(57)【要約】【課題】本発明は、結露凍結環境下に長期間晒されても太陽電池素子の電極部の破損が生じにくい太陽電池モジュールを提供することを課題とする。【解決手段】太陽電池モジュールの表面の凹凸を、凹凸の最大高さＲｚが２０μｍ以上、２２０μｍ以下とし、モジュール基板の線膨張係数を３０ｐｐｍ／℃以上とすることで、上記課題を解決する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
モジュール基板上に、単位太陽電池セルを複数配置した太陽電池素子、および表面保護層を有する太陽電池モジュールであって、
前記太陽電池モジュールは、受光面に凹凸を有し、
該凹凸は、凹凸の最大高さＲｚが２０μｍ以上、２２０μｍ以下であり、
前記モジュール基板の線膨張係数が３０ｐｐｍ／℃以上であることを特徴とする、太陽電池モジュール。
【請求項２】
前記太陽電池素子の発電素子基材が樹脂基材である、請求項１に記載の太陽電池モジュール
【請求項３】
太陽電池素子が、薄膜太陽電池素子である、請求項１または２に記載の太陽電池モジュール。
【請求項４】
モジュール基板の厚さが０．４ｍｍ以上である請求項１〜３のいずれか一項に記載の太陽電池モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池は、太陽光がありさえすれば発電が可能な、ＣＯ２などの温室効果ガスを発生しないクリーンなエネルギー源である。近年では、太陽電池モジュールの薄膜化、軽量化、フレキシブル化が進んでおり、樹脂基板を用いた太陽電池モジュールが提案されている（例えば特許文献１）。
【０００３】
また、樹脂基板を用いた太陽電池モジュールは、ラミネータを用いた真空加熱圧着により製造されるのが一般的であり、ラミネートによる太陽電池モジュールのしわの抑制のために、太陽電池モジュールの被覆材の表面に凹凸を形成させることが提案されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０９−９２８４８号公報
【特許文献２】特許３２８８８７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献２に開示の方法では、表面樹脂フィルムの外側に凹凸形状を有するシート状の部材を配置し、圧着することで凹凸を付している。しかしながら、本発明者らが、表面に凹凸を形成させた太陽電池モジュールを作製したところ、使用条件を想定した結露凍結環境下に暴露された際に、太陽電池素子の電極部の破損によって電気的特性が低下するという問題が起こることを発見した。本発明はこのような問題を解決するものであり、結露凍結環境下に長期間晒されても太陽電池素子の電極部の破損が生じにくい太陽電池モジュールを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、表面の凹凸形状が、結露凍結環境下に暴露された際の太陽電池素子の電極部の破損に関係があることを発見した。これらの知見に基づきさらに研究を重ね、太陽電池モジュールの表面の凹凸を、凹凸の最大高さＲｚが２０μｍ以上、２２０μｍ以下とし、モジュール基板の線膨張係数を３０ｐｐｍ／℃以上とすることによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
本発明の概要は以下のとおりである。
本発明は、モジュール基板上に、単位太陽電池セルを複数配置した太陽電池素子、および表面保護層を有する太陽電池モジュールであって、前記太陽電池モジュールは、受光面に凹凸を有し、該凹凸は、凹凸の最大高さＲｚが２０μｍ以上、２２０μｍ以下であり、前記モジュール基板の線膨張係数が３０ｐｐｍ／℃以上であることを特徴とする、太陽電池モジュールである。
【０００８】
前記太陽電池素子の発電素子基材が樹脂基材であることが好ましく、前記太陽電池素子が、薄膜太陽電池素子であることが好ましい。
モジュール基板の厚さが０．４ｍｍ以上であることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、結露凍結環境下に長期間晒されても太陽電池素子の電極部の破損が生じにくい太陽電池モジュールを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】太陽電池のモノリシック構造の製造例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明について、以下に具体的に説明する。
本発明は、モジュール基板上に、単位太陽電池セルを複数配置した太陽電池素子、および表面保護層を有する太陽電池モジュールであって、前記太陽電池モジュールは、受光面に凹凸を有し、該凹凸は、凹凸の最大高さＲｚが２０μｍ以上、２２０μｍ以下であり、前記モジュール基板の線膨張係数が３０ｐｐｍ／℃以上であることを特徴とする。
更に表面保護シート、耐擦傷性層、防汚層等その他の公知の層を備えてもよい。また、モジュール基板に線膨張係数の大きい層を設ける場合においては、モジュール基板の上に応力緩衝層を設けることもある。
【００１２】
複数配置した単位太陽電池セルは、通常直列または並列に接続されており、直列に接続されているのが好ましい。また、接続の形式はモノリシック構造でもディスクリート構造でもよいが、モノリシック構造が好ましい。単位太陽電池セルが直列に接続されたモノリシック構造が最も好ましい。そして、必要とされる出力に応じて、単位太陽電池セルの数や配置方法を決めることができる。単位太陽電池セルとは、後述する、発電層と電極を含む発電素子の一単位を指す。また、太陽電池素子の種類は特に限定されないが、薄膜太陽電池素子が好ましい。
【００１３】
以下、薄膜太陽電池素子の例として、発電層、上部電極および下部電極を備えた太陽電池セルが直列に接続されたモノリシック構造を有する太陽電池素子について図１を用いて説明する。図１により、発電層がｐ−ｉ−ｎ接合型である場合を例にして説明するが、バルクヘテロ接合型、ヘテロｐｎ接合型、ショットキー型、等、公知の発電層でも同様である。
【００１４】
