(57)【要約】【課題】封止材に発生するしわの進行を抑制し、気泡の侵入を防ぐことができ、製造しやすい構造である液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び電子機器を提供する。【解決手段】シール材１３は、少なくとも一箇所に、液晶を注入する開口である液晶注入口１４が形成され、アレイ基板ＡＲは、液晶注入口１４の両側部の近傍に、積層された金属配線または絶縁膜の少なくとも１つで形成され、外周から内側に向かう方向に延在し、カラーフィルタ基板ＣＦ側に凸の第１の凸部１Ａが、少なくとも１つ形成され、カラーフィルタ基板ＣＦは、第１の凸部１Ａに対向する位置に、積層されたカラーフィルタまたは保護層の少なくとも１つで形成され、アレイ基板ＡＲ側に凸の第２の凸部２Ａが少なくとも１つ形成されている。【選択図】図６
2014178373.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属配線及び絶縁膜が積層され、表面に凹凸を備えている第１の基板と、
前記第１の基板と対向して配置され、カラーフィルタ及び保護層が積層された第２の基板と、
前記第１の基板と対向して配置される前記第２の基板との間に液晶が充填された液晶層と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間、かつ、前記第１の基板と前記第２の基板との外周に配置され、前記液晶を封止するシール材と、を備え、
前記シール材は、前記外周の少なくとも一箇所に、前記液晶を注入する開口である液晶注入口が形成され、
前記第１の基板は、前記液晶注入口の両側部の近傍に、積層された前記金属配線または前記絶縁膜の少なくとも１つで形成され、前記外周から内側に向かう方向に延在し、前記第２の基板側に凸の第１の凸部が、少なくとも１つ形成され、
前記第２の基板は、前記第１の凸部に対向する位置に、積層された前記カラーフィルタまたは前記保護層の少なくとも１つで形成され、前記第１の基板側に凸の第２の凸部が、少なくとも１つ形成されている液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１の基板は、透明基板と、
前記透明基板に積層された、ゲート電極を形成する金属膜である第１の金属膜と、
前記第１の金属膜及び前記透明基板に積層され、前記第１の金属膜を絶縁する絶縁膜と、
前記第１の金属膜及び前記絶縁膜に積層された半導体層と、
前記絶縁膜及び前記半導体層に積層され、ソース電極またはドレイン電極の少なくとも一方を形成する金属膜である第２の金属膜と、
前記半導体層及び前記第２の金属膜に積層されたパッシベーション膜と、を有し、
前記第１の凸部は、
前記絶縁膜と、
前記半導体層と、
前記パッシベーション膜と、
を含む請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１の金属膜と、
前記金属膜である第２の金属膜と、をさらに有する請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１の凸部は、前記パッシベーション膜の前記第２の凸部と対向する面に凹部が形成される請求項２または３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１の基板は、前記第１の凸部が複数形成され、
前記第１の凸部の液晶注入方向の内側の端部に、隣接する前記第１の凸部との間の空間を塞ぐ連絡部が形成され、
前記第２の基板は、前記第２の凸部が複数形成され、
前記第２の凸部の液晶注入方向の内側の端部に、隣接する前記第２の凸部との間の空間を塞ぐ連絡部が形成される請求項１から４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
液晶表示装置を備える電子機器であって、
前記液晶表示装置は、
金属配線及び絶縁膜が積層され、表面に凹凸を備えている第１の基板と、
前記第１の基板と対向して配置され、カラーフィルタ及び保護層が積層された第２の基板と、
前記第１の基板と対向して配置される前記第２の基板との間に液晶が充填された液晶層と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間、かつ、前記第１の基板と前記第２の基板との外周に配置され、前記液晶を封止するシール材と、を備え、
前記シール材は、前記外周の少なくとも一箇所に、前記液晶を注入する開口である液晶注入口が形成され、
前記第１の基板は、前記液晶注入口の両側部の近傍に、積層された前記金属配線または前記絶縁膜の少なくとも１つで形成され、前記外周から内側に向かう方向に延在し、前記第２の基板側に凸の第１の凸部が、少なくとも１つ形成され、
前記第２の基板は、前記第１の凸部に対向する位置に、積層された前記カラーフィルタまたは前記保護層の少なくとも１つで形成され、前記第１の基板側に凸の第２の凸部が少なくとも１つ形成されている電子機器。
【請求項７】
金属配線及び絶縁膜が積層され、表面に凹凸を備えている第１の基板と、前記第１の基板と対向して配置され、カラーフィルタ及び保護層が積層された第２の基板と、前記第１の基板と対向して配置される前記第２の基板との間に液晶が充填された液晶層と、前記第１の基板と前記第２の基板との間、かつ、前記第１の基板と前記第２の基板との外周に配置され、少なくとも一箇所に前記液晶を注入する開口である液晶注入口が形成された前記液晶を封止するシール材と、を備える液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造方法であって、
基板に前記金属配線及び前記絶縁膜を積層し、前記第１の基板を作成する第１基板製造工程と、
基板に前記カラーフィルタ及び前記保護層を積層し、前記第２の基板を作成する第２基板製造工程と、を有し、
前記第１基板製造工程は、前記液晶注入口の両端部近傍に、前記金属配線または前記絶縁膜の少なくとも１つを積層して、前記外周から内側に向かう方向に延在し、前記第２の基板側に凸の第１の凸部を少なくとも１つ形成し、
前記第２基板製造工程は、前記第２の基板の前記第１の凸部に対向する位置に、前記カラーフィルタまたは前記保護層の少なくとも１つを積層して、前記第１の基板側に凸の第２の凸部を少なくとも１つ形成する液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、電子機器及び液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、基板と基板との間に液晶が充填され、当該基板で発生する電界を制御することで液晶の挙動を制御している。液晶表示装置の製造方法としては、シール材の一部に液晶注入口を形成し、この液晶注入口から液晶を注入後、液晶注入口に封止材を充填して封止する技術が開示されている（特許文献１参照）。また、特許文献１には、シール材の液晶注入口の端部に外側に向けて折り返し部を形成することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１７０２３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載されているように、シール材の液晶注入口の端部に外側に向けて折り返し部を形成することで、封止材にしわ状の変容（以下、単にしわという）が生じ、そこから気泡が侵入することを抑制することができる。
