(57)【要約】【課題】透明基材の両面のセンサ電極同士の見当精度を向上でき、見当精度不良に起因するセンサ電極の濃淡ムラ発生を抑制できるタッチパネルの製造方法を提供する。【解決手段】透明基材１の両面にセンサ電極２を有するタッチパネル１０の製造方法であって、（ａ）透明基材の両面に金属層が形成された金属層付き工程基材を準備する工程基材準備工程、（ｂ）金属層上に感光性レジスト層を形成するレジスト層形成工程、（ｃ）感光性レジスト層を両面で異なるパターンで同時露光する両面同時露光工程、（ｄ）感光性レジスト層を現像してレジストパターン層を両面に形成する現像工程、（ｅ）レジストパターン層により金属層をエッチングしてセンサ電極を形成するエッチング工程、の各工程をこの順に含むタッチパネルの製造方法とする。【選択図】図１
2014191547.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、前記透明基材の一方の面の面上、及び前記一方の面とは反対側の他方の面の面上の両面上に形成された位置検知用のセンサ電極と、を有するタッチパネルの製造方法であって、
（ａ）前記透明基材の両面上に可視光及び露光光に不透明な金属層が形成された金属層付き工程基材を準備する工程基材準備工程、
（ｂ）前記工程基材の両面上の前記金属層上に感光性レジスト層を形成するレジスト層形成工程、
（ｃ）前記両面の感光性レジスト層を前記両面で互いに異なる所定パターンで同時に露光する両面同時露光工程、
（ｄ）前記両面の前記感光性レジスト層を現像してレジストパターン層を両面に形成する現像工程、
（ｅ）前記両面のレジストパターン層により前記両面の金属層をエッチングして、前記両面のセンサ電極を形成するエッチング工程、
の各工程をこの順に含む、タッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種電子機器の入力装置としてタッチパネルが普及している（特許文献１、特許文献２）。タッチパネルは抵抗膜方式など各種位置検知方式のものが実用化されており、最近では特にマルチタッチ（多点同時入力）が可能な静電容量方式のタッチパネルが注目されている。
【０００３】
図５は、静電容量方式の一種である投影型静電容量方式による従来のタッチパネル４０の一例を示す図である。図５（ａ）、図５（ｂ）及び図５（ｃ）はセンサ電極４２の平面図、図５（ｄ）は断面図である。
同図に示す従来のタッチパネル４０の場合は、１枚の透明基材４１の一方の面４１ｐと一方の面４１ｐの反対側の他方の面４１ｑの両面に、センサ電極４２が形成されている。図面で上方となる一方の面４１ｐには、Ｘ軸方向に延びる複数の位置検知用のＸ方向センサ電極４２ｘが形成され、他方の面４１ｑには、Ｘ軸方向と直交するＹ軸方向に延びる複数の位置検知用のＹ方向センサ電極４２ｙが形成されている。
【０００４】
Ｘ方向センサ電極４２ｘ及びＹ方向センサ電極４２ｙの電極パターンは、投影型静電容量方式では各種知られているが、ここでは、そのなかでも代表的なパターンとして、格子状のパターンを説明する。
図５（ｂ）の平面図に示すように、Ｘ方向センサ電極４２ｘは、Ｘ軸方向に互いに離間して配列した複数のＸ方向センサ電極要素４２ｘＥが、その角部分で電気的に接続されたパターン形状をしている。同図に例示の場合、Ｘ方向センサ電極要素４２ｘＥの形状は、周辺部を除く主要部分にて正方形形状で、Ｘ軸方向での両端は、それぞれ、Ｘ軸方向で半分に切断したような三角形形状をしている。
Ｙ方向センサ電極４２ｙも、Ｘ方向センサ電極４２ｘと同様に、図５（ｃ）の平面図に示すように、Ｙ軸方向に互いに離間して配列した複数のＹ方向センサ電極要素４２ｙＥが、その角部分で電気的に接続されたパターン形状をしている。Ｙ方向センサ電極要素４２ｙＥの主要部及び両端部における形状も、Ｘ方向センサ電極４２ｘの場合と同様である。
【０００５】
