(57)【要約】【課題】複数の蒸着源の蒸着量を均一に調整することができる蒸着装置を提供する。また、１つのテスト用基板を用いて問題のある蒸着源を正確に把握できる蒸着量測定方法を提供する。【解決手段】本発明にかかる蒸着装置は、蒸着物質を噴射する複数の蒸着源と、蒸着源に対向するように基板を固定させる基板固定部と、蒸着源の一側に配置され、各蒸着源の入口を開閉できる蒸着源シャッタと、蒸着源と基板固定部に固定された基板との間に配置され、蒸着物質の一部が貫通して基板に蒸着できるように構成されたメインシャッタとを含む。本発明の実施形態によれば、効率的に問題のある蒸着源を把握し、複数の蒸着源の蒸着量を均一に調整することができる。また、問題のある蒸着源を正確に把握することにより、材料の損失を低減させることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着物質を噴射する複数の蒸着源と、
前記蒸着源に対向するように基板を固定させる基板固定部と、
前記蒸着源の一側に配置され、前記各蒸着源の入口を開閉できる蒸着源シャッタと、
前記蒸着源と前記基板固定部に固定された前記基板との間に配置され、前記蒸着物質の一部が貫通して前記基板に蒸着できるように構成されたメインシャッタとを含むことを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
前記メインシャッタは、厚さ方向に貫通する複数の開口部が形成されるメインシャッタ本体を含むことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記複数の開口部は、前記複数の蒸着源の入口の位置にそれぞれ対応して形成されることを特徴とする請求項２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記蒸着源に対向する前記メインシャッタ本体の一面に配置され、前記各開口部を囲むガイド部をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記複数の蒸着源が、第１方向のｍ行と、前記第１方向と交差する第２方向のｎ列とを有するマトリクス形態で配置され、
前記開口部は、前記第１方向のｍ行と、前記第２方向のｋ（ｋ＜ｎ）列とを有するマトリクス形態で形成されることを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項に記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記メインシャッタは、前記第２方向に移動可能であることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記基板固定部は、前記第２方向に移動可能であることを特徴とする請求項５または６に記載の蒸着装置。
【請求項８】
蒸着物質を噴射する複数の蒸着源と、表面が複数の区域に区分されるテスト用基板とを対向して配置させるテスト用基板配置ステップと、
前記テスト用基板の表面のうち一区域を前記蒸着物質が付着する蒸着領域として設定する蒸着領域設定ステップと、
前記複数の蒸着源のうち、蒸着量を測定する一部の蒸着源を選択して開放する蒸着源の第１開放ステップと、
前記テスト用基板の表面の前記一区域に前記蒸着源に対応する位置を中心として前記蒸着物質を部分的に蒸着する第１蒸着ステップと、
前記一部の蒸着源を閉鎖する蒸着源の第１閉鎖ステップと、を含むことを特徴とする蒸着量測定方法。
【請求項９】
前記蒸着領域設定ステップは、
厚さ方向に貫通する複数の開口部が形成されるメインシャッタ本体を含むメインシャッタを、前記蒸着源と前記テスト用基板との間に配置し、
前記開口部を前記テスト用基板の蒸着領域および前記蒸着源の入口と重なるように整列することを含むことを特徴とする請求項８に記載の蒸着量測定方法。
【請求項１０】
前記蒸着源の第１閉鎖ステップの後、
前記テスト用基板の表面の前記一区域とは異なる区域を、前記蒸着物質が付着する蒸着領域として再設定する蒸着領域再設定ステップと、
前記複数の蒸着源のうち蒸着量を測定する他の蒸着源を選択して開放する蒸着源の第２開放ステップと、
前記テスト用基板の表面の前記他の領域に前記蒸着源に対応する位置を中心として前記蒸着物質を部分的に蒸着する第２蒸着ステップと、
前記他の蒸着源を閉鎖する蒸着源の第２閉鎖ステップと、を含むことを特徴とする請求項８または９に記載の蒸着量測定方法。
【請求項１１】
前記蒸着領域設定ステップおよび前記蒸着領域再設定ステップは、
厚さ方向に貫通する複数の開口部が形成されるメインシャッタ本体を含むメインシャッタを、前記蒸着源と前記基板との間に配置し、
