(57)【要約】【課題】パターン位相差フィルム等の光学フィルムにおいて、従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与する。【解決手段】透明フィルム材による基材２上に、配向膜３、位相差層４が順次設けられ、前記配向膜３の配向規制力により前記位相差層４の液晶材料をパターンニングして、前記位相差層４により透過光に位相差を付与する光学フィルム１である。前記配向膜３が、高さが５ｎｍ以下による突条が２０μｍ以下のピッチにより形成されて、隣接する前記突条３の境界における位相差の変化が１０ｎｍ以下に抑圧されている。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による基材上に、配向膜、位相差層が順次設けられ、前記配向膜の配向規制力により前記位相差層の液晶材料をパターンニングして、前記位相差層により透過光に位相差を付与する光学フィルムにおいて、
前記配向膜は、高さが５ｎｍ以下による突条が２０μｍ以下のピッチにより形成されて、隣接する前記突条の境界における位相差の変化が１０ｎｍ以下に抑圧された
光学フィルム。
【請求項２】
前記配向膜は、
ライン状凹凸形状の延長方向が、第１の方向である第１の領域と、前記ライン状凹凸形状の延長方向が、前記第１の方向と異なる第２の方向である第２の領域とが、順次交互に設けられた
請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置した
画像表示装置。
【請求項４】
賦型処理により配向膜の生産に供される光学フィルムの製造用金型であって、
円柱形状又は円筒形状による母材表面に、面出し作業による凹溝がピッチ２０μｍ以下、深さ５ｎｍ以下により形成され、さらにライン状の凹凸形状が形成された
光学フィルムの製造用金型。
【請求項５】
透明フィルム材による基材上に、配向膜を作製する配向膜作製工程と、
前記配向膜の上に、前記配向膜の配向規制力により液晶材料をパターンニングして、透過光に位相差を付与する位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記配向膜作製工程は、
ロール版を製造するロール版の製造工程と、
前記ロール版を使用した賦型処理により前記配向膜を作製する賦型処理工程とを備え、
前記ロール版の製造工程は、
円筒形状又は円柱形状による母材を回転させながら、前記母材の周側面にバイトを所定の深さで切り込み、回転軸に沿った方向に移動させることにより、前記母材の周側面を平滑化する面出し工程と、
前記母材の周側面に、前記賦型処理に供する凹凸形状を作製する凹凸形状の作製工程とを備え、
前記面出し工程は、
前記バイトの送りピッチが、２０μｍ以下に設定された
光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
賦型処理により配向膜の生産に供される光学フィルムの製造用金型の製造方法であって、
円筒形状又は円柱形状による母材を回転させながら、前記母材の周側面にバイトを所定の深さで切り込み、軸方向に移動させることにより、前記母材の周側面を平滑化する面出し工程と、
前記母材の周側面に、前記賦型処理に供する凹凸形状を作製する凹凸形状の作製工程とを備え、
前記面出し工程は、
前記バイトの送りピッチが、２０μｍ以下に設定された
光学フィルムの製造用金型の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用する光学フィルムであるパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パッシブ方式により３次元画像を表示する画像表示装置が提供されている。ここで図７は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の画像表示装置を示す概略図である。パッシブ方式の画像表示装置は、垂直方向又は水平方向（この図７の例では、垂直方向）に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当ててそれぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用の画素及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供し、３次元画像を表示する。
【０００３】
このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける画素の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に設けられる。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度の何れかの組み合わせが採用される。このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。
【０００４】
このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作成する方法が開示されている。また特許文献２には、レーザーの照射によりロール版の周側面に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写してパターン状に配向規制力を制御した光配向膜を作製する方法が開示されている。
【０００５】
ところでパターン位相差フィルムでは、位相差層で正しく位相差を付与することができない場合、右目用の画像及び左目用の画像をそれぞれ視聴者の右目及び左目に選択的に供給することが困難になり、画質の劣化が知覚されるようになる。そこでパターン位相差フィルムでは、位相差層を精度良く作製することが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２２９６号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式の３次元画像表示に係るパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、従来に比して一段と精度良く位相差層を作製することができる光学フィルム、この光学フィルムを使用した画像表示装置、この光学フィルムの製造用金型等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、賦型処理により配向膜の作製に供するロール版に関して、母材表面の平滑化処理に供するバイトの送りピッチを低減することにより、母材表面の平滑度を向上し、母材表面の凹凸に起因する光学特性のばらつきを低減するとの知見を得、本発明を完成するに至った。
