(57)【要約】【課題】基板の対向面への粒子の固着が発生し難い表示媒体及び表示装置を提供する。【解決手段】電極を有する一対の基板であって、少なくとも一方が透光性を有すると共に間隙をもって配置された一対の基板と、一対の基板間に封入された分散媒と、分散媒中に分散され一対の基板間に形成された電界に応じて分散媒中を移動する粒子群と、を有する表示媒体において、一対の基板の対向面の少なくとも一方に、金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された高分子化合物を含む被覆層を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極を有する一対の基板であって、少なくとも一方が透光性を有すると共に間隙をもって配置された一対の基板と、
前記一対の基板間に封入された分散媒と、
前記分散媒中に分散され、前記一対の基板間に形成された電界に応じて前記分散媒中を移動する粒子群と、
前記一対の基板の対向面の少なくとも一方に設けられ、金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された架橋構造を有する高分子化合物を含む被覆層と、
を有する表示媒体。
【請求項２】
前記金属アルコキシド化合物が、ケイ素、チタン、ジルコニウム、及びアルミニウムから選択される金属原子を含む金属アルコキシド化合物である、請求項１に記載の表示媒体。
【請求項３】
前記金属アルコキシド化合物が、シリコーン鎖を有するポリマーである、請求項１又は請求項２に記載の表示媒体。
【請求項４】
前記金属アルコキシド化合物が、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物から選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含むポリマーである、請求項１又は請求項２に記載の表示媒体。
【化１】
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一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｎは、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
一般式（３）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
【請求項５】
前記被覆層が、更に、水酸基を有するポリマー、又は、水酸基を有するポリマーに由来する構成単位を含む、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の表示媒体。
【請求項６】
前記水酸基を有するポリマーが、シリコーン鎖を有する、請求項５に記載の表示媒体。
【請求項７】
前記水酸基を有するポリマーが、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物から選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含む、請求項５に記載の表示媒体。
【化２】
2014186259.tif 000017
一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｎは、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
一般式（３）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
【請求項８】
前記一対の基板が表示基板と背面基板であり、少なくとも該表示基板の対向面に前記被覆層が設けられた、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の表示媒体。
【請求項９】
前記一対の基板の間隙を区画する間隙部材であって、表面に前記被覆層が設けられた間隙部材を更に有する、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の表示媒体。
【請求項１０】
前記分散媒が、シリコーンオイルである、請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の表示媒体。
【請求項１１】
請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の表示媒体と、
前記表示媒体が有する一対の基板の間に電圧を印加する電圧印加手段と、
を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示媒体、及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
繰り返し書き換えが可能な表示媒体として、電気泳動表示媒体が知られている。この表示媒体は、例えば、一対の基板と、一対の基板間に封入された分散媒と、一対の基板間に形成された電界に応じて分散媒中を移動する電気泳動粒子と、を含んで構成される。
この表示媒体において、書き換えを繰り返した際の画質の低下の抑制を目的として、基板への粒子の固着の発生を抑制する技術（例えば特許文献１）が提案されているが、実用上は、基板への粒子の固着の発生をより効果的に抑制する技術が待たれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−７８８２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、基板の対向面への粒子の固着が発生し難い表示媒体及び表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
発明が解決しようとする課題は、以下の手段により解決される。
〔１〕電極を有する一対の基板であって、少なくとも一方が透光性を有すると共に間隙をもって配置された一対の基板と、一対の基板間に封入された分散媒と、分散媒中に分散され、一対の基板間に形成された電界に応じて分散媒中を移動する粒子群と、一対の基板の対向面の少なくとも一方に設けられ、金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された架橋構造を有する高分子化合物を含む被覆層と、を有する表示媒体。
〔２〕金属アルコキシド化合物が、ケイ素、チタン、ジルコニウム、及びアルミニウムから選択される金属原子を含む金属アルコキシド化合物である、〔１〕に記載の表示媒体。
〔３〕金属アルコキシド化合物が、シリコーン鎖を有するポリマーである、〔１〕又は〔２〕に記載の表示媒体。
〔４〕金属アルコキシド化合物が、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物から選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含むポリマーである、〔１〕又は〔２〕に記載の表示媒体。
【０００６】
【化１】
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【０００７】
【化２】
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【０００８】
【化３】
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【０００９】
一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｎは、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
一般式（３）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
【００１０】
〔５〕被覆層が、更に、水酸基を有するポリマー、又は、水酸基を有するポリマーに由来する構成単位を含む、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の表示媒体。
〔６〕水酸基を有するポリマーが、シリコーン鎖を有する、〔５〕に記載の表示媒体。
〔７〕水酸基を有するポリマーが、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物から選択される少なくとも１種に由来する構成単位を含む、〔５〕に記載の表示媒体。
【００１１】
【化４】
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【００１２】
【化５】
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【００１３】
【化６】
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【００１４】
一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｎは、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
一般式（３）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
【００１５】
〔８〕一対の基板が表示基板と背面基板であり、少なくとも表示基板の対向面に被覆層が設けられた、〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の表示媒体。
〔９〕一対の基板の間隙を区画する間隙部材であって、表面に被覆層が設けられた間隙部材を更に有する、〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の表示媒体。
〔１０〕分散媒が、シリコーンオイルである、〔１〕〜〔９〕のいずれか１項に記載の表示媒体。
〔１１〕〔１〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載の表示媒体と、表示媒体が有する一対の基板の間に電圧を印加する電圧印加手段と、を備えた表示装置。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、基板の対向面への粒子の固着が発生し難い表示媒体及び表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る表示装置の概略構成図である。
【図２】本発明に係る表示装置の表示媒体の基板間に電圧を印加したときの粒子群の移動態様を模式的に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。作用及び機能が同様の働きを担う部材には、全図面を通して同じ符合を付与し、重複する説明を省略する場合がある。
【００１９】
本明細書において、「（メタ）アクリル」との表記は「アクリル」及び「メタクリル」を意味し、「（メタ）アクリレート」との表記は「アクリレート」及び「メタクリレート」を意味し、「（メタ）アクリロイル」との表記は「アクリロイル」及び「メタクリロイル」を意味し、「（メタ）アクリロキシ」との表記は「アクリロキシ」及び「メタクリロキシ」を意味する。
【００２０】
図１は、本発明に係る表示装置の概略構成図である。図２は、本発明に係る表示装置の表示媒体の基板間に電圧を印加したときの粒子群の移動態様を模式的に示す説明図である。
図１及び図２は、１つのセルに注目した図である。以下、説明を簡易化するために、この１つのセルに注目した図を用いて、表示媒体及び表示装置を説明する。
【００２１】
本発明に係る表示装置１０は、図１に示すように、表示媒体１２と、表示媒体１２に電圧を印加する電圧印加部１６と、電圧印加部１６の駆動を制御する制御部１８と、を含んで構成されている。
【００２２】
〔表示媒体〕
表示媒体１２は、画像表示面を構成する表示基板２０、表示基板２０に間隙をもって対向する背面基板２２、これらの基板間を所定の間隔に保持すると共に、表示基板２０と背面基板２２との基板間を複数のセルに区画する間隙部材２４、並びに、各セル内に封入された分散媒５０、粒子群３４、及び絶縁性粒子群３６を含んで構成されている。
