(57)【要約】【課題】光学測定装置を提供する。【解決手段】光学測定装置は、回路基板、固定基板、少なくとも一つのレンズホルダー、少なくとも一つの位置調整部および少なくとも一つのプローブモジュールを備える。回路基板は、少なくとも一つの第一穿孔を有する。固定基板は回路基板の上の表面または下の表面に配置され、かつ少なくとも一つの第一穿孔に対応する第二穿孔を有する。レンズホルダーは第二穿孔内に装着され、かつレンズの装着に用いる装着溝を有する。位置調整部は第二穿孔およびレンズホルダーに別々に対応するように固定基板およびレンズホルダーに接続されるため、第二穿孔においてレンズホルダーの位置調整を行うことができる。プローブモジュールはレンズホルダーに対応するように固定基板の底面に配置され、かつ複数のプローブを有する。【選択図】図２Ａ
2014021486.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路基板および少なくとも一つのレンズ調整機構を備え、
前記回路基板は、少なくとも一つの第一穿孔を有し、
前記レンズ調整機構は、固定基板と、少なくとも一つのレンズホルダーと、少なくとも一つのプローブモジュールとを有し、
前記固定基板は、前記回路基板の上の表面または下の表面に配置され、かつ少なくとも一つの前記第一穿孔に対応する第二穿孔を有し、
前記レンズホルダーは、前記第二穿孔内に装着され、かつレンズの装着に用いる装着溝を有し、前記レンズホルダーは、位置調整によって前記第二穿孔内の位置が変わり、
前記プローブモジュールは、前記レンズホルダーに対応するように前記固定基板の下の表面または前記回路基板の下の表面に配置され、かつ複数のプローブを有し、前記プローブは前記回路基板に電気的に接続されることを特徴とする、
光学測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定装置、特に調整機構によってレンズホルダーを調整し、移動させる光学測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のウェハテストはプローブカードをウェア上の金属パッドに接触させ、プローブカードを介してテスターの測定信号の伝送および測定を進めることによって集積回路のあらゆる製作工程、ステップの間の連線の信頼性および導通性を明確にし、回路の欠陥を生じさせる処理パラメータまたはステップを迅速に判断または修正し、製作工程の歩留まりを向上させる。
【０００３】
図１Ａは従来のウェハ検査機構を示す模式図である。従来の技術において、ウェハ検査機構は固定基板４および固定基板４に配置された複数の穿孔４１を有する。穿孔４１はレンズホルダー１１の格納に用いられる。レンズホルダー１１は内部に陥没溝を有する。レンズ１２はねじ山１２１によって陥没溝に締め付けられる。
上述した従来の技術の抱えている未解決問題は次の通りである。
一つはレンズを調整しにくいことである。検査過程において、明確な画像を取るにはレンズの焦点距離を調整する必要がある。それに対し、従来の技術はレンズの焦点距離を微調整する際、レンズ１２の表面とレンズホルダー１１との間のねじ山１２１によってレンズ１２の垂直方向の位置を変えるため、調整作業が複雑になるだけでなく、検査作業の効率に影響を与える。
一つはレンズホルダー１１の陥没溝の壁面に位置するねじ山とレンズ１２のねじ山との間に隙間があるため、レンズの位置を調整する際、誤差が生じ、結像効果に影響を与えることである。
【０００４】
図１Ｂに示すように、光学測定を行う際の測定効果を高めるために、従来の技術はレンズホルダー５０の上方に基板５１を配置する。
基板５１は複数のレンズ５２に対応する穿孔５３と、穿孔５３に配置された拡散フィルム５４（ｄｉｆｆｕｓｅｒ）とを有する。拡散フィルム５４は光線を均等に散布させる。続いて固定および補強構造５５によって拡散フィルム５４を安定させる。
しかしながら、異なる測定対象（ｄｅｖｉｃｅ  ｕｎｄｅｒ  ｔｅｓｔ，ＤＵＴ）によってレンズ５２の焦点距離を調整する際、固定および補強構造５５および拡散フィルム５４を取り外し、レンズ５２を回し、焦点距離を調整しなければならないため、測定作業が繁雑になる。
【０００５】
従って、従来の技術の問題を解決できる光学測定装置が求められる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、レンズホルダーのねじ山と、レンズホルダーの頂部に配置された少なくとも一つの調整溝と、調整治具とによってレンズホルダーの位置を調整し、レンズホルダー位置の調整方法を簡単化することが可能な光学測定装置を提供することを主な目的とする。
【０００７】
本発明は、レンズホルダーに位置する可とう性環状体によってレンズホルダーのスライドを抑制することが可能な光学測定装置を提供することをもう一つの目的とする。
【０００８】
本発明は、レンズホルダーの装着溝の開口部の表面と、固定基板上の第二穿孔に対応する外側の表面とに配置された目盛および標示によってレンズホルダーの位置および移動を確認することが可能な光学測定装置を提供することをもう一つの目的とする。
【０００９】
本発明は、レンズホルダーにフランジ（ｆｌａｎｇｅ）構造部を配置する必要がないだけでなく、レンズホルダーの体積を縮小することが可能な光学測定装置を提供することをもう一つの目的とする。
【００１０】
本発明は、着脱可能な光学調整ユニットによって光線を調整する、例えば光線を均等に散布させるか、雑光を取り除くだけでなく、光学調整ユニットの着脱を行う必要なく、直接レンズ調整機構によってレンズの焦点距離を調整することが可能な光学測定装置を提供することをもう一つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述の目的を達成するために、本発明による光学測定装置は、回路基板、固定基板、少なくとも一つのレンズホルダー、少なくとも一つの位置調整部および少なくとも一つのプローブモジュールを備える。
回路基板は、少なくとも一つの第一穿孔を有する。固定基板は回路基板の上の表面または下の表面に配置され、かつ少なくとも一つの第一穿孔に対応する第二穿孔を有する。レンズホルダーは第二穿孔内に装着され、かつレンズの装着に用いる装着溝を有する。位置調整部は第二穿孔およびレンズホルダーに別々に対応するように固定基板およびレンズホルダーに接続されるため、第二穿孔においてレンズホルダーの位置調整を行うことができる。プローブモジュールはレンズホルダーに対応するように固定基板の底面に配置され、かつ複数のプローブを有する。
【００１２】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、さらに可とう性環状体を備える。可とう性環状体はレンズホルダーに嵌合される。
