(57)【要約】【課題】簡単な構成で、収容庫内の処理対象物を低温スチームにて効率的に処理する。【解決手段】少なくとも一部に開閉可能な扉１ａを有し、処理対象物１０を収容する収容庫１と、この収容庫１内にて処理対象物１０を保持するホルダ２と、この収容庫１内に水を霧状に噴射する水噴霧器具３と、収容庫１内の雰囲気及び水噴霧器具３にて噴射された霧状の水を加熱し、霧状の水を沸点未満の低温スチームとして生成するヒータ４と、ヒータ４に対して低温スチーム結露時の水分が付着しないようにヒータ４の周囲を覆う遮蔽部材５と、を備える。【選択図】図１
2014122773.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一部に開閉可能な扉を有し、処理対象物を収容する収容庫と、
この収容庫内にて前記処理対象物を保持するホルダと、
この収容庫内に水を霧状に噴射する水噴霧器具と、
前記収容庫内の雰囲気及び前記水噴霧器具にて噴射された霧状の水を加熱し、前記霧状の水を沸点未満の低温スチームとして生成するヒータと、
前記ヒータに対して低温スチーム結露時の水分が付着しないようにヒータの周囲を覆う遮蔽部材と、
を備えたことを特徴とする低温スチーム処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の低温スチーム処理装置において、
前記ヒータは前記収容庫の下部に配置され、前記水噴霧器具は前記収容庫のうち少なくとも前記ヒータよりも上方に配置されると共に、前記遮蔽部材は前記収容庫のうち前記水噴霧器具よりも下方で且つ前記ヒータの少なくとも上方を覆うように配置されていることを特徴とする低温スチーム処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の低温スチーム処理装置において、
前記収容庫はその下部に低温スチーム結露時の水分が排出可能に受け止められる結露受けを有することを特徴とする低温スチーム処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３いずれかに記載の低温スチーム処理装置において、
前記ヒータによる加熱動作は前記水噴霧器具による霧状の水の噴射動作よりも先に開始されることを特徴とする低温スチーム処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４いずれかに記載の低温スチーム処理装置において、
前記ホルダは移動可能な移動台を有しており、収容庫の扉開口を通じて出し入れ自在であることを特徴とする低温スチーム処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし４いずれかに記載の低温スチーム処理装置において、
前記ヒータ及び前記水噴霧手段の少なくとも一方は、制御量が調整可能な調整器を有していることを特徴とする低温スチーム処理装置。
【請求項７】
請求項６記載の低温スチーム処理装置において、
更に、前記収容庫内には当該収容庫内の雰囲気温度及び湿度の少なくともいずれかが検出可能な環境センサと、この環境センサの検出情報に基づいて前記ヒータ及び前記水噴霧器具の少なくともいずれかの調整器が制御可能な制御装置と、を備えていることを特徴とする低温スチーム処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７いずれかに記載の低温スチーム処理装置において、
前記処理対象物が野菜を含む食材であり、この食材を低温スチームにて調理するものであることを特徴とする低温スチーム処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理対象物を低温スチームにて処理する低温スチーム処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来における低温スチーム処理装置としては例えば特許文献１〜６記載のものが既に知られている。
特許文献１には、調理対象物を過熱蒸気を用いて調理する加熱調理方法であって、高温の過熱蒸気を調理対象物に当てる高温加熱工程と、高温加熱工程で使用した高温の過熱蒸気より温度の低い低温のガスを調理対象物に当てる降温工程とを交互に繰り返して、調理対象物の加熱に複数回の降温工程を設けて自由水の逃げるのを抑制しながら調理対象物の加熱調理を行う加熱調理方法が開示されている。
