(57)【要約】【課題】カール性の悪化を避けつつ十分な耐光性を有する反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明基材フィルムに紫外線吸収性帯電防止ハードコート層と反射防止層とが積層される。ハードコート層は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部、（Ｂ）３００〜３５０ｎｍに最大吸収波長を持つヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤１〜２０質量部、（Ｃ）２２０〜４００ｎｍに最大吸収波長を持つ光重合開始剤０．１〜１０質量部、（Ｄ）４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）３０〜７０質量部と、１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｄ−２）７０〜３０質量部とから得られる４級アンモニウム塩系共重合体１〜２０質量部とを含む。反射防止層は、ハードコート層より高屈折率の第１光学干渉層と、該第１光学干渉層より低屈折率の第２光学干渉層からなる。第１光学干渉層／第２光学干渉層の膜厚比は、１．４〜１．９である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの一方面に、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層と、反射防止層とがこの順で積層された、紫外線吸収性を有する反射防止フィルムであって、
前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層は、
（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部と、
（Ｂ）光の波長３００〜３５０ｎｍに最大吸収波長を持つ下記一般式（１）で表される紫外線吸収剤１〜２０質量部と、
（Ｃ）光の波長２２０〜４００ｎｍに最大吸収波長を持つ光重合開始剤０．１〜１０質量部と、
（Ｄ）下記一般式（２）で表される４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）と、１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｄ−２）とをラジカル共重合して得られる４級アンモニウム塩系共重合体１〜２０質量部と、
を含む紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を紫外線硬化させた、厚みが０．５〜１０μｍの層であって、
前記（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体は、該（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体１００質量部中、前記４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）を３０〜７０質量部、前記１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｄ−２）を７０〜３０質量部含み、
前記反射防止層は、前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層上に積層される第１光学干渉層と、該第１光学干渉層上に積層される第２光学干渉層からなり、
前記第１光学干渉層の屈折率は、前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の屈折率より高く、
前記第２光学干渉層の屈折率は、該第１光学干渉層の屈折率より低く、
第１光学干渉層の膜厚／第２光学干渉層の膜厚の比率が１．４〜１．９である、反射防止フィルム。
【化１】
2014134573.tif 000009
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＺ（ＣＨ２）ｋＮ＋（Ｒ２）３・Ｘ−  ・・・（２）
（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ３、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数が１〜４の炭化水素基、Ｚは酸素原子またはＮＨ基、ｋは１〜１０の整数、Ｘ−は１価のアニオンを表す。）
【請求項２】
ＪＩＳＺ ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５に対する、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に基づく反射色の色座標ａ＊が０〜５、色座標ｂ＊が−７〜０である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層と反射防止層を備える、紫外線吸収性を有する反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の高度情報化社会において、電子ディスプレイ等の光エレクトロニクス機器はテレビジョンやパーソナルコンピュータのモニター用等として著しい進歩を遂げ、広く普及している。特に、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称す）は、テレビやデジタルサイネージ、電子黒板など多角的な用途で普及が進んでいる。また、最近、有機ＥＬ（以下、ＯＬＥＤと称す）の開発が進んでおり、高精細、高寿命なディスプレイとして注目されている。
【０００３】
これら電子ディスプレイパネルの表面には、表面の光反射を抑制し画像の視認性を高めるために反射防止フィルムが貼着されているが、外光がディスプレイの表面で反射したときに反射光が着色してしまい、画像の色再現性が悪化してしまうという問題があった。そこで、反射光の着色低減を目的として、ハードコート層、反射防止層を多層で構成した反射防止フィルムを貼着することが従来から行われている。例えば特許文献１や特許文献２では、視感度波長範囲において反射率を一定化し、反射光の着色を抑制することができる反射防止フィルムが提案されている。
【０００４】
さらに、これら電子ディスプレイパネルの表面には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の透明基材フィルムを基材とする光学用フィルムが貼着されているが、ＰＥＴやＴＡＣは絶縁特性が高い。そのため帯電しやすく、塵埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。そこで、透明基材フィルムの上に積層されているハードコート層に、帯電防止剤を添加することが従来から行われている。例えば特許文献３では、光学用フィルムの透明性、耐久性の点から、帯電防止剤として４級アンモニウム塩系帯電防止剤が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２４４６２３号公報
【特許文献２】特開２００９−２９４３２９号公報
【特許文献３】特開２０１１−２２５７９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１では、ハードコート層、第１光学干渉層、第２光学干渉層がこの順で積層された反射防止フィルムにおいて、第１光学干渉層の屈折率はハードコート層の屈折率より高く、かつ第２光学干渉層の屈折率は第１光学干渉層の屈折率より低く、第１光学干渉層の膜厚／第２光学干渉層の膜厚の比率を１．４〜１．９に制御していることで、反射光が着色する問題を抑制している。しかし、太陽光（特に紫外線）による劣化の問題は解決されていない。
