(57)【要約】【課題】  電気的特性を変化させることなく、かつ低コストで、微細な形状を形成可能な現像ローラの表面加工方法を提供する。【解決手段】  外周面にトナーを保持して現像領域に搬送する現像ローラと、前記現像ローラに供給されたトナー層の厚みを規制する規制部材とを少なくとも備える１成分現像装置の前記現像ローラの表面加工方法であって、  前記現像ローラの表面を構成する加硫ゴム層に対し、加圧して厚み方向に圧縮変形させる工程と、圧縮変形した状態でプラズマ処理を行う工程と、加圧を解除して表面に凹凸構造を形成する工程とを有する現像ローラの表面加工方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周面にトナーを保持して現像領域に搬送する現像ローラと、前記現像ローラに供給されたトナー層の厚みを規制する規制部材とを少なくとも備える１成分現像装置の前記現像ローラの表面加工方法であって、
前記現像ローラの表面を構成する加硫ゴム層に対し、加圧して厚み方向に圧縮変形させる工程と、圧縮変形した状態でプラズマ処理を行う工程と、加圧を解除して表面に凹凸構造を形成する工程とを有することを特徴とする現像ローラの表面加工方法。
【請求項２】
加圧が、１００Ｎ／ｍ〜２５０Ｎ／ｍの線圧で行われることを特徴とする請求項１に記載の現像ローラの表面加工方法。
【請求項３】
プラズマ処理を行う時間が、１０〜３０秒であることを特徴とする請求項１または２に記載の現像ローラの表面加工方法。
【請求項４】
非反応性ガスを用いてプラズマ処理を行うことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の現像ローラの表面加工方法。
【請求項５】
外周面にトナーを保持して現像領域に搬送する現像ローラと、前記現像ローラに供給されたトナー層の厚みを規制する規制部材とを少なくとも備える１成分現像装置の前記現像ローラであって、
前記現像ローラの表面を構成する加硫ゴム層の表面に凹凸構造を有し、前記凹凸構造が、凸部の幅が０．１〜１μｍの隆線状構造であることを特徴とする現像ローラ。
【請求項６】
請求項１から４のいずれかに記載の方法により表面加工され、形成された前記凹凸構造が、凸部の幅が０．１〜１μｍの隆線状構造であることを特徴とする現像ローラ。
【請求項７】
表面の加硫ゴム層が、エピクロロヒドリン−エチレンオキサイド共重合体、及びエピクロロヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル共重合体から選ばれるエピクロロヒドリン系ゴムを含むことを特徴とする請求項５または６に記載の現像ローラ。
【請求項８】
請求項５から７のいずれかに記載の現像ローラと、前記現像ローラに供給されたトナー層の厚みを規制する規制部材とを少なくとも備えることを特徴とする現像装置。
【請求項９】
像担持体と、該像担持体上にトナーで静電潜像を現像して可視像を形成する現像手段を少なくとも有し、画像形成装置本体に着脱可能であるプロセスカートリッジにおいて、
前記現像手段が、請求項８に記載の現像装置であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、現像ローラの表面加工方法、現像ローラ、現像装置、及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真法では、感光体表面を帯電、露光して形成した静電潜像に着色トナーで現像してトナー像を形成し、該トナー像を転写紙等の被転写体に転写し、これを熱ロール等で定着して画像を形成している。
電子写真や静電記録等で採用される乾式現像方式には、トナー及びキャリアからなる２成分系現像剤を用いる方式と、キャリアを含まない１成分系現像剤を用いる方式とがある。
【０００３】
前者の方式は、比較的安定して良好な画像が得られるが、キャリアの劣化並びにトナーとキャリアとの混合比の変動等が発生しやすいことから長期間にわたっての一定品質の画像は得られにくく、また、装置の維持管理性やコンパクト化に難点がある。そこで、こうした欠点を有しない後者の１成分系現像剤を用いる方式が用いられるようになっている。
【０００４】
