(57)【要約】【課題】補給水量を削減し、溶剤吸収効率を維持し、排出される処理液の揮発性有機化合物の濃度を高濃度とし設置スペースを削減する処理システムの提供。【解決手段】単一の処理塔を通過する水溶性の揮発性有機化合物を含む被処理ガスと前記処理塔へ供給される処理液とを接触させ、前記被処理ガス中の前記揮発性有機化合物を処理液に吸収させる気液接触による揮発性有機化合物低減装置であって、被処理ガスが導入される処理塔１と、処理塔へ処理液を供給する２つの並列に配置された循環槽2A，2Bと、前記循環槽の１つから処理塔へ処理液を供給すると共に処理塔から処理液を還流させる循環槽の切換え手段8、20と、処理液中の揮発性有機化合物の濃度を設定値以下で管理することで、処理ガス中の揮発性有機化合物の濃度を制御、低減する手段25と、２つの循環槽のそれぞれに設けられ、処理液を選択的に排水する排水手段23A、23Bとを有する揮発性有機化合物低減装置。【選択図】図１
2014097458.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単一の処理塔を通過する水溶性の揮発性有機化合物を含む被処理ガスと前記処理塔へ供給される処理液とを接触させ、前記被処理ガス中の前記揮発性有機化合物を処理液に吸収させる気液接触による揮発性有機化合物低減装置であって、
前記被処理ガスが導入される処理塔と、この処理塔へ処理液を供給可能な２つの並列に配置された循環槽と、前記２つの並列に配置された循環槽の何れか１つから前記処理塔へ処理液を供給させると共に処理塔から処理液を還流させる循環槽の切換え手段と、処理液中の揮発性有機化合物の濃度を設定値以下に管理することで、処理ガス中の揮発性有機化合物の濃度を制御、低減する手段と、前記２つの循環槽のそれぞれに設けられ、処理液を選択的に排水する排水手段と、前記処理塔の排気部に設けられる脱臭手段と、前記処理塔の排気部に設けられ、リアルタイムで処理ガス中の揮発性有機化合物濃度を管理する手段と、を有することを特徴とする揮発性有機化合物低減装置。
【請求項２】
２つの並列な循環槽循環配管部へ設けられて処理液中の揮発性有機化合物濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出手段の検出結果に基づき、前記循環槽切替え手段、及び前記排水手段を操作して、一の前記循環槽から前記処理塔へ処理液を送って還流させているときは、他の前記循環槽の処理液を入替え、他の前記循環槽から前記処理塔処理液を送って還流させているときは、一の前記循環槽の処理液を入れ替える制御手段と、を有することを特徴とする請求項１に記載の気液接触ＶＯＣ低減装置。
【請求項３】
前記処理液中の揮発性有機化合物の濃度を５０〜６０質量％で管理することを特徴とする請求項１に記載の揮発性有機化合物低減装置。
【請求項４】
前記揮発性有機化合物がＮ−メチル−２−ピロリドンであり、処理液中のＮ−メチル−２−ピロリドンの濃度を７０質量％以下に管理することを特徴とする請求項１に記載の揮発性有機化合物低減装置。
【請求項５】
単一の処理塔を通過する水溶性の揮発性有機化合物を含む被処理ガスと前記処理塔へ供給される処理液とを接触させ、前記被処理ガス中の前記揮発性有機化合物を処理液に吸収させる気液接触による揮発性有機化合物低減方法であって、
前記処理塔に被処理ガスを導入し、この処理塔へ処理液を供給可能な２つの並列に配置された循環槽のうちの一つの循環槽から前記処理塔へ処理液を供給させると共に処理塔から前記一つの循環槽に処理液を還流させ、前記処理液中の揮発性有機化合物濃度が所定の設定濃度となったとき、前記一つの循環槽からの前記処理塔への処理液の供給を停止させて、他の循環槽から前記処理塔へ処理液を供給させると共に処理塔から前記他の循環槽に処理液を還流させ、前記一つの循環槽の処理液を入れ替えるという操作を繰り返すことにより、処理液中の揮発性有機化合物の濃度が設定値以下となるように管理することを特徴とする揮発性有機化合物低減方法。
