(57)【要約】【課題】従来から提案されている電子写真感光体の傷修復方法において、（１）空隙となった傷の修復が困難で（２）反応性のある置換基を有する樹脂であるため、感光層に含有させると電気特性に悪影響を与え（３）架橋樹脂ではないので、十分な耐摩耗性を有しておらず（４）再度同じ場所に傷が生じた場合修復できないという課題が生じていた。【解決手段】フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、前記フラン誘導体および前記マレイミド誘導体のうち少なくとも１つは融点が１６０℃以下である。【選択図】図１
2014182186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、前記フラン誘導体および前記マレイミド誘導体のうち少なくとも１つの融点が１６０℃以下であることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記フラン誘導体および前記マレイミド誘導体の融点が１６０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記フラン誘導体がトリアリールアミン部分構造を有するものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記フラン誘導体が下記一般式（１）で表されるものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電子写真感光体。
【化１】
2014182186.tif 000037
（式中、Ｒ１はカルボニル基、または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。）
【請求項５】
前記フラン誘導体が下記一般式（２）で表されるものであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電子写真感光体。
【化２】
2014182186.tif 000038
（式中、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。）
【請求項６】
前記フラン誘導体が下記構造式で表されるものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電子写真感光体。
【化３】
2014182186.tif 000039
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電子写真感光体であって、更に、
前記層が金属酸化物フィラーを有することを特徴とする電子写真感光体。
【請求項８】
前記金属酸化物フィラーの平均一次粒径が０．１５μｍ以上、１．５μｍ以下であることを特徴とする請求項７に記載の電子写真感光体。
【請求項９】
前記層全体における前記金属酸化物フィラーの含有率が１％以上、３０％以下であることを特徴とする請求項７又は８に記載の電子写真感光体。
【請求項１０】
前記金属酸化物フィラーがアルミナであることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか一項に記載の電子写真感光体。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の電子写真感光体の傷修復方法であって、前記フラン誘導体または前記マレイミド誘導体の少なくとも１種の融点以上の温度で前記フラン誘導体と前記マレイミド誘導体とが架橋した構造体を架橋解離させることを特徴とする電子写真感光体の傷修復方法。
【請求項１２】
電子写真感光体に、少なくとも帯電、画像露光、現像を繰り返し行う画像形成方法であって、前記電子写真感光体が請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成方法。
【請求項１３】
少なくとも帯電手段、画像露光手段、現像手段及び電子写真感光体を具備してなる画像形成装置であって、該電子写真感光体が請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
少なくとも電子写真感光体を具備してなるプロセスカートリッジであって、該電子写真感光体が請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の電子写真感光体であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体の傷修復方法、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている有機感光体（ＯＰＣ）は、電荷輸送層に低分子電荷輸送物質と不活性高分子を主成分として用いている。そのため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点がある。この様な、感光体の摩耗が局所的に発生したものである傷は、クリーニング不良による異常画像等をもたらす場合があった。そこで感光体の表面の傷を修復する試みが様々な方向から検討されてきた。
【０００３】
感光体の表面の傷を修復する方法としては、感光体の表面層に修復材料を用いて傷を化学反応により分子構造から修復する方法が知られている。例えば、自己修復性樹脂を感光体の表面層に用い、切断された樹脂分子鎖を修復する方法や（特許文献１参照）、修復材料をカプセルに内包させて傷を修復する方法が提案されている（特許文献２参照）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の自己修復性樹脂を用いる修復の場合、（１）自己修復性樹脂である表面層が削り取られてしまい空隙となってしまうと修復をすることができず、（２）自己修復性樹脂が反応性のある置換基を有する樹脂であるため、感光層に含有させると電気特性に悪影響を与え、（３）自己修復性樹脂は架橋樹脂ではないので、十分な耐摩耗性を有していないという課題が生じる。
【０００５】
また、カプセルを用いる修復の場合、（４）カプセルに内包される修復材料により感光体表面の傷を修復できるのは一度であるため、再度同じ場所に傷が生じてしまうと繰り返し修復することができないという課題が生じる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、請求項１に係る発明は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、前記フラン誘導体および前記マレイミド誘導体のうち少なくとも１つは融点１６０℃以下であることを特徴とする電子写真感光体である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、（１）空隙となった傷の修復が容易になり、（２）良好な電気特性を得ることができ、（３）３次元架橋体を形成するので十分な耐摩耗性を有し、（４）再度同じ場所に傷が生じた場合であっても修復できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係る積層構成の電子写真感光体の一例を示す模式図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態に係る積層構成の電子写真感光体の別の一例を示す模式図である。
【図３】図３は、本発明の実施形態に係る積層構成の電子写真感光体の更に別の一例を示す模式図である。
【図４】図４は、本発明の実施形態に係る単層構成の電子写真感光体の一例を示す模式図である。
【図５】図５は、本発明の実施形態に係る単層構成の電子写真感光体の別の一例を示す模式図である。
【図６】図６は、本発明の実施形態に係る電子写真感光体及び周辺部材の一例を示す模式図である。
【図７】図７は、本発明の実施形態に係る画像形成装置の一例を示す模式図である。
【図８】図８は、本発明の実施形態に係る電子写真感光体のプロセスカートリッジの一例を示す模式図である。
【図９】図９は、本発明で使用した合成例１のフラン誘導体（具体例Ａ−７の化合物）の赤外吸収スペクトルである。
【図１０】図１０は、本発明で使用した合成例１のフラン誘導体（具体例Ａ−２５の化合物）の赤外吸収スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図１乃至図９を用いて、本発明の実施形態について説明する。
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、上記のフラン誘導体および上記のマレイミド誘導体のうち少なくとも１つは融点１６０℃以下であることを特徴とする。
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体および上記のマレイミド誘導体の融点が１６０℃以下であることを特徴とする。
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体がトリアリールアミン部分構造を有するものであることを特徴とする。
【００１０】
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体が下記一般式（１）で表されるものであることを特徴とする。
【００１１】
【化１】
2014182186.tif 000003
【００１２】
（式中、Ｒ１はカルボニル基、または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。）
【００１３】
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体が下記一般式（２）で表されるものであることを特徴とする。
【００１４】
【化２】
2014182186.tif 000004
【００１５】
（式中、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。）
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体が下記構造式で表されるものであることを特徴とする。
【００１６】
【化３】
2014182186.tif 000005
【００１７】
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、更に、上記の層が金属酸化物フィラーを有することを特徴とする。
【００１８】
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記の金属酸化物フィラーの平均一次粒径が０．１５μｍ以上１．５μｍ以下であることを特徴とする。
【００１９】
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記の層全体における上記の金属酸化物フィラーの含有率が１％以上３０％以下であることを特徴とする。
