(57)【要約】      （修正有）【課題】光源として青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素に配し、色変換層を介して青以外の赤色、緑色を発光させる色変換方式（ＣＣＭ（Ｃｏｌｏｒ  Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ方式））の表示装置で、品質的には外光の影響による混色や白浮きを抑制でき、且つ、作製を簡単化できる表示装置の作製を可能とするカラーフィルタ形成基板を提供する。【解決手段】青色光源からの青色光を、青色以外の赤色光、緑色光に、それぞれ、変換する各色変換層１４ｒ、１４ｇを備えた色変換方式の表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板であって、表示装置の赤色画素および緑色画素に対応する領域に黄色の硬化膜１３Ｙを配しており、青色画素領域に対応する領域に青色の硬化膜１３Ｂを配している。【選択図】図２
2014063086.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
青色光源からの青色光を、青色以外の赤色光、緑色光に、それぞれ、変換する各色変換層を備えた色変換方式の表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板であって、前記表示装置の赤色画素および緑色画素に対応する領域に黄色の硬化膜を配しており、青色画素領域に対応する領域に青色の硬化膜を配していることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
【請求項２】
請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記表示装置の画素領域に対応した領域で、前記黄色の硬化膜が配された領域においては、波長４００〜４５０ｎｍの範囲における透過率が１％以下であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
【請求項３】
請求項１ないし２のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記黄色の硬化膜は、色材として、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を含有していることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記表示装置は、青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素領域に配して青色光源としている表示装置であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板を用いて、表示部を形成していることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、青色光源からの青色光を、それぞれ、青色以外の赤色光、緑色光に変換する色変換層とを備えた色変換方式の表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板に関し、特に、青色発光の有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｓｅ）発光層を全画素領域に配して青色光源としている色変換方式の表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示装置の普及がめざましい中、モバイル機種であるノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）の普及が盛んで、なかでもタブレット型の多機能端末機器は急速な普及が見込まれるようになってきており、これらの端末機器（以下、モバイル電子機器と言う）の表示部としては、従来は、液晶を用いたＦＰＤ（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）が主流であったが、最近では、前記の液晶を用いたＦＰＤと違って、自発光型超薄膜固体デバイスで、広視野角、薄い、高速動画対応可能な有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｓｅ）を用いたＦＰＤが用いられるようになってきた。
【０００３】
有機ＥＬを用いてフルカラー化した表示装置としては、白色発光の有機ＥＬ発光層を用いて、画素毎に、適宜、白色発光させ、且つ、画素領域に対応してカラーフィルタ用のＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の各色の着色樹脂層を配列させる第１の方式（白色発光＋ＣＦ（カラーフィルタ）方式とも言う）の表示装置や、画素毎に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色を発光する有機ＥＬ発光層を配し、更に全面に円偏光板を配する第２の方式（三色塗り分け方式とも言う）の表示装置や、白色ではない、通常、光源として青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素に配し、色変換層を介して青色以外の赤色、緑色を発光させる第３の方式（色変換方式、ＣＣＭ（Ｃｏｌｏｒ  Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）方式とも言う）表示装置が知られている。
第１の方式の表示装置は、白色発光の有機発光層の形成が単純で、歩留まりや品質の面で有利であるが、白色光の発光効率が低い。
第２の方式の表示装置は、高い発光効率の可能性があるが、大面積化、高精細化は困難で、塗り分けのため歩留まりが低く、品質低下となる。
第３の方式の表示装置は、青色発光の有機発光層の工程が、第１の方式や第２の方式に比べて、単純となるが、色変換層工程、カラーフィルタ工程を必要とする。
【０００４】
従来、上記第３の方式の表示装置においては、図４（ｂ）に示すように、青色発光光１２２ＬＢは直接青色のカラーフィルタ用の硬化膜（着色樹脂層とも言う）１１３Ｂを通過させ、一方また、青色発光光１２２ＬＢを色変換層１２３ｒ、１２３ｇに当てることにより、それぞれ、青色領域を含まない波長領域の赤色発光光１２３ＬＲ、緑色発光１２３ＬＧを発生させ、該発生された光をＲ、Ｇの各色のカラーフィルタ用の硬化膜（着色樹脂層とも言う）１１３Ｒ、１１３Ｇを通過させて、これより、所望のＲ、Ｇ、Ｂの各色の光を得ていた。
尚、図４（ｂ）は、第３の方式の表示装置の概略構成を離間して示した断面図で、図４（ａ）は図４（ｂ）に示す表示装置に用いられるカラーフィルタ１１０を示し、図４（ｃ）は、図４（ｂ）に示す表示装置に用いられるＴＦＴ形成基板１２０の概略構成断面図を示している。
この第３の方式の表示装置の場合、色変換層１２３ｒ、１２３ｇが観察者側に設置されると、外光の影響で混色や、黒表示時の際、白浮きなど画像品位を低下させる原因となるため、従来は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のカラーフィルタ用の硬化膜１１３Ｒ、１１３Ｂ、１１３Ｇを観察者側に配して、外光の影響による混色や白浮きを回避している。
ここで、色変換層１２３ｒ、１２３ｒｇは、それぞれ、短波長の光を吸収し、それよりもエネルギーの長波長の光を発光することで色変換を行っており、図４（ｂ）では、色変換層１２３ｒは、青色発光光１２２ＬＢを吸収してＲ色の光を発光し、色変換層１２３ｇは、青色発光光１２２ＬＢを吸収してＧ色の光を発光している。