太陽電池素子は、通常発電素子基材上に複数の太陽電池セルを形成させることで製造される。発電素子基材１は公知の材料が使用でき、具体的には例えば厚さ０．０５〜１ｍｍ程度のガラス、金属箔又は耐熱性の高分子フィルム等が挙げられる。太陽電池モジュールの受光面が発電素子基材１側の場合には、透明なフィルムを用いるのが好ましい。受光面が上部電極６側の場合には、発電素子基材１は透明でも不透明でも良い。
（ａ）図の通り、発電素子基材１の上に開溝１１を持つ下部電極２を形成する。電極の形成はドライ法、ウェット法のいずれでもよい。ドライ法としては例えばスパッタ、蒸着、ＣＶＤ等公知の方法が挙げられる。ウェット法としては、スクリーン印刷やダイコート等が挙げられる。第１の開溝１１の幅は５０〜１０００μｍ特に１００〜５００μｍ程度が好ましい。
【００１５】
次に、（ｂ）図の通り、下部電極２の上にｐ層３を形成する。ｐ層３を下部電極２の全面に形成する場合には、第１の開溝１１はｐ層３の材料で埋められる。また、ｐ層３を下部電極２上にパターンを形成する場合には、第１の開溝１１はｐ層３の材料によって埋められないこともある。
【００１６】
次に、（ｃ）図の通り、下部電極２およびｐ層３の上にｉ層４およびｎ層５を順次成膜する。次いで、（ｄ）図の通り、ｐ層３の上に形成されたｉ層４、ｎ層５に、第１の開溝
１１と重ならないように、その近傍に数１０〜１００μｍ程度離れて下部電極２に達する第２の開溝１２をレーザスクライブにより形成する。第２の開溝の幅は５０〜１０００μｍ特に１００〜５００μｍ程度が好ましい。この第２の開溝１２を形成するレーザの波長は２００〜１２００ｎｍであり、中でも２５０〜９００ｎｍ特に２５０〜６００ｎｍ程度が好ましい。これによりｐ層３、ｉ層４およびｎ層５は短冊状の形状に分離される。
【００１７】
次に、（ｅ）図の通り、上部電極６を形成する。第２の開溝１２は上部電極６の材料で埋められる。第２の開溝１２は、単位太陽電池セルの上部電極を隣接する単位太陽電池セルの受光面の下部電極２と接続するためのものであるから、下部電極２に達していなければならない。
【００１８】
その後、（ｆ）図の通り、上部電極６、ｎ層５、ｉ層４及びｐ層３をレーザスクライブして第３の開溝１３を形成して、単位太陽電池セルに分割する。開溝１３は隣接する単位太陽電池セルの上部電極６を分割するものであるから、ｉ層４を突き抜けずにｉ層４の途中で止まってもよく、ｉ層４からさらにｐ層３を突き抜けて下部電極２に入り込んでもよい。この第３の開溝１３を形成するレーザの波長は２００〜１２００ｎｍであり、中でも２５０〜９００ｎｍ特に２５０〜６００ｎｍ程度が好ましい。各単位太陽電池セルの上部電極６は、開溝１２内を埋める上部電極６の材料によって隣接する単位太陽電池セルの下部電極２と導通しているので、各単位太陽電池セルが直列に接続された太陽電池素子が得られる。こうして各単位太陽電池セル間が複雑な、かつ薄い電極の積層構造により接続されているため、結露凍結試験のような温度湿度変化に対して極めて弱い箇所となっている。
【００１９】
発電層（この実施の形態では、ｐ層３、ｉ層４及びｎ層５）を構成する材料は、２００〜１２００ｎｍ特に２５０〜９００ｎｍとりわけ２５０〜６００ｎｍの波長の光の吸収性が良く、発電層は効率よく切断（スクライブ）される。上部電極６を構成する材料は、この波長の光を吸収するものであってもよく、吸収しなくてもよい。上部電極６の構成材料がこの波長の光を吸収しない場合であっても、その下の発電層がレーザスクライブにより除去されるときに、その上側の上部電極構成材料が併せて除去されて第３の開溝１３が形成されるようになる。上部電極６の構成材料が光吸収材料に限定されないところから、上部電極の構成材料の選択肢が広がる。
【００２０】
＜凹凸構造＞
本発明の太陽電池モジュールは受光面に凹凸を有し、該凹凸は、凹凸の最大高さＲｚが２０μｍ以上、２２０μｍ以下であることを特徴とする。また、凹凸の平均間隔Ｓｍが０．１ｍｍ以上、１０ｍｍ以下であることが好ましい。このように凹凸を形成することで、太陽電池モジュール製造の際に生じる積層された各層の膨張／収縮に伴う太陽電池素子にかかる応力負荷を軽減できる。また、使用条件を想定して、太陽電池モジュールを結露凍結下に長期間晒した場合に、上記と同様の影響により、太陽電池素子に局所的な応力が生じにくくなり、電極部が破損しにくくなる。太陽電池素子の電極部の破損が生じにくくなると、太陽電池モジュールの出力が低下しにくくなる。凹凸の最大高さＲｚおよび凹凸の平均間隔Ｓｍとは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して、表面粗さ形状測定機（例えば、株式会社東京精密社製サーフコム５７０Ａ等が挙げられる）により測定した値をいう。
【００２１】
特に、Ｒｚが上記上限以下であることの意義は以下の通りである。モジュール基板の線膨張係数が高いと、気候変動に伴う環境温度変化によってモジュール基板が膨張収縮する。その際に、Ｒｚが大きいと膨張収縮による応力が凹凸部分に集中することによって、太陽電池素子に対して膨張収縮による応力が作用し、太陽電池素子にクラックが発生することがある。そのため、線膨張係数が高いモジュール基板を用いる場合には、Ｒｚをある程度小さくすると太陽電池素子のクラック発生を抑制することができる。
一方、Ｒｚが上記下限以上であることで、モジュール表面に発生するしわを抑制することができる。さらにモジュール基板を樹脂とすることで太陽電池素子基板との線膨張差が小さくなるため、上記問題が発生しにくい。
【００２２】
また、単位太陽電池セルの短軸方向における凹凸の平均間隔（Ｓｍ１）とは、太陽電池モジュールの受光面の凹凸のうち、単位太陽電池セルの短軸方向における凹凸の平均間隔のことであり、同様に、単位太陽電池セルの長軸方向における凹凸の平均間隔（Ｓｍ２）とは、太陽電池モジュールの受光面の凹凸のうち、単位太陽電池セルの長軸方向における凹凸の平均間隔のことである。
【００２３】
凹凸の最大高さＲｚは、太陽電池素子の電極部の破損が発生しにくくし、また、しわが入りにくくするために、２５μｍ以上２２０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、２５μｍ以上１５０μｍ以下がより好ましい。