この１成分現像方式においては、トナー搬送部材である現像ローラ上にトナーを保持し、保持されたトナーを規制部材によって押圧することにより、トナーの帯電・層厚の調整を行う。しかしながら、１成分現像方式はトナーに多大なストレスを加える現像方式であるため、近年のトレンドである低温定着トナーとは相容れない場合が多く、特に規制部材におけるトナーの固着やトナーフィルミングが発生しやすい傾向がある。
【０００５】
トナーの固着やフィルミングは、規制部でのトナーの流れを向上させることで改善されるため、現像ローラ表面の形状パターンの検討がなされているが、材料は加工のしやすさから金属や熱硬化性エラストマーなどの材料に限定されている。
【０００６】
例えば、接触１成分現像用の現像ゴムローラは、トナーの搬送性やリセット性を向上させることを目的として、研磨やフィラー添加などの手段により表面に凹凸を形成する技術、レーザー加工等により複雑な微小凹凸を付与する技術、電子線照射により硬度の異なる領域をパターン状に形成する技術（例えば、特許文献１参照）などが知られている。
【０００７】
特許文献１には、導電性加硫ゴム層の硬度上昇を抑えつつ、導電性加硫ゴム層中の低分子量成分が導電性ゴムローラの表面への染み出しを抑制することのできる導電性ローラの製造方法として、芯金の周囲に形成した導電性加硫ゴム層の周面に、電子線の透過率の異なる部分がパターン状に配置されてなるマスク部材を介して電子線を照射し、該導電性加硫ゴム層の表面に電子線の照射強度の差に由来する硬度の異なる領域をパターン状に形成する方法が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
現像ローラ表面にパターンを形成する方法として、従来のレーザー加工では、微細なパターンを有するフォトマスクを用いてレーザー照射することでミクロンオーダーの微細加工が可能であるが、装置本体の値段に加え、レーザー発振をするための希ガスのメンテナンス費用が非常に高く、また加工時間も長くなるため、処理できる量が少なくかつ高コストになってしまうという問題があった。
【０００９】
また、レーザーによる熱溶融またはアブレーションの影響によりゴムローラの表面の酸化が進み、電気特性が大きく変化してしまうという問題があった。
【００１０】
特許文献１に記載の方法においても同様の問題を有し、加硫ゴム層に対し、低コストで酸化膜の無い複雑で微細な形状を付与するということは困難である。
【００１１】
そこで、本発明は上記課題を鑑み、電気的特性を変化させることなく、かつ低コストで、微細な形状を形成可能な現像ローラの表面加工方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明に係る現像ローラの表面加工方法は、外周面にトナーを保持して現像領域に搬送する現像ローラと、前記現像ローラに供給されたトナー層の厚みを規制する規制部材とを少なくとも備える１成分現像装置の前記現像ローラの表面加工方法であって、前記現像ローラの表面を構成する加硫ゴム層に対し、加圧して厚み方向に圧縮変形させる工程と、圧縮変形した状態でプラズマ処理を行う工程と、加圧を解除して表面に凹凸構造を形成する工程とを有することを特徴とする現像ローラの表面加工方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の現像ローラの表面加工方法によれば、電気的特性を変化させることなく、かつ低コストで、微細な形状を形成可能な現像ローラの表面加工方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態の現像ローラの表面加工方法により加工された現像ローラの表面の一例を示す模式図である。
【図２】本実施形態の現像装置の一例を示す断面図である。
【図３】本実施形態のプロセスカートリッジの一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る現像ローラの表面加工方法、現像ローラ、現像装置、及びプロセスカートリッジについて図面を参照して説明する。なお、本発明は以下に示す実施例の実施形態に限定されるものではなく、他の実施形態、追加、修正、削除など、当業者が想到することができる範囲内で変更することができ、いずれの態様においても本発明の作用・効果を奏する限り、本発明の範囲に含まれるものである。
【００１６】
