(57)【要約】      （修正有）【課題】磁性粉の分散性に優れることにより、磁気テープの磁気特性を向上させることができ、かつ耐久性に優れる磁気記録媒体を得ることができる磁気記録媒体用のバインダーを提供する。【解決手段】特定の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ１）及び前記（ａ１）以外の高分子ポリオール（ａ２）を含有するポリオール成分と有機ポリイソシアネート成分とから形成されるポリウレタン樹脂と、一般式（１）で表されるモノマーを含有するモノマー成分を重合してなるビニル系樹脂とを含有する磁気記録媒体用バインダー。2014114431.tif 000015［Ｍ1及びＭ2は水酸基又は特定の活性水素含有有機化合物から特定数の活性水素を除いた残基、Ｒ1はエチレン性不飽和結合含有基、Ｌは特定の芳香族ポリカルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた残基を表す。］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基及びスルファミン酸（塩）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ１）、前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）及び必要により前記（ａ１）以外の化学式量又は数平均分子量が５００未満の低分子ポリオール（ａ３）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）と、一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合してなるビニル系樹脂（Ｖ）とを含有する磁気記録媒体用バインダー。
【化１】
2014114431.tif 000011
［式中、Ｍ1は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基を表し；ｃは、Ｍ1が水酸基の場合は１であり、Ｍ1が１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基の場合は１≦ｃ≦（Ｍ1の価数）を満たす整数を表し；Ｒ1はエチレン性不飽和結合含有基を表し、複数ある場合のＲ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｍ2は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数ある場合のＭ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｍ2とＭ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｌは３価以上の芳香族ポリカルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた残基を表し、Ｌの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが少なくとも一つの炭素原子には水素原子が結合しており；ａ及びｂはそれぞれ０以上の整数を表し、かつ、２≦ａ＋ｂ≦ｄ−２を満たし、複数ある場合のａはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｃ個のａの内の少なくとも一つは０ではなく、複数ある場合のｂはそれぞれ同一でも異なっていてもよく；ｄは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。］
【請求項２】
前記一般式（１）におけるエチレン性不飽和結合含有基が、一般式（２）〜（６）で表される置換基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基である請求項１記載の磁気記録媒体用バインダー。
【化２】
2014114431.tif 000012
［式中、Ｒ2、Ｒ4及びＲ6はそれぞれ独立に水酸基で置換されていてもよい炭素数２〜１２の２価の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ3、Ｒ5及びＲ7はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、＊はそれが付された結合により置換基が前記一般式（１）におけるオキシカルボニル基の酸素原子と結合することを表す。］
【請求項３】
前記一般式（１）における３価以上の芳香族ポリカルボン酸が、前記芳香環を構成し置換基が結合していない炭素原子に隣接する２個の炭素原子にカルボキシル基が結合し、前記カルボキシル基が結合した炭素原子に隣接しかつ前記置換基が結合していない炭素原子とは異なる炭素原子の少なくとも一方に更にカルボキシル基が結合した構造を有する請求項１又は２記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項４】
前記一般式（１）における３価以上の芳香族ポリカルボン酸が、トリメリット酸及び／又はピロメリット酸である請求項１又は２記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項５】
前記一般式（１）におけるａが１でかつｃが１である請求項１〜４のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項６】
前記モノマー（Ｘ）の水酸基価が０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇである請求項１〜５のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項７】
前記モノマー（Ｘ）におけるＬの濃度が、０．５〜１０．０ｍｍｏｌ／ｇである請求項１〜６のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項８】
前記モノマー（Ｘ）のカルボニル基濃度が、１．５〜３０．０ｍｍｏｌ／ｇである請求項１〜７のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項９】
前記ビニル系樹脂（Ｖ）の数平均分子量が１，０００〜２００，０００である請求項１〜８のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【請求項１０】
ポリオール成分（Ａ）が一般式（７）で表されかつ少なくとも１つの活性水素を有する化合物（Ｓ１）を含有する請求項１〜９のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー。
【化３】
2014114431.tif 000013
［一般式（７）中、Ｔ1はｍ価の活性水素含有有機化合物からｇ個の活性水素を除いた残基を表し；ｇは１≦ｇ≦ｍを満たす整数を表し；ｍは１〜２０の整数を表し；Ｔ2は活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数のＴ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｔ2とＴ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｙは３価以上の芳香族ポリカルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた残基を表し、Ｙの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが少なくとも一つの炭素原子は置換基が結合しておらず；ｅは１以上の整数を表し、ｆは０以上の整数を表し、かつ、２≦ｅ＋ｆ≦ｈ−２を満たし；ｈは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。］
【請求項１１】
更に、一般式（７）で表される化合物（Ｓ）を含有してなる請求項１〜１０のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダー
【化４】
2014114431.tif 000014
［一般式（７）中、Ｔ1はｍ価の活性水素含有有機化合物からｇ個の活性水素を除いた残基を表し；ｇは１≦ｇ≦ｍを満たす整数を表し；ｍは１〜２０の整数を表し；Ｔ2は活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数のＴ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｔ2とＴ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｙは３価以上の芳香族ポリカルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた残基を表し、Ｙの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが少なくとも一つの炭素原子は置換基が結合しておらず；ｅは１以上の整数を表し、ｆは０以上の整数を表し、かつ、２≦ｅ＋ｆ≦ｈ−２を満たし；ｈは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。］
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか記載の磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性層を有する磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープ、磁気カ−ド、磁気ディスク等の磁気記録媒体の製造に用いられるバインダー及びそのバインダーを用いた磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気記録媒体用のバインダーとしては、ポリウレタン樹脂等が用いられている（例えば特許文献１）。
しかし、近年、磁気記録媒体の高性能化に伴い、磁性体の微粒子化や高磁力化が図られ、従来のバインダーでは十分な磁性体の分散性及び耐久性のあるものが得られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−１７５９５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、磁性粉の分散性に優れることにより、磁気テープの磁気特性を向上させることができ、かつ耐久性に優れる磁気記録媒体を得ることができる磁気記録媒体用のバインダーを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち本発明は、カルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基及びスルファミン酸（塩）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ１）、前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）及び必要により前記（ａ１）以外の化学式量又は数平均分子量が５００未満の低分子ポリオール（ａ３）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）と、一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合してなるビニル系樹脂（Ｖ）とを含有する磁気記録媒体用バインダー並びに磁気記録媒体用バインダーを含有してなる磁性層を有する磁気記録媒体である。
【０００６】
【化１】
2014114431.tif 000002
【０００７】
［式中、Ｍ1は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基を表し；ｃは、Ｍ1が水酸基の場合は１であり、Ｍ1が１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基の場合は１≦ｃ≦（Ｍ1の価数）を満たす整数を表し；Ｒ1はエチレン性不飽和結合含有基を表し、複数ある場合のＲ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｍ2は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数ある場合のＭ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｍ2とＭ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく；Ｌは３価以上の芳香族ポリカルボン酸から全てのカルボキシル基を除いた残基を表し、Ｌの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが少なくとも一つの炭素原子には水素原子が結合しており；ａ及びｂはそれぞれ０以上の整数を表し、かつ、２≦ａ＋ｂ≦ｄ−２を満たし、複数ある場合のａはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｃ個のａの内の少なくとも一つは０ではなく、複数ある場合のｂはそれぞれ同一でも異なっていてもよく；ｄは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。］
