(57)【要約】      （修正有）【課題】画素不良が減少された有機発光表示パネルが提供する。【解決手段】有機発光表示パネルＤＰは隣接する発光領域の間に互に異なる有機発光物質が混合されることを防止する隔壁を含む。前記隔壁は画素定義膜又は第１共通層の一面から突出された部分である。したがって、前記発光領域に各々配置された有機発光パターンから目的とするカラーの光が生成される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板と、
前記ベース基板上に配置された複数個の第１電極を含む第１電極層と、
前記複数個の第１電極を各々露出させる複数個の開口部及び一面上で突出された隔壁を具備する画素定義膜と、
前記複数個の第１電極及び前記画素定義膜をカバーする第１共通層と、
前記複数個の第１電極に各々重畳する複数個の有機発光パターンを含み、前記第１共通層上に配置された有機発光層と、
前記有機発光層上に配置された第２電極層と、を含む有機発光表示パネル。
【請求項２】
前記第１共通層は正孔注入層と正孔輸送層の中で少なくとも１つ以上を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光表示パネル。
【請求項３】
前記有機発光層と前記第２電極層との間に配置された第２共通層をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の有機発光表示パネル。
【請求項４】
前記第２共通層は電子注入層と電子輸送層の中で少なくとも１つ以上を含むことを特徴とする請求項３に記載の有機発光表示パネル。
【請求項５】
前記複数個の第１電極は行列形態に配列され、
前記隔壁は行方向に延長された第１部分と列方向に延長された第２部分を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光表示パネル。
【請求項６】
前記第１部分と前記第２部分は一体の形状を有することを特徴とする請求項５に記載の有機発光表示パネル。
【請求項７】
前記第１部分は平面上で前記複数個の第１電極の中で前記列方向に隣接する２つの第１電極の間に複数個が配置され、
前記第２部分は平面上で前記複数個の第１電極の中で前記行方向に隣接する２つの第１電極の間に複数個が配置されることを特徴とする請求項５に記載の有機発光表示パネル。
【請求項８】
ベース基板上に複数個の第１電極を含む第１電極層を形成する段階と、
前記複数個の第１電極を各々露出させる複数個の開口部及び一面上で突出された隔壁を含む画素定義膜を形成する段階と、
前記複数個の第１電極及び前記画素定義膜をカバーする第１共通層を形成する段階と、
前記複数個の開口部に対応する領域に液相の有機発光物質を提供して複数個の有機発光パターンを含む有機発光層を形成する段階と、
前記有機発光層上に第２電極層を形成する段階と、を含む有機発光表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記有機発光層を形成する段階と前記第２電極層を形成する段階との間に前記有機発光層をカバーする第２共通層を形成する段階をさらに含む請求項８に記載の有機発光表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記画素定義膜を形成する段階は、
前記ベース基板上に前記複数個の第１電極をカバーする基底膜を形成する段階と、
前記複数個の開口部に対応する透過領域、前記隔壁に対応する遮断領域、及び前記透過領域と前記遮断領域に隣接する半透過領域を含むマスクを使用して前記基底膜をパターニングする段階と、を含む請求項８に記載の有機発光表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記有機発光層を形成する段階で、
前記複数個の開口部に対応する領域の中で一部の領域と他の一部領域には互に異なる液相の有機発光物質が提供されることを特徴とする請求項８に記載の有機発光表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
ベース基板と、
前記ベース基板上に配置された複数個の第１電極を含む第１電極層と、
前記複数個の第１電極を露出させる複数個の開口部を具備する画素定義膜と、
前記画素定義膜に重畳する領域の一面上で突出された隔壁を含み、前記複数個の第１電極及び前記画素定義膜をカバーする第１共通層と、
前記複数個の第１電極に各々重畳する複数個の有機発光パターンを含み、前記第１共通層上に配置された有機発光層と、
前記有機発光層上に配置された第２電極層と、を含む有機発光表示パネル。
【請求項１３】
前記第１共通層は正孔注入層と正孔輸送層の中で少なくとも１つ以上を含むことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示パネル。
【請求項１４】
前記第１共通層は前記正孔注入層及び前記正孔注入層上に配置された正孔輸送層を含み、前記隔壁は前記正孔輸送層から突出されたことを特徴とする請求項１３に記載の有機発光表示パネル。
【請求項１５】
前記有機発光層と前記第２電極層との間に配置された第２共通層をさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の有機発光表示パネル。
【請求項１６】
前記第２共通層は電子注入層と電子輸送層の中で少なくとも１つ以上を含むことを特徴とする請求項１５に記載の有機発光表示パネル。
【請求項１７】
前記複数個の第１電極は行列形態に配列され、
前記隔壁は行方向に延長された第１部分と列方向に延長された第２部分を含むことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示パネル。
