(57)【要約】【課題】  透明導電膜の視認性が良好でかつ低抵抗の透明導電膜が得られるベースフィルムを提供する。【解決手段】  基材フィルムの少なくとも一方の面に、屈折率が１．６０〜１．８０である高屈折率層および屈折率が１．５２以下である低屈折率層をこの順に有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記高屈折率層および前記低屈折率層はそれぞれ樹脂を主成分として含有し、かつ前記低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ未満であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも一方の面に、屈折率が１．６０〜１．８０である高屈折率層および屈折率が１．５２以下である低屈折率層をこの順に有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記高屈折率層および前記低屈折率層はそれぞれ樹脂を主成分として含有し、かつ前記低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ未満であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項２】
請求項１に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの低屈折率層上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびこのベースフィルムを用いたタッチパネル用透明導電性フィルムに関する。詳しくは、視認性が良好でかつ表面抵抗値が小さいタッチパネル用透明導電性フィルムを得るためのベースフィルムに関する。
【０００２】
以下の説明において、「タッチパネル用透明導電性フィルム」を単に「透明導電性フィルム」と言うことがあり、また「透明導電性フィルム」なる表現は断りのない限り「タッチパネル用透明導電性フィルム」を意味する。
【背景技術】
【０００３】
透明導電性フィルムのベースフィルムとして、基材フィルム上にハードコート層が設けられたハードコートフィルムが一般に知られている。透明導電性フィルムは、このようなベースフィルムの片面もしくは両面に透明導電膜を設けることにより得られる。
【０００４】
また、透明導電性フィルムの透明導電膜の視認性を向上させるために、基材フィルム上に各種機能層を設けたベースフィルムが提案されている。
【０００５】
例えば、透明導電膜の色調（色味）を調整するために、基材フィルム上に光学機能層を積層したベースフィルムが提案されており（特許文献１〜３）、またパターン化された透明導電膜のパターンが視認される現象（いわゆる「骨見え」）を抑制するために、基材フィルム上に屈折率調整層を積層したベースフィルムとして知られている（特許文献４〜８）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３０１６４８号公報
【特許文献２】特開２００３−２５１７５１号公報
【特許文献３】特開２００４−４７４５６号公報
【特許文献４】特開２００９−７６４３２号公報
【特許文献５】特開２０１０−２０８１６９号公報
【特許文献６】特開２０１１−３７２５８号公報
【特許文献７】特開２０１１−１３４４６４号公報
【特許文献８】特開２０１１−２４８６１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述した特許文献に記載されているように、光学機能層や屈折率調整層の形成方法としては、高屈折率材料や低屈折率材料をスパッタリング法により積層する方法、あるいは高屈折率の金属酸化物微粒子や低屈折率のシリカ粒子と樹脂を含む塗布液をウェットコーティング法により積層することが一般的に知られている。
【０００８】
ウェットコーティング法はスパッタリング法に比べて生産性に優れている。しかしながら、金属酸化物微粒子やシリカ粒子のような粒子と樹脂を含む塗布液をウェットコーティング法により積層して形成された光学機能層や屈折率調整層の上に透明導電膜を積層して得られた透明導電性フィルムは、透明導電膜本来の表面抵抗値が得られないという問題がある。これは、透明導電膜が積層される表面（光学機能層表面あるいは屈折率調整層表面）の平滑性が起因していると推測される。
【０００９】
一方、透明導電膜の色調をニュートラルな無色に近づけることや、パターン化された透明導電膜のパターンが視認される「骨見え」を抑制することは、透明導電性フィルムの視認性向上にとって重要な課題である。上記した透明導電膜の視認性の問題（色調、骨見え、透過率）は、透明導電膜の厚みが小さいほど良化傾向にある。
【００１０】
つまり、透明導電性フィルムの透明導電膜は、設定された表面抵抗値が得られる範囲で薄膜とすることが、上記した透明導電膜の視認性の観点から好ましい。
【００１１】
従って、本発明の目的は、上記の従来技術の課題に鑑み、透明導電膜の視認性が良好でかつ低抵抗の透明導電膜が得られるベースフィルムを提供することにある。本発明の他の目的は本発明のベースフィルムを用いたタッチパネル用透明導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、以下の発明により基本的に達成された。
１）基材フィルムの少なくとも一方の面に、屈折率が１．６０〜１．８０である高屈折率層および屈折率が１．５２以下である低屈折率層をこの順に有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記高屈折率層および前記低屈折率層はそれぞれ樹脂を主成分として含有し、かつ前記低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ未満であることを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
２）前記１）に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの低屈折率層上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、透明導電膜の厚みが比較的薄膜であっても低抵抗を実現することが可能であり、かつ透明導電膜の視認性を向上させることができる、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムを提供することができる。また、本発明のベースフィルムを用いることにより、低抵抗で視認性の良好なタッチパネル用透明導電性フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明のベースフィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に高屈折率層と低屈折率層をこの順に有する。高屈折率層の屈折率は１．６０〜１．８０であり、低屈折率層の屈折率が１．５２以下である。高屈折率層および低屈折率層はそれぞれ樹脂を主成分として含有する。そして、低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）は１ｎｍ未満である。
