(57)【要約】【課題】本発明は、輝度ムラおよび視差混色等を防止することができ、生産性が良好な有機ＥＬ表示装置等を提供することを主目的とする。【解決手段】透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する遮光部、上記透明基板上の上記遮光部の上記開口部に形成された着色層、上記遮光部および上記着色層上の全面に形成された透明電極層、ならびに、上記遮光部上に形成された金属電極層を備え、上記遮光部の高さが上記着色層の高さよりも高いカラーフィルタと、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板と、が対向するように配置され、上記金属電極層と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、前記透明基板上に形成され開口部を有する遮光部、前記透明基板上の前記遮光部の前記開口部に形成された着色層、前記遮光部および前記着色層上の全面に形成された透明電極層、ならびに、前記遮光部上に形成された金属電極層を備え、前記遮光部の高さが前記着色層の高さよりも高いカラーフィルタと、
基板、ならびに、前記基板上に形成された下面電極層、前記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層、および前記有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上面透明電極層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を備える有機エレクトロルミネッセンス素子側基板と、を有し、
前記カラーフィルタの前記遮光部側表面と前記有機エレクトロルミネッセンス素子側基板の前記有機エレクトロルミネッセンス素子側表面とが対向するように配置され、
前記金属電極層と前記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記遮光部が、複数色の遮光部用着色層の積層体で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
透明基板と、
前記透明基板上に形成され開口部を有する遮光部と、
前記透明基板上の前記遮光部の前記開口部に形成された着色層と、
前記遮光部および前記着色層上の全面に形成された透明電極層と、
前記遮光部上に形成された金属電極層とを備え、
前記遮光部の高さが前記着色層の高さよりも高いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
【請求項４】
前記遮光部が、複数色の遮光部用着色層の積層体で構成されていることを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、輝度ムラおよび視差混色等の発生を防止し、生産性が良好な有機エレクトロルミネッセンス表示装置、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと略す。）表示装置は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および視野角が大きいことなどの利点が注目されている。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置は、主として車載ナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラなどの数インチ程度の小さな画面用として実用化されてきたが、近時、薄型テレビに代表されるように例えば２０インチ以上の大画面化の開発が要望されるようになってきている。
【０００４】
しかしながら、有機ＥＬ表示装置を例えば２０インチ以上の大画面とする場合、画面の外周部と中央部では各画素に駆動電流を供給するための配線長さが極端に異なってくる。そのため、画面の中央部では、画面の外周部と比較して電圧降下の度合いが大きく、輝度ムラが発生してしまうという不都合が生じる。大画面化を図れば図るほどこの傾向は顕著となる。特に、駆動電流を供給する配線は発光層を含む有機ＥＬ層の上に形成されたＩＴＯ等の透明電極層を経て導通され、このＩＴＯは例えば金属Ｃｕなどと比べて抵抗が大きく、このためＩＴＯの電圧降下の影響が大きい。
【０００５】
なお、有機ＥＬ表示装置の駆動方式としては、パッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがあるが、前者は、構造が単純であるものの、大型化かつ高精細の表示装置の実現が難しいなどの問題があり、大型化を図るためには、後者のアクティブマトリクス方式の開発が盛んに行なわれている。アクティブマトリクス方式では、画素ごとに配した有機ＥＬ素子に流れる電流を、有機ＥＬ素子ごとに設けた駆動回路内のＴＦＴ（Thin 
Film Transistor）によって制御するようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４４８９４７２号公報
【特許文献２】特許第４３６７３４６号公報
【特許文献３】特開２００９−２６８２８号公報
【特許文献４】特開２０１１−９６６８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１には、大型化しても上部透明電極層に起因する電圧降下による発光輝度ムラを生じさせないことを目的の一つとして、第１の基板に形成された素子分離用バンク上に位置する上部電極層と第２の基板に形成された導電性遮光パターンとが電気的に接続されるように第１の基板と第２の基板とを対向配置させ、少なくとも上記上部電極層または上記導電性遮光パターンが給電点に接続されてなる有機ＥＬ表示装置の開示がなされている。
【０００８】
しかしながら、特許文献１では、柱状の突起である素子分離用バンクが、ＴＦＴや有機ＥＬ層が形成されている第１の基板側に形成されている。ＴＦＴや有機ＥＬ層が形成されているために第１の基板側は複雑な構成になっており、この上に素子分離用バンクを設けることは反対側の第２の基板側に設けるプロセスと比較して、歩留まりが低下する確率は極めて高いと言える。そして、第１の基板側の歩留まり低下は、複雑な工程を経て形成され、工程数が多いＴＦＴや有機ＥＬ層の形成工程を無駄にすることにも通じ、コスト的なダメージが極めて大きいといえる。また、一対の電極層によって挟持された状態にある有機ＥＬ層を備える有機ＥＬ素子は、通常、有機ＥＬ素子を保護するための封止層によって覆われて保護されており、この封止層の存在をも考慮していかように被覆された電極層との導通を図るかを技術的に考察する必要がある。
【０００９】
また、特許文献２には、電源配線及び第２電極層の更なる低抵抗化を可能ならしめ、表示の輝度ムラを低減し、高輝度化、高コントラスト化を図った高出力品位の有機ＥＬ装置等の電気光学装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。
【００１０】
また、特許文献３には、対向電極層の電位の面内均一性を高めることを目的として開発された上面発光型の有機ＥＬ表示装置の提案がなされているが、やはり当該提案においても、上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。
【００１１】
また、特許文献４には、透明電極層の実効的な抵抗値を下げることができ、有機ＥＬ層に対して均一な電圧を加えることが可能となるため、表示ムラなどの表示不良を防ぐことができる発光装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。
【００１２】
ところで、トップエミッション方式の有機ＥＬ表示装置においては、従来から、透明基板ならびに透明基板上に形成された着色層および遮光部等を備えるカラーフィルタと、基板および基板上に形成された有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板とを有し、カラーフィルタの着色層側表面と有機ＥＬ素子側基板の有機ＥＬ素子側表面とが対向するように配置された構成が採用されている。このような有機ＥＬ表示装置においては、有機ＥＬ表示装置の１つの画素が、１つの有機ＥＬ素子と１つの着色層とを備えるように配置されており、１つの有機ＥＬ素子からの光が１つの着色層を透過することで、上記１つの画素での表示が可能となる。また、有機ＥＬ素子からの光は、通常、有機ＥＬ表示装置の内部を直進する。
しかしながら、このような有機ＥＬ表示装置においては、通常、有機ＥＬ素子と着色層との間には所定をギャップが設けられていることから、有機ＥＬ素子からの光の一部が有機ＥＬ表示装置内部を直進する中で着色層や遮光部の角部等により回折され、回折光が隣接する他の画素に配置された着色層を透過することによる影響や、有機ＥＬ表示装置を斜めから見たときに有機ＥＬ素子の光が隣接するほかの画素に配置された着色層を透過することによる視差混色、光漏れ（以下、視差混色等と称して説明する場合がある。）が生じるという問題がある。
【００１３】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、輝度ムラおよび視差混色等を防止することができ、生産性が良好な有機ＥＬ表示装置およびこれに用いられる有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する遮光部、上記透明基板上の上記遮光部の上記開口部に形成された着色層、上記遮光部および上記着色層上の全面に形成された透明電極層、ならびに、上記遮光部上に形成された金属電極層を備え、上記遮光部の高さが上記着色層の高さよりも高いカラーフィルタと、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板と、を有し、上記カラーフィルタの上記遮光部側表面と上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子側表面とが対向するように配置され、上記金属電極層と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供する。
【００１５】
