(57)【要約】【課題】透光性微粒子を含有する塗工層に鋳型ロールの表面形状を転写して光学フィルムを製造する方法において、線状欠陥の発生が抑制された製造方法を提供する。【解決手段】透明基材フィルムに、活性エネルギー線硬化型樹脂と、少なくとも１種類の透光性微粒子とを含む塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程と、透明基材フィルムおよび塗工層を備える積層体を、透明基材フィルム側からニップロールにより加圧して塗工層を鋳型ロールの表面に押し当てた状態で活性エネルギー線を照射して硬化層を形成する硬化工程と、を有し、塗工液は、活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対して、透光性微粒子を２０重量部以上６０重量部以下含有し、ニップロールの表面硬度が８０°以上である、光学フィルムの製造方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムに、活性エネルギー線硬化型樹脂と、少なくとも１種類の透光性微粒子とを含む塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程と、
前記透明基材フィルムおよび前記塗工層を備える積層体を、前記透明基材フィルム側からニップロールにより加圧して前記塗工層を鋳型ロールの表面に押し当てた状態で活性エネルギー線を照射して硬化層を形成する硬化工程と、を有し、
前記塗工液は、前記活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対して、前記透光性微粒子を２０重量部以上６０重量部以下含有し、
前記ニップロールの表面硬度が８０°以上である、光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記硬化工程において、前記ニップロールによる加圧が０．２ＭＰａ以上１．２ＭＰａ以下である、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記硬化工程において、前記塗工層に前記鋳型ロールの凹凸面または平滑面である表面を押し当てて活性エネルギー線を照射する、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記硬化工程において、前記鋳型ロールの表面温度が１０℃以上３５℃以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記硬化工程において、前記活性エネルギー線を照射する直前の前記塗工層の粘度が、１４８０ｍＰａ・ｓ以上２２０００ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記硬化層の表面の中心線平均粗さＲａが１μｍ以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
防眩フィルムである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法により製造された光学フィルム。
【請求項８】
偏光フィルムと、請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法により製造された光学フィルムとが積層されている、偏光板。
【請求項９】
画像表示素子と、請求項８に記載の偏光板とを備え、
前記偏光板は前記偏光フィルムが前記画像表示素子側に位置するように前記画像素子上に配置されている、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基材フィルム上に活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する塗工液を塗工し、これを硬化させる光学フィルムの製造方法に関する。また本発明は、当該光学フィルムを用いた偏光板および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基材フィルム上に所定の光学機能を有する樹脂層をコーティングにより形成した光学フィルムは、たとえば、防眩フィルム、光拡散フィルム、ハードコートフィルムなどとして、液晶表示装置などの各種画像表示装置に利用されている。
【０００３】
一般に、光学フィルムが備える上記樹脂層は、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する塗工液を基材フィルム上に塗工し、得られた塗工層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより形成される。このとき、光学フィルムに要求される光学特性に応じて、塗工層表面に所望の形状を付与するために、光学フィルムをニップロールにより加圧して、塗工層表面を所定の表面形状を有する鋳型に押し当て、この状態で硬化させて製造する方法や、塗工層の光拡散性能を調整するために、塗工層中に透光性樹脂を分散させて製造する方法などがある。
【０００４】
たとえば、特開２００７−７６０８９号公報（特許文献１）には、紫外線硬化樹脂をフィルム支持体と凹凸表面を有する凹凸型ローラ間に介在させた状態で紫外線を照射し、該紫外線硬化樹脂を重合硬化した後に、該フィルム支持体及び該紫外線硬化樹脂を該凹凸型ローラより剥離する表面凹凸形状光学フィルムの製造方法が記載されている。なお、凹凸ローラと対向する位置には、支持部材としてのバックロールを配置することが記載されている。
【０００５】
また、特開２０１１−３４０７０号公報（特許文献２）には、基材フィルムと、透光性樹脂及び該透光性樹脂中に分散された透光性微粒子からなり、透光性樹脂１００重量部に対して透光性微粒子が２５重量部以上６０重量部以下で含有されている、光拡散フィルムが記載されている。このような光拡散フィルムによると、シンチレーションが生じることなく正面コントラストが高く、広い視野角を得ることができることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−７６０８９号公報
【特許文献２】特開２０１１−３４０７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１に記載の方法のように、鋳型ロールとニップロールとを対向させて鋳型ロールの表面形状を紫外線硬化樹脂に転写する方法において、ニップロールの表面に傷などの凹凸が存在すると、光学フィルムの樹脂層に線状の欠陥（以下、「線状欠陥」という）が発生することがあった。特に、透光性微粒子を含有する樹脂層に鋳型ロールの表面形状を転写する場合は線状欠陥が発生しやすかった。線状欠陥は、外観品質を低下させ、またかかる光学フィルムを用いた画像表示装置における画像品質の低下を生じさせる。
【０００８】
