(57)【要約】【課題】バリア層の耐クラック性に優れ、耐光性に優れるフィルムミラーの提供。【解決手段】樹脂基材と、金属反射層と、有機バリア層とを有し、有機バリア層の酸素透過度が５０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下であるフィルムミラー。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と、金属反射層と、有機バリア層とを有し、
前記有機バリア層の酸素透過度が、５０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下であるフィルムミラー。
【請求項２】
前記有機バリア層の酸素透過度が、１０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下である請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記有機バリア層の厚みが、１〜４０μｍである請求項１または２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記有機バリア層の構成材料が、エポキシ基またはイソシアネート基を有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
光入射側から順に、前記有機バリア層、前記金属反射層および前記樹脂基材を有する請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
更に、表面被覆層を有し、
光入射側から順に、前記表面被覆層、前記有機バリア層、前記金属反射層および前記樹脂基材を有する請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項７】
前記金属反射層と前記有機バリア層との間に、接着剤層を有する請求項５または６に記載のフィルムミラー。
【請求項８】
太陽光集光用に用いられる請求項１〜７のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽光集光用に好適に用いることができるフィルムミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽光の反射装置には、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂塵等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。
しかしながら、ガラス製ミラーを用いる場合、輸送時に破損する問題や、ミラーを設置する架台に高い強度が要求されるため建設費がかさむといった問題があった。
このような問題を解決するために、近年では、ガラス製ミラーを樹脂製反射シート（フィルムミラー）に置き換えることが提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、「太陽光反射用のフィルムミラーであって、太陽光を入射する側から以下の順に、紫外線を反射し且つ可視光及び赤外光を透過する紫外反射膜と、プラスチックフィルム層と、可視光及び赤外光を反射する金属反射層と、保護層とを有することを特徴とするフィルムミラー。」が記載されており（［請求項１］）、紫外反射膜とプラスチックフィルム層との間に、酸素透過率が０．０１ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／Ｍｐａ以下で、水蒸気透過率が０．００１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であるバリア層を有する態様も記載されている（［請求項５］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２３７４１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者は、特許文献１に記載されたフィルムミラーについて検討したところ、バリア層の形成材料（特に金属酸化物）によっては、バリア層にクラックが発生し、また、フィルムミラーの耐光性に劣る場合があることを明らかとした。
【０００６】
そこで、本発明は、バリア層の耐クラック性に優れ、耐光性に優れるフィルムミラーを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、特定の酸素透過度を有する有機バリア層を用いることにより、バリア層の耐クラック性が良好となり、フィルムミラーの耐光性にも優れることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の（１）〜（８）を提供する。
【０００８】
（１）  樹脂基材と、金属反射層と、有機バリア層とを有し、
有機バリア層の酸素透過度が、５０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下であるフィルムミラー。
（２）  有機バリア層の酸素透過度が、１０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下である（１）に記載のフィルムミラー。
（３）  有機バリア層の厚みが、１〜４０μｍである（１）または（２）に記載のフィルムミラー。
（４）  有機バリア層の構成材料が、エポキシ基またはイソシアネート基を有する（１）〜（３）のいずれかに記載のフィルムミラー。
（５）  光入射側から順に、有機バリア層、金属反射層および樹脂基材を有する（１）〜（４）のいずれかに記載のフィルムミラー。
（６）  更に、表面被覆層を有し、光入射側から順に、表面被覆層、有機バリア層、金属反射層および樹脂基材を有する（１）〜（５）のいずれかに記載のフィルムミラー。
（７）  金属反射層と有機バリア層との間に、接着剤層を有する（５）または（６）に記載のフィルムミラー。
（８）  太陽光集光用に用いられる（１）〜（７）のいずれかに記載のフィルムミラー。
【発明の効果】
【０００９】
以下に説明するように、本発明によれば、バリア層の耐クラック性に優れ、耐光性に優れるフィルムミラーを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のフィルムミラーの実施態様の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明のフィルムミラーの実施態様の他の一例を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明のフィルムミラーの実施態様の他の一例を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明のフィルムミラーの実施態様の他の一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明のフィルムミラーは、樹脂基材と、金属反射層と、有機バリア層とを有し、有機バリア層の酸素透過度が５０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下であるフィルムミラーである。