【請求項１８】
前記隔壁の前記第１部分と前記隔壁の前記第２部分は一体の形状を有することを特徴とする請求項１７に記載の有機発光表示パネル。
【請求項１９】
前記第１部分は平面上で前記複数個の第１電極の中で前記列方向に隣接する２つの第１電極の間に複数個が配置され、
前記第２部分は平面上で前記複数個の第１電極の中で前記行方向に隣接する２つの第１電極の間に複数個が配置されることを特徴とする請求項１７に記載の有機発光表示パネル。
【請求項２０】
ベース基板上に複数個の第１電極を含む第１電極層を形成する段階と、
前記複数個の第１電極を各々露出させる複数個の開口部を含む画素定義膜を形成する段階と、
前記画素定義膜に重畳する領域の一面上で突出された隔壁を含み、前記複数個の第１電極及び前記画素定義膜をカバーする第１共通層を形成する段階と、
前記複数個の開口部に対応する領域に液相の有機発光物質を提供して複数個の有機発光パターンを含む有機発光層を形成する段階と、
前記有機発光層上に第２電極層を形成する段階と、を含む有機発光表示パネルの製造方法。
【請求項２１】
前記有機発光層を形成する段階と前記第２電極層を形成する段階との間に前記有機発光層をカバーする第２共通層を形成する段階をさらに含む請求項２０に記載の有機発光表示パネルの製造方法。
【請求項２２】
前記第１共通層を形成する段階は、
前記ベース基板上に前記複数個の第１電極をカバーする基底膜を形成する段階と、
前記隔壁に対応する遮断領域、及び前記遮断領域に隣接する透過領域を含むマスクを使用して前記基底膜をパターニングする段階と、を含む請求項２０に記載の有機発光表示パネルの製造方法。
【請求項２３】
前記基底膜は正孔注入物質で構成された第１層及び前記第１層上に積層され、正孔注入物質で構成された第２層を含み、
前記隔壁は前記第２層の一部の領域が厚さ方向に一部除去されて形成されたことを特徴とする請求項２２に記載の有機発光表示パネルの製造方法。
【請求項２４】
前記有機発光層を形成する段階で、
前記複数個の開口部に対応する領域の中で一部の領域と他の一部領域には互に異なる液相の有機発光物質が提供されることを特徴とする請求項２０に記載の有機発光表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機発光表示パネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示装置は有機発光表示パネルとこれを制御する駆動部を含む。前記有機発光表示パネルは複数個の画素を含む。前記複数個の画素の各々は有機発光素子を具備する。前記有機発光素子は光を放出する有機発光パターン及び前記有機発光パターンへ駆動電圧を印加する電極を含む。また、前記有機発光パターンと前記電極との間に共通層が配置される。
【０００３】
前記複数個の画素の中で一部と他の一部は互に異なる物質で構成された有機発光パターンを含む。例えば、一部の有機発光パターンは赤色を発光するための物質を含み、他の一部の有機発光パターンは緑色を発光するための物質を含み、その他の一部の有機発光パターンは青色を発光するための物質を含む。その他の一部の有機発光パターンは白色を発光するための物質を包含することもあり得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１１−０１０５５３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は画素不良が減少された有機発光表示パネルと、前記有機発光表示パネルの製造方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、有機発光表示パネルはベース基板、第１電極層、画素定義膜、第１共通層、有機発光層、及び第２電極層を含む。前記第１電極層は前記ベース基板上に配置された複数個の第１電極を含む。前記画素定義膜は前記複数個の第１電極を各々露出させる複数個の開口部を含む。前記第１共通層は前記複数個の第１電極及び前記画素定義膜をカバーする。前記有機発光層は前記複数個の第１電極に各々重畳する複数個の有機発光パターンを含み、前記第１共通層上に配置される。前記第２電極層は前記有機発光層上に配置される。
【０００７】
前記画素定義膜と前記第１共通層の中でいずれか１つは一面から突出された隔壁を含んでもよい。前記隔壁は前記画素定義膜又は前記第１共通層と同一な物質で構成されてもよい。
【０００８】
前記複数個の第１電極は行列形態に配列され、前記隔壁は行方向に延長された第１部分と列方向に延長された第２部分を含んでもよい。前記第１部分と前記第２部分は一体の形状を有することができる。前記第１部分は平面上で前記複数個の第１電極の中で前記列方向に隣接する２つの電極の間に複数個が配置され得る。前記第２部分は平面上で前記複数個の第１電極の中で前記行方向に隣接する２つの電極の間に複数個が配置され得る。
【０００９】
前記第１共通層は前記正孔注入層及び前記正孔注入層上に配置された正孔輸送層を含んでもよい。前記隔壁は前記正孔輸送層から突出され得る。前記隔壁は前記正孔輸送層と同一な物質で構成されてもよい。
【００１０】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、有機発光表示パネルの製造方法はベース基板上に第１電極層を形成する段階と、前記複数個の第１電極を各々露出させる複数個の開口部を含む画素定義膜を形成する段階と、第１共通層を形成する段階と、複数個の有機発光パターンを含む有機発光層を形成する段階と、第２電極層を形成する段階と、を含む。
【００１１】
前記第１共通層は前記複数個の第１電極及び前記画素定義膜をカバーし、前記複数個の開口部に対応する領域に液相の有機発光物質を提供して前記複数個の有機発光パターンを形成すてもよい。