本発明は、透光性微粒子を含有する塗工層に鋳型ロールの表面形状を転写して光学フィルムを製造する方法において、線状欠陥の発生が抑制された製造方法、およびこのようにして製造された光学フィルムを備えた偏光板および画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記目的を達成するために、まず線状欠陥が生じるメカニズムを鋭意検討したところ、ニップロールの表面に傷（凹凸）があると、塗工層を鋳型ロールに押し当てたときにわずかな膜厚差が発生し、膜厚差に起因して透光性微粒子密度に違いが生じ、ヘイズ差が生じて、これが線状欠陥となって顕在化していることを突き止めた。そして、ニップロールの硬度を調整することにより、光学フィルムに生じる線状欠陥を抑制することができるとの知見に至った。本発明は、かかる知見に基づき、さらに種々の検討を加えて完成されたものである。すなわち、本発明は以下を含む。
【００１０】
〔１〕透明基材フィルムに、活性エネルギー線硬化型樹脂と、少なくとも１種類の透光性微粒子とを含む塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程と、
前記透明基材フィルムおよび前記塗工層を備える積層体を、前記透明基材フィルム側からニップロールにより加圧して前記塗工層を鋳型ロールの表面に押し当てた状態で活性エネルギー線を照射して硬化層を形成する硬化工程と、を有し、
前記塗工液は、前記活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対して、前記透光性微粒子を２０重量部以上６０重量部以下含有し、
前記ニップロールの表面硬度が８０°以上である、光学フィルムの製造方法。
【００１１】
〔２〕前記硬化工程において、前記ニップロールによる加圧が０．２ＭＰａ以上１．２ＭＰａ以下である、〔１〕に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１２】
〔３〕前記硬化工程において、前記塗工層に前記鋳型ロールの凹凸面または平滑面である表面を押し当てて活性エネルギー線を照射する、〔１〕または〔２〕に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１３】
〔４〕前記硬化工程において、前記鋳型ロールの表面温度が１０℃以上３５℃以下である、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【００１４】
〔５〕前記硬化工程において、前記活性エネルギー線を照射する直前の前記塗工層の粘度が、１４８０ｍＰａ・ｓ以上２２０００ｍＰａ・ｓ以下である、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【００１５】
〔６〕前記硬化層の表面の中心線平均粗さＲａが１μｍ以下である、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【００１６】
〔７〕防眩フィルムである、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の製造方法により製造された光学フィルム。
【００１７】
〔８〕偏光フィルムと、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の製造方法により製造された光学フィルムとが積層されている、偏光板。
【００１８】
〔９〕画像表示素子と、〔８〕に記載の偏光板とを備え、前記偏光板は前記偏光フィルムが前記画像表示素子側に位置するように前記画像素子上に配置されている、画像表示装置。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の製造方法によると、鋳型ロールの表面形状を塗工層に転写する際の線状欠陥の発生を有効に防止することができる。本発明により得られる光学フィルムは、偏光板や、画像表示装置に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の製造方法により得られる光学フィルムの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の光学フィルムを製造するための装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
［光学フィルムの製造方法］
本発明の光学フィルムの製造方法は、下記〔１〕，〔２〕の工程をこの順で含むものである。
【００２２】
〔１〕透明基材フィルムに、活性エネルギー線硬化型樹脂と、少なくとも１種類の透光性微粒子とを含む塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程、
〔２〕前記透明基材フィルムおよび前記塗工層を備える積層体を、前記透明基材フィルム側からニップロールにより加圧して前記塗工層を鋳型ロールの表面に押し当てた状態で活性エネルギー線を照射して硬化層を形成する硬化工程。
【００２３】
図１は、本発明の製造方法により得られる光学フィルムの一例を示す概略断面図である。図１に示されるように、本発明に係る光学フィルムは、透明基材フィルム１１上に、活性エネルギー線硬化型樹脂（硬化物）１３と透光性微粒子１４とを含む硬化層１２が積層されたものである。硬化層１２は、防眩機能を付与するなどの所望の目的に応じて表面凹凸１５（微細な表面凹凸など）を有していてもよく、あるいはその表面は平滑面であってもよい。なお、表面の中心線平均粗さＲａは１μｍ以下であることが好ましい。このような粗さの表面においては、線状欠陥が発生すると外観上および機能上の影響が大きく、したがって本発明による線状欠陥の抑制効果が顕著となるからである。
【００２４】
〔１〕塗工工程
本工程において、透明基材フィルムに、活性エネルギー線硬化型樹脂と、少なくとも１種類の透光性微粒子とを含む塗工液を塗工して、塗工層を形成する。
【００２５】
＜透明基材フィルム＞
透明基材フィルムとして１１は、実質的に光学的な透明性を有するフィルムであって、活性エネルギー線硬化型樹脂を含む塗工層を硬化させることができる活性エネルギー線を透過し、適度な機械強度と柔軟性を有するものであれば特に制限されるものではなく、各種の透明樹脂フィルムを用いることができる。具体的には、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースアセテートなどのセルロース系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートなどの（メタ）アクリル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレンなどの鎖状ポリオレフィン系樹脂；環状ポリオレフィン系樹脂；スチレン系樹脂；ポリサルフォン；ポリエーテルサルフォン；ポリ塩化ビニルなどからなるフィルムが例示される。以上の中でも、透明性、機械強度、熱安定性、低湿度透過性、等方性などの点からセルロースアセテート（とりわけトリアセチルセルロース）、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等からなるフィルムが好ましい。
