(57)【要約】【課題】表示装置にタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みあるいは重量の増加を抑制することが可能な表示装置を提供する。【解決手段】本発明の表示装置１は、励起光を射出しかつ特定の領域に励起光の射出量を調整可能な光変調部２と、光変調部２に対向して配置された基板３と、基板３の光変調部２の側に配置されるとともに、光変調部２から射出された励起光が入射され、励起光を吸収して当該励起光とは異なる波長帯域を有する光を生じさせる蛍光体層４と、少なくとも１つの位置検出用電極５１，５３を有する情報入力部５と、を含み、情報入力部５を構成する少なくとも１つの位置検出用電極５１，５３は、基板３の蛍光体層４が配置された側に配置されていることを特徴とする。【選択図】図１
2014178340.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を射出しかつ特定の領域に前記励起光の射出量を調整可能な光変調部と、
前記光変調部に対向して配置された基板と、
前記基板の前記光変調部の側に配置されるとともに、前記光変調部から射出された前記励起光が入射され、前記励起光を吸収して当該励起光とは異なる波長帯域を有する光を生じさせる蛍光体層と、
少なくとも１つの位置検出用電極を有する情報入力部と、を含み、
前記情報入力部を構成する前記少なくとも１つの位置検出用電極は、前記基板の前記蛍光体層が配置された側、前記基板の前記蛍光体層が配置された側とは反対側のいずれか一方に配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、
前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記基板と前記蛍光体層との間にはカラーフィルタ層が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記情報入力部は、前記蛍光体層と前記光変調部との間、前記基板と前記カラーフィルタ層との間、前記カラーフィルタ層と前記蛍光体層との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、
前記絶縁層は、前記基板、前記カラーフィルタ層、前記蛍光体層、のいずれかであることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項７】
前記基板の前記光変調部の側とは反対側には外光フィルタが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記光変調部との間、前記外光フィルタと前記基板との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、
前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記外光フィルタ、のいずれかであることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記光変調部と前記蛍光体層との間にはバンドパスフィルタが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記バンドパスフィルタとの間、前記バンドパスフィルタと前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、
前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記バンドパスフィルタ、のいずれかであることを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記光変調部と前記蛍光体層との間には樹脂層が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記樹脂層との間、前記樹脂層と前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、
前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記樹脂層、のいずれかであることを特徴とする請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記蛍光体層と前記バンドパスフィルタとの間には樹脂層が配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記樹脂層との間、前記樹脂層と前記バンドパスフィルタとの間、前記バンドパスフィルタと前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする請求項１６に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、
前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記バンドパスフィルタ、前記樹脂層、のいずれかであることを特徴とする請求項１６に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記光変調部と前記バンドパスフィルタとの間には樹脂層が配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項２０】
前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記バンドパスフィルタとの間、前記樹脂層と前記バンドパスフィルタとの間、前記樹脂層と前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする請求項１９に記載の表示装置。
【請求項２１】
前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、
前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記バンドパスフィルタ、前記樹脂層、のいずれかであることを特徴とする請求項１９に記載の表示装置。
