(57)【要約】【課題】除塵中に除塵ローラに一旦付着して除去された塵、ゴミあるいは異物等が除塵対象物に再付着するおそれのない露光装置の除塵装置及び除塵方法を得る。【解決手段】感光性基板に対してパターンを露光する露光装置において、周面により、前記露光装置内の除塵対象物の除塵表面に接離可能な除塵ローラと、前記除塵ローラの周面を前記除塵対象物の除塵表面に接触させながら、前記除塵ローラが回転するように、前記除塵ローラと除塵対象物とを相対移動させる移動機構と、を備え、前記除塵ローラの周長は、前記移動機構による前記除塵ローラの周面と前記除塵対象物の除塵表面との接触移動距離よりも長く設定されていることを特徴とする露光装置の除塵装置。【選択図】図５
2014059494.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性基板に対してパターンを露光する露光装置において、
周面により、前記露光装置内の除塵対象物の除塵表面に接離可能な除塵ローラと、
前記除塵ローラの周面を前記除塵対象物の除塵表面に接触させながら、前記除塵ローラが回転するように、前記除塵ローラと除塵対象物とを相対移動させる移動機構と、を備え、
前記除塵ローラの周長は、前記移動機構による前記除塵ローラの周面と前記除塵対象物の除塵表面との接触移動距離よりも長く設定されていることを特徴とする露光装置の除塵装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置の除塵装置において、
前記除塵ローラは、単一の除塵対象物の除塵表面を複数に分割した分割除塵表面上を転動するように複数が備えられており、
各除塵ローラの周長は、各除塵ローラの周面と各分割除塵表面との接触移動距離よりも長く設定されている露光装置の除塵装置。
【請求項３】
請求項２記載の露光装置の除塵装置において、
前記除塵ローラは、単一の除塵対象物の除塵表面を２つに分割した第１、第２の分割除塵表面上を転動するように、第１、第２の除塵ローラを備えており、
前記第１の除塵ローラの周長は、前記第１の除塵ローラの周面と前記第１の分割除塵表面との接触移動距離よりも長く設定されており、
前記第２の除塵ローラの周長は、前記第２の除塵ローラの周面と前記第２の分割除塵表面との接触移動距離よりも長く設定されている露光装置の除塵装置。
【請求項４】
請求項３記載の露光装置の除塵装置において、
前記第１の除塵ローラの前記第１の分割除塵表面上の転動と、前記第２の除塵ローラの前記第２の分割除塵表面上の転動とを交互に行わせる制御部をさらに備えている露光装置の除塵装置。
【請求項５】
請求項１記載の露光装置の除塵装置において、
前記除塵ローラは、単一の除塵対象物の全除塵表面上を転動する単一ローラからなっている露光装置の除塵装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項記載の露光装置の除塵装置において、
前記移動機構は、感光性基板を保持して移動させるワーク移動機構を兼ねている露光装置の除塵装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項記載の露光装置の除塵装置において、
前記除塵対象物は、感光性基板、露光テーブル及びマスクの１つ以上を含んでいる露光装置の除塵装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項記載の露光装置の除塵装置において、
前記除塵ローラに付着した塵を集塵する集塵装置をさらに備えている露光装置の除塵装置。
【請求項９】
除塵ローラをその周面を露光装置内の除塵対象物の除塵表面に接触させながら転動させて除塵する除塵工程と、
除塵工程が終了した前記除塵ローラの周面を清掃する清掃工程と、を交互に実行する露光装置の除塵方法において、
１回の除塵工程においては、前記除塵ローラの周面上の同一部分を前記除塵対象物の除塵表面に二度接触させることなく除塵することを特徴とする露光装置の除塵方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性基板に対してパターンを露光させる露光装置に関し、特にその除塵装置及び除塵方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板、半導体基板等の各種基板の製造には、フォトレジスト（感光材料）を塗布したワーク（感光性基板）に所定のパターンを露光して焼き付け、その後エッチング工程によりワーク上にパターンを形成するフォトグラフィ技術を用いた露光装置が広く用いられている。このような露光装置には、マスクとワークを密着させて露光するコンタクト露光方式、マスクとワークが非接触のプロキシミティギャップ方式およびプロジェクション方式、マスクを持たないダイレクト露光方式等の各種が知られている。また、ワークの両面を露光する両面露光方式、片面のみに露光を行う片面露光方式も知られている。
