(57)【要約】      （修正有）【課題】全可視光線領域において干渉縞が発生しないハードコートフィルムを作製することができるハードコート組成物、それを用いたハードコートフィルム及び反射防止フィルムの提供する。【解決手段】１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能モノマーと、重合開始剤と、溶剤とを含有するハードコート組成物であって、溶剤が、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２の範囲にある溶剤成分を２０〜１００重量％含有するハードコート組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能モノマーと、重合開始剤と、溶剤とを含有するハードコート組成物であって、
前記溶剤が、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２の範囲にある溶剤成分を２０〜１００重量％含有することを特徴とするハードコート組成物。
【請求項２】
請求項１に記載のハードコート組成物からなるハードコート層を透明基材の一方の面に設けたことを特徴とするハードコートフィルム。
【請求項３】
請求項２に記載の前記ハードコート層上に低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗膜を形成するのに適したハードコート組成物およびそれを塗布することにより得られるハードコートフィルム、反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の各種表示体やそれらに用いられる偏光板あるいは各種の光学レンズ、計器のカバー、窓ガラスなどの表面保護や反射防止を目的として、塗布された塗膜を有するハードコートフィルム、反射防止フィルムが利用されている。ところが、このハードコートフィルム、反射防止フィルムでは、塗膜表面の反射光、及び塗膜とフィルム基材との界面の反射光が互いに干渉して干渉色を生じ、さらにハードコート層の塗工厚みにムラがあると干渉縞と呼ばれる模様が生じて視認性を低下させる問題がある。
【０００３】
この干渉縞を改善するために、基材とハードコート層の間に凹凸を設けることによってハードコート層と基材との界面での光の反射を散乱させる技術（例えば、特許文献１）、基材とハードコート層間に中間層を設ける技術（例えば、特許文献２）、基材とハードコート層の屈折率差を少なくすることにより干渉縞を防止する技術（例えば、特許文献３）、塗液のレベリング性を向上させる技術（例えば、特許文献４）、低沸点溶剤と高沸点溶剤を混合させる方法（例えば、特許文献５）等が提案されている。
【０００４】
しかしながら上記の提案は、ハードコート層形成用組成物の調整、塗工、乾燥などの加工技術の複雑さ、組成物に用いる材料選択の幅が狭いなどの材料調達の難しさ、さらには、これらを総合した生産性低下及びコスト高等の問題があり、十分な効果が得られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０８−１９７６７０号公報
【特許文献２】特開２０００−１１１７０６号公報
【特許文献３】特開平０７−１５１９０２号公報
【特許文献４】特開２０１２−０６８４１５号公報
【特許文献５】特開２００３−２７７６８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、全可視光線領域において干渉縞が発生しないハードコートフィルムを作製することができるハードコート組成物、それを用いたハードコートフィルム及び反射防止フィルムの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る請求項１の発明は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能モノマーと、重合開始剤と、溶剤とを含有するハードコート組成物であって、
前記溶剤が、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２の範囲にある溶剤成分を２０〜１００重量％含有することを特徴とするハードコート組成物である。
【０００８】
また、請求項２の発明は、請求項１に記載のハードコート組成物からなるハードコート層を透明基材の一方の面に設けたことを特徴とするハードコートフィルムである。
【０００９】
また、請求項３の発明は、請求項２に記載の前記ハードコート層上に低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止フィルムである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の請求項１によれば、セン溶解度パラメータにおける水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２の溶剤成分を用いることにより、透明フィルム基材１の表面を溶解または膨潤させることができる。これにより、多官能モノマーが前記透明フィルム基材の表面から内部にかけて浸透、硬化し、透明フィルム基材とハードコート層間での屈折率を徐々に緩和することができ、干渉縞の発現を抑止できる。
【００１１】
また、請求項２によれば、請求項１に記載のハードコート組成物を用いることによって、ハードコート層としての優れた高耐屈曲性、高密着性などに加えて、全可視光線領域における干渉縞のないハードコートフィルムを提供することができる。
【００１２】
また、請求項３によれば、請求項２に記載の前記ハードコート層上に低屈折率層を設けることで、全可視光線領域における干渉縞のない反射防止フィルムを提供することができる。
【００１３】
上記で説明したように、本発明のハードコート組成物を用いることによって、ハードコート層としての優れた高耐屈曲性、高密着性などに加えて、全可視光線領域における干渉縞のないハードコートフィルムを提供することができる。また、前記ハードコートフィルムを基材として用いることによって、高性能な反射防止機能付き反射防止フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係るハードコートフィルムを示す断面図。
【図２】本発明に係る反射防止フィルムを示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係るハードコート組成物、それを用いたハードコートフィルム及び反射防止フィルムについて説明する。
【００１６】
図１は、上記ハードコート組成物を用いたハードコートフィルム１０の断面図を示しており、透明フィルム基材１の一方の面上にハードコート層２が形成されている。
