(57)【要約】【課題】被描画領域が帯電している場合でも、帯電の影響を除去することが可能で、かつ、加湿の持続性を向上させる。【解決手段】インクジェットノズル２と対峙する被描画領域の湿度を局部的に高めて、被描画領域の静電気を除去する加湿ユニット９を備える。加湿ユニット９は、水Ｗを貯留するタンク１０と、タンク１０に隣接配置された蒸発室１１と、タンク１０の水Ｗを蒸発室１１へ供給する加湿シート１４とを含み、蒸発室１１の壁部１１ｂの側面部１１ｃには、被描画領域に湿度の高い空気を放出するための第１の開口部１１ａを設けた。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液状物質を吐出して、被描画領域に描画を行なう静電吸引型のインクジェットノズルと、
前記インクジェットノズルと対峙する前記被描画領域の湿度を局部的に高めて、前記被描画領域の静電気を除去する加湿ユニットとを備え、
前記加湿ユニットは、
水を貯留するタンクと、
前記タンクに隣接配置された蒸発室と、
前記タンク内の水を前記蒸発室へ供給する水供給手段とを含み、
前記蒸発室の壁には、前記被描画領域に湿度の高い空気を放出するための第１の開口部が形成されている、描画装置。
【請求項２】
前記水供給手段は、吸水性および放湿性を有する加湿シートを有し、
前記加湿シートの一端部は前記タンク内の水に浸漬され、その他端部は前記蒸発室内に配置されている、請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
隔壁で仕切られた第１および第２の部屋を有する筺体と、
前記筺体の第２の開口部を閉じる蓋部材とを備え、
前記第１および第２の部屋は、それぞれ前記タンクおよび前記蒸発室として使用され、
前記加湿シートは前記隔壁を跨ぐように配置されている、請求項２に記載の描画装置。
【請求項４】
前記加湿シートの他端部は、前記第１の開口部を介して前記蒸発室外に突出している、請求項２または請求項３に記載の描画装置。
【請求項５】
前記蒸発室は、前記インクジェットノズルと前記タンクとの間に配置されている、請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項６】
前記第１の開口部は、前記蒸発室の底面部近傍の側面部もしくは底面部のうち少なくともいずれか一方に形成されている、請求項１から請求項５のうちいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項７】
さらに、所定量の空気を前記蒸発室へ供給して、前記蒸発室に滞留している湿度の高い空気を前記第１の開口部から外部に送り出す空気供給手段を備える、請求項１から請求項６のうちいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項８】
前記空気供給手段から前記蒸発室に供給される空気供給量は、前記ノズルと対峙する前記被描画領域の表面側の湿度が前記空気供給量の増加に伴って上昇する範囲内で設定される、請求項７に記載の描画装置。
【請求項９】
さらに、前記インクジェットノズルの先端部が挿入され、側面に第３の開口部が形成された筒体を備え、
前記第１および第３の開口部の位置が一致するように前記蒸発室と前記筒体は互いに固定されている、請求項１から請求項８のうちいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項１０】
前記蒸発室と前記筒体は一体に形成されている、請求項９に記載の描画装置。
【請求項１１】
静電吸引型のインクジェットノズルから液状物質を吐出して、被描画領域に描画を行なう描画装置において、前記インクジェットノズルと対峙する前記被描画領域の湿度を局部的に高めて、前記被描画領域の静電気を除去する加湿ユニットであって、
水を貯留するタンクと、
前記タンクに隣接配置された蒸発室と、
前記タンクの水を前記蒸発室へ供給する水供給手段とを含み、
前記蒸発室の壁には、前記被描画領域に湿度の高い空気を放出するための開口部が設けられている、加湿ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画装置およびそれに用いられる加湿ユニットに関し、特に、基板の表面にパターンを形成、あるいは、形成されたパターンの欠陥部を修正するために描画する描画装置と、それに用いられる加湿ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、インクジェット装置を用いて、被描画領域としての基板の表面にパターンを描画する方法は、他の描画方法に比べてインクの利用効率が高く、作業工程を簡素化できるので、最近では様々な分野で利用されている。
【０００３】
このようなインクジェット装置には、圧電型、加熱型、静電吸引型などがある。静電吸引型のインクジェット装置は、より微細なパターンを描画できる。
【０００４】
このため、従来から種々の装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
また、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの分野では、近年における画面の大型化、高精細化に伴い、ガラス基板上に形成された配線（電極）や液晶カラーフィルタなどに欠陥が存在する確率が高くなっている。
【０００５】
したがって、歩留まりの向上を図るためにインクジェット装置を、このような大型の基板の描画に用いたパターン修正方法が多数提案されている。
【０００６】
たとえば、液晶ディスプレイのガラス基板の表面には微細な配線が形成されている。その配線に断線箇所（オープン欠陥部）が存在する場合には、インクジェットノズルから断線箇所に導電性インク（修正液）を吐出して断線箇所を修正する（たとえば特許文献２，特許文献３参照）。
【０００７】
この際、静電吸引型のインクジェット装置から吐出されたインクは帯電している。よって、基板表面が静電気を帯びている場合は、基板とインクとが反発してインクが発散（飛散）し、修正部の周りに飛散物が多く発生する。
【０００８】
また、インクジェット装置および基板を恒温槽に収容し、恒温室内を高湿度雰囲気に維持して基板表面に溜まった電荷を放電させる方法がある（たとえば特許文献４参照）。
【０００９】
さらに、加湿用の水を吸収させた水吸収部材（加湿シート）を修正部およびその近傍に配置して局部的に湿度を高める加湿ユニットを設けるものも知られている（たとえば特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平２−２２５０５２号公報
【特許文献２】特開平１１−２３３００９号公報
【特許文献３】特許第４２４８８４０号公報
【特許文献４】特許第４３７２１０１号公報
【特許文献５】特開２０１２−１０９４４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
最近のフラットパネルディスプレイの製造工程では、３ｍ×３ｍを超える大きさの基板が存在し、そのような大型の基板全体を恒温槽内に入れることは装置の大型化を招く。
【００１２】
また、パターン修正装置全体を恒温槽内に収容して高湿度雰囲気中に置くと、精密機器である位置決めステージなど、実装される他のユニットに悪影響が発生することも懸念されるとともに、恒温槽の制御も煩雑になるといった問題もあった。
【００１３】
さらに、水を吸い込ませた水吸収部材を静電インクジェットのノズル近傍に配置する構造では、時間の経過とともに水吸収材が乾燥してしまう。
【００１４】
このため、長時間の加湿安定を得るのは難しく、また、加湿能力が不十分となる場合も想定される。
【００１５】