【０００７】
一方、特許文献２は紫外線劣化の問題を改善するものであるが、従来のトリアジン系紫外線吸収剤では、性能的に必ずしも満足し得るものではなかった。したがって、十分な耐光性を得ようとすると、紫外線吸収剤の添加量が大きくなり、ブリードするという問題点があった。また、紫外線吸収剤の総量を確保するために、ハードコート層の膜厚を過剰に厚くすると、紫外線硬化型樹脂の硬化収縮が大きくなるため、ハードコート層を備える反射防止フィルムがカールして、加工性が悪化する問題がある。
【０００８】
特許文献３では、ハードコート層に帯電防止剤を添加していることで、帯電による塵埃付着の問題を解消している。しかし、太陽光（特に紫外線）による劣化の問題は解決されていない。
【０００９】
そこで、本発明は上記課題を解決するものであって、その目的とするところは、４級アンモニウム塩系帯電防止剤を含有する帯電防止性ハードコート層に、紫外線領域に最大吸収波長を持つ特定構造の紫外線吸収剤を添加することで、その添加量の低減と薄肉化を実現でき、以ってカール性の悪化を避けつつ十分な耐光性を有する反射防止フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち、本発明の反射防止フィルムは、透明基材フィルムの一方面に紫外線吸収性帯電防止ハードコート層と、反射防止層とがこの順で積層された、紫外線吸収性を有する反射防止フィルムである。前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部と、（Ｂ）光の波長３００〜３５０ｎｍに最大吸収波長を持つ下記一般式（１）で表される紫外線吸収剤１〜２０質量部と、（Ｃ）光の波長２２０〜４００ｎｍに最大吸収波長を持つ光重合開始剤０．１〜１０質量部と、（Ｄ）下記一般式（２）で表される４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）と、１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｄ−２）とをラジカル共重合して得られる４級アンモニウム塩系共重合体１〜２０質量部とを含む紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を紫外線硬化させた、厚みが０．５〜１０μｍの層である。前記（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体は、該（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体１００質量部中、前記４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）を３０〜７０質量部、前記１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｄ−２）を７０〜３０質量部含む。前記反射防止層は、前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層上に積層される第１光学干渉層と、該第１光学干渉層上に積層される第２光学干渉層からなる。第１光学干渉層の屈折率は、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の屈折率より高く、第２光学干渉層の屈折率は、第１光学干渉層の屈折率より低い。また、第１光学干渉層の膜厚／第２光学干渉層の膜厚の比率は、１．４〜１．９である。
【００１１】
【化１】
2014134573.tif 000002
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＺ（ＣＨ２）ｋＮ＋（Ｒ２）３・Ｘ−  ・・・（２）
（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ３、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数が１〜４の炭化水素基、Ｚは酸素原子またはＮＨ基、ｋは１〜１０の整数、Ｘ−は１価のアニオンを表す。）
【００１２】
また、本発明の反射防止フィルムは、ＪＩＳＺ ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５に対する、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に基づく反射色の色座標ａ＊が０〜５、色座標ｂ＊が−７〜０である。
【００１３】
なお、本発明において数値範囲を示す「○○〜××」とは、その下限（○○）及び上限（××）の数値を含む意味である。したがって、正確に表せば「○○以上××以下」となる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ハードコート層に紫外線吸収剤を添加することで耐光性（紫外線吸収性）を付与でき、太陽光に暴露される環境においても、透明基材フィルムとハードコート層との密着性が低下することなく長期使用に耐え得る反射防止フィルムとすることができる。また、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の上に、該紫外線吸収性帯電防止ハードコート層より屈折率の高い第１光学干渉層と、第１光学干渉層より屈折率の低い第２光学干渉層とからなる反射防止層を積層し、且つ第１光学干渉層の膜厚／第２光学干渉層の膜厚の比率を１．４〜１．９とすることで、外光がディスプレイの表面で反射したときに生じる反射光の着色を低減することができ、画像の色再現性が悪化してしまうことを防止できる。
【００１５】
その上で、紫外線吸収剤として、上記一般式（１）で表される特定構造のヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤を添加している。当該紫外線吸収剤は短波長側（紫外線領域）に最大吸収波長を持つので、少量の添加でも効率よく紫外線を吸収できる。したがって、紫外線吸収剤の添加量を低減でき、ハードコート層の膜厚も小さくできる。これにより、カール性等の悪化を防止しつつ、良好な耐光性を有する反射防止フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の反射防止フィルムは、テレビやモニター等の電子画像表示装置（電子ディスプレイ）におけるＰＤＰ、ＯＬＥＤ、及び太陽光が顕著にあたる窓ガラスなどの建築材料に適用されるものであって、透明基材フィルムの一方面に、少なくとも紫外線吸収性帯電防止ハードコート層と反射防止層とが積層されている。
【００１７】
≪透明基材フィルム≫
反射防止フィルムに用いられる透明基材フィルムは、透明性を有している限り特に制限されない。そのような透明基材フィルムを形成する材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルや、ポリアリレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、またはポリエーテルスルフォンなどが挙げられる。これらのうち、ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性の点で好ましい。
【００１８】