こうしたＸ方向センサ電極４２ｘとＹ方向センサ電極４２ｙとが、透明基材４１によって互いに絶縁されて透明基材４１の両面に分けて形成されるとき、図５（ａ）の平面図で示すように、Ｘ方向センサ電極要素４２ｘＥとＹ方向センサ電極要素４２ｙＥとは、Ｚ軸方向、つまり、厚み方向で互いに重なり合わないように積層される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−９７２８３号公報
【特許文献２】特開２００９−２５９０６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、図６（ａ）の平面図に示すように、Ｘ方向センサ電極要素４２ｘＥとＹ方向センサ電極要素４２ｙＥとの互いのＸＹ平面方向での位置関係がずれると、センサ電極４２は透明な電極ではあるが、濃淡ムラとなって視認されることがある。
なお、図５（ａ）の平面図では、Ｘ方向センサ電極４２ｘとＹ方向センサ電極４２ｙとは、これらを互いに識別し易いように、互いにハッチングを変えて図示してあるが、どちらも例えばＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）など同じ材料で形成されている。このため、濃淡ムラを説明する図６（ａ）では、Ｘ方向センサ電極４２ｘとＹ方向センサ電極４２ｙとは同じハッチングを用いて描いてある。このため、比較として、濃淡ムラが発生していない状態として描いてある図５（ａ）に対応する図を、Ｘ方向センサ電極４２ｘとＹ方向センサ電極４２ｙとに互いに同じハッチングを用いて描いた場合の見え方を、図６（ｂ）の平面図に示す。
【０００８】
こうした濃淡ムラは、フォトリソグラフィ法や印刷法などによって、一方の面４１ｐと他方の面４１ｑのいずれかの面のセンサ電極４２を先に形成し、次に残りの面に残りのセンサ電極４２を形成するときに、最初に形成したセンサ電極４２に対する次に形成するセンサ電極４２の位置合わせ精度が悪いと生じる。位置合わせ精度が悪くなるのは、一方の面４１ｐのセンサ電極４２のパターンニング時と、他方の面４１ｑのセンサ電極４２のパターンニング時の気温や湿度などの環境条件、及び加工条件の差によって、センサ電極４２の寸法変化やパターンニング角度が本来の設計からずれるからである。尚、以降、印刷業界用語に準拠して、位置合わせの精度のことを「見当精度」とも呼称する。
【０００９】
すなわち、本発明の課題は、透明基材の両面のセンサ電極同士の見当精度を向上でき、見当精度不良に起因するセンサ電極の濃淡ムラ発生を抑制できるタッチパネルの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
そこで、本発明では、次のような構成のタッチパネルの製造方法とした。
透明基材と、前記透明基材の一方の面の面上、及び前記一方の面とは反対側の他方の面の面上の両面上に形成された位置検知用のセンサ電極と、を有するタッチパネルの製造方法であって、
（ａ）前記透明基材の両面上に可視光及び露光光に不透明な金属層が形成された金属層付き工程基材を準備する工程基材準備工程、
（ｂ）前記工程基材の両面上の前記金属層上に感光性レジスト層を形成するレジスト層形成工程、
（ｃ）前記両面の感光性レジスト層を前記両面で互いに異なる所定パターンで同時に露光する両面同時露光工程、
（ｄ）前記両面の前記感光性レジスト層を現像してレジストパターン層を両面に形成する現像工程、
（ｅ）前記両面のレジストパターン層により前記両面の金属層をエッチングして、前記両面のセンサ電極を形成するエッチング工程、
の各工程をこの順に含む、タッチパネルの製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、透明基材の両面のセンサ電極同士の見当精度を向上でき、見当精度不良に起因するセンサ電極の濃淡ムラ発生を抑制できるタッチパネルの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明によるタッチパネルの製造方法をその一実施形態で説明する断面図。
【図２】本発明の製造方法によるタッチパネルの一例を説明する平面図（ａ）、その導電メッシュ層の部分拡大平面図（ｂ）とセンサ電極の平面図（ｃ）及び（ｄ）、並びに断面図（ｅ）。