【００２６】
透明基材フィルム１１の厚みは、２０μｍ以上２５０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以上１５０μｍ以下である。透明基材フィルム１１の厚みが２０μｍ未満である場合には、光学フィルムとしての十分な硬度を得ることが難しいことがある。また、透明基材フィルム１１の厚みが２５０μｍを上回ることは最近の画像表示装置の薄型化への要求およびコスト等の観点から好ましくない。光学フィルム全体の厚みを薄くする観点からは、透明基材フィルム１１の厚みは１５０μｍ以下、さらには１２０μｍ以下とするのがより好ましい。
【００２７】
塗工液の塗工性の改良または塗工層との接着性の改良を目的として、透明基材フィルム１１の表面（塗工層側表面）には、各種表面処理を施してもよい。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、酸表面処理、アルカリ表面処理、紫外線照射処理などが挙げられる。また、透明基材フィルム１１上に、たとえばプライマー層等の他の層を形成し、この他の層の上に、塗工液を塗工するようにしてもよい。
【００２８】
また、光学フィルムを、後述する偏光フィルムに接着して使用する場合には、基材フィルムと偏光フィルムとの接着性を向上させるために、基材フィルムの表面（塗工層とは反対側の表面）を各種表面処理によって親水化しておくことが好ましい。この表面処理は、光学フィルムの製造後に行なってもよい。
【００２９】
＜塗工液＞
塗工液は、活性エネルギー線硬化型樹脂と透光性微粒子を含有し、通常は、光重合開始剤（ラジカル重合開始剤）をさらに含む。必要に応じて、有機溶剤等の溶剤、レベリング剤、分散剤、帯電防止剤、防汚剤、界面活性剤等のその他の成分を含んでいてもよい。塗工液は、後述する硬化工程において、活性エネルギー線を照射する直前の塗工層の粘度が１４８０ｍＰａ・ｓ以上２２０００ｍＰａ・ｓ以下であり、３８００ｍＰａ・ｓ以上６５５０ｍＰａ・ｓ以下であるように調製されていることが好ましい。粘度が１４８０ｍＰａ・ｓを下回る場合、塗工層の流動性が高くなるため、ニップロール表面の傷が転写されやすくなり線状欠陥が強くなる。また、粘度が２２０００ｍＰａ・ｓを上回る場合、塗工層の流動性が低くなりすぎ、所望の表面形状が転写されず塗工層表面に気泡などが混入する虞がある。なお、このような粘度の調整は、塗工液の材料の調製により、または塗工層の雰囲気温度により行なうことができる。活性エネルギー線を照射する直前の塗工層の温度は、具体的には鋳型ロールの表面温度により調整することができる。
【００３０】
（活性エネルギー線硬化型樹脂）
活性エネルギー線硬化型樹脂は、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などであることができ、たとえば、多官能（メタ）アクリレート化合物を含有するものを好ましく用いることができる。多官能（メタ）アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物である。多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、たとえば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。
【００３１】
多価アルコールとしては、たとえば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２’−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールのような２価のアルコール；トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンのような３価以上のアルコールが挙げられる。
【００３２】
多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物として、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３３】
ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、１分子中に複数個のイソシアネート基を有するイソシアネートと、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体のウレタン化反応物を挙げることができる。１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の１分子中に２個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性した１分子中に３個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。
【００３４】
ポリエステル（メタ）アクリレート化合物として好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレートである。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールとしては前述した化合物と同様のものが例示できる。また、多価アルコール以外にも、フェノール類としてビスフェノールＡ等が挙げられる。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸、安息香酸等が挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物としては、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、トリメリット酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
【００３５】
以上のような多官能（メタ）アクリレート化合物の中でも、硬化物の強度向上や入手の容易性の点から、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のエステル化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；トリレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；アダクト変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；およびビウレット変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの付加体が好ましい。さらに、これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、それぞれ単独でまたは２種以上を併用して用いることができる。
