(57)【要約】      （修正有）【課題】高い現像性と現像液への膨潤が少ないシリコーン重合体を提供する。【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される構造を含み、重量平均分子量が８００以上である、シリコーン重合体。2014237771.tif 000024｛式中、Ｘは、Ｎ原子を含まない、直鎖、又は分岐構造を持ち、Ｓｉ原子とＣＯＯＨを結ぶ最も短い有機鎖が、原子数６〜２０となる２価の有機鎖であり、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６の有機基、アルコキシ基、ヒドロキシル基から選ばれる１価の有機基である。｝【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で示される構造を含み、重量平均分子量が８００以上である、シリコーン重合体。
【化１】
2014237771.tif 000016
｛式中、Ｘは、Ｎ原子を含まない、直鎖、又は分岐構造を持ち、Ｓｉ原子とＣＯＯＨを結ぶ最も短い有機鎖が、原子数６〜２０となる２価の有機鎖であり、Ｒ1は、Ｃ１〜Ｃ６の有機基、アルコキシ基、ヒドロキシル基から選ばれる１価の有機基であり、ｎ＝０、１、２から選ばれる整数である。｝
【請求項２】
ラジカル架橋性基をさらに含む、請求項１に記載のシリコーン重合体。
【請求項３】
ポリシロキサン構造を含む、請求項１又は２に記載のシリコーン重合体。
【請求項４】
前記Ｘが、一般式（ＩＩ）で示される請求項１〜３いずれか１項に記載のシリコーン重合体。
【化２】
2014237771.tif 000017
｛式中、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５、ｎ６、ｎ７は、６≦ｎ２＋（３×ｎ３）＋（４×ｎ４）＋（２×ｎ５）＋（２×ｎ６）＋（２×ｎ７）≦２０を満たす自然数であり、Ｒ2は、各々独立に水素原子、水酸基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基である。｝
【請求項５】
前記Ｘが、下記一般式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩ）のいずれかの構造式で示される請求項１〜４のいずれか１項に記載のシリコーン重合体。
【化３】
2014237771.tif 000018
【化４】
2014237771.tif 000019
【化５】
2014237771.tif 000020
【化６】
2014237771.tif 000021
【化７】
2014237771.tif 000022
【請求項６】
下記一般式（ＶＩＩＩ）で示される構造を含む、請求項１〜５いずれか１項に記載のシリコーン重合体。
【化８】
2014237771.tif 000023
｛式中、Ｐｈはフェニル基を表す。｝
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコーン重合体に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品の絶縁材料、並びに半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、及びα線遮蔽膜などの用途には、優れた耐熱性、電気特性、及び機械特性を併せ持つポリイミド樹脂が広く用いられている。かかるポリイミド樹脂は、通常、感光性ポリイミド前駆体組成物の形態で供され、これを基材に塗布し、ソフトベークを施し、所望のパターニングマスクを介して活性光線を照射（露光）し、現像し、熱硬化処理を施すことにより、耐熱性ポリイミド樹脂から成る硬化レリーフパターンを容易に形成させることができるという特徴を有している（例えば、以下の特許文献１参照。）。
【０００３】
他方、上記のような優れた特性を有するポリイミドは、５００ｎｍ〜４００ｎｍ付近にポリイミド環由来の吸収があるので、表示装置又は光学系材料のような高透明性を必要とする用途には向かない。
また、主に構成要素の材質又は構造設計上の理由から、熱硬化処理をより低い温度で行うことが可能な材料への要求が高まっている。しかしながら、従来のポリイミド樹脂前駆体組成物の場合には、硬化処理温度を下げると熱イミド化を完結させることができず、各種の硬化膜物性が低下するため、硬化処理温度の下限は３００℃前後であった。
以下の特許文献２には、低温硬化が可能な感光性シロキサン系材料が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−３４２２１１号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／０６１７４４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
例えば表示装置又は光学材料を形成する際、配線周辺の電気的ノイズを緩和する目的や、より絶縁性を高めるために、５μm以上の絶縁膜が必要とされている。そこで、より厚い膜厚でも、残渣を残さず、短時間に現像するため、アルカリ可溶性基の検討が行われている。しかし、アルカリへの溶解性を高めると、現像時に、形成したパターンに現像液が浸透しやすくなり、膨潤してしまう現象が見られる。特許文献２で開示されている技術では、現像時の膨潤に改善の余地があることが分かった。また、このような高透明性が必要な表示装置又は光学材料を形成する分野では、高い現像性と、現像時の膨潤を低減する、相反する特性を両立することができる感光性を有するシリコーン重合体は、未だ見出されていない。
かかる従来技術の現状に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、現像液への膨潤が少ないシリコーン重合体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討し実験を重ねた結果、特定の構造を有するシリコーン重合体を用いることにより、前記課題を解決しうることを予想外に発見し、本発明を完成するに至ったものである。すなわち、本発明は以下の通りのものである。
【０００７】
［１］
下記一般式（Ｉ）で示される構造を含み、重量平均分子量が８００以上である、シリコーン重合体。
【０００８】
【化１】
2014237771.tif 000002
【０００９】
｛式中、Ｘは、Ｎ原子を含まない、直鎖、又は分岐構造を持ち、Ｓｉ原子とＣＯＯＨを結ぶ最も短い有機鎖が、原子数６〜２０となる２価の有機鎖であり、Ｒ1は、Ｃ１〜Ｃ６の有機基、アルコキシ基、ヒドロキシル基から選ばれる１価の有機基であり、ｎ＝０、１、２から選ばれる整数である。｝
［２］
ラジカル架橋性基をさらに含む、［１］に記載のシリコーン重合体。
［３］
ポリシロキサン構造を含む、［１］又は［２］に記載のシリコーン重合体。
［４］
前記Ｘが、一般式（ＩＩ）で示される［１］〜［３］いずれかに記載のシリコーン重合体。
【００１０】
【化２】
2014237771.tif 000003
【００１１】
｛式中、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５、ｎ６、ｎ７は、６≦ｎ２＋（３×ｎ３）＋（４×ｎ４）＋（２×ｎ５）＋（２×ｎ６）＋（２×ｎ７）≦２０を満たす自然数であり、Ｒ2は、各々独立に水素原子、水酸基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基である。｝
［５］
前記Ｘが、下記一般式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩ）のいずれかで示される［１］〜［４］のいずれかに記載のシリコーン重合体。
【００１２】
【化３】
2014237771.tif 000004
【００１３】
【化４】
2014237771.tif 000005
【００１４】
【化５】
2014237771.tif 000006
【００１５】
【化６】
2014237771.tif 000007
【００１６】
【化７】
2014237771.tif 000008
【００１７】
［６］
下記一般式（ＶＩＩＩ）で示される構造を含む、［１］〜［５］いずれかに記載のシリコーン重合体。
【００１８】
【化８】
2014237771.tif 000009
【００１９】
｛式中、Ｐｈはフェニル基を表す。｝
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、現像液への膨潤が少ないシリコーン重合体が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を実施するための形態（以下、「実施形態」と略記する。）について詳細に説明する。なお、本発明は、実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
本実施形態のシリコーン化合物は、前記一般式（Ｉ）で示される構造を含む。なお、本構造は、単独で連続した構造であっても良いし、他の構造との共重合構造であっても良い。
【００２２】
式中、Ｘは、硬化物の耐熱透明性の観点からＮ原子を含まないことが好ましく、より好ましくは、炭素、水素、酸素、珪素からなる２価の有機鎖である。
Ｘの構造は、上記構造を含む重合体のアルカリ現像液への溶解性と、露光部（架橋部）が現像液と触れた際の膨潤のしやすさに大きく影響する。アルカリ現像液への高い溶解性を維持し、膨潤を抑制する観点から、式中、Ｘは、Ｓｉ原子とＣＯＯＨを結ぶ最も短い有機鎖が、原子数６以上が好ましく、さらに好ましくは原子数７以上である。一方、アルカリ現像液への溶解性の観点から、原子数２０以下が好ましく、さらに好ましくは、原子数１５以下である。
