(57)【要約】      （修正有）【課題】リソグラフィ装置を立設した床が動いた場合にリソグラフィ装置のコンポーネントの損傷を回避するリソグラフィ装置を開発する。【解決手段】第１コンポーネント２０４と、第２コンポーネント２０６と、第１コンポーネント２０４及び第２コンポーネント２０６を相互に結合するよう構成した結合デバイス２２２と、リソグラフィ装置２０２を立設した床２００の運動Ｚを捕捉する捕捉デバイス２３０と、第１コンポーネント２０４に対する第２コンポーネント２０６の運動を制限するために、床２００の捕捉した運動Ｚに応じて結合デバイス２２２を作動するよう構成した制御デバイス２３２とを備えたリソグラフィ装置２０２を開示する。【選択図】図２
2014022739.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置（２０２）であって、
第１コンポーネント（２０４）と、
第２コンポーネント（２０６）と、
前記第１コンポーネント（２０４）及び前記第２コンポーネント（２０６）を相互に結合するよう構成した結合デバイス（２２２）と、
前記リソグラフィ装置（２０２）を立設した床（２００）の運動（Ｚ）を捕捉する捕捉デバイス（２３０）と、
前記第１コンポーネント（２０４）に対する前記第２コンポーネント（２０６）の運動を制限するために、前記床（２００）の捕捉した前記運動（Ｚ）に応じて前記結合デバイス（２２２）を作動するよう構成した制御デバイス（２３２）と
を備えたリソグラフィ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のリソグラフィ装置において、前記制御デバイス（２３２）は、捕捉した前記運動（Ｚ）及び少なくとも１つの基準パターン（Ｒ）の比較に応じて比較結果（Ｖ）を提供する比較ユニット（２３４）と、前記比較結果（Ｖ）に応じて前記第１コンポーネント（２０４）に対する前記第２コンポーネント（２０６）の運動を制限するために前記結合デバイス（２２２）を作動する制御ユニット（２３６）とを備えたリソグラフィ装置。
【請求項３】
請求項２に記載のリソグラフィ装置において、前記少なくとも１つの基準パターン（Ｒ）は地震に対応するリソグラフィ装置。
【請求項４】
請求項３に記載のリソグラフィ装置において、前記少なくとも１つの基準パターン（Ｒ）はＰ波に対応するリソグラフィ装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載のリソグラフィ装置において、前記制御ユニット（２３６）を、捕捉した前記運動（Ｚ）が前記少なくとも１つの基準パターンに対応するという前記比較結果（Ｖ）である場合に、前記第１コンポーネント（２０４）に対する前記第２コンポーネント（２０６）の運動を制限するために前記結合デバイス（２２２）を即時作動するよう構成したリソグラフィ装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置において、前記捕捉デバイス（２３０）により捕捉され得る前記床（２００）の前記運動（Ｚ）は、１つ又は複数の空間方向の移動距離、速度、及び／又は加速度であるリソグラフィ装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置において、前記結合デバイス（２２２）を、１つ又は複数の空間方向の前記第２コンポーネント（２０６）の移動距離、速度、及び／又は加速度に関して、前記第１コンポーネント（２０４）に対する前記第２コンポーネント（２０６）の運動を制限するよう構成したリソグラフィ装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置において、前記結合デバイス（２２２）を、前記第１コンポーネント（２０４）に対する前記第２コンポーネント（２０４）の運動を圧力嵌め、噛み合い、接触、及び／又は非接触により制限するよう構成したリソグラフィ装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置において、前記第１コンポーネント（２０４）に対する前記第２コンポーネント（２０６）の運動を制限する前記結合デバイス（２２２）は、アクチュエータ（２２０、２２４）、変更可能なばね剛性（ｃ）を有するばね（４００）、変更可能な減衰定数（ｄ）を有するダンパ（４０２）、及び／又は調整可能なエンドストップ（７００、７０２）を備えるリソグラフィ装置。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載のリソグラフィ装置において、運動の噛み合い式制限用の前記結合デバイス（２２２）は、前記第１コンポーネント（２０４）に対する前記第２コンポーネント（２０６）の運動を解除可能に係止するよう構成した係止ユニット（２２４、２２６、２２８）を備えるリソグラフィ装置。
