(57)【要約】【課題】視野角を拡大し、かつ外光の反射散乱を抑制することができる光拡散部材、及び光拡散部材の製造方法を提供することを目的とする。また、上記の光拡散部材を備え、表示品位に優れた表示装置を提供する。【解決手段】光透過性を有する基材３９と、前記基材３９の一方の面に形成された光拡散部４１と、前記基材３９の一方の面のうち、前記光拡散部４１の形成領域以外の領域に形成された遮光部４０と、前記基材３９の他方の面に形成された光散乱部８０と、を備え、前記光拡散部４１は、前記基材３９側に光射出端面４１ｂを有するとともに前記基材３９側と反対側に前記光射出端面４１ｂの面積よりも大きい面積の光入射端面４１ａを有し、前記光散乱部８０は、前記基材３９の他方の面に部分的に形成されていることを特徴とする。【選択図】図６
2014021147.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する基材と、
前記基材の一方の面に形成された光拡散部と、
前記基材の一方の面のうち、前記光拡散部の形成領域以外の領域に形成された遮光部と、
前記基材の他方の面に形成された光散乱部と、
を備え、
前記光拡散部は、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、
前記光散乱部は、前記基材の他方の面に部分的に形成されていることを特徴とする光拡散部材。
【請求項２】
前記光散乱部が、前記遮光部と対向する領域の少なくとも一部には形成されていないことを特徴とする請求項１に記載の光拡散部材。
【請求項３】
前記光散乱部が、層状に形成されるとともに、前記光散乱部を貫通する孔が形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光拡散部材。
【請求項４】
前記光散乱部が、複数あって、
各々の前記光散乱部は、前記基材の他方の面側から見て島状に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光拡散部材。
【請求項５】
前記光散乱部が、複数あって、
各々の前記光散乱部は、前記基材の他方の面側から見て一方向に延在していることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光拡散部材。
【請求項６】
前記遮光部と前記光拡散部の側面とで区画される空間が中空部とされており、
この中空部は、空気で満たされていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の光拡散部材。
【請求項７】
前記光散乱部が、散乱体を含有した光硬化樹脂で構成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の光拡散部材。
【請求項８】
光透過性を有する基材の一方の面に、部分的に遮光部を形成する工程と、
前記基材の一方の面に、前記遮光部を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
前記基材の他方の面側から、前記遮光部の形成領域以外の領域の前記基材を通して前記ネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射する工程と、
前記拡散光の照射が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する光拡散部を前記基材の一方の面に形成する工程と、
前記基材の他方の面に、散乱体を含有した樹脂を塗布し、光散乱部を部分的に形成する工程と、を備えることを特徴とする光拡散部材の製造方法。
【請求項９】
前記光散乱部を形成する工程では、
前記基材の他方の面に、前記散乱体を含有した光硬化樹脂層を形成し、
前記基材の一方の面側から、前記遮光部の形成領域以外の領域の前記基材を通して紫外光を入射し、
前記紫外光の照射が終わった前記光硬化樹脂層を現像し、前記基材の他方の面に前記光散乱部を形成することを特徴とする請求項８に記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１０】
表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、
前記視野角拡大部材が、請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の光拡散部材で構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、
前記表示体が、表示画像を形成する複数の画素を有し、
前記視野角拡大部材が、請求項５に記載の光拡散部材で構成されており、
前記光拡散部材の複数の光散乱部のうち、隣接する光散乱部間の平均間隔が、前記表示体の前記画素間の平均間隔よりも小さく、
前記一方向と前記画素の延在する方向とが、平行になるように配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、
前記表示体が、表示画像を形成する複数の画素を有し、
前記視野角拡大部材が、請求項５に記載の光拡散部材で構成されており、
前記光拡散部材の複数の光散乱部のうち、隣接する光散乱部間の平均間隔が、前記表示体の前記画素間の平均間隔よりも小さく、
前記一方向と前記画素の延在する方向とが、交差するように配置されていることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光拡散部材、光拡散部材の製造方法、及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話機等をはじめとする携帯型電子機器、テレビジョン、パーソナルコンピューター等のディスプレイとして、液晶表示装置が広く用いられている。一般に、液晶表示装置は、正面からの視認性に優れる反面、視野角が狭いことが知られている。そのため、視野角を広げるための様々な工夫がなされている。その一つとして、液晶パネル等の表示体から射出される光を拡散させるための部材（以下、光拡散部材と称する）を表示体の視認側に備える構成が提案されている。
【０００３】
例えば特許文献１には、液晶パネルと、液晶表示パネルの背面側から光を照射するバックライトと、液晶パネルの正面側に配置された光散乱性フィルムと、を備えた液晶表示装置が開示されている。この液晶表示装置においては、光散乱性フィルムは、光透過性を有する基材と、基材の一面に積層された光散乱層とを有している。この光散乱層は、散乱粒子が分散された樹脂材料によって構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２５０１６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に示す液晶表示装置においては、バックライト側（背面側）から発せられた光が光散乱層で散乱され、広い角度範囲に光が散乱されることになり視野角が広くなる。しかしながら、光散乱層が基材の視認側に形成されている場合、視認側から光散乱層に入射する光（外光）が光散乱層によって反射散乱（後方散乱）され、この反射散乱された外光によって視認性が悪くなる問題が生じる。このような問題は、特に明室において顕著に生じる。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、視野角を拡大し、かつ外光の反射散乱を抑制することができる光拡散部材、及び光拡散部材の製造方法を提供することを目的とする。また、上記の光拡散部材を備え、表示品位に優れた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、本発明の光拡散部材は、光透過性を有する基材と、前記基材の一方の面に形成された光散乱部と、前記基材の他方の面に形成された光拡散部と、前記基材の他方の面のうち、前記光拡散部の形成領域以外の領域に形成された遮光部と、を備え、前記光拡散部は、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有し、前記光散乱部は、前記基材の一方の面に部分的に形成されていることを特徴とする。
【０００８】
本発明の光拡散部材は、前記光散乱部が、前記遮光部と対向する領域の少なくとも一部には形成されていないことを特徴とする。
【０００９】
本発明の光拡散部材は、前記光散乱部が、層状に形成されるとともに、前記光散乱部を貫通する孔が形成されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の光拡散部材は、前記光散乱部が、複数あって、各々の前記光散乱部は、前記基材の一方の面側から見て島状に形成されていることを特徴とする。
【００１１】
本発明の光拡散部材は、前記光散乱部が、複数あって、各々の前記光散乱部は、前記基材の一方の面側から見て一方向に延在していることを特徴とする。
【００１２】
本発明の光拡散部材は、前記遮光部と前記光拡散部の側面とで区画される空間が中空部とされており、この中空部は、空気で満たされていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の光拡散部材は、前記光散乱部が、散乱体を含有した光硬化樹脂で構成されていることを特徴とする。
【００１４】
本発明の光拡散部材の製造方法は、光透過性を有する基材の他方の面に、部分的に遮光部を形成する工程と、前記基材の他方の面に、前記遮光部を覆うように光透過性を有するネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、前記基材の一方の面側から、前記遮光部の形成領域以外の領域の前記基材を通して前記ネガ型感光性樹脂層に対して拡散光を照射する工程と、前記拡散光の照射が終わった前記ネガ型感光性樹脂層を現像し、前記基材側に光射出端面を有するとともに前記基材側と反対側に前記光射出端面の面積よりも大きい面積の光入射端面を有する光拡散部を前記基材の他方の面に形成する工程と、前記基材の一方の面に、散乱体を含有した樹脂を塗布し、光散乱部を部分的に形成する工程と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
