(57)【要約】  【課題】製造設備を簡略化できる光情報記録媒体を提供する。  【解決手段】光情報記録媒体は、少なくとも２層の情報信号層を備える。２層の情報信号層が、同一組成の記録材料により構成される、光の照射により情報信号を記録可能である記録層を含んでいる。【選択図】図１
2014017031.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２層の情報信号層を備え、
上記２層の情報信号層は、同一組成の記録材料により構成される、光の照射により情報信号を記録可能である記録層を含んでいる光情報記録媒体。
【請求項２】
情報信号を記録または再生するための光が照射される光照射面を有し、
上記２層の情報信号層は、上記光照射面から遠い第１の情報信号層と、上記光照射面から近い第２の情報信号層とからなり、
上記光照射面側における上記第１の情報信号層の反射率Ｒ０および上記第２の情報信号層の反射率Ｒ１は、２％≦Ｒ１≦２Ｒ０の関係を満たす請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
情報信号を記録または再生するための光が照射される光照射面を有し、
上記光照射面側における上記２層の情報信号層の反射率は、２％以上１０％以下の範囲内であり、
上記２層の情報信号層の透過率は、７１％以上８１％以下の範囲内である請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
単層の状態での上記２層の情報信号層の反射率は、４％以上１０％以下の範囲内であり、
上記２層の情報信号層の透過率は、７１％以上８１％以下の範囲内である請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
上記２層の情報信号層は、同一の層構成を有し、
上記２層の情報信号層を構成する各層が、同一の組成を有している請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
上記２層の情報信号層は、記録層の表面の少なくとも一方に設けられた保護層をさらに備え、
上記２層の情報信号層の保護層は、同一組成の材料により構成されている請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
上記材料は、誘電体材料である請求項６に記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
上記記録層は、パラジウム（Ｐｄ）の酸化物を含んでいる請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
上記２層の情報信号層は、隣り合って設けられている請求項１に記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、光情報記録媒体に関する。詳しくは、複数の情報信号層を備える光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまでＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）などが光情報記録媒体の市場を牽引してきた。しかし、近年では、テレビのハイビジョン化やＰＣ（Personal Computer）で取り扱うデータの急激な増大に伴い、光情報記録媒体の更なる大容量化が求められている。この要求に応えるべく、ＢＤ（Blu-ray Disc（登録商標））などの青色レーザに対応した大容量の光情報記録媒体が登場し、新たな大容量の光情報記録媒体の市場が立ち上がりつつある。
【０００３】
ところで、近年では、記録可能なＤＶＤやＢＤなどの高密度の光情報記録媒体においては、記録容量をさらに増大させるために、記録層を多層化する技術が広く採用されている。多層型の光情報記録媒体では、一般的には、光照射面からみた各記録層の反射率および記録感度が揃えられている。このような特性を得るために、従来の多層型の光情報記録媒体では、すべての記録層で異なる記録材料が用いられている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−６４２７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述のようにすべての層で異なる記録材料を用いると、各層で異なる成膜装置（例えばターゲットおよび成膜室など）を準備する必要が生じ、製造設備が大型化していた。このため、初期の設備投資が増大し、大容量の光情報記録媒体を安価に作製することが困難となっていた。
【０００６】
したがって、本技術の目的は、製造設備を簡略化できる光情報記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の課題を解決するために、本技術は、
少なくとも２層の情報信号層を備え、
２層の情報信号層は、同一組成の記録材料により構成される、光の照射により情報信号を記録可能である記録層を含んでいる光情報記録媒体である。
【０００８】
本技術では、２層の情報信号層の記録層を同一組成の記録材料により構成しているので、２層の記録層を同一の成膜装置にて成膜することができる。
【発明の効果】
【０００９】
以上説明したように、本技術によれば、光情報記録媒体の製造設備を簡略化できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図２】図２Ａは、情報信号層の第１の構成例を示す模式図である。図２Ｂは、情報信号層の第２の構成例を示す模式図である。
【図３】図３Ａは、情報信号層の第３の構成例を示す模式図である。図３Ｂは、情報信号層の構成例を示す模式図である。
【図４】図４は、光情報記録媒体の光学特性を説明するための模式図である。
【図５】図５は、本技術の第２の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図６】図６は、本技術の第３の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図７】図７は、本技術の第４の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図８】図８Ａは、試験例１のシミュレーションの結果を示す図である。図８Ｂは、反射率Ｒ０、Ｒ１および透過率ｔ０、ｔ１の好適な数値範囲を示す図である。図８Ｂは、反射率Ｒ０、Ｒ１および透過率ｔ０、ｔ１のより好適な数値範囲を示す図である。
