(57)【要約】【課題】出力される光の分布にムラが生じたり、表示される画像のコントラストが低下したりすることを抑制することにある。【解決手段】走査線または信号線の一方であり、単位画素の間に延在し、遮光性を備える配線が形成された配線層、配線層に積層され、画素電極または共通電極の一方を含む透明の下側電極が形成された下側電極層及び下側電極層に積層され、画素電極または共通電極の他方を含む透明の上側電極が形成された上側電極層を含む第１基板と、第１基板と対向して配置される第２基板と、第１基板と第２基板との間に配置された液晶層と、を備える。第１基板は、第１基板の表面に垂直な方向から投影視した場合、配線の全面に上側電極が重なり、配線の短手方向の端部が下側電極の端部と重なり、かつ、配線の端部と下側電極の端部とが重なった範囲が上側電極と重なる。【選択図】図４
2014178367.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極と、前記画素電極と対向して配置され前記画素電極との間で電界を形成する共通電極とを含む単位画素が複数配置され、前記単位画素の間に走査線及び信号線が配置された液晶表示パネルであって、
前記走査線または前記信号線の一方であり、前記単位画素の間に延在し、遮光性を備える配線が形成された配線層、前記配線層に積層され、前記画素電極または共通電極の一方を含む透明の下側電極が形成された下側電極層及び前記下側電極層に積層され、前記画素電極または前記共通電極の他方を含む透明の上側電極が形成された上側電極層を含む第１基板と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を備え、
前記第１基板は、前記第１基板の表面に垂直な方向から投影視した場合、前記配線の全面に前記上側電極が重なり、前記配線の短手方向の端部が前記下側電極の端部と重なり、かつ、前記配線の端部と前記下側電極の端部とが重なった範囲が前記上側電極と重なる液晶表示パネル。
【請求項２】
前記下側電極は、前記単位画素に対応する部分と、当該単位画素の前記配線を挟んで隣接する位置の単位画素に対応する部分と、の間隔が、前記第１基板の表面に垂直な方向から投影視した場合、前記間隔に重なる位置の前記配線の幅及び前記上側電極の幅よりも狭い請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記配線は、前記単位画素の長手方向に延在する請求項１または２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記第１基板は、前記下側電極の端部と前記上側電極とが重なり、前記配線が重ならない範囲が、前記配線の短手方向の端部と前記下側電極の端部と重なる範囲よりも大きい請求項１から３のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
画素電極と、前記画素電極と対向して配置され前記画素電極との間で電界を形成する共通電極とを含む単位画素が複数配置され、前記単位画素の間に走査線及び信号線が配置された液晶表示パネルを備える電子機器であって、
前記液晶表示パネルは、前記走査線または前記信号線の一方であり、前記単位画素の間に延在し、遮光性を備える配線が形成された配線層、前記配線層に積層され、前記画素電極または共通電極の一方を含む透明の下側電極が形成された下側電極層及び前記下側電極層に積層され、前記画素電極または前記共通電極の他方を含む透明の上側電極が形成された上側電極層を含む第１基板と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を備え、
前記第１基板は、前記第１基板の表面に垂直な方向から投影視した場合、前記配線の全面に前記上側電極が重なり、前記配線の短手方向の端部が前記下側電極の端部と重なり、かつ、前記配線の端部と前記下側電極の端部とが重なった範囲が前記上側電極と重なる電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、液晶表示パネル及び液晶表示パネルを備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置として、横電界方式（ＩＰＳ方式、In Plane Switching）の液晶表示パネルを備える液晶表示装置がある。横電界方式の液晶表示パネルは、対向して配置され内部に液晶を保持する２つの透明基板を備えている。このうち一方の透明基板の液晶側には、表示上の単位画素ごと、例えば１つの画素を構成する３つのサブ画素ごとに、横電界を発生させて液晶を駆動する画素電極と対向電極（共通電極）が積層されている。また、画素電極と対向電極と透明基板との間には、絶縁性の材料により絶縁膜が形成されている。つまり、画素電極、共通電極及び絶縁膜は、透明基板上に積層して形成されている。
【０００３】
液晶表示装置では、各電極の配置として種々の配置がある。例えば、特許文献１には、複数のドレイン信号線と複数のゲート信号線が形成され、ドレイン信号線とゲート信号線で囲まれることで形成される複数の画素領域を備え、画素領域のそれぞれには、複数のスリットを有し且つ透明導電膜で形成された対向電極と、対向電極と絶縁膜を介して設けられ、且つ透明導電膜で形成される平面状の画素電極を有する液晶表示装置が記載されている。この液晶表示装置は、各画素領域に、ドレイン信号線とゲート信号線に接続された薄膜トランジスタが形成され、且つ、対向電極に電気信号を供給する対向電圧信号線が形成されている。さらに対向電極は、画素電極とドレイン信号線に対して液晶層側に形成され、且つ、画素電極とドレイン信号線に重畳する位置に形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−４８３９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、特許文献１に記載の液晶表示装置を用いた場合であっても、表示される画像のコントラストの低下が生じたり、表示面から出力される光の強度分布にムラが生じたりする場合がある。
【０００６】
