(57)【要約】【課題】トータルの処理時間を短縮することができるショット処理装置を得る。【解決手段】ロータリー１４の天井部１４Ｕに設けられた自転軸部材４６は、被処理対象物Ｗを処理室Ｒ１内に吊り下げ支持し、ロータリー１４が回転駆動機構６０によって装置上下方向の軸線の周りに回転することで公転すると共に、投射エリア４０Ｂで自転可能となっている。また、ロータリー１４は、回転駆動機構６０によって投射エリア４０Ｂの三つの位置を被処理対象物Ｗの公転停止位置として一次停止する。さらに、処理室Ｒ１は、ロータリー１４の周方向に三室並設されており、被処理対象物Ｗに投射がなされる公転停止位置でロータリー１４が一次停止した場合に処理室Ｒ１のうちの一室が搬入エリア４０Ａに配置されると共に処理室Ｒ１のうちの他の一室は搬出エリア４０Ｃに配置される。【選択図】図３
2014176903.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、前記処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、前記被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されているロータリーと、
前記処理室における前記開口部を通して前記処理室の内部に投射材を投射する投射機と、
前記ロータリーの天井部に設けられ、前記被処理対象物を前記処理室内に吊り下げ支持する共に前記被処理対象物が前記投射機により投射される投射エリアで自転可能な吊下支持部と、
前記ロータリーを前記軸線の周りに回転させることで前記吊下支持部を公転させると共に、前記投射エリアの複数位置を前記被処理対象物の公転停止位置として前記ロータリーを一次停止させる回転駆動機構と、
を有するショット処理装置。
【請求項２】
前記投射エリアにおける前記被処理対象物の公転停止位置は、
装置平面視で前記吊下支持部の自転軸心が前記投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、
前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向上流側の位置である第一位置と、
前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向下流側の位置である第三位置と、
に設定されている、請求項１記載のショット処理装置。
【請求項３】
前記被処理対象物を前記吊下支持部に吊り下げ支持させるための搬入エリアと、
前記被処理対象物を前記吊下支持部から降ろすための搬出エリアと、
が設けられると共に、
前記処理室が前記ロータリーの周方向に三室以上並設されており、前記被処理対象物の公転停止位置で前記ロータリーを一次停止させた場合に前記処理室のうちの少なくとも一室が前記搬入エリアに配置されると共に前記処理室のうちの他の少なくとも一室は前記搬出エリアに配置されるように設定されている、請求項１又は請求項２に記載のショット処理装置。
【請求項４】
前記投射機は、
前記ロータリーの上部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定された第一投射機と、
前記ロータリーの下部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されると共に、投射材の単位時間当たりの投射量が前記第一投射機に比べて多量に設定された第二投射機と、
を備えている、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のショット処理装置。
【請求項５】
前記第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、前記第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも前記吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている、請求項４記載のショット処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ロータリーによって被処理対象物を回転変位させると共に当該被処理対象物に対して投射材を投射するショット処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ショット処理装置においては、ハンガーに掛け止めされた被処理対象物に投射機で投射材を投射すると共に、ハンガーが公転しながら投射エリアで自転する構成の装置がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−７６１５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような装置で被処理対象物を全面に亘って精度良くショット処理するにはある程度の時間を要するため、トータルの処理時間を短縮する点で改善の余地がある。
【０００５】
本発明は、上記事実を考慮して、トータルの処理時間を短縮することができるショット処理装置を得ることが目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載する本発明のショット処理装置は、装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、前記処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、前記被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されているロータリーと、前記処理室における前記開口部を通して前記処理室の内部に投射材を投射する投射機と、前記ロータリーの天井部に設けられ、前記被処理対象物を前記処理室内に吊り下げ支持する共に前記被処理対象物が前記投射機により投射される投射エリアで自転可能な吊下支持部と、前記ロータリーを前記軸線の周りに回転させることで前記吊下支持部を公転させると共に、前記投射エリアの複数位置を前記被処理対象物の公転停止位置として前記ロータリーを一次停止させる回転駆動機構と、を有する。
【０００７】
請求項１に記載する本発明のショット処理装置によれば、ロータリーは、装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されている。これに対して、投射機は、処理室における開口部を通して処理室の内部に投射材を投射する。また、吊下支持部は、ロータリーの天井部に設けられて被処理対象物を処理室内に吊り下げ支持する共に、被処理対象物が投射機により投射される投射エリアで自転可能となっている。このため、被処理対象物が全周に亘って投射される。また、回転駆動機構は、ロータリーを装置上下方向の軸線の周りに回転させることで吊下支持部を公転させると共に、投射エリアの複数位置を被処理対象物の公転停止位置としてロータリーを一次停止させる。このため、被処理対象物は、複数の公転停止位置で投射材の当たり方が相対的に変えられるので、より均一に精度良く投射される。
【０００８】
請求項２に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１記載の構成において、前記投射エリアにおける前記被処理対象物の公転停止位置は、装置平面視で前記吊下支持部の自転軸心が前記投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。
【０００９】
請求項２に記載する本発明のショット処理装置によれば、投射エリアに入った被処理対象物は、第一位置、第二位置、及び第三位置の順で公転停止されて、それぞれの位置で自転しながら投射される。ここで、第二位置は、装置平面視で吊下支持部の自転軸心が投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となっており、第一位置は、第二位置に対してロータリーの回転方向上流側の位置であり、第三位置は、第二位置に対してロータリーの回転方向下流側の位置である。このため、被処理対象物は、投射材が効率良く当たる第二位置とその前後の第一、第三位置で、効率的にかつ均一に投射される。
【００１０】
請求項３に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１又は請求項２に記載の構成において、前記被処理対象物を前記吊下支持部に吊り下げ支持させるための搬入エリアと、前記被処理対象物を前記吊下支持部から降ろすための搬出エリアと、が設けられると共に、前記処理室が前記ロータリーの周方向に三室以上並設されており、前記被処理対象物の公転停止位置で前記ロータリーを一次停止させた場合に前記処理室のうちの少なくとも一室が前記搬入エリアに配置されると共に前記処理室のうちの他の少なくとも一室は前記搬出エリアに配置されるように設定されている。
【００１１】
請求項３に記載する本発明のショット処理装置によれば、搬入エリアは、被処理対象物を吊下支持部に吊り下げ支持させるためのエリアとなっており、搬出エリアは、被処理対象物を吊下支持部から降ろすためのエリアとなっている。そして、処理室がロータリーの周方向に三室以上並設されており、被処理対象物の公転停止位置でロータリーを一次停止させた場合に処理室のうちの少なくとも一室が搬入エリアに配置されると共に処理室のうちの他の少なくとも一室は搬出エリアに配置される。このため、投射エリアで被処理対象物に投射がなされている間に、搬入エリアで被処理対象物を吊下支持部に吊り下げ支持させると同時に、搬出エリアで被処理対象物を吊下支持部から降ろすことができる。このように、投射中に搬出と搬入とを同時に別々のエリアで行うことができるので、例えば、１箇所のエリアで搬出及び搬入を行うような構成に比べて、搬入出に要する時間が短縮される。
【００１２】
請求項４に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の構成において、前記投射機は、前記ロータリーの上部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定された第一投射機と、前記ロータリーの下部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されると共に、投射材の単位時間当たりの投射量が前記第一投射機に比べて多量に設定された第二投射機と、を備えている。