【００１７】
本発明のハードコート組成物を用いてハードコート層２を形成することにより、優れた硬度と、高透明性と、帯電防止性と、高耐屈曲性と、全可視光線領域における干渉縞の発生防止効果とを有するハードコートフィルム１０を得ることができる。
【００１８】
以下、本発明に係るハードコート組成物について具体的に説明する。
【００１９】
本発明は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能モノマーと、重合開始剤と、溶剤とを含有するハードコート組成物であって、前記溶剤がそれを構成する溶剤成分の内、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２の範囲にある溶剤成分を２０〜１００重量％含有することにより、全可視光線領域における干渉縞のないハードコート層が形成できることを特徴としている。
【００２０】
（溶剤）
前記溶剤を構成するハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２の溶剤成分としては、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジオキソラン、１−ヘキサノール、蟻酸メチル、炭酸ジメチルなどが挙げられる。これらの溶剤成分を全溶剤中２０〜１００重量％含有する溶剤を用いることで、透明フィルム基材１の表面を溶解または膨潤させることができる。
【００２１】
本発明は、前記溶剤成分、すなわちハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２の溶剤成分を用いることにより、透明フィルム基材１の表面を溶解または膨潤させることができる。これにより、以下に説明する多官能モノマーが前記透明フィルム基材１の表面から内部にかけて浸透、硬化し、透明フィルム基材１とハードコート層間での屈折率を徐々に緩和することができ、干渉縞の発現を抑止できる。
【００２２】
ここで、ハンセン溶解度パラメータとは、溶剤の溶解能を定義する方法の１種であり、詳しくは、例えば「Ｈａｎｓｅｎ  Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ  Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ：Ａ  Ｕｓｅｒ’ｓ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ,Ｓｅｃｏｎｄ  Ｅｄｉｔｉｏｎ」(ｐ．１−３１０，ＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ，２００７年発行)や、「化学工業」（第６１巻３月号―第６２巻２月号  連載  ハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ）の基礎と応用，化学工業社，２０１０年―２０１１年発行）などに記載されている。ハンセン溶解度パラメータは溶解度パラメータを分散項（ｄＤ）、極性項（ｄＰ）、水素結合項（ｄＨ）の３つのパラメータに分割して考えられ、ある溶質に対して、３つのパラメータが似ている溶媒がその溶質を良く溶かす良溶媒となる。
【００２３】
ハードコート組成物には、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２である化合物と共に、他の溶剤を用いていてもよい。他の溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−ブチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の２つ以上の官能基を持つ化合物、水等の中から、塗工適正等を考慮して適宜選択して使用することができる。
【００２４】
（多官能モノマー）
次にハードコート組成物に用いられる多官能モノマーについて説明する。
本発明に係る多官能モノマーは、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有し、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコー
ルビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、上記の中から、１種類のみを用いてもよいし、２種類以上の混合物を用いてもよい。また、必要であれば多官能モノマー同士あるいは単官能モノマーと併用して共重合させたものを用いてもよい。
【００２５】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタクリレート」の両方を示している。
【００２６】
（重合開始剤）
ハードコート組成物に用いられる重合開始剤は、モノマーの種類および重合処理の種類（電磁波照射、粒子線照射あるいは加熱）に応じて決定する。一般には、光重合開始剤または熱重合開始剤を使用する。光重合開始剤の単独使用または光重合開始剤と熱重合開始剤との併用が好ましい。
【００２７】
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００２８】
また、熱重合開始剤としては、例えば、無機過酸化物（過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等）、アゾニトリル化合物（アゾビスシアノ吉草酸ナトリウム等）、アゾアミジン化合物（２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミド）塩酸塩等）、環状アゾアミジン化合物（２，２’−アゾビス〔２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン塩酸塩等）、アゾアミド化合物（２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−〔１，１’−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド等）、アゾ化合物（２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート等）および有機過酸化物（ラウリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオクトエート等）等が挙げられる。
【００２９】
（導電性材料）
ハードコート組成物に、導電性材料を添加してもよい。ハードコート組成物に導電性材料を添加することにより、帯電防止性能を付与することができる。導電性材料としては、四級アンモニウム塩、金属酸化物粒子、導電性高分子等を用いることができる。
