(57)【要約】【課題】検出光学系を複雑化,大型化および重量増加させることなく、二次元面内全域で読取対象物の検出面と励起光および対物レンズの焦点面とを最適位置に合わせる。【解決手段】読取対象物が載置されるサンプルステージ(４,３１)と、第１,第２走査方向の二次元走査を行って上記読取対象物からの光を検出する走査モジュールと、上記サンプルステージ(４,３１)に互いに離間して複数配置されるパターン(３２a)と、上記走査モジュールによって上記パターン(３２a)を走査した場合に検出される光に基づいて、上記二次元走査の走査面と上記読取対象物の検出面との最適位置を検出する検出部とを備えている。したがって、検出光学系を複雑化,大型化および重量増加させることなく、上記読取対象物の検出面と照射光および対物レンズの焦点面とを最適位置に合わせて、画像斑を低減して高精細な読取画像を形成できる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像情報の読取対象物が載置される平面状のサンプルステージと、
上記サンプルステージに略平行な平面内において第１走査方向とこの第１走査方向に略直交する第２走査方向との二次元走査を行って、上記サンプルステージに配置された上記読取対象物からの光を検出する走査モジュールと、
上記サンプルステージにおける上記二次元走査の領域内に互いに離間して複数配置されると共に、反射率が上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に周期的に変動するパターンと、
上記走査モジュールによって上記パターンを上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に走査した場合に検出される上記パターンからの光に基づいて、上記二次元走査の走査面と上記読取対象物の検出面との最適位置と、上記走査モジュールにおける上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向への往復動時の傾きに起因する走査位置のずれ量との、少なくとも何れかを検出する検出部と
を備え、
上記走査モジュールは、上記読取対象物および上記パターンに光を照射する光源と、上記光の照射に基づいて上記読取対象物および上記パターンから発せられた光を検出する対物レンズを含む検出光学系とを含み、
上記検出部は、上記検出光学系によって検出された上記パターンからの光に基づいて上記最適位置および上記走査位置のずれ量を検出する
ことを特徴とする画像情報読取装置。
【請求項２】
請求項１に記載の画像情報読取装置において、
上記パターンには上記最適位置検出用の第１パターンと上記走査位置のずれ量検出用の第２パターンとの２つのパターンが含まれ、上記サンプルステージには、上記２つのパターンのうちの少なくとも何れかが配置されている
ことを特徴とする画像情報読取装置。
【請求項３】
請求項２に記載の画像情報読取装置において、
上記第１パターンは、
上記光源から照射される光が形成する最小スポット径以下の幅を有すると共に、第１反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第１ストライプ部分と、
上記光源から照射される光が形成する最小スポット径以下の幅を有すると共に、上記第１反射率よりも低い第２反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第２ストライプ部分と
を含み、
上記第１ストライプ部分と上記第２ストライプ部分とは、上記反射率の変動方向に交互に配列されている
ことを特徴とする画像情報読取装置。
【請求項４】
請求項２に記載の画像情報読取装置において、
上記第２パターンは、
上記光源から照射される光が形成する最小スポット径より大きい幅を有すると共に、第１反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第１ストライプ部分と、
上記光源から照射される光が形成する最小スポット径より大きい幅を有すると共に、上記第１反射率よりも低い第２反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第２ストライプ部分と
を含み、
上記第１ストライプ部分と上記第２ストライプ部分とは、上記反射率の変動方向に交互に配列されている
ことを特徴とする画像情報読取装置。
【請求項５】
請求項４に記載の画像情報読取装置において、
上記第２パターンは、上記サンプルステージの上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に延在する一辺に沿って上記二次元走査の領域内に配置されている
ことを特徴とする画像情報読取装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、画像情報の読取対象物に光を照射することによって生ずる蛍光,散乱光および反射光等を検出して画像化する画像情報読取装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
蛍光物質や輝尽性蛍光体によって標識された生体分子の二次元的な分布画像が記録された転写支持体や蓄積性蛍光体シートから生体分子分布画像を読み取る画像情報読取装置として、特開平１０‐３１３４号公報(特許文献１)に開示された画像読み取り装置がある。
【０００３】
この画像読み取り装置においては、中央部に孔が形成された第１のミラーを主走査方向に移動される光学ヘッドに搭載し、蛍光物質あるいは輝尽性蛍光体によって標識された生体由来物質が分布する転写支持体あるいは蓄積性蛍光体シートに対して、レーザ励起光源からの上記蛍光物質や上記輝尽性蛍光体を励起する波長帯域のレーザ光(励起光)を平面の第２のミラーで上方に反射し、上記第１のミラーの小孔を通過させた後、レンズで集光して照射する。そして、上記転写支持体中の蛍光物質が励起されて発せられた蛍光、あるいは、上記蓄積性蛍光体シート中の上記輝尽性蛍光体が励起されて発せられた輝尽光が、上記第１のミラーの上記小孔の周囲で反射され、フォトマルチプライヤによって光電変換されて検出される。こうして、対応する画像信号として読み取られる。以下、上記主走査方向に直交する副走査方向に上記光学ヘッドを移動させながら上記動作を繰り返すことによって、二次元の可視画像を得るようにしている。
【０００４】
しかしながら、上記従来の画像情報読取装置には、以下のような問題がある。
【０００５】
すなわち、上記蛍光や上記輝尽光を、焦点ぼけや画像ずれによる画像むらが発生することなく効率よく検出するためには、励起光である上記レーザ光の焦点位置が上記転写支持体や上記蓄積性蛍光体シートの検出面上にあり、さらに上記検出面と対物レンズとしての上記レンズの焦点面とが一致している必要がある。そして、二次元走査を行う画像形成装置においては、上記検出面の全体において、上記条件が満たされている必要がある。
【０００６】
ところが、二次元走査による振動や経時変化によって上記検出面が徐々に傾くため、上記検出面と上記対物レンズの焦点面とが一致しなくなる場合があるという問題がある。
【０００７】
そこで、このような問題に対処する方法として、特許３９２８８４６号公報(特許文献２)に開示された供焦点光学系を備えたスキャナがある。
