(57)【要約】      （修正有）【課題】基板から有機金属化合物に基づくメタルハードマスクを除去するための方法の提供。【解決手段】除去するために適用される組成物は、少なくとも以下を含む：ａ）水；およびｂ）以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される少なくとも１つの化合物：ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）、ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）、またはｖ）これらの組み合わせからなる。前記メタルハード前記メタルハードマスクを構成している有機金属化合物は、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｃｏ，ＭｎまたはＺｎから選択される少なくも１つの金属を含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板から皮膜を除去する方法であって、該方法は、前記皮膜に組成物を適用することを含み、
前記組成物は、少なくとも以下を含む方法：
ａ）水；および
ｂ）以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される少なくとも１つの化合物：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）、
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）、または
ｖ）これらの組み合わせ。
【請求項２】
前記皮膜が有機金属皮膜である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記皮膜が、１つ以上の「金属−酸素−炭素」結合を含む、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記皮膜が、少なくとも１つの有機金属化合物を含む「組成物Ａ」から形成される、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つの有機金属化合物が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｃｏ、ＭｎまたはＺｎから選択される少なくとも１つの金属を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの有機金属化合物が、以下の化合物またはそれらの組み合わせ
から選択される請求項４または請求項５に記載の方法：
【化１２】
2014122319.tif 000019
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基；
式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９およびＲ２０は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）水素原子、
ｉｉ）炭化水素基、
ｉｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
【請求項７】
「組成物Ａ」が、少なくとも１つの「少なくとも１つのヒドロキシル基を含むモノマー」を重合形態で含むポリマーをさらに含む、請求項４から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記ポリマーが、前記ポリマーの重量に基づき１重量パーセント未満のケイ素を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物が、前記組成物の重量に基づき０．３重量パーセント以上の量で存在する、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記組成物が、成分ｃ）「水混和性」溶剤をさらに含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記組成物が、アルキレンオキシドを重合形態で含むポリマーをさらに含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記アルキレンオキシドが、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、またはこれらの組み合わせから選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記組成物が、３〜４のｐＨを有する、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
少なくとも以下を含む組成物：
ａ）水；および
ｂ）以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される少なくとも１つの化合物：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）、
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）、または
ｖ）これらの組み合わせ。
【請求項１５】
前記組成物が成分ｃ）「水混和性」溶剤をさらに含む、請求項１３に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の参照】
【０００１】
