(57)【要約】【課題】電子部品単体で電磁シールド性に優れており、かつ電子部品自体の小型化を図り得る電子部品及びその製造方法を提供する。【解決手段】圧電基板１などからなる回路基板の片面に機能回路と、機能回路に電気的に接続される信号配線３ａと、機能回路に電気的に接続されており、グラウンド電位に電気的に接続されるグラウンド配線３ｂとが形成されており、回路基板の第１の主面の外周縁との間に領域を確保するようにかつ機能回路を囲むように枠部材７が設けられており、グラウンド配線３ｂが枠部材７の内側から外側に至っており、回路基板の第２の主面から側面を経て第１の主面の前記領域に至るようにシールド部材１０が設けられており、枠部材７の外側の前記領域でグラウンド配線３ｂに電気的に接続されている、電子部品１。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対抗し合う第１及び第２の主面と、該第１及び第２の主面を接続している側面とを有する回路基板と、
前記回路基板の第１の主面に形成されている機能回路と、
前記回路基板の第１の主面に形成されており、前記機能回路に電気的に接続される信号配線と、
前記回路基板の第１の主面に形成されている配線部分を有し、前記機能回路に電気的に接続されており、グラウンド電位に電気的に接続されるグラウンド配線と、
前記回路基板の第１の主面の外周縁との間に領域を確保するように、かつ前記機能回路を囲むように設けられた枠部材とを備え、
前記グラウンド配線が、前記枠部材の内側から外側に至るように設けられており、
前記回路基板の第２の主面から側面を経て前記回路基板の第１の主面の前記枠部材の外側の前記領域に至るように設けられており、かつ前記枠部材の外側の前記領域で前記グラウンド配線に電気的に接続されている導電性材料を含むシールド部材を備える、電子部品。
【請求項２】
前記枠部材の外周縁から前記第１の主面の外周縁に向かって延びるように設けられた仕切壁をさらに備え、
前記仕切壁により、前記枠部材の外側の前記領域が第１の区画と、第２の区画とに分割されており、前記第１の区画に前記グラウンド配線が配置されており、前記信号配線が前記第２の区画に連なるように設けられている、請求項１に記載の電子部品。
【請求項３】
前記シールド部材が、前記回路基板の第２の主面及び前記側面の全面を被覆するように設けられている、請求項１または２に記載の電子部品。
【請求項４】
前記枠部材の開口部を閉成するように前記枠部材に接合されている蓋部材をさらに備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子部品。
【請求項５】
前記枠部材が、前記信号配線が臨む第１の貫通孔と、前記グラウンド配線が臨む第２の貫通孔とを有し、前記第１及び第２の貫通孔に充填された第１及び第２の導電部材をさらに備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子部品。
【請求項６】
前記蓋部材が前記第１及び第２の貫通孔に連なる第３及び第４の貫通孔を有し、前記第１及び第２の導電部材が前記第３及び第４の貫通孔にそれぞれ連なるように形成されている、請求項４に記載の電子部品。
【請求項７】
（Ａ）対抗し合う第１及び第２の主面と、第１及び第２の主面を接続している側面を有する回路基板を用意する工程と、
（Ｂ）前記回路基板の前記第１の主面上に、機能回路を形成する工程と、
（Ｃ）前記回路基板の前記第１の主面上に、機能回路と電気的に接続される信号配線及び機能回路と電気的に接続され、かつグラウンド電位に接続されるグラウンド配線を形成する工程と、
（Ｄ）前記回路基板の前記第１の主面に、前記機能回路を囲むように、かつ前記回路基板の外周縁との間に領域を確保するように枠部材を形成する工程と、
（Ｅ）前記回路基板の第２の主面から前記側面を経て、前記第１の主面の枠部材の外側の領域に至るように、かつ前記グラウンド配線に電気的に接続されるように導電性材料を含むシールド部材を形成する工程とを備える、電子部品の製造方法。
【請求項８】
前記工程（Ａ）〜工程（Ｅ）をマザーの回路基板において行い、マザーの回路基板上に複数の電子部品形成用部分をシールド部材が隣り合う電子部品構成部分間に至るように設けて形成し、
前記複数の電子部品形成用部分が構成されているマザーの回路基板と前記シールド部材とを切断しつつ個々の電子部品に切断する、請求項７に記載の電子部品の製造方法。
【請求項９】
前記枠部材の開口を閉成するように蓋部材を形成する工程をさらに備える、請求項７または８に記載の電子部品の製造方法。
【請求項１０】
前記枠部材から前記回路基板の前記第１の主面の外周縁側に向かって延びる仕切壁を前記仕切壁により前記領域を第１及び第２の空間に区画するように形成する工程をさらに備え、
