(57)【要約】  【課題】圧電特性を良好に保持することが可能な圧電アクチュエータ素子を提供する。  【解決手段】下部電極２０８と圧電体２０９と上部電極２１０とを有し、上部電極２１０の上部に膜が形成されていない第１の領域における上部電極２１０は導電性酸化物を含む第１の層と第２の層とを有し、上部電極２１０の上部に膜を介して配線２０５が配設される第２の領域における上部電極２１０は第２の層を有することを特徴とするアクチュエータ素子。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部電極と圧電体と上部電極とを有し、前記上部電極の上部に膜が形成されていない第１の領域における該上部電極は導電性酸化物を含む第１の層と第２の層とを有し、前記上部電極の上部に膜を介して配線が配設される第２の領域における該上部電極は第２の層を有することを特徴とするアクチュエータ素子。
【請求項２】
請求項１記載のアクチュエータ素子において、
前記上部電極の第１の層に含まれる導電性酸化物はＳｒＲｕＯ３であることを特徴とするアクチュエータ素子。
【請求項３】
請求項１または２記載のアクチュエータ素子において、
前記下部電極の下に位置する振動板の下部には隔壁により区画された加圧液室が形成され、第２の領域における第２の層を有する前記上部電極は前記隔壁の上部に配置されることを特徴とするアクチュエータ素子。
【請求項４】
請求項２記載のアクチュエータ素子において、
前記ＳｒＲｕＯ３層はペロブスカイト構造を有する結晶方位＜１１１＞のシリコンウェハが優先配向していることを特徴とするアクチュエータ素子。
【請求項５】
請求項１ないし４の何れか一つに記載のアクチュエータ素子を有することを特徴とするアクチュエータ基板。
【請求項６】
請求項１ないし４の何れか一つに記載のアクチュエータ素子を有することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
請求項１ないし４の何れか一つに記載のアクチュエータ素子を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクチュエータ素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリンタ、ファクシミリ、複写機等の画像記録装置または画像形成装置として使用されるインクジェット記録装置及びこれに用いられる液滴吐出ヘッドとして、インク液滴を吐出するノズルと、ノズルが連通する加圧室（インク流路、加圧液室、圧力室、吐出室、液室等とも称される）と、加圧室内のインクを加圧する圧電素子等の電気機械変換素子またはヒータ等の電気熱変換素子と、インク流路の壁面を形成する振動板とこれに対向する電極とからなるエネルギ発生手段とを備え、エネルギ発生手段において発生したエネルギにより加圧室内のインクを加圧することにより、ノズルからインク液滴を吐出させるものが知られている。
【０００３】
上述のインクジェット記録装置において、ピエゾ式のインクジェット式記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長及び伸縮する縦振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、ベントモードの圧電アクチュエータを使用したものとの２種類が知られている。またベントモード圧電素子のアクチュエータをさらに薄膜化した薄膜ピエゾアクチュエータは、基板上に対する種々の薄膜層の成膜とパターニングとを繰り返し、積層成膜してデバイスを形成していく薄膜デバイスであるため、積層膜の界面における密着性を制御することが重要である。界面の清浄度が悪かったり膜の密着性が低かったりする場合は界面剥離が発生するため、剥離の原因となる界面の洗浄方法や密着性を向上させる技術が提案されている。  例えば「特許文献１」には、基板上に振動板を形成し、下部電極及び圧電体及び上部電極を形成及びパターニングすることによって形成されるベントモードアクチュエータにおいて、特に上部電極膜の剥離を防止すべく、圧電アクチュエータ形成時に上部電極をその膜応力が１〜２ＧＰａの範囲となるように圧電体層上に成膜する成膜工程と、上部電極を５００〜７００℃の温度で加熱処理するポストアニール工程とからなる上部電極形成工程を含む製造方法が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし従来の技術では、各層での低い密着性、あるいは膜そのものや構造起因の高い応力により、圧電体薄膜素子の上部電極におけるＰｔ−ＳｒＲｕＯ３（ＳＲＯ）界面において膜浮き（剥がれ）が発生するという問題点があった。薄膜を積層して形成していく薄膜デバイスにおいて、特にＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）薄膜が電極層に挟まれた構造の薄膜ピエゾアクチュエータでは、熱処理による応力開放が一般的に行われているが、高温での処理は材料間の相互拡散や圧電材の酸素欠損による特性劣化等の課題を有していた。
