(57)【要約】【課題】本発明の蒸着用基板保持トレイは、基板が変形することよって基板が損傷することを防ぐことが可能な蒸着用基板保持トレイを提供することを目的とする。【解決手段】基板３を下または上に凸となるようにして強制的に撓み変形させた状態で保持する保持機構１２１と、基板３に沿って下または上に凸となる湾曲し、保持機構１２１に保持された基板３の裏面を支持する支持面１２２１ａ有するトレイ本体１２２とを備えることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を下または上に凸となるようにして強制的に撓み変形させた状態で保持する保持機構と、
前記基板に沿って下または上に凸となる湾曲し、前記保持機構に保持された前記基板の裏面を支持する支持面を有するトレイ本体とを備えることを特徴とする蒸着用基板保持トレイ。
【請求項２】
前記支持面は、使用する蒸着装置の蒸着源から拡散する蒸着材の拡散形状に応じた形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用基板保持トレイ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の蒸着用基板保持トレイと、
前記蒸着用基板保持トレイに保持された前記基板の表面に向けて蒸着材を放出する蒸着源と、
真空チャンバーと、を備えることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項４】
前記蒸着源は、前記支持面に応じた拡散形状で前記蒸着材を拡散させることを特徴とする請求項３に記載の真空蒸着装置。
【請求項５】
前記蒸着源は、前記支持面に応じて配置された複数の拡散口を有することを特徴とする請求項３又は４に記載の真空蒸着装置。
【請求項６】
前記蒸着源は、湾曲した前記基板の表面上で均一となるように、該基板の幅方向で異なる分布で前記蒸着材を拡散させることを特徴とする請求項３から５のいずれか一項に記載の真空蒸着装置。
【請求項７】
前記基板を保持する前記蒸着用基板保持トレイを連続して搬送する搬送手段を備えることを特徴とする請求項３〜６のいずれか一項に記載の真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着用基板保持トレイ、及び蒸着用基板保持トレイを備える真空蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空蒸着装置は、真空チャンバー内に蒸着材を収容した蒸発源で蒸着材を蒸発又は昇華により気化させると共に、気化された蒸着材を真空チャンバー内の底部に配設した蒸着源の開口部から拡散させ、上方において配置される基板の表面に対してマスクのパターンに応じた成膜を行うようになっている。近年においては、このような真空蒸着装置は、金属材料の蒸着に限らず、有機物を蒸着材として、有機ＥＬ素子の薄膜や液晶ディスプレイの製造過程にも用いられている。
【０００３】
このような真空蒸着装置としては、例えば、特許文献１が開示されている。具体的には、特許文献１に記載の真空蒸着装置は、複数の開口が設けられたガラス板と保持部材とで基板を挟み込んで、蒸着源の上方に配置する。このガラス板は、開口部分にマスクが嵌め込まれて固定されている。そして、保持部材は、基板の撓みに応じて複数の点で荷重を加える付勢手段を有している。この付勢手段によって、基板をガラス板に向かって複数の点で押し付け、ガラス板に固定されたマスクと基板とを密着させて蒸着パターンの精度を向上させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２８１７４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のような真空蒸着装置では、基板をガラス板に向かって複数の点で押し付けており、マスクが固定されている部分は押し付けられていないため、マスク部分の基板が自重によって撓み変形してしまい、搬送に伴って撓み量が変動するように振動してしまう可能性がある。また、雰囲気の温度変化により、基板も温度変化してこれにより撓み量が変化してしまう場合がある。このように基板の撓み量が変化すると、密着したマスクと基板との間に隙間が生じて蒸着パターンの精度が低下したり、蒸着源との距離が変化して蒸着膜の膜厚が不均一になったりしてしまう。
