(57)【要約】      （修正有）【課題】複数の半導体チップ同士を接着する接着用樹脂と、互いに接着された半導体チップ同士を封止する封止樹脂との間の界面が、半導体チップの表面の意図しない位置に形成される可能性を低減可能な半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】半導体装置１０であって、接着用樹脂５を介して互いに接着される複数の半導体チップと、複数の半導体チップを封止する封止樹脂と、複数の半導体チップに含まれる第１半導体チップ２Ｂに配設され、接着用樹脂を係止するアンカー４Ｂ（Ｌ）と、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着用樹脂を介して互いに接着される複数の半導体チップと、
前記複数の半導体チップを封止する封止樹脂と、
前記複数の半導体チップに含まれる第１半導体チップに配設され、前記接着用樹脂を係止するアンカーと
を備える半導体装置。
【請求項２】
前記アンカーは、前記複数の半導体チップを載置する基板と前記第１半導体チップとの間に取り付けられるダミーワイヤを含む請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記アンカーは、前記第１半導体チップに設けられる突起を含む、
請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記アンカーは、前記接着用樹脂と前記封止樹脂との間に界面を形成する前記接着用樹脂の縁を、前記第１半導体チップの表面の電子回路が形成されているエリアの外側に係止可能な、前記第１半導体チップの縁に配設される請求項１乃至３の何れか一項に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記アンカーは、前記第１半導体チップのうち、前記複数の半導体チップを載置する基板と前記第１半導体チップとを電気的に接続するワイヤが取り付けられていない箇所に配設される請求項１乃至４の何れか一項に記載の半導体装置。
【請求項６】
複数の半導体チップを、接着用樹脂を介して互いに接着する工程と、
前記複数の半導体チップを封止樹脂により封止する工程と、
前記複数の半導体チップに含まれる第１半導体チップに、前記接着用樹脂を係止するアンカーを配設する工程と、を有する半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記アンカーは、前記複数の半導体チップを載置する基板と前記第１半導体チップとの間に取り付けられるダミーワイヤを含む請求項６に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記アンカーは、前記第１半導体チップに設けられる突起を含む請求項６または７に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記アンカーは、前記接着用樹脂と前記封止樹脂との間に界面を形成する前記接着用樹脂の縁を、前記第１半導体チップの表面の電子回路が形成されているエリアの外側に係止可能な、前記第１半導体チップの縁に配設される請求項６乃至８の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記アンカーは、前記第１半導体チップのうち、前記複数の半導体チップを載置する基板と前記第１半導体チップとを電気的に接続するワイヤが取り付けられていない箇所に配設される請求項６乃至９の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、半導体装置及び半導体装置の製造方法を開示する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置には、半導体チップと半導体チップを封止する封止樹脂との密着性を向上させたものがある（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３１７８６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
