(57)【要約】【課題】本発明の課題は、長期間屋外に曝露された後でも銀反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても銀反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラーを提供することである。【解決手段】本発明の太陽熱発電用ミラーは、樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一層が、下記一般式（１）で表されるトリアジンチオール類を含有することを特徴とする。    【化１】2014214986.tif 000009（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は各々水素原子又は置換基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のいずれか一つはチオール基又はチオール基を有する置換基を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一層が、下記一般式（１）で表されるトリアジンチオール類を含有することを特徴とする太陽熱発電用ミラー。
【化１】
2014214986.tif 000008
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は各々水素原子又は置換基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のいずれか一つはチオール基又はチオール基を有する置換基を表す。）
【請求項２】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のいずれか一つが、チオール基であることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用ミラー。
【請求項３】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基の二つ以上が、チオール基であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の太陽熱発電用ミラー。
【請求項４】
前記太陽熱発電用ミラーがハードコート層を有し、当該ハードコート層がメタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の太陽熱発電用ミラー。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の太陽熱発電用ミラーが、粘着層を介して支持基材に貼合され、具備されていることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽熱発電用ミラー及びそれを具備した太陽熱発電用反射装置に関する。より詳しくは、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラー及びそれを具備した太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは太陽エネルギーであると考えられており、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによってその熱エネルギーを媒体として発電する太陽熱発電が提案されている。
【０００３】
この反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来ガラス製ミラーが用いられてきたが、最近では軽量で柔軟性が高く、かつ生産コスト及び輸送コストが低い太陽熱発電用のミラーとしてフィルムミラーの検討が進められている。
【０００４】
太陽熱発電用フィルムミラーは、フィルム基材に設けられた金属反射層、例えば銀反射層上に樹脂と腐食防止剤からなる樹脂コート層を積層して銀の腐食を抑制している。さらに、その上層に紫外線吸収剤を含んだ樹脂層を積層することによって、紫外線曝露に起因する樹脂層の変色による反射率低下の抑制や、最表面にハードコート層などを設けることによる傷つき抑制などによって、耐久性の向上を図っている。
【０００５】
一方、太陽熱発電用のミラーは、屋外環境下に設置されるため、ミラー表面に付着する砂塵等に起因する反射率低下を抑制する目的で、定期的に高圧放水やブラッシングによる洗浄作業が行われている。しかしながら、長期間屋外曝露した太陽熱発電用フィルムミラーにこれらの洗浄を施した場合、洗浄時に生じる応力により銀反射層とその上層の樹脂コート層、又は銀反射層とフィルム基材との間で剥離が生じ、反射率が低下するという問題があった。
【０００６】
上記の様に太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、長期間の屋外使用に耐えうるとともに、洗浄作業時に発生する応力によって銀反射層と他の構成層間で剥離が生じないよう高い密着性が要求されている。
【０００７】
例えば特許文献１では、フィルムの最表層に紫外線吸収剤を含んだアクリル樹脂層を設けており、紫外線曝露に起因する樹脂層の変色による反射率の低下を抑制している。しかしながら特許文献１の場合、銀反射層とアクリル樹脂層の間にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層と粘着層とが挟まれており、半年間以上の屋外曝露後にブラッシングによる洗浄を行った場合に、銀反射層とＰＥＴ層とに剥離が生じて、反射率が大きく低下するという問題があった。
【０００８】
また、特許文献２では、銀反射層と強固に密着する樹脂として、アクリル樹脂とシランカップリング剤からなるアクリルシリコーン樹脂を樹脂コート層に用いることで、銀反射層から樹脂コート層が剥離することを抑えている。しかしながら、一般的にフィルムミラーは複数の構成層が積層された構成を有している。そして、アクリルシリコーン樹脂からなる層は隣接して設けられた他の構成層との密着性が弱く、ブラッシングによる洗浄作業等で剥がれが生じ易いという問題があった。
【０００９】
このため、長期間屋外に曝露された後でも銀反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても銀反射層と他の構成層間で高い密着性を有するフィルムミラーが要望されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特表２００９−５２０１７４号公報
【特許文献２】特開２００４−２０３０１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラーを提供することである。また、それを具備した耐久性に優れた太陽熱発電用反射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層が特定の化合物を含有する太陽熱発電用ミラーによって、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を発現することを見出し本発明に至った。
【００１３】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１４】
１．樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一層が、下記一般式（１）で表されるトリアジンチオール類を含有することを特徴とする太陽熱発電用ミラー。
【００１５】
【化１】
2014214986.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は各々水素原子又は置換基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のいずれか一つはチオール基又はチオール基を有する置換基を表す。）
２．前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のいずれか一つが、チオール基であることを特徴とする第１項に記載の太陽熱発電用ミラー。
【００１６】
３．前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基の二つ以上が、チオール基であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の太陽熱発電用ミラー。
【００１７】
４．前記太陽熱発電用ミラーがハードコート層を有し、当該ハードコート層がメタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の太陽熱発電用ミラー。
【００１８】
５．第１項から第４項までのいずれか一項に記載の太陽熱発電用ミラーが、粘着層を介して支持基材に貼合され、具備されていることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の上記手段により、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラーを提供することができる。また、それを具備した耐久性に優れた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
【００２０】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【００２１】