【請求項２２】
前記光変調部は、励起光を射出する光源と、
前記光源から射出された前記励起光の光透過率を調整する光変調素子と、を含み、
前記光変調素子により光透過率が調整された前記励起光が前記蛍光体層に入射されるように構成されていることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項２３】
前記光変調素子には一対の偏光板が設けられ、
前記情報入力部は、前記一対の偏光板の間ではなく、外側に配置されていることを特徴とする請求項２２に記載の表示装置。
【請求項２４】
前記光変調素子が、電圧印加により所定の領域毎に光透過率を調整可能な液晶素子で構成されていることを特徴とする請求項２２または２３に記載の表示装置。
【請求項２５】
前記光変調素子がＭＥＭＳで構成されていることを特徴とする請求項２２または２３に記載の表示装置。
【請求項２６】
前記光変調部が青色発光ＥＬ素子であることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項２７】
前記情報入力部は静電容量方式を採用していることを特徴とする請求項１ないし２６のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項２８】
前記情報入力部は抵抗膜方式を採用していることを特徴とする請求項１ないし２６のいずれか一項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光源から射出された励起光を蛍光体層で色変換して射出する表示装置として、特許文献１に記載の表示装置が知られている。特許文献１に記載の表示装置は、バックライトユニットから射出され液晶パネルで変調された青色の励起光を赤色蛍光体層、緑色蛍光体層および青色カラーフィルタで色変換し、フルカラー表示を行うものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１３１６８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の表示装置では、タッチセンサ機能を付加するに際し、表示装置の前面（視認側の面）にタッチパネルを配置すると、装置全体の厚みが増加してしまう。あるいは装置全体の重量が増加してしまう。
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、表示装置にタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能な表示装置を提供することを目的とする。あるいは装置全体の重量の増加を抑制することが可能な表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明の表示装置は、励起光を射出しかつ特定の領域に前記励起光の射出量を調整可能な光変調部と、前記光変調部に対向して配置された基板と、前記基板の前記光変調部の側に配置されるとともに、前記光変調部から射出された前記励起光が入射され、前記励起光を吸収して当該励起光とは異なる波長帯域を有する光を生じさせる蛍光体層と、少なくとも１つの位置検出用電極を有する情報入力部と、を含み、前記情報入力部を構成する前記少なくとも１つの位置検出用電極は、前記基板の前記蛍光体層が配置された側、前記基板の前記蛍光体層が配置された側とは反対側のいずれか一方に配置されていることを特徴とする。
【０００７】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする。
【０００８】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、のいずれかであることを特徴とする。
【０００９】
本発明の表示装置において、前記基板と前記蛍光体層との間にはカラーフィルタ層が配置されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、前記蛍光体層と前記光変調部との間、前記基板と前記カラーフィルタ層との間、前記カラーフィルタ層と前記蛍光体層との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする。
【００１１】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、前記絶縁層は、前記基板、前記カラーフィルタ層、前記蛍光体層、のいずれかであることを特徴とする。
【００１２】
本発明の表示装置において、前記基板の前記光変調部の側とは反対側には外光フィルタが配置されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記光変調部との間、前記外光フィルタと前記基板との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする。
【００１４】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記外光フィルタ、のいずれかであることを特徴とする。
【００１５】
本発明の表示装置において、前記光変調部と前記蛍光体層との間にはバンドパスフィルタが配置されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記バンドパスフィルタとの間、前記バンドパスフィルタと前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記バンドパスフィルタ、のいずれかであることを特徴とする。
【００１８】
本発明の表示装置において、前記光変調部と前記蛍光体層との間には樹脂層が配置されていることを特徴とする。
【００１９】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記樹脂層との間、前記樹脂層と前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする。
【００２０】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記樹脂層、のいずれかであることを特徴とする。
