(57)【要約】【目的】  電気絶縁性フィルム、金属蒸着膜、接着剤層、軟質塩化ビニルフィルムの順で積層された従来の合成樹脂積層シートは、軟質塩化ビニルフィルムが経時で変色する問題があった。そこで、本発明は、従来のように軟質塩化ビニルフィルムが経時で変色するのを抑えた電磁波シールド性シートを提供することを目的とする。【構成】  本発明の電磁波シールド性シートは、少なくとも基材フィルム、銅層、接着剤層、軟質塩化ビニル樹脂フィルムの順で積層させた電磁波シールド性シートにおいて、前記接着剤層が接着剤とベンゾトリアゾール系化合物を含む層であることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基材フィルム、銅層、接着剤層、軟質塩化ビニル樹脂フィルムの順で積層させた電磁波シールド性シートにおいて、
前記接着剤層が接着剤とベンゾトリアゾール系化合物を含む層であることを特徴とする電磁波シールド性シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールド性シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電磁波障害防止を主目的とする工事用シートや間仕切用シートなどの合成樹脂積層シートとして、例えば特許文献１に記載されているものが提案されている。具体的には、電気絶縁性フィルム、金属蒸着膜、接着剤層、軟質塩化ビニルフィルムの順で積層された合成樹脂積層シートについて記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特公平06-077978号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１記載の合成樹脂積層シートは、軟質塩化ビニルフィルムが経時で変色する問題があった。
【０００５】
そこで本発明は、従来のように軟質塩化ビニルフィルムが経時で変色するのを抑えた、電磁波シールド性シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の電磁波シールド性シートは、少なくとも基材フィルム、銅層、接着剤層、軟質塩化ビニル樹脂フィルムの順で積層させた電磁波シールド性シートにおいて、前記接着剤層が接着剤とベンゾトリアゾール系化合物を含む層であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明は、軟質塩化ビニルフィルムが経時で変色するのを抑えた電磁波シールド性シートを提供できる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の電磁波シールド性シートは、少なくとも基材フィルム、銅層、接着剤層、軟質塩化ビニル樹脂フィルムの順で積層させた電磁波シールド性シートであり、前記接着剤層が接着剤とベンゾトリアゾール系化合物を含む層であることを特徴とする。
【０００９】
［基材フィルム］
本発明で使用される基材フイルムとしては、絶縁性で透明性に優れたフィルムがよく、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等からなる樹脂フィルムが好ましく、より好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルムである。
【００１０】
また、この基材フイルムの厚さは、６〜３８μｍ、好ましくは１０〜２５μｍであり、６μｍ未満では本発明の電磁波シールド性シートとしての性能は問題ないが、加工工程において基材が薄すぎるために不具合を発生する可能性が高くなる。一方３８μｍを超えると本発明の電磁波シールド性シートとしての難燃性が低下するとともに養生用シートに求められる柔軟性が低下する。
【００１１】
［銅層］
本発明の銅層は基材フィルム上に積層されるものであり、電磁波を遮蔽する役割を担う層である。銅層としては、例えば無電解めっき、電解めっき、蒸着などの処理により形成するものや、銅箔などを使用でき、好ましくは、特開2008-163371公報に記載されている方法により形成するのがよい。具体的には、基材フィルム上に、還元性ポリピロール微粒子とバインダーとを含む塗料をコーティングしてめっき下地層を形成し、続いてｐｄ等の触媒金属を吸着させて、無電解めっき法により銅層を形成する方法である。なお、特開2008-163371号公報にも記載されているように、基材フィルム上に、導電性ポリピロール微粒子とバインダーとを含む塗料をコーティングして塗膜層を形成し、続いて脱ドープ処理を行ってめっき下地層を形成し、続いてｐｄ等の触媒金属を吸着させて、無電解めっき法により銅層を形成してもよい。
【００１２】
なお、銅層は基材フィルムの全面に設けてもよいが、パターン状に設けてもよく、例えば、格子柄、亀甲柄等のパターン状に設けることができる。そして、基材フィルム上にパターン状の銅層を設けることで、透視性を付与することが出来るので、例えば、養生シートや間仕切りシートなどの透視性が必要な用途に最適であり、作業管理上好都合である。