【図３】図２のタッチパネルを構成する２方向それぞれのセンサ電極のパターン形状を示す平面図（ａ）及び（ｂ）。
【図４】本発明の製造方法によるタッチパネルの別の一例（センサ電極が直交ストライプパターン）を説明する平面図（ａ）、及び導電メッシュ層の重なり具合を示す部分拡大平面図（ｂ）。
【図５】従来のタッチパネルの一例を示す平面図（ａ）、そのセンサ電極の平面図（ｂ）及び（ｃ）、並びに断面図（ｄ）。
【図６】従来のタッチパネルで生じ得るセンサ電極による濃淡ムラを説明する平面図（ａ）、及び濃淡ムラが発生していない状態を説明する平面図（ｂ）。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。
【００１４】
《Ａ》タッチパネルの製造方法：
先ず、本発明によるタッチパネルの製造方法が含む各工程について、図１に示す一実施形態における工程図を参照して順に説明する。
【００１５】
《工程基材準備工程（ａ）》
工程基材準備工程（ａ）は、図１（ａ）に示すように、透明基材１の両面に、可視光及び露光光に対して不透明な金属層２Ａが形成された金属層付き工程基材６を準備する工程である。
【００１６】
＜金属層付き工程基材６＞
金属層付き工程基材６は、透明基材１の両面、つまり、一方の面１ｐと、この一方の面１ｐとは反対側の他方の面１ｑの両面上に、可視光及び露光光に不透明な金属層２Ａが形成された、製造工程中で使用する基材である。
【００１７】
〔透明基材１〕
透明基材１は、シート状又は板状であり、透明で且つ電気絶縁性の材料を用いた基材であれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンレフタレートなどのポリエステル系樹脂、或いは、ポリエーテルエーテルケトン、アクリル系樹脂、シクロポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などを用いた樹脂材料、或いはガラス、石英などの無機材料を用いた基材などを使用することができる。
【００１８】
本発明において、「シート」、「フィルム」、及び「板」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いに区別しない。
本発明において、透明基材１の透明とは、タッチパネルとしたときに、タッチパネルを透して見る画像表示パネルの表示の視認性を損なわない程度に透明であることを意味する。
また、透明基材１の透明とは、無色透明であることが好ましいが、個々のタッチパネル用途に於いて要求される諸特性、特に表示の視認性に実用上支障をきたさない範囲であれば、着色透明でもよい。
【００１９】
透明基材１の厚みは、機械的強度、取り扱い性などの点で、画面サイズにもよるが、例えば１５〜５０００μｍ、樹脂材料の場合は、通常、２５〜１００μｍ、無機材料の場合は、通常、５００〜３０００μｍである。この範囲未満であると、機械的強度、取り扱い性が低下することがあり、この範囲を超えると、薄型化の支障となることがあるからである。
【００２０】
（接着層）
図示はしないが、透明基材１は、センサ電極２が金属層による導電メッシュ層４ａから形成されていることから、センサ電極２との密着性が不足する場合などにおいては、当該透明基材１の一構成要素として、接着剤層、アンカー層、密着強化層などの公知の接着層を、センサ電極２が形成される面に有することができる。例えば、接着層としては、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂などを用いることができる。
【００２１】
本実施形態においては、透明基材１は２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを基材本体とし、この基材本体の両面に金属層接着用の２液硬化型ウレタン樹脂の接着層を備えた構成となっている。
【００２２】
