(57)【要約】【課題】  体格を小さくすることができる位置検出装置を提供する。【解決手段】  位置検出装置１０の第１磁石４０および第２磁石４５の幅Ｗ２は、隙間３０の幅Ｗ１とは異なり、幅Ｗ１よりも小さい。つまり、隙間３０の幅Ｗ１と、第１磁石４０および第２磁石４５の幅Ｗ２とは、互いに依存することなく、個別自由に設定されている。隙間３０の幅Ｗ１は、ホール素子５４をモールドするモールド部材５５との関係において可及的に小さくなるように設定することができる。また、第１磁石４０および第２磁石４５の幅Ｗ２は、必要な磁束密度を生じさせるのに最適な幅に設定することができるので、必要以上に大きくならない。そのため、位置検出装置１０の体格を小さくすることができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準部材（８２）に対し相対移動する検出対象（８７、７９）の位置を検出可能な位置検出装置（１０、６０、６９、７０）であって、
前記基準部材および前記検出対象の一方に設けられる第１磁束伝達部（２０、７１）と、
前記第１磁束伝達部との間に隙間（３０、６８、７５）を形成するように設けられている第２磁束伝達部（２５、７３）と、
前記第１磁束伝達部の一端部（２２）と前記第２磁束伝達部の一端部（２７）との間に設けられている第１磁束発生手段（４０、６７）と、
前記第１磁束伝達部の他端部（２３）と前記第２磁束伝達部の他端部（２８）との間に設けられている第２磁束発生手段（４５）と、
前記隙間に位置し、前記第１磁束伝達部および前記第２磁束伝達部に対し相対移動可能であり、前記基準部材および前記検出対象の他方に設けられ、通過する磁束の密度に応じた信号を出力する磁束密度検出手段（５４）と、
を備え、
前記第１磁束伝達部と前記第２磁束伝達部とが対向する方向を対向方向とすると、
前記第１磁束発生手段および前記第２磁束発生手段の対向方向の幅（Ｗ２、Ｗ４）は、前記隙間の対向方向の幅（Ｗ１、Ｗ３、Ｗ５）とは異なることを特徴とする位置検出装置。
【請求項２】
前記第１磁束発生手段（４０）および前記第２磁束発生手段（４５）の対向方向の幅（Ｗ２）は、前記隙間（３０、７５）の対向方向の幅（Ｗ１、Ｗ５）よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の位置検出装置（１０、６９、７０）。
【請求項３】
前記第１磁束発生手段（６７）および前記第２磁束発生手段の対向方向の幅（Ｗ４）は、前記隙間（６８）の対向方向の幅（Ｗ３）よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の位置検出装置（６０）。
【請求項４】
前記第１磁束伝達部および前記第２磁束伝達部は前記検出対象に設けられ、
前記磁束密度検出手段は前記基準部材に設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の位置検出装置。
【請求項５】
前記検出対象の位置を検出する範囲を検出範囲（θｆｓ、θｆｓ’）とし、
前記隙間のうち、前記磁束密度検出手段が前記第１磁束伝達部に対し相対移動可能な範囲を可動範囲（θｍ、θｍ’）とし、
直交座標系において、前記検出対象の位置（θ）と前記磁束密度検出手段の出力信号（Ｖ）との関係を示す線図を実出力線（Ｌ１）とし、実出力線のうち、前記磁束密度検出を通過する磁束が０となる座標を０点とし、０点を通り且つ傾きが理想傾きである線図を理想直線（Ｌ２）とすると、
可動範囲は、検出範囲における実出力線と理想直線との出力信号差が所定値（Ｖ１）以内となるように設定されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の位置検出装置。
【請求項６】
前記検出対象の位置を検出する範囲を検出範囲とし、