【００１２】
このような構成を有する本発明のフィルムミラーは、バリア層の耐クラック性が良好となり、耐光性に優れる。
これは、有機材料で構成される有機バリア層が酸素バリア層として機能することにより、バリア層に柔軟性が付与され、かつ、金属反射層中の金属が酸素によって酸化されるのが抑制され、その結果、酸化に起因する金属イオンの形成や金属コロイドの形成を抑制することができたためと考えられる。
【００１３】
図１〜４は、本発明のフィルムミラーの実施態様の一例を模式的に示す断面図である。
ここで、本発明のフィルムミラーは、上述した金属反射層中の金属の酸化抑制効果が大きくなり、耐光性がより良好となる理由から、図１、３および４に示すように、フィルムミラー１が、光入射側から順に、有機バリア層４、金属反射層３および樹脂基材２を有する態様であるのが好ましい。なお、本発明のフィルムミラーは、図２に示すように、金属反射層３と、樹脂基材２と、有機バリア層４とをこの順に有する態様であってもよく、この態様においては、金属反射層３の樹脂基材２と反対側の表面に金属反射層３を保護する被覆層（図示せず）を有していてもよい。
また、本発明のフィルムミラーは、図３に示すように、有機バリア層４の光入射側に、更に表面被覆層５を有する態様であってもよい。
更に、本発明のフィルムミラーは、図４に示すように、金属反射層３と有機バリア層４との間に、接着剤層６を設けていてもよい。
なお、フィルムミラーの層構成はこれらの図面に特に限定されるものではなく、例えば、必要に応じて、各層間にプライマー層や接着層を設けていてもよく、被着体側にバックコート層を設けていてもよい。
以下に、本発明のフィルムミラーを構成する各層について詳述する。
【００１４】
〔樹脂基材〕
樹脂基材は特に限定されず、その構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；ポリフェニレンサルファイド系樹脂；ポリエーテルサルフォン系樹脂；ポリエチレンサルファイド系樹脂；ポリフェニレンエーテル系樹脂；スチレン系樹脂；セルロースアセテートなどのセルロース系樹脂；等が挙げられる。
これらのうち、得られるフィルムミラーの耐候性の観点から、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂が好ましい。
【００１５】
樹脂基材の形状は平面状に限定されず、例えば、凹面状、凸面状などのいずれであってもよい。
樹脂基材の厚みはその形状によっても左右されるため特に限定されないが、樹脂基材が平面状である場合は、通常、２５〜３００μｍであるのが好ましい。
【００１６】
〔金属反射層〕
金属反射層は特に限定されず、その構成材料（金属）としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｚｎ、Ｂｉ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｔｌ、Ｃｒ、Ｖ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ａｌ等が挙げられる。
これらのうち、フィルムミラーの反射率がより高くなる観点から、Ａｇ、ＮｉまたはＣｕであることが好ましく、Ａｇであることがより好ましい。
また、金属反射層を構成する金属がＡｇである場合、金属反射層中のＡｇの含有量は、金属反射層を構成する全金属に対して、３０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、５０ｍｏｌ％以上であることがより好ましく、８０ｍｏｌ％以上であることがさらに好ましく、９５ｍｏｌ％以上であることが特に好ましく、１００ｍｏｌ％であることが最も好ましい。
【００１７】
金属反射層の形状は特に限定されず、樹脂基材の主面の全てを覆う層であっても、一部を覆う層であってもよい。
金属反射層の厚みは特に限定されないが、フィルムミラーの反射率がより高くなる等の観点から、５０〜５００ｎｍが好ましく、８０〜３００ｎｍがより好ましい。
【００１８】
金属反射層の形成方法は特に限定されず、湿式法および乾式法のいずれも採用することができる。
湿式法としては、例えば、いわゆる金属めっき法（無電解めっき、または、電気めっき）として公知の方法が挙げられる。
また、乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などが挙げられる。
本発明においては、金属反射層の形成方法の好適態様として、例えば、（ｉ）樹脂基材にプライマー層を形成し、（ｉｉ）形成したプライマー層にめっき触媒またはその前駆体を付与し、（ｉｉｉ）めっき触媒またはその前駆体が付与されたプライマー層に対してめっきする方法、などが挙げられる。
以下、上記（ｉ）〜（ｉｉｉ）の各工程について詳述する。
【００１９】
（工程（ｉ）：プライマー層形成工程）
工程（ｉ）は、樹脂基材にプライマー層を形成する工程である。
ここでプライマー層は、樹脂基材と金属反射層との間に配置される層であり、両者の密着性を高める層である。
プライマー層は、めっき触媒またはその前駆体と相互作用する官能基および重合性基を有するポリマーを含む層に、加熱処理と光照射処理の少なくとも一方（以下、エネルギー付与ともいう）を施して得られる。
以下では、まず、使用されるポリマーについて詳述し、その後工程（ｉ）の手順について詳述する。
【００２０】
プライマー層に使用されるポリマーには、めっき触媒またはその前駆体と相互作用する官能基（以後、相互作用性基とも称する）および重合性基が含まれる。相互作用性基は、めっき触媒またはその前駆体と相互作用する基であり、金属反射層とプライマー層との密着性を高める役割を果たす。重合性基は、後述する加熱処理と光照射処理の少なくとも一方を施すことにより、架橋反応が進行し、プライマー層の強度を高めると共に、その一部が樹脂基材と反応して樹脂基材とプライマー層との密着性を高める役割を果たす。
【００２１】
重合性基は、エネルギー付与により、ポリマー同士、または、ポリマーと樹脂基材との間で化学結合を形成しうる官能基であればよい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基などが挙げられる。なかでも、反応性の観点から、ラジカル重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、スチリル基、ビニル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基などが挙げられる。なかでも、メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基が好ましく、なかでも、ラジカル重合反応性、合成汎用性の観点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基がより好ましく、耐アルカリ性の観点から、アクリルアミド基、メタクリルアミド基が更に好ましい。