【００２１】
本発明の表示装置において、前記蛍光体層と前記バンドパスフィルタとの間には樹脂層が配置されていることを特徴とする。
【００２２】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記樹脂層との間、前記樹脂層と前記バンドパスフィルタとの間、前記バンドパスフィルタと前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする。
【００２３】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記バンドパスフィルタ、前記樹脂層、のいずれかであることを特徴とする。
【００２４】
本発明の表示装置において、前記光変調部と前記バンドパスフィルタとの間には樹脂層が配置されていることを特徴とする。
【００２５】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、前記基板と前記蛍光体層との間、前記蛍光体層と前記バンドパスフィルタとの間、前記樹脂層と前記バンドパスフィルタとの間、前記樹脂層と前記光変調部との間、のいずれかに配置されていることを特徴とする。
【００２６】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は、絶縁層と、当該絶縁層を挟んで配置された一対の前記位置検出用電極と、により構成されており、前記絶縁層は、前記基板、前記蛍光体層、前記バンドパスフィルタ、前記樹脂層、のいずれかであることを特徴とする。
【００２７】
本発明の表示装置において、前記光変調部は、励起光を射出する光源と、前記光源から射出された前記励起光の光透過率を調整する光変調素子と、を含み、前記光変調素子により光透過率が調整された前記励起光が前記蛍光体層に入射されるように構成されていることを特徴とする。
【００２８】
本発明の表示装置において、前記光変調素子には一対の偏光板が設けられ、前記情報入力部は、前記一対の偏光板の間ではなく、外側に配置されていることを特徴とする。
【００２９】
本発明の表示装置は、前記光変調素子が、電圧印加により所定の領域毎に光透過率を調整可能な液晶素子で構成されていることを特徴とする。
【００３０】
本発明の表示装置は、前記光変調素子がＭＥＭＳで構成されていることを特徴とする。
【００３１】
本発明の表示装置は、前記光変調部が青色発光ＥＬ素子であることを特徴とする。
【００３２】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は静電容量方式を採用していることを特徴とする。
【００３３】
本発明の表示装置において、前記情報入力部は抵抗膜方式を採用していることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、表示装置にタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みあるいは重量の増加を抑制することが可能な表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の第１実施形態の表示装置を示す断面模式図である。
【図２】本発明の第２実施形態の表示装置を示す断面模式図である。
【図３】本発明の第３実施形態の表示装置を示す断面模式図である。
【図４】本発明の第４実施形態の表示装置を示す断面模式図である。
【図５】本発明の第５実施形態の表示装置を示す断面模式図である。
【図６】本発明の第６実施形態の表示装置を示す断面模式図である。
【図７】本発明の第７実施形態の表示装置を示す断面模式図である。
【図８】光変調部の一例である青色発光ＥＬ素子の断面模式図である。
【図９】比較例の表示装置を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下に実施形態及び実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態及び実施例に限定されるものではない。
なお、以下の全ての図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
【００３７】
[第１実施形態]
図１は、第１実施形態の表示装置１を示す断面模式図である。
本実施形態の表示装置１は、図１に示すように、光変調部２と、光変調部２に対向して配置された基板３と、基板３の光変調部２の側に配置された蛍光体層４と、基板３と蛍光体層４との間に配置されたカラーフィルタ層１１と、光変調部２と蛍光体層４との間に配置されたバンドパスフィルタ６と、基板３の光変調部２の側とは反対側に配置された外光フィルタ７と、基板３とカラーフィルタ層１１との間に配置された情報入力部５と、を備えている。本実施形態の表示装置１は、赤色光による表示を行う赤色用サブピクセル８Ｒ、緑色光による表示を行う緑色用サブピクセル８Ｇ、青色光による表示を行う青色用サブピクセル８Ｂが隣接して配置されており、これら３つのサブピクセル８Ｒ，８Ｇ，８Ｂにより表示を構成する最小単位である１つのピクセルが構成されている。
【００３８】
光変調部２は、バックライト１０（光源）と、液晶パネル２０（液晶素子）と、を備えている。本実施形態においては、光変調素子が電圧印加により所定の領域毎に光透過率を調整可能な液晶パネル２０で構成されている。
【００３９】
バックライト１０は、蛍光体層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを励起させる励起光Ｌ１を射出するものであり、本実施形態では励起光Ｌ１として紫外光や青色光を射出する。バックライト１０としては、発光スペクトル内において、波長３５０〜４７０ｎｍの範囲に少なくとも１つの極大値を有するもの、すなわち、波長３５０〜４７０ｎｍの範囲で最大強度を示すものが用いられ、好ましくは波長４３０〜４７０ｎｍの範囲で最大強度を示すものが用いられる。バックライト１０としては、例えば、波長４５５ｎｍ付近に極大値を有する青色発光ダイオード（青色ＬＥＤ）などが用いられる。
【００４０】
