(57)【要約】【課題】シャッタが設けられた基板とこれに対向する基板を電気的に導通させることを目的とする。【解決手段】第１基板１０には、光の通過及び遮断を制御するシャッタ２８と、シャッタ２８を駆動するための駆動部５２と、所定の空間を挟むように第１基板１０から立ち上がる複数の側面６６を有する凸部６２とが、それぞれ、第１導電膜５４及び絶縁膜１６の積層構造を含むように設けられている。複数の側面６６の最表層は、それぞれ、第１導電膜５４を覆う絶縁膜１６からなり、第１導電膜５４の一部を露出させる開口６８を有する。導電粒子７０は、複数の側面６６が挟む所定の空間に配置され、第１基板１０側では複数の側面６６で開口６８から露出した第１導電膜５４に接触し、第２基板１２側では第２導電膜２２に接触する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板と対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板の前記第２基板側に設けられた第１導電膜と、
前記第１基板の前記第２基板側に前記第１導電膜を覆うように設けられた絶縁膜と、
前記第２基板の前記第１基板側に設けられた第２導電膜と、
前記第１基板と前記第２基板との間に介在する導電粒子と、
を有し、
前記第１基板には、光の通過及び遮断を制御するシャッタと、前記シャッタを駆動するための駆動部と、所定の空間を挟むように前記第１基板から立ち上がる複数の側面を有する凸部とが、それぞれ、前記第１導電膜及び前記絶縁膜の積層構造を含むように設けられ、
前記複数の側面の最表層は、それぞれ、前記第１導電膜を覆う前記絶縁膜からなり、前記第１導電膜の一部を露出させる開口を有し、
前記導電粒子は、前記複数の側面が挟む前記所定の空間に配置され、前記第１基板側では前記複数の側面で前記開口から露出した前記第１導電膜に接触し、前記第２基板側では前記第２導電膜に接触することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記絶縁膜は、前記第１基板の表面に平行に拡がる部分をさらに含み、前記第１基板の前記表面に平行に拡がる前記部分よりも、前記複数の側面の前記最表層を構成する部分が薄くなっていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記凸部は、前記所定の空間を囲むように連続的に設けられ、
前記複数の側面は、一体的に連続して形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記凸部は、前記所定の空間を囲む位置に、隣同士の間隔をあけて、少なくとも対向する２つの部分を含むように断片的に形成され、
前記複数の側面は、それぞれ、前記少なくとも対向する２つの部分の側面であることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載された表示装置において、
前記少なくとも対向する２つの部分は、それぞれ、階段状に形成されて、ベース部及び前記ベース部から立ち上がる壁部を有し、
前記複数の側面は、前記少なくとも対向する２つの部分の前記壁部の側面であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載された表示装置において、
前記複数の側面は、それぞれ、前記第１基板に直交する軸の周りに形成される円柱面であることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項４又は５に記載された表示装置において、
前記複数の側面は、それぞれ、出隅形状であることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項４又は５に記載された表示装置において、
前記複数の側面は、それぞれ、入隅形状であることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記導電粒子は、前記複数の側面によって押圧されて弾性変形していることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
第１基板に、光の通過及び遮断を制御するシャッタと、前記シャッタを駆動するための駆動部と、所定の空間を挟むように前記第１基板から立ち上がる複数の側面を有する凸部とを、それぞれ、第１導電膜及び絶縁膜の積層構造を含むように設ける工程と、
第２基板に第２導電膜を設ける工程と、
前記第１基板の前記第１導電膜及び前記絶縁膜が設けられた側と、前記第２基板の前記第２導電膜が設けられた側と、を対向させ、前記第１基板と前記第２基板との間に導電粒子を介在させる工程と、
を含み、
前記複数の側面の最表層は、それぞれ、前記第１導電膜を覆う前記絶縁膜からなり、
前記複数の側面が挟む前記所定の空間は、前記導電粒子よりも小さくなっており、
