(57)【要約】【課題】ターゲット供給器をチャンバから取り外す際に、ターゲット物質の飛散を抑制しうるターゲット供給装置を提供すること。【解決手段】ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われるチャンバ２に装着されるターゲット供給装置７Ａであって、ノズル７２３Ａを有するターゲット生成器７２Ａと、前記ノズル７２３Ａを覆う第１配管７５Ａと、前記ターゲット物質が通過するように前記第１配管７５Ａに設けられたカバー開口部７５２Ａと、前記カバー開口部７５２Ａを開閉するように構成された第１バルブＶ１とを含んでもよい。【選択図】図３
2014010954.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われるチャンバに装着されるターゲット供給装置であって、
ノズルを有するターゲット生成器と、
前記ノズルを覆うカバーと、
前記ターゲット物質が通過するように前記カバーに設けられたカバー開口部と、
前記カバー開口部を開閉するように構成されたカバー用開閉部と、を含むターゲット供給装置。
【請求項２】
請求項１に記載のターゲット供給装置において、
前記ターゲット生成器は、内部にターゲット物質を収容可能なタンクと、当該タンクの内部と連通し当該タンクの一面から突出するように設けられた前記ノズルとを有し、
前記カバーは、前記タンクから前記ノズルの先端にかけて延在する筒状に形成され、前記カバー用開閉部が前記カバー開口部を閉じることにより、当該カバー、前記カバー用開閉部、および、前記タンクで囲まれる内部空間が密閉されるように構成されたターゲット供給装置。
【請求項３】
請求項１に記載のターゲット供給装置において、
前記ターゲット生成器は、内部にターゲット物質を収容可能なタンクと、前記ノズルのノズル孔と反対側の端部を塞ぐ蓋部と、前記タンクの内部および前記ノズルの内部と連通するように前記タンクおよび前記蓋部に連結された配管とを有し、
前記カバーは、前記蓋部から前記ノズルの先端にかけて延在する筒状に形成され、前記カバー用開閉部が前記カバー開口部を閉じることにより、当該カバー、前記カバー用開閉部、および、前記蓋部で囲まれる内部空間が密閉されるように構成されたターゲット供給装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載のターゲット供給装置において、
前記カバーは、前記ノズルの軸方向に伸縮自在な構成を有し、
前記カバー開口部は、前記ノズルが挿通可能な大きさに形成されたターゲット供給装置。
【請求項５】
請求項１に記載のターゲット供給装置において、
前記カバー開口部を介して前記カバーの内部と連通するように設けられた第１接続用配管と、
前記第１接続用配管の内部と連通するように、当該第１接続用配管に着脱自在に設けられた第２接続用配管と、
前記第２接続用配管における前記第１接続用配管と反対側の端部に設けられ、前記ターゲットを導入するチャンバ開口部と、
前記チャンバ開口部を開閉するチャンバ用開閉部と、
前記第１接続用配管の内部、前記第２接続用配管の内部、および、前記カバーの内部を排気する排気部と、を含むターゲット供給装置。
【請求項６】
請求項５に記載のターゲット供給装置において、
前記第１接続用配管の内部、前記第２接続用配管の内部、および、前記カバーの内部にパージガスを供給するパージガス供給部を含むターゲット供給装置。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載のターゲット供給装置において、
前記第１接続用配管と前記第２接続用配管とを位置決めして固定する固定部を含むターゲット供給装置。
【請求項８】
ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われるチャンバに装着されるターゲット供給装置であって、
ノズルを有するターゲット生成器と、
前記ノズルのノズル孔を開閉するように構成されたノズル孔開閉部と、を含むターゲット供給装置。
【請求項９】
チャンバ開口部を有するチャンバ本体と、
前記チャンバ開口部を通過して前記チャンバ本体内へターゲット物質を導入するように構成されたターゲット供給装置と、
前記チャンバ開口部を開閉するチャンバ用開閉部と、を含むチャンバ。
【請求項１０】
ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われる極端紫外光生成装置であって、
ノズルを有するターゲット生成器と、
ターゲット物質を導入するチャンバ開口部を有するチャンバ本体と、
前記チャンバ開口部を開閉するチャンバ用開閉部と、
前記ノズルを覆うカバーと、
前記ターゲット物質が通過するように前記カバーに設けられたカバー開口部と、
前記カバー開口部を開閉するカバー用開閉部と、を含む極端紫外光生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ターゲット供給装置、チャンバ、および、極端紫外光生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外光（以下、ＥＵＶ光という場合がある。）を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ  Ｐｒｏｄｕｃｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ  Ｐｒｏｄｕｃｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）方式の装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ  Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）方式の装置との３種類の装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第７４０５４１６号明細書
【概要】
【０００５】
本開示の一態様によるターゲット供給装置は、ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われるチャンバに装着されるターゲット供給装置であって、ノズルを有するターゲット生成器と、前記ノズルを覆うカバーと、前記ターゲット物質が通過するように前記カバーに設けられたカバー開口部と、前記カバー開口部を開閉するように構成されたカバー用開閉部と、を含んでもよい。
【０００６】
本開示の他の態様によるターゲット供給装置は、ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われるチャンバに装着されるターゲット供給装置であって、ノズルを有するターゲット生成器と、前記ノズルのノズル孔を開閉するように構成されたノズル孔開閉部と、を含んでもよい。
【０００７】
本開示の一態様によるチャンバは、チャンバ開口部を有するチャンバ本体と、前記チャンバ開口部を通過して前記チャンバ本体内へターゲット物質を導入するように構成されたターゲット供給装置と、前記チャンバ開口部を開閉するチャンバ用開閉部と、を含んでもよい。
【０００８】
本開示の一態様による極端紫外光生成装置は、ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われる極端紫外光生成装置であって、ノズルを有するターゲット生成器と、ターゲット物質を導入するチャンバ開口部を有するチャンバ本体と、前記チャンバ開口部を開閉するチャンバ用開閉部と、前記ノズルを覆うカバーと、前記ターゲット物質が通過するように前記カバーに設けられたカバー開口部と、前記カバー開口部を開閉するカバー用開閉部と、を含んでもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【図１】図１は、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
【図２】図２は、第１実施形態に係るターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
【図３】図３は、ターゲット供給装置の構成を概略的に示す。
【図４】図４は、ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作を示すフローチャートである。
【図５】図５は、ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作を示すフローチャートである。
【図６Ａ】図６Ａは、第２実施形態に係るターゲット供給装置の構成を概略的に示し、当該ターゲット供給装置が装着された状態を表す。
【図６Ｂ】図６Ｂは、ターゲット供給装置の構成を概略的に示し、当該ターゲット供給装置が動作している状態を表す。
【図７】図７は、第３実施形態に係るターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
【図８】図８は、ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作を示すフローチャートである。
【図９】図９は、ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作を示すフローチャートである。
【図１０Ａ】図１０Ａは、第４実施形態に係るターゲット供給装置の構成を概略的に示し、当該ターゲット供給装置が装着された状態を表す。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、ターゲット供給装置の構成を概略的に示し、当該ターゲット供給装置が動作している状態を表す。
【図１１Ａ】図１１Ａは、変形例に係るターゲット供給装置の構成を概略的に示し、ノズル孔を閉じた状態を表す。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、ターゲット供給装置の構成を概略的に示し、ノズル孔を開いた状態を表す。
【実施形態】
【００１０】
内容
１．ＥＵＶ光生成装置の全体説明
１．１  構成
１．２  動作
２．ターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置
２．１  第１実施形態
２．１．１  概略
２．１．２  構成
２．１．３  動作
２．１．３．１  ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作
２．１．３．２  ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作
２．２  第２実施形態
２．２．１  概略
２．２．２  構成
２．２．３  動作
２．２．３．１  ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作
２．２．３．２  ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作
２．３  第３実施形態
２．３．１  概略
２．３．２  構成
２．３．３  動作
２．３．３．１  ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作
２．３．３．２  ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作
２．４  第４実施形態
２．４．１  概略
２．４．２  構成
２．４．３  動作
２．４．３．１  ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作
２．４．３．２  ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作
２．５  変形例
【００１１】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成および動作の全てが本開示の構成および動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１２】
１．ＥＵＶ光生成装置の全体説明
１．１  構成
図１は、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。ＥＵＶ光生成装置１およびレーザ装置３を含むシステムを、以下、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１を参照に、以下に詳細に説明されるように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット供給装置７をさらに含んでもよい。ターゲット供給装置７は、例えばチャンバ２に取り付けられていてもよい。ターゲット供給装置７から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、またはそれらのうちのいずれか２つ以上の組合せ等を含んでもよいが、これらに限定されない。
【００１３】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔をレーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３２が通過してもよい。あるいは、チャンバ２には、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３２が透過する少なくとも１つのウインドウ２１が設けられてもよい。チャンバ２の内部には例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１焦点および第２焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１焦点がプラズマ生成位置またはその近傍のプラズマ生成領域２５に位置し、その第２焦点が露光装置の仕様によって規定される所望の集光位置（中間焦点（ＩＦ）２９２）に位置するように配置されるのが好ましい。所望の集光位置は中間焦点（ＩＦ）２９２と呼んでもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には、パルスレーザ光３３が通過するための貫通孔２４が設けられてもよい。
