(57)【要約】【課題】押出成形機や射出成形機において、優れた洗浄効果が得られると共に、研磨作用が殆どなくて洗浄による成形機内の摩耗を回避し得、かつ洗浄用組成物の吐出後、成形機内にこの組成物が残ってしまっても、これを取り除く作業が容易となる押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物及び押出成形機又は射出成形機の洗浄方法を提供する。【解決手段】セルロースエーテルと、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒とを含む押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物であって、セルロースエーテルの溶媒中での濃度が、１０質量％以上である押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエーテルと、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒とを含む押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物であって、セルロースエーテルの溶媒中での濃度が、１０質量％以上である押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
【請求項２】
前記セルロースエーテルを、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒中で加熱溶融して、冷却固化した後、更に粉砕することにより得られる請求項１に記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
【請求項３】
前記セルロースエーテルが、アルキルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース、ヒドロキシアルキルアルキルセルロース又はこれらのステアリルエーテルもしくはセルロース系腸溶性基材であることを特徴とする請求項１又は２に記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
【請求項４】
前記水溶性の多価アルコールが、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール又はグリセリンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
【請求項５】
前記水溶性の多価アルコールエーテルが、エチレングリコールエチルエーテル又はトリプロピレングリコールメチルエーテルであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
【請求項６】
前記水溶性の多価アルコールエステルが、エチルグリコレート、グリセリルモノアセテート又はグリセリルジアセテートであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
【請求項７】
前記水溶性のエタノールアミン類が、モノエタノールアミン又はジエタノールアミンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
【請求項８】
セルロースエーテルと、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒とを含む押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物を、洗浄により除去される物質の融点以上の温度で押出成形又は射出成形することにより、押出成形機又は射出成形機を洗浄する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、押出成形機又は射出成形機内に残留した熱可塑性樹脂や添加剤等の残留物、特に建材、工業、医薬用の押出成形機又は射出成形機内の残留物を洗浄除去するための押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物及び押出成形機又は射出成形機の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に押出成形機又は射出成形機を用いた樹脂成形においては、成形機内を内部清掃しなければならない場合がある。例えば、成形材料を変更して成形する場合においては、成形機内にはその前に成形された異種の成形材料が残留しているため、この状態の成形機で変更後の成形材料を成形すると、成形機内の残留物が不純物として変更後の成形材料に混入してしまい、得られる成形品の品質を低下させたり、品質規格外の成形品となってしまうことから、成形材料の変更の際には成形機内の洗浄が行われる。
【０００３】
