(57)【要約】【課題】本発明は、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、輝度ムラの発生を防止することができ、良好な輝度での表示を行うことができるカラーフィルタを効率よく製造することができるカラーフィルタの製造方法等を提供することを主目的とする。【解決手段】透明基板、開口部を有する低反射層、上記開口部に形成された着色層、ならびに上記低反射層および上記着色層上の全面に形成された補助電極層を備えるカラーフィルタ形成用基板を準備し、上記補助電極層上の全面に導電性感光性樹脂層を形成する導電性感光性樹脂層形成工程と、上記導電性感光性樹脂層を露光した後、現像することにより、導電性隔壁を形成する導電性隔壁形成工程と、上記導電性隔壁が形成された上記補助電極層の露出部分をエッチングするエッチング工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】図２
2014179226.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、前記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、前記透明基板上の前記低反射層の前記開口部に形成された着色層、ならびに前記低反射層および前記着色層上の全面に形成された補助電極層を備えるカラーフィルタ形成用基板を準備し、前記補助電極層上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層を形成する導電性感光性樹脂層形成工程と、
前記導電性感光性樹脂層を露光した後、現像することにより、前記低反射層と平面視上重なるように形成され、前記着色層と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁を形成する導電性隔壁形成工程と、
前記導電性隔壁が形成された前記補助電極層の露出部分をエッチングするエッチング工程と、
を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
透明基板、前記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、前記透明基板上の前記低反射層の前記開口部に形成された着色層、ならびに前記低反射層および前記着色層上の全面に形成された補助電極層を備えるカラーフィルタ形成用基板を準備し、前記補助電極層上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層を形成する導電性感光性樹脂層形成工程、
前記導電性感光性樹脂層を露光した後、現像することにより、前記低反射層と平面視上重なるように形成され、前記着色層と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁を形成する導電性隔壁形成工程、および
前記導電性隔壁が形成された前記補助電極層の露出部分をエッチングするエッチング工程、を有するカラーフィルタの形成方法により、カラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、
基板、ならびに、前記基板上に形成された下面電極層、前記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層、および前記有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上面透明電極層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を備える有機エレクトロルミネッセンス素子側基板を準備し、
前記カラーフィルタの前記導電性隔壁側表面と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子側基板の前記有機エレクトロルミネッセンス素子側表面とを対向させ、
前記導電性隔壁と前記上面透明電極層とを導通するように接触させて配置する組み立て工程と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項３】
透明基板と、
前記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層と、
前記透明基板上の前記低反射層の前記開口部に形成された着色層と、
前記低反射層上に形成された補助電極層と、
前記補助電極層上に形成され導電性感光性樹脂で構成される導電性隔壁と
を備えることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項４】
透明基板、透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、透明基板上の低反射層の開口部に形成された着色層、低反射層上に形成された補助電極層、および補助電極層上に形成され導電性感光性樹脂で構成される導電性隔壁とを備えるカラーフィルタと、
基板、ならびに、前記基板上に形成された下面電極層、前記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層、および前記有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上面透明電極層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を備える有機エレクトロルミネッセンス素子側基板とを有し、
前記カラーフィルタの前記導電性隔壁側表面と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子側基板の前記有機エレクトロルミネッセンス素子側表面とが対向するように配置され、
前記導電性隔壁と前記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタを効率よく製造することができるカラーフィルタの製造方法、これを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、カラーフィルタ、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと略す。）表示装置は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および視野角が大きいことなどの利点が注目されている。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置は、主として車載ナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラなどの数インチ程度の小さな画面用として実用化されてきたが、近時、薄型テレビに代表されるように例えば２０インチ以上の大画面化の開発が要望されるようになってきている。
【０００４】
しかしながら、有機ＥＬ表示装置を例えば２０インチ以上の大画面とする場合、画面の外周部と中央部では各画素に駆動電流を供給するための配線長さが極端に異なってくる。そのため、画面の中央部では、画面の外周部と比較して電圧降下の度合いが大きく、輝度ムラが発生してしまうという不都合が生じる（例えば、特許文献１〜４）。大画面化を図れば図るほどこの傾向は顕著となる。特に、駆動電流を供給する配線は発光層を含む有機ＥＬ層の上に形成されたＩＴＯ等の透明電極層を経て導通され、このＩＴＯは例えば金属Ｃｕなどと比べて抵抗が大きく、このためＩＴＯの電圧降下の影響が大きい。
【０００５】
なお、有機ＥＬ表示装置の駆動方式としては、パッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがあるが、前者は、構造が単純であるものの、大型化かつ高精細の表示装置の実現が難しいなどの問題があり、大型化を図るためには、後者のアクティブマトリクス方式の開発が盛んに行なわれている。アクティブマトリクス方式では、画素ごとに配した有機ＥＬ素子に流れる電流を、有機ＥＬ素子ごとに設けた駆動回路内のＴＦＴ（Thin 
Film Transistor）によって制御するようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４４８９４７２号公報
【特許文献２】特許第４３６７３４６号公報
【特許文献３】特開２００９−２６８２８号公報
【特許文献４】特開２０１１−９６６８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、上記実情に鑑みて鋭意研究を行った結果、上述した輝度ムラを防止することができる有機ＥＬ表示装置として、図１２に例示する構成を有する有機ＥＬ表示装置２００を見出した。
すなわち、図１２に例示する有機ＥＬ表示装置２００は、透明基板２１、透明基板２１上に形成され開口部を有する遮光部等の低反射層２２、低反射層２２の開口部に形成された着色層２３（図１２では、赤色着色層２３Ｒ、緑色着色層２３Ｇ、青色着色層２３Ｂ、白色着色層２３Ｗ）、低反射層２２および着色層２３上に必要に応じて形成されるオーバーコート層２６、低反射層２２上に形成された金属電極層２４、金属電極層２４上にパターン状に形成された柱状構造体２５、ならびに金属電極層２４および柱状構造体２５を覆うように全面に形成された透明電極層２７を備えるカラーフィルタ２０と、基板７１、ならびに、下面電極層８１、有機ＥＬ層８３、および上面透明電極層８５を有する有機ＥＬ素子８０を備える有機ＥＬ素子側基板７０とを有し、カラーフィルタ２０の透明電極層２７側表面と、有機ＥＬ素子側基板７０の有機ＥＬ素子８０側表面とを対向させ、透明電極層２７と上面透明電極層８５とが導通するように接触しているものである。このような構成を有することにより、有機ＥＬ素子側基板７０からの電流を透明電極層２７および金属電極層２４を介してカラーフィルタ２０側に導いて逃すことができることから、有機ＥＬ表示装置２００の輝度ムラを防止することができる。
なお、図１２において説明していない符号については、後述する。また、図１３（ａ）は、図１２におけるカラーフィルタ２０の概略平面図であり、図１３（ｂ）は図１３（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。また、図１３（ａ）においては、オーバーコート層および透明電極層を省略して示している。
【０００８】
しかしながら、上述の有機ＥＬ表示装置に用いられる図１３（ａ）、（ｂ）に例示するカラーフィルタ２０の製造においては、その工程数が多く時間およびコストがかかることが懸念される。また、近年、有機ＥＬ表示装置においては、高輝度での表示が求められているところ、上述のカラーフィルタはその全面に透明電極層を形成する必要があるため、カラーフィルタの透過率が低下し、所望の輝度が得られないことが懸念される。
【０００９】
そこで、本発明者等はさらに鋭意研究した結果、上述した柱状構造体および透明電極層の積層体に代わる構成として、導電性感光性樹脂で構成される導電性隔壁を見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明は、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、輝度ムラの発生を防止することができ、良好な輝度での表示を行うことができるカラーフィルタを効率よく製造することができるカラーフィルタの製造方法、これを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法、カラーフィルタ、および有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層、ならびに上記低反射層および上記着色層上の全面に形成された補助電極層を備えるカラーフィルタ形成用基板を準備し、上記補助電極層上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層を形成する導電性感光性樹脂層形成工程と、上記導電性感光性樹脂層を露光した後、現像することにより、上記低反射層と平面視上重なるように形成され、上記着色層と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁を形成する導電性隔壁形成工程と、上記導電性隔壁が形成された上記補助電極層の露出部分をエッチングするエッチング工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１１】
本発明によれば、上記導電性隔壁工程を有することにより、補助電極層と導通することができる導電性隔壁を形成することができ、両者を電気的に接続させるためにカラーフィルタ上の全面に透明電極層等を形成しなくてもよくなるため、良好な透過率を有するカラーフィルタをより少ない製造工程数で製造することができる。
また、本発明によれば、上記エッチング工程を有することにより、上記導電性隔壁を補助電極層をエッチングする際のレジストとして用いることができるため、別途、補助電極層をエッチングするためのレジストを形成し、エッチング後に上記レジストを剥離する工程を行わなくてもよくなり、製造工程数を少なくすることができる。
よって、本発明によれば、上記導電性隔壁工程およびエッチング工程を有することにより、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、輝度ムラの発生を防止することができ、良好な輝度での表示を行うことができるカラーフィルタを効率よく製造することができる。
【００１２】
