(57)【要約】【課題】試薬層が配置される領域にエンドトキシンが存在することによって生じる不具合を防止することが可能な濃度測定センサ、濃度測定センサ用シート及びその製造方法を提供する。【解決手段】濃度測定センサ１０は、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面１２ａとなる絶縁性基材１２と、絶縁性基材１２の絶縁面１２ａ上に設けられた導電性パターン３０とを備えている。絶縁性基材１２の他方の面に、絶縁性基材１２を支持する支持基材１１が配設され、導電性パターン３０上に試薬層１８が配置されている。絶縁性基材１２および導電性パターン３０のうち、少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａのエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、
少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、
前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンと、
前記導電性パターン上に配置された試薬層とを備え、
前記絶縁性基材および前記導電性パターンのうち、少なくとも前記試薬層が配置される領域のエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっていることを特徴とする濃度測定センサ。
【請求項２】
前記絶縁性基材の厚みは、５μｍ〜３００μｍであることを特徴とする請求項１記載の濃度測定センサ。
【請求項３】
前記導電性パターンの厚みは、０．３μｍ〜５０μｍであることを特徴とする請求項１又は２記載の濃度測定センサ。
【請求項４】
前記導電性パターンのうち、少なくとも前記試薬層が配置される領域は、下地導電層と、前記下地導電層上に設けられた導電性パターン保護層とを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項記載の濃度測定センサ。
【請求項５】
前記絶縁性基材の他方の面に、前記絶縁性基材を支持する支持基材が配設されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項記載の濃度測定センサ。
【請求項６】
濃度測定センサを作製するための濃度測定センサ用シートにおいて、
少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、
前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた複数の導電性パターンとを備え、
前記絶縁性基材および前記導電性パターンのうち、少なくとも試薬層が配置される領域のエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっていることを特徴とする濃度測定センサ用シート。
【請求項７】
前記絶縁性基材の厚みは、５μｍ〜３００μｍであることを特徴とする請求項６記載の濃度測定センサ用シート。
【請求項８】
前記導電性パターンの厚みは、０．３μｍ〜５０μｍであることを特徴とする請求項６又は７記載の濃度測定センサ用シート。
【請求項９】
前記導電性パターンのうち、少なくとも前記試薬層が配置される領域は、下地導電層と、前記下地導電層上に設けられた導電性パターン保護層とを含むことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項記載の濃度測定センサ用シート。
【請求項１０】
濃度測定センサの製造方法であって、
少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、
前記絶縁性基材の絶縁面に複数の導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程とを備え、
前記絶縁性基材および前記導電性パターンのうち、少なくとも試薬層が配置される領域のエンドトキシン濃度を、０．０１ＥＵ／ｍＬ以下とすることを特徴とする濃度測定センサ用シートの製造方法。
【請求項１１】
前記絶縁性基材および前記導電性パターンに対して、フラッシュアニール処理、プラズマアッシング処理、又は加熱殺菌処理を実施する工程を更に備えたことを特徴とする請求項１０記載の濃度測定センサ用シートの製造方法。
【請求項１２】
前記絶縁性基材供給工程と前記導電性パターン形成工程とが、クリーンルームで実施されることを特徴とする請求項１０又は１１記載の濃度測定センサ用シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物質の濃度を測定するための濃度測定センサ、このような濃度測定センサを作製する際に用いられる濃度測定センサ用シート及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
血液等の生体試料中の特定成分について迅速かつ簡便に濃度等を測定する方法として、電気化学的検出手段によるセンサ（濃度測定センサ）が実用化されている。このようなセンサの一例として、電気化学的に血液中のグルコース濃度を定量化するグルコースセンサがある。
【０００３】
グルコースセンサでは、基材と、基材上に設けられた作用電極と対電極を含む電極系と、酵素及び電子受容体とを基本構成として備えている。酵素は血液中のグルコースを選択的に酸化してグルコン酸を生成し、また同時に電子受容体を還元して還元体を生じる。この還元体に外部デバイスから電極系へ一定の電圧を印加することで還元体が再び酸化され、その際に電流が発生する。この電流値が血液中のグルコース濃度に依存することから、血液中のグルコースを定量化して測定することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１２７６９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、一般にエンドトキシンという細菌壁毒素が知られている。このエンドトキシンは、大腸菌やサルモネラ菌をはじめとするグラム陰性菌の外膜を構成している毒性物質である。このエンドトキシンが極微量（たとえば、ｎｇ／ｍＬオーダー）でも血液中等に混入した場合、ショック症状等を引き起こし、最悪死に至る可能性もある。ただし、空気中にはエンドトキシンが広く存在している。このため、透析液等の医薬品にエンドトキシンが存在していないか等の検査が実施されている。