【００１３】
請求項４に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機は、ロータリーの上部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機は、ロータリーの下部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。このように、被処理対象物に対して、斜め上方側と斜め下方側との両方から投射材が投射されることで、被処理対象物の全面に効率良く投射される。また、第二投射機は、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機に比べて多量に設定されているので、斜め上向き投射によって投射材が減速しても、第一投射機の斜め下向き投射によるショット処理と同程度のショット処理がなされる。
【００１４】
請求項５に記載する本発明のショット処理装置は、請求項４記載の構成において、前記第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、前記第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも前記吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。
【００１５】
請求項５に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されているので、第一投射機から投射された投射材と第二投射機から投射された投射材とが被処理対象物に達する前に互いに干渉してしまうという不具合が抑えられる。このため、投射効率が向上する。
【発明の効果】
【００１６】
以上説明したように、本発明に係るショット処理装置によれば、トータルの処理時間を短縮することができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す左側面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。
【図４】投射エリアにおける被処理対象物の公転停止位置を示す模式的な平面図である。図４（Ａ）は第一位置を示し、図４（Ｂ）は第二位置を示し、図４（Ｃ）は第三位置を示している。
【図５】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置の制御等を説明するための装置平面視の概略構成図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置のロータリー及びその周辺部の概略構成を示す模式的な斜視図である。
【図７】本発明の第２の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。
【図８】本発明の第２の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す右側面図である。
【図９】本発明の第２の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態における処理室の構成を示す平面視の断面図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態の変形例の構成を示す平面図である。図１１（Ａ）は第１の変形例、図１１（Ｂ）は第２の変形例、図１１（Ｃ）は第３の変形例、図１１（Ｄ）は第４の変形例、図１１（Ｅ）は第５の変形例、図１１（Ｆ）は第６の変形例をそれぞれ示す。
【図１２】本発明の第３の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。
【図１３】本発明の第３の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す右側面図である。
【図１４】本発明の第３の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。
【図１５】本発明の第４の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。
【図１６】本発明の第４の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す右側面図である。
【図１７】本発明の第４の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
［第１実施形態］
本発明の第１の実施形態に係るショット処理装置としてのロータリーハンガー式のショットブラスト装置１０について図１〜図６を用いて説明する。なお、これらの図において適宜示される矢印ＦＲは図１の装置正面視の手前側を示しており、矢印ＵＰは装置上方側を示しており、矢印ＬＨは図１の装置正面視の左側を示している。また、矢印Ｘは被処理対象物Ｗの搬送方向を示している。
【００１９】
図１には、本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置１０の全体構成が正面図にて示され、図２には、ショットブラスト装置１０の全体構成が左側面図にて示され、図３には、ショットブラスト装置１０の全体構成が平面図にて示されている。
【００２０】
本実施形態に係るショットブラスト装置１０は、例えば、鍛造品のスケール落とし等に適用される装置である。被処理対象物Ｗには、鍛造品、プレス品、溶接構造物、及び熱処理部品（例えば、ギア等）等、より具体的には一例として自動車関連部品が適用される。
【００２１】
図１〜図３に示されるように、ショットブラスト装置１０は、キャビネット１２を備えている。キャビネット１２は、中空の略七角柱状に形成されている。また、図３に示されるように、キャビネット１２には、被処理対象物Ｗを搬入する（矢印Ａ方向参照）ための搬入口１２Ａ、及び被処理対象物Ｗを搬出する（矢印Ｂ方向参照）ための搬出口１２Ｂが形成されている。
【００２２】
キャビネット１２の内部における中央部には、略円筒状のロータリー１４が配置されている。ロータリー１４は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構６０に接続されている。
【００２３】
図６には、ロータリー１４及びその周辺部の概略構成が模式的な斜視図にて示されている。図６に示されるように、ロータリー１４は、天板部材１５Ａと底板部材１５Ｂとが複数の柱部材１５Ｃ、１５Ｄ、１５Ｅによって装置上下方向に連結されている。また、複数の柱部材１５Ｃ、１５Ｄ、１５Ｅは、ロータリー１４の回転中心の周りに配置されている。すなわち、外周側に開放された屈曲板状の柱部材１５Ｃが周方向に間隔を開けて三本配置されると共に、隣り合う柱部材１５Ｃの内周側のコーナ部同士が連結用の柱部材１５Ｄにより連結され、さらに、隣り合う柱部材１５Ｃの外周側の端部同士が外壁用の柱部材１５Ｅにより連結されている。
【００２４】
柱部材１５Ｅは、装置平面視で公転軸部６２の軸心を円弧中心とした外周壁１４Ｗを備えている。そして、外周壁１４Ｗは、ロータリー１４の回転中心となる装置上下方向の軸線の周りの空間を取り囲む位置に配置されている。また、外周壁１４Ｗの内側の空間には、仕切部１６（前述した屈曲板状の柱部材１５Ｃ（仕切部材）で構成された部位）に仕切られることで複数（本実施形態では三室）の処理室Ｒ１が周方向に並設されている。処理室Ｒ１は、被処理対象物Ｗの搬入出及び投射材の投射をなすための部屋となっている。これらの処理室Ｒ１には、外周側に向けて開口した開口部１４Ａが、前述した屈曲板状の柱部材１５Ｃ、天板部材１５Ａ、及び底板部材１５Ｂによって形成されている。開口部１４Ａは、被処理対象物Ｗの搬入用、被処理対象物Ｗの搬出用、及び投射材の通過用となる。なお、前述の説明及び図６から明らかなように、仕切部１６は、ロータリー１４における天井部１４Ｕの下方側に設けられているが、図３では、図を見易くするために、仕切部１６を隠れ線ではなく実線で図示している。
【００２５】
ここで、処理室Ｒ１について補足説明すると、図６に示される処理室Ｒ１は、キャビネット１２の内部空間に配置され、ロータリー１４の回転変位によって、搬入室１８、投射室２０、及び搬出室２２のいずれにもなり得る部屋である。ここで、搬入室１８は、ショットブラスト装置１０の搬入エリア４０Ａに配置されて被処理対象物Ｗの搬入を行うための部屋であり、投射室２０は、ショットブラスト装置１０の投射エリア４０Ｂに配置されて被処理対象物Ｗへの投射材の投射によって被処理対象物Ｗの表面加工をなす部屋であり、搬出室２２は、ショットブラスト装置１０の搬出エリア４０Ｃに配置されて被処理対象物Ｗの搬出を行うための部屋である。換言すれば、例えば、当初は搬入室１８であった処理室Ｒ１は、ロータリー１４がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、投射室２０になり、さらに、ロータリー１４がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、搬出室２２になる。
【００２６】
なお、搬入エリア４０Ａは、被処理対象物Ｗを後述する吊下支持部としての自転軸部材４６に吊り下げ支持させるためのエリアである。また、搬出エリア４０Ｃは、被処理対象物Ｗを自転軸部材４６から降ろすためのエリアである。
【００２７】
一方、ロータリー１４の上部の側方には第一投射機３０Ａが配置されており、この第一投射機３０Ａは、キャビネット１２の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー１４の下部の側方には第二投射機３０Ｂが配置されており、この第二投射機３０Ｂは、キャビネット１２の側壁の下部側に取り付けられている。また、本実施形態では、第一投射機３０Ａが取り付けられる取付面と第二投射機３０Ｂが取り付けられる取付面とは、隣り合った異なる面に設定されている。なお、図１に示される第一投射機３０Ａが取り付けられる取付部１２Ｄ及び第二投射機３０Ｂが取り付けられる取付部１２Ｅは、点検時に開閉可能な点検扉を兼ねている。
【００２８】
第一投射機３０Ａ及び第二投射機３０Ｂは、羽根車（インペラ）の回転により投射材（ショット、本実施形態では一例として鋼球）に遠心力を付与することが可能な遠心式投射機とされている。そして、図６に示されるように、第一投射機３０Ａ及び第二投射機３０Ｂは、遠心力で加速させた投射材を処理室Ｒ１における開口部１４Ａを通して処理室Ｒ１の内部に投射するようになっている。