本発明は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層、ならびに上記低反射層および上記着色層上の全面に形成された補助電極層を備えるカラーフィルタ形成用基板を準備し、上記補助電極層上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層を形成する導電性感光性樹脂層形成工程、上記導電性感光性樹脂層を露光した後、現像することにより、上記低反射層と平面視上重なるように形成され、上記着色層と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁を形成する導電性隔壁形成工程、および上記導電性隔壁が形成された上記補助電極層の露出部分をエッチングするエッチング工程、を有するカラーフィルタの形成方法により、カラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板を準備し、上記カラーフィルタの上記導電性隔壁側表面と、上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子側表面とを対向させ、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とを導通するように接触させて配置する組み立て工程と、を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【００１３】
本発明によれば、上記カラーフィルタ形成工程を有することにより、輝度ムラの発生を防止することができ、良好な輝度での表示を行うことができる有機ＥＬ表示装置を効率よく製造することが可能となる。
【００１４】
本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層と、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層と、上記低反射層上に形成された補助電極層と、上記補助電極層上に形成され導電性感光性樹脂で構成される導電性隔壁とを備えることを特徴とするカラーフィルタを提供する。
【００１５】
本発明によれば、上記導電性隔壁を備えることにより、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、上記導電性隔壁と有機ＥＬ素子側基板の上面透明電極層とを導通するように接触させてカラーフィルタを配置することができる。そのため、有機ＥＬ表示装置において、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることにより、有機ＥＬ素子側基板からの電流を、導電性隔壁および補助電極層を介してカラーフィルタ側に逃すことができることから、電圧降下による輝度ムラの発生を防止することができる。
また、本発明によれば、上記導電性隔壁を備えることにより、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、有機ＥＬ表示装置の上面透明電極層とカラーフィルタの補助電極層とを導通させて接触させるために、補助電極層上に透明電極層を形成しなくてもよいため、良好な輝度での表示を可能とし、また、生産性の高いカラーフィルタとすることができる。
【００１６】
本発明は、透明基板、透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、透明基板上の低反射層の開口部に形成された着色層、低反射層上に形成された補助電極層、および補助電極層上に形成され導電性感光性樹脂で構成される導電性隔壁とを備えるカラーフィルタと、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板とを有し、上記カラーフィルタの上記導電性隔壁側表面と、上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子側表面とが対向するように配置され、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供する。
【００１７】
本発明によれば、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることにより、有機ＥＬ素子側基板からの電流を、導電性隔壁および補助電極層を介してカラーフィルタ側に逃すことができることから、電圧降下による輝度ムラの発生を防止することができる有機ＥＬ表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、導電性隔壁を備えるカラーフィルタを有することにより、有機ＥＬ表示装置の上面透明電極層とカラーフィルタの補助電極層とを導通させて接触させるために、補助電極層上に透明電極層を形成しなくてもよいため、良好な輝度で表示を行うことができ、生産性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、輝度ムラの発生を防止することができ、良好な輝度での表示を行うことができるカラーフィルタを効率よく製造することができるといった作用効果を奏する。
また、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、輝度ムラの発生を防止することができる有機ＥＬ表示装置を効率よく製造することができるといった作用効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図２】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
【図３】本発明のカラーフィルタの一例を示す概略図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図５】本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明のカラーフィルタの製造方法の他の例を示す工程図である。
【図７】本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図８】本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図９】本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図１０】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図１１】本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図１２】従来の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図１３】従来のカラーフィルタの一例を示す概略図である。
【図１４】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図１５】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ表示装置の製造方法、カラーフィルタ、および有機ＥＬ表示装置について説明する。
【００２１】
Ａ．カラーフィルタの製造方法
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層、ならびに上記低反射層および上記着色層上の全面に形成された補助電極層を備えるカラーフィルタ形成用基板を準備し、上記補助電極層上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層を形成する導電性感光性樹脂層形成工程と、上記導電性感光性樹脂層を露光した後、現像することにより、上記低反射層と平面視上重なるように形成され、上記着色層と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁を形成する導電性隔壁形成工程と、上記導電性隔壁が形成された上記補助電極層の露出部分をエッチングするエッチング工程と、を有することを特徴とする製造方法である。
【００２２】
本発明のカラーフィルタの製造方法について図を用いて説明する。
図１は、本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示すフローチャートであり、図２（ａ）〜（ｅ）は、本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。本発明のカラーフィルタの製造方法においては、まず図２（ａ）に示すように、透明基板１１、透明基板１１上に形成され開口部ｘを有する低反射層１２、透明基板１１上の低反射層１２の開口部に形成された着色層１３（図２（ａ）等では赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇ、青色着色層１３Ｂ、白色着色層１３Ｗ）、ならびに低反射層１２および着色層１３上の全面に形成された補助電極層１４を備えるカラーフィルタ形成用基板１０’を準備する。カラーフィルタ形成用基板１０’は、必要に応じて、低反射層１２および着色層１３と補助電極層１４との間に形成されたオーバーコート層１６を有していてもよい。次に、図２（ｂ）に示すように、補助電極層１４上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層１５’を形成する（導電性感光性樹脂層形成工程）。次に、図２（ｃ）に示すように、フォトマスク３００を介して露光光Ｌを照射して導電性感光性樹脂層１５’を露光した後、図２（ｄ）に示すように、現像することにより、低反射層１２と平面視上重なるように形成され、着色層１３と平面視上重なる開口部ｙを有する導電性隔壁１５を形成する（導電性隔壁形成工程）。次に、図２（ｅ）に示すように、導電性隔壁１５が形成された補助電極層１４の露出部分をエッチングする（エッチング工程）。以上の工程を得ることにより、カラーフィルタ１０を製造することができる。
【００２３】
次に、本発明により製造されるカラーフィルタについて図を用いて説明する。
図３（ａ）は本発明により製造されるカラーフィルタの一例を示す概略平面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。図３（ａ）、（ｂ）に示すように、本発明により製造されるカラーフィルタ１０は、透明基板１１と、透明基板１１上に形成され開口部ｘを有する低反射層１２と、透明基板１１上の低反射層１２の開口部ｘに形成された着色層１３（図３（ａ）等では赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇ、青色着色層１３Ｂ、白色着色層１３Ｗ）と、低反射層１２上に形成された補助電極層１４と、補助電極層１４上に形成され導電性感光性樹脂で構成される導電性隔壁１５とを備えることを特徴とするものである。また、図３（ｂ）に示すように、本発明のカラーフィルタは、必要に応じて、低反射層１２および着色層１３と、補助電極層１４との間に形成されたオーバーコート層１６を有していてもよい。
なお、図３（ａ）においては、説明の容易のため、オーバーコート層については省略して示している。
【００２４】
本発明により製造されるカラーフィルタは、有機ＥＬ表示装置に用いられるものである。このような有機ＥＬ表示装置について図を用いて説明する。
図４は、本発明により製造されるカラーフィルタを用いた有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。図４に示すように、有機ＥＬ表示装置１００は、カラーフィルタ１０と、基板７１、ならびに、基板７１上に形成された下面電極層８１、下面電極層８１上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層８３、および有機ＥＬ層８３上に形成された上面透明電極層８５を有する有機ＥＬ素子８０を備える有機ＥＬ素子側基板７０とを有し、カラーフィルタ１０の導電性隔壁１５側表面と、有機ＥＬ素子側基板７０の有機ＥＬ素子８０側表面とが対向するように配置されており、導電性隔壁１５と上面透明電極層８５とが導通するように接触していることを特徴とするものである。また、図４に示すように、有機ＥＬ素子側基板７０は、通常、基板７１上に形成されたＴＦＴ７５、ＴＦＴ７５上に形成された第１絶縁層７７、および下面電極層８１と上面透明電極層８５との接触を防止するために基板７１上に形成された第２絶縁層９１を有する。また、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子側基板７０との間には、接着剤層９９が形成されていてもよい。また、有機ＥＬ表示装置１００は、電源Ｐの一方の極から各々のＴＦＴ７５に至る配線２０１と、電源Ｐの他方の極から上面透明電極層８５に至る配線２０２−２０３と、電源Ｐの他方の極から補助電極層１４に至る配線２０２−２０４と、を有する。
図４におけるカラーフィルタ１０については、上述した図３において説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００２５】
本発明によれば、上記導電性隔壁工程を有することにより、補助電極層と導通することができる導電性隔壁を形成することができ、両者を電気的に接続させるためにカラーフィルタ上の全面に透明電極層等を形成しなくてもよくなるため、良好な透過率を有するカラーフィルタをより少ない製造工程数で製造することができる。
また、本発明によれば、上記エッチング工程を有することにより、上記導電性隔壁を補助電極層をエッチングする際のレジストとして用いることができるため、別途、補助電極層をエッチングするためのレジストを形成し、エッチング後に上記レジストを剥離する工程を行わなくてもよくなり、製造工程数を少なくすることができる。
よって、本発明によれば、上記導電性隔壁工程およびエッチング工程を有することにより、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、輝度ムラの発生を防止することができ、良好な輝度での表示を行うことができるカラーフィルタを効率よく製造することができる。
【００２６】
本発明のカラーフィルタの製造方法における作用効果について、従来のカラーフィルタの製造方法と比較して説明する。
図１４は、上述した従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示すフローチャートであり、図１５（ａ）〜（ｆ）は、従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