【発明の効果】
【０００８】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、以下の効果を奏する。
（１）本発明の磁気記録媒体用バインダーは磁性粉に対する分散性が優れており、磁気テープの磁気特性が向上する。
（２）本発明の磁気記録媒体用バインダーを用いて得られた磁気記録媒体は耐久性が優れている。
（３）本発明の磁気記録媒体用バインダーを用いて得られた磁性塗料の粘度が低いため、塗布ラインのスピードアップができ、しかも、配向時に磁性粉が動きやすくなり、磁気特性が向上する。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、カルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基及びスルファミン酸（塩）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ１）、前記（ａ１）以外の数平均分子量が５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）及び必要により前記（ａ１）以外の化学式量又は数平均分子量が５００未満の低分子ポリオール（ａ３）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成されるポリウレタン樹脂（Ｐ）と、一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合してなるビニル系樹脂（Ｖ）とを含有する。
【００１０】
本発明におけるビニル系樹脂（Ｖ）は、一般式（１）で表されるモノマー（Ｘ）を必須成分とするモノマー成分を重合してなるビニル系樹脂である。
【００１１】
【化２】
2014114431.tif 000003
【００１２】
一般式（１）におけるＭ1は水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物からｃ個の活性水素を除いた残基を表す。
【００１３】
活性水素含有有機化合物としては、水酸基含有化合物、アンモニア、アミノ基含有化合物及びチオール基含有化合物等が挙げられる。活性水素含有有機化合物は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００１４】
水酸基含有化合物としては、炭素数１〜２０の１価のアルコール、炭素数２〜２０の多価アルコール及びフェノール類；これらのアルキレンオキサイド（以下、ＡＯと略記）付加物；アンモニア、アミノ基含有化合物及びチオール基含有化合物のＡＯ付加物；等が挙げられる。
【００１５】
炭素数１〜２０の１価アルコールとしては、炭素数１〜２０のアルカノール（メタノール、エタノール、ブタノール、オクタノール、デカノール、ドデシルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール及びステアリルアルコール等）、炭素数２〜２０のアルケノール（オレイルアルコール及びリノリルアルコール等）及び炭素数７〜２０の芳香脂肪族アルコール（ベンジルアルコール及びナフチルエタノール等）等が挙げられる。
【００１６】
炭素数２〜２０の多価アルコールとしては、炭素数２〜２０の２価アルコール［脂肪族ジオール（エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−又は１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，２−又は１，１０−デカンジオール及び１，２−又は１，１２−ドデカンジオール等）、脂環式ジオール（１，２−、１，３−又は１，４−シクロヘキサンジオール及びシクロヘキサンジメタノール等）、芳香脂肪族ジオール｛１−フェニルエタン−１，２−ジオール及び１，４−ビス（ヒドロキシエチル）ベンゼン等｝、エーテル基含有ジオール｛３−ブトキシ−１，２−プロパンジオール、３−（２−エチルヘキソキシ）−１，２−プロパンジオール
３−フェノキシ−１，２−プロパンジオール及び３−（ｐ−ｔｅｒｔ―ブチルフェノキシ）−１，２−プロパンジオール等｝及びハロゲン基含有ジオール（３−クロロ−１，２−プロパンジオール等）等］、炭素数３〜２０の３価アルコール［脂肪族トリオール（グリセリン及びトリメチロールプロパン等）等］及び炭素数５〜２０の４〜８価アルコール［脂肪族ポリオール（ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、ソルビタン、ジグリセリン及びジペンタエリスリトール等）及び糖類（ショ糖、グルコース、マンノース、フルクトース、メチルグルコシド及びその誘導体）］等が挙げられる。
【００１７】
フェノール類としては、例えば１価のフェノール（フェノール、１−ヒドロキシナフタレン、アントロール及び１−ヒドロキシピレン等）及び多価フェノール［フロログルシン、ピロガロール、カテコール、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、１，３，６，８−テトラヒドロキシナフタレン、１，４，５，８−テトラヒドロキシアントラセン、フェノールとホルムアルデヒドとの縮合物（ノボラック）及び米国特許３２６５６４１号明細書に記載のポリフェノール等］が挙げられる。
【００１８】
アミノ基含有化合物としては、炭素数１〜２０のモノハイドロカルビルアミン［アルキルアミン（ブチルアミン等）、ベンジルアミン及びアニリン等］、炭素数２〜２０の脂肪族ポリアミン（エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン及びジエチレントリアミン等）、炭素数６〜２０の脂環式ポリアミン（ジアミノシクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジアミン及びイソホロンジアミン等）、炭素数２〜２０の芳香族ポリアミン（フェニレンジアミン、トリレンジアミン及びジフェニルメタンジアミン等）、炭素数２〜２０の複素環式ポリアミン（ピペラジン及びＮ−アミノエチルピペラジン等）、アルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミン等）、ジカルボン酸と過剰のポリアミンとの縮合により得られるポリアミドポリアミン、ポリエーテルポリアミン、ヒドラジン（ヒドラジン及びモノアルキルヒドラジン等）、ジヒドラジッド（コハク酸ジヒドラジッド及びテレフタル酸ジヒドラジッド等）、グアニジン（ブチルグアニジン及び１−シアノグアニジン等）及びジシアンジアミド等が挙げられる。
【００１９】
チオール基含有化合物としては、炭素数１〜２０の１価のチオール化合物（エタンチオール等のアルカンチオール、ベンゼンチオール及びフェニルメタンチオール）及び多価のチオール化合物（１，２−エタンジチオール及び１，６−ヘキサンジチオール等）等が挙げられる。
【００２０】
前記水酸基含有化合物に用いられるＡＯとしては、炭素数２〜４のＡＯ、例えば、エチレンオキサイド（以下、ＥＯと略記）、１，２−プロピレンオキサイド（以下、ＰＯと略記）、１，３−プロピレンオキサイド、１，２−、１，３−又は２，３−ブチレンオキサイド及びテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと略記）等が挙げられる。これらの内、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点からＥＯ、ＰＯ及びＴＨＦが好ましい。ＡＯは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよく、ＡＯを２種以上併用する場合の付加方法としては、ブロック付加であってもランダム付加であってもよく、これらの併用であってもよい。
【００２１】
ＡＯの付加モル数はビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点から、８〜１００が好ましく、更に好ましくは１０〜８０である。ＡＯ付加物の水酸基価は１８〜３６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。本発明において、水酸基価はＪＩＳ  Ｋ  １５５７−１に準拠して測定される。
【００２２】
尚、活性水素含有有機化合物として、分子内に２種以上の活性水素含有官能基（水酸基、アミノ基及びチオール基等）を有する化合物も使用できる。
【００２３】
モノマー（Ｘ）にＭ1を導入するための活性水素含有有機化合物として、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点から好ましいのは、水酸基含有化合物、アミノ基含有化合物及びこれらのＡＯ付加物であり、更に好ましいのは、炭素数２〜２０の多価アルコール、炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオール及び炭素数２〜２０の脂肪族ポリアミン、特に好ましいのは炭素数２〜２０の多価アルコール及び炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオール、最も好ましいのは炭素数２〜２０の多価アルコールである。
【００２４】
活性水素含有有機化合物の活性水素の価数は、磁性塗料の粘度の観点から、通常１〜２０であり、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２である。
【００２５】
一般式（１）におけるｃは、１〜２０でかつ１≦ｃ≦ｍを満たす整数を表し、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点から、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜２、特に好ましくは１である。
【００２６】
一般式（１）におけるＭ2は、水酸基又は１〜２０価の活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数のＭ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｍ2を構成するために用いられる活性水素含有有機化合物としては、上述のＭ1で示した活性水素含有有機化合物と同様の物が挙げられ、好ましいものも同様である。Ｍ2とＭ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
また、Ｍ2の価数は磁性塗料の粘度の観点から、通常１〜２０であり、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２である。
【００２７】
尚、後述のＬを構成するために用いる３価以上のポリカルボン酸に前記活性水素含有有機化合物を反応させることによりＭ1及びＭ2をモノマー（Ｘ）に導入することができるが、活性水素含有有機化合物が特に繰り返し単位の炭素数が２〜４のポリエーテルポリオールの場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基に前記炭素数２〜４のＡＯを付加することによっても同等の残基を導入することができる。
【００２８】
更に、活性水素含有有機化合物が隣接する炭素原子に水酸基が結合する炭素数２〜２０のジオール化合物の場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基に炭素数２〜２０のエポキシ化合物を開環付加反応させることによっても前記ジオール化合物を用いた場合と同等の残基を導入することができる。例えば、活性水素含有有機化合物がエチレングリコールの場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基にＥＯを１モル反応させることにより、エチレングリコールから１個の活性水素を除いた残基を導入することができる。また、活性水素含有有機化合物が３−フェノキシプロパン−１，２−ジオールの場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基にフェニルグリシジルエーテルを１モル反応させることにより、３−フェノキシプロパン−１，２−ジオールから１個の活性水素を除いた残基を導入することができる。
【００２９】
炭素数２〜２０のエポキシ化合物としては、前記炭素数２〜４のＡＯ、グリシドール、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ―ブチルフェニルグリシジルエーテル、１，２−エポキシデカン、１，２−エポキシドデカン、シクロヘキセンオキサイド、スチレンオキサイド及びエピクロロヒドリン等が挙げられる。
【００３０】
一般式（１）におけるＲ1は、エチレン性不飽和結合含有基を表し、複数ある場合のＲ1はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ1は、磁性粉の分散性の観点から下記一般式（２）〜（６）で表される置換基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基であることが好ましい。
