(57)【要約】【課題】吸湿や水分の浸入を防止することができる液晶装置を提供する。【解決手段】 互いに対向する一対の基板１０，２０間に液晶５０を挟持してなる液晶装置である。一対の基板１０，２０のそれぞれの内面に配向膜３１，３２が設けられ、配向膜３１，３２間に、液晶５０を封入した状態でシール材４０が設けられ、一対の基板１０，２０の側端面に、素子基板１０と対向基板２０との間隙にその一部が位置するように形成される無機平坦化層９２と、無機平坦化層９２に一部が接するように形成される無機ガスバリア層９１とから形成される防湿層９０とを備え、無機ガスバリア層９１の透湿度は、無機平坦化層９２の透湿度よりも低くなっている。【選択図】図１
2014191010.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板との間に電気光学物質が設けられた電気光学装置であって、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、前記電気光学物質の周囲を囲むように設けられたシール材と、
前記シール材の外側に位置し、前記第１基板と前記第２基板との間に少なくとも一部が設けられた無機材料からなる第１防湿層と、
前記第１防湿層の外側に位置し、前記第１防湿層の外側の面と少なくとも一部が接するように設けられた無機材料からなる第２防湿層と、を有し、
前記第２防湿層の透湿度は、前記第１防湿層の透湿度よりも低い、
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記シール材と前記第１防湿層との間には、少なくとも一部に空隙領域が形成されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置において、
前記第２防湿層の外側の面を被覆するように形成され、有機無機ハイブリッド材料からなる第３防湿層を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載の電気光学装置において、
前記第１防湿層は、電気絶縁性を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項６】
第１基板と第２基板との間に電気光学物質が設けられた電気光学装置の製造方法であって、
前記第１基板と前記第２基板とをシール材で貼り合わせる貼合工程と、
前記第１基板と前記第２基板との間に少なくとも一部が設けられるように無機材料からなる第１防湿層を形成する第１防湿層形成工程と、
前記第１防湿層の外側の面と少なくとも一部が接するように、前記第１防湿層より透湿度が低く無機材料からなる第２防湿層を形成する第２防湿層形成工程と、
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第１防湿層形成工程においては、前記シール材と前記第１防湿層との間の少なくとも一部に、空隙領域を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の電気光学装置の製造方法において、
有機無機ハイブリッド材料からなる第３防湿層によって前記第２防湿層の表面を被覆する第３防湿層形成工程をさらに有する
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１防湿層形成工程において、斜方蒸着法、又はイオンアシスト法を併用した斜方蒸着法によって、前記第１防湿層を形成することを特徴とする請求項６乃至８のうちいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項６乃至９の何れかに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第２防湿層形成工程において、蒸着法、又はイオンアシスト蒸着法によって、前記第２防湿層を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及びその製造方法、並びに電気光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶プロジェクター等に搭載される光変調手段や、携帯電話等に搭載される直視型表示装置として用いられる液晶装置は、電極を具備する一対の基板を主体として構成されている。この一対の基板の各内面側には、導電膜（画素電極、対向電極等）や、液晶装置であれば液晶分子の初期配向状態を制御するための配向膜が形成されている。そして、これら一対の基板が例えばシール材を介して相互に接合されることにより、基板同士が貼り合わされ、さらに液晶装置であればこのシール材に囲まれた領域内に液晶が封入され、液晶装置が構成されるようになっている。
【０００３】