従来のカラーフィルタの製造方法においては、まず図１５（ａ）に示すように、透明基板２１、透明基板２１上に形成され開口部を有する低反射層２２、透明基板２１上の低反射層２２の開口部に形成された着色層２３（図１５（ａ）等では赤色着色層２３Ｒ、緑色着色層２３Ｇ、青色着色層２３Ｂ、白色着色層２３Ｗ）、ならびに低反射層２２および着色層２３上の全面に形成された補助電極層２４を備えるカラーフィルタ形成用基板２０’を準備する。図１５（ａ）では、カラーフィルタ形成用基板２０’が、さらにオーバーコート層２６を有する例について示している。次に、カラーフィルタ形成用基板２０の補助電極層２４を所定のパターン形状に合わせてパターニングするため、補助電極層２４上に感光性樹脂層２８’を形成する（感光性樹脂層形成工程）。次に、感光性樹脂層２８’をフォトマスク３０１を介して露光光Ｌを照射して露光した後、図示しないが、現像することにより、レジスト２８が形成される（レジスト形成工程）。次に、図１５（ｂ）に示すように、レジスト２８が形成された補助電極層２４の露出部分をエッチングする（エッチング工程）。次に、図１５（ｃ）に示すように、エッチング後の補助電極層２４からレジスト２８を剥離する（レジスト剥離工程）。ついで、図１５（ｄ）に示すように柱状構造体を形成するための感光性樹脂層２５’を形成し、フォトマスク３０２を介して露光光Ｌを照射して露光した後、図１５（ｅ）に示すように、現像し、必要に応じて焼成することで、柱状構造体２５を形成する（柱状構造体形成工程）。次に、図１５（ｆ）に示すように、柱状構造体２５が形成されたカラーフィルタ形成用基板２０’の全面に透明電極層２７を形成する（透明電極層形成工程）。以上の工程を経て、カラーフィルタ２０を製造することができる。
【００２７】
上述したように、従来のカラーフィルタにおいては、エッチング工程の前後で補助電極層を所定のパターン形状にエッチングするためのレジストを形成する工程および上記レジストを剥離する工程を必要とし、また、レジストの形成等とは別工程で、感光性樹脂層を露光及び現像して柱状構造体を形成し、さらに透明電極層を形成する必要があることから、非常に多くの工程を必要とする。これに対して、本発明においては、導電性隔壁を補助電極層のエッチング工程におけるレジストとして用い、また、有機ＥＬ表示装置における上面透明電極層との導通部材として用いることから、上述した各工程を行わなくてもよい。よって、製造効率よく、カラーフィルタを製造することができる。
【００２８】
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の詳細について説明する。
【００２９】
Ｉ．導電性感光性樹脂層形成工程
本発明における導電性感光性樹脂層形成工程は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層、ならびに上記低反射層および上記着色層上の全面に形成された補助電極層を備えるカラーフィルタ形成用基板を準備し、上記補助電極層上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層を形成する工程である。
【００３０】
１．導電性感光性樹脂層およびその形成方法
本工程において形成される導電性感光性樹脂層について説明する。
導電性感光性樹脂層は、補助電極層上の全面に形成され、導電性感光性樹脂で構成されるものであり、後述する導電性隔壁を形成するために用いられるものである。
【００３１】
（１）導電性感光性樹脂層の材料
導電性感光性樹脂層は、導電性感光性樹脂を含有するものである。
以下、導電性感光性樹脂層に用いられる材料の詳細について説明する。
【００３２】
（ａ）導電性感光性樹脂
本発明に用いられる導電性感光性樹脂としては、具体的には、導電性を示す感光性樹脂で構成されるもの、または、感光性樹脂および導電性材料で構成されるもの等が挙げられる。本発明に用いられる導電性感光性樹脂としては、なかでも、感光性樹脂および導電性材料で構成されるものであることが好ましい。導電性感光性樹脂層の導電性を良好なものとすることができるからである。
以下、それぞれについて説明する。
【００３３】
（ｉ）導電性を示す感光性樹脂
導電性を示す感光性樹脂とは、感光性樹脂自体が導電性を有するものであり、導電性材料を含まないものである。
上記導電性感光性樹脂が導電性を示す感光性樹脂である場合、本発明に用いられる導電性感光性樹脂としては、具体的には、信越ポリマー株式会社製のセプルジーダ、ナガセケムテック株式会社製のデナトロン等を挙げることができる。また、上記導電性を示す感光性樹脂としては、ポジ型感光性樹脂を用いることが好ましい。なお、理由については後述する。
【００３４】
（ｉｉ）感光性樹脂および導電性材料
上記導電性感光性樹脂が感光性樹脂および導電性材料である場合、感光性樹脂としては、上述した導電性を示す感光性樹脂であってもよく、導電性を有さない感光性樹脂であってもよい。
【００３５】
また、感光性樹脂としては、ポジ型感光性樹脂およびネガ型感光性樹脂のいずれも用いることができる。導電性感光性樹脂層が後述する導電性材料を含有する場合は、ポジ型感光性樹脂を用いることが好ましい。ポジ型感光性樹脂を用いた場合、後述する隔壁形成工程の現像時において、露光光が照射された導電性感光性樹脂層の除去とともに、露光光が照射されていない導電性感光性樹脂層の表面側の一部のポジ型感光性樹脂についても除去しやすく、導電性材料を導電性隔壁の表面上に露出させることができる。よって、本発明により製造されたカラーフィルタを有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、有機ＥＬ表示素子側基板の上面透明電極層と導電性隔壁とをより良好に導通させることができる。
【００３６】
上記感光性樹脂が導電性を示す感光性樹脂については、上述した「（ｉ）導電性を示す感光性樹脂」の項で説明したため、ここでの説明は省略する。
【００３７】
一方、上記感光性樹脂が導電性を示さない感光性樹脂の場合、上記感光性樹脂としては、一般的な感光性樹脂を用いることができる。より具体的には、上記感光性樹脂がポジ型感光性樹脂の場合、例えばフェノールエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド、シクロオレフィン等を挙げることができる。具体的には、ＩＰ３５００（ＴＯＫ社製）、ＰＦＩ２７（住友化学社製）、ＺＥＰ７０００（ゼオン社製）等を挙げることができる。一方、上記感光性樹脂がネガ型感光性樹脂の場合、例えば、アクリル樹脂等を挙げることができる。具体的には、ポリグリシジルメタクリレート（ＰＧＭＡ）、化学増幅型のＳＡＬ６０１（シプレ社製）等を挙げることができる。
【００３８】
次に、導電性感光性樹脂に用いられる導電性材料について説明する。
導電性材料としては、後述する導電性隔壁に所望の導電性を付与することができれば特に限定されない。本工程における導電性材料としては、例えば、導電性微粒子を好適に用いることができる。
【００３９】
導電性微粒子としては、所望の導電性を示すものであれば特に限定されず、単体の導電性微粒子であってもよく、絶縁性微粒子(コア部)と絶縁性微粒子表面に形成された導電性を有する導電層（シェル部）を備えるコアシェル構造の導電性微粒子であってもよい。本発明においてはなかでも、コアシェル構造の導電性微粒子であることが好ましい。
ここで、本発明においては、導電性隔壁により良好な導電性を付与する観点からは、導電性隔壁の表面に導電性微粒子の一部を露出させることが好ましい。コアシェル構造の導電性微粒子はコア部の粒径を調整することにより導電性微粒子全体の大きさを容易に調整して形成することができるため、導電性隔壁の厚みに応じた所望の大きさを有する導電性微粒子を得やすく、上述した形態の導電性隔壁を好適に形成することができるからである。
【００４０】
導電性微粒子がコアシェル構造の導電性微粒子である場合、絶縁性微粒子（コア部）に用いられる材料としては、例えば樹脂、非金属無機物を挙げることができる。絶縁性微粒子に用いられる樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。また、絶縁性微粒子に用いられる非金属無機物としては、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム若しくはゼオライト等が挙げられる。
また、導電層（シェル部）に用いられる材料としては、金属、導電性無機物、導電性高分子等を挙げることができる。導電層に用いられる金属としては、例えば、金、銀、白金、銅、錫、パラジウム、ニッケル及びアルミニウム等を好適に用いることができる。また、導電層に用いられる導電性無機物としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、ＩＺＯ等の金属酸化物、グラファイト、カーボンブラック、導電性セラミック等を挙げることができる。また、導電層に用いられる導電性高分子としては、例えば、ドープされたポリアニリン、ポリフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、トリフェニルジアミン（ＴＰＤ）等を挙げることができる。また、ＰＥＤＯＴとしては、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ/ＰＳＳ）を好適に用いることができる。
絶縁性微粒子上に導電層を形成する方法としては、公知の方法とすることができ、例えば、メッキ法、塗布法、浸漬法等を挙げることができる。
【００４１】
本工程においては、導電性微粒子がコアシェル構造の導電性微粒子である場合、上記導電性微粒子としては、コア部が樹脂で構成される樹脂微粒子であり、シェル部が導電性高分子で構成される導電性高分子層であることが好ましい。
【００４２】
また、本発明においては、導電性微粒子が、コア部が上記樹脂微粒子であり、シェル部が金属で構成される金属層であることも好ましい。導電性微粒子の導電性を良好なものとすることができるからである。なお、樹脂微粒子および金属層を有する導電性微粒子としては、所望の導電性および大きさを有するものであれば特に限定されない。例えば、積水化学工業株式会社製  ミクロパールＡＵ等を好適に用いることができる。
【００４３】
一方、導電性微粒子が単体のものである場合、導電性微粒子の材料については、上述した導電層の項で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００４４】
導電性微粒子の形状としては、従来公知の形状とすることができる。例えば、略球状、回転楕円体状、多面体状、鱗片状、円盤状、繊維状及び針状等を挙げることができる。本工程においては、なかでも、略球状であることが好ましい。導電性隔壁の導電性を良好なものとすることができるからである。
なお、本発明において、略球状とは、球状に近似できる略球状の他、真球も含む。
【００４５】
導電性感光性樹脂層に用いられる導電性微粒子の平均一次粒径としては、後述する導電性隔壁に所望の導電性を付与することができれば特に限定されない。具体的な導電性微粒子の平均一次粒径としては、２μｍ〜２０μｍの範囲内、なかでも２．５μｍ〜１８μｍの範囲内、特に３μｍ〜１５μｍの範囲内であることが好ましい。導電性微粒子の平均一次粒径が大きすぎると、導電性隔壁自体を形成することが困難となる可能性があるからであり、導電性微粒子の平均一次粒径が小さすぎると、導電性隔壁に所望の導電性を付与することが困難となる可能性があるからである。
導電性微粒子の平均一次粒径は、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で求めることができる。具体的には、個々の一次粒子の短軸径と長軸径を計測し、その平均をその粒子の粒径として得ることができる。次に、１００個以上の粒子について、それぞれの粒子の体積（質量）を、求めた粒径の直方体と近似して求め、体積（質量）平均粒径を求めそれを平均粒径とすることができる。なお、電子顕微鏡は透過型（ＴＥＭ）または走査型（ＳＥＭ）のいずれを用いても同じ結果を得ることができる。
なお、本発明において、略球状以外の鱗片状、回転楕円体及び針状等の導電性微粒子の平均一次粒径とは、外接球の平均一次粒径を意味する。
【００４６】
導電性感光性樹脂中の導電性材料の含有量としては、導電性微粒子の大きさ、種類等に応じて適宜選択され、特に限定されないが、導電性感光性樹脂の全固形分に対して、１質量％〜５０質量％の範囲内、なかでも３質量％〜４５質量％の範囲内、特に５質量％〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。導電性材料の含有量が少なすぎる場合は、後述する導電性隔壁が所望の導電性を示すことが困難となる可能性があるからであり、導電性材料の含有量が多すぎる場合は、後述する導電性隔壁と補助電極層との密着性が低下する可能性があるからである。
【００４７】
（ｂ）その他の材料
導電性感光性樹脂層は、上述した導電性感光性樹脂の他にも、例えば、着色剤、光重合開始剤、分散剤、界面活性剤等の任意の材料を添加することができる。
また、導電性感光性樹脂層が着色剤を含有する場合は、黒色着色剤等の後述する導電性隔壁に遮光性を付与できるものを好適に用いることができる。導電性隔壁が遮光性を有する場合、本発明により製造されたカラーフィルタを用いた有機ＥＬ表示装置においては、各画素に対応する有機ＥＬ素子を囲むように導電性隔壁を配置することができるため、一の画素に対応する有機ＥＬ素子の光が他の画素に入り込むことによる混色や、有機ＥＬ表示装置を斜め方向から見た場合に、一の画素に対応する有機ＥＬ素子の光が他の画素で観察される視差混色等を好適に防止することができるからである。
【００４８】
上記各添加剤については一般的な感光性樹脂層に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００４９】
（２）導電性感光性樹脂層
本工程において形成される導電性感光性樹脂層の厚みとしては、カラーフィルタの用途等に応じて適宜選択され、特に限定されない。通常は、後述する導電性隔壁の厚みと同等の厚みで形成することができる。
【００５０】
導電性感光性樹脂層が、上述した導電性材料を含有する場合、導電性感光性樹脂層中に存在する導電性材料の量としては、導電材料の種類等に応じて適宜選択され、特に限定されないが、導電性感光性樹脂層の体積を１００体積％とした場合に、１体積％〜９０体積％の範囲内、なかでも２体積％〜８０体積％の範囲内、特に３体積％〜７０体積％の範囲内であることが好ましい。導電性感光性樹脂層中に存在する導電性材料の量が上記範囲内であることにより、導電性が良好な導電性隔壁を得ることができるからである。