また、同一の成形材料を続けて成形する場合においても、その一部の材料が成形機内から吐出されずに長い間成形機内に滞留してしまうと、その間の熱履歴により炭化して、成形機内に炭化物が残留してしまう。このような炭化物が成形機内に存在すると、前記と同様に、得られる成形品の品質を低下させてしまう等の問題を生じることから、同一の成形材料を連続して成形するような場合でも、一定期間ごとに成形機内の洗浄が行われる。
【０００４】
このような成形機内の洗浄は、従来では成形機を分解して実施されていたが、この成形機を分解するのに多大な時間と労力を要し、生産性を著しく低下させてしまうことから、近年このような成形機の分解を伴わずに、成形機内に導入して通常の成形操作を実施するだけで成形機内の洗浄を行うことのできる洗浄剤の開発が進められており、例えば次のような洗浄剤が提案されている。
【０００５】
即ち、特許文献１（特開平２−３０８９００号公報）には、熱可塑性樹脂７０〜９５質量％とガラス繊維３０〜５質量％とからなる成形機用洗浄剤が記載されている。また、特許文献２（特開平５−４２５４６号公報）には、熱可塑性樹脂に、長さ２ｍｍ以上のガラス繊維、炭素繊維等の繊維状充填材を配合した成形機用洗浄剤が記載されている。
【０００６】
特許文献３（特開２０００−３４４９９号公報）には、熱可塑性樹脂に、特定サイズの溶融しない木粉等の有機系充填材を特定量含有させるとともに、この有機系充填材に対して特定量となる滑剤を含有させた熱可塑性樹脂組成物が、成形機用洗浄剤として優れた洗浄効果を示すことが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平２−３０８９００号公報
【特許文献２】特開平５−４２５４６号公報
【特許文献３】特開２０００−３４４９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１では、ガラス繊維等の無機充填材を含有しているが、無機充填材は一般に成形機内を研磨する作用を有することが知られており、このような無機充填材を高率に含有する洗浄剤を長期に亘り使用した場合、スクリューやシリンダー等を摩耗させてしまうことが懸念される。特許文献２においても、特許文献１と同様に、成形機用洗浄剤（パージ剤）にはガラス繊維を含有しており、スクリューやシリンダー等を摩耗させてしまうことが懸念される。一方、特許文献３では、成形機用洗浄剤に含まれる木材類は加熱しても溶融することがないが、使用後に該木材類は熱可塑性樹脂組成物と共に成形機内に残ってしまい、これらを取り除くことが困難となる問題があった。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、押出成形機や射出成形機において、優れた洗浄効果が得られると共に、研磨作用が殆どなくて洗浄による成形機内の摩耗を回避し得、かつ洗浄用組成物の吐出後、成形機内にこの組成物が残ってしまっても、これを取り除く作業が容易となる押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物及び押出成形機又は射出成形機の洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、セルロースエーテルに、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒を混合する、又はこれを加熱溶融して、冷却固化した後、更に粉砕することにより得られる洗浄用組成物であって、セルロースエーテルの溶媒中での濃度が、１０質量％以上である押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物を用いることにより、押出成形機や射出成形機の洗浄において、優れた洗浄効果が得られると共に、研磨作用が殆どなくて洗浄による成形機内の摩耗を回避し得、かつ洗浄用組成物の吐出後、成形機内にこの組成物が残ってしまっても、これを取り除く作業が容易となることを見出し、本発明をなすに至った。
【００１１】
従って、本発明は、下記に示す押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物及び押出成形機又は射出成形機の洗浄方法を提供する。
〔１〕
セルロースエーテルと、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒とを含む押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物であって、セルロースエーテルの溶媒中での濃度が、１０質量％以上である押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
〔２〕
前記セルロースエーテルを、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒中で加熱溶融して、冷却固化した後、更に粉砕することにより得られる〔１〕に記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
