(57)【要約】【課題】液晶材料の配向により透過光に位相差を付与する光学フィルムについて、製品保護等を目的とした保護フィルムを設ける場合等にあっても、高い品質により作成することができるようにする。【解決手段】透明フィルム材による基材２と、透過光に位相差を与える位相差層４と、位相差層４に係る配向膜３とを少なくとも備えるようにする。位相差層４の配向膜３と接する部位は、シリコン及び又はフッ素の含有率が０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による基材と、透過光に位相差を与える位相差層と、前記位相差層に係る配向膜とを少なくとも備え、
前記位相差層の前記配向膜と接する部位は、
シリコン及び又はフッ素の含有率が０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下である
光学フィルム。
【請求項２】
前記位相差層は、
透過光に与える位相差が異なる第１及び第２の領域が順次交互に設けられた
請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記第１の領域が、
右目用画像データで駆動される画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える右目用領域であり、
前記第２の領域が、
左目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える左目用領域である
請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
請求項１、請求項２、又は請求項３に記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置した
画像表示装置。
【請求項５】
透明フィルム材による基材と、透過光に位相差を与える位相差層と、前記位相差層に係る配向膜とを少なくとも備える光学フィルムの製造方法において、
防汚層が最表層である保護フィルムが、前記防汚層が最も外側になるように一方の面に貼り付けられ、他方の面には前記配向膜が設けられた前記基材を積層して保持する積層工程と、
前記積層工程で積層された前記基材について、前記配向膜の上層に、前記位相差層を作成する位相差層の作成工程とを備え、
前記防汚層は、
シリコン及び又はフッ素の含有率が０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下である
光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記積層工程は、
長尺による前記基材に前記保護フィルムを貼り付ける貼り付け工程と、
前記基材に前記配向膜を作成する工程と、
前記基材をロールにより巻き取る巻き取り工程とを備え、
前記位相差層の作成工程は、
前記巻き取り工程で巻き取ったロールより前記基材を引き出して前記位相差層を作成し、
前記保護フィルムは、
前記防汚層の下層に、前記ロールより基材を引き出す際の帯電を防止する帯電防止層が設けられた
請求項５に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
透明フィルム材による基材に配向膜を作製する配向膜作製工程と、
前記配向膜の上に位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記配向膜作製工程は、
シリコン及び又はフッ素の含有率が０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下である配向膜作製材料を前記透明フィルム材に塗布して前記配向膜を作製する
光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムや外来光の内部反射を低減する内部反射防止フィルム等の、液晶材料の配向により透過光に位相差を付与する光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイ等は、各種の光学フィルムを使用している。またこの種の光学フィルムの中には、例えばパターン位相差フィルムや内部反射防止フィルムのように、液晶材料の配向により透過光に位相差を付与するものがある。
【０００３】
ここでパターン位相差フィルムは、パッシブ方式の３次元画像表示に適用される光学フィルムである。パッシブ方式では、画像表示パネルの垂直方向又は水平方向に連続する画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動する。これによりパッシブ方式では、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。
【０００４】
パターン位相差フィルムは、この右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換して出射する。これによりパターン位相差フィルムは、対応する偏光フィルタを備えてなるめがねを装着するだけで、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することができるように、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。
【０００５】