【００１４】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御システム５を含んでいてもよい。また、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲットセンサ４を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、ターゲットの存在、軌道、位置等を検出してもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよい。
【００１５】
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２内部と露光装置６内部とを連通させるための接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００１６】
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光光学系２２、ドロップレット２７を回収するためのターゲット回収装置２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置や姿勢等を調節するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００１７】
１．２  動作
図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過して、チャンバ２に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内に進み、レーザ光集光光学系２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのドロップレット２７に照射されてもよい。
【００１８】
ターゲット供給装置７からは、ドロップレット２７がチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力されてもよい。ドロップレット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスレーザ光が照射され得る。パルスレーザ光３３が照射されたドロップレット２７はプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶを含む光２５１（以下、「ＥＵＶ光を含む光」を「ＥＵＶ光」と表現する場合がある）が放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって集光されるとともに反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３で反射されたＥＵＶ光２５２は、中間焦点２９２を通って露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのドロップレット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスレーザ光が照射されてもよい。
【００１９】
ＥＵＶ光生成制御システム５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括してもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたドロップレット２７のイメージデータ等を処理してもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５は、例えば、ドロップレット２７を出力するタイミングやドロップレット２７の出力速度等を制御してもよい。また、ＥＵＶ光生成制御システム５は、例えば、レーザ装置３のレーザ発振タイミングやパルスレーザ光３２の進行方向やパルスレーザ光３３の集光位置等を制御してもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御を追加してもよい。
【００２０】
２．ターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置
２．１  第１実施形態
２．１．１  概略
本開示の第１実施形態によれば、ターゲット供給装置は、タンクと、当該タンクの内部と連通し当該タンクの一面から突出するように設けられたノズルとを有するターゲット生成器を含んでもよい。また、カバーは、タンクからノズルの先端にかけて延びる筒状に形成され、カバー用開閉部がカバー開口部を閉じたときに、当該カバー、カバー用開閉部、および、タンクで囲まれる内部空間が密閉されるように設けられてもよい。
ここで、ノズルのノズル孔が空気に触れると、ノズル孔あるいはノズルの先端部に存在するターゲット物質が酸化して、固体の酸化物が生成され得る。この固体の酸化物は、ノズル孔を詰まらせる原因や、ターゲット物質が意図しない方向に出力される原因となり得る。
以上のターゲット供給装置によれば、ターゲット物質を供給した後にカバー開口部を閉じることで、カバー、カバー用開閉部、および、タンクで囲まれる内部空間が密閉され得る。このため、ノズル孔が空気に触れることを抑制しつつ、ターゲット生成器をチャンバから取り外し得る。
【００２１】
また、本開示の第１実施形態によれば、ターゲット供給装置は、カバー開口部を介してカバーの内部と連通するように設けられた第１接続用配管と、第１接続用配管の内部と連通するように、当該第１接続用配管に着脱自在に設けられた第２接続用配管と、第２接続用配管における第１接続用配管と反対側の端部に設けられ、チャンバのターゲットを導入するチャンバ開口部を開閉するチャンバ用開閉部と、第１接続用配管の内部、第２接続用配管の内部、および、カバーの内部を排気する排気部を含んでもよい。
以上のターゲット供給装置によれば、チャンバ用開閉部がチャンバ開口部を閉じた状態で、ターゲット生成器をチャンバに設置し得る。ターゲット生成器を設置する際、カバー用開閉部がカバー開口部を閉じた状態で、第１接続用配管を第２接続用配管に接続し得る。その後、排気部が第１接続用配管の内部、第２接続用配管の内部、および、カバーの内部の空気を排気し得る。そして、この空気の排気後に、チャンバ用開閉部がチャンバ開口部を開くとともに、カバー用開閉部がカバー開口部を開くことで、ターゲット物質をチャンバ内に供給し得る。
このため、ノズル孔が空気に触れることを抑制しつつ、ターゲット生成器をチャンバに設置し得る。
【００２２】
また、本開示の第１実施形態によれば、ターゲット供給装置は、第１接続用配管の内部、第２接続用配管の内部、および、カバーの内部にパージガスを供給するパージガス供給部を含んでもよい。
以上のターゲット供給装置によれば、ターゲット生成器をチャンバから取り外す際、チャンバ開口部およびカバー開口部を開いた状態で、排気部が第１接続用配管の内部、第２接続用配管の内部、および、カバーの内部のエッチングガスを排気し得る。そして、このエッチングガスの排気後に、チャンバ用開閉部がチャンバ開口部を閉じるとともに、パージガス供給部が第１接続用配管の内部、第２接続用配管の内部、および、カバーの内部にパージガスを供給し得る。その後、カバー用開閉部がカバー開口部を閉じることで、カバー、カバー用開閉部、および、タンクで囲まれる内部空間は、パージガスが充填された状態で密閉され得る。
このため、ノズル孔が空気に触れることを抑制しつつ、ターゲット生成器をチャンバから取り外し得る。また、カバー、カバー用開閉部、および、タンクで囲まれる内部空間に、パージガスが充填され得ることで、カバー内外の圧力差によって当該内部空間に空気が入ってくることを抑制し得る。
【００２３】
また、本開示の第１実施形態によれば、ターゲット供給装置は、第１接続用配管と第２接続用配管とを位置決めして固定する固定部を含んでもよい。
以上のターゲット供給装置によれば、第１接続用配管と第２接続用配管とが位置ずれして接続されることを抑制し得る。このため、このよう位置ずれによる隙間からチャンバ内に空気が入り込むことを抑制し得る。また、ノズル孔が空気に触れることを抑制し得る。
【００２４】
２．１．２  構成
図２は、第１実施形態に係るターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。図３は、ターゲット供給装置の構成を概略的に示す。
ＥＵＶ光生成装置１Ａは、図２に示すように、チャンバ２と、レーザ装置３と、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａと、ターゲット供給装置７Ａとを備えてもよい。
【００２５】
チャンバ２には、チャンバ２内部の圧力を検出する第１圧力計２６１Ａと、チャンバ２内部を排気する第１排気装置２６２Ａと、チャンバ２内部にエッチングガスを供給するエッチングガス供給部２６３Ａとが設けられてもよい。
第１圧力計２６１Ａおよび第１排気装置２６２Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａに接続されてもよい。第１圧力計２６１Ａは、チャンバ２内部の圧力に対応する信号をＥＵＶ光生成制御システム５Ａに送信してもよい。第１排気装置２６２Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａから送信される信号に基づいてチャンバ２内部を排気してもよい。
エッチングガス供給部２６３Ａには、ＥＵＶ集光ミラー２３の反射面２３１に沿ってエッチングガスを供給するための配管２６４Ａが接続されてもよい。また、エッチングガス供給部２６３Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａに電気的に接続されてもよい。エッチングガス供給部２６３Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａから送信される信号に基づいて、チャンバ２内部にエッチングガスを供給してもよい。
【００２６】
ここで、エッチングガス供給部２６３Ａが供給するエッチングガスは、デブリの主な構成物質であるターゲット物質をエッチング可能であればよく、ターゲット物質によって適切なものを選択してもよい。例えば、エッチングガスは、水素ラジカルまたはハロゲンガスであってもよい。また、エッチングガスは、ラジカル化したものであってもよいし、ラジカル化していないものであってもよい。
【００２７】
ターゲット供給装置７Ａは、ターゲット制御装置７０Ａと、ターゲット生成部７１Ａと、第１配管７５Ａと、第１バルブＶ１と、第２配管７７Ａと、接続部７８Ａとを備えてもよい。
ターゲット生成部７１Ａは、ターゲット生成器７２Ａと、圧力調整器７３Ａと、温度調節部７４Ａとを備えてもよい。
【００２８】
図３に示すように、ターゲット生成器７２Ａは、内部にターゲット物質２７０を収容するためのタンク７２１Ａを備えてもよい。
タンク７２１Ａは、筒状であってもよい。タンク７２１Ａには、当該タンク７２１Ａ内のターゲット物質２７０がドロップレット２７としてチャンバ２内に出力される前に通過するノズル７２３Ａが設けられていてもよい。ノズル７２３Ａの先端部には、ノズル孔７２４Ａが設けられていてもよい。
【００２９】
圧力調整器７３Ａには、不活性ガスボンベ７３１Ａが接続されてもよい。圧力調整器７３Ａは、タンク７２１Ａの、圧力調整器７３Ａに近い側の壁７２２Ａを貫通する配管７３２Ａを介して、ターゲット生成器７２Ａに連結されてもよい。圧力調整器７３Ａは、不活性ガスボンベ７３１Ａから供給される不活性ガスの圧力を制御して、ターゲット生成器７２Ａ内の圧力を調節するよう構成されてもよい。不活性ガスは、アルゴン等の希ガスまたは窒素のいずれかであってもよい。
【００３０】
温度調節部７４Ａは、タンク７２１Ａ内のターゲット物質２７０の温度を調節するよう構成されてもよい。温度調節部７４Ａは、ヒータ７４１Ａと、ヒータ電源７４２Ａと、温度センサ７４３Ａと、温度コントローラ７４４Ａとを備えてもよい。ヒータ７４１Ａは、タンク７２１Ａの外周面に設けられてもよい。ヒータ電源７４２Ａは、温度コントローラ７４４Ａからの信号に基づいて、ヒータ７４１Ａに電力を供給してヒータ７４１Ａを発熱させてもよい。それにより、タンク７２１Ａ内のターゲット物質２７０が加熱され得る。
温度センサ７４３Ａは、タンク７２１Ａの外周面におけるノズル７２３Ａ側に設けられてもよい。温度センサ７４３Ａは、そのセンサが設置された部分の温度を検出して、当該検出した温度に対応する信号を温度コントローラ７４４Ａに送信するよう構成されてもよい。温度コントローラ７４４Ａは、温度センサ７４３Ａからの信号に基づいて、ターゲット物質２７０の温度を推定し、ターゲット物質２７０の温度を所定温度に調節するための信号をヒータ電源７４２Ａに出力するよう構成されてもよい。
【００３１】
第１配管７５Ａはカバーであり、ターゲット生成器７２Ａのうち少なくともノズル７２３Ａの少なくとも一部を覆うように設けられてもよい。第１配管７５Ａは、一対のフランジを有してもよい。当該一対のフランジは、第１配管７５Ａにおける軸方向の両端から、それぞれ管の外側に延びるように設けられてもよい。
