(57)【要約】【課題】特に斜め方向でも視認性に優れた視野角特性の良好な積層偏光板およびそれを用いた有機ＥＬ素子を提供する。  【解決手段】少なくとも偏光子、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層がこの順に積層された積層偏光板であって、以下の［１］を満たす積層偏光板およびそれを用いた有機ＥＬ素子。  ［１］−４０ｎｍ≦Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２≦４０ｎｍ（ここで、Ｒｔｈ１は第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。）【選択図】図１
2014191028.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも偏光子、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層がこの順に積層された積層偏光板であって、以下の［１］を満たすことを特徴とする積層偏光板。
［１］−４０ｎｍ≦Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２≦４０ｎｍ
（ここで、Ｒｔｈ１は第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｔｈ１は、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］である。なお、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。また、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｔｈ２は、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。なお、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。）
【請求項２】
前記第１の光学異方性層が以下の［２］〜［３］を満たし、前記第２の光学異方性層が以下の［４］〜［５］を満たすことを特徴とする請求項１に記載の積層偏光板。
［２］０．２≦Ｒｅ１（５５０）／５５０≦０．３
［３］０．６≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．１
（ここで、Ｒｅ１は第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｅ１（４５０）、Ｒｅ１（５５０）は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍの光における第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。Ｒｅ１は、Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］である。）
［４］０ｎｍ≦Ｒｅ２≦２０ｎｍ
［５］−５００ｎｍ≦Ｒｔｈ２≦−３０ｎｍ
（ここで、Ｒｅ２は第２の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ２及びＲｔｈ２は、それぞれＲｅ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。）
【請求項３】
［３］が、
［３−１］０．６≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．０
であることを特徴とする請求項２に記載の積層偏光板。
【請求項４】
前記第２の光学異方性層が、正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、配向固定化したホメオトロピック配向液晶フィルムからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の積層偏光板。
【請求項５】
前記の正の一軸性を示す液晶性組成物が、オキセタニル基を有する側鎖型液晶性高分子を含むことを特徴とする請求項４に記載の積層偏光板。
【請求項６】
前記第２の光学異方性層が、前記第１の光学異方性層上に塗布することにより形成されたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の積層偏光板。
【請求項７】
前記第１の光学異方性層が、ポリカーボネートあるいは環状ポリオレフィンを含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の積層偏光板。
【請求項８】
前記偏光子の吸収軸と前記第１の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｒとしたときに、４０°≦ｒ≦５０°を満たすように積層されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の積層偏光板。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の積層偏光板を用いた有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層偏光板および有機ＥＬ素子に関し、特に斜め方向でも視認性に優れた視野角特性の良好な有機ＥＬ素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）は、薄型軽量、低消費電力、高コントラスト、高速応答性の点で優れた自発光素子であり、ディスプレイ等の映像表示装置や面光源として研究開発、実用化が進められている。このような有機ＥＬ素子には、いくつかの形態があるが、主要な形態として、透明支持基板上に陽極である透明電極と、有機発光層と、陰極である金属電極を順に積層して作製されたものが提案、実用化されている。このような有機ＥＬ素子においては、透明電極と金属電極との間で印加された電圧により、陰極から供給された電子と陽極から供給されたホール（正孔）とが有機発光層で再結合し、これに伴って生成される励起子が励起状態から基底状態へ移行する際にＥＬ発光する原理を利用している。
【０００３】
有機ＥＬ素子においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常ＡｌやＡｌＬｉ、ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ等の金属や合金からなる金属電極が使用される。これらの金属電極は一般的に光反射率が高く、また鏡面構造であるため、電極として機能するだけではなく、有機発光層で金属電極方向に発光した光を反射し、透明支持基板から出射する光量を高め、輝度を向上させる役割も担っている。
【０００４】
しかしながら、金属電極が持つ光反射率の高さや、鏡面構造は、逆に外光も反射してしまうことになる。すなわち、照明や太陽光などの強い外光の存在下では映りこみが激しく、ディスプレイとして使用する場合には、明所コントラストが著しく低下するという問題点を有する。
【０００５】
鏡面における外光反射を防止する方法として、偏光板と１／４波長板からなる円偏光板を使用することが知られている。例えば特許文献１には、偏光板と１／４波長板１枚を積層した円偏光板を有機ＥＬ素子に適用した例が開示されている。また、特許文献２には、偏光板と複数の位相差板からなる１／４波長板で構成される円偏光板を有機ＥＬ素子に適用した例が開示されている。しかしながら、これらの円偏光板が理想的に機能するのは、円偏光板や金属電極に対して垂直方向から入射する外光に対してであり、斜め方向から入射した外光に対しては、１／４波長板を通過する光の光路長が長くなるため、１／４波長からずれが生じてしまい、理想的な円偏光板としては機能しなくなる。すなわち、正面から有機ＥＬ素子を観察した場合は、円偏光板によって外光反射が抑制されるが、斜め方向から観察した場合は、円偏光板の視野角依存性により外光反射が抑制できず、反射光が視認されるという問題が発生する。以上の理由から、有機ＥＬ素子自身は、自発光素子であるため、液晶ディスプレイのような視野角依存性はないものの、外光反射防止目的で使用する円偏光板の特性により、黒表示において視野角依存性が発生する場合がある。
【０００６】
このような現象を抑制する方法として、例えば特許文献３には、１つまたは複数の延伸フィルム等から構成された１／４波長板を積層した円偏光板を具備する有機ＥＬ素子であって、前記１／４波長板を構成する位相差板の内、少なくとも１つ以上の位相差板が、面内の最大屈折率を有する方向に直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ｎｙ＜ｎｚを満たす有機ＥＬ素子が開示されている。しかしながら、複数の位相差フィルム間の厚み方向のリターデーション値Ｒｔｈの関係については、なんら示されていない。また、延伸フィルムの厚み方向の屈折率ｎｚを大きくするために、熱収縮性フィルムの接着下で、高分子フィルムを延伸処理等することにより形成することができることが記載されているが、熱収縮性フィルムの接着下での延伸処理は煩雑であり、大面積の延伸フィルムが作製しにくく、製造コストも上昇すること、また、本製造法では位相差フィルムの厚みも厚くなるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平８−３２１３８１号公報
【特許文献２】特開平９−１２７８８５号公報
【特許文献３】特開２００３−３３２０６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、薄型化が可能であり、かつ視野角特性の優れた積層偏光板及び有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す積層偏光板およびそれを用いた有機ＥＬ素子により、前記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
【００１０】
＜１＞少なくとも偏光子、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層がこの順に積層された積層偏光板であって、以下の［１］を満たすことを特徴とする積層偏光板。
［１］−４０ｎｍ≦Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２≦４０ｎｍ
（ここで、Ｒｔｈ１は第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｔｈ１は、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］である。なお、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。また、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｔｈ２は、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。なお、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。）
【００１１】
＜２＞前記第１の光学異方性層が以下の［２］〜［３］を満たし、前記第２の光学異方性層が以下の［４］〜［５］を満たすことを特徴とする前記＜１＞に記載の積層偏光板。
［２］０．２≦Ｒｅ１（５５０）／５５０≦０．３
［３］０．６≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．１
（ここで、Ｒｅ１は第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｅ１（４５０）、Ｒｅ１（５５０）は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍの光における第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。Ｒｅ１は、Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］である。）
［４］０ｎｍ≦Ｒｅ２≦２０ｎｍ
［５］−５００ｎｍ≦Ｒｔｈ２≦−３０ｎｍ
（ここで、Ｒｅ２は第２の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ２及びＲｔｈ２は、それぞれＲｅ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。）
【００１２】
＜３＞［３］が、
［３−１］０．６≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．０
であることを特徴とする前記＜２＞に記載の積層偏光板。
【００１３】
＜４＞前記第２の光学異方性層が、正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、配向固定化したホメオトロピック配向液晶フィルムからなることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の積層偏光板。
【００１４】
＜５＞前記の正の一軸性を示す液晶性組成物が、オキセタニル基を有する側鎖型液晶性高分子を含むことを特徴とする前記＜４＞に記載の積層偏光板。
【００１５】
＜６＞前記第２の光学異方性層が、前記第１の光学異方性層上に塗布することにより形成されたことを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の積層偏光板。
【００１６】
＜７＞前記第１の光学異方性層が、ポリカーボネートあるいは環状ポリオレフィンを含むことを特徴とする前記＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の積層偏光板。
【００１７】
＜８＞前記偏光子の吸収軸と前記第１の光学異方性層の遅相軸とのなす角度をｒとしたときに、４０°≦ｒ≦５０°を満たすように積層されていることを特徴とする前記＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の積層偏光板。
【００１８】
＜９＞前記＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の積層偏光板を用いた有機ＥＬ素子。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の積層偏光板及び有機ＥＬ素子は、薄型化が可能で視野角依存性が少なく、斜め方向においても高コントラストな表示が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の積層偏光板及び有機ＥＬ素子の断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２２】
本発明の積層偏光板は、少なくとも偏光子、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層がこの順に積層された積層偏光板であって、以下の［１］を満たすことを特徴とする。
［１］−４０ｎｍ≦Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２≦４０ｎｍ
【００２３】
［１］において、Ｒｔｈ１は第１の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｔｈ１は、Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１｝×ｄ１［ｎｍ］である。なお、ｄ１は第１の光学異方性層の厚さ、ｎｘ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ１は波長５５０ｎｍの光に対する第１の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。また、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｔｈ２は、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。なお、ｄ２は第２の光学異方性層の厚さ、ｎｘ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率、ｎｙ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層面内の最大主屈折率を有する方向に直交する方向の主屈折率、ｎｚ２は波長５５０ｎｍの光に対する第２の光学異方性層の厚さ方向の主屈折率である。