前記第１の区画に前記グラウンド配線が、前記第２の区画に前記信号配線が位置するように前記仕切壁を形成する、請求項７〜９のいずれか１項に記載の電子部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回路基板上に機能回路が形成されている電子部品及びその製造方法に関し、より詳細には、電磁シールド構造が備えられた電子部品及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子機器の小型化を図るために、実装基板に電子部品をフリップチップボンディングなどにより実装する方法が多用されている。例えば、下記の特許文献１には、このような電子部品の一例としての弾性表面波装置が開示されている。
【０００３】
特許文献１に記載の弾性表面波装置では、圧電基板上にＩＤＴ（ＩｎｔｅｒＤｉｇｉｔａｌ  Ｔｒａｎｃｅｄｕｃｅｒ）を含む電極構造が形成されている。この電極構造により、弾性表面波素子として機能するための機能回路が実現されている。
【０００４】
ところで、特許文献１に記載の電子部品は、実装基板にフリップチップボンディングにより実装される。この場合、圧電基板の機能回路が構成されている面が実装基板と対向するように配置される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１１７１５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載の電子部品において、上記機能回路を電磁シールドすることが強く求められる。この電子部品では、圧電基板の機能回路が形成されている面が実装基板に対向するように配置される。従って、従来、実装基板に機能回路を電磁シールドするためのシールド部材を形成する必要があった。
【０００７】
他方、電子部品を覆うように導電性を有する樹脂材料により封止層を形成する方法も知られている。この場合には、電子部品側において、電子部品内の機能回路部分を電磁シールドすることができる。しかしながら、電磁シールド機能を果たすための上記導電性を有する樹脂材料層を形成しなければならない。従って、電子部品の外寸、特に厚みが増大するという問題があった。
【０００８】
本発明の目的は、電子部品単体で電磁シールド性に優れており、かつ電子部品自体の小型化を図り得る電子部品及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る電子部品は、回路基板と、機能回路と、信号配線と、グラウンド配線と、枠部材と、シールド部材を備える。回路基板は、対向し合う第１及び第２の主面と、第１及び第２の主面を接続している側面とを有する。機能回路は前記回路基板の第１の主面に形成されている。信号配線は、前記回路基板の第１の主面に形成されており、前記機能回路に電気的に接続されている。
【００１０】
グラウンド配線は、前記回路基板の第１の主面に形成されている配線部分を有し、前記機能回路に電気的に接続されており、グラウンド電位に電気的に接続される。
【００１１】
枠部材は、前記回路基板の前記第１の主面の外周縁との間に領域を確保するように、かつ前記機能回路を囲むように設けられている。
【００１２】
本発明では、グラウンド配線が、枠部材の内側から外側に至るように設けられている。また、前記シールド部材は、前記回路基板の第２の主面から側面を経て前記回路基板の第１の主面の前記枠部材の外側の前記領域に至るように設けられており、かつ前記枠部材の外側の前記領域で前記グラウンド配線に電気的に接続されており、導電性材料を含む。
【００１３】
本発明に係る電子部品のある特定の局面では、前記枠部材の外周縁から前記第１の主面の外周縁に向かって延びるように設けられた仕切壁がさらに備えられている。前記仕切壁により、前記枠部材の外側の前記領域が第１の区画と、第２の区画とに分割されている。前記第１の区画に前記グラウンド配線が配置されており、前記信号配線が前記第２の区画に連なるように設けられている。
【００１４】
本発明に係る電子部品の他の特定の局面では、前記シールド部材が、前記回路基板の第２の主面及び前記側面の全面を被覆するように設けられている。
【００１５】
本発明に係る電子部品のさらに別の特定の局面では、前記枠部材の開口部を閉成するように、前記枠部材に接合されている蓋部材がさらに備えられている。
【００１６】
本発明に係る電子部品の別の特定の局面では、前記枠部材が、前記信号配線が臨む第１の貫通孔と、前記グラウンド配線が臨む第２の貫通孔とを有し、前記第１及び第２の貫通孔に充填された第１及び第２の導電部材がさらに備えられている。
【００１７】
本発明に係る電子部品の他の特定の局面では、前記蓋部材が前記第１及び第２の貫通孔に連なる第３及び第４の貫通孔を有し、前記第１及び第２の導電部材が前記第３及び第４の貫通孔にそれぞれ連なるように形成されている。
【００１８】
本発明に係る電子部品の製造方法は以下の工程を備える。
【００１９】
（Ａ）対抗し合う第１及び第２の主面と、第１及び第２の主面を接続している側面を有する回路基板を用意する工程と、
（Ｂ）前記回路基板の前記第１の主面上に、機能回路を形成する工程と、
（Ｃ）前記回路基板の前記第１の主面上に、機能回路と電気的に接続される信号配線及び機能回路と電気的に接続され、かつグラウンド電位に接続されるグラウンド配線を形成する工程と、
（Ｄ）前記回路基板の前記第１の主面に、前記機能回路を囲むように、かつ前記回路基板の外周縁との間に領域を確保するように枠部材を形成する工程と、