パターン位相差フィルムは、透明フィルムによる基材の表面に、配向規制力を制御した配向膜が作製され、さらに液晶材料が塗布される。パターン位相差フィルムは、この液晶材料が配向膜の配向規制力によりパターンニングされて硬化され、これによりこの液晶材料層により、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。この配向膜は、例えば特許文献１、２に記載のように種々の作製手法があり、そのうちの１つが、賦型用金型の表面に形成された微細な凹凸形状を紫外線硬化性樹脂等による賦型用樹脂層に賦型して作製する方法である。ちなみにパターン位相差フィルムにおいて、透過光に右目用及び左目用の位相差を付与する領域は、遅相軸方向が、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度の何れかの組み合わせが採用される。
【０００６】
また、内部反射防止フィルムは、外来光の内部反射を低減するために用いられる光学フィルムであり、直線偏光フィルムとλ/４フィルムを組み合わせたものである。内部反射防止フィルムは、直線偏光フィルムとλ/４フィルムにより、外部からの入射光を右回り又は左回りの円偏光に変換し、フラットパネルディスプレイ内部で反射して回転方向が逆になった光を直線偏光フィルムで吸収し、これにより外来光の内部反射を低減する。反射防止フィルムに用いるλ/４フィルムは、パターニング工程を除いたパターン位相差フィルムの作製方法と同様にして作製することができ、直線偏光フィルムの透過軸に対して遅相軸が＋４５度又は−４５度の角度をなすように積層される。
【０００７】
ところでこの種の光学フィルムでは、製造過程における製品保護等を目的に、適宜、保護フィルムが設けられる。この種の保護フィルムは、そもそも製品保護を目的とするものであることから、保護フィルムを設けたことによる不良品の発生は、厳に防止することが望まれる。しかしながらパターン位相差フィルム等では、保護フィルムの配置により意に反して位相差層に配向不良が発生することが判った。
【０００８】
この問題を詳細に検討したところ、この種の光学フィルムでは、保護フィルムを構成するシリコン系やフッ素系のレベリング剤、滑剤、離型剤が配向膜に移行し、配向膜がこれらレベリング剤、滑剤、離型剤を含むことによって、この上に積層される位相差層に配向不良が発生することが判明した。またこのような配向不良は、保護フィルムからのレベリング剤等の移行によるものに限らず、配向膜の膜厚の均一性を図ったり、欠点を防止することを目的として配向膜にレベリング剤を含ませる場合にも、同様に発生することが判明した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、液晶材料の配向により透過光に位相差を付与する光学フィルムについて、製品保護等を目的とした保護フィルムを設ける場合や配向膜がレベリング剤を含む場合の製品不良を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、保護フィルムにより中間製品の保護を図る場合に、この保護フィルムに含まれるシリコン量やフッ素量を制御することにより、配向膜表面に移行するシリコン量やフッ素量を低減し、位相差層における配向不良を防止する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。また配向膜に含まれるシリコン量やフッ素量を制御することにより、同様の配向不良を防止する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１２】
（１）  透明フィルム材による基材と、透過光に位相差を与える位相差層と、前記位相差層に係る配向膜とを少なくとも備え、
前記位相差層の前記配向膜と接する部位は、
シリコン及び又はフッ素の含有率が０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下である。また好ましくは、０．０００９質量％以上、０．０１質量％以下であり、より好ましくは０．０００９質量％以上、０．００５質量％以下である。
【００１３】
（１）によれば、保護フィルムを配置してこの保護フィルムに含まれるシリコン及び又はフッ素が配向膜に移行する場合であっても、保護フィルムに含まれるシリコン量又はフッ素量の制御等により、配向膜表面のシリコン量又はフッ素量を制御することにより、位相差層における配向不良を防止することができる。これにより製品保護等を目的とした保護フィルムを設ける場合の製品不良を防止することができる。また配向膜の材料にレベリング剤等のシリコン及び又はフッ素を含む材料を含ませる場合であっても、配向不良を防止することができる。
【００１４】
（２）  （１）において、
前記位相差層は、
透過光に与える位相差が異なる第１及び第２の領域が順次交互に設けられる。
【００１５】
（２）によれば、より具体的構成の光学フィルムに適用して、保護フィルムを設ける場合の製品不良を防止することができる。
【００１６】
（３）  （２）において、
前記第１の領域が、
右目用画像データで駆動される画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える右目用領域であり、
前記第２の領域が、
左目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える左目用領域である。
【００１７】
（３）によれば、画像表示パネルとの対応により、より具体的構成の光学フィルムに適用することができる。
【００１８】
（４）  （１）、（２）、又は（３）に記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置した画像表示装置。
【００１９】
（４）によれば、製品不良を防止した光学フィルムによる画像表示装置を提供することができる。
【００２０】
