(57)【要約】【課題】光の散乱因子となるマット剤の含有量を減らして高コントラスト化を図りながら、フィルムの巻き性を良好に確保する。【解決手段】マット剤を含む単層の光学フィルムの表面には、マット剤によって凹凸が形成された第１の凹凸形状が存在している。そして、上記第１の凹凸形状の表面上に、第１の凹凸形状よりも凹凸周期が小さくかつ凸部の密度が高い第２の凹凸形状が形成されている。【選択図】図１
2014010203.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マット剤を含む単層の光学フィルムであって、
該光学フィルムの表面には、前記マット剤によって凹凸が形成された第１の凹凸形状が存在し、前記第１の凹凸形状の表面上に、前記第１の凹凸形状よりも凹凸周期が小さくかつ凸部の密度が高い第２の凹凸形状が形成されていることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記第１の凹凸形状において、凹凸周期は２００ｎｍ以上２μｍ以下であり、凸部の密度は５個／μｍ2以上２０個／μｍ2未満であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記第２の凹凸形状において、凹凸周期は５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満であり、凸部の密度は２０個／μｍ2以上５０個／μｍ2以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
該光学フィルムは、フィルム全体の膜厚に対して０．２５〜０．５％の膜厚で構成されて表面に前記第１の凹凸形状と前記第２の凹凸形状とを有する表層部と、該表層部の下層となる下層部とで構成されており、
前記表層部に含まれる炭素原子の前記表層部全体に対する割合は、前記下層部に含まれる炭素原子の前記下層部全体に対する割合よりも、０．２〜３％少なく、
前記表層部に含まれる酸素原子の前記表層部全体に対する割合は、前記下層部に含まれる酸素原子の前記下層部全体に対する割合よりも、０．２〜３％多いことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
マット剤を含む単層の光学フィルムの製造方法であって、
前記マット剤によって凹凸が形成された第１の凹凸形状が存在する前記光学フィルムの表面にコロナ処理を行うことにより、前記第１の凹凸形状の表面に、前記第１の凹凸形状よりも凹凸周期が小さくかつ凸部の密度が高い第２の凹凸形状を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記コロナ処理により、前記第１の凹凸形状の表面に、凹凸周期が５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満であり、かつ、凸部の密度が２０個／μｍ2以上５０個／μｍ2以下の前記第２の凹凸形状を形成することを特徴とする請求項５に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記コロナ処理を、以下の条件で行うことを特徴する請求項５または６に記載の光学フィルムの製造方法；
照射エネルギー：１０００〜１００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2
電極とフィルムとの距離：０．５〜３ｍｍ
湿度：１０〜６０％
風速：０．３〜１０ｍ／ｓｅｃ
である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マット剤を含む単層の光学フィルムと、その製造方法とに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、ＥＬ（Electro Luminescence）等に代表される画像表示装置（以下、これを「ディスプレイ」と称する）は、テレビやコンピュータをはじめとして様々な分野で使用されており、目覚ましい発展を遂げている。特に液晶ディスプレイは、薄く、軽量で、かつ汎用性に富むディスプレイとして、薄型テレビや携帯電話、パーソナルコンピュータ、デジタルカメラ、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）その他各種デバイス用の表示媒体として普及が著しい。中でも、ＶＡ（Vertical Alignment）方式で駆動されて高コントラストな表示を行う液晶ディスプレイの普及が著しい。
【０００３】
一方、樹脂を延伸してなる光学フィルムは、その光学異方性を利用して、各種ディスプレイ装置において様々な光学的機能を果たすフィルムとして用いられている。例えば、液晶ディスプレイにおいては、光学フィルムを着色防止、視野角拡大などの光学補償のためのフィルムとして用いたり、偏光子と貼り合わせて偏光板保護フィルムを兼ねた位相差フィルムとして用いたりすることが知られている。
【０００４】
このような光学フィルムを例えば溶液流延法によって製膜する場合、この光学フィルムは、支持体へのドープの流延、支持体からのウェブ（ドープ膜）の剥離、延伸、乾燥の各工程を経て製造され、最後に巻取部にて巻き取られる。光学フィルムの構成材料には、通常、光学フィルムの巻き性を良好にするために、つまり、光学フィルムのキシミを改善して（摩擦を低減して）、巻き取りの際にフィルム同士が貼り付くブロッキングを低減するために、シリカなどの微粒子がマット剤としてフィルム中に含有されている。
【０００５】
ところが、光学フィルムに含まれる上記のマット剤は、光の散乱因子となり、ヘイズを劣化させるため、高コントラストを実現する液晶ディスプレイ（特にＶＡ方式の液晶ディスプレイ）の偏光板に適用される光学フィルムの製造においては、フィルム中に含まれるマット剤の量を減らすことが望まれる。しかし、上記したように、マット剤はフィルムの巻き性を良好に確保するために必要不可欠であり、マット剤の量を減らすと、巻き性を良好に確保することができなくなる。
【０００６】
したがって、マット剤の含有量を減らして高コントラストを実現可能としつつ、フィルムの巻き性を良好に確保するための工夫が必要となる。
【０００７】