【００１３】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置のレンズホルダーは、溝部を有する。可とう性環状体は溝部内に嵌合される。
【００１４】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置のレンズホルダーは、上の表面に少なくとも一つの調整溝を有する。
【００１５】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定基板は、回路基板の下の表面に配置される。光学測定装置はさらに第一ねじ山および第二ねじ山を有する。第一ねじ山は第二穿孔の壁面に形成される。第二ねじ山は第一ねじ山と噛み合うようにレンズホルダーの表面に形成される。
【００１６】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定基板は、回路基板の上の表面に配置される。光学測定装置はさらに第一ねじ山および第二ねじ山を有する。第一ねじ山は第二穿孔の壁面に形成される。第二ねじ山は第一ねじ山と噛み合うようにレンズホルダーの表面に形成される。
【００１７】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、さらに可とう性環状体を備える。可とう性環状体はレンズホルダーに嵌合される。第二穿孔は外側に形成された陥没溝を有する。可とう性環状体は外径が陥没溝の内壁の口径より大きいか、それに等しいため
【００１８】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、さらに可とう性環状体を備える。可とう性環状体はレンズホルダーに嵌合され、外径が第一穿孔の内壁の口径より大きいか、それに等しい。
【００１９】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、さらに補助板および可とう性環状体を備える。補強板は固定基板に向かい合うように回路基板の上の表面に接続され、かつ第二穿孔および第一穿孔に対応する第一貫通孔を有する。可とう性環状体はレンズホルダーに嵌合され、外径が第一貫通孔の内壁の口径より大きいか、それに等しい。
【００２０】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置のレンズホルダーは、上の表面から装着溝の内側へ環状に形成された斜面を有するため、レンズホルダーの開口面積が増大する。
【００２１】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置のレンズホルダーは、上の表面に少なくとも一つの目盛または少なくとも一つの標示を有する。
【００２２】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、さらに少なくとも一つの光学調整ユニットを備える。光学調整ユニットは固定機構によって装着溝内に着脱できるように接続される。
【００２３】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、装着溝の壁面に形成された第一突起部を有する。第一突起部は光学調整ユニットの支持に用いられる。
【００２４】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の光学調整ユニットは、頂面と、底面と、頂面および底面に環状に連結された側面とを有する。底面は第一突起部に当接する。
【００２５】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の光学調整ユニットは、側面が装着溝の壁面に密着する。
【００２６】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、壁面と光学調整ユニットの側面との間に少なくとも一つのクリップ溝を有する。
【００２７】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定機構は、少なくとも一つの固定溝および少なくとも一つ嵌合ユニットを有する。固定溝は光学調整ユニットの側面に対応するように装着溝の壁面に形成される。嵌合ユニットは固定溝に嵌め込まれ、光学調整ユニットの固定に用いられる。
【００２８】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、嵌合ユニットの厚さが固定溝の底面と光学調整ユニットの側面との間の距離より大きいか、それに等しい。
【００２９】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の嵌合ユニットは磁気伝導性のある金属材料から構成される。固定溝は両側に磁性ユニットを有する。磁性ユニットは光学調整ユニットの側面と装着溝の外壁との間に配置される。
【００３０】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置のレンズホルダーは、上の表面に少なくとも一つの調整溝を有する。レンズホルダーは、上の表面から調整溝の底面までの間に位置する第一高度と、上の表面から光学調整ユニットの頂面までの間に位置する第二高度とを有する。第二高度は第一高度より大きい。
【００３１】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定基板は、複数のスプリングピンを有する。スプリングピンは固定基板内に配置される。固定基板は回路基板の下の表面に配置される。プローブモジュールは固定基板の下の表面に配置される。プローブモジュールのプローブは垂直型プローブである。
プローブモジュールはさらにプローブ固定座を有する。プローブ固定座は固定基板に連結されることで固定基板を回路基板とプローブ固定座との間に位置させる。プローブ固定座は垂直型プローブの固定に用いられる。プローブ固定座は第二穿孔に対応する第三穿孔を有する。スプリングピンは垂直型プローブおよび回路基板に別々に電気的に接続される。
【００３２】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定基板は、複数のスプリングピンを有する。スプリングピンは固定基板内に配置される。固定基板は回路基板の下の表面に配置される。
プローブモジュールは固定基板の下の表面に配置され、プローブ基板を有する。プローブ基板は固定基板に連結されることで固定基板を回路基板とプローブ基板との間に位置させる。プローブ基板は第四穿孔および内部に配置された複数の第一導線を有する。第四穿孔は第一穿孔および第二穿孔に対応する。第一導線はスプリングピンに電気的に接続される。プローブモジュールのプローブはＭＥＭＳプローブから構成され、プローブ基板に配置され、かつ第一導線およびスプリングピンによって回路基板に電気的に接続される。
