(57)【要約】【課題】高温高湿環境下で水蒸気透過に対して優れたバリア性を有するガスバリア積層体を提供する。【解決手段】ポリエチレンテレフタレート基材１の両面または片面に酸化珪素膜３を積層したガスバリア積層体において、白色干渉計（ＳＷＬＩ）によって測定される前記ポリエチレンテレフタレート基材表面の1平方ｍｍあたりの高さ０．５μｍ以上の突起数が、２５０個以下の範囲内である。また、高さ０．７μｍ以上の突起数が、１５０個以下の範囲内である。そして、ポリエチレンテレフタレート基材が、１１０℃から１５０℃の温度範囲で１５分から３０分間熱処理されている。プラスチックフィルム基材と酸化珪素膜との間に、アンカーコート層３を設けることが好ましい。【選択図】図１
2014104616.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレンテレフタレート基材の両面または片面に酸化珪素膜を積層したガスバリア積層体において、白色干渉計（ＳＷＬＩ）によって測定される前記ポリエチレンテレフタレート基材表面の1平方ｍｍあたりの高さ０．５μｍ以上の突起数が、２５０個以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。
【請求項２】
白色干渉計（ＳＷＬＩ）によって測定される前記ポリエチレンテレフタレート基材表面の1平方ｍｍあたりの高さ０．７μｍ以上の突起数が、１５０個以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア積層体。
【請求項３】
前記ポリエチレンテレフタレート基材が、１１０℃から１５０℃の温度範囲で、１５分から３０分間熱処理されていることを特徴とする請求項１または２に記載のガスバリア積層体。
【請求項４】
前記酸化珪素膜のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって算出される酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）が、１．６〜２．０の範囲内であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
【請求項５】
前記酸化珪素膜の厚さが、１０〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
【請求項６】
前記プラスチックフィルム基材と前記酸化珪素膜との間に、アンカーコート層が設けられていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
【請求項７】
前記アンカーコート層が、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、及び、オキサゾリン基含有樹脂から選択される１種類以上の樹脂にて形成されていることを特徴とする請求項６記載のガスバリア積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、産業資材用途としても用いられる、高温高湿度下におけるバリア性に優れたガスバリア積層体に関するものである。特に、太陽電池のモジュールセルやその配線を保護するバリア性に優れた前面保護シート用または裏面保護シートのガスバリア積層体に関するものである。また用途はこれに限定したものではなく応用展開が可能である。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリア積層体は食品や精密電子部品及び医薬品の包材として用いられ、内容物の変質を抑制しそれらの機能や性質を保持するために、包装材料を通過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要があり、これらを遮断するガスバリア性等を備えることが求められてきた。
【０００３】
近年、このガスバリア積層体は太陽電池モジュールの部材である前面あるいは裏面保護シートを代表とした産業資材用途として用いられるようになってきた。
【０００４】
従来、上記前面保護シートには温度・湿度などの影響の少ないガラスが、裏面保護シートにはアルミ等の金属箔が、ガスバリア素材として一般的に用いられてきたが、ガラスは破損や重さが重く施工時、搬送に問題があった。金属箔は経年劣化により太陽電池のセル及び配線等と絶縁不良を起こすなど欠点を有し問題があった。
【０００５】
そこで、これらの欠点を克服したガスバリア素材として、フッ素樹脂フィルム上に、真空蒸着法により酸化珪素の蒸着膜を形成した蒸着フィルム（ガスバリア積層体）が開発されている（例えば、特許文献１）。
【０００６】
