(57)【要約】      （修正有）【課題】厚さ精度や平坦精度を高めることができるエアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える塗布装置を提供すること。【解決手段】気体を吐出することによる浮上力により浮上するパッド部１１４を備え、パッド部１１４には、気体供給源から圧縮空気が供給される。パッド部１１４に供給された気体はエア供給路１１７を通り多孔質体１１５の細孔から吐出され定盤の上面１１１ａに衝突して浮上力を付与する。多孔質体１１５から吐出した気体はベアリング面１０３ａと定盤の上面１１１ａとの比較的狭い空間を通り、排気溝１１９へと到達し、排気貫通路１２１を通って反ベアリング面１０３ｂから外部に排出される。パッド部１１４の排気経路１１８は、噴出する気体の流れ方向を制御し、気体が塗布領域へ進入することを防止する。【選択図】図４
2014031865.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体を吐出することによる浮上力により浮上するパッド部を備え、
前記パッド部は、気体を吐出するための噴出口が設けられるベアリング面と、前記噴出口から吐出される気体の流れ方向を制御する気流制御手段と、を有することを特徴とするエアベアリング装置。
【請求項２】
前記気流制御手段は、前記噴出口を部分的に又は完全に取り囲むように不連続または連続して延在する前記ベアリング面に配置される排気溝を有することを特徴とする請求項１に記載のエアベアリング装置。
【請求項３】
前記気流制御手段は、前記排気溝に連通し前記パッド部を貫通する排気貫通路を有することを特徴とする請求項２に記載のエアベアリング装置。
【請求項４】
前記排気溝は、前記ベアリング面の平面視で円環状であることを特徴とする請求項２ま又は３に記載のエアベアリング装置。
【請求項５】
被塗布部材に塗液を塗布するための塗布手段と、
前記塗布手段により塗液を塗布する際に前記被塗布部材が位置する塗布領域を有する載置物と、
前記塗布手段を前記載置物から所定距離離間し浮上させるための気体を吐出するエアベアリング装置と、
前記エアベアリング装置から吐出される気体の流れ方向を制御し、前記気体が前記塗布領域へ進入することを防止する気流制御手段と、を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
前記気流制御手段は、前記エアベアリング装置及び前記載置物の少なくとも一方に設けられ、前記エアベアリング装置から吐出された気体を排出するための排気経路であることを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記エアベアリング装置は、前記気体を吐出する噴出口を備え、前記排気経路は、前記噴出口を部分的に又は完全に取り囲むように不連続または連続して延在する排気溝を有することを特徴とする請求項６に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記排気経路は、前記エアベアリング装置及び前記載置物の少なくとも一方を貫通する排気貫通路を有することを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記排気溝は、前記排気貫通路に連通していることを特徴とする請求項８に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記排気経路は、前記排気経路に負圧を供給できる吸引手段に連結されていることを特徴とする請求項６〜９のいずれか一に記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記気流制御手段は、前記エアベアリング装置及び前記載置物の少なくとも一方に設けられ、前記エアベアリング装置及び前記載置物の少なくとも他方に当接するように延在する隔壁部材であり、前記隔壁部材により、前記エアベアリング装置と前記載置物との間の浮上空間は、正面視において前記塗布領域側が閉じていることを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える塗布装置に関し、より具体的には、吐出される気体の流れを制御可能なエアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶パネルや半導体素子等の製造工程では、ガラス基板や半導体ウエハといった薄板状の被塗布物に、レジスト液等の塗液を塗布する塗布装置が用いられ、当該塗布装置にエアベアリング装置が利用されている。
【０００３】
