(57)【要約】【課題】  剥離の危険性を軽減しシミの発生を軽減する。【解決手段】  Ｘ字状の腕部とこのＸ字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第一マスクと十字状の腕部とこの十字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第二マスクとを用い、２つの透明部材ウェハのうち、一方の透明部材ウェハに第一マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウェハ金属膜形成工程と、他方の透明部材ウェハに第二マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウェハ金属膜形成工程と、一方の透明部材ウェハと他方の透明部材ウェハとを重ねて接合する接合工程と、接合された２つの透明部材ウェハを切断して個々の光学デバイスとする個片工程と、を含んで構成されることを特徴とする。【選択図】      図１
2014186173.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの透明部材を接合して構成される光学デバイスの製造方法であって、
少なくとも１つの第一腕部とこの第一腕部と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第一マスクと前記第一マスクの前記第一腕部とは異なる方向に設けられる少なくとも１つの第二腕部とこの第二腕部と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第二マスクとを用い、
複数の透明部材となる部分を有する２つの透明部材ウェハのうち、
一方の透明部材ウェハに第一マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウェハ金属膜形成工程と、
他方の透明部材ウェハに第二マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウェハ金属膜形成工程と、
前記一方の透明部材ウェハと前記他方の透明部材ウェハとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する接合工程と、
接合された前記２つの透明部材ウェハを切断して個々の光学デバイスとする個片工程と、
を含んで構成されることを特徴とする光学デバイスの製造方法。
【請求項２】
２つの透明部材を接合して構成される光学デバイスの製造方法であって、
Ｘ字状の第一腕部とこのＸ字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第一マスクと十字状の第二腕部とこの十字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第二マスクとを用い、
複数の透明部材となる部分を有する２つの透明部材ウェハのうち、
一方の透明部材ウェハに第一マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウェハ金属膜形成工程と、
他方の透明部材ウェハに第二マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウェハ金属膜形成工程と、
前記一方の透明部材ウェハと前記他方の透明部材ウェハとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する接合工程と、
接合された前記２つの透明部材ウェハを切断して個々の光学デバイスとする個片工程と、
を含んで構成されることを特徴とする光学デバイスの製造方法。
【請求項３】
前記透明部材の一方の主面に反射膜が設けられ他方の主面に反射防止膜が設けられ、前記反射防止膜の上に前記金属膜が設けられて構成されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学デバイスの製造方法。
【請求項４】
前記金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いて行われることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の光学デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学機器に用いられる光学デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光通信、測定機器、半導体レーザなどの光学機器にはエタロンや１／２波長板や１／４波長板などの光学デバイスが用いられている。
これら光学デバイスは、複数枚の透明部材を張り合わせて構成されたものがある。
例えば、光学デバイスをエタロンとして説明すると、２つ透明部材を接合して構成されるエアギャップ型が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
このような光学デバイスは、透明部材の表面に接合のための金属膜を設けており、金属膜同士を重ね合わせた状態で接合して光学デバイスとしている。
また、光学デバイスは、例えば、光が透過する経路部分に内部空間をあけて複数の透明部材を接合した状態のものも提案されている（例えば、特許文献１参照）。
また、複数の透明部材を接合して構成される光学デバイスを製造する場合、例えば、枠部と内部空間の形状となるパターン部とこのパターン部と枠部とをつなぐ腕部とからなるマスクが用いられ、このマスクを透明部材に重ね合わせた状態でマスクの隙間に金属膜を形成させる。
この場合、腕部部分には金属膜が設けられないため、例えば、特許文献２で開示されているような外部と連通する凹部が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献２】特開平０９−２５７５６７号公報