【００３６】
活性エネルギー線硬化型樹脂は、上記の多官能（メタ）アクリレート化合物のほかに、単官能（メタ）アクリレート化合物を含有していてもよい。単官能（メタ）アクリレート化合物としては、たとえば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アセチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類を挙げることができる。これらの化合物はそれぞれ単独でまたは２種類以上を併用して用いることができる。
【００３７】
また、活性エネルギー線硬化型樹脂は重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、硬化物の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーは、たとえば、前記多官能（メタ）アクリレート化合物、すなわち、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物またはエポキシ（メタ）アクリレート等の２量体、３量体などのようなオリゴマーであることができる。
【００３８】
その他の重合性オリゴマーとしては、分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネートの重合物等が挙げられ、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであって、多価アルコールとして、たとえば、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等であるものが挙げられる。この少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールは、多価アルコールのアルコール性水酸基の一部が（メタ）アクリル酸とエステル化反応しているとともに、アルコール性水酸基が分子中に残存するものである。
【００３９】
さらに、その他の重合性オリゴマーの例として、複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物と、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物としては、前記多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレートで記載したものと同様のものが例示できる。また、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。
【００４０】
以上のような重合性オリゴマーに加えて、さらにウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの例として、水酸基含有ポリエステル、水酸基含有ポリエーテルまたは水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルの水酸基にイソシアネート類を反応させて得られる化合物が挙げられる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールや、複数のカルボキシル基を有する化合物および／またはその無水物としては、それぞれ、多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレート化合物で記載したものと同様のものが例示できる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエーテルは、多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドおよび／またはε−カプロラクトンを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルである。多価アルコールは、前記水酸基含有ポリエステルに使用できるものと同じものであってよい。好ましく用いられる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとしては、重合性オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。イソシアネート類としては、分子中に１個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ましく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの２価のイソシアネート化合物が特に好ましい。
【００４１】
これらの重合性オリゴマー化合物はそれぞれ単独でまたは２種以上を併用して用いることができる。
【００４２】
（透光性微粒子）
本発明の製造方法においては、塗工液に透光性微粒子を添加する。透光性微粒子を添加することにより、硬化層に内部ヘイズを付与しギラツキを低減することができ、あるいは防眩性を付与することができる。透光性微粒子としては、特に限定されるものではなく従来公知のものが使用できる。たとえば、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、有機シリコーン樹脂、アクリル−スチレン共重合体等からなる有機微粒子や、炭酸カルシウム、シリカ、酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ガラス等からなる無機微粒子などが挙げられる。有機重合体のバルーンやガラス中空ビーズを使用することもできる。これらの透光性微粒子は、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を混合して使用してもよい。透光性微粒子の形状は、球状、扁平状、板状、針状、不定形状等のいずれであってもよい。
【００４３】
透光性微粒子の粒子径や屈折率は特に制限されるものではないが、効果的に内部ヘイズあるいは防眩性を発現させるために、粒子径は０．５μｍ〜２０μｍの範囲であることが好ましい。また、効果的に内部ヘイズ発現させるために、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化後の屈折率と透光性微粒子の屈折率との差は０．０４〜０．１５の範囲であることが好ましい。透光性微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対して２０重量部以上６０重量部以下であり、好ましくは２５重量部以上５０重量部以下である。透光性微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対して２０重量部未満では、ギラツキ低減のための十分な内部ヘイズまたは防眩性が得られない。一方、６０重量部を超えると、光学フィルムの透明性が損なわれる場合があり、また、光学フィルムを液晶表示装置の視認側に配置した場合に、光散乱が強すぎるため、たとえば黒表示において、液晶パネルの正面方向に対して斜めに漏れ出してくる光が硬化層により正面方向へ強く散乱されてしまう等の理由によりコントラストが低下する場合がある。