例えば、引用文献１に開示される塗布装置は、塗液を塗布するノズルと、被塗布物が載置される直方体状の定盤と、定盤の短手方向に横切状態でノズルが装着されるガントリと、を備え、ガントリを構成する保持部材が、定盤に対してエアベアリングにより、非接触で支持されている。また、塗液が塗布される被塗布物は、真空引き吸着により定盤に固定される。上記構成の塗布装置において、定盤上に固定されている被塗布物に対してガントリを相対移動させることでノズルを走査するとともに、ノズルから塗液を吐出し被塗布物の表面に塗布する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１４９２３８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、近年、製品の小型化の要求に伴い、液晶パネルの厚さを薄くすること（薄厚化）や半導体素子の微細化が望まれている。しかし、従来のエアベアリング装置において浮上させるために吐出される気体は、現状の製品仕様の製造条件下における使用条件では問題とならないが、製品に対する更なる小型化の要求に応えられない恐れがある。また、従来のエアベアリング装置を用いた塗布装置で確保できる塗膜の厚さ精度や平坦精度では、塗膜のさらなる薄厚化や平坦化の実現が難しく、製品の小型化の要求に応えることが困難になることが予想される。具体的には、エアベアリング装置から吐出される気体が塗液に及ぼす影響により、塗膜の厚さに関し所期の精度が得られず、塗膜の厚さ精度及び平坦精度を実現できない恐れがある。
【０００６】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものである。すなわち、塗膜の厚さ精度や平坦精度を高めることができるエアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のエアベアリング装置の第１の態様は、気体を吐出することによる浮上力により浮上するパッド部を備え、前記パッド部は、気体を吐出するための噴出口が設けられるベアリング面と、前記噴出口から吐出される気体の流れ方向を制御する気流制御手段と、を有する。
【０００８】
また、本発明のエアベアリング装置の第２の態様によれば、前記第１の態様のエアベアリング装置であって、前記気流制御手段は、前記噴出口を部分的に又は完全に取り囲むように不連続または連続して延在する前記ベアリング面に配置される排気溝を有する。
【０００９】
また、本発明のエアベアリング装置の第３の態様によれば、前記第２の態様のエアベアリング装置であって、前記気流制御手段は、前記排気溝に連通し前記パッド部を貫通する排気貫通路を有する。
【００１０】
本発明のエアベアリング装置の第４の態様によれば、前記第２又は第３の態様のエアベアリング装置であって、前記排気溝は、前記ベアリング面の平面視で円環状である。
【００１１】
さらに、上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の塗布装置の第１の態様は、被塗布部材に塗液を塗布するための塗布手段と、前記塗布手段により塗液を塗布する際に前記被塗布部材が位置する塗布領域を有する載置物と、前記塗布手段を前記載置物から所定距離離間し浮上させるための気体を吐出するエアベアリング装置と、前記エアベアリング装置から吐出される気体の流れ方向を制御し、前記気体が前記塗布領域へ進入することを防止する気流制御手段と、を備える。
【００１２】
また、本発明の塗布装置の第２の態様によれば、前記第１の態様の塗布装置であって、前記気流制御手段は、前記エアベアリング装置及び前記載置物の少なくとも一方に設けられ、前記エアベアリング装置から吐出された気体を排出するための排気経路である。
【００１３】
また、本発明の塗布装置の第３の態様によれば、前記第２の態様の塗布装置であって、当該塗布装置に用いられる前記エアベアリング装置は、前記気体を吐出する噴出口を備え、前記排気経路は、前記噴出口を部分的に又は完全に取り囲むように不連続または連続して延在する排気溝を有する。
【００１４】
また、本発明の塗布装置の第４の態様によれば、前記第２又は第３の態様の塗布装置であって、前記排気経路は、前記エアベアリング装置及び前記載置物の少なくとも一方を貫通する排気貫通路を有する。
【００１５】
また、本発明の塗布装置の第５の態様によれば、前記第４の態様の塗布装置であって、前記排気溝は、前記排気貫通路に連通している。
【００１６】
また、本発明の塗布装置の第６の態様によれば、前記第２〜第４の態様の一の塗布装置であって、前記排気経路は、前記排気経路に負圧を供給できる吸引手段に連結されている。