【０００５】
本発明は上述の問題点を解消し、圧電特性を良好に保持することが可能なアクチュエータ素子の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１記載の発明は、下部電極と圧電体と上部電極とを有し、前記上部電極の上部に膜が形成されていない第１の領域における該上部電極は導電性酸化物を含む第１の層と第２の層とを有し、前記上部電極の上部に膜を介して配線が配設される第２の領域における該上部電極は第２の層を有することを特徴とするアクチュエータ素子。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、圧電特性を良好に保持することが可能なアクチュエータ素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１の実施形態に用いられる液滴吐出ヘッドの概略斜視図である。
【図２】（ａ）本発明の第１の実施形態に用いられるアクチュエータ素子の要部断面図（ｂ）従来のアクチュエータ素子の要部断面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図４】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図５】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図６】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図７】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図８】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図９】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１０】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１１】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１２】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１３】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１４】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１５】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１６】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１７】本発明の第１の実施形態を適用した液液吐出ヘッドの製造工程を説明する概略図である。
【図１８】本発明の第２の実施形態に用いられるインクジェット記録装置の概略正面図である。
【図１９】本発明の第２の実施形態に用いられるインクジェット記録装置の概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図１は本発明の第１の実施形態に用いられる液滴吐出ヘッドの概略構成図を、図２（ａ）は本発明の第１の実施形態におけるＡ−Ａ断面図を、図２（ｂ）は従来構成におけるＡ−Ａ断面図をそれぞれ示している。図１に示すように本発明の液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッド９９は、サブフレーム基板１００、アクチュエータ基板２００、ノズル基板３００をそれぞれ形成し、これ等を接着剤によって一体的に接合することによって形成されている。
【００１０】
サブフレーム基板１００は、アクチュエータ基板２００との接合面にアクチュエータ保護キャビティ１０１及びサブフレーム接合面１０２を有している。またサブフレーム基板１００には、インクを供給するためのインク供給孔、外部への電気配線の取り回し用開口、アクチュエータ基板２００とのアライメント用マーク等が形成されているが、ここでは図示及び説明を省略する。
