(57)【要約】【課題】スプラッシュ現象の発生を抑制し、高いガスバリア性を付与できる蒸着材料と、それを用いて作製したガスバリア性蒸着フィルムを提供する。【解決手段】ガスバリア性蒸着フィルム１０を作製するために用いられる蒸着材料が、金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄とを含有する。また、ガスバリア性蒸着フィルム１０を構成する無機酸化物膜２の珪素と鉄の合計の原子数と酸素の原子数との比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））が１．２以上２．０以下であり、無機酸化物膜２の珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）が０．０５以上１．００以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱方式の蒸着用材料であって、
前記蒸着材料が、
金属珪素と、
二酸化珪素と、
金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄とを含有する
ことを特徴とする蒸着用材料。
【請求項２】
前記鉄を含む合金が、シリコンとの合金であるフェロシリコン（ＦｅＳｉ）であり、前記酸化鉄が、ＦｅＯまたはＦｅ３Ｏ４であることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用材料。
【請求項３】
嵩密度が、０．９ｇ／ｃｍ３以上１．４ｇ／ｃｍ３以下の範囲であることを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着用材料。
【請求項４】
前記二酸化珪素が、結晶構造を少なくとも２０％以上含んでいることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着用材料。
【請求項５】
高分子フィルム基材と、前記高分子フィルム基材の少なくとも一方の面に設けた無機酸化物膜とを備えるガスバリア性蒸着フィルムであって、
前記無機酸化物膜の珪素と鉄の合計の原子数と酸素の原子数との比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））が１．２以上２．０以下であり、前記無機酸化物膜の珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）が０．０５以上１．００以下であることを特徴とするガスバリア性蒸着フィルム。
【請求項６】
高分子フィルム基材と、前記高分子フィルム基材の少なくとも一方の面に設けた無機酸化物膜とを備えるガスバリア性蒸着フィルムの製造方法であって、
蒸着用材料を電子ビーム方式により蒸発させ、高分子フィルム基材上に無機酸化物膜を形成し、ガスバリア性蒸着フィルムを作製する工程を有し、前記蒸着用材料が請求項１から４のいずれか一項に記載の蒸着用材料であることを特徴とするガスバリア性蒸着フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着材料、ガスバリア性蒸着フィルム及び該ガスバリア性蒸着フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリア性蒸着フィルムは、ハードディスクや半導体モジュールなどの精密電子部品類、太陽電池のバックシート、食品や医薬品等の包装分野、あるいは非包装分野で酸素および水蒸気を遮断する必要がある部材の分野に広く用いられている。
【０００３】
精密電子部品類においては金属部分の腐食、絶縁不良などを防止するために、包装材料を透過する酸素や水蒸気、その他内容物を変質させる気体を遮断するガスバリア性を備える包装体が求められている。特に、食品包装においては蛋白質や油脂などの酸化や変質を抑制し、味や鮮度を保持することが必要である。また無菌状態での取り扱いが必要とされる医薬品類においては有効成分の変質を抑制し、効能を維持することが必要である。
【０００４】
そのため、従来から温度、湿度などに影響されないアルミニウムなどの金属箔やあるミニウム蒸着フィルムあるいは、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン‐ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）などの樹脂フィルムやこれらの樹脂をラミネートまたはコーティングしたプラスチックフィルムなどが好んで用いられてきた。
【０００５】
ところが、アルミニウムなどの金属箔やアルミニウム蒸着フィルムを用いた包装材料は、ガスバリア性には優れるが、不透明であるため、包装材料を透過して内容物を識別することが難しいだけではなく、使用後の廃棄の際に不燃物として処理しなければならない点や金属探知機による異物検査や、電子レンジでの加熱処理が出来ないなどの欠点を有していた。