【０００６】
また、矩形状のマスクが固定されている部分が開口し、いわゆる格子状をなすガラス板で下方から基板及びマスクを支持しているため、格子状のガラス板によって区画された開口部分しか成膜できず、また、当該ガラス板によって影が生じてしまうこととなり、蒸着膜が形成された大型の基板を製造することができなくなってしまうという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、大型の基板であっても、均一に成膜することが可能であるとともに、搬送時などに基板が変形して破損してしまうことを防止することが可能な蒸着用基板保持トレイ、及び蒸着用基板保持トレイを備える真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を提案している。
本発明の一態様に係る蒸着用基板保持トレイは、基板を下または上に凸となるようにして強制的に撓み変形させた状態で保持する保持機構と、前記基板に沿って下または上に凸となる湾曲し、前記保持機構に保持された前記基板の裏面を支持する支持面を有するトレイ本体とを備えることを特徴とする。
【０００９】
このような構成によれば、強制的に基板を撓み変形させてトレイ本体の支持面で基板を固定することで、自重や温度変化に起因して基板の撓み量が変化してしまうことを抑制することができる。そのため、基板が変形することよる基板の損傷を防止し、また、膜厚の均一化を図ることが可能となる。
【００１０】
また、本発明の他の態様に係る蒸着用基板保持トレイは、前記支持面は、使用する蒸着装置の蒸着源から拡散する蒸着材の拡散形状に応じた形状に形成されていることを特徴とする。
【００１１】
このような構成によれば、支持面の形状を蒸着源から拡散する蒸着材の拡散形状に応じた形状とすることで、蒸着源から基板の成膜面までの距離を一定とすることができ、基板の端部まで均一に成膜することができる。
【００１２】
さらに、本発明の一の態様に係る真空蒸着装置は、前記蒸着用基板保持トレイと、前記蒸着用基板保持トレイに保持された前記基板の表面に向けて蒸着材を放出する蒸着源と、真空チャンバーと、を備えることを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、蒸着用基板保持トレイを用いることで容易に基板の変形を抑えることができる。このため、基板が変形することよって基板が損傷することを防ぎながら、均一に成膜することが可能となる。
【００１４】
また、本発明の他の態様に係る真空蒸着装置は、前記蒸着源は、前記支持面に応じた拡散形状で前記蒸着材を拡散させることを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、蒸着源から拡散する蒸着材の拡散形状を支持面の形状に応じた形状とすることで、蒸着源から基板の成膜面までの距離を一定とすることができる。これにより、薄膜の膜厚を基板の端部まで均一することが可能となる。
【００１６】
さらに、本発明の他の態様に係る真空蒸着装置は、前記蒸着源は、前記支持面に応じて配置された複数の拡散口を有することを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、複数の拡散口を支持面に応じて配置することで、各拡散口から基板までの距離を均一とし、拡散口から放出される蒸着材を基板に均一に付着させることができる。これにより、基板に均一な膜厚で成膜することができる。
【００１８】
また、本発明の他の態様に係る真空蒸着装置は、前記蒸着源は、湾曲した前記基板の表面上で均一となるように、該基板の幅方向で異なる分布で前記蒸着材を拡散させることを特徴とする。
【００１９】
このような構成によれば、基板の表面上で均一となるよう蒸着源から異なる分布で蒸着材を拡散させることで、膜厚が薄くなりやすい部分に多くの蒸着材を放出させるようにして、基板の端部まで形成される薄膜を均一とすることができる。
【００２０】
さらに、本発明の他の態様に係る真空蒸着装置は、前記基板を保持する前記蒸着用基板保持トレイを連続して搬送する搬送手段を備えることを特徴とする。
【００２１】
