(57)【要約】【課題】表示装置の信頼性の向上を実現することを目的とする。【解決手段】本発明の表示装置１は、薄膜トランジスタが形成され、表示領域Ｄとその外側の非表示領域Ｅとに区画された第１基板１２と、前記第１基板の上面１２ａに対向するように配置された第２基板１４と、前記第１基板と前記第２基板の間に形成された光遮断膜ＢＭと、前記第２基板の上面１４ａにおける、前記表示領域に対向する領域に形成された回路２２と、を備え、前記第２基板は、前記第２基板の上面の、前記非表示領域に対向する領域に形成された、前記回路の端子部２４と、を有し、前記端子部は、前記端子部上を覆う異方性導電膜４０を介して、前記回路を駆動する回路駆動基板５２が接続され、前記光遮断膜は、前記端子部に対向する領域の少なくとも一部を避けて形成されることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜トランジスタが形成され、表示領域とその外側の非表示領域とに区画された第１基板と、
前記第１基板の上面に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の間の、前記非表示領域に対向する領域に形成された光遮断膜と、
前記第２基板の上面における、前記表示領域に対向する領域に形成された回路と、
を備え、
前記第２基板は、
前記第２基板の上面の、前記非表示領域に対向する領域に形成された、前記回路の端子部と、を有し、
前記端子部は、
前記端子部上を覆う異方性導電膜を介して、前記回路を駆動する回路駆動基板が接続され、
前記光遮断膜は、
前記端子部に対向する領域の少なくとも一部を避けて形成される、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表示装置において、
前記光遮断膜に、前記端子部に対向する領域を避けるための開口が形成されている、ことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載の表示装置において、
前記第１基板の前記非表示領域に配線が形成され、
前記配線が、前記開口に対向する領域を避けて形成される、ことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の表示装置において、
前記開口が、前記端子部が形成された領域の延在方向において、前記端子部が形成された領域の両端に対応する領域と前記両端同士の中間に対応する領域との少なくとも三か所に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項２に記載の表示装置において、
前記開口に対向する領域内に配線が形成され、
前記開口に対向する領域内に形成された前記配線が透光性を有することを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータや携帯電話など情報通信端末等の表示デバイスとして、一対の基板を有する表示装置が広く用いられている。このような基板としては、薄膜トランジスタが形成されたＴＦＴ（thin film transistor）基板や、カラーフィルタを有するカラーフィルタ基板が用いられる。カラーフィルタ基板に回路と端子が形成されている場合、この回路を駆動するためのフレキシブルプリント基板がカラーフィルタ基板上の端子に接続されている。
【０００３】
このような表示装置としては、例えば特許文献１において、互いに貼りあわされたＥＬ（Electro-Luminescence）基板とカラーフィルタ基板とを有する表示装置が開示されている。このＥＬ基板は表示領域を有し、その周辺領域には情報標示手段が形成されている。また、カラーフィルタ基板の周辺領域にはブラックマトリクスが形成されており、このブラックマトリクスの一部である、情報標示手段に対向する領域は除去されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−２５２９０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の表示装置においては、画像を表示する領域である表示領域とその外側の非表示領域とに区分されたＴＦＴ基板の上に、カラーフィルタを有するカラーフィルタ基板がＴＦＴ基板の上面と対向するように配置されている。また、カラーフィルタ基板の上面の非表示領域に対向する領域には端子が設けられている。この端子には、フレキシブルプリント基板が例えば異方性導電膜を介して接続される。また、カラーフィルタ基板の非表示領域あるいはＴＦＴ基板の非表示領域にはブラックマトリクスが配置されている。
【０００６】