【００５１】
（３）導電性感光性樹脂層の形成方法
導電性感光性樹脂層の形成方法としては、一般的な感光性樹脂層の形成方法と同様とすることができる。例えば、上述した導電性感光性樹脂層の材料を含む塗工液を補助電極層上に塗布し、塗膜を乾燥させる方法を好適に用いることができる。上記塗工液に用いられる溶剤については、一般的な感光性樹脂層の形成方法において用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
また、上記塗工液の塗布方法としては、補助電極層上に塗工液を均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
また、塗膜の乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥、加熱乾燥、およびこれらの組み合わせ等が挙げられる。常圧で乾燥させる場合、基板が劣化しない温度範囲で乾燥させることが好ましく、例えば３０℃〜１１０℃の範囲内で乾燥させることが好ましい。
【００５２】
２．カラーフィルタ形成用基板
本工程に用いられるカラーフィルタ形成用基板は、透明基板と、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層と、上記透明基板上の上記低反射層の開口部に形成された着色層と、上記低反射層および着色層上の全面に形成された補助電極層とを備えるものである。
【００５３】
（１）補助電極層
カラーフィルタ形成用基板に用いられる補助電極層は、後述する低反射層および着色層上の全面に形成されるものである。
【００５４】
補助電極層としては、後述する導電性隔壁と導通することができれば特に限定されず、例えば、透明導電性材料で構成される透明補助電極層であってもよく、金属で構成される金属補助電極層であってもよい。補助電極層としては、なかでも、金属補助電極層であることが好ましい。
ここで、図１５（ａ）〜（ｆ）に示す従来のカラーフィルタ２０の製造方法においては、柱状構造体形成工程において、図１５（ｅ）に示す現像後の柱状構造体２５を焼成することが好ましい。しかし、柱状構造体を焼成する場合は、柱状構造体が形成されていない補助電極層の露出部分も焼成が行われるため、補助電極層が金属補助電極層である場合、上記露出部分が大気中の酸素と反応し酸化して金属補助電極層の抵抗が増加することが懸念される。一方、本発明においては、導電性隔壁は、最終的に得られるカラーフィルタにおいて、金属補助電極層上の全面に形成されることなるため、導電性隔壁を焼成した場合も、金属補助電極層と大気中の酸素とが反応することによる金属補助電極層の抵抗増加を防止することができる。
【００５５】
補助電極層が金属補助電極層である場合、金属補助電極層に用いられる金属材料としては、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏといった金属やＡＰＣ（Ａｇ、Ｐｄ、Ｃｕを含む合金）等の上述した金属の合金、またはＭＡＭ（モリブデン膜、アルミニウム・ネオジウム合金膜およびモリブデン膜がこの順に積層された複層金属膜）に代表される複層金属膜等を挙げることができる。
本発明においては、なかでもＡＰＣを用いることが好ましい。補助電極層の電導性を良好なものとすることができるからである。
一方、補助電極層が透明補助電極層である場合、補助電極層に用いられる透明導電性材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、ＩＴＯ、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。
【００５６】
補助電極層の厚みとしては、所望の導電性を有することができれば特に限定されないが、１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内、なかでも２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内、特に３０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。補助電極層の厚みが小さすぎる場合は、補助電極層の抵抗が大きくなる可能性があるからであり、補助電極層の厚みが大きすぎる場合は、補助電極層の形成時間が多くかかり、製造コストが高くなる可能性があるからである。また、補助電極層の応力が大きくなり、割れ等が生じやすくなる可能性があるからである。
【００５７】
補助電極層の形成方法としては、一般的な電極層の形成方法として公知の方法を用いることができる。例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成する方法を挙げることができる。
【００５８】
（２）低反射層
カラーフィルタ形成用基板に用いられる低反射層は、透明基板上に形成され開口部を有するものである。また、低反射層は、外光反射を抑制するために用いられるものである。
【００５９】
低反射層の平均の光反射率としては、補助電極層における視認側に入る外光等の反射を十分に抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、３８０ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域における平均の光反射率が、１０％以下であることが好ましく、中でも、９％以下であることが好ましく、特に、８％以下であることが好ましい。上記光反射率が上記範囲を超える場合は、補助電極層による外光反射を十分に防止することが困難となる可能性があるからである。なお、平均の光反射率は光学測定器にてＪＩＳ  Ｋ７１０５に従って測定したものをいう。光学測定器は市販品を用いることができ、例えば、村上色彩技術研究所製ＨＲ−１００を用いることができる。
【００６０】
このような低反射層としては、遮光性を有していてもよく、遮光性を有さなくてもよいが、遮光性を有することがより好ましい。低反射層を遮光部として用いることができ、コントラストが良好な有機ＥＬ表示装置とすることができる。
低反射層が遮光性を有する場合、低反射層としては、クロム、酸化クロム等の金属遮光層や、バインダ樹脂中にカーボン等の黒色着色剤が分散された樹脂遮光層が用いられる。なお、金属遮光層、樹脂遮光層に用いられる材料については上述したものに限られず、一般的なカラーフィルタの遮光部の材料として公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。上記低反射層の厚みとしては、補助電極層による外光反射を抑制することができれば特に限定されない。上記低反射層が金属遮光層である場合は０．２μｍ〜０．４μｍ程度で設定され、樹脂遮光層で構成される場合は０．５μｍ〜２μｍ程度で設定される。
【００６１】
一方、低反射層が遮光性を有さない場合、低反射層としては、例えば、タンタルの酸化物（ＴａＯ）、酸窒化物（ＴａＮＯ）、ホウ素酸化物（ＴａＢＯ）、ホウ素酸窒化物（ＴａＢＮＯ）などの酸素を含むタンタル化合物、酸化シリコン（ＳｉＯx）、窒化クロム（ＣｒＮ）等で構成される層が挙げられる。また上記低反射層の厚みとしては、補助電極層による外光反射を抑制することができれば特に限定されないが、５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内、より好ましくは膜厚１０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲内で用いられる。
【００６２】
低反射層の開口部の配列としては、一般的なカラーフィルタに用いられる画素配列と同様とすることができる。例えば、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができ、開口部の面積は任意に設定することができる。
【００６３】
低反射層の線幅としては、本発明の有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。具体的な低反射層の線幅としては、１０μｍ以上、なかでも１２μｍ〜１００μｍの範囲内、特に１３μｍ〜９０μｍの範囲内であることが好ましい。低反射層の線幅が小さすぎる場合は、低反射層自体を形成することが困難となる可能性や、低反射層上に後述する導電性隔壁および補助電極層を形成することが困難となる可能性があるからである。また、低反射層の幅が上記範囲を超える場合は、所望の大きさの開口部を有することが困難となる可能性があるからである。
【００６４】
低反射層の形成方法については、一般的なカラーフィルタに用いられるものとして公知の方法と同様とすることができる。例えば、低反射層が金属遮光層である場合は、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法を挙げることができる。また、例えば、低反射層が樹脂遮光層である場合は、フォトリソグラフィ法を好適に用いることができる。
【００６５】
（３）着色層
カラーフィルタ形成用基板に用いられる着色層は、透明基板上の低反射層の開口部に形成されるものである。通常、赤色着色層、緑色着色層、青色着色層の３色の複数色の着色層を有する。また、上記３色の着色層以外の色の着色層を有していてもよい。本発明において、上述した３色の着色層に加えて、白色着色層を有することが好ましい。
また、各着色層は有機ＥＬ表示装置における各画素に配置されて用いられる。
【００６６】
着色層は、各色の顔料や染料等の着色剤を感光性樹脂等の樹脂に分散または溶解させることにより形成されるものである。
【００６７】
赤色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
また、白色着色層は、感光性樹脂のみを用いて形成することも可能であるが、有機ＥＬ表示装置を用いて所望の白色表示を行うため、調色のための着色剤を分散または溶解させてもよい。このような着色剤としては、上述した赤色、緑色、青色の着色剤や、例えば黄色、黒色等の着色剤を挙げることができる。具体的な着色剤については、公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【００６８】
感光性樹脂としては、一般的な着色層材料として公知の感光性樹脂を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【００６９】
複数色の着色層のパターン配列については、上述した低反射層の開口部のパターン配列と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００７０】
着色層の厚みとしては、カラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。具体的な着色層の厚みとしては、０．５μｍ〜５μｍの範囲内、なかでも０．７μｍ〜４μｍの範囲内、特に１μｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましい。
着色層の厚みが上記範囲に満たない場合、または上記範囲を超える場合は、着色層自体を形成することが困難となる可能性があるからである。
【００７１】
着色層の形成方法としては、一般的なカラーフィルタの着色層の形成方法として公知の方法を用いることができる。本発明においては、なかでも、フォトリソグラフィ法を好適に用いることができる。
【００７２】
（４）透明基板
カラーフィルタ形成用基板に用いられる透明基板は、上述した低反射層、着色層、および補助電極層を支持するために用いられるものである。
【００７３】
透明基板は、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様なものを用いることができる。具体的には、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。
【００７４】
（５）その他の構成
本工程に用いられるカラーフィルタ形成用基板としては、上述した各構成を有していれば特に限定されず、必要に応じて、上記以外の構成を適宜選択して用いることができる。
【００７５】
本発明に用いられるカラーフィルタ形成用基板は、例えば、図２（ａ）等に示すように、低反射層１２および着色層１３を覆うように形成されたオーバーコート層１６を有していてもよい。この場合、補助電極層１４はオーバーコート層１６上に形成される。本発明においては、オーバーコート層１６を有する場合は、低反射層１２および着色層１３の表面を平坦化することができ、補助電極層１４を良好に形成することができる。また、カラーフィルタ側から有機ＥＬ表示装置内部への酸素、水蒸気等の浸入を抑制することができる。
【００７６】
オーバーコート層の材料としては、所定の光透過性を有するものであれば特に限定されるものではなく、光硬化性樹脂であってもよく、熱硬化性樹脂であってもよい。
このようなオーバーコート層の材料としては、一般的なバインダ樹脂、モノマー成分、光重合開始剤、熱重合開始剤等が挙げられる。
【００７７】
オーバーコート層の厚みとしては、所定の光透過性が得られる程度であり、着色層および低反射層の表面を平坦化することができる程度であれば特に限定されないが、例えば、０．５μｍ〜５．０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．７μｍ〜３．０μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．９μｍ〜２．０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００７８】
オーバーコート層の形成方法としては、着色層および低反射層の表面を覆うように形成することができる方法であれば特に限定されないが、例えば、スピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法等が挙げられる。
【００７９】
（６）カラーフィルタ形成用基板の形成方法