【００２９】
第一投射機３０Ａは、投射材の投射方向の中心線Ｌ１が処理室Ｒ１の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機３０Ｂは、投射材の投射方向の中心線Ｌ２が処理室Ｒ１の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、第一投射機３０Ａにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ１と、第二投射機３０Ｂにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ２とが、自転軸部材４６の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。なお、図中では、第一、第二投射機３０Ａ、３０Ｂからの投射軌跡の範囲が中心線Ｌ１、Ｌ２を挟む二点鎖線で示されている。
【００３０】
さらに、第二投射機３０Ｂは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機３０Ａに比べて多量になるように設定されている。本実施形態では、一例として、上側の第一投射機３０Ａにおける投射材の単位時間当たりの投射量が３００ｋｇ／ｍｉｎ、下側の第二投射機３０Ｂにおける投射材の単位時間当たりの投射量が４００ｋｇ／ｍｉｎに設定されている。なお、この投射材の単位時間当たりの投射量の調整については後述する。
【００３１】
一方、処理室Ｒ１内に投射された投射材を装置下方側へ落下させるために、処理室Ｒ１の底床部１４Ｚには複数の孔部１４Ｚ１が形成されている。また、図６では図示を省略しているが、図３に示されるように、外周壁１４Ｗの外側には取付板を介してシール部材４２が取り付けられている。シール部材４２は、ゴム製とされて外周壁１４Ｗの上下方向の全長に亘って設けられると共に装置平面視で周方向に沿って複数配置されており、外周壁１４Ｗとキャビネット１２の内周面との間をシールしている。さらに、ロータリー１４の外周側に対向するキャビネット１２の内周側には、円柱状の丸棒（図示省略）が装置上下方向を軸方向として取り付けられている。前記丸棒は、キャビネット１２の内周の周方向に沿って複数配置されており、キャビネット１２の内周に沿って流れようとする投射材の進行を阻止して落下させるようになっている。
【００３２】
図１に示されるように、第一投射機３０Ａには、導入筒２８Ａを介して投射材供給用の導入管２６Ａの下端が連結され、導入管２６Ａの上端には投射材の流量を調整するための流量調整装置２４Ａが設けられている。同様に、第二投射機３０Ｂには、導入筒２８Ｂを介して投射材供給用の導入管２６Ｂの下端が連結され、導入管２６Ｂの上端には投射材の流量を調整するための流量調整装置２４Ｂが設けられている。
【００３３】
流量調整装置２４Ａ、２４Ｂは、開閉ゲートを備えており、この開閉ゲートの開度は調整可能とされている。そして、本実施形態では、流量調整装置２４Ａ、２４Ｂの開閉ゲートを開く場合には、流量調整装置２４Ａの開閉ゲートのゲート開度よりも流量調整装置２４Ｂの開閉ゲートのゲート開度のほうが大きくなるように設定されている。これにより、第二投射機３０Ｂによる投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機３０Ａによる投射材の単位時間当たりの投射量に比べて多量に設定される。図５に示されるように、流量調整装置２４Ａ、２４Ｂは、制御部３８に接続されており、開閉ゲートの作動（開閉及び開閉量の調整）が制御部３８によって制御されている。
【００３４】
また、図１に示されるように、第一投射機３０Ａは、導入筒２８Ａ、導入管２６Ａ、及び流量調整装置２４Ａを介して循環装置３４に連結され、第二投射機３０Ｂは、導入筒２８Ｂ、導入管２６Ｂ、及び流量調整装置２４Ｂを介して循環装置３４に連結されている。循環装置３４は、第一投射機３０Ａ及び第二投射機３０Ｂによって投射された投射材を搬送して第一投射機３０Ａ及び第二投射機３０Ｂへ循環させるための装置である。
【００３５】
循環装置３４は、キャビネット１２の下部にスクリュウコンベヤ３４Ａを備えている。スクリュウコンベヤ３４Ａは、水平に配置されて装置左右方向を長手方向としており、投射室２０（図６参照）から落下する投射材を回収して当該投射材をスクリュウコンベヤ３４Ａの長手方向に沿った所定方向（本実施形態では装置右側）へ向けて搬送するようになっている。スクリュウコンベヤ３４Ａの搬送方向下流側（図１の装置右側）には、装置上下方向に延びるバケットエレベータ３４Ｂの下端部側が配置されている。
【００３６】
図２に示されるように、バケットエレベータ３４Ｂは、公知構造であるため詳細説明を省略するが、ショットブラスト装置１０の上部及び下部に配置されたプーリ３４Ｂ１に無端ベルト３４Ｂ２が巻き掛けられると共に、無端ベルト３４Ｂ２に多数のバケット３４Ｂ３が取り付けられている。またプーリ３４Ｂ１は駆動用モータ３４Ｃ（図１参照）に接続されて回転駆動可能とされている。これにより、バケットエレベータ３４Ｂは、スクリュウコンベヤ３４Ａで回収した投射材をバケット３４Ｂ３で掬い上げると共に、プーリ３４Ｂ１を駆動用モータ３４Ｃ（図１参照）で回転させることによって、バケット３４Ｂ３内の投射材をキャビネット１２の上方側へ向けて搬送するようになっている。
【００３７】
バケットエレベータ３４Ｂの上部は、シュート３４Ｄを介してスクリュウコンベヤ３４Ｅに接続されている。なお、図１に示される装置右側の架台３６は、バケットエレベータ３４Ｂの上部及びスクリュウコンベヤ３４Ｅの点検を行う際に作業者の足場となる台である。図１に示されるように、スクリュウコンベヤ３４Ｅは、水平に配置されて装置左右方向を長手方向としており、バケットエレベータ３４Ｂの上部からシュート３４Ｄを介して投入された投射材をスクリュウコンベヤ３４Ｅの長手方向に沿った所定方向（本実施形態では装置左側）へ搬送するようになっている。
【００３８】
スクリュウコンベヤ３４Ｅの長手方向中間部の下方側には、スクリュウコンベヤ３４Ｅからの投射材が流通可能な位置に投射材タンク３４Ｆ、３４Ｇが設けられている。投射材タンク３４Ｆ、３４Ｇは、スクリュウコンベヤ３４Ｅで搬送された投射材を流量調整装置２４Ａ、２４Ｂへ供給するためのタンクであり、投射材タンク３４Ｆは流量調整装置２４Ａの上方側に配置され、投射材タンク３４Ｇは流量調整装置２４Ｂの上方側に配置されている。
【００３９】
一方、スクリュウコンベヤ３４Ｅの搬送方向下流側の端部には、オーバーフローパイプ３４Ｈの上端部が設けられている。また、オーバーフローパイプ３４Ｈの下端部には、風選式のセパレータ３４Ｉが取り付けられている。セパレータ３４Ｉは、流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物を分級するようになっている。
【００４０】
セパレータ３４Ｉの側面部には、セパレータ３４Ｉに連通するセトリングチャンバ３４Ｊが取り付けられている。セトリングチャンバ３４Ｊは、ダクト３４Ｋを介して図示しない集塵機に接続されると共に、セトリングチャンバ３４Ｊの内部（セパレータ３４Ｉ側とダクト３４Ｋ側と間）の通路にチャンバ上壁側から垂れ下がる案内板３４Ｊ１を備えている。これにより、セトリングチャンバ３４Ｊは、前記集塵機の吸入手段（ブロワ）の吸入力で吸入された空気へ案内板３４Ｊ１によって迂回流を生じさせると共に、吸入されたエア中の粒子（異物）を前記迂回流によって分離するようになっている。
【００４１】
ダクト３４Ｋは、微粉を含むエアを流通させるようになっており、ダクト３４Ｋに連結された前記集塵機は、微粉を含むエアを濾過してエアのみを大気中へ排気すると共に、微粉を前記集塵機の下方側の微粉受箱（図示省略）に堆積させるようになっている。
【００４２】
セトリングチャンバ３４Ｊの下部は、傾斜篩３４Ｌに連通しており、セトリングチャンバ３４Ｊで前記異物から分離された粗粉が傾斜篩３４Ｌで篩い分けられる（分級される）ようになっている。また、傾斜篩３４Ｌは、投射材戻りシュート３４Ｍを介してキャビネット１２の内部（スクリュウコンベヤ３４Ａの上流側近傍）に連通している。傾斜篩３４Ｌで篩い分けられて使用可能な投射材は、投射材戻りシュート３４Ｍを通ってキャビネット１２の内部に戻り、循環使用されるようになっている。
【００４３】
また、セトリングチャンバ３４Ｊの下部は微粉排出シュート３４Ｎに連通し、微粉排出シュート３４Ｎの下方側には、微粉受け箱３４Ｐが配置されている。これにより、セトリングチャンバ３４Ｊにて分離された微粉が微粉排出シュート３４Ｎを通って微粉受け箱３４Ｐへ排出されるようになっている。
【００４４】
次に、図２に示される被処理対象物Ｗを公転及び自転させるための機構について説明する。図２に示されるように、ロータリー１４の天井部１４Ｕには、自転軸部材４６が設けられている。自転軸部材４６は、その下部が処理室Ｒ１内に配置され、ケージ４４を介して被処理対象物Ｗを処理室Ｒ１内に吊り下げ支持する。被処理対象物Ｗがケージ４４内に配置されることで被処理対象物Ｗの落下防止と被処理対象物Ｗの傷付き防止が図られている。ケージ４４を自転させる自転軸部材４６の自転軸線と平面視でのケージ４４の回転中心とは、装置平面視で同心になるように設定されている（図示省略）。なお、図２の図中左側のケージ４４は、自転軸部材４６から取り外された状態を示している。
【００４５】
また、キャビネット１２には、回転駆動機構６０が設けられている。回転駆動機構６０は、公転軸部６２、公転車輪６４、及び公転駆動モータ６６を含んで構成され、ロータリー１４を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材４６を公転させるようになっている。
【００４６】
公転軸部６２は、ロータリー１４の天井部１４Ｕの中央部に取り付けられ、装置上下方向を軸方向としてロータリー１４の上方側に配置されており、その上下方向中間部は軸受部６８を介してフレーム部７０を貫通している。公転車輪６４は、公転軸部６２の上端部に同軸的に連結されており、公転駆動モータ６６によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、公転軸部６２は、公転駆動モータ６６の作動によって装置上下方向の軸周りに回転するようになっている。図５に示されるように、公転駆動モータ６６（図５ではブロック化して図示）は、制御部３８に接続されており、制御部３８によって作動が制御されている。
