(57)【要約】【課題】  精度とスループットの両立が可能な走査露光装置を提供する。【解決手段】  基板をショット領域毎に第１方向に沿って走査露光する露光装置は、露光領域が前記基板の上における露光光の照射領域に到達する前に前記露光領域の面位置を先読みする検出器と、前記基板ステージの移動を規定したプロファイルに従って前記基板ステージの移動を制御する制御部と、を備える。走査露光を行うショット領域を変更するための基板ステージの移動は、前記基板ステージが曲線状の軌跡に沿って移動する第１移動と、前記基板ステージが前記第１方向に沿って直線的に移動する第２移動と、を含む。前記プロファイルは、前記基板ステージの移動が前記第１移動である間に前記面位置が先読みされ、かつ、ショット領域における先読み位置は複数のショット領域で共通するように設定されている。  【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板ステージに保持された基板をショット領域毎に第１方向に沿って走査露光する露光方法であって、
露光領域が前記基板の上における露光光の照射領域に到達する前に前記露光領域の面位置が先読みされ、
走査露光を行うショット領域を変更するための前記基板ステージの移動は、前記基板ステージが曲線状の軌跡に沿って移動する第１移動と、前記基板ステージが前記第１方向に沿って直線的に移動する第２移動と、を含み、
前記基板ステージの移動が前記第１移動である間に前記面位置が先読みされ、かつ、ショット領域における先読み位置は複数のショット領域で共通していることを特徴とする露光方法。
【請求項２】
走査露光を行った先のショット領域と次に走査露光を行うショット領域との配置は、前記２つのショット領域が前記第１方向における位置が同じで前記第１方向に直交する第２方向に沿って隣り合って配置されている第１配置と、前記２つのショット領域が前記第１方向における位置を異ならせて前記第２方向に沿って隣り合って配置されている第２配置とを含むことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記基板ステージが前記第２方向の移動を開始する時刻をＴｘｓとし、該時刻Ｔｘｓにおける前記基板ステージの前記第２方向の位置をＸｘｓとし、前記次のショット領域において前記面位置の計測を開始する時刻をＴｐとし、該時刻Ｔｐにおける前記基板ステージの前記第２方向の位置をＸｐとし、前記次のショット領域において走査露光を開始する時刻をＴｅｘｐｏとし、前記露光光の照射領域と前記面位置の先読みを開始する位置との前記第１方向の間隔をＹｆとし、前記基板ステージの時刻ｔにおける前記第１方向および前記第２方向の速度をそれぞれＶｙ（ｔ）及びＶｘ（ｔ）とするとき、Ｙｆ、Ｔｅｘｐｏ、Ｔｘｓ、Ｖｙ（ｔ）、Ｖｘ（ｔ）及びＸｘｓは、
2014029956.tif 000006
、及び、
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の両式を満たすように設定されていることを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項４】
基板ステージに保持された基板をショット領域毎に第１方向に沿って走査露光する露光装置であって、
露光領域が前記基板の上における露光光の照射領域に到達する前に前記露光領域の面位置を先読みする検出器と、
前記基板ステージの移動を規定したプロファイルに従って前記基板ステージの移動を制御する制御部と、
を備え、
走査露光を行うショット領域を変更するための前記基板ステージの移動は、前記基板ステージが曲線状の軌跡に沿って移動する第１移動と、前記基板ステージが前記第１方向に沿って直線的に移動する第２移動と、を含み、
前記プロファイルは、前記基板ステージの移動が前記第１移動である間に前記面位置が先読みされ、かつ、ショット領域における先読み位置は複数のショット領域で共通するように設定されていることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
前記プロファイルは、前記基板ステージの速度、加速度又は加加速度の時間推移として表わされていることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の露光方法を用いて基板を走査露光する工程と、
前記工程で走査露光された基板を現像する工程と、
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光方法、露光装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板をショット領域毎に露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光装置は、先のショット領域の露光が終了したら、次のショット領域まで基板ステージを非走査方向及び走査方向にステップ移動する。走査露光装置は、次のショット領域の露光を開始する位置まで基板ステージを移動させたら、その後、基板ステージを走査方向にスキャン（走査）移動しながら次のショット領域を露光する。露光位置の下地のフォーカス位置を当該下地が露光位置に到達する前に先読みする走査露光装置が特許文献１に開示されている。この走査露光装置は、露光対象領域を露光するのに先んじて、露光対象領域のフォーカス位置すなわち基板の表面形状を計測して、露光対象領域が露光位置に到達するまでに露光対象領域のフォーカス位置を調整する。