〔３〕
前記セルロースエーテルが、アルキルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース、ヒドロキシアルキルアルキルセルロース又はこれらのステアリルエーテルもしくはセルロース系腸溶性基材であることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
〔４〕
前記水溶性の多価アルコールが、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール又はグリセリンであることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
〔５〕
前記水溶性の多価アルコールエーテルが、エチレングリコールエチルエーテル又はトリプロピレングリコールメチルエーテルであることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
〔６〕
前記水溶性の多価アルコールエステルが、エチルグリコレート、グリセリルモノアセテート又はグリセリルジアセテートであることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
〔７〕
前記水溶性のエタノールアミン類が、モノエタノールアミン又はジエタノールアミンであることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物。
〔８〕
セルロースエーテルと、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒とを含む押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物を、洗浄により除去される物質の融点以上の温度で押出成形又は射出成形することにより、押出成形機又は射出成形機を洗浄する方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物によれば、優れた洗浄効果が得られると共に、研磨作用が殆どなくて洗浄による成形機内の摩耗を回避し得、かつ洗浄用組成物の吐出後、成形機内にこの組成物が残ってしまっても、これを取り除く作業が容易である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施に用いる撹拌装置の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の押出成形機又は射出成形機洗浄用組成物は、セルロースエーテルと、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上の溶媒とを含む。
【００１５】
本発明で使用される水溶性の溶媒は、水溶性の多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル及びエタノールアミン類から選ばれる１種又は２種以上である。これらは加熱することによってセルロースエーテルを溶融するもの全てが該当する。この場合、多価アルコールとしては、分子量３００以下、特に１５０以下のものが好ましく、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、グリセリン等が挙げられる。多価アルコールエーテルとしては、炭素数１〜６、特に１〜４の１価脂肪族化合物のモノエーテル、ジエーテル、トリエーテル等が好ましく、例えば、エチレングリコールエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル等が挙げられる。多価アルコールエステルとしては、炭素数１〜６、特に１〜４の１価脂肪族カルボン酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル等が好ましく、例えば、エチルグリコレート、グリセリルモノアセテート、グリセリルジアセテート等が挙げられる。エタノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等が挙げられる。
【００１６】