このような構成によれば、基板が蒸着用基板保持トレイに固定されているため、搬送手段で連続して搬送しても基板が撓み変形して損傷してしまうことがない。そのため、連続して複数の基板に安定して成膜することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の蒸着用基板保持トレイによれば、大型の基板であっても、均一に成膜することが可能であるとともに、搬送時などに基板が変形して破損してしまうことを防止することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の第一実施形態に係る蒸着用基板保持トレイを備える真空蒸着装置を説明する模式図ある。
【図２】本発明の第二実施形態に係る蒸着用基板保持トレイを備える真空蒸着装置を説明する模式図ある。
【図３】本発明の第三実施形態に係る蒸着用基板保持トレイを備える真空蒸着装置を説明する模式図ある。
【図４】本発明の第四実施形態に係る蒸着用基板保持トレイを備える真空蒸着装置を説明する模式図ある。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明に係る実施形態について図１を参照して説明する。
第一実施形態の真空蒸着装置１は、基板３を搬送しながら順次複数の薄膜を真空蒸着によって形成するインライン式の真空蒸着装置１である。図１に示すように、第一実施形態の真空蒸着装置１は内部で蒸着が行われる真空チャンバー１１と、真空チャンバー１１内で基板３を保持する蒸着用基板保持トレイ１２と、基板３に向かって蒸着材２を噴射する蒸着源１３と、蒸着用基板保持トレイ１２を搬送する搬送手段１４とを有している。インライン式の真空蒸着装置１は、図１に示すような真空チャンバー１１が複数並列して配置されることで構成されている。
【００２５】
真空チャンバー１１は、箱状に形成され、アルミ合金、ステンレス鋼等から構成されている。この真空チャンバー１１の内側の空間は図示しない真空ポンプにて減圧可能とされており、これによって真空チャンバー１１内は真空チャンバー１１の外側よりも低圧状態とされる。
【００２６】
蒸着用基板保持トレイ１２は、基板３を固定して保持しており、外部から真空チャンバー１１内に投入され、真空チャンバー１１内で基板３を搬送している。蒸着用基板保持トレイ１２は、基板３を非成膜面である裏面側から支持するトレイ本体１２２と、基板３を搬送方向（図１紙面左右方向）の両側から保持する保持機構１２１とを有している。
トレイ本体１２２は、基板３を非成膜面である裏面側から支持しており、基板３を裏面側に向かって凹形状とさせて湾曲する支持面１２２１ａを有する底板と、底板の外周に設けられる枠体１２２２とを有し、搬送時に下方（図１紙面下方向）となる面が開口した箱状をなしている。
天板１２２１は、基板３の裏面と接触して支持しており、基板３を裏面側に向かって予め定めた凹形状となるよう撓み変形せるように湾曲した矩形板状をなしている。
支持面１２２１ａは、天板１２２１の基板３の裏面と接触する側の面であり、蒸着源１３から離れるように固定される基板３を裏面側に向かって凹形状とさせるように湾曲している。具体的には、支持面１２２１ａは、後述する拡散口１３１から拡散して放出される蒸着材２の楕円球状の分布をなす拡散形状に沿った形状で形成されている。
枠体１２２２は、天板１２２１の外周に設けられ、トレイ本体１２２の側面を構成している。
【００２７】
保持機構１２１は、基板３を強制的に支持面１２２１ａに沿って当接するよう撓み変形させて基板３を端面から固定して保持する。保持機構１２１は、トレイ本体１２２の支持面１２２１ａの搬送方向の両側に対向して設けられ基板３を保持する基板保持部１２１１と、基板保持部１２１１での基板３の保持する力を調整する保持操作部１２１２とを有する。
基板保持部１２１１は、断面Ｌ字状をなしており、トレイ本体１２２の搬送方向両側に片側二箇所ずつの合計四カ所でＬ字状の溝部分をトレイ本体１２２の中央部を向けて対向して設けられている。基板保持部１２１１は、基板３をトレイ本体１２２の支持面１２２１ａ上に配置した後に、搬送方向の両側のＬ字状の溝部分に基板３の端部を入れることで基板３が落下しないよう保持する。
【００２８】
