(57)【要約】【課題】製品サイズにカットされた、あるいは個別形状にカットされた複数の基板を一括して処理するために、前もって各々の基板を独立して所定の位置となるように調整できるトレイを提供する。【解決手段】本発明のトレイ２０は、平板状のトレイ部材２１からなり、前記トレイ部材には、その一方の主面側において複数の基板の位置を個々に調整するために用いる第一アライメント部材の可動部が、通過するための貫通孔をなす第一空間部２３と、前記基板に対するアライメントマーク２２とが、前記基板ごとに配されている。前記トレイ部材の一方の主面には、複数の前記基板が載置された状態で、前記アライメントマークに基づいて、前記第一アライメント部材により個々の前記基板について位置をそれぞれ調整した後、前記トレイ部材の一方の主面に対して前記基板を該トレイ部材に仮固着させる固定手段を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を一括して処理するために、前もって各々の基板を独立して所定の位置となるように調整した後、前記一括して処理するプロセスに用いるトレイであって、
前記トレイは平板状のトレイ部材からなり、
前記トレイ部材には、その一方の主面側において前記基板の位置を個々に調整するために用いる第一アライメント部材の可動部が、通過するための貫通孔をなす第一空間部と、前記基板に対するアライメントマークとが、前記基板ごとに配されており、
前記トレイ部材の一方の主面には、複数の前記基板が載置された状態で、前記アライメントマークに基づいて、前記第一アライメント部材により個々の前記基板について位置をそれぞれ調整した後、前記トレイ部材の一方の主面に対して前記基板を該トレイ部材に仮固着させる固定手段を備えたこと、を特徴とするトレイ。
【請求項２】
前記固定手段は、前記トレイ部材に内在しており、前記第一空間部とは独立し、前記トレイ部材の一方の主面と連通する孔部を備えた第二空間部から構成され、位置調整後の前記基板が前記トレイ部材の一方の主面上にあり、前記第一空間部と前記第二空間部の内部が減圧状態とされた時、前記孔部により前記基板を吸着して、該基板を仮固定すること、を特徴とする請求項１に記載のトレイ。
【請求項３】
前記固定手段は、前記トレイ部材の一方の主面上に配された粘着部材であり、位置調整後の前記基板が前記トレイ部材の一方の主面上にある時、前記基板を仮固定すること、を特徴とする請求項１に記載のトレイ。
【請求項４】
前記トレイ部材に、個々の前記基板に対して、２か所以上の前記アライメントマークと、１か所以上の前記貫通孔とが、それぞれ配されたことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のトレイ。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載のトレイと、
前記トレイ部材に載置された個々の前記基板の位置を調整可能な基板保持部を有する前記第一アライメント部材と、を含む基板の位置調整システムであって、
前記基板保持部は、前記貫通孔を通じて前記トレイ部材表面に対して上下方向に移動可能であるとともに、前記トレイ部材表面から突出した状態で、該トレイ部材の面内方向に移動可能となされていること、を特徴とする基板の位置調整システム
【請求項６】
請求項５に記載の基板の位置調整システムにより、各々の前記基板が独立して所定の位置に仮固定された状態のトレイを用い、露光用マスクの位置を該トレイに対して調整する第二アライメント部材を少なくとも備えたこと、を特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の基板を一括して処理するために、前もって各々の基板を独立して所定の位置となるように調整できるトレイ、これを用いた基板の位置調整システム、及び露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、タッチパネルは、例えばＡＴＭ、自動販売機、携帯情報端末、携帯ゲーム機、電子案内表示板、カーナビゲーション、携帯電話等に広く用いられている。
タッチパネルを液晶パネルの上に載せて使う従来方法に対して、タッチパネル機能を液晶パネルの中に一体化する方法の研究が盛んになっている。このタッチパネルと液晶パネルの一体化には、「インセル」と呼ばれる方法と、「オンセル」と呼ばれる方法がある。
【０００３】
インセルは、タッチパネル機能を液晶の画素の中に組み込む方法である。一方、オンセルは、タッチパネル機能をカラー・フィルタ基板と偏光板の間に作り込む方法である。外付けだったタッチパネル部品を一体化できれば、薄型化、軽量化が可能になる。
【０００４】
