(57)【要約】      （修正有）【課題】観察対象物の座標系を、検査・観察システムが備えている座標系で自動的に定義することを可能にする方法を提供する。【解決手段】検査・観察システムに備えられているステージ座標系上でのウェーハ中心座標を算出し、低倍率の画像を用いた第１のアライメント点の視野内にパターン（スクライブライン）７０が存在するかを確認し、検出されたパターン７０が第１のアライメント点５１０の視野範囲内とその周辺の第２のアライメント点５１１の視野範囲内でユニークであるか否かを確認し、高倍率でのテンプレート登録位置を、この低倍率のユニークなパターンの特徴点から算出する。【選択図】図５
2014027108.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査・観察システムに備えられた試料の移動を行うステージ座標系上での、搬入時における試料の中心座標を算出する外周アライメントステップ、
試料中心又は試料中心近傍の低倍率の第１のアライメント点の視野内に、試料表面に形成されたパターンが存在するか否かを確認し、当該第１のアライメント点の視野内に存在するパターンの低倍率のユニークパターン部分の画像及び座標を、前記第１のアライメント点の視野内のパターン、及び前記第１のアライメント点の周辺の低倍率の第２のアライメント点の視野内のパターンそれぞれに対するテンプレートマッチングによって抽出する低倍率アライメントステップ
前記低倍率アライメントステップにより取得された低倍率のユニークパターン部分の画像に含まれる特徴点の高倍率の画像及び座標を、前記ステージ座標系での試料外周部の任意の３つ以上の高倍率のアライメント点それぞれの高倍率の視野内のパターンそれぞれとテンプレートマッチングを行って抽出する高倍率アライメントステップ
を有するアライメント自動登録方法。
【請求項２】
前記外周アライメントステップは、パターンの配列情報と、ステージ座標系上での搬入時における試料の３点以上のエッジ情報とから、搬入時における試料の中心座標を算出する
ことを特徴とする請求項１記載のアライメント自動登録方法。
【請求項３】
前記低倍率アライメントステップは、前記第１のアライメント点の視野内を、適当な区分に分割し、分割した区分のラインプロファイルから各区分にパターンが存在するか否かを確認する
ことを特徴とする請求項１記載のアライメント自動登録方法。
【請求項４】
前記ラインプロファイルは、前記分割した各区分の対角線にあたる部分のラインプロファイルである
ことを特徴とする請求項３記載のアライメント自動登録方法。
【請求項５】
前記第１のアライメント点の視野内に存在するパターンのユニークパターン部分の画像は、パターンが存在する前記分割した区分の画像からなる
ことを特徴とする請求項３記載のアライメント自動登録方法。
【請求項６】
前記低倍率アライメントステップは、前記第１のアライメント点の視野内にパターンが存在しないときには、前記第１のアライメント点の視野の周辺の視野内にパターンが存在するか否かを確認する
ことを特徴とする請求項１記載のアライメント自動登録方法。
【請求項７】
前記高倍率アライメントステップは、前記低倍率アライメントステップにより取得された低倍率のユニークパターン部分の画像に含まれる特徴点の高倍率の画像を、サイズを変更して複数生成する
ことを特徴とする請求項１記載のアライメント自動登録方法。
【請求項８】
観察位置の移動を行うステージ上に載置された試料の表面に、荷電粒子ビームを照射して検査・観察処理を行う検査・観察システムであって、
ステージ座標系上での、搬入時における試料の中心座標を算出する外周アライメント部と、
試料中心又は試料中心近傍の低倍率の第１のアライメント点の視野内に、試料表面に形成されたパターンが存在するか否かを確認し、当該第１のアライメント点の視野内に存在するパターンの低倍率のユニークパターン部分の画像及び座標を、前記第１のアライメント点の視野内のパターン、及び前記第１のアライメント点の周辺の低倍率の第２のアライメント点の視野内のパターンそれぞれに対するテンプレートマッチングによって抽出する低倍率アライメント部と、
前記低倍率アライメント部により取得された低倍率のユニークパターン部分の画像に含まれる特徴点の高倍率の画像及び座標を、前記ステージ座標系での試料外周部の任意の３つ以上の高倍率のアライメント点それぞれの高倍率の視野内のパターンそれぞれとテンプレートマッチングを行って抽出する高倍率アライメント部と
を備えていることを特徴とする検査・観察システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェーハ、フォトマスク、磁気ディスク、液晶基板等といった観察対象物に対し、検査・観察処理を行う検査・観察システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程においては、加工処理の良否、異物発生等は、半導体デバイスの歩留まり及び安定化に大きく影響を及ぼす。そのため、表面異物やパターン欠陥（以下では、これらを欠陥と総称する）の発生を早期に或いは事前に検知し、その発生原因を取り除くことが、半導体デバイスの良品歩留まりを向上させるのに重要である。そこで、リソグラフィー処理やエッチング処理等といった各種工程の後に、欠陥の検出や線幅の計測等を含む検査・観察処理を行うことによって、製造工程の解析・管理が実施されている。
【０００３】
さらに、製造面では、コスト低減、短ＴＡＴ(Turn-around time)及び高品質化を目的に、自動化による高効率生産が求められているとともに、製品面では、デジタル家電の多機能化、高機能化により、様々なセグメントに多様化した製品群の早期立上げ、品質の確保が重要な課題となっている。
【０００４】
また、欠陥の検出や線幅の計測等を含む半導体デバイスの検査・観察処理では、観察対象物であるウェーハやウェーハ上に作製されたデバイスパターンと、その検査・観察処理を行う検査・観察システムに備えられているステージ等との間では、通常、それぞれが個別の座標系を有している。そのため、検査・観察システムで検査・観察処理を行うのに先だって、それぞれの個別の座標系間で互いの位置を合わせる、例えば、ウェーハの座標系を、検査・観察処理を行う検査・観察システムに備えられているステージの座標系で定義する、等の必要も生じる。
【０００５】