本願は、２０１２年１２月２０日出願の米国特許仮出願第６１／７３９，９９４号の利益を請求するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機金属化合物に基づくスピンオン混合メタルハードマスク（Spin-On Mixed Metal Hardmask）（ＳＯＭＭＨ）は、ポリマー状有機金属材料を含有するか、分子状有機金属材料を適切なポリマーバインダーと共に含有する。分子状有機金属材料を適切なポリマーバインダーと共に含有する場合、該ポリマーバインダーは、皮膜形成剤としての役割を果たし、硬化時に該分子状有機金属化合物を架橋網に連結させる。硬化ベークは、コート皮膜からの有機部分（一般にアルコール）の縮合により架橋反応を開始することができる。様々な量の有機材料が硬化ベーク後に皮膜内に残存する。電子皮膜の製造では、ＳＯＭＭＨプロセスの残留物を有効に除去する必要がある。皮膜、例えば無機および／またはポリマー皮膜、の除去用の組成物は、次の参考文献に開示されている：国際公開第２０１２／００９６３９号、同第２００９／０７３５９６号、同第２００８／０９８０３４号、同第２００８／０８００９７号、同第２００７／１２０２５９号、同第２００６／１１０６４５号、同第２００６／０５４９９６号および同第２００３／０９１３７６号。しかし、硬化した有機金属皮膜を除去するために用いることができる新たなプロセスおよび組成物が必要とされている。
【発明の概要】
【０００３】
本発明は、基板から皮膜を除去する方法を提供し、該方法は、皮膜に組成物を適用することを含み、
前記組成物は、少なくとも以下を含む：
ａ）水；および
ｂ）以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される少なくとも１つの化合物：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）、
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）、または
ｖ）これらの組み合わせ。
【０００４】
本発明は、少なくとも以下を含む組成物も提供する：
ａ）水；および
ｂ）以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される少なくとも１つの化合物：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）、
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）、または
ｖ）これらの組み合わせ。
【発明を実施するための形態】
【０００５】
上で論じたように、本発明は、基板から皮膜を除去する方法を提供し、該方法は、皮膜に組成物を適用することを含み、
前記組成物は、少なくとも以下を含む：
ａ）水；および
ｂ）以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される少なくとも１つの化合物：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）、
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）、または
ｖ）これらの組み合わせ。
【０００６】
一実施形態において、前記皮膜は、１つ以上の「金属−酸素−炭素」結合を含む。
【０００７】
一実施形態において、前記皮膜は、有機金属皮膜である。さらなる実施形態において、前記有機金属皮膜は、１つ以上の「金属−酸素−炭素」結合を含む。
【０００８】
一実施形態において、前記基板は、炭素を含む。
【０００９】
一実施形態において、前記基板は、ケイ素およびさらに酸化ケイ素を含む。
【００１０】
一実施形態において、前記基板は、無機誘電体（例えば、酸化ケイ素および／または窒化ケイ素）、有機反射防止コーティング（例えば、ＢＡＲＣ材料）、または炭素下層を含む。
【００１１】
一実施形態において、前記基板は、無機誘電体（例えば、酸化ケイ素および／または窒化ケイ素）、有機反射防止コーティング（例えば、ＢＡＲＣ材料）、または炭素下層から選択される。
【００１２】
一実施形態において、前記基板は、無機誘電体（例えば、酸化ケイ素および／または窒化ケイ素）、または有機反射防止コーティング（例えば、ＢＡＲＣ材料）を含む。
【００１３】
一実施形態において、前記基板は、無機誘電体（例えば、酸化ケイ素および／または窒化ケイ素）、または有機反射防止コーティング（例えば、ＢＡＲＣ材料）から選択される。
【００１４】
一実施形態において、前記基板は、無機誘電体（例えば、酸化ケイ素および／または窒化ケイ素）を含む。
【００１５】
一実施形態において、前記基板は、無機誘電体（例えば、酸化ケイ素および／または窒化ケイ素）から選択される。
【００１６】
一実施形態において、前記基板は、有機反射防止コーティング（例えば、ＢＡＲＣ材料）を含む。
【００１７】
一実施形態において、前記基板は、有機反射防止コーティング（例えば、ＢＡＲＣ材料）から選択される。
【００１８】
一実施形態において、前記基板は、炭素下層を含む。
【００１９】
一実施形態において、前記基板は、炭素下層から選択される。
【００２０】
本発明は、少なくとも以下を含む組成物も提供する：
ａ）水；および
ｂ）以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される少なくとも１つの化合物：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）、
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）、
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）、または
ｖ）これらの組み合わせ。
【００２１】
本明細書に記載する以下の実施形態は、本発明の方法と本発明の組成物の両方（それぞれ上で論じたとおり）に適用される。
【００２２】
本発明の方法は、本明細書に記載の２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【００２３】
本発明の組成物は、本明細書に記載の２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【００２４】
一実施形態において、前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物は、前記組成物の重量に基づき０．３重量パーセント以上の量で存在する。
【００２５】
一実施形態において、前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物は、前記組成物の重量に基づき０．５重量パーセント以上の量で存在する。