【００２３】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1は、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖状若しくは分岐状の有機基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基、フェノキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、ヒドロキシル基から選ばれる少なくとも１種以上の１価の有機基が好ましく、保存安定性の観点から、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヒドロキシル基が好ましく、さらに好ましくは、メチル基、メトキシ基、ヒドロキシル基である。
【００２４】
上記一般式（Ｉ）において、耐熱透明性の観点から、Ｘは前記一般式（ＩＩ）で示される構造で表されることが好ましい。
【００２５】
更に、上記一般式（Ｉ）において、Ｘは前記一般式（ＩＩＩ）〜（ＶＩＩ）のいずれかで示される少なくとも１種の構造を有することが好ましい。
【００２６】
本実施形態に係るシリコーン重合体は、ＧＰＣ(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)で、ポリスチレン換算のＭｗ（質量平均分子量）が８００以上（好ましくは１０００以上、より好ましくは２０００以上であり、上限として好ましくは１００００以下、より好ましくは８０００以下、更に好ましくは５０００以下）の重合体である。
【００２７】
また、（Ａ）シリコーン重合体は、さらにラジカル架橋性基を持つことが、硬化膜の硬度を飛躍的に向上させる観点から好ましい。ラジカル架橋性基は、光重合性不飽和結合（例えば、二重結合）を含む基でよい。光重合性不飽和結合を含む基としては、特に制限されないが、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基などが、架橋性の観点から好ましい。（Ａ）シリコーン重合体は、これらの基を二種類以上含有してもよい。また、（Ａ）シリコーン重合体としては、硬化性の観点から、少なくとも（メタ）アクリロイル基及び／又はスチリル基を有することがより好ましい。
【００２８】
（Ａ）シリコーン重合体中の光重合性不飽和結合基のモル濃度は、パターンの密着性、膜の硬度、及び耐クラック性の観点から、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ以上が好ましく、より好ましくは０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上、さらに好ましくは０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上である。一方で、現像時の残渣低減の観点から、このモル濃度は、１０．０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、より好ましくは７．５ｍｍｏｌ／ｇ以下、さらに好ましくは５．０ｍｍｏｌ／ｇ以下である。
（Ａ）シリコーン重合体中の光重合性不飽和結合基の含有量は、得られた重合体のヨウ素価を測定することで算出することができる。
【００２９】
（Ａ）シリコーン重合体は、一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸以外に、さらにアルカリ可溶性基を含むことができる。アルカリ可溶性基としては、特に制限はされないが、例えば、カルボキシル基、ジカルボン酸無水物基、又はジカルボン酸無水物基の残基などが、ポリシロキサンのアルカリ溶解性を向上させ、かつ現像後の残渣の発生を抑制するという観点から好ましい。
【００３０】
（Ａ）シリコーン重合体中のカルボキシル基、ジカルボン酸無水物基、又はジカルボン酸無水物基の残基の含有量は、（Ａ）シリコーン重合体がこれらの基を有すれば特に制限されるものではないが、現像後の残渣の低減及び硬化膜の耐クラック性の観点から、（Ａ）シリコーン重合体の酸価が、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、より好ましくは１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、さらに好ましくは２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。一方で、パターンの密着性の観点から、この酸価は、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、より好ましくは１９０ｍｇＫＯＨ／ｇモル以下、さらに好ましくは１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。
また、感光性樹脂組成物が、２種以上の（Ａ）シリコーン重合体を含有する場合には、少なくとも１種が、上記で説明した範囲内の酸価を有するような含有量で、カルボキシル基、ジカルボン酸無水物基、又はジカルボン酸無水物基の残基を含むことが好ましい。
なお、本明細書では、酸価とは、試料１ｇ中のカルボキシル基を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。
【００３１】
酸価を測定する方法の一例は下記の通りである：
３ｇの試料を精密に秤量し、エタノール２０ｍｌに溶解する。得られた溶液を室温で撹拌し、更に５ｇの精製水を加え更に１時間室温で撹拌する。その後、指示薬としてフェノールフタレインのメタノール溶液を数滴添加し、１／２規定の水酸化カリウム水溶液で中和滴定し、使用した水酸化カリウム水溶液量から酸価を算出する。
【００３２】
また、本実施形態では、（Ａ）シリコーン重合体は、上記一般式（ＶＩＩＩ）で示される構造を有することも、耐熱性の観点から好ましい。（Ａ）シリコーン重合体の珪素原子のうち、上記構造を有する割合が、１０ｍｏｌ％〜８０ｍｏｌ％が好ましく、より好ましくは３０ｍｏｌ％〜７０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは４０ｍｏｌ％〜６０ｍｏｌ％である。
【００３３】
上記一般式（Ｉ）の構造を含む重合体を製造する方法は、特に限定されないが、少なくとも下記一般式（ＩＸ）で示されるモノマーを含む化合物を用いる事で製造することができる。
【００３４】
【化９】
2014237771.tif 000010
【００３５】
｛式中Ｘは上述で定義した２価の有機基であり、Ｒ3は、Ｃ１〜Ｃ６の有機基であり、Ｒ4各々独立に、水酸基、加水分解可能な脱離基又はハロゲン原子を表し、ｎ８は０又は１の整数を表す。｝
【００３６】
上記一般式（ＩＸ）において、Ｒ4としては、水酸基、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、フェノキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、塩素（Ｃｌ）又は臭素（Ｂｒ）から成る群より選ばれる少なくとも１種の１価の基が好ましく、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、又はイソプロポキシ基がより好ましく、反応性の観点から、水酸基、メトキシ基、又はエトキシ基がさらに好ましい。
【００３７】
上記一般式（ＩＸ）の化合物の製造方法としてはシラン化合物とアルケニル基を有するカルボン酸とのヒドロシリル化反応による方法、あるいはシラン化合物とアルケニル基を有するアルコールとのヒドロシリル化反応と引き続いて酸無水物またはジカルボン酸との縮合反応を行う方法が挙げられる。
【００３８】
アルケニル基を有するカルボン酸とのヒドロシリル化反応に用いるシラン化合物はトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、エチルジメトキシシラン、エチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルジメトキシシラン、ｎ−プロピルジエトキシシラン、ｉ−プロピルジメトキシシラン、ｉ−プロピルジエトキシシラン、ブチルジメトキシシラン、ブチルメチルジエトキシシラン、ペンチルジメトキシシラン、ペンチルジエトキシシラン、ヘキシルジメトキシシラン、ヘキシルジエトキシシラン、シクロペンチルジメトキシシラン、シクロペンチルジエトキシシラン、シクロヘキシルジメトキシシラン、シクロヘキシルジエトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエトキシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジエチルメトキシシラン、ジエチルエトキシシラン、ジフェニルメトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン、メチルエチルメトキシシラン、メチルエチルエトキシシラン、メチルフェニルメトキシシラン、メチルフェニルエトキシシラン、エチルフェニルメトキシシラン、エチルフェニルエトキシシラン等が挙げられる。
【００３９】
