(57)【要約】  【課題】  一般性が高く、高活性で、官能基選択性に優れた触媒として利用可能な、新規有機金属化合物の提供。  【解決手段】  下記一般式（１）で表される、還元的アミノ化反応を触媒する、新規有機金属化合物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2014214096.tif 000023
式中、
Ａｒは、芳香族化合物またはシクロペンタジエニル基であって、１または２以上の水素原子は置換基Ｗで置換されていてもよく、
置換基Ｗは、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、ニトロ基、シアノ基、−ＰＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、−ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基または−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａであり、
Ｑは、ヒドリド基またはアニオン性基であり、
Ｍは、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウムであり、
Ｒ１は、電子求引性基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、Ｃ１〜２０のフルオロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基または−ＳｉＲａＲｂＲｃであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基であり、
Ｒ２とＲ３および／またはＲ４とＲ５が互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ２またはＲ３のどちらかと、Ｒ４またはＲ５のどちらかとが互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ１とＲ２またはＲ１とＲ３が互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ２とＲ３が結合した炭素原子および／またはＲ４とＲ５が結合した炭素原子は、不斉炭素原子であり、
ｎは０または１の整数であり、
Ａは、少なくとも１つの窒素原子を含む飽和または不飽和の複素環であって、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよい、
で表される有機金属化合物。
【請求項２】
電子求引性基が、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基またはパーフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよい、請求項１に記載の有機金属化合物。
【請求項３】
電子求引性基が、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａまたは−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよい、請求項１または２に記載の有機金属化合物。
【請求項４】
Ａｒが、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいシクロペンタジエニル基であり、Ｍが、イリジウムまたはロジウムであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機金属化合物。
【請求項５】
ｎ＝０であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機金属化合物。
【請求項６】
Ａが、環員ヘテロ原子として窒素原子１つしか有さない４〜６員の飽和または不飽和の複素環である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機金属化合物。
【請求項７】
Ａが、１つの窒素原子以外に、さらに窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１または２以上含む４〜６員の飽和または不飽和の複素環である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機金属化合物。
【請求項８】
Ａが芳香環である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の有機金属化合物。
【請求項９】
一般式（１）で表される有機金属錯体が光学活性体である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機金属化合物。
【請求項１０】
イミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上の還元反応または水素化反応、あるいはカルボニル化合物とアミン化合物とを混合して系中で生成したイミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上の還元反応または水素化反応に用いる触媒であって、請求項１〜９のいずれか一項に記載の有機金属化合物を少なくとも１つ含む、前記触媒。
【請求項１１】
アミン化合物の製造法であって、請求項１〜９のいずれか一項に記載の有機金属化合物の存在下、
一般式（２）
【化２】
2014214096.tif 000024
式中、
Ｒ６およびＲ７は、互いに独立して、水素原子、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ８は、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ７またはＲ６とＲ８は、互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物、
一般式（３）
【化３】
2014214096.tif 000025
式中、
Ｒ６およびＲ７は、前記と同一の意味を表し、
Ｒ８およびＲ９は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ７、Ｒ６とＲ８、Ｒ７とＲ９およびＲ８とＲ９から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい、
で表されるカチオン、および
一般式（４）
【化４】
2014214096.tif 000026
式中、
Ｒ６、Ｒ８およびＲ９は、前記と同一であり、
Ｒ１０およびＲ１１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ８、Ｒ６とＲ１１、Ｒ８とＲ９、Ｒ９とＲ１０およびＲ１０とＲ１１から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上を、
あるいは、
カルボニル化合物とアミン化合物とを系中で混合し、系中で生成した前記一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表されるカチオン、および一般式（４）で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上を、水素供与性の有機化合物もしくは無機化合物、または水素ガスを水素源として用い、還元または水素化してアミン化合物を製造することを特徴とする、アミン化合物の製造方法。
【請求項１２】
下記一般式（５）
【化５】
2014214096.tif 000027
式中、
Ａｒは、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよい芳香族化合物またはシクロペンタジエニル基であり、
置換基Ｗは、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、ニトロ基、シアノ基、−ＰＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、−ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基または−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、
Ｑは、ヒドリド基またはアニオン性基であり、
Ｍは、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウムであり、
ｐは２以上の整数を表す、で表される有機金属化合物と、
下記一般式（６）
【化６】
2014214096.tif 000028
式中、
Ｒ１は、電子求引性基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、Ｃ１〜２０のフルオロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基または−ＳｉＲａＲｂＲｃであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基であり、
Ｒ２とＲ３および／またはＲ４とＲ５が互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ２またはＲ３のどちらかと、Ｒ４またはＲ５のどちらかとが互いに結合して環を形成しても良く
Ｒ１とＲ２またはＲ１とＲ３が互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ２とＲ３が結合した炭素原子および／またはＲ４とＲ５が結合した炭素原子は、不斉炭素原子であり、
ｎは０または１の整数であり、
Ａは、少なくとも１つの窒素原子を含む飽和または不飽和の複素環であって、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよい、
で表される有機化合物の存在下、
一般式（２）
【化７】
2014214096.tif 000029
式中、
Ｒ６およびＲ７は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ８は、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ７またはＲ６とＲ８は、互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物、
一般式（３）
【化８】
2014214096.tif 000030
式中、
Ｒ６およびＲ７は、前記と同一の意味を表し、
Ｒ８およびＲ９は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ７、Ｒ６とＲ８、Ｒ７とＲ９およびＲ８とＲ９から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい、
で表されるカチオン、および
一般式（４）
【化９】
2014214096.tif 000031
式中、
Ｒ６、Ｒ８およびＲ９は、前記と同一であり、
Ｒ１０およびＲ１１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ８、Ｒ６とＲ１１、Ｒ８とＲ９、Ｒ９とＲ１０およびＲ１０とＲ１１から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上を、
あるいは、
カルボニル化合物とアミン化合物とを系中で混合し、系中で生成した前記一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表されるカチオン、および一般式（４）で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上を、水素供与性の有機化合物もしくは無機化合物、または水素ガスを水素源として用い、還元または水素化してアミン化合物を製造することを特徴とする、アミン化合物の製造方法。
【請求項１３】
一般式（５）で表される有機金属化合物中、Ａｒが置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基であり、Ｍがロジウム、またはイリジウムであることを特徴とする、請求項１２に記載のアミン化合物の製造方法。
【請求項１４】
カルボニル化合物が、
一般式（７）、
【化１０】
2014214096.tif 000032
式中、
Ｘ１およびＸ２は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
置換基Ｗは、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、ニトロ基、シアノ基、−ＰＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、−ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基または−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａであり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基であり、
Ｘ１とＸ２が互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物であり、
該カルボニル化合物と系中で混合するアミン化合物が、
一般式（８）
【化１１】
2014214096.tif 000033
式中、
Ｙ１およびＹ２は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｙ１とＹ２が互いに結合して環を形成してもよい、
で表されるアミン、またはその塩である、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載のアミン化合物の製造方法。
【請求項１５】
式（２）で表される化合物、式（３）で表されるカチオンおよび式（４）で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上が光学活性化合物であることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載のアミン化合物の製造方法。
【請求項１６】
式（２）で表される化合物、式（３）で表されるカチオンおよび式（４）で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上が、光学活性アミンとカルボニル化合物との反応により生成する光学活性化合物であることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載のアミン化合物の製造方法。
【請求項１７】
水素供与性の有機または無機化合物がギ酸、またはギ酸塩である、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載のアミン化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な有機金属錯体に関する。また、本発明は、前記有機金属錯体を含む、実用性に優れた触媒に関する。さらに本発明は、還元的アミノ化反応における前記触媒の利用に関する。
【背景技術】
【０００２】
アンモニアまたは１級若しくは２級アミン化合物とカルボニル化合物との反応によるアミン化合物の製法は、還元的アミノ化反応として知られ、アミン化合物製造のための標準的方法の一つである。従来より知られている還元的アミノ化反応によるアミン化合物の製造方法として、１）不均一系触媒として、ラネーＮｉ、ラネーＣｏ、Ｐｔ／活性炭、Ｐｄ／活性炭などの固体触媒を用いた水素化反応による方法、２）ＮａＢＨ３ＣＮやＮａＢＨ（ＯＡｃ）３などのホウ素系反応剤をヒドリド還元剤として用いる方法、３）均一系触媒として金属錯体触媒を用いる方法、などが知られている。
【０００３】
１)の方法はJ. Am. Chem. Soc. 1941, 63, 749.（非特許文献１）やJ. Org. Chem. 1962, 27, 2205.（非特許文献２）などに記載されている。
２）の方法としては、ａ）J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 2897. （非特許文献３）に記載されているＮａＢＨ３ＣＮを用いる方法、ｂ）J. Org. Chem. 1996, 61, 3849. （非特許文献４）に記載されているＮａＢＨ（ＯＡｃ）３を用いる方法、ｃ）J. Org. Chem. 1995, 60, 5995. （非特許文献５）に記載されているピリジンボランを用いる方法、ｄ）特開２００４−２５６５１１（特許文献１）に記載されている２−ピコリンボランを用いる方法、ｅ）Tetrahedron Letters 2008, 49, 5152-5155. （非特許文献６）に記載されている５−エチル−２−メチルピリジンボランを用いる方法などが知られている。
【０００４】
また、３）の方法として、特許第４０５９９７８号（特許文献２）には水素化触媒存在下、カルボニル化合物、アンモニア、および水素を反応させることにより一級アミンを得る製造方法、Chem. Comm., 2000, 1867-1868.（非特許文献７）にはホスフィン配位子を有するロジウム錯体を用いた水素化反応による方法、Org. Lett. 2002, 4, 2055-2058.（非特許文献８）には[Rh(cod)Cl]2錯体とTPPTS配位子の組み合わせによる水素化反応による方法、J. Org. Chem. 2002, 67, 8685-8687.（非特許文献９）には[Ｃｐ＊ＲｈＣｌ２]２を錯体触媒に用い、ギ酸アンモニウムをアミン源、および水素源とする方法、特表２００４−５３７５８８（特許文献３）には還元剤として水素供与体、およびＲｕ、Ｒｈ、Ｉｒからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する遷移金属錯体触媒の存在下で、カルボニル化合物とアミン化合物との還元的ヒドリド移動アミノ化による方法が知られている。
【０００５】
しかしながら、固体触媒を用いた水素化反応による製造方法は、水素ガスを水素源とするため耐圧反応装置が必要であることから安全性や反応操作性の面で難点があるとともに、炭素−炭素多重結合部位、シアノ基、ニトロ基などの水素化されやすい官能基をもつ基質には適用できない問題点を有している。ホウ素系反応剤は耐圧反応装置を必要としないことから操作性に優れた方法であるが、触媒反応でないことから経済面かつ環境面において優れた方法ではないなどの他に、各反応剤においては以下のような問題点がある。
【０００６】
ＮａＢＨ３ＣＮを用いる方法は、その毒性のため工業的な使用は困難である。ＮａＢＨ（ＯＡｃ）３を用いる方法は、その溶解性のために使用溶媒に制限があり、ヒドリド源が分子内に１つのみであるため過剰量用いる必要があるなどの問題点がある。ピリジンボランを用いる方法は、試薬そのものの保存安定性が悪く、５４℃以上で分解するなどの問題点を有している。２−ピコリンボランを用いる方法は、ピリジンボランに比べて反応剤の安定性が増しているものの、その融点が４４−４５℃であることから取扱い時の問題がある。５−エチル−２−メチルピリジンボランは、上記２つのピリジン−ボラン系反応剤と同様に、反応液からの反応剤の除去が容易でないなどの問題点を有している。
【０００７】
均一系触媒を用いた例として、特許第４０５９９７８号に示された方法は水素源として水素を用いることから耐圧反応装置を必要とし、かつ高温（１５０℃）、高圧条件下（５０気圧以上）での反応となることから安全性や反応操作性の面から工業的実施においては問題点がある。Chem. Comm., 2000, 1867-1868.に示された方法は、高圧条件下（５０気圧）での反応であり、副生成物のアルコールが生成し、アミンの選択性が悪いことからアミン化合物の効率的な製造方法にはなり得ない。Org. Lett. 2002, 4, 2055-2058.に示された［Ｒｈ（ｃｏｄ）Ｃｌ］２錯体とＴＰＰＴＳ配位子の組み合わせによる水素化反応は、高温・高圧条件下で行なわれていることから工業的な実施においては、安全性や反応操作性の面で難点がある。
【０００８】
J. Org. Chem. 2002, 67, 8685-8687.に示されたように、有機金属錯体として ［Ｃｐ＊ＲｈＣｌ２］２錯体を触媒に用いた方法は、水素源およびアミン源として固体のギ酸アンモニウムを用いることから反応操作性や安全性の面では優れた方法であるものの、触媒活性が低いことから工業的な使用には問題点がある。特表２００４−５３７５８８に示された方法は、〔基質／触媒〕比が５０〜１００程度と反応効率が非常に悪く、さらに副生成物のアルコール体の生成や反応が完結しない場合があるなど工業的実施が困難な方法である。
【０００９】
アミン源として光学活性なアミンを用いたジアステレオ選択的な還元的アミノ化反応により、光学活性アミンを取得する方法も知られている。Adv. Synth. Catal. 2010, 352, 753-819.（非特許文献１０）には、光学活性α―メチルベンジルアミンをアミン源として用い、Ti(O-i-Pr)4やYb(OAc)3などのルイス酸共存下、Raney Ni、Pd/C、またはPt/Cなどの固体触媒を用い、水素化条件で高ジアステレオ選択的な還元的アミノ化反応を行ない、保護基の脱保護により光学活性アミン化合物を得る方法が知られている。また、同文献には光学活性なtert-ブチルスルフィンアミドをアミン源として用い、Ti(OEt)4存在下、反応温度−４８℃にてDIBAL、または、L-Selectrideを用いて高ジアステレオ選択的に還元的アミノ化反応を行なう方法が知られている。
しかしながら、前者の方法は基質と等モル以上のルイス酸を必要とし、且つ固体触媒の使用量も多いことから製造コストが高価となるだけでなく、反応後の後処理が煩雑化するために、反応操作性や安全性の観点から工業的実施においては問題がある。後者の反応では、−４８℃という極低温条件下、基質に対して２当量のルイス酸、および、高価なアミンを必要とするために反応操作性、安全性、および、経済性の面から、前者と同様に実用的な製造方法とは言えない。
特開２０１０−２３５６０４（特許文献４）、および特開２０１２−０６２２７０（特許文献５）には、水素源としてギ酸やギ酸アンモニウムを用いる還元的アミノ化反応が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−２５６５１１号公報
【特許文献２】特許第４０５９９７８号公報
【特許文献３】特表２００４−５３７５８８号公報
【特許文献４】特開２０１０−２３５６０４号公報
【特許文献５】特開２０１２−０６２２７０号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】J. Am. Chem. Soc. 1941, 63, 749
【非特許文献２】J. Org. Chem. 1962, 27, 2205
【非特許文献３】J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 2897
【非特許文献４】J. Org. Chem. 1996, 61, 3849
【非特許文献５】J. Org. Chem. 1995, 60, 5995.