複数の半導体チップを重ねたスタック構造の半導体装置は、接着用樹脂で接着した半導体チップ同士を封止樹脂で封止することにより製造される。よって、スタック構造の半導体装置には、接着用樹脂と封止樹脂との間に界面が不可避的に形成されることになる。
【０００５】
封止樹脂による封止を行う前に接着用樹脂が変形すると、接着用樹脂と封止樹脂との間に形成される界面の位置は、半導体チップの表面の意図しない領域に形成されることになる。ここで、接着用樹脂と封止樹脂との間の界面が、半導体チップの表面のうち配線等の電子回路が形成される領域（以下、「有効エリア」という）に形成されると、接着用樹脂と封止樹脂との間の線膨張係数の相違により、接着用樹脂と封止樹脂との間の界面に位置する電子回路に熱応力が加わることになる。
【０００６】
そこで、本願は、複数の半導体チップ同士を接着する接着用樹脂と、互いに接着された半導体チップ同士を封止する封止樹脂との間の界面が、半導体チップの表面の意図しない位置に形成される可能性を低減可能な半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本願は、下記の半導体装置を開示する。
接着用樹脂を介して互いに接着される複数の半導体チップと、
前記複数の半導体チップを封止する封止樹脂と、
前記複数の半導体チップに含まれる第１半導体チップに配設され、前記接着用樹脂を係止するアンカーと、を備える、
半導体装置。
【０００８】
また、本願は、下記の半導体装置の製造方法を開示する。
複数の半導体チップを、接着用樹脂を介して互いに接着する工程と、
前記複数の半導体チップを封止樹脂により封止する工程と、
前記複数の半導体チップに含まれる第１半導体チップに、前記接着用樹脂を係止するアンカーを配設する工程と、を有する、
半導体装置の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
上記半導体装置及び半導体装置の製造方法であれば、複数の半導体チップ同士を接着する接着用樹脂と、互いに接着された半導体チップ同士を封止する封止樹脂との間の界面が
、半導体チップの表面の意図しない位置に形成される可能性が低減する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態に係る半導体装置の構造を例示した図である。
【図２】半導体装置の断面図であり、図１の符号Ａ−Ａで示した線の断面の一部を例示した図である。
【図３】半導体装置の熱サイクル試験における不具合発生のメカニズムの一例をイメージで示した図である。
【図４】複数の半導体チップを重ねたスタック構造の半導体装置を模擬した試験体の上面図である。
【図５】試験体のうち図４において「辺Ｃ」として示した側の側面図である。
【図６】試験体のうち図４において「辺Ｄ」として示した側の側面図である。
【図７】試験体の組立工程フローを示した第一の図である。
【図８】試験体の組立工程フローを示した第二の図である。
【図９】試験体の組立工程フローを示した第三の図である。
【図１０】試験体の接着用樹脂が引けている状態を示した図である。
【図１１】ワイヤの密度と接着用樹脂の引けとの関係を表した図である。
【図１２】半導体チップを基板に取り付ける工程を示した図である。
【図１３】下側の半導体チップにワイヤボンディングを施す工程を示した図である。
【図１４】上側の半導体チップを用意する工程を示した図である。
【図１５】上側の半導体チップを下側の半導体チップに接着する工程を示した図である。
【図１６】コレットを上側の半導体チップから離す工程を示した図である。
【図１７】上側の半導体チップにワイヤボンディングを施す工程を示した図である。
【図１８】半導体チップを封止樹脂により封止する工程を示した図である。
【図１９】第一変形例に係る半導体装置の一部を示した構造図である。
【図２０】第二変形例に係る半導体装置の一部を示した構造図である。
【図２１】第一例に係る突起の作製フローを示した図である。
【図２２】第二例に係る突起の作製フローを示した図である。
【図２３】第三例に係る突起の作製フローを示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について説明する。以下に示す実施形態は、本発明の一態様を例示したものであり、本発明の技術的範囲を以下の態様に限定するものではない。
【００１２】
＜半導体装置の実施形態＞