アルケニル基を有するカルボン酸は、１０−ウンデセン酸、９−デセン酸、８−ノネン酸、７−オクテン酸、６−ヘプテン酸、オレイン酸等が挙げられる。さらにアリルアルコール、エチレングリコールモノビニルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、３−ビニルオキシ−１，２−プロパンジオール、３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール、３−ビニルオキシ−１−プロパノール、３−アリルオキシ−１−プロパノール、４−ビニルオキシ−１−ブタノール、４−アリルオキシ−１−ブタノール、５−ビニルオキシ−１−ペンタノール、５−アリルオキシ−１−ペンタノール、６−ビニルオキシ−１−ヘキサノール、６−アリルオキシ−１−ヘキサノール等のアルコールとコハク酸、マレイン酸、グルタル酸、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の縮合物をアルケニル基を有するカルボン酸として用いることができる。
【００４０】
この反応では溶媒を用いても用いなくても良いが溶媒を用いる場合は、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されない。例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等の非プロトン性極性溶媒、及びこれらの溶媒を二つ以上混合してなる混合溶媒が挙げられる。
【００４１】
この反応では、公知のヒドロシリル化触媒を用いることができる。例えば、白金化合物を触媒として用いることができ、白金化合物としてはヘキサクロロ白金酸六水和物、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金錯体、シクロペンタジエニル白金錯体等が挙げられる。反応温度は、通常、−２０℃から反応液の沸点までの温度範囲であるが、密閉容器を用いて沸点を超える温度で実施してもよい。反応時間は、反応収率の観点から、通常数分から５０時間が好ましい。
【００４２】
シラン化合物とアルケニル基を有するアルコールとのヒドロシリル化反応は前述と同様に行うことができる。
アルケニル基を有するアルコールとしてはアリルアルコール、エチレングリコールモノビニルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、３−ビニルオキシ−１，２−プロパンジオール、３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール、３−ビニルオキシ−１−プロパノール、３−アリルオキシ−１−プロパノール、４−ビニルオキシ−１−ブタノール、４−アリルオキシ−１−ブタノール、５−ビニルオキシ−１−ペンタノール、５−アリルオキシ−１−ペンタノール、６−ビニルオキシ−１−ヘキサノール、６−アリルオキシ−１−ヘキサノール等が挙げられる。
【００４３】
酸無水物またはジカルボン酸との縮合反応に用いる酸無水物は、無水コハク酸、無水マレイン酸、グルタル酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、無水フタル酸等が挙げられる。
ジカルボン酸は、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が挙げられる。
この反応では溶媒を用いても用いなくても良いが溶媒を用いる場合は、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されない。例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン等の有機塩基、及びこれらの溶媒を二つ以上混合してなる混合溶媒が挙げられる。
【００４４】
この反応は有機塩基の存在下で行うことができ、有機塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール等が挙げられる。
この反応は縮合剤の存在下で行うことができ、縮合剤としては、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミド（ＥＤＣ）、Ｎ，Ｎ’−カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。反応温度は、通常、−２０℃から反応液の沸点までの温度範囲が好ましく、密閉容器を用いて沸点を超える温度で実施してもよい。反応時間は、反応収率の観点から、通常数分から５０時間が好ましい。
【００４５】
シリコーン重合体の製造方法としては、公知の方法を用いることができるが、例えば下記方法でシリコーン重合体を製造することができる。
（１）加水分解縮合
（２）水を積極的に加えない縮合
【００４６】
（１）加水分解縮合による製造方法
少なくとも一般式（ＩＸ）のモノマーを含み、一般式（Ｘ）及び一般式（ＸＩ）から選ばれる少なくとも１種類のモノマーに、水、触媒を加え、加水分解した後、縮合させることで得ることが、樹脂設計及び製造法の容易性の観点から好ましい。
【００４７】
【化１０】
2014237771.tif 000011
【００４８】
｛式中、Ｒ5は、光重合性不飽和結合基（例えば、二重結合基）を含む炭素数２〜２０の１価の有機基を表し、Ｒ3、Ｒ4は、上記一般式（ＩＸ）において定義された通りであり、ｎ９は、０又は１の整数を表す。｝
【００４９】
【化１１】
2014237771.tif 000012
【００５０】
｛式中、Ｒ4は、上記一般式（ＩＸ）において定義された通りであり、Ｒ6は、各々独立に、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状の有機基、アリール基、アルキルアリール基を表し、ｎ１０は、０〜３の整数である。｝
【００５１】
上記一般式（ＩＸ）において、Ｒ4としては、水酸基、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基、フェノキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、塩素（Ｃｌ）又は臭素（Ｂｒ）から成る群より選ばれる少なくとも１種の１価の基が好ましく、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、又はイソプロポキシ基がより好ましく、反応性の観点から、水酸基、メトキシ基、又はエトキシ基がさらに好ましい。
【００５２】
上記一般式（ＩＸ）において、Ｒ5としては、不飽和結合（例えば、二重結合）を有する炭素数２〜１７の１価の有機基が好ましく、具体的には、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリル基、３−（メタ）アクリロキシプロピル基、２−（メタ）アクリロキシエチル基、（メタ）アクリロキシメチル基などが挙げられる。このうち、スチリル基、又は３−（メタ）アクリロキシプロピル基が好ましい。また、本明細書では、（メタ）アクリルとは、アクリル基及びメタクリル基を示す。
【００５３】
上記一般式（Ｘ）で表されるシラン化合物としては、具体的には、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリエトキシシラン、ｐ−（１−プロペニルフェニル）トリメトキシシラン、ｐ−（１−プロペニルフェニル）トリエトキシシラン、ｐ−（２−プロペニルフェニル）トリメトキシシラン、ｐ−（２−プロペニルフェニル）トリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
【００５４】
加水分解反応は、溶媒中のシラン化合物に酸性触媒及び水を１分〜１８０分に亘って添加することにより行われる。加水分解物を得る過程の温度は、加水分解の反応性の観点から、１０℃以上が好ましく、より好ましくは２０℃以上であり、一方で、官能基の保護の観点から、１５０℃以下が好ましく、より好ましくは１２０℃以下である。加水分怪物を得る過程の反応時間は、加水分解の反応性の観点から０．１時間以上が好ましく、より好ましくは０．５時間以上であり、一方で、官能基の保護の観点から１０時間以下が好ましく、より好ましくは５時間以下である。
【００５５】
加水分解反応は、酸性触媒の存在下で行うことが好ましい。酸性触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、蟻酸、酢酸又はリン酸を含む酸性水溶液が好ましい。これらの酸性触媒の好ましい含有量は、加水分解反応時に使用される全シラン化合物に対して、加水分解の反応性の観点から０．０１ｍｏｌ％以上が好ましく、官能基の保護の観点から１０ｍｏｌ％以下が好ましい。
【００５６】
シラン化合物の加水分解反応によりシラノール化合物を得た後、反応液をそのまま５０℃以上、使用される溶媒の沸点以下で、１時間〜１００時間に亘って加熱し、縮合反応を行うことが好ましい。また、（Ａ）シリコーン重合体の重合度を上げるために、再加熱及び／又は減圧及び／又は塩基性触媒の添加を行なってもよい。
【００５７】
シラン化合物の加水分解反応及び該加水分解物の縮合反応に用いられる溶媒は、特に限定されず、樹脂組成物の安定性、濡れ性、揮発性などを考慮して適宜選択できる。また、溶媒を２種以上組み合わせるか、又は無溶媒で、これらの反応を行ってもよい。
溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノンなどのケトン類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのアセテート類、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどを挙げることができる。