【０００５】
ここで、近年では、液晶表示装置を効率よく生産するため等により、マザー基板（マザーガラス）を用いた製造時に液晶表示装置となるパネル同士の間隔を狭くすることが検討されている。このように、液晶表示装置となるパネル同士の間隔つまり空きスペースが少ない場合、シール材による折り返し部を形成する間隔がないため、液晶注入口に折り返し部を形成することができない、または形成しても十分な機能をはたすことができないため、封止材にしわが生じ、表示領域側に進行し、表示領域に気泡が侵入する恐れがある。
【０００６】
本開示は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、封止材に発生するしわの進行を抑制し、気泡の侵入を防ぐことができ、製造しやすい構造である液晶表示装置、電子機器及び液晶表示装置の製造方法を提供することを目的する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の液晶表示装置は、金属配線及び絶縁膜が積層され、表面に凹凸を備えている第１の基板と、前記第１の基板と対向して配置され、カラーフィルタ及び保護層が積層された第２の基板と、前記第１の基板と対向して配置される前記第２の基板との間に液晶が充填された液晶層と、前記第１の基板と前記第２の基板との間、かつ、前記第１の基板と前記第２の基板との外周に配置され、前記液晶を封止するシール材と、を備え、前記シール材は、前記外周の少なくとも一箇所に、前記液晶を注入する開口である液晶注入口が形成され、前記第１の基板は、前記液晶注入口の両側部の近傍に、積層された前記金属配線及び前記絶縁膜の少なくとも１つで形成され、前記外周から内側に向かう方向に延在し、前記第２の基板側に凸の第１の凸部が、少なくとも１つ形成され、前記第２の基板は、前記第１の凸部に対向する位置に、積層された前記カラーフィルタ及び前記保護層の少なくとも１つで形成され、前記第１の基板側に凸の第２の凸部が少なくとも１つ形成されているものである。
【０００８】
本開示の電子機器は、上記液晶表示装置を備えたものであり、例えば、テレビジョン装置、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、ビデオカメラあるいは携帯電話等の携帯端末装置などが該当する。
【０００９】
本開示の液晶表示装置の製造方法は、金属配線及び絶縁膜が積層され、表面に凹凸を備えている第１の基板と、前記第１の基板と対向して配置され、カラーフィルタ及び保護層が積層された第２の基板と、前記第１の基板と対向して配置される前記第２の基板との間に液晶が充填された液晶と、前記第１の基板と前記第２の基板との間、かつ、前記第１の基板と前記第２の基板との外周に配置され、少なくとも一箇所に前記液晶を注入する開口である液晶注入口が形成された前記液晶を封止するシール材と、を備える液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造方法であって、基板に前記金属配線及び前記絶縁膜を積層し、前記第１の基板を作成する第１基板製造工程と、基板に前記カラーフィルタ及び前記保護層を積層し、前記第２の基板を作成する第２基板製造工程と、を有し、前記第１基板製造工程は、前記液晶注入口の両端部近傍に、前記金属配線または前記絶縁膜の少なくとも１つを積層して、前記外周から内側に向かう方向に延在し、前記第２の基板側に凸の第１の凸部を少なくとも１つ形成し、前記第２基板製造工程は、前記第２の基板の前記第１の凸部に対向する位置に、前記カラーフィルタまたは前記保護層の少なくとも１つを積層して、前記第１の基板側に凸の第２の凸部を少なくとも１つ形成するものである。
【発明の効果】
【００１０】
本開示の液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び電子機器によれば、封止材に発生するしわの進行を抑制し、気泡の侵入を防ぐことができ、製造しやすい構造とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、実施形態１に係る液晶表示装置の平面図である。
【図２】図２は、実施形態１に係る液晶表示装置における１サブ画素を示した平面図である。
【図３】図３は、図２においてＡ−Ａで示す断面における断面図である。
【図４】図４は、第１の凸部を示した平面図である。
【図５】図５は、第２の凸部を示した平面図である。
【図６】図６は、図４，５のＢ−Ｂで示す断面における断面図である。
【図７】図７は、封止材に生ずるしわの様子を示した模式図である。
【図８】図８は、アレイ基板の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図９】図９は、カラーフィルタ基板の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図１０】図１０は、実施形態１に係る液晶表示装置が分断される前のマザー基板におけるアレイ基板を示した平面図である。
【図１１】図１１は、実施形態１に係る液晶表示装置の変形例を示した平面図である。
【図１２】図１２は、図１１においてＣ−Ｃで示す断面における断面図である。
【図１３】図１３は、実施形態２に係る液晶表示装置の第１の凸部及び第２の凸部の断面図である。
【図１４】図１４は、実施形態３に係る液晶表示装置の第１の凸部及び第２の凸部の断面図である。
