(57)【要約】【課題】情報記録媒体用ガラス基板を情報記録媒体化した後に、記録特性の低下を招くことのない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】この情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、研磨パッド３１０から研磨後のガラス基板１Ｇを、ガラス基板取出治具１００を用いて取り出す工程においては、ガラス基板取出治具１００を閉じた状態にして、ガラス基板１Ｇの孔１１に表面１４側から裏面１５側に向けて挿通した後、ガラス基板取出治具１００をガラス基板１Ｇの半径方向の外側に開いた状態にすることで、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに、ガラス基板１Ｇの裏面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１が載置された状態にして、ガラス基板１Ｇをガラス基板取出治具１００を用いて上方に引き上げる工程を含む。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に孔を有するガラス基板の表面を、研磨パッドを用いて研磨する研磨装置を用いる研磨工程を備える、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨工程は、
前記ガラス基板を前記研磨パッド上に配置する工程と、
前記研磨装置により、前記ガラス基板の表面を研磨する工程と、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程と、を備え、
前記ガラス基板取出治具は、
連結軸を中心として回動可能に連結され、閉じる位置と拡がる位置との間を開閉可能に可動する第１柄部および第２柄部と、
前記第１柄部の一方の先端側に設けられ、外側に向けて張り出す第１拡径部を有する第１保持部と、
前記第２柄部の一方の先端側に設けられ、前記第１拡径部とは反対方向の外側に向けて張り出す第２拡径部を有する第２保持部と、を有し、
前記第１拡径部の上面には、前記第１柄部と前記第２柄部とが閉じた状態において、外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第１保持面を有し、
前記第２拡径部の上面には、前記第１柄部と前記第２柄部とが閉じた状態において、外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第２保持面を有し、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、前記ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、
前記ガラス基板取出治具を閉じた状態にして、前記ガラス基板の前記孔に表面側から裏面側に向けて挿通した後、前記ガラス基板取出治具を前記ガラス基板の半径方向の外側に開いた状態にすることで、前記第１保持面および前記第２保持面に、前記ガラス基板の前記裏面側と前記孔の内周端面とが交差する環状角部が載置された状態にして、前記ガラス基板を前記ガラス基板取出治具を用いて上方に引き上げる工程を含む、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記環状角部と、前記第１保持面および前記第２保持面とは線接触により接している、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記環状角部と、前記第１保持面および前記第２保持面とは点接触により接している、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１保持部および前記第２保持部には、前記ガラス基板の半径方向外方に向けて洗浄液を噴出する複数の洗浄液噴出口がさらに設けられ、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、
前記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出して、前記孔の前記内周端面を洗浄する工程を有する、請求項１から３のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記孔の前記内周端面を洗浄する工程は、前記洗浄液に超音波を印加して前記内周端面の洗浄を行なう、請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータなどに用いられる情報記録媒体（磁気ディスク記録媒体）には、従来からアルミニウム基板またはガラス基板が用いられている。これらの基板上に磁気薄膜層が形成され、磁気薄膜層を磁気ヘッドで磁化することにより、磁気薄膜層に情報が記録される。
【０００３】
近年、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）装置においては、記録密度が増々高密度化されてきている。記録密度の高密度化により、情報記録媒体（メディア）と情報記録媒体上を浮上しながら記録の読み書きを行なうヘッドとのギャップ（フライングハイト）は数ｎｍ程度にまで狭小化している。
【０００４】
フライングハイトが小さくなるにつれて、情報記録媒体をハードディスクドライブ装置に用いた場合の、媒体に記録されたデータにアクセスする際のリード／ライトエラー、磁気ヘッドが媒体表面に衝突するヘッドクラッシュなどの問題が発生しやすくなっている。これらの問題を抑制するために、情報記録媒体として許容される基板表面の欠陥の大きさもより小さくなる為、情報記録媒体用ガラス基板としても、より表面平滑性の高さが追及されており、ガラス基板表面に付着する異物や、ガラス基板表面のうねりを抑制する為、製造方法に様々な工夫がなされてきた。
【０００５】
一方、近年では、ＨＤＤの記憶容量は更に向上され、現在では２．５インチの記録媒体１枚で、記録容量が５００ＧＢ（片面２５０ＧＢ）、面記録密度が６３０Ｇｂｉｔ／平方インチ以上の記録密度を有するものが開発されている。
【０００６】
情報記録媒体用ガラス基板の製造工程においては、両面研磨装置を用いて、ガラス基板の表面を研磨する工程が採用されている。たとえば、特開２０１０−２３８２９１号公報（特許文献１）には、研磨後のガラス基板を、下側定盤上に載置された下側研磨パッドから回収するための特殊な構造を有する治具が用いられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−２３８２９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記した治具を用いて、研磨後のガラス基板を下側定盤上の下側研磨パッドから取り出す際に、ガラス基板が下側研磨パッドに強固に吸着している場合がある。下側研磨パッドによるガラス基板を吸着する吸着力が大きいと、下側研磨パッドからガラス基板を取り出す際に大きな力が必要となる。
