(57)【要約】【課題】本発明の課題は、大面積化に対応可能な方法で、短絡やリークの発生が抑制され高歩留まり製造可能な有機ＥＬ発光装置を提供することである。【解決手段】本発明の有機ＥＬ発光装置は、透明絶縁基板の一方の主面上に順に、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層、少なくとも１つの有機発光ユニット、及び第２電極層が積層されてなる有機ＥＬ発光装置であって、前記第１電極層のθ−２θ法で測定したＸＲＤにおける（２２２）面のピーク強度が、（４００）面のピーク強度に対して、２倍以上であり、前記第１電極層のエッジ部であり、かつ、前記有機発光ユニット、及び前記第２電極層が積層されてなる３層積層エッジ部において、前記第１電極層の前記有機発光ユニット側の面と、前記主面とのなす角度である立ち上がりの角度が、７度未満であることを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明絶縁基板の一方の主面上に順に、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層、少なくとも１つの有機発光ユニット、及び第２電極層が積層されてなり、かつ、該透明絶縁基板の他方の主面の発光領域から光を照射する有機ＥＬ発光装置であって、
該金属酸化物第１電極層のθ−２θ法で測定したＸＲＤにおける（２２２）面のピーク強度が、（４００）面のピーク強度に対して、２倍以上であり、
平面視該発光領域の端部における該金属酸化物第１電極層のエッジ部であり、かつ、該有機発光ユニット、及び該第２電極層が積層されてなる３層積層エッジ部において、該金属酸化物第１電極層の該有機発光ユニット側の面と、該主面とのなす角度である立ち上がりの角度が、７度未満であることを特徴とする有機ＥＬ発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬ発光装置であって、前記３層積層エッジ部における立ち上がりの角度が、４度以上である、有機ＥＬ発光装置。
【請求項３】
請求項1、又は２に記載の有機ＥＬ発光装置であって、前記３層積層エッジ部以外の前記金属酸化物第１電極層のエッジ部である非３層積層エッジ部における前記立ち上がりの角度が７度以上である、有機ＥＬ発光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬ発光装置であって、前記３層積層エッジ部が、該部への選択的研磨、及びレーザー加工からなる群から選ばれる１種以上で形成されてなる、有機ＥＬ発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
有機ＥＬ発光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、白熱灯や蛍光灯に変わる照明装置として、有機ＥＬ発光装置が注目され、多くの研究がなされている。
【０００３】
有機ＥＬ発光装置は、ガラスや透明樹脂フィルム等の基板上に、有機ＥＬ発光素子を形成したものである。
【０００４】
また、有機ＥＬ発光素子は、一方又は双方が透光性を有する２つの電極を対向させ、この電極間に有機化合物からなる発光層を含む積層構造を形成したものである。有機ＥＬ発光素子は、この発光層において、電子と正孔とが再結合することにより発光する。
【０００５】
このような積層構造の一例を示すと、一方の電極から順に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び電子注入層を含む。そして、正孔は一方の電極側から正孔注入層、正孔輸送層を経由しで発光層に至り、電子は、他方の電極側から電子注入層、電子輸送層を経由して発光層に至り、発光層内で正孔と電子が再結合する。有機ＥＬ発光素子は発光層の材料を適宣選択することにより、種々の波長の光を発光することができる。
【０００６】
このように、一方側から正孔を供給せしめ、他方側から電子を供給せしめ、これらを発光層にて再結合せしめるための一式の多層構造を、有機発光ユニットと呼ぶ。通常、有機発光ユニットは、一方側の正孔注入層から、発光層を経て、他方側の電子注入層に至る。ここで、発光層としては、前記再結合が起こり発光可能であれば、複数の副発光層が積層された積層構造とすることができる。この場合でも、電子と正孔の供給方向の観点からは、１つの有機発光ユニットには、１つの発光層のみが存在することとなる。