【図１５】図１５は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１６】図１６は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１７】図１７は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１８】図１８は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１９】図１９は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２０】図２０は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２１】図２１は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２２】図２２は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２３】図２３は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２４】図２４は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２５】図２５は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２６】図２６は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本開示を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本開示が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施形態（液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法）
１−１．実施形態１
１−２．実施形態２
１−３．実施形態３
２．適用例（電子機器）
上記実施形態に係る液晶表示装置が電子機器に適用されている例
３．本開示の構成
【００１３】
＜１−１．実施形態１＞
［構成例］
（液晶表示装置１１）
以下、本発明に係る液晶表示装置の実施形態１について説明する。実施形態１に係る液晶表示装置１１Ａにおける要部周辺の構成について説明する。実施形態１に係る液晶表示装置１１Ａは、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）型の薄膜トランジスタＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いたＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードで作動するものである。
【００１４】
［液晶表示装置の構成］
まず、実施形態１の液晶表示装置の構成について説明する。図１は、実施形態１に係る液晶表示装置の平面図である。図２は、実施形態１に係る液晶表示装置における１サブ画素を示した平面図である。図２において、両矢印Ｒはラビング方向を示している。図３は、図２においてＡ−Ａで示す断面における断面図である。図４は、第１の凸部を示した平面図である。ここで、図４においては、図１において矢印Ｚで示した部分を示している。また、図４において、矢印Ｐは液晶注入方向を示している。図５は、第２の凸部を示した平面図である。図５において、矢印Ｐは液晶注入方向を示している。図６は、図４，５のＢ−Ｂで示す断面における断面図である。図７は、封止材に生ずるしわの様子を示した模式図である。
【００１５】
液晶表示装置１１Ａは、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦが対向して配置されている。また、液晶表示装置１１Ａは、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦとの間にシール材１３が配置され、シール材１３により接着されている。また、シール材１３は、画像を表示する領域である表示領域１２を囲むように配置されている。液晶表示装置１１Ａは、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦとシール材１３により囲われた空間に液晶が注入されている。ここで、液晶表示装置１１Ａは、シール材１３に液晶表示装置１１Ａ内に液晶を注入するための注入口である液晶注入口１４が形成されている。液晶注入口１４は、封止材１５により封止されている。
【００１６】
液晶表示装置１１Ａは、図１に示すように、液晶注入口１４から矢印Ｐで示す方向に液晶が注入される。そして、液晶の注入後、液晶表示装置１１Ａの液晶注入口１４に、封止材１５が充填される。これにより、液晶表示装置１１Ａは、注入された液晶がシール材１３と封止材１５とアレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦにより封止される。これにより、液晶表示装置１１Ａは、液晶層ＬＣがアレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦで挟持される。
【００１７】
次に、図２及び図３を用いて、液晶表示装置１１Ａの表示領域１２の積層構造について説明する。液晶表示装置１１Ａは、表示領域１２に行方向及び列方向に複数個整列した画素を有しており、１画素は、例えば、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の３色表示のサブ画素で構成され、これらの色の光の混色によって各画素の色が定められる。図２に示すように、アレイ基板ＡＲのサブ画素１６には、Ｘ軸方向に延在する、例えば、アルミニウムやモリブデン等の不透明な金属からなる走査線１７と、Ｙ軸方向に延在する、例えば、アルミニウムやモリブデン等の不透明な金属からなる信号線１８と、走査線１７と信号線１８の交差部近傍に配置される薄膜トランジスタＴＦＴとを備えている。
【００１８】
図２及び図３に示すように、アレイ基板ＡＲは、透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチック等からなる第１の透明基板１９を基体としている。第１の透明基板１９の表面には、走査線１７が形成されている。この走査線１７からは、ゲート電極Ｇが延設されている。すなわち、走査線１７とゲート電極Ｇは、アルミニウムやモリブデン等の不透明な金属膜（以下、第１の金属膜２０という）により形成されている。
【００１９】
第１の金属膜２０の表面には、第１の金属膜２０を覆うように、窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明なゲート絶縁膜２２が積層されている。また、平面視でゲート電極Ｇと重なるゲート絶縁膜２２の表面には、ａ−Ｓｉからなる半導体層２１が形成されている。また、ゲート絶縁膜２２の表面には、アルミニウムやモリブデン等の金属からなる複数の信号線１８が形成されている。この信号線１８からは、ソース電極Ｓが延設され、このソース電極Ｓは、半導体層２１の表面と部分的に接触している。
【００２０】
さらに、信号線１８及びソース電極Ｓと同一の材料で同時に形成されたドレイン電極Ｄがゲート絶縁膜２２の表面に設けられており、このドレイン電極Ｄはソース電極Ｓと近接配置されて半導体層２１の表面と部分的に接触している。すなわち、信号線１８及びソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄは、アルミニウムやモリブデン等の不透明な金属膜（以下、第２の金属膜２３という）により形成されている。そして、ゲート電極Ｇ、ゲート絶縁膜２２、半導体層２１、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄは、スイッチング素子となる薄膜トランジスタＴＦＴを構成し、それぞれのサブ画素１６においてこの薄膜トランジスタＴＦＴが形成されている。