【０００３】
ステップ移動における基板ステージの非走査方向の駆動は、次のショット領域に対する露光の開始までに完了していればよい。しかし、従来は、図２のように、Ｘ（非走査）方向のステップ駆動の完了後にフォーカス位置の先読みが開始されるように、Ｙ（走査）方向の駆動プロファイルが生成されていた。つまり、ショット領域のＸ（非走査）方向の中心位置でフォーカス位置の先読みが行えるように、駆動プロファイルが生成されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３８６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来、Ｘ（非走査）方向のステップ移動を先のショット領域の露光終了とフォーカス位置の先読みとの間に行うため、Ｙ（走査）方向の駆動プロファイルで先のショット領域の露光終了からフォーカス位置の先読みまでの時間を長く確保していた。例えば、Ｙ（走査）方向の駆動プロファイルで、先のショット領域の露光終了後の等速区間を長くしたり、加減速区間の加（減）速度を小さくしたりしていた。さらに、先のショット領域の露光処理が終わったら、ただちにＸ（非走査）方向のステップ移動を開始していた。
【０００６】
従来技術では、Ｘ（非走査）方向のステップ移動が終了しないと、次のショット領域に対するフォーカス位置の先読みが行えず、次のショット領域に対する露光の開始までに長時間を要していた。したがって、従来技術の走査露光装置では、大きいスループットを得ることが困難であった。
【０００７】
先のショット領域と後のショット領域との位置関係が変化した場合に、フォーカス位置の先読みを行うＸ（非走査）方向における位置が変化することが生じ得る。その場合、予め用意しておいたフォーカス位置の検出誤差のテーブルが使用できなくなる。また、フォーカス位置の先読み位置の変化に対応するために検出誤差のテーブルを複数種類用意すると、テーブルの作成負担、保管負担が増大してしまう。
【０００８】
本発明は、精度とスループットの両立が可能な走査露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、精度とスループットの両立が可能な走査露光装置を提供することができる。 
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】走査露光装置の概略図。
【図２】従来技術における基板ステージの駆動プロファイルを示す図。
【図３】本発明に係る基板ステージの駆動プロファイルと移動軌跡の一例を示す図
【図４】本発明に係る基板ステージの駆動プロファイルと移動軌跡の他例を示す図
【図５】本発明に係る基板ステージの駆動プロファイルの他例を示す図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［露光装置の構成］
図１には、本発明の実施形態に係る走査露光装置の構成が概略的に示されている。ここでは、本実施形態では、露光光源として、エキシマレーザ等のパルスレーザを用いる場合について説明する。パルスレーザからなる光源１から射出された光束は、ビーム整形光学系２によって所定の形状に整形され、オプティカルインテグレータ３に入射する。オプティカルインテグレータ３は、複数の微少なレンズからなる蝿の目レンズ等によって構成されており、その光射出面の近傍に複数の２次光源を形成する。オプティカルインテグレータ３から射出された光束はコンデンサレンズ４より開口形状が可変の可動スリット６を照明している。
【００１３】
コンデンサレンズ４と可動スリット６との間にはハーフミラー５が配置される。露光量検出器１４は、ハーフミラー５で反射された光束の光量を検出し、露光量演算器１０２へ信号を出力する。ハーフミラー５を透過し可動スリット６を照明した光束は、結像レンズ７、ミラー８を介して、マスクステージ９に保持されたマスク（原板）１０の上に形成された回路パターンの一部をスリット状に照明する。
【００１４】
マスク１０を通過したスリット状の光束は、投影光学系１１により、マスク１０上の回路パターンを感光材（レジスト）が塗布された基板（ウエハ）１２上に縮小投影する。ウエハ１２は、ＸＹＺ方向及びチルト方向に駆動可能な基板ステージ１３に保持されている。基板ステージ１３には、投影光学系１１を介して基板ステージ１３上に照射される露光光の露光量を検出する露光量検出器１５が設置されている。
【００１５】
