(57)【要約】【課題】軸受装置の長寿命化を図ることができる技術を提供する。【解決手段】本発明のある態様の軸受装置用の部品は、陽イオン基及び陰イオン基を有する棒状イオン性液晶化合物を含む潤滑層２０２を、表面上に備える。【選択図】図４
2014145376.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽イオン基及び陰イオン基を有する棒状イオン性液晶化合物を含む潤滑層を、表面上に備えることを特徴とする軸受装置用の部品。
【請求項２】
前記軸受装置は、
軸体と、
前記軸体の外周面と隙間を介して環囲する内周面を有し、前記軸体を相対回転自在に収納する軸受体と、
前記外周面と前記内周面の隙間に介在する潤滑剤と、
前記外周面と前記内周面の少なくとも一方に設けられ、前記潤滑剤にラジアル動圧を発生させるラジアル動圧溝と、を備え、
前記部品は、前記軸体及び前記軸受体の少なくとも一方であり、
前記部品が前記軸体であるとき、前記潤滑層は前記外周面に設けられ、
前記部品が前記軸受体であるとき、前記潤滑層は前記内周面に設けられる請求項１に記載の軸受装置用の部品。
【請求項３】
前記軸受装置は、
回転軸に対して垂直に延在する回転体面を有する回転体と、
前記回転体面と軸方向で対向する静止体面を有する静止体と、
前記静止体面と前記回転体面の隙間に介在する潤滑剤と、
前記静止体面と前記回転体面の少なくとも一方に設けられ、前記潤滑剤にスラスト動圧を発生させるスラスト動圧溝と、を備え、
前記部品は、前記回転体及び前記静止体の少なくとも一方であり、
前記部品が前記回転体であるとき、前記潤滑層は前記回転体面に設けられ、
前記部品が前記静止体であるとき、前記潤滑層は前記静止体面に設けられる請求項１に記載の軸受装置用の部品。
【請求項４】
前記陽イオン基がピリジニウム基である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の軸受装置用の部品。
【請求項５】
前記棒状イオン性液晶化合物は、下記式（１）で表される第１のピリジニウム塩型液晶化合物及び下記式（２）で表される第２のピリジニウム塩型液晶化合物の少なくとも一方を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の軸受装置用の部品。
【化１】
2014145376.tif 000012
［式（１）中、Ｒ１はアルキル基、アルコキシ基、又は下記式（３）で表される不飽和結合を有する基を示す。Ａ１及びＢ１はそれぞれ独立に、Ｏ、Ｓ、ＮＨ又はＣＨ２を示す。Ｘ−はＳＯ３−、ＣＯＯ−、ＰＯ３−又はＰＯ３２−を示す。ｎは０以上の整数を示す。］
【化２】
2014145376.tif 000013
［式（２）中、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、又は下記式（３）で表される不飽和結合を有する基を示す。Ａ２及びＢ２はそれぞれ独立に、Ｏ、Ｓ、ＮＨ又はＣＨ２を示す。Ｙ−はハロゲン原子を示す。］
【化３】
2014145376.tif 000014
［式（３）中、Ｒ４はＨ又はＣＨ３を示し、Ｚは、（ＣＨ２）ｍ、（ＣＨ２）ｍ−Ｏ、ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ、ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ、Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−Ｏ、又はＣＯを示す。ｍは１〜３０の整数である。］
【請求項６】
前記潤滑層は、複数種類の棒状イオン性液晶化合物を含む請求項５に記載の軸受装置用の部品。
【請求項７】
前記棒状イオン性液晶化合物は、前記部品の表面に対して垂直配列している請求項１乃至６のいずれか１項に記載の軸受装置用の部品。
【請求項８】
前記潤滑層は、前記部品の表面と接する領域の少なくとも一部に、前記棒状イオン性液晶化合物の単分子層を有する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の軸受装置用の部品。
【請求項９】
前記潤滑層は、非イオン性液晶化合物及び非イオン性潤滑油の少なくとも一方を含む請求項１乃至８のいずれか１項に記載の軸受装置用の部品。
【請求項１０】
軸受装置用の部品の表面に、陽イオン基及び陰イオン基を有する棒状イオン性液晶化合物を含有する潤滑層形成用組成物を付着させる工程と、
表面に付着した潤滑層形成用組成物を加熱する工程と、
を含むことを特徴とする潤滑層の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、軸受装置用の部品と、この部品への潤滑層の形成方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブ等のディスク駆動装置に代表される回転機器の多くは、記録ディスクが載置されたハブを回転自在に支持するための軸受ユニット（軸受装置）を備えている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−８７８６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述した回転機器には、長寿命化が常に要求されている。そのため、回転機器に搭載される軸受装置にも、長寿命化が常に要求される。このような状況において、本発明者らは軸受装置について鋭意研究を重ねた結果、以下の課題を認識するに至った。
【０００５】
すなわち、軸受装置は、例えば軸体と、軸体を回転自在に収納する軸受体とを備える。あるいは、軸受装置は、例えば回転体と、回転体の回転体面と対向する静止体面を有する静止体とを備える。軸体と軸受体、若しくは回転体と静止体は、通常の回転時は互いに非接触の状態で回転するが、回転開始時や減速時等の低速回転時は、互いに接触した状態で回転することがある。互いに接触した状態で両者が相対回転した場合、互いの接触する部分が摩耗して、摩耗粉等の異物が生じる可能性がある。
【０００６】
また、軸受装置が搭載された機器が持ち運ばれる際、あるいはこの機器が落下した際に、軸受装置が大きな衝撃を受けることがある。軸受装置が衝撃を受けた場合、軸体と軸受体、若しくは回転体と静止体とが衝突して破損し、破損した部品の欠片が異物となる可能性がある。この異物が軸体と軸受体、若しくは回転体と静止体の隙間に入り込むと、軸受装置の正常な動作に支障をきたすおそれがあり、また軸受装置の故障の原因ともなりうる。そのため、軸受装置の長寿命化を図る上で、従来の軸受装置には改善の余地があった。
【０００７】
本発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、軸受装置の長寿命化を図ることができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のある態様は、軸受装置用の部品である。この軸受装置用の部品は、陽イオン基及び陰イオン基を有する棒状イオン性液晶化合物を含む潤滑層を、表面上に備えることを特徴とする。
【０００９】
この態様によれば、軸受装置の長寿命化を図ることができる。
【００１０】
本発明の他の態様は、潤滑層の形成方法である。この潤滑層の形成方法は、軸受装置用の部品の表面に、陽イオン基及び陰イオン基を有する棒状イオン性液晶化合物を含有する潤滑層形成用組成物を付着させる工程と、表面に付着した潤滑層形成用組成物を加熱する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１１】
なお、上述した各要素を適宜組み合わせたものや、本発明の構成要素や表現を方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものも、本件特許出願によって特許による保護を求める発明の範囲に含まれうる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、軸受装置の長寿命化を図ることができる技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１（Ａ）は、実施の形態に係る軸受装置用の部品を備える回転機器の概略構造を示す平面図である。図１（Ｂ）は、回転機器の概略構造を示す側面図である。図１（Ｃ）は、トップカバーを外した状態の回転機器の平面図である。
【図２】図１（Ｃ）のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図３】積層コアの概略構造を示す平面図である。
【図４】軸受装置用の部品の潤滑層近傍の概略構造を示す断面図である。
【図５】潤滑層の一部を拡大して示す模式図である。
【図６】棒状イオン性液晶化合物が積層された構造をとる潤滑層の一部を拡大して示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を好適な実施の形態をもとに図面を参照しながら説明する。各図面に示される同一又は同等の構成要素、部材には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、各図面における部材の寸法は、理解を容易にするために適宜拡大、縮小して示される。また、各図面において実施の形態を説明する上で重要ではない部材の一部は省略して表示する。また、実施の形態は、発明を限定するものではなく例示であって、実施の形態に記述されるすべての特徴やその組み合わせは、必ずしも発明の本質的なものであるとは限らない。