【０００３】
いずれの方式の露光装置においても、外部環境において塵、ゴミあるいは異物等（以下では適宜これらを「塵」と総称する）に汚染されたワークが露光装置内に入ると、汚染されたワーク自体に露光欠陥、現像欠陥が生じてしまう。また、ワークを載置する露光テーブルや、マスクを用いる装置ではマスクに塵が転写されてしまい、同様に露光欠陥、現像欠陥の原因となる可能性がある。また、ワークのフォトレジストからの発塵も同様の問題を生じさせる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１６２７４９号公報
【特許文献２】特開２００７−２５４３６号公報
【特許文献３】特開２００９−１５７２４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１、２、３は、このような露光装置の除塵対象物（ワーク、露光テーブルあるいはマスク）の除塵を行うため、周面に粘着材を有する除塵ローラ（粘着ローラ）を除塵対象物表面で転動させる除塵装置を提案している。
【０００６】
しかしながら、特許文献１の除塵装置は、除塵ローラがマスクと露光テーブルの上で転動するとき、一旦除塵ローラに付着した塵が再びマスクまたは露光テーブルに移動（再付着）するおそれがある。特許文献２の除塵装置は、マスク除塵用の除塵ローラと露光テーブル除塵用の除塵ローラを個別に設けているが、同様に、一旦除塵ローラに付着した塵が再びマスクまたは露光テーブルに移動（再付着）するおそれがある。特許文献３の除塵装置は、ワーク、露光テーブル及びマスクのそれぞれを除塵する除塵ローラを１つのクリーニングユニットに設けているため、装置が大型化、重量化してしまう。また、特許文献１、２の除塵装置と異なり、ワークの搬送装置との兼用化ができないという問題がある。
【０００７】
本発明は、従来装置についての以上の問題意識に基づき、除塵中に除塵ローラに一旦付着して除去された塵、ゴミあるいは異物等が除塵対象物に再付着するおそれのない露光装置の除塵装置及び除塵方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の露光装置の除塵装置は、感光性基板に対してパターンを露光する露光装置において、周面により、前記露光装置内の除塵対象物の除塵表面に接離可能な除塵ローラと、前記除塵ローラの周面を前記除塵対象物の除塵表面に接触させながら、前記除塵ローラが回転するように、前記除塵ローラと除塵対象物とを相対移動させる移動機構と、を備え、前記除塵ローラの周長は、前記移動機構による前記除塵ローラの周面と前記除塵対象物の除塵表面との接触移動距離よりも長く設定されていることを特徴としている。
【０００９】
前記除塵ローラとして、単一の除塵対象物の除塵表面を複数に分割した分割除塵表面上を転動する複数の除塵ローラを設け、各除塵ローラの周長を、各除塵ローラの周面と各分割除塵表面との接触移動距離よりも長く設定することができる。
【００１０】
前記除塵ローラとして、単一の除塵対象物の除塵表面を２つに分割した第１、第２の分割除塵表面上を転動する第１、第２の除塵ローラを設け、前記第１の除塵ローラの周長を、前記第１の除塵ローラの周面と前記第１の分割除塵表面との接触移動距離よりも長く設定し、前記第２の除塵ローラの周長を、前記第２の除塵ローラの周面と前記第２の分割除塵表面との接触移動距離よりも長く設定することができる。
【００１１】
本発明の露光装置の除塵装置は、前記第１の除塵ローラの前記第１の分割除塵表面上の転動と、前記第２の除塵ローラの前記第２の分割除塵表面上の転動とを交互に行わせる制御部をさらに備えることが好ましい。
【００１２】
前記除塵ローラは、単一の除塵対象物の全除塵表面上を転動する単一ローラから構成することもできる。
【００１３】
前記移動機構は、感光性基板を保持して移動させるワーク移動機構を兼ねることができる。
【００１４】
前記除塵対象物は、感光性基板、露光テーブル及びマスクの１つ以上を含むことができる。
【００１５】
本発明の露光装置の除塵装置は、前記除塵ローラに付着した塵を集塵する集塵装置をさらに備えることが好ましい。
【００１６】