【００１２】
前記画素定義膜又は前記第１共通層は一面から突出された隔壁を含んでもよい。マスクを使用して前記隔壁を形成してもよい。
【００１３】
前記隔壁を含む前記画素定義膜を形成する段階は前記ベース基板上に前記複数個の第１電極をカバーする基底膜を形成する段階と、前記複数個の開口部に対応する透過領域、前記隔壁に対応する遮断領域、及び前記透過領域と前記遮断領域に隣接する半透過領域を含むマスクを使用して前記基底膜をパターニングする段階を含んでもよい。
【００１４】
前記隔壁を含む前記第１共通層を形成する段階は前記ベース基板上に前記複数個の第１電極をカバーする基底膜を形成する段階と、前記隔壁に対応する遮断領域、及び前記遮断領域に隣接する透過領域又は半透過領域を含むマスクを使用して前記基底膜をパターニングする段階を含んでもよい。
【００１５】
前記基底膜は正孔注入物質で構成された第１層及び前記第１層上に積層され、正孔注入物質で構成された第２層を包含することができる。前記隔壁は前記第２層の一部の領域が厚さ方向に一部除去されて形成されてもよい。
【００１６】
前記有機発光層を形成する段階と前記第２電極層を形成する段階との間に前記有機発光層をカバーする第２共通層を形成する段階をさらに包含できる。
【発明の効果】
【００１７】
以上説明したように本発明によれば、画素不良が減少された有機発光表示パネルと、前記有機発光表示パネルの製造方法とが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態による有機発光表示装置のブロック図である。
【図２】図１に図示された画素の等価回路図である。
【図３】本発明の一実施形態による表示パネルの平面図である。
【図４】図３のＩ−Ｉ’に対応する断面図である。
【図５Ａ】本発明の一実施形態による表示パネルの平面図である。
【図５Ｂ】本発明の一実施形態による表示パネルの平面図である。
【図５Ｃ】本発明の一実施形態による表示パネルの平面図である。
【図６Ａ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｂ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｃ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｄ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｅ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｆ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｇ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｈ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図７】本発明の一実施形態による表示パネルの平面図である。
【図８】図７のＩ−Ｉ’に対応する断面図である。
【図９】本発明の一実施形態による表示パネルの断面図である。
【図１０Ａ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図１０Ｂ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図１０Ｃ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図１０Ｄ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図１０Ｅ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図１０Ｆ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図１０Ｇ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図１０Ｈ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２０】
図面では様々な層及び領域を明確に表現するために一部構成要素のスケールを誇張するか、或いは縮小して示した。明細書の全体に掛けて類似な参照符号は類似な構成要素を称する。そして、いずれかの層が他の層の‘上に’形成される（配置される）ことは、２層が接している場合のみならず、２層の間に他の層が存在する場合も含む。また、図面でいずれかの層の一面が平らに図示されたが、必ず平らであることを要求しなく、積層工程で下部層の表面形状によって上部層の表面に段差が発生することもあり得る。また、以下で‘ライン’という用語は導電性物質からなされた信号配線を意味する。
【００２１】
図１は本発明の一実施形態による有機発光表示装置のブロック図であり、図２は図１に図示された画素の等価回路図である。
【００２２】
図１を参照すれば、本発明の実施形態による有機発光表示装置は有機発光表示パネル（ＤＰ、以下、表示パネル）、タイミング制御部１００、走査駆動部２００、及びデータ駆動部３００を含む。
【００２３】
前記表示パネルＤＰはベース基板（ＢＳ：図４参照）、前記ベース基板ＢＳ上に配置された複数個の走査ラインＳ１〜Ｓｎ、複数個のデータラインＤ１〜Ｄｍ、及び複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍを含む。複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍは、前記複数個の走査ラインＳ１〜Ｓｎとの中で対応する走査ラインと複数個のデータラインＤ１〜Ｄｍとの中で対応するデータラインに連結される。