【００１５】
図１（Ａ）は、実施の形態に係る軸受装置用の部品を備える回転機器の概略構造を示す平面図である。図１（Ｂ）は、回転機器の概略構造を示す側面図である。図１（Ｃ）は、トップカバーを外した状態の回転機器の平面図である。回転機器１００は、固定部と、固定部に対して回転する回転部と、回転部に取り付けられる磁気記録ディスク８と、データリード／ライト部１０とを備える。固定部は、ベース４、ベース４に対して固定されたシャフト２６、トップカバー２、６つのねじ２０、シャフト固定ねじ６等を含む。回転部は、ハブ２８、クランパ３６等を含む。以下では、ベース４に対してハブ２８が搭載される側を、回転機器１００の上側として説明する。
【００１６】
磁気記録ディスク８は、例えばガラス製の２．５インチ型磁気記録ディスクであり、直径は６５ｍｍである。また、磁気記録ディスク８の中央に設けられた孔の直径は２０ｍｍ、厚みは０．６５ｍｍである。ハブ２８は、１枚の磁気記録ディスク８を搭載している。ベース４は、アルミニウムの合金をダイカストにより成型して形成される。ベース４は、回転機器１００の底部を形成する底板部４ａと、磁気記録ディスク８の載置領域を囲むように底板部４ａの外周に沿って形成された外周壁部４ｂとを有する。外周壁部４ｂの上面４ｃには、６つのねじ孔２２が設けられる。
【００１７】
データリード／ライト部１０は、記録再生ヘッド（図示せず）と、スイングアーム１４と、ボイスコイルモータ１６と、ピボットアセンブリ１８とを含む。記録再生ヘッドは、スイングアーム１４の先端部に取り付けられ、磁気記録ディスク８にデータを記録し、磁気記録ディスク８からデータを読み取る。ピボットアセンブリ１８は、スイングアーム１４をベース４に対してヘッド回転軸Ｓの周りに揺動自在に支持する。ボイスコイルモータ１６は、スイングアーム１４をヘッド回転軸Ｓの周りに揺動させ、記録再生ヘッドを磁気記録ディスク８の上面上の所望の位置に移動させる。ボイスコイルモータ１６及びピボットアセンブリ１８は、ヘッドの位置を制御する公知の技術を用いて構成することができる。
【００１８】
トップカバー２は、６つのねじ２０を用いてベース４の外周壁部４ｂの上面４ｃに固定される。６つのねじ２０は、６つのねじ孔２２にそれぞれ対応する。特にトップカバー２と外周壁部４ｂの上面４ｃとは、それらの接合部分から回転機器１００の内側へ外気等のリークが生じないよう互いに固定される。ここで、回転機器１００の内側とは、具体的にはベース４の底板部４ａと、ベース４の外周壁部４ｂと、トップカバー２とで囲まれる清浄空間２４である。この清浄空間２４は、密閉されるように、つまり外部からの外気等のリークインもしくは外部への清浄空間２４内の気体等のリークアウトが無いように設計される。清浄空間２４は、パーティクルが除去された清浄な空気で満たされる。これにより、磁気記録ディスク８へのパーティクルなどの異物の付着が抑えられ、回転機器１００の動作の信頼性が高められている。
【００１９】
シャフト２６は、ベース４の延在方向と交わる方向に延在する。シャフト２６の上端面２６ｂには、シャフト固定ねじ孔２６ａが設けられる。シャフト２６の下側は、ベース４に対して後述のように固定される。シャフト固定ねじ６がトップカバー２を貫通してシャフト固定ねじ孔２６ａに螺合されることで、シャフト２６の上端は、トップカバー２及びベース４に対して固定される。
【００２０】
シャフト２６は、焼き入れされたＳＵＳ４２０Ｊ２などの鉄鋼材料により形成される。シャフト２６に焼き入れ処理を施すことにより、特にシャフト固定ねじ孔２６ａの硬度を、そこに螺合されるシャフト固定ねじ６の硬度よりも高めることができる。これにより、いわゆるシャフト固定ねじ６の噛みによって、シャフト固定ねじ孔２６ａに設けられたねじ溝が変形する可能性を低減できる。
【００２１】
シャフト固定型の回転機器のなかでも、このようにベース４やトップカバー２などのシャーシにシャフト２６の両端が固定されるタイプの回転機器によると、回転機器の耐衝撃性や耐振動性を高めることができる。このタイプの回転機器においては、流体動圧軸受を採用した場合、一般的に潤滑剤の気液界面は２つ存在する。
【００２２】
図２は、図１（Ｃ）のＡ−Ａ線に沿った断面図である。回転部は、ハブ２８と、クランパ３６と、円筒状マグネット３２と、スリーブ１０６と、カバーリング１２とを含む。固定部は、ベース４と、積層コア４０と、コイル４２と、ハウジング１０２と、シャフト２６と、リング部１０４とを含む。回転部と固定部との隙間の一部に潤滑剤９２が連続的に介在する。回転機器１００を製造する際には、まずハウジング１０２とスリーブ１０６とリング部１０４と潤滑剤９２とシャフト２６とを含む流体動圧軸受ユニットを製造する。そして流体動圧軸受ユニットにハブ２８やベース４やカバーリング１２などが取り付けられて回転機器１００が製造される。ベース４は、この流体動圧軸受ユニットを介してハブ２８を回転自在に支持する。
【００２３】
ハブ２８は、ＳＵＳ４３０等の軟磁性を有する鉄鋼材料を切削加工又はプレス加工することにより形成される。また、ハブ２８は、略カップ状の所定の形状に形成される。ハブ２８に用いられる鉄鋼材料としては、例えば、大同特殊鋼株式会社が供給する商品名ＤＨＳ１のステンレスが、アウトガスが少なく加工容易である点で好ましい。また、同社が供給する商品名ＤＨＳ２のステンレスは、アウトガスが少なく加工容易であることに加え、耐食性が良好な点でより好ましい。ハブ２８は、磁気記録ディスク８の中央孔８ａに嵌め込まれるハブ突出部２８ｇと、ハブ突出部２８ｇよりもハブ２８の半径方向外側に設けられた載置部２８ｈとを有する。ハブ突出部２８ｇには、ハブ２８あるいは磁気記録ディスク８の回転軸Ｒを中心とするスリーブ孔２８ｃが設けられている。磁気記録ディスク８は、載置部２８ｈの上面であるディスク載置面２８ａ上に載置される。
【００２４】
クランパ３６は、ハブ突出部２８ｇの外周面２８ｄに係合される。磁気記録ディスク８は、クランパ３６と載置部２８ｈとに挟まれることによりハブ２８に対して固定される。これにより、ハブ２８の上面２８ｅにクランパ３６等を固定する従来の構造に比べて、少なくともクランパ３６の厚さの分だけ回転機器１００を薄型化できる。また、ハブ２８自体のたわみを抑えることができる。クランパ３６は、磁気記録ディスク８の上面に下向きの力を加え、磁気記録ディスク８をディスク載置面２８ａに圧接させる。クランパ３６とハブ突出部２８ｇの外周面２８ｄとは、螺合、かしめ、圧入などの機械的結合手段や磁気的な吸引力を利用した磁気的結合手段により結合させることができる。クランパ３６は、磁気記録ディスク８に所望の下向きの力を加えている状態において、クランパ３６の上面３６ａがハブ突出部２８ｇの上面２８ｅを超えて上側に突出しないように形成される。
【００２５】
例えば、クランパ３６とハブ突出部２８ｇの外周面２８ｄとが螺合される場合、ハブ突出部２８ｇの外周面２８ｄにはおねじが形成され、クランパ３６の内周面３６ｂには対応するめねじが形成される。この場合、クランパ３６の螺合量の調節によって、クランパ３６が磁気記録ディスク８の上面に加える下向きの力の強さを比較的正確に制御できる。
【００２６】
円筒状マグネット３２は、略カップ形状を有するハブ２８の内側の円筒面に相当する、円筒状内周面２８ｆに接着固定される。円筒状マグネット３２は、ネオジウム、鉄、ホウ素などの希土類材料によって形成され、積層コア４０の９本の突極と半径方向、すなわち回転軸Ｒに直交する方向に対向する。円筒状マグネット３２には、その周方向、すなわち回転軸Ｒを中心とし回転軸Ｒに垂直な円の接線方向に、８極の駆動用着磁が施される。円筒状マグネット３２の表面には、電着塗装やスプレー塗装などによる防錆処理が施される。
【００２７】
図３は、積層コア４０の概略構造を示す平面図である。積層コア４０は、円環部４０ｃと、そこから積層コア４０の半径方向外側に伸びる９本の突極４０ｂとを有し、ベース４の上面４ｄ（図２参照）側に固定される。積層コア４０は、５枚の薄型電磁鋼板を積層し、これらをカシメにより一体化して形成される。積層コア４０の表面には、電着塗装や粉体塗装などによる絶縁塗装が施される。積層コア４０の各突極４０ｂには、コイル４２が巻回される。このコイル４２に３相の略正弦波状の駆動電流が流れることにより、突極４０ｂに沿って駆動磁束が発生する。積層コア４０及びコイル４２は、積層コア４０の最大の外径、すなわち９本の突極４０ｂに内接する円１６８の直径Ｄ３と積層コア４０の最小の内径、すなわち円環部４０ｃの内径Ｄ４との差（Ｄ３−Ｄ４）に対する、コイル４２の高さＨ１（図２参照）の比が、０．２から０．３の範囲となるよう形成される。一例では、コイル４２の高さＨ１は２．２２ｍｍ、差（Ｄ３−Ｄ４）は８．６７ｍｍであり、比（Ｈ１／（Ｄ３−Ｄ４））は０．２５６である。このように、突極４０ｂを比較的長く形成することで、コイル４２の高さＨ１を抑えて薄型化に貢献できる。
【００２８】