露光動作が開始される前に、露光量検出器１５により検出される基板ステージ１３上の露光量と露光量検出器１４により検出される露光量との相関を求めておく。露光動作中の露光量の制御は、露光量検出器１４により検出される露光量を用いて行われる。レーザ制御部１０１は、所望の設定露光量に応じてトリガ信号、充電電圧信号を出力して、光源１の出力エネルギ及び発振周波数を制御している。また、不図示の減光部によって、光源１からの光束の光量を調整できる構成となっている。
【００１６】
マスクステージ９の位置及び基板ステージ１３の位置は、干渉計１６，１７によって測長される。干渉計１６，１７の測長結果を基に、マスクステージ制御部１０４、基板ステージ制御部１０５が、マスクステージ９と基板ステージ１３が投影光学系１１の投影倍率βと同じ比率の速度で互いに逆方向へ移動するように制御する。この時、マスクパターンの一部をスリット状に照明したスリット光は、マスクパターンが露光されるウエハ１２上での各ショット領域を順次走査露光し、マスクパターンをウエハ１２上に転写することができる。
【００１７】
走査露光装置は、露光領域が露光光の照射領域（露光スリット）に到達する前に露光領域の基準点の面位置を先読みするフォーカスセンサ（検出器）１８を含むオートフォーカス機構を有している。オートフォーカス機構は、フォーカスセンサ１８により投影光学系１１の露光領域内の中心またはその近傍で露光領域の面位置を先読みし、その面位置をベストフォーカス位置に合わせように基板ステージ１３の高さを調整する。
【００１８】
主制御部１０３は、記憶部１０６からマスクステージ９、露光レシピおよび露光レシピに応じた基板ステージ１３の移動条件（プロファイル）を読み込む。主制御部１０３は、読み込まれたプロファイルに基づいてマスクステージ９、基板ステージ１３を駆動するようにマスクステージ制御部１０４、基板ステージ制御部１０５へ指令を出す。
【００１９】
ウエハ１２上の所望のショット領域の全部に対する露光動作が終了した後、ウエハ１２は基板ステージ１３から不図示のウエハ回収搬送系を介して、露光装置外へ搬送される。それと同時に、次のウエハ１２が不図示のウエハ供給搬送系を介して、基板ステージ１３上に供給される。その後、不図示のアライメント系により次のウエハ１２に形成されたパターンと露光スリットとの位置決めが行われる。例えば、ウエハ１２上で選択された複数のショット領域の周辺に設けられたアライメントマークの位置を計測してウエハ１２の回転、伸縮、シフトのオフセットなどを求め、ウエハ１２の全てのショット領域の位置決めがなされる。前述のような精密なアライメントに先立って、アライメントマークを検出するためのラフなアライメントを行うこともある。このようにして各ショット領域の位置決めが行われた後、ショット領域毎に走査露光が繰り返し行われる。
【００２０】
［基板ステージの移動プロファイル］
図３の（ａ）に、先のショット領域の走査露光を終えた後、走査露光の対象を変更して次のショット領域に移るステップ移動及び次のショット領域のスキャン移動のプロファイルを示す。本実施形態では、先のショット領域と次のショット領域とは、図３の（ｂ）に示されるように、第１方向（Ｙ方向）の位置を同じくして第１方向に直交する第２方向（Ｘ方向）に沿って隣り合って配置されている。露光動作の間、固定された露光スリットに対して基板ステージ１３が移動するが、図３の（ｂ）では、基板ステージ１３に対する露光スリットの相対的な位置の変化（軌跡）を示した。なお、マスクステージ９も基板ステージ１３と同期して駆動されるので、基板ステージ１３のプロファイルと同様のプロファイルに従って駆動される。
【００２１】
図３の（ａ）において、Ｖｙ（ｔ）は、時刻ｔにおける、Ｙ（走査）方向の基板ステージ１３の速度プロファイルを、Ｖｘ（ｔ）は、Ｘ（非走査）方向の基板ステージ１３の速度プロファイルを示す。また、Ｘ方向及びＹ方向の速度プロファイルを規定する各時刻を以下のように表現する。
走査露光の開始時刻：Ｔｅｘｐｏ、走査露光の終了時刻：Ｔｅ、フォーカス位置の先読みの開始時刻：Ｔｐ
Ｙ（走査）方向の速度がゼロとなる時刻:Ｔｏ
Ｘ（非走査）方向のステップ移動の開始時刻：Ｔｘｓ、Ｘ（非走査）方向のステップ移動の終了時刻：Ｔｘｅ
基板ステージ１３は、ショット領域の走査露光の間、すなわち時刻Ｔｅｘｐｏから時刻Ｔｅの間、Ｙ（走査）方向に沿って直線的に移動する。基板ステージ１３は、ステップ移動の間のうち、Ｔｅ〜Ｔｘｓ，Ｔｘｅ〜Ｔｅｘｐｏの間はＹ（走査）方向に沿って直線的に移動する（第２移動）。しかし、基板ステージ１３は、ステップ移動の間のうちのＴｘｓ〜ＴＸｅの間、Ｘ、Ｙの双方向に移動して曲線状の軌跡に沿って移動する（第１移動）。
【００２２】
Ｘ方向の移動の開始時刻Ｔｘｓを、走査露光の開始時刻Ｔｅｘｐｏに対して決定する。Ｘ方向の移動の開始時刻Ｔｘｓは、先のショット領域の走査露光の終了時刻Ｔｅより後で、かつ、次のショット領域の走査露光の開始時刻Ｔｅｘｐｏの指定時間Ｔｉｎだけ前となるように決定する。すなわち、Ｘ方向の移動の開始時刻Ｔｘｓは、以下の式１、式２の両式を満たすように決定する。
Ｔｘｓ≧Ｔｅ・・・（１）
Ｔｘｓ＝Ｔｅｘｐｏ―Ｔｉｎ・・・（２）