このガスバリア積層体は透明性及び酸素、水蒸気等のガス遮断性を有しているため、ガラスや金属箔等では得ることができない柔軟性、軽量化、絶縁特性、透明性を有するガスバリア素材として好適とされている。
【０００７】
しかしながら、従来のガスバリア積層体の基材に用いられてきた一般の２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムでは、表面の単位面積あたりの突起数が多く、かつ、突起高さが高い。これにより、酸化珪素膜に突起が生じて、酸化珪素膜を積層した蒸着フィルムであるガスバリア積層体では、高温高湿環境下で、バリア層である酸化珪素膜に欠陥が生じ劣化するため、長時間の高温高湿環境下では、性能劣化、特に水蒸気バリア性の劣化を引き起こすという欠点がある。
【０００８】
この問題を解決するために、従来から酸化珪素膜上に樹脂系などのオーバーコート剤を塗布して用いることによって、プラスチックフィルム基材上に積層された酸化珪素膜の劣化をおさえる試みがなされている。
【０００９】
しかしながら、従来は樹脂系オーバーコートやシリカゾル系オーバーコートで酸化珪素膜の劣化を抑えようとすると、ガスバリア積層体の工程数を増やすことになり、かつこれら成分では十分に酸化珪素膜の突起が原因として起こる欠陥などの劣化を抑えることができなかった。
【００１０】
また、一般ポリエチレンテレフタレートを用いているため、高温高湿環境下でのポリエチレンテレフタレートフィルムの熱収縮によってバリア層や、オーバーコート層に欠陥が入ることを防ぐことができなかった。
【００１１】
公知文献を以下に示す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平１０−３０８５２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、高温高湿環境下で水蒸気透過に対して優れたバリア性を有するガスバリア積層体を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
発明者はポリエチレンテレフタレートフィルムの熱収縮を抑制し、ポリエチレンテレフタレート表面の単位面積あたりの突起数および突起高さを好適化することより上記の課題が解決できることを見出し本発明に至った。
【００１５】
本発明の請求項１記載の発明は、ポリエチレンテレフタレート基材の両面または片面に酸化珪素膜を積層したガスバリア積層体において、白色干渉計（ＳＷＬＩ）によって測定される前記ポリエチレンテレフタレート基材表面の1平方ｍｍあたりの高さ０．５μｍ以上の突起数が、２５０個以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体である。
【００１６】
本発明の請求項２記載の発明は、白色干渉計（ＳＷＬＩ）によって測定される前記ポリエチレンテレフタレート基材表面の1平方ｍｍあたりの高さ０．７μｍ以上の突起数が、１５０個以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のガスバリア積層体である。
【００１７】
本発明の請求項３記載の発明は、前記ポリエチレンテレフタレート基材が、１１０℃から１５０℃の温度範囲で、１５分から３０分間熱処理されていることを特徴とする請求項１または２に記載のガスバリア積層体である。
【００１８】
本発明の請求項４記載の発明は、前記酸化珪素膜のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって算出される酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）が、１．６〜２．０の範囲内であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のガスバリア積層体である。
【００１９】
本発明の請求項５記載の発明は、前記酸化珪素膜の厚さが、１０〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のガスバリア積層体である。
【００２０】
本発明の請求項６記載の発明は、前記プラスチックフィルム基材と前記酸化珪素膜との間に、アンカーコート層が設けられていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のガスバリア積層体である。
【００２１】