【０００７】
また、１つの有機ＥＬ発光素子を、直列に接続された複数の有機発光ユニットで構成することも可能である。その場合は、隣接する有機発光ユニットの、一方側の有機発光ユニットの、例えば、電子注入層に電子を、他方側の有機発光ユニットの、例えば、正孔注入層に正孔を、各々供給可能な接続層をこれらの有機発光ユニット間に挿入するように形成する必要がある。
【０００８】
照明等に使用される有機ＥＬ発光装置は、このような有機ＥＬ発光素子を少なくとも一つ含み、かつ、外部から給電可能とした装置であり、白色発光の光源として使用される場合が多い。
【０００９】
上述のような有機ＥＬ発光装置は一般に、ボトムエミッション型の装置として、透明絶縁基板上に順に、第１電極層として陽極である金属酸化物第１電極層、少なくとも１つの有機発光ユニット、及び第２電極層として陰極である第２電極層を積層することで製造される。
【００１０】
このような有機ＥＬ発光装置において、透明導電金属酸化物層の表面状態に起因してリーク電流が発生したり、不点灯部位が発生したりするという不良が発生する場合があり、各種の改善方法が提案されている。
【００１１】
例えば、特許文献１は、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物膜の表面の微小な凹凸を除去するために、エッジ部を含む膜表面を、酸化セリウム等を用いて機械的に研磨して表面を滑らかにする方法を開示している。しかし、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物膜の全面を研磨することは、今後、有機ＥＬ発光装置を大面積化するためにはコスト高であり、また、実際に不具合が生じ易いのは膜のエッジ部分なので、改善が必要である。
【００１２】
エッジ部分の不具体を効果的に防止する方法として、特許文献２は、エッジ部分を絶縁層で被覆し短絡やリークを解決する方法、即ち、エッジカバー絶縁層を用いる方法を開示している。しかし、絶縁層の材料が高価であり、また、工程が複雑になり、さらには、発光に寄与する面積が小さくなるという欠点があり、改善が必要である。
【００１３】
さらに、特許文献３は、第１電極層２として支持基板上に酸化インジウムを主成分とする金属酸化物のような透明電極を形成した後、その表面凹凸に起因する短絡やリークを解決するために、その表面を研磨する方法を開示している。しかしながら、この方法では、透明電極を研磨した後、フォトリソグラフィー法を用いてに所定の形状にパターニングするので、そのフォトリソグラフィー法によって生じる透明電極エッジ部の凹凸を除去することができないという問題を有していた。
【００１４】
さらに、特許文献４は、支持基板上に所定の形状に形成した透明電極をウェットエッチングまたはドライエッチングによって側面がテーパー状を呈するように形成することが開示されている。しかしながら、加工後においてもエッジ部の凹凸の影響による短絡やリークは、絶縁層を用ないと抑制できないという問題を有していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開平３−２９５１９３号公報
【特許文献２】特開２００２−２８９３４５号公報
【特許文献３】特開平９−２４５９６５号公報
【特許文献４】国際公開ＷＯ９７／４６０５４パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、このような問題に鑑み、エッジカバー絶縁層を用いることなく、安価、かつ、大面積化に対応可能な方法で、短絡やリークの発生が抑制され高歩留まりで製造可能な有機ＥＬ発光装置、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記の課題を解決するために、本発明の有機ＥＬ発光装置は、その酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層の特定部位が、特定の形状とされている。
【００１８】
