(57)【要約】【課題】本発明は、多様なディスプレイ装備に適用される光学基板の間のモアレ（Moire）現象を回避するためのパターン設計方法を提供するためのものである。【解決手段】本発明は、パターン設計領域に多数の単位有効パターン領域を設定し、前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標を形成し、前記単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標を第１方向または第２方向に隣接するランダムポイント座標と連結することを含む。【選択図】図１
2014119764.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン設計領域に多数の単位有効パターン領域を設定し、
前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標を形成し、
前記単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標を第１方向または第２方向に隣接するランダムポイント座標と連結することを特徴とするランダムパターン設計方法。
【請求項２】
前記ランダムポイント座標を形成することは、
ランダム（Random）関数を用いて形成することを特徴とする、請求項１に記載のランダムパターン設計方法。
【請求項３】
前記ランダム関数は以下のようになることを特徴とする、請求項２に記載のランダムパターン設計方法。
ｘ＝（乱数１＊ランダム率＋ａ）＊ピッチ１
ｙ＝（乱数２＊ランダム率＋ｂ）＊ピッチ２
（この際、ｘは、前記ランダムポイント座標のうちの横座標、
ｙは、前記ランダムポイント座標のうちの縦座標、
乱数１及び乱数２は０と１との間の少数点の位の数、
ランダム率は０から１００％、
ａは、前記単位有効パターン領域の幅、
ｂは、前記単位有効パターン領域の高さ。）
【請求項４】
前記ランダムポイント座標を形成することは、
前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標を１つずつ形成することを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載のランダムパターン設計方法。
【請求項５】
前記第１方向または第２方向に隣接するランダムポイント座標と連結することは、
前記単位有効パターン領域に隣接する単位有効パターン領域がｎ個の場合（但し、ｎは自然数である）、
前記単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標と連結される連結線がｎ個に形成することを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載のランダムパターン設計方法。
【請求項６】
前記ランダムポイント座標を形成することは、
前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標を２つずつ形成することを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載のランダムパターン設計方法。
【請求項７】
前記単位有効パターン領域の内に前記ランダムポイント座標は隣接するランダムポイント座標に連結される方向が互いに相異することを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載のランダムパターン設計方法。
【請求項８】
前記第１方向または第２方向に隣接するランダムポイント座標と連結することは、
前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標のうち、第１座標は第１方向に隣接したランダムポイント座標と連結され、
前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標のうち、第１座標は第２方向に隣接したランダムポイント座標と連結されることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載のランダムパターン設計方法。
【請求項９】
前記隣接する単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標の間の連結は、
連結されるランダムポイント座標の間の距離を最短距離に形成する連結構造であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載のランダムパターン設計方法。
