(57)【要約】【課題】排水中のアンモニアを有効利用することで、アンモニアを処理するための装置を省略する。【解決手段】合成ガス生成システム１００は、流動媒体を加熱する燃焼炉１１２と、燃焼炉によって加熱された流動媒体が導入されて流動層が形成され、当該流動層が有する熱でガス化原料をガス化させて合成ガスＸ１を生成するガス化炉１１６と、合成ガスを水で洗浄することで、合成ガス中に含まれるアンモニアを水に溶解させ、アンモニア水を得る洗浄部２１２と、アンモニア水を濃縮し、濃縮アンモニア水Ｚ２と、水とに分離する濃縮部２１６と、を備える。【選択図】図１
2014159528.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流動媒体を加熱する燃焼炉と、
前記燃焼炉によって加熱された流動媒体が導入されて流動層が形成され、当該流動層が有する熱でガス化原料をガス化させて合成ガスを生成するガス化炉と、
生成された前記合成ガスを水で洗浄することで、該合成ガス中に含まれるアンモニアを該水に溶解させ、アンモニア水を得る洗浄部と、
前記アンモニア水を濃縮し、濃縮アンモニア水と、水とに分離する濃縮部と、
を備えたことを特徴とする合成ガス生成システム。
【請求項２】
前記濃縮アンモニア水を用いて、前記燃焼炉において生じた燃焼排ガス中の窒素酸化物を還元する脱硝部をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の合成ガス生成システム。
【請求項３】
前記濃縮アンモニア水を気化させて前記ガス化炉に導入する水蒸気導入部をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の合成ガス生成システム。
【請求項４】
前記濃縮部は、１段または複数段の逆浸透膜を用いて、前記アンモニア水を濃縮することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の合成ガス生成システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス化炉で生成した合成ガスを、水を用いて洗浄、精製することで生じた排水を処理する合成ガス生成システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油に代えて、石炭やバイオマス、タイヤチップ等のガス化原料をガス化して合成ガスを生成する技術が開発されている。このようにして生成された合成ガスは、発電システムや、合成燃料（合成石油）の製造、化学肥料（尿素）等の化学製品の製造等に利用されている。
【０００３】
ガス化原料をガス化する技術として、例えば、水蒸気を利用してガス化原料をガス化する技術（例えば、特許文献１）が開発されている。特許文献１のガス化ガス生成システムにおいて、合成ガスを精製（洗浄）することで生じた排水にはアンモニア（ＮＨ３）が含まれている。排水中のアンモニア濃度が放流基準値を超えてしまう場合、排水からアンモニアを取り除く必要がある。そこで、ガス化ガス生成システムには、アンモニア放散塔（アンモニアストリッピング装置）が設けられており、当該アンモニア放散塔において、排水中のアンモニアを気化させることで、排水からアンモニアを取り除いている。そして、取り除いた気体状態のアンモニアは、燃焼等の酸化処理が施されて、廃棄されることとなる。
【０００４】
また、アンモニアを含む排水は、一般的に製鉄所においても生じるものであり、アンモニア放散塔や酸化処理装置が設けられていたり、排水中のアンモニアを微生物によって除去する活性汚泥槽が設けられていたりする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１６８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したガス化ガス生成システムや、製鉄所では、取り除いたアンモニアを処理するために酸化処理装置や、活性汚泥槽を設ける必要があり、設備費が増大してしまうという課題があった。
【０００７】