液晶パネル２０は、バックライト１０から射出された励起光Ｌ１の透過率を上記のサブピクセル８Ｒ，８Ｇ，８Ｂ毎に変調するものである。蛍光体層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂには、液晶パネル２０により変調された励起光Ｌ１が入射される。これにより、蛍光体層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが励起されて発光した光が外部に射出される。したがって、本実施形態では、図１に示す表示装置１の上方側が、使用者が表示を見る視認側となる。
【００４１】
液晶パネル２０は、第１偏光板２１と、第１基板２２と、一対の透明電極２３，２５に挟持された液晶層２４と、第２基板２６と、第２偏光板２７と、を備えてなり、これらがバックライト１０側から順に積層された構造をなしている。なお、液晶パネルとしては第２基板２６を有しない構成を採用することもできる。この場合、第２偏光板２７としては板状のものではなくシート状のもの（偏光層）を用いる。
【００４２】
第１基板２２の内面（液晶層２４側の面）には、サブピクセル毎に第１透明電極２３が形成され、第１透明電極２３を覆うように配向膜（図示略）が形成されている。第１基板２２の外面（液晶層２４側と反対側の面）には第１偏光板２１が設けられている。第１基板２２には、例えばガラス、石英、プラスチック等からなる励起光を透過し得る基板を用いることができる。第１透明電極２３には、例えばインジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide, 以下、ＩＴＯと略記する）等の透明導電性材料が用いられる。第１偏光板２１には、従来一般の外付けの偏光板を用いることができる。
【００４３】
一方、第２基板２６の内面（液晶層２４側の面）には、第２透明電極２５、配向膜（図示略）が積層されている。第２基板２６の外面（液晶層２４側と反対側の面）には第２偏光板２７が設けられている。第２基板２６には、第１基板２２と同様、ガラス、石英、プラスチック等からなる励起光を透過し得る基板を用いることができる。第２透明電極２５には、第１透明電極２３と同様、ＩＴＯ等の透明導電性材料が用いられる。
【００４４】
液晶パネル２０の方式は特に限定されるものではなく、例えばサブピクセル毎に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor, 以下、ＴＦＴと略記する）等のスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス方式を採用しても良いし、ＴＦＴを持たないパッシブマトリクス方式を採用しても良い。また、液晶層２４のモードも特に限定されるものではなく、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alien）モード、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード等、種々の液晶モードを採用できる。
【００４５】
基板３の内面（光変調部１０側の面）には、情報入力部５、カラーフィルタ層１１、蛍光体層４、バンドパスフィルタ６が基板側からこの順に積層されている。
【００４６】
カラーフィルタ層１１は、赤色光を透過するカラーフィルタ層１１Ｒと、緑色光を透過するカラーフィルタ層１１Ｇと、青色光を透過するカラーフィルタ層１１Ｂと、からなる。赤色光を透過するカラーフィルタ層１１Ｒは、赤色光を発光する蛍光体層４Ｒの上に配置されている。緑色光を透過するカラーフィルタ層１１Ｇは、緑色光を発光する蛍光体層４Ｇの上に配置されている。青色光を透過するカラーフィルタ層１１Ｂは、青色光を発光する蛍光体層４Ｂもしくはバックライト１０からの青色光を拡散させる光拡散層の上に配置されている。
【００４７】
蛍光体層４を構成する蛍光体材料は、サブピクセル毎に発光波長帯域が異なっている。バックライト１０からの励起光が紫外光である場合、赤色用サブピクセル８Ｒには紫外光を吸収して赤色光を発光する蛍光体材料からなる蛍光体層４Ｒが設けられ、緑色用サブピクセル８Ｇには紫外光を吸収して緑色光を発光する蛍光体材料からなる蛍光体層４Ｇが設けられ、青色用サブピクセル８Ｂには紫外光を吸収して青色光を発光する蛍光体材料からなる蛍光体層４Ｂが設けられる。
【００４８】
もしくは、バックライト１０からの励起光が青色光である場合には、赤色用サブピクセル８Ｒ、緑色用サブピクセル８Ｇには紫外光を吸収して赤色光、緑色光をそれぞれ発光する蛍光体材料からなる蛍光体層が設けられ、青色用サブピクセル８Ｂには、蛍光体層に代えて、励起光である青色光を波長変換することなく拡散させて外部に射出させる光拡散層が設けられる。
【００４９】
蛍光体層４は、以下に例示する蛍光体材料のみから構成されていても良いし、任意に添加剤等を含んでいても良く、これらの蛍光体材料が樹脂材料や無機材料等の結合材中に分散された構成であっても良い。本実施形態の蛍光体材料として、公知の蛍光体材料を用いることができる。この種の蛍光体材料は、有機系蛍光体材料と無機系蛍光体材料に分類することができる。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本実施形態はこれらの材料に限定されるものではない。
【００５０】
有機系蛍光体材料では、紫外光や青色光を緑色光に変換する蛍光材として、クマリン系色素：２，３，５，６−１Ｈ、４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフロメチルキノリジン（９，９ａ、１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）、３−（２′−ベンゾチアゾリル）―７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２′−ベンゾイミダゾリル）―７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、ナフタルイミド系色素：ベーシックイエロー５１、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等が挙げられる。また、紫外光や青色光を赤色光に変換する蛍光材として、シアニン系色素：４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリル）−４Ｈ−ピラン、ピリジン系色素：１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウム−パークロレート、およびローダミン系色素：ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、ベーシックバイオレット１１、スルホローダミン１０１等が挙げられる。