インセル技術の提案は以前からあったが、複雑な半導体製造プロセスを使うため、歩留まりや表示性能の確保が難しく、実用化が進まずにいた。また、画素内にタッチ・センサを組み込むことで、表示に利用できる面積が減ってしまい、画質劣化の要因にもなっていた。
【０００５】
一方、オンセル技術では、カラー・フィルタ基板と偏光板の間に、簡単な透明電極パターンなどを形成するだけで済むため、歩留まりを確保しやすい。また、画素内の有効表示領域の面積も減らないため、画質劣化もほとんどない。
【０００６】
ところで、近年、タッチパネルセンサの薄型化と製造工程の簡単化のトレンドとして、上述したようなインセル方式、オンセル方式と並んで、カバーガラスに直接パターニングする方法が検討されている。
【０００７】
現在市場に流通しているカバーガラスは、最終的に得られる製品のサイズにカットした後に強化処理を行っている。この工程を逆にすることが技術的障壁であり、カットされたカバーガラスヘのパターニングが行われている。即ち、強化処理を行った複数取りの大型ガラス基板を露光・パターニング後にカットすると、クラックが入るなどして製品化ができないのが現状である。
【０００８】
そこで、製品サイズにカットされた、あるいは個別形状にカットされたガラス基板に対して露光処理を行う露光装置が求められているが、そのような露光装置では、タクトタイムが大きくなってしまい、生産性向上の妨げとなっている。
また、製品サイズにカットされた、あるいは個別形状にカットされたガラス基板に対する処理は、上記露光処理以外においても求められており、たとえば成膜処理、イオン注入処理、レーザー加工処理、エッチング処理など、が挙げられる。
【０００９】
従来、基板を保持するために用いるトレイとしては、たとえば、特許文献１−２が開示されている。
特許文献１には、基板を水平に収容するための収容部がトレイの上面に形成され、該トレイの収納部は基板が収納される底面と底面を取り囲む側壁とを備えた基板搬送用トレイが記載されている。この構成においては、基板は凹部形状によって規制され、凹部内に収納した基板の位置を微調整することは考慮されていなかった。また、基板は凹部に落とし込まれた態勢でトレイに収納されているので、基板の上面が処理面と仮定した場合、基板の上面の周囲には、トレイの収納部をなす側壁が存在するため、基板の処理面はトレイの側壁の影響を受けやすい。ゆえに、特許文献１のトレイは、露光処理などに利用するには不向きである。
【００１０】
特許文献２には、上面に基板を吸着固定するバキュームチャックを具備した基板搬送用トレイが開示されている。この基板搬送用トレイは、大サイズのガラス基板を水平に搬送する際に、撓みの発生を防ぐ効果がある。ゆえに、特許文献２のトレイは、複数の基板を個別に、所望の位置に微調整して保持することは考慮されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特許第３９６９９６５号公報
【特許文献２】特開２０００−１０８０６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、このような従来の実情に鑑みて考案されたものであり、製品サイズにカットされた、あるいは個別形状にカットされた複数の基板を一括して処理するために、前もって各々の基板を独立して所定の位置となるように調整できるトレイ、これを用いた基板の位置調整システム、及び露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の請求項１に記載のトレイは、複数の基板を一括して処理するために、前もって各々の基板を独立して所定の位置となるように調整した後、前記一括して処理するプロセスに用いるトレイであって、前記トレイは平板状のトレイ部材からなり、前記トレイ部材には、その一方の主面側において前記基板の位置を個々に調整するために用いる第一アライメント部材の可動部が、通過するための貫通孔をなす第一空間部と、前記基板に対するアライメントマークとが、前記基板ごとに配されており、前記トレイ部材の一方の主面には、複数の前記基板が載置された状態で、前記アライメントマークに基づいて、前記第一アライメント部材により個々の前記基板について位置をそれぞれ調整した後、前記トレイ部材の一方の主面に対して前記基板を該トレイ部材に仮固着させる固定手段を備えたこと、を特徴とする。
本発明の請求項２に記載のトレイは、請求項１において、前記固定手段は、前記トレイ部材に内在しており、前記第一空間部とは独立し、前記トレイ部材の一方の主面と連通する孔部を備えた第二空間部から構成され、位置調整後の前記基板が前記トレイ部材の一方の主面上にあり、前記第一空間部と前記第二空間部の内部が減圧状態とされた時、前記孔部により前記基板を吸着して、該基板を仮固定すること、を特徴とする。
