(57)【要約】【課題】緻密性の高い金属被膜を形成することのできる導電性組成物及び金属被覆基材の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明に係る導電性組成物は、第一金属ナノ粒子と、第二金属ナノ粒子とを含み、第一金属ナノ粒子が低融点金属又はその合金からなり、第二金属ナノ粒子の融点が第一金属ナノ粒子の融点より高い。また、本発明に係る金属被覆基材の製造方法は、基材の一方の面に金属被膜を積層する金属被覆基材の製造方法であって、上記構成からなる導電性組成物を含有する塗工液を基材の一方の面に塗布する工程、及び上記塗布された塗工液を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成させる工程を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一金属ナノ粒子と、第二金属ナノ粒子とを含み、
上記第一金属ナノ粒子が低融点金属又はその合金からなり、
上記第二金属ナノ粒子の融点が上記第一金属ナノ粒子の融点より高い導電性組成物。
【請求項２】
上記低融点金属がＳｎである請求項１に記載の導電性組成物。
【請求項３】
上記第一金属ナノ粒子の平均粒径が５００ｎｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の導電性組成物。
【請求項４】
金属成分全体に対する上記第一金属ナノ粒子の含有量が、２０質量％以下である請求項１、請求項２又は請求項３に記載の導電性組成物。
【請求項５】
上記第一金属ナノ粒子が、還元剤としてチタンイオンを含有する水溶液中に分散されたＳｎを凝集させることで形成されている請求項２に記載の導電性組成物。
【請求項６】
基材の一方の面に金属被膜を積層する金属被覆基材の製造方法であって、
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の導電性組成物を含有する塗工液を基材の一方の面に塗布する工程、及び
上記塗布された塗工液を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成させる工程
を有することを特徴とする金属被覆基材の製造方法。
【請求項７】
上記焼成工程における焼成温度が、第一金属ナノ粒子の融点以上かつ第二金属ナノ粒子の融点以下である請求項６に記載の金属被覆基材の製造方法。
【請求項８】
基材の一方の面に金属被膜を積層する金属被覆基材であって、
上記金属被膜が、基材の一方の面に塗布された請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の導電性組成物を含有する塗工液を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成させて形成されていることを特徴とする金属被覆基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性組成物、金属被覆基材の製造方法及び金属被覆基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属被覆基材は、例えばエレクトロニクス分野等において用いられるものであり、その製造方法としては、金属ナノ粒子を含む塗工液を基材表面に塗布し、この基材表面の塗工液を加熱することで金属ナノ粒子を焼成する方法が公知である（特許第４８４４８０５号公報参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４８４４８０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記従来の製造方法において例えば銀ナノ粒子を用い金属被膜を形成した場合には、空隙部分が存在する緻密性の低い金属被膜となりやすく、緻密性の高い金属被膜を形成することが困難である。
【０００５】
本発明は、上記のような不都合に鑑みてなされたものであり、緻密性の高い金属被膜を形成することのできる導電性組成物、金属被覆基材の製造方法及び金属被覆基材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するためになされた発明は、
第一金属ナノ粒子と、第二金属ナノ粒子とを含み、
上記第一金属ナノ粒子が低融点金属又はその合金からなり、
上記第二金属ナノ粒子の融点が上記第一金属ナノ粒子の融点より高い導電性組成物である。
【０００７】
また、上記課題を解決するための別の発明は、
基材の一方の面に金属被膜を積層する金属被覆基材の製造方法であって、
当該導電性組成物を含有する塗工液を基材の一方の面に塗布する工程、及び