図２に示すように、ベース４は、回転部の回転軸Ｒを中心とした円筒状のベース突出部４ｅを有する。ベース突出部４ｅは、ハウジング１０２を環囲するようにハブ２８側に突出する。積層コア４０は、積層コア４０の円環部４０ｃの中心孔４０ａがベース突出部４ｅの外周面４ｇに嵌合されることで、ベース４に対して固定される。特に積層コア４０の円環部４０ｃは、ベース突出部４ｅに圧入され若しくは隙間嵌めされて、接着固定される。ベース４は、ベース突出部４ｅよりもベース４の半径方向外側に形成された肩部４ｆを有する。肩部４ｆは、コイル４２の外径に対応した形状を有する。ベース４の上面４ｄのうち突極４０ｂ及びコイル４２に対応する部分、すなわち回転軸Ｒに平行な方向から見て突極４０ｂ及びコイル４２の少なくとも一部と重なる部分には、ＰＥＴ等の樹脂製の絶縁シート又はテープ１７４が設けられる。
【００２９】
ハウジング１０２は、平たい環状のハウジング底部１１０と、ハウジング底部１１０の外周側に固定された円筒状のベース側環囲部１１２と、ハウジング底部１１０の内周側に固定された円筒状の支持突出部１０８とを含む。ハウジング１０２は、シャフト２６を支持する。また、ハウジング１０２は、シャフト２６と共にスリーブ１０６の下端が進入する環状の支持凹部１６６を形成する。
【００３０】
ハウジング底部１１０とベース側環囲部１１２とは、ハウジング底部１１０の外周面全体がベース側環囲部１１２の内周面１１２ａの下部と接する形で結合される。本実施の形態では、ハウジング底部１１０とベース側環囲部１１２とは一体に形成されている。ハウジング底部１１０と支持突出部１０８とは、ハウジング底部１１０の内周面全体が支持突出部１０８の外周面１０８ａの下部と接する形で結合される。本実施の形態では、ハウジング底部１１０と支持突出部１０８とは一体に形成されている。ハウジング底部１１０、ベース側環囲部１１２及び支持突出部１０８を一体成形することで、ハウジング１０２の製造誤差を低減でき、各部の接合の手間を省くことができる。また、例えば各部を別体とすると、各部を十分な固定強度で固定すべく各部の接合部分を比較的大きくする必要があり、回転機器１００の薄型化に不利である。これに対し、各部を一体に形成することで回転機器１００の薄型化に貢献しうる。ベース側環囲部１１２は、ベース突出部４ｅによって環囲される。特にベース側環囲部１１２は、ベース４に設けられた回転軸Ｒを中心とする軸受孔４ｈに接着により固定される。
【００３１】
シャフト２６の下端面２６ｃには、シャフト２６の軸方向に沿って支持孔２６ｄが形成されている。シャフト２６の上端面２６ｂに設けられたシャフト固定ねじ孔２６ａと、支持孔２６ｄとは、連通する。すなわち、シャフト２６は中空形状となっている。支持突出部１０８は、支持孔２６ｄに挿入され固定される。支持突出部１０８は、支持孔２６ｄに圧入と接着とを併用して固定される。特に支持突出部１０８の外周面１０８ａと支持孔２６ｄの周面との接合部分は、軸方向に互いに離間して配置された２つの接着剤溜まり部１５０を有する。各接着剤溜まり部１５０は、接着剤を保持する。接合部分のうち接着剤溜まり部１５０以外の部分では、基本的に支持突出部１０８の外周面１０８ａと支持孔２６ｄの周面とが圧接されている。
【００３２】
支持突出部１０８をシャフト２６の支持孔２６ｄに挿入して固定する際、接着剤溜まり部１５０に保持された接着剤が硬化するまでは、圧接部分の作用によりシャフト２６と支持突出部１０８とは仮止めされる。シャフト２６と支持突出部１０８とが仮止めされている間に、接着剤溜まり部１５０に保持された接着剤が硬化し、その結果、必要な固定強度が得られる。この場合、例えば全部圧入により必要な固定強度を得ようとする場合と比較して、シャフト２６の直角度を改善することができる。また、シャフト２６と支持突出部１０８とを別体としているため、両者を一体的に形成する場合と比べて、部材形状を簡略化でき、各部材の形成精度の低下を抑制することができる。また、シャフト２６をベース４に対して固定しつつ、シャフト２６の周面を精度良く形成することができる。
【００３３】
支持突出部１０８は、シャフト２６の線膨張係数と同等の線膨張係数を有するよう形成される。特にハウジング１０２は、シャフト２６の材料の線膨張係数と実質的に同じ線膨張係数を有する材料、例えばＳＵＳ４３０やＤＨＳ１により形成される。これにより、温度変化によるシャフト２６の直角度への悪影響を低減できる。支持突出部１０８には、回転軸Ｒに沿って貫通孔１５２が設けられる。なお、支持突出部１０８は貫通孔１５２を有さなくてもよく、また、貫通孔１５２の代わりにシャフト固定ねじ６が螺合されるねじ孔を有してもよい。
【００３４】
リング部１０４は、シャフト２６の上端側を環囲してシャフト２６に固定される。例えばリング部１０４は、圧入と接着とを併用してシャフト２６に固定される。リング部１０４とシャフト２６のトータルの固定強度が３０（キロ）のとき、１０（キロ）程度は接着による固定強度である。リング部１０４とシャフト２６との間の接着剤は、リング部１０４とシャフト２６との隙間をシールして、潤滑剤９２の漏れ出しを防ぐシール材としても機能する。リング部１０４は、ＳＵＳ４３０により形成される。
【００３５】
スリーブ１０６は、シャフト２６のうち支持突出部１０８と接合している部分（以下では適宜、この部分を接合部分という）を環囲する。スリーブ１０６とシャフト２６の接合部分との間に潤滑剤９２が介在する。すなわち、スリーブ１０６の内周面１０６ａとシャフト２６の接合部分の外周面２６ｅとは、第１隙間１２６を介して対向し、第１隙間１２６は潤滑剤９２で満たされている。スリーブ１０６は、回転軸Ｒの軸方向においてリング部１０４とハウジング１０２とに挟まれている。スリーブ１０６とリング部１０４との間、及び、スリーブ１０６とハウジング１０２との間のそれぞれに、潤滑剤９２が介在する。すなわち、スリーブ１０６の上面１０６ｂとリング部１０４の下面１０４ａとは、第２隙間１２８を介して対向し、第２隙間１２８は潤滑剤９２で満たされている。また、スリーブ１０６の下面１０６ｃとハウジング底部１１０の上面１１０ｂとは、第３隙間１２４を介して対向し、第３隙間１２４は潤滑剤９２で満たされている。ハブ２８は、スリーブ１０６の上部１０６ｄの外周面１０６ｅに、圧入と接着とを併用して固定される。
【００３６】
スリーブ１０６の下部は、ベース側環囲部１１２によって環囲されている。ベース側環囲部１１２とスリーブ１０６との間には、第１テーパシール１１４が形成される。第１テーパシール１１４は、ベース側環囲部１１２の内周面１１２ａとスリーブ１０６の下部の外周面１０６ｆとの間の第４隙間１３２で構成され、上方に向けて徐々に広がる形状を有する。特にベース側環囲部１１２の内周面１１２ａは、回転軸Ｒと略平行になるよう形成され、スリーブ１０６の下部の外周面１０６ｆは、上側となるほど小径となるよう形成されることにより、第１テーパシール１１４のテーパ形状が実現される。第１テーパシール１１４は、潤滑剤９２の第１気液界面１１６を有し、毛細管現象による潤滑剤９２の漏れ出しを抑止する。すなわち、ベース側環囲部１１２とスリーブ１０６との間に少なくとも部分的に潤滑剤９２が介在する。潤滑剤９２の第１気液界面１１６は、ベース側環囲部１１２の内周面１１２ａ及びスリーブ１０６の下部の外周面１０６ｆの両方と接している。
【００３７】
スリーブ１０６の上面１０６ｂには、回転軸Ｒを中心とした環状のスリーブ凹部１５４が形成される。スリーブ凹部１５４は下向きに凹んでいる。リング部１０４は、スリーブ凹部１５４に進入するリング進入部１０４ｂを有する。リング進入部１０４ｂがスリーブ凹部１５４に進入することにより、スリーブ凹部１５４には、リング進入部１０４ｂとスリーブ凹部１５４とが対向する隙間が形成される。特にこの隙間は、リング進入部１０４ｂとスリーブ凹部１５４とがリング部１０４の半径方向（回転軸Ｒに直交する方向）で対向する第７隙間１３６、第９隙間１４０と、リング進入部１０４ｂとスリーブ凹部１５４とが軸方向（回転軸Ｒに沿った方向）で対向する第８隙間１３８とを有する。第９隙間１４０は、第７隙間１３６よりも半径方向外側に位置する。
【００３８】
スリーブ１０６の上部１０６ｄは、リング進入部１０４ｂを環囲する。スリーブ１０６の上部１０６ｄとリング進入部１０４ｂとの間には、第２テーパシール１１８が形成される。第２テーパシール１１８は、上部１０６ｄとリング進入部１０４ｂとの間の第９隙間１４０で構成され、上方に向けて徐々に広がる形状を有する。特に上部１０６ｄの内周面１０６ｇ及びリング進入部１０４ｂの外周面１０４ｃの両方は、上側となるほど小径となるよう形成され、且つ、内周面１０６ｇの縮径の割合が外周面１０４ｃの縮径の割合よりも小さいことにより、第２テーパシール１１８のテーパ形状が実現される。回転部の回転時には、第２テーパシール１１８内の潤滑剤９２に、遠心力に起因する半径方向外向きの力が働く。上部１０６ｄの内周面１０６ｇは上側となるほど小径となるよう形成されるため、その力は潤滑剤９２を吸い込むよう、すなわち潤滑剤９２が第２テーパシール１１８に留まるよう作用する。
【００３９】
特にリング部１０４は、リング進入部１０４ｂの外周面１０４ｃの最大の直径Ｄ１が、上部１０６ｄの内周面１０６ｇの最小の直径Ｄ２よりも小さくなるよう形成される。これにより、回転機器１００の製造時、シャフト２６にスリーブ１０６を遊嵌した状態で、リング部１０４をよりスムーズにシャフト２６に取り付けることができる。第２テーパシール１１８は、潤滑剤９２の第２気液界面１２０を有し、毛細管現象による潤滑剤９２の漏れ出しを抑止する。潤滑剤９２の第２気液界面１２０は、上部１０６ｄの内周面１０６ｇ及びリング進入部１０４ｂの外周面１０４ｃの両方と接している。