本発明の請求項３に記載のトレイは、請求項１において、前記固定手段は、前記トレイ部材の一方の主面上に配された粘着部材であり、位置調整後の前記基板が前記トレイ部材の一方の主面上にある時、前記基板を仮固定すること、を特徴とする。
本発明の請求項４に記載のトレイは、請求項１乃至３のいずれか一項において、前記トレイ部材に、個々の前記基板に対して、２か所以上の前記アライメントマークと、１か所以上の前記貫通孔とが、それぞれ配されたことを特徴とする。
【００１４】
本発明の請求項５に記載の基板の位置調整システムは、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のトレイと、前記トレイ部材に載置された個々の前記基板の位置を調整可能な基板保持部を有する前記第一アライメント部材と、を含む基板の位置調整システムであって、前記基板保持部は、前記貫通孔を通じて前記トレイ部材表面に対して上下方向に移動可能であるとともに、前記トレイ部材表面から突出した状態で、該トレイ部材の面内方向に移動可能となされていること、を特徴とする。
【００１５】
本発明の請求項６に記載の露光装置は、請求項５に記載の基板の位置調整システムにより、各々の前記基板が独立して所定の位置に仮固定された状態のトレイを用い、露光用マスクの位置を該トレイに対して調整する第二アライメント部材を少なくとも備えたこと、を特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のトレイは、複数の基板を一括して処理するために、前もって各々の基板を独立して所定の位置となるように調整した後、前記一括して処理するプロセスに用いるトレイであって、前記トレイは平板状のトレイ部材からなり、前記トレイ部材には、その一方の主面側において前記基板の位置を個々に調整するために用いる第一アライメント部材の可動部が、通過するための貫通孔をなす第一空間部と、前記基板に対するアライメントマークとが、前記基板ごとに配されているので、単一のトレイ内において複数の基板が個別に、それぞれの基板にとって適切な位置をなすように、該基板ごとにトレイに対する相対的な位置を調整し、後段のプロセスにおいて最適な位置とすることができる。
そして本発明のトレイでは、前記トレイ部材の一方の主面に、複数の前記基板が載置された状態で、前記アライメントマークに基づいて、前記第一アライメント部材により個々の前記基板について位置をそれぞれ調整した後、前記トレイ部材の一方の主面に対して前記基板を該トレイ部材に仮固着させる固定手段を備えているので、後段のプロセスにおいて最適な位置を維持しながら、複数の基板を一括して処理するプロセスにトレイを移動することができる。つまり、前記一括して処理するプロセスにおいては、複数の基板はトレイと一体をなす物として取り扱うことが可能となる。
【００１７】
本発明の位置調整システムは、上述した本発明のトレイと、前記トレイ部材に載置された個々の前記基板の位置を調整可能な基板保持部を有する前記第一アライメント部材と、を含み、前記基板保持部は、前記貫通孔を通じて前記トレイ部材表面に対して上下方向に移動可能であるとともに、前記トレイ部材表面から突出した状態で、該トレイ部材の面内方向に移動可能となされているので、前記基板ごとに設けられた個々の第一アライメント部材により、各基板の位置を調整することができる。特に、単一のトレイ内において複数の基板が個別に、それぞれの基板にとって適切な位置をなすように、該基板ごとにトレイに対する相対的な位置を調整し、後段のプロセスにおいて最適な位置とすることが可能となる。ゆえに、本発明の位置調整システムによれば、個々の基板の形状（平面視した際の形状）が仮に異なった場合でも、各基板は単一のトレイと一体化された状態で後段のプロセスを行うことが可能となる。
【００１８】
本発明の露光装置は、上述した本発明の基板の位置調整システムにより、各々の前記基板が独立して所定の位置に仮固定された状態のトレイを用い、露光用マスクの位置を該トレイに対して調整する第二アライメント部材を少なくとも備えているので、後段のプロセスに相当する露光プロセスにおいて、露光源側（ソース側）は個々の基板に対して相対的な位置を気にする必要がなくなる。つまり、本発明の露光装置を構成する第二アライメント部材は、各基板を載置しているトレイとの間だけで相対的な位置を調整すれば、自ずと（自動的に）単一のトレイと一体化された状態にある各基板に対しても、相対的な位置の調査が完了する。
ゆえに、本発明の露光装置では、上述した本発明の基板の位置調整システムを備えることにより、複数の基板ごとに位置調整する必要が無く、単一のトレイに対して１回だけ位置調整すれば、全ての基板に位置調整したことになるので、各基板ごとに位置調整するために要していた時間を大幅に短縮することが可能となる。
