(57)【要約】【課題】リターデーション発現性に優れたジアセチルセルロースを用いた場合でも、内部ヘイズが低く、高コントラスト用途に適用できる光学補償フィルムとその製造方法を提供する。また、当該光学補償フィルムが具備された偏光板及び液晶表示装置提供する。【解決手段】特定条件を満たすセルロースアセテートを用いて製造されたことを特徴とする光学補償フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアセテートを用いて製造されたことを特徴とする光学補償フィルム。
（Ａ）前記セルロースアセテートのアセチル基置換度が、２．０〜２．５の範囲内にある。
（Ｂ）前記セルロースアセテートを含有するドープの粘度を当該セルロースエステルの重量平均分子量で除して得られる単位分子量当たりの粘度（ドープ粘度／重量平均分子量）が、０．２５〜０．７ｍＰａ・ｓの範囲内にある。ただし、当該ドープの粘度は、当該セルロースアセテートを、ジクロロメタンとエタノールとを９：１の質量比で含有する混合溶媒に溶解し、かつ当該セルロースアセテートの濃度が２０質量％になるように調製したドープについて、２３℃においてＢ型粘度計で測定して得られる粘度とする。
【請求項２】
前記セルロースアセテートが、当該セルロースアセテートの合成において、アセチル化触媒として硫酸を用い、かつ当該硫酸を中和するために、当該硫酸に対して化学量論的に１．０〜１．１倍量の酢酸カルシウム又は酢酸マグネシウムを用いて合成されたセルロースアセテートであることを特徴とする請求項１に記載の光学補償フィルム。
【請求項３】
前記セルロースアセテートの重量平均分子量が１２００００〜２５００００の範囲内にあり、かつ数平均分子量が４００００〜６００００の範囲内にあることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学補償フィルム。
【請求項４】
下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアセテートを用いて製造することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
（Ａ）前記セルロースアセテートのアセチル基置換度が、２．０〜２．５の範囲内にある。
（Ｂ）前記セルロースアセテートを含有するドープの粘度を当該セルロースエステルの重量平均分子量で除して得られる単位分子量当たりの粘度（ドープ粘度／重量平均分子量）が、０．２５〜０．７ｍＰａ・ｓの範囲内にある。ただし、当該ドープの粘度は、当該セルロースアセテートを、ジクロロメタンとエタノールとを９：１の質量比で含有する混合溶媒に溶解し、かつ当該セルロースアセテートの濃度が２０質量％になるように調製したドープについて、２３℃においてＢ型粘度計で測定して得られる粘度とする。
【請求項５】
前記セルロースアセテートが、当該セルロースアセテートの合成において、アセチル化触媒として硫酸を用い、かつ当該硫酸を中和するために、当該硫酸に対して化学量論的に１．０〜１．１倍量の酢酸カルシウム又は酢酸マグネシウムを用いて合成されたセルロースアセテートであることを特徴とする請求項４に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項６】
フィルムの幅方向に２５〜５０％延伸する工程を有することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学補償フィルム、又は請求項４から請求項６までのいずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法により製造された光学補償フィルムが具備されていることを特徴とする偏光板。
【請求項８】
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学補償フィルム、又は請求項４から請求項６までのいずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法により製造された光学補償フィルムが具備されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルムとその製造方法に関する。また、当該光学補償フィルムが具備された偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースエステルの中でも、セルロースアセテートは、アセチル基置換度を変化させることにより、幅広いリターデーションを持つ光学フィルムに適用できることが知られている。一般的に、アセチル基置換度の高いトリアセチルセルロースは、リターデーションが低いため、偏光板の保護フィルムに好適に用いられている。
【０００３】
しかし、ＶＡモードやＴＮモードなど各種液晶モードの光学補償フィルムとして用いる場合は、リターデーションの発現が不足しているため、リターデーション上昇剤を添加する必要があった（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
そのため、高温高湿度条件におかれると、ヘイズの上昇や、偏光板製造におけるケン化工程において、リターデーション上昇剤がケン化液に溶出し、工程汚染を引き起こすという問題があった。
【０００５】
アセチル基置換度の低いジアセチルセルロースは、リターデーションの発現性が高いため、リターデーション上昇剤を添加しなくても、光学補償フィルムとして用いることが期待できる。
【０００６】
近年、液晶表示装置に対する要求性能が高くなり、特に高いコントラスト性能が重要になってきている。そのために、フィルムの内部ヘイズが低い光学補償フィルムを偏光板の保護フィルムとして使用する必要性があるが、ジアセチルセルロースを用いた場合は、フィルムの内部ヘイズが高く、高コントラスト用途には使用ができないと言った問題点があった。
【０００７】
ジアセチルセルロースとのＳＰ値（溶解度パラメータ）差が小さい添加剤及び溶剤を用いることで、ヘイズの低いフィルムを製造できることが開示されている（特許文献２及び３参照）。
【０００８】
しかし、添加剤や溶剤のＳＰ値による最適化のみでは内部ヘイズが高く、高コントラスト用途には適用できないといった問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】欧州特許第９１１６５６号明細書
【特許文献２】特開２００９−２６３６１９号公報
【特許文献３】特開２００９−２６９９７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、リターデーション発現性に優れたジアセチルセルロースを用いた場合でも、内部ヘイズが低く、高コントラスト用途に適用できる光学補償フィルムとその製造方法を提供することである。また、当該光学補償フィルムが具備された偏光板及び液晶表示装置提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討し、ジアセチルセルロースの分子量と溶液粘度がある一定の関係性を維持した領域では、内部ヘイズの低い、ジアセチルセルロースを主成分とする光学補償フィルムを得ることができることを見出し、本発明に至った。
【００１２】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１３】
１．下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアセテートを用いて製造されたことを特徴とする光学補償フィルム。
（Ａ）前記セルロースアセテートのアセチル基置換度が、２．０〜２．５の範囲内にある。
（Ｂ）前記セルロースアセテートを含有するドープの粘度を当該セルロースエステルの重量平均分子量で除して得られる単位分子量当たりの粘度（ドープ粘度／重量平均分子量）が、０．２５〜０．７ｍＰａ・ｓの範囲内にある。ただし、当該ドープの粘度は、当該セルロースアセテートを、ジクロロメタンとエタノールとを９：１の質量比で含有する混合溶媒に溶解し、かつ当該セルロースアセテートの濃度が２０質量％になるように調製したドープについて、２３℃においてＢ型粘度計で測定して得られる粘度とする。
【００１４】
２．前記セルロースアセテートが、当該セルロースアセテートの合成において、アセチル化触媒として硫酸を用い、かつ当該硫酸を中和するために、当該硫酸に対して化学量論的に１．０〜１．１倍量の酢酸カルシウム又は酢酸マグネシウムを用いて合成されたセルロースアセテートであることを特徴とする前記第１項に記載の光学補償フィルム。
【００１５】
３．前記セルロースアセテートの重量平均分子量が１２００００〜２５００００の範囲内にあり、かつ数平均分子量が４００００〜６００００の範囲内にあることを特徴とする前記第１項又は第２項に記載の光学補償フィルム。
【００１６】
４．下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアセテートを用いて製造することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
（Ａ）前記セルロースアセテートのアセチル基置換度が、２．０〜２．５の範囲内にある。