【００２４】
Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２は、−４０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲であることが必要であり、この範囲を外れた場合、積層偏光板の視野角特性が悪くなるため望ましくない。
【００２５】
また本発明の積層偏光板は、前記第１の光学異方性層が、以下の［２］〜［３］を満たし、前記第２の光学異方性層が、以下の［４］〜［５］を満たすことが好ましい。
［２］０．２≦Ｒｅ１（５５０）／５５０≦０．３
［３］０．６≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．１
（ここで、Ｒｅ１は第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｅ１（４５０）、Ｒｅ１（５５０）は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍの光における第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。Ｒｅ１は、Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］である。）
［４］０ｎｍ≦Ｒｅ２≦２０ｎｍ
［５］−５００ｎｍ≦Ｒｔｈ２≦−３０ｎｍ
（ここで、Ｒｅ２は第２の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味する。Ｒｅ２及びＲｔｈ２は、それぞれＲｅ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。）
【００２６】
［２］について説明する。
［２］において、Ｒｅ１は第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１［ｎｍ］である。また、Ｒｅ１（５５０）は、波長５５０ｎｍの光における第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。
Ｒｅ１（５５０）／５５０は、０．２以上０．３以下であることが好ましく、より好ましくは０．２２以上０．２８以下である。この範囲を外れた場合、１／４波長板に求められる位相差から大きくずれることによって積層偏光板を例えば円偏光板として使用する際の円偏光特性が悪くなるため望ましくない。
【００２７】
［３］について説明する。
［３］において、Ｒｅ１（４５０）は、波長４５０ｎｍの光における第１の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味する。
Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）は、０．６以上１．１以下であることが好ましく、より好ましくは０．６以上１．０以下であり、さらに好ましくは０．７以上０．９５以下である。この範囲を外れた場合、円偏光板として使用する際の円偏光特性が悪くなり、また第１の光学異方性層の製造も困難となるため望ましくなく、上限値を超えた場合、円偏光板として使用する際の円偏光特性が悪くなるため望ましくない。
【００２８】
［４］について説明する。
［４］において、Ｒｅ２は第２の光学異方性層の面内のリターデーション値を意味し、Ｒｅ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２［ｎｍ］である。
Ｒｅ２は、有機ＥＬ素子の構成や種々の光学パラメーターに依存することから一概には言えないが、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは０ｎｍ以上５ｎｍ以下の範囲である。この範囲を外れた場合、積層偏光板が所望の特性を得られなくなるため望ましくない。
【００２９】
［５］について説明する。
［５］において、Ｒｔｈ２は第２の光学異方性層の厚さ方向のリターデーション値を意味し、Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２［ｎｍ］である。
Ｒｔｈ２は、−５００ｎｍ以上−３０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは−４００ｎｍ以上−４５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは−３００ｎｍ以上−４０ｎｍ以下の範囲に制御されたものである。この範囲を外れた場合、積層偏光板の視野角特性を改善する効果が低下し、また、フィルムの製造が困難であるため望ましくない。
【００３０】
本発明に使用する光学異方性層について順に説明する。
まず、第１の光学異方性層について説明する。
前記第１の光学異方性層としては、例えば、ポリカーボネート系、ノルボルネン系樹脂等の環状ポリオレフィン系、アクリル系、ポリビニルアルコール系、ポリスチレン系、ポリメチルメタクリレート系、ポリオレフィン系、ポリアリレート系、ポリアミド系から選ばれるポリマー、これらの二元系、三元系共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物からなるフィルムを一軸あるいは二軸延伸処理する手法や特開平５−１５７９１１号公報に示されるような熱収縮フィルムにより長尺フィルムの幅方向を熱収縮させて厚み方向に位相差を大きくする手法により製造した複屈折フィルム、液晶ポリマーなどの液晶材料からなる配向フィルム、液晶材料の配向層をフィルムにて支持したものなどが挙げられ、好ましくはフルオレン骨格を有するポリカーボネート系、ノルボルネン系樹脂等の環状ポリオレフィン系であり、さらに好ましくは上記［３］のＲｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値の上限が１．０以下である点でフルオレン骨格を有するポリカーボネートが望ましい。一軸延伸や二軸延伸等の延伸でフィルムを作製した場合、延伸方向（縦延伸、横延伸、斜め延伸）や延伸条件によって、面内のリターデーション値Ｒｅが同じ値でも、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈが異なる場合があるが、本発明ではいずれの延伸フィルムにも対応することができる。
【００３１】
第１の光学異方性層の波長分散性としては、実質的に反射防止機能を発現する範囲であれば正分散性から逆分散性のものまで幅広く使用することができるが、その中でも波長に依存することなく反射防止機能を発現できることから、フラット分散または逆分散性であることが好ましく、特に逆分散性であることが好ましい。第１の光学異方性層は、実質的に反射防止機能を発現する範囲であれば複数の層から構成されていても良く、各層の配置角度も限定されない。
【００３２】
第１の光学異方性層の厚みは、積層偏光板および有機ＥＬ素子として使用できる範囲ならば特に制限はないが、３００〜５μｍが好ましく、より好ましくは２００〜１０μｍ、さらに好ましくは１００〜１５μｍである。
【００３３】
次に、第２の光学異方性層について説明する。
本発明の第２の光学異方性層としては、固有複屈折が負の樹脂材料を二軸延伸するなどして、膜厚方向の屈折率を面内方向よりも大きい状態に制御したフィルムや、正の一軸性を示す液晶材料を液晶状態においてホメオトロピック配向させた後、配向固定化したホメオトロピック配向液晶フィルムが挙げられる。固有複屈折が負の樹脂材料としては、ポリスチレン系樹脂などが挙げられる。液晶材料のホメオトロピック配向を固定化した液晶フィルムを得るに当たって用いられる液晶材料としては、基板上で形成させた液晶材料がホメオトロピック配向し、その配向を固定化しうる正の一軸性液晶材料であればよく、低分子液晶化合物、液晶性高分子化合物やこれらの混合物からなる材料であってもよい。
【００３４】
前記の低分子液晶化合物は光や熱により反応する反応性基を結合した化合物が配向を容易に固定化できるので好ましい。反応性基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、アジリジニル基等が好ましいが、他の反応性基、例えばイソシアナート基、水酸基、アミノ基、酸無水物基、カルボキシル基なども反応条件等によっては使用することができる。
【００３５】
前記の液晶性高分子化合物には主鎖型液晶ポリマーと側鎖型液晶ポリマーとがあるがいずれも使用することができる。主鎖型液晶ポリマーとしては、ポリエステル、ポリエステルイミド、ポリアミド、ポリカーボネート等が挙げられる。なかでも合成の容易さ、配向性、ガラス転移点などの面から液晶性ポリエステルが好ましく、カチオン重合性基を結合した主鎖型液晶性ポリエステルが特に好ましい。側鎖型液晶ポリマーとしては、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリマロネート、ポリシロキサン等を挙げることができる。側鎖型液晶ポリマーとしては前記の反応性基を側鎖に結合したものが好ましい。
【００３６】
本発明に使用されるホメオトロピック配向液晶フィルムは、例えば前述の液晶材料を配向基板上に展開し、当該液晶材料を配向させた後、必要により光照射および／または加熱処理してから、冷却することにより当該配向状態を固定化することにより製造することができる。
【００３７】
前記の主鎖型液晶性ポリエステルは、芳香族ジオール単位（以下、構造単位（Ａ）という。）、芳香族ジカルボン酸単位（以下、構造単位（Ｂ）という。）および芳香族ヒドロキシカルボン酸単位（以下、構造単位（Ｃ）という。）のうち少なくとも２種を必須単位として含む主鎖型液晶性ポリエステルであって、主鎖末端の少なくとも一方にカチオン重合性基を有する構造単位を含むことを特徴とする主鎖型液晶性ポリエステルである。以下に、構造単位（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）について順次説明する。
【００３８】
構造単位（Ａ）を導入するための化合物としては下記一般式（ａ）で表される化合物が好ましく、具体的には、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等若しくはそれらの置換体、４，４’―ビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、２，６−ナフタレンジオールなどが挙げられ、特に、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等若しくはそれらの置換体が好ましい。
【００３９】
【化１】
2014191028.tif 000003
【００４０】
ただし、式中の−Ｘは、−Ｈ、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３、−Ｃ（ＣＨ３）３、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ６Ｈ５、−ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＮＯ２、または−ＣＮのいずれかの基であり、特に下記式（ａ’）で表される化合物が好ましい。
【００４１】
【化２】
2014191028.tif 000004
【００４２】
構造単位（Ｂ）を導入するための化合物としては下記一般式（ｂ）で表される化合物が好ましく、具体的には、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸等若しくはそれらの置換体、４，４’−スチルベンジカルボン酸若しくはその置換体、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸などが挙げられ、特に、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸等若しくはそれらの置換体が好ましい。
【００４３】
【化３】
2014191028.tif 000005
【００４４】
ただし、式中の−Ｘは、−Ｈ、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３、−Ｃ（ＣＨ３）３、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ６Ｈ５、−ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＮＯ２、または−ＣＮのいずれかの基を表す。
【００４５】
構造単位（Ｃ）を導入するための化合物としては下記一般式（ｃ）で表される化合物が好ましく、具体的には、ヒドロキシ安息香酸若しくはその置換体、４’−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボン酸若しくはその置換体、４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸若しくはその置換体、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、４−ヒドロキシ桂皮酸などが挙げられ、特に、ヒドロキシ安息香酸およびその置換体、４’−ヒドロキシ−４−ビフェニルカルボン酸若しくはその置換体、４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸若しくはその置換体が好ましい。
【００４６】
【化４】
2014191028.tif 000006
【００４７】
ただし、式中の−Ｘ、−Ｘ１、−Ｘ２は、それぞれ個別に、−Ｈ、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３、−Ｃ（ＣＨ３）３、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ６Ｈ５、−ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＮＯ２、または−ＣＮのいずれかの基を表す。
【００４８】
主鎖型液晶性ポリエステルは、構造単位として、（Ａ）芳香族ジオール単位、（Ｂ）芳香族ジカルボン酸単位、および（Ｃ）芳香族ヒドロキシカルボン酸単位のうちから少なくとも２種と、好ましくはさらに主鎖末端の少なくとも一方にカチオン重合性基を有する構造単位（以下、構造単位（Ｄ）という。）を含み、サーモトロピック液晶性を示すものであればよく、他の構造単位はこれら条件を満足する限り特に限定されるものではない。
【００４９】
主鎖型液晶性ポリエステルを構成する構造単位（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の全構造単位に占める割合は、構造単位（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）がジオールあるいはジカルボン酸あるいはヒドロキシカルボン酸として全モノマーの仕込み量に対して占める重量和の比率で表した場合、通常２０〜９９％、好ましくは３０〜９５％、特に好ましくは４０〜９０％の範囲である。２０％より少ない場合には、液晶性を発現する温度領域が極端に狭くなるおそれがあり、また９９％を越える場合には、カチオン重合性基を有する単位が相対的に少なくなり、配向保持能、機械的強度の向上が得られない恐れがある。
【００５０】