【００３３】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定基板は、回路基板の下の表面に配置される。固定基板はさらに差込ユニットを有する。差込ユニットはインターポーザー、複数の第一弾性接触ユニットおよび複数の第二弾性接触ユニットを有する。
第一弾性接触ユニットは回路基板に電気的に接続される。プローブモジュールは固定基板の下の表面に配置され、プローブ基板を有する。プローブ基板は固定基板に連結されることで固定基板を回路基板とプローブ基板との間に位置させる。プローブ基板は第四穿孔および内部に配置された複数の第一導線を有する。第四穿孔は第一穿孔および第二穿孔に対応する。第一導線は第二弾性接触ユニットに電気的に接続される。プローブモジュールのプローブはＭＥＭＳプローブから構成され、プローブ基板に配置され、かつ第一導線および差込ユニットによって回路基板に電気的に接続される。
【００３４】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定基板は、回路基板の上の表面に配置される。プローブモジュールは回路基板の下の表面に配置される。プローブモジュールのプローブは垂直型プローブである。プローブモジュールはさらにプローブ固定座を有する。
プローブ固定座は垂直型プローブの固定に用いられ、かつ第二穿孔に対応する第三穿孔を有する。光学測定装置はさらに導電層を有する。導電層はプローブ固定座と回路基板との間に装着され、かつ複数の垂直型プローブおよび回路基板に電気的に接続される。
【００３５】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定基板は、回路基板の上の表面に配置され、かつ第一穿孔に対する位置に第六穿孔を有する。プローブモジュールは回路基板の下の表面に配置される。プローブモジュールのプローブは垂直型プローブである。
プローブモジュールはさらにプローブ固定座を有する。回路基板は固定基板とプローブ固定座との間に配置される。プローブ固定座は垂直型プローブの固定に用いられ、かつ第二穿孔に対応する第三穿孔を有する。垂直型プローブは回路基板に電気的に接続される。
【００３６】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置の固定基板は、回路基板の下の表面に配置される。プローブモジュールは回路基板の下の表面に配置される。プローブモジュールのプローブはカンチレバー式プローブである。プローブモジュールはさらにプローブ固定環を有する。プローブ固定環は固定基板に連結されることで固定基板を回路基板とプローブ固定環との間に位置させる。プローブ固定環はカンチレバー式プローブの固定に用いられる。カンチレバー式プローブは回路基板に電気的に接続される。
【００３７】
一方、別の一実施形態において、光学測定装置は、さらに少なくとも一つの位置調整部を有する。位置調整部は別々に第二穿孔およびレンズホルダーに対応し、かつ固定基板およびレンズホルダーに接続されるため、第二穿孔内においてレンズホルダーの位置調整を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１Ａ】従来のウェハ検査機構を示す模式図である。
【図１Ｂ】拡散フィルムを使用した従来の光学測定装置を示す模式図である。
【図２Ａ】本発明の一実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図２Ｂ】本発明の一実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図３Ａ】本発明の一実施形態による光学測定装置の異なるレンズ調整機構を示す斜視図である。
【図３Ｂ】本発明の一実施形態による光学測定装置の異なるレンズ調整機構を示す斜視図である。
【図３Ｃ】本発明の一実施形態による光学測定装置の異なるレンズ調整機構を示す斜視図である。
【図４Ａ】本発明の一実施形態による光学測定装置の光学調整ユニットを有するレンズ調整機構を示す斜視図である。
【図４Ｂ】図４Ａの３Ｂ−３Ｂ線に沿った断面図である。
【図４Ｃ】本発明の一実施形態による光学測定装置において光学調整ユニットを有するレンズ調整機構にレンズが装着された状態を示す断面図である。
【図４Ｄ】本発明の一実施形態による光学測定装置においての光学調整ユニットを有するレンズ調整機構と固定基板の締付方式を示す断面図である。
【図４Ｅ】本発明の一実施形態による光学測定装置において光学調整ユニットを有するレンズホルダーが旋転角度を制御する状態を示す模式図である。
【図４Ｆ】本発明の一実施形態による光学測定装置の異なる光学調整ユニットを有するレンズホルダーを示す断面図である。
【図４Ｇ】本発明の一実施形態による光学測定装置の異なる光学調整ユニットを有するレンズホルダーを示す断面図である。
【図４Ｈ】本発明の一実施形態による光学測定装置のもう一つの光学調整ユニットを有するレンズホルダーを示す斜視図である。
【図５Ａ】本発明の一実施形態による光学測定装置において、光学調整ユニットを有するレンズホルダーが可とう性環状体によって回路基板、固定基板または補強板に密接する状態を示す断面図である。
【図５Ｂ】本発明の一実施形態による光学測定装置において、光学調整ユニットを有するレンズホルダーが可とう性環状体によって回路基板、固定基板または補強板に密接する状態を示す断面図である。
【図５Ｃ】本発明の一実施形態による光学測定装置において、光学調整ユニットを有するレンズホルダーが可とう性環状体によって回路基板、固定基板または補強板に密接する状態を示す断面図である。
【図６Ａ】本発明の異なる実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図６Ｂ】本発明の異なる実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図６Ｃ】本発明の異なる実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図６Ｄ】本発明の異なる実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図６Ｅ】本発明の異なる実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図６Ｆ】本発明の異なる実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図７】本発明の別の一実施形態による光学測定装置を示す断面図である。
【図８】本発明の一実施形態による光学測定装置に垂直型プローブが使用された状態を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