〔現像ローラの表面加工方法及び現像ローラ〕
本実施形態に係る現像ローラの表面加工方法は、外周面にトナーを保持して現像領域に搬送する現像ローラと、前記現像ローラに供給されたトナー層の厚みを規制する規制部材とを少なくとも備える１成分現像装置の前記現像ローラの表面加工方法であって、前記現像ローラの表面を構成する加硫ゴム層に対し、加圧して厚み方向に圧縮変形させる工程と、圧縮変形した状態でプラズマ処理を行う工程と、加圧を解除して表面に凹凸構造を形成する工程とを有する。
【００１７】
現像ローラの表面を構成する加硫ゴム層を伸長させた状態でプラズマ照射することにより、プラズマ照射されたミクロな領域のゴム硬度が高くなる。この状態から加圧を解除して収縮させると、硬度差の影響で数μｍオーダーの微細な凹凸構造の形状を付与することが可能となる。
【００１８】
本実施形態の現像ローラ表面の凹凸構造の例を図１に示す。
図１は本実施形態の現像ローラ表面の凹凸構造の拡大模式図である。
図１に示すように、形成された凹凸構造は、例えば、凸部の幅が０．１〜１μｍの隆線状構造である。形成される凹凸構造としては、図１に示すような凸部の隆線と凹部の谷線とが交互に存在した隆線状構造に限定されず、プラズマ照射の条件などにより種々の凹凸構造が形成される。
【００１９】
上述のような微細な凹凸構造が形成された現像ローラの表面では、トナーの流れが向上し、現像ローラへのトナー付着性を低下させることが可能となるため、トナーフィルミング性が向上する。
【００２０】
前記加硫ゴム層を加圧して厚み方向に圧縮変形させる工程において、加圧の線圧としては１００〜２５０Ｎ／ｍであることが好ましい。
【００２１】
前記加硫ゴム層を圧縮変形した状態でプラズマ処理を行う工程において、プラズマ照射を行う時間は、１０〜３０秒であることが好ましい。
【００２２】
なお、プラズマ処理は非反応性ガスを用いて行うことが好ましく、前記非反応性ガスとしては、例えば、Ｈｅ及びＡｒ等が挙げられる。
【００２３】
上記のように加硫ゴム層に対し加圧しながらプラズマ処理を行うことにより、表面のミクロ領域の架橋密度が向上する。この反応は、レーザー加工のように熱溶融または分子切断などの状態変化を伴うものではないため、表面に酸化皮膜が形成されるなどの弊害が起こりにくい。
【００２４】
本実施形態の表面加工方法は、加圧により変形（伸長）した加硫ゴム層の表面にプラズマ照射した後、加圧を解除する工程のみからなり、また反応に伴う酸化皮膜の形成なども抑制できるため、簡便かつ非常に生産性の高い加工方法である。
【００２５】
現像ローラ１３は、例えば、軸芯と、該軸芯の外周に加硫ゴム層と、該加硫ゴム層の外周面に本実施形態の表面加工方法により加工された凹凸構造を有する表面層を有し、更に必要に応じてその他の層を有する。例えば、最表面に表面コート層を有していてもよい。
【００２６】
前記加硫ゴム層は、エピクロロヒドリン−エチレンオキサイド共重合体、及びエピクロロヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル共重合体から選ばれるエピクロロヒドリン系ゴムを含むことが好ましい。
なお、前記加硫ゴム層には、導電剤、発泡剤、架橋剤、架橋促進剤、オイル等を適宜配合しても差し支えない。
【００２７】
現像ローラ１３は、例えば、次のようにして製造することができる。まず、前記加硫ゴム層となる層を構成する各成分をニーダー等の混練機で混練し、金属製の軸芯（芯金）と円筒型との間の空隙部に注型する。次いで、上蓋を円筒型に外嵌し、このローラ型全体を加熱して加硫した後（１５０℃〜２２０℃×２０分）、ローラ型から取り出して、加硫ゴム層を形成する。このようにして形成された加硫ゴム層の外周面を、本実施形態の表面加工方法により加工し、凹凸構造を形成する。
【００２８】
現像ローラ１３は、規制部材１５との当接部での圧力集中によるトナー劣化を防止するために、ＪＩＳ−Ａで６０度以下の硬度に設定される。また、現像ローラ１３には像担持体（感光体）１１との間に電界を形成させるための現像バイアスが印加されるので、中間層は１０３Ω〜１０１０Ωの抵抗値に設定される。
【００２９】