【００１７】
また、本発明の塗布装置の第７の態様によれば、前記第１の態様の塗布装置であって、前記気流制御手段は、前記エアベアリング装置及び前記載置物の少なくとも一方に設けられ、前記エアベアリング装置及び前記載置物の少なくとも他方に当接するように延在する隔壁部材であり、前記隔壁部材により、前記エアベアリング装置と前記載置物との間の浮上空間は、正面視において前記塗布領域側が閉じている。
【発明の効果】
【００１８】
本発明にかかるエアベアリング装置は、エアベアリング装置から吐出される気体の流れを気流制御手段により制御できるので、当該エアベアリング装置の周辺物に対する吐出される気体の影響を防止することができる。さらに、本発明にかかる塗布装置の気流制御手段により、被塗布物に形成される塗膜に対する、吐出気体の影響を排除することができる。よって、塗膜の厚さ精度及び平坦精度を高めることができ、塗膜の薄厚化及び平坦化、ひいては製品の小型化を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１の実施形態に係る塗布装置の一部を模式的に示す斜視図である。
【図２】図１に示す塗布装置の主要な構成要素を示す正面図である。
【図３】図１に示す塗布装置のパッド部の下面図である。
【図４】図３の線ＩＶ−ＩＶに沿ったパッド部の断面図である。
【図５】（ａ）は、第２の実施形態に係る塗布装置の定盤とパッド部の関係を示す平面図であり、（ｂ）は、図５（ａ）の線Ｖ−Ｖに沿った断面図である。
【図６】（ａ）は、第３の実施形態に係る塗布装置の定盤とパッド部の関係を示す平面図であり、（ｂ）は、図６（ａ）の線ＶＩ−ＶＩに沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下に、本発明に係るエアベアリング装置及び塗布装置の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではない。
【００２１】
〔第１の実施形態〕
図１は、実施形態に係る塗布装置１０１の一部を模式的に示す斜視図であり、図２は、図１に示す塗布装置１０１の主要な構成要素を模式的に示す正面図であり、図３は、図１に示す塗布装置１０１のパッド部１１４の下面図であり、図４は、図３の線ＩＶ−ＩＶに沿ったパッド部１１４の断面図である。なお、図２において、図１に示される支持部１０９ｂ及び支持部１０９ｂに装着される側面支持エアベアリング装置１０７は、図面の明瞭化のため割愛されている。
【００２２】
実施形態の塗布装置１０１は、主として、被塗布部材であるガラス基板１０２に塗液であるレジスト液１０４を塗布するための塗布手段を構成するスロットノズル１１３と、スロットノズル１１３によりレジスト液１０４を塗布する際にガラス基板１０２が配置される塗布領域１１２ａを有する載置物である定盤１１１と、スロットノズル１１３を定盤１１１から所定距離離間し浮上させるための気体を吐出するエアベアリング装置１０３と、エアベアリング装置１０３から噴出される気体の流れ方向を制御し、気体が塗布領域１１２ａへ進入することを防止する後述する気流制御手段と、を備える。
【００２３】
定盤１１１は直方体形状であり、その平坦な上面１１１ａは、平面視で矩形状の塗布領域１１２ａと、上面１１１ａの短手方向に関し塗布領域１１２ａを挟んで配置される支持領域１１２ｂと、を有する。塗布領域１１２ａは、定盤１１１の上面１１１ａに載置されるガラス基板１０２に対してスリットノズル１１３により塗布が行われる領域であり、支持領域１１２ｂは、上面支持エアベアリング装置１０５のパッド部１１４が移動する領域である。なお、本実施形態の定盤１１１の上面１１１ａは、定盤１１１の長手方向に延びる境界溝１５３により塗布領域１１２ａと支持領域１１２ｂとに分離されているが、境界溝１５３を備えない定盤を用いることも可能であることは言うまでもない。
【００２４】
ガントリ１０９は、スロットノズル１１３が装着されている水平保持部１０９ａと、水平保持部１０９ａの長手方向の両端部それぞれに連続する２つの支持部１０９ｂと、を備え、上面支持エアベアリング装置１０５により定盤１１１の上面１１１ａに接触せずに支持される。また、各支持部１０９ｂは、水平保持部１０９ａに対して垂直方向に延在し、各支持部１０９ｂの一端部は、水平保持部１０９ａの一端部に連結され、各支持部１０９ｂの他端部は、側面支持エアベアリング装置１０７に連結される。
【００２５】