以下、本発明による光学測定装置を図面に基づいて説明する。
【００４０】
（一実施形態）
図２Ａおよび図２Ｂは、本発明の一実施形態による光学測定装置を示す断面図である。本実施形態において、光学測定装置６は、回路基板６０、固定基板２０、レンズホルダー２１およびプローブモジュール６３を備える。
回路基板６０は、電気接点および少なくとも一つの第一穿孔６００を有する。固定基板２０は回路基板６０の下の表面６０２に配置され、かつ少なくとも一つの第一穿孔６００に対応する第二穿孔２０１と、第二穿孔２０１に形成された第一ねじ山２２０とを有する。固定基板２０はエンジニアリングプラスチック、ベークライトまたはセラミックスから構成される。レンズホルダー２１は第二穿孔２０１内に装着され、かつ位置調整によって第二穿孔２０１内の位置が変わる。
本実施形態において、レンズホルダー２１は柱状体であるが、これに限らない。レンズホルダー２１は内部に装着溝２１０を有する。それに対し、別の一実施形態において、装着溝２１０は壁面にねじ山構造部２１０１を有する。ねじ山構造部２１０１はレンズ２３のねじ山２３０と噛み合うことでレンズ２３を固定する。
ねじ山構造部２１０１とねじ山２３０とを噛み合わせることによって装着溝２１０内のレンズ２３の位置を調整し、レンズ２３の焦点位置を柔軟的に調整することができる。レンズ２３の装着方法は締付方式に限らない。状況に応じてレンズ２３と装着溝２１０との接続方法を決めればよい。
【００４１】
プローブモジュール６３は、レンズホルダー２１に対応するように固定基板２０の下の表面２０７または回路基板６０の下の表面６０２に配置され、かつ複数のプローブ６３０を有する。プローブ６３０は回路基板６０に電気的に接続され、測定対象物９を測定する。
本実施形態において、プローブモジュール６３はカンチレバー式プローブカード（ｃａｎｔｉｌｅｖｅｒ  ｐｒｏｂｅ  ｃａｒｄ，ＣＰＣ）である。プローブ６３０はカンチレバー式プローブである。プローブモジュール６３はさらにプローブ固定環６５を有する。プローブ固定環６５は固定基板２０に連結されることで固定基板２０を回路基板６０とプローブ固定環６５との間に位置させる。
プローブ固定環６５はプローブ６３０の固定に用いられる。カンチレバー式プローブは回路基板に電気的に接続される。プローブ固定環６５とプローブ６３０の接合関係を強化するために、本実施形態はエポキシなどの接着材料６６によってプローブ６３０のボディーをプローブ固定環６５に固着させることができる。
【００４２】
図２Ａおよび図２Ｂに示したのは本発明の一実施形態による光学測定装置である。本発明の別の実施形態による光学測定装置は図６Ａから図６Ｆに示したとおりである。後ほど説明する。
【００４３】
光学測定装置６は、さらにレンズ調整機構２ｃを備える。図３Ａは本発明の一実施形態による光学測定装置のレンズ調整機構を示す斜視図である。本実施形態において、レンズ調整機構２ｃは固定基板２０ｃ、レンズホルダー２１ｃおよび位置調整部２２ｃを有する。
レンズホルダー２１ｃは装着溝２１０を有する柱状体であるが、これに限らない。位置調整部２２ｃは二対の調整溝２２４ｃ、２２４ｄと、第一ねじ山２２０と、第二ねじ山２２１とを有する。二対の調整溝２２４ｃ、２２４ｄはレンズホルダー２１ｃの上の表面に形成され、かつ装着溝２１０の開口部の外側に対称的に配置される。第一ねじ山２２０は第二穿孔２０１の内壁面に形成される。第二ねじ山２２１は第一ねじ山２２０と噛み合うようにレンズホルダー２１ｃの表面に形成される。
本実施形態は第一ねじ山２２０と第二ねじ山２２１との噛み合わせを増強するか、第一ねじ山２２０と第二ねじ山２２１との間に樹脂、例えば脱落防止用樹脂を塗布し、ねじ山の間の隙間を低減することによって位置調整および移動の精度を向上させる。別の一実施形態は、エンジニアリングプラスチックまたは金属などの異なる材料でレンズホルダー２１ｃおよび固定基板２０ｃを別々に製作することによってねじ山の噛み合わせを強化する。
本実施形態は、レンズホルダー２１ｃおよび固定基板２０ｃを硬度の異なる材料で別々に製作することによってねじ山の噛み合わせを強化することができる。例えば、固定基板２０ｃの硬度はレンズホルダー２１ｃの硬度より大きい。または固定基板２０ｃの硬度はレンズホルダー２１ｃの硬度より小さい。特に固定基板２０ｃの硬度がレンズホルダー２１ｃの硬度より大きい場合は比較的好ましい。装着溝２１０は壁面とレンズホルダー２１ｃの外側壁面との間の厚さＤが次の数式を満足させる。
【００４４】
[数１]
０．５ｍｍ≦Ｄ≦１．５ｍｍ
【００４５】
図３Ａに示した実施形態の操作方式は次の通りである。本実施形態は二対の調整溝２２４ｃ、２２４ｄを有するため、十字型の調整治具と二対の調整溝２２４ｃ、２２４ｄとを接続し、時計回りまたは逆時計回りに回せば、レンズホルダー２１ｃをＺ軸方向に上または下に移動させることができる。
本実施形態は二対の調整溝２２４ｃ、２２４ｄを使用するが、これに限らず、実施形態の精神に基づいて一つまたは一対の調整溝を使用してもよい。調整溝が一つまたは一対である場合、一字型の調整治具と調整溝とを接続すれば、レンズホルダー２１ｃを回転させることができる。
一方、別の一実施形態は全体構造からフランジ構造部２０２を除外する設計を採用することができる。
【００４６】
図３Ｂは本発明の一実施形態による光学測定装置の別のレンズ調整機構を示す斜視図である。本実施形態において、レンズ調整機構２ｄは固定基板２０ｄ、レンズホルダー２１ｄおよび位置調整部２２ｄを有する。
図３Ａとの違いは次の通りである。本実施形態において、レンズホルダー２１ｄの表面は第一エリア２１６および第二エリア２１７に分割される。位置調整部２２ｄは複数のスリット２２６を有し、スリット２２６はレンズホルダー２１ｄの第一エリア２１６に位置する本体に配置される。
レンズホルダー２１ｄは第一エリア２１６に複数のねじ山噛み合わせ兆西部２１８を有し、ねじ山噛み合わせ調整部２１８は第一エリア２１６から外側へ広がって形成される。第一エリア２１６の第二ねじ山２２１の外径は上から漸減した。第二エリア２１７の第二ねじ山２２１の外径は上下の大きさが一致する。
【００４７】
図３Ｂに示した実施形態の操作方式は次の通りである。本実施形態は二対の調整溝２２４ｃ、２２４ｄを有する。その作動原理は図３Ａに基づいた実施形態と同じであるため、説明を省略する。
本実施形態において、レンズホルダー２１ｄの第二ねじ山２２１は第一エリア２１６および第二エリア２１７に配置される。第一エリア２１６の第二ねじ山２２１の外径は第二エリア２１７の第二ねじ山２２１の外径より大きい。組み立てを行う際、第二エリア２１７の第二ねじ山２２１と第一ねじ山２２０とを噛み合わせ、続いてレンズホルダー２１ｄを下に移動させ、ねじ山噛み合わせ調整部２１８（第一エリア２１６）の第二ねじ山２２１と第一ねじ山２２０とを噛み合わせることによってレンズホルダー２１ｄを締め付ける。一方、ねじ山噛み合わせ調整部２１８は外側へ広がる。