本発明の露光装置の除塵方法は、除塵ローラをその周面を露光装置内の除塵対象物の除塵表面に接触させながら転動させて除塵する除塵工程と、除塵工程が終了した前記除塵ローラの周面を清掃する清掃工程と、を交互に実行する露光装置の除塵方法において、１回の除塵工程においては、前記除塵ローラの周面上の同一部分を前記除塵対象物の除塵表面に二度接触させることなく除塵する（除塵ローラが１回転未満の転動で除塵する）ことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、除塵ローラは、除塵中に、その同一部分が除塵対象物の除塵表面に二度接触することがない（除塵ローラが１回転未満の転動で除塵する）。このため、除塵中に除塵ローラに一旦付着して除去された塵、ゴミあるいは異物等が除塵対象物に再付着するおそれがなく、再付着に起因する露光欠陥や現像欠陥を未然に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態に係る露光装置の除塵装置の概略構成を示す側面透視図である。
【図２】除塵装置（クリーニングユニット）の詳細な構成を示す平面図である。
【図３】除塵装置（クリーニングユニット）の詳細な構成を示す側面図である。
【図４】除塵ローラと転写ローラとの位置関係を示す二面図である。
【図５】第１除塵ローラ及び第２除塵ローラの周長（有効径）と除塵対象物であるワークの除塵表面との関係を示す図である。
【図６】第１除塵ローラ及び第２除塵ローラの周長（有効径）と除塵対象物である露光テーブルの除塵表面との関係を示す図である。
【図７】第１除塵ローラ及び第２除塵ローラの周長（有効径）と除塵対象物であるマスクの除塵表面との関係を示す図である。
【図８】露光装置の除塵装置の動作を示す第１工程図である。
【図９】露光装置の除塵装置の動作を示す第２工程図である。
【図１０】露光装置の除塵装置の動作を示す第３工程図である。
【図１１】露光装置の除塵装置の動作を示す第４工程図である。
【図１２】露光装置の除塵装置の動作を示す第５工程図である。
【図１３】露光装置の除塵装置の動作を示す第６工程図である。
【図１４】露光装置の除塵装置の動作を示す第７工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図１ないし図１４を参照して、本発明による露光装置の除塵装置の一実施形態について説明する。本実施形態は、マスクとワークを密着させて露光するコンタクト露光方式によりワークの両面に露光するタイプの露光装置ＥＸに本発明を適用したものである。以下の説明におけるｘ、ｙ、ｚの各方向は、図中に記載した矢線方向を基準としている。
【００２０】
本実施形態で使用するワーク（感光性基板、除塵対象物）Ｗは、露光及びエッチング処理後に回路配線として残る金属膜とフォトレジスト層とを両面に夫々積層した平面基材からなる。
【００２１】
＜露光装置の全体構成＞
図１に示すように、露光装置ＥＸは、図１中の左側から右側に向けて順に、投入部１、第１露光部２、反転部３、第２露光部４、及び排出部５を備えている。
【００２２】
投入部１は、未露光のワーク（感光性基板、除塵対象物）Ｗを露光装置ＥＸの外部から内部に搬入するための搬入口である。投入部１には、作業者または搬送装置（図示せず）によって搬入されたワークＷを載置するためのステージ１ａが設けられている。
【００２３】
第１露光部２は、未露光のワークＷの第１面（上面）に露光するための露光装置である。第１露光部２は、ワークＷを載置する露光テーブル（除塵対象物）８と、この露光テーブル８の上方に位置する所定のパターンが描かれたマスク（除塵対象物）１０と、このマスク１０の上方に位置する光源１４とを備えている。第１露光部２は、露光テーブル８をマスク１０に対して昇降させる昇降機構（図示せず）を備えており、この昇降機構によって露光テーブル８をマスク１０に向けて上昇させたとき、露光テーブル８に載置されたワークＷの第１面（上面）にマスク１０が密着する。ワークＷとマスク１０を密着させた状態で、光源１４によってワークＷのフォトレジスト層を感光させる波長帯域の光（例えば紫外光）を照射すると、マスク１０に描かれた所定のパターンがワークＷの第１面（上面）のフォトレジスト層に露光される。なお、露光テーブル８の上面には多数の吸引口（図示せず）が形成されており、この吸引口を通じて空気が吸引されることによって、露光テーブル８の表面にワークＷが吸着固定される。
【００２４】
反転部３は、第１露光部２によって第１面（上面）が露光されたワークＷの上下面を反転させる反転装置９を備えている。反転部３（反転装置９）によってワークＷの上下面を反転させると、露光済みのワークＷの第１面が下面を向き、未露光のワークＷの第２面が上面を向く。
【００２５】
第２露光部４は、第１面（下面）が露光済みのワークＷの第２面（上面）に露光するための露光装置である。第２露光部４の構成は、第１露光部２の構成と同一であるため、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００２６】