次にカチオン重合性基を有する構造単位（Ｄ）について説明する。カチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセタニル基、およびビニルオキシ基からなる群から選ばれる官能基が好ましく、特にオキセタニル基が好ましい。構造単位（Ｄ）を導入するための化合物としては、下記の一般式（ｄ）に示すごとく、フェノール性水酸基あるいはカルボキシル基を有する芳香族化合物に、エポキシ基、オキセタニル基、およびビニルオキシ基から選ばれるカチオン重合性を有する官能基が結合した化合物である。また、芳香環と上記カチオン重合性基との間には、適当なスペーサ部分を有していても良い。
【００５１】
【化５】
2014191028.tif 000007
【００５２】
ただし、式中の−Ｘ、−Ｘ１、−Ｘ２、−Ｙ、−Ｚは、各構造単位毎にそれぞれ独立に以下に示すいずれかの基を表す。
（１）−Ｘ、−Ｘ１、−Ｘ２：−Ｈ、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ３、−Ｃ（ＣＨ３）３、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ６Ｈ５、−ＯＣＨ２Ｃ６Ｈ５、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＮＯ２、または−ＣＮ
（２）−Ｙ：単結合、−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ２）ｎ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−ＣＯ−、−（ＣＨ２）ｎ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−ＣＯ−、または−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＯ−Ｏ−（ただし、ｎは１〜１２の整数を示す。）
（３）Ｚ：
【化６】
2014191028.tif 000008
【００５３】
構造単位（Ｄ）の中では、カチオン重合性基もしくはカチオン重合性基を含む置換基とフェノール性水酸基あるいはカルボン酸基の結合位置は、これらの基が結合する骨格がベンゼン環の場合は１，４−の位置関係を、ナフタレン環の場合は２，６−の位置関係を、ビフェニル骨格、スチルベン骨格の場合は４，４’−の位置関係にあるものが液晶性の点から好ましい。より具体的には、４−ビニルオキシ安息香酸、４−ビニルオキシフェノール、４−ビニルオキシエトキシ安息香酸、４−ビニルオキシエトキシフェノール、４−グリシジルオキシ安息香酸、４−グリシジルオキシフェノール、４−（オキセタニルメトキシ）安息香酸、４−（オキセタニルメトキシ）フェノール、４’−ビニルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸、４’−ビニルオキシ−４−ヒドロキシビフェニル、４’−ビニルオキシエトキシ−４−ビフェニルカルボン酸、４’−ビニルオキシエトキシ−４−ヒドロキシビフェニル、４’−グリシジルオキシ−４−ビフェニルカルボン酸、４’−グリシジルオキシ−４−ヒドロキシビフェニル、４’−オキセタニルメトキシ−４−ビフェニルカルボン酸、４’−オキセタニルメトキシ−４−ヒドロキシビフェニル、６−ビニルオキシ−２−ナフタレンカルボン酸、６−ビニルオキシ−２−ヒドロキシナフタレン、６−ビニルオキシエトキシ−２−ナフタレンカルボン酸、６−ビニルオキシエトキシ−２−ヒドロキシナフタレン、６−グリシジルオキシ−２−ナフタレンカルボン酸、６−グリシジルオキシ−２−ヒドロキシナフタレン、６−オキセタニルメトキシ−２−ナフタレンカルボン酸、６−オキセタニルメトキシ−２−ヒドロキシナフタレン、４−ビニルオキシ桂皮酸、４−ビニルオキシエトキシ桂皮酸、４−グリシジルオキシ桂皮酸、４−オキセタニルメトキシ桂皮酸、４’−ビニルオキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ビニルオキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ビニルオキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’−ビニルオキシエトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ビニルオキシエトキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ビニルオキシエトキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’−グリシジルオキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−グリシジルオキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−グリシジルオキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’−オキセタニルメトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−オキセタニルメトキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−オキセタニルメトキシ−４−ヒドロキシスチルベンなどが好ましい。
【００５４】
カチオン重合性基を有する構造単位（Ｄ）の主鎖型液晶性ポリエステルを構成する全構造単位に占める割合は、同様に構造単位（Ｄ）をカルボン酸あるいはフェノールとして仕込み組成中の重量割合で表した場合、通常１〜６０％、好ましくは５〜５０％の範囲である。１％よりも少ない場合には、配向保持能、機械的強度の向上が得られない恐れがあり、また６０％を越える場合には、結晶性が上がることにより液晶温度範囲が狭まり、どちらの場合も好ましくない。
【００５５】
（Ａ）〜（Ｄ）の各構造単位は、それぞれ１つまたは２つのカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基を有しているが、（Ａ）〜（Ｄ）の有するカルボキシル基、フェノール性水酸基は、仕込みの段階においてそれぞれの官能基の当量数の総和を概ねそろえることが望ましい。すなわち、構造単位（Ｄ）が遊離のカルボキシル基を有する単位である場合には、（（Ａ）のモル数×２）＝（（Ｂ）のモル数×２）＋（（Ｄ）のモル数）、構造単位（Ｄ）が遊離のフェノール性水酸基を有する単位である場合には、（（Ａ）のモル数×２）＋（（Ｄ）のモル数）＝（（Ｂ）のモル数×２）なる関係を概ね満たすことが望ましい。この関係式から大きく外れる仕込み組成の場合には、カチオン重合に関わる単位以外のカルボン酸あるいはフェノール、もしくはそれらの誘導体が分子末端となることになり、十分なカチオン重合性が得られないばかりか、これら酸性の残基が存在することにより、プロセス上の望む段階以外で重合反応や分解反応が起きてしまうおそれがあり好ましくない。
【００５６】
主鎖型液晶性ポリエステルは、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）以外の構造単位を含有することができる。含有することができる他の構造単位としては、特に限定はなく当該分野で公知の化合物（モノマー）を使用することができる。例えば、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸およびこれら化合物にハロゲン基やアルキル基を導入した化合物や、ビフェノール、ナフタレンジオール、脂肪族ジオールおよびこれら化合物にハロゲン基やアルキル基を導入した化合物等を挙げることができる。
【００５７】
また、主鎖型液晶性ポリエステルを構成する単位の原料として光学活性な化合物を用いた場合、該主鎖型液晶性ポリエステルにカイラルな相を付与せしめることが可能となる。かかる光学活性な化合物としては特に制限はないが、例えば、光学活性な脂肪族アルコール（ＣｎＨ２ｎ＋１ＯＨ、ただしｎは４から１４の整数を表す。）、光学活性な脂肪族基を結合したアルコキシ安息香酸（ＣｎＨ２ｎ＋１Ｏ−Ｐｈ−ＣＯＯＨ、ただしｎは４から１４の整数、Ｐｈはフェニレン基を表す。）、メントール、カンファー酸、ナプロキセン誘導体、ビナフトール、１，２−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチルブタンジオール、２−クロロブタンジオール、酒石酸、メチルコハク酸、３−メチルアジピン酸などを挙げることができる。
【００５８】
主鎖型液晶性ポリエステルの分子量は、フェノール／テトラクロロエタン混合溶媒（質量比６０／４０）中、３０℃で測定した対数粘度ηが０．０３〜０．５０ｄｌ／ｇであることが好ましくより好ましくは０．０５〜０．１５ｄｌ／ｇである。ηが０．０３ｄｌ／ｇより小さい場合には、主鎖型液晶性ポリエステルの溶液粘度が低く、フィルム化する際に均一な塗膜が得られない恐れがある。また、０．５０ｄｌ／ｇより大きい場合には、液晶配向時に要する配向処理温度が高くなり、配向と架橋が同時に起こり配向性を低下させる危険性がある。
【００５９】
本発明において、主鎖型液晶性ポリエステルの分子量制御は専ら仕込み組成により決定される。具体的には分子両末端を封印する形で反応する１官能性モノマー、すなわち前記した構造単位（Ｄ）を導入するための化合物の、全仕込み組成における相対的な含有量により、得られる主鎖型液晶性ポリエステルの平均的な重合度（構造単位（Ａ）〜（Ｄ）の平均結合数）が決定される。したがって、所望の対数粘度を有する主鎖型液晶性ポリエステルを得るためには、仕込みモノマーの種類に応じて仕込み組成を調整する必要がある。
【００６０】
主鎖型液晶性ポリエステルの合成方法としては、通常のポリエステルを合成する際に用いられる方法を採ることができ、特に限定されるものではない。例えば、カルボン酸単位を酸クロリドやスルホン酸無水物などに活性化し、それを塩基の存在下でフェノール単位と反応させる方法（酸クロリド法）、カルボン酸単位とフェノール単位をＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）などの縮合剤を用いて直接縮合させる方法、フェノール単位をアセチル化して、これとカルボン酸単位とを溶融条件下で脱酢酸重合する方法などを用いることが出来る。ただし、溶融条件下での脱酢酸重合を用いる場合には、カチオン重合性基を有するモノマー単位が反応条件下で重合や分解反応を起こすおそれがあるため、反応条件を厳密に制御する必要がある場合が多く、場合によっては適当な保護基を用いたり、あるいは一度別な官能基を有する化合物を反応させておいてから、後でカチオン重合性基を導入するなどの方法を採ることが望ましい場合もある。また、重合反応により得られた粗主鎖型液晶性ポリエステルを、再結晶、再沈などの方法により精製してもよい。
【００６１】
このようにして得られた主鎖型液晶性ポリエステルは、ＮＭＲ（核磁気共鳴法）などの分析手段により、それぞれのモノマーがどのような比率で主鎖型液晶性ポリエステル中に存在するかを同定することができる。特に、カチオン重合性基の量比から、主鎖型液晶性ポリエステルの平均結合数を算出する事ができる。
【００６２】
前記カチオン重合性基を含む主鎖型液晶性ポリエステルに他の化合物を配合することも、本発明の範囲を超えない限り可能である。例えば、本発明に用いる主鎖型液晶性ポリエステルと混和しうる他の高分子化合物や各種低分子化合物等を添加しても良い。かかる低分子化合物は、液晶性を有していても有していなくとも良く、架橋性の主鎖型液晶性ポリエステルと反応できる重合性基を有していてもいなくとも良い。重合性基を有する液晶性化合物を用いることが好ましく、例えば以下のものを例示できる。
【００６３】
【化７】
2014191028.tif 000009
【００６４】
ここで、ｎは２〜１２の整数を、また−Ｖ−および−Ｗはそれぞれ以下のいずれかの基を表す。
−Ｖ−：  単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣｍＨ２ｍ−Ｏ−（ただし、ｍは２〜１２の整数）
−Ｗ：  
【化８】
2014191028.tif 000010
【００６５】
なお、添加する高分子化合物や低分子化合物が光学活性である場合、組成物としてカイラルな液晶相を誘起させることができる。かかる組成物は、ねじれネマチック配向構造やコレステリック配向構造を有するフィルムの製造に利用することができる。
【００６６】
側鎖型液晶ポリマーとしては、前述のようにポリ（メタ）アクリレート、ポリマロネート、ポリシロキサン等が挙げられるが、中でも下記一般式（１）で表される反応性基を結合したポリ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００６７】
【化９】
2014191028.tif 000011
【００６８】
式（１）において、Ｒ３は、それぞれ独立に、水素またはメチル基を表し、Ｒ４は、それぞれ独立に、水素、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シアノ基、ブロモ基、クロロ基、フルオロ基またはカルボキシル基を表し、Ｒ５は、それぞれ独立に、水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｒ６は、炭素数１から２４までの炭化水素基を表し、Ｌ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、ｐは、１から１０までの整数を表し、ｑは、０から１０までの整数を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、ポリマー中の各ユニットのモル比（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝１．０、ただし、ｃ＋ｄ＋ｅ＝０ではない）を表す。
【００６９】
式（１）で表される側鎖型高分子液晶性化合物を構成する各成分のモル比は、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝１．０、ｃ＋ｄ＋ｅ＝０ではなく、かつ、液晶性を示すことが必要である。この要件を満たせば各成分のモル比は任意でよいが、以下のとおりであることが好ましい。
ａ：好ましくは０〜０．８０、より好ましくは０．０５〜０．５０
ｂ：好ましくは０〜０．９０、より好ましくは０．１０〜０．７０
ｃ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｄ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｅ：好ましくは０〜０．５０、より好ましくは０．１０〜０．３０
ｆ：好ましくは０〜０．３０、より好ましくは０．０１〜０．１０
【００７０】
これらのポリ（メタ）アクリレート中の各成分は、上記の条件を満たせば、６種類の成分すべてが存在する必要もない。また、ａ〜ｆの各成分は、それぞれ複数の構造からなっていてもよい。
また、Ｒ４は、好ましくは、水素、メチル基、ブチル基、メトキシ基、シアノ基、ブロモ基、フルオロ基であり、特に好ましくは、水素、メトキシ基またはシアノ基であり、Ｌ２は、好ましくは、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−であり、Ｒ６は、好ましくは、炭素数２、３、４、６、８および１８の炭化水素基を表す。
さらに、一般式（１）で表される側鎖型高分子液晶性化合物は、各成分ａ〜ｆのモル比や配向形態により複屈折率が変化するが、ネマチック配向をとった場合の複屈折率は０．００１〜０．３００であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．２５である。
【００７１】
上記の側鎖型液晶ポリマーの各成分に該当するそれぞれの（メタ）アクリル化合物は、通常の有機化学の合成方法により得ることができる。
【００７２】
上記の側鎖型液晶ポリマーは、各成分に該当する上記方法で得られたそれぞれの（メタ）アクリル化合物の（メタ）アクリル基をラジカル重合またはアニオン重合により共重合することにより容易に合成することができる。重合条件は特に限定されるものではなく、通常の条件を採用することができる。
【００７３】