太陽熱発電用ミラーは、長期間紫外線に晒されることによって、金属反射層に用いられる金属の腐食や変色、及び金属反射層と他の構成層の間で剥がれが発生し、反射性能の低下を生じやすい。これらを防止するため、腐食防止剤又は酸化防止剤として従来使用されてきたベンゾトリアゾール化合物やトリアジン化合物、及びチオール化合物を、それぞれ単独で金属反射層に隣接する他の構成層に含有させる手段では、より高い性能が得られず、特に層間剥がれを誘引する密着性については問題があった。
【００２２】
本発明者は、金属反射層に隣接する層に、トリアジンチオール類を含有させることによって、当該トリアジンチオール類のチオール基が金属反射層の金属と単分子膜、又は多分子膜を形成して分子間接着することにより強固に結びついて、層間の密着性を大幅に改善できることを見出した。さらにトリアジンチオール類が有するトリアジン構造は、耐光性に優れるため、前記層間の密着性のみならず金属の腐食や変色に対して、長期間紫外線に晒しても安定で良好な性能を保持することができるため、金属の腐食や変色、及び金属反射層と他の構成層の間の密着性に、優れた耐久性を有する太陽熱発電用ミラーが得られるものと考えられる。
【００２３】
本発明の技術は、密着性と耐光性を兼ね備えていることから、長期間の屋外曝露後での剥がれ等による層の変形が小さい。最外層のハードコート層は、比較的硬く割れやすい性質を持つ為、下層の変形により割れやひびを誘発し易いとの問題があったが、この問題の解消に対しても高い効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の太陽熱発電用ミラーの構成の一例を示す説明図
【図２】本発明の太陽熱発電用反射装置の構成の一例を示す説明図
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の太陽熱発電用ミラーは、樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一層が前記一般式（１）で表されるトリアジンチオール類を含有することを特徴とし、かかる構成によって、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラーを提供するものである。この特徴は、請求項１から請求項５までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。本発明の形態としてはフィルムミラー、特にはフレキシブルな樹脂基材が用いられたミラーである時により大きな効果を奏する。以下、フィルムミラーとして説明する。
【００２６】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記一般式（１）で表されるトリアジンチオール類のＲ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のいずれか一つが、チオール基であることが好ましく、さらに前記一般式（１）のＲ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基の二つ以上が、チオール基であることが、金属反射層の腐食や変色を防止し、金属反射層と高い密着性を有する観点から好ましい。
【００２７】
さらに、当該太陽熱発電用フィルムミラーがハードコート層を有し、当該ハードコート層がメタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有することが好ましく、これにより、本発明の効果に加えて表面の耐傷性が向上する。
【００２８】
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、耐久性に優れた太陽熱発電用反射装置に好適に具備される。
【００２９】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３０】
＜本発明の太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置の概要＞
本発明の太陽熱発電用フィルムミラー（以下、単にフィルムミラーともいう。）は、樹脂基材上に金属反射層が設けられたフィルムミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一方の層がトリアジンチオール類を含有することを特徴とする。
【００３１】
〔１〕太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
本発明の太陽熱発電用フィルムミラー（以下、簡単にフィルムミラーという場合がある。）の概要を説明する。
【００３２】
太陽熱発電用フィルムミラーＦの機能上の最小構成は、図１（ａ）に示すように、樹脂基材３上に金属反射層（例えば、銀反射層）５を形成し、その上に最表層としてハードコート層１０を設ける構成である。したがってこの場合は、本発明でいう金属反射層に隣接する層とは、樹脂基材３及びハードコート層１０がそれに該当する。
【００３３】
太陽熱発電用フィルムミラーＦには、実際上様々な機能層を設けることが好ましく、例えば図１（ｂ）で示すように、樹脂基材３と金属反射層５の間にアンカー層４を設けてもよく、金属反射層５の光入射側に腐食防止剤や酸化防止剤を含有する樹脂コート層６を設けることも好ましく、樹脂コート層６上に接着層７を設けることも好ましい態様である。
【００３４】
接着層７上には、紫外線吸収剤を含むアクリル樹脂層８及び中間層９を設けることが好ましく、中間層９上にはハードコート層１０を最表層として設けることが好ましい。
【００３５】
なお、ガスバリアー層１１は金属反射層や樹脂コート層を保護するために、必要であれば設けることが好ましい。
【００３６】
また、樹脂基材３における光入射側とは反対側の面に粘着層２を設けることも好ましい態様である。粘着層２上には粘着層を保護するための剥離層１２を形成することが好ましい。
【００３７】
図１（ｂ）の構成の場合は、金属反射層５に隣接する層とは、当該アンカー層４又は樹脂コート層６が該当し、当該層の少なくとも一層が本発明に係るトリアジンチオール類を含有する。なお、本発明の効果を高めるために、当該アンカー層４及び樹脂コート層６の両方に当該トリアジンチオール類を含有させることが好ましい。
【００３８】
なお、金属反射層に隣接する層とは、直接当該金属反射層に接する層以外にも、本発明に係るトリアジンチオール類が金属反射層の金属に作用でき、本発明の効果を発現することができる場合は、層間に当該トリアジンチオールを含有しない薄膜層（例えば、樹脂層）等があってもよい。
【００３９】
フィルムミラー全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から７５〜２５０μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは９０〜２３０μｍの範囲内、更に好ましくは１００〜２２０μｍの範囲内である。
【００４０】
以下、本発明のフィルムミラーを構成する各構成層について順次説明するが、最初に本発明の特徴である、トリアジンチオール類について説明する。
【００４１】
〔２〕トリアジンチオール類
本発明に係るトリアジンチオール類は、３個の窒素原子と３個の炭素原子からなるトリアジン環を有し、分子内に一つ又は好ましくは二つ以上のチオール基又はこれから誘導される基を有する化合物を指し、下記一般式（１）で表される化合物である。
【００４２】
【化２】
2014214986.tif 000003
上記式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は各々水素原子又は置換基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のいずれか一つはチオール基又はチオール基を有する置換基を表す。
【００４３】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のうちチオール基を有さない置換基としては特に限定されるものではないが、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、アミノ基、−ＮＲ４Ｒ５、−ＮＨＲ６、−ＯＲ７又は−ＳＲ８で表される基等が挙げられ、好ましくは、アルキル基又はフェニル基である。
【００４４】
アルキル基としては、炭素原子数が１〜２５、好ましくは１〜１８のアルキル基が挙げられる。このようなアルキル基としては、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、デシル基、セチル基、ステアリル基、１−メンチル基等が挙げられ、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
【００４５】
また、アルケニル基としては、炭素原子数が１〜２０、好ましくは１〜１０のアルケニル基が挙げられる。このようなアルケニル基としては、例えば、プロパンジエニル基、イソプロペニル基、３−メチル−２−ブテニル基、アリル基、２−メチルアリル基等が挙げられ、イソプロペニル基であることが好ましい。
【００４６】
また、アルキニル基としては、炭素原子数が１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキニル基が挙げられる。このようなアルキニル基としては、例えば、プロパルギル基、１−フェニルプロパルギル基等が挙げられ、プロパルギル基であることが好ましい。
【００４７】
また、アラルキル基としては、炭素原子数が１〜２０、好ましくは１〜１０のアラルキル基が挙げられる。このようなアラルキル基としては、例えば、４−フェニルブチル基等が挙げられる。
【００４８】