【００２４】
複数個の走査ラインＳ１〜Ｓｎは前記ベース基板ＢＳの一面上で第１方向（Ｈ）に延長され、前記第１方向（Ｈ）と交差する第２方向（Ｖ）に配列される。前記複数個のデータラインＤ１〜Ｄｍは前記複数個の走査ラインＳ１〜Ｓｎと絶縁されるように交差する。前記複数個のデータラインＤ１〜Ｄｍは前記第２方向（Ｖ）に延長され、前記第１方向（Ｈ）に配列される。
【００２５】
前記表示パネルＤＰは外部から第１電源電圧ＥＬＶＤＤ及び第２電源電圧ＥＬＶＳＳを受信する。前記複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍの各々は対応する走査信号に応答してターンオンされる。前記複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍの各々は前記第１電源電圧ＥＬＶＤＤ及び前記第２電源電圧ＥＬＶＳＳを受信し、対応するデータ信号に応答して光を生成する。前記第１電源電圧ＥＬＶＤＤは前記第２電源電圧ＥＬＶＳＳより高いレベルの電圧である。
【００２６】
前記複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍの各々は少なくとも１つのトランジスター、少なくとも１つのキャパシター、及び有機発光素子を含む。図２には前記複数個の走査ラインＳ１〜Ｓｎの中でｉ番目走査ラインＳｉと複数個のデータラインＤ１〜Ｄｍの中でｊ番目のデータラインＤｊに連結された画素ＰＸｉｊの等価回路を例示的に図示した。
【００２７】
前記画素ＰＸｉｊは第１トランジスターＴＦＴ１、第２トランジスターＴＦＴ２、キャパシターＣａｐ、及び有機発光素子ＯＬＥＤｉｊを含む。前記第１トランジスターＴＦＴ１は前記ｉ番目走査ラインＳｉに連結された制御電極、前記ｊ番目データラインＤｊに連結された入力電極、及び出力電極を含む。前記第１トランジスターＴＦＴ１は前記ｉ番目走査ラインＳｉへ印加された走査信号に応答して前記ｊ番目データラインＤｊへ印加されたデータ信号を出力する。
【００２８】
前記キャパシターＣａｐは前記第１トランジスターＴＦＴ１に連結された第１電極及び前記第１電源電圧ＥＬＶＤＤを受信する第２電極を含む。前記キャパシターＣａｐは前記第１トランジスターＴＦＴ１から受信した前記データ信号に対応する電圧と前記第１電源電圧ＥＬＶＤＤの差異に対応する電荷量を充電する。
【００２９】
前記第２トランジスターＴＦＴ２は前記第１トランジスターＴＦＴ１の前記出力電極及び前記キャパシターＣａｐの前記第１電極に連結された制御電極、前記第１電源電圧ＥＬＶＤＤを受信する入力電極、及び出力電極を含む。前記第２トランジスターＴＦＴ２の前記出力電極は前記有機発光素子ＯＬＥＤｉｊに連結される。
【００３０】
前記第２トランジスターＴＦＴ２は前記キャパシターＣａｐに格納された電荷量に対応して前記有機発光素子ＯＬＥＤｉｊへ流れる駆動電流を制御する。前記キャパシターＣａｐに充電された電荷量にしたがって前記第２トランジスターＴＦＴ２のターンオン時間が決定される。実質的に前記第２トランジスターＴＦＴ２の前記出力電極は前記有機発光素子ＯＬＥＤｉｊへ前記第１電源電圧ＥＬＶＤＤより低いレベルの電圧を供給する。
【００３１】
前記有機発光素子ＯＬＥＤｉｊは前記第２トランジスターＴＦＴ２に連結された第１電極及び前記第２電源電圧ＥＬＶＳＳを受信する第２電極を含む。前記有機発光素子ＯＬＥＤｉｊは前記第１電極と前記第２電極の間に配置された第１共通層、有機発光パターン、及び第２共通層を包含することができる。前記有機発光素子ＯＬＥＤｉｊは前記第２トランジスターＴＦＴ２のターンオン区間の間に発光される。前記有機発光素子ＯＬＥＤｉｊで生成された光のカラーは前記有機発光パターンをなす物質によって決定される。例えば、前記有機発光素子ＯＬＥＤｉｊで生成された光のカラーは赤色、緑色、青色、白色の中でいずれか１つであり得る。
【００３２】
前記タイミング制御部１００は入力映像信号を受信し、前記表示パネルＤＰの動作モードに合うように変換された映像データＩＤＡＴＡと各種制御信号ＳＣＳ、ＤＣＳを出力する。
【００３３】
前記走査駆動部２００はタイミング制御部１００から走査駆動制御信号ＳＣＳを受信する。前記走査駆動制御信号ＳＣＳを受信する前記走査駆動部２００は複数個の走査信号を生成する。前記複数個の走査信号は前記複数個の走査ラインＳ１〜Ｓｎへ順次的に供給される。
【００３４】
前記データ駆動部３００は前記タイミング制御部１００からデータ駆動制御信号ＤＣＳ及び前記変換された映像データＩＤＡＴＡを受信する。前記データ駆動部３００は前記データ駆動制御信号ＤＣＳと前記変換された映像データＩＤＡＴＡに基づいて複数個のデータ信号を生成する。前記複数個のデータ信号は前記複数個のデータラインＤ１〜Ｄｍへ供給される。
【００３５】
図３は本発明の一実施形態による表示パネルの平面図であり、図４は図３のＩ−Ｉ’に対応する断面図である。図３は６つの開口部ＯＰ２２〜ＯＰ３４に対応する６つの発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４を例示的に図示した。図４はいずれか１つの発光領域ＰＸＡ２３の断面を例示的に図示した。
【００３６】