図１は、本実施形態に係る半導体装置の構造を例示した図である。本実施形態に係る半導体装置１０は、複数の半導体チップを重ねたスタック構造の半導体装置であり、封止樹脂１に封止された２つの半導体チップ２Ｕ，２Ｂを備える。なお、下記に示す実施形態や変形例では、半導体チップを２つ備える半導体装置を例に説明するが、半導体チップは３つ以上であってもよい。
【００１３】
２つの半導体チップ２Ｕ，２Ｂのうち下側に配置される半導体チップ２Ｂ（本願でいう「第１半導体チップ」の一例である）は、基板３（例えば、インターポーザ等）に固定されている。また、半導体チップ２Ｂと基板３とは、ワイヤ４Ｂにより互いに繋がっている。また、半導体チップ２Ｕは、半導体チップ２Ｂに固定されており、ワイヤ４Ｕを介して基板３と電気的に接続されている。
【００１４】
なお、ワイヤ４Ｂには、半導体チップ２Ｂと基板３とを電気的に接続する役割を担うもののみならず、後述するように、半導体チップ２Ｕを半導体チップ２Ｂに固定する接着用
樹脂５を係止する役割を担うものも含まれる。そこで、以下においては、ワイヤ４Ｂのうち、半導体チップ２Ｂと基板３とを電気的に接続する役割を担うワイヤ４Ｂについては、ワイヤ４Ｂ（Ｅ）と呼ぶことにする。また、ワイヤ４Ｂのうち、接着用樹脂５を係止する役割を担うワイヤ４Ｂについては、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）（本願でいう「アンカー」の一例である）と呼ぶことにする。なお、半導体チップ２Ｂと基板３とを電気的に接続する役割を担うワイヤ４Ｂ（Ｅ）の中には、接着用樹脂５を係止する役割を兼ね備えるものが存在し得る。そこで、接着用樹脂５を係止する役割を兼ね備えるワイヤ４Ｂ（Ｅ）については、特にワイヤ４Ｂ（ＥＬ）と呼ぶことにする。しかし、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）は、本願でいう「アンカー」に含まれるものではない。
【００１５】
半導体チップ２Ｂとサイズが同等又は同等以上の半導体チップ２Ｕを半導体チップ２Ｂに固定する接着用樹脂５には、半導体装置１０の製造プロセスの簡略化や小型化に優れるワイヤ埋め込みＤＡＦ（Die Attach Film）を用いている。よって、半導体チップ２Ｂに
接続されているワイヤ４Ｂの一部は、接着用樹脂５に埋め込まれた状態となる。
【００１６】
図２は、半導体装置１０の断面図であり、図１の符号Ａ−Ａで示した線の断面の一部を例示した図である。半導体チップ２Ｂには、半導体チップ２Ｂと基板３とを電気的に接続するワイヤ４Ｂ（ＥＬ）の他、接着用樹脂５を係止するダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）が取り付けられている。ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）は、半導体チップ２Ｂのうち図２において「辺Ａ」として示す側に設けられている。また、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）は、半導体チップ２Ｂのうち図２において「辺Ｂ」として示す側に設けられている。
【００１７】
なお、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）は、半導体チップ２Ｂと基板３とを電気的に接続する役割を司っているため、図２に示すように、半導体チップ２Ｂの有効エリア内に取り付けられている。一方、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）は、半導体チップ２Ｂと基板３とを電気的に接続する役割を司っていないため、半導体チップ２Ｂの縁であれば、半導体チップ２Ｂの有効エリア内と有効エリア外の何れにも取り付け可能である。すなわち、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）は、接着用樹脂５の縁を有効エリア外に係止可能であれば、図２に示すように半導体チップ２Ｂの有効エリア外に取り付けてもよいし、或いは、半導体チップ２Ｂの有効エリア内に取り付けてもよい。
【００１８】
接着用樹脂５を係止する役割を担うダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）の取り付け位置は、次のような観点に基づいて決定されている。