相互に異なる個々の座標系間でそれぞれ座標系の位置を合わせる作業をアライメントと言う。従来のアライメントは、ウェーハ等の観察対象物を検査・観察システムに備えられたステージ上に搬送する際に、例えばＶノッチ等の観察対象物上の特徴点の位置を確認し、この確認した特徴点を基に、搬送アーム等で観察対象物をステージ上に位置決め載置することによって行われていた（特許文献１）。ところが、近年の半導体デバイスの微細化に伴って、この観察対象物の位置決め載置方法によるアライメントでは、観察対象物をステージ上に位置決め載置する際の精度が低く、その後の欠陥の検出や線幅の計測等を行うために必要な精度が十分に得られない、という問題が生じるようになってきた。
【０００６】
その結果、より高精度なアライメントとして、テンプレートマッチングを用いたアライメントが、一般的に行われるようになってきた。ここで、テンプレートマッチングについて、デバイスパターンが作製されたウェーハを例に、図１を参照しながら説明する。
【０００７】
図１は、テンプレートマッチングの模式図である。
テンプレートマッチングでは、ウェーハ座標系上で既知の座標（以下、アライメント座標と称す）上の画像、若しくはアライメント座標に対し相対的な位置関係が明らかな画像を、予めテンプレート１１０として登録しておく。その上で、検査・観察システムに備えられているステージ上に観察対象物であるウェーハを位置決め載置し、アライメント座標付近の観察画像１０１を取得する。そして、テンプレート１１０と、取得したアライメント座標付近の観察画像１０１とをラスタースキャンで重ね合わせ、最も類似している個所を特定し、検査・観察システムに備えられているステージ座標系上での位置を特定する。
【０００８】
最も類似している個所の特定は、類似度、相違度等の指標を算出して求められる。また、マッチング精度を向上させるため、特許文献２、３、４に記載されている手法も用いられている。
【０００９】
テンプレートマッチングにより座標を特定するためには、テンプレート１１１のように、同一若しくは違いが判断できない程、複数の類似している個所がアライメント座標付近の観察画像１０１上に存在すると、正確なアライメントができない。そこで、アライメント座標付近の観察画像１０１上でテンプレート１１０がどれだけユニークであるかを、テンプレート登録前に確認しておく必要がある。
【００１０】
このユニーク度の判断は、前述した類似度、相違度等の指標により、アライメント座標付近の観察画像１０１上で最もテンプレート１１０に近いとされた観察画像と、２番目に近いとされた観察画像のそれぞれの類似度、相違度等の指標の比で判断する方法が用いられる。
【００１１】
アライメントのためのテンプレート画像やウェーハ座標系上での座標情報等は、一般に、レシピファイルに一緒に納められている。レシピファイルは、ウェーハのサイズ、デバイスパターンのサイズ情報や、欠陥の検出や線幅の計測等といった検査・観察処理を行う際の各種パラメータ等を設定した条件設定ファイルである。半導体デバイスの欠陥の検出や線幅の計測等では、欠陥の検出や線幅の計測等を行うデバイスの品種や、製造工程ごとにレシピファイルを作成し、システム上に保存しておくことで、検査・観察システムによって自動で欠陥の検出や線幅の計測等の検査・観察処理が行える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００２−７６０９７号公報
【特許文献２】特開２０１１−４３９６９号公報
【特許文献３】特開２００６−１９０２０１号公報
【特許文献４】特開２００８−１９７９１７号公報
【非特許文献】
【００１３】
【非特許文献１】S.M.Smith and J.M.Brady,“SUSAN-a new approach to low level image processing”,Int. J. Compt. Vis.,vol.23,no.1,pp.45-78,May1997.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
欠陥の検出や線幅の計測等といった検査・観察処理を自動で行うためには、各システムに事前にレシピファイルを設定する必要があり、レシピファイルごとにアライメントのための適切なテンプレートを登録する必要がある。レシピファイルは、欠陥の検出や線幅の計測等を行うデバイスの品種や、製造工程ごとに登録する必要がある。その一方で、近年のデバイスの複雑化により、検査・観察処理を行う工程は１品種で１００工程にも及ぶ。さらに、デジタル家電の多機能化、高機能化により、様々なセグメントに多様化したデバイスの製造が求められ、少量多品種化により、さらにレシピ作成頻度は上がっている。
【００１５】
また、１つの製造ラインには、通常、同種の検査・観察システムが複数設置されるが、同種の検査・観察システム同士であっても、基本的にステージ座標系はシステム間で異なるため、レシピファイルを共有するためには、同種のシステム間でのステージ座標系の補正である装置間マッチングが必要となる。さらに半導体デバイスの欠陥検査を実施する場合、検出された欠陥管理のため、より高分解能の検査・観察システムでの検査・観察及び解析が行われる。そのため、さらに、異種のシステム間でのステージ座標系のマッチングが必要となる。なお、このようなシステム間でのステージ座標系のマッチングは、各検査・観察システムの装置状態が変わる度に変更する必要があり、アライメント情報をシステム間で共有する際には、定期的な確認・調整が必要となる。
【００１６】
また、テンプレートマッチングでは、座標間の大きなずれと高精度のアライメントとを両立させるため、低倍率の画像でのテンプレートマッチングの後、高倍率の画像でのテンプレートマッチングを実施するのが一般的である。ＳＥＭ(scanning electron microscope)等の電子顕微鏡を用いたシステムの場合、１０,０００倍程度の高倍率でアライメントを実施する必要がある。例えば、観察画像の視野イメージの表示範囲の１辺が１５０ｍｍの場合、観察対象物上での視野範囲は、１辺が１５μｍと狭いため、テンプレート登録及びアライメントには、正確な座標の指定が必要となる。
【００１７】
本発明は、これらのアライメントに係る問題点を鑑みなされたものであって、観察対象物の座標系を、検査・観察システムが備えている座標系で自動的に定義することが可能なアライメント自動登録方法、及びこのアライメント自動登録機能を備えた検査・観察システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記した課題を解決するために、本発明のアライメント自動登録方法及びそれを用いた検査・観察システムでは、テンプレートマッチングによるウェーハアライメントを自動で完遂するため、以下の機能を設けたことを特徴とする。