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記の金属酸化物フィラーがアルミナであることを特徴とする。
【００２０】
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体の傷修復方法は、上記の電子写真感光体の傷修復方法であって、上記のフラン誘導体または上記のマレイミド誘導体の少なくとも１種の融点以上の温度で上記のフラン誘導体と上記のマレイミド誘導体とが架橋した構造体を架橋解離させることを特徴とする。
【００２１】
本発明の一実施形態に係る画像形成方法は、上記の電子写真感光体に、少なくとも帯電、画像露光、現像を繰り返し行うことを特徴とする。
【００２２】
本発明の一実施形態に係る画像形成装置は、少なくとも帯電手段、画像露光手段、現像手段及び上記の電子写真感光体を具備してなることを特徴とする。
【００２３】
本発明の一実施形態に係るプロセスカートリッジは、少なくとも上記の電子写真感光体を具備してなることを特徴とする。
＜＜電子写真感光体の構成＞＞
【００２４】
まず、図１及び図５を用いて本実施形態の電子写真感光体について説明する。図１乃至図３は、本発明の実施形態に係る積層構成の電子写真感光体の一例を示す模式図である。図４及び図５は、本発明の実施形態に係る単層構成の電子写真感光体の一例を示す模式図である。
【００２５】
図１の積層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に電荷発生層３、電荷輸送層４を順次積層している。図２の積層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に下引き層２、電荷発生層３、電荷輸送層４を順次積層している。図３の積層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に下引き層２、電荷発生層３、電荷輸送層４、保護層５を順次積層している。図４の単層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に電荷発生物質と電荷輸送物質を両方含有する単層型感光層６を順次積層している。図５の単層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に電荷発生物質と電荷輸送物質を両方含有する単層型感光層６、単層型感光層用の保護層５を順次積層している。なお、電子写真感光体は、いずれの層構成であってもよい。
＜＜電子写真感光体の各層の構成＞＞
＜導電性支持体＞
【００２６】
導電性支持体１としては、体積抵抗１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すものが使用できる。例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板及びそれらを、押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理した管などを使用することができる。また、エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体１として用いることができる。
【００２７】
この他、上記支持体上に導電性粉体を適当なバインダー樹脂に分散して塗工したものについても、導電性支持体１として用いることができる。この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、またアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。
【００２８】
また、同時に用いられるバインダー樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。
【００２９】
このような導電性層は、これらの導電性粉体とバインダー樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
【００３０】
さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、ポリテトラフロロエチレン系フッ素樹脂などの素材に上記の導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、導電性支持体１として良好に用いることができる。
＜電荷発生層＞
【００３１】
電荷発生層３は、電荷発生物質を主成分とする層である。電荷発生物質としては、特に限定はなく、フタロシアニンやアゾなど公知の材料を用いることができる。
【００３２】
必要に応じて電荷発生層３に用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。バインダー樹脂の量は、電荷発生物質１００質量部に対し０〜５００質量部、好ましくは１０〜３００質量部が適当である。
【００３３】
電荷発生層３は、電荷発生物質を必要に応じてバインダー樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波などの公知の分散方法を用いて分散し、これを導電性支持体１上、もしくは下引き層や中間層上に塗布し、乾燥することにより形成される。バインダー樹脂の添加は、電荷発生物質の分散前、あるいは分散後のどちらでも構わない。
【００３４】
電荷発生層３の形成に用いられる溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等の一般に用いられる有機溶剤が挙げられるが、これらの中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒が特に好ましい。これらは単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
【００３５】
電荷発生層３の形成用塗工液は、電荷発生物質、溶媒及びバインダー樹脂を主成分とするが、その中には、増感剤、分散剤、界面活性剤、シリコーンオイル等のいかなる添加剤が含まれていてもよい。
【００３６】
塗工液を用いて電荷発生層３を塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。
【００３７】
電荷発生層３の膜厚は、０．０１〜５μｍが好ましく、０．１〜２μｍがより好ましい。塗工後には、オーブン等で加熱乾燥される。本発明における電荷発生層３の乾燥温度としては、５０℃以上１６０℃以下が好ましい。
＜電荷輸送層＞
【００３８】
電荷輸送層４は、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を溶剤に溶解又は分散した塗工液を、塗布、乾燥することにより形成される。また、電荷輸送層４の塗工液には、必要に応じて、単独又は２種以上の可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤、滑剤等の添加剤を添加してもよい。
【００３９】
電荷輸送物質としては、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）及びその誘導体、ポリ（γ−カルバゾリルエチルグルタメート）及びその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、アミノビフェニル誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、エナミン誘導体等の材料が挙げられる。これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上混合して用いられる。電荷輸送物質の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、通常、２０〜３００質量部であり、４０〜１５０質量部が好ましい。
【００４０】
バインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられる。
【００４１】
塗工溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレン、アセトン、ジエチルエーテル、メチルエチルケトン等が挙げられ、２種以上併用してもよい。電荷輸送層４の膜厚は、解像度や応答性の点から、１０〜５０μｍであることが好ましく、１５〜３５μｍがさらに好ましい。
【００４２】
塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、ノズルコート法、スピナーコート法、リングコート法等の公知の方法を用いることができるが、電荷輸送層４は膜厚をある程度厚く塗る必要があるため、粘性の高い液で浸漬塗工法に塗工することが好ましい。
【００４３】
塗工後の電荷輸送層４は、オーブン等で加熱乾燥される。乾燥温度は塗工液に含有される溶媒によっても異なるが、８０〜１６０℃あることが好ましく、１１０〜１４０℃がより好ましい。また、乾燥時間は、１０分以上であることが好ましく、２０分以上がさらに好ましい。
＜単層型感光層＞
【００４４】
次に、単層構成の場合について述べる。単層構成の電子写真感光体は、上述した電荷発生物質、電荷輸送物質をバインダー樹脂中に分散乃至溶解させ、電荷発生機能、及び電荷輸送機能を一つの層で実現した感光体である。
【００４５】
単層型感光層６は、電荷発生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン等の溶剤に溶解ないし分散し、これを浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコートなどの従来公知の方法を用いて塗工して形成できる。
【００４６】
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質の双方が含有されることが好ましい。また、必要により可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。
【００４７】
単層型感光層６に用いられる電荷発生物質、電荷輸送物質、バインダー樹脂、有機溶剤及び各種添加剤等に関しては、前述の電荷発生層３及び電荷輸送層４に含有されるいずれの材料をも使用することが可能である。
【００４８】
バインダー樹脂としては、先に電荷輸送層４で挙げたバインダー樹脂のほかに、電荷発生層３で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。バインダー樹脂１００質量部に対する電荷発生物質の量は、５〜４０質量部が好ましく、１０〜３０質量部がより好ましい。
【００４９】
また、電荷輸送物質の量は、０〜１９０質量部が好ましく、５０〜１５０質量部がより好ましい。また、感光層の膜厚は、５〜４０μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。
＜下引き層＞