本発明によれば、遮光部の高さが着色層の高さよりも高いカラーフィルタを用い、上記遮光部上に形成された金属電極層と上面透明電極層とが導通するように接触していることから、輝度ムラおよび視差混色等の発生を好適に抑制することができ、生産性が良好な有機ＥＬ表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、透明電極層が遮光部および着色層上の全面に形成されていることから、金属電極層を介してカラーフィルタ側に導かれた電流をカラーフィルタ全面に均一に逃すことができるため、有機ＥＬ表示装置の周辺部および中央部における電圧降下の差をより小さくすることができることから、より輝度ムラの少ない表示が可能な有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【００１６】
上記発明においては、上記遮光部が、複数色の遮光部用着色層の積層体で構成されていることが好ましい。所望の高さを有する遮光部を着色層と同時に形成することができることから、製造工程数をより少ないものとすることができ、生産性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができるからである。
【００１７】
本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成され開口部を有する遮光部と、上記透明基板上の上記遮光部の上記開口部に形成された着色層と、上記遮光部および上記着色層上の全面に形成された透明電極層と、上記遮光部上に形成された金属電極層とを備え、上記遮光部の高さが上記着色層の高さよりも高いことを特徴とする有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを提供する。
【００１８】
本発明によれば、遮光部の高さが着色層の高さよりも高く、上記遮光部上に形成された金属電極層を有していることから、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、金属電極層を有機ＥＬ素子側基板の上面透明電極層と導通するように接触させることができるため、輝度ムラおよび視差混色等の発生を好適に抑制することができ、また、生産性が良好な有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとすることができる。
また、本発明によれば、透明電極層が遮光部および着色層上の全面に形成されていることから、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、金属電極層を介してカラーフィルタ側に導かれた電流をカラーフィルタ全面に均一に逃すことができるため、有機ＥＬ表示装置の周辺部および中央部における電圧降下の差をより小さくすることができることから、より輝度ムラの少ない表示が可能となる。
【００１９】
上記発明においては、上記遮光部が、複数色の遮光部用着色層の積層体で構成されていることが好ましい。所望の高さを有する遮光部を着色層と同時に形成することができることから、製造工程数をより少ないものとすることができ、生産性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができるからである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、輝度ムラおよび視差混色等を防止することができ、生産性が良好であるといった作用効果を奏する。また、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタは上述した有機ＥＬ表示装置を提供することができ、生産性が良好であるといった作用効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図７】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図８】本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一例を示す概略図である。
【図９】本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図１０】本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図１１】本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図１２】本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図１３】本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図１４】本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタについて説明する。
【００２３】
Ａ．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する遮光部、上記透明基板上の上記遮光部の上記開口部に形成された着色層、上記遮光部および上記着色層上の全面に形成された透明電極層、ならびに、上記遮光部上に形成された金属電極層を備え、上記遮光部の高さが上記着色層の高さよりも高いカラーフィルタと、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板と、を有し、上記カラーフィルタの上記遮光部側表面と上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子側表面とが対向するように配置され、上記金属電極層と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とするものである。
【００２４】
本発明において「金属電極層と上面透明電極層とが導通するように接触している」とは、金属電極層と上面透明電極層とが直接接触している態様だけではなく、導電性接着剤層や透明電極層の導電性層を介して金属電極層と上面透明電極層とが接触している態様を含むものとする。
【００２５】
本発明の有機ＥＬ表示装置について図を用いて説明する。
図１は本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の有機ＥＬ表示装置１００は、透明基板１１、透明基板１１上に形成され開口部を有する遮光部１２、透明基板１１上の遮光部１２の開口部に形成された着色層１３（図１では赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇ、青色着色層１３Ｂ、白色着色層１３Ｗ）、遮光部１２および着色層１３上の全面に形成された透明電極層１４、ならびに、遮光部１２上に形成された金属電極層１５を備え、遮光部１２の高さが着色層１３の高さよりも高いカラーフィルタ１０と、基板７１、ならびに、基板７１上に形成された下面電極層８１、下面電極層８１上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層８３、および有機ＥＬ層８３上に形成された上面透明電極層８５を有する有機ＥＬ素子８０を備える有機ＥＬ素子側基板７０と、を有し、カラーフィルタ１０の遮光部１２側表面と有機ＥＬ素子側基板７０の有機ＥＬ素子８０側表面とが対向するように配置され、金属電極層１５と上面透明電極層８５とが導通するように接触していることを特徴とするものである。
また、図１に示すように、有機ＥＬ素子側基板７０は、通常、基板７１上に形成されたＴＦＴ７５、ＴＦＴ７５上に形成された第１絶縁層７７、および下面電極層８１と上面透明電極層８５との接触を防止するために基板７１上に形成された第２絶縁層９１を有する。また、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子側基板７０との間には、接着剤層９９が形成されていてもよい。また、有機ＥＬ表示装置１００は、電源Ｐの一方の極から各々のＴＦＴ７５に至る配線２０１と、電源Ｐの他方の極から上面透明電極層８５に至る配線２０２−２０３と、電源Ｐの他方の極から金属電極層１５に至る配線２０２−２０４と、を有する。
図１では、カラーフィルタ１０の遮光部１２が単層の遮光層１２１で構成されており、遮光部１２上の一部に遮光部１２の線幅よりも細い線幅を有する金属電極層１５が形成されている例について示している。また、図１においては、金属電極層１５と上面透明電極層８５とは透明電極層１４を介して導通するように接触している例について示している。
【００２６】
図２〜図７は本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
図２では、カラーフィルタ１０の遮光部１２上の全面に遮光部１２の線幅と同様の線幅を有する金属電極層１５が形成されている例について示している。また、有機ＥＬ素子側基板７０が封止層９５を有する例について示している。
図３では、カラーフィルタ１０の遮光部１２が、複数色の遮光部用着色層１２２（図３では遮光部用赤色着色層１２２Ｒ、遮光部用緑色着色層１２２Ｇ、遮光部用青色着色層１２２Ｂ）の積層体で構成されている例について示している。
図４および図５では、カラーフィルタ１０の遮光部１２が、遮光層１２１および遮光部用着色層１２２の積層体で構成されている例について示している。また、図４では遮光層１２１と積層される遮光部用着色層１２２が１層であり、２色の遮光部用着色層１２２（１２２Ｒ、１２２Ｇ、１２２Ｂ、１２２Ｗのいずれか２色）が同一平面上に並列に形成されている例について示しており、図５では遮光層１２１と積層される遮光部用着色層１２２が複数層（１２２Ｒ、１２２Ｇ）である例について示している。
図６では、カラーフィルタ１０が、遮光部１２および着色層１３を覆うように形成されたオーバーコート層１６を有している例について示している。この場合、金属電極層１５は、遮光部１２上にオーバーコート層１６を介して形成される。
図７では、金属電極層１５が、透明電極層１４上に形成され、金属電極層１５と上面透明電極層８５とが、直接接触している例について示している。
なお、図２〜図７において説明していない符号については、図１で説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００２７】
本発明によれば、遮光部の高さが着色層の高さよりも高いカラーフィルタを用い、上記遮光部上に形成された金属電極層と上面透明電極層とが導通するように接触していることから、輝度ムラおよび視差混色等の発生を好適に抑制することができ、生産性が良好な有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【００２８】