【請求項６】
前記揮発性有機化合物がＮ−メチル−２−ピロリドンであり、処理液中のＮ−メチル−２−ピロリドンの濃度を７０質量％以下となるように管理することを特徴とする請求項５に記載の揮発性有機化合物低減方法。
【請求項７】
単一の処理塔を通過するガスと処理塔へ供給される処理液とを接触させ、ガス中の溶剤を処理液に吸収させる気液接触装置であって、ガスが導入される処理塔と、この処理塔へ処理液を送る循環槽を並列に２つ設け、２つの循環槽から前記処理塔へ処理液を選択的に送り、ガス中の溶剤を処理液に吸収させることを特徴とする気液接触装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラント等より大気へ排出される、例えば揮発性有機化合物（ＶＯＣ：Volatile Organic Compounds）のガス（以下ＶＯＣガスという）を回収する気液接触ＶＯＣ低減装置及びＶＯＣ低減方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図４は従来のＶＯＣガスを回収するための散水型気液接触装置を示す図である。
図４に示すように、プラント等より大気へ排出されるＶＯＣガスを吸収処理する散水型気液接触装置１で使用される水等の処理液は、処理塔２内において、ガスと接触することでＶＯＣ濃度が徐々に上昇してくる。この溶剤を吸収した処理液がそのまま処理槽３から還流管９によって還流されると、処理槽全体の処理液の濃度が上昇し、処理液を処理塔へ供給しても、連続的に良好な状態で溶剤を吸収できず、溶剤の捕集効率が低下する。このため、溶剤吸収効率を維持するためには、新鮮処理液を導水管４から処理槽３へ連続的に給水する必要があり、補給水量の削減を図ることができない、排水管５から排出される処理液の濃度を高濃度に濃縮できないなどの問題がある。また、用水削減の観点から、新鮮処理液の供給を止めて散水型気液接触装置１内で水を循環させ続けると、前述の通り処理液は濃度が上昇し、溶剤の捕集効率が低下し、排気ガスの濃度は上昇を続けてしまうという問題がある。
【０００３】
散水型気液接触装置１の処理槽３の排水管５から最終的に排出される処理液の濃度を如何に高濃度とし、かつ用水削減とＶＯＣ処理を行い、処理液を蒸留して再利用、または、産廃するかがランニングコストを削減する上で大きなポイントとなる。
【０００４】
特許文献１に記載の方法は一般に散水型気液接触装置を使用したＶＯＣ低減方法であり、水を吸収剤としたガス吸収方法である。ここでは、散水型気液接触装置に並列に処理槽を２つ接続した処理装置に、散水型気液接触装置と処理槽からなる処理装置を２つ直列に接続し、ＶＯＣの低減、用水の削減等を目的としている。ただし、従来の散水型気液接触装置を単体で使用する場合と比較すると用水削減は可能なものの、処理槽を４つ以上必要とし、依然、用水のランニングコストが大きい。また、散水型気液接触装置を３つ以上必要とするためイニシャルコストの増大が問題となる。さらに、散水型気液接触装置、処理槽を複数必要とするため、設置スペースの増大、処理システムの複雑化といった問題もある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記事実を考慮して、補給水量を削減し、溶剤吸収効率を維持すると共に最終的に排出される処理液のＶＯＣ濃度を管理し、高濃度とすることと同時に、設置スペースの削減と処理システムの簡略化を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための本発明は以下に記載する通りの気液接触ＶＯＣ低減装置である。
「単一の処理塔を通過する水溶性の揮発性有機化合物を含む被処理ガスと前記処理塔へ供給される処理液とを接触させ、前記被処理ガス中の前記揮発性有機化合物を処理液に吸収させる気液接触による揮発性有機化合物低減装置であって、