本実施形態においては、センサ電極２となる導電メッシュ層４ａを構成する金属層に金属箔を用いてある関係上、金属箔を透明基材１に貼り合わせるために用いた接着層は、センサ電極２が形成される透明基材１の面の全面に備えられている。
ただ、本発明においては、センサ電極２となる導電メッシュ層４ａを構成する金属層と透明基材１との間に接着層を有する場合は、この接着層は、少なくとも金属層と透明基材１との間に形成されていればよい。
【００２３】
〔金属層２Ａ〕
金属層２Ａは、以降の工程においてパターンニングされることで、最終的には、導電メッシュ層４ａとなる層である。
金属層２Ａは、導電性材料として金属を用いた層であり、その結果、可視光及び露光光に不透明となっている層である。露光光とは、もちろん、感光性レジスト層５Ｒを露光する際の露光光のことである。
【００２４】
金属層２Ａに用いられる金属としては、銅、金、銀、白金、錫、アルミニウム、ニッケル等の高導電性金属（及びこれらの合金も含む）を用いることができる。特にこれらの高導電性金属は、ＩＴＯ薄膜等の透明金属酸化物膜に比べて、導電メッシュ層４ａを形成した面の表面抵抗率を低くできる利点がある。金属層２Ａは、金属箔、蒸着、スパッタなどによる金属蒸着膜、電解めっき、無電解めっきなどによる金属めっき膜、或いは金属蒸着膜上への金属めっき膜積層などこれらの組み合わせの層を用いることができる。
【００２５】
金属層２Ａの厚みは、導電性及び導電メッシュ層４ａとなったときの透視性の点で、０．５μｍ〜２０μｍ、通常１〜５μｍである。厚みが前記範囲未満であると、導体としての導電性が低下し、透視性と導電性とのバランスが取り難くなる。厚みが前記範囲を超えると、導体としての導電性はよくなるが、線幅に対する厚みのアスペクト比が大きくなり、細線の安定的な形成が難しくなる。
【００２６】
本実施形態においては、金属層２Ａには銅箔を用いている。銅箔は、電解銅箔でもよいし、蒸着やスパッタで形成された蒸着銅箔でもよい。銅箔の厚みは、例えば１０μｍ、極薄銅箔では１μｍなどとすることができる。
【００２７】
《レジスト層形成工程（ｂ）》
レジスト層形成工程（ｂ）は、図１（ｂ）に示すように、金属層付き工程基材６の両面の金属層２Ａ上に感光性レジスト層５Ｒを形成する工程である。
感光性レジスト層５Ｒを形成するための感光性レジストとしては、ゴム系、桂皮酸エステル系等の公知のものを用いることができる。例えば、感光性レジストとしては、ドライフィルムでもよく、液状物でもよい。感光性レジストとしては、図１に示す工程図では、後述する現像工程（ｄ）の図１（ｄ）では現像後に露光部分が残るネガ型の場合で描いてあるが、現像後に露光されていない部分が残るポジ型でもよい。
【００２８】
《両面同時露光工程（ｃ）》
両面同時露光工程（ｃ）は、図１（ｃ）に示すように、両面に形成された感光性レジスト層５Ｒを両面で互いに異なる所定パターンで同時に露光する工程である。露光は、通常マスクＭを介して、そのマスク開口部を透して露光光を露光する。
露光光は、感光性レジストが感光するものであれば特に制限はなく、通常、紫外線を用いるが、この他、電子線、可視光線、Ｘ線などであってもよい。
両面で互いに異なる所定パターンで同時に露光しても、金属層２Ａは露光光に対して不透明であるので、一方の面１ｐからの露光光により他方の面１ｑ上の感光性レジスト層５Ｒが露光されてしまうことはない。
【００２９】
所定パターンとは、両面に形成しようとするＸ方向センサ電極２ｘ及びＹ方向センサ電極２ｙの各々の電極パターンに対応したパターンである。本実施形態においては、所定パターンとして、投影型静電容量方式に対応可能なパターンを露光する。
【００３０】
レジストパターン層５の形成を、印刷法によらずに、露光法、それも両面同時に露光する両面同時露光法によることで、両面のレジストパターン層５同士の位置精度を高精度に合わせることが可能となる。
【００３１】
《現像工程（ｄ）》
現像工程（ｄ）は、図１（ｄ）に示すように、両面の感光性レジスト層５Ｒを現像してレジストパターン層５を両面に形成する工程である。現像は、アルカリ性溶液など、レジストパターン層５の材料に応じて、公知の現像液によって行うことができる。