また、アリール基としては、フェニル基（Ｃ６Ｈ５−）、メトキシフェニル基、ｏ−トリル基、ｐ−ニトロフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−アミノフェニル基、Ｎ−メチルアミノフェニル基、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニル基、４−アセチルフェニル基、ｐ−ヨードフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリブロモフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，４−ジブロモフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基等が挙げられ、フェニル基であることが好ましい。
【００４９】
また、−ＮＲ４Ｒ５で表される置換アミノ基としては、置換基Ｒ４及びＲ５がそれぞれ同一又は異なって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はアラルキル基であり、アルキル基又はアルケニル基であることが好ましい。
【００５０】
ここで、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びアラルキル基としては、前記と同様の基が挙げられる。ここで、アルキル基としては、前記説明で挙げた基の他に、２−ピペリジノエチル基、フッ素置換されたフルオロアルキル基、環状のシクロアルキル基であることも好ましく、フルオロアルキル基としては、テトラフルオロエチル基等、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。また、アラルキル基としては、ベンジル基又は置換ベンジル基であることも好ましく、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基等が挙げられる。
【００５１】
また、−ＮＨＲ６で表されるモノ置換アミノ基としては、置換基Ｒ６が、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、アニリノ基、ヒドロキシアニリノ基、ｐ−メチルアニリノ基及びモルホリノ基から選ばれる基を示し、これらのうちでは、アルキル基が好ましい。ヒドロキシアニリノ基としては、ｏ−，ｍ−，ｐ−ヒドロキシアニリン誘導体に由来する基が挙げられる。
【００５２】
ここで、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基としては、前記説明と同様の基が例示される。
【００５３】
また、−ＯＲ７で表される基としては、置換基Ｒ７がアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基から選ばれる基を示す。
【００５４】
ここで、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、前記説明と同様の基を挙げることができ、アラルキル基としては、例えば、４−フェニルブチル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、ハロゲノフェニル基等の置換フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００５５】
ここで、ハロゲノフェニル基としては、例えば、ｐ−ヨードフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，４−ジブロモフェニル基、２，４−ジヨードフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２，４，６−トリブロモフェニル基等が挙げられる。
【００５６】
また、−ＳＲ８で表される基としては、置換基Ｒ８がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基から選ばれる基を示す。これらの基としては、前記説明した置換基と同様の基を挙げることができる。
【００５７】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基がチオール基を有する置換基の場合は、特に限定されるものではないが、上記置換基の説明で挙げた置換基にチオール基が結合している置換基であることが好ましく、当該置換基はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、アミノ基であることが好ましく、より好ましくはアルキル基又はアリール基である。
【００５８】
本発明に係るトリアジンチオール類は、前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のいずれか一つが、チオール基であることが好ましく、さらに前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基の二つ以上がチオール基であるトリアジンジチオール化合物、又は前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される置換基のすべてがチオール基であるトリアジントリチオール化合物であることが、後述する金属反射層に含有される、例えば銀との親和性が高く、本発明の効果を高める観点から好ましい。
【００５９】
本発明で好ましく用いられる前記一般式（１）で表されるジチオール化合物の具体例としては、例えばｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−メチル−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−フェニル−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−アミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジへキシルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−［ビス（２−ヘキシル）アミノ］−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジエチルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジシクロへキシルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジフェニルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジベンジルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジアリルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジドデシルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジブチルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ジメチルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−フェニルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−ステアリルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−エチルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−へキシルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−（ｃｉｓ−９−オクタデセニルアミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−シクロヘキシルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−アニリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、６−（４−アニリノ−Ｎ−イソプロピルアニリノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−メトキシ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−（１−ナフチルオキシ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−（ｍ−クロロフェノキシ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−（２，４−ジメチルフェノキシ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール、６−フェノキシ−ｓ−トリアジン−２，４−ジチオール等が挙げられる。
【００６０】
また、前記一般式（１）で表されるトリチオール化合物の具体例としては、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール・モノナトリウム、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール・トリエタノールアミン、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール・ジ（テトラブチルアンモニウム塩）も好ましい例として挙げることができる。