【００１５】
本発明において、高屈折率層と低屈折率層の積層構成は、透明導電膜の色調を調整するための光学機能層あるいはパターン化された透明導電膜の骨見えを抑制するための屈折率調整層として機能を有する。特に、本発明において、高屈折率層と低屈折率層の積層構成は、パターン化された透明導電膜の骨見えを抑制するのに好適である。
【００１６】
本発明では、高屈折率層および低屈折率層はそれぞれ樹脂を主成分として含有することにより、低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ未満とすることができる。つまり、本発明において、低屈折率層表面は極めて平滑である。低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）は、０．８ｎｍ以下が好ましく、０．６ｎｍ以下がより好ましく、特に０．５ｎｍ以下が好ましい。下限の平均粗さ（Ｒａ）は、０．１ｎｍ程度である。
【００１７】
低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）は、中心平面からの偏差の算術平均を表し、下記の式で求められたものである。
【００１８】
【数１】
2014119475.tif 000002
【００１９】
式中、Ｚｃｐは中心平面のＺ値であり、Ｚｉは個々のデータ・ポイントでのＺ値、Ｎは領域内のデータ点数である。
【００２０】
上記した平均粗さ（Ｒａ）は、原子力間顕微鏡を用いて測定することができる。
【００２１】
このような極めて平滑な低屈折率層の上に積層された透明導電膜は、比較的薄膜であっても表面抵抗値が小さくなる。さらに、比較的薄膜の透明導電膜と、本発明の高屈折率層と低屈折率層の積層構成とを組み合わせることにより、透明導電膜の視認性（色調、骨見え）が向上する。
【００２２】
［基材フィルム］
本発明における基材フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、該材料として、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。好ましくは、熱、溶剤、折り曲げ等の加工時の負荷に対する耐性が高く、透明性が特に高い点で、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等が挙げられ、より好ましくは、加工性に優れている点でポリエステルが使用される。ポリエステルの中でも特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００２３】
基材フィルムの厚みは、２０〜３００μｍの範囲が適当であり、５０〜２５０μｍの範囲が好ましく、５０〜２００μｍの範囲がより好ましい。
【００２４】
［易接着層］
本発明の基材フィルムは、少なくとも高屈折率層および低屈折率層を積層する側の面に易接着層が設けられていることが好ましい。易接着層は基材フィルムの両面に積層されていることがより好ましい。
【００２５】
易接着層は、樹脂を主成分とする層であることが好ましい。すなわち、易接着層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことが特に好ましく、８０質量％以上含むことが最も好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましく、特に９５質量％以下が好ましい。
【００２６】
このような樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂の中でもポリエステル樹脂が好ましく、さらに分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。
【００２７】
易接着層の厚みは、１０〜３００ｎｍの範囲が好ましく、１５〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、特に２０〜１５０ｎｍの範囲が好ましい。
【００２８】
易接着層は、基材フィルム上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましい。特に易接着層を基材フィルムの製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。基材フィルム上に易接着層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
【００２９】
上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。
【００３０】
［高屈折率層］
本発明において、高屈折率層は、その屈折率が１．６０〜１．８０である。高屈折率層の屈折率は、１．６１〜１．７５の範囲が好ましく、１．６２〜１．７０の範囲がより好ましく、１．６３〜１．６８の範囲が特に好ましい。
【００３１】
高屈折率層の厚みは、２０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が特に好ましい。上限は８０ｎｍ以下が好ましく、７０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下が特に好ましく、５０ｎｍ以下が最も好ましい。
【００３２】
高屈折率層は樹脂を主成分として含有する。ここで、高屈折率層が樹脂を主成分として含有するとは、高屈折率層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を６０質量％以上含有することを意味する。高屈折率層における樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましい。
【００３３】
ベースフィルムにおける高屈折率層として、従来から高屈折率の金属酸化物微粒子（平均粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物微粒子）を比較的多量に含有する高屈折率層（高屈折率層の固形分総量１００質量％に対して金属酸化物微粒子を２０質量％以上含有）が一般的に知られている。しかし、このような金属酸化物微粒子などの粒子を比較的多量に含有する高屈折率層を用いた場合、この高屈折率層上に低屈折率層を積層して得られたベースフィルムの低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）は１ｎｍ未満に維持することが難しくなる。
【００３４】