（５）  透明フィルム材による基材と、透過光に位相差を与える位相差層と、前記位相差層に係る配向膜とを少なくとも備える光学フィルムの製造方法において、
防汚層が最表層である保護フィルムが、前記防汚層が最も外側になるように一方の面に貼り付けられ、他方の面には前記配向膜が設けられた前記基材を積層して保持する積層工程と、
前記積層工程で積層された前記基材について、前記配向膜の上層に、前記位相差層を作成する位相差層の作成工程とを備え、
前記防汚層は、
シリコン及び又はフッ素の含有率が、０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下である。
【００２１】
（５）によれば、保護フィルムを配置してこの保護フィルムが配向膜に付着する場合であっても、この保護フィルムから配向膜へのシリコン及び又はフッ素の移行を抑圧できることにより、位相差層における配向不良を防止することができる。これにより製品保護等を目的とした保護フィルムを設ける場合の製品不良を防止することができる。
【００２２】
（６）  （５）において、
前記積層工程は、
長尺による前記基材に前記保護フィルムを貼り付ける貼り付け工程と、
前記基材に前記配向膜を作成する工程と、
前記基材をロールにより巻き取る巻き取り工程とを備え、
前記位相差層の作成工程は、
前記巻き取り工程で巻き取ったロールより前記基材を引き出して前記位相差層を作成し、
前記保護フィルムは、
前記防汚層の下層に、前記ロールより基材を引き出す際の帯電を防止する帯電防止層が設けられる。
【００２３】
（６）によれば、
保護フィルムを設けて帯電による配向不良を防止する場合に適用して、保護フィルムを設ける場合の製品不良を防止することができる。
【００２４】
（７）  透明フィルム材による基材に配向膜を作製する配向膜作製工程と、
前記配向膜の上に位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記配向膜作製工程は、
シリコン及び又はフッ素の含有率が０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下である配向膜作製材料を前記透明フィルム材に塗布して前記配向膜を作製する。
【００２５】
（７）によれば、配向膜表面のシリコン量又はフッ素量を制御することができ、位相差層における配向不良を防止することができる。これにより配向膜の材料にレベリング剤等のシリコン及び又はフッ素を含む材料を含ませる場合であっても、配向不良を防止することができる。
【発明の効果】
【００２６】
液晶材料の配向により透過光に位相差を付与する光学フィルムについて、製品保護等を目的とした保護フィルムを設ける場合の製品不良を防止することができる。膜厚の均一化、欠点の防止を目的としてレベリング剤を配向膜の材料に含ませる場合であっても、位相差層における配向不良を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１実施形態に係る光学フィルムを示す図である。
【図２】図１の光学フィルムにおける保護フィルムの配置の説明に供する図である。
【図３】図１の光学フィルムの製造工程を示す図である。
【図４】図３の続きを示す図である。
【図５】検査工程の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向が対応する方向である）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられ、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２９】
パターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、透過光に与える位相差が異なる領域である、右目用の領域（第１の領域）Ａと左目用の領域（第２の領域）Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００３０】
なお基材２は、ＴＡＣに代えてポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等、種々の透明部材を適用することができる。なおこの実施形態では、第１及び第２の領域Ａ及びＢで遅相軸角度を異ならせて、透過光に与える位相差が異なる２つの領域を構成するものの、この透過光に与える位相差が異なる２つの領域は、この実施形態のように遅相軸角度を異ならせる場合の他に、位相差の大きさ（リタデーション）自体を異ならせる場合、これらを組み合わせる場合等が含まれる。また基材２については、配向膜３とは逆側面に、防眩処理、多層膜の積層構造による反射防止処理、モスアイ構造による反射防止処理等を実行してもよい。なおここでモスアイ構造による反射防止は、微細突起を密接配置してモスアイ（蛾の目）の原理により反射防止を図るものである。
【００３１】
配向膜３は、基材２の表面に、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付されて賦型用樹脂層５が形成された後、この賦型用樹脂層５の賦型処理により凹凸形状が作製されて形成される。この実施形態では、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお紫外線硬化樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを適用することができる。
【００３２】
