(57)【要約】【課題】表示不良の原因となる液晶中の異物を除去し、表示機能を確実に回復させることが可能な液晶表示装置、及びその製造方法を提供する。【解決手段】第一基板２上に設けられる画素電極を第一画素電極５と第二画素電極６の積層体で構成する。下層に位置する第二画素電極６は、上層に位置する第一画素電極５と同等の幅と厚みを有し、さらに、第一画素電極５より融点の高い材料で構成される。液晶１０中に存在する異物１５をレーザー１６により除去する際に第一画素電極５が破損しても、その下層にある第二画素電極６を介して液晶１０に電圧を印加することができるため、表示機能を確実に回復させることができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極を有する第一基板と、前記画素電極に相対する対向電極を有する第二基板を有し、前記第一基板と前記第二基板とが所定の位置及び間隔でシール材により貼り合わされることで形成された空間に液晶が封入された液晶表示装置であって、
前記画素電極は、複数の電極膜を積層することで構成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記画素電極を構成する前記複数の電極膜は、互いに異なる材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記画素電極を構成する前記複数の電極膜のうち、下層に位置する電極膜は、上層に位置する電極膜より融点が高いことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記画素電極を構成する前記複数の電極膜のうち、上層に位置する前記電極膜は、Ａｌで構成され、下層に位置する前記電極膜は、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏの何れか一つで構成されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記画素電極を構成する前記複数の電極膜のうち、互いに隣接する電極膜の間には、絶縁膜が形成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか一つに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
画素電極を有する第一基板と、前記画素電極に相対する対向電極を有する第二基板を有し、前記第一基板と前記第二基板とが所定の位置及び間隔でシール材により貼り合わされることで形成された空間に液晶が封入された液晶表示装置の製造方法であって、
請求項１〜５の何れか一つに記載の液晶表示装置を準備する工程と、
前記画素電極と前記対向電極との間に介在する異物にレーザーを照射して当該異物を除去し、それと同時に、前記画素電極を構成する複数の電極膜のうち上層に位置する電極膜を除去して下層に位置する電極膜を露出させる工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
上層に位置する前記電極膜を前記レーザーにより除去することで形成された空間に、前記液晶を流動化させて充填する工程を有することを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示装置は、表面に画素電極が形成されたシリコン基板と、それに相対する表面に対向電極が形成されたガラス基板とを、所定の位置及び間隔で周辺接着剤により貼り合わせることで形成された隙間に液晶を封入したＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｏｎ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）と呼ばれる液晶表示パネルを回路基板上に実装し、回路基板を介して画素電極と対向電極との間に電位差を与え、液晶の配向を制御することにより各種表示を得るようにしたものである。
【０００３】
図５は従来技術による液晶表示装置を示す断面図である。第一基板２は、例えばシリコン基板であり、一方の面に複数の画素電極５が形成され、その上に配向膜８が形成されている。第二基板３は例えばガラス基板であり、一方の面に対向電極（透明電極）７が形成され、その上に配向膜８が形成されている。第一基板２と第二基板３は、所定の大きさのスペーサー（不図示）を内包したシール材４を介し、所定の間隔且つ、水平方向へ互いにずれた位置関係で貼り合わされ、それらの隙間に液晶１０が封入されて液晶表示パネル１が構成されている。
【０００４】
液晶表示パネル１は、第一基板２を下側にして回路基板９上に実装されており、第一基板２に形成された画素電極５は、ワイヤー１１によって回路基板９上の電極パッド１２と電気的に接続され、第二基板３に形成された対向電極７は、これと対向する位置に配置された回路基板９上の電極パッド１３と導電性樹脂１４（例えば銀ペースト）で電気的に接続され、画素電極５と対向電極７にそれぞれ互いに異なる電位が供給されように構成されている。
【０００５】