【非特許文献６】Tetrahedron Letters 2008, 49, 5152-5155
【非特許文献７】Chem. Comm., 2000, 1867-1868
【非特許文献８】Org. Lett. 2002, 4, 2055-2058
【非特許文献９】J. Org. Chem. 2002, 67, 8685-8687
【非特許文献１０】Adv. Synth. Catal. 2010, 352, 753-819.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、還元的アミノ化反応によりアミン化合物を製造するための、一般性が高く、高活性で官能基選択性に優れた新規触媒を用いた、アミン化合物の新規製造方法を提供することにある。また、さらなる本発明の目的は、安価な光学活性アミンをアミン源として用い、安価な還元剤、低触媒量で実施可能であり、高ジアステレオ選択的な還元的アミノ化反応が可能な新規触媒を用いた、アミン化合物の新規製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、カルボニル化合物とアミン化合物との還元的アミノ化反応によるアミン化合物の製造方法に関する研究を行う中で、特許文献４に記載の製造方法では、アミン源として光学活性アミンを用いた還元的アミノ化反応を実施する場合、反応が高ジアステレオ選択的に進行するかどうか、および高効率に光学活性アミン類の取得が可能かどうか不明であるという新たな課題に直面した。かかる課題を解決するために鋭意研究を続ける中で、特定の構造の含窒素配位子を有するルテニウム、ロジウムおよびイリジウム錯体により、より高ジアステレオ選択的な還元的アミノ化反応が可能となり、さらには光学純度の高い光学活性アミンが得られることを見出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
【００１４】
すなわち、本発明は以下に関する。
［１］  下記一般式（１）
【化１】
2014214096.tif 000002
式中、
Ａｒは、芳香族化合物またはシクロペンタジエニル基であって、１または２以上の水素原子は置換基Ｗで置換されていてもよく、
置換基Ｗは、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、ニトロ基、シアノ基、−ＰＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、−ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基または−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａであり、
Ｑは、ヒドリド基またはアニオン性基であり、
Ｍは、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウムであり、
Ｒ１は、電子求引性基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、Ｃ１〜２０のフルオロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基または−ＳｉＲａＲｂＲｃであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基であり、
Ｒ２とＲ３および／またはＲ４とＲ５が互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ２またはＲ３のどちらかと、Ｒ４またはＲ５のどちらかとが互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ１とＲ２またはＲ１とＲ３が互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ２とＲ３が結合した炭素原子および／またはＲ４とＲ５が結合した炭素原子は、不斉炭素原子であり、
ｎは０または１の整数であり、
Ａは、少なくとも１つの窒素原子を含む飽和または不飽和の複素環であって、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよい、
で表される有機金属化合物。
［２］  電子求引性基が、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基またはパーフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよい、［１］に記載の有機金属化合物。
［３］  電子求引性基が、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａまたは−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよい、［１］または［２］に記載の有機金属化合物。
［４］  Ａｒが、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいシクロペンタジエニル基であり、Ｍが、イリジウムまたはロジウムであることを特徴とする、［１］〜［３］のいずれかに記載の有機金属化合物。
［５］  ｎ＝０であることを特徴とする、［１］〜［４］のいずれかに記載の有機金属化合物。
【００１５】
［６］  Ａが、環員ヘテロ原子として窒素原子１つしか有さない４〜６員の飽和または不飽和の複素環である、［１］〜［５］のいずれかに記載の有機金属化合物。
［７］  Ａが、１つの窒素原子以外に、さらに窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１または２以上含む４〜６員の飽和または不飽和の複素環である、［１］〜［５］のいずれかに記載の有機金属化合物。
［８］  Ａが芳香環である、［１］〜［７］のいずれかに記載の有機金属化合物。
［９］  一般式（１）で表される有機金属錯体が光学活性体である、［１］〜［８］のいずれかに記載の有機金属化合物。
［１０］  イミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上の還元反応または水素化反応、あるいはカルボニル化合物とアミン化合物とを混合して系中で生成したイミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上の還元反応または水素化反応に用いる触媒であって、［１］〜［９］のいずれかに記載の有機金属化合物を少なくとも１つ含む、前記触媒。
【００１６】
［１１］  アミン化合物の製造法であって、［１］〜［９］のいずれかに記載の有機金属化合物の存在下、
一般式（２）
【化２】
2014214096.tif 000003
式中、
Ｒ６およびＲ７は、互いに独立して、水素原子、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ８は、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ７またはＲ６とＲ８は、互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物、
一般式（３）
【化３】
2014214096.tif 000004
式中、
Ｒ６およびＲ７は、前記と同一の意味を表し、
Ｒ８およびＲ９は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ７、Ｒ６とＲ８、Ｒ７とＲ９およびＲ８とＲ９から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい、
で表されるカチオン、および
一般式（４）
【化４】
2014214096.tif 000005
式中、
Ｒ６、Ｒ８およびＲ９は、前記と同一であり、
Ｒ１０およびＲ１１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ８、Ｒ６とＲ１１、Ｒ８とＲ９、Ｒ９とＲ１０およびＲ１０とＲ１１から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上を、
あるいは、
カルボニル化合物とアミン化合物とを系中で混合し、系中で生成した前記一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表されるカチオン、および一般式（４）で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上を、水素供与性の有機化合物もしくは無機化合物、または水素ガスを水素源として用い、還元または水素化してアミン化合物を製造することを特徴とする、アミン化合物の製造方法。
【００１７】
［１２］  下記一般式（５）
【化５】
2014214096.tif 000006
式中、
Ａｒは、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよい芳香族化合物またはシクロペンタジエニル基であり、
置換基Ｗは、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、ニトロ基、シアノ基、−ＰＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、−ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基または−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、
Ｑは、ヒドリド基またはアニオン性基であり、
Ｍは、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウムであり、
ｐは２以上の整数を表す、で表される有機金属化合物と、
下記一般式（６）
【化６】
2014214096.tif 000007
式中、
Ｒ１は、電子求引性基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、Ｃ１〜２０のフルオロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基または−ＳｉＲａＲｂＲｃであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基であり、
Ｒ２とＲ３および／またはＲ４とＲ５が互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ２またはＲ３のどちらかと、Ｒ４またはＲ５のどちらかとが互いに結合して環を形成しても良く
Ｒ１とＲ２またはＲ１とＲ３が互いに結合して環を形成しても良く、
Ｒ２とＲ３が結合した炭素原子および／またはＲ４とＲ５が結合した炭素原子は、不斉炭素原子であり、
ｎは０または１の整数であり、
Ａは、少なくとも１つの窒素原子を含む飽和または不飽和の複素環であって、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよい、
で表される有機化合物の存在下、
一般式（２）
【化７】
2014214096.tif 000008
式中、
Ｒ６およびＲ７は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ８は、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ７またはＲ６とＲ８は、互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物、
一般式（３）
【化８】
2014214096.tif 000009
式中、
Ｒ６およびＲ７は、前記と同一の意味を表し、
Ｒ８およびＲ９は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ７、Ｒ６とＲ８、Ｒ７とＲ９およびＲ８とＲ９から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい、
で表されるカチオン、および
一般式（４）
【化９】
2014214096.tif 000010
式中、
Ｒ６、Ｒ８およびＲ９は、前記と同一であり、
Ｒ１０およびＲ１１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数３〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ６とＲ８、Ｒ６とＲ１１、Ｒ８とＲ９、Ｒ９とＲ１０およびＲ１０とＲ１１から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上を、
あるいは、
カルボニル化合物とアミン化合物とを系中で混合し、系中で生成した前記一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表されるカチオン、および一般式（４）で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上を、水素供与性の有機化合物もしくは無機化合物、または水素ガスを水素源として用い、還元または水素化してアミン化合物を製造することを特徴とする、アミン化合物の製造方法。
［１３］  一般式（５）で表される有機金属化合物中、Ａｒが置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基であり、Ｍがロジウム、またはイリジウムであることを特徴とする、［１２］に記載のアミン化合物の製造方法。
【００１８】
［１４］  カルボニル化合物が、
一般式（７）、
【化１０】
2014214096.tif 000011
式中、
Ｘ１およびＸ２は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよく、
置換基Ｗは、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、ニトロ基、シアノ基、−ＰＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、−ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基または−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａであり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基であり、
Ｘ１とＸ２が互いに結合して環を形成してもよい、
で表される化合物であり、
該カルボニル化合物と系中で混合するアミン化合物が、
一般式（８）
【化１１】
2014214096.tif 000012
式中、
Ｙ１およびＹ２は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、ヘテロシクリル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいスルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｙ１とＹ２が互いに結合して環を形成してもよい、
で表されるアミン、またはその塩である、［１１］〜［１３］のいずれか一項に記載のアミン化合物の製造方法。
［１５］  式（２）で表される化合物、式（３）で表されるカチオンおよび式（４）で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上が光学活性化合物であることを特徴とする、［１１］〜［１４］のいずれかに記載のアミン化合物の製造方法。
［１６］  式（２）で表される化合物、式（３）で表されるカチオンおよび式（４）で表される化合物からなる群から選択される１種または２種以上が、光学活性アミンとカルボニル化合物との反応により生成する光学活性化合物であることを特徴とする、［１１］〜［１４］のいずれかに記載のアミン化合物の製造方法。
［１７］  水素供与性の有機または無機化合物がギ酸、またはギ酸塩である、［１１］〜［１６］のいずれかに記載のアミン化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、凡用性が高く、高活性で官能基選択性に優れた新規触媒を提供することができ、またそれを用いたカルボニル化合物とアミン化合物との還元的アミノ化反応による高ジアステレオ選択的なアミン化合物の製造方法を提供することができる。さらに、アミン源として光学活性アミンを用いた、高ジアステレオ選択的であり、高効率な光学活性アミンの製造方法を提供することができる。
本発明の金属錯体触媒は、従来の金属錯体触媒では困難であった酸性条件での還元的アミノ化反応において極めて有用である。還元的アミノ化反応は酸性条件下で行なうのが一般的であるが、従来の有機金属錯体触媒は中性から塩基性条件下で高い触媒活性を示すものが多く、酸性条件下での高い触媒活性を示すものは数少ないのが現状である。これは、酸性条件下では、プロトネーションなどにより配位子が脱離し、錯体が分解することに起因するものと考えられる。本発明の触媒によれば、置換基Ｒ１が電子求引性基であることにより、酸性条件下での配位子の脱離による錯体の分解を抑えることができ、その結果、高い触媒活性やジアステレオ選択性が実現するものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】反応例において用いた有機金属錯体を示す。
【図２】反応例１〜６の反応式を示す。
【図３】反応例７〜１４の反応式を示す。
【図４】反応例１５〜２４の反応式を示す。
【図５】反応例２５〜３０の反応式を示す。
【図６】反応例３１〜３７の反応式を示す。
【図７】反応例３８〜４０の反応式を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明について詳細に説明する。一側面において、本発明は一般式（１）
【化１２】
2014214096.tif 000013
で表される有機金属化合物に関する。
【００２２】
Ａｒは、典型的には、シクロペンタジエニル基または芳香族化合物であって、１または２以上の水素原子が置換基、好ましくは置換基Ｗで置換されていてもよい。Ａｒの具体例としては、これに限定するものではないが、例えば無置換のベンゼン、トルエン、ｏ−、ｍ−およびｐ−キシレン、ｏ−、ｍ−およびｐ−シメン、１，２，３−、１，２，４−および１，３，５−トリメチルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、１，３，４，５−テトラメチルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、ならびにヘキサメチルベンゼン等のアルキル基を有するベンゼン、ベンジル、ビニル、アリルなどの、不飽和炭化水素基を有するベンゼン、ヒドロキシル基、アルコキシ基、エステル基、アミノ基、ハロゲン基等の異原子を有するベンゼンなどが挙げられる。ベンゼン環の置換基の数は１〜６の任意の数であり、置換位置は任意の位置を選ぶことができる。錯体合成の容易さという点で、好ましくはｐ−シメン、１，３，５−トリメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼンである。
【００２３】
さらに、置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基の例としては、これに限定するものではないが、例えばシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、イソプロピルシクロペンタジエニル基、フェニルシクロペンタジエニル基、ベンジルシクロペンタジエニル基、１，２−ジメチルシクロペンタジエニル基、１，３−ジメチルシクロペンタジエニル基、１，２，３−トリメチルシクロペンタジエニル基、１，２，４−トリメチルシクロペンタジエニル基、１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタジエニル基、１，２，３，４，５−ペンタメチルシクロペンタジエニル基（Ｃｐ＊）などが挙げられる。錯体合成の容易さという点で、好ましくは１，２，３，４，５−ペンタメチルシクロペンタジエニル基（Ｃｐ＊）である。
【００２４】