【００２１】
さらに、第２の金属膜２３及びゲート絶縁膜２２の表面には、第２の金属膜２３及びゲート絶縁膜２２の露出部分を覆うように、例えば、窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明なパッシベーション膜２６が積層されている。パッシベーション膜２６の表面には、パッシベーション膜２６を覆うように、例えば、フォトレジスト等の透明樹脂材料からなる層間樹脂膜２７が積層されている。
【００２２】
層間樹脂膜２７の表面には、層間樹脂膜２７を覆うように、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ないし、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電性材料からなる下電極２８が形成されている。層間樹脂膜２７及びパッシベーション膜２６には、層間樹脂膜２７とパッシベーション膜２６を貫通してドレイン電極Ｄに達する画素電極用のコンタクトホール２９が形成されている。そして、下電極２８とドレイン電極Ｄは、コンタクトホール２９を介して電気的に接続されている。これにより、下電極２８は、画素電極として作動する。
【００２３】
下電極２８の表面には、下電極２８を覆うように、例えば、窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明な無機絶縁膜３０が積層されている。また、無機絶縁膜３０の表面には、無機絶縁膜３０を覆うように、ＩＴＯ、ないし、ＩＺＯ等の透明導電性材料からなる上電極３１が形成されている。この上電極３１は、表示領域１２の周辺部でコモン配線（図示せず）に接続されており、共通電極として作動する。
【００２４】
上電極３１には、複数のスリット状の開口部３２が形成されている。また、上電極３１の表面には、上電極３１を覆うようにポリイミドからなる第１配向膜（図示省略）が積層されている。第１配向膜には、図２におけるＹ軸方向（信号線１８の延在方向と略平行な方向）に液晶方向配向処理、すなわち、ラビング処理が施されている。
【００２５】
上電極３１には、開口部３２が信号線１８の延在方向に延在する「く」字状に形成され、等間隔で複数本形成されている（図２参照）。サブ画素１６は、縦長であるため、開口部３２を横方向に延在させると開口部３２の両端の数が多くなる。この開口部３２の端部は、液晶分子の異常配向領域となる。そこで、実施形態１に係る液晶表示装置１１Ａにおいては、図２に示すように、開口部３２の延在方向をＹ軸方向にすることにより、開口部３２の端部の数を少なくし、開口率の低下を低減している。
【００２６】
開口部３２の延在方向は、ラビング方向に対して約＋５度及び約−５度傾斜している。全ての開口部３２をラビング方向に対して時計方向、あるいは、反時計方向に傾くようにすると、液晶分子が一方向にねじれるため、視角方向によって色が変化する現象が現れる。これは、液晶分子を見る方向によって、見かけのリタデーションが変化するためである。これを低減するために、実施形態１に係る液晶表示装置１１Ａにおいて、開口部３２の延在方向が時計方向に対して約＋５度傾くドメインと、約−５度傾くドメインを設けている。
【００２７】
カラーフィルタ基板ＣＦは、透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチック等からなる第２の透明基板３３を基体としている。第２の透明基板３３の表面には、走査線１７、信号線１８及び薄膜トランジスタＴＦＴに対向する位置に遮光性を有する樹脂からなるブラックマトリクス層３４が形成される。また、第２の透明基板３３の表面には、サブ画素１６毎に異なる色の光（例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂ、あるいは、無色）を透過するカラーフィルタ層３５が形成されている。
【００２８】
そして、ブラックマトリクス層３４及びカラーフィルタ層３５を覆うようにして、例えば、フォトレジスト等の透明樹脂材料からなるオーバーコート層（保護層）３６が積層されている。サブ画素１６のオーバーコート層３６は、異なる色のカラーフィルタ層３５による段差を平坦にしている。また、サブ画素１６のオーバーコート層３６は、ブラックマトリクス層３４やカラーフィルタ層３５から流出する不純物が液晶層ＬＣに入らないように遮断している。そして、オーバーコート層３６の表面には、オーバーコート層３６を覆うように、例えば、ポリイミドからなる第２配向膜（図示省略）が形成されている。この第２配向膜には、第１配向膜とは逆方向のラビング処理が施されている。
【００２９】
上述の構成により、サブ画素１６では、薄膜トランジスタＴＦＴがＯＮ状態になると、下電極２８と上電極３１との間に電界が発生し、液晶層ＬＣの液晶分子の配向が変化する。これにより、液晶層ＬＣの光透過率が変化してＦＦＳモードで画像を表示することとなる。また、下電極２８と上電極３１が無機絶縁膜３０を挟んで対向する領域は、補助容量を形成し、薄膜トランジスタＴＦＴがＯＦＦ状態になったときに下電極２８と上電極３１との間の電界を所定時間保持する。
【００３０】
次に、実施形態１に係る液晶表示装置１１Ａの要部、具体的には、液晶注入口１４の周辺の構成について説明する。液晶表示装置１１Ａは、図４に示すように、液晶注入口１４の両側部の近傍において、アレイ基板ＡＲにそれぞれ３つの凸部（以下、第１の凸部１Ａという）が配置される。つまり、シール材１３の一方の端部１３ａの近傍において、アレイ基板ＡＲに３つの第１の凸部１Ａが形成されている。また、第１の凸部１Ａは、シール材１３で囲われた領域の外側に形成されている。第１の凸部１Ａは、カラーフィルタ基板ＣＦ側に凸となる形状である。第１の凸部１Ａは、液晶注入方向が長手方向となる形状であり、液晶注入方向に直交する方向に列状に配置されている。液晶注入方向とは、液晶注入口１４の端部と端部を結んだ線に直交する方向である。ここで、実施形態１では、液晶注入口１４の両側部の近傍にそれぞれ３つの第１の凸部１Ａを形成する構成を例に説明するが、数は特に限定されない。第１の凸部１Ａは、一方の端部に２つ又は４つ以上形成してもよいし、１つのみ形成することも可能である。
【００３１】
また、図５に示すように、カラーフィルタ基板ＣＦには、アレイ基板ＡＲに形成された第１の凸部１Ａに対向して凸部（以下、第２の凸部２Ａという）が形成されている。第２の凸部２Ａは、第１の凸部１Ａと対応する形状に形成されている。第２の凸部２Ａは、アレイ基板ＡＲ側に凸となる形状である。