特許文献２には、飲用水を供給する水供給部と、前記水供給部から供給された飲用水を加熱させるのと同時に、自身に設置した熱交換器に設けた通穴の少なくとも１つを貫通して延在する主蒸気供給管を流過する蒸気を２次加熱させることにより高温の蒸気を生成かつ供給するボイラー室と、前記ボイラー室の主蒸気供給管から高温の蒸気を供給してもらって食品を調理する調理室と、前記ボイラー室の熱交換器を加熱させるバーナと、前記バーナを制御する操作パネルとから構成されたオーブン用スチーム装置が開示されている。
特許文献３には、ボイラと、このボイラへの給水を軟水化するイオン交換樹脂を有する軟水器とを備えるボイラシステムが開示されている。
特許文献４には、タンク内下部には温水加熱器により加熱された温水を貯溜し、その上部空間には水蒸気が存在する水蒸気流通室を形成すると共に、蒸し室内には食品素材としての卵を収容棚上に配置し、更に、タンクと蒸し室の水蒸気流通室との間には水蒸気循環路を形成し、この水蒸気循環路内の水蒸気を循環させることで蒸し室内の卵を低温加熱する低温蒸煮装置が開示されている。
特許文献５には、熱風発生装置及び過熱蒸気発生装置を備え、熱風中に過熱蒸気を吐出させて混合したものを加熱室に送り込む態様において、加熱室の奥内側壁の上方外側には、加熱室と筐体の外側の外気とを繋ぐ給排気路を備え、給排気路の中には開閉可能なダンパと給排気ファンを設け、給排気ファンの回転方向を逆転させることにより給気と排気を切り換え、加熱室内への空気の供給、及び加熱室内の気体の排気を、円滑且つ迅速に行うようにした加熱調理器が開示されている。
特許文献６には、食品を収納する食品庫と、該食品庫内の空気を循環させる循環ファンと、循環空気に蒸気を供給する蒸気発生手段とを有し、前記循環ファンを内蔵し、前記食品庫内の空気を吸い込み前記蒸気発生手段から供給された蒸気を混合して、該食品庫内に送り出す循環ダクトを設けた態様であって、該循環ダクトの庫内空気吸い込み口の近傍に吐出口を有する外気供給経路を設けると共に、前記蒸気発生手段の供給口を前記庫内空気吸い込み口の近傍に設け、前記該循環ダクトの上流部に、前記外気と前記蒸気発生手段からの蒸気とを供給し、低温過熱水蒸気にすることにより解凍調理を行なう加熱調理器が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１５２７５４号公報（発明の実施の形態，図１）
【特許文献２】特許第３９５５０２１号公報（発明を実施するための最良の形態，図１）
【特許文献３】特開平７−４２９０４号公報（実施例，図１）
【特許文献４】特開平９−３２７３８０号公報（発明の実施の形態，図１）
【特許文献５】特開２００４−１８４０５３号公報（発明の実施の形態，図１）
【特許文献６】特許第４１６９５９１号公報（発明の実施の形態，図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１〜３記載の先行技術にあっては、ボイラを利用した低温スチーム処理装置が開示されているが、ボイラにて加熱水蒸気を生成した後、処理対象物の収容庫に対する加熱水蒸気の流入量を調整することで収容庫内に所望温度の低温スチームを生成する方式が採用されることから、低温スチームよりも高温の加熱水蒸気を一旦生成しなければならない分熱効率が悪いばかりか、ボイラに水を供給するに当たり、スケールの原因となる水分の硬度分を除去する上で通常軟水器が用いられることが多く、ボイラシステムの構成が複雑化してしまうという懸念がある。
また、特許文献４〜６記載の先行技術にあっては、蒸気発生装置にて生成された蒸気を蒸し室、食品庫等に気流と共に供給する方式であるため、蒸し室、食品庫等とは別の場所で過熱蒸気を作製する設備も必要不可欠とするため、装置構成が大型化、複雑化するという懸念がある。
【０００５】