【０００８】
このスキャナにおいては、対物レンズの位置を変化させて光検出器で検出した蛍光の信号強度に基づいて、供焦点光学系としての上記対物レンズおよびレンズ等のフォーカス位置を決定し、この決定されたフォーカス位置でのデータに基づいてＥＰＲＯＭ(Erasable Programmable Read Only Memory)に記憶されていたフォーカス位置データを補正する。そして、この補正されたフォーカス位置データに基づいてステッピングモータを駆動して上記対物レンズを光軸方向に移動させて、上記対物レンズのフォーカス位置を調整するようにしている。
【０００９】
しかしながら、上記従来のスキャナには、以下のような問題がある。
【００１０】
すなわち、上記蛍光の信号強度に基づいて上記対物レンズおよび上記レンズのフォーカス位置を決定する手段や、上記対物レンズを光軸方向に移動させるステッピングモータが必要であるために、蛍光検出光学系が複雑化し、大型になる。したがって、スキャナの装置全体が大型化するという問題がある。さらに、蛍光検出光学系の重量が重くなり、高速にスキャンすることができなくなるという問題もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平１０‐３１３４号公報
【特許文献２】特許３９２８８４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
そこで、この発明の課題は、検出光学系を複雑化,大型化および重量増加させることなく、二次元面内全域において読取対象物の検出面と励起光の焦点面および対物レンズの焦点面とを最適位置に合わせて、画像斑を低減して高精細な読取画像を形成できる画像情報読取装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するため、この発明の画像情報読取装置は、
画像情報の読取対象物が載置される平面状のサンプルステージと、
上記サンプルステージに略平行な平面内において第１走査方向とこの第１走査方向に略直交する第２走査方向との二次元走査を行って、上記サンプルステージに配置された上記読取対象物からの光を検出する走査モジュールと、
上記サンプルステージにおける上記二次元走査の領域内に互いに離間して複数配置されると共に、反射率が上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に周期的に変動するパターンと、
上記走査モジュールによって上記パターンを上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に走査した場合に検出される上記パターンからの光に基づいて、上記二次元走査の走査面と上記読取対象物の検出面との最適位置と、上記走査モジュールにおける上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向への往復動時の傾きに起因する走査位置のずれ量との、少なくとも何れかを検出する検出部と
を備え、
上記走査モジュールは、上記読取対象物および上記パターンに光を照射する光源と、上記光の照射に基づいて上記読取対象物および上記パターンから発せられた光を検出する対物レンズを含む検出光学系とを含み、
上記検出部は、上記検出光学系によって検出された上記パターンからの光に基づいて上記最適位置および上記走査位置のずれ量を検出する
ことを特徴としている。
【００１４】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記パターンには上記最適位置検出用の第１パターンと上記走査位置のずれ量検出用の第２パターンとの２つのパターンが含まれ、上記サンプルステージには、上記２つのパターンのうちの少なくとも何れかが配置されている。
【００１５】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記第１パターンは、
上記光源から照射される光が形成する最小スポット径以下の幅を有すると共に、第１反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第１ストライプ部分と、
上記光源から照射される光が形成する最小スポット径以下の幅を有すると共に、上記第１反射率よりも低い第２反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第２ストライプ部分と
を含み、
上記第１ストライプ部分と上記第２ストライプ部分とは、上記反射率の変動方向に交互に配列されている。
【００１６】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記第２パターンは、
上記光源から照射される光が形成する最小スポット径より大きい幅を有すると共に、第１反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第１ストライプ部分と、
上記光源から照射される光が形成する最小スポット径より大きい幅を有すると共に、上記第１反射率よりも低い第２反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第２ストライプ部分と
を含み、
上記第１ストライプ部分と上記第２ストライプ部分とは、上記反射率の変動方向に交互に配列されている。
【００１７】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記第２パターンは、上記サンプルステージの上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に延在する一辺に沿って上記二次元走査の領域内に配置されている。
【発明の効果】
【００１８】
以上より明らかなように、この発明の画像情報読取装置は、上記検出部によって、上記走査モジュールが上記サンプルステージ上のパターンを走査した際の検出光に基づいて、上記光源からの照射光の焦点面と上記読取対象物の検出面との最適位置と、上記走査モジュールにおける上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向への往復動時の傾きに起因する走査位置のずれ量との、少なくとも何れかを検出するので、上記検出光学系を複雑化,大型化および重量増加させることなく、二次元面内全域において検出面と上記照射光および対物レンズの焦点面とを最適位置に合わせて、画像斑を低減して高精細な読取画像を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】この発明の画像情報読取装置における外観図である。
【図２】走査ステージの外観図である。
【図３】図２における走査モジュールの縦断面図である。
【図４】図１におけるサンプル台およびチャートの構成を示す図である。
【図５】図４におけるサンプル台,チャートおよびサンプル台固定用ステージの縦断面図である。
【図６】レーザ光の焦点位置がチャートの検出面よりも上側にある場合の検出光強度を示す図である。
【図７】レーザ光の焦点位置がチャートの検出面上にある場合の検出光強度を示す図である。