【００５０】
一実施形態の電子写真感光体においては、導電性支持体１と感光層の間に、下引き層２を設けることができる。下引き層２は、一般に、樹脂を主成分とするが、このような樹脂は、その上に溶剤を用いて感光層を塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対する耐溶剤性が高い樹脂であることが好ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、イソシアネート、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。
【００５１】
また、下引き層２には、モアレ防止、残留電位の低減等のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
【００５２】
また、前述の電荷発生層３や電荷輸送層４と同様に、溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。さらに、下引き層２として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。
＜保護層＞
【００５３】
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、フラン誘導体およびマレイミド誘導体のうち少なくとも１つは融点１６０℃以下である。上記の層とは、傷が発生し得る層であれば特に限定されないが、好ましくは最表層である。最表層とは、保護層を有する電子写真感光体であれば保護層５を指し、保護層を有さない電子写真感光体であれば電荷輸送層４を指す。上記の層は、保護層５において特に好適に使用できる。
【００５４】
初めに、保護層の形成で用いられるディールス・アルダー反応について念のため説明する。知られているように、この反応の基本反応は、ジエン化合物（ジエン）である１，３−ブタジエンと、親ジエン化合物（ジエノフィル）であるエチレンの環化付加反応（６員環のヒドロアリール環を生成）であり、この反応は、ジエンに電子供与基、ジエノフィルに電子吸引基が置換されている場合に反応し易くなることが知られている。
【００５５】
上記のジエン及びジエノフィルには特に制限はないが、反応させやすいと言う点から好ましいジエン及びジエノフィルとして以下の構造を挙げることができる。
（好ましいジエン構造）
シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、フラン及びこれらを置換基として結合させた化合物
（好ましいジエノフィル構造）
【００５６】
シアノエチレン、マレイン酸ジメチル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド、ビニルメチルケトン、ジメチルアセチレンジカルボキシレート及びこれらを置換基として結合させた化合物
【００５７】
これらの構造を有するジエン及びジエノフィルには従来公知の材料が適用できる。特にジエンとしてフラン構造を有する化合物（フラン誘導体）とジエノフィルとしてマレイン酸イミド構造を有する化合物（マレイミド誘導体）との組合せが良好なディールス・アルダー反応性を示し、感光体の使用環境条件において安定した構造を保持し、ディールス・アルダー逆反応を素早く起こして架橋解離できることから、最も好ましい。なお、架橋解離とは、樹脂の架橋部分が解離することを意味する。
【００５８】
ディールス・アルダー正反応は、６０〜１００℃で加熱するだけで進行する。ルイス酸等の添加により反応が加速されることが知られており、感光体への副作用を抑える範囲で添加することもできる。ルイス酸としては、塩化アルミニウム、塩化チタン、塩化スズ、過塩素酸リチウム等の従来公知のものを使用できる。
【００５９】
環化付加体は、ジエンとジエノフィルとの組合せにより、ときによりｅｘｏ体やｅｎｄｏ体等の立体異性をとるが、特にどちらでも良い。例えば、フランと無水マレイン酸との環化付加体では、２０℃より高温側ではｅｘｏ体が熱力学的に安定であり主構造となる。特に限定されないが、熱をかけて反応させる方が製造上有利なため、ｅｘｏ体の環化付加体構造を主とした架橋様式が好ましい。
【００６０】
次に、フラン誘導体とマレイミド誘導体とが架橋した構造体とは、１分子中に２個以上のフラン基を有する組成物と、１分子中に２個以上のマレイミド基を有する組成物とをディールス・アルダー反応させて得られる構造体を示す。
【００６１】
フラン誘導体には、電荷輸送機能を持たせるため、従来公知の低分子電荷輸送物質にフラン基を複数導入し、マレイミド誘導体にはバインダー樹脂にマレイミド基を複数導入し、これらを熱硬化させることでフラン誘導体とマレイミド誘導体とが架橋した構造体を形成することができる。また、バインダー樹脂の代わりにマレイミド構造を２個以上有するモノマーを使用し、フラン基を導入した低分子電荷輸送物質と反応硬化させて形成することもできる。
【００６２】
また、フラン誘導体とマレイミド誘導体は、官能基当量比で０．８：１．２〜１．２：０．８で配合することが好ましく、フラン誘導体とマレイミド誘導体とが架橋した構造体は最表層において８０質量％以上包含されていることが好ましい。なぜなら、フラン誘導体とマレイミド誘導体の架橋した構造体が最表層において、含有量が少なくなると十分な耐摩耗性が得られなくなる可能性がある。また、架橋解離時にキズ部位を埋める効果が得られなくなる可能性がある。
【００６３】
塗工に用いられる溶媒としては上記の電荷輸送層と同様なものが使用できるが、フラン誘導体及びマレイミド誘導体を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても２種以上混合して使用してもよい。
また、必要によりシリコーンオイルなどのレベリング剤を添加することもできる。
【００６４】
適用される感光体が負帯電型の積層感光体であり、従って、低分子電荷輸送物質が電荷輸送（ホール輸送）性を示すトリアリールアミン構造を有する化合物が使用される場合、構造的に電子供与性を示し、且つ反応性もよい。このため、低分子電荷輸送物質を、トリアリールアミン部分構造を有するフラン誘導体とすることが好ましい。なお、後で詳述する一般式（３）、（４）、（５）で表されるフラン誘導体が反応性と電荷輸送機能を併せ持つことから更に好ましい。上記のトリアリールアミン構造およびトリアリールアミン部分構造とは、特に限定されないが３個のアリール基が窒素に結合した３級アミン構造であり、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、ビフェニリル基、アントリル基、ピレニル基等を表す。
【００６５】
ディールス・アルダー反応の加熱温度は、正反応については反応を十分に進行させるためにも、また、残留溶媒を防ぐためにも６０℃〜１００℃が好ましい。逆反応は感光層組成物の材料劣化やそれに起因する電気特性悪化を防ぐためにも比較的低温である１３０℃〜１６０℃が好ましい。さらに、フラン誘導体またはマレイミド誘導体の融点以上の温度でフラン誘導体とマレイミド誘導体とが架橋した構造体を架橋解離させることが、最表層構成材料がキズ部位を埋める効果を発揮する点で好ましい。逆反応により架橋解離を行うことによりキズ部位を埋める効果を発揮した後、再度６０℃〜１００℃の正反応を行うことにより再び架橋構造を形成することができる。
【００６６】
ディールス・アルダー逆反応時にフラン誘導体とマレイミド誘導体を架橋解離することによりポリマーネットワーク状態からモノマー状態となることに加えて、逆反応温度において架橋解離したフラン誘導体またはマレイミド誘導体が液体状態になることによりキズ部位を埋める効果をもたらすことから、フラン誘導体およびマレイミド誘導体の少なくとも１種類の融点は１６０℃以下であることが好ましく、フラン誘導体およびマレイミド誘導体の融点がともに１６０℃以下であることがさらに好ましい。例えば、後で詳述する一般式（１）、（２）で表されるフラン誘導体が融点１６０℃以下であることから好ましい。
【００６７】
また、電子写真感光体の使用環境条件（−５℃〜６０℃）において、安定性や耐摩耗性を発揮するためにもフラン誘導体およびマレイミド誘導体は常温において液体状態より固体状態のほうが好ましいので、フラン誘導体およびマレイミド誘導体の融点は６０℃以上であることが好ましい。さらに、フラン誘導体またはマレイミド誘導体が正反応時に液体となることがフラン誘導体及びマレイミド誘導体の反応性向上に寄与することから、フラン誘導体またはマレイミド誘導体の融点は正反応温度以下であることが好ましく、具体的には１００℃以下であることが好ましい。
【００６８】
また、加熱処理前後における最表層構成材料の組成変化による特性変化および最表層の膜厚減少を防ぐため、さらに、逆反応時に架橋解離したフラン誘導体またはマレイミド誘導体が液体状態となり最表層構成材料がキズ部位を埋める効果を発揮するためにも、加熱処理時にフラン誘導体およびマレイミド誘導体が揮発しないことが好ましい。具体的には、フラン誘導体、マレイミド誘導体ともに分子量２５０以上が好ましい。
【００６９】
フラン誘導体の具体例を表１〜６で示す。なお、表中、Ａ−２〜Ａ−１９は、一般式（３）〜（５）で表されるフラン誘導体であり、Ａ２３〜Ａ２７は、一般式（１）、（２）で表されるフラン誘導体である。
【００７０】
【表１】
2014182186.tif 000006
【００７１】
【表２】
2014182186.tif 000007
【００７２】
【表３】
2014182186.tif 000008
【００７３】
【表４】
2014182186.tif 000009
【００７４】
【表５】
2014182186.tif 000010
【００７５】
【表６】
2014182186.tif 000011
次表に、好適なマレイミド誘導体の例を挙げる。
【００７６】
【表７】
2014182186.tif 000012
【００７７】
これらのフラン誘導体及びマレイミド誘導体は従来公知の方法で得られる。例えば、一般式（３）〜（５）で示されるフラン誘導体の場合は、下記の合成方法により合成することができる。
【００７８】
【化４】
2014182186.tif 000013
【００７９】