【００４４】
（光重合開始剤）
光重合開始剤としては、たとえば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジアゾール系光重合開始剤などが用いられる。また、光重合開始剤として、たとえば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等も用いることができる。光重合開始剤の使用量は、活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対して、通常０．５〜２０重量部であり、好ましくは１〜５重量部である。
【００４５】
（レベリング剤、帯電防止剤、防汚剤）
塗工液には、平滑性を向上させるためのレベリング剤、帯電防止性を発現させるための帯電防止剤、防汚性を発現させたり耐指紋付着性を発現させたりするための防汚剤等を添加してもよい。これらの添加剤は、活性エネルギー線硬化型樹脂の重合反応を阻害するものや、重合反応後の硬度や透明基材フィルムへの密着性を低下させない限り特に制限されるものではなく、従来公知のものを用いることができる。
【００４６】
レベリング剤としては、炭化水素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などが挙げられる。シリコーン系界面活性剤からなるレベリング剤には、ジメチルポリシロキサンを含有するシリコーン系オリゴマーがある。その主成分を例示すると、ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン、ポリエステル変性ジメチルポリシロキサン、ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン、ポリエステル変性ジメチルポリシロキサン、ポリエーテル変性アクリロイル基を有するジメチルポリシロキサン、ポリエステル変性アクリロイル基を有するジメチルポリシロキサンなどが挙げられる。
【００４７】
（有機溶剤）
有機溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテル類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類などから、粘度等を考慮して選択して用いることができる。溶剤は、単独で用いてもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。塗工後は、上記有機溶剤を蒸発させる必要がある。そのため、沸点は６０℃〜１６０℃の範囲であることが望ましい。また、２０℃における飽和蒸気圧は０．１ｋＰａ〜２０ｋＰａの範囲であることが好ましい。
【００４８】
塗工液が溶剤を含む場合、上記塗工工程の後、硬化工程の前に、溶剤を蒸発させて乾燥を行なう乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は、たとえば、塗工層を備える基材フィルムを、乾燥炉内を通過させることによって行なうことができる。乾燥温度は、使用する溶剤や基材フィルムの種類により適宜選択される。一般に２０℃〜１２０℃の範囲であるが、これに限定されない。また、乾燥炉が複数ある場合は、乾燥炉毎に温度を変えてもよい。
【００４９】
（塗工方法）
塗工液の透明基材フィルム上への塗工方法は特に制限されるものではなく、公知の方法を適宜選択できる。具体的には、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ナイフコート法、スロットダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、スライドコート法、カーテンコート法、インクジェット法等が挙げられる。なかでも、塗工時の塗工液中への異物等の混入を極力防止する点から、スロットダイコート法は好ましい方法の１つである。塗工層を硬化して形成される硬化層の厚さが、５μｍ以上２０μｍ以下となるように塗工層が形成されることが好ましい。
【００５０】
〔２〕硬化工程
本工程において、透明基材フィルムおよび塗工層を備える積層体を、透明基材フィルム側からニップロールにより加圧して塗工層を鋳型ロールの表面に押し当てた状態で活性エネルギー線を照射して硬化層を形成する。
【００５１】
＜鋳型ロール＞
本工程で用いる鋳型ロールは、透明基材フィルム上に形成される硬化層に所望の形状を付与するためのものであり、当該所望の形状の転写構造からなる表面形状を有している。透明基材フィルム側からニップロールにより加圧して、塗工層の表面を該表面形状に押し当てた状態で塗工層を硬化させることにより、鋳型ロールの表面形状を硬化層表面に転写できる。鋳型ロールとしては、凹凸面である表面を有する鋳型（たとえばエンボスロール）および平滑面である表面を有する鋳型（たとえば鏡面ロール）を挙げることができる。
【００５２】
鋳型ロールの表面が凹凸面である場合において、凹凸形状のパターンは、規則的なパターンであってもよいし、ランダムパターン、あるいは特定サイズの１種類以上のランダムパターンを敷き詰めた、擬似ランダムパターンであってもよいが、表面形状に起因する反射光の干渉により、反射像が虹色に色づくことを防止する点から、ランダムパターンまたは擬似ランダムパターンであることが好ましい。
【００５３】
鋳型ロールの外形形状は、連続生産性の点から、鏡面ロールやエンボスロール等の、円柱状または円筒状の鋳型であることが好ましい。この場合、円柱状または円筒状の鋳型の側面に所定の表面形状が形成される。
【００５４】
鋳型ロールの基材の材質は特に制限されるものではなく、金属、ガラス、カーボン、樹脂、あるいはそれらの複合体から適宜選択できるが、加工性等の点から金属が好ましい。好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄、またはアルミニウムもしくは鉄を主体とする合金などが挙げられる。
【００５５】