【００３０】
導電性材料として用いられる、四級アンモニウム塩は、−Ｎ＋Ｘ−の構造を示し、四級アンモニウムカチオン（−Ｎ＋）とアニオン（Ｘ−）を備えることによりハードコート層
に導電性を発現させる。このとき、Ｘ−としては、例えば、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、Ｆ−、ＨＳＯ４−、ＳＯ４２−、ＮＯ３−、ＰＯ４３−、ＨＰＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−、ＳＯ３−、ＯＨ−等を挙げることができる。また、四級アンモニウム塩としては、四級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。四級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、例えば、四級アンモニウム塩（−Ｎ＋Ｘ−）を官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよびアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を用いることができる。
【００３１】
導電性材料として用いられる金属酸化物粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛から選択される１種又は２種以上の金属酸化物を主成分とする材料を用いることができる。
【００３２】
導電性材料として用いられる導電性高分子としては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−チエニレン）およびこれらの誘導体から選ばれる１種または２種以上の混合物を用いることができる。
【００３３】
また、ハードコート組成物には、添加剤として、防汚剤、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えてもよい。
【００３４】
また、ハードコート組成物には、電離放射線硬化型材料を加えてもよい。電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよびアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を用いることができる。また、これらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を用いることができる。
【００３５】
（透明フィルム基材）
次に、透明フィルム基材１について説明する。
【００３６】
透明フィルム基材１としては、種々の有機高分子からなるフィルムを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものを用いることができる。特に、透明フィルム基材１としては、アクリル系の有機高分子からなるものを用いることが好ましい。
【００３７】
アクリル系の有機高分子からなるものを用いることで、ハードコート組成物に含まれるエーテル結合を２つ以上含む化合物を含有する溶剤により、透明フィルム基材１の表面が溶解または膨潤する。透明フィルム基材１の表面が溶解または膨潤することにより、ハードコート組成物に含まれる多官能モノマーが透明フィルム基材１へと浸透し、透明フィルム基材１とハードコート組成物とが混合した混合層が形成される。混合層が形成されることにより、透明フィルム基材１とハードコート層との間で屈折率差が小さくなり干渉縞の発生を防止することができる。
【００３８】
なお、透明フィルム基材１の厚みは１０μｍ以上３００μｍ以下の範囲内にあることが好ましい。透明フィルム基材１の厚みが１０μｍより小さいと、透明フィルム基材１自体の強度が下がり、膜を塗工しても強度が得られない。一方、透明フィルム基材１の厚みが３００μｍより大きいと、ロールｔｏロールにて塗工した場合の扱いが困難となる。
【００３９】
（ハードコート層の形成方法）
次に、ハードコート層２の形成方法について説明する。上記の材料を調製して得られるハードコート組成物を、透明フィルム基材１上に塗工し、塗膜を形成する。ハードコート組成物を透明フィルム基材１上に塗工する方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗工方法を採用することができる。
【００４０】
ハードコート組成物を透明フィルム基材１上に塗工した後、透明フィルム基材１上に塗工されたハードコート組成物の塗膜を乾燥することにより、塗膜中の溶媒を除去する。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。
【００４１】
塗膜を乾燥した後乾燥させた塗膜に対し、電離放射線を照射する、あるいは加熱をすることにより、ハードコート層２が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。
【００４２】
次に、本発明に係る反射防止フィルムについて説明する。図２に、ハードコートフィルム１０を備えた反射防止フィルム２０の断面図を示す。反射防止フィルム２０は、ハードコートフィルム１０のハードコート層２上に、低屈折率層３を設けることで反射防止機能を付与することができる。
【００４３】
（低屈折率層）
以下、前記低屈折率層３の形成に用いる低屈折率コーティング組成物について説明する。低屈折率コーティング組成物は、少なくとも内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子と、バインダマトリックス形成材料とを含む。
【００４４】
低屈折率コーティング組成物に用いる、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子は、屈折率が１．２０〜１．４４であればよく、特に限定されるものではない。有機珪素化合物から成るマトリックス中に、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を添加することにより、低屈折率化が可能となる。また、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子は、内部に空気を含有しているために、それ自身の屈折率は、通常のシリカ（屈折率＝１．４６）と比較して低くなっている（屈折率＝１．３４〜１．４４）。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子は、多孔性シリカ微粒子の表面を有機珪素化合物等で被覆し、その細孔入口を
閉塞して作製される。
【００４５】