【請求項１１】
請求項８又は９に記載のリソグラフィ装置において、運動の圧力嵌め型制限用の前記結合デバイス（２２２）は、機械ブレーキ（６００）又は誘導ブレーキ（６０２）を備えるリソグラフィ装置。
【請求項１２】
請求項８又は９に記載のリソグラフィ装置において、前記ばね剛性（ｃ）を、前記ばね（４００）を枢動させることにより変更可能であるよう設けたリソグラフィ装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置において、前記捕捉デバイス（２３０）を、前記リソグラフィ装置（２０２）の構造体（２０４）上又はベース（２０８）内に設けたリソグラフィ装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置において、前記第１コンポーネント（２０４）を、前記リソグラフィ装置（２０２）の構造体、特にフレームとして具現し、前記第２コンポーネント（２０４）を、前記リソグラフィ装置（２０２）のミラーとして具現したリソグラフィ装置。
【請求項１５】
第１コンポーネント（２０４）及び第２コンポーネント（２０６）を備えたリソグラフィ装置（２０２）を立設した床が動いた（Ｚ）場合の該リソグラフィ装置（２０２）の損傷を回避する方法であって、前記床（２００）の運動を捕捉し、捕捉した前記運動（Ｚ）に応じて前記第１コンポーネント（２０４）に対する前記第２コンポーネント（２０６）の運動を制限する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置、特にＥＵＶリソグラフィ装置、及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例として、リソグラフィ装置は、集積回路（ＩＣ）の製造においてマスクのマスクパターンを例えばシリコンウェハ等の基板に結像するために用いられる。このとき、光学系が発生した光ビームを、マスクを通して基板に指向させる。
【０００３】
ムーアの法則及びより小さな構造体の追求を誘因として、特に集積回路の製造において、５ｎｍ〜３０ｎｍの領域の、特に1３．５ｎｍの波長を有する光を用いるＥＵＶリソグラフィ装置を現在開発中である。「ＥＵＶ」は、「極紫外線」を意味する。大半の材料がこの波長で高い光吸収を示す結果として、かかるＥＵＶリソグラフィ装置では、以前のように屈折光学ユニット、すなわちレンズの代わりに反射光学ユニット、すなわちミラーを用いる必要がある。リソグラフィ装置の光学系の個々のコンポーネントは、相互に対して非常に正確に、特にｐｍ範囲で位置決めしなければならず、全ての振動刺激から分離しなければならない。コンポーネントの非常に柔軟な取り付けがこれには有利である。このとき、例えば地震の結果としてかかるリソグラフィ装置のベースの活発な運動があった場合、全てのコンポーネントが特に全６自由度で振動するよう励起される。コンポーネントの柔軟な取り付けの結果として、このときコンポーネント間で大きな相対運動がある。特に、非常に大きな相対運動がミラーと力フレームとの間で記録され得る。これは、例えばミラーがセンサに影響を及ぼすことにより、コンポーネントの損傷につながり得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、本発明の目的は、リソグラフィ装置を立設した床が動いた場合にリソグラフィ装置のコンポーネントの損傷を回避するリソグラフィ装置を開発することからなる。本発明のさらに別の目的は、リソグラフィ装置の損傷を回避する方法を開発することからなる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、第１コンポーネント、第２コンポーネント、結合デバイス、捕捉デバイス、及び制御デバイスを備えたリソグラフィ装置により達成される。結合デバイスは、第１コンポーネント及び第２コンポーネントを相互に結合するよう構成する。捕捉デバイスは、リソグラフィ装置を立設した床の運動を捕捉するよう構成する。制御装置は、第１コンポーネントに対する第２コンポーネントの運動を制限するために、床の捕捉した運動に応じて結合デバイスを作動するよう構成する。