【０００６】
従来、エンドトキシンの濃度を測定する場合、リムルス試験を利用した比濁法と比色法と呼ばれる方法が存在する。また、近年では、電気化学法を用いてエンドトキシンの濃度を測定する方法も研究されている。例えば、被検体及び試薬の混合物に電極を入れ、ディファレンシャルパルスボルタンメトリー（ＤＰＶ）に基づく測定を行う技術が知られている（特許文献１参照）。
【０００７】
また、電気化学法を用いてグルコース濃度やエンドトキシン濃度を測定する濃度測定センサは、基材と電極とを有している。この場合、一般にスクリーン印刷法、グラビア印刷法、蒸着法などを用いて基材上に電極を形成する。しかしながら、電極や基材の材料および濃度測定センサの製造場所には、エンドトキシンが広く存在している。このため、エンドトキシン濃度を測定する濃度測定センサにおいては、基材上に電極を形成した後、電極上にエンドトキシンが存在する可能性がある。したがって、電極上のエンドトキシンが除去されないと、エンドトキシン測定時に電極に付着したエンドトキシンを誤って測定してしまうという問題が生じる。また、グルコース濃度を測定する濃度測定センサにおいては、濃度測定センサを瞬間的に血液に付着させて血液を採取する。この際、誤って電極に付着したエンドトキシンが体内に入ってしまい、問題を引き起こす可能性もある。
【０００８】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、試薬層が配置される領域にエンドトキシンが存在することによって生じる不具合を防止することが可能な濃度測定センサ、濃度測定センサ用シート及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、溶液中の物質の濃度を測定するための濃度測定センサにおいて、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた導電性パターンと、前記導電性パターン上に配置された試薬層とを備え、前記絶縁性基材および前記導電性パターンのうち、少なくとも前記試薬層が配置される領域のエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっていることを特徴とする濃度測定センサである。
【００１０】
本発明は、前記絶縁性基材の厚みは、５μｍ〜３００μｍであることを特徴とする濃度測定センサである。
【００１１】
本発明は、前記導電性パターンの厚みは、０．３μｍ〜５０μｍであることを特徴とする濃度測定センサである。
【００１２】
本発明は、前記導電性パターンのうち、少なくとも前記試薬層が配置される領域は、下地導電層と、前記下地導電層上に設けられた導電性パターン保護層とを含むことを特徴とする濃度測定センサである。
【００１３】
本発明は、前記絶縁性基材の他方の面に、前記絶縁性基材を支持する支持基材が配設されていることを特徴とする濃度測定センサである。
【００１４】
本発明は、濃度測定センサを作製するための濃度測定センサ用シートにおいて、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる絶縁性基材と、前記絶縁性基材の前記絶縁面上に設けられた複数の導電性パターンとを備え、前記絶縁性基材および前記導電性パターンのうち、少なくとも試薬層が配置される領域のエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっていることを特徴とする濃度測定センサ用シートである。
【００１５】
本発明は、前記絶縁性基材の厚みは、５μｍ〜３００μｍであることを特徴とする濃度測定センサ用シートである。
【００１６】
本発明は、前記導電性パターンの厚みは、０．３μｍ〜５０μｍであることを特徴とする濃度測定センサ用シートである。
【００１７】
本発明は、前記導電性パターンのうち、少なくとも前記試薬層が配置される領域は、下地導電層と、前記下地導電層上に設けられた導電性パターン保護層とを含むことを特徴とする濃度測定センサ用シートである。
【００１８】
本発明は、濃度測定センサの製造方法であって、少なくとも一方の面が絶縁性をもつ絶縁面となる帯状の絶縁性基材を供給する絶縁性基材供給工程と、前記絶縁性基材の絶縁面に複数の導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程とを備え、前記絶縁性基材および前記導電性パターンのうち、少なくとも試薬層が配置される領域のエンドトキシン濃度を、０．０１ＥＵ／ｍＬ以下とすることを特徴とする濃度測定センサ用シートの製造方法である。
【００１９】
本発明は、前記絶縁性基材および前記導電性パターンに対して、フラッシュアニール処理、プラズマアッシング処理、又は加熱殺菌処理を実施する工程を更に備えたことを特徴とする濃度測定センサ用シートの製造方法である。
【００２０】
本発明は、前記絶縁性基材供給工程と前記導電性パターン形成工程とが、クリーンルームで実施されることを特徴とする濃度測定センサ用シートの製造方法である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、試薬層が配置される領域にエンドトキシンが存在することによって生じる不具合を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は本発明の第１の実施の形態による濃度測定センサを示す分解斜視図。
【図２】図２は濃度測定センサと外部デバイスとを示す斜視図。