【００２３】
上記セルとは、表示基板２０と、背面基板２２と、間隙部材２４と、によって囲まれた領域である。
セル中には分散媒５０が封入され、分散媒５０中に粒子群３４及び絶縁性粒子群３６が分散している。
【００２４】
粒子群３４は、セル内に形成された電界強度に応じて表示基板２０と背面基板２２との基板間を絶縁性粒子群３６の間隙を通じて移動する。
以下、粒子群３４は、所定の色を有すると共に、予め正又は負に帯電処理されて調製されているものとして説明する。
【００２５】
絶縁性粒子群３６は、粒子群３４とは異なる光学的反射特性を有する、電界応答性が低い粒子群であり、絶縁性粒子群３６の間隙を通って、粒子群３４が基板間を移動する。
また、絶縁性粒子群３６は、表示画像の背景色をなす粒子群である。絶縁性粒子群３６の色としては、背景色となるように白色又は黒色を選択することが望ましい。
【００２６】
セルは、表示媒体１２に画像を表示したときの各画素に対応するように間隙部材２４によって区画されていることが望ましく、これにより、表示媒体１２は画素毎の表示が可能となる。
セルの大きさは、表示媒体１２の解像度と密接な関係にあり、セルが小さいほど表示媒体１２の解像度は高く、通常、表示基板２０の板面方向の長さが１０μｍ以上１ｍｍ以下程度である。
【００２７】
表示媒体１２は、例えば、画像の保存及び書換えが可能な、掲示板、回覧版、電子黒板、広告、看板、点滅標識、電子ペーパー、電子新聞、電子書籍、及び複写機やプリンタと共用するドキュメントシートとして用いられる。
【００２８】
〔基板〕
表示基板２０は、支持基板３８上に、表面電極４０を積層した構成である。背面基板２２は、支持基板４４上に、背面電極４６を積層した構成である。
【００２９】
表示基板２０は透光性を有する。ここで「透光性」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを意味する。背面基板２２は、透光性を有していても有していなくてもよい。
【００３０】
支持基板３８及び支持基板４４の材料としては、ガラス、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂等が挙げられる。
【００３１】
表面電極４０及び背面電極４６は、例えば、インジウム、スズ、カドミウム、アンチモン等の金属の酸化物；ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）等の複合酸化物；金、銀、銅、ニッケル等の金属；ポリピロール、ポリチオフェン等の有機材料；を材料とする、単層膜、混合膜、又は複合膜である。表面電極４０及び背面電極４６の厚さは、例えば、１００Å以上２０００Å以下であることがよい。
表面電極４０及び背面電極４６は、例えば、マトリックス状又はストライプ状に形成されていてもよい。
【００３２】
表面電極４０及び背面電極４６は、それぞれ独立に、支持基板３８及び支持基板４４に埋め込んでもよい。
表面電極４０及び背面電極４６は、それぞれ独立に、表示基板２０及び背面基板２２と分離させ、表示媒体１２の外部に配置してもよい。
【００３３】
表示基板２０と背面基板２２は、いずれか一方に電極を設け、アクティブマトリクス駆動をさせてもよい。
【００３４】
支持基板３８及び支持基板４４は、アクティブマトリックス駆動を実施するために、画素毎にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を備えていてもよい。この場合ＴＦＴは、配線の積層化及び部品実装が容易であることから、表示基板２０ではなく背面基板２２に形成することが望ましい。
【００３５】
〔間隙部材〕
間隙部材２４は、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、光硬化性樹脂、ゴム、金属で構成される。
【００３６】
間隙部材２４は、表示基板２０及び背面基板２２の一方又は双方に、一体的に形成されていてもよい。この場合、支持基板３８又は支持基板４４を、エッチング処理、レーザー加工処理、プレス加工処理、又は印刷処理等で加工して、間隙部材２４を形成する。
【００３７】
間隙部材２４は有色でも無色でもよいが、表示媒体１２に表示される表示画像に悪影響を及ぼさない観点から無色透明であることが望ましく、その場合には、例えば、ポリスチレン、ポリエステル、アクリル等の透明樹脂で構成されることが望ましい。
間隙部材２４は粒子状であってもよく、その場合、ポリスチレン、ポリエステル、アクリル等の透明樹脂粒子やガラス粒子で構成されることが望ましい。
ここで「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを意味する。
【００３８】
表示基板２０と背面基板２２とを、間隙部材２４を介して固定するには、ボルトとナットの組合せ、クランプ、クリップ、固定枠等の固定手段を適用する。ほかに、接着剤、熱溶融、超音波接合等により固定してもよい。
【００３９】
〔被覆層〕
表示基板２０及び背面基板２２は、対向面（セル構成面）に、それぞれ被覆層２１、被覆層２３を有する。
表示基板２０と背面基板２２とは、少なくとも一方のセル構成面に被覆層が設けられていればよく、少なくとも表示基板２０のセル構成面に被覆層が設けられていることが望ましく、両方のセル構成面に被覆層が設けられていることがより望ましい。表示基板２０に被覆層が設けられていると、粒子の固着に起因する画像欠陥が抑制される。背面基板２２に被覆層が設けられていると、該基板に対する粒子の固着が抑制され、その結果、画像表示に寄与しない粒子の増加が抑制される。
【００４０】
間隙部材２４は、表面（セル構成面）に、被覆層２５を有する。
間隙部材２４のセル構成面には被覆層２５が設けられていなくてもよいが、被覆層２５が設けられていると、間隙部材２４に対する粒子の固着が抑制され、その結果、画像表示に寄与しない粒子の増加が抑制される。
つまり、表示基板２０、背面基板２２、及び間隙部材２４の全てのセル構成面に被覆層が設けられていることが最も望ましい。
【００４１】
被覆層２１、被覆層２３、及び被覆層２５の厚さは、０．００１μｍ以上１０μｍ以下が望ましく、０．０１μｍ以上１μｍ以下がより望ましい。
【００４２】
被覆層２１、被覆層２３、及び被覆層２５は、金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された架橋構造を有する高分子化合物を含む層である。
これら被覆層は、金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された緻密な架橋構造を有する高分子化合物で構成されているので、他種の化合物で形成された被覆層に比べて、基板の対向面への粒子の固着が発生し難いと考えられる。また、前記高分子化合物が数多くの結合点を介して基板表面に結合しているので、被覆層は基板表面から剥がれ難いものとなっており、画像表示を繰り返しても、基板の対向面への粒子の固着が発生し難いと考えられる。
【００４３】
金属アルコキシド化合物は、金属原子に直接結合したアルコキシ基を有し、加水分解及び縮重合し得る化合物であれば、特に制限されない。ここで、金属原子には、金属に分類される元素の原子のほか、半金属に分類される元素の原子（例えば、ケイ素やホウ素）も含まれ、非金属に分類される元素の原子であってもアルコキシ基が結合したときに金属様性質を示す原子（例えば、リン）も含まれる。金属原子としては、例えば、Ｓｉ（ケイ素）、Ｔｉ（チタン）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｂ（ホウ素）、Ｐ（リン）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｇｅ（ゲルマニウム）、Ｇａ（ガリウム）、Ｓｂ（アンチモン）、Ｓｎ（スズ）、Ｔａ（タンタル）、Ｖ（バナジウム）等が挙げられる。
金属アルコキシド化合物は、後で詳述するが、非ポリマー性の化合物でもよく、ポリマー性の化合物でもよい。金属アルコキシド化合物は、金属原子に２個以上のアルコキシ基が直接結合している基を有する化合物であることが望ましい。
以下、金属原子及び該金属原子に直接結合した１個又は複数個のアルコキシ基からなる基を「金属アルコキシ基」と称する。
【００４４】
非ポリマー性の金属アルコキシド化合物としては、例えば、下記の一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【００４５】
【化７】
2014186259.tif 000009
【００４６】
一般式（Ａ）中、Ｍは、２価乃至４価の金属原子を表し、Ｒ１１はアルキル基を表し、Ｒ１２は水素原子又は有機基を表す。
Ｍが２価の金属原子を表す場合、ｊは２を表し、ｋは０を表し、２個のＲ１１は、同一でも互いに異なっていてもよい。
Ｍが３価の金属原子を表す場合、ｊは３を表し、ｋは０又１を表し、２個又は３個のＲ１１は、すべて同一でも一部同一でも互いに異なっていてもよい。
Ｍが４価の金属原子を表す場合、ｊは４を表し、ｋは０、１又は２を表し、２個乃至４個のＲ１１は、すべて同一でも一部同一でも互いに異なっていてもよい。
【００４７】
Ｍで表される金属原子は、例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｐ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｇｅ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｖ等であり、中でもＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＡｌが望ましく、Ｓｉが特に望ましい。
【００４８】
Ｒ１１で表されるアルキル基としては、例えば、炭素数１乃至５のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基等）が挙げられ、炭素数１乃至４のアルキル基が望ましい。これらのアルキル基は、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい。
【００４９】
Ｒ１２で表される有機基としては、例えば、炭素数１乃至５のアルキル基（望ましくは炭素数１乃至４のアルキル基）、炭素数６乃至１０のアリール基（望ましくはフェニル基）が挙げられる。アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）が挙げられる。
【００５０】
一般式（Ａ）で表される化合物として、具体的には、以下の化合物が挙げられる。
【００５１】
Ｓｉ（ケイ素）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランが挙げられる。
中でも、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランが望ましい。
【００５２】
Ｔｉ（チタン）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタンが挙げられる。
【００５３】
Ｚｒ（ジルコニウム）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラプロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウムが挙げられる。
【００５４】
Ａｌ（アルミニウム）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリプロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウムが挙げられる。
【００５５】
Ｂ（ホウ素）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシボラン、トリエトキシボラン、トリプロポキシボラン、トリイソプロポキシボラン、トリブトキシボラン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシボラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシボランが挙げられる。
