(57)【要約】【課題】保持体上の洗浄液が洗浄乾燥手段の開口から外部に飛散することを防止することが可能な洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄装置５０は、保持体４０に対して移動可能な洗浄乾燥手段６０を備えている。洗浄乾燥手段６０は、保持体４０に洗浄液を吐出する洗浄機構６３と、カバー６２内であって洗浄機構６３と開口６１ｂとの間に設けられ、保持体４０に第１の気体を噴出する第１の気体噴出機構７０と、カバー６２内であって第１の気体噴出機構７０と開口６１ｂとの間に設けられ、保持体４０に第２の気体を噴出する第２の気体噴出機構８０とを有している。第２の気体噴出機構８０は、保持体４０の保持溝４１に対向する位置に設けられ、保持溝４１に対して第２の気体を噴出するスリット部８３を有し、スリット部８３から第２の気体を噴出する方向は、開口６１ｂの反対側に向けられている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動可能な移動体に取付けられ、ウエハを保持するとともに長手方向に沿って複数の保持溝が形成された保持体を洗浄する洗浄装置において、
前記長手方向に沿って前記保持体に対して相対的に移動可能な洗浄乾燥手段を備え、
前記洗浄乾燥手段は、
前記保持体が前記移動体側から通過する開口を含むカバーと、
前記カバー内に設けられ、前記保持体に対して洗浄液を吐出する洗浄機構と、
前記カバー内であって前記洗浄機構と前記開口との間に設けられ、前記保持体に対して第１の気体を噴出する第１の気体噴出機構と、
前記カバー内であって前記第１の気体噴出機構と前記開口との間に設けられ、前記保持体に対して第２の気体を噴出する第２の気体噴出機構とを有し、
前記第２の気体噴出機構は、少なくとも前記保持体の前記保持溝に対向する位置に設けられ、前記保持体の前記保持溝に対して前記第２の気体を噴出する、スリット形状の噴出口であるスリット部を有し、
前記スリット部から前記第２の気体を噴出する方向は、前記開口の反対側に向けられていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記スリット部から前記第２の気体を噴出する方向は、前記保持体の前記長手方向に沿う軸線に対して３０°〜７５°傾斜していることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記第２の気体噴出機構は、前記保持体のうち前記保持溝が設けられていない領域に対向する位置に設けられ、当該領域に向けて前記第２の気体を噴出する噴出口をさらに有することを特徴とする請求項１または２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記噴出口から前記第２の気体を噴出する方向は、前記第１の気体噴出機構側に向けられていることを特徴とする請求項３記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記スリット部は、前記長手方向に沿う軸線に対して垂直な平面上で、９０°〜１８０°の範囲に拡がって設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記第１の気体噴出機構から前記第１の気体を噴出する方向は、前記保持体の前記長手方向に対して垂直であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記第２の気体噴出機構から単位時間あたりに噴出される前記第２の気体の量は、前記第１の気体噴出機構から単位時間あたりに噴出される前記第１の気体の量より多いことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項記載の洗浄装置。
【請求項８】
前記カバーは、底面が開放されており、前記洗浄機構からの洗浄液は前記カバーの底面から排出されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記保持体は複数設けられ、前記カバーには前記複数の保持体の各々が通過する前記開口が形成されていることを特徴とする請求項１乃至８いずれか一項記載の洗浄装置。
【請求項１０】
前記洗浄装置は、前記保持体と前記洗浄乾燥手段を収容するケーシングをさらに備え、前記ケーシングの側面には前記保持体を挿通するケーシング開口が形成され、前記ケーシング開口から前記洗浄液が漏れ出るのを防止するエアーカーテンまたはシャッターが設けられていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項記載の洗浄装置。
【請求項１１】
移動可能な移動体に取付けられ、ウエハを保持するとともに長手方向に沿って複数の保持溝が形成された保持体を洗浄する洗浄方法において、
前記保持体が前記移動体側から通過する開口を含むカバーを有する洗浄乾燥手段を、前記長手方向に沿って前記保持体に対して相対的に移動させる工程と、
前記洗浄乾燥手段を移動させながら、前記カバー内で、洗浄機構から前記保持体に対して洗浄液を吐出する工程と、
前記洗浄乾燥手段を移動させながら、前記カバー内であって前記洗浄機構と前記開口との間で、第１の気体噴出機構から前記保持体に対して第１の気体を噴出する工程と、
前記カバー内であって前記第１の気体噴出機構と前記開口との間で、第２の気体噴出機構から前記保持体に対して第２の気体を噴出する工程とを備え、
