(57)【要約】【課題】  磁束密度検出手段の出力信号の直線性を向上させることができる位置検出装置を提供する。【解決手段】  位置検出装置１０では、隙間３０は、検出範囲θｆｓにおける相対移動方向の両端の幅ｇｍａｘが中央の幅ｇ０よりも大きくなるように設定されている。したがって、隙間３０の端部を流れる漏洩磁束および直通磁束は、隙間の幅が相対移動方向で一定である従来形態と比べると、少なくなる。つまり、ホール素子５４が隙間３０の端部に位置するとき当該ホール素子５４を通過する磁束の密度は、従来形態と比べると、小さくなる。そのため、ホール素子５４が隙間３０の端部を相対移動するとき当該ホール素子５４が検出する磁束密度の変化率は、比較的小さくなる。そのため、ホール素子５４の出力信号Ｖの直線性を向上させることができる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準部材（８２）に対し相対移動する検出対象（６９、８７）の位置を検出可能な位置検出装置（１０、６０、７０、１００）であって、
前記基準部材および前記検出対象の一方に設けられる第１磁束伝達部（２０、６１、７１、１０１）と、
前記第１磁束伝達部との間に隙間（３０、６７、７７、１０５）を形成するように設けられている第２磁束伝達部（２５、６４、７４、１０３）と、
前記第１磁束伝達部の一端部（２２）と前記第２磁束伝達部の一端部（２７）との間に設けられている第１磁束発生手段（４０）と、
前記第１磁束伝達部の他端部（２３）と前記第２磁束伝達部の他端部（２８）との間に設けられている第２磁束発生手段（４５）と、
前記隙間に位置し、前記第１磁束伝達部および前記第２磁束伝達部に対し相対移動可能であり、前記基準部材および前記検出対象の他方に設けられ、通過する磁束の密度に応じた信号を出力する磁束密度検出手段（５４）と、
を備え、
前記第１磁束伝達部と前記第２磁束伝達部とが対向する方向を対向方向とし、前記磁束密度検出手段が前記第１磁束伝達部に対し相対移動する方向を相対移動方向とすると、
前記隙間の対向方向の幅は、相対移動方向の両端の幅（ｇｍａｘ）が中央の幅（ｇ０）よりも大きいことを特徴とする位置検出装置。
【請求項２】
直交座標系において、前記検出対象の位置（θ）と前記磁束密度検出手段の出力信号（Ｖ）との関係を示す線図を実出力線（Ｌ１）とし、実出力線のうち、前記磁束密度検出を通過する磁束が０となる座標を０点（ｐ０）とし、０点を通り且つ傾きが理想傾きである線図を理想直線（Ｌ２）とし、検出範囲（θｆｓ）の理想直線のうち出力信号が最大となる座標を最大点（ｐｍａｘ）とし、検出範囲の理想直線のうち出力信号が最小となる座標を最小点（ｐｍｉｎ）とすると、
前記隙間は、実出力線が少なくとも最小点と０点と最大点とを通るように設定されていることを特徴とする請求項１に記載位置検出装置。
【請求項３】
前記第１磁束伝達部（２０、７１）のうち前記隙間（３０、７７）を区画している面を第１内面（２４、７８）とし、前記第２磁束伝達部（２５、７４）のうち前記隙間を区画している面を第２内面（２９、７９）とすると、
前記第１内面および前記第２内面は、曲率半径が一定の曲面であることを特徴とする請求項２に記載の位置検出装置（１０）。
【請求項４】
前記第１磁束伝達部（６１、１０１）のうち前記隙間（６７、１０５）を区画している面を第１内面（６３、１０６）とし、前記第２磁束伝達部（６４、１０３）のうち前記隙間を区画している面を第２内面（６６、１０７）とすると、
前記第１内面および前記第２内面は、実出力線が理想直線に沿うように形成された自由曲面であることを特徴とする請求項２に記載の位置検出装置（６０）。
【請求項５】
前記検出対象（８７）は、前記基準部材（８２）に対し相対回転移動し、
前記第１磁束伝達部（２０、６１）および前記第２磁束伝達部（２５、６４）は、前記検出対象の相対移動方向に沿うように弧状に形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の位置検出装置（１０、６０）。
【請求項６】
前記検出対象（６９）は、前記基準部材に対し相対直線移動し、