従って、高屈折率層上に積層される低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ未満を維持することができる範囲内で、高屈折率層に金属酸化物微粒子等の粒子を含有させることが重要である。この観点から、高屈折率層が粒子を含有する場合の含有量は、高屈折率層の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以下好ましく、５質量％以下がより好ましく、特に１質量％以下が好ましい。高屈折率層は、粒子を実質的に含有しないことが最も好ましい。ここで、高屈折率層が粒子を実質的に含有しないとは、高屈折率層を形成するための塗工液に粒子を意図的に添加しないことを意味する。
【００３５】
本発明において、高屈折率層は、樹脂を主成分として含有しかつ屈折率が１．６０〜１．８０である。このような高屈折率層は、樹脂として高屈折率樹脂を含有させることによって実現することができる。
【００３６】
また、高屈折率層は、熱硬化性組成物あるいは活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、硬化させた層であることが好ましい。特に、活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、硬化させた層であることが好ましい。ウェットコーティング法としては前述の塗布方法を用いることができる。
【００３７】
以下、高屈折率樹脂を含有する活性エネルギー線硬化性組成物について説明する。
【００３８】
高屈折率樹脂としては、例えばフッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂）、硫黄原子を含む樹脂、窒素原子を含む樹脂、燐原子を含む樹脂、珪素原子を含む樹脂、芳香族環を含む樹脂（例えばフルオレン骨格を含む樹脂、フェニル基を含む樹脂等）が挙げられる。
【００３９】
フッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂）としては、例えば、臭素化アクリル樹脂、臭素化ウレタン樹脂、臭素化ポリエステル樹脂、臭素化ポリエーテル樹脂、臭素化エポキシ樹脂、臭素化スピロアセタール樹脂、臭素化ポリブタジエン樹脂、臭素化ポリチオールポリエン樹脂、塩素化アクリル樹脂、塩素化ウレタン樹脂、塩素化ポリエステル樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂、塩素化エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００４０】
また、臭素原子を含む樹脂の原料成分として、例えばアクリレートのフェニル基のオルト・パラ位をブロモ化した化合物を用いることができる。これらの化合物は、市販品として入手することができる。例えば、第一工業製薬社製のＢＲ−４２、ＢＲ−４２Ｍ、ＢＲ−３０Ｍ、ＢＲ−３１等、ダイセル・サイテック社製のＲＤＸ５１０２７等がある。
【００４１】
また、塩素原子を含む樹脂として、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレートのベンジルクロライド塩などを用いることができる。
【００４２】
尚、以下の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との両方の化合物を含む。
【００４３】
硫黄原子を含む樹脂としては、例えばＳ，Ｓ’−エチレンビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−（チオジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［チオビス（ジエチレンスルフィド）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−（オキシジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。ここでチオ（メタ）アクリレートとは、チオメタクリレートとチオアクリレートの両者を含む。
【００４４】
これらの中でも、Ｓ，Ｓ’−エチレンビス（チオメタクリレート）、Ｓ，Ｓ’−（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）が好適に用いられる。Ｓ，Ｓ’−エチレンビス（チオメタクリレート）は、１，２−エタンジチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる１，２−エタンジチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。またＳ，Ｓ’−（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）は日本触媒社製の商品名Ｓ２ＥＧとして市販されているものを用いることができる。
【００４５】
また、硫黄原子と芳香族環を含む樹脂としては、例えばＳ,Ｓ’−（チオジ−ｐ−フェニレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３−クロロベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３,５−ジクロロベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３−ブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３,５−ジブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３−メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３,５−ジメチルベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’−［４,４’−チオビス（３−メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。これらの中でもＳ，Ｓ’−（チオジ−ｐ−フェニレン）ビス（チオメタクリレート）（住友精化社製ＭＰＳＭＡ）が好適に用いられるが、これは４,４’−チオジベンゼンチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる４,４’−チオジベンゼンチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。
【００４６】