【０００９】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１０】
（１）  透明フィルム材による基材上に、配向膜、位相差層が順次設けられ、前記配向膜の配向規制力により前記位相差層の液晶材料をパターンニングして、前記位相差層による透過光に位相差を付与する光学フィルムにおいて、
前記配向膜は、高さが５ｎｍ以下による突条が２０μｍ以下のピッチにより形成されて、隣接する前記突条の境界における位相差の変化が１０ｎｍ以下に抑圧される。
【００１１】
（１）によれば、突条の大きさを制限することにより、突条の境界における急激な位相差の変化を充分に抑圧することができ、これにより従来に比して一段と精度良く位相差層を作製してなる光学フィルムを生産することができる。
【００１２】
（２）  （１）において、前記配向膜は、
ライン状凹凸形状の延長方向が、第１の方向である第１の領域と、前記ライン状凹凸形状の延長方向が、前記第１の方向と異なる第２の方向である第２の領域とが、順次交互に設けられる。
【００１３】
（２）によれば、パッシブ方式による３次元画像表示に適用されるパターン位相差フィルムに関して、従来に比して一段と精度良く位相差層を作製してなる光学フィルムを生産することができる。
【００１４】
（３）  （１）又は（２）に記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置する。
【００１５】
（３）によれば、従来に比して一段と精度良く位相差層を作製してなる光学フィルムを適用して画像表示装置を構成することができる。
【００１６】
（４）  賦型処理により配向膜の生産に供される光学フィルムの製造用金型であって、
円柱形状又は円筒形状による母材表面に、面出し作業による凹溝がピッチ２０μｍ以下、深さ５ｎｍ以下により形成され、さらにライン状の凹凸形状が形成される。
【００１７】
（４）によれば、賦型処理により凹溝に対応して作製される突条の大きさを制限することができ、これにより突条の境界における急激な位相差の変化を充分に抑圧することができ、その結果、従来に比して一段と精度良く位相差層を作製してなる光学フィルムを生産することができる。
【００１８】
（５）  透明フィルム材による基材上に、配向膜を作製する配向膜作製工程と、
前記配向膜の上に、前記配向膜の配向規制力により液晶材料をパターンニングして、透過光に位相差を付与する位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記配向膜作製工程は、
ロール版を製造するロール版の製造工程と、
前記ロール版を使用した賦型処理により前記配向膜を作製する賦型処理工程とを備え、
前記ロール版の製造工程は、
円筒形状又は円柱形状による母材を回転させながら、前記母材の周側面にバイトを所定の深さで切り込み、回転軸に沿った方向に移動させることにより、前記母材の周側面を平滑化する面出し工程と、
前記母材の周側面に、前記賦型処理に供する凹凸形状を作製する凹凸形状の作製工程とを備え、
前記面出し工程は、
前記バイトの送りピッチが、２０μｍ以下に設定される。
【００１９】
（５）によれば、面出し処理によりロール版に作製される凹溝を充分に小さくして、この凹溝により発生する配向膜における突条を充分に小さくすることができ、その結果、突条の境界における急激な位相差の変化を充分に抑圧して、従来に比して一段と精度良く位相差層を作製してなる光学フィルムを生産することができる。
【００２０】
（６）  賦型処理により配向膜の生産に供されるロール版の製造方法であって、
円筒形状又は円柱形状による母材を回転させながら、前記母材の周側面にバイトを所定の深さで切り込み、軸方向に移動させることにより、前記母材の周側面を平滑化する面出し工程と、
前記母材の周側面に、前記賦型処理に供する凹凸形状を作製する凹凸形状の作製工程とを備え、
前記面出し工程は、
前記バイトの送りピッチが、２０μｍ以下に設定される。
【００２１】
（６）によれば、面出し処理によりロール版に作製される凹条を充分に小さくして、この凹条により発生する配向膜における突条を充分に小さくすることができ、その結果、突条の境界における急激な位相差の変化を充分に抑圧して、従来に比して一段と精度良く位相差層を作製してなる光学フィルムを生産することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、パッシブ方式の画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図である。
【図３】ロール版の製造工程を示す図である。
【図４】図３の続きを示す図である。
【図５】面出し工程の説明に供する図である。
【図６】バイトの送りピッチの説明に供する図である。
【図７】パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２５】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向が対応する方向である）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、パターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２６】
ここでパターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により位相差層４が形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域（第１の領域）Ａと左目用の領域（第２の領域）Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００２７】
配向膜３は、基材２の表面に、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂の賦型処理により凹凸形状が作製される。この実施形態では、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂５が適用される。なお紫外線硬化性樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを適用することができる。