また、第二アライメント部材は、従来の露光装置でも備えている構成なので、従来の露光装置が付属する基板の支持機構を、本発明の基板の位置調整システムに置き換えるだけで、前述の作用・効果が得られる。つまり、露光源側（ソース側）は従来構成が活用できる。したがって、大幅な設備の入れ替えを行うことなく、露光処理時間の著しい短縮が図れるので、本発明の露光装置は、露光処理の低コスト化をもたらす。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係るトレイの一構成例を模式的に示す斜視図。
【図２】図１のトレイにおいて、その一部を拡大して示す平面図。
【図３】図１のトレイ上にある複数の基板の位置を個別に調整する、第一アライメント部材を示す斜視図。
【図４】図１のトレイにおいて、固定手段の一構成例を模式的に示す断面図。
【図５】図１のトレイにおいて、固定手段の他の一構成例を模式的に示す断面図。
【図６】本発明に係る基板の位置調整システムの一構成例を模式的に示す斜視図であり、トレイが第一アライメント部材に載置される前の状態を表す。
【図７】本発明に係る基板の位置調整システムの一構成例を模式的に示す斜視図であり、トレイが第一アライメント部材に載置された後の状態を表す。
【図８】基板のアライメント方法を説明する断面図。
【図９】本発明に係る露光装置の一構成例を示す断面図。
【図１０】図９に示す露光装置において、露光ユニットの一構成例を模式的に示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下では、本発明に係るトレイの一実施形態について、図面に基づいて説明する。
【００２１】
＜第一実施形態＞
図１は、本発明に係るトレイの一構成例を模式的に示す斜視図であり、図２は、図１のトレイにおいて、その一部を拡大して示す平面図である。図３は、図１のトレイ上にある複数の基板の位置を個別に調整する、第一アライメント部材を示す斜視図である。
本実施形態のトレイ２０は、複数の基板２を一括して処理するために、前もって各々の基板２を独立して所定の位置となるように調整した後、前記一括して処理するプロセスに用いるトレイである。ここで、「一括して処理するプロセス」としては、たとえば、露光処理の他に、蒸着やスパッタなどの各種の成膜処理、イオン注入処理、レーザー加工処理、エッチングやアッシングなどの各種のプラズマ処理、などが挙げられる。
【００２２】
そのため、本実施形態のトレイ２０は平板状のトレイ部材２１からなり、トレイ部材２１には、その一方の主面側２１ａにおいて基板２の位置を個々に調整するために用いる第一アライメント部材３０の可動部３２が、通過するための貫通孔をなす第一空間部２３と、基板２に対するアライメントマーク２２とが、基板２ごとに配されている。たとえば、図１や図２に示すように、第一アライメント部材３０の可動部３２が、十字形の柱状構造体とされた場合には、この可動部３２が通過するための貫通孔からなる第一空間部２３は、十字状に設けられることが好ましい。つまり、第一空間部２３の平面視した形状は、第一アライメント部材３０の可動部３２が通過できれば良いのであり、十字状に限定されるものではない。
【００２３】
なお、図３に示す第一アライメント部材３０は、トレイ部材２１に載置された個々の基板２の位置を調整可能な基板保持部３１と、基板２の下面側と上部が接して、基板２をトレイ部材２１に対して上下移動あるいは平行移動させるための可動部３２、アライメントマーク（貫通孔）２２を通して基板２を観測可能なＣＣＤカメラ３３と、測定部（図示せず）と、演算部（図示せず）とを少なくとも有する構成例である。
【００２４】
また、本実施形態のトレイ２０は、前記トレイ部材２１の一方の主面２１ａに、複数の基板２が載置された状態で、アライメントマーク２２に基づいて、第一アライメント部材３０により個々の基板２について位置をそれぞれ調整した後、トレイ部材２１の一方の主面２１ａに対して基板２をトレイ部材２１に仮固着させる固定手段２４を備えている。
本発明のトレイ２０は、このような固定手段２４によって、後段のプロセスにおいて最適な位置を維持することができる。ゆえに、複数の基板を一括して処理するプロセスに、トレイごと一緒に移動することが可能となる。換言すると、本発明によれば、前記一括して処理するプロセスにおいては、複数の基板はトレイと一体をなす物、として取り扱うことができる。つまり、本発明のトレイ２０は、次工程である前記一括して処理するプロセスにおいて、トレイに対してのみ位置合わせを行えば、個々の基板に対して位置合わせが不要となる効果を奏する。
【００２５】
上述した固定手段としては、たとえば、孔と空間からなる吸着方式とした構成例Ａ（図４）と、粘着部材からなる接着方式とした構成例Ｂ（図５）が好適に挙げられるが、後段のプロセスにおいて最適な位置を維持することができる方式であれば、他の方式を採用しても構わない。