【特許文献２】特開平０６−２５８６１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような、従来の光学デバイスでは、内部空間と光デバイスの外部空間とが連通する凹部が形成されることにより、透明部材に金属膜が設けられない部分が存在することとなり、長期に使用する場合に金属膜が剥離する危険性があった。
また、接合する透明部材に用いられるマスクは同一形状のパターンであったために、透明部材に金属膜が設けられない部分が重なって部空間と内部空間とがつながる経路が形成されるため、高温高湿の使用環境において、透明部材にシミが発生することがあった。
【０００５】
そこで、本発明では、前記した問題を解決し、剥離の危険性を軽減しシミの発生を軽減する光学デバイスを提供することを課題とする。
【０００６】
そこで、本発明では、前記した問題を解決し、剥離の危険性を軽減し異物が混入しにくくなる光学デバイスを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため、本発明は、２つの透明部材を接合して構成される光学デバイスの製造方法であって、少なくとも１つの第一腕部とこの第一腕部と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第一マスクと前記第一マスクの前記第一腕部とは異なる方向に設けられる少なくとも１つの第二腕部とこの第二腕部と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第二マスクとを用い、複数の透明部材となる部分を有する２つの透明部材ウェハのうち、一方の透明部材ウェハに第一マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウェハ金属膜形成工程と、他方の透明部材ウェハに第二マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウェハ金属膜形成工程と、前記一方の透明部材ウェハと前記他方の透明部材ウェハとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する接合工程と、接合された前記２つの透明部材ウェハを切断して個々の光学デバイスとする個片工程と、を含んで構成されることを特徴とする。
【０００８】
また、前記課題を解決するため、本発明は、２つの透明部材を接合して構成される光学デバイスの製造方法であって、Ｘ字状の第一腕部とこのＸ字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第一マスクと十字状の第二腕部とこの十字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部とこのパターン部に接続する枠部からなる第二マスクとを用い、複数の透明部材となる部分を有する２つの透明部材ウェハのうち、一方の透明部材ウェハに第一マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第一透明部材ウェハ金属膜形成工程と、他方の透明部材ウェハに第二マスクを重ねてパターン部と枠部との間に金属膜を設ける第二透明部材ウェハ金属膜形成工程と、前記一方の透明部材ウェハと前記他方の透明部材ウェハとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する接合工程と、接合された前記２つの透明部材ウェハを切断して個々の光学デバイスとする個片工程と、を含んで構成されることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明は、前記透明部材の一方の主面に反射膜が設けられ他方の主面に反射防止膜が設けられ、前記反射防止膜の上に前記金属膜が設けられて構成されても良い。
また、本発明は、前記金属膜を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いて行われても良い。
【発明の効果】
【００１０】
このような光学デバイスの製造方法によれば、第一マスクと第二マスクとがパターンが異なっており、第一マスク及び第二マスクの腕部の跡が重ならないため透明部材へのシミの発生を軽減することができる。また、第一マスク及び第二マスクの腕部の跡となる部分と対抗する透明部材の面には金属膜が設けられているため、剥離を生じにくくさせることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの一例を示す斜視図である。
【図２】（ａ）は第一マスクを一方の透明部材ウェハに重ねる前の状態を示す斜視図であり、（ｂ）は第一マスクを一方の透明部材ウェハに重ねた状態を示す斜視図である。
【図３】一方の透明部材ウェハに金属膜を設けた一例を示す斜視図である。
【図４】（ａ）は第二マスクを他方の透明部材ウェハに重ねる前の状態を示す斜視図であり、（ｂ）は第二マスクを他方の透明部材ウェハに重ねた状態を示す斜視図である。
【図５】他方の透明部材ウェハに金属膜を設けた一例を示す斜視図である。
【図６】（ａ）は一方の透明部材ウェハと他方の透明部材ウェハとを接合する前の状態を示す斜視図であり、（ｂ）は一方の透明部材ウェハと他方の透明部材ウェハとを接合した状態の一例を示す斜視図である。
【図７】本発明の第二の実施形態に係る光学デバイスの一例を示す斜視図である。
【図８】（ａ）は第一マスクを一方の透明部材ウェハに重ねる前の状態を示す斜視図であり、（ｂ）は第一マスクを一方の透明部材ウェハに重ねた状態を示す斜視図である。
【図９】一方の透明部材ウェハに金属膜を設けた一例を示す斜視図である。
【図１０】（ａ）は第二マスクを他方の透明部材ウェハに重ねる前の状態を示す斜視図であり、（ｂ）は第二マスクを他方の透明部材ウェハに重ねた状態を示す斜視図である。
【図１１】他方の透明部材ウェハに金属膜を設けた一例を示す斜視図である。
【図１２】（ａ）は一方の透明部材ウェハと他方の透明部材ウェハとを接合する前の状態を示す斜視図であり、（ｂ）は一方の透明部材ウェハと他方の透明部材ウェハとを接合した状態の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