【請求項１０】
前記隣接する単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標の間の連結は、
連結されるランダムポイント座標の間をスプライン（spline）関数を適用して連結することを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載のランダムパターン設計方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は多様なディスプレイ装備に適用される光学基板の間のモアレ現象を回避するためのパターン設計方法、ランダムパターン設計装置、及びランダムパターン設計方法に従うランダムパターンを含む光学基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、モアレ（Moire）パターンは独立した２つの周期的なパターンが一定角度で重畳する場合に形成される自然的な干渉現象（interference phenomenon）である。
【０００３】
モアレパターンは、波形態の曲線（wave）、小波（ripple）、スクリーンの表示映像と重畳するように見える小さい束（wisp）形態の強度変動などであって、全てのカラーＣＲＴ  ＴＶでは必ず表れるようになる。
【０００４】
ＣＲＴで蛍光物質（phosphor）が塗布された（doped）シャドーマスク（Shadow mask）の上に電子銃から電子ビームが入射されて燐光（phosphorence）が発生する。前記シャドーマスクで前記燐光が発生する部位の面積と前記電子ビームの入射面積とが一致することによって、シャドーマスクの規則的なパターンに前記電子ビームによる燐光パターンが重畳した形態となる。ＣＲＴでは前記２つの規則的なパターンの存在によりモアレパターンが形成される。したがって、ＣＲＴにモアレパターンが表れないということはＣＲＴの電子銃から放出された電子ビームが蛍光物質（phosphor）の中心に正確に入射されないことを意味する。この場合に、ＣＲＴ映像はぼやけて（fuzzy）見える。
【０００５】
この問題の正確な発生原因は、電子ビームの入射面積がビデオボードにより生成される画素（Pixel）のサイズと同一であるが、前記画素のサイズが蛍光物質のサイズより小さいためである。したがって、前記蛍光物質のサイズを前記ビデオボードにより生成される前記画素のサイズと同一にすることによって前記の問題が解消できる。
【０００６】
一方、液晶表示装置（ＬＣＤ）では、各液晶セル（Liquid Crystal Cell）自体が１つの画素として動作する。したがって、液晶表示装置の自体によるモアレパターンは表れない。
【０００７】
しかしながら、２枚のレンチキュラー板を用いて完全時差方式を具現する３次元映像表示装置の場合、平板表示装置、即ち液晶表示装置を映像表示パネルとして用いて、その上にマイクロレンズ配列板、または２枚のレンチキュラー板を重畳させるようになる。したがって、マイクロレンズの間のピッチ（pitch）または各レンチキュラー板を構成するレンズが接触する領域の間のピッチが前記液晶表示装置の画素ピッチと正確に一致しない場合、モアレパターンが発生する。
【０００８】
特に、前記マイクロレンズ配列板やレンチキュラー板は厚さを有している。したがって、厚さ効果により視聴距離が変わったり、視聴角度が変わったりすることがあるが、この場合にはマイクロレンズの間のピッチ（pitch）または各レンチキュラー板を構成するレンズが接触する領域の間のピッチが前記液晶表示装置の画素ピッチと正確に一致してもモアレパターンは生じるようになる。
【０００９】
図１は、光学シートが適用されるデバイス、タッチパネル、ディスプレイなどに使われる特定のパターンを有する２枚の光学基板の重畳及び重ねによるモアレ（Moire）を回避するための操作を示す概念図である。
【００１０】
即ち、一般的な格子パターンを有する下部光学基板Ｂと更に他の格子パターンを有する上部光学基板Ａは、適用される装備で必然的にオーバーラップされる構造で積層されてモアレ現象が発生するようになる。既存の技術においてはこのようなモアレを回避するために、特定チルト（tilt）角度（θ１、θ２）だけ各基板を回転して、モアレを最小化する地点で装備を配置するようになる。
【００１１】
図２は、ディスプレイＤの上部に配置される格子パターンを有する光学基板Ｃの積層構造でもモアレが発生するようになるところ、これを回避するために、やはり特定回避角度（θ３）だけ回転して装備を完成するようになる。
【００１２】