また、水平保持部１０９ａと支持部１０９ｂにより画成される隅部には、台座部１０９ｃが装着され、台座部１０９ｃが従来より知られるボールジョイント（不図示）を介して上面支持ベアリング１０５のパッド部１１４に支持されている。このように、ガントリ１０９は、上面支持エアベアリング装置１０５及び側面支持エアベアリング装置１０７により、定盤１１１の上面１１１ａ及び側面１１１ｂから所定距離離間し浮上するともに、定盤１１１の短手方向（ガントリ１０９の水平保持部１０９ａの長手方向）に関する移動は、側面支持エアベアリング装置１０７により規制されている。
【００２６】
本実施形態に係る塗布装置１０１に利用されているエアベアリング装置１０３の上面支持エアベアリング装置１０５及び側面支持エアベアリング装置１０７は、圧縮気体をエアベアリング装置１０３に供給するコンプレッサ等の気体供給源（不図示）と、パッド部１１４、１１６と、を備え、制御部１３１からの駆動信号により、所定量及び所定圧力の圧縮気体が気体供給源から多孔質体１１５へ供給され、多孔質体１１５が具備する細孔から圧縮気体を吐出させることにより、パッド部１１４、１１６に浮上力を付与する。なお、上面支持エアベアリング装置１０５、側面支持エアベアリング装置１０７は、パッド部１１４、１１６を除き同じ構成である。従って、エアベアリング装置１０３に関し、上面支持エアベアリング装置１０５を用いて説明する。
【００２７】
パッド部１１４は、図３に示されるように下面視において円形状であり、斜線部は、噴出口が設けられている領域であり、多孔質体１１５から構成される。多孔質体１１５は、気体を噴出させるための互いに連通する細孔を有する円盤状の部材である。また、不図示の気体供給源が、パッド部１１４の内部に形成されているエア供給路１１７を介して多孔質体１１５の細孔に連通し、気体供給源から供給される気体１２３が、多孔質体１１５の細孔から吐出することによりパッド部１１４が、定盤１１１の上面１１１ａから浮上する。
【００２８】
パッド部１１４は、噴出する気体の流れ方向を制御し、気体が塗布領域１１２ａへ進入することを防止する気流制御手段である排気経路１１８を備えている。排気経路１１８は、排気溝１１９及び排気貫通路１２１を有する。排気溝１１９は、定盤１１１の上面１１１ａに対向するパッド部１１４のベアリング面１０３ａ上にあって、多孔質体１１５を多孔質体１１５の外周側で完全に取り囲むように、ベアリング面１０３ａと同心に環状に連続して刻設されている。
【００２９】
排気溝１１９には、所定の径を有しパッド部１１４を貫通する排気貫通路１２１の一端部が連通し、排気貫通路１２１の他端部はパッド部１１４の外部に連通（大気連通）している。排気貫通路１２１は、ベアリング面１０３ａの周方向に沿って等間隔に互いに離間して複数配置され、パッド部１１４の厚さ方向（図３の紙面に交差する方向、図４の上下方向）に延在している。また、図４に示すように排気溝１１９の断面形状（ベアリング面１０３ａの中心を通る鉛直面に沿った断面形状）は、四角形としているが、円形、楕円形、多角形等の種々の形状とすることができることは言うまでもない。
【００３０】
また、排気溝１１９は、連続したものであれば、環状である必要はなく、矩形、ジグザグ形状等、多孔質体１１５（若しくは吐出口を構成する細孔）を完全に取り囲むような形態であれば適用可能である。さらに、排気貫通路１２１の数や形状も適宜変更可能である。
【００３１】
上記構成の上面支持エアベアリング装置１０５が、制御部１３１から駆動信号を受けると、気体供給源から圧縮気体がパッド部１１４に供給される。パッド部１１４に供給された気体（図４の参照符号１２３）は、エア供給路１１７を通り多孔質体１１５の細孔から吐出され（図４の参照符号１２５）、定盤１１１の上面１１１ａに衝突しパッド部１１４に浮上力を付与する。
【００３２】
多孔質体１１５から吐出した気体（図４の参照符号１２５）は、ベアリング面１０３ａと定盤１１１の上面１１１ａとの間の比較的狭い空間を通り、排気溝１１９へと到達する。排気溝１１９へ到達した気体（図４の参照符号１２７）は、排気溝１１９を介して排気貫通路１２１へと進入し、最終的にパッド部１１４のベアリング面１０３ａに対向する上面である反ベアリング面１０３ｂから外部へ排出される。
【００３３】
一方、側面支持エアベアリング装置１０７のパッド部１１６には、排気経路（すなわち排気溝及び排気貫通路）は設けられていない。しかし、側面支持エアベアリング装置１０７に供給される気体により、定盤１１１の上面１１１ａ上のガラス基板１０２上の塗膜に影響する恐れがある場合には、上面支持エアベアリング装置１０５と同様に排気溝及び排気貫通路を設ける構成とすることも可能である。
【００３４】