本発明で使用されるセルロースエーテルは、アルキルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース、ヒドロキシアルキルアルキルセルロース又はこれらのステアリルエーテル、もしくはヒドロキシアルキルアルキルセルロースアセテートサクシネート又はヒドロキシアルキルアルキルセルロースフタレート等のセルロース系腸溶性基材であることが好ましく、特には、アルキルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース、ヒドロキシアルキルアルキルセルロース、ヒドロキシアルキルアルキルセルロースステアロキシエーテル、セルロース系腸溶性基材が好ましい。これらの中でも、メチルセルロース（ＭＣ）、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース（ＨＥＭＣ）、ヒドロキシエチルエチルセルロース（ＨＥＥＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート（ＨＰＭＣＡＳ）、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートが好ましい。具体的には、メトキシル基が１０〜４０質量％のメチルセルロース（ＭＣ）のごときアルキルセルロース、ヒドロキシプロポキシル基が４０〜７０質量％のヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエトキシル基が３０〜７０質量％のヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）のごときヒドロキシアルキルセルロース、メトキシル基が１０〜４０質量％で、ヒドロキシアルキル基が３〜３０質量％のヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）ないしはヒドロキシエチルメチルセルロース（ＨＥＭＣ）、エトキシル基が５〜２０質量％で、ヒドロキシエトキシル基が１０〜４５質量％のヒドロキシエチルエチルセルロース（ＨＥＥＣ）のごときヒドロキシアルキルアルキルセルロース、ステアリルオキシヒドロキシプロポキシル基が０．２〜０．６質量％のごときヒドロキシプロピルセルロースステアロキシエーテル、アセチル基が５〜１４質量％、サクシノイル基が４〜１８質量％、メトキシル基が２０〜２６質量％、ヒドロキシプロポキシル基が５〜１０質量％のヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート（ＨＰＭＣＡＳ）、カルボキシベンゾイル基２１〜３５質量％、メトキシル基１８〜２４質量％、ヒドロキシプロポキシル基５〜１０質量％のごときヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート等が挙げられる。
これらセルロースエーテルは、１種を単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。
【００１７】
なお、これらの置換度はＪ．Ｇ．Ｇｏｂｌｅｒ，Ｅ．Ｐ．Ｓａｍｓｅｌ，ａｎｄ  Ｇ．Ｈ．Ｂｅａｂｅｒ，Ｔａｌａｎｔａ，９，４７４（１９６２）に記載されているＺｅｉｓｅｌ−ＧＣによる手法に準じて測定できる。
【００１８】
本発明のセルロースエーテルは、ゲル状態での固さを得るためには重量平均分子量の高いものが好ましく、また、ゲル状態での流動性を得るためには、重量平均分子量の低いものが好ましい。セルロースエーテルの重量平均分子量の指標に相当する値として、ＪＩＳ  Ｋ  ２２８３−１９９３に規定されるウベローデ粘度計において、２０℃における２質量％水溶液の測定粘度の値が３ｍＰａ・ｓ以上のもの、好ましくは４０ｍＰａ・ｓ以上であるセルロースエーテルが望ましい。なお、上限としては３０万ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。
【００１９】
本発明において、セルロースエーテルの上記溶媒中での濃度は、加熱によって溶融して、冷却によってゲルが形成することができれば特に差し支えないが、本発明の目的の如く高濃度のセルロースエーテルでゲルが形成されることが望ましく、かかる観点からセルロースエーテルの濃度としては、１０質量％以上、好ましくは２０〜８０質量％、より好ましくは４０〜７０質量％が望ましい。なお、セルロースエーテルが多すぎると加熱しても溶融しない場合がある。
【００２０】
本発明の新規な洗浄用組成物は、上記溶媒とセルロースエーテルとを室温（０〜４０℃）で分散混合したもの（ｉ）であっても、分散混合した後、加熱することで、非イオン性セルロースエーテルが溶媒に溶融した状態となり、更にこの溶液を常温付近（０〜５０℃）まで冷却することにより固化させ、粉砕することにより得たもの（ｉｉ）であってもよい。
【００２１】
ここで、上記溶媒とセルロースエーテルとを分散混合する装置としては、ダルトン（株）のスパルタンリューザー噴霧混合装置、ホソカワミクロン（株）のフレキソミックスの他、レデイゲ社や太平洋機工（株）のプロシェアー型混合装置、ハイブレンダー等のナウター型ミキサー、コーン型ブレンダー、Ｖ型ブレンダー等が挙げられる。アルキルセルロース等のセルロースエーテルを均一に分散した状態で溶媒を均一に添加させる点で、噴霧混合装置が好ましい。
【００２２】