【０００９】
その際、上記特許文献１に開示される治具では、ガラス基板の孔に治具を挿入後、治具を半径方向外方に拡径して、孔の内周端面との平面的な摩擦力に基づきガラス基板を保持して、下側研磨パッドからガラス基板を取り出す方法が採用されている。
【００１０】
しかし、孔の内周端面に治具が強固に面状に押し付けられると、研磨後のスラリー等が孔の内周端面に押し付けられて内周端面に強固に付着することになる。その結果、内周端面においては、スラリー等の付着形態が、他のガラス基板の領域に比べて強固な付着形態に変化し、後の洗浄工程では完全に除去できないおそれがある。このように、スラリー等の汚れが付着したままのガラス基板を情報記録媒体（磁気ディスク）化した後には、内周端部の付着物の面内への回り込み等による記録特性の低下を招くことになる。
【００１１】
本発明は、上記の実情に鑑みてなされたものであって、情報記録媒体用ガラス基板を情報記録媒体化した後に、記録特性の低下を招くことのない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に基づいた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、中心に孔を有するガラス基板の表面を、研磨パッドを用いて研磨する研磨装置を用いる研磨工程を備える、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、以下の工程を備える。
【００１３】
上記研磨工程は、上記ガラス基板を上記研磨パッド上に配置する工程と、上記研磨装置により、上記ガラス基板の表面を研磨する工程と、上記研磨パッドから研磨後の上記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程とを備える。
【００１４】
上記ガラス基板取出治具は、連結軸を中心として回動可能に連結され、閉じる位置と拡がる位置との間を開閉可能に可動する第１柄部および第２柄部と、上記第１柄部の一方の先端側に設けられ、外側に向けて張り出す第１拡径部を有する第１保持部と、上記第２柄部の一方の先端側に設けられ、上記第１拡径部とは反対方向の外側に向けて張り出す第２拡径部を有する第２保持部とを有する。
【００１５】
上記第１拡径部の上面には、上記第１柄部と上記第２柄部とが閉じた状態において、外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第１保持面を有し、上記第２拡径部の上面には、上記第１柄部と上記第２柄部とが閉じた状態において、外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第２保持面を有する。
【００１６】
上記研磨パッドから研磨後の上記ガラス基板を、上記ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、上記ガラス基板取出治具を閉じた状態にして、上記ガラス基板の上記孔に表面側から裏面側に向けて挿通した後、上記ガラス基板取出治具を上記ガラス基板の半径方向の外側に開いた状態にすることで、上記第１保持面および上記第２保持面に、上記ガラス基板の上記裏面側と上記孔の内周端面とが交差する環状角部が載置された状態にして、上記ガラス基板を上記ガラス基板取出治具を用いて上方に引き上げる工程を含む。
【００１７】
他の形態においては、上記環状角部と、上記第１保持面および上記第２保持面とは線接触により接している。
【００１８】
他の形態においては、上記環状角部と、上記第１保持面および上記第２保持面とは点接触により接している。
【００１９】
他の形態においては、上記第１保持部および上記第２保持部には、上記ガラス基板の半径方向外方に向けて洗浄液を噴出する複数の洗浄液噴出口がさらに設けられ、上記研磨パッドから研磨後の上記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、上記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出して、上記孔の上記内周端面を洗浄する工程を有する。
【００２０】
他の形態においては、上記孔の上記内周端面を洗浄する工程は、上記洗浄液に超音波を印加して上記内周端面の洗浄を行なう。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、情報記録媒体用ガラス基板を情報記録媒体化した後に、記録特性の低下を招くことのない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを可能とする。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】磁気ディスクに用いられるガラス基板を示す斜視図である。
【図２】ガラス基板を備えた磁気ディスクを示す斜視図である。
【図３】実施の形態におけるガラス基板の製造方法を示すフローチャートである。
【図４】研磨工程に用いられる両面研磨装置の部分斜視図である。
【図５】第２ポリッシュ工程の内訳を示す図である。
【図６】実施の形態１におけるガラス基板取出治具の全体構造を示す正面図である。
【図７】図６中のＶＩＩ−ＶＩＩ線矢視図である。
【図８】実施の形態１におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。
【図９】実施の形態１におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の保持状態を示す図である。
【図１０】実施の形態１の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大図である。
【図１１】実施の形態１の他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。
【図１２】実施の形態１の他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大断面図である。
【図１３】実施の形態１の他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す拡大斜視図である。
【図１４】実施の形態１のさらに他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