より具体的には、本発明によれば、金属電極層と上面透明電極層とが導通するように接触していることから、有機ＥＬ素子側基板からの電流を金属電極層を介してカラーフィルタ側に導いて逃すことができるため、輝度ムラの発生を抑制することができる。
また、本発明によれば、上記金属電極層が比較的面積の大きな遮光部上に形成されていることから、金属電極層および上面透明電極層の導通面積を大きくすることができるため、輝度ムラの発生を好適に抑制することができる。
また、本発明によれば、遮光部の高さが着色層の高さよりも高いことから、有機ＥＬ表示装置においては、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板を対向させることで、透明基板、基板および遮光部で囲まれる空間に有機ＥＬ素子を配置することができるため、有機ＥＬ表示装置内部で生じた回折光を遮光部で吸収することができ、また、有機ＥＬ表示装置を斜めからみたときに有機ＥＬ素子の光が隣接する他の画素に配置された着色層を透過することを防止することができることから、視差混色等を防止することができる。
また、本発明によれば、遮光部を用いて金属電極層を上面透明電極層と導通するように接触させることから、例えば柱部等の金属電極層と上面透明電極層とを導通するように接触させるための他の部材を必要としないため、有機ＥＬ表示装置の製造工程数を少なくすることができ、生産性が良好な有機ＥＬ表示装置とすることができる。また、有機ＥＬ素子側基板上に上述した他の部材を形成しなくてもよいことから、有機ＥＬ表示装置の歩留まりの低下を抑制することができる。
【００２９】
また、本発明によれば、透明電極層が遮光部および着色層上の全面に形成されていることから、金属電極層を介してカラーフィルタ側に導かれた電流をカラーフィルタ全面に均一に逃すことができるため、有機ＥＬ表示装置の周辺部および中央部における電圧降下の差をより小さくすることができることから、より輝度ムラの少ない表示が可能な有機ＥＬ表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、上記透明電極層が形成されていることにより、カラーフィルタにガスバリア性を付与することができるため、有機ＥＬ素子の劣化を抑制することができる。
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の詳細について説明する。
【００３０】
Ｉ．カラーフィルタ
本発明に用いられるカラーフィルタは、透明基板と、遮光部と、着色層と、金属電極層とを備えるものであり、遮光部の高さが着色層の高さよりも高いことを特徴とする。
【００３１】
このようなカラーフィルタの態様としては、例えば、図８（ａ）、（ｂ）〜図１４に示すカラーフィルタの態様を挙げることができる。
図８（ａ）は図１におけるカラーフィルタ１０の例を示す概略平面図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。なお、図８（ａ）では説明の容易の為、透明電極層については省略して示している。また、図９は図２におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図であり、図１０は図３におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図であり、図１１は図４におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図であり、図１２は図５におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図であり、図１３は図６におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図であり、図１４は図７におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図である。
【００３２】
また、本発明において、「遮光部の高さが着色層の高さよりも高い」とは、透明基板の遮光部および着色層側表面から遮光部の上底面までの高さが、透明基板の遮光部および着色層側表面から着色層の上底面までの高さよりも高いことをいい、図８（ｂ）においてｐで示される距離がｑで示される距離よりも大きいことをいう。
【００３３】
１．遮光部
本発明に用いられる遮光部は、透明基板上に形成され開口部を有するものであり、その高さが着色層の高さよりも高いことを特徴とする。また、遮光部は、通常、その高さがカラーフィルタに形成される全ての着色層の高さよりも高くなるように設けられる。
【００３４】
遮光部としては、所望の遮光性を有し、その高さが着色層の高さよりも高く、その表面上に金属電極層を形成することができれば特に限定されない。このような遮光部としては、例えば図８等に示すように、単層の遮光層１２１で構成されるものであってもよく、また例えば図１０〜図１２に示すように、遮光部用着色層１２２を有するものであってもよい。この場合、図１０に示すように、複数色の遮光部用着色層１２２の積層体で構成されるものであってもよく、図１１および図１２に示すように、遮光層１２１および遮光部用着色層１２２の積層体で構成されるものであってもよい。また、遮光部が、遮光層および遮光部用着色層の積層体である場合は、透明基板上に遮光層および遮光部用着色層の順に積層されていてもよく、透明基板上に遮光部用着色層および遮光層の順に積層されていてもよい。本発明においては、なかでも、遮光部が複数色の遮光部用着色層の積層体で構成されるものであることが好ましい。遮光部が複数色の遮光部用着色層の積層体で構成されるものである場合は、遮光層を形成しなくてもよく、所望の高さを有する遮光部を着色層と同時に形成することができることから、製造工程数をより少ないものとすることができ、生産性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができるからである。
【００３５】
遮光部の高さとしては、着色層の高さより高く形成することができればよく、有機ＥＬ表示装置の用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。また、遮光部の高さと着色層の高さとの差についても、有機ＥＬ表示装置の用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、具体的には、０．５μｍ以上、なかでも１μｍ以上、特に２μｍ以上であることが好ましい。また、遮光部の高さとしては、５μｍ以下、なかでも４μｍ以下、特に３μｍ以下であることが好ましい。上記高さの差が上記範囲に満たない場合は、着色層および上面透明電極層が接触しやすくなることで、着色層表面に付着している異物や、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の間に存在する異物が上面透明電極層と接触しやすくなることから、有機ＥＬ素子が劣化しやすくなる可能性があるからである。また、上記高さの差が上記範囲を超える場合は、遮光部自体や、着色層自体を形成することが困難となる可能性があるからである。
なお、上記高さの差は、図８（ｂ）においてｒで示される距離をいう。
【００３６】
具体的な遮光部の高さとしては、有機ＥＬ表示装置の用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、１μｍ〜８μｍの範囲内、なかでも１．２μｍ〜６μｍの範囲内、特に１．３μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。遮光部の高さが上記値に満たない場合は、着色層との高さの差を所望の値とすることが困難となる可能性があるからであり、遮光部の高さが上記値を超える場合は、遮光部を形成すること自体が困難となる可能性があるからである。
【００３７】
遮光部のＯＤ値としては、有機ＥＬ表示装置における視差混色等を防止することができれば特に限定されない。
具体的な遮光部のＯＤ値としては、１〜８の範囲内、なかでも２〜６の範囲内、特に３〜５の範囲内であることが好ましい。上記ＯＤ値が上記値に満たない場合は、視差混色等を十分に防止することが困難となる可能性があるからであり、上記ＯＤ値が上記値を超える場合は、遮光部自体を形成することが困難となる可能性があるからである。なお、遮光部のＯＤ値の測定方法としては公知の方法を用いることができ、例えばマクベス反射濃度計（サカタインクス社製「ＲＤ−９１４」）で測定可能である。
【００３８】
遮光部の開口部のパターン配列として、有機ＥＬ表示装置の画素のパターン配列として公知のものを用いることができる。例えば、ストライブ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列が挙げられる。
遮光部の開口部の面積については、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて適宜選択することができるため、ここでの説明は省略する。
【００３９】
遮光部の線幅としては、所望の高さを有する遮光部を透明基板上に形成することができ、遮光部上に後述する金属電極層を形成することができれば特に限定されないが、１０μｍ以上、なかでも１２μｍ〜１００μｍの範囲内、特に１３μｍ〜９０μｍの範囲内であることが好ましい。遮光部の線幅が上記範囲に満たない場合は、遮光部を形成すること自体が困難である場合や、遮光部上に所定の線幅を有する金属電極層を安定的に形成することが困難となる可能性があるからである。
【００４０】
次に、遮光部の材料について説明する。
本発明における遮光部の材料は、遮光部の態様により適宜選択される。
遮光部が単層の遮光層である場合、遮光層としては、黒色着色剤等の遮光性材料が分散または溶解された樹脂で構成される樹脂遮光層が好適に用いられる。樹脂遮光層に用いられる遮光性材料、および樹脂については公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。
また、遮光部が遮光層と遮光部用着色層との積層体である場合、遮光層としては、上述した樹脂遮光層の他、クロム等の金属で構成される金属遮光層を用いることができる。金属遮光層に用いられる金属については、遮光部に用いられる公知の金属と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
また、遮光部が遮光部用着色層を有する場合、遮光部用着色層に用いられる材料については、後述する着色層の材料と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００４１】