【００３２】
次に、図６を用いて、第１の凸部１Ａと第２の凸部２Ａの構造について説明する。図６に示すように、第１の凸部１Ａは、表示領域１２においてゲート電極Ｇを形成する第１の金属膜２０と、ゲート絶縁膜２２と、半導体層２１と、表示領域１２においてソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄを形成する第２の金属膜２３と、パッシベーション膜２６が積層されている。また、第２の凸部２Ａは、ブラックマトリクス層３４と、カラーフィルタ層３５と、オーバーコート層３６と、スペーサー３７と、が積層されている。
【００３３】
ここで、液晶表示装置１１Ａの額縁をより短くし、シール材１３により折り返し部を形成する間隔が得られず、図７に示すように、液晶注入口１４に折り返し部を形成しない構成とすると、封止材１５に生じたしわＷが、矢印Ｍで示すように表示領域１２側に進行し、表示領域１２に気泡が侵入する可能性がある。
【００３４】
これに対して、液晶表示装置１１Ａは、第１の凸部１Ａと第２の凸部２Ａとを設けることで、製造時に封止材１５が液晶注入方向と直交する方向に移動することを抑制することができ、しわＷの進行を抑制することができる。これにより、しわＷの進行が抑制された液晶表示装置１１Ａとすることができ、しわに伴って発生する気泡が表示領域１２への侵入することを抑制することができる。また、液晶表示装置１１Ａは、シール材１３の折り返し部を設けなくても、しわＷの進行を抑制することができるため、シール材１３の外側の範囲を狭くすることができる。これにより、パネル外形を小さくすることができ、製造時に１つのマザー基板からより多くのパネルを製造することができる。
【００３５】
また、液晶表示装置１１Ａは、表示領域１２を形成する際に積層する各部を、第１凸部１Ａと第２凸部２Ａを形成する領域に積層することで、第１凸部１Ａと第２凸部２Ａを形成している。これにより、第１凸部１Ａと第２凸部２Ａとを設けるために、新たなプロセスを設けなくても、形成することができる。また、液晶表示装置１１Ａは、第１凸部１Ａを、第１の金属膜２０と、ゲート絶縁膜２２と、半導体層２１と、第２の金属膜２３と、パッシベーション膜２６とを積層して形成している。これにより、オーバーコート層３６を設けない液晶表示装置としても、工程数を増やすことなく、好適に第１の凸部１Ａを形成することができる。また、液晶表示装置１１Ａは、第１の凸部１Ａに第１の金属膜２０と第２の金属膜２３を含むことで、第１の凸部１Ａをより高くすることができ、第１の凸部１Ａと第２の凸部２Ａとにより形成されるアレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦの間の間隔を狭くすることができる。
【００３６】
ここで、本実施形態の液晶表示装置１１Ａは、第２の凸部２Ａは、第１の凸部１Ａの幅とほぼ同じ幅である。ここで、幅は、上面から見た場合の短手方向、つまり液晶注入方向に直交する方向の長さである。このように、第１の凸部１Ａと第２の凸部２Ａとを、同じ幅とすることで、第１の凸部１Ａと第２の凸部２Ａとによりアレイ基板ＡＲ側とカラーフィルタ基板ＣＦ側との間隔が狭められる領域を、形成した第１の凸部１Ａに対してもっとも広くすることができる。これにより、液晶注入方向と直行する方向における第１の凸部１Ａ及び第２の凸部２Ａを形成するスペースを効率よく利用することができる。
【００３７】
［液晶表示装置の製造方法］
次に、実施形態１の液晶表示装置の製造方法について説明する。図８は、アレイ基板の製造方法の一例を示すフローチャートである。図８に示すように、液晶表示装置の製造方法は、第１の透明基板１９の表面に、ゲート電極Ｇをなす第１の金属膜２０を形成する（ステップＳ１１）。このとき、液晶表示装置の製造方法は、第１の凸部１Ａを形成する領域にも第１の金属膜２０を形成する。次に、液晶表示装置の製造方法は、第１の透明基板１９及び第１の金属膜２０の表面に、ゲート絶縁膜２２を形成する（ステップＳ１２）。このとき、液晶表示装置の製造方法は、第１の凸部１Ａを形成する領域にもゲート絶縁膜２２を形成する。次に、液晶表示装置の製造方法は、ゲート絶縁膜２２の表面に、半導体層２１を形成する（ステップＳ１３）。このとき、液晶表示装置の製造方法は、第１の凸部１Ａを形成する領域にも半導体層２１を形成する。次に、液晶表示装置の製造方法は、半導体層２１及びゲート絶縁膜２２の表面に、第２の金属膜２３を形成する（ステップＳ１４）。このとき、液晶表示装置の製造方法は、第１の凸部１Ａを形成する領域にも第２の金属膜２３を形成する。次に、液晶表示装置の製造方法は、半導体層２１及び第２の金属膜２３の表面に、パッシベーション膜２６を形成する（ステップＳ１５）。このとき、液晶表示装置の製造方法は、第１の凸部１Ａを形成する領域にもパッシベーション膜２６を形成する。次に、液晶表示装置の製造方法は、パッシベーション膜２６の表面に、層間樹脂膜２７を形成する（ステップＳ１６）。次に、液晶表示装置の製造方法は、第２の金属膜２３、パッシベーション膜２６及び層間樹脂膜２７の表面に、下電極２８を形成する（ステップＳ１７）。次に、液晶表示装置の製造方法は、層間樹脂膜２７及び下電極２８の表面に、無機絶縁膜３０を形成する（ステップＳ１８）。最後に、液晶表示装置の製造方法は、無機絶縁膜３０の表面に、上電極３１を形成する（ステップＳ１９）。
【００３８】
また、図９は、カラーフィルタ基板の製造方法の一例を示すフローチャートである。図９に示すように、はじめに、第２の透明基板３３の表面に、ブラックマトリクス層３４を形成する（ステップＳ２１）。このとき、液晶表示装置の製造方法は、第２の凸部２Ａを形成する領域にもブラックマトリクス層３４を形成する。次に、第２の透明基板３３及びブラックマトリクス層３４の表面に、カラーフィルタ層３５を形成する（ステップＳ２２）。このとき、液晶表示装置の製造方法は、第２の凸部２Ａを形成する領域にもカラーフィルタ層３５を形成する。次に、ブラックマトリクス層３４及びカラーフィルタ層３５の表面に、オーバーコート層３６を形成する（ステップＳ２３）。このとき、液晶表示装置の製造方法は、第２の凸部２Ａを形成する領域にもオーバーコート層３６を形成する。最後に、オーバーコート層３６の表面に、支持構造を形成する（ステップＳ２４）。
【００３９】
図１０は、実施形態１に係る液晶表示装置が分断される前のマザー基板におけるアレイ基板を示した平面図である。本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、図８及び図９の工程でそれぞれ、１枚のマザー基板１０に複数個の液晶表示装置１１Ａのアレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦを形成する。液晶表示装置の製造方法は、製造したアレイ基板ＡＲのマザー基板１０と、カラーフィルタ基板ＣＦのマザー基板（図示省略）とを、間にシール材１３を設けつつ、貼り合わせる。