しかし、この第３の方式の表示装置は、青色発光の有機発光層の工程は単純ではあるが、色変換層工程、カラーフィルタ工程が必要で、作製の簡単化が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第１９９８２２３号
【特許文献２】特開２００３−１８７９７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように、近年、表示装置の普及がめざましい中、モバイル機種であるノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）の普及が盛んで、タブレット型の多機能端末機器は急速な普及が見込まれるようになってきて、これらの端末機器（以下、モバイル電子機器と言う）の表示部として、最近では、液晶を用いたＦＰＤと違って、自発光型超薄膜固体デバイスで、広視野角、薄い、高速動画対応可能な有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｓｅ）を用いたＦＰＤが用いられるようになってきたが、なかでも、光源として青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素に配し、色変換層を介して青色以外の赤色、緑色を発光させる色変換方式（ＣＣＭ（Ｃｏｌｏｒ  Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ方式）である第３の方式の表示装置においては、品質的には外光の影響による混色や白浮きを抑制でき、且つ、作製を簡単化できるものが求められていた。
本発明は、これに対応するもので、青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素に配し、色変換層を介して青以外の赤色、緑色を発光させる色変換方式（ＣＣＭ（Ｃｏｌｏｒ  Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ方式）である第３の方式の表示装置で、品質的には外光の影響による混色や白浮きを抑制でき、且つ、作製を簡単化できる表示装置を提供しようとするものである。
同時に、そのような表示装置の作製を可能とするカラーフィルタ形成基板を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のカラーフィルタ形成基板は、青色光源からの青色光を、青色以外の赤色光、緑色光に、それぞれ、変換する各色変換層を備えた色変換方式の表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板であって、前記表示装置の赤色画素および緑色画素に対応する領域に黄色の硬化膜を配しており、青色画素領域に対応する領域に青色の硬化膜を配していることを特徴とするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記表示装置の画素領域に対応した領域で、前記黄色の硬化膜が配された領域においては、波長４００〜４５０ｎｍの範囲における透過率が１％以下であることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記黄色の硬化膜は、色材として、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を含有していることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記表示装置は、前記表示装置は、青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素領域に配して青色光源としている表示装置であることを特徴とするものである。
【０００８】
本発明の表示装置は、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板を用いて、表示部を形成していることを特徴とするものである。
【０００９】
（作用）
本発明のカラーフィルタ形成基板は、このような構成にすることにより、光源として青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素に配し、色変換層を介して青以外の赤色、緑色を発光させる色変換方式（ＣＣＭ（Ｃｏｌｏｒ  Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ方式））である第３の方式の表示装置で、品質的には外光の影響による混色や白浮きを抑制でき、且つ、作製を簡単化できる表示装置を作製できるカラーフィルタ形成基板の提供を可能としている。
具体的には、表示装置の赤色画素および緑色画素に対応する領域に黄色の硬化膜を配しており、青色画素領域に対応する領域に青色の硬化膜を配していることにより、これを達成している。
特に、表示装置の画素領域に対応した領域で、前記黄色の硬化膜が配された領域においては、波長４００〜４５０ｎｍの範囲における透過率が１％以下である請求項２の形態の場合は、観察者側から、表示装置の赤色画素および緑色画素に対応する領域の黄色の硬化膜を通過した光は、該黄色の硬化膜により、波長４００〜４５０ｎｍの範囲の光をほとんどカットされるため、観察者側からの光（外光とも言う）が色変換層に達して赤色の発光や緑色の発光することを抑制でき、これにより、外光の影響による混色や白浮きを回避できるものとしている。
前記黄色の硬化膜としては、色材として、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を含有しているものが挙げられる。
また、表示装置としては、青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素領域に配して青色光源としている表示装置である場合には、特に、品質面、製造面で有効である。
【００１０】
本発明の表示装置は、このような構成にすることにより、光源として青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素に配し、色変換層を介して青色以外の赤色、緑色を発光させる色変換方式（ＣＣＭ（Ｃｏｌｏｒ  Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ方式））である第３の方式の表示装置であって、品質的には外光の影響による混色や白浮きを抑制でき、且つ、作製を簡単化できる表示装置の提供を可能としている。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、このように、青色発光の有機ＥＬ発光層を全画素に配し、色変換層を介して青以外の赤色、緑色を発光させる色変換方式（ＣＣＭ（Ｃｏｌｏｒ  Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ方式））である第３の方式の表示装置であって、品質的には外光の影響による混色や白浮きを抑制でき、且つ、作製を簡単化できる表示装置の提供と、このような表示装置を作製できるカラーフィルタ形成基板の提供を可能とした。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第１の例を示した一部断面図で、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板を用いた色変換方式の表示装置の概略構成を離間して示した断面図で、図１（ｃ）は、図１（ｂ）に示す表示装置のＴＦＴ形成基板２０のＡ０部の概略構成断面図を示している。