遮光部の形成方法としては、一般的なカラーフィルタに用いられる遮光部の形成方法として公知の方法を用いることができる。本発明においては、なかでも、フォトリソグラフィ法を用いることが好ましい。また、遮光部が遮光部用着色層を有する場合、遮光部用着色層は後述する着色層と同一工程で形成することが好ましい。
【００４２】
２．金属電極層
本発明における金属電極層は、遮光部上に形成されるものであり、後述する有機ＥＬ素子側基板の上面透明電極と導通するように接触するものである。
また、このような金属電極層は、遮光部に沿って形成され、通常、遮光部の開口部には形成されないものである。
【００４３】
金属電極層の線幅としては、遮光部上に形成することができれば特に限定されない。例えば、図８（ａ）、（ｂ）等に示すように金属電極層１５の線幅が遮光部１２の線幅よりも小さくてもよく図９に示すように金属電極層１５の線幅が遮光部１２の線幅と同等であってもよい。本発明においては、なかでも、金属電極層の線幅が遮光部の線幅と同等であることが好ましい。金属電極層および上面透明電極層の導通面積をより大きくすることができることから、輝度ムラの発生をより好適に防止できる有機ＥＬ表示装置とすることができるからである。
【００４４】
具体的な金属電極層の線幅としては、有機ＥＬ表示装置の用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、具体的には、１０μｍ以上、なかでも１２μｍ〜１００μｍの範囲内、特に１３μｍ〜９０μｍの範囲内であることが好ましい。金属電極層の線幅が上記範囲に満たない場合は、その電気抵抗を十分に小さいものとすることができない可能性があるからである。
また、金属電極層の線幅の上限としては、下層に形成される遮光部の線幅と同等とすることができる。遮光部の線幅よりも金属電極層の線幅が大きい場合は、金属電極層による外光の反射が観察者から観察されやすくなるおそれがあるからである。
【００４５】
金属電極層の厚みとしては、所望の導電性を有していれば特に限定されないが、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内、なかでも５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内、特に１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。金属電極層の厚みが上記範囲に満たない場合は、金属電極層の抵抗が大きくなる可能性があるからであり、金属電極層の厚みが上記範囲を超える場合は、金属電極層の形成時間が多くかかり、製造コストが高くなる可能性があるからである。また、金属電極層の応力が大きくなり、割れ等が生じやすくなる可能性があるからである。
【００４６】
次に、金属電極層に用いられる金属材料について説明する。
金属電極層に用いられる金属材料としては、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏといった金属やＡＰＣ（Ａｇ、Ｐｄ、Ｃｕを含む合金）等の上述した金属の合金、またはＭＡＭ（モリブデン膜、アルミニウム・ネオジウム合金膜およびモリブデン膜がこの順に積層された複層金属膜）に代表される複層金属膜等を挙げることができる。
本発明においては、なかでもＡＰＣを用いることが好ましい。金属電極層の電導性を良好なものとすることができるからである。
【００４７】
このような金属電極層の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法が好適に用いられる。
【００４８】
３．透明電極層
本発明に用いられる透明電極層は、遮光部および着色層上の全面に形成されるものである。透明電極層は、金属電極層を介して有機ＥＬ素子側基板からカラーフィルタ側に導かれた電流をカラーフィルタの全面により均一に逃すために用いられるものである。
また、透明電極層は、カラーフィルタにガスバリア性を付与するものである。
【００４９】
本発明においては、透明電極層は、遮光部および着色層上の全面に形成されていればよく、例えば図８（ａ）、（ｂ）等に例示するように、遮光部１２上に形成された金属電極層１５上に形成されていてもよく、図１４に例示するように、遮光部１２および金属電極層１５の間に形成されていてもよい。
【００５０】
透明電極層の光透過性としては、有機ＥＬ層の発光層からの光を透過させ、所望の表示を行うことができれば特に限定されず、例えば、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける平均透過率が８５％〜９８％の範囲内であることが好ましく、中でも９０％〜９７％の範囲内であることが好ましく、特に９２％〜９６％の範囲内であることが好ましい。
なお、平均透過率は、例えば島津製作所製紫外可視光分光光度計ＵＶ−３６００により測定することができる。
【００５１】
また、透明電極層のガスバリア性としては、水蒸気、酸素、カラーフィルタの構成部材からの脱離ガス等のガスに対してバリア性を発現することができれば特に限定されない。具体的には、透明電極層の酸素透過率（ＯＴＲ）が０．３ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ以下、中でも０．１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましい。
また、透明電極層の水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下、中でも０．０５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましい。
なお、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、湿度９０％Ｒｈの条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０：商品名）を用いて測定した値であり、上記水蒸気透過率は、測定温度３７．８℃、湿度１００％Ｒｈの条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ ３／３１：商品名）を用いて測定した値である。
【００５２】
透明電極層の厚みとしては、所望の導電性、およびガスバリア性を発揮することができれば特に限定されないが、３０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内、なかでも４０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内、特に４０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましい。透明電極層の厚みが上記範囲に満たない場合は、透明電極層の抵抗が大きくなる可能性があるからであり、透明電極層の厚みが上記範囲を超える場合は、透明電極層の形成時間が多くかかり、製造コストが高くなる可能性があるからである。また、透明電極層の応力が大きくなり、割れ等が生じやすくなる可能性があるからである。
【００５３】
透明電極層の材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。
【００５４】
透明電極層の形成方法については、電極層の形成方法として公知の方法を用いることができ、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等を挙げることができる。
【００５５】
４．着色層
本発明に用いられる着色層は、透明基板上の遮光部の開口部に形成されるものである。本発明においては、通常、赤色着色層、緑色着色層、青色着色層の３色の複数色の着色層を有する。また、上記３色の着色層以外の色の着色層を有していてもよい。本発明において、上述した３色の着色層に加えて、白色着色層を有することが好ましい。
また、各着色層は有機ＥＬ表示装置における各画素に配置されて用いられる。
【００５６】
複数色の着色層のパターン配列については、上述した遮光部の開口部のパターン配列と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００５７】
着色層の高さ（厚み）としては、上述した遮光部の高さよりも低く、所望のカラー表示を行うことが可能な程度の高さ（厚み）であれば特に限定されず、カラーフィルタの形態、有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて適宜選択することができる。具体的な着色層の高さ（厚み）としては、０．５μｍ〜５μｍの範囲内、なかでも０．７μｍ〜４μｍの範囲内、特に１μｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましい。
着色層の高さ（厚み）が上記範囲に満たない場合、または上記範囲を超える場合は、着色層自体を形成することが困難となる可能性があるからである。
【００５８】
次に、着色層の材料について説明する。
着色層は、各色の顔料や染料等の着色剤を感光性樹脂等の樹脂に分散または溶解させることにより形成されるものである。
【００５９】
赤色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
また、白色着色層は、感光性樹脂のみを用いて形成することも可能であるが、有機ＥＬ表示装置を用いて所望の白色表示を行うため、調色のための着色剤を分散または溶解させてもよい。このような着色剤としては、上述した赤色、緑色、青色の着色剤や、例えば黄色、黒色等の着色剤を挙げることができる。具体的な着色剤については、公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【００６０】
感光性樹脂としては、一般的な着色層材料として公知の感光性樹脂を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【００６１】
着色層の形成方法としては、一般的なカラーフィルタの着色層の形成方法として公知の方法を用いることができる。本発明においては、なかでも、フォトリソグラフィ法を好適に用いることができる。
【００６２】
５．透明基板
本発明に用いられる透明基板は、上述した遮光部、着色層、および金属電極層を支持するために用いられるものである。
【００６３】