【００１９】
ワイヤ４Ｂの一部を埋め込む接着用樹脂５には、ダイボンド時にワイヤ４Ｂを変形させずにワイヤ４Ｂの周囲を充填することが求められる。また、封止樹脂１には、半導体チップ２Ｕや半導体チップ２Ｂを外部から保護することが求められる。よって、接着用樹脂５の線膨張係数は、接着用樹脂５に用いられる材料と封止樹脂１に用いられる材料との相違により、封止樹脂１の線膨張係数と異なる場合がある。接着用樹脂５の線膨張係数が封止樹脂１の線膨張係数と異なる場合、半導体装置１０の温度変化に伴い、接着用樹脂５と封止樹脂１との間の界面が移動する。
【００２０】
図３は、半導体装置１０の熱サイクル試験における不具合発生のメカニズムの一例をイメージで示した図である。例えば、接着用樹脂５の線膨張係数が、封止樹脂１の線膨張係数よりも大きい場合、接着用樹脂５と封止樹脂１との間の界面７は、半導体装置１０の温度上昇に伴って封止樹脂１側へ移動し、半導体装置１０の温度降下に伴って接着用樹脂５側へ移動する。しかし、接着用樹脂５と封止樹脂１との間の界面７のうち、半導体チップ２Ｂに接触している部分は、半導体チップ２Ｂに接着しているため、半導体チップ２Ｂの表面上を移動することは無い。この結果、半導体チップ２Ｂの表面の電子回路には、熱サイクルによる膨張及び収縮の繰り返しでストレスが加わることになる。よって、接着用樹
脂５と封止樹脂１との間の界面７は、半導体チップ２Ｂの表面のうち、少なくとも有効エリアの外側に形成されることが望まれる。
【００２１】
ところで、接着用樹脂５と封止樹脂１との間の界面７は、接着用樹脂５で接着した半導体チップ２Ｕと半導体チップ２Ｂとの間に封止樹脂１が浸入することにより形成される。よって、界面７が形成される位置は、封止樹脂１による封止を行う際の接着用樹脂５の位置により確定する。従って、封止樹脂１による封止を行う前に接着用樹脂５が変形すると、界面７は、半導体チップ２Ｂの表面の意図しない領域に形成されることになる。
【００２２】
接着用樹脂５の変形は、例えば、次のようなメカニズムにより発生する。図４は、複数の半導体チップを重ねたスタック構造の半導体装置を模擬した試験体の上面図である。試験体１１０は、半導体チップ２Ｂを模擬した模擬チップ１０２Ｂのうち図４において「辺Ｃ」として示す側にワイヤが設けられておらず、図４において「辺Ｄ」として示す側にワイヤ１０４が設けられている。
【００２３】
図５は、試験体１１０のうち図４において「辺Ｃ」として示した側の側面図である。また、図６は、試験体１１０のうち図４において「辺Ｄ」として示した側の側面図である。ワイヤ１０４は、上記半導体装置１０のワイヤ４Ｂと同様、半導体チップ２Ｂを模擬した模擬チップ１０２Ｂと基板１０３とを互いに繋いでいる。また、ワイヤ１０４の一部は、上記半導体装置１０と同様、半導体チップ２Ｕを模擬した模擬チップ１０２Ｕと模擬チップ１０２Ｂとを互いに接着する接着用樹脂１０５に埋め込まれている。
【００２４】
図７〜図９は、試験体１１０の組立工程フローを示した図である。試験体１１０を組み立てる際は、ダイシングされた後にコレットＭ１に把持され、下面に接着用樹脂１０５を付着させた模擬チップ１０２Ｕを用意する（図７）。次に、接着用樹脂１０５を付着させた模擬チップ１０２Ｕを、模擬チップ１０２Ｂに接着する（図８）。次に、コレットＭ１の真空吸着を解除し、コレットＭ１を模擬チップ１０２Ｕから離す（図９）。ここで、例えば、模擬チップ１０２Ｕの厚さが薄い等の理由により、ダイボンディング後に模擬チップ１０２Ｕの反りが顕在化すると、柔らかい接着用樹脂１０５は、模擬チップ１０２Ｕの反りで浮いた分の体積換算量だけ、図９において符号Ｈで示すように、模擬チップ１０２Ｕの中央部に向かって引けた状態になる。
【００２５】