【００４７】
また、回転駆動機構６０は、公転ロック用として、ロータリー１４の外周面の所定位置に形成された凹部１４Ｘと、ロータリー１４の外周面に対向して配置されたロックシリンダ７２Ａ（図中では模式化して図示）と、を備えている。本実施形態では、凹部１４Ｘは、ロータリー１４の周方向の近接位置に三個連続して形成されて凹部群を形成すると共に、この凹部群がロータリー１４の周方向に等間隔で計三箇所に形成されている。また、ロックシリンダ７２Ａは、公知のエアシリンダとされ、ロッド７２Ａ１が凹部１４Ｘの内部に嵌る位置とロータリー１４の外周面から離れた位置との間で伸縮可能とされている。
【００４８】
ロックシリンダ７２Ａは、いずれもブロック化して図示するエア方向制御機器（電磁弁等）７２Ｂを介してエア供給源７２Ｃと接続されており、エア方向制御機器７２Ｂは、制御部３８に接続されている。制御部３８は、後述する所定の条件に従って、エア方向制御機器７２Ｂを制御することで、ロックシリンダ７２Ａのロッド７２Ａ１の伸縮を方向制御している。
【００４９】
また、回転駆動機構６０は、ロータリー１４の外周面に１２０°間隔で金属７４Ｚが取り付けられると共に、ロータリー１４の外周面から若干離れてかつ互いに近接配置された計三個の近接スイッチ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃを備えている。近接スイッチ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃは、金属７４Ｚが所定範囲内まで接近した際に近接スイッチ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃを含む電気回路（制御回路部）を導通状態にする構成とされている。すなわち、ロータリー１４が所定の回転角度位置に達した状態では、金属７４Ｚが近接スイッチ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃに近接することにより、近接スイッチ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃが金属７４Ｚの近接を検出、換言すれば、ロータリー１４が所定の回転角度位置にあることを検出するようになっている。
【００５０】
近接スイッチ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃは、制御部３８に接続されている。制御部３８は、近接スイッチ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃが金属７４Ｚの近接を検出した場合には、その検出結果に基づいて、エア方向制御機器７２Ｂを制御することで、ロックシリンダ７２Ａのロッド７２Ａ１がロータリー１４の外周面の凹部１４Ｘに嵌る位置に伸びるように方向制御している。また、制御部３８は、近接スイッチ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃが金属７４Ｚの近接を検出しない場合には、エア方向制御機器７２Ｂを制御することで、ロックシリンダ７２Ａのロッド７２Ａ１がロータリー１４の外周面から離れた位置に縮むように方向制御している。
【００５１】
これにより、回転駆動機構６０は、投射エリア４０Ｂの複数位置を被処理対象物Ｗの公転停止位置としてロータリー１４を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ（研掃ムラ）の防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、図４に示されるように、投射エリア４０Ｂにおける被処理対象物Ｗの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材４６の自転軸心が第一、第二投射機３０Ａ、３０Ｂにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ１、Ｌ２の上に配置される位置となる第二位置（図４（Ｂ）参照）と、図４（Ｂ）に示される第二位置に対してロータリー１４の回転方向上流側の位置（いわば偏心した位置）である第一位置（図４（Ａ）参照）と、図４（Ｂ）に示される第二位置に対してロータリー１４の回転方向下流側の位置（いわば偏心した位置）である第三位置（図４（Ｃ）参照）と、に設定されている。
【００５２】
なお、被処理対象物Ｗの公転停止位置でロータリー１４を一次停止させた場合には図６に示されるように、処理室Ｒ１のうちの一室が搬入エリア４０Ａに配置される（換言すれば、搬入室１８になる）と共に処理室Ｒ１のうちの他の一室は搬出エリア４０Ｃに配置される（換言すれば、搬出室２２になる）ように設定されている。
【００５３】
一方、図２に示されるように、自転軸部材４６の上部には、ロータリー１４の上方側で自転車輪４８が同軸的に連結されている。自転車輪４８は、ゴムローラで構成され、自転軸部材４６に取り付けられたケージ４４が投射エリア４０Ｂ（図６参照、被処理対象物Ｗが第一、第二投射機３０Ａ、３０Ｂにより投射されるエリア）の所定位置、具体的には被処理対象物Ｗの公転停止位置に達すると、自転駆動車輪５０に接するようになっている。また、自転駆動車輪５０は、ゴムローラで構成されると共に自転駆動モータ５２に駆動可能に接続されており、自転駆動車輪５０が自転駆動モータ５２によって駆動された状態で自転車輪４８に接すると、自転軸部材４６がその軸周りに自転するようになっている。
【００５４】
図５に示されるように、自転駆動モータ５２（図５ではブロック化して図示）は、制御部３８に接続されている。制御部３８は、被処理対象物Ｗへの投射材の投射が行われている場合には自転駆動モータ５２を作動させるように制御している。
【００５５】
自転駆動車輪５０は、軸受を介して揺動アーム５４Ａに取り付けられている。揺動アーム５４Ａは、装置上下方向の軸５４Ｘ周りに揺動（回転移動）可能とされて駆動部５４Ｂ（図５ではブロック化して図示）に接続されており、駆動部５４Ｂの作動によって揺動するようになっている。なお、駆動部５４Ｂはエアシリンダを含んで構成されている。駆動部５４Ｂは制御部３８に接続されている。制御部３８は、被処理対象物Ｗが公転停止位置に到達した場合に、駆動部５４Ｂを制御することで、揺動アーム５４Ａを揺動させ、自転駆動車輪５０を自転車輪４８に当接させるように制御している。
【００５６】
また、自転軸部材４６の自転ロック用として、自転車輪４８と同軸に固着されたロックリング４９の外周面には、凹部４９Ａが形成されると共に、ロックリング４９の外周側にはロック用ローラ５６Ａが設けられている。ロック用ローラ５６Ａは、駆動部５６Ｂ（図中ではブロック化して図示）に接続され、駆動部５６Ｂの作動によって、凹部４９Ａ内に配置される位置と凹部４９Ａから離れた位置との間で変位可能とされている。駆動部５６Ｂは制御部３８に接続されている。
【００５７】
制御部３８は、自転駆動モータ５２を作動させている場合には、駆動部５６Ｂを制御することでロック用ローラ５６Ａを凹部４９Ａから離間した位置に配置し、自転駆動モータ５２を停止させた場合には、駆動部５６Ｂを制御することでロック用ローラ５６Ａを凹部４９Ａ内に配置させる。また、制御部３８は、ロック用ローラ５６Ａを凹部４９Ａ内に配置させた後、駆動部５４Ｂを制御することで、揺動アーム５４Ａを揺動させ、自転駆動車輪５０を自転車輪４８から離間させるように制御している。
【００５８】
なお、図５では、三本の自転軸部材４６のうちの一本のみについてその自転及び自転ロックの機構を図示しているが、他の二本の自転軸部材４６についても同様の機構が設けられている（図５では図示省略）。
【００５９】
（作用・効果）
次に、上記実施形態の作用及び効果について説明する。
【００６０】
本実施形態に係るショットブラスト装置１０では、図６に示される自転軸部材４６は、ロータリー１４の天井部１４Ｕに設けられて被処理対象物Ｗを処理室Ｒ１内に吊り下げ支持する共に被処理対象物Ｗが第一、第二投射機３０Ａ、３０Ｂにより投射される投射エリア４０Ｂで自転可能となっている。このため、被処理対象物Ｗが全周に亘って投射される。
【００６１】
また、本実施形態に係るショットブラスト装置１０では、搬入エリア４０Ａは、被処理対象物Ｗを自転軸部材４６に吊り下げ支持させるためのエリアとなっており、搬出エリア４０Ｃは、被処理対象物Ｗを自転軸部材４６から降ろすためのエリアとなっている。そして、処理室Ｒ１がロータリー１４の周方向に三室並設されており、被処理対象物Ｗの公転停止位置でロータリー１４を一次停止させた場合に処理室Ｒ１のうちの一室が搬入エリア４０Ａに配置されると共に処理室Ｒ１のうちの他の一室は搬出エリア４０Ｃに配置される。
【００６２】
このため、投射エリア４０Ｂで被処理対象物Ｗに投射がなされている間に、搬入エリア４０Ａでケージ４４内に一個ないし複数個の被処理対象物Ｗを挿入することで被処理対象物Ｗを自転軸部材４６に吊り下げ支持させると同時に、ショット処理済みの被処理対象物Ｗを搬出エリア４０Ｃで自転軸部材４６から降ろすことができる。このように、投射中に搬出と搬入とを同時に別々のエリアで行うことができるので、例えば、１箇所のエリアで搬出及び搬入を行うような構成に比べて、搬入出に要する時間が短縮される。
【００６３】
搬入エリア４０Ａで搬入されると共に搬出エリア４０Ｃで搬出されると、公転駆動モータ６６（図２参照）の駆動力によりロータリー１４及び仕切部１６が公転軸部６２を中心軸として１２０°弱回転され、ケージ４４に挿入された状態の被処理対象物Ｗが搬入エリア４０Ａから投射エリア４０Ｂに移動される。
【００６４】
次に、図５に示されるように、投射エリア４０Ｂにおいて、自転駆動モータ５２が作動することで自転駆動車輪５０が回転し、自転駆動車輪５０が自転車輪４８に当接することで自転軸部材４６が回転される。これにより、投射エリア４０Ｂのケージ４４は自転軸部材４６を中心にして自転する。そして、流量調整装置２４Ａ、２４Ｂの開閉ゲートが開かれ、第一、第二投射機３０Ａ、３０Ｂ（図６参照）の作動により、自転軸部材４６を中心にして自転するケージ４４内の被処理対象物Ｗへ投射材が投射される。
【００６５】