本発明の光拡散部材の製造方法は、前記光散乱部を形成する工程では、前記基材の一方の面に、前記散乱体を含有した光硬化樹脂層を形成し、前記基材の他方の面側から、前記遮光部の形成領域以外の領域の前記基材を通して紫外光を入射し、前記紫外光の照射が終わった前記光硬化樹脂を現像し、前記基材の一方の面に前記光散乱部を形成することを特徴とする。
【００１６】
本発明の表示装置は、表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、前記視野角拡大部材が、本発明の光拡散部材で構成されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明の表示装置は、表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、前記表示体が、表示画像を形成する複数の画素を有し、前記視野角拡大部材が、請求項４に記載の光拡散部材で構成されており、前記光拡散部材の複数の光散乱部のうち、隣接する光散乱部間の平均間隔が、前記表示体の前記画素間の平均間隔よりも小さく、前記一方向と前記画素の延在する方向とが、平行になるように配置されていることを特徴とする。
【００１８】
本発明の表示装置は、表示体と、前記表示体の視認側に設けられ、前記表示体から入射される光の角度分布を入射前よりも広げた状態にして光を射出させる視野角拡大部材と、を備え、前記表示体が、表示画像を形成する複数の画素を有し、前記視野角拡大部材が、請求項４に記載の光拡散部材で構成されており、前記光拡散部材の複数の光散乱部のうち、隣接する光散乱部間の平均間隔が、前記表示体の前記画素間の平均間隔よりも小さく、前記一方向と前記画素の延在する方向とが、交差するように配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、視野角を拡大し、かつ外光の反射散乱を抑制することができる光拡散部材、及び光拡散部材の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、上記の光拡散部材を備え、表示品位に優れた表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】（Ａ）、（Ｂ）第１実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】液晶表示装置に用いる液晶パネルを示す断面図である。
【図３】液晶表示装置に用いるバックライトの断面図である。
【図４】（Ａ）、（Ｂ）液晶パネルの動作を説明するための図である。
【図５】液晶表示装置に用いる光拡散部材を示す斜視図である。
【図６】（Ａ）視野角拡大部材の断面図、（Ｂ）遮光部を視認側から見た平面図、（Ｃ）、遮光部を背面側から見た平面図、（Ｄ）視認側から見た遮光部と光拡散部の配置を説明する平面図、である。
【図７】光拡散部材の光の進行経路を説明するための図である。
【図８】（Ａ）〜（Ｇ）光拡散部材の製造工程を、順を追って示す斜視図である。
【図９】（Ａ）、（Ｂ）紫外光の入射角度と塗膜の照射される領域の関係を説明する図である。
【図１０】（Ａ）光散乱部が形成されていない場合の光の進行経路を説明する図である。（Ｂ）光散乱部が形成されている場合の光の進行経路を説明する図である。
【図１１】（Ａ）光散乱部が基材の全面に形成されている場合の外光の反射散乱を説明する図である。（Ｂ）第１実施形態に係る光拡散部材の外光の反射散乱を説明する図である。
【図１２】（Ａ）、（Ｂ）光散乱部の形成領域と散乱される光の関係を説明する図である。
【図１３】（Ａ）、（Ｂ）第２実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す斜視図である。
【図１４】（Ａ）第２実施形態に係る光拡散部の断面図である。（Ｂ）視認側から見た光散乱部と光拡散部の配置を説明する平面図である。
【図１５】（Ａ）〜（Ｅ）光拡散部材の製造工程を、順を追って示す斜視図である。
【図１６】第３実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す図である。
【図１７】第３実施形態に係る光散乱部とカラーフィルターとの配置を説明するための図である。
【図１８】第３実施形態の変形例１に係る光散乱部とカラーフィルターとの配置を説明する図である。
【図１９】第３実施形態の変形例２に係る光散乱部とカラーフィルターとの配置を説明する図である。
【図２０】第３実施形態の変形例３に係る光散乱部とカラーフィルターとの配置を説明する図である。
【図２１】第３実施形態の変形例２に係る光散乱部とカラーフィルターとの配置を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態について、図１〜図１３を用いて説明する。
本実施形態では、表示体として透過型の液晶パネルを備えた液晶表示装置の例を挙げて説明する。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
【００２２】
図１は、本実施形態の液晶表示装置１を斜め上方（視認側）から見た斜視図である。本実施形態の液晶表示装置１は、図１に示すように、バックライト２（照明装置）と、第１偏光板３と、液晶パネル４と、第２偏光板５と、視野角拡大部材６（光拡散部材）と、から構成されている。図１では、液晶パネル４を模式的に１枚の板状に図示しているが、その詳細な構造については後述する。
【００２３】
観察者は、視野角拡大部材６が配置された図１における液晶表示装置１の上側から表示を見ることになる。以下の説明では、視野角拡大部材６が配置された側を視認側と称し、バックライト２が配置された側を背面側と称する。また、以下の説明において、ｘ軸は液晶表示装置１の画面の水平方向、ｙ軸は液晶表示装置１の画面の垂直方向、ｚ軸は液晶表示装置１の厚さ方向、と定義する。
【００２４】
本実施形態の液晶表示装置１においては、バックライト２から射出された光を液晶パネル４で変調し、変調した光によって所定の画像や文字等を表示する。また、液晶パネル４から射出された光が視野角拡大部材６を透過すると、射出光の配光分布（拡散角度分布）が視野角拡大部材６に入射する前より広がった状態となって、光が視野角拡大部材６から射出される。これにより、観察者は広い視野角を持って表示を視認できる。
【００２５】
以下、液晶パネル４の具体的な構成について説明する。
ここでは、アクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルを一例に挙げて説明するが、本発明に適用可能な液晶パネルはアクティブマトリクス方式の透過型液晶パネルに限るものではない。本発明に適用可能な液晶パネルは、例えば半透過型（透過・反射兼用型）液晶パネルであっても良く、更には、各画素がスイッチング用薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor, 以下、ＴＦＴと略記する）を備えていない単純マトリクス方式の液晶パネルであっても良い。
【００２６】
図２は、液晶パネル４の縦断面図である。
液晶パネル４は、図２に示すように、スイッチング素子基板としてのＴＦＴ基板９と、ＴＦＴ基板９に対向して配置されたカラーフィルター基板１０と、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０との間に挟持された液晶層１１と、を有している。液晶層１１は、ＴＦＴ基板９と、カラーフィルター基板１０と、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０とを所定の間隔をおいて貼り合わせる枠状のシール部材（図示せず）と、によって囲まれた空間内に封入されている。本実施形態の液晶パネル４は、例えばＴＮ（Twisted Nematic）モードで表示を行うものであり、液晶層１１には誘電率異方性が正の液晶が用いられる。ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０との間には、これら基板間の間隔を一定に保持するための球状のスペーサー１２が配置されている。
【００２７】
本発明の液晶表示装置は、表示モードとして、上記のＴＮモードに限らず、ＶＡ（Vertical Alignment, 垂直配向）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モード、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード等を用いることができる。なお、本実施形態では、ＴＮモードの液晶パネルを用いた例を挙げる。
【００２８】
ＴＦＴ基板９には、表示の最小単位領域である画素（図示せず）がマトリクス状に複数配置されている。ＴＦＴ基板９には、複数のソースバスライン（図示せず）が、互いに平行に延在するように形成されるとともに、複数のゲートバスライン（図示せず）が、互いに平行に延在し、かつ、複数のソースバスラインと直交するように形成されている。したがって、ＴＦＴ基板９上には、複数のソースバスラインと複数のゲートバスラインとが格子状に形成され、隣接するソースバスラインと隣接するゲートバスラインとによって区画された矩形状の領域が一つの画素となる。ソースバスラインは、後述するＴＦＴのソース電極に接続され、ゲートバスラインは、ＴＦＴのゲート電極に接続されている。
【００２９】
ＴＦＴ基板９を構成する透明基板１４の液晶層１１側の面に、半導体層１５、ゲート電極１６、ソース電極１７、ドレイン電極１８等を有するＴＦＴ１９が形成されている。透明基板１４には、例えばガラス基板を用いることができる。透明基板１４上に、例えばＣＧＳ（Continuous Grain Silicon：連続粒界シリコン）、ＬＰＳ（Low-temperature Poly-Silicon：低温多結晶シリコン）、α−Ｓｉ（Amorphous Silicon：非結晶シリコン）等の半導体材料からなる半導体層１５が形成されている。また、透明基板１４上に、半導体層１５を覆うようにゲート絶縁膜２０が形成されている。ゲート絶縁膜２０の材料としては、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、もしくはこれらの積層膜等が用いられる。