ここで、本発明の実施例に好適な撹拌装置としては、図１に示す如き装置が例示される。この撹拌装置１は処理槽２を有し、この処理槽２の一側部の高さ方向ほぼ中央部より第１回転軸３が水平方向に沿って処理槽２の内部に回転可能に挿入されており、この第１回転軸３の外周部には多数の撹拌回転翼４が突設され、図示していないモーター等の駆動装置によって第１回転軸３が回転し、これと一体に撹拌回転翼４が同方向に回転するようになっている。また、上記第１回転軸３の処理槽２内突出方向と対向する処理槽２の他側部には、同様にモーター等の駆動装置（図示せず）によって上記第１回転軸３と反対方向に回転する第２回転軸５が配設され、この第２回転軸５の処理槽２内への突出先部には、上記処理槽２の他側部内壁及び上部内壁、底部内壁に沿うようにリボン状又はカゴ状の撹拌翼６が取り付けられ、第２回転軸５が回転すると、これと一体に上記第１回転軸３の撹拌回転翼４の回転方向と反対方向に回転するようになっているものである。なお、図中７は、圧縮空気と溶媒を供給する２流体ノズルである。また、セルロースエーテルは処理槽２上部に形成された投入口８より供給される。
【００２３】
この場合、上記セルロースエーテルの流動速度は、例えば、図１に示したようなダルトン（株）のスパルタンリューザーの如く、１本の撹拌回転翼が処理槽の中心部分に水平に設置され、直径２５０ｍｍの２Ｌ容器中にセルロースエーテルを０．５ｋｇ入れた場合の回転翼の速度にして、１，５００〜１０，０００ｒｐｍが好ましく、特に２，０００〜７，０００ｒｐｍが好ましい。この速度が遅すぎると、溶媒が均一に付着しない場合がある。一方、早すぎると、回転翼の摩耗が激しく、装置の損傷が起こる場合がある。
【００２４】
図１に示すように、撹拌回転翼に対して反対に回るリボン状又はカゴ状の撹拌翼が撹拌回転翼の外部に水平に設置され、回転する機構を有する構造の撹拌装置を使用するのが望ましい。即ち、高速で撹拌する回転翼により発生する粉粒物の流動に対して、反対方向の流れを作ることで、流体が撹拌槽内で滞留することなく、均一に撹拌させるために、この撹拌回転翼に対して反対に回るリボン状又はカゴ状の撹拌翼を設置することが好ましい。
【００２５】
この撹拌翼の回転速度としては、好ましくは１０〜１，０００ｒｐｍ、特に好ましくは２０〜１００ｒｐｍである。この速度を遅くしすぎるとこの粉粒物の滞留が抑制されない場合があり、早すぎると粉粒物同士の衝突が早すぎて、粉砕作用が発生してしまうので好ましくない場合がある。
【００２６】
また、セルロースエーテルに溶媒を添加する方法としては、図１に示すような２流体ノズルが用いられ、この２流体ノズルの構造について説明すると、中心ノズルから溶媒を、中心ノズルを囲むようにした空気用ノズルから圧縮空気をそれぞれ導入するものであり、溶媒は圧縮空気を同伴して、セルロースエーテルの表面に添加される。
該２流体ノズルの噴射角度は、好ましくは３０〜１１０°、更に好ましくは４５〜１００°、特に好ましくは５０〜８０°である。２流体ノズルの角度が上記３０〜１１０°の範囲を外れると、溶媒が目的とするセルロースエーテルに付着せず、撹拌装置の内壁面又は撹拌翼部分に付着する場合がある。
【００２７】
溶媒の供給速度は、１〜５００ｇ／ｍｉｎ、特に２〜２０ｇ／ｍｉｎとすることが好ましく、供給速度が遅すぎると、目的物を得るのに時間がかかり、生産性が悪くなる場合がある。一方、早すぎると、均一に溶媒がセルロースエーテルに付着しない場合がある。
【００２８】
溶媒の平均噴霧液滴径は、添加対象のセルロースエーテルの平均粒径より小さくして噴霧するのが望ましい。好ましくはセルロースエーテルの１／１０以下、更に好ましくは１／５０以下である。溶媒の平均噴霧液滴径が大きすぎると、撹拌流動しているセルロースエーテル粉末全てに均一に添加することが困難になる場合がある。なお、平均噴霧液滴径は、レーザー回折式の粒度測定装置で測定できる。
【００２９】
本発明において、（ｉｉ）の洗浄用組成物とする場合、セルロースエーテルを溶媒に溶融させるために加熱する温度は、使用した溶媒の沸点以下であることが必要である。この温度は使用する溶媒とセルロースエーテルの種類によって多少変化するが、概ね使用する溶媒の沸点から好ましくは１０〜７０℃、より好ましくは１０〜４０℃ほど低い温度である。
【００３０】
また、本発明で得られる（ｉｉ）の洗浄用組成物は、例えば、ホットメルトエクストルーダーｍｉｎｉＬａｂ（サーモフィッシャーサイエンティフィック）にて加熱溶融押出した後、室温にて常温付近（０〜５０℃）まで冷却固化させる。ここで、分散混合加熱溶融後の冷却時に、組成物の形成を阻害しない程度に、添加剤を加えることが可能である。添加剤としては、極力水分を含有しないものが好ましく、例えば顔料や染料、無機物としてセメント類やアルミナ、水酸化アルミナ、水酸化マグネシウム等の無機水酸化物のほか、ベントナイト、タルク、カオリン等の粘土材料、加熱温度で融解しにくい有機物等が挙げられる。
【００３１】
