(57)【要約】【課題】ヘイズ値が低く、基材との密着性に優れる近赤外線吸収フィルムを提供することのできる近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムを提供する。【解決手段】一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物と、屈折率が１．２０〜１．４８であり且つ平均粒子径が２００ｎｍ以下である無機微粒子と、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、を含有することを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物と、屈折率が１．２０〜１．４８であり且つ平均粒子径が２００ｎｍ以下である無機微粒子と、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、を含有することを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物。
【化１】
2014021131.tif 000012
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ同一でも異なっていても良い有機基を表し、Ｘ−はアニオンを示す。）
【請求項２】
無機微粒子が、シリカ微粒子であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【請求項３】
無機微粒子の含有量が、熱硬化性樹脂１００質量部に対し、１〜３００質量部であることを特徴とする請求項１又は２に記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【請求項４】
熱硬化性樹脂が一分子鎖に２個以上のヒドロキシル基を有するポリオール樹脂であり、硬化剤がイソシアネート基を含有するイソシアネート系硬化剤であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【請求項５】
紫外線吸収剤が含有されることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【請求項６】
一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＲ１〜Ｒ８が、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、３−フルオロプロピル基、下記一般式（２）で表されるシクロヘキシルアルキル基、下記一般式（３）で表されるフェニルアルキル基からなる群より選ばれる一種であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【化２】
2014021131.tif 000013
（式（２）中、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【化３】
2014021131.tif 000014
（式（３）中、Ｂは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【請求項７】
一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＸ−が、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンからなる群より選ばれる一種であることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物を透明基材に積層してなることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いた近赤外線吸収フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレーの大型化、薄型化の要求が高まる中、プラズマディスプレーパネル（以下、「ＰＤＰ」と略記する）が一般に広く普及している。ＰＤＰからは近赤外線が放出され、近赤外線リモコンを使用した電子機器が誤動作を起こしてしまうことから、近赤外線吸収剤を含むフィルターで近赤外線を遮蔽する必要がある。また、ＣＣＤカメラ等に使用される光半導体素子は近赤外線領域の感度が高いため、近赤外線の除去が必要である。更に近赤外線吸収剤は、省エネルギーの観点から太陽光の熱線を遮蔽する熱線遮蔽材として利用されており、自動車用ガラス、建材用ガラス等の複層ガラスの熱線遮蔽剤や熱線遮蔽フィルム材料として使用されている。その他、太陽電池においてモジュールの温度上昇は変換効率を低下させるため熱線遮蔽剤は特性維持のため有用な材料である。これらの用途に用いられる近赤外線遮蔽フィルターは、可視光領域を透過しつつ、効果的に近赤外光領域を吸収できるものである。
【０００３】
近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素としては、従来、シアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、無機酸化物粒子等が使用されている（特許文献１、２）。
【０００４】
ところで、ＰＤＰに用いられる近赤外線遮断フィルターには、通常近赤外線吸収層の他に、電磁波遮蔽層、反射防止層、ハードコート層等が設けられている。このため、ＰＤＰ用近赤外線遮断フィルターは、近赤外線吸収フィルム、電磁波遮蔽フィルム及び反射防止フィルムを、支持体であるガラスや衝撃吸収材の上に積層して作製されることが一般的である。このようなＰＤＰ用近赤外線遮断フィルターは、ＰＤＰの前面側に載置される。このようなＰＤＰ用近赤外線遮断フィルターは、接着剤や粘着剤を用いて、支持体であるガラスや衝撃吸収材の上に直接貼合わされて使用される。
【０００５】