即ち、本発明は、透明絶縁基板の一方の主面上に順に、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層、少なくとも１つの有機発光ユニット、及び第２電極層が積層されてなり、かつ、前記透明絶縁基板の他方の主面の発光領域から光を照射する有機ＥＬ発光装置であって、前記金属酸化物第１電極層のθ−２θ法で測定したＸＲＤにおける（２２２）面のピーク強度が、（４００）面のピーク強度に対して、２倍以上であり、平面視前記発光領域の端部における前記金属酸化物第１電極層のエッジ部であり、かつ、前記有機発光ユニット、及び前記第２電極層が積層されてなる３層積層エッジ部において、前記金属酸化物第１電極層の前記有機発光ユニット側の面と、前記主面とのなす角度である立ち上がりの角度が、７度未満であることを特徴とする有機ＥＬ発光装置に関する。前記３層積層エッジ部における立ち上がりの角度は、６度未満であることがより好ましい。
【００１９】
ＸＲＤピーク強度について具体的には、透明絶縁基板上に酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層を形成した、例えばＩＴＯ付き基板の状態で、θ−２θ法で測定したＸＲＤにおいて、（２２２）面に由来するピーク強度が、（４００）面に由来するピーク強度に比べて２倍以上、より好ましくは３倍以上であると、３層積層エッジ部を本発明に係る特定の形状に形成し易い。
【００２０】
好ましくは、前記３層積層エッジ部における立ち上がりの角度を、４度以上とすることであり、４度より小さいと、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２のテーパー部に形成された凹凸に対応して、その上に形成する有機発光ユニット３、及び第２電極層４がこれに追従する形状となるので、これに起因した不具合が生じる可能性が高くなる。
【００２１】
好ましくは、前記３層積層エッジ部以外の前記酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層のエッジ部である非３層積層エッジ部における前記立ち上がりの角度を７度以上とすることであり、短絡やリークの不具合が発生しにくい非３層積層エッジ部につき後述するような特定処理を施さないので、安価な酸化インジウムを主成分とする金属酸化物付き透明絶縁基板が採用可能となるので、有機ＥＬ発光装置の低コスト化に寄与する。
【００２２】
好ましくは、前記３層積層エッジ部を、当該部への選択的研磨、及びレーザー加工からなる群から選ばれる１種以上で形成することであり、特定部位に対する特定処理ではあるが、比較的安価に処理可能であり、効果的に短絡やリークの不具合の発生を抑えることができる。
【００２３】
このような本発明の有機ＥＬ発光装置は、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物膜を全面研磨する方法に比べ、例えば、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物膜の特定部位のエッジ部を選択的に研磨する方法により製造されるので、研磨処理に要するタクトタイムを短縮可能であり、大幅にコスト削減できる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の有機ＥＬ発光装置は、大面積化に対応可能な方法で、短絡やリークの発生が抑制され高歩留まり製造可能な有機ＥＬ発光装置である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ発光装置を説明するための簡略化された断面図である。
【図２】本発明に係る有機ＥＬ発光装置の製造方法の途中段階の状態を説明するための簡略化された平面図である。
【図３】本発明に係る有機ＥＬ発光装置の製造方法の途中段階の状態を説明するための簡略化された平面図である。
【図４】本発明に係る有機ＥＬ発光装置を説明するための簡略化された平面図である。
【図５】本発明に係る立ち上がりの角度２１１１、及び角部の角度２１１２を説明するための簡略化された断面図である。
【図６】酸化インジウムを主成分とする金属酸化物付きガラス基板のθ−２θ法によるＸＲＤの測定結果である。
【図７】３層積層エッジ部の立ち上がりの部分のＴＥＭ写真である。
【図８】３層積層エッジ部の立ち上がりの部分のＡＦＭによる立ち上がりの角度の測定結果である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
（有機ＥＬ発光装置）
本発明は、有機ＥＬ発光装置に係るものである。以下、本発明に係る実施形態を例示しつつ、本発明の構成につき説明する。但し、本発明は、例示する実施形態に、限定解釈されるものではない。