【００１３】
［接着剤層］
本発明の接着剤層は、接着剤とベンゾトリアゾール系化合物を含む層であり、この層にベンゾトリアゾール系化合物が含まれることにより、軟質塩化ビニルフィルムが経時で変色するのを抑えることができる。
【００１４】
接着剤の材質としては、例えばアクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂などの接着剤が使用され、特に可撓性および接着強度などの面からポリエステル系樹脂やポリウレタン系樹脂のものが好ましい。
【００１５】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば１，２，３−ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、１−[Ｎ,Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル]ベンゾトリアゾール、１−[Ｎ,Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル]メチルベンゾトリアゾールなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系化合物は、接着剤の固形分に対して０．１〜１５％（固形分比）配合するのがよく、好ましくは１〜５％配合するのがよい。ベンゾトリアゾール系化合物の配合量が少なすぎると、軟質塩化ビニルフィルムが経時で変色するのを抑え難く、また、配合量が多すぎると、接着剤層としての接着性が不十分となり易い。
【００１６】
接着剤層の厚さは、１〜２０μｍ、好ましくは３〜１０μｍであり、１μｍ未満では接着確保が難しく、一方２０μｍを超えると難燃性に悪影響を及ぼす。
【００１７】
接着剤層を形成する方法としては、少なくとも接着剤とベンゾトリアゾール系化合物を含む接着剤塗工液を、銅層を設けた基材フィルム上に塗布する方法がよく、その塗布方法としては、特に限定されるものではないが、スプレー、リバースコート、グラビアコート、バーコートなどの方法が挙げられる。
【００１８】
また、接着剤層に難燃剤などを含ませてもよい。この場合の難燃剤としては、含ハロゲン縮合リン酸エステルなどが挙げられる。
【００１９】
［軟質塩化ビニル樹脂フィルム］
本発明の軟質塩化ビニルフイルムは接着剤層上に積層されるものであり、難燃性を高める役割を担う層である。例えば養生シートや間仕切シートなどの用途において、難燃性の法定基準に合格するためには必要な層である。また、基材フィルムの銅層を設けていない面に、接着剤層を介して軟質塩化ビニル樹脂フィルムを更に設けてもよい。
【００２０】
この軟質塩化ビニル樹脂フイルムの主成分たる塩化ビニル系樹脂は、ポリ塩化ビニル（塩化ビニル単独重合体）、および塩化ビニルと他のモノマー、例えばエチレン酢酸ビニルなどを含むものである。また、この塩化ビニル系樹脂には、一般的に可塑剤として、ジオクチルフタレート、ジイソブチルフタレート、トリクレジルホスフエート、トリフエニルホスフエート、などのほか、トリメリット酸エステル系可塑剤、エポキシ系可塑剤、ポリエステル系高分子可塑剤などが含有している。特に難燃性可塑剤を含むものが好ましく、この軟質ポリ塩化ビニルフイルムとしてのＪＩＳ Ｋ−７２０１による酸素指数は２８以上、好ましくは２９以上であることが望ましい。
【００２１】
なお、前記の可塑剤のほかに例えば通常の安定剤、着色剤、充填剤、防黴剤、帯電防止剤および滑剤も併用できる。また、前記安定剤としては、例えばステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウムなどの金属石鹸、前記充填剤としては、五酸化アンチモンなどの無機質充填剤やその他の有機質充填剤、前記防黴剤としては１０,１０′−オキシビスフエノキシアルシン、Ｎ−（フルオロジクロロメチルチオ）−フタルイミドなどが使用できる。
【００２２】
また、この軟質ポリ塩化ビニルフイルムの厚さは、０．０３〜０．３ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．１５ｍｍであり、０．０３ｍｍ未満では難燃性能が悪化し易く、一方０．３ｍｍを超えると燃焼試験の際、炎によるシートの穴あきに時間がかかるので、燃焼性能が悪くなり易い。
【００２３】
さらに、ホコリなどが付着し、視認性を妨げる可能性があるため、軟質塩化ビニル樹脂フィルムに帯電防止剤を添加または表面コートしても良い。これにより、経時でのホコリ付着を防止でき、視認性を維持することが可能となる。
【００２４】
以上の構成において、電磁波シールド性、透視性、難燃性、経時での耐変色性をも兼ね備えた電磁波シールド性シートを提供することができる。そして、電磁波シールド性を必要とする工事用シート、間仕切用シートとして有効である。また、本発明の電磁波シールド性シートを、例えば配線結束用のチューブや、スキミング防止用のカードケースなどに加工して使用してもよい。