このため配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂとで９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（水平方向であり、図１においては右上と左下とを結ぶ方向）に対して４５度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材２のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。これによりパターン位相差フィルム１は、各領域Ａ、Ｂの延長方向に対して位相差層４の遅相軸がそれぞれ４５度の角度をなすように形成される。
【００３３】
パターン位相差フィルム１は、基材２の他方の面に、保護フィルム７が配置される。ここで保護フィルム７は、製造工程における中間製品保護の目的で設けられることにより、最終工程において取り除かれる。しかしながら製品搬送時における製品保護、画像表示パネルへのアッセンブリの際の製品保護を兼用させるようにしてもよく、これらの場合には、兼用させる目的に応じて、例えばパターン位相差フィルム１を画像表示パネルに配置した後に取り除かれる。
【００３４】
保護フィルム７は、基材８Ｂの一方の面に粘着剤層８Ａが設けられ、この粘着剤層８Ａによりパターン位相差フィルム１に保持される。また保護フィルム７は、基材８Ｂの他方の面に、順次、帯電防止層８Ｃ、防汚層８Ｄが設けられる。ここで基材２は、パターン位相差フィルム１の製造工程に係る耐熱性、機械的強度、パターン位相差フィルム１の光学特性を阻害しない程度に十分な透明性を備え、さらに汎用性の高いフィルム材が適用される。この実施形態ではこのような条件を満足するＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）フィルムが基材８Ｂに適用される。
【００３５】
さらにこの実施形態において、基材８Ｂは、リタデーション値が４０００以下の、低配向ＰＥＴフィルムが適用される。また図２に示すように、位相差層４における１方の領域Ａ又はＢの遅相軸角度θ４に対して、遅相軸角度θ８Ｂが概ね４５度の角度となるように、より技術的には、これら２つの角度θ４及びθ８Ｂの角度の差θ４−θ８Ｂの絶対値を取った場合に、この絶対値が４５−２０度以上、４５度＋２０度以下となるように、すなわち位相差層の第１又は第２の領域における遅相軸に対して、基材８Ｂの遅相軸が４５±１５度の範囲の角度を成すように配置される。この基材８Ｂの選定により、この実施形態では、直交二コルにより位相差層４の配向欠陥を検査する際に、保護フィルム７を配置した状態でも、十分に精度良く配向欠陥を検査することができる。
【００３６】
帯電防止層８Ｃは、基材２等の剥離帯電を低減する目的で設けられ、各種の界面活性剤、導電性材料等による帯電防止剤を含有する樹脂により形成される。すなわちこの実施形態では、後述するように、基材２に配向膜を作成した後、基材２を一旦ロールに巻き取り、その後、ロールから基材２を引き出して位相差層４を作成する。基材２は、このロールから引き出す際に剥離帯電し、その結果、位相差層を作成する際に、帯電した電荷の放電により配向不良が発生する。そこでこの実施形態では、ロールから引き出す際の基材２の剥離帯電を防止するために帯電防止層８Ｃを備えてなる保護フィルム７が設けられる。
【００３７】
防汚層８Ｄは、指紋等の付着を防止する耐指紋性を確保し、さらには滑り性を向上する目的で設けられる。
【００３８】
さらにパターン位相差フィルム１は、位相差層４の上に粘着剤層９Ａ、ＰＥＴフィルム等によるセパレータフィルム９Ｂが設けられる。パターン位相差フィルム１は、セパレータフィルム９Ｂを除去して粘着剤層９Ａを露出させ、画像表示パネルのパネル面に押し付けることにより、粘着剤層９Ａによる粘着力により画像表示パネルのパネル面に保持される。なおパターン位相差フィルム１は、これらの構成に加えて、必要に応じて反射防止フィルム等が設けられる。
【００３９】
〔製造工程〕
図３は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示す略線図である。この製造工程１０は、配向膜３の作成に係る工程である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、さらに保護フィルム７が供給リール１２により提供され、この保護フィルム７からセパレータフィルムを剥離して粘着剤層８Ａを露出させた後、供給リール１１から供給される基材２に貼り合わせる。なお基材２に保護フィルム７を貼り付けた状態でこの製造工程に基材２を供給するようにしても良い。
【００４０】
この製造工程１０は、続いて基材２の、保護フィルム７を貼り付けた側とは逆側面に、ダイ１３により紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。なお紫外線硬化性樹脂の塗付にあっては、ダイによる場合に限らず、種々の手法を広く適用することができる。この製造工程１０において、ロール版２０は、パターン位相差フィルム１の配向膜３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型である。製造工程１０は、紫外線硬化樹脂が塗布された基材２を加圧ローラ１４によりロール版２０の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置１５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程１０は、ロール版２０の周側面に形成された凹凸形状を基材２に転写する。これによりこの工程１０は、基材２に配向膜３を作成する。その後、この工程１０は、剥離ローラ１６により、硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材２をロール版２０より剥離し、巻き取りリール１８に巻き取る。これによりこの製造工程１０は、配向膜３及び保護フィルム７を設けた基材２を積層させて巻き取りリール１８に保持することになる。