【００５８】
加水分解反応によって溶媒が生成する場合には、無溶媒で加水分解させることも可能である。加水分解反応終了後、さらに溶媒を添加することにより、樹脂組成物として適切な濃度に調整することも好ましい。また、樹脂組成物の用途に応じて、加水分解後に、加熱及び／又は減圧下にて、生成アルコールなどの適量を留去し、その後、好適な溶媒を添加してもよい。
加水分解反応に使用する溶媒の量は、全シラン化合物１００質量部に対して、８０質量部以上、５００質量部以下が好ましい。
また、加水分解反応に用いる水は、イオン交換水が好ましい。水の量は、任意に選択されることができるが、加水分解反応に用いられるシラン化合物１モルに対して、１．０モル〜４．０モルの範囲であることが好ましい。
【００５９】
（２）水を積極的に加えない縮合
水を積極的に加えずに縮合反応を行う場合は、少なくとも一般式（ＩＩ）で表される化合物及び、下記一般式（Ｖ）を含む化合物を用いて、シリコーン重合体を得ることが、得られた重合体の保存安定性の観点から好ましい。
【００６０】
【化１２】
2014237771.tif 000013
【００６１】
｛式中、Ｒ7は、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が２〜２０のアルキルアリール基、炭素原子数が１〜２０のアルキル基、又は炭素原子数が５〜２０のシクロアルキル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよく、そして共有結合を介して互いに結ばれていてもよい。｝
【００６２】
上記一般式（ＸＩＩ）において、Ｒ7としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、トリメチルフェニル基、ナフチル基、メチル基、エチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基を挙げることができる。
【００６３】
上記一般式（ＸＩＩ）で表されるシランジオール化合物の具体例としては、ジフェニルシランジオール、ジ−ｐ−トルイルシランジオール、ジキシリルシランジオール、ジトリメチルフェニルシランジオール、ジ−ｐ−スチリルシランジオール、ジナフチルシランジオール、ジシクロペンチルシランジオール、シクロヘキシルメチルシランジオールなどが挙げられ、共重合及び耐熱性の観点から、ジフェニルシランジオール、ジシクロペンチルシランジオール、及びシクロヘキシルメチルシランジオールが特に好ましい。
【００６４】
積極的に水を添加することなく縮合を行う反応の温度は、縮合の反応性の観点から、４０℃以上が好ましく、より好ましくは５０℃以上であり、一方で、官能基の保護の観点から、１５０℃以下が好ましく、より好ましくは１３０℃以下である。
積極的に水を添加することなく縮合を行う反応の時間は、縮合の反応性の観点から、０．５時間以上が好ましく、１時間以上がより好ましく、一方で、官能基の保護の観点から４８時間以下が好ましく、３０時間以下がより好ましい。
積極的に水を添加することなく縮合を行う反応では、水を積極的に添加することは無い。触媒を用いる場合は、塩基性触媒又は酸性触媒を用いることができる。
【００６５】
塩基性触媒としては、３価若しくは４価の金属アルコキシドを用いることができる。具体的には、塩基性触媒としては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−ｎ−プロポキシアルミニウム、トリ−ｉｓｏ−プロポキシアルミニウム、トリ−ｎ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｉｓｏ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム、トリメトキシボロン、トリエトキシボロン、トリ−ｎ−プロポキシボロン、トリ−ｉｓｏ−プロポキシボロン、トリ−ｎ−ブトキシボロン、トリ−ｉｓｏ−ブトキシボロン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシボロン、トリ−ｔｅｒｔブトキシボロン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラメトキシゲルマニウム、テトラエトキシゲルマニウム、テトラ−ｎ−プロポキシゲルマニウム、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシゲルマニウム、テトラ−ｎ−ブトキシゲルマニウム、テトラ−ｉｓｏ−ブトキシゲルマニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシゲルマニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシゲルマニウム、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−ｉｓｏ−ブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｉｓｏ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウムなどが挙げられる。
【００６６】
また、アルカリ金属の水酸化物又はアルカリ土類金属の水酸化物、例えば、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化カルシウム、及び水酸化マグネシウムを塩基性触媒として用いてもよい。また、ＮＨ4Ｆ（フッ化アンモニウム）を塩基性触媒として用いてもよい。中でも、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化ストロンチウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン、及びテトラ−ｉｓｏ−プロポキシチタンが好ましい。迅速かつ均一な重合反応を達成するために、塩基性触媒は、反応温度領域で液状であることが好ましい。
これらの塩基性触媒の好ましい含有量は、全シラン化合物に対して、縮合反応性の観点から０．０１ｍｏｌ％以上が好ましく、一方で、官能基の保護の観点から１０ｍｏｌ％以下が好ましい。
【００６７】
酸性触媒としては、水を含有しない有機酸性触媒を用いることができる。具体的には、酸性触媒としては、酢酸、トリフルオロ酢酸、アクリル酸、メタクリル酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、フタル酸、（３−トリメトキシシリルプロピル）コハク酸、又はそのハーフエステル、及び（３−トリエトキシシリルプロピル）コハク酸、又はそのハーフエステルなどが挙げられる。
これら酸性触媒の好ましい含有量は、全シラン化合物に対して、縮合反応性の観点から０．０１ｍｏｌ％以上が好ましく、一方で、官能基の保護の観点から１０ｍｏｌ％以下が好ましい。
【００６８】
重合の際、反応速度の観点から、必要に応じて溶媒を用いることができる。溶媒は、（１）加水分解縮合による製造方法と同様の溶媒を用いることができる。
シリコーン重合体の重合度を上げる観点から、縮合反応により発生するアルコールを減圧下で除去することが好ましい。
（Ａ）シリコーン重合体を重合するときに、架橋基の保護の観点から、合成時に重合禁止剤を加えてもよい。
【００６９】
上述したシリコーン重合体を用いることで、アルカリ現像液に対して膨潤することなくパターンを形成することができる。
これにより、例えばシリコンウェハー、ガラス、フィルム、それらに１種類以上の金属をスパッタした基材等の基材上に形成された半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜、及びマイクロレンズアレイなどのミクロ構造体とそのパッケージ材との間の支持体（隔壁）から成る群から選択されるいずれかとして使用し、他の工程は周知の半導体装置の製造方法を適用することで、タッチパネル、ＣＭＯＳイメージセンサーなどの光学素子を含む、各種の表示装置、半導体装置を製造することができる。また、上記シリコーン重合体を硬化させた樹脂から成る塗膜を有する電子部品又は半導体装置を得ることができる。
また、表示装置に好適に使用される絶縁材料として、半導体装置における表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜などの形成に、及びイメージセンサー若しくはマイクロマシン、又はマイクロアクチュエーターを搭載した半導体装置等に好適に使用することができる。
【実施例】
【００７０】
以下、実施例に従って実施形態の方法を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により限定されるものではない。
【００７１】
＜測定方法＞
１．モノマーの酸価測定方法
サンプルを１．０ｇ精秤し、エタノール１５ｇ、水１５ｇおよび指示薬として１％フェノールフタレインのエタノール溶液を２〜３滴加えて、０．１ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液を用いて滴定した。
酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝（ａ×５．６１１×ｆ）／ｂ
ａ：サンプルの滴定量（ｍｌ）
ｂ：サンプル重量（ｇ）
ｆ：滴定液のファクター
【００７２】
２．重合体の酸価測定方法
サンプルを１．０ｇ精秤し、エタノール３０ｇおよび指示薬として１％フェノールフタレインのエタノール溶液を２〜３滴加えて、０．１ｍｏｌ／ｌ水酸化カリウムのエタノール溶液を用いて滴定した。
酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝（ａ×５．６１１×ｆ）／ｂ
ａ：サンプルの滴定量（ｍｌ）
ｂ：サンプル重量（ｇ）
ｆ：滴定液のファクター
【００７３】
３．重合体の分子量測定方法
実施例、比較例中のポリマーの分子量はＧＰＣにより分析を行った。ＧＰＣ装置はHLC-8320GPC（東ソー株式会社）を用い、カラムとしてTSKgel Super HZ3000×2本とTSKgel Super HZ2000×2本とを接続したものを用い、展開溶媒をTHF、流量を0.6ml/min、
カラム温度を40℃、検出器をRIとして分析を行った。
分子量はポリスチレンの標品を基準として算出した。
【００７４】
＜評価方法＞
１．現像性の評価
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が２０μｍになるように、シリコン基板に塗布し、９５℃４分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、ｉ線ステッパー（ニコン製  ＮＳＲ２００５  ｉ８Ａ）を用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、４００ｍＪ／ｃｍ2照射した。
露光に続いてアルカリ現像液（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製デベロッパー、２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液）を用い、２３℃、３０秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。
この条件で、塗膜の未露光部を除去できたものを○、除去しきれなかったものを×と評価した。
【００７５】
２．膨潤の評価
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が２０μｍになるように、シリコン基板に塗布し、９５℃４分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、ｉ線ステッパーを用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、６０ｍＪ／ｃｍ2から１１１０ｍＪ／ｃｍ2まで３０ｍＪ／ｃｍ2刻みで照射した。
露光に続いてアルカリ現像液を用い、２３℃、３０秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。この条件で、塗膜の未露光部を除去しきれなかったものについては、未露光部を除去しきれるまで現像時間を調節し、現像を行った。
得られたパターンの内、１５μｍ幅の縞状に露光したパターンを光学顕微鏡で観察した。この時、パターンの変形がなく解像ができている最小の露光量を、下記基準で評価した。
◎：１２０ｍＪ未満
○：１５０ｍＪ未満
△：１８０ｍＪ未満
×：１８０ｍＪ以上
【００７６】
３．接着性の評価
シリコーン重合体組成物を、ハードベーク後の膜厚が２０μｍになるように、シリコン基板に塗布し、９５℃４分間ホットプレート上でベークした。
上記の塗布膜を有する基板に対し、テストパターン付きレチクルを通して、ｉ線ステッパーを用いて露光を行った。露光は、大気中で行い、６０ｍＪ／ｃｍ2から１１１０ｍＪ／ｃｍ2まで３０ｍＪ／ｃｍ2刻みで照射した。
露光に続いてアルカリ現像液を用い、２３℃、３０秒の条件下で現像し、純水にてリンスを行い、塗膜の未露光部を除去した。この条件で、塗膜の未露光部を除去しきれなかったものについては、未露光部を除去しきれるまで現像時間を調節し、現像を行った。
得られたパターンの内、１５μｍ×１５μｍの正方形に露光したパターンを光学顕微鏡で観察した。この時、２５個あるパターン全てが接着した状態で解像ができている最小の露光量を、下記基準で評価した。
◎：１００ｍＪ未満
○：１５０ｍＪ未満
△：１８０ｍＪ未満
×：１８０ｍＪ以上
【００７７】
［実施例１］
（Ｍ−１の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにトルエン６０．２１ｇ、１０−ウンデセン酸１２．９２ｇ（７０．１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン９．１３ｇ（７４．７１ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した。触媒として１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のトルエン溶液（白金を０．０３重量％含む）を２．４３ｇ加え８０℃で５時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭（白鷺Ａ、日本エンバイロケミカルズ株式会社）０．２７ｇを加えて３０分間撹拌した。セライト（Ｎｏ．５０３、和光純薬工業株式会社）を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物２０．６０ｇを得た。
得られた反応生成物の酸価は１８６．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応生成物をＧＰＣ分析したところ１０−ウンデセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
【００７８】
（重合体１の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに上記の反応生成物１５．６４ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２９．６３ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．８２ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で６時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが６９．６１ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は４１．４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは２９６３であった。
【００７９】
（組成物の調整）
重合体１を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【００８０】
［実施例２］
（Ｍ−２の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにトルエン６０．００ｇ、９−デセン酸１３．６２ｇ（８０．００ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン１０．２７ｇ（８４．０４ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した。触媒として１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のトルエン溶液（白金を０．０３重量％含む）を２．８０ｇ加え８０℃で５時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭（白鷺Ａ、日本エンバイロケミカルズ株式会社）０．３１ｇを加えて３０分間撹拌した。セライト（Ｎｏ．５０３、和光純薬工業株式会社）を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物２２．７１ｇを得た。
得られた反応生成物の酸価は１９３．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応生成物をＧＰＣ分析したところ９−デセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
【００８１】
（重合体２の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに上記の反応生成物１４．６３ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２８．９７ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．０５ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で６時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが６７．５０ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３５．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは３５５０であった。
【００８２】
（組成物の調整）
重合体２を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【００８３】
［実施例３］