レンズホルダー２１ｄが下に移動する際、ねじ山噛み合わせ調整部２１８は第二穿孔２０１によって拘束され、レンズホルダー２１ｄの装着溝２１０の内部に追い詰められる。このときスリット２２６は緩衝空間となる。
ねじ山噛み合わせ調整部２１８は追い詰められると同時に外部の第二穿孔２０１に反発力が作用し、第二ねじ山２２１と第一ねじ山２２０とを緊密に噛み合わせるため、レンズホルダー２１ｄを上下に移動させる際、ねじ山の間の隙間が原因で誤差を生じることを避け、位置調整および移動の精度を向上させることができる。
【００４８】
図３Ｃは本発明の一実施形態による光学測定装置の別のレンズ調整機構を示す斜視図である。本実施形態において、レンズ調整機構２ｅは固定基板２０ｅ、レンズホルダー２１ｅおよび位置調整部２２ｅを有する。図２Ａとの違いは次の通りである。
本実施形態において、位置調整部２２ｅはさらに可とう性環状体２２７、例えばＯ型環状体を有するが、これに限らない。可とう性環状体２２７はレンズホルダー２１ｅに嵌合され、かつ第二ねじ山２２１の最先端に位置付けられる。可とう性環状体２２７の外径Ｄ１は陥没溝２００の内径Ｄ２より大きいかそれに等しい。固定基板２０ｅにレンズホルダー２１ｅを締め付ける際、可とう性環状体２２７は陥没溝２００の内壁に係止されるため、レンズホルダー２１ｅと陥没溝２００とを相互に密接させ、かつ固定基板２０ｅにレンズホルダー２１ｅを固定する効果を向上させることができる。
一方、図３Ｃに示した陥没溝２００の内径Ｄ２は第二穿孔２０１の口径より大きい。それに対し、別の一実施形態において、陥没溝２００の内径Ｄ２は第二穿孔２０１の口径に等しい。従って、本発明はこれに限らず、状況に応じて決めることができる。
【００４９】
図３Ｃに示した実施形態の操作方式は次の通りである。本実施形態は二対の調整溝２２４ｃ、２２４ｄを有する。その作動原理は図３Ａに基づいた実施形態と同じであるため、説明を省略する。
本実施形態において、第二ねじ山２２１と第二穿孔２０１の第一ねじ山２２０とを噛み合わせ、レンズホルダー２１ｅを時計回りに回転させてＺ軸方向に沿って下へ移動させる際、可とう性環状体２２７はレンズホルダー２１ｅの降下に伴って陥没溝２００の壁面に接触する。レンズホルダー２１ｅを持続的に降下させれば、可とう性環状体２２７は陥没溝２００によって圧縮され、変形し、陥没溝２００に密着する。圧縮された可とう性環状体２２７に生じた反発弾力は陥没溝２００を追い詰めるため、可とう性環状体２２７を配置する前と比べて、レンズホルダー２１ｅと固定基板２０ｅとをより緊密に接合することができる。
一方、可とう性環状体２２７と陥没溝２００とが相互に密着した上でレンズホルダー２１ｅを上下に移動させる際、可とう性環状体２２７の作用によって第一ねじ山２２０と第二ねじ山２２１との間の隙間を低減し、レンズホルダー２１ｅのスライドを抑制することができるだけでなく、レンズホルダー２１ｅを上下に移動させる際、位置を正確に制御することができる。
【００５０】
図３Ａから図３Ｃに示すように、固定基板は単一のレンズ調整機構のみを有するが、これに限らない。それに対し、別の一実施形態は状況に応じて本発明の精神に基づいて固定基板に複数のレンズ調整機構を配置することができる。
【００５１】
本発明の一実施形態による光学測定装置において、レンズ調整機構は光学調整ユニットを有する。図４Ａは本発明の一実施形態による光学測定装置の光学調整ユニットを有するレンズ調整機構を示す斜視図である。
図４Ｂは図４Ａの３Ｂ−３Ｂ線に沿った断面図である。上述したレンズ調整機構との違いは次の通りである。本実施形態において、レンズ調整機構はさらに光学調整ユニットおよび固定機構によって光線を均等に散布させ、雑光を取り除き、光学測定効果を向上させる。レンズ調整機構２はレンズホルダー２１、光学調整ユニット２４および固定機構２５を有する。レンズホルダー２１は装着溝２１０を有する柱状体であるが、これに限らない。
装着溝２１０は壁面２１０５を装着溝２１０の側へ突起させて形成した第一突起部２１０３を有する。装着溝２１０は光学調整ユニット２４に向かい合う別の一側の壁面２１０５に環状突起部２１０２を有する。環状突起部２１０２は装着溝２１０に対応する表面にねじ山構造２１０１を有する。本実施形態において、環状突起部２１０１は必ずしも必要な構造ではない。ねじ山構造２１０１は図４Ｃに示すように装着溝２１０の壁面２１０５に形成されてもよい。
【００５２】
図４Ａおよび図４Ｂに示すように、光学調整ユニット２４は、装着溝２１０内に装着され、頂面２４０と、底面２４１と、頂面２４０および底面２４１に環状に連結された側面２４２とを有する。光学調整ユニットは光線を均等に散布させることができる拡散フィルム５４（ｄｉｆｆｕｓｅｒ）および雑光をろ過できるフィルター（ｆｉｌｔｅｒ）のうちのいずれか一つまたは、両者から構成されるため、光学測定効果を向上させることができる。
【００５３】
本実施形態において、光学調整ユニット２４は固定機構２５によって着脱できるように装着溝２１０内に装着され、底面２４１が第一突起部２１０３に当接する。固定機構２５は少なくとも一つの固定溝２５０および少なくとも一つの嵌合ユニット２５１を有する。
本実施形態において、固定機構２５は一対の固定溝２５０および一対の嵌合ユニット２５１を有する。固定溝２５０は光学調整ユニット２４の側面２４２に対応するようにレンズホルダー２１の上の表面２１０６に近い装着溝２１０の壁面に形成される。嵌合ユニット２５１は固定溝２５０に嵌め込まれ、光学調整ユニット２４の固定に用いられる。嵌合ユニット２５１の厚さは固定溝２５０の底面と光学調整ユニット２４の側面２４２との間の距離Ｄより大きいか、それに等しいため、嵌合ユニット２５１は固定溝２５０に嵌め込まれる際、光学調整ユニット２４に反発力が生じることによって光学調整ユニット２４を固定することができる。
一方、別の一実施形態において、嵌合ユニット２５１は熱膨張・冷収縮材料から構成されるため、温度の降下に伴って体積が収縮する方式によって固定溝２５０に嵌合ユニット２５１を嵌め込み、そののち温度を上昇させ、嵌合ユニット２５１を膨張させ、本体の状態に復元することができる。このとき嵌合ユニット２５１は反発力が光学調整ユニット２４に生じ、固定効果を果たす。
嵌合ユニット２５１は熱膨張・冷収縮材料に限らず、形状記憶材料から構成されてもよい。本実施形態は一対の固定溝２５０および一対の嵌合ユニット２５１を採用するが、これに限らず、単一の固定溝２５０および嵌合ユニット２５１の組み合わせを採用してもよい。
【００５４】
本実施形態において、レンズホルダー２１は、上の表面２１０６から装着溝２１０の内側へ傾斜した斜面２１９を有するため、レンズホルダー２１の開口面積を増大させ、光線収集の便をはかることができる。