本工程に用いられるカラーフィルタ形成用基板の形成方法については、一般的なカラーフィルタ形成用基板の形成方法として公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【００８０】
ＩＩ．導電性隔壁形成工程
本発明における導電性隔壁形成工程は、上記導電性感光性樹脂層を露光した後、現像することにより、上記低反射層と平面視上重なるように形成され、上記着色層と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁を形成する工程である。
【００８１】
１．導電性隔壁
本工程において形成される導電性隔壁は、上述した導電性感光性樹脂層から形成されるものであり、上記低反射層と平面視上重なるように形成され、上記着色層と平面視上重なる開口部を有するものである。
【００８２】
導電性隔壁の開口部としては、本発明の製造方法により得られるカラーフィルタにおいて所望のカラー表示を行うことができれば特に限定されない。通常、図５に示すように、低反射層１２の開口部ｘと導電性隔壁１５の開口部ｙとが同等、もしくは、図３に示すように、低反射層１２の開口部ｘよりも導電性隔壁１５の開口部ｙが大きくなるように設けられる。本発明においては、なかでも図３に示すように、低反射層１２の開口部ｘよりも導電性隔壁１５の開口部ｙが大きくなるように設けられることが好ましい。
なお、図５は本発明の製造方法により製造されるカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。図５において説明していない符号については、図３等において説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００８３】
また、導電性隔壁は、通常、低反射層が形成されている領域に沿ったパターン状にカラーフィルタ全体に形成される。導電性隔壁１５の線幅としては、図５に示すように低反射層１２の線幅と同等であってもよく、図３に示すように低反射層１２の線幅よりも小さくてもよい。
本発明において、補助電極層が金属補助電極層の場合は、上記導電性隔壁の線幅は低反射層の線幅よりも小さいことが好ましい。導電性隔壁は、後述するエッチング工程において、補助電極層をエッチングするためのレジストとして機能するものであり、エッチング後の補助電極の線幅は、通常、導電性隔壁の線幅と同等となる。本発明の製造方法により得られるカラーフィルタを有機ＥＬ表示装置に用いた場合、低反射層の下層に補助電極層が配置されて観察されるため、低反射層の線幅よりも、補助電極層の線幅が大きい場合は、補助電極層が観察されるおそれがある。そのため、金属補助電極層の場合は、外光を反射して表示を妨げる可能性があるからである。
【００８４】
具体的な導電性隔壁の線幅としては、カラーフィルタの用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、具体的には、１０μｍ以上、なかでも１２μｍ〜１００μｍの範囲内、特に１３μｍ〜９０μｍの範囲内であることが好ましい。導電性隔壁の線幅が上記範囲に満たない場合は、後述する補助電極層の線幅が小さくなり、その電気抵抗を十分に小さいものとすることができない可能性があるからである。なお、導電性隔壁の線幅の上限については、低反射層の線幅とすることができる。
なお、導電性隔壁の幅とは、図３（ｂ）において、ｎで示される距離をいう。
【００８５】
導電性隔壁の厚みとしては、カラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、１μｍ〜６０μｍの範囲内、なかでも２μｍ〜５５μｍの範囲内、特に３μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。導電性隔壁の厚みが上記範囲に満たない場合は、本発明の製造方法により得られるカラーフィルタを有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、導電性隔壁と上面透明電極層とを導通するように接触させる際に、カラーフィルタの他の構成が、有機ＥＬ素子側基板の透明電極層等の接触し、有機ＥＬ素子を劣化させる可能性があるからである。また、導電性隔壁の厚みが上記範囲を超える場合は、導電性隔壁自体を形成することが困難となる可能性があるからである。
なお、着色層の厚みとは、図３（ｂ）において、ｐで示される距離をいう。
【００８６】
また、上記導電性隔壁としては、透明基板の低反射層側表面から導電性隔壁表面までの距離（導電性隔壁の高さ）と、透明基板の低反射層側表面から着色層表面までの距離（着色層の高さ）との差が、１μｍ以上、なかでも１μｍ〜８μｍの範囲内、特に１μｍ〜６μｍの範囲内であることが好ましい。上記高さの差が上述した範囲内である場合は、本発明により製造されたカラーフィルタを用いた有機ＥＬ表示装置において、着色層と有機ＥＬ素子との間に空間を設けることができる。そのため、上記空間に異物を包含させることができ、導電性隔壁および上面透明電極層の接触面に異物が混入することを抑制することができるので、有機ＥＬ素子の劣化を抑制することができるからである。
なお、導電性隔壁の高さとは、図３（ｂ）においてｑで示される距離をいい、着色層の高さとは図３（ｂ）においてｒで示される距離をいい、導電性隔壁の高さと着色層の高さとの差とは図３（ｂ）においてｓで示される距離をいう。
【００８７】
導電性隔壁の表面抵抗率としては、所望の導電性を示すことができれば特に限定されず、例えば、２０Ω／□以下、なかでも１０Ω／□以下、特に５Ω／□以下であることが好ましい。導電性隔壁の表面低効率が上述した値以下であることにより、本発明のカラーフィルタを有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、有機ＥＬ素子側基板からの電流を導電性隔壁を用いてカラーフィルタ側に導いて逃しやすいものとすることができるからである。
導電性隔壁の表面抵抗率はＪＩＳ  Ｋ  ７１９４に準拠した測定方法により求めることができ、例えば、低抵抗率計(ロレスタ-ＧＰ、株式会社ダイアインスツルメンツ製)を用いて測定することができる。
【００８８】
２．導電性隔壁形成工程
本工程に用いられる導電性感光性樹脂層の露光方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、フォトマスクを介して露光光を導電性感光性樹脂層に照射する方法を好適に用いることができる。フォトマスクとしては、透過領域および遮光領域を有するバイナリマスクや、透過領域および露光光の透過率が制限された半透過領域を有するハーフトーンマスクを用いることができる。導電性感光性樹脂層が、ポジ型感光性樹脂および導電性材料を含有する場合は、ハーフトーンマスクを用いて露光を行うことにより、導電性隔壁の表面に導電性材料が露出するように露光を行うことができる。
露光光、その他の露光条件については、一般的なものを用いることができる。
【００８９】
本工程に用いられる導電性感光性樹脂層の現像方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば現像液を用いる方法等を挙げることができる。現像液の種類等については、一般的な現像液を用いることができるが、上記感光性樹脂の種類等に応じて適宜選択することが好ましい。上記現像液としては、具体的にはテトラメチルアンモニウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ現像液、および塩酸水溶液、酢酸水溶液、硫酸水溶液、リン酸水溶液等の酸現像液等を挙げることができる。
【００９０】
本工程においては、導電性感光性樹脂層の現像後に、得られた導電性隔壁を焼成することが好ましい。焼成方法については、公知の方法とすることができる。
本工程においては、補助電極層のうち、カラーフィルタにおいて用いられる部分については、導電性隔壁が形成されており、大気等と接触しない。したがって、補助電極層として金属補助電極層を用いた場合は、焼成による金属補助電極層の酸化を防止することができる。
【００９１】
ＩＩＩ．エッチング工程
本発明におけるエッチング工程は、上記導電性隔壁が形成された上記補助電極層の露出部分をエッチングする工程である。また、本工程を行うことにより、カラーフィルタを得ることができる。
【００９２】
本工程に用いられる補助電極層のエッチング方法については、公知の方法を用いることができ、ウェットエッチング法であってもよく、ドライエッチング法であってもよい。本工程においては、なかでも、ウェットエッチング法であることが好ましい。比較的面積の大きなカラーフィルタ形成用基板においても、均一に補助電極層をエッチングすることができ、コスト的にも有利であるからである。
【００９３】
本工程においては、必要に応じて、エッチング後に、カラーフィルタの洗浄を行ってもよい。
【００９４】
本工程により得られる補助電極層の線幅等については、通常、上述した隔壁の線幅等と同様となる。
【００９５】
ＩＶ．その他の工程
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した導電性感光性樹脂層形成工程、導電性隔壁形成工程、およびエッチング工程を有していれば特に限定されず、必要に応じて、上記以外の構成を適宜選択して追加することができる。このような工程としては、例えば、上述したカラーフィルタ形成用基板を形成する工程等を挙げることができる。
【００９６】
Ｖ．カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタについては、後述する「Ｃ．カラーフィルタ」の項で説明する内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００９７】
ＶＩ．その他
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した導電性隔壁形成工程およびエッチング工程を有することにより、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に輝度ムラを防止することができ、良好な輝度での表示を行うことができるカラーフィルタを効率よく製造することできるが、例えば、上述したカラーフィルタ形成用基板の代わりに、下記のカラーフィルタ形成用基板を用いた場合も、同様の作用効果を奏することができる。
図６（ａ）〜（ｅ）は、本発明のカラーフィルタの製造方法の他の例を示す工程図である。本発明においては、まず図６（ａ）に示すように、透明基板１１、上記透明基板１１上に形成された着色層１３、着色層１３上の全面に形成された低反射層１２、および低反射層１２上の全面に形成された補助電極層１４を備えるカラーフィルタ形成用基板１０”を準備する。なお、カラーフィルタ形成用基板１０”は、着色層１３と低反射層１２との間に形成されたオーバーコート層１６を有していてもよい。次に図６（ｂ）に示すように、電極層１４上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層１５’を形成する（導電性感光性樹脂層形成工程）。次に図６（ｃ）に示すように、フォトマスク３００を介して露光光Ｌを照射して導電性感光性樹脂層１５’を露光した後、図６（ｄ）に示すように、現像することにより、上記着色層１３と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁１５を形成する（導電性隔壁形成工程）。次に図６（ｅ）に示すように、導電性隔壁１５が形成された上記補助電極層１４および低反射層１３の積層体の露出部分をエッチングする（エッチング工程）。以上の工程により、図７に示すカラーフィルタ１０を製造することができる。
図７は、上述の製造方法により製造されたカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。
【００９８】
上述したカラーフィルタの製造方法においては、エッチング工程を有することにより、補助電極層および低反射層をエッチングすることができることで着色層間に低反射層を形成することができ、カラーフィルタ形成用基板に予め開口部を有する低反射層を所定のパターン形状で形成しなくてもよい。よって、より製造コストを削減してカラーフィルタを製造することができる。
【００９９】
上述したカラーフィルタの製造方法においては、低反射層および補助電極層が、エッチング工程において、同時にエッチングできる材料で構成されるものであることが好ましい。より、簡便な工程でカラーフィルタを製造することができるからである。
【０１００】
なお、上述したカラーフィルタの製造方法の各工程において用いられる構成、および処理方法については、すでに説明したものと同様とすることができる。
【０１０１】
Ｂ．有機ＥＬ表示装置の製造方法
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層、ならびに上記低反射層および上記着色層上の全面に形成された補助電極層を備えるカラーフィルタ形成用基板を準備し、上記補助電極層上の全面に導電性感光性樹脂で構成される導電性感光性樹脂層を形成する導電性感光性樹脂層形成工程、上記導電性感光性樹脂層を露光した後、現像することにより、上記低反射層と平面視上重なるように形成され、上記着色層と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁を形成する導電性隔壁形成工程、および上記導電性隔壁が形成された上記補助電極層の露出部分をエッチングするエッチング工程、を有するカラーフィルタの形成方法により、カラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程と、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板を準備し、上記カラーフィルタの上記導電性隔壁側表面と、上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子側表面とを対向させ、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とを導通するように接触させて配置する組み立て工程と、を有することを特徴とする製造方法である。
【０１０２】
