(57)【要約】【課題】ダメージを与えることなく、シール材を構成するための樹脂の硬化を促進することを目的とする。【解決手段】第２基板５２を、第１基板１０と間隔をあけて対向し、光反射層３８が周辺領域４８に対向するように配置する。周辺領域４８に配置した紫外線硬化型樹脂７２で、第１基板１０及び第２基板５２を接合する。紫外線硬化型樹脂７２に、第１基板１０の外側から紫外線を照射する。光反射層３８の周辺領域４８に対向する面は、第１基板１０の内側方向である内方向に傾く部分を有しないように形成され、少なくとも第１基板１０の外側方向である外方向に斜めを向く傾斜部６２を有する。紫外線を、周辺領域４８の金属配線５０が存在しない領域から紫外線硬化型樹脂７２に照射しながら通過させ、光反射層３８で少なくとも第１基板１０の中央に近づかないように反射させて、紫外線硬化型樹脂７２に照射する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示のための素子が形成された画像表示領域及び前記画像表示領域を囲む周辺領域を有し、前記画像表示領域から前記周辺領域に引き出されるように金属配線が形成された光透過性の第１基板と、
前記第１基板と間隔をあけて対向するように配置され、前記周辺領域に対向するように配置された光反射層が形成された第２基板と、
前記周辺領域に重なって前記第１基板及び前記第２基板を接合する光透過性のシール材と、
を有し、
前記周辺領域は、前記金属配線によって遮光される遮光領域と、前記金属配線が存在しないことで光を通す透光領域と、を含み、
前記光反射層の前記周辺領域に対向する面は、前記第１基板の外側方向である外方向に斜めを向く傾斜部を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記光反射層の前記周辺領域に対向する前記面の全体が、前記外方向に斜めを向くことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載された表示装置において、
前記光反射層の前記周辺領域に対向する前記面は、前記外方向に斜めを向く前記傾斜部と、前記第１基板の表面に平行な平行部と、からなることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載された表示装置において、
前記第２基板には、前記光反射層の下地層が形成され、
前記下地層の前記第１基板側の表面は、前記外方向を向く外向部と、前記内方向を向く内向部と、を含み、
前記光反射層は、前記下地層の前記内向部を避けて、少なくとも前記外向部に形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
画像表示のための素子が形成された画像表示領域及び前記画像表示領域を囲む周辺領域を有し、前記画像表示領域から前記周辺領域に引き出されるように金属配線が形成された光透過性の第１基板を用意する工程と、
光反射層が形成された第２基板を、前記第１基板と間隔をあけて対向し、前記光反射層が前記周辺領域に対向するように配置する工程と、
前記周辺領域に重ねて、紫外線硬化型樹脂で、前記第１基板及び前記第２基板を接合する工程と、
前記紫外線硬化型樹脂に、前記第１基板の外側から紫外線を照射する工程と、
を含み、
前記光反射層の前記周辺領域に対向する面は、前記第１基板の外側方向である外方向に斜めを向く傾斜部を有し、
前記紫外線を照射する工程で、前記紫外線を、前記周辺領域の前記金属配線が存在しない領域から前記紫外線硬化型樹脂を照射しながら通過させ、前記光反射層で前記第１基板の外側に向けて反射させて、前記紫外線硬化型樹脂に照射することを特徴とする表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの封止方法として、有機エレクトロルミネッセンス素子を、これが形成されたデバイス基板と対向基板との間でシール材によって封止する方法が用いられている。シール材として紫外線硬化型の樹脂が使用され、紫外線の照射により硬化される。対向基板にブラックマトリクスが形成されていると、対向基板から紫外線を照射することができないので、その場合、デバイス基板から紫外線を照射することになる。デバイス基板には、多くの配線が形成されているので、配線の隙間から紫外線を照射する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−３３６８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には、対向基板に紫外線反射層を形成し、また、その形状を凹凸形状にすることで紫外線を乱反射させて樹脂の硬化を促進することが開示されている。しかし、この方法では、反射した紫外線が画像表示領域の方向にも進行するので、液晶表示パネルであれば薄膜トランジスタに対して、有機エレクトロルミネッセンス表示パネルであれば有機エレクトロルミネッセンス素子に対してダメージを与える。