上記塗布された塗工液を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成させる工程
を有することを特徴とする。
【０００８】
さらに、上記課題を解決するための別の発明は、
基材の一方の面に金属被膜を積層する金属被覆基材であって、
上記金属被膜が、基材の一方の面に塗布された当該導電性組成物を含有する塗工液を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成させて形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の導電性組成物及び金属被覆基材の製造方法は、緻密性の高い金属被膜を形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［本発明の実施形態の説明］
本発明は、
第一金属ナノ粒子と、第二金属ナノ粒子とを含み、
上記第一金属ナノ粒子が低融点金属又はその合金からなり、
上記第二金属ナノ粒子の融点が上記第一金属ナノ粒子の融点より高い導電性組成物である。
【００１１】
当該導電性組成物は、融点の異なる二種類の金属ナノ粒子（第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子）を含むため、基材表面へ塗布後の焼成により緻密な金属被膜を形成することができる。緻密な金属被膜が形成される理由は、必ずしも明らかではないが、焼成する際に融点の高い第二金属ナノ粒子の間に融点の低い第一金属ナノ粒子が存在することで緻密な金属被膜が形成されているものと推測される。
【００１２】
上記低融点金属としてはＳｎが好適に用いられる。Ｓｎは、融点が比較的低いため、当該導電性組成物の焼成時に第一金属ナノ粒子の流動性が高くなり、容易かつ確実に緻密な金属被膜を形成することができる。
【００１３】
上記第一金属ナノ粒子の平均粒径としては５００ｎｍ以下が好ましい。金属ナノ粒子の焼成可能な温度は粒径によって異なるが、上記第一金属ナノ粒子の平均粒径が上記範囲内にあることで、第一金属ナノ粒子の焼成可能な温度が低くなるため、容易かつ確実に緻密な金属被膜を形成することができる。なお、上記平均粒径は、レーザードップラー法を応用した粒度分布測定装置を用いて測定される粒度分布のピーク値を意味する。
【００１４】
金属成分全体に対する上記第一金属ナノ粒子の含有量としては、２０質量％以下であることが好ましい。第一金属ナノ粒子の含有量が上記範囲内であることで、例えば第二金属ナノ粒子の金属に比べて第一金属ナノ粒子の金属の抵抗が高い場合であっても、形成される金属被膜の抵抗が高くなり過ぎるおそれが少ない。
【００１５】
低融点金属としてＳｎを用いた場合、第一金属ナノ粒子が、還元剤としてチタンイオンを含有する水溶液中に分散された低融点金属元素を凝集させることで形成されているとよい。Ｓｎは酸化されやすいが、還元剤としてチタンイオンを用いることで、容易かつ確実にＳｎナノ粒子を形成することができる。
【００１６】
また、別の本発明は、
基材の一方の面に金属被膜を積層する金属被覆基材の製造方法であって、
当該導電性組成物を含有する塗工液を基材の一方の面に塗布する工程、及び
上記塗布された塗工液を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成させる工程
を有することを特徴とする。
【００１７】
当該製造方法によって製造された金属被覆基材は、当該導電性組成物を用いることで、緻密な金属被膜を有する。
【００１８】
当該金属被覆基材の製造方法の焼成工程における焼成温度としては、第一金属ナノ粒子の融点以上かつ第二金属ナノ粒子の融点以下が好ましい。これにより、当該導電性組成物の焼成に際して第一金属ナノ粒子の流動性が高く、緻密な金属被膜を容易かつ確実に形成することができる。
【００１９】
さらに、別の本発明は、
基材の一方の面に金属被膜を積層する金属被覆基材であって、
上記金属被膜が、基材の一方の面に塗布された当該導電性組成物を含有する塗工液を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成させて形成されていることを特徴とする。
【００２０】
当該金属被覆基材は、金属被膜が緻密であるため、従来のものに比べて、電気抵抗が小さく、また強度に優れる。
【００２１】
［本発明の実施形態の詳細］
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳説する。
【００２２】
＜導電性組成物＞
本実施形態の導電性組成物は、第一金属ナノ粒子と、第二金属ナノ粒子とを含んでいる。この第一金属ナノ粒子は低融点金属又はその合金からなり、第二金属ナノ粒子の融点は上記第一金属ナノ粒子の融点より高い。
【００２３】