【００２７】
図１、図２、図３、及び図４は、本発明に係る有機ＥＬ発光装置、及びその製造方法を説明するための簡略化された断面図、及びその製造方法に係る平面図である。以下、上下左右の位置関係は、特に断りのない限り、図１の姿勢を基準に説明する。図１において、使用時における光取り出し側が下であり、即ち、透明絶縁基板１の下面が発光面である他方の主面１１であり、一方の主面１２に積層形成される有機ＥＬ発光素子の発光部位に対応して発光領域１３を有する。
【００２８】
本発明に係る有機ＥＬ発光素子は、面状に広がりを有する透明絶縁基板１の一方の主面１２上に、基板側から順に、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２、少なくとも１つの有機発光ユニット３、及び第２電極層４が積層されたものである。
【００２９】
このような有機ＥＬ発光素子を含んで構成される本発明に係る有機ＥＬ発光装置は、発光素子に水分が侵入することを防止し、非発光点（ダークスポット）の発生や成長を抑制するための封止層や、外部から酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２、及び第２電極層４に給電するための導電部材等、発光素子を外力から保護するためのケーシング等、を発光素子に追加することで構成される。
【００３０】
前記封止層としては、有機ＥＬ発光素子を積層形成した後に、その上に無機封止層を成膜して封止することが好ましい。このような固体無機封止された有機ＥＬ発光装置とすることで薄いだけでなく、駆動時の素子温度の上昇や素子内での温度の不均一が発生しにくい装置となる。また、無機封止層上に、さらに、グラファイトシートやアルミニウム箔等を載置することで、均熱性や伝熱性をより向上させた有機ＥＬ発光装置とすることができる。
【００３１】
（３層積層エッジ部）
本発明に係る３層積層エッジ部２１１は、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２のエッジ部２１の内、平面視該発光領域１３の端部に位置し、かつ、有機発光ユニット３、及び該第２電極層４が積層されてなるエッジ部である。
【００３２】
そして、本発明に係る立ち上がりの角度は、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２の有機発光ユニット３側の面と、前記主面とのなす角度であり、図１における左側の３層積層エッジ部以外のエッジ部である非３層積層エッジ部２１２の立ち上がりの角度は９０度に、図１における右側の３層積層エッジ部２１１の立ち上がりの角度２１１１は４５度に、各々描かれている。この立ち上がりの角度に対応する面は酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２のテーパー面である。
【００３３】
また、本発明に係る角部の角度は、前記立ち上がりの角度に対応する酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２の前記テーパー面と、前記テーパー面以外の前記金属酸化物第１電極層の前記有機発光ユニット側の面とのなす角度であり、図１における右側の３層積層エッジ部２１１の角部の角度２１１２は１４５度に描かれている。
【００３４】
図５は、３層積層エッジ部２１１における立ち上がりの角度２１１１、及び角部の角度２１１２を拡大して示した断面図であり、実際の立ち上がり点、及び角部の点は滑らかにカーブするラインで金属酸化物第１電極層２は形成され、また、そのようなカーブするラインであることが歩留りの観点から好ましいが、各角度は直線近似した角度として定義される。
【００３５】
（有機ＥＬ発光装置の製造方法）
このような本発明に係る有機ＥＬ発光装置の製造方法を、図１の断面図の有機ＥＬ発光装置の製造方法として、図２から図４を用いて、以下説明する。なお、図１は、図４のＡＡ断面の図であり、図２から図４の製造工程の途中段階の平面図においても参考の為、各平面図における断面の位置を図示している。
【００３６】
図２は、透明絶縁基板１の一方の主面１２上に、酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２を形成した状態の平面図である。本発明に係る有機ＥＬ発光装置の製造工程においては、３層積層エッジ部２１１となるエッジ部２１の立ち上がりの角度２１１１を、をこの段階で予め、７度未満となるように加工することを特徴とする。