【０００６】
また、ガスバリア性樹脂フィルムやガスバリア性樹脂をコーティングしたフィルムは、温度依存性が大きく、高いガスバリア性を維持できない。さらに、使用後ＰＶＤＣやＰＡＮなどは廃棄、焼却の際に有害物質が発生する原因となる可能性を有していた。
【０００７】
そこで、これらの欠点を克服した包装用材料として、最近では酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素などの無機酸化物を透明な基材フィルム上に蒸着したガスバリア性蒸着フィルムが上市されている。（特許文献１、２参照）これらのガスバリア性蒸着フィルムは透明性および酸素、水蒸気などのガス遮断性を有していることが知られ、金属箔などでは得ることの出来ない透明性、ガスバリア性の両方を有する包装材料として好適とされており、酸化珪素ＳｉＯｘを蒸着したフィルムでは食品包装用フィルムとして用いられている。また、酸化珪素ＳｉＯｘを蒸着用材料とした加熱方式による
蒸着は非常に成膜速度が速く、生産性が高い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−２９６０３６号公報
【特許文献２】特開平６−０１６８４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、ここで用いられている蒸着用材料の酸化珪素のＳｉＯｘ（０＜ｘ＜２）は、金属珪素と二酸化珪素を原料として真空蒸着により製造されるため、次に示すような欠点を有している。
【００１０】
真空蒸着法により製造する蒸着用材料の酸化珪素ＳｉＯｘ（０＜ｘ＜２）は大量生産に適した製造方法ではないため、材料費が高く、製造コストが高くなるという問題がある。また、この蒸着用材料の酸化珪素ＳｉＯｘ（０＜ｘ＜２）は真密度に近い密度を有し、非常に緻密な構造になっている。
【００１１】
そのため、この蒸着用材料を蒸発させてバリアフィルムを製造した場合には、蒸着の際の加熱による熱衝撃や内部から発生するガスの圧力により、気化していない蒸着用材料が高温の粒子として飛散するスプラッシュという現象が発生するという問題がある。
【００１２】
高温の粒子が高分子フィルム上に到達した際には、ピンホールや異物が生じ、ガスバリア性の低下および外観不良となる。さらに、上記記載の加熱方式、特に電子銃による加熱は、より大きい熱衝撃を蒸着用材料が受けることで上記のスプラッシュと異物の発生がより顕著に現れる。
【００１３】
これに対して金属珪素と二酸化珪素の混合蒸着用材料は、比較的安価であるが、加熱時に一酸化珪素よりも蒸気圧が高いために蒸発しにくく、さらに溶融型の蒸着用材料であるため、より大きい熱衝撃が必要となり、蒸着用材料が飛散してスプラッシュが発生しやすい。また、二酸化珪素の分解による酸素ガスの発生で成膜室内の圧力が上昇し、蒸着速度の低下、つまり生産性の低下が起こり、また蒸着膜密度の低下による蒸着膜のバリア性の低下を引き起こす問題もある。
【００１４】
本発明は、以上の従来技術の問題を解決しようとするものであり、スプラッシュ現象の発生を抑制し、高いガスバリア性を付与できる蒸着用材料と、それを用いて蒸着したガスバリア性蒸着フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は係る課題に鑑みて成されたものであり、本発明の一態様は、加熱方式の蒸着用材料であって、蒸着材料が、金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄とを含有することを特徴とする蒸着用材料である。
【００１６】
また、本発明の一態様である蒸着用材料における鉄を含む合金が、シリコンとの合金であるフェロシリコン（ＦｅＳｉ）であり、酸化鉄が、ＦｅＯまたはＦｅ３Ｏ４であることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の一態様である蒸着用材料における嵩密度が、０．９ｇ／ｃｍ３以上１．４ｇ／ｃｍ３以下の範囲であることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の一態様である蒸着用材料における二酸化珪素が、結晶構造を少なくとも２０％以上含んでいることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の別の態様は、高分子フィルム基材と、高分子フィルム基材の少なくとも一方の面に設けた無機酸化物膜とを備えるガスバリア性蒸着フィルムであって、無機酸化物膜の珪素と鉄の合計の原子数と酸素の原子数との比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））が１．２以上２．０以下であり、無機酸化物膜の珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）が０．０５以上１．００以下であることを特徴とするガスバリア性蒸着フィルムである。