【００１９】
ステージ座標系での、ウェーハ外周部の任意の３点以上の点から、ウェーハ中心の座標を算出する手段を設けたことを特徴とする。
デバイスの配列情報から、最適なテンプレートを登録するための、位置を、自動で判別する手段を設けたことを特徴とする。
【００２０】
最適なテンプレート画像を登録する手段として、視野範囲内を適当な区分に分割し、分割した区分のラインプロファイルから各区分にパターンが存在するか否かを判断する手段を設けたことを特徴とする。
【００２１】
前述ラインプロファイルは、各区分の対角線にあたる部分とし、最小のラインプロファイルでパターンの有無を自動で確認する手段を設けたことを特徴とする。
【００２２】
視野範囲内にパターンが存在しなかった際、その周辺を探索するにあたり、私的な探索順序を自動判別する手段を設けたことを特徴とする。
【００２３】
最適なテンプレートを登録する手段として、視野範囲内を適当な区分に分割し、分割した各エリアをイメージ登録し、視野範囲内でユニークか否かを判別する手段を設けたことを特徴とする。
【００２４】
複数のテンプレートに対し、ユニーク度を示す指標をつけ、アライメントの成否により順次適当なテンプレートを選出する手段を設けたことを特徴とする。
【００２５】
登録した低倍率のテンプレート画像から、特徴点を抽出し、高倍率のテンプレート画像登録座標を抽出する手段を設けたことを特徴とする。
【００２６】
抽出された特徴点の座標位置で、テンプレートのサイズを変化させ、複数取得し、最適なテンプレートサイズを選出する手段を設けたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、予めテンプレートの登録がされていなくとも、異なる座標系の観察対象物の座標系を、検査・観察処理を行う検査・観察システムが備えている座標系に、自動でテンプレートを取得しながら定義することができ、２回目以降、或いは、他のシステムでアライメントを行う際には、取得したテンプレートを用いて従来通りのアライメントを実行でき、ステージ座標系の異なるシステム間でも前述テンプレートを使用したアライメントを含むレシピを共有することができ、使用者の手間を省いた状態で精度の高いアライメントを行うことが可能になる。
上記した以外の、課題、構成及び効果は、以下の実施の形態の説明により明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】テンプレートマッチングの模式図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係るアライメント自動登録機能を備えた検査・観察システムのシステム構成図である。
【図３】本実施の形態の検査・観察システムが実行するウェーハの検査・観察処理の全体のフローチャートである。
【図４】図３に示した全体処理に含まれる、外周アライメント処理のフローチャートである。
【図５】外周アライメント処理を実行する際の、ウェーハ座標系とステージ座標系との間の関係の一例を示した図である。
【図６】外周アライメント処理おける外周アライメント点の視野イメージを模式的に示した図である。
【図７】低倍率でのアライメント及びアライメント用の画像登録処理のフローチャートである。
【図８】アライメント点の視野に、パターンが存在するか否かの確認処理の説明図である。
【図９】パターンの検出において作成された視野イメージについてのラインプロファイルの例を示した図である。
【図１０】検出したパターンが視野範囲内でユニークであるか否かについての説明図である。
【図１１】低倍率の第１のアライメント時における周辺探索の模式図である。
【図１２】低倍率の第２のアライメント時における周辺部探索の模式図である。
【図１３】高倍率でのアライメント及びアライメント用の画像登録処理のフローチャートである。
【図１４】低倍率アライメント登録画像から特徴点を抽出する説明図である。
【図１５】高倍率アライメントの視野とその周辺部を含む範囲の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明に係るアライメント自動登録方法、及びアライメント自動登録機能を備えた検査・観察システムの一実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、各図において、同一の符号を付した部分は同一物を表わし、基本的な構成及び動作は同様であるものとする。
【００３０】
図２は、本発明の一実施の形態に係るアライメント自動登録機能を備えた検査・観察システムのシステム構成図である。
検査・観察システム１０は、検査・観察装置２０と、制御ユニット３０とを有して構成されている。検査・観察装置２０には、観察対象物のウェーハ５０を、装置筐体内部に形成された試料室２１に搬送するウェーハ搬送ユニット２２が設けられ、試料室２１には、高倍率観察用ユニット２３と、低倍率観察用ユニット２４と、ステージユニット２５とが設けられた構成になっている。
【００３１】
試料室２１は、この高倍率観察用ユニット２３が走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）の場合は、ポンプ等の真空吸引手段と接続され、室内雰囲気を低真空雰囲気に維持できる構成になっている。
【００３２】
ウェーハ搬送ユニット２２は、例えば、ウェーハ５０の向きと中心とを大まかに合わせるプリアライナーユニットと、ロボットアーム等からなる搬送機構とを組み合わせた構成になっており、試料室２１に対してウェーハ５０を搬入・搬出可能になっている。
【００３３】
ステージユニット２５は、ウェーハ搬送ユニット２２によって搬送されてきたウェーハ５０をそのステージ上に保持し、試料室２１中でウェーハ５０をステージごと移動させて、観察用ユニット２３，２４それぞれのウェーハ上の観察位置、すなわち視野を移動させる。
【００３４】
制御ユニット３０は、検査・観察装置２０と信号接続されて、検査・観察装置２０の各部の作動を制御するとともに、高倍率観察用ユニット２３及び低倍率観察用ユニット２４それぞれの出力から観察画像すなわち視野イメージを生成し、この取得した観察画像を基に、欠陥の検出や線幅の計測等といったウェーハ５０の検査・観察をレシピに基づいて行う。また、制御ユニット３０は、このウェーハ５０の検査・観察を行うに当たって、アライメントが必要なときは、システムのアライメントも自動で行えるようになっている。制御ユニット３０は、例えば、ＣＰＵ、ポインティングデバイス等といった入力機器を含む入力部、ディスプレイ等といった出力機器を含む出力部、検査・観察等を実行するための各種情報やプログラムが記憶される記憶部、他の装置との間で情報伝達を行うためインタフェース等を有するコンピュータ装置によって構成されている。