この場合、フラン誘導体は、触媒とするアゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィンの存在下、アルコール体とジフェノール誘導体とを脱水縮合させることによって製造される。ここで使用されるアゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィンはいずれも市販品が使える。アゾジカルボン酸エステルは１、１’−（アゾカルボニル）ジピペリジン、アゾジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、アゾジカルボン酸ジメチルなどが挙げられる。トリフェニルホスフィンは４−（ジメチルアミノ）フェニルジフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジフェニル−２−ピリジルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、フェノキシジフェニル、トリ−ｎ−オクチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｎ−ヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。ジフェノール誘導体は従来公知の化合物及び合成方法を適用できる。この合成方法は、例えば、特許公報第３５４００９９号記載に記載されており、これらの記載内容を参照によりここに含めるものとする。溶媒としては、ピリジン、トリエチルアミン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジエチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホルム及びトルエンなどが挙げられる。
【００８０】
反応温度は−５℃から溶媒の沸点の範囲で実施可能であり、０℃から室温の範囲が好ましい。さらに、反応は窒素、アルゴン等の不活性ガス気流下に実施することが好ましい。反応時間は通常１時間から２４時間で完結する。
【００８１】
また、例示化合物Ａ２０〜Ａ２２では、フルフリルアルコールから誘導されるアルコキシドとハロゲン化アルキル含有トリフェニルアミン化合物とのＷｉｌｌｉａｍｓｏｎ反応によりエーテル結合によりフラン基を導入できる。
【００８２】
【化５】
2014182186.tif 000014
次に一般式（３）〜（５）で表されるフラン誘導体について更に詳述する。
【００８３】
【化６】
2014182186.tif 000015
（式中、Ａｒ１、Ａｒ２は置換基を有しても良いアリール基を表し、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）
【００８４】
【化７】
2014182186.tif 000016
【００８５】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ２〜Ｒ１１は各々独立して、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルコキシ基、または置換基を有しても良いアリール基を表す。）
【００８６】
【化８】
2014182186.tif 000017
【００８７】
（式中、Ｒ２〜Ｒ１１は各々独立して、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルコキシ基、または置換基を有しても良いアリール基を表す。）
【００８８】
一般式（３）、（４）、（５）において、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、メチレンが好ましい。Ａｒ１、Ａｒ２において置換基を有しても良いアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられ、また下記一般式（６）、（７）、（８）、（９）で表される基も挙げることができる。
【００８９】
【化９】
2014182186.tif 000018
【００９０】
【化１０】
2014182186.tif 000019
（式中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−及び以下の２価基を表す。）
【００９１】
【化１１】
2014182186.tif 000020
【００９２】
【化１２】
2014182186.tif 000021
【００９３】
（ここで、Ｒ１２、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有しても良いアルキル基、または置換基を有しても良いアリール基を表し、ａは１〜１２の整数、ｂは１〜３の整数を表す。）
【００９４】
これらの置換基としては、ハロゲン原子、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基が挙げられる。ハロゲン原子の具体例として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。また、炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基が挙げられる。また、置換基を有しても良いアルコキシ基は、上記置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基を有するアルコキシ基を表し、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【００９５】
Ｒ２〜Ｒ１１は、それぞれ独立して、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、または置換基を有しても良いアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基が挙げられる。置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基等が挙げられる。
【００９６】
また、アルコキシ基は、上記置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基を有するアルコキシ基を表し、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【００９７】
また、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられる。これらの置換基としては、ハロゲン原子や炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基は、上記記載と同様である。
次に、一般式（１）、（２）で示されるフラン誘導体の場合は、下記の光延合成方法により合成することができる。
【００９８】
【化１３】
2014182186.tif 000022
【００９９】
この場合、フラン誘導体は、触媒とするアゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィンの存在下、カルボン酸またはアルコール体とトリメチロール体とを脱水縮合させることによって製造される。
【０１００】
ここで使用されるアゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィンは何れも市販品が使える。アゾジカルボン酸エステルは１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン、アゾジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、アゾジカルボン酸ジメチルなどが挙げられる。トリフェニルホスフィンは４−（ジメチルアミノ）フェニルジフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジフェニル−２−ピリジルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、フェノキシジフェニルホスフィン、トリ−ｎ−オクチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｎ−ヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。
カルボン酸またはアルコール体は市販品、合成品ともに使える。例えば、２−フランカルボン酸、フルフリルアルコールなどが挙げられる。
【０１０１】
トリメチロール体は従来公知（例えば、非特許文献のＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２０１１，４４（２２），８７７１−８７７９）の合成方法を適用できる。
【０１０２】
溶媒としては、ピリジン、トリエチルアミン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジエチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホルムおよびトルエン等が挙げられる。
【０１０３】
反応温度は、−５℃から溶媒の沸点の範囲で実施可能であり、０℃から室温の範囲が好ましい。さらに、反応は窒素、アルゴン等の不活性ガス気流下に実施することが好ましい反応時間は通常１時間から４８時間で完結する。
次に一般式（１）、（２）で表されるフラン誘導体について詳述する。
【０１０４】
【化１４】
2014182186.tif 000023
【０１０５】
（式中、Ｒ１はカルボニル基、または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。）
【０１０６】
【化１５】
2014182186.tif 000024
【０１０７】
（式中、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。）
上記の一般式（１）、（２）において、Ｒ１は上記ののようにカルボニル基、炭素数１〜６のアルキレン基を表すが、カルボニル基、メチレン基が好ましい。
【０１０８】
上記のＲ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基を表す。炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基等が挙げられる。
【０１０９】
また、アルコキシ基は、上記置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を有するアルコキシ基を表わし、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。一般式（２）のフラン誘導体としては、下記構造式で表されるものが例示される。
【０１１０】
【化１６】
2014182186.tif 000025
【０１１１】
なお、フラン骨格とドナー構造であるトリフェニルアミン骨格が（−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１−）で表される構造を介することでフラン誘導体の融点が下げられることが判明した。この理由は明らかではないが、次のように推測される。フラン誘導体に（−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１−）で表される構造を用いる場合、この構造がスペーサーの役割を果たすという観点から、従来から公知のフラン誘導体と比べ、分子の柔軟性が増す効果が生じ、融点が下がるという効果が顕著に表れると推測される。−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−の場合には、カルボニル基が立体障害となるために分子同士のパッキングを防ぐ効果と重なってさらに融点が低下する効果があると推測される。
