(57)【要約】【課題】半導体製造ルーム内の汚染源の位置を迅速に特定可能な清浄度測定用台車および清浄度測定システムを提供する。【解決手段】一の実施形態によれば、清浄度測定用台車は、半導体製造ルーム内の清浄度を測定する清浄度測定装置を備える。さらに、前記台車は、前記清浄度測定装置を保持する保持部を備える。さらに、前記台車は、前記清浄度測定装置を、ウェハ搬送容器を搬送するための搬送レーンに沿って搬送する搬送部を備える。【選択図】図１
2014157975.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造ルーム内の清浄度を測定する清浄度測定装置と、
前記清浄度測定装置を保持する保持部と、
前記清浄度測定装置を、ウェハ搬送容器を搬送するための搬送レーンに沿って搬送する搬送部と、
前記清浄度測定装置を前記搬送レーンに対し昇降させる昇降部と、
前記清浄度測定装置により測定された前記清浄度の測定データと、前記清浄度測定装置により前記清浄度が測定された測定位置を特定するための位置情報とを送信する通信部とを備え、
前記半導体製造ルームは、前記半導体製造ルーム内の複数の測定位置で清浄度を測定する清浄度モニタを備え、
前記搬送部は、前記清浄度モニタにより測定された前記清浄度の測定データと、前記清浄度モニタにより前記清浄度が測定された測定位置を特定するための位置情報とに基づいて、前記清浄度測定装置の搬送位置を決定し、
前記搬送部は、前記清浄度測定装置により測定された前記清浄度に基づいて、前記清浄度測定装置の搬送速度を調整し、
前記保持部は、前記清浄度測定装置が収容されたウェハ搬送容器を保持し、前記搬送部は、前記ウェハ搬送容器を前記搬送レーンに沿って搬送する、
清浄度測定用台車。
【請求項２】
半導体製造ルーム内の清浄度を測定する清浄度測定装置と、
前記清浄度測定装置を保持する保持部と、
前記清浄度測定装置を、ウェハ搬送容器を搬送するための搬送レーンに沿って搬送する搬送部と、
を備える清浄度測定用台車。
【請求項３】
前記搬送部は、前記清浄度測定装置により測定された前記清浄度に基づいて、前記清浄度測定装置の搬送速度を調整する、請求項２に記載の清浄度測定用台車。
【請求項４】
さらに、前記清浄度測定装置を前記搬送レーンに対し昇降させる昇降部を備える、請求項２または３に記載の清浄度測定用台車。
【請求項５】
さらに、前記清浄度測定装置により測定された前記清浄度の測定データと、前記清浄度測定装置により前記清浄度が測定された測定位置を特定するための位置情報とを送信する通信部を備える、請求項２から４のいずれか１項に記載の清浄度測定用台車。
【請求項６】
前記半導体製造ルームは、前記半導体製造ルーム内の複数の測定位置で清浄度を測定する清浄度モニタを備え、
前記搬送部は、前記清浄度モニタにより測定された前記清浄度の測定データと、前記清浄度モニタにより前記清浄度が測定された測定位置を特定するための位置情報とに基づいて、前記清浄度測定装置の搬送位置を決定する、
請求項２から５のいずれか１項に記載の清浄度測定用台車。
【請求項７】
前記保持部は、前記清浄度測定装置が収容されたウェハ搬送容器を保持し、前記搬送部は、前記ウェハ搬送容器を前記搬送レーンに沿って搬送する、請求項２から６のいずれか１項に記載の清浄度測定用台車。
【請求項８】
半導体製造ルーム内に設置された搬送レーンと、
前記搬送レーンに沿って走行し、ウェハ搬送容器を搬送するウェハ搬送台車と、
前記搬送レーンに沿って走行する清浄度測定用台車とを備え、
前記清浄度測定用台車は、
前記半導体製造ルーム内の清浄度を測定する清浄度測定装置と、
前記清浄度測定装置を保持する保持部と、
前記清浄度測定装置を前記搬送レーンに沿って搬送する搬送部と、
を備える清浄度測定システム。
【請求項９】