前記第１磁束伝達部（７１、１０１）および前記第２磁束伝達部（７４、１０３）は、前記検出対象の相対移動方向に沿うように直線状に形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の位置検出装置（７０、１００）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検出対象の位置を検出する位置検出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基準部材に対し相対移動する検出対象の位置を検出可能な磁気式の位置検出装置が知られている。例えば特許文献１に開示された位置検出装置は、２つの磁石および２つのヨークにより閉磁路を形成し、閉磁路の内側すなわち各ヨーク間の隙間に磁束密度検出手段を設けている。ヨークは平板状であり、各ヨーク間の隙間の幅は、ヨークの長手方向において一定である。一方の磁石は各ヨークの一端部間に設けられ、他方の磁石は各ヨークの他端部間に設けられている。
【０００３】
磁石のＮ極から出る磁束には、一方のヨークを通って他方の磁石に流れる還流磁束と、一方のヨークから各ヨーク間の隙間を通って他方のヨークに流れる漏洩磁束と、ヨークを通ることなく各ヨーク間の隙間を通ってＳ極に流れる直通磁束とが含まれる。磁束密度検出手段には、漏洩磁束および直通磁束の一方、または両方が流れる。このとき磁束密度検出手段を通過する磁束の密度は、ヨークに対する磁束密度検出手段の相対位置に応じて変化する。位置検出装置は、磁束密度検出手段が検出する磁束密度に基づき検出対象の位置を検出する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２９２００４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示された位置検出装置では、磁束密度検出手段を通過する磁束の密度は、各ヨーク間の隙間の端部において直通磁束の影響を受けて急激に変化する。そのため、検出対象の位置と磁束密度検出手段の出力信号との関係は、磁束密度検出手段が各ヨーク間の隙間の中央部を相対移動するとき線形関係に近いが、磁束密度検出手段が各ヨーク間の隙間の端部を相対移動するとき線形関係から遠ざかる。したがって、磁束密度検出手段の出力信号の直線性が低いという問題があった。
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、その目的は、磁束密度検出手段の出力信号の直線性を向上させることができる位置検出装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、基準部材に対し相対移動する検出対象の位置を検出可能な位置検出装置であって、第１磁束伝達部、第２磁束伝達部、第１磁束発生手段、第２磁束発生手段および磁束密度検出手段を備えている。第１磁束伝達部は、基準部材および検出対象の一方に設けられる。第２磁束伝達部は、第１磁束伝達部との間に隙間が形成されるように設けられている。第１磁束発生手段は、第１磁束伝達部の一端部と第２磁束伝達部の一端部との間に設けられている。第２磁束発生手段は、第１磁束伝達部の他端部と第２磁束伝達部の他端部との間に設けられている。磁束密度検出手段は、隙間に位置し、第１磁束伝達部および第２磁束伝達部に対し相対移動可能であり、基準部材および検出対象の他方に設けられ、通過する磁束の密度に応じた信号を出力する。
【０００７】
特に本発明では、第１磁束伝達部と第２磁束伝達部とが対向する方向を対向方向とし、磁束密度検出手段が第１磁束伝達部に対し相対移動する方向を相対移動方向とすると、隙間の対向方向の幅は、相対移動方向の両端部が中央部よりも大きいことを特徴としている。
したがって、隙間の端部を流れる漏洩磁束および直通磁束は、隙間の幅が相対移動方向で一定である従来形態と比べると、少なくなる。つまり、磁束密度検出手段が隙間の端部に位置するとき当該磁束密度検出手段を通過する磁束の密度は、従来形態と比べると、小さくなる。そのため、磁束密度検出手段が隙間の端部を相対移動するとき当該磁束密度検出手段が検出する磁束密度の変化率は、比較的小さくなる。よって、磁束密度検出手段の出力信号の直線性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１実施形態による位置検出装置が適用された回転駆動装置の概略構成を説明する図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図１の矢印ＩＩＩ部分を拡大して示す断面図である。