鋳型ロールを得る方法としては、たとえば、基材を研磨し、サンドブラスト加工を施した後、無電解ニッケルめっきを施す方法（特開２００６−５３３７１号公報）；基材に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、クロムめっきを施す方法（特開２００７−１８７９５２号公報）；銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、エッチング工程または銅めっき工程を施し、ついでクロムめっきを施す方法（特開２００７−２３７５４１号公報）；基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、研磨された面に感光性樹脂膜を塗布形成し、該感光性樹脂膜上にパターンを露光した後、現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行ない、感光性樹脂膜を剥離し、さらにエッチング処理を行ない、凹凸面を鈍らせた後、形成された凹凸面にクロムめっきを施す方法；および旋盤等の工作機械を用いて、切削工具により鋳型となる基材を切削する方法（国際公開第２００７／０７７８９２号パンフレット）等が挙げられる。
【００５６】
ランダムパターンまたは擬似ランダムパターンからなる鋳型ロールの表面凹凸形状は、たとえば、ＦＭスクリーン法、ＤＬＤＳ（Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｌｏｗ−Ｄｉｓｃｒｅｐａｎｃｙ  Ｓｅｑｕｅｎｃｅ）法、ブロック共重合体のミクロ相分離パターンを利用する方法またはバンドパスフィルター法等によって生成されたランダムパターンを感光性樹脂膜上に露光、現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行なうことにより形成することができる。
【００５７】
本工程において、鋳型ロールの表面温度は、好ましくは１０℃以上３５℃以下であり、より好ましくは１０℃以上２５℃以下である。表面温度が３５℃より高い場合、塗工層の樹脂粘度が低下し、樹脂の流動性が高くなる。そのため、ニップロール表面の傷（凹凸）が転写されやすくなり、線状欠陥が発生しやすくなる。また、１０℃未満の場合、粘度の上昇およびロール表面の結露により、所望の表面形状が転写されず、塗工層表面に気泡が混入するおそれがある。
【００５８】
＜ニップロール＞
本発明で使用するニップロールは、透明基材フィルム上に設けられた塗工層に対して効果的に任意の表面形状を付与するため、樹脂塗工層の表面を、鋳型ロールに、透明基材フィルムの塗工層が設けられている面とは反対側の面から押し付けるものである。ニップロールの表面硬度は、ＪＩＳ−Ｋ６２５３で規定される硬度で８０°以上であり、好ましくは９０°以上であり、応力に対する耐圧縮永久歪み性に優れる材質であることが望ましい。表面硬度が８０°未満の場合、ニップロールの表面が凹みやすくなるため、フィルムシワの押し付けに起因する傷（凹凸）が発生しやすくなる。したがって、光学フィルム上に線状欠陥が発生しやすくなる。
【００５９】
また、ニップロールに傷が存在する場合であっても、８０°以上という高い硬度を有するニップロールを使用すると、塗工層を鋳型ロールにニップロールを用いて押し付けた際のニップロールの変形量が小さいため、ニップロールの傷の塗工層に及ぼす影響が小さくなり、線状欠陥の強度が抑制される。一方、硬度が８０°未満のニップロールを使用した場合には、ニップロールを押し付けた際のニップロールの変形量が大きいため、ニップロール上の傷が拡大されて塗工層に転写され、線状欠陥が発生しやすくなる。
【００６０】
ニップロールの表面材質として、たとえば、シリコンゴム（ＳＲ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、クロロスルフォン化ポリエチレン（ＣＳＭ）、アクリルニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、ウレタンゴム（Ｕ）、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＴ）、塩素化ポリエチレンゴム（ＣＰＥ）、フッ素ゴム（ＦＰＭ）、水素化二トリルゴム（ＨＮＢＲ）  、ブチルゴム（ＩＩＲ）、ハイパロンゴム（ＣＭＳ）、テフロン（登録商標）、ステンレス（ＳＵＳ）、その他金属などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
＜硬化方法＞
硬化方法として、透明基材フィルムと塗工層との積層体を、透明基材フィルム側からニップロールにより加圧して塗工層を鋳型ロールの表面に押し当てた状態で、透明基材フィルム側から塗工層に活性エネルギー線を照射して塗工層を硬化させる方法を採用する。ニップロールの使用は、塗工層と鋳型ロールとの間への気泡の混入を防止するうえで有効である。活性エネルギー線照射装置は、１機もしくは複数機を使用することができる。
【００６２】
ここで、ニップロールによる加圧は、０．２ＭＰａ以上１．２ＭＰａ以下であることが好ましく、０．２ＭＰａ以上１．０ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。ニップロールによる加圧が１．２ＭＰａを超える場合、ニップロール表面の傷（凹凸）が強く押し付けられるため、線状欠陥が発生しやすくなる。また、０．２ＭＰａ未満の場合、所望の表面形状が転写されず気泡などが混入するおそれがある。
【００６３】
活性エネルギー線としては、塗工液に含まれる活性エネルギー線硬化型樹脂の種類に応じて紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、これらの中で紫外線および電子線が好ましく、取り扱いが簡便で高エネルギーが得られることから紫外線が特に好ましい。
【００６４】
紫外線の光源としては、たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。これらの中でも、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンアーク、メタルハライドランプが好ましく用いられる。
【００６５】
また、電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【００６６】
活性エネルギー線が紫外線である場合、紫外線のＵＶＡにおける積算光量で、好ましくは４０ｍＪ／ｃｍ2以上２０００ｍＪ／ｃｍ2以下であり、より好ましくは７０ｍＪ／ｃｍ2以上１８００ｍＪ／ｃｍ2以下である。積算光量が４０ｍＪ／ｃｍ2未満である場合、塗工層の硬化が不十分となり、得られる樹脂層の硬度が低くなったり、未硬化の樹脂がガイドロール等に付着し、工程汚染の原因となったりする傾向がある。また、積算光量が２０００ｍＪ／ｃｍ2を超える場合、紫外線照射装置から放射される熱により、透明基材フィルムが収縮して皺の原因になることがある。鋳型ロールから剥離された後に、追加の活性エネルギー線照射を行なってもよい。
【００６７】
本発明により製造される光学フィルムは、偏光フィルムなど他の光学フィルムに貼り合わせて、液晶表示装置等の画像表示装置の最表面に適用することができる。他の光学フィルムとの貼合は、硬化層が最表面となるようになされる。