また、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を、マトリックス中に添加した場合、シリカ微粒子は中空であるために、マトリックスがシリカ微粒子内部に浸漬することが無く、屈折率の上昇を防ぐことが出来る。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子の平均粒径は、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であれはよい。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子の平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子の平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子が凝集しやすくなってしまう。
【００４６】
低屈折率コーティング組成物に加えられるバインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、下記一般式（１）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
Ｒ４ｘＨｙＳｉ（ＯＲ５）４−ｘ―ｙ                  （１）
ここで、Ｒ４、Ｒ５は、同一または異なって、アルキル基を示し、ｘ、ｙは０≦ｘ＋ｙ≦３を満たす整数である。
【００４７】
一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（１）で示されるケイ素アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【００４８】
さらには、低屈折率層３のバインダマトリックス形成材料としては、一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドに、下記一般式（２）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することにより反射防止フィルム２０の低屈折率層３の表面に防汚性を付与することができ、さらに、低屈折率層３の屈折率をさらに低下することができる。
Ｒ６ｚＳｉ（ＯＲ７）４−ｚ                （２）
ここで、Ｒ６はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、Ｒ７は、アルキル基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である。
【００４９】
一般式（２）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５０】
また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート組成物で挙げた電離放射線硬化型材料を用いることができる。また、低屈折率のフッ素系電離放射線硬化型材料を用いて、低屈折率層３を形成するにあっては、必ずしも低屈折率粒子を添加する必要はない。また、電離放射線硬化型材料を用いる場合にあっても、低屈折率層表面に防汚性を発現する材料
を添加することが好ましい。なお、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率コーティング剤に光重合開始剤を加える。
【００５１】
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００５２】
また、低屈折率コーティング組成物には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えてもよい。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−ブチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適正等を考慮して適宜選択して使用することができる。
【００５３】
また、低屈折率コーティング組成物には、添加剤として、防汚剤、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えてもよい。
【００５４】
次に、低屈折率層３の形成方法を説明する。バインダマトリックス形成材料として、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と、低屈折率粒子とを含む低屈折率コーティング組成物を、ハードコート層２上に塗布し、塗膜を形成し、該塗膜に対し乾燥・加熱し、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことにより低屈折率層３を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子とを含む低屈折率コーティング組成物を、ハードコート層２上に塗布し、塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥を行い、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより、電離放射線硬化型材料の硬化反応を行うことにより、低屈折率層３を形成することができる。
【００５５】
また、低屈折率層３の他の形成方法として、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の適宜な手段を採用してもよい。例えば、上記以外の反射防止塗料の塗膜、膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ２等の極薄膜や金属蒸着膜、あるいはＳｉＯｘやＭｇＦ２の蒸着膜により形成してもよい。
【００５６】
また、低屈折率層３の表面における表面抵抗値は、１．０×１０１１Ω／□以下であることが好ましい。ここで、表面抵抗を示す単位として、Ω/□を用いる。低屈折率層３の表面における表面抵抗値が１．０×１０１１Ω／□より大きくなると、帯電防止機能が損なわれてしまい、反射防止フィルム２０を用いたディスプレイの製造工程で埃などの汚れが付着しやすくなる。低屈折率層３の表面における表面抵抗値は、導電性材料の含有量により調整する。導電性材料の含有量が多すぎると、反射防止フィルム２０の鉛筆硬度と、耐擦傷性とが損なわれ、またコスト面でも不利となる。
【００５７】
また、反射防止フィルム２０には、さらに他の層を積層してもよい。例えば、帯電防止層や防汚層などを積層してもよい。
【００５８】