【００２２】
相互作用性基は、めっき触媒またはその前駆体と相互作用を形成する基であればその種類は特に制限されず、例えば、アミノ基、アミド基、イミド基、ウレア基、３級のアミノ基、アンモニウム基、アミジノ基、トリアジン環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール基、イミダゾール基、ベンズイミダゾール基、キノリン基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、キナゾリン基、キノキサリン基、プリン基、トリアジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピロリジン基、ピラゾール基、アニリン基、アルキルアミン構造を含む基、イソシアヌル構造を含む基、ニトロ基、ニトロソ基、アゾ基、ジアゾ基、アジド基、シアノ基、シアネート基（Ｒ−Ｏ−ＣＮ）などの含窒素官能基；エーテル基、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、カーボネート基、カルボニル基、エステル基、Ｎ−オキシド構造を含む基、Ｓ−オキシド構造を含む基、Ｎ−ヒドロキシ構造を含む基などの含酸素官能基；チオフェン基、チオール基、チオウレア基、チオシアヌール酸基、ベンズチアゾール基、メルカプトトリアジン基、チオエーテル基、チオキシ基、スルホキシド基、スルホン基、サルファイト基、スルホキシイミン構造を含む基、スルホン酸塩構造を含む基、スルホン酸基、スルホン酸エステル構造を含む基などの含硫黄官能基；ホスフェート基、ホスフォロアミド基、ホスフィン基、リン酸エステル構造を含む基などの含リン官能基；塩素、臭素などのハロゲン原子を含む基などが挙げられ、塩構造をとりうる官能基においてはそれらの塩も使用することができる。
なかでも、極性が高く、金属への吸着能が高いことから、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、およびボロン酸基などのイオン性極性基や、エーテル基またはシアノ基などの非解離性官能基がより好ましい。
【００２３】
ポリマー合成の容易性、および、樹脂基材と金属反射層との密着性の観点から、ポリマー中には下記式（１）で表されるユニット（繰り返し単位）、および、下記式（２）で表されるユニットが含まれることが好ましい。
【００２４】
【化１】
2014191171.tif 000002
【００２５】
式（１）中、Ｒ10は、水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基など）を表す。
式（１）中、Ｌ2は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、置換若しくは無置換の２価の脂肪族炭化水素基（好ましくは炭素数１〜８。例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基）、置換若しくは無置換の２価の芳香族炭化水素基（好ましくは炭素数６〜１２。例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｎ(Ｒ)−（Ｒ：アルキル基）、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、またはこれらを組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。
式（１）中、Ｒ11は、相互作用性基を表す。相互作用性基の定義、具体例および好適な態様は、上述のとおりである。
なお、ポリマー中においては、Ｒ11で表される相互作用性基の種類が異なる２種以上の式（１）で表されるユニットが含まれていてもよい。例えば、Ｒ11がイオン性極性基である式（１）で表されるユニットと、Ｒ11が非解離性官能基である式（１）で表されるユニットとが、ポリマー中に含まれていてもよい。
【００２６】
式（２）中、Ｒ12〜Ｒ15は、それぞれ独立して、水素原子、または置換若しくは無置換のアルキル基を表す。
Ｒ12〜Ｒ15が、置換または無置換のアルキル基である場合、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。より具体的には、無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられ、また、置換アルキル基としては、メトキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子）などで置換された、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。
【００２７】
なお、Ｒ12としては、水素原子、メチル基、または、ヒドロキシ基若しくは臭素原子で置換されたメチル基が好ましい。Ｒ13としては、水素原子、メチル基、または、ヒドロキシ基若しくは臭素原子で置換されたメチル基が好ましい。Ｒ14としては、水素原子が好ましい。Ｒ15としては、水素原子が好ましい。
【００２８】
式（２）中、Ｌ3は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基の具体例および好適な態様は、上記式（１）中のＬ2と同じである。
【００２９】
ポリマーの最好適範囲としては、下記式（Ａ）で表されるユニットと、下記式（Ｂ）で表されるユニットと、下記式（Ｃ）で表されるユニットとを含む共重合体、下記式（Ａ）で表されるユニットと下記式（Ｂ）で表されるユニットとを含む共重合体、下記式（Ａ）で表されるユニットと下記式（Ｃ）で表されるユニットとを含む共重合体、などが挙げられる。
【００３０】
【化２】
2014191171.tif 000003
【００３１】
上記式（Ａ）〜（Ｃ）中、Ｒ21〜Ｒ26は、それぞれ独立して、水素原子、または、炭素数１〜４の置換若しくは無置換のアルキル基を表す。Ｘ、Ｙ、Ｚ、およびＵは、それぞれ独立して、単結合または２価の連結基を表す。Ｌ4、Ｌ5、およびＬ6は、それぞれ独立して、単結合または２価の連結基を表す。Ｗは、非解離性官能基からなる相互作用性基を表す。Ｖは、イオン性極性基からなる相互作用性基を表す。２価の連結基の具体例および好適な態様は、上記式（１）中のＬ2と同じである。
式（Ａ）で表されるユニットにおいて、ＹおよびＺは、それぞれ独立に、エステル基、アミド基、フェニレン基（−Ｃ6Ｈ4−）が好ましい。Ｌ4は、炭素数１〜１０の置換または無置換の２価の有機基（特に、炭化水素基）であることが好ましい。