【００２６】
図４に示した構成例Ａは、図２のＸ−Ｘ部分の断面図であり、孔と空間からなる吸着方式を説明する図である。図４は、トレイ２０をなすトレイ部材２１の一方の主面２１ａに、基板２が載置された状態を表す。トレイ部材２１には、トレイ部材２１の一方の主面２１ａから他方の主面２１ｂに向けて、貫通孔からなる第一空間部２３が配されている。
【００２７】
構成例Ａでは、第一空間部２３の他に、トレイ部材２１に内在するとともに、第一空間部２３とは独立し、トレイ部材２１の一方の主面２１ａと連通する孔部２４ａを備えた第二空間部２４ｂから構成される固定手段２４を備えている。トレイ部材２１の一方の主面２１ａに基板２を載置すると、孔部２４ａの開口部は基板２の下面側が蓋となり、孔部２４ａを備えた第二空間部２４ｂの内部は閉空間となる。この状態において、第二空間部２４ｂの内部を、不図示の排気手段（たとえば、真空ポンプ）を用いて減圧することにより、トレイ部材２１の一方の主面２１ａに対して基板２（の下面側）が吸着されるので、基板２はトレイ部材２１に「仮固定」されたことになる。必要に応じて、第二空間部２４ｂの内部を大気圧に戻すだけで、吸着状態を解除できることから、本発明においては、この固定状態を「仮固定」と呼ぶ。
なお、上述した適切な位置に配された状態（吸着状態）は、一括して処理するプロセスにおいても維持される必要があるので、このプロセス時においても、適切な位置に配された状態が維持される程度の吸着力が、固定手段２４（２４ａ、２４ｂ）には求められる。
【００２８】
構成例Ａにおいては、上記仮固定が行われることにより、トレイ部材２１の一方の主面２１ａに対して、複数の基板２が各々、適切な位置に配された状態が維持されたまま、それぞれの基板２とトレイ部材２１とを、一体の物として取り扱うことが可能となる。
このように複数の基板２とトレイ部材２１とを一体の物として取り扱うことができるトレイ２０は、その後段に位置する複数の基板２を一括して処理するプロセスにおいて、トレイ２０の位置さえ調整すれば、全ての基板２の位置も自動的に調整されることになる。ゆえに、この一括して処理するプロセスにおいて、各々の基板２の位置を再度、個別に調整する必要が無くなるので、一括して処理するプロセスに要する時間を大幅に短縮することが可能となる。
【００２９】
図５に示した構成例Ｂは、図２のＸ−Ｘ部分の断面図であり、粘着部材からなる接着方式を説明する図である。図５は、トレイ２０をなすトレイ部材２１の一方の主面２１ａに、基板２が載置された状態を表す。トレイ部材２１には、トレイ部材２１の一方の主面２１ａから他方の主面２１ｂに向けて、貫通孔からなる第一空間部２３が配されている。
【００３０】
構成例Ｂでは、第一空間部２３の他に、この第一空間部２３を塞ぐこと無く、かつ、トレイ部材２１の一方の主面２１ａと基板２の下面側との間に介在するように配してなる、粘着部材２４ｃから構成される固定手段２４を備えている。
粘着部材２４ｃとしては、トレイ部材２１の一方の主面２１ａに対して、複数の基板２が各々、適切な位置に配された状態（接着状態）が維持される程度の粘着力と、後段に位置する一括して処理するプロセスを終了した後には、トレイ部材２１の一方の主面２１ａから各々の基板２を容易に離脱させることが可能な程度の粘着力とを、兼ね備えるものが好適である。
【００３１】
このような粘着力を備えた粘着部材２４ｃであるならば、基板２はトレイ部材２１に「仮固定」されたことになる。必要に応じて、個々の基板２に対して離脱させる力を加えるだけで、接着状態を解除できることから、本発明においては、この固定状態を「仮固定」と呼ぶ。
なお、上述した適切な位置に配された状態（接着状態）は、一括して処理するプロセスにおいても維持される必要があるので、このプロセス時においても、適切な位置に配された状態（接着状態）が維持される程度の粘着力が、固定手段２４（２４ｃ）には求められる。
【００３２】
したがって、上述した構成例Ａまたは構成例Ｂの何れかの固定手段を備えるトレイであれば、複数の基板を一括して処理するために、前もって各々の基板を独立して所定の位置となるように調整した後、前記一括して処理するプロセスに用いることが可能となる。
【００３３】
以下では、上述したトレイに対して、複数の基板を一括して処理するために、前もって各々の基板を独立して所定の位置となるように調整するために用いる、基板の位置調整システムについて説明する。
図６および図７は、本発明に係る基板の位置調整システムの一構成例を模式的に示す斜視図であり、図６はトレイが第一アライメント部材に載置される前の状態を、図７はトレイが第一アライメント部材に載置された後の状態を、それぞれ表している。