前記清浄度測定用台車は、前記清浄度測定装置が収容されたウェハ搬送容器を前記保持部により保持し、前記ウェハ搬送容器を前記搬送部により搬送する、請求項８に記載の清浄度測定システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、清浄度測定用台車および清浄度測定システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の半導体製造クリーンルームは、パーティクルカウンタに接続された複数のチューブスタンドを一定距離ごとに備えており、パーティクルカウンタとチューブスタンドとを備えるシステムが、定点モニタとしてパーティクル（汚染粒子）を測定している。しかしながら、定点モニタのチューブスタンドの位置は固定されているため、パーティクル発生源の詳細な位置を定点モニタにより特定することは困難である。パーティクルカウンタは可搬式のものもあるが、人が測定位置までカウンタを運ぶ必要があるため、可搬式カウンタはパーティクルをタイムリーに測定することができない。そのため、従来の定点モニタは、パーティクル発生源の位置を迅速に特定できないという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−６４４０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
半導体製造ルーム内の汚染源の位置を迅速に特定可能な清浄度測定用台車および清浄度測定システムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一の実施形態によれば、清浄度測定用台車は、半導体製造ルーム内の清浄度を測定する清浄度測定装置を備える。さらに、前記台車は、前記清浄度測定装置を保持する保持部を備える。さらに、前記台車は、前記清浄度測定装置を、ウェハ搬送容器を搬送するための搬送レーンに沿って搬送する搬送部を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】第１実施形態の清浄度測定システムの構成を示す概略図である。
【図２】第２実施形態の清浄度測定システムの構成を示す概略図である。
【図３】第３実施形態の清浄度測定方法を説明するための概略図である。
【図４】第３実施形態の清浄度測定方法の応用例を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
【０００８】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態の清浄度測定システムの構成を示す概略図である。図１の清浄度測定システムは、半導体製造クリーンルーム内に設置されている。図１は、半導体製造クリーンルームを横方向から見た図である。
【０００９】
図１の清浄度測定システムは、半導体製造装置１と、定点モニタ２と、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）搬送レーン３と、ＦＯＵＰ搬送台車４と、清浄度測定用台車５とを備えている。
【００１０】
半導体製造装置１は、半導体ウェハ上に半導体デバイスを製造するための装置である。半導体製造装置１は例えば、ＥＦＥＭ（Equipment Front End Module）である。半導体製造装置１は、装置本体１ａと、ＦＯＵＰロードポート１ｂとを備えている。
【００１１】
定点モニタ２は、半導体製造クリーンルーム内の複数の測定位置で清浄度を測定する装置である。定点モニタ２は、本開示の清浄度モニタの例である。定点モニタ２は、パーティクルカウンタ２ａと、パーティクルカウンタ２ａに接続された複数のチューブ２ｂと、個々のチューブ２ｂの先端に取り付けられた複数のスタンド２ｃとを備えている。