凹凸の平均間隔Ｓｍは、フィルム全体にしわが入りにくくし、また、凹凸部で歪が大きくなることによる電極部の破損や気泡の発生を防ぐために、０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましく、０．１５ｍｍ以上９ｍｍ以下であることがより好ましく、０．２ｍｍ以上８ｍｍ以下であることがさらに好ましい。
また、単位太陽電池セルの短軸方向における凹凸の平均間隔（Ｓｍ１）と長軸方向における凹凸の平均間隔（Ｓｍ２）との比（Ｓｍ２／Ｓｍ１）が１．２以上であることが好ましく、１．５以上がより好ましい。
【００２４】
このような凹凸を形成させる方法として、熱プレス（ラミネート）時に凹凸を形成させても良いし、太陽電池モジュールを作製した後に凹凸を転写しても良い。生産性良く凹凸を形成させることができる観点から、熱プレス時に凹凸を形成する方が好ましい。
【００２５】
また、凹凸を形成させる部材として、凹凸を転写させるための部材を用いてもよいし、予めそのような凹凸が形成された積層体を用いても良い。凹凸を転写させるための部材として、目的の凹凸を転写させるための形状が形成されている部材であれば何でも良く、シート状の部材、表面に凹凸を形成するための構造が形成された金型、凹凸を形成させるための構造が形成されたフィルムを用いることが好ましい。特に、凹凸を効率よく、転写できる観点から、シート状の部材や表面に凹凸を形成させるための構造が形成された金型を用いることが好ましい。
【００２６】
シート状の部材として、アルミニウムメッシュ、ステンレスメッシュ、ガラス繊維不織布、ガラス繊維織布、有機樹脂繊維不織布、有機樹脂繊維織布などを用いても良く、さらにこれらの部材をポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、シリコンレジンなどの離形性の良い樹脂で含浸させたシートを用いても良い。
【００２７】
離形性が良く、生産性が高いことから、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体で被覆されたガラス繊維不織布、ガラス繊維織布、有機樹脂繊維不織布、有機樹脂繊維織布を用いることが好ましい。
【００２８】
表面の凹凸の形状は前記ＲｚおよびＳｍを満たすものであれば特に限定されない。凹凸形状としては、太陽電池モジュールの断面形状が、正弦波形、円形、楕円形、多角形（台形、三角形、四角形等）等、またはこれらの組み合わせの幾何学的形状が連続した形状となるものが挙げられる。凹凸に対してランダムな方向からの応力を緩和できる観点から、正弦波形または、円形若しくは楕円形、またはこれらの組み合わせが連続した断面を有する波形であること好ましい。
また、太陽電池モジュールの表面の模様としては、ＳＮＰ模様、ＳＳＥ模様、布目模様、梨地模様、線模様、木目模様、皮模様、幾何学模様、みかん肌模様、ゆず肌模様、メロン肌模様、カラリ模様、岩肌模様、ディンプル模様、岩目模様、サンドブラスト模様、平織模様、線模様、幾何学模様、平編模様、朱子織模様、綾織模様、千鳥格子模様、網目模様などが挙げられ、中でも、同じ形状が連続的、周期的に形成されることが好ましく、平織模様、線模様、幾何学模様、平編模様、朱子織模様、綾織模様、千鳥格子模様、網目模様などが好ましい。
【００２９】
＜表面保護層＞
太陽電池モジュールの表面保護層として用いる部材として、多くの太陽光を光電変換層に供給する観点から、表面保護層の全光線透過率は、通常８０％以上、好ましくは９０％以上である。上限は特に限定されないが、通常９９％以下である。全光線透過率の測定方法は、例えば、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１による。
【００３０】
表面保護層としては、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、環状ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）等が挙げられる。好ましくは、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素系樹脂が挙げられる。
【００３１】
表面保護層の厚さは通常０．０２ｍｍ以上である。好ましくは０．０３ｍｍ以上または０．０３ｍｍを超える厚さであり、より好ましくは０．０５ｍｍ以上である。一方上限は特段限定されないが、１ｍｍ以下であることが好ましい。上記範囲とすることで、耐衝撃性と柔軟性を両立することができる。
また、表面保護層の線膨張係数は、通常２０ｐｐｍ／℃以上であり、２５ｐｐｍ／℃以上が好ましく、３０ｐｐｍ／℃以上がより好ましい。上限は、特に制限されないが、通常１５０ｐｐｍ／℃以下であり、１２０ｐｐｍ／℃以下が好ましい。
【００３２】
また、本発明の太陽電池モジュールでは、表面保護層の外側（太陽光側）に更に表面保護シートを備えてもよい。本発明において表面保護シートを備えることは表面保護層の傷つきや劣化を抑制し、全光線透過率を維持するため好ましい。表面保護シートを構成する材料は、耐候性フィルムが好ましく、通常使用される公知のものを使用することができる。
【００３３】
耐候性フィルムの材料となる樹脂としては、例えばエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、シリコーン、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド等が挙げられる。これらの中でもエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体が好ましい。
耐候性保護フィルムの厚さは特に制限されないが、通常１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上であり、通常２００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以下である。
