(57)【要約】【課題】  耐圧の向上およびパンチスルーの発生の抑制を図ることができる半導体装置を提供する。【解決手段】  高耐圧ＭＯＳトランジスタ（半導体装置）は、Ｎ型のウェル領域２、Ｐ型のソース領域５およびＰ型のドレイン領域６が形成されてなる半導体基板１と、半導体基板１上に形成されたゲート酸化膜７と、ドレイン領域６とゲート酸化膜７との間に設けられた分離酸化膜３とを備える。そして、ウェル領域２内には、分離酸化膜３の下側を含む領域にＰ型の第１拡散層４が形成されるとともに、第１拡散層４の下側に第１拡散層４から離間してＮ型の第２拡散層１１が形成され、第１拡散層４の不純物濃度は、ドレイン領域６の不純物濃度よりも低く、第２拡散層１１の不純物濃度は、ウェル領域２の不純物濃度よりも高い。【選択図】図１
2014157848.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型のウェル領域が形成されるとともに、当該ウェル領域内における上部に第２導電型のソース領域および第２導電型のドレイン領域が形成されてなる半導体基板と、
前記半導体基板上における、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間に相当する領域に設けられたゲート酸化膜と、
前記ドレイン領域と前記ゲート酸化膜との間に設けられた分離酸化膜と、
前記ゲート酸化膜と前記分離酸化膜の一部との上を覆うように形成されたゲート電極とを備える半導体装置において、
前記ウェル領域内には、前記分離酸化膜の下側を含む領域に第２導電型の第１拡散層が形成されるとともに、前記第１拡散層の下側に前記第１拡散層から離間した状態で第１導電型の第２拡散層が形成され、
前記第１拡散層の不純物濃度が、前記ドレイン領域の不純物濃度より低く、前記第２拡散層の不純物濃度が、前記ウェル領域の不純物濃度より高い
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記第１拡散層は、前記ドレイン領域の下側にも延びた状態で形成されてなる
ことを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第２拡散層は、前記ドレイン領域の下側に対応する領域に形成されていない
ことを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第２拡散層の前記ソース領域側の端部は、前記ドレイン領域から前記ソース領域に向かう方向において、前記第１拡散層の前記ソース領域側の端部と同じ位置、またはそれより前記ドレイン領域側に後退した位置にある
ことを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項５】
前記ウェル領域内には、前記第１拡散層と前記第２拡散層との間に、前記第１拡散層と接する状態で第２導電型の第３拡散層が形成され、
前記第３拡散層の不純物濃度は、前記第１拡散層の不純物濃度よりも低い
ことを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項６】
前記分離酸化膜は、ＬＯＣＯＳ（Ｌｏｃａｌ  Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）法により形成される
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記分離酸化膜は、ＳＴＩ（Ｓｈａｌｌｏｗ  Ｔｒｅｎｃｈ  Ｉｓｏｌａｔｉｏｎ）法により形成される
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項８】
半導体基板に第１導電型のウェル領域を形成する工程と、
前記ウェル領域内に第２導電型のソース領域および第２導電型のドレイン領域を形成する工程と、
前記ウェル領域に第２導電型の第１拡散層を形成する工程と、
前記第１拡散層を形成する工程の後に、半導体基板上における、平面視で前記第１拡散層の一部と重なる部位に分離酸化膜を形成する工程と、
前記分離酸化膜を形成する工程の後に、前記第１拡散層の下側に前記第１拡散層に接する形で第２導電型の第２拡散層を形成する工程と、
前記半導体基板上における、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間のにゲート酸化膜を形成する工程と、
前記ゲート酸化膜の上側から前記分離酸化膜の上側に亘ってゲート電極を形成する工程とを含む
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体装置に関し、特に高耐圧トランジスタを含む半導体装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の１つとして知られる高耐圧ＭＯＳトランジスタは、テレビやモニターなどに利用される液晶パネルやプラズマディスプレイパネルの表示デバイスに広く使用されている。そして、この高耐圧ＭＯＳトランジスタは、近年のパネルの画質向上に伴いより高い耐圧性能が求められるようになってきている。
従来のＰチャネル型の高耐圧ＭＯＳトランジスタの構成について、図１３を用いて説明する。
【０００３】