透明基板は、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様なものを用いることができる。具体的には、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。
【００６４】
６．その他の構成
本発明に用いられるカラーフィルタとしては、上述した各構成を有していれば特に限定されず、必要に応じて、上記以外の構成を適宜選択して用いることができる。
【００６５】
本発明に用いられるカラーフィルタ１０は、例えば、図１３に示すように、遮光部１２および着色層１３を覆うように形成されたオーバーコート層１６を有していてもよい。この場合、金属電極層１５および必要に応じて形成される透明電極層１４はオーバーコート層１６上に形成される。本発明においては、オーバーコート層１６を有する場合は、遮光部１２および着色層１３の表面を平坦化することができ、金属電極層１５を良好に形成することができる。また、カラーフィルタ側から有機ＥＬ表示装置内部への酸素、水蒸気等の浸入を抑制することができる。
【００６６】
オーバーコート層の材料としては、所定の光透過性を有するものであれば特に限定されるものではなく、光硬化性樹脂であってもよく、熱硬化性樹脂であってもよい。
このようなオーバーコート層の材料としては、一般的なバインダ樹脂、モノマー成分、光重合開始剤、熱重合開始剤等が挙げられる。
【００６７】
オーバーコート層の厚みとしては、所定の光透過性が得られる程度であり、着色層および遮光部の表面を平坦化することができる程度であれば特に限定されないが、例えば、０．５μｍ〜５．０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．７μｍ〜３．０μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．９μｍ〜２．０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００６８】
オーバーコート層の形成方法としては、着色層および遮光部の表面を覆うように形成することができる方法であれば特に限定されないが、例えば、スピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法等が挙げられる。
【００６９】
７．カラーフィルタの形成方法
本発明に用いられるカラーフィルタの形成方法については、一般的なカラーフィルタの形成方法として公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【００７０】
ＩＩ．有機ＥＬ素子側基板
本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板は、基板と、有機ＥＬ素子とを有するものである。
【００７１】
１．有機ＥＬ素子
本発明に用いられる有機ＥＬ素子は、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有するものである。
【００７２】
（１）有機ＥＬ層
本発明に用いられる有機ＥＬ層は、後述する下面電極層上に形成され、発光層を含むものである。
また、有機ＥＬ層は、有機ＥＬ表示装置における各画素に配置されて用いられるものである。また、通常、カラーフィルタの各着色層と対向するように配置されるものである。
【００７３】
また、有機ＥＬ層は、発光層に加えて、通常、複数層の有機層から構成されるものであり、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層や、白色発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、白色発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を有するものとすることができる。以下、本発明に用いられる有機ＥＬ層を構成する各層について説明する。
【００７４】
（ａ）発光層
本発明に用いられる発光層としては、所望の発光を得ることができれば特に限定されず、例えば、白色発光層を有していてもよく、赤色発光層、青色発光層および緑色発光層の３色の発光層を有していていもよい。本発明においては、なかでも白色発光層を有することが好ましい。以下、本発明において好ましい態様である白色発光層について説明する。
【００７５】
本発明において好適な発光層として用いられる白色発光層は、白色光を発光することができるものであればよい。このような白色発光層は、具体的には、有機ＥＬ層に電圧が加えられた際に、少なくとも青色光（４３０ｎｍ〜４７０ｎｍ）、緑色光（４７０ｎｍ〜６００ｎｍ）、および赤色光（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）の波長域の発光スペクトルを有するものであればよい。さらには、発光スペクトルにおいて緑色光（４７０ｎｍ〜６００ｎｍ）ピークの最大発光強度と青色光（４３０ｎｍ〜４７０ｎｍ）ピークの最大発光強度との比（緑色光ピークの最大発光強度／青色光ピークの最大発光強度）が、０．３〜０．８の範囲内であることが好ましく、０．３〜０．７の範囲内であることがより好ましく、特に０．３〜０．５の範囲内であることが好ましい。
【００７６】
緑色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度との比が上記の範囲内であることにより、青色パターンの透過率が大きいことによる消費電力低減効果を、より効果的に発揮することができる。また、赤色光（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）については、赤色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度との比（赤色光ピークの最大発光強度／青色光ピークの最大発光強度）が０．３〜１．０の範囲内であることが好ましい。
【００７７】
このような白色発光層を構成する材料としては、蛍光または燐光を発するものであればよく、特に限定されるものではない。また、発光材料は、正孔輸送性や電子輸送性を有していてもよい。発光材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。
【００７８】
上記の色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、およびピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【００７９】
また、上記の金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、およびユーロピウム錯体、あるいは、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等またはＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、およびキノリン構造等を有する金属錯体などを挙げることができる。
【００８０】
また、上記の高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ならびに上記の色素系材料および金属錯体系材料を高分子化したもの等を挙げることができる。
【００８１】
上記の白色発光層の形成方法としては、例えば、蒸着法、印刷法、インクジェット法、またはスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、および自己組織化法（交互吸着法、自己組織化単分子膜法）等を挙げることができる。これらの中でも特に、蒸着法、スピンコート法、およびインクジェット法を用いることが好ましい。
【００８２】
本発明に用いられる白色発光層の膜厚は、通常５ｎｍ〜５μｍ程度とされる。
【００８３】
（ｂ）正孔注入層
本発明においては、白色発光層と陽極（図１等における下面電極層８１もしくは上面透明電極層８５）との間に正孔注入層が形成されていてもよい。正孔注入層を設けることにより、白色発光層への正孔の注入が安定化し、発光効率を高めることができる。
【００８４】
本発明に用いられる正孔注入層の形成材料としては、一般的に有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている材料を用いることができる。また、正孔注入層の形成材料は、正孔の注入性もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであればよい。
【００８５】
具体的に、正孔注入層の形成材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、およびチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに、正孔注入層の形成材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、およびスチリルアミン化合物等を例示することができる。
【００８６】
このような材料から構成される正孔注入層の膜厚は、通常、５ｎｍ〜１μｍ程度とされる。
【００８７】
（ｃ）電子注入層
本発明においては、白色発光層と陰極（図１等における上面透明電極層８５もしくは下面電極層８１）との間に電子注入層が形成されていてもよい。電子注入層を設けることにより、白色発光層への電子の注入が安定化し、発光効率を高めることができるからである。
【００８８】
本発明に用いられる電子注入層の形成材料としては、例えばニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ならびにジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。
【００８９】
このような材料から構成される電子注入層の膜厚は、通常、５ｎｍ〜１μｍ程度とされる。
【００９０】
（２）上面透明電極層
本発明における上面透明電極層は、上述した有機ＥＬ層上に形成され、後述する下面電極層との間に挟まれた有機ＥＬ層に電圧をかけ、白色発光層で発光を起こさせるために設けられる。上面透明電極層は、基板上の全面に形成されていてもよく、所定のパターン状に形成されていてもよいが、通常、基板上の全面に形成される。
【００９１】
また、上面透明電極層は、白色発光層で発生した光を、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側に透過させるものであるから、図１等に示されるように、上面透明電極層８５は、有機ＥＬ層８３と、有機ＥＬ層８３の上側に位置する有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０との間に配置される。