【００６８】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光フィルムと、該偏光フィルム上に積層される、上記本発明の方法によって製造された光学フィルムとを備えるものである。偏光フィルムは、入射光から直線偏光を取り出す機能を有するものであって、その種類は特に限定されない。好適な偏光フィルムの例として、ポリビニルアルコール系樹脂に二色性色素が吸着配向された偏光フィルムを挙げることができる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸ビニルのケン化物であるポリビニルアルコールのほか、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン／酢酸ビニル共重合体のケン化物などが挙げられる。二色性色素としては、ヨウ素または二色性の有機染料が用いられる。また、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルムも、偏光フィルムとなり得る。偏光フィルムの厚さは通常５〜８０μｍ程度である。
【００６９】
本発明の偏光板において、本発明の方法により製造された光学フィルムは偏光フィルム上に直接積層されていてもよいし、偏光フィルム上に積層された他の層（透明保護層など）を介して積層されていてもよい。前者の場合の好ましい実施形態として、偏光フィルムの一方の面に透明保護層が積層され、他方の面に本発明の方法により製造された光学フィルムが積層された形態を挙げることができる。この実施形態において、上記光学フィルムは、偏光フィルムの透明保護層としての機能も有する。上記光学フィルムは、その透明基材フィルム側で偏光フィルムに貼合される。光学フィルムの硬化層に表面凹凸形状が付与されている場合、この硬化層は防眩層としても機能し、かかる光学フィルムは防眩フィルムとしても機能する。
【００７０】
透明保護層は、透明樹脂フィルムを、接着剤等を用いて貼合する方法や樹脂含有塗工液を塗布する方法などによって積層できる。同様に、本発明の方法によって製造された光学フィルムは、接着剤等を用いて偏光フィルムに貼合することができる。
【００７１】
透明保護層は、透明性や機械強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものであることが好ましく、このようなものとしては、たとえば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースアセテートなどのセルロース系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートなどの（メタ）アクリル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレンなどの鎖状ポリオレフィン系樹脂；環状ポリオレフィン系樹脂；スチレン系樹脂；ポリサルフォン；ポリエーテルサルフォン；ポリ塩化ビニルなどからなるフィルムが例示される。
【００７２】
透明保護層の代わりに、あるいは透明保護層上に位相差フィルムを積層することもできる。位相差フィルムとは、光学異方性を示す光学フィルムであって、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリビニリデンフルオライド／ポリメチルメタクリレート、液晶ポリエステル、アセチルセルロース等のセルロース系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニルなどからなるフィルムを、たとえば１．０１〜６倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムなどが挙げられる。なかでも、ポリカーボネート系樹脂フィルムや環状ポリオレフィン系樹脂を一軸延伸または二軸延伸した延伸フィルムが好ましい。一軸性位相差フィルム、広視野角位相差フィルム、低光弾性率位相差フィルムなどと称されるものがあるが、いずれに対しても適用可能である。また、液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムや、無機層状化合物の塗布によって光学異方性を発現させたフィルムも、位相差フィルムとして用いることができる。このような位相差フィルムには富士写真フイルム（株）から“ＷＶフィルム”の商品名で販売されている円盤状液晶が傾斜配向したフィルムなどがある。なお、本発明の偏光板は、上述の低反射膜を光学フィルムの硬化層上に有していてもよい。
【００７３】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の方法によって製造された光学フィルムまたは本発明の偏光板を適用したものである。本発明の画像表示装置において、画像表示装置の種類は特に限定されず、上記液晶パネルを使用した液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のほか、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電解放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面伝導型電子放出素子ディスプレイ（ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレイ、レーザーディスプレイ、プロジェクタテレビのスクリーン等が挙げられる。通常、本発明に係る光学フィルムは、これらのディスプレイの画像表示素子の視認側表面に配置されるが、液晶パネルのバックライト側に配置される場合のように、画像表示装置の内部に組み込まれてもよい。光学フィルムの硬化層を視認側に配した場合、硬化層は、外力に起因する傷等を防止するとともに、防眩層としても機能する場合にはギラツキや外光の映りこみを防止する。一方、硬化層をバックライト側に配した場合は、液晶ディスプレイの組立工程において発生し得る外力に起因する傷、たとえば拡散板等への接触に伴う傷を防止するとともに、防眩層としても機能する場合には、バックライトから液晶パネルに入射する光に対して、モアレ等を防止する拡散板の役割を果たす。
【００７４】
本発明の画像表示装置は、本発明に係る光学フィルムを備えたものであるため、傷付きが生じにくく、優れた強度を有する。
【００７５】
［光学フィルムの製造方法の実施形態］
図２は、本発明の光学フィルムを製造するための装置の一例を示す概略図である。まず、巻き出し装置１により透明基材フィルム１１が連続的に巻き出される。ついで、巻き出された透明基材フィルム１１上に、塗工装置２およびこれに対向するバックアップロール３を使用して、紫外線硬化型樹脂および透光性微粒子を含有する塗工液が塗工される。次に、乾燥機４を通過させることにより乾燥される。次に、塗工層が設けられた透明基材フィルム１１は、鏡面金属製ロールまたはエンボス加工用金属製ロール（鋳型ロール）５とニップロール６との間へ送られ、ニップロール６による加圧によりその塗工層が鏡面金属製ロールまたはエンボス加工用金属製ロール５と密着するように巻き掛けられる。これにより、塗工層の表面に鏡面金属製ロールの鏡面またはエンボス加工用金属製ロールの凹凸面が転写される。