ところで、これらの装置の高精細表示化や小型化に伴って、液晶装置であればシール材の液晶内側から外部側へ至る距離（シール厚さ）を短くする検討が行われている。しかしながら、この距離を短くすると、シール部分の耐湿性が悪化するという問題が生じる。具体的には、高温多湿の環境下の地域で、これらの液晶装置を使用した場合、大気中の水分がシール材を透過して液晶中に浸入し、この侵入した水分が液晶の配向状態に影響を与える可能性ある。液晶の配向状態に変化が生じると、輝度ムラ等の表示不良の原因となる。
【０００４】
従前より、このような問題を解決すべく、例えば、特許文献１や特許文献２に開示された技術がある。特許文献１では、切断端面からシール外周部にＳｉＮｘ等の無機材料からなるガスバリア層をスパッタ法により形成した液晶装置が提案されている。また、特許文献２では、シール材の外側、基板の側面を覆うように配されたガスバリア部材を備え、且つガスバリア部材の外面を無機ガスバリア層で覆うことで、高いガスバリア性を実現する液晶装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２２５３９９号公報
【特許文献２】特開２００９−１６３０８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示された液晶装置では、ガスバリア層を形成する際に、シール材の外壁に、高エネルギーのスパッタ粒子が衝突されるため、シール材を構成する樹脂成分の一部が熱分解などで変質し、液晶層に溶出する不純物源が生成されるという問題がある。また、特許文献２に開示された液晶装置では、無機ガスバリア層を、防湿性樹脂からなるガスバリア部の外面に形成する構成によって耐湿性向上が得られる一方、無機ガスバリア層を形成する工程で、液晶装置に加わる熱により、樹脂成分であるシール材やガスバリア部材から、アウトガスが発生したり、不純物が溶出したりする原因となる。これらのように、シール材の樹脂成分から不純物が溶出したり、アウトガスが発生した場合には、シールとの境界で液晶配向不良が発生し、輝度ムラ等の表示不良の原因となり得る。
【０００７】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、例えばシール材を介して、一対の基板を貼り合わせて構成される電気光学装置において、シール材から不純物やアウトガスが発生するのを低減して防湿性を向上させ、シール材の厚さを薄くすることによる、映像の高精細表示化や装置の小型化を図ることのできる電気光学装置、その製造方法、及びその電気光学装置を備えた電子機器を提供することを解決課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置の一態様は、第１基板と第２基板との間に電気光学物質が設けられたものであって、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、前記電気光学物質の周囲を囲むように設けられたシール材と、前記シール材の外側に位置し、前記第１基板と前記第２基板との間に少なくとも一部が設けられた無機材料からなる第１防湿層と、前記第１防湿層の外側に位置し、前記第１防湿層の外側の面と少なくとも一部が接するように設けられた無機材料からなる第２防湿層と、を有し、前記第２防湿層の透湿度は、前記第１防湿層の透湿度よりも低い、ことを特徴とする。
【０００９】
本発明の電気光学装置の一態様によれば、防湿層は、第１基板と第２基板との間に少なくとも一部が設けられ無機材料からなる第１防湿層と、第１防湿層の外側の面と少なくとも一部が接するように形成され無機材料からなる第２防湿層とを備え、第２防湿層は第１防湿層より透湿度が低い。従って、第２防湿層にピンホールやクラックが生じることを防止できる。その結果、シール材の厚さを薄くした場合であっても、高い耐湿性を得ることができ、電気光学物質の変化（例えば、液晶の配向状態の変化）を抑制して表示不良を低減することができる。なお、第１防湿層において第２防湿層と接する面を平坦化することによって、第２防湿層を第１防湿層により密着させることができ、第２防湿層にピンホールやクラックが生じることをより確実に防止できる。
ここで、透湿度とは、所定の温度及び湿度の条件で単位時間で単位面積の試験片を通過する水蒸気の量を表すものであり、感湿センサー方（Ｌｙｓｓｙ法）やカップ法、赤外センサー法（Ｍｏｃｏｎ法）等によって測定される。また、電気光学物質とは、電気エネルギーによって光学特性が変化する物質であり、液晶、有機ＥＬ、及び無機ＥＬなどが該当する。
【００１０】
上述した電気光学装置の一態様において、シール材と防湿層との間には、その少なくとも一部に空隙領域が形成することが好ましい。この場合には、防湿層を形成させる際の処理によって熱が生じても、空隙領域によって熱が吸収され、シール材に熱負荷をかけることを抑制できる。その結果、シール材からアウトガスや、不揮発性の不純物等が発生し、電気光学物質に混入して特性劣化（例えば、液晶の配向不良）が生じることを防止することができる。
【００１１】