【００３４】
表面保護シートと表面保護層との間に接着層を備えてもよい。接着層の材質等は特に制限されないが、通常例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）樹脂、ポリビニル
ブチラール（ＰＶＢ）樹脂、マレイン酸またはシラン等で変性した変性ポリエチレン樹脂、変性ポリプロピレン樹脂、またエポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤等の光透過性の材料が用いられる。接着層の厚さは特に制限されないが例えば２００〜５００μｍのシート状が好ましい。接着層は、表面保護シート以外の層の接着にも用いることができる。
【００３５】
＜太陽電池素子＞
太陽電池素子は、太陽光を電気に変換する発電素子と、発電素子の形状変化を抑制するための発電素子基材から構成されている。本発明では、発電素子の一単位を、単位太陽電池セルという。すなわち、太陽電池素子は、発電素子基材上に、発電素子として単位太陽電池セルが複数配置された構成を有する。その他、必要に応じて、ガスバリア層、波長変換層、ＵＶ吸収層を積層してもよい。
上記発電素子は、耐候層側から入射される太陽光に基づき発電を行う素子である。この発電素子は、光エネルギーを電気エネルギーに変換することができ、変換によって得られた電気エネルギーを外部に取り出せるものであれば、特に限定されない。
本発明においては、太陽電池素子が薄膜太陽電池素子であることが好ましい。薄膜太陽電池素子であることで、フレキシブル性を活かした用途、つまり曲げた状態で設置、曲げ延ばしして収納、設置状態で変形するような場所にも設置することができる。
【００３６】
発電素子としては、一対の電極で発電層（光電変換層、光吸収層）を挟んだもの、一対の電極で発電層と他層（バッファ層等）との積層体を挟んだもの、そのようなものを複数個、直列接続したものを用いることができる。発電層としては様々なものを採用することができるが、薄膜単結晶シリコン、薄膜多結晶シリコン、アモルファスシリコン、微結晶シリコン、球状シリコン、無機半導体材料、有機色素材料、または有機半導体材料からなる層であることが好ましい。これらの材料を用いることで、発電効率が比較的高く、薄い（軽量な）発電素子を実現できる。さらに効率を上げる観点から、これらを積層したＨＩＴ型、タンデム型でもよい。
【００３７】
発電層を薄膜多結晶シリコン層とした場合、発電素子は間接光学遷移を利用するタイプの素子となる。そのため、発電層を薄膜多結晶シリコン層とする場合には、光吸収を増加させるために、後述する発電素子基材又はその表面に凸凹構造を形成するなど十分な光閉じ込め構造を設けておくことが好ましい。
【００３８】
発電層をアモルファスシリコン層とした場合、可視域での光学吸収係数が大きく、厚さ１μｍ程度の薄膜でも太陽光を十分に吸収できる太陽電池素子を実現できる。しかも、アモルファスシリコンは、非結晶質の材料であるが故に、変形にも耐性を有している。そのため、発電層をアモルファスシリコン層とした場合、特に軽量な、変形に対してもある程度の耐性を有する太陽電池モジュールを実現できる。
【００３９】
発電層を無機半導体材料（化合物半導体）層とした場合、発電効率が高い発電素子を実現することが出来る。なお、発電効率（光電変換効率）の観点からは、発電層をＳ、Ｓｅ、Ｔｅなどカルコゲン元素を含むカルコゲナイド系発電層とすることが好ましく、Ｉ−ＩＩＩ−ＶＩ２族半導体系（カルコパイライト系）発電層としておくことがより好ましく、Ｉ族元素としてＣｕを用いたＣｕ−ＩＩＩ−ＶＩ２族半導体系発電層、特に、ＣＩＳ系半導体〔ＣｕＩｎ（Ｓｅ１−ｙＳｙ）２；０≦ｙ≦１〕層やＣＩＧＳ系半導体〔Ｃｕ（Ｉｎ１−ｘＧａｘ）（Ｓｅ１−ｙＳｙ）２；０＜ｘ＜１、０≦ｙ≦１〕〕層としておくことが、好ましい。
【００４０】
発電層として、酸化チタン層及び電解質層などからなる色素増感型発電層を採用しても、発電効率が高い発電素子を実現することができる。有機半導体層（ｐ型の半導体とｎ型の半導体を含む層）を採用することもできる。
【００４１】
有機半導体層の具体的な構成例としては、ｐ型半導体とｎ型半導体が層内で相分離した層（ｉ層）を有するバルクヘテロ接合型、それぞれｐ型半導体を含む層（ｐ層）とｎ型半導体を含む層（ｎ層）を積層した積層型（ヘテロｐｎ接合型）、ＰＩＮ型、ショットキー型およびそれらの組み合わせを挙げることができる。中でも、バルクヘテロ接合型が好ましい。
【００４２】
ｐ型半導体化合物とは、その膜が正孔を輸送できるｐ型半導体として動作する材料であるが、π共役高分子材料やπ共役低分子有機化合物などが好ましく用いられ、一種の化合物でも複数種の化合物の混合物でもよい。共役高分子材料は単一あるいは複数のπ共役モノマーを重合したものであり、そのモノマーとしては、置換基を有してもよいチオフェン、フルオレン、カルバゾール、ジフェニルチオフェン、ジチエノチオフェン、ジチエノシロール、ジチエノシクロヘキサン、ベンゾチアジアゾール、チエノチオフェン、イミドチオフェン、ベンゾジチオフェン等が挙げられ、分子量は1万以上の材料である。これらの
モノマーは直接結合するか、ＣＨ＝ＣＨやＣ≡Ｃ、ＮやＯを介して結合していてもよい。低分子有機半導体材料としてはペンタセンやナフタセン等の縮合芳香族炭化水素、チオフェン環を４個以上結合したオリゴチオフェン類、ポルフィリン化合物やテトラベンゾポルフィリン化合物及びその金属錯体、並びにフタロシアニン化合物及びその金属錯体等、が挙げられる。
【００４３】
ｎ型半導体化合物としては、特段の制限はないが、フラーレン化合物及びその誘導体、縮合環テトラカルボン酸ジイミド類が挙げられる。フラーレンとしてはＣ６０又はＣ７０等があげられ、そのフラーレンの２個の炭素に置換基を付加したもの、４個の炭素に置換基を付加したもの、さらには６個の炭素に置換基を付加したものが挙げられる。フラーレン化合物は、塗布法に適用できるようにするためには、当該フラーレン化合物が何らかの溶媒に対して溶解性が高く溶液として塗布可能であることが好ましい。