【００７６】
ついで、透明基材フィルム１１が鏡面金属製ロールまたはエンボス加工用金属製ロール５に巻き掛けられた状態で、透明基材フィルム１１を通して、紫外線照射装置８から紫外線を照射することにより、塗工層を硬化させる。紫外線照射により照射面が高温になることから、鏡面金属製ロールまたはエンボス加工用金属製ロール５は、その表面温度を１０℃以上３５℃以下に調整するための冷却装置をその内部に備えることが好ましい。また、紫外線照射装置８は、１機、もしくは複数機を使用することができる。硬化層が設けられた透明基材フィルム１１（光学フィルム）は、剥離ロール７によって、鏡面金属製ロールまたはエンボス加工用金属製ロール５から剥離される。以上のようにして作製された光学フィルムは、巻き取り装置９へ巻き取られる。この際、塗工層を保護する目的で、再剥離性を有した粘着剤層を介して、塗工層表面にポリエチレンテレフタレートやポリエチレン等からなる保護フィルムを貼着しながら巻き取ってもよい。
【実施例】
【００７７】
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下の例における光学フィルムの全ヘイズ、塗工層の粘度の測定方法は次のとおりである。
【００７８】
（ａ）全ヘイズ
光学的に透明な粘着剤を用いて、光学フィルムを、その透明基材フィルム側でガラス基板に貼合した測定用サンプルを用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準拠したヘイズ透過率計（株式会社村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」）を用いて、全光線透過率（Ｔｔ）および拡散光線透過率（Ｔｄ）を測定した。全ヘイズは、
全ヘイズ（％）＝（Ｔｄ／Ｔｔ）×１００
により求められる。
【００７９】
（ｂ）塗工層の粘度
各光学フィルムの作製時に用いられる塗工液に含まれる粒子含有紫外線硬化型樹脂組成物の粘度を、各光学フィルムの製造時の鋳型ロールの表面温度と同じ温度において、Ｂ型粘度計（東機産業（株）製「ｖｉｓｃｏｍｅｔｅｒ  ＴＶＢ１０」）を用いて測定した。なお、このようにして測定した粒子含有紫外線硬化型樹脂組成物の粘度は、硬化工程における紫外線を照射する直前の塗工層の粘度とみなすことができる。
【００８０】
＜実施例１＞
（１）鋳型ロールの作製
直径３００ｍｍで内部に冷却水を循環させることによって温度調節が可能な冷却ロールに、表面微細凹凸形状を形成した後、最表面にクロムめっき加工を施すことによって、温度調節が可能なエンボスロールを作製した。このエンボスロールの表面粗さ；Ｒａは０．０８μｍであった。
【００８１】
（２）塗工液の調製
ペンタエリスリトールトリアクリレート（６０質量部）及び多官能ウレタン化アクリレート（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物、４０質量部）を混合し、紫外線硬化型樹脂組成物を得た。次に、該紫外線硬化性樹脂組成物の固形分１００質量部に対して、平均粒径が７．０μｍのポリスチレン系粒子を２５質量部と分散剤である「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６８」を２．５質量部加えたものを調整し、粒子含有紫外線硬化型樹脂組成物を得た。該粒子含有紫外線硬化型樹脂組成物に光重合開始剤である「ルシリン  ＴＰＯ」（化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド）を５質量部添加し、固形分率が６０％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して塗工液を調製した。
【００８２】
（３）光学フィルムの作製
図２に示す装置において、上記にて作製したエンボスロールを鋳型ロール５として用いて、光学フィルムを作製した。まず、塗工装置２により、上記にて調製した塗工液を、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（透明基材フィルム）上に塗工し、乾燥機４中で乾燥させた。乾燥後、塗工層の表面を鋳型ロール５に押し付けた。ここで、積層体を鋳型ロール５に押し付けるニップロール６として、その表面がＮＢＲ材質からなり、ＪＩＳ−Ｋ６２５３で規定される表面硬度が９０°であるニップロールを用いた。このとき、エンボスロールの表面温度を２５℃、ニップロールによる加圧（ニップ圧）を１．０ＭＰａとした。この状態で透明基材フィルム側より、紫外線照射装置８により紫外光を照射し塗工層を硬化させ、凹凸表面を有する厚さ１４μｍの硬化層を有する実施例１の光学フィルムを得た。
【００８３】
＜実施例２＞
図２に示す装置において、ニップロール６として、その表面がウレタン材質からなり、ＪＩＳ−Ｋ６２５３で規定される表面硬度が８０°であるニップロールを用いた点以外は、実施例１と同様にして実施例２の光学フィルムを得た。
【００８４】
＜実施例３＞
図２に示す装置において、鋳型ロール５の表面温度を３５℃にした点以外は、実施例１と同様にして実施例３の光学フィルムを得た。
【００８５】
＜実施例４＞ 
図２に示す装置において、ニップロール６による加圧（ニップ圧）を１．２ＭＰａとした点以外は、実施例１と同様にして実施例４の光学フィルムを得た。
【００８６】
＜比較例１＞ 
図２に示す装置において、ニップロール６として、その表面がＮＢＲ材質からなり、ＪＩＳ−Ｋ６２５３で規定される表面硬度が７５°であるニップロールを用いた点以外は、実施例１と同様にして比較例１の光学フィルムを得た。
【００８７】
＜評価＞
（線状欠陥評価）
各光学フィルムの硬化層における線状欠陥の発生状況について目視により観察し、以下の基準で評価した。表１に評価結果を示す。
Ａ：線状欠陥がほとんど観察されない。
Ｂ：線状欠陥が一部観察される。
Ｃ：強い線状欠陥が観察される。
【００８８】
【表１】
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【００８９】
表１に示すように、鋳型ロールへの押し付けに用いるニップロールの表面硬度が８０°以上である実施例では、光学フィルムの硬化層において強い線状欠陥は観察されなかった。
【符号の説明】
【００９０】
１  巻き出し装置、２  塗工装置、３  バックアップロール、４  乾燥機、５  鋳型ロール（鏡面金属製ロールまたはエンボス加工用金属製ロール）、６  ニップロール、７  剥離ロール、８  紫外線照射装置、９  巻き取り装置、１０  光学フィルム、１１  透明基材フィルム、１２  硬化層、１３  活性エネルギー線硬化型樹脂（硬化後）、１４  透光性微粒子、１５  凹凸表面。
【図１】
2014132291.tif 000004
【図２】
2014132291.tif 000005