【０００６】
本発明の基礎となる概念は、制御デバイスにより制御され、したがって床の運動に能動的に反応することができる結合デバイスを設けることからなる。この反応は、第１コンポーネント及び第２コンポーネントを相互に結合することからなり、結合は、特に、圧力嵌め型又は噛み合い結合を含み得る。さらに、結合は、接触又は非接触により行うことができる。
【０００７】
例として、制御デバイスをマイクロプロセッサの形態で設けることができる。
【０００８】
「結合」は、第１コンポーネント及び第２コンポーネントを機械機能的又は電磁機能的に接続させることを意味する。ここで、第１コンポーネントと第２コンポーネントとの間の結合は、必ずしも直接的である必要はない。すなわち、第１コンポーネント及び第２コンポーネントは、第３コンポーネント、第４コンポーネント、及びさらなるコンポーネントを介して間接的に相互に結合することもできる。すなわち、第１コンポーネント及び第２コンポーネントは、例えば、これらがリソグラフィ装置の共通の力フレームに対してそれぞれ固定されることにより、相互に結合することができる。
【０００９】
一実施形態によれば、制御デバイスは、捕捉した運動及び少なくとも１つの基準パターンの比較に応じて比較結果を提供する比較ユニットと、比較結果に応じて第１コンポーネントに対する第２コンポーネントの運動を制限するために結合デバイスを作動する制御ユニットとを備える。例として、基準パターンは、捕捉した運動の許容振幅範囲、捕捉した運動の許容周波数範囲、捕捉した運動の許容持続時間、捕捉した運動の許容エネルギー、又はそれらの組み合わせを含み得る。
【００１０】
例として、少なくとも１つの基準パターンは地震に対応する。地震の場合、異なるタイプの波が震源から伝播する。最初に、実体波が全空間方向に伝播する。これらが地球の表面に到達し、そこで表面波を発生させる。実体波及び表面波の両方が任意の所与の場所に到達する。実体波の場合、Ｐ波（第一波）とＳ波（第二波）とを区別することができ、表面波の場合、Ｌ波（ラブ波）とＲ波（レイリー波）とを区別することができる。基準パターンは、ここでは振幅、周波数、持続時間、エネルギー、及び／又は空間方向に関して上記波の１つ又は複数に対応し得る。基準パターンは、地震をその３つの空間方向で表すことが好ましいが、空間方向が２つ又は１つのみでも可能である。基準パターンは、１つ又は複数の波の一部のみに対応することが好ましい。
【００１１】
少なくとも１つの基準パターンは、Ｐ波に対応することが好ましい。Ｐ波は、圧力波（縦波）として地球内を伝播する。これに対して、Ｓ波は剪断波（横波）であり、地震エネルギーの大半を運ぶ。例として、２つの波の比は、エネルギーＰ波／エネルギーＳ波＝１／２５により規定することができる。さらに、２つの波タイプの伝播速度には差があるので、その場所への異なる伝播時間が観察され得る。例として、地下の状態に応じて、Ｐ波は高エネルギーのＳ波の２倍の速度で伝播する。Ｌ波及びＲ波は、Ｓ波のすぐ後にその場所に到達する。Ｌ波及びＲ波の到達は、活発な水平方向地盤変動に関連付けられる。したがって、Ｐ波に対応する基準パターンは、地震を識別できると共に制御ユニットがその場所への高エネルギーのＳ波、Ｌ波、及びＲ波の到達前に結合デバイスを適宜作動することができるように選択することが有利であり、これらの波は、リソグラフィ装置に対する深刻な脅威となり、適切な予防措置を講じなければ第１コンポーネント及び／又は第２コンポーネントの損傷につながり得る。
【００１２】
さらに別の実施形態によれば、制御ユニットは、捕捉した運動が少なくとも１つの基準パターンに対応するという比較結果である場合に、第１コンポーネントに対する第２コンポーネントの運動を制限するために結合デバイスを即時作動するよう構成する。すでに上述したように、これは例えば、高エネルギーのＳ波、Ｌ波、及びＲ波がリソグラフィ装置に到達する前に第２コンポーネントを第１コンポーネントに対して固定することを可能にする。
【００１３】
一実施形態によれば、捕捉デバイスにより捕捉され得る床の運動は、１つ又は複数の空間方向の移動距離（travel）、速度、及び／又は加速度である。例として、捕捉デバイスは、加速度計の形態で具現することができる。加速度計は、圧電型加速度計、歪みゲージ、又は磁気誘導により測定する加速度計として具現することができる。捕捉デバイスは、床の運動を間接的に測定することができる。かかる間接測定は、リソグラフィ装置のベースの運動を捕捉できるようにし、その結果として床運動に関する結論を出すことができる。歪みゲージを用いて、リソグラフィ装置の構造体における変形を測定することができることで、この場合は床の運動も間接的に推定することができる。さらに、例えば床上に基準点を有する光センサにより、床の運動を直接測定することも可能である。