図３に示したように、前記表示パネルＤＰは複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４と前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４に隣接する非発光領域ＮＰＸＡとに区分される。前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４は前記非発光領域ＮＰＸＡによって囲まれる。前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４には前記複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍの有機発光素子の第１電極が各々配置される。
【００３７】
図４に示したように、前記ベース基板ＢＳの一面上に絶縁層ＩＮＬが配置される。具体的に図示せずが、前記絶縁層ＩＮＬは複数個の薄膜を包含することができる。前記複数個の薄膜は無機薄膜及び／又は有機薄膜を含む。前記ベース基板ＢＳの一面と前記絶縁層ＩＮＬとの間に薄膜トランジスターが形成され得る。前記薄膜トランジスターは前記第１トランジスター（ＴＦＴ１：図２参照）及び前記第２トランジスター（ＴＦＴ２：図２参照）であり得る。
【００３８】
前記絶縁層ＩＮＬ上に開口部ＯＰ２３を含む画素定義膜ＰＤＬが配置される。前記開口部ＯＰ２３は前記発光領域ＰＸＡ２３に対応する。前記絶縁層ＩＮＬ上に前記有機発光素子ＯＬＥＤ２３が配置される。前記有機発光素子ＯＬＥＤ２３は第１電極ＯＥ１、第１共通層ＦＬ１、有機発光パターンＥＭＰ、第２共通層ＦＬ２、第２電極ＯＥ２を含む。本実施形態で前記第１電極ＯＥ１は陽極として、前記第２電極ＯＥ２は陰極として説明される。
【００３９】
前記発光領域ＰＸＡ２３に対応するように前記第１電極ＯＥ１が配置される。前記第１電極ＯＥ１は前記第１電源電圧（ＥＬＶＤＤ：図１参照）を受信する。前記開口部ＯＰ２３は前記第１電極ＯＥ１の少なくとも一部分を露出させる。図示しないが、前記複数個の発光領域（ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４：図３参照）に配置された第１電極は表示パネル次元で第１電極層を構成する。
【００４０】
前記画素定義膜ＰＤＬは一面上で突出された隔壁ＰＤＬ−Ｗを具備する。前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは前記画素定義膜ＰＤＬと同一な物質で構成されることができる。前記画素定義膜ＰＤＬに重畳する前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは前記非発光領域ＮＰＸＡに配置される。
【００４１】
再び図３を参照すれば、前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは行方向（Ｈ）に延長された第１部分ＰＤＬ−Ｈと列方向（Ｖ）に延長された第２部分ＰＤＬ−Ｖを含む。前記第１部分ＰＤＬ−Ｈと前記第２部分ＰＤＬ−Ｖは各々複数個が提供され得る。前記複数個の第１部分ＰＤＬ−Ｈと前記複数個の第２部分ＰＤＬ−Ｖは一体の形状を有することができる。この時、平面上で前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４の各々は前記隔壁ＰＤＬ−Ｗによって囲まれる。
【００４２】
図４に示したように、前記第１電極ＯＥ１及び前記画素定義膜ＰＤＬ上に前記第１共通層ＦＬ１が配置される。図示しないが、前記複数個の発光領域（ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４：図３参照）及び前記非発光領域ＮＰＸＡには一体の形状の前記第１共通層ＦＬ１が配置される。
【００４３】
前記隔壁ＰＤＬ−Ｗによって転写された前記第１共通層ＦＬ１は前記非発光領域ＮＰＸＡで段差になった形状を有する。前記第１共通層ＦＬ１は正孔注入層を含む。前記正孔注入層は前記第１電極ＯＥ１に接触する。また、前記第１共通層ＦＬ１は前記正孔注入層上に配置された正孔輸送層をさらに包含できる。
【００４４】
前記発光領域ＰＸＡ２３に対応するように前記第１共通層ＦＬ１上に前記有機発光パターンＥＭＰが配置される。図示しないが、前記複数個の発光領域（ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４：図３参照）に配置された複数個の有機発光パターンは表示パネル次元で有機発光層を構成する。
【００４５】
前記有機発光パターンＥＭＰ及び前記第１共通層ＦＬ１上に前記第２共通層ＦＬ２が配置される。図示せずが、前記複数個の発光領域（ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４：図３参照）及び前記非発光領域ＮＰＸＡには一体の形状の前記第２共通層ＦＬ２が配置される。前記第２共通層ＦＬ２は電子注入層を含む。また、前記第２共通層ＦＬ２は前記有機発光パターンＥＭＰと前記電子注入層との間に配置された電子輸送層をさらに包含できる。一方、本発明の他の実施形態で、前記第２共通層ＦＬ２は省略され得る。
【００４６】
前記発光領域ＰＸＡ２３に対応するように前記第２共通層ＦＬ２上に前記第２電極ＯＥ２が配置される。図示しないが、前記複数個の発光領域（ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４：図３参照）に配置された複数個の第２電極は表示パネル次元で第２電極層を構成する。前記第２電極ＯＥ２は前記第２電源電圧（ＥＬＶＳＳ：図１参照）を受信する。
【００４７】
また、前記第２電極ＯＥ２上に保護層及び／又はカラーフィルター層が配置され得る。前記第２電極ＯＥ２上に前記ベース基板ＢＳと対向するその他のベース基板が配置され得る。前記その他のベース基板は前記複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍを保護する封止基板であり得る。
【００４８】