【図１５】実施の形態１のさらに他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
【図１６】実施の形態２におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す拡大斜視図である。
【図１７】実施の形態２におけるガラス基板取出治具の保持部におけるガラス基板の保持状態を示す平面模式図である。
【図１８】実施の形態３におけるガラス基板取出治具の構造を示す断面図である。
【図１９】実施の形態３におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の内周端面の洗浄状態を示す断面図である。
【図２０】実施の形態３におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の保持状態を示す断面図である。
【図２１】実施の形態４におけるガラス基板取出治具の構造を示す断面図である。
【図２２】実施の形態１から４および比較例において製造されたガラス基板を用いた情報記録媒体（メディア）の評価結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明に基づいた実施の形態および実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。
【００２４】
（実施の形態１）
（ガラス基板１Ｇ・磁気ディスク１）
図１および図２を参照して、まず、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板１Ｇ、およびガラス基板１Ｇを備えた磁気ディスク１について説明する。図１は、磁気ディスク１（図２参照）に用いられるガラス基板１Ｇを示す斜視図である。図２は、情報記録媒体として、ガラス基板１Ｇを備えた磁気ディスク１を示す斜視図である。
【００２５】
図１に示すように、磁気ディスク１に用いられるガラス基板１Ｇ（情報記録媒体用ガラス基板）は、中心に孔１１が形成された環状の円板形状を呈している。円形ディスク形状のガラス基板１Ｇは、表主表面１４、裏主表面１５、内周端面１３、および外周端面１２を有している。また、内周端面１３の表主表面１４側および裏主表面１５側にはそれぞれテーパ面としてのチャンファ面１３ａ，１３ｂが形成されている。
【００２６】
ガラス基板１Ｇの大きさは、特に制限はなく、たとえば外径０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、または３．５インチなどである。ガラス基板１Ｇの厚さは、破損防止の観点から、たとえば０．３０ｍｍ〜２．２ｍｍである。本実施の形態におけるガラス基板１Ｇの大きさは、外径が約６５ｍｍ、内径が約２０ｍｍ、厚さが約０．８ｍｍである。ガラス基板１Ｇの厚さとは、ガラス基板１Ｇ上の点対称となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。
【００２７】
図２に示すように、磁気ディスク１は、上記したガラス基板１Ｇの表主表面１４上に磁性膜が成膜されて、磁気記録層を含む磁気薄膜層２３が形成される。図２中では、表主表面１４上にのみ磁気薄膜層２３が形成されているが、裏主表面１５上にも磁気薄膜層２３が形成されていてもよい。
【００２８】
磁気薄膜層２３は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板１Ｇの表主表面１４上にスピンコートすることによって形成される（スピンコート法）。磁気薄膜層２３は、ガラス基板１Ｇの表主表面１４に対してスパッタリング法、または無電解めっき法等により形成されてもよい。
【００２９】
ガラス基板１Ｇの表主表面１４に形成される磁気薄膜層２３の膜厚は、スピンコート法の場合は約０．３μｍ〜約１．２μｍ、スパッタリング法の場合は約０．０４μｍ〜約０．０８μｍ、無電解めっき法の場合は約０．０５μｍ〜約０．１μｍである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気薄膜層２３はスパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。
【００３０】
磁気薄膜層２３に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。また、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、ＦｅＰｔ系の材料が用いられてもよい。
【００３１】
また、磁気記録ヘッドの滑りをよくするために磁気薄膜層２３の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００３２】
さらに、必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスク１における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、またはＮｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。
【００３３】
また、下地層は単層とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。たとえば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。
【００３４】
磁気薄膜層２３の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一または異種の層からなる多層構成としてもよい。
【００３５】
上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成してもよい。
【００３６】
（ガラス基板１Ｇの製造工程）
次に、図３を参照して、本実施の形態に係るガラス基板１Ｇおよび情報記録媒体１の製造方法を説明する。図３は、ガラス基板１Ｇおよび情報記録媒体１の製造方法を示すフロー図である。
【００３７】
まず、ステップ１０（以下、「Ｓ１０」と略す。ステップ１１以降も同様。）の「ガラス溶融工程」において、ガラス基板を構成するガラス素材を溶融する。
【００３８】
Ｓ１１の「プレス成形工程」において、溶融させたガラス素材を上型および下型を用いたプレスによりガラス基板を作製した。使用したガラス組成は、一般的なアルミノシリケートガラスを用いた。ガラス基板の作製方法としては成形に限らず、公知の手法である板ガラスからの切り出し等でも構わず、ガラス組成もこれに限らない。