前記隙間のうち、前記磁束密度検出手段が前記第１磁束伝達部に対し相対移動可能な範囲を可動範囲とし、
前記磁束密度検出手段が前記第１磁束伝達部に対し相対移動する方向を相対移動方向とすると、
検出範囲の相対移動方向の中央（Ｐｆｓ’）は、可動範囲の相対移動方向の中央（Ｐｍ’）に対しずれていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の位置検出装置（６９）。
【請求項７】
前記検出対象（８７）は、前記基準部材（８２）に対し相対回転移動し、
前記第１磁束伝達部（２０）および前記第２磁束伝達部（２５）は、前記検出対象の相対移動方向に沿うように弧状に形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の位置検出装置（１０、６０、６９）。
【請求項８】
前記検出対象（７９）は、前記基準部材に対し相対直線移動し、
前記第１磁束伝達部（７１）および前記第２磁束伝達部（７３）は、前記検出対象の相対移動方向に沿うように直線状に形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の位置検出装置（７０）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検出対象の位置を検出する位置検出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基準部材に対し相対移動する検出対象の位置を検出可能な磁気式の位置検出装置が知られている。例えば特許文献１に開示された位置検出装置は、２つの磁石および２つのヨークにより閉磁路を形成し、閉磁路の内側すなわち各ヨーク間の隙間に磁束密度検出手段を設けている。ヨークは平板状であり、各ヨーク間の隙間の幅は、ヨークの長手方向において一定である。一方の磁石は各ヨークの一端部間に設けられ、他方の磁石は各ヨークの他端部間に設けられている。
【０００３】
磁石のＮ極から出る磁束には、一方のヨークを通って他方の磁石に流れる還流磁束と、一方のヨークから各ヨーク間の隙間を通って他方のヨークに流れる漏洩磁束と、ヨークを通ることなく各ヨーク間の隙間を通ってＳ極に流れる直通磁束とが含まれる。磁束密度検出手段には、漏洩磁束および直通磁束の一方、または両方が流れる。このとき磁束密度検出手段を通過する磁束の密度は、ヨークに対する磁束密度検出手段の相対位置に応じて変化する。位置検出装置は、磁束密度検出手段が検出する磁束密度に基づき検出対象の位置を検出する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２９２００４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示された位置検出装置では、磁石の幅は各ヨーク間の隙間の幅と同じであり、各ヨーク間の隙間の幅は集磁部材２枚の幅と磁束密度検出手段の幅との合計で決まる。そのため、必要な磁束密度を生じさせるのに最適な磁石の幅に対して各ヨーク間の隙間が大きい場合、磁石が無駄に大きくなり、位置検出装置の体格が大きくなる要因となるとともに、無駄な磁石コストが生じる。また、必要な磁束密度を生じさせるのに最適な磁石の幅に対して集磁部材２枚の幅と磁束密度検出手段の幅との合計が小さい場合、各ヨーク間の隙間が大きくなり、位置検出装置の体格が大きくなる要因となる。