図５Ａ乃至図５Ｃは本発明の一実施形態による表示パネルの平面図である。
【００４９】
図５Ａに示したように、前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは複数個の第１部分ＰＤＬ−Ｈ１、ＰＤＬ−Ｈ２と複数個の第２部分ＰＤＬ−Ｖ１、ＰＤＬ−Ｖ２を包含することができる。
【００５０】
前記複数個の第１部分ＰＤＬ−Ｈ１、ＰＤＬ−Ｈ２は平面上で前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４の中で前記列方向（Ｖ）に隣接する２つの発光領域の間に配置され得る。また、前記複数個の第２部分ＰＤＬ−Ｖ１、ＰＤＬ−Ｖ２は平面上で前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４の中で前記行方向（Ｈ）に隣接する２つの発光領域の間に配置され得る。前記複数個の第１部分ＰＤＬ−Ｈ１、ＰＤＬ−Ｈ２と前記複数個の第２部分ＰＤＬ−Ｖ１、ＰＤＬ−Ｖ２は一体の形状を有することができる。
【００５１】
図５Ｂに示したように、前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは複数個の第１部分ＰＤＬ−Ｈ１、ＰＤＬ−Ｈ２と複数個の第２部分ＰＤＬ−Ｖ１、ＰＤＬ−Ｖ２を含む。前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは前記複数個の第１部分ＰＤＬ−Ｈ１、ＰＤＬ−Ｈ２を連結する第１ブリッジ部分ＰＤＬ−Ｂ１をさらに含む。また、前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは前記複数個の第２部分ＰＤＬ−Ｖ１、ＰＤＬ−Ｖ２を連結する第２ブリッジ部分ＰＤＬ−Ｂ２をさらに含む。
【００５２】
図５Ｃに示したように、前記第１部分ＰＤＬ−Ｈは互いに離隔されて配置された複数個の第１パターンＰＤＬ−ＨＰを包含することができる。前記第１部分ＰＤＬ−Ｈのように、前記第２部分ＰＤＬ−Ｖも互いに離隔されて配置された複数個の第２パターンＰＤＬ−ＶＰを包含することができる。平面上で前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４の各々は一部の前記第１パターンＰＤＬ−ＨＰと一部の前記第２パターンＰＤＬ−ＶＰによって囲まれる。
【００５３】
図６Ａ乃至図６Ｈは本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。図６Ａ乃至図６Ｈは図４に図示された発光領域ＰＸＡ２３に対応する断面を図示している。
【００５４】
図６Ａに示したように、ベース基板ＢＳ上に第１電極ＯＥ１を形成する。前記ベース基板ＢＳ上で前記第１電極ＯＥ１が配置された領域は発光領域ＰＸＡ２３として定義され、前記発光領域ＰＸＡ２３に隣接する領域は非発光領域ＮＰＸＡとして定義される。前記ベース基板ＢＳ上に配置された絶縁層ＩＮＬ上に前記第１電極ＯＥ１が配置され得る。
【００５５】
前記絶縁層ＩＮＬは順次的に積層された複数個の薄膜を包含することができる。また、前記第１電極ＯＥ１を形成される以前に前記ベース基板ＢＳの上には薄膜トランジスターが形成され得る。前記薄膜トランジスターは蒸着、露光、現像工程を通じて形成される。前記薄膜トランジスターの形成工程は当業者に明確であるので、詳細な説明は省略する。一方、前記絶縁層ＩＮＬに含まれた複数個の薄膜の中でいずれか１つは前記薄膜トランジスターの一部を構成することができる。
【００５６】
図６Ｂに示したように、前記絶縁層ＩＮＬ上に前記第１電極ＯＥ１をカバーする基底膜ＢＬ１０を形成する。前記基底膜ＢＬ１０をパターニングして開口部と隔壁が具備された画素定義膜を形成する。
【００５７】
図６Ｃに示したように、マスクＭＡ１０を使用する露光工程及び現像工程を経て前記基底膜ＢＬ１０をパターニングする。前記マスクＭＡ１０はスリットマスクや回折マスクとして、透過領域ＴＲ、遮断領域ＢＲ、及び前記透過領域ＴＲと前記遮断領域ＢＲに隣接する半透過領域ＨＲを含む。前記透過領域ＴＲは入射光を全て透過させ、前記遮断領域ＢＲは前記入射光を遮断させ、前記半透過領域ＨＲは前記入射光の一部を透過させる。図６Ｃの矢印は入射光を示す。
【００５８】
前記透過領域ＴＲは前記基底膜ＢＬ１０の開口部が形成される領域に対応するように配置され、前記遮断領域ＢＲは前記隔壁が形成される領域に対応するように配置され、前記半透過領域ＨＲは残りの領域に対応するように配置される。前記開口部が形成される領域は前記発光領域ＰＸＡ２３に対応し、前記隔壁が形成される領域と前記残りの領域は前記非発光領域ＮＰＸＡに対応する。
【００５９】
図６Ｄは前記露光工程の以後に現像された前記基底膜ＢＬ１０を図示した。前記基底膜ＢＬ１０から前記開口部ＯＰ２３と前記隔壁ＰＤＬ−Ｗを含む画素定義膜ＰＤＬが形成された。領域にしたがって、前記基底膜ＢＬ１０の除去された厚さが異なる。前記開口部ＯＰ２３は厚さの方向に前記基底膜ＢＬ１０が完全に除去された領域であり、前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは前記基底膜ＢＬ１０の除去されなかった領域であり、前記画素定義膜ＰＤＬの一面ＰＤＬ−ＵＳをなす部分は前記基底膜ＢＬ１０の一部が除去された領域である。
【００６０】
図６Ｅに示したように、前記画素定義膜ＰＤＬ上に第１共通層ＦＬ１を形成する。前記第１共通層ＦＬ１は正孔注入層を含む。また、前記第１共通層ＦＬ１は前記正孔注入層上に積層された正孔輸送層をさらに包含できる。
【００６１】
