(57)【要約】【課題】本発明は、印刷回路基板及びその製造方法に関する。【解決手段】本発明による印刷回路基板は、剛性を有するコア補強材と、前記コア補強材の両面に形成された絶縁層と、前記絶縁層及びコア補強材を貫通して形成された貫通孔と、前記絶縁層上に形成された回路層及び前記回路層の層間連結のために前記貫通孔に形成されためっき層と、を含む。【選択図】図１
2014027284.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層とコア補強材とが交互に積層されたコアを含む印刷回路基板。
【請求項２】
前記コアは前記絶縁層の間に前記コア補強材が介在されたものである、請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項３】
前記コアは前記絶縁層の両面に前記コア補強材が積層されたものである、請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項４】
前記コア補強材は板状のガラス材料で形成される、請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項５】
前記コア補強材は非電気伝導性高分子材料のフィルム形態に形成される、請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項６】
前記コア補強材は２５〜２００μｍの厚さに形成される、請求項２または３に記載の印刷回路基板。
【請求項７】
前記絶縁層は複数の絶縁層で形成される、請求項３に記載の印刷回路基板。
【請求項８】
前記コアの全体厚さに対する前記コア補強材の厚さの割合が３５％〜８０％の範囲を有する、請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項９】
前記コアは、前記コア補強材と絶縁層の熱膨張係数と熱膨脹率の関係で、反り特性に対して下記の数式を満たすように構成される、請求項１に記載の印刷回路基板。
【数１】
2014027284.tif 000005
ここで、α１はコア補強材の熱膨張係数（１／ｋ）、α２は絶縁層の熱膨張係数（１／ｋ）、Ｅ１はコア補強材の熱膨脹率（ＧＰａ）、Ｅ２は絶縁材の熱膨脹率（ＧＰａ）である。
【請求項１０】
剛性を有するコア補強材と、
前記コア補強材の両面に形成された絶縁層と、
前記絶縁層及びコア補強材を貫通して形成された貫通孔と、
前記絶縁層上に形成された回路層及び前記回路層の層間連結のために前記貫通孔に形成されためっき層と、を含む印刷回路基板。
【請求項１１】
前記絶縁層の間の前記コア補強材の表面にはコーティング層がさらに形成される、請求項１０に記載の印刷回路基板。
【請求項１２】
前記コーティング層は２μｍ以下の厚さに形成される、請求項１１に記載の印刷回路基板。
【請求項１３】
前記コア補強材は、板状のガラスまたは非電気伝導性高分子材料のフィルム形態に形成される、請求項１０に記載の印刷回路基板。
【請求項１４】
前記絶縁層はガラス布が含浸された絶縁材で形成される、請求項１０に記載の印刷回路基板。
【請求項１５】
前記コア補強材は２５〜２００μｍの厚さに形成される、請求項１０に記載の印刷回路基板。
【請求項１６】
前記コア補強材及び絶縁層を含む厚さに対する前記コア補強材の厚さの割合が３５％〜８０％の範囲を有する、請求項１０に記載の印刷回路基板。
【請求項１７】
コア補強材を準備する段階と、
前記コア補強材の両面に絶縁層を形成する段階と、
前記コア補強材及び絶縁層を貫通する貫通孔を形成する段階と、
前記貫通孔の内部にめっき層を形成するとともに、前記絶縁層の表面に回路層を形成する段階と、を含む印刷回路基板の製造方法。
【請求項１８】
前記コア補強材は、剛性を有する板状のガラスまたは非電気伝導性高分子材料のフィルム形態に形成される、請求項１７に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１９】
前記絶縁層を形成する段階の前に、前記コア補強材の片面または両面にコーティング層を形成する段階をさらに含む、請求項１７に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項２０】
前記コーティング層は２μｍ以下の厚さに形成される、請求項１９に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項２１】
前記貫通孔を形成する段階の前に、前記絶縁層上に金属薄膜を形成する段階をさらに含む、請求項１７に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項２２】
前記金属薄膜は、前記コア補強材の表面に前記絶縁層を形成することと同時に形成される、請求項２１に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項２３】
前記めっき層は、電気銅めっきにより形成され、前記絶縁層の上面に形成された前記回路層を形成するためのめっき層と同時に形成される、請求項１７に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項２４】
絶縁層と、