前記被処理ガスが導入される処理塔と、この処理塔へ処理液を供給可能な２つの並列に配置された循環槽と、前記２つの並列に配置された循環槽の何れか１つから前記処理塔へ処理液を供給させると共に処理塔から処理液を還流させる循環槽の切換え手段と、処理液中の揮発性有機化合物の濃度を設定値以下に管理することで、処理ガス中の揮発性有機化合物の濃度を制御、低減する手段と、前記２つの循環槽のそれぞれに設けられ、処理液を選択的に排水する排水手段と、前記処理塔の排気部に設けられる脱臭手段と、前記処理塔の排気部に設けられ、リアルタイムで処理ガス中の揮発性有機化合物濃度を管理する手段と、を有することを特徴とする揮発性有機化合物低減装置。」
【発明の効果】
【０００７】
上記課題を解決する手段である本発明によって、以下のような特有の効果を奏する。
本発明は補給水量を削減し、溶剤吸収効率を維持すると共に最終的に排出される処理液のＶＯＣ濃度を高濃度とすることができる。さらに、設置スペースの削減、処理システムの簡略化を可能としている。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の揮発性有機化合物低減装置の一例を示す図である。
【図２】実施例２で用いた試験装置の構成を示す図である。
【図３】処理液中のＮＭＰ濃度と被処理ガスのＮＭＰ除去率との関係を示す図である。
【図４】従来の揮発性有機化合物低減装置の一例を示す図である。
【０００９】
本発明のＶＯＣ低減装置及びＶＯＣ低減方法はプラント等から排出される、特に水溶性の揮発性有機化合物のＶＯＣガスを回収するのに適用され、排気ガス中の溶剤を高効率で捕集し、補給水量を削減し、排出される水のＶＯＣ濃度を高濃度にすることができ、処理液の腐敗を防ぎ、排水処理のコスト及びランニングコストの削減が可能かつ設置スペースの縮小、処理システムの簡略化を可能としたＶＯＣ低減装置及びＶＯＣ低減方法として有効である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下では、本発明の実施の形態を設備ラインから排出された水溶性の揮発性有機化合物（ＶＯＣ）であるＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）ガスを処理する場合を例として図面に基づき説明するが、揮発性有機化合物はＮＭＰに限定されるものではない。
図１は本発明の実施形態１を説明する為のＶＯＣ低減装置の構成図である。
ＶＯＣ低減装置処理塔１と２つの処理タンク２Ａ、２Ｂを備えている。
処理タンク２Ａには総合導水管４、導水管６Ａから処理液として新鮮な水が補給されている。
一方、処理タンク２Ｂは導水管６Ｂを備えているが、後述するように、処理タンク２Ａから処理塔１に水が供給されている間はこの導水管６Ｂから処理液は処理タンク２Ｂには導水せず処理タンク２Ｂは空の状態である。
総合導水管４と導水管６Ａ、６Ｂの分岐部には導水弁５が配置されており、新鮮な水を選択的に処理タンク２Ａ、２Ｂに導水できる構成である。
【００１１】
また、処理タンク２Ａに接続された給水管７Ａの先に接続された総合給水管１０に給水ポンプ９が設けられており、給水ポンプ９で給水管７Ａ、総合給水管１０を通り、処理塔１の上部に揚水された水は散水装置１１によって、下方に向けて散水される。
【００１２】
同様に、処理タンク２Ｂに接続された給水管７Ｂの先に接続された総合給水管１０に給水ポンプ９が設けられており、給水ポンプ９で給水管７Ｂ、総合給水管９を通り、処理塔１の上部に揚水された水を散水装置１１によって、下方に向けて散水可能な機構を有する。
また、処理タンク２Ａ、２Ｂに設けられた給水管７Ａ、７Ｂの合流部には給水弁８が配置されており、処理タンク２Ａ、２Ｂの水を選択的に処理塔１へ給水できる構成となっている。
【００１３】
処理塔１には設備ラインから排出された水溶性の揮発性有機化合物であるＮＭＰ（N-methylpyrrolidone）ガスＧが取り込まれるガス管１２が接続されている。このガス管１２から処理塔１へ取り込まれたＮＭＰガスＧは処理塔１を通過しながら散水装置１１で散水された水と接触して含有するＮＭＰの濃度が低下される。