【００５６】
Ｐ（リン）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリメトキシホスフィン、トリエトキシホスフィンが挙げられる。
【００５７】
Ｚｎ（亜鉛）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ジメトキシ亜鉛、ジエトキシ亜鉛が挙げられる。
【００５８】
Ｍｇ（マグネシウム）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ジメトキシマグネシウム、ジエトキシマグネシウムが挙げられる。
【００５９】
Ｇｅ（ゲルマニウム）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラエトキシゲルマニウム、テトラ−ｎ−プロポキシゲルマニウムが挙げられる。
【００６０】
Ｇａ（ガリウム）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリエトキシガリウム、トリ−ｎ−ブトキシガリウムが挙げられる。
【００６１】
Ｓｂ（アンチモン）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリエトキシアンチモン、トリ−ｎ−ブトキシアンチモンが挙げられる。
【００６２】
Ｓｎ（スズ）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、テトラエトキシスズ、テトラ−ｎ−プロポキシスズが挙げられる。
【００６３】
Ｔａ（タンタル）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、ペンタメトキシタンタル、ペンタエトキシタンタルが挙げられる。
【００６４】
Ｖ（バナジウム）を含む金属アルコキシド化合物としては、例えば、トリエトキシバナジウム、トリ−ｎ−ブトキシバナジウムが挙げられる。
【００６５】
金属アルコキシド化合物は、高分子量の化合物でもよく、例えばポリマーでもよい。この場合の金属アルコキシド化合物は、換言すると、側鎖や末端に金属アルコキシ基が導入されているポリマーである。以下、該ポリマーを「金属アルコキシ基含有ポリマー」と称する。
【００６６】
金属アルコキシ基含有ポリマーとしては、例えば、金属アルコキシ基を有する重合成分（金属アルコキシ基含有重合成分）と、後述する重合成分（Ｃ）との共重合体が挙げられる。該共重合体は、後述するシリコーン鎖含有重合成分（Ａ）をも共に重合した共重合体であることが望ましい。金属アルコキシ基含有ポリマーがシリコーン鎖を有すると、被覆層はシリコーン鎖を有することになり、シリコーン鎖の作用によって、基板表面への粒子の固着がより効果的に抑制される。また、分散媒としてシリコーンオイルを用いる場合に、シリコーン鎖の作用によって、被覆層と分散媒とのなじみが良好である。
さらに金属アルコキシ基含有ポリマーは、後述する水酸基含有重合成分（Ｂ）をも共に重合した共重合体であってもよい。
【００６７】
金属アルコキシ基含有重合成分は、エチレン性不飽和結合と、少なくとも１個の金属アルコキシ基と、を有する化合物であれば特に制限されない。
金属アルコキシ基含有重合成分としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ又はＡｌから選択される金属原子を含む重合成分が望ましく、Ｓｉを含む重合成分が特に望ましい。即ち、金属アルコキシ基含有重合成分としては、アルコキシシリル基を有する重合成分が特に望ましい。
金属アルコキシ基含有重合成分としては、例えば、３−（メタ）アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシランが挙げられる。
【００６８】
金属アルコキシ基含有ポリマーに占める金属アルコキシ基含有重合成分の質量割合は、５質量％以上９０質量％以下の範囲であることが望ましい。５質量％以上であると、縮重合性及び基板表面への結合性が良好である。一方、９０質量％以下であると、被覆層中に残存するアルコキシ基の量が抑制され、粒子の移動特性（泳動特性）に影響を及ぼし難い。
金属アルコキシ基含有ポリマーがシリコーン鎖含有重合成分（Ａ）を含む場合、該重合成分の質量割合は、５質量％以上が望ましく、１０質量％以上がより望ましい。５質量％以上（より望ましくは１０質量％以上）であると、シリコーン鎖による粒子の固着抑制効果が得られ易い。
なお、上記の質量割合は、金属アルコキシ基含有ポリマーを合成する際の、各重合成分の仕込み量の割合である。
【００６９】
金属アルコキシ基含有ポリマーの重量平均分子量は、１０００以上１００万以下が望ましく、５０００以上５０万以下がより望ましく、１万以上３０万以下が更に望ましい。
【００７０】
被覆層２１、被覆層２３、及び被覆層２５は、非ポリマー性金属アルコキシド化合物と金属アルコキシ基含有ポリマーの両方で構成されていてもよい。両方を構成要素とすることにより、被覆層は、より緻密でしかも柔軟な架橋構造を有する高分子化合物を含み、基板の対向面への粒子の固着がより発生し難いと考えられる。
非ポリマー性金属アルコキシド化合物と金属アルコキシ基含有ポリマーの両方による被覆層の構成としては、例えば、以下の態様及びこれらの組合せが挙げられる。
・非ポリマー性金属アルコキシド化合物と金属アルコキシ基含有ポリマーとが共に加水分解及び縮重合して架橋構造を形成しつつ基板表面に結合し、被覆層を構成する。
・非ポリマー性金属アルコキシド化合物が加水分解及び縮重合して架橋構造を形成しつつ基板表面に結合し、さらに該架橋構造の表面に、金属アルコキシ基含有ポリマーが金属アルコキシ基の反応によって結合し、被覆層を構成する。
・非ポリマー性金属アルコキシド化合物が加水分解及び縮重合して架橋構造を形成しつつ基板表面に結合し、さらに該架橋構造に、金属アルコキシ基含有ポリマーが分子間相互作用によって近接して位置し、被覆層を構成する。
【００７１】
被覆層２１、被覆層２３、及び被覆層２５は、更に、水酸基を有するポリマーを構成要素とすることが望ましい。水酸基を有するポリマーは、金属アルコキシ基含有ポリマーとは異なるポリマーである。
水酸基を有するポリマーを構成要素とすることにより、被覆層はより緻密でしかも柔軟な構造体となり、基板の対向面への粒子の固着がより発生し難いと考えられる。
【００７２】
被覆層が、水酸基を有するポリマーを構成要素とする態様としては、例えば、以下の（Ｉ）、（ＩＩ）、及びこれらの組合せが挙げられる。
（Ｉ）被覆層が、水酸基を有するポリマーに由来する構成単位を含む。
（ＩＩ）被覆層が、水酸基を有するポリマー自体を含む。
被覆層をより緻密な構造にし得る観点で、（ＩＩ）に比べて（Ｉ）が望ましい。
【００７３】
前記（Ｉ）の態様には、例えば、以下の（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）、及びこれらの組合せが含まれる。
（Ｉ−１）金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された架橋構造に、水酸基を有するポリマーが、該ポリマーが有する水酸基の反応によって結合し、結果、被覆層が水酸基を有するポリマーに由来する構成単位を含む。
（Ｉ−２）金属アルコキシド化合物と水酸基を有するポリマーとが共に加水分解及び縮重合しつつ基板表面に結合し、被覆層を構成することで、結果、被覆層が水酸基を有するポリマーに由来する構成単位を含む。
（Ｉ−３）水酸基を有するポリマーが、該ポリマーが有する水酸基の反応によって基板表面に結合し、結果、被覆層が水酸基を有するポリマーに由来する構成単位を含む。
【００７４】
前記（ＩＩ）の態様には、例えば、以下の（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−３）、及びこれらの組合せが含まれる。
（ＩＩ−１）金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された架橋構造に、水酸基を有するポリマーが分子間相互作用によって近接して位置し、結果、被覆層が水酸基を有するポリマーを含む。
（ＩＩ−２）水酸基を有するポリマーが、分子間相互作用によって基板表面の近傍に位置し、結果、被覆層が水酸基を有するポリマーを含む。
（ＩＩ−３）金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された架橋構造の内部に、水酸基を有するポリマーが入り、結果、被覆層が水酸基を有するポリマーを含む。
【００７５】
水酸基を有するポリマーは、末端又は側鎖に、水酸基を少なくとも１個（望ましくは２個以上）有するポリマーであれば特に制限されないが、更にシリコーン鎖を有することが望ましく、側鎖にシリコーン鎖を有することがより望ましい。
水酸基を有するポリマーがシリコーン鎖を有すると、被覆層はシリコーン鎖を有することになり、シリコーン鎖の作用によって、基板表面への粒子の固着がより効果的に抑制される。また、分散媒としてシリコーンオイルを用いる場合に、シリコーン鎖の作用によって、被覆層と分散媒とのなじみが良好である。
【００７６】
水酸基を有するポリマーの望ましい態様としては、例えば、シリコーン鎖を有する重合成分（「シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）」）と、水酸基を有する重合成分（「水酸基含有重合成分（Ｂ）」）との共重合体が挙げられる。該共重合体は、シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）及び水酸基含有重合成分（Ｂ）以外のその他の重合成分（「重合成分（Ｃ）」）をも共に重合した共重合体でもよい。
【００７７】
−シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）−
シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）としては、直鎖型のシリコーン化合物、分岐型のシリコーン化合物等の周知の化合物が挙げられる。また、シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）は、モノマーでもよく、マクロモノマーでもよい。ここで「マクロモノマー」とは、重合性官能基を有するオリゴマー（重合度２以上３００以下程度）又はポリマーの総称であり、高分子と単量体（モノマー）との両方の性質を有するものである。
シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）は、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよい。
【００７８】
シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物が挙げられる。
【００７９】
【化８】
2014186259.tif 000010
【００８０】
一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｎは、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
【００８１】
【化９】
2014186259.tif 000011
【００８２】
一般式（２）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
【００８３】
【化１０】
2014186259.tif 000012
【００８４】
一般式（３）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基又は炭素数１以上４以下のフルオロアルキル基を表し、ｌ、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０以上１０００以下の整数を表し、ｘは、１以上３以下の整数を表す。
【００８５】