本発明が解決しようとする技術的課題は、簡単な構成で、収容庫内の処理対象物を低温スチームにて効率的に処理することが可能な低温スチーム処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に係る発明は、少なくとも一部に開閉可能な扉を有し、処理対象物を収容する収容庫と、この収容庫内にて前記処理対象物を保持するホルダと、この収容庫内に水を霧状に噴射する水噴霧器具と、前記収容庫内の雰囲気及び前記水噴霧器具にて噴射された霧状の水を加熱し、前記霧状の水を沸点未満の低温スチームとして生成するヒータと、前記ヒータに対して低温スチーム結露時の水分が付着しないようにヒータの周囲を覆う遮蔽部材と、を備えたことを特徴とする低温スチーム処理装置である。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１に係る低温スチーム処理装置において、前記ヒータは前記収容庫の下部に配置され、前記水噴霧器具は前記収容庫のうち少なくとも前記ヒータよりも上方に配置されると共に、前記遮蔽部材は前記収容庫のうち前記水噴霧器具よりも下方で且つ前記ヒータの少なくとも上方を覆うように配置されていることを特徴とする低温スチーム処理装置である。
請求項３に係る発明は、請求項１又は２に係る低温スチーム処理装置において、前記収容庫はその下部に低温スチーム結露時の水分が排出可能に受け止められる結露受けを有することを特徴とする低温スチーム処理装置である。
請求項４に係る発明は、請求項１ないし３いずれかに係る低温スチーム処理装置において、前記ヒータによる加熱動作は前記水噴霧器具による霧状の水の噴射動作よりも先に開始されることを特徴とする低温スチーム処理装置である。
請求項５に係る発明は、請求項１ないし４いずれかに係る低温スチーム処理装置において、前記ホルダは移動可能な移動台を有しており、収容庫の扉開口を通じて出し入れ自在であることを特徴とする低温スチーム処理装置である。
請求項６に係る発明は、請求項１ないし４いずれかに係る低温スチーム処理装置において、前記ヒータ及び前記水噴霧手段の少なくとも一方は、制御量が調整可能な調整器を有していることを特徴とする低温スチーム処理装置である。
請求項７に係る発明は、請求項６に係る低温スチーム処理装置において、更に、前記収容庫内には当該収容庫内の雰囲気温度及び湿度の少なくともいずれかが検出可能な環境センサと、この環境センサの検出情報に基づいて前記ヒータ及び前記水噴霧器具の少なくともいずれかの調整器が制御可能な制御装置と、を備えていることを特徴とする低温スチーム処理装置である。
請求項８に係る発明は、請求項１ないし７いずれかに係る低温スチーム処理装置において、前記処理対象物が野菜を含む食材であり、この食材を低温スチームにて調理するものであることを特徴とする低温スチーム処理装置である。
【発明の効果】
【０００８】
請求項１に係る発明によれば、簡単な構成で、収容庫内の処理対象物を低温スチームにて効率的に処理することができる。
請求項２に係る発明によれば、本構成を有さない態様に比べて、収容庫内に低温スチームを略均一に分散させることができ、かつ、低温スチーム結露時の水分がヒータに付着する事態を確実に回避することができる。
請求項３に係る発明によれば、本構成を有さない態様に比べて、低温スチーム結露時に生ずる水分を効率的に対処することができる。
請求項４に係る発明によれば、本構成を有さない態様に比べて、収容庫内に所望の低温スチームを早急に分散させることができる。
請求項５に係る発明によれば、本構成を有さない態様に比べて、収容庫への処理対象物の出入れをホルダを介してまとめて実施することができ、処理対象物の取り扱いを容易にして低温スチーム処理を実施することができる。
請求項６に係る発明によれば、本構成を有さない態様に比べて、目的に合わせた低温スチームを容易に生成することができる。
請求項７に係る発明によれば、本構成を有さない態様に比べて、目的に合わせた低温スチームを正確に生成することができる。
請求項８に係る発明によれば、簡単な構成で、低温スチーム調理を実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明が適用される低温スチーム処理装置の実施の形態の概要を示す説明図である。
【図２】実施の形態１に係る低温スチーム処理装置の全体構成を示す説明図である。
【図３】実施の形態１に係る低温スチーム処理装置のチャンバ及びその周辺構造並びにチャンバ内に収容されるラックの一例を示す説明図である。