【実施例】
【００２５】
以下に実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００２６】
（還元性ポリピロール微粒子とバインダーとを含む塗料の調製）
アニオン性界面活性剤（花王（株）社製：ペレックスＯＴ−Ｐ）０．４２ｍｍｏｌ、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系ノニオン界面活性剤（花王（株）社製：エマルゲン４０９Ｐ）２．１ｍｍｏｌ、トルエン５０ｍＬ、イオン交換水１００ｍＬを加えて２０℃に保持しつつ乳化するまで撹拌した。得られた乳化液にピロールモノマー２１．２ｍｍｏｌを加え、１時間撹拌し、次いで過硫酸アンモニウム６ｍｍｏｌを加えて２時間重合反応を行った。反応終了後、有機相を回収し、イオン交換水で数回洗浄して、トルエンに分散した還元性能を有する還元性ポリピロール微粒子を得た。
続いて、得られたトルエン分散液中の還元性ポリピロール微粒子に、バインダー(ＤＩＣ（株）社製：スーパーベッカミンJ-８２０)を還元性ポリピロール微粒子１質量部に対して１質量部加えて、還元性ポリピロール微粒子とバインダーとを含む塗料を得た。
【００２７】
（実施例１）
［手順１］
先ず２５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム(東レ（株）社製：ルミラーＳ１０)の片面に、上記調整された還元性ポリピロール微粒子とバインダーとを含む塗料を、グラビア校正機（松尾産業（株）社製：Ｋ３０３マルチコーター）を用いて、格子状にＬ／Ｓ＝１５０／８５０μｍ、開口率８５％になる様に印刷し、その後、１２０℃の乾燥オーブン中に１０分間入れて乾燥し、厚みが２μｍのめっき下地層を得た。
［手順２］
続いて、得られためっき下地層が形成されたフィルムを、０．０２％塩化パラジウム−０．０１％塩酸水溶液中に３５℃で７分間浸漬後、水道水で水洗した。
［手順３］
続いて、該フィルムを無電解銅めっき浴（奥野製薬工業（株）社製：ＡＴＳアドカッパーＩＷ浴）に浸漬して、３５℃で２０分間浸漬して、格子状の銅層を得た。
［手順４］
続いて、銅層を設けたフィルムを、防錆剤処理液（メルテックス（株）社製：ＣＵ−５６）に浸漬し、銅層上に防錆処理を行なった。
［手順５］
続いて、防錆処理されたフィルム上に、接着剤とベンゾトリアゾール系化合物を含んだ接着剤塗工液を厚さが１０μｍ（乾燥）となるように塗布し、接着剤層を得た。
なお、接着剤塗工液としては、ポリエステル系接着剤(高松油脂（株）社製：ペスレジンＳ−２５０)と硬化剤(住友バイエルウレタン（株）社製：スミジュールＮ３３００)を重量比１０：１で混合し、ベンゾトリアゾール系化合物(城北化学（株）社製：ＢＴ−１２０)を接着剤の固形分に対して５％（固形分比）添加した。
［手順６］
続いて、接着剤層上に、軟質塩化ビニル樹脂フイルム(アキレス（株）社製：フラーレ)を貼り合わせ、電磁波シールド性シートを得た。
【００２８】
（実施例２）
めっき下地塗料を、グラビア校正機（松尾産業（株）社製：Ｋ３０３マルチコーター）を用いて、格子状にＬ／Ｓ＝１００／２３０μｍ、開口率５０％になる様に印刷した以外は、実施例１と同様の方法にて電磁波シールド性シートを得た。
【００２９】
（実施例３）
ベンゾトリアゾール系化合物(城北化学（株）社製：ＢＴ−１２０)を接着剤の固形分に対して１％（固形分比）添加した以外は、実施例１と同様の方法にて電磁波シールド性シートを得た。
【００３０】
（比較例１）
ベンゾトリアゾール系化合物を添加しなかった以外は、実施例１と同様の方法にて電磁波シールド性シートを得た。
【００３１】
（比較例２）
ベンゾチアゾール系化合物 (関東化学(株)社製：２−ベンゾチアゾールチオール)を接着剤の固形分に対して５％（固形分比）添加した以外は、実施例１と同様の方法にて電磁波シールド性シートを得た。
【００３２】
（比較例３）
ベンゾトリアゾール系化合物を添加せず、銅表面にニッケルめっきを施した以外は、実施例１と同様の方法にて電磁波シールド性シートを得た。
【００３３】
（物性評価）
実施例１〜３、比較例１〜３において得られた電磁波シールド性シートにおいて、電磁波シールド性、全光線透過率、塩ビの変色性について評価を行った。結果を表１に示す。なお、評価方法については以下の方法を採用した。
【００３４】
電磁波シールド性は、ＫＥＣ法（関西電子工業振興センター法）にて電磁波シールド性[ｄｂ]を測定した。
【００３５】
全光線透過率は、ヘイズメーター(ＪＩＳ Ｋ−７１０５準拠)にて全光線透過率を求めた。
【００３６】
塩ビの変色性は、得られた電磁波シールド性シートを７０℃,９５％ＲＨの環境下で１０日間経過させた後、電磁波シールド性シートにおける軟質塩化ビニル樹脂フィルムの色の変化を確認した。その結果、変化しないものを○、変化したものを×とした。
【００３７】
【表１】
2014017288.tif 000002