前記絶縁層の両面に積層されたコア補強材と、
前記絶縁層及びコア補強材を貫通して形成された貫通孔と、
前記コア補強材上に形成された回路層と、を含む印刷回路基板。
【請求項２５】
前記絶縁層は複数の絶縁層で形成される、請求項２４に記載の印刷回路基板。
【請求項２６】
前記絶縁層及びコア補強材を含む厚さに対する前記コア補強材の厚さの割合が３５％〜８０％の範囲を有する、請求項２４に記載の印刷回路基板。
【請求項２７】
前記コア補強材は、板状のガラスまたは非電気伝導性高分子材料のフィルム形態に形成される、請求項２４に記載の印刷回路基板。
【請求項２８】
前記絶縁層はガラス布が含浸された絶縁材で形成される、請求項２４に記載の印刷回路基板。
【請求項２９】
前記回路層は、
前記コア補強材上に形成されたシード層と、
前記シード層上に形成されためっき層と、を含む、請求項２４に記載の印刷回路基板。
【請求項３０】
前記シード層は、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、炭素（Ｃ）などの伝導性金属材またはこれらの合金からなる群から選択される何れか一つで形成される、請求項２９に記載の印刷回路基板。
【請求項３１】
絶縁層の両面にコア補強材を接合する段階と、
前記コア補強材上にシード層を形成する段階と、
前記シード層上に回路形成用開口部を有するめっきレジスト層を形成する段階と、
前記回路形成用開口部にめっき層を形成する段階と、
前記めっきレジスト層を除去することにより回路層を形成する段階と、を含む印刷回路基板の製造方法。
【請求項３２】
前記絶縁層にコア補強材を接合する段階は、
前記絶縁層の両面にコア補強材を配置する段階と、
前記コア補強材を加熱及び加圧することにより前記絶縁層とコア補強材とを接合する段階と、を含む、請求項３１に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項３３】
前記シード層を形成する段階の前に、
前記絶縁層及びコア補強材を貫通する貫通孔を加工する段階をさらに含む、請求項３１に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項３４】
前記貫通孔を加工する段階の後に、
前記コア補強材の表面及び前記貫通孔の内壁をクリーニングする段階をさらに含む、請求項３３に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項３５】
前記コア補強材は、剛性を有する板状のガラスまたは非電気伝導性高分子材料のフィルム形態に形成される、請求項３１に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項３６】
前記クリーニングする段階は、乾式エッチングまたは湿式エッチングにより行われる、請求項３４に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項３７】
前記コア補強材と絶縁層の熱膨張係数と熱膨脹率の関係で、反り特性に対して下記の数式を満たす、請求項１０または２４に記載の印刷回路基板。
【数２】
2014027284.tif 000006
ここで、α１はコア補強材の熱膨張係数（１／ｋ）、α２は絶縁層の熱膨張係数（１／ｋ）、Ｅ１はコア補強材の熱膨脹率（ＧＰａ）、Ｅ２は絶縁材の熱膨脹率（ＧＰａ）である。
【請求項３８】
前記絶縁層とコア補強材とが交互に積層されたコアの上面及び下面に第２絶縁層を積層し、前記第２絶縁層上に回路層を形成することによりビルドアップされて、前記第２絶縁層に形成されたビアホールを介して前記回路層の導通がなされ、前記第２絶縁層上にソルダーレジスト層が形成される、請求項１、１０または２４のいずれか一つに記載の印刷回路基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷回路基板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯用機器の厚さが益々薄くなるに従って、その内部に装着される電子部品も薄型化しており、多数の電子部品が実装される基板も薄板に製作されて、全体的な内部部品の厚さを低減しようとする取り組みが行われている。
【０００３】
特に、多数の電子部品が実装される基板が薄板に製作される場合、基板の製造工程または電子部品の実装時のリフロー工程などを経るうちに高温に露出されるが、その材質の特性上、繰り返される高温加工及び冷却によって反りが発生するという問題点がある。
【０００４】
このような基板の反りを防止するために、基板の製造工程中に用いられる原材料の剛性を高め、リフロー工程時における熱膨張係数（ＣＴＥ）差による反りが改善されるように、原材料の熱膨張係数差を減らすための取り組みがなされているが、これに関する技術の開発が依然として求められている状況である。
【０００５】
また、基板の製造工程中に物理的な構造を改善して反りを防止するための方法として、基板のコア材の剛性を高めるために基板の内部に金属性補強材をさらに挿入する方法が検討されているが、補強材が金属材質であるため、回路パターンを電気的に連結するためのビアなどを形成するために金属補強材の特定部分を予め除去しなければならない。
【０００６】