近年、近赤外線吸収フィルターの薄層化や、近赤外線遮断フィルターの製造工程を簡略化することを目的として、粘着剤に近赤外線吸収色素を含有させることにより、近赤外線吸収層と粘着剤層とを一体化させる試みがなされている（特許文献３）。
【０００６】
ところが、近赤外線吸収色素として使用されているシアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、ポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素等の化合物は、低極性溶剤や低極性の樹脂に対する溶解性が劣るという問題がある。特に粘着剤は低極性である場合が多く、これらの粘着剤に極性が近い近赤外線吸収色素を配合すると、経時で色素が析出し塗膜の外観や透明性が損なわれるという問題がある。
【０００７】
特許文献４には、近赤外線吸収層に溶剤可溶型であるポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂バインダー、近赤外線吸収色素、フィルムの巻き取り性を改良するためのシリカ微粒子を含有する近赤外線カットフィルムが開示されている。
該文献では、溶剤可溶型であるアクリル系樹脂バインダーを使用しているため近赤外線吸収層と基材フィルムとの密着性が低く、特に近赤外線吸収層の厚みが大きくなるほど基材との密着性が低下する欠点を有していた。
【０００８】
以上より、ヘイズ値が低く、基材との密着性に優れる近赤外線吸収フィルム、及びそれを作製することのできる近赤外線樹脂組成物が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−０９６０４０号公報
【特許文献２】特開２０００−０８００７１号公報
【特許文献３】特開２００１−２０７１４２号公報
【特許文献４】特開２００８−２８４７４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、ヘイズ値が低く、基材との密着性に優れる近赤外線吸収フィルムを提供することのできる近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは鋭意検討した結果、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物と、屈折率が１．２０〜１．４８であり且つ平均粒子径が２００ｎｍ以下である無機微粒子と、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、を含有することを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムが上記課題を解決できることを見出し本発明の完成に至った。
【００１２】
すなわち、本発明は以下に示すものである。
【００１３】
第一の発明は、下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物と、屈折率が１．２０〜１．４８であり且つ平均粒子径が２００ｎｍ以下である無機微粒子と、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、を含有することを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００１４】
【化１】
2014021131.tif 000002
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ同一でも異なっていても良い有機基を表し、Ｘ−はアニオンを示す。）
【００１５】
第二の発明は、無機微粒子が、シリカ微粒子であることを特徴とする第一の発明に記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００１６】
第三の発明は、無機微粒子の含有量が、熱硬化性樹脂１００質量部に対し、１〜３００質量部であることを特徴とする第一又は第二の発明に記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００１７】
第四の発明は、熱硬化性樹脂が一分子鎖に２個以上のヒドロキシル基を有するポリオール樹脂であり、硬化剤がイソシアネート基を含有するイソシアネート系硬化剤であることを特徴とする第一から第三の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００１８】
第五の発明は、紫外線吸収剤が含有されることを特徴とする第一から第四の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００１９】
第六の発明は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＲ１〜Ｒ８が、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、３−フルオロプロピル基、下記一般式（２）で表されるシクロヘキシルアルキル基、下記一般式（３）で表されるフェニルアルキル基からなる群より選ばれる一種であることを特徴とする第一から第五の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００２０】
【化２】
2014021131.tif 000003
（式（２）中、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００２１】
【化３】
2014021131.tif 000004
（式（３）中、Ｂは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００２２】