この発明の目的は、被描画領域が帯電している場合でも、帯電の影響を除去することが可能で、かつ、加湿の持続性を向上させることができる描画装置および加湿ユニットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
この発明の描画装置は、液状物質を吐出して、被描画領域に描画を行なう静電吸引型のインクジェットノズルと、インクジェットノズルと対峙する被描画領域の湿度を局部的に高めて、被描画領域の静電気を除去する加湿ユニットとを備える。
【００１７】
加湿ユニットは、水を貯留するタンクと、タンクに隣接配置された蒸発室と、タンクの水を蒸発室へ供給する水供給手段とを含み、蒸発室の壁には、被描画領域に湿度の高い空気を放出するための第１の開口部が形成されている。
【００１８】
さらに好ましくは、水供給手段は、吸水性および放湿性を有する加湿シートを有し、加湿シートの一端部はタンク内の水に浸漬され、その他端部は蒸発室内に配置されている、加湿シートである。
【００１９】
さらに好ましくは、隔壁で仕切られた第１および第２の部屋を有する筺体と、筺体の第２の開口部を閉じる蓋部材とを備え、第１および第２の部屋は、それぞれタンクおよび蒸発室として使用され、加湿シートは隔壁を跨ぐように配置されている。
【００２０】
さらに好ましくは、加湿シートの他端部は、開口部を介して蒸発室外に突出している。
さらに好ましくは、蒸発室は、インクジェットノズルとタンクとの間に配置されている。
【００２１】
さらに好ましくは、第１の開口部は、蒸発室の底面部近傍の側面部もしくは底面部のうち少なくともいずれか一方に形成されている。
【００２２】
さらに好ましくは、所定量の空気を蒸発室へ供給して、蒸発室に滞留している湿度の高い空気を第１の開口部から外部に送り出す空気供給手段を備える。
【００２３】
さらに好ましくは、空気供給手段から蒸発室に供給される空気供給量は、ノズルと対峙する被描画領域の表面側の湿度が空気供給量の増加に伴って上昇する範囲内で設定される。
【００２４】
さらに好ましくは、インクジェットノズルの先端部が挿入され、側面に第３の開口部が形成された筒体を備え、第１および第３の開口部の位置が一致するように蒸発室と筒体は互いに固定されている。
【００２５】
さらに好ましくは、蒸発室と筒体とは一体に形成されている。
この発明は、他の局面では、静電吸引型のインクジェットノズルから液状物質を吐出して、被描画領域に描画を行なう描画装置において、インクジェットノズルと対峙する被描画領域の湿度を局部的に高めて、被描画領域の静電気を除去する加湿ユニットである。
【００２６】
加湿ユニットは、水を貯留するタンクと、タンクに隣接配置された蒸発室と、タンクの水を蒸発室へ供給する水供給手段とを含み、蒸発室の壁には、被描画領域に湿度の高い空気を放出するための開口部を設けている。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、水供給手段が蒸発室の内部の空気を加湿する際、加湿ユニットのタンクに貯留された水が用いられる。
【００２８】
このため、蒸発室の内部の空間から、開口部を介して被描画領域に向けて、湿度の高い空気が継続的に放出される。
【００２９】
よって、被描画領域の加湿状態が持続されて、帯電の影響を長時間に渡り除去し続けることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本願発明の描画装置の全体の構成を示す斜視図である。
【図２】本願発明の描画装置で、対物レンズ切換器（ＸＹステージ）の要部の構成を示す拡大斜視図である。
【図３】本願発明の基礎となる静電吸引型の描画装置の要部の構成を示す模式的な断面図である。
【図４】本願発明の基礎となる静電吸引型の描画装置で、Ｚステージを設けた構成を示す模式的な断面図である。
【図５】実施の形態１の描画装置で、基礎となる部分を一部省略して、加湿ユニットを設けた様子を説明する模式的な断面図である。
【図６】実施の形態１で、図５のＶＩ−ＶＩ線に沿った位置での断面図である。
【図７】実施の形態１の変形例で、図６に示す位置での断面図である。
【図８】実施の形態２の描画装置で、加湿ユニットを設けた様子を説明する模式的な断面図である。
【図９】実施の形態２で、図８のＩＸ−ＩＸ線に沿った位置での断面図である。
【図１０】実施の形態２の変形例で、図９に示す位置での断面図である。
【図１１】実施の形態３の描画装置で、加湿ユニットを設けた様子を説明する模式的な断面図である。
【図１２】実施の形態４の描画装置で、加湿ユニットに空気供給手段を設けた様子を説明する模式的な断面図である。
【図１３】加湿ユニットで被描画領域に、蒸発室から供給される空気供給量と基板表面湿度との関係を示すグラフである。
【図１４】実施の形態５の描画装置で、基礎となる部分を一部省略して、加湿ユニットを設けた様子を説明する模式的な断面図である。
【図１５】実施の形態６の描画装置で、加湿ユニットを固設した様子を説明する模式的な断面図である。
【図１６】実施の形態７の描画装置で、加湿ユニットを一体化した様子を説明する模式的な断面図である。
【図１７】実施の形態８の描画装置で、一体化された加湿ユニットに空気供給手段が接続された様子を説明する模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の部品には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明は繰返さない。
【００３２】
[描画装置の構成]
図１から図１７は、本発明の実施の形態の描画装置および加湿ユニットを示している。このうち、図１から図４は、描画装置１００の基本構成を説明し、図５から図１７は、各実施の形態１から実施の形態８および変形例の加湿ユニットが設けられた描画装置１００を示している。
【００３３】
図１は、描画装置１００の全体構成を示す斜視図である。
図１において、この実施の形態の描画装置１００は、静電吸引型のインクジェット塗布機構１を構成するインクジェットノズル２と、パルス電圧発生装置３と、被描画物としての基板４を載置するＸＹステージ５と、描画装置１００の全体を制御する制御装置７などを備える。
【００３４】
インクジェットノズル２は、ガラス管を引き伸ばして先端径を微小となるように形成されたものである。
【００３５】
インクジェットノズル２の内部には液状物質（液体）が注入され、パルス電圧発生装置３から出力されるパルス電圧ＶＰが液状物質に印加されるように構成されている。
【００３６】
基板４は、ＸＹステージ５の上に水平に固定される。
そして、ＸＹステージ５を駆動させることによって、インクジェットノズル２の下方に基板４を、位置決め可能としている。
【００３７】
この実施の形態の描画装置１００では、定盤３１の中央部にチャック３２が設けられている。
【００３８】
このチャック３２には被描画領域を表面（上面）に向けて載置された基板４が固定される。
【００３９】
また、定盤３１には、ガントリ型のＸＹステージ５が搭載されている。
ＸＹステージ５は、Ｘ軸ステージ５ａと門型のＹ軸ステージ５ｂとを含む。Ｙ軸ステージ５ｂは、チャック３２を跨ぐように設けられ、図中のＹ軸方向に沿って移動する。
【００４０】
Ｘ軸ステージ５ａは、Ｙ軸ステージ５ｂに搭載され、図中のＸ方向に沿って移動する。
Ｘ軸ステージ５ａには、上下方向に移動可能なＺ軸ステージ６が搭載されている。
【００４１】
Ｚ軸ステージ６には、たとえば、観察光学系３５、対物レンズ切換器３６、対物レンズ３７、レーザ照射装置３８などのユニットが、実装されている。
【００４２】
対物レンズ切換器３６は、ＸＹ方向に移動可能なステージ構造のため、対物レンズ３７を水平方向に移動して対物レンズの倍率切り換えが可能となるように構成されている。