【００３７】
図３は、図２の工程の後に、さらに、金属酸化物第１電極層２上に、少なくとも１つの有機発光ユニット３を形成した状態の平面図である。
【００３８】
図４は、図３の工程の後に、さらに、有機発光ユニット３上に、第２電極層４を形成した状態の平面図である。
【００３９】
このような工程を経て、本発明に係る有機ＥＬ発光装置が製造される。
【００４０】
（透明絶縁基板）
透明絶縁基板１としては、透明絶縁性で面状に広がりを有するものであれば良く、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、フレキシブルなフィルム基板などから適宜選択して使用可能である。簡便に信頼性の高いボトムエミッション型の有機ＥＬ発光装置を構成する観点からは、ガラス基板が好ましい。
【００４１】
（酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層）
酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２は、透明、かつ、導電率が高い酸化インジウムを主成分とする透明電極層であり、好ましくは、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、インジウム錫亜鉛酸化物（ＩＴＺＯ）から選択される単層もしくは多層構造で好適には構成される。有機発光ユニットから発生した光を効果的に取り出せる点では、透明性が高いＩＴＯあるいはＩＺＯが特に好ましい。また、このような酸化インジウムを主成分とする金属酸化物からなる薄膜に金属薄膜や金属ワイヤーを導入した複合構造とすることもできる。なお、本明細書において「酸化インジウムを主成分とする」とは、第１電極層２を構成する材料に含まれるインジウム原子の含量をＩｎ２Ｏ３換算した質量が、材料全体の質量に対して、その割合が５０質量％以上であることを言う。
【００４２】
このような金属酸化物第１電極層２にパターニングを施す場合は、透明絶縁基板１上に酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層を蒸着やスパッタリング法等で成膜する際にマスクを用いてのパターン形成や、ウェットエッチングやドライエッチング等を用いることができる。
【００４３】
このようにしてパターニングされた金属酸化物第１電極層２のエッジ部２１の立ち上がりの角度は、そのままでは一般に、６０度以上となる。
【００４４】
本発明の発明者は、このような大きな立ち上がりの角度のままのエッジ部２１を本発明に係る３層積層エッジ部２１１として素子を形成してしまうと、顕著にリーク電流が発生したり、不点灯部位が発生したりするという不良が発生する事実に着目し、種々検討した結果、この３層積層エッジ部２１１を特定の形状にすることで、このような不良の発生が抑制され高歩留まりで製造可能な有機ＥＬ発光装置となることを見出した。
【００４５】
このようの本発明に係る特定の形状は、当該部位を、柔軟性のある布や酸化セリウム等スラリーを用いて選択的に研磨を行ったり、レーザー加工により形成したりすることにより形成することができる。
【００４６】
またこのような形状とするための加工のしやすさは、金属酸化物第１電極層を構成する材料の物性と関係しており、材料が多結晶である場合には、結晶方位と関係している。酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層の成膜条件を適宜設定することで、基板面に平行な結晶面として（２２２）が優先であるようにすることで、本発明に係るエッジ形状の制御をし易くすることができる。
【００４７】
（第２電極層）
第２電極層４は、透明電極層及び金属電極層から選択して用いることができるが、簡便に信頼性、及び輝度の高いボトムエミッション型の有機ＥＬ発光装置を構成する観点からは、金属電極層とすることが好ましい。
【００４８】
金属電極層の材料としては、アルミニウム（Ａｌ）、アルミリチウム（Ａｌ：Ｌｉ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム銀（Ｍｇ：Ａｇ）等の金属が単層もしくは積層にて好適には用いられる。また、このような第２電極層４は、蒸着法やスパッタ法を用いて形成される。