【００６１】
以上の中でも、６−アニリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール、及び６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオールが本発明の効果が高く好ましい。
【００６２】
本発明に係るトリアジンチオール類は、金属反射層に含まれる金属の腐食や変色を防止し、密着性を改良するために十分となる量で用いられ、通常、金属反射層に隣接する層の少なくとも一層に、０．１〜５質量％の範囲内で含有させることが好ましい。より好ましくは１〜５質量％の範囲内である。前記範囲内であれば、金属の腐食や変色を防止し、特に密着性を十分に改良でき、コスト上のメリットも高い。
【００６３】
トリアジンチオール類は、後述するアンカー層、又は樹脂コート層へ含有させることが好ましく、より好ましくは当該アンカー層及び樹脂コート層の両方が、トリアジンチオール類を含有する層であることが好ましい。
【００６４】
〔３〕樹脂基材
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましい。また樹脂フィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００６５】
樹脂基材に本発明に係るトリアジンチオール類を含有させるには、例えば溶液流延製膜であれば、調製する有機溶媒を含むドープに当該化合物を所定量添加し、次いで金属支持体上に流延することが好ましい。
【００６６】
樹脂基材は、反射層よりも光入射側から遠い位置にあるため、樹脂基材に紫外線は到達しにくい。特に、樹脂基材よりも光入射側にある層に紫外線吸収剤を含有させたり、紫外線吸収剤を含有するアクリル樹脂層を設けたりすることで、紫外線が樹脂基材により到達しにくくなる。その場合には、紫外線によって劣化しやすい樹脂であっても樹脂基材に用いることが可能となる。そのような観点から、樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【００６７】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲である。好ましくは２０〜２００μｍの範囲であり、より好ましくは３０〜１００μｍ範囲である。
【００６８】
また、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは長尺状フィルムを用いて製造することが好ましく、長さ１０００ｍ以上であることが好ましく、生産性やハンドリングの観点から５０００ｍ程度の長尺状フィルムを用いることが好ましい。
【００６９】
〔３〕アンカー層
アンカー層は、樹脂からなり、樹脂基材と金属反射層とを密着させるものであり、本発明に係るトリアジン誘導体を含有する層である。従って、アンカー層は、樹脂基材と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００７０】
アンカー層に使用する樹脂材料は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００７１】
アンカー層の形成方法としては、所定の樹脂材料を塗布、塗工するグラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００７２】
アンカー層の厚さは、０．０１〜３μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍの範囲である。厚さが０．０１μｍより厚いと、密着性が良くなり、また樹脂基材表面の凹凸を覆い隠し、平滑性が良好になり、結果的には金属反射層の反射率を高める効果を発現する。また、厚さが３μｍ以下であると、アンカー層の形成ムラがなく平滑性が高く、またアンカー層の硬化状態として十分なものとなり好ましい。
【００７３】
アンカー層へは、トリアジンチオール類を０．１〜５質量％の範囲内で含有させることが好ましく、より好ましくは１〜５質量％の範囲である。当該化合物をメタノール、グリコール類、ケトン類等の有機溶媒に適宜溶解させて樹脂材料に添加することが好ましい。
【００７４】
〔４〕金属反射層
金属反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
【００７５】
金属反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。この反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率の観点からアルミニウム（Ａｌ）又は銀（Ａｇ）を主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。
【００７６】
本発明においては金属反射層として、銀を主成分とする銀反射層を用いることが特に好ましい（以下、金属反射層を銀反射層という場合がある。）。
【００７７】
銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍの範囲である。
【００７８】
この反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法の代表例としては、めっき法があり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法の代表例としては、真空製膜法があり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロール・ツー・ロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法において、銀反射層を銀蒸着によって形成する手法が好ましく用いられる。
【００７９】
なお、上記したように銀反射層の厚さを、例えば３０〜３００ｎｍの範囲とすれば、その銀反射層を有する機能性フィルムを太陽熱発電用フィルムミラーとして使用することが可能になる。より好ましくは耐久性の観点から、８０〜２００ｎｍの範囲である。銀反射層の層厚を上記範囲とすることにより、光の透過や、表面に凹凸が生じることによる光の散乱等を原因とする可視光領域での反射率の低下を抑えることが可能となる。
【００８０】
〔５〕樹脂コート層
樹脂コート層は、銀反射層の光入射側に設けられており、銀反射層に隣接していることが好ましい。
【００８１】
本発明に係るトリアジンチオール類を樹脂コート層に含有させることで、銀反射層と樹脂コート層との密着性を大幅に向上することができ、さらに銀反射層の腐食や変色を防止することができる。
【００８２】
当該樹脂コート層へのトリアジンチオール類の含有量は、０．１〜５質量％の範囲である。より好ましくは、１〜５質量％の範囲である。
【００８３】
加えて、樹脂コート層は、本発明に係るトリアジンチオール類の効果を阻害しない範囲で銀の腐食防止剤又は酸化防止剤を含有し、銀反射層の腐食、劣化を防止する機能を付与することも好ましい。
【００８４】
樹脂コート層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。樹脂コート層の厚さは、１〜１０μｍの範囲が好ましく、より好ましくは２〜８μｍの範囲である。
【００８５】
樹脂コート層のバインダーとしては、以下の樹脂を好ましく用いることができる。例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、耐光性の観点から紫外線に耐性の高いアクリル樹脂が好ましい。
【００８６】
（５−１）腐食防止剤
腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００８７】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００８８】
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオール基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００８９】
ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。シリコーン変性樹脂として特に限定されない。
【００９０】
これらの化合物については、特開２０１２−２３２５３８号公報段落（００６１）〜（００７３）に記載の化合物を好ましく用いることができる。
【００９１】
市販品の例としては、株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１、ＢＡＳＦジャパン株式会社のチヌビン２３４などが挙げられる。
【００９２】
（５−２）酸化防止剤
酸化防止能を有する腐食防止剤である酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。また、光安定剤としてヒンダードアミン系光安定剤、ニッケル系紫外線安定剤を好ましく使用することができる。
【００９３】
これらの化合物については、特開２０１２−２３２５３８号公報段落（００４６）〜（００５３）に記載の化合物を好ましく用いることができる。
【００９４】
酸化防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００９５】
〔６〕接着層