図６は従来技術による液晶中の異物除去方法を説明するための断面図であり、（Ａ）異物除去前の状態、（Ｂ）異物除去後の状態、を示している。従来技術による液晶表示装置では、液晶１０中に異物１５があると、異物１５により液晶１０が部分的に存在しなくなり、その部分において光の変調ができずに表示不良が発生してしまう場合がある。この場合には、例えば、第２基板３を透して異物１５にレーザー１６を照射し、異物１５を除去（気化）することで表示機能を回復させることができる。（例えば、特許文献１参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平８−３０４８０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来技術では、異物にレーザーを照射することで異物を除去できるが、同時に異物周辺の画素電極がレーザーにより破損する場合があり、その場合には、異物を除去したとしても液晶に電圧を印加できずに結果的に表示不良を解消することができないという問題がある。
【０００８】
本発明は、以上の問題に鑑みて成されたものであり、表示不良の原因となる液晶中異物を除去し、表示機能を確実に回復させることが可能な液晶表示装置、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
画素電極を有する第一基板と、前記画素電極に相対する対向電極を有する第二基板を有し、前記第一基板と前記第二基板とが所定の位置及び間隔でシール材により貼り合わされることで形成された空間に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記画素電極は、複数の電極膜を積層することで構成されている液晶表示装置とする。
【００１０】
前記画素電極を構成する前記複数の電極膜は、互いに異なる材料で形成されている液晶表示装置とすることができる。
【００１１】
前記画素電極を構成する前記複数の電極膜のうち、下層に位置する電極膜は、上層に位置する電極膜より融点が高い液晶表示装置とすることができる。
【００１２】
前記画素電極を構成する前記複数の電極膜のうち、上層に位置する前記電極膜は、Ａｌで構成され、下層に位置する前記電極膜は、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏの何れか一つで構成されている液晶表示装置とすることができる。
【００１３】
前記画素電極を構成する前記複数の電極膜のうち、互いに隣接する電極膜の間には、絶縁膜が形成されている液晶表示装置とすることができる。
【００１４】
画素電極を有する第一基板と、前記画素電極に相対する対向電極を有する第二基板を有し、前記第一基板と前記第二基板とが所定の位置及び間隔でシール材により貼り合わされることで形成された空間に液晶が封入された液晶表示装置の製造方法であって、上記何れか一つの液晶表示装置を準備する工程と、前記画素電極と前記対向電極との間に介在する異物にレーザーを照射して当該異物を除去し、それと同時に、前記画素電極を構成する複数の電極膜のうち上層に位置する電極膜を除去して下層に位置する電極膜を露出させる工程と、を有する液晶表示装置の製造方法とする。
【００１５】
上層に位置する前記電極膜を前記レーザーにより除去することで形成された空間に、前記液晶を流動化させて充填する工程を有する液晶表示装置の製造方法とすることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、画素電極を多層構造とすることにより、上層の画素電極が異物の除去時にレーザーで破損しても、下層の画素電極で液晶へ電圧を印加することができるため、表示機能を確実に回復させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施例１による液晶表示装置を示す断面図
【図２】本発明の実施例１による液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図であり、（Ａ）異物除去前の状態、（Ｂ）異物除去後の状態
【図３】本発明の実施例２による液晶表示装置を示す断面図
【図４】本発明の実施例２による液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図であり、（Ａ）異物除去前の状態、（Ｂ）異物除去後の状態
【図５】従来技術による液晶表示装置を示す断面図
【図６】従来技術による液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図であり、（Ａ）異物除去前の状態、（Ｂ）異物除去後の状態
【発明を実施するための形態】
【実施例１】
【００１８】
図１は本発明の実施例１による液晶表示装置を示す断面図である。液晶表示装置１は第一基板２と第二基板３を備えている。第一基板２は例えばシリコン基板であり、一方の面には複数の電極膜を積層することで構成された多層構造の画素電極（５、６）が形成され、さらにその上に液晶１０を配向させるための配向膜８が形成されている。第二基板３は例えばガラス基板であり、一方の面には対向電極（透明電極）７が形成され、さらにその上に液晶１０を配向させるための配向膜８が形成されている。第一基板２と第二基板３はシール材４により互いに接着され、それにより形成された両基板間の隙間に液晶１０が封入されている。第一基板２の裏面と回路基板９の上面は両面テープ（不図示）で互いに接着され、その状態で回路基板９上の電極パッド１２と第一基板２上の画素電極（５、６）とがワイヤー１１により電気的に接続され、さらに第二基板３上の対向電極７と回路基板９上の電極パッド１３とが導電性樹脂１４により電気的に接続され、液晶表示装置１が構成されている。