【００２０】
また、本発明の別の態様は、高分子フィルム基材と、前記高分子フィルム基材の少なくとも一方の面に設けた無機酸化物膜とを備えるガスバリア性蒸着フィルムの製造方法であって、蒸着用材料を電子ビーム方式により蒸発させ、高分子フィルム基材上に無機酸化物膜を形成し、ガスバリア性蒸着フィルムを作製する工程を有し、前記蒸着用材料が請求項１から４のいずれか一項に記載の蒸着用材料であることを特徴とするガスバリア性蒸着フィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、生産性向上のために高い出力での電子ビーム加熱蒸着法を利用した場合でもスプラッシュ現象を抑制でき、高いガスバリア性を有するガスバリア性蒸着フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態であるガスバリア性蒸着フィルムの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下に、本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明のガスバリア性蒸着フィルム１０を説明する断面図である。ガスバリア性蒸着フィルム１０は、高分子フィルム基材１の上に、金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄とを含有する蒸着材料を蒸着したものからなる無機酸化物膜２（以下「蒸着膜」ともいう。）を、真空蒸着方式によって作製し、設けたものである。このようにすることがガスバリア性能や均一性の観点から好ましい。
【００２４】
無機酸化物膜２の成膜手段としては、真空蒸着方式のうち、電子ビームやレーザービーム等による加熱蒸着法が好ましく用いられ、特に、電子ビーム加熱蒸着法が、成膜速度や無機酸化物蒸着用材料への昇温降温が短時間で行える点で有効である。
【００２５】
また、二酸化珪素は、結晶構造を少なくとも２０％以上含み、非晶質構造が８０％以下含まれる。このために、電子ビームによって二酸化珪素から酸素ガスを発生させ、この酸素ガスを、金属珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄と反応させることができる。また、無機酸化物膜２は高分子フィルム基材１の両面に形成しても、多層にしても、表裏で異なる組成の無機酸化物膜２としてもよい。
【００２６】
高分子フィルム基材１は、特に制限を受けるものではなく、公知のものを使用することが出来る。例えば、ポリオレフィン系（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート等）、ポリアミド系（ナイロン―６、ナイロン―６６等）、ポリスチレン、エチレンビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネイト、ポリエーテルスルホン、アクリル、セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等）などの高分子のフィルム基材が挙げられるが、特に限定されない。
【００２７】
高分子フィルム基材１として、透明フィルムを用いることは、包装分野、非包装分野など幅広く適用できるため、大量生産に適するため好ましい。また、厚さに関しては、特に制限を受けるものではなく、ガスバリア性蒸着フィルムを形成する蒸着加工などの加工性を考慮すると、実用的には６μｍ以上２５０μｍ以下の範囲が好ましい。より好ましくは１２μｍ以上１８８μｍ以下である。さらに好ましくは１２μｍ以上１００μｍ以下である。高分子フィルム基材の厚さが６μｍより小さい場合には、フィルムに熱負荷がかかるといった問題がある。また、高分子フィルム基材の厚さが２５０μｍより大きい場合には、大量生産に不向きといった問題がある。
【００２８】
蒸発した金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄とを含有する蒸着用材料によって高分子フィルム基材１の表面上に形成される無機酸化物膜２の厚さは、一般的には５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲内が好ましい。より好ましくは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。さらに好ましくは３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【００２９】