【００２６】
一実施形態において、前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物は、該組成物の重量に基づき１重量パーセント以上の量で存在する。
【００２７】
一実施形態において、前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物は、前記組成物の重量に基づき３重量パーセント以上の量で存在する。
【００２８】
一実施形態において、前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物は、前記組成物の重量に基づき３０重量パーセント以下の量で存在する。
【００２９】
一実施形態において、前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物は、前記組成物の重量に基づき２０重量パーセント以下の量で存在する。
【００３０】
一実施形態において、前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物は、前記組成物の重量に基づき１０重量パーセント以下の量で存在する。
【００３１】
一実施形態において、前記成分ｂ）の少なくとも１つの化合物は、前記組成物の重量に基づき５重量パーセント以下の量で存在する。
【００３２】
一実施形態において、前記組成物は、アルキレンオキシドを重合形態で含むポリマーをさらに含む。さらなる実施形態において、前記アルキレンオキシドは、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、またはこれらの組み合わせから選択される。
【００３３】
一実施形態において、前記組成物は、例えばｐＨ紙（例えば、ＥＭＤ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．から入手できるＣＯＬＯＲＰＨＡＳＴ）を使用して判定して、３〜４のｐＨを有する。
【００３４】
本発明の方法は、本明細書に記載の２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【００３５】
本発明の組成物は、本明細書に記載の２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【００３６】
［成分ｂ］
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ２０の置換アルキルである）；
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ２０の置換アルキルである）；
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）；
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）；または
ｖ）これらの組み合わせ。
【００３７】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ１０の置換アルキルである）；
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ１０の置換アルキルである）；
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）；
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）；または
ｖ）これらの組み合わせ。
【００３８】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ〜ｖ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル、またはＣ１〜Ｃ４の置換アルキルである）；
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル、またはＣ１〜Ｃ４の置換アルキルである）；
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）；
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）；または
ｖ）これらの組み合わせ。
【００３９】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ、ｉｉまたはｖ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）；
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）；または
ｖ）これらの組み合わせ。
【００４０】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ、ｉｉまたはｖ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ２０の置換アルキルである）；
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ２０の置換アルキルである）；または
ｖ）これらの組み合わせ。
【００４１】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ、ｉｉまたはｖ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ１０の置換アルキルである）；
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ１０の置換アルキルである）；または
ｖ）これらの組み合わせ。
【００４２】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ、ｉｉまたはｖ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル、またはＣ１〜Ｃ４の置換アルキルである）；
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）
