(57)【要約】      （修正有）【課題】反射防止性および耐擦傷性に優れた反射防止フィルムおよびその製造に用いる低屈折率層形成用樹脂組成物を提供する。【解決手段】透明基材１１、ハードコート層１２、低屈折率層１３を備える反射防止フィルム１の前記低屈折率層を形成するために用いる低屈折率層形成用樹脂組成物であって、官能基数が３〜８の少なくとも１種類の多官能のアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーである多官能モノマーと、以下の一般式（１）により表される２官能のアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーである２官能モノマーとを含有する。2014063061.tif 000007ここで、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２およびＲ３は、水素またはメチル基を表す。【選択図】図１
2014063061.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低屈折率層を備える反射防止フィルムの前記低屈折率層を形成するために用いる低屈折率層形成用樹脂組成物であって、
官能基数が３〜８の少なくとも１種類の多官能のアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーである多官能モノマーと、
以下の一般式（１）により表される２官能のアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーである２官能モノマーとを含有することを特徴とする、低屈折率層形成用樹脂組成物。
【化３】
2014063061.tif 000006
ここで、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２およびＲ３は、水素またはメチル基を表す。Ｒ１〜Ｒ３は同一または異なっていてもよく、Ｒ１は一部に環状構造や枝分かれ構造を有していてもよい。
【請求項２】
前記２官能モノマーの含有量が、前記多官能モノマーの重量に対し５ｗｔ％〜１００ｗｔ％であることを特徴とする、請求項１に記載の低屈折率層形成用樹脂組成物。
【請求項３】
前記２官能モノマーのＲ１の主鎖の炭素数が２〜８であることを特徴とする、請求項１または２に記載の低屈折率層形成用樹脂組成物。
【請求項４】
前記２官能モノマーのＲ１が、枝分かれのない直鎖構造を有することを特徴とする、請求項３に記載の低屈折率層形成用樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の低屈折率層形成用樹脂組成物と、
平滑性および滑り性を付与するレベリング剤とを含有し、
前記レベリング剤が、シリコーン系およびフッ素系の２種類のレベリング剤または１分子内にフッ素鎖とシリコーン鎖とを有するフッ素シリコーン系のレベリング剤を使用していることを特徴とする、塗液。
【請求項６】
透明基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層が形成され、
前記ハードコート層の前記透明基材とは反対側の面に、請求項１〜４のいずれかに記載の低屈折率層形成用樹脂組成物と、低屈折率粒子とからなる前記低屈折率層が形成されることを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項６に記載の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板。
【請求項８】
請求項６に記載の反射防止フィルムを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は耐擦傷性と反射率とを両立させる低屈折率層形成用樹脂組成物および反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等に代表される高精細大画面ディスプレイの開発が急速に進んでいる。ディスプレイの表示面には、その視認性を高めるために、画面への蛍光灯など外光の映り込みを防止する反射防止機能を有する反射防止層を表面に配置する必要がある。
【０００３】
反射防止フィルムなどの光学フィルムの製造過程における、基材上に材料を塗工する方法として、大面積化および連続生産ができ、かつ、低コスト化が可能なウエットコーティング法が注目されている。また近年、プラズマディスプレイパネルなど、その一部に光学フィルムが用いられているパネルを備える薄型表示装置の価格競争は極めて熾烈であり、これに用いられる光学用フィルムのコストダウンの要求も極めて高くなってきている。
【０００４】
また、偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）において不可欠な光学部品である。偏光板は、一般に、偏向膜が２枚の保護フィルムによって保護されている構造を有する。これらの保護フィルムに反射防止機能や防眩機能を付与することで大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
【０００５】
フィルムの反射率を下げる技術としては、最表面に設ける低屈折率層の屈折率を低下させることで、反射率を下げることが知られている。例えば、低屈折率層に微粒子を分散させるなどにより、微粒子と微粒子の間に空隙を設けて屈折率を下げることが広く行われている。
【０００６】
しかし、空隙が多くなると、反射防止フィルムの強度が下がり、耐擦傷性が不十分であるといった欠点を有する。この問題を改善するために、表面粗さを制御することにより、耐擦傷性を改善することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。また一方で、低屈折率のフッ素樹脂を用いて低反射率化することも提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２８３６１１号公報
【特許文献２】特開２００９−０２９９７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１および２に記載の技術では、耐擦傷性能が未だ不十分である。特に、反射率を大幅に低減するために空隙を多くすると、表面粗さの制御が難しくなり、耐擦傷性が劣るという欠点が生じる。また、低屈折率層中のフッ素樹脂の割合を多くしようとすると、塗膜が白化したり、外観が悪くなったりする可能性がある。さらに、フッ素樹脂は一般に高価であるため、コストの面から見ても多く用いることは難しい。