【００４０】
これにより、図１０に示すように、縦２個×横２個の４個の液晶表示装置１１Ａに対応する積層された１枚のマザー基板１０が形成される。なお、実施形態１では、理解しやすいように１枚のマザー基板１０から４個製造する場合としたが、実際には、より多くの個数分の液晶表示装置１１Ａのパネルを同時に製造することができる。
【００４１】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法は、図１０に示したスクライブラインＳＣに沿って、カッターホイールを移動させることにより、溝を形成し、応力を加えることによってマザー基板１０の切断を行う。これにより、１つの液晶表示装置１１Ａに対応するアレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦとがシール材１３で接着された積層体が製造される。その後、シール材１３が開いている部分である液晶注入口１４から液晶を注入し、その後、液晶注入口１４を封止材１５で封止することで、液晶表示装置１１Ａ（液晶パネル）を製造することができる。液晶表示装置１１Ａは、さらに必要に応じて、制御装置を接続したり、バックライトを積層したり、筐体にはめ込んだりすることで、製造される。
【００４２】
上述したように、実施形態１に係る液晶表示装置１１Ａの製造方法においては、第１の凸部１Ａ及び第２の凸部２Ａは、アレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦの積層工程において形成する。このため、アレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦの積層工程以後の工程において別途第１の凸部１Ａ及び第２の凸部２Ａを形成する工程を追加する必要がない。したがって、第１の凸部１Ａ及び第２の凸部２Ａを配置する場合であっても、アレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦの積層工程以後の工程に変更等の影響を与えることを回避することができる。また、シール材１３の折り返し部を設けない構造であるため、より表示領域１２に近い位置をスクライブラインＳＣとすることができる。これにより、１枚のマザー基板１０からより多くの液晶表示装置１１Ａを製造することができる。
【００４３】
（実施形態１の変形例）
図１１は、実施形態１に係る液晶表示装置の変形例を示した平面図である。図１２は、図１１においてＣ−Ｃで示す断面における断面図である。実施形態１の変形例に係る液晶表示装置１１ＡＡにおいては、実施形態１において形成した３つの第１の凸部１Ａに、さらに、第１の凸部１Ａの液晶注入方向における端部において、図１１に示すように、アレイ基板ＡＲ側の各第１の凸部１Ａを連絡する連絡部１Ａａを形成した。図１２に示すように、連絡部１Ａａは、第１の凸部１Ａの液晶注入方向の内側の端部に、隣接する第１の凸部１Ａとの間の空間を塞ぐように形成されている。そして、連絡部１Ａａは、アレイ基板ＡＲの第１の透明基板１９上にゲート絶縁膜２２とパッシベーション膜２６のみが形成された部分（図６参照）より高く形成されている。つまり、連絡部１Ａａは、第１の凸部１Ａと同じ高さに形成してもよい。この連絡部１Ａａは、第１の凸部１Ａと同様に、アレイ基板ＡＲの積層工程において同時に形成される。なお、連絡部１Ａａは、第１の凸部１Ａと同様に第１の金属膜２０、半導体層２１及び第２の金属膜２３を含む構成としてもよいが、第１の金属膜２０及び第２の金属膜２３を含まない構成としてもよい。また、カラーフィルタ基板ＣＦ側にも、アレイ基板ＡＲ側と同様に、各第２の凸部２Ａを連絡する連絡部（図示省略）を形成する。
【００４４】
実施形態１の変形例に係る液晶表示装置１１ＡＡによれば、しわＷが液晶注入方向と直交する方向に第１の凸部１Ａを乗り越えて進行した場合であっても、連絡部１ＡａによってしわＷの液晶注入方向への進行を止めることで、しわＷが表示領域１２側に進行することを抑制することができる。したがって、実施形態１の変形例に係る液晶表示装置１１ＡＡによれば、封止材１５の液晶注入方向における移動を妨げ、しわＷ（図１１参照）の表示領域１２側への進行をより確実に抑制することができ、表示領域１２への気泡の侵入を防ぐことができる。
【００４５】
＜１−２．実施形態２＞
以下、本発明に係る液晶表示装置の実施形態２について説明する。ここで、実施形態１で説明したものと同じ構成要素には同一の符号を付すこととし、重複する説明については省略することとする。図１３は、実施形態２に係る液晶表示装置の第１の凸部及び第２の凸部の断面図である。図１３では、図４及び図５にＢ−Ｂで示す断面に相当する位置の断面図を示している。図１３に示すように、第１の凸部１Ｂは、ゲート絶縁膜２２と、半導体層２１と、パッシベーション膜２６とを備えている。また、第２の凸部２Ｂは、第２の透明基板３３上に形成された、ブラックマトリクス層３４と、カラーフィルタ層３５と、オーバーコート層３６と、スペーサー３７とを備えている。
【００４６】
上述したように、実施形態２に係る液晶表示装置１１Ｂは、第１の凸部１Ｂが金属膜を含んでいない。このため、図１０に示したスクライブラインＳＣにおいてマザー基板１０を切断したときに金属膜の破片が生じることがない。したがって、金属膜の破片が表示領域１２側に異物として混入することを防ぐことができる。また、第１の凸部１Ｂに金属膜が含まれている場合、図１０に示したスクライブラインＳＣにおいてマザー基板１０を切断するときに、金属膜により切断しにくくなることが考えられる。しかしながら、実施形態２に係る液晶表示装置１１Ｂにおいては、第１の凸部１Ｂは金属膜を含んでいないため、図１０に示したスクライブラインＳＣにおいてマザー基板１０を容易に切断することができる。
【００４７】
なお、実施形態２に係る第１の凸部１Ｂと実施形態１に係る第１の凸部１Ａを、液晶注入方向と直行する方向に向かって交互に形成することとしてもよい。この場合、複数形成されるそれぞれの第１の凸部１Ａ，１Ｂと第２の凸部２Ａ，２Ｂとにより、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦとの間に間隔の広い部分と狭い部分が形成される。この構造により、封止材１５が液晶注入方向と直交する方向に移動する際に収縮と膨張を繰り返すこととなるため、このことが封止材１５の移動を妨げる抵抗となる。したがって、実施形態２に係る液晶表示装置１１Ｂによれば、封止材１５の液晶注入方向と直交する方向における移動を妨げ、しわＷの進行をより一層抑制することができ、表示領域１２への気泡の侵入を防ぐことができる。
【００４８】
＜１−３．実施形態３＞