置換基Ｗは、典型的には、飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、ヘテロシクリル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、アシル基、エステル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、スルホニル基、ニトロ基、シアノ基、ホスフィノ基、スルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、ホスフィノ基、シリル基またはハロゲン基などであり、特に、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、ニトロ基、シアノ基、−ＰＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、−ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基または−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａであり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基である。
【００２５】
本明細書において、「炭化水素基」は「ヒドロカルビル基」と互換的に用いられ、炭素骨格およびそれに結合する水素原子からなる置換基を意味し、飽和もしくは不飽和の鎖状もしくは環状の炭化水素基を含む。例えば、飽和もしくは不飽和の鎖状炭化水素基としては、飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基が、飽和もしくは不飽和の環状炭化水素としては、飽和もしくは不飽和のシクロアルキル基およびアリール基が、それぞれ挙げられる。
本明細書において、「飽和もしくは不飽和アルキル基」は、飽和の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基ならびにアルキニル基およびアルケニル基などの不飽和の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を含む。単に「アルキル基」と記載した場合、特段の記載がない限り、「飽和もしくは不飽和アルキル基」を意味する。アルキル基としてはＣ１〜２０アルキル基が好ましく、Ｃ１〜１０のアルキル基がより好ましく、Ｃ１〜５のアルキル基がさらに好ましい。
本明細書において、「飽和もしくは不飽和のシクロアルキル基」は、飽和のシクロアルキル基ならびに不飽和のシクロアルケニル基を含む。単に「シクロアルキル基」と記載した場合、特段の記載がない限り、「飽和もしくは不飽和のシクロアルキル基」を意味する。シクロアルキル基としてはＣ３〜２０のシクロアルキル基が好ましく、Ｃ５〜１０のシクロアルキル基がより好ましい。
本明細書において、「ヘテロシクリル基」は、飽和もしくは不飽和のシクロアルキル基の１または２以上の炭素原子が、窒素原子、酸素原子および硫黄原子などのヘテロ原子で置き換えられている基を含む。
本明細書において、例えば「炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基」といった場合、芳香族炭化水素基の１または２以上の炭素原子が、窒素原子、酸素原子および硫黄原子などから選択される１または２以上ヘテロ原子で置き換えられている環員数６〜２０の複素芳香族基を含む。かかる複素芳香族基のことを、特に「ヘテロアリール基」という場合もある。
本明細書において、「アラルキル基」は、上記アルキル基の１個の水素原子がアリール基で置換されている基を意味し、該アリールの炭素原子はヘテロ原子で置き換えられていてもよい。
本明細書において、「アルキルアリール」は、アリール基の１または２以上の水素原子がアルキル基で置換されたアリール基を含み、該アリールの炭素原子はヘテロ原子で置き換えられていてもよい。
【００２６】
Ｗの具体例としては、これに限定するものではないが、例えばフェニル基、ナフチル基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロへキシル基、シクロヘキシレン基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、フェニル基、トルイル基、ナフチル基、ピリジル基、フラニル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、アセチル基、プロパノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ヒドロキシル基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、フッ素基、臭素基、塩素基、ヨウ素基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、トリフルオロメチル基、ジフェニルホスフィノ基、ジシクロへキシルホスフィノ基、シクロプロピルホスフィノ基、シクロブチルホスフィノ基、シクロペンチルホスフィノ基、シクロへキシルホスフィノ基などが挙げられる。錯体合成の容易さという点で、好ましくは飽和または不飽和炭化水素基、さらに好ましくはメチル基、ｉ−プロピル基である。 
【００２７】
一般式（１）のＭは、ルテニウム、ロジウム、およびイリジウムのいずれかである。触媒活性の高さという点で、好ましくはロジウムまたはイリジウムである。
【００２８】
一般式（１）のＱは、典型的には、ヒドリド基またはアニオン性基である。Ｑの具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、ヒドリド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、架橋したオキソ基、フッ素基、塩素基、臭素基、ヨウ素基、テトラフルオロボラート基、テトラヒドロボラート基、テトラキスペンタフルオロフェニルボラート基、テトラキス［３’，５’−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボラート基、ヘキサフルオロホスフェート基、ヘキサフルオロアンチモネート基、ヘキサクロロアンチモネート基、ヘキサフルオロアーセネート基、パークロレート基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、（２’，６’−ジヒドロキシベンゾイル）オキシ基、（２’，５’−ジヒドロキシベンゾイル）オキシ基、（３’−アミノベンゾイル）オキシ基、（２’，６’−ジメトキシベンゾイル）オキシ基、（２’，４’，６’−トリイソプロピルベンゾイル）オキシ基、１−ナフタレンカルボン酸基、２−ナフタレンカルボン酸基、トリフルオロアセトキシ基、トリフルオロメタンスルホンイミド基、ニトロメチル基、ニトロエチル基、トルエンスルホナート基、メタンスルホナート基、エタンスルホナート基、ｎ−プロパンスルホナート基、イソプロパンスルホナート基、ｎ−ブタンスルホナート基、フルオロスルホナート基、フルオロメタンスルホナート基、ジフルオロメタンスルホナート基、トリフルオロメタンスルホナート基、ペンタフルオロエタンスルホナート基、ホスフェート基、(S)-(＋)-２,２'-ジヒドロキシ-１,１'-ビナフチルホスフェート基、(R)-(-)-２,２'-ジヒドロキシ-１,１'-ビナフチルホスフェート基などが挙げられる。錯体合成の容易さという点で、好ましくは塩素基、臭素基、ヨウ素基、トリフルオロメタンスルホナート基である。
【００２９】
また、Ｍにはアニオン性基であるＱ以外に、配位性の中性分子が配位していてもよい。Ｍに配位する中性分子の具体例としては、水やメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシエタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテルなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトン、クロロホルム、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ピリジン、トリアルキルホスフィンとしてトリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、またはトリシクロへキシル、トリアリールホスフィンとしてトリフェニルホスフィンなどが挙げられる。このような中性分子が配位するとカチオン性錯体を形成することとなり、アニオン性基はカウンターアニオンとして存在することとなる。
【００３０】
Ｒ１は、電子求引性基であれば特に限定されない。本発明における電子求引性基とは、電子効果で電子求引的な性質を有する置換基であり、置換基の電子求引性や電子供与性の尺度であるハメットの置換基定数σｐ値を用いれば、正のσｐ値を示す置換基である。典型的には、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基またはパーフルオロアルキル基であって、これらの基の１または２以上の水素原子は置換基、好ましくは置換基Ｗで置換されていてもよい。ＲａおよびＲｂは、典型的には、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基である。
特に反応性やジアステレオ選択性の観点から、Ｒ１は、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａまたは−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂが好ましく、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよい。
置換基Ｒ１が電子求引性基であることにより、酸性条件下での配位子の脱離による錯体の分解が抑えられると考えられる。その結果、高い触媒活性やジアステレオ選択性が実現するものと考えられる。
【００３１】
Ｒ１の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、メタンスルホニル基（Ｍｓ）、エタンスルホニル基（Ｅｓ）、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｎ−ペンチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基、１−オクタンスルホニル基、１−ヘキサデカンスルホニル基、ｏ−トルエンスルホニル基、ｍ−トルエンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基（Ｔｓ）、ベンゼンスルホニル基、２，６−ジメチルベンゼンスルホニル基、３，５−ジメチルベンゼンスルホニル基、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル基、２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、４−シアノベンゼンスルホニル基、２−ニトロベンゼンスルホニル基、３−ニトロベンゼンスルホニル基、４−ニトロベンゼンスルホニル基、２，４−ジニトロベンゼンスルホニル基、２−（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、４−（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、４−クロロベンゼンスルホニル基、２、４−ジクロロベンゼンスルホニル基、４−フルオロベンゼンスルホニル基、３，４，５−トリフルオロベンゼンスルホニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホニル基、４−メトキシベンゼンスルホニル基、（＋）−１０−カンファースルホニル基、（−）−１０−カンファースルホニル基、ピリジン−３−スルホニル基、トリクロロメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、２，２，２−トリフルオロエタンスルホニル基、４−ヒドロキシベンゼンスルホニル基、４−ビフェニルベンゼンスルホニル基、ベンジルスルホニル基（−ＳＯ２Ｂｎ）、フェニル基、４−ニトロフェニル基、４−シアノフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、３、４，５−トリフルオロフェニル基、４−（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＯ−ＣＨ３、−ＣＯ−ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＯ−ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ３）３、−ＣＯ−Ｐｈ、−ＣＯ２ＣＨ３、−ＣＯ２ＣＨ２ＣＨ３、−ＣＯ２ＣＨ（ＣＨ３）２、−ＣＯ２Ｃ（ＣＨ３）３、−ＣＯ２Ｐｈ、−ＣＯ−ＣＦ３、−ＣＯ−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＯ−ＣＣｌ３、−ＣＯ−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＯ−ＣＨ２ＣＣｌ３、−ＣＯ−ＣＨ２ＣＣｌ３、−ＣＯ２ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＯ２ＣＦ３、−ＣＯ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＯ２ＣＨ２ＣＣｌ３、−ＣＯ２ＣＣｌ２ＣＣｌ３、−ＣＯ２ＣＨ２ＣＦ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ（ＣＨ３）２、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ３）３、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＦ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＰｈ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（４−Ｆ−Ｃ６Ｈ４）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（４−ＣＮ−Ｃ６Ｈ４）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（４−ＮＯ２−Ｃ６Ｈ４）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（４−ＣＦ３−Ｃ６Ｈ４）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（３，５−（ＣＦ３）２−Ｃ６Ｈ３）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（３，５−Ｆ２−Ｃ６Ｈ３）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（３，４，５−Ｆ３−Ｃ６Ｈ３）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ３などが挙げられる。触媒活性、反応収率の高さ、およびジアステレオ選択性という点で、好ましくは−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜１０のアリール基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、であり、特に好ましくは、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ベンジルスルホニル基、アセチル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＰｈである。
【００３２】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、典型的には、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、Ｃ１〜２０のフルオロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基または−ＳｉＲａＲｂＲｃであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい。
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、典型的には、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基である。
【００３３】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ベンジル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ピリジル基、ビニル基、エチニル基、エステル結合を有する基、アセチル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基などが挙げられる。触媒活性や反応収率の高さという点で、好ましくは水素原子、メチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ベンジル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−（ジメチルアミノ）フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、インデニル基などが挙げられる。
【００３４】
Ｒ２とＲ３および／またはＲ４とＲ５は、互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ１とＲ２またはＲ１とＲ３は、互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ２またはＲ３のどちらかと、Ｒ４またはＲ５のどちらかとが互いに結合して環を形成してもよく、形成した環が芳香族化合物を表す場合は、Ｒ２およびＲ３が結合した炭素とＲ４およびＲ５が結合した炭素間が二重結合となって、環形成に関与しないＲ２またはＲ３、およびＲ４またはＲ５は無置換である。
【００３５】
Ｒ２とＲ３が結合した炭素原子および／またはＲ４とＲ５が結合した炭素原子は、不斉炭素原子であってもよく、エナンチオ選択性および／またはジアステレオ選択性の高さという観点から、好ましくは不斉炭素原子である。
ｎは、典型的には、０または１の整数であり、好ましくは１である。
【００３６】
Ａは、典型的には、少なくとも１つの窒素原子を含む飽和または不飽和の複素環であり、該環の１または２以上の水素原子は置換基Ｗで置換されていてもよい。
複素環Ａは、単環であっても多環であってもよい。
例えば、これに限定するものではないが、単環の複素環Ａとしては、環員ヘテロ原子として窒素原子を１つしか有さない４〜７員、好ましくは５〜６員の飽和または不飽和の複素環、１つの窒素原子以外に、さらに例えば窒素原子、酸素原子および硫黄原子などから選択されるヘテロ原子を１または２以上含む４〜７員、好ましくは５〜６員の飽和または不飽和の複素環などが挙げられる。多環の複素環Ａとしては、上記単環の複素環Ａに、さらに単環もしくは多環の飽和もしくは不飽和の炭化水素環、単環もしくは多環の飽和もしくは不飽和の複素環が１または２以上縮合した飽和または不飽和の複素環、好ましくは２〜５、さらに好ましくは２〜３環縮合した飽和または不飽和の複素環などが挙げられる。好ましくは、Ａは単環式または多環式芳香族環である。
【００３７】
Ａの具体例としては、例えば６員の含窒素単環芳香族環であるピリジン環、ピリダジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、テトラジン環などだけでなく、６員の含窒素芳香族環構造を含む多環芳香族基であるキノリン環やイソキノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環、アクリジン環、シンノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環などを含む。また、かかる基は含窒素芳香族環構造を含んでいればよく、例えば５，６，７，８−テトラヒドロキノリル基なども含まれる。５員の含窒素環としては、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環などが挙げられる。
【００３８】