第七の発明は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＸ−が、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンからなる群より選ばれる一種であることを特徴とする第一から第六の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物である。
【００２３】
第八の発明は、第一から第七の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収樹脂組成物を透明基材に積層してなることを特徴とする近赤外線吸収フィルムである。
【発明の効果】
【００２４】
ヘイズ値が小さく、基材密着性に優れた近赤外線吸収フィルムを提供することのできる近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明は、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物と、屈折率が１．２０〜１．４８であり且つ平均粒子径が２００ｎｍ以下である無機微粒子と、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、を含有することを特徴とする近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムである。
【００２６】
まず、始めに近赤外線吸収樹脂組成物について説明する。
【００２７】
［ジイモニウム塩化合物］
本発明は、近赤外線吸収剤として、下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物の粒子を用いる。なお、近赤外線とは、波長７５０〜２０００ｎｍの範囲の光を意味する。
【００２８】
【化４】
2014021131.tif 000005
【００２９】
上記一般式（１）中の、Ｒ１〜Ｒ８の有機基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、好ましい有機基としては、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖又は分岐状のＣ１−１０アルキル基、下記一般式（２）で表されるシクロヘキシルアルキル基、下記一般式（３）で表されるフェニルアルキル基等が挙げられる。
【００３０】
【化５】
2014021131.tif 000006
（式（２）中、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００３１】
【化６】
2014021131.tif 000007
（式（３）中、Ｂは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。）
【００３２】
Ｃ１−１０のアルキル基として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉｓｏ−アミル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも特に、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉｓｏ−ブチル基が好ましく挙げられる。
【００３３】
また、ハロゲン原子で置換されたＣ１−１０アルキル基としては、２−ハロゲノエチル基、２，２−ジハロゲノエチル基、２，２，２−トリハロゲノエチル基、３−ハロゲノプロピル基、３，３−ジハロゲノプロピル基、３，３，３−トリハロゲノプロピル基、４−ハロゲノブチル基、４，４−ジハロゲノブチル基、４，４，４−トリハロゲノブチル基、５−ハロゲノペンチル基、５，５−ジハロゲノペンチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。具体的には、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基等のモノフルオロアルキル基が挙げられる。より好ましくは３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基であり、特に３−フルオロプロピル基が好ましい。
【００３４】
シクロヘキシルアルキル基は、下記一般式（２）で表すことができる。
【００３５】
【化７】
2014021131.tif 000008
【００３６】
一般式（２）中、Ａは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。Ａは炭素数１〜４のアルキル基であることがより好ましく挙げられる。
具体的にはシクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロヘキシルブチル基、メチル２−エチルシクロヘキシルメチル基、３−メチルシクロヘキシルメチル基、４−メチルシクロヘキシルメチル基、４−メチルシクロヘキシルエチル基、４−メチルシクロヘキシルプロピル基、４−メチルシクロヘキシルブチル基、４−フルオロシクロヘキシルメチル基等が挙げられる。
【００３７】
フェニルアルキル基は、下記一般式（３）で表すことができる。
【００３８】
【化８】
2014021131.tif 000009
【００３９】
一般式（３）中、Ｂは炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子を示す。Ｂは炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく挙げられる。
具体的には、メチルベンジル基、エチルベンジル基、プロピルベンジル基、ブチルベンジル基等が挙げられる。これらの中でも、分散性に優れている点より、メチルベンジル基が好ましく挙げられる。
【００４０】