透明基材フィルムの厚みも特に限定されないが、一般的には２５〜４００μｍであり、好ましくは５０〜２００μｍである。透明基材フィルムの厚みが２５μｍより薄い場合や４００μｍより厚い場合には、反射防止フィルムの製造時及び使用時における取り扱い性が低下してしまう。なお、透明基材フィルムには、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤としては、例えば紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤などが挙げられる。
【００１９】
≪紫外線吸収性帯電防止ハードコート層≫
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂と、（Ｂ）一般式（１）で表されるヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体とを含む紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を塗布及び乾燥し、紫外線を照射して硬化することにより形成される。
【００２０】
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の厚みは、少なくとも０．５〜１０μｍとし、好ましくは１〜６μｍとする。紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の厚みが０．５μｍ未満では、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層中への紫外線吸収剤の添加量にも限界があるので、結果として反射防止フィルムにおける紫外線吸収剤の量が相対的に少なくなり、十分な紫外線吸収効果を得られない。一方、１０μｍを超えると、硬化時のカールを低減することができなくなる。紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の屈折率は、１．４５〜１．７０程度であればよい。
【００２１】
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層を透明基材フィルム上に設ける方法としては、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液をウェットコート法により塗布する方法であれば特に制限されず、例えばグラビアコート法、スピンコート法、ダイコート法等の従来公知の塗工方法を採用することができる。
【００２２】
＜（Ａ）紫外線硬化型樹脂＞
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層を形成する紫外線硬化型樹脂としては、この種の反射防止フィルムにおいて従来から一般的に使用されている、紫外線を照射することにより硬化反応を生じる公知の樹脂であればその種類は特に制限されない。そのような樹脂として、例えば単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂などである。なお、本明細書において（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの双方を含む総称を意味する。また、後述の（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル系、及び（メタ）アクリロイルの記載も同様である。
【００２３】
＜（Ｂ）紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、光の波長３００〜３５０ｎｍに最大吸収波長を持ち、下記一般式（１）で表される、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジンである。
【化２】
2014134573.tif 000003
【００２４】
紫外線吸収剤の含有量は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して１〜２０質量部であり、５〜２０質量部が好ましい。紫外線吸収剤の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、反射防止フィルムの可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、１質量部より少ない場合には、反射防止フィルムの紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。
【００２５】
紫外線吸収剤は、光の波長３００〜３５０ｎｍに最大吸収波長を持つ上記一般式（１）で表される紫外線吸収剤を少なくとも使用していれば、その他の波長に吸収を持つ紫外線吸収剤も併用することができる。また、無機系の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）や酸化防止剤などの安定剤を併用してもよい。
【００２６】
無機系の紫外線吸収剤としては、公知従来のものが使用できる。例えば酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化チタン等が挙げられる。ヒンダードアミン系光安定剤としては、公知従来のものが使用できる。例えばデカン二酸ビス(２，２，６，６−テトラメチル−１−(オクチルオキシ)−４−ピペリジニル)エステル１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、ビス(１，２，２，６，６−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケートとメチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケートの混合物、２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ］−６−（２−ヒドロキシエチルアミン）−１，３，５−トリアジン）等が挙げられる。
【００２７】
＜（Ｃ）光重合開始剤＞
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層を形成する光重合開始剤としては、光の波長２２０〜４００ｎｍに最大吸収波長を持つものであれば、その種類は特に限定されない。光の最大吸収波長が４００ｎｍを超える場合には該当する光重合開始剤は少なく、また紫外線による光重合開始能の発現が不足するおそれがある。光の最大吸収波長が２２０ｎｍ未満の場合、オゾンが発生しやすくなるため好ましくない。なお、光重合開始剤の最大吸収波長が３００〜３５０ｎｍの範囲にあると、紫外線が光重合開始剤に吸収されて、光重合開始剤の光重合開始能が十分に発現しないおそれがある。したがって、光重合開始剤の最大吸収波長は３００〜３５０ｎｍの範囲にないことが好ましい。
【００２８】
光の波長２２０〜４００ｎｍに最大吸収波長を持つ光重合開始剤としては、例えば１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどが挙げられる。中でも、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが好ましい。
【００２９】
光重合開始剤の含有量は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部に対し、０．１〜１０質量部とする。光重合開始剤の含有量が０．１質量部未満の場合には紫外線硬化型樹脂の重合硬化が不十分となり、１０質量部を超える場合には、光重合開始に使用されなかった光重合開始剤が残存し、可視光線透過率が低下するなどの弊害が生じるおそれがある。