【０１１２】
次に、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する上記最表層において、更に金属酸化物フィラーを含有する場合について説明する。本発明では耐摩耗性をより向上させる目的でフラン誘導体とマレイミド誘導体を架橋した最表層中に金属酸化物フィラーが添加されていてもよい。
【０１１３】
金属酸化物フィラーとしては、酸化チタン、アルミナ、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ケイ素などからなる無機微粒子が利用できる。その中でもアルミナは耐摩耗性、電気特性において好ましい。
【０１１４】
最表層に含有されるこれらの金属酸化物フィラーの含有率は、最表層において質量基準で１％以上、３０％以下、好ましくは、５％以上、１５％以下である。金属酸化物フィラーの量が１％未満では、摩耗が大きく、耐久性に劣り、３０％を越えると、傷部への最表層材料の流動性が阻害されると同時に露光時における明部電位の上昇が著しくなって、感度低下が無視できなくなるので望ましくない。
【０１１５】
金属酸化物フィラーの粒径は、平均１次粒径として０．１５μｍ以上、１．５μｍ以下、好ましくは、０．３以上、１．０μｍ以下であり、粒径が０．１５μｍ未満では耐摩耗性が充分でなく、また、粒径が１．５μｍを越えると傷部への最表層材料の流動性が阻害されるため好ましくない。尚、本発明における金属酸化物フィラーの平均粒径とは、特別な記載のない限り体積平均粒径であり、超遠心式自動粒度分布測定装置：ＣＡＰＡ−７００（堀場製作所製）により求めたものである。この際、累積分布の５０％に相当する粒子径（Ｍｅｄｉａｎ径）として算出されたものである。
【０１１６】
さらに最表層には、金属酸化物フィラーの分散性を向上させるために分散助剤を添加することができる。添加される分散助剤は塗料等に使用されるものが適宜利用でき、その量は重量基準で含有する金属酸化物フィラーの量に対して０．５〜４％、好ましくは、１〜２％である。分散助剤としては、変性エポキシ樹脂縮合物、不飽和ポリカルボン酸低分子量ポリマー等が利用できる。
【０１１７】
塗工溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレン、アセトン、ジエチルエーテル、メチルエチルケトン等が挙げられ、２種以上併用してもよい。
【０１１８】
これら金属酸化物フィラーを最表層に含有させる際に用いる材料は、適当な分散機を用いることにより分散できる。最表層の透過率の点から、使用する金属酸化物フィラーは１次粒子レベルまで分散され、凝集体が少ない方が好ましい。
【０１１９】
最表層の形成法としては、スプレー法等通常の塗布法が採用され、最表層の厚さは、最表層が保護層であれば０．５〜１５μｍ、好ましくは３〜１０μｍ程度が適当である。
＜＜画像形成装置の構成＞＞
【０１２０】
図６は、本発明の一実施形態に係る電子写真プロセス、及び画像形成装置を説明するための概略図である。電子写真感光体１０は図６中の矢印の方向に回転し、感光体（１０）の周りには、帯電手段の一例としての帯電部材１１、画像露光手段の一例としての画像露光部材１２、現像手段の一例としての現像部材１３、転写部材１６、クリーニング部材１７、除電部材１８等が配置される。クリーニング部材１７や除電部材１８が省略されることもある。
【０１２１】
画像形成装置の動作は基本的に以下のようになる。帯電部材１１により、感光体１０表面に対してほぼ均一に帯電が施される。続いて、画像露光部材１２により、入力信号に対応した画像光書き込みが行われ、静電潜像が形成される。次に、現像部材１３により、この静電潜像に現像が行われ、感光体表面にトナー像が形成される。形成されたトナー像は、搬送ローラ１４により転写部位に送られた転写紙１５に、転写部材により、トナー像が転写される。このトナー像は、図示しない定着装置により転写紙上に定着される。転写紙に転写されなかった一部のトナーは、クリーニング部材１７によりクリーニングされる。ついで、感光体上に残存する電荷は、除電部材１８により除電が行われ、次のサイクルに移行する。
また、本発明の一実施形態に係る画像形成方法によると、上記電子写真感光体に少なくとも帯電、画像露光、現像を繰り返し行う。
【０１２２】
図６に示すように、電子写真感光体１０はドラム状の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状のものであってもよい。帯電部材１１、転写部材１６には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャ）のほか、ローラ状の帯電部材あるいはブラシ状の帯電部材等が用いられ、公知の手段がすべて使用可能である。
【０１２３】
一方、画像露光部材１２、除電部材１８等の光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。これらの中でも半導体レーザー（ＬＤ）や発光ダイオード（ＬＥＤ）が主に用いられる。所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
【０１２４】
光源等は、光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング工程、あるいは前露光などの工程を設けることにより、電子写真感光体１０に光が照射される。但し、除電工程における電子写真感光体１０への露光は、電子写真感光体１０に与える疲労の影響が大きく、特に帯電低下や残留電位の上昇を引き起こす場合がある。したがって、露光による除電ではなく、帯電工程やクリーニング工程において逆バイアスを印加することによっても除電することが可能な場合もあり、感光体の高耐久化の面から有効な場合がある。電子写真感光体１０に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。かかる現像には、公知の方法が適用されるし、また、除電にも公知の方法が用いられる。
【０１２５】
感光体表面に付着する汚染物質の中でも帯電によって生成する放電物質やトナー中に含まれる外添剤等は、湿度の影響を拾いやすく異常画像の原因となっているが、このような異常画像の原因物質には、紙粉もその一つであり、それらが感光体に付着することによって、異常画像が発生しやすくなるだけでなく、耐摩耗性を低下させたり、偏摩耗を引き起こしたりする傾向が見られる。したがって、上記の理由により感光体と紙とが直接接触しない構成であることが高画質化の点からより好ましい。現像部材１３により、感光体１０上に現像されたトナーは、転写紙１５に転写されるが、すべてが転写されるわけではなく、感光体１０上に残存するトナーも生ずる。このようなトナーは、クリーニング部材１７により、感光体１０から除去される。このクリーニング部材は、クリーニングブレードあるいはクリーニングブラシ等公知のものが用いられる。また、両者が併用されることもある。
【０１２６】
電子写真感光体は、高光感度ならびに高安定化を実現したことから小径感光体に適用できる。したがって、上記の感光体がより有効に用いられる画像形成装置あるいはその方式としては、複数色のトナーに対応した各々の現像部に対して、対応した複数の感光体を具備し、それによって並列処理を行なう、いわゆるタンデム方式の画像形成装置に極めて有効に使用される。上記タンデム方式の画像形成装置は、フルカラー印刷に必要とされるイエロー（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の少なくとも４色のトナー及びそれらを保持する現像部を配置し、更にそれらに対応した少なくとも４本の感光体を具備することによって、従来のフルカラー印刷が可能な画像形成装置に比べ極めて高速なフルカラー印刷を可能としている。
【０１２７】
図７は、本発明の一実施形態に係るタンデム方式のフルカラー電子写真装置（画像形成装置）を説明するための概略図であり、下記するような変形例も本発明の範疇に属するものである。
【０１２８】
図７の画像形成装置１００において、電子写真感光体（１０Ｃ（シアン），１０Ｍ（マゼンタ），１０Ｙ（イエロー），１０Ｋ（ブラック））は、ドラム状の電子写真感光体１０であり、これらの電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）は、図中の矢印方向に回転する。電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する。電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）の周りに少なくとも回転順に帯電部材（１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙ，１１Ｋ）、現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）、クリーニング部材（１７Ｃ，１７Ｍ，１７Ｙ，１７Ｋ）が配置されている。この帯電部材（１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙ，１１Ｋ）と、現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）との間の電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）の表面に、露光部材からのレーザー光（１２Ｃ，１２Ｍ，１２Ｙ，１２Ｋ）が照射され、電子写真感光体１０に静電潜像が形成されるようになっている。
【０１２９】
そして、このような電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）を中心とした４つの画像形成ユニット（２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｙ、２０Ｋ）が、中間転写ベルト１９に沿って並置されている。
【０１３０】
中間転写ベルト１９は、各画像形成ユニット（２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｙ、２０Ｋ）の現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）と、クリーニング部材（１７Ｃ，１７Ｍ，１７Ｙ，１７Ｋ）との間で感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）に当接しており、中間転写ベルト１９の感光体側の裏側に当たる面（裏面）には転写バイアスを印加するための転写部材（１６Ｃ，１６Ｍ，１６Ｙ，１６Ｋ）が配置されている。各画像形成ユニット（２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｙ、２０Ｋ）は現像装置内部のトナーの色が異なることであり、その他は全て同様の構成となっている。