【００１１】
アクチュエータ基板２００は、振動板２０３、振動板２０３の一方の面に設けられたアクチュエータ素子２０１を有している。アクチュエータ素子２０１は下部電極２０８、圧電体であるＰＺＴ素子２０９、上部電極２１０を積層して構成されている。下部電極２０８はＴｉ層とＰｔ層と導電酸化物であるＳｒＲｕＯ３（ＳＲＯ）層がスパッタによって形成されており、ＰＺＴ素子２０９はゾルゲル法によりＰＺＴ膜が薄膜状に形成され、上部電極２１０はＳＲＯ層とＰｔ層とによって構成されている。
【００１２】
このように構成されたアクチュエータ素子２０１上には、図２（ａ）に示すようにＡｌ２Ｏ３膜２０４ａとシリコン酸化膜２０４ｂとからなる層間絶縁膜２０４が形成されている。ただし、アクチュエータ素子２０１が変位する領域のシリコン酸化膜２０４ｂは、変位の妨げとなることから除去されている。また、外部駆動回路からの信号を伝達するためのメタル配線２０５がコンタクトホール２１１を介して上部電極２１０のＰｔ膜と当接して設けられており、その上部にはパッシベーション膜２０６が形成されている。振動板２０３の他方の面には、加圧液室２０２、加圧液室２０２を区画する隔壁２０７が設けられている。
【００１３】
ノズル基板３００は、プレス加工またはニッケル電鋳工法等によって形成されたノズル孔３０１を複数有しており、アクチュエータ基板２００の加圧液室２０２面と接着剤によって接合される。
【００１４】
上述のように形成されたインクジェットヘッド９９は、図示しない外部の駆動回路から入力された電気信号がメタル配線２０５よりコンタクトホール２１１を介してアクチュエータ素子２０１に伝達される。信号を受けたアクチュエータ素子２０１が変形することにより振動板２０３が変位し、加圧液室２０２内のインクに圧力が作用してノズル孔３０１より所望のインク液滴が吐出される。
【００１５】
次に、コンタクトホール２１１近傍の構成について説明する。図２（ａ）において、上部電極２１０は下層にＳＲＯ層２１０ａを上層にＰｔ層２１０ｂを有しており、コンタクトホール２１１を介してＰｔ層２１０ｂにメタル配線２０５が接触している。ここで本発明では、パッシベーション膜２０６の下方に位置する部位はＳＲＯ層２１０ａが除去されている。本発明の構成に対し、図２（ｂ）は従来構成におけるアクチュエータ素子２２１の断面図を示している。このアクチュエータ素子２２１においては、パッシベーション膜２０６の下方に位置する部位にもＳＲＯ層２１０ａが形成されていた。
【００１６】
次に、本発明の第１の実施形態におけるアクチュエータ基板２００の形成方法について説明する。  
先ず、図３に示す結晶方位＜１００＞、厚み６２５μｍであるシリコン基板２１４を用意し、図４に示すようにこのシリコン基板２１４の上面に振動板２０３を形成する。振動板２０３は、熱酸化によるシリコン酸化膜、ＬＰＣＶＤによるシリコン窒化膜、シリコン酸化膜、ポリシリコン膜を順次積層して形成する。
【００１７】
次に図５に示すように、振動板２０３上に下部電極２０８としてＴｉＯ２層、Ｐｔ層、ＳＲＯ層をスパッタリング法により順次積層する。そして、ＰＺＴ素子２０９としてＰＺＴ層をゾルゲル法によるスピンコートと熱焼成の繰り返しとによって形成し、さらに上部電極２１０としてＳＲＯ層及びＰｔ層を順次形成する。スパッタ条件によってＳＲＯ薄膜の膜質が変わるが、特に結晶配向性を重視しＰｔ＜１１１＞に倣ってＳＲＯ膜についても＜１１１＞配向させるために、成膜温度については４５０〜６００℃での基板加熱を行い成膜することが好ましい。ＳＲＯ成膜条件については、室温成膜後、ＲＴＡ処理にて結晶化温度（６５０℃）で熱酸化することもあるが、ＳＲＯ膜としては十分結晶化され電極としての比抵抗としても十分な値が得られる。しかし膜の結晶配向性としては＜１１０＞が優先配向し易くなり、その上に成膜したＰＺＴについても＜１１０＞配向し易くなる。
【００１８】
Ｐｔ＜１１１＞上に作成したＳＲＯ結晶性については、ＰｔとＳＲＯとで格子定数が近いため、通常のθ−２θ測定ではＳＲＯ＜１１１＞とＰｔ＜１１１＞との２θ位置が重なってしまい判別が難しい。Ｐｔについては、消滅則の関係からＰｓｉ＝３５°傾けた２θが約３２°付近の位置には回折線が打ち消し合い、回折強度が見られない。このため、Ｐｓｉ方向を約３５°傾けて、２θが約３２°付近のピーク強度で判断することでＳＲＯが＜１１１＞に優先配向しているかを確認することができる。膜厚としては、密着層−電極層−酸化物電極層の総和で５０〜４００ｎｍ程度の範囲で形成することができる。
【００１９】