【図８】レーザ光の焦点位置がチャートの検出面よりも下側にある場合の検出光強度を示す図である。
【図９】図４とは異なるチャートのパターンを示す図である。
【図１０】図９に示すチャートを走査して得られる画像を示す図である。
【図１１】図４とは異なるサンプル台およびチャートの構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２１】
・第１実施の形態
図１は、本実施の形態の画像情報読取装置における外観図である。本画像情報読取装置１は、筺体を成す本体２と、本体２の上面を覆う蓋体３とで、大まかに構成されている。本体２の上面には、ガラスでなるサンプル台４が設けられており、サンプル台４上には例えば蛍光物質によって標識された生体由来物質が分布するゲル支持体やメンブレン等の転写支持体(共に図示せず)がサンプルとしてセットされる。
【００２２】
そして、上記サンプル台４の下側には光学系が配置されており、サンプル台４上にセットされたサンプルに対して、光照射光学系によってサンプル台４を通して下方から励起光を照射し、サンプル台４を透過してくるサンプルからの蛍光を検出光学系によって検出する。上記検出光学系はＰＣ(Personal computer：パーソナルコンピュータ)５等の外部端末と接続されており、ＰＣ５から測定条件の制御等を行う。さらに、ＰＣ５によって、検出データに基づいてサンプルの蛍光画像を作成し、内蔵する表示画面に上記作成した蛍光画像等を表示する。
【００２３】
図２は、上記サンプル台４の下部に設置された走査ステージ６の外観図を示す。この走査ステージ６は、基準となる第１ステージ７と第１ステージ７の上に載置された第２ステージ８とで構成されている。そして、第２ステージ８の上に走査モジュール９が載置されている。上記蛍光を検出する上記検出光学系は走査モジュール９の中に格納されている。
【００２４】
上記走査ステージ６を構成する第１ステージ７には、第１走査方向に延在すると共に、一定の間隔で互いに対向する２本のガイドレール１０a,１０bが配設されている。また、第２ステージ８は、第１ステージ７のガイドレール１０aによって案内されて上記第１走査方向に往復動する第１ガイド部材１１と、ガイドレール１０bによって案内されて上記第１走査方向に往復動する第２ガイド部材１２とを有している。
【００２５】
上記第２ステージ８を構成する第１ガイド部材１１と第２ガイド部材１２との間には、上記第１走査方向に直交する第２走査方向に延在すると共に、一定の間隔で互いに対向する２本のガイドレール１３a,１３bが配設されている。また、上記走査モジュール９は、ガイドレール１３aによって案内されて上記第２走査方向に往復動する第１ガイド部材１４と、ガイドレール１３bによって案内されて上記第２走査方向に往復動する第２ガイド部材１５とを有している。
【００２６】
上記構成を有する走査ステージ６による走査方法は、先ず、上記第２ステージ８の第１ガイド部材１１と第２ガイド部材１２とがガイドレール１０a,１０bによって案内されて上記第１走査方向に移動して、第２ステージ８の第１ステージ７に対する位置決めが行われる。そうした後に、走査モジュール９の第１ガイド部材１４と第２ガイド部材１５とがガイドレール１３a,１３bによって案内されて上記第２走査方向に移動して、走査モジュール９の第２ステージ８に対する位置決めが行われる。以後、上記動作を繰り返すことによって、サンプル１６上を二次元に走査するのである。
【００２７】
また、具体的な説明は省略するが、上記筺体を成す本体２のサンプル台４下部における走査ステージ６よりも更に下側には、第２ステージ８の第１,第２ガイド部材１１,１２を上記第１走査方向に、走査モジュール９の第１,第２ガイド部材１４,１５を上記第２走査方向に移動させるためのモータ,駆動ベルト,ボールねじ,歯車,制御基板,電源および配線等の走査機構が設置されている。
【００２８】
図３は、上記第２ステージ８の上に載置される走査モジュール９の概略構成を示す縦断面図である。尚、以下の説明においては、光源１８からの励起光の照射に基づいて、上記蛍光物質で標識された上記読取対象物であるサンプル１６から発せられる上記励起光とは異なる波長の微弱な蛍光を検出する場合を例示する。
【００２９】
図３において、走査モジュール９内の上部には、サンプル台(ガラス)４の近傍に位置して、サンプル台４上にセットされたサンプル１６からの蛍光を集光する対物レンズ１７を配置している。さらに、対物レンズ１７の光軸と励起光の光源１８の光軸とが直交する位置には、光源１８から出射されて複数のレンズでなるレンズ群１９で集光されたレーザ光等の励起光を、対物レンズ１７に入射するように反射させる反射ミラー２０を配置している。
【００３０】
上記対物レンズ１７はレンズホルダ２１内に収納されており、レンズホルダ２１はステッピングモータ等の駆動部２２によって、対物レンズ１７の光軸方向に移動可能になっている。こうして、対物レンズ１７は、レンズホルダ２１と共に上記光軸方向に移動可能になっている。
【００３１】
また、上記対物レンズ１７の光軸上における反射ミラー２０の下方には、反射ミラー２０側から順に、対物レンズ１７によって集光されたサンプル１６からの蛍光を平行光に変換する第１レンズ２３、励起光カット用の波長フィルタ２４、波長フィルタ２４を通過した蛍光を集光する第２レンズ２５、および、第２レンズ２５を通過した蛍光の迷光をカットするピンホール２６が配置されている。さらに、対物レンズ１７の光軸上におけるピンホール２６の下方には、ピンホール２６を通過した蛍光を検出する検出器２７が配置されている。
【００３２】
すなわち、本実施の形態においては、上記対物レンズ１７,第１レンズ２３,波長フィルタ２４,第２レンズ２５,ピンホール２６および検出器２７で、上記検出光学系を構成しているのである。
【００３３】
上記構成を有する走査モジュール９において、光源１８から出射された励起光は、レンズ群１９で集束され、次いで反射ミラー２０によって反射されて、対物レンズ１７およびサンプル台４を通過し、サンプル１６における下面上の一点に集光される。その場合、反射ミラー２０の長手方向(レンズ群１９の光軸に直交する方向)の長さは短く、上記長手方向に直交する方向の幅は狭くなっており、光源１８からの励起光は対物レンズ１７の光軸付近(励起光透過部)のみを通過するようになっている。
【００３４】
上記蛍光は、サンプル１６における上記励起光が照射された略一点の部分から周囲に等方的に出射される。そして、出射された蛍光のうちのガラスで成るサンプル台４を透過して対物レンズ１７に入射した成分が、対物レンズ１７,第１レンズ２３,波長フィルタ２４,第２レンズ２５およびピンホール２６を通過して、検出器２７によって検出される。そして、検出器２７からの検出信号は、内蔵されるＡＤ変換器(図示せず)等によってＡＤ変換等の処理が施された後に、ＰＣ５へ送出される。こうして、サンプル１６上の各測定点での蛍光強度の分布が内部メモリ等に記録される。
【００３５】
ここで、上述したように、上記対物レンズ１７を通過した蛍光は、集束光となって第１レンズ２３の方向に導かれる。そして、第１レンズ２３によって実質的に光軸と平行な光になるように屈折される。さらに、第２レンズ２５は第１レンズ２３からの蛍光を集光する。また、ピンホール２６は空間的に迷光をカットするために配置される。尚、励起光カット用の波長フィルタ２４は、例えば回転フォルダ(図示せず)等に配置されて、励起光の波長に応じて他の波長のフィルタと交換可能になっている。