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。図１（ｂ）に示す例においては、樹脂コート層とアクリル樹脂層との接着性を高めるために形成される。したがって、接着層は、層同士を密着する密着性及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００９６】
接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜１０μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍの範囲である。
【００９７】
接着層が樹脂である場合、樹脂として、上記の密着性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９８】
また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空製膜法によって製膜することで接着層を形成できる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などによる製膜が可能である。
【００９９】
〔７〕アクリル樹脂層
アクリル樹脂層は、太陽光や紫外線によるフィルムミラーの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層であることが好ましい。アクリル樹脂層は、樹脂基材よりも光入射側に設けることが好ましく、金属反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。
【０１００】
アクリル樹脂層はバインダーとしてアクリル樹脂を用いる層であり、アクリル樹脂層の厚さは、１〜２００μｍの範囲であることが好ましい。
【０１０１】
アクリル樹脂層としては、市販の紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルムである、スミペックス  テクノロイ  Ｓ００１Ｇ  ７５μｍ（住友化学株式会社製）等が好ましく用いることができる。
【０１０２】
また、フィルムミラーに上記アクリル樹脂層を設ける以外に、樹脂基材よりも光入射側に設けられた構成層のうちのいずれか一層に紫外線吸収剤を添加し、アクリル樹脂層を兼ねるようにしてもよい。例えば、ハードコート層に紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
【０１０３】
紫外線吸収剤には大別して、有機系と無機系がある。
【０１０４】
有機系の紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられ、また無機系の紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。また、好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、特開２０１２−２３２５２８号公報段落（００３６）〜（００４５）に記載の化合物が挙げられる。
【０１０５】
紫外線吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％の範囲、好ましくは１〜１５質量％の範囲、より好ましくは３〜１０質量％の範囲である。これらの範囲内にすることで、他の構成層の密着性を良好に保ちつつ、耐候性を向上させることが可能となる。
【０１０６】
〔８〕中間層
中間層は、アクリル樹脂層と後述するハードコート層の密着力を向上させる構成層である。
【０１０７】
この中間層は、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している。ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスは、反応性基としてヒドロキシ基を有している。
【０１０８】
中間層の形成方法としては、例えば塗布による方法を挙げることができる。塗布方式で中間層となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができ、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している溶液を、例えばアクリル樹脂層上に塗布・塗工することで、中間層を形成することができる。
【０１０９】
中間層の膜厚は０．１〜５μｍが好ましく、特に好ましくは０．１〜１μｍである。
【０１１０】
中間層が、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有していることで、それらとアクリル樹脂層表面の反応性基（ヒドロキシ基やカルボキシ基など）とが化学結合し、また、それらとハードコート層がポリシロキサン化合物を含有する場合は、当該化合物と化学結合することで、中間層とアクリル樹脂層の層間結合、中間層とハードコート層の層間結合がより強固な結合となる。その結果、中間層を介したアクリル樹脂層とハードコート層の密着力が向上する。
【０１１１】
また、中間層がポリイソシアネートを含有することも好ましい。特にポリビニルアルコール樹脂及び水溶性セルロースを用いた場合においては、水分散型のポリイソシアネートが好ましい。
【０１１２】
中間層が、ポリイソシアネートを含有することで、中間層とアクリル樹脂層の層間結合や、中間層とハードコート層の層間結合がより一層強化される。
【０１１３】
また、中間層が、導電性微粒子を含有することも好ましい。
【０１１４】
中間層が、導電性微粒子を含有した場合、中間層が帯電防止層の機能を兼ねることができる。
【０１１５】
〔９〕ハードコート層
ハードコート層は、フィルムミラーの最表層に設けられる構成層（保護層）である。フィルムミラーが最小構成の場合は、当該ハードコート層に、本発明に係るトリアジンチオール類を、０．１〜５質量％の範囲で含有させることが好ましい。
【０１１６】
ハードコート層の膜厚は、厚すぎれば応力によって割れる危険性があり、また、ハードコート層の膜厚が薄すぎれば硬度を維持できない。そのため、膜厚は０．５〜１０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍの範囲である。
【０１１７】
特に、本発明に用いられるハードコート層は、耐侯性、耐傷性、防汚性を有することが好ましい。耐傷性に関しては、ハードコート層表面の鉛筆硬度はＨ以上６Ｈ未満、加重５００ｇ／ｃｍ２のスチールウール試験における傷が３０本以下であることが好ましい。防汚性に関しては、ハードコート層の転落角が０°より大きく３０°以下であれば水滴が落ちやすく防汚性に優れるため好ましい。
【０１１８】
鉛筆硬度は鉛筆硬度試験ＪＩＳ−Ｋ５４００に基づいて、各サンプルの４５°傾斜、１Ｋｇ荷重における鉛筆硬度を評価する。スチールウール試験は往復摩耗試験機（新東科学（株）製ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲ）に摩耗材としてスチールウール（＃００００）を取り付け、荷重５００ｇ／ｃｍ２の条件で各撥水・防汚性物品の表面を速度１０ｍｍ／ｓｅｃで１０回往復させ、傷本数を評価する試験である。また、転落角は、接触角計ＤＭ５０１（協和界面化学）に滑落法キットＤＭ‐ＳＡ０１を取り付け、水５０μｌ滴下し、支持体を水平状態から０．５°／秒の速度で傾けていき、水滴が転がり落ちるときの角度を転落角として測定する。転落角の小さい方が水滴が落ちやすく防汚性に優れ、好ましい。
【０１１９】
（９−１）メタロキサン骨格を有するポリマー
このハードコート層は、少なくともメタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有する層であることが好ましい。
【０１２０】
本発明でいうメタロキサン骨格とは、メタル原子と酸素原子との結合、すなわちＭ−Ｏ結合を有する骨格であり、メタロキサン骨格を有するポリマーとは、このＭ−Ｏ結合の繰り返しを主鎖骨格とする高分子化合物であり、高分子化する方法としては、ゾル−ゲル法が好ましい。ポリメタロキサンとしては、ポリシロキサン、ポリチタノキサン、ポリアルミノキサン、ポリジルコノキサン等が挙げられる。
【０１２１】
メタロキサン骨格を有するポリマー材料としては、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミ等のポリメトキサン、又はポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、ポリシロキサン等を挙げることができる。好ましくは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム及びチタンから選ばれる少なくとも１種の元素を含むメタロキサン骨格を有するポリマーである。
【０１２２】
本発明に係るメタロキサン骨格を有するバインダーとしては、金属アルコキシドから形成されたポリメタロキサンから構成されるポリシロキサン、ポリチタノキサン、ポリアルミノキサン、ポリジルコノキサンであることが好ましい。金属アルコキシドは、Ｓｉ（Ｏ
Ｃ２Ｈ５）４、Ａｌ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｔｉ（ＯＣＨ３）４、Ｔｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｔｉ（ｉｓｏ−ＯＣ３Ｈ７）４、Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）４、Ｚｒ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｚｒ（ｉｓｏ−ＯＣ３Ｈ７）４、Ｚｒ（ＯＣ４Ｈ９）４等の単一金属アルコキシドが挙げられる。