【００３０】
＜（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体＞
４級アンモニウム塩系共重合体は、帯電防止剤として添加され、下記一般式（２）で表される４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）と、１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｄ−２）を必須の構成成分とする。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＺ（ＣＨ２）ｋＮ＋（Ｒ２）３・Ｘ−  ・・・（２）
（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ３、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数が１〜４の炭化水素基、Ｚは酸素原子またはＮＨ基、ｋは１〜１０の整数、Ｘ−は１価のアニオンを表す。）
【００３１】
〈４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）〉
４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）は、前記一般式（２）で表され、その構造中に４級アンモニウム塩を含有する（メタ）アクリル類であれば特に制限さない。そのような化合物として、例えば、アミノ基を有する（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類が挙げられる。
【００３２】
一般式（２）におけるＲ２である炭素数が１〜４の炭化水素基は、置換又は無置換のものが選択できる。Ｒ２の炭素数が５よりも大きい場合、生成される（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体の疎水性が高まる結果、（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体を含有する紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の吸湿性が低下し、良好な帯電防止性能を得られない場合がある。
【００３３】
一般式（２）におけるＲ２は、無置換のものが好ましく、無置換のアルキル基がより好ましい。無置換のアルキル基としては、分岐を有するもの、有しないもの、いずれをも使うことができる。無置換のアルキル基としては、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、メチル基やエチル基等の無置換のアルキル基を有するものが入手し易いという点で好ましい。
【００３４】
一般式（２）におけるＺが酸素原子の４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）を形成するためのアミノ基を有する（メタ）アクリレート類の例としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート塩化メチル４級塩、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート塩化メチル４級塩などである。
【００３５】
一般式（２）におけるＺがＮＨ基の４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）を形成するためのアミノ基を有する（メタ）アクリルアミド類の例としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド塩化メチル４級塩、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド塩化メチル４級塩などである。
【００３６】
〈１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｄ−２）〉
１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（ｄ−２）としては、エチレン性不飽和基を１つ含有するモノマーであれば特に限定されない。そのような化合物として、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートが挙げられる。また、化合物（ｄ−２）は２種類以上を併用しても良い。
【００３７】
（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体は、化合物（ｄ−１）・（ｄ−２）をラジカル共重合して得ることができる。化合物（ｄ−１）・（ｄ−２）の使用量は、４級アンモニウム塩系共重合体の合計１００質量部中、化合物（ｄ−１）は、帯電防止性能の観点から３０〜７０質量部、化合物（ｄ−２）は、生成される（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体の帯電防止性、溶解性を整える目的で７０〜３０質量部とする。
【００３８】
（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体の使用量は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００重量部に対し、１〜２０重量部であり、３〜１０重量部がより好ましい。１重量部未満では十分な帯電防止性能を得ることができず、２０重量部を超えると形成される紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の耐擦傷性が低下する。
【００３９】
≪反射防止層≫
次に、反射防止層について説明する。反射防止層は、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層上に積層される第１光学干渉層と、該第１光学干渉層上に積層される第２光学干渉層とから構成されている。
【００４０】
＜第１光学干渉層＞
第１光学干渉層の屈折率は、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層及び第２光学干渉層より高く設定される。第１光学干渉層の屈折率が紫外線吸収性帯電防止ハードコート層より低くなる場合、効果的に反射光の着色を低減することが困難であるため、好ましくない。具体的には、第１光学干渉層の屈折率は１．５０以上であることが好ましい。第１光学干渉層の屈折率が１．５０を下回ると十分な反射防止効果を得ることが難しくなる。また、第１光学干渉層の屈折率は、１．７０以下であることが好ましい。第１光学干渉層の屈折率が１．７０を上回ると、ＪＩＳＺ ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５に対する、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に基づく反射色の色座標ａ＊が０〜５、色座標ｂ＊が−７〜０を達成することが困難になるため好ましくない。
【００４１】
