(57)【要約】【課題】六フッ化タングステンの回収及び再利用のためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】凝縮性材料、例えばこれに限定されないが六フッ化タングステン（ＷＦ6）は、化学気相成長（ＣＶＤ）法における膜の堆積に使用することができる。ここで記載するものは、製造プロセスにおいて未反応の凝縮性材料を廃棄物として取り扱うよりはむしろ、これらの材料を収集して再利用するための方法である。１つの実施態様において、凝縮性材料、例えば気体ＷＦ6がＣＶＤ反応器に供給されない場合、それは捕捉のために回収キャビネットにリダイレクトされる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
凝縮性材料を使用する化学プロセス反応器からの該凝縮性材料の回収のための装置であって、
（ａ）プロセスコントローラーと電気通信する、該凝縮性材料を導入するための１つ又は複数のラインを備えた該化学プロセス反応器と、
（ｂ）該化学プロセス反応器に導入された未反応の凝縮性材料を取り除くことができる、該化学プロセス反応器からの排出ラインと、
（ｃ）該排出ラインとの接続を有する回収ラインであって、該回収ラインが逆止め弁の上流にあり、かつ該回収ラインが該未反応の凝縮性材料を該排出ラインから回収容器まで送出する、該回収ラインと、
（ｄ）該プロセスコントローラーと信号接続を有する該回収ライン中の自動弁と、
（ｅ）該プロセスコントローラーと、
（ｆ）該プロセスコントローラーと電気通信する冷却ジャケットをさらに含み、該未反応の凝縮性材料を保管することができる該回収容器と
を含む、装置。
【請求項２】
前記凝縮性材料がＷＦ6を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記凝縮性材料がオルガノシランを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記凝縮性材料が有機金属を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記凝縮性材料を収集する前記回収容器が錯化剤としてＫＦをさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記回収容器がニッケルを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記回収容器がニッケルめっきをした材料から成る、請求項１に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［関連出願の相互参照］
本出願は、２０１３年１月１７日に出願された先の米国仮特許出願第６１／７５３，６３５号の優先権の利益を主張するものである。この先の出願の開示内容全体がこの参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
ここに記載されるものは、例えば六フッ化タングステン（ＷＦ6）のような半導体製造用材料の回収のためのシステム及び方法である。ここに記載されるものはまた、半導体製造のための半導体製造用材料を回収し、次いで再利用するシステム及び方法である。
【背景技術】
【０００３】
六フッ化タングステン（ＷＦ6）は、半導体装置の製造に使用される凝縮性材料である。ＷＦ6は半導体製造プロセスにおける用途のために製造され、通常はタングステン膜を形成するための化学気相成長（ＣＶＤ）における反応体として使用される。ＷＦ6を合成する一般的な方法は、下の反応（１）に示すようなフッ素元素（Ｆ2）とタングステン金属との高発熱反応による。
Ｗ（ｓ）＋３Ｆ2＝ＷＦ6（ｇ）（ΔＨ°＝−４１８ｋｃａｌ／ｍｏｌ）    反応（１）
【０００４】
ＣＶＤプロセスの間、ＷＦ6は効果的には利用されない。未反応のＷＦ6は反応器の排出部に誘導され、廃棄物として処分される。通常は、ＷＦ6はウェットスクラバを使用して加水分解され、水性フッ化水素酸（ＨＦ（ａｑ））及びタングステン酸化物（ＷＯx）を含む廃水を生み出す。この廃水は次いで、排出できるようになるまで廃水処理設備で処理されなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