【図４】図２の位置検出装置のみを示す断面図である。
【図５】図２のホール素子の出力特性を示す図である。
【図６】本発明の第２実施形態による位置検出装置の断面図である。
【図７】図６のホール素子の出力特性を示す図である。
【図８】本発明の第３実施形態による位置検出装置の断面図である。
【図９】図８のホール素子の出力特性を示す図である。
【図１０】本発明の第４実施形態による位置検出装置の断面図である。
【図１１】図１０のホール素子の出力特性を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の複数の実施形態を図面に基づき説明する。実施形態同士で実質的に同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態による位置検出装置は、図１に示す回転駆動装置に適用されている。回転駆動装置８０は、図示しないウェイストゲートバルブを開閉駆動するために用いられる。ウェイストゲートバルブは、ターボチャージャーによる過給エンジンにおいて、排気ガスの一部を分流させることによりタービンへの流入量を調節するバルブである。
【００１０】
先ず、回転駆動装置８０の構成を図１に基づき説明する。回転駆動装置８０は、ハウジング８１、ケース８２、モータ８５、回転体８７、出力軸９２および位置検出装置１０を備えている。
ハウジング８１は、モータ収容室を有し、車体または車体に取り付けられた部材に固定される。
ケース８２は、ハウジング８１の開口部に固定されているカバー部８３と、カバー部８３から外側に突き出すコネクタ部８４とを形成している。
【００１１】
モータ８５は、ハウジング８１内に設けられており、パワー端子９３を介して電子制御装置９５に電気的に接続される。モータ８５は、電子制御装置９５から電力が供給されるとモータ軸８６を回転させる。
回転体８７は、モータ軸８６と同軸上に設けられている円板部材であり、軸心９６から外れた位置で周方向へ延びる円弧状の通孔８８を有している。回転体８７は、モータ軸８６に回転伝達可能に連結されている。
出力軸９２は、モータ軸８６と同軸上に設けられ、ケース８２により回転可能に支持され、回転体８７に回転伝達可能に連結されている。出力軸９２は、図示しないリンク機構を介してウェイストゲートバルブに連結される。
【００１２】
位置検出装置１０は、軸方向において回転体８７と一致し且つ径方向において軸心９６から外れた位置に設けられ、ケース８２に対する回転体８７の相対的な回転角度を検出可能である。ケース８２は、特許請求の範囲に記載の「基準部材」に相当し、回転体８７は、特許請求の範囲に記載の「検出対象」に相当する。位置検出装置１０は、信号端子９４を介して電子制御装置９５に電気的に接続される。
【００１３】
上記のように構成された回転駆動装置８０は、電子制御装置９５から電力が供給されると、モータ８５により出力軸９２を回転させつつ、回転体８７の回転角度に応じた電圧を位置検出装置１０から電子制御装置９５に出力する。電子制御装置９５は、位置検出装置１０の出力電圧に基づいてモータ８５を駆動し、回転体８７の回転角度が目標値に一致するようにフィードバック制御を実行する。
【００１４】
次に、位置検出装置１０の構成を図１〜図３に基づき説明する。
位置検出装置１０は、第１ヨーク２０、第２ヨーク２５、第１磁石４０、第２磁石４５および短絡磁路部５０を備えている。
第１ヨーク２０は、軟磁性材料から構成され、回転体８７の通孔８８のうち径方向外側の内壁８９に沿うように延びている湾曲部２１と、湾曲部２１の周方向の一方から径方向内側に突き出す一端部２２と、湾曲部２１の周方向の他方から径方向内側に突き出す他端部２３とを形成している。第１ヨーク２０は、回転体８７に固定されており、特許請求の範囲に記載の「第１磁束伝達部」に相当する。
【００１５】
第２ヨーク２５は、軟磁性材料から構成され、回転体８７の通孔８８のうち径方向内側の内壁９１に沿うように延びている湾曲部２６と、湾曲部２６の周方向の一方から径方向外側に突き出す一端部２７と、湾曲部２１の周方向の他方から径方向外側に突き出す他端部２８とを形成している。第２ヨーク２５の湾曲部２６は、第１ヨーク２０の湾曲部２１との間に隙間３０を形成している。隙間３０は、周方向に延びる円弧状の間隙である。第２ヨーク２５は、回転体８７に固定されており、特許請求の範囲に記載の「第２磁束伝達部」に相当する。