また、第１光学干渉層と紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の屈折率差は、０．０１〜０．１０、好ましくは０．０１〜０．０５に設定される。この屈折率差が０．０１より小さい場合には、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層と第１光学干渉層との界面での反射光が弱くなり過ぎて好ましくない。その一方、屈折率差が０．１０より大きい場合には、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層と第１光学干渉層との界面における反射光が強くなり過ぎて、ＪＩＳ Ｚ ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５に対する、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に基づく反射色の色座標ａ＊が０〜５、色座標ｂ＊が−７〜０を達成することが困難になるため好ましくない。
【００４２】
第１光学干渉層は、バインダー樹脂と屈折率調整用（積極的に屈折率を高めるため）の金属酸化物微粒子とを含む塗布液を塗布及び乾燥し、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成される。金属酸化物微粒子としては、例えばアンチモン酸亜鉛（酸化アンチモンと酸化亜鉛の複合体、Ｓｂ２Ｏ５・ＺｎＯ）、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫、アンチモン含有酸化錫、アンチモン酸亜鉛等の微粒子が挙げられる。特に、酸化インジウム錫、アンチモン含有酸化錫、アンチモン酸亜鉛等の導電性微粒子を用いた場合には表面抵抗率を下げることができ、さらに帯電防止能も付与することができるため好ましい。
【００４３】
一方、バインダー樹脂としては、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する重合性単量体を用いることができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有する重合性単量体としては、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することにより硬化反応を生じる樹脂を使用でき、その種類は特に制限されない。具体的には、例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ビス（３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコール（メタ）アクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、９，９−ビス[４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル]フルオレン等が挙げられる。
【００４４】
金属酸化物微粒子の平均粒子径は、１０〜１００ｎｍの範囲が好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径が１０ｎｍより小さいと、被膜（第１光学干渉層）を形成したときの屈折率が低くなる傾向がある。一方、金属酸化物微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超過すると、第１光学干渉層の膜厚（１００〜１５０ｎｍ）を粒子の大きさが超過するため、その粒子に起因した欠陥が発生する。また、可視光も散乱するため、透過鮮明性が低下する。
【００４５】
金属酸化物微粒子は、第１光学干渉層の膜中に５〜９５質量％の割合で含まれていることが好ましく、２０〜８０質量％であることがより好ましい。金属酸化物微粒子の含有量が９５質量％を超過する場合には金属酸化物微粒子を含む硬化膜の強度及び硬度が不足する傾向を示し、被膜表面の耐擦傷性や耐摩耗性が低下する。一方、５質量％未満となる場合には、相対的に金属酸化物微粒子の含有量が少なくなるため、第１光学干渉層の屈折率が所望の屈折率より低くなる傾向がある。
【００４６】
また、第１光学干渉層には光重合開始剤が含まれる。光重合開始剤としては、紫外線照射による重合開始能を有するものであれば何れでもよい。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独又は混合物として用いることができる。光重合開始剤の含有量としては、第１光学干渉層の膜中に０．１％〜２０質量％程度、好ましくは１〜１０質量％程度とすればよい。
【００４７】
＜第２光学干渉層＞
第２光学干渉層の屈折率は、第１光学干渉層の屈折率より低く設定され、その屈折率は１．２８〜１．４５であることが好ましい。該屈折率が１．２８未満の場合には十分に硬い層を形成することが困難であり、屈折率が１．４５を超える場合には、特にウェットコーティング法では十分な反射防止効果を得ることが難しい。
【００４８】
第２光学干渉層は、バインダー樹脂と屈折率調整用（積極的に屈折率を下げるため）の無機微粒子とを含む塗布液を塗布及び乾燥し、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成される。無機微粒子としては、酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム等の微粒子を用いることができる。この中でも、酸化珪素系微粒子、特に中空酸化珪素系微粒子が、低屈折率である点で特に好ましい。中空酸化珪素系微粒子としては、例えば外殻内部に空洞を有するものや、多孔質シリカ微粒子が挙げられる。微粒子の平均粒子径は第２光学干渉層の膜厚（７０〜１３０ｎｍ程度）を大きく超えないことが好ましく、特に０．１μｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が大きくなると、散乱が生じ、ヘイズ値が上昇してしまうため反射防止フィルムとして適さない。また、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。各種カップリング剤としては例えば、有機置換された珪素化合物、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシド、有機酸塩等が挙げられる。特に、表面を（メタ）アクリロイル基等の反応性基で修飾することにより、硬度の高い膜を形成することができる。
【００４９】
中空酸化珪素系微粒子は、第２光学干渉層の膜中に２０〜７０質量％の割合で含まれていることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましい。中空酸化珪素系微粒子の含有量が７０質量％を超過する場合には中空酸化珪素系微粒子を含む硬化膜の強度及び硬度が不足する傾向を示し、皮膜表面の耐擦傷性や耐摩耗性が低下する。一方、２０質量％未満となる場合には、相対的に中空酸化珪素系微粒子の含有量が少なくなるため、第２光学干渉層と空気の界面で反射する反射率が高くなる。
【００５０】
バインダー樹脂としては、低屈折率である点で含フッ素有機化合物の重合体を含む組成物を好適に用いることができるが、フッ素を含まない単量体やその重合体を含む組成物を用いることもできる。含フッ素有機化合物は特に制限されるものではないが、例えば含フッ素単官能（メタ）アクリレート、含フッ素多官能（メタ）アクリレート、含フッ素イタコン酸エステル、含フッ素マレイン酸エステル等の単量体、それらの重合体、及び重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマー等が挙げられる。
【００５１】