ただし、無機酸化物膜２の厚さが５ｎｍより小さいと均一な膜が得られないことや、十分なガスバリア性能を発揮できない場合がある。また、膜厚が３００ｎｍより大きい場合は、膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引張りなどの外的要因により、膜に亀裂が生じる恐れがある。
【００３０】
本発明で蒸着用材料として使用される金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄とを含有する加熱方式の蒸着用材料は、珪素と鉄の合計の原子数と、酸素の原子数の比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））、珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）、また好適には嵩密度を管理することにより、電子ビームによる熱衝撃に対して破壊されにくい無機酸化物膜２を成膜することができる。そのため、無機酸化物膜２の耐熱衝撃性が向上し、スプラッシュ現象が抑制される。
【００３１】
すなわち、電子ビーム加熱による蒸着の際には、好適には嵩密度を管理することで、緻密構造にならないようにして熱伝導性を低くすることと、低い熱伝導性を持つ二酸化珪素を混合したことにより、電子ビーム加熱による急激な温度上昇による突沸の発生を抑制し、スプラッシュ現象を低減することができる。
【００３２】
また、二酸化珪素が加熱されると酸素ガスが脱離し、加熱された金属珪素も二酸化珪素から発生した酸素ガスが近傍にあるため、突沸することなく反応しＳｉＯｘ（０＜ｘ＜２）蒸気となる。また、金属鉄は二酸化珪素から脱離した酸素ガスと反応し、ＦｅＯｙ（０＜ｙ＜１）蒸気となり、酸化鉄も蒸発しＦｅＯｙ（０＜ｙ＜１）蒸気となることで、高分子基材フィルム上にＳｉＯｘ・ＦｅＯｙ（０＜ｘ＜２、０＜ｙ＜１））膜を形成できる。そして、蒸着用材料の表層には溶融した二酸化珪素が残るため、スプラッシュが抑制され、高いバリア性を持つ蒸着フィルムを形成できると考えられる。
【００３３】
本発明の金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄とを含有する加熱方式の蒸着用材料に関して、その珪素と鉄の合計の原子数と、酸素の原子数との比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））は１．０以上１．８以下が望ましい。前記のＯ／（Ｓｉ＋Ｆｅ）が１．０より小さい場合では、材料に含まれる二酸化珪素が少ないため、材料表層の溶融部分が少なく、スプラッシュが発生し易く、Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ）が１．８より大きい場合では、酸素ガスの発生が多くなるため、成膜室内の圧力が上昇し、蒸着速度の低下、つまり生産性の低下が起こり、また蒸着膜密度の低下により蒸着膜のバリア性が低下する。
【００３４】
また、金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄とを含有する加熱方式の蒸着用材料に関しては、珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）は０．０５以上１．００以下が好ましい。より好ましくは０．０７５以上０．７５以下である。さらに好ましくは０．１０以上０．５以下である。前記のＦｅ／Ｓｉが０．０５より小さい場合では、鉄成分を添加することによるバリア性向上効果が得られず、Ｆｅ／Ｓｉが１．００より大きい場合では、蒸着したフィルムに含まれる鉄の量が多くなるため、フィルムの耐水性が低下する。ここで、蒸着用材料の珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）および珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）は、金属珪素、二酸化珪素、金属鉄、鉄を含む合金、酸化鉄を組み合わせて混合する際に調整することができる。
【００３５】
蒸着用材料の嵩密度は０．９ｇ／ｃｍ３以上１．４ｇ／ｃｍ３以下が好ましい。蒸着用材料の嵩密度が０．９ｇ／ｃｍ３未満では、蒸着用材料の割れや飛散が発生し易く、嵩密度が１．４ｇ／ｃｍ３を超えると、材料の蒸発に必要なエネルギーがより必要となるため、蒸発レートが低くなり、蒸着速度の低下、つまり生産性が低下する。ここで、蒸着用材料の嵩密度は、蒸着用材料をプレス成型するときのプレス圧力によって調整することができる。また、嵩密度は蒸着用材料の外寸をノギスにより測定して体積を求め、電子天秤で求めた質量を体積で除すことで算出することができる。