ゲート絶縁膜２０上には、半導体層１５と対向するようにゲート電極１６が形成されている。ゲート電極１６の材料としては、例えばＷ（タングステン）／ＴａＮ（窒化タンタル）の積層膜、Ｍｏ（モリブデン）、Ｔｉ（チタン）、Ａｌ（アルミニウム）等が用いられる。
【００３０】
ゲート絶縁膜２０上に、ゲート電極１６を覆うように第１層間絶縁膜２１が形成されている。第１層間絶縁膜２１の材料としては、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、もしくはこれらの積層膜等が用いられる。第１層間絶縁膜２１上に、ソース電極１７およびドレイン電極１８が形成されている。ソース電極１７は、第１層間絶縁膜２１とゲート絶縁膜２０とを貫通するコンタクトホール２２を介して半導体層１５のソース領域に接続されている。
【００３１】
同様に、ドレイン電極１８は、第１層間絶縁膜２１とゲート絶縁膜２０とを貫通するコンタクトホール２３を介して半導体層１５のドレイン領域に接続されている。ソース電極１７およびドレイン電極１８の材料としては、上述のゲート電極１６と同様の導電性材料が用いられる。第１層間絶縁膜２１上に、ソース電極１７およびドレイン電極１８を覆うように第２層間絶縁膜２４が形成されている。第２層間絶縁膜２４の材料としては、上述の第１層間絶縁膜２１と同様の材料、もしくは有機絶縁性材料が用いられる。
【００３２】
第２層間絶縁膜２４上に、画素電極２５が形成されている。画素電極２５は、第２層間絶縁膜２４を貫通するコンタクトホール２６を介してドレイン電極１８に接続されている。よって、画素電極２５は、ドレイン電極１８を中継用電極として半導体層１５のドレイン領域に接続されている。画素電極２５の材料としては、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide、インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide、インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電性材料が用いられる。
【００３３】
一方、カラーフィルター基板１０を構成する透明基板２９の液晶層１１側の面には、ブラックマトリクス３０、カラーフィルター３１、平坦化層３２、対向電極３３、配向膜３４が順次形成されている。ブラックマトリクス３０は、画素間領域において光を遮断する機能を有している。ブラックマトリクス３０は、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属、もしくはカーボン粒子を感光性樹脂に分散させたフォトレジストで形成されている。カラーフィルター３１には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色の色素が含まれている。Ｒ，Ｇ，Ｂのいずれか一つのカラーフィルター３１が、ＴＦＴ基板９上の一つの画素電極２５に対向して配置されている。
【００３４】
平坦化層３２は、ブラックマトリクス３０およびカラーフィルター３１を覆う絶縁膜で構成されている。平坦化層３２は、ブラックマトリクス３０およびカラーフィルター３１によってできる段差を緩和して平坦化する機能を有している。平坦化層３２上には、対向電極３３が形成されている。対向電極３３の材料としては、画素電極２５と同様の透明導電性材料が用いられる。対向電極３３上の全面に、水平配向規制力を有する配向膜３４が形成されている。カラーフィルター３１は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色以上の多色構成としても良い。
【００３５】
ＴＦＴ基板９を構成する透明基板１４と第１偏光板３との間には、第１位相差板１３が設けられている。カラーフィルター基板１０を構成する透明基板２９と第２偏光板５との間には、第２位相差板８が設けられている。これら第１位相差板１３、第２位相差板８は、液晶層１１により生じる光の位相差を補償するためのものである。
【００３６】
図３に示すように、バックライト２は、発光ダイオード、冷陰極管等の光源３６と、アクリル樹脂等からなる導光体３７と、リフレクター３５と、反射シート３８と、プリズムシート５０と、を備えている。光源３６は、平面形状が矩形状の導光体３７の一つの端面３７ａに配置され、導光体３７の端面３７ａに向けて光を射出する。導光体３７は、端面３７ａから入射した光を内部で伝搬させつつ、前面３７ｂから射出させる。リフレクター３５は、光源３６から射出される光のうち、導光体３７の端面３７ａ以外の方向に向けて射出される光を、導光体３７の端面３７ａに向けて反射させる。反射シート３８は、導光体３７の背面３７ｃから射出される光を反射させ、導光体３７の背面３７ｃから再入射させる。プリズムシート５０は、互いに平行に配置された複数の三角柱状のプリズム構造体４２ａを備えている。プリズムシート５０は、導光体３７の前面３７ｂから光が入射したとき、この光の進行方向を液晶パネル４の法線方向に近い方向に変えて射出させる。本実施形態のバックライト２は、光源３６が導光体３７の端面３７ａに配置されたエッジライト型のバックライトである。
【００３７】
本実施形態のバックライト２は、光の射出方向を制御して指向性を持たせたバックライト、いわゆる指向性バックライトである。具体的には、導光体３７の厚みは光源３６が配置された端面３７ａから反対側の端面３７ｄに向けて漸次薄くなっている。すなわち、導光体３７の前面３７ｂと背面３７ｃとは互いに平行でなく、導光体３７を側面から見た形状は楔状である。導光体３７の端面３７ａから入射した光は、導光体３７の前面３７ｂと背面３７ｃとの間で反射を繰り返しつつ内部をｙ軸方向に進行する。仮に導光板が平行平板であったとすると、導光板の前面および背面に対する光の入射角は何回反射を繰り返しても一定である。これに対して、本実施形態のように、導光体３７が楔状である場合、導光体３７の前面３７ｂおよび背面３７ｃで光が１回反射する毎に入射角が小さくなる。
【００３８】
このとき、例えば導光体３７を構成するアクリル樹脂の屈折率が１．５、空気の屈折率を１．０とすると、導光体３７の前面３７ｂにおける臨界角、すなわち導光体３７を構成するアクリル樹脂と空気との界面における臨界角は、Snellの法則から約４２°となる。
導光体３７に入射した直後の光が前面３７ｂに入射した際、前面３７ｂへの光Ｌの入射角が臨界角である４２°よりも大きい間は全反射条件を満たすため、光Ｌは前面３７ｂで全反射する。その後、光Ｌが前面３７ｂと背面３７ｃとの間で全反射を繰り返し、前面３７ｂへの光Ｌの入射角が臨界角である４２°よりも小さくなった時点で全反射条件を満たさなくなり、光Ｌは外部空間に射出される。したがって、光Ｌは導光体３７の前面３７ｂに対して略一定の射出角度をもって射出する。このように、バックライト２は、ｙｚ平面内において狭い配光分布を有し、ｙｚ平面内での指向性を持つ。一方、バックライト２は、ｘｚ平面内においてはｙｚ平面内での配光分布よりも広い配光分布を有し、ｘｚ平面内での指向性を持たない。
【００３９】
図１に示すように、バックライト２と液晶パネル４との間には、偏光子として機能する第１偏光板３が設けられている。ここで、ｘ軸方向の正方向を基準として反時計回りに角度を表すとすると、第１偏光板３の透過軸Ｐ１は１３５°−３１５°方向に設定されている。液晶パネル４と視野角拡大部材６との間には、検光子として機能する第２偏光板５が設けられている。第２偏光板５の透過軸Ｐ２は、第１偏光板３の透過軸Ｐ１と直交するように配置されており、４５°−２２５°方向に設定されている。第１偏光板３の透過軸Ｐ１と第２偏光板５の透過軸Ｐ２とは、クロスニコルの配置となっている。
【００４０】
ＴＦＴ基板９の配向膜２７には、配向制御方向が１３５°−３１５°方向となるように、ラビング等の配向処理がなされている。図１において、配向膜２７の配向制御方向を矢印Ｈ１で示す。一方、カラーフィルター基板１０の配向膜３４には、配向制御方向が４５°−２２５°方向となるように、ラビング等の配向処理がなされている。図１において、配向膜３４の配向制御方向を矢印Ｈ２で示す。
【００４１】
液晶パネル４の画素電極２５と対向電極３３との間に電圧が印加されていないときには、図４（Ａ）に示すように、液晶層１１を構成する液晶分子Ｍは２つの配向膜２７，３４間で９０°ツイストした状態となる。このとき、１３５°−３１５°方向の透過軸Ｐ１を有する第１偏光板３を透過した直線偏光ＬＰ１の偏光面が液晶層１１の持つ旋光性により９０°回転し、４５°−２２５°方向の透過軸Ｐ２を有する第２偏光板５を透過する。その結果、電圧無印加時には白表示となる。
【００４２】
画素電極２５と対向電極３３との間に電圧が印加されたときには、図４（Ｂ）に示すように、液晶層１１を構成する液晶分子Ｍは２つの配向膜２７，３４間で電界に沿った方向に立ち上がった状態となる。このとき、１３５°−３１５°方向の透過軸Ｐ１を有する第１偏光板３を透過した直線偏光の偏光面は回転しないため、４５°−２２５°方向の透過軸Ｐ２を有する第２偏光板５を透過しない。その結果、電圧印加時には黒表示となる。以上のように、画素毎に電圧の印加／無印加を制御することにより白表示と黒表示とを切り替え、画像を表示することができる。
【００４３】
次に、視野角拡大部材６について詳細に説明する。
図５（Ａ）、（Ｂ）は、視野角拡大部材６を視認側から見た斜視図である。なお、図を見やすくするため、図５（Ａ）については、遮光部４０及び中空部４３の図示を省略しており、図５（Ｂ）については、光散乱部８０の孔８３及び散乱体８２の図示を省略している。図６（Ａ）は、視野角拡大部材６の断面図であり、図６（Ｂ）は、視野角拡大部材６を光射出側から見た遮光部４０の説明図であり、図６（Ｃ）は、視野角拡大部材６を光入射側から見た平面図であり、図６（Ｄ）は、視野角拡大部材６を視認側から見たときの平面図である。なお、図６（Ｄ）において、光散乱部８０に形成された孔８３の基材側の外形が実線で示され、遮光部４０の外形の領域が破線で示されている。