第１配管７５Ａの第１内部空間７５１Ａ内にノズル７２３Ａの少なくとも一部が位置し、かつ、図３において当該第１配管７５ＡのＺ方向の端のカバー開口部７５２Ａよりタンク７２１Ａに近い側にノズル７２３Ａの先端が位置するように、第１配管７５Ａがタンク７２１Ａの底面に固定されてもよい。このとき、第１の端のフランジに設けられた溝にＯリング７５８Ａを嵌め込むことで、第１配管７５Ａの第１の面とタンク７２１Ａの第２の面との間をシールしてもよい。
【００３２】
第１バルブＶ１はカバー用開閉部であり、第１配管７５Ａのカバー開口部７５２Ａを開閉してもよい。第１バルブＶ１は、ゲートバルブであってもよい。第１バルブＶ１は、第１配管７５Ａの第２の端に固定されたガイド部７６１Ａと、このガイド部７６１Ａに沿って移動可能に設けられた遮蔽板７６２Ａと、遮蔽板７６２Ａを駆動する駆動部７６３Ａとを備えてもよい。
ガイド部７６１Ａは、例えば、外輪郭がカバー開口部７５２Ａより大きい略板状に形成されてもよい。ガイド部７６１Ａには、その厚さ方向に貫通する貫通孔７６４Ａが形成されてもよい。貫通孔７６４Ａの大きさは、カバー開口部７５２Ａと同じ大きさであってもよいし、あるいは少なくともドロップレット２７が通過可能な大きさであってもよい。ガイド部７６１Ａの内部には、第１の溝７６５Ａが形成されてもよい。第１の溝７６５Ａは、遮蔽板７６２Ａが貫通孔７６４Ａを塞ぐ第１の位置と、貫通孔７６４Ａを開放する第２の位置との間で往復できるように、遮蔽板７６２Ａをガイドしてもよい。
駆動部７６３Ａは、ターゲット制御装置７０Ａに電気的に接続されてもよい。駆動部７６３Ａは、ターゲット制御装置７０Ａから送信される信号に基づいて、遮蔽板７６２Ａを第１の位置または第２の位置に移動させてもよい。
【００３３】
第１バルブＶ１は、貫通孔７６４Ａの中心が第１配管７５Ａのカバー開口部７５２Ａの中心と同軸上に位置するように、第１配管７５Ａの第２の端に固定されてもよい。このとき、第２の端のフランジに設けられた溝にＯリング７５９Ａを嵌め込むことで、第１配管７５Ａの第２の面と第１バルブＶ１におけるガイド部７６１Ａの第１の面との間をシールしてもよい。このような構成により、遮蔽板７６２Ａが第１の位置に存在するときにカバー開口部７５２Ａが閉じられ、遮蔽板７６２Ａが第２の位置に存在しているときにカバー開口部７５２Ａが開かれ得る。
【００３４】
第２配管７７Ａは、第１バルブＶ１に対して第１配管７５Ａと反対側に設けられてもよい。第２配管７７Ａは、一対のフランジを有してもよい。当該一対のフランジは、第２配管７７Ａにおける軸方向の両端から、それぞれ管の外側に延びるように設けられてもよい。
第２配管７７Ａの内径寸法は、第１配管７５Ａの内径寸法と同じであってもよいし、あるいは少なくともドロップレット２７が通過可能な大きさであってもよい。第２配管７７Ａの中心軸が第１配管７５Ａの中心軸および貫通孔７６４Ａの中心軸と同軸上に位置するように、第２配管７７Ａがガイド部７６１Ａの第２の面に固定されてもよい。第２配管７７Ａの第１の端のフランジに設けられた溝にＯリング７７８Ａを嵌め込むことで、第２配管７７Ａの第１の面とガイド部７６１Ａの第２の面との間をシールしてもよい。
【００３５】
接続部７８Ａは、第３配管７９Ａと、チャンバ用開閉部としての第２バルブＶ２と、第２接続用配管としての第４配管８１Ａと、第２排気部８２Ａと、パージガス供給部８３Ａと、固定部としての継手８４Ａとを備えてもよい。
第３配管７９Ａは、チャンバ２の外側の第１の面に設けられてもよい。第３配管７９Ａは、第１配管７５Ａと同様の構成を有し、当該第３配管７９Ａにおける軸方向の両端からそれぞれ管の外側に延びる一対のフランジを有してもよい。
第３配管７９Ａの内径寸法は、第１配管７５Ａの内径寸法と同じであってもよいし、あるいは少なくともドロップレット２７が通過可能な大きさであってもよい。第３配管７９Ａの中心軸がチャンバ２のチャンバ開口部２０の中心と同軸上に位置するように、第３配管７９Ａがチャンバ２の外側の第１の面に固定されてもよい。第３配管７９Ａの第２の端のフランジに設けられた溝にＯリング７９８Ａを嵌め込むことで、第３配管７９Ａの第２の面とチャンバ２の外側の第１の面との間をシールしてもよい。
【００３６】
第２バルブＶ２は、第３配管７９Ａの第１の端の開口部７９２Ａを開閉してもよい。第２バルブＶ２は、第１バルブＶ１と同様のゲートバルブであってもよい。第２バルブＶ２は、それぞれガイド部７６１Ａ、遮蔽板７６２Ａ、および、駆動部７６３Ａと同様の、ガイド部８０１Ａ、遮蔽板８０２Ａ、および、駆動部８０３Ａを備えてもよい。また、ガイド部８０１Ａは、それぞれ貫通孔７６４Ａおよび第１の溝７６５Ａと同様の、貫通孔８０４Ａおよび第２の溝８０５Ａを備えてもよい。
駆動部８０３Ａは、ターゲット制御装置７０Ａに電気的に接続され、ターゲット制御装置７０Ａから送信される信号に基づいて、遮蔽板８０２Ａを第１の位置または第２の位置に移動させてもよい。
貫通孔８０４Ａの中心が第３配管７９Ａの開口部７９２Ａの中心およびチャンバ２のチャンバ開口部２０の中心と同軸上に位置するように、第２バルブＶ２が第３配管７９Ａの第１の端のフランジに固定されてもよい。第３配管７９Ａの第１の端のフランジの溝にＯリング７９９Ａを嵌め込むことで、第３配管７９Ａの第１の面とガイド部８０１Ａの第２の面との間をシールしてもよい。このような構成により、遮蔽板８０２Ａが第１の位置に存在するときにチャンバ開口部２０が閉じられ、遮蔽板８０２Ａが第２の位置に存在しているときにチャンバ開口部２０が開かれ得る。
【００３７】
第４配管８１Ａは、第２バルブＶ２に対して第３配管７９Ａと反対側に設けられてもよい。第４配管８１Ａは、第２配管７７Ａと同様の構成を有し、当該第４配管８１Ａにおける軸方向の両端からそれぞれ外側に延びる一対のフランジを有してもよい。第４配管８１Ａの中心軸が貫通孔８０４Ａの中心軸および開口部７９２Ａの中心と同軸上に位置するように、第４配管８１Ａがガイド部８０１Ａの第１の面に固定されてもよい。第４配管８１Ａの第２の端のフランジに設けられた溝にＯリング８１９Ａを嵌め込むことで、第４配管８１Ａの第２の面とガイド部８０１Ａの第１の面との間をシールしてもよい。
【００３８】
第２排気部８２Ａの役割を説明する。継手８４Ａによって第２配管７７Ａと第４配管８１Ａとが位置決めして固定されると、第２配管７７Ａと、第４配管８１Ａと、第１バルブＶ１の遮蔽板７６２Ａと、第２バルブＶ２の遮蔽板８０２Ａとで形成される第２内部空間７８１Ａが形成される。第２排気部８２Ａはその第２内部空間７８１Ａを排気してもよい。第２排気部８２Ａは、配管８２１Ａと、第２排気装置８２２Ａと、第３バルブＶ３とを備えてもよい。
配管８２１Ａの第１の端は、第４配管８１Ａに挿通されてもよい。
第２排気装置８２２Ａは、配管８２１Ａの第２の端に連結されてもよい。第２排気装置８２２Ａは、ターゲット制御装置７０Ａに電気的に接続されてもよい。第２排気装置８２２Ａは、ターゲット制御装置７０Ａから送信される信号に基づいて、第２内部空間７８１Ａを排気してもよい。
第３バルブＶ３は、配管８２１Ａに設けられてもよい。第３バルブＶ３は、ターゲット制御装置７０Ａに電気的に接続され、ターゲット制御装置７０Ａから送信される信号に基づいて、第２内部空間７８１Ａを排気可能な開状態と、排気不可能な閉状態とを切り替えられてもよい。
【００３９】
パージガス供給部８３Ａは、第２内部空間７８１Ａにパージガスを供給してもよい。パージガス供給部８３Ａは、配管８３１Ａと、パージガス供給源８３２Ａと、第４バルブＶ４と、第２圧力計８３４Ａとを備えてもよい。
配管８３１Ａの第１の端は、配管８２１Ａにおける第３バルブＶ３より第４配管８１Ａ側に挿通されてもよい。
パージガス供給源８３２Ａは、配管８３１Ａの第２の端に連結されてもよい。パージガス供給源８３２Ａは、配管８３１Ａおよび配管８２１Ａを介して、パージガスを第２内部空間７８１Ａに供給してもよい。パージガスとしては、ターゲット物質２７０であるスズと反応し難いガスであってもよく、例えば、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスであってもよい。
第４バルブＶ４は、配管８３１Ａに設けられてもよい。第４バルブＶ４は、ターゲット制御装置７０Ａに電気的に接続され、当該ターゲット制御装置７０Ａから送信される信号に基づいて、パージガスを第２内部空間７８１Ａに供給可能な開状態と、供給不可能な閉状態とを切り替えられてもよい。
第２圧力計８３４Ａは、配管８３１Ａにおける第４バルブＶ４より配管８２１Ａ側に設けられ、ターゲット制御装置７０Ａに電気的に接続されてもよい。第２圧力計８３４Ａは、第２内部空間７８１Ａの圧力に対応する信号をターゲット制御装置７０Ａに送信してもよい。
【００４０】
継手８４Ａは、例えばクイックカップリングであってもよい。継手８４Ａは、第２配管７７Ａの第２の端のフランジ７７１Ａと第４配管８１Ａの第１の端のフランジ８１１Ａとを挟み込んで固定することで、第２配管７７Ａと第４配管８１Ａとを位置決めして固定してもよい。第２配管７７Ａの第２の端のフランジ７７１Ａと第４配管８１Ａの第１の端のフランジ８１１Ａとの間にＯリング７７９Ａを配置することで、第２配管７７Ａの第２の端面と第４配管８１Ａの第１の端面とをシールしてもよい。
【００４１】
図２に示すチャンバ２の設置形態によっては、予め設定されるターゲット物質２７０の出力方向（ノズル７２３Ａの軸方向（設定出力方向１０Ａと称する））は、必ずしも重力方向１０Ｂと一致するとは限らない。重力方向１０Ｂに対して、斜め方向や水平方向に、ターゲット物質２７０が出力されるよう構成されてもよい。第１実施形態および後述する第２〜第４実施形態を示す図では、設定出力方向１０Ａが重力方向１０Ｂと一致するようにチャンバ２が設置されている。
【００４２】
２．１．３  動作
２．１．３．１  ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作
図４は、ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作を示すフローチャートである。
【００４３】
ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２に設置する前において、第２バルブＶ２が第３配管７９Ａの開口部７９２Ａを閉じていてもよい。また、このとき、チャンバ２内部には、ガスが満たされてもよい。このガスは、デブリをエッチングするためのエッチングガスであってもよい。
一方、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２に設置する前において、第１バルブＶ１が第１配管７５Ａのカバー開口部７５２Ａを閉じていてもよい。第４バルブＶ４は開いていてもよい。第３バルブＶ３は閉じていてもよい。第１内部空間７５１Ａには、パージガスが満たされていてもよい。このパージガスは、詳しくは後述するが、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外す前に充填されてもよい。
【００４４】
作業者は、第２配管７７Ａのフランジ７７１Ａを第４配管８１Ａのフランジ８１１Ａに載せた後、継手８４Ａによって第２配管７７Ａと第４配管８１Ａのフランジ８１１Ａとを位置決めして固定してもよい。フランジ７７１Ａをフランジ８１１Ａに載せる前にＯリング７９９Ａを配置することによって、第２配管７７Ａと第４配管８１Ａとの間がシールされ、密閉された第２内部空間７８１Ａが形成され得る。以上の動作は空気中で行なわれるので、第２内部空間７８１Ａには、空気が存在し得る。
【００４５】
ターゲット制御装置７０Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａから信号を受信すると、図４に示すように、第２排気部８２Ａの第２排気装置８２２Ａを駆動してもよい（ステップＳ１）。この後、ターゲット制御装置７０Ａは、第４バルブＶ４を閉じるとともに、第３バルブＶ３を開いてもよい（ステップＳ２）。このステップＳ１，Ｓ２の処理によって、第２内部空間７８１Ａに存在している空気が排気され得る。そして、第２圧力計８３４Ａは、第２内部空間７８１Ａの圧力に対応する信号をターゲット制御装置７０Ａに送信してもよい。
【００４６】
ターゲット制御装置７０Ａは、第２圧力計８３４Ａから送信される信号に基づいて、第２内部空間７８１Ａの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ３）。例えば、ターゲット制御装置７０Ａは、第２圧力計８３４Ａで測定された圧力Ｐ２が予め設定された閾値Ｐ０以下となった場合に、排気が終了したと判断し、閾値Ｐ０以下となっていない場合に、排気が終了していないと判断してもよい。
このステップＳ３において、ターゲット制御装置７０Ａは、第２内部空間７８１Ａの排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ３の処理を再度行ってもよい。
一方、ステップＳ３において、ターゲット制御装置７０Ａは、第２内部空間７８１Ａの排気が終了したと判断した場合、第１バルブＶ１を開けてもよい（ステップＳ４）。このように、第２内部空間７８１Ａの排気が終了した後に、第１バルブＶ１を開けることによって、ノズル７２３Ａのノズル孔７２４Ａが空気に接触することを抑制し得る。
【００４７】
ターゲット制御装置７０Ａは、第２圧力計８３４Ａから送信される信号に基づいて、第１内部空間７５１Ａの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ５）。例えば、ターゲット制御装置７０Ａは、第２圧力計８３４Ａで測定された圧力Ｐ２が閾値Ｐ０以下となった場合に、排気が終了したと判断し、閾値Ｐ０以下となっていない場合に、排気が終了していないと判断してもよい。なお、このステップＳ５の閾値Ｐ０は、ステップＳ３の閾値Ｐ０と同じであってもよいし、違っていてもよい。