【００３６】
さらに、蒸着用材料は、粉末状の金属珪素、二酸化珪素、金属鉄、鉄を含む合金、酸化鉄を組み合わせて混合し、プレス成型することで作製される。蒸着用材料を作製する際に用いられる上記粉末は、それぞれ同程度の粒径を用いると混ざりやすく、１μｍ以上１００μｍ以下の粒径（等価球形直径）の粉末を用いることで蒸着用材料の昇温プロセスが簡易になる。これは、金属珪素が蒸着用材料内で均一に分散されることで、材料が温まり易く電子ビームのデフォーカスが起こりにくいためと考えられる。
【００３７】
ここで用いる珪素酸化物は、少なくとも２０％はＸ線的に結晶構造を有している二酸化珪素を使用することが好ましい。これは、結晶化度２０％以下、つまり結晶構造が２０％以下の二酸化珪素を使用すると、蒸着用材料の蒸発レートおよび蒸着膜のバリア性が低下するためである。二酸化珪素の結晶部分と非結晶部分の測定には、Ｘ線回折装置（ＸＲＤ）を用いて、それぞれのピークを分離し、積分強度の比から結晶化度を求めることができる。
【００３８】
ここで用いる鉄は、金属鉄、鉄を含む合金、酸化鉄の群から一つまたは複数選択される。鉄を含む合金は、フェロシリコン、フェロアルミニウム、フェロマグネシウム、フェロマンガン、フェロクロム、フェロチタン、フェロモリブデン、フェロ二オブ、フェロニッケルの群から一つ若しくは複数から適宜選択される。蒸着用材料には珪素を使用しているため、スプラッシュが起こりにくいという理由で珪素との合金であるフェロシリコン（ＦｅＳｉ）を使用することがより好ましい。フェロシリコンは、シリコンの含有量が１５％以上９０％以下のフェロシリコンを指す。また、酸化鉄は、Ｆｅ２Ｏ３では十分なバリア性が得られないという理由でＦｅＯまたはＦｅ３Ｏ４であることが好ましい。
【００３９】
また、本発明の金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄粉末とを含有する加熱方式の蒸着用材料を、加熱方式で蒸発させて蒸着した蒸着膜に関して、その珪素と鉄合計の原子数と、酸素の原子数との比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））は１．２以上２．０以下が好ましい。Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ）が１．２より小さい場合では、蒸着膜に含まれる二酸化珪素が少ないため、フィルムの透明性が低下し、Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ）が２．０より大きい場合では、理論上起こり得ない。
【００４０】
また、金属珪素と、二酸化珪素と、金属鉄、鉄を含む合金または酸化鉄粉末とを含有する加熱方式の蒸着用材料を、加熱方式で蒸発させて蒸着した蒸着膜に関して、その珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）は０．０５以上１．００以下が好ましい。Ｆｅ／Ｓｉが０．０５より小さい場合では、鉄成分の含有によるバリア性向上効果が得られず、Ｆｅ／Ｓｉが１．００より大きい場合では、蒸着したフィルムに含まれる鉄の量が多くなるため、フィルムの耐水性が低下する。
【００４１】
本発明で使用する蒸着用材料は、珪素と鉄の合計の原子数と酸素の原子数との比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））、珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）、また、好適には嵩密度を管理すること、さらには、二酸化珪素の結晶化度を管理することで、従来の蒸着用材料に比べて、スプラッシュ現象を生じさせることなく、高いガスバリア性を持つガスバリア性蒸着フィルムを得ることができる。
【実施例】
【００４２】
以下に、本発明の実施例を具体的に説明する。
【００４３】
＜実施例１＞
金属珪素には５０μｍ以下の径を有する粉末が９５％以上のものを使用し、二酸化珪素には結晶構造を９５％含み、５０μｍ以下の径を有する粉末が９５％以上のものを使用し、金属鉄には５０μｍ以下の径を有する粉末が９５％以上のものを使用した。珪素と鉄の合計の原子数と酸素の原子数との比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））が１．０となるようにし、珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）が０．４７となるように混合した金属珪素と二酸化珪素と金属鉄からなる蒸着用材料を作製し、嵩密度が１．０ｇ／ｃｍ３となるようにプレス成型した。
【００４４】