【００１２】
スタンド２ｃは、半導体製造クリーンルーム内で一定距離ごとに設置されている。図１は、半導体製造クリーンルーム内の測定エリアＡ1〜Ａ4の各々に、１台のスタンド２ｃが設置されている様子を示している。
【００１３】
パーティクルカウンタ２ａは、上記の清浄度として、スタンド２ｃの設置位置におけるパーティクルの量（例えば、パーティクルの個数や濃度）を測定する。パーティクルカウンタ２ａは例えば、測定エリアＡ1内のスタンド２ｃを利用して、測定エリアＡ1内のスタンド２ｃ付近におけるパーティクルの個数や濃度を測定する。
【００１４】
ＦＯＵＰ搬送レーン３は、ＦＯＵＰを搬送するための搬送レーンである。ＦＯＵＰは、半導体ウェハを搬送するための搬送容器であり、本開示のウェハ搬送容器の例である。本実施形態のＦＯＵＰ搬送レーン３は、ＦＯＵＰ搬送台車４の走行用として使用されるだけでなく、清浄度測定用台車５の走行用にも使用される。本実施形態のＦＯＵＰ搬送レーン３は、天井走行式であるが、その他の方式（例えば、床走行式）でもよい。
【００１５】
ＦＯＵＰ搬送台車４は、ＦＯＵＰ１５を自動搬送するための台車である。ＦＯＵＰ搬送台車４は、搬送部１１と、昇降機構１２と、昇降ベルト１３と、ＦＯＵＰ保持部１４とを備えている。また、ＦＯＵＰ１５は、ＦＯＵＰ本体１５ａと、ドア１５ｂと、フランジ１５ｃとを備えている。
【００１６】
搬送部１１は、ＦＯＵＰ搬送レーン３と係合しており、ＦＯＵＰ搬送レーン３に沿ってＦＯＵＰ１５を搬送する。昇降機構１２は、昇降ベルト１３の伸縮により、ＦＯＵＰ１５をＦＯＵＰ搬送レーン３に対し昇降させる。ＦＯＵＰ保持部１４は、フランジ１５ｃを把持することにより、ＦＯＵＰ１５を保持する。ＦＯＵＰ１５のドア１５ｂは、ＦＯＵＰ本体１５ａに対し半導体ウェハを出し入れする際に開閉される。
【００１７】
清浄度測定用台車５は、清浄度測定装置２５を自動搬送するための台車である。清浄度測定用台車５は、搬送部２１と、昇降機構２２と、昇降ベルト２３と、保持部２４とを備えている。また、清浄度測定装置２５は、装置本体２５ａと、装置本体２５ａに接続されたチューブ２５ｂと、チューブ２５ｂの先端に取り付けられた吸引口２５ｃと、装置本体２５ａに設けられた通信部２５ｄとを備えている。
【００１８】
搬送部２１は、ＦＯＵＰ搬送レーン３と係合しており、ＦＯＵＰ搬送レーン３に沿って清浄度測定装置２５を搬送する。昇降機構２２は、昇降ベルト２３の伸縮により、清浄度測定装置２５をＦＯＵＰ搬送レーン３に対し昇降させる。昇降機構２２と昇降ベルト２３は、本開示の昇降部の例である。保持部２４は、清浄度測定装置２５を収容することにより、清浄度測定装置２５を保持する。
【００１９】
なお、保持部２４は、清浄度測定装置２５を出し入れするためのドアを備えていてもよい。また、保持部２４は、清浄度測定装置２５を収容することで保持する代わりに、例えば、清浄度測定装置２５のフランジを把持することで清浄度測定装置２５を保持してもよい。また、保持部２４は、清浄度測定装置２５を着脱可能なように保持してもよいし、清浄度測定装置２５を着脱不能なように保持してもよい。
【００２０】
清浄度測定装置２５は、半導体製造クリーンルーム内の清浄度を測定する装置である。本実施形態の清浄度測定用台車５は、清浄度測定装置２５を移動させながら、清浄度測定装置２５により清浄度を測定する。これにより、本実施形態の清浄度測定用台車５は、半導体製造クリーンルーム内の汚染源の位置を自動的に特定することができる。
【００２１】
清浄度測定装置２５の電源は、例えばバッテリである。バッテリの充電は、清浄度測定装置２５が清浄度測定を休止している間に行われる。
【００２２】