【０１３１】
図６に示す構成のカラー電子写真装置において、画像形成動作は次のようにして行なわれる。まず、各画像形成ユニット（２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｙ、２０Ｋ）において、感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）が、感光体と連れ周り方向に回転する帯電部材（１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙ，１１Ｋ）により帯電され、次に、露光部（図示せず）でレーザー光（１２Ｃ，１２Ｍ，１２Ｙ，１２Ｋ）により、作成する各色の画像に対応した静電潜像が形成される。
【０１３２】
次に現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）により潜像を現像してトナー像が形成される。現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）は、それぞれＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー），Ｋ（ブラック）のトナーで現像を行なう現像部材で、４つの感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）上で作られた各色のトナー像は中間転写ベルト（１９）上で重ねられる。
【０１３３】
転写紙１５は給紙コロ２１によりトレイから送り出され、一対のレジストローラ２２で一旦停止し、上記電子写真感光体１０上への画像形成とタイミングを合わせて転写部材２３に送られる。中間転写ベルト１９上に保持されたトナー像は転写部材２３に印加された転写バイアスと転写ベルト１９との電位差から形成される電界により、転写紙１５上に転写される。転写紙上に転写されたトナー像は、搬送されて、定着ユニット２４により転写紙上にトナーが定着されて、図示しない排紙部に排紙される。また、転写部で転写されずに各電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）上に残った残留トナーは、それぞれのユニットに設けられたクリーニング部材（１７Ｃ，１７Ｍ，１７Ｙ，１７Ｋ）で回収される。
【０１３４】
図７に示したような、中間転写方式は、フルカラー印刷が可能な画像形成装置に特に有効であり、複数のトナー像を一度中間転写体上に形成した後に紙に一度に転写することによって、色ズレの防止の制御もしやすく高画質化に対しても有効である。中間転写方式で用いる中間転写体には、ドラム状やベルト状など種々の材質あるいは形状のものがあるが、本発明においては従来公知である中間転写体のいずれも使用することが可能であり、感光体の高耐久化あるいは高画質化に対し有効かつ有用である。
【０１３５】
なお、図７の例では画像形成要素は中間転写ベルトの走行方向上流側から下流側に向けて、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー），Ｋ（ブラック）の色の順で並んでいるが、この順番に限るものでは無く、色順は任意に設定されるものである。また、黒色のみの原稿を作成する際には、黒色以外の画像形成ユニット（２０Ｃ，２０Ｍ，２０Ｙ）が停止するような機構を設けることは本発明に特に有効に利用できる。また、耐摩耗性に優れ、かつ、異常画像の原因となる電子写真感光体に生じたキズを修復することができる特徴を有する電子写真感光体を用いることで、信頼性の高い画像形成方法及び画像形成装置を実現できる。
【０１３６】
この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、電子写真用プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。電子写真用プロセスカートリッジの一例としての画像形成装置用プロセスカートリッジを図７に示す。画像形成装置用プロセスカートリッジとは、電子写真感光体１０を内蔵し、他に、帯電部材１１、現像部材１３、転写部材１６、クリーニング部材１７、除電手段の少なくとも一つを一体に具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。電子写真感光体１０は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する。図８に例示される装置による画像形成プロセスについて示すと、感光体１０は、回転しながら、帯電部材１１による帯電、画像露光部材１２による露光１２により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段（１３）で現像されてトナー像となり、該トナー像は転写部材１６により、転写紙１５に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング部材１７によりクリーニングされ、再び以上の操作を繰り返すものである。一実施形態に係る電子写真感光体１０と、帯電部材１１、現像部材１３、転写部材１６、クリーニング部材１７、除電手段のうち少なくとも一つとを一体に具備し、画像形成装置に対して脱着可能な画像形成装置用プロセスカートリッジとして、好ましく用いることができるものである。
【０１３７】
本実施形態によれば、（１）レトロディールス・アルダー反応により架橋解離して、ポリマーネットワーク状態から低分子モノマーの液体状態となることで、空隙となった傷の修復が容易になり、（２）未反応のフラン誘導体および未反応のマレイミド誘導体が表面層に残留したとしても共に極性が低く、および反応に触媒等が不要なことから良好な電気特性を得ることができ、（３）３次元架橋体を形成するので十分な耐摩耗性を有し、（４）レトロディールス・アルダー反応による架橋解離を用いるので、再度同じ場所に傷が生じた場合であっても修復できる。
【実施例】
【０１３８】
以下、実施例及び比較例を示して本実施形態をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。各例中の「部」は「質量部」を表す。
［合成例１］（トリアリールアミン構造を有するジエン（具体例Ａ−７の化合物）の合成）
【０１３９】
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、下記分子式で表されるジエノフェノール誘導体１０ｇ、フルフリルアルコール４．０６ｇ（東京化成品製）、トリブチルホスフィン１０．０５ｇ（東京化成品製）、脱水ジクロロメタン２００ｍｌを入れ、窒素気流下、１、１’−（アゾカルボニル）ジピペリジン１２．５３ｇ（東京化成品製）を溶かしたジクロロメタン溶液３０ｍｌを３℃でゆっくり滴下し、さらに同温度で１０時間反応を行った。その後、ろ過して、エバポレーターにより反応溶媒を除き、粗収物の黄色粉体を得、さらにシリカゲルによりカラム精製を行った後、淡黄色粉体のフラン誘導体（具体例Ａ−７の化合物）４．５３ｇを得た。
【０１４０】
【化１７】
2014182186.tif 000026
元素分析結果を以下に示す。なお、表中の％は質量％である。
【０１４１】
【表８】
2014182186.tif 000027
また、赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図９に示す。
［合成例２］（トリアリールアミン構造を有するジエン（具体例Ａ−２５の化合物）の合成）
【０１４２】
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、下記分子式で表わされるトリメチロール体３．００ｇ、２−フランカルボン酸３．３０ｇ（東京化成品社製）、トリブチルホスフィン５．９７ｇ（東京化成品社製）、脱水テトラヒドロフラン１００ｍｌを入れ、窒素気流下、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン７．４４ｇ（東京化成品社製）を溶かしたテトラヒドロフラン溶液３０ｍｌを１℃でゆっくり滴下し、さらに還流下で４８時間反応を行なった。その後、ろ過して、エバポレーターにより反応溶媒を除き、粗収物の白色粉体を得、さらにシリカゲルによりカラム精製を行なった後、白色粉体のフラン誘導体１．１２ｇ（具体例Ａ−２５の化合物）を得た。
【０１４３】
【化１８】
2014182186.tif 000028
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図１０に示す。
［合成例３］（ビスマレイミド（具体例Ｂ−１の化合物）の合成）
【０１４４】
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、ジアミノペンタン１７．２ｇ（東京化成品製）、無水酢酸３６．０ｇ（東京化成品製）、ＤＭＦ７０ｍｌを入れ、窒素気流下、７５℃で２時間撹拌した。その後、無水酢酸６４ｍｌ（東京化成品製）、トリエチルアミン８ｍｌ、二酢酸ニッケル（ＩＩ）・４水和物（東京化成品製）０．４ｇを加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、水を加えて、エバポレーターにより反応溶媒を除き、さらにシリカゲルによりカラム精製を行い、再結晶を行った後、白色粉体の（具体例Ｂ−１の化合物）３．６ｇを得た。
［融点測定方法］
【０１４５】
ＢＵＣＨＩ社製の融点測定装置Ｂ−５１０を用いて融点測定を行った。ガラス毛細管に微粉砕した固体試料を入れて、それをシリコーンオイル中に浸漬し、加温させながら目視で融点を測定した。
［実施例１］
＜電子写真感光体の作製＞
−下引き層の形成−
【０１４６】
アルミニウム製板上に、下記組成の下引き層塗工液をドクターブレードで塗工し、１３０℃で３０分乾燥・硬化させて、厚みが３．５μｍの下引き層を形成した。
〔下引き層塗工液の組成〕
・アルキッド樹脂（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業株式会社製）・・・６質量部
・メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ−８２１−６０、大日本インキ化学工業株式会社製）・・・４質量部
・酸化チタン粒子・・・５０質量部
・メチルエチルケトン・・・５０質量部
−電荷発生層の形成−
【０１４７】
次に、上記の下引き層上に、下記組成のチタニルフタロシアニン顔料を含む電荷発生層塗工液をドクターブレードで塗工し、加熱乾燥させて、厚み０．２μｍの電荷発生層を形成した。
〔電荷発生層塗工液の組成〕
・チタニルフタロシアニン顔料・・・１．５質量部