【００４０】
第８隙間１３８が広すぎると潤滑剤９２の体積が不必要に上昇し、温度変化による潤滑剤９２の体積変動が大きくなる。また、第８隙間１３８が狭すぎると、第８隙間１３８での潤滑剤９２の粘性抵抗が上昇し、回転機器１００の消費電力が増大しうる。そこで第８隙間１３８の広さは、それらの要因が拮抗する値に設計される。例えば、潤滑剤９２の粘度が４０℃で６〜２０ｍｍ２／ｓのとき、第８隙間１３８の広さを０．０３〜０．５０とすることが好ましい。
【００４１】
第１隙間１２６は、スリーブ１０６がシャフト２６に対して回転するとき潤滑剤９２に半径方向の動圧が発生する、第１ラジアル動圧発生部１５６及び第２ラジアル動圧発生部１５８を含む。第１ラジアル動圧発生部１５６及び第２ラジアル動圧発生部１５８は互いに回転軸Ｒの軸方向に離間する。第１ラジアル動圧発生部１５６は、第２ラジアル動圧発生部１５８の上側に位置している。第１ラジアル動圧発生部１５６に対応するスリーブ１０６の内周面１０６ａの部分には、ヘリングボーン形状又はスパイラル形状の第１ラジアル動圧発生溝５０が形成される。第２ラジアル動圧発生部１５８に対応するスリーブ１０６の内周面１０６ａの部分には、ヘリングボーン形状又はスパイラル形状の第２ラジアル動圧発生溝５２が形成される。なお、第１ラジアル動圧発生溝５０及び第２ラジアル動圧発生溝５２のうちの少なくとも１つは、スリーブ１０６の内周面１０６ａの代わりにシャフト２６の接合部分の外周面２６ｅに形成されてもよい。
【００４２】
第３隙間１２４は、スリーブ１０６がシャフト２６及びハウジング１０２に対して回転するとき潤滑剤９２に軸方向の動圧が発生する第１スラスト動圧発生部１６０を含む。第１スラスト動圧発生部１６０に対応するスリーブ１０６の下面１０６ｃの部分には、ヘリングボーン形状又はスパイラル形状の第１スラスト動圧発生溝５４が形成される。第１スラスト動圧発生溝５４は、スリーブ１０６の下面１０６ｃの代わりにハウジング底部１１０の上面１１０ｂに形成されてもよい。第２隙間１２８は、スリーブ１０６がシャフト２６及びリング部１０４に対して回転するとき潤滑剤９２に軸方向の動圧が発生する第２スラスト動圧発生部１６２を含む。第２スラスト動圧発生部１６２に対応するスリーブ１０６の上面１０６ｂの部分には、ヘリングボーン形状又はスパイラル形状の第２スラスト動圧発生溝５６が形成される。第２スラスト動圧発生溝５６は、スリーブ１０６上面１０６ｂの代わりにリング部１０４の下面１０４ａに形成されてもよい。
【００４３】
回転部が固定部に対して相対的に回転するとき、第１ラジアル動圧発生溝５０、第２ラジアル動圧発生溝５２、第１スラスト動圧発生溝５４、第２スラスト動圧発生溝５６は、それぞれ潤滑剤９２に動圧を生じさせる。この動圧によって回転部は、固定部と非接触のまま半径方向及び軸方向に支持される。スリーブ凹部１５４と第２スラスト動圧発生部１６２との位置関係について、第２スラスト動圧発生部１６２は、スリーブ凹部１５４よりも半径方向内側に存在する。第１ラジアル動圧発生部１５６と第２テーパシール１１８との位置関係について、第１ラジアル動圧発生部１５６と第２テーパシール１１８とは、回転軸Ｒと直交する方向から見て少なくとも部分的に重複する。すなわち、回転軸Ｒの軸方向に座標軸を定義するとき、第２テーパシール１１８の座標範囲と第１ラジアル動圧発生部１５６の座標範囲とには共通部分が存在する。
【００４４】
これにより、２つのラジアル動圧発生部の軸方向距離（軸受スパン）を、テーパシールの長さにそれほど制約されずに拡大でき、軸受のラジアル剛性を高めることができる。また逆に、テーパシールの長さを軸受スパンにそれほど制約されずに大きくして十分な量の潤滑剤９２を保持し且つ飛散を抑止できる。また、保持されるべき潤滑剤９２の量を少なくできる場合は、その分、第９隙間１４０や第４隙間１３２を狭くすることができ、例えば衝撃を受けた場合の潤滑剤９２の漏れ出しを軽減できる。また、テーパシールにおいて潤滑剤９２の飛散を抑制できるため、２つのラジアル動圧発生部それぞれの軸方向長さを大きくしてラジアル動圧を高めても、生じ得る動圧の不均衡による潤滑剤９２の飛散を低く維持できる。したがって、潤滑剤９２の飛散を抑えたままラジアル動圧を強めて剛性を高めることが可能となる。
【００４５】
特に回転機器の厚さが規格等により決められている、又は薄型化の要請により厚くできない状況において、本実施の形態に係る回転機器１００によれば、軸受スパン及びテーパシールの長さの両方を、互いにほぼ独立に回転機器１００の規定厚さを最大限利用した長さとすることができる。なお、本実施の形態において、トップカバー２を付けた状態での回転機器１００の厚さは３ｍｍ〜６ｍｍであり、特に５ｍｍ程度である。したがって、薄型でありながら軸受の剛性を高めることで低いエラーレートを維持でき、同時にテーパシールを深く設けることで比較的長時間使用しても十分な量の潤滑剤９２を維持できる回転機器が提供される。
【００４６】
スリーブ１０６は、真鍮（黄銅）又はＳＵＳ４３０に表面処理が施されてなる。例えば、ＳＵＳ４３０の母材を所望の形状に切削し、その結果物にまず電解ニッケルめっきを施して下地を作り、次に無電解ニッケルめっきを施す（真鍮の場合は無電解ニッケルめっきのみでもよい）。これにより、スリーブ１０６の表面硬度は上昇し、特に固定部側（リング部１０４、シャフト２６、ハウジング１０２）の表面硬度よりも高くなる。
【００４７】
仮に回転部側の表面硬度と固定部側の表面硬度とがほぼ等しい場合、本発明者の当業者としての経験から、回転機器１００の回転により焼き付きが発生しやすくなる。特に第１スラスト動圧発生部１６０及び第２スラスト動圧発生部１６２は、回転機器１００の起動／停止時に接触したまま回転することが多いため、焼き付きがより発生しやすい。本実施の形態では、スリーブ１０６に第１スラスト動圧発生溝５４及び第２スラスト動圧発生溝５６を形成した後、ニッケルめっきを施すことで、スリーブ１０６と固定部側とで表面硬度に差を設ける。すなわち、第１スラスト動圧発生部１６０に対応するスリーブ１０６の下面１０６ｃの部分の硬度と、第１スラスト動圧発生部１６０に対応するハウジング底部１１０の上面１１０ｂの部分の硬度とは異なる。また、第２スラスト動圧発生部１６２に対応するスリーブ１０６の上面１０６ｂの部分の硬度と、第２スラスト動圧発生部１６２に対応するリング部１０４の下面１０４ａの部分の硬度とは異なる。これにより、第１スラスト動圧発生部１６０及び第２スラスト動圧発生部１６２において焼き付きが発生する可能性を低減できる。なお、固定体側にニッケルめっき等の表面処理を施してもよい。
【００４８】
スリーブ１０６には、第２スラスト動圧発生部１６２及び第１ラジアル動圧発生部１５６と、第２ラジアル動圧発生部１５８及び第１スラスト動圧発生部１６０とをバイパスするバイパス連通孔１６４が形成される。バイパス連通孔１６４の一端は第８隙間１３８に在り、バイパス連通孔１６４の他端は第１スラスト動圧発生部１６０と第１テーパシール１１４との間に在る。バイパス連通孔１６４は、スリーブ１０６を回転軸Ｒの軸方向に沿って貫通する孔である。
【００４９】
カバーリング１２は、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ３０３又は真鍮により形成される。カバーリング１２は、第９隙間１４０に存在する第２気液界面１２０を覆うように、ハブ２８に接着により固定される。ハブ２８、スリーブ１０６及びカバーリング１２は、蒸気捕捉空間１７０を形成する。蒸気捕捉空間１７０は、第９隙間１４０と連通される。スリーブ１０６の回転時、第２気液界面１２０から蒸発した潤滑剤９２の蒸気の少なくとも一部は、遠心力により蒸気捕捉空間１７０に捕らえられる。これにより、清浄空間２４に放出される潤滑剤９２の蒸気の量を抑えることができる。
【００５０】
リング部１０４の上面１０４ｄには、下向きに凹んだ環状のカバー凹部１７２が形成される。カバーリング１２は、下向きに突出しカバー凹部１７２に進入するリング突出部１２ａを含む。カバーリング１２とリング部１０４との隙間は、リング突出部１２ａとカバー凹部１７２との間の第６隙間１２２において最小となる。この場合、第２気液界面１２０から蒸発した潤滑剤９２の蒸気が清浄空間２４に放出される際の排気抵抗を増加させることができ、潤滑剤９２の蒸発量を抑えることができる。また、潤滑剤９２の蒸気が清浄空間２４に放出される際の排気抵抗において、リング突出部１２ａとカバー凹部１７２との間の第６隙間１２２における排気抵抗が支配的となるため、第６隙間１２２以外の隙間を広くしても排気抵抗の変化は小さい。したがって、第６隙間１２２以外の隙間を広く設計することで、回転機器１００の加工や組立がより容易となり、生産効率の向上を図ることができる。
【００５１】
ハブ２８の下面２８ｂには、下向きに突出しベース突出部４ｅの上端を環囲するハブ下方突出部２８ｉが形成される。これにより、ハブ２８の剛性の向上を図ることができる。また、ハブ下方突出部２８ｉとベース突出部４ｅとの隙間は、第１気液界面１１６から蒸発した潤滑剤９２の蒸気に対する、追加的なラビリンス構造を提供できる。
【００５２】