前記導電粒子を介在させる工程で、
前記複数の側面が挟む前記所定の領域に、前記導電粒子を圧入することで、前記絶縁膜を削って、前記第１導電膜の一部を露出させる開口を前記絶縁膜に形成し、
前記導電粒子を、前記第１基板側では前記複数の側面で前記開口から露出した前記第１導電膜に接触させ、前記第２基板側では前記第２導電膜に接触させることを特徴とする表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＥＭＳディスプレイ（Micro Electro Mechanical System Display）は、液晶ディスプレイに取って代わると期待されているディスプレイである（特許文献１参照）。このディスプレイは、偏光を利用した液晶シャッタ方式とは異なり、機械シャッタ方式によって光の透過窓を開閉する。詳しくは、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）が形成されたＴＦＴ基板には画素ごとにシャッタが設けられており、このシャッタを静電力により水平方向に動作させることで、開口部を開閉して画像を表示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１９７６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−２１５５２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
通常、対向基板へのシャッタの貼り付きを防止するため、シャッタと対向基板を同電位にする必要がある。そのため、対向基板とＴＦＴ基板は、導電性の材料を用いて導通を図る。シャッタが設けられたＴＦＴ基板は、表面がパッシベーション膜で覆われている。パッシベーション膜はＳｉＮなどの硬い材料から形成されているので、特許文献２に開示されるような導電粒子を押圧する方法を使用しても、パッシベーション膜を突き破ることはできず、対向基板とＴＦＴ基板の電気的導通を図ることは難しかった。
【０００５】
本発明は、シャッタが設けられた基板とこれに対向する基板を電気的に導通させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る表示装置は、第１基板と、前記第１基板と対向するように配置された第２基板と、前記第１基板の前記第２基板側に設けられた第１導電膜と、前記第１基板の前記第２基板側に前記第１導電膜を覆うように設けられた絶縁膜と、前記第２基板の前記第１基板側に設けられた第２導電膜と、前記第１基板と前記第２基板との間に介在する導電粒子と、を有し、前記第１基板には、光の通過及び遮断を制御するシャッタと、前記シャッタを駆動するための駆動部と、所定の空間を挟むように前記第１基板から立ち上がる複数の側面を有する凸部とが、それぞれ、前記第１導電膜及び前記絶縁膜の積層構造を含むように設けられ、前記複数の側面の最表層は、それぞれ、前記第１導電膜を覆う前記絶縁膜からなり、前記第１導電膜の一部を露出させる開口を有し、前記導電粒子は、前記複数の側面が挟む前記所定の空間に配置され、前記第１基板側では前記複数の側面で前記開口から露出した前記第１導電膜に接触し、前記第２基板側では前記第２導電膜に接触することを特徴とする。本発明によれば、導電粒子によって、シャッタが設けられた第１基板に形成された第１導電膜と、これに対向する第２基板に形成された第２導電膜とを電気的に導通させることができる。これにより、シャッタと第２基板が同電位になるので、静電力による両者の貼り付きを防止することができる。導電粒子が接触する第１導電膜は、第１基板から立ち上がる凸部を構成する積層構造の一部である。凸部の側面では、絶縁膜と第１導電膜の積層方向は、第１基板及び第２基板の対向方向に交差する方向である。したがって、第１基板と第２基板を対向させるときに、導電粒子が両者の対向方向に動くことで絶縁膜の一部を剥離して開口を形成しやすくなっている。そして、絶縁膜の開口を介して、導電粒子と第１導電膜を電気的に接続することができる。
【０００７】
（２）（１）に記載された表示装置において、前記絶縁膜は、前記第１基板の表面に平行に拡がる部分をさらに含み、前記第１基板の前記表面に平行に拡がる前記部分よりも、前記複数の側面の前記最表層を構成する部分が薄くなっていることを特徴としてもよい。
【０００８】
（３）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記凸部は、前記所定の空間を囲むように連続的に設けられ、前記複数の側面は、一体的に連続して形成されていることを特徴としてもよい。
【０００９】
（４）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記凸部は、前記所定の空間を囲む位置に、隣同士の間隔をあけて、少なくとも対向する２つの部分を含むように断片的に形成され、前記複数の側面は、それぞれ、前記少なくとも対向する２つの部分の側面であることを特徴としてもよい。