このステップＳ５において、ターゲット制御装置７０Ａは、第１内部空間７５１Ａ内のパージガスの排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ５の処理を再度行ってもよい。
一方、ステップＳ５において、ターゲット制御装置７０Ａは、第１内部空間７５１Ａの排気が終了したと判断した場合、第３バルブＶ３を閉じるとともに、第２排気装置８２２Ａを停止してもよい（ステップＳ６）。
以上の処理によって、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａの両方が排気され得る。
【００４８】
この後、ターゲット制御装置７０Ａは、第２バルブＶ２を開けてもよい（ステップＳ７）。以上の処理によって、ノズル７２３Ａのノズル孔７２４Ａが空気に触れることなく、ターゲット生成器７２Ａがチャンバ２に設置され得る。そして、ＥＵＶ光生成装置１Ａは、チャンバ２内にドロップレット２７を出力する処理などを行うことで、ＥＵＶ光２５１を生成し得る。
【００４９】
２．１．３．２  ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作
図５は、ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作を示すフローチャートである。
【００５０】
ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外す前において、チャンバ２、第１内部空間７５１Ａ、第２内部空間７８１Ａ、および、第３配管７９Ａの第３内部空間７９１Ａには、エッチングガスが満たされていてもよい。
この後、作業者は、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外すために、ＥＵＶ光生成装置１Ａを操作してもよい。
ＥＵＶ光生成装置１ＡのＥＵＶ光生成制御システム５Ａは、作業者の操作に基づいて、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外すための信号をターゲット制御装置７０Ａに送信してもよい。
【００５１】
ターゲット制御装置７０Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａから信号を受信すると、図５に示すように、第２バルブＶ２を閉じてもよい（ステップＳ１１）。この後、ターゲット制御装置７０Ａは、第２排気装置８２２Ａを駆動してもよい（ステップＳ１２）。さらに、ターゲット制御装置７０Ａは、第４バルブＶ４を閉じるとともに、第３バルブＶ３を開いてもよい（ステップＳ１３）。このステップＳ１１〜Ｓ１３の処理によって、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａに存在しているエッチングガスが排気され得る。そして、第２圧力計８３４Ａは、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａの圧力に対応する信号をターゲット制御装置７０Ａに送信してもよい。
【００５２】
ターゲット制御装置７０Ａは、第２圧力計８３４Ａから送信される信号に基づいて、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ１４）。
このステップＳ１４において、ターゲット制御装置７０Ａは、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａの排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ１４の処理を再度行ってもよい。
一方、ステップＳ１４において、ターゲット制御装置７０Ａは、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａの排気が終了したと判断した場合、第３バルブＶ３を閉じるとともに、第２排気装置８２２Ａを停止してもよい（ステップＳ１５）。さらに、ターゲット制御装置７０Ａは、第４バルブＶ４を開けてもよい（ステップＳ１６）。
このステップＳ１５，Ｓ１６の処理によって、パージガス供給源８３２Ａからパージガスが、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａ内に供給され得る。そして、第２圧力計８３４Ａは、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａの圧力に対応する信号をターゲット制御装置７０Ａに送信してもよい。
【００５３】
ターゲット制御装置７０Ａは、第２圧力計８３４Ａから送信される信号に基づいて、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａにパージガスが充填されたか否かを判断してもよい（ステップＳ１７）。例えば、ターゲット制御装置７０Ａは、第２圧力計８３４Ａで測定された圧力Ｐ２が予め設定された閾値Ｐａ以上となった場合に、パージガスが充填されたと判断し、閾値Ｐａ以上となっていない場合に、パージガスが充填されていないと判断してもよい。この第４閾値は、大気圧よりも高い圧力であってもよい。
このステップＳ１７において、ターゲット制御装置７０Ａは、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａにパージガスが充填されていないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ１７の処理を再度行ってもよい。
一方、ステップＳ１７において、ターゲット制御装置７０Ａは、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａにパージガスが充填されたと判断した場合、第４バルブＶ４を閉じてもよい（ステップＳ１８）。この後、ターゲット制御装置７０Ａは、第１バルブＶ１を閉じてもよい（ステップＳ１９）。
以上の処理によって、チャンバ２は、閉じている第２バルブＶ２によって、当該チャンバ２の内部にエッチングガスが満たされた状態となり得る。また、第１配管７５Ａは、閉じている第１バルブＶ１によって、第１内部空間７５１Ａにパージガスが満たされた状態となりうる。
【００５４】
この後、作業者は、継手８４Ａを外して、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外してもよい。このとき、第１バルブＶ１が閉じているため、ノズル７２３Ａのノズル孔７２４Ａが空気に触れることなく、ターゲット生成器７２Ａがチャンバ２から取り外され得る。また、第２バルブＶ２が閉じているため、チャンバ２内部に空気が入ることが抑制され得る。さらに、第２バルブＶ２が閉じているため、チャンバ２内部に残留しているエッチングガスやターゲット物質の固体がチャンバ２外部に飛散してしまうことを抑制し得る。
【００５５】
上述のように、ターゲット供給装置７Ａは、ノズル７２３Ａを覆う第１配管７５Ａと、第１配管７５Ａのカバー開口部７５２Ａを覆う第１バルブＶ１とを備えてもよい。
例えばノズル７２３Ａの先端にターゲット物質が付着している場合であっても、このように第１バルブＶ１がカバー開口部７５２Ａを閉じることで、ターゲット物質の飛散を抑制し得る。
【００５６】
ターゲット供給装置７Ａは、タンク７２１Ａからノズル７２３Ａの先端にかけて延びる筒状の第１配管７５Ａを備えてもよい。また、第１配管７５Ａは、第１バルブＶ１がカバー開口部７５２Ａを閉じたとき第１内部空間７５１Ａが密閉されるように設けられてもよい。
このことにより、ノズル７２３Ａが空気に触れることを抑制しつつ、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外し得る。
【００５７】
図２、図３に示すように、ターゲット供給装置７Ａは、第２配管７７Ａと、接続部７８Ａとを備えてもよい。接続部７８Ａは、第２配管７７Ａと、第４配管８１Ａと、第１バルブＶ１の遮蔽板７６２Ａと、第２バルブＶ２の遮蔽板８０２Ａとで第２内部空間７８１Ａを形成可能に構成されてもよい。接続部７８Ａは、第２内部空間７８１Ａを排気する第２排気部８２Ａを備えてもよい。
このことにより、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２に設置する際、カバー開口部７５２Ａが閉じた状態で第２配管７７Ａを第４配管８１Ａに接続し得る。その後、第２排気部８２Ａが第２内部空間７８１Ａの空気を排気し得る。そして、この空気の排気後に、第２バルブＶ２がチャンバ開口部２０を開くとともに、第１バルブＶ１がカバー開口部７５２Ａを開くことで、ターゲット物質２７０をチャンバ２内に供給し得る。
このため、ノズル孔７２４Ａが空気に触れることを抑制しつつ、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２に設置し得る。
【００５８】
ターゲット供給装置７Ａは、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａにパージガスを供給するパージガス供給部８３Ａを含んでもよい。
このことにより、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外す際、チャンバ開口部２０およびカバー開口部７５２Ａを開いた状態で第２排気部８２Ａが第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａのエッチングガスを排気し得る。そして、チャンバ開口部２０を閉じるとともに、パージガス供給部８３Ａが第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａにパージガスを供給し得る。その後、カバー開口部７５２Ａを閉じることで、第１内部空間７５１Ａは、パージガスが充填された状態で密閉され得る。
このため、ノズル孔７２４Ａが空気に触れることを抑制しつつ、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外し得る。また、第１内部空間７５１Ａにパージガスが充填され得ることで、第１配管７５Ａ内外の圧力差によって第１内部空間７５１Ａに空気が入ってくることを抑制し得る。
【００５９】
ターゲット供給装置７Ａは、第２配管７７Ａと第４配管８１Ａとを位置決めして固定する継手８４Ａを含んでもよい。
このことにより、第２配管７７Ａと第４配管８１Ａとが位置ずれして接続されることを抑制し得る。このため、チャンバ２内に空気が入り込むことを抑制し得る。また、ノズル孔７２４Ａが空気に触れることを抑制し得る。
【００６０】
なお、第２圧力計８３４Ａが設けられていない場合には、ターゲット制御装置７０Ａは、ステップＳ３，Ｓ５において、第３バルブＶ３、第１バルブＶ１が開かれて、第２排気装置８２２Ａが排気動作を継続している時間の長さに基づいて、第２内部空間７８１Ａ、第１内部空間７５１Ａの排気が終了したか否かを判断してもよい。さらに、第２圧力計８３４Ａが設けられていない場合には、ターゲット制御装置７０Ａは、第４バルブＶ４が開かれて、パージガス供給源８３２Ａがパージガス供給動作を継続している時間の長さに基づいて、第１内部空間７５１Ａおよび第２内部空間７８１Ａにパージガスが充填されたか否かを判断してもよい。
また、継手８４Ａは、クイックカップリングでなくてもよく。ドロップレット２７が通過し得るスエージロック社製のＶＣＲメタルシールなどの継手であってもよい。
以上の構成は、以下の第２〜第４実施形態に適用してもよい。
【００６１】
２．２  第２実施形態
２．２．１  概略
本開示の第２実施形態によれば、カバーは、ノズルの軸方向に伸縮自在な構成を有し、カバー開口部は、ノズルが挿通可能な大きさに形成されてもよい。
以上のターゲット供給装置によれば、カバーをチャンバに取り付けることで、ターゲット生成器をチャンバに設置し得る。その後、カバーを縮めつつノズルをチャンバ内のプラズマ生成領域に近づけ得る。
【００６２】
２．２．２  構成
図６Ａは、第２実施形態に係るターゲット供給装置の構成を概略的に示し、当該ターゲット供給装置が装着された状態を表す。図６Ｂは、ターゲット供給装置の構成を概略的に示し、当該ターゲット供給装置が動作している状態を表す。
第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｂにおいて、図６Ａに示すように、ターゲット供給装置７Ｂ以外の構成については、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ａと同様のものを適用してもよい。
【００６３】
ターゲット供給装置７Ｂは、図示しないターゲット制御装置と、ターゲット生成部７１Ａと、カバーとしての第１配管７５Ｂと、第１バルブＶ１と、支持部８５Ｂと、第２配管７７Ａと、接続部７８Ｂとを備えてもよい。支持部８５Ｂがカバーであってもよい。第１バルブＶ１がカバー用開閉部であってもよい。
【００６４】
ターゲット生成部７１Ａを構成するターゲット生成器７２Ａのタンク７２１Ａには、複数の位置決めピン７２５Ｂが設けられてもよい。複数の位置決めピン７２５Ｂは、タンク７２１Ａの第１の面から突出するように、かつ、タンク７２１Ａの周方向に沿って等間隔で設けられてもよい。
【００６５】
第１配管７５Ｂは、ターゲット生成器７２Ａのうち少なくともノズル７２３Ａを覆うように設けられてもよい。第１配管７５Ｂは、フレキシブル管７５３Ｂと、固定部７５４Ｂと、固定部７５５Ｂとを備えてもよい。
フレキシブル管７５３Ｂは、ノズル７２３Ａの軸方向に沿って伸縮可能に配置されてもよい。