一般式（１）で表される化合物としては、例えば、ＪＮＣ社製のサイラプレーンＦＭ−０７１１、サイラプレーンＦＭ−０７２１、サイラプレーンＦＭ−０７２５；信越化学工業社製のＸ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−２４７５；が挙げられる。
【００８６】
一般式（２）で表される化合物としては、例えば、Ｇｅｌｅｓｔ社製のＭＣＳ−Ｍ１１が挙げられる。一般式（３）で表される化合物としては、例えば、Ｇｅｌｅｓｔ社製のＲＴＴ−１０１１が挙げられる。以下にこれらの化合物の構造式を示す。
【００８７】
【化１１】
2014186259.tif 000013
【００８８】
ＭＣＳ−Ｍ１１は、上記の構造式においてｍ及びｎがそれぞれ独立に２以上４以下の整数であり、その分子量が８００以上１０００以下である。
【００８９】
【化１２】
2014186259.tif 000014
【００９０】
ＲＴＴ−１０１１は、上記の構造式で表される化合物である。
【００９１】
−水酸基含有重合成分（Ｂ）−
水酸基含有重合成分（Ｂ）としては、エチレン性不飽和結合と、少なくとも１個の水酸基と、を有する化合物であれば特に制限されない。具体例として例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−モノ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ヒドロキシエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル）アンモニウムクロライドが挙げられる。
【００９２】
−重合成分（Ｃ）−
重合成分（Ｃ）としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル；エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン等のモノオレフィン；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン等のスチレン系単量体；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類；
【００９３】
Ｎ−エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−オクチル−Ｎ−エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノエチル（メタ）アクリレート等の脂肪族アミノ基を有する（メタ）アクリレート類；Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−オクチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ｐ−メトキシ−フェニルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類；ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン、ジメチルアミノメチルスチレン、ジオクチルアミノスチレン等の含窒素基を有する芳香族置換エチレン系単量体類；ビニル−Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノエチルエーテル、ビニル−Ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルアミノエチルエーテル、ビニルジフェニルアミノエチルエーテル、Ｎ−ビニルヒドロキシエチルベンズアミド、ｍ−アミノフェニルビニルエーテル等の含窒素ビニルエーテル単量体類；
【００９４】
Ｎ−ビニルピロール等のピロール類；Ｎ−ビニル−２−ピロリン、Ｎ−ビニル−３−ピロリン等のピロリン類；Ｎ−ビニルピロリジン、ビニルピロリジンアミノエーテル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等のピロリジン類；Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類；Ｎ−ビニルイミダゾリン等のイミダゾリン類；Ｎ−ビニルインドール等のインドール類；Ｎ−ビニルインドリン等のインドリン類；Ｎ−ビニルカルバゾール、３，６−ジブロム−Ｎ−ビニルカルバゾール等のカルバゾール類；２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピロジン等のピリジン類；（メタ）アクリルピペリジン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニルピペラジン等のピペリジン類；２−ビニルキノリン、４−ビニルキノリン等のキノリン類；Ｎ−ビニルピラゾール、Ｎ−ビニルピラゾリン等のピラゾール類；２−ビニルオキサゾール等のオキサゾール類；４−ビニルオキサジン、モルホリノエチル（メタ）アクリレート等のオキサジン類；
【００９５】
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、及びこれらの無水物；スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホニックアシッド、３−スルホプロピル（メタ）アクリックアシッドエステル、ビス−（３−スルホプロピル）−イタコニックアシッドエステル等及びその塩；ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、アシッドホスホキシエチル（メタ）アクリレート、アシッドホスホキシプロピル（メタ）アクリレート、ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジブチル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、ジブチル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジオクチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート。
【００９６】
水酸基を有するポリマーの重合成分として、水酸基含有重合成分（Ｂ）は必須成分であり、シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）及び重合成分（Ｃ）は、必要に応じて共重合する。
水酸基を有するポリマーに占める水酸基含有重合成分（Ｂ）の質量割合は、１０質量％以上５０質量％以下の範囲であることが望ましい。１０質量％以上であると、金属アルコキシド化合物が形成する構造への結合性が良好である。一方、５０質量％以下であると、被覆層中に残存する水酸基の量が抑制され、粒子の移動特性（泳動特性）に影響を及ぼし難い。
水酸基を有するポリマーに占めるシリコーン鎖含有重合成分（Ａ）の質量割合は、１０質量％以上が望ましく、２０質量％以上がより望ましい。１０質量％以上（より望ましくは２０質量％以上）であると、シリコーン鎖による粒子の固着抑制効果が得られ易い。
なお、上記の質量割合は、水酸基を有するポリマーを合成する際の、各重合成分の仕込み量の割合である。
【００９７】
水酸基を有するポリマーの重量平均分子量は、５００以上１００万以下が望ましく、１０００以上５０万以下がより望ましく、１万以上３０万以下が更に望ましい。
【００９８】
被覆層２１、被覆層２３、及び被覆層２５は、更に、水酸基を有するポリマー以外の化合物を含んでいてもよい。該化合物としては、例えば、重合成分（Ｃ）の重合体、シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）と重合成分（Ｃ）との共重合体が挙げられる。これらの化合物は、例えば、金属アルコキシド化合物の加水分解及び縮重合により形成された架橋構造に、分子間相互作用によって近接して位置し、被覆層に含まれる。
【００９９】
〔被覆層の形成方法〕
被覆層は、例えば、以下の方法で形成される。
金属アルコキシド化合物を含む液体組成物を用意し、該液体組成物を加水分解し得る条件に所定の時間保持した後、セル構成面となる基板表面に塗布し乾燥させる。
非ポリマー性金属アルコキシド化合物と金属アルコキシ基含有ポリマーの両方を用いる場合、液体組成物中の非ポリマー性金属アルコキシド化合物と金属アルコキシ基含有ポリマーとの質量比（非ポリマー性金属アルコキシド化合物：金属アルコキシ基含有ポリマー）は、１０：１乃至１：１０が望ましい。
【０１００】
水酸基を有するポリマーをも被覆層の構成要素とする場合は、上記液体組成物に、水酸基を有するポリマーを添加する。
この場合、液体組成物中の金属アルコキシド化合物と水酸基を有するポリマーとの質量比（金属アルコキシド化合物：水酸基を有するポリマー）は、１０：１乃至１：１０が望ましい。
【０１０１】
被覆層を形成する基板表面は、予め処理剤で処理して、金属アルコキシド化合物と反応し得る官能基を付与しておくことが望ましい。処理剤としては、シランカップリング剤が望ましく、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランが挙げられる。
【０１０２】
〔分散媒〕
分散媒５０は、絶縁性液体であることが望ましい。ここで「絶縁性」とは、体積固有抵抗値が１０１１Ωｃｍ以上であることを意味する。
【０１０３】
絶縁性液体としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、デカン、ヘキサデカン、ケロセン、パラフィン、イソパラフィン、シリコーンオイル、ジククロロエチレン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、高純度石油、エチレングリコール、アルコール類、エーテル類、エステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、２−ピロリドン、Ｎ−メチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ベンジン、ジイソプロピルナフタレン、オリーブ油、イソプロパノール、トリクロロトリフルオロエタン、テトラクロロエタン、ジブロモテトラフルオロエタンや、これらの混合物が好適に使用される。
中でも、分散媒としては、シリコーンオイルが望ましい。シリコーンオイルとしては、シロキサン結合に炭化水素基が結合したシリコーンオイル（例えば、ジメチルシリコーンオイル、ジエチルシリコーンオイル、メチルエチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、ジフェニルシリコーンオイル）が望ましく、ジメチルシリコーンが特に望ましい。
【０１０４】
水も、体積抵抗値１０３Ωｃｍ以上（望ましくは１０７Ωｃｍ以上１０１９Ωｃｍ以下、更に望ましくは１０１０Ωｃｍ以上１０１９Ωｃｍ以下）になるように不純物を除去することで、分散媒５０として使用し得る。
【０１０５】
絶縁性液体には、必要に応じて、酸、アルカリ、塩、分散安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、抗菌剤、防腐剤等を添加してもよいが、上記体積固有抵抗値の範囲となるように添加することが望ましい。
【０１０６】
絶縁性液体には、帯電制御剤として、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、金属石鹸、アルキルリン酸エステル類、コハク酸イミド類等を添加してもよい。
【０１０７】
非イオン性及びイオン性の界面活性剤としては、具体的には以下が挙げられる。
非イオン性活性剤としては、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸アルキロールアミド等が挙げられる。
アニオン性界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルフェニルスルホン酸塩、アルキルナフタリンスルホン酸塩、高級脂肪酸塩、高級脂肪酸エステルの硫酸エステル塩、高級脂肪酸エステルのスルホン酸等が挙げられる。