図５において、本発明の特徴部であるＳＲＯ層のリソグラフエッチング処理を行っている。これにより、この後に形成される、メタル配線２０５及びパッシベーション膜２０６の下方に位置する部位の上部電極２１０のＳＲＯ層２１０ａを除去している。
【００２０】
次に図６に示すように、積層形成された上部電極２１０、圧電素子２０９、下部電極２０８を、レジストパターン２１２を用いてリソグラフィ及びエッチングにより所望のパターンに形成する。そして図７に示すように、所望のパターンに形成されたアクチュエータ素子２０１上に層間絶縁膜２０４を形成する。層間絶縁膜２０４は、下層に蒸着法によってＡｌ２Ｏ３膜２０４ａを上層にＣＶＤ法によってシリコン酸化膜２０４ｂをそれぞれ形成する。
【００２１】
次に図８及び図９に示すように、レジストパターン２１２を用いて上部電極２１０及び下部電極２０８とメタル配線２０５とを接触させるコンタクトホール２１１を層間絶縁膜２０４に形成する。なお、下部電極２０８のコンタクトホールは図示していない。次に図１０及び図１１に示すように、レジストパターン２１２を用いて層間絶縁膜２０４上にメタル配線２０５を形成する。メタル配線２０５はコンタクトホール２１１内に入り込むように形成されている。ここで、コンタクトホール２１１内のメタル配線２０５はコンタクトホール２１１のテーパ形状に倣うため、下側に設けられた上部電極２１０に対する応力集中を緩和することができる。
【００２２】
次に、図１２及び図１３に示すように、メタル配線２０５上にレジストパターン２１２を用いてパッシベーション保護膜２０６を形成する。パッシベーション保護膜２０６にはＣＶＤ法によりシリコン窒化膜が形成されている。このときの処理温度（３４０℃）が最も高温のプロセスとなっている。また、アクチュエータ素子２０１上のパッシベーション保護膜２０６及び層間絶縁膜２０４のシリコン酸化膜２０４ｂはアクチュエータ素子２０１の変位を阻害するため、リソグラフィ法やエッチング法により取り除かれている。
【００２３】
次に図１４に示すように、シリコン基板２１４の振動板２０３側とは反対側の面を、加圧液室２０２を形成するために研磨加工によって所望の厚さに加工する。本形態では、加圧液室の高さとして７５μｍの厚さとしている。次に図１５及び図１６に示すように、加圧液室２０２を形成するためのレジストパターン２１２を形成し、ドライエッチング法によって加圧液室２０２及び隔壁２０７を形成する。以上の工程により、図１７に示すようにアクチュエータ基板２００が形成される。なお、詳細には外部からインクを導入するためのインク供給孔等が必要であるが、本形態では図示及び説明を省略している。
【００２４】
上述の構成において、スクラッチ法による上部電極界面での膜の密着性評価試験を行った。試験は、ダイヤモンド圧子に荷重を負荷しつつ試料表面をひっかき、膜が剥離したときの垂直荷重（剥離臨界荷重）で密着性を評価した。図２（ａ）に示す本発明の構成では、Ｐｔ−ＰＺＴ界面で膜が剥離したときの垂直荷重は４ｍＮ以上であった。これに対しパッシベーション膜下方部位の上部電極におけるＳＲＯ層を除去していない図２（ｂ）に示す従来の構成では、Ｐｔ−ＳＲＯ界面で膜が剥離したときの垂直荷重は２．５ｍＮ程度であった。これにより、本発明の構成によって密着性が向上していることが判明した。
【００２５】
圧電体性能は、電界印加（１５０ｋＶ／ｃｍ）による変形量をレーザドップラー振動計で計測し、シミュレーションによる合わせ込みから算出した。初期特性を評価した後に耐久性（１０１０回繰り返し印加電圧を加えた直後の特性）評価を実施した。本実施形態で示した構成では、初期特性、耐久性試験後の結果についても一般的なセラミック焼結体と同等の特性（残留分極Ｐｒ：２０〜２５ｕＣ／ｃｍ２、圧電定数：−１３０〜−１６０ｐｍ／Ｖ）を有していた。
【００２６】
上述の構成により、高い応力が負荷されるパッシベーション膜の下方において上部電極のＳＲＯ層を除去したので、Ｐｔ−ＰＺＴ界面にて膜の密着性を高めることができ、膜剥がれの発生を防止することができる。また、ＳＲＯ層が除去された部位を隔壁の上部に配置したので、ＳＲＯ層を除去された圧電体層部は大きく変位しないため、圧電特性を劣化させることなく良好に保つことができる。また、ＳＲＯ層としてペロブスカイト構造を有する結晶方位＜１１１＞のシリコンウェハを優先配向させることにより、ＳＲＯ層を良好な結晶性とすることができる。これにより、インク吐出特性を良好に保持できると共に安定して連続吐出を行うことが可能なインク吐出特性を得ることができる。さらに、ＳＲＯ層を４５０〜６００℃でのスパッタリング成膜によって形成することにより、ＳＲＯ層を良好な結晶性とすることができる。これにより、インク吐出特性を良好に保持できると共に安定して連続吐出を行うことが可能なインク吐出特性を得ることができる。