以上の構成において、塗布装置１０１は、制御部１３１からの駆動信号により、圧縮気体源から所定圧力の気体（すなわち圧縮気体）が、上面支持エアベアリング装置１０５及び側面支持エアベアリング装置１０７に供給されると、圧縮気体が多孔質体１１５の細孔から吐出し、ガントリ１０９が、定盤１１１の上面１１１ａ及び側面１１１ｂから所定距離離れた状態で支持される。ガラス基板１０２は、不図示の搬送手段により、定盤１１１の上面１１１ａの塗布領域１１２ａに載置されると、不図示の駆動手段によりガントリ１０９が、ガラス基板１０２に対して走査移動し、スリットノズル１１３からレジスト液１０４が塗布される。
【００３５】
スリットノズル１１３が走査移動する際、多孔質体１１５の細孔から吐出されている気体は、定盤１１１の上面１１１ａの支持領域１１２ｂに衝突し（図４の参照符号１２５）浮上力を発生させた後、ベアリング面１０３ａの外周方向へ流れ、さらに排気溝１１９へ到達する（図４の参照符号１２７）。排気溝１１９内へ進入した気体１２８は、排気貫通穴１２１を介してパッド部１１４の反ベアリング面１０３ｂから外部へ排出される。従って、ガラス基板１０２上のレジスト液１０４が、部分的に乾燥したり、又は飛ばされたりといった、ベアリング面１０３ａから吐出される気体による影響を排除することがきる。
【００３６】
なお、上記実施形態では、排気溝１１９が多孔質体１１５（若しくは吐出口を構成する細孔）を取り囲む閉じた形状であるが、必ずしも完全に取り囲む必要はなく、多孔質体１１５（若しくは吐出口を構成する細孔）を部分的に取り囲むように延在することも可能である。すなわち、例えば、円弧状、ジグザグ状等、吐出される気体が、被塗布物を載置する塗布領域１１２ａへ進入することを防ぐことができる位置に、排気溝１１９を設ける構成であればよい。また、パッド部１１４のベアリング面１０３ａも円形に限定されず、楕円形、多角形等、種々の形状を採用することが可能である。また、本実施形態の排気溝１１９は、単一の曲率半径を有し連続する円弧状（すなわち円形）の溝から構成されているが、曲率半径が同一又は異なる複数の円弧状で、不連続に延在する溝から構成することも可能である。また、直線状に延在する複数の溝から排気溝を構成することも可能である。
【００３７】
〔第２の実施形態〕
次に第２の実施形態に係る塗布装置について、図５（ａ）、（ｂ）を参照しつつ説明する。図５（ａ）は、第２の実施形態に係る塗布装置の定盤２１１の一部を示す平面図であり、定盤２１１とパッド部２１４との関係を示し、（ｂ）は、図５（ａ）の線ＩＶ−ＩＶに沿った断面図である。なお、以下の説明において、塗布装置の特に言及しない要素の構成及びその変形態様は、第１の実施形態に係る塗布装置と同じであるので割愛する。また、図５（ａ）には、エアベアリング装置のパッド部２１４と定盤２１１との関係を示すため、パッド部２１４が２点鎖線で示されている。
【００３８】
第２の実施形態の塗布装置は、気流制御手段である排気経路２５０を載置物である定盤２１１に備える構成である。パッド部２１４のベアリング面２０３ａが対向する定盤２１１の支持領域２１２ｂ内に、排気経路２５０が設けられている。すなわち、定盤２１１の上面２１１ａ上へ水平投影した、パッド部２１４の多孔質体２１５の水平投影位置が、多孔質体２１５に重ならず、ベアリング面２０３ａの外周２０３ｂ内に配置されるように形成される。ここで、水平投影位置とは、塗布装置をＺ方向（図５（ａ）の紙面に交差する方向）に視る際の部材の位置を意味する。
【００３９】
排気経路２５０を構成する排気溝２５１は、平面視において、互いに所定距離離れて配置される、２つの直線状の領域を有す。さらに、排気経路２５０を構成する複数の排気貫通路２５３は、排気溝２５１に連通し、互いに離間配置され、定盤２１１を貫通する。第１の実施形態と同様に、排気貫通路２５３は、塗液（図１の添付符号１０４を参照。）に影響を及ぼさない位置で、定盤２１１の外部、すなわち塗布装置２０１の外部と連通している。
【００４０】
上記第２の実施形態の気流制御手段は、定盤２１１に設ける構成としたが、第１の実施形態と同様に排気溝（図３の参照符号１１９参照。）を備え、定盤２１１には、排気溝２５１を設けずに、排気貫通路２５３のみを設ける構成とすることも可能である。
【００４１】
〔第３の実施形態〕
次に第３の実施形態に係る塗布装置について、図６（ａ）、（ｂ）を参照しつつ説明する。図６（ａ）は、第２の実施形態に係る塗布装置の定盤３１１の一部を示す平面図であり、定盤３１１とパッド部３１４との関係を示し、（ｂ）は、図６（ａ）の線ＶＩ−ＶＩに沿った断面図である。なお、以下の説明において、塗布装置の特に言及しない要素の構成及び変形態様は、第１の実施形態に係る塗布装置と同じであるので割愛する。また、図６（ａ）、（ｂ）には、上面支持エアベアリング装置の一方（左側）に配置されているパッド部３１４のみを図示している。