本発明は、このような課題に鑑み、排水中のアンモニアを有効利用することで、アンモニアを処理するための装置を省略することが可能な合成ガス生成システムを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の合成ガス生成システムは、流動媒体を加熱する燃焼炉と、燃焼炉によって加熱された流動媒体が導入されて流動層が形成され、当該流動層が有する熱でガス化原料をガス化させて合成ガスを生成するガス化炉と、生成された合成ガスを水で洗浄することで、合成ガス中に含まれるアンモニアを水に溶解させ、アンモニア水を得る洗浄部と、アンモニア水を濃縮し、濃縮アンモニア水と、水とに分離する濃縮部と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、濃縮アンモニア水を用いて、燃焼炉において生じた燃焼排ガス中の窒素酸化物を還元する脱硝部をさらに備えるとしてもよい。
【００１０】
また、濃縮アンモニア水を気化させてガス化炉に導入する水蒸気導入部をさらに備えるとしてもよい。
【００１１】
濃縮部は、１段または複数段の逆浸透膜を用いて、アンモニア水を濃縮するとしてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明では、排水中のアンモニアを有効利用することで、アンモニアを処理するための装置を省略することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１の実施形態にかかる合成ガス生成システムを説明するための図である。
【図２】濃縮部の構成例を説明するための図である。
【図３】第２の実施形態にかかる合成ガス生成システムを説明するための図である。
【図４】第３の実施形態にかかる合成ガス生成システムを説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
【００１５】
（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態にかかる合成ガス生成システム１００を説明するための図である。図１に示すように、合成ガス生成システム１００は、合成ガス生成装置１１０と、合成ガス精製装置２００と、アンモニア製造装置２５０と、アンモニア利用装置２６０とを含んで構成される。図１中、砂の流れを一点鎖線の矢印で、砂以外のもの、例えば、ガス化原料、ガス、水、油等の流れを実線の矢印で示す。
【００１６】
合成ガス生成システム１００では、流動媒体が流動層を形成しているガス化炉内で、水蒸気を利用して、７００℃〜９００℃程度でガス化原料をガス化する（水蒸気ガス化）。本実施形態における合成ガス生成システム１００では、合成ガス生成装置１１０によって生成され、合成ガス精製装置２００によって精製されることで得られた精製ガス（水素）を利用して、アンモニア製造装置２５０が、アンモニア水を製造する。そして、アンモニア製造装置２５０が製造したアンモニア水は、アンモニア利用装置２６０で肥料等に加工される。
【００１７】
アンモニア製造装置２５０は、水素からアンモニアを合成する。また、アンモニア利用装置２６０は、アンモニア水から肥料等を製造する。なお、アンモニア製造装置２５０が水素からアンモニアを合成する技術や、アンモニア利用装置２６０がアンモニア水から肥料等を製造する技術は、既存の技術であるため、詳細な説明を省略する。
【００１８】
以下、アンモニア製造装置２５０、アンモニア利用装置２６０で利用される合成ガスを生成する合成ガス生成装置１１０、合成ガス精製装置２００の具体的な構成について、その順に説明する。
【００１９】
（合成ガス生成装置１１０）
図１に示すように合成ガス生成装置１１０は、燃焼炉１１２と、媒体分離装置（サイクロン）１１４と、ガス化炉１１６と、水蒸気導入部１１８とを含んで構成される。
【００２０】
合成ガス生成装置１１０では、全体として、粒径が３００μｍ程度の硅砂（珪砂）等の砂で構成される流動媒体を熱媒体として循環させている。具体的には、まず、流動媒体は、燃焼炉１１２で１０００℃程度に加熱され、二酸化炭素（ＣＯ２）を含む燃焼排ガスＥＸとともに媒体分離装置１１４に導入される。媒体分離装置１１４においては、高温の流動媒体と燃焼排ガスＥＸとが分離され、当該分離された高温の流動媒体が、ガス化炉１１６に導入される。そして、ガス化炉１１６に導入された流動媒体は、ガス化炉１１６の底面から導入されるガス化剤（水蒸気、窒素、空気、酸素、不活性ガス等）によって流動層化された後、最終的に、燃焼炉１１２に戻される。
