(57)【要約】【課題】電磁波の透過率が高く、長期に渡って金属光沢を維持できる電磁波透過性材料を提供すること。【解決手段】電磁波透過性基材（１）の表面に金属被膜（２）を設けた電磁波透過性材料であって、前記金属被膜（２）は、無電解めっきにより形成されたパラジウムまたはパラジウム合金からなり、膜厚が１０ｎｍ〜１μｍであり、前記金属被膜（２）が、クラックにより分割された微細金属領域を有する場合、該微細金属領域の数は、単位面積（１ｍｍ２）当たり２〜１００００個であること。【選択図】図１
2014214353.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波透過性基材の表面に金属被膜を設けた電磁波透過性材料であって、前記金属被膜は、無電解めっきにより形成されたパラジウムまたはパラジウム合金からなり、膜厚が１０ｎｍ〜１μｍであることを特徴とする電磁波透過性材料。
【請求項２】
前記金属被膜の膜厚が、２０〜５００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の電磁波透過性材料。
【請求項３】
前記金属被膜の膜厚が、３０〜２００ｎｍであることを特徴とする請求項２に記載の電磁波透過性材料。
【請求項４】
前記金属被膜が、クラックにより分割された微細金属領域を有し、該微細金属領域が、単μ位面積（１ｍｍ２）当たり２〜１００００個であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電磁波透過性材料。
【請求項５】
前記クラックの幅が、クラックの幅が１０ｎｍ〜２μｍであることを特徴とする請求項４に記載の電磁波透過性材料。
【請求項６】
前記金属被膜は、電磁波透過性基材の表面に設けた下地層の上に形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電磁波透過性材料。
【請求項７】
前記金属被膜の上に保護層を設けたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の電磁波透過性材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属光沢と耐候性に優れた電磁波透過性材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電磁波透過性材料としては、真空蒸着法により基材表面にインジウム被膜を設けることが行われている。このインジウム被膜は、インジウムが微細な島状に分布した海島構造となっており、目視では金属光沢を有しているが、ミクロ的な隙間があるため、電磁波を透過できる。そのため、自動車に搭載されるミリ波レーダ装置のカバー部材（レドーム）を装飾する金属被膜として用いられている（特許文献１、２）。
【０００３】
しかしながら、上記被膜は、真空蒸着により形成しているため、真空容器内に基材をその都度配置して成膜する必要があり、量産性が低く、基材の大きさも真空容器内に収容可能な大きさに限定される。また、蒸発した金属は方向性があるため、立体構造のような複雑な形状のものでは、均一な被膜を形成できない問題がある。
【０００４】
また、上記真空蒸着の問題を解決するために、基材表面に無電解めっきを用いて電磁波透過性の金属被膜の形成することが提案されているが（特許文献３）、電磁波透過性を付与するために、金属被膜を形成した後、熱処理を施し、単位面積（１ｍｍ２）当たり２〜１００００個の金属領域を存在させた海島構造の金属被膜を形成しなければならず、工程が多くなり、熱処理温度によっては、基材が変形や被膜の変質が生じるという問題がある。しかも、金属被膜も具体的にはニッケル−リン合金からなるもので、貴金属よりも耐食性に劣るため、長期に渡って金属光沢を維持するのが難しいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１５９０３９号公報
【特許文献２】特開２０００−０４９５２２号公報