【００３２】
《エッチング工程（ｅ）》
エッチング工程（ｅ）は、図１（ｅ）に示すように、両面のレジストパターン層５により両面の金属層２Ａのレジストパターン層５の露出部分をエッチングして、両面のセンサ電極２を形成する工程である。エッチングは、稀硫酸、塩化第二鉄水溶液等の酸性水溶液、苛性ソーダ水溶液等のアルカリ性水溶液など、金属層２Ａ及びレジストパターン層５の材料に応じて、公知のエッチング液によって行うことができる。
このセンサ電極２は、透明性を確保するための透視性導電層４として、層自体が不透明な金属層２Ａによる導体がメッシュ状に形成された導電メッシュ層４ａによって形成されている。
【００３３】
《レジスト除去工程（ｆ）》
レジスト除去工程（ｆ）は、図１（ｆ）に示すように、エッチング工程（ｅ）でエッチングレジストとして用いられたレジストパターン層５を除去する工程である。
本実施形態においては、このレジスト除去工程（ｅ）を行う。レジスト除去工程（ｅ）によって、センサ電極２の表面を被覆しているレジストパターン層５を除去して、センサ電極２の表面を露出させることができる。
【００３４】
本発明においては、レジスト除去工程（ｆ）は、省略してもよい。センサ電極２を他の回路と電気的に接続する手段があれば、センサ電極２を露出させる本工程は省略することができるからである。
【００３５】
《本製造方法による効果》
以上のような工程を含む製造方法とすることによって、露光時点に於ける透明基材１の両面の各電極パターン同士の見当精度を高く（設計との位置ズレを少なく）でき、更に露光工程各工程で加わる熱、応力、吸放湿等による透明基材１の寸法伸縮の影響も、表裏両面で均等にかかる為、透明基材１の両面のセンサ電極２同士の見当精度を向上でき、見当精度不良に起因するセンサ電極の濃淡ムラ発生を抑制できる効果が得られる。
【００３６】
《Ｂ》本発明の製造方法で得られるタッチパネル：
ここで、本発明の製造方法で得られるタッチパネルについて、説明しておく。
透明基材１及び金属層２Ａについては、工程基材準備工程（ａ）において既に説明したので、ここでは、センサ電極２と、その他の要素について説明する。
【００３７】
図２に示すタッチパネル１０は、静電容量方式の一種である投影型静電容量方式による一例である。図２（ａ）、図２（ｂ）、図２（ｃ）及び図２（ｄ）は平面図、図２（ｅ）は断面図である。図２（ａ）はタッチパネル１０の平面図、図２（ｅ）はタッチパネル１０の断面図である。図２（ｂ）は、このタッチパネル１０のセンサ電極２を構成する導電メッシュ層４ａの部分拡大平面図である。図２（ｃ）及び図２（ｄ）は、このタッチパネル１０のセンサ電極２の電極パターンを示す平面図である。
【００３８】
図２に示すタッチパネル１０は、透明基材１と、この透明基材１の面上に形成された位置検知用のＸ方向センサ電極２ｘ及びＹ方向センサ電極２ｙとを有する。このセンサ電極２は、透明性を確保するための透視性導電層４として、層自体が不透明な金属層による導体がメッシュ状に形成された導電メッシュ層４ａによって形成されている。
【００３９】
ここでのタッチパネル１０は、図２（ｅ）の断面図で示されるように、透明基材１に対して、図面上側となる一方の面１ｐの面上には、Ｘ軸方向に延びる複数の位置検知用のＸ方向センサ電極２ｘを有し、一方の面１ｐとは反対側の他方の面１ｑの面上には、Ｘ軸方向と直交するＹ軸方向に延びる複数の位置検知用のＹ方向センサ電極２ｙを有する。
【００４０】
図３は、図２に示すセンサ電極２を、透明基材１の一方の面１ｐの面上に形成されたＸ方向センサ電極２ｘと、透明基材１の他方の面１ｑの面上に形成されたＹ方向センサ電極２ｙとを、別々に示した平面図である。図３（ａ）の平面図はＸ方向センサ電極２ｘのみを示し（Ｙ方向センサ電極２ｙは図示略）、図３（ｂ）の平面図はＹ方向センサ電極２ｙのみを示す（Ｘ方向センサ電極２ｘは図示略）。
【００４１】
以下、構成要素ごとに詳述する。
【００４２】
《センサ電極２》