図１３（ａ）に示すように、この高耐圧ＭＯＳトランジスタは、Ｎ型の半導体基板１０１を備え、半導体基板１０１内には、Ｎ型のウェル領域１０２が形成されている。また、ウェル領域１０２内には、所定の間隔だけ隔ててＰ型のソース領域１０５と、Ｐ型のドレイン領域１０６とが形成されている。また、半導体基板１０１の主表面上における平面視でＰ型のドレイン領域１０６の外周部には、素子分離のための第１分離酸化膜１０３ａおよび第２分離酸化膜１０３ｂが形成されている。また、第２分離酸化膜１０３ｂとソース領域１０５との間にゲート酸化膜１０７が形成されるとともに、ゲート酸化膜１０７の上側から第２分離酸化膜１０３ｂの上側に亘ってゲート電極１０８が形成されている。そして、第１分離酸化膜１０３ａおよび第２分離酸化膜１０３ｂの下側には、Ｐ型のドレイン領域１０６に隣接してＰ型の拡散層１０４が形成されている。ここで、拡散層１０４の不純物濃度は、Ｐ型のドレイン領域１０６の不純物濃度よりも低くなっている。
【０００４】
また、この高耐圧ＭＯＳトランジスタは、図１３（ｂ）に示すように、拡散層１０４は、平面視でドレイン領域１０６の周囲を囲むように形成されている。なお、図１３（ｂ）では、第１分離酸化膜１０３ａおよび第２分離酸化膜１０３ｂが省略されている。
このように、ドレイン領域１０６の周囲にドレイン領域１０６に比べて不純物濃度が低い拡散層１０４を形成することにより、ドレイン領域１０６の外周部における不純物濃度の急峻な変化を抑制することで、ドレイン領域１０６に電圧を印加したときにおける、ドレイン領域１０６外周部と拡散層１０４との間での電界強度を低減して、耐圧の向上を実現している。言い換えると、拡散層１０４を形成することにより、ドレイン領域１０６に電圧を印加したときにおける、ドレイン領域１０６外周部と拡散層１０４との間での等電位線の間隔を広げている。
【０００５】
ところで、図１３（ａ），（ｂ）に示す構成の高耐圧ＭＯＳトランジスタでは、拡散層１０４を形成した後に熱酸化により第２分離酸化膜１０３ｂを形成するが、この第２分離酸化膜１０３ｂを形成するときに、拡散層１０４における第２分離酸化膜１０３ｂ近傍の不純物が第２分離酸化膜１０３ｂ側に拡散してしまうことがある。そうすると、拡散層１０４における第２分離酸化膜１０３ｂ近傍の不純物濃度が低くなり、その分、ドレイン領域１０６外周部と拡散層１０４における第２分離酸化膜１０３ｂ近傍との間における不純物濃度の変化の割合が大きくなる。その結果、ドレイン領域１０６外周部と拡散層１０４との間における電界強度が高くなってしまい（即ち、等電位線の間隔が狭くなってしまい）、耐圧が低下してしまう。
【０００６】
これに対して、従来から、図１４に示すように、ゲート酸化膜１０７の下側の一部に拡散層１０４に隣接する形でＰ型の拡散層１０９を形成し、第２分離酸化膜１０３ｂを形成する際に、拡散層１０９から拡散層１０４に不純物を供給することで、拡散層１０４の不純物濃度の変動を抑制する技術が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開平６−２１４４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載された技術では、第２分離酸化膜１０３ｂのソース領域１０５側の端部では、拡散層１０９の形成に際し、不純物が隣接する拡散層１０４の一部に重複してドープされ、不純物濃度が局所的に濃くなってしまうことがある。すると、第２分離酸化膜１０３ｂのソース領域１０５側の端部では、局所的に不純物濃度の変化の割合が大きくなる領域が存在し（図１４（ａ）中の破線で囲んだ部分）、それに伴い、電界強度が高く（等電位線の間隔が狭く）なることで、耐圧が低下してしまう。
【０００９】
また、ゲート酸化膜１０７の下側の一部に拡散層１０９が形成されていると、その分、チャネル長Ｌ１が短くなっているため、ソース領域１０５とドレイン領域１０６との間にパンチスルーが生じ易くなってしまう。
本発明は上記事由に鑑みてなされたものであり、耐圧の向上およびパンチスルーの発生の抑制を図ることができる半導体装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る半導体装置は、第１導電型のウェル領域が形成されるとともに、当該ウェル領域内における上部に第２導電型のソース領域および第２導電型のドレイン領域が形成されてなる半導体基板と、半導体基板上における、ソース領域とドレイン領域との間に相当する領域に設けられたゲート酸化膜と、ドレイン領域とゲート酸化膜との間に設けられた分離酸化膜と、ゲート酸化膜と分離酸化膜の一部との上を覆うように形成されたゲート電極とを備える半導体装置において、ウェル領域内には、分離酸化膜の下側を含む領域に第２導電型の第１拡散層が形成されるとともに、第１拡散層の下側に第１拡散層から離間した状態で第１導電型の第２拡散層が形成され、第１拡散層の不純物濃度が、ドレイン領域の不純物濃度より低く、第２拡散層の不純物濃度が、ウェル領域の不純物濃度より高いことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本構成によれば、第２導電型の第１拡散層の下側に、第１拡散層から離間した状態で第１導電型の第２拡散層を形成され、且つ、第１拡散層の不純物濃度が、ドレイン領域の不純物濃度より低く、第２拡散層の不純物濃度が、ウェル領域の不純物濃度より高いことにより、第１拡散層内において空乏層が半導体基板の厚み方向に広がるとともに、当該厚み方向に直交する方向にも広がることで、第１拡散層内における等電位線の間隔が広がるので、分離酸化膜の外周部の電界強度が低下するから、耐圧の向上を図ることができる。言い換えると、空乏層端の曲率半径が大きくなり、等電位線の曲線の曲がり具合が緩やかになるため、耐圧の向上を図ることができる。また、ゲート酸化膜下側のチャネル領域の長さを維持することができるので、ドレイン領域とソース領域との間でのパンチスルーの発生を抑制することができる。