【０００５】
本発明は、ダメージを与えることなく、シール材を構成するための樹脂の硬化を促進することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る表示装置は、画像表示のための素子が形成された画像表示領域及び前記画像表示領域を囲む周辺領域を有し、前記画像表示領域から前記周辺領域に引き出されるように金属配線が形成された光透過性の第１基板と、前記第１基板と間隔をあけて対向するように配置され、前記周辺領域に対向するように配置された光反射層が形成された第２基板と、前記周辺領域に重なって前記第１基板及び前記第２基板を接合する光透過性のシール材と、を有し、前記周辺領域は、前記金属配線によって遮光される遮光領域と、前記金属配線が存在しないことで光を通す透光領域と、を含み、前記光反射層の前記周辺領域に対向する面は、前記第１基板の外側方向である外方向に斜めを向く傾斜部を有することを特徴とする。本発明によれば、第１基板に外側から入射した光は、光反射層の傾斜部で外方向に向けて反射するが、光反射層が内方向に傾く部分を有していないことから、内方向には反射しない。したがって、画像表示のための素子にダメージを与えることなく、シール材を構成するための樹脂の硬化を促進することができる。
【０００７】
（２）（１）に記載された表示装置において、前記光反射層の前記周辺領域に対向する前記面の全体が、前記外方向に斜めを向くことを特徴としてもよい。
【０００８】
（３）（１）に記載された表示装置において、前記光反射層の前記周辺領域に対向する前記面は、前記外方向に斜めを向く前記傾斜部と、前記第１基板の表面に平行な平行部と、からなることを特徴としてもよい。
【０００９】
（４）（２）又は（３）に記載された表示装置において、前記第２基板には、前記光反射層の下地層が形成され、前記下地層の前記第１基板側の表面は、前記外方向を向く外向部と、前記内方向を向く内向部と、を含み、前記光反射層は、前記下地層の前記内向部を避けて、少なくとも前記外向部に形成されていることを特徴としてもよい。
【００１０】
（５）本発明に係る表示装置の製造方法は、画像表示のための素子が形成された画像表示領域及び前記画像表示領域を囲む周辺領域を有し、前記画像表示領域から前記周辺領域に引き出されるように金属配線が形成された光透過性の第１基板を用意する工程と、光反射層が形成された第２基板を、前記第１基板と間隔をあけて対向し、前記光反射層が前記周辺領域に対向するように配置する工程と、前記周辺領域に重ねて、紫外線硬化型樹脂で、前記第１基板及び前記第２基板を接合する工程と、前記紫外線硬化型樹脂に、前記第１基板の外側から紫外線を照射する工程と、を含み、前記光反射層の前記周辺領域に対向する面は、前記第１基板の外側方向である外方向に斜めを向く傾斜部を有し、前記紫外線を照射する工程で、前記紫外線を、前記周辺領域の前記金属配線が存在しない領域から前記紫外線硬化型樹脂を照射しながら通過させ、前記光反射層で前記第１基板の外側に向けて反射させて、前記紫外線硬化型樹脂に照射することを特徴とする。本発明によれば、第１基板に外側から入射した紫外線は、光反射層の傾斜部で外方向に向けて反射するが、光反射層が内方向に傾く部分を有していないことから、内方向には反射しない。したがって、画像表示のための素子にダメージを与えることなく、紫外線硬化型樹脂の硬化を促進することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る表示装置の平面図である。
【図２】図１に示す表示装置のII−II線断面の概略図である。
【図３】図１に示す表示装置のIII−III線断面の拡大図である。
【図４】図１に示す表示装置のIV−IV線断面の拡大図である。
【図５】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図６】本発明の実施形態に係る表示装置の変形例１を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る表示装置の変形例２を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。図１は、本発明の実施形態に係る表示装置の平面図である。図２は、図１に示す表示装置のII−II線断面の概略図である。
【００１３】
表示装置は、ガラスなどからなる光透過性の第１基板１０を有する。第１基板１０は、画像表示のための画像表示領域１２を有する。第１基板１０には、画像を表示するための素子を駆動するための集積回路チップ１４が搭載されている。画像を表示するための素子は、本実施形態では、有機エレクトロルミネッセンス素子であり、図２に示すように、有機層１６を含む。有機層１６は封止膜１８で覆われている。また、第１基板１０には、外部との電気的接続のために、フレキシブル配線基板２０が接続されている。
【００１４】