発電層に有機半導体層を使用する場合には、正孔取出層および／または電子取出層を積層するのが好ましい。
【００４４】
正孔取出層の材料は、ポリチオフェン、ポリピロール、又はポリアニリンなどに、スルホン酸及び／又はハロゲンなどがドーピングされた導電性ポリマーや、酸化モリブデンや酸化ニッケルのような、仕事関数の大きな金属酸化物が用いられる。
【００４５】
電子取出層の材料は特に限定されないが、具体的には、無機化合物又は有機化合物が挙げられる。無機化合物としては、ＬｉＦ等のアルカリ金属の塩や酸化チタン（ＴｉＯｘ）や酸化亜鉛（ＺｎＯ）のようなｎ型の酸化物半導体が挙げられる。有機化合物としては、バソキュプロイン（ＢＣＰ）、バソフェナントレン（Ｂｐｈｅｎ）のようなフェナントレン誘導体や、Ｐ＝ＯあるいはＰ＝Ｓ構造を有するホスフィン化合物が挙げられ、中でも、リン原子に芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基ホスフィン化合物が好ましい。
【００４６】
発電素子の各電極は、導電性を有する任意の材料を１種又は２種以上用いて形成することができる。電極材料（電極の構成材料）としては、例えば、白金、金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル、銅、チタン、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ナトリウム等の金属、あるいはそれらの合金；酸化インジウムや酸化錫等の金属酸化物、あるいはその合金（ＩＴＯ：酸化スズインジウム）；ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレン等の導電性高分子；そのような導電性高分子に、塩酸、硫酸、スルホン酸等の酸、ＦｅＣｌ３等のルイス酸、ヨウ素等のハロゲン原子、ナトリウム、カリウム等の金属原子などのドーパントを含有させたもの；金属粒子、カーボンブラック、フラーレン、カーボンナノチューブ等の導電性粒子をポリマーバインダー等のマトリクスに分散した導電性の複合材料などが挙げられる。
【００４７】
電極材料は、正孔又は電子を捕集するのに適した材料としておくことが好ましい。なお、正孔の捕集に適した電極材料（つまり、高い仕事関数を有する材料）としては、金、ＩＴＯ等を例示できる。また、電子の捕集に適した電極材料（つまり、低い仕事関数を有する材料）としては、銀、アルミニウムを例示できる。
【００４８】
発電素子の各電極は、発電層とほぼ同サイズのものであっても、発電層よりも小さなものであっても良い。ただし、発電素子の，受光面側（耐候層側）の電極を、比較的に大きなもの（その面積が、発電層面積に比して十分に小さくないもの）とする場合には、当該電極を、透明な（透光性を有する）電極、特に、発電層が効率良く電気エネルギーに変換できる波長の光の透過率が比較的に高い（例えば、５０％以上）電極、としておくべきである。なお、透明な電極材料としては、ＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム−亜鉛酸化物）等の酸化物；金属薄膜などを、例示できる。
【００４９】
発電素子の各電極の厚さ及び発電層の厚さは、必要とされる出力等に基づき、決定することが出来る。さらに電極に接するように補助電極を設置してもよい。特に、ＩＴＯなど導電性のやや低い電極を用いる場合には効果的である。補助電極材料としては、導電性が良好ならば上記金属材料と同じ材料を用いることができるが、銀、アルミニウム、銅が例示される。
【００５０】
上記発電素子基材は、その一方の面上に、発電素子が形成される部材である。そのため発電素子基材は、機械的強度が比較的に高く、耐候性、耐熱性、耐薬品性等に優れ、且つ軽量なものであることが望まれる。また、発電素子基材は、変形に対して或る程度の耐性を有するものであることも望まれる。そのため、発電素子基材としては、金属箔や、融点が８５〜３５０℃の樹脂フィルム、幾つかの金属箔／樹脂フィルムの積層体を採用することが好ましく、発電素子基材が樹脂フィルム、すなわち樹脂基材であることがより好ましい。発電素子基材として樹脂を使用するとモジュール基板の膨張収縮による表面保護層への応力伝播が緩和されるため、表面保護層と封止層界面に気泡が生じにくくなる傾向にある。したがって、発電素子基材が樹脂基材である場合には、受光面の凹凸の最大高さＲｚを特定範囲として応力負荷を軽減し、電極部等の破損を防ぐという本願発明の効果が得られやすくなる。
【００５１】
発電素子基材（又は、その構成要素）として使用し得る金属箔としては、アルミニウム、ステンレス、金、銀、銅、チタン、ニッケル、鉄、それらの合金からなる箔を、例示できる。
また、融点が８５〜３５０℃の樹脂フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアセタール、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＡＳＡ樹脂、これらの共重合体、ＰＶＤＦ、ＰＶＦなどのフッ素樹脂、シリコーン樹脂、セルロース、ニトリル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、アイオノマー、ポリブタジエン、ポリブチレン、ポリメチルペンテン、ポリビニルアルコール、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホンなどからなるフィルムを、例示できる。なお、発電素子基材として使用する樹脂フィルムは、上記のような樹脂中に、ガラス繊維、有機繊維、炭素繊維等を分散させたフィルムであってもよい。
【００５２】
なお、発電素子基材（又は、その構成要素）として使用する樹脂フィルムの融点が８５〜３５０℃の範囲である場合には、発電素子基材の変形が生じず発電素子との剥離が生じないため、好ましい。また、発電素子基材（又は、その構成要素）として使用する樹脂フィルムの融点は、１００℃以上であることがより好ましく、１２０℃以上であることがさ