【００１２】
また、本発明に係る半導体装置は、上記第１拡散層が、上記ドレイン領域の下側にも延びた状態で形成されてなるものであってもよい。
また、本発明に係る半導体装置は、上記第２拡散層が、上記ドレイン領域の下側に対応する領域に形成されていないものであってもよい。
また、本発明に係る半導体装置は、上記第２拡散層の上記ソース領域側の端部が、上記ドレイン領域からソース領域に向かう方向において、上記第１拡散層のソース領域側の端部と同じ位置、またはそれよりドレイン領域側に後退した位置にあってもよい。
【００１３】
また、本発明に係る半導体装置は、ウェル領域内に、上記１拡散層と上記第２拡散層との間に、第１拡散層と接する状態で第２導電型の第３拡散層が形成され、第３拡散層の不純物濃度が、第１拡散層の不純物濃度より低くてもよい。
本構成によれば、上記第１拡散層と上記第２拡散層との間に、第１拡散層と接する状態で第２導電型の第３拡散層が形成され、且つ、第３拡散層の不純物濃度が第１拡散層の不純物濃度よりも低いことにより、第１拡散層内における空乏層が広がり、半導体基板の厚み方向および当該厚み方向に直交する方向における互いに隣接する等電位線の間隔が広がるので、分離酸化膜の外周部の電界強度を低減できるから、耐圧の向上を図ることができる。
【００１４】
また、本発明に係る半導体装置は、上記分離酸化膜が、ＬＯＣＯＳ（Ｌｏｃａｌ  Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）法により形成されるものであってもよい。
また、本発明に係る半導体装置は、上記分離酸化膜が、ＳＴＩ（Ｓｈａｌｌｏｗ  Ｔｒｅｎｃｈ  Ｉｓｏｌａｔｉｏｎ）法により形成されるものであってもよい。
また、本発明は、半導体基板に第１導電型のウェル領域を形成する工程と、ウェル領域内に第２導電型のソース領域および第２導電型のドレイン領域を形成する工程と、ウェル領域に第２導電型の第１拡散層を形成する工程と、第１拡散層を形成する工程の後に、半導体基板上における、平面視で第１拡散層の一部と重なる部位に分離酸化膜を形成する工程と、分離酸化膜を形成する工程の後に、第１拡散層の下側に第１拡散層に接する形で第２導電型の第２拡散層を形成する工程と、半導体基板上における、ソース領域とドレイン領域との間のにゲート酸化膜を形成する工程と、ゲート酸化膜の上側から分離酸化膜の上側に亘ってゲート電極を形成する工程とを含む半導体装置の製造方法であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施の形態１に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）におけるＡで示した部位の不純物濃度の深さ方向のプロファイル、（ｃ）は平面図である。
【図２】実施の形態１に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタと比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタについて、ドレイン領域に電圧を印加したときにおける等電位線の分布を示し、（ａ）は実施の形態１に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタについての等電位線の分布、（ｂ）は比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタについての等電位線の分布を示す図である。
【図３】実施の形態１に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタの製造方法の主要工程における断面図を示したものである。
【図４】実施の形態２に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）におけるＡ−Ａ線で示した部位の不純物濃度の深さ方向のプロファイル、（ｃ）は平面図である。
【図５】実施の形態２に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタについて、ドレイン領域に電圧を印加したときにおける等電位線の分布を示す図である。
【図６】変形例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は平面図、（ｂ）はＸ−Ｘ線で破断した断面図である。
【図７】変形例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は平面図、（ｂ）はＸ−Ｘ線で破断した断面図である。
【図８】変形例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は一の変形例に係る平面図、（ｂ）は他の変形例に係る平面図である。
【図９】変形例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は平面図、（ｂ）はＸ−Ｘ線で破断した断面図である。
【図１０】変形例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は平面図、（ｂ）はＸ−Ｘ線で破断した断面図である。
【図１１】変形例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は電気力線の分布を示す図である。