芳香族環を含む樹脂としては、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。例えば新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート（ＮＫエステル４０１Ｐ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）、ＪＦＥケミカル社製９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＣＦ）、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）、大阪ガスケミカル社製ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＥＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（ＢＰＥＦ−Ａ）、オグソールＰＧシリーズ、オグソールＥＧシリーズ、オグソールＥＡシリーズ、オグソールＥＡ−Ｆシリーズ、長瀬産業社製オンコートＥＸシリーズ、共栄社化学社製ＨＩＣ−Ｇシリーズ、ＡＤＥＫＡ社製ＲＦ（Ｘ）シリーズ等を用いることができる。
【００４７】
高屈折率樹脂としては、上記で例示したように、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基、エポキシ基等の重合性官能基を含む重合性モノマーまたは重合性オリゴマーであることがより好ましい。
【００４８】
活性エネルギー線硬化性組成物は、上記した高屈折率樹脂に加えて、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有することが好ましい。ここで、活性エネルギー線硬化性樹脂とは、電子線や紫外線などの活性エネルギー線を照射することにより重合して硬化する樹脂であり、このような樹脂は重合性モノマーや重合性オリゴマーから得られる。
【００４９】
上記重合性モノマーや重合性オリゴマーは、分子中に２個以上の重合性官能基（例えばアクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基等）を有する化合物が好ましく、特に分子中に３個以上の重合性官能基を有する化合物が好ましく用いられる。
【００５０】
上記重合性モノマーの例としては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
【００５１】
上記重合性オリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００５２】
活性エネルギー線硬化性組成物における高屈折率樹脂の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して４０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下が好ましい。
【００５３】
高屈折率樹脂と併用される重合性モノマーや重合性オリゴマーの含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して５〜６０質量％の範囲が好ましく、１０〜５０質量％の範囲がより好ましく、特に１５〜４０質量％の範囲が好ましい。
【００５４】
活性エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。このような光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００５５】
上記光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【００５６】
［低屈折率層］
低屈折率層は、その屈折率が１．５２以下である。低屈折率層の屈折率は、１．４６以下が好ましく、１．４５以下がより好ましく、１．４３以下が特に好ましい。下限は１．２５以上が好ましく、１．３０以上がより好ましい。
【００５７】
低屈折率層の厚みは、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は５０ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下がより好ましい。
【００５８】
低屈折率層は樹脂を主成分として含有する。ここで、低屈折率層が樹脂を主成分として含有するとは、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を６０質量％以上含有することを意味する。低屈折率層における樹脂の含有量は、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。含有量の上限は特に限定されるものではなく、樹脂の含有量が１００質量％であっても良い。
【００５９】
ベースフィルムにおける低屈折率層として、従来からシリカ粒子やフッ化マグネシウム粒子等の低屈折率粒子を比較的多量に含有する低屈折率層（低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して低屈折率粒子を２０質量％以上含有）が一般的に知られている。
【００６０】
しかし、このような低屈折率粒子を比較的多量に含有する低屈折率層を用いた場合、ベースフィルムの低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）は１ｎｍ未満に維持することが難しくなる。従って、低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ未満を維持することができる範囲内で粒子を含有させることが重要である。この観点から、低屈折率層における粒子の含有量は、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以下好ましく、５質量％以下がより好ましく、特に１質量％以下が好ましい。低屈折率層は、粒子を実質的に含有しないことが最も好ましい。ここで、低屈折率層が粒子を実質的に含有しないとは、低屈折率層を形成するための塗工液に粒子を意図的に添加しないことを意味する。
【００６１】
本発明において、低屈折率層は、樹脂を主成分として含有しかつ屈折率が１．５２以下である。このような低屈折率層は樹脂として低屈折率樹脂を含有させることによって実現することができる。
【００６２】
また、低屈折率層は、熱硬化性組成物あるいは活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、硬化させた層であることが好ましい。特に、活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、硬化させた層であることが好ましい。ウェットコーティング法としては前述の塗布方法を用いることができる。
【００６３】
以下、低屈折率樹脂を含有する活性エネルギー線硬化性組成物について説明する。
【００６４】