【００５１】
無機系蛍光体材料では、紫外光や青色光を緑色光に変換する蛍光材として、（ＢａＭｇ）Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ2+，Ｍｎ2+、Ｓｒ4Ａｌ14Ｏ25：Ｅｕ2+、（ＳｒＢａ）Ａl12Ｓｉ2Ｏ8：Ｅｕ2+、（ＢａＭｇ）2ＳｉＯ4：Ｅｕ2+、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ3+，Ｔｂ3+、Ｓｒ2Ｐ2Ｏ7−Ｓｒ2Ｂ2Ｏ5：Ｅｕ2+、（ＢａＣａＭｇ）5（ＰＯ4）3Ｃｌ：Ｅｕ2+、Ｓｒ2Ｓｉ3Ｏ8−２ＳｒＣｌ2：Ｅｕ2+、Ｚｒ2ＳｉＯ4、ＭｇＡｌ11Ｏ19：Ｃｅ3+，Ｔｂ3+、Ｂａ2ＳｉＯ4：Ｅｕ2+、Ｓｒ2ＳｉＯ4：Ｅｕ2+、（ＢａＳｒ）ＳｉＯ4：Ｅｕ2+等が挙げられる。また、紫外光や青色光を赤色光に変換する蛍光材として、Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ3+、ＹＡｌＯ3：Ｅｕ3+、Ｃａ2Ｙ2（ＳｉＯ4）6：Ｅｕ3+、ＬｉＹ9（ＳｉＯ4）6Ｏ2：Ｅｕ3+、ＹＶＯ4：Ｅｕ3+、ＣａＳ：Ｅｕ3+、Ｇｄ2Ｏ3：Ｅｕ3+、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ3+、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ4：Ｅｕ3+、Ｍｇ4ＧｅＯ5.5Ｆ：Ｍｎ4+、Ｍｇ4ＧｅＯ6：Ｍｎ4+、Ｋ5Ｅｕ2.5（ＷＯ4）6.25、Ｎａ5Ｅｕ2.5（ＷＯ4）6.25、Ｋ5Ｅｕ2.5（ＭｏＯ4）6.25、Ｎａ5Ｅｕ2.5（ＭｏＯ4）6.25等が挙げられる。
さらに、ＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、ＩｎＰやＳｉなどの半導体材料をナノサイズまで微細化することで蛍光発光することが知られている。２〜８ｎｍ程度のサイズで可視光発光するが、粒子径が小さい程、発光波長が短くなる。
【００５２】
蛍光体層４は、上記の蛍光体材料と樹脂材料とを溶剤に溶解もしくは分散させた溶液を用いて、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、スプレーコート法等の塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法等の印刷法等による公知のウェットプロセス、上記の材料を用いた抵抗加熱蒸着法、電子線（ＥＢ）蒸着法、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、スパッタリング法、有機気相蒸着（ＯＶＰＤ）法等の公知のドライプロセス、または、レーザー転写法等により形成することができる。
【００５３】
また、上記の樹脂材料として感光性樹脂を用いることで、フォトリソグラフィー法により蛍光体層４をパターニングすることができる。感光性樹脂としては、アクリル酸系樹脂、メタクリル酸系樹脂、硬ゴム系樹脂等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂（光硬化型レジスト材料）の１種類または複数種類の混合物を用いることができる。また、上述のインクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法等のウェットプロセス、マスクを用いた抵抗加熱蒸着法、電子線（ＥＢ）蒸着法、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、スパッタリング法、有機気相蒸着（ＯＶＰＤ）法等の公知のドライプロセス、または、レーザー転写法等を用いれば、蛍光体材料を直接パターニングすることも可能である。
【００５４】
バンドパスフィルタ６は、誘電体多層膜などの構造を有しており、バンドパスフィルタ６の厚さと屈折率は、蛍光体層４からの散乱光を蛍光体層４へ再帰反射するのに適した構成であり、さらに第２偏光板２７を透過した光が蛍光体層４に入射するまでの間に、隣の画素領域に設置した蛍光体を励起する、光学的クロストークが生じない程度とすることが好ましい。具体的には、バンドパスフィルタ６の厚さは、画素間隔よりも小さいことが好ましい。
【００５５】
外光フィルタ７としては、可視光領域の光を透過し、青色から近紫外の領域の光を吸収または反射するバンドパスフィルタなどが用いられる。なお、外光フィルタ７としては、例えばＡＲフィルムやＡＧフィルムなど、外光の反射を低減する機能を有するものも含む。
【００５６】
情報入力部５は、基板３の蛍光体層４が配置された側の面に配置されている。本実施形態の情報入力部５は、絶縁層５２と当該絶縁層５２を挟んで配置された一対の透明導電膜（位置検出用電極）５１，５３とにより構成されている。基板３は、例えばガラス等からなる。透明導電膜５１，５３は、例えばＩＴＯ、ＡＴＯ（Antimony-doped Tin Oxide：アンチモンがドープされた錫酸化物）等の透明導電材料からなる。透明導電膜５１，５３は、ＩＴＯ、ＡＴＯ等のスパッタリングにより形成されたものであり、数百〜２ｋΩ／□程度の一様なシート抵抗を有している。なお、透明導電膜５１，５３としては、ＩＴＯ、ＡＴＯ等のスパッタリングにより形成されたものに限らず、ＩＴＯ付きフィルムでもよい。
【００５７】
本実施形態の情報入力部５は、投影型静電容量方式を採用している。投影型静電容量方式の情報入力部５には、例えば縦横２列の電極パターンが設けられている。情報入力部５上方の任意の位置に指を触れると、指を触れた付近の電極の静電容量の変化を縦横２列の電極列から知ることで位置を正確に判別できる。投影型静電容量方式の情報入力部５によれば、縦と横に走る多数の電極列によって、指先の多点検出が可能となる。