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、その目的は、体格を小さくすることができる位置検出装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、基準部材に対し相対移動する検出対象の位置を検出可能な位置検出装置であって、第１磁束伝達部、第２磁束伝達部、第１磁束発生手段、第２磁束発生手段および磁束密度検出手段を備えている。第１磁束伝達部は、基準部材および検出対象の一方に設けられる。第２磁束伝達部は、第１磁束伝達部との間に隙間が形成されるように設けられている。第１磁束発生手段は、第１磁束伝達部の一端部と第２磁束伝達部の一端部との間に設けられている。第２磁束発生手段は、第１磁束伝達部の他端部と第２磁束伝達部の他端部との間に設けられている。磁束密度検出手段は、隙間に位置し、第１磁束伝達部および第２磁束伝達部に対し相対移動可能であり、基準部材および検出対象の他方に設けられ、通過する磁束の密度に応じた信号を出力する。
【０００７】
特に本発明では、第１磁束伝達部と第２磁束伝達部とが対向する方向を対向方向とすると、第１磁束発生手段および第２磁束発生手段の対向方向の幅は、隙間の対向方向の幅とは異なることを特徴としている。
したがって、磁石の幅および各磁束伝達部間の隙間の幅は、個別自由に設定されている。磁石は、各磁束伝達部間の隙間の幅に依存することなく、必要な磁束密度を生じさせるのに最適な幅に設定することができるため、必要以上に大きくならない。また、各磁束伝達部間の隙間は、磁束密度検出手段との関係において可及的に小さくなるように設定することができる。そのため、位置検出装置の体格を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１実施形態による位置検出装置が適用された回転駆動装置の概略構成を説明する図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図１の矢印ＩＩＩ部分を拡大して示す断面図である。
【図４】図２の矢印ＩＶ部分を拡大して示す断面図である。
【図５】図２の最終減速部材の回転角度とホール素子を通過する磁束の密度との関係を示す特性図である。
【図６】図２のホール素子の出力特性を示す図である。
【図７】本発明の第２実施形態による位置検出装置のうち、第１ヨークおよび第２ヨークの一端部付近を示す断面図である。
【図８】本発明の第３実施形態による位置検出装置の断面図である。
【図９】図８のホール素子の出力特性を示す図である。
【図１０】本発明の第４実施形態による位置検出装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の複数の実施形態を図面に基づき説明する。実施形態同士で実質的に同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態による位置検出装置は、図１に示す回転駆動装置に適用されている。回転駆動装置８０は、図示しないウェイストゲートバルブを開閉駆動するために用いられる。ウェイストゲートバルブは、ターボチャージャーによる過給エンジンにおいて、排気ガスの一部を分流させることによりタービンへの流入量を調節するバルブである。
【００１０】
先ず、回転駆動装置８０の構成を図１に基づき説明する。回転駆動装置８０は、ハウジング８１、ケース８２、モータ８５、回転体８７、出力軸９２および位置検出装置１０を備えている。
ハウジング８１は、モータ収容室を有し、車体または車体に取り付けられた部材に固定される。
ケース８２は、ハウジング８１の開口部に固定されているカバー部８３と、カバー部８３から外側に突き出すコネクタ部８４とを形成している。
【００１１】
モータ８５は、ハウジング８１内に設けられており、パワー端子９３を介して電子制御装置９５に電気的に接続される。モータ８５は、電子制御装置９５から電力が供給されるとモータ軸８６を回転させる。
回転体８７は、モータ軸８６と同軸上に設けられている円板部材であり、軸心９６から外れた位置で周方向へ延びる円弧状の通孔８８を有している。回転体８７は、モータ軸８６に回転伝達可能に連結されている。