ここで、図６に示される第一投射機３０Ａは、ロータリー１４の上部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線Ｌ１が処理室Ｒ１の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機３０Ｂは、ロータリー１４の下部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線Ｌ２が処理室Ｒ１の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。このように、被処理対象物Ｗに対して、斜め上方側と斜め下方側との両方から投射材が投射されることで、被処理対象物Ｗの全面に効率良く投射される。
【００６６】
また、第二投射機３０Ｂは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機３０Ａに比べて多量に設定されている。このため、斜め上向き投射によって投射材が減速しても、第一投射機３０Ａの斜め下向き投射によるショット処理と同程度のショット処理がなされる。また、本実施形態では、投射中に被処理対象物Ｗがケージ４４内で若干浮き上がり、ケージ４４の載置部上面と被処理対象物Ｗの底面との間に隙間ができた状態で投射がなされることになる。このため、ブラスト処理（研掃）しにくい被処理対象物Ｗの底面（ケージ４４に接する面）の未処理部分（未研掃部分）をなくすことができ、被処理対象物Ｗの全体を確実にブラスト処理することができる。
【００６７】
また、第一投射機３０Ａにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ１と、第二投射機３０Ｂにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ２とが、少なくとも自転軸部材４６の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されているので、第一投射機３０Ａから投射された投射材と第二投射機３０Ｂから投射された投射材とが被処理対象物Ｗに達する前に互いに干渉してしまうという不具合が抑えられる。このため、投射効率が向上する。  
【００６８】
一方、本実施形態に係るショットブラスト装置１０では、図５に示される回転駆動機構６０は、ロータリー１４を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材４６を公転させると共に、投射エリア４０Ｂの複数位置を被処理対象物Ｗの公転停止位置としてロータリー１４を一次停止させる。このため、被処理対象物Ｗは、複数の公転停止位置で投射材の当たり方が相対的に変えられるので、より均一に精度良く投射される。
【００６９】
より具体的には、図４に示されるように、投射エリア４０Ｂに入った被処理対象物Ｗは、第一位置（図４（Ａ）参照）、第二位置（図４（Ｂ）参照）、及び第三位置（図４（Ｃ）参照）の順で公転停止されて、それぞれの位置で自転しながら投射される。ここで、図４（Ｂ）に示される第二位置は、装置平面視で自転軸部材４６の自転軸心が第一、第二投射機３０Ａ、３０Ｂにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ１、Ｌ２の上に配置される位置となっており、図４（Ａ）に示される第一位置は、図４（Ｂ）に示される第二位置に対してロータリー１４の回転方向上流側の位置であり、図４（Ｃ）に示される第三位置は、図４（Ｂ）に示される第二位置に対してロータリー１４の回転方向下流側の位置である。このため、被処理対象物Ｗは、投射エリア４０Ｂで三点停止されつつ投射がなされ、投射材が効率良く当たる第二位置（図４（Ｂ）参照）とその前後の第一、第三位置（図４（Ａ）及び図４（Ｃ）参照）で、効率的にかつ均一に投射される。
【００７０】
以上説明したように、本実施形態に係るショットブラスト装置１０によれば、トータルの処理時間を短縮することができる。
【００７１】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置８０について、図７〜図１０を用いて説明する。図７には、本実施形態に係るショットブラスト装置８０の全体構成が正面図にて示され、図８には、ショットブラスト装置８０の全体構成が右側面図にて示され、図９には、ショットブラスト装置８０の全体構成が平面図にて示されている。また、図１０には本実施形態における処理室Ｒ２の構成が平面視の断面図にて示されている。なお、第１の実施形態と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。
【００７２】
図７〜図９に示されるように、ショットブラスト装置８０は、中空柱状のキャビネット８２を備えている。図９に示されるように、キャビネット８２の内部における中央部には、略円筒状のロータリー８４が配置されている。ロータリー８４は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構９４に接続されている。
【００７３】
ロータリー８４には、回転中心である装置上下方向の前記軸線の周りの空間が仕切部８６（仕切部材）に仕切られることで複数（本実施形態では計六室）の処理室Ｒ２が周方向に並設されている。なお、仕切部８６は、ロータリー８４における天井部８４Ｕの下方側に設けられているが、図中では、図を見易くするために、仕切部８６の大部分を隠れ線ではなく実線で図示している。処理室Ｒ２は、被処理対象物Ｗの搬入出及び投射材の投射をなすための部屋となっている。これらの処理室Ｒ２には、外周側に向けて開口した開口部８４Ａが形成されている。開口部８４Ａは、被処理対象物Ｗの搬入用、被処理対象物Ｗの搬出用、及び投射材の通過用となる。
【００７４】
処理室Ｒ２は、第１の実施形態と同様に、キャビネット８２の内部空間に配置され、ロータリー８４の回転変位によって、搬入室１８、投射室２０、及び搬出室２２のいずれにもなり得る部屋である。本実施形態では、投射室２０は二室設けられている。
【００７５】
また、本実施形態では、投射室２０と搬出室２２との間が吹き落とし室２１とされている。ロータリー８４の外周側で吹き落とし室２１の対向部には、図示しない吹付装置（エアブロー部）が配置されている。前記吹付装置は、被処理対象物Ｗ上に残留した投射材の吹き落とし用とされ、開口部８４Ａを通してロータリー８４の内部側に気体（本実施形態では圧縮空気）の吹き付けが可能になっている。
【００７６】
なお、本実施形態における搬入エリア４０Ａは、被処理対象物Ｗを後述する吊下支持部としてのハンガーフック９２に吊り下げ支持させるためのエリアであり、搬出エリア４０Ｃは、被処理対象物Ｗをハンガーフック９２から降ろすためのエリアである。
【００７７】
図１０に示されるように、仕切部８６には、処理室Ｒ２の室内側へ向けられた仕切面にライナ８７Ａ、８７Ｂが取り付けられている。ライナ８７Ａは、平面視でロータリー８４の半径方向に延在すると共にロータリー８４の外周面側に配置された端部８７Ａ１が内向きに湾曲している。ライナ８７Ａの端部８７Ａ１の内側面にはゴムライニングが施されている。このような構成では、投射された投射材がライナ８７Ａに沿って流れてもライナ８７Ａの端部８７Ａ１で失速してロータリー８４の底床部８４Ｚに落下し、底床部８４Ｚの孔部８４Ｚ１から後述するホッパ９０Ａ（図８参照）に回収されるようになっている。なお、ロータリー８４には、底床部８４Ｚ及び図示しない天井部にも同様にライナ８７Ｃが取り付けられている。
【００７８】
一方、図７及び図８に示されるように、ロータリー８４の上部の側方には第一投射機８８Ａが配置されており、この第一投射機８８Ａは、キャビネット８２の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー８４の下部の側方には第二投射機８８Ｂが配置されており、この第二投射機８８Ｂは、キャビネット８２の側壁の下部側に取り付けられている。第一、第二投射機８８Ａ、８８Ｂは、第１の実施形態における第一、第二投射機３０Ａ、３０Ｂ（図１及び図２参照）と同様の基本構成を備えており、投射材を図９に示される処理室Ｒ２における開口部８４Ａを通して処理室Ｒ２の内部に投射するようになっている。
【００７９】
また、図７等に示される第一、第二投射機８８Ａ、８８Ｂの投射方向は、第１の実施形態と同様に設定されている。すなわち、第一投射機８８Ａは、投射材の投射方向の中心線（図示省略）が処理室Ｒ２（図９参照）の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定され、第二投射機８８Ｂは、投射材の投射方向の中心線（図示省略）が処理室Ｒ２（図９参照）の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、第一投射機８８Ａにおける投射材の投射方向の中心線と、第二投射機８８Ｂにおける投射材の投射方向の中心線とが、ハンガーフック９２の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。さらに、第１の実施形態と同様に、第二投射機８８Ｂは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機８８Ａに比べて多量になるように設定されている。
【００８０】
図７及び図８に示されるように、第一、第二投射機８８Ａ、８８Ｂは、導入筒２８Ａ、２８Ｂ、及び導入管２６Ａ、２６Ｂを介して流量調整装置２４Ａ、２４Ｂに接続されている。なお、流量調整装置２４Ａ及び流量調整装置２４Ｂは、それぞれ二台設けられており、二本の導入管２６Ａは、それぞれ流量調整装置２４Ａと一対一で接続されると共に、二本の導入管２６Ｂは、それぞれ流量調整装置２４Ｂと一対一で接続されている。流量調整装置２４Ａ、２４Ｂは、第１実施形態と同様に、制御部（図示省略）に接続されており、開閉ゲートの作動（開閉及び開閉量の調整）が第１実施形態と同様に前記制御部によって制御されている。
【００８１】
第一、第二投射機８８Ａ、８８Ｂは、導入筒２８Ａ、２８Ｂ、導入管２６Ａ、２６Ｂ、及び流量調整装置２４Ａ、２４Ｂを介して循環装置９０に連結されている。循環装置９０は、第一、第二投射機８８Ａ、８８Ｂによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機８８Ａ、８８Ｂへ循環させるための装置であり、第１の実施形態における循環装置３４（図１参照）と実質的に一部同様の構成とされている。よって、第１の実施形態における循環装置３４（図１参照）と実質的に同様の構成部については説明を省略する。
【００８２】