上述した電気光学装置の一態様において、前記第２防湿層の外側の面を被覆するように形成され、有機無機ハイブリッド材料からなる第３防湿層を有することが好ましい。ここで、有機無機ハイブリッド材料とは、同一分子内に有機成分と無機成分とが両方存在しているものである。これにより、無機材料のみと比較して高い耐熱性及び耐光性有することができる。
【００１２】
上述した電気光学装置の一態様において、前記第１防湿層は、電気絶縁性を備えることが好ましい。この場合には、基板端面やパネル端子部分で露出した配線での導通不良を防止することができる。
【００１３】
次に、本発明の電子機器の一態様は、上述した本発明の電気光学装置の一態様を備えることを特徴とする。上述した電気光学装置の一態様は、高い耐湿性を得ることができ、電気光学物質の特性劣化（例えば、液晶の配向状態の変化）を抑制して表示不良を低減することができる。このため、本発明の電子機器の一態様によれば、優れた表示特性を発揮することができる、投射型表示装置、光ピックアップ、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニター直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００１４】
次に、本発明の電気光学装置の製造方法の一態様は、第１基板と第２基板との間に電気光学物質が設けられた電気光学装置を製造する方法であって、前記第１基板と前記第２基板とをシール材で貼り合わせる貼合工程と、前記第１基板と前記第２基板との間に少なくとも一部が設けられるように無機材料からなる第１防湿層を形成する第１防湿層形成工程と、前記第１防湿層の外側の面と少なくとも一部が接するように、前記第１防湿層より透湿度が低く無機材料からなる第２防湿層を形成する第２防湿層形成工程と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
上述した電気光学装置の製造方法の一態様によれば、第１防湿層を形成した後に、前記第１防湿層の外側の面と少なくとも一部が接するように、前記第１防湿層より透湿度が低く無機材料からなる第２防湿層を形成するので、第２防湿層にピンホールやクラックが生じることを抑制できる。その結果、単一の無機材料で防湿層を形成させるより、高い耐湿性を得ることができ、電気光学物質の特性劣化（例えば、液晶の配向状態の変化）を抑制して表示不良を低減することができる。
【００１６】
上述した電気光学装置の製造方法の一態様において、前記第１防湿層形成工程においては、前記シール材と前記第１防湿層との間の少なくとも一部に、空隙領域を形成することが好ましい。この場合には、第１防湿層及び第２防湿層を形成させる際の処理によって熱が生じても、空隙領域に熱を吸収し、シール材に熱負荷をかけることを抑制できる。その結果、シール材から発生したアウトガスや、不揮発性の不純物等が電気光学物質に混入して電気光学物質の特性劣化（例えば、液晶に配向不良）が生じることを防止することができる。
【００１７】
上述した電気光学装置の製造方法の一態様において、有機無機ハイブリッド材料からなる防湿被膜によって無機ガスバリア層の表面を被覆する被膜形成工程をさらに有することが好ましい。この場合には、有機無機ハイブリッド材料は、同一分子内に有機成分と無機成分とが両方存在しているものであるため、無機材料のみと比較してより高い耐湿性を有することができる。
【００１８】
上述した電気光学装置の製造方法の一態様では、前記第１防湿層形成工程において、斜方蒸着法、又はイオンアシス蒸着法によって、前記第１防湿層を形成することが好ましい。ここで、斜方蒸着法とは、一対の基板の側面に対して所定の角度をなして配列しながら、柱状構造物を堆積させて膜を形成させる方法であり、イオンアシスト蒸着法とは、基板に照射される蒸着材料分子をイオン化されたガス分子で加速することにより、柱状構造物と基板との間の密着性をより高くし、また、柱状構造物の充填密度をより高くする方法である。この場合には、基板外周端面の間隙の奥行きと開口部分の大きさによらず、第１防湿層を外周端面に着実に成膜させることができる。
【００１９】
上述した電気光学装置の製造方法の一態様では、前記第２防湿層形成工程において、蒸着法、又はイオンアシスト法を併用した斜方蒸着法によって、前記第２防湿層を形成することが好ましい。ここで、蒸着法とは、加熱などにより真空中で材料を蒸発させ、基板に膜を形成する方法である。この場合には、無機ガスバリア層形成時の液晶パネルや無機平坦化層に及ぼす、熱負荷を軽減することができる。その結果、不純物の電気光学物質への溶出による電気光学物質の特性劣化（例えば、液晶配向の不良）を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の構造を示す模式平面図である。
【図２】同実施形態の液晶装置の構造を示す模式断面図である。