【００２１】
ガス化炉１１６は、例えば、気泡流動層（バブリング流動層）ガス化炉であり、ガス化原料を７００℃〜９００℃でガス化させて合成ガスを生成する。本実施形態では、ボイラで構成された水蒸気導入部１１８が水蒸気を生成し、当該水蒸気導入部１１８が水蒸気をガス化炉１１６に導入することにより、ガス化原料をガス化させて合成ガスを生成する（水蒸気ガス化）。
【００２２】
ここで、ガス化原料としては、石炭やバイオマス、タイヤチップ等の固体原料を用いることができる。石炭としては、泥炭、亜炭、褐炭、亜瀝青炭、瀝青炭、半無煙炭、無煙炭が挙げられる。本実施形態では、ガス化原料として、褐炭等の低品位燃料をガス化する。
【００２３】
そして、ガス化炉１１６で生成された合成ガスＸ１には、タールや水蒸気等が含まれているため、後段（下流）の合成ガス精製装置２００に送出され、精製される。
【００２４】
なお、ここでは、循環流動層方式のガス化炉１１６を例に挙げて説明するが、ガス化原料をガス化するガス化炉であれば、単なる流動層方式のガス化炉や、砂が自重で鉛直下方向に流下することで移動層を形成する移動層方式のガス化炉であってもよい。
【００２５】
（合成ガス精製装置２００）
合成ガス精製装置２００は、改質炉（酸化改質炉）２１０と、洗浄部２１２と、沈降分離部２１４と、濃縮部２１６とを含んで構成される。
【００２６】
改質炉２１０は、ガス化炉１１６で生成された合成ガスＸ１に酸素や空気を加え、９００℃〜１５００℃程度にして、合成ガスＸ１に含まれるタールを改質（酸化改質）する。
【００２７】
洗浄部２１２は、タールが改質された合成ガスＸ２を水で洗浄することで、合成ガスＸ２中に含まれるアンモニアを水に溶解させ、アンモニア水（ＮＨ４ａｑ）を得る。具体的に説明すると、洗浄部２１２は、スプレー塔と、ミストセパレータとを含んで構成される。
【００２８】
スプレー塔は、合成ガスＸ２に４０℃程度の冷却水をスプレー噴霧することにより、３００℃〜６００℃となった合成ガスＸ２を７０℃程度に冷却する。これにより、合成ガスＸ２に含まれるタールやスラッジが凝縮するとともに、合成ガスＸ２に含まれるアンモニアが水に溶解して、合成ガスＸ２から除去され、粗精製ガスと油混合水Ｙが生成される。そして、スプレー塔は、粗精製ガスを後段のミストセパレータに供給し、アンモニア水、タールおよびスラッジを含んで構成される油混合水Ｙを沈降分離部２１４に送出する。
【００２９】
ミストセパレータは、粗精製ガスに、４０℃程度の冷却水を、スプレー塔における粒径よりも小さい水滴としてスプレー噴霧する。これにより、スプレー塔では、十分に分離、除去できなかった粗精製ガスに含まれる霧状のタールやスラッジ等が凝縮するとともに、粗精製ガスに含まれるアンモニアが水に溶解して、粗精製ガスから除去され、精製ガスＸ３と油混合水Ｙが生成される。そして、ミストセパレータは、精製ガスＸ３を後段のアンモニア製造装置２５０に供給し、アンモニア水、タールおよびスラッジを含んで構成される油混合水Ｙを沈降分離部２１４に送出する。
【００３０】
合成ガス精製装置２００において精製されることにより、精製ガスＸ３は、主成分が水素のガスとなり、後段のアンモニア製造装置２５０でアンモニアに合成されることとなる。
【００３１】
沈降分離部２１４は、洗浄部２１２から送出された油混合水Ｙを、比重の違いによって、上澄液Ｚ１と、沈降物Ｔとに分離する。そうすると、沈降物Ｔには、タールおよびスラッジが含まれることとなり、上澄液Ｚ１は、タールおよびスラッジが除去された、アンモニア水となる。
【００３２】
沈降分離部２１４によって沈降分離された沈降物Ｔは、上記合成ガス生成装置１１０のガス化炉１１６に返送される。沈降物Ｔにはタールが多く含まれているため、ガス化炉１１６に沈降物Ｔを返送することにより、ガス化原料に由来するタールをガス化原料として、ガス化炉１１６でガス化することができる。したがって、沈降分離部２１４において沈降分離された沈降物Ｔを廃棄することなく有効利用でき、廃棄に要するコストを削減することが可能となる。また、ガス化炉１１６において導入されるガス化原料の量を低減することが可能となるため、ガス化原料に要するコストも削減することができる。