【００３６】
以下、本願の特徴である上記サンプル台４について、詳細に説明する。
【００３７】
図４は、本実施の形態におけるサンプル台４の構成を示す。尚、図４(a)は、図１に示す画像情報読取装置１において、側壁を取り除いた状態の本体２を示す。但し、走査モジュール９を上記第１,第２走査方向に走査するための走査ステージ６は、省略している。また、図２における上記第２走査方向は、図４においてはｙ軸方向に対応している。
【００３８】
上記サンプル台４は、周囲が矩形の枠体を成すサンプル台固定用ステージ３１に取り付け固定されている。すなわち、サンプル台４とサンプル台固定用ステージ３１とで、上記サンプルステージを構成するのである。そして、サンプル台固定用ステージ３１における裏面(サンプル台４側の面)の四隅には、矩形のチャート３２が配置されている。尚、上記四隅に配置されている４つのチャート３２は、総て同じチャートである。
【００３９】
上記チャート３２の表面には、図４(b)および図４(c)に示すように反射特性が周期的に異なるパターン３２aが形成されている。このパターン３２aは、図４(c)に示すように、所定の幅を有すると共に、異なる反射率を有する２種類のストライプが交互に配列されて構成されている。図４(c)において、黒で表記したストライプ部分３３bは反射率が低く、白で表記したストライプ部分３３aは反射率が高い。そして、白のストライプ部分３３aと黒のストライプ部分３３bとがペアとなり(ラインペア)、白のストライプ部分３３aと黒のストライプ部分３３bとの配列周期(つまり、上記ラインペアの幅)は、本画像情報読取装置１に搭載されている上記光照射光学系によって形成される最小スポット径の２倍以下に設定されている。また、白のストライプ３３aと黒のストライプ３３bとの配列方向(高反射率と低反射率との周期の方向)は、走査モジュール９を高速に走査する方向(図２における第２走査方向、図４におけるｙ軸方向)となっている。
【００４０】
上記チャート３２は、図５に示すように、サンプル台４であるガラス板に、パターン３２aの形成面が対向するように配置されている。本実施の形態においては、サンプル台固定用ステージ３１の周囲がサンプル台(ガラス)４の周囲上に積層されて、サンプル台４の周囲をサンプル台固定用ステージ３１で固定している。そして、サンプル台固定用ステージ３１における上記裏面の四隅に凹部３１aを形成し、その凹部３１a中にチャート３２が収められている。そのため、本画像情報読取装置１の外部からはこのチャート３２が見えないようになっている。また、走査モジュール９の走査範囲の四隅に近い位置に配置される。
【００４１】
尚、図５においては、本来は、図３に示すような形状である対物レンズ１７の断面形状を、簡略化して描いている。
【００４２】
図５に示すように、上記走査モジュール９が、光源１８からの励起光をチャート３２に照射しながらチャート３２を横切った場合に、チャート３２からの反射光を検出器２７によって検出すると、図６〜図８に示すように、パターン３２aにおける反射率の周期に対応した波状の反射光強度曲線が得られる。
【００４３】
ここで、図６は、上記励起光であるレーザ光の焦点位置が、サンプル台４上にセットされたチャート３２(サンプル１６)の検出面(チャート３２の下面；サンプル台４の上面)よりも上側に位置する場合である。また、図７は、上記レーザ光の焦点位置がチャート３２(サンプル１６)の検出面上に位置する場合である。また、図８は、上記レーザ光の焦点位置がチャート３２(サンプル１６)の検出面よりも下側に位置する場合である。そして、図６(a),図７(a)および図８(a)の夫々は、上記対物レンズ１７の集光状態を示し、図６(b),図７(b)および図８(b)の夫々は、ｙ軸方向の１ライン走査時の検出器２７による検出反射光強度の変化を示している。
【００４４】
尚、図６(a),図７(a)および図８(a)においても、対物レンズ１７の断面形状を簡略化して描いている。
【００４５】
図７に示すように、上記レーザ光の焦点位置がチャート３２(サンプル１６)の検出面上に位置する場合であり、対物レンズ１７によって形成されるチャート３２の検出面(つまり、チャート３２の裏面)上でのスポット径が最小である場合には、上記ラインペアの周期が最小スポット径の２倍以下の周期であるため解像度が十分でなく、ＰＣ５で得られる画像は鈍ったようなコントラストの画像となる。つまり、図７(b)において、矩形の凹凸形状ではなく、より正弦波に近い形状の波形となる。
【００４６】
しかしながら、上記反射光強度の変化における「山」の箇所が白のストライプ部分(反射率が高い部分)３３aに対応し、「谷」の箇所が黒のストライプ部分(反射率が低い部分)３３bに対応している。図７のように上記レーザ光のスポット径が最小スポット径になる条件では、スポットの中心位置がチャート３２のパターン３２aにおける黒のストライプ部分３３b(あるいは白のストライプ部分３３a)の中央に位置する場合、そのスポット内には略黒のストライプ部分３３b(あるいは白のストライプ部分３３a)のみが含まれる。したがって、図６および図８の場合よりも上記コントラストは強い(つまり、曲線の振幅が最大となる)。
【００４７】
これに対して、図６(a)および図８(a)に示すように、上記対物レンズ１７によって形成されるチャート３２の検出面上でのスポットの径が最小でない場合には、スポットの中心位置がパターン３２aにおける黒のストライプ部分３３b(あるいは白のストライプ部分３３a)の中央に位置しても、そのスポット内に含まれる上記ラインペアは黒あるいは白の一方だけではなく、黒のストライプ部分３３bと白のストライプ部分３３aとを含むことになる。そのために、図７の場合に比して上記コントラストが低下する(つまり、曲線の振幅が最大とはならない)。
【００４８】
したがって、図６(b),図７(b)および図８(b)に示す検出器２７による検出反射光強度の曲線から、最適なスポット径、すなわち、対物レンズ１７からサンプル１６の検出面までの最適距離を、最も上記コントラストが高くなる(つまり、曲線の振幅が最大となる)距離として決定することができるのである。
【００４９】
その場合、上記サンプル台固定用ステージ３１を支持する支持体３４(図４(a)参照)に調整機構(図示せず)を設け、サンプル台固定用ステージ３１の高さを４箇所で調整できるようにしておく。そうすることによって、サンプル台固定用ステージ３１の四隅に設けられた個々のチャート３２からの反射光の強度変化を見ながら、サンプル台４の四隅の高さを独立に合わせることが可能になり、対物レンズ１７からサンプル１６の検出面までの距離のより正確な調整が可能になる。
【００５０】
以上のごとく、本実施の形態においては、上記サンプル台４の周囲を固定するサンプル台固定用ステージ３１の裏面(サンプル台４側の面)の四隅に、同一のチャート３２を配置している。そして、各チャート３２の表面には、図４(b),図４(c)に示すように、白で表記した反射率の高いストライプ部分３３aと黒で表記した反射率の低いストライプ部分３３bとで成るラインペアが、対物レンズ１７で形成される最小スポット径の２倍以下の周期で配列されたパターン３２aを形成している。