【図４】（ａ）は実施の形態１で用いられる水噴霧装置の一例を示す説明図、（ｂ）は実施の形態１で用いられる加熱装置の一例を示す説明図である。
【図５】実施の形態１に係る低温スチーム処理装置で採用される低温スチーム制御過程の一例を示すフローチャートである。
【図６】図５による低温スチーム制御過程によるチャンバ内の状態変化の一例を示す説明図である。
【図７】（ａ）〜（ｄ）は実施の形態１に係る低温スチーム処理装置の動作過程を模式的に示す説明図である。
【図８】（ａ）は比較の形態１に係る低温スチーム処理装置の概要を示す説明図、（ｂ）は比較の形態２に係る低温スチーム処理装置の概要を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
◎実施の形態の概要
図１は本発明が適用された低温スチーム処理装置の実施の形態の概要を示す説明図である。
同図において、低温スチーム処理装置は、少なくとも一部に開閉可能な扉１ａを有し、処理対象物１０を収容する収容庫１と、この収容庫１内にて処理対象物１０を保持するホルダ２と、この収容庫１内に水を霧状に噴射する水噴霧器具３と、収容庫１内の雰囲気及び水噴霧器具３にて噴射された霧状の水を加熱し、霧状の水を沸点未満の低温スチームとして生成するヒータ４と、ヒータ４に対して低温スチーム結露時の水分が付着しないようにヒータ４の周囲を覆う遮蔽部材５と、を備えている。
【００１１】
このような技術的手段において、低温スチーム処理装置は、主として低温スチーム調理に適用されるものを想定しているが、これに限られるものではなく、例えば調理以外の用途（例えば解凍専用の用途、酵素反応を失活させることで鮮度保持、褐変防止の用途、低温殺菌の用途など）に適用されるものをも広く含む。尚、低温スチーム調理を用途とする代表的態様としては、処理対象物１０が野菜を含む食材であり、この食材を低温スチームにて調理するものが挙げられる。
ここで、収容庫１としては、少なくとも開閉可能な扉１ａを有し、処理対象物１０を保持するホルダ２が配備されるものであればよいが、低温スチーム処理を安定的に実施するには、ある程度保温性のよい材料や構造を採用することが好ましい。
また、ホルダ２は収容庫１とは別体として構成してもよいし、一体的に設けるようにしてもよいが、処理対象物１０に対して低温スチームが十分に吹きかかるように処理対象物１０が保持可能な構成を採用することが好ましい。尚、処理対象物１０はホルダ２に直接保持するようにしてもよいし、容器１１に入れて保持するようにしてもよい。
更に、水噴霧器具３としては、代表的には噴霧可能なノズル構成のものが挙げられるが、これに限られるものではなく、適宜選定して差し支えない。
更にまた、ヒータ４としてはハロゲンランプや抵抗体など適宜選定して差し支えない。ヒータ４により加熱される霧状の水（ミスト）の温度は水の沸点未満であればよく、ヒータ４自体の表面温度は水の沸点未満、以上いずれであってもよい。この場合において、ヒータ４自体の表面温度が水の沸点以上であれば、ヒータ４付近の相対湿度が０％近くになるので、ヒータ４に水分が付着蒸発してスケールが生成されることはない。また、ヒータ４の数、設置場所は適宜選定して差し支えない。
また、低温スチーム処理を停止したときに、低温スチームの温度が低下して結露した水分がヒータ４に付着すると、これが蒸発してスケールが生成される可能性があるが、本態様では、遮蔽部材５が設けられ、結露した水分がヒータ４に付着するのを防止する作用を奏する。
【００１２】
次に、本実施の形態に係る低温スチーム処理装置の代表的態様又は好ましい態様についいて説明する。
先ず、低温スチーム処理装置の代表的なレイアウトとしては、ヒータ４は収容庫１の下部に配置され、水噴霧器具３は収容庫１のうち少なくともヒータ４よりも上方に配置されると共に、遮蔽部材５は収容庫１のうち水噴霧器具３よりも下方で且つヒータ４の少なくとも上方を覆うように配置されている態様が挙げられる。
本態様では、ヒータ４からの熱は対流によって上方に上昇することから、収容庫１の下方にあれば上方空間に加熱された空気が上昇する。また、水噴霧器具３はヒータ４より上方にあれば、加熱された雰囲気中に霧状の水を噴射するため、これらの混合気流が対流に沿って流れ、収容庫１内に略均一に分散する。また、低温スチームが結露したとしても、ヒータ４は遮蔽部材５で覆われていることから、結露した水分がヒータ４に直接付着する懸念は少ない。