【図３】図３は濃度測定センサの変形例を示す分解斜視図。
【図４】図４は本発明の第１の実施の形態による濃度測定センサ用シートを示す平面図。
【図５】図５（ａ）（ｂ）は濃度測定センサの製造装置を示す概略図。
【図６】図６（ａ）は絶縁性基材供給工程における絶縁性基材を示す平面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のVI−VI線断面図。
【図７】図７（ａ）は水溶性樹脂層形成工程における絶縁性基材を示す平面図、図７（ｂ）は図７（ａ）のVII−VII線断面図。
【図８】図８（ａ）は導電層形成工程における絶縁性基材を示す平面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のVIII−VIII線断面図。
【図９】図９（ａ）は水溶性樹脂層除去工程における絶縁性基材を示す平面図、図９（ｂ）は図９（ａ）のIX−IX線断面図。
【図１０】図１０（ａ）は支持基材配設工程における支持基材および絶縁性基材を示す平面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＸ−Ｘ線断面図。
【図１１】図１１（ａ）は切断工程における濃度測定センサ用シートを示す平面図、図１１（ｂ）は図１１（ａ）のXI−XI線断面図。
【図１２】図１２は本発明の第２の実施の形態による濃度測定センサを示す平面図。
【図１３】図１３は本発明の第２の実施の形態による濃度測定センサ用シートを示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
（第１の実施の形態）
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態について説明する。図面は例示であり、説明のために特徴部を誇張することがあり、実物とは異なる場合がある。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。なお、以下の各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。
【００２４】
（濃度測定センサ）
まず図１により濃度測定センサの一実施の形態について説明する。図１は本発明による濃度測定センサの一実施の形態を示す図である。図１に示す濃度測定センサ１０は、溶液中の物質の濃度を測定するものであり、例えば血液中のグルコースの濃度を測定することにより、血糖値を検出するものである。
【００２５】
このような濃度測定センサ１０は、支持基材１１と、支持基材１１上に設けられた絶縁性基材１２と、絶縁性基材１２の表面（一方の面）１２ａ上に設けられた一対の配線部１３ａ、１３ｂとを備えている。
【００２６】
このうち、絶縁性基材１２により、表面１２ａが絶縁面となる基材が構成される。また絶縁性基材１２は、その裏面（他方の面）１２ｂ側において、剛性をもつ支持基材１１により保持されている。
【００２７】
また、一方の配線部１３ａの一端に作用電極１４ａが設けられ、他方の配線部１３ｂの一端に対電極１４ｂが設けられている。これら作用電極１４ａと対電極１４ｂとにより、被測定溶液が接触する電極系１４が構成されている。
【００２８】
さらに一対の配線部１３ａ、１３ｂの他端には、各々接続端子１５ａ、１５ｂが設けられている。
【００２９】
この接続端子１５ａ、１５ｂは、濃度測定センサ１０を後述のように、外部デバイス２５の挿入口２６内に挿入した際、外部デバイス２５側の接続部（図示せず）に接続される（図２）。
【００３０】
なお、一対の配線部１３ａ、１３ｂと、作用電極１４ａおよび対電極１４ｂと、一対の接続端子１５ａ、１５ｂとにより、導電性パターン３０が構成されている。
【００３１】
また導電性パターン３０を覆ってキャビティ１７が設けられている。このキャビティ１７は絶縁性材料からなり、外部からの被測定対象となる血液を作用電極１４ａおよび対電極１４ｂへ導く吸引口１７ａを有している。また、キャビティ１７は、それぞれ作用電極１４ａ、対電極１４ｂの一部および一対の接続端子１５ａ、１５ｂの一部を外方へ露出するよう導電性パターン３０を覆っている。
【００３２】
さらにキャビティ１７上には絶縁性材料からなるカバー１９が設けられ、導電性パターン３０上であってキャビティ１７上には、試薬層１８が設けられている。すなわちキャビティ１７とカバー１９とによって、グルコース酸化酵素を含む試薬層１８が保持されている。
【００３３】
ところで、本実施の形態においては、絶縁性基材１２および導電性パターン３０のうち、少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａのエンドトキシン濃度が、０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっている。例えば、作用電極１４ａおよび対電極１４ｂを含む電極系１４や、電極系１４の周囲に位置する絶縁性基材１２のエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっている。なお、ＥＵはエンドトキシンの活性単位を意味し、米国食品医薬品局（ＦＤＡ）が定めたEndotoxin Unit（エンドトキシン単位）の略である。
【００３４】
なお、エンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となる部分は、絶縁性基材１２および導電性パターン３０のうち、試薬層１８が配置される領域１８ａのみに限られない。例えば、キャビティ１７およびカバー１９のうち、試薬層１８が配置される領域１８ａの周囲のエンドトキシン濃度も０．０１ＥＵ／ｍＬ以下とすることが好ましい。また例えば、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の全域、あるいは濃度測定センサ１０の全域にわたってエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっていても良い。