【００４３】
この対物レンズ切換器３６には、インクジェットノズル２、局部加湿ユニット９（あるいは局部加湿ユニット２９など）が搭載される。
【００４４】
そして、制御装置７により、Ｘ軸ステージ５ａ、Ｙ軸ステージ５ｂ、およびＺ軸ステージ６の駆動が制御されて、観察光学系３５、レーザ照射装置３８、インクジェットノズル２の各々が基板４の表面に設定される所望の被描画領域の上方に相対移動され、描画や修正などを行なうことが可能である。
【００４５】
なお、インクジェットノズル２で描画を行なう状態を斜めから観察する観察カメラ３５ｂが対物レンズ切換器３６に装着されていてもよい。
【００４６】
図２は、対物レンズ切換器（ＸＹステージ）３６の拡大斜視図である。
対物レンズ切換器３６は、水平方向（ＸＹ方向）に移動可能な可動板４０を含む。
【００４７】
可動板４０の下面には、互いに倍率の異なる複数の対物レンズ３７が搭載されている。可動板４０には、各対物レンズ３７に対応して、複数の貫通孔４０ａが開口されている。
【００４８】
各対物レンズ３７の光軸は、これらの各貫通孔４０ａの中心を垂直に貫通するように構成されている。
【００４９】
観察光学系３５には、ＣＣＤカメラ３５ａおよびハーフミラーなどが備えられていて、被描画領域を図示省略のモニタ装置などにより観察できるように構成されている。
【００５０】
そして、制御装置７によって対物レンズ切換器３６を駆動制御して、特定の倍率の対物レンズ３７の光軸を観察光学系３５の光軸に一致させる。これにより、所望の倍率で基板４の表面を観察することができる。
【００５１】
可動板４０の下面には、複数の対物レンズ３７とともに捨て打ちユニット４１が固定されている。
【００５２】
この捨て打ちユニット４１には、インクジェットノズル２を保持する保持部８、および局部加湿ユニット９（あるいは局部加湿ユニット２９など）が装着されている。
【００５３】
捨て打ちユニット４１は、インクジェットノズル２内の液状物質１２を捨て打ちする際に用いられるものである。
【００５４】
描画前に行なわれる捨て打ちが捨て打ちユニット４１の捨て打ち板４１ａの上に行なわれることにより、インクジェットノズル２の先端は、リフレッシュされて液状物質１２の円滑な流れを回復させることができる。
【００５５】
捨て打ち終了後、捨て打ち板４１ａを横方向に退避させるとともに、インクジェットノズル２を下降させる。
【００５６】
そして、インクジェットノズル２と基板４との距離を一定に保った状態で、被描画領域に描画を開始することができる。
【００５７】
また、制御装置７によりＺ軸ステージ６を駆動制御することにより、対物レンズ切換器３６に設けられたインクジェットノズル２を基板４の描画開始点上方に移動させることができる。
【００５８】
すなわち、対物レンズ３７で基板４の表面を観察している位置から近い位置にインクジェットノズル２を移動させれば、観察位置にインクジェットノズル２を移動させる時間が短縮される。
【００５９】
さらに、対物レンズ切換器３６と基板４との距離を測定する距離センサ（高さセンサ）４２が対物レンズ切換器３６に搭載されていてもよい。
【００６０】
通常、観察光学系３５で観察している画像が焦点（フォーカス）位置にあるＺ軸ステージ６の位置を基準として、インクジェットノズル２の固定位置が決められる。
【００６１】
しかしながら、この状態（フォーカス状態）で捨て打ち板の退避およびインクジェットノズル２を下降させた際に、インクジェットノズル２と基板４との隙間が一定値にならない場合がある。
【００６２】
たとえば、基板４が大型化するのに伴って、基板４を水平に維持するのが難しくなり、その表面の平坦度は悪くなる。
【００６３】
このため、インクジェットノズル２が下降した場合、インクジェットノズル２の先端が基板４に接触する可能性がある。
【００６４】
また、互いに倍率が異なる複数の対物レンズ３７のＺ軸ステージ６の移動方向に沿ったフォーカス位置には差があるため、フォーカス位置を基準にする場合でも描画を開始する際に選択されている対物レンズ３７の倍率によって、インクジェットノズル２の先端から基板４までの距離はわずかに異なる。
【００６５】
このため、インクジェットノズル２の先端と基板４とが接触する可能性がさらに高まる。あるいは、人為的にデフォーカス状態でインクジェットノズル２の下降を行なった場合にも、同様にインクジェットノズル２と基板４とが接触する可能性があって好ましくない。
【００６６】
そこで、基板４とインクジェットノズル２との接触あるいは衝突を回避するため、対物レンズ切換器３６に、基板４までの距離を非接触で測定する距離センサ４２が設けられている。
【００６７】
これにより、インクジェットノズル２の下降を伴う操作が行なわれる前に、距離センサ４２で測定した基板４までの距離に基づいてＺ軸ステージ６を制御し、対物レンズ切換器３６の上下方向の位置を微調整することができる。
【００６８】
[基本的な描画工程]
図３は、本願発明の基礎となる静電吸引型の描画装置の要部の構成を示す模式図である。
【００６９】
図３に示した描画装置１００を用いて、被描画領域を有する基板４の表面に、液状物質１２のパターンを描画する描画工程について説明する。
【００７０】
描画が行なわれる際、インクジェットノズル２の先端２ａと基板４の表面とは、微小な描画距離Ｇを置いて対峙する。
【００７１】
この状態で、パルス電圧発生装置３からインクジェットノズル２に注入されている液状物質１２にパルス電圧ＶＰを印加すると、インクジェットノズル２の先端２ａから基板４に向かって円錐状のテーラーコーン１２ａが形成される。
【００７２】
そして、テーラーコーン１２ａの頂部から基板４の表面に達するジェット流（液柱）１２ｂが生じ、液状物質１２の一部が基板４の表面上に移動して液滴１２ｃが形成される。
【００７３】
[Ｚ軸方向への基本的な描画距離の調整]
図４に示した描画装置１００ａは、さらに、制御装置７によって制御されるＺ軸ステージ６を備える。
【００７４】
この描画装置１００ａでは、インクジェットノズル２がＺ軸ステージ６に固定される。
Ｚ軸ステージ６が制御装置７によってＺ軸方向に沿って駆動制御されることで、インクジェットノズル２がＺ軸方向に移動されて、インクジェットノズル２の先端２ａと基板４の表面との間隔を所望の描画距離Ｇに設定することができる。
【００７５】
このように、Ｚ軸ステージ６が駆動されることで、インクジェットノズル２の先端２ａと基板４との間隔がパターニング可能な描画距離Ｇに調整される。
【００７６】
たとえば、インクジェットノズル２の先端２ａと基板４の表面との間の描画距離Ｇが描画に最適な数十μｍなどに設定される。
【００７７】
この状態でパルス電圧発生装置３から液状物質１２にパルス電圧ＶＰが印加されながら、ＸＹステージ５が制御装置７によって駆動制御される。
【００７８】
そして、インクジェットノズル２と基板４とを水平方向に相対移動させることにより、任意形状のパターン１２ｄが基板４の表面に描画される。
【００７９】
ここでは、基板４を搭載したＸＹステージ５を駆動して相対移動させているが、インクジェットノズル２をＸＹ方向に移動させる形態であっても良い。
【００８０】
描画が終了すると、Ｚ軸ステージ６によって、基板４から上方に大きく離れた待機位置にインクジェットノズル２が上昇移動される。
【００８１】
このように、対物レンズ切換器３６に、基板４までの距離を非接触で測定する距離センサ４２が設けられて、インクジェットノズル２の下降を伴う操作を行なう前に、距離センサ４２で測定した基板４までの距離に基づいてＺ軸ステージ６が制御されて、対物レンズ切換器３６の上下方向の位置が微調整される。
【００８２】