しかし、金属補強材または金属コア材にビアなどを形成するためにはエッチング工程またはレーザーを利用して金属補強材を除去するが、金属補強材を加工するための別のキャリアを備え、キャリア上の金属補強材上に絶縁層を形成した後キャリアを除去する工程を経なければならないため、基板の製造コストが増加するという問題点が指摘されている
【０００７】
また、従来の金属補強材を用いる場合には、貫通孔が金属補強材と接触しないように、貫通孔が通る位置の金属補強材の一部を予め除去した後、貫通孔を含む表面に絶縁層を塗布しなければならない。そのため、回路配線の形成時にファインピッチ（ｆｉｎｅ  ｐｉｔｃｈ）の貫通孔を形成することが困難であるという短所がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４‐１９３２９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の一目的は、反りの発生を防止することができる印刷回路基板を提供することにある。
【００１０】
本発明の一目的は、印刷回路基板の製造工程中に発生する基板の反りを最小化することができる印刷回路基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記の目的は、絶縁層とコア補強材とが交互に積層されたコアを含む印刷回路基板が提供されることにより達成される。
【００１２】
この際、前記コアは、前記絶縁層の間に前記コア補強材が介在された構成であるか、または前記絶縁層の両面に前記コア補強材が積層された構成であることができる。
【００１３】
また、前記コア補強材は、板状のガラス材料または非電気伝導性高分子材料のフィルム形態に形成されることができる。
【００１４】
前記コアの全体厚さに対する前記コア補強材の厚さの割合が３５％〜８０％の範囲を有し、前記コアは、前記コア補強材と絶縁層の熱膨張係数（ＣＴＥ）と熱膨脹率の関係で、反り特性に対して下記の数式を満たすことができる。
【００１５】
【数１】
2014027284.tif 000003
（α１はコア補強材の熱膨張係数（１／ｋ）、α２は絶縁層の熱膨張係数（１／ｋ）、Ｅ１はコア補強材の熱膨脹率（ＧＰａ）、Ｅ２は絶縁材の熱膨脹率（ＧＰａ）である。）
【００１６】
一方、本発明の他の目的は、剛性を有するコア補強材と、前記コア補強材の両面に形成された絶縁層と、前記絶縁層及びコア補強材を貫通して形成された貫通孔と、前記絶縁層上に形成された回路層及び前記回路層の層間連結のために前記貫通孔に形成されためっき層と、を含む印刷回路基板が提供されることにより達成されることができる。
【００１７】
また、本発明の目的は、コア補強材を準備する段階と、前記コア補強材の両面に絶縁層を形成する段階と、前記コア補強材及び絶縁層を貫通する貫通孔を形成する段階と、前記貫通孔の内部にめっき層を形成するとともに、前記絶縁層の表面に回路層を形成する段階と、を含む印刷回路基板の製造方法が提供されることにより達成される。
【００１８】
また、本発明のさらに他の目的は、絶縁層と、前記絶縁層の両面に積層されたコア補強材と、前記絶縁層及びコア補強材を貫通して形成された貫通孔と、前記コア補強材上に形成された回路層と、を含む印刷回路基板が提供されることにより達成される。
【００１９】
また、本発明の目的は、絶縁層の両面にコア補強材を接合する段階と、前記コア補強材上にシード層を形成する段階と、前記シード層上に回路形成用開口部を有するめっきレジスト層を形成する段階と、前記回路形成用開口部にめっき層を形成する段階と、前記めっきレジスト層を除去することにより回路層を形成する段階と、を含む印刷回路基板の製造方法が提供されることにより達成される。
【発明の効果】
【００２０】
上述したように、本発明による印刷回路基板及びその製造方法は、剛性を有するガラスまたは非電気伝導性高分子材料のフィルム形態のコア補強材を介在して製作することで、高温で印刷回路基板の剛性が維持されるため、製作工程中の反りを防止することができる長所がある。
【００２１】
また、本発明は、印刷回路基板が薄板に製作される場合にもコア補強材の剛性が維持されるため撓みを改善することができ、垂直方向の放熱特性を向上させることができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態による印刷回路基板の断面図である。
【図２】第１実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、コア補強材の断面図である。
【図３ａ】第１実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、コア補強材に絶縁層が積層された断面図である。
【図３ｂ】第１実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、コア補強材と絶縁層との間にコーティング層が介在された断面図である。
【図３ｃ】第１実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、絶縁層上に金属薄膜が形成された断面図である。
【図４】第１実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、貫通孔が形成された断面図である。