センサ電極２は、位置検知用の電極である。センサ電極２は、画像表示パネルの表示の視認に支障を来たさないように、透視性導電層４によって形成されている。
【００４３】
図２（ｂ）の部分拡大平面図は、透視性導電層４として形成された導電メッシュ層４ａのメッシュパターンの一例を示す。
導電メッシュ層４ａでは、センサ電極２の位置検知領域を例えば４０Ｖ型モニターディスプレイのように大面積にしても、ＩＴＯなどの透明金属酸化物膜に比べて、表面抵抗率を低く維持しやすい効果も得られる。
【００４４】
＜センサ電極２の電極パターン＞
本実施形態においては、センサ電極２の電極パターンは、投影型静電容量方式に対応可能なパターンである。
投影型静電容量方式のタッチパネル１０が必要とするセンサ電極２としては、延在方向として第１の方向を有する複数の第１のセンサ電極２と、この第１のセンサ電極２と絶縁され、前記第１の方向と交差する方向を第２の方向とする複数の第２のセンサ電極２である。通常、第１の方向と第２の方向との交差は、直交関係となる。
【００４５】
ここで説明するタッチパネル１０は、第１の方向をＸ軸方向とし、第１のセンサ電極２がＸ方向センサ電極２ｘに該当し、第２の方向をＹ軸方向とし、第２のセンサ電極２がＹ方向センサ電極２ｙに該当する形態例である。
【００４６】
Ｘ方向センサ電極２ｘ及びＹ方向センサ電極２ｙの電極パターンは、投影型静電容量方式では各種知られているが、ここでは、そのなかでも代表的なパターンとして、格子状のパターンとなっている。
図２（ｃ）の平面図に示すように、Ｘ方向センサ電極２ｘは、Ｘ軸方向に互いに離間して配列した複数のＸ方向センサ電極要素２ｘＥが、その角部分をＸ方向電極要素接続部２ｘＣで電気的に接続されたパターン形状をしている。同図に例示の場合、Ｘ方向センサ電極要素２ｘＥの形状は、周辺部を除く主要部分にて正方形形状で、Ｘ軸方向での両端は、それぞれ、Ｘ軸方向で半分に切断したような三角形形状をしている。
Ｙ方向センサ電極２ｙも、Ｘ方向センサ電極２ｘと同様に、図２（ｄ）の平面図に示すように、Ｙ軸方向に互いに離間して配列した複数のＹ方向センサ電極要素２ｙＥが、その角部分をＹ方向電極要素接続部（不図示）で電気的に接続されたパターン形状をしている。Ｙ方向センサ電極要素２ｙＥの主要部及び両端部における形状も、Ｘ方向センサ電極２ｘの場合と同様である。
【００４７】
こうしたＸ方向センサ電極２ｘとＹ方向センサ電極２ｙとが、透明基材１の両面に分けて形成されるとき、図２（ａ）の平面図で示すように、Ｘ方向センサ電極要素２ｘＥとＹ方向センサ電極要素２ｙＥとは、Ｚ軸方向、つまり、厚み方向で互いに重なり合わないように形成される。
【００４８】
＜透視性導電層４＞
Ｘ方向センサ電極２ｘ及びＹ方向センサ電極２ｙからなるセンサ電極２は、透明性を確保するための透視性導電層４として、層自体が可視光及び露光光に対して不透明な金属層２Ａによる導体がメッシュ状に形成された導電メッシュ層４ａによって形成されている。
【００４９】
透視性導電層４における「透視性」とは、タッチパネルを透して見る画像表示パネルの表示の視認性を損なわない程度に、画像表示パネルの表示を目視できることを意味する。本発明においては、透視性導電層４としては、層自体は不透明な金属層２Ａによる導体がメッシュ状に形成されることで、大局的に見れば、見かけ上透明であるかのように見える開口部４ａＯを有する導電メッシュ層４ａが用いられている。
【００５０】
〔導電メッシュ層４ａ〕
導電メッシュ層４ａのメッシュパターンのパターン形状は、特に制限はない。図２（ｂ）のメッシュパターンは、正方格子のパターンである。メッシュパターンは、こうした正方格子以外に、三角格子、長方形格子、五角格子、六角格子などの周期性を有する規則的パターン、或いは、ランダムな形状の開口部４ａＯを含む不規則的パターンでもよい。開口部４ａＯの形状は、図２（ｂ）に示される正方格子のメッシュパターンの場合、開口部４ａＯは正方形である。また、開口部４ａＯは三角格子では三角形、五角格子では五角形、六角格子では六角形となる。