【００３９】
Ｓ１２の「第１ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面をラッピング加工した。この第１ラップ工程は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置を用いて行なった。具体的には、ガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行なった。このラッピング加工により、おおよそ平坦な主表面を有するガラス基板を得た。
【００４０】
Ｓ１３の「コアリング工程」において、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ガラス基板の中心部に孔を形成し、円環状のガラス基板を作製した。ガラス基板の内周端面、および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を実施した。
【００４１】
Ｓ１４の「第２ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面について、上記第１ラップ工程（Ｓ１２）と同様に、ラッピング加工を行なった。この第２ラップ工程を行なうことにより、前工程のコアリングや端面加工において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができる。その結果、後工程での主表面の研磨時間を短縮することができる。
【００４２】
Ｓ１５の「外周／内周研磨工程」において、ガラス基板の外周端面および内周端面について、ブラシ研磨による鏡面研磨を行なった。このとき研磨砥粒としては、一般的な酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いた。
【００４３】
Ｓ１６の「第１ポリッシュ工程」において、主表面研磨を行なった。この第１ポリッシュ工程は、上述の第１および第２ラップ工程（Ｓ１２，Ｓ１４）において主表面に残留したキズや反りを矯正することを主目的とするものである。この第１ポリッシュ工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により主表面の研磨を行なった。研磨剤として
は、一般的な酸化セリウム砥粒を用いた。
【００４４】
Ｓ１７の「化学強化工程」において、ガラス基板１Ｇの主表面に対して表面強化層を形成した。具体的には、３００℃に加熱された硝酸カリウム（７０％）と硝酸ナトリウム（３０％）の混合溶液中に、ガラス基板１Ｇを約３０分間接触させることによって化学強化を行なった。その結果、ガラス基板の内周端面および外周端面のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、圧縮応力層が形成されることでガラス基板の主表面及び端面が強化された。
【００４５】
Ｓ１８の「第２ポリッシュ工程」において、主表面研磨工程を施した。この第２ポリッシュ工程は上述までの工程で発生、残存している主表面上の微小欠陥等を解消して鏡面状に仕上げること、反りを解消し所望の平坦度に仕上げることを目的とする。この第２ポリッシュ工程は、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により研磨を行なった。研磨剤としては、平滑面を得る為に平均粒径が約２０ｎｍのコロイダルシリカを用いた。
【００４６】
次いで、Ｓ１９の「最終洗浄工程（Final  Cleaning）」において、ガラス基板の主表面、端面の最終洗浄を実施する。これによりガラス基板上に残存する付着物を除去する。なお、最終洗浄工程は、ガラス基板の製造工程の最後に行われる工程であり、適宜乾燥工程も含むものである。
【００４７】
本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、以上のように構成される。このガラス基板の製造方法を用いることで、図１に示すガラス基板１Ｇが得られる。その後、このようにして得られたガラス基板１Ｇを用いて、図２に示す情報記録媒体１が得る。
【００４８】
また、情報記録媒体の製造における磁気薄膜層成膜工程としては、上述の工程を経て得られたガラス基板１Ｇの洗浄後に、ガラス基板１Ｇの両主表面に、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系の保護層、Ｆ系からなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録方式の情報記録媒体を製造する。この構成は垂直磁気記録方式の構成の一例であり、面内情報記録媒体として磁性層等を構成してもよい。その後、熱処理工程等を実施することで、情報記録媒体１が完成する。
【００４９】
次に、図４から図９を参照して、本実施の形態における、最終研磨工程である第２ポリッシュ工程（Ｓ１８）の、両面研磨装置から研磨後のガラス基板を取り出す工程について説明する。図４は、研磨工程に用いられる両面研磨装置の部分斜視図、図５は、第２ポリッシュ工程の内訳を示す図、図６は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具の全体構造を示す正面図、図７は、図６中のＶＩＩ−ＶＩＩ線矢視図、図８は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図、図９は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の保持状態を示す図である。
【００５０】
まず、図４を参照して、両面研磨装置２０００の概略構成について説明する。図４は、研磨工程に用いられる両面研磨装置２０００の部分斜視図である。
【００５１】
両面研磨装置２０００は、上定盤（上側砥石保持定盤）３００と、下定盤（下側砥石保持定盤）４００と、上定盤３００の下定盤４００に対向する側（ガラス基板側）の下面に装着された上側研磨パッド３１０と、下定盤４００の上定盤３００に対向する側（ガラス基板側）の上面に装着された下側研磨パッド４１０と、を備える。
【００５２】
上側研磨パッド３１０および下側研磨パッド４１０は、ガラス基板１Ｇの両主表面を研磨加工するための加工部材である。上定盤３００と下定盤４００とは、キャリア５００の公転方向に対して互いに反対方向に回転するようになっている。下定盤４００と対向する上側研磨パッド３１０の表面は、上側の研磨面３１１を形成する。上定盤３００と対向する下側研磨パッド４１０の表面は、下側の研磨面４１１を形成する。上定盤３００と下定盤４００との間に形成される隙間に、キャリア５００が配置される。ディスク状のガラス基板１は、このキャリア５００に複数枚保持される。