【図１２】変形例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタの製造方法の主要工程における断面図を示したものである。
【図１３】従来例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。なお、（ｂ）におけるＸ−Ｘ線で破断したものが（ａ）である。
【図１４】従来例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタを示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。なお、（ｂ）におけるＸ−Ｘ線で破断したものが（ａ）である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
＜実施の形態１＞
＜１＞構成
本実施の形態に係る半導体装置であるＰチャネル型の高耐圧ＭＯＳトランジスタの構成について、図１を用いて説明する。
図１（ａ）に示すように、高耐圧ＭＯＳトランジスタは、Ｎ型の半導体基板（シリコン基板）１の主表面上に、素子分離のために、分離酸化膜３が形成されている。このシリコン基板１には、主表面から所定の深さ（本実施の形態では、主表面から深さ２μｍ乃至１５μｍ程度）に至るまでの領域に、Ｎ型のウェル領域２が形成されている。このウェル領域２の不純物濃度は、シリコン基板１自体の不純物濃度よりも高い。また、ウェル領域２の上部における分離酸化膜３によって囲まれた領域には、Ｐ型のドレイン領域６が形成されており、ウェル領域２の上部における、ドレイン領域６から所定の間隔だけ隔てた位置にＰ型のソース領域５が形成されている。分離酸化膜３の下側には、ドレイン領域６の下側にも延びた状態でＰ型の第１拡散層４が形成されている。また、シリコン基板１上における、ソース領域５とドレイン領域６との間には、ゲート酸化膜７が形成されており、ゲート酸化膜７と分離酸化膜３の一部を覆うようにゲート電極８が形成されている。そして、第１拡散層４の下側には、第１拡散層４から離間した状態でウェル領域２よりも不純物濃度の高いＮ型の第２拡散層１１が形成されている。
【００１７】
図１（ａ）のＡ−Ａ方向における不純物濃度のプロファイルを図１（ｂ）に示す。このプロファイルには、図１（ｂ）に示すように、第１拡散層４の不純物濃度の分布中心に対応する深さおよび第２拡散層１１の不純物濃度の分布中心に対応する深さそれぞれにピークが存在し、この２つのピークから第１拡散層４の位置と第２拡散層１１の位置とを特定することができる。
【００１８】
シリコン基板１は、シリコン単結晶により形成され、比抵抗が５乃至７０Ω・ｃｍ程度である。
ここで、ウェル領域２は、不純物濃度が平均で２×１０１４乃至１×１０１６ｃｍ−３程度である。
第１拡散層４は、不純物濃度が平均で４×１０１４乃至１×１０１７ｃｍ−３程度であり、分離酸化膜３の下面から深さ１μｍ程度のところまで形成されている。この第１拡散層４は、ホウ素をイオン注入することにより形成される。
【００１９】
第２拡散層１１は、不純物濃度が平均で３×１０１４乃至９×１０１６ｃｍ−３程度であり、分離酸化膜３の下面から深さ１．０乃至２．５μｍ程度のところまで形成されている。この第２拡散層１１は、リンイオンを注入することにより形成される。
また、第２拡散層１１におけるソース領域５側の端部は、第１拡散層４のソース領域５側の端部より０乃至１μｍ程度、ドレイン領域６側に位置する。
【００２０】
また、図１（ｃ）に示すように、高耐圧ＭＯＳトランジスタは、第１拡散層４および第２拡散層１１がドレイン領域６の周囲を囲むように形成されるとともに、第２拡散層１１が、平面視で第１拡散層４と重なるように位置している。なお、図１（ａ）は、図１（ｃ）におけるＸ−Ｘ線で破断した断面図に相当する。
次に、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタと、図１４に示す構成と同じ構成の比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタとについて、ドレイン領域６に電圧を印加したときにおける等電位線の分布を図２（ａ）および（ｂ）に示す。このとき、ウェル領域２、ソース領域５、ゲート電極８のそれぞれはグラウンド電位（０Ｖ）となっている。
【００２１】
比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタでは、拡散層２０９を形成する際に不純物が重複してドープされる部位である、第２分離酸化膜２０３ｂのソース領域２０５側の端部で、局所的に不純物濃度が濃くなる。そして、ドレイン領域２０６に電圧を印加したときにおける等電位線の分布は、この第２分離酸化膜２０３ｂのソース領域２０５側の端部での不純物濃度の分布を反映して、図２（ｂ）に示すように、第２分離酸化膜２０３ｂのソース領域２０５側の端部における等電位線の間隔が局所的に狭くなり、当該部位での電界強度が高くなっている。
【００２２】
一方、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタでは、図２（ａ）に示すように、第１拡散層４内における等電位線の分布が半導体基板１の厚み方向（図２（ａ）中の矢印Ａ１参照）およびソース領域５からドレイン領域６へ向かう方向（厚み方向に直交する方向）に広がり（図２（ａ）中の矢印Ａ２参照）、各等電位線同士の間隔が広がっている。これは、ウェル領域２に比べて不純物濃度の高い第２拡散層１１を第１拡散層４の下側に第１拡散層４から離間した状態で形成することにより、第１拡散層４内における空乏層の深さ方向および水平方向の広がりが変化したことの現われである。これにより、分離酸化膜３近傍の電界強度が低減されている。