【００４１】
図４は、続く位相差層４の作成に供する製造工程を示す図である。この製造工程３０は、前工程により配向膜３を作成して巻き取りリール１８に巻き取った基材２を順次引き出し、ダイ３３により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置３７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール３８に巻き取る。これによりこの製造工程３０は、リール１８により積層して保持した基材２を引き出して、配向膜３の上に位相差層４を作成する。パターン位相差フィルム１は、その後、中間検査工程を経た後、巻き取りリール３８に巻き取ったシート材に、粘着剤層９Ａ、セパレータフィルム９Ｂが配置され、出荷時又は出荷先で所望の大きさに切断される。またその後、画像表示パネルに配置される。
【００４２】
図５は、この中間検査工程の説明に供する図である。ここで中間検査工程５０は、サンプリングにより製造されたパターン位相差フィルム１の光学特性を検査し、工程１０、３０の異常等を検出するために設けられる。ここでこの光学特性の検査は、位相差層４における配向欠陥である。この実施形態において、検査工程４０では、偏光板５１及び５２の間に、保護フィルム７を貼り付けた状態でパターン位相差フィルム１を配置し、偏光板５２側に配置した光源５３により照明する。この状態でこの検査工程４０は、撮像装置５４により各部を撮影し、撮影結果をモニタ装置で表示してパターン位相差フィルム１の位相差層４における欠陥の有無を検査する。
【００４３】
ここで偏光板５１、５２には、クロスニコル配置による直線偏光板が適用される。これによりパターン位相差フィルム１は、撮像結果における輝度レベルの相違により配向結果を検出することができる。また保護フィルム７に低配向ＰＥＴフィルムが適用され、位相差層４における領域Ａ又はＢの遅相軸角度θ４に対して、遅相軸角度θ８Ｂが概ね４５度の角度となるように配置されていることにより、保護フィルム７の影響を受けないようにして製品検査することができる。これによりこの実施形態では、保護フィルム７を配置した状態でも、精度良く製品検査することができる。
【００４４】
〔配向不良対策〕
ところで帯電防止層８Ｃについて上述したように、この実施形態の製造工程１０、３０では、基材２に配向膜３を作成した後、基材２を一旦巻き取りリール１８に巻き取り（図３）、その後、巻き取りリール１８から基材２を引き出して位相差層４を作成する（図４）。基材２は、このロールから引き出す際に剥離帯電し、その結果、何ら工夫を講じない場合、位相差層を作成する際に、帯電した電荷の放電により配向不良が発生する。そこでこの実施形態では、ロールから引き出す際の基材２の剥離帯電を防止するために帯電防止層８Ｃを備えてなる保護フィルム７が設けられる。
【００４５】
しかしながらこのように帯電防止層８Ｃを備えた保護フィルム７を配置して放電による配向不良を防止すると、位相差層４には、放電による配向不良とは異なる配向不良が発生することが判った。因みに、放電による配向不良は、放電軌跡によるツリー形状により発生する。これに対して保護フィルム７の配置による配向不良は、ある程度一定の領域において、液晶材料の配向方向にばらつきが生じて発生する。この保護フィルム７による配向不良を詳細に検討したところ、基材２を巻き取りリール１８に巻き取った際の基材２の積層により、保護フィルム７に設けられた防汚層８Ｄの成分が配向膜３の表面に移行し、この移行した成分により配向不良が発生することが判った。またさらに詳細に検討したところ、この移行した成分のうちで、シリコン（ケイ素）が配向不良を生じさせる成分であることが判った。
【００４６】
これによりこの実施形態では、防汚層８Ｄにおけるシリコンの含有率を０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下に設定し、これにより配向膜３の表面におけるシリコンの量を、配向不良を生じない程度に充分に抑圧した。実際上、防汚層８Ｄにおけるシリコン含有量を種々に変化させて検討した結果、完成したパターン位相差フィルム１において、配向欠陥を生じていない場合に、位相差層４の配向膜３と接する部位は、シリコンの含有率が０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下であった。
【００４７】
なお種々に検討した結果によれば、シリコンの含有率を０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下に設定して実用上十分に配向不良を防止することができるものの、好ましくはシリコンの含有率を０．０００９質量％以上、０．０１質量％以下に設定して、位相差層における液晶材料の配向性を向上することができ、さらにより好ましくは０．０００９質量％以上、０．００５質量％以下に設定して一段と液晶の配向性を向上して光学特性を向上することができる。
【００４８】
以上の構成によれば、防汚層におけるシリコンの含有率を０．０００９質量％以上、０．０７質量％以下に設定することにより、この防汚層を備えた保護フィルムを設ける場合であっても、位相差層の配向欠陥を防止することができ、これにより液晶材料の配向により透過光に位相差を付与する光学フィルムについて、製品保護等を目的とした保護フィルムを設ける場合の製品不良を防止することができる。