【００５３】
ガラス基板１Ｇは、上定盤３００と下定盤４００との間に挟まれ、上定盤３００と下定盤４００とによってガラス基板の厚み方向に応力が加えられる。これにより、ガラス基板の両主表面は、上側研磨パッド３１０の研磨面３１１および下側研磨パッド４１０の研磨面４１１に押圧される。この状態で、ガラス基板の一方の主表面に対して上側研磨パッド３１０の研磨面３１１が相対移動することにより、当該一方の主表面が研磨される。同時に、ガラス基板の他方の主表面に対して下側研磨パッド４１０の研磨面４１１が相対移動することにより、当該他方の主表面が研磨される。このようにして、両面研磨装置２０００を使用して、ガラス基板の両主表面が同時に研磨される。
【００５４】
上記両面研磨装置２０００を使用した精密研磨後、上側研磨パッド３１０の研磨面３１１および下側研磨パッド４１０の研磨面４１１に貼り付いたガラス基板１を、研磨パッドから取り出す。
【００５５】
図５を参照して、第２ポリッシュ工程Ｓ１８は、キャリア配置工程（Ｓ１８１）、ガラス基板配置工程（Ｓ１８２）、研磨工程（Ｓ１８３）、ガラス基板取出工程（Ｓ１８４）、およびキャリア取出工程（Ｓ１８５）を有している。
【００５６】
（ガラス基板取出治具１００）
図６から図９を参照して、ガラス基板取出工程Ｓ３３４に用いられるガラス基板取出治具１００の構造、および、そのガラス基板取出治具１００を用いたガラス基板取出工程（Ｓ１８４）について説明する。
【００５７】
図６から図８を参照して、このガラス基板取出治具１００は、連結軸Ｒ１を中心として回動可能に連結され、閉じる位置（図６に示す位置）と拡がる位置（図９参照）との間を開閉可能に可動する第１柄部１１０および第２柄部１２０とを有する。第１柄部１１０および第２柄部１２０の材料は、剛性を有する材料であればどのような材料でも構わない。
【００５８】
第１柄部１１０の一方の先端側には、樹脂材料等から構成される第１保持部１３０が設けられている。この第１保持部１３０は、第１柄部１１０の先端に固定される第１ベース部１３１と、この第１ベース部１３１と一体に設けられ、外側に向けて張り出す第１拡径部１３２とを有する。第１柄部１１０の他方の側には、環状のグリップ部１５０が設けられている。
【００５９】
第２柄部１２０の一方の先端側には、樹脂材料等から構成される第２保持部１４０が設けられている。この第２保持部１４０は、第２柄部１２０の先端に固定される第２ベース部１４１と、この第２ベース部１４１と一体に設けられ、上述した第１拡径部１３２とは反対方向の外側に向けて張り出す第２拡径部１４２とを有する。第２柄部１２０の他方の側には、環状のグリップ部１６０が設けられている。
【００６０】
第１ベース部１３１の外表面１３１ａは、半円筒形状を有している。第１拡径部１３２の上面は、第２拡径部１４２とは反対側の外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第１保持面１３２ａを有し、全体として半円錐形状を有している。
【００６１】
第２ベース部１４１の外表面１４１ａは、半円筒形状を有している。第２拡径部１４２の上面は、第１拡径部１３２とは反対側の外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第２保持面１４２ａを有し、全体として半円錐形状を有している。
【００６２】
本実施の形態においては、図６〜図８に示すガラス基板取出治具１００が閉じた状態においては、第１保持部１３０の第１ベース部１３１と第２保持部１４０の第２ベース部１４１とが重ね合わされることで円柱形状の外観を呈し、第１拡径部１３２と第２拡径部１４２とが重ね合わされることで円錐形状の外観を呈する。
【００６３】
次に、図９を参照して、上記構成を有するガラス基板取出治具１００を用いたガラス基板取出工程（Ｓ１８４）について説明する。
【００６４】
まず、ガラス基板取出治具１００を閉じた状態にして、ガラス基板１Ｇの孔１１に表主表面１４側から裏主表面１５側に向けてガラス基板取出治具１００を挿通する。その後、図９に示すように、ガラス基板取出治具１００をガラス基板１Ｇの半径方向の外側に開いた状態にする。
【００６５】
これにより、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに、ガラス基板１Ｇの裏主表面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１が載置された状態にする。その後、ガラス基板１Ｇをガラス基板取出治具１００を用いて上方に引き上げる。なお、本実施の形態におけるガラス基板１Ｇには、内周端面１３の表主表面１４側および裏主表面１５側にはそれぞれテーパ面としてのチャンファ面１３ａ，１３ｂが形成されている。よって、本実施の形態において、環状角部Ｐ１は、裏主表面１５側と孔１１の内周端面１３に相当するチャンファ面１３ｂとが交差する領域によって規定される。
【００６６】
これにより、環状角部Ｐ１が、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａとガラス基板１Ｇとの間に大きな圧力が加えられることなく、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａとガラス基板１Ｇとの間の接触面積を低減させた状態で、ガラス基板１Ｇの上方へ引き上げが可能になる。その結果、研磨後のスラリー等が孔１１の内周端面１３に押し付けられて内周端面１３に強固に付着することを抑制することが可能となる。
【００６７】
また、このようにして得られたガラス基板１Ｇを情報記録媒体（磁気ディスク）化した場合であっても、ガラス基板１Ｇの付着物の低減を図っていることから、記録特性の低下を招くこともない。
【００６８】
なお、上記ガラス基板取出治具１００は、保持部を、第１保持部１３０と第２保持部１４０とに２分する２分割構造を採用した場合について説明したが、２分割構造に限定されず、３分割、４分割、またはそれ以上の分割構造を採用することも可能である。
【００６９】
（変形例：ガラス基板取出治具１００Ａ）
次に、図１０を参照して、上記ガラス基板取出治具１００の変形例としてのガラス基板取出治具１００Ａについて説明する。なお、図１０は、ガラス基板取出治具１００Ａの保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。
【００７０】