【００１４】
さらに別の実施形態によれば、結合デバイスは、１つ又は複数の空間方向の第２コンポーネントの移動距離、速度、及び／又は加速度に関して、第１コンポーネントに対する第２コンポーネントの運動を制限するよう構成する。用途に応じて、第２コンポーネントと第１コンポーネント又は第３コンポーネント、例えば、リソグラフィ装置のフレーム、より詳細には力フレーム、又はセンサとの間の衝突を回避するために、例えば第２コンポーネントの移動距離を制限することが得策で有り得る。さらに、又はその代替として、第２コンポーネントの速度及び／又は加速度を制限することが可能である。例として、第２コンポーネントの、特に大型ミラーの過大な加速度は、床運動の結果としての第２コンポーネントの著しい変形又は他の永久的な損傷につながり得る。第２コンポーネントの加速度をここで制限することにより、かかる損傷を回避することができる。
【００１５】
結合デバイスは、第１コンポーネントに対する第２コンポーネントの運動を圧力嵌め、噛み合い、接触、及び／又は非接触により制限するよう構成することができる。圧力嵌めは特に、接触式又は非接触式に具現することができる。例として、特に対応のブレーキパッドを有する機械ブレーキを、接触圧力嵌めのために設けることができる。非接触圧力嵌めには、電磁式圧力嵌め（electromagnetic force fit）をもたらす誘導ブレーキを用いることができる。例として、１つ又は複数の受入要素及び１つ又は複数の係合要素が相互に係合することにより、接触噛み合いをもたらすことができる。例として、噛み合いは、第２コンポーネントの移動距離を単純な方法で制限することを可能にするが、第２コンポーネントの速度又は加速度は、圧力嵌めにより容易に制限することができる。
【００１６】
一実施形態によれば、第１コンポーネントに対する第２コンポーネントの運動を制限する結合デバイスは、アクチュエータ、変更可能なばね剛性を有するばね、変更可能な減衰定数を有するダンパ、及び／又は調整可能なエンドストップを備える。例として、アクチュエータは、上記係合手段及び／又は受入手段、特に係止凹部と相互作用する係止ピンを作動するのに適している。例として、ばねのばね剛性は、第２コンポーネントがばねに作用する方向を変更することにより設定することができる。例として、減衰定数は、流体ダンパの場合に高圧側から低圧側への流体の通過開口のサイズを増減することにより設定することができる。例として、エンドストップは、第２コンポーネントの運動を制限するためにエンドストップを当該第２コンポーネントに対して直接駆動できる、すなわち第２コンポーネントと接触させることができることにより設定することができる。
【００１７】
例として、運動の噛み合い式制限用の結合デバイスは、第１コンポーネントに対する第２コンポーネントの運動を解除可能に係止するよう構成した係止ユニットを備える。例として、係止ユニットは、第２コンポーネントが第１コンポーネントに対して固定されるよう相互作用する係止ピン及び係止開口を含み得る。
【００１８】
一実施形態によれば、運動の圧力嵌め型制限用の結合デバイスは、機械ブレーキ又は誘導ブレーキを備え得る。例として、機械ブレーキは１つ又は複数のブレーキパッドを含み得る。可能な一実施形態では、誘導ブレーキは、第１コンポーネント又は第２コンポーネントに接続固定したコイルを含み、このコイルが制御デバイスにより作動され得るコイルと相互作用する。
【００１９】
ばねのばね剛性は、ばねを枢動させることにより変更可能であるように設けることができる。
【００２０】
一実施形態によれば、捕捉デバイスを、リソグラフィ装置の構造体上又はベース内に設ける。
【００２１】
第１コンポーネントは、構造体、特にフレームとして具現することができる。例として、フレームは力フレーム又はセンサフレームであり得る。力フレームは、リソグラフィ装置の動作中に生じる実質的な力を吸収する。例として、これらの力は、ミラーの保持から生じる力を含む。センサフレームは、適当な減衰要素により力フレームから分離され、リソグラフィ装置の動作中にセンサの保持から生じる力を吸収するだけであり、すなわち事実上力を吸収しない。
【００２２】