非芳香族性含窒素環構造を含む基としては、例えば４員環の含窒素環であるアゼチジン環、５員の含窒素環または該環を含む基であるピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環、オキサゾリン環、インドリン環、イソインドリン環、６員の含窒素環または該環を含む基であるピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、および、キヌクリジン環などが挙げられる。
【００３９】
本発明の一側面は、光学活性体である一般式（１）で表される有機金属化合物に関する。光学活性な一般式（１）で表される有機金属化合物を用いることにより、安価な光学活性アミンを用いて、少ない触媒量、例えば（Ｓ／Ｃ＝５００以上）で、高収率、高ジアステレオ選択的に反応を進行させることができる。
【００４０】
触媒活性の高さやジアステレオ選択性の高さという点で、一般式（１−ａ）
【化１３】
2014214096.tif 000014
または一般式（１−ｂ）
【化１４】
2014214096.tif 000015
で表される化合物が好ましい。
【００４１】
式中、
Ａｒ、ＱおよびＭは、前記と同じ意味を有する。
Ｒ１は、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＲａＲｂ、またはＣ１〜２０のスルフェニル基、パーフルオロアルキル基であり、
Ｒ１は、好ましくは、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜１０のアリール基であり、特に好ましくは、メシル基（Ｍｓ）、トシル基（Ｔｓ）、ベンジルスルホニル基（−ＳＯ２Ｂｎ）、アセチル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＰｈである。
【００４２】
Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素原子、１もしくは２以上の水素原子が前記置換基Ｗによって置換されていてもよい、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、Ｃ１〜２０のアルコキシ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、Ｃ１〜２０のフルオロアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、ヒドロキシル基、−ＮＲａＲｂ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲａＲｂ、Ｃ１〜２０のスルフェニル基または−ＳｉＲａＲｂＲｃであり、
好ましくは、互いに独立して、水素原子、Ｃ１〜２０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜２０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアリール基、環員数３〜２０のヘテロシクリル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基である。
Ｒ２およびＲ３が結合する炭素原子は不斉炭素原子である。
【００４３】
Ｒ２およびＲ３は、好ましくは一方が水素原子であり、他方が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、Ｃ１〜１０の飽和もしくは不飽和アルキル基、Ｃ３〜１０の飽和もしくは不飽和シクロアルキル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜１０のアリール基、環員数３〜１０のヘテロシクリル基であり、特に好ましくはＣ１〜６のアルキル、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜１０のアリール基である。
【００４４】
置換基Ｗは、Ａに複数個導入されていてもよく、置換数ｊは０〜４の整数であり、ｋは０〜２の整数である。
Ａに導入される置換基Ｗは、上記と同様の意味を有し、具体的には、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ピリジル基、ビニル基、エチニル基、エステル結合を有する基、アセチル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、フッ素基、塩素基、臭素基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、トリメチルシリル基などが挙げられるが、これに限定するものではない。触媒活性の高さという点で、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基である。
【００４５】
一般式（１）で表される化合物はラセミ体として、または光学活性体として得ることができる。光学活性アミンを製造する場合には、光学活性体の一般式（１）で表される化合物を触媒として使用することが、高効率で製造できるという点で好ましい。
【００４６】
本発明の一側面は、イミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上の還元反応または水素化反応、あるいはカルボニル化合物とアミン化合物とを混合して系中で生成したイミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上の還元反応または水素化反応に用いる触媒であって、一般式（１）で表される有機金属化合物を少なくとも１つ含む、前記触媒に関する。当然ながら、一般式（１）で表される有機金属化合物そのものを触媒として利用してもよく、したがって本発明は、一般式（１）で表される有機金属化合物を触媒として使用する態様を含む。
本明細書において、「イミン」は炭素−窒素二重結合を持つ化合物を意味し、イミニウムカチオンは、プロトンもしくは有機カチオンがイミン窒素上に結合したイミニウムイオンを意味する。
本明細書において、「エナミン」は二重結合の炭素上にアミノ基が存在する化合物を意味する。
α炭素上に水素を有するイミンとエナミンは一般的に互変異性であり、特に断りのない限り、それぞれの語は互変異性体を含み得る。
【００４７】
本発明の触媒存在下、あらかじめ調製されたイミンまたはエナミン、あるいはカルボニル化合物とアミン化合物を混合し、系中で生成したイミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上を、水素ガスもしくは水素供与性の有機または無機化合物を用いて、ジアステレオ選択的に還元することによりアミン化合物を製造することが可能である。本発明の触媒活性やジアステレオ選択性またはエナンチオ選択性に悪影響を及ぼさない限りにおいて、上記反応を好適に進行させるために本発明の触媒に加えて他の好適な触媒を用いてもよく、例えば系中でのイミンまたはエナミンの生成のために酸触媒を用いてもよい。
【００４８】
イミンは例えば一般式（２）
【化１５】
2014214096.tif 000016
で表される化合物を含むが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００４９】
一般式（２）についてみると、Ｒ６およびＲ７は、互いに独立して、水素原子、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は任意の置換基によって置換されていてもよい。エステル基としては、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、アシル基としては−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａで表される基などが挙げられる。
【００５０】
具体的には、これに限定するものではないが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル等のアルキル基、トリフルオロメチル基などのフルオロアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリルなどの不飽和炭化水素、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントラセニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、インデニル基等の芳香族単環または多環式基、チエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル等のヘテロ単環または多環式基、フェロセニル基、カルボン酸、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのエステル基、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基等が挙げられる。
【００５１】
Ｒ８は、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、スルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は任意の置換基Ｗによって置換されていてもよい。スルホニル基としては−Ｓ（＝Ｏ）２−Ｒａ、アシル基としては−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、エステル基としては−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ホスフィニル基としては−Ｐ（＝Ｏ）ＲａＲｂ、スルフィニル基としては−Ｓ（＝Ｏ）−Ｒａ、シリル基としては−ＳｉＲａＲｂＲｃなどが挙げられる。
【００５２】
具体的には、これに限定するものではないが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル等のアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリルなどの不飽和炭化水素、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントリル、フェナントリル、インデニル基等の芳香族単環または多環式基、チエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル等のヘテロ単環または多環式基、フェロセニル基等が挙げられる。
【００５３】
Ｒ６とＲ７またはＲ６とＲ８は互いに結合して環を形成してもよい。該環は単環でも多環でもよい。
Ｒ６とＲ７が環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば飽和または不飽和の環状炭化水素、窒素、酸素、硫黄原子等のヘテロ原子を含む複素単環、もしくは、多環を形成し、ここで該環の１または２以上の炭素は置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、該置換基を有していてもよい、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロへプタン環、などのシクロアルカン、２，３−ジヒドロ‐１Ｈ−インデン環、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環などの該置換基を有していてもよいアリール縮合シクロアルカン、デカヒドロナフタレンなどの多環の脂環式炭化水素などが挙げられる。
Ｒ６とＲ８が結合して環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば不飽和の複素環であり、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロール、および、２，３，４，５−テトラヒドロピリジンなどの脂環式複素環、ならびに、ピリジン、キノリン、および、イソキノリンなどの複素芳香環が挙げられる。
【００５４】
置換基としては、置換基Ｗなどの各種任意のものを有していてもよく、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル等の炭化水素基、フルオロアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、スルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、シリル基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。
【００５５】
イミニウムカチオンは例えば一般式（３）
【化１６】
2014214096.tif 000017
で表されるカチオンを含むが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００５６】
一般式（３）についてみると、
Ｒ６およびＲ７は、前記と同一の意味を表し、
Ｒ８およびＲ９は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６〜２０のアラルキル基、ヘテロシクリル基、スルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は任意の置換基によって置換されていてもよい。アシル基としては−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａ、エステル基としては−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、ホスフィニル基としては−Ｐ（＝Ｏ）ＲａＲｂ、スルフィニル基としては−Ｓ（＝Ｏ）−Ｒａ、シリル基としては−ＳｉＲａＲｂＲｃなどが挙げられる。
【００５７】
具体的には、これに限定するものではないが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル等のアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリルなどの不飽和炭化水素、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントリル、フェナントリル、インデニル基等の芳香族単環または多環式基、チエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル等のヘテロ単環または多環式基、フェロセニル基等が挙げられる。
【００５８】
Ｒ６とＲ７、Ｒ６とＲ８、Ｒ７とＲ９およびＲ８とＲ９から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよく、該環は単環でも多環でもよい。
Ｒ６とＲ７が環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば飽和または不飽和の環状炭化水素、窒素、酸素、硫黄原子等のヘテロ原子を含む複素単環、もしくは、多環を形成し、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、該置換基を有していてもよい、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロへプタン環、などのシクロアルカン、２，３−ジヒドロ‐１Ｈ−インデン環、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環などの該置換基を有していてもよいアリール縮合シクロアルカン、デカヒドロナフタレンなどの多環の脂環式炭化水素などが挙げられる。
Ｒ６とＲ８および／またはＲ７とＲ９が結合して環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば不飽和の複素環であり、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロール、および、２，３，４，５−テトラヒドロピリジンなどの脂環式複素環、ならびに、ピリジン、キノリン、および、イソキノリンなどの複素芳香環が挙げられる。
Ｒ８とＲ９が結合して環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば、飽和または不飽和の複素環であり、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、該置換基を有していてもよい、ピロリジン、ピぺリジン、およびアゼパンなどの脂環式複素環が挙げられる。
【００５９】
置換基としては、置換基Ｗなどの各種任意のものを有していてもよく、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル等の炭化水素基、フルオロアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、スルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、シリル基、ニトロ基、シアノ基等であってもよい。
【００６０】
エナミンは例えば一般式（４）
【化１７】
2014214096.tif 000018
で表される化合物を含むが、必ずしもこれに限定されるものではない。
また、一般式（４）のエナミンの窒素上へのプロトネーションにより形成されるエナミニウムカチオンであってもよい。
【００６１】
一般式（４）についてみると、Ｒ６、Ｒ８およびＲ９は上記で示したものと同一の意味を表す。
Ｒ１０およびＲ１１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基、アシル基であって、１もしくは２以上の水素原子が任意の置換基で置換されていてもよい。エステル基としては、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、アシル基としては−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａで表される基などが挙げられる。
【００６２】
具体的には、これに限定するものではないが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル等のアルキル基、トリフルオロメチル基などのフルオロアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリルなどの不飽和炭化水素、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントラセニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、インデニル基等の芳香族単環または多環式基、チエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル等のヘテロ単環または多環式基、フェロセニル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのエステル基、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基等が挙げられる。
【００６３】
また、Ｒ６とＲ８、Ｒ６とＲ１１、Ｒ８とＲ９、Ｒ９とＲ１０およびＲ１０とＲ１１から選択される１または２以上が互いに結合して環を形成してもよい。該環は単環でも多環でもよい。
Ｒ６とＲ１１が環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば不飽和の環状炭化水素、窒素、酸素、硫黄原子等のヘテロ原子を含む複素単環、もしくは、多環を形成し、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、該置換基を有していてもよい、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、または、シクロへプテン環などの不飽和の脂環式炭化水素、該置換基を有していてもよい、１，４−ジヒドロナフタレン等のアリール縮合シクロアルケン、１，２，３，６−テトラヒドロピリジンなどの不飽和な複素環などが挙げられる。
Ｒ６とＲ８が結合して環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば不飽和の複素環であり、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロール、および、２，３，４，５−テトラヒドロピリジンなどの脂環式複素環、ならびに、ピリジン、キノリン、および、イソキノリンなどの複素芳香環が挙げられる。