また、一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物中のＸ−は、ジイモニウム化合物カチオンの電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、無機アニオン、有機酸アニオン等が使用できる。アニオンとして具体的には、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオンビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオン等が挙げられる。
これらの中でも、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、ビス（フルオロスルホニル）イミド酸イオンがより好ましく挙げられ、ヘキサフルオロリン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンがより好ましく挙げられ、ヘキサフルオロリン酸イオン又はビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンが特に好ましく挙げられる。
【００４１】
希釈剤に関しては詳細を後述するが有機溶媒が使用可能であり、ジイモニウム塩化合物を分散する希釈剤に関しては発明に記載する希釈剤の一部もしくはそのもの全量となりうる。
【００４２】
ジイモニウム塩化合物の平均粒径は、より優れた透明性を得るため小さい方が好ましく、２μｍ以下であることが好ましく挙げられ、１μｍ以下であることがより好ましく挙げられる。粒径を小さくする方法としては、湿式粉砕又は乾式粉砕する方法が挙げられる。
【００４３】
ジイモニウム塩化合物を、希釈剤に分散する装置としては、一般的に用いられる装置でよく、例えば、マグネチックスターラー、羽根つき攪拌機、ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、ビーズミル等が挙げられ、好適であるが、超音波ホモジナイザー、ビーズミルが高透明性を得るための攪拌機器として更に好適である。
【００４４】
一方、熱硬化性樹脂に対するジイモニウム塩化合物の含有量についても特に制限されず、所望の性質、特に効率のよい近赤外線吸収能、可視光領域における優れた透明性が達成できるように調整されればよい。
例えば樹脂の乾燥膜厚が１〜２０μｍに設定される場合、好ましいジイモニウム塩化合物の配合割合は、熱硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜１００質量部、より好ましくは０．５〜５０質量部、最も好ましくは１〜３０質量部である。この配合割合が０．１質量部未満であると優れた近赤外線吸収能が得られにくく、逆に、配合割合が１００質量部を超えた場合、含有量に見合う上記性能の向上が認められず経済的でなく、更に可視領域の透明性が失われる可能性がある。
なお、ジイモニウム塩化合物の配合割合は、可視及び近赤外域の透過率の設定や近赤外線吸収組成物の積層体の厚みによって変えることができる。
【００４５】
近赤外線吸収樹脂組成物には、本発明に用いるジイモニウム塩化合物以外にも、別の近赤外線吸収剤を含有させてもよい。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系色素、シアニン系色素、アントラキノン系色素、ジチオール系色素等が挙げられる。
【００４６】
近赤外線吸収樹脂組成物には、ネオンカット色素を含有させてもよい。ネオンカット色素とは、５８０〜６００ｎｍの波長体を有するオレンジ色のネオン光を吸収する色素である。具体的には、シアニン系化合物、ポリメチン系化合物、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、キノン系化合物、アザポルフィリン系化合物、アゾ系化合物、アゾキレート系化合物、インドナフトールキレート系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、アゾメチン系化合物、キサンテン系化合物等が挙げられる。
【００４７】
また、色を調整する目的で、３８０〜７８０ｎｍ域に極大吸収波長を有する色補正色素を近赤外線吸収樹脂組成物に含有させてもよい。
色補正色素として、例えば、フタロシアニン系化合物、アザポルフィリン系化合物、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、アゾメチン系化合物、ポリメチン系化合物、キサンテン系化合物、ピロメテン系化合物、イソインドリノン系化合物、キナクリドン系化合物、ジケトピロロピロール系化合物、アントラキノン系化合物、ジオキサジン系化合物等挙げられる。
【００４８】
［無機微粒子］
本発明に用いる無機微粒子は、低へイズ化のため屈折率１．２０〜１．４８であることが好ましく、具体的にはシリカ微粒子、中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム微粒子、フッ化ナトリウム微粒子、ポリシロキサン微粒子等があげられる。この中でもコスト、分散性の容易さから特にシリカ微粒子が好ましく挙げられる。
【００４９】
無機微粒子の屈折率の測定は、任意の方法で測定できるが、分散法や液浸法（ベッケ線法）が好ましく挙げられ、特に浸液法が好ましく挙げられる。
液浸法（ベッケ線法）は次の通りである。まず、試料を浸液に入れスライドガラスの上にのせ、カバーガラスをする。これを顕微鏡で観察すると試料の周囲に光る線が見える。これがベッケ線である。ベッケ線は鏡筒を上に移動させると高屈折率の方に移動し、鏡筒を下に移動させると低屈折率の方に移動する。このベッケ線の移動でいくつかの種類の浸液と試料の屈折率を比較することで、無機微粒子の屈折率を測定することができる。
【００５０】
無機微粒子は、透明性を得るため平均粒子径２００ｎｍ以下であり、かつ、熱硬化性樹脂１００質量部に対し、無機微粒子を１〜３００質量部の割合で含有させた近赤外線吸収樹脂組成物が好ましく挙げられる。