【図５】第１実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、絶縁層に回路層が形成され、貫通孔内にめっき層が形成された断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態による印刷回路基板の断面図である。
【図７】第２実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、絶縁層にコア補強材が積層された断面図である。
【図８】第２実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、貫通孔が形成された断面図である。
【図９】第２実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、コア補強材の表面及び貫通孔の内壁にシード層が形成された断面図である。
【図１０】第２実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、めっきレジスト層が形成された断面図である。
【図１１】第２実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、めっき層が形成された断面図である。
【図１２】第２実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、回路層が形成された断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態による印刷回路基板に複数の絶縁層及び回路層がビルドアップされた多層印刷回路基板の断面図である。
【図１４】本発明の第１実施形態による印刷回路基板及び従来技術による印刷回路基板の反り特性のシミュレーショングラフである。
【図１５】本発明の第１実施形態及び第２実施形態による印刷回路基板の剛性特性のシミュレーショングラフである。
【図１６】本発明の第１実施形態及び第２実施形態による印刷回路基板の反り特性のシミュレーショングラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明による印刷回路基板及びその製造方法の前記目的に対する技術的構成を含めた作用効果に関する事項は、本発明の好ましい実施形態が図示された図面を参照した以下の詳細な説明によって明確に理解されるであろう。
【００２４】
本発明を説明するにあたり、係わる公知技術についての具体的な説明が本発明の要旨を不明瞭にする可能性があると判断される場合には、その詳細な説明は省略する。本明細書において、第１、第２などの用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。
【００２５】
[第１実施形態による印刷回路基板]
まず、図１は本発明の第１実施形態による印刷回路基板の断面図である。
【００２６】
図１に図示されたように、本実施形態による印刷回路基板１００は、コア補強材１１０及びコア補強材１１０の両面に形成された絶縁層１２０を含むコアＣと、前記絶縁層１２０上に形成された回路層１３０と、で構成されることができる。
【００２７】
この際、前記印刷回路基板１００には、コア補強材１１０及び絶縁層１２０をともに貫通する貫通孔１５０が備えられており、前記絶縁層１２０の上面及び前記貫通孔１５０の内部にはそれぞれ回路層１３０とめっき層１４０が形成されることができる。
【００２８】
前記コア補強材１１０と絶縁層１２０との間には、コア補強材１１０の表面と絶縁層１２０との密着力を強化するためのコーティング層（不図示）がさらに形成されることができる。コーティング層は、コア補強材１１０の表面にプラズマ処理を施すことによりイオン化‐ＯＨ基を増加させてコア補強材１１０と絶縁層１２０との密着力を向上させることができ、カップリング剤などの塗布によって形成されて密着力を確保することができる。
【００２９】
この際、前記コーティング層は略２μｍ以下の厚さに形成されることが好ましい。
【００３０】
ここで、前記コア補強材１１０は、ガラス（ｇｌａｓｓ）または非電気伝導性高分子材料であることができる。ガラスとしては板状のガラスが用いられることができ、印刷回路基板の全体的な厚さに応じて約２５〜２００μｍの厚さに形成されることができる。
【００３１】
コア補強材１１０として用いられるガラスの厚さを２５〜２００μｍに限定する理由は、印刷回路基板の製造工程中に所定の反りが加えられることがあるが、ガラスの厚さが２５〜２００μｍである範囲で、反りの曲率半径が１０ｃｍ以下になるまで破損されずに耐えることができるためである。
【００３２】
コア補強材１１０としてガラスを用いる場合、０．６Ｗ／ｍＫ内外の熱伝導度を有するガラス材料を適用することが好ましく、局所的な熱的ストレス（ｔｈｅｒｍａｌ  ｓｔｒｅｓｓ）を防止するために１．０Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導度を有するガラス材料を用いることがより好ましい。
【００３３】