【特許文献３】特開２０１０−１６３９０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、電磁波の透過率が高く、長期に渡って金属光沢を維持できる電磁波透過性材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、鋭意研究を行った結果、無電解めっきで形成されたパラジウム被膜は、めっき時に発生する水素を多量に吸蔵し、体積膨張を生ずるため、電磁波透過損失が小さいこと、特に、パラジウム−リン被膜のような硬質の被膜では、内部応力が大きくなり、電磁波が透過できるクラックが自然発生し、電磁波透過性が更に向上すること、また、パラジウムは、ニッケルあるいはビスマスよりも優れた耐酸化性を有するため、環境に対して変色し難く、長期に渡って優れた金属光沢が維持されることを見出し、本発明に到った。
【０００８】
すなわち、本発明は、以下の構成により、上記課題を達成できる。
（１）「電磁波透過性基材の表面に金属被膜を設けた電磁波透過性材料であって、前記金属被膜は、無電解めっきにより形成されたパラジウムまたはパラジウム合金からなり、膜厚が１０ｎｍ〜１μｍであることを特徴とする電磁波透過性材料」、
（２）「前記金属被膜の膜厚が、１０〜５００ｎｍであることを特徴とする前記第（１）項に記載の電磁波透過性材料」、
（３）「前記金属被膜の膜厚が、２０〜２００ｎｍであることを特徴とする前記第（２）項に記載の電磁波透過性材料」、
（４）「前記金属被膜が、クラックにより分割された微細金属領域を有し、該微細金属領域が、単位面積（１ｍｍ２）当たり２〜１００００個であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（３）項のいずれかに記載の電磁波透過性材料」、
（５）「前記クラックの幅が、クラックの幅が１０ｎｍ〜２μｍであることを特徴とする前記第（４）項に記載の電磁波透過性材料」、
（６）「前記金属被膜は、電磁波透過性基材の表面に設けた下地層の上に形成されていることを特徴とする前記第（１）項乃至第（５）項のいずれかに記載の電磁波透過性材料」、
（７）「前記金属被膜の上に保護層を設けたことを特徴とする前記第（１）項乃至第（６）項のいずれかに記載の電磁波透過性材料。」
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、基体上の無電解めっきによりパラジウム又はパラジウム合金被膜を形成しているので、電磁波の透過減衰損失が小さく、優れた電磁波透過性を有する。また、パラジウムは、優れた耐環境性および光輝性を有するため、金属光沢を長期に渡って維持できる。
【００１０】
特に、パラジウム−リンのような高い硬度の合金で被膜を形成すると、残存する内部応力によりクラックが発生するため、被膜自体の電磁波透過性と相俟って、電磁波透過性をさらに向上されることができる。また、クラックにより囲まれたパラジウム領域を単位面積（１ｍｍ２）当たり１００００個以下とすることにより、被膜に占めるパラジウム領域が大きく、優れた金属光沢を呈するとともに、パラジウムの優れた耐環境性と相俟って、金属光沢を長期に渡って維持することができる。
【００１１】
さらに、無電解めっき法を用いているので、大量生産が可能であり、基材の形状に対する制約が少なく、金属被膜も極めて薄いので、めっき処理時間も短時間ですみ、効率よく生産できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の電磁波透過性材料の模式断面図である。
【図２】本発明のクラックを有する金属被膜表面の一部を拡大した模式図である。
【図３】実施例２で得た電磁波透過用金属被膜の表面を写した実体顕微鏡写真である。
【図４】実施例３で得た電磁波透過用金属被膜の表面を写した実体顕微鏡写真である。
【図５】実施例４で得た電磁波透過用金属被膜の表面を写した実体顕微鏡写真である。
【図６】実施例５で得た電磁波透過用金属被膜の表面を写した実体顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本件発明に係る電磁波透過用金属被膜についての好ましい実施の形態を説明する。
【００１４】
本発明は、図１（ａ）、（ｂ）に示すように、電磁波透過性基体１の表面またはこの基体１に設けた下地層３の表面に無電解めっきによりパラジウムまたはパラジウム合金の金属被膜２を形成したものである。
【００１５】