本発明の請求項７記載の発明は、前記アンカーコート層が、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、及び、オキサゾリン基含有樹脂から選択される１種類以上の樹脂にて形成されていることを特徴とする請求項６記載のガスバリア積層体である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のガスバリア積層体は、高温高湿環境下においても、酸化珪素膜の劣化が抑えられ、水蒸気透過に対するバリア性が優れている。具体的には、請求項１〜３に記載の発明により、高温高湿環境下でバリア性が劣化しない基材および表面性状となる。
【００２３】
請求項４に記載の発明により高温高湿環境下でバリア性が劣化しない膜質となる。請求項５に記載の発明により、高温高湿環境下でバリア性を保持する膜厚となる。請求項６、７記載の発明により、高温高湿環境下でポリエチレンテレフタレート基材と酸化珪素膜の相互作用により、さらに水蒸気透過に対するバリア性の優れた構造となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明のガスバリア積層体の一例を説明する断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明を実施するための形態につき説明する。
図１は、本発明のガスバリア積層体の一例を説明する断面図である。
【００２６】
本例のガスバリア積層体は、ポリエチレンテレフタレート基材１に、酸化珪素膜２が積層され、酸化珪素膜２が積層される側のポリエチレンテレフタレート基材１の表面に、アンカーコート層３が形成されている。
【００２７】
本発明のガスバリア積層体は、酸化珪素膜の基材の熱収縮と表面性状を制御している。この結果、水蒸気バリア性の向上や欠陥発生防止につながり、高温高湿環境下においても、優れた水蒸気などのバリア性を有することができる。
【００２８】
本発明のガスバリア積層体は、本発明者の次の知見に基づくものである。ポリエチレンテレフタレート基材の表面性状は白色干渉計（ＳＷＬＩ）で測定される。測定面積を１平方ｍｍとして表面形状を測定し、得られた表面形状から突起数を検出する。このための高さ方向のしきい値は、０．５μｍ、０．７μｍとした。これらのしきい値を設定することにより、しきい値以上の突起数を検出することができる。
【００２９】
なお、ポリエチレンテレフタレート基材は透明性が高いため、白色光を透過しやすく、このままでは表面形状を正確に測定できない。そこでポリエチレンテレフタレート基材表面に白金を約４０ｎｍ積層させて着色させてから測定した。
【００３０】
通常、ガスバリア積層体はプラスチックフィルムに巻取り方式で真空蒸着法によりバリア層を積層する。通常、プラスチックフィルムには滑剤が練り込まれており、この滑剤によりフィルム表面に凹凸をつけてフィルムを巻き取れるように設計されている。したがって、この目的のためにある一定の凹凸を表面につけなければフィルムを巻き取ることが困難となる。
【００３１】
しかしこの凹凸が大きい、すなわち突起数が多く、かつその高さが大きいほど蒸着されたガスバリア積層体は、ガスバリア性能が十分に発揮されず、高温高湿環境下で優れた水蒸気バリア性を有することができない。
【００３２】
これに対して、本発明のガスバリア積層体の酸化珪素膜表面は、高さ０．５μｍ以上の突起数が１平方ｍｍあたり１００〜２５０個、高さ０．７μｍ以上の突起数が１平方ｍｍあたり２０〜１５０個に調整することにより極めて良好なバリア性を発現することができ、高温高湿環境下で優れたバリア性を有する。
【００３３】
さらに、高温高湿度下では酸化珪素膜の土台となるポリエチレンテレフタレート基材が熱収縮し、酸化珪素膜に内部応力の影響をもたらす、このため酸化珪素膜はクラックやピンホールなどの欠陥が生じてしまうが、本発明で用いるポリエチレンテレフタレート基材は、１１０℃から１５０℃での温度範囲で１５分から３０分間熱処理を施してポリエチレ
ンテレフタレート基材を十分熱収縮させた後に酸化珪素膜を積層するため、高温高湿度下にさらされても酸化珪素膜の土台であるポリエチレンテレフタレート基材は収縮あるいは伸びがなく、機械的に寸法安定性が良く、酸化珪素膜に熱による応力を与えることがないため、優れた水蒸気バリア性を有したガスバリア積層体となる。
【００３４】
上述したポリエチレンテレフタレート基材１は、酸化珪素膜２の透明性を生かすために可能であれば透明なポリエチレンテレフタレート基材であることが好ましい。ポリエチレンテレフタレート基材１は延伸、未延伸のどちらでも良く、また機械的強度や寸法安定性を、もともと有するものが良い。この中で、二軸方向に任意に延伸された基材が好ましく用いられる。
【００３５】
また、このポリエチレンテレフタレート基材１の酸化珪素膜２が設けられる面と反対側の表面に、公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などが使用されていても良い。