上記第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子の形状は、特に限定されるものではないが、球状、立方状、紡錘形状、板状、鱗片状等の粒状であることが好ましく、均一な分散性を考慮すると球状であることがより好ましい。
【００２４】
上記第一金属ナノ粒子の平均粒径の上限としては、５００ｎｍが好ましく、２００ｎｍがより好ましく、１５０ｎｍがさらに好ましい。上記平均粒径が上記上限を超えると、焼成可能な温度が高くなり過ぎ、緻密な金属被膜を形成することが困難となるおそれがある。一方、第一金属ナノ粒子の平均粒径の下限としては、５ｎｍが好ましく、１０ｎｍがより好ましく、２０ｎｍがさらに好ましい。上記平均粒径が上記下限未満であると、第一金属ナノ粒子が凝集しやすくなり、緻密な金属被膜を形成することが困難となるおそれがある。
【００２５】
また、上記第二金属ナノ粒子の平均粒径の上限としては、５００ｎｍが好ましく、２００ｎｍがより好ましく、１５０ｎｍがさらに好ましい。上記平均粒径が上記上限を超えると、焼成可能な温度が高くなり過ぎ、緻密な金属被膜を形成することが困難となるおそれがある。一方、第二金属ナノ粒子の平均粒径の下限としては、５ｎｍが好ましく、１０ｎｍがより好ましく、２０ｎｍがさらに好ましい。上記平均粒径が上記下限未満であると、第二金属ナノ粒子が凝集しやすくなり、緻密な金属被膜を形成することが困難となるおそれがある。
【００２６】
上記第一金属ナノ粒子の低融点金属としては、Ｓｎが好適に用いられる。また、低融点合金としては、合金後低融点であれば特に限定されず、例えばＳｎ−Ａｇ合金、Ｓｎ−Ｂｉ合金、Ｓｎ−Ｐｂ合金、Ｓｎ−Ａｇ−Ｃｕ合金、Ｓｎ−Ｐｂ−Ｂｉ合金、Ｓｎ−Ｐｂ−Ｂｉ−Ｃｄ合金等から第一金属ナノ粒子を構成することも可能である。また、第一金属ナノ粒子は、Ｓｎの融点（２３０℃）以下の融点の金属又は合金から構成することが好ましい。なお、上記第一金属ナノ粒子には、上述の低融点性を阻害しない範囲で、不可避的不純物、硫黄、酸素等を含んでも良い。
【００２７】
第二金属ナノ粒子としては、第一金属ナノ粒子の融点よりも高いものであれば特に限定されるものではないが、第二金属ナノ粒子は、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｉｎ又はＩｒの金属元素から構成されることが好ましい。なかでも、導電性及び金属被膜形成の容易性の観点から、Ａｇ又はＣｕであることが好ましい。また、第二金属ナノ粒子は、融点が２３０℃以上の金属又は合金から構成されることが好ましい。なお、第二金属ナノ粒子の金属種は、上述した金属元素の一種又は二種以上から構成することができる。なお、上記第二金属ナノ粒子には、上述の高融点性を阻害しない範囲で、不可避的不純物、硫黄、酸素等を含んでも良い。
【００２８】
金属成分全体（第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子の合計）に対する第一金属ナノ粒子の含有量の上限としては、２０質量％が好ましく、１０質量％がより好ましい。第一金属ナノ粒子の含有量が上記上限を超えると、形成される金属被膜の抵抗が高くなり過ぎるおそれがある。一方、金属成分全体に対する第一金属ナノ粒子の下限としては、０．５質量％が好ましく、２質量％がより好ましい。上記第一金属ナノ粒子の含有量が上記下限未満であると、緻密な金属被膜を形成することが困難となるおそれがある。
【００２９】
上記第一金属ナノ粒子の作製手法は、含浸法と呼ばれる高温処理法や、液相還元法、気相法等の従来公知の種々の方法を採用できる。また、上記第二金属ナノ粒子の作製手法も、第一金属ナノ粒子と同様に、含浸法と呼ばれる高温処理法や、液相還元法、気相法等の従来公知の種々の方法を採用できる。液相還元法による場合、例えば水に、金属ナノ粒子を形成する金属元素のイオンのもとになる水溶性の金属化合物と、分散剤とを溶解し、さらに還元剤を加え、両金属元素のイオンを還元反応させることによって、金属ナノ粒子を作製することができる。この液相還元法により作製される金属ナノ粒子は、形状が粒状に揃っており、また粒度分布がシャープであるメリットがある。
【００３０】
第一金属ナノ粒子を作製するに際しＳｎ元素のイオンのもとになる水溶性の金属化合物としては、例えば塩化スズ（ＩＶ）五水和物〔ＳｎＣｌ４・５Ｈ２Ｏ〕等が挙げられる。
【００３１】