【００１０】
（５）（４）に記載された表示装置において、前記少なくとも対向する２つの部分は、それぞれ、階段状に形成されて、ベース部及び前記ベース部から立ち上がる壁部を有し、前記複数の側面は、前記少なくとも対向する２つの部分の前記壁部の側面であることを特徴としてもよい。
【００１１】
（６）（４）又は（５）に記載された表示装置において、前記複数の側面は、それぞれ、前記第１基板に直交する軸の周りに形成される円柱面であることを特徴としてもよい。
【００１２】
（７）（４）又は（５）に記載された表示装置において、前記複数の側面は、それぞれ、出隅形状であることを特徴としてもよい。
【００１３】
（８）（４）又は（５）に記載された表示装置において、前記複数の側面は、それぞれ、入隅形状であることを特徴としてもよい。
【００１４】
（９）（１）から（８）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記導電粒子は、前記複数の側面によって押圧されて弾性変形していることを特徴としてもよい。
【００１５】
（１０）本発明に係る表示装置の製造方法は、第１基板に、光の通過及び遮断を制御するシャッタと、前記シャッタを駆動するための駆動部と、所定の空間を挟むように前記第１基板から立ち上がる複数の側面を有する凸部とを、それぞれ、第１導電膜及び絶縁膜の積層構造を含むように設ける工程と、第２基板に第２導電膜を設ける工程と、前記第１基板の前記第１導電膜及び前記絶縁膜が設けられた側と、前記第２基板の前記第２導電膜が設けられた側と、を対向させ、前記第１基板と前記第２基板との間に導電粒子を介在させる工程と、を含み、前記複数の側面の最表層は、それぞれ、前記第１導電膜を覆う前記絶縁膜からなり、前記複数の側面が挟む前記所定の空間は、前記導電粒子よりも小さくなっており、前記導電粒子を介在させる工程で、前記複数の側面が挟む前記所定の領域に、前記導電粒子を圧入することで、前記絶縁膜を削って、前記第１導電膜の一部を露出させる開口を前記絶縁膜に形成し、前記導電粒子を、前記第１基板側では前記複数の側面で前記開口から露出した前記第１導電膜に接触させ、前記第２基板側では前記第２導電膜に接触させることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る表示装置の概略を示す平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る表示装置の概略を示す断面図である。
【図３】シャッタ及びその駆動部を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施形態に係る表示装置の詳細を示す断面図である。
【図５】凸部の平面図である。
【図６】凸部の変形例１を示す平面図である。
【図７】凸部の変形例２を示す平面図である。
【図８】凸部の変形例３を示す平面図である。
【図９】凸部の変形例４を示す平面図である。
【図１０】凸部の変形例５を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１８】
図１は、本発明の実施形態に係る表示装置の概略を示す平面図である。図２は、本発明の実施形態に係る表示装置の概略を示す断面図である。
【００１９】
表示装置は、それぞれ、例えばガラスなどの光透過性材料からなる第１基板１０及び第２基板１２を有する。第１基板１０は、図示しない薄膜トランジスタや配線などが形成された回路基板又はＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板である。第１基板１０の第２基板１２側に、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などからなる導電層１４が設けられている。第１基板１０の第２基板１２側に、導電層１４を覆うように、例えば窒化シリコンなどからなる絶縁膜１６が設けられている。絶縁膜１６は、第１基板１０の表面に平行に拡がる部分を含む。第１基板１０には、第１遮光膜１８が形成されている。第１遮光膜１８には、第１固定開口２０が形成されている。
【００２０】
第２基板１２は、間隔をあけて第１基板１０と対向するように配置されている。第２基板１２の第１基板１０側に、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などからなる第２導電膜２２が設けられている。第２基板１２には、第２遮光膜２４が形成されている。第２遮光膜２４には、第２固定開口２６が形成されている。第１固定開口２０と第２固定開口２６は、対向するように形成されている。
【００２１】
第１基板１０には、複数のシャッタ２８が設けられている。シャッタ２８は、光の通過及び遮断を制御する。シャッタ２８は、図示しない薄膜トランジスタや配線などの上方で移動できるように設けられている。