（Ｅ）前記回路基板の第２の主面から前記側面を経て、前記第１の主面の枠部材の外側の領域に至るように、かつ前記グラウンド配線に電気的に接続されるように導電性材料を含むシールド部材を形成する工程。
【００２０】
本発明に係る電子部品の製造方法のある特定の局面では、工程（Ａ）〜工程（Ｅ）をマザーの回路基板において行い、マザーの回路基板上に複数の電子部品形成用部分をシールド部材が隣り合う電子部品構成部分間に至るように設けて形成し、前記複数の電子部品形成用部分が構成されているマザーの回路基板と前記シールド部材とを切断しつつ個々の電子部品に切断する。
【００２１】
本発明に係る電子部品の製造方法のさらに他の特定の局面では、前記枠部材の開口を閉成するように蓋部材を形成する工程がさらに備えられている。
【００２２】
本発明に係る電子部品の製造方法の別の特定の局面では、前記枠部材から前記回路基板の前記第１の主面の外周縁側に向かって延びる仕切壁を前記仕切壁により前記領域を第１及び第２の空間に区画するように形成する工程がさらに備えられている。前記第１の区画に前記グラウンド配線が、前記第２の区画に前記信号配線が位置するように前記仕切壁を形成する。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係る電子部品では、機能回路を囲むように枠部材が設けられており、シールド部材が上記のように第２の主面から側面を経て枠部材の外側の領域に至るように設けられているため、電子部品の大型化を招くことなく、機能回路を効果的に電磁シールドすることができる。従って、実装基板側において、電子部品を電磁シールドするためのシールド部材を設ける必要もない。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】（ａ）は本発明第１の実施形態の製造工程を説明するための平面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）中のＢ１−Ｂ１線及びＣ１−Ｃ１線に沿う各断面図である。
【図２】（ａ）は本発明第１の実施形態の製造工程を説明するための平面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）中のＢ２−Ｂ２線及びＣ２−Ｃ２線に沿う各断面図である。
【図３】（ａ）は本発明の第１の実施形態の製造工程を説明するための平面図であり、（ｂ）は（ａ）中のＢ３−Ｂ３線に沿う部分の断面図である。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第１の実施形態の電子部品の製造方法の各工程を説明するための正面断面図である。
【図５】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第１の実施形態の電子部品の製造方法の各工程を説明するための正面断面図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第１の実施形態の電子部品の製造方法の各工程を説明するための正面断面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態の電子部品の製造方法を説明するための平面図である。
【図８】（ａ）及び（ｂ）は、図７中のＡ４−Ａ４線及びＢ４−Ｂ４線に沿う断面図である。
【図９】本発明の第１の実施形態の電子部品の製造方法を説明するための平面図である。
【図１０】（ａ）は、本発明の第１の実施形態に係る電子部品の製造工程を説明するための平面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）中のＢ５−Ｂ５線及びＣ５−Ｃ５線に沿う各断面図である。
【図１１】（ａ）は、本発明の第２の実施形態に係る電子部品の製造工程を説明するための平面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）中のＢ６−Ｂ６線及びＣ６−Ｃ６線に沿う各断面図である。
【図１２】（ａ）は本発明に係る第２の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための平面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は（ａ）中のＢ７−Ｂ７線及びＣ７−Ｃ７線に沿う各断面図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態に係る電子部品の製造工程を説明するための断面図である。
【図１４】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための各正面断面図である。
【図１５】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための各正面断面図である。
【図１６】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための各正面断面図である。