上述の構成を備える回転機器１００の動作を説明する。磁気記録ディスク８を回転させるために、３相の駆動電流がコイル４２に供給される。駆動電流がコイル４２を流れることにより、９本の突極４０ｂに沿って磁束が発生する。この磁束によって円筒状マグネット３２にトルクが与えられ、回転部及びそれに嵌合された磁気記録ディスク８が回転する。同時にボイスコイルモータ１６がスイングアーム１４を揺動させることによって、記録再生ヘッドが磁気記録ディスク８上の揺動範囲を行き来する。記録再生ヘッドは、磁気記録ディスク８に記録された磁気データを電気信号に変換して制御基板（図示せず）へ伝え、また制御基板から電気信号の形で送られてくるデータを磁気記録ディスク８上に磁気データとして書き込む。
【００５３】
ここで、本実施の形態に係る回転機器１００に搭載された軸受装置は、潤滑層を表面上に備えた軸受装置用の部品を有する。上述した回転機器１００の構成において、ハウジング１０２、スリーブ１０６、リング部１０４、潤滑剤９２及びシャフト２６を含む流体動圧軸受ユニットが軸受装置に相当する。
【００５４】
そして、軸受装置は、軸体と、軸体の外周面と隙間を介して環囲する内周面を有し、軸体を相対回転自在に収納する軸受体と、外周面と内周面の隙間に介在する潤滑剤と、外周面と内周面の少なくとも一方に設けられ、潤滑剤にラジアル動圧を発生させるラジアル動圧溝とを備える。上述した回転機器１００において、シャフト２６が軸体に、シャフト２６の外周面２６ｅが軸体の外周面に、スリーブ１０６が軸受体に、スリーブ１０６の内周面１０６ａが軸受体の内周面に、第１隙間１２６が外周面と内周面の隙間に、潤滑剤９２がその隙間に介在する潤滑剤に、第１ラジアル動圧発生溝５０及び第２ラジアル動圧発生溝５２がラジアル動圧溝に、それぞれ相当する。上述した軸受装置用の部品は、軸体及び軸受体の少なくとも一方、すなわちシャフト２６及び／又はスリーブ１０６である。そして、部品が軸体、すなわちシャフト２６であるとき、潤滑層は軸体の外周面、すなわちシャフト２６の外周面２６ｅに設けられ、部品が軸受体、すなわちスリーブ１０６であるとき、潤滑層は軸受体の内周面、すなわちスリーブ１０６の内周面１０６ａに設けられる。
【００５５】
あるいは、軸受装置は、回転軸に対して垂直に延在する回転体面を有する回転体と、回転体面と軸方向で対向する、すなわち回転軸Ｒに沿った方向から見て回転体面と重なる静止体面を有する静止体と、静止体面と回転体面の隙間に介在する潤滑剤と、静止体面と回転体面の少なくとも一方に設けられ、潤滑剤にスラスト動圧を発生させるスラスト動圧溝とを備える。上述した回転機器１００において、スリーブ１０６が回転体に、スリーブ１０６の上面１０６ｂ及び下面１０６ｃが回転体面に、ハウジング１０２及びリング部１０４が静止体に、ハウジング１０２の上面１１０ｂ及びリング部１０４の下面１０４ａが静止体面に、第２隙間１２８及び第３隙間１２４が静止体面と回転体面の隙間に、潤滑剤９２がその隙間に介在する潤滑剤に、第１スラスト動圧発生溝５４及び第２スラスト動圧発生溝５６がスラスト動圧溝に、それぞれ相当する。上述した軸受装置用の部品は、回転体及び静止体の少なくとも一方、すなわちスリーブ１０６、及び／又は、ハウジング１０２とリング部１０４である。そして、部品が回転体、すなわちスリーブ１０６であるとき、潤滑層は回転体面、すなわちスリーブ１０６の上面１０６ｂ及び下面１０６ｃに設けられ、部品が静止体、すなわちハウジング１０２及びリング部１０４であるとき、潤滑層は静止体面、すなわちハウジング１０２の上面１１０ｂ及びリング部１０４の下面１０４ａに設けられる。
【００５６】
以下、潤滑層について詳細に説明する。図４は、部品の潤滑層近傍の概略構造を示す断面図である。図４では、一例としてシャフト２６の外周面２６ｅ及びスリーブ１０６の内周面１０６ａに設けられた潤滑層２０２の近傍部分を拡大して図示している。他の部品の場合も潤滑層２０２は同様の構造を取るため、他の部品についての説明は省略する。潤滑層２０２は、軸受装置用の部品の最外層を構成する。本実施の形態に係る軸受装置では、シャフト２６の外周面２６ｅ、スリーブ１０６の内周面１０６ａ、スリーブ１０６の上面１０６ｂ及び下面１０６ｃ、ハウジング１０２の上面１１０ｂ及びリング部１０４の下面１０４ａのそれぞれに、潤滑層２０２が設けられる。潤滑層２０２を設けることで、シャフト２６の外周面２６ｅとスリーブ１０６の内周面１０６ａ、スリーブ１０６の上面１０６ｂとリング部１０４の下面１０４ａ、スリーブ１０６の下面１０６ｃとハウジング１０２の上面１１０ｂがそれぞれ互いに接触した状態で、お互いを滑らせることができる。そのため、各部品の表面の摩耗を抑制することができ、摩耗粉の発生を抑制することができる。また、潤滑層２０２を設けることで、対向する２つの部品が衝突して破損し、欠片が生じることも抑制できる。
【００５７】
本実施の形態では、互いに対向する部品の両方に潤滑層２０２を設けている。そのため、片方のみに潤滑層２０２を設ける場合に比べて摩耗粉や欠片等の異物の発生をより抑制することができる。なお、回転機器１００の製造工程数や製造コストの増加抑制等を目的として、互いに対向する部品の片方のみに潤滑層２０２を設けてもよい。また、潤滑層２０２は、部品の全面に設けてもよいし部分的に設けてもよい。部品の表面の一部に潤滑層２０２を設ける場合、例えば、第１ラジアル動圧発生部１５６、第２ラジアル動圧発生部１５８、第１スラスト動圧発生部１６０、第２スラスト動圧発生部１６２を構成する領域のみに、潤滑層２０２が設けられる。部品の表面全体に潤滑層２０２を設ける場合は、潤滑層２０２の形成工程を簡略化することができ、部品の表面の一部に潤滑層２０２を設ける場合は、潤滑層形成用組成物の消費量を削減できる。また、シャフト２６の外周面２６ｅ、スリーブ１０６の内周面１０６ａ、スリーブ１０６の上面１０６ｂ、スリーブ１０６の下面１０６ｃ、ハウジング１０２の上面１１０ｂ及びリング部１０４の下面１０４ａの少なくとも１つに潤滑層２０２が設けられれば、軸受装置全体で見て異物の発生を抑制することができる。
【００５８】
シャフト２６及びスリーブ１０６を例に説明すると、潤滑層２０２は、軸受装置の組み付け前の状態で、すなわちシャフト２６及びスリーブ１０６がそれぞれ単独の状態で予め設けられる。そして、潤滑層２０２が設けられたシャフト２６及びスリーブ１０６が組み付けられ、第１隙間１２６に潤滑剤９２が充填されると、シャフト２６の外周面２６ｅとスリーブ１０６の内周面１０６ａとの間の領域において、外周面２６ｅ上の潤滑層２０２と、潤滑剤９２と、内周面１０６ａ上の潤滑層２０２とが三層構造をとる。シャフト２６及びスリーブ１０６が組み付けられる前の状態で潤滑層２０２を設けることで、各部品の表面にムラなく潤滑層２０２を形成することができ、強固な潤滑層２０２を形成することができる。また、各部品の表面に設けられた潤滑層２０２の検査を簡単に且つ精度良く実施することができる。なお、本実施の形態では、シャフト２６及びスリーブ１０６の全面に潤滑層２０２を形成しているため、シャフト２６及びスリーブ１０６の表面のうち潤滑剤９２と接する領域以外の領域にも、潤滑層２０２が設けられている。
【００５９】
図５は、潤滑層の一部を拡大して示す模式図である。なお、図５では、一例として後述する第１のピリジニウム塩型液晶化合物と第２のピリジニウム塩型液晶化合物とが混合された状態を示している。また、一例としてシャフト２６の外周面２６ｅに設けられた潤滑層２０２を示している。他の部品の場合も潤滑層２０２は同様の構造を取るため、他の部品についての説明は省略する。潤滑層２０２は、陽イオン基及び陰イオン基を有する棒状イオン性液晶化合物を含む。棒状イオン性液晶化合物の陽イオン基は、好ましくはピリジニウム基である。すなわち、棒状イオン性液晶化合物は、好ましくはピリジニウム塩型液晶化合物である。このようなピリジニウム塩型液晶化合物としては、下記式（１）で表される第１のピリジニウム塩型液晶化合物及び下記式（２）で表される第２のピリジニウム塩型液晶化合物を挙げることができる。
【００６０】
【化１】
2014145376.tif 000003
［式（１）中、Ｒ１はアルキル基、アルコキシ基、又は下記式（３）で表される不飽和結合を有する基を示す。Ａ１及びＢ１はそれぞれ独立に、Ｏ、Ｓ、ＮＨ又はＣＨ２を示す。Ｘ−はＳＯ３−、ＣＯＯ−、ＰＯ３−又はＰＯ３２−を示す。ｎは０以上の整数を示す。］
【００６１】
【化２】
2014145376.tif 000004
［式（２）中、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基、又は下記式（３）で表される不飽和結合を有する基を示す。Ａ２及びＢ２はそれぞれ独立に、Ｏ、Ｓ、ＮＨ又はＣＨ２を示す。Ｙ−はハロゲン原子を示す。］
【００６２】
【化３】
2014145376.tif 000005
［式（３）中、Ｒ４はＨ又はＣＨ３を示し、Ｚは、（ＣＨ２）ｍ、（ＣＨ２）ｍ−Ｏ、ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ、ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ−Ｏ、Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−Ｏ、又はＣＯを示す。ｍは１〜３０の整数である。］
【００６３】