【００４４】
視野角拡大部材６は、図５に示すように、基材３９と、基材３９の一方の面（視認側と反対側の面、図５において下面）に形成された複数の遮光部４０と、基材３９の一方の面に形成された光拡散部４１と、基材３９の他方の面（視認側の面、図５において上面）に形成された光散乱部８０（光散乱層）と、から構成されている。視野角拡大部材６は、光拡散部４１が設けられた側を第２偏光板５に向け、光散乱部８０の側を視認側に向けた姿勢で第２偏光板５上に接着剤層４２により固定されている。
【００４５】
光透過性の基材３９としては、一般に、熱可塑性ポリマーや熱硬化性樹脂、光重合性樹脂などの樹脂類など光透過性材料が用いられる。アクリル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、ビニル系ポリマー、セルロース系ポリマー、アミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、ウレタン系ポリマー、シリコーン系ポリマー、イミド系ポリマー等などからなる適宜な透明樹脂製の基材を用いることができる。例えばトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム、ポリイミド（ＰＩ）フィルム等の透明樹脂製の基材が好ましく用いられる。
【００４６】
基材３９は、後述する製造プロセスにおいて、後で遮光部４０、光拡散部４１、光散乱部８０の材料を塗布する際の下地となるものであり、製造プロセス中の熱処理工程における耐熱性と機械的強度とを備える必要がある。したがって、基材３９には、樹脂製の基材の他、ガラス製の基材等を用いても良い。ただし、基材３９の厚さは耐熱性や機械的強度を損なわない程度に薄い方が好ましい。その理由は、基材３９の厚さが厚くなる程、表示のボヤケが生じるおそれがあるからである。また、基材３９の全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。本実施形態では、基材３９の一例として厚さが１００μｍの透明樹脂製基材であるＰＥＴフィルムを用いる。
【００４７】
複数の遮光部が、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、基材３９の一方の面（視認側と反対側の面）に点在するように形成されている。この遮光部４０は、基材３９の一方の面のうち光拡散部４１の形成領域以外の領域に形成されている。本実施形態では、基材３９の法線方向から見たときの各遮光部４０の平面形状は円形である。これらの遮光部４０は、それぞれ大きさが異なり、種々の直径を有している。また、これらの遮光部４０は、非周期的、具体的にはランダムに配置されている。
【００４８】
遮光部４０は、一例として、カーボンブラックを含有するブラックレジスト等の光吸収性および感光性を有する黒色の顔料、染料、樹脂等からなる層で構成されている。カーボンブラックを含有する樹脂等を用いた場合、遮光部４０を構成する膜を印刷工程で成膜できるため、材料使用量が少ない、スループットが高い等の利点が得られる。その他、Ｃｒ（クロム）やＣｒ／酸化Ｃｒの多層膜等の金属膜を用いても良い。この種の金属膜もしくは多層膜を用いた場合、これらの膜の光学密度が高いため、薄膜で十分に光を吸収するという利点が得られる。
【００４９】
図６（Ａ）に示すように、光拡散部４１が、基材３９の一方の面における遮光部４０の形成領域以外の領域に形成されている。光拡散部４１は、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の光透過性および感光性を有する有機材料で構成されている。これら樹脂に重合開始剤、カップリング剤、モノマー、有機溶媒などを混合した透明樹脂製の混合物を用いることができる。さらに、重合開始剤は、安定剤、禁止剤、可塑剤、蛍光増白剤、離型剤、連鎖移動剤、他の光重合性単量体等のような各種の追加成分を含んでいてもよい。その他、特許第４１２９９９１号記載の材料を用いることができる。また、透明樹脂の全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。光拡散部４１の高さ（厚さ）は遮光部４０の厚さよりも十分大きく設定されている。本実施形態の場合、光拡散部４１の高さは一例として２５μｍ程度であり、遮光部４０の厚さは一例として１５０ｎｍ程度である。
【００５０】
遮光部４０の形成領域には、基材３９の一方の面に平行な平面で切断したときの断面積が遮光部４０側で大きく、遮光部４０から離れるにつれて漸次小さくなる形状の空間である中空部４３が形成されている。すなわち、中空部４３は、基材３９側から見たとき、いわゆる順テーパ状の円錐台状の形状を有している。中空部４３の内部は空気で満たされている。したがって、基材３９の一方の面側において中空部４３以外の部分、すなわち透明樹脂が連続して壁状に存在する部分が、光の拡散に寄与する光拡散部４１である。光拡散部４１に入射した光は、光拡散部４１と中空部４３との側面４１ｃ（界面）で全反射しつつ、光拡散部４１の内部に略閉じこめられた状態で導光し、基材３９を介して外部に射出される。
【００５１】
図６（Ａ）、（Ｃ）に示すように、複数の遮光部４０に対応する複数の中空部４３のうち、少なくとも一部の中空部４３の開口の少なくとも一部において、光拡散部４１の一部が開口の内側に向けて突出している。すなわち、光拡散部４１の基材３９と反対側の端部が庇状に突出している。以下の説明では、光拡散部４１の一部が開口の内側に向けて突出した部分を突起部４４と称する。本実施形態の場合、図６（Ｃ）に示すように、複数の中空部４３のうち、直径が比較的小さい一部の中空部４３に突起部４４が形成されており、直径が比較的大きい残りの中空部４３には突起部４４が形成されていない。ただし、複数の中空部４３のうち、いずれの中空部４３に突起部４４が形成されているかは任意でよく、全ての中空部４３に突起部４４が形成されていてもよい。
【００５２】
本実施形態の場合、一部の中空部４３（図６（Ａ）に符号４３ａで示す中空部）においては、突起部４４が開口の中心までは達しておらず、中空部４３の中心は開口している。すなわち、一部の中空部４３の開口は、突起部４４の存在により小さく窄まっているものの、完全に塞がってはいない。また、他の中空部４３（図６（Ａ）に符号４３ｂで示す中空部）においては、突起部４４が開口の中心まで延在し、中空部４３の開口が完全に塞がっている。さらに他の中空部４３（図６（Ａ）に符号４３ｃで示す中空部）においては、突起部４４が存在していない。このように、３種類の中空部４３ａ，４３ｂ，４３ｃが混在した構成でもよいし、少なくとも突起部４４を有する１種類もしくは２種類の中空部４３ａ，４３ｂを含む構成でもよい。なお、図５においては、図面を見やすくするため、突起部４４の図示を省略している。
【００５３】
光散乱部８０は、図６（Ａ）に示したように、基材３９の他方の面（視認側の面）に形成されている。光散乱部８０は、光硬化樹脂８１の内部に多数の散乱体８２が分散されて構成されている。光散乱部８０の厚み（Ｚ軸方向の寸法）は一例として２０μｍ程度であり、球状の散乱体８２の球径は０．５〜２０μｍ程度である。光散乱部８０は、光拡散部４１で拡散された光を等方的に拡散しさらに広角に広げる。光散乱部８０は、基材３９の他方の面の全面には形成されておらず、部分的に形成されている。
【００５４】
本実施形態においては、光散乱部８０は層状に形成されるとともに、この層状の光散乱部８０を貫通する複数の孔８３が形成されている。具体的には、光散乱部８０には、図５及び図６（Ａ）に示すように、光散乱部８０の視認側から基材３９側まで連通（貫通）した複数の孔８３が形成されている。これらの複数の孔８３は、図６（Ａ）、（Ｄ）に示すように、基材３９と接する遮光部４０の面積よりも、光散乱部８０に形成された孔８３の基材側の面積の方が小さくなるように設定されている。また、図６（Ｄ）に示すように視認側から見て、遮光部４０の内方に光散乱部８０の孔８３が配置されるようになっている。
【００５５】
光硬化樹脂には、例えば、（メタ）アクリレート系光硬化樹脂、イミド系光硬化樹脂、シリコーン系光硬化樹脂等を用いることができる。
【００５６】
散乱体８２には、例えばアクリルビーズを用いることができるが、これに限らず、アクリル系ポリマー、オレフィン系ポリマー、ビニル系ポリマー、セルロース系ポリマー、アミド系ポリマー、フッ素系ポリマー、ウレタン系ポリマー、シリコーン系ポリマー、イミド系ポリマーなどからなる樹脂片、ガラスビーズ等の適宜な透明の物質で構成されていてもよい。また、これら透明な物質以外でも、光の吸収の無い散乱体、反射体を用いることができる。あるいは、散乱体８２を光拡散部４１内に拡散させた気泡としてもよい。個々の散乱体８２の形状は、例えば、球形、楕円球形、平板形、多角形立方体など、各種形状に形成することができる。散乱体８２のサイズも均一あるいは不均一になるように形成されていればよい。
【００５７】
視野角拡大部材６は、図５に示したように、基材３９が視認側に向くように配置されるため、図７に示すように、光拡散部４１の互いに平行な２つの対向面のうち、面積の小さい方の面（基材３９に接する側の面）が光射出端面４１ｂとなり、面積の大きい方の面（基材３９と反対側の面）が光入射端面４１ａとなる。光拡散部４１の側面４１ｃ（光拡散部４１と中空部４３との界面）の傾斜角度θ（光射出端面４１ｂと側面４１ｃとのなす角）は４１°〜８９°の範囲に設定される。特に、傾斜角度θは６０°〜８５°程度が好ましい。ただし、光拡散部４１の側面４１ｃの傾斜角度は、入射光の損失がそれ程大きくなく、入射光を十分に拡散することが可能な角度であれば、特に限定されない。本実施形態では、図６（Ａ）に示すように、光拡散部４１の複数の側面４１ｃの傾斜角度θがそれぞれ異なる。
【００５８】