【図９】図９Ａは、参考例１の光情報記録媒体の信号特性の評価結果を示す図である。図９Ｂは、参考例２の光情報記録媒体の信号特性の評価結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本技術の実施形態について以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（２層構造の光情報記録媒体の例）
１．１．光情報記録媒体の構成
１．２．光情報記録媒体の光学特性
１．３．光情報記録媒体の記録再生
１．４．光情報記録媒体の製造方法
２．第２の実施形態（ｎ層構造の光情報記録媒体の例）
３．第３の実施形態（２枚の基板を貼り合わせた光情報記録媒体の例）
４．第４の実施形態（凹凸面に情報信号層を設けた光情報記録媒体の例）
【００１２】
＜１．第１の実施形態＞
［１．１．光情報記録媒体の構成］
図１は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この光情報記録媒体１０は、いわゆる追記型の光情報記録媒体であり、図１に示すように、中間層Ｓ０、情報信号層Ｌ０、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、カバー層２がこの順序で基板１の一主面に積層された構成を有する。光情報記録媒体１０は、情報信号の記録または再生時に、第１レーザ光ＬＢ１および第２レーザ光ＬＢ２が照射される光照射面Ｃを有する。
【００１３】
以下、光情報記録媒体１０を構成する基板１、情報信号層Ｌ０、Ｌ１、中間層Ｓ０、Ｓ１およびカバー層２について順次説明する。
【００１４】
（基板）
基板１は、例えば、中央に開口（以下「センターホール」と称する。）が形成された円盤形状を有する。この基板１の一主面には、例えば、凹凸面が設けられており、この凹凸面上に情報信号層Ｌ０が成膜される。凹凸面は、例えば、周方向に連続的に延在された複数の溝（凹部）と、この溝間に設けられた複数の凸部とにより形成されている。以下では、凹凸面のうち溝（凹部）をランドＬｄ、凸部をグルーブＧｖと称する。
【００１５】
このグルーブＧｖおよびランドＬｄの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、グルーブＧｖおよび／またはランドＬｄが、例えば、線速度の安定化やアドレス情報付加などのためにウォブル（蛇行）されている。
【００１６】
基板１の径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センターホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００１７】
基板１の材料としては、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、コストの観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができる。
【００１８】
（情報信号層）
光情報記録媒体１０は、光照射面Ｃから遠い情報信号層（第１情報信号層）Ｌ０と、光照射面Ｃから近い情報信号層（第２の情報信号層）Ｌ１とから２層の情報信号層を備えている。情報信号層Ｌ０、Ｌ１は、同一組成の記録材料により構成される、レーザ光の照射により情報信号を記録可能である記録層を含んでいる。このような構成にすることで、光情報記録媒体１０の構造および製造装置を簡略化することができる。光情報記録媒体１０の構造および製造装置の更なる簡略化の観点からすると、情報信号層Ｌ０、Ｌ１が同一の層構成を有し、かつ、情報信号層Ｌ０、Ｌ１を構成する各層が同一の組成を有していることが好ましい。
【００１９】
情報信号層Ｌ０、Ｌ１は、保存信頼性向上の観点からすると、記録層の主面の少なくとも一方に設けられた保護層をさらに備えることが好ましく、記録層の両方の主面に保護層をさらに備えることがより好ましい。情報信号層Ｌ０、Ｌ１の保護層は、光情報記録媒体１０の構造および製造装置の更なる簡略化の観点からすると、同一組成の材料により構成されていることが好ましい。
【００２０】
以下に、情報信号層Ｌ０、Ｌ１の具体例として、第１〜第４の構成例について説明する。
（第１の構成例）
図２Ａは、情報信号層の第１の構成例を示す模式図である。図２Ａに示すように、第１の構成例では、情報信号層Ｌ０、Ｌ１は、記録層１１のみにより構成されている。このような単純な構成とすることで、光情報記録媒体１０の構造および製造装置を第２〜第４の構成例に比べて簡略化することができる。
【００２１】
（第２の構成例）
図２Ｂは、情報信号層の第２の構成例を示す模式図である。図２Ｂに示すように、第２の構成例では、情報信号層Ｌ０、Ｌ１は、例えば、上側面（第２の主面）および下側面（第１の主面）を有する記録層１１と、記録層１１の下側面に隣接して設けられた保護層１２を備える。このような構成とすることで、第１の構成例に比して記録層１１の耐久性などを向上することができる。
【００２２】
（第３の構成例）
図３Ａは、情報信号層の第３の構成例を示す模式図である。図３Ａに示すように、第３の構成例では、情報信号層Ｌ０、Ｌ１は、例えば、上側面（第２の主面）および下側面（第１の主面）を有する記録層１１と、記録層１１の上側面に隣接して設けられた保護層１３とを備える。このような構成とすることで、第１の構成例に比して記録層１１の耐久性などを向上することができる。
【００２３】
（第４の構成例）
図３Ｂは、情報信号層の構成例を示す模式図である。図３Ｂに示すように、第４の構成例では、情報信号層Ｌ０、Ｌ１は、例えば、上側面（第２の主面）および下側面（第１の主面）を有する記録層１１と、記録層１１の下側面に隣接して設けられた保護層（第１保護層）１２と、記録層１１の上側面に隣接して設けられた保護層（第２保護層）１３とを備える。このような構成とすることで、第２および第３の構成例に比して記録層１１の耐久性などを向上することができる。
【００２４】
（記録層）