【００３６】
ポリエチレンテレフタレート基材の厚さは特に制限を受けるものではないが、酸化珪素膜を形成するときの加工性を考慮すると、実用的には９〜２００μｍの範囲が好ましく、特に２５〜５０μｍとすることが好ましい。９μｍ以下である場合は、巻取り装置で加工する際に、シワの発生やフィルムの破断が生じ、２００μｍ以上である場合は、フィルムの柔軟性が低下するため、巻き取り装置では加工が困難になる。
【００３７】
また、産業資材、包装材料としての適性を考慮して、ガスバリア積層体に、酸化珪素膜以外の異なる性質のフィルムをさらに積層することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリフッ化ビニルフィルムやポリフッ化ジビニルなどのフッ素系樹脂フィルムなどが考えられるが、これら以外の樹脂フィルムを積層することもできる。
【００３８】
さらに本発明のガスバリア積層体自身を２層あるいは３層以上と多層構成にするとさらに高温高湿度での水蒸気バリア性に優れ効果的である。
【００３９】
本発明のガスバリア積層体は、ポリエチレンテレフタレート基材と酸化珪素膜との密着性向上およびバリア性向上のため、ポリエチレンテレフタレート基材１と酸化珪素膜２の間に、アンカーコート層３を設けることが好ましい。アンカーコート層の形成法としては、ポリエチレンテレフタレート基材にアンカーコート剤を塗布する方法が採用でき、形成されたアンカーコート層の上に酸化珪素膜を形成すれば良い。
【００４０】
アンカーコート剤としては、溶剤溶解性または水溶性のポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、オキサゾリン基含有樹脂から選ばれる樹脂を単独、あるいは２種類以上併せて使用することができる。
【００４１】
アンカーコート層の厚さは通常０．００５〜５μｍ、好ましくは０．０１〜１μｍである。５μｍを超える膜厚では、すべり性が悪くなり、また、アンカーコート層自体の内部応力によりプラスチックフィルム基材から剥離しやすくなる場合がある。一方０．００５μｍに満たない膜厚では、均一な膜厚とはならない可能性がある。
【００４２】
また、フィルムへのアンカーコート剤塗布性、接着性を改良するために、ポリエチレンテレフタレート基材表面に放電処理を施しても良い。
【００４３】
本発明のガスバリア積層体は、ポリエチレンテレフタレート基材の酸化珪素膜を積層する面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施
してもよい。
【００４４】
このＲＩＥによる処理を行うことで、発生したラジカルやイオンを利用してポリエチレンテレフタレート基材の表面に官能基を持たせるなどの化学的効果と、イオンエッチングすることで表面の不純物を除去したり、表面粗さを大きくしたりといった物理的効果の２つの効果を同時に得ることが可能である。これにより、ポリエチレンテレフタレート基材と酸化珪素膜との密着を向上させ、高温高湿環境下で両者が剥離しない構造となる。
【００４５】
次に酸化珪素膜２について説明する。酸化珪素膜のＸＰＳ法測定によって算出される酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）が１．６〜２．０であることが好ましい。Ｏ／Ｓｉが１．６より小さい場合、バリア性が低下し、かつバリア層が着色し透明性を失う。一方、２．０より大きい場合、バリア膜の残留応力が大きく、また柔軟性が失われるためクラック等の膜欠陥が生じやすくバリア性が著しく低下する。
【００４６】
酸化珪素膜２の厚さは、１０〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし、膜厚が１０ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや、膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア積層体としての機能を十分に果たすことができない場合がある。
【００４７】
また、膜厚が３００ｎｍを越える場合は酸化珪素膜の残留応力によりフレキシビリティを保持させることができず、成膜後外的要因により、酸化珪素膜に亀裂を生じるおそれがあるので問題がある。
【００４８】
酸化珪素からなる酸化珪素膜をポリエチレンテレフタレート基材に積層する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ気相成長法（ＣＶＤ）などを用いることができる。ただし、生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。