しかしながら、このような方式は格子パターン間の特定角度でモアレ回避区間を探さなければならず、その区間が非常に狭くて現実的に適用することが非常に困難であり、液晶ディスプレイ装置のようなディスプレイの場合、セルの種類（ピクセルピッチ）によって上部格子パターンのデザインを各々設計しなければならないところ、汎用的な使用が不可能であり、モアレパターンを完全に除去し難いという短所があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】韓国特許公開公報第１０−２００５−００１３０２０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、前述した問題を解決するために案出したものであって、本発明の目的は、規則的なパターンの重畳により生成されるモアレ現象をランダムパターン設計方法により設計されるパターンデザインにより完壁に除去できることは勿論、回避角度及びピッチに関わらず、モアレを回避することができるようにするパターン設計方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前述した課題を解決するための手段として、本発明は、パターン設計領域に多数の単位有効パターン領域を設定し、前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標を形成し、前記単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標を第１方向または第２方向に隣接するランダムポイント座標と連結することを含むランダムパターン設計方法を提供できるようにする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、規則的なパターンの重畳により生成されるモアレ現象を除去することができるようにランダムパターン設計方法により設計して、回避角度及びピッチに関わらずモアレを回避することができるようにする効果がある。
【００１７】
延いては、回避のために特定チルト（tilt）角度とは関係のないパターン設計が可能であるところ、下部及び下部のピッチに関わらず、格子、円、多角形など、多様なパターンの適用が可能であり、モアレの発生を完全に除去でき、多様な光学装備に適用されるシート及び基板を具現することができる効果もある。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】光学シートが適用されるデバイス、タッチパネル、ディスプレイなどに使われる特定パターンを有する２枚の光学基板の重複及び重ねによるモアレ（Moire）を回避するための操作を示す概念図である。
【図２】ディスプレイＤの上部に配置される格子パターンを有する光学基板Ｃの積層構造でもモアレが発生回避のための方法を示す概念図である。
【図３】本発明に従うランダムパターン設計方法を説明するための順序図及び構成ブロック図を示すものである。
【図４】本発明に従うランダムパターン設計方法を説明するための順序図及び構成ブロック図を示すものである。
【図５】図２及び図３で前述した本発明に従うランダムパターン設計方法を具現する概念図を示すものである。
【図６】図２及び図３で前述した本発明に従うランダムパターン設計方法を具現する概念図を示すものである。
【図７】図２及び図３で前述した本発明に従うランダムパターン設計方法を具現する概念図を示すものである。
【図８】図２及び図３で前述した本発明に従うランダムパターン設計方法を具現する概念図を示すものである。
【図９】図２及び図３で前述した本発明に従うランダムパターン設計方法を具現する概念図を示すものである。
【図１０】図２及び図３で前述した本発明に従うランダムパターン設計方法を具現する概念図を示すものである。
【図１１】図２及び図３で前述した本発明に従うランダムパターン設計方法を具現する概念図を示すものである。
【図１２】図１で前述した既存の格子パターンを有する光学基板（＃１、＃２、＃３）間のモアレ水準と回避角度と本発明に従うランダムパターン（random pattern）を有する光学基板でのモアレ水準及び回避角度を比較したものである。
【図１３】ＴＦＴ−ＬＣＤのためのパターニングされた光学基板を適用する場合のパターンのモアレ検証テストを示すものである。