記録層１１は、金属酸化物を含む無機記録材料を主成分として含んでいる。無機記録材料としては、例えば、Ｐｄ酸化物を含む無機記録材料（以下「ＰｄＯ系材料」と称する。）、Ｃｕ酸化物を含む無機記録材料（以下「ＣｕＯ系材料」と称する。）またはＡｇ酸化物を含む無機記録材料（以下「ＡｇＯ系材料」と称する。）を用いることができるが、これに限定されるものではない。ＰｄＯ系材料、ＣｕＯ系材料、ＡｇＯ系材料としてはそれぞれ、例えば、Ｐｄ−Ｏ−Ｘ、Ｃｕ−Ｏ−Ｘ、Ａｇ−Ｏ−Ｘを用いることができる。但し、Ｘは、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｈｆ、Ｔａ、ＷおよびＢｉなどからなる群より選ばれる１種以上を用いることができる。
【００２５】
ＰｄＯ系材料としては、例えば、Ｗ、ＰｄおよびＣｕを含む金属酸化物、またはＷ、Ｚｎ、ＣｕおよびＰｄを含む金属酸化物を用いることができる。より具体的には、Ｗ酸化物、Ｐｄ酸化物、およびＣｕ酸化物の３元系酸化物（以下「ＷＣＰＯ」と称する。）、またはこのＷＣＰＯにさらにＺｎ酸化物を加えた４元系酸化物（以下「ＷＺＣＰＯ」と称する。）を用いることができる。記録層１１の厚さは、例えば、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内である。
【００２６】
（保護層）
記録層１１の下側面および上側面にそれぞれ保護層１２および保護層１３が設けられている場合には、保護層１２および保護層１３は、光情報記録媒体１０の構造および製造装置を簡略化する観点からすると、同一組成の材料により構成されていることが好ましい。情報信号層Ｌ０および情報信号層Ｌ１の両方が保護層１２を有する場合には、それらの保護層１２は、上記簡略化の観点からすると、同一組成の材料により構成されていることが好ましい。また、情報信号層Ｌ０および情報信号層Ｌ１の両方が保護層１３を有する場合には、それらの保護層１３は、上記簡略化の観点からすると、同一組成の材料により構成されていることが好ましい。情報信号層Ｌ０および情報信号層Ｌ１が保護層１２および保護層１３の両方を備える場合には、それらの保護層１２および保護層１３の全ては、上記簡略化の観点からすると、同一組成の材料により構成されていることが好ましい。
【００２７】
保護層１２および保護層１３の材料としては、誘電体材料を用いることが好ましい。保護層１２および保護層１３がガスバリア層として機能することで、記録層１１の耐久性を向上することができるからである。また、記録層１１の酸素の逃避やＨ2Ｏの侵入を抑制することで、記録層１１の膜質の変化（主に反射率の低下として検出される変化）を抑制することができ、記録層１１として必要な膜質を確保することができる。
【００２８】
保護層１２および保護層１３の材料としては、例えば、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、フッ化物またはその混合物が挙げられる。保護層１２および保護層１３の材料としては、互いに同一または異なる材料を用いることができる。酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｒ、ＢｉおよびＭｇからなる群から選ばれる１種以上の元素の酸化物が挙げられる。窒化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＴａおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物、好ましくはＳｉ、ＧｅおよびＴｉからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物が挙げられる。硫化物としては、例えば、Ｚｎ硫化物が挙げられる。炭化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、ＴａおよびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物、好ましくはＳｉ、Ｔｉ、およびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物が挙げられる。フッ化物としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、ＣａおよびＬａからなる群より選ばれる１種以上の元素のフッ化物が挙げられる。これらの混合物としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｉｎ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＩＺ）、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＣＺ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2（ＩＴＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＣｅＯ2（ＩＣＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3（ＩＧＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3−ＺｎＯ（ＩＧＺＯ）、Ｓｎ2Ｏ3−Ｔａ2Ｏ5（ＴＴＯ）、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3−ＺｎＯ、Ａｌ2Ｏ3−ＢａＯなどが挙げられる。保護層１２および保護層１３の厚さは、例えば０ｎｍを超えて３０ｎｍ以下の範囲内に設定される。
【００２９】
（中間層）
中間層Ｓ０は、基板１の凹凸面と情報信号層Ｌ０とを物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たしている。中間層Ｓ１は、情報信号層Ｌ０と情報信号層Ｌ１とを物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たしている。中間層Ｓ０および中間層Ｓ１の厚みは、例えば９μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。中間層Ｓ０および中間層Ｓ１の材料は特に限定されるものではないが、紫外線硬化性アクリル樹脂を用いることが好ましい。中間層Ｓ０および中間層Ｓ１は、奥側の層への情報信号の記録または再生をするための第１レーザ光（例えば青色レーザ光）ＬＢ１の光路、およびサーボをとるための第２レーザ光（例えば赤色レーザ光）ＬＢ２の光路となる。この点を考慮すると、中間層Ｓ０および中間層Ｓ１は、第１レーザ光ＬＢ１および第２レーザ光ＬＢ２に対して十分に高い光透過性を有していることが好ましい。