本実施形態の場合、中空部４３には空気が存在しているため、光拡散部４１を例えば透明アクリル樹脂で形成したとすると、光拡散部４１の側面４１ｃは透明アクリル樹脂と空気との界面となる。ここで、光拡散部４１と中空部４３との界面の屈折率差は、中空部４３が空気で充填されている場合が、他の一般的な低屈折率材料で充填されている場合と比べて最も大きい。したがって、Snellの法則より、中空部４３が空気で充填されている場合、光拡散部４１の側面４１ｃで光が全反射する入射角範囲は最も広くなる。その結果、光の損失がより抑えられ、高い輝度を得ることができる。なお、中空部４３には、空気に代えて、アルゴン、窒素等の不活性ガスが充填されていても良い。もしくは、中空部４３の内部が真空状態であっても良い。これらの場合も、上記の効果が得られる。
【００５９】
基材３９の屈折率と光拡散部４１の屈折率とは略同等であることが望ましい。その理由は、例えば基材３９の屈折率と光拡散部４１の屈折率とが大きく異なっていると、光入射端面４１ａから入射した光が光拡散部４１から射出しようとする際に光拡散部４１と基材３９との界面で不要な光の屈折や反射が生じて、所望の視野角が得られない、射出光の光量が減少する、等の不具合が生じるおそれがあるからである。
【００６０】
図７の矢印ＬＢおよびＬＣに示す光のように、光拡散部４１の側面４１ｃに対して臨界角を超える角度で入射した入射光は、光拡散部４１の側面４１ｃで全反射して光拡散部４１を透過し、観察者側へ射出される。また、図７の矢印ＬＡに示す光のように、側面４１ｃに入射することなく光拡散部４１を透過する入射光は、そのまま観察者側へ射出される。一方、図７の矢印ＬＤで示す光のように、臨界角以下の角度で入射した入射光は光拡散部４１の側面４１ｃで全反射せず、光拡散部４１の側面４１ｃを透過する。
【００６１】
本実施形態の場合、光拡散部４１以外の領域に光吸収性を有する遮光部４０が設けられているので、光拡散部４１の側面４１ｃを透過した光は遮光部４０で吸収される。そのため、迷光などによって表示のボヤケが生じたり、コントラストが低下したりすることはない。しかしながら、光拡散部４１の側面４１ｃを透過する光が増えると、視認側に射出される光量が少なくなり、輝度の高い画像が得られない。そこで、本実施形態の液晶表示装置１においては、光拡散部４１の側面４１ｃに臨界角以下で入射しないような角度で光を射出するバックライト、いわゆる指向性バックライトを用いることが好ましい。
【００６２】
次に、上記構成の液晶表示装置１の製造方法について説明する。
液晶パネル４の製造工程の概略を説明すると、最初に、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０をそれぞれ作製する。その後、ＴＦＴ基板９のＴＦＴ１９が形成された側の面とカラーフィルター基板１０のカラーフィルター３１が形成された側の面とを対向させて配置し、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０とをシール部材を介して貼り合わせる。その後、ＴＦＴ基板９とカラーフィルター基板１０とシール部材とによって囲まれた空間内に液晶を注入する。そして、このようにしてできた液晶パネル４の両面に、光学接着剤等を用いて第１位相差板１３、第１偏光板３、第２位相差板８、第２偏光板５をそれぞれ貼り合わせる。以上の工程を経て、液晶パネル４が完成する。
なお、ＴＦＴ基板９やカラーフィルター基板１０の製造方法には従来から公知の方法が用いられるため、説明を省略する。
【００６３】
以下、視野角拡大部材６の製造方法を中心に説明する。
最初に、図８（Ａ）に示すように、厚さが１００μｍのポリエチレンテレフタレートの基材３９を準備し、スピンコート法を用いて、この基材３９の一面に遮光部材料としてカーボンを含有したブラックネガレジストを塗布し、膜厚１５０ｎｍの塗膜４５を形成する。次いで、上記の塗膜４５を形成した基材３９をホットプレート上に載置し、温度９０℃で塗膜４５のプリベークを行う。これにより、ブラックネガレジスト中の溶媒が揮発する。
【００６４】
次いで、露光装置を用い、平面形状が円形の複数の開口パターン４６が形成されたフォトマスク４７を介して塗膜４５に光ＬＲを照射し、露光を行う。このとき、波長３６５ｎｍのｉ線、波長４０４ｎｍのｈ線、波長４３６ｎｍのｇ線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ２とする。本実施形態のフォトマスク４７は、図８（Ａ）に示すように、平面形状が円形の複数の開口パターン４６がランダムに配置されている。このフォトマスク４７を介してブラックネガレジストの塗膜４５に光ＬＲを照射し、現像することによって、図８（Ｂ）に示すように、基材３９上にランダムに配置された複数の遮光部４０が形成される。
【００６５】
フォトマスク４７を用いて露光を行った後、専用の現像液を用いてブラックネガレジストからなる塗膜４５の現像を行い、１００℃で乾燥し、図８（Ｂ）に示すように、平面形状が円形の複数の遮光部４０を基材３９の一面に形成する。本実施形態の場合、次工程でブラックネガレジストからなる遮光部４０をマスクとして透明ネガレジストの露光を行い、中空部４３を形成する。そのため、フォトマスク４７の開口パターン４６の位置が中空部４３の形成位置に対応する。円形の遮光部４０は次工程の光拡散部４１の非形成領域（中空部４３）に対応する。
【００６６】
フォトマスク４７の複数の開口パターン４６は、それぞれ直径が異なる数１０μｍ程度の円形のパターンであり、隣接する開口パターン４６間の間隔（ピッチ）も数１０μｍ程度でそれぞれ異なる。ただし、開口パターン４６間のピッチは液晶パネル４の画素の間隔（ピッチ、例えば１５０μｍ）よりも小さいことが望ましい。これにより、画素内に少なくとも１つの遮光部４０が形成されるので、例えばモバイル機器等に用いる画素ピッチが小さい液晶パネルと組み合わせたときに広視野角化を図ることができる。
【００６７】
本実施形態では、ブラックネガレジストを用いたフォトリソグラフィー法によって遮光部４０を形成したが、この構成に代えて、本実施形態の開口パターン４６と遮光パターンとが反転したフォトマスクを用いれば、光吸収性を有するポジレジストを用いることもできる。もしくは、蒸着法や印刷法、インクジェット法等を用いて遮光部４０を直接形成しても良い。
【００６８】
次いで、図９（Ｃ）に示すように、スピンコート法を用いて、遮光部４０の上面に光拡散部材料としてアクリル樹脂からなる透明ネガレジストを塗布し、膜厚２５μｍの塗膜４９を形成する。
次いで、上記の塗膜４９を形成した基材３９をホットプレート上に載置し、温度９５℃で塗膜４９のプリベークを行う。これにより、透明ネガレジスト中の溶媒が揮発する。
【００６９】
次いで、基材３９側から遮光部４０をマスクとして塗膜４９に拡散光Ｆ１を照射し、露光を行う。このとき、波長３６５ｎｍのｉ線、波長４０４ｎｍのｈ線、波長４３６ｎｍのｇ線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は６００ｍＪ／ｃｍ２とする。露光装置から射出された平行光を拡散光Ｆ１として基材３９に照射する手段としては、例えば露光装置から射出された光の光路上にヘイズ５０程度の拡散板を配置すれば良い。拡散光Ｆ１で露光を行うことにより、塗膜４９は、遮光部４０間の開口部から放射状に露光され、光拡散部４１の逆テーパ状の側面４１ｃが形成される。
その後、上記の塗膜４９を形成した基材３９をホットプレート上に載置し、温度９５℃で塗膜４９のポストエクスポージャーベイク（ＰＥＢ）を行う。
【００７０】
次いで、専用の現像液を用いて透明ネガレジストからなる塗膜４９の現像を行い、１００℃でポストベークし、図８（Ｄ）に示すように、複数の中空部４３を有する光拡散部４１を基材３９の一面に形成する。本実施形態では、図８（Ｃ）に示したように、拡散光Ｆ１を用いて露光を行っているので、塗膜４９を構成する透明ネガレジストが遮光部４０の非形成領域から外側に広がるように放射状に露光される。これにより、順テーパ状の中空部４３が形成され、光拡散部４１は逆テーパ状の形状となる。光拡散部４１の側面４１ｃの傾斜角度は拡散光Ｆの拡散の度合いで制御できる。
【００７１】
ここで用いる光Ｆ１として、拡散光、もしくは平行光、もしくは特定の射出角度における強度が他の射出角度における強度と異なる光、すなわち特定の射出角度に強弱を有する光を用いることができる。平行光を用いた場合、光拡散部４１の側面４１ｃの傾斜角度が例えば６０°〜８５°程度の単一の傾斜角度となる。拡散光Ｆを用いた場合には、傾斜角度が連続的に変化する、断面形状が曲線状の傾斜面となる。特定の射出角度に強弱を有する光を用いた場合には、その強弱に対応した斜面角度を有する傾斜面となる。このように、光拡散部４１の側面４１ｃの傾斜角度を調整することができる。これにより、視野角拡大部材６の光拡散性を、目的とする視認性が得られるように調整することが可能となる。
【００７２】
上記の製造工程において、平面寸法が異なる遮光部４０を形成することに伴い、平面寸法が異なる中空部４３が形成される。このとき、中空部４３の寸法の分布を適切に設定することにより、直径が比較的小さい一部の中空部４３では光拡散部４１を構成する塗膜４９の現像残り（バリ）が発生し、突起部４４が形成される。図６（Ｃ）に示した突起部４４の中央の孔は現像液に溶解した塗膜４９の溶液が流れ出た痕跡である。もしくは、現像後のポストベークや他の熱処理工程を加えることにより、光拡散部４１を構成する塗膜４９の角をだれさせることにより突起部４４を形成してもよい。
【００７３】
次いで、図８（Ｅ）に示すように、基材３９の他方の面側に散乱体８２を含有する光硬化樹脂８１を塗布し、塗膜８５（光硬化樹脂層）を形成する。
そして、図８（Ｆ）に示すように、基材の一方の面側（背面側）から、遮光部の形成領域以外の領域の基材を通してＵＶ光（紫外光）Ｆ２を入射し、塗膜８５（光硬化樹脂）を露光する。なお、図８（Ｅ）〜図８（Ｇ）においては、図８（Ａ）〜（Ｄ）とは上下面が逆に図示されている。
【００７４】
さらに、この紫外光Ｆ２の照射が終了した塗膜８５（光硬化樹脂）を現像することによって、図８（Ｇ）に示すように、基材３９の他方の面側に光散乱部８０を形成することができる。なお、図８（Ｇ）においては、図面を見やすくするために、遮光部４０と中空部４３の図示が省略されている。