カチオン性界面活性剤としては、第１級乃至第３級のアミン塩、第４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【０１０８】
帯電制御剤の添加量は、分散媒に分散している全粒子固形分に対して０．０１質量％以上２０質量％以下が望ましく、０．０５質量％以上１０質量％以下がより望ましい。帯電制御剤の含有量が０．０１質量％以上であると、帯電制御効果が発揮され易く、２０質量％以下であると、分散媒の過度な電導度の上昇が抑制される。
【０１０９】
分散媒５０として、絶縁性液体と共に高分子樹脂を併用してもよい。
高分子樹脂としては、アガロース、アガロペクチン、アミロース、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、カラギーナン、エチルヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、酢酸セルロース、寒天、キチン、キトサン、絹フィブロイン、カゼイン、グアーガム、クラウンゴール多糖、グリコーゲン、グルコマンナン、ケラチン、コラーゲン、ジェランガム、ゼラチン、デキストラン、デンプン、トラガカントゴム、ヒアルロン酸、分解キシログルカン、ペクチン等の天然高分子由来の高分子ゲルが挙げられる他、合成高分子のほとんどすべての高分子ゲルが挙げられる。
更に、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、及びアミドの官能基を繰り返し単位中に含む高分子等が挙げられ、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリルアミドやその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシドやこれら高分子を含む共重合体が挙げられる。
これら中でも、製造安定性、電気泳動特性等の観点から、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリルアミド等が望ましく用いられる。
【０１１０】
分散媒５０は、着色剤の含有により着色していてもよい。着色剤を含有することで、表示媒体１２に粒子群３４の色とは異なる色を表示させ得る。例えば、分散媒５０が白色を示す着色剤を含有し、粒子群３４が黒色の場合には、表示媒体１２において白色と黒色とを表示する。
着色剤としては、フタロシアニン銅系シアン色材、アゾ系イエロー色材、アゾ系マゼンタ色材、キナクリドン系マゼンタ色材、レッド色材、グリーン色材、ブルー色材等の公知の着色剤が挙げられる。より具体的には例えば、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３が挙げられる。
【０１１１】
分散媒５０は、絶縁性粒子群の沈降を抑制する観点で、温度２５℃下の比重が、０．６ｇ／ｃｍ３以上１．２ｇ／ｃｍ３以下であることが望ましく、０．７ｇ／ｃｍ３以上１．１ｇ／ｃｍ３以下がより望ましく、０．７ｇ／ｃｍ３以上１．０ｇ／ｃｍ３以下が更に望ましい。
【０１１２】
分散媒５０は、その中で粒子群３４が移動することから、粘度を調整することが望ましい。分散媒５０の粘度は、温度２０℃下において、０．１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下であることが粒子の移動速度、即ち、表示速度の観点から望ましく、０．１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であることがより望ましく、０．１ｍＰａ・ｓ以上２０ｍＰａ・ｓ以下であることが更に望ましい。
分散媒５０の粘度の調整は、分散媒の分子構造、分子量、組成等を調整することによって可能である。
【０１１３】
〔分散媒中を移動する粒子群〕
粒子群３４は、複数の粒子から構成され、各粒子は正又は負に帯電している。粒子群３４は、表面電極４０と背面電極４６との電極間に電圧が印加されて表示基板２０と背面基板２２との基板間に電界が形成されることで、分散媒５０中を移動する。
表示媒体１２における表示色の変化は、粒子群３４を構成する各粒子の分散媒５０中の移動によって生じる。
粒子群３４は、色及び帯電特性が異なる２種類以上の粒子群からなるものでもよい。ここで「帯電特性が異なる」とは、帯電極性及び帯電量の一方が異なること、又は、帯電極性及び帯電量の双方が異なることを意味する。
【０１１４】
粒子群３４を構成する粒子としては、ガラスビーズ；アルミナ、酸化チタン等の絶縁性の金属酸化物粒子；熱可塑性樹脂粒子又は熱硬化性樹脂粒子；熱可塑性樹脂粒子又は熱硬化性樹脂粒子の表面に着色剤を固定した粒子；熱可塑性樹脂粒子又は熱硬化性樹脂粒子の中に着色剤を含有する粒子；プラズモン発色機能を有する金属コロイド粒子；などが挙げられる。
【０１１５】
粒子の製造に使用される熱可塑性樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類；エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸フェニル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類；の単独重合体又は共重合体が挙げられる。
粒子の製造に使用される熱硬化性樹脂としては、ジビニルベンゼンを主成分とする架橋共重合体、架橋ポリメチルメタクリレート等の架橋樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。
【０１１６】
粒子の製造に使用される代表的な樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−（メタ）アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。
【０１１７】
粒子の製造に使用される樹脂としては、粒子を帯電させるために、帯電基を有する樹脂が好適である。帯電基を有する樹脂は、カチオン性基又はアニオン性基を有する樹脂である。カチオン性基により粒子に正帯電極性が付与され、アニオン性基により粒子に負帯電極性が付与される。
帯電基としてのカチオン性基としては、例えば、アミン基、４級アンモニウム基が挙げられる（これら基の塩も含む）。帯電基としてのアニオン性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、リン酸基、及びリン酸塩基が挙げられる。
【０１１８】
帯電基を有する高分子として、具体的には、例えば、帯電基を有する単量体の単独重合体、帯電基を有する単量体と他の単量体（帯電基を有しない単量体）との共重合体が挙げられる。
帯電基を有する単量体としては、例えば、カチオン性基を有する単量体（以下、カチオン性単量体）、アニオン性基を有する単量体（以下、アニオン性単量体）が挙げられる。
【０１１９】
カチオン性単量体としては、例えば、以下の単量体が挙げられる。
Ｎ−エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ヒドロキシエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−オクチル−Ｎ−エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノエチル（メタ）アクリレート等の脂肪族アミノ基を有する（メタ）アクリレート類；Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−オクチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ｐ−メトキシ−フェニルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類；ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン、ジメチルアミノメチルスチレン、ジオクチルアミノスチレン等の含窒素基を有する芳香族置換エチレン系単量体類；ビニル−Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノエチルエーテル、ビニル−Ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルアミノエチルエーテル、トリエタノールアミンジビニルエーテル、ビニルジフェニルアミノエチルエーテル、Ｎ−ビニルヒドロキシエチルベンズアミド、ｍ−アミノフェニルビニルエーテル等の含窒素ビニルエーテル単量体類。
【０１２０】
カチオン性単量体としては、例えば、以下の含窒素複素環式化合物も挙げられる。
Ｎ−ビニルピロール等のピロール類；Ｎ−ビニル−２−ピロリン、Ｎ−ビニル−３−ピロリン等のピロリン類；Ｎ−ビニルピロリジン、ビニルピロリジンアミノエーテル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等のピロリジン類；Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類；Ｎ−ビニルイミダゾリン等のイミダゾリン類；Ｎ−ビニルインドール等のインドール類；Ｎ−ビニルインドリン等のインドリン類；Ｎ−ビニルカルバゾール、３，６−ジブロム−Ｎ−ビニルカルバゾール等のカルバゾール類；２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピロジン等のピリジン類；（メタ）アクリルピペリジン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニルピペラジン等のピペリジン類、２−ビニルキノリン、４−ビニルキノリン等のキノリン類；Ｎ−ビニルピラゾール、Ｎ−ビニルピラゾリン等のピラゾール類、２−ビニルオキサゾール等のオキサゾール類；４−ビニルオキサジン、モルホリノエチル（メタ）アクリレート等のオキサジン類。
【０１２１】
アニオン性単量体としては、例えば、カルボン酸モノマー、スルホン酸モノマー、リン酸モノマーが挙げられる。
カルボン酸モノマーとしては、例えば、 (メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、及びこれらの無水物；カルボン酸のモノアルキルエステル；カルボキシエチルビニルエーテル、カルボキシプロピルビニルエーテル等のカルボキシル基を有するビニルエーテル類、及びその塩；が挙げられる。
スルホン酸モノマーとしては、例えば、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、３−スルホプロピル（メタ）アクリックアシッドエステル、ビス−（３−スルホプロピル）−イタコニックアシッドエステル等及びその塩、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸の硫酸モノエステル及びその塩が挙げられる。
リン酸モノマーとしては、ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、アシッドホスホキシエチル（メタ）アクリレート、アシッドホスホキシプロピル（メタ）アクリレート、ビス（メタクリロキシエチル）ホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジブチル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、ジブチル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジオクチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェートが挙げられる。
【０１２２】
他の単量体としては、例えば、水溶性単量体（例えば水酸基を有する単量体等）が挙げられ、具体的には、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１２３】