このような構成においては、端子とフレキシブルプリント基板の接続箇所とＴＦＴ基板の下面との間にブラックマトリクスが配置されるため、ＴＦＴ基板の下面から接続箇所を視認することができない。このため、端子とフレキシブルプリント基板の接続箇所の視認による表示装置の品質確認が困難であった。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、表示装置の信頼性の向上を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）本発明の表示装置は、薄膜トランジスタが形成され、表示領域とその外側の非表示領域とに区画された第１基板と、前記第１基板の上面に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板の間の、前記非表示領域に対向する領域に形成された光遮断膜と、前記第２基板の上面における、前記表示領域に対向する領域に形成された回路と、を備え、前記第２基板は、前記第２基板の上面の、前記非表示領域に対向する領域に形成された、前記回路の端子部と、を有し、前記端子部は、前記端子部上を覆う異方性導電膜を介して、前記回路を駆動する回路駆動基板が接続され、前記光遮断膜は、前記端子部に対向する領域の少なくとも一部を避けて形成される、ことを特徴とする。
【０００９】
（２）本発明の表示装置は、（１）において、前記光遮断膜に、前記端子部に対向する領域を避けるための開口が形成されていてもよい。
【００１０】
（３）本発明の表示装置は、（２）において、前記第１基板の前記非表示領域に配線が形成され、前記配線が、前記開口に対向する領域を避けて形成されてもよい。
【００１１】
（４）本発明の表示装置は、（２）または（３）において、前記開口が、前記端子部が形成された領域の延在方向において、前記端子部が形成された領域の両端に対応する領域と前記両端同士の中間に対応する領域との少なくとも三か所に設けられていてもよい。
【００１２】
（５）本発明の表示装置は、（２）において、前記開口に対向する領域内に配線が形成され、前記開口に対向する領域内に形成された前記配線が透光性を有していてもよい。
【発明の効果】
【００１３】
上記（１）乃至（５）のいずれかによれば、異方性導電膜を介しての端子部と回路駆動基板との接続を第１基板の下面側から確認することができる。このため、端子部と回路駆動基板との接続箇所を視認することによる表示装置の品質管理が可能となり、表示装置の信頼性の向上を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は第１の実施形態に係る表示装置の概略平面図である。
【図２】図２は図１に示す表示装置のＩＩ−ＩＩ切断線における概略断面図である。
【図３】図３は図１に示す表示装置の第２基板の概略平面図である。
【図４】図４は図１に示す表示装置の第１基板の概略平面図である。
【図５】図５は図３に示す第１基板上に図４に示す第２基板を配置した状態を示す概略平面図である。
【図６】図６は第２の実施形態に係る表示装置を示す概略断面図である。
【図７】図７は図６に示す表示装置のＶＩＩ−ＶＩＩ切断線における概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、第１の実施形態に係る表示装置について、表示装置１を例として図面に基づいて説明する。なお、以下の説明において参照する図面は、特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料等は一例であって、各構成要素はそれらと異なっていてもよく、その要旨を変更しない範囲で変更して実施することが可能である。
【００１６】
図１は本発明に係る表示装置１の概略平面図であり、図２は図１に示す表示装置のＩＩ−ＩＩ切断線における概略断面図である。表示装置１は液晶表示パネル１０を有している。液晶表示パネル１０は、第１基板１２と、第１基板１２上に配置された第２基板１４とを有している。
【００１７】
第１基板１２は図示しない薄膜トランジスタが形成され、表示領域Ｄとその外側の非表示領域Ｅとに区画された基板であって、その上面１２ａに、図示しない液晶を介して第２基板１４が配置される部材である。第１基板１２は、具体的には透光性を有する絶縁性の基板上に薄膜トランジスタが形成されることにより構成されている。
【００１８】
また、図２に示すように、表示領域Ｄ内における第１基板１２の上面１２ａには例えば薄膜トランジスタに接続される第１の回路２１が形成され、第１基板１２の上面１２ａの非表示領域Ｅには、配線２０が形成されている。この配線２０は、第１の回路２１と、後述する第１のフレキシブル配線基板２とを接続するために形成されている。配線２０は例えばＡｇなどの金属材料からなる。なお、配線２０の詳細な構成については説明の便宜上、後述する。
【００１９】
第１基板１２の下面１２ｂには、図示しない粘着剤を介して第１偏光板１６が貼り付けられている。また、第２基板１４の上面１４ａには、図示しない粘着剤と後述する第２偏光板１８が貼り付けられている。なお、図１においては、説明の便宜上、第１偏光板１６と第２偏光板１８の図示を省略する。
【００２０】