図８は、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法の一例を示すフローチャートであり、図９（ａ）〜（ｃ）は、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法の一例を示す工程図である。
本発明においては、導電性感光性樹脂層形成工程、導電性隔壁形成工程、およびエッチング工程を行うことにより、図９（ａ）に示すように、カラーフィルタ１０を形成する（カラーフィルタ形成工程）。なお、カラーフィルタ形成工程については、上述した図２（ａ）〜（ｅ）で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
次に、図９（ｂ）に示すように、基板７１、ならびに、基板７１上に形成された下面電極層８１、下面電極層８１上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層８３、および有機ＥＬ層８３上に形成された上面透明電極層８５を有する有機ＥＬ素子８０を備える有機ＥＬ素子側基板７０を準備する。次に、図９（ｃ）に示すように、カラーフィルタ１０の導電性隔壁１５側表面と、有機ＥＬ素子側基板７０の有機ＥＬ素子８０側表面とを対向させ、導電性隔壁１５と上面透明電極層８５とを導通するように接触させて配置する（組み立て工程）。また、通常、組み立て工程においては、カラーフィルタ１０および有機ＥＬ素子側基板７０の封止が行われ、封止方法としては、例えば図９（ｃ）に示すように、カラーフィルタ１０および有機ＥＬ素子側基板７０の間に接着剤層９９を形成する方法等が用いられる。以上の工程により、有機ＥＬ表示装置１００を得ることができる。
なお、本発明の製造方法により得られる有機ＥＬ表示装置については、上述した図４において説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１０３】
本発明によれば、上記カラーフィルタ形成工程を有することにより、輝度ムラの発生を防止することができ、良好な輝度での表示を行うことができる有機ＥＬ表示装置を効率よく製造することが可能となる。
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法の詳細について説明する。
【０１０４】
Ｉ．カラーフィルタ形成工程
本発明におけるカラーフィルタ形成工程は、導電性感光性樹脂層形成工程、導電性隔壁形成工程、およびエッチング工程を有するカラーフィルタの形成方法を用いることにより、カラーフィルタを形成する工程である。
【０１０５】
本工程において用いられるカラーフィルタの形成方法については、上述した「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１０６】
ＩＩ．組み立て工程
本発明における組み立て工程は、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板を準備し、上記カラーフィルタの上記導電性隔壁側表面と、上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子側表面とを対向させ、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とを導通するように接触させて配置する工程である。
【０１０７】
１．有機ＥＬ素子側基板
本工程に用いられる有機ＥＬ素子側基板は、基板と、有機ＥＬ素子とを備えるものである。
【０１０８】
（１）有機ＥＬ素子
本発明に用いられる有機ＥＬ素子は、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有するものである。
【０１０９】
（ａ）有機ＥＬ層
本発明に用いられる有機ＥＬ層は、後述する下面電極層上に形成され、発光層を含むものである。
また、有機ＥＬ層は、有機ＥＬ表示装置における各画素に配置されて用いられるものである。また、通常、カラーフィルタの各着色層と対向するように配置されるものである。
【０１１０】
また、有機ＥＬ層は、発光層に加えて、通常、複数層の有機層から構成されるものであり、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層や、白色発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、白色発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を有するものとすることができる。以下、本発明に用いられる有機ＥＬ層を構成する各層について説明する。
【０１１１】
(ｉ)発光層
本発明に用いられる発光層としては、所望の発光を得ることができれば特に限定されず、例えば、白色発光層を有していてもよく、赤色発光層、青色発光層および緑色発光層の３色の発光層を有していていもよい。本発明においては、なかでも白色発光層を有することが好ましい。以下、本発明において好ましい態様である白色発光層について説明する。
【０１１２】
本発明において好適な発光層として用いられる白色発光層は、白色光を発光することができるものであればよい。このような白色発光層は、具体的には、有機ＥＬ層に電圧が加えられた際に、少なくとも青色光（４３０ｎｍ〜４７０ｎｍ）、緑色光（４７０ｎｍ〜６００ｎｍ）、および赤色光（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）の波長域の発光スペクトルを有するものであればよい。さらには、発光スペクトルにおいて緑色光（４７０ｎｍ〜６００ｎｍ）ピークの最大発光強度と青色光（４３０ｎｍ〜４７０ｎｍ）ピークの最大発光強度の比（緑色光ピークの最大発光強度／青色光ピークの最大発光強度）が、０．３〜０．８の範囲内であることが好ましく、０．３〜０．７の範囲内であることがより好ましく、特に０．３〜０．５の範囲内であることが好ましい。
【０１１３】
緑色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比が上記の範囲内であることにより、青色パターンの透過率が大きいことによる消費電力低減効果を、より効果的に発揮することができる。また、赤色光（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）については、赤色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比（赤色光ピークの最大発光強度／青色光ピークの最大発光強度）が０．３〜１．０の範囲内であることが好ましい。
【０１１４】
このような白色発光層を構成する材料としては、蛍光または燐光を発するものであればよく、特に限定されるものではない。また、発光材料は、正孔輸送性や電子輸送性を有していてもよい。発光材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。
【０１１５】
上記の色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、およびピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【０１１６】
また、上記の金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、およびユーロピウム錯体、あるいは、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等またはＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、およびキノリン構造等を有する金属錯体などを挙げることができる。
【０１１７】
また、上記の高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ならびに上記の色素系材料および金属錯体系材料を高分子化したもの等を挙げることができる。
【０１１８】
上記の白色発光層の形成方法としては、例えば、蒸着法、印刷法、インクジェット法、またはスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、および自己組織化法（交互吸着法、自己組織化単分子膜法）等を挙げることができる。これらの中でも特に、蒸着法、スピンコート法、およびインクジェット法を用いることが好ましい。
【０１１９】
本発明に用いられる白色発光層の膜厚は、通常５ｎｍ〜５μｍ程度とされる。
【０１２０】
(ｉｉ)正孔注入層
本発明においては、白色発光層と陽極（図９（ｂ）等における下面電極層８１もしくは上面透明電極層８５）との間に正孔注入層が形成されていてもよい。正孔注入層を設けることにより、白色発光層への正孔の注入が安定化し、発光効率を高めることができる。
【０１２１】
本発明に用いられる正孔注入層の形成材料としては、一般的に有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている材料を用いることができる。また、正孔注入層の形成材料は、正孔の注入性もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであればよい。
【０１２２】
具体的に、正孔注入層の形成材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、およびチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに、正孔注入層の形成材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、およびスチリルアミン化合物等を例示することができる。
【０１２３】
このような材料から構成される正孔注入層の膜厚は、通常、５ｎｍ〜１μｍ程度とされる。
【０１２４】
(ｉｉｉ)電子注入層
本発明においては、白色発光層と陰極（図９（ｂ）等における上面透明電極層８５もしくは下面電極層８１）との間に電子注入層が形成されていてもよい。電子注入層を設けることにより、白色発光層への電子の注入が安定化し、発光効率を高めることができるからである。
【０１２５】
本発明に用いられる電子注入層の形成材料としては、例えばニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ならびにジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。
【０１２６】
このような材料から構成される電子注入層の膜厚は、通常、５ｎｍ〜１μｍ程度とされる。
【０１２７】
（ｂ）上面透明電極層
本発明における上面透明電極層は、上述した有機ＥＬ層上に形成され、後述する下面電極層との間に挟まれた有機ＥＬ層に電圧をかけ、白色発光層で発光を起こさせるために設けられる。上面透明電極層は、基板上の全面に形成されていてもよく、所定のパターン状に形成されていてもよいが、通常、基板上の全面に形成される。
【０１２８】
また、上面透明電極層は、白色発光層で発生した光を、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側に透過させるものであるから、図９（ｂ）等に示されるように、上面透明電極層８５は、有機ＥＬ層８３と、有機ＥＬ層８３の上側に位置する有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０との間に配置される。
【０１２９】
本発明に用いられる上面透明電極層の形成材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。
【０１３０】
このような材料から構成される上面透明電極層の膜厚は、通常、１００ｎｍ〜３００ｎｍ程度とされる。
【０１３１】
上面透明電極層の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、必要に応じてフォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が好適に用いられる。
【０１３２】
（ｃ）下面電極層
本発明に用いられる下面電極層は、基板上に形成されるものであり、より具体的には基板と有機ＥＬ層との間に配置されるものである。下面電極層は、白色発光層を発光させるための他方の電極層をなすものであり、上記の上面透明電極層と反対の電荷をもつ電極層として構成される。
【０１３３】
本発明に用いられる下面電極層の形成材料としては、例えば仕事関数が４ｅＶ以下程度と小さい金属、合金、およびそれらの混合物等が挙げられる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウムおよび銅混合物、マグネシウムおよび銀混合物、マグネシウムおよびアルミニウム混合物、マグネシウムおよびインジウム混合物、アルミニウムおよび酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、インジウム、リチウムおよびアルミニウム混合物、ならびに、希土類金属等を例示することができる。より好ましくは、マグネシウムおよび銀混合物、マグネシウムおよびアルミニウム混合物、マグネシウムおよびインジウム混合物、アルミニウムおよび酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、ならびに、リチウムおよびアルミニウム混合物を挙げることができる。
【０１３４】
下面電極層は、そのシート抵抗が数Ω／ｃｍ以下であることが好ましい。また、下面電極層の膜厚は、通常、１０ｎｍ〜１μｍ程度とされる。
【０１３５】
下面電極層の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法が好適に用いられる。なお、下面電極層には有機ＥＬ素子に流れる電流を制御するためのＴＦＴ（Thin Film Transistor）が接続される。
【０１３６】
（２）基板
本発明に用いられる基板としては、有機ＥＬ素子等を支持することができるものであればよく、有機ＥＬ表示装置の構成部材として一般的に用いられるものを使用することができる。なお、本発明の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側から光が取り出される、いわゆるトップエミッション方式であるため、有機ＥＬ素子側基板の基板としては、透明であっても、不透明であってもよい。