【０１２３】
上記の中でも、好ましくは、ポリシロキサンであり、特に好ましくは、下記一般式（２）で表されるポリシロキサンである。これらのメタロキサン骨格を含む材料を塗布乾燥して最表層を形成することが好ましい。また、最表層はゾルゲル法を用いた熱硬化反応によって形成されることが好ましい。
【０１２４】
【化３】
2014214986.tif 000004
一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２は同一であっても異なっていてもよく、水素もしくはアルキル基又はアリール基等の有機基を表す。ｐは繰り返し単位を表す。
【０１２５】
また、ポリシロキサンとしては、例えば、以下のいずれかを用いてもよい。テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、又はオルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等を使用することができる。但し、これに限られるものではない。
【０１２６】
上記バインダーは、ゾル−ゲル法を用いた熱硬化反応によって無機酸化物が形成される方法を適用することが好ましい。
【０１２７】
ゾル−ゲル法は、無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法である。すなわち、有機金属化合物の一種である金属アルコキシドを出発物質とし、その溶液を加水分解、縮重合させゾルを形成した後、空気中の水分などによって更に反応を進めてゲル化させ、固体の無機酸化物が得られる。例えば、シリカガラス膜の形成過程では、珪素の金属アルコキシドであるテトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）を用いる場合、テトラエトキシシランをアルコール等の溶媒に溶解し、酸等の触媒と少量の水を加えて十分に混合することにより下記の反応式に従い液状のポリシロキサン・ゾルが形成される。
【０１２８】
加水分解反応
Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４＋４Ｈ２Ｏ→Ｓｉ（ＯＨ）４＋４Ｃ２Ｈ５ＯＨ
脱水縮合反応
ｎＳｉ（ＯＨ）４→［ＳｉＯ２］ｎ＋２ｎＨ２Ｏ
ポリシロキサン・ゾルを、樹脂基材に塗布して乾燥させると、溶媒や反応によって生じたエチルアルコール（Ｃ２Ｈ５ＯＨ）と水の蒸発に伴いゾルの体積が収縮し、その結果、隣り合うポリマー末端の残留ＯＨ基同士が脱水縮合反応を起こして結合し、塗膜はゲル（固化体）となる。更に、得られたゲル被膜を焼成して、ポリシロキサン粒子同士の結合を強化すると、強度の強いゲル被膜を得ることができる。
【０１２９】
ゾル−ゲル法において、上記した有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒などを使用することもできる。
【０１３０】
また、好ましいハードコート層の形成方法にポリシラザンを塗布製膜し、５０〜２００℃程度の温度で加熱硬化して硬化膜を得る方法がある。ハードコートの前駆体が、ポリシラザンを含有する場合、例えば下記の一般式（３）で表されるポリシラザンを含む有機溶剤中に必要に応じて触媒を加えた溶液を塗布した後、溶剤を蒸発させて除去し、それによってフィルムミラーＦ上に０．０５〜３．０μｍの範囲の層厚を有するポリシラザン層を残す。そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては窒素の存在下で、上記のポリシラザン層を局所的加熱することによって、フィルムミラーＦ上にガラス様の透明なハードコートの被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
【０１３１】
一般式（３）
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−
一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル又は３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表す。この際、ｎは整数であり、ｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【０１３２】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン又はＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％の範囲、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
【０１３３】
なお、好ましい態様の一つでは、一般式（３）中のＲ１、Ｒ２及びＲ３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【０１３４】
また、別の好ましい態様の一つでは、本発明におけるハードコート層は、下記の一般式（４）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含む。
【０１３５】
一般式（４）
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−
一般式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ及びｐは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【０１３６】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４及びＲ５がメチルを表す化合物。またＲ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４がメチルを表し、そしてＲ５がビニルを表す化合物。また、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２及びＲ５がメチルを表す化合物である。
【０１３７】
さらに、別の好ましい態様の一つでは、本発明におけるハードコート層は、下記の一般式（５）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含む。
【０１３８】
一般式（５）
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−（ＳｉＲ７Ｒ８−ＮＲ９）ｑ−
一般式（５）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【０１３９】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がメチルを表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ７がアルキル又は水素を表す化合物である。
【０１４０】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０質量％の範囲、好ましくは５〜５０質量％の範囲、特に好ましくは１０〜４０質量％の範囲である。
【０１４１】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシ基又はアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
【０１４２】
ハードコートの形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１４３】
ハードコート層の表面の水の接触角は、８０〜１７０°の範囲であることが好ましい。好ましくは９０〜１５０°の範囲である。また、ハードコート層の表面の動摩擦係数が０．１０〜０．３５の範囲であることが好ましい。
【０１４４】
例えば、ハードコート層にフッ素化合物、ケイ素化合物、フッ素又はケイ素を含ませることにより、ハードコート層の表面の水の接触角が８０〜１７０°の範囲とするようにしてもよい。より具体的には、フッ素化合物及び珪素化合物の混合ガス、またフッ素及び珪素を有する化合物を用いた蒸着により、表面エネルギーを低くし、ハードコート層の水の接触角を８０〜１７０°の範囲とすることができる。
【０１４５】
また、ハードコート層は耐傷性を向上するために、動摩擦係数が０．１０〜０．３５の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．１５〜０．３０の範囲の範囲である。
【０１４６】
メタロキサン骨格を有する材料をハードコート層に用いることで、フィルム表面同士の動摩擦係数を０．１０〜０．３５の範囲にすることが可能となる。
【０１４７】
（９−２）紫外線吸収剤
ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有していることも好ましい。
【０１４８】
有機系の紫外線吸収剤としては、前述のアクリル樹脂層で挙げたベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
【０１４９】
また無機系の紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等の金属酸化物粒子が挙げられる。
【０１５０】