【００３０】
（カバー層）
カバー層２は、第１レーザ光ＬＢ１および第２レーザ光に対して十分に高い光透過性を有する光透過層であることが好ましい。カバー層２は、例えば、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を硬化してなる樹脂層である。この樹脂層の材料としては、例えば、紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。また、円環形状を有する光透過性シートと、この光透過性シートを基板１に対して貼り合わせるための接着層とからカバー層２を構成するようにしてもよい。光透過性シートは、記録および再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））などを用いることができる。接着層の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂、感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）などを用いることができる。
【００３１】
カバー層２の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれる。このような薄いカバー層２と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
【００３２】
［１．２．光情報記録媒体の光学特性］
図４は、光情報記録媒体の光学特性を説明するための模式図である。ここで、情報信号層Ｌ０、Ｌ１を積層した状態での情報信号層Ｌ０、Ｌ１の反射率をそれぞれＲ０、Ｒ１とし、単層の状態での情報信号層Ｌ０、Ｌ１の反射率をそれぞれｒ０、ｒ１とする。単層の状態での情報信号層Ｌ０、Ｌ１の透過率をそれぞれｔ０、ｔ１とする。
【００３３】
情報信号層Ｌ０、Ｌ１を積層した状態での情報信号層Ｌ０の反射率Ｒ０とは、光照射面Ｃの側における情報信号層Ｌ０の反射率であり、具体的には、以下の式により定義される。
Ｒ０［％］＝（Ｉ０／Ｉ）×１００
但し、Ｉ：光照射面Ｃに入射するレーザ光の光量、Ｉ０：光照射面Ｃから入射して情報信号層Ｌ１を透過し、情報信号層Ｌ０で反射されて、情報信号層Ｌ１を再度透過して、光照射面Ｃから出射されるレーザ光の光量
【００３４】
情報信号層Ｌ０、Ｌ１を積層した状態での情報信号層Ｌ１の反射率Ｒ１とは、光照射面Ｃの側における情報信号層Ｌ１の反射率であり、具体的には、以下の式により定義される。
Ｒ１［％］＝（Ｉ１／Ｉ）×１００
但し、Ｉ：光照射面Ｃに入射するレーザ光の光量、Ｉ１：光照射面Ｃから入射して情報信号層Ｌ１で反射されて光照射面Ｃから出射されるレーザ光の光量
【００３５】
情報信号層Ｌ０、Ｌ１を積層した状態における各層の反射率Ｒ０、Ｒ１は、２％≦Ｒ１≦２Ｒ０の関係を満たすことが好ましい。２％＞Ｒ１であると、現状のフォトディテクターにとってＳＮＲが悪化してくる領域となる。Ｒ１＞２Ｒ０であると、従来のドライブシステムのサーボ系のレンジ設計を変更する必要が生じてしまうため、ドライブ設計上の弊害が大きくなる。
【００３６】
情報信号層Ｌ０、Ｌ１を積層した状態における各層の反射率Ｒ０、Ｒ１は、好ましくは２％以上１０％以下、より好ましくは４％以上８％以下の範囲内である。反射率が２％未満であると、現状のフォトディテクターにとってＳＮＲが悪化してくる領域となる。一方、反射率が１０％を超えると、十分な記録感度と十分な透過率の両立が困難となる。
【００３７】
単層の状態における各層の反射率ｒ０、ｒ１は、４％以上１０％以下であることが好ましい。この範囲内にすることにより、情報信号層Ｌ０、Ｌ１を積層した状態における各層の反射率Ｒ０、Ｒ１を２％以上１０％以下の範囲内にすることができる。
【００３８】
情報信号層Ｌ０、Ｌ１の透過率ｔ１、ｔ２は、７１％以上８１％以下の範囲内であることが好ましい。情報信号層Ｌ０、Ｌ１の透過率ｔ１、ｔ２が７１％未満であると、情報信号層Ｌ０の反射率Ｒ０が情報信号層Ｌ０の反射率Ｒ１の１／２未満になってしまう。すなわち、（１／２）・Ｒ１＞Ｒ０（Ｒ１＞２Ｒ０）となってしまう。反射率Ｒ０が反射率Ｒ１の１／２未満であると、上述したように、従来のドライブシステムのサーボ系のレンジ設計を変更する必要が生じてしまうため、ドライブ設計上の弊害が大きくなる。一方、情報信号層Ｌ０、Ｌ１の透過率ｔ１、ｔ２が８１％を超えると、６倍速記録を３２ｍＷ以下 の記録パワーで実現することが困難になる。
【００３９】
情報信号層Ｌ０と情報信号層Ｌ１とからの戻り光量の差ΔＩ（＝Ｉ１−Ｉ０）は、できる限り小さいことが好ましい。具体的には、情報信号層Ｌ０からの戻り光量Ｉ０は、情報信号層Ｌ１からの戻り光量Ｉ１の１／２以上であることが好ましい。すなわち、情報信号層Ｌ０の反射率Ｒ０は、情報信号層Ｌ１の反射率Ｒ１の１／２以上であることが好ましい。１／２未満であると、上述したように、従来のドライブシステムのサーボ系のレンジ設計を変更する必要が生じてしまうため、ドライブ設計上の弊害が大きくなる。
【００４０】
上述の戻り光量の関係（（１／２）・Ｉ１≦Ｉ０）を満たすためには、情報信号層Ｌ０、Ｌ１の透過率ｔ１、ｔ２は７１％以上である必要がある。この透過率７１％は以下の計算により求められる。
【００４１】
情報信号層Ｌ０、Ｌ１を積層した状態での情報信号層Ｌ１の反射率Ｒ１は、以下の式（１）により表される。
Ｒ１＝ｒ１  ・・・（１）
また、情報信号層Ｌ０、Ｌ１を積層した状態での情報信号層Ｌ０の反射率Ｒ０は、以下の式（２）により表される。
Ｒ０＝１００×（ｔ１／１００）2×（ｒ０／１００）  ・・・（２）
【００４２】
ここで、情報信号層Ｌ０の戻り光量Ｉ０と情報信号層Ｌ１の戻り光量Ｉ１とが満たすべき関係は、以下の式（３）により表される。
（１／２）・Ｉ１≦Ｉ０  ・・・（３）
この戻り光量Ｉ０、Ｉ１の関係は、情報信号層Ｌ０の反射率Ｒ０と情報信号層Ｌ１の反射率Ｒ１との関係を示す以下の式（４）により、置き換えることができる。
（１／２）・Ｒ１≦Ｒ０  ・・・（４）
【００４３】
この式（４）に式（１）および式（２）を代入することにより、以下の式（５）が導き出される。
（１／２）・ｒ１≦１００×（ｔ１／１００）2×（ｒ０／１００）  ・・・（５）