【図２】図２（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第２の例を示した一部断面図で、図２（ｂ）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板を用いた色変換方式の表示装置の概略断面図で、図２（ｃ）は、図２（ｂ）に示す表示装置のＴＦＴ形成基板の概略構成断面図を示している。
【図３】図１（ｂ）に示す表示装置の各色のカラーフィルタ用の着色層の分光特性と、青色発光光、赤色発光光、緑色発光光の相対的な分光輝度特性とを、示した図である。
【図４】図４（ｂ）は、従来の色変換方式（第３の方式）の表示装置の概略構成を離間して示した断面図で、図４（ａ）は図４（ｂ）に示す表示装置に用いられるカラーフィルタ１１０を示し、図４（ｃ）は、図４（ｂ）に示すＴＦＴ形成基板１２０のＢ０部の概略構成断面図を示している。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
先ず、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第１の例を、図１に基づいて説明する。
図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、有機ＥＬ素子を発光源とする青色光源からの青色発光光を、赤色発光用の色変換層、赤色発光用の色変換層に照射することにより、それぞれ、青色以外の赤色光、緑色光に変換する色変換方式の表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板で、図１（ｂ）に示すようにして、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器の有機ＥＬ表示装置に用いられる。
第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、ガラス基板からなる透明基板を基材１１として、該基材１１の一面側において、表示領域に画素領域を区分けする画素区分用遮光層（ブラックマトリクスとも言う）１２と、カラーフィルタ用の黄色と青色の各色の硬化膜（着色樹脂層とも言う）を、それぞれ、区分けされた画素領域を覆うように配しているが、ここでは、特に、用いられる表示装置の赤色画素および緑色画素に対応する領域に黄色の硬化膜１３Ｙを配しており、青色画素領域に対応する領域に青色の硬化膜１３Ｂを配している。
図１（ｂ）に示す表示装置は、簡単には、図１（ｃ）に示す、基材２１の一面側にＴＦＴ回路（図示していない）、陽極２５と陰極２８の電極間に青色発光層２７を含む有機ＥＬ層２６を有する有機発光素子、酸素遮断層２８、色変換層２３を、積層して配した構造のＴＦＴ形成基板２０と、図１（ａ）に示す、基材１１の一面に、画素区分用遮光層１２を形成し、更に、黄色の硬化膜１３Ｙ、青色の硬化膜１３Ｂを形成した第１の例のカラーフィルタ形成基板１０とを、図１（ｂ）に示すように対向して積層した構造のものである。
尚、通常、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０は、カラーフィルタ用の各色の硬化膜１３Ｂ、１３Ｙ形成側全体を覆うように、保護層（図２（ａ）に示す保護層１５と同じ）で覆い、この状態で表示装置に適用され、また、図１（ｂ）では明記されていないが、保護膜を覆ったカラーフィルタ形成基板１０と、図１（ｃ）に示すＴＦＴ形成基板２０とは、充填材等を介して積層される。
【００１４】
ここで、図３を参照にして、図１（ｂ）に示す表示装置のＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の各色の表示について、簡単に説明しておく。
図３に示すように、黄色の硬化膜１３Ｙの分光特性は、ＴＦＴ形成基板２０の青色発光層２２からの図３のＢ１に示されるような分光輝度特性を有する青色発光光２２ＬＢを、それぞれ、赤色発光用の色変換層１２ｒ、緑色発光用の色変換層１２ｇに照射させた際に発光する赤色発光光２３ＬＲ、緑色発光光２３ＬＧを、十分に通過させるものである。
したがって、赤色画素領域においては、ＴＦＴ形成基板２０の青色発光層２２からの図３のＢ１に示されるような分光輝度特性を有する青色発光光２２ＬＢは、赤色発光用の色変換層１２ｒに照射されると、図３のＲ１のような赤色の分光輝度特性を有する赤色発光光２３ＬＲを発生させ、該発生した赤色発光光２３ＬＲのほとんどがカラーフィルタ形成基板側に進むが、黄色の硬化膜１３Ｙは、発生した赤色発光光２３ＬＲをほとんど通過させるものであるため、赤色画素領域において黄色の硬化膜１３Ｙを通過して観察者側に達する光は、赤色の光１３ＬＲとして出射される。
また、緑色画素領域においては、ＴＦＴ形成基板２０の青色発光層２２からの図３のＢ１に示されるような分光輝度特性を有する青色発光光２２ＬＢは、緑色色変換層１２ｇに照射されると、図３のＧ１のような緑色の分光輝度特性を有する緑色発光光２３ＬＧを発生させ、該発生した緑色発光光２３ＬＧのほとんどがカラーフィルタ形成基板側に進むが、黄色の硬化膜１３Ｙは、発生した緑色発光光２３ＬＧをほとんど通過させるものであるため、緑色画素領域において黄色の硬化膜１３Ｙを通過して観察者側に達する光は、緑色の光１３ＬＧとして出射される。
一方、青色画素領域においては、ＴＦＴ形成基板２０の青色発光層２２からの図３のＢ１に示されるような分光輝度特性を有する青色発光光２２ＬＢは、透明層２３ｔを通過して、青色発光光２３ＬＢ（２２ＬＢ）はカラーフィルタ形成基板側に進み、青色の硬化膜１３Ｂを通過して観察者側に達する光は、青色の光１３ＬＢとして出射される。
このように、赤色画素領域、緑色画素領域、青色画素領域においては、それぞれ、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の各色の光が出射されることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色が得られ、Ｒ、Ｇ、Ｂの三原色によるフルカラー表示ができるのである。
尚、図３において、従来の、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色のカラーフィルタ用の硬化膜の一般的な分光特性を、それぞれ、Ｒ０、Ｇ０、Ｂ０として示している。
【００１５】
ここでは、図１（ｂ）に示す表示装置の画素領域に対応して配した、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０の黄色の硬化膜１３Ｙは、波長４００〜４５０ｎｍの範囲において透過率を１％以下にしている。
このため、図１（ｂ）に示す表示装置においては、ＴＦＴ形成基板２０の青色発光層２２からの、図３のＢ１に示されるような分光輝度特性を有する青色発光光２２ＬＢを、それぞれ、赤色発光用の色変換層２３ｒ、緑色発光用の色変換層２３ｇに照射させた際に発光する赤色発光光２３ＬＲ、緑色発光光２３ＬＧを、波長４００〜４５０ｎｍの範囲でほとんどカットすることができ、結果、観察者側から外光の影響による色変換層での発光を抑制できるものとしている。
即ち、該赤色発光光２３ＬＲの発光する領域、緑色発光光２３ＬＧの発光する領域においては、観察者側から外光の影響による混色や白浮きを回避できるものとしている。
【００１６】
また、ここでは、表示装置に用いられた際に、表示領域となる領域を表示用領域としている。
また、硬化膜（着色樹脂層とも言う）１３は、カラーフィルタ用の各色の硬化膜１２Ｂ、１２Ｙや画素区分用遮光層用の硬化膜（着色樹脂層）１２を総称している。
また、表示用領域には、カラーフィルタ用の各色の硬化膜１３Ｂ、１３Ｙが、画素区分用遮光層１２により分離された画素領域の開口部（開口パターンとも言う）を覆うように所定の配列に形成されている。