第２コンポーネントは、リソグラフィ装置のミラーとして具現することができる。特にミラーを保持する場合に生じる要件は、これらのミラーが特に敏感なので、これらのミラーを特に地震又は他の床運動から保護すべきであるということである。
【００２３】
さらに、第１コンポーネント及び第２コンポーネントを備えたリソグラフィ装置を立設した床が動いた場合のリソグラフィ装置の損傷を回避する方法が提供される。本方法では、床の運動を捕捉し、捕捉した運動に応じて第１コンポーネントに対する第２コンポーネントの運動を制限する。
【００２４】
本発明によるリソグラフィ装置について上述した特徴及び発展形態は、本発明による方法に準用する。
【００２５】
さらに他の例示的な実施形態は、添付図面の図を参照してより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】例示的な地震に関する３つの相互に直交した方向の床加速度を示す。
【図２】一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。
【図３】ＡからＤは、一実施形態による方法の時系列を示す。
【図４】Ａ〜Ｂは、さらに別の実施形態によるリソグラフィ装置を１つの状態で部分的に示す。
【図５】Ａ〜Ｂは、さらに別の実施形態によるリソグラフィ装置を１つの状態で部分的に示す。
【図６】さらに別の実施形態によるリソグラフィ装置を部分的に示す。
【図７】さらに別の実施形態によるリソグラフィ装置を部分的に示す。
【図８】解決オプションの分類を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
別段の指定がない限り、図中の同じ参照符号は同じか又は機能的に同等の要素を示す。さらに、図示は必ずしも一定の縮尺ではないことに留意すべきである。
【００２８】
図１は、マグニチュード７．３で震央距離３９ｋｍの例示的な地震に関する３つの相互に直交した方向Ｚ、ＮＳ、ＥＷの例示的な床加速度を示す。Ｚは、リソグラフィ装置２０２を立設した床２００の鉛直運動方向（図２も参照）を示す。ＮＳ（北／南）及びＥＷ（東／西）はそれぞれ、リソグラフィ装置２０２の場所における床２００の水平運動を示す。
【００２９】
最大水平加速度（ＮＳ、ＥＷ）は鉛直加速度（Ｚ）よりも著しく大きいことが、図１から分かる。さらに、Ｐ波が上記場所に最初に到達することが明確に分かる。震央からの距離が短い結果として、Ｓ波、Ｌ波、及びＲ波は、ほぼ同時に、Ｐ波の約５秒後に到達する。特に鉛直方向ＺにＰ波が引き起こす加速度振幅は、Ｐ波を明確に検出して通常の床運動から区別することができるほど十分に大きい。これにより、地震の早期検出が可能となる。すなわち、Ｐ波の検出は、床２０２の対応の活発な運動に関連するＳ波並びにＬ波及びＲ波の到達に備えて、図２におけるリソグラフィ装置２０２の準備をすることにより、こうしてリソグラフィ装置２０２のコンポーネントの損傷を回避することを可能にする。
【００３０】
図２は、一実施形態によるリソグラフィ装置２０２を概略図で示す。
【００３１】
ＥＵＶリソグラフィ装置として具現することが好ましいリソグラフィ装置２０２は、第１コンポーネント２０４及び第２コンポーネント２０６を備える。例として、第１コンポーネント２０４を力フレームとして具現し、これは、リソグラフィ装置２０２の動作中に実質的な力全てを吸収して、それらをリソグラフィ装置２０２のベース２０８を介して床２００へ逃す。力フレーム２０４は、１つ又は複数のばね２１０又は複数のダンパによりベース２０８上で支持することができる。例として、ばね２１０は、力フレーム２０４をベース２０８に螺合するボルトにより形成することができる。ベース２０８はさらに、床２００上で弾性的に支持することができ、これを対応のばね２１２で示す。
【００３２】
第２コンポーネント２０６は、例えば、ミラーとして具現することができる。ミラー２０６は、光線２１４をフォトマスク２１６へ導くために設けることができる。例として、ミラー２０６は、ファセット及び／又は中空ミラーとして具現することができる。複数のミラー２０６を設けることも当然ながら可能である。フォトマスク２１６は、ウェハ２１８に縮小して結像される構造を有する。
【００３３】
ミラー２０６の代わりに、第２コンポーネントを、光源、特にＥＵＶ（極紫外線）光源、コリメータ、又はモノクロメータとして具現することもできる。
【００３４】
リソグラフィ装置２０２の通常動作中、アクチュエータ２２０が、ミラー２０６を浮揚させる磁場を生成する。その際、ミラー２０６を、フォトマスク２１６及び／又はさらに他のミラーに対して非常に正確に位置決めしなければならない。