パラジウムは、極めて高い水素吸収性を有しており、無電解めっきでパラジウムまたはその合金の金属被膜を形成すると、めっき時に発生する水素を吸蔵し、体積が膨張する。本発明は、この体積膨張により、通常の金属被膜では、クラックがないと数ｎｍという極めて薄い膜厚でなければ実用に供する電磁波透過被膜を得ることができなかったが、無電解めっきによりパラジウム被膜を形成すると、１００ｎｍ以下の薄い膜厚であれば、クラックがなくとも電磁波透過損失が小さく、実用に耐える電磁波透過性を有することを見出したものである。
【００１６】
また、形成された被膜は、水素吸蔵による体積膨張により、高い内部応力が発生し、この内部応力により、膜厚の厚い純パラジウムの被膜やパラジウム−リン合金被膜のような硬度の高い被膜では、この内部応力によりクラックが発生する。そのため、アフターベーキング等の熱処理によってクラックを多数発生させる必要がなく、熱による基材の変形、変質がないため、寸法精度に優れた製品を得ることができる。
【００１７】
本発明は、電磁波透過性と金属光沢の両者を満たす必要がある。これらは相反する特性であり、電磁波透過性は膜厚が薄い程向上するが、金属光沢は減ずることになる。また、膜厚が厚くなれば金属光沢は優れるが、発生するクラックは被膜が厚い程少なくなる傾向があり、膜厚が厚くなるほど、電磁波透過性はクラックに依存するため、膜厚が厚いと電磁波透過性は劣ることになる。
【００１８】
そのため、上記特性を両立させるためには、膜厚は、１０ｎｍ〜１μｍであるが、好ましくは１０〜５００ｎｍ、より好ましくは２０〜２００ｎｍである。膜厚が１０ｎｍ未満では、基材が透けて見え、十分な金属光沢を得ることが困難であり、１μｍを超えると、クラックの数が少なくなり、十分な電磁波透過性を得ることが困難となる。特に、被膜にクラックが存在しない場合は、膜厚は１００ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００１９】
本発明において、被膜２にクラック４が存在する場合、図２に示すように、クラック４は網目状に形成され、被膜２は、クラック４に囲まれたパラジウムまたはその合金からなる多角形状の微細金属領域５を島とした海島構造をとり、各々の微細金属領域５は、クラックにより電気的に不導通状態になる。この微細金属領域５は、基材の表面に単位面積（１ｍｍ２）当たり２〜１００００個、好ましくは、３００〜１００００個である。微細金属領域５をこのような個数とすることにより、微細金属領域５が占める面積が大きくなり、金属光沢に優れるため好ましい。
なお、図３〜６において、クラックは黒い線状に視認される微細な領域であり、微細金属領域はクラックに囲まれた領域である。
【００２０】
クラックの幅は、浴組成、浴の温度、めっき液への浸漬時間等により変動するが、１０ｎｍ〜２μｍ程度であり、好ましくは、３０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは、３０ｎｍ〜０．５μｍである。クラック幅が１０ｎｍ未満では微細金属領域間が接触して導通状態となる可能性があり、電磁波透過性に悪影響をおよぼす畏れがある。また、２μｍを超えると、裸眼で視認できるため、意匠性に問題が生ずる。
【００２１】
本発明の被膜は、パラジウムまたはパラジウム合金から形成されるものであるが、パラジウム合金としては、パラジウム−リン、パラジウム−ニッケル、パラジウム−ニッケル−リン、パラジウム−コバルト等を挙げることができる。このようなパラジウム又はパラジウム合金を用いることにより、１０ｎｍのような極薄いものであっても外観上、十分な金属光沢を発現させることができる。
【００２２】
本発明の基材は、電磁透過性を有することが好ましく、そのため、樹脂、セラミックス、紙、ガラス及び繊維等の非金属が好適に用いられる。樹脂としては、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれを用いてもよく、例えば、ＣＯＰ（環状ポリオレフィン）樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン）樹脂、ＡＥＳ（アクリロニトリル−エチレン−スチレン）樹脂、アクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、セルロース樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等を挙げることができる。
【００２３】
また、本発明では、無電解めっきで金属被膜を形成するため、基材の形状に制限はなく、板材、シート材、フィルム材あるいは立体形状のものを用いることもできる。