固定部７５４Ｂおよび固定部７５５Ｂは、それぞれリング状に形成されもよい。第１の固定部７５４Ｂは、フレキシブル管７５３Ｂの第１の端に連結されてもよい。固定部７５４Ｂは、ノズル７２３Ａを囲むように、タンク７２１Ａの第１の面に固定されてもよい。このとき、固定部７５４Ｂに設けられた溝にＯリング７５８Ａを嵌め込むことで、第１配管７５Ｂの第１の面とタンク７２１Ａの第１の面との間をシールしてもよい。
第２の固定部７５５Ｂは、フレキシブル管７５３Ｂの第２の端に連結されてもよい。固定部７５５Ｂは、フレキシブル管７５３Ｂが縮んだときにノズル７２３Ａを囲むように、第１バルブＶ１のガイド部７６１Ａに固定されてもよい。このとき、固定部７５５Ｂに設けられた溝にＯリング７５９Ａを嵌め込むことで、第１配管７５Ｂの第２の面と第１バルブＶ１の第１の面との間をシールしてもよい。
以上のようなシールによって、第１配管７５Ｂのカバー開口部７５２Ｂが第１バルブＶ１によって閉じられたときに、当該第１配管７５Ｂの第１内部空間７５１Ｂが密閉され得る。
【００６６】
支持部８５Ｂは、第１のスペーサ８５１Ｂと、第２のスペーサ８５３Ｂとを備えてもよい。これらがカバーであってもよい。
スペーサ８５１Ｂおよびスペーサ８５３Ｂは、第１配管７５Ｂを覆うように配置されてもよい。スペーサ８５１Ｂおよびスペーサ８５３Ｂのうち少なくともスペーサ８５３Ｂは、複数の部材を組み合わせることで筒状に形成されてもよい。このようにスペーサ８５３Ｂを複数の部材で構成することによって、ノズル７２３Ａが第１内部空間７５１Ｂ内に挿通された状態であっても、複数の部材を例えば図６Ａ中左右方向（Ｘ方向）あるいは紙面に交差する方向（Ｙ方向）に分割して、スペーサ８５３Ｂをスペーサ８５１Ｂから取り外すことが可能となり得る。スペーサ８５１Ｂおよびスペーサ８５３Ｂのそれぞれの両端には、外側に延びるフランジが設けられてもよい。
【００６７】
スペーサ８５１Ｂの第１の端のフランジを貫通する複数の位置決め孔８５２Ｂが設けられてもよい。位置決め孔８５２Ｂの個数は、タンク７２１Ａに設けられた位置決めピン７２５Ｂの個数と同じであってもよい。スペーサ８５１Ｂは、第１配管７５Ｂを囲むように、第１バルブＶ１におけるガイド部７６１Ａの第１の面に配置され、固定されてもよい。スペーサ８５１Ｂの高さ寸法は、図６Ｂに示すように、当該スペーサ８５１Ｂにターゲット生成器７２Ａが載置されたときに、ノズル７２３Ａの先端がチャンバ２内部に位置するような大きさであってもよい。ターゲット生成器７２Ａをスペーサ８５１Ｂに載置するときに位置決めピン７２５Ｂを位置決め孔８５２Ｂに嵌合することで、ターゲット生成器７２Ａがスペーサ８５１Ｂに対して回転することを抑制し得る。
【００６８】
スペーサ８５３Ｂの第１の端のフランジには、図６Ａに示すように、位置決め孔８５２Ｂと同じ形状の位置決め孔８５４Ｂが設けられてもよい。スペーサ８５３Ｂの第２の端のフランジには、位置決めピン７２５Ｂと同じ形状の位置決めピン８５５Ｂが設けられてもよい。スペーサ８５３Ｂは、第１配管７５Ｂを囲むように、スペーサ８５１Ｂ上に載置可能に構成されてもよい。スペーサ８５３Ｂをスペーサ８５１Ｂに載置するときに位置決めピン８５５Ｂを位置決め孔８５２Ｂに嵌合することで、８５３Ａがスペーサ８５１Ｂに対して回転することを抑制し得る。スペーサ８５３Ｂの高さ寸法は、当該スペーサ８５３Ｂにターゲット生成器７２Ａが載置されたときに、ノズル７２３Ａの先端が第１配管７５Ｂの第２の端のカバー開口部７５２Ｂより−Ｚ方向に位置するような大きさであってもよい。ターゲット生成器７２Ａをスペーサ８５３Ｂに載置するときに位置決めピン７２５Ｂを位置決め孔８５４Ｂに嵌合することで、ターゲット生成器７２Ａがスペーサ８５３Ｂに対して回転することを抑制し得る。
【００６９】
接続部７８Ｂは、第３配管７９Ｂと、第２バルブＶ２と、第４配管８１Ａと、第２排気部８２Ａと、パージガス供給部８３Ａと、継手８４Ａと、位置調節部８６Ｂとを備えてもよい。
第３配管７９Ｂは、第１配管７５Ｂと同様の構成を有し、フレキシブル管７９３Ｂと、固定部７９４Ｂと、固定部７９５Ｂとを備えてもよい。
フレキシブル管７９３Ｂは、ノズル７２３Ａを挿通可能に設置され、かつ、Ｚ方向のみではなく、ＸＹ方向にも変形可能であってもよい。
固定部７９４Ｂは、フレキシブル管７９３Ｂの第１の端に連結されてもよい。固定部７９４Ｂは、ノズル７２３Ａを挿通可能に、第２バルブＶ２におけるガイド部８０１Ａの第２の面に設置され、固定されてもよい。固定部７９４Ｂに設けられた溝にＯリング７９９Ａを嵌め込むことで、第３配管７９Ｂの第１の面と第２バルブＶ２との間をシールしてもよい。
固定部７９５Ｂは、フレキシブル管７９３Ｂの第２の端に連結されてもよい。固定部７９５Ｂは、ノズル７２３Ａを挿通可能に、チャンバ２の外部の第１の面に設置され、固定されてもよい。このとき、固定部７９５Ｂに設けられた溝にＯリング７９９Ａを嵌め込むことで、第３配管７９Ｂの第２の面とチャンバ２の外部の第１の面との間をシールしてもよい。
以上のようなシールによって、第３配管７９Ｂの第１の端の開口部７９２Ｂが第２バルブＶ２によって閉じられたときに、当該第３配管７９Ｂの第３内部空間７９１Ｂおよびチャンバ２の内部が密閉され得る。
【００７０】
位置調節部８６Ｂは、ステージ固定部材８６１Ｂと、ＸＹステージ８６２Ｂとを備えてもよい。
ステージ固定部材８６１Ｂは、チャンバ２の外側の第１の面における固定部７９５Ｂの外周側に固定されてもよい。
ＸＹステージ８６２Ｂは、ステージ固定部材８６１Ｂの第１の面に固定されてもよい。ＸＹステージ８６２Ｂの第１の面には、第３配管７９Ｂの固定部７９４Ｂが固定されてもよい。ＸＹステージ８６２Ｂは、図示しないターゲット制御装置に電気的に接続されてもよい。ＸＹステージ８６２Ｂは、ターゲット制御装置から送信される信号に基づいて、ＸＹステージ８６２Ｂを用いて固定部７９４ＢをＸ軸方向およびＹ軸方向のうち少なくとも一方向に移動させてもよい。
ここで、固定部７９４Ｂの第１の面には、第２バルブＶ２、第４配管８１Ａ、第２配管７７Ａ、第１バルブＶ１、第１配管７５Ｂを介して、ターゲット生成器７２Ａが以上の順番で固定され得る。このため、固定部７９４ＢがＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動すると、ターゲット生成器７２Ａも固定部７９４Ｂと同じ方向に移動する。そして、このターゲット生成器７２Ａの移動に伴い、ドロップレット２７の出力位置（ノズル孔７２４ＡのＸＹ平面内の位置）が調節され得る。
【００７１】
２．２．３  動作
２．２．３．１  ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作
以下において、第１実施形態と同様の動作については、説明を省略する。
ターゲット生成器７２Ａがチャンバ２に設置される前において、第２バルブＶ２が第３配管７９Ｂの開口部７９２Ｂを閉じていてもよい。また、このとき、チャンバ２内部には、エッチングガスが満たされてもよい。
一方、ターゲット生成器７２Ａがチャンバ２に設置される前において、第１バルブＶ１が第１配管７５Ｂのカバー開口部７５２Ｂを閉じていてもよい。第４バルブＶ４（図１参照）は開いていてもよい。第３バルブＶ３は閉じていてもよい。このとき、第１内部空間７５１Ｂには、パージガスが満たされていてもよい。
【００７２】
作業者は、第２配管７７Ａ、第１バルブＶ１、スペーサ８５１Ｂ、および、当該スペーサ８５１Ｂの第１の面にスペーサ８５３Ｂを介して載置されたターゲット生成器７２Ａを以上の順番で接合されて構成される設置物を、例えば図示しないリフタで持ち上げてもよい。そして、作業者は、リフタを操作して、当該設置物の第２配管７７Ａのフランジ７７１Ａを第４配管８１Ａのフランジ８１１Ａに載せた後、継手８４Ａによって第２配管７７Ａのフランジ７７１Ａと第４配管８１Ａのフランジ８１１Ａとを位置決めして固定してもよい。この固定によって、第２配管７７Ａと第４配管８１Ａとの間がシールされ、密閉された第２内部空間７８１Ｂが形成され得る。以上の作業は大気中で行なわれるので、第２内部空間７８１Ｂには、空気が存在し得る。
【００７３】
ＥＵＶ光生成装置のＥＵＶ光生成制御システムは、作業者の操作に基づいて、図４に示す処理を行ってもよい。
以上の処理によって、第１内部空間７５１Ｂおよび第２内部空間７８１Ｂの両方が排気されるとともに、ノズル７２３Ａのノズル孔７２４Ａが空気に触れることなく、ターゲット生成器７２Ａがチャンバ２に設置され得る。
この後、作業者は、例えばリフタによって設置物のうちターゲット生成器７２Ａのみを−Ｚ方向へ移動させながらフレキシブル管７５３Ｂを伸ばし、位置決めピン７２５Ｂをスペーサ８５３Ｂの位置決め孔８５４Ｂから抜き取ってもよい。そして、作業者は、スペーサ８５３Ｂをスペーサ８５１Ｂから取り外してもよい。その後、作業者は、リフタでターゲット生成器７２Ａを＋Ｚ方向へ移動させながらフレキシブル管７５３Ｂを縮めて、位置決めピン７２５Ｂをスペーサ８５１Ｂの位置決め孔８５２Ｂに嵌合させてもよい。
以上の処理によって、図６Ｂに示すように、ノズル７２３Ａの先端がチャンバ２内部に位置し得る。
【００７４】
そして、作業者は、ＥＵＶ光生成装置を動作させて、試験的にＥＵＶ光を生成させてもよい。このＥＵＶ光の生成の際、ドロップレット２７の出力位置が所望のプラズマ生成領域２５からＸ軸方向あるいはＹ軸方向にずれることがあり得る。このような場合には、作業者は、図示しないターゲット制御装置を操作して、ＸＹステージ８６２Ｂで固定部７９４Ｂを移動させることで、ドロップレット２７の出力位置を調節してもよい。そして、ターゲット制御装置は、ターゲットセンサ４（図１参照）での検出結果に基づき、ドロップレット２７の出力位置が適切な位置となるまで、出力位置の調節およびＥＵＶ光の試験的な生成を繰り返し、調節が完了したら、連続的にＥＵＶ光を生成してもよい。
【００７５】
２．２．３．２  ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作
ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外す前において、チャンバ２、第１内部空間７５１Ｂ、第２内部空間７８１Ｂ、および、第３配管７９Ｂの第３内部空間７９１Ｂには、エッチングガスが満たされていてもよい。
この後、作業者は、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２から取り外すために、ＥＵＶ光生成装置を操作してもよい。
ＥＵＶ光生成装置のＥＵＶ光生成制御システムは、作業者の操作に基づいて、図５に示す処理を行ってもよい。
以上の処理によって、チャンバ２は、閉じている第２バルブＶ２によって、当該チャンバ２の内部にエッチングガスが満たされた状態となり得る。また、第１配管７５Ｂは、閉じている第１バルブＶ１によって、第１内部空間７５１Ｂにパージガスが満たされた状態となりうる。
【００７６】
この後、作業者は、リフタでターゲット生成器７２Ａのみを−Ｚ方向へ移動させながらフレキシブル管７５３Ｂを伸ばし、位置決めピン７２５Ｂをスペーサ８５１Ｂの位置決め孔８５２Ｂから抜き取ってもよい。そして、ターゲット生成器７２Ａとスペーサ８５１Ｂとの間にスペーサ８５３Ｂを設置可能な位置までターゲット生成器７２Ａが移動したら、作業者は、ターゲット生成器７２Ａの移動を停止してもよい。次いで、作業者は、スペーサ８５３Ｂをターゲット生成器７２Ａとスペーサ８５１Ｂとの間に配置して、位置決め孔８５４Ｂをスペーサ８５１Ｂの位置決め孔８５２Ｂに嵌合させてもよい。その後、作業者は、リフタでターゲット生成器７２Ａを＋Ｚ方向へ移動させながらフレキシブル管７５３Ｂを縮めて、図６Ａに示すように、位置決めピン７２５Ｂをスペーサ８５３Ｂの位置決め孔８５４Ｂに嵌合してもよい。
そして、作業者は、継手８４Ａを外した後、リフタでターゲット生成器７２Ａを含む設置物をチャンバ２から取り外してもよい。このとき、第１バルブＶ１が閉じているため、ノズル７２３Ａのノズル孔７２４Ａが空気に触れることなく、ターゲット生成器７２Ａがチャンバ２から取り外され得る。また、第２バルブＶ２が閉じているため、チャンバ２内部に空気が入ることが抑制され得る。
【００７７】
上述のように、第１配管７５Ｂは、ノズル７２３Ａの軸方向に伸縮自在に設置されてもよい。また、カバー開口部７５２Ｂは、ノズル７２３Ａが挿通可能な大きさに形成されてもよい。
このことにより、ターゲット生成器７２Ａをチャンバ２に設置した状態において、第１配管７５Ｂを縮めつつノズル７２３Ａをプラズマ生成領域２５に近づけ得る。
【００７８】
ターゲット供給装置７Ｂは、ターゲット生成器７２ＡをＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動させる位置調節部８６Ｂを備えてもよい。
このことにより、ターゲット生成器７２Ａを設置した直後におけるドロップレット２７の出力位置を適切に調節し得る。また、ドロップレット２７の出力位置が熱でドリフトした場合においても、その出力位置を適切に調節し得る。
また、フレキシブル管７９３Ｂを変形可能に構成してもよい。
このことにより、固定部７９４ＢがＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動した場合であっても、フレキシブル管７９３Ｂに負荷がかかることを抑制し得る。
【００７９】
２．３  第３実施形態
２．３．１  概略
本開示の第３実施形態によれば、静電引出方式でドロップレットが生成されるよう構成されたＥＵＶ光生成装置のターゲット供給装置に、ターゲット生成器と、カバー開口部を有するカバーと、カバー開口部を開閉するカバー用開閉部とを設けてもよい。
以上の構成によれば、ターゲット生成器をチャンバから取り外す際に、ノズルの先端にターゲット物質が付着している場合であっても、カバー用開閉部がカバー開口部を閉じることによって、ターゲット物質の飛散を抑制し得る。
【００８０】
２．３．２  構成