Ｒ８とＲ９が結合して環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば、飽和または不飽和の複素環であり、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、該置換基を有していてもよい、ピロリジン、ピぺリジン、およびアゼパンなどの脂環式複素環が挙げられる。
【００６４】
Ｒ１０とＲ１１が環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば飽和または不飽和の環状炭化水素、窒素、酸素、硫黄原子等のヘテロ原子を含む複素単環、もしくは、多環を形成し、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、該置換基を有していてもよい、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロへプタン環、などのシクロアルカン、２，３−ジヒドロ‐１Ｈ−インデン環、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環などの該置換基を有していてもよいアリール縮合シクロアルカン、デカヒドロナフタレンなどの多環の脂環式炭化水素などが挙げられる。
Ｒ９とＲ１０が結合して環を形成する場合には、これに限定するものではないが、例えば、不飽和の複素環であり、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、該置換基を有していてもよい１，２，３，４−テトラヒドロピリジンなどの不飽和な複素環が挙げられる。
より高いジアステレオ選択性で反応を実施するためには、側鎖に置換基をもつ環状エナミンが好ましく、光学活性なＮ−（１−フェニルエチル）−３，４−ジヒドロナフタレン−２−アミンなどが例示される。
【００６５】
上述した、イミン、イミニウムカチオンおよびエナミンは、より高いジアステレオ選択性で反応を実施するためには、側鎖に置換基をもつ環状ケトン、側鎖に置換基をもつ鎖状ケトン、α―ケト酸、およびα―ケトエステルから誘導されるイミン、イミニウムカチオンおよびエナミンが好ましい。側鎖に置換基をもつ環状ケトンとしては、２位に置換基をもつシクロヘキサノン、３位に置換基をもつシクロヘキサノン、４位に置換基をもつシクロヘキサノン、２位に置換基をもつシクロペンタノン、３位に置換基をもつシクロペンタノン、アザビシクロアルカノン、アダマンタノン、２，３位に置換基をもつシクロペンタノン、３，４位に置換基をもつシクロヘキサノンが挙げられ、より具体的には、２−メチルシクロヘキサノン、２−フェニルシクロヘキサノン、２−シクロヘキサノンカルボン酸エチル、３−メチルシクロヘキサノン、４−フェニルシクロヘキサノン、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノン、４−シクロヘキサノンカルボン酸エチル、１，４−シクロヘキサンジオン、シクロペンタノン−２−カルボン酸エチル、１−インダノン、α−テトラロン、β−テトラロン、２−ノルボルナノン、カンファー、８−アザビシクロ［３．２．１］オクタン−３−オン、トロピノン、３−キヌクリジノン、５−ヒドロキシ−２−アダマンタノンなどが例示される。側鎖に置換基をもつ鎖状ケトンとしては、フェニルアセトン、（２−ブロモフェニル）アセトン、２−メトキシフェニルアセトン、３−メトキシフェニルアセトン、４−メトキシフェニルアセトン、３、４−ジメトキシフェニルアセトン、４−ヒドロキシフェニルアセトンなどが例示される。α―ケト酸としては、３，３−ジメチル−２−オキソ酪酸、フェニルピルビン酸、４−ヒドロキシフェニルピルビン酸、４−ヒドロキシ−3−メトキシフェニルピルビン酸などが例示される。α―ケトエステルとしては、ピルビン酸メチル、２−オキソペンタン酸メチル、トリフルオロピルビン酸メチル、メチルベンゾイルホルメートなどが例示される。
【００６６】
本発明の還元反応に用いるイミンまたはエナミンは、酸触媒存在下、あるいは酸触媒非存在下、以下の一般式（６）で表されるカルボニル化合物および一般式（７）で表されるアミン化合物を原料として、系中で同時に生成または独立して合成したものであってもよい。
【００６７】
置換基には、置換基Ｗなどの各種任意のものを有していてもよく、これに限定するものではないが、例えばアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル等の炭化水素基、フルオロアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、スルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、シリル基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。
【００６８】
本発明で用いられる一般式（１）で表されるルテニウム、ロジウム、若しくはイリジウム錯体は、一般式（５）
【化１８】
2014214096.tif 000019
（ｐは２以上の整数を表す）で表される有機金属化合物と一般式（６）
【化１９】
2014214096.tif 000020
で表される含窒素配位子とを混合して調製することができる。
【００６９】
例えば、不活性ガス雰囲気下、ハロゲン系溶媒に一般式（５）で表される有機金属化合物と一般式（６）で表される含窒素配位子、および塩基を混合し、室温にて攪拌し、得られた溶液を水洗した後、溶媒を留去して減圧乾燥することで本発明で用いられる一般式（１）で表される有機金属錯体を含む触媒を得ることができる。
【００７０】
あるいは、一般式（５）で表される有機金属化合物、一般式（６）で表される含窒素配位子、および塩基の存在下で、イミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上を、水素ガスもしくは水素供与性の有機または無機化合物を反応させることによって、アミン化合物を製造することが可能である。
【００７１】
カルボニル化合物は、例えば一般式（７）
【化２０】
2014214096.tif 000021
で表されるものであるが、必ずしもこれに限定されるものではない。一般式（７）についてみると、Ｘ１およびＸ２は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアルキルアリール基、アリールの炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアラルキル基、ヘテロシクリル基、カルボキシル基、エステル基またはアシル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は任意の置換基によって置換されていてもよい。エステル基としては、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲａ、アシル基としては−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒａで表される基などが挙げられる。
【００７２】
具体的には、これに限定するものではないが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル等のアルキル基、トリフルオロメチル基などのフルオロアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリルなどの不飽和炭化水素、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントリル、フェナントリル、インデニル基等の芳香族単環または多環式基、チエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル等のヘテロ単環または多環式基、フェロセニル基、カルボン酸、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのエステル基、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基等が挙げられる。
【００７３】
置換基には、置換基Ｗなどの各種任意のものを有していてもよく、これに限定するものではないが、例えばアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル等の炭化水素基、フルオロアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、スルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、シリル基、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。
【００７４】
Ｘ１とＸ２は結合して環を形成してもよく、これに限定するものではないが、例えば飽和または不飽和の環状炭化水素、窒素、酸素、硫黄原子等のヘテロ原子を含む複素単環、もしくは、多環を形成し、ここで該環の１または２以上の炭素は、置換基を有していてもよく、好ましい置換基は、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基である。具体的には、該置換基を有していてもよい、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロへプタン環、などのシクロアルカン、２，３−ジヒドロ‐１Ｈ−インデン環、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環などの該置換基を有していてもよいアリール縮合シクロアルカン、デカヒドロナフタレンなどの多環の脂環式炭化水素などが挙げられる。
【００７５】
より高いジアステレオ選択性で反応を実施するためには、側鎖に置換基をもつ環状ケトン、側鎖に置換基をもつ鎖状ケトン、α―ケト酸、およびα―ケトエステルから誘導されるイミンが好ましい。側鎖に置換基をもつ環状ケトンとしては、２位に置換基をもつシクロヘキサノン、３位に置換基をもつシクロヘキサノン、４位に置換基をもつシクロヘキサノン、２位に置換基をもつシクロペンタノン、３位に置換基をもつシクロペンタノン、アザビシクロアルカノン、アダマンタノン、２，３位に置換基をもつシクロペンタノン、３，４位に置換基をもつシクロヘキサノンが挙げられ、より具体的には、２−メチルシクロヘキサノン、２−フェニルシクロヘキサノン、２−シクロヘキサノンカルボン酸エチル、３−メチルシクロヘキサノン、４−フェニルシクロヘキサノン、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノン、４−シクロヘキサノンカルボン酸エチル、１，４−シクロヘキサンジオン、シクロペンタノン−２−カルボン酸エチル、１−インダノン、α−テトラロン、β−テトラロン、２−ノルボルナノン、カンファー、８−アザビシクロ［３．２．１］オクタン−３−オン、トロピノン、３−キヌクリジノン、５−ヒドロキシ−２−アダマンタノンなどが例示される。側鎖に置換基をもつ鎖状ケトンとしては、フェニルアセトン、（２−ブロモフェニル）アセトン、２−メトキシフェニルアセトン、３−メトキシフェニルアセトン、４−メトキシフェニルアセトン、３、４−ジメトキシフェニルアセトン、４−ヒドロキシフェニルアセトンなどが例示される。α―ケト酸としては、３，３−ジメチル−２−オキソ酪酸、フェニルピルビン酸、４−ヒドロキシフェニルピルビン酸、４−ヒドロキシ−3−メトキシフェニルピルビン酸などが例示される。α―ケトエステルとしては、ピルビン酸メチル、２−オキソペンタン酸メチル、トリフルオロピルビン酸メチル、メチルベンゾイルホルメートなどが例示される。
【００７６】
上記の側鎖に置換基をもつ環状ケトンを用いて還元的アミノ化反応を行うと、高ジアステレオ選択的に反応が進行し、対応する環状アミンを与えることとなる。また、上記の側鎖に置換基をもつ鎖状ケトン、α―ケト酸、およびα―ケトエステルを用い、アミン源として光学活性アミンを用いて還元的アミノ化反応を行なうと、高ジアステレオ選択的に反応が進行し、高い光学純度のアミン、またはアミノ酸を得ることができる。
【００７７】
本発明の原料であるアミン化合物は、例えば一般式（８）
【化２１】
2014214096.tif 000022
で表されるものであるが、必ずしもこれに限定されるものではない。一般式（８）についてみると、Ｙ１およびＹ２は水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロカルビル基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよいアリール基、ヘテロシクリル基、スルホニル基、アルコキシ基、アシル基、エステル基、カルボキシル基、ホスフィニル基、スルフィニル基またはシリル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は置換基Ｗによって置換されていてもよい。
【００７８】
具体的には、これに限定するものではないが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル等のアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリルなどの不飽和炭化水素、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントリル、フェナントリル、インデニル基等の芳香族単環または多環式基、チエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル等のヘテロ単環または多環式基、フェロセニル基等が挙げられる。
【００７９】
置換基としては、置換基Ｗなどの各種任意のものを有していてもよく、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル等の炭化水素基、フルオロアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、エステル基等の含酸素基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、スルフェニル基、スルホ基、メルカプト基、シリル基、ニトロ基、シアノ基等であってもよい。
【００８０】
Ｙ１とＹ２は結合して環を形成してもよく、その場合には、これに限定するものではないが、例えばピロリジン、ピペリジン、アゼパン、ピロール、テトラヒドロピリジン、テトラヒドロアゼピンなどの環状ケトンを与える飽和、および不飽和脂環式基、およびそれぞれの各炭素にアルキル基、アリール基、不飽和アルキル基、ヘテロ元素を含む鎖状または環状炭化水素基を有する置換基をもつ飽和および不飽和脂環式基等が挙げられる。これらのアミン化合物は、有機酸、または、無機酸との反応により得られるアンモニウム塩の形態であってもよい。特に、第一級アミンを合成するためには、一般的にはアンモニウム塩、ベンジルアミン、ラセミ体のα―フェニルエチルアミン、光学活性体のα―フェニルエチルアミンが汎用される。
【００８１】
前立腺肥大症における排尿障害の治療に用いられるタムスロシンや気管支喘息の治療に用いられるホルモテロールの合成中間体を、高収率かつ、高ジアステレオ選択的に得られるという観点から、鎖状ケトンとしてタムスロシンやホルモテロールに誘導可能なフェニルアセトン誘導体を用いることが好ましい。反応させるアミン化合物としては、原料入手の容易さ、製造コスト、反応収率、および、ジアステレオ選択性の観点から光学活性なα―フェニルエチルアミンを用いることが好ましい。
【００８２】
ジアステレオ選択的な反応を実施するためには、一般式（７）で表されるカルボニル化合物、および／または一般式（８）で表されるアミン化合物中に、キラル炭素を有している必要があり、これらの基質を適時組み合わせることによってジアステレオ選択的にアミン化合物を製造することができる。
本発明は、一態様において、イミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上が光学活性体である。
また一態様において、イミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上は、光学活性アミンとカルボニル化合物との反応により生成する光学活性体である。
【００８３】
本発明で用いられるイミン、イミニウムカチオン、およびエナミンのそれぞれは、酸触媒存在下、あるいは酸触媒非存在下、一般式（７）で表されるカルボニル化合物、および一般式（８）で表されるアミン化合物との縮合反応によっても容易に得ることができる。
【００８４】
酸触媒としてはブレンステッド酸やルイス酸を加えることが望ましく、好適なブレンステッド酸としては、例えばカルボン酸、スルホン酸、フェノール類などの有機酸、またはリン酸、ホウ酸、塩酸、硝酸などの鉱酸が挙げられ、具体的には、これに限定するものではないが、例えば、ギ酸、酢酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、サリチル酸、ｐ−トルエンスルホン酸、フェノール、ビナフトール等ブレンステッド酸、あるいはチタニウムテトライソプロポキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド等のルイス酸が挙げられる。また、光学活性な有機酸を用いてもよく、具体的には酒石酸、マンデル酸、マレイン酸、グルタミン酸、カンファースルホン酸、およびそれらの誘導体などの光学活性なカルボン酸、アラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン、グルタミン、グルタミン酸、ヒスチジン、イソロイシン、ロイシン、リシン、メチオニン、フェニルアラニン、プロリン、セリン、トレオニン、トリプトファン、チロシン、バリン、およびそれらの誘導体などのアミノ酸、あるいはキラルリン酸化合物として、りん酸水素1,1'-ビナフチル-2,2'-ジイル、およびその誘導体を用いることができる。これらは単独または複数組み合わせて用いることができる。特にギ酸は水素供与体としても作用するため、カルボニル化合物とアミン化合物との還元的アミノ化反応には好ましいブレンステッド酸である。イミン、イミニウムカチオンおよび／またはエナミンの生成は、酸性条件が好ましいことから、酸性となる各種緩衝液を用いることも可能である。
【００８５】
本明細書において用いられる水素供与体は、熱的作用によって、あるいは触媒作用によって水素を供与することのできる化合物を意味しており、このような水素供与性の化合物については特にその種類に限定されない。好適な水素供与性化合物としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、シクロペンチルアルコール、ｎ−へキシルアルコール、シクロへキシルアルコール、ベンジルアルコール、ギ酸、ＨＣＯＯＫ、ＨＣＯＯＮａ、ＨＣＯＯＮａ、ＨＣＯＯＬｉ、ＨＣＯＯＮＨ４等が例示され、単独または複数種組み合わせて用いることができる。反応性や経済性という点で、好ましくはギ酸、ギ酸塩、メタノール、エタノール、２−プロパノールである。
【００８６】
用いられる水素供与性の化合物の量は、カルボニル化合物に対し、１〜３０当量で用いることができるが、反応性や経済性の点から、好ましくは１〜１０当量で用いる。水素供与体としてＨＣＯＯＫ、ＨＣＯＯＮａ、ＨＣＯＯＬｉ、ＨＣＯＯＮＨ４等のギ酸塩を用いる場合は、必要に応じて相間移動触媒を添加して反応を実施してもよい。用い得る相間移動触媒としては、長鎖アルキルアンモニウムカチオンを有する塩であれば何でもよいが、反応性や経済性の点から好ましくはテトラブチルアンモニウム塩である。相間移動触媒の添加によっては、多くの場合、反応速度が向上する効果が認められる。添加する相間移動触媒の量としては、カルボニル化合物に対して通常０．００１〜１０モル当量の範囲で用いるが、反応性や経済性の点から好ましくは０．０１〜０．１モル当量用いるのが望ましい。
【００８７】
用いられるアミン化合物の量は、カルボニル化合物に対し、通常１〜３０当量で用いることができるが、反応性や経済性の点から好ましくは１〜１０当量で用いる。また、アンモニアのような気体をアミン化合物として用いる場合は、気体としてそのまま用いたり、あるいはアンモニア水や溶媒等に溶解させて用いるか、アンモニウム塩として用いることができる。
【００８８】