ラジカル重合の例としては、各成分に該当する（メタ）アクリル化合物をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどの溶媒に溶かし、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）や過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）などを開始剤として、６０〜１２０℃で数時間反応させる方法が挙げられる。また、液晶相を安定に出現させるために、臭化銅（Ｉ）／２，２’−ビピリジル系や２，２，６，６−テトラメチルピペリジノオキシ・フリーラジカル（ＴＥＭＰＯ）系などを開始剤としたリビングラジカル重合を行い、分子量分布を制御する方法も有効である。これらのラジカル重合は脱酸素条件下に行う必要がある。
【００７４】
アニオン重合の例としては、各成分に該当する（メタ）アクリル化合物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの溶媒に溶かし、有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合物、グリニャール試薬などの強塩基を開始剤として反応させる方法が挙げられる。また、開始剤や反応温度を最適化することでリビングアニオン重合とし、分子量分布を制御することもできる。これらのアニオン重合は、脱水かつ脱酸素条件で行う必要がある。
【００７５】
側鎖型液晶ポリマーは、重量平均分子量が１，０００〜２００，０００であるものが好ましく、３，０００〜５０，０００のものが特に好ましい。この範囲外では強度が不足したり、配向性が悪化したりして好ましくない。
【００７６】
本発明で用いる液晶材料においては、前記側鎖型液晶ポリマーの他に、液晶性を損なわずに混和し得る種々の化合物を含有することができる。含有することができる化合物としては、オキセタニル基、エポキシ基、ビニルエーテル基などのカチオン重合性官能基を有する化合物、フィルム形成能を有する各種の高分子物質、液晶性を示す各種の低分子液晶性化合物や高分子液晶性化合物などが挙げられる。前記の側鎖型液晶ポリマーを組成物として用いる場合、組成物全体に占める前記の側鎖型液晶ポリマーの割合は、１０質量％以上、好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは５０質量％以上である。側鎖型液晶ポリマーの含有量が１０質量％未満ではフィルム形成能が不足したり、組成物中に占める重合性基濃度が低くなり、重合後の機械的強度が不十分となるため好ましくない。
【００７７】
本発明の液晶材料においては、前記側鎖型液晶ポリマーに下記一般式（２）で表されるジオキセタン化合物を配合することが好ましい。
【化１０】
2014191028.tif 000012
【００７８】
式（２）において、Ｒ７は、それぞれ独立に、水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ３は、それぞれ独立に、単結合または−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは１〜１２の整数）を表し、Ｘ１は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表し、Ｍ１は、式（３）または式（４）で表されるいずれかであり、式（３）および式（４）中のＰ１は、それぞれ独立に式（５）から選ばれる基を表し、Ｐ２は式（６）から選ばれる基を表し、Ｌ４は、それぞれ独立に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。
−Ｐ１−Ｌ４−Ｐ２−Ｌ４−Ｐ１−  （３）
−Ｐ１−Ｌ４−Ｐ１−  （４）
【化１１】
2014191028.tif 000013
【化１２】
2014191028.tif 000014
【００７９】
式（５）および式（６）において、Ｅｔはエチル基を、ｉＰｒはイソプロピル基を、ｎＢｕはノルマルブチル基を、ｔＢｕはターシャリーブチル基をそれぞれ表す。
より具体的には、Ｍ１基から見て左右のオキセタニル基を結合している連結基は異なっても（非対称型）同一でも（対称型）よく、特に２つのＬ３が異なる場合や他の連結基の構造によっては液晶性を示さないこともあるが、使用には制約とならない。
一般式（２）で表される化合物は、Ｍ１、Ｌ３およびＸ１の組み合わせから多くの化合物を例示することができるが、好ましくは、下記の化合物を挙げることができる。
【００８０】
【化１３】
2014191028.tif 000015
【００８１】
これらの化合物は有機化学における通常の合成方法に従って合成することができ、合成方法は特に限定されるものではない。
合成にあたっては、オキセタニル基がカチオン重合性を有するため、強い酸性条件下では、重合や開環などの副反応を起こすことを考慮して、反応条件を選ぶ必要がある。なお、オキセタニル基は類似のカチオン重合性官能基であるオキシラニル基などと比べて、副反応を起こす可能性が低い。さらに、類似したアルコール、フェノール、カルボン酸などの各種化合物をつぎつぎに反応させることもあり、適宜保護基の活用を考慮してもよい。
【００８２】
より具体的な合成方法としては、例えば、ヒドロキシ安息香酸を出発化合物として、ウィリアムソンのエーテル合成法等によりオキセタニル基を結合させ、次いで得られた化合物と本発明に適したジオールとを、酸クロリド法やカルボジイミドによる縮合法等を用いて結合させる方法や、逆に予めヒドロキシ安息香酸の水酸基を適当な保護基で保護し、本発明に適したジオールと縮合後、保護基を脱離させ、適当なオキセタニル基を有する化合物（オキセタン化合物）、例えばハロアルキルオキセタン等と水酸基とを反応させる方法などが挙げられる。
【００８３】
オキセタン化合物と水酸基との反応は、用いられる化合物の形態や反応性により適した反応条件を選定すればよいが、通常、反応温度は−２０℃〜１８０℃、好ましくは１０℃〜１５０℃が選ばれ、反応時間は１０分〜４８時間、好ましくは３０分〜２４時間である。これらの範囲外では反応が充分に進行しなかったり、副反応が生じたりして好ましくない。また、両者の混合割合は、水酸基１当量につき、オキセタン化合物０．８〜１．２当量が好ましい。
【００８４】
また前記液晶材料は配向処理された後、オキセタニル基をカチオン重合させて架橋することにより、当該液晶状態を固定化することができる。このため、液晶材料中に、光や熱などの外部刺激でカチオンを発生する光カチオン発生剤および／または熱カチオン発生剤を含有させておくことが好ましい。また必要によっては各種の増感剤を併用してもよい。
【００８５】
光カチオン発生剤とは、適当な波長の光を照射することによりカチオンを発生できる化合物を意味し、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系などを例示することが出来る。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェート、ボレートなどが好ましく用いられる。具体的な化合物としては、Ａｒ３Ｓ＋ＳｂＦ６−、Ａｒ３Ｐ＋ＢＦ４−、Ａｒ２Ｉ＋ＰＦ６−（ただし、Ａｒはフェニル基または置換フェニル基を示す。）などが挙げられる。また、スルホン酸エステル類、トリアジン類、ジアゾメタン類、β−ケトスルホン、イミノスルホナート、ベンゾインスルホナートなども用いることができる。
【００８６】
熱カチオン発生剤とは、適当な温度に加熱されることによりカチオンを発生できる化合物であり、例えば、ベンジルスルホニウム塩類、ベンジルアンモニウム塩類、ベンジルピリジニウム塩類、ベンジルホスホニウム塩類、ヒドラジニウム塩類、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類、アミンイミド類、五塩化アンチモン−塩化アセチル錯体、ジアリールヨードニウム塩−ジベンジルオキシ銅、ハロゲン化ホウ素−三級アミン付加物などを挙げることができる。
【００８７】
これらのカチオン発生剤の液晶材料中への添加量は、用いる側鎖型液晶性高分子物質を構成するメソゲン部分やスペーサ部分の構造や、オキセタニル基当量、液晶の配向条件などにより異なるため一概には言えないが、側鎖型液晶性高分子物質に対し、通常１００質量ｐｐｍ〜２０質量％、好ましくは１０００質量ｐｐｍ〜１０質量％、より好ましくは０．２質量％〜７質量％の範囲である。１００質量ｐｐｍよりも少ない場合には、発生するカチオンの量が十分でなく重合が進行しないおそれがあり、また２０質量％よりも多い場合には、液晶フィルム中に残存するカチオン発生剤の分解残存物等が多くなり耐光性などが悪化するおそれがあるため好ましくない。
【００８８】
次に配向基板について説明する。
配向基板としては、まず平滑な平面を有するものが好ましく、有機高分子材料からなるフィルムやシート、ガラス板、金属板などを挙げることができる。コストや連続生産性の観点からは有機高分子からなる材料を用いることが好ましい。有機高分子材料の例としては、ポリビニルアルコール系、ポリイミド系、ポリフェニレンオキシド系、ポリフェニレンスルフィド系、ポリスルホン系、ポリエーテルケトン系、ポリエーテルエーテルケトン系、ポリアリレート系、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系、ポリカーボネート系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、環状ポリオレフィン系、塩化ビニル系、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系等フィルムが挙げられる。これらはブレンド物であってもよい。アクリル系やエポキシ系、オキセタン系等の光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を製膜した後、光又は熱で硬化させたフィルムも使用することができる。
【００８９】
これら配向基板には安定したホメオトロピック配向を得るため、配向基板の耐溶剤性を向上させるため、密着性をコントロールするため等の観点から、必要に応じてさらに配向膜を設けたものを使用してもよい。配向膜材料としては、ポリビニルアルコール系、ポリイミド系、ポリフェニレンオキシド系、ポリフェニレンスルフィド系、ポリスルホン系、ポリエーテルケトン系、ポリエーテルエーテルケトン系、ポリアリレート系、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系、ポリカーボネート系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系、環状ポリオレフィン系、塩化ビニル系、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系等の有機系物質が挙げられる。これらはブレンド物であってもよい。アクリル系やエポキシ系、オキセタン系等の光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を製膜した後、光又は熱で硬化させた硬化膜も使用することができる。これら配向膜を形成する手法としては、直接あるいは溶液化して塗布する方法、蒸着やスパッタリング、配向基板との共押出などを利用することができる。また、無機系物質の層を配向基板上に蒸着、スパッタリング、塗布などの方法で形成してもよい。無機系物質の例としては、アルミニウム、銀等の無機金属や、シリカ、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の無機化合物が挙げられる。
【００９０】
次に、本発明に使用されるホメオトロピック配向液晶フィルムの製造方法について説明する。液晶フィルム製造の方法としてはこれらに限定されるものではないが、前述の液晶材料を前述の配向基板上に展開し、当該液晶材料を配向させた後、必要により光照射および／または加熱処理してから、冷却することにより当該配向状態を固定化することにより製造することができる。
液晶材料を配向基板上に展開して液晶材料層を形成する方法としては、液晶材料を溶融状態で直接配向基板上に塗布する方法や、液晶材料の溶液を配向基板上に塗布後、塗膜を乾燥して溶媒を留去させる方法が挙げられる。
【００９１】
溶液の調製に用いる溶媒に関しては、本発明の液晶材料を溶解でき適当な条件で留去できる溶媒であれば特に制限はなく、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチルなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系などやこれらの混合系が好ましく用いられる。また、配向基板上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、着色剤などを溶液に添加してもよい。
さらに、前述の液晶性高分子化合物の配向の固定化を容易ならしめるために、液晶性高分子化合物に結合されている重合可能な基と同一の反応性を有する基を１分子内に２個以上有する低分子化合物（液晶性、非液晶性を問わない）や接着性を向上させうるような各種化合物を添加することもできる。
【００９２】
液晶材料を直接塗布する方法でも、溶液を塗布する方法でも、塗布方法については、塗膜の均一性が確保される方法であれば、特に限定されることはなく公知の方法を採用することができる。例えば、スピンコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディップコート法、ロールコート法などが挙げられる。
液晶材料の溶液を塗布する方法では、塗布後に溶媒を除去するための乾燥工程を入れることが好ましい。この乾燥工程は、塗膜の均一性が維持される方法であれば、特に限定されることなく公知の方法を採用することができる。例えば、ヒーター（炉）、温風吹きつけなどの方法が挙げられる。
【００９３】
液晶フィルムの膜厚は、液晶表示装置の方式や種々の光学パラメーターに依存することから一概には言えないが、通常０．１μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．２μｍ〜５μｍ、さらに好ましくは０．３μｍ〜２μｍである。膜厚が０．１μｍより薄い場合、十分な視野角改良あるいは輝度向上効果を得ることができない恐れがある。また１０μｍを越えると、所望の配向が得られなくなる等の恐れがある。
【００９４】
続いて、配向基板上に形成された液晶材料層を、熱処理などの方法で液晶配向を形成し、必要により光照射および／または加熱処理してから、冷却することで硬化を行い固定化する。最初の熱処理では、使用した液晶材料の液晶相発現温度範囲に加熱することで、該液晶材料が本来有する自己配向能により液晶を配向させる。熱処理の条件としては、用いる液晶材料の液晶相挙動温度（転移温度）により最適条件や限界値が異なるため一概には言えないが、通常１０〜２５０℃、好ましくは３０℃〜１６０℃の範囲であり、該液晶材料にガラス転移温度が存在する場合には、ガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度、さらに好ましくはＴｇより１０℃以上高い温度で熱処理するのが好ましい。低温すぎる場合には、液晶配向が充分に進行しないおそれがあり、また高温では液晶材料中のカチオン重合性反応基や配向基板に悪影響を与えるおそれがある。また、熱処理時間については、通常３秒〜３０分、好ましくは１０秒〜２０分の範囲である。３秒より短い熱処理時間では、液晶配向が充分に完成しないおそれがあり、また３０分を超える熱処理時間では、生産性が悪くなるため、どちらの場合も好ましくない。該液晶材料層を熱処理などの方法で液晶配向を形成したのち、冷却してガラス状態として固定化するか、必要により液晶配向状態を保ったまま液晶材料を組成物中のオキセタニル基等の反応性基の重合反応により硬化させる。硬化工程は、完成した液晶配向を硬化（架橋）反応により液晶配向状態を固定化し、より強固な膜に変性することを目的にしている。
【００９５】
本発明に使用される液晶材料が重合性のオキセタニル基を持つ場合、その反応基の重合（架橋）には、カチオン重合開始剤（カチオン発生剤）を用いるのが好ましいことは前述のとおりである。また、重合開始剤としては、熱カチオン発生剤より光カチオン発生剤の使用が好ましい。