前記第２の気体を噴出する工程において、少なくとも前記保持体の前記保持溝に対向する位置に設けられ、スリット形状の噴出口であるスリット部により、前記保持体の前記保持溝に対して前記第２の気体を噴出し、
前記スリット部から前記第２の気体を噴出する方向は、前記開口の反対側に向けられていることを特徴とする洗浄方法。
【請求項１２】
前記第２の気体を噴出する工程は、前記洗浄液を吐出する工程および前記第１の気体を噴出する工程の間において少なくとも前記第１の気体を噴出する間に実行されることを特徴とする請求項１１記載の洗浄方法。
【請求項１３】
移動可能な移動体に取付けられ、ウエハを保持するとともに長手方向に沿って複数の保持溝が形成された保持体を洗浄する洗浄方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記洗浄方法は、
前記保持体が前記移動体側から通過する開口を含むカバーを有する洗浄乾燥手段を、前記長手方向に沿って前記保持体に対して相対的に移動させる工程と、
前記洗浄乾燥手段を移動させながら、前記カバー内で、洗浄機構から前記保持体に対して洗浄液を吐出する工程と、
前記洗浄乾燥手段を移動させながら、前記カバー内であって前記洗浄機構と前記開口との間で、第１の気体噴出機構から前記保持体に対して第１の気体を噴出する工程と、
前記カバー内であって前記第１の気体噴出機構と前記開口との間で、第２の気体噴出機構から前記保持体に対して第２の気体を噴出する工程とを備え、
前記第２の気体を噴出する工程において、少なくとも前記保持体の前記保持溝に対向する位置に設けられ、スリット形状の噴出口であるスリット部により、前記保持体の前記保持溝に対して前記第２の気体を噴出し、
前記スリット部から前記第２の気体を噴出する方向は、前記開口の反対側に向けられている、方法からなっていることを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置、洗浄方法および記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、たとえば半導体ウエハの洗浄処理を行う基板処理装置においては、複数枚の半導体ウエハを搬送するための搬送機構が設けられている。この搬送機構は、複数枚の半導体ウエハを保持する保持溝を有する保持体を有している。また、上記基板処理装置においては、保持体に付着した汚染物を洗浄するための洗浄装置が設けられている。
【０００３】
この洗浄装置は、被洗浄体としての保持体に向けて洗浄液を噴出する洗浄手段と保持体に向けて乾燥ガスを噴出する乾燥手段とを一体化した洗浄乾燥手段を有している。この洗浄乾燥手段は、保持体に沿って往復移動可能に構成されている。
【０００４】
このような洗浄装置においては、洗浄乾燥手段の往動時に洗浄手段の洗浄液噴出口から保持体に向けて洗浄液を噴出して保持体の洗浄動作を行い、その後、洗浄乾燥手段の復動時に乾燥手段の乾燥ガス噴出口から保持体に向けて乾燥ガスを噴出して保持体の乾燥動作を行っている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４４９７４０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、上記従来の洗浄機構では、洗浄液噴出口から噴出された洗浄液が保持体（例えば保持溝内）に液滴として残存するため、保持体上の洗浄液を乾燥ガス噴出口から噴出された乾燥ガスによって除去する必要があり、この時に洗浄液が洗浄機構の開口部から外部に飛散するおそれがある。とりわけ、飛散した洗浄液が保持体の駆動部に付着した場合、搬送機構が移動した際、洗浄液の液滴が搬送エリアに落下するおそれが生じる。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、保持体上の洗浄液が洗浄乾燥手段の開口から外部に飛散することを防止することが可能な、洗浄装置、洗浄方法および記憶媒体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一実施の形態による洗浄装置は、移動可能な移動体に取付けられ、ウエハを保持するとともに長手方向に沿って複数の保持溝が形成された保持体を洗浄する洗浄装置において、前記長手方向に沿って前記保持体に対して相対的に移動可能な洗浄乾燥手段を備え、前記洗浄乾燥手段は、前記保持体が前記移動体側から通過する開口を含むカバーと、前記カバー内に設けられ、前記保持体に対して洗浄液を吐出する洗浄機構と、前記カバー内であって前記洗浄機構と前記開口との間に設けられ、前記保持体に対して第１の気体を噴出する第１の気体噴出機構と、前記カバー内であって前記第１の気体噴出機構と前記開口との間に設けられ、前記保持体に対して第２の気体を噴出する第２の気体噴出機構とを有し、前記第２の気体噴出機構は、少なくとも前記保持体の前記保持溝に対向する位置に設けられ、前記保持体の前記保持溝に対して前記第２の気体を噴出する、スリット形状の噴出口であるスリット部を有し、前記スリット部から前記第２の気体を噴出する方向は、前記開口の反対側に向けられていることを特徴とする。
【０００９】