【００３５】
次に、上述のように構成された検査・観察システム１０が行う、ウェーハ５０の検査・観察処理について説明する。
【００３６】
図３は、検査・観察システムが実行するウェーハの検査・観察処理の全体のフローチャートである。
ステップＳ１００では、制御ユニット３０が、観察対象物であるウェーハ５０のサイズ、ウェーハ５０上に作製されたデバイスパターンのピッチ、デバイスパターンの並びを定義する配列情報等の読み込みを行う。これら情報の読み込みは、例えば、ユーザが制御ユニット３０の入力部で設定したレシピファイルの読み出しや、ユーザの入力機器を用いた設定入力に基づき行われる。制御ユニット３０は、これら読み込んだ情報を、一旦、その記憶部に保持する。
【００３７】
ステップＳ２００で、制御ユニット３０は、ウェーハ搬送ユニット２２を作動制御して、試料室２１内への観察対象物であるウェーハ５０の搬送（搬入）を行う。その際、ウェーハ搬送ユニット２２では、プリアライナーユニットによりウェーハ５０のＶノッチの検出が行われ、ウェーハ５０は、その向きと中心とが大まかに検出された状態で、搬送機構によってステージユニット２５へ搬送され、そのステージ上に載置される。
【００３８】
ステップＳ３００で、制御ユニット３０は、低倍率観察用ユニット２４の検出出力を基に作成した低倍率のウェーハ５０の画像を基に、ウェーハ外周部を使用したウェーハ中心点の検出を行う。制御ユニット３０は、ウェーハ外周部を使用したウェーハ中心点の検出を行うことによって、検査・観察システム１０のステージ座標系Ｘ-Ｙとウェーハ５０のウェーハ座標系ｘ-ｙとの間での、ウェーハ５０の外周アライメント処理を実行する。
【００３９】
ここで、この外周アライメント処理について、図４〜図６に基づいて説明する。
【００４０】
図４は、制御ユニットが実行する外周アライメント処理のフローチャートである。
図５は、制御ユニットが外周アライメントを実行する際の、ウェーハ座標系とステージ座標系との間の関係の一例を示した図である。
【００４１】
外周アライメント処理を行うに当たり、図５に示すように、ステージ座標系Ｘ-Ｙは、図中、５０９で示す原点Ｏで互いに直交するステージ座標軸Ｘ５０３とステージ座標軸Ｙ５０４とによって定義されている。一方、ウェーハ座標系ｘ-ｙは、図中、５０８で示すウェーハ５０の中心点を原点ｏとし、ウェーハ５０に作製されたデバイスパターンの連設方向に沿った、互いに直交するウェーハ座標軸ｘ５０１とウェーハ座標軸ｙ５０２とによって定義されている。図示の例では、ステージ座標系Ｘ-Ｙの原点Ｏ５０９は、ウェーハ座標系ｘ-ｙの原点ｏ５０８に対して、左斜め下方に位置し、ウェーハ座標系ｘ-ｙは、ステージ座標系Ｘ-Ｙ上の第１象限方向に、相対角度θを有して偏位している。
【００４２】
制御ユニット３０は、このようにステージ座標系Ｘ-Ｙとウェーハ座標系ｘ-ｙとの配置が合致せず、ずれている状況において、図３のステップＳ３００で示した外周アライメント処理を、図４に示すようにして実行する。
【００４３】
図４において、ステップＳ３１０では、制御ユニット３０は、低倍率観察用ユニット２４の検出出力を基に作成したウェーハ５０の低倍率の観察画像を基に、ステージユニット２５を作動制御して、低倍率観察ユニット２４の視野中心に、ウェーハ５０の外周上の最初の外周アライメント点５０５を位置させる。この段階では、制御ユニット３０は、ステージ座標系Ｘ-Ｙ上でのウェーハ５０の位置、姿勢は不明であるが、制御ユニット３０は、ウェーハ搬送ユニット２２がウェーハ５０をステージユニット２５のステージ上に載置するに当たって、ウェーハ５０の中心点ｏを位置させたであろうステージ座標系Ｘ-Ｙ上の位置を基準に、先にステップＳ１００で読み込んだウェーハサイズ情報を基にステージユニット２５のステージを移動する。なお、その際における、観察位置の変更によるフォーカスのずれ等は、オートフォーカス等によって補正される。
【００４４】
図６は、外周アライメント点の視野イメージを模式的に示した図である。
図６に示すように、例えば、最初の外周アライメント点での視野イメージ６０１が、その表示範囲の１辺１５０ｍｍで、倍率が１００倍であれば、ウェーハ上における視野範囲は１辺が１.５ｍｍであり、ウェーハ搬送ユニット２２の搬送機構によるステージユニット２５のステージ上に対しての載置精度でも、上述したステージユニット２５のウェーハサイズ情報を基にした移動で、最初の外周アライメント点５０５のウェーハ端面５１は十分視野に入ることになる。仮に、最初の外周アライメント点５０５のウェーハ端面５１が視野に入らない場合でも、視野範囲に沿った周辺部の探索を併用することで、大きなずれにも対応できる。図６において、６０２は、視野イメージ６０１の中心位置で、視野範囲すなわち視野の中心に該当する。
【００４５】
図４において、制御ユニット３０は、このようにして最初の外周アライメント点５０５でウェーハ端面５１が含まれる視野イメージ６０１が得られたならば、ステップＳ３２０で、その際における視野イメージ６０１やステージユニット２５の移動情報を基に、そのウェーハエッジ部のステージ座標系Ｘ-Ｙ上での座標を取得する。
【００４６】
図６に示すように、視野イメージ６０１上において、ウェーハ５０に該当する部分は、輝度(コントラスト)が高く、ステージユニット２５のステージに該当する部分は、輝度が低いので、ウェーハ端面５１の検出は、ウェーハ端面５１が含まれる視野イメージ６０１の画像処理で、容易に検出可能である。具体的には、取得画像の視野イメージ６０１の中心６０２からウェーハ端面５１上の点までのピクセル数と、視野一辺の長さとから距離を算出し、エッジ端の座標をステージ座標系に反映できる。また、複数検出されるウェーハ端面５１上の点の中からウェーハエッジ部を１つに決めるのは、例えば視野の中心６０２から最も近い点で構わない。
【００４７】
図４において、制御ユニット３０は、このようにして、最初の外周アライメント点５０５でそのウェーハエッジ部のステージ座標系Ｘ-Ｙ上での座標を取得たならば、同様にして、それぞれ位置が異なる別の第２の外周アライメント点５０６、第３の外周アライメント点５０７で、ウェーハエッジ部のステージ座標系Ｘ-Ｙ上での座標を取得する（ステップＳ３３０，Ｓ３１０，Ｓ３２０） 。