なお、特許文献１では、フィルムの少なくとも片面に希ガス雰囲気下でコロナ処理を行うことにより、フィルム表面を改質して、水性インクによる印刷性や、接着剤による接着性を高めるようにしているが、このときのコロナ放電量は、１．５〜４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2と低いため、フィルムの巻き性を良好に確保できる程度の凹凸がフィルム表面に形成されているとは考えにくい。このため、特許文献１の光学フィルムでは、マット剤の含有量を減らしつつ、フィルムの巻き性を良好に確保することはできないものと考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−１２０９５９号公報（請求項１、段落〔０００２〕、〔０００４〕、〔０００７〕、〔００２９〕等参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、前記の事情に鑑み、光の散乱因子となるマット剤の含有量を減らして高コントラスト化を図りながら、フィルムの巻き性を良好に確保することができる光学フィルムと、その光学フィルムの製造方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
【００１１】
１．マット剤を含む単層の光学フィルムであって、
該光学フィルムの表面には、前記マット剤によって凹凸が形成された第１の凹凸形状が存在し、前記第１の凹凸形状の表面上に、前記第１の凹凸形状よりも凹凸周期が小さくかつ凸部の密度が高い第２の凹凸形状が形成されていることを特徴とする光学フィルム。
【００１２】
２．前記第１の凹凸形状において、凹凸周期は２００ｎｍ以上２μｍ以下であり、凸部の密度は５個／μｍ2以上２０個／μｍ2未満であることを特徴とする前記１に記載の光学フィルム。
【００１３】
３．前記第２の凹凸形状において、凹凸周期は５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満であり、凸部の密度は２０個／μｍ2以上５０個／μｍ2以下であることを特徴とする前記１または２に記載の光学フィルム。
【００１４】
４．該光学フィルムは、フィルム全体の膜厚に対して０．２５〜０．５％の膜厚で構成されて表面に前記第１の凹凸形状と前記第２の凹凸形状とを有する表層部と、該表層部の下層となる下層部とで構成されており、
前記表層部に含まれる炭素原子の前記表層部全体に対する割合は、前記下層部に含まれる炭素原子の前記下層部全体に対する割合よりも、０．２〜３％少なく、
前記表層部に含まれる酸素原子の前記表層部全体に対する割合は、前記下層部に含まれる酸素原子の前記下層部全体に対する割合よりも、０．２〜３％多いことを特徴とする前記１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１５】
５．マット剤を含む単層の光学フィルムの製造方法であって、
前記マット剤によって凹凸が形成された第１の凹凸形状が存在する前記光学フィルムの表面にコロナ処理を行うことにより、前記第１の凹凸形状の表面に、前記第１の凹凸形状よりも凹凸周期が小さくかつ凸部の密度が高い第２の凹凸形状を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００１６】
６．前記コロナ処理により、前記第１の凹凸形状の表面に、凹凸周期が５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満であり、かつ、凸部の密度が２０個／μｍ2以上５０個／μｍ2以下の前記第２の凹凸形状を形成することを特徴とする前記５に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１７】
７．前記コロナ処理を、以下の条件で行うことを特徴する前記５または６に記載の光学フィルムの製造方法；
照射エネルギー：１０００〜１００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2
電極とフィルムとの距離：０．５〜３ｍｍ
湿度：１０〜６０％
風速：０．３〜１０ｍ／ｓｅｃ
である。
【発明の効果】
【００１８】
上記の構成および製造方法によれば、光学フィルムの表面には、マット剤によって凹凸が形成された第１の凹凸形状に加えて、第１の凹凸形状よりも、凹凸周期が小さくかつ凸部の密度が高い第２の凹凸形状が形成されるので、第１の凹凸形状の凹凸を減らしても、つまり、マット剤の含有量を減らしても、第２の凹凸形状の凹凸によってフィルムの巻き性を良好に確保することができる。したがって、散乱因子となるマット剤の含有量を減らして高コントラスト化を図りながら、フィルムの巻き性を良好に確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】（ａ）は、本発明の実施の形態に係る光学フィルムの全体の断面図であり、（ｂ）は、図１（ａ）の表層部の表面を拡大して示す断面図であって、表面に第２の凹凸形状Ｐ２が形成される前後での断面図である。
【図２】上記光学フィルムの製造装置の一例を模式的に示す断面図である。
【図３】上記製造装置のコロナ処理部の概略の構成を模式的に示す説明図である。
【図４】（ａ）は、コロナ処理前のフィルム表面に対するフーリエ解析の結果を示すグラフであり、（ｂ）は、コロナ処理後のフィルム表面に対するフーリエ解析の結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】
（光学フィルム）
本実施形態の光学フィルムは、単層からなる樹脂材料で構成されている。光学フィルムの材料としては、例えばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、またはこれらのいずれかをブレンドしたものをフィルム材料として用いることもできる。
【００２２】
光学フィルムは、例えば溶液流延（製膜）法と呼ばれる手法を用いて製膜される。この手法では、例えば無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムからなる流延用支持体上に、樹脂材料の溶解液（ドープ）を加圧ダイから流延（キャスティング）し、支持体からウェブ（ドープ膜）を剥離した後、延伸、乾燥の各工程を経て、光学フィルムが製膜される。製膜された光学フィルムは、巻取部にて巻き取られる。なお、溶液流延法による製膜の詳細については後述する。
【００２３】
光学フィルムとして、例えばセルロースエステルフィルムを製膜する場合、ドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な沸点を有していることが好ましく、例えば、メチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセト酢酸メチル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、蟻酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等を用いることができる。特に、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル等が、好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）として用いられる。良溶媒の中でも、特に、溶解性に優れるメチレンクロライドあるいは酢酸メチルが好ましく用いられる。