それゆえ、ＷＦ6及び他の凝縮性材料を捕捉して製造プロセスにおいて再利用するための、及び／又は再生するための方法、システム、装置又はこれらの組み合わせに対するニーズが存在する。例えばＣＶＤプロセスにおける生産ツールに供給されるＷＦ6のような凝縮性材料のコストを低減させるニーズが当技術分野に存在する。製造プロセスで使用される凝縮性材料の廃棄物を低減させるさらなるニーズが当技術分野に存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
ここで記載する方法、システム及び装置は当技術分野におけるこれらのニーズの少なくとも１つを満足させるものである。１つの側面においては、凝縮性材料を使用する化学プロセス反応器からの該凝縮性材料の捕捉及び回収のための装置であって、
（ａ）プロセスコントローラーと電気通信する、該凝縮性材料を導入するための１つ又は複数のラインを備えた化学プロセス反応器と、
（ｂ）該化学プロセス反応器に導入された未反応の凝縮性材料を取り除くことができる、該化学プロセス反応器からの排出ラインと、
（ｃ）任意選択の、該未反応の凝縮性材料を該化学プロセス反応器から除去することを可能とし、設定されたクラッキング圧を有する該化学プロセス反応器への実質的な排出の流れを防止する該排出ライン中の逆止め弁と、
（ｄ）該未反応の凝縮性材料を該化学プロセス反応器又は該排出ラインから除去し、回収容器に送ることができる、任意選択の該逆止め弁の上流の該化学プロセス反応器又は該排出ラインとの接続を有する回収ラインと、
（ｅ）該プロセスコントローラーとの信号接続を有する該回収ライン中の自動弁と、
（ｆ）該プロセスコントローラーと、
（ｇ）該プロセスコントローラーと電気通信する冷却ジャケットをさらに含み、該未反応の凝縮性材料を保管することができる該回収容器と
を含む、装置を提供する。
【０００７】
もう１つの側面においては、凝縮性材料を使用する化学プロセス反応器からの該凝縮性材料の捕捉及び回収のためのシステムであって、
プロセスコントローラーと電気通信する、該凝縮性材料を導入するための１つ又は複数のラインを備えた該化学プロセス反応器と、
該化学プロセス反応器に導入された未反応の凝縮性材料を取り除くことができる、該化学プロセス反応器からの排出ラインと、
任意選択の、該未反応の凝縮性材料を該化学プロセス反応器から除去することを可能とし、設定されたクラッキング圧を有する該化学プロセス反応器への実質的な排出の流れを防止する該排出ライン中の逆止め弁と、
該未反応の凝縮性材料を該化学プロセス反応器又は該排出ラインから除去し、回収容器に送ることができる、任意選択の該逆止め弁の上流の該化学プロセス反応器又は該排出ラインとの接続を有する回収ラインと、
該プロセスコントローラーとの信号接続を有する該回収ライン中の自動弁と、
該プロセスコントローラーと、
該プロセスコントローラーと電気通信する冷却ジャケットをさらに含み、該未反応の凝縮性材料を保管することができる該回収容器と
を含む、システムを提供する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】将来の再利用のためのＷＦ6のような凝縮性材料の回収のための１つの実施態様のプロセスフロー図を与える。
【図２】ＷＦ6のための気液相図を与える。実線は、凝縮したＷＦ6と気体のＷＦ6との界面を示す。実線よりも上の条件では、ＷＦ6は液体又は固体として存在する。実線よりも下の条件では、ＷＦ6は気体として存在する。
【図３】ＷＦ6のような凝縮性材料を捕捉して回収するために使用される設備及びシステムの１つの実施態様の例を与える。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
材料回収は、半導体製造プロセスにより生じたコスト及び廃棄物の量を低減させる機会を与える。半導体プロセスからの流出物、例えばＷＦ6又は他の凝縮性材料は、廃棄物として処理されるよりはむしろ再利用のために回収することができる高価な材料を含む可能性がある。材料回収は、製造プロセスにより生じた廃棄物の利用効率を向上させ、かつ量を低減させる。ここで記載する方法、システム及び／又は装置は六フッ化タングステン（ＷＦ6）を捕捉して再利用するために使用される一方で、これらの方法、システム及び／又は装置は他の凝縮性材料まで拡張することができると考えられる。
【００１０】