【００３１】
【化３】
2014114431.tif 000004
【００３２】
一般式（２）〜（６）におけるＲ2、Ｒ4及びＲ6はそれぞれ独立に水酸基で置換されていてもよい炭素数２〜１２の２価の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ3、Ｒ5及びＲ7はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、＊はそれが付された結合により置換基が前記一般式（１）におけるオキシカルボニル基の酸素原子と結合することを表す。
【００３３】
一般式（１）におけるＬは、３価以上の芳香族ポリカルボン酸からすべてのカルボキシル基を除いた残基を表す。Ｌの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが、少なくとも一つの炭素原子は置換基が結合しておらず水素原子と結合している必要がある。
【００３４】
カルボキシル基以外の置換基としては、アルキル基、ビニル基、アリル基、シクロアルキル基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、チオール基、アリール基及びシアノ基等が挙げられる。
【００３５】
Ｌを構成するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸としては、炭素数９〜３０の芳香族ポリカルボン酸、例えばトリメリット酸、１，２，３−ベンゼントリカルボン酸、トリメシン酸、ヘミリット酸、１，２，４−、１，３，６−又は２，３，６−ナフタレントリカルボン酸及び２，３，６−アントラセントリカルボン酸等のトリカルボン酸；ピロメリット酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、４，４’−オキシビスフタル酸、ジフェニルメタンテトラカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸及び４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ビスフタル酸等のテトラカルボン酸；等が挙げられる。芳香族ポリカルボン酸は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
尚、モノマー（Ｘ）の製造に当たっては、これらのエステル形成性誘導体［酸無水物、低級アルキル（炭素数１〜４）エステル（メチルエステル、エチルエステル及びイソプロピルエステル等）及び酸ハライド（酸のクロライド等）］を用いることもできる。
【００３７】
これらの芳香族ポリカルボン酸の内、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点から好ましいのは、前記芳香環を構成し置換基が結合していない炭素原子に隣接する２個の炭素原子にカルボキシル基が結合し、前記カルボキシル基が結合した炭素原子に隣接しかつ前記炭素原子とは異なる炭素原子の少なくとも一方に更にカルボキシル基が結合した構造を有する構造を有するものである。
【００３８】
例えば、芳香族ポリカルボン酸の芳香環がベンゼン環で前記置換基が結合していない炭素原子の位置が１位の場合、２位と６位にカルボキシル基が結合し、更に３位及び／又は５位にカルボキシル基が結合した構造を有するものが好ましい。
【００３９】
ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点から、Ｌを構成するために用いる芳香族ポリカルボン酸として特に好ましいのは単環式化合物であり、最も好ましいのはトリメリット酸及びピロメリット酸である。
【００４０】
一般式（１）におけるａ及びｂはそれぞれ０以上の整数を表し、かつ、２≦ａ＋ｂ≦ｄ−２を満たす。ｃが２以上で複数ある場合のａはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、ｃが２以上で複数ある場合のｂはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。但し、ｃ個のａの内の少なくとも一つは０ではない、即ち、モノマー（Ｘ）は少なくとも一つのエチレン性不飽和結合含有基を有する。
【００４１】
ｄは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。例えば、芳香環が炭素原子６個から構成されるベンゼン環の場合、ｄは６であり、ａ＋ｂは２〜４の値を取り得、芳香環が炭素原子１０個から構成されるナフタレン環の場合、ｄは８であり、ａ＋ｂは２〜６の値を取り得る。芳香環が単環の芳香環の場合、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点から、ａ＋ｂは２又は３が好ましい。また、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点から、ａは１又は２であることが好ましく、特に好ましいのは１である。
【００４２】
本発明におけるモノマー（Ｘ）の水酸基価は、ビニル系樹脂（Ｖ）の破断伸び及び破断強度の観点から、好ましくは０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは０〜３５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。水酸基価が５００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えるとビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性が低下する傾向にある。尚、モノマー（Ｘ）の水酸基価が０とは、一般式（１）におけるＭ1、Ｍ2及びＬが全て水酸基を有しないことを意味する。
【００４３】
モノマー（Ｘ）におけるＬの濃度は、モノマー（Ｘ）１ｇ中の残基Ｌのミリモル数を意味し、ビニル系樹脂（Ｖ）の塗料粘度及び耐久性の観点から、好ましくは０．５〜１０．０ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは０．５〜８．０ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは０．５〜７．５ｍｍｏｌ／ｇである。Ｌの濃度が０．５ｍｍｏｌ／ｇ未満ではビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性が低下する傾向にあり、１０．０ｍｍｏｌ／ｇを超えると塗料粘度が上昇する。
【００４４】
モノマー（Ｘ）におけるカルボニル基濃度は、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性と磁性粉の分散性の観点から、好ましくは１．５〜３０．０ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは１．５〜２４．０ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは１．５〜２２．５ｍｍｏｌ／ｇである。カルボニル基濃度が１．５ｍｍｏｌ／ｇ未満ではビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性が低下する傾向にあり、カルボニル基濃度が３０．０ｍｍｏｌ／ｇを超えると磁性粉の分散性が悪化する場合がある。本発明におけるカルボニル基濃度におけるカルボニル基とは、一般式（１）におけるＬに結合するカルボニル基、即ちＬを導入するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基並びにこれから誘導されるエステル基、チオエステル基及びアミド基等の官能基中のカルボニル基を意味する。
【００４５】
本発明におけるビニル系樹脂（Ｖ）の製造に用いられるモノマー（Ｘ）以外のモノマー成分としては、下記（１）〜（８）のビニル系モノマー等が挙げられる。（Ｘ）以外のビニル系モノマーは、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４６】
（１）水酸基含有ビニル系モノマー：
炭素数２〜１２のアルケノール、例えば（メタ）アリルアルコール、１−ブテン−３−オール及び２−ブテン−１−オール；炭素数４〜１２のアルケンジオール、例えば２−ブテン−１，４−ジオール；水酸基含有芳香族ビニルモノマー、例えばヒドロキシスチレン；炭素数５〜８のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；炭素数３〜３０のアルケニルエーテル、例えば２−ヒドロキシエチルプロペニルエーテル及び蔗糖アリルエーテル等。
【００４７】
（２）カルボキシル基含有ビニル系モノマー：
炭素数３〜３０の不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸並びにその無水物及びそのモノアルキル（炭素数１〜２４）エステル、例えば（メタ）アクリル酸、（無水）マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、フマル酸モノアルキルエステル、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸モノアルキルエステル、イタコン酸グリコールモノエステル、シトラコン酸、シトラコン酸モノアルキルエステル及び桂皮酸。
【００４８】
（３）スルホ基含有ビニル系モノマー：
炭素数２〜１４のアルケンスルホン酸、例えばビニルスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸及びメチルビニルスルホン酸；スチレンスルホン酸及びその炭素数１〜２４のアルキル置換体、例えばα−メチルスチレンスルホン酸等；スルホ（ヒドロキシ）アルキル（炭素数１〜８）−（メタ）アクリレート又は（メタ）アクリルアミド、例えば、スルホプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエタンスルホン酸、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸及び３−（メタ）アクリルアミド−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸；並びにアルキル（炭素数３〜１８）（メタ）アリルスルホコハク酸エステル。
【００４９】
（４）エステル基含有ビニル系モノマー：
不飽和アルコール又はヒドロキシスチレンと炭素数１〜１２のモノ又はポリカルボン酸とのエステル、例えば酢酸ビニル、ビニルブチレート、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ジアリルフタレート、ジアリルアジペート、イソプロペニルアセテート、メチル−４−ビニルベンゾエート、ビニルメトキシアセテート、ビニルベンゾエート及びアセトキシスチレン；不飽和カルボン酸アルコール（炭素数１〜３０）エステル、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、エイコシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルノルボルネン（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、エチル−α−エトキシ（メタ）アクリレート、ジ（シクロ）アルキルフマレート（２個のアルキル基は、炭素数２〜８の、直鎖又は分岐の基である）及びジ（シクロ）アルキルマレエート（２個のアルキル基は、炭素数２〜８の、直鎖又は分岐の基である）；多価（２〜３）アルコール不飽和カルボン酸エステル、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；並びに重合度５〜５０のポリオキシアルキレン（炭素数２〜４）モノ又はポリ（２〜３）オール不飽和カルボン酸エステル、例えばポリ（オキシアルキレン）グリコール鎖（アルキレンの炭素数２〜４）を有するビニル系モノマー［ポリ（オキシエチレン）グリコール（重合度７）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（オキシプロピレン）グリコール（重合度９）モノ（メタ）アクリレート、メチルアルコールエチレンオキシド１０モル付加物（メタ）アクリレート及びラウリルアルコールエチレンオキシド３０モル付加物（メタ）アクリレート等。
【００５０】
（５）ビニル系炭化水素：
（５−１）脂肪族ビニル系炭化水素：炭素数２〜２０のアルケン類、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセン及び前記以外のα−オレフィン等；並びに炭素数４〜２０のアルカジエン類、例えばブタジエン、イソプレン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン及び１，７−オクタジエン。
（５−２）脂環式ビニル系炭化水素：モノ又はジシクロアルケン及びアルカジエン類、例えばシクロヘキセン、（ジ）シクロペンタジエン、ビニルシクロヘキセン、エチリデンビシクロヘプテン及びビニルノルボルネン；並びにテルペン類、例えばピネン及びリモネン。