（Ｂ）前記セルロースアセテートを含有するドープの粘度を当該セルロースエステルの重量平均分子量で除して得られる単位分子量当たりの粘度（ドープ粘度／重量平均分子量）が、０．２５〜０．７ｍＰａ・ｓの範囲内にある。ただし、当該ドープの粘度は、当該セルロースアセテートを、ジクロロメタンとエタノールとを９：１の質量比で含有する混合溶媒に溶解し、かつ当該セルロースアセテートの濃度が２０質量％になるように調製したドープについて、２３℃においてＢ型粘度計で測定して得られる粘度とする。
【００１７】
５．前記セルロースアセテートが、当該セルロースアセテートの合成において、アセチル化触媒として硫酸を用い、かつ当該硫酸を中和するために、当該硫酸に対して化学量論的に１．０〜１．１倍量の酢酸カルシウム又は酢酸マグネシウムを用いて合成されたセルロースアセテートであることを特徴とする前記第４項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【００１８】
６．フィルムの幅方向に２５〜５０％延伸する工程を有することを特徴とする前記第４項又は第５項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
【００１９】
７．前記第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学補償フィルム、又は前記第４項から第６項までのいずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法により製造された光学補償フィルムが具備されていることを特徴とする偏光板。
【００２０】
８．前記第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学補償フィルム、又は前記第４項から第６項までのいずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法により製造された光学補償フィルムが具備されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の上記手段により、リターデーション発現性に優れたジアセチルセルロースを用いた場合でも、内部ヘイズが低く、高コントラスト用途に適用できる光学補償フィルムとその製造方法を提供することができる。また、当該光学補償フィルムが具備された偏光板及び液晶表示装置提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の光学補償フィルムは、前記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアセテートを用いて製造されたことを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項８までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２３】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記セルロースアセテートが、当該セルロースアセテートの合成において、アセチル化触媒として硫酸を用い、かつ当該硫酸を中和するために、当該硫酸に対して化学量論的に１．０〜１．１倍量の酢酸カルシウム又は酢酸マグネシウムを用いて合成されたセルロースアセテートであることが好ましい。さらに、前記セルロースアセテートの重量平均分子量が１２００００〜２５００００の範囲内にあり、かつ数平均分子量が４００００〜６００００の範囲内にあることが好ましい。
【００２４】
本発明の光学補償フィルムを製造する光学補償フィルムの製造方法としては、前記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアセテートを用いて製造する態様の製造方法であることを要する。また、当該製造方法においては、前記セルロースアセテートが、当該セルロースアセテートの合成において、アセチル化触媒として硫酸を用い、かつ当該硫酸を中和するために、当該硫酸に対して化学量論的に１．０〜１．１倍量の酢酸カルシウム又は酢酸マグネシウムを用いて合成されたセルロースアセテートであることが好ましい。さらに、フィルムの幅方向に２５〜５０％延伸する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
【００２５】
本発明の光学補償フィルム、又は本発明の光学補償フィルムの製造方法により製造された光学補償フィルムは、偏光板及び液晶表示装置に好適に用いることができる。
【００２６】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２７】
（光学補償フィルムの概要）
本発明の光学補償フィルムは、下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアセテートを用いて製造されたことを特徴とする。
（Ａ）前記セルロースアセテートのアセチル基置換度が、２．０〜２．５の範囲内にある。
（Ｂ）前記セルロースアセテートを含有するドープの粘度を当該セルロースエステルの重量平均分子量で除して得られる単位分子量当たりの粘度（ドープ粘度／重量平均分子量）が、０．２５〜０．７ｍＰａ・ｓの範囲内にある。ただし、当該ドープの粘度は、当該セルロースアセテートを、ジクロロメタンとエタノールとを９：１の質量比で含有する混合溶媒に溶解し、かつ当該セルロースアセテートの濃度が２０質量％になるように調製したドープについて、２３℃においてＢ型粘度計で測定して得られる粘度とする。
【００２８】
本発明においては、本発明の効果発現の観点から、前記セルロースアセテートが、当該セルロースアセテートの合成において、アセチル化触媒として硫酸を用い、かつ当該硫酸を中和するために、当該硫酸に対して化学量論的に１．０〜１．１倍量の酢酸カルシウム又は酢酸マグネシウムを用いて合成されたセルロースアセテートであることが好ましい。
【００２９】
また、本発明においては、前記セルロースアセテートの重量平均分子量が１２００００〜２５００００の範囲内にあり、かつ数平均分子量が４００００〜６００００の範囲内にあることが好ましい。
【００３０】
以下、構成要素について詳細な説明をする。
【００３１】
＜セルロースアセテート＞
本発明の光学補償フィルムとしては、位相差発現性が高く、高い位相差を有する位相差フィルムとする場合であっても薄膜化可能であること、位相差を発現させるための延伸倍率を低く抑えることができる観点から、アセチル基置換度が２．０〜２．５の範囲内にあるセルロースアセテートからなるフィルムが用いられる。アセチル基置換度の測定方法は、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することができる。好ましいアセチル基置換度は、２．２〜２．４５である。
【００３２】
本発明に用いられるセルロースアセテートの数平均分子量と重量平均分子量の制限はないが、薄膜化可能である観点から、数平均分子量３００００以上７００００未満であることが好ましく、４５０００以上６００００未満であることが特に好ましい。重量平均分子量１２００００以上２５００００未満であることが好ましく、１５００００以上２０００００未満であることが特に好ましい。
【００３３】
セルロースアセテートの数平均分子量Ｍｎと重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。
【００３４】
測定条件は以下の通りである。
【００３５】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【００３６】
セルロースアセテートの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースアセテートはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。
【００３７】
一般に、内部ヘイズの低いセルロースアセテートフィルムを得るためには、セルロース純度の高い綿花リンターを使用することが望ましい。市販されているジアセチルセルロースとしては、ダイセル社Ｌ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、イーストマンケミカル社のＣａ３９８−３、Ｃａ３９８−６、Ｃａ３９８−１０、Ｃａ３９８−３０、Ｃａ３９４−６０Ｓ等が挙げられる。これらは木材パルプ由来であるためにヘミセルロース等の不純物が多く含まれ、これらを用いても十分に内部ヘイズの低い光学補償フィルムは得られなかった。しかし、本発明に係る範囲の重量平均分子量と粘度の関係を満たすものであれば、木材パルプを使用したものでも十分に内部ヘイズの低いフィルムを得ることが可能である。
【００３８】
本発明におけるセルロースアセテート中のアルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウム）の含有量は、３０ｐｐｍ未満であることが望ましく、２０ｐｐｍ未満であることがさらに好ましく、１０ｐｐｍ未満であることが特に好ましい。アルカリ土類金属の含有量がこれらの範囲より大きい場合、溶液流延時に金属支持体からの剥離力が強くなりすぎて、フィルムにスジや横段といった欠陥が生じやすく好ましくない。