【図１４】ＴＦＴ−ＬＣＤのためのパターニングされた光学基板を適用する場合のパターンのモアレ検証テストを示すものである。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、添付した図面を参照して本発明に従う構成及び作用を具体的に説明する。添付図面を参照して説明するに当たって、図面符号に関わらず同一の構成要素は同一の参照符号を与えて、これに対する重複説明は省略する。第１、第２などの用語は多様な構成要素を説明することに使用できるが、前記構成要素は前記用語により限定されてはならない。前記用語は１つの構成要素を他の構成要素から区別する目的のみに使われる。
【００２０】
図３及び図４は、本発明に従うランダムパターン設計方法を説明するための順序図及び構成ブロック図を示すものである。
【００２１】
図示された図面を参照すると、本発明に従うランダムパターン設計方法はパターン設計領域に多数の単位有効パターン領域を設定し、前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標を形成し、前記単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標を第１方向または第２方向に隣接するランダムポイント座標と連結する過程を含んで構成できる。
【００２２】
前述した図３に従う本発明に従うランダムパターン設計方法は、ソフトウェアで構成されるプログラムにより具現されることができ、このために具現されるプログラムは図４に図示されたように、パターンを形成するパターン設計領域の内に多数の単位有効パターン領域を形成する単位領域設定部１１０と、前記単位有効パターン領域の内に少なくとも１以上のランダムポイント座標を形成するランダム座標形成部１２０、及び隣接する前記ランダムポイント座標間を特定方向に連結する連結線を形成するランダム座標連結部１３０を含んで構成できる。このような本発明に従う多様な構成に使われる「〜部」という用語は、ソフトウェアまたはＦＰＧＡまたはＡＳＩＣのようなハードウェア構成要素を意味し、「〜部」はある役割を遂行する。しかしながら、「〜部」はソフトウェアまたはハードウェアに限定される意味ではない。「〜部」はアドレッシングすることができる格納媒体にあるように構成されることもでき、１つまたはその以上のプロセッサーを再生させるように構成されることもできる。したがって、一例として「〜部」はソフトウェア構成要素、オブジェクト指向ソフトウェア構成要素、クラス構成要素、及びタスク構成要素のような構成要素と、プロセス、関数、属性、プロシージャー、サブルーチン、プログラムコードのセグメント、ドライバ、ファームウエア、マイクロコード、回路、データ、データベース、データ構造、テーブル、アレイ、及び変数を含む。構成要素と「〜部」の内で提供される機能は、より小さい数の構成要素及び「〜部」に結合されるか、追加的な構成要素と「〜部」にさらに分離できるだけでなく、構成要素及び「〜部」はデバイスまたは保安マルチメディアカードの内の１つまたはその以上のＣＰＵを再生させるように具現されることもできる。
【００２３】
図５から図７は、図２及び図３で前述した本発明に従うランダムパターン設計方法を具現する概念図を示すものである。
【００２４】
図１の順序図及び図５から図７を参照して、本発明に従うランダムパターン設計方法を順次に説明する。
【００２５】
本発明に従うランダムパターン設計方法は、図５に示すように、まず、パターン設計領域（１）に多数の単位有効パターン領域（ａ、ｂ）を設定する。前記パターン設計領域（１）とは、パターン設計を必要とする製品（基板、シートなど）に要求される規格を意味し、これは、場合によってプログラムに入力される規格情報により決定されることができ、または外部感知センサーによって入力される情報値に基づいて実際に具現される製品の規格を具現することもできる。
【００２６】
例えば、パターン設計領域（１）が設定し、前記パターン設計領域（１）に多数の単位有効パターン領域（ａ、ｂ）を設定するようになる。前記単位有効パターン領域（ａ、ｂ）は、図５に示すように、同一な規格を有する仮想の空間に区画され、本発明では前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標（１０、２０）を形成するようになる。図５に提示された実施形態は、１つの単位有効パターン領域の内に１つのランダムポイント座標（１０、２０）を形成することを一例にして図示したものである。このようなランダムポイント座標はランダム（random）関数を用いて形成することができる。
【００２７】
一例に、１つのランダムポイント座標をなす横座標ｘ及び縦座標ｙを以下のようなランダム関数を用いて生成することができる。
ｘ＝（乱数１＊ランダム率＋ａ）＊ピッチ１
ｙ＝（乱数２＊ランダム率＋ｂ）＊ピッチ２
【００２８】