本開示は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、出力される光の分布にムラが生じたり、表示される画像のコントラストが低下したりすることを抑制することができる液晶表示パネル及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示による液晶表示パネルは、画素電極と、前記画素電極と対向して配置され前記画素電極との間で電界を形成する共通電極とを含む単位画素が複数配置され、前記単位画素の間に走査線及び信号線が配置された液晶表示パネルであって、前記走査線または前記信号線の一方であり、前記単位画素の間に延在し、遮光性を備える配線が形成された配線層、前記配線層に積層され、前記画素電極または共通電極の一方を含む透明の下側電極が形成された下側電極層及び前記下側電極層に積層され、前記画素電極または前記共通電極の他方を含む透明の上側電極が形成された上側電極層を含む第１基板と、前記第１基板と対向して配置される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を備え、前記第１基板は、前記第１基板の表面に垂直な方向から投影視した場合、前記配線の全面に前記上側電極が重なり、前記配線の短手方向の端部が前記下側電極の端部と重なり、かつ、前記配線の端部と前記下側電極の端部とが重なった範囲が前記上側電極と重なる。
【０００８】
本開示の電子機器は、上記液晶表示パネルを備える。
【発明の効果】
【０００９】
本開示による液晶表示パネル及び電子機器によれば、出力される光の分布にムラが生じたり、表示される画像のコントラストが低下したりすることを抑制することができ、より質の高い画像を表示させることができる液晶表示パネル及び電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本実施形態に係る液晶表示パネルの構成の一例を示す斜視図である。
【図２】図２は、本実施形態に係る液晶表示装置のシステム構成例を示すブロック図である。
【図３】図３は、表示領域のサブ画素の構成を示す透視平面図である。
【図４】図４は、図３でＡ−Ａで示す断面における液晶表示パネルの断面図である。
【図５】図５は、走査線の端部と下側電極の端部が重なっていない液晶表示パネルの断面図である。
【図６】図６は、走査線の端部と下側電極の端部が重なっていない液晶表示パネルの配向膜の表面の形状の具体的な例を示す模式図である。
【図７】図７は、走査線の端部と下側電極の端部が重なっていない液晶表示パネルの配向膜の表面の形状を示す模式図である。
【図８】図８は、液晶表示パネルの表面から出力される光の分布の例を示した図である。
【図９】図９は、本実施形態に係る液晶表示パネルの光の透過率を計算したシミュレーション結果を示した図である。
【図１０】図１０は、第１比較例の液晶表示パネルの光の透過率を計算したシミュレーション結果を示した図である。
【図１１】図１１は、第２比較例の液晶表示パネルの光の透過率を計算したシミュレーション結果を示した図である。
【図１２】図１２は、第３比較例の液晶表示パネルの光の透過率を計算したシミュレーション結果を示した図である。
【図１３】図１３は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１４】図１４は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１５】図１５は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１６】図１６は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１７】図１７は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１８】図１８は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図１９】図１９は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２０】図２０は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２１】図２１は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２２】図２２は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２３】図２３は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２４】図２４は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２５】図２５は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【図２６】図２６は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本開示を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本開示が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、説明は以下の順序で行う。
１．本実施形態（液晶表示パネル）
２．評価例
３．適用例（電子機器）
上記実施形態に係る液晶表示パネルが電子機器に適用されている例
【００１２】
＜１．実施形態（液晶表示パネル）＞
（液晶表示パネルの構成の概要）
まず、本実施形態に係る液晶表示パネルの構成の概要について説明する。本実施形態に係る液晶表示パネルは、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式等のいわゆる横電界駆動型の液晶表示パネルである。図１は、本実施形態に係る液晶表示パネルの構成の一例を示す斜視図である。図１は、本実施形態に係る液晶表示パネルの構成の一例を模式的に示したものであり、実際の寸法、形状に限定されるものではない。図１中、ｘ軸方向は液晶表示パネル１の横方向、ｙ軸方向は液晶表示パネル１の縦方向、ｚ軸方向は液晶表示パネル１の厚み方向を示す。
【００１３】
図１に示すように、液晶表示パネル１は、第１基板１０と、この第１基板１０と所定の間隔をもって対向して配置される第２基板１１と、を備えている。第１基板１０と第２基板１１は、第１基板１０と第２基板１１との間の第１基板１０と第２基板１１の外周部分に塗布されたシール材１２により接着される。そして、第１基板１０と第２基板１１とシール材１２とにより形成される空間内には、液晶が封入され液晶層１３が形成されている。液晶表示パネル１は、シール材１２に囲まれた領域が、液晶セルを含む画素がマトリクス状（行列状）に多数配置されてなる表示領域１４となる。
【００１４】