ここで、単層の状態での情報信号層Ｌ０、Ｌ１の反射率ｒ０、ｒ１が同一（ｒ０＝ｒ１）であると仮定すると、以下の関係式（６）が得られる。
７１［％］≦ｔ１  ・・・（６）
したがって、情報信号層Ｌ１の透過率ｔ１を７１％以上にすることで、情報信号層Ｌ０の反射率Ｒ０を情報信号層Ｌ１の反射率Ｒ１の１／２以上とすることができる。すなわち、情報信号層Ｌ０からの戻り光量Ｉ０を、情報信号層Ｌ１からの戻り光量Ｉ１の１／２以上とすることができる。
【００４４】
データ転送レートは高い方が好ましく、具体的には６倍速記録（２１６Ｍｂｐｓ）の実現が望まれる。ただし高速記録には高いレーザーパワーが必要である。半導体レーザの記録パワーは、３２ｍＷ以下とすることが好ましい。一般的な民生用ドライブに搭載されている半導体レーザの最大記録パワーが３２ｍＷ程度であるからである。
【００４５】
情報信号層Ｌ０、Ｌ１の透過率を上げると、情報信号層Ｌ０、Ｌ１の記録感度が悪くなる（すなわち記録パワーが高くなる）性質があり、６倍速記録を３２ｍＷ以下で実現するためには、情報信号層Ｌ０、Ｌ１の透過率を８１％以下にすることが好ましい。
【００４６】
［１．３．光情報記録媒体の記録再生］
次に、図１を参照しながら、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の記録および再生の一例について説明する。
【００４７】
光情報記録媒体１０では、カバー層２側の光照射面Ｃから対物レンズを介して第１レーザ光ＬＢ１を情報信号層Ｌ０または情報信号層Ｌ１に照射すると共に、第２レーザ光ＬＢ２を基板の凹凸面に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。
【００４８】
第１レーザ光ＬＢ１は、情報信号を記録または再生をするための記録光または再生光としてのレーザ光であり、第２レーザ光ＬＢ２は、情報信号を記録または再生時におけるサーボ制御を行うためのサーボ光としてのレーザ光である。これら第１レーザ光ＬＢ１と第２レーザ光ＬＢ２は、例えば、記録再生装置における共通の対物レンズを介して光情報記録媒体１０に照射される。対物レンズの開口数は、例えば、０．８４以上０．９５以下の範囲内から選ばれる。第１レーザ光ＬＢ１と第２レーザ光ＬＢ２とは互いに異なる波長を有し、第１レーザ光ＬＢ１の波長λ１は、例えば、第２レーザ光ＬＢ２の波長λ２よりも短波長に選ばれる。第１レーザ光ＬＢ１は、例えば、３９５ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲の波長を有する青色または青紫色レーザ光であるのに対して、第２レーザ光ＬＢ２は、例えば、６４０ｎｍ以上６８０ｎｍ以下の範囲の波長を有する赤色レーザ光である。
【００４９】
［１．４．光情報記録媒体の製造方法］
次に、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例について説明する。
【００５０】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面が形成された基板１を成形する。基板１の成形の方法としては、例えば、射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００５１】
（中間層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により紫外線硬化樹脂を基板１の凹凸面に均一に塗布した後、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させる。これにより、中間層Ｓ０が基板１の凹凸面に形成される。
【００５２】
（情報信号層の形成工程）
次に、例えばスパッタ法により、基板１上に情報信号層Ｌ０を形成する。情報信号層Ｌ０の具体的な形成工程は、情報信号層Ｌ０の構成により異なる。以下に、情報信号層Ｌ０が上述の第４の構成（図３Ｂ参照）を有する場合について、情報信号層Ｌ０の形成工程について具体的に説明する。なお、情報信号層Ｌ０が第１〜第３の構成のいずれかを有する場合には、その構成に応じて、保護層１２および／または保護層１３の形成を適宜省略すればよい。
【００５３】
（保護層の成膜工程）
まず、基板１を、保護層形成用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、基板１上に保護層１２を成膜する。
【００５４】
（記録層の成膜工程）
次に、基板１を、記録層成膜用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、保護層１２上に記録層１１を成膜する。
【００５５】
（保護層の成膜工程）
次に、基板１を、保護層形成用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、記録層１１上に保護層１３を成膜する。
以上により、基板１上に情報信号層Ｌ０が形成される。
【００５６】
（中間層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により紫外線硬化樹脂を情報信号層Ｌ０上に均一に塗布した後、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させる。これにより、中間層Ｓ１が情報信号層Ｌ０上に形成される。
【００５７】
（情報信号層の形成工程）
次に、例えばスパッタ法により、中間層Ｓ１上に情報信号層Ｌ１を形成する。情報信号層Ｌ１の具体的な形成工程は、情報信号層Ｌ１の構成により異なる。情報信号層Ｌ１が上述の情報信号層Ｌ０と同様の構成を有する場合には、情報信号層Ｌ０の各層を上述の情報信号層Ｌ１と同一の成膜装置（すなわち同一のターゲットおよび真空チャンバー）を用いて形成することができる。
【００５８】
（カバー層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂（ＵＶレジン）などの感光性樹脂を情報信号層Ｌ３上にスピンコートした後、紫外線などの光を感光性樹脂に照射し、硬化する。これにより、情報信号層Ｌ上にカバー層２が形成される。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体１０が得られる。
【００５９】
［効果］