【００２４】
次に、本発明のパラジウム又はその合金の金属被膜の形成方法を説明する。本発明は、無電解めっきを用いることにより、基材として樹脂等の非金属を用いることができ、また、めっき時に発生する水素を被膜に吸蔵させることができる。
【００２５】
本発明における無電解めっきについての具体的な手順等に関する限定はないが、触媒付与工程→無電解めっき工程のような、通常の無電解めっき工程を経ることにより、基体表面に金属被膜を形成できる。
【００２６】
基材の表面に無電解めっき法により金属被膜を形成する際には、例えば、基材の表面を改質して触媒が付着し易くするように、基材表面を機械的処理、化学的処理、ＵＶ処理、プラズマ処理等により粗面化する。また、基材の触媒付着能を向上させるために、下地層（アンダーコート層）を設けてもよい。
【００２７】
次に、必要に応じて表面を粗面化した基体を脱脂、洗浄した後、基材表面にパラジウム等の触媒金属を析出させる触媒付与工程を行う。この触媒付与工程は、センシタイジング→アクチベーション法、キャタリスト→アクセレータ法等の公知の触媒付着工程を用いることができる。例えば、キャタリスト→アクセレータ法では、キャタリスト溶液（スズ塩とパラジウム塩の混合触媒溶液）に浸漬し、水洗の後、硫酸又は塩酸の水溶液、あるいは次亜リン酸塩等の還元剤の水溶液に浸漬し、基材表面に触媒であるパラジウムを析出させる。
【００２８】
基材表面にパラジウムの触媒金属を付着させた後、無電解パラジウムめっき浴に浸漬することで、基材表面に電磁波透過性を有する被膜が形成できる。
【００２９】
本発明で用いる無電解めっき浴としては、パラジウム塩と還元剤とを基本成分とし、必要に応じて、チオジグリコール酸のような安定化剤や錯化剤等を添加してもよい。また、パラジウム−ニッケルのような合金めっきとする場合は、ニッケル塩のような合金成分の塩をパラジウム塩と併用することにより、容易に得ることができる。
【００３０】
還元剤としては、次亜リン酸塩、亜リン酸塩、酸蟻塩、ヒドラジン等が挙げられ、次亜リン酸塩を用いれば、リンも共析するため、パラジウム−リンのようなリンを含有した合金被膜が形成できる。また、蟻酸塩やヒドラジンを用いれば、純パラジウム被膜を得ることができる。
【００３１】
本発明の被膜は、一般的な装飾用の被膜とは異なり、膜厚を１μｍ以下として、電磁波透過性と装飾性とを両立させるものであるから、基材の浸漬時間は、浴組成や浴の温度等によって異なるが、概ね３０秒〜９０秒の範囲内でよい。そのため、高い生産性を有する。
【００３２】
無電解めっきによりパラジウムまたはその合金の金属被膜を形成した基材は、その後、水洗、乾燥等の後処理工程を行うが、めっき浴から引き揚げた直後の金属被膜は連続膜であっても、内部応力により、水洗および／または乾燥工程中でクラックが発生し、基材の表面に微細金属領域の集合体としての不連続な非導通性の金属被膜を得ることができる。このように、金属被膜自体の内部応力でクラックを発生させるため、乾燥工程も常温等の低温で行えるので、熱による基体の変形、変質がなく、精度の高い製品が得られる。
【００３３】
また、めっき法によるパラジウム及びパラジウム合金被膜のクラック密度は、吸蔵された水素含有量による内部応力で変化するので、浴組成、浴温、浸漬時間等のめっき条件である程度コントロールすることができる。また、基体上に下地層（アンダーコート層）を設け、この上に被膜を形成する場合、下地層が柔らかいとパラジウム及びパラジウム合金被膜の収縮膨張に追随するのでクラックが入り難く、硬度が高いと入り易い。この性質を利用して、下地層の硬さを変えることにより、パラジウム及びパラジウム合金被膜のクラック密度をコントロールすることができる。このような下地層を硬さの変更は、光重合（紫外線照射）や熱硬化により行うことができる。
【００３４】
下地層は、樹脂を溶媒等で希釈した塗料を基材に塗布した後、光重合（ＵＶ）あるいは熱硬化させることで形成できる。光重合型の樹脂としては、アクリル系ポリエステルアクリレート、ポリウレタン系アクリレート、エポキシ系アクリレート、アクリル酸エステル等が挙げられ、熱硬化型としては、ポリエステル系樹脂、フェノール系樹脂、アルキド樹脂、メラミン尿素系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、塩化ゴム系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、セルロース等が挙げられる。