よって、描画装置１００ａでは、描画装置１００の作用効果に加えてさらに、内に精密機器、たとえば距離センサ４２、対物レンズ３７、対物レンズ切換器３６などがあっても、描画の際に湿度の高い空気で加湿する領域は、被描画領域内の微小範囲に限定されるため、精密機器への影響を最小限に留めることが可能となる。
【００８３】
以下、説明の簡略化のため、描画装置１００および描画装置１００ａを、まとめて描画装置１００と記載する。
【００８４】
描画装置１００は任意のパターンを描画する以外にも、たとえば、配線等の欠損部に導電性インクを描画により塗布し、その後、塗布した導電性インクが焼成されることで欠損部が修正されるなどの用途でも使用可能である。
【００８５】
[静電吸引型のインクジェット塗布機構の問題点]
描画装置１００などを低湿度、たとえば湿度５０％以下のクリーンルームなどに設置して使用する場合、被描画領域を有する基板４の表面に静電気が発生し易い環境となる。
【００８６】
このため、静電吸引型のインクジェットノズル２を用いて表面抵抗が高くて静電気を帯び易い絶縁性の高い材質（たとえば、ガラスや樹脂）からなる絶縁基板などの基板４に液状物質１２を吐出する場合には、静電気の影響で良好な描画パターンを得るのが困難であった。
【００８７】
たとえば、静電吸引型のインクジェットノズル２から基板４の表面に液状物質１２を吐出すると、基板４の表面に溜まった静電気によってジェット流２ｂの直進が妨げられてインクジェットノズル２の直下に液滴２ｃが形成されず、塗布位置がずれる。
【００８８】
あるいは、基板４の表面に溜まった静電気によってジェット流２ｂの直進が妨げられてジェット流２ｂがスプレー状に発散されて、基板４の表面が汚染される。
【００８９】
本願発明は、これらの静電気によって発生する問題点を解決するものである。
[実施の形態１]
図５から図７は、この発明の実施の形態１の描画装置および加湿ユニットを示す。
【００９０】
図５は、このうち、発明の実施の形態１による描画装置１００および局部加湿ユニット９の基本構成を示す。
【００９１】
ここでは、図面および説明の簡略化のため、前述した基礎となるパルス電圧発生装置３、制御装置７、Ｚ軸ステージ６などの同じ機能となる部分の説明は繰返さない。
【００９２】
静電吸引型のインクジェットノズル２は、保持部８に支持され、図示しないＺ軸ステージによりインクジェットノズル２と基板４との隙間が調整される。
【００９３】
また、インクジェットノズル２と基板４とを一定の隙間を保った状態で、インクジェットノズル２と基板４とをＸＹ方向に相対移動する図示しないＸＹステージが備えられている。
【００９４】
そして、インクジェットノズル２の近傍には、局部加湿ユニット９が備えられている。
この局部加湿ユニット９は、インクジェットノズル２の先端２ａと対峙する基板４の表面湿度を局部的に高めて、基板４の表面の静電気を局部的に除去するものである。
【００９５】
局部加湿ユニット９は、上面部を開放する有底ボックス形状を呈する筺体９ａの内部に、水を注入する第１の部屋としてのタンク１０と、湿度の高い空気を生成する第２の部屋としての蒸発室１１とを有している。
【００９６】
タンク１０と蒸発室１１とは、筺体９ａの内部に隣接配置された状態で収容され一体に形成される隔壁１３によって、各室が区画されている。
【００９７】
また、蒸発室１１は、インクジェットノズル２とタンク１０との間に配置されることにより、上面視で、タンク１０、蒸発室１１、インクジェットノズル２がほぼ一列に配列される。
【００９８】
そして、蒸発室１１がタンク１０よりもインクジェットノズル２に近接する側に配置される。
【００９９】
また、蒸発室１１の底面部１１ｄ近傍の側面部１１ｃには、第１の開口部１１ａが形成されている。第１の開口部１１ａは、インクジェットノズル２および被描画領域に向けて開口されている。
【０１００】
これにより、タンク１０内から供給された水によって、蒸発室１１内で生成された湿度の高い空気が第１の開口部１１ａから、一列に配列されたインクジェットノズル２の先端に対峙する被描画領域へ到達するまで、障害物の少ない円滑な道程とすることができる。
【０１０１】
[水供給手段の構成]
蒸発室１１とタンク１０との間には、隔壁１３の上縁１３ａに跨がるように、水供給手段としての加湿シート（水吸収シート）１４が配置される。
【０１０２】
加湿シート１４としては、主に吸水、放湿性に優れた材質であるポリエステル繊維などの材料が用いられて構成されている。
【０１０３】
加湿シート１４の一端部１４ａは、タンク１０に注入されて貯留されている水Ｗに含浸され、加湿シート１４の他端部１４ｂは、蒸発室１１の内部に位置するように配置される。
【０１０４】
そして、一端部１４ａと他端部１４ｂとの間で山型に屈曲された頂点部分１４ｃが隔壁１３の上縁１３ａに跨がるように掛止められて配置される。
【０１０５】
これにより、一端部１４ａがタンク１０の内部に垂下がり、タンク１０に貯留された水の中に常時、含浸される。
【０１０６】
加湿シート１４の一端部１４ａを、底面部１１ｄの近傍もしくは底面部１１ｄに接触する位置まで延設させることにより、タンク１０の内部に貯留された水Ｗを、すべて使用しきるまで、蒸発室１１の方向へ加湿シート１４は、水Ｗを吸い上げて供給し続けることができる。
【０１０７】
このため、タンク１０内で、水Ｗの水位が低下しても、継続的かつ効率的に蒸発室１１の方向へ、水Ｗが供給される。
【０１０８】
さらに、一端部１４ａの反対側に位置する他端部１４ｂが頂点部分１４ｃから、蒸発室１１の内部の空間で対角線上に斜めに垂下がり、ほぼ底面部に近接する位置まで達して保持されている。
【０１０９】
このため、蒸発室１１の空間スペースが限られていても、水Ｗを蒸発させる表面積を充分に確保できる。
【０１１０】
また、使用状態で、インクジェットノズル２に近接配置される蒸発室１１の壁部１１ｂには、インクジェットノズル２と蒸発室１１とが対向する面に、第１の開口部１１ａが形成されている。
【０１１１】
この実施の形態１では、第１の開口部１１ａが蒸発室１１の壁部１１ｂのうち、底面部１１ｄに近接した側面部１１ｃに、内部空間と外部空間とを連通されている。
【０１１２】
また、湿度の高い空気は比重が重いため、第１の開口部１１ａは、蒸発室１１の底面部１１ｄに近い側面部１１ｃや底面部１１ｄのうち少なくともいずれか一方、あるいは側面部１１ｃから底面部１１ｄに渡り、二面に跨がるように形成されていてもよい。
【０１１３】
これにより、湿度の高い空気は、蒸発室１１内を加湿シート１４に沿って下降して、さらに被描画領域の方向へ円滑に吐出される。
【０１１４】
また、この実施の形態１では、筺体９ａの上部に第２の開口部としてのメンテナンス開口部９ｂが設けられている。メンテナンス開口部９ｂには、タンク１０と蒸発室１１の上面を覆うように、平板状の蓋部材１５が着脱自在に設置されている。
【０１１５】
加湿シート１４の頂点部分１４ｃの厚さ方向寸法は、隔壁１３の上縁１３ａと、蓋部材１５の裏面側１５ａとの間に形成される間隙の寸法と一致するように設定されている。
【０１１６】
そして、蓋部材１５がメンテナンス開口部９ｂの上面を覆うように配置された状態では、加湿シート１４の頂点部分１４ｃが隔壁１３の上縁１３ａと、蓋部材１５の裏面側１５ａとの間に挟持される。
【０１１７】
これにより、加湿シート１４は、固定されて位置ずれしないとともに、タンク１０内の水Ｗは、容易に蒸発室１１の方向へ漏出しないように調整されて、所望の湿度の空気を供給することができる。
【０１１８】
図６は、図５のＶＩ−ＶＩ線に沿った位置での断面図である。
加湿シート１４の頂点部分１４ｃは、隔壁１３の上縁１３ａの長手方向中央の一部に設けられた凹部１３ｂに掛止される。
【０１１９】