図１，２に示すように、第１基板１２の上面１２ａのうち、第２基板１４が配置されていない領域には、第１のフレキシブル回路基板２が接続され、さらに、ドライバＩＣ（Integrated Circuit）３が設けられている。ドライバＩＣ３は、表示装置１の外部から第１のフレキシブル回路基板２を介して画像データを供給される、第１の基板１２上に配置されたＩＣである。
【００２１】
第２基板１４は例えばカラーフィルタＣＦを有するカラーフィルタ基板である。第２基板１４としてカラーフィルタ基板を用いることにより、表示装置１はカラー表示を可能とする。また、本実施形態における第２基板１４はタッチパネルとして機能してもよい。また、第２基板１４上に、図示しないタッチパネルが配置されてもよい。第２基板１４は、第１基板１２と第２基板１４の間の光の通過及び遮断を制御するための図示しない液晶を介して、第１基板１２の上面１２ａに対向するように配置されている。
【００２２】
第２基板１４は具体的には例えば、透光性を有する絶縁性の基礎基板１５と、基礎基板１５の下面１５ｂの、非表示領域Ｅに対応する領域に形成された、例えばブラックマトリクスなどの光遮断膜ＢＭと、表示領域Ｄ内に形成されたカラーフィルタＣＦと、カラーフィルタＣＦの下を覆う保護膜１６と、から構成されている。
【００２３】
なお、本実施形態においては、光遮断膜ＢＭが基礎基板１５の下面１５ｂに形成された例について説明するが、光遮断膜ＢＭは、非表示領域Ｅに対向する領域に形成されているのであれば、第１基板１２と第２基板１４の間のいずれの箇所に形成されていてもよい。
【００２４】
第２基板１４の上面１４ａの表示領域Ｄに対向する領域には第２の回路２２が形成されている。この第２の回路２２は、例えば図示しないタッチパネルを構成する回路である。また、第２基板１４の上面１４ａの非表示領域Ｅに対向する領域には、第２の回路２２の端子部２４が形成されている。この端子部２４は第２の回路２２と、回路駆動基板である第２のフレキシブル配線基板５２とを接続するための端子である。
【００２５】
第２のフレキシブル配線基板５２は第２の回路２２を駆動するための基板であり、端子部２４上を覆う異方性導電膜４０を介して端子部２４に接続されている。なお、この異方性導電膜４０と端子部２４とが接続する領域を接続領域Ｆとし、以下、接続領域Ｆにおける第１基板１２と第２基板１４の構成について、その詳細を説明する。
【００２６】
図３は図１に示す表示装置１の第２基板１４の概略平面図である。図２，３に示すように、光遮断膜ＢＭには、端子部２４に対向する領域の少なくとも一部を避けるための開口３０が形成されている。開口３０は、接続領域Ｆを第１基板１２の下面１２ｂから視認することを可能とするための、光遮断膜ＢＭが形成されていない領域である。なお、開口３０内には透光性を有する絶縁材料が充填されていてもよい。
【００２７】
図３に示すように、端子部２４が形成された領域を端子部形成領域Ｇとすると、開口３０は端子部形成領域Ｇの延在方向Ｘにおいて等間隔で少なくとも３つ形成されていることが好ましい。具体的には、端子部形成領域Ｇの両端に対応する領域に形成された端子部２４をそれぞれ端子部２４ａ、２４ｂとし、端子部２４ａと端子部２４ｂの中間に位置する端子部２４を端子部２４ｃすると、開口３０は、少なくとも、端子部２４ａ、２４ｂ、２４ｃに対応する領域に設けられていることが好ましい。
【００２８】
また、開口３０の平面視形状や数は図３に示した例に限られず、端子部２４に対向する領域の少なくとも一部を避けるものであれば、その他の構成を採用してもよい。具体的には例えば、図３に示すような形状に限られず、切欠き形状であってもよい。また、光遮断膜ＢＭの形成される領域の幅を短くすることにより、端子部２４に対向する領域の少なくとも一部を避けてもよい。
【００２９】
図４は図１に示す表示装置１の第１基板１２の概略平面図である。図２，４に示すように、配線２０は、表示領域Ｄ内に形成された第１の回路２１からドライバＩＣ３に向けて形成されている。配線２０は、互いにＸ方向に間隔を空けて複数本形成されている。
【００３０】
本実施形態における配線２０は、先述した第２基板１４の開口３０に対向する領域３１の少なくとも一部を避けて形成されている。具体的には例えば、図３のように開口３０が延在方向Ｘに互いに間隔を空けて３つ形成されている場合、図４に示すように、配線２０は、各開口３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対向する３つの領域３１ａ，３１ｂ，３１ｃを避けるように形成される。
【００３１】
図５は図４に示す第１基板１２上に図３に示す第２基板１４を配置した状態を示す概略平面図である。本実施形態における表示装置１は、第１基板１２の非表示領域Ｅにおける配線２０が、第２基板の光遮断膜ＢＭの開口３０に対向する領域３１を避けて形成されているため、図２、５に示すように、領域３１の少なくとも一部が開口３０の内側と重なる。