（Ｍ−３の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにトルエン６０．０１ｇ、１０−ウンデセン酸１６．５９ｇ（９０．００ｍｍｏｌ）、メチルジメトキシシラン１０．０５ｇ（９４．６３ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した。触媒として１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のトルエン溶液（白金を０．０３重量％含む）を３．１７ｇ加え８０℃で７時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭（白鷺Ａ、日本エンバイロケミカルズ株式会社）０．３２ｇを加えて３０分間撹拌した。セライト（Ｎｏ．５０３、和光純薬工業株式会社）を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物２５．３０ｇを得た。
得られた反応生成物の酸価は１９４．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応生成物をＧＰＣ分析したところ１０−ウンデセン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
【００８４】
（重合体３の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに上記の反応生成物１４．５２ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２８．９８ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．１０ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で７時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが６７．７２ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３６．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは３２５５であった。
【００８５】
（組成物の調整）
重合体３を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【００８６】
［実施例４］
（Ｍ−４の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにトルエン６０．１８ｇ、無水コハク酸９．０１ｇ（９０．０４ｍｍｏｌ）、エチレングリコールモノアリルエーテル９．４４ｇ（９２．４３ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した後１００℃で１３時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン６０．４２ｇ、トリメトキシシラン１１．７８ｇ（９６．４０ｍｍｏｌ）を加え系内を窒素置換した。触媒として１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のトルエン溶液（白金を０．０３重量％含む）を４．００ｇ加え８０℃で７時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭（白鷺Ａ、日本エンバイロケミカルズ株式会社）０．２８ｇを加えて３０分間撹拌した。セライト（Ｎｏ．５０３、和光純薬工業株式会社）を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物２５．４４ｇを得た。
得られた反応生成物の酸価は１８１．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応生成物をＧＰＣ分析したところ無水コハク酸とエチレングリコールモノアリルエーテルとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
【００８７】
（重合体４の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに上記の反応生成物１７．５３ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン３１．３３ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３８．９５ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で６時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが７４．７４ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は４３．２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは２５４０であった。
【００８８】
（組成物の調整）
重合体４を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【００８９】
［実施例５］
（Ｍ−５の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにトルエン６０．００ｇ、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物１２．３３ｇ（８０．００ｍｍｏｌ）、エチレングリコールモノアリルエーテル８．３４ｇ（８１．６６ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した後１００℃で１２時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン６０．２０ｇ、トリメトキシシラン１０．２５ｇ（８３．８８ｍｍｏｌ）を加え系内を窒素置換した。触媒として１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のトルエン溶液（白金を０．０３重量％含む）を２．８０ｇ加え８０℃で８時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭（白鷺Ａ、日本エンバイロケミカルズ株式会社）０．３０ｇを加えて３０分間撹拌した。セライト（Ｎｏ．５０３、和光純薬工業株式会社）を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物２９．３９ｇを得た。
得られた反応生成物の酸価は１４９．４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応生成物をＧＰＣ分析したところｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物とエチレングリコールモノアリルエーテルとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
【００９０】
（重合体５の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに上記の反応生成物１８．９３ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２８．９７ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．０８ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で７時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが７１．３６ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３４．３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは２９９０であった。
【００９１】
（組成物の調整）
重合体５を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【００９２】
［実施例６］
（Ｍ−６の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにトルエン６０．０５ｇ、無水コハク酸８．０１ｇ（８０．００ｍｍｏｌ）、３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール１０．７８ｇ（８１．６０ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した後１００℃で１２時間撹拌した。溶媒を一旦留去した後にトルエン６０．１０ｇ、トリメトキシシラン１０．２６ｇ（８４．００ｍｍｏｌ）を加え系内を窒素置換した。触媒として１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のトルエン溶液（白金を０．０３重量％含む）を２．８１ｇ加え８０℃で８時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭（白鷺Ａ、日本エンバイロケミカルズ株式会社）０．２９ｇを加えて３０分間撹拌した。セライト（Ｎｏ．５０３、和光純薬工業株式会社）を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物２７．６０ｇを得た。