【００３５】
エンドトキシン濃度を０．０１ＥＵ／ｍＬ以下とする場合、絶縁性基材１２および導電性パターン３０に対して、例えば、（ｉ）フラッシュアニール処理、（ii）プラズマアッシング処理、又は（iii）加熱殺菌処理を実施しても良い。あるいは、（iv）濃度測定センサ１０の製造工程の少なくとも一部をクラス１万以下のクリーンルームで実施しても良い。なお、これらの方法については後述する。
【００３６】
エンドトキシン濃度の測定方法としては、各種方法を用いることができる。例えば、濃度測定センサ１０を、エンドトキシンフリーの水に一定時間（例えば１日）沈めて放置し、その後、その水中のエンドトキシン濃度を公知のエンドトキシン測定機器（例えば和光純薬工業株式会社製ＥＴ６０００）を用いて測定することにより、エンドトキシン濃度を得ても良い。
【００３７】
次に各部の構成部材について説明する。
【００３８】
支持基材１１
支持基材１１は、ロール・ツー・ロール（Roll to Roll）方式に適用できるよう絶縁性樹脂を用いることが好ましい。支持基材１１は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン（ＰＳ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂等の絶縁性樹脂からなり、なかでもより好適にはＰＥＴ製となっている。
【００３９】
支持基材１１は、絶縁性基材１２を補強することができ、取扱い時に自重で折れたりしない程度の剛性があればよい。また支持基材１１は、絶縁性基材１２を補強するために、絶縁性基材１２よりも厚いことが好ましい。具体的には、１００μｍ〜１ｍｍ（１００μｍ以上かつ１ｍｍ以下のことをいう。以下同様）の範囲であるとよい。なお、支持基材１１は、複数の基材を貼合わせた構成からなっていても良い。このように支持基材１１を設けることにより、濃度測定センサ１０の使いやすさを増すことができる。
【００４０】
絶縁性基材１２
絶縁性基材１２は、導電性パターン３０を支持する基材であり、少なくとも導電性パターン３０が配置される表面１２ａは絶縁面となっている。絶縁性基材１２は、ロール・ツー・ロール方式に適用できるよう絶縁性樹脂を用いることが好ましい。具体的には、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン（ＰＳ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂等のフィルムを好適に用いることができる。
【００４１】
絶縁性基材１２の厚さは、例えば５μｍ〜３００μｍの範囲とすることが好ましい。絶縁性基材１２の厚さを５μｍ〜３００μｍにすることにより、特にプラズマアッシング処理（後述）によってエンドトキシンを除去する際に、絶縁性基材１２まで除去されてしまうことがなく、絶縁性基材１２の機能を保持することができる。なお、絶縁性基材１２と支持基材１１との熱膨張係数を合わせることが好ましく、とりわけ絶縁性基材１２と支持基材１１とを同一の材料から構成するとよい。
【００４２】
なお、後述する膜厚測定工程において、導電性パターン３０の厚さを測定しやすくするため、絶縁性基材１２が透明な樹脂からなっていることが好ましい。また、絶縁性基材１２の材料として比較的高価な着色樹脂を用いる必要がないので、濃度測定センサ１０の製造コストを低減することもできる。
【００４３】
導電性パターン３０
導電性パターン３０は、導電性をもつものであればその形状、本数、材料、構成について特に限定はなく、例えばＡｇ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｔａ、ＰｄまたはＣｕから選択される金属材料を含んでいても良い。導電性パターン３０は、形成方法に応じて、例えば０．３μｍ〜５０μｍの範囲の厚みとするとよい。導電性パターン３０の厚さを０．３μｍ〜５０μｍとすることにより、後述するプラズマアッシング処理により導電性パターン３０の膜厚が減少した場合であっても、導電性パターン３０として機能する厚みを残すことが可能となる。
【００４４】
試薬層１８
試薬層１８は酵素と電子受容体を含み、本実施の形態では酵素としてグルコース酸化還元酵素を含んでおり、血液中のグルコースの濃度を測定することができる。しかしながら試薬層１８はグルコース酸化酵素以外の酵素を含んでいてもよい。
【００４５】
試薬層１８はグルコース酸化酵素以外の酵素、例えばコレステロールセンサ、アルコールセンサ、スクロールセンサ、乳酸センサ、フルクトースセンサとして機能する酵素を含んでいてもよい。この場合、各センサに用いる酵素としては、コレステロールエステラーゼ、コレステロールオキシダーゼ、アルコールオキシダーゼ、乳酸オキシダーゼ、フルクトースデヒドロゲナーゼ、キサンチンオキシダーゼ、アミノ酸オキシダーゼ等の反応系に合ったものを適宜用いることができる。
【００４６】
キャビティ１７およびカバー１９
キャビティ１７およびカバー１９は、絶縁性基材１２と同様の材料から形成することができ、キャビティ１７およびカバー１９の厚みは各々１００μｍ〜３００μｍおよび５０μｍ〜１００μｍとなっている。
【００４７】
なお、図３（変形例）に示すように、導電性パターン３０を複数の層から構成するようにしても良い。この場合、導電性パターン３０は、絶縁性基材１２側に位置する下地導電層３５と、下地導電層３５上であって少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａに設けられた導電性パターン保護層３９（導電性アッシング犠牲層）とを含んでいる。このうち下地導電層３５は、例えばニッケル（Ｎｉ）からなっており、１００ｎｍ〜２０μｍの厚みをもっている。下地導電層３５を形成する方法は問わないが、例えば、蒸着法又はスパッタリング法等の真空成膜法、スクリーン印刷法又はグラビア印刷法等の印刷法、電解めっき法又は無電解めっき法等のめっき法等を挙げることができる。
【００４８】