出力軸９２は、モータ軸８６と同軸上に設けられ、ケース８２により回転可能に支持され、回転体８７に回転伝達可能に連結されている。出力軸９２は、図示しないリンク機構を介してウェイストゲートバルブに連結される。
【００１２】
位置検出装置１０は、軸方向において回転体８７と一致し且つ径方向において軸心９６から外れた位置に設けられ、ケース８２に対する回転体８７の相対的な回転角度を検出可能である。ケース８２は、特許請求の範囲に記載の「基準部材」に相当し、回転体８７は、特許請求の範囲に記載の「検出対象」に相当する。位置検出装置１０は、信号端子９４を介して電子制御装置９５に電気的に接続される。
【００１３】
上記のように構成された回転駆動装置８０は、電子制御装置９５から電力が供給されると、モータ８５により出力軸９２を回転させつつ、回転体８７の回転角度に応じた電圧を位置検出装置１０から電子制御装置９５に出力する。電子制御装置９５は、位置検出装置１０の出力電圧に基づいてモータ８５を駆動し、回転体８７の回転角度が目標値に一致するようにフィードバック制御を実行する。
【００１４】
次に、位置検出装置１０の構成を図１〜図３に基づき説明する。
位置検出装置１０は、第１ヨーク２０、第２ヨーク２５、第１磁石４０、第２磁石４５および短絡磁路部５０を備えている。
第１ヨーク２０は、軟磁性材料から構成され、回転体８７の通孔８８のうち径方向外側の内壁８９に沿うように延びている円弧部２１と、円弧部２１の周方向の一方から径方向内側に突き出す一端部２２と、円弧部２１の周方向の他方から径方向内側に突き出す他端部２３とを形成している。第１ヨーク２０は、回転体８７に固定されており、特許請求の範囲に記載の「第１磁束伝達部」に相当する。
【００１５】
第２ヨーク２５は、軟磁性材料から構成され、回転体８７の通孔８８のうち径方向内側の内壁９１に沿うように延びている円弧部２６と、円弧部２６の周方向の一方から径方向外側に突き出す一端部２７と、円弧部２１の周方向の他方から径方向外側に突き出す他端部２８とを形成している。第２ヨーク２５の円弧部２６は、第１ヨーク２０の円弧部２１との間に隙間３０を形成している。隙間３０は、周方向に延びる円弧状の間隙である。第２ヨーク２５は、回転体８７に固定されており、特許請求の範囲に記載の「第２磁束伝達部」に相当する。
【００１６】
第１磁石４０は、第１ヨーク２０の一端部２２と第２ヨーク２５の一端部２７との間に設けられており、特許請求の範囲に記載の「第１磁束発生手段」に相当する。本実施形態では、第１磁石４０は、着磁方向が回転体８７の径方向と一致し、Ｎ極４１が径方向外側に位置するとともにＳ極４２が径方向内側に位置するように設けられている。
【００１７】
第２磁石４５は、第１ヨーク２０の他端部２３と第２ヨーク２５の他端部２８との間に設けられており、特許請求の範囲に記載の「第２磁束発生手段」に相当する。本実施形態では、第２磁石４５の磁力は、第１磁石４０の磁力と同じである。また、第２磁石４５は、着磁方向が回転体８７の径方向と一致し、Ｎ極４６が径方向内側に位置するとともにＳ極４７が径方向外側に位置するように設けられている。つまり、第２磁石４５の極性は、第１磁石４０の極性とは反対である。
【００１８】
第１ヨーク２０および第２ヨーク２５は、第１磁石４０と第２磁石４５とを繋ぐ磁気回路構成部材であり、第１磁石４０および第２磁石４５と共に閉磁路を形成している。第１磁石４０のＮ極４１から出る磁束には、第１ヨーク２０を通って第２磁石４５に流れる還流磁束と、第１ヨーク２０から隙間３０を通って第２ヨーク２５に流れる漏洩磁束と、第１ヨーク２０および第２ヨーク２５を通ることなく隙間３０を通ってＳ極４２に流れる直通磁束とが含まれる。また、第２磁石４５のＮ極４６から出る磁束には、第２ヨーク２５を通って第１磁石４０に流れる還流磁束と、第２ヨーク２５から隙間３０を通って第１ヨーク２０に流れる漏洩磁束と、第１ヨーク２０および第２ヨーク２５を通ることなく隙間３０を通ってＳ極４７に流れる直通磁束とが含まれる。