近赤外線吸収樹脂組成物における無機微粒子の含有量は、１〜７５質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましく、２０〜６５質量％であることが特に好ましく挙げられる。
【００５１】
なお、無機粒子の平均粒子径は、２００ｎｍ以下が好ましく挙げられ、１５０ｎｍ以下がよりこのましく挙げられ、１００ｎｍ以下が特に好ましく挙げられる。
【００５２】
上記粒径と含有割合にすることで、特にヘイズ値の低下と基材との密着性に優れた近赤外線吸収フィルムを作製することができる。
【００５３】
その他、ＩＴＯやＡＴＯ、タングステン化合物に関して、ジイモニウム塩化合物では吸収が困難な１３００ｎｍ以上の近赤外線を吸収するため、更なる近赤外線吸収性能を付与する目的で添加するには好適である。
【００５４】
［熱硬化性樹脂］
本発明に用いる樹脂は基材との密着性に優れる熱硬化性樹脂が好ましく挙げられる。熱硬化性樹脂とは熱処理において化学反応する活性部位を一分子鎖中に二個以上含有し、熱硬化より分子量の増大が可能な樹脂であり、透明基材上に積層可能であれば特に制限されるものではない。具体的にはヒドロキシル基を含有するポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアクリル系、ポリカーボネート系等のポリオール樹脂、エポキシ基を含有するエポキシ樹脂、カルボン酸基を有するアクリル系樹脂、メチロール基を有するフェノール樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、８０〜１５０℃と比較的低温で熱硬化可能であり反応性に優れ、柔軟性に優れている点より、ポリオール樹脂が特に好ましく挙げられる。これらの樹脂を単独もしくは混合し使用することができる。
【００５５】
［硬化剤］
本発明に用いる硬化剤としては使用する熱硬化性樹脂の活性部位と熱処理において化学反応する硬化剤であれば特に制限されるものではない。具体的にはイソシアネート系硬化剤、エポキシ系硬化剤、酸無水物系硬化剤、アクリル酸系硬化剤、アミン系硬化剤等が例示されるが、一分子鎖中に二個以上の活性部位を有し、硬化により分子量の増大が可能である硬化剤が好ましい。また、より好ましい樹脂として例示したポリオール樹脂の硬化剤としては特に反応性に優れたイソシアネート系硬化剤が好適である。
【００５６】
イソシアネート系硬化剤としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチレン（ビスシクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート等の脂環式イソシアネート、トリレンジジイソシアネート等の芳香族イソシアネート等が挙げられ、これらのアダクト体、ビュレット体、イソシアヌレート体等を用いることができるがこれに限定されるものではない。
【００５７】
エポキシ系硬化剤としては、ビスフェノールＡエピクロルヒドリン型のエポキシ系樹脂、エチレングリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリシジンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジアミンジグリシジルアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジアミングリシジルアミノメチル）シクロヘキサン等の分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物等を用いることができるがこれに限定されるものではない。
【００５８】
酸無水物系硬化剤としては、１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、テトラプロペニル無水コハク酸、無水コハク酸等を用いることができるがこれに限定されるものではない。
【００５９】
アクリル酸系硬化剤としては、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸等を用いることができるがこれに限定されるものではない。
【００６０】
アミン酸系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、メンセンジアミン、イソフオロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン等を用いることができるがこれに限定されるものではない。
【００６１】
これらの熱反応性の硬化剤は、１種あるいは２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。配合量としては樹脂活性部位１分子に対して硬化剤活性部位０．１〜３分子、好ましくは０．５〜１．５分子がよい。逆に硬化剤が０．１分子未満の場合硬化が不十分となる場合がある。３分子を超えると、硬化性がさらに向上することはなく、経済性を損なうことがある。
【００６２】
［紫外線吸収剤］
本発明の近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いた近赤外線吸収フィルムには耐候性向上のため紫外線吸収剤を添加することが好ましい。紫外線吸収剤としては特に限定されず、無機系、有機系等の紫外線吸収剤を使用することができ、好ましくは３４０ｎｍ以上３９０ｎｍ以下に光の最大吸収波長を有する紫外線吸収剤である。これらは必要に応じ一種もしくは二種以上を混合して使用することができる。
【００６３】
無機系紫外線吸収剤としては例えば酸化亜鉛、酸化チタン等の微粒子が挙げられ、可視光領域に吸収を持たないよう粒子径０．１μｍ以下のものを使用することが望ましい。熱硬化性樹脂に対する添加量については特に制限はないが、熱硬化性樹脂１００質量部に対し０．１〜２００質量部にすることが好ましく、さらには１０〜１２０質量部にすることが好ましい。