前記各開口部を前記テスト用基板の蒸着領域および前記各蒸着源の入口と重なるように整列することを含むことを特徴とする請求項１０に記載の蒸着量測定方法。
【請求項１２】
前記蒸着領域再設定ステップ、前記蒸着源の第２開放ステップ、前記第２蒸着ステップおよび前記蒸着源の第２閉鎖ステップは、前記複数の蒸着源がすべて選択されるまで繰り返し実施されることを特徴とする請求項１０または１１に記載の蒸着量測定方法。
【請求項１３】
前記複数の蒸着源は、第１方向のｍ行と、前記第１方向と交差する第２方向のｎ列とを有するマトリクス形態で配置され、
前記開口部は、前記第１方向のｍ行と、前記第２方向のｋ（ｋ＜ｎ）列とを有するマトリクス形態で形成されることを特徴とする請求項１１に記載の蒸着量測定方法。
【請求項１４】
前記テスト用基板は、前記ｎ個の区域に区分されることを特徴とする請求項１３に記載の蒸着量測定方法。
【請求項１５】
前記蒸着領域再設定ステップは、前記テスト用基板および前記メインシャッタを前記第２方向に移動し、前記蒸着領域を再設定することを特徴とする請求項１４に記載の蒸着量測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着装置およびこれを用いた蒸着量測定方法に関し、より具体的には、二重のシャッタを用いて正確に蒸着量を測定することができる蒸着装置および蒸着量測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ  ｄｉｓｐｌａｙ）は、正孔注入電極と電子注入電極、そして、これらの間に形成されている有機発光層を含み、アノードから注入される正孔とカソードから注入される電子とが有機発光層で再結合し、消滅しながら光を出す自発光型表示装置である。また、有機発光表示装置は、低い消費電力、高い輝度、広い視野角度および高い反応速度などの高品位特性を示すため、携帯用電子機器の次世代表示装置として注目されている。
【０００３】
有機発光表示装置は、薄膜トランジスタおよび有機発光素子（ＯＬＥＤ：ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）が形成された表示基板を備える有機発光表示パネルを含む。有機発光素子は、アノード、カソードおよび有機発光層を含み、アノードとカソードからそれぞれ注入された正孔および電子が励起子を形成し、励起子が基底状態に遷移しながら発光が行われる。
【０００４】
上記有機発光表示装置のような平板表示装置において、有機物や電極として使用される金属などは、真空雰囲気で当該物質を蒸着して平板上に薄膜を形成する真空蒸着法を利用して形成される。真空蒸着法は、真空チャンバの内部に有機薄膜を成膜させる基板を位置させ、蒸着物質を噴射する蒸着源を用いて有機物を蒸発または昇華させ、基板に蒸着させる方法で行われる。
【０００５】
この場合、有機物質または無機物質のような蒸着物質が蒸着源から均一に噴射されるかを把握することが必要である。特に、蒸着源が複数個備えられる場合には、複数の蒸着源それぞれの蒸着量を把握し、各蒸着源の蒸着量を調整する必要がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の一目的は、複数の蒸着源の蒸着量を均一に調整することができる蒸着装置を提供することである。
【０００７】
また、本発明の他の目的は、１つのテスト用基板を用いて問題のある蒸着源を正確に把握できる蒸着量測定方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明にかかる蒸着装置は、蒸着物質を噴射する複数の蒸着源と、蒸着源に対向するように基板を固定させる基板固定部と、蒸着源の一側に配置され、各蒸着源の入口を開閉できる蒸着源シャッタと、蒸着源と基板固定部に固定された基板との間に配置され、蒸着物質の一部が貫通して基板に蒸着できるように構成されたメインシャッタとを含む。
【０００９】
本発明にかかる蒸着量測定方法は、蒸着物質を噴射する複数の蒸着源と、表面が複数の区域に区分されるテスト用基板とを対向して配置させるテスト用基板配置ステップと、テスト用基板の表面のうち一区域を蒸着物質が蒸着される蒸着領域として設定する蒸着領域設定ステップと、複数の蒸着源のうち蒸着量を測定する一部の蒸着源を選択して開放する蒸着源の第１開放ステップと、テスト用基板の表面の一区域に蒸着源に対応する位置を中心として前記蒸着物質を部分的に蒸着する第１蒸着ステップと、一部の蒸着源を閉鎖する蒸着源の第１閉鎖ステップとを含む。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、効率的に問題のある蒸着源を把握し、複数の蒸着源の蒸着量を均一に調整することができる。