【００３５】
また、金属被膜を保護し、且つ耐食性を向上させるように、金属被膜上に、樹脂からなる保護層（トップコート層）を設けても良い。このような保護層は、前記の下地層と同様に、樹脂を含有すると塗料を金属被膜上に塗布し、紫外線の照射あるいは熱硬化させてることで形成でき、用いる樹脂も下地層と同様の樹脂を用いることができる。このように、トップコート層を形成すると、クラックに樹脂が入り込み、金属被膜を強固にすると共に、金属被膜の腐食が防止でき、金属被膜が腐食される場合であっても、腐食の広がりを防止できるため、耐食性が大幅に向上できる。
【００３６】
以上のように、本発明は、無電解めっきにより被膜を形成しているため、基材の大きさに関する制約が少ない。また、耐環境性および光輝性に優れたパラジウムまたはその合金で金属被膜を形成しているため、耐食性、耐環境性および光輝性に優れ、高い光輝性の金属光沢を長期に渡って維持できる。
【００３７】
そのため、本発明に係る電磁波透過性材料は、携帯電話の筐体、タブレット筐体、テレビやカメラ等の電磁波を用いてリモートコントロールする電子部品のアンテナレドーム、自動車衝突防止用レーダーのレドーム、キーレスエントリーのドアノブ等の電磁波透過性と装飾性の必要な部材として好適に用いることができる。
【実施例】
【００３８】
次に、実施例および比較例を示して本発明を具体的に説明するが、これらの実施例に限定されるものではない。
【００３９】
［実施例１］
基材として、２０ｍｍ×５０ｍｍ×０．３ｍｍのＣＯＰ樹脂製のシートを用い、その一方の面に紫外線（ＵＶ）を照射して表面を改質した。
【００４０】
この基材を、浴温４５℃の苛性ソーダ水溶液（５０ｇＮａＯＨ／Ｌ）に２分間浸漬して脱脂した後、純水で洗浄した。次に、４５℃の条件下で市販のコンディショニング液に２分間浸漬した後、４５℃の塩化第１スズ−塩化パラジウム水溶液０．３ｇ／Ｌに２分間浸漬した。
【００４１】
次に、１５％の蟻酸ナトリウム水溶液に、基材を４５℃の条件下で１分間浸漬し、基材の表面に触媒としてのパラジウム金属を吸着させた後、５０℃に調整した以下の浴組成を有する無電解めっき浴に３０秒浸漬し、厚さ２０ｎｍの純パラジウムの金属被膜を形成した。
【００４２】
無電解めっき浴
塩化パラジウム            ：０．０１Ｍ（ｍｏｌ／Ｌ）
蟻酸ナトリウム            ：０．２Ｍ
チオジグリコール酸        ：２００ｍｇ／Ｌ
【００４３】
得られた金属被膜は、柔らかくクラックの発生はなかった。また、７６．５ＧＨｚでの電磁波透過減衰率は、−１．５０ｄＢであった。
【００４４】
［実施例２］
基材として、２０ｍｍ×５０ｍｍ×０．３ｍｍのポリカーボネート製シートを用いた。この基材の一方の面にアクリル系樹脂を溶媒で希釈した塗布液をスプレー塗布し、その後、ＵＶ硬化させることにより、厚み２０μｍの下地層を形成した。
【００４５】
下地層が形成された基材を、６０℃の条件下でアルカリ脱脂を行った。その後、４５℃の条件下で市販のコンディショニング液に２分間浸漬した後、塩化第１スズ−塩化パラジウム水溶液０．３ｇ／Ｌに、４５℃の条件下で、２分間浸漬した。
【００４６】
次に、基材を１０％の硫酸水溶液に、４５℃の条件下で１分間浸漬して、下地層に触媒としてのパラジウム金属を吸着させた。
【００４７】
下地層にパラジウム金属を吸着させた基材を、５０℃に調整した以下の浴組成を有する無電解めっき浴に４０秒浸漬し、下地層の表面にパラジウムーリンから成る合金被膜を形成した。
【００４８】
無電解めっき浴
塩化パラジウム            ：０．０１Ｍ（ｍｏｌ／Ｌ）
次亜リン酸ナトリウム      ：０．２Ｍ
チオジグリコール酸          ：１．０ｇ／Ｌ
【００４９】
そして、基材を無電解めっき浴から引き揚げると、クラックが残留応力により生じ、単位面積（１ｍｍ２）当たりに微細な微細金属領域が８９１０個分布したパラジウム−リン合金金属被膜から成る電磁波透過用金属被膜を得た。このとき形成された金属被膜の膜厚は６０ｎｍであり、７６．５ＧＨｚでの電磁波透過減衰率は、−０．４０ｄＢであった。
【００５０】
［実施例３］