【００４８】
ステップＳ３４０で、制御ユニット３０は、このようにして取得した第１〜第３それぞれの外周アライメント点５０５，５０６，５０７におけるウェーハエッジ部のステージ座標系Ｘ-Ｙ上での座標から、ウェーハ５０の中心ｏの、ステージ座標系Ｘ-Ｙ上おける中心座標(Ｘ，Ｙ)を求める。
【００４９】
すなわち、ステージ座標系Ｘ-Ｙで、ウェーハ５０の円周（外周）上の座標３点(Ｘ１，Ｙ１)、(Ｘ２，Ｙ２)、(Ｘ３，Ｙ３)が決まれば、例えば式１の通り、ステージ座標系Ｘ-Ｙでのウェーハ５０の中心座標(Ｘ，Ｙ)を求めることができる。また、中心座標(Ｘ，Ｙ)を求めるに当たっては、座標読み取りの誤差等を考慮し、４点以上の複数点で中心座標を求め、そのばらつきを考慮することで、座標算出の精度を高めてもよい。測定時間、座標精度を考慮し、ウェーハエッジ部の取得方法や中心座標の算出方法等は、入力部で予め設定或いは選択できるようになっている。
【００５０】
［数１］
ウェーハ中心点の座標(Ｘ，Ｙ)＝  
〔(Ｂ1・Ｃ2−Ｂ2・Ｃ1)/(Ａ1・Ｂ2−Ａ2・Ｂ1)，(Ｃ1・Ａ2−Ｃ2・Ａ1)/(Ａ1・Ｂ2−Ａ2・Ｂ1)〕・・・〔式１〕
但し    Ａ1＝２(Ｘ２−Ｘ１)
Ｂ1＝２(Ｙ２−Ｙ１)
Ｃ1＝Ｘ１２−Ｘ２２＋Ｙ１２−Ｙ２２
Ａ2＝２(Ｘ３−Ｘ１)
Ｂ2＝２(Ｙ３−Ｙ１)
Ｃ2＝Ｘ１２−Ｘ３２＋Ｙ１２−Ｙ３２
【００５１】
図３に示した全体処理において、制御ユニット３０は、ステップＳ３００で、図４に示した如くの外周アライメント処理を行うと、ステップＳ４００で、低倍率でのθ方向のアライメント及び画像登録処理を行う。
【００５２】
図７は、図３においてステップＳ４００で示した、低倍率でのアライメント及びアライメント用の画像登録処理のフローチャートである。
【００５３】
ステップＳ４０１で、制御ユニット３０は、ステージユニット２５を作動制御して、低倍率の画像を用いた第１のアライメント点５１０に視野を移動させる。
【００５４】
この場合、低倍率の画像を用いた第１のアライメント点５１０としては、図５に示すように、ステージ座標系Ｘ-Ｙとウェーハ座標系ｘ-ｙとのθ補正前では、ウェーハ中心に対してウェーハ端ほどずれが大きくなるので、ウェーハ中心点５０８付近で、かつ、スクライブライン７０の角等、画像登録に望ましいパターンが多く存在することが予測されることから、ウェーハ中心点５０８付近のダイ左下隅が望ましい。このウェーハ中心点５０８付近のダイ左下隅への視野の移動は、既に、ステップＳ３００でウェーハ中心点５０８のステージ座標系Ｘ-Ｙでの座標(Ｘ，Ｙ)が取得されているため、高い精度での移動が可能である。
【００５５】
例えば、ウェーハ５０上に配置されているデバイスの個数が、ウェーハ座標系ｘ-ｙのｘ、ｙ軸方向ともに偶数であれば、前述の、ウェーハ中心点５０８付近のダイ６０の左下隅は、ウェーハ中心点５０８と同じ位置になる。また、デバイス個数がウェーハ座標系ｘ-ｙのｘ、ｙ軸方向ともに奇数であった場合でも、ステップＳ１００で読み込んだ予め登録されているピッチ情報を基にウェーハ中心点５０８から移動することで、高い精度での移動が可能である。さらに、オフセットを持たせてパターンが作成されている場合に関しても、同様に事前に登録されたオフセット情報を基に、ステージユニット２５を作動制御することで、高い精度での移動が可能である。
【００５６】
制御ユニット３０は、このようにして、図７にステップＳ４０１で示した低倍率の画像を用いた第１のアライメント点５１０への視野移動処理を行ったならば、ステップＳ４０２〜Ｓ４０４の処理を行い、移動直後の第１のアライメント点５１０の視野に、パターンが存在するか否かの確認を行う。制御ユニット３０は、その確認を行うに当たり、まず、ステップＳ４０２で、第１のアライメント点５１０の視野、すなわちその取得した低倍率の視野イメージ８０１を複数のエリア８０２に区分けする。この場合、図５に例示した状態では、図８に示すように、制御ユニット３０が検査・観察装置２０から取得した第１のアライメント点５１０の視野イメージ８０１には、ダイ６０の左下のスクライブライン７０が含まれることになる。
【００５７】
図８は、アライメント点の視野に、パターンが存在するか否かの確認処理の説明図である。
ステップＳ４０２に示した視野の複数エリアへの分割処理では、制御ユニット３０は、図８（ａ）に示したその取得した第１のアライメント点５１０の視野イメージ８０１を、図８（ｂ）に示すように、例えば３×３の９個の区分エリア８０２-１〜８０２-９に分ける。なお、各区分エリア８０２のサイズ、制御ユニット３０上で表示される画面のサイズ、視野範囲等により、区分けするエリアは４×４、４×３等でも構わない。
【００５８】
図７において、ステップＳ４０３で、制御ユニット３０は、区分エリア８０２-１〜８０２-９に区分けされた視野内に、アライメントに用いるパターンが存在するか否かを確認する。図８に示した視野イメージ８０１の場合、パターンは、スクライブライン７０が該当する。
【００５９】
このパターン有無の確認は、視野イメージ８０１について、例えば図８（ｃ）に示すようにして、各区分エリア８０２の左下と右上の角を結ぶ、斜め右上がり方向の直線ラインで表わされる指定位置区間Ａ-Ａ’，Ｂ-Ｂ’，Ｃ-Ｃ’，Ｄ-Ｄ’，Ｅ-Ｅ’でのラインプロファイル９０１〜９０５を作成することによって確認する。
【００６０】
図９は、パターンの検出において作成された視野イメージについてのラインプロファイルの例を示した図である。各ラインプロファイル９０１〜９０５では、横軸に座標、縦軸に輝度値が示される。
【００６１】
図９に示すように、図８（ｃ）に示した第１のアライメント点５１０の視野イメージ８０１については、指定位置区間Ａ-Ａ’、Ｂ-Ｂ’及びＥ-Ｅ’でのラインプロファイル９０１、９０２、９０５上には、区間中にパターンとしてのスクライブライン７０が存在しないため、ラインプロファイル９０１、９０２、９０５では、その区間全域にわたってウェーハ基板の輝度値のみ検出される。これに対し、指定位置区間Ｃ-Ｃ’、Ｄ-Ｄ’でのラインプロファイル９０３、９０４上には、区間中にパターンとしてのスクライブライン７０が存在しているので、ラインプロファイル９０３、９０４では、区間中にスクライブライン７０に由来する、ウェーハ基板の輝度値とは異なる輝度値の範囲が検出される。
【００６２】
したがって、制御ユニット３０は、ウェーハ基板の輝度値に対して、パターン確認のためのしきい値の輝度値を予め指定しておくことにより、ラインプロファイル中のパターンに由来する輝度値の範囲の座標情報から、どの区分エリア８０２にパターンがあるかを確認することができる。