排出部５は、第１露光部２と第４露光部４によって両面に露光が施されたワークＷを露光装置ＥＸの内部から外部へ搬出するための搬出口である。排出部５には、露光済みのワークＷを載置するためのステージ５ａが設けられており、ステージ５ａ上に載置されたワークＷが作業者または搬送装置（図示せず）によって搬出される。
【００２７】
露光装置ＥＸは、ワークＷを保持してこれを投入部１から第１露光部２そして反転部３へと移動させる第１ハンドラ（ワーク移動機構）６を備えている。第１ハンドラ６は、ワークＷを投入部１のステージ１ａから第１露光部２の露光テーブル８に移動させる搬入ハンドラ６ａと、ワークＷを第１露光部２の露光テーブル８から反転部３の反転装置９に移動させる搬出ハンドラ６ｂとを独立した構成要素として備えている。搬入ハンドラ６ａと搬出ハンドラ６ｂは、ワークＷを着脱自在に吸着する吸着パッドＰ（図２、図３）を備えている。搬入ハンドラ６ａと搬出ハンドラ６ｂは、後述する搬送フレーム２０によって図１中の左右方向に独立して移動可能となっている。
【００２８】
露光装置ＥＸは、ワークＷを保持してこれを反転部３から第２露光部４そして排出部５へと移動させる第２ハンドラ（ワーク移動機構）７を備えている。第２ハンドラ７は、ワークＷを反転部３の反転装置９から第２露光部４の露光テーブル８に移動させる搬入ハンドラ７ａと、ワークＷを第２露光部４の露光テーブル８から排出部５のステージ５ａに移動させる搬出ハンドラ７ｂとを独立した構成要素として備えている。搬入ハンドラ７ａと搬出ハンドラ７ｂは、ワークＷを着脱自在に吸着する吸着パッドＰ（図２、図３）を備えている。搬入ハンドラ７ａと搬出ハンドラ７ｂは、後述する搬送フレーム２０によって図１中の左右方向に独立して移動可能となっている。
【００２９】
＜除塵装置の構成＞
第１露光部２及び第２露光部４にはそれぞれ同一構成の除塵装置（クリーニングユニット）１２が設けられている。図２、図３では、第１露光部２に設けられた除塵装置１２のみを描いており、第２露光部４の構成要素に対応する符号を括弧書きで示している。
【００３０】
図２、図３に示すように、除塵装置１２は、互いに対向する第１除塵装置１２ａと第２除塵装置１２ｂとを備えている。
【００３１】
第１除塵装置１２ａ及び第２除塵装置１２ｂは、第１露光部２（第２露光部４）内に配置された搬送フレーム２０によって保持されている。搬送フレーム２０は、ｙ方向（ワーク搬送方向）に延びる固定部材である一対のガイドレール２１、この一対のガイドレール２１によってｙ方向（ワーク搬送方向）にスライド自在に支持された一対のｙ方向移動テーブル２２、一対のガイドレール２１に跨るようにしてｙ方向移動テーブル２２に掛け渡されたｘ方向に延びる接続フレーム２３、一対のｙ方向移動テーブル２２によってｚ方向（重力方向）にスライド自在に支持された一対のｚ方向移動テーブル２５、及びこの一対のｚ方向移動テーブル２５からｙ方向に向けて互いに接近するように突出形成された一対のステー２６を備えている。一対のｚ方向移動テーブル２５は、ｚ方向（重力方向）に延びる固定部材である一対のガイドレール２４にスライド自在に支持されている。ｙ方向移動テーブル２２とｚ方向移動テーブル２５は、図示しないアクチュエータによってガイドレール２１とガイドレール２４に対してスライドして位置決めされる。
【００３２】
第１除塵装置１２ａは、回転軸をｘ方向に向けた第１除塵ローラ１６ａを備えている。この第１除塵ローラ１６ａは、一対のステー２６の一方の先端部に回転自在に支持されている。第２除塵装置１２ｂは、回転軸をｘ方向に向けた第２除塵ローラ１６ｂを備えている。この第２除塵ローラ１６ｂは、一対のステー２６の他方の先端部に回転自在に支持されている。第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの外周面には粘着材の層が形成されている。第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの材質は、除塵対象に合わせて適宜選択することができ、一般的にはシリコンゴム系の材質が選択される。
【００３３】
搬送フレーム２０は、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂを、除塵対象物であるワークＷ、露光テーブル８またはマスク１０の除塵表面に対して接離移動させるとともに、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの周面を除塵対象物の除塵表面に接触させながら回転駆動して、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂと除塵対象物とを相対移動させる移動機構を構成する。搬送フレーム２０の移動に従動して、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂが除塵対象物の除塵表面上を回転移動すると、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの外周面の粘着材の粘着力により、除塵対象物の除塵表面上に付着している塵を絡め取ることができる。