【００５８】
なお、本実施形態においては情報入力部５として投影型静電容量方式を採用しているが、これに限らず、表面型静電容量方式を採用することもできる。表面型静電容量方式の場合は、例えば情報入力部を平面視したときの透明導電膜の４つの角部に微小な電圧が印加される。情報入力部上方の任意の位置に指を触れると、指を触れた点が人体の静電容量を介して接地される。これにより、接地点と４つの角部との間の抵抗値に応じて各角部での電圧が変化する。位置検出回路がこの電圧変化を電流変化として計測し、その計測値から接地点、すなわち指が触れた位置を検出する。
【００５９】
また、本実施形態に適用可能なタッチパネルは静電容量方式に限ることはなく、抵抗膜方式、超音波方式、光学方式等、任意のタッチパネルが適用可能である。
【００６０】
次に、本実施形態の表示装置１の効果について説明するが、その前に比較例の表示装置の問題点について、図面を用いて説明する。
図９は、比較例の表示装置１００の断面図である。図９において、符号１０２は光変調部、符号１１０はバックライト、符号１２０は液晶パネル、符号１２１は第１偏光板、符号１２２は第１基板、符号１２３は第１電極、符号１２４は液晶層、符号１２５は第２電極、符号１２６は第２基板、符号１２７は第２偏光板、符号１０３は基板、符号１１１Ｒ，１１１Ｇ，１１１Ｂはカラーフィルタ層、符号１０４Ｒ，１０４Ｇ，１０４Ｂは蛍光体層、符号１０６はバンドパスフィルタ、符号１３０はタッチパネル、符号１０９はタッチパネル用基板、符号１０５は情報入力部、符号１５１，１５３は透明導電膜、符号１５２は絶縁膜、符号１０７は外光フィルタ、符号１０８は粘着層である。
【００６１】
図９に示すように、比較例の表示装置１００は、基板１０３の前面側（視認面側）に粘着層１０８を介してタッチパネル１３０が配置されている。そのため、タッチパネル用基板１０９の厚みｄ１と粘着層１０８の厚みｄ２を足し合わせた分だけ表示装置全体の厚み及び重量が増加してしまう。また、前記厚み（ｄ１＋ｄ２）が増加した分、表示面（基板１０３表面）からタッチパネル１３０表面（外光フィルタ１０７表面）までの距離が大きくなる。これにより、視認上の面においてもタッチ位置検出の面においても奥行き方向の視差ずれが大きくなる。さらに、基板１０３とは別にタッチパネル用基板１０９を追加する必要があるため、生産コストや生産タクトの面においても不利となるという問題があった。
【００６２】
これに対し、図１に示した本実施形態の表示装置１が図９に示す比較例の表示装置１００と異なるのは、情報入力部５が基板３の内面側（蛍光体層４側）に配置されている点である。つまり、基板３に直接情報入力部５を形成することができるため、タッチパネル用基板を新たに追加する必要がない。このため、表示装置１全体の厚み及び重量をほとんど増加させることなく、表示装置１にタッチセンサ機能を付与することができる。また、表示装置１の厚みがほとんど増加しないため、奥行き方向の視差ずれによる誤入力の問題もない。したがって、本実施形態によれば、表示装置１にタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能となる。あるいは重量の増加を抑制することが可能となる。
【００６３】
また、本実施形態においては、情報入力部５が基板３の直下に配置されているので、基板３上面（外光フィルタ７上面）におけるタッチ位置と情報入力部５との間の距離が小さくなる。よって、タッチ時の容量や抵抗値の変化を感度良くセンシングすることが可能な表示装置１を実現することができる。
【００６４】
また、本実施形態においては、情報入力部５が第２偏光板２７の液晶層２４が配置された側とは反対側に配置されているので、情報入力部５に発生する静電気の電界が液晶パネル２０に向けて伝播することを抑制することができる。よって、液晶パネル２０の表示品質を悪化させることを回避することができる。一方、第２偏光板を表示装置の外側に配置した状態で、情報入力部から液晶パネルに向けて静電気の電界が伝播することを抑制する構成としては、情報入力部を構成する透明導電膜を電気抵抗の高い材料で形成することが考えられる。しかしながら、透明導電膜を電気抵抗の高い材料で形成するとタッチセンサの感度が低くなってしまう。よって、本実施形態においては、液晶パネル２０の外側に第２偏光板２７を介して情報入力部５を配置し、情報入力部５を構成する透明導電膜５１，５３を電気抵抗の低い材料で形成することにより、表示装置１におけるタッチセンサの感度を高くすることが可能となる。
【００６５】
なお、本実施形態においては、光変調部２と蛍光体層４との間にバンドパスフィルタ６を配置した例を挙げて説明したが、これに限らない。例えば、バンドパスフィルタ６が光変調部２と蛍光体層４との間に配置されていない構成（表示装置１にバンドパスフィルタ６が設けられていない構成）であってもよい。
【００６６】
また、本実施形態においては、基板３と蛍光体層４との間にカラーフィルタ層１１を配置した例を挙げて説明したが、これに限らない。例えば、カラーフィルタ層１１が基板３と蛍光体層４との間に配置されていない構成（表示装置１にカラーフィルタ層１１が設けられていない構成）であってもよい。
【００６７】
また、本実施形態においては、基板３の外側に外光フィルタ７を配置した例を挙げて説明したが、これに限らない。例えば、外光フィルタ７が基板３の外側に配置されていない構成（表示装置１に外光フィルタ７が設けられていない構成）であってもよい。
【００６８】
また、本実施形態においては、情報入力部５が基板３とカラーフィルタ層１１との間に配置されているが、これに限らない。例えば、情報入力部５が蛍光体層４とカラーフィルタ層１１との間に配置されていてもよい。
【００６９】
［第２実施形態］
以下、本発明の第２実施形態の表示装置１Ａについて図２を用いて説明する。
本実施形態の表示装置１Ａの基本構成は第１実施形態の表示装置１と同様であり、情報入力部５Ａの配置位置が第１実施形態と異なっている。