含フッ素単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば１−（メタ）アクリロイロキシ−１−パーフルオロアルキルメタン、１−（メタ）アクリロイロキシ−２−パーフルオロアルキルエタン等が挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜８の直鎖状、分枝状又は環状のものが挙げられる。
【００５２】
含フッ素多官能（メタ）アクリレートとしては、含フッ素２官能（メタ）アクリレート、含フッ素３官能（メタ）アクリレート及び含フッ素４官能（メタ）アクリレートが好ましい。含フッ素２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−３−パーフルオロアルキルブタン、２−ヒドロキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート、α，ω−ジ（メタ）アクリロイルオキシメチルパーフルオロアルカン等が挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜１１の直鎖状、分枝状又は環状のものが、パーフルオロアルカン基は直鎖状のものが好ましい。これらの含フッ素２官能（メタ）アクリレートは、使用に際して単独又は混合物として用いることができる。
【００５３】
含フッ素３官能（メタ）アクリレートの例としては、例えば、２−（メタ）アクリロイルオキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート等が挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１〜１１の直鎖状、分枝状又は環状のものが好ましい。
【００５４】
含フッ素４官能（メタ）アクリレートの例としては、α，β，ψ，ω−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−αＨ，αＨ，βＨ，γＨ，γＨ，χＨ，χＨ，ψＨ，ωＨ，ωＨ−パーフルオロアルカン等が好ましい。パーフルオロアルカン基は炭素数１〜１４の直鎖状のものが好ましい。使用に際しては、含フッ素４官能（メタ）アクリレートは、単独又は混合物として用いることができる。
【００５５】
また、重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマーとしては、含フッ素エチレン性モノマーに由来する主鎖を有し、架橋硬化のための反応性基をもつものである。反応性基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、α−フルオロアクリロイルオキシ基、エポキシ基等が挙げられる。このような溶媒可溶性で重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマーは高分子量であるため、フッ素を含有しながらも成膜性が良好で、成膜後に反応性基を利用して架橋硬化することで硬化層を得ることができる。
【００５６】
係る重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマーは、重合性二重結合をもつ基の含有率が通常１〜２０質量％ 、好ましくは５〜１５質量％であり、また質量（重量）平均分子量が通常１〜５００,０００、好ましくは３〜２００,０００である。具体的な含フッ素反応性ポリマーとしては、再公表特許ＷＯ０２／０１８４５７号公報に開示されているものが挙げられる。
【００５７】
また、第２光学干渉層にも光重合開始剤が含まれる。ここでの光重合開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独又は混合物として用いることができる。光重合開始剤の含有量としては、第２光学干渉層の膜中に０．１〜２０質量％程度、好ましくは１〜１０質量％程度とすればよい。
【００５８】
反射防止層（第１光学干渉層及び第２光学干渉層）の形成方法は特に制限されず、例えばドライコーティング法、ウェットコーティング法等の方法を採ることができる。これらの方法のうち、生産性及び生産コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は公知の方法が採用され、例えばロールコート法、スピンコート法、そしてディップコート法等が代表的な方法として挙げられる。これらの中では、ロールコート法等、連続的に反射防止層を形成できる方法が生産性の点より好ましい。
【００５９】
第１光学干渉層の膜厚と第２光学干渉層の膜厚の比率は、第１光学干渉層の膜厚／第２光学干渉層の膜厚＝１．４〜１．９に設定される。この膜厚の比率が１．４未満及び１．９を超える場合には、膜厚変動による反射スペクトルの変化が大きくなり、反射光の着色を低減することが達成できないため好ましくない。
【００６０】
反射防止層（第１光学干渉層と第２光学干渉層のいずれか一方または双方）には上記構成材料以外にも、本発明の効果を損なわない範囲においてその他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分としては、例えば無機又は有機顔料、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤等の添加剤等が挙げられる。また、ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。反射防止層はウェットコーティングにより成膜した後、必要に応じて紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行うことにより形成される。活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。ただし、第１光学干渉層の硬化反応については、第２光学干渉層との密着性を向上する目的で、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気ではなく、大気下にて行うことが好ましい場合もあるため、硬化反応の雰囲気については適宜選択することができる。
【００６１】
<<<反射防止フィルム>>>
本発明の反射防止フィルムは、ＪＩＳ Ｚ ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５に対する、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に基づく反射色の色座標ａ＊が０〜５、色座標ｂ＊が−７〜０となっている。これにより、外光がディスプレイの表面で反射したときに、その反射光の着色が抑制されており、画像の色再現性が良好となる。
【実施例】
【００６２】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、これに限られるものではない。
【００６３】
（（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体の調整））
（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体は、４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｄ−１）及び１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｄ−２）を下記表１に示す組成のように共重合することで得た。なお、表１中に示す各具体的材料は、次の通りである。
α1：ジメチルアミノエチルアクリレート塩化メチル４級
一般式（２）：Ｒ１＝ＣＨ３、Ｒ２＝ＣＨ３、Ｚ＝Ｏ、ｋ＝２、Ｘ−＝Ｃｌ−