【０１３７】
（３）その他の構成
本発明の有機ＥＬ素子側基板は、上述した下面電極層、有機ＥＬ層、および上面透明電極層を有していれば特に限定されず、必要な構成を適宜選択して追加することができる。
【０１３８】
（ａ）ＴＦＴ
本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板は、通常、画素を構成する有機ＥＬ素子に流れる電流を制御するためのＴＦＴ（Thin Film Transistor）を有する。
図９（ｂ）等に例示するようにＴＦＴ７５は、基板上に画素ごとに配置形成されている。また、図示はしないが、各ＴＦＴの回路にはゲート線、信号線、電源線が接続されている。
【０１３９】
上記ＴＦＴの具体的な構成および形成方法については、有機ＥＬ表示装置に用いられるＴＦＴの構成および形成方法として公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１４０】
（ｂ）第１絶縁層および第２絶縁層
図９（ｂ）等に示すように本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板７０は、通常、ＴＦＴ７５上に第１絶縁層７７が形成される。また、下面電極層８１と上面透明電極層８５とが直接接触することを防ぐために基板上に第２絶縁層９１が形成される。
【０１４１】
第２絶縁層のパターン形状は、通常、線状とすることができ、有機ＥＬ表示装置の用途等に応じて、例えばマトリクス状またはストライプ状の開口部を有するパターンを形成することができる。
【０１４２】
このような第１絶縁層および第２絶縁層の形成材料としては、例えば感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、および熱硬化型樹脂、ならびに無機材料などを用いることができる。
【０１４３】
第１絶縁層および第２絶縁層の形成方法としては、上記材料を塗布して、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が挙げられる。また、印刷法等を用いることもできる。
【０１４４】
（ｃ）封止層
本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板は、封止層を有していてもよい。
図１０に示すように、封止層９５は、上面透明電極層８５上の補助電極層１４との接触部分以外の部分（以下、非接触部分と称して説明する場合がある。）に形成される。封止層９５は、有機ＥＬ層８３へ水蒸気や酸素が到達することを遮断する保護層として設けられる。
なお、図１０は、本発明の製造方法により製造された有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図であり、詳細については後述する。
【０１４５】
封止層としては、水蒸気や酸素に対してバリア性を発現することができ、かつ透明であれば特に限定されるものではなく、例えば透明無機膜、透明樹脂膜、あるいは有機−無機ハイブリッド膜等が用いられる。中でも、バリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。
【０１４６】
封止層として好適に用いられる透明無機膜の形成材料としては、例えば酸化アルミニウム、酸化ケイ素、および酸化マグネシウム等の酸化物；窒化ケイ素等の窒化物；窒化酸化ケイ素等の窒化酸化物；などが用いられる。特に、ピンホールが生じにくくガスバリア性が高いことから、窒化酸化ケイ素が好適である。
【０１４７】
封止層は、単層であっても良く、多層であってもよい。例えば、封止層が複数の窒化酸化ケイ素膜が積層された多層である場合は、バリア性をさらに高めることができる。また、封止層が多層である場合は、各層にそれぞれ異なる材料を用いてもよい。
【０１４８】
封止層の厚みは、用いる封止層の形成材料の種類等に応じて適宜、決定するようにすればよい。通常、５ｎｍ〜５μｍ程度とされる。この封止層の厚みが薄すぎるとバリア性が不十分となる傾向が生じ、また封止層の厚みが厚すぎると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易くなるという傾向が生じる。
【０１４９】
封止層が透明の無機膜である場合、この透明無機膜の形成方法としては、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム（ＥＢ）蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、原子層エピタキシ（ＡＬＥ）法、レーザーアブレーション法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点から、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法が好ましく用いられる。
【０１５０】
封止層を上述した非接触部分にパターン状に形成する手法としては、例えば、封止層の薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が好適に用いられる。
【０１５１】
（４）有機ＥＬ素子側基板の形成方法
本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板の形成方法としては、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ素子側基板の形成方法として公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１５２】
２．組み立て工程
カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の配置としては、上記カラーフィルタの上記導電性隔壁側表面と、上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子側表面とを対向させ、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とを導通するように接触させて配置することができれば特に限定されない。
ここで、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とを導通するように接触させるとは、導電性隔壁と上面透明電極層とを直接接触させる場合だけでなく、導電性隔壁と上面透明電極層とを導電性接着剤層等の導電層を介して接触させる場合を含む。
【０１５３】
また、本工程においては、通常、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板を所望の配置とするとともに、有機ＥＬ表示装置の封止が行われる。本工程に用いられる有機ＥＬ表示装置の封止方法としては、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の間の空間を接着剤層を充填して封止する方法や、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の外周部にシール剤を配置して封止する方法等を用いることができる。
【０１５４】
接着剤層を用いて有機ＥＬ表示装置を封止する場合、接着剤としては、透明で接着力を有し、かつ、硬化性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような接着剤層を形成する接着剤としては、例えば、熱硬化性を有する接着剤、あるいは光硬化性を有する接着剤を好適例として挙げることができる。通常、溶剤を必要としないタイプものがよい。また、フィルム状の接着シートタイプのものを用いてもよい。具体的には、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、合成ゴム系などの接着剤や接着シートを挙げることができる。
【０１５５】
一方、シール剤を用いて有機ＥＬ表示装置を封止する場合は、通常、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の間の隙間部分を空けたままにしておき、窒素等の不活性ガス雰囲気中において封止が行われる。また、この場合、有機ＥＬ表示装置の中空の内部に酸化バリウム等の捕水剤を備えるようにしてもよい。
シール剤、およびこれを用いた封止方法については、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１５６】
ＩＩＩ．その他の工程
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上述したカラーフィルタ形成工程、および組み立て工程を有していれば特に限定されず、必要に応じて上記以外の工程を適宜選択して追加することができる。
【０１５７】
本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法においては、通常、表示装置の電源と有機ＥＬ表示装置とを繋ぐ配線を設ける工程が行われる。
電源からの配線形態は、例えば、図４等に示されるように、電源Ｐの一方の極から各々のＴＦＴ７５に至る配線２０１と、電源Ｐの他方の極から上面透明電極層８５に至る配線２０２−２０３と、電源Ｐの他方の極から補助電極層１４に至る配線２０２−２０４と、を有し構成される。有機ＥＬ素子８０を発光させるための配線回路が配線２０１と配線２０２−２０３とであり、ＴＦＴ側の電流をカラーフィルタ側の補助電極層１４へ逃がして電圧降下を防止するための配線回路が配線２０１と配線２０４−２０２とである。
本発明に用いられる配線、および設置方法等については、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１５８】
ＩＶ．有機ＥＬ表示装置
本発明の製造方法により得られる有機ＥＬ表示装置については、後述する「Ｄ．有機ＥＬ表示装置」の項で説明する内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１５９】
Ｃ．カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、透明基板と、透明基板上に形成され開口部を有する低反射層と、透明基板上の低反射層の開口部に形成された着色層と、低反射層上に形成された補助電極層と、補助電極層上に形成され導電性感光性樹脂で構成される導電性隔壁とを備えることを特徴とするものである。
【０１６０】
本発明のカラーフィルタの例としては、例えば、図３、図５、および図７等を挙げることができる。なお、図３等については、上述した「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の項で説明したため、ここでの説明は省略する。
【０１６１】
本発明によれば、上記導電性隔壁を備えることにより、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、上記導電性隔壁と有機ＥＬ素子側基板の上面透明電極層とを導通するように接触させてカラーフィルタを配置することができる。そのため、有機ＥＬ表示装置において、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることにより、有機ＥＬ素子側基板からの電流を、導電性隔壁および補助電極層を介してカラーフィルタ側に逃すことができることから、電圧降下による輝度ムラの発生を防止することができる。
また、本発明によれば、上記導電性隔壁を備えることにより、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、有機ＥＬ表示装置の上面透明電極層とカラーフィルタの補助電極層とを導通させて接触させるために、補助電極層上に透明電極層を形成しなくてもよいため、良好な輝度での表示を可能とし、また、生産性の高いカラーフィルタとすることができる。
【０１６２】
本発明のカラーフィルタに用いられる各構成については、上述した「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１６３】
本発明のカラーフィルタは、後述する「Ｄ．有機ＥＬ表示装置」に用いられるものである。
【０１６４】
Ｄ．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、透明基板、透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、透明基板上の低反射層の開口部に形成された着色層、低反射層上に形成された補助電極層、および補助電極層上に形成され導電性感光性樹脂で構成される導電性隔壁とを備えるカラーフィルタと、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層、および上記有機ＥＬ層上に形成された上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ素子側基板とを有し、上記カラーフィルタの上記導電性隔壁側表面と、上記有機ＥＬ素子側基板の上記有機ＥＬ素子側表面とが対向するように配置され、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とするものである。
【０１６５】
本発明の有機ＥＬ表示装置の例としては、例えば、図４、図１０、図１１等を挙げることができる。なお、図４については上述した「Ａ．カラーフィルタの製造方法」の項で説明したため、ここでの説明は省略する。
また、図１０は、図５に例示されるカラーフィルタ１０を用いた有機ＥＬ表示装置の例を、図１１は、図７に例示されるカラーフィルタ１０を用いた有機ＥＬ表示装置の例を示す概略断面図であり、説明していない符号については、図４等と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１６６】