式（Ｂ）で表されるユニットにおいて、Ｗは、シアノ基またはエーテル基であることが好ましい。また、ＸおよびＬ5は、いずれも単結合であることが好ましい。
式（Ｃ）で表されるユニットにおいて、Ｖはカルボン酸基であることが好ましく、また、Ｖがカルボン酸基であり、且つ、Ｌ6がＶと連結する部分において４員〜８員の環構造を含む態様が好ましく、更に、Ｖがカルボン酸基であり、且つ、Ｌ6の鎖長が６原子〜１８原子である態様も好ましい。さらに、式（Ｃ）で表されるユニットにおいて、Ｖがカルボン酸基であり、且つ、ＵおよびＬ6が単結合であることも好ましい態様の１つである。なかでも、Ｖがカルボン酸基であり、且つ、ＵおよびＬ6のいずれも単結合である態様が最も好ましい。
【００３２】
式（Ａ）〜式（Ｃ）で表されるユニットの含有量は、以下の範囲が好ましい。
すなわち、式（Ａ）で表されるユニットと式（Ｂ）で表されるユニットと式（Ｃ）で表されるユニットとを含む共重合体の場合には、式（Ａ）で表されるユニット：式（Ｂ）で表されるユニット：式（Ｃ）で表されるユニット＝５〜５０ｍｏｌ％：５〜４０ｍｏｌ％：２０〜７０ｍｏｌ％であることが好ましく、１０〜４０ｍｏｌ％：１０〜３５ｍｏｌ％：２０〜６０ｍｏｌ％であることがより好ましい。
また、式（Ａ）で表されるユニットと式（Ｂ）で表されるユニットとを含む共重合体の場合には、式（Ａ）で表されるユニット：式（Ｂ）で表されるユニット＝５〜５０ｍｏｌ％：５０〜９５ｍｏｌ％であることが好ましく、１０〜４０ｍｏｌ％：６０〜９０ｍｏｌ％であることがより好ましい。
さらに、式（Ａ）で表されるユニットと式（Ｃ）で表されるユニットとを含む共重合体の場合は、式（Ａ）で表されるユニット：式（Ｃ）で表されるユニット＝５〜５０ｍｏｌ％：５０〜９５ｍｏｌ％であることが好ましく、１０〜４０ｍｏｌ％：６０〜９０ｍｏｌ％であることがより好ましい。
この範囲にて、加熱処理または光照射処理によるポリマーの重合性の向上、プライマー層の抵抗値の低下、また耐湿密着力の向上などが達成される。
【００３３】
上記ポリマーを含む層の形成方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、上記ポリマーを含む層形成用組成物を樹脂基材上に塗布して、必要に応じて乾燥処理を施して層を形成する方法が挙げられる。
【００３４】
上記ポリマーを含む層には、加熱処理と光照射処理の少なくとも一方が施される。上記ポリマーを含む層に実施される処理は、加熱処理および光照射処理の一方のみが実施されても、両者が実施されてもよい。また、両者の処理を実施する場合、別々の工程で実施してもよいし、同時に実施してもよい。
これらの処理を実施することにより、重合性基が活性化され、重合性基間および重合性基と樹脂基材との間で反応が進行し、樹脂基材上に密着したプライマー層が形成される。
【００３５】
加熱処理の条件は使用されるポリマーの種類に応じて最適な条件が選択されるが、なかでもプライマー層の架橋密度が高まり、フィルムミラーの耐侯性およびフレキシブル性が高まる点で、６０〜１５０℃（好ましくは、８０〜１２０℃）で０．１〜３時間（好ましくは、０．５〜２時間）処理することが好ましい。
光照射処理の条件は使用されるポリマーの種類に応じて最適な条件が選択されるが、なかでもプライマー層の架橋密度が高まり、フィルムミラーの耐侯性およびフレキシブル性がより高まる点で、露光量は１０〜８０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。露光波長は２００〜３００ｎｍが好ましい。
なお、露光に使用される光源は特に制限されず、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線などがある。
【００３６】
なお、加熱処理または光照射処理後に、適宜、加熱処理または光照射処理後の組成物から未反応のポリマーを除去してもよい。除去方法としては、溶媒を使用する方法が挙げられ、例えば、ポリマーを溶解する溶剤や、アルカリ可溶性のポリマーの場合はアルカリ系現像液（炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液）などで除去することができる。
【００３７】
プライマー層の厚みは特に制限されないが、フィルムミラーの耐侯性およびフレキシブル性が優れる点で、０．０５〜１０μｍが好ましく、０．３〜５μｍがより好ましい。
【００３８】
（工程（ｉｉ）：触媒付与工程）
触媒付与工程は、プライマー層にめっき触媒またはその前駆体を付与する工程である。本工程においては、めっき触媒またはその前駆体が、プライマー層中の相互作用性基に吸着する。例えば、めっき触媒前駆体として金属イオンを使用した場合は、金属イオンがプライマー層に吸着する。
めっき触媒またはその前駆体としては、後述する「工程（ｉｉｉ）：めっき工程」における、めっきの触媒や電極として機能するものが挙げられる。そのため、めっき触媒またはその前駆体は、めっき工程におけるめっきの種類により決定される。
以下に、使用されるめっき触媒（例えば、無電解めっき触媒）またはその前駆体について詳述する。
【００３９】
無電解めっき触媒としては、無電解めっき時の活性核となり得るものが好ましい。例えば、自己触媒還元反応の触媒能を有する金属（Ｎｉよりイオン化傾向の低い無電解めっきできる金属として知られるもの）などが挙げられ、具体的には、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどが挙げられる。なかでも、触媒能の高さから、ＰｄまたはＡｇが好ましい。
【００４０】
無電解めっき触媒前駆体としては、化学反応により無電解めっき触媒となり得るものが好ましい。例えば、上記無電解めっき触媒として挙げた金属の金属イオンが用いられる。無電解めっき触媒前駆体である金属イオンは、還元反応により無電解めっき触媒である０価金属になる。無電解めっき触媒前駆体である金属イオンをプライマー層へ付与した後、無電解めっき浴への浸漬前に、別途還元反応により０価金属に変化させて無電解めっき触媒としてもよいし、無電解めっき触媒前駆体のまま無電解めっき浴に浸漬し、無電解めっき浴中の還元剤により金属（無電解めっき触媒）に変化させてもよい。
無電解めっき触媒前駆体である金属イオンは、金属塩を用いてプライマー層に付与されることが好ましい。使用される金属塩としては、適切な溶媒に溶解して金属イオンと塩基（陰イオン）とに解離されるものであれば特に制限はなく、Ｍ(ＮＯ3)n、ＭＣｌn、Ｍ2／n（ＳＯ4）、Ｍ3／n(ＰＯ4)Ｐｄ(ＯＡｃ)n（Ｍは、ｎ価の金属原子を表す）などが挙げられる。金属イオンとしては、上記の金属塩が解離したものを好適に用いることができる。具体例としては、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ａｌイオン、Ｎｉイオン、Ｃｏイオン、Ｆｅイオン、Ｐｄイオンが挙げられる。なかでも、多座配位可能なものが好ましく、特に、配位可能な官能基の種類数および触媒能の点で、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ｐｄイオンが好ましい。