光カチオン発生剤を用いた場合、光カチオン発生剤の添加後、液晶配向のための熱処理までの工程を暗条件（光カチオン発生剤が解離しない程度の光遮断条件）で行えば、液晶材料は配向段階までは硬化することなく、充分な流動性をもって液晶配向することができる。この後、適当な波長の光を発する光源からの光を照射することによりカチオンを発生させ、液晶材料層を硬化させる。
【００９６】
光照射の方法としては、用いる光カチオン発生剤の吸収波長領域にスペクトルを有するようなメタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザーなどの光源からの光を照射し、光カチオン発生剤を開裂させる。１平方センチメートルあたりの照射量としては、積算照射量として通常１〜２０００ｍＪ、好ましくは１０〜１０００ｍＪの範囲である。ただし、光カチオン発生剤の吸収領域と光源のスペクトルが著しく異なる場合や、液晶材料自身に光源からの光の吸収能がある場合などはこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる２種以上の光カチオン発生剤を混合して用いるなどの方法を採ることもできる。
光照射時の温度は、該液晶材料が液晶配向をとる温度範囲である必要がある。また、硬化の効果を充分にあげるためには、該液晶材料のＴｇ以上の温度で光照射を行うのが好ましい。
【００９７】
以上のような工程により製造した液晶材料層は、充分強固な膜となっている。具体的には、硬化反応によりメソゲンが３次元的に結合され、硬化前と比べて耐熱性（液晶配向保持の上限温度）が向上するのみでなく、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐クラック性などの機械的強度に関しても大幅に向上する。
【００９８】
なお、配向基板として、光学的に等方でない、あるいは得られる液晶フィルムが最終的に目的とする使用波長領域において不透明である、もしくは配向基板の膜厚が厚すぎて実際の使用に支障を生じるなどの問題がある場合、配向基板上で形成された形態から、偏光板、目的とする使用波長領域で障害とならないような基板や位相差機能を有する延伸フィルムに転写した形態も使用しうる。転写方法としては公知の方法を採用することができる。例えば、特開平４−５７０１７号公報や特開平５−３３３３１３号公報に記載されているように液晶フィルム層を粘着剤もしくは接着剤を介して、配向基板とは異なる基板を積層した後に、該積層体から配向基板を剥離することで液晶フィルムのみを転写する方法等を挙げることができる。
転写に使用する粘着剤もしくは接着剤は、後述のように光学グレードのものであれば特に制限はなく、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系など一般に用いられているものを用いることができる。
【００９９】
以上のようにして得られるホメオトロピック配向液晶フィルム層は、当該液晶材料層の光学位相差を垂直入射から傾けた角度で測定することによって定量化することができる。ホメオトロピック配向液晶層の場合、この位相差値は垂直入射について対称的である。
光学位相差の測定には数種の方法を利用することができ、例えば王子計測機器（株）製自動複屈折測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲやＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＡｘｏＳｃａｎ、および偏光顕微鏡を利用することができる。このホメオトロピック配向液晶層はクロスニコル偏光子間で黒色に見える。このようにしてホメオトロピック配向性を評価した。
【０１００】
第２の光学異方性層の厚みは、積層偏光板および有機ＥＬ素子として使用できる範囲ならば特に制限はないが、０．１〜２００μｍが好ましく、より好ましくは０．２〜１５０μｍ、さらに好ましくは０．３〜１００μｍである。
【０１０１】
本発明の積層偏光板を構成する偏光子としては、通常、偏光子の片側または両側に保護フィルムを有するものが使用される。偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用でき、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム、リオトロピック液晶を含む配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性材料（沃素、染料）を吸着・配向したものが好適に用いられる。偏光子の厚さも特に制限されないが、５〜８０μｍ程度が一般的である。
【０１０２】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよく、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【０１０３】
前記偏光子の片側または両側に設けられている保護フィルムには、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。前記保護フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、あるいは前記ポリマーのブレンド物などが保護フィルムを形成するポリマーの例として挙げられる。その他、アクリル系やウレタン系、アクリルウレタン系やエポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型ないし紫外線硬化型樹脂などをフィルム化したものなどが挙げられる。保護フィルムの厚さは、一般には５００μｍ以下であり、１〜３００μｍが好ましい。特に５〜２００μｍとするのが好ましい。
【０１０４】
保護フィルムとしては、偏光特性や耐久性などの点より、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーが好ましい。特にトリアセチルセルロースフィルムが好適である。
なお、偏光子の両側に保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる保護フィルムを用いてもよい。前記偏光子と保護フィルムとは通常、粘着剤や接着剤等を介して密着している。
接着剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。
【０１０５】
前記保護フィルムとしては、ハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものを用いることができる。
ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。
【０１０６】
またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えば、サンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２〜５０重量部程度であり、５〜２５重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護層とは別体のものとして設けることもできる。
【０１０７】
前記の偏光子と第１の光学異方性層、第２の光学異方性層から少なくともなる本発明の積層偏光板は、それぞれ粘・接着剤層を介して互いに貼り合わせることにより作製することができる。また、配向基板上に作製されたホメオトロピック配向液晶フィルムを、粘・接着剤層を介して第１の光学異方性層に貼着した後、ホメオトロピック配向を実現するために使用した配向基板を剥離してホメオトロピック配向した液晶部分のみを第１の光学異方性層に転写する手法によっても積層させることができる。
また、第１、第２の光学異方性層同士の積層方法としては、例えば後述の粘・接着剤層を用いて直接両者を積層する手法、一方の光学異方性層上に液晶配向能を有する配向膜を設け、均一でモノドメインな液晶配向性を示し、かつその配向状態を容易に固定化できる液晶性高分子を塗布等の手段により設ける手法、さらには配向基板として第１の光学異方性層を選択し、均一でモノドメインな液晶配向性を示し、かつその配向状態を容易に固定化できる液晶性高分子を塗布等の手段により直接第１の光学異方性層に設ける手法等が好適に用いられる。
【０１０８】
本発明の積層偏光板は、必要に応じて光拡散層、光制御フィルム、導光板、プリズムシート等の部材を追加してもよい。
【０１０９】
なお、偏光子、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層の積層や転写に用いる粘・接着剤層を形成する粘・接着剤は光学的に等方性で透明なものであれば特に制限されない。例えば、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。また、光や電子線、熱などの外部刺激により反応し重合や架橋するような反応性のものも用いることができる。これらの中でも特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
【０１１０】
粘・接着剤層の形成は、適宜な方式で行うことができる。その例としては、トルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその組成物を溶解又は分散させた１０〜４０質量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で前記の偏光子、第１の光学異方性層、または第２の光学異方性層上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘・接着剤層を形成してそれを前記の偏光子、第１の光学異方性層、または第２の光学異方性層上に移着する方式などが挙げられる。また、粘・接着剤層には、例えば天然物や合成物の樹脂類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤、顔料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されることのある添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して光拡散性を示す粘・接着剤層などであってもよい。
粘・接着剤層の厚さは、貼着する部材を貼着しかつ十分な密着力を維持できる限り特に膜厚に制限はなく、粘・接着剤の特性や粘・接着される部材により適宜選定することができる。楕円偏光板の総厚の低減要求の強いことから、粘・接着剤の厚さは薄いほうが好ましいが、通常は２〜８０μｍ、好ましくは３〜５０μｍ、さらに好ましくは５〜４０μｍである。この範囲外では、接着力が不足したり、積層時や積層偏光板の保存時に端部から滲み出すなどして好ましくない。
【０１１１】
なお、第２の光学異方性層としてホメオトロピック配向液晶フィルムを用いる場合、ホメオトロピック配向液晶フィルムを粘・接着剤層を介して、第１光学異方性層に転写する際には、転写が容易となるよう下記（Ａ）〜（Ｃ）のようなプロセスを適宜用いることもできる。
【０１１２】
（Ａ）配向基板上に形成された液晶配向が固定化されたホメオトロピック配向液晶層を、接着剤層１を介して直接第１の光学異方性層へ貼着し、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を第１の光学異方性層へ転写する。
【０１１３】
（Ｂ）配向基板上に形成された液晶配向が固定化されたホメオトロピック配向液晶層を、接着剤層１を介して再剥離性基板１と接着せしめた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を再剥離性基板１に転写し、再剥離性基板１／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる中間体１を作製し、さらに接着剤層２を介して再剥離性基板２と接着せしめた後、再剥離性基板１を剥離し、接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／再剥離性基板２からなる中間体２を作製し、さらに接着剤層１側にセパレートフィルム付きのノンキャリア糊を貼合した後、セパレートフィルムを剥離し第１の光学異方性層へ貼着し、再剥離性基板２を剥離する。
【０１１４】
（Ｃ）配向基板上に形成された液晶配向が固定化されたホメオトロピック配向液晶層を、接着剤層１を介して再剥離性基板１と接着せしめた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を再剥離性基板１に転写し、再剥離性基板１／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる中間体１を作製し、さらに接着剤層２を介して再剥離性基板２と接着せしめた後、再剥離性基板１を剥離し、接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／再剥離性基板２からなる中間体２を作製し、さらに接着剤層１側にセパレートフィルム付きのノンキャリア糊を貼合した後、再剥離性基板２を剥離し、セパレートフィルム／粘着剤層／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２からなる中間体３を作製し、さらに接着剤層２側にもセパレートフィルム付きのノンキャリア糊を貼合し、セパレートフィルム／粘着剤層／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／粘着剤層／セパレートフィルムからなる中間体４を作製し、セパレートフィルムを剥離し第１の光学異方性層へ貼着する。
【０１１５】
さらに接着剤に適宜表面改質剤等の添加剤を添加することで、再剥離性基板とホメオトロピック配向液晶層との貼着の際の両者の密着力を低減させ、かつ再剥離性基板と接着剤層との密着力を維持させることで再剥離性基板側に接着剤層が貼着したまま剥離することもできる。その際に用いられる界面活性剤、および添加剤としては光学的欠陥の検査性や剥離性に悪影響を及ぼさない範囲であれば種類、添加量に特に制限はない。このような手法により第１の光学異方性層に転写する際には、転写が容易となるよう下記（Ｄ）、（Ｅ）のようなプロセスを適宜用いることもできる。
【０１１６】
（Ｄ）配向基板上に形成された液晶配向が固定化されたホメオトロピック配向液晶層を、接着剤層１を介して再剥離性基板１と接着せしめた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を再剥離性基板１に転写し、再剥離性基板１／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる中間体１を作製し、さらに接着剤層２を介して再剥離性基板２と接着せしめた後、再剥離性基板１を剥離し、接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／再剥離性基板２からなる中間体２を作製し、さらに接着剤層１側にセパレートフィルム付きのノンキャリア糊を貼合した後、セパレートフィルムを剥離し第１の光学異方性層へ貼着し、再剥離性基板２を接着剤層２が貼着した状態で剥離する。
【０１１７】
（Ｅ）配向基板上に形成された液晶配向が固定化されたホメオトロピック配向液晶層を、接着剤層１を介して再剥離性基板１と接着せしめた後、配向基板を剥離してホメオトロピック配向液晶層を再剥離性基板１に転写し、再剥離性基板１／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる中間体１を作製し、さらに接着剤層２を介して再剥離性基板２と接着せしめた後、再剥離性基板１を剥離し、接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／再剥離性基板２からなる中間体２を作製し、さらに接着剤層１側にセパレートフィルム付きのノンキャリア糊を貼合した後、再剥離性基板２を接着剤層２が貼着した状態で剥離し、セパレートフィルム／粘着剤層／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層からなる中間体５を作製し、さらにホメオトロピック配向液晶層側にもセパレートフィルム付きのノンキャリア糊を貼合しセパレートフィルム／粘着剤層／接着剤層１／ホメオトロピック配向液晶層／接着剤層２／粘着剤層／セパレートフィルムからなる中間体６を作製し、セパレートフィルムを剥離し第１の光学異方性層へ貼着する。