【００４９】
（有機発光ユニット）
前記発光ユニットは、主に有機化合物からなり、少なくとも発光層を含む複数の層から構成されている。そのような有機化合物としては、一般に有機ＥＬ発光素子に用いられている低分子系色素材料や、共役系高分子材料などの公知のもので形成することができる。また、このような有機発光ユニットは、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などの複数の層からなる積層多層構造として一般的に形成される。
【００５０】
ここで、正孔注入層および電子注入層は、各々、後述する接続層の正孔注入性表面層または電子注入性表面層で代替することが可能である。また、隣接する接続層の注入性表面層と同様の材料組成からなる層であったとしても、重ねて隣接して有機発光ユニットの最外層として、正孔注入層及び／又は電子注入層を形成することができる。即ち、また、接続層の注入性表面層で有機発光ユニットの最外層の注入層の両方を代替させた場合には、有機発光ユニットの構成としては、両方の注入層が無い、例えば、正孔輸送層、発光層、及び電子輸送層となる。さらに、これらの輸送層を発光層として機能させることもできる。
【００５１】
また、これらの層は真空蒸着法やスパッタ法、ＣＶＤ法、ディッピング法、ロールコート法（印刷法）、スピンコート法、バーコート法、スプレー法、ダイコート法、フローコート法など適宜公知の方法によって成膜できるが、高性能の素子とする観点からは真空蒸着法で成膜することが好ましい。
【００５２】
（接続層）
接続層は、その一方面側から外側に向かって電子を供給可能でありその他方面から外側に向かって正孔を供給可能な層である。接続層は、既存の透明電極材料、又は、有機のみの材料によって形成される。
【００５３】
（正孔注入層）
正孔注入層は、例えば、正極から正孔を取り入れ、正孔輸送層に正孔を注入する層であり、その材料としては、例えば、アリールアミン類、フタロシアニン類、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレン、及び、これらの誘導体等の導電性高分子などが採用でき、また、正孔注入層の透明性を向上させることで輝度を向上させる観点から、正孔輸送性材料に電子受容性のドーパントをドープしたものも好ましく採用できる。
【００５４】
（正孔輸送層）
正孔輸送層は、正孔注入層側から発光層に正孔を効率的に輸送しつつ、正極側への電子の移動を制限する層である。
【００５５】
正孔輸送層の材料としては、正孔輸送性を有する化合物である公知の材料を使用することができる。
【００５６】
正孔輸送層の平均厚みは、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００５７】
（発光層）
発光層は、正孔輸送性又は電子輸送性の性質を有した層であって、電界を印加することにより正孔輸送層から流入する正孔と、電子輸送層から流入する電子とが結合して発光性励起子が発生する層である。
【００５８】
発光層は、一般に、ホスト材料に発光材料をドープした層であり、具体的には、正孔輸送性材料、又は電子輸送性材料に発光性ドーパントとして蛍光性ドーパント又は燐光性ドーパントをドープした層である。
【００５９】
発光層の厚みは、適宜設計可能であるが、０．１ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６０】
（電子輸送層）
電子輸送層は、電子注入層側から発光層に電子を効率的に輸送しつつ、負極側への電子の移動を制限する層である。
【００６１】
電子輸送層の材料としては、電子輸送性を有する化合物である公知の材料を使用することができる。
【００６２】
電子輸送層の平均厚みは、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６３】
（電子注入層）
電子注入層は、例えば、負極から電子を取り入れ、電子輸送層に電子を注入する層であり、その材料としては、例えば、リチウム（Ｌｉ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化セシウム（ＣｓＦ）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）等のようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属の化合物等が採用でき、また、電子注入層の透明性を向上させることで輝度を向上させる観点から、電子輸送性材料に電子供与性のドーパントをドープしたものも好ましく採用できる。