【００４９】
真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いることが好ましいが、蒸発材料の選択性の幅広さを考慮すると電子線加熱方式または抵抗加熱方式を用いることがより好ましい。
【００５０】
また、酸化珪素膜とポリエチレンテレフタレート基材の密着性及び酸化珪素膜の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、酸化珪素膜の透明性を上げるために蒸着の際、酸素等の各種ガスなど吹き込む反応蒸着を用いても一向に構わない。
【００５１】
また、酸化珪素膜上には、保護および接着性を向上させるため、オーバーコート層を形成することができる。このオーバーコート層としては、溶剤溶解性または水溶性のポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、ビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール共重合体樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂およびアルキルチタネート等を単独あるいは２種類以上からなる層を設けることができる。
【００５２】
また、オーバーコート層としては、バリア性、摩耗性、滑り性向上のためシリカゾル、アルミナゾル、粒子状無機フィラーおよび層状無機フィラーから選択される１種類以上を添加、あるいは、これらの存在下で上記樹脂を重合あるいは縮合により合成して得た樹脂からなるオーバーコート層が好ましい。
【実施例】
【００５３】
以下、本発明のガスバリア積層体の実施例を具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５４】
［白色干渉計（ＳＷＬＩ）による表面突起数の算出］
測定装置はＺｙｇｏ社製の走査型白色干渉計Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ  ７３００を用いた。光源として白色ＬＥＤを用い、測定面積は１ｍｍ×１ｍｍとした。試料表面には約４０ｎｍの厚みで白金をスパッタリングした。高さ方向のしきい値は、０．５μｍ、０．７μｍとした。
【００５５】
[Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によるＯ／Ｓｉの算出]
測定装置は日本電子株式会社製のＸ線光電子分光分析装置ＪＰＳ−９０ＭＸＶを用いた。Ｘ線源として非単色化ＭｇＫα（１２５３．６ｅＶ）を使用し、Ｘ線出力は１００Ｗ（１０ｋＶ−１０ｍＡ）で測定した。元素比率Ｏ／Ｓｉを求めるための定量分析には、それぞれＯ１ｓで２．２８、Ｓｉ２ｐで０．９の相対感度因子を用いて計算した。
【００５６】
＜実施例１＞
白色干渉計（ＳＷＬＩ）により、算出した表面の突起が、１平方ｍｍあたりの突起高さ０．５μｍ以上が１６２個、０．７μｍ以上が８２個のポリエチレンテレフタレート基材（厚さ２５μｍ）を用意し、１５０℃３０分の処理条件で熱処理を行った。
【００５７】
このポリエチレンテレフタレート基材の突起を測定した側の面に電子線加熱方式を用いて酸化珪素膜を４０ｎｍの厚みで蒸着し、実施例１のガスバリア積層体を作製した。この酸化珪素膜面のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）は、１．８であった。
【００５８】
＜実施例２＞
白色干渉計（ＳＷＬＩ）により、算出した表面の突起が、１平方ｍｍあたりの突起高さ０．５μｍ以上が２０１個、０．７μｍ以上が１３１個のポリエチレンテレフタレート基材を用い、熱処理を１５０℃２０分の処理条件で行い、酸化珪素膜を４０ｎｍの厚みで蒸着した以外は、実施例１と同様にして行い、実施例２のガスバリア積層体を作製した。
【００５９】
この酸化珪素膜面のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）は、１．９であった。
【００６０】
＜実施例３＞
白色干渉計（ＳＷＬＩ）により、算出した表面の突起が、１平方ｍｍあたりの突起高さ０．５μｍ以上が２２１個、０．７μｍ以上が１２４個のポリエチレンテレフタレート基材を用い、熱処理を１４０℃１５分の処理条件で行い、酸化珪素膜を４０ｎｍの厚みで蒸着した以外は、実施例１と同様にして行い、実施例３のガスバリア積層体を作製した。
【００６１】
この酸化珪素膜面のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）は、１．９であった。
【００６２】
＜実施例４＞