【００３３】
一方、沈降分離部２１４によって分離された上澄液Ｚ１は、濃縮部２１６に送出される。
【００３４】
濃縮部２１６は、上澄液Ｚ１（アンモニア水）を濃縮し、濃縮アンモニア水Ｚ２と、水とに分離する。そして、濃縮部２１６で分離された濃縮アンモニア水Ｚ２は、後段のアンモニア利用装置２６０に送出され、分離された水（純水）は、利用先に送出される。
【００３５】
図２は、濃縮部２１６の構成例を説明するための図である。図２に示すように、本実施形態にかかる濃縮部２１６は、ポンプ２２０と、プレフィルタ２２２と、タンク２２４と、ポンプ２２６（図２中、２２６ａ〜２２６ｅで示す）と、アンモニア分離部２３０（図２中、２３０ａ〜２３０ｅで示す）と、ポンプ２３４、２３６とを含んで構成される。
【００３６】
ポンプ２２０は、上澄液Ｚ１を沈降分離部２１４からタンク２２４に送出する。ポンプ２２０とタンク２２４との間には、タールやスラッジを除去するためのプレフィルタ２２２が設けられている。
【００３７】
ポンプ２２６は、例えば、高圧送液ポンプで構成され、アンモニア分離部２３０に上澄液Ｚ１を圧送する。アンモニア分離部２３０は、内部に逆浸透膜（Reverse Osmosis Membrane）２３２が配されている。逆浸透膜２３２は、水を通し、イオンを通さないといった機能を有する。したがって、ポンプ２２６がアンモニア分離部２３０に上澄液Ｚ１を圧送すると、上澄液Ｚ１中の水のみが逆浸透膜２３２を通過し、アンモニアは、逆浸透膜２３２を通過しないこととなる。こうして、アンモニア分離部２３０によって、上澄液Ｚ１から水が分離され、濃縮アンモニア水Ｚ２が生成される（アンモニア水が濃縮される）こととなる。
【００３８】
また、図２に示すように、本実施形態では、アンモニア分離部２３０が複数段（ここでは、５段）直列に接続されている。具体的に説明すると、ポンプ２２６ａは、アンモニア分離部２３０ａに上澄液Ｚ１を圧送し、ポンプ２２６ｂは、アンモニア分離部２３０ａで濃縮された濃縮アンモニア水をアンモニア分離部２３０ｂに圧送し、ポンプ２２６ｃは、アンモニア分離部２３０ｂで濃縮された濃縮アンモニア水をアンモニア分離部２３０ｃに圧送し、ポンプ２２６ｄは、アンモニア分離部２３０ｃで濃縮された濃縮アンモニア水をアンモニア分離部２３０ｄに圧送し、ポンプ２２６ｅは、アンモニア分離部２３０ｄで濃縮された濃縮アンモニア水をアンモニア分離部２３０ｅに圧送する。ここで、ポンプ２２６ａ〜２２６ｅによる送出圧力は、例えば、０．４ＭＰａ〜１．２ＭＰａ程度である。
【００３９】
なお、アンモニア分離部２３０ａ〜２３０ｅには、ポンプ２２６ａ〜２２６ｅによって、上澄液Ｚ１、濃縮アンモニア水が常時圧送されているため、アンモニア分離部２３０ａ〜２３０ｅにおける逆浸透膜２３２の下流側は負圧となる。したがって、ポンプ２２６ｂ〜２２６ｅ、２３４を駆動して逆浸透膜２３２の上流側の濃縮アンモニア水を次段に送出しても、逆浸透膜２３２の下流側から上流側への水の移動が生じることはほとんどない。
【００４０】
一般的に、逆浸透膜２３２の濃縮率は２倍程度であるため、アンモニア分離部２３０を５段とすることで、２５＝３２倍に濃縮することができる。つまり、アンモニア分離部２３０を複数段とすることで、濃縮アンモニア水Ｚ２中のアンモニア濃度を上昇させることが可能となる。
【００４１】
また、濃縮部２１６が逆浸透膜２３２でアンモニア水を濃縮することにより、アンモニア水を効率よく濃縮することができる。
【００４２】
このようにして濃縮された濃縮アンモニア水Ｚ２は、ポンプ２３４で、後段のアンモニア利用装置２６０に送出され、分離された水（純水）は、ポンプ２３６で利用先に送出される。
【００４３】
以上説明したように、本実施形態にかかる合成ガス生成システム１００によれば、合成ガス精製装置２００において、合成ガスＸ１を洗浄することで得られたアンモニア水（上澄液Ｚ１）を、濃縮部２１６が濃縮することにより、後段のアンモニア利用装置２６０で利用可能な程度の濃度の濃縮アンモニア水Ｚ２を製造することができる。