【００３９】
＜セルロースアセテートの合成＞
合成例１
クラフト法溶解パルプ（α−セルロース含有率９３％）を水解砕後、アセトン置換し乾燥した。このパルプ１００質量部に対し、５００質量部の酢酸を均一に散布し４０℃にて３０分間混合し、前処理活性化した。
【００４０】
一方、無水酢酸２５０質量部、硫酸４．０質量部の混合物を添加し、常法によりエステル化を行った。内容物は、原料パルプが同伴する水と無水酢酸との反応及びセルロースと無水酢酸との反応により発熱するが、外部冷却により調整し、次に１２５質量部の有機溶媒を添加し、更に、保温したまま酢化反応を行わせた。
【００４１】
次いで、熱により反応溶液である有機溶媒を除去した後、３５質量部の２０％酢酸カルシウム水溶液を添加混合し、系内の硫酸を完全に中和し、且つ、酢酸カルシウム過剰とした（硫酸に対して、１．０９倍等量）。
【００４２】
完全中和した反応混合物を１５０℃で５０分間保持した後、反応混合物を大気下１００℃とした。反応混合物は攪拌の下に、希酢酸水溶液を加え、フレーク状セルロースアセテートとして分離した後、充分水洗して取り出し乾燥した。得られたフレーク状セルロースアセテートＡはアセチル基置換度２．４、数平均分子量は４７５００、重量平均分子量が１６６０００であった。
【００４３】
合成例２
合成例１において、３５質量部２０％の酢酸カルシウム水溶液の代わりに、２９質量部の２０％酢酸マグネシウム水溶液に変更（硫酸に対して１．００倍等量）。
【００４４】
合成例３
合成例１において、２０％酢酸カルシウム水溶液の添加量を３９質量部に変更（硫酸に対して、１．２１倍等量）。
【００４５】
合成例４
合成例２において、２０％酢酸マグネシウム水溶液の添加量を３７質量部に変更（硫酸に対して、１．２８倍等量）。
【００４６】
なお、本発明の光学補償フィルムには、本発明の効果を害しない限りにおいて、上記セルロースアセテート以外のセルロースエステル及び下記熱可塑性樹脂を併用することもできる。
【００４７】
熱可塑性樹脂としては、一般的汎用樹脂としては、ポリエチレン（ＰＥ）、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、テフロン（登録商標）（ポリテトラフルオロエチレン、ＰＴＦＥ）、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂）、ＡＳ樹脂、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）等を用いることができる。
【００４８】
また、強度や壊れにくさを特に要求される場合、ポリアミド（ＰＡ）、ナイロン、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、変性ポリフェニレンエーテル（ｍ−ＰＰＥ、変性ＰＰＥ、ＰＰＯ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、グラスファイバー強化ポリエチレンテレフタレート（ＧＦ−ＰＥＴ）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）等を用いることができる。
【００４９】
さらに、高い熱変形温度と長期使用できる特性を要求される場合は、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、ポリテトラフロロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリスルホン、ポリエーテルサルフォン、非晶ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）等を用いることができる。
【００５０】
なお、本発明の用途にそって樹脂の種類、分子量の組み合わせを行うことが可能である。
【００５１】
＜一般式（１）で表される化合物＞
本発明の光学補償フィルムは、下記一般式（１）で表される構造を有し、かつｍ＝０の成分とｍ＞０の成分との混合比率が４５：５５〜０：１００である化合物の少なくとも一種をセルロースアセテートに対し５〜１５質量％含有することが望ましい。
【００５２】
【化１】
2014132281.tif 000002
【００５３】
（式中、Ｇは単糖類もしくは二糖類残基を表す。Ｘ１は−Ｏ−を示し、Ｒ１は、−ＣＯ−Ｒ２を示し、Ｒ２は脂肪族もしくは芳香族基を示す。ｍは単糖類もしくは二糖類残基に直接結合しているヒドロキシ基（水酸基）の数の合計、ｎは単糖類もしくは二糖類残基に直接結合しているＯＲ１基の数の合計を表し、３≦ｍ＋ｎ≦８であり、ｎ≠０である。）
一般式（１）で表される構造を有する化合物は、ヒドロキシ基（水酸基）の数（ｍ）、ＯＲ１基の数（ｎ）が固定された単一種の化合物を合成することは困難であり、式中のｍ、ｎの異なる成分が数種類混合された化合物となることが知られている。従って、ヒドロキシ基（水酸基）の数（ｍ）、ＯＲ１基の数（ｎ）が各々変化した混合物としての性能を検討しなければならない。
【００５４】
本発明者は、光学補償フィルムのヘイズ特性に対し、一般式（１）で表される構造を有し、ｍ＝０である完全にエステル置換された糖エステル成分がある量以上含有されるとヘイズ特性に大きな影響を及ぼすことを突き止め、ｍ＝０の成分とｍ＞０である成分との混合比率を決定したものである。
【００５５】
従って、一般式（１）で表される構造を有し、かつｍ＝０の成分とｍ＞０の成分との混合比率が４５：５５〜０：１００である化合物である場合に本発明の効果を達成するものであり、更に性能的、コスト的により好ましくはｍ＝０の成分とｍ＞０の成分との混合比率が３０：７０〜０．１：９９．９の範囲である。
【００５６】
上記ｍ＝０の成分とｍ＞０の成分は、常法により高速液体クロマトグラフィによって測定することが可能である。
【００５７】
上記一般式（１）において、Ｇは単糖類もしくは二糖類残基を表す。単糖類の具体例としては、例えばアロース、アルトロース、グルコース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソースなどが挙げられる。
【００５８】
以下に、一般式（１）で表される、単糖類残基をもつ化合物の構造例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００５９】
【化２】
2014132281.tif 000003
【００６０】
二糖類の具体例としては、たとえば、トレハロース、スクロース、マルトース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、イソトレハロースなどが挙げられる。
【００６１】
以下に、一般式（１）で表される、二糖類残基をもつ化合物の構造例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００６２】
【化３】
2014132281.tif 000004
【００６３】
前記一般式（１）で表される構造のＸ１は単結合、−Ｏ−を示し、Ｒ１は−ＣＯ−Ｒ２を示し、Ｒ２は脂肪族もしくは芳香族基を示す。脂肪族基及び芳香族基はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい。
【００６４】
ｍはヒドロキシ基（水酸基）の数、ｎはＯＲ１基の数を表し、３≦ｍ＋ｎ≦８であることが必要であり、４≦ｍ＋ｎ≦８であることが好ましい。また、ｎ≠０である。ｎが２以上の場合は−Ｘ１−Ｒ１は互いに同じでも異なっていてもよい。
【００６５】
以下に上記脂肪族基について説明する。脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１乃至２５のものが好ましく、１乃至２０のものがより好ましく、２乃至１５のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、シクロプロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、ｉｓｏ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ビシクロオクチル、アダマンチル、ｎ−デシル、ｔｅｒｔ−オクチル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ジデシルなどが挙げられる。
【００６６】
以下に上記芳香族基について説明する。芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族複素環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６乃至２４のものが好ましく、６乃至１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族複素環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。複素環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族複素環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。