このようにコア補強材１１０としてガラス材料を用いる場合、ガラス材料は５０ＧＰａ以上の高い剛性（Ｅｌａｓｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌｅ）を有するため、印刷回路基板の製造工程時に発生する反りを防止することができる。
【００３４】
また、前記コア補強材１１０は、ガラスの代りにフィルム形態の非電気伝導性高分子材料で形成されることもできる。
【００３５】
前記コア補強材１１０の両面に形成された絶縁層１２０には複数のガラス布が含まれて、コア補強材１１０とは別に反りに対応できる剛性を維持することができる。
【００３６】
また、前記絶縁層１２０は、フィルム形態またはガラス布が含まれた絶縁シートに形成されることができる。
【００３７】
絶縁層１２０が絶縁シートで形成される場合には、コア補強材１１０の両面にそれぞれ絶縁シートをラミネートした後、絶縁シートの上面を熱及び圧力で圧着することで、コア補強材１１０の表面に絶縁シートを接合させることができる。
【００３８】
前記絶縁層１２０がコア補強材１１０の両面に形成される場合を図示し、これについて具体的に説明したが、これに限定されず、前記絶縁層１２０がコア補強材１１０の片面にのみ形成されてもよい。
【００３９】
また、前記絶縁層１２０が形成されたコア補強材１１０には絶縁層１２０及びコア補強材１１０を貫通する貫通孔１５０が形成される。前記貫通孔１５０の内部にはめっき層１４０が形成され、絶縁層１２０上には回路層１３０が形成されることができる。前記回路層１３０及びめっき層１４０は電気銅めっきにより形成されることができ、絶縁層１２０上に形成された回路層１３０は回路パターンを構成することになり、貫通孔１５０の内部に形成されためっき層１４０は絶縁層１２０上に形成された回路層１３０を電気的に連結する層間連結層として構成されることができる。
【００４０】
また、前記絶縁層１２０上には、２μｍ以下の薄い金属薄膜（不図示）がさらに形成されることができる。前記金属薄膜は主に銅箔で形成されることができ、コア補強材１１０に絶縁層１２０を塗布する時に同時に形成されることができる。
【００４１】
前記金属薄膜は、回路層１３０を形成するための電気銅めっき時にシード層として用いられるが、絶縁層１２０及びコア補強材１１０に貫通孔１５０を形成するためのレーザー加工が可能であるように２μｍ以下の厚さに形成されなければならない。また、前記金属薄膜は、電気伝導可能なカーボン材料で形成されることもできる。
【００４２】
[第１実施形態による印刷回路基板の製造方法]
以下、図２から図５を参照して本実施形態による印刷回路基板の製造方法を説明すると次の通りである。
【００４３】
まず、図２に図示されたように、コア補強材１１０を準備する。コア補強材１１０は板状のガラスまたは非電気伝導性高分子材料であることができ、非電気伝導性高分子材料の場合、フィルム形態で形成されることができる。
【００４４】
この際、コア補強材１１０がガラスで形成される場合、５０ＧＰａ以上の剛性を有して２５〜２００μｍの厚さに形成されることが好ましい。前記厚さが維持されると、印刷回路基板の製造工程時に所定の曲率半径で変形された後破損されずに元状態に復帰されることができる。
【００４５】
次に、図３ａに図示されたように、コア補強材１１０の両面に絶縁層１２０を形成してコアＣを製作することができる。絶縁層１２０は、コア補強材１１０上に絶縁材料を塗布することにより形成し、ガラス布材料が添加された絶縁材を塗布することもできる。
【００４６】
この際、図３ｂに図示されたように、前記絶縁層１２０を形成する前に、コア補強材１１０の片面または両面にコーティング層１１５をさらに形成することができる。コーティング層１１５は、コア補強材１１０と絶縁層１２０との密着力を強化させるための薄い絶縁層であって、主に高分子物質を塗布して絶縁層１２０の接着性を向上させることができる。コーティング層１１５は２μｍ内外に形成されることが好ましく、コア補強材１１０の表面にプラズマ処理を施すことにより‐ＯＨ基を増加させて密着力を向上させることができる。
【００４７】
また、前記コーティング層１１５は、コア補強材１１０の表面へのプラズマ処理の他に、カップリング剤などをコア補強材１１０の表面に塗布して形成することができる。
【００４８】
次に、図４に図示されたように、前記コア補強材１１０及び絶縁層１２０を貫通する貫通孔１５０を形成することができる。前記貫通孔１５０は、通常、レーザー加工で形成することができ、ＣＯ２レーザーを利用して貫通孔１５０を加工することができる。前記貫通孔１５０は、絶縁材料であるコア補強材１１０及び絶縁層１２０にレーザーを照射することにより形成されるため、従来のように層間導通を防止するための別の絶縁基材を貫通孔１５０の内壁面に形成する必要がなく、レーザー加工だけで貫通孔を形成することができるため、ファインピッチ（ｆｉｎｅ  ｐｉｔｃｈ）の貫通孔を加工することができる。
【００４９】
一方、前記コア補強材１１０及び絶縁層１２０に貫通孔を形成する前に、図３ｃに図示されたように、前記絶縁層１２０上に約２μｍ内外の薄い金属薄膜１２５をさらに形成することができる。前記金属薄膜１２５は、主に銅箔で形成されることができ、その厚さがレーザー加工が可能な程度の厚さ（５μｍ以下の厚さでＣＯ２レーザー加工が可能である）に形成されるため、所定位置にＣＯ２レーザーを照射して貫通孔１５０を加工することができる。