本発明の一実施の形態による洗浄方法は、移動可能な移動体に取付けられ、ウエハを保持するとともに長手方向に沿って複数の保持溝が形成された保持体を洗浄する洗浄方法において、前記保持体が前記移動体側から通過する開口を含むカバーを有する洗浄乾燥手段を、前記長手方向に沿って前記保持体に対して相対的に移動させる工程と、前記洗浄乾燥手段を移動させながら、前記カバー内で、洗浄機構から前記保持体に対して洗浄液を吐出する工程と、前記洗浄乾燥手段を移動させながら、前記カバー内であって前記洗浄機構と前記開口との間で、第１の気体噴出機構から前記保持体に対して第１の気体を噴出する工程と、前記カバー内であって前記第１の気体噴出機構と前記開口との間で、第２の気体噴出機構から前記保持体に対して第２の気体を噴出する工程とを備え、前記第２の気体を噴出する工程において、少なくとも前記保持体の前記保持溝に対向する位置に設けられ、スリット形状の噴出口であるスリット部により、前記保持体の前記保持溝に対して前記第２の気体を噴出し、前記スリット部から前記第２の気体を噴出する方向は、前記開口の反対側に向けられていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の一実施の形態による記憶媒体は、移動可能な移動体に取付けられ、ウエハを保持するとともに長手方向に沿って複数の保持溝が形成された保持体を洗浄する洗浄方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、前記洗浄方法は、前記保持体が前記移動体側から通過する開口を含むカバーを有する洗浄乾燥手段を、前記長手方向に沿って前記保持体に対して相対的に移動させる工程と、前記洗浄乾燥手段を移動させながら、前記カバー内で、洗浄機構から前記保持体に対して洗浄液を吐出する工程と、前記洗浄乾燥手段を移動させながら、前記カバー内であって前記洗浄機構と前記開口との間で、第１の気体噴出機構から前記保持体に対して第１の気体を噴出する工程と、前記カバー内であって前記第１の気体噴出機構と前記開口との間で、第２の気体噴出機構から前記保持体に対して第２の気体を噴出する工程とを備え、前記第２の気体を噴出する工程において、少なくとも前記保持体の前記保持溝に対向する位置に設けられ、スリット形状の噴出口であるスリット部により、前記保持体の前記保持溝に対して前記第２の気体を噴出し、前記スリット部から前記第２の気体を噴出する方向は、前記開口の反対側に向けられている、方法からなっていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、保持体上の洗浄液が洗浄乾燥手段の開口から外部に飛散することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、基板処理装置を示す平面図。
【図２】図２は、本発明の一実施の形態による洗浄装置を示す概略側面図。
【図３】図３（ａ）及び（ｂ）は、それぞれウエハ搬送機構を示す部分拡大側面図及び正面図。
【図４】図４は、本発明の一実施の形態による洗浄装置の洗浄乾燥手段を示す断面図。
【図５】図５は、図４の部分拡大断面図。
【図６】図６は、第２の気体噴出機構を示す斜視図。
【図７】図７は、第２の気体噴出機構を示す断面図（図６のVII−VII線断面図）。
【図８】図８は、第２の気体噴出機構を示す正面図（図６のVIII方向矢視図）。
【図９】図９（ａ）〜（ｃ）は、スリット部の各種変形例を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図１〜図８を参照して、本発明の一実施の形態について説明する。
【００１４】
まず、本実施の形態による洗浄装置を含む基板処理装置の全体構成について説明する。具体的には、半導体ウエハ（基板）の洗浄処理および乾燥処理を施す基板処理装置を例に挙げて説明する。
【００１５】
図１に示すように、基板処理装置１０は、複数枚の半導体ウエハ（以下、「ウエハＷ」という。）を収容したキャリア１１の搬入及び搬出を行うキャリア搬入搬出部１２と、キャリア１１に収容されたウエハＷの搬入及び搬出を行うウエハ搬入搬出部１３と、ウエハＷの洗浄処理及び乾燥処理を行うウエハ処理部１４とを備えている。
【００１６】
このうちキャリア搬入搬出部１２には、キャリア１１を載置するキャリアステージ１５が設けられている。このキャリアステージ１５には、密閉状の開閉扉１６が形成されている。また、開閉扉１６の内側には、キャリア搬送機構１７とキャリアストック１８とキャリア載置台１９とが配設されている。
【００１７】
そして、キャリア搬入搬出部１２では、キャリア搬送機構１７によってキャリアステージ１５に載置されたキャリア１１をキャリア載置台１９に搬入するようにしている。また、キャリア１１は、必要に応じてキャリア搬送機構１７によってキャリアストック１８に一時的に保管される。
【００１８】
また、キャリア搬入搬出部１２では、ウエハ処理部１４で処理が完了したウエハＷが収容されたキャリア１１が、搬入時とは逆に、キャリア載置台１９に載置される。このキャリア１１は、キャリア搬送機構１７によってキャリアステージ１５に搬出されるようになっている。また、この場合においても、キャリア１１は、必要に応じてキャリア搬送機構１７によってキャリアストック１８に一時的に保管される。
【００１９】
ウエハ搬入搬出部１３は、キャリア搬入搬出部１２側に形成された密閉状の開閉扉２０を有している。この開閉扉２０の内側には、ウエハ搬入搬出機構２１とウエハ搬送機構３０の始端部とが配設されている。
【００２０】