画素区分用遮光層１２の開口パターンの形状や各色の硬化膜の配列は、特に限定されない。
画素区分用遮光層１２の開口パターンの形状がストライプ状の形状のものや、くの字形状、デルタ配列などの様に硬化膜１３Ｂ、１３Ｙの配列を変えたものも挙げられる。
【００１７】
更に、各部の材料について述べる。
＜基板１１＞
第１の例に用いられる透明基板からなる基材１１としては、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができ、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。
無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
上記基板は、通常、透明基板が用いられている。
【００１８】
＜画素区分用遮光層１２＞
画素区分用遮光層１２としては、例えば、ここでは、エポキシ樹脂等の樹脂で被覆したカーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものが用いられている。
カーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものは、膜厚を比較的薄くして遮光性の樹脂層を形成することができる。
ここでは、画素区分用遮光層１２の形成をフォトリソグラフィー法を用いているが、この場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。  この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有するブラックマトリクス形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合もあるが、この場合には、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
【００１９】
＜黄色の硬化膜１３Ｙ、青色の硬化膜１３Ｂ＞
本例では、カラーフィルタ形成用の各色の硬化膜は、黄色の硬化膜１３Ｙ、青色の硬化膜１３Ｂの２種である。
各色の硬化は、各色の顔料や染料等の着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものであり、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成されるものである。
上記硬化に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、着色剤および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
上記各色の着色層の膜厚は、通常、１μｍ〜５μｍ程度で設定される。
硬化膜の色としては、それぞれ、黄色、青色の２色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではない。
尚、黄色（Ｙとも記載）の硬化に用いられる色材としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９が好ましく挙げられるが、これに限定はされない。
青色（Ｂとも記載）の硬化膜に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
【００２０】
＜有機ＥＬ素子形成基板２０＞
（１）  基材２１
基材２１としては、基本的に、基材１１と同様の材質が用いることができるが、第１の例のカラーフィルタを用いた図１（ｂ）に示す表示装置の場合は、基材１１側から外側に出射して表示するため、透明である必要はない。
【００２１】
（２）  青色発光層２２
図１（ｂ）に示す青色発光層２２については、図１（ｂ）では明示していないが、例えば、図１（ｃ）に示すような材料構成とする。
（有機ＥＬ層２６）
有機ＥＬ素子２７を形成する有機ＥＬ層２６は、少なくとも青ドーパントの層（発光層とも言う）を含む１層もしくは複数層の有機層から構成されるものである。
青ドーパントの層（発光層）以外の有機ＥＬ層２６を構成する有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。
この正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合が多い。
また、有機ＥＬ層を構成する有機層としては、正孔ブロック層や電子ブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
有機ＥＬ層の構成としては、一般的な構成であればよく、青ドーパント：ホストの層（発光層）のみ、正孔注入層／青ドーパント：ホストの層（発光層）、正孔注入層／青ドーパント：ホストの層（発光層）／電子注入層、正孔注入層／正孔ブロック層／青ドーパント：ホストの層（発光層）／電子注入層、正孔注入層／青ドーパント：ホストの層（発光層）／電子輸送層などを例示することができる。
青ドーパント層の材料としては、例えば、特開平８−２７９３９４号公報に開示されているベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系；  ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系；  ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
さらに、発光層の材料として、特開平５−２５８８６２号公報に記載されている一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる。
尚、（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す。
具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（ＩＩＩ）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（ＩＩＩ）等が挙げられる。
発光層の厚みは特に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
正孔注入層の材料としては、従来より光伝導材料の正孔注入材料として使用されているものや有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている公知のものの中から任意のものを選択して使用することがでる。
正孔注入層の材料は、正孔の注入、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物あるいは無機物のいずれであってもよい。
具体的には、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
さらに、正孔注入層の材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。
また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。正孔注入層の厚みは特に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
また、電子注入層の材料としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して使用することができる。
具体的には、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。