情報信号層Ｌ０、Ｌ１の記録層１１を同一組成の記録材料で構成しているので、同一のターゲットおよび成膜室を用いて記録層１１を形成することができる。したがって、光情報記録媒体１０の構造および成膜装置を簡略化できるので、次世代の光情報記録媒体１０の低廉化に大きく貢献できる。
【００６０】
＜２．第２の実施形態＞
図５は、本技術の第２の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この光情報記録媒体２０は、図５に示すように、中間層Ｓ０、情報信号層Ｌ０、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、・・・、中間層Ｓｎ、情報信号層Ｌｎ、カバー層２がこの順序で基板１の一主面に積層された構成を有する。
【００６１】
情報信号層Ｌ０〜Ｌｎのうち隣り合って設けられている２層の情報信号層Ｌｋ−１、Ｌｋ（ｋは１〜ｎまでの自然数）が、上述の第１の実施形態における情報信号層Ｌ０、Ｌ１と同様の構成を有している。中間層Ｓ０〜Ｓｎは、上述の第１の実施形態における中間層Ｓ０、Ｓ１と同様の構成を有している。
【００６２】
第２の実施形態において上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【００６３】
＜３．第３の実施形態＞
図６は、本技術の第３の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この光情報記録媒体２０は、図６に示すように、基板（第１基板）３と基板（第２基板）４との間に、中間層Ｓ０、情報信号層Ｌ０、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、貼合層５が基板３と基板４の方向に向かってこの順序で積層された構成を有する。
【００６４】
基板３は、第１の実施形態の基板１と同様の構成を有する。基板４は、一主面に凹凸面が設けられておらず、両主面が平坦面であること以外は、基板３と同様の構成を有する。貼合層５は、基板３と基板４とを貼り合わせるための層であり、その材料としては中間層Ｓ０、Ｓ１と同様の材料を用いることができる。
【００６５】
この第２の実施形態に係る光情報記録媒体２０では、基板４側の光照射面Ｃから第１レーザ光ＬＢ１および第２レーザ光ＬＢ２を各情報信号層Ｌ０、Ｌ１に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。
【００６６】
第３の実施形態において上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【００６７】
＜４．第４の実施形態＞
図７は、本技術の第４の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。この光情報記録媒体２０は、図７に示すように、情報信号層Ｌ０、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、カバー層２がこの順序で基板１の一主面に積層された構成を有する。中間層Ｓ１の一主面には凹凸面が設けられている。この凹凸面の形状としては、基板１の凹凸面と同様の形状を採用することができる。
【００６８】
この第２の実施形態に係る光情報記録媒体２０では、カバー層２側の光照射面Ｃからレーザ光ＬＢを各情報信号層Ｌ０、Ｌ１に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光情報記録媒体２０としては、例えば２層のＢＤ−Ｒが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００６９】
第４の実施形態において上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【実施例】
【００７０】
以下、試験例および参考例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの試験例および参考例のみに限定されるものではない。
【００７１】
本技術の試験例および参考例について以下の順序で説明する。
１．シミュレーションによる反射率の範囲の検討
２．実サンプルによる層構成および材料組成の検討
３．実サンプルによる他の層構成および材料組成の検討
【００７２】
以下では、２層の情報信号層を有する光情報記録媒体について、光照射面側から遠い情報信号層を「Ｌ０層」と称し、光照射面側から近い情報信号層を「Ｌ１層」と称する。
また、記録層の両主面のうち、カバー層側となる主面に隣接して設けられる誘電体層を「上層誘電体層」、それとは反対の基板側となる主面に隣接して設けられる誘電体層を「下層誘電体層」と称する。
【００７３】
＜１．シミュレーションにより反射率の範囲の検討＞
（試験例１）
Ｌ０層およびＬ１層を有する２層の光情報記録媒体について、単層の状態でのＬ０層、Ｌ１層の反射率ｒ０、ｒ１および透過率ｔ０、ｔ１と、光照射面側におけるＬ０層の反射率Ｒ０との関係をシミュレーションにより求めた。以下にシミュレーションの条件を示す。
Ｌ０層、Ｌ１層：記録層のみからなる同一の単層構造の情報信号層
レーザ光：４０５ｎｍ
なお、照射面における反射率は、Ｌ０層、Ｌ１層の表面における反射率に比して非常に小さいため、本試験例では無視した。
【００７４】
図８Ａは、試験例１のシミュレーションの結果を示す。図８Ａ中、横軸および縦軸はそれぞれ、単層の状態でのＬ０層、Ｌ１層の反射率ｒ０、ｒ１および透過率ｔ０、ｔ１を示す。斜線で記した各領域は、積層した状態でのＬ０層の反射率Ｒ０を０〜１０％の範囲で２％毎に区切って表した領域を示す。
【００７５】
上述したように、積層した状態でのＬ０層、Ｌ１層の反射率Ｒ０、Ｒ１は２％以上１０％以下の範囲内であることが好ましい。また、単層の状態でのＬ０層、Ｌ１層の透過率ｔ０、ｔ１は７１％以上８１％以下であることが好ましい。これらの反射率Ｒ０、Ｒ１および透過率ｔ０、ｔ１の数値範囲を満たすためには、単層の状態でのＬ０層およびＬ１層が図８Ｂに示す領域Ａ１を満たす光学特性を有していればよい。この領域Ａ１の範囲は、近似的には以下の式により表すことができる。
４％≦ｒ０、ｒ１≦１０％
７１％≦ｔ０、ｔ１≦８１％
【００７６】