【００４９】
またこれに対応して光学フィルムであるパターン位相差フィルムでは、位相差層の配向膜と接する部位において、シリコンの含有率が０．０００９質量％以上、０．０７質量％であるように設定することにより、製品保護等を目的とした保護フィルムを設ける場合の製品不良を防止することができる。
【００５０】
〔第２実施形態〕
この実施形態では、第１実施形態について上述した構成において、シリコンに代えてフッ素を含有させて防汚層を作製してなる保護フィルム、若しくはシリコンに代えてシリコン及びフッ素を含有させて防汚層を作製してなる保護フィルムを適用する。またこの保護フィルムにおいて、防汚層におけるフッ素、若しくはシリコン及びフッ素の含有率を、０．０００９重量％以上、０．０７重量％以下に設定する。
【００５１】
この実施形態によれば、シリコンに代えて、フッ素、若しくはシリコン及びフッ素の含有により保護フィルムを構成する場合でも、これらの含有率の制御により、第１実施形態と同一の効果を得ることができる。
【００５２】
〔第３実施形態〕
この実施形態では、配向膜作製材料に、シリコンを含有するレベリング剤、フッ素を含有するレベリング剤、若しくはシリコン及びフッ素を含有するレベリング剤を添加する。またこれらシリコン及び又はフッ素にあっては、揮発成分を除いた含有率が、０．０００９重量％以上、０．０７重量％以下に設定される。
【００５３】
この実施形態によれば、配向膜作製材料にシリコン又はフッ素を含有させる場合にあっても、この含有量の制御により第１実施形態又は第２実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５４】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００５５】
すなわち上述の実施形態では、領域Ａ及びＢの双方で位相差を付与する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、領域Ａ及びＢの一方のみで位相差を付与する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、領域Ａ又はＢを位相差０に設定し、領域Ｂ又はＡに２５０ｎｍ程度のリタデーションを設定することによりパターン位相差フィルムを構成することができる。
【００５６】
また上述の実施形態では、紫外線硬化性樹脂を賦型用樹脂に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種の賦型用樹脂を広く適用することができる。
【００５７】
また上述の第２実施形態では、レベリング剤によりシリコン及び又はフッ素を配向膜材料層に含有させる場合について述べたが、本発明はこれに限らず、滑剤、離型剤により配向膜材料層にシリコン及び又はフッ素を含有させる場合にも広く適用することができる。
【００５８】
また上述の実施形態では、賦型処理により配向膜を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも広く適用することができる。
【００５９】
また上述の実施形態では、本発明をパターン位相差フィルムに適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、配向膜の配向規制力により液晶材料を配向させて位相差層を構成する各種の光学フィルムに広く適用することができる。具体的に、透過光に１／２波長の位相差を付与する１／２位相差板、透過光に１／４波長の位相差を付与する１／４位相差板、１／２波長位相差板と１／４位相差板との積層による位相差板等に適用することができる。
【００６０】
また上述の実施形態では、ＰＥＴフィルムにより保護フィルムを構成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、保護フィルムに適用される各種フィルム材により構成する場合にも広く適用することができる。
【００６１】
また上述の実施形態では、ロール版によりパターン位相差フィルムを生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板によりパターン位相差フィルムを生産する場合にも広く適用することができる。
【００６２】
また上述の第１及び第２実施形態では、帯電防止機能を備えた保護フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は、防汚層を備えた保護フィルムを配置する場合に広く適用することができる。
【００６３】
また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。
【符号の説明】
【００６４】
１  パターン位相差フィルム
２  基材
３  配向膜
４  位相差層
５  賦型用樹脂層
７  保護フィルム
８Ａ、９Ａ  粘着剤層
８Ｂ  基材
８Ｃ  帯電防止層
８Ｄ  防汚層
９Ｂ  セパレータフィルム
１０、３０  製造工程
１１、１２  供給リール
１３、３３  ダイ
１４  加圧ローラ
１５、３７  紫外線照射装置
１６  剥離ローラ
１８、３８  巻き取りリール
２０  ロール版
４０  母材
４１  下地層
４２、４４  無機材料層
５０  検査工程
５１、５２  偏光板
５３  光源
５４  撮像装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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