らに好ましく、１５０℃以上であることが特に好ましく、１８０℃以上であることが最も好ましい。また、当該樹脂フィルムの融点は、３００℃以下であることがより好ましく、２８０℃以下であることがさらに好ましく、２５０℃以下であることが特に好ましい。
【００５３】
＜封止層＞
太陽電池モジュールは、通常、太陽電池素子と後述する樹脂基板との間に少なくとも一層の封止層を有する。このような封止層を設けることで、上述した太陽電池素子を封止するとともに、耐衝撃性等を太陽電池モジュールに付与することができる。
封止層は、上述した太陽電池素子とモジュール基板との間に積層されることに加え、太陽電池素子の受光面側にも積層されることで、太陽電池モジュールの耐衝撃性の向上に寄与できる。太陽電池モジュールでは、太陽電池素子の上下を挟むように封止層が積層される態様が好ましい。
【００５４】
この封止層として積層される材料には、日射透過率が比較的高い樹脂材料で、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、プロピレン−エチレン−α−オレフィン共重合体などのポリオレフィン樹脂、ブチラール樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、合成ゴム等を使用することができ、これらの１種以上の混合体、若しくは共重合体を使用できる。中でもＥＶＡが好ましい。
【００５５】
封止層の厚さは、１００μｍ以上であることが好ましく、２００μｍ以上であることがより好ましく、３００μｍ以上であることが更に好ましい。一方、１０００μｍであることが好ましく、８００μｍ以下であることがより好ましく、５００μｍ以下であることが更に好ましい。封止層の厚さを上記範囲とすることで、適度な耐衝撃性を得ることができると共に、コストおよび重量の観点からも好ましく、発電特性も十分に発揮することができる。
【００５６】
太陽電池モジュールの封止層には、紫外線吸収剤が添加されていてもよい。そのような紫外線吸収剤としては、市販されているものを含め、特段の限定なく用いることができる。例えば、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。封止層に紫外線吸収剤を添加する場合には、封止層全量に対して０．０１重量％以上であることが好ましく、０．０５重量％以上であることがより好ましい。一方、この含有量は１重量％以下であることが好ましく、０．８重量％以下であることがより好ましく、０．６重量％以下であることが特に好ましい。０．０１重量％未満であると、紫外線吸収効果を発揮することが難しくなり、１重量％を超えるとブリードアウトの原因となるからである。
【００５７】
また、上記封止層がシランカップリング剤を含むことが好ましい。シランカップリング剤が含まれていることで、封止層とそれに接する層との接着性が向上する。シランカップリング剤としては、官能基としてアルキル基を有するものが好ましく例示でき、具体的には、エポキシ基、メタクリル基、ビニル基等が挙げられる。封止材とシランカップリング剤の重量比は、封止材の重量を１００としたとき、０．１〜２．０であることが好ましく、０．３〜１．０であることがより好ましく、０．５〜０．７であることが特に好ましい。このような範囲とすることで、接着性を好適なものとすることができる。ここでいうシランカップリング剤を含むとは、封止材にシランカップリング剤を添加ないしは混合することを意味し、シランカップリング剤は太陽電池モジュールの積層前に予め封止材に添加ないし混合しておいてもよいし、積層時に封止材に添加ないし混合してもよい。
【００５８】
＜モジュール基板＞
本発明の太陽電池モジュールに用いるモジュール基板は樹脂基板である。樹脂基板には、後述の金属樹脂積層板も含まれる。モジュール基板として樹脂基板を使用することから、本発明の太陽電池モジュールは可撓性を有する。
【００５９】
モジュール基板に用いる樹脂としては、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリ塩化ビニル樹脂（ＰＶＣ）、熱可塑性エラストマー（ＴＰＯ）として、ポリオレフィンエラストマー、ポリエステルエラストマー等が好ましく、特に機械特性と耐光性が良いことから、ＥＴＦＥ、ＰＣ、ＰＶＣ、ＴＰＯ、ＰＭＭＡが望ましい。
【００６０】
モジュール基板としては、ポリエステル繊維、ポリプロピレン繊維、ガラスクロス繊維、ナイロン繊維、セルロース繊維、炭素繊維、アクリル繊維などの合成樹脂からなる織布または不織布でも良く、柔軟性を付与するために、樹脂含浸された不織布でも良い。
【００６１】
金属樹脂積層板として、アルミ、ステンレス、銅、チタン、鉄、それらの合金からなる板状部材の間に層間樹脂としてポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド６、ポリアミド６６、これらをブレンドしたものやこれらのコポリマーを積層したものが好ましい。さらに、これらの層間樹脂中に燐酸エステル化合物、塩化パラフィンなどのハロゲン化合物、酸化アンチモン、水酸化アンチモン、ホウ酸バリウム、ガラス繊維、水酸化アルミ、水酸化ナトリウムなどの無機物を含むものであっても、何らかの手法により発泡させたものであっても良い。
【００６２】
本発明に係るモジュール基板の厚みは、通常０．４ｍｍ以上１０ｍｍ以下であり、０．５ｍｍ以上８ｍｍ以下であることが好ましく、１ｍｍ以上６ｍｍ以下であることがより好ましい。上限値を超えると熱収縮時に生じる応力が大きくなりすぎてしまう場合があり、太陽電池素子へのダメージが生じ、出力の低下につながる危険性がある。一方、下限値を下回るとモジュールの屈曲性が大きくなる場合があり、形状変化に伴い生じる局所的な応力が太陽電池素子へダメージを与える恐れがある。
【００６３】
また、熱的性質として、線膨張係数が３０ｐｐｍ／℃以上であり、４０ｐｐｍ／℃以上が好ましく、５０ｐｐｍ／℃以上がより好ましい。上限は、特に制限されないが、通常２００ｐｐｍ／℃以下であり、１５０ｐｐｍ／℃以下が好ましい。