【００５１】
そして、図５に示すように、上記走査モジュール９によって、サンプル台固定用ステージ３１の四隅に配置されたチャート３２を走査することにより、対物レンズ１７によって形成される集光スポットの径に応じて、つまり対物レンズ１７からサンプル１６の検出面までの距離に応じて、図６〜図８に示すような、パターン３２aの反射率周期に対応して変化する反射光強度曲線が得られる。
【００５２】
そこで、上記サンプル台固定用ステージ３１の四隅に配置された４つのチャート３２の夫々について、図６(b),図７(b)および図８(b)に示す反射光強度曲線の振幅が最大となるように、対物レンズ１７からサンプル１６の検出面までの距離を設定することによって、二次元面内全域において検出面と対物レンズ１７の焦点面(つまり、二次元走査時に光源１８からの照射光の焦点が形成する面である焦点面)とを最適位置に合わせることができるのである。
【００５３】
また、上記サンプル台固定用ステージ３１を支持する支持体３４に上記調整機構を設けて、サンプル台固定用ステージ３１の四隅に設けられた４つのチャート３２夫々の反射光の強度分布を見ながら、サンプル台４の四隅の高さを独立に合わせるようにすれば、対物レンズ１７からサンプル１６の検出面までの距離のより正確な調整が可能になる。
【００５４】
また、上記チャート３２を、サンプル台固定用ステージ３１の凹部３１aとサンプル台４とで形成される空間内に収納して内蔵するようにしている。したがって、チャート３２の劣化や、ゴミ等の付着による反射率の低減を、抑制することが可能になる。
【００５５】
尚、本実施の形態においては、図６(b),図７(b)および図８(b)における反射光強度曲線の振幅のみならず、反射光強度の平均値や反射光強度曲線のピーク値の平均値等に基づいてチャート３２からの反射光の光量を検出することによって、光源１８の光量の調整や、経時変化による光源１８の消耗程度の判断を行うことができる。
【００５６】
・第２実施の形態
本実施の形態は、上記第１実施の形態とは異なるチャートに関する。ここで、上記チャート以外の構成は、上記第１実施の形態の場合と全く同様であるので、上記第１実施の形態の場合と同じ番号を用いる。
【００５７】
図９には、本実施の形態におけるチャート３５のパターンを示す。尚、本実施の形態においては、一つのチャート３５に異なる二つのパターン３５a,３５bを形成する。そのうち、パターン３５aは、上記第１実施の形態のチャート３２におけるパターン３２aと全く同じである。また、パターン３５bは、パターン３５aよりも白のストライプ部分と黒のストライプ部分との幅および間隔(配列周期)が大きくなっている。
【００５８】
図９の場合には、上記パターン３５bは、反射率が異なるストライプ部分の面積の比率が異なるようになっている。例えば、図９(a)において、パターン３５bでは反射率の低い部分(黒のストライプ部分)３６bは反射率の高い部分(白のストライプ部分)３６aよりも面積が狭く(つまり幅が狭く)設定されている。但し、個々の黒のストライプ部分３６bの幅は、最少スポット径よりも十分広く設定されている。
【００５９】
尚、上記白のストライプ部分３６aと黒のストライプ部分３６bとの面積(幅)の割合は、上述と反対であっても、同じであっても差し支えない。
【００６０】
上記構成を有するチャート３５のパターン３５bを走査モジュール９で走査した場合には、理想的には図１０(a)に示すような画像が得られる。
【００６１】
ところで、上述したように、上記走査モジュール９は、ガイドシャフト１３a,１３bによって案内されて、上記走査機構によって上記第２走査方向に往復動するようになっている。したがって、２本のガイドシャフト１３a,１３bに案内されて高速走査する走査モジュール９には、軸受(図示せず)のがた付きや、ガイドシャフト１３a,１３bの平行度および水平度の影響や、上記走査機構による牽引位置と走査モジュール９の重心位置とのずれ等に起因して、往路と復路とでｙ‐ｚ面(垂直面)内で回転による姿勢変化が生ずる。
【００６２】
このような、往路と復路とにおける上記走査モジュール９のｙ‐ｚ面(垂直面)内での回転による姿勢(チルト)変化は、対物レンズ１７から出射された励起光のスポットの上記第２走査方向への位置ずれ(走査位置のずれ)となって現れる。
【００６３】
このような上記スポットの上記第２走査方向への位置ずれは、チャート３５におけるパターン３５aの画像において、白黒のストライプの上記第２走査方向への規則的な位置ずれとして現れる。この位置ずれは、リニアスケールでの読取位置と上記励起光のスポット位置とが異なることに起因する。そこで、ＰＣ５によって、上記ストライプ画像の位置ずれ量を検出することにより、走査モジュール９の往復路での姿勢変化に起因するサンプル１６の蛍光画像の位置ずれを補正するのである。
【００６４】
ここで、上記パターン３５aにおける白のストライプ部分および黒のストライプ部分の幅は、上記第１実施の形態のパターン３２aと同様に上記励起光スポット径以下である。そのため、上記励起光のスポットの上記第２走査方向への位置ずれ量が、上記ストライプ部分の幅を超える場合が生ずる。その場合、１本の黒のストライプ部分における位置ずれの箇所が隣接する黒のストライプ部分の位置に掛かるため、パターン３５aの画像から上記位置ずれ量を検出するのが容易ではなくなる。
【００６５】
そこで、本実施の形態においては、図９(a)に示すように、反射率の高い白のストライプ部分３６aおよび反射率の低い黒のストライプ部分３６bの幅が、上記励起光の最小スポット幅よりも十分に広く設定された、パターン３５bを形成している。
【００６６】
こうすることによって、１０(a)に示すように、白の帯域３７と黒の帯域３８との幅が上記励起光のスポットの上記第２走査方向への位置ずれ量に比して十分に広いストライプ画像が得られる。したがって、走査モジュール９が上記第２走査方向に往復動する際に、上記励起光のスポットが上記第２走査方向へパターン３５aの上記ストライプ部分の幅を超えて位置ずれを起こしたとしても、検出器２７で検出されたデータからＰＣ５によって生成されるパターン３５bのストライプ画像は、図１０(b)に示すように１本の黒の帯域３８における位置ずれの箇所が隣接する黒の帯域３８の位置に掛かることがなく、上記位置ずれ量を容易に検出可能な画像となるのである。
【００６７】
また、上記白のストライプ部分３６aの面積(幅)が黒のストライプ部分３６bの面積(幅)よりも大きく設定されている。その結果、図１０(b)に示すように、白の帯域３７の方が黒の帯域３８よりも十分に広く、上記スポットの位置ずれに起因する黒の帯域３８の凹凸が明確に現れることになる。
【００６８】
したがって、上記ＰＣ５によって、図１０bに示すストライプ画像から上記励起光のスポットの上記第２走査方向への位置ずれ量を算出し、サンプル１６の蛍光画像を生成する際に、走査モジュール９の往路の画像あるいは復路の画像にオフセットを付与することによって、図１０(a)に示すような位置ずれのない蛍光画像を得ることができるのである。
【００６９】