【００３４】
図６は、トレイ２０が第一アライメント部材３０に載置される前の状態を表しており、トレイ２０と第一アライメント部材３０により基板の位置調整システム５０が構成される。図６に例示したトレイ２０は、単一のトレイ部材２１に対して、個々の基板（不図示）が載置される領域ごとに、複数の（図６は二つの場合）アライメントマーク２２と、平面視において十字状の貫通孔からなる第一空間部２３を備えている。
たとえば、図６に示すように、トレイ２０の外周をなす角部を矢印の方向へ移動し、第一アライメント部材３０の支持部に載置する。これにより、トレイ２０の貫通孔からなる第一空間部２３に対して、第一アライメント部材３０の可動部が上下動可能な位置に、トレイ２０が配置される。
【００３５】
図７は、トレイが第一アライメント部材に載置された後の状態を示しており、さらに個々の基板２が載置される領域ごとに、搬送手段（不図示）により、運ばれた状態を表している。ここで、前記搬送手段としては、ロボットなどの機械的手段の他に、人的手段であっても構わない。個々の基板２が載置される領域ごとに設けた、複数のアライメントマーク２２に被るレベルに、基板２を配置する能力があれば、前記搬送手段は特に限定されるものでは無い。
なお、図７に示した基板２は、平面視において同じ形状を有する場合を描写しているが、最終的に得られる製品の個別形状にカットされた複数の基板２に対しても、本発明に係る基板の位置調整システム５０は有効である。
【００３６】
図６及び図７のトレイ２０は、図１及び図２に示すように、トレイ２０を構成するトレイ部材２１には、前記基板に対するアライメントマーク２２が個々に設けられている。トレイ部材２１には、個々の前記基板２に対して、２か所以上のアライメントマーク２２と、１か所以上の貫通孔２３とが、それぞれ設けられている。図１、図２には、貫通孔からなる第一空間部２３を挟んで対称（矩形の基板２に対して対角）となる位置にアライメントマーク２２を設けた構成例を示したが、アライメントマーク２２を設ける箇所の数および配置は、必要に応じて適宜調整してもよい。
【００３７】
また、図６及び図７に示すように、第一アライメント部材３０は、トレイ部材２１に載置された個々の基板２の位置を調整可能な基板保持部３１と、基板２の下面側と上部が接して、基板２をトレイ部材２１に対して上下移動あるいは平行移動させるための可動部３２、アライメントマーク（貫通孔）２２を通して基板２を観測可能なＣＣＤカメラ３３と、測定部（図示せず）と、演算部（図示せず）とを少なくとも有する。
【００３８】
第一アライメント部材３０において、ＣＣＤカメラ３３で撮影した画像に基づき、測定部は、基板２のそれぞれの計測点の位置を測定する。演算部は、測定部で測定した点の位置データに基づき、基板２の中心位置、及びトレイ部材２１の面内方向（ＸＹ方向）における傾きを算出する。
【００３９】
基板保持部３１は、駆動機構（図示せず）によって駆動されており、演算部からの指令に基づいて、トレイ部材２１表面に対して可動部３２を上下方向（Ｚ方向）及びトレイ部材２１の面内方向（ＸＹ方向）に移動可能となされている。基板保持部３１は、トレイ部材２１に設けた貫通孔からなる第一空間部２３を通じて、該トレイ部材２１の表面に対して突没可能とされている。
【００４０】
トレイ部材２１は、基板２を固定する手段として、上述した固定手段２４を備えている。固定手段２４が構成例Ａ（孔と空間からなる吸着方式）または構成例Ｂ（粘着部材からなる接着方式）の何れの方式であっても、上記仮固定が行われる。ゆえに、トレイ部材２１の一方の主面２１ａに対して、複数の基板２が各々、適切な位置に配された状態が維持されたまま、それぞれの基板２とトレイ部材２１とを、一体の物として取り扱うことが可能となる。
【００４１】
トレイ部材２１はその表面に配された電極層（図示せず）を備える構成としてもよい。これにより基板２が、トレイ部材２１の表面に静電保持される。
トレイ部材２１の表面に、勾配のある側壁を有する凹溝（図示せず）が設けられていてもよい。これにより、該凹溝に前記基板２が嵌装される。
【００４２】
以下では、図８に基づき、基板のアライメント方法を説明する。
図８（ａ）〜（ｄ）は、基板２に設けたアライメントマーク３及びトレイ部材２１に設けたアライメントマーク２２に基づいて、前記第一アライメント部材３０により、個々の前記基板２について位置をそれぞれ調整する手順を示している。
【００４３】
まず、図８（ａ）に示すように、複数の基板２が載置されたトレイ部材２１を、ＣＣＤカメラ３３で撮影する。ＣＣＤカメラ３３で撮影した画像に基づき、基板２のそれぞれの計測点の位置を測定する。演算部は、測定部で測定した点の位置データに基づき、基板２の中心位置、及びトレイ部材２１の面内方向（ＸＹ方向）における傾きを算出する。