保持操作部１２１２は、基板保持部１２１１が基板３を保持する力を調整しており、例えば、本実施形態では、ハンドル状をなして基板保持部１２１１と連動しており回転することで基板保持部１２１１の位置を調整して基板３を保持する力を調整している。具体的には、保持操作部１２１２であるハンドル状をなす保持操作部１２１２を一方向に回転させることで、基板保持部１２１１が基板３をトレイ本体１２２の支持面１２２１ａに強制的に押し付けるように可動する。そして、逆方向にハンドル状をなす保持操作部１２１２を回転させることで、基板保持部１２１１が基板３から離間するように可動する。
【００２９】
蒸着源１３は、真空チャンバー１１内の底部に配置され、基板３に向かって蒸着材２を拡散して放出している。蒸着源１３は、基板３が配置された上方（図１紙面上方向）に向かって開口する拡散口１３１と、蒸着材２が配置されている蒸着源本体１３２とを有している。
【００３０】
拡散口１３１は、上方に向かって開口する円筒状をなすノズルであり、基端部側が蒸着源本体１３２と連通して接続されている。拡散口１３１は、蒸着材２を拡散させる拡散形状がＣＯＳｎθ則にしたがって楕円球状をなすよう開口から蒸着材２を拡散して放出するような開口形状をなしている。
なお、拡散口１３１からの蒸着材２の拡散形状は、蒸着材２の種類、周囲の温度、成膜速度や拡散口１３１の形状などによって異なるため、事前に実験によって形状を確認することが好ましい。例えば、蒸着源１３の温度を上げ成膜速度を上昇した場合や蒸着源１３の形状を細長い形状とした場合、拡散形状は基板３側に尖ったような楕円形状となる。
【００３１】
蒸着部本体は、箱形状をなしており、上面に拡散口１３１が接続されている。蒸着部本体は、内部に蒸着材２が配置されており、蒸着源本体１３２内の圧力が一定となるように空間が十分に設けられている。そして、蒸着源本体１３２内に配置された図示しない加熱機構よって蒸着材２を加熱可能することで蒸着材２を粒子状にしている。
【００３２】
搬送手段１４は、真空チャンバー１１内に配置され、図示しない駆動部によって回転されるガイドローラ１４１を有している。搬送手段１４は、このガイドローラ１４１上を蒸着用基板保持トレイ１２通過させることで、図示しない複数の異なる真空チャンバー１１間や真空チャンバー１１外に基板３を連続して搬送している。
ガイドローラ１４１は、真空チャンバー１１内に蒸着用基板保持トレイ１２を落下させないよう所定の間隔を開けて複数配置され、基板３への蒸着を妨げないよう蒸着源１３である拡散口１３１の上方以外に配置されている。
【００３３】
次に、第一実施形態の蒸着用基板保持トレイ１２を備える真空蒸着装置１の作用について説明する。
基板３をトレイ本体１２２の支持面１２２１ａ上に配置し、かつ、保持機構１２１の基板保持部１２１１のＬ字状の溝部分に基板３の端部が入り込むように配置する。この状態では、基板３は基板保持部１２１１の溝部分に入り込んでいるだけのため、基板３は蒸着用基板保持トレイ１２に固定はされていない。
そして、基板３の端部が基板保持部１２１１の溝部分に入り込んだ状態で、保持操作部１２１２を回転させ、基板３を支持面１２２１ａ側に押圧するように基板保持部１２１１を支持面１２２１ａ側に向かって可動させる。基板保持部１２１１が支持面１２２１ａ側に向かって可動されることで、基板３の非成膜面である裏面が支持面１２２１ａに沿って当接するよう強制的に撓み変形され、基板３が蒸着用基板保持トレイ１２に固定される。
なお、この際、蒸着される基板３がフォトレジスト等を実施していない基板３であって、マスクを必要とする場合、基板３の成膜面である表面にマスクを重ねて、基板３と共にマスクも保持機構１２１で固定する。
【００３４】
その後、蒸着材２を蒸着源１３に投入し、搬送手段１４であるガイドローラ１４１上を基板３が固定されている蒸着用基板保持トレイ１２の枠体１２２２が移動することで、真空チャンバー１１内の蒸着源１３の上方まで蒸着用基板保持トレイ１２を搬送する。基板３が固定されている蒸着用基板保持トレイ１２が蒸着源１３の上方に配置された状態で、図示しない真空ポンプによって真空チャンバー１１内を真空状態とする。真空チャンバー１１内が真空状態となると、蒸着源１３は蒸着材２を加熱し粒子状とする。粒子状となった蒸着材２は、拡散口１３１から拡散して放出され、基板３の表面に付着する。その結果、基板３の表面に薄膜が形成される。
【００３５】