電子注入層の厚みは特に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
（陽極２５、陰極２８）
陽極２５、陰極２８の電極層を形成する導電性材料としては、一般に金属材料が用いられるが、有機物や無機化合物を用いてもよく、複数の材料を混合して用いてもよい。
また、陽極、陰極の電極層は、光の取り出し面に応じて、透明性を有するか否かを適宜選択される。
陽極２５には、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく用いられ、陰極２８には、電子が注入し易いように仕事関数の小さな導電性材料が好ましく用いられる。
前記導電性材料としては、透明性を要求される場合には、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（ＩＺＯ）、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ（ＩＴＯ）、Ｚｎ−Ｏ−Ａｌ、Ｚｎ−Ｓｎ−Ｏ等が挙げられ、透明性が要求されない場合には、金属を用いることができ、具体的にはＡｕ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｃｒ、あるいは、Ａｌ合金、Ｎｉ合金、Ｃｒ合金等を挙げることができる。
陽極２５および陰極２８のいずれの電極層も、抵抗が比較的小さいことが好ましい。
電極層の成膜方法としては、一般的な電極の成膜方法を用いることができ、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、印刷法等を挙げることができる。
また、電極層のパターニング方法としては、フォトリソグラフィー法を挙げることができる。
（酸素遮断層２９）
酸素遮断層２９は、酸素が、有機ＥＬ素子２７と接触するのを遮断できるものであれば制限されない。
酸素遮断層の酸素透過量は、０．１ｃｃ／ｍ2 ・ｄａｙ未満が好ましく、０．０１ｃｃ／ｍ2 ・ｄａｙ未満であることがより好ましい。
具体的な材料としては、透明無機物、透明樹脂、封止液が挙げられる。
まず、透明無機物が最も好ましい。
より具体的には、ＳｉＯ２  、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、Ｓｉ３  Ｎ４  、Ａｌ２  Ｏ３  、ＡｌＯｘＮｙ、ＴｉＯ２  、ＴｉＯｘ、ＩＴＯ（Ｉｎ２  Ｏ３  −ＳｎＯ２  ）、ＩＺＯ（Ｉｎ２  Ｏ３  −ＺｎＯ）、ＳｎＯ２  、ＺｎＯ、インジウム銅（ＣｕＩｎ）、金、白金、パラジウム等の一種単独又は二種以上の組み合わせ等の透明無機物が挙げられる。
この場合には、有機ＥＬ素子又は色変換層を劣化させないように、低温（１００℃以下）で、成膜速度を遅くして成膜するのが好ましく、具体的にはスパッタリング、蒸着、ＣＶＤ、イオンプレーティング等の方法が好ましい。
また、これらの透明無機物は、非晶質( アモルファス) であることが、酸素の遮断効果が高いので好ましい。
次に、透明樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリルニトリル、セロファン、ナイロン６、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン、ＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、等のフッ素を含む樹脂が好ましい。
これらの膜は、二軸延伸法にてフィルム化したり、他の汎用の樹脂膜にコーティングされていてもよい。
次に、封止液としては、不活性液体が有機ＥＬ素子を劣化させないので好ましく、具体的には、フッ化炭化水素、シリコンオイル等が挙げられる。
ここで、酸素遮断層の厚さは、有機ＥＬ発光装置の精細度にもよるが、０．１μｍ〜１ｍｍ、好ましくは、０．５μｍ〜１００μｍ、より好ましくは、１μｍ〜２０μｍである。
０．１μｍより小さいと、酸素遮断効果がなくなり、１ｍｍより大きいと、有機ＥＬ素子の光が拡散して、所望の色変換層の入射が妨げられるので、視認性が低下（色にじみ、混色、視野角依存）する。
【００２２】
＜色変換層２３＞
色変換層の材料は特に制限されるものではないが、例えば、蛍光色素及びバインダー樹脂、又は蛍光色素のみからなり、蛍光色素及びバインダー樹脂は、蛍光色素を顔料樹脂及び／又はバインダー樹脂中に溶解又は分散させた固形状態のものを挙げることができる。  有機ＥＬ素子における青色の発光を緑色発光に変換する場合の蛍光色素については、例えば、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフロルメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）等のクマリン色素、その他クマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、また、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素を挙げることができる。
また、有機ＥＬ素子における青色の発光を、赤色の発光に変換する場合の蛍光色素については、例えば、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）等のシアニン系色素、１−エチル−２−（４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル）−ピリジニウム−パークロレート（ピリジン１）等のピリジン系色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、その他にオキサジン系色素等が挙げられる。
さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等）も蛍光性があれば蛍光色素として選択することが可能である。
また、蛍光色素をポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラニン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の顔料樹脂中に予め練り込んで顔料化したものでもよい。
一方、バインダー樹脂は、透明な（可視光における光透過率が５０％以上）材料が好ましい。
例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂（高分子）が挙げられる。
蛍光媒体を平面的に分離配置するために、フォトリソグラフィー法が適用できる感光性樹脂も選ばれる。
例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト材料が挙げられる。
また、印刷法を用いる場合には、透明な樹脂を用いた印刷インキ（メジウム）が選ばれる。
例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂のモノマー、オリゴマー、ポリマーまた、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を用いることができる。
【００２３】
色変換層２３が、主に蛍光色素からなる場合は、所望の色変換層のパターンが得られるマスクを介して真空蒸着又はスパッタリング法で成膜することが好ましい。
一方、色変換層２３が、蛍光色素と樹脂からなる場合は、蛍光色素と樹脂と適当な溶剤とを混合、分散又は可溶化させて液状物とし、当該液状物を、スピンコート、ロールコート、キャスト法等の方法で成膜し、その後、フォトリソグラフィー法で所望の色変換層のパターンにパターニングしたり、スクリーン印刷、インクジェット法等の方法で所望のパターンにパターニングして、色変換層を形成するのが好ましい。