【００５０】
この際、貫通孔１５０が形成された部分以外の絶縁層１２０上に形成された金属薄膜１２５は、後工程で回路層を形成するための銅めっき時にシード層として用いられることができる。
【００５１】
次に、図５に図示されたように、前記貫通孔１５０の内部及び絶縁層１２０の上面にそれぞれめっき層１４０と回路層１３０を形成することができる。前記めっき層１４０と回路層１３０のうち絶縁層１２０上に形成された回路層１３０は回路パターンで構成されることができ、前記貫通孔１５０内に形成されためっき層１４０は、回路パターンを構成する絶縁層１２０上の回路層１３０を電気的に連結する層間連結層として用いられることができる。
【００５２】
前記回路層１３０及びめっき層１４０は、電気銅めっきにより形成されることができ、絶縁層１２０の上面と貫通孔１５０の内部に同時に形成されることができる。
【００５３】
[第２実施形態による印刷回路基板]
図６は本発明の第２実施形態による印刷回路基板の断面図である。
【００５４】
図示されたように、本実施形態による印刷回路基板２００は、絶縁層２１０及び絶縁層２１０上に形成されたコア補強材２２０を含むコアＣと、前記コアＣ上に形成された回路層２７０と、を含んで構成されることができる。
【００５５】
この際、絶縁層２１０は、上述の第１実施形態による印刷回路基板に適用された絶縁層と同様に、複数のガラス布が含まれた絶縁材で形成されることができ、フィルム形態またはガラス布が混在された絶縁シートで形成されてもよい。
【００５６】
図面に図示されたように、絶縁層２１０の両面にコア補強材２２０が付着されることができるが、これは一つの実施形態に過ぎず、絶縁層２１０の片面にのみコア補強材２２０が付着されてもよい。
【００５７】
コア補強材２２０としては、略５０Ｇｐａ以上の剛性を有するガラスが適用されることができ、薄い板状のガラスが絶縁層２１０の上、下面にそれぞれ積層されることができる。この際、コア補強材２２０は、ガラスの代りに非電気伝導性高分子材料で形成されてもよい。
【００５８】
上記のように、絶縁層２１０を挟んで絶縁層２１０の両面に板状のガラスがコア補強材２２０として採用されると、コア補強材２２０の間の絶縁層２１０が衝撃吸収の役割をするため、印刷回路基板の製造工程中にコア補強材２２０が破損されることを防止することができる。
【００５９】
ここで、コア補強材２２０の間に積層された絶縁層２１０が一つの層からなる場合を図示しているが、これは一実施形態を説明するためのものであって、二つ以上の多層からなる絶縁層を形成してもよい。
【００６０】
前記回路層２７０はコア補強材２２０上に所定のパターンで形成されることができ、上記の第１実施形態と同様に、コア補強材２２０及び絶縁層２１０を貫通して形成された貫通孔２５０に充填されているめっき層２６０により、前記コア補強材２２０上に形成された回路層２７０の層間連結がなされることができる。
【００６１】
回路層２７０は、コア補強材２２０上にめっき層によって形成されることができる。回路層２７０を形成するためのめっき層の形成時に、シード層２３０を先に形成した後にめっき層を形成し、めっき層をパターニングすることにより回路層２７０が形成されることができる。この際、シード層２３０は第１シード層２３０ａ及び第２シード層２３０ｂで形成されることができる。
【００６２】
第１シード層２３０ａ及び第２シード層２３０ｂを含むシード層２３０は、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、炭素（Ｃ）などの伝導性金属材またはこれらの合金からなる群から選択される何れか一つで形成されることができる。
【００６３】
また、前記シード層２３０及び回路層２７０は、コスト的な側面及び工程上の利点などを考慮して銅（Ｃｕ）で形成されることが好ましい。
【００６４】
上記のように構成された本実施形態による印刷回路基板２００は、絶縁層２１０を中心として形成されたコア補強材２２０が板状のガラスで形成されるため、コア補強材２２０上に形成された回路層２７０が滑らかな表面に形成される。これにより、コア補強材２２０と回路層２７０との間の界面に粗さ（ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）がないため、信号のノイズが少なく、超微細ピッチを有する回路層２７０を容易に具現することができる。
【００６５】
即ち、回路層２７０が滑らかな表面、即ち、表面粗さの小さい面に形成されるため、回路層を形成するためのエッチング量が減少され、回路形成時の損失量が低減されて、超微細ピッチの形成が可能となり、信号のノイズが顕著に低減される。
【００６６】
[第２実施形態による印刷回路基板の製造方法]
図７から図１２は本発明の第２実施形態による印刷回路基板の製造方法を順に図示した工程断面図である。
【００６７】
まず、図７に図示されたように、絶縁層２１０の上、下面にコア補強材２２０を付着してコアＣを製作することができる。この際、絶縁層２１０は、耐熱性を有する高分子材料としてガラス布が含浸された絶縁材で形成されることができ、フィルム形態またはガラス布が混在された絶縁シートで形成されてもよい。また、前記コア補強材２２０の間に積層された絶縁層２１０が工程中に発生する衝撃を吸収することにより、コア補強材２２０が衝撃または反りによって破損されることを防止することができる。