（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル、またはＣ１〜Ｃ４の置換アルキルである）；
ｖ）これらの組み合わせ。
【００４３】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）。
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ２０の置換アルキルである）。
【００４４】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ１０の置換アルキルである）。
【００４５】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４ＨＦ２（式１）（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル、またはＣ１〜Ｃ４の置換アルキルである）。
【００４６】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉｉ）から選択される：
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）（式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、置換アルキル）。
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉｉ）から選択される：
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ２０の置換アルキルである）。
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉｉ）から選択される：
ｉｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル、またはＣ１〜Ｃ１０の置換アルキルである）。
【００４７】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉｉ）から選択される：
ｉ）ＮＲ４Ｆ（式２）（式中、Ｒは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル、またはＣ１〜Ｃ４の置換アルキルである）。
【００４８】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉｉｉ、ｉｖまたはｖ）から選択される：
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）；
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）；または
ｖ）これらの組み合わせ。
【００４９】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉｉｉ）から選択される：
ｉｉｉ）ＨＦ（フッ化水素酸）。
【００５０】
一実施形態において、前記成分ｂの少なくとも１つの化合物は、以下の化合物（ｉｖ）から選択される：
ｉｖ）Ｈ２ＳｉＦ６（ヘキサフルオロケイ酸）。
【００５１】
前記成分ｂの化合物は、本明細書に記載する２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【００５２】
［成分ｃ］
一実施形態において、前記組成物は、成分ｃ）「水混和性」溶剤をさらに含む。水混和性溶剤には、ＨＢＭ（メチル−２−ヒドロキシイソブチレート）、ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）、ＥＬ（エチルラクテート）、ＤＰＧＭＥ（ジプロピレングリコールメチルエーテル、異性体の混合物）、およびこれらの組み合わせを含めるが、それらに限定されない。
【００５３】
一実施形態において、前記「水混和性」溶剤は、前記組成物の重量に基づき５０重量パーセントより多いまたは５０重量パーセントに等しい、さらに６０重量パーセントより多いまたは６０重量パーセントに等しい、さらに７０重量パーセントより多いまたは７０重量パーセントに等しい、さらに８０重量パーセントより多いまたは８０重量パーセントに等しい量で存在する。
【００５４】
前記成分ｃの「水混和性」溶剤は、本明細書に記載する２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【００５５】
［組成物Ａ］
一実施形態において、前記皮膜は、少なくとも１つの有機金属化合物を含む「組成物Ａ」から形成される。
【００５６】
一実施形態において、前記少なくとも１つの有機金属化合物は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎまたはこれらの組み合わせから選択される少なくとも１つの金属を含む。
【００５７】
一実施形態において、前記少なくとも１つの有機金属化合物は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｃｏ、ＭｎまたはＺｎから選択される少なくとも１つの金属を含む。
【００５８】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、少なくとも２個の酸素原子とキレート化される。
【００５９】
一実施形態において、前記少なくとも１つの有機金属化合物は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆまたはこれらの組み合わせから選択される少なくとも１つの金属を含む。
【００６０】
一実施形態において、前記少なくとも１つの有機金属化合物は、Ｔｉ、ＺｒまたはＨｆから選択される少なくとも１つの金属を含む。
【００６１】
一実施形態において、有機金属化合物は、Ｔｉ、Ｚｒまたはこれらの組み合わせから選択される金属を含む。
【００６２】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、ＴｉまたはＺｒから選択される金属を含む。