【００２３】
本発明では、Ｘ（非走査）方向の移動を伴ってショット領域間をステップ移動する場合、次のショット領域におけるフォーカス位置の先読み位置は複数のショット領域間で共通している。すなわち、ショット領域のフォーカス位置の先読みを開始する時点の基板ステージ１３すなわちショット領域に対する露光スリットの中心の位置は一定である。すなわち、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐにおける露光スリットの中心の座標を（Ｘｐ，Ｙｐ）とするとき、Ｘｐ、Ｙｐは既知の設計値であり、予め設定されて記憶部１０６に格納されている。また、本実施形態では、基板ステージ１３のＸ方向、Ｙ方向の速度プロファイルは、Ｘ方向の移動の開始時刻Ｔｘｓを除き、図３の（ａ）に示されるとおりのもので既知であるとする。
【００２４】
まず、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐの求め方について説明する。フォーカスセンサ１８が露光スリットの中心の位置からＹ方向に沿ってＹｆだけ離れた位置に配置されているとする。そうすると、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐから次のショット領域に対する走査露光の開始時刻Ｔｅｘｐｏまでの間に基板ステージ１３がＹ方向に移動する距離はＹｆである。すなわち、次の式３が成り立つ。本実施形態では、式３においてＹｆ、Ｔｅｘｐｏ、Ｖｙ（ｔ）は既知である。したがって、式３からフォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐを求めることができる。
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【００２５】
フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐが定まると、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐにおける基板ステージ１３の位置のＹ座標Ｙｐは、次の式４で表わされる。なお、Ｙｏは、Ｙ（走査）方向の速度がゼロとなる時刻Ｔｏにおける基板ステージ１３のＹ方向の位置である。
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【００２６】
次に、式３を用いて定められたＴｐを用いてＸ（非走査）方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓの求め方を説明する。Ｘ（非走査）方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓにおける基板ステージ１３のＸ方向の位置をＸｘｓとするとき、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐにおける基板ステージ１３の位置のＸ座標Ｘｐは、次の式５で表わされる。式５において、Ｘ（非走査）方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓにおける基板ステージ１３のＸ方向の位置Ｘｘｓ、Ｔｐ、Ｘｐ、Ｖｘ（ｔ）の形状は既知である。したがって、式５からＸ（非走査）方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓ、ひいては指定時間Ｔｉｎを求めることができる。
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【００２７】
［基板ステージの駆動制御の変形例］
変形例１
上述の実施形態では、２つのショット領域がＹ方向の位置を同じくしてＸ方向に隣り合って配置されていた（第１配置）。しかしながら、本発明は、２つのショット領域がＹ方向の位置を異ならせて配置される場合（第２配置）についても適用可能である。図４の（ｂ）に示されるように、２つのショット領域がＹ方向の位置を同じくしない場合に、２つのショット領域がＹ方向の位置を同じくしてＸ方向に隣接して配置された（ａ）の場合と同様の駆動プロファイルを用いるとする。場合（ｂ）では、２つのショット領域間をステップ移動する間に、Ｙ（走査）方向の移動量が場合（ａ）よりも大きい。そのため、場合（ｂ）では、先のショット領域の走査露光の終了時刻Ｔｅから次のショット領域に対する走査露光の開始時刻Ｔｅｘｐｏまでの時間を場合（ａ）よりも長く確保する必要がある。
【００２８】
そこで、場合（ｂ）では、次のショット領域に対する走査露光の開始時刻Ｔｅｘｐｏひいてはフォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐを場合（ａ）よりも後ろ倒ししている。この状態で、基板ステージ１３のＸ方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓを場合（ａ）と同時刻に定めるとする。そうすると、（ｂ）に示されるように、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐでは基板ステージ１３のＸ（非走査）方向のステップ移動はすでに終了している。その結果、場合（ｂ）におけるフォーカス位置の先読み位置は、例えば、露光スリットの中心となり、場合（ａ）におけるフォーカス位置の先読み位置とずれてしまう。