粒子群３４を構成する粒子の製造に使用される着色剤としては、有機顔料、無機顔料、油溶性染料等が挙げられる。具体的には、例えば、マグネタイト、フェライト等の磁性紛；カーボンブラック；酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛等の金属酸化物；フタロシアニン銅系シアン色材、アゾ系イエロー色材、アゾ系マゼンタ色材、キナクリドン系マゼンタ色材、レッド色材、グリーン色材、ブルー色材等の公知の着色剤；が挙げられる。着色剤としては、より具体的には例えば、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３が挙げられる。
着色剤の使用量は、粒子を構成する樹脂に対し１０質量％以上９９質量％以下が望ましく、３０質量％以上９９質量％以下がより望ましい。
【０１２４】
粒子群３４を構成する粒子は、必要に応じて、帯電制御剤を含有してもよい。帯電制御剤としては、電子写真用トナー材料に使用される公知の材料が使用でき、例えば、セチルピリジルクロライド、第４級アンモニウム塩、サリチル酸系金属錯体、フェノール系縮合物、テトラフェニル系化合物、酸化金属粒子、各種カップリング剤により表面処理された酸化金属粒子が挙げられる。
【０１２５】
粒子群３４を構成する粒子は、必要に応じて、磁性材料を含有してもよい。磁性材料は必要に応じてカラーコートした無機磁性材料や有機磁性材料を使用する。また、透明な磁性材料、特に、透明有機磁性材料は着色顔料の発色を阻害せず、比重も無機磁性材料に比べて小さく、より望ましい。
着色した磁性粉として、例えば、特開２００３−１３１４２０公報記載の小径着色磁性粉を用いてもよい。核となる磁性粒子と該磁性粒子表面上に積層された着色層とを備えたものが用いられる。そして、着色層としては、顔料等により磁性粉を不透過に着色する等選定して差し支えないが、例えば光干渉薄膜を用いるのが望ましい。この光干渉薄膜とは、ＳｉＯ２やＴｉＯ２等の無彩色材料を光の波長と同等な厚さを有する薄膜にしたものであり、薄膜内の光干渉により光を波長選択的に反射するものである。
【０１２６】
粒子群３４を構成する粒子の表面には、必要に応じて、外添剤を付着させてもよい。外添剤の色は、粒子群３４の色に影響を与えないように、透明であることが望ましい。
外添剤としては、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、アルミナ等の金属酸化物等の無機粒子が用いられる。粒子群３４を構成する粒子の帯電性、流動性、及び環境依存性等を調整するために、これらをカップリング剤やシリコーンオイルで表面処理してもよい。
カップリング剤としては、アミノシラン系カップリング剤、アミノチタン系カップリング剤、ニトリル系カップリング剤等の正帯電性カップリング剤；窒素原子を含まない（窒素以外の原子で構成される）シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、エポキシシランカップリング剤、アクリルシランカップリング剤等の負帯電性カップリング剤が挙げられる。
シリコーンオイルとしては、アミノ変性シリコーンオイル等の正帯電性シリコーンオイル；α−メチルスルホン変性シリコーンオイル等の負帯電性シリコーンオイル；ジメチルシリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、クロルフェニルシリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル等の無帯電性シリコーンオイル；が挙げられる。
【０１２７】
上記外添剤の中では、疎水性シリカや疎水性酸化チタンが望ましく、特に特開平１０−３１７７記載のＴｉＯ（ＯＨ）２と、シランカップリング剤等のシラン化合物との反応で得られるチタン化合物が好適である。シラン化合物は、クロロシラン、アルコキシシラン、シラザン、特殊シリル化剤のいずれのタイプでもよい。このチタン化合物は、湿式工程の中で作製されるＴｉＯ（ＯＨ）２にシラン化合物又はシリコーンオイルを反応、乾燥させて作製される。数百度という焼成工程を経ないため、Ｔｉ同士の強い結合が形成されず凝集がなく、粒子は一次粒子の状態である。さらに、ＴｉＯ（ＯＨ）２にシラン化合物又はシリコーンオイルを直接反応させるため、シラン化合物やシリコーンオイルの処理量を多くし得、シラン化合物の処理量等を調整することにより帯電特性が制御され、且つ付与される帯電能も従来の酸化チタンのそれより改善される。
【０１２８】
外添剤の一次粒子は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下が望ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下がより望ましい。
【０１２９】
外添剤の外添量は、粒子群３４を構成する粒子の粒径と外添剤の粒径の兼ね合いで調製することが望ましい。外添剤の添加量が多過ぎると、粒子表面から外添剤の少なくとも一部が遊離し、これが他の種類の粒子の表面に付着して、所望の帯電特性が得られない。一般的には、外添剤の量は、粒子１００質量部に対して、０．０１質量部以上３質量部以下が望ましく、０．０５質量部以上１質量部以下がより望ましい。
【０１３０】
外添剤は、複数種類の粒子群３４のいずれか１種にだけ添加してもよいし、複数種又は全種類の粒子群３４に添加してもよい。全粒子の表面に外添剤を添加する場合は、粒子表面に外添剤を衝撃力で打込んだり、粒子表面を加熱して外添剤を粒子表面に強固に固着したりすることが望ましい。これにより、外添剤が粒子から遊離し異極性の外添剤が凝集した凝集体を形成することが抑制され、延いては画質劣化が抑制される。
【０１３１】
粒子群３４を作製する方法としては、従来公知のいずれの方法を用いてもよい。例えば、樹脂を加熱溶融させた後に顔料や帯電制御剤を添加して混合し分散させ、冷却した後、粉砕機を用いて粒子を調製し、分散媒に分散する方法が適用される。また、懸濁重合、乳化重合、分散重合等の重合法やエマルジョン凝集法により顔料や帯電制御剤を含む粒子を調製し、分散媒に分散する方法が適用される。また、樹脂、顔料、電制御剤を分散媒中で加熱溶融し、樹脂の溶媒溶解度の温度依存性を利用して、溶融混合物を攪拌しながら冷却し、凝固及び析出させて粒子を作製する方法が適用される。
【０１３２】
セル中に封入されている全成分に占める粒子群３４の質量割合（粒子群３４の濃度）は、所望の色相が得られる濃度であれば特に限定されるものではなく、セルの厚さ（即ち、表示基板２０と背面基板２２との距離）に応じて調整する。即ち、所望の色相を得るために、セルが厚くなるほど濃度を低くし、セルが薄くなるほど濃度を高くする。一般的に、粒子群３４の濃度は０．０１質量％以上５０質量％以下である。
【０１３３】
〔絶縁性粒子群〕
絶縁性粒子群３６は、粒子群３４とは異なる光学的反射特性を有する粒子で構成され、粒子群３４とは異なる色を表示する反射部材として機能する。
絶縁性粒子群３６は、粒子群３４を構成する粒子よりも粒径が大きい粒子であって、電界応答性が低い粒子で構成されており、絶縁性粒子群３６の間隙を通って、粒子群３４が基板間を移動する。絶縁性粒子群３６を構成する粒子同士は、粒子群３４が通過する間隙を有しつつ、互いに結合していてもよい。
【０１３４】
絶縁性粒子群３６は、白色の場合、例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛等の白色顔料を、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ホルムアルデヒド縮合物等の樹脂に分散させた粒子である。絶縁性粒子群３６が白色以外の場合は、樹脂粒子に所望の色の顔料又は染料を内包させればよい。
【０１３５】
〔表示装置〕
表示装置１０は、表示媒体１２と、表示媒体１２に電圧を印加する電圧印加部１６と、電圧印加部１６の駆動を制御する制御部１８とを含んで構成されている（図１参照）。
【０１３６】
電圧印加部１６は、表面電極４０及び背面電極４６に電気的に接続されている。また、  電圧印加部１６は、制御部１８に信号授受可能に接続されている。
以下、表面電極４０及び背面電極４６の双方が、電圧印加部１６に電気的に接続されている場合を説明するが、表面電極４０及び背面電極４６の一方が接地されており、他方が電圧印加部１６に接続された構成であってもよい。
【０１３７】
電圧印加部１６は、表面電極４０及び背面電極４６に電圧を印加するための電圧印加装置であり、制御部１８の制御に応じた電圧を表面電極４０及び背面電極４６間に印加する。
【０１３８】
制御部１８は、装置全体の動作を司るＣＰＵ（中央処理装置）と、各種データを一時的に記憶するＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）と、装置全体を制御する制御プログラム等の各種プログラムが予め記憶されたＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）と、を含むマイクロコンピュータとして構成されていてもよい。
【０１３９】
次に、表示装置１０の作用を説明する。
以下、分散媒５０が透明であり、粒子群３４が黒色で負帯電であり、絶縁性粒子群３６が白色であるものとして説明する。この場合の表示媒体１２は、粒子群３４の移動によって黒色又は白色を表示する。
【０１４０】
まず、表面電極４０が負極となり背面電極４６が正極となるように電圧を所定時間、印加することを指示する初期動作信号を、制御部１８が電圧印加部１６へ出力する。電極間に印加される電圧が上昇すると、負帯電の粒子群３４が背面基板２２側へと移動して、背面基板２２に到る（図２（Ａ）参照）。このとき、表示基板２０側から視認される表示媒体１２の色は、絶縁性粒子群３６の色としての白色である。
【０１４１】
次に、電圧の極性を反転させて、表面電極４０が正極となり背面電極４６が負極となるように電圧を印加すると、粒子群３４が移動して表示基板２０側に到達し（図２（Ｂ）参照）、表示基板２０側から視認される表示媒体１２の色として、粒子群３４の黒色が表示される。
【０１４２】
このようにして、表示装置１０では、粒子群３４が表示基板２０又は背面基板２２に到達して付着することで表示が行われる。表示基板２０及び背面基板２２のセル構成面が被覆層２１及び被覆層２３を有することで、基板の対向面に粒子群３４が固着することが抑制され、その結果、表示媒体１２において色再現性や高いコントラストが実現される。
【０１４３】
上記においては、粒子群３４として１種類（１色）の粒子群を備える態様を説明したが、これに限られず、帯電極性が異なる又は閾値電圧の異なる組合せで、２種類（２色）以上の粒子群３４を備える態様であってもよい。
具体的には、例えば、着色粒子群３４として、正帯電性の第１粒子群、負帯電性の第２粒子群、及び、正帯電性で第１粒子群の粒子とは閾値電圧が異なり且つ粒径が大きい第３粒子群を備える態様が挙げられる。
【実施例】
【０１４４】
以下に実施例を挙げて、本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。
以下において、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０１４５】
＜白色粒子（絶縁性粒子）の作製＞
〔分散液Ａの調製〕
下記の材料を混合し、直径１０ｍｍのジルコニアボールにてボールミル粉砕を２０時間実施して分散液Ａを調製した。
・メタクリル酸シクロヘキシル                                          ５３部
・酸化チタン（一次粒子径０．３μｍ、石原産業社製タイペークＣＲ６３）  ４５部
・シクロヘキサン                                                        ５部
【０１４６】
〔炭酸カルシウム分散液Ｂの調製〕
下記の材料を混合し、直径１０ｍｍのジルコニアボールにてボールミル粉砕を２０時間実施して炭酸カルシウム分散液Ｂを調製した。
・炭酸カルシウム  ４０部
・水              ６０部
【０１４７】
〔混合液Ｃの調製〕
下記の材料を混合し、超音波機で脱気を１０分間行い、次いで乳化機で攪拌して混合液Ｃを調製した。