また、導電性パターン保護層３９は、後述するように濃度測定センサ１０に対してプラズマアッシング処理を行った際、薄膜状の下地導電層３５が一緒に除去されてしまう不具合を防止するために設けられている。この導電性パターン保護層３９は、導電性を有しており、下地導電層３５を保護するとともに導電機能も確保することができる。導電性パターン保護層３９としては、カーボン、ニッケル、パラジウム又は金を挙げることができる。導電性パターン保護層３９を設ける方法としては、例えばめっき法、蒸着法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法を挙げることができる。
【００４９】
なお、導電性パターン保護層３９は、少なくとも下地導電層３５のうちプラズマアッシング処理を行う際に外方に露出する領域に設けられることが好ましい。しかしながら、これに限られるものではなく、例えば下地導電層３５の全域を覆うように設けられても良い。
【００５０】
（濃度測定センサ用シート）
次に、図４により濃度測定センサ用シートの一実施の形態について説明する。図４は本発明による濃度測定センサ用シートの一実施の形態を示す図である。図４に示す濃度測定センサ用シート５０は、上述した図１に示す濃度測定センサ１０を作製する際に用いられるものであり、枚葉状であるかロール状であるかは問わない。
【００５１】
このような濃度測定センサ用シート５０は、支持基材１１と、支持基材１１上に設けられた絶縁性基材１２と、絶縁性基材１２の表面（一方の面）１２ａ上に設けられた複数の導電性パターン３０とを備えている。
【００５２】
この場合、絶縁性基材１２および導電性パターン３０のうち、少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａのエンドトキシン濃度は、０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっている。例えば、作用電極１４ａおよび対電極１４ｂを含む電極系１４や、電極系１４の周囲に位置する絶縁性基材１２のエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっている。また、キャビティ１７およびカバー１９のうち、試薬層１８が配置される領域１８ａの周囲のエンドトキシン濃度も０．０１ＥＵ／ｍＬ以下とすることが好ましい。あるいは、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の全域、あるいは濃度測定センサ１０の全域にわたってエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっていても良い。
【００５３】
さらに各導電性パターン３０をそれぞれ覆ってキャビティ１７が設けられている。また、各キャビティ１７上にはそれぞれカバー１９が設けられ、各キャビティ１７と各カバー１９との間には、それぞれ試薬層１８が介在されている。
【００５４】
図４には示していないが、図３に示す濃度測定センサ１０を作製するための濃度測定センサ用シート５０においては、導電性パターン３０のうち、少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａは、下地導電層３５と、下地導電層３５上に設けられた導電性パターン保護層３９とを含んでいる。
【００５５】
なお、濃度測定センサ用シート５０を構成する各要素の構成については既に説明したので、図４において、図１および図３に示す実施の形態と同一部分には同一の符号を付して、詳細な説明は省略する。
【００５６】
（濃度測定センサ用シートおよび濃度測定センサの製造方法）
次に濃度測定センサ用シートおよび濃度測定センサの製造方法について、図５乃至図１１を用いて説明する。具体的には、図４に示す濃度測定センサ用シート５０および図１に示す濃度測定センサ１０を作製する方法について説明する。図５（ａ）（ｂ）は、濃度測定センサの製造装置を示す概略図であり、図６乃至図１１は、それぞれ濃度測定センサ用シートおよび濃度測定センサの製造方法の各工程における、絶縁性基材１２または濃度測定センサ用シート５０を示す平面図及び断面図である。
【００５７】
まず絶縁性基材供給ロール４１（図５（ａ））から帯状の絶縁性基材１２が連続して供給される（絶縁性基材供給工程）（図６（ａ）（ｂ））。
【００５８】
次に絶縁性基材１２は、水溶性樹脂層形成部４２（図５（ａ））に搬送される。この水溶性樹脂層形成部４２において、絶縁性基材１２の絶縁性をもつ表面（絶縁面）１２ａ上にパターン状に水溶性樹脂が塗布されて、パターン状の水溶性樹脂層３２が形成される（水溶性樹脂層形成工程）（図７（ａ）（ｂ））。
【００５９】
この場合、水溶性樹脂層３２は、各導電性パターン３０以外の部分に対応する形状を有している。換言すれば、導電性パターン３０に対応する部分には水溶性樹脂層３２が設けられず、絶縁性基材１２が露出している。
【００６０】
なお、水溶性樹脂層３２は、例えば水溶性ビニル樹脂からなるリフトオフ材料からなり、その厚みは例えば０．１μｍ〜１０μｍとすることができる。水溶性樹脂層３２を塗布する方法は、例えばスクリーン印刷法又はグラビア印刷法等の印刷法を挙げることができる。
【００６１】
次に絶縁性基材１２は、導電層形成部４３（図５（ａ））に搬送される。この導電層形成部４３において、水溶性樹脂層３２上および水溶性樹脂層３２から露出する絶縁性基材１２上に、ニッケルからなる導電層３３が形成される（導電層形成工程）（図８（ａ）（ｂ））。
【００６２】
この導電層３３は、水溶性樹脂層３２上および水溶性樹脂層３２から露出する絶縁性基材１２上の略全面に渡って設けられることが好ましい。
【００６３】
導電層３３は、導電性パターン３０を構成する導電性材料からなり、例えばＡｇ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｔａ、ＰｄまたはＣｕから選択される金属材料を含んでいても良い。また導電層３３の厚みは例えば０．３μｍ〜５０μｍとすることができる。後述する透過率を利用した膜厚測定工程を行う場合には、導電層３３と絶縁性基材１２を透過する光の透過率が５％以上となるように、導電層３３の厚みを設定することが好ましい。