【００２４】
色変換層２３の厚さは、有機ＥＬ素子の発光を十分に受光（吸収）するとともに、蛍光の発生機能を妨げるものでなければ、特に制限されるものではないが、例えば、１０ｎｍ〜１，０００μｍとすることが好ましく、０．１μｍ〜５００μｍとすることがより好ましく、５μｍ〜１００μｍとすることがさらに好ましい。
この理由は、色変換層の厚さが１０ｎｍ未満となると、機械的強度が低下したり、積層することが困難となる場合があるためである。
一方、色変換層の厚さが１ｍｍを超えると、光透過率が著しく低下して、外部に取り出せる光量が低下したり、あるいは有機ＥＬ発光装置の薄型化が困難となる場合があるためである。
【００２５】
次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第２の例を挙げる。
第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａは、図２（ａ）に示すように、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０に対して、赤色画素領域に対応する領域においては、黄色の硬膜１３Ｙの上に赤色発光用の色変換層１４ｒを形成し、緑色画素領域に対応する領域においては、黄色の硬膜１３Ｙの上に緑色発光用の色変換層１４ｇを形成し、青色画素領域に対応する領域においては、青色の硬膜１３Ｂの上に色変換層を設けない形態のもので、各色のカラーフィルタ用の硬化膜、各色変換層を覆うように透明な保護層１５を表面平坦にして配している。
保護膜１５以外の各部については、第１の例と機能、材質を同じとしている。
第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａは、図２（ｃ）に示す表示装置に用いられる。
図２（ｂ）に示す表示装置は、簡単には、図２（ｃ）に示す、基材２１の一面側にＴＦＴ回路（図示していない）、陽極２５と陰極２８の電極間に青色発光層２７を含む有機ＥＬ層２６を有する有機発光素子、酸素遮断層２８を、積層して配した構造のＴＦＴ形成基板２０ａと、図２（ａ）に示す、色変換層１４（１４ｒ、１４ｇ）を形成した第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａとを、図２（ｂ）に示すように対向して積層した構造のものである。
尚、第２の例でも、図２（ｂ）に示す表示装置の画素領域に対応して配した、図２（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０の黄色の硬化膜１３Ｙは、波長４００〜４５０ｎｍの範囲において透過率を１％以下にしている。
第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａを用いた、図２（ｂ）に示す表示装置においても、ＴＦＴ形成基板２０の青色発光層２２からの、図３のＢ１に示されるような分光輝度特性を有する青色発光光２２ＬＢを、それぞれ、赤色発光用の色変換層１４ｒ、緑色発光用の色変換層１４ｇに照射させた際に発光する赤色発光光１４ＬＲ、緑色発光光１４ＬＧを、波長４００〜４５０ｎｍの範囲でほとんどカットすることができ、結果、観察者側から外光の影響による色変換層での発光を抑制できるものとしている。
即ち、該赤色発光光１４ＬＲの発光する領域、緑色発光光１４ＬＧの発光する領域においては、観察者側から外光の影響による混色や白浮きを回避できるものとしている。
【００２６】
＜保護層１５＞
保護層１５用の材料としては、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物は、カラーフィルタ形成基板を面付けして作製後に、個片化する切断をするのに好ましい。
保護層用の光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、第１の例では、カラーフィルタ形成基板は面付けして形成した後に、樹脂組成物をスピンコーテイング法により塗布するが、各カラーフィルタ基板間に保護層の切れ目を設けておき、該切れ目において分離して個片化するため、保護層用の樹脂組成物を光硬化性樹脂組成物として、塗布後、乾燥し、所定領域のみ選択的に光照射して、現像して形成しているが、保護層の形成方法はこれに限定はされない。
保護層用の熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊（昭和６２年）等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス−［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、および２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ（４−メチルゼンゾイル）ペーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルエキサネート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカルボネート、ｔ−ブチル−４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。
【００２７】
本発明のカラーフィルタ形成基板は、上記形態に限定はされない。
例えば、上記第１の例において、各色の硬化膜形成側全体を保護層（図２の保護層１５に相当）で覆う形態も挙げられる。
上記第１の例、第２の例を有機ＥＬ素子を発光光源とした青色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に適用したが、これに限定はされない。
他の青色発光方式でも良い。
【００２８】
［実施例］
実施例を挙げて、本発明を更に説明する。
（実施例１）
実施例１は、図１に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を作製し、第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を適用した図１（ｂ）に示す表示装置を得たものです。
以下のように、光硬化性の硬化性樹脂組成物Ａを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Ａを用いて、カラーフィルタ形成用の青色硬化性樹脂組成物、黄色硬化性樹脂組成物、画素区分用遮光層（ブラックマトリクスとも言う）形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらを用いて、各硬化性樹脂組成物毎にフォトリソ法を行い、カラーフィルタ用の各色の硬化膜（着色樹脂層）１３Ｂ、１３Ｙと、画素区分用遮光層１２形成用の硬化膜（着色樹脂層）を形成したものです。
ここでは、画素区分用遮光層１２用の遮光性の硬化膜（着色樹脂層）を形成した後、表示用領域のカラーフィルタ用の青色の硬化膜（着色樹脂層）１３Ｂ、黄色の硬化膜（着色樹脂層）１３Ｙを、それぞれフォトリソ工程で形成して、第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を作製した。
【００２９】
（硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２’ーアゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
・  上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）          ：１６重量部