また、処理塔１の内部には水とＮＭＰガスＧとの接触効率を上げるためにポリプロピレン製の充填材１３が充填されている。
【００１４】
そして、水と接触したＮＭＰガスＧは処理塔１に接続された排気管１４、脱臭手段である脱臭フィルター１５を通じて環境に影響を与えないガスとして大気に放出される。この際、排出されるガスは排気濃度計１６によってガス濃度管理を行う。また、水と接触するだけでは除去不能な臭いを除去する為に脱臭フィルター１５を設けている。
【００１５】
一方、処理塔１内でＮＭＰガスと接触した水は、還流ポンプ１７で揚水され、総合還流管１８、処理タンク２Ａ内深部まで接続された還流管１９Ａを通じ処理タンク２Ａ内に還流される。ここで、還流水は貯留水と混合され、上述したように、給水管７Ａ、総合給水管１０を通じて散水装置１１へ送られる。
【００１６】
同様に、処理塔１内でＮＭＰガスと接触した水を、還流ポンプ１７で揚水させ、総合還流管１８、処理タンク２Ｂ内深部まで接続された還流管１９Ｂを通じ処理タンク２Ｂ内に還流可能な機構を有する。また、還流水は貯留水と混合し、上述したように、給水管７Ｂ、総合給水管１０を通じて散水装置１１へ送ることが可能な機構を有する。
【００１７】
また、総合還流管１８から還流管１９Ａ、１９Ｂの分岐部には還流弁２０が配置されており、処理塔１内の水を選択的に処理タンク２Ａ、２Ｂに還流できる構成である。
一方、処理タンク２Ａ、２Ｂにはそれぞれ排水管２１Ａ、２１Ｂ、総合排水管２２が接続されており、ドラム缶２６に溶剤が濃縮された水を排水できる。
また、排水管２１Ａ、２１Ｂにはそれぞれ排水弁２３Ａ、２３Ｂが配置されており、処理タンク２Ａ、２Ｂの水を任意で排水できる構成である。
【００１８】
一方、処理タンク２Ａ、２Ｂにそれぞれ接続された給水管７Ａ、７Ｂの先に接続された総合給水管１０には液中濃度計２４が設けられており、通過する処理液中のＮＭＰ濃度を検出して、制御部２５へ信号を送る。制御部２５は給水弁８、還流弁２０と接続されており、液中濃度計２４の検出結果に基づき、使用する処理タンクの選択と処理液の行き先を選択する。給水弁８と還流弁２０は連動して動作を行い、使用する処理タンクと配管を同時に変更する
【００１９】
この制御方法では、ＮＭＰガスを処理塔１へ連続して導入し、先ず、処理タンク２Ａから給水管７Ａ、総合給水管１０を通じて処理塔１へ水を送りＮＭＰガス中の溶剤を捕集する。処理塔１で処理されたＮＭＰガスは、排気管１４、脱臭フィルター１５を通じて大気に放出される。
一方、処理塔１内の水は総合還流管１８、還流管１９Ａを通じ処理タンク２Ａへ還流され循環する。
一方、液中濃度計２４が検出した循環水のＮＭＰ濃度が所定値以上、例えばＮＭＰ濃度が４５質量％から５０質量％になると、処理タンク２Ｂに総合導水管４、導水管６Ｂから処理液として新鮮な水が補給される。
【００２０】
そして、水中のＮＭＰ濃度が高くなるに従い、ＮＭＰガスの捕集効率が落ちてくるが、液中濃度計２４が検出した循環水のＮＭＰ濃度が所定値以上、例えばＮＭＰ濃度が５０質量％から６０質量％になると、給水弁８と還流弁２０が切り替えられ処理タンク２Ｂから水を供給する。これにより、新鮮な水が処理塔１へ供給され、効率よくＮＭＰガス中の溶剤を捕集できる。
【００２１】
一方、処理タンク２Ａに貯留された水は排水弁２３Ａ、総合排水弁２８が開放され、排水ポンプ２７に揚水され、排水管２１Ａ、総合排水管２２を通じてドラム缶２６に排水され処理タンク２Ａは空の状態になる。
また、処理タンク２Ｂを使用した循環水のＮＭＰ濃度が所定値以上、例えばＮＭＰ濃度が４５質量％から５０質量％になると、処理タンク２Ａに総合導水管、導水管６Ａから処理液として新鮮な水が補給される。
【００２２】
そして、処理タンク２Ｂを使用した循環水のＮＭＰ濃度が所定値以上、例えばＮＭＰ濃度が５０質量％から６０質量％になると、上記した操作を行い、最初の処理タンク２Ａに切り替える。