【００１９】
短絡磁路部５０は、ホールＩＣ５３と、漏洩磁界をより集中してホールＩＣ５３へ流すための集磁ヨーク５１および集磁ヨーク５２とを有している。集磁ヨーク５１、集磁ヨーク５２およびホールＩＣ５３は、樹脂製のモールド部材５５によりモールドされ、ケース８２に固定されている。集磁ヨーク５１および集磁ヨーク５２は、隙間３０において径方向に並ぶように設けられている。ホールＩＣ５３は、集磁ヨーク５１と集磁ヨーク５２との間に設けられており、ホール素子５４を有している。ホール素子５４は、ホール効果を利用した磁電変換素子であり、特許請求の範囲に記載の「磁束密度検出手段」に相当し、感磁面を通過する磁束の密度に応じた電圧を出力する。ホール素子５４を通過する磁束の密度は、回転体８７の相対回転に伴いホール素子５４と閉磁路との相対位置が変化することによって、増減する。本実施形態では、ホール素子５４は１つだけ設けられている。
【００２０】
次に、位置検出装置１０の構成部材の特徴について図２、図４〜図６に基づき説明する。以下、第１ヨーク２０と第２ヨーク２５とが対向する方向を対向方向とし、第１ヨーク２０および第２ヨーク２５が短絡磁路部５０に対し相対移動する方向を相対移動方向とする。
【００２１】
隙間３０の対向方向の幅Ｗ１は、相対移動方向において一定であり、ホール素子５４をモールドするモールド部材５５との関係において可及的に小さくなるように設定されている。また、第１磁石４０および第２磁石４５の対向方向の幅Ｗ２は、幅Ｗ１に依存せず、必要な磁束を生じさせるのに最適な値に設定されている。本実施形態では、幅Ｗ２は、幅Ｗ１よりも小さい。
【００２２】
図５には、直交座標系において、ケース８２に対する回転体８７の相対的な回転角度θと、ホール素子５４を通過する検出磁束密度Ｂとの関係を示し、図６には、回転角度θと、ホールＩＣ５３によって検出磁束密度Ｂから変換した出力電圧Ｖとの関係を示す。回転角度θは特許請求の範囲に記載の「回転体の位置」に相当し、出力電圧Ｖは特許請求の範囲に記載の「出力信号」に相当する。また、図５および図６には、検出磁束密度Ｂが０となる座標を０点とし、０点を通り且つ傾きが理想傾きａである理想直線Ｌ２を二点鎖線で示している。位置検出装置１０が検出可能な角度範囲を検出範囲θｆｓとし、隙間３０のうちホール素子５４が第１ヨーク２０に対し相対移動可能な範囲を可動範囲θｍとすると、本実施形態では、可動範囲θｍは、検出範囲θｆｓにおける実出力線Ｌ１と理想直線Ｌ２との電圧差が所定値Ｖ１以内となるように設定されている。所定値Ｖ１は、必要精度を考慮して決定される値である。
【００２３】
具体的には、隙間３０は、次の（１）、（２）、（３）、（４）を順に経て設定されている。以下、可動範囲θｍのうち、検出角度θｆｓと重ならない余剰角度範囲の一方を第１余剰角度θｓ１とし、上記余剰角度範囲の他方を第２余剰角度θｓ２とする。
（１）検出範囲θｆｓが決定される。
（２）図５に示すように、前述の直通磁束の影響によって検出磁束密度Ｂの変動が極端に大きくなる。直通磁束の影響は第１磁石４０および第２磁石４５からの距離によって決まるため、第１余剰角度θｓ１および第２余剰角度θｓ２の設定によって、出力電圧Ｖの直線性が決定する。そのため、検出範囲θｆｓにおける実出力線Ｌ１と理想直線Ｌ２との電圧差の最大値が所定値Ｖ１以内となるように、第１余剰角度θｓ１および第２余剰角度θｓ２が決定される。
（３）検出範囲θｆｓに第１余剰角度θｓ１および第２余剰角度θｓ２を加えた値として、可動範囲θｍが決定される。
（４）可動範囲θｍ、および、モールド部材５５の相対移動方向の大きさに基づき、隙間３０の相対移動方向の大きさが決定される。
【００２４】