【００２４】
また、流延用支持体上に形成されたウェブから溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒は、沸点が３０〜８０℃であるものが好ましい。例えば、上記した良溶媒の沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（沸点５６．３℃）、酢酸エチル（沸点７６．８２℃）等である。
【００２５】
上記有機溶媒には、０．１〜４０質量％、好ましくは５〜３０質量％の、炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。ドープを流延用支持体上に流延した後、溶媒が蒸発し始め、アルコールの比率が多くなると、ウェブ（ドープ膜）がゲル化して丈夫になり、流延用支持体からウェブを剥離することが容易となる。この場合、上記のアルコールは、ゲル化溶媒として機能する。また、上記のアルコールには、その割合が少ないときに、非塩素系有機溶媒におけるセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。
【００２６】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができる。これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよいことから、エタノールを用いるが好ましい。より好ましくは、メチレンクロライド７０質量％〜９５質量％に対して、エタノール５質量％〜３０質量％を含む溶媒を用いることが好ましい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。
【００２７】
本実施形態の光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルムは、可塑剤として、リン酸エステル系可塑剤や、非リン酸エステル系可塑剤を含んでいることが好ましい。
【００２８】
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【００２９】
非リン酸エステル系可塑剤としては、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、多価アルコール系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
【００３０】
本実施形態の光学フィルムは、紫外線吸収剤を含んでいることが好ましい。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。このように好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【００３１】
特に、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤を用いることが好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を用いることがさらに好ましい。
【００３２】
本実施形態の光学フィルムは、酸化防止剤を含んでいることが好ましい。この場合、本実施形態の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いた液晶ディスプレイが、高湿高温の状態に場合でも、偏光板保護フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等によって、偏光板保護フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりすることができ、偏光板保護フィルムの劣化を抑制することができる。
【００３３】
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。
【００３４】
特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【００３５】
（マット剤について）
本実施形態の光学フィルムは、該光学フィルム中に、フィルム重量に対して、０．１重量％の微粒子をマット剤として含んでいることが好ましい。マット剤としての微粒子は、無機化合物であってもよく、有機化合物であってもよい。無機化合物の例としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫等の微粒子が挙げられる。この中では、ケイ素原子を含有する化合物であることが好ましく、特に二酸化ケイ素微粒子が好ましい。二酸化ケイ素微粒子としては、例えばアエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ９７６、Ｒ９７６Ｓ、Ｒ２０２、Ｒ８１２，Ｒ８０５、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＲＹ５０、ＲＸ５０、ＮＹ５０、ＮＡＸ５０、ＮＡ５０Ｈ、ＮＡ５０Ｙ、ＮＸ９０、ＲＹ２００Ｓ、ＲＹ２００、ＲＸ２００、Ｒ８２００、ＲＡ２００Ｈ、ＲＡ２００ＨＳ、ＮＡ２００Ｙ、Ｒ８１６、Ｒ１０４、ＲＹ３００、ＲＸ３００、Ｒ１０６などがあげられる。分散性や粒径を制御する点では、ＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ、Ｒ９７２Ｖが好ましい。
【００３６】
また、上記微粒子の１次平均粒子径としては、２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。なお、微粒子の１次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個の粒子径を測定し、その平均値をもって、１次平均粒子径とした。これらの微粒子は０．０５〜５μｍの粒径の２次粒子を形成して光学フィルムに含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は０．０５〜２μｍであり、さらに好ましくは０．１〜０．６μｍである。
【００３７】