図６Ｆに示したように、前記第１共通層ＦＬ１上に液相の有機発光物質ＥＭを提供する。前記液相の前記有機発光物質ＥＭは前記画素定義膜ＰＤＬの前記開口部ＯＰ２３に対応する領域に提供される。前記液相の前記有機発光物質ＥＭはインクジェットプリンティング又はノズルプリンティング方式に提供され得る。
【００６２】
前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは前記有機発光物質ＥＭが基準量より若干多くに前記発光領域ＰＸＡ２３へ提供されても、隣接する発光領域（ＰＸＡ２２、ＰＸＡ２４：図３参照）に溢れることを防止する。前記基準量は前記開口部ＯＰ２３の面積又は有機発光パターンの面積等によって設定される。図５Ａ乃至図５Ｃに図示された隔壁ＰＤＬ−Ｗの機能もこれと同一である。一方、前記隣接する発光領域ＰＸＡ２２、ＰＸＡ２４は前記発光領域ＰＸＡ２３と異なる物質で構成された有機発光物質が提供される。
【００６３】
図６Ｇはソルベントが除去された前記有機発光物質ＥＭを図示する。前記ソルベントが除去された有機発光物質は有機発光パターンＥＭＰを形成する。
【００６４】
以後、前記第１共通層ＦＬ１上に前記有機発光パターンＥＭＰをカバーする第２共通層ＦＬ２を形成し、前記第２共通層ＦＬ２上に第２電極ＯＥ２を形成する。前記工程が完了されれば、図６Ｈに図示されたように、有機発光表示パネルが製造される。前記第２共通層ＦＬ２は電子注入層及び電子輸送層の中で少なくとも１つ以上を含む。また、前記第２共通層ＦＬ２は省略され得る。
【００６５】
図７は本発明の一実施形態による表示パネルの平面図である。図８は図７のＩ−Ｉ’に対応する断面図である。図１乃至図５Ｃを参照して説明した表示パネルと同一な構成に対する詳細な説明は省略する。
【００６６】
図７に示したように、表示パネルＤＰ１０は複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４と前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４に隣接する非発光領域ＮＰＸＡとに区分される。前記複数個の発光領域ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４は前記非発光領域ＮＰＸＡによって囲まれる。
【００６７】
図８に示したように、前記ベース基板ＢＳの一面上に絶縁層ＩＮＬが配置される。具体的に図示しないが、前記絶縁層ＩＮＬは複数個の薄膜を包含することができる。
【００６８】
前記絶縁層ＩＮＬ上に開口部ＯＰ２３を含む画素定義膜ＰＤＬが配置される。前記開口部ＯＰ２３は前記発光領域ＰＸＡ２３に対応する。前記絶縁層ＩＮＬ上に前記有機発光素子ＯＬＥＤ２３が配置される。
【００６９】
前記発光領域ＰＸＡ２３に対応するように前記第１電極ＯＥ１が配置される。前記第１電極ＯＥ１は前記第１電源電圧（ＥＬＶＤＤ：図１参照）を受信する。前記開口部ＯＰ２３は前記第１電極ＯＥ１の少なくとも一部分を露出させる。
【００７０】
前記第１電極ＯＥ１及び前記画素定義膜ＰＤＬ上に前記第１共通層ＦＬ１が配置される。前記第１共通層ＦＬ１は正孔注入層を含む。前記複数個の発光領域（ＰＸＡ２２〜ＰＸＡ３４：図７参照）には一体の形状の前記第１共通層ＦＬ１が配置される。のみでなく、前記第１共通層ＦＬ１は前記非発光領域ＮＰＸＡにも配置される。
【００７１】
前記第１共通層ＦＬ１は一面上で突出された隔壁ＦＬ１−Ｗを具備する。前記隔壁ＦＬ１−Ｗは前記第１共通層ＦＬ１と同一な物質で構成されることができる。前記隔壁ＦＬ１−Ｗは前記画素定義膜ＰＤＬに重畳する。即ち、隔壁ＦＬ１−Ｗは前記非発光領域ＮＰＸＡに配置される。
【００７２】
再び図７を参照すれば、前記隔壁ＦＬ１−Ｗは行方向（Ｈ）に延長された第１部分ＦＬ１−Ｈと列方向（Ｖ）に延長された第２部分ＦＬ１−Ｖを含む。その以外に前記隔壁ＦＬ１−Ｗは図５Ａ乃至図５Ｃに図示されたように形状を有することができる。
【００７３】
図８に示したように、前記発光領域ＰＸＡ２３に対応するように前記第１共通層ＦＬ１上に前記有機発光パターンＥＭＰが配置される。前記有機発光パターンＥＭＰ及び前記第１共通層ＦＬ１上に前記第２共通層ＦＬ２が配置される。一方、本発明の他の実施形態で、前記第２共通層ＦＬ２は省略され得る。
【００７４】
前記第２共通層ＦＬ２上に前記第２電極ＯＥ２が配置される。前記第２電極ＯＥ２は前記第２電源電圧（ＥＬＶＳＳ：図１参照）を受信する。
【００７５】
図９は本発明の一実施形態による表示パネルの断面図である。図７及び図８を参照して説明した表示パネルと同一な構成に対する詳細な説明は省略する。
【００７６】
前記第１共通層ＦＬ１は前記第１電極ＯＥ１と前記画素定義膜ＰＤＬ上に配置された正孔注入層ＨＩＬ及び前記正孔注入層ＨＩＬ上に配置された正孔輸送層ＨＴＬを含む。前記正孔輸送層ＨＴＬは一面から突出された隔壁ＨＴＬ−Ｗを含む。前記隔壁ＨＴＬ−Ｗは前記正孔輸送層ＨＴＬと同一な物質で構成される。前記隔壁ＨＴＬ−Ｗによって転写された前記第２共通層ＦＬ２は前記非発光領域ＮＰＸＡで段差になった形状を有することができる。
【００７７】
図１０Ａ乃至図１０Ｈは本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。図６Ａ乃至図６Ｈを参照して説明した表示パネルの製造方法と同一な構成に対する詳細な説明は省略する。
【００７８】
図１０Ａに示したように、ベース基板ＢＳ上に第１電極ＯＥ１を形成する。前記ベース基板ＢＳ上で前記第１電極ＯＥ１が配置された領域は発光領域ＰＸＡ２３として定義され、前記発光領域に隣接する領域は非発光領域ＮＰＸＡとして定義される。前記ベース基板ＢＳ上に配置された絶縁層ＩＮＬ上に前記第１電極ＯＥ１が形成され得る。
【００７９】