そして、ウエハ搬入搬出部１３では、キャリア搬入搬出部１２のキャリア載置台１９上のキャリア１１に収容されたウエハＷが、ウエハ搬入搬出機構２１によってウエハ搬送機構３０に搬入される。また、ウエハ搬送機構３０によって、ウエハ処理部１４にウエハＷが搬送される。このウエハ搬送機構３０は、ウエハＷを保持する保持体４０を有するとともに、レール３１に沿って直線移動可能となっている。
【００２１】
一方、ウエハ処理部１４で処理が完了したウエハＷは、ウエハ搬送機構３０によってウエハ処理部１４からウエハ搬入搬出機構２１に搬送される。また、このウエハＷは、ウエハ搬入搬出機構２１によって、ウエハ搬送機構３０からキャリア搬入搬出部１２のキャリア載置台１９上のキャリア１１に搬出されるようになっている。
【００２２】
ウエハ処理部１４は、ウエハＷの洗浄処理を行う第１〜第３のウエハ洗浄装置２２、２３、２４と、ウエハＷの洗浄処理及び乾燥処理を行うウエハ洗浄乾燥装置２５と、ウエハ搬送機構３０の保持体４０を洗浄する洗浄装置５０とを並べて配設するとともに、これら各装置２２、２３、２４、２５、５０に沿ってウエハ搬送機構３０を配設している。
【００２３】
そして、ウエハ処理部１４では、ウエハ搬送機構３０によってウエハ搬入搬出部１３からウエハＷを第１〜第３のウエハ洗浄装置２２、２３、２４やウエハ洗浄乾燥装置２５に搬送して、ウエハＷの洗浄処理や乾燥処理を行い、その後、処理後のウエハＷをウエハ搬送機構３０によってウエハ搬入搬出部１３へ再び搬送するようにしている。
【００２４】
また、ウエハ処理部１４では、ウエハ搬送機構３０の保持体４０を洗浄装置５０で洗浄し、保持体４０に付着した汚染物がウエハＷに転写しないようにしている。
【００２５】
この洗浄装置５０は、図２に示すように、ウエハ搬送機構３０の前方（図２の左方）に配設されたケーシング５１と、ケーシング５１の側面及び前面に形成され、ウエハ搬送機構３０の保持体４０を挿通するケーシング開口５２とを有している。このケーシング開口５２からケーシング５１の内部に保持体４０が収容されるようになっている。
【００２６】
また、洗浄装置５０は、ケーシング５１の内部に収容した保持体４０に沿って移動可能な洗浄乾燥手段６０と、洗浄乾燥手段６０を移動させる移動手段５３と、ケーシング５１の内部にエアーを噴出するエアー噴出手段５４とを有している。
【００２７】
以下に、ウエハ搬送機構３０、洗浄乾燥手段６０、およびエアー噴出手段５４の構成について説明する。
【００２８】
まず、ウエハ搬送機構３０の構成について説明する。ウエハ搬送機構３０は、図２及び図３（ａ）（ｂ）に示すように、第１〜第３のウエハ洗浄装置２２、２３、２４およびウエハ洗浄乾燥装置２５に沿って移動可能な移動体（駆動部）３２を有している。この移動体３２に、上述した保持体４０が連結されている。
【００２９】
図３（ｂ）に示すように、保持体４０は、ウエハＷの下部を保持する下部保持体４０Ａと、ウエハＷの左右側部を保持する一対の左右保持体４０Ｂ、４０Ｃとから構成されている。各保持体４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃの一面（上面）には、ウエハＷを１枚ずつ保持する保持溝４１が長手方向（Ｙ軸方向）に沿って複数個並べて形成されている。なお、各保持溝４１の側面形状はＶ字状であっても良く、あるいはＹ字状、Ｕ字状、凹字状（コ字状）であっても良い。
【００３０】
また、下部保持体４０Ａは、移動体３２の中央部から突出する固定軸４２Ａに対して固定アーム４３Ａを介して取付けられている。さらに、左右保持体４０Ｂ、４０Ｃは、移動体３２の左右側部から突出する回動軸４２Ｂ、４２Ｃに対して回動アーム４３Ｂ、４３Ｃを介して取付けられている。
【００３１】
この場合、下部保持体４０Ａは移動体３２に固定されており、左右保持体４０Ｂ、４０Ｃは移動体３２に対して回動可能に取付けられている。そして、左右保持体４０Ｂ、４０Ｃは、ウエハＷを保持する時には、回動軸４２Ｂ、４２Ｃを回転駆動することにより、図３（ｂ）に示すように、回動アーム４３Ｂ、４３Ｃにより左右外側に跳ね上げられる。これにより左右保持体４０Ｂ、４０Ｃの各保持溝４１が内側に向けられ、ウエハＷの左右端部を保持する保持姿勢（図３（ｂ）中、二点鎖線で示す状態）となる。一方、洗浄時には、回動軸４２Ｂ、４２Ｃを回転駆動することにより、回動アーム４３Ｂ、４３Ｃを下方に垂下させ、保持溝４１を外側に傾斜状に向けた洗浄姿勢（図３（ｂ）中、実線で示す状態）とする。このように、左右保持体４０Ｂ、４０Ｃは、保持姿勢と洗浄姿勢とに姿勢変更可能となっている。
【００３２】
ここで、左右保持体４０Ｂ、４０Ｃは、保持姿勢では外側に移動して左右の間隔が拡大し、洗浄姿勢では内側に移動して左右の間隔が縮小するようになっており、洗浄姿勢のほうが保持姿勢よりも小型化されている。このように、左右保持体４０Ｂ、４０Ｃの洗浄姿勢を保持姿勢よりも小型化されることによって、洗浄装置５０の小型化を図ることができる。
【００３３】
また、洗浄乾燥手段６０のカバー６２には、開口６１ａ、６１ｂがそれぞれ複数形成されており、保持体４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃは、各々対応する開口６１ａ、６１ｂを通過するようになっている。なお、本明細書および図面において、各保持体４０Ａ〜４０Ｃを単に保持体４０ともいう。
【００３４】
次に、洗浄乾燥手段６０の構成について図２、図４〜図８を用いて説明する。
【００３５】