【００３５】
リソグラフィ装置２０２は、結合デバイス２２２をさらに備える。例として、結合デバイス２２２は、２つの作動部材２２４、特にソレノイドを備え、これらは、力フレームに固定され、特に円錐形の係止ピン２２６を対応の円錐実施形態を有し得る係止開口２２８と相互に係合させるようそれぞれが構成される。こうして係合させることで、ミラー２０６が３つの空間方向全部で噛み合いにより力フレーム２０４に接続されるので、力フレーム２０４に対して動くことができなくなる。全体として、作動部材２２４、係止ピン２２６、及び係止開口２２８が係止ユニットを形成する。
【００３６】
リソグラフィ装置２０２は、捕捉デバイス２３０をさらに備える。例として、捕捉デバイス２３０を加速度計の形態で具現する。加速度計２３０は、圧電型加速度計として具現することができる。さらに、加速度計２３０は、ベース２０８内に配置することができ、より詳細にはベース２０８に組み込むことができる。加速度計２３０は、床２００の運動を捕捉するよう構成する。特に、加速度計２３０は、Ｚ方向の床の運動のみを捕捉するようにすることができる。
【００３７】
リソグラフィ装置２０２は、制御デバイス２３２をさらに備える。制御デバイス２３２はさらに、比較ユニット２３４、制御ユニット２３６、及びメモリユニット２３８からなり得る。制御デバイス２３２は、捕捉した床２００の運動に応じて力フレーム２０４に対するミラー２０６の運動を制限するために、結合デバイス２２２を作動するよう構成する。例示的な実施形態によれば、この制限は、リソグラフィ装置２０２、特にミラー２０６が損傷を受けることが予測可能であるような性質を有する地震が予期される場合に生じるべきである。例として、この損傷は、ミラー２０６が、地震に起因してミラー２０６と例えば力フレーム２０４又はセンサ２４０との衝突につながる距離に及ぶことから生じ、センサ２４０は、例えばミラー２０６の位置を捕捉するためにミラー２０６と相互作用するよう構成したものである。
【００３８】
リソグラフィ装置２０２の通常動作中、すなわち、例えばウェハ２１８の露光時に、制御ユニット２３６は、係止ピン２２６が係止開口２２８と係合しないよう結合デバイス２２２の作動部材２２４を作動する。したがって、ミラー２０６は、光線２１４を適宜制御するためにアクチュエータ２２０により空間的に自由に動くことができる。
【００３９】
その際、加速度計２３０は、Ｚ方向（及び／又はＮＳ方向及び／又はＥＷ方向）の床２００の運動を連続的に捕捉する。加速度計２３０は、信号に関してこれと結合した比較ユニット２３４に加速度信号Ｂを供給する。比較ユニット２３４は、加速度信号Ｂを基準パターンＲと比較し、基準パターンＲは、上記比較ユニットがメモリユニット２３８から読み取ったものである。比較ユニット２３４は、メモリユニット２３８からの複数の基準パターンＲ１〜Ｒｎを読み出すためにも設けることができる。
【００４０】
この後に、比較ユニット２３４は、加速度信号Ｂを基準パターンＲと比較する。基準パターンＲは、地震のＰ波の一部、例えば最初の２秒に対応する。例として、基準パターンは、許容振幅範囲、許容周波数範囲、許容エネルギー範囲、又は許容持続時間範囲を規定することができる。基準パターンＲは、これらの許容範囲の組み合わせも含み得る。さらに、基準パターンＲは、これらの許容範囲を種々の空間方向で、特に３つの相互に直交した空間方向Ｚ、ＮＳ、ＥＷで規定することができる。加速度信号Ｂと基準パターンＲとの比較に応じて、比較ユニット２３４は比較結果Ｖを生成する。比較結果Ｖに応じて、制御ユニット２３６は、作動部材２２４を作動するための制御信号Ｓを生成する。加速度信号Ｂが許容範囲外にある場合、すなわち強い地震がリソグラフィ装置２０２の場所に到達している場合、制御ユニット２３６は、係止ピン２２６が係止開口２２８と係合することによってミラー２０６が力フレーム２０４に対して固定されるように作動部材２２４を作動する。Ｓ波、Ｌ波、及びＲ波がこのとき続いてリソグラフィ装置２０２の場所に到達すると、これはＰ波の到達の数秒後に通常は起こるが、ミラー２０６が確実に係止される。ミラー２０６は、Ｓ波、Ｌ波、及びＲ波に起因した床２００の活発な運動の結果として力フレーム２０４に対して動くことができなくなり、その結果、ミラー２０６とフレーム２０４及び／又はセンサ２４０との衝突が回避される。
【００４１】
図３Ａ〜図３Ｄは、図１及び図２と共に上述した方法の時系列を示す。
【００４２】