【００６４】
なお、導電層３３を設ける方法としては、例えば蒸着法又はスパッタリング法等の真空成膜法、スクリーン印刷法又はグラビア印刷法等の印刷法、電解めっき法又は無電解めっき法等のめっき法等を挙げることができる。このうち真空成膜法を用いた場合、導電層３３を薄膜で形成することができ、材料コストを低減することができる。また、絶縁性基材供給ロール４１から繰り出される長尺の絶縁性基材１２に対して導電層３３を高速で形成することができる。
【００６５】
次いで、絶縁性基材１２は、水溶性樹脂層除去部４４（図５（ａ））に搬送される。この水溶性樹脂層除去部４４において、水溶性樹脂層３２が水によって除去され、水溶性樹脂層３２上の導電層３３が選択的に除去される。これにより、絶縁性基材１２上に、導電層３３の一部からなる複数の導電性パターン３０が形成される（水溶性樹脂層除去工程）（図９（ａ）（ｂ））。なお図９（ａ）において、６組の導電性パターン３０が示されている。
【００６６】
この場合、図５（ａ）に示すように水溶性樹脂層除去部４４のノズル４４ａから導電層３３上にシャワー状の水を噴出することにより、導電層３３中に水を浸透させ、水溶性樹脂層３２を除去しても良い。あるいは、絶縁性基材１２ごと水溶性樹脂層３２を水中に浸漬させることにより、水溶性樹脂層３２を除去しても良い。
【００６７】
このように水溶性樹脂層形成工程、導電層形成工程および水溶性樹脂層除去工程を順次経ることにより、絶縁性基材１２の表面１２ａに、複数の導電性パターン３０が形成される（導電性パターン形成工程）。
【００６８】
なお、導電性パターン形成工程としてはこれに限られるものではなく、例えば絶縁性基材供給工程の後、グラビア印刷などの印刷法により、絶縁性基材１２の表面１２ａに複数の導電性パターン３０を形成しても良い。
【００６９】
続いて、絶縁性基材１２は、膜厚測定部４５（図５（ａ））に搬送される。膜厚測定部４５は、例えば透過型の光計測装置からなっている。この膜厚測定部４５において、絶縁性基材１２上に形成された少なくとも１つの導電性パターン３０に対して光が照射され、その透過光を用いて導電性パターン３０の厚さが測定される（膜厚測定工程）。これにより導電性パターン３０の厚さが規定の範囲内にあるか否かを確認することができる。
【００７０】
上述したように、絶縁性基材１２の厚さは例えば５μｍ〜３００μｍの範囲とされている。このように絶縁性基材１２の厚さが薄くなっていることにより、光の透過性を高めることができ、膜厚測定部４５において膜厚測定を正確に行うことができる。
【００７１】
続いて、絶縁性基材１２は、支持基材配設部４６（図５（ａ））に搬送される。この支持基材配設部４６において、絶縁性基材１２の裏面１２ｂに、絶縁性基材１２を支持する支持基材１１が配設される（支持基材配設工程）（図１０（ａ）（ｂ））。
【００７２】
この際、支持基材１１が支持基材供給ロール４７から支持基材配設部４６に供給され、支持基材配設部４６において、例えば接着剤によって支持基材１１が絶縁性基材１２の裏面１２ｂに貼着される。なお接着剤としては、公知のものを使用することができる。
【００７３】
続いて、支持基材１１および絶縁性基材１２は、巻取りロール４８（図５（ａ））に巻き取られる。
【００７４】
その後、支持基材１１および絶縁性基材１２を所定の大きさ毎に切断することにより、濃度測定センサ用シート５０が枚葉状に切断される（切断工程）（図１１（ａ）（ｂ））。各濃度測定センサ用シート５０は、それぞれ１つまたは複数（この場合６組）の導電性パターン３０を含んでいる。
【００７５】
なお、支持基材１１および絶縁性基材１２を巻取りロール４８（図４）に巻き取ることなく、支持基材配設部４６から供給された支持基材１１および絶縁性基材１２をそのまま切断しても良い。
【００７６】
続いて、図４に示すように、濃度測定センサ用シート５０の導電性パターン３０上にキャビティ１７を設ける（キャビティ配設工程）。
【００７７】
次に、濃度測定センサ用シート５０は、エンドトキシン除去部６１（図５（ｂ））に搬送される。このエンドトキシン除去部６１において、絶縁性基材１２および導電性パターン３０のうち、少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａのエンドトキシンを除去する。具体的には、この箇所のエンドトキシン濃度を０．０１ＥＵ／ｍＬ以下とする（エンドトキシン除去工程）。なお、本実施の形態において、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の全域がエンドトキシン除去処理され、エンドトキシン濃度を０．０１ＥＵ／ｍＬ以下とされるようになっている。
【００７８】
エンドトキシン除去部６１は、例えばプラズマアッシング処理装置からなっていても良い。この場合、エンドトキシン除去部６１（プラズマアッシング処理装置）において、絶縁性基材１２および導電性パターン３０がプラズマアッシング処理され、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面のエンドトキシンが除去される。例えば、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面をプラズマ等で反応させ、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面を気相中で分解ないし除去することにより、当該表面とともにエンドトキシンを取り除いても良い。なお、図３に示すように、下地導電層３５上に導電性パターン保護層３９を設けておき、プラズマアッシングされた際に下地導電層３５が残存するようにすることが好ましい。このように、プラズマアッシング処理を用いることにより、エンドトキシンの除去を短時間で行うことができる。
【００７９】