図５Ａに示すように、レンズホルダー２１の比較的深い位置を調整する際に光学調整ユニット２４の表面に損傷を与えることを避けるために、本実施形態において、レンズホルダー２１の上の表面２１０６から調整溝２２４ａの底面までの高さはｔ１である。レンズホルダー２１の上の表面２１０６から光学調整ユニット２４の頂面２４０までの高さはｔ２である。
ｔ１とｔ２の関係はｔ２＞ｔ１で表示される。この高さの関係に基づいて調整溝２２４ａと光学調整ユニット２４との間に一定の距離を保てばレンズホルダー２１の比較的深い位置を調整する際に光学調整ユニット２４に損傷を与えることを避けることができる。
【００５５】
図４Ａに示すように、レンズホルダー２１は、上の表面２１０６に対称的に配置された二対の調整溝２２４ａ、２２４ｂを有する。本実施形態は二対の調整溝２２４ａ、２２４ｂを有するため、十字型の調整治具と二対の調整溝２２４ａ、２２４ｂとを接続し、時計回りまたは逆時計回りに回せば、レンズホルダー２１をＺ軸方向に上または下に移動させることができる。
本実施形態は二対の調整溝２２４ａ、２２４ｂを使用するが、これに限らず、実施形態の精神に基づいて奇数または少なくとも一つの調整溝を使用してもよい。別の一実施形態において、調整溝が一対である場合、一字型の調整治具と調整溝とを接続すれば、レンズホルダー２１を回転させることができる。
【００５６】
図４Ｃは本発明の一実施形態による光学測定装置において光学調整ユニットを有するレンズ調整機構にレンズが装着された状態を示す断面図である。ねじ山構造部２１０１とレンズ２３とを噛み合わせれば、レンズホルダー２１内にレンズ２３を装着および固定することができる。
【００５７】
図４Ｄは本発明の一実施形態による光学測定装置においての光学調整ユニットを有するレンズ調整機構と固定基板の締付方式を示す断面図である。固定基板２０は少なくとも一つの第二穿孔２０１と、第二穿孔２０１の壁面に形成された第一ねじ山２２０とを有する。回路基板６０は固定基板２０の上方に位置し、第二穿孔２０１に対応する第一穿孔６００を有する。
図４Ｃおよび図４Ｄに示すように、本発明はレンズホルダー２１の外側の第二ねじ山２２１と第一ねじ山２２０とを噛み合わせ、レンズホルダー２１の位置を調整することによってＺ軸方向上のレンズ２３の焦点位置を変えることができる。一方、レンズホルダー２１は可とう性環状体２２７の装着に用いる溝部２２８を有する。本実施形態において、可とう性環状体２２７はレンズホルダー２１の外側に嵌合される。
【００５８】
図５Ａに示すように、可とう性環状体２２７の外径Ｄ１は第一穿孔６００の内径Ｄ２より大きいかそれに等しい。固定基板２０にレンズホルダー２１を締め付ける際、可とう性環状体２２７は第一穿孔６００の内壁に係止され、圧縮された可とう性環状体２２７に生じた反発弾力は第一穿孔６００の側壁にぶつかるため、可とう性環状体２２７を配置する前と比べて、レンズホルダー２１と第一穿孔６００の側壁とをより相互に密着させることができるだけでなく、回路基板６０にレンズホルダー２１を固定する効果を向上させることができる。
一方、可とう性環状体２２７と第一穿孔６００とが相互に密着した上でレンズホルダー２１を上下に移動させる際、可とう性環状体２２７の作用によってレンズホルダー２１と固定基板２０との間のねじ山の隙間を低減することができるだけでなく、レンズホルダー２１を上下に移動させる際、位置を正確に制御することができる。
【００５９】
図５Ｂに示すように、本実施形態において、固定基板２０の第二穿孔２０１は外側に陥没溝２００を有する。可とう性環状体２２７の外径Ｄ１は陥没溝２００の内径Ｄ３より大きいかそれに等しい。
固定基板２０にレンズホルダー２１を締め付ける際、可とう性環状体２２７は陥没溝２００の内壁に係止されるため、可とう性環状体２２７を配置する前と比べて、レンズホルダー２１と陥没溝２００とをより相互に密着させることができるだけでなく、回路基板６０にレンズホルダー２１を固定する効果を向上させることができる。
【００６０】
図５Ｃに示すように、本実施形態は回路基板６０に補強板６７を増設する。補強板６７は第一貫通孔６７０を有する剛性構造体（ｓｔｉｆｆｎｅｓｓ）である。第一貫通孔６７０は第一穿孔６００と、ねじ山を有する第二穿孔２０１に対応する。本実施形態において、可とう性環状体２２７の外径は第一貫通孔６７０の孔径より大きいかそれに等しい。
固定基板２０に締め付けられたレンズホルダー２１ｅを降下させる際、可とう性環状体２２７は第一貫通孔６７０の内壁に係止され、第一貫通孔６７０に密着するため、固定効果を果たすことができる。つまり、レンズホルダーに位置する可とう性環状体によってレンズホルダーのスライドを抑制することができる。
【００６１】
図４Ｅは本発明の一実施形態による光学測定装置において光学調整ユニットを有するレンズホルダーが旋転角度を制御する状態を示す平面図である。
本実施形態において、レンズホルダー２１は、上の表面２１０６に少なくとも一つの目盛２７を有する。固定基板２０は少なくとも一つの標示２７１を有する。固定基板２０にレンズホルダー２１を締め付ける際、レンズホルダー２１の回転した角度と、レンズホルダー２１のＺ軸上の位置および高さとは、目盛２７および表示２７１によって明確にするため、このときレンズホルダー２１の位置を微調整することができる。
一方、別の実施形態において、目盛２７は固定基板２０に配置される。標示２７１はレンズホルダー２１の上の表面２１０６に配置される。
【００６２】
図４Ｆは本発明の一実施形態による光学測定装置の異なる光学調整ユニットを有するレンズホルダーを示す断面図である。図４Ｂに示したレンズホルダーとの違いは次の通りである。
本実施形態において、嵌合ユニット２５１は磁気伝導性のある金属材料から構成される。固定溝２５０は両側に磁性ユニット２５２を有する。磁性ユニット２５２は光学調整ユニット２４の側面と装着溝２１０の外壁との間に配置される。図４Ｇに示すように、光学調整ユニット２４の側面と装着溝２１０とは相互に密着する。
本実施形態は、装着溝２１０の壁面２１００と光学調整ユニット２４の側面２４２との間に少なくとも一つのクリップ溝２５３を有する。光学調整ユニット２４と装着溝２１０の壁面２１００とが相互に密着した上で光学調整ユニット２４を取り出す際、挟む・固定する工具によって光学調整ユニット２４をクリップ溝２５３から持ち上げ、そののち取り出せばよい。
クリップ溝２５３が少なくとも一対である場合、同様に挟む・固定する工具によって光学調整ユニット２４をクリップ溝２５３から取り出すことができる。本実施形態において、クリップ溝２５３は状況に応じて配置される。
【００６３】
図４Ｈに示すように、光学調整ユニット２４を取り出す方式は次の通りである。光学調整ユニット２４は、装着溝２１０の壁面２１００に近い位置に少なくとも一つの穿孔２４５を有する。穿孔２４５は開口部が光学調整ユニット２４の頂面２４０に位置する。穿孔２４５によって光学調整ユニット２４を取り出せばよい。詳細な内容は上述した通りである。