【図１７】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための各正面断面図である。
【図１８】（ａ）は本発明の第３の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための平面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）中のＢ８−Ｂ８線及びＣ８−Ｃ８線に沿う各断面図である。
【図１９】本発明の第４の実施形態の電子部品の製造方法を説明するための平面図である。
【図２０】（ａ）〜（ｃ）は図１９中のＡ９−Ａ９線、Ｂ９−Ｂ９線及びＣ９−Ｃ９線に沿う各断面図である。
【図２１】本発明の第４の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための平面図である。
【図２２】（ａ）〜（ｃ）は図２１中のＡ１０−Ａ１０線、Ｂ１０−Ｂ１０線及びＣ１０−Ｃ１０線に沿う各断面図である。
【図２３】本発明の第４の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための平面図である。
【図２４】（ａ）〜（ｃ）は図２３中のＡ１１−Ａ１１線、Ｂ１１−Ｂ１１線及びＣ１１−Ｃ１１線に沿う各断面図である。
【図２５】本発明の第４の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための平面図である。
【図２６】本発明の第５の実施例に係る電子部品の製造方法を説明するための平面図である。
【図２７】（ａ）〜（ｃ）は図２６中のＡ１２−Ａ１２線、Ｂ１２−Ｂ１２線及びＣ１２−Ｃ１２線に沿う各断面図である。
【図２８】（ａ）は、本発明の第５の実施形態に係る電子部品の製造方法を説明するための平面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、（ａ）中のＢ１３−Ｂ１３線及びＣ１３−Ｃ１３線に沿う各断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
【００２６】
図１〜図１０を参照して、本発明の電子部品の製造方法及び電子部品を説明する。
【００２７】
本実施形態では、後述するように、図１０に示す弾性表面波装置が電子部品として作成される。
【００２８】
図１(ａ)に示すように、マザーの圧電基板１を用意する。圧電基板１としては、ＬｉＴａＯ３などの適宜の圧電材料からなる圧電基板を用いることができる。
【００２９】
マザーの圧電基板１の第１の主面である上面に、Ａｌなどからなる金属膜を全面に成膜し、フォトリソグラフィーによりパターニングする。それによって、図１（ａ）〜（ｃ）に示す電極構造を形成する。この電極構造は、一対の櫛歯形電極からなるＩＤＴ２と、配線電極３と、パッド電極４ａ，４ｂとを含む。配線電極３には、信号配線３ａとグラウンド配線３ｂとを含む。また、この段階では、機能回路として複数のＩＤＴ２を含む１つの弾性表面波素子部分を囲むように、シールド配線５が形成されている。パッド電極４ａ，４ｂ上には、後述するように、バンプとして用いられる第１，第２の導電部材８ａ，８ｂが形成される。すなわち、パッド電極４ａ，４ｂは、アンダーバンプメタル層となる接合層として機能する。
【００３０】
次に、圧電基板１の上面に感光性樹脂を塗布し、フォトリソグラフィーによりパターニングする。感光性樹脂としては、感光性ポリイミド樹脂などの適宜の感光性樹脂を用いることができる。このパターニングにより、図２（ａ）〜（ｃ）に示す枠部材７を形成する。枠部材７は、矩形枠状の形状を有する。枠部材７のコーナー部分には、第１の貫通孔７ａ及び第２の貫通孔７ｂが形成されている。第１の貫通孔７ａの内部には、パッド電極４ａの少なくとも一部が露出している。パッド電極４ａは、配線電極３のうち、信号電位に接続される信号配線３ａに連ねられている。他方、第２の貫通孔７ｂの内部には、パッド電極４ｂの少なくとも一部が露出している。パッド電極４ｂは、グラウンド電位に接続されるグラウンド配線３ｂに接続されている。
【００３１】
次に、上記第１，第２の貫通孔７ａ，７ｂ以外の部分をレジストで被覆する。しかる後、めっきにより第１，第２の貫通孔７ａ，７ｂに金属を充填する。金属としては、ＮｉやＣｕを主成分とする合金などの適宜の金属を用いることができる。しかる後、レジストを剥離する。
【００３２】
上記のようにして、図３（ａ），（ｂ）に示すように、第１，第２の貫通孔７ａ，７ｂの内部に、バンプまたはアンダーバンプメタル層として機能する第１，第２の導電部材８ａ，８ｂが形成される。バンプとして機能させる場合、枠部材７の高さよりも、導電部材８ａ，８ｂの高さが高くなるように、第１，第２の導電部材８ａ，８ｂを形成することが望ましい。それによって、最終的に得られる電子部品のフリップチップボンディングによる実装を容易とすることができる。
【００３３】
次に、図４（ａ）に示すように、圧電基板１の上面側からダイシングテープ９を貼付する。図４（ａ）では、図３（ｂ）に示す断面部分と同じ部分が示されている。また、図４（ｂ）では、図２（ｃ）に沿う部分に相当する断面部分が図示されている。