・  ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社  ＳＲ３９９）
：２４重量部
・  オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社  エピコート１８０Ｓ７０）                                    ：４重量部
・  ２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン                                              ：４重量部
・  ジエチレングリコールジメチルエーテル        ：５２重量部
【００３０】
（画素区分用遮光層（ブラックマトリクスとも言う）１２の形成）
まず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調整した。
・    樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ）    ：２０重量部
・    高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社  Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ  １６３）                                                            ：５重量部
・    溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）          ：７５重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の硬化膜形成用組成物を得た。
・    上記黒色顔料分散液                      ：４３重量部
・    硬化性樹脂組成物Ａ                      ：１９重量部
・    ジエチレングリコールジメチルエーテル    ：３８重量部
ガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ材）上に上記遮光性の硬化膜形成用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、遮光性の硬化膜を形成した。
当該遮光性の硬化膜を塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより、２．０ｋＷの超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施した。
ここでは、フォトリソ法により、画素区分用遮光層を形成したが、形成膜厚は１．３μｍとなった。
尚、上記の樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ）は、平均粒径２５ｎｍである。
粒径は、例えば、日機装社製のレーザードップラー散乱光解析粒度分析計（商品名「Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ９３４ＵＰＡ」）を用い、通常は、着色組成物に含まれる溶剤（希釈溶剤と呼ぶ）で希釈し、着色組成物の顔料粒径の累積が５０％を占める粒径を５０％平均粒径とし、その値を測定して求める。
【００３１】
（青色の硬化膜１３Ｂの形成）
更に、画素区分用遮光層１２上に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。
次いで、青色硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋｗの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後、基板を２３０℃の雰囲気下に15分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素パターンを表示用領域に形成した。
形成膜厚は２．０μｍとなった。
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・    Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６  ：５重量部
・    ポリスルホン酸型高分子分散剤      ：３重量部
・    硬化性樹脂組成物Ａ                ：２５重量部
・    酢酸−３−メトキシブチル          ：６７重量部
【００３２】
（黄色の硬化膜１３Ｙの形成）
下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、青色の硬化膜１３Ｙの形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、表示領域に黄色のレリーフパターンを形成した。
＜黄色硬化性樹脂組成物の組成＞
・    Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９                      ：５重量部
・    ポリスルホン酸型高分子分散剤                          ：３重量部
・    硬化性樹脂組成物Ａ                                    ：２５重量部
・    酢酸−３−メトキシブチル                              ：６７重量部
【００３３】
このようにして作製された図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の、青色の硬化膜１３Ｂ、黄色の硬化膜１３Ｙについて、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で透過率を測定した結果が、それぞれ、図３に示すＢ０のグラフ、Ｙ０のグラフである。
黄色の硬化膜１３Ｙは、Ｙ０のグラフから分かるように波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲で透過率が１％以下である。
尚、図３に示すＢ０のグラフ、Ｇ０のグラフ、Ｒ０のグラフは、それぞれ、図４（ａ）に示す従来のカラーフィルタ形成基板１１０における、Ｂ、Ｇ、Ｒの各色のカラーフィルタ用の硬化膜１１３Ｂ、１１３Ｇ、１１３Ｒの波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲での透過率特性に相当する。
【００３４】
（保護膜の形成）
上記のようにして作製された図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の、青色の硬化膜１３Ｂ、黄色の硬化膜１３Ｙを形成した側上に、前述の硬化性樹脂組成物Ａをスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜２μｍの塗布膜を形成して、これを保護膜とした。
硬化性樹脂組成物Ａの塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて保護層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液２３℃）中に1 分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後基板を２３０℃の雰囲気中に１５分間放置することにより加熱処理を施して保護膜を形成した。