【００４１】
なお、無電解めっき触媒前駆体をめっき工程の前に還元させる場合、触媒活性化液（還元液）を準備し、無電解めっき前の別工程として行うことも可能である。触媒活性化液は、無電解めっき触媒前駆体（主に金属イオン）を０価金属に還元できる還元剤と還元剤を活性化するためのｐＨ調整剤が含有される場合が多い。
液全体に対する還元剤の濃度は、０．１〜１０質量％が好ましい。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボランのようなホウ素系還元剤、ホルムアルデヒド、次亜リン酸などの還元剤を使用することが可能である。
特に、ホルムアルデヒドを含有するアルカリ水溶液で還元することが好ましい。
【００４２】
なお、めっき触媒として、無電解めっきを行わず直接電気めっきを行うために用いられる触媒を使用してもよい。このような触媒としては、例えば、０価金属が挙げられ、より具体的には、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどが挙げられる。なかでも、多座配位可能なものが好ましく、特に、相互作用性基に対する吸着（付着）性、触媒能の高さから、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕが好ましい。
【００４３】
めっき触媒またはその前駆体をプライマー層に付与する方法としては、これらを含む溶液（例えば、金属を適当な分散媒に分散した分散液、または、金属塩を適切な溶媒で溶解し、解離した金属イオンを含む溶液）を調製し、その分散液若しくは溶液をプライマー層上に塗布するか、または、その分散液若しくは溶液中にプライマー層が形成された樹脂基材を浸漬すればよい。
【００４４】
（工程（ｉｉｉ）：めっき工程）
めっき工程は、めっき触媒またはその前駆体が付与されたプライマー層に対し、めっき処理を施すことで、金属反射層を形成する工程である。
本工程において行われるめっきの種類は、無電解めっき、電気めっきが挙げられ、上記触媒付与工程でプライマー層に付与されためっき触媒またはその前駆体の機能によって、適宜選択することができる。つまり、本工程では、めっき触媒またはその前駆体が付与されたプライマー層に対し、電気めっきを行ってもよいし、無電解めっきを行ってもよい。
以下、本工程において好適に行われるめっき処理について説明する。
【００４５】
無電解めっきとは、めっきとして析出させたい金属イオンを溶かした溶液を用いて、化学反応によって金属を析出させる操作のことをいう。
無電解めっきは、例えば、無電解めっき触媒が付与されたプライマー層を備える樹脂基材を、水洗して余分な無電解めっき触媒（金属）を除去した後、無電解めっき浴に浸漬して行う。使用される無電解めっき浴としては、公知の無電解めっき浴を使用することができる。
また、無電解めっき触媒前駆体が付与されたプライマー層を備える樹脂基材を、無電解めっき触媒前駆体がプライマー層に吸着または含浸した状態で無電解めっき浴に浸漬する場合には、基板を洗浄して余分な前駆体（金属塩など）を除去した後、無電解めっき浴中へ浸漬することが好ましい。この場合には、無電解めっき浴中において、めっき触媒前駆体の還元とこれに引き続き無電解めっきが行われる。ここで使用される無電解めっき浴としても、上記同様、公知の無電解めっき浴を使用することができる。
【００４６】
本工程おいては、付与されためっき触媒またはその前駆体が電極としての機能を有する場合、めっき触媒またはその前駆体が付与されたプライマー層に対して、電気めっきを行うことができる。
本発明における電気めっきの方法としては、従来公知の方法を用いることができる。なお、本工程の電気めっきに用いられる金属としては、銅、クロム、鉛、ニッケル、金、銀、すず、亜鉛などが挙げられ、得られるフィルムミラーの反射率がより向上する理由から、銀が好ましい。
また、上述の無電解めっきの後、形成されためっき膜を電極とし、さらに、電気めっきを行ってもよい。
なお、めっきに用いる銀化合物としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀が挙げられる。なかでも、得られるフィルムミラーの反射率がより向上する理由から、メタンスルホン酸銀が好ましい。
【００４７】
〔有機バリア層〕
有機バリア層は、酸素透過度が５０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下となる層である。
このような有機バリア層を有することにより、バリア層の耐クラック性が良好となり、また、フィルムミラーの耐光性が良好となる。
ここで、酸素透過度は、ＪＩＳ Ｋ７１２６−２：２００６（等圧法）で規定する「電解センサ法による酸素ガス透過度の試験方法」に従って測定した値をいい、ＭＯＣＯＮ社製酸素透過率測定装置（ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２１ ＭＬ／ＳＬ型）にて、下記条件で測定した値をいう。
＜測定条件＞
透過ガス：窒素・酸素混合気体（湿度：４０％ＲＨ）
試料面積：φ２．５ｃｍ（純正アルミマスク使用）
試料温度：４０℃
【００４８】
本発明においては、有機バリア層の酸素透過度は、バリア層と隣接層（特に金属反射層）との密着性が良好となり、更に、フィルムミラーの耐光性がより良好となる理由から、１０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下であるのが好ましい。
【００４９】
有機バリア層は、酸素透過度が上述した数値範囲となるものであれば特に限定されず、その構成材料としては、具体的には、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリオレフィン系樹脂、イソシアネート系樹脂などの熱硬化性樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂（例えば、ＰＶＡ、ＥＶＯＨなど）、セルロース系樹脂、エーテル結合を有する樹脂、カルバモイル基を有する樹脂、カルボキシル基を有する樹脂、ゼラチン類などの親水性樹脂；等が挙げられる。
これらのうち、熱硬化性樹脂であるのが好ましく、なかでも、バリア層と隣接層（特に金属反射層）との間に接着剤層を設ける必要がない理由から、エポキシ樹脂、イソシアネート系樹脂であるのがより好ましい。
【００５０】
有機バリア層の厚みは特に限定されないが、バリア層の耐クラック性がより良好となる理由から、１〜４０μｍであるのが好ましく、３〜３０μｍであるのがより好ましい。
【００５１】