循環装置９０は、ロータリー８４の下方側にホッパ９０Ａを備えている。ホッパ９０Ａは、ロータリー８４の底床部８４Ｚに形成された孔部８４Ｚ１（図１０参照）から落下した投射材をスクリュウコンベヤ３４Ａへ流す。一方、装置上部では、上側のスクリュウコンベヤ３４Ｅの搬送方向下流側に風選式のセパレータ９０Ｂが取り付けられている。
【００８３】
セパレータ９０Ｂは、流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物を分級するようになっており、使用可能な投射材のみを投射材タンク９０Ｃへ流す。投射材タンク９０Ｃは、投射材を流量調整装置２４Ａ、２４Ｂへ供給するためのタンクであり、流量調整装置２４Ａ、２４Ｂの上方側に配置されている。
【００８４】
次に、図９に示される被処理対象物Ｗを公転及び自転させるための機構について説明する。図９に示されるように、ロータリー８４の天井部８４Ｕには、ハンガーフック９２が設けられている。ハンガーフック９２は、その軸上部にホイール部９２Ａが同軸的に連結されると共に、その下部が処理室Ｒ２内に配置され、被処理対象物Ｗを処理室Ｒ２内に吊り下げ支持する。
【００８５】
また、キャビネット８２には、回転駆動機構９４が設けられている。回転駆動機構９４は、公転軸部９６、公転タイヤ９８、及び公転駆動モータ１００を含んで構成され、ロータリー８４を装置上下方向の軸線の周りに回転させることでハンガーフック９２を公転させるようになっている。
【００８６】
図７に示されるように、公転軸部９６は、装置上下方向を軸心方向として配置され、上下端部が軸受部を介してフレーム部に支持されると共に、ロータリー８４の天井部８４Ｕの中央部に固定されている。図９に示されるように、ロータリー８４の外周側面は、装置上下方向を軸心方向として配置された公転タイヤ９８に接している。
【００８７】
公転タイヤ９８を回転自在に支持する軸受部は、装置上下方向の軸９９Ｘ周りに揺動（回転移動）可能な揺動アーム９９に取り付けられている。揺動アーム９９の先端部（図中の右端部）は、図示しないバネによってロータリー８４側へ付勢されている。これにより、公転タイヤ９８はロータリー８４側へ押し付けられている。
【００８８】
また、公転タイヤ９８は、公転駆動モータ１００のモータ軸に同軸的に連結されており、公転駆動モータ１００によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、ロータリー８４は、公転駆動モータ１００の作動によって公転軸部９６周りに回転するようになっている。なお、公転駆動モータ１００は、第１の実施形態と同様に、制御部（図示省略）に接続されており、前記制御部によって作動が制御される。また、回転駆動機構９４は、第１の実施形態の回転駆動機構６０（図５参照）と同様に公転ロック用の機能を備えている。
【００８９】
これらにより、回転駆動機構９４は、投射エリア４０Ｂの複数位置を被処理対象物Ｗの公転停止位置としてロータリー８４を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ（研掃ムラ）の防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、投射エリア４０Ｂにおける被処理対象物Ｗの公転停止位置は、第１の実施形態（図４参照）と同様に、装置平面視でハンガーフック９２の自転軸心が第一、第二投射機８８Ａ、８８Ｂにおける投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー８４の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー８４の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。
【００９０】
これらは、第１の実施形態と同様に、制御部（図示省略）によって制御される。また、本実施形態では、ハンガーフック９２は、投射エリア４０Ｂに入ると低速で公転移動して、第一位置での前停止、第二位置での中央停止、第三位置での後停止の三点で公転停止し、さらに投射エリア４０Ｂから次の投射エリア４０Ｂへ移る際には高速で公転移動するように、制御されている。
【００９１】
なお、被処理対象物Ｗの公転停止位置でロータリー８４を一次停止させた場合に、処理室Ｒ２のうちの一室が搬入エリア４０Ａに配置される（換言すれば、搬入室１８になる）と共に、処理室Ｒ２のうちの他の一室は搬出エリア４０Ｃに配置される（換言すれば、搬出室２２になる）ように設定されている。
【００９２】
一方、キャビネット８２の天井部８２Ｕには、チェーンホイール付き駆動モータ１０２が投射室２０に対応して計二個配置されている。チェーンホイール付き駆動モータ１０２のチェーンホイール１０２Ａは、シリンダ１０４によって、ハンガーフック９２のホイール部９２Ａ側へ押し付け可能となっている。具体的には、チェーンホイール１０２Ａは、被処理対象物Ｗが投射エリア４０Ｂ（被処理対象物Ｗが第一、第二投射機８８Ａ、８８Ｂにより投射されるエリア）の公転停止位置に達すると、ハンガーフック９２のホイール部９２Ａに押し付けられるようになっている。また、チェーンホイール付き駆動モータ１０２が作動状態で、そのチェーンホイール１０２Ａがハンガーフック９２のホイール部９２Ａに接すると、ハンガーフック９２がその軸周りに自転するようになっている。
【００９３】
なお、シリンダ１０４は、伸縮可能なロッドを備えた公知のエアシリンダとされ、図示しないエア方向制御機器（電磁弁等）を介して図示しないエア供給源と接続されており、前記エア方向制御機器は、図示しない制御部に接続されている。前記制御部は、第１の実施形態と同様のタイミングでハンガーフック９２を所定時に自転させるように、シリンダ１０４のロッドの伸縮を方向制御することで、ハンガーフック９２のホイール部９２Ａにチェーンホイール付き駆動モータ１０２のチェーンホイール１０２Ａを接離させている。
【００９４】
また、図９に示される被処理対象物Ｗを公転、公転停止、自転、及び自転停止させるための条件は、第１の実施形態と同様であり、図示しない前記制御部によってこれらの作動等が制御されている。
【００９５】
以上説明した本実施形態の構成によっても、前述した第１実施形態と同様の作用及び効果が得られる。
【００９６】
［第２実施形態の変形例]
なお、第２の実施形態の変形例として、ロータリー８４の内部の仕切構成は、図１１に示されるような構成でもよい。なお、上記実施形態と実質的に同様の構成部は同一符号を付して説明を省略する。また、詳細図示を省略するが、仕切部８６には、処理室Ｒ２の室内側へ向けられた仕切面にライナ（第２の実施形態におけるライナ８７Ａ、８７Ｂ（図１０参照）と同様のライナ）が取り付けられ、ロータリー８４には、底床部及び天井部に適宜ライナが取り付けられている。
【００９７】
図１１（Ａ）は、処理室Ｒ２が二室であり、搬入出室１９及び投射室２０がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図１１（Ｂ）は、処理室Ｒ２が三室であり、搬入室１８、投射室２０、及び搬出室２２がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図１１（Ｃ）は、処理室Ｒ２が五室であり、搬入室１８、投射室２０、及び搬出室２２がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図１１（Ｄ）は、処理室Ｒ２が六室であり、投射室２０が二室、搬入室１８及び搬出室２２がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図１１（Ｅ）は、処理室Ｒ２が四室であり、搬入室１８、投射室２０、及び搬出室２２がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図１１（Ｆ）は、処理室Ｒ２が六室であり、投射室２０が二室、搬入室１８及び搬出室２２がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。
【００９８】
［第３実施形態］
次に、本発明の第３の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置１１０について、図１２〜図１４を用いて説明する。図１２には、本発明の第３の実施形態に係るショットブラスト装置１１０の全体構成が正面図にて示され、図１３には、ショットブラスト装置１１０の全体構成が右側面図にて示され、図１４には、ショットブラスト装置１１０の全体構成が平面図にて示されている。なお、第１、第２の実施形態と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。また、本実施形態に係るショットブラスト装置１１０の被処理対象物Ｗには、例えば、鋳造品、プレス品、及び溶接構造物等、より具体的には一例として自動車関連部品が適用される。
【００９９】
図１２〜図１４に示されるように、ショットブラスト装置１１０は、箱状のキャビネット１１２を備えている。図１４に示されるように、キャビネット１１２の内部には、略円筒状のロータリー１１４（「公転ドラム」ともいう。）が配置されている。ロータリー１１４は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構１２６に接続されている。
【０１００】
ロータリー１１４には、回転中心である装置上下方向の前記軸線の周りの空間が仕切部１１６に仕切られることで複数（本実施形態では計二室）の処理室が周方向に並設されている。仕切部１１６は仕切部材によって構成されている。処理室Ｒ３には、外周側に向けて開口し開口部１１４Ａが形成されている。開口部１１４Ａは、被処理対象物Ｗの搬入用、被処理対象物Ｗの搬出用、及び投射材の通過用となる。
【０１０１】
処理室Ｒ３は、キャビネット１２の内部空間に配置され、ロータリー１１４の回転変位によって、搬入出室１９及び搬出室２２のいずれにもなり得る部屋である。ここで、搬入出室１９は、ショットブラスト装置１１０の搬入出エリア４０Ｄに配置されて被処理対象物Ｗの搬入用と搬出用とを兼ねた部屋である。換言すれば、例えば、当初は搬入出室１９であった処理室Ｒ３は、ロータリー１１４がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、投射室２０になり、さらに、ロータリー１１４がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、搬入出室１９になる。
【０１０２】