また、第二金属ナノ粒子を作製するに際し金属元素のイオンのもとになる水溶性の金属化合物としては、例えば以下のものが挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＡｇの場合は、硝酸銀（Ｉ）［ＡｇＮＯ３］、メタンスルホン酸銀〔ＣＨ３ＳＯ３Ａｇ〕等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＡｕの場合は、テトラクロロ金（ＩＩＩ）酸四水和物〔ＨＡｕＣｌ４・４Ｈ2Ｏ〕等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＰｔの場合は、ジニトロジアンミン白金（ＩＩ）（Ｐｔ（ＮＯ２）２（ＮＨ３）２）、ヘキサクロロ白金(IV)酸六水和物（Ｈ２［ＰｔＣｌ６］・６Ｈ２Ｏ）等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＰｄの場合は、硝酸パラジウム（ＩＩ）硝酸溶液〔Ｐｄ（ＮＯ２）２／Ｈ２Ｏ〕、塩化パラジウム（ＩＩ）溶液〔ＰｄＣｌ２〕等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＲｕの場合は、硝酸ルテニウム（ＩＩＩ）溶液〔Ｒｕ（ＮＯ３）３〕等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＣｕの場合は、硝酸銅（ＩＩ）〔Ｃｕ（ＮＯ３）２〕、硫酸銅（ＩＩ）五水和物〔ＣｕＳＯ４・５Ｈ２Ｏ〕等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＮｉの場合は、塩化ニッケル（ＩＩ）六水和物〔ＮｉＣｌ２・６Ｈ２Ｏ〕、硝酸ニッケル（ＩＩ）六水和物〔Ｎｉ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ〕等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＣｏの場合は、塩化コバルト（ＩＩ）六水和物〔ＣｏＣｌ２・６Ｈ2Ｏ〕、硝酸コバルト（ＩＩ）六水和物〔Ｃｏ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ〕等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＴｉの場合は、塩化チタン（ＩＩＩ）〔ＴｉＣｌ３〕等が挙げられる。Ｉｎの場合は、塩化インジウム（ＩＩＩ）四水和物〔ＩｎＣｌ３・４Ｈ２Ｏ〕、硝酸インジウム（ＩＩＩ）三水和物〔Ｉｎ（ＮＯ３）３・３Ｈ２Ｏ〕等が挙げられる。
金属ナノ粒子の金属種がＩｒの場合は、塩化イリジウム（ＩＩＩ）〔ＩｒＣｌ３〕等が挙げられる。
【００３２】
上記分散剤としては、析出した第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子を水中に良好に分散させることができるものが好適に用いられる。この分散剤は、水溶性の高分子分散剤が好ましい。この高分子分散剤は、反応系中で、析出した金属ナノ粒子の周囲を囲むように存在し、金属ナノ粒子の凝集を防止し、分散を維持する機能を有する。なお、この高分子分散剤は、金属ナノ粒子を析出させた液相の反応系を出発原料として後述する分散液を調製する場合、不純物の除去の際に除去されずに残存し、分散液中でも、金属ナノ粒子の凝集を防止し、分散を維持する機能を有する。なお、この高分子分散剤としては、後述する焼成工程の焼成温度において熱分解できるものが好ましい。これにより、金属ナノ粒子の焼成に際して、上記高分子分散剤による金属ナノ粒子の焼成の阻害、及び高分子分散剤の分解残渣の金属被膜への残存を的確に防止することができる。さらに、この高分子分散剤としては、リン、ホウ素及びハロゲン原子を含まない分散剤が好適に用いられる。これにより、当該導電性組成物によって形成した金属被膜をエレクトロニクス分野に用いる際に、その近傍に配置される電子部品等の劣化を的確に防止することができる。
【００３３】
上述のような観点から、上記高分子分散剤としては、例えばポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン等のアミン系の高分子分散剤や、ポリアクリル酸、カルボキシメチルセルロース等の分子中にカルボン酸基を有する炭化水素系の高分子分散剤、ポバール（ポリビニルアルコール）、単量体としてエチレンイミンとエチレンオキサイドとを有する共重合体等の極性基を有する高分子分散剤等が好適に用いられる。なお、高分子分散剤の分子量としては、１０００００以下が好ましい。
【００３４】
なお、第一金属ナノ粒子のための分散剤と、第二金属ナノ粒子のための分散剤とが、相溶性を有することが好ましい。具体的には、各分散剤のＳＰ値の差が３以内であることが好ましく、２以内であることがより好ましい。これにより、第一金属ナノ粒子と第二金属ナノ粒子とが液中でともに的確に分散することができる。
【００３５】
なお、金属ナノ粒子の粒径を調整するには、金属化合物、分散剤、還元剤の種類と配合割合とを調整すると共に、金属化合物を還元反応させる際に、かく拌速度、温度、時間、ｐＨ等を調整するとよい。
【００３６】