このような有機バリア層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上述した熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を含有する有機バリア層形成用組成物を上述した金属反射層（図１の符号３参照）もしくは樹脂基材（図２の符号２参照）または任意の接着剤層（図４の符号６参照）の表面に塗布した後、加熱によって硬化ないし固化させる方法などが挙げられる。
上記有機バリア層形成用組成物の塗布方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００５２】
ここで、上記有機バリア層形成用組成物は、上述した成分以外に、溶媒や各種添加剤を含有していてもよい。
【００５３】
有機バリア層形成用組成物に使用される溶媒は特に限定されず、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール系溶媒、酢酸などの酸、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどのカーボネート系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、この他にも、エーテル系溶媒、グリコール系溶媒、アミン系溶媒、チオール系溶媒、ハロゲン系溶媒などが挙げられる。
この中でも、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、カーボネート系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、具体的には、アセトン、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトニトリル、プロピオニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルカーボネート、トルエンが好ましい。
【００５４】
また、有機バリア層形成用組成物に使用される添加剤としては、例えば、硬化剤、帯電防止剤、表面調整剤（例えばレベリング剤）、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、分散剤、シランカップリング剤などが挙げられる。
【００５５】
〔その他の任意の層〕
＜表面被覆層＞
任意の表面被覆層の構成材料は、光を透過する透明性を有する材料であれば特に限定されず、その具体例としては、樹脂、ガラス、セラミックなどが挙げられ、なかでも、フレキシブル性に優れる点で樹脂が好ましい。
樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、シリコーン（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂などの光硬化性樹脂；フェノール樹脂、ユリア樹脂（尿素樹脂）、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などの熱硬化性樹脂；フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォンなどの熱可塑性樹脂；等が挙げられる。
【００５６】
表面被覆層の厚みは特に限定されないが、フィルムミラーの耐侯性およびフレキシブル性がより優れる点で、１０〜２００μｍが好ましく、２５〜１００μｍがより好ましい。
【００５７】
このような表面被覆層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上述した光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を含有する表面被覆層硬化性組成物を有機バリア層上に塗布した後、紫外線照射による光硬化や加熱による加熱硬化する方法等が挙げられる。
上記表面被覆層硬化性組成物の塗布方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００５８】
＜接着剤層＞
任意の接着剤層の構成材料は、各層間の密着性を向上させることができる材料であれば特に限定されず、その具体例としては、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、耐候性の観点から、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、または、シリコーン系樹脂が好ましい。
接着層の厚みは、密着性、反射率等の観点から、０．０１〜５０μｍであるのが好ましく、０．１〜２０μｍであるのがより好ましい。
【００５９】
＜プライマー層＞
任意のプライマー層の構成材料は、各層間の密着性を向上させることができる材料であれば特に限定されず、その具体例としては、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ウレタンアクリル樹脂、ポリアミド樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂等の樹脂材料が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
プライマー層の厚さは特に限定されず、０．１〜５０μｍであるのが好ましく、１〜３０μｍであるのがより好ましい。
【００６０】
＜バックコート層＞
任意のバックコート層の形成材料は特に限定されず、例えば、ウレタン樹脂や、上述した表面被覆層に含有する樹脂等が挙げられる。
また、バックコート層の厚さは特に限定されず、０．５〜５０μｍであるのが好ましく、１〜３０μｍであるのがより好ましい。
【００６１】
＜紫外線反射層＞
任意の紫外線反射層としては、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）のような屈折率の異なる材料を２種類組み合わせて多層化した層などが挙げられる。
【００６２】
＜変色防止層＞
任意の変色防止層に使用される材料としては、例えば、アミン、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物、チオ尿素、メルカプト基を有する化合物、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤などが挙げられる。
【００６３】
〔用途〕
本発明のフィルムミラーは、種々の用途（例えば、ディスプレイの反射板や、照明用反射部材、太陽電池や太陽熱発電などの太陽光用部材）に使用することができる。なかでも、太陽光を集光する目的（太陽光集光用）において、好ましく使用できる。
【実施例】
【００６４】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６５】
＜実施例１＞
（プライマー層の形成）