【００２８】
これにより配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線状）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂとで９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（水平方向であり、図１においては右上と左下とを結ぶ方向）に対して４５度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材２のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。パターン位相差フィルム１は、この図１に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。
【００２９】
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示す略線図である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、ダイ１２によりこの基材２に紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程１０において、ロール版２０は、パターン位相差フィルム１の配向膜３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型である。製造工程１０は、紫外線硬化性樹脂５が塗布された基材２を加圧ローラ１４によりロール版２０の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置１５による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂５を硬化させる。これにより製造工程１０は、ロール版２０の周側面に形成された凹凸形状を基材２に転写する。その後、剥離ローラ１６によりロール版２０から基材２を硬化した紫外線硬化性樹脂５と一体に剥離し、ダイ１９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置１７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール１８に巻き取る。パターン位相差フィルム１は、この巻き取りリール１８に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム１は、ロールにより提供される基材２を連続して処理して効率良く大量生産される。
【００３０】
図３及び図４は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。なおこの図３及び図４において、パターン位相差フィルム１の領域Ａ、Ｂに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢにより示す。この製造工程では、母材４０の周側面に下地層４１を作製した後、面出し工程において、母材４０の周側面を切削により平滑化する（図３（ａ））。ここで母材４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状又は円柱形状の金属材料である。母材４０は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、アルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材４０は、アルミニウムのパイプ材を切断して作製される。
【００３１】
下地層４１は、上層に設けられる材料層について、母材４０に対する密着力を強化するためと、面出加工を施すために設けられる。この実施形態では、下地層４１は、銅を充分な厚みでメッキして作製される。
【００３２】
続いてこの工程は、下地層４１の上に、第１の無機材料層４２を作製する。この実施形態では、この第１の無機材料層４２にニッケル層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのニッケル層を作製する。なおこの第１の無機材料層４２は、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどから選択される。
【００３３】
続いてこの工程は、図３（ｂ）に示すように、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスク４３Ａが作製される。続いてこの工程は、図３（ｃ）に示すように、第１の凹凸形状作製工程において、ラビング処理により全面に微小なライン状凹凸形状を形成する。なお図３及び図４では、便宜上、ラビングロールＲによりラビング処理を示す。
【００３４】
続いてこの工程は、マスク４３Ａを除去した後、図４（ｄ）に示すように、マスク４３Ａとは逆に、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを被覆し、かつ右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを露出させたマスク４３Ｂが作製される。続いてこの工程は、図４（ｅ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、ラビング処理により全面に微小なライン状凹凸形状を形成する。
【００３５】
その後、製造工程は、図４（ｆ）に示すように、レジスト除去工程において、マスク４３Ｂを除去する。これらによりこの製造工程は、交互のマスクラビングにより配向膜３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製し、ロール版２０を作製する。
【００３６】
図５は、面出し工程の説明に供する図である。面出し工程５０は、ロール版２０に係る円筒形状の母材４０をその中心軸ａがほぼ水平になるように保持し、矢印Ａにより示すように、この状態で電動機を備えたロール版駆動部５１によりこの母材４０をこの中心軸ａを回転中心にして所定の回転速度で回転駆動する。この状態でこの面出し工程５０は、この切削加工用のバイト５２を母材４０の周側面に所定の深さで切り込み、周側面を切削する。またこの状態で、矢印Ｂにより示すように、電動機を備えたバイト送り部５３により母材４０の回転中心軸に沿った方向にバイト５２を移動させる。これによりこの面出し工程５０は、母材４０の回転速度とバイト５２の送り速度とで決まるピッチにより順次母材４０の周側面を切削して平滑化する。