図２に示すように、洗浄乾燥手段６０は、移動手段５３によって保持体４０の長手方向に沿って保持体４０に対して往復移動するように構成されている。
【００３６】
また、図４に示すように、洗浄乾燥手段６０は、カバー６２と、カバー６２内に設けられ、保持体４０に対して洗浄液を吐出する洗浄機構６３とを備えている。
【００３７】
このうちカバー６２は、天面６２ａと、先端側（Ｙ軸プラス側）側面６２ｂと、基端側（Ｙ軸マイナス側）側面６２ｃとを有している。このうち先端側側面６２ｂと基端側側面６２ｃとには、それぞれ保持体４０が通過する先端側開口６１ａと基端側開口６１ｂとが形成されている。このうち基端側開口６１ｂは保持体４０が移動体３２側から通過する開口となっている。なお、カバー６２の底面６２ｄは開放されており、洗浄機構６３からの洗浄液はカバー６２の底面６２ｄから外方に排出されるようになっている。
【００３８】
また洗浄機構６３は、洗浄液を供給する洗浄液供給部６５と、保持体４０の上方に設けられ、洗浄液供給部６５からの洗浄液を保持体４０に吐出する洗浄液吐出部６４とを有している。このうち洗浄液吐出部６４には、洗浄液供給源６６が開閉バルブ６７を介して連通連結されている（図２）。これにより、開閉バルブ６７を開放状態とした際、洗浄液供給源６６から供給される洗浄液が、洗浄液供給部６５を介して洗浄液吐出部６４から保持体４０に向けて噴出されるようになっている。なお、洗浄機構６３で用いられる洗浄液としては、例えば純水を挙げることができる。
【００３９】
また、図４および図５に示すように、カバー６２内であって洗浄機構６３と基端側開口６１ｂとの間には、第１の気体噴出機構７０が設けられている。さらに、カバー６２内であって第１の気体噴出機構７０と基端側開口６１ｂとの間には、保持体４０に対して第２の気体を噴出する第２の気体噴出機構８０が設けられている。
【００４０】
このうち第１の気体噴出機構７０は、保持体４０に対して第１の気体（乾燥ガス）を噴出することにより、保持体４０に付着した洗浄液を乾燥し、除去するものである。
【００４１】
すなわち図５に示すように、第１の気体噴出機構７０は、保持体４０が通過する開口７１を有する本体部７２と、開口７１の内周面７１ａに設けられ、それぞれ第１の気体を噴出する複数の噴出口（乾燥ガス噴出口）７３とを有している。このうち開口７１は、保持体４０の周囲を取り囲む環形状を有しており、保持体４０の長手方向側から見て例えば円形状又は楕円形状とすることができる。
【００４２】
また、複数の噴出口７３は、開口７１の内周面７１ａの周方向全体にわたって所定間隔で配置されており、これにより、第１の気体を保持体４０の全周に亘って噴出することができる。また、各噴出口７３はそれぞれ平面略円形状を有している。なお、各噴出口７３から第１の気体を噴出する方向は、保持体４０の長手方向（Ｙ軸方向）に対して垂直とすることが好ましい。これにより、噴出口７３からの第１の気体を保持溝４１の（Ｙ軸方向）中央部に対して確実に到達させることができ、保持溝４１内に残留する洗浄液を効果的に除去することができる。
【００４３】
また各噴出口７３には、第１の気体供給源７４が開閉バルブ７５を介して連通連結されている（図２）。これにより、開閉バルブ７５を開放状態とした際、第１の気体供給源７４から供給される第１の気体が、噴出口７３から保持体４０の保持溝４１に向けて噴出されるようになっている。なお、第１の気体としては、例えば窒素ガスまたは空気を用いることができる。また、第１の気体は加熱されたガスであっても良い。
【００４４】
一方、第２の気体噴出機構８０は、保持体４０に対して第２の気体を噴出することにより、保持体４０の周囲にエアーカーテンＡ（図６および図７）を形成し、これにより保持体４０に付着した洗浄液がカバー６２外方に飛散することを防止するものである。
【００４５】
このような第２の気体噴出機構８０は、図４〜図８に示すように、保持体４０が通過する開口８１を有する本体部８２と、本体部８２の開口８１の内周面８１ａに設けられ、第２の気体を噴出するスリット形状の噴出口であるスリット部８３、および第２の気体を噴出する噴出口８４とを有している。
【００４６】
このうち開口８１は、保持体４０の周囲を取り囲む環形状を有しており、保持体４０の長手方向側から見て例えば円形状又は楕円形状とすることができる。なお、本実施の形態において、第２の気体噴出機構８０の開口８１は、第１の気体噴出機構７０の開口７１よりも大きく構成されている。なお、第２の気体噴出機構８０の開口８１と第１の気体噴出機構７０の開口７１の大きさの関係については、これに限られるものではない。開口８１と開口７１が同じ大きさで構成されていてもよく。開口８１が開口７１よりも小さく構成されていてもよい。
【００４７】
また、スリット部８３は、少なくとも保持体４０の保持溝４１に対向する位置（この場合は開口８１の上側）に設けられており、均一な幅（Ｙ軸方向の長さ）で帯状に延びている。このスリット部８３は、保持体４０の保持溝４１に対して第２の気体を噴出することにより、とりわけ保持体４０の保持溝４１に残存する洗浄液がかき乱されカバー６２外方に飛散することを防止する役割を果たす。
【００４８】
また、スリット部８３から第２の気体を噴出する方向は、開口８１の反対側であって第１の気体噴出機構７０側に向けられており、かつ図７に示すように、保持体４０の長手方向（Ｙ軸方向）に沿う軸線に対して所定角度αだけ傾斜している。スリット部８３には、第２の気体を供給する連通路８３ａが連通連結されており、この連通路８３ａは、その断面において、保持体４０の長手方向（Ｙ軸方向）に沿う軸線に対して所定角度αだけ傾斜している。
