分）を引き出せばよく、モールドＭを転写装置１から一旦取り外して再び設置する操作が不要になり、モールドＭの交換を正確かつ容易におこなうことができる。
【０１７０】
また、モールドＭの交換を迅速におこなうことができるので、転写装置３０１で要したモールドの交換時間を被成形体Ｗへの転写に使用することができ、転写を効率良く行うことができる。
【０１７１】
また、転写装置１によれば、第３のローラ２７に、巻き掛けられたモールドＭの微細な転写パターンＭ１の接触を回避するための小径部２９が形成されているので、モールドＭの張力によって微細な転写パターンＭ１がつぶれてしまうことを防止することができ、モールドＭを再使用することができる。
【０１７２】
また、転写装置１によれば、第２のローラ２５と第３のローラ２７とで、モールドＭを被成形体Ｗから剥がすことができるので、第１〜第３の各ローラ２３，２５，２７を被成形体保持体２１の長手方向の一端から他端に向かって（図１の右から左に向かって）１回移動するだけで、被成形体Ｗへの微細な転写パターンの転写と被成形体ＷからのモールドＭの引き剥がしをすることができ、効率良く転写を行うことができる。
【０１７３】
また、転写装置１によれば、各ローラ２３，２５，２７に巻き掛けられ各ローラ２３，２５，２７から延出しているモールドＭが（部位Ｍ４と部位Ｍ５とが）お互いに平行になっているので、転写のために各ローラ２３，２５，２７が移動しても、モールド原反設置部７とモールド巻き取り部９との間で延伸しているモールドＭの長さ調整をする必要がほぼ無くなり、転写装置１の構成を簡素化することができる。
【０１７４】
また、従来の転写装置３０１では、ローラ３１１Ａの位置が変わることによって、貼り合わせ角度（図１５に示す被成形体３０９と、ローラ３１１Ａと第２のチャック部３２１との間で斜めに延伸しているモールドとの交差角度）が変化してしまうが、転写装置１では、各ローラ２３，２５，２７の位置にかかわらず貼り合わせ角度を一定にすることができより均質な転写を行うことができる。
【符号の説明】
【０１７５】
１  転写装置
３  真空貼り合わせ部
５  転写部
７  モールド原反設置部
９  モールド巻き取り部
１５  押圧部
１７  硬化部
１９  分離部
２１  被成形体保持体
２３  第１のローラ
２５  第２のローラ
２７  第３のローラ
Ｃ３  第１のローラの中心軸
Ｃ４  第２のローラの中心軸
Ｃ５  第３のローラの中心軸
Ｍ  モールド
Ｍ１  微細な転写パターン
Ｗ  被成形体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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