【００１１】
また、問題のある蒸着源を正確に把握することにより、材料の損失を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態にかかる蒸着装置の斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態にかかるメインシャッタの断面図である。
【図３】本発明の一実施形態にかかるテスト用基板の平面図である。
【図４】本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を示すフローチャートである。
【図５Ａ】本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を順次に示す平面図である。
【図５Ｂ】本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を順次に示す側面図である。
【図６Ａ】本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を順次に示す平面図である。
【図６Ｂ】本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を順次に示す側面図である。
【図７Ａ】本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を順次に示す平面図である。
【図７Ｂ】本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を順次に示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照しながら、本発明にかかる蒸着装置および蒸着量測定方法に関して具体的に説明する。しかし、本発明は、以下に開示される実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現されうるものであり、単に、本実施形態は、本発明の開示が完全になるようにし、通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものである。図面上において、同一の符号は同一の要素を指し示す。
【００１４】
また、明細書全体において、ある部分がある構成要素を「含む」とする時、これは、特に反対となる記載がない限り、他の構成要素を除外するものではなく、他の構成要素をさらに包含できることを意味する。さらに、明細書全体において、「〜上に」とは、対象部分の上または下に位置することを意味するもので、必ずしも重力方向を基準として上側に位置することを意味するものではない。
【００１５】
図１は、本発明の一実施形態にかかる蒸着装置の斜視図であり、図２は、本発明の一実施形態にかかるメインシャッタの断面図であり、図３は、本発明の一実施形態にかかるテスト用基板の平面図である。
【００１６】
図１ないし図３を参照すれば、本発明の一実施形態にかかる蒸着装置は、蒸着源２００（２００ａ〜２００ｆ）と、基板固定部５００と、蒸着源シャッタ３００（３００ａ〜３００ｆ）と、メインシャッタ１００とを含んで構成される。
【００１７】
各図面には、説明の便宜のためにチャンバを示していないが、図１のすべての構成は、適切な真空度が維持される真空チャンバ内に配置される。真空チャンバは、処理される基板の形状に応じて多様な形状を取ることができる。例えば、処理される基板が円形の場合には、真空チャンバが全体的に円柱形状を取り、処理される基板が長方形の場合には、真空チャンバが全体的に直方体形状を取る。そして、この真空チャンバには、真空チャンバ内部の気体を排出させ、真空チャンバ内部の圧力を低下させる真空ポンプ（図示せず）や、真空チャンバの内部に一定の気体を注入して真空チャンバ内部の圧力を上昇させるベンティング手段（図示せず）などの構成をさらに具備できる。
【００１８】
蒸着源２００は、蒸着物質を放出して基板４００に蒸着させる手段であって、内部に有機物のような蒸着物質を収納できる空間（図示せず）が備えられている。蒸着物質の収納空間は、熱放射性に優れたアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）のようなセラミック材質で形成できるが、これに限定されるものではなく、熱放射性および耐熱性に優れた多様な材質からなり得る。蒸着物質の収納空間の外面には、外面を密着して囲むように構成されたヒータ（図示せず）を具備できるが、当該ヒータは、収納された蒸着物質を加熱して気化させる機能を果たす。