【００６４】
有機系紫外線吸収剤としては例えば２，４−ヒドキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系、フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸系、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート等のシアノアクリレート等の紫外線吸収剤が挙げられるがこれらに限定されることはない。熱硬化性樹脂に対する添加量については特に制限はないが、熱硬化性樹脂１００質量部に対し０．１〜１００質量部にすることが好ましく、特に３〜６０質量部にすることが好ましい。
【００６５】
［希釈剤］
本発明の近赤外線吸収樹脂組成物には、希釈剤を添加してもよいし、添加しなくてもよい。希釈剤は熱硬化性樹脂を溶解し、ジイモニウム塩化合物、無機微粒子を分散できれば特に限定されず、各種有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤；エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体等のグリコール系溶剤；モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノイソプロピルエーテル、モノブチルエーテル、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシプロパノール、２−エトキシプロパノール、３−メトキシブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール等のエーテルアルコール系溶剤；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル等のポリエーテル系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤等；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらの溶媒は１種で使用されてもよく、２種以上の混合溶媒として使用されてもよい。好ましくは沸点２００℃以下の有機溶媒がよい。溶媒の水分含有量は５質量％以下であることが望ましい。
【００６６】
希釈剤に関してはジイモニウム塩化合物を分散させる分散媒として使用可能であり、希釈剤は分散媒のみでもかまわず、分散媒の他、近赤外線吸収樹脂組成物の粘度を調整するため更に希釈剤を混合してもかまわない。また、希釈剤を用いなくても、ジイモニウム塩化合物を熱硬化性樹脂に分散させることは可能である。
【００６７】
［添加剤］
本発明の近赤外線吸収樹脂組成物は、目的に応じて、適切な添加剤を含有してもよい。添加剤の具体例としては、レベリング剤、顔料分散剤、無機微粒子、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、充填剤、補強材、可塑剤、潤滑剤、防食剤、防錆剤、乳化剤、鋳型脱型剤、蛍光性増白剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、溶融流改質剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、光増感剤、表面改良剤、シランカップリング剤、重合触媒等が挙げられる。
【００６８】
［近赤外線吸収フィルム］
本発明の近赤外線吸収フィルムは、上記近赤外線吸収組成物を透明基材上に積層してなる。更には所望の近赤外線吸収性能、公知の方法により近赤外線吸収組成物の積層体を形成するためには積層体の厚みが１〜４０μｍ程度であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましく挙げられる。
【００６９】
公知の近赤外線吸収組成物の積層体形成方法としてはマイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット等の各種コーティング方法を用いることができる。
【００７０】
透明基材としては特に限定されるのではないが、形状として、シート状、フィルム状又は板状の透明基材を用いることができる。色彩も無色、有色、特に限定されるものではない。透明基材の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）；メチルメタクリレート系共重合物等のアクリル樹脂；スチレン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；塩化ビニル樹脂；ポリメタクリルイミド樹脂、ガラス板等が挙げられる。
【００７１】
透明基材には、易接着処理がされていてもよい。例えばＰＥＴフィルムは、易接着処理が施されたフィルム（易接着ＰＥＴフィルム）であってもよい。易接着処理としては、易接着層を設ける処理、基材表面にコロナ処理を施す処理等が挙げられる。易接着層としては、易接着用樹脂層等が挙げられる。
特に好ましい透明基材は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムである。
【００７２】
上記近赤外線吸収フィルムには必要に応じて被着体に接着するためゴム系、アクリル系、シリコン系等の粘着剤を使用した粘着剤層を形成することができ、粘着剤層には目的に応じて、適切な添加剤を含有してもよい。添加剤の具体例としては、重合触媒、レベリング剤、染料、顔料、顔料分散剤、無機微粒子、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、防食剤、防錆剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、表面改良剤、シランカップリング剤等が挙げられる。また、近赤外線吸収組成物の積層体の上層に粘着剤層が形成される場合、耐熱試験や耐湿熱試験において粘着剤層とジイモニウム塩化合物が界面で接触し、ジイミニウム塩化合物が劣化する場合がある。この際、ジイモニウム塩化合物を分散する樹脂が３次元的に架橋可能な樹脂である場合、ポリメチルメタクリレート等の熱可塑性樹脂バインダーと比較し樹脂が流動性を示さず、粘着剤層とジイモニウム塩化合物の接触が最小限となるため耐久性に優れたフィルムとなる。