【００４４】
次に、図８（ｂ）に示すように、貫通孔からなる第一空間部２３を通じて、基板保持部３１の可動部３２を上昇（Ｚ方向）させることにより、基板２をトレイ部材２１から離間させる。
そして、図８（ｃ）に示すように、基板２がトレイ部材２１から離間した状態で、測定部で測定した点の位置データに基づいて、基板保持部３１をトレイ部材２１の面内方向（ＸＹ方向）で移動させることにより、基板２の位置を調整する。そして、再びＣＣＤカメラ２７により位置合わせを行い、最適位置と判断された時点で、図８（ｄ）に示すように、基板保持部３１の可動部３２を下降させて基板２をトレイ部材２１に再び載置する。
【００４５】
ＣＣＤカメラ３３の画像中に表示される、基板２のアライメントマーク３と、トレイ部材２１のアライメントマーク２２との照準を、複数点で同時に合致させることにより、基板２の位置を高い精度で位置制御することができる。
【００４６】
なお、すべてのアライメントマーク２２について検出を行う必要はなく、前記トレイ部材２１に保持された複数の前記基板２のうち、ある特定の基板２についてのアライメントマーク２２について検出を行えばよい。そして、この特定の基板２についてのアライメントマーク２２に基づいて、複数の前記基板２についての位置を調整する。これにより、アライメント処理を迅速に行うことができる。
【００４７】
図８に基づき説明した手順を行うことにより、単一のトレイ２０を構成するトレイ部材２１の一方の主面２１ａに対して、複数の基板２が各々、適切な位置に配された状態が維持されたまま、それぞれの基板２とトレイ部材２１とを、一体の物として取り扱うことが可能となる。
すなわち、本発明の位置調整システム５０は、上述した本発明のトレイ２０と、このトレイ２０を構成するトレイ部材２１に載置された個々の基板２の位置を調整可能な基板保持部３１を有する第一アライメント部材３０と、を含むものである。そして、基板保持部３１は、貫通孔からなる第一空間部２３を通じて、トレイ部材２１の表面に対して上下方向に移動可能であるとともに、トレイ部材２１の表面から突出した状態で、トレイ部材２１の面内方向に移動可能となされている。
【００４８】
位置調整システム５０は、このような構成を備えているので、個々の基板２ごとに設けられた第一アライメント部材３０により、各基板２の位置を調整することができる。特に、単一のトレイ２０内において複数の基板２が個別に、それぞれの基板２にとって適切な位置をなすように、基板２ごとにトレイ２０に対する相対的な位置を調整し、後段のプロセスにおいて最適な位置とすることが可能となる。ゆえに、本発明の位置調整システム５０によれば、個々の基板２の形状（平面視した際の形状）が仮に異なった場合でも、各基板は単一のトレイ２０と一体化された状態で後段のプロセスに運ぶことが可能となる。
【００４９】
以下では、後段のプロセスの一例として、露光プロセスに適用する場合を説明する。
図９は、本発明に係る露光装置の一構成例を模式的に示す図である。
図９に示すとおり、本発明の露光装置１００は、複数の基板２（図９には、３枚の基板２ａ、２ｂ、２ｃの場合を示す）とトレイ部材２１とが一体の物として取り扱うことが可能となったトレイ２０を載置する支持台４０と、各基板２に対して露光処理を行う露光ユニット９０とを、含むものである。上述した位置調整システム５０から支持台４０へトレイ２０を移動させる搬送手段（不図示）には、特に制限はない。搬送手段としては、ロボットなどの機械的手段の他に、人的手段であっても構わない。
【００５０】
図１０は、図９に示す露光装置１００において、露光ユニットの一構成例を模式的に示す図である。図１０（ａ）に示すように、露光ユニット９０においては、光源９１から発せられた光は、集光鏡９２によって下方に配された第一平面鏡９３に向けて進む。第一平面鏡９３で反射された光は、インテグレータ９４を通過した後、第二平面鏡９５に向けて進む。その際、インテグレータ９４を通過した光の一部は、照射監視装置９６に入射する。第二平面鏡９５で反射された光は、コリメーター９７、マスク９８を順に通過した後、複数の基板２の処理面２αに対して露光処理を行う。
なお、図１０（ｂ）には、図１０（ａ）におけるマスク９８と複数の基板２の処理面２αとの関係を拡大して示す図である。マスク９８と処理面２αの隙間ｄを数μｍから数十μｍに設定する場合（ｄ≠０）は、プロキシミティ方式と呼ばれる。一方、マスク９８と処理面２αを完全に接触させる場合（ｄ＝０）は、コンタクト方式と呼ばれる。何れの方式においても、後述する本発明の作用・効果は得られる。
【００５１】
つまり、上記の露光処理を成立させる為には、複数の基板２の処理面２αに対して、露光処理する光、すなわちコリメーター９７を通過した光が、同一距離の光路となるように、コリメーター９７と複数の基板２との相対的な位置を合わせる必要がある。