このとき、塗膜８５のうち、紫外光Ｆ２が照射された領域のみに光散乱部８０が形成され、紫外光Ｆ２が照射されなかった領域には孔８３が形成されることになる。また、紫外光Ｆ２は光拡散部４１によって広がりをもって出射されたり、斜め方向から出射されたりするため、紫外光Ｆ２が当たらない塗膜８５の基材側の領域は、遮光部４０の面積よりも狭くなっている。したがって、光散乱部８０に形成され、各々の遮光部４０と対向する孔８３の基材３９側の面積は、遮光部４０の面積よりも小さくなる。
【００７５】
なお、上述のようにして塗膜８５（光硬化樹脂）に紫外光Ｆ２を照射する際に、紫外光Ｆ２の入射角度を調節することによって、光散乱部８０の形成領域を調節することができる。具体的には、基材３９の面に垂直な方向と平行に近い光線を入射した場合には、図９（Ａ）、（Ｂ）に示すように、紫外線Ｆ２の入射角度によって照射領域を制御することができる。特に、図９（Ｂ）に示すように、光入射端面４１ａに対して斜め方向から紫外光を入射させると、塗膜８５の硬化する領域がより広くなるので、光拡散特性を向上させる場合に好ましい。
塗膜８５に対する紫外光Ｆ２の照射面積が比較的狭くなり、硬化する領域が狭くなる。なお、基材３９が薄い場合にも同様に塗膜８５に対する紫外光Ｆ２の照射面積が比較的狭くなり、硬化する領域が狭くなる。
一方、基材３９の面に対して傾斜角度の大きい光が入射した場合には、図９（Ｂ）に示すように、塗膜８５（光硬化樹脂）に対する紫外光Ｆ２の照射面積が比較的広くなり、硬化する領域が広くなる。
【００７６】
以上、図８（Ａ）〜（Ｇ）の工程を経て、本実施形態の視野角拡大部材６が完成する。
視野角拡大部材６の全光線透過率は、９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られ、視野角拡大部材６に求められる光学性能を十分に発揮できる。全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１の規定によるものである。なお、本実施形態では、液体状のレジストを用いる例を挙げたが、この構成に代えて、フィルム状のレジストを用いても良い。
【００７７】
最後に、完成した視野角拡大部材６を、図６（Ａ）に示すように、基材３９を視認側に向け、光拡散部４１を第２偏光板５に対向させた状態で、接着剤層４２を介して液晶パネル４に貼付する。
以上の工程により、本実施形態の液晶表示装置１が完成する。
【００７８】
次に、視野角拡大部材６の視野角拡大効果について説明する。
本実施形態の場合、図１０（Ａ）に示すように、視野角拡大部材６の最表面には光散乱部８０が配置されている。これにより、光拡散部４１の光入射端面４１ａに対して垂直に入射する光Ｆ３は、光拡散部４１で拡散した後、光散乱部８０でさらに拡散する。このため、光散乱部８０からは様々な角度の光が射出される。
【００７９】
これに対して、図１０（Ｂ）に示すように、光散乱部８０が配置されていない視野角拡大部材６Ｘの場合、光拡散部４１Ｘの光入射端面４１Ｘａに対して垂直に入射する光Ｆ３が光射出端面４１Ｘｂから特定の拡散角度に集中して射出される。その結果、広い角度範囲に均一に光を拡散させることができず、特定の視野角のみでしか明るい表示が得られない。
このように、本実施形態の場合、視野角拡大部材６の最表面には光散乱部８０が配置されているため、光の拡散角度を１つに集中させないようにできる。その結果、視野角拡大部材６の光拡散特性をよりなだらかにすることができ、広い視野角で明るい表示が得られる。
【００８０】
さらに、本実施形態においては、基材３９の他方の面に形成された光散乱部８０には、視認側から基材まで連通した複数の孔８３が形成されている。基材３９の他方の面の全面に光散乱部８０Ｘが形成されている場合には、図１１（Ａ）に示すように、視認側からの光Ｆ４（外光）が光散乱部８０に入射すると、外光Ｆ４は光散乱部８０で反射散乱（後方散乱）されて視認側へと光が進行し、視認者に外光Ｆ４の散乱光が認識されることになり、液晶表示の視認性が悪化する。本実施形態においては、上述のように、光散乱部８０には孔８３が形成されており、この孔８３に視認側から入射した光Ｆ４（外光）は、図１１（Ｂ）に示すように、遮光部４０に吸収され反射散乱を生じないので、基材３９の全面に光散乱部８０が形成されている場合と比較して、視認側からの光Ｆ４の反射散乱を抑制することができ、視認性が良好となる。
【００８１】
また、本実施形態においては、光拡散部４１に対向する位置に光散乱部８０が形成されているので、背面側からの光の光拡散特性を損ねることなく、視認側からの光の反射散乱を抑制することができる。つまり、本実施形態の視野角拡大部材６（光拡散部材）は、背面側からの光の光拡散特性と、視認側からの光の反射散乱の特性を両立することができる。
【００８２】
さらに、本実施形態においては、光散乱部８０が基材３９と接する遮光部４０の面積よりも、光散乱部８０に形成された孔５２の基材３９側に形成される面積の方が小さくなるように設定されている。また、視認側から見て（平面視において）、遮光部４０の内方に光散乱部８０の孔８３が配置されるようになっている。
図１２（Ａ）に示すように、遮光部４０と対向する位置において、基材３９側の孔８３の面積が、遮光部４０と同一面積とされている場合は、背面側からの光Ｆ５が光散乱部８０に散乱されない場合がある。一方、本実施形態の光散乱部８０は、図１２（Ｂ）に示すように、背面側から基材３９の面に対して斜め方向から入射する光Ｆ５を光散乱部８０によって散乱することができるので、より光拡散特性を向上させることができる。
【００８３】
本実施形態に係る視野角拡大部材６によれば、視野角拡大部材６に入射した光は、視野角拡大部材６に入射する前よりも角度分布が広がった状態で視野角拡大部材６から射出される。したがって、観察者が液晶パネル４の正面方向（法線方向）から視線を傾けていっても良好な表示を視認することができる。特に本実施形態の場合、光拡散部４１の側面４１ｃ（反射面）の平面形状が円形であるため、液晶パネル４の画面の法線方向を中心とした全ての方位に角度分布が広がる。そのため、観察者は全ての方位で良好な表示を視認することができる。
さらに、視野角拡大部材６に対して、視認側から入射した光のうち、光散乱部８０に形成された孔に入射する光は、遮光部４０によって吸収される。したがって、観察者が、液晶パネル４の正面方向から見た場合に、視認側から反射散乱される光が抑制されるため、視認性を向上させることができる。
【００８４】
光拡散部４１をパターニングする工程において、仮に透明ネガレジストからなる塗膜４９側からフォトマスクを介して光を照射する手法を用いたとする。その場合、微小サイズの遮光部４０を形成した基材３９とフォトマスクとのアライメント調整が極めて難しく、ずれを生じることが避けられない。その結果、光拡散部４１と遮光部４０とが重なり、光透過率が低下するおそれがある。これに対して、本実施形態の場合、遮光部４０をマスクとして基材３９の背面側から塗膜４９に光Ｆを照射しているため、光拡散部４１が遮光部４０の非形成領域に自己整合（セルフアライン）した状態で形成される。その結果、光拡散部４１と遮光部４０とが重なることがなく、光透過率を確実に維持することができる。また、精密なアライメント作業が不要なため、製造に要する時間を短縮できる。
【００８５】
さらに、光散乱部８０をパターニングする工程において、遮光部４０をマスクとして基材３９の背面側から塗膜８５（光硬化樹脂）に紫外光を照射しているため、光散乱部８０の孔８３が、遮光部４０と対向する領域の少なくとも一部に自己整合（セルフアライン）によって形成される。その結果、背面側からの光を散乱するとともに、視認側からの外光の散乱を抑制することができる。また、本実施形態においては、光散乱部８０の孔５３は、各々の遮光部４０の面積よりも小さく設定されており、視認側から見てこの孔５３は遮光部４０の内方に配置されているので、背面側からの光を確実に散乱して、視野角特性を向上させることができる。
また、遮光部４０をマスクとして光散乱部８０を形成することができ、精密なアライメント作業が不要なため、製造に要する時間を短縮できる。
【００８６】
さらに、本実施形態においては、塗膜８５（光硬化樹脂）に対して、基材３９側から入射される紫外光Ｆ２の入射角度を制御することで、塗膜８５が紫外光Ｆ２に照射される面積を調節できるので、光散乱部８０が基材３９の他方の面を覆う被覆率を調節することが可能である。このように被覆率を調節することで、背面側からの光の拡散特性と、視認側からの光（外光）の散乱とを制御して所望の特性を有する視野角拡大部材６を製造することができる。
【００８７】
また、遮光部４０を基材３９に設けなかったとすると、視野角拡大部材６に視認側から入射する外光が中空部４３等で反射を繰り返し、これが視認側に散乱光として観測されてしまう。このような外光による散乱は明所での視認性を著しく低下させる。これにより、黒表示時に黒色が白っぽく見える「黒浮き」が発生してコントラストが低下してしまい、好適な画像の観察を行うことができない。これに対し、本実施形態の視野角拡大部材６では、複数の遮光部４０を設けたことにより、これらの問題を解消することができる。
【００８８】
なお、第１実施形態においては、視認側から見て、光散乱部８０に形成された孔８３の基材３９側の形状が円形の場合について説明したが、円形に限られるわけではなく、例えば、四角形、長方形、十字型などの形状であっても良い。
【００８９】
〔第２実施形態〕
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
本実施形態の液晶表示装置の基本構成は第１実施形態と同一であり、視野角拡大部材（光拡散部材）１０６の構成が第１実施形態と異なるのみである。したがって、本実施形態では、液晶表示装置の基本構成の説明は省略し、視野角拡大部材１０６についてのみ説明する。また、同一の構成のものについては同一の符号で記載し、詳細な説明を省略する。
【００９０】