時間Ｔ１では、係止ピン２２６はミラー２０６の係止開口２２８と係合していない。したがって、リソグラフィ装置２０２は通常動作中である。時間Ｔ２において、Ｐ波を加速度計２３０により捕捉する。すると、制御ユニット２３６は、作動部材２２４により係止ピン２２６を係止開口２２８に打ち込む。時間Ｔ３において、すなわちＳ波、Ｌ波、及びＲ波に起因した強運動期（intensive movement phase）の開始時に、ミラー２０６を３つの空間方向全部で噛み合いにより力フレーム２０４に接続する。例として、時間Ｔ２から時間Ｔ３までは２秒〜８秒、特に３秒〜６秒であり得る。
【００４３】
図４Ａ及び図４Ｂは、さらに別の実施形態によるリソグラフィ装置２０２を断面で示す。ここでは、図２とは対照的に、結合デバイス２２２を例えばばね４００及び／又はダンパ４０２により形成する。ここで、ばね４００のばね剛性ｃ又は及びダンパ４０２減衰定数ｄはそれぞれ、図４Ｂに示すように設定することができる。例として、ばね４００のばね剛性ｃは、利用可能な撓み移動距離を増減することにより設定することができる。例えば流体ダンパとして具現したダンパ４０２の場合、減衰定数ｄは、高圧側から低圧側へのダンパの流体、例えば油の通過開口を変更することにより制御することができる。
【００４４】
ここで、図４Ａは、時間Ｔ１（図３Ａを参照）における通常動作を示す。時間Ｔ２において、すなわち地震の報知期において、制御ユニット２３６は、ばね剛性ｃ及び／又は減衰定数ｄを変更する、特に増加させるよう制御デバイス２２２を作動して、時間Ｔ３（図３Ｃを参照）における強運動期中に、力フレーム２０４及び／又はセンサ２４０（図２を参照）との衝突を回避するようミラー２０６の運動、例えば移動距離が制限されるようにする。
【００４５】
図５Ａ及び図５Ｂはそれぞれ、さらに別の実施形態によるリソグラフィ装置２０２を断面で示す。
【００４６】
図２とは対照的に、図５Ａ及び図５Ｂに示す例示的な実施形態によるリソグラフィ装置２０２が備える結合デバイス２２２は、レバー５００、ばね４００、及び摺動ブロックガイド５０２を備える。結合デバイス２２２は、ばね４００を枢動させることによりばね４００のミラー関連ばね剛性ｃを高めるよう構成する。レバー５００の一端５０４を、ミラー２０６に取り付ける。レバー５００の他端５０６を、ばね４００の一端に取り付ける。一端５０４と他端５０６との間で、レバー５００を例えば力フレーム２０４のピボット点５０８に蝶着する。ばね４００の他端には、摺動ブロックガイド５０２に変位可能に係合する摺動ブロック要素５１０を設ける。例として、摺動ブロックガイド５０２は、円弧形の実施形態を有し得る。しかしながら、摺動ブロックガイド５０２は、異なる設計を有することもできる。特に、重要なのは、摺動ブロックガイド５０２が、レバー５００の端５０６を中心としたばね４００の枢動を可能にすることである。
【００４７】
図５Ａは、時間Ｔ１（図３Ａを参照）における通常動作を示す。ミラー２０６の運動は、端５０６をばね４００の長手方向軸５１４に対して垂直な撓み方向５１２に動かすだけである。したがって、ばね４００は、この状態では低いミラー関連ばね剛性ｃしか有しない。
【００４８】
報知期Ｔ２（図３Ｂを参照）において、制御ユニット２３６は、摺動ブロック要素５１０が摺動ブロックガイド５０２に沿って動いてばね４００の長手方向軸５１４がこのとき端５０６の撓み方向５１２と一致するように、結合デバイス２２２を作動する。結果として、ばね４００のミラー関連ばね剛性ｃが著しく向上するので、強運動期Ｔ３（図３Ｃを参照）中のミラー２０６の運動が大幅に制限される。ばね４００の代わりに、又はばね４００に加えて、ダンパ４０２をここで用いることもできる。
【００４９】
図６は、さらに別の実施形態によるリソグラフィ装置２０２を断面で示す。
【００５０】
図２とは対照的に、結合デバイス２２２の作動部材２２４は、図６に示す実施形態ではブレーキパッド６００を作動する。
【００５１】
時間Ｔ１では、すなわち通常動作中、ブレーキパッド６００はミラー２０６から離れているので、ミラー２０６は自由に動くことができる。時間Ｔ２では、すなわち報知期中、ブレーキパッド６００がミラー２０６に当接し、したがってミラー２０６をフレーム２０４に対して３つの空間方向全部で圧力嵌めで固定するように、制御ユニット２３６が作動部材２２４を作動する。
【００５２】