上記により得られた（ｉｉ）の洗浄用組成物は、溶融した温度領域に再び加熱すると溶液に戻ることができる特徴を有している。また、この洗浄用組成物は、実際に使用する０〜５０℃の常温下において固形物として扱うことが可能であり、かつ、溶液と同様に水や他の溶剤と混ざり合うことができるものである。こうして得られた固形物は、洗浄剤として使用する際に溶融し易いように、切断機によってペレット化することで、洗浄用組成物として使用可能な形態に加工することができる。更に、粉砕して粒状及び粉状まで、粒度調整を行ってもよい。粉砕には、ジェットミル、ローラミル、ボールミル、ナイフミル、メッシュミル、カッターミルを用いることが可能であり、比較的低温で粉砕が可能なカッターミルが好ましい。粉砕機系内が高温化してしまう場合は、冷風をかけながら粉砕することもできる。
【００３２】
得られた洗浄用組成物を用いて押出成形機又は射出成形機を洗浄する方法は、押出成形機又は射出成形機に、本来押出成形又は射出成形する樹脂の代わりに洗浄用組成物を用いて押出成形又は射出成形する以外は、本来の押出成形又は射出成形と同様に行われる。この場合、洗浄時の温度は、好ましくは押出成形機又は射出成形機に残存している洗浄対象である樹脂の融点以上であって、かつ対象溶媒の沸点以下、より好ましくは１００〜２３０℃、更に好ましくは１１０〜１８０℃である。
【００３３】
また、洗浄対象である樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、塩化ビニール、塩化ビニリデン等の塩素化樹脂、ポリスチレン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド樹脂、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂、アセチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルアルコール等のビニル系樹脂などが挙げられる。
【実施例】
【００３４】
以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００３５】
［実施例１〜１６］
図１に示すように、撹拌槽の中心部に水平回転する第１回転軸につけられた撹拌回転翼とその回転翼の周囲に反対方向に回転するリボン状の撹拌翼が設置されたダルトン（株）製、ＲＭＯ−４Ｈ（有効容積２Ｌ）スパルタンリューザー混合造粒装置に、表１に示すセルロースエーテル（表２に粘度及び置換基を示す）を０．５ｋｇ投入し、毎分４，７００回転で回転翼を回転させ、この回転翼の周囲を毎分２５回転でリボン状撹拌翼を逆方向に回転させ、セルロースエーテルの粉体を１分間流動させた。
次に、表１に示す各種溶媒１００ｇを０．０３ＭＰａにて装置に挿入しつつ、２０℃、供給速度１５ｇ／ｍｉｎにて２流体ノズルにより圧縮空気を同伴しながら、各種セルロースエーテルが表１の濃度となるように、各種溶媒をセルロースエーテルの表面へ噴霧した。
【００３６】
噴霧処理されたセルロースエーテル粉粒体である洗浄用組成物を、サーモフィッシャー社製溶融押出成形機（ＨＡＡＫＥ  Ｍｉｎｉ  ＬａｂＩＩ）内に入れ、押出成形機内に残存している後述する洗浄対象樹脂材料を洗浄した。即ち、ジルコニア粉末１００質量部に対しポリアクリル系バインダー（第一工業製薬社製  商品名  セラモＩＢ−２７）１８質量部を１５０℃で成形した後、成形機内に残った樹脂を洗浄対象樹脂として、本発明の洗浄用組成物を適用した。洗浄対象樹脂が１５０℃にて溶融するため、除去される物質の融点以上であり、かつ洗浄用組成物の融点以上である表１に示す洗浄温度として吐出速度２０ｃｍ／分で、幅５ｍｍ、厚み２ｍｍのシート成形物を洗浄対象樹脂ごと押出成形した。その後、成形物が吐出しなくなってから、２分後に溶融押出成形機の蓋を開けて成形機内に残留している組成物を取り出し、その量を計量したところ１ｇ以下であり、成形機を摩耗させることなく、水洗後、拭き取るだけできれいに洗浄することができた。
【００３７】
［実施例１７、１８］
表１に示す溶媒１００ｇに対して、表２に示す粘度及び置換基を有する各種セルロースエーテルを表１の濃度となるように、２種のセルロースエーテルの混合物を使用した以外は、実施例１〜１６と同様にして各種溶媒をセルロースエーテルの表面へ噴霧した。
【００３８】
噴霧処理されたセルロースエーテル粉粒体である洗浄用組成物を、サーモフィッシャー社製溶融押出成形機（ＨＡＡＫＥ  Ｍｉｎｉ  ＬａｂＩＩ）内に入れ、ニフェジピン（ダイト社）：ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート（ＨＰＭＣＡＳ）（信越化学工業（株）製ＡＱＯＡＴ）＝１：２の混合粉末を１６０℃で成形した後に成形機内に残った樹脂を洗浄対象樹脂として、本発明の洗浄用組成物を適用した。洗浄対象樹脂が１６０℃にて溶融するため、除去される物質の融点以上であり、かつ洗浄用組成物の融点以上である表１に示す洗浄温度として吐出速度２０ｃｍ／分で、幅５ｍｍ、厚み２ｍｍのシート成形物を洗浄対象樹脂ごと押出成形した。その後、成形物が吐出しなくなってから、２分後に溶融押出成形機の蓋を開けて成形機内に残留している組成物を取り出し、その量を計量したところ１ｇ以下であり、成形機を摩耗させることなく、水洗後、拭き取るだけできれいに洗浄することができた。