無電解めっき浴に浸漬する時間を７０秒に変更した以外は、実施例２と同様にしてパラジウム−リン合金被膜を形成した。このとき基材の表面に設けられた微細金属領域の分布率は２０５０個／ｍｍ２、金属被膜の膜厚は７０ｎｍであった。また、７６．５ＧＨｚでの電磁波透過減衰率は、−０．９５ｄＢであった。
【００５１】
［実施例４］
無電解めっき浴に浸漬する時間を９０秒に変更した以外は、実施例１と同様にして電磁波透過用金属被膜を得た。このとき基材の表面に設けられた微細金属領域の分布率は４６３個／ｍｍ２であり、金属被膜の膜厚は１００ｎｍであり、７６．５ＧＨｚでの電磁波透過減衰率は、−１．２０ｄＢであった。
【００５２】
［実施例５］
下記の無電解めっき浴に変更した以外は、実施例２と同様にして、パラジウム−リン合金被膜を形成した。このとき基材の表面に設けられた微細金属領域の分布率は３５６０個／ｍｍ２、金属被膜の膜厚は７０ｎｍであり、７６．５ＧＨｚでの電磁波透過減衰率は、−０．９０ｄＢであった。
【００５３】
無電解めっき浴
塩化パラジウム            ：０．０１Ｍ（ｍｏｌ／Ｌ）
次亜リン酸ナトリウム      ：０．２Ｍ
チオジグリコール酸        ：３．０ｇ／Ｌ
【００５４】
［実施例６］
実施例２で得られた金属被膜の上に、アクリル系樹脂を溶媒で希釈した塗布液をスプレー塗布し、その後、ＵＶ硬化させることにより、厚み２０μｍのトップコート層を形成した。
【００５５】
［比較例１］
下記の無電解めっき浴に変更した以外、実施例２と同様にして、基材上にニッケル−リン合金めっきを形成した。被膜の膜厚は、７０ｎｍであったが、明確なクラックは認められなかった。また、透過減衰率は−７．５０ｄＢであった。
【００５６】
無電解めっき浴
塩化ニッケル              ：０．０１Ｍ（ｍｏｌ／Ｌ）
次亜リン酸ナトリウム      ：０．２Ｍ
チオジグリコール酸        ：１．０ｇ／Ｌ
【００５７】
［比較例２］
基材として、２０ｍｍ×５０ｍｍ×０．３ｍｍのＣＯＰ製シートを用いた。この基材表面に、厚さ２０ｎｍの純パラジウムをスパッタ法により形成した。
この被膜の組成を分析したところ、リン及び水素の含有量は０であり、クラックの数も０であった。
また、この被膜の７６．５ＧＨｚでの電磁波透過減衰率は、−３．７ｄＢであった。
【００５８】
〈評価〉
各実施例で得た被膜を用いて、アジレント社製  ネットワークアナライザーを用いて各被膜の７６．６ＧＨｚにおける電磁波透過減衰率を評価した。電波の透過量は、減衰率が−３ｄＢで半減するため、電磁波透過性の評価基準として、−３ｄＢが良く用いられるので、−３ｄＢを実用レベルの下限として評価した。
測定方法は、基材のみの減衰率を測定し、得られた試料の減衰率を測定した。その後、実施例、比較例で得られた減衰率から、基材のみの減衰率を差し引き、金属被膜のみの減衰率を求めた。
その結果を表１に示す。
【００５９】
【表１】
2014214353.tif 000003
【００６０】
表１に示すように、実施例の被膜は、電磁波の透過減衰率が極めて小さく、十分な電磁波透過性を有することが確認された。また、８０℃、９０％での高湿試験を２４時間行ったところ、実施例１〜５では、金属光沢を有し、装飾性は問題のないレベルであり、実施例６では、点状腐食は認められず、優れた金属光沢を示したが、比較例１では、多数の点状腐食がみられ、金属光沢が失われた。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本件発明に係る電磁波透過用金属被膜は、パラジウムまたはパラジウム合金からなり、無電解めっき法を採用することにより、外観上、十分な金属光沢を有し、且つ、電磁波を透過可能な金属被膜を、種々の形状の基材の表面に設けることができる。従って、多様な製品に、外観上、十分な金属光沢を有し、且つ、電磁波を透過可能な材料を量産性よく設けることが可能になる。
【符号の説明】
【００６２】
１・・・電磁波透過性基体
２・・・下地層
３・・・電磁波透過性金属被膜
４・・・クラック
５・・・微細金属領域
【図１】
2014214353.tif 000004
【図２】
2014214353.tif 000005
【図３】
2014214353.tif 000006
【図４】
2014214353.tif 000007
【図５】
2014214353.tif 000008
【図６】
2014214353.tif 000009