【００２３】
つまり、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタは、分離酸化膜３のソース領域５側の端部を含む分離酸化膜３近傍における電界強度が低減されることにより、耐圧の向上が図られている。
また、分離酸化膜３のソース領域５側の端部における等電位線とゲート酸化膜７の下面とのなす角度は、比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタに比べて、大きくなっている。つまり、分離酸化膜３のソース領域５側の端部に発生する電界のゲート酸化膜７に直交する成分の大きさが減少している。これにより、ゲート酸化膜７へのホットキャリアの注入等が軽減するので、耐圧向上を図ることができる。
【００２４】
また、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタは、図１（ａ）に示すように、第１拡散層４のソース領域５側の端部が、ゲート酸化膜７の下側のチャネル領域にせり出していないことにより、比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタに比べて、ソース５領域とドレイン領域６との間でのパンチスルー発生を抑制できる。
ここにおいて、比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタの場合、パンチスルーの発生を抑制するために、チャネル長Ｌ１を大きくすることが考えられるが、チャネル長Ｌ１を大きくすると、その分、トランジスタ全体のサイズが大きくなってしまい、小型化を図る上で障害となる。これに対して、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタの場合、チャネル長を維持しつつ耐圧を向上させることができるので、トランジスタ全体のサイズの小型化を図ることができる。
【００２５】
また、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタは、Ｎ型の第２拡散層１１が、第１拡散層４の下側における、第１拡散層４から離間した位置に形成されていることにより、第２拡散層１１を形成する際に、第１拡散層４の一部に第２拡散層１１が干渉することを抑制して、第１拡散層４の不純物濃度に斑が生じることを抑制できるので、第１拡散層４内の等電位線の分布を安定させることができるから、耐圧特性のばらつきを抑制することができる。また、第１拡散層４のうち、分離酸化膜３の下側の電流経路となる領域の拡散抵抗に影響しない。従って、分離酸化膜３の下側の電流パス（ドリフト領域）の抵抗増大を抑制することができる。
【００２６】
＜製造方法＞
本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタの製造方法について説明する。
まず、半導体基板（シリコン基板）１上におけるＮ型のウェル領域２を形成する予定のウェル領域形成予定領域以外の領域に、フォトリソグラフィ技術を利用してレジストマスクを形成する。その後、レジストマスクを介してリンイオンを注入する。ここで、イオン注入は、加速エネルギーを１００乃至１５０ｋｅＶ、ドーズ量を２．０×１０１１乃至１．０×１０１２ｃｍ−２として行う。その後、レジストマスクを除去し、温度１０００℃乃至１２００℃で熱処理を４時間乃至１０時間行い、注入したリンイオンを活性化させることにより、シリコン基板１の表面から深さ２μｍ乃至１５μｍ程度の深さのウェル領域２が形成される（図３（ａ）参照）。
【００２７】
次に、シリコン基板１上に熱酸化処理によりシリコン酸化膜１２を形成した後に、ＣＶＤ法によりシリコン窒化膜１３を形成し、ＬＯＣＯＳ（Ｌｏｃａｌ  Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）法により分離酸化膜３を形成する予定の分離酸化膜形成予定領域以外の領域をマスクするレジストマスクを形成する。そして、当該レジストマスクを用いてシリコン窒化膜１３だけをドライエッチングで除去することにより分離酸化膜形成予定領域にスリットＳを形成し、その後、レジストマスクを除去する。ここで、ＬＯＣＯＳ法により分離酸化膜３を形成する際、熱酸化処理を行うが、この熱酸化処理の際、スリットＳ周部のシリコン窒化膜１３が熱応力によってシリコン基板１の上方に捲り上がる。これにより、分離酸化膜３の面積は、シリコン窒化膜１３に形成されたスリットＳの面積に比べて大きくなる。従って、スリットＳの面積は、実際に作ろうとする分離酸化膜３の面積よりも小さくなるように作製する必要がある。その後、第１拡散層４を形成する予定の第１拡散層形成予定領域以外の領域をマスクするレジストマスク１４を形成した後に、イオン注入により、ホウ素をイオン注入する。ここで、イオン注入は、加速エネルギー１００乃至１５０ｋｅＶ、ドーズ量を５×１０１２乃至２×１０１３ｃｍ−２として行う（図３（ｂ）参照）。
【００２８】
そして、レジストマスク１４を除去した後、熱酸化処理により分離酸化膜３を形成する。ここにおいて、その後、シリコン窒化膜１３およびシリコン酸化膜１２の一部（分離酸化膜３以外の領域に形成されたシリコン酸化膜１２）を除去する（図３（ｃ）参照）。この熱酸化処理の際に加わる熱により、ホウ素イオンが熱拡散および活性化して第１拡散層４が形成される。