上記式（１）において、Ｒ１のアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である。このアルキル基の炭素数は、好ましくは３〜２４であり、より好ましくは５〜２２であり、さらに好ましくは８〜１８である。アルキル基の炭素数を３以上とすることで、潤滑層２０２の潤滑効果をより確実に発揮させることができる。また、アルキル基の炭素数を２４以下とすることで、潤滑層２０２に含まれる棒状イオン性液晶化合物をより結晶化し難くすることができる。Ｒ１のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基等を挙げることができる。
【００６４】
Ｒ１のアルコキシ基は、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基である。このアルコキシ基は、好ましくは、ＣｑＨ（２ｑ＋１）Ｏ−で表されるアルコキシ基であり、ｑは１〜３０が好ましく、７〜２２がより好ましい。
【００６５】
上記式（１）において、ｎは好ましくは１〜２０であり、より好ましくは１〜５であり、さらに好ましくは３又は４である。ｎを１以上とすることで、第１のピリジニウム塩型液晶化合物の陰イオン基（Ｘ−）を、潤滑層２０２の下層表面（シャフト２６の外周面２６ｅ）の陽イオン部分に結合させやすくすることができる。また、ｎを２０以下とすることで、アルキル鎖による立体障害を抑制して、第１のピリジニウム塩型液晶化合物の陽イオン部分（Ｎ＋）を潤滑層２０２の下層表面の陰イオン部分に結合させやすくすることができる。
【００６６】
上記式（２）で表される第２のピリジニウム塩型液晶化合物において、Ｒ２のアルキル基は、上記式（１）のＲ１と同様に、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であり、炭素数は好ましくは３〜２４であり、より好ましくは５〜２２であり、さらに好ましくは８〜１８である。炭素数の好ましい範囲は、上述のように潤滑層２０２の潤滑効果を発揮させる観点と、棒状イオン性液晶化合物の結晶化を抑制する観点とから定めることができる。Ｒ２のアルキル基の具体例は、Ｒ１のアルキル基と同様である。
【００６７】
Ｒ３のアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であり、炭素数は好ましくは０〜２０であり、より好ましくは０〜３である。このアルキル基の炭素数を２０以下とすることで、アルキル鎖による立体障害を抑制して、第２のピリジニウム塩型液晶化合物の陽イオン部分（Ｎ＋）を潤滑層２０２の下層表面の陰イオン部分に結合させやすくすることができる。
【００６８】
Ｒ２及びＲ３のアルコキシ基は、上記式（１）のＲ１と同様に、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基であり、好ましくは、ＣｑＨ（２ｑ＋１）Ｏ−で表されるアルコキシ基である。Ｒ２のアルコキシ基におけるｑは、１〜３０が好ましく、７〜２２がより好ましい。Ｒ３のアルコキシ基におけるｑは、０〜２０が好ましく、０〜３がより好ましい。
【００６９】
第１のピリジニウム塩型液晶化合物及び第２のピリジニウム塩型液晶化合物は、Ｒ１及びＲ２の長さを調整することで、その全体の長さを調整することができる。一例として、これらのピリジニウム塩型液晶化合物は、その液晶部分、すなわち２つの環構造を含む部分の長さが略１ｎｍであり、Ｒ１及びＲ２の長さが略１〜２ｎｍである。したがって、全体の長さが略２〜３ｎｍである。
【００７０】
潤滑層２０２を構成する棒状イオン性液晶化合物は、上述のように陽イオン基及び陰イオン基を末端部分に有する。一方で、図５に示すように、シャフト２６の外周面２６ｅは、電荷の偏りにより陽イオン部分と陰イオン部分とを有する。そのため、棒状イオン性液晶化合物は、その陽イオン基が外周面２６ｅの陰イオン部分とイオン結合し、あるいはその陰イオン基が外周面２６ｅの陽イオン部分とイオン結合する。例えば、第１のピリジニウム塩型液晶化合物２３０ａは、その陽イオン基が外周面２６ｅの陰イオン部分とイオン結合し、その陰イオン基が外周面２６ｅの陽イオン部分とイオン結合している。また、第２のピリジニウム塩型液晶化合物２４０ａは、その陽イオン基が外周面２６ｅの陰イオン部分とイオン結合している。
【００７１】
第１のピリジニウム塩型液晶化合物及び第２のピリジニウム塩型液晶化合物は、外周面２６ｅに結合するだけでなく、外周面２６ｅに結合した棒状イオン性液晶化合物の陽イオン基若しくは陰イオン基にイオン結合した状態でも存在しうる。例えば、第１のピリジニウム塩型液晶化合物２３０ｂは、その陰イオン基が外周面２６ｅの陽イオン部分とイオン結合し、その陽イオン基が第１のピリジニウム塩型液晶化合物２３０ｃの陰イオン基とイオン結合している。第１のピリジニウム塩型液晶化合物２３０ｃは、第１のピリジニウム塩型液晶化合物２３０ｂを介して外周面２６ｅに結合している。なお、潤滑層２０２は、第１のピリジニウム塩型液晶化合物と第２のピリジニウム塩型液晶化合物とが混合されたものに限定されず、第１のピリジニウム塩型液晶化合物及び第２のピリジニウム塩型液晶化合物の少なくとも一方を含んでいればよい。
【００７２】
このように、棒状イオン性液晶化合物は、イオン結合によりシャフト２６の外周面２６ｅに直接又は他の棒状イオン性液晶化合物を介して強固に結合して、外周面２６ｅに対して規則的に垂直配列する。すなわち、潤滑層２０２は、棒状イオン性液晶化合物が均一に垂直配列したスメクチック液晶相の皮膜を有する。潤滑層２０２がこの皮膜を有することで、スリーブ１０６の接触や衝突からシャフト２６を強固に保護することができる。また、この皮膜は、潤滑層２０２の摩擦係数を低減するように作用するため、これによってもシャフト２６の破損を抑制することができる。
【００７３】
潤滑層２０２において、棒状イオン性液晶化合物は、その末端部分が外周面２６ｅにイオン結合しているため、外周面２６ｅから剥がれ難く、また蒸発による消失も極めて少ない。したがって、シャフト２６にスリーブ１０６が接触、衝突しても潤滑層２０２は剥離、破損し難いため、シャフト２６とスリーブ１０６との摩耗や衝突によって異物が生じるおそれを長期間にわたって低減することができる。よって、軸受装置の長寿命化を図ることができる。
【００７４】
潤滑層２０２は、部品の表面（外周面２６ｅ）と接する領域の少なくとも一部に、棒状イオン性液晶化合物の単分子層２０２ａを有することが好ましい。また、潤滑層２０２は、全面が単分子層２０２ａであることがより好ましい。潤滑層２０２を棒状イオン性液晶化合物の単分子層２０２ａとすることで、潤滑層２０２の層厚を小さくすることができる。潤滑層２０２が単分子層２０２ａからなる場合、潤滑層２０２の層厚は棒状イオン性液晶化合物の長さと略等しく、例えば約２ｎｍ〜約３ｎｍとすることができる。なお、潤滑層２０２の層厚は、エリプソメータにより測定することができる。単分子層２０２ａは、潤滑層２０２を形成するための潤滑層形成用組成物における棒状イオン性液晶化合物の含有量を調整することで、形成することができる。
【００７５】
また、潤滑層２０２は、非イオン性液晶化合物及び非イオン性潤滑油の少なくとも一方を含むことが好ましい。非イオン性液晶化合物としては、従来公知の一般的な非イオン性液晶化合物を用いることができ、例えば下記式（４）〜（１３）で表される化合物を挙げることができる。
【００７６】
【化４】
2014145376.tif 000006
［式（４）〜（１３）中、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示す。］
【００７７】
また、非イオン性潤滑油としては、従来公知の一般的な潤滑油を用いることができ、例えばエーテル系、エステル系、及びオレフィン系等の潤滑油を挙げることができる。
【００７８】
棒状イオン性液晶化合物は、非イオン性の液晶化合物もしくは潤滑油に比べて、電荷の偏りがあるシャフト２６の外周面２６ｅに対して親和性が高い。そのため、潤滑層２０２が棒状イオン性液晶化合物に加えて非イオン性の液晶化合物もしくは潤滑油を含む場合、図５に示すように、棒状イオン性液晶化合物は外周面２６ｅ側に移動して外周面２６ｅとの界面部分に単分子層２０２ａを形成し、非イオン性の液晶化合物若しくは潤滑油は、単分子層２０２ａの上側で非イオン性化合物層２０２ｂを形成する。非イオン性化合物層２０２ｂは、水分が潤滑層２０２の表面から内部に侵入することを妨げることができる。これにより、棒状イオン性液晶化合物を外周面２６ｅにより結合させやすくすることができる。本実施の形態の潤滑層２０２は、非イオン性液晶化合物として上記式（４）で表されるビフェニル型（Ｒ５及びＲ６は炭素数１０のアルキル基）の非イオン性液晶化合物２５０を含有し、非イオン性液晶化合物２５０により非イオン性化合物層２０２ｂが形成されている。なお、非イオン性液晶化合物及び非イオン性潤滑油は、どちらか一方のみを使用してもよいし、両方を使用してもよい。また、それぞれ１種類のみを使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【００７９】
潤滑層形成用組成物における棒状イオン性液晶化合物の含有量が、単分子層２０２ａを形成するための含有量を上回る場合、図６に示すように、潤滑層２０２は、棒状イオン性液晶化合物が積層された構造をとる。図６は、棒状イオン性液晶化合物が積層された構造をとる潤滑層の一部を拡大して示す模式図である。すなわち、潤滑層２０２に含まれる棒状イオン性液晶化合物の一部は、炭化水素鎖を有する上記式（１）におけるＲ１部分若しくは上記式（２）におけるＲ２部分が、単分子層２０２ａを形成する棒状イオン性液晶化合物のＲ１部分もしくはＲ２部分と疎水性相互作用等によって近接し、単分子層２０２ａを形成する棒状イオン性液晶化合物に吸着する。