図３は、図１に示す表示装置のIII−III線断面の拡大図である。第１基板１０の上に半導体層２２が形成されている。半導体層２２を覆ってゲート絶縁膜２４が形成されている。ゲート絶縁膜２４の上にはゲート電極２６が形成され、ゲート電極２６を覆って層間絶縁膜２８が形成されている。層間絶縁膜２８を貫通して、半導体層２２に至るようにソース電極３０及びドレイン電極３２が設けられている。
【００１５】
ソース電極３０及びドレイン電極３２を覆うように、層間絶縁膜２８上にパッシベーション膜３４が形成され、その上に平坦化層３６が設けられている。平坦化層３６上に、光を反射するための光反射層３８が形成され、その上に第１電極４０（例えば陽極）が設けられている。第１電極４０は、平坦化層３６を貫通して、ソース電極３０及びドレイン電極３２の一方に電気的に接続されている。
【００１６】
第１電極４０の中央部を囲むように、樹脂などの絶縁体からバンク４２が形成されている。バンク４２に囲まれた第１電極４０上に有機層１６が形成されている。有機層１６の一部はバンク４２にも載るようになっている。
【００１７】
有機層１６は、少なくとも発光層を含み、さらに、電子輸送層、正孔輸送層、電子注入層及び正孔注入層のうち少なくとも一層を含んでもよい。有機層１６を構成する少なくとも一層は有機材料からなる。有機層１６は、蒸着又はスパッタリングによって形成する。有機層１６が含む発光層は、一色（例えば白色）の光のみを発するように構成されている。
【００１８】
有機層１６上には、第２電極４４（例えば陰極）が形成されている。第１電極４０と第２電極４４の間に有機層１６が配置されている。第１電極４０及び第２電極４４に電圧をかけることにより各々から正孔と電子を有機層１６に注入する。注入された正孔と電子が発光層で結合して光を発する。有機層１６は、封止膜１８で覆われ、さらに樹脂層４６で覆われて湿気から遮断されている。樹脂層４６は、紫外線硬化型又は熱硬化型のどちらでもよい。
【００１９】
図４は、図１に示す表示装置のIV−IV線断面の拡大図である。第１基板１０は、画像表示のための素子が形成された画像表示領域１２を囲む周辺領域４８を有する（図１参照）。画像表示領域１２から周辺領域４８に引き出されるように、図４に示すように、金属配線５０が形成されている。金属配線５０は信号線や電源線などである。周辺領域４８は、金属配線５０によって遮光される領域（遮光領域）と、金属配線５０が存在しないことで光を通す領域（透光領域）と、を含む。なお、透光領域にある層（例えば、ゲート絶縁膜２４、層間絶縁膜２８、パッシベーション膜３４、封止膜１８）は、光透過性の材料からなる。
【００２０】
表示装置は、第２基板５２を有する。第２基板５２は、第１基板１０と間隔をあけて対向するように配置されている。第２基板５２の第１基板１０とは反対側の面には、外光の反射防止のために、円偏光板５４が設けられている。第２基板５２の第１基板１０側の面には、図３に示すように、カラーフィルタ層５６が設けられている。カラーフィルタ層５６は、ブラックマトリクス５８及び着色層６０を含む。変形例として、有機層１６が、異なる色（例えば、赤、緑及び青）を発する複数の発光層を含む場合、着色層６０は不要である。
【００２１】
図４に示すように、第２基板５２には、第１基板１０の周辺領域４８に対向するように、例えば紫外線を反射する光反射層３８が形成されている。光反射層３８の周辺領域４８に対向する面（図４では下面）は、第１基板１０の内側方向（図４では左方向）である内方向に傾く部分を有しないように形成されている。光反射層３８の周辺領域４８に対向する面（図４では下面）は、少なくとも第１基板１０の外側方向（図４では右方向）である外方向に斜めを向く傾斜部６２を有する。光反射層３８の材質は、紫外線領域の波長の電磁波の反射率が大きいものが望ましく、ＡｇやＡｌなどが推奨される。
【００２２】
第２基板５２には、光反射層３８の下地層６４が形成されている。下地層６４は、カラーフィルタ層５６に積層されたオーバーコート層である。下地層６４の第１基板１０側の表面は、外方向を向く外向部６６と、内方向を向く内向部６８と、を含む。外向部６６及び内向部６８は、これらに直交する断面である図４に示すように、のこぎり状になっている。のこぎり状の斜め形状は、第２基板５２に対して斜めに形成されている面の垂線が画像表示領域１２に対して外側を向く様に形成されている。ただし、斜め面の垂線が画像表示領域１２の外側に向いていれば、下地層６４の第１基板１０側の表面は、のこぎり状になっていなくてもよい。光反射層３８は、下地層６４の内向部６８を避けて、少なくとも外向部６６に形成されている。
【００２３】
表示装置は、図４に示すように、光透過性のシール材７０を有する。シール材７０は紫外線硬化型樹脂からなる。シール材７０は、周辺領域４８に重なって第１基板１０及び第２基板５２を接合する。
【００２４】