低屈折率樹脂としては、含フッ素化合物が好ましく用いられる。含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にフッ素原子と重合性官能基（例えばアクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基等）を有するモノマーやオリゴマーである。
【００６５】
含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、  ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−（α−フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。
【００６６】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【００６７】
活性エネルギー線硬化性組成物における含フッ素化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限は９８質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が特に好ましい。
【００６８】
活性エネルギー線硬化性組成物は、上記した低屈折率率樹脂に加えて、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有することが好ましい。ここで、活性エネルギー線硬化性樹脂とは、電子線や紫外線などの活性エネルギー線を照射することにより重合して硬化する樹脂であり、このような樹脂は重合性モノマーや重合性オリゴマーから得られる。
【００６９】
重合性モノマーや重合性オリゴマーとしては、前述の高屈折率層に含有させることができる重合性モノマーや重合性オリゴマーと同様の化合物を用いることができる。
【００７０】
低屈折率樹脂と併用される重合性モノマーや重合性オリゴマーは、１分子中に重合性官能基を３個以上有する化合物が特に好ましく用いられる。
【００７１】
低屈折率樹脂と併用される重合性モノマーや重合性オリゴマーの含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して５〜８０質量％の範囲が好ましく、１０〜７０質量％の範囲がより好ましく、特に２０〜６質量％の範囲が好ましい。
【００７２】
活性エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤は、前述の高屈折率層に含有させることができる光重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。
【００７３】
上記光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【００７４】
［高屈折率層と低屈折率層の形成方法］。
【００７５】
１層ずつウェットコーティング法により塗布して積層する方法は、高屈折率層をウェットコーティングし、必要に応じて乾燥および硬化させて形成した後、低屈折率層をウェットコーティングし、必要に応じて乾燥および硬化させて形成する方法である。高屈折率層と低屈折率層の形成は、別々の工程で行ってもよいし、１つの工程で連続的に行ってもよい。ウェットコーティング法により同時に積層塗布する方法は、同時に積層塗布が可能なコーティング方法、例えば、多層スロットダイコーター、多層スライドビードコーター、エクストルージョン型ダイコーター等を用いて高屈折率層と低屈折率層を同時に積層塗布し、必要に応じて乾燥および硬化性させる方法である。
【００７６】
［ハードコート層］
本発明のベースフィルムは、基材フィルムと高屈折率層との間にハードコート層を設けることが好ましい。更に、基材フィルムとハードコート層との間に前述したような易接着層を設けることが好ましい。
【００７７】
ハードコート層の厚みは０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。厚みの上限は１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、さらに５μｍ以下が好ましく、３μｍ以下が特に好ましい。
【００７８】
ハードコート層を設ける場合は、低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ未満となることを阻害しないような構成とすることが重要である。つまり、ハードコート層表面は比較的平滑である必要がある。
【００７９】
ハードコート層は、平滑性を維持するという観点から平均粒子径が０．５μｍ以上の粒子は含有しないことが好ましい。ハードコート層は、平均粒子径が０．５μｍ未満の粒子を含有することができるが、その含有量は、ハードコート層の平滑性を維持するという観点からハードコート層の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、特に１質量％以下が好ましい。
【００８０】
基材フィルムとハードコート層との間に易接着層を設ける場合、これらの層の屈折率の関係は、基材フィルムの屈折率＞易接着層の屈折率＞ハードコート層の屈折率であることが好ましい。
【００８１】
特に、基材フィルムと易接着層の屈折率差および易接着層とハードコート層の屈折率差の絶対値は、それぞれ０．１以下が好ましく、０．０９以下がより好ましく、０．０８以下が特に好ましい。下限は０．０３以上が好ましく、０．０４以上がより好ましい。これによって、ベースフィルムの反射色ムラを軽減することができる。
【００８２】
ハードコート層の屈折率は、１．４６〜１．５５の範囲が適当であり、１．４８〜１．５４の範囲が好ましく、１．５０〜１．５３の範囲がより好ましい。
【００８３】
また、上記ハードコート層は、着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより、着色することができる。これにより、透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することができる。
【００８４】
ハードコート層は、熱硬化性組成物あるいは活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布後、必要に応じて乾燥した後、硬化させた層であることが好ましい。特に、活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布後、必要に応じて乾燥した後、硬化させた層であることが好ましい。ウェットコーティング法としては前述の塗布方法を用いることができる。
【００８５】
活性エネルギー線硬化性組成物は、重合性モノマーや重合性オリゴマーを含有することが好ましい。また、活性エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含有することが好ましい。
【００８６】