【００２７】
次に本発明の第２の実施形態として、液滴吐出ヘッドである記録ヘッドを備えた画像形成装置の一例を図１８及び図１９に基づいて説明する。図１８は画像形成装置の全体構成を説明する概略正面図、図１９は同平面図である。同図において画像形成装置９８は、図示しない左右の側板に掛け渡されたガイド部材であるガイドロッド１とガイドレール２とによってキャリッジ３を主走査方向に摺動自在に保持している。そして、主走査モータ４によりタイミングベルト５を介してキャリッジ３を矢印で示す主走査方向に移動走査する。
【００２８】
キャリッジ３には、例えばイエロ（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の各色のインク液滴を吐出する４個の記録ヘッド７が配設されている。各記録ヘッド７は、複数のインク吐出口を主走査方向と直交する方向に配列されており、インク液滴吐出方向を下方に向けて装着されている。記録ヘッド７を構成する液滴吐出ヘッドは、圧電素子等の圧電アクチュエータが用いられている。キャリッジ３には、記録ヘッド７に各色インクを供給するための各色のサブタンク８が搭載されている。サブタンク８には図示しないインク供給チューブを介してメインタンク（インクカートリッジ）からインクが補充供給される。本実施形態では、サブタンク８と記録ヘッド７とで本発明に係る液滴吐出装置を構成している。しかし、記録ヘッド７をインクジェットヘッド９９と同様に構成し、別途サブタンク８を設ける構成、サブタンク８を設けずにインクカートリッジを搭載する構成とすることも可能である。
【００２９】
一方、給紙カセット１０等の用紙積載部（圧板）１１上に積載した用紙１２を給紙する給紙部が設けられている。給紙部は、用紙積載部１１から用紙１２を１枚ずつ分離する給紙ローラ１３及びこれに対向配置され摩擦係数の大きな部材からなる分離パッド１４を備え、分離パッド１４は給紙ローラ１３側に付勢されている。給紙部から給送された用紙１２を記録ヘッド７の下方に搬送する搬送部として、搬送ベルト２１、カウンタローラ２２、搬送ガイド２３、先端加圧コロ２５等が設けられている。搬送ベルト２１は用紙１２を静電吸着して搬送し、カウンタローラ２２は給紙部からガイド１５を介して送られる用紙１２を搬送ベルト２１との間に挟んで搬送する。搬送ガイド２３はほぼ鉛直上方に送られる用紙１２をほぼ９０°方向転換させて搬送ベルト２１上に倣わせ、先端加圧コロ２５は押さえ部材２４によって搬送ベルト２１側に付勢されている。また搬送部には、搬送ベルト２１の表面を帯電させるための帯電手段である帯電ローラ２６が設けられている。
【００３０】
搬送ベルト２１は無端状ベルトであり、搬送ローラ２７とテンションローラ２８との間に掛け渡されて副走査モータ３１からタイミングベルト３２及びタイミングローラ３３を介して搬送ローラ２７が回転される。これにより、副走査方向であるベルト搬送方向に搬送ベルト２１が周回移動する。なお、搬送ベルト２１の裏面側には、記録ヘッド７による画像形成領域に対してガイド部材２９が設けられている。
【００３１】
搬送ローラ２７の軸にはスリット円板３４が取り付けられており、スリット円板３４の近傍の位置にはスリット円板３４のスリットを検知するセンサ３５が設けられている。これ等スリット円板３４及びセンサ３５により、エンコーダ３６が構成されている。帯電ローラ２６は、搬送ベルト２１の表層に接触して搬送ベルト２１の回転に従動して回転するように構成され、加圧力として軸の両端にそれぞれ２．５Ｎが掛けられている。
【００３２】
キャリッジ３の前方側にはスリットを形成したエンコーダスケール４２を設け、キャリッジ３の前面側にはエンコーダスケール４２のスリットを検出する透過型フォトセンサからなるエンコーダセンサ４３を設ける。そしてこれ等により、キャリッジ３の主走査方向位置（ホーム位置に対する位置）を検知するためのエンコーダ４４を構成している。
【００３３】
さらに、記録ヘッド７で記録された用紙１２を排紙するための排紙部として、搬送ベルト２１から用紙１２を分離するための分離部と、排紙ローラ５２及び排紙コロ５３と、用紙１２をストックする排紙トレイ５４とが設けられている。また背部には、両面給紙ユニット６１が着脱自在に装着されている。両面給紙ユニット６１は、搬送ベルト２１の逆方向回転で戻される用紙１２を取り込み、反転させて再度カウンタローラ２２と搬送ベルト２１との間に給紙する。
【００３４】