【００１３】
また、低温スチーム処理装置の好ましい態様としては、収容庫１はその下部に低温スチーム結露時の水分が排出可能に受け止められる結露受け１ｂを有する態様が挙げられる。本態様は、収容庫１内に低温スチーム結露時の水分が滴下しても、これを結露受け１ｂで受け止めて排出するため、結露した水分が収容庫１内に蓄積することはない。この場合において、結露受け１ｂとしては、収容庫１に対して着脱可能として一時的に貯留して排出するようにしてもよいし、受け止めた水分が外部に排出されるようなドレーン構造にする等適宜選定して差し支えない。
更に、低温スチーム処理装置の他の好ましい態様としては、ヒータ４による加熱動作は水噴霧器具３による霧状の水の噴射動作よりも先に開始される態様が挙げられる。
本態様は、収容庫１内の雰囲気を先に加熱し、加熱された雰囲気を加湿する方式であり、収容庫１内の温度が十分に高いときには、飽和水蒸気量が大きく噴霧した水分が蒸発分散し易い点で好ましい。これに対し、収容庫１内の温度が低い状態で水分を噴霧すると、結露して水分が流れ出てしまう懸念がある。
【００１４】
更に、低温スチーム処理装置の別の好ましい態様としては、ホルダ２は移動可能な移動台を有しており、収容庫１の扉開口を通じて出し入れ自在である態様が挙げられる。本態様は、移動型ホルダ２を搭載したもので、例えば収容庫１に処理対象物１０を収容するときホルダ２毎処理対象物１０を搬入でき、あるいは、低温スチーム処理が終了したとき、収容庫１からホルダ２毎処理対象物１０を搬出することができる点で好ましい。
また、低温スチーム処理装置の更に別の好ましい態様としては、ヒータ４及び水噴霧器具３の少なくとも一方は、制御量が調整可能な調整器６を有する態様が挙げられる。本態様は、ヒータ４及び水噴霧器具３の両方に調整器６（具体的にはヒータ調整器６ａ及び水噴霧器具調整器６ｂ）を有する態様のほか、いずれかだけに調整器を有する態様も含む。ここで、ヒータ４の制御量は単位時間当たりの加熱量であり、水噴霧器具３の制御量は単位時間当たりの水噴霧量であり、これらの制御量を調整することで、低温スチームの状態を目的に合わせて調整することが可能である。
本態様の好ましい態様としては、更に、収容庫１内には当該収容庫１内の雰囲気温度及び湿度の少なくともいずれかが検出可能な環境センサ８と、この環境センサ８の検出情報に基づいてヒータ４及び水噴霧器具３の少なくともいずれかの調整器６が制御可能な制御装置７と、を備えている態様が挙げられる。本態様は、環境センサ８（温度センサ及び／又は湿度センサ）の検出情報に基づいてヒータ４の単位時間当たりの加熱量及び／又は水噴霧器具３の単位時間当たりの水噴霧量を調整するものである。
【００１５】
以下、添付図面に示す実施の形態に基づいて本発明をより詳細に説明する。
◎実施の形態１
図２は実施の形態１に係る低温スチーム処理装置の全体構成を示す。
＜低温スチーム処理装置の全体構成＞
同図において、低温スチーム処理装置２０は低温スチーム調理に適用したものであり、処理対象物である食材Ｓを収容するチャンバ２１と、このチャンバ２１内にて食材Ｓを保持するラック２２と、チャンバ２１内に水を霧状に噴射する水噴霧装置２３と、この水噴霧装置２３にて噴射された霧状の水を加熱する加熱装置２４と、水噴霧装置２３及び加熱装置２４を制御する制御装置２５と、この制御装置２５による低温スチーム制御を操作する操作盤２６と、を備えている。
【００１６】
＜チャンバ＞
本実施の形態において、チャンバ２１は、図２及び図３に示すように、ボックス状のチャンバ本体３０を有し、このチャンバ本体３０の一側面に扉開口３１を開設すると共に、この扉開口３１に開閉可能な扉３２を設けたものである。
このチャンバ２１は、その下部に加熱装置２４が設置される加熱室３３を有し、この加熱室３３の上方空間を低温スチームが充満する蒸し室３４とするものであり、加熱室３３と蒸し室３４との境界部分にラック２２支持用の床板３５を設けると共に、この床板３５には加熱装置２４にて加熱された空気が上昇するための通路３６を開設したものである。
更に、加熱室３３の底壁は結露を受ける受け皿３７を兼用しており、この受け皿３７の一部に外部に通じる排出管３８が接続されている。