【００１６】
第１磁石４０は、第１ヨーク２０の一端部２２と第２ヨーク２５の一端部２７との間に設けられており、特許請求の範囲に記載の「第１磁束発生手段」に相当する。本実施形態では、第１磁石４０は、着磁方向が回転体８７の径方向と一致し、Ｎ極４１が径方向外側に位置するとともにＳ極４２が径方向内側に位置するように設けられている。
【００１７】
第２磁石４５は、第１ヨーク２０の他端部２３と第２ヨーク２５の他端部２８との間に設けられており、特許請求の範囲に記載の「第２磁束発生手段」に相当する。本実施形態では、第２磁石４５の磁力は、第１磁石４０の磁力と同じである。また、第２磁石４５は、着磁方向が回転体８７の径方向と一致し、Ｎ極４６が径方向内側に位置するとともにＳ極４７が径方向外側に位置するように設けられている。つまり、第２磁石４５の極性は、第１磁石４０の極性とは反対である。
【００１８】
第１ヨーク２０および第２ヨーク２５は、第１磁石４０と第２磁石４５とを繋ぐ磁気回路構成部材であり、第１磁石４０および第２磁石４５と共に閉磁路を形成している。第１磁石４０のＮ極４１から出る磁束には、第１ヨーク２０を通って第２磁石４５に流れる還流磁束と、第１ヨーク２０から隙間３０を通って第２ヨーク２５に流れる漏洩磁束と、第１ヨーク２０および第２ヨーク２５を通ることなく隙間３０を通ってＳ極４２に流れる直通磁束とが含まれる。また、第２磁石４５のＮ極４６から出る磁束には、第２ヨーク２５を通って第１磁石４０に流れる還流磁束と、第２ヨーク２５から隙間３０を通って第１ヨーク２０に流れる漏洩磁束と、第１ヨーク２０および第２ヨーク２５を通ることなく隙間３０を通ってＳ極４７に流れる直通磁束とが含まれる。
【００１９】
短絡磁路部５０は、ホールＩＣ５３と、漏洩磁界をより集中してホールＩＣ５３へ流すための集磁ヨーク５１および集磁ヨーク５２とを有している。集磁ヨーク５１、集磁ヨーク５２およびホールＩＣ５３は、樹脂製のモールド部材５５によりモールドされ、ケース８２に固定されている。集磁ヨーク５１および集磁ヨーク５２は、隙間３０において径方向に並ぶように設けられている。ホールＩＣ５３は、集磁ヨーク５１と集磁ヨーク５２との間に設けられており、ホール素子５４を有している。ホール素子５４は、ホール効果を利用した磁電変換素子であり、特許請求の範囲に記載の「磁束密度検出手段」に相当し、感磁面を通過する磁束の密度に応じた電圧を出力する。ホール素子５４を通過する磁束の密度は、回転体８７の相対回転に伴いホール素子５４と閉磁路との相対位置が変化することによって、増減する。本実施形態では、ホール素子５４は１つだけ設けられている。
【００２０】
次に、位置検出装置１０の構成部材の特徴について図４および図５に基づき説明する。以下、第１ヨーク２０と第２ヨーク２５とが対向する方向を対向方向とし、第１ヨーク２０および第２ヨーク２５が短絡磁路部５０に対し相対移動する方向を相対移動方向とする。また、位置検出装置１０の検出角度範囲を検出範囲θｆｓとし、隙間３０のうちホール素子５４が第１ヨーク２０に対し相対移動可能な範囲を可動範囲θｍとする。
【００２１】
図４に示すように、第１ヨーク２０の湾曲部２１のうち隙間３０を区画している第１内面２４は、検出範囲θｆｓの相対移動方向の一端の第１位置Ｐ１と、検出範囲θｆｓの相対移動方向の中央の第２位置Ｐ２と、検出範囲θｆｓの相対移動方向の他端の第３位置Ｐ３とを通る曲率半径が一定の曲面である。本実施形態では、第１内面２４の曲率中心３１は、軸心９６に対して湾曲部２１側に位置している。
【００２２】
また、第２ヨーク２５の湾曲部２６のうち隙間３０を区画している第２内面２９は、検出範囲θｆｓの相対移動方向の一端の第４位置Ｐ４と、検出範囲θｆｓの相対移動方向の中央の第５位置Ｐ５と、検出範囲θｆｓの相対移動方向の他端の第６位置Ｐ６とを通る曲率半径が一定の曲面である。本実施形態では、第２内面２９の曲率中心３２は、軸心９６に対して湾曲部２１とは反対側に位置している。
【００２３】