図１０Ｂに示したように、前記絶縁層ＩＮＬ上に開口部ＯＰ２３が具備された画素定義膜ＰＤＬを形成する。マスク（図示せず）を使用する露光工程、及び現像工程を経て基底膜から前記画素定義膜ＰＤＬを形成する。前記マスクはスリットマスクや回折マスクとして、透過領域及び遮断領域を含む。前記マスクの透過領域に対応して前記開口部ＯＰ２３が形成され、前記マスクの遮断領域に対応して前記開口部ＯＰ２３以外の領域が形成される。
【００８０】
図１０Ｃに示したように、前記絶縁層ＩＮＬ上に前記画素定義膜ＰＤＬ及び前記第１電極ＯＥ１をカバーする基底膜ＦＬ０を形成する。前記基底膜は正孔注入物質で構成され第１厚さを有する。前記基底膜ＦＬ０は正孔注入物質で構成された第１層と前記第１層上に積層され、正孔輸送物質で構成された第２層を包含することができる。
【００８１】
露光及び現像工程を通じて前記基底膜ＦＬ０をパターニングする。図１０Ｄに示したように、透過領域ＴＲ及び遮断領域ＢＲを含むマスクＭＡ２０を使用する前記基底膜ＦＬ０を露光する。前記遮断領域ＢＲは前記隔壁が形成される領域に対応するように配置され、前記透過領域ＴＲは残りの領域に対応するように配置される。
【００８２】
図１０Ｅは前記露光工程の以後に現像された前記基底膜ＦＬ０を図示した。前記基底膜ＦＬ０から前記隔壁ＦＬ１−Ｗを含む第１共通層ＦＬ１が形成された。領域にしたがって前記基底膜ＢＬ１０の除去された厚さが異なる。前記隔壁ＦＬ１−Ｗは前記基底膜ＢＬ１０の除去されなかった領域に前記第１厚さを有する。前記第１共通層ＦＬ１の一面ＦＬ１−ＵＳをなす部分は前記基底膜ＦＬ０の一部が除去された領域に前記第１厚さより小さい第２厚さを有する。
【００８３】
図１０Ｆに示したように、前記第１共通層ＦＬ１上に液相の有機発光物質ＥＭを提供する。前記液相の前記有機発光物質ＥＭは前記画素定義膜ＰＤＬの前記開口部ＯＰ２３に対応する領域に提供される。前記液相の前記有機発光物質ＥＭはインクジェットプリンティング又はノズルプリンティング方式に提供され得る。
【００８４】
前記隔壁ＰＤＬ−Ｗは前記発光領域ＰＸＡ２３へ提供された前記有機発光物質ＥＭが隣接する発光領域（ＰＸＡ２２、ＰＸＡ２４：図７参照）に溢れることを防止する。
【００８５】
図１０Ｇはソルベントが除去された前記有機発光物質ＥＭを図示する。前記ソルベントが除去された有機発光物質は有機発光パターンＥＭＰを形成する。
【００８６】
以後、前記第１共通層ＦＬ１上に前記有機発光パターンＥＭＰをカバーする第２共通層ＦＬ２を形成し、前記第２共通層ＦＬ２上に第２電極ＯＥ２を形成する。前記工程が完了されれば、図１０Ｈに図示されたように、有機発光表示パネルが製造される。前記第２共通層ＦＬ２は電子注入層及び電子輸送層の中で少なくとも１つ以上を含む。また、前記第２共通層ＦＬ２は省略され得る。
【００８７】
以上説明したように、本発明の一実施形態による有機発光表示パネルは、隣接する発光領域の間に互に異なる有機発光物質が混合されることを防止する隔壁を含む。したがって、前記発光領域に各々配置された有機発光パターンから目的とするカラーの光が生成される。
【００８８】
また、本発明の一実施形態による有機発光表示パネルの製造方法は液相の有機発光物質を前記複数個の開口部に対応する領域へ提供する。前記隔壁はいずれか１つの開口部上に配置された有機発光物質と前記いずれか１つの開口部に隣接する他の開口部上に配置された有機発光物質が混合されることを防止する。
【００８９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００９０】
したがって、本発明の技術的範囲は明細書の詳細な説明に記載された内容に限定されることではなく、特許請求の範囲によって定まれなければならない
【符号の説明】
【００９１】
１００・・・タイミング制御部
２００・・・走査駆動部
３００・・・データ駆動部
ＤＰ・・・表示パネル
ＯＬＥＤ・・・有機発光素子
ＥＬＶＤＤ・・・第１電源電圧
ＥＬＶＳＳ・・・第２電源電圧   
Ｖｒｅｆ・・・基準電圧
【図１】
2014063719.tif 000003
【図２】
2014063719.tif 000004
【図３】
2014063719.tif 000005
【図４】
2014063719.tif 000006
【図５Ａ】
2014063719.tif 000007
【図５Ｂ】
2014063719.tif 000008
【図５Ｃ】
2014063719.tif 000009
【図６Ａ】
2014063719.tif 000010
【図６Ｂ】
2014063719.tif 000011
【図６Ｃ】
2014063719.tif 000012
【図６Ｄ】
2014063719.tif 000013
【図６Ｅ】
2014063719.tif 000014
【図６Ｆ】
2014063719.tif 000015
【図６Ｇ】
2014063719.tif 000016
【図６Ｈ】
2014063719.tif 000017
【図７】
2014063719.tif 000018
【図８】
2014063719.tif 000019
【図９】
2014063719.tif 000020
【図１０Ａ】
2014063719.tif 000021
【図１０Ｂ】
2014063719.tif 000022
【図１０Ｃ】
2014063719.tif 000023
【図１０Ｄ】
2014063719.tif 000024
【図１０Ｅ】
2014063719.tif 000025
【図１０Ｆ】
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【図１０Ｇ】
2014063719.tif 000027
【図１０Ｈ】
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