重合性モノマー、重合性オリゴマー、光重合開始剤としては、前述の高屈折率層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。
【００８７】
基材フィルムの片面のみに高屈折率層および低屈折率層が設けられる場合は、基材フィルムの反対面（基材フィルムの高屈折率層および低屈折率層が設けられる面とは反対側の面）には、粒子を含有するハードコート層（裏面ハードコート層）を設けることが好ましい。このような裏面ハードコート層を設けることにより、ベースフィルムの滑り性や耐ブロッキング性が向上する。
【００８８】
特に、裏面ハードコート層は、平均粒子径が０．５μｍ未満の有機粒子を含有することが好ましく、更に平均粒子径が０．０５〜０．３μｍの有機粒子を含有することが好ましい。裏面ハードコート層における有機粒子の含有量は、滑り性や耐ブロッキング性を向上させるという観点から、裏面ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して３質量％以上が好ましく、４質量％以上がより好ましく、５質量％以上が特に好ましい。有機粒子の含有量の上限は、裏面ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下が特に好ましい。
【００８９】
有機粒子を構成する樹脂としては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、あるいは上記樹脂の合成に用いられる２種以上のモノマーの共重合樹脂が挙げられる。これらの中でもアクリル系樹脂粒子が好ましく用いられる
ここでアクリル系樹脂粒子とは、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、アクリルモノマーあるいはメタクリルモノマーと他のモノマー（例えば、スチレン、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、シリコーンアクリレート、シリコーンメタクリレート等）との共重合樹脂粒子が含まれる。
【００９０】
上記共重合樹脂粒子の中でも、スチレン−アクリル共重合樹脂粒子やスチレン−メタクリル共重合樹脂粒子のようなスチレン−アクリル系共重合樹脂粒子が好ましく用いられる。
【００９１】
これらの有機粒子は乳化重合法により合成されることが好ましく、乳化重合法で合成されることによって平均粒子径が０．５μｍ未満の有機粒子を得ることができる。
【００９２】
［タッチパネル用透明導電性フィルム］
透明導電性フィルムは、前述のベースフィルムの低屈折率層の上に透明導電膜を設けることにより得られる。
【００９３】
タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネルと静電容量式タッチパネルが主流であるが、本発明の透明導電性フィルムはいずれのタッチパネルにも用いることができる。特に、本発明の透明導電性フィルムは、静電容量式タッチパネルに好適である。
【００９４】
静電容量式タッチパネルの透明導電性フィルムの透明導電膜は、通常、所定のパターンにパターン化されている。この透明導電膜のパターン化は、透明導電膜をエッチング処理することにより行われる。
【００９５】
パターン化された透明導電膜を有する透明導電性フィルムは、透明導電膜のパターン部（透明導電膜がエッチングされずに残存している部分（導電部））と非パターン部（透明導電膜がエッチングされて除去された部分（非導電部））との反射率や透過率の違い、あるいはパターン部と非パターン部の色調の違いにより、パターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が起こり、透明導電膜の視認性を低下させている。この「骨見え」の問題は、本発明のベースフィルムを用いることにより低減される。
【００９６】
［透明導電膜］
透明導電膜の材料としては、透明導電性フィルムに用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）などの金属酸化物、銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
【００９７】
透明導電膜の厚みは、透明導電膜の視認性を向上させるという観点から小さい方が好ましく、具体的には４０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２５ｎｍ以下が更に好ましく、特に２０ｎｍ以下が好ましい。透明導電膜の厚みの下限は、低抵抗の透明導電膜を確保するという観点から５ｎｍ以上が好ましく、７ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が特に好ましい。
【００９８】
透明導電膜の表面抵抗値は、１０００Ω／□以下が好ましく、５００Ω／□以下が好ましい。
【００９９】
透明導電膜の屈折率１．８１以上であることが好ましい。さらに透明導電膜の屈折率は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。
【０１００】
透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
【０１０１】
透明導電膜はパターン化されていることが好ましい。透明導電膜のパターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、特開２００６−３４４１６３号公報、特開２０１１−１２８８９６号公報等に開示されているパターンが挙げられる。
【０１０２】
透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
【０１０３】
エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
【実施例】
【０１０４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
【０１０５】
［測定方法および評価方法］
（１）屈折率の測定その１（易接着層、高屈折率層、低屈折率層およびハードコート層の屈折率）
易接着層、高屈折率層、低屈折率層およびハードコート層のそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【０１０６】
（２）屈折率の測定その２（透明導電膜の屈折率）
透明導電膜を、屈折率が既知のＰＥＴフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）上に実際の積層条件と同条件で厚みが２０ｎｍとなるようにそれぞれ積層して屈折率測定用サンプルを作製する。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄の反射率と厚みをそれぞれ測定する。このようにして得られた反射率、膜厚み、およびＰＥＴフィルムの屈折率とから、透明導電膜の屈折率を算出する。