【００６３】
図７において、ステップＳ４０４で、制御ユニット３０は、ステップＳ４０３で検出されたパターンが視野範囲内でユニークであるか否かの確認を行う。ユニークさの判定は、例えば、視野範囲内で登録された画像と最も類似した画像と、二番目に類似した画像とのそれぞれ一致度合を数値で表し、その比率で判断することができる。
【００６４】
図１０は、検出したパターンが視野範囲内でユニークであるか否かについての説明図である。
図１０（ａ）の不適切なテンプレートでのマッチング例に示したように、例えば、図８に示した視野イメージ８０１中で右側上の区分エリア８０２-３の画像では、視野イメージ１００１のスクライブライン７０上に、複数の類似箇所を視野範囲内に選出できるため、一致度合の数値は低くなる。
【００６５】
一方、図１０（ｂ）の適切なテンプレートでのマッチング例に示したように、例えば、図８に示した視野イメージ８０１中で右側中間の区分エリア８０２-６の画像では、視野イメージ１００１のスクライブライン７０上に、他に類似するパターンが視野範囲内に存在しないため、一致度合の数値は高くなる。
【００６６】
ところで、図７におけるステップＳ４０３で、区分エリア８０２-１〜８０２-９に区分けされた視野内にアライメントに用いるパターンが存在しなかった場合や、ステップＳ４０４で、パターンが存在してもそれが位置を特定できるユニークパターンではない場合、ステップＳ４０５で、制御ユニット３０は、ウェーハ上の観察位置、すなわち視野を移動させ、周辺の探索、すなわちサーチアラウンドを行う。
【００６７】
図１１は、低倍率の第２のアライメント時における周辺部探索の模式図である。
制御ユニット３０は、第１のアライメント点５１０への視野移動直後の視野である視野イメージ８０１-０中にパターンが無い、若しくは位置を特定できるユニークパターンが無いのが確認された場合は、ステップＳ４０５で、図１１に示したようにして、その視野を、この移動直後の視野イメージ８０１-０の視野を中心にして、隣接する周辺視野を視野単位で移動し、移動した先の視野単位の視野イメージ８０１-１，８０１-２，・・・ごとに、図７に示したステップＳ４０２〜Ｓ４０４の作業を繰り返し、位置を特定できるユニークパターンの存在する区分エリア８０２を含む別の視野を見つける。
【００６８】
制御ユニット３０は、ステップＳ４０４で、位置を特定できるユニークパターンの存在する区分エリア８０２を含む視野イメージ８０１を検出したならば、ステップＳ４０６で、このユニークパターンの登録とその座標を登録する。この場合、ユニークパターンの登録としては、そのユニークパターンの存在する区分エリア８０２の画像を低倍率アライメント画像として登録し、ユニークパターンの座標としては、登録する画像の中心点、すなわちユニークパターンの存在する区分エリア８０２の中心点の座標１st(Ｘ1st，Ｙ1st)を登録する。例えば、図８に示した視野イメージ８０１の場合は、制御ユニット３０は、右側中間の区分エリア８０２-６の画像を、ユニークパターンの存在する区分エリア８０２の画像、すなわち低倍率アライメント画像として登録することになる。また、ステップＳ４０４で、視野単位の視野イメージ８０１の中にユニークパターンが複数検出された場合、それぞれの区分エリア８０２の画像と、その座標とを登録しておく。
【００６９】
次に、制御ユニット３０は、ステップＳ４０７〜Ｓ４１３で、このステップＳ４０６で登録したユニークパターンの低倍率アライメント画像を用いて、θアライメントを行う。
【００７０】
ステップＳ４０７では、制御ユニット３０は、ステップＳ４０６で登録したユニークパターンの低倍率アライメント画像とその座標の中から、最もユニーク度が高い低倍率アライメント画像とその座標１st(Ｘ1st，Ｙ1st)を選択する。
【００７１】
ステップＳ４０８では、制御ユニット３０は、その選択した低倍率アライメント画像について、低倍率アライメント処理が実施／未実施の判定を行い、未実施の場合は、ステップＳ４０９以降の低倍率アライメント処理を行う。一方、既に低倍率アライメント処理の実施が済んでいる低倍率アライメント画像である場合は、制御ユニット３０は、図７に示した低倍率でのアライメント及びアライメント用の画像登録処理を終了し、図３においてステップＳ５００で示す、高倍率でのアライメント及びアライメント用の画像登録処理を行う。
【００７２】
ステップＳ４０９では、制御ユニット３０は、図５に示す、低倍率の画像を用いた第２のアライメント点５１１へ、その視野を移動する。制御ユニット３０は、低倍率の画像を用いた第２のアライメント点５１１への移動を、低倍率の画像を用いた第１のアライメント点５１０からステージ座標系Ｘ-ＹのＸ軸方向若しくはＹ軸方向に、ステップＳ１００で登録した情報を基に、１ダイピッチ分だけ視野を移動することによって行う。
【００７３】
ステップＳ４１０で、制御ユニット３０は、ステップＳ４０７で選択したユニークパターンの低倍率アライメント画像をテンプレートとして用いて、移動先の視野の視野イメージとの間でテンプレートマッチングを行う。制御ユニット３０は、このテンプレートマッチングに成功したならば、そのマッチング箇所の中心点の座標２nd(Ｘ2nd，Ｙ2nd)の座標検出を行い、これを記憶しておく。
【００７４】
そして、ステップＳ４１１で、制御ユニット３０は、ステップＳ４０７で選択したユニークパターンの低倍率アライメント画像について、ステップＳ４０６で登録されている座標１st(Ｘ1st，Ｙ1st)と、ステップＳ４１０のテンプレートマッチングによって記憶されたマッチング箇所の中心点の座標２nd(Ｘ2nd，Ｙ2nd)とを基に、ステップＳ４１１で、θのずれ量を算出し、補正を行う。この場合、θのずれ量は、仮にステージ座標系Ｘ-ＹのＸ軸方向に、ウェーハ座標系ｘ-ｙのｘ軸方向に係るダイピッチ分だけ移動してアライメントを行った場合は、例えば式２で算出可能である。ここで、θは、ステージ座標系Ｘ-Ｙとウェーハ座標系ｘ-ｙとのそれぞれ座標系の間で、ウェーハ中心点を一致させた状態での、ステージ座標系Ｘ-Ｙとウェーハ座標系ｘ-ｙとの間での、回転ずれ、すなわち傾きθに該当する。
【００７５】
［数２］
θのずれ量[deg.]=arc tan｛(Ｙ2nd−Ｙ1st)/(Ｘ2nd-Ｘ1st)｝ ・・・〔式２〕
ここで、第２のアライメント位置５１１の視野範囲は、図１と同様に、登録した画像の中心座標が視野の中心に来るが、θのずれが大きい場合、第２のアライメント点５１１の視野にステップＳ４０７で選択したユニークパターンの低倍率アライメント画像が入らないことも考えられる。