【００７３】
その他、必要に応じて反射防止機能、防眩機能、電磁波遮蔽機能を付与することも可能であり、本機能は近赤外線吸収フィルムの透明基材上に新たな積層体を形成することや、本機能を有するフィルムを別途用意し、近赤外線吸収フィルムに貼り合わせることで付与することが可能である。
【実施例】
【００７４】
以下、本発明について実施例を挙げ、より詳細に説明する。なお、本発明は実施例により何ら限定されるものでない。
（化合物塩１の製造）
ＤＭＦ１００部にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン１０部、シクロヘキシルメチルヨーダイド６３部及び炭酸カリウム３０部を加え、１２０℃で１０時間反応させた。次いで、上記反応液を水５００部中に加え、生じた沈殿を濾過し、メチルアルコール５００部で洗浄後、１００℃で乾燥し、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部を得た。
【００７５】
得られたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部に、アセトニトリル２００部とヘキサフルオロリン酸銀７．９部を加えて、６０℃で３時間反応させ、生成した銀を濾別した。次いで、該濾液に水２００部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩１」と略記する。）２７．０部を得た。
【００７６】
（化合物塩２の製造）
シクロヘキシルメチルヨーダイドを、１−ヨード−メチルベンジルに代えた以外は、化合物塩１の製造と同様にして、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（メチルベンジル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩２」と略記する。）を得た。
【００７７】
（化合物塩３の製造）
シクロヘキシルメチルヨーダイドを、１−ヨード−３−フルオロプロピルに代えた以外は、化合物塩１の製造と同様にして、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（３−フルオロプロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩３」と略記する。）を得た。
【００７８】
（化合物塩４の製造）
シクロヘキシルメチルヨーダイドを、ヨードイソブチルに代えた以外は、化合物塩１の製造と同様にしてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（イソブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩４」と略記する。）２３部を得た。
【００７９】
（化合物塩５の製造）
トルエン１００部にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン１０部、シクロヘキサンカルボキシアルデヒド１２部を加え、８０℃で５時間反応させた。次いで、室温まで冷却した後、パラジウム炭素触媒３部を加え、水素ガスを２時間吹き込み水素化反応させた後、１−ヨードプロパン１８部及び炭酸カリウム１５部を加え、１２０℃で６時間反応させた。上記反応液を濾過後、濾液にメチルアルコール５００部中に加え、生じた沈殿を濾過し、メチルアルコール５００部で洗浄後、１００℃で乾燥し、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部を得た。
【００８０】
得られたＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミン２４．１部に、アセトニトリル２００部とヘキサフルオロリン酸銀７．９部を加えて、６０℃で３時間反応させ、生成した銀を濾別した。次いで、該濾液に水２００部を添加し、生成させた沈殿を濾過後、乾燥させて、ヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−（シクロヘキシルメチル−ｎ−プロピル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（「化合物塩５」と略記する。）２７．０部を得た。
【００８１】
（化合物塩６〜１０の製造）
同様に化合物塩１〜５の製造に記載のヘキサフルオロリン酸銀の代わりに、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸リチウムを用いた以外は、化合物塩１〜５の製造と同様にして、化合物塩６〜１０を作製した。
【００８２】
化合物塩１〜１０を表１に示す。
【００８３】
【表１】
2014021131.tif 000010
【００８４】
表中の略語は以下の通りである。
ＰＦ６：ヘキサフルオロリン酸イオン
ＴＦＳＩ：ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン
【００８５】
（近赤外線吸収樹脂組成物１の製造）
得られたヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（化合物塩１）を自動乳鉢ＡＭＮ−２００（日陶科学社製）にて、乳棒１００ｒｐｍ、乳鉢６ｒｐｍにて３０分間乾式粉砕して粉砕物を得た。得られた粉砕物はＣｕＫα線をＸ線源とした粉末Ｘ線回折装置（理学電気社製、ＲＩＮＴ２２００）を使用し、管電圧を４０ｋＶ、管電流を２０ｍＡ、走査範囲（２θ）を３°〜６０°、発散スリットを１／２°、散乱スリットを１／２°、受光スリットを０．１５ｍｍ、サンプリング幅を０．０２°、スキャンスピードを４°／ｍｉｎとした条件で測定し、非結晶化したことを確認した。