【００９２】
本発明に用いられる上面透明電極層の形成材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。
【００９３】
このような材料から構成される上面透明電極層の膜厚は、通常、１００ｎｍ〜３００ｎｍ程度とされる。
【００９４】
上面透明電極層の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、必要に応じてフォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法が好適に用いられる。
【００９５】
（３）下面電極層
本発明に用いられる下面電極層は、基板上に形成されるものであり、より具体的には基板と有機ＥＬ層との間に配置されるものである。下面電極層は、白色発光層を発光させるための他方の電極層をなすものであり、上記の上面透明電極層と反対の電荷をもつ電極層として構成される。
【００９６】
用いられる下面電極層の形成材料としては、例えば仕事関数が４ｅＶ以下程度と小さい金属、合金、およびそれらの混合物等が挙げられる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウムおよび銅混合物、マグネシウムおよび銀混合物、マグネシウムおよびアルミニウム混合物、マグネシウムおよびインジウム混合物、アルミニウムおよび酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、インジウム、リチウムおよびアルミニウム混合物、ならびに、希土類金属等を例示することができる。より好ましくは、マグネシウムおよび銀混合物、マグネシウムおよびアルミニウム混合物、マグネシウムおよびインジウム混合物、アルミニウムおよび酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、ならびに、リチウムおよびアルミニウム混合物を挙げることができる。
【００９７】
下面電極層は、そのシート抵抗が数Ω／ｃｍ以下であることが好ましい。また、下面電極層の膜厚は、通常、１０ｎｍ〜１μｍ程度とされる。
【００９８】
下面電極層の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法が好適に用いられる。なお、下面電極層には有機ＥＬ素子に流れる電流を制御するためのＴＦＴ（Thin Film Transistor）が接続される。
【００９９】
２．基板
本発明に用いられる基板としては、有機ＥＬ素子等を支持することができるものであればよく、有機ＥＬ表示装置の構成部材として一般的に用いられるものを使用することができる。なお、本発明の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側から光が取り出される、いわゆるトップエミッション方式であるため、有機ＥＬ素子側基板の基板としては、透明であっても、不透明であってもよい。
【０１００】
３．その他の構成
本発明の有機ＥＬ素子側基板は、上述した下面電極層、有機ＥＬ層、および上面透明電極層を有していれば特に限定されず、必要な構成を適宜選択して追加することができる。
【０１０１】
（１）ＴＦＴ
本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板は、通常、画素を構成する有機ＥＬ素子に流れる電流を制御するためのＴＦＴ（Thin Film Transistor）を有する。
図１等に例示するようにＴＦＴ７５は、基板上に画素ごとに配置形成されている。また、図示はしないが、各ＴＦＴの回路にはゲート線、信号線、電源線が接続されている。
【０１０２】
上記ＴＦＴの具体的な構成および形成方法については、有機ＥＬ表示装置に用いられるＴＦＴの構成および形成方法として公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１０３】
（２）第１絶縁層および第２絶縁層
図１等に示すように本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板７０は、通常、ＴＦＴ７５上に第１絶縁層７７が形成される。また、下面電極層８１と上面透明電極層８５とが直接接触することを防ぐために基板上に第２絶縁層９１が形成される。
【０１０４】
第２絶縁層のパターン形状は、通常、線状とすることができ、有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて、例えばマトリクス状またはストライプ状の開口部を有するパターンを形成することができる。
【０１０５】
このような第１絶縁層および第２絶縁層の形成材料としては、例えば感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、および熱硬化型樹脂、ならびに無機材料などを用いることができる。
【０１０６】
第１絶縁層および第２絶縁層の形成方法としては、上記材料を塗布して、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が挙げられる。また、印刷法等を用いることもできる。
【０１０７】
（３）封止層
本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基材は、封止層を有していてもよい。
図２に示すように、封止層９５は、上面透明電極層８５上の金属電極層１５との導通部分以外の部分（以下、非導通部分と称して説明する場合がある。）に形成される。封止層９５は、有機ＥＬ層８３へ水蒸気や酸素が到達することを遮断する保護層として設けられる。
【０１０８】
封止層としては、水蒸気や酸素に対してバリア性を発現することができ、かつ透明であれば特に限定されるものではなく、例えば透明無機膜、透明樹脂膜、あるいは有機−無機ハイブリッド膜等が用いられる。中でも、バリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。
【０１０９】
封止層として好適に用いられる透明無機膜の形成材料としては、例えば酸化アルミニウム、酸化ケイ素、および酸化マグネシウム等の酸化物；窒化ケイ素等の窒化物；窒化酸化ケイ素等の窒化酸化物；などが用いられる。特に、ピンホールが生じにくくガスバリア性が高いことから、窒化酸化ケイ素が好適である。
【０１１０】
封止層は、単層であっても良く、多層であってもよい。例えば、封止層が複数の窒化酸化ケイ素膜が積層された多層である場合は、バリア性をさらに高めることができる。また、封止層が多層である場合は、各層にそれぞれ異なる材料を用いてもよい。
【０１１１】
封止層の厚みは、用いる封止層の形成材料の種類等に応じて適宜、決定するようにすればよい。通常、５ｎｍ〜５μｍ程度とされる。この封止層の厚みが薄すぎるとバリア性が不十分となる傾向が生じ、また封止層の厚みが厚すぎると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易くなるという傾向が生じる。
【０１１２】
封止層が透明の無機膜である場合、この透明無機膜の形成方法としては、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム（ＥＢ）蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、原子層エピタキシ（ＡＬＥ）法、レーザーアブレーション法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点から、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法が好ましく用いられる。
【０１１３】
封止層を上述した非導通部分にパターン状に形成する手法としては、例えば、封止層の薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が好適に用いられる。
【０１１４】
４．有機ＥＬ素子側基板の形成方法
本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板の形成方法としては、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ素子側基板の形成方法として公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１１５】
ＩＩＩ．その他の構成
本発明の有機ＥＬ表示装置は、カラーフィルタと、有機ＥＬ素子側基板とを有していれば特に限定されず、必要に応じて、上記以外の構成を適宜選択して追加することができる。
以下、このような構成について説明する。
【０１１６】
１．接着剤層
本発明の有機ＥＬ表示装置は、接着剤層を有していてもよい。図１等に示すように、接着剤層９９は、カラーフィルタ１０および有機ＥＬ素子側基板７０の間の空間に充填するように配置され、両者を貼り合わせるために用いられるものである。
接着剤層としては、透明で接着力を有し、かつ、硬化性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような接着剤層を形成する材料としては、例えば、熱硬化性を有する接着剤、あるいは光硬化性を有する接着剤を好適例として挙げることができる。通常、溶剤を必要としないタイプものがよい。また、フィルム状の接着シートタイプのものを用いてもよい。具体的には、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、合成ゴム系などの接着剤や接着シートを挙げることができる。
【０１１７】
２．シール剤
本発明の有機ＥＬ表示装置は、シール剤を有していてもよい。シール剤は、上述したカラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の外周部に配置されるものであり、有機ＥＬ表示装置を封止するものである。シール剤を用いる場合は、通常、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の間の隙間部分を空けたままにしておき、窒素等の不活性ガス雰囲気中において封止が行われる。また、この場合、有機ＥＬ表示装置の中空の内部に酸化バリウム等の捕水剤を備えるようにしてもよい。