【００３４】
ダイシングテープ９としては、主面の一方である下面が粘着面である周知のダイシングテープを用いることができる。上記ダイシングテープ９の下面が、第１，第２の導電部材８ａ，８ｂ及び枠部材７に貼り付けられる。図４（ａ）及び（ｂ）に示すように、この状態で、ダイシングテープ９の下面と、マザーの圧電基板１と枠部材７との間には空間Ｘおよび空間Ｙが形成される。
【００３５】
次に、ダイシングテープ９をダイシングせず、マザーの圧電基板１を個々の電子部品単位にダイシングする。ダイシングにより、内部にＩＤＴ２を含む空間Ｘの封止は維持するが、空間Ｙには開口部が生じる。また図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、マザーの圧電基板が、個々の電子部品単位の圧電基板１Ａに分割される。なお圧電基板１Ａが回路基板に相当する。
【００３６】
次に、ダイシングテープ９を剥離せずに、圧電基板１Ａの下面側から導電ペーストを塗布し、空間Ｙ及び圧電基板１Ａのダイシング面並びに第２の主面である下面に導電ペーストに配置した後、加熱または冷却などによって硬化させる。このようにして、図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、複数の電子部品の所定の位置にシールド部材１０を一度に形成することができる。
【００３７】
上記導電ペーストとしては、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂または各種の化学硬化性樹脂に導電性材料が含まれている組成物を用い得る。
【００３８】
図６（ａ）及び（ｂ）は、図５（ａ）及び（ｂ）に相当する部分の各断面図である。シールド部材１０は、圧電基板１Ａの第２の主面としての下面を覆っている。また、シールド部材１０は、隣り合う圧電基板１Ａ，１Ａ間の空隙に充填されている。従って、シールド部材１０は、圧電基板１Ａの下面から側面を経て上面１ａに至っている。シールド部材１０は、圧電基板１Ａの第１の主面としての上面１ａにおいて、枠部材７が設けられている部分の外側の領域１ｃに至っている。もっとも、枠部材７よりも内側の領域１ｄにはシールド部材１０は至っていない。
【００３９】
上記シールド部材１０の形成により、シールド部材１０はグラウンド電位に接続されるグラウンド配線３ｂ及びシールド配線５に電気的に接続される。なお、信号配線３ａに接続されるパッド電極４ａは、枠部材７の外側である空間Ｙでの露出がなく、シールド部材１０と電気的に接続されていない。
【００４０】
次に、個々の電子部品単位に上記シールド部材１０の一部をダイシングする。この場合、好ましくはダイシングテープ９を電子部品から剥離しない。すなわち、図８（ａ）及び（ｂ）に示すように、隣り合う圧電基板１Ａ，１Ａ間において、シールド部材１０をダイシングする。このようにして、個々の電子部品単位のシールド部材１０Ａが形成される。
【００４１】
なお、図７は、ダイシングテープ９を省略して、図６（ａ）及び（ｂ）に示すようにシールド部材１０が形成されている状態を示す模式的平面図である。
【００４２】
図９は、上記シールド部材１０を複数のシールド部材１０Ａにダイシングした後の状態を模式的に示す平面図である。ここでは、ダイシングテープ９の図示は省略してある。
【００４３】
しかるのち、ダイシングテープ９から電子部品を剥離する。このようにして、図１０（ａ）〜（ｃ）に示す第１の実施形態の電子部品１１を得ることができる。
【００４４】
電子部品１１では、回路基板としての圧電基板１Ａの上面１ａ上に、複数のＩＤＴ２を有する機能回路が構成されている。本実施形態では、ラダー型回路構成のフィルタが形成されている。他方、電子部品１１では、シールド部材１０Ａが、機能回路が構成されている圧電基板１Ａの上面で、圧電基板１Ａの第２の主面である下面１ｂの全面を覆っている。また、圧電基板１Ａの４つの側面の全体もシールド部材１０Ａにより被覆されている。加えて、圧電基板１Ａの上面１ａ上において、領域１ｃに至るようにシールド部材１０Ａが形成されている。従って、機能回路をシールド部材１０Ａにより外部に対して確実に電磁シールドすることができる。
【００４５】
他方、電子部品１１の実装に際しては、電子部品１１を図１０（ｂ）及び（ｃ）に示す向きから反転し、実装基板上にフリップチップボンディング工法により実装することができる。この場合、実装基板側にシールド部材を設けずとも、実装状態において、機能回路がシールド部材１０Ａで囲まれることになる。従って、実装基板として、複雑な構造の実装基板を用意する必要がなく、電子部品１１とは別に電子部品１１を覆うシールド部材を設ける必要がない。
【００４６】
さらに、シールド部材１０Ａは、圧電基板１Ａの機能回路が形成されている面側では、上記枠部材７の上端よりも低く形成されている。よって、シールド部材１０Ａを設けたとしても、電子部品１１の厚みはさほど増大しない。よって、電子部品１１の低背化を果たすことができる。
【００４７】