（５−３）芳香族ビニル系炭化水素（炭素数８〜２０）：スチレン及びそのハイドロカルビル（アルキル、シクロアルキル、アラルキル及び／又はアルケニル）置換体、例えばα−メチルスチレン、ビニルトルエン、２，４−ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ベンジルスチレン、クロチルベンゼン、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン及びトリビニルベンゼン；並びにビニルナフタレン。
【００５１】
（６）アミノ基含有ビニル系モノマー：
炭素数５〜２０のアミノアルキル（メタ）アクリレート、例えばジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びモノメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等；炭素数５〜２０のＮ−アミノアルキル（メタ）アクリルアミド、例えばジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド及びジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド等。
【００５２】
（７）エポキシ基含有ビニル系モノマー：グリシジル（メタ）アクリレート等。
（８）その他のビニル系モノマー：
ビニルスルホン、例えばビニルエチルスルフォン、ジビニルスルフォン；ジビニルスルフォキシド等；イソシアネート含有ビニル系モノマー、例えばイソシアナトエチル（メタ）アクリレート、ｍ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート等。
【００５３】
本発明におけるビニル系樹脂（Ｖ）は、有機溶媒（Ｊ）中で、モノマー（Ｘ）を含有するモノマー成分を重合して得ることができる。
【００５４】
重合において使用することができる重合開始剤としては、過硫酸カリウム及び過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩系開始剤；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤；過酸化ベンゾイル、クメンヒドロパーオキサイド及びターシャリーブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物類；過酸化水素；等通常のラジカル重合開始剤を用いることができ、これらは単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。また、重合開始剤の使用量は、重合に使用するモノマー成分の総重量に対して０．０５〜５重量％であることが好ましい。
【００５５】
また、重合に際しては、必要に応じて、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ブチルメルカプタン、２−エチルヘキシルチオグリコレート及び２−メルカプトエタノール、β−メルカプトプロピオン酸等の連鎖移動剤を使用してもよい。
【００５６】
ビニル系樹脂（Ｖ）の製造における重合反応は、好ましくは２０℃〜１５０℃、更に好ましくは４０℃〜１００℃である。温度が２０℃未満の場合は、重合速度が遅くなる場合があり、温度が１８０℃以上になると重合反応を制御することが難しくなる場合がある。反応時間は好ましくは１分〜５０時間である。重合反応は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【００５７】
本発明におけるビニル系樹脂（Ｖ）には、必要により酸化防止剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、可塑剤及び離型剤等の添加剤を添加することができる。これらの添加剤の使用量はビニル系樹脂（Ｖ）の重量に基づいて通常１０重量％以下、好ましくは３重量％以下、更に好ましくは１重量％以下である。
【００５８】
有機溶媒（Ｊ）としてはケトン系溶媒（例えばアセトン及びメチルエチルケトン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル及びγ−ブチロラクトン）、エーテル系溶媒（例えばＴＨＦ）、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン及びＮ−メチルカプロラクタム）、アルコール系溶媒（例えばイソプロピルアルコール）及び芳香族炭化水素系溶媒（例えばトルエン及びキシレン）等が挙げられる。これらの有機溶媒（Ｊ）は１種を単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００５９】
ビニル系樹脂（Ｖ）を得る際のモノマー成分におけるモノマー（Ｘ）の含有量は、ビニル系樹脂（Ｖ）による磁性粉の分散性及びポリウレタン樹脂（Ｐ）との親和性の観点から、モノマー成分の重量を基準として好ましくは１〜４０重量％、特に好ましくは２〜３５重量％、更に好ましくは３〜３０重量％である。
【００６０】
ビニル系樹脂（Ｖ）を得る際のモノマー成分におけるモノマー（Ｘ）以外のモノマーの少なくとも一部に前記（１）〜（８）のビニル系モノマーの内の多官能モノマー［ジアリルフタレート及びジアリルアジペート等のジアリルエステル；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の多価（２〜３）アルコール不飽和カルボン酸エステル；ブタジエン等の炭素数４〜２０のアルカジエン類；ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン等の芳香族ジビニル系炭化水素；等］を用いることにより、（Ｖ）に架橋構造を導入することができ、その耐久性等を向上させることができる。
【００６１】
モノマー成分に前記多官能モノマーを用いない場合のビニル系樹脂（Ｖ）の数平均分子量（以下、Ｍｎと略記）は、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性の観点から、好ましくは１，０００〜２００，０００、特に好ましくは５，０００〜５０，０００である。ビニル系樹脂（Ｖ）のＭｎが１，０００未満では、耐久性が悪くなる場合があり、Ｍｎが２００，０００を超えると粘度が高くなり塗布が困難になる場合がある。
【００６２】
本発明におけるビニル系樹脂（Ｖ）及びポリウレタン樹脂（Ｐ）のＭｎは溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用い、ポリスチレンを標準物質としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略記）により測定され、後述のポリオールのＭｎは、ＴＨＦを溶媒として用い、ポリエチレングリコール（以下、ＰＥＧと略記）を標準物質としてＧＰＣにより測定される。
【００６３】
ビニル系樹脂（Ｖ）のガラス転移温度は、ビニル系樹脂（Ｖ）の耐久性及び塗料粘度の観点から、−５０〜１２０℃が好ましく、特に−３０〜６０℃が好ましい。−５０℃未満では樹脂強度等が低下し、１２０℃を超えると磁気テープ製造時のカレンダー性が悪くなる。
【００６４】
尚、ビニル系樹脂（Ｖ）は、耐久性や磁性粉の分散性を向上させる目的で、ビニル系樹脂（Ｖ）と反応可能な官能基を有するアルキド樹脂やポリエステル樹脂で変性されていてもよい。
【００６５】
本発明におけるポリウレタン樹脂（Ｐ）は、カルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基及びスルファミン酸（塩）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ１）、前記（ａ１）以外のＭｎが５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）及び必要により前記（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）を含有するポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とから形成される。
【００６６】
カルボン酸（塩）基、スルフォン酸（塩）基及びスルファミン酸（塩）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ１）としては、カルボン酸基を有するポリオール｛酒石酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロパン酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸及び３−［ビス（２‐ヒドロキシエチル）アミノ］プロパン酸等｝；スルフォン酸基を有するポリオール｛２，２−ビス（ヒドロキシメチル）エタンスルホン酸、２−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］エタンスルホン酸及び５−スルホ−イソフタル酸−１，３‐ビス（２‐ヒドロキシエチル）エステル等｝；スルファミン酸基を有するポリオール｛Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）スルファミン酸、Ｎ，Ｎ−ビス（３−ヒドロキシプロピル）スルファミン酸、Ｎ，Ｎ−ビス（４−ヒドロキシブチル）スルファミン酸及びＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）スルファミン酸等｝；これらの化合物の水酸基へのＡＯ付加物（Ｍｎ４，０００以下）；及びこれらの塩［金属（カリウム、ナトリウム及びリチウム等）塩及びアミン（アルキルアミン及びアルカノールアミン等）等の塩］等が挙げられる。
【００６７】
前記有機酸（塩）基を有するポリオール（ａ１）を用いることにより、ポリウレタン樹脂（Ｐ）にカルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基及び／又はスルファミン酸（塩）基が導入され、磁気記録媒体用バインダーに用いたときの磁性粉の分散性が向上する。
【００６８】
ポリウレタン樹脂（Ｐ）における前記ポリオール（ａ１）が有する有機酸（塩）基の含有量は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）１０6ｇ当たり好ましくは１〜１，０００当量、更に好ましくは５〜５００当量、特に好ましくは１０〜３００当量である。有機酸（塩）基の含有量が１，０００当量を超えると磁性塗料としたときの粘度が高くなり作業性が悪くなる場合がある。
【００６９】
前記（ａ１）以外のＭｎが５００〜４，０００の高分子ポリオール（ａ２）としては、ポリエステルポリオール及びポリエーテルポリオール等が挙げられ、特に好ましいのはポリエステルポリオールである。
【００７０】
ポリエステルポリオールとしては、縮合型ポリエステルポリオール、ポリラクトンポリオール、ポリカーボネートポリオール及びその他のポリオール等が挙げられる。
【００７１】
縮合型ポリエステルポリオールは、後述の（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）とポリカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体［酸無水物、低級アルキル（炭素数１〜４）エステル及びハライド等］とを反応させて得られる。
【００７２】
ポリカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体としては、脂肪族ジカルボン酸（コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フマル酸及びマレイン酸等）、脂環式ジカルボン酸（ダイマー酸等）、芳香族ジカルボン酸（テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸等）及び３価又はそれ以上のポリカルボン酸（トリメリット酸及びピロメリット酸等）；前記酸の無水物（無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸及び無水トリメリット酸等）；前記酸の酸ハライド（アジピン酸ジクロライド等）；前記酸の低級（炭素数１〜４）アルキルエステル（コハク酸ジメチル及びフタル酸ジメチル等）；等が挙げられる。
【００７３】
ポリラクトンポリオールとしては、後述の（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）等への炭素数４〜１２のラクトン（ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトン等）の重付加物等が挙げられる。
【００７４】
ポリカーボネートポリオールとしては、後述の（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）と炭酸エステル（ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート及びジフェニルカーボネート等）とを反応させて得られる化合物が挙げられる。