【００２２】
図３は、シャッタ及びその駆動部を示す斜視図である。シャッタ２８は、駆動開口３０を有するプレートである。シャッタ２８には、強度を高めるために凹部３２が形成されているが、この凹部３２は貫通していない。駆動開口３０を光が通過し、駆動開口３０以外の部分で光を遮断する。駆動開口３０は一方向に長い形状になっている。なお、光は、第１基板１０又は第２基板１２に重ねられるバックライト３４（図２参照）から供給される。
【００２３】
シャッタ２８の駆動開口３０と、第１遮光膜１８の第１固定開口２０及び第２遮光膜２４の第２固定開口２６とは、対向する位置に配置され、これらが連通すれば光が通過し、シャッタ２８の移動によって第１固定開口２０及び第２固定開口２６が遮蔽されると光が遮断される。言い換えると、第１固定開口２０及び第２固定開口２６への光の通過及び遮断を制御するように、シャッタ２８は機械的に駆動される。１つのシャッタ２８が１画素に対応し、多数の画素によって画像が表示されるようになっている。そのため、複数（多数）のシャッタ２８が設けられている。シャッタ２８は、駆動開口３０並びに第１固定開口２０及び第２固定開口２６を通過する光の有無及び出射時間によって画像を表示する画像表示領域３６（図１参照）に配置されている。
【００２４】
シャッタ２８は、第１バネ３８に支持されて第１基板１０から浮くようになっている。複数の第１バネ３８によってシャッタ２８が支持されている。第１バネ３８は、第１アンカー部４０で第１基板１０に固定されている。
【００２５】
第１バネ３８は、弾性変形可能な材料からなる。第１バネ３８は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向（第１基板１０の板面に平行な方向）に向けて、幅方向を上下方向（第１基板１０の板面に垂直な方向）に向けて配置されている。これにより、第１バネ３８は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。
【００２６】
第１バネ３８は、シャッタ２８から離れる方向（駆動開口３０の長さ方向に交差（例えば直交）する方向）に延びる第１部４２と、駆動開口３０の長さ方向に沿った方向であって駆動開口３０の長さ方向の中央から外方向に向かって延びる第２部４４と、さらにシャッタ２８から離れる方向（駆動開口３０の長さ方向に交差（例えば直交）する方向）に延びる第３部４６と、を有する。そして、シャッタ２８は、図３に矢印で示すように、駆動開口３０の長さ方向に交差（例えば直交）する方向に移動できるように第１バネ３８に支持されている。
【００２７】
第１基板１０には、第２アンカー部４８に支持された第２バネ５０が設けられている。第２バネ５０も、弾性変形可能な材料からなる。第２バネ５０は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向（第１基板１０の板面に平行な方向）に向けて、幅方向を上下方向（第１基板１０の板面に垂直な方向）に向けて配置されている。これにより、第２バネ５０は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。また、第２バネ５０は、ループ状になっており、第２アンカー部４８から延びた帯状部が、屈曲して折り返されて、同じ第２アンカー部４８に戻るようになっている。
【００２８】
第２バネ５０は、第１バネ３８の第２部４４よりもシャッタ２８から離れた側で、この第２部４４に対向するようになっている。第２アンカー部４８に電圧を印加し、第１バネ３８の第２部４４との電位差によって生じる静電引力によって、第２部４４が第２バネ５０に引き寄せられるようになっている。第２部４４が引き寄せられると、第２部４４と一体的な第１部４２を介して、シャッタ２８も引き寄せられる。つまり、第１バネ３８及び第２バネ５０は、シャッタ２８を機械的に駆動するための駆動部５２を構成するためのものである。
【００２９】
図４は、本発明の実施形態に係る表示装置の詳細を示す断面図である。シャッタ２８は、第１導電膜５４及び絶縁膜１６の積層構造を含む。シャッタ２８は、例えばアモルファスシリコンからなる半導体層５６を中心に有する。半導体層５６に第１導電膜５４が積層され、絶縁膜１６が第１導電膜５４を覆うようになっている。第１導電膜５４は例えばシリコンアルミニウム合金からなり、絶縁膜１６は例えば窒化シリコンからなる。
【００３０】
シャッタ２８の一部を構成する第１導電膜５４及び絶縁膜１６は、駆動部５２の一部も構成する。すなわち、駆動部５２は、第１導電膜５４及び絶縁膜１６の積層構造を含む。また、シャッタ２８の一部を構成する半導体層５６は、駆動部５２の一部も構成する。例えば、駆動部５２の一部である第２バネ５０は、半導体層５６を中心に有し、半導体層５６に第１導電膜５４が積層され、第１導電膜５４を絶縁膜１６が覆うようになっている。