【００２９】
続いて、第２拡散層１１を形成する予定の第２拡散層形成予定領域以外の領域をマスクするレジストマスク１５を形成し、リンイオンを注入する（図３（ｄ）参照）。ここで、イオン注入は、加速エネルギー１０００乃至３０００ｋｅＶ、ドーズ量を１×１０１１乃至１×１０１２ｃｍ−２として行う。
その後、レジストマスク１５を除去し、ゲート酸化膜７を形成した後に、ポリシリコン膜を形成する。次に、フォトリソグラフィ技術を利用してゲート電極８を形成するゲート電極形成予定領域以外の領域をマスクするレジストマスクを形成し、ドライエッチングによりポリシリコン膜をエッチングして、ゲート電極８を形成する（図３（ｅ）参照）。
【００３０】
次に、フォトリソグラフィ技術を利用して、ソース領域５およびドレイン領域６を形成する予定のソース領域形成予定領域およびドレイン領域形成予定領域以外の領域をマスクするレジストマスクを形成した後に、ＢＦ２イオンを注入する。ここで、イオン注入は、加速エネルギー２０乃至４０ｋｅＶ、ドーズ量を１×１０１５乃至５×１０１５ｃｍ−２として行う。その後、レジストマスクを除去することにより、ソース領域５およびドレイン領域６が形成される（図３（ｆ）参照）。
【００３１】
分離酸化膜３の形成前に第２拡散層１０を形成すると、分離酸化膜３を形成する時の加熱によって、表面に拡散され、ドリフト領域は薄くなる、またチャネル部分が濃くなることで電流能力を落としてしまうが、本発明では、電流能力の低下を防止できる。
また、第１拡散層４の下側に第２拡散層１１を形成することにより、第１拡散層４内の不純物が深さ方向に拡散するのを抑えることができるので、第１拡散層４の不純物濃度に斑が発生することを抑制できるから、第１拡散層４内の等電位線の分布を安定させることができ、耐圧の劣化を抑制することができる。
【００３２】
＜実施の形態２＞
本実施の形態に係るＰチャネル型の高耐圧ＭＯＳトランジスタの構成について、図４を用いて説明する。
図４（ａ）に示すように、この高耐圧ＭＯＳトランジスタは、Ｎ型のシリコン基板１の主表面上に、素子分離のために、分離酸化膜３が形成されている。このシリコン基板１は、主表面から所定の深さ（本実施の形態では、主表面から深さ２μｍ乃至１５μｍ程度）に至るまでの領域にＮ型のウェル領域２が形成されている。このウェル領域２の不純物濃度は、シリコン基板１自体の不純物濃度よりも高い。また、ウェル領域２内における上部であって且つ分離酸化膜３によって囲まれた領域には、Ｐ型のドレイン領域６が形成されており、このドレイン領域６から所定の間隔だけ隔てた位置にＰ型のソース領域５が形成されている。また、分離酸化膜３の下側には、ドレイン領域６の下側にも延びた状態でＰ型の第１拡散層４が形成されている。また、シリコン基板１上におけるソース領域５とドレイン領域６との間に相当する領域にはゲート酸化膜７が形成されており、ゲート酸化膜７の上側から分離酸化膜３の上側に亘ってゲート電極８が形成されている。そして、第１拡散層４の下側には、第１拡散層４から離間した状態でＮ型の第２拡散層１１が形成されている。この第２拡散層１１の不純物濃度は、ウェル領域２の不純物濃度よりも高い。また、第１拡散層４と第２拡散層１１との間には、第１拡散層４と接する状態でＰ型の第３拡散層１０が形成されている。この第３拡散層１０の不純物濃度は、第１拡散層４の不純物濃度よりも低い。
【００３３】
図４（ａ）のＡ−Ａ方向における不純物濃度のプロファイルを図４（ｂ）に示す。このプロファイルには、図４（ｂ）に示すように、第１拡散層４の不純物濃度の分布中心に対応する深さ、第２拡散層１１の不純物濃度の分布中心に対応する深さおよび第３拡散層１０の不純物濃度の分布中心に対応する深さそれぞれにピークが存在し、この３つのピークから第１拡散層４の位置と、第２拡散層１１の位置と、第３拡散層１０とを特定することができる。
【００３４】
シリコン基板１は、シリコン単結晶により形成され、比抵抗は５乃至７０Ω・ｃｍ程度である。
ここで、ウェル領域２は、不純物濃度が２×１０１４乃至１×１０１６ｃｍ−３程度である。
第１拡散層４は、不純物濃度が４×１０１４乃至１×１０１７ｃｍ−３程度であり、分離酸化膜３の下側から深さ１μｍ程度のところまで形成されている。
【００３５】
第３拡散層１０は、不純物濃度が２×１０１４乃至９×１０１６ｃｍ−３程度であり、分離酸化膜３の下側から深さ０．５乃至２μｍ程度のところまで形成されている。この第１拡散層４および第３拡散層１０は、ホウ素をイオン注入することにより形成される。また、第３拡散層１０におけるソース領域５側の端部は、第１拡散層４のソース領域５側の端部より０乃至１μｍ程度、ドレイン領域６側に位置する。そして、第３拡散層１０は、図４（ｃ）に示すように、平面視で第１拡散層４の内側に位置している。
【００３６】
また、第２拡散層１１は、不純物濃度が３×１０１４乃至９×１０１６ｃｍ−３程度であり、分離酸化膜３の下側から深さ１乃至２．５μｍ程度のところまで形成されている。また、第２拡散層１１におけるソース領域５側の端部は、第３拡散層１０におけるソース領域５側の端部と略同じ位置にある。そして、第２拡散層１１は、図４（ｃ）に示すように、平面視で第１拡散層４の内側に位置しており、平面視で第３拡散層１０と重なるように形成されている。従って、第３拡散層１０および第２拡散層１１をイオン注入により形成する際、共通のマスクを使用することができるので、マスク形成工程を省略することができるから、製造コストの削減を図ることができる。
【００３７】