以上のごとく、本実施の形態においては、上記サンプル台固定用ステージ３１の裏面の四隅に配置する各チャート３５に、パターン３５aとパターン３５bとの二つのパターンを形成する。ここで、パターン３５aは、反射率の高い白のストライプ部分の面積(幅)が反射率の低い黒のストライプ部分の面積(幅)に略等しく、且つ上記ラインペアの配列周期が対物レンズ１７で形成される最小スポット径の２倍以下のパターン(上記第１実施の形態のパターン３２aと全く同じパターン)である。また、パターン３５bは、両ストライプ部分３６a,３６bの幅および間隔(配列周期)が上記最小スポット径よりも十分に大きく、且つ白のストライプ部分３６aの面積(幅)が黒のストライプ部分３６bの面積(幅)よりも大きいパターンである。
【００７０】
そして、上記第１実施の形態の場合と同様に、上記走査モジュール９によって、サンプル台固定用ステージ３１の四隅に配置されたチャート３５のパターン３５aを走査することにより、得られる反射光強度の曲線の振幅が最大となるように、対物レンズ１７からサンプル１６の検出面までの距離を設定することができる。したがって、二次元面内全域において検出面と対物レンズ１７の焦点面(光源１８からの照射光の焦点面)とを最適位置に合わせることができる。
【００７１】
さらに、上記パターン３５bを走査することにより、ＰＣ５によって、検出器２７からの検出信号に基づいて、１０(b)に示すように、白の帯域３７と黒の帯域３８との幅が、走査モジュール９の上記第２走査方向への往復動に伴って生ずる上記励起光のスポットの上記第２走査方向への位置ずれの量に比して十分に広いストライプ画像を生成するようにしている。
【００７２】
したがって、上記走査モジュール９の上記第２走査方向への往路と復路とでの姿勢変化によって、白の帯域３７と黒の帯域３８とのストライプ画像において、白黒の帯域３７,３８の上記第２走査方向への規則的な位置ずれが生じた場合には、ＰＣ５によって、位置ずれが生じたストライプ画像から上記励起光のスポットの上記第２走査方向への位置ずれ量を算出する。そして、サンプル１６の蛍光画像を生成する際に、走査モジュール９の往路の画像あるいは復路の画像に、上記算出した位置ずれ量によって補正を行うことができる。したがって、位置ずれのない蛍光画像を得ることが可能になる。
【００７３】
このように、本実施の形態によれば、上記パターン３５aとパターン３５bとの二つのパターンが形成されたチャート３５を用いることによって、対物レンズ１７からの励起光のスポット径に基づくサンプル台固定用ステージ３１の高さ調整と、走査モジュール９のチルトに起因する往路と復路とでの上記ストライプ画像のずれに基づく蛍光画像のずれの補正とを行うことができるのである。
【００７４】
尚、本実施の形態においては、上記パターン３５bの両ストライプ部分３６a,３６bの幅および間隔(配列周期)を、上記最小スポット径よりも十分に大きく設定している。しかしながら、両ストライプ部分３６a,３６bの幅および間隔(配列周期)は上記最小スポット径よりも大きければ、差し支えない。
【００７５】
また、本実施の形態においては、一つのチャート３５に二つのパターン３５a,３５bを形成している。しかしながら、パターン３５bのみを形成しても、サンプル台固定用ステージ３１の高さ調整と、走査モジュール９における往復時のチルトに起因する蛍光画像のずれの補正とを行うことは可能である。但し、その場合は、サンプル台固定用ステージ３１の高さ調整の際に用いる反射光強度曲線の周期が著しく長くなると共に、波数も少なくなるために、曲線の振幅の計測が不正確になるので、あまり望ましくはない。
【００７６】
・第３実施の形態
本実施の形態は、上記第１実施の形態および上記第２実施の形態とは異なるチャートに関する。ここで、上記チャート以外の構成は、上記第１実施の形態の場合と全く同様であるので、上記第１実施の形態の場合と同じ番号を用いる。
【００７７】
図１１は、本実施の形態におけるサンプル台４の構成を示す。尚、図１１(a)は、上記第１実施の形態における図４と同様に、側壁を取り除いた状態の本体２を示す。尚、図１１(a)においても、走査ステージ６は省略している。
【００７８】
上記サンプル台４は、上記第１実施の形態の場合と同様のサンプル台固定用ステージ３１に取り付け固定されている。そして、サンプル台固定用ステージ３１における裏面(サンプル台４側の面)の四隅には、上記第１実施の形態の場合と同じ構成のチャート３２が配置されている。
【００７９】
したがって、上記走査モジュール９によって、サンプル台固定用ステージ３１の四隅に配置されたチャート３２のパターン３２a(図４参照)を走査することによって、得られる反射光強度の曲線の振幅が最大となるように、対物レンズ１７からサンプル１６の検出面までの距離を設定することができる。したがって、二次元面内全域において検出面と対物レンズ１７の焦点面(光源１８からの照射光の焦点面)とを最適位置に合わせることができる。
【００８０】
また、本実施の形態においては、上記サンプル台固定用ステージ３１の上記第２走査方向に延在する一辺における走査範囲内に、チャート４１が設けられている。このチャート４１には、反射率の低い黒ストライプ部分４２と反射率の高い白ストライプ部分４３とで成るラインペアが、上記第２実施の形態における図９(a)のパターン３５bと同様の幅と周期とで配列されたパターン４１aが形成されている。したがって、図１０に示すように、白の帯域と黒の帯域との幅が、走査モジュール９の上記第２走査方向への往復動に伴って生ずる上記励起光のスポットの上記第２走査方向への位置ずれの量に比して十分に広いストライプ画像を生成することができる。
【００８１】
したがって、上記走査モジュール９によってサンプル台固定用ステージ３１の上記一辺に設けられたチャート４１のパターン４１aを走査することによって、上記第２走査方向への走査モジュール９のチルトに起因する上記ストライプ画像のずれ量の上記第２走査方向への局所的な変動を検知することができる。
【００８２】
すなわち、本実施の形態によれば、上記蛍光画像の上記第２走査方向へのずれ量に位置による局所的な変動がある場合でも、上記検知した上記ストライプ画像のずれ量の局所的な変動に基づいて上記蛍光画像の上記第２走査方向への各箇所でのずれを正しく補正することができる。したがって、より精度の高い蛍光画像を得ることができるのである。
【００８３】
ここで、上記チャート４１も、上記チャート３２の場合と同様に、サンプル台固定用ステージ３１における上記一辺の裏面に形成された凹部(図示せず)中に収められている。
【００８４】
尚、上記各実施の形態においては、反射率が高いストライプ部分を「白」のストライプ部分３３a,３６a,４３で構成し、反射率が低いストライプ部分を「黒」のストライプ部分３３b,３６b,４２で構成している。しかしながら、この発明はこれに限定されるものでは無く、反射率の高低を、表面の物理的形状の変化や、反射率の異なる物質の貼り付けや、光吸収率の異なる樹脂の塗布等によって実現しても差し支えない。
【００８５】