本実施形態では、第１余剰角度θｓ１は第２余剰角度θｓ２と同じである。また、検出範囲θｆｓの相対移動方向の中央位置Ｐｆｓは、可動範囲θｍの相対移動方向の中央位置Ｐｍと一致する。また、第１磁石４０および第２磁石４５の磁力が同じであるので、中央位置Ｐｍは、０点に対応する角度位置である。
【００２５】
以上説明したように、第１実施形態による位置検出装置１０では、第１磁石４０および第２磁石４５の幅Ｗ２は、隙間３０の幅Ｗ１とは異なり、幅Ｗ１よりも小さい。つまり、隙間３０の幅Ｗ１と、第１磁石４０および第２磁石４５の幅Ｗ２とは、互いに依存することなく、個別自由に設定されている。隙間３０の幅Ｗ１は、ホール素子５４をモールドするモールド部材５５との関係において可及的に小さくなるように設定することができる。また、第１磁石４０および第２磁石４５の幅Ｗ２は、必要な磁束密度を生じさせるのに最適な幅に設定することができるので、必要以上に大きくならない。そのため、位置検出装置１０の体格を小さくすることができる。
【００２６】
また、第１実施形態では、閉磁路は回転体８７に設けられ、ホールＩＣ５３はケース８２に設けられている。そのため、回転体８７と共に移動するのは閉磁路であり、配線が必要なホールＩＣ５３は位置が固定されている。したがって、ホールＩＣを可動とする場合に必要な結線手段が不要となり、位置検出装置１０の構成が簡易なものとなる。
【００２７】
また、第１実施形態では、可動範囲θｍは、検出範囲θｆｓにおける実出力線Ｌ１と理想直線Ｌ２との電圧差が、必要精度を考慮して決定された所定値Ｖ１以内となるように設定されている。つまり、隙間３０は、検出範囲θｆｓにおいて必要精度を得ることができるように設定されている。そのため、必要精度を考慮した設計が可能となり、ホール素子５４の出力電圧Ｖの直線性が良好となる。
【００２８】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態による位置検出装置を図７に基づき説明する。
位置検出装置６０は、第１ヨーク６１および第２ヨーク６４を備えている。第１ヨーク６１の一端部６２と第２ヨーク６４の一端部６５との間には第１磁石６７が設けられ、第１ヨーク６１の他端部と第２ヨーク６４の他端部との間には第２磁石が設けられている。第１ヨーク６１の他端部、第２ヨーク６４の他端部、および第２磁石の構成は、第１ヨーク６１の一端部６２、第２ヨーク６４の一端部６５、および第１磁石６７の構成と同様であり、説明を省略する。
【００２９】
第１ヨーク６１の円弧部６３と第２ヨーク６４の円弧部６６との間の隙間６８の幅Ｗ３は、ホール素子をモールドするモールド部材との関係において可及的に小さくなるように設定されている。第１磁石６７の幅Ｗ４は、幅Ｗ３に依存せず、必要な磁束を生じさせるのに最適な値に設定されている。本実施形態では、第１磁石６７の幅Ｗ４は、隙間６８の幅Ｗ３とは異なり、幅Ｗ３よりも大きい。
【００３０】
ここで、各ヨーク間の隙間の幅が磁石の幅と同じに設定される従来の形態では、各ヨーク間の隙間が必要以上に大きくなり、装置体格が大きくなるという問題がある。
それに対し、第２実施形態によれば、隙間６８の幅Ｗ３が第１磁石６７および第２磁石の幅Ｗ４に依存することなく設定されているので、第１実施形態と同様に、位置検出装置６０の体格を小さくすることができる。
【００３１】
（第３実施形態）
本発明の第３実施形態による位置検出装置を図８および図９に基づき説明する。
位置検出装置６９では、第１余剰角度θｓ１’は、第２余剰角度θｓ２よりも大きく設定されている。これにより、検出範囲θｆｓ’の相対移動方向の中央位置Ｐｆｓ’は、可動範囲θｍの相対移動方向の中央位置Ｐｍに対して第２磁石４５側にずれる。
【００３２】