図１１（ａ）は、本発明の第２の実施形態の平面図、図１１（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ図１１（ａ）中のＢ６−Ｂ６線及びＣ６−Ｃ６線に沿う断面図である。本実施形態の電子部品２１では、圧電基板１Ａの上方に、蓋部材２２が形成されていることにある。ここでは、シールド部材１０Ｂは、圧電基板１Ａの上面１ａ側において、第１の実施形態と同様に領域１ｃに至るように設けられている。もっとも、シールド部材１０Ｂは、圧電基板１Ａの側面を覆っている部分から上方に突出している突出枠１０Ｂ１を有するように形成されている。この突出枠１０Ｂ１で囲まれた領域に蓋部材２２が形成されている。
【００４８】
蓋部材２２は、その上面は、第１，第２の導電部材８ａ，８ｂの上端よりも低くされている。また、蓋部材２２の下面は、枠部材７の上端に接触している。蓋部材２２は、絶縁性樹脂からなる。圧電基板１、枠部材７及び蓋部材２２によって囲まれた封止空間が設けられているため、本実施形態では、電子部品２１における耐湿性等を高めることができ、封止空間内の機能回路の電気特性を安定させることができる。
【００４９】
また、ＩＤＴなどの稼働時に発熱源となる素子を含む機能回路の場合、発熱により圧電基板の温度が上昇して、電子部品１１の電気特性が変動する問題がある。特に、圧電基板１Ａ、枠部材７及び蓋部材２２によって封止された封止空間内に素子が配置される場合、発熱による圧電基板の温度上昇が大きくなる。しかしグラウンド配線３ｂが封止された空間の内側から外側まで圧電基板１Ａの第１の主面上に連続して形成されているため、封止空間内の熱がグラウンド配線３ｂを介して封止空間の外側に伝わる。このグラウンド配線３ｂによる熱伝達によって、圧電基板１Ａの第１の主面上に形成された機能回路の温度上昇を抑制でき、電子部品１１の温度による電気特性の変動を安定させることができる。この場合グランド配線３ｂの熱伝導率が圧電基板１Ａの熱伝導率より高いことが好ましい。
【００５０】
その他の構造は第１の実施形態と同様である。第２の実施形態の電子部品２１においても、第１の実施形態と同様に、低背化を進め、かつ良好な電磁シールド機能を果たすことができる。
【００５１】
図１２〜図１７を参照して、第２の実施形態の電子部品２１の製造方法を説明する。
【００５２】
図１２（ａ）〜（ｃ）に示すように、マザーの圧電基板１上において、第１の実施形態と同様に、電極構造及び枠部材７を形成する。しかる後、感光性樹脂シートを枠部材７上に接着し、フォトリソグラフィーによりパターニングする。それによって、蓋部材２２を形成することができる。なお、蓋部材２２においても、前述した第１，第２の貫通孔７ａ，７ｂに連なる第３及び第４の貫通孔２２ａ，２２ｂ（図１３参照）を形成するように上記パターニングを行う。
【００５３】
しかる後、第１の実施形態と同様に、めっき法により第１，第２の貫通孔７ａ，７ｂに金属を充填する。このようにして、図１３に示すように、第１，第２の導電部材８ａ，８ｂを形成することができる。
【００５４】
次に、図１４（ａ）及び（ｂ）に示すように、ダイシングテープ９を上面に貼り付ける。しかる後、ダイシングテープ９をダイシングせず、圧電基板１を個々の電子部品単位にダイシングする。このようにして、図１５（ａ）及び（ｂ）に示すように、マザーの圧電基板が複数の圧電基板１Ａに分割される。次に、図１６（ａ）及び（ｂ）に示すように、シールド部材１０を圧電基板１Ａの下面側から塗布し、硬化させる。しかる後、図１７（ａ）及び（ｂ）に示すように、ダイシングにより個々の電子部品単位に分割する。最後にダイシングテープ９から電子部品を剥離する。このようにして、第２の実施形態の電子部品２１を得ることができる。
【００５５】
図１８（ａ）は、本発明の第３の実施形態に係る電子部品３１を示す平面図、図１８（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ図１８（ａ）中のＢ８−Ｂ８線及びＣ８−Ｃ８線に沿う断面図である。
【００５６】
本実施形態が、第２の実施形態と異なるところは、蓋部材３２が、電子部品３１の外周縁まで延ばされていることにある。すなわち、第２の実施形態では、シールド部材１０Ｂが突出枠１０Ｂ１を有しており、該突出枠１０Ｂ１内に蓋部材２２が配置されていた。これに対して、突出枠１０Ｂ１が形成されていない。言い換えれば、第１の実施形態の電子部品１において、上記蓋部材３２を追加した構造に相当する。
【００５７】
第３の実施形態の電子部品３１の製造工程は、第２の実施形態とほぼ同様に行い得る。もっとも、シールド部材１０をダイシングにより個々の電子部品単位のシールド部材１０Ｂにダイシングするに際し、マザーの蓋部材もダイシングし、上記蓋部材３２を形成する。本実施形態では、外部と電気的に接続される第１，第２の導電部材８ａ，８ｂの側面が蓋部材３２で覆われているため、所望でない短絡を抑制することができる。
【００５８】
図１９〜図２５を参照して第４の実施形態の電子部品４１の製造方法を説明する。図１９は、第４の実施形態の電子部品４１を示す平面図であり、図２０（ａ）〜（ｃ）は、図１９中のＡ９−Ａ９線、Ｂ９−Ｂ９線及びＣ９−Ｃ９線に沿う断面図である。電子部品４１の製造方法を図２１〜図２５を参照して先に説明する。