【図３】同実施形態の液晶装置の製造工程を示す模式断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る液晶装置の構造を示す模式平面図である。
【図５】同実施形態の液晶装置の防湿層を示す模式断面図である。
【図６】本発明の第３実施形態に係る液晶装置の構造を示す模式断面図である。
【図７】図６（ａ）に示す液晶装置の構造を示す模式平面図である。
【図８】変形例に係る液晶装置の構造を示す模式平面図である。
【図９】電子機器（投射型表示装置）の斜視図である。
【図１０】電子機器（パーソナルコンピューター）の斜視図である。
【図１１】電子機器（携帯電話機）の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、この発明の好適な実施の形態を、添付図面等を参照しながら詳細に説明する。ただし、各図において、各部の寸法及び縮尺は、実際のものと適宜に異ならせてある。また、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
【００２２】
＜Ａ：第１実施形態＞
（液晶装置の構成）
図１は、本発明の電気光学装置の一例である液晶装置の構造を示す模式平面図である。図２は、本発明の電気光学装置の一例である液晶装置の一部の構造を示す模式断面図である。以下、液晶装置１００の構造を図１及び図２を参照しながら説明する。
【００２３】
本実施形態において、液晶装置１００は、液晶プロジェクターのライトバルブ等に用いられるものであり、例えば、薄膜トランジスター（以下、「ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子」と称する。）を画素のスイッチング素子として用いたＴＦＴアクティブマトリクス方式の液晶装置である。
【００２４】
この液晶装置１００は、素子基板（第１基板）１０と対向基板（第２基板）２０とが、平面視略矩形枠状のシール材４０を介して貼り合わされ、このシール材４０によって区画された領域内に液晶５０を封入、保持したものである。
【００２５】
素子基板１０と対向基板２０は、例えば、ガラス基板や石英基板からなるものである。そして、これら一対の基板１０，２０は、液晶滴下貼り合わせ方式（One Drop Filling；ODF法）によって貼り合わされる。
【００２６】
シール材４０は、例えば、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂からなる接着剤であり、シール材４０は、素子基板１０の側面１２と液晶５０との間に位置するように配置される。また、シール部材４０には、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のフィラー成分が混入され、基板間の厚さは、例えば、１．５μｍ〜３．５μｍとなっている。
【００２７】
そして、シール材４０の内側の領域には、遮光性材料からなる周辺見切り（図示略）が形成される一方、シール材４０の外側の領域には、データ線駆動回路７１及び実装端子７２が素子基板１０の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路（図示略）が形成されている。また、素子基板１０の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路の間を接続するための複数の配線（図示略）が設けられている。
【００２８】
画像表示領域５０ａは、マトリクス状に配置された複数の画素によって構成されている。各画素には、画素電極と、この画素電極を制御するためのスイッチング素子であるＴＦＴ素子とがそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線が当該ＴＦＴ素子のソースに電気的に接続されている。データ線に供給される画像信号は、この順に線順次に供給されるか、或いは相隣接する複数のデータ線に対してグループ毎に供給される。これにより液晶５０では、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。
【００２９】
そして、図２に示すように、素子基板１０の液晶５０側の表面には、導電膜（画素電極）１１と、電圧無印加時における液晶５０内の液晶分子の配向を制御するための配向膜３１が形成されている。なお、素子基板１０の液晶５０側と反対側の表面には、所定の偏光のみを透過する偏光板、及び必要に応じて防塵板が配設される。
【００３０】
他方、対向基板２０の液晶５０側の表面には、導電膜（共通電極）２１と、電圧無印加時における液晶５０内の液晶分子の配向を制御するための配向膜３２とが形成されている。なお、素子基板１０の液晶５０側と反対側の表面には、所定の偏光のみを透過する偏光板、及び必要に応じて防塵膜が配設される。
【００３１】