同様に、処理タンク２Ｂに貯留された水は排水弁２３Ｂ、総合排水弁２８が開放され、排水ポンプ２７に揚水され、排水管２１Ｂ、総合排水管２２を通じてドラム缶２６へ排水され処理タンク２Ｂは空の状態になる。
【００２３】
以上のような操作を繰り返すことにより、ＮＭＰガス中の溶剤を高効率で捕集することができ、処理タンクを２つしか使用しないため補給水量を削減でき、排水される水のＮＭＰ濃度も高濃度となる。このため、排水処理のコスト及びランニングコストの削減ができる。
【００２４】
また、脱臭フィルター１５により処理ガスの脱臭を効率よくできる。また、使用する処理液を長期間処理タンク内に貯留する必要が無い為、処理液の腐敗等を防止できる。また、処理タンク２つと処理塔１つのみで構成されるため、設置スペースの縮小ができる。また、リアルタイムで制御が必要なものが給水弁８、還流弁２０、導水弁５のみでありシステムの簡略化ができる。
【００２５】
さらに、揮発性有機化合物の溶剤は水溶性であればよく、Ｎ−メチル−２ピロリドンに限定されない。
また、補給される水の温度は５℃以上４０℃以下が好ましく、１５℃以上２５℃以下がより好ましい。
また、循環する水の温度も上記と同様である。
また、充填材は耐溶剤性があればよく、ポリプロピレンに限定されない。
また、処理塔１に取り込まれるガスの濃度は限定されない。
【００２６】
上記構成の発明では処理塔へ導入されたガスは、処理液と接触してガス中の水溶性の溶剤が処理液に吸収される。この処理塔には、循環槽切り替え手段によって２つの並列な循環槽から選択された一の循環槽から処理液が供給され、一の循環槽へ処理液が還流される。
【００２７】
そして、ガスを処理塔へ導入してガス中の溶剤を連続的に回収している間に、選択された一の循環槽の処理液のＮＭＰ濃度が７０質量％以下で、循環槽切り替え手段によって他の循環槽に切り替え、新鮮な水を処理塔へ供給し、他の循環槽へ処理液を還流させる。
このとき、ＮＭＰ濃度が高くなった一の循環槽の処理液は、排水手段によって排水され、排水後この循環槽に溶剤を含まない新鮮な水に入れ替えられる。
以上のような操作を交互に行うことにより、少量の処理液でガス中のＮＭＰ除去率を向上させることができる。
【００２８】
また、循環槽２つ、処理塔を１つしか必要としない為、設置スペースの削減を可能としている。
また、リアルタイムで制御が必要な弁は３つであり、容易に制御が可能となる。
なお、処理塔で処理されたガスは排気部より大気に放出される。大気放出直前のガス中のＮＭＰ濃度をリアルタイムで測定し、処理ガス濃度を管理する手段によって管理され記録される。
前記循環水中のＮＭＰ濃度において、より好ましくは５０〜６０質量％で管理することで、処理ガス濃度をより低い濃度で制御・安定化させる手段を有することができる。
【００２９】
前記の構成に加えて、２つの並列な循環槽循環配管部へ設けられ処理液中のＮＭＰ濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出手段の検出結果に基づき、前記循環槽切替え手段、及び前記排水手段を操作して、一の前記循環槽から前記処理塔へ処理液を送って還流させているときは、他の前記循環槽の処理液を入替え、他の前記循環槽から前記処理塔処理液を送って還流させているときは、一の前記循環槽の処理液を入れ替える制御手段とを備えることが好ましい。
【００３０】
上記構成の発明では、２つの並列な循環槽出口循環配管部に濃度検出手段が設けられており、還流作動中の処理液中のＮＭＰ濃度を検出する。この濃度検出手段の検出結果に基づき、制御手段が、循環槽切替え手段、及び排水手段を操作して、下記のように気液接触装置を制御する。
すなわち、２つの並列な循環槽の１つから処理塔へ処理液を供給しているときは、残りの循環槽の処理液を入れ替える。また使用している循環槽の処理液中のＮＭＰ濃度が７０質量％に近づくと、この循環槽からの処理液の供給を停止し、残りの循環槽の１つを選択して処理液を供給することで、ガス中の溶剤の回収を連続して続ける。このとき、最初に使用した循環槽へ新鮮な水を送り、循環槽内の処理液を入れ替える。