第３実施形態では、回転角度θが０となる原位置Ｐ０’は、第１実施形態の原位置Ｐ０と比べて、中央位置Ｐｍに近い。０点に対応する中央位置Ｐｍに近いほど温度特性が良好となることから、第３実施形態によれば原位置Ｐ０’付近の検出精度を高めることができる。したがって、位置検出装置６９が適用されたウェイストゲートバルブ装置は、原位置Ｐ０’に対応する全閉位置付近において、より正確なバルブ開度制御が可能となる。
【００３３】
（第４実施形態）
本発明の第４実施形態による位置検出装置を図１０に基づき説明する。
位置検出装置７０は、シフトアクチュエータ７８に適用されている。シフトアクチュエータ７８は、例えば自動制御式マニュアルトランスミッションまたはデュアルクラッチトランスミッション等から構成された変速機に設けられ、シフト操作およびセレクト操作を行うアクチュエータである。シフトアクチュエータ７８の出力部材７９は、図示しないハウジングに対し相対直線移動する。出力部材７９は特許請求の範囲に記載の「検出対象」に相当し、上記ハウジングは特許請求の範囲に記載の「基準部材」に相当する。
【００３４】
位置検出装置７０は、第１ヨーク７１、第２ヨーク７３、第１磁石４０および第２磁石４５により閉磁路を形成している。第１ヨーク７１は、出力部材７９の相対移動方向に沿うように直線状に形成されており、直線部７２を有している。第１ヨーク７１は、出力部材７９に固定されており、特許請求の範囲に記載の「第１磁束伝達部」に相当する。
第２ヨーク７３は、出力部材７９の相対移動方向に沿うように直線状に形成されており、直線部７４を有している。第２ヨーク７３は、出力部材７９に固定されており、特許請求の範囲に記載の「第２磁束伝達部」に相当する。
【００３５】
第１ヨーク７１は、第２ヨーク７３との間に隙間７５を形成している。隙間７５の幅Ｗ５は、相対移動方向において一定であり、モールド部材５５との関係において可及的に小さくなるように設定されている。本実施形態では、幅Ｗ２は、幅Ｗ５よりも小さい。
第４実施形態では、隙間７５の幅Ｗ５と、第１磁石４０および第２磁石４５の幅Ｗ２とは、互いに依存することなく、個別自由に設定されている。そのため、第４実施形態によれば、第１実施形態と同様に、位置検出装置７０の体格を小さくすることができる。
【００３６】
（他の実施形態）
本発明の他の実施形態では、閉磁路を構成する部材がケースに設けられ、ホールＩＣが回転体に設けられてもよい。
本発明の他の実施形態では、第１磁石および第２磁石に代えて、例えば電磁石などの他の磁束発生手段が設けられてもよい。
本発明の他の実施形態では、位置検出装置は、例えばモータと出力軸との間に設けられる減速機の最終減速部材など、他の回転部材に設けられてもよい。
本発明の他の実施形態では、回転駆動装置は、ウェイストゲートバルブ装置に限らず、例えば可変容量ターボの可変ベーン制御装置、排気スロットルまたは排気切替弁のバルブ作動装置、あるいは、可変吸気機構のバルブ作動装置などの他の装置に適用されてもよい。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の形態で実施可能である。
【符号の説明】
【００３７】
１０、６０、６９、７０・・・位置検出装置
２０、７１・・・第１ヨーク（第１磁束伝達部）
２５、７３・・・第２ヨーク（第２磁束伝達部）
３０、６８、７５・・・隙間
４０、６７・・・第１磁石（第１磁束発生手段）
４５・・・第２磁石（第２磁束発生手段）
５４・・・ホール素子（磁束密度検出手段）
７９・・・出力部材（検出対象）
８２・・・ケース（基準部材）
８７・・・回転体（検出対象）
Ｗ１、Ｗ３、Ｗ５・・・隙間の幅
Ｗ２、Ｗ４・・・第１磁石および第２磁石の幅
【図１】
2014126547.tif 000003
【図２】
2014126547.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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