これにより、加湿シート１４は、頂点部分１４ｃが凹部１３ｂによって幅方向にも固定されて位置ずれしないとともに、タンク１０内の水Ｗは、凹部１３ｂの通水方向に直交する断面積を容易に調整でき、所望の湿度の空気を供給することができる。
【０１２０】
[加湿ユニットの加湿作用]
次に、この描画装置１００に用いられる局部加湿ユニット９の作用効果について説明する。
【０１２１】
この実施の形態１では、加湿シート１４が蒸発室１１の内部の空気を加湿する際、局部加湿ユニット９のタンク１０に貯留された水Ｗが用いられる。
【０１２２】
このため、蒸発室１１の内部の空間から、第１の開口部１１ａを介して、基板４の上面の被描画領域に向けて、湿度の高い空気が継続的に放出される。
【０１２３】
よって、被描画領域の加湿状態が持続されて、帯電の影響を長時間に渡り除去し続けることができる。
【０１２４】
すなわち、局部加湿ユニット９の蒸発室１１には、外部と連通する第１の開口部１１ａが設けられ、第１の開口部１１ａから湿度の高い空気がインクジェットノズル２側に流れ、インクジェットノズル２と対峙する基板４の表面を局部的に加湿する。
【０１２５】
第１の開口部１１ａは、蒸発室１１の底面部１１ｄ近傍の側面部１１ｃの一部に形成されているので、静電気の除去が必要とされる被描画領域のみに向けて湿度の高い空気を放出することができる。
【０１２６】
この加湿により、基板４上に帯電した静電気は、大気中に放電される。よって、インクジェットノズル２から吐出した液状物質１２が静電気の影響を受けずに基板４上に付着可能となる。
【０１２７】
基板４は、Ｚ軸ステージ６により、描画が行なわれている間、インクジェットノズル２と一定の間隔が保たれて対峙するように支持されている。
【０１２８】
このため、局部加湿ユニット９により静電気の除去が必要とされる被描画領域の面積変動を抑制することができる。
【０１２９】
従って、さらに、液状物質１２の基板４上への付着効率を向上させることができる。
また、図６に示すように、加湿シート１４の頂点部分１４ｃは、タンクと蒸発室１１との隔壁１３の上縁１３ａに、加湿シート１４の厚さ分あるいは図６中、二点鎖線で示す加湿シート１４の厚さよりもやや少ない高さ方向寸法で、一部が低く形成された凹部１３ｂへ掛止されている。
【０１３０】
そして、凹部１３ｂの上に配置された加湿シート１４が凹部１３ｂと蓋部材１５の裏面側１５ａ側とで挟持されることで、固定されるとともに、加湿シート１４の内部の通水供給路となる部分以外からタンク１０内の水が蒸発室１１方向に漏れないように、封水性を向上させている。
【０１３１】
この際、図６中仮想線で示すように、厚み方向に弾性変形可能な加湿シート１４を、蓋部材１５の裏面側１５ａとの間に形成される間隙の寸法に比して大きい厚さ方向寸法に設定することもできる。
【０１３２】
この場合、蓋部材１５のメンテナンス開口部９ｂの上面への載置で、上面側から押圧された加湿シート１４が変形して周囲の凹部１３ｂの各内側面に、外側面を圧着させる。これにより、加湿シート１４の周囲の隙間を減少させてさらに、通水供給路以外の部分の封水性を向上させることができる。
【０１３３】
[変形例１]
図７は、局部加湿ユニット２９の変形例１の構成を示している。
【０１３４】
この局部加湿ユニット２９では、加湿シート２４の頂点部分２４ｃが、隔壁２３の平坦な上縁部２３ａを跨いで掛止され、一端部をタンク内の水に含浸して他端部を蒸発室１１の内部に位置させる。
【０１３５】
この上縁部２３ａは、全幅寸法に相当する部分が、加湿シート２４の頂点部分２４ｃの厚さ方向寸法に相当する寸法、一段低く寸法を設定する凹部２３ｃとされている。
【０１３６】
そして、凹部２３ｃを構成する上縁部２３ａと、両側に位置する筺体２９ａの両側縁２４ｄ，２４ｄとで囲まれている水供給路内に、加湿シート２４の頂点部分２４ｃを掛止させる。
【０１３７】
このため、蓋部材１５によって筺体２９ａの上面側のメンテナンス開口部９ｂが閉塞されると、両内側面２９ｂ，２９ｂに当接する位置まで幅方向に、加湿シート２４が弾性変形して、タンク１０と蒸発室１１との間を連通する連通開口を全幅域で塞ぐ。
【０１３８】
また、上縁部２３ａと蓋部材１５の裏面側１５ａとには、厚み方向に圧縮されて、弾性変形した加湿シート２４の下面側と上面側とがそれぞれ圧着されて、水密状態となり、加湿シート２４の内部以外の通水が阻止される。
【０１３９】
このため、実施の形態１の加湿シート１４などに比して幅広状として通水断面積を増大させても、周囲の隙間の増加が抑制される。
【０１４０】
したがって、加湿シート２４の頂点部分１４ｃの通水供給路となる流路断面積を、被描画領域に適合した所望の湿度となるように増大または減少させる等、供給される水の量の調整が容易に行なえ、しかも、封水性を損なうことがない。
【０１４１】
他の構成および作用効果については、実施の形態１の局部加湿ユニット９と同様であるので説明は繰返さない。
【０１４２】
[実施の形態２]
図８は、実施の形態２の描画装置に用いる局部加湿ユニット３９の全体構成を示す断面図、図９は、実施の形態２の描画装置に用いる局部加湿ユニット３９のうち、要部の断面図、図１０は、実施の形態２の変形例２の局部加湿ユニット４９の構成を示す断面図である。
【０１４３】
なお、実施の形態１と同一部分については同一符号を付して説明を繰返さない。
[封水性の更なる向上]
図８に示すように、この実施の形態２の局部加湿ユニット３９では、実施の形態１の局部加湿ユニット９の構成に加えて、さらに、蓋部材１５と加湿シート１４との間に弾性部材（たとえばゴム製の材質で構成された平板状部材など）１６を介在させている。この実施の形態２では、予め蓋部材１５の裏面側に、漏水防止用の弾性部材１６が張設されている。
【０１４４】
図９は、図８中、ＩＸ−ＩＸ線に沿った位置での断面図である。
図９では、筺体９ａの上面部に形成されているメンテナンス開口部９ｂが、裏面側に弾性部材１６が張設された蓋部材１５を配置することにより覆われる。
【０１４５】
この際、加湿シート１４の頂点部分１４ｃが隔壁１３の上縁１３ａに形成された凹部１３ｂの内側面と、蓋部材１５の裏面側１５ａの弾性部材１６との間に挟持されて、凹部１３ｂの各内側面に圧着される。
【０１４６】
よって、凹部１３ｂと加湿シート１４との隙間が減少して、それぞれの密着性がさらに向上する。
【０１４７】
また、弾性部材１６は、隔壁１３の上縁１３ａに圧着されて、隙間からタンク内の水Ｗが蒸発室１１の方向に漏れないように封水性を向上させる。
【０１４８】
さらに、図８に示すように、弾性部材１６は、タンク１０と蓋部材１５との隙間、あるいは蒸発室１１と蓋部材１５との隙間まで敷設されている。
【０１４９】
これにより、タンク１０の水が蒸発室１１に漏れないように、メンテナンス開口部９ｂの周縁に蓋部材１５が密着されて、タンク１０の内部から外部への水の漏れや蒸発が抑制される。
【０１５０】
他の構成および作用効果については、実施の形態１の局部加湿ユニット９と同様であるので説明は繰返さない。
【０１５１】
[変形例２]
図１０は、実施の形態２の他の変形例２で、図９に示す位置での断面図である。
【０１５２】
なお、実施の形態１、実施の形態２および変形例１と同一部分については同一符号を付して説明を繰返さない。
【０１５３】
この変形例２の局部加湿ユニット５９は、図７に示す実施の形態１の変形例１の局部加湿ユニット２９の蓋部材１５の裏面側１５ａの全面に、実施の形態２の弾性部材１６が予め張設されて構成されている。
【０１５４】
このため、実施の形態１、実施の形態２および変形例１の局部加湿ユニット２９の作用効果に加えて、さらに、この実施の形態２の変形例２の局部加湿ユニット５９では、蓋部材１５によって、メンテナンス開口部２９ｂが閉塞される。
【０１５５】