この際、乱数１及び乱数２は０と１との間の少数点の位の数であり、乱数１及び乱数２は同一でない数である。一例に、乱数１が０．００１の時、乱数２は０．９９７６でありうる。少数点以下の数は多様でありうる。
【００２９】
ランダム率は０から１００％に調整可能である。
【００３０】
ａ及びｂは各単位有効パターン領域の位置を表す。一例に、図５のような単位有効パターン領域が存在する時、各単位有効パターン領域（ａ、ｂ）の位置は、次の通り表現できる。
【表１】
2014119764.tif 000003
【００３１】
ピッチ１及びピッチ２は、各単位有効パターン領域の間の距離を表す。即ち、ピッチ１は一単位有効パターン領域の幅であり、ピッチ２は一単位有効パターン領域の高さである。
【００３２】
以後、前記単位有効パターン領域（ａ、ｂ）に各々形成されるランダムポイント座標の各々を第１方向または第２方向に隣接するランダムポイント座標と連結することによって、多角形状の線形パターンを設計することができるようになる。即ち、図５で１つのランダムポイント座標（２０）を基準に見ると、隣接する他のランダムポイント座標（１０、３０）と第１方向に連結する線（ｘ１）、そして第２方向に連結する線（ｙ１、ｙ２）を通じて各隣接ランダムポイント座標が連結される。
【００３３】
この場合、第１方向または第２方向に隣接するランダムポイント座標と連結することは、前記単位有効パターン領域に隣接する単位有効パターン領域がｎ個の場合、前記単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標と連結される連結線がｎ個に形成される（但し、ｎは自然数である）。例えば、図５の（ａ）のランダムポイント座標（２０）が含まれている単位有効パターン領域と隣接する単位有効パターン領域が３個であるところ、ランダムポイント座標（２０）では３個の連結線が形成される。勿論、この場合には単位有効パターン領域の内に１個のランダムポイント座標が形成された場合に限る。図５の（ｂ）は、このように設計された最終設計デザインのイメージを図示したものである。
【００３４】
一方、図５を参照すると、一ランダムポイント座標と隣接した他のランダムポイント座標との間の距離（Ｄ）、即ち一交差点と他交差点との間の距離（Ｄ）は２０μｍから１mmでありうる。前記距離（Ｄ）が２０μｍより小さい場合、ディスプレイを見るユーザが一交差点と他交差点とを区分できなくて１つ（の交差点）と見るようになって連結線が重なって見えることがある。したがって、視認性だけでなく量産性も低下することがある。また、前記距離（Ｄ）が１mmより大きい場合、抵抗値が大きくなってセンシング能力が低下することがある。また、前記距離（Ｄ）が１mmより大きい場合、一般人の指がタッチするチップ（tip）より広くなって静電容量方式の場合、手によるタッチを認識できないことがある。好ましくは、前記距離（Ｄ）は５０μｍから６００μｍでありうる。
【００３５】
図６は、図５の実施形態と異なる実施形態を図示したものである。
【００３６】
図５と図６の実施形態の差異点は、１つの単位有効パターン領域に２つのランダムポイント座標を形成することと、同一の前記単位有効パターン領域（ａ、ｂ）の内に前記ランダムポイント座標（１０、１１）は隣接するランダムポイント座標に連結される方向が互いに相異するように連結されるように具現することができる。即ち、前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標のうち、第１座標（１０）は第１方向（Ｙ軸方向）に隣接したランダムポイント座標と連結され、前記単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標のうち、第２座標（１１）は第２方向（Ｘ軸方向）に隣接したランダムポイント座標と連結されるようにする。勿論、この場合、各ランダムポイント座標は各々隣接する単位有効パターン領域の内の２つのランダムポイント座標のうち、いずれか１つのみと連結できる。図６の（ｂ）は、このように設計された最終設計デザインのイメージを図示したものである。
【００３７】
図５及び図６の実施形態では、隣接する単位有効パターン領域の内のランダムポイント座標の間の連結は、連結されるランダムポイント座標の間の距離を最短距離に形成する連結構造で連結されて直線距離を具現するようにすることによって、最終設計されるパターンの形状が多角形（polygon）形状に具現されるようにすることができる。
【００３８】
図７は、本発明に従うランダムパターン設計方法の他の実施形態を図示したものである。
【００３９】