【００４４】
したがって、従来、廃棄されていたアンモニアを有効利用することができ、アンモニアを処理するための装置を省略することが可能となる。これにより、放散塔や活性汚泥槽といったアンモニアを処理するための装置の設備費を削減することができる。また、合成ガスＸ１に、ＢＯＤ（活性汚泥等の生物が消費する有機物）がほとんど含まれていない場合に、活性汚泥処理をする際には、有機物の添加が必要となるが、本実施形態にかかる合成ガス生成システム１００によれば、活性汚泥槽が不要となり、有機物に要するコストを削減することが可能となる。
【００４５】
さらに、アンモニア利用装置２６０においても、利用可能なアンモニア量を増加させることができるため、肥料等の製造コストを低減することが可能となる。
【００４６】
（第２の実施形態）
上述した第１の実施形態では、合成ガス生成システム１００がアンモニア製造装置２５０、アンモニア利用装置２６０を備え、濃縮部２１６が濃縮した濃縮アンモニア水Ｚ２をアンモニア利用装置２６０で利用する構成について説明した。第２の実施形態では、濃縮部２１６が濃縮した濃縮アンモニア水Ｚ２を他の装置が利用する構成について説明する。
【００４７】
図３は、第２の実施形態にかかる合成ガス生成システム３００を説明するための図である。図３に示すように、合成ガス生成システム３００は、合成ガス生成装置３１０と、合成ガス精製装置２００とを含んで構成される。図３中、砂の流れを一点鎖線の矢印で、砂以外のもの、例えば、ガス化原料、ガス、水、油等の流れを実線の矢印で示す。
【００４８】
なお、合成ガス精製装置２００は、上述した第１の実施形態の合成ガス精製装置２００と実質的に機能が等しいため、同一の符号を付して重複説明を省略する。
【００４９】
合成ガス生成装置３１０は、燃焼炉１１２と、媒体分離装置１１４と、ガス化炉１１６と、水蒸気導入部１１８と、脱硝部３１２とを含んで構成される。なお、燃焼炉１１２、媒体分離装置１１４、ガス化炉１１６、水蒸気導入部１１８は、上述した第１の実施形態の合成ガス生成装置１１０の構成要素と実質的に機能が等しいため、同一の符号を付して重複説明を省略し、ここでは、脱硝部３１２について詳述する。
【００５０】
脱硝部３１２は、脱硝触媒を含んで構成され、脱硝部３１２には、燃焼排ガスＥＸが通される。ここで、脱硝触媒は、例えば、バナジウム、タングステン、モリブデン等の金属またはその酸化物と酸化チタン等で構成された触媒である。
【００５１】
また、脱硝部３１２には、濃縮部２１６が濃縮した濃縮アンモニア水Ｚ２が導入される。
【００５２】
そうすると、下記、反応式（１）、または、反応式（２）に示すように、脱硝部３１２において、濃縮アンモニア水Ｚ２中のアンモニアが還元剤として機能し、燃焼排ガスＥＸ中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を窒素に還元（分解）し、燃焼排ガスＥＸから窒素酸化物が除去された排ガスＸ５とすることができる。
４ＮＯ  ＋  ４ＮＨ３  ＋  Ｏ２  →  ４Ｎ２  ＋  ６Ｈ２Ｏ
…反応式（１）
ＮＯ  ＋  ＮＯ２  ＋  ２ＮＨ３  →  ２Ｎ２  ＋  ３Ｈ２Ｏ
…反応式（２）
【００５３】
以上説明したように、本実施形態にかかる合成ガス生成システム３００によれば、合成ガス精製装置２００において、合成ガスＸ１を洗浄することで得られたアンモニア水（上澄液Ｚ１）を、濃縮部２１６が濃縮し、濃縮された濃縮アンモニア水Ｚ２によって、合成ガス生成装置３１０で生じた燃焼排ガスＥＸ中のＮＯｘを除去することができる。
【００５４】
燃焼排ガスＥＸ中のＮＯｘを除去する場合、脱硝部３１２においては還元剤（例えば、尿素）を要する。しかし、脱硝部３１２が、従来、廃棄されていたアンモニアを還元剤として利用することで、還元剤に要するコストが削減できるとともに、アンモニアを処理するための装置を省略することが可能となる。
【００５５】
（第３の実施形態）
上述した第２の実施形態では、合成ガス生成システム３００が脱硝部３１２を備え、濃縮部２１６が濃縮した濃縮アンモニア水Ｚ２を脱硝部３１２で利用する構成について説明した。第３の実施形態では、濃縮部２１６が濃縮した濃縮アンモニア水Ｚ２を他の装置が利用する構成について説明する。