シール剤、およびこれを用いた封止方法については、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１１８】
３．配線
本発明の有機ＥＬ表示装置は、通常、表示装置の電源と有機ＥＬ表示装置とを繋ぐ配線が設けられる。
電源からの配線形態は、例えば、図１等に示されるように、電源Ｐの一方の極から各々のＴＦＴ７５に至る配線２０１と、電源Ｐの他方の極から上面透明電極層８５に至る配線２０２−２０３と、電源Ｐの他方の極から金属電極層１５に至る配線２０２−２０４と、を有し構成される。有機ＥＬ素子８０を発光させるための配線回路が配線２０１と配線２０２−２０３であり、ＴＦＴ側の電流をカラーフィルタ側の金属電極層１５へ逃がして電圧降下を防止するための配線回路が配線２０１と配線２０４−２０２である。
本発明に用いられる配線については、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１１９】
ＩＶ．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、金属電極層と上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする。本発明の有機ＥＬ表示装置としては、上述した態様のなかでも、金属電極層と上面透明電極層とが直接接触している態様、または金属電極層と上面透明電極層とが透明電極層を介して接触している態様であることが好ましい。有機ＥＬ表示装置の製造工程数を少なくすることができ、より生産性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができるからである。
【０１２０】
Ｖ．有機ＥＬ表示装置の製造方法
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法については、一般的な有機ＥＬ表示装置の製造方法として公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１２１】
ＶＩ．用途
本発明の有機ＥＬ表示装置の用途としては、例えば、大型ディスプレイ等を挙げることができる。
【０１２２】
Ｂ．有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタは、透明基板と、上記透明基板上に形成され開口部を有する遮光部と、上記透明基板上の上記遮光部の上記開口部に形成された着色層と、上記遮光部および上記着色層上の全面に形成された透明電極層と、上記遮光部上に形成された金属電極層とを備え、上記遮光部の高さが上記着色層の高さよりも高いことを特徴とするものである。
【０１２３】
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの例としては、例えば、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置」の項で説明した図８(ａ)、（ｂ）〜図１４等を挙げることができる。
【０１２４】
本発明によれば、遮光部の高さが着色層の高さよりも高く、上記遮光部上に形成された金属電極層を有していることから、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、金属電極層を有機ＥＬ素子側基板の上面透明電極層と導通するように接触させることができるため、輝度ムラおよび視差混色等の発生を好適に抑制することができ、また、生産性が良好な有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとすることができる。
【０１２５】
より具体的には、本発明によれば、金属電極層を有していることから、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に金属電極層を有機ＥＬ素子側基板の上面透明電極層と導通するように接触させることができ、有機ＥＬ素子側基板からの電流を金属電極層を介してカラーフィルタ側に導いて逃すことができるため、輝度ムラの発生を抑制することができる。
また、本発明によれば、上記金属電極層が比較的面積の大きな遮光部上に形成されていることから、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、金属電極層および上面透明電極層の導通面積を大きくすることができるため、輝度ムラの発生を好適に抑制することができる。
また、本発明によれば、遮光部の高さが着色層の高さよりも高いことから、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板を対向させることで、透明基板、基板および遮光部で囲まれる空間に有機ＥＬ素子を配置することができ、有機ＥＬ表示装置内部で生じた回折光を遮光部で吸収することができ、また、有機ＥＬ表示装置を斜めからみたときに有機ＥＬ素子の光が隣接する他の画素に配置された着色層を透過することを防止することができることから、視差混色等を防止することができる。
また、本発明によれば、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、遮光部を用いて金属電極層を上面透明電極層と導通するように接触させることができることから、例えば柱部等の金属電極層と上面透明電極層とを導通するように接触させるための他の部材を必要としないため、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの製造工程数を少なくすることができ、生産性が良好な有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタとすることができる。
【０１２６】
また、本発明によれば、透明電極層が遮光部および着色層上の全面に形成されていることから、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、金属電極層を介してカラーフィルタ側に導かれた電流をカラーフィルタ全面に均一に逃すことができるため、有機ＥＬ表示装置の周辺部および中央部における電圧降下の差をより小さくすることができることから、より輝度ムラの少ない表示が可能となる。
また、本発明によれば、上記透明電極層が形成されていることにより、カラーフィルタにガスバリア性を付与することができるため、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、有機ＥＬ素子の劣化を抑制することができる。
【０１２７】
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの詳細については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置  Ｉ．カラーフィルタ」の項で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１２８】
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタが用いられる有機ＥＬ表示装置については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置」の項で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１２９】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１３０】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【０１３１】
［実施例１］
（透明基板の準備）
透明基板として、大きさが１５００ｍｍ×１８５０ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基板を準備した。
【０１３２】
（遮光部形成用組成物の調整）
まず、重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３質量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７質量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７質量部、トリエチルアミンを０．４質量部、及びハイドロキノンを０．２質量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
【０１３３】
次に、下記の材料を室温で攪拌、混合して下記組成の硬化性樹脂組成物Ａを調製した。
＜硬化性樹脂組成物Ａの組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）                                …１６質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社  ＳＲ３９９）
…２４質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社  エピコート１８０Ｓ７０）                                                            …４質量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
…４質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                              …５２質量部
【０１３４】
次いで、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
＜黒色顔料分散液の組成＞
・黒色顔料(三菱化学社製  ＃２６００）                              …２０質量部
・高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社  Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ  １１１）
…１６質量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）                      …６４質量部
【０１３５】
その後、下記分量の成分を十分混合して、遮光部形成用組成物を得た。
＜遮光部形成用組成物の組成＞