前記軸芯としては、特に制限はなく、炭素鋼、合金鋼、鋳鉄、導電性樹脂などの中から、適宜選択して用いることができる。ここで、合金鋼としては、例えばステンレス鋼、ニッケルクロム鋼、ニッケルクロムモリブテン鋼、クロム鋼、クロムモリブテン鋼、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｏ、及びＶを添加した窒化用鋼などが挙げられるが強度の観点から、金属製のものが好ましい。また、防錆対策として軸芯材料にめっき、酸化処理を施すことができる。前記めっきの種類としては電気めっき、無電解めっきなどいずれも使用することができるが、寸法安定性の観点から無電解めっきが好ましい。
【００３０】
前記加硫ゴム層は、イオン導電剤、電子導電剤等の導電剤を添加することにより、所定の導電性を付与することができる。前記イオン導電剤としては、例えばテトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ラウリルトリメチルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム、ステアリルトリメチルアンモニウム、オクタデシルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、変性脂肪族ジメチルエチルアンモニウム等の過塩素酸塩、塩素酸塩、塩酸塩、臭素酸塩、ヨウ素酸塩、ホウフッ化水素酸塩、硫酸塩、アルキル硫酸塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩、アンモニウム塩、ＰＦ６塩、ＢＦ４塩などのようなアンモニウム塩；アルカリ金属又はアルカリ土類金属（例えばリチウム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム等）の過塩素酸塩、塩素酸塩、塩酸塩、臭素酸塩、ヨウ素酸塩、ホウフッ化水素酸塩、トリフルオロメチル硫酸塩、スルホン酸塩、ＰＦ６塩、ＢＦ４塩などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３１】
前記電子導電剤としては、例えばカーボンブラック、グラファイト、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス鋼等の各種導電性金属又は合金；酸化錫、酸化インジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫−酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫−酸化インジウム複合酸化物等の各種導電性金属酸化物；絶縁物質の表面を導電化処理したものなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
前記導電剤の添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜各種状況に応じて適宜選択することができ、イオン導電剤の場合には、ゴム１００質量部に対し、０．０１質量部〜５質量部が好ましく、０．０５質量部〜２質量部がより好ましい。電子導電剤の場合には、ゴム１００質量部に対し０．５質量部〜５０質量部が好ましく、１質量部〜４０質量部がより好ましい。
【００３３】
また、適宜調製したコーティング液を、表面加工された外周面に塗布した後、乾燥及び加熱処理を行うことにより表面コート層を形成することができる。
コーティング液の塗布方法は、特に制限するものではなく、ディッピング法、スプレー法、ローラコート法等の従来の方法が適用できる。
【００３４】
〔現像装置〕
本実施形態の現像装置は、前記現像ローラと、前記現像ローラに供給されたトナー層の厚みを規制する規制部材とを少なくとも備え、更に必要に応じてその他の部材を有してなる。
【００３５】
図２に、本実施形態の現像装置と像担持体の断面図を示す。
現像装置１２のトナー搬送部材としての現像ローラ１３は、像担持体１１に接触あるいは０．１μｍ〜０．３μｍ程度のギャップを保持し、図中矢印方向に駆動される。像担持体１１は図中矢印方向に回転する。
現像ローラ１３の周囲には供給ローラ１４、板バネ材にゴム板（例えばウレタンゴム、シリコーンゴム等）を貼り付け、もしくはＳＵＳ等の金属材質の規制ブレード（トナー層厚規制ブレード）である規制部材１５が配置される。