【００７５】
これらのポリエステルポリオールの具体例としては、ポリエチレンテレフタレートジオール、ポリブチレンイソフタレートジオール、ポリヘキサメチレンイソフタレートジオール、ポリネオペンチレンテレルフタレートジオール、ポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリネオペンチレンアジペートジオール、ポリエチレンプロピレンアジペートジオール、ポリエチレンブチレンアジペートジオール、ポリブチレンヘキサメチレンアジペートジオール、ポリ（ポリテトラメチレンエーテル）アジペートジオール、ポリエチレンアゼレートジオール、ポリエチレンセバケートジオール、ポリブチレンアゼレートジオール、ポリブチレンセバケートジオール、ポリカプロラクトンジオール又はトリオール、ポリバレロラクトンジオール又はトリオール、及びこれらの２種以上の混合物が挙げられる。また、前記以外に特開昭６２−２０２３２４記載のフタル酸変性ポリカプロラクトンポリオールも使用できる。
【００７６】
ポリエーテルポリオールとしては、前記低分子ポリオールのＡＯ単独付加物又は共付加物（ブロック及び／又はランダム）［例えばポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレン−オキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシテトラメチレン−オキシエチレングリコール、ポリテオキシトラメチレン−オキシプロピレン（ブロック及び／又はランダム）グリコール、ポリオキシへキサメチレングリコール等］及びこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
【００７７】
その他のポリオールとしては、ポリマーポリオール［例えば前記高分子ポリオール中でビニル系モノマー（アクリロニトリル及びスチレン等）をラジカル（共）重合したもの］、ポリジエンポリオール（ポリブタジエンポリオール等）等が挙げられる。
【００７８】
ポリオール成分（Ａ）における高分子ポリオール（ａ２）の量は、ポリオール成分（Ａ）の重量に基づいて通常１０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上である。（ａ２）の量が１０重量％未満では磁気記録媒体用バインダーの物性が低くなり、磁気テープの耐久性が不十分となる。
【００７９】
（ａ２）のＭｎは、通常５００〜４，０００、好ましくは６００〜３，５００、更に好ましくは７００〜３，０００である。（ａ２）のＭｎが５００未満では、得られるポリウレタン樹脂が脆いものとなり、磁気テープにしたときの耐スクラッチ性が低下し、Ｍｎが４，０００を超えると得られるポリウレタン樹脂の樹脂強度が低下し、磁気テープにしたときの耐久性が不十分となる。
【００８０】
前記（ａ１）以外の化学式量又はＭｎが５００未満の低分子ポリオール（ａ３）としては、例えば、直鎖状アルキレングリコール類（エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタメチレンジオール及び１，１０−デカンジオール等）；環状基を有する低分子ジオール類［シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等のグリコール類及び特公昭４５−１４７４号公報記載のもの：キシリレングリコール、ビス（ヒドロキシエチル）ベンゼン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−ジフェニルプロパン（ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物）等］；グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、α−メチルグルコシド、ソルビトール、キシリット、マンニット、グルコース、フラクトース、庶糖等の３〜８価のアルコール類；及びこれらの１種又は２種以上の混合物のＡＯ付加物（Ｍｎ５００未満）等が挙げられる。これらの内で好ましいのは直鎖状アルキレングリコール及び環状基を有する低分子ジオールである。
【００８１】
（ａ１）、（ａ２）及び必要により（ａ３）とを併用する場合のポリオール成分（Ａ）のＭｎのモル平均値は、通常４００〜４，０００、好ましくは５００〜３，５００、更に好ましくは６００〜３，０００である。Ｍｎが４００未満では得られるポリウレタン樹脂が脆弱なものとなり、４，０００を越えるとポリウレタン樹脂の機械的強度が不十分なものとなる。
【００８２】
有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）としては、従来ポリウレタンの製造に使用されているものが使用でき、２〜３個又はそれ以上のイソシアネート基を有する炭素数４〜２２の脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ１）、炭素数８〜１８の脂環式ポリイソシアネート（Ｂ２）、炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）、炭素数１０〜１８の芳香脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ４）及びこれらのポリイソシアネートの変性物（Ｂ５）等が挙げられる。有機イソシアネート成分（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８３】
炭素数４〜２２の脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ１）としては、例えばエチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、２，６−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス（２−イソシアナトエチル）フマレート、ビス（２−イソシアナトエチル）カーボネート及び２−イソシアナトエチル−２，６−ジイソシアナトヘキサノエートが挙げられる。
【００８４】
炭素数８〜１８の脂環式ポリイソシアネート（Ｂ２）としては、例えばイソホロンジイソシアネート（以下、ＩＰＤＩと略記）、４，４−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（以下、水添ＭＤＩと略記）、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアナトエチル）−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボキシレート及び２，５−又は２，６−ノルボルナンジイソシアネートが挙げられる。
【００８５】
炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）としては、例えば１，３−又は１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−又は２，６−トリレンジイソシアネート（以下、ＴＤＩ略記）、粗製ＴＤＩ、４，４’−又は２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（以下、ＭＤＩと略記）、粗製ＭＤＩ、ポリアリールポリイソシアネート、４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトジフェニルメタン、１，５−ナフチレンジイソシアネート、４，４’，４”−トリフェニルメタントリイソシアネート及びｍ−又はｐ−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネートが挙げられる。
【００８６】
炭素数１０〜１８の芳香脂肪族ポリイソシアネート（Ｂ４）としては、例えばｍ−又はｐ−キシリレンジイソシアネート及びα，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネートが挙げられる。
【００８７】
（Ｂ１）〜（Ｂ４）のポリイソシアネートの変性物（Ｂ５）としては、前記ポリイソシアネートの変性物（ウレタン基、カルボジイミド基、アロハネート基、ウレア基、ビューレット基、ウレトジオン基、ウレトイミン基、イソシアヌレート基又はオキサゾリドン基含有変性物等；遊離イソシアネート基含有量が通常８〜３３重量％、好ましくは１０〜３０重量％、特に１２〜２９重量％のもの）、例えば変性ＭＤＩ（ウレタン変性ＭＤＩ、カルボジイミド変性ＭＤＩ及びトリヒドロカルビルホスフェート変性ＭＤＩ等）、ウレタン変性ＴＤＩ、ビウレット変性ＨＤＩ、イソシアヌレート変性ＨＤＩ及びイソシアヌレート変性ＩＰＤＩ等のポリイソシアネートの変性物が挙げられる。
【００８８】
これらの内で好ましいのは、炭素数８〜２６の芳香族ポリイソシアネート（Ｂ３）であり、更に好ましいのは芳香族ジイソシアネート、特に好ましいのは４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートである。
【００８９】
ポリウレタン樹脂（Ｐ）に用いられる活性水素成分（Ａ）に、一般式（７）で表されかつ少なくとも１つの活性水素を有する化合物（Ｓ１）を含有させることにより、化合物（Ｓ１）がポリウレタン樹脂（Ｐ）の分子骨格中に組み込まれてポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等が向上し、耐久性に優れる磁気記録媒体用バインダーが得られる。
【００９０】
また、ポリウレタン樹脂（Ｐ）を用いる際に、一般式（７）で表される化合物（Ｓ）を（Ｐ）に添加・混合することによっても、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の機械強度等が向上し、耐久性に優れる磁気記録媒体用バインダーが得られる。
【００９１】
一般式（７）で表される化合物（Ｓ）は、少なくとも１つの活性水素を有する化合物（Ｓ１）と活性水素を有しない（Ｓ２）とからなる。
ポリウレタン樹脂（Ｐ）の分子内に組み込む場合には、少なくとも１つの活性水素を有する化合物（Ｓ１）が用いられ、ポリウレタン樹脂（Ｐ）に添加・混合する場合には化合物（Ｓ１）、化合物（Ｓ２）いずれも用いることができる。化合物（Ｓ１）及び（Ｓ２）は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９２】
以下、一般式（７）で表される化合物（Ｓ）について説明するが、化合物（Ｓ）として好ましい範囲として記載している組成及び数値等は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）に組み込まれる少なくとも一つの活性水素を有する化合物（Ｓ１）の場合も、ポリウレタン樹脂（Ｐ）に添加・混合して使用される化合物（Ｓ）の場合も、特に規定しない限り同じである。
【００９３】
【化４】
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【００９４】
一般式（７）におけるＴ1は、ｍ価の活性水素含有有機化合物からｇ個の活性水素を除いた残基を表す。
ｍ価の活性水素含有有機化合物としては、一般式（１）におけるＭ1を導入するための１〜２０価の活性水素含有有機化合物として例示したものと同様のものが挙げられる。
【００９５】
活性水素含有有機化合物がＡＯ付加物の場合のＡＯの付加モル数はポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、８〜１００が好ましく、更に好ましくは１０〜８０である。ＡＯ付加物の水酸基価は１８〜３６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
【００９６】
化合物（Ｓ）にＴ1を導入するための活性水素含有有機化合物として、ポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から好ましいのは、水酸基含有化合物、アミノ基含有化合物及びこれらのＡＯ付加物であり、更に好ましいのは、炭素数２〜２０の多価アルコール及び炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオール、炭素数２〜２０の脂肪族ポリアミン及び多価のチオール化合物、特に好ましいのは炭素数２〜２０の多価アルコール及び炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオール、最も好ましいのは炭素数２〜２０の多価アルコールにＡＯを付加したポリエーテルポリオールである。
【００９７】
活性水素含有有機化合物の価数ｍは、ポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、通常１〜２０であり、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは２である。
【００９８】
一般式（７）におけるｇは、１〜２０でかつ１≦ｇ≦ｍを満たす整数を表し、ポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは２である。
【００９９】