しかしながら、本発明によれば、各基板２は単一のトレイ２０と一体化された状態で後段のプロセスに運ばれたものである。ゆえに、露光ユニット９０が一般的に備えている第二アライメント部材（不図示）は、単一のトレイ２０との間で相対的な位置合わせを行うだけで、自動的に複数の基板２に対しても位置合わせを完了することが可能となる。
【００５２】
したがって、第二アライメント部材（不図示）により個々の基板２について位置をそれぞれ調整すること無しに、単一のトレイ２０との間で相対的な位置合わせを行った後、露光ユニット９０の光源９１から光を発し、所定パターンの光を各基板２の表面に照射することで、個別形状にカットされた複数の基板２に対して、迅速に露光処理を行うことができる。これにより、本発明の露光装置１００は、タクトタイムの短縮や、生産性の向上をもたらすことができる。
【００５３】
換言すると、本発明の露光装置１００は、上述した本発明に係る位置調整システム５０により前もって、各々の基板２が独立して所定の位置に仮固定された状態のトレイ２０を用い、露光用マスク９８の位置を該トレイに対して調整する第二アライメント部材（不図示）を少なくとも備えているので、後段のプロセスに相当する露光プロセスにおいて、露光源側（ソース側）は個々の基板２に対して相対的な位置を気にする必要がなくなる。つまり、本発明の露光装置１００を構成する第二アライメント部材（不図示）は、各基板２を載置しているトレイ２０との間だけで相対的な位置を調整すれば、自ずと（自動的に）単一のトレイと一体化された状態にある各基板２に対しても、相対的な位置の調整が完了する。
【００５４】
ゆえに、本発明に係る位置調整システム５０により、各々の基板２が独立して所定の位置に仮固定された状態のトレイ２０を用い、露光用マスク９８の位置をトレイ２０に対して調整する第二アライメント部材（不図示）を少なくとも備えてなる露光装置１００では、上述した位置調整システム５０を備えることにより、複数の基板２ごとに位置調整する必要が無く、単一のトレイ２０に対して１回だけ位置調整すれば、全ての基板２に対して位置を調整したことになるので、各基板２ごとに位置調整するために要していた時間を大幅に短縮することが可能となる。
【００５５】
また、第二アライメント部材（不図示）は、従来の露光装置でも備えている構成なので、従来の露光装置が付属する基板の支持機構を、本発明の基板の位置調整システム５０に置き換えるだけで、前述の作用・効果が得られる。つまり、露光源側（ソース側）は従来構成が活用できる。したがって、大幅な設備の入れ替えを行うことなく、露光処理時間の著しい短縮が図れるので、本発明の露光装置は、露光処理の低コスト化をもたらす。
【００５６】
さらに、上述した作用・効果（基板のサイズや形状に対応可能）は、適切なマスクさえ用意されるならば、同様に達成できることから、本発明の露光装置１００は、多品種混合生産を行う場合にも好適な装置である。
【００５７】
以上、本発明の露光装置について説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜変更が可能である。
なお、上記の実施形態では、基板保持ユニットを露光装置に適用した構成例を詳述したが、本発明に係る基板保持ユニットは、露光装置用途に限定されるものではなく、たとえば、蒸着やスパッタなどの各種の成膜装置用途、イオン注入装置用途、レーザー加工装置用途、エッチングやアッシング装置用途など、多岐に亘る技術分野において有効である。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明は、露光装置に広く適用可能である。特に、タッチパネルなど、最終的に得られる製品の個別形状にカットされた基板に対して露光処理を行う露光装置に適用する場合に、特に好適である。
【符号の説明】
【００５９】
２（２ａ、２ｂ、２ｃ）  基板、３  アライメントマーク、２０  トレイ、２１  トレイ部材、２２  アライメントマーク、２３  第一空間部、２４  固定手段、２４ａ  孔部、２４ｂ  第二空間部、２４ｃ  粘着部材、３０  第一アライメント部材、３１  基板保持部、３２  可動部、３３  ＣＣＤカメラ、５０  位置調整システム、９０  露光ユニット、９１  光源、９２  集光鏡、９３  第一平面鏡、９４  インテグレータ、９５  第二平面鏡、９６  照射監視装置、９７  コリメーター、９８  マスク、１００  露光装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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