また、導電メッシュ層４ａのメッシュパターンとしては、導体が平行線群乃至ストライプ状に形成され、導体によって全周囲を取り囲まれた開口部４ａＯが存在しないパターンも含む。
導電メッシュ層４ａは、そのメッシュパターンが有する開口部４ａＯなど導体非形成部によって、透視性を確保している。
【００５１】
導電メッシュ層４ａの線は、図２（ｂ）に例示のような直線のみからなる形状以外に、曲線のみからなる形状、直線と曲線とからなる形状でもよい。
【００５２】
導電メッシュ層４ａの線幅は、センサ電極２の位置検知領域の内部については、視認距離に応じた不可視性及び要求される表面抵抗率により適宜設定する。例えば、線幅は５０μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以下とするとよい。下限は、例えば、センサ電極２に要求される導電性を確保し、また、断線を回避する為に１μｍ以上、好ましくは３μｍ以上とする。
【００５３】
導電メッシュ層４ａが図２（ｂ）のように、導体非形成部が全周囲を導体で取り囲まれた開口部４ａＯを有する場合、開口部４ａＯの大きさは、例えば、５０〜２０００μｍである。開口部４ａＯの大きさ、線幅、導電メッシュ層４ａの層自体の体積抵抗率及び厚みが、表面抵抗率に影響する。センサ電極２として要求される表面抵抗率に応じて、これらは決定される。
なお、ここで、開口部４ａＯの大きさとは、開口部４ａＯが多角形形状の場合、最長の対角線長として定義される。
【００５４】
メッシュパターンが規則的パターンである場合、その開口部４ａＯ乃至は導体非形成部
の周期性と、画像表示パネルの画素配列の周期性とが干渉して、モアレが生じることがある。モアレが生じる場合には、導電メッシュ層４ａのメッシュパターンの開口部４ａＯ乃至は導体非形成部の配列方向を、画像表示パネルの画素配列の配列方向に対して傾ける、いわゆるバイアス角を設定してもよい。図２（ｂ）に示す、導電メッシュ層４ａのメッシュパターンは、４５度のバイアス角が設定された例である。バイアス角は、０度超過、９０度未満の範囲内で設定される。バイアス角を設定することによって、モアレを目立たなくさせることができる。
【００５５】
不規則なメッシュパターンとしては、本出願人によって公開された特許である、特開２０１２−１７８５５６号公報（電磁波遮蔽材、積層体および画像表示装置）、特開２０１３−５０１３号公報（透明アンテナ、及び画像表示装置）などで開示される、ボロノイ図を利用して画成することができるメッシュパターンを、採用することもできる。このメッシュパターンは、周期性を極めて効果的に低減することができ、その結果、バイアス角の設定をしなくても、モアレ発生を極めて効果的に低減することができる。
【００５６】
《本製造方法の変形形態》
本発明によるタッチパネルの製造方法は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。
【００５７】
＜その他の工程＞
本発明によるタッチパネルの製造方法は、上記した工程以外に、取り出し回路３（図２（ａ）中の符号３を参照）の形成工程、保護層の形成工程、フレキシブルプリント基板の取り付け工程、タッチパネル駆動回路の取り付け工程などの公知の工程を含んでいてもよい。
こうした工程及びそれに用いる材料としては、公知の手法及び材料を採用することができる。
【００５８】
例えば、取り出し回路３については、センサ電極２で述べた材料及び形成法を採用することができる。この際、取り出し回路３は、センサ電極２と同一材料で同時に形成してもよい。取り出し回路３をセンサ電極２と同一材料で同時形成することで、工程数を増やさずに、取り出し回路３を形成することが可能となる。取り出し回路３は、配線、電極、接続端子などを含み得る。
【００５９】
保護層は、センサ電極２などが、他の構成要素と電気的な接触が必要でない部分に対して、例えば、保護フィルムを貼り付けるなどして形成することができ、これにより信頼性を向上させることができる。
【００６０】
＜タッチパネル用電極部材＞