【００３１】
第１基板１０には、絶縁体からなる複数の下地層５８，６０が積層され、その上に、第１遮光膜１８が形成されている。第１遮光膜１８は、アルミニウム膜の上下をそれぞれチタン膜で挟んでなる導電膜である。第１遮光膜１８の上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などからなる導電層１４が形成されている。いずれも導電体からなる導電層１４及び第１遮光膜１８は相互に電気的に接続しており、少なくとも一方がシャッタ２８の下方に配置される。
【００３２】
第１基板１０（詳しくは導電層１４の上）には、凸部６２が設けられている。凸部６２は、フォトレジストなどの樹脂からなる樹脂層６４を中心に有する。樹脂層６４に、シャッタ２８の一部を構成する半導体層５６が積層されている。シャッタ２８の一部を構成する第１導電膜５４及び絶縁膜１６は、凸部６２の一部も構成する。すなわち、凸部６２は、第１導電膜５４及び絶縁膜１６の積層構造を含み、第１導電膜５４を絶縁膜１６が覆うようになっている。
【００３３】
凸部６２の一部を構成する第１導電膜５４は、凸部６２の一部を構成する半導体層５６を介して導電層１４に電気的に接続されている。つまり、第１導電膜５４は、シャッタ２８の下方に配置された導電層１４及び第１遮光膜１８と電気的に接続されている。
【００３４】
凸部６２は、所定の空間を挟むように第１基板１０から立ち上がる複数の側面６６を有する。凸部６２の側面６６の最表層は、第１導電膜５４を覆う絶縁膜１６からなる。絶縁膜１６は、第１基板１０の表面に平行に拡がる部分よりも、側面６６の最表層を構成する部分が薄くなっている。側面６６の最表層である絶縁膜１６は、第１導電膜５４の一部を露出させる開口６８を有する。
【００３５】
第１基板１０と第２基板１２との間に導電粒子７０が介在する。導電粒子７０は、樹脂などのコア部の表面に金属などの導電膜を形成してなるもので、コア部は弾性体である。導電粒子７０は、複数の側面６６が挟む所定の空間に配置されている。導電粒子７０は、複数の側面６６によって押圧されて弾性変形している。導電粒子７０は、第１基板１０側では複数の側面６６で開口６８から露出した第１導電膜５４に接触し、第２基板１２側では第２導電膜２２に接触する。つまり、第１導電膜５４と第２導電膜２２が同電位になる。第１導電膜５４が電気的に接続される導電層１４及び第１遮光膜１８は、シャッタ２８の下方に配置されている。第２導電膜２２は、シャッタ２８の上方に配置されている。
【００３６】
本実施形態によれば、導電粒子７０によって、シャッタ２８が設けられた第１基板１０に形成された第１導電膜５４と、これに対向する第２基板１２に形成された第２導電膜２２とを電気的に導通させることができる。これにより、シャッタ２８と第２基板１２が同電位になるので、静電力による両者の貼り付きを防止することができる。導電粒子７０が接触する第１導電膜５４は、第１基板１０から立ち上がる凸部６２を構成する積層構造の一部である。凸部６２の側面６６では、絶縁膜１６と第１導電膜５４の積層方向は、第１基板１０及び第２基板１２の対向方向に交差する方向である。したがって、第１基板１０と第２基板１２を対向させるときに、導電粒子７０が両者の対向方向に動くことで絶縁膜１６の一部を剥離して開口６８を形成しやすくなっている。そして、絶縁膜１６の開口６８を介して、導電粒子７０と第１導電膜５４を電気的に接続することができる。
【００３７】
本実施形態では、第１基板１０及び第２基板１２は、シール材７２によって間隔をあけて固定されている。シール材７２は、図１に示すように、画像表示領域３６を囲む領域に、一部を除いて設けられている。シール材７２が設けられていない位置には、封止材７４が設けられている。第１基板１０及び第２基板１２並びにシール材７２及び封止材７４によってスペースが封止される。
【００３８】
導電粒子７０は、シール材７２に混合されている。したがって、凸部６２は、画像表示領域３６を囲む領域の少なくとも一部に形成されている。
【００３９】
第１基板１０及び第２基板１２の間（シール材７２及び封止材７４によって封止されたスペース）にはオイル７６（例えばシリコーンオイル）が満たされている。シャッタ２８及び駆動部５２は、オイル７６内に配置されている。オイル７６の誘電率が低いため、シャッタ２８の駆動電圧を下げることができる。第１基板１０及び第２基板１２がガラスからなる場合、ガラスと屈折率の近いオイル７６を使用すれば、オイル７６を満たすことで、第１基板１０及び第２基板１２との界面での光の反射を減らすことができる。
【００４０】
次に、本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する。本実施形態では、第１基板１０に、シャッタ２８と、シャッタ２８を駆動するための駆動部５２と、凸部６２とを、それぞれ、第１導電膜５４及び絶縁膜１６の積層構造を含むように設ける。複数の側面６６の最表層は、それぞれ、第１導電膜５４を覆う絶縁膜１６からなる。絶縁膜１６は、蒸着によって形成することができ、その場合、第１基板１０の表面に平行に拡がる部分よりも、側面６６の最表層を構成する部分が薄くなる。また、第２基板１２に第２導電膜２２を設ける。