導電膜１１，２１としては、例えば錫をドープした酸化インジウム膜（ＩＴＯ膜）の透明導電材料が用いられる。また、これ以外にも、ＩＺＯ膜、ＦＴＯ膜等の透光性と導電性を有する公知の様々な導電膜を用いることもできる。また、透光性を必要としない場合には、優れた導電性を有する公知の様々な導電膜が適用可能である。ＩＴＯ膜は、蒸着法やスパッタ法、焼成法（塗布熱分解法とも言う）等により形成することができる。
【００３２】
スパッタ法を用いてＩＴＯ膜を形成するには、基板表面温度を所定温度（例えば、２００℃）に設定して酸化インジウムと酸化スズからなるＩＴＯ透明導電膜を所定の膜厚（例えば、０．０５μｍ〜１０μｍ）に成膜し、所定の温度（例えば、２００℃〜２５０℃）に一定時間（例えば、６０分）保持して熱処理を行う。その後、必要に応じて、フォトリソグラフィ法により所望の平面形状にパターニングする。
【００３３】
焼成法を用いてＩＴＯ膜を形成するには、ＩＴＯ膜の液体材料を基板上に配置し、その膜を熱処理する。液相法を用いた導電膜の形成は、製造コスト低減に有利である。液体材料の配置技術としては、インクジェット法、Ｃａｐコート法、スピンコート法等を用いることができる。前記液体材料として、インジウムの有機化合物及び錫の有機化合物を有機アミンの存在下に溶解した有機溶媒を用いることにより、比較的低温（例えば２５０℃以下）での焼成が可能となる。また、透光性の導電性微粒子を含む微粒子膜を基板上に形成した後に、その微粒子膜上に透光性の導電性微粒子を溶解した有機溶媒を染み込ませ、その後にその膜を熱処理（焼成）することにより、焼成温度が比較的低温（例えば２５０℃以下）であっても導電性に優れた透光性導電膜を得ることができる。
【００３４】
配向膜３１，３２としては、有機配向膜、及び無機配向膜のいずれも適用可能である。有機配向膜は、例えば、ポリイミドなどの高分子膜の表面にラビング等の配向処理を施すことにより形成することができる。無機配向膜は、有機配向膜に比べて耐光性や耐熱性が高く、ＳｉＯ２のような無機膜を蒸着法或いはスパッタ法を用いて形成した後に、イオンビームや粒子ビームを無機膜表面に照射して配向処理を施すことにより、形成することができる。或いは、基板に対して斜めに無機材料を入射させて斜方柱状構造を有する膜を形成する、いわゆる斜方蒸着法によっても、無機配向膜を形成することができる。
【００３５】
そして、素子基板１０と対向基板２０の側面には、防湿層９０が形成されている。この防湿層９０を構成する各部材は、特に透水性や透湿性が極めて低く、したがってこれが覆う箇所での透水や透湿を良好に防止する、透水機能・透湿機能を有したものである。
【００３６】
本実施形態において防湿層９０は、無機材料からなり、素子基板１０と対向基板２０との間隙外側を覆うように設けられている。そして、この防湿層９０は、図２に示すように、素子基板１０と対向基板２０との間隙にその一部が位置するように形成される無機平坦化層（第１防湿層）９２と、無機平坦化層９２の外側の面と少なくとも一部が接するように形成される無機ガスバリア層（第１防湿層）９１とから形成される。
【００３７】
本実施形態において、無機平坦化層９２は、図１に示すように、対向配置される一対の基板１０，２０の外周全体を覆うように形成されており、無機平坦化層９２は、側面１２とシール材４０との間に位置している。この無機平坦化層９２は、図２に示すように、内側部分は斜面９２ａが形成されて、外側部分は平坦化処理がされている。一方、無機ガスバリア層９１は、無機平坦化層のシール材４０が位置する面とは逆側の面に接するように位置するようになる。すなわち、平坦化された無機平坦化層９２を外方から全体を覆うように形成されている。
【００３８】
無機平坦化層９２は、電気絶縁性を有する物質、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ２等の珪素酸化物やアルミナなどの無機材料が用いられる。この無機平坦化層９２は、斜方蒸着法、又はイオンアシスト法を併用した斜方蒸着法によって形成される。一方、無機ガスバリア層９１は、ＳｉＯ、ＳｉＯ２等の珪素酸化物やアルミナなどの無機材料のほか、アルミニウムやクロム等の金属材料、又はそれらを組み合わせた合金材料で形成させてもよい。無機ガスバリア層９１は、蒸着法、又はイオンアシスト蒸着法によって形成される。
【００３９】
この無機ガスバリア層９１と無機平坦化層９２とは、同じ材料で形成させてもよく、また、異なる材料で形成させてもよいが、この例では、無機ガスバリア層９１の透湿度が無機平坦化層９２の透湿度よりも低くなるように材料は選択される。ここで、透湿度とは、所定の温度及び湿度の条件で、単位時間あたりの単位面積の試験片を通過する水蒸気の量を表すものであり、本実施形態では、感湿センサー法（Ｌｙｓｓｙ法）によって測定される。
【００４０】