次に、本発明を実施するための最良の形態（以下、「実施形態」という。）について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各構成要素について、状態をわかりやすくするために、誇張して図示している。
なお、光が入射及び出射する面を主面とし、この主面を囲む面を側面とする。
【００１３】
（第一の実施形態）
（光学デバイス）
図１に示すように、本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１１は、例えば、２つの透明部材２０，２０を接合して構成されている。
【００１４】
透明部材２０は、例えば、厚みが均一に形成された四角形状の平板状の透明材質の部材が用いられ、例えば、ガラスや水晶などが用いられる。なお、この透明部材２０は、側面側から見たときに台形形状となっていても良い。
【００１５】
これら透明部材２０は、一方の主面に反射膜２１が設けられ、他方の主面に反射防止膜２２が設けられている。
これら透明部材２０の反射防止膜２２上に主面の中央部分とその中央部分から外側に伸びる少なくとも２つの直線を除いて金属膜２３が設けられている。
【００１６】
金属膜２３は、室温における酸化物の生成自由エネルギーが正の単金属、あるいは合金からなり、薄膜状に形成されている。この金属膜２３は、例えば、下地金属としてＴａ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉなどが用いられ、この下地金属の上にＡｕ，Ｐｔ，金合金などの室温における酸化物の生成自由エネルギーが正の単金属、あるいは合金からなる。また、金属膜２３の厚みは、０．２ｎｍ以上で設けられる。
【００１７】
このような本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法について説明する。
この本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、図２〜図６に示すように、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程、接合工程、個片工程、を含んで構成されている。
【００１８】
図２（ａ）に示すように、まず、パターンの異なる２つのマスクを用意する。
第一マスク３１は、少なくとも１つの第一腕部３２とこの第一腕部３２と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部３３とこのパターン部に接続する枠部３４から構成されている。
ここでは、第一マスク３１の第一腕部３２は１つの腕部分を有する構成とする。また、第一マスク３１は、枠部３４の中央に円形のパターン部３３が設けられているとし、このパターン部３３と枠部３４とを第一腕部３２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられて構成されている。
なお、このような第一マスク３１は、第一腕部３２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
【００１９】
図４（ａ）に示すように、第二マスク４１は、第一マスク３１の第一腕部３２とは異なる方向に設けられる少なくとも１つの第二腕部４２とこの第二腕部４２と繋がる多角形又は円形で形成されたパターン部４３とこのパターン部４３に接続する枠部４４から構成されている。
ここでは、第二マスク４１の第二腕部４２は１つの腕部分を有する構成とする。また、第二マスク４１は、枠部４４の中央に円形のパターン部４３が設けられているとし、このパターン部４３と枠部４４とを第二腕部４２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられている。
なお、このような第二マスク４１は、第一腕部４２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
【００２０】
次に、透明部材２０となる透明部材ウェハ２０Ｗを用意する。この透明部材ウェハ２０Ｗは、一方の主面に反射膜２１が設けられ他方の主面に反射防止膜２２が設けられている。
【００２１】
（第一透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第一透明部材ウェハ金属膜形成工程は、図２〜図３に示すように、まず、一方の主面に反射防止膜２２が設けられ他方の主面に反射膜２１が設けられた２つの透明部材ウェハ２０Ｗのうち、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに第一マスク３１を重ねて（図２（ｂ）参照）パターン部３３と枠部３４との間に金属膜２３を設ける（図３参照）工程である。
【００２２】
この第一透明部材ウェハ金属膜形成工程により、反射防止膜２２の上に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材ウェハ２０Ｗは、第一マスク３１の第一腕部３２とパターン部３３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部３４とパターン部３３と第一腕部３２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。
金属膜を設ける際は、図示しないが、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
【００２３】
（第二透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第二透明部材ウェハ金属膜形成工程は、図４〜図５に示すように、他方の透明部材ウェハ２０Ｗに第二マスク４１を重ねて（図４（ｂ）参照）パターン部４３と枠部４４との間に金属膜２３を設ける（図５参照）工程である。
【００２４】