白色干渉計（ＳＷＬＩ）により、算出した表面の突起が、１平方ｍｍあたりの突起高さ０．５μｍ以上が２３１個、０．７μｍ以上が１２８個のポリエチレンテレフタレート基材を用い、熱処理を１３０℃１５分の処理条件で行い、酸化珪素膜を４０ｎｍの厚みで蒸着した以外は、実施例１と同様にして行い、実施例４のガスバリア積層体を作製した。
【００６３】
この酸化珪素膜面のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／
Ｓｉ）は、２．０であった。
【００６４】
＜実施例５＞
白色干渉計（ＳＷＬＩ）により、算出した表面の突起が、１平方ｍｍあたりの突起高さ０．５μｍ以上が１９１個、０．７μｍ以上が１０１個のポリエチレンテレフタレート基材を用い、熱処理を１１０℃１５分の処理条件で行い、酸化珪素膜を４０ｎｍの厚みで蒸着した以外は、実施例１と同様にして行い、実施例５のガスバリア積層体を作製した。
【００６５】
この酸化珪素膜面のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）は、１．７であった。
【００６６】
＜比較例１＞
白色干渉計（ＳＷＬＩ）により、算出した表面の突起が、１平方ｍｍあたりの突起高さ０．５μｍ以上が２８７個、０．７μｍ以上が１７６個のポリエチレンテレフタレート基材を用い、熱処理を８５℃１０分の処理条件で行い、酸化珪素膜を４０ｎｍの厚みで蒸着した以外は、実施例１と同様にして行い、比較例１のガスバリア積層体を作製した。
【００６７】
この酸化珪素膜面のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）は、２．１であった。
＜比較例２＞
白色干渉計（ＳＷＬＩ）により、算出した表面の突起が、１平方ｍｍあたりの突起高さ０．５μｍ以上が３０５個、０．７μｍ以上が１９１個のポリエチレンテレフタレート基材を用い、熱処理を行わず、酸化珪素膜を４０ｎｍの厚みで蒸着した以外は、実施例１と同様にして行い、比較例２のガスバリア積層体を作製した。
【００６８】
この酸化珪素膜面のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）は、２．１であった。
【００６９】
＜評価＞
実施例１から５と比較例１、２のガスバリア積層体について、温湿度８５℃８５％ＲＨの高温高湿の環境下で水蒸気透過度（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）を測定した。装置は英国Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ社製のＤＥＬＴＡＰＥＲＭを用いた。本装置は差圧法により水蒸気透過度を測定するものであり、通常の測定条件４０℃９０％ＲＨに加えて、８５℃８５％ＲＨの測定条件で水蒸気透過度を測定できる装置である。その測定結果を表１に示す。
【００７０】
評価基準として、水蒸気透過度０．８ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下を示した場合を適として○とし、上記範囲以上の水蒸気透過度を示した場合を不適として×とした。その評価結果を表１に示す。
【００７１】
【表１】
2014104616.tif 000003
以下に、実施例と比較例との比較結果について説明する。
【００７２】
＜比較結果＞
上記結果から、白色干渉計（ＳＷＬＩ）により、算出した表面の突起が、１平方ｍｍあたりの突起高さ０．５μｍ以上が２５０個以下、０．７μｍ以上が１５０個以下のポリエチレンテレフタレート基材を用い、ポリエチレンテレフタレート基材の熱処理が１１０℃から１５０℃で１５分から３０分、酸化珪素膜面のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）が１．６〜２．０に調整した以外の比較例１、２のガスバリア積層体は、バリア性が悪いことが示された。
【００７３】
以上のように本発明のガスバリア積層体は、単位面積あたりの突起数と高さ、熱処理、及び、酸素と珪素の元素構成比（Ｏ／Ｓｉ）が請求項の範囲であることにより高温高湿環境下でも水蒸気バリア性が優れている。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明のガスバリア積層体は、食品や精密電子部品及び医薬品の包材として用いられ、また、太陽電池モジュールの部材である前面保護シートおよび裏面保護シートとした産業資材用途に利用できる。
【符号の説明】
【００７５】
１・・・プラスチックフィルム基材
２・・・酸化珪素膜
３・・・アンカーコート層
【図１】
2014104616.tif 000004