更にまた、本実施の形態では、チャンバ２１の上壁には外部に通ずる通気管４１，４２が接続され、一方の通気管４２には強制換気するための換気用ファン４３が装備されると共に、チャンバ２１内の上部空間の一部にはチャンバ２１内の空気を強制撹拌するための撹拌用ファン４４が装備されている。
また、チャンバ２１の一側壁（本例では扉３２に対向する奥側壁）にはチャンバ２１内の雰囲気環境を検出する環境センサとして、本例では温度センサ４５が例えば上下方向に亘って複数設置されている。また、チャンバ２１の扉開口３１の周縁の一部にはチャンバ２１内の雰囲気が予熱完了した状態に至ったことを示す表示ランプ４６が設けられている。
尚、図３中、符号４７はチャンバ２１の扉開口３１下縁に取り外し可能に設置される案内板である。
【００１７】
＜ラック＞
本実施の形態において、ラック２２は、図２及び図３に示すように、複数段の矩形状の置き板５０の各隅部を４本の支持脚５１で支えた構造からなり、各支持脚５１の下端にキャスタ５２を取付けることで移動自在になっている。
また、ラック２２の各置き板５０には、ばんじゅう等の運搬容器５３を介して低温スチーム調理のための食材Ｓが保持されるようになっている。
【００１８】
＜水噴霧装置＞
また、水噴霧装置２３は、図２、図３及び図４（ａ）に示すように、例えばチャンバ２１内の蒸し室３４に面して設けられ、水を供給する水供給装置６０と、この水供給装置６０で供給された水を噴霧する水噴霧器具６５とで構成されている。
本例では、水供給装置６０は、チャンバ２１の一側壁に水が貯留可能な縦長のタンク６１を設け、このタンク６１と水道の蛇口６２とを供給配管６３で接続すると共に、この供給配管６３の一部に水の流量が調整可能な流量調整バルブ６４を介在させたものである。
一方、水噴霧器具６５は、タンク６１の縦壁の上下方向に対し複数の噴射ノズル６６を予め決められた間隔で取り付け、各噴射ノズル６６の出口側に夫々ミストノズル６７を装着することで噴射ノズル６６から放出される水を霧状にして噴射するものである。
ここで、水噴霧器具６５からの水の噴霧量は流量調整バルブ６４を調整することで可変設定することが可能である。
【００１９】
＜加熱装置＞
本実施の形態において、加熱装置２４は、図２及び図４（ｂ）に示すように、チャンバ２１内の加熱室３３に絶縁性の板材からなるヒータ保持板７０を配設し、このヒータ保持板７０には例えば発熱抵抗線からなるヒータ７１を複数列並べた状態で連なるように保持すると共に、このヒータ７１の上方には当該ヒータ７１の配置に対応して連続的に延びる例えば断面半円状の遮蔽カバー７２を配置し、この遮蔽カバー７２でヒータ７１の上方を覆うようになっている。本例では、この遮蔽カバー７２は熱伝導性のよい金属材料（例えば銅、アルミニウム、ステンレス）にて構成されており、ヒータ７１の熱が遮蔽カバー７２を通じて上方空間に効率的に伝達されるようになっている。
そして、ヒータ７１には電流供給装置７３が接続されており、この電流供給装置７３は例えば定電圧源と可変抵抗とによって供給電流を可変設定し、ヒータ７１に供給するようになっている。ここで、ヒータ７１自体の発熱温度は供給電流によって適宜選定されるものであるが、通常は水の沸点以上に設定されている。
尚、符号７５はヒータ保持板７０のうちヒータ７１及び遮蔽カバー７２の配設位置を除く部位に適宜開設された結露通過孔である。
【００２０】
＜操作盤＞
本実施の形態では、操作盤２６は、図２及び図３に示すように、チャンバ２１内を予熱する予熱スイッチ８１と、予熱完了後に処理対象物である食材Ｓを低温スチーム調理するための調理スイッチ８２とを有している。
更に、この操作盤２６には、低温スチーム調理の条件として、調理温度を設定する温度設定器８３、低温スチームの強さを設定するスチーム設定器８４、調理時間を設定するタイマ８５が設けられている。
＜制御装置＞
本実施の形態では、制御装置２５は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ及び入出力ポートなどを含むマイクロコンピュータにて構成されており、操作盤２６からの入力信号や温度センサ４５の検出信号を入力ポートからＣＰＵに取込み、例えばＲＯＭに予め格納していた低温スチーム制御プログラム（図５参照）を実行し、水噴霧装置２３、加熱装置２４に対して所定の制御信号を送出するようになっている。