ここで記載するものは、所望の凝縮性材料、例えば、限定されないがＷＦ6を、製造プロセスにおいて生産廃棄物を最小限にし、かつ凝縮性材料を再利用のために捕捉して保存することができるようにする収率で回収するための手段である。生産ツールに供給されたものの、タングステン膜のＣＶＤにおいて利用されかったＷＦ6は反応器の排出部に誘導され、廃棄物として処分される。ここで記載する方法、システム及びシステムは、生産廃棄物又は未反応のＷＦ6を保存容器、例えばシリンダーに捕捉し、次いで将来の製造のために再利用することを可能とする。幾つかの捕捉する方法、すなわち、凝縮、錯体形成及びこれらの組み合わせが期待される。これらの捕捉方法は、ＷＦ6を凝縮相で容器、保持体又はこれらの組み合わせに保存する。ＷＦ6はその後に容器及び／又は容器内部の保持体を加熱してＷＦ6を気化させることで再利用することができる。記載する方法を使用する再利用のためのＷＦ6又は凝縮性材料について得られる典型的な収率は、１つ又は複数の次の終点、すなわち、全体の材料供給に基づいて１０ｖｏｌ％以上、２０ｖｏｌ％以上、３０ｖｏｌ％以上、４０ｖｏｌ％以上、５０ｖｏｌ％以上、５５ｖｏｌ％以上、６０ｖｏｌ％以上、６５ｖｏｌ％以上、７０ｖｏｌ％以上、７５ｖｏｌ％以上、８０ｖｏｌ％以上、又は９０ｖｏｌ％以上の終点を含む。ここで記載するものはまた、製造における再利用のためにＷＦ6を効果的に捕捉する装置及びシステムである。
【００１１】
図１はここで記載した方法の１つの実施態様を与える。図１が示すように、ＷＦ6は、ＷＦ6を包含するための保存容器、例えば保存シリンダー（図１に図示せず）をさらに含むことができる供給キャビネット１０から気体として供給される。保存シリンダー（図示せず）、回収シリンダー（図示せず）、及びプロセスライン２０の構成材料は、好ましくは、次のパラメーター、すなわち、耐食性であること、及び約１１１℃又は２３２°Ｆまでの温度のプロセスに耐えることのうち１つ又は複数を充足するべきである。耐食性であることについては、幾つかの特定の適用において、エンドユーザーはプロセスライン２０の１つ又は複数の箇所を、フッ素ガス、例えばフッ素元素（Ｆ2）を導入することにより不導態化させ、ＷＦ6と反応してＨＦのような望ましくない副産物を生成する可能性がある任意の吸着された水蒸気又は水酸化物を除去することができる。プロセスライン２０並びに保存及び／又は回収シリンダーのために適した材料は、ステンレス鋼を含む。幾つかの特定の実施態様において、プロセスラインのための材料はニッケル、ニッケル合金又はニッケルめっきしたステンレス鋼で構成することができる。供給キャビネット１０は、ＷＦ6が気体の形態で供給される蒸着反応器６０をさらに含む製造ツール５０と、ＷＦ6の絶え間ない供給を製造ツール５０及び蒸着反応器６０に与えることができる質量流量コントローラ３０を経由するプロセスライン２０を経由して流体連通している。プロセスツール５０は、蒸着反応器６０におけるＣＶＤによるタングステン膜の半導体基材の表面上への堆積を含む、半導体製造の種々の工程の遂行を援助する。プロセスツール５０は１つ又は複数の蒸着反応器６０を含むことができる。基材は１つ又は複数の半導体ウェハー、例えば「ボート」又は周縁にスタックされた一連のウェハーのキャリヤから成ってもよい。基材は、プロセスツール５０中のロードチャンバー（図示せず）からロードロックを通って反応器６０に導入することができる。図１に見られるように、質量流量コントローラ３０は、蒸着反応器６０に誘導されるＷＦ6の流入を特定の流量、例えば示されているように３００標準立方センチメートル（ｓｃｃｍ）のような流量に調整する。しかし、ＷＦ6の製造ツール５０及び蒸着反応器６０への流量及び流入の他の特徴はエンドユーザーによって調整することができる。ＷＦ6（ｇ）が蒸着反応器６０に供給されない時はいつでも、保存容器、例えば回収シリンダー（図１に図示せず）中での捕捉のため、二方弁３２、三方弁４０、二方弁８０、及び二方弁８５を経由し、それによりプロセスツール５０及び蒸着反応器６０を迂回して回収キャビネット１００にリダイレクトすることができる。
【００１２】