特に、ハードコート層は、２５０〜３００ｎｍの範囲に吸収極大波長を有する紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。このような紫外線吸収剤を含有しているハードコート層は、中間層との界面の劣化が抑制されて、ハードコート層と中間層の密着力を長期に亘って維持でき、ハードコート層の耐久性を向上させることができる。
【０１５１】
（９−３）
本発明に係るハードコート層は、耐傷性や滑り性を向上させる観点から微粒子を含有することも好ましい。微粒子としては、特に制限はないが、無機酸化物から構成される無機微粒子であることが好ましく、無機酸化物微粒子としては、金属酸化物を構成する金属が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｗ、Ｉｒ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ等を挙げることができ、具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛等が挙げられるが、本発明においては、無機酸化物微粒子が、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛及び酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも１種の透明な無機酸化物微粒子であることが好ましい。また、本発明に用いられる微粒子は、透明性が高いことが好ましい。
【０１５２】
また、微粒子の平均粒径は、１０〜１８０ｎｍの範囲であることが、表面の二乗平均平方根粗さＲｑを５〜５０ｎｍの範囲に制御することができる観点から好ましく、更に好ましくは、１０〜１００ｎｍの範囲である。
【０１５３】
平均粒径が１０ｎｍ以上であれば、二乗平均平方根粗さＲｑを５ｎｍ以上とすることができ、十分な表面粗さを確保することができる。また、平均粒径が１８０ｎｍ以下であれば、二乗平均平方根粗さＲｑを５０ｎｍ以下とすることができ、かつフィルムの透明性を損なうことがない。
【０１５４】
また、本発明に係るハードコート層においては、上記メタロキサン骨格を有するバインダーを１００質量％としたときの微粒子の割合としては、３０〜９０質量％の範囲であることが好ましい。
【０１５５】
（９−４）ハードコート層の形成
上記した樹脂材料を、樹脂基材上に設けた中間層上に塗工し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することでハードコート層が製膜される。
【０１５６】
このハードコート層となる塗膜の形成方法として、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングなどによる塗布・塗工方式で形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも製膜することが可能である。
【０１５７】
〔１０〕ガスバリアー層
本発明のフィルムミラーでは、必要であればガスバリアー層を形成することが好ましく、図１（ｂ）の層１１としてフィルムミラーの構成内に形成することが好ましい。
【０１５８】
ガスバリアー層は、銀反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。
【０１５９】
ガスバリアー層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリアー層を設けることができる。
【０１６０】
ガスバリアー層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、更に好ましくは０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。
【０１６１】
また、ガスバリアー層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【０１６２】
ガスバリアー層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法等の方法により無機酸化物又は無機窒化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体（ポリシラザン等）を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理及び／又は紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
【０１６３】
無機酸化物の前駆体、及びゾル−ゲル法の詳細については、特開２０１２−０４７８６１号公報段落（００４９）〜（００７２）に、無機酸化物の前駆体、及びゾル−ゲル法について、また段落（００７３）〜（００８５）にはポリシラザン法について記載されている方法を採用することが好ましい。
【０１６４】
〔１１〕粘着層
粘着層は、フィルムミラーを金属基材に接着し、固定するための構成層である。
【０１６５】
この粘着層としては、フィルムミラーを金属基材に接着することができるものであれば特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを用いることができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いてもよい。
【０１６６】
樹脂基材の裏面に粘着層を設けるラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行う方法が経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１６７】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１６８】
粘着層に用いる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製Ｏｒｉｂａｉｎ  ＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。
【０１６９】
なお、フィルムミラーを金属基材に接着するまで、粘着層は剥離シートで覆われており、粘着層の粘着力を保つようになっている。
【０１７０】
粘着層には前述の腐食防止剤である、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、メルカプト基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物を含有させることも好ましい。
【０１７１】
〔１２〕剥離層
本発明のフィルムミラーは、粘着層の光入射側と逆側に剥離層を有していてもよい。例えば、フィルムミラーの出荷時には剥離層が粘着層に張り付いた状態で出荷し、剥離層から粘着層を有するフィルムミラーを剥離し、他の基材に貼り合わせて太陽光反射用ミラーを形成することができる。
【０１７２】
剥離層としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウム等の金属を金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
【０１７３】
剥離層の厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１７４】
また、これらの剥離層をフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよい。
【０１７５】
〔１３〕太陽熱発電用反射装置
太陽熱発電用反射装置は、フィルムミラーと自己支持性の支持基材とを有しており、粘着層を介してフィルムミラーが支持基材に接合されてなる反射鏡である。
【０１７６】
なお、ここでいう「自己支持性」とは、太陽熱発電用反射装置の支持基材として用いられる大きさに断裁された状態で、支持基材がフィルムミラーの端縁部分を支持することで、フィルムミラーを担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽熱発電用反射装置の支持基材が自己支持性を有することで、太陽熱発電用反射装置を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽熱発電用反射装置を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置自体を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０１７７】
太陽熱発電用反射装置Ｒは、例えば、図２に示すように、フィルムミラーＦと、支持部材としての金属基材１とから構成されている。具体的には、フィルムミラーＦの粘着層２を金属基材１に接着させて、太陽熱発電用反射装置Ｒが形成されている。
【０１７８】
（１３−１）金属基材
金属基材は、貼付されたフィルムミラーを支持し、フィルムミラーの反射面を好適に維持するための支持部材である。
【０１７９】
太陽熱発電用反射装置の金属基材としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などを用いることが好ましい。
【０１８０】
これらの金属基材の厚みは、取扱性、熱伝導性、熱容量等の観点から、０．０５ｍｍ〜３ｍｍ程度が好ましい。
【０１８１】
（１３−２）保持部材
太陽熱発電用反射装置は、太陽光反射用ミラーを保持する保持部材を有する。保持部材は、太陽光反射用のフィルムミラーを太陽を追尾可能な状態で保持することが好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、太陽光反射用のフィルムミラーが所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で太陽光反射用ミラーを保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【実施例】