感湿センサー法は、湿度センサーが取り付けられた上部チャンバーと飽和水蒸気が放出される下部チャンバーの間に特定の物質を有する試験片を挿入して、単位時間あたりの上部チャンバーの湿度を測定するものである。本実施形態では、厚さ１ｍｍのポリカーボネート基板上に無機平坦化層を２μｍ形成させた基板と、ポリカーボネート基板上に無機平坦化層を１．５μｍ形成させ、その上に、垂直方向から無機ガスバリア層を０．５μｍ形成させた基板とを比較する。
【００４１】
本実施形態では、ポリカーボネート基板≧無機平坦化層付き基板＞無機平坦化層及び無機ガスバリア層付き基板の順で透湿度が高くなるように設定する。なお、透湿度の測定は、感湿センサー法のほか、カップ法、赤外センサー法（Ｍｏｃｏｎ法）等によって測定してもよい。
【００４２】
また、シール材４０と防湿層９０との間には、図２に示すように、空隙領域６０が形成されている。本実施形態では、無機平坦化層９２をシール部材４０と接触しないように斜面９２ａを形成させ、斜面９２ａとシール材４０との間に空隙領域６０が生じるように形成させる。
【００４３】
（製造方法）
次いで、上述した液晶装置１００の製造方法の一例について説明する。図３は、本実施形態に係る液晶装置１００の製造方法における各状態の一例を示す模式断面図である。
【００４４】
先ず、この電極形成工程では、素子基板１０の基板表面上に図示しない半導体層、走査線や信号線等の各種配線を公知の方法で形成してから複数の画素電極を公知の方法で形成し、他方の対向基板２０の基板表面上に遮光膜と共通電極を公知の方法で形成する。次いで、図３（ａ）に示すように、素子基板１０と対向基板２０との間に液晶５０を配置し、素子基板１０と対向基板２０とを、シール材４０を介して貼り合わせる貼合工程を行う。この際、シール材４０を一対の基板１０、２０の側面１２、２２と液晶５０との間に配置するようにシール材４０を基板上に塗布する。
【００４５】
さらに、素子基板１０と対向基板２０との間隙外側を覆うように無機材料からなる防湿層９０を形成させる防湿層形成工程を行う。この防湿層形成工程では、図３（ｂ）に示すように、素子基板１０と対向基板２０との間に少なくとも一部が設けられるように無機材料からなる無機平坦化層９２を形成する（第１防湿層形成工程）。この無機平坦化層９２は、斜方蒸着法、又はイオンアシスト法を併用した斜方蒸着法によって形成する。この際、シール材４０と防湿層９０との間において、その少なくとも一部に空隙領域６０が設けられるように無機平坦化層９２を形成する。そして、一対の基板１０，２０に無機平坦化層９２が形成された後には、無機平坦化層９２の外方部分を平坦化する処理が行われる。
【００４６】
その後、図３（ｃ）に示すように、一対の基板１０，２０に形成された無機平坦化層９２の外側の面と少なくとも一部が接するように無機ガスバリア層９１を形成する。これにより、無機平坦化層９２の全体を覆うように無機ガスバリア層９１が形成する。この無機ガスバリア層９１は、蒸着法、又はイオンアシスト蒸着法によって形成する。このようにして、液晶装置１００が製造される。
【００４７】
（作用・効果）
このような本実施形態によれば、防湿層９０は、平坦化された無機平坦化層９２の面上に、透湿度の低い無機ガスバリア層９１が形成されているので、透湿度が低い無機ガスバリア層にピンホールやクラックが生じることを防止できる。その結果、単一の無機材料で防湿層を形成させるより、高い耐湿性を得ることができ、液晶５０の配向状態の変化を防止して表示不良を抑制することができる。
【００４８】
また、本実施形態では、シール材４０と防湿層９０との間には、空隙領域６０が形成することが好ましい。この場合には、防湿層９０を形成させる際の処理によって熱が生じても、空隙領域６０によって熱の伝導が緩和され、シール部材４０に熱負荷が比較的かかりづらい構成にすることができる。その結果、シール部材からアウトガスや、不揮発性の不純物等が発生し、液晶に混入して液晶に配向不良が生じることをより防止することができる。
【００４９】
また、本実施形態において、一対の基板１０，２０と接する無機平坦化層９２は、少なくとも電気絶縁性を備える材料で形成されているので、基板端面やパネル端子部分で露出した配線での導通不良を防止することができる。
【００５０】
さらに、本実施形態において、無機平坦化層９２は、斜方蒸着法、又はイオンアシスト法を併用した斜方蒸着法によって形成するので、基板外周端面の間隙の奥行きと開口部分の大きさによらず、無機平坦化層９２を外周端面に着実に成膜させることができる。
【００５１】
また、無機ガスバリア層９１は、蒸着法、又はイオンアシスト蒸着法によって形成するので、無機ガスバリア層９１形成時の液晶５０や無機平坦化層９２に及ぼす、熱負荷を軽減することができ、アウトガスや不純物の液晶への溶出による液晶配向の不良現象を防止することができる。すなわち、シール部材４０から発生するアウトガスや不純物が液晶５０に入り込み、シール端から表示領域内へ向けて広がる、シミ、ムラ及びドメイン等の表示不良の発生を抑制することができる。
【００５２】