上記ガラス基板取出治具１００は、ガラス基板取出治具１００が閉じた状態においては、第１保持部１３０の第１ベース部１３１と第２保持部１４０の第２ベース部１４１とが重ね合わされることで円柱形状の外観を呈し、第１拡径部１３２と第２拡径部１４２とが重ね合わされることで円錐形状の外観を呈していたが、図１０に示すガラス基板取出治具１００Ａは、ガラス基板取出治具１００の一部を矩形形状に切り出したものであり、第１保持部１３０Ａの第１ベース部１３１と第２保持部１４０Ａの第２ベース部１４１とが重ね合わされることで略矩形形状の外観を呈し、第１保持部１３０Ａの第１拡径部１３２と第２保持部１４０Ａの第２拡径部１４２とが重ね合わされることで略矩形形状の外観を呈する。
【００７１】
この形状を有するガラス基板取出治具１００Ａにおいても、図９に示したガラス基板取出治具１００を用いたガラス基板取出工程（Ｓ１８４）と同様に、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに、ガラス基板１Ｇの裏主表面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具１００Ａによっても、ガラス基板取出治具１００と同様の作用効果を得ることができる。
【００７２】
（他の変形例：ガラス基板取出治具１００Ｂ）
次に、図１１から図１３を参照して、上記ガラス基板取出治具１００の他の変形例としてのガラス基板取出治具１００Ｂについて説明する。なお、図１１は、ガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図、図１２は、ガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す部分拡大断面図、図１３は、ガラス基板取出治具１００Ｂの保持部の外観構造を示す拡大斜視図である。
【００７３】
上記ガラス基板取出治具１００は、第１拡径部１３２の第１保持面１３２ａは円錐面を有していたが、ガラス基板取出治具１００Ｂにおいて、第１保持部１３０Ｂの第１保持面１３２ｂは、下方に向けて湾曲する凹面を有している。また、第２保持部１４０Ｂの第２保持面１４２ｂも、下方に向けて湾曲する凹面を有している。その他形態は、上記ガラス基板取出治具１００と同じである。
【００７４】
この形状を有するガラス基板取出治具１００Ｂにおいても、図１３に示すように、第１保持面１３２ｂおよび第２保持面１４２ｂに、ガラス基板１Ｇの裏主表面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具１００Ｂによっても、ガラス基板取出治具１００と同様の作用効果を得ることができる。
【００７５】
なお、このガラス基板取出治具１００Ｂを図１０に示したガラス基板取出治具１００Ａと同様の外観形態に変形することも可能である。
【００７６】
（さらに他の変形例：ガラス基板取出治具１００Ｃ）
次に、図１４を参照して、上記ガラス基板取出治具１００のさらに他の変形例としてのガラス基板取出治具１００Ｃについて説明する。なお、図１４は、ガラス基板取出治具１００Ｃの保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
【００７７】
このガラス基板取出治具１００Ｃは、第１保持部１３０Ｃにおいて、第１保持面１３２ａを有する第１拡径部１３２の上側に対向する領域に、第１保持面１３２ａに対向する第３保持面１３３ａを有する第３拡径部１３３が設けられている。第３保持面１３３ａは、第２保持部１４０Ｃとは反対側の外側に向かうにしたがって上方に傾斜している。
【００７８】
同様に、第２保持部１４０Ｃにおいて、第２保持面１４２ａを有する第２拡径部１４２の上側に対向する領域に、第２保持面１４２ａに対向する第４保持面１４３ａを有する第４拡径部１４３が設けられている。第４保持面１４３ａは、第１保持部１３０Ｃとは反対側の外側に向かうにしたがって上方に傾斜している。
【００７９】
この構成を備えるガラス基板取出治具１００Ｃにおいて、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａの機能は、上記ガラス基板取出治具１００と同じである。ここで、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａのガラス基板１Ｇを載置した場合に、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａの斜面に沿って、ガラス基板１Ｇが上方に摺り動くことが考えられる。
【００８０】
この場合に、このガラス基板取出治具１００Ｃによれば、第３保持面１３３ａおよび第４保持面１４３ａが設けられていることから、第３保持面１３３ａおよび第４保持面１４３ａに、ガラス基板１Ｇの内周端面１３とチャンファ面１３ａとが交差する環状角部Ｐ２を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で当接させることができる。
【００８１】
この形状を有するガラス基板取出治具１００Ｃにおいても、図１４に示すように、ガラス基板取出治具１００の場合と同様に、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａに、ガラス基板１Ｇの裏主表面１５側と孔１１の内周端面１３とが交差する環状角部Ｐ１を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具１００Ｃによっても、ガラス基板取出治具１００と同様の作用効果を得ることができる。
【００８２】
さらに、第３保持面１３３ａおよび第４保持面１４３ａに、ガラス基板１Ｇの内周端面１３とチャンファ面１３ａとが交差する環状角部Ｐ２を、線接触（断面で見た場合には点接触）した状態で当接させることができるため、ガラス基板取出治具１００Ｃによるガラス基板１Ｇの保持時に、ガラス基板１Ｇの移動を抑制することができる。
【００８３】
なお、ガラス基板取出治具１００Ｃにおいても、ガラス基板取出治具１００Ｂおよびガラス基板取出治具１００Ｃと同様の変形を適用することが可能である。
【００８４】
（さらに他の変形例：ガラス基板取出治具１００Ｄ）
次に、図１５を参照して、上記ガラス基板取出治具１００のさらに他の変形例としてのガラス基板取出治具１００Ｄについて説明する。なお、図１５は、ガラス基板取出治具１００Ｄの保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
【００８５】
このガラス基板取出治具１００Ｄは、上記ガラス基板取出治具１００Ｃの構成と対比した場合、第１保持部１３０Ｄにおいて、第１保持面１３２ａと第３保持面１３３ａとが直接交差し、断面視において略Ｖ字形状の保持面を形成している。同様に、第２保持部１４０Ｄにおいて、第２保持面１４２ａと第４保持面１４３ａとが直接交差し、断面視において略Ｖ字形状の保持面を形成している。