【００３７】
〔光学特性の改善〕
ところでこのようにして作製されるパターン位相差フィルム１について、クロスニコル配置による直線偏光板の間に挟持した状態で、領域Ａ及びＢが消光位になるようにパターン位相差フィルムを配置して領域Ａ及びＢを観察した。この場合、領域Ａ及びＢでは、消光位に係る黒色の背景の中に、領域Ａ及びＢの延長方向に延長するスジ状の模様が観察された。これにより領域Ａ及びＢでは、周辺の部位に比して透過光に与える位相差が異なる領域がスジ状に一定のピッチで形成されていることが判った。
【００３８】
またレンズを用いた微小領域を測定可能な位相差測定装置を使用して領域Ａ及びＢについて位相差を測定したところ、このようなスジ状の模様に対応して、一定のピッチで位相差の急激な変化が観察された。このようなスジ状の領域における急激な位相差の変化を低減することができれば、一段と精度良く位相差層を作製して画質を向上することができる。
【００３９】
そこでこのスジ状の模様を詳細に検討したところ、このスジ状模様のピッチが、面出し工程におけるバイトの送りピッチに等しいことが判った。またさらにロール版２０の凹凸形状を回転軸に沿った方向に計測したところ、図６（ａ）に示すように、面出し工程におけるバイト５２に切削痕による凹凸形状が確認された。なおこの凹凸形状は、バイト５２の切削痕跡に対応する凹溝の連続である。またこれにより図６（ｂ）に示すように、パターン位相差フィルム１においても、ロール版２０の凹凸形状に対応する断面円弧形状の突条が配向膜３の表面に見て取られ、パターン位相差フィルム１では、この凹凸形状に係る隣接する突条の境界で、位相差が急激に変化することが判った。
【００４０】
より具体的にノーズ角１２Ｒによるバイトを使用し、送りピッチ５０μｍにより面出し処理した場合、ピッチＰが５０μｍ、深さＤが２６ｎｍにより凹溝が作製された（図６（ａ））。またこれによりパターン位相差フィルム１においても、ピッチＰが５０μｍ、高さＨが２６ｎｍによる突条が見られた。
【００４１】
そこでこの実施形態では、面出し工程におけるバイトの送りピッチを２０μｍ以下に設定した。ここでバイトの送りピッチを２０μｍに設定し、ノーズ角１２Ｒのバイトを使用する場合、ロール版に作製される凹溝はピッチＰが２０μｍ、深さＤが５ｎｍとなり、このロール版を使用して作成されるパターン位相差フィルムにおいては、ピッチＰが２０μｍ、高さＨが５ｎｍにより突条が作製された。またこの場合、パターン位相差フィルムにおいては、突条の境界における位相差の急激な変化を１０ｎｍ以下に抑圧することができ、これにより従来に比して格段的に光学特性を向上することができた。なおこの境界における位相差の変化量は、境界以外の部位で離散的に測定した複数の計測結果による平均値と、境界の部位における急激な位相差のピーク値との差分絶対値である。
【００４２】
以上の構成によれば、面出し工程におけるバイトの送りピッチを２０μｍ以下に設定することにより、従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することが可能に、光学フィルムを生産することができ、さらには光学フィルムの生産可能な製造用金型を得ることができる。
【００４３】
またこのようにして生産して光学フィルムにおいて、５ｎｍ以下による突条が２０μｍ以下のピッチにより連続するように配向膜を作製して、従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。
【００４４】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００４５】
すなわち上述の実施形態では、母材表面に下地層を設けた後、面出し処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、下地層を設ける前に面出し処理する場合等、下地層を省略する場合等、要は母材の表面を面出し処理により平滑化する場合に広く適用することができる。
【００４６】
すなわち上述の実施形態では、紫外線硬化性樹脂を賦型用樹脂に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種の賦型用樹脂を広く適用することができ、また軟化させた基材を直接ロール版に押し付けて賦型する場合にも広く適用することができる。
【００４７】
また上述の実施形態では、本発明をパターン位相差フィルムに適用して、右目用領域及び左目用領域による第１及び第２の領域が交互に連続するように位相差層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、全面に一様にライン状の凹凸形状を作製して例えば１／２位相差板、１／４位相差板を作製する場合、これらを基板と一体に積層して円偏光板を構成する場合、又はこれらの位相差層を配向膜と共に直接積層して円偏光板を構成する場合、このような円偏光板と直線偏光板とを積層して反射防止フィルムを作製する場合等、配向膜の配向規制力により位相差層の液晶材料を配向させて透過光に位相差を付与する種々の光学フィルムに広く適用することができる。
【００４８】
また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。
【符号の説明】
【００４９】
１  パターン位相差フィルム
２  基材
３  配向膜
４  位相差層
５  紫外線硬化性樹脂
１０  製造工程
１１  供給リール
１２、１９  ダイ
１４  加圧ローラ
１５、１７  紫外線照射装置
１６  剥離ローラ
１８  巻き取りリール
２０  ロール版
４０  母材
４１  下地層
４２  無機材料層
４３Ａ、４３Ｂ  マスク
５０  面出し工程
５１  ロール版駆動部
５２  バイト
５３  バイト送り部
【図１】
2014059351.tif 000003
【図２】
2014059351.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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