あるいは、エンドトキシン除去部６１は、フラッシュアニール処理装置からなっていても良い。この場合、エンドトキシン除去部６１（フラッシュアニール処理装置）において、絶縁性基材１２および導電性パターン３０がフラッシュアニール処理され、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面のエンドトキシンが除去される。例えば、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面のみを瞬間的（例えば１μｓ〜１ｍｓ）に６００℃〜１２００℃程度まで加熱し、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面のエンドトキシンを殺菌除去しても良い。このように、フラッシュアニール処理を用いることにより、エンドトキシンの除去を短時間で行うことができるという効果が得られる。このように絶縁性基材１２および導電性パターン３０がフラッシュアニール処理することにより、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面のエンドトキシン濃度を、例えば０．５  ＥＵ／ｍＬ〜１０ＥＵ／ｍＬから０．０１ＥＵ／ｍＬ以下まで大幅に低下させることができる。
【００８０】
あるいは、エンドトキシン除去部６１は、加熱殺菌処理装置からなっていても良い。この場合、エンドトキシン除去部６１（加熱殺菌処理装置）において、絶縁性基材１２および導電性パターン３０が加熱され、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面のエンドトキシンが殺菌除去される。例えば、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面を一定時間（例えば３０分）、６００℃〜１２００℃程度まで加熱し、絶縁性基材１２および導電性パターン３０の表面のエンドトキシンを取り除いても良い。なお、加熱方法としては、乾式法を挙げることができる。このように、加熱殺菌処理を用いることにより、高価な設備なしに殺菌することが可能である。
【００８１】
あるいは、エンドトキシン除去部６１を用いる代わりに、上述した各工程（絶縁性基材供給工程、導電性パターン形成工程、膜厚測定工程、および支持基材配設工程）をクラス１万以下のクリーンルームで実施しても良い。また、上述したエンドトキシン除去部６１（プラズマアッシング処理装置、フラッシュアニール処理装置、又は加熱殺菌処理装置）を用いてエンドトキシン除去処理を行う場合においても、上述した各工程およびエンドトキシン除去工程をクラス１万以下のクリーンルームで実施しても良い。
【００８２】
その後、図４に示すように、キャビティ１７上に試薬層１８を設け（試薬層配設工程）、次いで、試薬層１８上にカバー１９を設けて試薬層１８をキャビティ１７とカバー１９との間で挟持する（カバー配設工程）。このようにして、図４に示す濃度測定センサ用シート５０が得られる。
【００８３】
その後、濃度測定センサ用シート５０を切断し、各導電性パターン３０毎に個片化することにより、図１に示す濃度測定センサ１０が得られる。
【００８４】
なお、上記において、エンドトキシン除去工程は、キャビティ配設工程の後に設けられているが、これに限られるものではない。例えば絶縁性基材供給工程の後、導電性パターン形成工程の後、膜厚測定工程の後、支持基材配設工程の後、又は切断工程の後に設けられていても良い。また、エンドトキシン除去工程が複数回実施されても良い。
【００８５】
次に濃度測定センサ１０を用いた濃度測定について説明する。
【００８６】
まず濃度測定センサ１０が外部デバイス２５（図２）の挿入口２６内に挿入される。このとき外部デバイス２５側の接続部が濃度測定センサ１０の接続端子１５ａ、１５ｂにそれぞれ接触する。そして、外部デバイス２５内のスイッチ（図示せず）が濃度測定センサ１０により作動し、外部デバイス２５は液体試料吸引待機状態となる。
【００８７】
その後、使用者が、濃度測定センサ１０のキャビティ１７の吸引口１７ａに液体試料を付着させる。このときキャビティ１７の吸引口１７ａの毛細管現象によって、キャビティ１７の吸引口１７ａから液体試料が引き込まれる。液体試料としては、例えば、血液、汗、尿等の生体由来の液体試料や、環境由来の液体試料、食品由来の液体試料等が用いられる。例えば、濃度測定センサ１０を血糖値センサとして用いる場合、使用者は、自身の指、掌、又は腕等を穿刺して、少量の血液を搾り出し、この血液を液体試料として、キャビティ１７の吸引口１７ａに付着させる。
【００８８】
本実施の形態においては、上述したように、絶縁性基材１２および導電性パターン３０のうち、少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａのエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっている。これにより、使用者が、自身の指、掌、又は腕等の血液をキャビティ１７の吸引口１７ａに瞬間的に付着させた際、濃度測定センサ１０に付着したエンドトキシンが体内に入ってしまうおそれがない。
【００８９】
キャビティ１７の吸引口１７ａに付着された血液は、その後試薬層１８に達し、血液が試薬層１８に達した後、血液中のグルコース濃度が外部デバイス２５により測定され、測定結果は外部デバイス２５の表示部２７に表示される。
【００９０】
次に外部デバイス２５によるグルコース濃度の測定の原理について述べる。
【００９１】
まず試薬層１８はグルコース酸化還元酵素と、電子受容体としてフェリシアン化カリウムを含み、血液中のブドウ糖と特異的に反応し、グルコン酸と電子を発する。この電子はフェリシアン化カリウムをフェロシアン化カリウムとし、これに外部デバイス２５側から接続端子１５ａ、１５ｂ、配線部１３ａ、１３ｂ、および作用電極１４ａおよび対電極１４ｂを介して一定の電圧を加えることで再びフェリシアン化カリウムとなり、そのとき電流が発生する。この場合の電流値は血液中のグルコース濃度に比例するため、この電流値を外部デバイス２５により測定することによりグルコース濃度を測定することができる。