用い得るアンモニウム塩としては、アンモニアを含む塩であれば何でもよく、ギ酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、塩化アンモニウム、臭化アンモニウム、フッ化アンモニウム、ヨウ化アンモニウム、リン酸アンモニウム、ヘキサフルオロリン酸アンモニウム、チオシアン酸アンモニウム、安息香酸アンモニウム、水酸化アンモニウム、過塩素酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等が挙げられるが、反応性や経済性の点から、好ましくはギ酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、または塩化アンモニウムである。
【００８９】
一般式（１）で表される有機金属錯体を含む触媒の量は、ルテニウム、ロジウム、またはイリジウム触媒に対するカルボニル化合物のモル比をＳ／Ｃ（Ｓはカルボニル化合物、イミン、またはエナミンのモル数、Ｃは触媒のモル数を表す）として表記することができる。その場合、Ｓ／Ｃをどの程度まで高められるかは基質の構造、触媒の種類、濃度、反応温度、水素供与体の種類等によって大きく変動するが、実用上はＳ／Ｃ＝１００〜２００００程度に設定することが望ましい。
【００９０】
本発明では、カルボニル化合物、アミン化合物、イミン、イミニウムカチオン、エナミン、酸、水素ガスおよび水素供与性化合物の物理的性質や化学的性質を考慮し、適時反応溶媒を用いることができる。プロトン性溶媒、非プロトン性溶媒、イオン性液体、水および緩衝液を単独で、もしくは複数組み合わせて用いることができる。
【００９１】
反応温度は、基質や生成物の溶解度、反応性、および経済性を考慮して、好ましくは−２０℃〜１００℃程度で実施することができるが、さらに好ましくは２０℃〜８０℃である。反応時間は、基質濃度、温度、圧力等の反応条件によって異なるが、数分から１００時間で反応が完結する。
【００９２】
生成したアミン化合物の精製は、酸−塩基抽出、カラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の公知の方法により、または適時それらの組み合わせにより行なうことができる。
【００９３】
本発明は、一態様において、一般式（５）で表される有機金属化合物、一般式（６）で表される含窒素配位子、および塩基の存在下で、カルボニル化合物、アミン化合物、および水素ガスもしくは水素供与性の有機または無機化合物を反応させることによって、あるいはイミン、イミニウムカチオンおよびエナミンからなる群から選択される１種または２種以上を水素ガスもしくは水素供与性の有機または無機化合物を反応させることによって、アミン化合物を製造することが可能である。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発明について説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
下記の各製造例および反応例に記載した反応は、アルゴンガスまたは窒素ガスの不活性ガス雰囲気下で行なった。使用したカルボニル化合物やアミン化合物は、市販試薬をそのまま用いた。配位子錯体および反応物の同定には核磁気共鳴装置（ＮＭＲ）を用い、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）を内部標準物質とし、そのシグナルをδ＝０（δは化学シフト）とした。アミン化合物への変換率及びアミン化合物の反応収率は、粗生成物をガスクロマトグラフィー（ＧＣ）やＮＭＲにて測定し、原料、目的生成物および副生成物の各積分値を用いて計算した。
【００９５】
アミン化合物への変換率は、［（目的生成物と副生成物の積分値の和）／（原料、目的生成物および副生成物の各積分値の和）］×１００で計算し、アミン化合物の反応収率は、［（目的生成物の積分値）／（原料、目的生成物および副生成物の各積分値の和）］×１００で計算した。単離収率とは、実際に単離した反応生成物の収率のことをいい、（単離した反応生成物のｍｏｌ数／出発化合物のｍｏｌ数）×１００で計算される。ＮＭＲ装置はＪＮＭ−ＥＣＸ−４００Ｐ（日本電子株式会社製）を用い、ＧＣ装置はＧＣ−１７Ａ（株式会社島津製作所製）、分離カラムとしてジーエルサイエンス社製キャピラリーカラムＴＣ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、ＨＰＬＣキラルカラムとして、ダイセル社製CHIRALCEL OD-H（０．４６ｃｍ×２５ｃｍ）を用いた。旋光度測定は、ＪＡＳＣＯ社製Ｐ−２２００を用いた。反応例において用いた、本発明の有機金属化合物の一態様である錯体を図１に示した。
【００９６】
＜イリジウム錯体の合成＞
製造例１
Cp*IrCl((S)-N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド)錯体の合成（(S)-錯体1）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 831 mg (1.04 mmol)、および(S)-N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド (MW: 200.26) 418 mg (2.09 mmol)を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン12 mL、トリエチルアミン(MW:101.19) 289 μL (2.09 mmol)を加え、室温で15時間撹拌した。少量の水で3回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥、MTBE 20 mLで懸濁洗浄、真空乾燥し、黄色粉末結晶を966 mg (収率 83%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.44 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 
1.67 (s, 15H), 2.96 (s, 3H), 5.10 (q, J = 6.9 Hz, 1H), 
7.23 (m, 1H), 7.34 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.76 (td, J = 7.8, 1.4 Hz, 1H), 8.49 (d, J = 5.0 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 9.3, 26.8, 43.4, 64.7, 87.0, 120.6, 124.5, 138.4, 151.2, 169.8.
【００９７】
製造例２
Cp*IrCl((S)-N-(フェニル(ピリジン-2-イル)メチル)メタンスルホンアミド)錯体の合成（(S)-錯体2）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 397 mg (0.502 mmol)、および(S)-N-(フェニル(ピリジン-2-イル)メチル)メタンスルホンアミド(MW: 262.33) 277 mg (1.06 mmol)を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン5 mL、トリエチルアミン(MW:101.19) 140 μL (1.00 mmol)を加え、室温で19時間撹拌した。少量の水で4回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥、IPE20 mLで懸濁洗浄、真空乾燥し、橙色粉末結晶を527 mg (収率 80%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.37 (s, 15H), 3.02 (s, 3H), 6.08 (s, 1H), 7.22-7.30 (m, 3H), 7.32-7.40 (m, 3H), 7.50 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.85 (dt, J = 7.8, 0.9 Hz, 1H), 8.61 (dd, J = 5.0, 0.9 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 8.8, 44.8, 70.6, 87.1, 122.4, 125.0, 127.5, 128.1, 128.3, 138.1, 143.9, 152.6, 165.7.
【００９８】
製造例３
Cp*IrCl(N-(フェニル(ピリジン-2-イル)メチル)メタンスルホンアミド)錯体の合成（錯体3）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 200 mg (0.251 mmol)、およびN-(フェニル(ピリジン-2-イル)メチル)メタンスルホンアミド(MW: 262.33) 166 mg (0.632 mmol)を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン5 mL、トリエチルアミン(MW:101.19) 73 μL (0.527 mmol)を加え、室温で14時間撹拌した。少量の水で4回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥、IPE20 mLで懸濁洗浄、真空乾燥し、橙色粉末結晶を290 mg (収率 93%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.37 (s, 15H), 3.02 (s, 3H), 6.08 (s, 1H), 7.22-7.30 (m, 3H), 7.32-7.40 (m, 3H), 7.50 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.85 (dt, J = 7.8, 0.9 Hz, 1H), 8.61 (dd, J = 5.0, 0.9 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 8.8, 44.8, 70.6, 87.1, 122.4, 125.0, 127.5, 128.1, 128.3, 138.1, 143.9, 152.6, 165.7.
【００９９】
製造例４
Cp*IrCl(N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド)錯体の合成（錯体4）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 200 mg (0.251 mmol) を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン6 mL、N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド (MW: 200.26) 106 mg (0.527 mmol)、トリエチルアミン(MW:101.19) 73 μL (0.527 mmol)を加え、室温で18時間撹拌した。少量の水で3回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥した。MTBE 20 mLを加えて懸濁洗浄後、結晶をろ集し、減圧乾燥して黄色粉末結晶を237 mg (収率 84%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.44 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 
1.67 (s, 15H), 2.96 (s, 3H), 5.10 (q, J = 6.9 Hz, 1H), 
7.23 (m, 1H), 7.34 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.76 (td, J = 7.8, 1.4 Hz, 1H), 8.49 (d, J = 5.0 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 9.3, 26.8, 43.4, 64.7, 87.0, 120.6, 124.5, 138.4, 151.2, 169.8.
【０１００】
製造例５
Cp*IrCl(4-メチル-N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)ベンゼンスルホンアミド)錯体の合成（錯体5）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 200 mg (0.251 mmol) を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン6 mL、4-メチル-N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)ベンゼンスルホンアミド (MW: 276.35) 146 mg (0.527 mmol)、トリエチルアミン(MW:101.19) 73 μL (0.527 mmol)を加え、室温で15時間撹拌した。少量の水で3回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥した。IPE 20 mLを加えて懸濁洗浄後、結晶をろ集し、減圧乾燥して黄色粉末結晶を297 mg (収率 88%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.37 (s, 15H), 3.02 (s, 3H), 6.08 (s, 1H), 7.26 (m, 3H), 7.34 (m, 3H), 7.50 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.85 (dt, J = 7.8, 0.9 Hz, 1H), 8.61 (dd, J = 5.0, 0.9 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 9.3, 26.4, 63.2, 65.5, 86.9, 120.6, 124.2, 126.7, 127.8, 130.9, 133.3, 137.7, 150.8, 169.8.
【０１０１】
製造例６
Cp*IrCl(1-フェニル-N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド)錯体の合成（錯体6）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 200 mg (0.251 mmol) を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン6 mL、1-フェニル-N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド (MW: 276.35) 146 mg (0.527 mmol)、トリエチルアミン(MW:101.19) 73 μL (0.527 mmol)を加え、室温で15時間撹拌した。少量の水で3回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥した。IPE 20 mLを加えて懸濁洗浄後、結晶をろ集し、減圧乾燥して黄色粉末結晶を287 mg (収率 85%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.19 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 
1.66 (s, 15H), 4.34 (q, J = 6.9 Hz, 1H), 4.44 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 4.64 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 6.77 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 6.99 (dd, J = 7.8, 7.3 Hz, 2H), 7.12 (dd, J = 7.8, 6.9 Hz, 1H), 7.22 (dd, J = 6.9, 5.5 Hz, 1H), 7.38 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.65 (dd, J = 7.8, 7.3 Hz, 1H), 8.50 (d, J = 5.5 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 9.3, 26.4, 63.2, 65.5, 86.9, 120.6, 124.2, 126.7, 127.8, 130.9, 133.3, 137.7, 150.8, 169.8.
【０１０２】
製造例７
Cp*RhCl(N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド)錯体の合成（錯体7）
20 mLのシュレンクに[Cp*RhCl2]2 (MW: 618.08) 100 mg (0.162 mmol) を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン4 mL、N-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド (MW: 200.26) 65 mg (0.324 mmol)、トリエチルアミン(MW:101.19) 45 μL (0.324 mmol)を加え、室温で20時間撹拌した。少量の水で2回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥した。IPE 20 mLを加えて懸濁洗浄後、結晶をろ集し、減圧乾燥して黄色粉末結晶を122 mg (収率 80%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.54 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 
1.70 (s, 15H), 2.86 (s, 3H), 4.77 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 7.20-7.35 (m, 2H), 7.75 (td, J = 7.8, 1.4 Hz, 1H), 8.50 (d, J = 5.5 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 9.5, 27.3, 41.2, 63.8, 95.0, 95.1, 121.2, 124.0, 138.2, 150.9, 169.5.
【０１０３】
製造例8
Cp*IrCl(N-(1-(チアゾール-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド)錯体の合成（錯体8）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 224 mg (0.284 mmol)、およびN-(1-(チアゾール-2-イル)エチル)メタンスルホンアミド(MW: 206.26) 123 mg (0.597 mmol)を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン5 mL、トリエチルアミン(MW:101.19) 80 μL (0.568 mmol)を加え、室温で17時間撹拌した。少量の水で4回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥、IPE20 mLで懸濁洗浄、真空乾燥し、橙色粉末結晶を237 mg (収率 70%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.50 (d, J = 6.4 Hz, 1H), 1.69 (s, 15H), 2.98 (s, 3H), 5.15 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 7.48 (d, J = 3.7 Hz, 1H), 7.59 (d, J = 3.7 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 9.3, 27.9, 43.0, 60.6, 86.6, 121.9, 139.7, 179.3.