得られた反応生成物の酸価は１５９．２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応生成物をＧＰＣ分析したところ無水コハク酸と３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオールとの反応物のピークは観測されず、さらにトリメトキシシランとの反応生成物のピークが観測された。また１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
【００９３】
（重合体６の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに上記の反応生成物１７．７３ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２８．９７ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．０５ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で７時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが７０．３４ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３４．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは３１３２であった。
【００９４】
（組成物の調整）
重合体６を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【００９５】
［実施例７］
（重合体７の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに実施例１のＭ−１の合成と同様にして得た１０−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物１８．３９ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン１４．９０ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール２５．９６ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で７時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが５０．３３ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は５７．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは３１２１であった。
【００９６】
（組成物の調整）
重合体７を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【００９７】
［実施例８］
（重合体８の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに実施例１のＭ−１の合成と同様にして得た１０−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物１５．３２ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン１６．５６ｇ、ｐ−スチリルトリメトキシシラン１１．２１ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．０５ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で７時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが６７．２５ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３６．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは３２６６であった。
【００９８】
（組成物の調整）
重合体８を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【００９９】
［実施例９］
（重合体９の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた５００ｍｌのフラスコに実施例１のＭ−１の合成と同様にして得た１０−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物１５．３１ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２８．９６ｇ、フェニルトリメトキシシラン３３．０４ｇ、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート８０．１０ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後系内を窒素置換した。水１８．０１ｇおよび５ｍｏｌ／Ｌ塩酸０．５ｕＬを加えて９５℃で３時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え減圧下でプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタートおよび反応により生成したメタノールを４０．５０ｇ留去した。この反応により、ポリマーを含む溶液が１３２．２０ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３６．９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは３９８５であった。
【０１００】
（組成物の調整）
重合体９を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【０１０１】
［実施例１０］
（重合体１０の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにトルエン６０．００ｇ、ビニルトリメトキシシラン１１．８６ｇ（８０．００ｍｍｏｌ）、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン（ＬＳ−７３１０、信越化学工業株式会社）８．１８ｇ（４２．０７ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した。触媒として１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のトルエン溶液（白金を０．０３重量％含む）を２．８０ｇ加え８０℃で５時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭（白鷺Ａ、日本エンバイロケミカルズ株式会社）０．２８ｇを加えて３０分間撹拌した。セライト（Ｎｏ．５０３、和光純薬工業株式会社）を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物１９．６０ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに実施例１のＭ−１の合成と同様にして得た１０−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物１５．３２ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２８．１５ｇ、上記のビニルトリメトキシシランと１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンとの反応生成物１．６４ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．０５ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で７時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが６８．９０ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３４．９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは２９８８であった。
【０１０２】
（組成物の調整）
重合体１０を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【０１０３】
［実施例１１］