以上により、隙間３０は、相対移動方向の中央から両端に向かって連続的に大きくなり、検出範囲θｆｓにおける相対移動方向の両端の幅ｇｍａｘが中央の幅ｇ０よりも大きくなるように設定されている。以下、第１位置Ｐ１、第２位置Ｐ２、第３位置Ｐ３、第４位置Ｐ４、第５位置Ｐ５および第６位置Ｐ６について、図５の特性図を交えて説明する。
【００２４】
図５には、直交座標系において、ケース８２に対する回転体８７の相対的な回転角度θと、ホール素子５４の出力電圧Ｖとの関係を表す実出力線Ｌ１を実線で示している。回転角度θは特許請求の範囲に記載の「回転体の位置」に相当し、出力電圧Ｖは特許請求の範囲に記載の「出力信号」に相当する。また、図５には、実出力線Ｌ１のうち、ホール素子５４を通過する検出磁束密度が０となるときの座標を０点ｐ０とすると、０点ｐ０を通り且つ傾きが理想傾きａである理想直線Ｌ２を二点鎖線で示している。また、図５には、隙間の幅が相対移動方向で一定である従来形態における回転角度θと出力電圧Ｖとの関係を表す実出力線Ｌ３を一点鎖線で示している。
【００２５】
図５において検出範囲θｆｓの理想直線Ｌ２のうち出力信号Ｖが最小となる座標を最小点ｐｍｉｎとすると、図４において第１位置Ｐ１と第４位置Ｐ４との間の距離に相当する幅ｇｍａｘは、図５の最小点ｐｍｉｎに対応するように設定されている。
また、図４において第２位置Ｐ２と第５位置Ｐ５との間の距離に相当する幅ｇ０は、図５の０点ｐ０に対応するように設定されている。
また、図５において検出範囲θｆｓの理想直線Ｌ２のうち出力信号Ｖが最大となる座標を最大点ｐｍａｘとすると、図４において第３位置Ｐ３と第６位置Ｐ６との間の距離に相当する幅ｇｍａｘは、図５の最大点ｐｍａｘに対応するように設定されている。
【００２６】
以上説明したように、第１実施形態による位置検出装置１０では、隙間３０は、検出範囲θｆｓにおける相対移動方向の両端の幅ｇｍａｘが中央の幅ｇ０よりも大きくなるように設定されている。したがって、隙間３０の端部を流れる漏洩磁束および直通磁束は、隙間の幅が相対移動方向で一定である従来形態と比べると、少なくなる。つまり、ホール素子５４が隙間３０の端部に位置するとき当該ホール素子５４を通過する磁束の密度は、従来形態と比べると、小さくなる。そのため、ホール素子５４が隙間３０の端部を相対移動するとき当該ホール素子５４が検出する磁束密度の変化率は、比較的小さくなる。そのため、ホール素子５４の出力信号Ｖの直線性を向上させることができる。
【００２７】
また、第１実施形態では、隙間３０は、実出力線Ｌ１が理想直線Ｌ２の最小点ｐｍｉｎと０点ｐ０と最大点ｐｍａｘとを通るように設定されている。そのため、検出範囲θｆｓの端部における検出精度を高めることができる。
また、第１実施形態では、第１内面２４および第２内面２９は、曲率半径が一定の曲面である。そのため、第１ヨーク２０および第２ヨーク２５は、形状が単純なものとなり、設計および製造が容易となる。
【００２８】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態による位置検出装置を図６および図７に基づき説明する。
図６に示すように、位置検出装置６０は、第１ヨーク６１および第２ヨーク６４を備えている。第１ヨーク６１の湾曲部６２と第２ヨーク６４の湾曲部６５との間の隙間６７は、検出範囲θｆｓにおける相対移動方向の両端の幅ｇｍａｘが中央の幅ｇ０よりも大きくなるように設定されている。そのため、第２実施形態によれば、第１実施形態と同様に、ホール素子５４の出力信号Ｖの直線性を向上させることができる。
【００２９】
また、第１ヨーク６１の湾曲部６２の第１内面６３、および、第２ヨーク６４の湾曲部６５の第２内面６６は、図７に示すように実出力線Ｌ１が理想直線Ｌ２に沿うように形成された自由曲面である。そのため、ホール素子５４の出力信号Ｖの直線性を一層向上させることができる。
【００３０】
（第３実施形態）
本発明の第３実施形態による位置検出装置を図８および図９に基づき説明する。
図８に示すように、位置検出装置７０は、シフトアクチュエータ６８に適用されている。シフトアクチュエータ６８は、例えば自動制御式マニュアルトランスミッションまたはデュアルクラッチトランスミッション等から構成された変速機に設けられ、シフト操作およびセレクト操作を行うアクチュエータである。シフトアクチュエータ６８の出力部材６９は、図示しないハウジングに対し相対直線移動する。出力部材６９は特許請求の範囲に記載の「検出対象」に相当し、上記ハウジングは特許請求の範囲に記載の「基準部材」に相当する。