【００１９】
基板４００に対向する蒸着源２００の一側には、蒸着源の内部空間で気化または昇華した蒸着物質を噴射する噴射ノズル（図示せず）をさらに具備できる。蒸着源２００は、複数のノズルが一列に備えられる線状蒸着源または１つのノズルが備えられる点蒸着源を複数個から構成できる。なお、本実施形態では、蒸着源が複数の点蒸着源である形態を例示しているが、これに限定されるものではない。
【００２０】
基板４００は、基板固定部５００によって蒸着源２００に対向するように固定されるが、基板固定部５００は、基板４００に薄膜を形成する間に基板４００を安定的に固定させ、処理完了後には基板４００を外部に排出しなければならないため、基板４００を容易に着脱できる構造を有する。基板固定部５００の構成は、通常の蒸着装置で使用される構成と同一であるので、これに関する詳細な説明は省略する。
【００２１】
蒸着源２００と基板４００とは、互いに相対的に移動しながら蒸着を実施できるが、蒸着源２００が固定された場合には、基板４００が蒸着源２００と所定間隔をおいて移動するように、基板固定部５００を図１のｙ軸方向に移動することもできる。蒸着源２００が垂直方向に蒸着物質を放出する場合には、基板４００は蒸着源２００の上部に水平に配置され得、蒸着源２００が水平方向に蒸着物質を放出する場合には、基板４００は垂直に配置され得る。本実施形態では、蒸着源２００が真空チャンバの底面に配置され、その上側に基板４００が水平に配置される場合を示したが、これに限定されるものではない。
【００２２】
本発明の一実施形態にかかる蒸着装置は、蒸着用基板および蒸着用マスクを用いて有機発光層または電極層を形成するための有機物質または無機物質を蒸着できる。また、当該蒸着装置は、このような有機物質または無機物質の蒸着物質を蒸着する前に、テスト用基板を用いて蒸着源２００から噴射される蒸着物質が均一に蒸着されるかを試験蒸着し、蒸着量を測定することができる。本実施形態では、テスト用基板を用いて試験蒸着する場合を中心に説明する。テスト用基板４００は、図３に示されているように、表面が複数の区域に区分可能であり、これに関する詳細な説明は後述する。
【００２３】
蒸着源シャッタ３００は、蒸着源２００で気化した蒸着物質の外部流出を断続する手段であって、各蒸着源２００に一側に配置され、蒸着源２００の入口を開放または閉鎖する。蒸着源２００が、蒸着源２００に入っている蒸着物質を気化させて発生する蒸気状態の蒸着物質を基板４００に蒸着するが、工程時間短縮のために、基板４００に蒸着物質を蒸着する前に蒸着源２００を十分に加熱し、蒸着物質が十分に気化できる状態で蒸着を実施する。蒸着源シャッタ３００は、このような予熱過程後または基板４００に所望の厚さの薄膜の蒸着後に、蒸着物質の追加の蒸着を防ぐ過程で蒸着源２００の入口を遮断する。蒸着源シャッタ３００の具体的な構成は、公知の蒸着装置における構成と同一であるので、詳細な説明は省略する。
【００２４】
メインシャッタ１００は、蒸着源２００から噴射された蒸着物質の一部を貫通させて基板４００の特定区域に蒸着できるようにする手段であって、蒸着源２００と基板固定部５００に固定される基板４００との間に配置される。メインシャッタ１００は、有機発光層または電極層を形成するための蒸着工程では用いられず、試験蒸着を通じて蒸着量を測定しようとする場合に使用される。メインシャッタ１００は、複数の蒸着源２００のうち蒸着量を測定しようとする蒸着源２００上に選択的に配置できるように、ｙ軸方向に移動できる。
【００２５】
メインシャッタ１００は、図２に示されているように、板状に形成されるメインシャッタ本体１１０と、メインシャッタ本体１１０を厚さ方向に貫通して形成される開口部１２０（１２１、１２２）とを含むことができる。メインシャッタ１００は、蒸着源２００から噴射された蒸着物質の一部は開口部１２０を通過させて基板に到達させ、残りの一部をメインシャッタ本体１１０によって遮断することで、基板４００の特定区域に蒸着物質が蒸着されるようにする。本実施形態における開口部１２０の断面は、円形として示されたが、これに限定されるものではなく、多角形のような多様な形状に形成できる。
【００２６】
開口部１２０は、複数の蒸着源２００の入口の位置にそれぞれ対応して形成できる。この場合、蒸着源２００に対向するメインシャッタ本体１１０の一面には、各開口部１２０を囲むガイド部１３０（１３１、１３２）をさらに含むことができる。これは、各開口部１２０が、それに対応する蒸着源２００から出る蒸着物質を通過させ、他の開口部１２０に対応する蒸着源２００から出る蒸着物質を遮断するためのものである。