また、トナー供給ローラ１４へのトナー供給のため、トナー送りシャフト１６がトナーを保持する保持室１７に回転可能に配設される。
現像ローラ１３は時計回りの方向に回転し、表面に保持したトナーを規制部材１５及び像担持体１１との対向位置へと搬送する。
【００３６】
規制部材１５は、供給ローラ１４と現像ローラ１３の当接位置よりも低い位置に設けられる。規制部材１５は、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、リン青銅等の金属板バネ材料を用い、自由端側を現像ローラ１３の表面に１０Ｎ／ｍ〜４０Ｎ／ｍの押圧力で当接させたもので、その押圧下を通過したトナーを薄層化するとともに摩擦帯電によって電荷を付与する。また、規制部材１５には摩擦帯電を補助するために、現像バイアスに対してトナーの帯電極性と同方向にオフセットさせた値の規制バイアスが印加される。
【００３７】
〔プロセスカートリッジ〕
本実施形態のプロセスカートリッジは、像担持体と、該像担持体上にトナーで静電潜像を現像して可視像を形成する現像手段を少なくとも有し、画像形成装置本体に着脱可能であるプロセスカートリッジにおいて、前記現像手段が、本実施形態の現像装置である。
【００３８】
図３に、本実施形態のプロセスカートリッジの断面図を示す。
図３に示すように、プロセスカートリッジは、像担持体１１を内蔵し、帯電手段２２、現像手段（現像装置）１２、転写手段２８、クリーニング手段２７を含み、更に必要に応じてその他の手段を有してなる。
【００３９】
図３に示すプロセスカートリッジによる画像形成プロセスについて示すと、像担持体１１は、矢印方向に回転しながら、帯電手段２２による帯電、露光手段（不図示）による露光２３により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成される。この静電潜像は、現像手段１２で現像され、得られた可視像は転写手段２８により、記録媒体２５に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の像担持体表面は、クリーニング手段２７によりクリーニングされ、更に除電手段（不図示）により除電されて、再び、以上の操作を繰り返すものである。
【００４０】
像担持体１１としては、その材質、形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ドラム状、シート状、エンドレスベルト状などが挙げられる。前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記画像形成装置の大きさや仕様等に応じて適宜選択することができる。前記材質としては、例えばアモルファスシリコン、セレン、ＣｄＳ、ＺｎＯ等の無機感光体；ポリシラン、フタロポリメチン等の有機感光体（ＯＰＣ）、などが挙げられる。
【００４１】
前記アモルファスシリコン感光体は、例えば、支持体を５０℃〜４００℃に加熱し、該支持体上に真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の成膜法により、ａ−Ｓｉからなる感光層を形成したものである。これらの中でも、プラズマＣＶＤ法が特に好ましく、具体的には、原料ガスを直流、高周波又はマイクロ波グロー放電によって分解し、支持体上にａ−Ｓｉからなる感光層を形成する方法が好適である。
【００４２】
前記有機感光体（ＯＰＣ）は、（１）光吸収波長域の広さ、光吸収量の大きさ等の光学特性、（２）高感度、安定な帯電特性等の電気的特性、（３）材料の選択範囲の広さ、（４）製造の容易さ、（５）低コスト、（６）無毒性、等の理由から一般に広く応用されている。このような有機感光体の層構成としては、単層構造と、積層構造とに大別される。
前記単層構造の像担持体は、支持体と、該支持体上に単層型感光層を設けてなり、更に必要に応じて、保護層、中間層、その他の層を有してなる。
前記積層構造の像担持体は、支持体と、該支持体上に電荷発生層、及び電荷輸送層を少なくともこの順に有する積層型感光層を設けてなり、更に必要に応じて、保護層、中間層、その他の層を有してなる。
【００４３】