図１（ａ）は、本実施形態の光学フィルムＦの全体の断面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）の表層部Ｆ１の表面を拡大して示す断面図であって、表面に後述する第２の凹凸形状Ｐ２が形成される前後での断面図である。光学フィルムＦがマット剤としての微粒子を含有していることにより、フィルム表面には、マット剤に由来する第１の凹凸形状Ｐ１が形成されている。この第１の凹凸形状Ｐ１では、第１の凹凸形状Ｐ１の凹凸を形成する凸部Ｃ１の周期ｔ１が２００ｎｍ以上２μｍ以下となっており、凸部Ｃ１の密度が５個／μｍ2以上２０個／μｍ2未満となっている。
【００３８】
なお、本実施形態において、凸部の周期（凹凸周期）とは、隣り合う２つの凸部の間隔（隣り合う凸部の頂点と凸部の頂点との距離）を指す。この凸部の周期は、上記した範囲内で常に一定であってもよいし、上記範囲内でランダムに変化してもよい。つまり、本実施形態における凸部の周期は、必ずしも一定であることを要しない（凸部が一定の周期性を持って形成される場合には限定されない）。なお、図１（ｂ）では、第１の凹凸形状Ｐ１の各凸部Ｃ１の形状は互いに異なっているが、全て同じ形状、同じ高さ（凹凸差）であってもよい。
【００３９】
このように光学フィルムＦの表面にマット剤に由来する第１の凹凸形状Ｐ１が形成されることにより、第１の凹凸形状Ｐ１の凹凸によってフィルム表面に適切な滑り性を与えることができる。したがって、光学フィルムＦのキシミを改善して（摩擦を低減して）、巻き取りの際にフィルム同士が貼り付くブロッキングを低減することができ、後述する巻取部１４（図２参照）での光学フィルムＦの巻き性を向上させることができる。
【００４０】
特に、第１の凹凸形状Ｐ１において、凹凸周期は２００ｎｍ以上２μｍ以下であり、凸部Ｃ１の密度は５個／μｍ2以上２０個／μｍ2未満であることにより、フィルム表面に適切な滑り性を確実に与えることができ、光学フィルムＦの巻き性を確実に向上させることができる。
【００４１】
また、本実施形態では、光学フィルムＦの第１の凹凸形状Ｐ１の表面上に、第２の凹凸形状Ｐ２が形成されている。この第２の凹凸形状Ｐ２は、光学フィルムＦの製造時において、後述するコロナ処理部１３（図２参照）でのコロナ処理によって形成される。ちなみに、第２の凹凸形状Ｐ２では、凹凸周期、すなわち、第２の凹凸形状Ｐ２の凹凸を形成する凸部Ｃ２の周期ｔ２が５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満となっており、凸部Ｃ２の密度が２０個／μｍ2以上５０個／μｍ2以下となっている。つまり、第２の凹凸形状Ｐ２の凹凸周期は、第１の凹凸形状Ｐ１の凹凸周期よりも小さく、第２の凹凸形状Ｐ２の凸部Ｃ２の密度は、第１の凹凸形状Ｐ１の凸部Ｃ１の密度よりも高くなっている。なお、第２の凹凸形状Ｐ２による効果については後述する。
【００４２】
上記した光学フィルムＦは、図１（ａ）に示すように、表層部Ｆ１と、その下層となる下層部Ｆ２とで構成されている。表層部Ｆ１の膜厚は、フィルム全体の膜厚に対して０．２５〜０．５％である。したがって、光学フィルムＦの膜厚を例えば４０μｍとすると、表層部Ｆ１の膜厚は０．０１〜０．０２μｍであり、下層部Ｆ２の膜厚は残りの３９．９８〜３９．９９μｍである。上記した第１の凹凸形状Ｐ１および第２の凹凸形状Ｐ２は、光学フィルムＦの表層部Ｆ１の表面に形成されている。
【００４３】
（光学フィルムの製造方法）
次に、本実施形態の光学フィルムＦの製造方法について説明する。なお、ここでは、光学フィルムＦとしてセルロースエステルフィルムを製造する場合を例として説明する。また、光学フィルムＦを溶液流延法によって製造する場合を例として説明する。なお、光学フィルムＦを溶融流延法によって製造してもよい。
【００４４】
（溶液流延法）
溶液流延法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体からウェブを剥離する工程、剥離したウェブを延伸又は幅保持する工程、更にウェブを乾燥する工程、仕上がった光学フィルムを巻き取る工程により行われる。以下、より具体的に説明する。
【００４５】
図２は、本実施形態の光学フィルムＦの製造装置の一例を模式的に示す断面図である。図２において、まず溶解釜１で、例えばセルロースエステル等の樹脂を、良溶媒及び貧溶媒の混合溶媒に溶解し、これに上記した可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加剤を添加してドープを調製する。なお、良溶媒とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを指し、貧溶媒とは、使用するセルロースエステルを単独では溶解しないか、膨潤するものを指す。
【００４６】
ついで、溶解釜１で調整されたドープを、加圧型定量ギヤポンプ２を通して、導管によって流延ダイ３に送液し、無限に移送する回転駆動ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる金属支持体６上の流延位置に、流延ダイ３からドープを流延し、これにより形成されたウェブ９（流延膜）を、金属支持体６上に接触させる。金属支持体６としてのエンドレスベルトは、前後一対のドラム５・５及び中間の複数のロール（不図示）により保持されている。エンドレスベルトの両端巻回部のドラム５・５の一方又は両方に、エンドレスベルトに張力を付与する駆動装置（不図示）が設けられており、これによってエンドレスベルトは張力が掛けられて張った状態で使用される。
【００４７】
なお、上記のエンドレスベルトの代わりに、表面にハードクロムメッキ処理を施したステンレス鋼製の回転駆動ドラムを金属支持体６として用い、この回転駆動ドラム上に流延ダイ３からドープを流延してウェブを形成してもよい。
【００４８】
流延ダイ３によるドープの流延には、流延されたウェブをブレードで膜厚調節するドクターブレード法、流延されたウェブを逆回転するロールで膜厚調節するリバースロールコーターによる方法、加圧ダイを用いる方法等がある。その中でも、口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい等の理由から加圧ダイを用いる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガーダイやＴダイ等があり、何れも好ましく用いることができる。
【００４９】