【００３９】
［実施例１９〜３４］
表３に示す溶媒１００ｇに対して、表２に示す粘度及び置換基を有する各種セルロースエーテルを表３の濃度となるように、実施例１〜１６と同様にして各種溶媒をセルロースエーテルの表面へ噴霧した。
【００４０】
噴霧処理されたセルロースエーテル粉粒体である洗浄用組成物を、サーモフィッシャー社製溶融押出成形機（ＨＡＡＫＥ  Ｍｉｎｉ  ＬａｂＩＩ）内に入れ、表３に示す加熱温度により吐出速度２０ｃｍ／分で、幅５ｍｍ、厚み２ｍｍのシート成形物を押出成形した。
その後、表３に示す加熱温度の東洋精機社製溶融押出装置（キャピログラフＥ−３Ｂ）に入れ、５分間保持した後、直径１ｍｍの棒状成形体を吐出速度５０ｃｍ／分で押出成形し、表３に示すチップ形成温度に冷やしてアイテック社製デジタルカッター（ＺＫＣ−１６Ｔ）にて直径１ｍｍ、長さ１ｍｍ程度のチップ状に裁断した。
【００４１】
このようにして調製されたチップ状の洗浄用組成物を、サーモフィッシャー社製溶融押出成形機（ＨＡＡＫＥ  Ｍｉｎｉ  ＬａｂＩＩ）内に入れ、押出成形機内に残存している後述する洗浄対象樹脂材料を洗浄した。即ち、ジルコニア粉末１００質量部に対しポリアクリル系バインダー（第一工業製薬社製  商品名  セラモＩＢ−２７）１８質量部を１５０℃で成形した後、成形機内に残った樹脂を洗浄対象樹脂として、本発明の洗浄用組成物を適用した。洗浄対象樹脂が１５０℃にて溶融するため、除去される物質の融点以上であり、かつ洗浄用組成物の融点以上である表３に示す洗浄温度として吐出速度２０ｃｍ／分で、幅５ｍｍ、厚み２ｍｍのシート成形物を洗浄対象樹脂ごと押出成形した。その後、成形物が吐出しなくなってから、２分後に溶融押出成形機の蓋を開けて成形機内に残留している組成物を取り出し、その量を計量したところ１ｇ以下であり、成形機を摩耗させることなく、水洗後、拭き取るだけできれいに洗浄することができた。
【００４２】
［実施例３５、３６］
表３に示す溶媒１００ｇに対して、表２に示す粘度及び置換基を有する各種セルロースエーテルを表３の濃度となるように、２種のセルロースエーテルの混合物を使用した以外は、実施例１〜１６と同様にして各種溶媒をセルロースエーテルの表面へ噴霧した。
【００４３】
噴霧処理されたセルロースエーテル粉粒体である洗浄用組成物を、実施例１９〜３４と同様にしてチップ状の洗浄用組成物を調製した後、このようにして調製されたチップ状の洗浄用組成物を、サーモフィッシャー社製溶融押出成形機（ＨＡＡＫＥ  Ｍｉｎｉ  ＬａｂＩＩ）内に入れ、ニフェジピン（ダイト社）：ＨＰＭＣＡＳ（信越化学工業（株）製ＡＱＯＡＴ）＝１：２の混合粉末を１６０℃で成形した後に成形機内に残った樹脂を洗浄対象樹脂として、本発明の洗浄用組成物を適用した。洗浄対象樹脂が１６０℃にて溶融するため、除去される物質の融点以上であり、かつ洗浄用組成物の融点以上である表３に示す洗浄温度として吐出速度２０ｃｍ／分で、幅５ｍｍ、厚み２ｍｍのシート成形物を洗浄対象樹脂ごと押出成形した。その後、成形物が吐出しなくなってから、２分後に溶融押出成形機の蓋を開けて成形機内に残留している組成物を取り出し、その量を計量したところ１ｇ以下であり、成形機を摩耗させることなく、水洗後、拭き取るだけできれいに洗浄することができた。
【００４４】
【表１】
2014122328.tif 000003
【００４５】
【表２】
2014122328.tif 000004
＊１）
ＨＰＭＣ：ヒドロキシプロピルメチルセルロース
ＨＥＭＣ：ヒドロキシエチルメチルセルロース
ＭＣ：メチルセルロース
ＨＰＣ：ヒドロキシプロピルセルロース
ＨＥＥＣ：ヒドロキシエチルエチルセルロース
ＨＰＭＣＡＳ：ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート
＊２）
粘度：ＪＩＳ  Ｋ  ２２８３−１９９３に規定されるウベローデ粘度計において、２０℃における２質量％水溶液の測定粘度の値
＊３）
ＭｅＯ：メトキシル基
ＨＰＯ：ヒドロキシプロポキシル基
ＨＥＯ：ヒドロキシエトキシル基
ＥｔＯ：エトキシル基
Ａｃｅｔｙｌ：アセチル基
Ｓｕｃｓｉｎｏｙｌ：サクシノイル基
【００４６】
【表３】
2014122328.tif 000005
【符号の説明】
【００４７】
１    撹拌装置
２    処理槽
３    第１回転軸
４    撹拌回転翼
５    第２回転軸
６    撹拌翼
７    ２流体ノズル
８    投入口
【図１】
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