【００６７】
次に、一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００６８】
【化４】
2014132281.tif 000005
【００６９】
【化５】
2014132281.tif 000006
【００７０】
（合成例２：本発明に係る化合物の合成）
【００７１】
【化６】
2014132281.tif 000007
【００７２】
撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖３４．２ｇ（０．１モル）、無水安息香酸１８０．８ｇ（０．８モル）、ピリジン３７９．７ｇ（４．８モル）を仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、７０℃で５時間エステル化反応を行った。次に、コルベン内を４×１０２Ｐａ以下に減圧し、６０℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を１．３×１０Ｐａ以下に減圧し、１２０℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン１Ｌ、０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液３００ｇを添加し、５０℃で３０分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水１００ｇを添加し、常温で３０分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下（４×１０２Ｐａ以下）、６０℃でトルエンを留去させ、化合物Ａ−１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４及びＡ−５の混合物を得た。得られた混合物をＨＰＬＣ及びＬＣ−ＭＡＳＳで解析したところ、Ａ−１が７質量％、Ａ−２が５８質量％、Ａ−３が２３質量％、Ａ−４が９質量％、Ａ−５が３質量％であった。なお、得られた混合物の一部をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度１００％のＡ−１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４及びＡ−５を得た。
【００７３】
＜オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ）＞
本発明の光学補償フィルムは、本発明に係る一般式（１）で表される化合物であって、かつ平均ｌｏｇＰ値が７．５以上の化合物をセルロースアセテートに対し５質量％〜１５質量％含有することが好ましい。
【００７４】
上記平均ｌｏｇＰ値を有する化合物は本発明に係るセルロースアセテートフィルムのアルカリケン化液への溶出を抑制する効果を有する。
【００７５】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ  Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。
【００７６】
計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ２１（１９８７年））、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ１６３（１９８９年））、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ７１（１９８４年））、ＣＬｏｇＰ法（参考文献Ｌｅｏ，Ａ．，Ｊｏｗ，Ｐ．Ｙ．Ｃ．，Ｓｉｌｉｐｏ，Ｃ．，Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１８，８６５  １９７５年）などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ２１（１９８７年））がより好ましい。
【００７７】
＜一般式（２）で表される化合物＞
本発明に係るセルロースアセテートフィルムには、特に偏光板のむらの要因となる環境変化での寸法安定性の観点から、下記一般式（２）で表されるエステル化合物を可塑剤として含有することが好ましい。
【００７８】
一般式（２）：Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはヒドロキシ基又はカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基又は炭素数６〜１２のアリールグリコール残基又は炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（２）において、炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用される。
【００７９】
特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースアセテートとの相溶性に優れているため、特に好ましい。
【００８０】
炭素数６〜１２のアリールグリコール成分としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用できる。
【００８１】
また、炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用できる。
【００８２】
炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ一種又は二種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。
【００８３】
一般式（２）で表されるエステル系化合物は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。
【００８４】
また、本発明に係るセルロースアセテートには、末端がヒドロキシ基（水酸基）のポリエステル系化合物が、相溶性の面で好ましい。
【００８５】
以下に、本発明に係る一般式（２）で表されるエステル化合物の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００８６】
【化７】
2014132281.tif 000008
【００８７】
【化８】
2014132281.tif 000009
【００８８】
【化９】
2014132281.tif 000010
【００８９】
【化１０】
2014132281.tif 000011
【００９０】
【化１１】
2014132281.tif 000012
【００９１】
〈その他の添加剤〉
（可塑剤）
本発明の光学補償フィルムは、本発明の効果を得る上で必要に応じて一般式（２）で表される化合物以外の可塑剤を含有することができる。
【００９２】
可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、エステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。
【００９３】
そのうち、可塑剤を二種以上用いる場合は、少なくとも一種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
【００９４】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【００９５】
本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式（ａ）で表される。
【００９６】
一般式（ａ）：  Ｒ１１−（ＯＨ）ｎ
但し、Ｒ１１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、及び／又はフェノール性ヒドロキシ基（水酸基）を表す。
【００９７】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９８】
アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。
【００９９】
特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１００】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１０１】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１０２】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースアセテートとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１０３】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１０４】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１０５】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１０６】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースアセテートとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１０７】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１０８】