このように本実施形態に係る液晶装置１００では、高い耐湿性を得ることができ、液晶の配向不良を防止して表示不良を抑制することができた。具体的には、液晶装置１００の耐湿の信頼性を評価する試験を実施した。試験条件としては、温度６０°、湿度９０％の環境下で、各液晶装置１００を１０００時間保存し、保存後の各液晶装置１００から表示される画像を観察することで評価を行った。この場合、液晶装置１００にはシミ、ムラ及びドメイン等の表示不良は生じないことが確認された。
【００５３】
＜Ｂ：第２実施形態＞
第２実施形態に係る液晶装置１００ｂの構成は、図１〜図３を参照して説明した第１実施形態の液晶装置１００ａと同様であるが、第１実施形態の液晶装置１００ａは、一対の基板１０，２０の側面の位置が揃った状態で防湿層９０を形成するのに対して、第２実施形態に係る液晶装置１００ｂは側面の位置がずれた状態で防湿層９０ａを形成する点で相違する。
【００５４】
図４は、本発明の第２実施形態に係る液晶装置の構造の一例を示す模式平面図であり、図５は、同実施形態の液晶装置の防湿層の一例を示す模式断面図である。図４に示すように、本実施形態に係る液晶装置１００ｂは、対向基板２０と比較してサイズが大きい素子基板１０と対向基板２０とが、平面視略矩形枠状のシール材４０を介して貼り合わされている。液晶装置１００のシール材４０には、製造時において素子基板１０と対向基板２０とを貼り合わせた後に液晶を注入するための液晶注入口４１が形成されており、該液晶注入口４１は液晶注入後に封止材４２により封止されている。
【００５５】
そして、本実施形態では、図５に示すように、一対の基板１０，２０の側面がずれた状態において、一対の基板１０，２０の間隙外側を覆うように無機平坦化層９４と無機ガスバリア層９１ａとからなる防湿層９０ａが形成されている。具体的には、無機平坦化層９４は、一対の基板１０，２０の間隙と、素子基板１０の対向基板２０と対向する面の一部とを覆うように形成される。この無機平坦化層９４は、斜方蒸着法、又はイオンアシスト法を併用した斜方蒸着法によって形成する。また、本実施形態においても、無機平坦化層９４の外側部分は、平坦化処理される。
【００５６】
一方、無機ガスバリア層９１ａは、平坦化された無機平坦化層９４を外方から全体を覆うように形成されている。この無機ガスバリア層９１ａは、蒸着法、又はイオンアシスト蒸着法によって形成する。また、本実施形態においても、シール材４０と無機平坦化層９４とを間には、空隙領域６０が形成されている。
【００５７】
このような本実施形態によれば、第１実施形態の液晶装置１００と同様の効果が得られる。さらに、一対の基板１０，２０のサイズが異なる場合であっても、平坦化された無機平坦化層９４の面上に透湿度の低い無機ガスバリア層９１ａを形成させることができるので、ピンホールやクラックが生じることを防止できる。その結果、高い耐湿性を得ることができ、液晶の配向状態の変化を防止して表示不良を抑制することができる。
【００５８】
＜Ｃ：第３実施形態＞
第３実施形態に係る液晶装置１００ｃ，１００ｄは、第１実施形態及び第２実施形態に係る液晶装置１００ａ，１００ｂと同様と同様であるが、第３実施形態に係る液晶装置１００ｃ，１００ｄは、防湿被膜９３をさらに備えることを特徴とする。図６（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第３実施形態に係る液晶装置１００ｃ，１００ｄの構造の一例を示す模式断面図であり、図７は、図６（ａ）に示す液晶装置１００ｃ，１００ｄの構造の一例を示す模式平面図である。
【００５９】
図６及び図７に示すように、液晶装置１００ｃ，１００ｄには、無機ガスバリア層９１，９１ａの表面全体を被覆するこの防湿被膜９３（第３防湿層）が形成されている。防湿被膜９３の材料としては、同一分子内に有機成分と無機成分とが両方存在した有機無機ハイブリッド材料が用いられる。具体的には、ポリジメチルシロキサンやポリシルセスキオキサン等のシロキサン系有機無機ハイブリッド材料が用いられる。
【００６０】
このような本実施形態によれば、第１実施形態及び第２実施形態の液晶装置１００ａ、１００ｂと同様の効果が得られる。さらに、無機ガスバリア層９１，９１ａを覆うように防湿被膜９３が形成されているので、例えば、無機ガスバリア層９１，９１ａにアルミニウム、銀等の耐削性が低い物質を用いた場合であっても、無機ガスバリア層９１を保護し、耐湿性を維持することができる。また、防湿被膜９３は有機無機ハイブリッド材料を用いているので、無機材料のみと比較してより高い耐湿性有することができる。
【００６１】
＜Ｄ：変形例＞
以上の各形態は多様に変形され得る。具体的な変形の態様を以下に例示する。以下の例示から任意に選択された２以上の態様は、相互に矛盾しない範囲内で適宜に併合され得る。
【００６２】