【００４１】
第１基板１０の第１導電膜５４及び絶縁膜１６が設けられた側と、第２基板１２の第２導電膜２２が設けられた側と、を対向させる。そして、第１基板１０と第２基板１２をシール材７２で固定する。シール材７２は、樹脂で形成するときには、導電粒子７０を混合した樹脂を使用する。シール材７２によって第１基板１０と第２基板１２を貼り合わせて、シール材７２の切れ目からオイル７６を充填し、封止材７４でこれを封止する。
【００４２】
シール材７２が導電粒子７０を含んでいるので、第１基板１０及び第２基板１２を貼り合わせるときに、第１基板１０と第２基板１２との間に導電粒子７０が介在することになる。第１基板１０及び第２基板１２を挟み込む力を加えることで、導電粒子７０は、凸部６２の複数の側面６６が挟む空間に圧入される。このときに、導電粒子７０は、側面６６の最表層である絶縁膜１６を削って、第１導電膜５４の一部を露出させる開口６８を絶縁膜１６に形成する。複数の側面６６が挟む所定の空間は、導電粒子７０よりも小さくなっているので、導電粒子７０は弾性変形して第１導電膜５４に密着する。こうして、導電粒子７０を、第１基板１０側では複数の側面６６で開口６８から露出した第１導電膜５４に接触させ、第２基板１２側では第２導電膜２２に接触させる。
【００４３】
図５は、凸部６２の平面図である。凸部６２は、所定の空間を囲むように連続的に設けられている。したがって、複数の側面６６は、一体的に連続して形成されている。この例では、凸部６２が囲む空間の平面形状は矩形であり、凸部６２の外形の平面形状も矩形である。
【００４４】
図６は、凸部の変形例１を示す平面図である。この例では、凸部１６２が囲む空間の平面形状は円形であり、凸部１６２の外形の平面形状も円形である。
【００４５】
図７は、凸部の変形例２を示す平面図である。この例では、凸部２６２は、所定の空間を囲む位置に、隣同士の間隔をあけて分割されている。つまり凸部２６２は、対向する少なくとも２つ（図７では４つ）の分割部分２７８からなる。凸部の側面２６６は、分割部分２７８の側面（例えば角部）である。複数の側面２６６は、それぞれ、出隅形状である。分割部分２７８の平面形状は矩形である。
【００４６】
図８は、凸部の変形例３を示す平面図である。この例は、分割部分３７８の平面形状が円形である点で、図７の例とは異なる。複数の側面３６６は、それぞれ、第１基板１０に直交する軸の周りに形成される円柱面である。
【００４７】
図９は、凸部の変形例４を示す平面図である。この例は、分割部分４７８の平面形状がＬ字になっている点で、図７の例とは異なる。分割部分４７８が描くＬ字の入隅形状が、凸部４６２の全体によって囲む空間を向くようになっている。複数の側面４６６は、それぞれ、入隅形状である。
【００４８】
図１０は、凸部の変形例５を示す平面図である。この例では、凸部５６２を構成する少なくとも対向する２つの分割部分５７８は、それぞれ、階段状に形成されている。詳しくは、分割部分５７８は、ベース部５８０及びベース部５８０から立ち上がる壁部５８２を有する。凸部５６２の側面５６６は、壁部５８２の側面である。複数の側面５６６は、それぞれ、入隅形状である。
【００４９】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。また、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００５０】
１０  第１基板、１２  第２基板、１４  導電層、１６  絶縁膜、１８  第１遮光膜、２０  第１固定開口、２２  第２導電膜、２４  第２遮光膜、２６  第２固定開口、２８  シャッタ、３０  駆動開口、３２  凹部、３４  バックライト、３６  画像表示領域、３８  第１バネ、４０  第１アンカー部、４２  第１部、４４  第２部、４６  第３部、４８  第２アンカー部、５０  第２バネ、５２  駆動部、５４  第１導電膜、５６  半導体層、５８  下地層、６０  下地層、６２  凸部、６４  樹脂層、６６  側面、６８  開口、７０  導電粒子、７２  シール材、７４  封止材、７６  オイル、１６２  凸部、２６２  凸部、２６６  側面、２７８  分割部分、３６６  側面、３７８  分割部分、４６２  凸部、４６６  側面、４７８  分割部分、５６２  凸部、５６６  側面、５７８  分割部分、５８０  ベース部、５８２  壁部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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