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【０１０９】
【化１２】
2014132281.tif 000013
【０１１０】
【化１３】
2014132281.tif 000014
【０１１１】
【化１４】
2014132281.tif 000015
【０１１２】
【化１５】
2014132281.tif 000016
【０１１３】
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。
【０１１４】
アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
【０１１５】
フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【０１１６】
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【０１１７】
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【０１１８】
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０１１９】
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。
【０１２０】
多価カルボン酸は次の一般式（ｂ）で表される。
【０１２１】
一般式（ｂ）：Ｒ１２（ＣＯＯＨ）ｍ１（ＯＨ）ｎ１
式中、Ｒ１２は（ｍ１＋ｎ１）価の有機基、ｍ１は２以上の正の整数、ｎ１は０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシ基、ＯＨ基はアルコール性又はフェノール性ヒドロキシ基（水酸基）を表す。
【０１２２】
好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２３】
トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸又はその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。
【０１２４】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。
【０１２５】
例えば炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪族飽和アルコール又は脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１２６】
また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール又はその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール又はその誘導体なども好ましく用いることができる。
【０１２７】
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性又はフェノール性のヒドロキシ基（水酸基）を、モノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１２８】
脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１２９】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。
【０１３０】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１３１】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。
【０１３２】
多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１０００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースアセテートとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１３３】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。
【０１３４】
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、リターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。
【０１３５】
なお、酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシ基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
【０１３６】
特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１３７】
例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。
【０１３８】
（紫外線吸収剤）
本発明の光学補償フィルムは、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。
【０１３９】
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
【０１４０】
例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもＢＡＳＦジャパン社製の市販品であり好ましく使用できる。
【０１４１】
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。
【０１４２】
この他、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。
【０１４３】
本発明に係わる偏光板保護フィルムは紫外線吸収剤を二種以上を含有することが好ましい。
【０１４４】
また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０１４５】
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１４６】
無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースアセテート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
【０１４７】
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、偏光板保護フィルムの乾燥膜厚が３０〜２００μｍの場合は、偏光板保護フィルムに対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％が更に好ましい。
【０１４８】
（酸化防止剤）
酸化防止剤は、劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた場合には、セルロースアセテートフィルムの劣化が起こる場合がある。
【０１４９】
酸化防止剤は、例えば、セルロースアセテートフィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等によりセルロースアセテートフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前記セルロースアセテートフィルム中に含有させるのが好ましい。
【０１５０】
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。
【０１５１】
特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【０１５２】
これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
【０１５３】
〈微粒子〉
本発明の光学補償フィルムには、取扱性を向上させるため、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。
【０１５４】
微粒子の１次平均粒子径としては、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。
【０１５５】