第１基板１０は、第１基板１０の第２基板１１側の表面に、表示領域１４の各画素に対応して能動素子（例えば、トランジスタ）を含む多数の画素回路がマトリクス状（行列状）に配置されている。また、第１基板１０は、表示領域１４の周囲に２つの垂直ドライバ１５Ａ，１５Ｂと、水平ドライバ１６と、配置されている。２つの垂直ドライバ１５Ａ，１５Ｂは、第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂとして、表示領域１４を挟むように配置されている。つまり、第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂは、表示領域１４よりも外側の領域（非表示領域）である液晶表示パネル１の額縁部１Ｌ，１Ｒに設けられている。本実施形態に係る液晶表示パネル１は、第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂが第１基盤１０に形成されたいわゆるゲート回路内蔵型の液晶表示パネルである。
【００１５】
液晶表示パネル１は、液晶表示パネル１の裏面側（画像を表示する面とは反対側の面）に平面光源であるバックライトを配置する透過型または半透過型の液晶表示装置の液晶表示パネルとして用いることも、バックライトを備えない、反射型の液晶表示装置の液晶表示パネルとして用いることもできる。
【００１６】
（液晶表示装置のシステム構成例）
次に、本実施形態に係る液晶表示パネルを備える液晶表示装置のシステム構成例について説明する。図２は、本実施形態に係る液晶表示装置のシステム構成例を示すブロック図である。図２に示すように、液晶表示装置２０は、液晶表示パネル１と、インターフェース（Ｉ／Ｆ）及びタイミングジェネレータの機能を備えるドライバＩＣ２１と、を備えている。
【００１７】
液晶表示パネル１の第１基板１０の表示領域１４には、表示上のひとつの画素Ｐを構成するサブ画素Ｐｓがｍ行×ｎ列のマトリクス状（行列状）に配置されている。ここで、行とは、一方向に配列されるｎ個のサブ画素Ｐｓを有する画素行をいう。また、列とは、行が配列される方向と直交する方向に配列されるｍ個のサブ画素Ｐｓを有する画素列をいう。そして、ｍとｎとの値は、垂直方向（本実施形態の縦方向、ｙ軸方向）の表示解像度と水平方向（本実施形態の横方向、ｘ軸方向）の表示解像度に応じて定まる。ここで、本実施形態の液晶表示パネル１は、行方向に並んだＲＧＢの３つのサブ画素を１つの画素としている。また、１つのサブ画素は、行方向（垂直方向）が短辺となり、列方向（水平方向）が長辺となる形状である。例えば、ｍの値を１４４０とし、ｎの値を８００とすることで、表示領域１４の画面解像度を横８００画素、縦４８０画素、総画素数３８４０００のいわゆるＷＶＧＡとすることができる。本実施形態の液晶表示パネル１は、３つのサブ画素（単位画素）Ｐｓが１つの画素Ｐとしたが、本発明はこれに限定されない。液晶表示パネル１をモノクロ表示とした場合、１つの単位画素が１つの画素Ｐとなる。なお、単位画素とは、制御対象の最小単位の画素であり、１つの画素回路（薄型トランジスタ）で駆動される部分である。
【００１８】
表示領域１４は、サブ画素Ｐｓのｍ行ｎ列の配列に対して行ごとに走査線２２１、２２２、２２３、・・・、２２ｍが配線され、列毎に信号線２３１、２３２、２３３、・・・、２３ｎが配線されている。以後、本実施形態においては、走査線２２１、２２２、２２３、・・・、２２ｍを代表して走査線２２のように表記し、信号線２３１、２３２、２３３、・・・、２３ｎを代表して信号線２３のように表記することがある。また、本実施形態においては、走査線２２１、２２２、２２３、・・・、２２ｍを代表して走査線２２ｍ＋１、２２ｍ＋２、２２ｍ＋３・・・のように表記し、信号線２３１、２３２、２３３、・・・、２３ｎを代表して信号線２３ｎ＋１、２３ｎ＋２、２３ｎ＋３・・・のように表記することもある。
【００１９】
ドライバＩＣ２１は、フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔｓ））２４が接続されている。フレキシブルプリント基板２４は、ドライバＩＣ２１への外部からの信号（外部信号）またはドライバＩＣ２１を駆動する駆動電力を伝送する。ドライバＩＣ２１には、外部信号として、外部電源の電圧振幅のマスタークロック、水平同期信号及び垂直同期信号が入力される。ドライバＩＣ２１は、マスタークロック、水平同期信号及び垂直同期信号を、液晶の駆動に必要な内部電源の電圧振幅にレベル変換（昇圧）し、それぞれ第１垂直ドライバ１５Ａと、第２垂直ドライバ１５Ｂと、水平ドライバ１６に与える。また、ドライバＩＣ２１は、サブ画素Ｐｓごとの画素電極に対して各サブ画素Ｐｓに共通に与えるコモン電位（対向電極電位）を生成して表示領域１４に与える。
【００２０】
第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂは、ラッチ回路を備えている。第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂは、ラッチ回路が、垂直同期信号に同期してドライバＩＣ２１から出力される表示データを１水平期間で順次サンプリングしラッチする。第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂは、ラッチ回路によりラッチされた１ライン分のデジタルデータを垂直走査パルスとして順に出力し、表示領域１４の走査線２２１、２２２、２２３、・・・、２２ｍに与えることで、サブ画素Ｐｓを行単位で順次選択する。第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂは、走査線２２１、２２２、２２３、・・・、２２ｍの延在方向に走査線２２１、２２２、２２３、・・・、２２ｍを挟むように配置されている。第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂは、例えば、走査線２２１、２２２、２２３、・・・、２２ｍの表示領域１４の垂直走査方向の上方向から下方向、または、下方向から上方向へ順にデジタルデータを出力する。
【００２１】
水平ドライバ１６には、例えば６ビットのＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のデジタル映像データが与えられる。水平ドライバ１６は、第１垂直ドライバ１５Ａ及び第２垂直ドライバ１５Ｂによる垂直走査によって選択された行の各サブ画素Ｐｓに対して、サブ画素Ｐｓごとに信号線２３１、２３２、２３３、・・・、２３ｎを介して表示データを書き込む。