【００６８】
前記コアＣを製作する段階は、絶縁層２１０の両面にコア補強材２２０を積層する段階と、コア補強材２２０と絶縁層２１０を順に積層して加熱、加圧した後、絶縁層２１０の両面にコア補強材２２０を接合する段階と、をさらに含むことができる。
【００６９】
次に、図８に図示されたように、絶縁層２１０及びコア補強材２２０が積層されたコアＣを貫通する貫通孔２５０を形成することができる。貫通孔２５０は、レーザードリルにより形成することができ、代表的にＣＯ２レーザー、ＹＡＧレーザー、またはパルスＵＶエキシマレーザーなどが適用されることができる。
【００７０】
一方、コアＣに貫通孔２５０を形成する段階の後に、貫通孔２５０が形成されたコアＣの表面及び貫通孔２５０の内壁をクリーニングする段階をさらに含むことができる。この際、コアＣの表面及び貫通孔２５０の内壁をクリーニングする際には、特に限定されないが、乾式エッチングまたは湿式エッチングが適用されてもよく、デスミア工程により行われてもよい。このうち乾式エッチング工程としては、プラズマエッチング、スパッタエッチング、またはイオンエッチングなどが用いられることができる。
【００７１】
次に、図９に図示されたように、貫通孔２５０の内壁を含むコアＣの表面にシード層２３０を形成することができる。シード層２３０は、後続工程で回路層２７０を形成するためのめっき層の形成時にめっき層を容易に成長させるためのものであり、通常スパッタリング工法により形成することができる。また、シード層２３０は場合に応じて第１シード層２３０ａと第２シード層２３０ｂとに区分して形成することができ、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、炭素（Ｃ）、またはこれらの合金からなる群から選択される何れか一つで形成することができる。
【００７２】
次に、図１０に図示されたように、シード層２３０上に回路形成用開口部２４１を有するめっきレジスト層２４０を形成することができる。めっきレジスト層２４０は感光性ポリマーを用いたフォトレジストを利用して形成することができ、フォトレジストを塗布した後、マスクを用いて回路形成用開口部２４１を形成することができる。この際、めっきレジスト層２４０の回路形成用開口部２４１は回路パターンの設計仕様に応じて形成することができる。
【００７３】
次に、図１１及び図１２に図示されたように、めっきレジスト層２４０が形成されたコア補強材２２０上にめっき層２６０を形成し、めっきレジスト層２４０を除去することにより回路層２７０を形成することができる。
【００７４】
ここで、前記コア補強材２２０上にめっき層２６０を形成するめっき工程は電解めっきにより行われることができ、めっき層２６０は銅（Ｃｕ）で形成されることが好ましい。また、前記めっきレジスト層２４０を除去する段階は、機械的剥離または化学溶液を用いた化学的剥離工程により行われることができる。
【００７５】
上記のように構成された第１実施形態及び第２実施形態による印刷回路基板１００、２００は、図１３に図示されたように、コア補強材２２０の両面に絶縁層２１０が形成されたり、絶縁層２１０の両面にコア補強材２２０が積層された構成のコアＣを中心としてその上、下面にそれぞれ第２絶縁層３１０と回路層３２０が連続的に積層されるビルドアップ工程が後続されることができる。
【００７６】
図１３は本発明の一実施形態による印刷回路基板に複数の絶縁層及び回路層がビルドアップされた多層印刷回路基板の断面図である。
【００７７】
図１３に図示された多層印刷回路基板３００は、図１及び図６に図示された印刷回路基板を製作した後、絶縁層２１０及びコア補強材２２０が積層されたコアＣの上、下面にそれぞれプリプレグ（ＰＰＧ）などの材料からなる第２絶縁層３１０を積層し、第２絶縁層３１０上に回路層３２０を形成することにより製作することができる。コアＣに積層された第２絶縁層３１０にはビアホール３３０を形成して、コアＣに形成された回路層２７０と第２絶縁層３１０上に形成された回路層２７０とを導通させて層間連結がなされるようにし、前記第２絶縁層３１０上にはソルダーレジスト層３４０を形成して第２絶縁層３１０及び回路層２７０の保護及び露出がなされるようにすることができる。
【００７８】
[各実施形態による印刷回路基板の剛性及び反り特性]
上記のように構成された本発明による印刷回路基板を上述の製造工程で製作した。従来の一般的な印刷回路基板、即ち、コア補強材を用いず絶縁材のみで形成された絶縁層を用いて製作された印刷回路基板及び本発明による印刷回路基板に所定の熱を加えると、その熱膨脹率が図１４のようにシミュレーションされる。
【００７９】
図１４は本発明の第１実施形態による印刷回路基板及び従来技術による印刷回路基板の反り特性のシミュレーショングラフである。図示されたように、絶縁層の間にプリプレグ材料が介在された従来の印刷回路基板は、温度が上昇するほど反りを誘発する力である熱膨脹率が急激に大きくなって、基板の製造工程中に反りが大きく発生する。その反面、本発明による印刷回路基板は、低い温度または高い温度で熱膨脹率が大きく変化することなく低いレベルに維持されるため、印刷回路基板の製作工程中に発生する反りが最小化されることが分かる。即ち、本発明による印刷回路基板は、コアを構成する絶縁層の表面または絶縁層の間にガラス材料のコア補強材が挿入されることにより、優れた剛性を有するとともに、印刷回路基板の製作工程中に適用される温度及び湿度の変化による反りが最小化される。