溶液流延法において、流延ダイ３から金属支持体６上に流延するセルロースエステル等のドープの固形分濃度は、１５〜３０重量％であるのが好ましい。ドープの固形分濃度が１５重量％未満であれば、金属支持体６上で十分な乾燥ができず、剥離時にウェブの一部が金属支持体６上に残り、汚染（例えばベルト汚染）につながる。また、ドープの固形分濃度が３０％を超えると、ドープ粘度が高くなり、ドープ調整工程でフィルター詰まりが早くなったり、金属支持体６上へのドープの流延時に圧力が高くなり、ドープを押し出せなくなる可能性がある。
【００５０】
このようにして金属支持体６の表面に流延されたドープは、剥ぎ取りまでの間で乾燥が促進されることによってもゲル膜の強度（フィルム強度）が増加する。
【００５１】
金属支持体６から剥離ロール８によって剥離可能な膜強度となるまでウェブ９を乾燥固化させるため、金属支持体６上では、ウェブ９中の残留溶媒量が１５０重量％以下まで乾燥させるのが好ましく、８０〜１２０重量％がより好ましい。また、金属支持体６からウェブ９を剥離するときのウェブ温度は、０〜３０℃が好ましい。また、ウェブ９は、金属支持体６からの剥離直後に、金属支持体６との密着面側からの溶媒蒸発で温度が一旦急速に下がり、雰囲気中の水蒸気や溶媒蒸気など揮発性成分がコンデンスしやすいため、剥離時のウェブ温度は５〜３０℃がさらに好ましい。
【００５２】
ここで、残留溶媒量は、下記の式で表わせる。
残留溶媒量（重量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、式中、Ｍはウェブの任意時点での重量、Ｎは重量Ｍのものを温度１１０℃で、３時間乾燥させたときの重量である。
【００５３】
金属支持体６上に流延されたドープにより形成されたウェブ９を、金属支持体６上で加熱し、金属支持体６から剥離ロール８によってウェブ９が剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる。溶媒を蒸発させるには、ウェブ９側から風を吹かせる方法や、金属支持体６の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があり、適宜、単独であるいは組み合わせて用いればよい。
【００５４】
金属支持体６からウェブ９を剥離ロール８によって剥離する際の剥離張力は、ＪＩＳ Ｚ  ０２３７のような剥離力測定で得られる剥離力より大きな張力であることが好ましい。これは、高速製膜時に、剥離張力をＪＩＳ測定法で得られた剥離力同等にすると、剥離位置が下流側に持っていかれたりする場合があるため、安定化のため高めで行なっている。但し、工程で同じ剥離張力で製膜していても、ＪＩＳ測定方法による剥離力が下がると、フィルムのクロスニコル透過率（ＣＮＴ）のバラツキが大きく低減することも確かめられている。
【００５５】
工程での剥離張力値としては、通常、５０〜２５０Ｎ／ｍで剥離が行なわれるが、従来よりも薄膜化されている光学フィルムでは、搬送方向に伸びやすいために、幅手方向にフィルムは縮みやすく、乾燥と縮みが重なると、端部がカールし、折れ込むことにより、シワが入りやすいため、剥離できる最低張力〜１７０Ｎ／ｍで剥離することが好ましく、最低張力〜１４０Ｎ／ｍで剥離することがさらに好ましい。
【００５６】
金属支持体６上で剥離可能な膜強度となるまでウェブ９を乾燥固化させた後に、ウェブ９を剥離ロール８によって剥離し、ついで、延伸工程のテンター１０においてウェブ９を延伸する。
【００５７】
延伸工程では、液晶表示装置用フィルムとしては、ウェブ９の両側縁部をクリップ等で固定して延伸するテンター方式が、フィルムの平面性や寸法安定性を向上させるために好ましい。
【００５８】
延伸工程のテンター１０に入る直前のウェブ９の残留溶媒量は、５〜３５重量％であることが好ましい。また、延伸工程のテンター１０におけるウェブの延伸率が３〜１００％であり、５〜８０％であることが好ましく、さらに５〜６０％であることが望ましい。
【００５９】
また、テンター１０における温風吹出しスリット口から吹き出す温風の温度が１００〜２００℃であり、１１０〜１９０℃であることが好ましく、さらに１１５〜１８５℃であることが望ましい。
【００６０】
延伸工程のテンター１０の後には、乾燥装置１１が設けられている。乾燥装置１１内では、側面から見て千鳥状に配置された複数の搬送ロールによってウェブ９が蛇行させられ、その間にウェブ９が乾燥される。乾燥装置１１でのフィルム搬送張力は、ドープの物性、剥離時及びフィルム搬送工程での残留溶媒量、乾燥温度等に影響を受けるが、乾燥時のフィルム搬送張力は、１０〜３００Ｎ／ｍ幅であり、２０〜２７０Ｎ／ｍ幅が、より好ましい。
【００６１】
なお、ウェブ（フィルム）９を乾燥させる手段は、特に制限はなく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行なう。簡便さの点から熱風で乾燥するのが好ましく、例えば乾燥装置１１の温風入口から吹込まれる乾燥風１２によって乾燥され、乾燥装置１１の出口から排気風が排出されることによって乾燥される。乾燥風１２の温度は４０〜１６０℃が好ましく、５０〜１６０℃が平面性、寸法安定性を良くするためさらに好ましい。
【００６２】
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。この場合、乾燥雰囲気を溶媒の爆発限界濃度を考慮して実施することは勿論のことである。
【００６３】
乾燥装置１１での乾燥工程を終えて搬送される光学フィルムＦは、コロナ処理部１３に搬送され、そこで、フィルム表面に対してコロナ処理が行われる。なお、コロナ処理の詳細については後述する。コロナ処理後の光学フィルムＦは、巻取部１４によって巻き取られ、光学フィルムＦの元巻（原反）となる。乾燥が終了したフィルムの残留溶媒量は、０．５重量％以下、好ましくは０．１重量％以下とすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。
【００６４】
フィルムの巻き取り方法は、一般に使用されているワインダーを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の張力をコントロールする方法があり、それらを使い分ければよい。巻取りコア（巻芯）へのフィルムの接合は、両面接着テープでも、片面接着テープでもどちらでもよい。
【００６５】
セルロースエステル等の光学フィルムＦの乾燥後の膜厚は、液晶表示装置の薄型化の観点から、１５μｍ以上６０μｍ以下であることが好ましい。ここで、乾燥後の膜厚とは、光学フィルムＦ中の残留溶媒量が０．５重量％以下の状態での膜厚を指すものとする。
【００６６】