次に、電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置により、電子銃から放出する電子ビームを混合蒸着用材料に照射し蒸発させ、高分子フィルム基材上に成膜した。
【００４５】
＜実施例２＞
金属珪素には５０μｍ以下の径を有する粉末が９５％以上のものを使用し、二酸化珪素には結晶構造を９５％含み、５０μｍ以下の径を有する粉末が９５％以上のものを使用し、酸化鉄には５０μｍ以下の径を有する粉末が９５％以上のものを使用した。珪素と鉄の合計の原子数と酸素の原子数との比（Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ））が１．６となるようにし、珪素の原子数と鉄の原子数との比（Ｆｅ／Ｓｉ）が０．１１となるように混合した金属珪素と二酸化珪素と酸化鉄からなる蒸着用材料を作製し、嵩密度が１．０ｇ／ｃｍ３となるようにプレス成型した。
【００４６】
以下に本発明の比較例について説明する。
【００４７】
＜比較例１＞
珪素の原子数と酸素の原子数との比（Ｏ／Ｓｉ）が１．５となるように混合した金属珪素と二酸化珪素とからなる混合蒸着用材料を作製し、嵩密度が１．０ｇ／ｃｍ３となるようにプレス成型した。
【００４８】
＜比較例２＞
比較例１で作製した蒸着用材料と同様に、嵩密度が１．５ｇ／ｃｍ３となるようにプレス成型した。
【００４９】
上記実施例１、２及び比較例１、２のガスバリア性蒸着フィルムについて、以下の方法で、スプラッシュの発生をチェックし、また、水蒸気透過率を測定評価した。また、蒸発させて蒸着した蒸着膜のＯ／（Ｓｉ＋Ｆｅ）およびＦｅ／Ｓｉを測定した。
【００５０】
〔スプラッシュについて〕
実施例１、２及び比較例１、２のガスバリア性蒸着フィルムを幅５００ｍｍ×長さ１００ｍｍの面積にカットし、これらのガスバリア性蒸着フィルムについて、目視により、スプラッシュによるピンホールや異物が無いかを調べた。
【００５１】
（スプラッシュの有無の評価）
○：スプラッシュによるピンホールや異物が無いもの
△：スプラッシュによるピンホールや異物が１から１０個まであるもの
×：スプラッシュによるピンホールや異物が１１個以上あるもの
【００５２】
〔水蒸気バリア性について〕
実施例１、２及び比較例１、２のガスバリア性蒸着フィルムの水蒸気バリア性を、モダンコントロール社製の水蒸気透過度測定装置（商品名：ＭＯＣＯＮ  ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ  ３／２１）を用いて４０℃９０％ＲＨの雰囲気下で測定した。
【００５３】
〔蒸着膜のＯ／（Ｓｉ＋Ｆｅ）及びＦｅ／Ｓｉについて〕
実施例１、２及び比較例１、２のガスバリア性蒸着フィルムにおける蒸着膜のＯ／（Ｓｉ＋Ｆｅ）及びＦｅ／Ｓｉを以下の方法で測定した。
【００５４】
（測定方法）
無機酸化物膜２が形成された高分子フィルム基材１を１０ｍｍ×１０ｍｍ角に切り取り、Ｘ線光電子分光装置（ＥＳＣＡ）により、膜の組成分析を行った。Ａｒイオンで蒸着膜の深さ方向に組成分析を３回以上繰り返し、その平均を求め、Ｏ／（Ｓｉ＋Ｆｅ）及びＦｅ／Ｓｉを算出した。
【００５５】
次の表１は上記測定結果を示している。
【００５６】
【表１】
2014122412.tif 000003
【００５７】
表１のように、比較例２のガスバリア性蒸着フィルムはスプラッシュの発生が確認されたのに対し、実施例１及び実施例２のガスバリア性蒸着フィルムはスプラッシュの発生はなかった。これは、蒸着用材料の高い嵩密度によってスプラッシュが発生することを意味する。
【００５８】
さらに、実施例１及び実施例２のガスバリア性蒸着フィルムは、金属鉄もしくは酸化鉄を蒸着用材料に加えているため、顕著な水蒸気バリア性の向上がみられる。すなわち、比較例１、２のガスバリア性蒸着フィルムは、金属珪素と二酸化珪素の蒸着用材料からなる蒸着膜の水蒸気バリア性が１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上であるのに対し、実施例１及び実施例２のガスバリア性蒸着フィルムは、金属鉄もしくは酸化鉄を適量加えた蒸着用材料からなる蒸着膜がＳｉＯｘとＦｅＯｙの複合膜となることで１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることから、水蒸気バリア性が向上したと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明は、生産性も高く、安価に高いガスバリア性能を持つ透明ガスバリア性フィルムを提供できるため、食品、日用品、医療品の包装分野あるいは非包装分野での酸素および水蒸気の遮断が必要な部材分野に幅広く適応できる。
【符号の説明】
【００６０】
１・・・高分子フィルム基材
２・・・無機酸化物膜
１０・・・ガスバリア性蒸着フィルム
【図１】
2014122412.tif 000004