【００５９】
まず、マザーの圧電基板上に第１の実施形態と同様にして、電極構造を形成する。図２１に示すように、この電極構造は、複数のＩＤＴ２と、信号配線３ａと、グラウンド配線３ｂと、パッド電極４ａ，４ｂとを有する。
【００６０】
さらに、本実施形態では、電極構造として、矩形枠状の給電ライン４２ｃが形成されている。矩形枠状の給電ライン４２ｃから、信号端子となるパッド電極４ａに接続されるように、信号給電ライン４２ａが形成されている。また、グラウンド電位に接続されるパッド電極４ｂに向かって、給電ライン４２ｃからグラウンド給電ライン４２ｂが延ばされている。
【００６１】
さらに、グラウンド給電ライン４２ｂに電気的に接続されるように引き出し電極４３が形成されている。なお、信号給電ライン４２ａは、引き出し電極４３に給電ライン４２ｃ及びグラウンド給電ライン４２ｂを介して電気的に接続されている。
【００６２】
また、上記引き出し電極４３は、矩形枠状の給電ライン４２ｃの対抗し合う一対の辺に平行に延ばされている。引き出し電極４３の延びる方向をＹ方向とし、Ｙ方向に直交する圧電基板面内の方向をＸ方向とする。この対抗し合う一対の辺側に、信号給電ライン４２ａは設けられていない。すなわち、信号給電ライン４２ａは、残りの一対の辺に位置している給電ライン４２ｃの一部に電気的に接続されている。
【００６３】
上記信号給電ライン４２ａ、グラウンド給電ライン４２ｂ及び引き出し電極４３を含む電極構造は、第１の実施形態と同様に、フォトリソグラフィーによりパターニングすることにより形成することができる。
【００６４】
次に、図２３及び図２４（ａ）〜（ｃ）に示すように、第１の実施形態と同様にして、感光性樹脂のパターニングにより枠部材７Ｃを形成する。枠部材７Ｃは、矩形枠状の枠部材本体を有する。この矩形枠状の枠部材本体は機能回路を囲むように設けられている。また、この矩形枠状の枠部材本体のコーナー部には、第１の実施形態と同様に第１，第２の貫通孔７ａ，７ｂが形成されている。もっとも、本実施形態では、Ｙ方向に突出する仕切壁７Ｃ１が形成されている。仕切壁７Ｃ１は、矩形枠状の枠部材本体のコーナー部からマザーの圧電基板１の端縁に至るように延ばされている。
【００６５】
仕切壁７Ｃ１が設けられているため、枠部材７の枠部材本体の外側の領域が、第１の領域Ｄと、第２の領域Ｅとに区画されることになる。ここで、第１の領域Ｄとは、Ｙ方向に延びる仕切壁７Ｃ１，７Ｃ１間の領域である。第２の領域Ｅとは、Ｙ方向に延びる仕切壁７Ｃ１の外側の領域である。第２の領域Ｅには、前述したグラウンド電位に接続される引き出し電極４３が配置されている。すなわち、第２の領域Ｅにおいて、グラウンド給電ライン４２ｂと引き出し電極４３とが電気的に接続されている。言い換えれば、グラウンド電位に接続される配線部分は、枠部材７Ｃの内側から外側に至るように形成されていることになる。
【００６６】
上記仕切壁７Ｃ１が設けられているため、後述するように、導電性材料を含むシールド部材１０が第１の領域Ｄには至らない。そのため、所望でない短絡を防止することができる。
【００６７】
本実施形態の製造方法においても、上記電極構造を形成したのち、第２及び第３の実施形態と同様にして枠部材７を形成する。但し、上記仕切壁７Ｃ１を含む枠部材７を形成する。次に、信号給電ライン４２ａ及びグラウンド給電ライン４２ｂを用い、電界めっき法により第１，第２の導電部材８ａ，８ｂを形成する。この電界めっき法を用いるため、厚みの厚い第１，第２の導電部材８ａ，８ｂを容易に形成することができる。次に、ダイシングテープを上面から貼り付ける。
【００６８】
しかる後、マザーの圧電基板をダイシングする。このマザーの圧電基板のダイシングに際しては、図２５の破線Ｆ１，Ｆ２で囲まれている部分のうち一点鎖線Ｇ１，Ｇ２に囲まれた領域に含まれない部分はダイシングを行わない。またダイシングに際しては、一点鎖線Ｇ１，Ｇ２に囲まれた領域をダイシングにより除去する。すなわち、隣り合う電子部品の隣り合う引き出し電極４３間の部分を除去する。ダイシングされた切断面に引き出し電極４３が露出することとなる。
【００６９】
上記ダイシング後、ダイシングテープから剥離しない状態で、第１〜第３の実施形態と同様に、導電ペーストを下面側から塗布し、硬化させる。このようにして、シールド部材を形成する。しかる後、ダイシングにより、隣り合う電子部品間のシールド部材部分及び蓋部材を切断する。上記のようにして、図１９及び図２０に示した電子部品４１を得ることができる。
【００７０】
本実施形態の電子部品４１においても、蓋部材が設けられているため、第１，第２の導電部材８ａ，８ｂの所望でない短絡を効果的に防止することができる。また、シールド部材１０は、本実施形態においても、第１の実施形態と同様に形成されているため、機能回路を確実に電磁シールドすることができる。もっとも、図２０（ｃ）に示すように、前述したＸ方向に延びる側面側においてはシールド部材１０は形成されていないことになる。その場合であっても、他の２つの側面がシールド部材１０により被覆されているため、機能回路を十分に電磁シールドすることは可能である。
【００７１】