上限値を超えると、凸凹形状に関わらず、モジュール基板の熱膨張／収縮により面方向全面に対して応力が生じるため、太陽電池素子の電極部の破損が生じ易くなる恐れがある。一方、下限値を下回ると、ラミネート時にモジュール基板が変形しやすく、変形することによってモジュール基材の熱膨張／収縮に伴い、局所的な応力集中が生じるため、太陽電池素子の電極部の破損が生じ易くなる傾向にある。また、モジュール基板の線膨張係数を上記下限以上とすることで、結露凍結下に長期間晒した場合に、気泡の発生を防ぎ、また、表面保護層のしわの発生を防ぐことができる。
線膨張係数の測定方法は、ＡＳＴＭ  Ｄ６９６による。
【００６４】
また、本発明では、表面保護層の線膨張係数とモジュール基板の線膨張係数との差が６６ｐｐｍ／℃以下であることが好ましく、６０ｐｐｍ／℃以下であることがより好ましい。下限は特に制限されないが、−６６ｐｐｍ／℃以上が好ましく、−６０ｐｐｍ／℃以上がより好ましい。
線膨張係数の差を上記上限以下にすることによって、表面保護層と表面保護層と接する封止層の界面に応力が集中しにくくなり、モジュールが繰り返し膨張収縮した際に、表面保護層と封止層の界面が剥離しにくくなり気泡の発生を抑制できる。
また、線膨張係数の差を上記上限以下にすることによって、熱ラミネートの際に表面保護層とモジュール基板の膨張差が小さくなるため、表面保護層にしわが入ることを抑制できる。
【００６５】
＜その他の層＞
本発明の太陽電池モジュールには、必要に応じその他の層を備えることもできる。例としては、緩衝層、補強層、電気絶縁層、ガスバリア層、紫外線カット層、耐候性保護層、耐擦傷性層、防汚層、などが挙げられる。
【００６６】
緩衝層は、基板に線膨張係数の大きい材料を用いる場合、応力緩衝のために用いる層である。緩衝層には、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の樹脂を用いることができる。緩衝層を用いる場合、緩衝層と基板との間に接着層を用いてもよい。
【００６７】
＜太陽電池モジュールの製造方法＞
本発明の太陽電池モジュールの製造方法は、公知の方法を用い得るが、例えば表面保護層、封止層、太陽電池素子、封止層、樹脂基板等を含む多層シートを、真空ラミネーション装置内へ配置し、真空引きの後、加熱し、一定時間経過後に冷却することにより、太陽電池モジュールを得ることができる。熱プレス時に凹凸を形成させる場合は、ここで表面保護層等の受光面の最も外側の層の上に、凹凸を転写させるための部材をのせる。
【００６８】
上記熱プレス条件は特に限定されず、通常行う条件で実施することができる。
真空条件で行うことが好ましく、通常真空度が３０Ｐａ以上、好ましくは５０Ｐａ以上、より好ましくは８０Ｐａ以上である。一方上限は、通常１５０Ｐａ以下、好ましくは１２０Ｐａ以下、より好ましくは１００Ｐａ以下である。上記範囲とすることで、モジュール内の各層において気泡の発生を抑制することができ、生産性も向上するため好ましい。
【００６９】
真空時間としては、通常１分以上、好ましくは２分以上、より好ましくは３分以上である。一方上限は、通常８分以下、好ましくは６分以下、より好ましくは５分以下である。真空時間を上記範囲とすることで、熱プレス後の太陽電池モジュールの外観が良好となり、またモジュール内の各層において気泡の発生を抑制することができるため好ましい。
【００７０】
熱プレスの加圧条件は、通常圧力が５０ｋＰａ以上、好ましくは７０ｋＰａ以上、より好ましくは９０ｋＰａ以上である。一方上限値は、１０１ｋＰａ以下であることが好ましい。上記範囲の加圧条件とすることで、太陽電池モジュールを損傷することなく、また適度な接着性を得ることができるため、耐久性の観点からも好ましい。
【００７１】
上記圧力の保持時間は、通常１分以上、好ましくは３分以上、より好ましくは５分以上である。一方上限は、通常３０分以下、好ましくは２０分以下、より好ましくは１５分以下である。上記保持時間とすることで、封止層の太陽電池素子を保護する機能を十分に発揮することができ、また十分な接着強度を得ることができる。
【００７２】
熱プレスの温度条件は、通常１２０℃以上、好ましくは１３０℃以上、より好ましくは
１４０℃以上である。一方上限値は、通常１８０℃以下、好ましくは１６０℃以下、より好ましくは１５０℃以下である。上記温度範囲とすることで、十分な接着強度を得ることができる。
【００７３】
また、上記温度の加熱時間は、通常１０分以上、好ましくは１２分以上、より好ましくは１５分以上である。一方上限は６０分以下、好ましくは４５分以下、より好ましくは３０分以下である。上記加熱時間とすることで、封止材の架橋が適度に行われるため耐久性能が向上し、適度な柔軟性を有することができるため、好ましい。
【００７４】
このようにして得られた本発明の太陽電池モジュールは、薄肉かつ軽量であるにもかかわらず太陽電池セルの破壊を抑制する耐衝撃性を有し、また、たわみや振動を抑制する機能を持つために、トラック等の車両に取り付けることができる。
【実施例】
【００７５】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明が以下の実施例にのみ限定されないことはいうまでもない。
【００７６】
本発明の実施例における評価は、以下の方法を用いた。
【００７７】
＜凹凸形状の測定方法＞
１０ｃｍ角の太陽電池モジュールの表面を、作製した各試料の表面形状と、目視による外観等との関係を明らかにするために、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して、最大高さＲｚ、凹凸の平均間隔Ｓｍを、表面粗さ形状測定機（株式会社東京精密社製サーフコム５７０Ａ）により測定した。最大高さＲｚ、凹凸の平均間隔Ｓｍは単位太陽電池セルに対して、短軸方向と長軸方向をそれぞれ測定した。
【００７８】
＜結露凍結試験＞
エスペック社製耐候性試験機（ＳＨ−２６１）を用いて、−４０℃２時間、８５℃，８５ｒｈ％２時間を１サイクルとし、１５０サイクル試験した。
【００７９】
＜出力評価＞
セリック社製ソーラーシミュレータ（を用い、太陽電池モジュールの出力特性を測定し、結露凍結試験前後のＦｉｌｌ  Ｆａｃｔｅｒ（ＦＦ）（曲線因子）を評価し、試験前後のＦＦの値から低下率を測定した。