ＰＥＴ基材（Ａ４３００、東洋紡社製）上に、式（３）で表されるアクリルポリマーを含む溶液を、厚さ５００ｎｍになるようにスピンコート法により塗布し、８０℃にて５分乾燥して塗膜を得た。
【００６６】
【化３】
2014191171.tif 000004
【００６７】
ここで、式（３）中の数値は各ユニットの割合（ｍｏｌ％）を表す。
式（３）で表されるアクリルポリマーの合成方法は以下のとおりである。
２Ｌの三口フラスコに酢酸エチル１Ｌ、２−アミノエタノール１５９ｇを入れ、氷浴にて冷却をした。そこへ、２−ブロモイソ酪酸ブロミド１５０ｇを内温２０℃以下になるように調節して滴下した。その後、内温を室温（２５℃）まで上昇させて２時間反応させた。反応終了後、蒸留水３００ｍＬを追加して反応を停止させた。その後、酢酸エチル層を蒸留水３００ｍＬで４回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、さらに酢酸エチルを留去することで原料Ａを８０ｇ得た。
次に、５００ｍＬの三口フラスコに、原料Ａ４７．４ｇ、ピリジン２２ｇ、酢酸エチル１５０ｍＬを入れて氷浴にて冷却した。そこへ、アクリル酸クロライド２５ｇを内温２０℃以下になるように調節して滴下した。その後、室温に上げて３時間反応させた。反応終了後、蒸留水３００ｍＬを追加し、反応を停止させた。その後、酢酸エチル層を蒸留水３００ｍＬで４回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、さらに酢酸エチルを留去した。その後、カラムクロマトグラフィーにて、以下のモノマーＭ１を精製し２０ｇ得た。
【００６８】
【化４】
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【００６９】
５００ｍＬの三口フラスコに、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８ｇを入れ、窒素気流下６５℃まで加熱した。そこへ、上記で得たモノマーＭ１：１４．３ｇ、アクリロニトリル（東京化成工業（株）製）３．０ｇ、アクリル酸（東京化成製）６．５ｇ、Ｖ−６５（和光純薬製）０．４ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８ｇ溶液を、４時間かけて滴下した。滴下終了後、更に３時間撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド４１ｇを足し、室温まで反応溶液を冷却した。上記の反応溶液に、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ（東京化成製）０．０９ｇ、ＤＢＵ５４．８ｇを加え、室温で１２時間反応を行った。その後、反応溶液に７０質量％メタンスルホン酸水溶液５４ｇを加えた。反応終了後、水で再沈を行い、固形物を取り出し、式（３）で表されるアクリルポリマー（重量平均分子量５．３万）を１２ｇ得た。
【００７０】
また、式（３）で表されるアクリルポリマーを含む溶液の調製法は以下のとおりである。
式（３）で表されるアクリルポリマー（７質量部）、１−メトキシ−２−プロパノール（７４質量部）、水（１９質量部）の割合で混合し、さらにこの混合溶液に対して、光重合開始剤（エサキュアＫＴＯ−４６、ランベルディー社製）（０．３５質量部）を添加して、攪拌混合し、式（３）で表されるアクリルポリマーを含む溶液を得た。
【００７１】
上記塗膜に対して、三永電機製のＵＶ露光機（型番：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）を用いて、２５４ｎｍの波長で１０００ｍＪ／ｃｍ2の積算露光量にて照射を行い、プライマー層（厚み：５００ｎｍ）を形成した。
なお、プライマー層から未反応のポリマーを除去するために現像を行った。具体的には、上記プライマー層付きＰＥＴ基材を１ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液中に５分間浸漬した。その後純水で洗浄した。
【００７２】
（金属反射層の形成）
次に、プライマー層付きＰＥＴ基材を１ｗｔ％硝酸銀水溶液中に５分間浸漬し、その後純水で洗浄して、無電解めっき触媒前駆体（銀イオン）が付与されたプライマー層付きＰＥＴ基材を得た。
さらに、得られたプライマー層付きＰＥＴ基材を、０．１４ｗｔ％のＮａＯＨと０．２５ｗｔ％のホルマリンとを含むアルカリ水溶液（ｐＨ１２．５）（還元剤に該当）に１分間浸漬し、その後純水で洗浄して、還元金属（銀）が付与されたプライマー層付きＰＥＴ基材を得た。
【００７３】
次に、還元金属（銀）が付与されたプライマー層に対して、以下の電気めっき処理を行い、プライマー層上に厚み１００ｎｍの金属（銀）反射層を形成した。
電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（大和化成社製）を用い、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ９．０に調整した。還元金属を表面にもつプライマー層付きＰＥＴ基材を、電気めっき液に浸漬し、０．５Ａ／ｄｍ2にて１５秒間めっきし、その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄した。
【００７４】
（有機バリア層および表面被覆層の形成）
まず、エポキシ樹脂（マクシーブＭ−１００（主剤）、三菱ガス化学社製）０．８１ｇ、ポリアミン樹脂（マクシーブＣ−９３（硬化剤）、三菱ガス化学社製）２．６ｇ、メタノール（溶媒）５．８４ｇ、および、酢酸エチル（溶媒）０．７５ｇを混合した混合溶液を調製した。
次に、上述した金属反射層上に、上記混合溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で５分間乾燥させ、有機バリア層（厚み：１μｍ）を形成した。
その後、表面被覆層として、ＰＭＭＡ基板（三菱レイヨン社製、ＨＢＳ００２、厚み：７５μｍ）を上述した有機バリア層上に貼り合わせ、８０℃で３０分間加熱硬化させることにより、フィルムミラーを作製した。
【００７５】
＜実施例２〜６＞
有機バリア層の厚みを下記第１表に示す値に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、フィルムミラーを作製した。
【００７６】
＜実施例７＞
金属反射層の形成後、以下に示す方法により、接着剤層、有機バリア層、接着剤層および表面被覆層を形成した以外は、実施例１と同様の方法により、フィルムミラーを作製した。
（接着剤層）
上述した金属反射層上に、ポリウレタン接着剤（ＬＩＳ８２５（主剤）、ＬＣＲ９０１（硬化剤）、東洋インキ社製）を塗布し、８０℃で５分間乾燥処理を施し、接着剤層（厚み：１０μｍ）を形成した。
（有機バリア層）
次に、上記接着剤層上に、ポリビニルアルコール樹脂（ＰＶＡ、クラレ社製）を貼り合わせ、有機バリア層（厚み：１０μｍ）を形成した。