また、上記各実施の形態においては、上記白のストライプ部分３３a,３６aと黒のストライプ部分３３b,３６bとの配列方向およびチャート４１の延在方向を、上記第２走査方向としている。しかしながら、上記第１走査方向であっても差し支えない。その場合、走査モジュール９が白のストライプ部分３３aと黒のストライプ部分３３bとを上記第１走査方向に走査することによって、図６〜図８と同様の反射光強度が得られる。したがって、この反射光強度曲線の振幅に基づいて、検出面と「対物レンズ１７の焦点面および光源１８からの照射光の焦点面」とを最適位置に合わせることができ。また、上記白のストライプ部分３６aと黒のストライプ部分３６bとを上記第１走査方向に走査することによって、図１０と同様のストライプ画像が得られる。したがって、走査モジュール９の上記第１走査方向への往路と復路とでの姿勢変化による上記励起光のスポットの上記第１走査方向への位置ずれ量を、ＰＣ５によって、上記ストライプ画像から算出することができる。
【００８６】
また、延在方向が上記第１走査方向であるチャート４１を上記第１走査方向に走査することによって、上記第１走査方向への走査モジュール９のチルトに起因する上記ストライプ画像のずれ量の上記第１走査方向への局所的な変動を検知することができる。
【００８７】
さらに、上記白のストライプ部分と黒のストライプ部分との配列方向が上記第１走査方向である第１チャートと上記配列方向が上記第２走査方向である第２チャートとを、夫々サンプル台固定用ステージ３１の四隅に配置しても差し支えない。同様に、走査モジュール９のチルトに起因する上記ストライプ画像のずれ量の局所的な変動を検知するためのチャートを、上記第１走査方向と上記第２走査方向との両方向に延在させて配置しても差し支えない。
【００８８】
また、上記各実施の形態においては、上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aが形成されたチャート３２,３５,４１を、パターン３２a,３５a,３５b,４１aの形成面がサンプル台４に対向するように、上記形成面をサンプル台４に密着させてサンプル台固定用ステージ３１に配置している。しかしながら、この発明はこれに限定されるものではなく、サンプル台４におけるサンプル１６のセット面に、パターン３２a,３５a,３５b,４１aを直接形成しても差し支えない。
【００８９】
また、上記各実施の形態においては、上記サンプル１６として蛍光物質によって標識された転写支持体をセットし、上記励起光の照射に起因してサンプル１６から発せられた蛍光を検出する場合を例示したが、この発明はこれに限定するものではない。例えば、輝尽性蛍光体によって標識された蓄積性蛍光体シートからの輝尽光を検出する場合等にも適用できる。また、上記蛍光以外に、反射・散乱光である場合も含まれる。すなわち、反射吸収物質で標識された生体由来物質が分布する転写支持体をサンプル１６とした場合には、上記励起光の照射に起因して、上記反射吸収物質で標識されたサンプル１６からは上記励起光と同じ波長の強い強度の光(反射・散乱光)が発せられる。
【００９０】
以上のごとく、この発明の画像情報読取装置は、
画像情報の読取対象物１６が載置される平面状のサンプルステージ４,３１と、
上記サンプルステージ４,３１に略平行な平面内において第１走査方向とこの第１走査方向に略直交する第２走査方向との二次元走査を行って、上記サンプルステージ４,３１に配置された上記読取対象物１６からの光を検出する走査モジュール９と、
上記サンプルステージ４,３１における上記二次元走査の領域内に互いに離間して複数配置されると共に、反射率が上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に周期的に変動するパターン３２a,３５a,３５b,４１aと、
上記走査モジュール９によって上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aを上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に走査した場合に検出される上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aからの光に基づいて、上記二次元走査の走査面と上記読取対象物１６の検出面との最適位置と、上記走査モジュール９における上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向への往復動時の傾きに起因する走査位置のずれ量との、少なくとも何れかを検出する検出部５,２７と
を備え、
上記走査モジュール９は、上記読取対象物１６および上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aに光を照射する光源１８と、上記光の照射に基づいて上記読取対象物１６および上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aから発せられた光を検出する対物レンズ１７を含む検出光学系とを含み、
上記検出部５,２７は、上記検出光学系によって検出された上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aからの光に基づいて上記最適位置および上記走査位置のずれ傾き量を検出する
ことを特徴としている。
【００９１】
上記構成によれば、上記検出部５,２７によって、上記走査モジュール９が上記サンプルステージ４,３１のパターン３２a,３５a,３５b,４１aを走査した場合の検出光に基づいて、上記走査モジュール９の二次元走査の走査面と上記読取対象物１６の検出面との最適位置と、上記走査モジュール９における上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向への往復動時の傾き量との、少なくとも何れかを検出するようにしている。したがって、上記走査モジュール９の上記検出光学系を複雑化,大型化および重量増加させることなく、二次元面内全域において「上記読取対象物１６の検出面」と「上記光源１８からの照射光の焦点面および上記対物レンズ１７の焦点面」とを最適位置に合わせて、画像斑を低減して高精細な読取画像を形成することができる。
【００９２】
さらに、上記読取対象物１６の画像を生成する際に、上記走査モジュール９の往路の画像あるいは復路の画像に、上記検出した上記走査モジュール９の傾き量に基づいて補正を行うことができる。したがって、位置ずれのない画像を得ることが可能になる。
【００９３】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aには上記最適位置検出用の第１パターン３２a,３５aと上記走査位置のずれ量検出用の第２パターン３５b,４１aとの２つのパターンが含まれ、上記サンプルステージ４,３１には、上記２つのパターンのうちの少なくとも何れかが配置されている。
【００９４】
この実施の形態によれば、上記最適位置検出用の第１パターン３２a,３５aと上記走査位置のずれ量検出用の第２パターン３５b,４１aとの２つのパターンを有している。したがって、上記第１パターン３２a,３５aを走査することによって、上記二次元走査の走査面(上記光源１８の照射光および上記対物レンズ１７の焦点面)と上記読取対象物の検出面との最適位置を検出ことができる。さらに、上記第２パターン３５b,４１aを走査することによって、上記走査モジュール９における上記第２走査方向への往復動時の傾きに起因する走査位置のずれ量を検出ことができる。