上述したように、積層した状態でのＬ０層、Ｌ１層の反射率Ｒ０、Ｒ１は４％以上８％以下の範囲内であることがより好ましい。この反射率Ｒ０、Ｒ１の数値範囲と、上述の透過率ｔ０、ｔ１の数値範囲を満たすためには、単層の状態でのＬ０層およびＬ１層が図８Ｃに示す領域Ａ２を満たす光学特性を有していればよい。
【００７７】
＜２．実サンプルによる層構成および材料組成の検討＞
（参考例１）
まず、射出成形により、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板を成形した。なお、このポリカーボネート基板上にはグルーブを有する凹凸面を形成し、トラックピッチは０．３２μｍとした。
【００７８】
次に、スパッタリング法により、上層誘電体層、記録層、下層誘電体層をポリカーボネート基板上に順次積層することにより、情報信号層を形成した。
【００７９】
具体的な各層の構成は以下のようにした。
上層誘電体層
材料：ＩＴＯ、厚さ：１０ｎｍ
記録層
材料：ＷＺｎＣｕＰｄＯ、厚さ：４０ｎｍ
組成比(原子比（原子％）)：Ｗ：Ｚｎ：Ｃｕ：Ｐｄ：Ｏ＝２５：４５：２０：１０
下層誘電体層
材料：ＩＴＯ、厚さ：２０ｎｍ
【００８０】
次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂を誘電体層上に均一塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ７５μｍを有するカバー層を形成した。
以上により、単層の光情報記録媒体を得た。
【００８１】
（参考例２）
スパッタリング法により、以下の構成を有する上層誘電体層、記録層、下層誘電体層をポリカーボネート基板上に順次積層することにより、情報信号層を形成したこと以外は参考例１と同様にして、単層の光情報記録媒体を得た。
【００８２】
上層誘電体層
材料：ＩＴＯ、厚さ：１０ｎｍ
記録層
材料：ＷＺｎＣｕＰｄＯ、厚さ：３５ｎｍ
組成比(原子比（原子％）)：Ｗ：Ｚｎ：Ｃｕ：Ｐｄ：Ｏ＝２０：４０：２５：１５
下層誘電体層
材料：ＩＴＯ、厚さ：５ｎｍ
【００８３】
（評価）
上述のようにして得られた参考例１、２の光情報記録媒体について、最適記録パワー、反射率および透過率を評価した。以下に、それらの評価方法の詳細について説明する。
【００８４】
（最適記録パワー）
光情報記録媒体の信号特性を以下のようにして評価した。まず、Blu-ray Disc（登録商標）用の評価装置を用いて、１層あたり３２ＧＢ（ＢＤ２５ＧＢの１．２８倍）相当の情報記録密度で、２倍速記録（７．６９ｍ／ｓ）にてトラックにデータを記憶し、トラックの信号を測定して、信号特性を評価した。なお、参考例１の光情報記録媒体では、１トラックにデータを記憶して、トラックの信号を測定した。参考例２の光情報記録媒体では、５トラックにデータを記憶して、その中央のトラックの信号を測定した。評価装置における記録用光の波長は４０５ｎｍ、集光レンズの開口数ＮＡは０．８５である。信号特性の評価にはＢＤ−ＸＬで使用されている、ｉ−ＭＬＳＥという指標を用いた。記録パワーＰｗに対するｉ−ＭＬＳＥ値の評価結果を図９Ａおよび図９Ｂに示す。次に、ｉ−ＭＬＳＥが最も良好になる記録パワー（最も低くなる記録パワー）を求めて、最適記録パワーとした。その最適記録パワーを表１に示す。
【００８５】
次に、２倍速記録の最適記録パワーを用いて、４倍速記録および６倍速記録の最適記録パワーを以下の計算式を用いて求めた。
（４倍速記録の最適記録パワー）＝（２倍速記録の最適記録パワー）×√２
（６倍速記録の最適記録パワー）＝（２倍速記録の最適記録パワー）×√３
なお、√２、√３はそれぞれ、２、３の平方根を示す。
【００８６】
（反射率、透過率）
光情報記録媒体の反射率はディスク評価機にて再生時のレーザ光の戻り光量から求めた。透過率は、分光光度計（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製、商品名：VASE）を用いて測定した。その結果を表１に示す。
【００８７】
（２層の記録媒体の特性）
上述の参考例１、２の光情報記録媒体の信号特性および光学特性の評価結果を用いて、参考例１の情報信号層をＬ０層およびＬ１層として用いた２層の光情報記録媒体、および参考例２の情報信号層をＬ０層およびＬ１層として用いた２層の光情報記録媒体の最適記録パワーおよび反射率を計算により求めた。その結果を表２、表３に示す。
【００８８】
（結果）
表１は、参考例１、２の光情報記録媒体の最適記録パワー、反射率および透過率の評価結果を示す。
【表１】
2014017031.tif 000003
【００８９】
表２は、参考例１の情報信号層をＬ０層およびＬ１層として用いた２層の光情報記録媒体の最適記録パワーおよび反射率の算出結果を示す。
【表２】
2014017031.tif 000004
【００９０】
表３は、参考例２の情報信号層をＬ０層およびＬ１層として用いた２層の光情報記録媒体の最適記録パワーおよび反射率の算出結果を示す。
【表３】
2014017031.tif 000005
【００９１】
表１、表２および表３から以下のことがわかる
参考例１の情報信号層をＬ０層、Ｌ１層として用いた光情報記録媒体および参考例２の情報信号層をＬ０層、Ｌ１層として用いた光情報記録媒体では、Ｌ０層、Ｌ１層を積層した状態における各層の反射率Ｒ０、Ｒ１が２％≦Ｒ１≦２Ｒ０の関係を満たすようにすることができる。また、Ｌ０層およびＬ１層を積層した状態におけるＬ０層、Ｌ１層の反射率Ｒ０、Ｒ１を２％以上１０％以下の範囲内にすることができる。さらに、Ｌ０層およびＬ１層を積層した状態におけるＬ０層、Ｌ１層の６倍速記録の最適記録パワーを３２ｍＷ以下にすることができる。
【００９２】
＜３．実サンプルによる他の層構成および材料組成の検討＞
（参考例３）
スパッタリング法により、以下の構成を有する上層誘電体層、記録層、下層誘電体層をポリカーボネート基板上に順次積層することにより、情報信号層を形成したこと以外は参考例１と同様にして、単層の光情報記録媒体を得た。
【００９３】
上層誘電体層
材料：ＳｉＩｎＺｒＯ、厚さ：２０ｎｍ
記録層
材料：ＷＺｎＣｕＰｄＯ、厚さ：３０ｎｍ
組成比(原子比（原子％）)：Ｗ：ＺｎＣｕ：Ｐｄ＝２０：４０：２５：１５
下層誘電体層
材料：ＩｎＧａＺｎＯ、厚さ：１０ｎｍ
【００９４】
（参考例４）
スパッタリング法により、以下の構成を有する上層誘電体層、記録層をポリカーボネート基板上に順次積層することにより、情報信号層を形成したこと以外は参考例１と同様にして、単層の光情報記録媒体を得た。