処理中、ＷＦ6（ｇ）を蒸着反応器６０に供給する。任意の未反応ＷＦ6をプロセスライン２０を経由して、２つの弁８０及び８５を通して自動弁４０に誘導し、回収キャビネット１００中の１つ又は複数の保存容器（図示せず）に収集することができる。代わりに、未反応のＷＦ6又は任意の流出ガス、例えば不導態化ガス又はパージガスは、真空ポンプ７５の後に逆止め弁７０に誘導することができ、ラインを浄化するため製造設備の排気装置９０に誘導される。逆止め弁７０を通過した流出物は、製造工場の排気ライン９０を通って除害システム、スクラビングシステム、及び製造設備の排気システム（図示せず）に送り込まれ、有毒で、危険で、腐食性で、又は地球を温暖化させるガスを分解し、燃焼させ、又は吸着させる。
【００１３】
図１は、図１中の破線により示すように、図１に示すシステムの要素、すなわち、ＷＦ6供給キャビネット１０、質量流量コントローラ３０、弁３５、３２、４０、７０、８０及び／又は８５、真空ポンプ７５、プロセスツール５０、蒸着反応器６０及び／又はＷＦ6回収キャビネット１００のうちの任意の１つ又は複数と電気通信する中央演算装置ＣＰＵ又はプロセスコントローラー１１０をさらに示す。１つの実施態様において、プロセスコントローラー１１０はプロセスツール５０及び蒸着反応器６０を監視し、そしてその温度を調節し、プラズマ条件を制御し、かつ圧力を維持してパラメーターを設定することができる。特定の流量の一連のＷＦ6が反応器６０に導入されるように、質量流量コントローラー３０との電気通信により、プロセスコントローラー１１０を監視すること及び／又は制御することができる。
【００１４】
プロセスコントローラー１１０は、電気通信により弁３５、３２、４０、７０、８０及び／又は８５のうち任意の１つ又は複数をさらに制御することができる。反応器６０からの未反応のＷＦ6をプロセスツール５０から抜き取って排気排出真空ポンプ７５へ流し、逆止め弁７０を通して製造工場の排気ライン９０に流すことができる。１つの特定の実施態様においては、逆止め弁７０は最小のクラッキング圧に設定され、クラッキング圧はその圧力で逆止め弁が開いて流入を可能とし、それを下回る圧力で逆止め弁が閉じて反応器６０に向かって逆流するのを防止する圧力を示す。
【００１５】
既に示したように、図１中のＷＦ6供給キャビネット１０は、弁３５、３２及び４０を閉じることによりプロセスツール５０及び蒸着反応器６０から分離することができる。ＷＦ6を個別的にその切れ目のない流れから取り除き、かつ回収するためのこのタイミング、シーケンス及び段階的な遅延時間は、自動弁８５との１つ又は複数の信号通信（図示せず）を通じてプロセスコントローラー１１０により監視すること及び／又は制御することができる。
【００１６】
既に示したように、ここで記載する方法、システム及び装置は、凝縮性材料の捕捉のための幾つかの方法、すなわち、凝縮、錯体形成又はこれらの組み合わせのうちの１つを使用することができる。１つの実施態様においては、ＷＦ6のような凝縮性材料は凝縮により捕捉される。図２中の相図を参照すると、凝縮は、一般的に図２中の実線よりも上の領域である、相図がＷＦ6が液体又は固体であることを示す温度及び蒸気圧の条件下（例えば、比較的高い蒸気圧及びより低い温度）でのＷＦ6を保存容器へ収集することを伴う。凝縮による捕捉は、その相図により示されるように、凝縮性材料が液体又は固体である温度条件下で捕捉容器を操作することにより達成される。ここで記載する方法及びシステムの１つの特定の実施態様において、回収シリンダー又は収集容器の温度は、温度センサー又は熱電対を使用して測定される。この実施態様又は他の実施態様において、回収シリンダー又は収集容器の圧力は、圧力トランスデューサーを使用して測定する。ＷＦ6については、１０００ｔｏｒｒの圧力において、温度は２１℃又は７０°Ｆ未満でなければならない。好ましくは、温度及び圧力の条件はそれぞれ１３℃又は５５°Ｆ、７００ｔｏｒｒである。この方法において、プロセスからの気体のＷＦ6（ｇ）は、回収シリンダー又は収集容器を加熱してＷＦ6の蒸気圧を上昇させることにより、再利用のために回収することができる。例えば、収集容器を室温（２１℃又は７０°Ｆ）まで温めると、蒸気圧は１０００ｔｏｒｒである。これらの条件下で、回収したＷＦ6（ｇ）をプロセスツール又は蒸着反応器に運ぶことができる。
【００１７】