上記のような蒸着用基板保持トレイ１２によれば、保持機構１２１である基板保持部１２１１によって基板３を裏面側からトレイ本体１２２の支持面１２２１ａに沿って当接するように強制的に撓み変形させて固定することで、自重や周囲の温度変化に起因して基板３が変形することができなくなり、新たな変形を抑えることができる。つまり、基板３の自重や周囲の温度変化による変形量よりも大きく変形させることで、基板３の自重や周囲の温度変化に起因して基板３の撓み量が変化してしまうことを抑制することができる。そのため、トレイ本体１２２上で基板３が変形して振動することにより生じる成膜面の傷つきや基板３が固定されていないために搬送時にトレイ本体１２２上を基板３が移動することにより生じる基板の破損を抑えることができる。また、基板３が変形することがないため、トレイ本体１２２と基板３との間に隙間が生じず、拡散口１３１から基板３の成膜面まで距離が変化することがない。そのため、蒸着源１３の拡散口１３１と基板３との距離が変わることにより生じる膜厚の偏りを抑えることができる。これらにより、基板３が変形することよる基板３の損傷を防止し、また、膜厚の均一化を図ることが可能となる。
【００３６】
また、トレイ本体１２２の支持面１２２１ａの形状を蒸着源１３である拡散口１３１から拡散される蒸着材２の楕円球状の拡散形状に応じた形状とすることで、蒸着源１３の拡散口１３１から支持面１２２１ａに固定された基板３の成膜面までの距離を一定とすることができる。そのため、基板３の中心部分から端部まで場所に関わらず均一に蒸着によって成膜することができる。
【００３７】
さらに、基板３の幅寸法よりも小さい蒸着源１３の拡散口１３１から蒸着材２を放出したとしても、その拡散形状に応じた形状に基板３を撓み変形させることで、小さな蒸着源１３の拡散口１３１でも拡散範囲全体を利用して基板３に均一に蒸着することができ、蒸着材２の利用効率を高めることが可能である。
【００３８】
また、基板３を保持機構１２１の基板保持部１２１１によって固定しているため、成膜面を大きく開口することができる。そのため、基板３の大きさに関わらず、任意の大きさの基板３を均一に成膜することができる。
【００３９】
上記のような真空成膜装置によれば、蒸着用基板保持トレイ１２を用いることで容易に基板３の変形を抑えることができる。そのため、トレイ本体１２２上で基板３が変形して振動することにより生じる成膜面の傷つき、基板３が固定されていないために搬送時にトレイ本体１２２上を基板３が移動することにより生じる基板の破損、及び、蒸着源１３の拡散口１３１と基板３との距離が変わることにより生じる膜厚の偏りを抑えることができる。これにより、基板３が変形することよって基板３が損傷することを防ぎながら、均一に成膜することが容易に可能となる。
【００４０】
また、搬送手段１４であるガイドローラ１４１によって蒸着用基板保持トレイ１２を異なる真空チャンバー１１間を連続して搬送しても、蒸着用基板保持トレイ１２の支持面１２２１ａに沿って固定して基板３の変形を抑えているため、搬送時に基板３が撓み変形して成膜面に損傷を負わせることない。そのため、連続して複数の基板３に安定して成膜することができる。
【００４１】
次に、図２を参照して第二実施形態の蒸着用基板保持トレイ１２を備えた真空蒸着装置１について説明する。
第二実施形態においては第一実施形態と同様の構成要素には同一の符号を伏して詳細な説明を省略する。この第二実施形態の蒸着用基板保持トレイ１２を備えた真空蒸着装置１は、蒸着用基板保持トレイ１２の湾曲する方向と、蒸着源１３の拡散口１３１の形状について相違する。
【００４２】
即ち、第二実施形態における真空蒸着装置１は、支持面１２２１ａの湾曲する方向が第一実施形態と異なる第二支持面２２２１ａを有する第二蒸着用基板保持トレイ２２と、第二蒸着用基板保持トレイ２２の第二支持面２２２１ａの形状に合わせて蒸着材２を拡散させて放出する湾曲線状蒸着源２３とを有する。
【００４３】
第二蒸着用基板保持トレイ２２は、基板３を非成膜面である裏面側から押圧するように支持する第二トレイ本体２２２と、第一実施形態と同様に基板３を搬送方向の両側から保持する保持機構１２１とを有している。
第二トレイ本体２２２は、平板状をなす平天板２２２１と、平天板２２２１の基板３が固定される側に凸形状をなして形成される第二支持面２２２１ａと、底板の外周に設けられる第二枠体２２２２とを有し、搬送時に下方となる面が開口した箱状をなしている。
平天板２２２１は、第二トレイ本体２２２の天面を形成している。