帯電手段２２としては、像担持体１１の表面に電圧を印加して一様に帯電させることができるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、（１）像担持体と接触して帯電させる接触方式の帯電手段と、（２）像担持体と非接触で帯電させる非接触方式の帯電手段とに大別される。
前記（１）の接触方式の帯電手段としては、例えば導電性又は半導電性の帯電ローラ、磁気ブラシ、ファーブラシ、フィルム、ゴムブレードなどが挙げられる。これらの中でも、前記帯電ローラは、コロナ放電に比べてオゾンの発生量を大幅に低減することが可能であり、像担持体の繰り返し使用時における安定性に優れ、画質劣化防止に有効である。
前記（２）の非接触の帯電手段としては、例えばコロナ放電を利用した非接触帯電器や針電極デバイス、固体放電素子；像担持体に対して微小な間隙をもって配設された導電性又は半導電性の帯電ローラなどが挙げられる。
【００４４】
図３において２３で示した露光は、例えば、前記露光手段を用いて像担持体１１の表面を像様に露光することにより行うことができる。
露光を行う光学系は、アナログ光学系とデジタル光学系とに大別される。前記アナログ光学系は、原稿を光学系により直接像担持体上に投影する光学系であり、前記デジタル光学系は、画像情報が電気信号として与えられ、これを光信号に変換して像担持体を露光し作像する光学系である。
前記露光手段としては、帯電手段２２により帯電された像担持体１１の表面に、形成すべき像様に露光を行うことができる限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、複写光学系、ロッドレンズアレイ系、レーザ光学系、液晶シャッタ光学系、ＬＥＤ光学系、などの各種露光器が挙げられる。
【００４５】
転写手段２８は、像担持体１１上に形成された可視像を前記記録媒体側へ剥離帯電させる転写器を少なくとも有するのが好ましい。転写手段２８は、１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。
なお、前記記録媒体としては、特に制限はなく、公知の記録媒体（記録紙）の中から適宜選択することができる。
【００４６】
クリーニング手段２７としては、特に制限はなく、像担持体１１上に残留する前記トナーを除去することができればよく、公知のクリーナの中から適宜選択することができ、例えば、磁気ブラシクリーナ、静電ブラシクリーナ、磁気ローラクリーナ、ブレードクリーナ、ブラシクリーナ、ウエブクリーナ等が好適に挙げられる。
【００４７】
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００４８】
＜実施例１＞
日本ゼオン社製エピクロロヒドリンゴムHydrin  T3106を、ＳＵＳ製の直径６ｍｍの金属シャフト外周に３ｍｍの厚みになるように押出成型した。その後、１５０℃の環境で９０分間保管して加硫した後、表面を水口製作所社製研磨機LEO600-F4L-BMEで粗研磨した。その後、水口製作所社製ＳＺＣにて仕上げ研磨を行い、加硫ゴム層が形成された現像ローラ用基材を得た。
【００４９】
次に、現像ローラ用基材に対し、３００ｍｍ×５００μｍのスリットを１００Ｎ／ｍの線圧で圧接させた状態でＡｒプラズマを１０秒間照射した。その後、通常雰囲気下でスリットの圧接（加圧）を解除することで表面に凹凸構造を形成した。
【００５０】
次に、酢酸ブチル１００重量部に、三井化学ポリウレタン社製イソシアネートD170N  ２．５重量部、ケッチェンブラック社製ケッチェンブラックＥＣ  ０．０３重量部を投入し、シンマルエンタープライゼス社製ターブラミキサにて３０分撹拌してコーティング液を調製した。得られたコーティング液に、表面加工処理を行った現像ローラ用基材を含浸処理し、更に１５０℃で２時間の焼成を行い、現像ローラを得た。
【００５１】
＜実施例２＞
前記スリットを圧接する線圧を１５０Ｎ／ｍとした以外は実施例１と同様にして、実施例２の現像ローラを得た。
【００５２】
＜実施例３＞
前記スリットを圧接する線圧を２００Ｎ／ｍとした以外は実施例１と同様にして、実施例３の現像ローラを得た。
【００５３】
＜実施例４＞
前記Ａｒプラズマの照射時間を２０秒とした以外は実施例１と同様にして、実施例４の現像ローラを得た。
【００５４】
＜実施例５＞
プラズマを窒素プラズマとした以外は実施例１と同様にして、実施例５の現像ローラを得た。