蓋部材１５に予め貼設された弾性部材１６の下面側１６ａが加湿シート２４の頂点部分２４ｃを、幅方向の全域で均等に押圧する。したがって密着性が良好で、さらに封水性を向上させることができる。
【０１５６】
この実施の形態２では、幅方向で、一部の凹部１３ｂもしくは全幅に渡る凹部２３ｃに位置する加湿シート１４もしくは加湿シート２４の形状に適合させて、蓋部材１５の裏面側１５ａに弾性部材１６が予め張設されている。
【０１５７】
しかしながら、特にこれに限らず、筺体２９ａ側のメンテナンス開口部２９ｂの周縁部に弾性部材１６を設けてもよい。あるいは、蓋部材１５の裏面側１５ａと、メンテナンス開口部２９ｂの周縁部との両方にそれぞれ弾性部材を設けてもよい。
【０１５８】
さらに、弾性部材１６も、ゴム製の材質で構成された平板状部材を用いて説明してきたが、特にこれに限らず、たとえば、加湿シート１４または加湿シート２４の頂点部分１４ｃまたは頂点部分２４ｃに当接される部分的に用いられるものであれば、たとえば、封水が必要な部分を囲う環状で、断面丸型、角型など平板形状に限らずリップシール状のものであってもよく、形状、数量および組合せが特に限定されるものではない。
【０１５９】
また、特に蓋部材１５の裏面側１５ａに予め張設されている必要はなく、個別に分解、装着されるように構成されていてもよく、形状や、組合せ、および材質が特に限定されるものではない。
【０１６０】
[実施の形態３]
図１１は、実施の形態３の描画装置で、局部加湿ユニット４９を設けた様子を説明する模式的な断面図である。
【０１６１】
なお、実施の形態１および実施の形態２と同一部分については同一符号を付して説明を繰返さない。
【０１６２】
この実施の形態３の局部加湿ユニット４９では、実施の形態２の局部加湿ユニット３９の加湿シート１４のうち、先端部１４ｅが図１１に示すように第１の開口部１１ａから、外部空間５０へ向けて突設されている。
【０１６３】
このように構成された局部加湿ユニット４９では、実施の形態１および実施の形態２の作用効果に加えてさらに、第１の開口部１１ａから加湿シート１４が外部に露出されている。
【０１６４】
この実施の形態３では、さらに加湿シート１４の先端部１４ｅがインクジェットノズル２の先端に対峙する被描画領域に近接する位置まで、突出されている。
【０１６５】
このため、被描画領域近傍まで、加湿シート１４の先端部１４ｅを近接させて、高い湿度の空気を供給できる。従って、比較的狭い面積で、加湿でき、さらに局部加湿性能を高めることが可能となる。
【０１６６】
他の構成および作用効果については、実施の形態２の局部加湿ユニット３９と同様であるので説明は繰返さない。
【０１６７】
[実施の形態４]
図１２は、実施の形態４の描画装置で、局部加湿ユニット５９を設けた様子を説明する模式的な断面図である。
【０１６８】
なお、実施の形態１から実施の形態３と同一部分については同一符号を付して説明を繰返さない。
【０１６９】
この実施の形態４の局部加湿ユニット５９では、実施の形態２の蒸発室１１の上面に外部空間５０と連通する空気孔１５ｂが形成されている。
【０１７０】
この空気孔１５ｂは、蓋部材１５と弾性部材１６とを貫通して穿設されていて、ジョイント部材１７が一端部側を埋設させて装着されている。そして、このジョイント部材１７を介して、蒸発室１１に空気を供給する空気供給手段１８が接続されている。
【０１７１】
空気供給手段１８は、所望の一定量の空気を蒸発室１１に流すことで、蒸発室１１の内部空間に滞留した湿度の高い、湿った空気を第１の開口部１１ａからインクジェットノズル２と対峙する基板４の表面側に強制的に流し、基板４の表面湿度をより高める。
【０１７２】
空気供給手段１８は、圧縮空気供給部１９と流量調節部２０（たとえばマスフローコントローラ）を備える。
【０１７３】
そして、この空気供給手段１８に接続される制御装置７からの指令で、放出される空気の供給量が制御される。
【０１７４】
空気供給手段１８は、蒸発室１１への空気供給を常時行っても良い。
また、蒸発室１１内の加湿シート１４の乾燥が必要以上に促進されないように、パターンを描画する直前に蒸発室１１への空気供給を開始し、パターン描画が終了した時点で空気の供給を停止するように構成しても良い。
【０１７５】
なお、パターン描画が終了した時点で空気の供給を停止するように構成すれば、加湿シート１４の乾燥を抑えて、次の基板４等に備えてタンク１０内に水Ｗを残存させることにより加湿可能な時間をさらに延ばすことができる。
【０１７６】
また、空気供給手段１８によって予め描画開始前に蒸発室１１への空気供給を開始すれば、基板４の表面湿度を早く高めることができる。
【０１７７】
このように、空気供給手段１８によって、描画を開始する時点で既に基板４の表面の湿度が高く維持される。これにより、描画の開始から終了まで、安定した描画を行なうことができる。
【０１７８】
なお、図１２では、空気孔１５ｂを蓋部材１５に設けたが、蒸発室１１の側面部１１ｃに空気孔１５ｂを開口形成してもよい。
【０１７９】
[空気供給量と基板表面湿度との関係]
図１３は、蒸発室１１に供給される空気供給量と、基板表面湿度との関係を示すグラフである。
【０１８０】
インクジェットノズル２と対峙する基板４の表面湿度は、図７に示すように、蒸発室１１に供給される空気供給量の増加に伴って途中までは上昇するが、ある空気供給量（Ｐ点参照）を超えると逆に減少する傾向を示す（範囲Ｓを超える部分、参照）。
【０１８１】
空気供給量が多くなり過ぎると、蒸発室１１内の湿度が低下、あるいは、加湿空気が周りに飛散するため、基板４の表面湿度が低下すると推測される。
【０１８２】
また、空気供給量が過多になるとジェット流２ｂの直進性に影響を与える可能性もある。
【０１８３】
このため、空気供給量は基板４の表面湿度が上昇している範囲Ｓ内で適宜、設定するのが望ましい。空気供給量は、局部加湿ユニット５９の大きさや、インクジェットノズル２と局部加湿ユニット５９との距離にもよるが、たとえば、数十ｍｌ（ミリリットル）／分と微量である。
【０１８４】
なお、クリーンルームのように室温が安定している環境で描画を行なう場合には、描画装置１００の本体の温度は室温と同程度であり、加湿によって基板４の表面に結露が発生する確率は極めて低い。
【０１８５】
[実施の形態５]
図１４、実施の形態５の局部加湿ユニット６９の固定構造の一例を示すものである。
【０１８６】
図１４は、図面および説明の簡略化のため、描画装置の基礎となるパルス電圧発生装置３、制御装置７、Ｚ軸ステージ６などの部分が省略されていて、これらの説明は繰返さない。
【０１８７】
実施の形態５では、インクジェットノズル２の保持部８に一体となるように、局部加湿ユニット６９が固定ブラケット部材２１によって、保持部８の側面８ａに固着されている。
【０１８８】
固定ブラケット部材２１は、断面ほぼＬ字状を呈し、保持部８の側面８ａに固着される保持部固定面２１ａと、局部加湿ユニット６９の蓋部材１５の上面部１５ｃに装着されるユニット側装着部２１ｂとが一体に設けられている。
【０１８９】
そして、固定ブラケット部材２１によって局部加湿ユニット６９がインクジェットノズル２の横側に着脱可能な状態で支持される。
【０１９０】
局部加湿ユニット６９は、固定ブラケット部材２１により、保持部８の側面８ａに固着されている。
【０１９１】
このため、蒸発室１１の第１の開口部１１ａと、インクジェットノズル２の先端２ａとの間の間隔寸法が常に一定となる。
【０１９２】
このように、局部加湿ユニット６９は、インクジェットノズル２と一緒に連れまわって動く。このため、インクジェットノズル２をＸＹ方向に移動する場合であっても、常にインクジェットノズル２と局部加湿ユニット６９とは、一定の間隔寸法を保持することができる。