【００３４】
露光装置ＥＸには、搬送フレーム（移動機構）２０による第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの駆動を制御する制御部１６ｃが備えられている。制御部１６ｃは、第１除塵ローラ１６ａによる除塵対象物上の転動と第２除塵ローラ１６ｂによる除塵対象物上の転動とを交互に行わせる。すなわち制御部１６ｃは、第１除塵ローラ１６ａと第２除塵ローラ１６ｂが同時に除塵対象物上を転動しないように搬送フレーム２０を制御する。これにより、除塵対象物上で第１除塵ローラ１６ａと第２除塵ローラ１６ｂが干渉するのを防止することができる。
【００３５】
図２、図３に示すように、搬送フレーム２０の一対の接続フレーム２３の一方と他方には第１ハンドラ６の搬入ハンドラ６ａと搬出ハンドラ６ｂ（第２ハンドラ７の搬入ハンドラ７ａと搬出ハンドラ７ｂ）がそれぞれ固定されており、第１除塵ローラ１６ａと搬入ハンドラ６ａ（搬入ハンドラ７ａ）及び第２除塵ローラ１６ｂと搬出ハンドラ６ｂ（搬出ハンドラ７ｂ）は一体となって移動する。すなわち搬送フレーム２０は、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂを移動させる移動機構を構成するとともに、第１ハンドラ６及び第２ハンドラ７と協働してワークＷを移動させるワーク移動機構を構成している（移動機構とワーク移動機構を兼ねている）。
【００３６】
図１、図３、図４に示すように、露光装置ＥＸは、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの外周面に付着した塵を集塵し外周面を清掃する転写ローラ（集塵装置）１８を備えている。転写ローラ１８は、第１露光部２及び第２露光部４に設けられたフレーム１７（搬送フレーム２０とは別個独立している）に支持されている。転写ローラ１８は、チェーンやギヤ等の公知の伝達装置を介して、駆動モータ２７によって回転駆動され、その外周面には、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂよりも強い粘着力を有するテープが巻かれている。第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂは、その清掃位置において転写ローラ１８に接触し、転写ローラ１８が回転することによって従動回転する。その結果、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの外周面に付着していた塵は、転写ローラ１８の表面に転写されて回収される。このように転写ローラ１８によって回収された塵は、転写ローラ１８の外周面から粘着テープを一巻分剥ぎ取られることによって、廃棄される。また、剥ぎ取りや転写ローラ１８の交換の利便性のため、フレーム１７の基部にはガイドレール１９が設けられており、不図示のストッパーを外すことによって転写ローラ１８を作業者側に引き出すことが可能となっている。またフレーム１７には、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂが清掃位置にあるとき、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの静電除去を行うための除電器２８が設けられている。
【００３７】
いま、図５、図６、図７を参照しながら、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの周長（有効径）に注目する。図５は露光テーブル８に載置されたワークＷを除塵対象物とした場合、図６は露光テーブル８を除塵対象物とした場合、図７はマスク１０を除塵対象物とした場合をそれぞれ示している。
【００３８】
図５に示すように、除塵対象物であるワークＷの除塵表面ＷＳは、第１除塵表面（分割除塵表面）ＷＳ１と第２除塵表面（分割除塵表面）ＷＳ２とに均等に分割されており、第１除塵ローラ１６ａが第１除塵表面ＷＳ１上を転動し、第２除塵ローラ１６ｂが第２除塵表面ＷＳ２上を転動するようになっている。そして、第１除塵ローラ１６ａの周長１６ａｒは、第１除塵ローラ１６ａの周面と第１除塵表面ＷＳ１との接触移動距離（図５中の第１除塵表面ＷＳ１の幅）よりも長く設定されており、第２除塵ローラ１６ｂの周長１６ｂｒは、第２除塵ローラ１６ｂの周面と第２除塵表面ＷＳ２との接触移動距離（図５中の第２除塵表面ＷＳ２の幅）よりも長く設定されている。