清浄度測定装置２５の装置本体２５ａは、例えばパーティクルカウンタである。この場合、装置本体２５ａは、上記の清浄度として、吸引口２５ｃから吸引されたパーティクルの量（例えば、パーティクルの個数や濃度）を測定する。上記のパーティクルカウンタは例えば、レーザ光学式カウンタまたは凝縮粒子カウンタである。
【００２３】
チューブ２５ｂは、保持部２４に設けられた穴を通過しており、吸引口２５ｃは、保持部２４の外部に配置されている。本実施形態の清浄度測定用台車５は、昇降ベルト２３を伸縮させることにより、吸引口２５ｃの高さを変化させ、パーティクルの測定位置を高さ方向に調整することができる。
【００２４】
通信部２５ｄは、清浄度測定装置２５とその他の装置との間の通信用に使用される。本実施形態の通信部２５ｄは、装置本体２５ａの内部に設けられているが、装置本体２５ａの外部に設けられていてもよい。
【００２５】
（第１実施形態の清浄度測定システムの動作）
次に、引き続き図１を参照し、第１実施形態の清浄度測定システムの動作について詳細に説明する。
【００２６】
定点モニタ２は、半導体製造クリーンルーム内の清浄度を測定すると、定点モニタ２により測定された清浄度の測定データと、この清浄度が測定された測定位置を特定するための位置情報を、清浄度搬送用台車５に送信する。
【００２７】
測定データは例えば、測定されたパーティクルの個数や濃度である。測定データは例えば、パーティクル濃度の値でもよいし、パーティクル濃度を複数段階の指標に変換したもの（例えば、「低濃度」「中濃度」「高濃度」の３段階の指標）でもよい。
【００２８】
位置情報は例えば、清浄度測定に利用したスタンド２ｃの位置を示す情報や、清浄度が測定された測定エリアＡ1〜Ａ4の位置を示す情報である。位置情報は、清浄度が測定された測定位置を特定可能な情報であれば、これらの例以外の情報でもよい。
【００２９】
定点モニタ２は、測定データと位置情報を、清浄度測定装置２５の通信部２５ｄに送信してもよいし、清浄度測定用台車５の制御部（図示せず）に設けられた通信部に送信してもよい。清浄度測定用台車５の制御部は、例えば搬送部２１内に設けられており、搬送部２１の搬送動作や、昇降機能２２および昇降ベルト２３の昇降動作などを制御する。
【００３０】
清浄度測定用台車５は、定点モニタ２から測定データと位置情報を受信すると、これらの測定データと位置情報に基づいて、清浄度測定装置２５の搬送位置を決定する。清浄度測定用台車５は例えば、これらの測定データ、位置情報と連動して、定点モニタ２により測定されたパーティクル個数が多い場所に移動する。そして、清浄度測定用台車５は、この場所周辺を走行しながら、清浄度測定装置２５によりパーティクル濃度を測定する。
【００３１】
よって、本実施形態の清浄度測定システムは、定点モニタ２によりパーティクル発生源の位置を大まかに特定した後、清浄度測定用台車５によりパーティクル発生源の位置を細かく特定することができる。
【００３２】
また、本実施形態の清浄度測定用台車５は、清浄度測定装置２５により測定された清浄度に基づいて、清浄度測定装置２５の搬送速度を調整する。例えば、清浄度測定用台車５は、測定中のパーティクル濃度が低い場合には搬送速度を速くし、測定中のパーティクル濃度が高い場合には搬送速度を低くする。
【００３３】
本実施形態の清浄度測定用台車５は、このような速度制御を行うことにより、パーティクル濃度が高い場所を重点的に調査し、パーティクル発生源の詳細な位置を迅速に特定することができる。
【００３４】
なお、清浄度測定用台車５は、搬送速度を「低速」「高速」の２段階に設定してもよいし、搬送速度を３段階以上に設定してもよい。
【００３５】
また、清浄度測定用台車５は、ＦＯＵＰ搬送台車４との接触を避けるために、ＦＯＵＰ搬送台車４と清浄度測定用台車５との間に一定距離以上の間隔を空けて移動することが望ましい。
【００３６】