【０００９】
それ故に、本発明は、反射防止性および耐擦傷性に優れた反射防止フィルムおよびその製造に用いる低屈折率層形成用樹脂組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、低屈折率層を備える反射防止フィルムの低屈折率層を形成するために用いる低屈折率層形成用樹脂組成物であって、官能基数が３〜８の少なくとも１種類の多官能のアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーである多官能モノマーと、以下の一般式（１）により表される２官能のアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーである２官能モノマーとを含有することを特徴とする。
【００１１】
【化１】
2014063061.tif 000003
ここで、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２およびＲ３は、水素またはメチル基を表す。Ｒ１〜Ｒ３は同一または異なっていてもよく、Ｒ１は一部に環状構造や枝分かれ構造を有していてもよい。
【００１２】
上記の２官能モノマーの含有量は、多官能モノマーの重量に対し５ｗｔ％〜１００ｗｔ％であることが好ましい。
【００１３】
上記の２官能モノマーのＲ１の主鎖の炭素数は２〜８であることが好ましい。
【００１４】
上記の２官能モノマーのＲ１は、枝分かれのない直鎖構造を有することが好ましい。
【００１５】
また、上述の低屈折率層形成用樹脂組成物の塗液において、平滑性および滑り性を付与するレベリング剤を含有し、このレベリング剤が、シリコーン系およびフッ素系の２種類のレベリング剤または１分子内にフッ素鎖とシリコーン鎖とを有するフッ素シリコーン系のレベリング剤を使用していることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の反射防止フィルムは、透明基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層が形成され、ハードコート層の透明基材とは反対側の面に上述の低屈折率層形成用樹脂組成物と、低屈折率粒子とからなる低屈折率層が形成されたことを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の偏光板は、上記の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の表示装置は、上記の反射防止フィルムを備える。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る低屈折率層形成用樹脂組成物を用いることにより、反射防止性および耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】実施の形態に係る反射防止フィルムの断面模式図
【発明を実施するための形態】
【００２１】
まず、本発明に係る反射防止フィルムについて説明する。図１に、実施の形態に係る反射防止フィルム１の断面模式図を示す。反射防止フィルム１は、透明基材１１と、透明基材１１の少なくとも一方の面に設けられるハードコート層１２と、低屈折率層１３とをこの順に備える。
【００２２】
透明基材１１の少なくとも一方の面にハードコート層１２を設けることにより、反射防止フィルム１の表面に高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルム１とすることができる。また、ハードコート層１２上であって、透明基材１１と反対側の面に、可視光領域において反射を抑制したい所定の波長の１／４となるような光学膜厚を有する低屈折率層１３が設けられる。これにより、反射防止フィルム１表面に入射する外光の反射を抑制することができる。なお、ハードコート層１２に導電性材料を添加することにより、ハードコート層１２に帯電防止性を付与してもよい。
【００２３】
次に、本発明に係る低屈折率層１３形成用樹脂組成物について説明する。
【００２４】
本発明者は、低屈折率層１３形成用樹脂組成物は、官能基数が３〜８の多官能の（メタ）アクリレートモノマーと、２官能の（メタ）アクリレートモノマーとを含有させることで、低屈折率層１３の屈折率が低下し、かつ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルム１を形成できることを見出し、本発明に至った。具体的には、低屈折率層１３形成用樹脂組成物は、官能基数が３〜８の多官能の（メタ）アクリレートモノマーと、以下の一般式（１）により表される２官能の（メタ）アクリレートモノマーとを含有し、２官能の（メタ）アクリレートモノマー含有量が、多官能の（メタ）アクリレートモノマーの重量に対し５ｗｔ％〜１００ｗｔ％であることが好ましい。２官能の（メタ）アクリレートモノマーの含有量が多官能モノマーの重量に対し５ｗｔ％未満であると屈折率を低下させる効果が十分に得られない場合がある。一方、２官能の（メタ）アクリレートモノマーの含有量が多官能の（メタ）アクリレートモノマーの重量に対し１００ｗｔ％を超えると、強度で多官能の（メタ）アクリレートモノマーに劣る２官能の（メタ）アクリレートモノマーが支配的となり、耐擦傷性が低下してしまう場合がある。
【００２５】
【化２】
2014063061.tif 000004
ここで、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２およびＲ３は、水素またはメチル基を表す。Ｒ１〜Ｒ３は同一または異なっていてもよく、Ｒ１は一部に環状構造や枝分かれ構造を有していてもよい。
【００２６】
また、多官能の（メタ）アクリレートモノマーは官能基数が増えると屈折率が高くなることから、官能基数が上記の数よりも多くなると、低屈折率層形成用樹脂としての用途に適さなくなる場合がある。さらに、２官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、主鎖の炭素数が２〜８であることが好ましく、さらに枝分かれがないことがより好ましい。２官能の（メタ）アクリレートモノマーの主鎖の炭素数が大きくなるにつれ屈折率を低下させる効果が小さくなり、また枝分かれがあることで立体障害により重合反応が起こりづらくなるためである。ただし、２官能の（メタ）アクリレートモノマーの主鎖の炭素数が小さくなるにつれ、低屈折率層１３形成用樹脂組成物の強度も低下するため、屈折率低下効果と強度をバランスよく得るには炭素数６程度が最も好ましい。