【００２７】
複数の蒸着源２００は、第１方向（ｘ軸方向）のｍ行と、第１方向と交差する第２方向（ｙ軸方向）のｎ列とを有するｍ×ｎマトリクス形態で配置できるが、この時、各蒸着源２００に対応して形成される各開口部１２０も、第１方向のｍ行と第２方向のｋ（ｋ＜ｎ）列とを有するマトリクス形態で形成できる。つまり、開口部１２０は、第１方向にはすべての蒸着源２００に対応して形成され、第２方向には蒸着源２００の数より少なく形成される。そのため、メインシャッタ１００は、第２方向に移動可能に形成され、第２方向に配置された他の行と列の蒸着源に対応して配置できる。基板固定部５００も、第２方向に移動可能に形成され、各テスト用基板４００の表面のうち一区域を蒸着源２００の列に対応する蒸着領域として設定することができる。なお、本明細書において、蒸着領域は、蒸着物質が付着するテスト用基板の一区域を意味する。
【００２８】
以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を説明する。
【００２９】
図４は、本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を示すフローチャートであり、図５Ａ、図６Ａおよび図７Ａは、本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を順次に示す平面図であり、図５Ｂ、図６Ｂおよび図７Ｂは、本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法を順次に示す側面図である。
【００３０】
図４を参照すれば、本発明の一実施形態にかかる蒸着量測定方法は、テスト用基板配置ステップＳ１０と、蒸着領域設定ステップＳ２０と、蒸着源開放ステップＳ３０と、蒸着ステップＳ４０と、蒸着源閉鎖ステップＳ５０とを含む。
【００３１】
本実施形態では、複数の蒸着源２００は、第１方向（ｘ軸方向）のｍ行と、第１方向と交差する第２方向（ｙ軸方向）のｎ列とを有するマトリクス形態で配置され、開口部１２０は、第１方向のｍ行と第２方向のｋ（ｋ＜ｎ）列とを有するマトリクス形態で形成されることを例示したが、これに限定されるものではない。説明の便宜のために、本実施形態では、図１に示されているように、蒸着源が４行６列を有する形態で配置され、メインシャッタ１００に形成された開口部１２０は、蒸着源の位置に対応するように４行２列を有する形態を例示する。
【００３２】
図５Ａ〜図７Ｂにおいて、蒸着源の６列をそれぞれ図面符号Ａ〜Ｆとして示し、各列に属する蒸着源をそれぞれ図面符号２００ａ〜２００ｆ、各列に属する蒸着源シャッタを図面符号３００ａ〜３００ｆと定める。メインシャッタ１００に形成された開口部の２列をそれぞれ図面符号１２１、１２２と定める。そして、蒸着源の列数と対応するように、テスト用基板４００を第２方向に６個の区域４００ａ〜４００ｆに区分することができる。本実施形態では、Ａ列に配置された蒸着源２００ａからＦ列の蒸着源２００ｆまで順次に蒸着を実施する形態について示すが、これに限定されるものではなく、多様な順序に変更して実施可能である。
【００３３】
まず、蒸着物質Ｍを噴射する複数の蒸着源２００と、表面が複数の区域に区分されるテスト用基板４００とを対向して配置させる（Ｓ１０）。テスト用基板４００は、基板固定部５００によって蒸着源２００に対向するように固定されるが、説明の便宜のために基板固定部５００の図示は省略する。この時、蒸着源２００は、各蒸着源シャッタ３００によって入口が閉鎖されている。
【００３４】
次に、テスト用基板４００の表面のうち一区域を蒸着物質Ｍが付着する蒸着領域として設定する（Ｓ２０）。この時、厚さ方向に貫通する複数の開口部１２０が形成されるメインシャッタ本体１１０を含むメインシャッタ１００を、蒸着源２００とテスト用基板４００との間に配置し、蒸着領域として設定することができる。各開口部１２０をテスト用基板４００の蒸着領域および蒸着源２００の入口と重なるように整列する。
【００３５】
本実施形態では、Ａ列に配置された蒸着源２００ａに対して、テスト用基板４００の表面のうち４００ａ区域を蒸着物質Ｍが付着する蒸着領域として設定する。そして、メインシャッタ１００は、２つの列の開口部１２１、１２２がそれぞれＡ列およびＢ列に位置するように整列する。
【００３６】
次に、複数の蒸着源のうち蒸着量を測定する一部の蒸着源を選択して開放する（Ｓ３０）。本実施形態では、蒸着量を測定する蒸着源としてＡ列に配置された蒸着源２００ａを選択し、図５Ａおよび図５Ｂに示されているように、各蒸着源２００ａの一側に配置された各蒸着源シャッタ３００ａを開放する。