一方、別の一実施形態は、装着溝２１０内に締め付けられたレンズ２３と光学調整ユニット２４との間の空間に負圧を保ち、負圧によってレンズホルダー２１に光学調整ユニット２４を固定する効果を果たす。負圧によって固定された光学調整ユニットを取り出す方式は、上述したクリップ溝２５３または穿孔２４５を利用する方式を参考にすればよい。
【００６４】
続いて、本発明の異なる実施形態による光学測定装置６について説明を進める。図６Ａは本発明の別の一実施形態による光学測定装置６を示す断面図である。本実施形態において、固定基板２０は、回路基板６０の下の表面６０２に配置され、複数のスプリングピン（ｐｏｇｏ  ｐｉｎ）６３１を有する。
プローブモジュール６３は固定基板２０の下の表面２０７に配置される。プローブモジュール６３のプローブは垂直型プローブ６３０ｂである。プローブモジュール６３はさらにプローブ固定座６３２を有する。スプリングピン６３１は垂直型プローブ６３０ｂに対応するように固定基板２０内に配置され、かつ回路基板６０の電気接点に電気的に接続される。
別の一実施形態において、スプリングピン６３１は外側が絶縁材によって被覆される。プローブ固定座６３２は固定基板２０に連結されることで固定基板２０を回路基板６０とプローブ固定座６３２との間に位置させる。プローブ固定座６３２は垂直型プローブ６３０ｂの固定に用いられる。プローブ固定座６３２は第二穿孔２０１に対応する第三穿孔６３２０を有する。
一方、垂直型プローブ６３０ｂは一端がプローブ固定座６３２を通ってスプリングピン６３１に電気的に接続され、そののちスプリングピン６３１によって回路基板６０の電気接点に電気的に接続される。
本実施形態において、垂直型プローブ６３０ｂはアーム６３００と垂直部６３０１を有する。垂直部６３０１はプローブ固定座６３２を通ってスプリングピン６３１に電気的に接続される。
【００６５】
図６Ｂは本発明の別の一実施形態による光学測定装置６を示す断面図である。本実施形態において、固定基板２０は、回路基板６０の下の表面６０２に配置され、複数のスプリングピン６３１を有する。
スプリングピン６３１は固定基板２０内に配置され、回路基板６０に電気的に接続される。
別の一実施形態において、スプリングピン６３１は外側が絶縁材によって被覆される。プローブモジュール６３は固定基板２０の下の表面２０７に配置され、プローブ基板６３３を有する。プローブ基板６３３は固定基板２０に連結されることで固定基板２０を回路基板６０とプローブ基板６３３との間に位置させる。プローブ基板６３３は第四穿孔６３３１および内部に配置された第一導線６３３０を有する。
第四穿孔６３３１は第一穿孔６００および第二穿孔２０１に対応する。ＭＥＭＳプローブ６３０ａはプローブ基板６３３に配置され、第一導線６３３０によってスプリングピン６３１に電気的に接続され、そののちスプリングピン６３１によって回路基板６０の電気接点に電気的に接続される。ＭＥＭＳ技術に基づいてプローブ基板６３３に形成されたＭＥＭＳプローブ６３０ａは従来の技術であるため、詳細な説明を省略する。
【００６６】
図６Ｃに示したのは別の一実施形態による光学測定装置６である。図６Ｂとの違いは次の通りである。本実施形態において、光学測定装置６はさらに変換ボード６３４を有する。
変換ボード６３４は固定基板２０とプローブ基板６３３との間に配置される。変換ボード６３４は第五穿孔６３４１および内部に配置された複数の第二導線６３４０を有する。第五穿孔６３４１は第一穿孔６００、第二穿孔２０１および第四穿孔６３３１に対応する。第二導線６３４０はスプリングピン６３１、第一導線６３３０およびＭＥＭＳプローブ６３０ａに電気的に接続される。
変換ボード６３４は空間を切り替える機構である。詳しく言えば、それぞれの表面の電気接点の分布位置および密度が異なる状態下で上下の二つの表面の電気接点を相互に対応させ、電気的に接続する際、大きいピッチ（ｐｉｔｃｈ）を小さいピッチに変換するか、小さいピッチを大きいピッチに変換することができる。
一方、変換ボード６３４の電気接点の分布位置および密度は特に限定されず、測定対象物（ｄｅｖｉｃｅ  ｕｎｄｅｒ  ｔｅｓｔ，ＤＵＴ）９の種類および条件によって決められてもよい。
【００６７】
図６Ｄは本発明の別の一実施形態による光学測定装置６を示す断面図である。図６Ｂとの違いは次の通りである。
本実施形態は図６Ｂに示したスプリングピン６３１の代わりに差込ユニット６３１０を採用する。差込ユニット６３１０は固定基板２０内に配置され、かつインターポーザー６３１１、第一弾性接触ユニット６３１２および第二弾性接触ユニット６３１３を有する。第一弾性接触ユニット６３１２は第二弾性接触ユニット６３１３に対応するように電気的に接続される。
本実施形態において、固定基板２０は回路基板６０の下の表面６０２に配置される。インターポーザー６３１１は上の表面が複数の第一弾性接触ユニット６３１２によって回路基板６０に電気的に接続され、下の表面が複数の第二弾性接触ユニット６３１３によって複数の第一導線６３３０および複数のＭＥＭＳプローブ６３０ａに別々に電気的に接続される。
一方、図６Ｅに示すように、図６Ｄに示した光学測定装置６はさらに変換ボード６３４を有する。
変換ボード６３４は固定基板２０とプローブ基板６３３との間に配置される。変換ボード６３４は第五穿孔６３４１および内部に配置された複数の第二導線６３４０を有する。第五穿孔６３４１は第一穿孔６００、第二穿孔２０１および第四穿孔６３３１に対応する。第二導線６３４０は第二弾性接触ユニット６３１３およびＭＥＭＳプローブ６３０ａに電気的に接続される。
【００６８】
図６Ｆは本発明の別の一実施形態による光学測定装置６を示す断面図である。本実施形態において、光学測定装置６は、回路基板６０、固定基板２０、レンズホルダー２１およびプローブモジュール６３を備える。
回路基板６０は、電気接点および第一穿孔６００を有する。固定基板２０は回路基板６０の上の表面６０１に配置され、かつ第一穿孔６００に対応する第二穿孔２０１を有する。固定基板２０はエンジニアリングプラスチック、ベークライトまたはセラミックスから構成される。レンズホルダー２１は第二穿孔２０１内に装着され、かつ位置調整によって第二穿孔２０１内の位置が変わる。プローブモジュール６３は、回路基板６０の下の表面６０２に配置され、かつ複数の垂直型プローブ６３０ｂおよびプローブ固定座６３２を有する。