【００８０】
これにより、棒状イオン性液晶化合物の二重層２０２ｃが形成される。二重層２０２ｃにおいて、一層目の棒状イオン性液晶化合物と二層目の棒状イオン性液晶化合物は、陽イオン基及び陰イオン基を有する先端部分が互いに外側を向くようにして配列される。そのため、外周面２６ｅに結合した二重層２０２ｃの表面には、他の二重層２０２ｃの陽イオン基及び／又は陰イオン基がイオン結合することで、他の二重層２０２ｃが積層されうる。すなわち、二重層２０２ｃが繰り返し単位となって、潤滑層形成用組成物中の棒状イオン性液晶化合物の含有量に応じて二重層２０２ｃが複数積層される。二重層２０２ｃの積層数を調整することで、潤滑層２０２の層厚の調整が可能である。図６では、一例として２つの二重層２０２ｃが積層された構造を有する潤滑層２０２を示している。なお、潤滑層２０２が非イオン性液晶化合物若しくは非イオン性潤滑油を含む場合には、二重層２０２ｃの積層構造の上に非イオン性化合物層２０２ｂ（図５参照）が積層される。
【００８１】
潤滑層２０２を構成する棒状イオン性液晶化合物は、常温で結晶（固体）もしくはスメクチック液晶状態をとる。なお、棒状イオン性液晶化合物は、常温でスメクチック液晶状態をとる場合、潤滑層２０２内でガラス状態で存在する。そして、回転機器１００が駆動されてシャフト２６に対してスリーブ１０６が回転し始めると、摩擦熱により棒状イオン性液晶化合物が結晶状態からスメクチック液晶状態に相転移し、もしくはガラス状態からスメクチック液晶状態となる。なお、摩擦熱により棒状イオン性液晶化合物は、スメクチック液晶状態から液体状態に相転移しうる。液体状態となった棒状イオン性液晶化合物は、高いメニスカス力を発生してスリーブ１０６の回転安定性を向上させることができると考えられる。
【００８２】
潤滑層２０２を構成する棒状イオン性液晶化合物の相転移温度は、その構造に応じて異なる。例えば、上記式（２）でＡ２及びＢ２がＯ、Ｒ３がＣ２Ｈ５、ＹがＢｒである第２のピリジニウム塩型液晶化合物は、Ｒ２がＣ７Ｈ１５の場合、結晶相からスメクチックＡ液晶相への相転移温度が３５℃、逆方向の相転移温度が−２５℃である。また、Ｒ２がＣ１０Ｈ２１の場合、結晶相からスメクチックＡ液晶相への相転移温度が６０℃、逆方向の相転移温度が−２５℃、スメクチックＡ液晶相から等方性液体相への相転移温度及び逆方向への相転移温度が１３９℃である。また、Ｒ２がＣ９Ｈ１９の場合、結晶相からスメクチックＡ液晶相への相転移温度が７７℃、逆方向の相転移温度が−１℃、スメクチックＡ液晶相から等方性液体相への相転移温度及び逆方向への相転移温度が１００℃である。また、Ｒ２がＣ１１Ｈ２３の場合、結晶相からスメクチックＡ液晶相への相転移温度が８８℃、逆方向の相転移温度が−１８℃、スメクチックＡ液晶相から等方性液体相への相転移温度及び逆方向への相転移温度が１８０℃である。
【００８３】
潤滑層２０２に含まれる棒状イオン性液晶化合物は、１種類のみであってもよいが、潤滑層２０２の相転移温度の調整しやすさの観点から、潤滑層２０２は、複数種類の棒状イオン性液晶化合物を含むことが好ましい。潤滑層２０２が複数種類の棒状イオン性液晶化合物を含むことで、１種類の棒状イオン性液晶化合物のみを含む場合に比べて、潤滑層２０２の相転移温度の調整自由度を高めることができる。ここで、前記「複数種類の棒状イオン性液晶化合物を含む」には、第１のピリジニウム塩型液晶化合物及び第２のピリジニウム塩型液晶化合物を、それぞれ１種類ずつ含む場合と、いずれか一方のみを複数種類含む場合と、いずれか一方の複数種類と他方の１種類とを含む場合と、両方を複数種類含む場合とが含まれる。潤滑層形成用組成物に複数種類の棒状イオン性液晶化合物を混合し、その配合割合を適宜調整することで、潤滑層２０２が液晶状態をとる温度範囲を拡げることができる。これにより、軸受装置を好適に使用可能な温度範囲を拡げることができる。例えば、潤滑層２０２は、スメクチック液晶状態から液体状態への相転移温度が１００℃近傍に設定することができる。
【００８４】
＜潤滑層形成用組成物の調製方法＞
（第１のピリジニウム塩型液晶化合物の合成）
上記式（１）で表される第１のピリジニウム塩型液晶化合物は、例えば、下記反応式（１４）にしたがって、下記式（１５）で表される化合物と下記式（１６）で表される化合物とを溶媒中で反応させることにより合成することができる。
【００８５】
【化５】
2014145376.tif 000007
［反応式（１４）中、Ｒ１、Ａ１、Ｂ１、Ｘ及びｎは、上記式（１）中のものと同義である。Ｘ１は、ＳＯ２、ＣＯ、又はＰ（Ｏ）（ＯＨ）を示す。］
【００８６】
反応式（１４）の反応において、上記式（１５）で表される化合物と、上記式（１６）で表される化合物とを、式（１５）の化合物に対する式（１６）の化合物のモル比が０．９０〜１．１０、好ましくは０．９５〜１．０５となるように、アセトニトリル等の溶媒中に添加する。そして、１０〜１００℃、好ましくは５０〜９０℃で、１〜６０時間、好ましくは１０〜５０時間、窒素などの不活性雰囲気中で反応を行うことにより、第１のピリジニウム塩型液晶化合物を合成することができる。
【００８７】
一方の出発物質である上記式（１５）で表される化合物は、公知の化合物であり、上記式（１５）中のＡ１及びＢ１が酸素原子又は硫黄原子である化合物を例にとると、下記反応スキーム（１）にしたがって製造することができる。すなわち、まずマロン酸エステル（１７）とハロゲン化物（Ｒ１Ｘ’）とを反応させて、Ｒ１導入マロネイト（１８）を得る。そして、Ｒ１導入マロネイト（１８）をＬｉＡｌＨ４で還元して、化合物（１９ａ）（Ｒ１導入１，３−プロパンジオール）を得る。また、必要に応じてさらに反応を行い、化合物（１９ａ）から化合物（２０）を経て化合物（１９ｂ）を合成する。又は、化合物（１９ａ）から化合物（２１）を経て化合物（１９ｃ）を合成する。次いで、得られた化合物（１９ａ）、化合物（１９ｂ）又は化合物（１９ｃ）と、ピリジン−４−アルデヒド（２２）とを反応させることにより、化合物（１５）を得ることができる（例えば、特開平１０−５３５８５号公報、特開平１０−３３８６９１号公報、特開２０００−８６６５６号公報、「Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ」，１９９９，Ｖｏｌ．２６，Ｎｏ．１０，１４２５−１４２８参照）。
【００８８】
【化６】
2014145376.tif 000008
［反応スキーム（１）中、Ｒ１は上記式（１）中のものと同義である。Ａ１、Ｂ１はそれぞれ独立にＯ又はＳを示す。Ｒはアルキル基を示す。Ｘ’、Ｘ’’はハロゲン原子を示す。］
【００８９】
また、上記式（１５）中のＡ１及びＢ１がＣＨ２である化合物は、下記反応スキーム（２）にしたがって製造することができる。すなわち、まず４−置換フェノール（２３）をラネ−ニッケル、ラネ−コバルトなどの接触還元触媒の存在下で水素と反応させることにより、４−置換シクロヘキサノール（２４）を合成する（例えば、特開昭５８−１６４６７６号公報、特開平２−１３１４０５号公報、米国特許第３,３２２,６１９号公報参照）。次いで、得られた４−置換シクロヘキサノール（２４）と、ピリジン−４−アルデヒド（２２）とを反応させることにより、化合物（１５）を得ることができる。
【００９０】
【化７】
2014145376.tif 000009
［反応スキーム（２）中、Ｒ１は上記式（１）中のものと同義である。］
【００９１】
また、もう一方の出発原料である上記式（１６）で表される化合物のうち、上記式（１６）中のＸ１がＳＯ２又はＣＯである化合物は、市販品を用いることができる。また、上記式（１６）中のＸ１がＰ（Ｏ）（ＯＨ）である化合物は、例えば下記反応スキーム（３）にしたがって、下記式（２５）で表される化合物（２５）から下記式（２６）で表される化合物（２６）、下記式（２７）で表される化合物（２７）を経ることで得られる（例えば、「Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ」, Ｖｏｌ．８７,Ｎｏ．２，２５３−２６０ｐ，１９６５年参照）。
【００９２】
【化８】
2014145376.tif 000010
［反応スキーム（３）中、ｎは上記式（１）中のものと同義である。］
【００９３】
（第２のピリジニウム塩型液晶化合物の合成）
上記式（２）で表される第２のピリジニウム塩型液晶化合物は、例えば、下記反応式（２８）にしたがって合成することができる。すなわち、まず上述の反応スキーム（１）と同様の手順にしたがって化合物（２９）を得る。次いで、得られた化合物（２９）と、ハロゲン化物（３０）とを反応させて、第２のピリジニウム塩型液晶化合物を得る（例えば、特開平１０−５３５８５号公報、特開２０００−８６７２３号公報、特開２０００−８６６５６号公報、「Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ」，１９９９，Ｖｏｌ．２６，Ｎｏ．１０，１４２５−１４２８参照）。
【００９４】
【化９】
2014145376.tif 000011
［反応式（２８）中、Ｒ２、Ｒ３、Ａ２、Ｂ２及びＹは、上記式（２）中のものと同義である。］
【００９５】