図２６及び図２７（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第５の実施形態に係る電子部品５１を示す平面図、図２６中のＡ１２−Ａ１２線、Ｂ１２−Ｂ１２線、Ｃ１２−Ｃ１２線に沿う各断面図である。本実施形態においても、第４の実施形態と同様に、電界めっきにより第１，第２の導電部材８ａ，８ｂを形成することができる。
【００７２】
本実施形態の製造方法について図２８を参照しつつ説明する。マザーの圧電基板１上に、第１の実施形態と同様にして電極構造を形成する。もっとも、本実施形態では、図２８（ａ）〜（ｃ）に示すように、複数のＩＤＴ２に、信号配線３ａ、グラウンド配線３ｂ、パッド電極４ａ，４ｂだけでなく、給電ライン５２及び引き出し電極５３が形成されていることにある。本実施形態では、引き出し電極５３が給電ライン５２の一部をも兼ねている。すなわち、引き出し電極５３は、図２８（ａ）のＹ方向上端に至るように形成されている。また、引き出し電極５３は隣り合う電子部品間に跨るように形成されている。給電ライン５２は、Ｘ方向に延びる給電ライン部分５２ａを有する。給電ライン部分５２ａの一端が一対の引き出し電極５３を接続するように設けられている。それによって、給電ライン部分５２ａと引き出し電極５３により、矩形枠状の給電ラインが構成されている。給電ライン部分５２ａには、信号給電ライン４２ａが接続されている。これは、第４の実施形態の場合と同様である。他方、引き出し電極５３には、グラウンド給電ライン４２ｂが接続されている。
【００７３】
第５の実施形態は、給電ラインの構造が上記のように異なることを除いては、第４の実施形態と同様である。
【００７４】
本実施形態の製造方法においても、上記電極構造を形成したのちに、第４の実施形態と同様にして枠部材７Ｃを形成する。本実施形態においても、第４の実施形態と同様に仕切壁７Ｃ１を有するように枠部材７Ｃを形成する。
【００７５】
次に、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィーにより枠部材を第４の実施形態と同様にして形成する。次に、本実施形態では、パッド電極４ａ，４ｂと引き出し電極５３にめっき法により金属を堆積させる。それによって、第１，第２の導電部材８ａ，８ｂを形成する。さらに、引き出し電極５３上に図２７（ａ）及び（ｂ）に示されている金属膜５４をめっき工程において形成する。
【００７６】
しかる後、第１，第２の導電部材８ａ，８ｂが位置している部分以外をレジストで被覆し、さらに第１，第２の導電部材８ａ，８ｂの膜厚を厚くするようにめっき金属膜を積層する。図２７（ａ）では、このめっき金属膜は特に図示はしていない。
【００７７】
しかる後、ダイシングテープを上面から貼り付け、マザーの圧電基板を第４の実施形態と同様にしてダイシングする。ダイシングに際しては、隣り合う電子部品間に跨っている引き出し電極５３の一部を除去するようにダイシングを行う。従って、切断面に引き出し電極５３Ａが露出することになる。
【００７８】
しかる後、第１〜第４の実施形態と同様に、下面側から導電ペーストを塗布し、熱硬化させ、シールド部材を形成する。しかる後、ダイシングにより、隣り合う電子部品間のシールド部材部分及び蓋部材を切断する。このようにして、本実施形態の電子部品を得ることができる。
【００７９】
本実施形態においても、第４の実施形態と同様に、電界めっきにより、第１，第２の導電部材８ａ，８ｂを形成することができる。
【００８０】
なお、上述した第１〜第５の実施形態では、機能回路はラダー型フィルタを構成するように設けられていたが、本発明において、機能回路はこのようなフィルタに限らず、縦結合共振子型フィルタや横結合共振子型フィルタなどを適宜組み合わせたフィルタでもよく、また弾性表面波などの弾性波を利用した機能回路部分に限定されるものではない。すなわち、電磁シールドが必要な様々な機能回路を有する部分に本発明を適用することができる。
【００８１】
また、回路基板として、上記圧電基板１に限らず、絶縁性基板や半導体基板を用いた電子部品にも本発明を適用することができる。
【符号の説明】
【００８２】
１…圧電基板
１Ａ…圧電基板
１ａ…上面
１ｂ…下面
１ｃ…領域
１ｄ…領域
２…ＩＤＴ
３…配線電極
３ａ…信号配線
３ｂ…グラウンド配線
４ａ，４ｂ…パッド電極
５…シールド配線
７…枠部材
７Ｃ…枠部材
７Ｃ１…仕切壁
７ａ，７ｂ…第１，第２の貫通孔
８ａ，８ｂ…第１，第２の導電部材
９…ダイシングテープ
１０，１０Ａ，１０Ｂ…シールド部材
１０Ｂ１…突出枠
１１，２１…電子部品
２２…蓋部材
２２ａ，２２ｂ…第３，第４の貫通孔
３１…電子部品
３２…蓋部材
４１…電子部品
４２ａ…信号給電ライン
４２ｂ…グラウンド給電ライン
４２ｃ…給電ライン
４３…引き出し電極
５２…給電ライン
５２ａ…給電ライン部分
５３…引き出し電極
５３Ａ…引き出し電極
５４…金属膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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