α２：ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル４級
一般式（２）：Ｒ１＝Ｈ、Ｒ２＝ＣＨ３、Ｚ＝ＮＨ基、ｋ＝３、Ｘ−＝Ｃｌ−
β１：ブチルメタクリレート
β２：ベンジルメタクリレート
【００６４】
【表１】
2014134573.tif 000004
【００６５】
（紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液の調製）
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂と、上記一般式（１）の（Ｂ）紫外線吸収剤と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体とを、下記表２〜３に示す組成のように混合し、固形分濃度が４０質量部となるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を混合して紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を得た。なお、表２〜３中に示す各具体的材料は、次の通りである。
Ａ１：ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）
Ａ２：ＯＤ４Ａ（１，２，９，１０−テトラキス（アクリロイルオキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン）
Ｂ１：ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：チヌビン４７９〔２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン〕
Ｂ２：ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：チヌビン１２３〔下記一般式（３）で表される化合物〕。
【００６６】
【化３】
2014134573.tif 000005
Ｃ１：ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：イルガキュア１８４
Ｃ２：ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：イルガキュア９０７
【００６７】
（第１光学干渉層塗布液γ１の調製）
第１光学干渉層塗布液γ１は、アンチモン酸亜鉛微粒子分散液〔日産化学工業（株）製、セルナックスＣＸ−６０３Ｍ−Ｆ２〕を固形分換算で４５質量部、ウレタンアクリレート〔分子量１４００、６０℃における粘度が２５００〜４５００Ｐａ・ｓ、日本合成化学工業（株）製、紫光ＵＶ７６００Ｂ〕５５質量部、光重合開始剤〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４〕５質量部を混合し、固形分濃度が１０質量部となるようにイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を混合して得た。
【００６８】
（重合性二重結合をもつ含フッ素化合物δ１の製造）
四つ口フラスコにパーフルオロ−（１，１，９，９−テトラハイドロ−２，５−ビスフルオロメチル−３，６−ジオキサノネノール）１０４部とビス（２，２，３，３，４，４５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタノイル）パーオキサイドの８質量％パーフルオロヘキサン溶液１１部を入れた。そして、その中空部を窒素置換した後、窒素気流下２０℃で２４時間撹拌して高粘度の固体を得た。得られた固体をジエチルエーテルに溶解させたものをパーフルオロヘキサンに注ぎ、分離後に真空乾燥させて無色透明なポリマーを得た。
【００６９】
このポリマーを１９Ｆ−ＮＭＲ（核磁気共鳴スペクトル）、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ（赤外線吸収スペクトル）により分析したところ、上記アリルエーテルの構造単位からなる側鎖末端に水酸基を有する含フッ素ポリマーであった。ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ）により測定した数平均分子量は７２,０００、質量平均分子量は１１８,０００あった。
【００７０】
得られたヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテルポリマー５部とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）４３部、ピリジン１部を四つ口フラスコ中に仕込み、５℃以下に氷冷した。そして、窒素気流下で撹拌しながらα−フルオロアクリル酸フルオライド１部をＭＥＫ９部に溶解したものを１０分間かけて滴下した。そして、重合性二重結合をもつ含フッ素反応性ポリマーの溶液δ１を得た。
【００７１】
（第２光学干渉層塗布液ε１の調製）
第２光学干渉層塗布液ε１は、粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子６０質量部と、溶媒可溶性の含フッ素反応性ポリマー（δ１）を固形分換算で４０質量部と、光重合開始剤〔ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：イルガキュア９０７〕５質量部、シリコン添加剤〔ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫＵＶ−３５７０〕８質量部、シリコン添加剤〔信越化学工業（株）製、ＴＩＣ２４５７〕３.５質量部、アルミナ添加剤〔ビックケミー・ジャパン（株）製、ＮＡＮＯＢＹＫＵＶ-３６０１〕０．５質量部、固形分濃度が５質量部となるようにイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を混合して得た。
【００７２】
（反射防止フィルムの作製）
＜実施例１−１〜１−１２＞
ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に、上記で調整した紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を、グラビアコート法で乾燥膜厚が１μｍになるよう塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ２の出力にて紫外線を照射して硬化させることにより、紫外線吸収性ハードコートフィルムを作製した。次いで、得られた紫外線吸収性帯電防止ハードコートフィルムの紫外線吸収性帯電防止ハードコート層上に、第１光学干渉層塗布液γ１をグラビアコート法で乾燥膜厚が０．１５８μｍになるよう塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ２の出力にて紫外線を照射して硬化させることにより、第１光学干渉層積層フィルムを作製した。さらに、得られた第１光学干渉層積層フィルムの第１光学干渉層上に第２光学干渉層塗布液ε１をグラビアコート法で乾燥膜厚が０．０９８μｍになるよう塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ２の出力にて紫外線を照射して硬化させることにより、第２光学干渉層積層体である反射防止フィルムを作製した。
【００７３】