【００３９】
図６に示すように、除塵対象物である露光テーブル８の除塵表面８Ｓは、第１除塵表面（分割除塵表面）８Ｓ１と第２除塵表面（分割除塵表面）８Ｓ２とに均等に分割されており、第１除塵ローラ１６ａが第１除塵表面８Ｓ１上を転動し、第２除塵ローラ１６ｂが第２除塵表面８Ｓ２上を転動するようになっている。そして、第１除塵ローラ１６ａの周長１６ａｒは、第１除塵ローラ１６ａの周面と第１除塵表面８Ｓ１との接触移動距離（図６中の第１除塵表面８Ｓ１の幅）よりも長く設定されており、第２除塵ローラ１６ｂの周長１６ｂｒは、第２除塵ローラ１６ｂの周面と第２除塵表面８Ｓ２との接触移動距離（図６中の第２除塵表面８Ｓ２の幅）よりも長く設定されている。
【００４０】
図７に示すように、除塵対象物であるマスク１０の除塵表面１０Ｓは、第１除塵表面（分割除塵表面）１０Ｓ１と第２除塵表面（分割除塵表面）１０Ｓ２とに均等に分割されており、第１除塵ローラ１６ａが第１除塵表面１０Ｓ１上を転動し、第２除塵ローラ１６ｂが第２除塵表面１０Ｓ２上を転動するようになっている。そして、第１除塵ローラ１６ａの周長１６ａｒは、第１除塵ローラ１６ａの周面と第１除塵表面１０Ｓ１との接触移動距離（図７中の第１除塵表面１０Ｓ１の幅）よりも長く設定されており、第２除塵ローラ１６ｂの周長１６ｂｒは、第２除塵ローラ１６ｂの周面と第２除塵表面１０Ｓ２との接触移動距離（図７中の第２除塵表面１０Ｓ２の幅）よりも長く設定されている。
【００４１】
したがって、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂが除塵対象物の除塵表面を転動して除塵するとき、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの周面上の同一部分が除塵対象物の除塵表面に二度接触することがない（第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂが１回転未満の転動で除塵する）。このため、除塵中に第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂに一旦付着して除去された塵が除塵対象物に再付着するおそれがなく、再付着に起因する露光欠陥や現像欠陥を未然に防止することができる。
【００４２】
＜露光装置の除塵装置の動作＞
図８ないし図１４を参照して、本実施形態の露光装置ＥＸの除塵装置１２の動作を説明する。ここでは、第１露光部２のマスク１０と露光テーブル８を除塵対象物として、マスク１０を除塵した後に露光テーブル８を除塵する場合を例示して説明する。
【００４３】
まず、作業者または搬送装置（図示せず）によって搬入された未露光のワークＷが投入部１のステージ１ａに載置される。次いで、第１ハンドラ６の搬入ハンドラ６ａによってワークＷが投入部１のステージ１ａから第１露光部２の露光テーブル８に移動される。露光テーブル８に移動されたワークＷは、露光テーブル８の上面に形成された吸引口（図示せず）によって吸着固定される。次いで、昇降機構（図示せず）によって露光テーブル８をマスク１０に向けて上昇させて、露光テーブル８に載置されたワークＷの第１面（上面）にマスク１０を密着させる。次いで、この密着状態で、光源１４によってワークＷのフォトレジスト層を感光させる波長帯域の光（例えば紫外光）を照射することにより、マスク１０に描かれた所定のパターンをワークＷの第１面（上面）のフォトレジスト層に露光する。次いで、昇降機構（図示せず）によって露光テーブル８をその上面がパスレベルと面一となるまで下降させるとともに（図１）、露光テーブル８の吸引口（図示せず）によるワークＷの吸着を解除する。そして、第１ハンドラ６の搬出ハンドラ６ｂによってワークＷを第１露光部２の露光テーブル８から反転部３の反転装置９に移動させる。
【００４４】
ワークＷが反転部３の反転装置９に移動した後に、除塵装置１２による第１露光部２のマスク１０と露光テーブル８の除塵作業が実行される。
【００４５】
まず、図８に示すように、第１除塵装置１２ａ及び第２除塵装置１２ｂを初期位置に移動させた後、搬送アーム２０によって第１除塵装置１２ａの第１除塵ローラ１６ａを駆動することで、第１除塵ローラ１６ａに第１除塵表面１０Ｓ１上を転動させて、マスク１０の第１除塵表面１０Ｓ１を除塵する。
【００４６】