【００２１】
＜低温スチーム処理装置の作動＞
次に、本実施の形態に係る低温スチーム処理装置の作動について説明する。
今、低温スチーム処理装置２０が未使用の状態であると仮定し、予め決められた低温スチーム調理の条件に従って例えば野菜のような食材Ｓを低温スチーム調理する場合を例に挙げると以下のようである。
先ず、操作者は、操作盤２６を操作することで低温スチーム調理の条件を設定する。
ここで、低温スチーム調理の条件として、水の沸点より低い調理温度をＴ２（例えば８０℃）、低温スチームの強さを標準、調理時間をｔｍに設定したものとする。
この状態において、操作者が操作盤２６の予熱スイッチ８１をオン操作する（図６中Ａに相当）と、制御装置２５は、図５に示すように、予熱スイッチ８１のオン動作に伴って、低温スチーム調理の条件を認識し、加熱装置２４のヒータ７１をオンすると共に、撹拌用ファン４４をオンして駆動を開始する。
すると、図６及び図７（ａ）に示すように、ヒータ７１が発熱して加熱室３３内の空気を加熱するため、加熱された空気が矢印に示すように蒸し室３４側に上昇し、蒸し室３４内の冷気との間で対流が生ずる。特に、本実施の形態では、撹拌用ファン４４による撹拌動作にて蒸し室３４内での空気の対流がより促進される。
【００２２】
そして、制御装置２５は、チャンバ２１内の雰囲気温度ＴがＴ１（本例ではＴ１＜Ｔ２）に至る（図６中Ｂに相当）と、図６及び図７（ｂ）に示すように、水噴霧装置２３のミストノズル６７による噴霧動作を開始する。
このときの雰囲気温度Ｔ１は少なくともミストノズル６７から噴射される霧状の水が結露しない程度に上昇していれば足りるが、仮に、ミストノズル６７から噴射された霧状の水が一部結露したとしても、遮蔽カバー７２がヒータ７１の上方を覆っていることから、結露した水分がヒータ７１に付着することはない。また、ヒータ７１自体の発熱温度は水の沸点以上であることから、ヒータ７１付近の相対湿度は０％近くになるので、ヒータ７１に水分が付着蒸発してスケールが生成されることもない。
この状態において、ミストノズル６７から噴射された霧状の水はヒータ７１によって既に加熱された空気によって直ちに加熱されるため、ミストノズル６７から噴射された霧状の水は一旦Ｔ１よりも温度降下するが、すぐに温度上昇に転じて目標の調理温度Ｔ２に至り、この段階で、チャンバ２１内の蒸し室３４は調理温度Ｔ２の低温スチームで充満した状態に至る（図６中Ｃに相当）。この段階で、予熱工程Ｉが完了する。
【００２３】
本例では、制御装置２５は、温度センサ４５の検出信号によって例えば表示ランプ４６を点灯させ、操作者に対して‘予熱完了’を告知するようになっている。
このため、操作者は‘予熱完了’を把握することで、低温スチーム処理装置２０に対して食材Ｓをセットすることが可能である。
この食材Ｓのセット作業は、図３に示すように、移動型のラック２２の各置き板５０に対して食材Ｓを運搬容器５３を介して予め載置しておき、チャンバ２１の扉３２を開放した後、チャンバ２１の蒸し室３４内にラック２２毎食材Ｓを搬入し、扉３２を閉鎖するようにすればよい。
この後、チャンバ２１内への食材Ｓのセットが完了すると、操作者は調理スイッチ８２をオン操作するようにすればよい。
食材Ｓのセット作業の間、チャンバ２１の扉３２が開放状態になるため、チャンバ２１内の雰囲気温度Ｔは若干降下するが、調理スイッチ８２をオン操作してから所定時間経過すると、チャンバ２１内の雰囲気温度Ｔは調理温度Ｔ２に復帰する（図６中Ｄに相当）。
この段階（チャンバ２１内の雰囲気温度ＴがＴ２に復帰した段階に相当）において、制御装置２５は、図５に示すように、調理時間ｔｍの計数を開始すると共に、チャンバ２１内の雰囲気温度Ｔを調理温度Ｔ２に保つようにヒータ７１をオンオフする。
この間、チャンバ２１の蒸し室３４内では、図７（ｃ）に示すように、調理温度Ｔ２の低温スチームが充満して食材Ｓを低温スチーム調理する。
【００２４】
そして、調理時間ｔｍが経過すると、調理工程ＩＩが終了する（図６中Ｅに相当）。