この第二透明部材ウェハ金属膜形成工程により、反射防止膜２２の上に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材ウェハ２０Ｗは、第二マスク４１の第二腕部４２とパターン部４３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部４４とパターン部４３と第一腕部４２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。また、第一腕部３２と第二腕部４２とは、それぞれの枠部３４，４４の中央から伸びる方向が異なっているため、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程では、第二腕部４２と重なっていた部分は、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程での第一腕部３２と重なっていた部分と重ならないようになっている。
金属膜２３を設ける際は、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
【００２５】
（接合工程）
接合工程は、図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する工程である。
この接合工程では、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３と他方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３とを重ね合わせた状態で、所定の圧力と所定の温度で接合する。なお、接合には、例えば、原子拡散接合を用いることができる。
これにより、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとが接合され、複数の光学デバイス１１を含む接合された透明部材ウェハ２０Ｗとすることができる。
【００２６】
（個片工程）
個片工程は、接合された２つの透明部材ウェハ２０Ｗ，２０Ｗを切断して個々の光学デバイス１１とする工程である。切断には、回転ブレードなどを用いることができる。
この個片工程は、第一マスク３１のパターン部３３と第二マスク４１のパターン部４３とが重なっていた部分を中心に所定の大きさで切断することによって個々の光学デバイスを得ることができる。
【００２７】
このように光学デバイスの製造方法を構成したので、第一マスク３１と第二マスク４１とがパターンが異なっており、第一マスク３１及び第二マスク４１の腕部３２，４２の跡が重ならないためシミの発生を軽減することができる。また、第一マスク３１及び第二マスク４１の腕部３２，４２の跡となる部分と対向する透明部材２０の面には金属膜２３が設けられているため、剥離を生じにくくさせることができる。
【００２８】
（第二の実施形態）
本発明の第二の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１２は、第一マスク５１の第一腕部５２の跡と第二マスク６１の第二腕部６２の跡とが異なる点で第一の実施形態と異なる。
【００２９】
（光学デバイス）
図７に示すように、本発明の第二の実施形態に係る光学デバイスの製造方法で製造される光学デバイス１２は、例えば、２つの透明部材２０，２０を接合して構成されている。
【００３０】
透明部材２０は、例えば、厚みが均一に形成された四角形状の平板状の透明材質の部材が用いられ、例えば、ガラスや水晶などが用いられる。
この透明部材２０は、一方の主面に反射膜２１が設けられ、他方の主面に反射防止膜２２が設けられている。
この透明部材２０の反射防止膜２２上に主面の中央部分とその中央部分から放射状に外側に伸びる８つの直線を除いて金属膜２３が設けられている。
【００３１】
金属膜２３は、室温における酸化物の生成自由エネルギーが正の単金属、あるいは合金からなり、薄膜状に形成されている。この金属膜２３は、例えば、下地金属としてＴａ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉなどが用いられ、この下地金属の上にＡｕ，Ｐｔ，金合金などの室温における酸化物の生成自由エネルギーが正の単金属、あるいは合金からなる。また、金属膜２３の厚みは、０．２ｎｍ以上で設けられる。
【００３２】
このような本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法について説明する。
この本発明の第一の実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、図８〜図１２に示すように、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程、接合工程、個片工程、を含んで構成されている。
【００３３】
まず、パターンの異なる２つのマスクを用意する。
図８（ａ）に示すように、第一マスク５１は、Ｘ字状の第一腕部５２とこのＸ字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部５３とこのパターン部５３に接続する枠部５４から構成されている。
ここでは、第一マスク５１は、枠部５４の中央に円形のパターン部５３が設けられているとし、このパターン部５３と枠部５４とを第一腕部５２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられて構成されている。
なお、このような第一マスク５１は、第一腕部５２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
【００３４】
図１０（ａ）に示すように、第二マスク６１は、十字状の第二腕部６２とこの十字の交差部分が多角形又は円形で形成されたパターン部６３とこのパターン部６３に接続する枠部６４から構成されている。
ここでは、第二マスク６１は、枠部６４の中央に円形のパターン部６３が設けられているとし、このパターン部６３と枠部６４とを第二腕部６２が繋いだ状態となっており、この形状が複数設けられている。
なお、このような第二マスク６１は、第一腕部６２の幅を例えば１００μｍとして構成しても良い。
【００３５】