このようにして、図１に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０に対して、保護膜を形成した。
【００３５】
次に、保護層を形成した第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を用いて、以下のようにして、図１（ｂ）に示す表示装置を作成した。
（表示装置の作成）
予め、図１（ｃ）に示すような層構成でＴＦＴ形成基板２０を形成しておき、保護層を配したカラーフィルタ形成基板１０と、ＴＦＴ形成基板２０とを充填材（図示していない）を介して、図１（ｂ）のように対向して積層して、表示装置を作製した。
基材２１の一面上への有機ＥＬ素子２７の形成を形成したが、有機ＥＬ素子２７の形成は一般的で、ここでは、説明を省略する。
ここでは、真空蒸着法により正孔注入層、発光層、電子注入層からなる青色発光層を形成した。
すなわち、まず、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを２００ｎｍ厚まで蒸着して成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより正孔注入層とした。
次いで、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜することにより発光層とした。
その後、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とし、青色発光層２２を形成した。
次いで、以下のようにして、酸素遮断層２９、色変換層２３（２３ｒ、２３ｇ）を形成した。
尚、ここでは、図２（ｂ）における透明層２３ｔは、透明な樹脂層で、カラーフィルタ形成基板とＴＦＴ形成基板とを積層する際の透明な充填材等がこれに相当する。
（色変換層２３の形成）
赤色発光用の色変換層２３ｒは、下記の赤色変換蛍光体層用塗布液を素材として用いて、スクリーン印刷法にて形成した。
（赤色変換蛍光体層用塗布液）
・ローダミンＢ                                    …    ３重量部
・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体      …  ４７重量部
（メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１）
・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether ］        …  ５０重量部
(ＣＨ３  ＯＣＨ２  ＣＨ２)２  Ｏ
緑色発光用の色変換層２３ｇは、下記の緑色変換蛍光体層用塗布液を素材として用いて、スクリーン印刷法にて形成した。
（緑色変換蛍光体層用塗布液）
・ベーシックイエロー５１                          …    ３重量部
・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体      …  ４７重量部
（メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１）
・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether ］        …  ５０重量部
(ＣＨ３  ＯＣＨ２  ＣＨ２)２  Ｏ
色変換層２３ｒ、２３ｇの相対輝度特性は、それぞれ、図３のＲ１のグラフ、Ｇ１のグラフのようになった。
【００３６】
このように作製された表示装置について、目視により評価したが、表示状態は、従来の図４（ｂ）に示す表示装置と同程度であった。
また、表示装置の電源をＯＦＦとし、標準光源（６５００Ｋ）を外光光源として、外光による赤色発光用の色変換層２３ｒ、緑色発光用の色変換層２３ｇの発光の有無を調べたが、発光は、目視では観察できなかった。
勿論、図１（ｂ）に示す色発光光２３ＬＲの発光する領域、緑色発光光２３ＬＧの発光する領域での、発光は観察できなかった。
これより、図１（ｂ）に示す赤色発光光２３ＬＲの発光する領域、緑色発光光２３ＬＧの発光する領域で、外光の影響による混色や白浮きを回避できるものと判断できる。
【符号の説明】
【００３７】
１０、１０ａ      カラーフィルタ形成基板
１１              基材（透明基板）
１２              画素区分用遮光層（ブラックマトリクスとも言う）
１３              カラーフィルタ用の硬化膜（着色樹脂層とも言う）
１３Ｂ            青色の硬化膜（青色の着色樹脂層とも言う）
１３Ｙ            黄色の硬化膜（黄色の着色樹脂層とも言う）
１３ＬＲ          赤色の光
１３ＬＢ          青色の光
１３ＬＧ          緑色の光
１４ｒ            赤色発光用の色変換層
１４ｇ            緑色発光用の色変換層
１４ＬＲ          赤色の発光光
１４ＬＢ（２２ＬＢ）  青色の発光光
１４ＬＧ          緑色の発光光
１５              保護層
２０、２０ａ      ＴＦＴ形成基板
２１              基材
２２              青色発光層
２２ＬＢ          青色発光光
２３              色変換層
２３ｒ            赤色発光用の色変換層
２３ｇ            緑色発光用の色変換層
２３ｔ            透明膜
２３ＬＲ          赤色の発光光
２３ＬＢ（２２ＬＢ）  青色の発光光
２３ＬＧ          緑色の発光光
２４              遮光層
２５              陽極
２６              有機ＥＬ層
２７              有機ＥＬ素子
２８              陰極
２９              酸素遮断層（封止材）
１１０            カラーフィルタ形成基板
１１１            基材（透明基板）
１１２            画素区分用遮光層（ブラックマトリクスとも言う）
１１３            カラーフィルタ用の着色層
１１３Ｒ          赤色の硬化膜（赤色の着色樹脂層とも言う）
１１３Ｂ          青色の硬化膜（青色の着色樹脂層とも言う）
１１３Ｇ          緑色の硬化膜（緑色の着色樹脂層とも言う）
１１３ＬＲ        赤色の光
１１３ＬＢ        青色の光
１１３ＬＧ        緑色の光
１２０            ＴＦＴ形成基板
１２１            基材
１２２            青色発光層
１２２ＬＢ        青色発光光
１２３            色変換層
１２３ｒ          赤色発光用の色変換層
１２３ｇ          緑色発光用の色変換層
１２３ｔ          透明膜
１２３ＬＲ        赤色の光
１２３ＬＢ        青色の光
１２３ＬＧ        緑色の光
１２４            遮光層
１２５            陽極
１２６            有機ＥＬ層
１２７            有機ＥＬ素子
１２８            陰極
１２９            酸素遮断層（封止材）
【図１】
2014063086.tif 000003
【図２】
2014063086.tif 000004
【図３】
2014063086.tif 000005
【図４】
2014063086.tif 000006