巻取り後の光学フィルムＦの膜厚が薄過ぎると、例えば偏光板用保護フィルムとしての必要な強度が得られない場合がある。一方、光学フィルムＦの膜厚が厚過ぎると、従来のセルロースエステル等の樹脂フィルムに対して薄膜化の優位性がなくなる。膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、流延ダイ３の口金のスリット間隙、流延ダイ３の押し出し圧力、金属支持体６の速度等をコントロールするのがよい。また、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされたフィードバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。
【００６７】
（コロナ処理について）
次に、上述したコロナ処理部１３でのコロナ処理について説明する。図３は、コロナ処理部１３の概略の構成を模式的に示す説明図である。コロナ処理部１３は、電極２１・２１と、搬送ロール２２〜２４と、交流電源２５とを有している。各電極２１は、各搬送ロール２２〜２４の回転軸方向に平行に伸びた棒状の電極であり、所定間隔を介して並んで配置されている。搬送ロール２３は、各電極２１と該搬送ロール２３の外周面とがほぼ対向するように配置されているとともに接地されている。搬送ロール２２・２４は、搬送ロール２３に対してそれぞれフィルム搬送方向の上流側および下流側に位置している。交流電源２５は、各電極２１と電気的に接続されている。
【００６８】
上記の構成において、コロナ処理部１３に搬送された光学フィルムＦは、搬送ロール２２によって搬送方向を９０°変換され、搬送ロール２３の周面に沿って搬送されながら搬送方向を１８０°変換された後、搬送ロール２４によって搬送方向を９０°変換されて搬送される。このとき、搬送ロール２３と各電極２１との間の位置では、光学フィルムＦは以下の条件でコロナ処理される。このコロナ処理により、光学フィルムＦの表面、つまり、マット剤に由来して形成される上述した第１の凹凸形状Ｐ１の表面に、凹凸周期が５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満で、かつ、凸部Ｃ２の密度が２０個／μｍ2以上５０個／μｍ2以下である第２の凹凸形状Ｐ２（図１（ｂ）参照）が形成される。
（コロナ処理条件）
コロナ放電量（加工エネルギー）：１０００〜１００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2
電極とフィルムとの距離：０．５〜３ｍｍ
湿度：１０〜６０％
風速：０．３〜１０ｍ／ｓｅｃ
【００６９】
なお、本実施形態でのコロナ放電量（加工エネルギー）は、通常のコロナ放電よりも格段に高い。例えば特許文献１の実施例では、コロナ放電量は、１１．１Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2であるが、本実施形態のコロナ放電量は、これの１００倍程度以上となっている。
【００７０】
このように、光学フィルムＦの表面にコロナ処理を行うことにより、マット剤によって凹凸が形成された第１の凹凸形状Ｐ１の表面に、第１の凹凸形状Ｐ１よりも凹凸周期が小さくかつ凸部の密度が高い第２の凹凸形状Ｐ２が形成されるので、マット剤の含有量を減らして第１の凹凸形状Ｐ１の凹凸を減らしても、第２の凹凸形状Ｐ２の凹凸によって光学フィルムＦの巻き性を良好に確保することができる。したがって、光の散乱因子となるマット剤の含有量を減らして高コントラスト化を図りながら、光学フィルムＦの巻き性を良好に確保することができる。
【００７１】
特に、第２の凹凸形状Ｐ２において、凹凸周期は５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満であり、第１の凹凸形状Ｐ１よりも小さいが、凸部Ｃ２の密度は２０個／μｍ2以上５０個／μｍ2以下であり、第１の凹凸形状Ｐ１の凸部Ｃ１の密度よりも多いので、マット剤の含有量を減らして第１の凹凸形状Ｐ１の凹凸を減らしても、光学フィルムＦの巻き性を確実に良好に確保することができ、高コントラスト化と巻き性向上との両立を確実に図ることができる。
【００７２】
また、例えば光学フィルムＦの表面を直接加工して凹凸を形成することで、散乱因子となるマット剤の量を減らしながら、巻き性を確保する手法も考えられるが、このような表面加工では、光学フィルムＦの特性が劣化する。つまり、上記の表面加工としては、フィルム表面に型を押し付けることによって、フィルム表面に凹凸を形成する型押し加工や、細かい粒子をフィルム表面に吹き付けることによって、フィルム表面に凹凸を形成するブラスト加工などが考えられる。しかし、前者の型押し加工では、フィルムに歪みが生じてリタデーションが悪化し、コントラストが低下する。また、後者のブラスト加工では、加工時に吹き付けられた異物がフィルム表面に残って光学性能が劣化する。この点、本実施形態のようにコロナ処理を用いることにより、光学フィルムＦの表面に何らかの部材（型や粒子）を触れさせずに、マット剤でも形成できない小さな凹凸を表面に形成することができるので、光学特性の劣化を抑制しながら、巻き性を向上させることができる。
【００７３】
また、コロナ放電時の電極２１と光学フィルムＦとの距離が０．５ｍｍ未満であったり、３ｍｍを超えると、コロナ放電によって凹凸周期および凸部Ｃ２の密度が上記範囲の第２の凹凸形状Ｐ２を形成することが困難となる。また、コロナ放電時の湿度が６０％を超えると、空気中に含まれる水分がコロナ放電を阻害するおそれがあるため、湿度は６０％以下に抑えることが望ましいが、完全に湿度を０％にすることは困難である。さらに、コロナ放電によって表面に凹凸を形成する際に、コロナ放電時に発生するオゾンがないほうが、凹凸周期および凸部Ｃ２の密度を上記した範囲内に制御しやすい。
【００７４】
以上の観点から、光学フィルムＦの表面に対して、上述した条件でコロナ処理を行うことにより、凹凸周期および凸部Ｃ２の密度が上記範囲の第２の凹凸形状Ｐ２を容易にかつ確実に形成することができる。
【００７５】
また、光学フィルムＦの表面に対して、上記したような高いコロナ放電量でコロナ処理を行った場合、図１（ａ）で示した表層部Ｆ１の組成変化（組成変性）が起こることが、ＸＰＳ（X-ray Photoelectron Spectroscopy ；Ｘ線光電子分光）によって確認することができた。具体的には、表層部Ｆ１に含まれる炭素原子の表層部Ｆ１全体に対する割合（％）は、下層部Ｆ２に含まれる炭素原子の下層部Ｆ２全体に対する割合（％）よりも、０．２〜３％少なくなっており、表層部Ｆ１に含まれる酸素原子の表層部Ｆ１全体に対する割合（％）は、下層部Ｆ２に含まれる酸素原子の下層部Ｆ２全体に対する割合（％）よりも、０．２〜３％多くなっていた。