これらの微粒子は０．１〜５μｍの粒径の２次粒子を形成してセルロースアセテートフィルムに含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は０．１〜２μｍであり、更に好ましくは０．２〜０．６μｍである。これにより、フィルム表面に高さ０．１〜１．０μｍ程度の凹凸を形成し、これによってフィルム表面に適切な滑り性を与えることができる。
【０１５６】
本発明に用いられる微粒子の１次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、粒子径を測定しその平均値をもって、１次平均粒子径とした。
【０１５７】
〈光学補償フィルムの製造方法〉
本発明の光学補償フィルムを製造する光学補償フィルムの製造方法としては、前記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアセテートを用いて製造する態様の製造方法であることを要する。また、当該製造方法においては、前記セルロースアセテートが、当該セルロースアセテートの合成において、アセチル化触媒として硫酸を用い、かつ当該硫酸を中和するために、当該硫酸に対して化学量論的に１．０〜１．１倍量の酢酸カルシウム又は酢酸マグネシウムを用いて合成されたセルロースアセテートであることが好ましい。さらに、フィルムの幅方向に２５〜５０％延伸する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
【０１５８】
本発明の光学補償フィルムは、溶液流延法で製造されたフィルムであっても溶融流延法で製造されたフィルムであっても好ましく用いることができる。
【０１５９】
本発明の光学補償フィルムの溶液流延法での製造は、セルロースアセテート及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
【０１６０】
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースアセテートの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースアセテートの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０１６１】
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても二種以上を併用してもよいが、セルロースアセテートの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースアセテートの溶解性の点で好ましい。
【０１６２】
良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースアセテートを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と定義している。
【０１６３】
そのため、セルロースアセテートのアセチル基置換度によって良溶剤、貧溶剤が変わる。
【０１６４】
本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライド又は酢酸メチルが挙げられる。
【０１６５】
また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。
【０１６６】
また、セルロースアセテートの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。
【０１６７】
回収溶剤中に、セルロースアセテートに添加されている添加剤、例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、モノマー成分などが微量含有されていることもあるが、これらが含まれていても好ましく再利用することができるし、必要であれば精製して再利用することもできる。
【０１６８】
上記記載のドープを調製する時の、セルロースアセテートの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。
【０１６９】
溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。
【０１７０】
また、セルロースアセテートを貧溶剤と混合して湿潤あるいは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。
【０１７１】
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
【０１７２】
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースアセテートの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。
【０１７３】
好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。
【０１７４】
もしくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースアセテートを溶解させることができる。
【０１７５】
次に、このセルロースアセテート溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。
【０１７６】
このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。
【０１７７】
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。
【０１７８】
濾過により、原料のセルロースアセテートに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。
【０１７９】
輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に光学フィルム等を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ２以下であることが好ましい。
【０１８０】
より好ましくは１００個／ｃｍ２以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ２以下であり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ２以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。
【０１８１】
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。
【０１８２】
好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。
【０１８３】
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
【０１８４】
ここで、ドープの流延について説明する。
【０１８５】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
【０１８６】
キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０１８７】
好ましい支持体温度は０〜５５℃であり、２５〜５０℃が更に好ましい。あるいは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。
【０１８８】
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０１８９】
セルロースアセテートフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。
【０１９０】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１９１】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０１９２】
また、セルロースアセテートフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０１９３】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１９４】
本発明の光学補償フィルムを作製するためには、ウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向（横方向）に延伸を行うことが特に好ましい。剥離張力は３００Ｎ／ｍ以下で剥離することが好ましい。
【０１９５】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。
【０１９６】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は４０〜２００℃で段階的に高くしていくことが好ましい。
【０１９７】
本発明の光学補償フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。更に好ましくは２０〜６０μｍである。
【０１９８】