【００２７】
また、低屈折率層１３形成用樹脂組成物の塗液に、屈折率が比較的低く、表面張力低下能が高いとされるフッ素系レベリング剤、滑り性を付与するシリコーン系添加剤を添加してもよい。または、１分子内にフッ素鎖とシリコーン鎖を有するフッ素シリコーン系のレベリング剤を添加してもよい。これにより、さらに、反射率と耐擦傷性に優れた反射防止フィルム１とすることができる。
【００２８】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００２９】
多官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレートなどのトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。
【００３０】
２官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレートなどの２官能の（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した２官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００３１】
次に、透明基材１１について説明する。透明基材１１としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイなどの光学部材に通常使用される基材を用いることができる。透明性や光の屈折率などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファンなどのセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロンなどのポリアミド系、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコールなどの有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。特に、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し、さらに好適に用いることができる。なお、透明基材１１の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００３２】
さらに、透明基材１１の材料として用いる有機高分子に公知の添加剤を添加してもよい。例えば、透明基材１１の材料に、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤などを添加することにより、透明基材１１に添加剤に対応した機能を付加することができる。また、透明基材１１の材質として、上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体を用いてもよく、複数の層を積層させたものを用いてもよい。
【００３３】
次に、ハードコート層１２の形成方法について説明する。電子放射線硬化型材料を含むハードコート層１２形成用塗液を透明基材１１上に塗布し、透明基材１１上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥処理を施す。その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射して、電離放射線硬化型材料の硬化反応を行うことにより、ハードコート層１２を形成することができる。
【００３４】
ハードコート層１２を形成するための電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよびアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステルなどから合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。また、これらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などを使用することができる。
【００３５】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００３６】
２官能以上の（メタ）アクリレート化合物には、低屈折率層１３形成用樹脂組成物で用いた上述の化合物を用いることができる。
【００３７】
上述のアクリル系材料の中で、所望する分子量と、分子構造とを設計でき、形成されるハードコート層１２の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、ウレタンアクリレートとして、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌなど、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂなど、新中村化学工業社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａなど、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９など、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳなどを挙げることができるが、この限りではない。
【００３８】
また上述のウレタンアクリレートの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などを使用することができる。
【００３９】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層１２形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであればよい。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００ｗｔ％に対して０．１ｗｔ％〜１０ｗｔ％、好ましくは１ｗｔ％〜７ｗｔ％、更に好ましくは１ｗｔ％〜５ｗｔ％である。
【００４０】