【００２２】
ここで、本実施形態に係る液晶表示パネル１は、行方向に並んだＲＧＢの３つのサブ画素Ｐｓを１つの画素Ｐとしており、１の画素Ｐに３つの走査線（ゲート線）２２ｍ＋１、２２ｍ＋２、２２ｍ＋３が１対応しているマルチゲート（トリプルゲート）方式である。これにより、液晶表示パネル１は、信号線（ソース線）が画素の個数に対応し、走査線（ゲート線）が画素の個数×（１つの画素当たりのサブ画素の個数）となる。
【００２３】
（液晶表示パネルの表示領域の構成）
次に、本実施形態に係る液晶表示パネルの表示領域の構成について説明する。図３は、表示領域のサブ画素の構成を示す透視平面図である。図３では、１つのサブ画素Ｐｓと、そのサブ画素Ｐｓと走査線２２を挟んで隣接するサブ画素Ｐｓを示している。以下、図３を用いて、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合の各種の配線及び電極の位置関係を説明する。
【００２４】
図３に示すように、表示領域１４のサブ画素Ｐｓは、ｘ軸方向に延在する配線である走査線２２と、ｙ軸方向に延在する配線である信号線２３と、走査線２２と信号線２３の交差部近傍に配置される薄膜トランジスタＴｒと、サブ画素Ｐｓを覆うように形成された下側電極３０と、下側電極３０を覆うように形成された上側電極３１と、を備えている。
【００２５】
走査線（金属配線）２２には、薄膜トランジスタＴｒのゲートＧとして機能するゲート電極３２が形成されている。走査線２２とゲート電極３２は、アルミニウムやモリブデン等の不透明な金属膜により形成されている。信号線２３には、薄膜トランジスタＴｒのソースＳとして機能するソース電極３３が形成されている。ソース電極３３に近接して薄膜トランジスタＴｒのドレインＤとして機能するドレイン電極３４が形成されている。信号線２３とソース電極３３とドレイン電極３４は、アルミニウムやモリブデン等の不透明な金属膜により形成されている。そして、ゲートＧ、ソースＳ及びドレインＤは、サブ画素Ｐｓごとにスイッチング素子となる薄膜トランジスタＴｒを構成している。
【００２６】
下側電極３０は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）や、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電性材料により形成されている。つまり、下側電極３０は、透明な導電体である。下側電極３０は、コンタクトホール３５でドレイン電極３４と電気的に接続されている。これにより、下側電極３０は、いわゆる画素電極として作動する。
【００２７】
上側電極３１は、ＩＴＯや、ＩＺＯ等の透明導電性材料により形成されている。つまり、上側電極３１は、透明な導電体である。上側電極３１は、サブ画素Ｐｓの周辺部で不図示の共通電極配線に接続され、いわゆる共通電極として作動する。上側電極３１には、各サブ画素Ｐｓの間の部分に、走査線２２を覆う部分（以下、走査線対向部３６という）が形成されている。
【００２８】
上側電極３１には、走査線２２の延在方向に沿って複数のスリット状の開口部３７が形成されている。ところで、仮に、全ての開口部３７を液晶の配向方向に対して時計方向、あるいは、反時計方向に傾くように形成した場合、液晶分子が一方向にねじれるため、視角方向によって色が変化する現象が現れる。これは、液晶分子を見る方向によって、見かけのリタデーションが変化するためである。この現象を抑制するため、本実施形態に係る液晶表示パネル１では、開口部３７は、液晶分子の配向方向に対して約＋５度及び約−５度傾斜するように形成されている。
【００２９】
上述の構成により、サブ画素Ｐｓでは、薄膜トランジスタＴｒがＯＮ状態になると、下側電極３０と上側電極３１との間に横電界が発生し、この横電界により液晶層１３の液晶分子が駆動され、液晶分子の配向が変化する。これにより、液晶層１３の光の透過率が変化して表示領域１４に画像を表示する表示状態とすることができる。また、薄膜トランジスタＴｒがＯＦＦ状態になると、液晶層１３を光が透過できなくなり、表示領域１４を非表示状態とすることができる。
【００３０】
図４は、図３でＡ−Ａで示す断面における液晶表示パネルの断面図である。次に、図４を用いて、液晶表示パネル１の積層構造について説明する。液晶表示パネル１は、上述したように、第１基板１０と、第２基板１１と、液晶層１３と、を備えている。第１基板１０は、透明の絶縁材料、例えばガラスからなる透明基板４０を基材としている。透明基板４０の表面には、走査線（金属配線）２２が形成されている。走査線（金属配線）２２が形成されている層が走査線層（金属配線層）となる。走査線２２は、サブ画素Ｐｓとサブ画素Ｐｓとの間に形成されている。透明基板４０及び走査線２２の表面には、走査線２２を覆うように窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明な絶縁膜４１が形成されている。絶縁膜４１の表面には、フォトレジスト等の透明樹脂材料からなる層間樹脂膜４２が形成されている。層間樹脂膜４２の表面には、下側電極３０が形成されている。下側電極３０が形成されている層が下側電極層となる。下側電極３０は、各サブ画素Ｐｓに対応して配置されている。下側電極３０は、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、ｙ軸方向の位置において、端部の範囲Ｌ１が走査線２２の端部と重なる。これにより、走査線２２は、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、ｙ軸方向の両端が下側電極３０と重なる。下側電極３０と層間樹脂膜４２の表面には、下側電極３０を覆うように窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明な層間絶縁膜４３が形成されている。層間絶縁膜４３の表面には、上側電極３１が形成されている。上側電極３１が形成されている層が上側電極層となる。上側電極３１は、複数のサブ画素Ｐｓに対して共通の電極であり、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、走査線２２と重なる部分にも走査線対向部３６が形成されている。また、上側電極３１には、上述したように開口部３７が形成されている。上側電極３１は、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、開口３７が形成され、他の部分と分離されている部分が走査線対向部３６の端部となる。なお、走査線対向部３６は、断面で見た場合、分断されているが、開口３７が形成されていない部分で他の部分とつながっている。上側電極３１の走査線対向部３６は、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、ｙ軸方向の位置において、端部の範囲Ｌ２と端部の範囲Ｌ２よりも中央側の範囲Ｌ１と、上側電極３１の走査線対向部３６の端部と下側電極３０とが重なる。上側電極３１と層間絶縁膜４３の表面には、上側電極３１を覆うように、例えばポリイミドからなる配向膜４４が形成されている。配向膜４４には、ｘ軸方向にラビング処理が施されている。第２基板１１は、透明基板にカラーフィルタやブラックマトリクスや配向膜等が積層されている。なお、配向膜は、第２基板１１の第１基板１０側の面に形成されている。第１基板１０と第２基板１１との間には、液晶層１３が設けられている。