以下、本発明に係る液晶表示装置の実施形態３について説明する。ここで、実施形態１及び２で説明したものと同じ構成要素には同一の符号を付すこととし、重複する説明については省略することとする。図１４は、実施形態３に係る液晶表示装置の第１の凸部及び第２の凸部の断面図である。図１４では、図４及び図５にＢ−Ｂで示す断面に相当する位置の断面図を示している。図１４に示すように、第１の凸部１Ｃは、ゲート絶縁膜２２と、半導体層２１と、パッシベーション膜２６とを備えている。また、第２の凸部２は、第２Ｃの透明基板３３上に形成された、ブラックマトリクス層３４と、カラーフィルタ層３５と、オーバーコート層３６と、スペーサー３７とを備えている。
【００４９】
実施形態３に係る液晶表示装置１１Ｃは、パッシベーション膜２６が、パッシベーション膜２６のスペーサー３７と対向する部分に、半導体層２１が露出するように凹部３が形成されている。すなわち、第１の凸部１Ｃは、第２の凸部２Ｃと対向する面に凹部３が形成されている。この凹部３は、アレイ基板ＡＲの積層工程において、表示領域１２のパッシベーション膜２６を形成するパターニングにより、パッシベーション膜２６をドライエッチング等により除去することにより形成される。なお、図１４では、凹部３は、パッシベーション膜２６を全て除去した場合を例として記載されているが、パッシベーション膜２６が若干残る程度に除去して形成してもよい。
【００５０】
上述したように、実施形態３に係る液晶表示装置１１Ｃは、一組の第１の凸部１Ｃと第２の凸部２Ｃとにより、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦとの間に間隔の広い部分と狭い部分が形成される。この構造により、一組の第１の凸部１Ｃと第２の凸部２Ｃとの間において封止材１５が液晶注入方向と直交する方向に移動する際に収縮と膨張を繰り返すこととなるため、このことが封止材１５の移動を妨げる抵抗となる。したがって、実施形態３に係る液晶表示装置１１Ｃによれば、封止材１５の液晶注入方向と直交する方向における移動を妨げ、しわＷの進行をより一層抑制することができ、表示領域１２への気泡の侵入を防ぐことができる。
【００５１】
以上、いくつかの実施形態及び変形例を挙げて実施形態を説明したが、本開示はこれらの実施形態等には限定されず、種々の変形が可能である。
【００５２】
＜２．適用例＞
次に、図１５〜図２６を参照して、実施形態及び変形例で説明した液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃの適用例について説明する。図１５〜図２６は、本実施形態に係る液晶表示装置を適用する電子機器の一例を示す図である。実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃは、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなどのあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。言い換えると、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃは、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
【００５３】
（適用例１）
図１５に示す電子機器は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃが適用されるテレビジョン装置である。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル５１１及びフィルターガラス５１２を含む映像表示画面部５１０を有しており、この映像表示画面部５１０は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃである。
【００５４】
（適用例２）
図１６及び図１７に示す電子機器は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃが適用されるデジタルカメラである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部５２１、表示部５２２、メニュースイッチ５２３及びシャッターボタン５２４を有しており、その表示部５２２は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃである。
【００５５】
（適用例３）
図１８に示す電子機器は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃが適用されるビデオカメラの外観を表すものである。このビデオカメラは、例えば、本体部５３１、この本体部５３１の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ５３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ５３３及び表示部５３４を有している。そして、表示部５３４は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃである。 
【００５６】
（適用例４）
図１９に示す電子機器は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃが適用されるノート型パーソナルコンピュータである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５４１、文字等の入力操作のためのキーボード５４２及び画像を表示する表示部５４３を有しており、表示部５４３は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃである。 
【００５７】
（適用例５）
図２０〜図２６に示す電子機器は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃが適用される携帯電話機である。この携帯電話機は、例えば、上側筐体５５１と下側筐体５５２とを連結部（ヒンジ部）５５３で連結したものであり、ディスプレイ５５４、サブディスプレイ５５５、ピクチャーライト５５６及びカメラ５５７を有している。そのディスプレイ５５４またはサブディスプレイ５５５は、実施形態１、２、３及び変形例に係る液晶表示装置１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃである。 
【００５８】
＜３．本開示の構成＞
また、本開示は、以下の構成をとることもできる。
（１）
金属配線及び絶縁膜が積層され、表面に凹凸を備えている第１の基板と、
前記第１の基板と対向して配置され、カラーフィルタ及び保護層が積層された第２の基板と、