【０１９３】
なお、固定ブラケット部材２１は、保持部８と別体で構成されている。しかしながら、これに限らず、たとえば保持部８から直接、ユニット側装着部２１ｂに相当する部分を延設して一体としてもよい。
【０１９４】
また、蓋部材１５の上面部１５ｃに装着されるユニット側装着部２１ｂに対して、局部加湿ユニット６９が着脱可能に設けられている。しかしながら、これに限らず、上面部１５ｃをユニット側装着部２１ｂに固定して、筺体６９ａのみを装脱着可能としてもよい。
【０１９５】
[実施の形態６]
図１５は、実施の形態６の局部加湿ユニット７９の固定構造の一例を示すものである。
【０１９６】
図１５では、図面および説明の簡略化のため、描画装置の基礎となるパルス電圧発生装置３、制御装置７、Ｚ軸ステージ６などの部分が省略されていて、これらの説明は繰返さない。
【０１９７】
この実施の形態６では、図１４に示した固定ブラケット部材２１に代えて、インクジェットノズル２の先端の周囲を覆う筒体２２が設けられている。
【０１９８】
筒体２２は、保持部８の下面部８ｂに固定されて、上面部２２ｅにインクジェットノズル２を通すノズル孔２２ｂが形成された中空構造を呈している。
【０１９９】
この筒体２２には、下部にインクジェットノズル２の先端２ａを突出させるノズル開口部２２ａが開口形成されていて、内部の中空部分を介して、このノズル開口部２２ａがノズル孔２２ｂと連通されている。
【０２００】
また、筒体２２の側面２２ｃには、第３の開口部としての筒体開口部２２ｄが形成されている。
【０２０１】
そして、局部加湿ユニット７９の蒸発室１１に形成された第１の開口部１１ａの位置と、筒体開口部２２ｄの位置とが一致した状態で互いに固定されて、蒸発室１１と筒体２２の内部とが連通されている。
【０２０２】
すなわち、この筒体２２の側面２２ｃに形成されて局部加湿ユニット７９の第１の開口部１１ａに連通する筒体開口部２２ｄは、局部加湿ユニット７９の第１の開口部１１ａと筒体２２の筒体開口部２２ｄとが一致している状態で、筒体２２の側面２２ｃに局部加湿ユニット７９が固定される。
【０２０３】
この状態で、筒体２２のノズル開口部２２ａの下端面の位置は、インクジェットノズル２の先端２ａの位置よりも上方となるように配置される。
【０２０４】
そして、描画状態では、ノズル開口部２２ａと基板４との距離は１ｍｍ前後に維持される。
【０２０５】
このように構成された実施の形態６の描画装置に用いる局部加湿ユニット７９では、インクジェットノズル２の先端周りが筒体２２で覆われている。
【０２０６】
また、蒸発室１１の第１の開口部１１ａは、筒体２２の筒体開口部２２ｄに連通しているため、生成された湿度の高い空気は、分散してしまうことなく、インクジェットノズル２と対峙する基板４の表面を効率よく加湿することができる。
【０２０７】
[実施の形態７]
図１６は、図１５に示す実施の形態６の筒体２２に相当する筒体ブロック部１２５と加湿ユニットの筺体２５とが一体化された局部加湿ユニット８９を示す。
【０２０８】
局部加湿ユニット８９は、水を注入して貯留するタンク１０と、湿度の高い空気を生成する蒸発室１１１とが隣り合うように配置されて収容される筺体２５を有する。
【０２０９】
また、筒体ブロック部１２５の内部には、上下方向に軸方向を添わせる円筒状の空間部が形成されて、蒸発室１１１と同じ室の内部に設けられた空間となるように構成されている。
【０２１０】
さらに、筒体ブロック部１２５の上面には、インクジェットノズル２を通す孔２５ｂが形成されていて、筒体ブロック部１２５の下面に形成される第１の開口部２５ａに、内部の空間を介して上下方向に連通されている。
【０２１１】
そして、蒸発室１１１の内部の空間に位置するインクジェットノズル２の先端２ａを、第１の開口部２５ａから外部に一部突出させている。
【０２１２】
局部加湿ユニット８９の上面部８９ｂは、保持部８の下面部８ｂに固定される。蓋２６は、タンク２４および蒸発室１１１の上面の一部を、開閉塞可能としている。
【０２１３】
このため、水Ｗの補給や加湿シート１４を交換する場合には、蓋２６を取外してメンテナンス作業を行なう。
【０２１４】
他の構成および作用効果については、実施の形態６の局部加湿ユニット７９と同様であるので説明は繰返さない。
【０２１５】
[実施の形態８]
図１７は、図１６に示す実施の形態７の変形例であって、筒体ブロック部１２５と加湿ユニットの筺体２５とが一体化された局部加湿ユニット９９に、実施の形態４において詳述した空気供給手段１８を適用したものを示している。
【０２１６】
なお、実施の形態４および実施の形態７と同一部分については同一符号を付して説明を繰返さない。
【０２１７】
局部加湿ユニット９９は、水を注入して貯留するタンク１０と、湿度の高い空気を生成する蒸発室１１１とが隣り合うように配置されて収容される筺体２５有する。
【０２１８】
このうち、蒸発室１１１のうち、筒体ブロック部１２５の下部に位置する下面には、第１の開口部２５ａが形成される。
【０２１９】
また、蒸発室１１１の上面には、インクジェットノズル２を通す孔２５ｂが形成される。
【０２２０】
さらに、蓋部材１５には、蓋部材１５と弾性部材１６とを貫通して空気孔１５ｂが、穿設されている。この空気孔１５ｂは、蒸発室１１１の上面部に相当する位置に、インクジェットノズル２と隣接配置されていて、ジョイント部材１７の一端部側を埋設させて固着させている。
【０２２１】
そして、このジョイント部材１７を介して、蒸発室１１１に空気を供給する空気供給手段１８が接続されている。
【０２２２】
この実施の形態８の局部加湿ユニット９９では、実施の形態４および実施の形態７の作用効果に加えてさらに、同じ蒸発室１１１内で、ジョイント部材１７で接続された空気供給手段１８から供給された空気が隣接配置されるインクジェットノズル２の先端２ａの周囲に、加湿シート１４で生成された湿度の高い空気を並送させる。
【０２２３】
したがって、先端２ａの対峙する被描画領域内の微小範囲にのみ、湿度の高い空気を限定して放出できて、精密機器への影響を最小限に留めることが可能となる。
【０２２４】
他の構成および作用効果については、実施の形態４および実施の形態７の局部加湿ユニット５９および局部加湿ユニット７９と同様であるので説明は繰返さない。
【０２２５】
上述してきたように、この実施の形態の描画装置および加湿ユニットは、水Ｗを注入したタンク１０と蒸発室１１との２室構造としている。
【０２２６】
そして、タンク１０と蒸発室１１とに跨がる加湿シート１４もしくは加湿シート２４によって、タンク１０の内部に貯留された水Ｗが、蒸発室１１の内部に向けて、常時供給される。
【０２２７】
このため、蒸発室１１もしくは蒸発室１１１の内部の空間から、湿度の高い空気が、第１の開口部１１ａもしくは第１の開口部２５ａを介して被描画領域に向けて、継続的に放出される。
【０２２８】
したがって、被描画領域の加湿状態が持続されて、帯電の影響を長時間に渡り除去し続けることができる。
【０２２９】
加湿持続時間が長時間となると、交換（保守）の頻度が低減する。また、局部加湿ユニット９は、温度、湿度などを制御する必要がない。このため、描画装置１００を簡略化できる。
【０２３０】
そして、描画装置１００は、局部加湿ユニット９などを設けることで、大がかりな恒温槽などを必要とせず、被描画領域を局所的に加湿して、基板４上に帯電した静電気を大気中に放電させることができる。
【０２３１】
このため、描画装置１００のインクジェットノズル２から吐出された液状物質１２が静電気の影響を受けることなく、基板４上に到達して、正確な描画を行なうことが可能となる。
【０２３２】