次に、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタについて、ドレイン領域６に電圧を印加したときにおける等電位線の分布を図５に示す。
比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタでは、図２（ｂ）に示すように、ドレイン領域１０６に電圧を印加したときにおける、等電位線の分布が、拡散層１０４と拡散層１０９とが重なる領域である、第２分離酸化膜１０３ｂのソース領域５側の端部で、局所的に不純物濃度が濃くなる。このため、第２分離酸化膜１０３ｂのソース領域５側の端部における等電位線の間隔が局所的に狭くなっている。
【００３８】
一方、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタでは、図５に示すように、図１３に示す構成の高耐圧ＭＯＳトランジスタに比べて、等電位線の分布が第２拡散層１１側にシフトし（図５中の矢印参照）、等電位線の間隔が広がっている。つまり、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタは、第２分離酸化膜３ｂのソース領域５側における電界強度が低く抑制されるので、耐圧の向上を図ることができる。
【００３９】
また、分離酸化膜３のソース領域５側の端部における等電位線とゲート酸化膜７の下面とのなす角度は、前述の比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタに比べて、大きくなっている。つまり、分離酸化膜３のソース領域５側の端部に発生する電界のゲート酸化膜７に直交する成分の大きさが減少している。これにより、ゲート酸化膜７へのホットキャリアの注入等が軽減するので、耐圧向上を図ることができる。
【００４０】
結局、本実施の形態に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタでは、第１拡散層４と第２拡散層１１との間に、第１拡散層４に接する状態で第１拡散層４よりも不純物濃度の低い第３拡散層１０が形成されていることにより、第１拡散層４および第３拡散層１０内の空乏層の広がり形状が変わり、それに伴って、分離酸化膜３の外周部における等電位線の間隔が広がる、即ち、分離酸化膜３の外周部における電界強度が低下するので、耐圧の向上が図れる。
【００４１】
また、第３拡散層１０のソース領域５側の端部が、第１拡散層４のソース領域５側の端部よりもドレイン領域６側に位置することにより、前述の比較例に係る高耐圧ＭＯＳトランジスタに比べて、ソース５領域とドレイン領域６との間でのパンチスルーの発生を抑制することができる。
この高耐圧ＭＯＳトランジスタは、電流能力に大きな影響を与える分離酸化膜３の下側の領域に、第１拡散層４および第２拡散層１１が半導体基板１の厚み方向で重なる形で形成されていることにより、図１４に示す構成の高耐圧ＭＯＳトランジスタに比べて、分離酸化膜３の下側の電流パス（ドリフト領域）の抵抗を下げることができる。
＜変形例＞
（１）前述の実施の形態１では、図１（ｃ）に示すように、平面視で第２拡散層１１が第１拡散層４と略重なる例について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図６（ａ）に示すように、平面視で第２拡散層１１が第１拡散層４に比べて小さくなるように形成されてなるものであってもよい。図６（ａ）におけるＸ−Ｘ線で破断した断面図が、図６（ｂ）である。本変形例では、図６（ｂ）に示すように、第２拡散層１１におけるソース領域５側の端部が、第１拡散層４におけるソース領域５側の端部よりもドレイン領域６側の位置にある。
【００４２】
或いは、図７（ａ）に示すように、平面視で第２拡散層１１が第１拡散層４に比べて大きくなるように形成されてなるものであってもよい。図７（ａ）におけるＸ−Ｘ線で破断した断面図が、図７（ｂ）である。本変形例では、図７（ｂ）に示すように、第２拡散層１１におけるソース領域５側の端部が、第１拡散層４におけるソース領域５側の端部よりもソース領域５側の位置にある。
【００４３】
（２）前述の実施の形態１では、図１（ｃ）に示すように、第２拡散層１１が、平面視で矩形状に形成されてなる例について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図８（ａ）に示すように、第２拡散層１１が、平面視でコーナー部分が円弧状に形成されてなるものであってもよい。また、図８（ｂ）に示すように、第２拡散層１１が、平面視で矩形のコーナー部分を直線状に切欠してなる八角形状に形成されてなるものであってもよい。本変形例によれば、第２拡散層１１におけるコーナー部での電界集中を緩和することができるので、耐圧の向上を図ることができる。言い換えると、空乏層端の曲率半径が大きくなり、曲線の曲がり具合が緩やかになるため、耐圧の向上を図ることができる。
【００４４】
（３）前述の実施の形態１では、第１拡散層４が、平面視でドレイン領域６と重なる部位に形成され、且つ、第２拡散層１１が、平面視でドレイン領域６と重なる部位に形成されてなる例について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、第２拡散層１１が、平面視でドレイン領域６と重なる部位に存在しない構成であってもよい（図９（ａ）参照）。図９（ａ）におけるＸ−Ｘ線で破断した断面図が、図９（ｂ）である。本変形例では、図９（ｂ）に示すように、第２拡散層１１が、ドレイン領域６の下側に対応する領域に形成されていない。
【００４５】