図１０は、試験体１１０の接着用樹脂１０５が引けている状態を示した図である。ワイヤ１０４が取り付けられている「辺Ｄ」側の接着用樹脂１０５には、ワイヤ１０４が埋め込まれている。よって、ワイヤ１０４が取り付けられている「辺Ｄ」側の接着用樹脂１０５は、ワイヤ１０４のアンカー効果により、模擬チップ１０２Ｂの表面に係止されている。一方、ワイヤ１０４が取り付けられていない「辺Ｃ」側の接着用樹脂１０５には、ワイヤ１０４が埋め込まれていない。よって、ワイヤ１０４が取り付けられていない「辺Ｃ」側の接着用樹脂１０５は、ワイヤ１０４のアンカー効果が作用しない。この結果、接着用樹脂１０５の引けは、ワイヤ１０４が取り付けられている「辺Ｄ」側に比べ、図１０において符号Ｈで示すように、ワイヤ１０４が取り付けられていない「辺Ｃ」側の方が著しくなる。接着用樹脂１０５が著しく引けると、接着用樹脂１０５と封止樹脂との間の界面が、半導体チップ１０２Ｂの表面の意図しない領域に形成される可能性が高くなる。例えば、図１０において「辺Ｃ」側に示すように、接着用樹脂１０５の引けが有効エリア内にまで及ぶと、接着用樹脂１０５と封止樹脂との間の界面は、意図しない領域である有効エリア内に形成されることになる。
【００２６】
なお、接着用樹脂１０５の引けは、ワイヤ１０４の有無のみに依存するものではない。図１１は、ワイヤ１０４の密度と接着用樹脂１０５の引けとの関係を表した図である。例えば、ワイヤ１０４の取り付け量が多い箇所では、図１１において符号Ｈ１で示すように
、接着用樹脂１０５の引けが小さい。一方、ワイヤ１０４の取り付け量が少ない箇所では、図１１において符号Ｈ２で示すように、接着用樹脂１０５の引けが大きい。接着用樹脂１０５の引けが大きいと、接着用樹脂１０５と封止樹脂との間の界面は、意図しない領域である有効エリア内に大きく浸入した状態で形成されることになる。
【００２７】
そこで、本実施形態に係る半導体装置１０は、接着用樹脂５と封止樹脂１との間の界面７が、半導体チップ２Ｂの表面の有効エリア外に形成されるよう、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）の取り付け位置を決定している。すなわち、本実施形態に係る半導体装置１０は、接着用樹脂５が引けることにより、半導体チップ２Ｂの表面の有効エリア内に界面７が形成される虞のある箇所に、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）を配置している。なお、電気的な接続のために設置したワイヤ４Ｂ（Ｅ）のうち、接着用樹脂５が引けることにより、半導体チップ２Ｂの表面の有効エリア内に界面７が形成される虞のある箇所に設置されたものは、接着用樹脂５を係止する役割を兼ね備えることになるのでワイヤ４Ｂ（ＥＬ）となる。この場合、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）は、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）が備える接着用樹脂５を係止する機能を補助する役割を司る。
【００２８】
例えば、本実施形態に係る半導体装置１０の半導体チップ２Ｂのうち、図２において「辺Ａ」として示した側は、電気的接続を必要とする箇所が無いものと仮定する。一方、半導体チップ２Ｂのうち、図２において「辺Ｂ」として示した側は、電気的接続を必要とする箇所が有るものと仮定する。この場合、半導体チップ２Ｂのうち「辺Ａ」として示した側にワイヤ４Ｂが無いと、接着用樹脂５が著しく引けることになる。そこで、本実施形態に係る半導体装置１０は、半導体チップ２Ｂのうち電気的接続を必要としない箇所（例えば、半導体チップ２Ｂの縁）にダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）を取り付け、半導体チップ２Ｂの表面の有効エリア内に界面７が形成される可能性を低減している。
【００２９】
なお、図２において、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）は、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）が取り付けられている辺と異なる辺に取り付けられている。しかし、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）は、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）と同じ辺に取り付けられていてもよい。この場合、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）は、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）の隣に取り付けられていてもよいし、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）同士の間に取り付けられていてもよい。