第二支持面２２２１ａは、平天板２２２１から基板３が固定される側に凸形状をなして湾曲して形成され、基板３を第二蒸着用基板保持トレイ２２に固定した際に基板３の裏面と接触する側の突起部である。第二支持面２２２１ａは、基板３を取り付けて第二支持面２２２１ａを下方に向けた際に基板３が自重で撓む量よりも大きく撓むように湾曲した形状をなしている。例えば、基板３のサイズがＧ４サイズと言われる６８０ｍｍ×８８０ｍｍの場合、自重により中心部が３０〜１００ｍｍ程度撓むため、基板３の中心部でこれ以上に撓むように第二支持面２２２１ａを湾曲させる。
第二枠体２２２２は、第一実施形態と同様に、平天板２２２１の外周に設けられ、トレイ本体１２２の側面を構成している。
【００４４】
湾曲線状蒸着源２３は、真空チャンバー１１内の底部に配置され、上方に向かって第二支持面２２２１ａに応じた形状をなして開口する湾曲線状拡散口２３１と、蒸着材２が配置されている蒸着源本体１３２とを有している。
湾曲線状拡散口２３１は、上方に向かって第二支持面２２２１ａに応じて湾曲した形状をなして線状に連続した開口を有しており、基端部側が蒸着源本体１３２と連通して接続されている。
蒸着源本体１３２は、第一実施形態と同様の構成をなしており、上面に湾曲線状拡散口２３１が接続されている。
【００４５】
上記のような構成によれば、保持機構１２１である基板保持部１２１１によって基板３を裏面側から第二トレイ本体２２２の第二支持面２２２１ａに沿って当接するように強制的に自重で撓む方向へ撓み変形させることで、基板３の撓みによる変形をより確実に抑えることができる。即ち、基板３が撓む方向に基板３が自重で撓む量よりも大きく撓むように湾曲した形状である第二支持面２２２１ａに基板３が当接して固定されることで、それ以上基板３が自重で撓むことを抑えることができる。基板３が変形することがないため、トレイ本体１２２と基板３との間に隙間が生じず、湾曲線状拡散口２３１から基板３の成膜面まで距離が変化することがない。そのため、トレイ本体１２２上で基板３が変形して振動することにより生じる成膜面の傷つき、基板３が固定されていないために搬送時にトレイ本体１２２上を基板３が移動することにより生じる基板の破損、及び、蒸着源１３の拡散口１３１と基板３との距離が変わることにより生じる膜厚の偏りをより確実に抑えることができる。これにより、基板３が変形することよって基板３が損傷することをより確実に防ぐことが可能となる。
【００４６】
また、湾曲線状蒸着源２３の湾曲線状拡散口２３１から拡散される蒸着材２の拡散形状は、第二支持面２２２１ａに応じて湾曲した形状をなす湾曲線状拡散口２３１の開口形状に沿った形状をなしている。湾曲線状拡散口２３１は第二支持面２２２１ａに応じて湾曲した形状をなしているため、湾曲線状拡散口２３１の開口部分から基板３の成膜面まで距離を基板３の中央部分から端部まで一定とすることができる。これにより、薄膜の膜厚を基板３の端部まで均一することが可能となる。
【００４７】
次に、図３を参照して第三実施形態の蒸着用基板保持トレイ１２を備えた真空蒸着装置１について説明する。
第三実施形態においては第二実施形態と同様の構成要素には同一の符号を伏して詳細な説明を省略する。この第三実施形態の蒸着用基板保持トレイ１２を備えた真空蒸着装置１は、蒸着源１３の形状について第二実施形態と相違する。
【００４８】
即ち、第三実施形態における真空蒸着装置１は、第一実施形態と同様の拡散口１３１を湾曲した面に沿って傾斜させて基板３の幅方向に複数配置する湾曲蒸着源３２を有する。
湾曲蒸着源３２は、上面が第二支持面２２２１ａに沿って湾曲した湾曲面３２２ａを有する湾曲蒸着源本体３２２と、湾曲面３２２ａ沿って形成して複数配置される拡散口１３１とを有している。
湾曲蒸着源本体３２２は、上面が湾曲した湾曲面３２２ａを有する箱形状をなしており、湾曲面３２２ａに拡散口１３１が複数離間して接続されている。湾曲蒸着源本体３２２は、内部に蒸着材２が配置されており、形状以外は第一実施形態の蒸着源本体１３２と同様の働きを有する。
湾曲面３２２ａは、第二支持面２２２１ａの形状に対応するよう湾曲した面をなしている。
拡散口１３１は、第一実施形態と同様の形状をなしており、湾曲面３２２ａに沿って傾斜して複数配置される点が第一実施形態と異なっている。
【００４９】
上記のような構成によれば、複数の拡散口１３１を第二支持面２２２１ａに応じて湾曲する湾曲面３２２ａに沿って配置することで、各拡散口１３１から基板３の成膜面までの距離を均一とし、基板３に均一に付着することができる。これにより、基板３に均一な膜厚で成膜することができる。