【００４９】
具体的には、角度αは、３０°〜７５°（３０°以上かつ７５°以下を意味する。以下同様）とすることが好ましく、５５°〜６５°とすることが更に好ましい。角度αを上記範囲とすることにより、保持体４０に付着した洗浄液がカバー６２外方に飛散することを防止しやすくなり、かつスリット部８３から噴出される第２の気体によって第１の気体の流れが攪乱されることを防止することができる。
【００５０】
また、図８に示すように、スリット部８３は、長手方向に沿う軸線（Ｙ軸）に対して垂直な平面上で、所定角度βの範囲に拡がって設けられている。具体的には、角度βは、９０°〜１８０°とすることが好ましく、１２０°〜１５０°とすることが更に好ましい。角度βを上記範囲とすることにより、保持体４０の保持溝４１に残存する洗浄液がカバー６２外方に飛散することを効果的に防止することができるとともに、洗浄装置５０全体に必要とされるエネルギー（用力）を節約することができる。
【００５１】
さらに、図４〜図８に示すように、本体部８２の開口８１の内周面８１ａであって、保持溝４１が設けられていない領域（すなわち保持体４０の両側面及び下面）に対向する位置に、当該領域に向けて第２の気体を噴出する噴出口８４が設けられている。この噴出口８４は、開口８１の内周面８１ａに沿って所定間隔に複数（この場合は９個）設けられている。また、各噴出口８４はそれぞれ平面略円形状を有している。しかしながら、これに限られるものではなく、各噴出口８４は、例えば小さいスリット形状を有していても良い。
【００５２】
また、噴出口８４から第２の気体を噴出する方向は、開口８１の反対側であって第１の気体噴出機構７０側に向けられており、かつ保持体４０の長手方向（Ｙ軸方向）に沿う軸線に対して所定角度γだけ傾斜している（図７）。各噴出口８４には、それぞれ第２の気体を供給する連通路８４ａが連通連結されており、各連通路８４ａは、その断面において、保持体４０の長手方向（Ｙ軸方向）に沿う軸線に対して所定角度γだけ傾斜している。
【００５３】
この場合、角度γは、３０°〜７５°とすることが好ましく、５５°〜６５°とすることが更に好ましい。なお、本実施の形態において、上記角度γは、スリット部８３から第２の気体を噴出する角度αと同一（すなわちα＝γ）であるが、これに限られるものではない。角度αと角度γとが互いに異なるようにしても良い。
【００５４】
なお、スリット部８３は、少なくとも保持体４０の保持溝４１に対向する位置に設けられていれば良い。したがって、スリット部８３が開口８１の内周面８１ａの全周にわたって形成されていても良い（すなわち上記角度βが３６０°となるようにしても良い）。これにより、保持体４０のうち保持溝４１が設けられていない側（例えば保持体４０の側面及び下面）にもエアーカーテンＡが形成されるので、洗浄液がカバー６２外方に飛散することをより確実に防止することができる。この場合、噴出口８４を設けなくても良く、あるいは噴出口８４に加えて、内周面８１ａの全周にスリット部８３を形成しても良い。
【００５５】
またスリット部８３および各噴出口８４には、第２の気体供給源８５が開閉バルブ８６を介して連通連結されている（図２）。これにより、開閉バルブ８６を開放状態とした際、第２の気体供給源８５から供給される第２の気体が、スリット部８３および噴出口８４からそれぞれ保持体４０に向けて噴出されるようになっている。
【００５６】
なお、第２の気体としては、例えば窒素ガスまたは空気を用いることができる。また、第２の気体は、第１の気体と同一種類のガスであっても良く、異なる種類のガスであっても良い。
【００５７】
また、第２の気体噴出機構８０のスリット部８３および複数の噴出口８４から単位時間あたりに噴出される第２の気体の量は、第１の気体噴出機構７０の複数の噴出口７３から単位時間あたりに噴出される第１の気体の量より多いことが好ましい。例えば、スリット部８３および複数の噴出口８４から噴出される第２の気体の量は、複数の噴出口７３から噴出される第１の気体の量の１．５倍〜１０倍としても良い。これにより、保持体４０上の洗浄液がカバー６２の外方に飛散することをより確実に防止することができる。
【００５８】
次に、図２を用いてエアー噴出手段５４の構成について説明する。エアー噴出手段５４は、ケーシング５１の上部に配設した上部エアー噴出ユニット５５と、ケーシング５１の側面側のケーシング開口５２の上部に配設した側部エアー噴出ユニット５６とを有している。各ユニット５５、５６には、開閉バルブ５９を介してエアーを供給するエアー供給源５８が連通連結されている。
【００５９】
このうち上部エアー噴出ユニット５５は、ケーシング５１の内部全体に下方に向けてエアーを噴出し、ケーシング５１の内部に全体的に下方に流動する雰囲気を形成し、洗浄液の散乱を防止する。また、側部エアー噴出ユニット５６は、ケーシング５１のケーシング開口５２の上部から下方に向けてエアーを噴出し、ケーシング開口５２にエアーカーテンを形成することにより、洗浄液がケーシング開口５２から漏れ出るのを防止している。なお、ケーシング５１のケーシング開口５２から洗浄液が漏れ出るの防止する手段としてはエアーカーテンに限られることはなく、例えば板状の部材にてケーシング開口５２を開閉するシャッター機構が設けられていてもよい。
【００６０】