清浄度測定装置２５は、半導体製造クリーンルーム内の清浄度を測定した場合、必要に応じて、清浄度測定装置２５により測定された清浄度の測定データと、この清浄度が測定された測定位置を特定するための位置情報を、通信部２５ｄから送信する。
【００３７】
測定データは例えば、測定されたパーティクルの個数や濃度である。測定データは例えば、パーティクル濃度の値でもよいし、パーティクル濃度を複数段階の指標に変換したものでもよい。
【００３８】
位置情報は例えば、清浄度が測定された際の清浄度測定用台車５の位置や清浄度測定装置２５の高さを示す情報である。位置情報は、清浄度が測定された測定位置を特定可能な情報であれば、この例以外の情報でもよい。
【００３９】
本実施形態の清浄度測定装置２５は、例えば、パーティクル濃度の高い場所を特定した場合、その場所の位置情報と測定データを通信部２５ｄから送信する。これらの位置情報と測定データは例えば、半導体製造クリーンルームまたは清浄度測定システムの管理者のＰＣ（Personal Computer）に送信される。その結果、管理者は、半導体製造プロセスを停止して汚染源を取り除くなどの対策をとることができる。
【００４０】
以上のように、本実施形態の清浄度測定システムは、清浄度測定用台車５により搬送される清浄度測定装置２５により、半導体製造クリーンルーム内の清浄度を測定する。
【００４１】
よって、本実施形態の清浄度測定システムは、固定式の清浄度測定装置により清浄度が測定される場合や、人が運搬する可搬式の清浄度測定装置により清浄度が測定される場合とは異なり、清浄度測定装置２５を測定位置に自動搬送することが可能である。
【００４２】
よって、本実施形態によれば、半導体製造クリーンルーム内の汚染源の位置を迅速に特定することが可能となる。その結果、本実施形態によれば、半導体ウェハへのパーティクル付着による欠陥を低減することが可能となる。
【００４３】
（第２実施形態）
図２は、第２実施形態の清浄度測定システムの構成を示す概略図である。
【００４４】
図１のＦＯＵＰ搬送レーン３は、天井走行式である。これに対し、図２のＦＯＵＰ搬送レーン３は、床走行式である。なお、図２は、作図の便宜上、半導体製造装置１と定点モニタ２の図示を省略して作図されている。
【００４５】
図２のＦＯＵＰ搬送台車４は、ＦＯＵＰ３６を自動搬送するための台車であり、搬送部３１と、クレーン部３２と、ベース部３３と、アーム部３４と、ハンド部３５とを備えている。また、ＦＯＵＰ３６は、ＦＯＵＰ本体３６ａと、ドア３６ｂと、フランジ３６ｃとを備えている。
【００４６】
搬送部３１は、ＦＯＵＰ搬送レーン３と係合しており、ＦＯＵＰ搬送レーン３に沿ってＦＯＵＰ３６を搬送する。クレーン部３２は、ベース部３３の昇降により、ＦＯＵＰ３６をＦＯＵＰ搬送レーン３に対し昇降させる。ハンド部３５は、アーム部３４を介してベース部３３に取り付けられており、フランジ３６ｃを把持することにより、ＦＯＵＰ３６を保持する。ＦＯＵＰ３６のドア３６ｂは、ＦＯＵＰ本体３６ａに対し半導体ウェハを出し入れする際に開閉される。
【００４７】
図２の清浄度測定用台車５は、清浄度測定装置４５を自動搬送するための台車であり、搬送部４１と、クレーン部４２と、ベース部４３と、保持部４４とを備えている。また、清浄度測定装置４５は、装置本体４５ａと、装置本体４５ａに接続されたチューブ４５ｂと、チューブ４５ｂの先端に取り付けられた吸引口４５ｃと、装置本体４５ａに設けられた通信部４５ｄとを備えている。
【００４８】
搬送部４１は、ＦＯＵＰ搬送レーン３と係合しており、ＦＯＵＰ搬送レーン３に沿って清浄度測定装置４５を搬送する。クレーン部４２は、ベース部４３の昇降により、清浄度測定装置４５をＦＯＵＰ搬送レーン３に対し昇降させる。クレーン部４２とベース部４３は、本開示の昇降部の例である。保持部４４は、清浄度測定装置４５を収容することにより、清浄度測定装置４５を保持する。