【００４２】
第３の実施形態に係る塗布装置は、気流制御手段として隔壁部材３５１を備える。パッド部のベアリング面には、多孔質体から構成される吐出口を有するが、第１及び第２の実施形態と異なり、排気経路を備えない。
【００４３】
気流制御手段は、パッド部から吐出される気体が、支持領域３１２ｂから塗布領域３１２ａへ流れることを阻止するための隔壁部材３５１から構成される。また、隔壁部材３５１は、載置物である定盤３１１の上面３１１ａの塗布領域３１２ａと、パッド部３１４が通る支持領域３１２ｂとの境界に沿って配置される。
【００４４】
隔壁部材３５１の一端部は、定盤３１１の上面３１１ａに設けられている凹部３５３内に固定され、隔壁部材３５１の他端部は、パッド部３１４が定盤３１１の上面３１１ａから浮上している状態においてパッド部３１４の外周面３０３ｃに接するように寸法付けされている。すなわち、図６（ｂ）の正面視において、エアベアリング装置のパッド部３１４と定盤３１１の上面３１１ａとの間の浮上空間Ｓの塗布領域３１２ａ側が閉じられることになる。
【００４５】
この構成により、パッド部３１４から吐出される気体が、塗布領域３１２ａへ進入することを阻止することが可能である。結果として、エアベアリング装置に利用される気体が、ガラス基板上の塗布された塗液へ影響することを防止することができる。なお、隔壁部材３５１は、例えば、樹脂又はゴム製の可撓性部材から構成することができる。
【００４６】
上記した第２及び第３の実施形態では、第１の実施形態と異なり、排気貫通路を定盤に設け、塗布装置が配置される床面の方向に排気する構成である。従って、塗布装置がクリーンルーム内で使用するときに、クリーンルーム内にダウンフローの気流流れを形成している場合であっても、その気流流れを乱すことを防止できる。
【００４７】
上記した第１及び第２の実施形態の塗布装置では、気体の排出を、大気と連通する排気経路から行う構成であるが、負圧を供給するポンプ等の吸引手段を排気経路に連結する構成とすることも可能である。気体供給手段と吸引手段を制御手段により制御することにより、エアベアリング装置が噴出する気体が、被塗布物に着弾される塗液への干渉を効率的に防止することができる。
【００４８】
上記した第１乃至第３の実施形態の塗布装置では、被塗布物を非接触支持する構成であるが、本発明はこの構成に限定されない。例えば、ガラス基板を定盤に吸着させる又は接触させた状態で載置される塗布装置であっても本発明の効果及び作用を奏することは言うまでもない。さらに、第１乃至第３の実施形態に係る気流制御手段を適宜組み合わせることも可能である。
【００４９】
上記した第１乃至第３の実施形態では、気体を吐出する噴出口に多孔質体を用いているが、多孔質体の代わりに、板部材に細孔を刻設することにより噴出口を構成することも可能である。
【００５０】
上記第１乃至第３の実施形態において、塗布領域を有する定盤１１１、２１１、３１１が載置物として用いられているが、本発明の載置物は、当該定盤に限定されない。塗布作業、測定作業などで使用するための所定の平面度を有する平面を備え、所定の剛性、硬度、耐摩耗性を有する種々の台が載置物として利用できる。また、定盤として、鋳鉄製の箱型定盤、ＪＩＳ定盤、石定盤等が利用できる。
【００５１】
本発明のエアベアリング装置は、塗布装置のみならず、被支持物を非接触で支持するための装置に適用でき、その適用された装置は、本発明の効果及び作用を奏することは言うまでもない。
【符号の説明】
【００５２】
１０１          塗布装置
１０３          エアベアリング装置
１０３ａ、２０３ａ  ベアリング面
１０５          上面支持エアベアリング装置
１０７          側面支持エアベアリング装置
１０９          ガントリ
１１１          定盤
１１１ａ        上面
１１２ａ        塗布領域
１１２ｂ        支持領域
１１３          スロットノズル
１１４、１１６、２１４、３１４  パッド部
１１５、２１５  多孔質体
１１８          排気経路
１１９、２５１  排気溝
１２１、２５３  排気貫通路
１３１          制御部
３５１          隔壁部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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