反射防止フィルム２０は、ディスプレイ表面のディスプレイ前面板として好適に用いることができる。反射防止フィルム２０は、他の部材と組み合わされてディスプレイ前面板として用いることができる。ディスプレイとしては、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等を挙げることができる。このとき、反射防止フィルム２０の低屈折率層３形成面側が、観察側すなわちディスプレイ表面となるように設けられる。
【００５９】
例えば、ディスプレイ前面板としては、１組の透明フィルム基材に挟持された偏光層を備える偏光板が挙げられる。偏光板は液晶ディスプレイに用いられる。反射防止フィルム２０は、透明フィルム基材１のハードコート層２形成面とは反対側の面に、偏光層と第２の透明フィルム基材を、この順に備えることにより偏光板とすることができる。
【実施例】
【００６０】
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は実施例の形態に限定されるものではない。
【００６１】
透明フィルム基材として厚み４０μｍのポリメチルメタクリレートフィルムを用いた。この透明フィルム基材の一方の面に、下記ハードコート組成物を、バーコーティング法により乾燥後の膜厚が６μｍ程度になるように塗布し、乾燥させ、高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、実施例１〜８、比較例１〜１６のハードコート層を形成した。なお、実施例１〜８、比較例１〜１６に用いた上記ハードコート組成物には、それぞれ下記表１に示す溶剤を用いた。
【００６２】
＜ハードコート組成物＞
・多官能モノマー（共栄社化学社製：ＵＡ−３０６Ｉ）      １００重量部
・光重合開始剤                                              １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ）
・四級アンモニウム塩                                        ６重量部
（共栄社化学製：ライトエステルＤＱ１００）
・溶剤                                                  １００重量部
【００６３】
【表１】
2014178568.tif 000002
【００６４】
次に、上記で得られた実施例１〜８、比較例１〜１６のハードコート層上に、それぞれ下記組成の低屈折率層組成物を、バーコーティング法を用いて塗布し、乾燥させ、その後ＵＶ照射して、低屈折率層を設けた反射防止フィルムを作製した。
【００６５】
＜低屈折率層組成物＞
・多孔質シリカ微粒子分散液                          １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート    １．９９重量部
（日本化薬社製：ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                        ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：商品名；Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
・添加剤（日本化薬社製：ＴＳＦ４４６０  ＧＥ）        ０．２０重量部
・溶剤（メチルイソブチルケトン）                          ８２重量部
【００６６】
＜評価＞
上記で作製した実施例１〜８、比較例１〜１６の反射防止フィルムについて、下記の方法に従って評価した。評価結果を以下の表２に示す。
【００６７】
「干渉縞観察」
透明フィルム基材の他方の面（ハードコート層の形成されていない面）につや消し黒色塗料を塗布したのち、蛍光灯（三波長蛍光灯）直下で低屈折率層表面の干渉縞を目視にて確認した。目視にて確認した干渉縞は、以下の基準で評価した。
◎：干渉縞が認められない。
○：干渉縞がほとんど認められない。
△：干渉縞がわずかに認められる。
×：干渉縞が顕著に認められる。
【００６８】
「耐屈曲性」
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１に準拠し、試験を行った。
【００６９】
「密着性」
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準拠して、ハードコート層の残存数にて評価した。目視にて確認した評価を以下のように分類した。
○：剥離は確認されない。
△：２０マス以下の剥離が確認できる。
×：２０マス以上の剥離が確認できる。
【００７０】
「全光線透過率およびヘイズ値」
写像性測定器（日本電色工業社製：ＮＤＨ−２０００）を用いて全光線透過率およびヘイズ値を測定した。
【００７１】
「鉛筆硬度」
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準拠して、試験機法により５００ｇ荷重で評価した。
【００７２】
「表面抵抗」
ＪＩＳ−Ｋ６９１１に準拠して高抵抗抵抗率計（ダイアインスツルメンツ社製：ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）を用いて、表面抵抗を測定した。
【００７３】
【表２】
2014178568.tif 000003
【００７４】
＜比較結果＞
実施例１〜８で得られた本発明品は、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２である化合物を溶剤中に２０％以上含むことで、硬度、全光線透過率、ヘイズ、表面抵抗の性能を悪化させることなく、干渉縞の程度が軽く、高い耐屈曲性を有し、密着性も優れた反射防止フィルムを得ることができた。一方、前記水素結合項（ｄＨ）が８．０から１３．５（ＭＰａ）１／２の範囲の溶剤成分が２０〜１００重量％に満たない溶剤を用いた、比較例１〜１６で得られた比較例品は、いずれも干渉縞が確認された。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明の反射防止フィルムは、液晶ディスプレイ等の各種ディスプレイの光学物品の表面に用いられる反射防止フィルムとして利用できる。
【符号の説明】
【００７６】
１・・・透明フィルム基材
２・・・ハードコート層
３・・・低屈折率層
１０・・ハードコートフィルム
２０・・反射防止フィルム
【図１】
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【図２】
2014178568.tif 000005