【００３０】
以下、上記半導体装置１０の製造方法について、図１２から図１９に示す半導体装置１０の組立工程フローに従って説明する。
【００３１】
図１２は、半導体チップ２Ｂを基板３に取り付ける工程を示した図である。半導体装置１０を組み立てる際は、ダイシングした半導体チップ２ＢをコレットＭ１で真空吸着して把持し、基板３上に接着する。
【００３２】
図１３は、下側の半導体チップ２Ｂにワイヤボンディングを施す工程を示した図である。半導体チップ２Ｂを基板３に取り付けた後は、ボンダＭ２を使い、半導体チップ２Ｂと基板３との間にワイヤ４Ｂ（ＥＬ）やダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）を取り付ける。
【００３３】
図１４は、半導体チップ２Ｕを用意する工程を示した図である。半導体チップ２Ｂにワイヤボンディングを施した後は、ダイシングされた後にコレットＭ１に把持され、下面に接着用樹脂５を付着させた半導体チップ２Ｕを用意する。
【００３４】
図１５は、上側の半導体チップ２Ｕを下側の半導体チップ２Ｂに接着する工程を示した図である。下面に接着用樹脂５を付着させた半導体チップ２Ｕを用意した後は、当該半導体チップ２Ｕを、半導体チップ２Ｂに接着する。
【００３５】
図１６は、コレットＭ１を半導体チップ２Ｕから離す工程を示した図である。半導体チップ２Ｕを半導体チップ２Ｂに接着した後は、コレットＭ１の真空吸着を解除し、コレットＭ１を半導体チップ２Ｕから離す。
【００３６】
図１７は、上側の半導体チップ２Ｕにワイヤボンディングを施す工程を示した図である。コレットＭ１を半導体チップ２Ｕから離した後は、ボンダＭ２を使い、半導体チップ２Ｕと基板３との間にワイヤ４Ｕを取り付ける。
【００３７】
図１８は、半導体チップ２Ｕ，２Ｂを封止樹脂１により封止する工程を示した図である。半導体チップ２Ｕと基板３との間にワイヤ４Ｕを取り付けた後は、半導体チップ２Ｕ，２Ｂを封止樹脂１により封止する。
【００３８】
半導体装置１０の製造方法については以上の通りである。上記半導体装置１０の製造方法によれば、ワイヤ４Ｂ（ＥＬ）のみならずダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）も半導体チップ２Ｂに取り付けている。よって、半導体チップ２Ｕ，２Ｂを封止樹脂１で封止しても、界面７が半導体チップ２Ｂの表面の意図しない位置に形成される可能性が低減する。このため、上記半導体装置１０の製造方法であれば、界面７が、少なくとも半導体チップ２Ｂの表面の有効エリア外に形成されるようにすることが可能である。界面７が、少なくとも半導体チップ２Ｂの表面の有効エリア外に形成されていれば、半導体装置１０が熱サイクルによる膨張及び収縮を繰り返しても、半導体チップ２Ｂの表面の有効エリア内に形成されている配線等の電子回路に加わるストレスが低減される。このため、上記半導体装置１０であれば、従来例に係る半導体装置に比べ、熱サイクルに対する実力が向上する。
【００３９】
＜第一変形例＞
なお、上記半導体装置１０のワイヤ４Ｂ（Ｅ）は、接着用樹脂５を係止する役割を兼ね備えるワイヤ４Ｂ（ＥＬ）であった。しかし、上記半導体装置１０のワイヤ４Ｂ（Ｅ）は、接着用樹脂５を係止する役割を兼ね備えるワイヤ４Ｂ（ＥＬ）に限定されるものではない。
【００４０】
図１９は、本第一変形例に係る半導体装置２０の一部を示した構造図である。本第一変形例に係る半導体装置２０は、下側に配置される半導体チップ２Ｂの表面に形成されている電極パッドのうち、半導体チップ２Ｂの縁から離れた箇所の電極パッドにワイヤ４Ｂ（Ｅ）が取り付けられている。ワイヤ４Ｂ（Ｅ）は、半導体チップ２Ｂの縁から離れた箇所の電極パッドに取り付けられているが故に、接着用樹脂５を係止する役割を担うことができない。そこで、本第一変形例に係る半導体装置２０は、ワイヤ４Ｂ（Ｅ）が取り付けられている箇所よりも外側のチップエッジに、接着用樹脂５を係止する役割を担うダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）を取り付けている。