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ社製）・・・０．５質量部
・シクロヘキサノン・・・２００質量部
・メチルエチルケトン・・・８０質量部
−電荷輸送層の形成−
次に、上記の電荷発生層上に、下記組成の電荷輸送層塗工液をドクターブレードで塗工し、加熱乾燥させて、厚み２０．０μｍの電荷輸送層を形成した。
〔電荷輸送層塗工液の組成〕
・ビスフェノールＺ型ポリカーボネート・・・１０質量部
・下記構造式で表される低分子電荷輸送物質・・・１０質量部
【０１４８】
【化１９】
2014182186.tif 000029
・テトラヒドロフラン・・・１００質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
−保護層の形成−
【０１４９】
次に、上記の電荷輸送層上に、下記組成のドクターブレードで塗工し、８０℃で３０分間乾燥して、厚み８．０μｍの保護層を形成した。以上により、実施例１の電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−１の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・５．５質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２０の化合物（融点２００℃以上）・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・１０．９質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−１５の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・７．９質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例４］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−３の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・７．８質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例５］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例６］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・具体例Ｂ−５の化合物（融点１９９℃）・・・８．３質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例７］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−５の化合物（融点１９９℃）・・・８．７質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例８］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例９］
＜電子写真感光体ドラムの作製＞
−下引き層の形成−
【０１５０】
φ６０ｍｍの表面研磨したアルミニウム基体上に、下記組成の下引き層塗工液を浸漬塗工により成膜し、１３０℃で３０分乾燥・硬化させて、厚みが３．５μｍの下引き層を形成した。
〔下引き層塗工液の組成〕
・アルキッド樹脂（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業株式会社製）・・・６質量部
・メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ−８２１−６０、大日本インキ化学工業株式会社製）・・・４質量部
・酸化チタン粒子・・・５０質量部
・メチルエチルケトン・・・５０質量部
−電荷発生層の形成−
【０１５１】
次に、上記の下引き層上に、下記組成のチタニルフタロシアニン顔料を含む電荷発生層塗工液を浸漬塗布し、加熱乾燥させて、厚み０．２μｍの電荷発生層を形成した。
〔電荷発生層塗工液の組成〕
・チタニルフタロシアニン顔料・・・１．５質量部
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ社製）・・・０．５質量部
・シクロヘキサノン・・・２００質量部
・メチルエチルケトン・・・８０質量部
−電荷輸送層の形成−
次に、上記の電荷発生層上に、下記組成の電荷輸送層塗工液を浸漬塗布し、加熱乾燥させて、厚み２０．０μｍの電荷輸送層を形成した。
〔電荷輸送層塗工液の組成〕
・ビスフェノールＺ型ポリカーボネート・・・１０質量部
・下記構造式で表される低分子電荷輸送物質・・・１０質量部
【０１５２】
【化２０】
2014182186.tif 000030
・テトラヒドロフラン・・・１００質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
−保護層の形成−
次に、上記の電荷輸送層上に、下記組成の保護層塗工液を浸漬塗布し、８０℃で３０分間乾燥して、厚み８．０μｍの保護層を形成した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃以上）・・・８．１質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
以上により、実施例９の電子写真感光体ドラムを作製した。
［比較例１］
【０１５３】
実施例１において、電荷輸送層液を塗工後、以下のように下記組成の保護層塗工液をスプレーで塗工した。アルミニウム基体とＵＶ硬化ランプから１２０ｍｍ距離を置いて、ＵＶ硬化を施した。この位置でのＵＶ硬化ランプ照度は６００ｍＷ／ｃｍ２（紫外線積算光量計ＵＩＴ−１５０、ウシオ社製による測定値）であった。また、ＵＶ硬化は３０秒間の露光と１２０秒間の休止を繰り返し、通算７分間露光した。ＵＶ硬化後、１３０℃にて３０分加熱乾燥させて、４μｍの保護層を設け電子写真感光体を得た。
〔保護層塗工液の組成〕
・下記構造の架橋型電荷輸送物質
【０１５４】
【化２１】
2014182186.tif 000031
（分子量／官能基数）＝４１９．５３
・トリメチロールプロパントアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ，日本化薬製）・・・６０質量部
【０１５５】
・アクリル基含有ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンとプロポキシ変性−２−ネオペンチルグリコールジアクリレート混合物（ＢＹＫ−ＵＶ３５７０、ビックケミー社製）・・・０．１質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）・・・５質量部
・両末端メタクリロイル変性ジメチルポリシロキサン（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業社製）
・アクリル・シリコン共重合体  １次粒径０．２μｍ（シャリーヌＲ−１７０Ｓ、日信化学社製）・・・１３．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・４００質量部
［比較例２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・下記構造のフラン誘導体（融点１９６℃）・・・６．８質量部
【０１５６】
【化２２】
2014182186.tif 000032
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
実施例１〜９、比較例１、２の内容を表９にまとめて示す。
【０１５７】
【表９】
2014182186.tif 000033
次に、得られた各電子写真感光体について、以下のように評価した。
＜キズ修復性評価（実施例１〜８、比較例１、２）＞
【０１５８】
レスカ製超薄膜スクラッチ試験機ＣＳＲ−２０００を用いて、スタイラス径５μｍ、スクラッチ速度１０μｍ／ｓ、励振レベル５０μｍ、設定加重１０ｍＮ、設定荷重時間３００ｓの設定により、キズ幅５０μｍ、キズ深さ５μｍの最表層の膜を削りとったキズをつけた感光体を１４０℃の乾燥機に５分間入れた後、８０℃の乾燥機に３０分間入れ、表面粗さ計を用いてキズ断面を測定した。加熱処理前後のキズ深さ変化率を表面粗さ計を用いて評価を行い、８０％以上を◎、５０％以上８０％未満を○、２０％以上５０％未満を△、２０％未満を×とした。その結果を表１０に示す。
＜感光体特性評価（実施例１〜８、比較例１、２）＞
【０１５９】
感光体を１４０℃の乾燥機に５分間入れた後、８０℃の乾燥機に３０分間入れ、フィッシャーインストルメンツ製表面皮膜物性試験機フィッシャースコープＨ１００を用いて、加熱処理前後のユニバーサル硬度及び弾性仕事率の評価を行った。その結果を表１０に示す。
【０１６０】
また、川口電気製作所製静電複写試験装置ＳＰ８１００型を用いて、暗所で−６ｋＶのコロナ放電を２０秒間行って帯電させた後、感光体の表面電位Ｖｍ（Ｖ）を測定し、さらに２０秒間暗所に放置した後、表面電位Ｖ０（Ｖ）を測定し、暗減衰率Ｖ０／Ｖｍ（−）を算出した。次いで、タングステンランプ光を感光体表面での照度が５．３ｌｕｘになるように照射して３０秒後の表面電位Ｖ３０（Ｖ）を測定した。加熱処理後も同様に評価を行った。その結果を表１０に示す。
＜実機通紙試験（実施例９）＞
【０１６１】
感光体ドラム（φ６０ｍｍ）をリコー製デジタルフルカラー複合機ＭＰ  ７５００  ＳＰのプロセスカートリッジに着装し、本体に取り付けて６００×６００ｄｐｉの画素密度でリコーマイリサイクルペーパーＧＰのＡ４用紙を用い、イエロー、マゼンダ、シアン、ブラックの各中間調帯模様のテストパターンの毎分６０枚の印刷速度で１万枚の印刷を行った。１万枚目の印刷結果の画像が綺麗に得られたものを○とし、部分的に異常画像が見られるものを△、画像として著しく悪いものを×とした。その結果を表１０に示す。
【０１６２】
【表１０】
2014182186.tif 000034
【０１６３】
キズ修復性評価では、比較例１、２が修復性を有していないことが分かった。比較例１は、表面層を有しない感光体であり、もともと修復性を有していない。比較例２、は、フラン誘導体及びマレイミド誘導体の融点が高いためにレトロディールス・アルダー反応（逆反応）時に固体状態であるためにキズ部位を埋める効果を発揮していないと考えられる。一方、実施例１〜８は良好な修復性を有していることが分かった。また、実施例８においては、特に優れた傷修復性を示した。これは、フラン誘導体及びマレイミド誘導体の融点以上の温度で逆反応を行うため、フラン誘導体及びマレイミド誘導体がともに液体となり、キズ部位を埋めやすくなったためと考えられる。
【０１６４】