【００３１】
位置検出装置７０は、第１ヨーク７１、第２ヨーク７４、第１磁石４０および第２磁石４５により閉磁路を形成している。第１ヨーク７１は、相対移動方向に延びるように直線状に形成されており、相対移動方向の中央から一端に向かって延びる第１直線部７２と、相対移動方向の中央から他端に向かって延びる第２直線部７３とを有している。また、第２ヨーク７４は、相対移動方向に延びるように直線状に形成されており、相対移動方向の中央から一端に向かって延びる第３直線部７５と、相対移動方向の中央から他端に向かって延びる第４直線部７６とを有している。
【００３２】
第１ヨーク７１は、第２ヨーク７４との間に隙間７７を形成している。隙間７７の幅は、相対移動方向の中央から両端に向かって連続的に大きくなり、検出範囲Ｓｆｓにおける相対移動方向の両端の幅ｇｍａｘが中央の幅ｇ０よりも大きくなるように設定されている。そのため、第３実施形態によれば、第１実施形態と同様に、ホール素子５４の出力信号Ｖの直線性を向上させることができる。
【００３３】
また、隙間７７は、図９に示すように実出力線Ｌ１が理想直線Ｌ２の最小点ｐｍｉｎと０点ｐ０と最大点ｐｍａｘとを通るように設定されている。そのため、検出範囲Ｓｆｓの端部における検出精度を高めることができる。
また、第１ヨーク７１の第１内面７８および第２ヨーク７４の第２内面７９は、２つの平面から構成されている。そのため、第１ヨーク７１および第２ヨーク７４は、形状が単純なものとなり、設計および製造が容易となる。
【００３４】
（第４実施形態）
本発明の第４実施形態による位置検出装置を図１０および図１１に基づき説明する。
図１０に示すように、位置検出装置１００は、第１ヨーク１０１および第２ヨーク１０３を備えている。第１ヨーク１０１の湾曲部１０２と第２ヨーク１０３の湾曲部１０４との間の隙間１０５は、検出範囲Ｓｆｓにおける相対移動方向の両端の幅ｇｍａｘが中央の幅ｇ０よりも大きくなるように設定されている。そのため、第４実施形態によれば、第１実施形態と同様に、ホール素子５４の出力信号Ｖの直線性を向上させることができる。
【００３５】
また、第１ヨーク１０１の湾曲部１０２の第１内面１０６、および、第２ヨーク１０３の湾曲部１０４の第２内面１０７は、図１１に示すように実出力線Ｌ１が理想直線Ｌ２に沿うように形成された自由曲面である。そのため、ホール素子５４の出力信号Ｖの直線性を一層向上させることができる。
【００３６】
（他の実施形態）
本発明の他の実施形態では、閉磁路を構成する部材がケースに設けられ、ホールＩＣが回転体に設けられてもよい。
本発明の他の実施形態では、第１磁石および第２磁石に代えて、例えば電磁石などの他の磁束発生手段が設けられてもよい。
本発明の他の実施形態では、位置検出装置は、例えばモータと出力軸との間に設けられる減速機の最終減速部材など、他の回転部材に設けられてもよい。
本発明の他の実施形態では、回転駆動装置は、ウェイストゲートバルブ装置に限らず、例えば可変容量ターボの可変ベーン制御装置、排気スロットルまたは排気切替弁のバルブ作動装置、あるいは、可変吸気機構のバルブ作動装置などの他の装置に適用されてもよい。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の形態で実施可能である。
【符号の説明】
【００３７】
１０、６０、７０、１００・・・位置検出装置
２０、６１、７１、１０１・・・第１ヨーク（第１磁束伝達部）
２５、６４、７４、１０３・・・第２ヨーク（第２磁束伝達部）
３０、６７、７７、１０５・・・隙間
４０・・・第１磁石（第１磁束発生手段）
４５・・・第２磁石（第２磁束発生手段）
５４・・・ホール素子（磁束密度検出手段）
６９、８７・・・回転体（検出対象）
８２・・・ハウジング（基準部材）
ｇ０・・・隙間の中央の幅
ｇｍａｘ・・・隙間の両端の幅
【図１】
2014126548.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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