【００４１】
このように、半導体チップ２Ｂと基板３とを電気的に接続する役割を担うワイヤ４Ｂ（Ｅ）が、接着用樹脂５を係止する役割を兼ね備えることができない場合は、接着用樹脂５を係止する役割を担うダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）を設けることで、界面７が半導体チップ２Ｂの表面の意図しない位置に形成される可能性を低減することが可能となる。
【００４２】
＜第二変形例＞
ところで、上記実施形態に係る半導体装置１０や第一変形例に係る半導体装置２０は、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）を半導体チップ２Ｂと基板３との間に取りつけていた。しかし、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）は、半導体チップ２Ｂと基板３とを電気的に接続する役割を担っていない。すなわち、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）が取り付けられている箇所には、接着用樹脂５を係止する役割を担うことが可能なものが設けられていれば、ワイヤ４Ｂ以外のものが設けられていてもよい。そこで、上記実施形態に係る半導体装置１０や第一変形例に係
る半導体装置２０は、次のように変形してもよい。
【００４３】
図２０は、本第二変形例に係る半導体装置３０の一部を示した構造図である。本第二変形例に係る半導体装置３０は、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）に代わり、接着用樹脂５を係止する役割を担う突起６（本願でいう「アンカー」の一例である）を備える。突起６の取り付け位置は、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）が取り付けられる箇所と同様である。接着用樹脂５を付着させた半導体チップ２Ｕを半導体チップ２Ｂに接着すると、突起６は、接着用樹脂５に埋め込まれた状態となる。よって、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）に代わって突起６を設けた場合であっても、上記実施形態に係る半導体装置１０や第一変形例に係る半導体装置２０と同様、界面７が半導体チップ２Ｂの表面の意図しない位置に形成される可能性を低減することが可能となる。なお、突起６は、例えば、次のようにして作製することが可能である。
【００４４】
＜突起作製方法の第一例＞
図２１は、突起６を作製する方法の第一例を示した図である。突起６は、例えば、半導体チップ２Ｂにワイヤボンディングを施し、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）を形成する工程を次のように改変することにより形成可能である。すなわち、ダミーワイヤ４Ｂ（Ｌ）を形成する工程において、ボール状に加工したワイヤ４の先端を半導体チップ２Ｂの電極パッドに接着した後、ワイヤ４をボンダＭ２から送り出すことなくボンダＭ２を移動する。これにより、半導体チップ２Ｂの電極パッドには、途中で断線したワイヤが突起状に取り付けられ、突起６を形成した状態となる。
【００４５】
＜突起作製方法の第二例＞
以下、突起６を作製する方法の第二例について説明する。図２２は、第二例に係る突起６の作製フローを示した図である。
【００４６】
図２２（Ａ）は、絶縁膜を塗布する工程を示した図である。半導体チップ２Ｂの表面に突起６を作製する際は、半導体チップ２Ｂをダイシングするよりも前のいわゆる「前工程」において、半導体チップ２Ｂの表面に絶縁膜２１を塗布する。
【００４７】
図２２（Ｂ）は、絶縁膜２１をエッチングする工程を示した図である。半導体チップ２Ｂの表面に絶縁膜２１を塗布した後は、突起用に設けた電気的接続が不要な電極パッド以外の部分にマスクをかけて露光し、絶縁膜２１をエッチングする。
【００４８】
図２２（Ｃ）は、下地金属膜を形成する工程を示した図である。絶縁膜２１をエッチングした後は、半導体チップ２Ｂの表面に金属スパッタを施し、半導体チップ２Ｂの表面に下地金属膜２２を形成する。
【００４９】