【００３７】
次に、テスト用基板４００の表面の一区域に蒸着源２００に対応する位置を中心として、蒸着物質Ｍを部分的に蒸着する（Ｓ４０）。本実施形態では、Ａ列に配置された蒸着源２００ａから噴射される蒸着物質Ｍが、テスト用基板の表面の４００ａ区域のうち蒸着源２００ａに対応する位置に付着するようにする（図５ＢのＭａ参照）。
【００３８】
次に、所定時間経過後、開放された蒸着源を閉鎖する（Ｓ５０）。本実施形態では、Ａ列に配置された蒸着源２００ａの一側に配置された各蒸着源シャッタ３００ａを用いて蒸着源２００ａを閉鎖する。
【００３９】
その後、蒸着を実施していない他の蒸着源の蒸着を実施するために、テスト用基板の表面でまだ蒸着物質が付着していない区域を蒸着領域として再設定することができる。本実施形態では、最初に蒸着を実施していた４００ａ区域と隣接する４００ｂ区域を蒸着領域として再設定するために、図６Ａおよび図６Ｂに示されているように、テスト用基板４００をｙ軸方向に移動させることができる。メインシャッタ１００の開口部１２２は、Ｂ列の蒸着源２００ｂと整列されているため、メインシャッタ１００は移動しない。
【００４０】
しかる後、複数の蒸着源のうち蒸着を実施していない他の蒸着源を選択して開放する。本実施形態では、Ｂ列に配置された蒸着源２００ｂの蒸着量を測定するために、各蒸着源２００ｂの一側に配置された各蒸着源シャッタ３００ｂを開放する。
【００４１】
テスト用基板４００の表面の一区域に蒸着源２００に対応する位置を中心として、蒸着物質Ｍを部分的に蒸着する。本実施形態では、Ｂ列に配置された蒸着源２００ｂから噴射される蒸着物質Ｍが、テスト用基板の表面の４００ｂ区域のうち蒸着源２００ｂに対応する位置に付着するようにする（図６ＢのＭｂ参照）。
【００４２】
所定時間経過後、開放された蒸着源を閉鎖する。本実施形態では、Ｂ列に配置された蒸着源２００ｂの一側に配置された各蒸着源シャッタ３００ｂを用いて蒸着源２００ｂを閉鎖する。
【００４３】
その後、蒸着を実施していない他の蒸着源の蒸着を実施するために、テスト用基板の表面で蒸着を実施していない区域を蒸着物質が蒸着される蒸着領域として再設定することができる。本実施形態では、前のステップで蒸着を実施していた４００ｂ区域と隣接する４００ｃ区域を蒸着領域として再設定するように、テスト用基板４００を第２方向に移動させることができる。また、メインシャッタ１００も第２方向に移動させ、メインシャッタ１００に形成された２つの列の開口部１２１、１２２がそれぞれＣ列およびＤ列に位置するように整列する。Ｃ列に配置された蒸着源２００ｃの蒸着量を測定するために、各蒸着源２００ｃの一側に配置された各蒸着源シャッタ３００ｃを開放する。以降、Ｃ列に配置された蒸着源２００ｃの蒸着ステップおよび閉鎖ステップは上述したとおりであり、テスト用基板の４００ｃ区域には、Ｃ列の蒸着源２００ｃから噴射された蒸着物質が付着する（図７ＢのＭｃ参照）。
【００４４】
このような方式により、残りのＤ列に配置された蒸着源２００ｄ、Ｅ列に配置された蒸着源２００ｅおよびＦ列に配置された蒸着源２００ｆまでの計６回にわたって蒸着を実施することができる。
【００４５】
このように、すべての蒸着源２００に対する蒸着工程が完了した後、テスト用基板４００を回収して蒸着物質のパイル（厚さ）を調べる。１枚のテスト用基板４００には、蒸着源２００に対応する数だけの蒸着物質のパイルが形成される。例えば、本実施形態のように、複数の蒸着源２００が４行と６列を有するマトリクス形態で配列されると、テスト用基板４００に形成された蒸着物質のパイルも同じ形態で配列される。これら各パイルの蒸着厚さを測定すると、ある位置に配置された蒸着源の蒸着量が不足するか過大であるかを容易に把握することができる。把握した結果に基づき、問題のある蒸着源の蒸着量を調整することができる。
【００４６】
本実施形態および本明細書に添付された図面は、本発明に含まれる技術的思想の一部を明確に示しているに過ぎず、本発明の明細書および図面に含まれている技術的思想の範囲内で当業者が容易に類推できる多様な変形例と具体的な実施形態とはすべて本発明の権利範囲に含まれることが自明である。
【符号の説明】
【００４７】
１００：メインシャッタ、
２００：蒸着源、
３００：蒸着源シャッタ、
４００：基板、テスト用基板、
５００：基板固定部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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