図７は、第３実施形態に係るターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｃにおいて、図７に示すように、チャンバ２Ｃと、ＥＵＶ光生成制御システム５Ｃと、ターゲット供給装置７Ｃ以外の構成については、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ａと同様のものを適用してもよい。
【００８１】
チャンバ２Ｃは、箱状のチャンバ本体２００Ｃを有してもよい。このチャンバ本体２００Ｃには、第１圧力計２６１Ａと、第１排気装置２６２Ａ（図２参照）と、第２排気装置２６２Ｃと、第１カバー２６４Ｃと、チャンバ用開閉部としての第１バルブＶ１１と、第２圧力計２８１Ｃと、図示しないエッチングガス供給部とが設けられてもよい。
第１カバー２６４Ｃは、板状の底面部２６５Ｃと、筒状の側面部２６６Ｃと、この側面部２６６Ｃの外周の鍔部２６７Ｃとを有してもよい。底面部２６５Ｃの略中央には、開口部２６８Ｃが設けられてもよい。開口部２６８Ｃは、ドロップレット２７が通過可能な大きさであってもよい。
第１カバー２６４Ｃは、チャンバ本体２００Ｃのチャンバ開口部２０を覆うように、かつ、開口部２６８Ｃの中心がチャンバ開口部２０の中心と一致するように、チャンバ本体２００Ｃの内壁面に固定されてもよい。このとき、鍔部２６７Ｃに設けられた溝にＯリング２６９Ｃを嵌め込むことで、鍔部２６７Ｃの第１の面とチャンバ本体２００Ｃの内壁面との間をシールしてもよい。
【００８２】
第１バルブＶ１１は、第１カバー２６４Ｃの開口部２６８Ｃを開閉可能に配置されてもよい。第１バルブＶ１１は、ゲートバルブ、ボールバルブ、バタフライバルブなどのいずれかであってもよい。第１バルブＶ１１は、後述するターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続されてもよい。第１バルブＶ１１は、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、開口部２６８Ｃ開閉を切り替えてもよい。このように、第１バルブＶ１１が開口部２６８Ｃを閉じることで、第１カバー２６４Ｃとチャンバ本体２００Ｃとで仕切られた第１内部空間２０１Ｃが形成され得る。
【００８３】
第２圧力計２８１Ｃは、第１内部空間２０１Ｃ内の圧力を計測できるように、チャンバ本体２００Ｃに設けられてもよい。第２圧力計２８１Ｃは、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続されてもよい。第２圧力計２８１Ｃは、第１内部空間２０１Ｃ内部の圧力に対応する信号をターゲット制御装置７０Ｃに送信してもよい。
【００８４】
第２排気装置２６２Ｃは、配管２８２Ｃを介して、チャンバ本体２００Ｃに連結されてもよい。配管２８２Ｃには、第２バルブＶ１２が設けられてもよい。第２バルブＶ１２は、ゲートバルブ、ボールバルブ、バタフライバルブなどのいずれかであってもよい。第２バルブＶ１２は、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続されてもよい。第２バルブＶ１２は、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、開閉を切り替えられてもよい。
【００８５】
ターゲット供給装置７Ｃは、ターゲット制御装置７０Ｃと、ターゲット生成部７１Ｃと、カバー７７Ｃと、第４排気部７９Ｃと、パージガス供給部８３Ｃとを備えてもよい。
ターゲット生成部７１Ｃは、ターゲット生成器７２Ｃと、圧力調整器７３Ａと、温度調節部７４Ａと、第３排気部７５Ｃと、静電引出部７６Ｃとを備えてもよい。
【００８６】
ターゲット生成器７２Ｃは、タンク７２１Ｃを備えてもよい。タンク７２１Ｃには、ノズル７２３Ｃが設けられていてもよい。
ノズル７２３Ｃは、ノズル本体７２４Ｃと、先端保持部７２５Ｃと、出力部７２６Ｃとを備えてもよい。ノズル本体７２４Ｃが、タンク７２１Ｃの第１の面からチャンバ２Ｃ内に突出するように設置されてもよい。先端保持部７２５Ｃは、ノズル本体７２４Ｃの先端に設けられてもよい。先端保持部７２５Ｃは、ノズル本体７２４Ｃよりも直径が大きい円筒状に形成されてもよい。先端保持部７２５Ｃは、ノズル本体７２４Ｃとは別体として構成され、ノズル本体７２４Ｃに固定されてもよい。
【００８７】
出力部７２６Ｃは、略円板状に形成されてもよい。出力部７２６Ｃは、ノズル本体７２４Ｃの先端面に密着するように、先端保持部７２５Ｃによって保持されてもよい。出力部７２６Ｃの中央部分には、円錐台状の突出部７２７Ｃが設けられてもよい。突出部７２７Ｃがチャンバ２Ｃ内に突出するように出力部７２６Ｃが保持されてもよい。突出部７２７Ｃの略中央部にノズル孔７２８Ｃが設けられてもよい。出力部７２６Ｃは、ターゲット物質２７０の濡れ性が低い材料で構成されるのが好ましい。出力部７２６Ｃが、出力部７２６Ｃに対するターゲット物質２７０の濡れ性が低い材料で構成されていない場合には、出力部７２６Ｃの少なくとも表面が、濡れ性が低い材料でコーティングされてもよい。
【００８８】
タンク７２１Ｃと、ノズル７２３Ｃと、出力部７２６Ｃとは、電気絶縁材料で構成されてもよい。これらが、電気絶縁材料ではない材料、例えばモリブデンなどの金属材料で構成される場合には、チャンバ２Ｃとターゲット生成器７２Ｃとの間や、出力部７２６Ｃと後述する引出電極７６１Ｃとの間に電気絶縁材料が配置されてもよい。
【００８９】
圧力調整器７３Ａは、配管７３２Ｃ、継手７３３Ｃ、および、配管７３４Ｃを介してタンク７２１Ｃの第１の端部７２２Ｃに連結されてもよい。配管７３２Ｃの第１の端が圧力調整器７３Ａに連結されてもよい。配管７３４Ｃは、第１の端がタンク７２１Ｃ内に位置するように、第１の端部７２２Ｃに連結されてもよい。継手７３３Ｃは、配管７３２Ｃの第２の端と、配管７３４Ｃの第２の端とを着脱自在に連結してもよい。このように継手７３３Ｃが配管７３２Ｃと配管７３４Ｃとを連結することによって、圧力調整器７３Ａがターゲット生成器７２Ｃ内の圧力を調節し得る。
配管７３２Ｃには、第３バルブＶ１３が設けられてもよい。配管７３４Ｃには、第４バルブＶ１４が設けられてもよい。第３バルブＶ１３および第４バルブＶ１４は、ゲートバルブ、ボールバルブ、バタフライバルブなどのいずれかであってもよい。第３バルブＶ１３および第４バルブＶ１４は、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続されてもよい。第３バルブＶ１３および第４バルブＶ１４は、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、開閉を切り替えられてもよい。また、配管７３２Ｃには、第４圧力計７３５Ｃが設けられてもよい。第４圧力計７３５Ｃは、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続され、配管７３２Ｃ内部の圧力に対応する信号をターゲット制御装置７０Ｃに送信してもよい。
【００９０】
第３排気部７５Ｃは、配管７５１Ｃと、第３排気装置７５２Ｃと、第５バルブＶ１５とを備えてもよい。配管７５１Ｃの第１の端は、第３バルブＶ１３と継手７３３Ｃとの間で配管７３２Ｃに連結されてもよい。第３排気装置７５２Ｃは、配管７５１Ｃの第２の端に連結されてもよい。第３排気装置７５２Ｃは、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続されてもよい。第３排気装置７５２Ｃは、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、配管７３２Ｃ内を排気してもよい。第５バルブＶ１５は、配管７５１Ｃに設けられてもよい。第５バルブＶ１５は、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続され、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、開閉を切り替えられてもよい。
【００９１】
静電引出部７６Ｃは、第１電極７６１Ｃと、第２電極７６２Ｃと、パルス電圧生成器７６３Ｃと、高電圧電源７６４Ｃと、第３電極７６５Ｃとを備えてもよい。後に説明するように、第１電極７６１Ｃと第２電極７６２Ｃとの間の電位差を利用してドロップレット２７を出力部７２６Ｃから引出されてもよい。第３電極７６５Ｃはその引出されたドロップレットが帯電していることを利用してそのドロップレットを加速してもよい。
第２電極７６２Ｃには、高電圧電源７６４Ｃが電気的に接続されてもよい。
第３電極７６５Ｃは、第１電極７６１Ｃと略等しい略円板状に構成されてもよい。第３電極７６５Ｃの中央には、第１電極７６１Ｃの貫通孔と略等しい円形状の貫通孔が形成されてもよい。第３電極７６５Ｃは、第１電極７６１Ｃと接触しないように、出力部７２６Ｃとは反対側において先端保持部７２５Ｃによって保持されてもよい。第３電極７６５Ｃは、当該第３電極７６５Ｃの貫通孔の中心軸と、第１電極７６１Ｃの貫通孔の中心軸および円錐台状の突出部７２７Ｃの回転対称軸とが略一致するように保持されるのが好ましい。以上の構成により、突出部７２７Ｃに電界が集中し易いため、ドロップレット２７を出力部７２６Ｃから引出し易くなり得る。第１電極７６１Ｃには、パルス電圧生成器７６３Ｃが電気的に接続されてもよい。第３電極７６５Ｃは、カバー７７Ｃを介して接地されてもよい。
パルス電圧生成器７６３Ｃおよび高電圧電源７６４Ｃには、ターゲット制御装置７０Ｃが電気的に接続されてもよい。
【００９２】
カバー７７Ｃは、ターゲット生成器７２Ｃ全体を覆うように構成されてもよい。カバー７７Ｃは、面積がチャンバ開口部２０の面積より小さい板状の底面部７７１Ｃと、筒状の第１側面部７７２Ｃと、この第１側面部７７２Ｃから外側に延びる中間部７７３Ｃと、この中間部７７３Ｃの端より内側の筒状の第２側面部７７４Ｃと、この第２側面部７７４Ｃから外側に延びる鍔部７７５Ｃとを有してもよい。
底面部７７１Ｃの略中央には、カバー開口部７７６Ｃが設けられてもよい。カバー開口部７７６Ｃの大きさは、ドロップレット２７が通過可能な大きさであってもよい。また、カバー開口部７７６Ｃは、当該カバー開口部７７６Ｃの中心軸と、開口部２６８Ｃの中心軸とが一致するように設けられるのが好ましい。
底面部７７１Ｃのカバー開口部７７６Ｃには、第６バルブＶ１６が設けられてもよい。第６バルブＶ１６がカバー用開閉部であってもよい。第６バルブＶ１６は、ゲートバルブ、ボールバルブ、バタフライバルブなどであってもよい。第６バルブＶ１６は、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続され、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、開閉を切り替えられてもよい。このように、第６バルブＶ１６がカバー開口部７７６Ｃを閉じることで、カバー７７Ｃが密閉され得る。
【００９３】
中間部７７３Ｃの第１の面には、複数の位置決め孔７７８Ｃが設けられてもよい。複数の位置決め孔７７８Ｃは、中間部７７３Ｃの周方向に沿って配置されてもよい。位置決め孔７７８Ｃは、チャンバ本体２００Ｃの外壁面に設けられた位置決めピン２８４Ｃに嵌合されてもよい。このように位置決め孔７７８Ｃが位置決めピン２８４Ｃに嵌合することによって、チャンバ本体２００Ｃに対するカバー７７ＣのＸＹ方向の位置決めがなされ得る。
また、第２側面部７７４Ｃより外側に突出した部分には、ボルト７７９Ｃが挿通されてもよい。ボルト７７９Ｃがチャンバ本体２００Ｃに螺合されることで、第１側面部７７２Ｃがチャンバ開口部２０内に挿通され、かつ、底面部７７１Ｃが底面部２６５ＣからＺ方向へ離れた位置ある状態で、カバー７７Ｃがチャンバ本体２００Ｃに固定され得る。このとき、中間部７７３Ｃに設けられた溝にＯリング７８０Ｃを嵌め込むことで、中間部７７３Ｃの第１の面とチャンバ本体２００Ｃの外壁面との間をシールしてもよい。
【００９４】
第２側面部７７４Ｃは、接地されてもよい。
鍔部７７５Ｃの第１の面には、第２側面部７７４Ｃの開口面を塞ぐ蓋部７８１Ｃが設けられてもよい。このとき、蓋部７８１Ｃに設けられた溝にＯリング７８２Ｃを嵌め込むことで、蓋部７８１Ｃの第１の面と鍔部７７５Ｃの第１の面との間をシールしてもよい。蓋部７８１Ｃの第１の面には、タンク７２１Ｃが固定されてもよい。
また、蓋部７８１Ｃおよび第１の端部７２２Ｃには、配管７３４Ｃの先端がタンク７２１Ｃ内に位置するように、配管７３４Ｃが挿通されてもよい。
【００９５】
第４排気部７９Ｃは、配管７９１Ｃと、配管７９２Ｃと、継手７９３Ｃと、第４排気装置７９４Ｃと、第７バルブＶ１７と、第８バルブＶ１８と、第３圧力計７９７Ｃとを備えてもよい。
配管７９１Ｃの第１の端は、第４排気装置７９４Ｃに連結されてもよい。配管７９２Ｃの第２の端は、カバー７７Ｃの第２側面部７７４Ｃに連結されてもよい。継手７９３Ｃは、配管７９１Ｃの第２の端と、配管７９２Ｃの第１の端とを着脱自在に連結してもよい。このように継手７９３Ｃが配管７９１Ｃと配管７９２Ｃとを連結することによって、第４排気装置７９４Ｃがカバー７７Ｃの第２内部空間７７０Ｃを排気し得る。
第４排気装置７９４Ｃは、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続されてもよい。第４排気装置７９４Ｃは、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、第２内部空間７７０Ｃを排気してもよい。
第７バルブＶ１７および第８バルブＶ１８は、配管７９２Ｃおよび配管７９１Ｃにそれぞれ設けられてもよい。第７バルブＶ１７および第８バルブＶ１８は、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続され、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、開閉を切り替えられてもよい。