（４）前述の実施の形態２では、図４（ｃ）に示すように、第２拡散層１１および第３拡散層１０が、平面視で第１拡散層４の内側に形成されてなる例について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図１０（ａ）に示すように、平面視で第１拡散層４、第２拡散層１１および第３拡散層１０が略重なるように形成されてなるものであってもよい。図９（ａ）におけるＸ−Ｘ線で破断した断面図が、図９（ｂ）である。本変形例では、図１０（ｂ）に示すように、第２拡散層１１および第３拡散層１０におけるソース領域５側の端部が、第１拡散層４におけるソース領域５側の端部と略等しい位置にある。
【００４６】
（５）前述の実施の形態２では、図４（ｃ）に示すように、第２拡散層１１および第３拡散層１０が、平面視で矩形状に形成されてなる例について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図１１（ａ）に示すように、第２拡散層１１および第３拡散層１０が、平面視でコーナー部分が円弧状に形成されてなるものであってもよい。或いは、第２拡散層１１および第３拡散層１０が、平面視で矩形のコーナー部分を直線状に切欠してなる八角形状に形成されてなるものであってもよい。本変形例によれば、第２拡散層１１および第３拡散層１０におけるコーナー部での電界の集中を緩和することができるので、耐圧の向上を図ることができる。例えば、図１１（ｂ）に示すように、ゲート電極８およびソース領域５が、ドレイン領域６の周囲を囲むように形成されている場合、第２拡散層１１および第３拡散層１０における各コーナー部では、図１１（ｂ）中の矢印で示すように、電気力線（電界）の集中が緩和されることに伴い、電界強度が低減されることになる。
【００４７】
（６）前述の実施の形態１および２では、分離酸化膜３をＬＯＣＯＳ法により形成する例について説明したが、分離酸化膜３の形成方法はＬＯＣＯＳ法に限定されるものではなく、例えば、ＳＴＩ（Ｓｈａｌｌｏｗ  Ｔｒｅｎｃｈ  Ｉｓｏｌａｔｉｏｎ）法により形成されるものであってもよい。以下、ＳＴＩ法により分離酸化膜３を形成する場合の製造方法を図１２に基づいて説明する。
【００４８】
まず、半導体基板（シリコン基板）１に、リンイオンの注入および熱処理を行うことで、シリコン基板１にウェル領域２を形成する（図１２（ａ）参照）。なお、具体的な方法は、実施の形態１と同様なので説明を省略する。
次に、シリコン基板１上に熱酸化処理によりシリコン酸化膜１２を形成した後に、ＣＶＤ法によりシリコン窒化膜１３を形成し、ＳＴＩ法により分離酸化膜３を形成する予定の分離酸化膜形成予定領域以外の領域をマスクするレジストマスクを形成し、当該レジストマスクを用いてシリコン窒化膜１３だけをドライエッチングで除去する。その後、第１拡散層４を形成する予定の第１拡散層形成予定領域以外の領域をマスクするレジストマスク１４を形成した後に、イオン注入および熱処理を行うことにより、第１拡散層４を形成すし（図１２（ｂ））、その後、レジスト１４を除去する。
【００４９】
次に、フォトリソグラフィ技術を利用して、分離酸化膜３を形成する予定の分離酸化膜形成予定領域以外の領域をマスクするレジストマスクを再び形成し、当該レジストマスクを用いてシリコン酸化膜１２をドライエッチングで除去し、更に、シリコン基板１をエッチングした後に、レジストマスクを除去することで、トレンチ構造を形成する（図１２（ｃ）参照）。その後、熱酸化法およびＣＶＤ法により、トレンチを埋めるようにシリコン酸化膜を形成し、その後、ＣＭＰ法による平坦化、シリコン窒化膜１３およびシリコン酸化膜の一部の除去を行うことにより、図１２（ｄ）に示す構造を得る。図１２（ｄ）の構造を形成した後の工程は、図３（ｄ）乃至（ｆ）と同様なので、説明を省略する。
【００５０】
（７）前述の実施の形態１および２では、ウェル領域２および第２拡散層１１がＮ型、第１拡散層４および第３拡散層１０がＰ型である例について説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、ウェル領域２および第２拡散層１１がＰ型、第１拡散層４および第３拡散層１０がＮ型であってもよい。
（８）前述の実施の形態１では、第１拡散層４の不純物濃度が平均で４×１０１４乃至１×１０１７ｃｍ−３程度であり、分離酸化膜３の下側から深さ１μｍ程度のところまで形成され、また、第２拡散層１１の不純物濃度が平均で３×１０１４乃至９×１０１６ｃｍ−３程度であり、分離酸化膜３の下側から深さ０．５乃至２μｍ程度のところまで形成されてなる例について説明したが、第１拡散層４の不純物濃度および形成される領域の深さはこれに限定されるものでなく、第１拡散層４と第２拡散層１１とが離間して配置され、且つ、第２拡散層１１の不純物濃度がウェル領域２の不純物濃度より高ければよい。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明は、高耐圧が求められる半導体装置として有用である。
【符号の説明】
【００５２】
１    シリコン基板（半導体基板）
２    ウェル領域
３    分離酸化膜
４    第１拡散層
５    ソース領域
６    ドレイン領域
７    ゲート酸化膜
８    ゲート電極
１０  第３拡散層
１１  第２拡散層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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