【００８０】
＜表面保護層のしわの観察＞ 
目視にて、結露凍結試験後の太陽電池モジュールの表面保護層のしわの有無を観察した。
＜電極部の破損の観察＞
キーエンス社製光学顕微鏡ＶＨＸを用いて、結露凍結試験後の太陽電池素子の電極部の破損の有無を観察した。
【００８１】
＜実施例１＞
（出力評価用太陽電池モジュールの作製）
表面保護層：厚さ５０μｍのエチレン−四フッ化エチレン共重合体（以下、ＥＴＦＥと記載）フィルム（旭硝子株式会社製５０ＨＫ−ＤＣＳ）、
封止層：厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体（以下、ＥＶＡと記載）フィルム、
太陽電池素子：太陽電池素子（ポリエチレンナフタレート（以下、ＰＥＮと記載）フィルム（線膨張係数１３ｐｐｍ／℃）上にアモルファスシリコン系発電層を積層、厚さ１５０μｍ）、
封止層：同ＥＶＡフィルム、
緩衝層：ＰＥＴフィルム（三菱樹脂社製、厚さ１００μｍ）、
接着層：同ＥＶＡフィルム、
モジュール基板：厚さ２．５ｍｍのポリカーボネート基材（三菱樹脂製、線膨張係数６５ｐｐｍ／℃）の順で重ね合わせた。
最表面のＥＴＦＥフィルム上に、凹凸付与材として縦線と横線が直角に織られた平織りの中興化成社製ファブリック（ＦＧＦ−４００−３５）を単位光電変換部の長軸方向に対して、凹凸付与材の縦線を平行に積層した。ＮＰＣ社製真空ラミネータを使用し、１２５℃で熱プレス（真空度８０Ｐａ、真空時間５分、加圧時間５分、保持３０分）して出力評価用の太陽電池モジュール１Ａ（合計厚み４．０５ｍｍ）を作製した。
【００８２】
（凹凸形状）
凹凸形状測定用の太陽電池モジュール１Ｂは、モジュールサイズを１０ｃｍ角とした以外は、出力評価用太陽電池モジュール１Ａと同様の方法で作製した。
凹凸の最大高さＲｚは１９６μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍは２．４ｍｍ（Ｓｍ２／Ｓｍ１＝１．２以上）であった。
【００８３】
（出力評価）
太陽電池モジュール１Ａは、結露凍結試験前はＦＦ＝０．６６で、結露凍結試験後はＦＦ＝０．６３であり、ＦＦの低下率は４．５％であった。
【００８４】
（電極部の破損の観察）
結露凍結試験後のセルを観察した結果、電極部の破損は観察されなかった。
【００８５】
＜実施例２＞
凹凸付与材として綾織のＭＩＤ−ＭＯＵＮＴＡＩＮ  ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ社製ガラスクロス（ＴＦ−１８）を用いた以外は、実施例１と同様にして、太陽電池モジュール２Ａおよび２Ｂを作製した。凹凸形状および出力評価結果等を表１に示す。
【００８６】
＜実施例３＞
モジュール基板をＲｅｎｏｌｉｔ社製ＴＰＯシート（ＡｌｋｏｒＴｏｐ）、線膨張係数１２０ｐｐｍ／℃、厚み３．０ｍｍ）とし、緩衝層に厚さ５０μｍのＥＴＦＥフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして、太陽電池モジュール３Ａおよび３Ｂを作製した。凹凸形状および出力評価結果等を表１に示す。
【００８７】
＜実施例４＞
モジュール基板を（ポリ塩化ビニル、菱興プラスチックス社製ダイヤフォルテＶ、線膨張係数１４０ｐｐｍ／℃、厚み２．０ｍｍ）とし、凹凸付与材として中興化成社製ファブリック（ＦＧＦ−４００−２２）を用い、緩衝層に厚さ５０μｍのＥＴＦＥフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして、太陽電池モジュール４Ａおよび４Ｂを作製した。凹凸形状および出力評価結果等を表１に示す。
【００８８】
＜比較例１＞
（出力評価用太陽電池モジュールの作製）
最表面のＥＴＦＥフィルム上に用いる凹凸付与材として、中興化成社製ファブリック（ＦＧＦ−４００−１８）を用いた以外は実施例１と同様の方法で太陽電池モジュール５Ａ（合計厚み４．０５ｍｍ）作製した。
【００８９】
（凹凸形状）
凹凸形状測定用の太陽電池モジュール５Ｂは、モジュールサイズを１０ｃｍ角とした以
外は、出力評価用太陽電池モジュール５Ａと同様の方法で作製した。
凹凸の最大高さＲｚは２３９μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍは、２．３ｍｍ（Ｓｍ２／Ｓｍ１＝１．０）であった。
【００９０】
（出力評価）
太陽電池モジュール５Ａは、結露凍結試験前はＦＦ＝０．６６で、結露凍結試験後はＦＦ＝０．６０であり、ＦＦの低下率は９．１％であった。
【００９１】
（電極部の破損の観察）
結露凍結試験後のセルを観察した結果、電極部の破損が観察された。
【００９２】
＜比較例２＞
モジュール基板を（ＡＬＰＯＬＩＣ（アルミフィルムとポリエチレン樹脂の積層板）、三菱樹脂株式会社製、線膨張係数２３ｐｐｍ／℃、厚み０．５ｍｍ）とし、緩衝層に厚さ５０μｍのＥＴＦＥフィルムを用いた以外は、実施例２と同様にして、太陽電池モジュール６Ａおよび６Ｂを作製した。凹凸形状および出力評価結果等を表１に示す。
【００９３】
＜比較例３＞
モジュール基板を（月星ＧＬカラーＴＦ（Ｄ５５３）、日新製鋼社製、線膨張係数１１ｐｐｍ／℃、厚み０．８ｍｍ）とし、緩衝層に厚さ５０μｍのＥＴＦＥフィルムを用いた以外は、実施例２と同様にして、太陽電池モジュール７Ａおよび７Ｂを作製した。凹凸形状および出力評価結果等を表１に示す。
【００９４】
＜比較例４＞
最表面のＥＴＦＥフィルム上に用いる凹凸付与材として、中興化成社製ファブリック（ＦＧＦ−４００−１０）を用いた以外は、実施例１と同様にして、太陽電池モジュール８Ａおよび８Ｂを作製した。凹凸形状および出力評価結果等を表１に示す。
【００９５】
【表１】
2014042015.tif 000002
【符号の説明】
【００９６】
１    発電素子基材
２    下部電極
３    ｐ層
４    ｉ層
５    ｎ層
６    上部電極
１１  第１の開溝
１２  第２の開溝
１３  第３の開溝
【図１】
2014042015.tif 000003