図１３（Ａ）、（Ｂ）に視認側から見た視野角拡大部材１０６の斜視図を示す。なお、図を見やすくするために、図１３（Ａ）では、基材３９の下方に視認される光拡散部１４１の図示を省略している。また、図１３（Ｂ）では、光散乱部１８０の図示を省略し、基材１３９の下方に視認される光拡散部１４１を破線で示している。
視野角拡大部材１０６は、図１３（Ａ）に示すように、基材３９と、基材３９の一方の面（視認側と反対側の面）に形成された複数の光拡散部１４１と、基材３９の一方の面に形成された遮光部１４０（光吸収層）と、基材３９の他方の面に形成された光散乱部１８０と、を備えている。
【００９１】
光拡散部１４１は、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂等の光透過性および感光性を有する有機材料で構成されている。また、光拡散部１４１の全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１の規定で９０％以上が好ましい。全光線透過率が９０％以上であると、十分な透明性が得られる。光拡散部１４１は、水平断面（ｘｙ断面）の形状が円形であり、図１４（Ａ）に示すように、光射出端面１４１ｂとなる基材３９側の面の面積が小さく、光入射端面１４１ａとなる基材３９と反対側の面の面積が大きく、基材３９側から基材３９と反対側に向けて水平断面の面積が徐々に大きくなっている。すなわち、光拡散部１４１は、基材３９側から見たとき、いわゆる逆テーパ状の円錐台状の形状を有している。
【００９２】
つまり、この第２実施形態では、第１実施形態において光透過領域とされた光拡散部４１に相当する部分の領域に光を透過させない遮光部１４０を配し、第１実施形態において遮光部４０が配置された領域に光を透過させる光拡散部１４１を配置としたものである。したがって、光拡散部１４１は、基材３９の一方の面に複数個、点在して形成されることになる
【００９３】
光拡散部１４１は、視野角拡大部材１０６において光の透過に寄与する部分である。すなわち、光拡散部１４１に入射した光は、光拡散部１４１のテーパ状の側面１４１ｃで全反射しつつ、光拡散部１４１の内部に略閉じこめられた状態で導光し、射出される。複数の光拡散部１４１は、基材３９の主面の法線方向から見てランダムに配置されている。
【００９４】
遮光部１４０は、図１４（Ａ）に示すように、基材３９の光拡散部１４１が形成された側の面のうち、複数の光拡散部１４１の形成領域以外の領域に、層状に形成されている。遮光部１４０の層厚は、光拡散部１４１の光入射端面１４１ａから光射出端面１４１ｂまでの高さ（寸法）よりも小さく設定されている。本実施形態の場合、遮光部１４０の層厚は一例として１５０ｎｍ程度であり、光拡散部１４１の光入射端面１４１ａから光射出端面１４１ｂまでの高さは一例として２５μｍ程度である。したがって、隣接する光拡散部１４１の間の間隙の基材３９の一方の面に接する部分には遮光部１４０が存在し、それ以外の部分には空気が存在している。
【００９５】
光散乱部１８０は、遮光部１４０と対向する領域の少なくとも一部には形成されていないようになっている。具体的には、光散乱部１８０は、図１３及び図１４（Ａ）に示したように、基材３９の他方の面（視認側の面）に、島状に複数形成されている。この光散乱部１８０は、光硬化樹脂８１の内部に多数の散乱体８２が分散されて構成されている。光散乱部の厚み（Ｚ軸方向の寸法）は一例として２０μｍ程度であり、球状の散乱体８２の球径は０．５〜２０μｍ程度である。光散乱部８０は、光拡散部４１で拡散された光を等方的に拡散（散乱）しさらに広角に広げる。
【００９６】
第２実施形態においては、これらの複数の光散乱部１８０の基材３９側の面積は、光拡散部１４１の基材３９側の面積よりも大きくなるように設定されており、視認側から見て（基材３９の法線方向から見て）図１４（Ｂ）に示すように、光散乱部１８０の内方に光拡散部１４１の基材３９側が納まるようになっている。なお、図１４（Ｂ）において、実線は基材３９と接する光散乱部１８０の外形を示し、破線は基材３９と接する光拡散部１４１の外形を表している。
【００９７】
次に、上記構成の液晶表示装置の製造方法について、図１５（Ａ）〜（Ｆ）を用いて説明する。以下では、視野角拡大部材６の製造工程を中心に説明する。
最初に、図１５（Ａ）に示すように、１０ｃｍ角で厚さが１００μｍのトリアセチルセルロースの基材３９を準備し、スピンコート法を用いて、この基材３９の一方の面に遮光部１４０の材料としてカーボンを含有したブラックネガレジストを塗布し、膜厚１５０ｎｍの塗膜４５を形成する。
次いで、上記の塗膜４５を形成した基材３９をホットプレート上に載置し、温度９０℃で塗膜４５のプリベークを行う。これにより、ブラックネガレジスト中の溶媒が揮発する。
【００９８】
次いで、露光装置を用い、開口パターン１４６がランダムに形成されたフォトマスク１４７を介して塗膜４５に光を照射し、露光を行う。このとき、波長３６５ｎｍのｉ線、波長４０４ｎｍのｈ線、波長４３６ｎｍのｇ線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ２とする。本実施形態の場合、次工程で遮光部１４０をマスクとして透明ネガレジストの露光を行い、光拡散部１４１を形成するため、フォトマスク１４７の開口パターン１４６の位置が光拡散部１４１の形成位置に対応する。複数の開口パターン１４６は全て直径２０μｍ程度の円形パターンである。隣接する開口パターン１４６の間の間隔は液晶パネル４の画素の間隔（ピッチ）よりも小さいことが望ましい。これにより、画素内に少なくとも１つの光拡散部４１が形成されるので、例えばモバイル機器等に用いる画素ピッチが小さい液晶パネルと組み合わせたときに広視野角化を図ることができる。
【００９９】
フォトマスク１４７を用いて露光を行った後、専用の現像液を用いてブラックネガレジストからなる塗膜４５の現像を行い、１００℃で乾燥し、図１５（Ｂ）に示すように、複数の円形の開口部１４１ｄを有する遮光部１４０を基材３９の一方の面に形成する。円形の開口部１４１ｄは次工程の光拡散部１４１の形成領域に対応する。
【０１００】
次いで、図１５（Ｃ）に示すように、基材３９を上下反転し、スピンコート法を用いて、遮光部４０の上面に光拡散部１４１の材料としてアクリル樹脂からなる透明ネガレジストを塗布し、膜厚２５μｍの塗膜４９を形成する。
次いで、上記の塗膜４９を形成した基材３９をホットプレート上に載置し、温度９５℃で塗膜４９のプリベークを行う。これにより、透明ネガレジスト中の溶媒が揮発する。
【０１０１】
次いで、図１５（Ｄ）に示すように、基材３９側から遮光部１４０をマスクとして塗膜４９に拡散光Ｆ１を照射し、露光を行う。このとき、波長３６５ｎｍのｉ線、波長４０４ｎｍのｈ線、波長４３６ｎｍのｇ線の混合線を用いた露光装置を使用する。露光量は５００ｍＪ／ｃｍ２とする。また、露光装置から射出された平行光を拡散光Ｆ１として基材に照射する手段としては、例えば露光装置から射出された光の光路上にヘイズ５０程度の拡散板を配置すれば良い。
その後、上記の塗膜４９を形成した基材３９をホットプレート上に載置し、温度９５℃で塗膜４９のポストエクスポージャーベイク（ＰＥＢ）を行う。
【０１０２】
次いで、専用の現像液を用いて透明ネガレジストからなる塗膜４９の現像を行い、１００℃でポストベークし、図１５（Ｅ）に示すように、複数の光拡散部４１を基材３９の一面に形成する。
【０１０３】
次いで、図１５（Ｅ）に示すように、基材３９の他方の面側に散乱体８２を含有する光硬化樹脂８１を塗布して塗膜８５を形成する。
そして、図１５（Ｅ）に示すように、基材３９の一方の面側（背面側）から、遮光部１４０の形成領域以外の領域の基材３９を通してＵＶ光（紫外光）Ｆ２を入射し、塗膜８５を露光する。
【０１０４】
さらに、この紫外光Ｆ２の照射が終了した塗膜８５を現像することによって、図１３に示すように、基材３９の他方の面側に光散乱部１８０を形成することができる。このとき、紫外光Ｆ２が照射されて塗膜８５の硬化した領域のみに光散乱部１８０が形成されることになるが、紫外光は、光拡散部１４１によって広がりをもって出射されたり、斜め方向から出射されたりするため、基材と接する塗膜８５の領域のうち紫外光が照射されない領域の面積は、遮光部１４０の形成面積よりも狭くなる。したがって、各々の光拡散部１４１と対向する光散乱部１８０の基材３９側の面積は、光拡散部１４１の基材３９側の面積よりも大きくなる。
【０１０５】
なお、上述の紫外光を入射する際に、塗膜８５に照射される紫外光の入射角度を調節することによって、光散乱部１８０の形成領域を調節することができる。具体的には、基材３９の面に対して傾斜角度の大きい光が入射した場合には、塗膜８５の照射される領域をげ、光拡散部１４１の形成領域を広くすることができるので好ましい。
このようにして、紫外光が照射される領域を調節することで、光散乱部１８０が基材の他方の面を覆う被覆率を調節することが可能である。このように被覆率を調節することで、光拡散特性と、外光の散乱を制御して所望の特性を有する視野角拡大部材を製造することができるようになっている。
以上、図１５（Ａ）〜（Ｅ）の工程を経て、本実施形態の視野角拡大部材１０６が完成する。
【０１０６】
本実施形態に係る視野角拡大部材１０６によれば、視野角拡大部材１０６の視認側には光散乱部１８０が配置されている。これにより、光拡散部１４１の光入射端面１４１ａに対して垂直に入射する光は、光拡散部１４１で拡散した後、光散乱部１８０でさらに拡散する。このため、光散乱部１８０からは様々な角度の光が射出され、光の拡散角度を１つに集中させないようにできる。その結果、視野角拡大部材６の光拡散特性をよりなだらかにすることができ、広い視野角で明るい表示が得られる。
【０１０７】
さらに、本実施形態においては、基材３９の他方の面に形成された光散乱部１８０の面積は、視認側から見て光拡散部１４１の基材側の面積よりも広く、かつ光射出端面１４１ｂと対向する基材３９の他方の面側を覆うように形成されているので、光射出端面１４１ｂから出射される光を確実に散乱することができ、光拡散特性をより向上させることができる。そして、視認側からの光（外光）は、光散乱部１８０が形成されていない領域では、遮光部１４０によって吸収されるので、外光の散乱を抑制することができ、視認性が良好となる。つまり、本実施形態の視野角拡大部材１０６は、背面側からの光の光拡散特性と、視認側からの光の反射散乱の特性を両立することができる。