【０１１８】
またホメオトロピック配向液晶フィルムを粘・接着剤層を介して、第１の光学異方性層に転写する際には、ホメオトロピック配向液晶フィルム表面を表面処理して粘・接着剤層との密着性を向上することができる。表面処理の手段は、特に制限されないが、前記液晶フィルム表面の透明性を維持できるコロナ放電処理、スパッタ処理、低圧ＵＶ照射、プラズマ処理などの表面処理法を好適に採用できる。これら表面処理法のなかでもコロナ放電処理が良好である。
【０１１９】
さらに、ホメオトロピック配向液晶フィルムを粘・接着剤層を介さずとも、第１の光学異方性層上に前述の液晶材料を前述の配向基板上に展開し、当該液晶材料を配向させた後、光照射および／または加熱処理することにより当該配向状態を固定化することにより製造することもできる。適宜必要であれば前記第１の光学異方性層上に前述の配向膜を設置してから前述の液晶材料を前述の配向基板上に展開し、当該液晶材料を配向させた後、光照射および／または加熱処理することにより当該配向状態を固定化することにより製造することもできる。
【０１２０】
本発明の積層偏光板の厚みは、有機ＥＬ素子として使用できる範囲ならば特に制限はないが、４０〜５００μｍが好ましく、より好ましくは５０〜４００μｍ、さらに好ましくは６０〜３００μｍである。
【０１２１】
本発明の有機ＥＬ素子について、図面を参照しつつ説明する。図１は本発明の有機ＥＬ素子の概略構成を示す断面図である。図１に示すように、本発明の有機ＥＬ素子は、少なくとも偏光子１と第１の光学異方性層２と、第２の光学異方性層３からなる積層偏光板４を備えている。ここで、偏光子の透過軸と第１の光学異方性層の光軸は４５度または１３５度で交差するように配置されており、偏光子を透過した直線偏光は第１の光学異方性層によって円偏光に変換される。
さらに有機ＥＬ素子９は、透明基板５、陽極６、発光層７、陰極８から少なくとも構成される。このような構成を有する有機ＥＬ素子９において、陰極８からは電子が、陽極６からは正孔が注入され、両者が発光層７で再結合することにより、発光層７の発光特性に応じた波長で発光する。発光層７で生じた光は、直接または陰極８で反射した後、陽極６、透明基板５、積層偏光板４を通過して外部に出射する。
【０１２２】
太陽光や室内照明等により有機ＥＬ素子９の外部から素子面に対して垂直に入射した外光は、偏光子１により少なくとも半分の光は吸収され、残りが直線偏光として透過し、第１の光学異方性層２に入射する。第１の光学異方性層２は、１／４波長板として機能するため、第１の光学異方性層２を通過する際に円偏光に変換される。第１の光学異方性層２を出射した光は、第２の光学異方性層３に入射するが、第２の光学異方性層３は、正面位相差が非常に小さいため、円偏光の状態にはほとんど影響を与えない。第２の光学異方性層３を通過した円偏光は、透明基板５、陽極６、発光層７を通過し、陰極８で鏡面反射するが、反射する際に位相が１８０度反転するため、入射時とは逆の円偏光として反射される。この逆回りの円偏光は、発光層７、陽極６、透明基板５、第２の光学異方性層３を円偏光の状態にほぼ影響なく通過し、第１の光学異方性層２に入射するが、第１の光学異方性層２によって偏光子の透過軸と直交する直線偏光に変換されるため、偏光子１で吸収され、外部に出射されない。
【０１２３】
一方、斜め方向から入射した外光は、第１の光学異方性層２を通過する際の光路長が長くなるため、第２の光学異方性層がない場合には、第１の光学異方性層２のみでは１／４波長板として機能せず、楕円偏光となり、反射光は偏光子１を通過する際に一部透過して、観察者に視認されていた。すなわち、第２の光学異方性層３のない従来の円偏光板では、斜め方向からの光の外光反射防止効果が、正面方向と比べて大幅に低下する問題があった。
しかしながら、本発明の積層偏光板では、第１の光学異方性層２に加えて第２の光学異方性層３を有するため、それら全体として斜め方向からの光に対してもほぼ１／４位相差板として機能させることが可能となり、正面だけではなく、斜め方向からの光に対しても外光反射を防止することが可能となる。
【０１２４】
本発明の有機ＥＬ素子は、前記した構成部材以外にも他の構成部材を付設することができる。例えば、カラーフィルターを本発明の有機ＥＬ素子に付設することにより、色純度の高いマルチカラー又はフルカラー表示を行うことができる有機ＥＬ素子を作製することができる。
【実施例】
【０１２５】
以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例で用いた各分析方法は以下の通りである。
（１）ＧＰＣの測定
化合物をテトラヒドロフランに溶解し、東ソー社製８０２０ＧＰＣシステムにて測定した。カラムはＴＳＫ−ＧＥＬ  ＳｕｐｅｒＨ１０００、ＳｕｐｅｒＨ２０００、ＳｕｐｅｒＨ３０００、ＳｕｐｅｒＨ４０００を直列につなぎ、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて測定した。分子量の較正にはポリスチレンスタンダードを用いた。
（２）液晶材料の熱挙動の確認
液晶材料の相挙動はメトラー社製ホットステージＦＰ８２ＨＴ上で、試料を加熱しつつ、オリンパス社製ＢＨ２偏光顕微鏡で観察した。ガラス転移温度、相転移温度は、Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製示差走査熱量計ＤＳＣ８０００により昇降温速度２０℃／分で測定した。
（３）フィルムの顕微鏡観察
オリンパス光学社製ＢＨ２偏光顕微鏡で液晶の配向状態を観察した。
（４）膜厚測定法
ＳＬＯＡＮ社製ＳＵＲＦＡＣＥ  ＴＥＸＴＵＲＥ  ＡＮＡＬＹＳＩＳ  ＳＹＳＴＥＭ  Ｄｅｋｔａｋ  ３０３０ＳＴ、もしくはニコン社製ＤＩＧＩＭＩＣＲＯ  ＭＦＣ−１０１を用いた。また、干渉波測定（日本分光（株）製  紫外・可視・近赤外分光光度計Ｖ−５７０）と屈折率のデータから膜厚を求める方法も併用した。
（５）光学位相差の測定
フィルム面内のリターデーション値Ｒｅ及び膜厚方向のリターデーション値Ｒｔｈは、王子計測機器（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＡｘｏＳｃａｎを用いて測定した。
（６）屈折率の測定
アタゴ社製アッベ屈折計ＮＡＲ−１Ｔ  ＳＯＬＩＤ、もしくはメトリコン社製２０１０プリズムカプラーを使用して配向フィルムを測定した。
【０１２６】
［参考例１］
（ポリマー溶液１の調製）
特開２００４−３１５７３６号公報、特開２００７−２７７４６２号公報を参考にして、ラジカル重合により、下記式（７）で表される側鎖型液晶性ポリマー化合物を合成した。ＧＰＣ測定による分子量はポリスチレン換算で、数平均分子量Ｍｎは８，９００、重量平均分子量Ｍｗは１９，６００であった。なお、式（７）における数字は各ユニットのモル組成比を表すものであって、ブロック共重合体を意味するものではない。ＤＳＣ測定の結果、昇温時のガラス転移温度は５９℃で、それ以上の温度ではネマチック液晶相を示し、１７５℃以上で等方相を示した。
式（７）で表される側鎖型液晶性ポリマーを０．９ｇと、式（８）で表されるジオキセタン化合物を０．０５ｇ、式（９）で表されるアクリル化合物０．０５ｇを、９ｇのシクロヘキサノンに溶解し、暗所でカチオン系光開始剤トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネートの５０％プロピレンカーボネート溶液（アルドリッチ社製、試薬）０．１ｇ（式（７）、式（８）、式（９）の化合物３種からなる液晶材料の総重量に対して濃度５重量％）、界面活性剤としてパーフルオロアルキル基含有界面活性剤を０．００２ｇ（式（７）、式（８）、式（９）の化合物３種からなる液晶材料の総重量に対して濃度０．２重量％）を加えた後、孔径０．５μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルター（アドバンテック東洋（株）製、品名２５ＪＰ０５０ＡＮ）でろ過して液晶材料組成物の溶液を調製した。なお、式（８）のジオキセタン化合物は、偏光顕微鏡観察及びＤＳＣ測定の結果、昇温時は７４℃で結晶相からネマチック液晶相に転移し、９６℃で等方相となり、降温時は８８℃で等方相からネマチック相に転移した後、５４℃で結晶相を示した。また、式（９）のアクリル化合物は、偏光顕微鏡観察及びＤＳＣ測定の結果、液晶相を示さず、昇温時３０℃で融解した。なお、本液晶材料組成物溶液１の一部をガラス基板上にスピンコート法により塗布し、５５℃のホットプレートで６０分加熱して溶剤を除去した。本組成物をガラス基板上からかき取り、熱挙動の確認を偏光顕微鏡観察およびＤＳＣ測定にて行ったところ、昇温時のガラス転移温度は５０℃で、１５５℃まで液晶相を示し、それ以上の温度で等方相を示した。
【０１２７】
【化１４】
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【化１５】
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【化１６】
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【０１２８】
［参考例２］
（ポリマー溶液２の調製）
参考例１と同様に、ラジカル重合により、下記式（１０）で表される側鎖型液晶性ポリマー化合物を合成した。ＧＰＣ測定による分子量はポリスチレン換算で、数平均分子量Ｍｎは８，０００、重量平均分子量Ｍｗは１７，５００であった。なお、式（１０）における数字は各ユニットのモル組成比を表すものであって、ブロック共重合体を意味するものではない。ＤＳＣ測定の結果、昇温時のガラス転移温度は６２℃で、１０２℃までスメクチック液晶相を、それ以上の温度ではネマチック液晶相を示し、１９６℃以上で等方相を示した。
式（１０）で表される側鎖型液晶性ポリマー０．８５ｇと、式（１１）で表されるジオキセタン化合物０．０５ｇ、式（９）で表されるアクリル化合物０．１０ｇを、９ｇのγ−ブチロラクトンに溶かし、暗所でカチオン系光開始剤トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェートの５０％プロピレンカーボネート溶液（アルドリッチ社製、試薬）０．０８ｇ（式（１０）、式（１１）、式（９）の化合物３種からなる液晶材料の総重量に対して濃度４重量％）、界面活性剤としてパーフルオロアルキル基含有界面活性剤を０．００２ｇ（式（１０）、式（１１）、式（９）の化合物３種からなる液晶材料の総重量に対して濃度０．２重量％）を加えた後、孔径０．５μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルター（アドバンテック東洋（株）製、品名２５ＪＰ０５０ＡＮ）でろ過して液晶材料組成物の溶液を調製した。なお、式（１１）のジオキセタン化合物は、偏光顕微鏡観察及びＤＳＣ測定の結果、液晶相を示さず、昇温時１３０℃で融解した。なお、本液晶材料組成物溶液２の一部をガラス基板上にスピンコート法により塗布し、５５℃のホットプレートで６０分加熱して溶剤を除去した。本組成物をガラス基板上からかき取り、熱挙動の確認を偏光顕微鏡観察および、ＤＳＣ測定にて行ったところ、昇温時のガラス転移温度は５３℃で、１６５℃まで液晶相を示し、それ以上の温度で等方相を示した。
【０１２９】
【化１７】
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【化１８】
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【０１３０】
［参考例３］
（ＰＶＡ溶液の調製及びＰＶＡ配向基板の作製）
還流冷却器および攪拌機の付いた１Ｌ三口フラスコにＰＶＡ（日本酢ビ・ポバール（株）製、商品名ＪＬ−１８Ｅ、ケン化度８３〜８６％、平均重合度１８００）２４．０ｇおよび脱イオン水４６０．８ｇ（電気伝導度値；１μＳ／ｃｍ以下）を投入し、９５℃、３時間加熱し攪拌溶解後、７０℃まで冷却した。イソプロピルアルコール１１５．２ｇ（関東化学（株）製、鹿一級、純度９９％以上）を徐々に加え、６５℃〜７０℃で２時間攪拌し、透明な均一溶液を得た。室温まで冷却し、前記槽からＰＶＡ溶液を濾過しながら抜き出した。濾過は、平均粒径１μｍの粒子を捕集できるカートリッジフィルター（ＡＤＶＡＮＴＥＣ  ＴＣＰ−ＪＸ−Ｓ１ＦＥ（１μｍ））を使用し、固形分濃度約４質量％の溶液３５０ｇを得た。
配向基板は以下のようにして調製した。厚さ５０μｍのポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム（帝人デュポンフィルム（株）製、商品名Ｑ５１）を１５ｃｍ角に切り出し、コロナ放電処理（１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２）を施した後、厚み１．１ｍｍ、１３ｃｍ角のガラス基板上に固定し、スピンコーターにセットした。前記ＰＶＡ溶液を３００ｒｐｍで３０秒の条件でスピンコート法により塗布し、５０℃のホットプレートで３０分乾燥した後、１２０℃のオーブンで１０分間加熱して、ＰＶＡ層とＰＥＮフィルムからなるＰＶＡ配向基板を得た。得られたＰＶＡ層の膜厚は１．２μｍであった。
【０１３１】
［参考例４］
（偏光子の作製）
ポリビニルアルコールフィルムを温水中に浸漬して膨張させたあと、ヨウ素／ヨウ化カリウム水溶液中にて染色し、次いでホウ酸水溶液中で一軸延伸処理して偏光子を得た。これの偏光子は、分光光度計にて単体透過率、平行透過率および直交透過率を調べたところ、厚み２０μｍ、透過率４３．５％、偏光度９９．９％であった。
【０１３２】
［実施例１］
（第１の光学異方性層）
第１の光学異方性層として、縦一軸延伸により作製された厚み２０μｍ、２００ｍｍ角のＣＯＰフィルム（ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ）を用意した。該第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３６ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１３５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は、６７ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２５であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は、１．０１である。本ＣＯＰフィルムには両面にコロナ放電処理（１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２）を実施した。
【０１３３】
（第２の光学異方性層）
参考例１で調製した液晶材料溶液を、参考例３で作製したＰＶＡ配向基板上にスピンコート法により塗布した。次いで５５℃のホットプレートで１０分乾燥し、１００℃のオーブンで３分間熱処理することで液晶材料を配向させた。次いで、７０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を空気中で照射して、オキセタニル基をカチオン反応させて液晶材料を硬化させることで、ＰＶＡ配向基板上に液晶層からなる第２の光学異方性層を形成させた。
なお、基板として用いたポリエチレンナフタレートフィルムは大きな複屈折を持ち、第２の光学異方性層の光学測定が困難なため、得られたＰＶＡ配向基板上の液晶層を、光学的に等方性であるアクリル系ＵＶ硬化型樹脂を介して、厚み０．５ｍｍ、４０ｍｍ角の光学的に等方性のガラス基板上に転写した。すなわち、ＰＶＡ層上の硬化した液晶層の上に、ＵＶ硬化型樹脂層としてアクリル系ＵＶ硬化型接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、ガラス基板でラミネートして、ガラス基板側から６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してＵＶ硬化型樹脂層を硬化させた後、ＰＶＡ配向基板を剥離し、ガラス基板付きの積層体（ガラス基板／ＵＶ硬化型樹脂層／第２の光学異方性層）を得た。