耐摩耗性評価について、耐摩耗性は硬度及び弾性仕事率と良い相関性を示すことが従来知られている。実施例１〜８において、比較例１に示す従来のＵＶ硬化型架橋膜と同程度の弾性仕事率を示し、且つ硬度においても同程度以上の値であることから、ＵＶ硬化型架橋膜と同程度の耐摩耗性を有していると考えられる。また、加熱処理前後においても比較例２を除いては硬度及び弾性仕事率にほとんど変化はなく、加熱処理後も同等の耐摩耗性を有していると考えられる。比較例１については加熱処理前後の比較は実施していない。
【０１６５】
電気特性評価は、いずれも加熱処理前後において残留電位の上昇などの悪化はなく、加熱処理後も同等の電気特性を示すと考えられる。比較例１については加熱処理前後の比較は実施していない。また、感光体ドラムを作製した実施例９で画像評価を行ったが異常画像は見られなかった。
【０１６６】
以上のように、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、フラン誘導体およびマレイミド誘導体のうち少なくとも１つが融点１６０℃以下である感光体は、優れた耐摩耗性と良好な電気特性を示すとともに、この層に生じたキズを加熱処理を行うことにより埋める（修復する）ことができ、且つ、加熱処理前後に基本的感光体特性を低下させることなく維持することができる。これにより機械的耐久性に優れた感光体の提供及び高寿命ながらキズを修復することができる感光体の提供が可能になる。
［実施例１０］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−１の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・５．５質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・６．４質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１１］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２０の化合物（融点２００℃以上）・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・１０．９質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．７質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−１５の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・７．９質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１３］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−３の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・７．８質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１４］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１５］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・具体例Ｂ−５の化合物（融点１９９℃）・・・８．３質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・９．１質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１６］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−５の化合物（融点１９９℃）・・・８．７質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．２質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１７］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０１：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１８］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０２：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１９］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２０］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０４：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２１］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０５：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０７：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２３］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ１：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２４］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ２：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２５］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・０．２６質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２６］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・０．３４質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２７］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・１．６７質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２８］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・１１．２０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２９］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・１２．８６質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３０］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・酸化チタン（ＣＲ９７：石原産業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３１］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・酸化スズ（ＮａｎｏＴｅｋ：シーアイ化成株式会社製、平均１次粒径０．０２１μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・酸化亜鉛（２３−Ｋ：ハクスイテック株式会社製、平均１次粒径０．２μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３３］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・酸化ケイ素（ＫＭＰＸ１００：信越化学工業株式会社製、平均１次粒径０．１μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
実施例１０〜３３の内容を表１１にまとめて示す。
【０１６７】
【表１１】
2014182186.tif 000035
【０１６８】
次に、実施例１０〜３３で得られた電子写真感光体、電子写真感光体ドラムについて、上記のキズ修復性評価、感光体特性評価、実機通紙試験を行い評価した。それらの結果を表１２に示す。
【０１６９】
【表１２】
2014182186.tif 000036
【０１７０】
以上の結果より、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、上記のフラン誘導体および上記のマレイミド誘導体のうち少なくとも１つの融点が１６０℃以下であることを特徴とする電子写真感光体において、更に、上記の最表層が金属酸化物フィラーを有する場合、キズ修復効果を低減させることなく、耐摩耗性が格段に向上した感光体の提供が可能となる。
【符号の説明】
【０１７１】
１  導電性支持体
２  下引き層
３  電荷発生層
４  電荷輸送層
５  保護層
６  単層型感光層
１０、１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ  電子写真感光体
１１、１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ  帯電部材
１２、１２Ｙ、１２Ｍ、１２Ｃ、１３Ｋ  画像露光部材
１３、１３Ｙ、１３Ｍ、１３Ｃ、１３Ｋ  現像部材
１４  搬送ローラ
１５  転写紙
１６、１６Ｙ、１６Ｍ、１６Ｃ、１６Ｋ  転写部材
１７、１７Ｙ、１７Ｍ、１７Ｃ、１７Ｋ  クリーニング部材
１８  除電部材
２０Ｙ、２０Ｍ、２０Ｃ、２０Ｋ  画像形成ユニット
２１  給紙コロ
２２  レジストローラ
２３  転写部材（二次転写部材）
２４  定着ユニット
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１７２】
【特許文献１】特開２００６―２４３５０６号公報
【特許文献２】特開２００９―２１１０７０号公報
【図１】
2014182186.tif 000040
【図２】
2014182186.tif 000041
【図３】
2014182186.tif 000042
【図４】
2014182186.tif 000043
【図５】
2014182186.tif 000044
【図６】
2014182186.tif 000045
【図７】
2014182186.tif 000046
【図８】
2014182186.tif 000047
【図９】
2014182186.tif 000048
【図１０】
2014182186.tif 000049