【００７６】
そこで、ステップＳ４１０でパターンマッチングができなかった場合、制御ユニット３０は、ステップＳ４１２で、視野を移動して、第２のアライメント点５１１に係る周辺の探索を行う。なお、この場合のずれは、θずれに大きく依存しているため、第２のアライメント点５１１に係る周辺の探索では、図１２に示すように、初期の視野イメージ８０１-０に係る視野の、上下の視野イメージ８０１-２，８０１-１に係る視野への移動を優先することで、素早い検出が可能となる。
【００７７】
図１２は、低倍率の第２のアライメント時における周辺部探索の模式図である。
そして、ステップＳ４１２で、第２のアライメント点５１１に係る周辺の探索で、パターンマッチングができた場合は、制御ユニット３０は、このパターンマッチングに成功した視野の、そのマッチング箇所の中心点の座標２nd(Ｘ2nd，Ｙ2nd)の座標検出を行い、これを記憶しておく。そして、ステップＳ４１１で、制御ユニット３０は、同様にして、ステップＳ４０６で登録されている座標１st(Ｘ1st，Ｙ1st)と、ステップＳ４１２のテンプレートマッチングによって記憶されたマッチング箇所の中心点の座標２nd(Ｘ2nd，Ｙ2nd)とを基に、ステップＳ４１１で、θのずれ量を算出し、補正を行う。
【００７８】
また、ステップＳ４１２で示した周辺の探索でもパターンマッチングができず、かつステップＳ４１３において、他に登録したユニークパターンの低倍率アライメント画像がある場合は、その画像を用いて、ステップＳ４０７からのアライメントを再度実施する。これに対し、ステップＳ４１３において、他に登録したユニークパターンの低倍率アライメント画像が無い場合、若しくは無くなってしまった場合は、ステップＳ４０５で視野を移動させ、周辺の別の視野において、新たな位置を特定できるユニークパターンの探索を行う。なお、その際、制御ユニット３０は、既に確認している視野については、その記憶部内に情報を保持しておくことで、探索効率の向上をはかっている。
【００７９】
図３において、制御ユニット３０は、ステップＳ４００で示した低倍率でのアライメント及びアライメント用の画像登録処理を、図７に示したように実行すると、ステップＳ５００で、高倍率でのアライメント及びアライメント用の画像登録処理を行う。
【００８０】
図１３は、図３においてステップＳ５００で示した、高倍率でのアライメント及びアライメント用の画像登録処理のフローチャートである。
【００８１】
ステップＳ５０１で、制御ユニット３０は、ステップＳ４００で登録した低倍率アライメント登録画像、すなわち、図７のステップＳ４０７で選択し、かつステップＳ４１１でθのずれ量を補正した低倍率アライメント画像から、特徴点の抽出を行う。
【００８２】
図１４は、低倍率アライメント登録画像から特徴点を抽出する説明図である。
ここでは、例えば、図示の例では、低倍率アライメント登録画像として、図８に示した視野イメージ８０１の右側中間の区分エリア８０２-６の画像が、登録されているものとする。
【００８３】
図１４に示した低倍率アライメント登録画像の特徴点は、パターン上の各頂点、すなわち図示の例ではスクライブライン７０上の各頂点１４０１，１４０２で、その抽出は、SUSANオペレータやDericheフィルタ等のコーナー検出方法やエッジ検出方法を用いて、制御ユニット３０により実行される。その際、制御ユニット３０においては、特徴点抽出に先立ち、抽出した低倍率アライメント登録画像に係り、二値化処理、ノイズ除去等を行い、特徴点抽出の精度を高めることが望ましい。制御ユニット３０は、低倍率アライメント登録画像に特徴点が複数存在する場合は、それぞれ座標をその記憶部上に記憶する。その際、次のステップ５０２で使用する、複数存在する特徴点の中の選択順序は、例えば、低倍率アライメント登録画像の画面左下から近い距離順等で構わない。
【００８４】
ステップＳ５０２で、制御ユニット３０は、抽出した特徴点の座標登録を行う。その際、図示のように、ステップＳ５０１で、複数の特徴点１４０１，１４０２が検出された場合には、それぞれの特徴点１４０１，１４０２の座標を登録するものとする。
【００８５】
ステップＳ５０３で、制御ユニット３０は、ステージユニット２５を作動制御して、高倍率の画像を用いた第１のアライメント点５１２に視野を移動させる。高倍率アライメントは、低倍率アライメントよりも、高倍率の画像を用いたアライメント点間の間隔を広く取り、かつ、アライメント点の数もステージ座標系を用いて３点以上（図示の例では、アライメント点５１２〜５１５の４点で説明）設定する。高倍率の画像を用いたアライメント点の決定は、例えば、図５にアライメント点５１２〜５１５として示すように、ウェーハ座標系ｘ-ｙのウェーハ座標軸ｘ５０１及びウェーハ座標軸ｙ５０２に最も近い、最外周のダイ等で構わない。
【００８６】
ステップＳ５０３で、制御ユニット３０は、図１５に示すようにして、高倍率アライメントで使用する視野範囲１５０１に対し、その周辺部も含む視野範囲の画像１５０２を取得する。
【００８７】
図１５は、高倍率アライメントの視野とその周辺部を含む範囲の模式図である。
広い範囲で、テンプレートマッチングを行うことで、より確実に登録画像のユニークさを確認できる。そのため、周辺部も含む視野範囲の画像１５０２の取得は、周辺部探索と同様の手法で、高倍率アライメントで使用する視野範囲１５０１の周辺の画像を取得し、周辺部も含む視野範囲の画像１５０２を構築する方法や、視野範囲１５０１よりも低倍率でかつ取得する視野範囲１５０１の画像よりも多いピクセル数で取得する方法を用いて、制御ユニット３０により行われる。制御ユニット３０では、使用する観察倍率や光学系に応じて、適切な方法が選択される。
【００８８】
ステップＳ５０５で、制御ユニット３０は、周辺部も含む視野範囲の画像１５０２における、ユニークパターンの確認を行う。ユニークパターンの確認は、予め設定した倍率と画像を登録するサイズで、周辺部も含む視野範囲の画像１５０２における、視野の中心部分の画像を取得し、Score、Qualityから判断する。ここでは、Scoreは、マッチング回数を、Qualityは、寸法精度すなわちマッチング精度を指す。具体的には、テンプレートとして登録するサイズが広いと、それだけ情報量が増え、Qualityは良くなるが、画像処理に時間を要することになる。本手法では、狭いエリアでのテンプレート取得範囲１５０４、広いエリアでのテンプレート取得範囲１５０３、高倍率アライメントで使用する視野範囲１５０１全体等、複数エリアサイズでテンプレートを取得し、Score、Qualityを確認・登録し、精度、処理時間の初期設定に応じて、テンプレートとして画像登録ができるようになっている。