代替的な１つの実施態様において、錯体形成による凝縮性材料の捕捉は、回収シリンダー又は収集容器を保持体、例えば、これに限られないが、活性フッ化カリウム（ＫＦ）で満たすことにより達成される。活性化ＫＦ保持体は、気体ＷＦ6（ｇ）材料を固体ＫＷＦ7（ｓ）及びＫ2ＷＦ8（ｓ）の混合物として捕捉することができる。気体ＷＦ6（ｇ）はＫＦ保持体を約１００℃又は２１２°Ｆまで加熱して気相のＷＦ6（ｇ）を放出することにより、再利用のために回収する。１つのさらなる実施態様において、ジルコニウム又はアルミナ保持体を使用して、錯体形成のための高い表面積を与えることで吸着を活性化することができる。さらにもう１つの実施態様において、微粉化した粉末を使用することができる。上述の実施態様において、固体を含む捕捉されたタングステン又は同じものを含む保持体は、固体又は同じものを含む保持体をＷＦ6（ｇ）に変換する温度及び／又は圧力のような特定の条件下で加熱することができる。
【００１８】
図３は、ＷＦ6の捕捉及び回収のためのシステム２００の１つの実施態様を与える。プロセスから流出した未反応のＷＦ6は供給ライン２０４により、緩衝タンク２１０を通って導入し、圧縮機２２０を使用して圧縮する。ＷＦ6（ｇ）の分圧は、圧力トランスデューサー２３５を使用して測定する。背圧調整器２０２は任意選択である。気相ＷＦ6は、フィルター２３０、遮断弁２４０Ａ，２５０Ａ，フィルター２６０Ａ，及び弁２７０Ａを通して保存容器２０５Ａに運ぶ。余剰の予備システムが存在し、そこでＷＦ6（ｇ）をフィルター２３０を通し、次いで遮断弁２４０Ｂ及び２５０Ｂ，フィルター２６０Ｂ並びに弁２７０Ｂを通して保存容器２０５Ｂにリダイレクトすることができる。任意選択の凝縮器２８０Ａ又は２８０Ｂ（側面によって決まる）は、ＷＦ6ガスを冷却することができ、その後にＷＦ6を冷却ジャケット２９０Ａで冷却される容器２０５Ａ内で凝縮する。温度約１３℃又は５５°Ｆ、圧力７００ｔｏｒｒの条件は、これがプロセスライン３００を経由する冷却水供給及びダイヤフラム圧縮機（図示せず）と流体連通している冷却水ラインを使用して得られるので好ましい。スケールセンサー又はレベルセンサー２９５Ａ又は２９５Ｂは、それぞれ容器２０５Ａ又は２０５Ｂが一杯で、もう１つの容器と交換する必要がある場合に合図する。
【００１９】
中央演算装置又はプロセスコントローラー２０１は、図３に与える要素のうち任意の１つ又は複数と電気通信している。例えば、図３に示す実施態様において、プロセスコントローラー２０１は、保存容器２０５Ａ及び／又は２０５Ｂに付随する１つ又は複数のセンサーと電気通信することができ、その温度、圧力、容量又は他の関連するパラメーターを監視する。しかし、プロセスコントローラー２０１は、システム２００の図に図示していない追加的な要素と電気通信することができる。
【００２０】
図３中のシステムのもう１つの実施態様においては、追加的な圧縮器、例えば任意選択の圧縮器２２０が必要となる可能性がある。このシステムにおいて、容器２０５Ａ及び／又は２０５Ｂを約−１０℃又は１４°Ｆ以下まで冷却することができる。ＷＦ6は約−１０℃又は１４°Ｆ、蒸気圧２５５ｔｏｒｒにおいては固体である。捕捉モードにおいて、回収ＷＦ6は容器２０５Ａ又は２０５Ｂに圧縮機なしに誘導される。この実施態様において、供給ラインの圧力はこの段階において２５５ｔｏｒｒより大きくなければならない。ひとたび容器２０５Ａ又は２０５Ｂがスケール２９５Ａ又は２９５Ｂにより示されるように一杯になったら、それはもう１つの容器と交換することができる。一杯になった後は、容器２０５Ａ又は２０５Ｂを室温まで温めて純粋なＷＦ6源を提供することができる。
【００２１】
通常実施されるシリンダーの交換及び自動交差技術は絶え間ない回収操作を可能とする。図３はＷＦ6の捕捉のための２シリンダーキャビネットを含むシステムの１つの実施態様を示す。容器２０５Ａが一杯になった場合、シリンダー弁２５０Ａを閉じ、ＷＦ6を容器２０５Ｂに誘導する。未反応のＷＦ6流出物を供給ライン２００から緩衝タンク２１０を通して導入し圧縮機２２０を使用して圧縮する。追加的な緩衝タンク２１２をラインに追加して圧縮機２２０により生じるあらゆる圧力変動を排除する。ＷＦ6（ｇ）の分圧は、トランスデューサー２３５を使用して測定する。気相ＷＦ6は、フィルター２３０、遮断弁２４０Ｂ，２５０Ｂ，フィルター２６０Ｂ，及び弁２７０Ｂを通って保存容器２０５Ｂに運ぶ。任意選択の凝縮器２８０Ｂは、ＷＦ6ガスを冷却することができ、その後にＷＦ6を冷却ジャケット２９０Ｂで冷却される容器２０５Ｂ内で凝縮する。温度約１３℃又は５５°Ｆ、圧力７００ｔｏｒｒの条件は、これが冷却水及びダイヤフラム圧縮機を使用して得られるので好ましい。「Ａ」側と同様に、スケール２９５Ｂは、容器が一杯で、もう１つの容器と交換する必要がある場合に合図する。通常実施されるシリンダーの交換及び自動交差技術は絶え間ない回収操作を可能とする。