上述のように構成された画像形成装置９８では、給紙部から用紙１２が１枚ずつ分離給送され、ほぼ鉛直上方に給紙された用紙１２はガイド１５で案内され、搬送ベルト２１とカウンタローラ２２との間に挟まれて搬送される。そして、さらに先端を搬送ガイド２３で案内され、先端加圧コロ２５で搬送ベルト２１に押し付けられ、ほぼ９０°搬送方向を転換される。このとき、図示しない制御回路によって高圧電源から帯電ローラ２６に対して、プラス出力とマイナス出力とが交互に繰り返される交番電圧が印加される。これにより、搬送ベルト２１が交番する帯電電圧パターン、すなわち周方向である副走査方向にプラスとマイナスとが所定の幅で帯状に交互に帯電されたものとなる。
【００３５】
このプラスマイナス交互に帯電した搬送ベルト２１上に用紙１２が給送されると、用紙１２が搬送ベルト２１に静電力で吸着され、搬送ベルト２１の周回移動によって用紙１２が副走査方向に搬送される。そこで、キャリッジ３を移動させつつ画像信号に応じて記録ヘッド７を駆動することにより、停止している用紙１２にインク液滴を吐出して１行分を記録し、用紙１２を所定量搬送した後に次の行の記録を行う。記録終了信号または用紙１２の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了して用紙が排紙トレイ５４に排出される。
【００３６】
また両面画像形成の場合には、表面（最初に画像形成する面）の記録が終了したときに搬送ベルト２１を逆回転させることで、記録済みの用紙１２を両面給紙ユニット６１内に送り込む。そして用紙１２を反転させて（裏面が記録面となる状態）再度カウンタローラ２２と搬送ベルト２１との間に給紙し、タイミング制御を行い上述と同様に搬送ベルト２１上に搬送して裏面に記録を行った後、排紙トレイ５４上に排出する。
【００３７】
上述の構成により、この第３の実施形態によれば、第１の実施形態と同様に、コンタクトホール近傍、特に接触界面近傍での熱ストレスの変化の影響が低減される。これにより、後工程で熱が加えられた際にも界面での応力バランスが崩れず、下層であるＳＲＯ膜界面へのストレスの作用を防止することができる。従って、界面剥離の発生を防止することが可能な液滴吐出ヘッドを備えた画像形成装置を提供することができる。
【００３８】
上述した画像形成装置９８では、本発明の液滴吐出ヘッド９９を搭載しているので、安定したインク吐出特性を得ることができ、画像品質を向上させることができる。上述の説明では液滴吐出ヘッド９９としてインクを吐出するものを示したが、本発明が適用可能な液滴はインクには限られず、例えばパターニング用の液体レジストを吐出する装置に液滴吐出ヘッド９９を適用してもよい。さらには遺伝子分析試料を吐出する装置に液滴吐出ヘッド９９を適用してもよい。また、本発明が適用可能な画像形成装置はプリンタには限られず、ファクシミリ、複写装置、プロッタ、これ等の複合機にも本発明は適用可能である。
【符号の説明】
【００３９】
９８  画像形成装置
９９  液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）
２００  アクチュエータ基板
２０１  アクチュエータ素子
２０２  加圧液室
２０３  振動板
２０５  メタル配線
２０６  パッシベーション膜
２０７  隔壁
２０８  下部電極
２０９  圧電体（ＰＺＴ素子）
２１０  上部電極
２１０ａ  ＳｒＲｕＯ３膜（ＳＲＯ膜）
【先行技術文献】
【特許文献】
【００４０】
【特許文献１】特開２００７−４８８１６号公報
【図１】
2014179485.tif 000003
【図２】
2014179485.tif 000004
【図３】
2014179485.tif 000005
【図４】
2014179485.tif 000006
【図５】
2014179485.tif 000007
【図６】
2014179485.tif 000008
【図７】
2014179485.tif 000009
【図８】
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【図９】
2014179485.tif 000011
【図１０】
2014179485.tif 000012
【図１１】
2014179485.tif 000013
【図１２】
2014179485.tif 000014
【図１３】
2014179485.tif 000015
【図１４】
2014179485.tif 000016
【図１５】
2014179485.tif 000017
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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