（重合体１１の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた５００ｍｌのフラスコに実施例１のＭ−１の合成と同様にして得た１０−ウンデセン酸とトリメトキシシランとの反応生成物１５．３２ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２８．９８ｇ、フェニルトリメトキシシラン３３．０３ｇ、合成例１０と同様にして得たビニルトリメトキシシランと１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンとの反応生成物１．６３ｇ、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート８０．００ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後系内を窒素置換した。水１８．３８ｇおよび５ｍｏｌ／Ｌ塩酸０．５ｕＬを加えて９５℃で３時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え減圧下でプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタートおよび反応により生成したメタノールを４０．１０ｇ留去した。この反応により、ポリマーを含む溶液が１３１．６５ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３６．３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは４２３８であった。
【０１０４】
（組成物の調整）
重合体１１を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【０１０５】
［比較例１］
（重合体１２の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにＸ−１２−９６７Ｃ（信越化学工業株式会社製）１３．３６ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２９．６３ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．８２ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で６時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが６７．３１ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は４４．７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは２４２０であった。
【０１０６】
（組成物の調整）
重合体１２を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【０１０７】
［比較例２］
（Ｍ−８の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコにトルエン６０．３２ｇ、３−ブテン酸８．０５ｇ（９３．５１ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン１２．２８ｇ（１００．４９ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した。触媒として１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のトルエン溶液（白金を０．０３重量％含む）を５．００ｇ加え８０℃で７時間撹拌した。その後、粉末状の活性炭（白鷺Ａ、日本エンバイロケミカルズ株式会社）０．２９ｇを加えて３０分間撹拌した。セライト（Ｎｏ．５０３、和光純薬工業株式会社）を用いたろ過により活性炭を除いた後溶媒を留去し、反応生成物１４．８１ｇを得た。
得られた反応生成物の酸価は２４９．１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応生成物をＧＰＣ分析したところ３−ブテン酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。また１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ炭素−炭素二重結合に由来するプロトンのシグナルが消失し、ケイ素に隣接する炭素に結合しているプロトンのシグナルが観測された。
【０１０８】
（重合体１３の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２００ｍｌのフラスコに上記の反応生成物１０．６５ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン２９．５６ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．０１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール３６．８２ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で５時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが６５．３０ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３３．３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは５０８２であった。
【０１０９】
（組成物の調整）
重合体１３を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【０１１０】
［比較例３］
（Ｍ−９の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた５００ｍｌのフラスコにトルエン１１２．１６ｇ、３-アミノプロピルトリメトキシシラン１４３．４６ｇ（８０．０２ｍｍｏｌ）、無水コハク酸８０．０５（７９．９９ｍｍｏｌ）を仕込み系内を窒素置換した。２５℃の水浴中で１０時間撹拌した。その後溶媒を留去し、反応生成物２１７．８２ｇを得た。
得られた反応生成物の酸価は１９０．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。この反応生成物をＧＰＣ分析したところ３-アミノプロピルトリメトキシシランおよび無水コハク酸のピークは観測されず反応生成物のピークが観測された。
【０１１１】
（重合体１４の合成）
撹拌機およびジムロート冷却器を備えた２Ｌのフラスコに上記の反応生成物１６９．４６ｇと３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン３４７．７０ｇ、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル０．１１ｇを仕込み、室温で３０分間撹拌して溶解した後、ジフェニルシランジオール４３２．８７ｇを加え、系内を窒素置換した後９０℃で１時間撹拌した。その後ジムロートコンデンサーを外して単蒸留装置に取り替え圧力を１ｋＰａとして反応により生成するメタノールを留去しながら、９０℃で５時間撹拌した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリマーが８１０．８０ｇ得られた。得られたポリマーの酸価は３８．７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。ＧＰＣ分析により本ポリマー中に原料モノマーは検出されなかった。また重量平均分子量Ｍｗは２５４１であった。
【０１１２】
（組成物の調整）
重合体１４を３．００ｇ、ＳＰＣ１００１を固形分の重量で３．００ｇ、ＥＡ−１０２０を２．００ｇ、ＴＭＰＴを２．００ｇ、光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を０．０９ｇ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５２を０．０３ｇ、ＫＢＭ５１０３（３−（アクリルオキシ）プロピルトリメトキシシラン  信越化学工業社製）を０．５０ｇ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート）を５．００ｇになるように加えて、室温でウェブローターを用いて撹拌し、混合した。これを孔径２．５ミクロンのＰＰ製フィルターで加圧ろ過し、室温で粘稠な液体状の樹脂組成物を得た。
【０１１３】
上記で得られた、Ｍ−１〜Ｍ−６、Ｍ−８、Ｍ−９の１Ｈ−ＮＭＲを測定した（測定装置：ＪＮＭ−ＧＳＸ４００（日本電子株式会社））。結果を表１に示す。
Ｍ−７については、Ｘ−１２−９６７Ｃ（信越化学工業株式会社製）の値を示す。
【０１１４】
【表１】
2014237771.tif 000014
【０１１５】
実施例１〜１１、比較例１〜３について、上記の評価を行った結果を以下の表２に示す。
【０１１６】
【表２】
2014237771.tif 000015
【０１１７】
＜カルボン酸基含有化合物＞
Ｍ−７：  Ｘ−１２−９６７Ｃ  信越化学工業株式会社製
＜開始剤＞
Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９：ＢＡＳＦ社製
＜バインダー＞
ＳＰＣ１００１：昭和電工社製  酸価：８６ｍｇＫＯＨ／ｇ
＜モノマー＞
ＥＡ−１０２０：新中村化学工業社製
ＴＭＰＴ：新中村化学工業社製
＜添加剤＞
ＴＩＮＵＶＩＮ１５２：ＢＡＳＦ社製
ＫＢＭ５１０３：信越化学工業株式会社製
ＰＧＭＥＡ：東京化成工業社製
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
上述したシリコーン重合体は、表示装置の絶縁材料として、半導体装置における表面保護膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜などの形成に、及びイメージセンサー若しくはマイクロマシン、又はマイクロアクチュエーターを搭載した半導体装置等及びその形成に好適に利用可能である。