【００６４】
電子注入層の平均厚みは、０．１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６５】
（正孔輸送性材料）
正孔輸送性材料としては、例えば、トリフェニルアミン系化合物、カルバゾール系化合物等が採用できる。
【００６６】
（電子輸送性材料）
電子輸送性材料としては、例えば、キノリノラト系金属錯体、アントラセン系化合物、オキサジアゾール系化合物、トリアゾール系化合物、フェナントロリン系化合物、シロール系化合物等が採用できる。
【００６７】
（発光性ドーパント）
黄色、橙色、赤色系の蛍光発光材料としては、ルブレン、ＤＣＭ、ＤＣＭ２、ＤＢｚＲなどが採用できる。
【００６８】
緑色系の蛍光発光材料としては、クマリン６、Ｃ５４５Ｔなどが採用できる。
【００６９】
青色系の蛍光発光材料としては、ペリレン、
４，４′−ビス（９−エチル−３−カルバゾビニレン）−１，１−ビフェニル（ＢＣｚＶＢｉ）、
４，４′−ビス[４−（ジ−ｐ−トリアミノ）スチリル]ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）などが採用できる。
【００７０】
黄色、橙色、赤色系の燐光発光材料としては、イリジウム錯体である、（ｂｚｑ）２Ｉｒ（ａｃａｃ）、（ｂｔｐ）２Ｉｒ（ａｃａｃ）、Ｉｒ（ｂｚｑ）３、Ｉｒ（ｐｉｑ）３などが採用できる。
【００７１】
緑色系の燐光発光材料としては、イリジウム錯体である、（ｐｐｙ）２Ｉｒ（ａｃａｃ）、Ｉｒ（ｐｐｙ）３などが採用できる。
【００７２】
青色系の燐光発光材料としては、イリジウム錯体である、ＦＩｒｐｉｃ、ＦＩｒ６、Ｉｒ（Ｆｐｐｙ）３などが採用できる。
【００７３】
（電子受容性ドーパント）
電子受容性ドーパントとしては、テトラシアノキノジメタン系化合物、酸化モリブデン（ＭｏＯ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）
等が採用できる。
【００７４】
（電子供与性ドーパント）
電子供与性ドーパントとしては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、これらの金属の化合物、これらの金属を中心金属とするフタロシアニン錯体、ジヒドロイミダゾール化合物等が採用できる。
【実施例】
【００７５】
（実施例１）
有機ＥＬ発光装置を形成するための透明絶縁基板１として、片面である一方の主面に酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層２としてＩＴＯ（インジウム錫酸化物、膜厚１５０ｎｍ）が積層されている無アルカリガラス（縦９０ｍｍ×横９０ｍｍ×厚さ０．７ｍｍ）を用いた。
【００７６】
このＩＴＯ付きガラス基板のθ−２θ法で測定したＸＲＤにおける（２２２）面のピーク強度は、（４００）面のピーク強度の２倍であった。
【００７７】
このＩＴＯ付きガラス基板につき、通常の研磨により、ＩＴＯ膜表面を素子形成が可能な程度に滑らかにした後、３層積層エッジ部２１１を含む形状にウェットエッチングによりパターニングすることでエッジ部を設け、さらに、ＩＴＯ表面の全体を一定程度研磨した。
【００７８】
その後、このＩＴＯ膜の特定部位をスラリー研磨することで、３層積層エッジ部２１１の立ち上がりの角度２１１１を５度とした。
【００７９】
次に、この基板を真空蒸着装置に移動させ、真空中で以下のように材料を成膜し有機発光ユニット３を形成した。
【００８０】
まず、ＩＴＯ第１電極層２に、正孔注入層として４，４’−ビス［Ｎ−（２−ナフチル）−Ｎ−フェニルーアミノ］ビフェニル（以下、ＮＰＢともいう）と三酸化モリブデンの混合層を用い、真空蒸着法にて１０ｎｍの膜厚で成膜した。正孔注入層のＮＰＢと三酸化モリブデンは共蒸着法にて膜厚比率で９：１となるように成膜した。
【００８１】
次いで、正孔輸送層としてＮＰＢを、真空蒸着法により５０ｎｍ（蒸着速度０．０８ｎｍ／ｓｅｃ．〜０．１２ｎｍ／ｓｅｃ．）の膜厚で成膜した。
【００８２】