【００６３】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物またはそれらの組み合わせから選択される：
【化１】
2014122319.tif 000002
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基；
式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９およびＲ２０は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）水素原子、
ｉｉ）炭化水素基、
ｉｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
【００６４】
本明細書において用いる場合、Ｒ１＝Ｒ１、Ｒ２＝Ｒ２、Ｒ３＝Ｒ３等々である。
【００６５】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物から選択される：
【化２】
2014122319.tif 000003
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ上で定義したとおりであり、
式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９およびＲ２０は、それぞれ上で定義したとおりである。
【００６６】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物またはそれらの組み合わせから選択される：
【化３】
2014122319.tif 000004
式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
【００６７】
さらなる実施形態において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基、またはｉｉ）置換炭化水素基。さらなる実施形態において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基。
【００６８】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物から選択される：
【化４】
2014122319.tif 000005
式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
さらなる実施形態において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基、またはｉｉ）置換炭化水素基。
さらなる実施形態において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基。
【００６９】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物またはこれらの組み合わせから選択される：
【化５】
2014122319.tif 000006
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
【００７０】
さらなる実施形態において、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基、またはｉｉ）置換炭化水素基。さらなる実施形態において、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基。
【００７１】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物から選択される：
【化６】
2014122319.tif 000007
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
【００７２】
さらなる実施形態において、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基、またはｉｉ）置換炭化水素基。さらなる実施形態において、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基。
【００７３】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物から選択される：
【化７】
2014122319.tif 000008
式中、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
さらなる実施形態において、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基、またはｉｉ）置換炭化水素基。さらなる実施形態において、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基。
【００７４】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物から選択される：
【化８】
2014122319.tif 000009
式中、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
【００７５】
さらなる実施形態において、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基、またはｉｉ）置換炭化水素基。さらなる実施形態において、Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基。
【００７６】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、以下の化合物から選択される：
【化９】
2014122319.tif 000010
式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、以下から選択される：
ｉ）炭化水素基、
ｉｉ）置換炭化水素基、
ｉｉｉ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、または