さらに、ハードコート層１２形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えてもよい。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどのエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノンなどのケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトンなどのエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ類などの中から塗工適正などを考慮して適宜選択して使用することができる。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤などを加えてもよい。
【００４１】
また、ハードコート層１２形成用塗液に、その他添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられる。
【００４２】
また、ハードコート層１２形成用塗液に、導電性材料を添加してもよい。ハードコート層１２形成用塗液に導電性材料を添加することにより、得られる反射防止フィルム１に帯電防止性能を付与することができる。導電性材料としては、四級アンモニウム塩、金属酸化物粒子、導電性高分子などを用いることができる。
【００４３】
導電性材料として用いられる四級アンモニウム塩として、四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含む材料を好適に用いることができる。四級アンモニウム塩は−Ｎ＋Ｘ−の構造を示し、四級アンモニウムカチオン（−Ｎ＋）とアニオン（Ｘ−）を備えることによりハードコート層１２に導電性を発現させる。また、導電性材料として用いられる金属酸化物粒子としては、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛およびインジウム含有酸化亜鉛から選択される１種または２種以上の金属酸化物を主成分とする材料を用いることができる。また、導電性材料として用いられる導電性高分子としては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−チエニレン）およびこれらの誘導体から選ばれる１種または２種以上の混合物を用いることができる。
【００４４】
上述の材料を調製して得られるハードコート層１２形成用塗液を湿式成膜法により透明基材１１上に塗布し、塗膜を形成し、必要に応じて塗膜の乾燥を行う。その後に、電離放射線である紫外線を照射することにより、ハードコート層１２が形成される。
【００４５】
このとき、湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を採用することができる。
【００４６】
ハードコート層１２形成用塗液を透明基材１１上に塗布することにより得られる塗膜に対し、紫外線を照射することによりハードコート層１２が形成される。紫外線を照射するにあっては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアークなどの紫外線照射ランプが利用できる。また、紫外線照射の際に酸素濃度を低下させるために不活性ガスを導入する。この不活性ガスとしては、窒素を用いることができる。
【００４７】
なお、紫外線を照射して硬化させることによりハードコート層１２を形成する工程の前後に乾燥工程もしくは加熱工程を設けてもよい。特に、塗液が溶媒を含む場合、形成された塗膜の溶媒を除去するために、電離放射線を照射する前に乾燥工程を設ける必要がある。乾燥手段としては加熱、送風、熱風などを採用することができる。
【００４８】
次に、低屈折率層１３の形成方法について説明する。低屈折率層１３は、湿式成膜法により、低屈折率粒子と上述の低屈折率層１３形成用樹脂組成物を含む塗液を塗布することにより形成することができる。
【００４９】
低屈折率粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、３ＮａＦ・ＡｌＦ3またはＡｌＦ3（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ3ＡｌＦ6（氷晶石、屈折率１．３３）などの低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、低屈折率層１３の屈折率を非常に低い値に抑えることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子や、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
【００５０】
また、低屈折率層１３に用いられる低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率粒子の粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、低屈折率粒子の粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性などの問題が生じる。
【００５１】
また、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより低屈折率層１３を形成するため、塗液に光重合開始剤を加える。光重合開始剤としては、ハードコート層１２形成用塗液に含まれる光重合開始剤として例示した光重合開始剤を使用することができる。
【００５２】
以上に述べた低屈折率層１３形成用樹脂組成物と低屈折率粒子とを含む塗液を塗布して、ハードコート層１２上に塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥処理を施す。その後、紫外線、電子線といった電離放射線を塗膜に照射することにより、低屈折率層１３形成用樹脂組成物の硬化反応を行い、バインダマトリックスとすることができ、低屈折率層１３を形成することができる。このとき塗布方法としては、ハードコート層１２形成用塗液を塗布する際に例示した湿式成膜法を用いることができる。さらに乾燥方法、硬化方法についても、ハードコート層１２の形成方法で例示した方法を用いることができる。
【００５３】