・２質量％セロゲン水溶液（第一工業製薬社製）  ４．３ｇ
・炭酸カルシウム分散液Ｂ                      ８．５ｇ
・２０質量％食塩水                              ５０ｇ
【０１４８】
〔白色粒子の調製〕
分散液Ａ３５ｇ、ジビニルベンゼン１ｇ、及びアゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．３５ｇを混合し、超音波機で脱気を１０分間行った。これを、混合液Ｃに加え、乳化機で乳化し乳化液を調製した。この乳化液をガラス容器に入れシリコーン栓をし、注射針をシリコーン栓に刺し込んで減圧脱気を行い、窒素ガスで封入した。次に６５℃で１５時間反応させ粒子を調製し、粒子の分散液を得た。この分散液を冷却後、凍結乾燥（−３５℃／０．１Ｐａ／２日間）させてシクロヘキサンを除去し粒子粉を得た。次いで、粒子粉をイオン交換水中に分散し、塩酸水で炭酸カルシウムを分解し、濾過を行った。次いで、蒸留水で洗浄し、目開き２０μｍ×２５μｍのナイロン篩にかけて粒度を揃えた。これを乾燥させ、体積平均粒子径２０μｍの白色粒子（絶縁性粒子）を得た。
【０１４９】
＜マゼンタ粒子の作製＞
〔分散液Ａの調製〕
下記の材料を混合し、直径１０ｍｍのジルコニアボールにてボールミル粉砕を２０時間実施して分散液Ａを調製した。
・メタクリル酸シクロヘキシル                ５３部
・マゼンタ顔料（カーミン６Ｂ、大日精化社製）  ３部
・帯電制御剤                                  ２部
（クラリアントジャパン社製ＣＯＰＹ  ＣＨＡＲＧＥ  ＮＹ  ＶＰ２３５１）
・シクロヘキサン                              ５部
【０１５０】
〔炭酸カルシウム分散液Ｂの調製〕
下記の材料を混合し、直径１０ｍｍのジルコニアボールにてボールミル粉砕を２０時間実施して炭酸カルシウム分散液Ｂを調製した。
・炭酸カルシウム  ４０部
・水              ６０部
【０１５１】
〔混合液Ｃの調製〕
下記の材料を混合し、超音波機で脱気を１０分間行い、次いで乳化機で攪拌して混合液Ｃを調製した。
・２質量％セロゲン水溶液（第一工業製薬社製）  ４．３ｇ
・炭酸カルシウム分散液Ｂ                      ８．５ｇ
・２０質量％食塩水                              ５０ｇ
【０１５２】
〔マゼンタ粒子の調製〕
分散液Ａ３５ｇ、ジビニルベンゼン１ｇ、及びアゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．３５ｇを混合し、超音波機で脱気を１０分間行った。これを、混合液Ｃに加え、乳化機で乳化し乳化液を調製した。この乳化液をガラス容器に入れシリコーン栓をし、注射針をシリコーン栓に刺し込んで減圧脱気を行い、窒素ガスで封入した。次に６０℃で１０時間反応させ粒子を調製し、粒子の分散液を得た。この分散液を冷却後、凍結乾燥（−３５℃／０．１Ｐａ／２日間）させてシクロヘキサンを除去し粒子粉を得た。次いで、粒子粉をイオン交換水中に分散し、塩酸水で炭酸カルシウムを分解し、濾過を行った。次いで、蒸留水で洗浄し、これを乾燥させた。得られた粒子２部をノニオン系界面活性剤ポリオキシエチレンアルキルエーテル２部と共に、ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製ＫＦ−９６Ｌ−１ｃｓ）９８部に投入し、攪拌分散してマゼンタ粒子の分散液を調製した。マゼンタ粒子の体積平均粒子径は１μｍであった。
分散液中のマゼンタ粒子の帯電極性を、２枚の電極基板間に該分散液を封入し、直流電圧を印加して泳動方向を観察して評価したところ、正帯電であった。
【０１５３】
＜実施例１＞
〔被覆層用塗布液１の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液１を得た。
・テトラエトキシシラン  ０．６２ｇ
・エタノール            ４．７０ｇ
・水                    ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）    ０．１０ｇ
【０１５４】
〔表示媒体１の作製〕
ガラス板（５０．０ｍｍ×５０．０ｍｍ×０．７ｍｍ）の一方の面に、電極としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）をスパッタリング法によって５０ｎｍの厚さで成膜した。このＩＴＯ／ガラス基板を、表示基板用及び背面基板用に２枚用意した。
そして、ＩＴＯ／ガラス基板の電極面をγ−アミノプロピルトリエトキシシランの２質量％水溶液に１５分間浸漬し、純水でリンスした後、１２０℃３０分間の乾燥を行った。
次いで、電極面に被覆層用塗布液１を塗布し、１２０℃６０分間の加熱を行って、膜厚２００ｎｍの被覆層を形成し、表示基板及び背面基板を得た。なお、被覆層の厚さはＤｅｋｔａｋ  ６Ｍ  段差計（Ｖｅｅｃｏ社製）にて測定した。
【０１５５】
フッ素樹脂シート（厚さ１００μｍ×幅２０μｍ）の側面（セル構成面となる面）に上記と同様にして被覆層を形成し、これを間隙部材として用いて表示基板と背面基板とを重ね、クリップで固定した。
【０１５６】
表示基板、背面基板及び間隙部材で囲まれた空間（セル）に、白色粒子、マゼンタ粒子の分散液、及びジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製ＫＦ−９６Ｌ−１ｃｓ）を、白色粒子の固形分濃度が２０質量％、マゼンタ粒子の固形分濃度が１質量％となるように充填し、充填部を封止した。
こうして、図１に図示した表示媒体と同様な構成の表示媒体１を得た。
【０１５７】
＜実施例２＞
〔トリエトキシシラン含有ポリマー１の調製〕
金属アルコキシ基含有重合成分である３−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン２１．８部、シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）であるサイラプレーンＦＭ−０７１１（ＪＮＣ社製、重量平均分子量１０００）１５．４部、及び重合成分（Ｃ）であるメチルメタクリレート１５．３部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル１００部と混合し、重合開始剤としてアゾビスジメチルバレロニトリル（和光純薬工業製Ｖ−６５）を０．５部添加して、５５℃にて１０時間、重合を実施し、金属アルコキシ基含有ポリマーであるトリエトキシシラン含有ポリマー１の溶液（固形分量３５質量％）を調製した。このポリマーの重量平均分子量は６．５万であった。
【０１５８】
〔被覆層用塗布液２の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液２を得た。
・トリエトキシシラン含有ポリマー１の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                              ４．７０ｇ
・水                                      ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）                      ０．１０ｇ
【０１５９】
〔表示媒体２の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液２に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体２を作製した。
【０１６０】
＜実施例３＞
〔被覆層用塗布液３の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液３を得た。
・テトラエトキシシラン                    ０．６２ｇ
・トリエトキシシラン含有ポリマー１の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                              ４．７０ｇ
・水                                      ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）                      ０．１０ｇ
【０１６１】
〔表示媒体３の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液３に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体３を作製した。
【０１６２】
＜実施例４＞
〔水酸基を有するポリマー１の調製〕
水酸基含有重合成分（Ｂ）である２−ヒドロキシエチルメタクリレート２１．８部、及び重合成分（Ｃ）であるメチルメタクリレート３０．７部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル１００部と混合し、重合開始剤としてアゾビスジメチルバレロニトリル（和光純薬工業製Ｖ−６５）を０．５部添加して、５５℃にて１０時間、重合を実施し、水酸基を有するポリマー１の溶液（固形分量３５質量％）を調製した。このポリマーの重量平均分子量は６．５万であった。
【０１６３】
〔被覆層用塗布液４の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液４を得た。
・テトラエトキシシラン            ０．６２ｇ
・水酸基を有するポリマー１の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                      ４．７０ｇ
・水                              ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）              ０．１０ｇ
【０１６４】
〔表示媒体４の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液４に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体４を作製した。
【０１６５】
＜実施例５＞
〔水酸基を有するポリマー２の調製〕
シリコーン鎖含有重合成分（Ａ）であるサイラプレーンＦＭ−０７１１（ＪＮＣ社製、重量平均分子量１０００）１５．４部、水酸基含有重合成分（Ｂ）である２−ヒドロキシエチルメタクリレート２１．８部、及び重合成分（Ｃ）であるメチルメタクリレート１５．３部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル１００部と混合し、重合開始剤としてアゾビスジメチルバレロニトリル（和光純薬工業製Ｖ−６５）を０．５部添加して、５５℃にて１０時間、重合を実施し、水酸基を有するポリマー２の溶液（固形分量３５質量％）を調製した。このポリマーの重量平均分子量は６．５万であった。
【０１６６】
〔被覆層用塗布液５の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液５を得た。
・テトラエトキシシラン            ０．６２ｇ
・水酸基を有するポリマー２の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                      ４．７０ｇ
・水                              ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）              ０．１０ｇ
【０１６７】
〔表示媒体５の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液５に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体５を作製した。