図２は、本実施形態の表示装置１Ａを示す断面図である。図２において第１実施形態の図１と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００７０】
本実施形態の表示装置１Ａは、図２に示すように、基板３の外面側に情報入力部５Ａが配置されている。本実施形態の情報入力部５Ａは、基板３の蛍光体層４が配置された側とは反対側の面に配置されている。情報入力部５Ａの外面側には外光フィルタ７が形成されている。基板３の内面にはカラーフィルタ層１１が形成されている。本実施形態においては、情報入力部５Ａとして、抵抗膜方式を採用している。その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００７１】
本実施形態においても、表示装置１Ａにタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能となる。あるいは重量の増加を抑制することが可能となる。
【００７２】
［第３実施形態］
以下、本発明の第３実施形態の表示装置１Ｂについて図３を用いて説明する。
本実施形態の表示装置１Ｂの基本構成は第１実施形態の表示装置１と同様であり、情報入力部５の配置位置が第１実施形態と異なっている。
図３は、本実施形態の表示装置１Ｂを示す断面図である。図３において第１実施形態の図１と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００７３】
本実施形態の表示装置１Ｂは、図３に示すように、蛍光体層４とバンドパスフィルタと６の間に情報入力部５が配置されている。基板３の内面には蛍光体層４が形成されている。その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００７４】
本実施形態においても、表示装置１Ｂにタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能となる。あるいは重量の増加を抑制することが可能となる。
【００７５】
［第４実施形態］
以下、本発明の第４実施形態の表示装置１Ｃについて図４を用いて説明する。
本実施形態の表示装置１Ｃの基本構成は第１実施形態の表示装置１と同様であり、情報入力部５の配置位置が第１実施形態と異なっている。
図４は、本実施形態の表示装置１Ｃを示す断面図である。図４において第１実施形態の図１と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００７６】
本実施形態の表示装置１Ｃは、図４に示すように、バンドパスフィルタ６と第２偏光板２７との間に情報入力部５が配置されている。基板３の内面には蛍光体層４が形成されている。その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００７７】
本実施形態においても、表示装置１Ｃにタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能となる。あるいは重量の増加を抑制することが可能となる。
【００７８】
［第５実施形態］
以下、本発明の第５実施形態の表示装置１Ｄについて図５を用いて説明する。
本実施形態の表示装置１Ｄの基本構成は第１実施形態の表示装置１と同様であり、情報入力部５Ｄの配置構成が第１実施形態と異なっている。
図５は、本実施形態の表示装置１Ｄを示す断面図である。図５において第１実施形態の図１と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００７９】
本実施形態の表示装置１Ｄは、図５に示すように、透明導電膜５１Ｄ，５３Ｄがカラーフィルタ層１１の両面に配置されている。カラーフィルタ層１１と当該カラーフィルタ層１１を挟んで配置された一対の透明導電膜５１Ｄ，５３Ｄとにより情報入力部５Ｄが構成されている。すなわち、カラーフィルタ１１が情報入力部５Ｄを構成する絶縁層として機能する。その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００８０】
本実施形態においては、表示装置１Ｄにタッチセンサ機能を付加する場合において、情報入力部５Ｄのための絶縁層を新たに追加する必要が無いので、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能となる。あるいは重量の増加を抑制することが可能となる。
【００８１】
なお、本実施形態においては、情報入力部５Ｄがカラーフィルタ層１１と当該カラーフィルタ層１１を挟んで配置された一対の透明導電膜５１Ｄ，５３Ｄとにより構成されている例（絶縁層としてカラーフィルタ層１１を用いる例）を挙げて説明したが、これに限らない。例えば、絶縁層として基板３や蛍光体層４、さらにはバンドパスフィルタ６を用いることもできる。また、情報入力部が基板３の外面側に配置される場合には、絶縁層として外光フィルタ７を用いることもできる。
【００８２】
このような構成においても、表示装置にタッチセンサ機能を付加する場合において、情報入力部のための絶縁層を新たに追加する必要が無いので、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能となる。あるいは重量の増加を抑制することが可能となる。
【００８３】
［第６実施形態］
以下、本発明の第６実施形態の表示装置１Ｅについて図６を用いて説明する。
本実施形態の表示装置１Ｅの基本構成は第１実施形態の表示装置１と同様であり、蛍光体層４とバンドパスフィルタ６との間に樹脂層１２が配置されている点、情報入力部５の配置位置、が第１実施形態と異なっている。
図６は、本実施形態の表示装置１Ｅを示す断面図である。図６において第１実施形態の図１と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００８４】
本実施形態の表示装置１Ｅは、図６に示すように、蛍光体層４とバンドパスフィルタ６との間に樹脂層１２が配置されている。樹脂層１２としては、透過率が高く、絶縁性の材料を用いることができる。例えば、樹脂層１２の形成材料としては、ＵＶ硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、及びエポキシ系の透明樹脂層が挙げられる。樹脂層１２の厚みは、２０μｍ〜２００μｍ程度である。なお、樹脂層１２の厚みは薄いほどよい。