【００３１】
上述したように、本実施形態に係る液晶表示パネル１は、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、走査線２２の端部と、下側電極３０の端部と、上側電極３１の走査線対向部３６の端部が重なるように形成されている。つまり、走査線２２の端部と下側電極３０の端部とは、範囲Ｌ１で重なっている。また、上側電極３１の走査線対向部３６の端部は、範囲Ｌ２で走査線２２と重なっていない。そして、下側電極３０の端部と上側電極３１の走査線対向部３６の端部は、範囲Ｌ１と範囲Ｌ２で重なっている。言い換えれば、液晶表示パネル１では、走査線２２の端部と下側電極３０の端部が重なり、かつ、走査線２２の端部と下側電極３０の端部が重なった部分が上側電極３１と重なっている。このため、あるサブ画素Ｐｓに形成された下側電極３０と、走査線２２を挟んでこのサブ画素Ｐｓに隣接するサブ画素Ｐｓに形成された下側電極３０の間隔が、走査線２２の幅、及び上側電極３１の走査線対向部３６の幅よりも狭く形成されている。
【００３２】
ここで、液晶表示パネル１は下側電極３０の端部と上側電極３１の走査線対向部３６の端部が重なる範囲のうち、下側電極３０の端部と上側電極３１の走査線対向部３６とが重なり、走査線２２が重ならない範囲Ｌ２を、走査線２２の端部と下側電極３０の端部とが重なる範囲Ｌ１より、大きくすることが好ましい。下側電極３０は、走査線２２が形成された位置に対して層間樹脂膜４２上にパターニングして形成される。そして、上側電極３１は、下側電極３０が形成された位置に対して層間絶縁膜４３上にパターニングして形成する。このため、走査線２２に対する上側電極３１の位置は、走査線２２に対する下側電極３０の位置に比べ制御しにくくなり、製造時のばらつきが大きくなる。このため、範囲Ｌ２を範囲Ｌ１よりも大きくすることで、液晶表示パネル１の製造誤差を加味しても、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、ｙ軸方向において上側電極３１と下側電極３０とを好適に重ねることができ、光漏れをより高い確率で抑制することができる。
【００３３】
また、液晶表示パネル１は、範囲Ｌ１と範囲Ｌ２の合計値を２．７５μｍ以上とすることが好ましい。これにより、液晶表示パネル１の製造誤差を加味しても、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、ｙ軸方向において上側電極３１と下側電極３０とを好適に重ねることができ、光漏れをより高い確率で抑制することができる。
【００３４】
図５は、走査線の端部と下側電極の端部が重なっていない液晶表示パネルの断面図である。図５は、図３のＡ−Ａで示す断面に相当する位置の断面である。図６は、走査線の端部と下側電極の端部が重なっていない液晶表示パネルの配向膜の表面の形状の具体的な例を示す模式図である。図７は、走査線の端部と下側電極の端部が重なっていない液晶表示パネルの配向膜の表面の形状を示す模式図である。図７は、原子間力顕微鏡で計測した配向膜の表面の形状を模式的に示している。
【００３５】
図５に示す液晶表示パネル１００は、第１基板１１０と、第２基板１１１と、液晶層１１２と、を備えている。第１基板１１０は、透明基板１４０と、走査線１２２と、下側電極１３０と、上側電極１３１と、絶縁膜１４１と、層間樹脂膜１４２と、層間絶縁膜１４３と、配向膜１４４と、を備えている。液晶表示パネル１００は、第１基板１１０の電極及び配線の位置以外の各部の構成は、液晶表示パネル１と同様である。図５に示す第１基板１１０は、上側電極１３１の走査線対向部１３６の端部と下側配線１３０の端部とが重なっており、下側配線１３０と金属配線１２２とが重なっていない。
【００３６】
第１基板１１０は、範囲Ｅ１が走査線１２２と上側電極１３１の走査線対向部１３６が重なる範囲となる。また、第１基板１１０は、範囲Ｅ２が上側電極１３１の走査線対向部１３６のみが設けられ、走査線１２２と下側電極１３０とが設けられていない範囲となる。また、第１基板１１０は、範囲Ｅ３が上側電極１３１の走査線対向部１３６と下側電極１３０とが重なり、走査線１２２が重なっていない範囲となる。また、第１基板１１０は、範囲Ｅ４が下側電極１３０と上側電極１３１の開口部１３７が重なっている範囲となる。また、第１基板１１０は、範囲Ｅ５が下側電極１３０と上側電極１３１が重なっている範囲となる。第１基板１１０は、ｙ軸方向において、走査線対抗部１３６の中心側から外側に向かって、範囲Ｅ１、範囲Ｅ２、範囲Ｅ３、範囲Ｅ４、範囲Ｅ５の順で並んでいる。
【００３７】
液晶表示パネル１００は、走査線１２２の端部と下側電極１３０の端部が重なっていないため、走査線１２２の端部と下側電極１３０の端部との間に横電界が発生する。例えば、液晶表示パネル１００では、走査線１２２に印加される電圧は−１０Ｖ程度であり、下側電極１３０に印加される電圧は４Ｖ程度であり、上側電極１３１に印加される電圧は−４Ｖ程度である。この場合、走査線１２２と下側電極１３０との間の電位差は、下側電極１３０と上側電極１３１との間の電位差よりも大きい。このため、走査線１２２と下側電極１３０との間には、下側電極１３０と上側電極１３１との間よりも強い横電界が生じることとなる。そして、下側電極１３０と上側電極１３１との間の電位差が０Ｖであっても、走査線１２２と下側電極１３０との間に生ずる横電界により液晶分子が駆動される可能性がある。走査線１２２と下側電極１３０との間に生ずる横電界により液晶分子が駆動されると、駆動された液晶分子の部分から光の漏れが生じ、液晶表示パネル１００の表面から出力される光にムラが生じたり（具体的には輝線となる部分が生じたり）、コントラストが低下したりする可能性がある。