反応系のｐＨとしては７以上１３以下が好ましく、これにより金属ナノ粒子を小さくすることができる。このように反応系のｐＨを調整するためにはｐＨ調整剤が使用される。このｐＨ調整剤としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属、塩素等のハロゲン元素、リン、ホウ素等の不純物元素を含まない炭酸ナトリウムやアンモニアが好ましい。これにより、製造された金属被覆基材をエレクトロニクス分野に用いる際に、その近傍に配置される電子部品等の劣化を的確に防止することができる。
【００３７】
上記還元剤としては、液相の反応系中において金属元素のイオンを還元することで、金属ナノ粒子を析出できるものを用いることができる。このような還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム、ヒドラジン、遷移金属元素のイオン（三価のチタンイオン、二価のコバルトイオン等）が挙げられる。ここで、Ａｇなどの貴金属の場合は、上記還元剤として、還元力の弱い還元剤が好適に用いられ、これにより金属ナノ粒子の析出速度が遅く、金属ナノ粒子の粒径を比較的小さくすることができる。一方、Ｓｎなどの卑金属の場合は、上記還元剤として、還元力の強い還元剤が好適に用いられ、ヒドラジンや三価のチタンイオンがより好適に用いられ、特に三価と四価とのバランスにより還元力を調整しやすい三価のチタンイオンが最も好適に用いられる。
【００３８】
＜金属被覆基材の製造方法＞
次に、上記構成からなる当該導電性組成物を用いた金属被覆基材の製造方法について説明する。当該金属被覆基材の製造方法は、当該導電性組成物を含有する塗工液を基材の一方の面に塗布する工程、及び上記塗布された塗工液を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成させる工程を有する。
【００３９】
（塗布工程）
上記塗布工程において用いられる基材は、金属ナノ粒子の焼成に耐えることのできる材質であれば特に限定されるものではなく、ポリエチレンテレフタレートやカプトン等の樹脂基材や、ガラス基材等の種々の基材を用いることができる。具体的には、例えば耐熱性に優れるガラスを主とする基材を用いることができる。このガラスを主とする基材としては、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、高歪み点ガラス等の各種ガラスを採用することができる。
【００４０】
金属ナノ粒子塗布工程は、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子が分散された塗工液を基材表面に塗布し、この塗布された分散液を乾燥することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を基材表面に塗布している。
【００４１】
上記塗工液は、特に限定されるものではないが、例えば上記第一金属ナノ粒子と、第二金属ナノ粒子と、水と、水溶性有機溶媒とを含むものを用いることができる。
【００４２】
上記塗工液に第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を含有させるためには、粉末状にされた第一金属ナノ粒子及び／又は第二金属ナノ粒子を用いることも、液中に分散された第一金属ナノ粒子及び／又は第二金属ナノ粒子を用いることも可能である。
【００４３】
粉末状にされた第一金属ナノ粒子及び／又は第二金属ナノ粒子を用いる場合には、例えば上述のように析出された金属ナノ粒子が液中に分散されている液を、濾別、洗浄、乾燥、解砕等することで、粉末状の第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子を得て、この粉末状の第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子を出発原料として用いることができる。
【００４４】
一方、液中に分散された金属ナノ粒子及び／又は第二金属ナノ粒子を用いる場合には、例えば上述のように液中で第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子を析出し、この第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子が分散している液を出発原料として用いることができる。このように、第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子を析出させた後の液（第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子と水とを含む液）を用いる場合には、この液について限外濾過、遠心分離、水洗、電気透析等の処理を行うことで不純物を除去し、必要に応じて濃縮又は加水することで第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子の濃度を調整し、この第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子を含む液を上記塗工液の出発原料とすることによって、第一金属ナノ粒子又は第二金属ナノ粒子を均一に基材表面に塗布することができる。