【００８５】
本実施形態の表示装置１Ｅは、蛍光体層４と樹脂層１２との間に情報入力部５が配置されている。基板３の内面には蛍光体層４が形成されている。その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００８６】
本実施形態においても、表示装置１Ｅにタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能となる。あるいは重量の増加を抑制することが可能となる。
【００８７】
なお、本実施形態においては、情報入力部５が蛍光体層４と樹脂層１２との間に配置されているが、これに限らない。例えば、情報入力部５が樹脂層１２とバンドパスフィルタ６との間に配置されていてもよい。また、絶縁層として樹脂層１２を用い、情報入力部が樹脂層１２と当該樹脂層１２を挟んで配置された一対の透明導電膜とにより構成されていてもよい。
【００８８】
［第７実施形態］
以下、本発明の第７実施形態の表示装置１Ｆについて図７を用いて説明する。
本実施形態の表示装置１Ｆの基本構成は第６実施形態の表示装置１Ｅと同様であり、バンドパスフィルタ６と光変調部２との間に樹脂層１２が配置されている点、情報入力部５の配置位置、が第６実施形態と異なっている。
図７は、本実施形態の表示装置１Ｆを示す断面図である。図７において第６実施形態の図６と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００８９】
本実施形態の表示装置１Ｆは、図７に示すように、バンドパスフィルタ６と光変調部２との間に樹脂層１２が配置されている。本実施形態の表示装置１Ｆは、バンドパスフィルタ６と樹脂層１２との間に情報入力部５が配置されている。その他の構成は第６実施形態と同様である。
【００９０】
本実施形態においても、表示装置１Ｆにタッチセンサ機能を付加する場合において、装置全体の厚みの増加を抑制することが可能となる。あるいは重量の増加を抑制することが可能となる。
【００９１】
なお、本実施形態においては、情報入力部５がバンドパスフィルタ６と樹脂層１２との間に配置されているが、これに限らない。例えば、情報入力部５が樹脂層１２と光変調部２との間に配置されていてもよい。また、絶縁層として樹脂層１２を用い、情報入力部が樹脂層１２と当該樹脂層１２を挟んで配置された一対の透明導電膜とにより構成されていてもよい。
【００９２】
また、上記実施形態においては、光変調部２としてバックライト１０及び液晶パネル２０を含む構成を例示して説明したが、これに限らない。例えば、図８に示すように光変調部として青色発光ＥＬ素子２Ａを用いることもできる。
【００９３】
本実施形態で用いられる青色発光ＥＬ素子２Ａは、公知の有機ＥＬを用いる事が可能である。青色発光ＥＬ素子２Ａは、例えば、基板９の一面に陽極４１、正孔注入層４３、正孔輸送層４４、発光層４５、正孔防止層４６、電子輸送層４７、電子注入層４８、陰極４９が順次積層された構成の発光素子である。陽極４１の端面を覆うようにエッジカバー４２が形成されている。青色発光ＥＬ素子２Ａとしては、陽極４１と陰極４９との間に少なくとも有機発光材料からなる発光層（有機発光層）４５を含む有機ＥＬ層を含んでいればよく、具体的な構成は前記のものに限ることはない。
【００９４】
青色発光ＥＬ素子２Ａは、図１に示したサブピクセル８Ｒ，８Ｇ，８Ｂの各々に対応してマトリクス状に設けられ、個別にオン／オフが制御されるようになっている。青色発光ＥＬ素子２Ａの駆動方法は、アクティブマトリクス駆動でもよいし、パッシブマトリクス駆動でもよい。
【００９５】
青色発光ＥＬ素子２Ａは、外部駆動回路に電気的に接続される。この場合、青色発光ＥＬ素子２Ａは直接外部駆動回路に接続され、駆動されてもよいし、ＴＦＴ等のスイッチング回路を画素内に配置し、ＴＦＴ等が接続される配線に外部駆動回路（走査線電極回路（ソースドライバ）、データ信号電極回路（ゲートドライバ）、電源回路）が電気的に接続されてもよい。
【００９６】
なお、本実施形態では、青色発光ＥＬ素子として青色発光有機ＥＬ素子を挙げて説明したが、これに限らず、青色発光無機ＥＬ素子であってもよい。
【００９７】
また、本実施形態では、光変調部として、青色発光ＥＬ素子を例示したが、これに限らず、紫外発光ＥＬ素子（紫外発光有機ＥＬ素子、紫外発光無機ＥＬ素子）を用いることもできる。
【００９８】
また、上記実施形態では、光変調部として、光源及び液晶素子を含む構成、青色発光ＥＬ素子を例示したが、これに代えて、例えばＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ディスプレイを用いることもできる。また、デジタル・ミラー・デバイス（Digital Mirror Device:ＤＭＤ）等の光スイッチデバイスを用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明は、表示装置の分野に利用することができる。
【符号の説明】
【０１００】
１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ，１Ｆ…表示装置、２…光変調部、２Ａ…青色発光ＥＬ素子、３…基板、４…蛍光体層、５，５Ｄ…情報入力部、６…バンドパスフィルタ、１０…バックライト（光源）、１１…カラーフィルタ層、１２…樹脂層、２０…液晶パネル（光変調素子）、２７…第２偏光板、５１，５１Ｄ，５３，５３Ｄ…透明導電膜（位置検出用電極） 
【図１】
2014178340.tif 000003
【図２】
2014178340.tif 000004
【図３】
2014178340.tif 000005
【図４】
2014178340.tif 000006
【図５】
2014178340.tif 000007
【図６】
2014178340.tif 000008
【図７】
2014178340.tif 000009
【図８】
2014178340.tif 000010
【図９】
2014178340.tif 000011