上層誘電体層
材料：ＳｉＩｎＺｒＯ、厚さ：２５ｎｍ
記録層
材料：ＷＺｎＣｕＰｄＯ、厚さ：４０ｎｍ
組成比(原子比（原子％）)：Ｗ：ＺｎＣｕ：Ｐｄ＝２０：４０：２５：１５
【００９５】
（反射率、透過率）
上述の参考例１、２と同様にして、反射率および透過率を評価した。その結果を表４に示す。
【００９６】
（２層の記録媒体の特性）
上述の参考例３、４の光情報記録媒体の光学特性の評価結果を用いて、参考例３の情報信号層をＬ０層、参考例４の情報信号層をＬ１層として用いた２層の光情報記録媒体の反射率を計算により求めた。その結果を表５に示す。
【００９７】
（結果）
表４は、参考例３、４の光情報記録媒体の反射率および透過率の評価結果を示す。
【表４】
2014017031.tif 000006
【００９８】
表５は、参考例３の情報信号層をＬ０層、参考例４の情報信号層をＬ１層として用いた２層の光情報記録媒体の最適記録パワーおよび反射率の算出結果を示す。
【表５】
2014017031.tif 000007
【００９９】
表４および表５から以下のことがわかる。
参考例３の情報信号層をＬ０層、参考例４の情報信号層をＬ１層として光情報記録媒体を作製すると、単層の状態でのＬ０層、Ｌ１層の反射率ｒ０、ｒ１が４％以上１０％以下の範囲内となり、単層の状態でのＬ０層、Ｌ１層の透過率ｔ０、ｔ１が７１％以上８１％以下の範囲内となる。また、この光情報記録媒体では、Ｌ０層およびＬ１層を積層した状態におけるＬ０層、Ｌ１層の反射率Ｒ０、Ｒ１が２％以上１０％以下の範囲内になる。
【０１００】
以上、本技術の実施形態について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０１０１】
例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。
【０１０２】
また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【０１０３】
また、上述の実施形態では追記型の光情報記録媒体に本技術を適用した例について説明したが、本技術はこの例に限定されるものではなく、書換型の光情報記録媒体に対しても本技術は適用可能である。
【０１０４】
また、上述の実施形態では記録層が無機記録層である構成を例として説明したが、記録層が有機記録層である構成を採用することも可能である。
【０１０５】
また、上述の実施形態では、カバー層側からレーザ光を情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光情報記録媒体に対して本技術を適用した場合を例として説明したが、本技術はこの例に限定されるものではない。例えば、基板側からレーザ光を情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光情報記録媒体に対しても本技術は適用可能である。
【０１０６】
また、上述の実施形態では、基板と中間層との間を凹凸面として、この凹凸面にサーボ制御を行うためのサーボ光が照射される構成を例として説明したが、サーボ制御を行うための凹凸面の位置はこの例に限定されるものではない。例えば、カバー層と情報信号層との間、または情報信号層の間の中間層内に凹凸面を設ける構成を採用することも可能である。
【０１０７】
また、本技術は以下の構成を採用することもできる。
（１）
少なくとも２層の情報信号層を備え、
上記２層の情報信号層は、同一組成の記録材料により構成される、光の照射により情報信号を記録可能である記録層を含んでいる光情報記録媒体。
（２）
情報信号を記録または再生するための光が照射される光照射面を有し、
上記２層の情報信号層は、上記光照射面から遠い第１の情報信号層と、上記光照射面から近い第２の情報信号層とからなり、
上記光照射面側における上記第１の情報信号層の反射率Ｒ０および上記第２の情報信号層の反射率Ｒ１は、２％≦Ｒ１≦２Ｒ０の関係を満たす（１）に記載の光情報記録媒体。
（３）
情報信号を記録または再生するための光が照射される光照射面を有し、
上記光照射面側における上記２層の情報信号層の反射率は、２％以上１０％以下の範囲内であり、
上記２層の情報信号層の透過率は、７１％以上８１％以下の範囲内である（１）に記載の光情報記録媒体。
（４）
単層の状態での上記２層の情報信号層の反射率は、４％以上１０％以下の範囲内であり、
上記２層の情報信号層の透過率は、７１％以上８１％以下の範囲内である（１）に記載の光情報記録媒体。
（５）
上記２層の情報信号層は、同一の層構成を有し、
上記２層の情報信号層を構成する各層が、同一の組成を有している（１）から（４）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（６）
上記２層の情報信号層は、記録層の表面の少なくとも一方に設けられた保護層をさらに備え、
上記２層の情報信号層の保護層は、同一組成の材料により構成されている（１）から（４）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（７）
上記材料は、誘電体材料である（６）に記載の光情報記録媒体。
（８）
上記記録層は、パラジウム（Ｐｄ）の酸化物を含んでいる（１）から（７）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（９）
上記２層の情報信号層は、隣り合って設けられている（１）から（８）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【符号の説明】
【０１０８】
１、３、４    基板
２    カバー層
５    貼合層
Ｓ０、Ｓ１、・・・、Ｓｎ    中間層
Ｌ０、Ｌ１、・・・、Ｌｎ    情報信号層
Ｇｖ    グルーブ
Ｌｄ    ランド
【図１】
2014017031.tif 000008
【図２】
2014017031.tif 000009
【図３】
2014017031.tif 000010
【図４】
2014017031.tif 000011
【図５】
2014017031.tif 000012
【図６】
2014017031.tif 000013
【図７】
2014017031.tif 000014
【図８】
2014017031.tif 000015
【図９】
2014017031.tif 000016