一般式（７）におけるＴ2は、１〜２０価の活性水素含有有機化合物から１個の活性水素を除いた残基を表し、複数のＴ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｔ2を構成するために用いられる活性水素含有有機化合物としては、上述のＴ1で示した活性水素含有有機化合物と同様のものが挙げられ、Ｔ2とＴ1はそれぞれ同一でも異なっていてもいがポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、Ｔ1と少なくとも１つのＴ2とは異なる基であることが好ましい。
また、Ｔ2の価数はポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、通常１〜２０であり、好ましくは１〜８、更に好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２、最も好ましくは２である。
【０１００】
尚、後述のＹを構成するために用いる３価以上のポリカルボン酸に前記活性水素含有有機化合物を反応させることによりＴ1及びＴ2を化合物（Ｓ）に導入することができるが、Ｔ1及びＴ2が特に炭素数２〜４のジオール又は繰り返し単位の炭素数が２〜４のポリエーテルポリオールの場合、ポリカルボン酸のカルボキシル基に前記炭素数２〜４のＡＯを付加することによっても同等の化合物を得ることができる。
【０１０１】
一般式（７）におけるＹは、３価以上の芳香族ポリカルボン酸からすべてのカルボキシル基を除いた残基を表す。Ｙの芳香環は炭素原子から構成され、その炭素原子にはカルボキシル基以外の置換基及び／又はハロゲン原子が結合していてもよいが、少なくとも一つの炭素原子は置換基が結合しておらず水素原子と結合している必要がある。
【０１０２】
カルボキシル基以外の置換基とは、アルキル基、ビニル基、アリル基、シクロアルキル基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、チオール基、アリール基及びシアノ基等が挙げられる。
【０１０３】
Ｙを構成するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸としては、一般式（１）におけるＬを構成するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【０１０４】
一般式（７）におけるｅは１以上の整数を表し、ｆは０以上の整数を表し、かつ、２≦ｅ＋ｆ≦ｈ−２を満たし、ｈは前記芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基を含む全ての置換基を水素原子に置換した場合の芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子の数、即ち芳香環上で置換可能な部位の数を表す。例えば、芳香環が炭素原子６個から構成されるベンゼン環の場合、ｈは６であり、ｅ＋ｆは２〜４の値を取り得、芳香環が炭素原子１０個から構成されるナフタレン環の場合、ｈは８であり、ｅ＋ｆは２〜６の値を取り得る。芳香環が単環の芳香環の場合、ポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、ｅ＋ｆは２又は３が好ましい。また、ポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、ｆはｅの１／２以下であることが好ましく、特に好ましいのは０である。
【０１０５】
本発明における化合物（Ｓ）の水酸基価は、ポリウレタン樹脂の破断伸び及び破断強度の観点から、好ましくは０又は７０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇ、（Ｓ）が水酸基を有する場合、更に好ましくは７５〜３５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。（Ｓ）が水酸基を有する場合、水酸基価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満ではポリウレタン樹脂の破断強度が低下する傾向にあり、５００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えるとポリウレタン樹脂の破断伸びが低下する傾向にある。
尚、化合物（Ｓ）の水酸基価が０とは、一般式（７）におけるＴ1、Ｔ2及びＹが全て水酸基を有しないことを意味する。
【０１０６】
化合物（Ｓ）におけるＹの濃度は、化合物（Ｓ）１ｇ中の残基Ｙのミリモル数を意味し、ポリウレタン樹脂の破断伸び及び破断強度の観点から、好ましくは０．５〜８ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは０．７〜６ｍｍｏｌ／ｇ、特にに好ましくは０．９〜４ｍｍｏｌ／ｇである。
【０１０７】
化合物（Ｓ）のカルボニル基濃度は、ポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、好ましくは３〜２４ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは３．５〜１８ｍｍｏｌ／ｇ、特に好ましくは４〜１２ｍｍｏｌ／ｇである。本発明におけるカルボニル基濃度におけるカルボニル基とは、一般式（７）におけるＹに結合するカルボニル基、即ちＹを導入するために用いられる３価以上の芳香族ポリカルボン酸のカルボキシル基並びにこれから誘導されるエステル基、チオエステル基及びアミド基等の官能基中のカルボニル基を意味する。
【０１０８】
活性水素成分（Ａ）に用いられる場合の化合物（Ｓ）のモル平均官能基数は、ポリウレタン樹脂の機械強度等の観点から、１〜８が好ましく、更に好ましくは１〜６、特に好ましくは１〜４、最も好ましくは４である。
本発明におけるモル平均官能基数は、組成物中の各成分の活性水素を有する官能基の数に各成分のモル数を乗じた値の総和を各成分のモル数の総和で除した値であり、各成分のモル数は各成分の重量を各成分の分子量で除した値である。計算に用いる分子量としては、低分子化合物の様に分子量に分布がない場合は化学式量を、分子量に分布がある場合はＭｎを用いる。
【０１０９】
少なくとも１つの活性水素を有する化合物（Ｓ１）は、一般式（７）におけるＴ1、Ｔ2及びＹの内の少なくとも１種が活性水素を有する化合物である。更に詳しくは、少なくとも、Ｔ1の価数ｍとｇがｍ＞ｇを満たすか、Ｙがアミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基及びチオール基等の活性水素を有する置換基で置換されているか、Ｔ2を構成する活性水素含有有機化合物が２価以上であるか、ｆが１以上であることにより化合物（Ｓ１）は少なくとも１つの活性水素を有する。
【０１１０】
ポリウレタン樹脂（Ｐ）の分子に組み込むために用いる化合物（Ｓ１）の量は、機械強度等の観点から、活性水素成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）の合計重量を基準として０．０１〜１０重量％であることが好ましく、更に好ましくは０．１〜８重量％である。
【０１１１】
また、ポリウレタン樹脂（Ｐ）に添加・混合して用いる場合の化合物（Ｓ）の添加量は、ポリウレタン樹脂（Ｐ）の重量を基準として好ましくは０．０１〜１０重量％、更に好ましくは０．１〜５重量％である。
【０１１２】
ポリオール成分（Ａ）と有機ポリイソシアネート成分（Ｂ）とを反応させてポリウレタン樹脂（Ｐ）を製造するに際し、（Ａ）と（Ｂ）の当量比率（ＯＨの当量／ＮＣＯの当量）は通常０．６〜１．５、好ましくは０．８〜１．２、更に好ましくは０．９〜１．１である。当量比率が０．６未満又は１．５を越えると（Ａ）と（Ｂ）との反応により得られるポリウレタン樹脂の分子量が低くなり分散性が低下し、また、樹脂強度が不十分となり、耐摩耗性、耐スクラッチ性、耐加水分解性等が低下する。前記反応はイソシアネート基に対して不活性な溶媒の存在下又は不存在下で行なうことができる。このような溶媒としてはエステル系溶媒（酢酸エチル及び酢酸ブチル等）、エーテル系溶媒（ジオキサン及びテトラハイドロフラン等）、ケトン系溶媒（シクロヘキサノン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン及びキシレン等）及びこれらの２種以上の混合溶媒が挙げられる。
【０１１３】
反応方法としては（Ａ）と（Ｂ）とを一括して反応容器に仕込み反応させる方法、（Ａ）と（Ｂ）とを分割して多段反応をさせる方法、及び予め混合した（Ａ）と（Ｂ）を加熱された多軸押出し機中を通過させて反応させる方法等が挙げられる。
【０１１４】
反応温度は通常３０〜１８０℃、好ましくは６０〜１２０℃である。また、反応を促進させるため通常のウレタン反応において用いられる触媒、例えば、有機金属化合物［トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、スタナスオクトエート、レッドオレート、レッド２−エチルヘキソエートジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズラウレート、ビスマスカルボキシレート、ビスマスアルコキシド及びジカルボニル基を有する化合物とビスマスとのキレート化合物等］、無機金属化合物［酸化ビスマス、水酸化ビスマス、ハロゲン化ビスマス等］、アミン［トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ジアザビシクロウンデセン等］及びこれらの２種以上の混合物等を使用することができる。
【０１１５】
ポリウレタン樹脂（Ｐ）のＭｎは、通常１，０００〜２００，０００、好ましくは３，０００〜１５０，０００である。Ｍｎが１，０００未満では樹脂強度等が低下し、磁気テープの耐久性が劣り、２００，０００を越えると塗料粘度が高くなり、磁性粉の分散性も低下する。
【０１１６】
また、（Ｐ）のガラス転移点（Ｔｇ）は、通常０〜１２５℃、好ましくは３０〜１２０℃、更に好ましくは５０〜１１５℃である。Ｔｇが０℃未満では磁気テープの耐久性が低下し、１２５℃を超えると磁気テープ製造時のカレンダー性が悪くなる。
【０１１７】
ビニル系樹脂（Ｖ）とポリウレタン樹脂（Ｐ）の重量比は、磁気テープの耐久性及び（Ｖ）と（Ｐ）の親和性の観点から、好ましくは１：０．１〜１：１０、更に好ましくは１：０．２〜１：５、特に好ましくは１：０．２〜１：４である。混合するポリウレタン樹脂（Ｐ）の重量がビニル系樹脂（Ｖ）の重量の１／１０未満では磁気テープの耐久性が低下する場合があり、混合するポリウレタン樹脂（Ｐ）の重量がビニル系樹脂（Ｖ）の重量の１０倍を超えるとポリウレタン樹脂（Ｐ）とビニル系樹脂（Ｖ）との親和性の観点から好ましくない。
【０１１８】
本発明の磁気記録媒体用バインダーに用いられる（Ｐ）と（Ｖ）は更に必要により他の樹脂と併用してもよい。他の樹脂としては、ポリ塩化ビニル系樹脂［塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（「ＶＹＨＨ」；ＵＣＣ社製、「エスレックＣ」；積水化学製等）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（「ＶＡＧＨ」；ＵＣＣ社製、「エスレックＡ」；積水化学製等）、塩化ビニル−塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体（「サラン」；旭ダウ製等）等］、ポリウレタン系樹脂［「エステン」；グッドリッチ社製等）等］、ポリブタジエン系樹脂［アクリロニトリル−ブタジエン共重合体（「ハイカー１４８２」；日本ゼオン製等）等］、アクリル系樹脂（アクリル酸エステル系共重合体等）、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂及びエポキシ樹脂等が挙げられる。
【０１１９】
これらの他の樹脂は、樹脂中にカルボキシル基、スルホン酸金属塩基、スルホベタイン、燐酸エステル基、アミノ基、第４級アンモニウム塩基及び水酸基等の官能基を含有していてもよい。
【０１２０】
本発明の磁気記録媒体は、本発明の磁気記録媒体用バインダー、磁性粉、溶媒及び添加剤を混合・分散し、得られる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布して磁性層を形成させることにより得られる。また、本発明の磁気記録媒体用バインダーは、磁性層とは反対側のバックコート層用のバインダーとしても使用することができる。
【０１２１】
磁性塗料に使用される磁性粉としては、金属酸化物［例えばγ−Ｆｅ2Ｏ3（γ−ヘマタイト）］、ＣｒＯ3（三酸化クロム）、合金系の磁性体［例えばＣｏ−γ−Ｆｅ2Ｏ3（コバルトフェライト又はコバルトドープγ−酸化鉄）、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、バリウムフェライト及びストロンチウムフェライト］、純鉄Ｆｅ（メタルパウダー）、窒化鉄及び炭化鉄等が挙げられる。
【０１２２】