また、２室構造となるタンク１０と蒸発室１１とに跨がって配置される水供給手段を吸水、放湿性に優れた材質であるポリエステル繊維などを用いた加湿シート１４で構成している。
【０２３３】
このため、加湿シート１４がタンク１０内で少しずつ、水Ｗを吸水して、隔壁１３によって区画された隣接する蒸発室１１内へ供給し、徐々に気化することができる。
【０２３４】
従って、水Ｗの利用効率が良好で加湿持続時間を長くすることが可能となり、この点においても交換（保守）の頻度を低減させることができる。
【０２３５】
さらに、局部加湿ユニット９などは、着脱容易に保持部８内に装着されるため、定期的な交換は簡単に行なえる。
【０２３６】
また、タンク１０と蒸発室１１の上面を覆う蓋部材１５がメンテナンス開口部９ｂの上面を覆うように配置された状態で、加湿シート１４の頂点部分１４ｃが隔壁１３の上縁１３ａと、蓋部材１５の裏面側１５ａとの間に挟持されている。
【０２３７】
このため、蓋部材１５の脱着で、加湿シート１４の固定も解除でき、水Ｗをタンク１０に補給する際に、加湿シート１４が着脱自在となる。
【０２３８】
従って、この点においても、メンテナンス時間の短縮につながる。
この実施の形態の描画装置１００は、クリーンルームのように湿度５０％以下の乾燥雰囲気中、あるいは冬場の乾燥した室内でも基板４の溜まった静電気の影響を受けずに、長時間に渡って安定して描画を行なうことができる。
【０２３９】
また、局部加湿ユニット９は、静電吸引型のインクジェットノズル２から吐出されるインクが基板４に付着する位置を含む範囲を局部的に加湿する。
【０２４０】
この局部加湿ユニット９は、水Ｗを注入するタンク１０と蒸発室１１が隣り合うように配置され、加湿シート１４から水分が常に供給されながら蒸発室１１で湿度の高い、湿った空気を生成し続けることができる。
【０２４１】
この実施の形態では、水供給手段として、主に吸水、放湿性に優れた材質であるポリエステル繊維などの材料で構成された加湿シート１４を用いたものを示してきた。
【０２４２】
しかしながら、特にこれに限らず、たとえば、木綿、絹、レーヨン（たとえば、ビスコースおよびポリプロピレンなどの合成物、好ましくは、ビスコース：80％、ポリプロピレン：20％程度の構成比率の素材)、高分子吸収素材、スポンジなどの吸湿、放湿性がよい他の材質で構成されていてもよく、タンク１０の水Ｗを蒸発室１１へ供給できるものであればよい。
【０２４３】
また、水供給手段の形状についても、シート状に限らず、たとえば、板状、単数または複数のひも状、ブロック状、波板状など、主に吸水、放湿性に優れた材質で構成されるものであれば、形状、数量および材質が特に限定されるものではない。
【０２４４】
さらに、実施の形態では、隔壁１３もしくは隔壁２３の上縁１３ａもしくは上縁部２３ａの幅方向で、一部の凹部１３ｂもしくは全幅に渡る凹部２３ｃなど凹状を呈して、加湿シート１４もしくは加湿シート２４の断面形状に適応する通水供給路を形成しているが、水供給手段が配設される通水供給路の形状は、特に凹状である必要はなく、丸孔状、各孔状など、タンク１０の内部の空間と、蒸発室１１の内部の空間とを連通して水供給手段を配置できるものであればよく、隔壁１３もしくは隔壁に相当する仕切部に形成される通水供給路の形状、数量および大小の組合わせなどが、上記実施の形態の記載により限定されるものではない。
【０２４５】
以上説明した実施の形態について、最後に再び図面を参照しながら総括する。
図５に示すように、蒸発室１１の第１の開口部１１ａから、徐々にインクジェットノズル２の先端２ａと対峙する基板４の表面側の狭い範囲に局所的に湿度の高い空気が流される。
【０２４６】
このため、静電気の除去効率が良好で、静電気の除去に必要とされる水Ｗの使用量の増大を抑制することができる。
【０２４７】
よって、蒸発室１１に配置された加湿シート１４の早期の乾燥が防止されて、タンク１０の内部に貯留されている水Ｗの供給間隔を長くすることができる。
【０２４８】
このように、加湿シート１４を用いることで静電気の除去が可能な加湿時間をより長くすることが可能となる。
【０２４９】
そして、少なくとも描画工程が行なわれている間、基板４の表面に静電気を発生させずに、安定したインクジェット方式描画装置を用いた描画を行なえる。
【０２５０】
さらに、加湿シート１４は、吸水性、放湿性を有している。加湿シート１４がタンク１０の水Ｗに含浸された一端部１４ａから吸水した水Ｗは、他端部１４ｂへ向けて供給される際、蒸発室１１内の湿度によって変化する蒸発量に応じて、分量が調整される。
【０２５１】
このため、たとえば、時間当たり所定量の水Ｗを蒸発させる加湿器などの加湿装置に比して、さらに効率よく被描画領域の静電気を除去できる。
【０２５２】
また、加湿シート１４は、一端部１４ａと他端部１４ｂとの間の頂点部分１４ｃを隔壁１３の上縁１３ａに跨がらせた状態で、凹部１３ｂと蓋部材１５との間に形成される空間断面積により、水Ｗが供給される流路断面積がほぼ決定される。
【０２５３】
このため、加湿シート１４の吸水、蒸発性能および流路断面積により容易に水Ｗの供給量が調整できて、適切な湿度の高い空気を他端部１４ｂが配置される蒸発室１１で生成させることができる。
【０２５４】
また、図１２に示す蒸発室１１もしくは図１７に示す蒸発室１１１のように一定の空気が空気供給手段１８から供給される。
【０２５５】
蒸発室１１に滞留した湿度の高い空気は、空気供給手段１８から供給された空気で第１の開口部１１ａから、インクジェットノズル２の先端２ａと対峙する基板４の表面の方向に、強制的に流される。
【０２５６】
従って、基板４の表面の湿度をより高め、静電気の低減効果を高めることができる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【０２５７】
１  インクジェット塗布機構、２  インクジェットノズル、２ａ  先端、２ｂ  ジェット流、２ｃ，１２ｃ  液滴、３  パルス電圧発生装置、４  基板、５  ステージ、５ａ，５ｂ，６  軸ステージ、７  制御装置、８  保持部、８ａ，２２ｃ  側面、８ｂ  下面部、９，２９，３９，４９，５９，６９，７９，８９，９９  局部加湿ユニット、９ａ，２９ａ  筺体、９ｂ，２９ｂ  メンテナンス開口部、１０，２４  タンク、１１  蒸発室、１１ａ，２５ａ  第１の開口部、１１ｂ  壁部、１１ｃ  側面部、１１ｄ  底面部、１２  液状物質、１２ａ  テーラーコーン、１２ｄ  パターン、１３  隔壁、１３ａ，２３ａ  上縁、１３ｂ，２３ｃ  凹部、１４，２４  加湿シート、１４ａ  一端部、１４ｂ  他端部、１４ｅ  先端部、１４ｃ，２４ｃ  頂点部分、１５  蓋部材、１５ａ  裏面側、１５ｂ  空気孔、１５ｃ，２２ｅ，８９ｂ，９９ｂ  上面部、１６  弾性部材、１６ａ  下面側、１７  ジョイント部材、１８  空気供給手段、１９  圧縮空気供給部、２０  流量調節部、２１  固定ブラケット部材、２１ａ  保持部固定面、２１ｂ  ユニット側装着部、２２  筒体、２２ａ  ノズル開口部、２２ｂ  ノズル孔、２２ｄ  筒体開口部、２４ｄ，２４ｄ  両側縁、２５ｂ  孔、２６  蓋、２９ｂ  内側面、３１  定盤、３２  チャック、３５  観察光学系、３５ａ  ＣＣＤカメラ、３５ｂ  観察カメラ、３６  対物レンズ切換器、３７  対物レンズ、３８  レーザ照射装置、４０  可動板、４０ａ  貫通孔、４１  捨て打ちユニット、４１ａ  捨て打ち板、４２  距離センサ、５０  外部空間、１００，１００ａ  描画装置、１２５  筒体ブロック部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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