【００４９】
清浄度測定装置４５は、半導体製造クリーンルーム内の清浄度を測定する装置である。本実施形態の清浄度測定用台車５は、清浄度測定装置４５を移動させながら、清浄度測定装置４５により清浄度を測定する。これにより、本実施形態の清浄度測定用台車５は、半導体製造クリーンルーム内の汚染源の位置を自動的に特定することができる。
【００５０】
なお、第１実施形態と第２実施形態とで共通する部分に関する詳細は、第１実施形態にてすでに説明されているため、第２実施形態での説明を省略する。
【００５１】
本実施形態によれば、第１実施形態と同様に、半導体製造クリーンルーム内の汚染源の位置を迅速に特定することが可能となる。
【００５２】
（第３実施形態）
図３は、第３実施形態の清浄度測定方法を説明するための概略図である。
【００５３】
第１実施形態の清浄度測定システムは、ＦＯＵＰ搬送台車４とは別の清浄度測定用台車５により清浄度測定装置２５を搬送する。これに対し、第３実施形態の清浄度測定システムは、ＦＯＵＰ搬送台車４により清浄度測定装置２５を搬送する。すなわち、第３実施形態の清浄度測定システムは、ＦＯＵＰ搬送台車４を清浄度測定用台車として使用する。
【００５４】
図３に示すように、本実施形態の清浄度測定装置２５は、ＦＯＵＰ１５の内部に収容される。清浄度測定装置２５が収容されたＦＯＵＰ１５は、ＦＯＵＰ保持部１４（図１）により保持され、搬送部１１（図１）により搬送される。搬送部１１、ＦＯＵＰ保持部１４はそれぞれ、本開示の搬送部、保持部の例である。また、この場合の昇降機構１２と昇降ベルト１３は、本開示の昇降部の例である。
【００５５】
図３のＦＯＵＰ１５のドア１５ｂは、ドア穴１５ｄを有している。また、図３の清浄度測定装置２５のチューブ２５ｂは、吸引口２５ｃがドア穴１５ｄに面するように固定されている。よって、清浄度測定装置２５は、ドア１５ｂが閉まった状態で、半導体製造クリーンルーム内の清浄度を測定することができる。
【００５６】
図３のＦＯＵＰ１５は、清浄度測定装置２５以外の測定装置２６も収容している。測定装置２６は例えば、差圧計、風速計、またはアンモニアモニタである。
【００５７】
なお、本実施形態の清浄度測定方法は、第２実施形態のＦＯＵＰ３６を使用して実施してもよい。この場合、搬送部３１は、本開示の搬送部の例である。また、クレーン部３２とベース部３３は、本開示の昇降部の例である。また、アーム部３４とハンド部３５は、本開示の保持部の例である。
【００５８】
図４は、第３実施形態の清浄度測定方法の応用例を説明するための概略図である。
【００５９】
図４に示すように、本実施形態の清浄度測定システムは、清浄度測定装置２５が収容されたＦＯＵＰ１５を半導体製造装置１のＦＯＵＰロードポート１ｂに下降させることで、ＦＯＵＰ１５をＦＯＵＰロードポート１ｂ上に乗せることができる。この場合、ＦＯＵＰ１５のドア１５ｂは、半導体製造装置１のＦＯＵＰオープナ１ｃにより自動的に取り外される。
【００６０】
本実施形態の清浄度測定システムは、清浄度測定装置２５が収容されたＦＯＵＰ１５をＦＯＵＰロードポート１ｂ上に乗せることができるため、清浄度測定装置２５により半導体製造装置１内の清浄度を測定することができる。
【００６１】
また、本実施形態の清浄度測定システムは、ＦＯＵＰ搬送レーン３によるＦＯＵＰ１５の自動搬送を利用することにより、半導体製造クリーンルーム内のすべての半導体製造装置１内の清浄度を測定することができる。
【００６２】
なお、清浄度測定装置２５の吸引口２５ｃの位置は、半導体製造装置１内の清浄度を測定しやすいように、ＦＯＵＰ１５のドア１５ｂ側に固定されていることが望ましい。
【００６３】