パターン設計領域の内に単位有効パターン領域を分画し、以後、各単位有効パターン領域の内に１つのランダムポイント座標を設定することは、図５の実施形態と同一である。
【００４０】
しかしながら、各単位有効パターン領域区間の内のランダムポイント座標の間の連結をスプライン（spline）関数を用いて連結し、この場合、４個の辺を有する単一閉曲線を具現するようになる。この場合、スプライン関数は種類に関わらず、全ての関数（例えば、B-spline、quadratic spline、cubic splineなど）が適用可能である。
【００４１】
図５から図７では、単位有効パターン領域の内にランダムポイント座標をランダム関数で１つ、２つに形成し、各座標を連結する方法により具現されるランダムパターン具現方法を例示したが、この場合、座標の個数と連結はこれに限定されず、多数の座標を単位有効パターン領域に各々形成し、各々の座標の間の連結を前述した方式により具現する場合、本発明に従う直線型連結構造、または曲線型連結構造を有するランダムパターンの設計が可能である。
【００４２】
一方、図８及び図９を参照すると、他の実施形態では単位有効パターン領域が三角形状でありうる。このような単位有効パターン領域は三角形状及び逆三角形状が互いに噛み合うように配置できる。この際、図８に示すように、各々の座標が直線型に連結できる。また、これとは異なり、図９に示すように、各々の座標が曲線型に連結できる。
【００４３】
次に、図１０に示すように、単位有効パターン領域は六角形状でありうる。この際、各々の座標が連結されて多数の三角形を含むキュービック（cubic）形状をなすことができる。
【００４４】
次に、図１１に示すように、単位有効パターン領域は多様な図形の形状が混合できる。即ち、単位有効パターン領域は三角形状及び六角形状などが混合された形状でありうる。図面には三角形状及び六角形状が混合されたものと図示したが、実施形態はこれに限定されるものではなく、２つ以上の多様な図形が混合できる。
【００４５】
図１２は、図１で前述した既存の格子パターンを有する光学基板（＃１、＃２、＃３）の間のモアレ水準と回避角度と本発明に従うランダムパターン（random pattern）を有する光学基板でのモアレ水準及び回避角度を比較したものである。各パターンの線幅は３μｍに同一であり、モアレ水準は［１＞２＞３＞４＞５］で、「１」は一般ユーザが強く視認する程度、「２」は一般ユーザが弱く視認する程度、「３」は一般消費者は感じることができないが、専門家が認知する程度、「５」は専門家も認知できない程度の水準を意味するものであって、モアレの強度を表示する基準を数値化したものである（本実施形態では線幅を３μｍに限定したが、多様な線幅に適用可能であることは勿論である）。
【００４６】
提示されたように、３個の製品タブレット（tablet）、ノートブック（NBPC）、モニタの３個の製品において、既存の格子パターンをメッシュピッチ２００μｍ、２５０μｍ、３００μｍに各々形成する場合に、モアレ水準は３．２〜４．７まで多様に表れて、このようなモアレ水準を得るためには回避角度を反映して得られた結果である。例えば、モニタの場合、各々４０゜、４５゜、２５゜の回避角度を反映した場合に、各々２．８、４．６、４．７のモアレ水準を得ることができる。
【００４７】
一方、同一の条件で本発明に従うランダムパターンを有する光学基板（＃４、＃５、＃６）を配置し、ランダムパターンの形状は不規則な多角形（polygon）、四角形、スプライン曲線形態の構造を適用したものをタブレット（tablet）、ノートブック（NBPC）、モニタの３個の製品に適用してモアレ水準を測定した結果、全区間で５．０で、専門家も認知することができない水準にモアレが回避されることを確認することができる。特に、本ランダムパターンを有する光学基板の間では回避角度の反映を必要とせず、回避角度とは関わらず全区間で同一な水準のモアレ回避を具現することができるようになることを確認することができる。
【００４８】
図１３及び図１４は、ＴＦＴ−ＬＣＤのためのパターニングされた光学基板を適用する場合、パターンのモアレ検証テストを図示したものである。各々テスト項目を図７及び図８のように同一の線幅の格子パターンとランダムパターンを適用した場合に、テスト項目は次の通りである。
【００４９】
１）full white−ピクセルパターンでフルホワイト（full white）条件で全てのピクセルをオン（on）させたものであり、これはＲＧＢピクセル間の線幅によるモアレを検証するための目的である。
２）Super Pixel−ピクセルパターンで対角線方向のピクセルをオン（on）させた後にテストしたものであり、これは対角線方向の線幅増加に従うモアレを検証するための目的である。