【００３８】
これに対し、本実施形態に係る液晶表示パネル１は、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、走査線２２の端部と、下側電極３０の端部が重なる。これにより、液晶表示パネル１は、走査線２２の端部と下側電極３０の端部との間に間隔が空いていることで生じる横電界の発生を抑制することができ、これに起因した光が漏れの発生を抑制することができる。したがって、液晶表示パネル１の表面から出力される光にムラが生じたり、コントラストが低下したりすることを抑制することができる。
【００３９】
また、本実施形態の液晶表示パネル１は、走査線２２の延在方向がサブ画素Ｐｓの長手方向となるため、走査線２２とサブ画素Ｐｓとが並んでいる範囲が広くなる。このため、本実施形態の液晶表示パネル１は、走査線２２とサブ画素Ｐｓとの間の光の漏れを抑制できることで、表示領域１４の全体における光漏れを寄り目立たなくすることができる。
【００４０】
次に、液晶表示パネル１００は、走査線１２２の端部と下側電極１３０の端部が重なっておらず、走査線１２２の端部と下側電極１３０と走査線対向部１３６とが重なっている領域がない。このため、液晶表示パネル１００は、図６及び図７に示すように、第１基板１１０の表面に対する配向膜１４４の表面の高さが、範囲Ｅ１で最も高くなっており、範囲Ｅ５、範囲Ｅ３、範囲Ｅ４、範囲Ｅ２の順に低くなっている。
【００４１】
ここで、第１基板１１０は、透明基板１４０上に、走査線１２２、絶縁膜１４１、層間樹脂膜１４２、下側電極１３０、層間絶縁膜１４３、上側電極１３１、配向膜１４４が順次積層されている。走査線１２２、絶縁膜１４１、層間樹脂膜１４２、下側電極１３０、層間絶縁膜１４２、上側電極１３１は、液晶表示パネル１００の平面上で見てそれぞれ存在している部分と存在していない部分がある。例えば、絶縁膜１４１の表面の高さは、走査線１２２が存在している部分は高くなり、走査線１２２が存在していない部分は低くなる。そして、走査線１２２、絶縁膜１４１、層間樹脂膜１４２、下側電極１３０、層間絶縁膜１４３、上側電極１３１を積層してゆくにしたがい、各層の表面にできる高さの高い部分と低い部分が上部に積層される層に影響する。結果として、配向膜１４４の表面には、高さの高い部分と低い部分ができる。そして、配向膜１４４の表面には、範囲Ｅ２で示す範囲内に、最も高い範囲Ｅ１に隣接した最も深い谷ができる。
【００４２】
配向膜１４４の表面に谷ができると、配向膜１４４にラビング処理を施したときに谷の部分だけ適切に配向性を持たせることができなくなり、この部分の液晶分子に配向不良が生じて液晶分子の異常配向領域となる場合がある。図８は、液晶表示パネルの表面から出力される光の分布の例を示した図である。図８は、液晶表示パネル１００に黒の画像を表示させる場合、つまり、各サブ画素Ｐｓで光を遮るように駆動させた場合である。液晶表示パネル１００は、図８に示すように、黒の画像を表示させた場合でも、範囲Ｅ２に対応するサブ画素Ｐｓの長手方向の端部近傍の部分Ｕで輝線が出力される。つまり、部分Ｕが明るくなり、ムラとなる。これは、サブ画素Ｐｓの長手方向の端部近傍の部分Ｕの液晶に異常配向が生じたためと考えられる。液晶表示パネル１００は、部分Ｕが表示領域内に斑状に生じる。液晶表示パネル１００は、サブ画素Ｐｓの端部近傍の部分Ｕで輝線が生じると表示する画像のコントラストの低減の原因にもなる。
【００４３】
これに対し、本実施形態に係る液晶表示パネル１は、液晶表示パネル１の表面に直交する方向から見た場合、走査線２２の端部と、下側電極３０の端部と、上側電極３１の走査線対向部３６の端部を重ねることで、配向膜４４の表面に生じる谷の発生を抑制することができる。したがって、配向膜４４にラビング処理を施した際に、配向膜４４の表面に適正に配向性を持たせて液晶分子を正しく配向させることができ、液晶表示パネル１の表面から出力される光の分布にムラが生じたりコントラストが低下したりすることを抑制することができる。特に、本実施形態に係る液晶表示パネル１のように、走査線２２が長い場合により有効である。
【００４４】
本実施形態に係る液晶表示パネル１は、走査線２２の幅を６μｍとし、絶縁膜４１の厚さを４００ｎｍとし、層間樹脂膜４２の厚さを２μｍとし、下側電極３０の厚さを１００ｎｍとし、層間絶縁膜４３の厚さを４００ｎｍとし、上側電極３１の厚さを５０ｎｍとした場合、範囲Ｌ１を１μｍ、範囲Ｌ２を２．２５μｍとすることで、光の漏れを抑制し、液晶表示パネル１の表面から出力する光にムラが生じることを抑制することができ、コントラストを高く維持することができる。
【００４５】
なお、本実施形態に係る液晶表示パネル１では、液晶表示パネル１の平面上での位置関係で見て、走査線２２の端部と、下側電極３０の端部と、上側電極３１の走査線対向部３６の端部を重なるように形成する場合を例として説明したが、信号線２３の端部と、下側電極３０の端部と、上側電極３１の端部を重なるように形成することで、信号線２３部分での液晶表示パネル１の表面から出力される光にムラが生じたりコントラストが低下したりすることを抑制することもできる。また、本実施形態に係る液晶表示パネル１では、下側電極３０を画素電極とし、上側電極３１を共通電極とする場合について説明しているが、下側電極３０を共通電極とし、上側電極３１を画素電極とする構成を適用することも可能である。
【００４６】
また、上記実施形態の液晶表示パネルは、走査線２２を金属で形成された金属配線としたが、これに限定されず、光を遮る機能である遮光性を備える配線であればよい。つまり、走査線２２は、遮光性を有する金属以外の材料で形成した配線としてもよい。また、本実施形態では、走査線（金属配線、遮光性を有する配線）２２を透明基板１４０の上に積層し、その上に、絶縁膜１４１、層間樹脂膜１４２を積層させ下側電極３０を積層させたが、これに限定されない。液晶表示パネルは、走査線２２を信号線２３としてもよい。つまり、信号線２３と下側電極３０と上側電極３１との関係が上記関係を満たすことでも上記実施形態と同様の効果を得ることができる。なお、この場合、信号線２３は、金属配線、遮光性を有する配線で形成される。
【００４７】
＜２．評価例＞
次に、本実施形態に係る液晶表示パネルの評価例について説明する。図９は、本実施形態に係る液晶表示パネルの光の透過率を計算したシミュレーション結果を示した図である。なお、図９は、下側電極と上側電極との間の電位差を無くした状態、つまり、サブ画素が光を遮蔽し、黒の画像を表示させる場合の液晶表示パネルの光の透過率をシミュレーションした。この点は、図１０から図１２に示す他の例も同様である。図９は、横軸を、液晶表示パネル１のｙ軸方向の各位置とし、縦軸を、液晶表示パネル１のｙ軸方向の各部分での光の透過率とした。また、図９には、第１基板１０の各部のｙ軸方向における形成位置も示す。この点は、図１０から図１２に示す他の例も同様である。