【００５５】
＜比較例１＞
日本ゼオン社製エピクロロヒドリンゴムHydrin  T3106を、ＳＵＳ製の直径６ｍｍの金属シャフト外周に３ｍｍの厚みになるように押出成型した。その後、１５０℃の環境で９０分間保管して加硫した後、表面を水口製作所社製研磨機LEO600-F4L-BMEで粗研磨した。その後、水口製作所社製ＳＺＣにて仕上げ研磨を行い、加硫ゴム層が形成された現像ローラ用基材を得た。
【００５６】
次に、実施例１と同様の形状のフォトマスクを作成し、エキシマレーザ加工装置により現像ローラ用基材にレーザ照射を行い、フォトマスク状の形状パターンを基材表面に形成した。
【００５７】
次に、酢酸ブチル１００重量部に、三井化学ポリウレタン社製イソシアネートD170N  ２．５重量部、ケッチェンブラック社製ケッチェンブラックＥＣ  ０．０３重量部を投入し、シンマルエンタープライゼス社製ターブラミキサにて３０分撹拌してコーティング液を調製した。得られたコーティング液に、表面加工処理を行った現像ローラ用基材を含浸処理し、更に１５０℃で２時間の焼成を行い、比較例１の現像ローラを得た。
【００５８】
＜比較例２＞
日本ゼオン社製エピクロロヒドリンゴムHydrin  T3106を、ＳＵＳ製の直径６ｍｍの金属シャフト外周に３ｍｍの厚みになるように押出成型した。その後、１５０℃の環境で９０分間保管して加硫した後、表面を水口製作所社製研磨機LEO600-F4L-BMEで粗研磨した。その後、水口製作所社製ＳＺＣにて仕上げ研磨を行い、加硫ゴム層が形成された現像ローラ用基材を得た。
【００５９】
次に、酢酸ブチル１００重量部に、三井化学ポリウレタン社製イソシアネートD170N  ２．５重量部、ケッチェンブラック社製ケッチェンブラックＥＣ  ０．０３重量部、日本触媒社製アクリルフィラーMA1010  ２重量部を投入し、ロールミルで１２０ｒｐｍにて６０分撹拌してコーティング液を調製した。得られたコーティング液を、スプレーコート装置により約１０μｍの膜厚にコーティングし、１５０℃で２時間の焼成を行い、比較例２の現像ローラを得た。
【００６０】
得られた実施例１〜４、及び比較例１〜２の現像ローラを、リコー社製ＩＰＳＩＯ−Ｃ３１０にセットし、以下の評価手順によりトナー固着、地汚れ、及びハーフトーンムラの有無を確認した。
評価手順及び評価結果を以下に示す。
【００６１】
＜評価手順＞
（１）トナー固着
温度３０℃、湿度８０％の環境で、白紙耐久１枚間欠モードにて５０００枚ランニングし、ハーフトーン画像における縦白スジの本数を確認した。
確認された白スジの本数により評価を行い、０本を「○」、１本を「△」、２本以上を「×」とした。結果を表１に示す。
【００６２】
（２）地汚れ
温度３０℃、湿度８０％の環境で、白紙耐久１枚間欠モードにて５０００枚ランニングし、白紙画像を出力しているときの感光体（像担持体）上のトナー量を、サカタインクスエンジニアリング社製のＸ−Ｌｉｔｅ用いて測定した。
測定されたＬ＊の値により評価を行い、９０．０以上を「○」、８８．０〜８９．９を「△」、８７．９以下を「×」とした。結果を表１に示す。
【００６３】
（３）ハーフトーンムラ
温度１０℃、湿度１５％の環境で、白紙耐久１枚間欠モードにて５０００枚ランニングし、ハーフトーン画像における濃度ムラを観察した。
官能評価により、濃度ムラが無ないレベルを「○」、濃度ムラはあるものの問題のないレベルを「△」、濃度ムラにより問題があるレベルを「×」とした。結果を表１に示す。
【００６４】
【表１】
2014134652.tif 000003
【００６５】
表１の結果のとおり、本実施形態の現像ローラを備えた現像装置、プロセスカートリッジを用いて画像形成を行うことにより、トナー固着、地汚れ、及びハーフトーンムラの無い良好な画像が得られることがわかる。
【符号の説明】
【００６６】
１１    像担持体（感光体）
１２    現像装置（現像手段）
１３    現像ローラ
１４    供給ローラ
１５    規制部材
【先行技術文献】
【特許文献】
【００６７】
【特許文献１】特開２０１１−１２３３５７号公報
【図１】
2014134652.tif 000004
【図２】
2014134652.tif 000005
【図３】
2014134652.tif 000006