なお、搬入出エリア４０Ｄは、被処理対象物Ｗを後述する吊下支持部としての自転軸部材１２２から降ろすためのエリアでありかつ被処理対象物Ｗを自転軸部材１２２に吊り下げ支持させるためのエリアである。
【０１０３】
一方、図１３に示されるように、ロータリー１１４の上部の側方には第一投射機１１８Ａが配置されており、この第一投射機１１８Ａは、キャビネット１１２の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー１１４の下部の側方には第二投射機１１８Ｂが配置されており、この第二投射機１１８Ｂは、キャビネット１１２の側壁の下部側に取り付けられている。第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂは、第１の実施形態における第一、第二投射機３０Ａ、３０Ｂ（図１及び図２参照）と同様の基本構成を備えており、投射材を図１４に示される処理室Ｒ３における開口部１１４Ａを通して処理室Ｒ３の内部に投射するようになっている。
【０１０４】
また、図１３に示される第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂの投射方向は、第１の実施形態と同様に設定されている。すなわち、第一投射機１１８Ａは、投射材の投射方向の中心線Ｌ３が処理室Ｒ３の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定され、第二投射機１１８Ｂは、投射材の投射方向の中心線Ｌ４が処理室Ｒ３の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、図１２に示されるように、第一投射機１１８Ａと第二投射機１１８Ｂとは、それぞれの羽根車の回転軸線ＣＬ３、ＣＬ４が互いに平行とされると共に、互いに羽根車の回転軸線方向にオフセットして配置されている。このオフセットにより、第一投射機１１８Ａにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ３（図１３参照）と、第二投射機１１８Ｂにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ４（図１３参照）とは、（自転軸部材１２２の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間を含め）交差しない関係に設定されている。なお、図１３では、第一投射機１１８Ａにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ３と、第二投射機１１８Ｂにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ４とが二次元的に見ると交差しているように見えるが、中心線Ｌ３と中心線Ｌ４とは、図中の紙面に垂直な方向にずれており、三次元的には交差していない。
【０１０５】
さらに、第１の実施形態と同様に、第二投射機１１８Ｂは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機１１８Ａの投射量に比べて多量になるように設定されている。本実施形態では、一例として、上側の第一投射機１１８Ａにおける投射材の単位時間当たりの投射量が３００ｋｇ／ｍｉｎ、下側の第二投射機１１８Ｂにおける投射材の単位時間当たりの投射量が４００ｋｇ／ｍｉｎに設定されている。
【０１０６】
第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂは、導入管２６Ａ、２６Ｂを介して流量調整装置２４Ａ、２４Ｂに接続されている。流量調整装置２４Ａ、２４Ｂは、第１実施形態と同様に、制御部（図示省略）に接続されており、開閉ゲートの作動（開閉及び開閉量の調整）が第１実施形態と同様に前記制御部によって制御されている。
【０１０７】
第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂは、導入管２６Ａ、２６Ｂ、及び流量調整装置２４Ａ、２４Ｂを介して循環装置１２０に連結されている。循環装置１２０は、第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂへ循環させるための装置であり、第１の実施形態における循環装置３４（図１参照）と実質的に一部同様の構成とされている。よって、第１の実施形態における循環装置３４（図１参照）と実質的に同様の構成部については説明を省略する。
【０１０８】
図１２に示されるように、装置上部には、箱体１２０Ａが設置されている。箱体１２０Ａの内部の上部側には、ロータリースクリーン（回転式の篩）１２０Ｂが配設され、ロータリースクリーン１２０Ｂの内部にはスクリュウコンベヤ３４Ｅが挿入されている。ロータリースクリーン１２０Ｂは、図示しない篩本体を備えており、前記篩本体は、網状体を備えて筒状に形成される共に投射材の径よりも大きい径の孔部（網目）が複数形成され、自らの軸周りに回転駆動されるようになっている。そして、ロータリースクリーン１２０Ｂは、回収された投射材と粉粒状の異物とを含む混合物がスクリュウコンベヤ３４Ｅから前記篩本体の内部に流入されると共に前記篩本体が軸周りに回転することにより混合物を転動させながら孔部よりも径が大きい異物を除去する。
【０１０９】
また、箱体１２０Ａの内部の下部側には、風選式のセパレータ１２０Ｃが配置されている。セパレータ１２０Ｃは、ロータリースクリーン１２０Ｂの前記孔部を通過して流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物（例えば、微粉や砂等の不純物）を分級するようになっている。セパレータ１２０Ｃには、ダクト１２０Ｆを介して集塵機１２０Ｇ（図１３参照）が接続されている。集塵機１２０Ｇは、吸入手段（ブロワ）によってセパレータ１２０Ｃ内の空気を吸入しており、この吸入力によってセパレータ１２０Ｃの内部に前記気流を発生させる。
【０１１０】
箱体１２０Ａの下部には、投射材タンク１２０Ｄ及び異物排出シュート１２０Ｅが連通連結されている。投射材タンク１２０Ｄには、セパレータ１２０Ｃで不純物が分離された投射材が流入して循環使用されるようになっている。投射材タンク１２０Ｄは、投射材を図１３に示される流量調整装置２４Ａ、２４Ｂへ供給するためのタンクであり、流量調整装置２４Ａ、２４Ｂの上方側に配置されている。これに対して、異物排出シュート１２０Ｅは、ロータリースクリーン１２０Ｂの先端部側から排出された大きめの異物（例えば、鋳バリ）を装置外へ排出するための排出用とされている。
【０１１１】
次に、図１３及び図１４に示される被処理対象物Ｗを公転及び自転させるための機構について説明する。図１３に示されるように、ロータリー１１４の天井部１１４Ｕには、自転軸部材１２２が設けられている。自転軸部材１２２は、その下部が処理室Ｒ３内に配置され、ケージ１２４を介して被処理対象物Ｗを処理室Ｒ３内に吊り下げ支持する。
【０１１２】
なお、本実施形態では、図１３に示されるケージ１２４は、自転軸部材１２２に上端部が係止されることで装置上下方向を長手方向として配置される支柱部１２４Ａを備えると共に、支柱部１２４Ａから水平方向に張り出して被処理対象物Ｗの挿入配置用とされたアーム部１２４Ｂを備えている。被処理対象物Ｗがケージ１２４に挿入されることで被処理対象物Ｗの落下防止と被処理対象物Ｗの傷付き防止が図られている。また、装置平面視でアーム部１２４Ｂにおける被処理対象物Ｗの配置中心は、自転軸部材１２２の自転軸線（自転中心）と同心になるように設定されている。ちなみに、図中ではアーム部１２４Ｂは一個設けられているが、アーム部１２４Ｂは装置上下方向に間隔を開けて複数個（例えば三個）設けられてもよい。また、ケージ１２４に代えて、籠状のケージ１２５を適用してもよい。
【０１１３】
また、キャビネット１１２には、回転駆動機構１２６が設けられている。回転駆動機構１２６は、公転軸部１２８、公転車輪１３０（図１４参照）、及び公転駆動モータ１３２を含んで構成され、図１４に示されるロータリー１１４を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材１２２を公転させるようになっている。なお、図１４では、公転軸部１２８の軸心に符号１２８を付している。
【０１１４】
図１３に示されるように、公転軸部１２８は、装置上下方向を軸心方向として配置され、軸受部を介してフレーム部に支持されると共に、ロータリー１１４の天井部１１４Ｕの中央部に固定されている。図１４に示されるように、ロータリー１１４の外周側面は、装置上下方向を軸心方向として配置された公転車輪１３０に接している。
【０１１５】
また、公転車輪１３０は、公転駆動モータ１３２のモータ軸に同軸的に連結されており、公転駆動モータ１３２によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、ロータリー１１４は、公転駆動モータ１３２の作動によって公転軸部１２８周りに回転するようになっている。なお、公転駆動モータ１３２は、第１の実施形態と同様に、制御部（図示省略）に接続されており、前記制御部によって作動が制御される。また、回転駆動機構１２６は、第１の実施形態の回転駆動機構６０（図５参照）と同様に公転ロック用の機能を備えている。
【０１１６】
これらにより、回転駆動機構１２６は、投射エリア４０Ｂの複数位置を被処理対象物Ｗの公転停止位置としてロータリー１１４を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ（研掃ムラ）の防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、投射エリア４０Ｂにおける被処理対象物Ｗの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材１２２の自転軸心が第一投射機１１８Ａ（図１３参照）における投射材の投射方向の中心線Ｌ３（図１３参照）の上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー１１４の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー１１４の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。なお、変形例に係る設定として、投射エリア４０Ｂにおける被処理対象物Ｗの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材１２２の自転軸心が第二投射機１１８Ｂ（図１３参照）における投射材の投射方向の中心線Ｌ４（図１３参照）上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー１１４の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー１１４の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されてもよい。これらは、第１の実施形態と同様に、制御部（図示省略）によって制御される。