次いで、発光層兼電子輸送層としてトリス（８−キノリノラート）アルミニウム（以下、Ａｌｑ３と略す）を、真空蒸着法により、７０ｎｍ（蒸着速度０．２４ｎｍ／ｓｅｃ．〜０．２８ｎｍ／ｓｅｃ．）の膜厚で成膜した。
【００８３】
次いで、電子注入層としてＬｉＦを用い、真空蒸着法にて１ｎｍ（蒸着速度０．０３ｎｍ／ｓｅｃ．〜０．０５ｎｍ／ｓｅｃ．）の膜厚で成膜した。
【００８４】
この電子注入層上に機能層５の一部としてアルミニウム（Ａｌ）を真空蒸着法にて３００ｎｍ（蒸着速度０．３ｎｍ／ｓｅｃ．〜０．５ｎｍ／ｓｅｃ．）の膜厚で成膜した。
【００８５】
このようにして有機発光ユニット３を形成した。
【００８６】
続いて、第２電極層４としてＡｌを真空蒸着法にて１５０ｎｍ（蒸着速度０．３ｎｍ／ｓｅｃ．〜０．５ｎｍ／ｓｅｃ．）の膜厚で成膜した。
【００８７】
その後、プラズマＣＶＤ装置に移動させて、第１無機封止層として２μｍの窒化珪素膜を形成し、そして、この有機ＥＬ発光装置を真空雰囲気から窒素雰囲気で満たされたグローブボックスに移動させて、ポリシラザン誘導体であるクラリアント社製アクアミカＮＬ１２０Ａ−０５を固化時の膜厚が１μｍとなるように塗布して固化し、第２無機封止層を形成し、合計厚み３μｍの無機封止層７を形成することで１次封止を行い、実施例１の有機ＥＬ発光装置を完成させた。
【００８８】
このようにして作製した５０個の実施例１の有機ＥＬ発光装置の歩留りは７２％であった。なお、歩留りとしては、素子をダイオードとして捉えた時に、１．２５Ｖの逆方向電圧を印可した際の電流値が、１０μＡ未満の装置を良品とし、１０μＡ以上の装置を不良品とし、評価した装置の数に対する、良品の割合を歩留りとした。
【００８９】
（比較例１）
比較例１では、実施例１と同じＩＴＯ付きガラス基板につき、特定部位の研磨を実施しなかった。その際の、ＩＴＯ電極層の３層積層エッジ部２１１の立ち上がりの角度２１１１は１５度、角部の角度２１１２は１７５度であった。これらの角度の点以外については実施例１と同様にして、比較例１の有機ＥＬ発光装置を完成させ実施例１と同様にして評価した、この比較例１の有機ＥＬ発光装置の歩留りは６４％であった。
【００９０】
（実施例２、３、比較例２、３、４、５）
実施例１、及び比較例１と同様にして、実施例２、及び３、比較例２、３、４、及び５を実施した。表１に各実施例、及び比較例の結果をまとめて示す。
【００９１】
また、図６に実施例２、比較例２で使用したＩＴＯ付きガラス基板のθ−２θ法によるＸＲＤの測定結果を示す。
【００９２】
さらに、図７、及び図８に３層積層エッジ部２１１の立ち上がりの部分のＴＥＭ写真、及びＡＦＭによる立ち上がりの角度の測定結果の例を示す。
【００９３】
【表１】
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【００９４】
表１に示すように、各実施例では、各比較例より高い歩留りが得られた。これは（２２２）配向したＩＴＯ膜の３層積層エッジ部につき研磨により、その立ち上がりの角度を７度以下に抑えた結果と考えられる。また、同程度の強度の研磨を、その研磨時間を変えて、具体的には、実施例１の２倍とした実施例２、実施例１の０．５倍とした実施例３、の各々のＩＴＯ基板につき、その３層積層エッジ部の立ち上がり角度は５度程度であまり変化しなかった。
【００９５】
図６に示すように、（２２２）面については面間隔ｄが２．９オングストローム付近のピークを、（４００）面については面間隔ｄが２．５オングストローム付近のピークを、各々の面に対応するピークとした。
【００９６】
図７に示すように、立ち上がり角度が１５度程度と大きい比較例１および比較例２ではテーパー面の凹凸は同程度であり、歩留りが同程度となった結果とよく対応している。しかし、研磨の程度を大きくして、立ち上がり角度を５度程度まで小さくすると、（２２２）配向した実施例２のＩＴＯ膜ではテーパー面が滑らかで歩留りが高くなるのに対して、（４００）配向した比較例３のＩＴＯ膜ではテーパー面の凹凸が比較例２に比べてかえって激しくなり、歩留りもかえって低下した。
【符号の説明】
【００９７】
１．透明絶縁基板
２．酸化インジウムを主成分とする金属酸化物第１電極層
３．有機発光ユニット
４．第２電極層
【図５】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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