本発明の製造方法によって製造されるタッチパネル１０は、タッチパネル駆動回路なども含めてタッチパネルとして動作する為の全ての構成要素を含んでいてもよいが、最低限、透明基材１とセンサ電極２のみから構成されるものでもよい。透明基材１とセンサ電極２のみから構成されるもの、或いはさらに透明基材１とセンサ電極２と取り出し回路３から構成されるものなどでは、本発明の製造方法によって製造されるタッチパネル１０は、「タッチパネル用電極部材」ということもできる。
【００６１】
＜センサ電極２の電極パターン＞
センサ電極２の電極パターンは、図２及び図３は、投影型静電容量方式に対応可能なパターンであった。
しかし、本発明の製造方法が効果を奏するセンサ電極２の電極パターンは、その位置検知方式に応じたものでよく、公知の各種パターンを採用することができる。
また、本発明においては、センサ電極２の位置検知方式としては、センサ電極２が透明基材１の両面に形成されるものであれば、投影型静電容量方式以外の方式でもよい。-
【００６２】
例えば、透明基材１の両面に形成されるセンサ電極２は、厚み方向で互いに重なり合う部分を有するパターンでもよい。
図４の平面図は、こうした構成の一例である。同図のタッチパネル１０が有するセンサ電極２のパターンも、投影型静電容量方式に対応可能なパターンであり、複数のＸ方向センサ電極２ｘと、複数のＹ方向センサ電極２ｙとを有する。透明基材１の一方の面１ｐの面上にはＸ方向センサ電極２ｘが形成され、他方の面１ｑにはＹ方向センサ電極２ｙが形成されている。Ｘ方向センサ電極２ｘ及びＹ方向センサ電極２ｙを構成する導電メッシュ層４ａは、図４（ｂ）の部分拡大平面図で例示するように正方格子パターンであるが、Ｘ方向センサ電極２ｘ及びＹ方向センサ電極２ｙのメッシュパターンは、互いに格子ピッチが半分ずれた関係となっている。この場合、Ｘ方向センサ電極２ｘとＹ方向センサ電極２ｙとの相対的な位置が、この状態から格子ピッチの半分だけずれると、互いのメッシュパターンが重なる状態となる。このため、互いのメッシュパターンの重なり具合がずれると、重なりの程度により見かけ上の透過率が変化し濃淡ムラが生じることがある。
【００６３】
《Ｃ》用途：
本発明の製造方法で得られるタッチパネル１０の用途は、特に限定されない。例えば、画像表示パネル、或いは網点で表現された白黒乃至はカラーの印刷物、或いは印画紙に形成された写真などの表示面上に配置する用途である。
本発明の製造方法で得られるタッチパネル１０を画像表示パネルに適用して構成される画像表示裝置は、例えば、タブレットコンピュータなどの携帯情報端末、スマートフォンなどの各種電話機、テレビジョン受像裝置、パーソナルコンピュータ、電子書籍端末、モニターディスプレイ、デジタルカメラ、デジタルフォトフレーム、計測器、医療用機器、遊戯機器、事務用機器、現金自動支払機、電子黒板、自販機等の、位置入力手段を表示部等に備えた画像表示装置である。
【符号の説明】
【００６４】
１    透明基材
１ｐ  一方の面
１ｑ  他方の面
２    センサ電極
２Ａ  金属層
２ｘ  Ｘ方向センサ電極
２ｘＣ  Ｘ方向電極要素接続部
２ｘＥ  Ｘ方向センサ電極要素
２ｙ  Ｙ方向センサ電極
２ｙＥ  Ｙ方向センサ電極要素
３    取り出し回路
４    透視性導電層
４ａ  導電メッシュ層
４ａＯ  開口部
５    レジストパターン層
５Ｒ  感光性レジスト層
６    金属層付き工程基材
１０    タッチパネル
４０    従来のタッチパネル
４１    透明基材
４１ｐ  一方の面
４１ｑ  他方の面
４２    センサ電極
４２ｘ  Ｘ方向センサ電極
４２ｘＥ  Ｘ方向センサ電極要素
４２ｙ  Ｙ方向センサ電極
４２ｙＥ  Ｙ方向センサ電極要素
Ｍ    マスク
【図１】
2014191547.tif 000003
【図２】
2014191547.tif 000004
【図３】
2014191547.tif 000005
【図４】
2014191547.tif 000006
【図５】
2014191547.tif 000007
【図６】
2014191547.tif 000008