得られた積層体をクロスニコルにした偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向で、コノスコープ観察から正の一軸性屈折率構造を有するホメオトロピック配向であることがわかった。このフィルムを傾けて斜めから光を入射し、同様にクロスニコルで観察したところ、光の透過が観測された。また、同積層体の光学位相差を測定した結果、本第２の光学異方性層単独の面内のリターデーション値Ｒｅ２（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ２（５５０）は−８１ｎｍであった。なお、第２の光学異方性層の波長５５０ｎｍにおけるｎｘ２は１．５４１、ｎｙ２は１．５４１、ｎｚ２は１．７２５であった。
【０１３４】
（積層偏光板１の作製）
まず、第１の光学異方性層上にＰＶＡ配向基板上に形成した液晶層である第２の光学異方性層をアクリル系ＵＶ硬化型樹脂を用いて転写した。すなわち、ＰＶＡ層上の硬化した液晶層の上に、ＵＶ硬化型樹脂層としてアクリル系ＵＶ硬化型樹脂を５μｍ厚となるように塗布し、ＣＯＰフィルムでラミネートして、ＣＯＰフィルム側から６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してＵＶ硬化型樹脂層を硬化させた後、ＰＶＡ配向基板を剥離し、光学異方性積層体（ＣＯＰフィルム（第１の光学異方性層）／ＵＶ硬化型樹脂層／液晶層（第２の光学異方性層））を得た。本光学異方性積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は−１４ｎｍである。
【０１３５】
次に参考例１で得た偏光子の片面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面に厚さ５μｍの接着層を介して、偏光子の吸収軸と前記積層光学異方性層のＣＯＰフィルム（第１の光学異方性層）側を、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着し、透明保護層／接着層／偏光子／接着層／第１の光学異方性層／ＵＶ硬化型樹脂層／第２の光学異方性層からなる積層偏光板１を得た。なお、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度の場合があるが、どちらに設定するかは、積層偏光板の使用方法により適宜選択すればよい。
【０１３６】
［実施例２］
（第１の光学異方性層）
第１の光学異方性層として、縦一軸延伸により作製された厚み２０μｍ、２００ｍｍ角のＣＯＰフィルム（ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ）を用意した。該第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１３８ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は、６９ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２５であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は、１．０１である。本ＣＯＰフィルムには両面にコロナ放電処理（１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２）を実施した。また、本ＣＯＰフィルム上にγ−ブチロラクトンをスピンコート法により塗布し、次いで５５℃のホットプレートで１０分乾燥し、９０℃のオーブンで３分間熱処理したものについて、上記と同様に光学位相差を測定したが変化はなく、溶剤の影響はないことを確認した。
【０１３７】
（第２の光学異方性層と光学異方性層積層体）
第１の光学異方性層であるＣＯＰフィルム上に、参考例２で調製した液晶材料溶液を、スピンコート法により塗布した。次いで５５℃のホットプレートで１０分乾燥し、９０℃のオーブンで３分間熱処理することで液晶材料を配向させた。次いで、７０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を空気中で照射して、オキセタニル基をカチオン反応させて液晶材料を硬化させることで、第１の光学異方性層であるＣＯＰフィルム上に液晶層からなる第２の光学異方性層を直接形成させて、光学異方性層積層体を得た。
得られた光学異方性層積層体をクロスニコルにした偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向であった。また、同光学異方性層積層体の光学位相差を測定したところ、第１の光学異方性層であるＣＯＰフィルムの面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は１３８ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は６９ｎｍであり、また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−６０ｎｍであり、ホメオトロピック配向であることを確認した。すなわち、本光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は９ｎｍである。なお、第２の光学異方性層の波長５５０ｎｍにおけるｎｘ２は１．５５１、ｎｙ２は１．５５１、ｎｚ２は１．７３５であった。
【０１３８】
（積層偏光板２の作製）
参考例１で得た偏光子の片面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面に厚さ５μｍの接着層を介して、偏光子の吸収軸と前記光学異方性層積層体のＣＯＰフィルム（第１の光学異方性層）側を、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着し、透明保護層／接着層／偏光子／接着層／第１の光学異方性層／第２の光学異方性層からなる積層偏光板２を得た。なお、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度の場合があるが、どちらに設定するかは、積層偏光板の使用方法により適宜選択すればよい。
【０１３９】
［実施例３］
第１の光学異方性層として、横延伸により作製された厚み２０μｍ、２００ｍｍ角のＣＯＰフィルム（ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ）を使用し、第２の光学異方性層である液晶層の塗布条件を変更した以外は実施例２と同様にして、積層偏光板３を作製した。なお、第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１３８ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は１２４ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２５であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は１．０１である。また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−８４ｎｍあった。すなわち、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層からなる光学異方性積層体積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は４０ｎｍである。
【０１４０】
［実施例４］
第１の光学異方性層として、横延伸により作製された厚み２０μｍ、２００ｍｍ角のＣＯＰフィルム（ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ）を使用し、第２の光学異方性層である液晶層の塗布条件を変更した以外は実施例２と同様にして、積層偏光板４を作製した。なお、第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１３８ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は１４５ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２５であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は１．０１である。また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−１５０ｎｍあった。すなわち、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層からなる光学異方性積層体積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は−５ｎｍである。
【０１４１】
［実施例５］
（第１の光学異方性層）
第１の光学異方性層として、縦一軸延伸により作製された厚み５０μｍ、２００ｍｍ角のフルオレン骨格を有するポリカーボネートフィルム（帝人化成（株）製ピュアエースＷＲ）を用意した。該第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３０ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１４５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は７３ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２６であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は０．９０である。本ポリカーボネートフィルムには両面にコロナ放電処理（１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２）を実施した。
【０１４２】
（第２の光学異方性層と光学異方性層積層体）
次に参考例３で調製したＰＶＡ溶液を、３００ｒｐｍで３０秒の条件でスピンコート法により塗布し、５０℃のホットプレートで３０分乾燥した後、１００℃のオーブンで１０分間加熱して、前記ポリカーボネートフィルム上にＰＶＡ層を設けた。得られたＰＶＡ層の膜厚は１．２μｍであった。なお、本ＰＶＡ層は光学的に等方性である。
第１の光学異方性層であるポリカーボネートフィルムに形成した前記ＰＶＡ層上に、参考例１で調製した液晶材料溶液を、スピンコート法により塗布した。次いで５５℃のホットプレートで１０分乾燥し、１００℃のオーブンで３分間熱処理することで液晶材料を配向させた。次いで、７０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を空気中で照射して、オキセタニル基をカチオン反応させて液晶材料を硬化させることで、第１の光学異方性層であるポリカーボネートフィルムに形成した前記ＰＶＡ層上に液晶層からなる第２の光学異方性層を形成させて、光学異方性層積層体を得た。
得られた光学異方性層積層体をクロスニコルにした偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向であった。また、同光学異方性層積層体の光学位相差を測定したところ、第１の光学異方性層であるポリカーボネートフィルムの面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は１４５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は７３ｎｍであり、また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−６２ｎｍであり、ホメオトロピック配向であることを確認した。すなわち、本光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は１１ｎｍである。なお、第２の光学異方性層の波長５５０ｎｍにおけるｎｘ２は１．５４１、ｎｙ２は１．５４１、ｎｚ２は１．７２５であった。
【０１４３】
（積層偏光板５の作製）
参考例１で得た偏光子の片面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面に厚さ１５μｍのアクリル系の粘着剤層を介して、偏光子の吸収軸と前記光学異方性層積層体のポリカーボネートフィルム（第１の光学異方性層）側を、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着し、透明保護層／接着層／偏光子／粘着剤層／第１の光学異方性層／ＰＶＡ層／第２の光学異方性層からなる積層偏光板５を得た。なお、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度の場合があるが、どちらに設定するかは、積層偏光板の使用方法により適宜選択すればよい。
【０１４４】
［実施例６］
（第１の光学異方性層）
第１の光学異方性層として、縦一軸延伸により作製された厚み５０μｍ、２００ｍｍ角のフルオレン骨格を有するポリカーボネートフィルム（帝人化成（株）製ピュアエースＷＲ）を用意した。該第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３０ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１４５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は７３ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２６であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は０．９０である。本ポリカーボネートフィルムには両面にコロナ放電処理（１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２）を実施した。
【０１４５】
（第２の光学異方性層）
参考例１で調製した液晶材料溶液を、参考例３で作製したＰＶＡ配向基板上にスピンコート法により塗布した。次いで５５℃のホットプレートで１０分乾燥し、１００℃のオーブンで３分間熱処理することで液晶材料を配向させた。次いで、７０℃に加熱したアルミ板に試料を密着させて置き、その上から、高圧水銀灯ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を空気中で照射して、オキセタニル基をカチオン反応させて液晶材料を硬化させることで、ＰＶＡ配向基板上に液晶層からなる第２の光学異方性層を形成させた。
得られたＰＶＡ配向基板上の液晶層を、アクリル系のＵＶ硬化型樹脂を介して厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人デュポンフィルム（株）製、商品名Ｇ２）に転写した。すなわち、ＰＶＡ配向基板上の液晶層の上に、ＵＶ硬化樹脂層１を厚さ５μｍとなるように塗布し、ＰＥＴフィルムでラミネートした後、ＰＥＴフィルム側から高圧水銀灯ランプにより６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を照射してＵＶ硬化樹脂層１を硬化させた。次にＰＶＡ配向基板を剥離して、ＰＥＴフィルム／ＵＶ硬化樹脂層１／液晶層（第２の光学異方性層）からなる中間積層体Ａを得た。