【００９５】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記第１パターン３２a,３５aは、
上記光源１８から照射される光が形成する最小スポット径以下の幅を有すると共に、第１反射率を有して、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第１ストライプ部分３３aと、
上記光源１８から照射される光が形成する最小スポット径以下の幅を有すると共に、上記第１反射率よりも低い第２反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第２ストライプ部分３３bと
を含み、
上記第１ストライプ部分３３aと上記第２ストライプ部分３３bとは、上記反射率の変動方向に交互に配列されている。
【００９６】
この実施の形態によれば、上記第１パターン３２a,３５aの第１ストライプ部分３３aと第２ストライプ部分３３bとは、上記光源１８から照射される光の最小スポット径以下の幅を有している。したがって、上記第１パターン３２a,３５aを上記走査モジュール９によって走査した場合に、上記検出部５,２７で検出される上記第１パターン３２a,３５aからの反射光強度の振幅は、上記光源１８から照射される光のスポット径が最小スポット径となる場合に最大幅となる。
【００９７】
すなわち、上記第１パターン３２a,３５aからの反射光強度の振幅が最大幅を呈するように、上記走査モジュール９の二次元走査の走査面と上記読取対象物１６の検出面との位置を設定することによって、上記位置を最適位置に設定することができる。
【００９８】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記第２パターン３５b,４１aは、
上記光源１８から照射される光が形成する最小スポット径よりも大きい幅を有すると共に、第１反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第１ストライプ部分３６a,４３と、
上記光源１８から照射される光が形成する最小スポット径よりも大きい幅を有すると共に、上記第１反射率よりも低い第２反射率を有し、上記反射率の変動方向と略直交する方向に延在する第２ストライプ部分３６b,４２と
を含み、
上記第１ストライプ部分３６a,４３と上記第２ストライプ部分３６b,４２とは、上記反射率の変動方向に交互に配列されている。
【００９９】
上記走査モジュール９には、上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に走査する場合に、往路と復路とで垂直面内での回転による姿勢変化が生ずる。そのために、リニアスケールでの読取位置と上記光のスポット位置とが異なることに起因して、上記第２パターン３５b,４１aの画像において上記走査方向への規則的な位置ずれが生ずる。
【０１００】
この実施の形態によれば、上記第２パターン３５b,４１aの第１ストライプ部分３６a,４３と第２ストライプ部分３６b,４２とは、上記光源１８から照射される光の最小スポット径より大きい幅を有している。したがって、上記第２パターン３５b,４１aを上記走査モジュール９によって走査した場合に得られる、上記第２パターン３５b,４１aのストライプ画像において、上記光のスポット位置のずれに起因して生ずる規則的な位置ずれの度合いが各帯域の幅を超えることがなく、上記位置ずれ量を容易に検出可能なストライプ画像を得ることができる。
【０１０１】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記第２パターン４１aは、上記サンプルステージ４,３１の上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向に延在する一辺に沿って上記二次元走査の領域内に配置されている。
【０１０２】
この実施の形態によれば、上記第２パターン４１aが、上記走査モジュール９による上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向への走査範囲の全域に亘って配置されている。したがって、上記走査モジュール９によって上記第２パターン４１aを走査することにより、上記走査モジュール９における上記第１走査方向あるいは上記第２走査方向への往復動時の傾きに起因する走査位置のずれ量の局所的な変動を検出ことができる。
【０１０３】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記検出部５,２７による上記二次元走査の走査面と上記読取対象物１６の検出面との最適位置の検出結果に基づいて、上記二次元走査の走査面に対する上記サンプルステージ４,３１の傾きを調整する調整機構を備えている。
【０１０４】
この実施の形態によれば、上記サンプルステージ４,３１に配置された複数のパターン３２a,３５a夫々の走査による上記二次元走査の走査面と上記読取対象物１６の検出面との最適位置の検出結果に基づいて、上記サンプルステージ４,３１の傾きを調整することができる。したげって、二次元面内全域において上記読取対象物１６の検出面と上記照射光および対物レンズ１７の焦点面とを最適位置に合わせて画像斑を低減し、高精細な読取画像を形成することができる。
【０１０５】
また、一実施の形態の画像情報読取装置では、
上記サンプルステージ４,３１は、上記読取対象物１６が載置される平面状の透明なサンプル台４と、一部が上記サンプル台の周囲上に積層されて上記サンプル台の周囲を固定するサンプル台固定用ステージ３１とを含み、
上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aは、上記サンプル台固定用ステージ３１における上記サンプル台４との積層箇所に、上記サンプル台４に対向させて形成されている。
【０１０６】
この実施の形態によれば、上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aは上記サンプル台固定用ステージ３１と上記サンプル台４との間に形成されている。したがって、上記パターン３２a,３５a,３５b,４１aの劣化や、ゴミ等の付着による反射率の低減を、抑制することが可能になる。
【符号の説明】
【０１０７】
１…画像情報読取装置、
４…サンプル台、
５…ＰＣ、
６…走査ステージ、
９…走査モジュール、
１６…サンプル、
１７…対物レンズ、
１８…光源、
２７…検出器、
３１…サンプル台固定用ステージ、
３２,３５,４１…チャート、
３２a,３５a,３５b,４１a…パターン、
３３a,３６a,４３…白のストライプ部分、
３３b,３６b,４２…黒のストライプ部分、
３４…支持体、
３７…白の帯域、
３８…黒の帯域。
【図１】
2014126452.tif 000003
【図２】
2014126452.tif 000004
【図３】
2014126452.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014126452.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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