プローブ固定座６３２は回路基板６０の下の表面６０２に配置され、垂直型プローブ６３０ｂの固定に用いられ、かつ第二穿孔２０１に対応する第三穿孔６３２０を有する。一方、光学測定装置６はさらに導電層６３５を備える。導電層６３５はプローブ固定座６３２と回路基板６０との間に装着され、かつ複数の垂直型プローブ６３０ｂおよび回路基板６０に電気的に接続される。導電層６３５は異方位導電膜（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｆｉｌｍ；ＡＣＦ）、または台湾特許２９３９３８号により提示された差込ユニット５０４、または台湾特許Ｉ２６６０５７号により提示された弾性ユニット３２、または米国特許ＵＳ２０１２０１６９３６７号により提示されたスプリングコネクター２１４（Ｓｐｒｉｎｇ  Ｃｏｎｎｅｃｔｏｒｓ）であってもよい。
【００６９】
図７は本発明の別の一実施形態による光学測定装置６を示す断面図である。本実施形態において、光学測定装置６は、回路基板６０、固定基板２０、レンズホルダー２１およびプローブモジュール６３を備える。
回路基板６０は、電気接点および第一穿孔６００を有する。固定基板２０は回路基板６０の上の表面６０１に配置され、かつ第一穿孔６００に対応する第二穿孔２０１を有する。レンズホルダー２１は第二穿孔２０１内に装着され、かつ位置調整によって第二穿孔２０１内の位置が変わる。
プローブモジュール６３は、回路基板６０の下の表面６０２に配置され、かつ複数の垂直型プローブ６３０ｂおよびプローブ固定座６３２を有する。プローブ固定座６３２は回路基板６０の下の表面６０２に配置され、垂直型プローブ６３０ｂの固定に用いられ、かつ第二穿孔２０１に対応する第三穿孔６３２０を有する。
【００７０】
本実施形態において、第一穿孔６００の孔径は第二穿孔２０１および第三穿孔６３２０の孔径より大きい。固定基板２０は第一穿孔６００に対する位置に第六穿孔２０８を有する。垂直型プローブ６３０ｂは一端がプローブ固定座６３２を貫通し、第一穿孔６００および第六穿孔２０８によって回路基板６０の上の表面６０１の電気接点に電気的に接続される。
【００７１】
図８は図７に示した垂直型プローブ６３０ｂが配置された状態を示す斜視図である。プローブ固定座６３２はＮ型プローブの配置方式による複数の垂直型プローブ６３０ｂを有する。垂直型プローブ６３０ｂは垂直部６３０１がプローブ固定座６３２に垂直に配列される
【００７２】
図３Ａから図３Ｃおよび図４Ａから図４Ｈに示したレンズホルダーは、図２Ａ、図２Ｂ、図５Ａから図５Ｃおよび図６Ａから図６Ｆに示した光学測定装置に適用される。
【００７３】
以上、本発明は、上記実施形態になんら限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の形態で実施可能である。
【符号の説明】
【００７４】
２、２ｃ、２ｄ、２ｅ  レンズ調整機構  
２０、２０ｃ、２０ｄ、２０ｅ  固定基板  
２００  陥没溝  
２０１  第二穿孔  
２０２  フランジ構造部  
２０６  陥没溝  
２０７  下の表面  
２０８  第六穿孔  
２１、２１ｃ、２１ｄ、２１ｅ  レンズホルダー  
２１０  装着溝  
２１００  壁面  
２１０１  ねじ山構造部  
２１０２  環状突起部  
２１０３  第一突起部  
２１０５  壁面  
２１０６  上の表面  
２１６  第一エリア  
２１７  第二エリア  
２１８  ねじ山噛み合わせ調整部  
２１９  斜面  
２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ  位置調整部  
２２０  第一ねじ山  
２２１  第二ねじ山  
２２４ａから２２４ｄ  調整溝  
２２６  スリット  
２２７  可とう性環状体  
２２８  溝部  
２３  レンズ  
２４  光学調整ユニット  
２４０  頂面  
２４１  底面  
２４２  側面  
２４３  第二突起部  
２４５  穿孔  
２５、２５ｃ、２５ｄ  固定機構  
２５０  固定溝  
２５１  嵌合ユニット  
２５２  磁性ユニット
２５８、２５８ａ  ねじ孔  
２５９、２５９ａ  ねじ  
２５７  貫通孔  
２５３  クリップ溝  
２７  目盛  
２７１  標示  
６  光学測定装置  
６０  回路基板  
６００  第一穿孔  
６０１  上の表面  
６０２  下の表面  
６３  プローブモジュール  
６３０  プローブ  
６３００  アーム  
６３０１  垂直部  
６３０ａ  ＭＥＭＳプローブ  
６３０ｂ  垂直型プローブ  
６３１  スプリングピン  
６３１０  差込ユニット  
６３１１  インターポーザー  
６３１２  第一弾性接触ユニット  
６３１３  第二弾性接触ユニット  
６３２  プローブ固定座  
６３２０  第三穿孔  
６３３  プローブ基板  
６３３０  第一導線  
６３３１  第四穿孔  
６３４  変換ボード  
６３４０  第二導線  
６３４１  第五穿孔  
６３５  導電層  
６５  プローブ固定環  
６６  接着材料  
６７  補強板  
６７０  第一貫通孔  
９  測定対象物  
Ｄ  距離  
Ｄ１  外径  
Ｄ２、Ｄ３  孔径  
ｔ１、ｔ２、ｈ  高さ  
Ｔ  厚さ  
４  固定基板  
４１、５３  穿孔  
１１、５０  レンズホルダー  
１２、５２  レンズ  
１２１  ねじ山  
５１  基材  
５４  拡散フィルム  
５５  補強構造部
【図１Ａ】
2014021486.tif 000003
【図１Ｂ】
2014021486.tif 000004
【図２Ａ】
2014021486.tif 000005
【図２Ｂ】
2014021486.tif 000006
【図３Ａ】
2014021486.tif 000007
【図３Ｂ】
2014021486.tif 000008
【図３Ｃ】
2014021486.tif 000009
【図４Ａ】
2014021486.tif 000010
【図４Ｂ】
2014021486.tif 000011
【図４Ｃ】
2014021486.tif 000012
【図４Ｄ】
2014021486.tif 000013
【図４Ｅ】
2014021486.tif 000014
【図４Ｆ】
2014021486.tif 000015
【図４Ｇ】
2014021486.tif 000016
【図４Ｈ】
2014021486.tif 000017
【図５Ａ】
2014021486.tif 000018
【図５Ｂ】
2014021486.tif 000019
【図５Ｃ】
2014021486.tif 000020
【図６Ａ】
2014021486.tif 000021
【図６Ｂ】
2014021486.tif 000022
【図６Ｃ】
2014021486.tif 000023
【図６Ｄ】
2014021486.tif 000024
【図６Ｅ】
2014021486.tif 000025
【図６Ｆ】
2014021486.tif 000026
【図７】
2014021486.tif 000027
【図８】
2014021486.tif 000028