【０１０８】
なお、第１実施形態及び第２実施形態においては、光硬化樹脂８１で構成された塗膜８５を露光することによって光散乱部１８０を得る場合について説明したが、インクジェット法や印刷法を用いて基材３９の他方の面の所定の位置に光散乱部を形成しても良い。
【０１０９】
なお、第２実施形態においては、視認側から見て、光散乱部の基材と接する側の形状が円形の場合について説明したが、円形に限られるわけではなく、例えば、四角形、長方形、十字型などの形状であっても良い。
【０１１０】
〔第３実施形態〕
次に、本発明の第３実施形態について、説明する。なお、視野角拡大部材２０６以外の構成については、第１実施形態と同様の構成であるので、同一の構成のものについては同一の符号で記載し、詳細な説明を省略する。
【０１１１】
図１６は第３実施形態に係る表示装置２０１の断面の概略図であり、第１偏光板３と、液晶パネル４と、第２偏光板５と、視野角拡大部材２０６（光拡散部材）と、バックライト２とが示されており、視野角拡大部材６には光散乱部が形成されている。第１実施形態及び第２実施形態においては、遮光部４０、１４０と対向する領域の少なくとも一部には、光散乱部８０、１８０が形成されておらず、光拡散部４１、１４１と対向する基材の他方の面側の領域を覆う光散乱部８０、１８０を形成する場合について説明した。しかしながら、第３実施形態においては、遮光部や光拡散部と対応するように視野角拡大部材２０６が形成されていない。つまり第３実施形態において、光散乱部２８０は、遮光部や光拡散部の配置とは関係なく、基材３９の他方の面側に部分的に形成される構成とされている。
【０１１２】
図１７に、基材の法線方向から見たカラーフィルター３１（Ｒ，Ｂ、Ｇ）と光散乱部２８０の配置を示す。なお、図１７〜図２０においては、光散乱部が実線で示され、カラーフィルターが鎖線で示されている。
光散乱部２８０は、図１７に示すように、各々のカラーフィルター３１（Ｒ，Ｂ、Ｇ）の上方に光散乱部２８０の孔２８３が複数配置される構成とされている。この孔２８３の直径は、カラーフィルターの幅（図１７において左右方向の寸法）よりも小さく設定されている。
第３実施形態の視野角拡大部材２０６は、例えば、基材３９の他方の面に粘着シートを貼り付け、上記のような光散乱部１８０のシートを貼り付けることによって、得ることができる。なお、インクジェット法や印刷法を用いて、このような光散乱部１８０を基材３９の他方の面に形成することもできる。
【０１１３】
第３実施形態に係る視野角拡大部材２０６によれば、基材３９の他方の面に光散乱部２８０が形成されているので、背面側からの光を光散乱部２８０で散乱し、視野角特性を向上させることができる。また、光散乱部２８０には、孔が形成されているので、視認側からの光（外光）の散乱を抑制することができ、視認性を良好にすることができる。
【０１１４】
一般に、ストライプや格子等のような規則性のあるパターン同士を重ね合わせた場合、各パターンの周期が僅かにずれると、干渉縞模様（モアレ）が視認されることが知られている。例えば複数の光拡散部がマトリクス状に配列された視野角拡大部材と複数の画素がマトリクス状に配列された液晶パネルとを重ね合わせたとすると、視野角拡大部材の光拡散部による周期パターンと液晶パネルの画素による周期パターンとの間でモアレが発生し、表示品位を低下させるおそれがあるが、このように光散乱部２８０を形成することでモアレの発生を抑制することができる。
【０１１５】
〔第３実施形態の変形例１〕
次に、第３実施形態の変形例１について、図１８を用いて説明する。
図１８に、基材３９の法線方向から見たカラーフィルター３１（Ｒ，Ｂ、Ｇ）と光散乱部３８０の配置を示す。第３実施形態の変形例１においては、図１８に示すように、複数の光散乱部３８０が島状に形成されている。各々の光散乱部３８０の直径は、カラーフィルター３１（Ｒ、Ｂ、Ｇ）の幅よりも狭く設定されている。このような構成にすることによって、基材３９の他方の面に形成された光散乱部３８０で背面側からの光を散乱し、視野角特性を向上させることができる。また、光散乱部３８０は点在して形成されているので、視認側からの光（外光）が遮光部４０に吸収されて散乱を抑制することができ、視認性を良好にすることができる。さらには、このような光散乱部３８０を形成することによって、視認側に干渉縞模様（モアレ）の発生を抑制することができる。
【０１１６】
〔第３実施形態の変形例２〕
次に、第３実施形態の変形例２について説明する。
図１９に、基材３９の法線方向から見たカラーフィルター３１（Ｒ，Ｂ、Ｇ）と光散乱部４８０の配置を示す。第３実施形態の変形例２においては、図１９に示すように、複数の光散乱部４８０が一方向に延材して形成されている。変形例２においては、この光散乱部４８０はカラーフィルター３１（Ｒ、Ｂ、Ｇ）の延材する方向（図１９において上下方向）に形成されている。また、各々の光散乱部４８０の幅（図１９において左右方向の幅）は、カラーフィルター３１の幅よりも狭く設定されている。このような構成にすることによって、基材３９の他方の面に形成された光散乱部４８０で背面側からの光を散乱し、視野角特性を向上させることができる。また、光散乱部４８０は点在して形成されているので、視認側からの光（外光）が遮光部４０に吸収されて散乱を抑制することができ、視認性を良好にすることができる。
【０１１７】
〔第３実施形態の変形例３〕
次に、第３実施形態の変形例３について説明する。
図２０に、基材３９の法線方向から見たカラーフィルター３１（Ｒ，Ｂ、Ｇ）と光散乱部５８０の配置を示す。第３実施形態の変形例３においては、図２０に示すように、複数の光散乱部５８０がカラーフィルター３１（Ｒ、Ｂ、Ｇ）の延材する方向（図２０において上下方向）と交差する方向に形成されている。また、各々の光散乱部５８０の幅（光散乱部５８０が延在する方向と直交する方向の幅）は、カラーフィルター３１の幅よりも狭く設定されている。このような構成にすることによって、基材３９の他方の面に形成された光散乱部５８０で背面側からの光を散乱し、視野角特性を向上させることができる。また、光散乱部５８０は点在して形成されているので、視認側からの光（外光）が遮光部４０に吸収され散乱を抑制することができ、視認性を良好にすることができる。さらには、このような光散乱部５８０を形成することによって、視認側に（モアレ）の発生を抑制することができる。
【０１１８】
第３実施形態の変形例２の表示装置では、図２１に示すように、一方向に延材する光散乱部４８０ａが隣接するカラーフィルター３１同士の間の隙間（ブラックマトリクス）に配置されて、視認側から見て特定のカラーフィルター３１（画素）にのみ光散乱部材の形成領域が大きくなることがある。例えば、図２１においては、左端のカラーフィルター３１（Ｒ）には光散乱部４８０ａは一つ配置されているが、右端のカラーフィルター３１（Ｇ）には、光散乱部４８０ａが二つ配置されている。このような場合は、表示装置を正面から見るとその特定のカラーフィルター３１（画素）から射出される光が弱く見えることになる。
一方、変形例３に示すように、光散乱部５８０がカラーフィルター３１の延材する方向と交差する方向に配置した場合は、各々の光散乱部５８０はブラックマトリクスのみに配置されることがなく、変形例２の場合よりも、各カラーフィルター３１の上方の領域を占める光散乱部５８０の割合をより一定にすることができ、視認側に射出されるＲ、Ｇ、Ｂの光をより均一にし、表示を良好にできる。
【０１１９】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば上記実施形態では、表示体として液晶表示装置の例を挙げたが、これに限ることなく、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ等に本発明を適用しても良い。
【０１２０】
また、上記実施形態では、視野角拡大部材を液晶パネルの第２偏光板上に接着する例を示したが、視野角拡大部材と液晶パネルとは必ずしも接触していなくても良い。例えば、視野角拡大部材と液晶パネルとの間に他の光学フィルムや光学部品等が挿入されていても良い。あるいは、視野角拡大部材と液晶パネルとが離れた位置にあっても良い。また、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ等の場合には偏光板が不要であるため、視野角拡大部材と偏光板とが接触することはない。
【０１２１】
その他、光拡散部や遮光部の配置や形状、視野角拡大部材の各部の寸法や材料、製造プロセスにおける製造条件等に関する具体的な構成は上記実施形態に限ることなく、適宜変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明は、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ等の各種表示装置に利用可能である。
【符号の説明】
【０１２３】
Ｆ１  拡散光
Ｆ２  紫外光
１、２０１  液晶表示装置（表示装置）
４  表示体（液晶パネル）
６、１０６、２０６  視野角拡大部材（光拡散部材）
３１  カラーフィルター（画素）
３９  基材
４０、１４０  遮光部
４１、１４１  光拡散部
４１ａ、１４１ａ  光入射端面
４１ｂ、１４１ｂ  光射出端面
４３  中空部
８０、１８０、２８０、３８０、４８０、４８０ａ、５８０  光散乱部
８１  光硬化樹脂
８２  散乱体
８３  孔
【図１】
2014021147.tif 000003
【図２】
2014021147.tif 000004
【図３】
2014021147.tif 000005
【図４】
2014021147.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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