【００７６】
上記のような表層部Ｆ１の組成変化は、表層部Ｆ１の親水性を向上させる方向に働く。したがって、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）のような水系の接着剤を用いて、光学フィルムＦを偏光子に貼り付けるときに、これらの接着性を向上させることができる。
【００７７】
（偏光板）
以上で説明した光学フィルムは、液晶表示装置の液晶セルの少なくとも一方の面に貼り付けられる偏光板に適用することができる。このとき、偏光板は、一般的な方法で作製することができる。すなわち、本実施形態の光学フィルム（位相差フィルム）の裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる。偏光膜の他方の面には、セルロースエステルフィルムを貼り合わせてもよく、別の偏光板保護フィルムを貼り合わせてもよい。上記のセルロースエステルフィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ−Ｎ、以上コニカミノルタオプト株式会社製、フジタック  ＴＤ８０ＵＦ、Ｔ８０ＵＺ、Ｔ４０ＵＺ、富士写真フイルム株式会社製の反射防止フィルム（富士フイルムＣＶクリアビューＵＡ））等が好ましく用いられる。
【００７８】
偏光板保護フィルムは、面内リタデーション（Ｒｏ）が０〜２０ｎｍで、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が−５０〜５０ｎｍの光学的に等方性の偏光板保護フィルムであることが好ましい。また、偏光板保護フィルムには、４〜２０μｍの厚さのハードコート層もしくはアンチグレア層を有することも好ましく、例えば、特開２００３−１１４３３３号公報、特開２００４−２０３００９号公報、２００４−３５４６９９号公報、２００４−３５４８２８号公報等記載のハードコート層もしくはアンチグレア層を有する偏光板保護フィルムが好ましく用いられる。さらに、該ハードコート層もしくはアンチグレア層に反射防止層、防汚層等が積層されていることが好ましい。
【００７９】
また、さらにディスコチック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号公報記載の方法で光学異方性層を形成することができる。本実施形態の偏光板と組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する液晶表示装置を得ることができる。
【００８０】
本実施形態の偏光板は、上述したように散乱因子となるマット剤の含有量を減らした位相差フィルムを偏光膜の一方の面に用いるものであるから、液晶表示装置のコントラスト向上を果たし得るものである。
【００８１】
ここで、偏光板の主たる構成要素である上記の偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子である。現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行って使用される。また、エチレン変性ポリビニルアルコールも偏光膜として好ましく用いられる。偏光膜の膜厚は、５〜３０μｍ、特に１０〜２５μｍであることが好ましい。
【００８２】
本実施形態の光学フィルムを用いた偏光板は、垂直配向モードに代表されるＭＶＡ（Multi-domein Vertical Alignment）モード、特に４分割されたＭＶＡモード、電極配置によってマルチドメイン化された公知のＰＶＡ（Patterned Vertical Alignment）モード、電極配置とカイラル能を融合したＣＰＡ（Continuous Pinwheel Alignment）モードの液晶表示装置に効果的に用いることができ、また、ＯＣＢ（Optical Compensated Bend）モードの液晶表示装置にも用いることができる。これらの中でも、本実施形態の偏光板は、垂直配向モードの液晶表示装置に好ましく用いられ、特にＭＶＡモードの液晶表示装置に好ましく用いられる。
【００８３】
表示セルの表示品質は、人の観察において左右対称であることが好ましい。したがって、表示セルが液晶セルである場合、実質的に観察側の対称性を優先してドメインをマルチ化することができる。ドメインの分割は、公知の方法を採用することができ、２分割法、より好ましくは４分割法によって、公知の液晶モードの性質を考慮して決定できる。
【００８４】
液晶表示装置は、カラー化および動画表示用の装置としても応用されつつあり、本実施形態での表示品質の改善（マット剤の減量による高コントラスト化）により、疲れにくく忠実な動画像表示が可能となる。
【００８５】
本実施形態の液晶表示装置は、本実施形態の光学フィルム（位相差フィルム）を用いた偏光板を液晶セルの一方の面のみに配置するか、もしくは両面に配置するものである。このとき、偏光板に含まれる位相差フィルムが液晶セル側となるように用いることで、表示品質の向上に寄与できる。
【００８６】
（実施例）
次に、本実施形態の光学フィルムのコロナ処理に関する実施例について、比較例も挙げながら説明する。
【００８７】
（実施例１）
フィルム幅１５００ｍｍ、厚さ４０μｍ、フィルム全体に対するマット剤の含有量が０．１重量％のトリアセチルセルロースフイルムに対して、図２および図３で示したコロナ処理部１３にて、搬送速度５０ｍ／ｍｉｎで搬送しながらコロナ処理を行った。このときのコロナ処理条件は、コロナ放電量（加工エネルギー）：１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2、電極とフィルムとの距離（ＧＡＰ）：２．２ｍｍ、湿度：４０％、風速：３ｍ／ｓｅｃであった。その後、巻取部１４において、上記フィルムを巻き長７０００ｍで巻き取った。
【００８８】
（実施例２）
実施例２では、フィルムに対するコロナ処理の際の加工エネルギーを５０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2とした以外は、実施例１と同様である。
【００８９】
（実施例３）
実施例３では、フィルムに対するコロナ処理の際の、電極とフィルムとの距離を１．５ｍｍとした以外は、実施例１と同様である。
【００９０】
（実施例４）
実施例４では、フィルムに対するコロナ処理の際の、電極とフィルムとの距離を２．８ｍｍとした以外は、実施例１と同様である。
【００９１】
（実施例５）
実施例５では、フィルムに対するコロナ処理の際の湿度を５５％とした以外は、実施例１と同様である。
【００９２】
（実施例６）