３）Two Pixel−ピクセルパターンで縦方向２列及び対角線方向のピクセルをオン（on）してテストしたものであり、これは縦幅増加した対角方向のモアレ検証の目的である。
４）Horizontal Line−水平方向にピクセルパターンはオン／オフした状態で順次に配置したものであり、これは横方向線幅増加時のモアレの変化を検証するための目的である。
５）Vertical Line−ピクセルパターンで垂直方向にオン／オフパターンを配置したものであり、これは縦方向線幅増加時のモアレの変化を検証するための目的である。
６）Gradient Horizontal−Ｒ／Ｇ／Ｂピクセルをオン／オフして色相別のピッチ変更に従うモアレを検証するための目的である。
【００５０】
以上のテスト項目に対する結果は、図１０の通りである。
【００５１】
タブレット（tablet）、ノートブック（NBPC）、モニタの３個の製品に適用される光学基板に適用されるＣＧＦパターンは、図７のようにピッチ格子パターンをメッシュピッチ２００μｍ、２５０μｍ、３００μｍに各々形成する場合に、モアレ水準は３．２〜４．７まで多様に表れて、このようなモアレ水準を得るためには回避角度が、モニタの場合、各々４０゜、４５゜、２５゜の回避角度を、タブレットは２０゜、２０゜、２０゜、ノートブック（NBPC）の場合は４０゜、４５゜、２５゜の回避角度を反映した場合に提示されたモアレ水準が得られることを確認することができる。
【００５２】
一方、＃４、＃５、＃６の本発明に従うランダムパターンの場合、回避角度とは関わらず、モアレ回避水準が「５」に均一に表れることを確認することができる。
【００５３】
したがって、本発明に従うランダムパターン設計方法によれば、回避のために特定チルト（tilt）角度とは関係のないパターン設計が可能であるところ、下部及び下部のピッチに関わらず、格子、円、多角形など、多様なパターンの適用が可能であり、モアレの発生を完全に除去するところ、多様な光学装備に適用されるシート及び基板を具現できるようになる。
【００５４】
このようなパターン設計方法は、前述したように、パターン設計後、パターンラインに従う伝導性物質を光学基板の表面に形成して伝導性物質パターンを有する光学基板で具現することができる（例えば、透明シートの表面に形成される導電パターン、透明基板の表面にランダムパターン設計に従う陰刻の溝を形成して導電物質を充填するか、スパッタリングして陽刻のパターンを形成するなど、多様なパターン具現工程を適用）。
【００５５】
このような光学基板は、タッチパネルに適用される感知電極センサーのパターンや多様な光学シート、ディスプレイに適用されるパターンを必要とする光学基板に汎用的に適用できるようになる。
【００５６】
以上、実施形態に説明された特徴、構造、効果などは、本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれ、必ず１つの実施形態のみに限定されるものではない。延いては、各実施形態で例示された特徴、構造、効果などは、実施形態が属する分野の通常の知識を有する者により他の実施形態に対しても組合または変形されて実施可能である。したがって、このような組合と変形に関連した内容は本発明の範囲に含まれることと解釈されるべきである。
【００５７】
以上、本発明を好ましい実施形態をもとに説明したが、これは単なる例示であり、本発明を限定するものでなく、本発明が属する分野の通常の知識を有する者であれば、本発明の本質的な特性を逸脱しない範囲内で、以上に例示していない多様な変形及び応用が可能であることが分かる。例えば、実施形態に具体的に表れた各構成要素は変形して実施することができる。そして、このような変形及び応用にかかわる差異点も、特許請求の範囲で規定する本発明の範囲に含まれるものと解釈されるべきである。
【符号の説明】
【００５８】
１１０    単位領域設定部
１２０    ランダム座標形成部
１３０    ランダム座標連結部
【図１】
2014119764.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2014119764.tif 000008
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2014119764.tif 000012
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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