次に、透明部材２０となる透明部材ウェハ２０Ｗを用意する。この透明部材ウェハ２０Ｗは、一方の主面に反射膜２１が設けられ他方の主面に反射防止膜２２が設けられている。
【００３６】
（第一透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第一透明部材ウェハ金属膜形成工程は、まず、一方の主面に反射防止膜２２が設けられ他方の主面に反射膜２１が設けられた２つの透明部材ウェハ２０Ｗのうち、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに第一マスク５１を重ねて（図８（ｂ）参照）パターン部５３と枠部５４との間に金属膜２３を設ける（図９参照）工程である。
【００３７】
この第一透明部材ウェハ金属膜形成工程により、反射防止膜２２の上に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材ウェハ２０Ｗは、第一マスク５１の第一腕部５２とパターン部５３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部５４とパターン部５３と第一腕部５２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。つまり、円形と透明部材２０の対角を結ぶような放射状に４本の直線が伸びるパターンを残して金属膜２３が設けられた状態となる。
金属膜２３を設ける際は、図示しないが、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
【００３８】
（第二透明部材ウェハ金属膜形成工程）
第二透明部材ウェハ金属膜形成工程は、他方の透明部材ウェハ２０Ｗに第二マスク６１を重ねて（図１０（ｂ）参照）パターン部６３と枠部６４との間に金属膜２３を設ける（図１１参照）工程である。
【００３９】
この第二透明部材ウェハ金属膜形成工程により、反射防止膜２２の上に金属膜２３が設けられた状態となる。このとき、透明部材ウェハ２０Ｗは、第二マスク６１の第二腕部６２とパターン部６３が重なっていた部分には金属膜２３が設けられておらず、枠部６４とパターン部６３と第一腕部６２で形成された間に金属膜２３が設けられた状態となる。また、第一腕部５２と第二腕部６２とは、それぞれの枠部５４，６４の中央から伸びる方向が異なっているため、第二透明部材ウェハ金属膜形成工程では、第二腕部６２と重なっていた部分は、第一透明部材ウェハ金属膜形成工程での第一腕部５２と重なっていた部分と重ならないようになっている。つまり、円形と透明部材２０の平行する辺の中心を結ぶような放射状に４本の直線が伸びるパターンを残して金属膜２３が設けられた状態となる。
金属膜２３を設ける際は、図示しないが、スパッタ技術又は蒸着技術が用いられる。これにより、所定の厚みの金属膜２３を透明部材２０の反射防止膜２２上に設けることができる。
【００４０】
（接合工程）
接合工程は、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すように、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとを重ねて所定の温度と所定の圧力でそれぞれを接合する工程である。
この接合工程では、一方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３と他方の透明部材ウェハ２０Ｗに設けられた金属膜２３とを重ね合わせた状態で、所定の圧力と所定の温度で接合する。なお、接合には、例えば、原子拡散接合を用いることができる。
これにより、一方の透明部材ウェハ２０Ｗと他方の透明部材ウェハ２０Ｗとが接合され、複数の光学デバイス１２を含む接合された透明部材ウェハ２０Ｗとすることができる。
【００４１】
（個片工程）
個片工程は、接合された２つの透明部材ウェハを切断して個々の光学デバイス１２とする工程である。切断には、回転ブレードなどを用いることができる。
この個片工程は、第一マスク５１のパターン部５３と第二マスク６１のパターン部６３とが重なっていた部分を中心に所定の大きさで切断することによって個々の光学デバイスを得ることができる。
【００４２】
このように光学デバイスの製造方法を構成したので、第一マスクと第二マスクとがパターンが異なっており、第一マスク及び第二マスクの腕部の跡が重ならないためシミの発生を軽減させることができる。また、第一マスク及び第二マスクの腕部の跡となる部分と対抗する透明部材の面には金属膜が設けられているため、剥離を生じにくくさせることができる。
【００４３】
また、このような本発明の実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、例えば、エタロン、１／２波長板、１／４波長板などの透明部材を貼りあわせて構成される光学デバイスに適用可能である。
例えば、一方の主面に反射膜が設けられ他方の主面に反射防止膜が設けられた２つの透明部材において、反射防止膜上に金属膜を設けて、金属膜同士を接合することで光学デバイスであるエタロンが構成される。
また例えば、反射膜を設けずに２つの透明部材に金属膜を設けて、互いの金属膜を接合することで光学デバイスである１／２波長板、１／４波長板が構成される。
【符号の説明】
【００４４】
１１、１２  光学デバイス
２０    透明部材
２３    金属膜
３１，５１  第一マスク
３２、５２  第一腕部
３３，５３  パターン部
３４，５４  枠部
４１，６１  第二マスク
４２、６２  第二腕部
４３，６３  パターン部
４４，６４  枠部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014186173.tif 000009
【図８】
2014186173.tif 000010
【図９】
2014186173.tif 000011
【図１０】
2014186173.tif 000012
【図１１】
2014186173.tif 000013
【図１２】
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