次に、得られた粉砕物を０．５部、及び酢酸エチル１．９部、メチルイソブチルケトン７．６部を５０ｍｌのガラス容器に添加し、マグネチックスターラーにて３０分間攪拌して、ジイモニウム塩化合物と希釈剤の混和物を得た。
【００８６】
ポリエステルポリオール樹脂ニッポラン８００−７５Ｅ（固形分７５％−日本ポリウレタン工業社製）８．８８８部、イソシアネート系硬化剤コロネートＨＬ（固形分７５％−日本ポリウレタン工業社製）８．８８８部、シリカ微粒子分散液ＥＬＣＯＭ  Ｖ−８８０２（固形分４０．８％−日揮触媒化成社製）３１．９９７部、作製したジイモニウム塩化合物と希釈剤の混和物４４.４４０部、ビスマス触媒Ｋ−ＫＡＴ  ＸＣ−２２７（固形分３５％−ＫＩＮＧ  ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製）０．００９部、紫外線吸収剤シーソーブ１０６（シプロ化成社製）１．３３３部、希釈溶剤メチルイソブチルケトン４．４４５部を混合し、近赤外線吸収樹脂組成物１（固形分２９．９％）を得た。
【００８７】
（近赤外線吸収樹脂組成物２〜１０の製造）
近赤外線吸収樹脂組成物１の製造に記載の化合物塩１の代わりに、表２に対応するようにそれぞれ化合物塩２〜１０に変更した以外は近赤外線吸収樹脂組成物１と同様な製造方法で近赤外線吸収樹脂組成物２〜１０を得た。
【００８８】
（近赤外線吸収樹脂組成物１１〜２０の製造）
近赤外線吸収樹脂組成物１〜１０の製造方法に記載の無機微粒子を用いなかった以外は、近赤外線吸収樹脂組成物１〜１０と同様な製造方法で近赤外線吸収樹脂組成物１１〜２０を得た。
【００８９】
（近赤外線吸収樹脂組成物２１の製造）
ポリメチルメタクリレート樹脂ＧＳ−１０００（固形分３０％−綜研化学社製）３４．５３０部、シリカ微粒子分散液ＥＬＣＯＭ  Ｖ−８８０２（固形分４０．８％−日揮触媒化成社製）２４．８６２部、非晶化したヘキサフルオロリン酸−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム（化合物塩１）と希釈剤の混和物３４．５３０部、紫外線吸収剤シーソーブ１０６（シプロ化成社製）１．０３６部、希釈溶剤メチルイソブチルケトン５．０４２部を混合し、近赤外線吸収樹脂組成物２１（固形分２３．３％）を得た。
【００９０】
（近赤外線吸収樹脂組成物２２の製造）
近赤外線吸収樹脂組成物１の製造に記載のシリカ微粒子分散液ＥＬＣＯＭ  Ｖ−８８０２（固形分４０．８％−日揮触媒化成社製）の代わりに、有機微粒子であるアクリルビーズ微粒子を用いた以外は、近赤外線吸収樹脂組成物１の製造と同様に近赤外線吸収樹脂組成物２２を得た。
【００９１】
（実施例１）
（近赤外線吸収フィルム）
次に作製した近赤外線吸収樹脂組成物１をＰＥＴフィルムＡ−４３００（東洋紡績社製１００μｍ厚）上にコーティングロッド＃１４を用いバーコートし、１００℃で３分間乾燥して膜厚が６μｍ程度の近赤外線吸収層を形成し、近赤外線吸収フィルムを得た。
【００９２】
（実施例２〜１０）
実施例１に記載の近赤外線吸収樹脂組成物１を近赤外線吸収樹脂組成物２〜１０に代えた以外は、実施例１と同様にして、近赤外線吸収フィルムを得た。
【００９３】
（比較例１）
作製した近赤外線吸収樹脂組成物１１をＰＥＴフィルムＡ−４３００（東洋紡績社製１００μｍ厚）上にコーティングロッド＃２０を用いバーコートし、１００℃で３分間乾燥して膜厚が６μｍ程度の近赤外線吸収層を形成し、近赤外線吸収フィルムを得た。
【００９４】
（比較例２〜１０）
比較例１に記載の近赤外線吸収樹脂組成物１１を近赤外線吸収樹脂組成物１２〜２０に代えた以外は、比較例１と同様にして、近赤外線吸収フィルムを得た。
【００９５】
（比較例１１）
作製した近赤外線吸収樹脂組成物２１をＰＥＴフィルムＡ−４３００（東洋紡績社製１００μｍ厚）上にコーティングロッド＃１８を用いバーコートし、１００℃で３分間乾燥して膜厚が６μｍ程度の近赤外線吸収層を形成し、近赤外線吸収フィルムを得た。
【００９６】
（比較例１２）
作製した近赤外線吸収樹脂組成物２２をＰＥＴフィルムＡ−４３００（東洋紡績社製１００μｍ厚）上にコーティングロッド＃１４を用いバーコートし、１００℃で３分間乾燥して膜厚が６μｍ程度の近赤外線吸収層を形成し、近赤外線吸収フィルムを得た。
【００９７】
（透明性、密着性の評価方法）
実施例１〜１０及び比較例１〜１２で得た近赤外線吸収フィルムの透明性を示す尺度としてヘイズ測定を実施した。ヘイズ測定に関してはヘイズメーターＮＤＨ５０００（日本電色工業社製）を使用した。
密着性を示す尺度として、ＪＩＳ  Ｋ５４００：１９９０における碁盤目テープ法に基づき測定して評価した。碁盤目部分に少しでも剥離が生じたものを「×」、剥離が生じないものを「○」とした。
【００９８】
【表２】
2014021131.tif 000011
【００９９】
表２より、実施例１〜１０と比較例１〜１０を比較し、低屈折材料である無機微粒子を使用することによりヘイズ値の低減（透明性の向上）が確認できる。また、比較例１１より、アクリル系樹脂では十分な密着性が得られないことが確認できる。比較例１２より、有機微粒子であるアクリルビーズ微粒子では、十分なヘイズ値の低下が得られないことがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１００】
本発明の近赤外線吸収樹脂組成物及びそれを用いて作製した近赤外線吸収フィルムは、透明性、近赤外線吸収層と基材との密着性に優れるものである。そのため、ＰＤＰ用、自動車ガラス用、建材ガラス用等種々の用途に用いることが可能である。