【００８６】
この構成を備えるガラス基板取出治具１００Ｄによれば、上記ガラス基板取出治具１００Ｃと同様の作用効果を得ることができる。また、ガラス基板取出治具１００Ｄにおいても、ガラス基板取出治具１００Ｂおよびガラス基板取出治具１００Ｃと同様の変形を適用することが可能である。
【００８７】
（実施の形態２：ガラス基板取出治具１００Ｅ）
次に、図１６および図１７を参照して、実施の形態２におけるガラス基板取出治具１００Ｅについて説明する。なお、上記実施の形態１におけるガラス基板取出治具１００から１００Ｄとは、第１保持部１３０Ｅおよび第２保持部１４０Ｅの構造のみが相違し、他の構成は同じであるため、ここでは、第１保持部１３０Ｅおよび第２保持部１４０Ｅの構造について詳細に説明する。図１６は、ガラス基板取出治具１００Ｅの保持部の外観構造を示す拡大斜視図、図１７は、ガラス基板取出治具１００Ｅの保持部におけるガラス基板の保持状態を示す平面模式図である。
【００８８】
図１６を参照して、このガラス基板取出治具１００Ｅは、図１０に示したガラス基板取出治具１００Ａと近似する構造を有しているが、第１保持部１３０Ｅの第１ベース部１３１ｅ外面、および第１拡径部１３２ｅの第１保持面１３２ｆが、平坦面形状を有している。同様に、第２保持部１４０Ｅの第２ベース部１４１ｅ外面、および第２拡径部１４２ｅの第２保持面１４２ｆも平坦面形状を有している。
【００８９】
その結果、図１７に示すように、このガラス基板取出治具１００Ｅを用いてガラス基板１Ｇを保持した場合には、第１保持面１３２ｆおよび第２保持面１４２ｆと、環状角部Ｐ１との接触箇所は、それぞれ２箇所の点接触状態で、第１保持面１３２ｆおよび第２保持面１４２ｆによりガラス基板１Ｇを保持することとなる。
【００９０】
これにより、第１保持面１３２ａおよび第２保持面１４２ａとガラス基板１Ｇとの間の接触面積をさらに低減させた状態で、ガラス基板１Ｇの上方へ引き上げが可能になる。その結果、研磨後のスラリー等が孔１１の内周端面１３に押し付けられて内周端面１３に強固に付着することをさらに抑制することが可能となる。
【００９１】
なお、上記ガラス基板取出治具１００Ｅは、保持部を、第１保持部１３０Ｅと第２保持部１４０Ｅとに２分する２分割構造を採用した場合について説明したが、２分割構造に限定されず、３分割、４分割、またはそれ以上の分割構造を採用することも可能である。
【００９２】
また、上述したガラス基板取出治具１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄに適用した変形例をこのガラス基板取出治具１００Ｅに適用することも可能である。
【００９３】
（実施の形態３：ガラス基板取出治具１００Ｆ）
次に、図１８から図２０を参照して、実施の形態３におけるガラス基板取出治具１００Ｆについて説明する。なお、本実施の形態におけるガラス基板取出治具１００Ｆは、第１保持部および第２保持部に、ガラス基板１Ｇの半径方向外方に向けて洗浄液を噴出することができる構成を採用したものであり、ガラス基板取出治具自体の構成は、上記ガラス基板取出治具１００、１００Ａ〜１００Ｅと同じである。
【００９４】
ここでは図１５に示した、ガラス基板取出治具１００Ｄに、洗浄液を噴出することができる構成を適用した場合について以下説明するが、上述した他のすべてのガラス基板取出治具１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｅに、以下に説明する洗浄液を噴出することができる構成を適用することが可能である。
【００９５】
図１８は、ガラス基板取出治具１００Ｆの構造を示す断面図、図１９は、ガラス基板取出治具１００Ｆを用いたガラス基板１Ｇの内周端面の洗浄状態を示す断面図、図２０は、ガラス基板取出治具１００Ｆを用いたガラス基板の保持状態を示す断面図である。
【００９６】
図１８を参照して、このガラス基板取出治具１００Ｆの基本構造は、図１５に示すガラス基板取出治具１００Ｄと同じであり、さらに、洗浄液噴出機構２００が付加されている。この洗浄液噴出機構２００は、第１柄部１１０の内部に配置される第１管路２１０と、第１保持部１３０Ｄの内部において、一端が第１管路２１０に連結し、他端が第１保持面１３２ａおよび第３保持面１３３ａに露出し、洗浄液噴出口を構成する複数の噴出管路２２０とを有している。
【００９７】
同様に、第２柄部１２０の内部に配置される第１管路２１０と、第２保持部１４０Ｄの内部において、一端が第１管路２１０に連結し、他端が第２保持面１４２ａおよび第４保持面１４３ａに露出し、洗浄液噴出口を構成する複数の噴出管路２２０とを有している。
【００９８】
本実施の形態においては、噴出管路２２０は、第１保持部１３０Ｄおよび第２保持部１４０Ｄの内部において、ガラス基板１Ｇの内周端面に洗浄液が集中するように、噴出管路２２０には、それぞれ所定の角度傾斜するように設けられている。
【００９９】
第１管路２１０の他端側には、第１管路２１０および噴出管路２２０に洗浄液を供給するための洗浄液供給装置２３０が連結されている。
【０１００】
次に、図１９および図２０を参照して、上記構成を有するガラス基板取出治具１００Ｆを用いたガラス基板取出工程（Ｓ１８４：図５参照）について説明する。
【０１０１】
図１９を参照して、ガラス基板取出治具１００Ｆを閉じた状態にして、ガラス基板１Ｇの孔１１に表主表面１４側から裏主表面１５側に向けてガラス基板取出治具１００Ｅを挿通する。次に、洗浄液供給装置２３０を駆動させて、第１管路２１０および噴出管路２２０に洗浄液を供給する。洗浄液としては、たとえば、研磨工程Ｓ１８３（図５参照）で用いたコロイダルシリカ研磨材を分散するポリカルボン酸を２％に希釈したものをガラス基板１Ｇの内周端面１３に５秒間程度噴射する。
【０１０２】
図２０を参照して、ガラス基板取出治具１００Ｅをガラス基板１Ｇの半径方向の外側に開いた状態にする。
【０１０３】
これにより、ガラス基板取出工程（Ｓ１８４）において、ガラス基板１Ｇの内周端面１３の洗浄を行なった後に、図１５に示したガラス基板取出治具１００Ｄと同様にして、ガラス基板１Ｇの取り出し（図２０中の矢印Ｄ方向）を行なうことができる。
【０１０４】
（実施の形態４：ガラス基板取出治具１００Ｇ）
次に、図２１を参照して、実施の形態４におけるガラス基板取出治具１００Ｇについて説明する。なお、図２１は、ガラス基板取出治具１００Ｇの構造を示す断面図である。ガラス基板取出治具１００Ｇの基本構成は、上記ガラス基板取出治具１００Ｆと同じである。相違点は、洗浄液噴出機構２００に、超音波印加装置２４０が付加されている。
【０１０５】