【００４５】
なお、第一金属ナノ粒子と第二金属ナノ粒子との双方が粉末状にされたものを用いて塗工液を生成、または第一金属ナノ粒子と第二金属ナノ粒子とがそれぞれ分散された液を混合することで塗工液を生成、あるいは粉末状にされた第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子の一方を、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子の他方が分散された液に投入することで、塗工液を生成することも可能である。
【００４６】
上記水溶性有機溶媒としては、水溶性である種々の有機溶媒を用いることができ、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン、エチレングリコール、グリセリン等の多価アルコールやそのエステル等を用いることができる。
【００４７】
上記塗工液の塗布手法は、特に限定されるものではないが、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ダイコート法、ディップコート法を用いることが好ましい。これにより、分散液を基材表面に均一に塗布することができる。
【００４８】
上述のように基材表面に塗布された分散液を乾燥することで、基材表面に第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を含む塗膜が形成される。なお、この乾燥の条件は、水と水溶性の有機溶媒のほぼ全量が蒸発する条件とするとよい。
【００４９】
（焼成工程）
焼成工程においては、基材表面に形成された塗膜を加熱することで、第一金属ナノ粒子及び第二金属ナノ粒子を焼成し、基材表面に金属被膜を形成する。
【００５０】
上記焼成温度（加熱温度）は、第一金属ナノ粒子の融点以上かつ第二金属ナノ粒子の融点以下であるとよい。
【００５１】
上述のように形成された金属被膜の厚みは特に限定されるものではないが、この金属被膜の平均厚みの下限としては、０．１μｍが好ましく、０．３μｍがより好ましい。上記金属被膜の平均厚みが、上記下限未満であると、金属被膜が薄くなり過ぎ、金属被膜の電気抵抗が大きくなり過ぎるおそれがある。一方、上記金属被膜の平均厚みの上限としては、２μｍが好ましく、１．５μｍがより好ましい。上記金属被膜の平均厚みが上記上限を超えると、焼成が困難となり、緻密な金属被膜が形成されにくくなるおそれがある。
【００５２】
上記金属被膜の抵抗値は特に限定されるものではないが、この抵抗値の上限としては、１０００μΩ・ｃｍが好ましく、５００μΩ・ｃｍがより好ましい。一方、金属被膜の抵抗値の下限としては、２μΩ・ｃｍが好ましく、５μΩ・ｃｍがより好ましい。金属被膜の抵抗値がこの範囲内にあることで、金属被覆基材をエレクトロニクス分野に好適に用いることができる。
【００５３】
＜金属被覆基材＞
当該導電性組成物を用いて上記製造方法によって製造された当該金属被覆基材は、基材と、この基材の一方の面に積層された金属被膜とを備え、この金属被膜は上述のように形成されるので緻密性が高い。
【００５４】
＜利点＞
以上のように、当該金属被覆基材は、基材表面に緻密な金属被膜が形成されるため、従来のものに比べて、電気抵抗が小さく、また強度に優れる。また、この緻密な金属被膜は、金属被膜内への液の侵入が少ないため、この金属被膜表面にメッキを施す場合に、メッキ液が金属被膜内に侵入することが少なく、的確に強固なメッキ層を形成することができる。
【００５５】
［その他の実施例］
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【００５６】
例えば上記実施形態においては、焼成温度を第一金属ナノ粒子の融点より高い温度としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、焼成温度を第一金属ナノ粒子の融点より低い温度とすることも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
以上のように、本発明は、緻密な金属被膜を有する金属被覆基材を製造することができ、このような金属被覆基材は、例えばエレクトロニクスの分野に好適に用いることができる。