このように調理工程ＩＩが終了すると、制御装置２５は、図５及び図７（ｄ）に示すように、ヒータ７１をオフすると共に、撹拌用ファン４４をオフし、更に、ミストノズル６７による噴霧動作を終了する。尚、調理工程ＩＩが終了した段階で、例えば表示ランプ４６を消灯するようにすれば、操作者が調理工程ＩＩの終了を把握することが可能である。
この段階において、操作者は、チャンバ２１の扉３２を開放し、チャンバ２１から移動型のラック２２毎食材Ｓを取り出すようにすればよい。
この後、制御装置２５は、チャンバ２１内の後処理を実施する。
具体的には、換気用ファン４３を駆動させることで、チャンバ２１内の低温スチームを強制的に換気し、チャンバ２１内の雰囲気を外気と略同等に戻すようにすればよい。
このとき、チャンバ２１内の雰囲気温度Ｔが常温まで降下するため、チャンバ２１内に残存する低温スチームが結露することになるが、結露した水分１００はチャンバ２１の底壁に相当する受け皿３７に受け止められ、排出管３８を介して外部に排出される。
【００２５】
◎変形の形態
本実施の形態では、水噴霧装置２３のミストノズル６７による噴霧動作の開始雰囲気温度Ｔ１は目標とする調理温度Ｔ２と相違しているが、これに限られるものではなく、Ｔ１＝Ｔ２に設定してもよい。
また、環境センサとして温度センサ４５を使用しているが、これに代えて、あるいは、これに加えて湿度センサを使用するようにしてもよい。
更に、予熱工程Ｉにおいて、チャンバ２１内にラック２２を予め収容しておき、予熱工程完了時に、チャンバ２１内にラック２２に運搬容器５３を介して食材Ｓを搬入するようにしてもよい。
更にまた、本実施の形態では、チャンバ２１に換気用ファン４３や撹拌用ファン４４を装備しているが、簡易型として構成する場合にはこれらを装備しなくてもよい。
【００２６】
次に、本実施の形態に係る低温スチーム処理装置の性能を評価するために、以下に比較の形態１，２に係る低温スチーム処理装置１２０を図８（ａ）（ｂ）に夫々示す。
◎比較の形態１
これは、図８（ａ）に示すように、チャンバ１２１内にラック１２２を配設し、このラック１２２に処理対象物としての食材Ｓを保持させる構造とし、このチャンバ１２１とボイラ１３０との間を配管１３５で接続すると共に、この配管１３５の一部に流量調整バルブ１３６を設ける一方、ボイラ１３０には軟水器１４０を介して水を供給するようにしたものである。
本例では、ボイラ１３０で加熱水蒸気を発生させ、流量調整バルブ１３６でボイラ１３０からの加熱水蒸気の流入量を調整し、チャンバ１２１内の低温スチームとしての温度を調整するようにしているため、チャンバ１２１以外にボイラ１３０が必要不可欠であり、しかも、加熱水蒸気を冷却するときのスケールを抑制する上で、軟水器１４０にて水に含まれるカルシウムイオン、マグネシウムイオン等の陽イオンをナトリウムイオンに置換することが必要不可欠になってしまう点で、実施の形態１とは相違する。
【００２７】
◎比較の形態２
これは、図８（ｂ）に示すように、チャンバ１２１内にラック１２２を配設し、このラック１２２に処理対象物としての食材Ｓを保持させる構造とし、このチャンバ１２１とは別に水蒸気生成チャンバ１５０を設け、この水蒸気生成チャンバ１５０の下部に温水加熱器１５１で加熱される温水を貯留し、水蒸気生成チャンバ１５０の上部に水蒸気流通室１５２を設け、水蒸気生成チャンバ１５０には水蒸気流通室１５２に通じるバイパス配管１５３を設けると共に、このバイパス配管１５３の一部にポンプ１５４を介在させることで温水から水蒸気を生成して水蒸気流通室１５２に送り込む一方、チャンバ１２１と水蒸気流通室１５２との間に水蒸気循環路１５６，１５７を形成したものである。
本例では、水蒸気生成チャンバ１５０の水蒸気流通室１５２に低温スチームとなる水蒸気を生成し、チャンバ１２１内に低温スチームを送り込む方式であることから、水蒸気生成チャンバ１５０が必要不可欠になってしまう点で、実施の形態１とは相違する。
【符号の説明】
【００２８】
１…収容庫，１ａ…扉，１ｂ…結露受け，２…ホルダ，３…水噴霧器具，４…ヒータ，５…遮蔽部材，６…調整器，６ａ…ヒータ調整器，６ｂ…水噴霧器具調整器，７…制御装置，８…環境センサ，１０…処理対象物，１１…容器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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