【００８９】
この段階では、図３に示したステップＳ３００で、ウェーハ中心点の座標がウェーハ座標系ｘ-ｙ上、及びステージ座標系Ｘ-Ｙ上それぞれで判明しており、かつ低倍率であるが、ステップＳ４００で、θの補正が完了しているため、高い精度で頂点が高倍率アライメントで使用する視野範囲１５０１上で、視野の中心に出現している。しかし、ステージ精度が低いシステムに本手法を適用する際は、ステップＳ５０５では、図７におけるステップＳ４０３で示した手法でパターンの存在する視野での位置を確認後、Score、Qualityの確認を行うことが望ましい。
【００９０】
また、ステップＳ５０５で、ユニークなパターンが確認できなかった場合は、制御ユニット３０は、ステップＳ５０６で、他の頂点座標がある場合は、その座標にて、再度ステップＳ５０３から処理を継続する。
【００９１】
また、ステップＳ５０６で、他に登録した頂点の座標が無い場合、若しくは無くなってしまった場合は、制御ユニット３０は、ステップＳ４１２に戻り、処理を継続する。
【００９２】
そして、制御ユニット３０は、ステップＳ５０５でユニークパターンが確認できれば、  ステップＳ５０７で、特徴点としての頂点の画像と座標の登録を行う。このとき、制御ユニット３０は、登録する頂点の座標一つに対し、複数のサイズの頂点の画像を登録できるようになっている。ステップＳ５０８で、頂点の登録座標を選択する。ユニークなパターンが複数確認できた場合は、それぞれ座標と画像を登録できるものとし、優先度は座標ごとに、Qualityの高い順とする。
【００９３】
ステップＳ５０９〜Ｓ５１２で、制御ユニット３０は、登録した高倍率アライメント画像を用いて、θアライメントと、ウェーハ座標系ｘ-ｙのｘ軸方向及びｙ軸方向のデバイスパターンのピッチ補正を行う。
【００９４】
すなわち、ステップＳ５０９では、ステップＳ５０８で選択した頂点の座標と、ステップＳ１００で読み込んだ予め登録されているピッチ情報とを基に、高倍率の画像を用いた第２のアライメント点５１２から第４のアライメント点５１５の中、次の順番の高倍率の画像を用いたアライメント点へ視野を移動し、テンプレートマッチングにより位置情報を取得する。
【００９５】
ステップＳ５１０では、制御ユニット３０は、ステップＳ５０７で登録し、ステップＳ５０８で選択した頂点の画像を使用し、テンプレートマッチングによる座標検出を行う。ステップＳ５１１で、指定回数以上の、高倍率の画像を用いたアライメント点において座標登録が行われたかの確認を行い、指定数に満たない場合は、ステップＳ５０９から処理を継続する。
【００９６】
ステップＳ５１２では、制御ユニット３０は、θ補正及びウェーハ座標系ｘ-ｙのｘ軸方向，ｙ軸方向それぞれのスケール誤差の補正を行う。θのずれ量は、ステップＳ４１１と同様に、例えば、式２で算出可能である。また、３点以上の、高倍率の画像を用いたアライメント点における座標が求まれば、ステージ座標系Ｘ-Ｙでのデバイスパターンとしてのダイのピッチサイズを求めることができる。ステップＳ１００で入力したダイのピッチサイズとの比を、ウェーハ座標系ｘ-ｙのｘ軸方向，ｙ軸方向ともに求めることで、精度の高い移動ができる。補正係数は、例えば式３で求めることができる。
【００９７】
［数３］
補正係数=
{(ステージ座標系での移動距離)/(ダイの数)}/(入力したダイピッチサイズ)
・・・〔式３〕
【００９８】
一方、高倍率の画像を用いたアライメント点の視野に登録画像が入らないことも考えられる。そこで、ステップＳ５１０でパターンマッチングができなかった場合、ステップＳ５１３で視野を移動させ、周辺の探索を行う。また、周辺の探索でもパターンマッチングができず、かつステップＳ５０７で他に登録した画像がある場合、ステップＳ５１４では、その画像を用いて、ステップＳ５０８からのテンプレートマッチングを再度実施する。ステップＳ５０７で他に登録した画像が無く、ステップＳ５０６で他に登録した頂点の座標がある場合、ステップＳ５１４、Ｓ５０６を介して、ステップＳ５０３から処理を継続する。
【００９９】
その際、ステップＳ５０６で、他の頂点座標も登録されてない場合、ステップＳ４１２まで戻り、処理を継続する。なお、この場合、既に低倍率でのθ補正は完了しているため、ステップＳ４０８からステップＳ５０１の処理へ移動する。
【０１００】
図３において、制御ユニット３０は、ステップＳ５００で示した高倍率のアライメント及びアライメント用の画像登録処理を、図１３に示したように実行すると、ステップＳ６００で、その他の処理を行う。
【０１０１】
ステップＳ６００では、必要に応じて、原点座標の情報の指定処理等のその他の処理を加えていく。特にステップＳ３００〜Ｓ５００に示したアライメント自動登録機能を検査・観察システムに備えていれば、ステージ座標系の異なる装置間で、アライメント、及びその後の欠陥の検出や線幅の計測等といった検査・観察処理のシーケンスを実行できるが、本機能を用いていない検査・観察システムからのアライメント、及びその後の検査・観察処理等のシーケンス情報を使用することも想定される。
【０１０２】
そこで、前述した装置上で指定している原点座標の情報を、本機能を用いた検査・観察システムのステージ座標系で指定することで、本機能を用いていない検査・観察システムとのアライメント及びその後の検査・観察処理のシーケンスを共有することができる。原点座標情報の指定は、従来の技術どおり、制御ユニット３０の表示部上に原点となるパターンを表示させ、画面上で指定する方法か、直接座標を指定する方法が望ましい。
【符号の説明】
【０１０３】
１０  検査・観察システム、
２０  検査・観察装置、
２１  試料室、
２２  ウェーハ搬送ユニット、
２３  高倍率観察用ユニット、
２４  低倍率観察用ユニット、
２５  ステージユニット、
３０  制御ユニット、
５０  ウェーハ、
５１  ウェーハ端面、
６０  ダイ、
７０  スクライブライン、
【図１】
2014027108.tif 000003
【図２】
2014027108.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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