磁性塗料に用いられる溶媒としては、エステル系溶媒（酢酸エチル及び酢酸ブチル等）、エーテル系溶媒（ジオキサン及びＴＨＦ等）、ケトン系溶媒（シクロヘキサノン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルルケトン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン及びキシレン等）及びこれらの２種以上の混合溶媒が挙げられる。これらの内で好ましいのはケトン系溶媒と芳香族炭化水素系溶媒との混合溶媒である。溶媒の使用量は、磁性塗料中の固形分含量が通常２０〜８０重量％となる範囲である。
【０１２３】
更に該磁性塗料には、本発明の磁気記録媒体用バインダー及び磁性粉の他に、添加剤として公知の分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤及び架橋剤等が添加されていてもよい。
【０１２４】
分散剤としては、炭素数１２〜１８個の脂肪酸（カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸及びステアロール酸等）；金属石鹸［前記脂肪酸のアルカリ金属（カリウム及びナトリウム等）塩及びアルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム及びバリウム等）塩］等が挙げられる。
【０１２５】
潤滑剤としては、ジアルキルポリシロキサン（アルキルの炭素数１〜５）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシの炭素数１〜４）、モノアルキルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルの炭素数１〜５、アルコキシの炭素数１〜４）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン、シリコンオイル、導電性微粉末（グラファイト等）、無機粉末（二硫化モリブデン及び二硫化タングステン等）、プラスチック微粉末、脂肪酸エステル類及びフルオロカーボン類等が挙げられる。
【０１２６】
研磨剤としては、アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人造コランダム、ダイヤモンド及び人造ダイヤモンド等が挙げられる。
【０１２７】
帯電防止剤としては、導電性粉末（カーボンブラック及びカーボンブラックグラフトポリマー等）、天然界面活性剤（サポニン等）、ノニオン型界面活性剤（アルキレンオキサイド系、グリセリン系及びグリシドール系等）、カチオン型界面活性剤（高級アルキルアミン類、第四級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類及びホスホニウム類等）、アニオン型界面活性剤（カルボン酸型、スルホン酸型、燐酸型、硫酸エステル基型及び燐酸エステル基型等）、両性界面活性剤（アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸及び燐酸エステル類等）等が挙げられる。
【０１２８】
防錆剤としては、燐酸、スルフィド、グアニジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンククロメート、カルシウムクロメート、ストロンチウムクロメート等が挙げられる。また、特にジシクロヘキシルアミンナイトライト、シクロヘキシルアミンクロメート、ジイソプロピルアミンナイトライト、ジエタノールアミンホスフェート、シクロヘキシルアンモニウムカーボネート、プロピレンジアミンステアレート、グアニジンカーボネート、トリエタノールアミンナイトライト及びモルフォリンステアレート等の気化性防錆剤（アミン、アミド又はイミドの無機酸塩又は有機酸塩）を使用すると防錆効果が向上する。
【０１２９】
また、磁気記録媒体の磁性層の強度の向上を目的として磁性塗料中に架橋剤として多官能ポリイソシアネートを配合することができる。好ましい多官能ポリイソシアネートとしては、例えば有機ポリイソシアネート（ＴＤＩ及びＭＤＩ等）と活性水素化合物（低分子ポリオール、ポリアミン、ポリエーテルポリオール及びポリエステルポリオール等）とからのＮＣＯ基末端プレポリマー［例えば、「コロネートＬ」（日本ポリウレタン工業製）及び「コロネートＨＬ」（日本ポリウレタン工業製）等］等が挙げられる。
【０１３０】
架橋剤の使用量は特に限定されないが、バインダーの重量に基づいて通常３〜８０重量％である。また、架橋反応を促進させるため、前述のポリウレタン樹脂（Ｐ）の製造において例示したものと同様の触媒を適宜配合してもよい。
【０１３１】
磁気記録媒体を構成する非磁性支持体の素材としては、ポリエステル類（ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン−２，６−ナフタレート等）；ポリオレフィン類（ポリエチレン及びポリプロピレン等）；セルロース誘導体（セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、セルロースアセテートブチレート及びセルロースアセテートプロピオネート等）；ビニル系樹脂（ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデン等）；その他のプラスチック（ポリカーボネート、ポリイミド及びポリアミドイミド等）；非磁性金属類（アルミニウム、銅、スズ、亜鉛又はこれらを含む非磁性合金等）；セラミック類（ガラス、陶器及び磁器等）；バライタ又はポリオレフィン類（ポリエチレン及びエチレン−ブテン共重合体等）を塗布又はラミネートした紙；等が挙げられる。また、非磁性支持体の形態はフイルム、テープ、シート、ディスク、カード及びドラム等のいずれであってもよい。非磁性支持体上に磁性塗料を塗布して形成される磁性層の厚さは、乾燥膜厚で通常０．０５〜５０μｍである。
【０１３２】
磁気記録媒体（磁気テープ等）を製造する方法としては、例えば磁気記録媒体用バインダー、磁性粉、溶媒及び必要により添加剤を予めプレミキサー等で混合した後、混合分散機（ボールミル、ペイントコンディショナー、サンドグラインダー、サンドミル及びプラストミル等）で磁性粉を分散させて磁性塗料を作製し、次にこの磁性塗料を、ドクターブレード法又は転写印刷法（グラビア法及びリバースロール法等）等の方法により非磁性支持体に塗布後、配向、乾燥、表面加工、切断、巻取り等の工程を経て磁気記録媒体とする方法が例示できる。
【０１３３】
磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層（磁性粉及びバインダー等）からなるものが一般的であるが、非磁性支持体と磁性層の間に中間層（下塗層、アンダーコート層）を設けたもの、非磁性支持体の両面に磁性層を有するもの、磁気特性の異なる磁性層を重積したもの、磁性層の上に保護層を設けたもの、非磁性支持体にバックコート層を設けたもの等であってもよい。
【実施例】
【０１３４】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、以下において部は重量部、％は重量％を示す。
【０１３５】
製造例１  ［モノマー（Ｘ−１）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、トリメリット酸２１０部、グリシジルメタクリレート１４２部、アセトン４１７．３部及びアルカリ触媒（Ｎ−エチルモルホリン）２．１部を仕込み、９０℃で５時間反応させ、トリメリット酸１モルにグリシジルメタクリレートが１モル反応した化合物を得た。続いて、窒素雰囲気下、ＥＯ９００部を１００±１０℃で、圧力が０．５０ＭＰａ以下となるよう制御しながら、５時間かけて滴下した後、１００±１０℃で１時間熟成した後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、前記化合物にＥＯが付加したモノマー（Ｘ−１）を得た。
【０１３６】
製造例２  ［モノマー（Ｘ−２）の製造］
グリシジルメタクリレート１４２部を２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部に、ＥＯ９００部をＰＯ６９６部に代える以外は製造例１と同様にしてモノマー（Ｘ−２）を得た。
【０１３７】
製造例３  ［モノマー（Ｘ−３）の製造］
トリメリット酸２１０部をピロメリット酸２５４部に、ＥＯ９００部をＰＯ１０４４部に代える以外は製造例１と同様にしてモノマー（Ｘ−３）を得た。
【０１３８】
製造例４  ［モノマー（Ｘ−４）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、無水トリメリット酸１９２部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部、アセトン２０７．３部及びアルカリ触媒｛サンアプロ（株）製「ＤＢＮ」：１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン｝７．８部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、無水トリメリット酸１モルに２−ヒドロキシエチルメタクリレートが１モル反応した化合物を得た。続いて、フェニルグリシジルエーテル３００部を仕込み、９０℃で１０時間反応させた後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、前記化合物１モルにフェニルグリシジルエーテルが２モル反応したモノマー（Ｘ−４）を得た。
【０１３９】
製造例５  ［モノマー（Ｘ−５）の製造］
無水トリメリット酸１９２部をトリメリット酸２１０部に、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部をグリシジルメタクリレート１４２部に代える以外は製造例４と同様にしてモノマー（Ｘ−５）を得た。
【０１４０】
製造例６  ［モノマー（Ｘ−６）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、無水トリメリット酸１９２部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部及びアセトン１０７．３部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行った後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、、無水トリメリット酸１モルに２−ヒドロキシエチルメタクリレートが１モル反応したモノマー（Ｘ−６）を得た。
【０１４１】
製造例７  ［モノマー（Ｘ−７）の製造］
無水トリメリット酸１９２部を無水ピロメリット酸２１８部に、フェニルグリシジルエーテルの仕込量を４５０部に代える以外は製造例４と同様にしてモノマー（Ｘ−７）を得た。
【０１４２】
製造例８  ［モノマー（Ｘ−８）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、エチレングリコール６２部、無水トリメリット酸３８４部、アセトン２６２部及びアルカリ触媒（トリエチルアミン）１５．６部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、エチレングリコール１モルに無水トリメリット酸が２モル反応したエステル化物を得た。続いてグリシジルメタクリレート２８４部を仕込み、９０℃で５時間反応させ、前記化合物１モルにグリシジルメタクリレートが２モル反応した化合物を得た。続いてベンジルアルコール２１６部を仕込み、１２０℃で生成する水を留去しながら５時間反応させ、前記化合物１モルにベンジルアルコールが２モル反応したモノマー（Ｘ−８）を得た。
【０１４３】
製造例９  ［モノマー（Ｘ−９）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、エチレングリコール６２部、無水トリメリット酸３８４部、アセトン３４３．３部、及びアルカリ触媒｛サンアプロ（株）製「ＤＢＮ」：１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン｝７．８部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、エチレングリコール１モルに無水トリメリット酸が２モル反応したエステル化物を得た。続いてグリシジルメタクリレート２８４部を仕込み、９０℃で５時間反応させ、前記化合物１モルにグリシジルメタクリレートが２モル反応した化合物を得た。続いてフェニルグリシジルエーテル３００部を仕込み、９０℃で１０時間反応させた後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、、前記化合物１モルにエタノールが２モル反応したモノマー（Ｘ−９）を得た。
【０１４４】
製造例１０  ［モノマー（Ｘ−１０）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置付きのステンレス製オートクレーブに、エチレングリコール６２部及び無水ピロメリット酸４３６部、アセトン２７２部及びアルカリ触媒｛サンアプロ（株）製「ＤＢＮ」：１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン｝７．８部を仕込み、８５℃で６時間反応させて酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、エチレングリコール１モルに無水ピロメリット酸が２モル反応したエステル化物を得た。続いてエタノール２３０部を仕込み、１２０℃５時間反応させ、前記化合物１モルにエタノールが５モル反応した化合物を得た。続いてグリシジルメタクリレート１４２部を仕込み、１２０℃で５時間反応させた後、８０±１０℃、ゲージ圧−０．０５ＭＰａでアセトンを留去することにより、、前記化合物１モルにグリシジルメタクリレートが１モル反応したモノマー（Ｘ−１０）を得た。