（接着剤層）
次に、上記有機バリア層上に、ポリウレタン接着剤（ＬＩＳ８２５（主剤）、ＬＣＲ９０１（硬化剤）、東洋インキ社製）を塗布し、８０℃で５分間乾燥処理を施し、接着剤層（厚み：１０μｍ）を形成した。
（表面被覆層）
次に、上記有機バリア層上に形成した接着剤層上に、ＰＭＭＡ基板（三菱レイヨン社製、ＨＢＳ００２、厚み：７５μｍ）を貼り合わせ、８０℃で３０分間加熱硬化させることにより、フィルムミラーを作製した。
【００７７】
＜実施例８＞
ポリビニルアルコール樹脂をエチレン−ビニルアルコール共重合樹脂（ＥＶＯＨ、日本合成化学社製）に変更した以外は、実施例７と同様の方法により、フィルムミラーを作製した。
【００７８】
＜比較例１＞
有機バリア層を以下に示す方法により形成した以外は、実施例１と同様の方法により、フィルムミラーを作製した。
（有機バリア層）
まず、ウレタン樹脂１ｇおよび酢酸エチル（溶媒）１０ｇを混合した混合溶液を調製した。
次に、上述した金属反射層上に、上記混合溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で５分間乾燥させた後、更に、６０℃、５０％ＲＨの環境下で７２時間湿気硬化させることにより、厚さ１０μｍの有機バリア層を形成した。
【００７９】
＜比較例２＞
金属反射層の形成後、以下に示す方法により、無機バリア層、接着剤層および表面被覆層を形成した以外は、実施例１と同様の方法により、フィルムミラーを作製した。
（無機バリア層）
上述した金属反射層上に、大気圧プラズマを用いて、ＴｉＯ2（厚み：４５ｎｍ）およびＳｉＯ2（厚み：４５ｎｍ）を交互に形成し、ＴｉＯ2が３層、ＳｉＯ2が３層の無機バリア層（総厚：２７０ｎｍ）を形成した。
（接着剤層）
次に、上記無機バリア層上に、ポリウレタン接着剤（ＬＩＳ８２５（主剤）、ＬＣＲ９０１（硬化剤）、東洋インキ社製）を塗布し、８０℃で５分間乾燥処理を施し、接着剤層（厚み：１０μｍ）を形成した。
（表面被覆層）
次に、接着剤層上に、ＰＭＭＡ基板（三菱レイヨン社製、ＨＢＳ００２、厚み：７５μｍ）を貼り合わせ、８０℃で３０分間加熱硬化させることにより、フィルムミラーを作製した。
【００８０】
＜比較例３＞
有機バリア層に代えて、以下に示す方法で無機バリア層を形成した以外は、比較例２と同様の方法により、フィルムミラーを作製した。
（無機バリア層）
上述した金属反射層上に、大気圧プラズマを用いて、酸化ケイ素層（厚み：１μｍ）を形成した。
【００８１】
作製した各フィルムミラーについて、フィルムミラーにおけるバリア層の酸素透過度、および、フィルムミラーの耐光性を以下に示す方法に評価し、それらの結果を下記第１表に示す。
【００８２】
＜バリア層の酸素透過度＞
バリア層の酸素透過度は、上述した各実施例および比較例と同様の方法で作製した各バリア層をテフロン（登録商標）基板上に形成した後に剥離した。
剥離した各バリア層の酸素透過度は、ＪＩＳ Ｋ７１２６−２：２００６（等圧法）で規定する「電解センサ法による酸素ガス透過度の試験方法」に従い、ＭＯＣＯＮ社製酸素透過率測定装置（ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２１ ＭＬ／ＳＬ型）にて、下記条件で測定した。
（測定条件）
透過ガス：窒素・酸素混合気体（湿度：４０％ＲＨ）
試料面積：φ２．５ｃｍ（純正アルミマスク使用）
試料温度：４０℃
【００８３】
＜耐光性＞
（１）反射率（初期）
フィルムミラーの反射率は、分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ、島津製作所製）を用いて反射率（４５０ｎｍ）を測定した。
（２）耐光性
フィルムミラーの耐光性は、後述する耐候試験後の反射率（４５０ｎｍ）を測定し、耐候試験による反射率低下量（＝初期の反射率−耐候試験後の反射率）を算出し、以下の基準にしたがって評価した。なお、反射率（４５０ｎｍ）は、分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ、島津製作所製）を用いて測定した。
Ａ：反射率低下量が５．０％未満
Ｂ：反射率低下量が５．０％以上１０．０％未満
Ｃ：反射率低下量が１０．０％以上
【００８４】
（耐候試験）
作製した各フィルムミラーをキセノンランプ耐光性試験機（ＡＴＬＡＳ社製、Ｃｉ５０００、パワー：１８０Ｗ、Black Panel Temperature：８３℃）内に配置して、温度５５度、湿度４０％ＲＨの条件下で５００時間放置した。
【００８５】
＜耐クラック性＞
作製した各フィルムミラーをオーブンにて、１２０℃で２４時間加熱し、加熱後のフィルムミラーの表面被覆層の表面を目視により確認し、クラックの有無を調べ、以下の基準にしたがって評価した。
Ａ：クラックがなかったもの
Ｂ：１本以上１０本未満のクラックが形成されたもの
Ｃ：１０本以上のクラックが形成されたもの
【００８６】
【表１】
2014191171.tif 000006
【００８７】
第１表に示す結果から、有機材料からなるバリア層を有する場合であっても、酸素透過度が５０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍより大きい比較例１のフィルムミラーは、耐光性に劣ることが分かった。
また、酸素透過度が５０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下であっても、無機材料からなるバリア層を有する比較例２および３のフィルムミラーは、バリア層の耐クラック性に劣ることが分かった。
【００８８】
一方、有機材料からなり、酸素透過度が５０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下のバリア層を有すると、バリア層の耐クラック性が良好となり、フィルムミラーの耐候性に優れることが分かった（実施例１〜８）。
特に、酸素透過度が１０ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ／ａｔｍ以下のバリア層を有する実施例２〜８のフィルムミラーは、耐光性がより良好となることが分かった。
また、バリア層の厚さが１〜４０μｍの範囲内となる実施例１〜４、７および８のフィルムミラーは、耐クラック性がより良好となることが分かった。
【符号の説明】
【００８９】
１  フィルムミラー
２  樹脂基材
３  金属反射層
４  有機バリア層
５  表面被覆層
６  接着剤層
【図１】
2014191171.tif 000007
【図２】
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【図３】
2014191171.tif 000009
【図４】
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