【００５０】
次に、図４を参照して第四実施形態の蒸着用基板保持トレイ１２を備えた真空蒸着装置１について説明する。
第四実施形態においては第二実施形態と同様の構成要素には同一の符号を伏して詳細な説明を省略する。この第四実施形態の蒸着用基板保持トレイ１２を備えた真空蒸着装置１は、蒸着源１３の形状について第二実施形態と相違する。
【００５１】
即ち、第四実施形態における真空蒸着装置１は、第一実施形態と同様の拡散口１３１を階段状に複数配置する階段蒸着源４２を有する。
階段蒸着源４２は、上方に向かって開口し基板３の幅方向に配置される位置によって長さの異なる長短拡散口４２１と、蒸着材２が配置されている蒸着源本体１３２とを有している。
長短拡散口４２１は、上方に向かって開口する円筒状をなすノズルであり、基板３の幅方向に配置される位置によって長さが異なっている。そして、長短拡散口４２１は、互いに離間して、第二トレイ本体２２２に固定された基板３から拡散口１３１の開口までの距離が一定となるよう階段状に並列して複数配置されている。具体的には、基板３の中心部分に近い位置に配置される長短拡散口４２１が一番短く、基板３の端部に近い位置に配置されるにしたがって長短拡散口４２１は次第に長くなっている。長短拡散口４２１は、第一実施形態と同様の断面形状であるが長さが配置される位置によって異なっており、長さを変化させることで出口コンダクタンスを調整し、放出される蒸着材２の量を調整している。
【００５２】
上記のような構成によれば、蒸着源１３を複数の長短拡散口４２１を有する階段蒸着源４２とすることで、基板３の表面である成膜面上で均一となるよう基板３の幅方向に複数配置された長短拡散口４２１毎に異なる分布で放出する蒸着材２の量を変化させて蒸着を行うことができる。即ち、基板３の端部など膜厚が薄くなりやすい部分に近い位置に配置された長短拡散口４２１では蒸着材２を多く放出するよう調整することで、基板３に形成される薄膜を中央部分から端部まで均一にすることができる。これにより、基板３の端部まで形成される薄膜を均一とすることが容易に可能となる。
【００５３】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。また、本発明は実施形態によって限定されることはなく、クレームの範囲によってのみ限定される。
【００５４】
なお、本実施形態に係る蒸着用基板保持トレイ１２を備える真空蒸着装置１はインライン式の真空蒸着装置１に限定されるものでなく、例えば、バッチ式の真空蒸着装置１等に用いても良い。
また、本実施形態の保持手段の形状は本実施形態片側二カ所に限定されるものではなく、基板３を支持面１２２１ａに沿って固定できる構造であれば良い。例えば、設けられる位置が搬送方向と直交する方向の両サイドであっても良く、片側のみが可動して基板３を固定する構造としても良く、基板３の四隅を固定する構造としても良い。即ち、基板保持部１２１１は、使用される基板３や形成する蒸着膜に応じて設けられれば良い。
さらに、本実施形態の保持手段の保持操作部１２１２の構造は本実施形態に限定されるものではなく、他の機械固定構造によって基板３を締めつけてよく、電気的に制御して固定する構造によって締めつけても良い。
【符号の説明】
【００５５】
１…真空蒸着装置  ２…蒸着材  ３…基板  １１…真空チャンバー  １２…蒸着用基板保持トレイ  １２１…保持機構  １２１１…基板保持部  １２１２…保持操作部  １２２…トレイ本体  １２２１…天板  １２２１ａ…支持面  １２２２…枠体  １３…蒸着源  １３１…拡散口  １３２…蒸着源本体  １４…搬送手段  １４１…ガイドローラ  ２２…第二蒸着用基板保持トレイ  ２２２…第二トレイ本体  ２２２１…平底板  ２２２１ａ…第二支持面  ２２２２…第二枠体  ２３…湾曲線状蒸着源  ２３１…湾曲線状拡散口  ３２…湾曲蒸着源  ３２２…湾曲蒸着源本体  ３２２ａ…湾曲面  ４２…階段蒸着源  ４２１…長短拡散口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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