【０１４５】
製造例１１  ［モノマー（Ｘ−１１）の製造］
エチレングリコール６２部をショ糖３４２部に、無水トリメリット酸の仕込量を３８４部から１５３６部に、アセトンの仕込量を２６２部から８０３部に、グリシジルメタクリレート２８４部を２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３０部に、ベンジルアルコールの仕込量を２１６部から１２０３部に代える以外は製造例８と同様にしてモノマー（Ｘ−１１）を得た。
【０１４６】
製造例１〜１１で得られたモノマーの分析結果を表１に示す。
【０１４７】
【表１】
2014114431.tif 000006
【０１４８】
製造例１２［ポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の製造］
攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、Ｍｎが１０００のポリブチレンアジペートジオール１，０００部、１，４−ブタンジオール１８０部、５−スルホ−イソフタル酸−１，３−ビス（２−ヒドロキシエチル）エステルのナトリウム塩［（ＨＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ）2Ｃ6Ｈ3ＳＯ3Ｎａ］７１．２部及び４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート７５０部を仕込み７０℃で反応させた。これにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）／シクロヘキサノン混合物（重量比１：１）を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の溶液を得た。
【０１４９】
製造例１３〜１７［ポリウレタン樹脂（Ｐ−２）〜（Ｐ−６）の製造］
仕込み原料を表２に記載のものに代える以外は実施例１と同様にして、ポリウレタン樹脂（Ｐ−２）〜（Ｐ−６）の溶液を得た。
【０１５０】
製造例１８  ［ポリウレタン樹脂水性分散体（Ｐ−７）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置を備えたステンレス製オートクレーブに、プロピレングリコールのＰＯ／ＥＯブロック付加物［三洋化成工業（株）製「サンニックスＰＬ−９１０」；Ｍｎ＝９００、水酸基価１２４．７］９００部、無水トリメリット酸３８４部及びアルカリ触媒（Ｎ−エチルモルホリン）２．１部を仕込み、窒素雰囲気下、０．２０ＭＰａ、１３０±１０℃で５時間反応させ酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、プロピレングリコールのＰＯ／ＥＯブロック付加物１モルに無水トリメリット酸が２モル反応したエステル化物を得た。続いてＥＯ１７６部を１００±１０℃で、圧力が０．５０ＭＰａ以下となるよう制御しながら、５時間かけて滴下した後、１００±１０℃で１時間熟成して、前記エステル化物にＥＯが付加した化合物（Ｓ１−１）を得た。得られた化合物（Ｓ１−１）の水酸基価は１５４ｍｇＫＯＨ／ｇであり、前記一般式（７）におけるＹの濃度＝１．４ｍｍｏｌ／ｇ、カルボニル基濃度＝４．１ｍｍｏｌ／ｇ、モル平均官能基数＝４、Ｍｎ＝１４６０、ｅ＝２、ｆ＝０、ｇ＝２である。
【０１５１】
次に、攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に表２に記載の原料を仕込み、７０℃で反応させた。これにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）／シクロヘキサノン混合物（重量比１：１）を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−７）の溶液を得た。
【０１５２】
製造例１９  ［ポリウレタン樹脂水性分散体（Ｐ−８）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置を備えたステンレス製オートクレーブに、ピロメリット酸２５４部、アルカリ触媒（Ｎ−エチルモルホリン）２．１部及び溶媒としてのＴＨＦを３１３部仕込み、窒素雰囲気下、ＥＯ１７６部を１００±１０℃で、圧力が０．５０ＭＰａ以下となるよう制御しながら、５時間かけて滴下した後、１００±１０℃で１時間熟成して、ピロメリット酸のカルボキシル基にＥＯが付加した化合物（Ｓ１−２）を得た。得られた化合物（Ｓ１−２）の水酸基価は５２２ｍｇＫＯＨ／ｇであり、前記一般式（７）におけるＹの濃度＝２．３ｍｍｏｌ／ｇ、カルボニル基濃度＝９．３ｍｍｏｌ／ｇ、モル平均官能基数＝４、Ｍｎ＝４３０、ｅ＝３、ｆ＝０、ｇ＝１である。
【０１５３】
次に、攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に表２に記載の原料を仕込み、７０℃で反応させた。これにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）／シクロヘキサノン混合物（重量比１：１）を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−８）の溶液を得た。
【０１５４】
製造例２０  ［ポリウレタン樹脂水性分散体（Ｐ−９）の製造］
撹拌装置及び温度制御装置を備えたステンレス製オートクレーブに、１，１０−デカンジオール１７４部、無水トリメリット酸３８４部、トリエチルアミン４０４部及び溶媒としてのトルエン２４６部を仕込み、窒素雰囲気下、０．２０ＭＰａ、８０±５℃で２時間反応させ酸無水物基部分のハーフエステル化を行い、１，１０−デカンジオール１モルに無水トリメリット酸が２モル反応したエステル化物を得た。続いてベンジルアミン４２８部を加え、９５±５℃、０．０６ＭＰａ以下となるように制御し、揮発するトルエンと水を冷却器で凝縮させ、トラップで分離したトルエンを反応容器に連続的に戻しながら６時間反応させた。反応後、８０±１０℃、１０ｋＰａで溶媒を留去することにより、前記エステル化合物のカルボキシル基をベンジルカルバモイル基とした化合物（Ｓ２−１）を得た。得られた化合物（Ｓ２−１）の水酸基価は０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、前記一般式（７）におけるＹの濃度＝２．２ｍｍｏｌ／ｇ、カルボニル基濃度＝６．６ｍｍｏｌ／ｇ、モル平均官能基数＝０、Ｍｎ＝９１４、ｅ＝２、ｆ＝０、ｇ＝２である。
【０１５５】
次に、攪拌機、温度計、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に表２に記載の原料を仕込み、７０℃で反応させた。これにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）／シクロヘキサノン混合物（重量比１：１）を加え、固形分３０％のポリウレタン樹脂（Ｐ−９）の溶液を得た。
【０１５６】
比較製造例１［ポリウレタン樹脂（Ｐ’−１）の製造］
仕込み原料を表２に記載のものに代える以外は製造例１２と同様にして、比較用のポリウレタン樹脂（Ｐ’−１）の溶液を得た。
【０１５７】
製造例１２〜２０及び比較製造例１で得られたポリウレタン樹脂の分析結果を表２に示す。
【０１５８】
【表２】
2014114431.tif 000007
【０１５９】
製造例２１［ビニル系樹脂（Ｖ−１）の製造］
モノマー溶液用滴下ロート、開始剤溶液用滴下ロート、攪拌装置、還流冷却管、温度計及び窒素導入管を備えたセパラブルフラスコに、シクロヘキサノン３００部を仕込み、窒素を吹き込みながら攪拌し、８０℃に昇温した。次に、シクロヘキサノン１００部、製造例１で得られたモノマー（Ｘ−１）１８７．８部、２−エチルヘキシルアクリレート１８．６部、イソブチルメタクリレート２１９．６部、ｎ−ブチルアクリレート３７．０部、スチレン２５．０部、メタクリル酸６．１部、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート５．０部からなるモノマー溶液を調製し、モノマー溶液用滴下ロートに仕込んだ。次に、アゾビスイソブチロニトリル１．０部及びシクロヘキサノン５０部からなる開始剤溶液を調製して開始剤溶液用滴下ロートに入れた。反応系内の温度を８０℃に維持したまま、モノマー溶液及び開始剤溶液を２時間かけて等速度で滴下した。滴下終了後、モノマー溶液用滴下ロート及び開始剤溶液用滴下ロートをそれぞれシクロヘキサノン２５部で洗浄し、洗浄液をセパラブルフラスコに加えた。その後も同温度で９０分間撹拌して重合を終了し、室温まで冷却してビニル系樹脂（Ｖ−１）の溶液を得た。
【０１６０】
製造例２２〜３６［ビニル系樹脂（Ｖ−２）〜（Ｖ−１６）の製造］
仕込み原料を表３に記載のものに代える以外は製造例２１と同様にして、ビニル系樹脂（Ｖ−２）〜（Ｖ−１６）の溶液を得た。
【０１６１】
比較製造例２［ビニル系樹脂（Ｖ’−１）の製造］
仕込み原料を表３に記載のものに代える以外は製造例２１と同様にして、比較用のビニル系樹脂（Ｖ’−１）の溶液を得た。
【０１６２】
【表３】
2014114431.tif 000008
【０１６３】
実施例１［磁性塗料（Ｍ−１）の製造］
製造例で得られたビニル系樹脂（Ｖ−１）の溶液にシクロヘキサノンを加えて固形分濃度を３０重量％としたビニル系樹脂溶液とポリウレタン樹脂（Ｐ−１）の溶液を用いて表４記載の固形分混合比で混合した樹脂溶液３３．３部、Ｃｏ−γ−Ｆｅ2Ｏ3微粉末１００部、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（商品名：ＶＡＧＨ；ＵＣＣ社製）１０部、レシチン１部、ＭＥＫ７５部及びトルエン７５部を混合して磁性塗料（Ｍ−１）を製造した。
【０１６４】
実施例２〜１９［磁性塗料（Ｍ−２）〜（Ｍ−１９）の製造］
ビニル系樹脂（Ｖ）の溶液とポリウレタン樹脂（Ｐ）の溶液の種類とその固形分混合比を表４に記載のものに代える以外は実施例１と同様にして、磁性塗料（Ｍ−２）〜（Ｍ−１９）を得た。
【０１６５】
比較例１〜４［比較用の磁性塗料（Ｍ’−１）〜（Ｍ’−４）の製造］
ビニル系樹脂（Ｖ）の溶液とポリウレタン樹脂（Ｐ）の溶液の混合樹脂溶液を表４記載の（Ｖ）と（Ｐ）を用いて、表４記載の固形分混合比で混合した樹脂溶液に代える以外は実施例１と同様にして、比較用の磁性塗料（Ｍ’−１）〜（Ｍ’−４）を得た。
【０１６６】
実施例１〜１９及び比較例１〜４で得られた磁性塗料について、ＢＬ型粘度計（東京計器製）を用いて測定した２５℃での粘度を表４に示す。
【０１６７】
【表４】
2014114431.tif 000009
【０１６８】
実施例２０［磁気テープ（Ｆ−１）の製造］
磁性塗料（Ｍ−１）２７１部に硬化剤［「コロネートＬ」（日本ポリウレタン工業製）、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート３モル付加物］を５部添加し、１０分間混合した。この磁性塗料をポリエステルフィルムに塗布し（乾燥膜厚５μｍ）、１，０００Ｏｅの磁場をかけて配向させた後、カレンダーロールで処理し磁気テープ（Ｆ−１）を得た。
【０１６９】
実施例２１〜３８［磁気テープ（Ｆ−２）〜（Ｆ−１９）の製造］
磁性塗料を表５に記載のものに代える以外は実施例２０と同様にして、磁気テープ（Ｆ−２）〜（Ｆ１９）を得た。
【０１７０】
比較例５〜８［磁気テープ（Ｆ’−１）〜（Ｆ’−４）の製造］
磁性塗料を表５に記載のものに代える以外は実施例２０と同様にして、比較用の磁気テープ（Ｆ’−１）〜（Ｆ’−４）を得た。
【０１７１】
実施例２０〜３８及び比較例５〜８で得られた磁気テープについて以下の方法で測定又は評価した結果を表５に示す。
【０１７２】
［磁気テープの耐久性試験］
各磁気テープについて学振式摩擦堅牢度試験機（大栄化学精機製作所製）で１００ｇの荷重で３０回摩擦後の粉落ち量（ｍｇ）を測定した。数値が小さい程、磁気テープの耐久性が良好であることを示す。
【０１７３】
［磁性粉の分散性試験］
日本電色工業製デジタル変角光沢計を用いて標準板の７５゜の反射率を測定してこの値が９５となるように調整した後、各磁気テープの反射率を測定して表面光沢度とした。表面光沢度が高いほど分散性が良好であることを示す。
【０１７４】
【表５】
2014114431.tif 000010
【産業上の利用可能性】
【０１７５】
本発明の磁気記録媒体用バインダーは、磁性粉の分散性に優れることにより磁気テープの磁気特性を向上させることができ、かつ耐久性に優れる磁気記録媒体を得ることができることから、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、データーレコーダーテープ、メタルテープ、フレキシブルディスク及び磁気カード等の磁気記録媒体用バインダーとして有用である。