ブレーキパッド６００の代替として、誘導ブレーキ６０２を設けることによりさらなる圧力嵌め接続を達成してもよい。誘導ブレーキ６０２は、時間Ｔ１において可動にコイル６０６内に設けた、特に鉄製のコア６０４を備え得る。時間Ｔ２において、制御ユニット２３６は、コア６０４、したがってミラー２０６を力フレーム２０４に対して固定する磁場を生成するような電流を、コイル６０６を通して生成する。
【００５３】
図７は、さらに別の実施形態によるリソグラフィ装置２０２を断面で示す。
【００５４】
リソグラフィ装置２０２において、図２とは対照的に、２対のエンドストップ７００、７０２を備えた結合デバイス２２２を設ける。エンドストップ７００、７０２はそれぞれ、相互に対向して相互間にミラー２０６を保持する。２つのエンドストップ７００間及び２つのエンドストップ７０２間の距離７０４は、作動部材２２４によりそれぞれ設定することができる。時間Ｔ１では、すなわち通常動作中、距離７０４は大きく、エンドストップ７００、７０２は、特に、時間Ｔ１ではミラー２０６に接触しない。時間Ｔ２において、制御ユニット２３６は、距離７０４が縮まるように作動部材２２４を作動する。特に、エンドストップ７００、７０２をミラー２０６と接触させることにより、少なくとも１つの空間方向での、特にＺ方向での力フレーム２０４に対するミラー２０６の噛み合い型固定を得るようにすることができる。
【００５５】
図８は、解決オプションの分類をツリー構造の形態で示す。図８は、完全能動解決手段と半能動解決手段とを区別している。
【００５６】
完全能動解決手段は、力フレーム２０４に対するミラー２０６の運動を制限するためにアクチュエータ２２０を直接作動する制御ユニット２３６からなり得る。この場合、図２に示すように、アクチュエータ２２０は結合デバイス２２２を形成する。
【００５７】
しかしながら、ごくわずかな作動エネルギーしか必要としないので、図４〜図７に示すような半能動解決手段がこれよりも好まれるはずである。結合デバイス２２２の特性は、半能動解決手段の状況に適合する。リソグラフィ装置２０２に関しては、これは、ミラー２０６を通常動作中にできる限り柔軟に取り付け、したがって例えば力フレーム２０４の振動から分離することを意味する。地震の結果としての場合のように、大きな動荷重がリソグラフィ装置２０２に作用するとすぐに、ミラー２０６とリソグラフィ装置２０２の他のコンポーネント、特に力フレーム２０４との間の相対運動が小さいように結合デバイス２２２の特性を変更する。地震の代わりに、例えば爆発の結果としての床の他の運動がリソグラフィ装置２０２の損傷につながり得ることを、この時点で再度強調する。したがって、この場合に適合した基準パターン（又は複数の基準パターン）をメモリユニット２３８に記憶させて、制御ユニット２３６がこうした励起にも反応し、したがってミラー２０６への損傷を回避することができるようにすることも可能である。ミラーの代わりに、他のコンポーネント２０６をここで説明した設計により損傷から保護することもできることを、この時点でさらに強調する。
【００５８】
本発明は、種々の例示的な実施形態に基づいて説明したが、決してそれらに限定されるのではなく、多くの異なる方法で変更することができる。
【符号の説明】
【００５９】
２００  床
２０２  リソグラフィ装置
２０４  第１コンポーネント
２０６  第２コンポーネント
２０８  ベース
２１０  ばね
２１２  ばね
２１４  光線
２１６  フォトマスク
２１８  ウェハ
２２０  アクチュエータ
２２２  結合デバイス
２２４  作動部材
２２６  係止ピン
２２８  係止開口
２３０  捕捉デバイス
２３２  制御デバイス
２３４  比較ユニット
２３６  制御ユニット
２３８  メモリユニット
２４０  センサ
４００  ばね
４０２  ダンパ
５００  レバー
５０２  摺動ブロックガイド
５０４  端
５０６  端
５０８  蝶着点
５１０  摺動ブロック要素
５１２  撓み方向
５１４  長手方向軸
６００  ブレーキパッド
６０２  誘導ブレーキ
６０４  コア
６０６  コイル
７００  エンドストップ
７０２  エンドストップ
７０４  距離
ｃ  ばね剛性
ｄ  減衰係数
Ｂ  加速度
Ｒ  基準パターン
Ｓ  制御信号
Ｖ  比較結果
Ｚ  鉛直方向
ＮＳ  水平方向
ＥＷ  水平方向
【図１】
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【図８】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【外国語明細書】
2014022739000001.pdf