＜比較例1＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止性ハードコート層塗布液から（Ｂ）紫外線吸収剤を抜いた以外は、実施例１−１と同様に反射防止フィルムを作成した。
【００７４】
＜比較例２＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の膜厚を０．１μｍにした以外は、実施例１−１と同様に反射防止フィルムを作成した。
【００７５】
＜比較例３＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の膜厚を１５μｍにした以外は、実施例１−１と同様に反射防止フィルムを作成した。
【００７６】
＜比較例４＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止性ハードコート層塗布液から（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体を抜いた以外は、実施例１−１と同様に反射防止フィルムを作成した。
【００７７】
＜比較例５＞
実施例１−１において、第１光学干渉層の硬化膜の膜厚を０．１３５ｕｍとした以外は、実施例１−１と同様に反射防止フィルムを作成した。
【００７８】
＜比較例６＞
実施例１−１において、第２光学干渉層の硬化膜の膜厚を０．２０８ｕｍとした以外は、実施例１−１と同様に反射防止フィルムを作成した。
【００７９】
得られた各実施例及び比較例の反射防止フィルムにおいて、耐光性や物理的特性（カール性）を測定し評価した。その結果も表２〜３に示す。なお、各項目の測定方法は次の通りである。
【００８０】
（Ｉ）耐光性試験
＜スーパーキセノン試験＞
スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５(スガ試験機株式会社製)を用いて、照射照度１８０W/m２、照射光の波長３００〜４００ｎｍ、ＢＰＴ温度６３±１℃の試験条件で１００時間試験を行い、試験後、ＪＩＳ Ｄ ０２０２−１９９８に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。セロハンテープ〔ニチバン（株）製、ＣＴ２４〕を用い、反射防止フィルムのハードコート層、あるいは第２光学干渉層に密着させた後剥離した。耐光性は密着性にて判定し、１００マスのうち、剥離しないマス目の数を、○○／１００として表した。例えば、全く剥離しない場合は１００／１００、完全に剥離する場合は０／１００として表した。
【００８１】
（II）表面抵抗率
ＪＩＳ Ｋ ６９１１−１９９５に準拠して、デジタル絶縁計〔東亜ディーケーケー（株）
製、ＳＭ−８２２０〕を用いて測定した。
【００８２】
（III）カール性試験
１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズの反射防止フィルムを作成し、反射防止フィルムを水平面に置いた際の４隅のカール高さを測定し、下記の基準により判定する。
○：カール高さが２０ｍｍ未満
△：カール高さが２０ｍｍ以上５０ｍｍ未満
×：カール高さが５０ｍｍ以上
【００８３】
（IV）屈折率
（IV-1）屈折率１．４９のアクリル樹脂板〔商品名：「デラグラスＡ」、旭化成ケミカルズ（株）製〕上に、ディップコーター〔（株）杉山元医理器製〕により、反射防止層１３用の塗液をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚が５５０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整して塗布した。
（IV-2）溶媒乾燥後、必要に応じて紫外線照射装置〔岩崎電気（株）製〕により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射して反射防止層用の塗液を硬化させた。
（IV-3）アクリル樹脂板裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計〔「Ｕ−ＢｅｓｔＶ５６０」、日本分光（株）製〕により、４００〜６５０ｎｍにおける５°、−５°正反射率を測定し、その反射率の極小値又は極大値を読み取った。
（IV-4）反射率の極値より以下の式を用いて屈折率を計算した。
【００８４】
【数１】
2014134573.tif 000006
【００８５】
得られた反射防止フィルムの物性を以下の方法で評価した。
（Ｖ）視感度反射率Ｙ
（V-1）分光反射率：反射防止フィルムの裏面（透明樹脂フィルム１ １の裏面）をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計〔「Ｕ−ＢｅｓｔＶ５６０」、日本分光（株）製〕により、光の波長３８０〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。これにより、反射防止フィルム表面の反射スペクトルを測定することができる。
（V-2）（V-1）で測定した光の波長３８０〜７８０ｎｍの分光反射率と、ＪＩＳＺ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＺ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の三刺激値Ｙ（％）を計算した。
【００８６】
（VI）ａｂクロマＣａｂ＊：前記（V-1）で測定した光の波長３８０〜７８０ｎｍの分光反射率と、ＪＩＳ Ｚ ８７２０に基づくＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳＺ ８７２９に規定される色空間ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*表色系を計算し、a*値、b*値を求めた。
【００８７】
（VII）着色抑制効果： 縦１０ｃｍ、横１０ｃｍの大きさのガラス板の片面にアクリル樹脂系粘着シートを使用して反射防止フィルムを貼り合せ、他方の面に黒色フィルムを貼り合せたサンプルを作製した。該サンプルを、三波長蛍光灯でない蛍光灯〔例えば、松下電器産業（株）製パルック（ＦＬ２０ＳＳＤ／１８）〕の下で観察し、反射色の見え方をそれぞれ評価した。評価基準としては、反射色が弱い場合を○ 、反射色が強い場合を× として評価した。
【００８８】
【表２】
2014134573.tif 000007
【００８９】
【表３】
2014134573.tif 000008
【００９０】
表２の結果より、各実施例の反射防止フィルムは、キセノンランプによる劣化が抑えられ、密着性が良好であった。また、表面抵抗率及びカール性も良好であった。これに対し表３の結果より、比較例１の反射防止フィルムは、ハードコート層に（Ｂ）紫外線吸収剤が入っていないため、耐光性が著しく悪化した。比較例２の反射防止フィルムは、ハードコート層の膜厚の薄膜化に伴う紫外線吸収剤の含有量低下のため、十分な紫外線吸収効果を得ることができず、密着性が悪化した。比較例３の反射防止フィルムは、ハードコート層の膜厚が厚すぎるため、カール性が悪化していることが確認された。比較例４の反射防止フィルムは、ハードコート層に（Ｄ）４級アンモニウム塩系共重合体が入っていないため、表面抵抗率が著しく悪化した。比較例５の反射防止フィルムは、第１光学干渉層の膜厚／第２光学干渉層の膜厚の比率が１．４よりも小さいため、色座標ｂ＊の値が−７よりも小さくなり、着色抑制効果も著しく悪化した。比較例６の反射防止フィルムは、第１光学干渉層の膜厚／第２光学干渉層の膜厚の比率が１．９よりも大きいため、色座標a＊の値が５よりも大きくなり、着色抑制効果も著しく悪化した。