【００４８】
図９に示す第１基板１０は、上述したように透明基板４０上に、走査線２２、絶縁膜４１、層間樹脂膜４２、下側電極３０、層間絶縁膜４３、上側電極３１、配向膜４４が順次積層されている。上側電極３１の走査線２２に重なる部分が走査線対向部３６となる。図９では、走査線２２の端部と下側電極３０の端部の重なる範囲Ｌ１を１μｍとし、上側電極３１の走査線対向部３６と下側電極３０とが重なりかつ走査線２２と重ならない範囲Ｌ２を２．２５μｍとし、透明基板４０上の走査線２２の幅を６μｍとし、絶縁膜４１の厚さを４００ｎｍとし、層間樹脂膜４２の厚さを２μｍとし、層間絶縁膜４３の厚さを４００ｎｍとしてシミュレーションを実行した。シミュレーションの結果、図９に示すように、本実施形態に係る液晶表示パネル１では、光が透過していないことがわかる。
【００４９】
図１０は、第１比較例の液晶表示パネルの光の透過率を計算したシミュレーション結果を示した図である。第１比較例の液晶表示パネルの第１基板１１０ａは、透明基板１４０ａ上に、走査線１２２ａ、絶縁膜１４１ａ、層間樹脂膜１４２ａ、下側電極１３０ａ、層間絶縁膜１４３ａ、上側電極１３１ａ、配向膜１４４ａが順次積層されている。上側電極１３１ａの走査線１２２ａに重なる部分が走査線対向部１３６ａとなる。第１比較例の液晶表示パネルは、液晶表示パネルの表面に直交する方向から見た場合、第１基板１１０ａの走査線１２２ａの端部及び走査線対向部１３６ａの端部が共に下側電極１３０ａの端部が重なっていない。また、図１０に示す液晶表示パネルは、示す走査線１２２ａの端部と下側電極１３０ａの端部とが離れている範囲（距離）Ｌ３を１μｍ、上側電極１３１の走査線対向部１３６ａと走査線１２２ａとが重ならない範囲（距離）Ｌ４を０．２５μｍとしてシミュレーションを実行した。
【００５０】
図１１は、第２比較例の液晶表示パネルの光の透過率を計算したシミュレーション結果を示した図である。第２比較例の液晶表示パネルの第１基板１１０ｂは、透明基板１４０ｂ上に、走査線１２２ｂ、絶縁膜１４１ｂ、層間樹脂膜１４２ｂ、下側電極１３０ｂ、層間絶縁膜１４３ｂ、上側電極１３１ｂ、配向膜１４４ｂが順次積層されている。上側電極１３１ｂの走査線１２２ｂに重なる部分が走査線対向部１３６ｂとなる。第２比較例の液晶表示パネルは、液晶表示パネルの表面に直交する方向から見た場合、第１基板１１０ｂの走査線１２２ｂの端部及び走査線対向部１３６ｂの端部が共に下側電極１３０ｂの端部が重なっていない。図１１に示す液晶表示パネルでは、走査線１２２ｂの端部と下側電極１３０ｂの端部とが離れている範囲（距離）Ｌ５を１μｍとし、上側電極１３１ｂの走査線対向部１３６ｂと走査線１２２ｂとが重ならない範囲（距離）Ｌ２を０．７５μｍとしてシミュレーションを実行した。
【００５１】
図１２は、第３比較例の液晶表示パネルの光の透過率を計算したシミュレーション結果を示した図である。第３比較例の液晶表示パネルの第１基板１１０ｃは、透明基板１４０ｃ上に、走査線１２２ｃ、絶縁膜１４１ｃ、層間樹脂膜１４２ｃ、下側電極１３０ｃ、層間絶縁膜１４３ｃ、上側電極１３１ｃ、配向膜１４４ｃが順次積層されている。上側電極１３１ｃの走査線１２２ｃに重なる部分が走査線対向部１３６ｃとなる。第３比較例の液晶表示パネルは、液晶表示パネルの表面に直交する方向から見た場合、第１基板１１０ｃの下側電極１３０ｃの端部が走査線対向部１３６ｃの端部と重なっておらず、下側電極１３０ｃの端部が走査線対向部１３６ｃの端部と接している。図１２に示す液晶表示パネルでは、走査線１２２ｃの端部と下側電極１３０ｃの端部とが離れている範囲（距離）であり、上側電極１３１ｃの走査線対向部１３６ｃと走査線１２２ｃとが重ならない範囲である範囲Ｌ７を１μｍとしてシミュレーションを実行した。
【００５２】
また、比較例１から３では、透明基板１４０ａ〜１４０ｃ上の走査線１２２ａ〜１２２ｃの幅を６μｍ、絶縁膜１４１ａ〜１４１ｃの厚さを４００ｎｍ、層間樹脂膜１４２ａ〜１４２ｃの厚さを２μｍ、層間絶縁膜１４３ａ〜１４３ｃの厚さを４００ｎｍとしてシミュレーションを実行した。
【００５３】
図１０及び図１１に示すように、走査線１２２ａ、１２２ｂの端部と下側電極１３０ａ、１３０ｂの端部が重なっておらず、走査線対向部１３６ａ、１３６ｂの端部と下側電極１３０ａ、１３０ｂの端部が重なっていない比較例１及び比較例２のシミュレーション結果では、光漏れが発生していることがわかる。また、図１２に示す比較例３のシミュレーションの結果では、光漏れが計測されなかったが、実際に製造した形状では、光漏れが生じた。
【００５４】
＜３．適用例＞
次に、図１３〜図２６を参照して、実施形態で説明した液晶表示パネル１の適用例について説明する。図１３〜図２６は、本実施形態に係る液晶表示パネルを適用する電子機器の一例を示す図である。本実施形態に係る液晶表示パネル１は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラ、あるいはカーナビゲーションシステム等の車載機器などのあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。言い換えると、本実施形態に係る液晶表示パネル１は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。電子機器は、液晶表示パネル１に映像信号を供給し、液晶表示パネルの動作を制御する制御装置を備える。
【００５５】
（適用例１）
図１３に示す電子機器は、本実施形態に係る液晶表示パネル１が適用されるテレビジョン装置である。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル５１１及びフィルターガラス５１２を含む映像表示画面部５１０を有しており、この映像表示画面部５１０は、本実施形態に係る液晶表示パネル１である。
【００５６】
（適用例２）
図１４及び図１５に示す電子機器は、本実施形態に係る液晶表示パネル１が適用されるデジタルカメラである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部５２１、表示部５２２、メニュースイッチ５２３及びシャッターボタン５２４を有しており、その表示部５２２は、本実施形態に係る液晶表示パネル１である。