本発明によれば、上記導電性隔壁と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることにより、有機ＥＬ素子側基板からの電流を、導電性隔壁および補助電極層を介してカラーフィルタ側に逃すことができることから、電圧降下による輝度ムラの発生を防止することができる有機ＥＬ表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、導電性隔壁を備えるカラーフィルタを有することにより、有機ＥＬ表示装置の上面透明電極層とカラーフィルタの補助電極層とを導通させて接触させるために、補助電極層上に透明電極層を形成しなくてもよいため、良好な輝度で表示を行うことができ、生産性の高い有機ＥＬ表示装置とすることができる。
【０１６７】
本発明に用いられるカラーフィルタについては、上述した「Ｃ．カラーフィルタ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明に用いられる有機ＥＬ素子側基板、カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板の配置、ならびに有機ＥＬ表示装置におけるその他の事項については、上述した「Ｂ．有機ＥＬ表示装置の製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【０１６８】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１６９】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【０１７０】
［実施例］
〔カラーフィルタ形成用基板の作製〕
（透明基板の準備）
透明基板として、大きさが１５００ｍｍ×１８５０ｍｍ、厚みが０．７ｍｍのガラス基板を準備した。
【０１７１】
（低反射層形成用組成物の調製）
まず、重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３質量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７質量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７質量部、トリエチルアミンを０．４質量部、及びハイドロキノンを０．２質量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
【０１７２】
次に、下記の材料を室温で攪拌、混合して下記組成の硬化性樹脂組成物Ａを調製した。
＜硬化性樹脂組成物Ａの組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）                                …１６質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社  ＳＲ３９９）
…２４質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社  エピコート１８０Ｓ７０）                                                            …４質量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
…４質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                              …５２質量部
【０１７３】
次いで、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
＜黒色顔料分散液の組成＞
・黒色顔料(三菱化学社製  ＃２６００）                              …２０質量部
・高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社  Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ  １１１）
…１６質量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）                      …６４質量部
【０１７４】
その後、下記分量の成分を十分混合して、低反射層形成用組成物を得た。
＜低反射層形成用組成物の組成＞
・上記黒色顔料分散液                                                …５０質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …２０質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル                              …３０質量部
【０１７５】
（低反射層の形成）
次に、得られた低反射層形成用組成物を透明基板に塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングし、その後焼成して低反射層を形成した。
【０１７６】
（着色層の形成）
次いで、下記組成の赤色着色層形成用組成物、緑色着色層形成用組成物、青色着色層形成用組成物を調製した。
【０１７７】
＜赤色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４                                    …１０質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                        …８質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …１５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …６７質量部
【０１７８】
＜緑色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８                                    …１０質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８                                    …３質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                        …８質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …１２質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …６７質量部
【０１７９】
＜青色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１                                          …５質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤                                        …３質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …２５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …６７質量部
【０１８０】
＜白色着色層形成用組成物＞
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …３３質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …６７質量部
【０１８１】
次に、ガラス基板上の低反射層を覆うように赤色着色層形成用組成物をスピンコート法により塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングした後、焼成して赤色着色層を形成した。
その後、緑色着色層形成用組成物、および青色着色層形成用組成物を用いて、同様の操作により緑色着色層および青色着色層を形成した。これにより、赤色着色層、緑色着色層、および青色着色層が配列された着色層を形成した。
着色層の膜厚は、赤色着色層１．５μｍ、緑色着色層１．５μｍ、青色着色層１．５μｍ、白色着色層１．５μｍとした。
【０１８２】
（金属補助電極層の形成）
次いで、低反射層上および着色層上に、蒸着法を用いて厚み０．５μｍのＡｇ薄膜を形成した。
以上の工程により、カラーフィルタ形成用基板を作製した。
【０１８３】
〔カラーフィルタの作製〕
下記の導電性感光性樹脂層用組成物を調製した。
＜導電性感光性組成物の組成＞
・積水化学工業株式会社製  ミクロパールＡＵ（平均一次粒径１１．５μｍ）…６質量部
・上記硬化性樹脂組成物Ａ                                            …５８質量部
・酢酸−３−メトキシブチル                                          …３６質量部
【０１８４】
次に、上記導電性感光性樹脂組成物をカラーフィルタの着色層側表面の全面に塗布し、乾燥させて、厚さが１０μｍの導電性感光性樹脂層を形成した。
次に、上記導電性感光性樹脂層をフォトリソグラフィ法により、フォトマスクを介して露光し、その後、現像することにより、低屈折率層と平面視上で重なるように形成され着色層と平面視上重なる開口部を有する導電性隔壁を得た。導電性隔壁の厚さは導電性感光性樹脂層と同等であり、導電性隔壁の表面には、導電性微粒子の一部が露出していた。以上の手順によりカラーフィルタを作製した。
【０１８５】
〔有機ＥＬ表示装置の作製〕
上記のカラーフィルタ基板と対向配置して有機ＥＬ表示装置を作製するためのＥＬ素子側基板として、白色発光光源を備える有機ＥＬ素子側基板を以下の要領で作製した。
まず、基板として、大きさが１５００ｍｍ×１８５０ｍｍ、厚さが０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この基板に対して、定法にしたがって薄膜トランジスタ回路を作製した。
次に、上記基板の薄膜トランジスタ回路側の表面上に、カラーフィルタ基板の各色の着色層に対応するようにアルミニウムからなる下面電極層を形成し、これらの下面電極層の間隙にポリイミドからなる絶縁層（隔壁部）を形成した。次に、絶縁層（隔壁部）の間隙に白色発光の有機ＥＬ素子（正孔注入層、白色発光層、電子注入層の積層構成）を形成し、これらの上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる上面透明電極層を形成した。
その後、カラーフィルタの導電性隔壁と上面透明電極層を有する有機ＥＬ素子側基板の前記有機ＥＬ素子側表面とが対向し、導電性隔壁と前記上面透明電極層とが導通するよう接触させ、接着剤（日東電工（株）製  ＮＴ−０１ＵＶ）を介して貼り合わせることにより、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０１８６】
［比較例］
〔カラーフィルタの作製〕
実施例と同様にして、カラーフィルタ形成用基板を作製した。
次に、カラーフィルタ形成用基板の金属補助電極層上に感光性樹脂層を形成し、フォトリソグラフィ法により露光、現像して、低反射層と同様のパターンを有するレジストを形成した。次いで、金属補助電極層をエッチングした後、レジストを剥離した。その後、低反射層上の所定の箇所に、フォトリソグラフィ法を用いてＮＮ７８０(ＪＳＲ社製)を用いて凸状柱（ＰＳ）を形成した。凸状柱の基部の幅は４０μｍ、頂部の幅は２０μｍ、高さは２０μｍであり、基部側から頂部に至るテーパー角度は７０°であった。
次いで、スパッタリング法により厚み１００ｎｍのＩＴＯ膜（ＩＴＯ）を透明基板の金属補助電極層側全面に形成し、１５０℃の条件下で４０分間アニール処理を行って、透明電極層を形成した。以上の手順により、カラーフィルタを作製した。
【０１８７】
〔有機ＥＬ表示装置の作製〕
実施例と同様にして、有機ＥＬ素子側基板を作製し、カラーフィルタの透明電極層側表面と有機ＥＬ素子側基板の有機ＥＬ素子側表面とを対向させて配置し、透明電極層と上面透明電極層とが接触するようにして、実施例と同様に貼り合わせることにより、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０１８８】
［評価］
実施例および比較例のカラーフィルタの各工程における歩留まりの発生を同一の評価基準により評価し、カラーフィルタ全体の歩留まりを求めた。結果を表１に示す。なお、表１中の各構成は、各構成を形成する工程を示している。
【０１８９】
【表１】
2014179226.tif 000003
【０１９０】
実施例においては、カラーフィルタの製造工程数を少なくすることができることから、比較例に比べてカラーフィルタ全体の歩留まりの少ないものとすることができることが確認できた。
【符号の説明】
【０１９１】
１０  …  カラーフィルタ
１０’  …  カラーフィルタ形成用基板
１１  …  透明基板
１２  …  低反射層
１３  …  着色層
１４  …  補助電極層
１５  …  導電性隔壁
１５’  …  導電性感光性樹脂層
７０  …  有機ＥＬ素子側基板
７１  …  基板
８０  …  有機ＥＬ素子
８１  …  下面電極層
８３  …  有機ＥＬ層
８５  …  上面透明電極層
１００  …  有機ＥＬ表示装置
ｘ  …  低反射層の開口部
ｙ  …  導電性隔壁の開口部
【図１】
2014179226.tif 000004
【図２】
2014179226.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2014179226.tif 000014
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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