【０１０４】
製造例9
Cp*IrCl((S)-N-(フェニル(ピリジン-2-イル)メチル)アセトアミド)錯体の合成（(S)-錯体9）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 100 mg (0.126 mmol)、および(S)-N-(フェニル(ピリジン-2-イル)メチル)アセトアミド (MW: 164.20) 46 mg (0.277 mmol)を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン5 mL、トリエチルアミン(MW:101.19) 37 μL (0.277 mmol)を加え、室温で19時間撹拌した。少量の水で4回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥、IPE20 mLで懸濁洗浄、真空乾燥し、橙色粉末結晶を54 mg (収率 41%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.37 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 1.64 (s, 15H), 2.30 (s, 3H), 6.06 (q, J = 6.9, Hz, 1H), 7.21 (t, J = 6.4, 1H), 7.36 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.73 (t, J = 7.3, 1H), 8.41 (d, J = 5.5 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 9.3, 22.3, 26.0, 63.9, 86.4, 120.6, 124.2, 138.3, 150.9, 170.2, 175.0.
【０１０５】
製造例10
Cp*IrCl((S)-1-フェニル-3-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)ウレア)錯体の合成（(S)-錯体10）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 100 mg (0.126 mmol)、および(S)-1-フェニル-3-(1-(ピリジン-2-イル)エチル)ウレア (MW: 241.29) 64 mg (0.265 mmol)を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン5 mL、トリエチルアミン(MW:101.19) 37 μL (0.277 mmol)を加え、室温で14時間撹拌した。少量の水で4回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥、IPE20 mLで懸濁洗浄、真空乾燥し、橙色粉末結晶を116 mg (収率 76%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.45 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 1.66 (s, 15H), 5.80 (q, J = 6.9 Hz, 1H), 6.82 (t, J = 7.3 Hz, 1H), 7.16-7.24 (m, 3H), 7.32-7.36 (m, 2H), 7.38 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.60 (s, 1H), 7.74 (td, J = 7.8, 1.4 Hz, 1H), 8.47 (d, J = 5.0 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 9.2, 23.7, 64.4, 86.8, 117.9, 119.7, 120.7, 124.2, 128.4, 138.3, 142.4, 151.0, 160.1, 170.9.
【０１０６】
製造例１１
Cp*IrCl(N-(1-(イソキノリン-1-イル)ナフタレン-2-イル)アセトアミド)錯体の合成（錯体11）
20 mLのシュレンクに[Cp*IrCl2]2 (MW: 796.67) 150 mg (0.188 mmol) を仕込み、アルゴンガスで置換した。これに脱水塩化メチレン4 mL、N-(1-(イソキノリン-1-イル)ナフタレン-2-イル)アセトアミド (MW: 312.36) 124 mg (0.395 mmol)、トリエチルアミン(MW:101.19) 55 μL (0.395 mmol)を加え、室温で24時間撹拌した。少量の水で3回洗浄、有機溶媒を留去、次いで減圧乾燥した。IPE 20 mLを加えて懸濁洗浄後、結晶をろ集し、減圧乾燥して黄色粉末結晶を253 mg (収率 99%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3, δ/ppm): 1.31 (s, 15H), 2.42 (s, 3H), 6.69 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 7.05 (td, J = 8.7, 1.4 Hz, 1H), 7.20-7.32 (m, 3H), 7.49 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.60-7.72 (m, 2H), 7.79 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.81-7.91 (m, 2H), 8.05 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 8.85 (d, J = 6.4 Hz, 1H).
13C NMR (100 MHz, CDCl3, δ/ppm): 8.5, 26.4, 26.5, 86.1, 121.5, 123.8,124.4, 125.8, 125.9, 126.2, 126.5, 127.8, 128.0, 128.2, 129.3, 129.8, 131.2, 131.9, 133.4, 136.4, 145.9, 153.5, 157.0, 177.9.
【０１０７】
＜還元的アミノ化反応＞
以下の反応例の反応式を図２〜７に示す。以下の反応は、全て酸性条件下で行った。該反応式において、前記製造方法で合成した錯体を触媒として用いる場合には、該錯体を「触媒」として番号を対応させて記載する。すなわち、例えば以下の反応式において、錯体１を触媒として用いている場合は、錯体１を触媒１と記載する。また、前記製造方法で合成した錯体は、光学活性体とラセミ体があることから、以下の反応例では、光学活性体な錯体を用いる場合は「触媒」の表記の前に絶対配置（(S)または(R)）を記載することとし、ラセミ体の錯体を用いる場合は、絶対配置を記載しないこととする。
【０１０８】
反応例１
(R)-1-(2-メトキシフェニル)-N-((R)-1-フェニルエチル)プロパン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒1(MW: 562.15) 1.12 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、1-(2-メトキシフェニル)プロパン-2-オン(MW: 164.20) 153 μL(1.0 mmol)、(R)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて16時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:97%)。得られた化合物をPd-Cで脱保護、アセチル化し得られたアセチルアミド化合物の光学純度、旋光度を測定したところ光学純度:97% ee, 旋光度：[α]D30 ＝ +22.2 (c = 1.05, CHCl3)であった。
【０１０９】
反応例２
(R)-1-(4-メトキシフェニル)-N-((R)-1-フェニルエチル)プロパン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒1(MW: 562.15) 1.12 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、1-(2-メトキシフェニル)プロパン-2-オン(MW: 164.20) 153 μL(1.0 mmol)、(R)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて16時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:89%)。得られた化合物をPd-Cで脱保護、アセチル化し得られたアセチルアミド化合物の光学純度、旋光度を測定したところ光学純度:88% ee, 旋光度：[α]D30 ＝ +35.9 (c = 0.95, CHCl3)であった。
【０１１０】
反応例３
(R)-1-(4-メトキシフェニル)-N-((R)-1-フェニルエチル)プロパン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒2(MW: 624.22) 1.25 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、1-(2-メトキシフェニル)プロパン-2-オン(MW: 164.20) 153 μL(1.0 mmol)、(R)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて14時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:88%)。得られた化合物をPd-Cで脱保護、アセチル化し得られたアセチルアミド化合物の光学純度、旋光度を測定したところ光学純度:80% ee, 旋光度：[α]D30 ＝ +30.9 (c = 0.95, CHCl3)であった。
【０１１１】
反応例４
(S)-1-(4-メトキシフェニル)-N-((S)-1-フェニルエチル)プロパン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒2(MW: 624.22) 1.25 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、1-(2-メトキシフェニル)プロパン-2-オン(MW: 164.20) 153 μL(1.0 mmol)、(S)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて22時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:89%)。得られた化合物をPd-Cで脱保護、アセチル化し得られたアセチルアミド化合物の光学純度、旋光度を測定したところ光学純度:85% ee, 旋光度：[α]D30 ＝ -33.2 (c = 0.95, CHCl3)であった。
【０１１２】
反応例５
(R)-1-(4-メトキシフェニル)プロパン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒1(MW: 562.15) 1.12 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、1-(2-メトキシフェニル)プロパン-2-オン(MW: 164.20) 153 μL(1.0 mmol)、ギ酸アンモニウム (MW: 63.06) 189 mg (3 mmol)、酢酸(MW: 60.05) 57 μL(1.0 mmol)を加え、60 ℃にて4時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:89%)。得られた化合物をアセチル化し得られたアセチルアミド化合物の光学純度、旋光度を測定したところ光学純度:7% ee, 旋光度：[α]D30 ＝ +2.1 (c = 0.95, CHCl3)であった。
【０１１３】
反応例６
(R)-N-ベンジル-1-(4-メトキシフェニル)プロパン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒1(MW: 562.15) 1.12 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、1-(2-メトキシフェニル)プロパン-2-オン(MW: 164.20) 153 μL(1.0 mmol)、ベンジルアミン (MW: 107.15) 120 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて18時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:100%)。得られた化合物をPd-Cで脱保護、アセチル化し得られたアセチルアミド化合物の光学純度、旋光度を測定したところ光学純度:13% ee, 旋光度[α]D30 ＝ +5.6 (c = 0.95, CHCl3)であった。
【０１１４】
反応例７
N-((R)-1-フェニルエチル)-1,2,3,4-テトラハイドロナフタレン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒1(MW: 562.15) 1.12 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、β-テトラロン(MW: 146.19) 133 μL(1.0 mmol)、(R)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて23時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:97%)。得られた化合物のジアステレオ選択性は40% deであった。
【０１１５】
反応例８
N-((S)-1-フェニルエチル)-1,2,3,4-テトラハイドロナフタレン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒1(MW: 562.15) 1.12 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、β-テトラロン(MW: 146.19) 133 μL(1.0 mmol)、(S)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて23時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:94%)。得られた化合物のジアステレオ選択性は27% deであった。
【０１１６】
反応例９
N-((R)-1-フェニルエチル)-1,2,3,4-テトラハイドロナフタレン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒2(MW: 624.22) 1.25 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、β-テトラロン(MW: 146.19) 133 μL(1.0 mmol)、(R)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて20時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:84%)。得られた化合物のジアステレオ選択性は18% deであった。
【０１１７】
反応例１０
N-((S)-1-フェニルエチル)-1,2,3,4-テトラハイドロナフタレン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒2(MW: 624.22) 1.25 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、β-テトラロン(MW: 146.19) 133 μL(1.0 mmol)、(S)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて20時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:98%)。得られた化合物のジアステレオ選択性は28% deであった。
【０１１８】
反応例１１
(R)-1-フェニル-N-((R)-1-(ピリジン-2-イル)エチル)エタンアミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒1(MW: 562.15) 1.12 mg (0.002 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、2-アセチルピリジン(MW: 121.14) 112 μL(1.0 mmol)、(R)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて14時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:98%)。得られた化合物のジアステレオ選択性は88% deであった。
【０１１９】
反応例１２
1-(4-ニトロフェニル)エタンアミンの合成
20mLのシュレンクに触媒3(MW: 624.22) 6.24 mg (0.010 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール5 mL、1-(4-ニトロフェニル)エタノン(MW: 165.15) 826 mg(5.0 mmol)、ギ酸アンモニウム (MW: 63.06) 946 mg (15 mmol)、酢酸(MW: 60.05) 286 μL(5.0 mmol)を加え、60 ℃にて4時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 25 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:90%)。
【０１２０】
反応例１３
4-(1-アミノエチル)ベンゾニトリルの合成
20mLのシュレンクに触媒3(MW: 624.22) 6.24 mg (0.010 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール5 mL、4-アセチルベンゾニトリル (MW: 145.16) 726 mg(5.0 mmol)、ギ酸アンモニウム (MW: 63.06) 946 mg (15 mmol)、酢酸(MW: 60.05) 286 μL(5.0 mmol)を加え、60 ℃にて4時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 25 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:91%)。
【０１２１】
反応例１４
シス-4-メチルシクロヘキシルアミンの合成
20mLのシュレンクにギ酸アンモニウム(MW:63.06) 946 mg(15.0 mmol)を仕込み、アルゴンガスに置換した。これに脱水メタノール5 mL、４−メチルシクロヘキサノン(MW:112.17) 614 μL (5.0 mmol)、酢酸286 μL (5.0 mmol)、および触媒3(MW:624.22) 6.24 mg (0.01 mmol、S/C=500)を加え、60 ℃にて4時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、1M KOH水溶液 20 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMR定量を行なった。得られたシス−４−メチルシクロヘキシルアミンの収率は70 %であった。得られた化合物は、GC分析によりシス：トランス＝91:9であった。
【０１２２】
反応例１５