以上のように構成される洗浄装置５０を含む基板処理装置１０は、制御機構９０（図１）に設けた記憶媒体９１に記録された各種のコンピュータプログラムに従って制御機構９０により駆動制御され、これにより基板Ｗに対する様々な処理が行われる。ここで、記憶媒体９１は、各種の設定データや後述する洗浄プログラム等の各種のプログラムを格納している。記憶媒体９１としては、コンピュータで読み取り可能なＲＯＭやＲＡＭなどのメモリーや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭやフレキシブルディスクなどのディスク状記憶媒体などの公知のものが使用され得る。
【００６１】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。以下において、洗浄装置５０は、制御機構９０の記憶媒体９１に記録された洗浄プログラムに従って、保持体４０を洗浄するよう駆動制御される。
【００６２】
まず、洗浄装置５０は、移動手段５３によって洗浄乾燥手段６０をケーシング５１の後端部側（図２中、左側）に予め移動させておく。次いで、ウエハ搬送機構３０の保持体４０を保持姿勢から洗浄姿勢に姿勢変更する（図３（ｂ）参照）。その後、ウエハ搬送機構３０の移動体３２を移動させ、ウエハ搬送機構３０の保持体４０をケーシング５１の内部に収容する。
【００６３】
次に、洗浄装置５０は、エアー噴出手段５４によって上部エアー噴出ユニット５５、側部エアー噴出ユニット５６からエアーを噴出する。
【００６４】
また、開閉バルブ８６を開放状態とすることで、第２の気体供給源８５から第２の気体を供給し、この第２の気体は、第２の気体噴出機構８０のスリット部８３および噴出口８４から噴出される。この場合、第２の気体は、スリット部８３および噴出口８４から開口８１の反対側であって保持体４０の長手方向に沿う軸線に対して所定角度αだけ傾斜した方向に向けて噴出される。
【００６５】
なお、第２の気体は、洗浄機構６３が洗浄液を吐出する間、および第１の気体噴出機構７０が第１の気体を噴出する間において少なくとも第１の気体噴出機構７０が第１の気体を噴出する間に実行される。とりわけ、これ以降、第１の気体噴出機構７０によって保持体４０を乾燥する作業が完了するまで、第２の気体噴出機構８０から第２の気体が噴出され続けるようにすることが好ましい。
【００６６】
次に、開閉バルブ６７を開放状態とすることで、洗浄液供給源６６から洗浄液が供給され、洗浄液が洗浄機構６３の洗浄液吐出部６４から吐出される。続いて、移動手段５３によって洗浄乾燥手段６０をケーシング５１の後端部側から前端部側（図２において、保持体４０の先端側（左側）から基端側（右側））に向けて移動させる。
【００６７】
このように洗浄乾燥手段６０が移動する間、洗浄機構６３の洗浄液吐出部６４によって保持体４０の保持溝４１に向けて上方から洗浄液が吐出される。これにより、保持体４０の保持溝４１に付着した汚染物が洗浄される。なお、洗浄後の洗浄液は、カバー６２の底面６２ｄから外方に排出される。
【００６８】
このように洗浄機構６３を用いて洗浄液を吐出している間、第２の気体がスリット部８３および噴出口８４から開口８１の反対側であって保持体４０の長手方向に沿う軸線に対して傾斜した方向に噴出され続ける。このことにより、保持体４０に向けて吐出された洗浄液がカバー６２の外方に飛散することが防止される。
【００６９】
その後、洗浄乾燥手段６０は、移動手段５３によってケーシング５１の前端部側（図２において、保持体４０の基端側（右側））まで移動した後に停止する。このとき、開閉バルブ６７を閉塞状態とすることで、洗浄機構６３からの洗浄液の吐出が停止する。
【００７０】
次に、洗浄装置５０は、移動手段５３によって洗浄乾燥手段６０をケーシング５１の前端部側から後端部側（図２において、保持体４０の基端側（右側）から先端側（左側））に移動させる。また、開閉バルブ７５を開放状態とすることで、第１の気体供給源７４から第１の気体（乾燥ガス）が供給され、第１の気体が第１の気体噴出機構７０の各噴出口７３から吐出される。この第１の気体により、保持体４０の保持溝４１に付着した洗浄液を乾燥し、除去する。
【００７１】
とりわけ、各噴出口７３から第１の気体を噴出する方向は、保持体４０の長手方向（Ｙ軸方向）に対して垂直となっているので、第１の気体を保持溝４１の中央部に対して確実に到達させることができ、保持溝４１内に残留する洗浄液を効果的に除去することができる。
【００７２】
また、第１の気体噴出機構７０を用いて洗浄液を乾燥している間、第２の気体がスリット部８３および噴出口８４から保持体４０に向けて噴出され続ける。これにより、保持体４０上に残存する洗浄液の液滴がカバー６２の外方に飛散することが防止される。
【００７３】
その後、洗浄乾燥手段６０は、移動手段５３によってケーシング５１の後端部側（図２において、保持体４０の先端側（左側））まで移動した後に停止する。
【００７４】
その後、必要に応じて、洗浄乾燥手段６０を保持体４０の長手方向に沿って更に１往復以上往復移動させるとともに、第１の気体噴出機構７０から保持体４０に対して第１の気体を噴出しても良い。これにより、保持溝４１内に残留する洗浄液をより確実に除去することができる。なお、この間も、第２の気体がスリット部８３および噴出口８４から保持体４０に向けて噴出され続けている。
【００７５】