実施例６では、フィルムに対するコロナ処理の際の風速を６ｍ／ｓｅｃとした以外は、実施例１と同様である。
【００９３】
（比較例１）
比較例１では、フィルムに対するコロナ処理を行わなかった。それ以外は、実施例１と同様である。
【００９４】
（比較例２）
比較例２では、フィルム全体に対するマット剤の含有量を０．５重量％とし、このフィルムに対するコロナ処理を行わなかった。それ以外は、実施例１と同様である。
【００９５】
（比較例３）
比較例３では、フィルムに対するコロナ処理の際の加工エネルギーを１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2とした以外は、実施例１と同様である。
【００９６】
実施例１〜６、比較例１〜３のコロナ処理条件についてまとめたものを表１に示す。
【００９７】
【表１】
2014010203.tif 000003
【００９８】
（凹凸の観察）
次に、実施例１〜６、比較例１〜３の光学フィルムの表面（１０μｍ×１０μｍの範囲）をＡＦＭ（Atomic Force Microscope；原子間力顕微鏡）で測定し、得られた画像データにフーリエ変換を施し、各周波数（凹凸周期の逆数）に対する強度に基づいて、凹凸周期が２００ｎｍ以上２μｍ以下となる凸部の個数と、凹凸周期が５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満となる凸部の個数とを測定し、各凸部の密度を測定した。
【００９９】
図４（ａ）は、コロナ処理前のフィルム表面に対するフーリエ解析の結果を示すグラフであり、図４（ｂ）は、コロナ処理後のフィルム表面に対するフーリエ解析の結果を示すグラフである。なお、縦軸の強度は、凸部の個数に対応する。凹凸形状（３次元情報）をフーリエ変換すると、周波数（凹凸周期の逆数）と強度との関係を求めることができる。フィルム表面に対してコロナ処理を施すと、高周波でのピーク強度が大きくなっていることから、コロナ処理によって微細な周期の凹凸が数多く表面に形成されていることがわかる。
【０１００】
（光学評価）
《偏光子の調製》
厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフイルムを０．３％のヨウ素水溶液中で染色した後、４％のホウ酸水溶液、２％のヨウ化カリウム水溶液中で５倍まで延伸し、次いで５０℃で４分間乾燥させて偏光子を得た。
【０１０１】
《偏光板の作製》
実施例１〜６、比較例１〜３の光学フィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を塗布した後、上記の偏光子の両面にロールラミネーターを用いて貼りあわせ、６０℃で４分間乾燥乾することで偏光板を得た。なお、接着剤層の厚みは０．１μｍであった。そして、作成した偏光板の透過率を測定して偏光度を算出し、以下の基準に基づいて評価した。なお、偏光板の偏光度は、以下の式に基づいて得られる。
偏光度（％）＝｛１−（直交ニコル時の透過率）／（平行ニコル時の透過率）｝
×１００
〔評価基準〕
○：偏光度が９９．９０％以上である。
×：偏光度が９９．９０％未満である。
【０１０２】
（巻き性評価）
実施例１〜６、比較例１〜３の光学フィルムを、高温（３８℃）高湿（７５％）の雰囲気下で、約２週間巻保存した後、フィルム巻中において直径５ｍｍ以上の貼り付きが生じていないかを目視で観察し、光学フィルムの巻き性を以下の基準に基づいて評価した。
〔評価基準〕
○：貼り付き箇所が全くない。
△：貼り付き箇所が５個未満である。
×：貼り付き箇所が５個以上である。
【０１０３】
上記した凸部の密度、光学評価、巻き性評価についての結果を表２に示す。
【０１０４】
【表２】
2014010203.tif 000004
【０１０５】
表２より、表面にコロナ処理を施していない比較例１、およびコロナ処理を施しても加工エネルギーの少ない比較例３の光学フィルムでは、光学評価は良好なものの、フィルムを巻いたときに貼り付きが若干生じており、巻き性がやや劣化している。また、比較例２の光学フィルムでは、マット剤の含有量が比較例１よりも多い分、フィルムの巻き性が改善されているが、マット剤による光の散乱が生じて光学評価が低いものとなっている。
【０１０６】
これに対して、光学フィルムの表面にコロナ処理を施した実施例１〜６では、光学評価および巻き性の両方において、良好な結果が得られている。つまり、実施例１〜６の光学フィルムでは、表面にコロナ処理を施して、マット剤による凹凸よりも小さい凹凸を表面に形成することにより、光の散乱因子となるマット剤の含有量を減らして高コントラスト化を図りながら、コロナ処理によって形成された表面の小さい凹凸によって巻き性を良好に確保できると言える。
【０１０７】
特に、実施例１〜６では、コロナ処理によって、凹凸周期（周期ｔ２）が５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満となる凸部の密度が２０個／μｍ2以上形成されており、マット剤によって形成される、凹凸周期（周期ｔ１）が２００ｎｍ以上２μｍ以下となる凸部の密度よりも多いため、マット剤の含有量を減らしても、コロナ処理によって形成された表面の小さい凹凸によって巻き性を確実に良好に確保することができ、高コントラスト化と巻き性向上との両立を確実に図ることができる。
【０１０８】
また、実施例１〜６では、コロナ放電時の加工エネルギー、電極−フィルム間距離、湿度および風速について、いずれも上述した条件範囲を満足しており、これによって、表２に示すように、凹凸周期が５０ｎｍ以上１８０ｎｍ未満となる凸部の密度を２０個／μｍ2以上とすることが確実にできるものと言える。
【０１０９】
なお、以上では、本実施形態の光学フィルムを、液晶表示装置（ＬＣＤ，液晶ディスプレイ）の偏光板の位相差フィルムに適用した例について説明したが、その他、偏光板用保護フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルムなどの各種機能フィルムにも適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
本発明は、例えば液晶表示装置の偏光板の位相差フィルムに利用可能である。
【符号の説明】
【０１１１】
Ｃ１    凸部
Ｃ２    凸部
Ｆ      光学フィルム
Ｆ１    表層部
Ｆ２    下層部
Ｐ１    第１の凹凸形状
Ｐ２    第２の凹凸形状
【図１】
2014010203.tif 000005
【図２】
2014010203.tif 000006
【図３】
2014010203.tif 000007
【図４】
2014010203.tif 000008