本発明の光学補償フィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０１９９】
本発明の光学補償フィルムは、求められる光学補償効果によって必要とされる位相差は異なるものの、高い位相差発現性を生かす観点から、面内方向における式（Ｉ）で定義されるリターデーションＲｏが３０ｎｍ以上であることが好ましく、３０〜２００ｎｍの範囲であることがより好ましく、３０〜９０ｎｍの範囲であることが更に好ましく、式（II）で定義される厚み方向のリターデーションＲｔｈは７０ｎｍ以上であることが好ましく、７０〜３００ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【０２００】
式（Ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
正面コントラストなど視認性に優れ液晶表示装置を得ることができる。
【０２０１】
〈リターデーションＲｏ、Ｒｔｈの測定〉
得られたフィルムから試料３５ｍｍ×３５ｍｍを切り出し、２５℃，５５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））で、５９０ｎｍにおける垂直方向から測定した値とフィルム面を傾けながら同様に測定したリターデーション値の外挿値より算出する。
【０２０２】
位相差の調整方法としては、特に制限はないが、延伸処理によって調整する方法が一般的である。
【０２０３】
本発明で目標とするリターデーション値Ｒｏ、Ｒｔｈを得るには、セルロースアセテートフィルムが本発明の構成をとり、更に搬送張力の制御、延伸操作により屈折率制御を行うことが好ましい。
【０２０４】
例えば、長手方向の張力を低く又は高くすることでリターデーション値を変動させることが可能となる。
【０２０５】
また、フィルムの長手方向（製膜方向）及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次又は同時に２軸延伸もしくは１軸延伸することでリターデーション値を変動させることができる。
【０２０６】
互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に０．８〜１．５倍、幅方向に１．１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に０．８〜１．０倍、幅方向に１．２５〜２．５倍に範囲で行うことが好ましい。
【０２０７】
延伸温度は１２０℃〜２００℃が好ましく、さらに好ましくは１３０℃〜１８０℃であり、さらに好ましくは１４０℃を超えて１７０℃以下で延伸するのが好ましい。
【０２０８】
フィルム中の残留溶媒は１５〜０％が好ましく、さらに好ましくは１０〜０％で延伸するのが好ましい。
【０２０９】
具体的には１５５℃で残留溶媒が１１％で延伸する、あるいは１５５℃で残留溶媒が２％で延伸するのが好ましい。もしくは１６０℃で残留溶媒が１１％で延伸するのが好ましく、あるいは１６０℃で残留溶媒が１％未満で延伸するのが好ましい。
【０２１０】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。
【０２１１】
また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
【０２１２】
製膜工程のこれらの幅保持あるいは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０２１３】
本発明の光学補償フィルムの遅相軸又は進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。
【０２１４】
このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことができる。θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制又は防止することに寄与でき、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与できる。
【０２１５】
〈セルロースアセテートフィルムの物性〉
本発明の光学補償フィルムの透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで３００〜１８００ｇ／ｍ２・２４ｈが好ましく、更に４００〜１５００ｇ／ｍ２・２４ｈが好ましく、４０〜１３００ｇ／ｍ２・２４ｈが特に好ましい。透湿度はＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に従い測定することができる。
【０２１６】
本発明の光学補償フィルムは、破断伸度が１０〜８０％であることが好ましく２０〜５０％であることが更に好ましい。
【０２１７】
本発明の光学補償フィルムの可視光透過率は９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることが更に好ましい。
【０２１８】
本発明の光学補償フィルムの内部ヘイズは１％未満であることが好ましく０〜０．１％であることが特に好ましく、０〜０．０３％であることが最も好ましい。
【０２１９】
〈偏光板〉
本発明の光学補償フィルムは、偏光板、それを用いた液晶表示装置に使用することができる。
【０２２０】
偏光板は、前記本発明の光学補償フィルムを、偏光子の少なくとも一方の面に貼合した偏光板であることが特徴である。本発明の液晶表示装置は、少なくとも一方の液晶セル面に、本発明に係る偏光板が、粘着層を介して貼り合わされたものであることが特徴である。
【０２２１】
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の光学補償フィルムの偏光子側をアルカリケン化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
【０２２２】
もう一方の面には当該セルロースアセテートフィルムを用いても、また他のフィルムを貼合することも好ましい。
【０２２３】
例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。
【０２２４】
表示装置の表面側に用いられる偏光板の視認側には、防眩層あるいはクリアハードコート層のほか、反射防止層、帯電防止層、防汚層、バックコート層を有することが好ましい。
【０２２５】
偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。
【０２２６】
偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は５〜３０μｍが好ましく、特に１０〜２０μｍであることが好ましい。
【０２２７】
また、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールも好ましく用いられる。
【０２２８】
中でも熱水切断温度が６６〜７３℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。
【０２２９】
このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光子は、偏光性能及び耐久性能に優れているうえに、色斑が少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。
【０２３０】
以上のようにして得られた偏光子は、通常、その両面又は片面に保護フィルムが貼合されて偏光板として使用される。貼合する際に用いられる接着剤としては、ＰＶＡ系の接着剤やウレタン系の接着剤などを挙げることができるが、中でもＰＶＡ系の接着剤が好ましく用いられる。
【０２３１】
〈液晶表示装置〉
上記本発明の光学補償フィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することができる。
【０２３２】
本発明の光学補償フィルムは、特に位相差フィルムとしての機能を併せ持つことが好ましく、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。
【０２３３】
好ましくはＶＡ（ＭＶＡ，ＰＶＡ）型液晶表示装置である。
【実施例】
【０２３４】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２３５】
実施例１
＜光学補償フィルム１０１の作製＞
〈微粒子分散液１〉
微粒子（アエロジル  Ｒ９７２Ｖ  日本アエロジル（株）製）        １１質量部
エタノール                                                      ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
【０２３６】
〈微粒子添加液１〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。
【０２３７】
メチレンクロライド                                              ９９質量部