洗浄液供給装置２３０を駆動させて、第１管路２１０および噴出管路２２０に洗浄液を供給する際に、超音波印加装置２４０を用いて、洗浄液に１ＭＨｚの超音波を印加する。これにより、上記ガラス基板取出治具１００Ｆを用いたガラス基板１Ｇの内周端面１３の洗浄効率を高めることが可能になる。
【０１０６】
（品質評価）
上記実施の形態１に開示したガラス基板取出治具１００、実施の形態２に開示したガラス基板取出治具１００Ｅ、実施の形態３に開示した１００Ｆ、および実施の形態４に開示したガラス基板取出治具１００Ｇを用いて製造されたガラス基板１Ｇに対して、面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上の磁性膜を成膜して情報記録媒体（メディア）でのリード・アンド・ライト試験（エラー発生率（ｎ＝１００））を行なった。試験結果の評価を図２２に示す。
【０１０７】
実施の形態１により製造されたガラス基板１Ｇを用いた情報記録媒体（メディア）での試験結果は、エラーの発生率は１％であり、評価は、使用可能なレベルである「Ｂ」であった。
【０１０８】
実施の形態２により製造されたガラス基板１Ｇを用いた情報記録媒体（メディア）での試験結果は、エラーの発生率は０．７％であり、評価は、使用可能なレベルである「Ｂ」であった。
【０１０９】
実施の形態３により製造されたガラス基板１Ｇを用いた情報記録媒体（メディア）での試験結果は、エラーの発生率は０．５％であり、評価は、十分使用可能なレベルである「Ａ」であった。
【０１１０】
実施の形態４により製造されたガラス基板１Ｇを用いた情報記録媒体（メディア）での試験結果は、エラーの発生率は０．１％であり、評価は、十分使用可能なレベルである「Ａ」であった。
【０１１１】
なお、比較例では、ガラス基板１Ｇの内周端面１３に治具を面接触させ、摩擦力に基づき、ガラス基板１Ｇを取出したガラス基板１Ｇを用いた。その結果、このガラス基板１Ｇを用いた情報記録媒体（メディア）での試験結果は、エラーの発生率は２％と高く、評価は、実用途には適さないレベルである「Ｃ」であった。
【０１１２】
以上、各実施の形態における評価結果は、比較例に対して良好な結果となった。これは、比較例は、ガラス基板１Ｇの内周端面１３にガラス基板取出治具を面接触させて摩擦力でガラス基板１Ｇを保持するが、その際に面接触部の付着物がより強固な形態へと変化したため、評価結果が「Ｃ」となっている。
【０１１３】
一方、各実施の形態におけるガラス基板取出治具は、ガラス基板１Ｇの内周端面１３にガラス基板取出治具を面接触させることなく、線接触または点接触により、ガラス基板を下方から保持するようにして、ガラス基板の取り出しを行なっている。これにより、内周端面への付着物が孔１１の内周端面１３に押し付けられることがなくなり、内周端面１３への付着物の付着を抑制することをとしている。なお、実施の形態１（線接触）に比べて、実施の形態２（点接触）の方は、内周端面１３への接触部分がすくなくなるため、その分、品質評価も向上している。
【０１１４】
また、実施の形態２（点接触）に比べて、実施の形態３（点接触＋洗浄）の方は、内周端面１３への接触部分が少なくなるとともに、洗浄を行なっていることから、品質評価もさらに向上している。さらに、実施の形態３（点接触＋洗浄）に比べて、実施の形態４（点接触＋超音波洗浄）の方は、内周端面１３への接触部分が少なくなるとともに、超音波洗浄を行なっていることから、品質評価もより向上している。
【０１１５】
なお、上記実施の形態においては、両面研磨装置を用いた場合について説明しているが、両面研磨装置に限定されるもものではない。
【０１１６】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【０１１７】
１  磁気ディスク、１Ｇ  ガラス基板、１１  孔、１２  外周端面、１３  内周端面、１３ａ，１３ｂ  チャンファ面、１４  表主表面、１５  裏主表面、２３  磁気薄膜層、１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ，１００Ｅ，１００Ｆ，１００Ｇ  ガラス基板取出治具、１１０  第１柄部、１２０  第２柄部、１３０，１３０Ａ，１３０Ｂ，１３０Ｃ，１３０Ｄ，１３０Ｅ  第１保持部、１３１  第１ベース部、１３１ａ，１４１ａ  外表面、１３１ｅ  第１ベース部、１３２  第１拡径部、１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｆ  第１保持面、１３２ｅ  第１拡径部、１３３  第３拡径部、１３３ａ  第３保持面、１４０，１４０Ａ，１４０Ｂ，１４０Ｃ，１４０Ｄ，１４０Ｅ  第２保持部、１４１，１４１ｅ  第２ベース部、１４２  第２拡径部、１４２ａ，１４２ｆ  第２保持面、１４２ｅ  第２拡径部、１４３  第４拡径部、１４３ａ  第４保持面、１５０，１６０  グリップ部、２００  洗浄液噴出機構、２１０  第１管路、２２０  噴出管路、２３０  洗浄液供給装置、２４０  超音波印加装置、３００  上定盤（上側砥石保持定盤）、３１０  上側研磨パッド、３１１  研磨面、４００  下定盤（下側砥石保持定盤）、４１０  下側研磨パッド、４１１  研磨面、５００  キャリア、２０００  両面研磨装置、Ｒ１  連結軸、Ｐ１，Ｐ２  環状角部。
【図１】
2014063543.tif 000003
【図２】
2014063543.tif 000004
【図３】
2014063543.tif 000005
【図４】
2014063543.tif 000006
【図５】
2014063543.tif 000007
【図６】
2014063543.tif 000008
【図７】
2014063543.tif 000009
【図８】
2014063543.tif 000010
【図９】
2014063543.tif 000011
【図１０】
2014063543.tif 000012
【図１１】
2014063543.tif 000013
【図１２】
2014063543.tif 000014
【図１３】
2014063543.tif 000015
【図１４】
2014063543.tif 000016
【図１５】
2014063543.tif 000017
【図１６】
2014063543.tif 000018
【図１７】
2014063543.tif 000019
【図１８】
2014063543.tif 000020
【図１９】
2014063543.tif 000021
【図２０】
2014063543.tif 000022
【図２１】
2014063543.tif 000023
【図２２】
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