第３圧力計７９７Ｃは、カバー７７Ｃ内の圧力を計測できるように、配管７９１Ｃにおける第８バルブＶ１８より配管７９２Ｃ側に設けられてもよい。第３圧力計７９７Ｃは、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的に接続されてもよい。第３圧力計７９７Ｃは、カバー７７Ｃ内部の圧力に対応する信号をターゲット制御装置７０Ｃに送信してもよい。
【００９６】
パージガス供給部８３Ｃは、チャンバ２Ｃの第１内部空間２０１Ｃおよびカバー７７Ｃの第２内部空間７７０Ｃにパージガスを供給してもよい。パージガス供給部８３Ｃは、配管８３１Ｃと、パージガス供給源８３２Ａと、配管８３３Ｃと、第９バルブＶ１９と、第１０バルブＶ２０とを備えてもよい。
配管８３１Ｃの第２の端は、配管２８２Ｃにおける第２バルブＶ１２より第１内部空間２０１Ｃ側に接続されてもよい。配管８３３Ｃの第２の端は、配管７９１Ｃにおける第８バルブＶ１８の配管７９２Ｃ側に接続されてもよい。
第９バルブＶ１９および第１０バルブＶ２０は、配管８３１Ｃおよび配管８３３Ｃにそれぞれ設けられ、ターゲット制御装置７０Ｃに電気的にそれぞれ接続されてもよい。第９バルブＶ１９および第１０バルブＶ２０は、ターゲット制御装置７０Ｃから送信される信号に基づいて、開閉を切り替えられてもよい。
【００９７】
２．３．３  動作
２．３．３．１  ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作
図８は、ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作を示すフローチャートである。
【００９８】
ターゲット生成器７２Ｃをチャンバ２Ｃに設置する前において、第１バルブＶ１１〜第８バルブＶ１８が閉じられるとともに、第９バルブＶ１９、第１０バルブＶ２０が開いていてもよい。このとき、チャンバ２Ｃ内部には、エッチングガスが満たされてもよい。第１内部空間２０１Ｃには、空気が存在してもよい。また、第２内部空間７７０Ｃには、パージガスが満たされてもよい。
【００９９】
作業者は、第２内部空間７７０Ｃ内部にノズル７２３Ｃの先端が位置するように、ターゲット生成器７２Ｃを固定した状態で、カバー７７Ｃをチャンバ２Ｃに固定してもよい。このとき、位置決め孔７７８Ｃに位置決めピン２８４Ｃを嵌合するとともに、ボルト７７９Ｃでカバー７７Ｃをチャンバ２Ｃに固定してもよい。この固定によって、第１内部空間２０１Ｃが密閉され得る。
また、継手７３３Ｃによって配管７３２Ｃと配管７３４Ｃとを連結することで、圧力調整器７３Ａでターゲット生成器７２Ｃ内を排気可能な状態としてもよい。さらに、継手７９３Ｃによって配管７９１Ｃと配管７９２Ｃとを連結することで、第２内部空間７７０Ｃを排気可能な状態としてもよい。
【０１００】
ターゲット制御装置７０Ｃは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ｃから信号を受信すると、図８に示すように、第２排気装置２６２Ｃ、第３排気装置７５２Ｃ、および、第４排気装置７９４Ｃを駆動してもよい（ステップＳ３１）。この後、ターゲット制御装置７０Ｃは、第９バルブＶ１９を閉じるとともに、第２バルブＶ１２を開いてもよい（ステップＳ３２）。このステップＳ３１，Ｓ３２の処理によって、第１内部空間２０１Ｃに存在している空気が排気され得る。そして、第２圧力計２８１Ｃは、第１内部空間２０１Ｃの圧力Ｐ２に対応する信号をターゲット制御装置７０Ｃに送信してもよい。
【０１０１】
ターゲット制御装置７０Ｃは、第２圧力計２８１Ｃから送信される信号に基づいて、第１内部空間２０１Ｃの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ３３）。
このステップＳ３３において、ターゲット制御装置７０Ｃは、第１内部空間２０１Ｃの排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ３３の処理を再度行ってもよい。例えば、ターゲット制御装置７０Ｃは、第２圧力計２８１Ｃで測定された圧力Ｐ２が予め設定された閾値Ｐ０以下となった場合に、排気が終了したと判断し、閾値Ｐ０以下となっていない場合に、排気が終了していないと判断してもよい。
一方、ステップＳ３３において、ターゲット制御装置７０Ｃは、第１内部空間２０１Ｃの排気が終了したと判断した場合、第１０バルブＶ２０を閉じるとともに、第８バルブＶ１８を開けてもよい（ステップＳ３４）。このように、第１内部空間２０１Ｃの排気が終了した後に、第１０バルブＶ２０を閉じるとともに、第８バルブＶ１８を開けることによって、配管７９２Ｃにおける第７バルブＶ１７よりも第４排気装置７９４Ｃ側および配管７９１Ｃが排気され得る。そして、第３圧力計７９７Ｃは、配管７９１Ｃおよび配管７９２Ｃの圧力Ｐ３に対応する信号をターゲット制御装置７０Ｃに送信してもよい。
【０１０２】
ターゲット制御装置７０Ｃは、第３圧力計７９７Ｃから送信される信号に基づいて、配管７９１Ｃおよび配管７９２Ｃの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ３５）。排気が終了したか否かの判断は、ステップＳ３３と同様に、予め設定された閾値Ｐ０と測定された圧力Ｐ３との比較で行なってもよい。
このステップＳ３５において、ターゲット制御装置７０Ｃは、配管７９１Ｃおよび配管７９２Ｃの排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ３５の処理を再度行ってもよい。
一方、ステップＳ３５において、ターゲット制御装置７０Ｃは、排気が終了したと判断した場合、第７バルブＶ１７を開いてもよい（ステップＳ３６）。このように、配管７９１Ｃおよび配管７９２Ｃの排気が終了した後に、第７バルブＶ１７を開けることによって、第２内部空間７７０Ｃが排気され得る。そして、第３圧力計７９７Ｃは、第２内部空間７７０Ｃの圧力Ｐ３に対応する信号をターゲット制御装置７０Ｃに送信してもよい。
【０１０３】
ターゲット制御装置７０Ｃは、第３圧力計７９７Ｃから送信される信号に基づいて、第２内部空間７７０Ｃの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ３７）。排気が終了したか否かの判断は、ステップＳ３３と同様に、予め設定された閾値Ｐ０と測定された圧力Ｐ３との比較で行なってもよい。
このステップＳ３７において、ターゲット制御装置７０Ｃは、排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ３７の処理を再度行ってもよい。一方、ステップＳ３７において、ターゲット制御装置７０Ｃは、排気が終了したと判断した場合、第６バルブＶ１６を開いてもよい（ステップＳ３８）。
次いで、ターゲット制御装置７０Ｃは、第５バルブＶ１５を開けてもよい（ステップＳ３９）。このように、第５バルブＶ１５を開けることによって、配管７３２Ｃおよび配管７３４Ｃにおける第４バルブＶ１４より継手７３３Ｃに近い方が排気され得る。そして、第４圧力計７３５Ｃは、配管７３２Ｃおよび配管７３４Ｃの圧力に対応する信号をターゲット制御装置７０Ｃに送信してもよい。
【０１０４】
ターゲット制御装置７０Ｃは、第４圧力計７３５Ｃから送信される信号に基づいて、配管７３２Ｃおよび配管７３４Ｃの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ４０）。
このステップＳ４０において、ターゲット制御装置７０Ｃは、排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ４０の処理を再度行い、排気が終了したと判断した場合、第５バルブＶ１５を閉じてもよい（ステップＳ４１）。
さらに、ターゲット制御装置７０Ｃは、第３バルブＶ１３および第４バルブＶ１４を開いてもよい（ステップＳ４２）。また、ターゲット制御装置７０Ｃは、第３排気装置７５２Ｃを停止してもよい（ステップＳ４３）。さらには、ターゲット制御装置７０Ｃは、第１バルブＶ１１を開いてもよい（ステップＳ４４）。
【０１０５】
以上の処理により、第１バルブＶ１１〜第４バルブＶ１４、第６バルブＶ１６〜第８バルブＶ１８が開かれるとともに、第５バルブＶ１５、第９バルブＶ１９および第１０バルブＶ２０が閉じられた状態となり得る。また、第２排気装置２６２Ｃおよび第４排気装置７９４Ｃが駆動するとともに、第３排気装置７５２Ｃが停止した状態となり得る。そして、ターゲット生成器７２Ｃ内の圧力が圧力調整器７３Ａによって調整可能となり得る。また、チャンバ本体２００Ｃ内部、第１内部空間２０１Ｃ、および、第２内部空間７７０Ｃが第２排気装置２６２Ｃおよび第４排気装置７９４Ｃによって排気され得る。そして、ノズル７２３Ｃのノズル孔７２８Ｃが空気に触れることなく、ターゲット生成器７２Ｃがチャンバ２Ｃに設置され得る。
【０１０６】
以上の動作を終えた後で、ＥＵＶ光生成装置１Ｃは、チャンバ２Ｃ内にドロップレット２７を出力する処理などを行うことで、ＥＵＶ光２５１を生成し得る。
例えば、温度調節部７４Ａは、ターゲット生成器７２Ｃ内のターゲット物質２７０を当該ターゲット物質２７０の融点以上の所定の温度まで加熱してもよい。高電圧電源７６４Ｃは、タンク７２１Ｃ内のターゲット物質２７０に正極の高電圧（例えば、２０ｋＶ）を印加してもよい。そして、ターゲット物質２７０に高電圧を印加した状態において、パルス電圧生成器７６３Ｃは、引出電極７６１Ｃに印加する電圧を高電圧から低電圧（例えば、１５ｋＶ）に降下させ、所定時間保持して、再び高電圧に戻してもよい。このとき、引出電極７６１Ｃの電圧降下のタイミングに同期して、ターゲット物質２７０が静電気力によってドロップレット２７の形状で引き出され得る。ドロップレット２７は、正極に帯電し得る。そして、ドロップレット２７は、接地された加速電極７６５Ｃによって加速し、加速電極７６５Ｃの貫通孔を通過し、開口部２６８Ｃを通過し得る。開口部２６８Ｃを通過したドロップレット２７は、プラズマ生成領域２５に到達したときにパルスレーザ光３３が照射され得る。
【０１０７】
２．３．３．２  ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作
図９は、ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作を示すフローチャートである。
【０１０８】
ターゲット生成器７２Ｃをチャンバ２Ｃから取り外す前において、チャンバ２Ｃ、第１内部空間２０１Ｃ、および、第２内部空間７７０Ｃには、エッチングガスが満たされていてもよい。
【０１０９】
ターゲット制御装置７０Ｃは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ｃから信号を受信すると、図９に示すように、第２排気装置２６２Ｃおよび第４排気装置７９４Ｃが駆動しているか否かを確認してもよい（ステップＳ５１）。このとき、第２排気装置２６２Ｃおよび第４排気装置７９４Ｃのうち少なくとも１つの装置が停止している場合には、当該少なくとも１つの装置を駆動してもよい。
この後、ターゲット制御装置７０Ｃは、第９バルブＶ１９および第１０バルブＶ２０が閉じているか否かを確認してもよい（ステップＳ５２）。このとき、第９バルブＶ１９および第１０バルブＶ２０のうち少なくとも１つのバルブが開いている場合には、当該少なくとも１つのバルブを閉じてもよい。
さらに、ターゲット制御装置７０Ｃは、第２バルブＶ１２、第７バルブＶ１７、および、第８バルブＶ１８が開いていることを確認してもよい（ステップＳ５３）。このとき、第２バルブＶ１２、第７バルブＶ１７、および、第８バルブＶ１８のうち少なくとも１つのバルブが閉じている場合には、当該少なくとも１つのバルブを開いてもよい。
【０１１０】
その後、ターゲット制御装置７０Ｃは、圧力調整器７３Ａの設定圧力を大気圧に設定してもよい（ステップＳ５４）。この圧力の設定によって、配管７３２Ｃ、配管７３４Ｃ、および、ターゲット生成器７２Ｃ内の不活性ガスの圧力が大気圧となりうる。
次いで、ターゲット制御装置７０Ｃは、第３バルブＶ１３および第４バルブＶ１４を閉じてもよい（ステップＳ５５）。このステップＳ５５の処理によって、ターゲット生成器７２Ｃ内が密閉され得る。
また、ターゲット制御装置７０Ｃは、第１バルブＶ１１および第６バルブＶ１６を閉じてもよい（ステップＳ５６）。このステップＳ５６の処理によって、チャンバ２Ｃ内部と第１内部空間２０１Ｃとが遮断され得る。また、第１内部空間２０１Ｃと第２内部空間７７０Ｃ内とが遮断され得る。
【０１１１】
この後、ターゲット制御装置７０Ｃは、第２圧力計２８１Ｃからの第１内部空間２０１Ｃの圧力Ｐ２に対応する信号に基づいて、第２排気装置２６２Ｃによる第１内部空間２０１Ｃの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ５７）。このステップＳ５７において、ターゲット制御装置７０Ｃは、排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ５７の処理を再度行ってもよい。一方、ステップＳ５７において、ターゲット制御装置７０Ｃは、排気が終了したと判断した場合、第２バルブＶ１２を閉じてもよい（ステップＳ５８）。このステップＳ５８の処理によって、第１内部空間２０１Ｃが密閉され得る。排気が終了したか否かの判断は図８のフローでの判断と同様でよい。
【０１１２】
ターゲット制御装置７０Ｃは、第９バルブＶ１９を開いてもよい（ステップＳ５９）。このステップＳ５９の処理によって、パージガス供給源８３２Ａから第１内部空間２０１Ｃにパージガスが充填され得る。