【００３２】
本実施形態における表示装置１は、光遮断膜ＢＭが、端子部２４に対向する領域である接続領域Ｆの少なくとも一部を避けて形成されているため、第１基板１２の下面１２ｂから第２基板１４の上面１４ａまでの間のうち、接続領域Ｆに対向する部分が光透過性を有する。このため、異方性導電膜４０を介しての端子部２４と第２のフレキシブル配線基板５２との接続を第１基板１２の下面１２ｂ側から視認することができる。これにより、接続領域Ｆの視認による表示装置１の品質管理が可能となり、表示装置１の信頼性の向上を実現することができる。
【００３３】
また、本実施形態における表示装置１は、光遮断膜ＢＭに開口３０が形成されることにより、接続領域Ｆのうち任意の部分を避けることができる。このため、端子部２４と第２のフレキシブル配線基板５２との接続箇所のうち、任意の箇所を視認することができる。
【００３４】
また、本実施形態における表示装置１は、第２基板１４の開口３０に対向する領域３１の少なくとも一部を避けて配線２０が形成されていることにより、本構成を有さない表示装置と比べ、端子部２４と第２のフレキシブル配線基板５２との接続箇所をより容易に視認しやすい。このため、表示装置１の品質管理が容易となる。
【００３５】
また、本実施形態における表示装置１は、開口３０（３０ａ、３０ｂ、３０ｃ）が端子部形成領域Ｇの両端に対応する領域と、それら両端同士の中間に対応する領域との少なくとも三か所に設けられていることにより、本構成を有さない表示装置と比べ、端子部形成領域Ｇ全体における端子部２４と第２のフレキシブル配線基板５２との接続状態を確認することができる。このため、表示装置１の品質管理が可能となり、表示装置１の信頼性の向上を実現することができる。
【００３６】
次いで、第２の実施形態に係る表示装置１について説明する。第２の実施形態に係る表示装置１は、開口３０に対向する領域３１内に配線２０が形成され、その領域３１内の配線２０が透光性を有する点が、第１の実施形態に係る表示装置１と異なっている。よって、以下、配線２０の構成について説明し、第１の実施形態に係る表示装置１と同様の構成についてはその説明を省略する。
【００３７】
図６は第２の実施形態に係る表示装置１を示す概略断面図であり、図７は図６に示す表示装置１のＶＩＩ−ＶＩＩ切断線における概略断面図である。本実施形態における配線２０は、光遮断膜ＢＭの開口３０に対向する領域３１内に形成されている。この配線２０のうち、領域３１内に形成された部分を透明配線２０ａとする。透明配線２０ａは、接続領域Ｆを第１基板１２の下面１２ｂから視認することを可能とするために形成されている。
【００３８】
透明配線２０ａは例えばＩＴＯなどからなるが、透光性を有するものであればその材料は限定されない。また、透明配線２０ａが透光性を有するものであれば、領域３１以外に形成された配線２０の構成は限定されない。例えば、配線２０全体が透光性を有する構成であっても、金属からなる配線２０に透光性を有する透明配線２０ａが接続する構成であってもよい。
【００３９】
本実施形態における表示装置１は、領域３１内に形成された配線である透明配線２０ａが透光性を有するため、第１基板１２の下面１２ｂから第２基板１４の上面１４ａまでの間のうち、接続領域Ｆに対向する部分が光透過性を有する。このため、端子部２４と第２のフレキシブル配線基板５２との接続を第１基板１２の下面１２ｂ側から確認することができる。これにより、本構成を有さない表示装置と比べ、配線２０の形成される領域を減らすことなく、端子部２４と第２のフレキシブル配線基板５２との接続箇所を視認することによる表示装置１の品質管理が可能となる。このため、表示装置１の信頼性の向上と高輝度化を実現することができる。
【００４０】
以上、本発明の実施形態を説明してきたが、本発明は、上述した実施形態には限られない。例えば、上述した実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成、又は同一の目的を達成することができる構成により置き換えてもよい。
【符号の説明】
【００４１】
１  表示装置、  ２  第１のフレキシブル配線基板、  １０  液晶表示パネル、  １２  第１基板、  １２ａ  上面、  １２ｂ  下面、  １４  第２基板、  １６  第１偏光板、  １８  第２偏光板、  ２０  配線、  ２０ａ  透明配線、  ２１  第１の回路、  ２２  第２の回路、  ２４  端子部、  ３０  開口、  ３１  領域、  ４０  異方性導電膜、  ５２  回路駆動基板（第２のフレキシブル配線基板）、  ＢＭ  光遮断膜、  Ｄ  表示領域、  Ｅ  非表示領域、  Ｆ  接続領域、  Ｇ  端子部形成領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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