・上記黒色顔料分散液                                                …５０質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …２０質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                              …３０質量部
【０１３６】
（遮光部の形成）
次に、得られた遮光部形成用組成物を透明基板に塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングし、その後焼成して遮光部を形成した。
得られた遮光部の膜厚は３μｍだった。
【０１３７】
（着色層の形成）
次いで、下記組成の赤色着色層形成用組成物、緑色着色層形成用組成物、青色着色層形成用組成物を調製した。
【０１３８】
＜赤色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４                                    …１０質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                        …８質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …１５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …６７質量部
【０１３９】
＜緑色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８                                    …１０質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８                                    …３質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                        …８質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …１２質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …６７質量部
【０１４０】
＜青色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１                                          …５質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                        …３質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …２５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …６７質量部
【０１４１】
＜白色着色層形成用組成物＞
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …３３質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …６７質量部
【０１４２】
次に、ガラス基板上の遮光部を覆うように赤色着色層形成用組成物をスピンコート法により塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングした後、焼成して赤色着色層を形成した。
その後、緑色着色層形成用組成物、および青色着色層形成用組成物を用いて、同様の操作により緑色着色層および青色着色層を形成した。これにより、赤色着色層、緑色着色層、および青色着色層、白色着色層が配列された着色層を形成した。
着色層の膜厚は、赤色着色層１．５μｍ、緑色着色層１．５μｍ、青色着色層１．５μｍ、白色着色層１．５μｍとした。
【０１４３】
（金属電極層の形成）
次いで、遮光部上および着色層上に、蒸着法を用いて厚み０．５μｍのＡｇ薄膜を形成し、その後、フォトリソグラフィ法によりパターニングして遮光部が形成された非画素エリアに金属電極層を形成した。
【０１４４】
（透明電極層の形成）
次いで、スパッタリング法により厚み１００ｎｍのＩＴＯ膜を透明基板の金属電極層側全面に形成して透明電極層を得た。
【０１４５】
（アニール処理）
その後、１５０℃の条件下で４０分間アニール処理を行った。
以上の手順により、カラーフィルタを得た。
【０１４６】
（有機ＥＬ表示装置の作製）
上記のカラーフィルタと対向配置して有機ＥＬ表示装置を作製するための有機ＥＬ素子側基板として、白色発光光源を備える有機ＥＬ素子側基板を以下の要領で作製した。
まず、基板として、大きさが１５００ｍｍ×１８５０ｍｍ、厚さが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この基板に対して、定法にしたがって薄膜トランジスタ回路を作製した。
この上に、カラーフィルタ基板の各色の着色層に対応するようにアルミニウムからなる下面電極層を形成し、これらの下面電極層の間隙にポリイミドからなる絶縁層（隔壁部）を形成した。次に、絶縁層（隔壁部）の間隙に白色発光の有機ＥＬ素子（正孔注入層、白色発光層、電子注入層の積層構成）を形成し、これらの上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる上面透明電極層を形成した。
その後、カラーフィルタの着色層側表面と上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子側基板の有機ＥＬ素子側表面とが対向し、カラーフィルタ側の透明電極層と上面透明電極層とが導通するよう接触させ、接着剤（日東電工（株）製  ＮＴ−０１ＵＶ）を介して貼り合わせることにより、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０１４７】
［実施例２］
実施例１と同様の方法で着色層を形成し、次に以下の方法でオーバーコート層を作製した。
【０１４８】
（オーバーコート層の形成等）
着色層を形成した基板上に、硬化性樹脂組成物Ａをスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜１μｍの塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いてオーバーコート層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を２００℃の雰囲気中に３０分間放置することにより加熱処理を施してオーバーコート層を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、金属電極層、透明電極層、アニール処理を行い、カラーフィルタを作製した。
また、その後、実施例１と同様の有機ＥＬ表示装置の作製方法で、有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１４９】
［比較例１］
実施例１と同様の方法で、遮光部の膜厚を１．０μｍに変更して作製し、その後、着色層を実施例１と同様の方法で作製した。次いで、非画素エリアの所定の箇所に、フォトリソグラフィ法を用いてＮＮ７８０（ＪＳＲ社製）を用いて凸状柱を形成し、カラーフィルタを得た。凸状柱の基部の幅は４０μｍ、頂部の幅は２０μｍ、高さは２０μｍであり、基部側から頂部に至るテーパー角度は７０°であった。
その後実施例１と同様の有機ＥＬ表示装置の作成方法で、有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１５０】
［比較例２］
実施例２と同様の方法で、金属電極層までを形成した。次に比較例１と同様の方法で凸状柱を形成した。最後に、実施例１と同様の方法で、透明電極層とアニール処理を行いカラーフィルタを得た。
その後実施例１と同様の有機ＥＬ表示装置の作成方法で、有機ＥＬ表示装置を得た。
【０１５１】
［評価］
（輝度ムラの評価方法）
上記有機ＥＬ表示装置について、白表示をした際に表示部の中央と外周の輝度の差（ΔＹ）を輝度計（株）トプコン製ＳＲ−３ＡＲを用いて行った。表１中、ΔＹが１０％未満を○とし、ΔＹが１０％以上を×とした。
【０１５２】
（視差混色の評価方法）
有機ＥＬ表示装置を白画素の単色表示にし正面に対して斜め６０°から見たときの色ずれを目視で混色の有無を確認し、比較例１を基準として比較を行った。表１中、比較例１より混色レベルが良化の場合を○と判定し、比較例１の混色レベル同等以下の場合を×と判定した。
【０１５３】
（工程数・コストの判断）
カラーフィルタを製造する工程数について、比較例２の工程数を基準として比較を行った。表１中、比較例２より工程数が１工程少ない製造方法を−１、２工程少ない製造方法を−２、３工程少ない製造方法を−３とした。また、表１中のコストの欄では、比較例２より工程数が１工程少ない製造方法を○、２工程以上少ない製造方法を◎とした。
【０１５４】
（総合判定）
輝度ムラ評価結果及びコスト判断結果が○若しくは◎のみにおいて、総合判断を○とし判定を行った。
【０１５５】
【表１】
2014186841.tif 000003
【符号の説明】
【０１５６】
１０  …  カラーフィルタ（有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ）
１１  …  透明基板
１２  …  遮光部
１３  …  着色層
１４  …  透明電極層
１５  …  金属電極層
７０  …  有機ＥＬ素子側基板
７１  …  基板
８０  …  有機ＥＬ素子
８１  …  下面電極層
８３  …  有機ＥＬ層
８５  …  上面透明電極層
１００  …  有機ＥＬ表示装置
【図１】
2014186841.tif 000004
【図２】
2014186841.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2014186841.tif 000012
【図１０】
2014186841.tif 000013
【図１１】
2014186841.tif 000014
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2014186841.tif 000017