次いで、図９に示すように、搬送アーム２０によって第１除塵ローラ１６ａを転写ローラ１８と接触する清掃位置に移動させ、転写ローラ１８を回転させることで第１除塵ローラ１６ａの清掃を開始する。同時に、搬送アーム２０によって第２除塵装置１２ｂの第２除塵ローラ１６ｂを駆動することで、第２除塵ローラ１６ｂに第２除塵表面１０Ｓ２上を転動させて、マスク１０の第２除塵表面１０Ｓ２を除塵する。
【００４７】
次いで、図１０に示すように、搬送アーム２０によって第２除塵ローラ１６ｂを転写ローラ１８と接触する清掃位置に移動させ、転写ローラ１８を回転させることで第２除塵ローラ１６ｂの清掃を開始する。
【００４８】
図１１に示すように、第１除塵ローラ１６ａの清掃が終了すると、第２除塵ローラ１６ｂの清掃を継続したまま、搬送アーム２０によって第１除塵装置１２ａの第１除塵ローラ１６ａを駆動することで、第１除塵ローラ１６ａに第１除塵表面８Ｓ１上を転動させて、露光テーブル８の第１除塵表面８Ｓ１を除塵する。露光テーブル８の第１除塵表面８Ｓ１を除塵している間に、第２除塵ローラ１６ｂの清掃が終了する。
【００４９】
次いで、図１２に示すように、搬送アーム２０によって第１除塵ローラ１６ａを転写ローラ１８と接触する清掃位置に移動させ、転写ローラ１８を回転させることで第１除塵ローラ１６ａの清掃を開始する。同時に、搬送アーム２０によって第２除塵装置１２ｂの第２除塵ローラ１６ｂを駆動することで、第２除塵ローラ１６ｂに第２除塵表面８Ｓ２上を転動させて、露光テーブル８の第２除塵表面８Ｓ２を除塵する。
【００５０】
次いで、図１３に示すように、搬送アーム２０によって第２除塵ローラ１６ｂを転写ローラ１８と接触する清掃位置に移動させ、転写ローラ１８を回転させることで第２除塵ローラ１６ｂの清掃を開始する。
【００５１】
最後に、図１４に示すように、第１除塵ローラ１６ａの清掃が終了して第１除塵装置１２ａを初期位置に移動させ、その後、第２除塵ローラ１６ｂの清掃が終了して第２除塵装置１２ｂを初期位置に移動させる。
【００５２】
以上説明したように、本実施形態の露光装置ＥＸの除塵方法では、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂによる除塵対象物の除塵工程と、除塵工程が終了した第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの周面を転写ローラ１８によって清掃する清掃工程とを交互に実行する。
【００５３】
ここでは、第１露光部２における除塵動作を説明したが、第２露光部４においても全く同様の除塵動作が行われる。第１露光部２及び第２露光部４において除塵を行うタイミングは、露光テーブル８とマスク１０の間に空間ができるタイミングであればよく、予め一定の露光サイクルで除塵を開始する態様、あるいは任意の露光が完了してワークＷが排出したタイミングで除塵を開始する態様が可能である。
【００５４】
また第１露光部２及び第２露光部４において除塵を行う順序はあくまで一例であってこれに限定されるものではない。例えば、第２除塵装置１２ｂ（第２除塵ローラ１６ｂ）による除塵を先に行って、第１除塵装置１２ａ（第１除塵ローラ１６ａ）による除塵を後に行ってもよい。また露光テーブル８の除塵を先に行って、マスク１０の除塵を後に行ってもよい。さらには第１除塵装置１２ａ（第１除塵ローラ１６ａ）と第２除塵装置１２ｂ（第２除塵ローラ１６ｂ）が同時に除塵動作を開始してもよい。
【００５５】
このように本実施形態によれば、第１除塵ローラ１６ａの周長１６ａｒを、第１除塵ローラ１６ａの周面と除塵対象物の第１除塵表面（ＷＳ１、８Ｓ１、１０Ｓ１）との接触移動距離よりも長く設定し、第２除塵ローラ１６ｂの周長１６ｂｒを、第２除塵ローラ１６ｂの周面と除塵対象物の第２除塵表面（ＷＳ２、８Ｓ２、１０Ｓ２）との接触移動距離よりも長く設定している。したがって、１回の除塵工程において、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂが除塵対象物の除塵表面を転動して除塵するとき、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの周面上の同一部分が除塵対象物の除塵表面に二度接触することがない（第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂが１回転未満の転動で除塵する）。このため、除塵中に第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂに一旦付着して除去された塵が除塵対象物に再付着するおそれがなく、再付着に起因する露光欠陥や現像欠陥を未然に防止することができる。
【００５６】