ターゲット制御装置７０Ｃは、第２圧力計２８１Ｃからの第１内部空間２０１Ｃの圧力Ｐ２に対応する信号に基づいて、第１内部空間２０１Ｃにパージガスが充填されたか否かを判断してもよい（ステップＳ６０）。このステップＳ６０において、ターゲット制御装置７０Ｃは、パージガスの充填が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ６０の処理を再度行ってもよい。一方、ステップＳ６０において、ターゲット制御装置７０Ｃは、充填が終了したと判断した場合、第９バルブＶ１９を閉じてもよい（ステップＳ６１）。充填が終了したか否かの判断は図５のフローでの判断と同様でよい。
【０１１３】
ターゲット制御装置７０Ｃは、第３圧力計７９７Ｃからの第２内部空間７７０Ｃの圧力Ｐ３に対応する信号に基づいて、第２内部空間７７０Ｃの排気が終了したか否かを判断してもよい（ステップＳ６２）。このステップＳ６２において、ターゲット制御装置７０Ｃは、排気が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ６２の処理を再度行ってもよい。一方、ステップＳ６２において、ターゲット制御装置７０Ｃは、排気が終了したと判断した場合、第８バルブＶ１８を閉じてもよい（ステップＳ６３）。排気が終了したか否かの判断はステップＳ５７での判断と同様でよい。
【０１１４】
ターゲット制御装置７０Ｃは、第１０バルブＶ２０を開いてもよい（ステップＳ６４）。このステップＳ６４の処理によって、パージガス供給源８３２Ａから第２内部空間７７０Ｃにパージガスが充填され得る。
ターゲット制御装置７０Ｃは、第３圧力計７９７Ｃからの第２内部空間７７０Ｃの圧力Ｐ３に対応する信号に基づいて、第２内部空間７７０Ｃにパージガスが充填されたか否かを判断してもよい（ステップＳ６５）。このステップＳ６５において、ターゲット制御装置７０Ｃは、パージガスの充填が終了していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ６５の処理を再度行ってもよい。一方、ステップＳ６５において、ターゲット制御装置７０Ｃは、充填が終了したと判断した場合、第７バルブＶ１７を閉じてもよい（ステップＳ６６）。充填が終了したか否かの判断はステップＳ６０での判断と同様でよい。
【０１１５】
以上の処理によって、チャンバ２Ｃは、閉じている第１バルブＶ１１によって、当該チャンバ２Ｃの内部にエッチングガスが満たされた状態となり得る。また、第１内部空間２０１Ｃおよび第２内部空間７７０Ｃは、閉じている第１バルブＶ１１および第６バルブＶ１６によって、パージガスが満たされた状態となりうる。
【０１１６】
この後、作業者は、第２内部空間７７０Ｃ内部にターゲット生成器７２Ｃを固定した状態で、カバー７７Ｃをチャンバ２Ｃから取り外してもよい。また、継手７３３Ｃおよび配管７９２Ｃを取り外してもよい。このとき、第６バルブＶ１６が閉じているため、ノズル７２３Ｃのノズル孔７２８Ｃが空気に触れることなく、ターゲット生成器７２Ｃがチャンバ２Ｃから取り外され得る。また、第１バルブＶ１１が閉じているため、チャンバ２Ｃ内部に空気が入ることが抑制され得る。さらに、第１バルブＶ１１が閉じているため、チャンバ２Ｃ内部に残留しているエッチングガスやターゲット物質の固体がチャンバ２Ｃ外部に飛散してしまうことを抑制し得る。
【０１１７】
上述のように、静電引出方式のＥＵＶ光生成装置１Ｃに、ターゲット生成器７２Ｃ全体を覆うカバー７７Ｃと、このカバー７７Ｃのカバー開口部７７６Ｃを開閉する第６バルブＶ１６とを設けてもよい。
以上の構成によれば、ターゲット生成器７２Ｃをチャンバ２Ｃから取り外す際に、第６バルブＶ１６がカバー開口部７７６Ｃを閉じることによって、ターゲット物質の飛散を抑制し得る。
【０１１８】
２．４  第４実施形態
２．４．１  概略
本開示の第４実施形態によれば、ターゲット生成器は、タンクと、ノズルと、当該ノズルのノズル孔と反対側の端部を塞ぐ蓋部と、タンクの内部およびノズルの内部と連通するようにタンクおよび蓋部に連結された配管とを有してもよい。カバーは、蓋部からノズルの先端にかけて延びる筒状に形成されてもよい。カバーは、カバー用開閉部がカバー開口部を閉じたときに、当該カバー、カバー用開閉部、および、蓋部で囲まれる内部空間が密閉されるように設けられてもよい。
以上のターゲット供給装置によれば、ターゲット物質を供給した後にカバー開口部を閉じることで、カバー、カバー用開閉部、および、蓋部で囲まれる内部空間が密閉され得る。このため、ノズル孔が空気に触れることを抑制しつつ、ターゲット生成器をチャンバから取り外し得る。
【０１１９】
２．４．２  構成
図１０Ａは、第４実施形態に係るターゲット供給装置の構成を概略的に示し、当該ターゲット供給装置が装着された状態を表す。図１０Ｂは、ターゲット供給装置の構成を概略的に示し、当該ターゲット供給装置が動作している状態を表す。
第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｄにおいて、図１０Ａに示すように、ターゲット供給装置７Ｄのターゲット生成器７２Ｄ以外の構成については、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｂと同様のものを適用してもよい。図１０Ａ記載の構成が図６Ａ記載の構成と違うのは、図６Ａのタンク７２１Ａとノズル７２３Ａとが同じ太さのノズル７２３Ｄとなっていることである。
【０１２０】
ターゲット生成器７２Ｄは、ターゲット物質２７０が収容されるタンク７２１Ｄと、配管７３２Ｄを介してタンク７２１Ｄと連結された筒状のノズル７２３Ｄとを有してもよい。ノズル７２３Ｄの第１の面には、当該面の開口部を塞ぐ蓋部７２６Ｄが固定されてもよい。このとき、蓋部７２６Ｄに設けられた溝にＯリング７２７Ｄを嵌め込むことで、蓋部７２６Ｄの第１の面とノズル７２３Ｄの第１の面との間をシールしてもよい。
ノズル７２３Ｄの外周面には、ヒータ７４１Ａが設けられてもよい。
蓋部７２６Ｄの中央には、配管７３２Ｄが連結されてもよい。また、蓋部７２６Ｄの第１の面には、ノズル７２３Ｄを囲むように、固定部７５４Ｂが固定されてもよい。このとき、Ｏリング７５８Ａによって、蓋部７２６Ｄの第１の面と固定部７５４Ｂの第１の面との間をシールしてもよい。
以上のようなシール構造を形成したので、第１配管７５Ｂのカバー開口部７５２Ｂが第１バルブＶ１によって閉じられたときに、当該第１配管７５Ｂの第１内部空間７５１Ｂが密閉され得る。
蓋部７２６Ｄの第１の面の外縁側には、位置決めピン７２５Ｂが設けられてもよい。図１０Ａに示すように、この位置決めピン７２５Ｂが位置決め孔８５４Ｂに嵌合することで、ターゲット生成器７２Ｄが第１スペーサ８５３Ｂおよび第２スペーサ８５１Ｂに対して回転することを抑制し得る。また、第１スペーサ８５３Ｂを取り外してターゲット生成器７２ＤをＺ方向へ移動させた場合、図１０Ｂに示すように、位置決めピン７２５Ｂが位置決め孔８５２Ｂに嵌合することで、ターゲット生成器７２Ｄが第２スペーサ８５１Ｂに対して回転することを抑制し得る。
【０１２１】
２．４．３  動作
２．４．３．１  ターゲット生成器をチャンバに設置するときの動作
以下において、第２実施形態と同様の動作については、説明を省略する。
【０１２２】
作業者は、図１０Ａに示すように、第２配管７７Ａ、第１バルブＶ１、第２のスペーサ８５１Ｂ、および、当該スペーサ８５１Ｂの第１の面に第１のスペーサ８５３Ｂを介して載置されたターゲット生成器７２Ｄとから構成される設置物を、例えば図示しないリフタで−Ｚ方向へ移動してもよい。そして、作業者は、リフタを操作して、当該設置物の第２配管７７Ａを第４配管８１Ａに載せた後、継手８４Ａによって第２配管７７Ａと第４配管８１Ａとを位置決めして固定してもよい。この固定によって、密閉された第２内部空間７８１Ｂが形成され得る。
【０１２３】
この後、ＥＵＶ光生成装置のＥＵＶ光生成制御システムは、作業者の操作に基づいて、図４に示す処理を行ってもよい。
以上の処理によって、第１内部空間７５１Ｂおよび第２内部空間７８１Ｂの両方が排気されるとともに、ノズル７２３Ｄのノズル孔７２４Ｄが空気に触れることなく、ターゲット生成器７２Ｄがチャンバ２に設置され得る。
この後、作業者は、例えばリフタで設置物のうちターゲット生成器７２Ｄのみを−Ｚ方向へ移動させて、位置決めピン７２５Ｂを第１スペーサ８５３Ｂの位置決め孔８５４Ｂから抜き取ってもよい。そして、作業者は、第１スペーサ８５３Ｂを第２スペーサ８５１Ｂから取り外してもよい。その後、作業者は、リフタでターゲット生成器７２ＤをＺ方向へ移動させて、位置決めピン７２５Ｂを第２スペーサ８５１Ｂの位置決め孔８５２Ｂに嵌合させてもよい。
以上の処理によって、図１０Ｂに示すように、ノズル７２３Ｄの先端がチャンバ２内部に位置し得る。
【０１２４】
２．４．３．２  ターゲット生成器をチャンバから取り外すときの動作
作業者は、リフタでターゲット生成器７２Ｄのみを−Ｚ方向へ移動させて、位置決めピン７２５Ｂを第２スペーサ８５１Ｂの位置決め孔８５２Ｂから抜き取ってもよい。そして、作業者は、ターゲット生成器７２Ｄと第２スペーサ８５１Ｂとの間に第１スペーサ８５３Ｂを設置可能な位置までターゲット生成器７２Ｄを−Ｚ方向へ移動させ、第１スペーサ８５３Ｂをターゲット生成器７２Ｄと第２スペーサ８５１Ｂとの間に配置して、位置決め孔８５４Ｂを第２スペーサ８５１Ｂの位置決め孔８５２Ｂに嵌合させてもよい。その後、作業者は、リフタでターゲット生成器７２Ｄを−Ｚ方向へ移動させて、図１０Ａに示すように、位置決めピン７２５Ｂを第１スペーサ８５３Ｂの位置決め孔８５４Ｂに嵌合してもよい。
そして、作業者は、継手８４Ａを外した後、リフタでターゲット生成器７２Ｄを含む設置物をチャンバ２から取り外してもよい。このとき、第１バルブＶ１が閉じているため、ノズル７２３Ｄのノズル孔７２４Ｄが空気に触れることなく、ターゲット生成器７２Ｄがチャンバ２から取り外され得る。また、第２バルブＶ２が閉じているため、チャンバ２内部に空気が入ることが抑制され得る。
【０１２５】
上述のように、ターゲット供給装置７Ｄは、蓋部７２６Ｄからノズル７２３Ｄの先端にかけて延在する筒状の第１配管７５Ｂを備えてもよい。また、第１配管７５Ｂは、第１バルブＶ１がカバー開口部７５２Ｂを閉じたとき第１内部空間７５１Ｂが密閉されるように設けられてもよい。
このことにより、ノズル７２３Ｄが空気に触れることを抑制しつつ、ターゲット生成器７２Ｄをチャンバ２から取り外し得る。
【０１２６】
ノズル７２３Ｄの側面には、第１内部空間７５１Ｂ内に位置するようにヒータ７４１Ａが設けられてもよい。
このことにより、作業者がヒータ７４１Ａに接触することを抑制し得る。また、第１内部空間７５１Ｂが真空になりうることで、断熱効果を期待し得る。
【０１２７】
２．５  変形例
なお、ターゲット供給装置としては、以下のような構成としてもよい。
図１１Ａは、変形例に係るターゲット供給装置の構成を概略的に示し、ノズル孔を閉じた状態を表す。図１１Ｂは、ターゲット供給装置の構成を概略的に示し、ノズル孔を開いた状態を表す。
図１１Ａに示すように、ターゲット供給装置７Ｅは、ノズル孔開閉部としてのバルブＶ２１を備えてもよい。バルブＶ２１は、ノズル７２３Ａの先端側側面に取り付けられた取付部７６１Ｅと、軸支部７６２Ｅを介してガイド部７６１Ａ（図３参照）に回動自在に設けられた閉塞部７６３Ｅとを備えてもよい。閉塞部７６３Ｅがカバー用開閉部でもよい。
このような構成により、図１１Ａに示すように、ノズル７２３Ａの先端面と閉塞部７６３Ｅとが密着することでノズル孔７２４Ａが閉じられ得る。例えば、ノズル７２３Ａの先端にターゲット物質が付着している場合であっても、バルブＶ２１がノズル孔７２４Ａを閉じることによって、ターゲット物質の飛散を抑制し得る。このとき、閉塞部７６３Ｅのノズル７２３Ａとの対向面に設けられた溝にＯリング７６４Ｅを嵌め込むことで、ノズル７２３Ａと閉塞部７６３Ｅとの間をシールしてもよい。また、図１１Ｂに示すように、閉塞部７６３Ｅが回動してノズル孔７２４Ａが開かれることで、図示しないドロップレットを出力可能な状態となり得る。
【０１２８】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【０１２９】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【０１３０】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ…ＥＵＶ光（極端紫外光）生成装置、２，２Ｃ…チャンバ、
７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７Ｄ，７Ｅ…ターゲット供給装置、２０…チャンバ開口部、７２Ａ，７２Ｃ…ターゲット生成器、７５Ａ，７５Ｂ…第１配管（カバー）、７７Ｃ…カバー、７７Ａ…第２配管（第１接続用配管）、８１Ａ…第２配管（第２接続用配管）、８２Ａ…排気部、８３Ａ…パージガス供給部、８４Ａ…継手（固定部）、２００Ｃ…チャンバ本体、７２１Ａ，７２１Ｃ，７２１Ｄ…タンク、７２３Ａ，７２３Ｃ，７２３Ｄ…ノズル、７２６Ｄ…蓋部、７３２Ｄ…配管、７５１Ａ，７５１Ｂ，７７０Ｃ…内部空間、７５２Ａ，７５２Ｂ，７７６Ｃ…カバー開口部、Ｖ１，Ｖ１６…第１，第６バルブ（カバー用開閉部）、Ｖ２，Ｖ１１…第２，第１バルブ（チャンバ用開閉部）、Ｖ２１…バルブ（ノズル孔開閉部）。
【図１】
2014010954.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８】
2014010954.tif 000011
【図９】
2014010954.tif 000012
【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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