このような制御を交互に行うことで、ガス中の溶剤を高効率で捕集することができ、また、排水される処理液も高濃度となる。
【００３１】
本発明は、単一の処理塔を通過するガスと処理塔へ供給される処理液とを接触させ、ガス中の溶剤を処理液に吸収させる気液接触装置であって、ガス発生源からガスが導入される処理塔と、この処理塔へ処理液を送る循環槽を並列に２つ設け、２つの循環槽から前記処理塔へ処理液を選択的に送り、ガス中の溶剤を処理液に吸収させるようにした気液接触装置も含む。
【実施例】
【００３２】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
【００３３】
（実施例１）
図１に示す装置を用いてＮＭＰガスを処理した。
処理タンク２Ａには総合導水管４、導水管６Ａから処理液として新鮮な水が補給されている。
一方、処理タンク２Ｂには水は導水せず空の状態である。
この状態で給水ポンプ９を作動させて、処理タンク２Ａ内の水を給水管７Ａ、総合給水管９を通じ、処理塔１の上部に揚水し散水装置１１によって、下方に向けて散水させる。
また、総合給水管９には流量計２９が設けられており、流量を２５０Ｌ／ｍｉｎに設定した。流量は要求される処理条件によって設定されるものであり、限定されるわけではない。
【００３４】
一方、処理塔１に接続されたガス管１２より気化したＮＭＰガスを処理塔１に取り込ませる。
また、処理塔１の内部には水とＮＭＰガスＧの接触効率を上げるためにポリプロピレン製の充填材１３が充填されている。充填材の材質は耐溶剤性があればよく、ポリプロピレンに限定されない。
ＮＭＰガスとしてはＮＭＰ濃度が１５０ｐｐｍから１６５ｐｐｍのＮＭＰガスＧを吸気装置を用いて処理塔内に吸気させた。吸気されるガスのＮＭＰ濃度は限定されない。
そして水と接触したＮＭＰガスＧは処理塔１に接続された排気管１４、脱臭フィルター１５を通じて環境に影響を与えない処理ガスとして大気に放出される。
【００３５】
一方、処理塔１内でＮＭＰガスと接触した水は、還流ポンプ１７で揚水され、総合還流管１８、処理タンク２Ａ内深部まで接続された還流管１９Ａを通じ処理タンク２Ａ内に還流される。ここで、還流水は貯留水と混合され、給水ポンプ９で揚水され、給水管７Ａ、総合給水管１０を通じて散水装置１１へ送られ、下方に向けて散水される。
一方、液中濃度計２４が検出した循環水のＮＭＰ濃度が４５質量％になると処理タンク２Ｂに総合導水管４、導水管６Ｂから処理液として新鮮な水が補給される。
そして、液中濃度計２４が検出した循環水のＮＭＰ濃度が５５質量％になると、給水弁８と還流弁２０が切り替えられ処理タンク２Ｂから水を供給する。
【００３６】
一方、処理タンク２Ａに貯留された水は排水弁２３Ａ、総合排水弁２８が開放され、排水ポンプ２７に揚水され、排水管２１Ａ、総合排水管２２を通じてドラム缶２６に排水され処理タンク２Ａは空の状態になる。
また、処理タンク２Ｂを使用した循環水のＮＭＰ濃度が４５質量％になると、処理タンク２Ａに総合導水管、導水管６Ａから処理液として新鮮な水が補給される。
そして、処理タンク２Ｂを使用した循環水のＮＭＰ濃度が５５質量％になると、上記した操作を行い、最初の処理タンク２Ａに切り替える。
【００３７】
同様に、処理タンク２Ｂに貯留された水は排水弁２３Ｂ、総合排水弁２８が開放され、排水ポンプ２７に揚水され、排水管２１Ｂ、総合排水管２２を通じてドラム缶２６へ排水され空の状態になる。
上記方法で水を循環させ、処理タンク２Ａ、２Ｂの水のＮＭＰ濃度を５０質量％から６０質量％まで濃縮すると、排気管１４から排気される処理ガスのＮＭＰ濃度を１５ｐｐｍ以下にすることができた。
（実施例２）
【００３８】
図２に示すように、処理塔２、処理槽３を備える本発明と同様の機構を持つ実験装置で実施した。
処理槽３には導水管４から処理液として水温２０℃の新鮮な水が補給されている。