ｉｖ）その主鎖に少なくとも１個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
【００７７】
さらなる実施形態において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基、またはｉｉ）置換炭化水素基。さらなる実施形態において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、以下から選択される：ｉ）炭化水素基。
【００７８】
前記有機金属化合物は、本明細書に記載する２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【００７９】
一実施形態において、前記「組成物Ａ」は、少なくとも１つの「少なくとも１つのヒドロキシル基を含むモノマー」を重合形態で含むポリマーをさらに含む。
【００８０】
一実施形態において、前記ポリマーは、該ポリマーの重量に基づき１重量パーセント未満のケイ素を含む。
【００８１】
一実施形態において、前記ポリマーは、該ポリマーの重量に基づき０．５重量パーセント未満のケイ素を含む。
【００８２】
一実施形態において、前記ポリマーは、該ポリマーの重量に基づき０．１重量パーセント未満のケイ素を含む。
【００８３】
一実施形態において、前記ポリマーは、該ポリマーの重量に基づき「少なくとも１つのヒドロキシル基を含むモノマー」を含む。さらなる実施形態において、前記ポリマーは、該ポリマーの重量に基づき５〜１００重量パーセントの前記「少なくとも１つのヒドロキシル基を含むモノマー」を含む。
【００８４】
一実施形態において、前記「少なくとも１つのヒドロキシル基を含むモノマー」は、ＨＥＭＡ、ＯＨ−スチレン、またはこれらの組み合わせから選択される。
【００８５】
一実施形態において、前記「少なくとも１つのヒドロキシル基を含むモノマー」は、ヒドロキシアクリレートモノマーまたはヒドロキシアルキルアクリレートモノマーから選択される。
【００８６】
一実施形態において、前記「少なくとも１つのヒドロキシル基を含むモノマー」は、ＯＨ−アクリレート、ＯＨ−メタクリレート、またはＯＨ−エタクリレートから選択される。
【００８７】
一実施形態において、前記ポリマーは、アクリレートモノマーまたはアルキルアクリレートモノマーをさらに含む。
【００８８】
一実施形態において、前記ポリマーは、アクリレート、メタクリレート、またはエタクリレートをさらに含む。
【００８９】
一実施形態において、前記ポリマーは、４．０以下、または３．５以下、または３．０以下、または２．５以下の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する。
【００９０】
一実施形態において、前記ポリマーは、１．１以上、または１．５以上、または１．７以上の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する。
【００９１】
一実施形態において、前記ポリマーは、１５０００ｇ／モル以下、または１２０００ｇ／モル以下、または１００００ｇ／モル以下の数平均分子量（Ｍｎ）を有する。
【００９２】
一実施形態において、前記ポリマーは、４０００ｇ／モル以上、または５０００ｇ／モル以上、または６０００ｇ／モル以上の数平均分子量（Ｍｎ）を有する。
【００９３】
一実施形態において、前記ポリマーは、３５０００ｇ／モル以下、または３００００ｇ／モル以下、または２５０００ｇ／モル以下の重量平均分子量（Ｍｗ）を有する。
【００９４】
一実施形態において、前記ポリマーは、７０００ｇ／モル以上、または７５００ｇ／モル以上、または８０００ｇ／モル以上の重量平均分子量（Ｍｗ）を有する。
【００９５】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、前記ポリマーおよび該有機金属化合物の重量に基づき１０重量パーセントより多い量で存在する。
【００９６】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、前記ポリマーおよび該有機金属化合物の重量に基づき２０重量パーセントより多い量で存在する。
【００９７】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、前記ポリマーおよび該有機金属化合物の重量に基づき５０重量パーセントより多い量で存在する。
【００９８】
一実施形態において、前記有機金属化合物は、前記ポリマーおよび該有機金属化合物の重量に基づき７５重量パーセントより多い量で存在する。
【００９９】
前記ポリマーは、本明細書に記載する２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【０１００】
前記有機金属化合物は、本明細書に記載する２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【０１０１】
組成物Ａは、本明細書に記載する２つまたはそれ以上の実施形態の組み合わせを含むことがある。
【０１０２】
［定義］
用語「組成物」には、本明細書において用いる場合、その組成物を含む材料はもちろん、その組成物の材料から形成された反応生成物および分解生成物も含まれる。
【０１０３】
用語「ポリマー」は、本明細書において用いる場合、同じタイプのモノマーであろうと、異なるタイプのモノマーであろうと、モノマーを重合することによって調製されたポリマー化合物を指す。したがって、一般用語ポリマーは、用語ホモポリマー（微量の不純物がポリマー構造に組み込まれていることがあるという了解の下、１タイプのみのモノマーから調製されたポリマーと指すために用いる）、および下で定義する用語共重合体を包含する。微量の不純物、例えば触媒残留物が前記ポリマーに組み込まれていることがある。
【０１０４】
用語「共重合体」は、本明細書において用いる場合、共重合体、少なくとも２タイプの異なるタイプのモノマーの重合によって調製されたポリマーを指す。一般用語共重合体には、コポリマー（２つの異なるモノマーから調製されたポリマーを指すために用いる）、および２タイプより多くの異なるタイプのモノマーから調製されたポリマーが含まれる。