【００５７】
（適用例３）
図１６に示す電子機器は、本実施形態に係る液晶表示パネル１が適用されるビデオカメラの外観を表すものである。このビデオカメラは、例えば、本体部５３１、この本体部５３１の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ５３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ５３３及び表示部５３４を有している。そして、表示部５３４は、本実施形態に係る液晶表示パネル１である。
【００５８】
（適用例４）
図１７に示す電子機器は、本実施形態に係る液晶表示パネル１が適用されるノート型パーソナルコンピュータである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５４１、文字等の入力操作のためのキーボード５４２及び画像を表示する表示部５４３を有しており、表示部５４３は、本実施形態に係る液晶表示パネル１である。
【００５９】
（適用例５）
図１８〜図２４に示す電子機器は、本実施形態に係る液晶表示パネル１が適用される携帯電話機である。この携帯電話機は、例えば、上側筐体５５１と下側筐体５５２とを連結部（ヒンジ部）５５３で連結したものであり、ディスプレイ５５４、サブディスプレイ５５５、ピクチャーライト５５６及びカメラ５５７を有している。そのディスプレイ５５４またはサブディスプレイ５５５は、本実施形態に係る液晶表示パネル１である。
【００６０】
（適用例６）
図２５に示す電子機器は、携帯型コンピュータ、多機能な携帯電話、音声通話可能な携帯コンピュータまたは通信可能な携帯コンピュータとして動作し、いわゆるスマートフォン、タブレット端末と呼ばれることもある、情報携帯端末である。この情報携帯端末は、例えば筐体５６１の表面に表示部５６２を有している。この表示部５６２は、本実施形態に係る液晶表示パネル１である。表示部５６２には、液晶表示パネルに近接する物体を検出するいわゆるタッチパネルが備えられている。
【００６１】
（適用例７）
図２６に示す電子機器は、本実施形態に係る液晶表示パネル１が適用される車載機器である。この車載機器は、例えば、車両５７１に搭載されたカーナビゲーションシステム５７２であり、ディスプレイ５７３を有している。そのディスプレイ５７３は、本実施形態に係る液晶表示パネル１である。
【００６２】
また、本開示は、以下の構成をとることもできる。
【００６３】
（１）画素電極と、前記画素電極と対向して配置され前記画素電極との間で電界を形成する共通電極とを含む単位画素が複数配置され、前記単位画素の間に走査線及び信号線が配置された液晶表示パネルであって、
前記走査線または前記信号線の一方であり、前記単位画素の間に延在し、遮光性を備える配線が形成された配線層、前記配線層に積層され、前記画素電極または共通電極の一方を含む透明の下側電極が形成された下側電極層及び前記下側電極層に積層され、前記画素電極または前記共通電極の他方を含む透明の上側電極が形成された上側電極層を含む第１基板と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を備え、
前記第１基板は、前記第１基板の表面に垂直な方向から投影視した場合、前記配線の全面に前記上側電極が重なり、前記配線の短手方向の端部が前記下側電極の端部と重なり、かつ、前記配線の端部と前記下側電極の端部とが重なった範囲が前記上側電極と重なる液晶表示パネル。
（２）前記下側電極は、前記単位画素に対応する部分と、当該単位画素の前記配線を挟んで隣接する位置の単位画素に対応する部分と、の間隔が、前記第１基板の表面に垂直な方向から投影視した場合、前記間隔に重なる位置の前記配線の幅及び前記上側電極の幅よりも狭い（１）に記載の液晶表示パネル。
（３）前記配線は、前記単位画素の長手方向に延在する（１）または（２）に記載の液晶表示パネル。
（４）前記第１基板は、前記下側電極の端部と前記上側電極とが重なり、前記配線が重ならない範囲が、前記配線の短手方向の端部と前記下側電極の端部と重なる範囲よりも大きい（１）から（３）のいずれか１つに記載の液晶表示パネル。
【００６４】
（５）画素電極と、前記画素電極と対向して配置され前記画素電極との間で電界を形成する共通電極とを含む単位画素が複数配置され、前記単位画素の間に走査線及び信号線が配置された液晶表示パネルを備える電子機器であって、
前記液晶表示パネルは、前記走査線または前記信号線の一方であり、前記単位画素の間に延在し、遮光性を備える配線が形成された配線層、前記配線層に積層され、前記画素電極または共通電極の一方を含む透明の下側電極が形成された下側電極層及び前記下側電極層に積層され、前記画素電極または前記共通電極の他方を含む透明の上側電極が形成された上側電極層を含む第１基板と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、を備え、
前記第１基板は、前記第１基板の表面に垂直な方向から投影視した場合、前記配線の全面に前記上側電極が重なり、前記配線の短手方向の端部が前記下側電極の端部と重なり、かつ、前記配線の端部と前記下側電極の端部とが重なった範囲が前記上側電極と重なる電子機器。
【符号の説明】
【００６５】
１  液晶表示パネル
１０  第１基板
１１  第２基板
１３  液晶層
２０  液晶表示装置
２２  走査線
２３  信号線
３０  下側電極
３１  上側電極
３６  走査線対向部
４４  配向膜
Ｐ  画素
Ｐｓ  サブ画素
Ｔｒ  薄膜トランジスタ
Ｇ  ゲート
Ｓ  ソース
Ｄ  ドレイン
【図１】
2014178367.tif 000003
【図２】
2014178367.tif 000004
【図３】
2014178367.tif 000005
【図４】
2014178367.tif 000006
【図５】
2014178367.tif 000007
【図６】
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【図７】
2014178367.tif 000009
【図８】
2014178367.tif 000010
【図９】
2014178367.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2014178367.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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