以上の実施形態では、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの２つの除塵ローラを設けた場合を例示して説明したが、単一の除塵対象物の全除塵表面上を転動する単一の除塵ローラを設ける態様も可能である。この場合、単一の除塵ローラの周長（有効径）を、単一の除塵ローラの周面と除塵対象物の除塵表面との接触移動距離よりも長く設定する。
【００５７】
以上の実施形態では、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの２つの除塵ローラを設けた場合を例示して説明したが、３つ以上の除塵ローラを設ける態様も可能である。この場合、各除塵ローラの周長（有効径）を、各除塵ローラの周面と除塵対象物の各分割除塵表面との接触移動距離よりも長くする。
【００５８】
以上の実施形態では、マスクとワーク（感光性基板）を密着させて露光するコンタクト露光方式によりワークの両面に逐次露光するタイプの露光装置ＥＸを例示して説明したが、本発明の適用対象はこれに限定されるものではない。例えば本発明は、コンタクト露光方式の他にも、マスクとワークが近接しかつ非接触のプロキシミティギャップ方式、マスクを持たず、光を変調しながら走査しパターンを直接描画するダイレクト露光方式、マスクと基板の間に投影光学系が設けられるプロジェクション方式等の各種の方式の露光装置に適用することができる。また本発明は、ワークの両面を同時に露光する両面同時露光方式やワークの片面のみに露光する片面露光方式の露光装置に適用することができる。
【００５９】
以上の実施形態では、ワークを水平方向に搬送しながら露光を行う横型露光装置を例示して説明したが、ワークを鉛直方向に搬送しながら露光を行う縦型露光装置にも本発明は適用可能である。
【００６０】
以上の実施形態では、ワーク（感光性基板）、露光テーブルまたはマスクを除塵対象物とした場合を例示して説明したが、露光装置の内部において塵が付着し得るあらゆる部材を除塵対象物とすることができる。
【００６１】
以上の実施形態では、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂに付着した塵を集塵する転写ローラ（集塵装置）１８を用いた場合を例示して説明した。しかし転写ローラ（集塵装置）１８を省略して、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂによる除塵動作が終了する度に、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの外周面から粘着材（粘着テープ）を一巻分剥ぎ取る態様も可能である。この態様では、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの外周面から粘着材（粘着テープ）を剥ぎ取る度にその周長が小さくなっていくので、粘着材（粘着テープ）の巻き量が最も少ない状態を基準として、第１除塵ローラ１６ａ及び第２除塵ローラ１６ｂの周長を設定する。
【符号の説明】
【００６２】
ＥＸ  露光装置
Ｗ  ワーク（感光性基板、除塵対象物）
ＷＳ  除塵表面
ＷＳ１  第１除塵表面（分割除塵表面）
ＷＳ２  第２除塵表面（分割除塵表面）
１  投入部
１ａ  ステージ
２  第１露光部
３  反転部
４  第２露光部
５  排出部
５ａ  ステージ
６  第１ハンドラ（ワーク移動機構）
６ａ  搬入ハンドラ
６ｂ  搬出ハンドラ
７  第２ハンドラ（ワーク移動機構）
７ａ  搬入ハンドラ
７ｂ  搬出ハンドラ
８  露光テーブル（除塵対象物）
８Ｓ  除塵表面
８Ｓ１  第１除塵表面（分割除塵表面）
８Ｓ２  第２除塵表面（分割除塵表面）
９  反転装置
１０  マスク（除塵対象物）
１０Ｓ  除塵表面
１０Ｓ１  第１除塵表面（分割除塵表面）
１０Ｓ２  第２除塵表面（分割除塵表面）
１２  除塵装置（クリーニングユニット）
１２ａ  第１除塵装置
１２ｂ  第２除塵装置
１４  光源
１６ａ  第１除塵ローラ
１６ａｒ  第１除塵ローラの周長（有効径）
１６ｂ  第２除塵ローラ
１６ｂｒ  第２除塵ローラの周長（有効径）
１６ｃ  制御部
１７  フレーム
１８  転写ローラ（集塵装置）
１９  ガイドレール
２０  搬送フレーム（移動機構、ワーク移動機構）
２１  ガイドレール
２２  ｙ方向移動テーブル
２３  接続フレーム
２４  ガイドレール
２５  ｚ方向移動テーブル
２６  ステー
２７  駆動モータ
２８  除電器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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