【００９２】
試薬層１８内での反応を更に述べる。酸化還元酵素としてグルコースオキシダーゼ（ＧＯＤ）、電子伝達体としてフェリシアン化カリウム（Ｋ３Ｆｅ（ＣＮ）６）を用いた場合、試薬層１８内において、以下の反応がおこる。
【００９３】
グルコース  ＋  ２［Ｆｅ（ＣＮ）６］３−  ＋  Ｈ２Ｏ  →  グルコン酸  ＋２Ｈ＋  ＋ ２［Ｆｅ（ＣＮ）６］４−
【００９４】
このとき、フェロシアン化イオンは、作用電極１４ａで酸化されて酸化電流を生じ、以下のようにしてフェリシアン化イオンに還元される。
【００９５】
２［Ｆｅ（ＣＮ）６］４−  →   ２［Ｆｅ（ＣＮ）６］３−  ＋  ２ｅ−
【００９６】
測定終了後、使用者は濃度測定センサ１０を外部デバイス２５の挿入口２６から引き抜く。
【００９７】
以上のように本実施の形態によれば、絶縁性基材１２および導電性パターン３０のうち、少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａのエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっている。これにより、使用者が、自身の指、掌、又は腕等の血液をキャビティ１７の吸引口１７ａに瞬間的に付着させた際、濃度測定センサ１０に付着したエンドトキシンが体内に入ってしまい、問題を引き起こすおそれがない。
【００９８】
（第２の実施の形態）
次に、図１２および図１３を参照して本発明の第２の実施の形態について説明する。図１２および図１３は本発明の第２の実施の形態を示す図である。図１２および図１３において、上述した第１の実施の形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００９９】
図１２に示す濃度測定センサ１０は、エンドトキシンの濃度を測定する際に用いられるものであり、図１３に示す濃度測定センサ用シート５０は、図１２に示す濃度測定センサ１０を作製する際に用いられるものである。
【０１００】
図１２に示す濃度測定センサ１０および図１３に示す濃度測定センサ用シート５０において、一方の配線部１３ａと他方の配線部１３ｂとの間に、参照電極用の配線部１３ｃが設けられている。配線部１３ｃの一端には、例えば銀塩化銀電極からなる参照電極１４ｃが設けられ、配線部１３ｃの他端には、接続端子１５ｃが設けられている。
【０１０１】
この場合、試薬層１８は、測定する溶液中に含まれるエンドトキシンに対して反応を生じる物質を含んでいる。例えば、試薬層１８には、Ｃ因子、Ｂ因子、及び凝固酵素前駆体を含む物質、具体的にはカブトガニ・アメボサイト・ライセート（カブトガニ血球抽出液）が含まれていても良い。
【０１０２】
本実施の形態においても、絶縁性基材１２および導電性パターン３０のうち、少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａのエンドトキシン濃度が０．０１ＥＵ／ｍＬ以下となっている。これにより、試薬層１８が配置される領域１８ａに予めエンドトキシンが存在することによって、エンドトキシン濃度が誤って測定されることを防止することができる。
【０１０３】
図１２および図１３において、エンドトキシン濃度を０．０１ＥＵ／ｍＬ以下とする方法は、上述した第１の実施の形態と同様である。すなわち、絶縁性基材１２および導電性パターン３０に対して、例えば、（ｉ）フラッシュアニール処理、（ii）プラズマアッシング処理、又は（iii）加熱殺菌処理を実施しても良い。あるいは、（iv）濃度測定センサ１０の製造工程の少なくとも一部をクラス１万以下のクリーンルームで実施しても良い。
【０１０４】
なお、図１２に示す濃度測定センサ１０および図１３に示す濃度測定センサ用シート５０は、上述した第１の実施の形態の場合と略同様にして作製することができる。図１２および図１３において、図１乃至図１１に示す実施の形態と同一部分には同一の符号を付して、詳細な説明は省略する。
【０１０５】
上記実施の形態に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組み合わせることも可能である。あるいは、上記実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。例えば、図１２に示す形態と図３に示す形態とを組合せ、図１２に示す濃度測定センサ１０においても、導電性パターン３０のうち少なくとも試薬層１８が配置される領域１８ａを、下地導電層３５と、下地導電層３５上の導電性パターン保護層３９とから構成しても良い。
【符号の説明】
【０１０６】
１０        濃度測定センサ
１１        支持基材
１２        絶縁性基材
１３ａ、１３ｂ  配線部
１４        電極系
１４ａ      作用電極
１４ｂ      対電極
１５ａ、１５ｂ  接続端子
１７        キャビティ
１８        試薬層
１９        カバー
３０        導電性パターン
５０        濃度測定センサ用シート
【図１】
2014178143.tif 000003
【図２】
2014178143.tif 000004
【図３】
2014178143.tif 000005
【図４】
2014178143.tif 000006
【図５】
2014178143.tif 000007
【図６】
2014178143.tif 000008
【図７】
2014178143.tif 000009
【図８】
2014178143.tif 000010
【図９】
2014178143.tif 000011
【図１０】
2014178143.tif 000012
【図１１】
2014178143.tif 000013
【図１２】
2014178143.tif 000014
【図１３】
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