（１）上述した各実施形態において、無機平坦化層９２，９４は、斜方蒸着法で形成させたが、例えば、回転斜方蒸着法によって形成させてもよい。ここで、回転斜方蒸着とは、基台を回転させながら、基板に対して斜め方向から材料を蒸着する方法である。これにより、無機平坦化層９５は、図８に示すように、素子基板１０及び対向基板２０のそれぞれに対して、外部から内部に向かって延びる斜面９５ａ、９５ｂが形成されるので、このような液晶装置１００ｅは、一対の基板１０，２０の間隙に対して厚みを持った膜を形成することができる。なお、この場合であっても、空隙領域６０は形成されるようになっている。
【００６３】
（２）上述した各実施形態において、無機ガスバリア層９１と無機平坦化層９２とは、透湿度の違いで区別したが、同じ物質であれば、緻密度の違いで区別することもできる。この場合、無機ガスバリア層９１の緻密度は、無機平坦化層９２の緻密度を上回るようにする。
【００６４】
（３）上述した各実施形態では、液晶装置を例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、液晶以外にも電気エネルギーによって光学特性が変化する電気光学物質を備えた電気光学装置に適用することができる。例えば、有機ＥＬ（electro-luminescence）素子を備えた発光装置であってもよい。有機ＥＬ素子は、水分によって発光特性が劣化するが、上述した各実施形態で説明した防湿層を用いることにより、表示品質の低下を低減することができる。
【００６５】
＜Ｅ：応用例＞
以上の各形態及び変形例に例示した液晶装置１００（１００ａ〜１００ｅ）は、各種の電子機器に利用され得る。図９から図１１には、液晶装置１００を採用した電子機器の具体的な形態が例示されている。
【００６６】
図９は、液晶装置１００を適用した投射型表示装置（３板式のプロジェクター）４０００の模式図である。投射型表示装置４０００は、相異なる表示色（赤色，緑色，青色）に対応する３個の液晶装置１００（１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ）を含んで構成される。照明光学系４００１は、照明装置（光源）４００２からの出射光のうち赤色成分ｒを液晶装置１００Ｒに供給し、緑色成分ｇを液晶装置１００Ｇに供給し、青色成分ｂを液晶装置１００Ｂに供給する。各液晶装置１００は、照明光学系４００１から供給される各単色光を表示画像に応じて変調する光変調器（ライトバルブ）として機能する。投射光学系４００３は、各液晶装置１００からの出射光を合成して投射面４００４に投射する。
【００６７】
図１０は、液晶装置１００を採用した可搬型のパーソナルコンピューターの斜視図である。パーソナルコンピューター２０００は、各種の画像を表示する液晶装置１００と、電源スイッチ２００１やキーボード２００２が設置された本体部２０１０とを具備する。
【００６８】
図１１は、液晶装置１００を適用した携帯電話機の斜視図である。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２と、各種の画像を表示する液晶装置１００とを備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、液晶装置１００に表示される画面がスクロールされる。
【００６９】
また、本発明の構造を光ピックアップ等の記録・再生装置等の電子機器にも適用することができる。すなわち、本発明の構成を、液晶収差補正素子としてレーザー光の波面をアクティブに制御する液晶素子として用いることで、レーザー光源で光ディスクに記録された情報の再生や、光ディスクへの情報の記録が、外部からの吸湿や水分浸入による液晶素子の不具合によって劣化することを抑制することができるので、精度の高い光ピックアップ装置を提供することができる。
【００７０】
なお、本発明に係る液晶装置が適用される電子機器としては、図９から図１１に例示した機器のほか、携帯情報端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants），デジタルスチルカメラ，テレビ，ビデオカメラ，カーナビゲーション装置，車載用の表示器（インパネ），電子手帳，電子ペーパー，電卓，ワードプロセッサー，ワークステーション，テレビ電話，ＰＯＳ端末，プリンター，スキャナー，複写機，ビデオプレーヤー，タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。
【符号の説明】
【００７１】
１０…素子基板、２０…対向基板、４０…シール材、５０…液晶（電気光学物質）、９０，９０ａ…防湿層、９１，９１ａ…無機ガスバリア層（第１防湿層）、９２，９４，９５…無機平坦化層（第２防湿層）、９３…防湿被膜（第２防湿層）、１００（１００ａ〜１００ｅ）…液晶装置（電気光学装置）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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