その後、洗浄乾燥手段６０がケーシング５１の後端部側（保持体４０の先端側（図２の左側））まで移動した状態で、開閉バルブ７５を閉塞状態とすることにより、第１の気体噴出機構７０からの第１の気体の噴出を停止する。また、開閉バルブ８６を閉塞状態とすることにより、第２の気体噴出機構８０からの第２の気体の噴出を停止する。
【００７６】
さらに、エアー噴出手段５４の上部エアー噴出ユニット５５、側部エアー噴出ユニット５６からエアーの噴出を停止する。
【００７７】
このようにして、洗浄装置５０による保持体４０の洗浄が完了する。
【００７８】
以上に説明したように、本実施の形態によれば、第２の気体噴出機構８０は、少なくとも保持体４０の保持溝４１に対向する位置に設けられ、保持溝４１に対して第２の気体を噴出するスリット部８３を有している。また、スリット部８３から第２の気体を噴出する方向は、開口８１の反対側に向けられている。このことにより、第１の気体噴出機構７０の噴出口７３から噴出された第１の気体によって保持体４０上の洗浄液がカバー６２の外方（特に移動体３２側）に飛散することを防止することができる。とりわけ、スリット部８３から噴出される第２の気体によってエアーカーテンＡが形成されるので、保持体４０の保持溝４１に残留する洗浄液を効果的に除去することができる。これにより、保持体４０をレール３１に沿って移動させた際、洗浄液が保持体４０からウエハ搬入搬出部１３やウエハ処理部１４に落下する不具合を防止することができる。
【００７９】
また、本実施の形態によれば、第２の気体噴出機構８０は、保持体４０のうち保持溝４１が設けられていない領域（この場合は側面及び下面）に対向する位置に設けられ、当該領域に向けて第２の気体を噴出する噴出口８４を有している。また、噴出口８４から第２の気体を噴出する方向は、開口８１の反対側に向けられている。このことにより、保持体４０のうち保持溝４１が設けられていない領域に残存する洗浄液がカバー６２の外方に飛散することも防止することができる。
【００８０】
変形例
以下、本実施の形態の各種変形例について説明する。
【００８１】
上記実施の形態では、図４に示すように、第１の気体噴出機構７０および第２の気体噴出機構８０は、カバー６２内の基端側開口６１ｂ側に設けられており、これにより洗浄液が移動体３２側に飛散することを防止している。しかしながら、これに限らず、第１の気体噴出機構７０および第２の気体噴出機構８０を、カバー６２内の先端側開口６１ａ側に設けても良い。また、第１の気体噴出機構７０および第２の気体噴出機構８０を、カバー６２内の先端側開口６１ａ側および基端側開口６１ｂ側の両方に設けても良い。
【００８２】
また、上記実施の形態では、保持体４０が静止した状態で洗浄乾燥手段６０が移動するようになっているが、これに限らず、洗浄乾燥手段６０が静止した状態で保持体４０を移動するようにしても良い。また、洗浄乾燥手段６０および保持体４０の両方が移動するようにしても良い。
【００８３】
また、上記実施の形態において、均一な幅を有する１本のスリット形状の噴出口であるスリット部８３が開口８１の内周面８１ａ上で帯状に延びているが、これに限られるものではない。
【００８４】
例えば、図９（ａ）に示すように、スリット部８３のうち保持溝４１に対向する中央部分の幅を最も太くし、中央部分から離れるにつれてその幅が徐々に細くなるようにしても良い。この場合、第２の気体を保持溝４１に対して重点的に噴出することができる。
【００８５】
また、図９（ｂ）に示すように、スリット部８３を複数本（例えば２本）設け、これらのスリット部８３が互いに同一の周上に位置するようにしていても良い。図９（ｂ）において、２本のスリット部８３の間には、第２の気体を噴出しない非噴出部８７が洗浄液の飛散に影響しない程度に形成されている。この場合、例えば、２本のスリット部の各々から噴出する気体の量は同じであってもよく、飛散の状態に合わせて各々の気体の量を変えてもよい。
【００８６】
また、図９（ｃ）に示すように、スリット部８３を複数本（例えば２本）設け、これらのスリット部８３が保持体４０の長手方向（Ｙ軸方向）にずれて配置されるようにしても良い。図９（ｃ）において、保持溝４１の上方に２本のスリット部８３が部分的に重なる重複部８８が設けられている。この場合、第２の気体を保持溝４１の中央部に対して重点的に噴出することができる。また、重複部８８が設けられていることでスリット部８３を複数本のスリット部で形成した場合であっても洗浄液の飛散をより確実に防止することができる。
【符号の説明】
【００８７】
１０        基板処理装置
４０        保持体
４１        保持溝
５０        洗浄装置
５３        移動手段
６０        洗浄乾燥手段
６１ａ      先端側開口
６１ｂ      基端側開口
６２        カバー
６３        洗浄機構
７０        第１の気体噴出機構
７１        開口
７２        本体部
７３        噴出口
８０        第２の気体噴出機構
８１        開口
８２        本体部
８３        スリット部
８４        噴出口
９０        制御機構
９１        記憶媒体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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