【００２２】
図３は、例えばプロセス反応器へのガス供給中に通常実施されるシリンダー交換操作のため、追加的に必要となる可能性がある種々の設備（例えば真空室３１０、Ｎ2のような浄化ライン３０５）のためのプロセスラインも示す。冷却水は、冷却水インプット３２０を通り、ライン３００及び冷却水リターン３３０を通ってコンデンサー２８０Ａ及び２８０Ｂ、並びに冷却ジャケット２９０Ａ及び２９０Ｂに供給される。
【００２３】
ひとたび収集容器２０５Ａ、２０５Ｂ又はこれらの組み合わせが一杯になったら、通常実施される浄化及び排出技術を使用して回収キャビネットシステムからそれらを取り除き、腐食及びオペレーターの被ばくを防止する。これらの技術は同一のシステム内の１つ又は複数の自動弁と電気通信するプロセスコントローラー２１０を使用して自動化することができる。収集容器２０５Ａ及び／又は２０５Ｂは次いで、プロセス反応器にＷＦ6を供給するために使用される供給キャビネット、例えば、これに限定されないが、図１中のＷＦ6供給キャビネット１０に移動することができる。
【００２４】
ここで記載するシステム及び実施態様において、液体ＷＦ6と接触する面は、金属による汚染を避けるため、理想的にはニッケル又はニッケルめっきがされているようにすることが好ましい。その際、ステンレス鋼合金のクロム成分がフッ化クロムとして揮発する可能性がある。ニッケルはステンレス鋼よりも大きな耐腐食性がある。図３のシステムの１つの実施態様において、収集容器２０５Ａ及び２０５Ｂはニッケル製又はニッケルめっきがされているものであることができる。これらの実施態様又は他の実施態様において、捕捉されたＷＦ6は汚染されていないままであり、それゆえ最初の製造プロセスにおいていかなる精製の必要もなく再利用することができる。
【００２５】
１つの実施態様において、ＷＦ6回収キャビネット及び供給キャビネットは１つのシステムに組み合わせることができる。この実施態様において、統合型供給及び回収キャビネットは、独立した回収キャビネットのために必要であるシリンダー交換を必要とすることなく、回収及び再利用することを可能とする。気相ＷＦ6はキャビネット中の１つの容器から供給し、他の容器中で液体として回収することができる。このシステムはさらに第３のシリンダーを含み、継続的な操作を可能とすることができる。このシステム又は他のシステムにおいて、中央の回収キャビネットは、複数のプロセス反応器からのＷＦ6の回収を可能とする。回収キャビネット中の収集容器の大きさはプロセス反応器の数とそのＷＦ6使用量に基づいて選択されるであろう。
【００２６】
ここで示した実施態様は凝縮性材料としてＷＦ6を使用して記載する一方で、再生及びリサイクルすることができる他の凝縮性材料は、例えば、オルガノシラン材料又は有機金属材料のような蒸着前駆体であることができることが予測される。１つの実施態様において、化学プロセス反応器は蒸着チャンバー、例えば化学気相成長反応器又は原子層成長反応器である。過剰な蒸着前駆体材料、例えばオルガノシラン材料又は有機金属材料は蒸着チャンバーから回収することができ、ここで記載したシステム及び方法を使用して再利用するために捕捉することができる。典型的なオルガノシラン材料は、これに限定されないが、ジシラン、テトラシラン、ペンタシラン、ジ−イソプロピルアミノシラン、又はこれらの組み合わせを含む。典型的な有機金属材料は、有機成分並びに次の金属Ｒｕ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｔａ，Ｚｎ，Ｗ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｃｅ，Ｇｄ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｍｇ，Ｓｒ，Ｌａ及びこれらの組み合わせのうち１つ又は複数を有する任意の材料を含む。
【図１】
2014159630.tif 000002
【図２】
2014159630.tif 000003
【図３】
2014159630.tif 000004
【外国語明細書】
2014159630000001.pdf