【００５６】
図４は、第３の実施形態にかかる合成ガス生成システム４００を説明するための図である。図４に示すように、合成ガス生成システム４００は、合成ガス生成装置４１０と、合成ガス精製装置２００とを含んで構成される。図４中、砂の流れを一点鎖線の矢印で、砂以外のもの、例えば、ガス化原料、ガス、水、油等の流れを実線の矢印で示す。
【００５７】
なお、合成ガス精製装置２００は、上述した第１の実施形態の合成ガス精製装置２００と実質的に機能が等しいため、同一の符号を付して重複説明を省略する。
【００５８】
合成ガス生成装置４１０は、燃焼炉１１２と、媒体分離装置１１４と、ガス化炉１１６と、水蒸気導入部４１８とを含んで構成される。なお、燃焼炉１１２、媒体分離装置１１４、ガス化炉１１６は、上述した第１の実施形態の合成ガス生成装置１１０の構成要素と実質的に機能が等しいため、同一の符号を付して重複説明を省略し、ここでは、機能の異なる水蒸気導入部４１８について詳述する。
【００５９】
水蒸気導入部４１８は、濃縮部２１６が濃縮した濃縮アンモニア水Ｚ２を気化させてガス化炉１１６に導入する。
【００６０】
従来、ガス化炉１１６に導入される水蒸気には、ガス化炉１１６内のｐＨを調整するためのｐＨ調整剤が含まれている。本実施形態では、濃縮アンモニア水Ｚ２中のアンモニアがｐＨ調整剤として機能し、ガス化炉１１６内のｐＨを調整する。
【００６１】
以上説明したように、本実施形態にかかる合成ガス生成システム４００によれば、水蒸気導入部４１８が、従来、廃棄されていたアンモニアをｐＨ調整剤として利用することで、ｐＨ調整剤に要するコストが削減できるとともに、アンモニアを処理するための装置を省略することが可能となる。
【００６２】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００６３】
例えば、上述した実施形態において、アンモニア分離部２３０と、ポンプ２３６との間、または、ポンプ２３６の下流側に陽イオン交換樹脂を設けてもよい。かかる構成により、ポンプ２３６から送出される水の純度を向上することができる。
【００６４】
また、上述した合成ガス生成システム１００に、脱硝部３１２や、水蒸気導入部４１８を備えてもよいし、合成ガス生成システム３００に水蒸気導入部４１８を備えてもよい。
【００６５】
また、上述した実施形態において、沈降分離部２１４によって沈降分離された沈降物Ｔは、ガス化炉１１６に返送される場合を例に挙げて説明したが、沈降物Ｔを燃焼炉１１２に返送してもよい。この場合、燃焼炉１１２に導入される燃料の量を低減することができる。
【００６６】
また、上述した第１の実施形態において、合成ガス生成システム１００がアンモニア製造装置２５０を含む構成について説明したが、アンモニア製造装置２５０を備えずともよく、少なくともアンモニア利用装置２６０を含んでいればよい。
【００６７】
また、上述した第２の実施形態において、脱硝部３１２が脱硝触媒を含んで構成される場合を例に挙げて説明したが、脱硝触媒は必須の構成ではない。例えば、燃焼排ガスＥＸの温度が高く、脱硝触媒がなくても、濃縮アンモニア水Ｚ２でＮＯｘを還元できる場合、脱硝部３１２は、脱硝触媒を備えずに、少なくとも燃焼排ガスＥＸと濃縮アンモニア水Ｚ２とを接触させる機能を有し、濃縮アンモニア水Ｚ２で燃焼排ガスＥＸ中のＮＯｘを還元できればよい（無触媒還元）。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明は、ガス化炉で生成した合成ガスを、水を用いて洗浄、精製することで生じた排水を処理する合成ガス生成システムに利用することができる。
【符号の説明】
【００６９】
１００、３００、４００  …合成ガス生成システム
１１２  …燃焼炉
１１６  …ガス化炉
２１０  …改質炉
２１６  …濃縮部
２３２  …逆浸透膜
３１２  …脱硝部
４１８  …水蒸気導入部
【図１】
2014159528.tif 000003
【図２】
2014159528.tif 000004
【図３】
2014159528.tif 000005
【図４】
2014159528.tif 000006