【０１０５】
用語「炭化水素」は、本明細書において用いる場合、炭素原子および水素原子のみを含有する化合物または置換基を指す。
【０１０６】
用語「置換炭化水素」は、本明細書において用いる場合、１個またはそれ以上の水素原子が、少なくとも１個のヘテロ原子、例えばハロゲン（例えば塩素若しくは臭素）などを含む別の基、または他の原子団、例えば−ＯＨ、−Ｃ−Ｏ−Ｃ−、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＳＯ３Ｈで置換されている炭化水素を指す。
【０１０７】
用語「置換アルキル」は、本明細書において用いる場合、１個またはそれ以上の水素原子が、少なくとも１個のヘテロ原子、例えばハロゲン（例えば塩素若しくは臭素）などを含む別の基、または他の原子団、例えば−ＯＨ、−Ｃ−Ｏ−Ｃ−、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＳＯ３Ｈで置換されているアルキルを指す。
【０１０８】
用語「（を）含む（comprising）」、「（を）含める／（が）含まれる（indlucing）」、「（を）有する（having）」およびそれらの派生語は、任意の追加の成分、工程または手順の存在を、それが具体的に開示されていようと、いなかろうと、除外することを意図しない。一切の疑念を避けるために、用語「含む」を用いて主張するすべての組成物には、相反する言明がない限り、ポリマー状であろうと、別様であろうと、任意の追加の添加剤、アジュバントまたは化合物が含まれ得る。対照的に、用語「から本質的に成る」は、任意の次に続く詳説の範囲から一切の他の成分、工程または手順を除外して、実施可能性に必須でないものを除く。用語「から成る」は、具体的に叙述または列挙されていない一切の成分、工程または手順を除外する。
【０１０９】
［試験法］
ＧＰＣによる分子量の測定
サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）とも呼ばれる、ゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、プレポリマーの分子量をモニターした。計器は、ポリスチレン較正標準物質に基づき約５００ｇ／モルから少なくとも約１００，０００ｇ／モルの範囲の分子量の測定に適している１セットのカラムを装備していた。Ｔｈｏｍｓｏｎ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ  Ｃｏ．から入手できる４カラム搭載シリーズ、「ＳＨＯＤＥＸ  ＬＦ−８０５、８０４、８０３および８０２ＧＰＣカラム」、８ｍｍ径×３００ｍｍ長を各分析に使用した。４本すべてのカラムを３０℃で維持した。移動相はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）であり、それを１ｍＬ／分の速度でポンピングした。注入容量は１００マイクロリットルであった。この計器は、屈折率検出器も装備していた。ドイツ国マインツのＰｏｌｙｍｅｒ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ  Ｓｅｒｖｉｃｅ  ＧｍｂＨから入手できる、狭いＭＷＤを有するポリスチレン標準物質を使用して較正を行った。ＷＡＴＥＲＳから入手できるＥＮＰＯＷＥＲ  ＧＰＣソフトウェアを使用して、Ｍｎ、ＭｗおよびＭＷＤ（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出した。
【０１１０】
［実験］
Ｉ．試薬
Ａ．バインダーポリマー（成分Ａ）
ＨＥＭＡ＝２−ヒドロキシエチルメタクリレート
ＭＭＡ＝メチルメタクリレート
Ｂ．有機金属化合物
１）ＤＯＲＦ  ＫＥＴＡＬから入手できるＴＹＺＯＲ  ＡＡ−１０５。
【化１０】
2014122319.tif 000011
Ｃ．溶剤
１）プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、沸点１４６℃）
Ｄ．熱酸発生剤（ＴＡＧ）
トリエチルアンモニウム４−メチルベンゼンスルホネート（ＴＥＡ  ｐＴＳ）−下記参照。
【化１１】
2014122319.tif 000012
【０１１１】
ＩＩ．バインダーポリマーの合成
Ａ）３０／７０（ｗ）ＨＥＭＡ／ＭＭＡ
「３０／７０（ｗ）ＨＥＭＡ／ＭＭＡ」の「６０ｇ（ポリマー）バッチ」の調製。
モノマー／開始剤供給溶液
好適な容器（ガラス瓶）に次の材料を添加した：１８．０ｇ ＨＥＭＡ、４２．０ｇ ＭＭＡおよび３０．０ｇ ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールメチルエーテルアセテート）溶剤。容器に蓋をし、穏やかに振盪してすべての成分を混合した。その後、容器を氷浴内に配置し、容器内の温度と浴温を平衡させた。その後、開始剤（１．８ｇのＶ−６０１開始剤）を容器に添加した。容器を氷浴から取り出し、振盪して開始剤を完全に溶解し、その後、氷浴に戻した。開始剤（Ｖ−６０１）は、和光純薬工業株式会社（Ｗａｋｏ  Ｐｕｒｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｌｔｄ．）から入手できるジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）であった。
【０１１２】
（重合）
反応器は、冷却器および熱電対を装着し、モノマー／開始剤溶液（上で調製したもの）用の供給ラインに接続した２５０ｍＬの３つ口丸底フラスコであった。熱電対を制御加熱マントル（controlled heating mantle）と併用して、反応器内の溶液温度をモニターし制御した。反応器の内容物を磁気撹拌棒で撹拌した。
【０１１３】