上述のようにして得られた第１のピリジニウム塩型液晶化合物及び／又は第２のピリジニウム塩型液晶化合物と、必要に応じて非イオン性液晶化合物や非イオン性潤滑油とを、アルコール等の溶媒に添加し、混合することで潤滑層形成用組成物を調製することができる。溶媒は、棒状イオン性液晶化合物等を溶解できるものであれば特に限定されない。潤滑層形成用組成物における棒状イオン性液晶化合物の含有量は、例えば、潤滑層形成用組成物の全量に対して０．００１ｗｔ％〜１０ｗｔ％とすることができる。
【００９６】
＜潤滑層の形成方法＞
潤滑層２０２は、次のようにして軸受装置用の部品の表面に設けることができる。一例として、シャフト２６の外周面２６ｅ上に潤滑層２０２を設ける場合を説明する。すなわち、まずシャフト２６の外周面２６ｅ上に、陽イオン基及び陰イオン基を有する棒状イオン性液晶化合物を含有する潤滑層形成用組成物を付着させる。潤滑層形成用組成物を基板上に付着させる方法としては、例えば、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、キャスト法、真空蒸着法等を用いることができる。本実施の形態では、シャフト２６の全面に潤滑層形成用組成物を付着させる。この場合、潤滑層形成用組成物の非付着領域へのマスク処理を行う必要がないため、潤滑層２０２の形成工程を簡素化することができる。次いで、外周面２６ｅに付着した潤滑層形成用組成物を加熱する。この加熱処理により、潤滑層形成用組成物中の溶媒を揮発させ、棒状イオン性液晶化合物を規則的に垂直配列させることができる。加熱温度は、例えば５０〜１５０℃であり、加熱時間は、例えば１〜６０分である。一例として、塗布された潤滑層形成用組成物は、８０℃で１０分間加熱される。
【００９７】
なお、潤滑層形成用組成物を外周面２６ｅ上に付着させた後、加熱処理を施す前に、潤滑層形成用組成物の塗膜の厚さが均一になるよう塗膜の表面を均す工程を実施してもよい。これにより、潤滑層２０２の層厚を均一にすることができる。その結果、外周面２６ｅ上に設けられる潤滑層２０２と、スリーブ１０６の内周面１０６ａ上に設けられる潤滑層２０２との間の距離を均一にすることができ、シャフト２６とスリーブ１０６との相対回転を安定化させることができる。潤滑層２０２は、表面エネルギーの低い材料で形成されることが好ましい。これにより、他の物質が外周面２６ｅに吸着することを抑制することができる。
【００９８】
本実施の形態では、潤滑剤９２としては、棒状イオン性液晶化合物を非含有の潤滑剤を用いる。しかしながら、特にこれに限定されず、潤滑剤９２は、棒状イオン性液晶化合物を含有してもよい。なお、シャフト２６の外周面２６ｅ及びスリーブ１０６の内周面１０６ａに潤滑層２０２を設けず、棒状イオン性液晶化合物を含有する潤滑剤９２を第１隙間１２６に充填した場合、潤滑剤９２中の棒状イオン性液晶化合物が外周面２６ｅ及び内周面１０６ａに結合して、外周面２６ｅ上及び内周面１０６ａ上に、棒状イオン性液晶化合物の層（以下では適宜、この層を疑似潤滑層という）が形成されうる。しかしながら、この疑似潤滑層と、上述した加熱工程を経て設けられる潤滑層２０２とは構造が全く異なり、潤滑層２０２は疑似潤滑層に比べて、棒状イオン性液晶化合物の規則性がより高く、部品表面により均一に結合した構造を有する。当業者であれば、外周面２６ｅや内周面１０６ａに結合した棒状イオン性液晶化合物の規則性の高さや、結合の均一性、密度等から、疑似潤滑層と潤滑層２０２とを見分けることができる。
【００９９】
以上説明したように、本実施の形態に係る軸受装置用の部品は、陽イオン基及び陰イオン基を有する棒状イオン性液晶化合物を含む潤滑層２０２を表面上に備える。潤滑層２０２を設けることで、軸受装置用の部品が他の部品と接触することで異物である摩耗粉が生じたり、他の部品と衝突して破損し、異物である破片が生じることを抑制できる。特に部品が軸体及び／又は軸受体、若しくは回転体及び／又は静止体である場合、軸体と軸受体、若しくは回転体と静止体とは、回転開始時や減速時等の低速回転時に互いに接触し、摩耗粉が生じる可能性がある。また、回転機器１００を搭載した機器の落下等により互いに衝突して破損し、破片が生じる可能性がある。そのため、これらの部品に潤滑層２０２を設けることで、異物の発生を抑制して、軸受装置の長寿命化を図ることができる。また、潤滑層２０２内には、棒状イオン性液晶化合物が均一に垂直配列し、下層の表面にイオン結合により強固に結合した棒状イオン性液晶化合物の皮膜が形成される。これにより、潤滑層２０２は、部品の表面から剥がれ難くなるため、異物の発生を長期間にわたって抑制することができ、軸受装置のより一層の長寿命化を図ることができる。
【０１００】
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を加えることが可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれる。上述の実施の形態に変形が加えられた新たな実施の形態は、組み合わされる実施の形態及び変形それぞれの効果をあわせもつ。
【０１０１】
実施の形態では、円筒状マグネット３２が積層コア４０の外側に位置する、いわゆるアウターロータ型の回転機器について説明したが、これに限られない。例えば円筒状マグネット３２が積層コア４０の内側に位置する、いわゆるインナーロータ型の回転機器であってもよい。また、実施の形態では、ベース４にハウジング１０２が直接取り付けられる場合について説明したが、これに限られない。例えば、回転部及び固定部からなるブラシレスモータを別途形成した上で、そのブラシレスモータをシャーシに取り付ける構成としてもよい。実施の形態では積層コア４０を用いる場合について説明したが、コアは積層コアでなくてもよい。
【０１０２】
なお、本発明の他の態様としては、上述した実施の形態に係る軸受装置用の部品を備える軸受装置、及びこの軸受装置を搭載した回転機器１００若しくはディスク駆動装置を挙げることができる。また、軸体及び軸受体の少なくとも一方の表面に、棒状イオン性液晶化合物を含有する潤滑層形成用組成物を付着させる工程と、表面に付着した潤滑層形成用組成物を加熱して潤滑層を形成する工程と、軸体を軸受体に収納する工程と、軸体の外周面と軸受体の内周面の隙間に潤滑剤を充填する工程とを含む軸受装置の製造方法も、本発明の他の態様に含まれる。また、回転体及び静止体の少なくとも一方の表面に、棒状イオン性液晶化合物を含有する潤滑層形成用組成物を付着させる工程と、表面に付着した潤滑層形成用組成物を加熱して潤滑層を形成する工程と、回転体と静止体とを組み合わせる工程と、回転体の回転体面と静止体の静止体面の隙間に潤滑剤を充填する工程とを含む軸受装置の製造方法も、本発明の他の態様に含まれる。さらに、これらの軸受装置の製造方法によって製造された軸受装置を搭載することを含む回転機器の製造方法も、本発明の他の態様に含まれる。
【実施例】
【０１０３】
以下、本発明の実施例を説明するが、これら実施例は、本発明を好適に説明するための例示に過ぎず、なんら本発明を限定するものではない。
【０１０４】
（実施例）
棒状イオン性液晶化合物として、上記式（２）でＡ２及びＢ２がＯ、Ｒ３がＣ２Ｈ５、Ｒ２がＣ１０Ｈ２１、ＹがＢｒである第２のピリジニウム塩型液晶化合物の５ｍｇを、エタノール１ｍｌに添加し、溶解させて、実施例の潤滑層形成用組成物を調製した。得られた潤滑層形成用組成物を、スピンコーターを用いて、試験片としてのステンレス板（ＳＵＳ３０４板）にスピンコートした。その後、試験片をホットプレート上に載置し、８０℃で３０分加熱した。
【０１０５】
表面性測定機（ＴＹＰＥ：１４ＦＷ、新東科学株式会社製）に、実施例の潤滑層形成用組成物をコートした試験片を載置し、直径１０ｍｍのステンレス球（ＳＵＳ３０４球）を試験片の表面で往復摺動させる表面性試験を実施した。試験条件は、垂直荷重：１００ｇ、摩擦速度：６００ｍｍ／ｍｉｎ、往復回数：１８００回、往復ストローク：５ｍｍ、荷重変換器容量：１９．６１Ｎ、試験片温度：４０℃とした。その後、試験片の表面における傷の有無を目視で確認した。
【０１０６】
（比較例）
棒状イオン性液晶化合物を添加しなかったことを除いて実施例と同一の手順及び条件で、比較例の組成物を調製し、試験片にコートして表面性試験を実施し、試験片の表面における傷の有無を確認した。
【０１０７】
その結果、実施例では、試験片の表面に傷が見られなかったが、比較例では、試験片の表面に傷が見られた。したがって、潤滑層形成用組成物に棒状イオン性液晶化合物を含有させることで、保護性能の高い潤滑層を形成できることが確認された。
【符号の説明】
【０１０８】
２６  シャフト、  ９２  潤滑剤、  １０２  ハウジング、  １０４  リング部、  １０６  スリーブ、  ２０２  潤滑層、  ２０２ａ  単分子層、  ２３０ａ，２３０ｂ，２３０ｃ  第１のピリジニウム塩型液晶化合物、  ２４０ａ  第２のピリジニウム塩型液晶化合物、  ２５０  非イオン性液晶化合物、  Ｒ  回転軸。
【図１】
2014145376.tif 000015
【図２】
2014145376.tif 000016
【図３】
2014145376.tif 000017
【図４】
2014145376.tif 000018
【図５】
2014145376.tif 000019
【図６】
2014145376.tif 000020