シス-4-(tert-ブチル)シクロヘキシルアミンの合成
20 mLのシュレンクにギ酸アンモニウム(MW:63.06) 946 mg (15.0 mmol)を仕込み、アルゴンガスに置換した。これに脱水メタノール5 mL、4-tert-ブチルシクロヘキサノン(MW:154.25) 771mg (5.0 mmol)、酢酸286 μL (5.0 mmol)、および触媒3(MW:624.22) 6.24 mg(0.01 mmol、S/C=500)を加え、60 ℃にて4時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、1M KOH水溶液25 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMR定量を行なった。得られたシス-4-（tert-ブチル）シクロヘキシルアミンの収率は71 %であった。得られた化合物は、GC分析によりシス：トランス＝99.1:0.9であった。
【０１２３】
反応例１６
シス-4-(tert-ブチル)シクロヘキシルアミンの合成
20 mLのシュレンクにギ酸アンモニウム(MW:63.06) 189 mg (3.0 mmol)を仕込み、アルゴンガスに置換した。これに脱水メタノール１ｍＬ、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサノン(MW:154.25) 154mg (1.0 mmol)、酢酸57 μL (1.0 mmol)、および(S)-触媒9(MW:568.17) 2.84 mg (0.005 mmol、S/C=200)を加え、60℃にて4時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、1M KOH水溶液 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMR定量を行なった。得られたシス−４−（ｔｅｒｔ−ブチル）シクロヘキシルアミンの収率は71 %であった。得られた化合物は、GC分析によりシス：トランス＝99.1:0.9であった。
【０１２４】
反応例１７
シス-4-フェニルシクロヘキシルアミンの合成
20 mLのシュレンクにギ酸アンモニウム(MW:63.06) 946 mg (15.0 mmol)を仕込み、アルゴンガスに置換した。これに脱水メタノール5 mL、４−フェニルシクロヘキサノン(MW:174.24) 871 mg (5.0 mmol)、酢酸286 μL (5.0 mmol)、および触媒3(MW:624.22) 6.24 mg (0.01 mmol、S/C=500)を加え、60 ℃にて7時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、1 M KOH 20 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMR定量を行なった。得られたシス−４−フェニルシクロヘキシルアミンの収率は97 %であった。得られた化合物は、GC分析によりシス：トランス＝95.2:4.8であった。
【０１２５】
反応例１８
1-フェニルエチルアミンの合成
20 mLのシュレンクにギ酸アンモニウム(MW:63.06) 946 mg (15.0 mmol)を仕込み、アルゴンガスに置換した。これに脱水メタノール5 mL、アセトフェノン(MW:120.15) 582 μL (5.0 mmol)、酢酸286 μL (5.0 mmol)、および(S)-触媒1(MW:562.15) 5.62 mg (0.01 mmol、S/C=500)を加え、60 ℃にて7時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、1 M KOH 20 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMR定量を行なった。得られた１−フェニルエチルアミンの収率は81%であった。１−フェニルエチルアミンと無水トリフルオロ酢酸との反応により２，２，２−トリフルオロ―Ｎ―（１−フェニルエチル）アセトアミドに誘導化した後、GC分析により光学純度を測定したところ12% eeであった。
【０１２６】
反応例１９
DL-1-フェニルエチルアミンの合成
20 mLのシュレンクにギ酸アンモニウム(MW:63.06) 946 mg (15.0 mmol)を仕込み、アルゴンガスに置換した。これに脱水メタノール5mL、アセトフェノン(MW:120.15) 582 μL (5.0 mmol)、酢酸286 μL(5.0 mmol)、および触媒3(MW:624.22) 6.24 mg (0.01mmol、S/C=500)を加え、60 ℃にて7時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、1 M KOH 20 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアッフ゜した。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMR定量を行なった。得られたＤＬ−１−フェニルエチルアミンの収率は92%であった。
【０１２７】
反応例２０
DL-1-フェニルエチルアミンの合成
触媒として、触媒4(MW:562.15) 5.62 mg (0.01 mmol、S/C=500)を用いた以外は、反応例１９と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は83 %であった。
反応例２１
DL-1-フェニルエチルアミンの合成
酢酸572μL(10.0mmol)を用いた以外は、反応例２０と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は90 %であった。
【０１２８】
反応例２２
DL-1-フェニルエチルアミンの合成
触媒として、触媒5(MW:638.24) 6.38 mg (0.01 mmol、S/C=500)を用いた以外は、反応例１９と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は62 %であった。
反応例２３
DL-1-フェニルエチルアミンの合成
触媒として、触媒6(MW:638.24) 6.38 mg (0.01 mmol、S/C=500)を用いた以外は、反応例１９と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は58 %であった。
反応例２４
ＤＬ−１−フェニルエチルアミンの合成
触媒として、触媒7(MW:472.83) 4.73 mg (0.01 mmol、S/C=500)を用いた以外は、反応例１９と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は50 %であった。
【０１２９】
反応例２５
シクロへキシルベンジルアミンの合成
不活性ガス雰囲気下、20mLのシュレンクに脱水酢酸エチル5mL、シクロヘキサノン(MW:98.14) 518 μL (5.0 mmol)、ベンジルアミン(MW:107.15) 627 μL (5.75 mmol)を加えて氷冷した。ギ酸(MW:46.03) 566 μL (15.0 mmol)を加えて約5分間攪拌した後、氷浴を取り外し、触媒3(MW:624.22) 3.12 mg (0.005 mmol、S/C=1000)を加え、40 ℃にて18時間攪拌した。溶媒を留去した後、1 M KOH 15 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMR定量を行なった。得られたシクロへキシルベンジルアミンの収率は100 %であった。
【０１３０】
反応例２６
シクロへキシルベンジルアミンの合成
触媒として、触媒4(MW:562.15) 2.81 mg (0.005 mmol、S/C=1000)を用いた以外は、反応例２５と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は100 %であった。
反応例２７
シクロへキシルベンジルアミンの合成
触媒として、触媒5(MW:638.24) 3.19 mg (0.005 mmol、S/C=1000)を用いた以外は、反応例２５と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は100 %であった。
【０１３１】
反応例２８
シクロへキシルベンジルアミンの合成
触媒として、触媒6(MW:638.24) 3.19 mg (0.005 mmol、S/C=1000)を用いた以外は、反応例２５と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は100 %であった。
反応例２９
シクロへキシルベンジルアミンの合成
触媒として、触媒7(MW:472.83) 2.36 mg (0.005 mmol、S/C=1000)を用いた以外は、反応例２５と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は90 %であった。
【０１３２】
反応例３０
N-ベンジル-1-インダンアミンの合成
不活性ガス雰囲気下、20 mLのシュレンクに脱水メタノール5 mL、１−インダノン(MW:132.16) 661 mg (5.0 mmol)、ベンジルアミン(MW:107.15) 600 μL (5.5 mmol)を加えて氷冷した。ギ酸(MW:46.03) 566 μL (15.0 mmol)を加えて約5分間攪拌した後、氷浴を取り外し、触媒4(MW:562.15) 5.62 mg (0.01 mmol、S/C=500)を加え、40 ℃にて18時間攪拌した。溶媒を留去した後、1 M KOH 15 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMR定量を行なった。得られたＮ−ベンジル−１−インダンアミンの収率は94 %であった。
【０１３３】
反応例３１
2-［｛(S)-1-フェニルエチル｝アミノ]プロピオン酸の合成
アルゴン置換した20 mLシュレンクを氷浴にて0 ℃に冷却し、メタノール2 mL、ピルビン酸(MW: 88.06) 137.6 μL、(S)-1-フェニルエチルアミン(MW: 121.18) 283.6 μL、ギ酸(MW: 46.03) 226.4 μLを加えた。これに(S)-触媒2(MW: 624.22) 2.50 mgを加え、30℃にて16時間加熱撹拌した。16時間後に反応混合物にジエチルエーテルを20 mL加え、室温で30分撹拌する。析出した固体をろ集し、ジエチルエーテル10 mLで洗浄し、減圧乾燥することで白色固体を283.6 mg(収率73%)得た。ジアステレオマー比は重水中の１H‐NMRスペクトルにおいてケミカルシフトより決定でき（major：δ1.24 ppm, minor：δ1.33 ppm）majorとminorの比は92:8(84% de)であった。
【０１３４】
反応例３２
(R)-4-メチル-2-［｛(R)-1-フェニルエチル｝アミノ］吉草酸の合成
アルゴン置換した20 mLシュレンクを氷浴にて0 ℃に冷却し、メタノール2 mL、4-メチル-2-オキソ吉草酸(MW: 130.14) 245.5 mL、(R)-1-フェニルエチルアミン(MW: 121.18) 283.6 mL、ギ酸(MW: 46.03) 226.4 mLを加えた。これに (S)-触媒1(94% ee)(MW: 562.15) 2.25 mgを加え、30℃にて16時間加熱撹拌した。16時間後に反応混合物にジエチルエーテルを20 mL加え、室温で30分撹拌する。析出した固体をろ集し、ジエチルエーテル10 mLで洗浄し、減圧乾燥することで白色固体を333.2 mg(収率71%)得た。ジアステレオマー比は重DMSO中の１H‐NMRスペクトルで単一のジアステレオマー(>99% de)が生成していることを確認した。また、得られた化合物をPd-C、塩酸で処理しロイシン塩酸塩を得た。この化合物の旋光度は[a]D20 = -2.9°(c = 1.15, H2O)であった。
【０１３５】
反応例３３
4-［｛(R)-1-フェニルエチル｝アミノ］吉草酸の合成
アルゴン置換した20 mLシュレンクを氷浴にて0 ℃に冷却し、メタノール2 mL、レブリン酸(MW: 116.12) 232.2 mg、(R)-1-フェニルエチルアミン(MW: 121.18) 283.6 mL、ギ酸(MW: 46.03) 226.4 mLを加えた。これに (S)-触媒1(MW: 562.15) 2.25 mgを加え、30℃にて16時間加熱撹拌した。16時間後に減圧下にて溶媒除去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレン：メタノール＝8:1)により精製し白色固体を353.0 mg(収率80%)得た。ジアステレオマー比は重クロロホルム中の１H‐NMRスペクトルにおいてケミカルシフトより決定でき（major：δ1.18 ppm, minor：δ1.26 ppm）majorとminorの比は83:17(66% de)であった。
【０１３６】
反応例３４
2-［｛(R)-１−フェニルエチル｝アミノ］プロピオン酸メチルの合成
アルゴン置換した20 mLシュレンクを氷浴にて0 ℃に冷却し、メタノール2 mL、ピルビン酸メチル(MW: 102.09) 180.7 μL、(R)-1-フェニルエチルアミン(MW: 121.18) 283.6 μL、ギ酸(MW: 46.03) 226.4 μLを加えた。これに(S)-触媒1(94% ee)(MW: 562.15) 2.25 mgを加え、30℃にて16時間加熱撹拌した。16時間後に飽和重曹水を10 mL加え、ジエチルエーテル30 mLで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し濾過して溶媒を留去する。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン：酢酸エチル＝6:1)により精製し無色透明な液体を202.2 mg(収率49%)得た。ジアステレオマー比は重クロロホルム中の１H‐NMRスペクトルにおいてケミカルシフトより決定でき（major：δ1.22 ppm, minor：δ1.28 ppm）majorとminorの比は92:8(84% de)であった。
【０１３７】
反応例３５
2-（ベンジルアミノ）プロピオン酸メチルの合成
アルゴン置換した20 mLシュレンクを氷浴にて0 ℃に冷却し、メタノール2 mL、ピルビン酸メチル(MW: 102.09) 180.7 mL、ベンジルアミン(MW: 107.15) 240.5 mL、ギ酸(MW: 46.03) 226.4 mLを加えた。これに (S)-触媒2(MW: 624.22) 2.50 mgを加え、30℃にて16時間加熱撹拌した。16時間後に飽和重曹水を10 mL加え、酢酸エチル30 mLで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し濾過して溶媒を留去する。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン：酢酸エチル＝6:1)により精製し無色透明な液体を231.7 mg(収率60 %)得た。HPLC分析を行い、CHIRALCEL OD-H（0.46 cm×25 cm）（ダイセル社製、溶離液；n-ヘキサン：2-プロパノール＝90：10）を用いて、光学純度を求めたところ、44.3% eeであった。
【０１３８】
反応例３６
2-[{(R)-1-フェニルエチル}アミノ]-1-プロパノールの合成
アルゴン置換した20 mLシュレンクを氷浴にて0 ℃に冷却し、メタノール2 mL、ヒドロキシアセトン(MW: 74.08) 137.2 mL、(R)-1-フェニルエチルアミン(MW: 121.18) 283.6 mL、ギ酸(MW: 46.03) 226.4 mLを加えた。これに(S)-触媒1(MW: 562.15) 2.25 mgを加え、30℃にて16時間加熱撹拌した。16時間後に1H-NMRスペクトルを測定したところ100%の変換率で目的生成物の生成を確認した。ジアステレオマー比は重クロロホルム中の１H‐NMRスペクトルにおいてケミカルシフトより決定でき（major：δ1.15 ppm,minor：δ1.23 ppm）majorとminorの比は91:9(82% de)であった。
【０１３９】
反応例３７
2-[{(R)-1-フェニルエチル}アミノ]-1-フタルイミジル-プロパンの合成
アルゴン置換した20 mLシュレンクを氷浴にて0 ℃に冷却し、メタノール5 mL、塩化メチレン 5 mL、フタルイミジルアセトン2(MW: 203.19) 406.4 mg、(R)-1-フェニルエチルアミン(MW: 121.18) 283.6 mL、ギ酸(MW: 46.03) 226.4 mLを加えた。これに (S)-触媒1(MW: 562.15) 5.65 mgを加え、30℃にて16時間加熱撹拌した。16時間後に1H-NMRスペクトルを測定したところ63%の変換率で目的生成物の生成を確認した。ジアステレオマー比は重クロロホルム中の１H‐NMRスペクトルで単一のジアステレオマー(>99% de)が生成していることを確認した。
【０１４０】
反応例３８
(R)-1-(2-メトキシフェニル)-N-((R)-1-フェニルエチル)プロパン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒9 (MW: 526.09) 2.63 mg (0.005 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、1-(2-メトキシフェニル)プロパン-2-オン(MW: 164.20) 153 μL(1.0 mmol)、(R)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて18時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:78%)。得られた化合物をPd-Cで脱保護、アセチル化し得られたアセチルアミド化合物の光学純度を測定したところ85% eeであった。
【０１４１】
反応例３９
(R)-1-(2-メトキシフェニル)-N-((R)-1-フェニルエチル)プロパン-2-アミンの合成
20mLのシュレンクに(S)-触媒10 (MW: 603.18) 3.02 mg (0.005 mmol、S/C = 500)を仕込み、減圧乾燥した後にアルゴンガスに置換した。これにメタノール1 mL、1-(2-メトキシフェニル)プロパン-2-オン(MW: 164.20) 153 μL(1.0 mmol)、(R)-1-フェニルエチルアミン (MW: 121.18) 140 μL(1.1 mmol)、ギ酸(MW: 46.03) 113 μL(3.0 mmol)を加え、40 ℃にて18時間加熱撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、1 M KOH 10 mLを加え、ジクロロメタン40 mLを用いて抽出した、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して、50 mLメスフラスコにメスアップした。溶液を5 mL取り、溶媒留去後、内部標準物質としてクマリンを用いて、1H-NMRにより定量を行なった(収率:84%)。得られた化合物をPd-Cで脱保護、アセチル化し得られたアセチルアミド化合物の光学純度を測定したところ83% eeであった。
【０１４２】
反応例４０
シクロへキシルベンジルアミンの合成
触媒として、(S)-触媒11(MW:674.25)16.9mg(0.025mmol、S/C=200)を用いた以外は、反応例２５と同条件で反応を実施したところ、目的物の収率は98%であった。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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