測定装置２６が差圧計である場合、測定装置２６は、半導体製造装置１の内部と外部との間の差圧を測定することができる。半導体製造装置１の内部と外部との間に差圧がある場合、半導体製造装置１内にパーティクルが侵入し、半導体製造装置１が汚染されてしまう可能性がある。よって、本実施形態の清浄度測定システムは、測定装置２６により差圧が検出された場合、この半導体製造装置１の使用を停止してもよいし、差圧が検出されたことを管理者のＰＣ等に送信してもよい。
【００６４】
測定装置２６が気流計である場合、測定装置２６は、半導体製造装置１内の気流を測定することができる。半導体製造装置１内に気流がある場合、半導体製造装置１内にパーティクルが侵入し、半導体製造装置１が汚染されてしまう可能性がある。よって、本実施形態の清浄度測定システムは、測定装置２６により気流が検出された場合、この半導体製造装置１の使用を停止してもよいし、気流が検出されたことを管理者のＰＣ等に送信してもよい。
【００６５】
測定装置２６がアンモニアモニタである場合、測定装置２６は、半導体製造装置１内や半導体製造クリーンルーム内のアンモニアを測定することができる。半導体製造装置１内のアンモニアは通常、フィルタにより除去される。しかしながら、このフィルタが破れている場合や、このフィルタの寿命が過ぎている場合には、装置１内やクリーンルーム内にアンモニアが充満していることがある。よって、本実施形態の清浄度測定システムは、装置１内やクリーンルーム内にアンモニアが検出された場合、半導体製造プロセスを停止してもよいし、アンモニアが検出されたことを管理者のＰＣ等に送信してもよい。
【００６６】
以上のように、本実施形態の清浄度測定システムは、ＦＯＵＰ１５を利用して清浄度測定装置２５を搬送する。よって、本実施形態によれば、半導体製造装置１内の清浄度を測定することにより、半導体製造装置１の異常を迅速に検出することが可能となる。
【００６７】
以上、いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例としてのみ提示したものであり、発明の範囲を限定することを意図したものではない。本明細書で説明した新規な台車およびシステムは、その他の様々な形態で実施することができる。また、本明細書で説明した台車およびシステムの形態に対し、発明の要旨を逸脱しない範囲内で、種々の省略、置換、変更を行うことができる。添付の特許請求の範囲およびこれに均等な範囲は、発明の範囲や要旨に含まれるこのような形態や変形例を含むように意図されている。
【符号の説明】
【００６８】
１：半導体製造装置、１ａ：装置本体、
１ｂ：ＦＯＵＰロードポート、１ｃ：ＦＯＵＰオープナ、
２：定点モニタ、２ａ：パーティクルカウンタ、２ｂ：チューブ、２ｃ：スタンド、
３：ＦＯＵＰ搬送レーン、４：ＦＯＵＰ搬送台車、５：清浄度測定用台車、
１１：搬送部、１２：昇降機構、１３：昇降ベルト、１４：ＦＯＵＰ保持部、
１５：ＦＯＵＰ、１５ａ：ＦＯＵＰ本体、１５ｂ：ドア、
１５ｃ：フランジ、１５ｄ：ドア穴、
２１：搬送部、２２：昇降機構、２３：昇降ベルト、２４：保持部、
２５：清浄度測定装置、２５ａ：装置本体（パーティクルカウンタ）、
２５ｂ：チューブ、２５ｃ：吸引口、２５ｄ：通信部、２６：測定装置、
３１：搬送部、３２：クレーン部、３３：ベース部、３４：アーム部、
３５：ハンド部、３６：ＦＯＵＰ、３６ａ：ＦＯＵＰ本体、
３６ｂ：ドア、３６ｃ：フランジ、
４１：搬送部、４２：クレーン部、４３：ベース部、４４：保持部、
４５：清浄度測定装置、４５ａ：装置本体（パーティクルカウンタ）、
４５ｂ：チューブ、４５ｃ：吸引口、４５ｄ：通信部
【図１】
2014157975.tif 000003
【図２】
2014157975.tif 000004
【図３】
2014157975.tif 000005
【図４】
2014157975.tif 000006