【００２９】
場合（ｃ）では、２つのショット領域がＹ方向に離間されたのに対応して、先のショット領域に対する走査露光が終了した後のＹ方向の定速区間を場合（ａ）よりも長くしている。そして、Ｙ方向の定速区間を場合（ａ）よりも長くした分だけ、Ｘ方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓ及び終了時刻Ｔｘｅを後ろ倒ししている。したがって、図４の場合（ａ）と場合（ｃ）とでは、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐから次のショット領域に対する走査露光の開始時刻Ｔｅｘｐｏまでの間の基板ステージ１３のＸ方向、Ｙ方向の駆動プロファイルは同じである。そのため、フォーカス位置の先読み位置も場合（ａ）と場合（ｃ）とで変わらない。場合（ｃ）におけるフォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐ、Ｘ（非走査）方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓは、上述の実施形態で説明した手法をそのまま用いることができる。
【００３０】
変形例２
露光スリットとフォーカスセンサ１８とのＹ（走査）方向における間隔Ｙｆが変化する場合、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐが変化することになる。しかし、式３に変更されたＹｆを代入することによって、変更されたＹｆに対応したフォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐを求めることができる。そして、変更されたＴｐを式５に代入することによって、変更されたＹｆに対応したＸ（非走査）方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓを求めることができる。また、Ｙｆが変更されても、フォーカス位置の先読み位置を一定に保つことができる。
【００３１】
変形例３
上述の実施形態では、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐにおいて基板ステージ１３が所定の計測位置（Ｘｐ，Ｙｐ）をとるようにするため、予め定められたＸ方向の駆動プロファイルの形状を用いて、Ｘ方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓを設定した。しかし、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐにおいて基板ステージ１３が所定の計測位置（Ｘｐ，Ｙｐ）をとるようにするため、予め定められたＸ方向のステップ移動の開始時刻Ｔｘｓを用いて、Ｘ方向の駆動プロファイルＶｘ（ｔ）を設定することもできる。すなわち、上述の実施形態では、式５においてＶｘ（ｔ）が既知であるとしてＴｘｓを求めたが、変形例３では、式３で既知のＴｘｓに基づいてＸ方向の駆動プロファイルＶｘ（ｔ）を求める。
【００３２】
図３で示される上述の実施形態のＸ方向の駆動プロファイルＶｘ（ｔ）を図５の時刻Ｔｘｓ〜Ｔｘｅの間の点線で示される台形形状で示す。例えば、Ｘ方向のステップ移動の開始時刻がＴ’ｘｓと予め定められたとする。その場合、時刻Ｔ’ｘｓ〜Ｔ’ｘｅ（＝Ｔｘｅ）を底辺とする実線で示される三角形が、点線の台形の面積（Ｘ方向の移動距離）と同一の面積を有するならば、この実線の三角形で示される駆動プロファイルＶ’ｘ（ｔ）を用いてもよい。Ｘ方向のステップ移動の開始時刻Ｔ’ｘｓに基づく駆動プロファイルＶ’ｘ（ｔ）においても、先読みの開始時刻Ｔｐから走査露光の開始時刻Ｔｅｘｐｏまでの間の基板ステージ１３のＸ方向、Ｙ方向の駆動プロファイルは同じである。そのため、駆動プロファイルＶ’ｘ（ｔ）を用いても、所定のフォーカス位置の先読み位置とすることができる。
【００３３】
これまでの説明では、基板ステージ１３の駆動プロファイルは、速度の時間推移として表わされていた。しかし、駆動プロファイルは、速度ではなく、基板ステージ１３の加速度、加加速度の時間推移として表わされたものを用いることができる。
【００３４】
［デバイス製造方法］
次に、デバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【００３５】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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