反応器に「３０．０ｇ ＰＧＭＥＡ」を投入し、反応器温度を上昇させ、適切な撹拌により９９℃（±２℃）で平衡させた。ＨＡＭＩＬＴＯＮデュアル・シリンジ・ポンプを使用して２５０μＬ／１３秒の供給速度で、９９℃で反応器にモノマー／開始剤溶液（上で調製したもの）を供給した。全供給時間は、おおよそ９０分であった。この供給の完了後、反応器温度をさらに２時間、９９℃で保持し、その後、反応フラスコを加熱マントルから取り出し、放置して室温に自然冷却した。おおよそ「９０ｇのＰＧＭＥＡ」をその反応器ポリマーに添加して、撹拌後、均一溶液を得た。反応器内のポリマー溶液をさらに精製せずに「そのままで」使用した。「重量損失法」を用いて、溶液中のポリマーの固形分含有量を判定した。この方法では、おおよそ「０．１ｇのポリマー溶液」をアルミニウムパンに計り入れ、おおよそ「０．６ｇ アセトン」を添加して、その溶液を希釈すると共にそのパン底面の一様なコーティングを促進した。パン（＋内容物）をサーマルオーブン内に配置し、おおよそ１１０℃で平衡させ、そのパン（＋内容物）を１５分間、熱処理した。最終ポリマー溶液は、そのポリマー溶液の重量に基づきおおよそ２８重量％ポリマーを含有した。
【０１１４】
上述のＧＰＣ法を用いて分子量および分子量分布を判定した。それらを下の表１に要約する。
【表１】
2014122319.tif 000013
【０１１５】
ＩＩＩ．スピンオン混合メタルハードマスク（ＳＯＭＭＨ）皮膜
高温硬化ＳＯＭＭＨ皮膜を以下の配合物からスピンコートした。
３０／７０  ＨＥＭＡ／ＭＭＡランダムコポリマー−最終配合物中１．５重量％
ＴＹＺＯＲ  ＡＡ−１０５（ＤＯＲＦ  ＫＥＴＡＬ）−最終配合物中４．５重量％
ＰＧＭＥＡ溶剤−最終配合物中９４重量％
基板：ＷａｆｅｒＮｅｔ  Ｉｎｃ．からのシリコンウエハ、直径８インチ；厚み０．７〜０．８ｍｍ。前処理なし。
【０１１６】
前記配合物をスピンコーティング前に「０．２μｍ孔径」ＴＦＰＥシリンジフィルタによって濾過した。
【０１１７】
ＴＥＬ、ＡＣＴ  ２  Ｔｒａｃｋを使用して手分注で（各コーティングに１．５から２．５ｍＬの配合物を使用して）スピンコーティングを行った。
【０１１８】
前記配合物を以下のポリマー溶液から調製した。
【０１１９】
３０／７０  ＨＥＭＡ／ＭＭＡポリマー溶液：ＰＧＭＥＡ中１０．０重量％。
【０１２０】
ＴＹＺＯＲ  ＡＡ−１０５有機金属溶液：ＰＧＭＥＡ中１０．０重量％。
【０１２１】
ハードマスク配合物を周囲条件下で調製した。対応する原液および溶剤を好適な容器（ガラス瓶）の中で次の添加順序で混合することにより各配合物を調製した：１）ポリマー溶液、２）溶剤、そして３）有機金属溶液。各皮膜を１５００ｒｐｍでスピンコートし、続いて１０５℃で６０秒間の予備ベーク、そして３５０℃で９０秒間の硬化ベークを行った。おおよそ２００Å厚の均一な皮膜が形成された。
【０１２２】
ＩＶ．皮膜の除去
研究Ｉ（ＮＨ４ＨＦ２／Ｈ２Ｏ／自由選択の界面活性剤）
この研究では、軽度酸性条件下でＴｉ−Ｏ−Ｃ結合およびＴｉＯ２ドメインを壊すための活性成分として、脱イオン（ＤＩ）水中のＮＨ４ＨＦ２を選択した。脱イオン（ＤＩ）水は溶剤であり、界面活性剤と共にまたは界面活性剤なしで使用した。
【０１２３】
１）アンモニウムビフルオライド（ＮＨ４ＨＦ２）
２）界面活性剤：エチレンオキシドとプロピレンオキシドのランダムコポリマー（約６００〜５０００ｇ／モルのＭｗ）。
【０１２４】
組成物を表２に示す。上で論じたように調製したＳＯＭＭＨ皮膜上に各組成物（おおよそ５ｍＬ）を滴下した。組成物７のｐＨ値は、ｐＨ紙（ＥＭＤ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．から入手可能できるＣＯＬＯＲＰＨＡＳＴ）で測定して約３〜４であった。皮膜除去を目視観測した。結果を下の表２に報告する。
【表２】
2014122319.tif 000014
【０１２５】
研究ＩＩ（ＮＨ４ＦＨ２／Ｈ２Ｏ／ＨＢＭ）
この研究では、アンモニウムビフルオライド（ＮＨ４ＨＦ２）原液（ＤＩ水中３０重量％）を使用した。メチル−２−ヒドロキシイソブチレート（ＨＢＭ）も使用した。
【０１２６】
組成物を表３に示す。上で論じたように調製したＳＯＭＭＨ皮膜上に各組成物（おおよそ５ｍＬ）を滴下した。皮膜除去を目視観測した。結果を下の表３に報告する。各組成物は、数秒から６０秒未満で有機チタネート皮膜を除去することができた。
【表３】
2014122319.tif 000015
【０１２７】
研究ＩＩＩ（ＮＨ４ＨＦ２／Ｈ２Ｏ／ＥＬ）
この研究では、アンモニウムビフルオライド（ＮＨ４ＨＦ２）原液（ＤＩ水中３０重量％）を使用した。エチルラクテート（ＥＬ）も使用した。
【０１２８】
組成物を表４に示す。上で論じたように調製したＳＯＭＭＨ皮膜上に各組成物（おおよそ５ｍＬ）を滴下した。皮膜除去を目視観測した。結果を下の表４に報告する。各組成物は、数秒から６０秒未満で有機チタネート皮膜を除去することができた。
【表４】
2014122319.tif 000016
【０１２９】
研究ＩＶ（ＮＨ４ＨＦ２／Ｈ２Ｏ／ＤＰＧＭＥ）
この研究では、アンモニウムビフルオライド（ＮＨ４ＨＦ２）原液（ＤＩ水中３０重量％）を使用した。ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＤＰＧＭＥ）も使用した。
【０１３０】
組成物を表５に示す。上で論じたように調製したＳＯＭＭＨ皮膜上に各組成物（おおよそ５ｍＬ）を滴下した。皮膜除去を目視観測した。結果を下の表５に報告する。各組成物は、数秒から６０秒未満で有機チタネート皮膜を除去することができた。
【表５】
2014122319.tif 000017
【０１３１】
研究Ｖ（ＮＨ４ＨＦ２／Ｈ２Ｏ／ＰＧＭＥ）
この研究では、アンモニウムビフルオライド（ＮＨ４ＨＦ２）原液（ＤＩ水中３０重量％）を使用した。プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）も使用した。組成物を表６に示す。上で論じたように調製したＳＯＭＭＨ皮膜上に各組成物（おおよそ５ｍＬ）を滴下した。これらの各組成物のｐＨ値は、ｐＨ紙で測定して約４であった。皮膜除去を目視観測した。結果を下の表６に報告する。各組成物は、数秒から６０秒未満で有機チタネート皮膜を除去することができた。
【表６】
2014122319.tif 000018
【０１３２】
上に示したように、表２〜６の組成物は、６０秒またはそれ以下で有機金属皮膜を有効に除去した。これらの組成物は、スピンコーティングプロセスまたは他のプロセスから形成された有機金属皮膜の除去に好適である。
【外国語明細書】
2014122319000001.pdf