得られた中間積層体Ａの液晶層上に、アクリル系のＵＶ硬化型樹脂をＵＶ硬化樹脂層２として厚さ５μｍとなるように塗布し、厚さ４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムでラミネートして、ＴＡＣフィルム側から高圧水銀灯ランプにより６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光（ただし３６５ｎｍで測定した光量）を照射してＵＶ硬化樹脂層２を硬化させた後、ＰＥＴフィルムを剥離して、ＵＶ硬化樹脂層１／液晶層／ＵＶ硬化樹脂層２／ＴＡＣフィルムからなる中間積層体Ｂを得た。なお、ＵＶ硬化樹脂層１、２は光学的に等方性である。
得られた中間積層体ＢのＵＶ硬化樹脂層１側に市販のノンキャリア粘着剤をセパレートフィルム付きの状態で貼合して、セパレートフィルム／粘着剤層／ＵＶ硬化樹脂層１／液晶層／ＵＶ硬化樹脂層２／ＴＡＣフィルムからなる中間積層体Ｃを得た。なお、ノンキャリア粘着剤は厚み２０μｍであり、また、光学的に等方性である。
【０１４６】
次に、中間積層体Ｃのセパレートフィルムを剥離し、第１の光学異方性層であるポリカーボネートフィルムに貼合した後、ＴＡＣフィルム側を剥離して、ポリカーボネートフィルム（第１の光学異方性層）／粘着剤層／ＵＶ硬化樹脂層１／液晶層／ＵＶ硬化樹脂層２からなる光学異方積層体を得た。
得られた光学異方性層積層体をクロスニコルにした偏光顕微鏡下で観察すると、ディスクリネーションがなくモノドメインの均一な配向であった。また、同光学異方性層積層体の光学位相差を測定したところ、第１の光学異方性層であるポリカーボネートフィルムの面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は１４５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は７３ｎｍであり、また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−１００ｎｍであり、ホメオトロピック配向であることを確認した。すなわち、本光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は−２７ｎｍである。なお、第２の光学異方性層の波長５５０ｎｍにおけるｎｘ２は１．５４１、ｎｙ２は１．５４１、ｎｚ２は１．７２５であった。
【０１４７】
（積層偏光板６の作製）
参考例１で得た偏光子の片面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面に厚さ１５μｍのアクリル系の粘着剤層を介して、偏光子の吸収軸と前記光学異方性層積層体のポリカーボネートフィルム（第１の光学異方性層）側を、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着し、透明保護層／接着層／偏光子／粘着剤層／第１の光学異方性層／粘着剤層／ＵＶ硬化樹脂層１／第２の光学異方性層／ＵＶ硬化樹脂層２からなる積層偏光板６を得た。なお、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度の場合があるが、どちらに設定するかは、積層偏光板の使用方法により適宜選択すればよい。
【０１４８】
［実施例７］
第２の光学異方性層である液晶層の塗布条件を変更した以外は実施例６と同様にして、積層偏光板７を作製した。なお、第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３０ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１４５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は７３ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２６であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は０．９０である。また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−４９ｎｍあった。すなわち、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は２４ｎｍである。
【０１４９】
［実施例８］
第１の光学異方性層として、横延伸により作製された厚み５０μｍ、２００ｍｍ角のフルオレン骨格を有するポリカーボネートフィルム（帝人化成（株）製ピュアエースＷＲ）を使用し、また、第２の光学異方性層である液晶層の塗布条件を変更した以外は実施例６と同様にして、積層偏光板８を作製した。なお、第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３０ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１４５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は１００ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２６であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は０．９０である。また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−１００ｎｍあった。すなわち、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は０ｎｍである。
【０１５０】
［比較例１］
実施例１で使用した第１の光学異方性層を用いて、第２の光学異方性層の無い、以下の積層偏光板９を作製した。すなわち、参考例１で得た偏光子の片面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面に厚さ５μｍの接着層を介して、偏光子の吸収軸と前記ＣＯＰフィルム（第１の光学異方性層）を、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着し、透明保護層／接着層／偏光子／接着層／第１の光学異方性層からなる積層偏光板９を得た。なお、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度の場合があるが、どちらに設定するかは、積層偏光板の使用方法により適宜選択すればよい。なお、第２の光学異方性層はないため、Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は６７ｎｍである。
【０１５１】
［比較例２］
実施例３で使用した第１の光学異方性層を用いて、第２の光学異方性層の無い、以下の積層偏光板１０を作製した。すなわち、参考例１で得た偏光子の片面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面に厚さ５μｍの接着層を介して、偏光子の吸収軸と前記ＣＯＰフィルム（第１の光学異方性層）を、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着し、透明保護層／接着層／偏光子／接着層／第１の光学異方性層からなる積層偏光板１０を得た。なお、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度の場合があるが、どちらに設定するかは、積層偏光板の使用方法により適宜選択すればよい。なお、第２の光学異方性層はないため、Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は１２４ｎｍである。
【０１５２】
［比較例３］
第２の光学異方性層である液晶層の塗布条件を変更した以外は実施例２と同様にして、積層偏光板１１を作製した。なお、第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１３８ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は６９ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２５であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は１．０１である。また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−１３０ｎｍあった。すなわち、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は−６１ｎｍである。
【０１５３】
［比較例４］
第２の光学異方性層である液晶層の塗布条件を変更した以外は実施例４と同様にして、積層偏光板１２を作製した。なお、第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３９ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１３８ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は１４５ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２５であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は１．０１である。また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−７５ｎｍあった。すなわち、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は７０ｎｍである。
【０１５４】
［比較例５］
実施例５で使用した第１の光学異方性層を用いて、第２の光学異方性層の無い、以下の積層偏光板１３を作製した。すなわち、参考例１で得た偏光子の片面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面に厚さ１５μｍのアクリル系の粘着剤層を介して、偏光子の吸収軸と前記ポリカーボネートフィルム（第１の光学異方性層）を、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着し、透明保護層／接着層／偏光子／粘着剤層／第１の光学異方性層からなる積層偏光板１３を得た。なお、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度の場合があるが、どちらに設定するかは、積層偏光板の使用方法により適宜選択すればよい。なお、第２の光学異方性層はないため、Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は７３ｎｍである。
【０１５５】
［比較例６］
実施例８で使用した第１の光学異方性層を用いて、第２の光学異方性層の無い、以下の積層偏光板１４を作製した。すなわち、参考例１で得た偏光子の片面に厚さ５μｍの接着層を介して、厚み４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して透明保護層を形成した。その偏光子の他面に厚さ１５μｍのアクリル系の粘着剤層を介して、偏光子の吸収軸と前記ポリカーボネートフィルム（第１の光学異方性層）を、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸とを４５度の角度で交差させて接着し、透明保護層／接着層／偏光子／粘着剤層／第１の光学異方性層からなる積層偏光板１４を得た。なお、偏光子の吸収軸と第１の光学異方性層の遅相軸の貼合角は４５度と１３５度の場合があるが、どちらに設定するかは、積層偏光板の使用方法により適宜選択すればよい。なお、第２の光学異方性層はないため、Ｒｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は１００ｎｍである。
【０１５６】
［比較例７］
第２の光学異方性層である液晶層の塗布条件を変更した以外は実施例６と同様にして、積層偏光板１５を作製した。なお、第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３０ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１４５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は７３ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２６であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は０．９０である。また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−２５ｎｍあった。すなわち、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は４８ｎｍである。
【０１５７】
［比較例８］
第２の光学異方性層である液晶層の塗布条件を変更した以外は実施例６と同様にして、積層偏光板１６を作製した。なお、第１の光学異方性層の光学位相差を測定したところ、面内のリターデーション値Ｒｅ１（４５０）は１３０ｎｍ、Ｒｅ１（５５０）は１４５ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ１（５５０）は７３ｎｍであった。すなわち、Ｒｅ１（５５０）／５５０の値は０．２６であり、Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）の値は０．９０である。また、第２の光学異方性層である液晶層の面内のリターデーション値Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈ（５５０）は−１３０ｎｍあった。すなわち、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層積層体のＲｔｈ１（５５０）＋Ｒｔｈ２（５５０）の値は−５７ｎｍである。
【０１５８】
実施例１から８、および比較例１から８で作成した積層偏光板１から１６を、厚さ２０μｍのアクリル系粘着剤を介して有機ＥＬ素子に貼合し、以下（Ａ）、（Ｂ）の評価を実施した。なお、有機ＥＬ素子は、ソニー社製ウォークマン（登録商標）ＮＷ−Ａ８５５に搭載されている有機ＥＬ素子からあらかじめ貼合されている円偏光板を剥がしたものを使用した。
【０１５９】
（Ａ）正面観察時の外光反射防止効果の評価
有機ＥＬ素子に電圧を印加しない状態で、照度約１００ルックスの環境下に置き、積層偏光板貼合部分の反射色の黒味を官能評価した。黒味は以下の４つのレベルのいずれに該当するかを確認した。
１：ほぼ完全に外光反射が無く、色身も黒色である。
２：１よりは劣るが、十分に外光反射が抑えられ、色味もほぼ黒色である。
３：外光反射がやや視認される。
４：外光反射が極めて視認される。
【０１６０】
（Ｂ）外光反射防止効果の視野角特性の評価
有機ＥＬ素子に電圧を印加しない状態で、照度約１００ルックスの環境下に置き、正面と斜め４５度における積層偏光板貼合部分の反射色の黒味を官能評価した。黒味は以下の４つのレベルのいずれに該当するかを確認した。
１：正面と斜め方向でほぼ外光反射に変化は見られない。
２：１より劣るが、正面と斜め方向での外光反射の差はわずかである。
３：正面と斜め方向で外光反射に差が認められる。
４：正面と斜め方向で外光反射に差がかなり認められる
【０１６１】
以上に説明した（Ａ）、（Ｂ）の評価結果を表１、２に示す。
【０１６２】
【表１】
2014191028.tif 000021
【０１６３】
【表２】
2014191028.tif 000022
【０１６４】
表１、２に示すように、実施例１から８の有機ＥＬ素子の積層偏光板は、正面観察時の外光反射防止効果に優れるとともに、視野角特性も良好であることが分かった。一方で、比較例１から８の積層偏光板は、正面観察時の外光反射防止効果は優れるものの、視野角特性は悪く、斜め方向から見た時の黒表示に外光反射が認められたり、正面方向と比較した色味変化が確認された。
【図１】
2014191028.tif 000023