【００１９】
ここで本実施例が従来技術と異なるのは、第一基板２上の画素電極が複数の電極膜を積層することで構成されている点であり、本実施例において画素電極は第一画素電極５と第二画素電極６の積層膜として構成されている。積層された電極膜のうち下層に位置する第二画素電極６は、上層に位置する第一画素電極５と同等の幅と厚みを有し、さらに第一画素電極５よりも融点の高い材料で構成され、その組み合わせとしては、例えば、第一画素電極５としてＡｌ、第二画素電極６としてＷ、Ｔｉ、Ｍｏの何れか一つが挙げられる。尚、ここでは画素電極を二層構造としているが、三層以上の構造とすることも可能であり、その場合でも互いの融点の関係は変わらず、より下層の電極膜になるほど融点の高い材料で構成される。また、第一画素電極５と第二画素電極６の幅、厚み、材料等は、上記の構成に限らずその他の構成が適宜選択が可能である。
【００２０】
図２は本発明の実施例１による液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図であり、（Ａ）異物除去前の状態、（Ｂ）異物除去後の状態、を示している。図２（Ａ）に示すように液晶１０中に異物１５があると、異物１５により液晶１０が部分的に存在しなくなり、その部分において光の変調ができずに表示不良が発生してしまう場合がある。この場合には、例えば、図２（Ｂ）に示すように第二基板３を透して異物１５にレーザー１６を照射し、異物１５を除去（気化）する。この時、上層の第一画素電極５（及びその上の配向膜８）が異物１５を除去する際にレーザーにより消滅しても、下層に第二画素電極６が存在するため、少なくとも第二画素電極６と対向電極７との間で液晶１０に電圧を印加することができる。尚、液晶表示装置１は反射型液晶表示装置であり、照明光は第二基板３側から入射するため、第一画素電極５の下層に第二画素電極６が存在しても、第一画素電極５による光の反射を阻害することは無い。
【００２１】
また、レーザー１６の照射後、液晶１０を等方相転移温度以上に加熱するなどして液晶１０の粘度を低下させて流動化させ、レーザー照射部分（異物除去後の空間）に液晶１０を充填するようにすれば、表示機能をより効果的に回復させることができる。
【実施例２】
【００２２】
図３は本発明の実施例２による液晶表示装置を示す断面図である。実施例１における液晶表示装置と異なる点は、第一画素電極５と第二画素電極６との間に絶縁膜１７が形成されている点である。絶縁膜１７は、例えば、透明な酸化シリコンや窒化シリコンで構成されている。第一画素電極５と第二画素電極６は、絶縁膜１７の一部を貫通して互いに電気的に接続されている。
【００２３】
図４は本発明の実施例２による液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図であり、（Ａ）異物除去前の状態、（Ｂ）異物除去後の状態、を示している。本実施例２では、実施例１と同様に、第二基板３を透して液晶１０中の異物１５にレーザー１６を照射し、異物１５を除去（気化）する。この時、最上層の配向膜８とその下層の第一画素電極５が異物１５と共に消滅すると、最上層は絶縁膜１７となるが、絶縁膜１７を介して第二画素電極６と対向電極７との間で液晶１０に電圧を印可することができる。尚、液晶表示装置１は反射型液晶表示装置であり、照明光は第二基板３側から入射するため、第一画素電極５の下層に絶縁膜１７と第二画素電極６が存在しても、第一画素電極５による光の反射を阻害することは無い。
【００２４】
また、レーザー１６の照射後、液晶１０を等方相転移温度以上に加熱するなどして液晶１０の粘度を低下させて流動化させ、レーザー照射部分（異物除去後の空間）に液晶１０を充填するようにすれば、表示機能をより効果的に回復させることができる。
【００２５】
本実施例の構成では、第一画素電極５と第二画素電極６との間に絶縁膜１７が介在しているため、レーザー１６により第一画素電極５が消滅する際に第二画素電極６が受けるダメージを軽減することができる。即ち、反射型液晶表示装置において重要な画素電極（第二画素電極６）の反射率を損なうことが無い。
【符号の説明】
【００２６】
１  液晶表示装置
２  第一基板
３  第二基板
４  シール材
５  第一画素電極
６  第二画素電極
７  対向電極（透明電極）
８  配向膜
９  回路基板
１０  液晶
１１  ワイヤー
１２  電極パッド
１３  電極パッド
１４  導電性樹脂
１５  異物
１６  レーザー
１７  絶縁膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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