なお、塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えてもよい。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどのエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノンなどのケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトンなどのエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、水などの中から塗工適正などを考慮して適宜選択し、使用することができる。また、塗液に加える添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤などを加えてもよい。
【００５４】
以上に述べた透明基材１１と、ハードコート層１２と、低屈折率層１３とにより反射防止フィルム１が形成される。反射防止フィルム１にはさらに、低屈折率層１３が形成されている側とは反対側の透明基材１１の面に偏光層と、第２の透明基材とを設けることにより、偏光板を構成することができる。偏光層としては、例えば、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いることができる。また、第２の透明基材としては、反射防止フィルム１に用いる透明基材を用いることができ、トリアセチルセルロースからなるフィルムを好適に用いることができる。反射防止フィルム１および第２の透明基材には、偏光層と貼りあわされる前に、ケン化処理が行われる。ケン化処理は、反射防止フィルム１および第２の透明基材をアルカリ溶液に浸漬することにより行う。この際に用いるアルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などを用いることができる。
【００５５】
なお、反射防止フィルム１が偏光板化された場合、透過型液晶ディスプレイの最前面、すなわち、観察側の最表面に反射防止層が位置するように設けられる。
【実施例】
【００５６】
以下に実施例を示す。
【００５７】
（ハードコート層形成用塗液の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：ビスコート＃３００、大阪有機工業株式会社製）４７．５ｗｔ％と、重合開始剤（商品名；イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）２．５ｗｔ％とを、溶媒であるイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）５０％に混合してハードコート層形成用塗液を調製した。
【００５８】
（低屈折率層形成用塗液１の調製）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）１１．３８ｗｔ％と、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：ビスコート＃３００、大阪有機工業株式会社製）０．７８ｗｔ％と、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）０．２６％と、重合開始剤（商品名；イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０６ｗｔ％と、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル（商品名：ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製）０．０６ｗｔ％と、フッ素系レベリング剤（商品名：Ｆ４７０、ＤＩＣ（株）製）０．０６ｗｔ％とを、溶媒であるメチルイソブチルケトン８４．７０ｗｔ％に混合し、低屈折率層形成用塗液１を調製した。
【００５９】
（低屈折率層形成用塗液２の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：ビスコート＃３００、大阪有機工業株式会社製）を０．９４ｗｔ％とし、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）を０．１０％とする以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液２を調製した。
【００６０】
（低屈折率層形成用塗液３の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：ビスコート＃３００、大阪有機工業株式会社製）を０．６２ｗｔ％とし、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）を０．４２％とする以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液３を調製した。
【００６１】
（低屈折率層形成用塗液４の調製）
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）の代わりに、１，４−ブタンジオールジアクリレート（商品名：ＳＲ２１３、巴工業社製）０．２６ｗｔ％を加える以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液４を調製した。
【００６２】
（低屈折率層形成用塗液５の調製）
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）の代わりに、１，３−ブチレングリコールジアクリレート（商品名：ＳＲ２１２、巴工業社製）０．２６ｗｔ％を加える以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液５を調製した。
【００６３】
（低屈折率層形成用塗液６の調製）
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）の代わりに、ＰＥＧ２００＃ジアクリレート（商品名：ライトアクリレート４ＥＧ−Ａ、共栄社化学社製）０．２６ｗｔ％を加える以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液６を調製した。
【００６４】
（低屈折率層形成用塗液７の調製）
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）の代わりに、ジエチレングリコールジアクリレート（商品名：ＳＲ２３０、巴工業社製）０．２６ｗｔ％を加える以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液７を調製した。