前記第１の基板と対向して配置される前記第２の基板との間に液晶が充填された液晶層と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間、かつ、前記第１の基板と前記第２の基板との外周に配置され、前記液晶を封止するシール材と、を備え、
前記シール材は、前記外周の少なくとも一箇所に、前記液晶を注入する開口である液晶注入口が形成され、
前記第１の基板は、前記液晶注入口の両側部の近傍に、積層された前記金属配線または前記絶縁膜の少なくとも１つで形成され、前記外周から内側に向かう方向に延在し、前記第２の基板側に凸の第１の凸部が、少なくとも１つ形成され、
前記第２の基板は、前記第１の凸部に対向する位置に、積層された前記カラーフィルタまたは前記保護層の少なくとも１つで形成され、前記第１の基板側に凸の第２の凸部が、少なくとも１つ形成されている液晶表示装置。
（２）
前記第１の基板は、透明基板と、
前記透明基板に積層された、ゲート電極を形成する金属膜である第１の金属膜と、
前記第１の金属膜及び前記透明基板に積層され、前記第１の金属膜を絶縁する絶縁膜と、
前記第１の金属膜及び前記絶縁膜に積層された半導体層と、
前記絶縁膜及び前記半導体層に積層され、ソース電極またはドレイン電極の少なくとも一方を形成する金属膜である第２の金属膜と、
前記半導体層及び前記第２の金属膜に積層されたパッシベーション膜と、を有し、
前記第１の凸部は、
前記絶縁膜と、
前記半導体層と、
前記パッシベーション膜と、
を含む前記（１）に記載の液晶表示装置。
（３）
前記第１の金属膜と、
前記金属膜である第２の金属膜と、をさらに有する前記（２）に記載の液晶表示装置。
（４）
前記第１の凸部は、前記パッシベーション膜の前記第２の凸部と対向する面に凹部が形成される前記（２）または前記（３）に記載の液晶表示装置。
（５）
前記第１の基板は、前記第１の凸部が複数形成され、
前記第１の凸部の液晶注入方向の内側の端部に、隣接する前記第１の凸部との間を埋める連絡部が形成され、
前記第２の基板は、前記第２の凸部が複数形成され、
前記第２の凸部の液晶注入方向の内側の端部に、隣接する前記第２の凸部との間を埋める連絡部が形成される前記（１）から前記（４）のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
（６）
液晶表示装置を備える電子機器であって、
前記液晶表示装置は、
金属配線及び絶縁膜が積層され、表面に凹凸を備えている第１の基板と、
前記第１の基板と対向して配置され、カラーフィルタ及び保護層が積層された第２の基板と、
前記第１の基板と対向して配置される前記第２の基板との間に液晶が充填された液晶層と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間、かつ、前記第１の基板と前記第２の基板との外周に配置され、前記液晶を封止するシール材と、を備え、
前記シール材は、前記外周の少なくとも一箇所に、前記液晶を注入する開口である液晶注入口が形成され、
前記第１の基板は、前記液晶注入口の両側部の近傍に、積層された前記金属配線または前記絶縁膜の少なくとも１つで形成され、前記外周から内側に向かう方向に延在し、前記第２の基板側に凸の第１の凸部が、少なくとも１つ形成され、
前記第２の基板は、前記第１の凸部に対向する位置に、積層された前記カラーフィルタまたは前記保護層の少なくとも１つで形成され、前記第１の基板側に凸の第２の凸部が少なくとも１つ形成されている電子機器。
（７）
金属配線及び絶縁膜が積層され、表面に凹凸を備えている第１の基板と、前記第１の基板と対向して配置され、カラーフィルタ及び保護層が積層された第２の基板と、前記第１の基板と対向して配置される前記第２の基板との間に液晶が充填された液晶層と、前記第１の基板と前記第２の基板との間、かつ、前記第１の基板と前記第２の基板との外周に配置され、少なくとも一箇所に前記液晶を注入する開口である液晶注入口が形成された前記液晶を封止するシール材と、を備える液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造方法であって、
基板に前記金属配線及び前記絶縁膜を積層し、前記第１の基板を作成する第１基板製造工程と、
基板に前記カラーフィルタ及び前記保護層を積層し、前記第２の基板を作成する第２基板製造工程と、を有し、
前記第１基板製造工程は、前記液晶注入口の両端部近傍に、前記金属配線または前記絶縁膜の少なくとも１つを積層して、前記外周から内側に向かう方向に延在し、前記第２の基板側に凸の第１の凸部を少なくとも１つ形成し、
前記第２基板製造工程は、前記第２の基板の前記第１の凸部に対向する位置に、前記カラーフィルタまたは前記保護層の少なくとも１つを積層して、前記第１の基板側に凸の第２の凸部を少なくとも１つ形成する、液晶表示装置の製造方法。
【符号の説明】
【００５９】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ  第１の凸部
１Ａａ  連絡部
２Ａ，２Ｂ，２Ｃ  第２の凸部
３  凹部
１０  マザー基板
１１Ａ，１１ＡＡ，１１Ｂ，１１Ｃ  液晶表示装置
１２  表示領域
１３  シール材
１４  液晶注入口
１５  封止材
１６  サブ画素
１７  走査線
１８  信号線
１９  第１の透明基板
２０  第１の金属膜
２１  半導体層
２２  ゲート絶縁膜
２３  第２の金属膜
２６  パッシベーション膜
２７  層間樹脂膜
２８  下電極
２９  コンタクトホール
３０  無機絶縁膜
３１  上電極
３２  開口部
３３  第２の透明基板
３４  ブラックマトリクス層
３５  カラーフィルタ層
３６  オーバーコート層
３７  スペーサー
ＡＲ  アレイ基板
ＣＦ  カラーフィルタ基板
Ｇ  ゲート電極
Ｓ  ソース電極
Ｄ  ドレイン電極
ＳＣ  スクライブライン
ＴＦＴ  薄膜トランジスタ
Ｗ  しわ
【図１】
2014178373.tif 000003
【図２】
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【図３】
2014178373.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014178373.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
2014178373.tif 000020
【図１９】
2014178373.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
2014178373.tif 000024
【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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