【０１１７】
なお、被処理対象物Ｗの公転停止位置でロータリー１１４を一次停止させた場合には、処理室Ｒ３のうちの一室が投射エリア４０Ｂに配置される（換言すれば、投射室２０になる）と共に処理室Ｒ３のうちの他の一室は搬入出エリア４０Ｄに配置される（換言すれば、搬入出室１９になる）ように設定されている。
【０１１８】
一方、図１３に示されるように、キャビネット１１２の装置上方側では、自転軸部材１２２の上端部に自転車輪１３４が同軸的に固着されている。これに対して、投射室２０の上方側には、自転駆動モータ１３６が設けられると共に、自転駆動モータ１３６の作動により駆動される駆動ローラ１３８が設けられている。図１４に示されるように、駆動ローラ１３８は、第１の実施形態の揺動アーム５４Ａ（図５参照）と同様の揺動アーム１４０に取り付けられると共に、第１の実施形態と同様に、被処理対象物Ｗが投射エリア４０Ｂ（被処理対象物Ｗが第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂ（図１３参照）により投射されるエリア）の公転停止位置に達すると、自転車輪１３４に押し付けられるようになっている。また、自転駆動モータ１３６（図１３参照）の作動状態で駆動ローラ１３８が自転車輪１３４に接すると、自転軸部材１２２がその軸周りに自転するようになっている。
【０１１９】
なお、図１４に示される被処理対象物Ｗを公転、公転停止、自転、及び自転停止させるための条件は、第１の実施形態と同様であり、図示しない前記制御部によってこれらの作動等が制御されている。
【０１２０】
上記実施形態の構成によれば、投射エリア４０Ｂで被処理対象物Ｗに投射がなされている間に、被処理対象物Ｗの搬入と搬出とを同時にはできないものの、投射中に被処理対象物Ｗの搬出と搬入が可能であり、また、他の点については、前述した第１実施形態とほぼ同様の作用及び効果が得られる。そして、公転駆動モータ１３２（図１３参照）が作動されて、ロータリー１１４及び仕切部１１６が公転軸部１２８を中心にして１８０°弱回転されることで、ケージ１２４に挿入された状態の被処理対象物Ｗが投射エリア４０Ｂと搬入出エリア４０Ｄとの間で移動される。
【０１２１】
［第４実施形態］
次に、本発明の第４の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置１５０について、図１５〜図１７を用いて説明する。図１５には、ショットブラスト装置１５０の全体構成が正面図にて示され、図１６には、ショットブラスト装置１５０の全体構成が右側面図にて示され、図１７には、ショットブラスト装置１５０の全体構成が平面図にて示されている。
【０１２２】
これらの図に示されるショットブラスト装置１５０は、基本的には第３の実施形態に係るショットブラスト装置１１０（図１２〜図１４参照）を小型化した装置である。なお、第１〜第３の実施形態に係るショットブラスト装置１１０と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。
【０１２３】
図１６に示されるように、第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機１１８Ａ、１１８Ｂへ循環させるための循環装置１５２は、バケットエレベータ３４Ｂの上部がシュート３４Ｄを介してセパレータ１２０Ｃに接続されている。すなわち、循環装置１５２は、図１２等に示される第３の実施形態の循環装置１２０におけるスクリュウコンベヤ３４Ｅ及びロータリースクリーン１２０Ｂに相当する構成を備えていない。
【０１２４】
本実施形態の構成によっても、前述した第３実施形態とほぼ同様の作用及び効果得られる。
【０１２５】
［実施形態の補足説明］
なお、上記実施形態では、ショット処理装置は、ショットブラスト装置１０、８０、１１０とされているが、ショット処理装置は、例えば、ショットピーニング装置に適用されてもよい。
【０１２６】
また、上記実施形態では、投射材を遠心力で加速して投射する遠心式の投射機（第一投射機３０Ａ、８８Ａ、１１８Ａ、及び第二投射機３０Ｂ、８８Ｂ、１１８Ｂ）がショットブラスト装置１０、８０、１１０の投射機として用いられているが、投射機は、例えば、圧縮空気とともに投射材を圧送しノズルから噴射するエアノズル式の投射機等のような他の投射機であってもよい。
【０１２７】
また、公転軸部６２、９６、１２８の駆動ついては、上記実施形態の構成に代えて、例えば、公転軸部（回転軸）に駆動モータの軸部を直接連結させて駆動させたり、駆動モータに直接連結されたテンションゴムローラで公転軸部（回転軸）を駆動させたりしてもよい。
【０１２８】
また、上記実施形態では、被処理対象物Ｗの公転停止位置が、第一位置、第二位置、及び第三位置に設定されており、より効率的にかつ均一に投射する観点からはこのような設定が好ましいが、被処理対象物Ｗの公転停止位置は、例えば、第一位置、第二位置、及び第三位置のうちのいずれか二つの位置に設定されてもよい。
【０１２９】
また、上記実施形態では、第一投射機３０Ａ、８８Ａ、１１８Ａがロータリー１４、８４、１１４の上部の側方に配置されてかつ投射する投射材の投射方向の中心線Ｌ１、Ｌ３が処理室Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されると共に、第二投射機３０Ｂ、８８Ｂ、１１８Ｂがロータリー１４、８４、１１４の下部の側方には配置されてかつその投射する投射材の投射方向の中心線Ｌ２、Ｌ４が処理室Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されているが、例えば、被処理対象物の形状によっては、投射機がロータリーの上下方向中央部の側方にのみ配置される構成も採り得る。
【０１３０】
また、上記実施形態では、第一投射機３０Ａ、８８Ａ、１１８Ａにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ１、Ｌ３と、第二投射機３０Ｂ、８８Ｂ、１１８Ｂにおける投射材の投射方向の中心線Ｌ２、Ｌ４とが、少なくとも吊下支持部（自転軸部材４６、ハンガーフック９２、自転軸部材１２２）の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されており、被処理対象物Ｗをより効率的に投射する観点からはこのような構成が好ましいが、このような設定でない形態も採り得る。
【０１３１】
また、上記実施形態では、吊下支持部（自転軸部材４６、ハンガーフック９２、自転軸部材１２２）が所定時に自転停止されるが、吊下支持部が公転時に常時自転するような構成も採り得る。
【０１３２】
また、上記実施形態の変形例として、ショット処理装置は、例えば、処理室がロータリーの周方向に六室並設されており、被処理対象物の公転停止位置でロータリーを一次停止させた場合に処理室のうちの二室が投射エリアに配置され、処理室のうちの二室が搬入エリアに配置されると共に処理室のうちの二室は搬出エリアに配置されるように設定されているものであってもよい。
【０１３３】
なお、上記実施形態及び上述の複数の変形例は、適宜組み合わされて実施可能である。
【０１３４】
ちなみに、本発明ではない参考例として、上記実施形態とほぼ同様の装置構成で投射エリアの単一の位置を被処理対象物の公転停止位置としてロータリーを一次停止させるような形態（例えば、公転軸部（回転軸）の駆動用にカム式割出装置（例えば、ＣＫＤ製のインデックスマン（登録商標））及びトルクリミッタを備えた構成を適用したような形態）が採り得る。
【符号の説明】
【０１３５】
１０    ショットブラスト装置（ショット処理装置）
１４    ロータリー
１４Ａ  開口部
１４Ｕ  天井部
１６    仕切部
３０Ａ  第一投射機
３０Ｂ  第二投射機
４０Ａ  搬入エリア
４０Ｂ  投射エリア
４０Ｃ  搬出エリア
４６    自転軸部材（吊下支持部）
６０    回転駆動機構
８０    ショットブラスト装置（ショット処理装置）
８４    ロータリー
８４Ａ  開口部
８４Ｕ  天井部
８８Ａ  第一投射機
８８Ｂ  第二投射機
８６    仕切部
９２    ハンガーフック（吊下支持部）
９４    回転駆動機構
１１０  ショットブラスト装置（ショット処理装置）
１１４    ロータリー
１１４Ａ  開口部
１１４Ｕ  天井部
１１６    仕切部
１１８Ａ  第一投射機
１１８Ｂ  第二投射機
１２２    自転軸部材（吊下支持部）
１２６    回転駆動機構
Ｌ１    第一投射機における投射材の投射方向の中心線
Ｌ２    第二投射機における投射材の投射方向の中心線
Ｌ３    第一投射機における投射材の投射方向の中心線
Ｌ４    第二投射機における投射材の投射方向の中心線
Ｒ１    処理室
Ｒ２    処理室
Ｒ３    処理室
Ｗ      被処理対象物
【図１】
2014176903.tif 000003
【図２】
2014176903.tif 000004
【図３】
2014176903.tif 000005
【図４】
2014176903.tif 000006
【図５】
2014176903.tif 000007
【図６】
2014176903.tif 000008
【図７】
2014176903.tif 000009
【図８】
2014176903.tif 000010
【図９】
2014176903.tif 000011
【図１０】
2014176903.tif 000012
【図１１】
2014176903.tif 000013
【図１２】
2014176903.tif 000014
【図１３】
2014176903.tif 000015
【図１４】
2014176903.tif 000016
【図１５】
2014176903.tif 000017
【図１６】
2014176903.tif 000018
【図１７】
2014176903.tif 000019