【０１８２】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１８３】
［フィルムミラーの作製方法］
以下の手法により、銀反射層の腐食（変色）、耐光性及び密着性を検証するための、本発明及び比較例のフィルムミラーを作製した。
【０１８４】
［フィルムミラー１；比較例］
樹脂基材３として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１  日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０  ＤＩＣ製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０質量％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層４を形成し、アンカー層４上に、銀反射層５として、真空蒸着法により厚さ１００ｎｍの銀反射層を形成した。更に、上記銀反射層５上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ３．０μｍの樹脂コート層６を形成した。
【０１８５】
次に、樹脂コート層６上に、ドライラミネーションプロセスにより、接着層７と、アクリル樹脂層８として紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルム、スミペックス  テクノロイ  Ｓ００１Ｇ  ７５μｍ（住友化学株式会社製）を、ラミネート温度６０℃にて貼合した。
【０１８６】
前記アクリル樹脂層のドライラミネーションプロセスの前に、アクリル樹脂層８上に、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に５質量％溶解した中間層塗工液を塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層９を形成した。中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
【０１８７】
上記中間層９の上に、ジブチルエーテル中の３％パーヒドロポリシラザン液（ＡＺエレクトリックマテリアル社製  ＮＬ１２０）を用いて、乾燥後の厚さが５００ｎｍとなるようにバーコーティングし、３分間自然乾燥した後、９０℃のオーブンで３０分間アニールし、ハードコート層１０を形成した。
【０１８８】
次いで重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液としたものを、剥離層１２である厚さ２５μｍのポリエステル製セパレートフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ２５μｍのシリコーン系粘着層２（Ｓｉ系）を形成した後、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのアンカー層及び銀反射層とは反対面側にラミネートし、比較例１のフィルムミラーを得た。
【０１８９】
［フィルムミラー２〜５；比較例］
フィルムミラー１の作製において、アンカー層４及び樹脂コート層６に、表１に記載の化合物を記載の量で含有させた以外は同様にして、比較例のフィルムミラー２〜５を作製した。
【０１９０】
用いた化合物と表中の略記は以下のとおりである。  
Ｔ−２３４  ：チヌビン２３４、ＢＡＳＦジャパン（株）製
Ｔ−１５５７：チヌビン１５７７、ＢＡＳＦジャパン（株）製
【化４】
2014214986.tif 000005
ＴＭＰＴ    ：トリメチロールプロパントリス（β−チオプロピオネート）
【０１９１】
［フィルムミラー６〜１３；本発明］
フィルムミラー１の作製において、アンカー層４及び樹脂コート層６に、表１に記載の化合物を記載の量で含有させた以外は同様にして、本発明のフィルムミラー６〜１３を作製した。
【０１９２】
用いた化合物の構造と表中の略記は以下のとおりである。
【０１９３】
ＴＳ−１：１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール
ＴＳ−２：６−ジブチルアミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
ＴＳ−３：６−アニリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジチオール
ＴＳ―４：下記化合物
【化５】
2014214986.tif 000006
≪フィルムミラーの評価≫
上記のように作製したフィルムミラー１〜１３について、下記の方法に従って、銀反射層の腐食耐性、紫外線照射後の反射率と、銀反射層と樹脂コート層間、又は銀反射層とアンカー層間での密着性について評価した。
【０１９４】
＜銀の腐食耐性＞
作製したフィルムミラーをはさみで５ｃｍ□に切断した後、密閉のバイアル管に、硫黄粉末と一緒に入れて、１１０℃オーブンで加熱し、銀反射面の損傷（腐食）を目視で確認した。黒色に変化した面積の割合を測定した。黒色の面積が小さいほど良好な腐食耐性を持つ。
【０１９５】
下記の基準に従って、面積の割合を１〜５の５段階で評価した。数字が大きいほど優れており、評価３以上が実用上可である。
【０１９６】
５：黒色変色部面積割合が５％未満
４：黒色変色部面積割合が５％以上１０％未満
３：黒色変色部面積割合が１０％以上１５％未満
２：黒色変色部面積割合が１５％以上２０％未満
１：黒色変色部面積割合が２０％以上
＜耐光性＞
上記作製したフィルムミラーの太陽光入射面側に対し、２３℃・５５％ＲＨの環境下でキセノンランプ照射（スガ試験機ＳＸ７５を使用、放射強度１８０Ｗ／ｍ２×１０００時間）を行った。
【０１９７】
このキセノンランプ照射後に下記の方法で５度正反射率を測定した。
【０１９８】
日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を使って、入射角５度の基準サンプルに対する相対反射率測定を行なった。波長範囲は２５０〜２５００ｎｍで測定し、部分的に反射率が落ちる波長範囲が無いかどうかを確認した。可視光領域（４００〜８００ｎｍ）における反射率を平均し、これを５度正反射率とした。
【０１９９】
上記耐光試験前のフィルムミラーの５度正反射率を測定し、変動幅が少ないほど耐光性に優れていることを表す。
【０２００】
下記の基準に従って、反射率の変動を１〜５の５段階で評価した。数字が大きいほど優れており、評価３以上が実用上可である。
【０２０１】
５：反射率の変動幅が３％未満。
４：反射率の変動幅が３％以上５％未満
３：反射率の変動幅が５％以上８％未満
２：反射率の変動幅が８％以上１０％未満
１：反射率の変動幅が１０％以上
＜密着性＞
上記作製したフィルムミラーにメタルハライドランプにて５００時間照射後、６０℃・９０％ＲＨの環境下に、２００ｈｒ保存後に、クロスカットテープ剥離法を用いて、銀反射層と他の構成層との密着性を評価した。
【０２０２】
膜の密着性測定する方法は、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００に準拠し、試料にカッターでクロス状に傷をつけ、１００マスの切り目を入れる。セロハンテープを切れ目部分に貼り付けた後、４５°方向に引っ張り、銀反射層に隣接する層が剥がれていないマス数を計測した。密着性は以下の基準で、１〜５の５段階で評価した。数字が大きいほど優れており、評価３以上が実用上可である。
【０２０３】
５：剥がれていないマス数が９５以上
４：剥がれていないマス数が８５以上９５未満
３：剥がれていないマス数が７５以上８５未満
２：剥がれていないマス数が６５以上７５未満
１：剥がれていないマス数が６５未満
作製したフィルムミラー１〜１３の構成及び上記評価結果を表１に示す。
【０２０４】
【表１】
2014214986.tif 000007
表１から、本発明に係るトリアジンチオール類を、銀反射層に隣接するアンカー層、又は樹脂コート層、若しくはその両層に添加したフィルムミラー６〜１３は、腐食耐性、耐光性、及び密着性が、比較例に対して優れていることが明らかである。
【０２０５】
したがって、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーを用いれば、砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境でも、銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下、銀反射層と他の構成層間での剥がれという、本発明の課題を解決可能な太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
【符号の説明】
【０２０６】
Ｆ      太陽熱発電用フィルムミラー
１      金属基材
２      粘着層
３      樹脂基材
４      アンカー層
５      金属反射層
６      樹脂コート層
７      接着層
８      アクリル樹脂層（紫外線球種層）
９      中間層
１０    ハードコート層
１１    ガスバリアー層
１２    剥離層
Ｒ      太陽熱発電用反射装置
【図１】
2014214986.tif 000010
【図２】
2014214986.tif 000011