【０１０７】
上記反射率は、透明導電膜が積層された面とは反対側のＰＥＴフィルム面に＃３２０〜４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて５８９ｎｍの反射率を測定する。
【０１０８】
（３）屈折率の測定３
基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じて、アッベ屈折率計で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【０１０９】
（４）それぞれの層および膜の厚みの測定
サンプルの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて５万倍〜３０万倍の倍率でサンプルの断面を観察し、それぞれ層、膜の厚みを測定した。尚、各層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。
【０１１０】
（５）透明導電膜パターンの視認性（「骨見え」）の評価
黒い板の上にサンプルを置き、目視によりパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。基材フィルムの一方の面のみに透明導電膜が積層されているサンプルの場合、透明導電膜が上になるように置いて評価をした。基材フィルムの両方の面に透明導電膜が積層されているサンプルの場合、それぞれの面の透明導電膜が上になるように置いて、それぞれ評価をした。
Ａ：パターン部が視認できない。
Ｂ：パターン部が僅かに視認できる。
Ｃ：パターン部が明確に視認できる。
【０１１１】
（６）表面抵抗値の測定
四端子法（EDTM社製  RC２１７５）を用いて、パターン加工前のITO膜の表面電気抵抗値（Ω/□）を測定。２１０mm×３００mmサイズの透明導電フィルムの4隅と中心の計5点を測定し平均値を算出した。
【０１１２】
（７）低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）の測定
下記の原子力間顕微鏡（ＡＦＭ）および解析ソフトを用いて測定した。測定範囲は１μm平方である。
＜原子力間顕微鏡＞  Bruker Corporation 製の「DIMENSION icon with Scan Asyst」
＜解析ソフト＞  Bruker Corporation 製の「Nano Scope  Analysis（version1.40）」
［原料］
＜易接着層形成用塗布液（水分散体）＞
固形分質量比で、Ｔｇ（ガラス転移温度）が１２０℃のポリエステル樹脂ａを２６質量％、Ｔｇが８０℃のポリエステル樹脂ｂを５４質量％、メラミン系架橋剤を１８質量％、粒子を２質量％混合して水分散塗布液を調製した。
・ポリエステル樹脂ａ；２，６−ナフタレンジカルボン酸４３モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸７モル％、エチレングリコールを含むジオール成分５０モル％を共重合して得られたポリエステル樹脂。
・ポリエステル樹脂ｂ；テレフタル酸３８モル％、トリメリット酸１２モル％、エチレングリコールを含むジオール成分５０モル％を共重合して得られたポリエステル樹脂。
・メラミン系架橋剤；メチロール基型メラミン架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラックＭＷ１２ＬＦ」）
・粒子；平均粒子径１９０ｎｍのコロイダルシリカ。
【０１１３】
＜ハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物＞
（組成物Ａ１）
重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５８質量部、重合性オリゴマーとしてウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」；分子中に重合性官能基を９個含む）３７質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。
【０１１４】
（組成物Ａ２）
重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを８７質量部、有機粒子としてスチレン−アクリル系共重合樹脂粒子（ガンツ化成（株）製の商品名「スタフィロイド ＥＡ−１１３５」；平均粒子径１３０ｎｍ）を固形分換算で８質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。
【０１１５】
＜高屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物＞
（組成物Ｂ１）
高屈折率樹脂（信越化学（株）製の紫外線硬化型樹脂である「Ｘ−１２−２２３８」）９５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製  イルガキュア１８４)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解した塗布組成物（活性エネルギー線硬化性組成物）である。
【０１１６】
（組成物Ｂ２）
高屈折率樹脂としてフルオレン系アクリル樹脂（新中村化学（株）製の「ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ」）６０質量部、重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解して調製した。
【０１１７】
（組成物Ｂ３）
重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４７質量部、金属酸化物微粒子として酸化ジルコニウムを５０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」)３質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解して調製した。
【０１１８】
＜低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物＞
（組成物Ｃ１）
重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールペンタアクリレート６０質量部、含フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「AR１１０」）３５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製  イルガキュア１８４)  ５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散あるいは溶解した塗布組成物（活性エネルギー線硬化性組成物）である。