【００８０】
一方、上述の実施形態の技術的特徴を有する本発明の印刷回路基板は、従来の印刷回路基板に比べ向上されたコアの剛性及び反り特性を具現するために、絶縁層とコア補強材からなるコアの全体厚さに対してコア補強材が占める割合（ｐｏｒｔｉｏｎ）が３５％〜８０％の範囲を有することが好ましい。これは、上述の第１実施形態による印刷回路基板（図１）及び第２実施形態による印刷回路基板（図６）の両方に採用されるコア構成に適用されることができる。
【００８１】
また、各実施形態においてコアを構成するコア補強材及び絶縁層の熱膨張係数（ＣＴＥ）と熱膨脹率の関係が下記の数式１を満たす時に、従来の印刷回路基板より向上されたコアの反り特性を具現することができる。
【００８２】
【数２】
2014027284.tif 000004
（ここで、α１はコア補強材の熱膨張係数（１／ｋ）、α２は絶縁層の熱膨張係数（１／ｋ）、Ｅ１はコア補強材の熱膨脹率（ＧＰａ）、Ｅ２は絶縁材の熱膨脹率（ＧＰａ）である。）
【００８３】
ここで、コアの全体厚さに対してコア補強材が占める割合を最下３５％に限定する理由は、従来の基板におけるコア構造物に比べコア補強材の構成の割合が３５％以上である時にコアの反り特性が向上され、最大８０％以下に限定する理由は、コアでコア補強材を除いた絶縁層の厚さを１０μｍまで製作することができるが、絶縁層の厚さをより薄く形成するとコアにクラックが発生する恐れがあり、クラックの発生によってコアの破断が発生する恐れがあるためである。
【００８４】
したがって、前記数式に基づいてコアの全体厚さでコア補強材が占める割合が３５％〜８０％の範囲を有するようにし、且つコア補強材及びコア補強材をくるむ絶縁層が様々な材料、即ち、ＰＰＧ、ＡＢＦ、ＰＩまたはプライマー（ｐｒｉｍｅｒ）のうち何れか一つで形成された絶縁層、またはＰＰＧ、ＡＢＦ、ＰＩまたはプライマーのうち何れか一つの絶縁材料にガラス布（ｇｌａｓｓ  ｃｌｏｔｈ）またはフィラーなどが含浸された絶縁層の変数を前記数式に代入して６．４９２×１０〜４．４６３×１０／ＧＰａ・ｋの範囲を満たすと、コアの反り改善の効果が奏されるという意味である。
【００８５】
上記のようにコア全体の厚さに対してコア補強材が占める割合及び前記数式の条件を満たす時に、図１５または図１６に図示されたようにコアの剛性及び反り特性を満たすことができる。
【００８６】
図１５は本発明の第１実施形態及び第２実施形態による印刷回路基板の剛性特性のシミュレーショングラフであり、図１６は本発明の第１実施形態及び第２実施形態による印刷回路基板の反り特性のシミュレーショングラフである。
【００８７】
グラフに図示されたように、図１５及び図１６を参照すると、上述の印刷回路基板の第１実施形態及び第２実施形態は、コアの全体厚さに対してコア補強材が占める割合が３５％以上である時に、従来の印刷回路基板のコア（通常ＣＣＬ）に比べ剛性及び反り特性が両方とも改善され、各実施形態のうちコアの全体厚さに対してコア補強材が占める割合が３５％以上である時に、第１実施形態の印刷回路基板に比べ第２実施形態の印刷回路基板が約２．５倍より強い剛性を有し、第１実施形態の印刷回路基板に比べ第２実施形態の印刷回路基板が微細に優れた反り特性の改善効果を示すことが分かる。
【００８８】
以上、代表的な実施形態を参照して本発明について詳細に説明したが、本発明に属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、上述の実施形態に対して本発明の範囲を外れない限度内で多様な変形が可能であることを理解するのであろう。
【符号の説明】
【００８９】
１００、２００、３００  印刷回路基板
１１０、２２０  コア補強材
１２０、２１０  絶縁層
１３０、２７０  回路層
１５０、２５０  貫通孔
【図１】
2014027284.tif 000007
【図２】
2014027284.tif 000008
【図３ａ】
2014027284.tif 000009
【図３ｂ】
2014027284.tif 000010
【図３ｃ】
2014027284.tif 000011
【図４】
2014027284.tif 000012
【図５】
2014027284.tif 000013
【図６】
2014027284.tif 000014
【図７】
2014027284.tif 000015
【図８】
2014027284.tif 000016
【図９】
2014027284.tif 000017
【図１０】
2014027284.tif 000018
【図１１】
2014027284.tif 000019
【図１２】
2014027284.tif 000020
【図１３】
2014027284.tif 000021
【図１４】
2014027284.tif 000022
【図１５】
2014027284.tif 000023
【図１６】
2014027284.tif 000024