図５は、本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。本実施形態では、上述した第１基板１０及び第２基板５２を用意する。下地層６４は、第１基板１０及び第２基板５２の間隔を保持するための図示しないスペーサと同時に同じ材料で形成してもよいし、カラーフィルタ層５６の着色層６０又はブラックマトリクス５８と同時に同じ材料で形成してもよい。下地層６４は、アクリル樹脂やポリイミド樹脂などの有機材料から形成してよいし、ＳｉＮなどの無機材料で形成してもよい。
【００２５】
下地層６４にのこぎり状の表面を形成するには、下地層６４を樹脂から形成するのであれば、フォトリソグラフィやナノインプリントの技術を適用してもよい。下地層６４の外向部６６に光反射層３８を形成する。光反射層３８は、ＡｇやＡｌなどから蒸着やスパッタ法で形成する。
【００２６】
光反射層３８が形成された第２基板５２を、第１基板１０と間隔をあけて対向するように配置する。詳しくは、光反射層３８を周辺領域４８に対向させる。周辺領域４８に重ねて、紫外線硬化型樹脂７２で、第１基板１０及び第２基板５２を接合する。
【００２７】
図５に示すように、紫外線硬化型樹脂７２に、第１基板１０の外側から紫外線を照射する。紫外線は、周辺領域４８の金属配線５０が存在しない領域を通って、紫外線硬化型樹脂７２を照射する。また、紫外線は、紫外線硬化型樹脂７２を通過する。紫外線硬化型樹脂７２を通過した紫外線は、光反射層３８で反射する。
【００２８】
光反射層３８の、周辺領域４８に対向する面は、第１基板１０の内側方向である内方向に傾く部分を有しないように形成されており、少なくとも第１基板１０の外側方向である外方向に斜めを向く傾斜部６２を有する。したがって、第１基板１０に外側から入射した光（紫外線）は、光反射層３８の傾斜部６２で外方向に向けて反射するが、光反射層３８が内方向に傾く部分を有していないことから、内方向には反射しない。
【００２９】
つまり、紫外線は、少なくとも第１基板１０の中央に近づかないように反射する。そのため、紫外線が有機層１６（図２参照）に照射されることを防ぐことができる。そして、紫外線は、紫外線硬化型樹脂７２を再び照射する。紫外線のエネルギーで紫外線硬化型樹脂７２が硬化する。
【００３０】
有機層１６は、紫外線が照射されると材料分解等の劣化が生じるのでダメージを受けるが、本実施形態によれば、紫外線が照射されないのでダメージを受けることなく、シール材７０を構成する紫外線硬化型樹脂７２の硬化を促進することができる。
【００３１】
図６は、本発明の実施形態に係る表示装置の変形例１を示す図である。この例では、光反射層１３８の周辺領域１４８に対向する面は、外方向に斜めを向く傾斜部１６２と、第１基板１１０の表面に平行な平行部１７４と、からなる。傾斜部１６２は、平行部１７４よりも第１基板１１０の中央に近い位置に形成されている。したがって、有機層１６（図２参照）に近い位置では、光反射層１３８の傾斜部１６２で、紫外線を有機層１６から遠ざかる方向に反射させる。この例でも、光反射層１３８で反射した紫外線は、少なくとも第１基板１１０の中央に近づかないように反射するので、紫外線が有機層１６に照射されることを防ぐことができる。
【００３２】
図７は、本発明の実施形態に係る表示装置の変形例２を示す図である。この例では、光反射層２３８の周辺領域２４８に対向する面の全体が、外方向に斜めを向いている。つまり、光反射層２３８の面が、のこぎり状ではなく、一つの傾斜面になっている。この例でも、光反射層２３８で反射した紫外線は、少なくとも第１基板２１０の中央に近づかないように反射するので、紫外線が有機層１６（図２参照）に照射されることを防ぐことができる。
【００３３】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００３４】
１０  第１基板、１２  画像表示領域、１４  集積回路チップ、１６  有機層、１８  封止膜、２０  フレキシブル配線基板、２２  半導体層、２４  ゲート絶縁膜、２６  ゲート電極、２８  層間絶縁膜、３０  ソース電極、３２  ドレイン電極、３４  パッシベーション膜、３６  平坦化層、３８  光反射層、４０  第１電極、４２  バンク、４４  第２電極、４６  樹脂層、４８  周辺領域、５０  金属配線、５２  第２基板、５４  円偏光板、５６  カラーフィルタ層、５８  ブラックマトリクス、６０  着色層、６２  傾斜部、６４  下地層、６６  外向部、６８  内向部、７０  シール材、７２  紫外線硬化型樹脂、１１０  第１基板、１３８  光反射層、１４８  周辺領域、１６２  傾斜部、１７４  平行部、２１０  第１基板、２３８  光反射層、２４８  周辺領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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