微粒子分散液１                                                    ５質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクに合成例１で作製したセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
【０２３８】
〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド                                            ３４０質量部
エタノール                                                      ６４質量部
セルロースアセテート（合成例１で作製したもの）                １００質量部
一般式（１）で表される化合物（〔化６〕の例示化合物Ａ−４）        ８質量部
一般式（２）で表されるエステル化合物２−２０                      ４質量部
微粒子添加液１                                                    １質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は３０℃に制御した。
【０２３９】
ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１８０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。
【０２４０】
剥離したセルロースアセテートフィルムを、１４８℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に延伸した。延伸倍率は、表２に記載の通りに変更した。延伸開始時の残留溶媒は７％であった。
【０２４１】
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１４０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。
【０２４２】
以上のようにして、乾燥膜厚４０μｍのセ光学補償フィルム１０１を得た。
【０２４３】
なお、ドープの粘度は、セルロースアセテートを、ジクロロメタンとエタノールとを９：１の質量比で含有する混合溶媒に溶解し、かつ当該セルロースアセテートの濃度が２０質量％になるように調製したドープについて、２３℃においてＢ型粘度計で測定した。
【０２４４】
＜光学補償フィルム１０２〜１０９の作製＞
セルロースアセテート種を表１及び表２に示すように変更した以外は、セルロースアセテートフィルム１０１と同様にして光学補償フィルム１０２〜１０９を作製した。
【０２４５】
《評価》
得られた各々のサンプルについて、以下の要領で各波長でのリターデーション値、内部ヘイズを測定した。
【０２４６】
（リターデーションＲｏ、Ｒｔｈの測定）
得られたフィルムから試料３５ｍｍ×３５ｍｍを切り出し、２５℃，５５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））で、５９０ｎｍにおける垂直方向から測定した値とフィルム面を傾けながら同様に測定したリターデーション値の外挿値より算出した。
【０２４７】
（内部ヘイズの測定）
作製した各種光学補償フィルムを、２３℃・５５％ＲＨの環境下にて８時間調湿した後、下記方法により内部ヘイズ値を評価した。なお、測定は、ＪＩＳ  Ｋ−７１３６に準じて行った。
【０２４８】
〈内部ヘイズ測定装置〉
ヘイズメーター（濁度計）：型式：ＮＤＨ  ２０００、日本電色（株）製
光源は、５Ｖ９Ｗハロゲン球、受光部は、シリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）を用いた。
【０２４９】
内部ヘイズ測定は、以下手順に従って行った。
【０２５０】
まず、フィルム以外の測定器具のブランクヘイズ１を測定する。
１．きれいにしたスライドガラスの上にグリセリンを一滴（０．０５ｍｌ）たらす。このとき液滴に気泡が入らないように注意する。ガラスは見た目がきれいでも汚れていることがあるので必ず洗剤で洗浄したものを使用する。
２．その上にカバーガラスを乗せる。
３．ヘイズメーターにセットしブランクヘイズ１を測定する。
【０２５１】
次いで、以下の手順で、試料を含めたヘイズ２を測定する。
４．スライドガラス上にグリセリン（０．０５ｍｌ）を滴下する。
５．その上に測定する試料フィルムを気泡が入らないように乗せる。
６．試料フィルム上にグリセリン（０．０５ｍｌ）を滴下する。
７．その上にカバーガラスを載せる。
８．上記のように作製した積層体（上から、カバーガラス／グリセリン／試料フィルム／グリセリン／スライドガラス）をヘイズメーターにセットしヘイズ２を測定する。
９．（ヘイズ２）−（ヘイズ１）＝（本発明の光学補償フィルムの内部ヘイズ）を算出する。
【０２５２】
上記ヘイズの測定は、すべて２３℃・５５％ＲＨにて行われた。
【０２５３】
また、上記測定にて使用したガラス、グリセリンを以下の通りである。
【０２５４】
ガラス：ＭＩＣＲＯ  ＳＬＩＤＥ  ＧＬＡＳＳ  Ｓ９２１３  ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ
グリセリン：  関東化学製  鹿特級（純度＞９９．０％）  屈折率１．４７
上記光学補償フィルム１０２〜１０９の作製において用いたセルロースアセテート種を表１及び表２に示す。また、上記評価結果を表２に示す。
【０２５５】
【表１】
2014132281.tif 000017
【０２５６】
【表２】
2014132281.tif 000018
【０２５７】
表２に示した結果から明らかなように、本発明の光学補償フィルムを用いた実施例は、比較例に比べ、リターデーション発現性が優れており、かつ、いずれの延伸倍率でも内部ヘイズが低いことが分かる。
【０２５８】
すなわち、本発明の上記手段により、リターデーション発現性に優れたジアセチルセルロースを用いた場合でも、内部ヘイズが低く、高コントラスト用途に適用できる光学補償フィルムとその製造方法を提供することができることが分かる。
【０２５９】
実施例２
＜偏光板１０１〜１０９の作製＞
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。
【０２６０】
これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光子を得た。
【０２６１】
次いで、下記工程１〜５に従って偏光子と前記セルロースアセテートフィルム１０１〜１２０と、裏面側にはコニカミノルタタックＫＣ４ＵＹ（コニカミノルタオプト（株）製セルロースエステルフィルム）を貼り合わせて偏光板１０１〜１２０を作製した。
【０２６２】
工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側をケン化したセルロースアセテートフィルム１０１〜１２０を得た。同様に裏面側のＫＣ４ＵＹもケン化処理を行った。
【０２６３】
工程２：前記偏光子を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
【０２６４】
工程３：工程２で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理したセルロースアセテートフィルム１０１〜１２０の上にのせて配置した。
【０２６５】
工程４：工程３で積層したセルロースアセテートフィルム１０１〜１０９と偏光子と裏面側セルロースエステルフィルムを圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
【０２６６】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光子とセルロースアセテートフィルム１０１〜１０９とコニカミノルタタックＫＣ４ＵＹとを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、それぞれ、セルロースアセテートフィルム１０１〜１０９に対応する偏光板１０１〜１０９を作製した。
【０２６７】
＜液晶表示装置の作製＞
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
【０２６８】
ＳＯＮＹ製４０型ディスプレイＢＲＡＶＩＡ  Ｘ１の予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板１０１〜１０９をそれぞれ液晶セルのガラス面の両面に貼合した。
【０２６９】
その際、その偏光板の貼合の向きは、本発明の光学補償フィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、それぞれ、偏光板１０１〜１０９に対応する液晶表示装置１０１〜１０９を各々作製した。
【０２７０】
この液晶表示装置について視野角及び、視認性について評価したところ、本発明の光学補償フィルムを用いた偏光板を装着した液晶表示装置は、視野角が広く、かつコントラストや色ムラのない視認性に優れた液晶表示装置であることが確認された。