処理槽３の側壁に接続された還流管９には還流ポンプ８が設けられており、還流ポンプ８で処理塔２の上部へ揚水された水は散水装置６によって下方へ向けて散水される。
また、還流管９には流量計１０が設けられており、流量を１０Ｌ／ｍｉｎに設定した。流量は要求される処理条件によって設定されるものであり、限定されるわけではない。
【００３９】
一方、処理塔２には水溶性の揮発性有機化合物であるＮＭＰガスＧが取り込ませる吸気ファン１１が配置されており、吸気ファン１１より気化したＮＭＰガスを処理塔２に取り込ませる。
また、処理塔２の内部には水とＮＭＰガスＧとの接触効率を上げるためにポリプロピレン製の充填材７が充填されている。充填材の材質は耐溶剤性があればよく、ポリプロピレンに限定されない。
ＮＭＰガスＧは１５０ｐｐｍから１６５ｐｐｍのＮＭＰガスＧを吸気させた。吸気されるガスのＮＭＰ濃度は限定されない。
【００４０】
そして、水と接触したＮＭＰガスＧは処理塔２に接続された排気管１２を通じて環境に影響を与えない処理ガスとして大気に放出される。
一方、処理塔１内でＮＭＰガスと接触した水は処理槽３に貯留され、還流ポンプ８で揚水され、還流管９を通じ散水装置６へ送られ、下方に向けて散水される。
【００４１】
本実験装置を使用し、処理槽３の水のＮＭＰ濃度を７０質量％まで濃縮すると、排気管１２から排出される処理ガス中のＮＭＰ濃度を３０ｐｐｍ以下にすることができ、処理槽３の水のＮＭＰ濃度を５０質量％から６０質量％まで濃縮すると、排気管１２から排出される処理ガス中のＮＭＰ濃度を１５ｐｐｍ以下にすることができた。
図３に、試験で得られた処理液中のＮＭＰ濃度（質量％）とガス除去率（％）との関係を示す。
図３によれば、処理液中のＮＭＰ濃度が７０質量％を超えるとガス除去率が著しく低下することから、処理液中のＮＭＰ濃度の管理濃度は７０質量％とすることが好ましいことが分かる。
【００４２】
（実施例３）
実施例１と同様の方法で処理槽３に水温５℃の新鮮な水を補給した。
その結果、処理槽３の水のＮＭＰ濃度を５０質量％から６０質量％まで濃縮すると、排気管１２から排出される処理ガス濃度を１５ｐｐｍ以下にすることができた。
【００４３】
（実施例４）
実施例１と同様の方法で処理槽３に水温４０℃の新鮮な水を補給した。
その結果、処理槽３の水のＮＭＰ濃度を５０質量％から６０質量％まで濃縮すると、排気管１２から排出される処理ガス中のＮＭＰ濃度を１５ｐｐｍ以下にすることができた。
【００４４】
このような実施例１〜４に示した実施形態によれば、補給水量を削減し、処理液の温度に依存せず、溶剤吸収効率を維持すると共に最終的に排出される処理液のＮＭＰ濃度を高濃度とすることができる。また、設置スペースの削減、処理システムの簡略化が可能となる。
【符号の説明】
【００４５】
（図１、２）
１  処理塔
２Ａ、２Ｂ  処理タンク
４  総合導水管
５  導水弁
６  Ａ導水管
６  Ｂ導水管
７Ａ、７Ｂ  給水管
８  給水弁
９  給水ポンプ
１０  総合給水管
１１  散水装置
１２  ガス管
１３  充填材
１４  排気管
１５  脱臭手段
１６  排気濃度計
１７  還流ポンプ
１８  総合還流管
１９Ａ、１９Ｂ  還流管
２０  還流弁
２１Ａ、２１Ｂ  排水管
２２  総合排水管
２３Ａ、２３Ｂ    排水弁
２４  液中濃度計
２５  制御部
２６  ドラム缶
２７  排水ポンプ
２８  総合排水弁
２９  流量計
Ｇ  ＮＭＰガス
（図３、４）
２  処理塔
３  処理槽
４  導水管
６  散水装置
７  充填材
８  還流ポンプ
９  還流管
１０  流量計
１１  吸気ファン
１２  排気管
【先行技術文献】
【特許文献】
【００４６】
【特許文献１】特開２００２−１９１９３２
【図１】
2014097458.tif 000003
【図２】
2014097458.tif 000004
【図３】
2014097458.tif 000005
【図４】
2014097458.tif 000006