【００６５】
（低屈折率層形成用塗液８の調製）
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）の代わりに、ネオペンチルグリコールジアクリレート（商品名：ライトアクリレートＮＰ−Ａ、共栄社化学社製）０．２６ｗｔ％を加える以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液８を調製した。
【００６６】
（低屈折率層形成用塗液９の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：ビスコート＃３００、大阪有機工業株式会社製）を１．０４ｗｔ％とし、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）を加えない以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液９を調製した。
【００６７】
（低屈折率層形成用塗液１０の調製）
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）の代わりに、１，９−ノナンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレー１，９ＮＸ−Ａ、共栄社化学社製）０．２６ｗｔ％を加える以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液１０を調製した。
【００６８】
（低屈折率層形成用塗液１１の調製）
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ、共栄社化学社製）の代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、共栄社化学社製）０．２６ｗｔ％を加える以外は、低屈折率層形成用塗液１の調製と同様に調製し、低屈折率層形成用塗液１１を調製した。
【００６９】
［実施例１］
（ハードコート層の形成）
透明基材としてトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）（厚さ８０μｍ）を用いた。上述のハードコート形成用塗液を、マイクログラビア法を用いてＴＡＣフィルム上に形成されるハードコート層の膜厚が６μｍとなるように塗布して、塗膜を形成し、オーブンを通過させることにより塗膜を乾燥させた。その後、窒素パージ下で紫外線照射を行い、ハードコート層を形成した。
【００７０】
（低屈折率層の形成）
上記によって、得られたハードコート層を備える透明基材のハードコート層上に、マイクログラビア法を用いて上述の低屈折率層形成用塗液１を塗布し、乾燥させ、窒素パージ下で紫外線照射して低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを製造した。
【００７１】
［実施例２〜８］
低屈折率層形成用塗液１の代わりに低屈折率層形成用塗液２〜８を塗布する以外は実施例１と同様にして、各反射防止フィルムを製造した。
【００７２】
［比較例１〜３］
低屈折率層形成用塗液１の代わりに低屈折率層形成用塗液９〜１１を塗布する以外は実施例１と同様にして、各反射防止フィルムを製造した。
【００７３】
上記で、得られた反射防止フィルムについて、以下の評価を行った。
【００７４】
[視感平均反射率]
得られた反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を、黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（Ｕ−４０００、日立製作所製）を用い、光源としてＣ光源を用い、光源および受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向から５°に設定し、２°視野の条件下で、正反射方向の分光反射率を測定し、視感平均反射率Ｙ［％］を算出した。
【００７５】
［耐擦傷性評価］
実施例１〜８、比較例１〜３で得られた反射防止フィルムを、ラビングテスターを用いて、以下の条件で低屈折率層表面のこすりテストを行った。
（評価環境条件）
２５℃、５０％ＲＨ
（こすり材）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に、スチールウールを巻いて、動かないようバンド固定した低屈折率層表面をこするためのこすり材を用意した。
（移動距離、こすり速度、荷重先端部接触面積、こすり回数）
移動距離：片道１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：２００ｇ／ｃｍ２
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復
【００７６】
上記の条件で、こすり終えた反射防止フィルムの低屈折率層形成面とは反対側の面に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△：注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
×：一目見ただけで分かる傷がある。
【００７７】
各種特性評価の評価結果を表１に示す。
【００７８】
【表１】
2014063061.tif 000005
【００７９】
ここで、視感平均反射率Ｙ［％］が０．８％以下であれば、反射防止フィルムは、優れた反射防止効果を示す。表１の結果より、実施例１〜８に係る反射防止フィルムは、比較例１〜３に係るものと比べて、反射防止効果が優れていることが確認された。中でも、実施例１、２、６の反射防止フィルムは、反射防止効果および耐擦傷性の両方で特に優れていることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明の反射防止フィルムは、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネルなどの表示装置に用いられる反射防止フィルムとして利用できる。
【符号の説明】
【００８１】
１    反射防止フィルム
１１    透明基材
１２    ハードコート層
１３    低屈折率層
【図１】
2014063061.tif 000008