【０１６８】
＜実施例６＞
〔被覆層用塗布液６の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液６を得た。
・テトライソプロポキシチタン        ０．６２ｇ
・水酸基を有するポリマー２の溶液    ４．００ｇ
・エタノール                        ４．７０ｇ
・水                                ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）                ０．１０ｇ
【０１６９】
〔表示媒体６の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液６に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体６を作製した。
【０１７０】
＜実施例７＞
〔被覆層用塗布液７の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液７を得た。
・テトラエトキシジルコニウム        ０．６２ｇ
・水酸基を有するポリマー２の溶液    ４．００ｇ
・エタノール                        ４．７０ｇ
・水                                ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）                ０．１０ｇ
【０１７１】
〔表示媒体７の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液７に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体７を作製した。
【０１７２】
＜実施例８＞
〔被覆層用塗布液８の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液８を得た。
・トリブトキシアルミニウム        ０．６２ｇ
・水酸基を有するポリマー２の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                      ４．７０ｇ
・水                              ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）              ０．１０ｇ
【０１７３】
〔表示媒体８の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液８に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体８を作製した。
【０１７４】
＜実施例９＞
〔被覆層用塗布液９の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液９を得た。
・トリエトキシボラン              ０．６２ｇ
・水酸基を有するポリマー２の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                      ４．７０ｇ
・水                              ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）              ０．１０ｇ
【０１７５】
〔表示媒体９の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液９に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体９を作製した。
【０１７６】
＜実施例１０＞
〔被覆層用塗布液１０の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液１０を得た。
・トリエトキシホスフィン          ０．６２ｇ
・水酸基を有するポリマー２の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                      ４．７０ｇ
・水                              ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）              ０．１０ｇ
【０１７７】
〔表示媒体１０の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液１０に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体１０を作製した。
【０１７８】
＜実施例１１＞
〔被覆層用塗布液１１の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液１１を得た。
・ジエトキシ亜鉛                  ０．６２ｇ
・水酸基を有するポリマー２の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                      ４．７０ｇ
・水                              ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）              ０．１０ｇ
【０１７９】
〔表示媒体１１の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液１１に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体１１を作製した。
【０１８０】
＜比較例１＞
〔表示媒体Ｃ１の作製〕
表示基板、背面基板、及び間隙部材に被覆層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして表示媒体Ｃ１を作製した。
【０１８１】
＜比較例２＞
〔被覆層用塗布液１２の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液１２を得た。
・水酸基を有するポリマー１の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                      ４．７０ｇ
・水                              ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）              ０．１０ｇ
【０１８２】
〔表示媒体Ｃ２の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液１２に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体Ｃ２を作製した。
【０１８３】
＜比較例３＞
〔被覆層用塗布液１３の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液１３を得た。
・ポリイソシアネート（三井化学社製タケネートＤ−１６０Ｎ）  １．２４ｇ
・水酸基を有するポリマー１の溶液                            ４．００ｇ
・エタノール                                                ４．７０ｇ
・水                                                        ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）                                        ０．１０ｇ
【０１８４】
〔表示媒体Ｃ３の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液１３に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体Ｃ３を作製した。
【０１８５】
＜比較例４＞
〔被覆層用塗布液１４の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液１４を得た。
・水酸基を有するポリマー２の溶液  ４．００ｇ
・エタノール                      ４．７０ｇ
・水                              ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）              ０．１０ｇ
【０１８６】
〔表示媒体Ｃ４の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液１４に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体Ｃ４を作製した。
【０１８７】
＜比較例５＞
〔被覆層用塗布液１５の調製〕
下記の材料を混合し、２０℃にて２時間攪拌して加水分解を行い、ゾル状の被覆層用塗布液１５を得た。
・ポリイソシアネート（三井化学社製タケネートＤ−１６０Ｎ）  １．２４ｇ
・水酸基を有するポリマー２の溶液                            ４．００ｇ
・エタノール                                                ４．７０ｇ
・水                                                        ４．７０ｇ
・硝酸水溶液（１Ｎ）                                        ０．１０ｇ
【０１８８】
〔表示媒体Ｃ５の作製〕
被覆層用塗布液１を被覆層用塗布液１５に変更した以外は実施例１と同様の方法で表示媒体Ｃ５を作製した。
【０１８９】
＜評価＞
各実施例及び各比較例の各表示媒体において、表示基板の電極がマイナス、背面基板の電極がプラスとなるように両電極に５０Ｖの電圧を印加した。各表示媒体において、マゼンタ粒子（正帯電）が表示基板側へ移動するのが観察され、各表示媒体はマゼンタ色を表示した。次に、表示基板の電極がプラス、背面基板の電極がマイナスとなるように両電極に５０Ｖの電圧を印加した。各表示媒体において、マゼンタ粒子（正帯電）が背面基板側へ移動するのが観察され、各表示媒体は白色を表示した。
【０１９０】
上記の電圧印加サイクルを１回、１００回、５００回、別々の表示媒体に行い、各表示媒体を分解して、表示基板、背面基板及び間隙部材のセル構成面を肉眼及び光学顕微鏡（７００倍）にて観察し、マゼンタ粒子の付着の程度を確認した。評価基準は以下のとおりである。結果を表１に示す。
Ａ：粒子の付着が光学顕微鏡でも認められない。
Ｂ：粒子の付着が光学顕微鏡で僅かに認められるが、実用上の許容範囲である。
Ｃ：粒子の付着が肉眼でもはっきりと認められる。
【０１９１】
【表１】
2014186259.tif 000015
【０１９２】
表１に示す結果から分かるとおり、本実施例は、比較例に比べて、基板の対向面への粒子の固着が発生し難かった。
また、本実施例は、画像表示を繰り返しても、基板の対向面への粒子の固着が発生し難かった。
【符号の説明】
【０１９３】
１０  表示装置
１２  表示媒体
１６  電圧印加部
１８  制御部
２０  表示基板
２１  被覆層
２２  背面基板
２３  被覆層
２４  間隙部材
２５  被覆層
３４  粒子群
３６  絶縁性粒子群
３８  支持基板
４０  表面電極
４４  支持基板
４６  背面電極
５０  分散媒
【図１】
2014186259.tif 000018
【図２】
2014186259.tif 000019