図２２（Ｄ）は、レジストを塗布する工程を示した図である。半導体チップ２Ｂの表面に下地金属膜２２を形成した後は、半導体チップ２Ｂの表面にピラー用のレジスト２３を塗布する。
【００５０】
図２２（Ｅ）は、レジスト２３をエッチングする工程を示した図である。半導体チップ２Ｂの表面にレジスト２３を塗布した後は、突起６を形成する電極パッド以外の部分にマスクをかけて露光し、レジスト２３をエッチングする。
【００５１】
図２２（Ｆ）は、ピラーを形成する工程を示した図である。レジスト２３をエッチングした後は、メッキ法などにより、Ｃｕピラー２４やその表面にはんだ２５を形成する。
【００５２】
図２２（Ｇ）は、レジスト２３を除去する工程を示した図である。Ｃｕピラー２４やそ
の表面にはんだ２５を形成した後は、エッチングなどによりレジスト２３を除去する。
【００５３】
図２２（Ｈ）は、下地金属膜２２をエッチングする工程を示した図である。レジスト２３を除去した後は、レジスト２３の除去により露出した下地金属膜２２及び絶縁膜２１をエッチングにより除去する。
【００５４】
図２２（Ｉ）は、はんだ２５をリフローする工程を示した図である。下地金属膜２２をエッチングにより除去した後は、半導体チップ２Ｂを予熱し、はんだ２５のリフローを行う。
【００５５】
突起６を作製する方法の第二例については以上の通りである。上記の方法によれば、ピラー状の突起６を形成することが可能となる。
【００５６】
＜突起作製方法の第三例＞
なお、上記第二例に係る突起作製方法では、ピラー状の突起６を形成していたが、上記第二例に係る突起作製方法は次のように改変してもよい。以下、突起６を作製する方法の第三例について説明する。図２３は、第三例に係る突起６の作製フローを示した図である。
【００５７】
半導体チップ２Ｂの表面に絶縁膜３１を塗布する工程（図２３（Ａ）を参照）や、絶縁膜３１をエッチングする工程（図２３（Ｂ）を参照）、下地金属膜３２を形成する工程（図２３（Ｃ）を参照）については、図２２（Ａ）〜図２２（Ｃ）に示したのと同様であるため、その説明を省略する。
【００５８】
図２３（Ｄ）は、レジストを塗布する工程を示した図である。半導体チップ２Ｂの表面に下地金属膜２２を形成した後は、半導体チップ２Ｂの表面にはんだバンプ用のレジスト３３を塗布する。
【００５９】
図２３（Ｅ）は、レジスト３３をエッチングする工程を示した図である。半導体チップ２Ｂの表面にレジスト３３を塗布した後は、突起６を形成する電極パッド以外の部分にマスクをかけて露光し、レジスト３３をエッチングする。
【００６０】
図２３（Ｆ）は、はんだバンプを形成する工程を示した図である。レジスト３３をエッチングした後は、メッキ法などにより、アンダーバリアメタル（ＵＢＭ）３４やはんだバンプ３５を形成する。
【００６１】
図２３（Ｇ）は、レジスト３３を除去する工程を示した図である。アンダーバリアメタル３４やはんだバンプ３５を形成した後は、エッチングなどによりレジスト３３を除去する。
【００６２】
図２３（Ｈ）は、下地金属膜３２をエッチングする工程を示した図である。レジスト３３を除去した後は、レジスト３３の除去により露出した下地金属膜３２をエッチングにより除去する。
【００６３】
図２３（Ｉ）は、はんだバンプをリフローする工程を示した図である。下地金属膜３２をエッチングにより除去した後は、半導体チップ２Ｂを予熱し、はんだバンプ３５のリフローを行う。
【００６４】
突起６を作製する方法の第三例については以上の通りである。上記の方法によれば、はんだバンプ状の突起６を形成することが可能となる。
【符号の説明】
【００６５】
１０，２０，３０・・半導体装置：１・・封止樹脂：２Ｕ，２Ｂ・・半導体チップ：３，１０３・・基板：４，４Ｕ，４Ｂ，４Ｂ（Ｅ），４Ｂ（ＥＬ），１０４・・ワイヤ：４Ｂ（Ｌ）・・ダミーワイヤ：５，１０５・・接着用樹脂：６・・突起：７・・界面：１１０・・試験体：１０２Ｕ，１０２Ｂ・・模擬チップ：２１，３１・・絶縁膜：２２，３２・・下地金属膜：２３，３３・・レジスト：２４・・Ｃｕピラー：２５・・はんだ：３４・・アンダーバリアメタル：３５・・はんだバンプ：Ｍ１・・コレット：Ｍ２・・ボンダ：
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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