【０１１９】
（組成物Ｃ２）
含フッ素化合物としてβー（パーフロロオクチル）エチルアクリレート８０質量部、重合性オリゴマーとしてペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー２０質量部、および光重合開始剤（２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリプロパン−１−オン）５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散あるいは溶解して調製した。
【０１２０】
（組成物Ｃ３）
重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールペンタアクリレート８１質量部、シリカ粒子（中空シリカ）１５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」)４質量部を有機溶剤（イソプロピルアルコール）に分散あるいは溶解して調製した。
【０１２１】
［実施例１］
下記の要領でベースフィルムを作製した。
【０１２２】
＜易接着層積層ＰＥＴフィルムの作製＞
屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、それぞれ樹脂層をＰＥＴフィルムの製造工程内でインラインコーティングした。つまり、長手方向に一軸延伸されたＰＥＴフィルムの両面にそれぞれ易接着層形成用塗布液をバーコート法で塗布し１００℃で乾燥後、引き続き幅方向に二軸延伸し、２３０℃で２０秒間加熱処理を施し熱硬化させて、両面に樹脂層が積層されたＰＥＴフィルムを作製した。樹脂層の屈折率は１．５９、厚みは９０ｎｍであった。
【０１２３】
＜ハードコート層の積層＞
上記で作製した易接着層積層ＰＥＴフィルムの一方の面（以下、「Ｂ面」と称することがある）に組成物Ａ２を、ウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてハードコート層（裏面ハードコート層）を形成した。このハードコート層は、厚み２μｍｍ、屈折率が１．５２であった。
【０１２４】
次いで、易接着層積層ＰＥＴフィルムの他方の面（以下、「Ａ面」と称することがある）に組成物Ａ１を、ウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層は、厚み２μｍｍ、屈折率が１．５２であった。
【０１２５】
＜高屈折率層の積層＞
上記の組成物Ａ１を用いて形成したハードコート層の上に、組成物B１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させて高屈折率層を形成した。この高屈折率層の屈折率は１．６５、厚みは５０ｎｍであった。
【０１２６】
＜低屈折率層の積層＞
上記高屈折率層の上に、組成物C１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、９０℃で乾燥し、紫外線を照射し硬化させて低屈折率層を形成して、ベースフィルムを作成した。この低屈折率層の屈折率は１．４５、厚みは４０ｎｍであった。
【０１２７】
＜透明導電性フィルムの作成＞
上記で作成したベースフィルムの低屈折率層の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが２０ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、次にこのＩＴＯ膜のみを格子状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。
【０１２８】
［実施例２］
低屈折率層の組成物を組成物Ｃ２に変更する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。この低屈折率層の屈折率は１．４３、厚みは４０nmであった。
【０１２９】
［実施例３］
高屈折率層の組成物を組成物Ｂ２に変更する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。この高屈折率層の屈折率は１．６２、厚みは５０nmであった。
【０１３０】
［実施例４］
低屈折率層の組成物を組成物Ｃ２に変更する以外は、実施例３と同様にして透明導電性フィルムを作製した。この低屈折率層の屈折率は１．４３、厚みは４０nmであった。
【０１３１】
［比較例１］
低屈折率層の組成物を組成物Ｃ３に変更する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。この低屈折率層の屈折率は１．４３、厚みは４０ｎｍであった。
【０１３２】
［比較例２］
高屈折率層の組成物を組成物Ｂ３に変更する以外は、比較例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。この高屈折率層の屈折率は１．６５、厚みは５０ｎｍであった。
【０１３３】
［比較例３］
比較例１において、低屈折率層を積層しない以外は比較例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１３４】
［比較例４］
比較例２において、低屈折率層を積層しない以外は比較例２と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１３５】
［比較例５］
実施例１において、高屈折率層を積層せずにハードコート層上に低屈折率層を直接に積層する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１３６】
［比較例６］
比較例１において、高屈折率層を積層せずにハードコート層上に低屈折率層を直接に積層する以外は、比較例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１３７】
［比較例７］
比較例１において、高屈折率層および低屈折率相を積層せずに、ハードコート層上に透明導電膜を直接に積層する以外は、比較例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
【０１３８】
＜評価＞
上記で作製したそれぞれの透明導電性フィルムについて、低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）、透明導電膜の表面抵抗値および透明導電膜の視認性を評価した。その結果を表１に示す。
【０１３９】
【表１】
2014119475.tif 000003
【０１４０】
表１の結果から明らかなように、本発明の実施例は、低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ未満と極めて平滑であるため、その上に積層された透明導電膜の表面抵抗値が小さくなっている。また、本発明の実施例は透明導電膜のパターン視認性が良好である。