(57)【要約】【課題】公知の真空（減圧）乾燥装置は１つの真空容器の中で種々考えられているが、水切りと乾燥を分離する２つの真空容器に考え方を変えての、新たな真空（減圧）乾燥方法及びその装置を提供すること。【解決手段】真空（減圧）乾燥方法は、蓄熱ユニットにおける第１の真空容器による蓄熱水切り工程と、減圧ユニットにおける第２の真空容器による真空（減圧）乾燥工程を含むことを特徴とし、蓄熱ユニットは、第１の真空容器と、ヒータと、不活性ガス置換機構、と吸水仕組みを具備したことを特徴とし、減圧ユニットは、第２の真空容器と、排気機構と、気体導入機構と、ホットプレート仕組みと、を具備したことを特徴とする。真空（減圧）乾燥装置は、前記蓄熱ユニット及び減圧ユニット、更には、被処理物のバッチ式移載機構を組み込んだことを特徴とする。【選択図】図５
2014029234.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水分と水滴が付着した被処理物を乾燥させる方法であって、
第１の真空容器を備えた蓄熱ユニットと、
第２の真空容器を備えた減圧ユニットと、を用いて、
前記蓄熱ユニットにおける第１の真空容器内において被処理物の蓄熱水切りを行う蓄熱水切り工程と、
該蓄熱水切り工程を経た被処理物を前記減圧ユニットにおける第２の真空容器内において真空（減圧）乾燥する真空（減圧）乾燥工程と、を含むことを特徴とする真空（減圧）乾燥方法
【請求項２】
被処理物の処理形態は、バッチ式であることを特徴とする請求項１に記載の真空（減圧）乾燥方法
【請求項３】
前記蓄熱ユニットは、
真空室となる第１の真空容器と、該第１の真空容器の開閉蓋と、前記第１の真空容器を加熱するヒータと、前記第１の真空容器内に配設された、吸水シートと該吸水シートの受台とを具備した吸水仕組みと、前記第１の真空容器内を不活性雰囲気とするための、真空ポンプによる排気系と、不活性ガス供給系と、を具備したことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の真空（減圧）乾燥方法。
【請求項４】
前記減圧ユニットは、
真空室となる第２の真空容器と、該第２の真空容器の開閉蓋と、前記第２の真空容器内に配設された、被処理物の載置部としてのホットプレートと、真空ポンプによる排気系と、第２の真空容器内の圧力調整用としての不活性ガス供給系又はドライエア供給系と、を具備したことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の真空（減圧）乾燥方法。
【請求項５】
請求項１又は請求項２における蓄熱水切り工程を実施するための蓄熱ユニットであって、
真空室となる第１の真空容器と、該第１の真空容器の開閉蓋と、前記第１の真空容器を加熱するヒータと、前記第１の真空容器内に配設された、吸水シートと該吸水シートの受台とを具備した吸水仕組みと、前記第１の真空容器内を不活性雰囲気とするための真空ポンプによる排気系と、不活性ガス供給系と、を具備したことを特徴とする蓄熱ユニット。
【請求項６】
請求項１又は請求項２における真空（減圧）乾燥工程を実施するための減圧ユニットであって、
真空室となる第２の真空容器と、該第２の真空容器の開閉蓋と、前記第２の真空容器内に配設された、被処理物の載置部としてのホットプレートと、真空ポンプによる排気系と、第２の真空容器内の圧力調整用としての不活性ガス供給系又はドライエア供給系と、を具備したことを特徴とする減圧ユニット。
【請求項７】
請求項２に記載の真空（減圧）乾燥方法を実施するための真空（減圧）乾燥装置であって、
被処理物の蓄熱水切りを行う蓄熱ユニットと、
該蓄熱ユニットにおいて蓄熱水切りが行われた被処理物を真空（減圧）乾燥する減圧ユニットと、
被処理物を移載するためのバッチ式移載機構と、を具備し、
前記蓄熱ユニットとして請求項５に記載の蓄熱ユニットを用いて、
前記減圧ユニットとして請求項６に記載の減圧ユニットを用いた、ことを特徴とする真空（減圧）乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品、電気部品、機械部品などのバッチ式処理形態の真空（減圧）乾燥方法及び真空（減圧）乾燥装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
洗浄液に水あるいは水系洗浄剤を用いる洗浄工程においては、洗浄、純水リンス後に、枚葉式処理形態の場合は、液晶用ガラス基板、半導体シリコンウェハに代表されるように、エアナイフあるいはスピンによる水切り乾燥およびランプ、マイクロ波加熱を併用する真空（減圧）乾燥を行うことが一般的である。また、バッチ式処理形態の場合は、熱風乾燥、スピン水切り乾燥、イソプロピルアルコール蒸気乾燥、真空（減圧）乾燥など、様々な方法とその装置が公開されている。この中で、本発明の対象となる、バッチ式処理形態の真空（減圧）乾燥方法とその装置に関する特徴的な公知例を次に述べる。
【０００３】
特許文献１では、真空容器にシャッターを設けて上下２室とし、下部には純水を注入し、加圧雰囲気で加熱する。ここに被処理物を浸漬して蓄熱させ、その後、上部に被処理物を引上げてシャッターを閉め、真空（減圧）乾燥する方法とその装置が開示されている。
【０００４】
特許文献２では、真空容器に被処理物回転機構と内壁近傍にヒータを設け、スピン水切りとヒータ加熱（主に、壁に付着した水分の加熱）と真空（減圧）の同時進行による乾燥方法及びその装置が開示されている。
【０００５】
特許文献３では、真空容器の内壁にランプヒータを設け、ランプ加熱と真空（減圧）、大気開放の繰り返し、いわゆる、間欠排気による乾燥方法及びその装置が開示されている。
【０００６】
特許文献４では、付帯設備として水蒸気発生機を設け、真空容器の外壁（ジャケット）と内部に供給できるようにしてある。被処理物は水蒸気で加熱し、その後、真空（減圧）乾燥を行う方法とその装置が開示されている。
【０００７】
特許文献５では、真空容器にヒータとファンを設け、熱と気流を利用した真空（減圧）乾燥方法及びその装置が開示されている。
【０００８】
特許文献６では、真空容器に被処理物回転機構と光透過窓付ランプヒータを設け、スピン水切りと輻射加熱を利用した真空（減圧）乾燥方法及びその装置が開示されている。
【０００９】
特許文献７では、被処理物を挿入したガラス製真空容器を減圧し、それにマイクロ波を被処理物の温度を検知しながら、間欠的に照射する真空（減圧）乾燥方法及びその装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平６−０００４５９号公報
【特許文献２】特開平６−１０８９７２号公報
【特許文献３】特開平６−２７３０３７号公報
【特許文献４】特開２００２−１１５９６６号公報
【特許文献５】特開２００５−０７６９７１号公報
【特許文献６】特開２００７−１３２５５０号公報
【特許文献７】再表２００５−１００８９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
公知のバッチ式処理形態の真空（減圧）乾燥方法及びその装置は、前記のように開示されているが、特許文献１においては、温純水に浸漬した被処理物を引上げただけでは、ガラス基板のような板状のものでも水分量、水滴が多く、特に、収納容器（カセット、カゴ）との接触部において顕著である。このような場合は、当然のことながら、乾燥に長時間を要し、品質（水分残り、シミ）においても満足な結果が得られない。
【００１２】
この点特許文献２においては、スピン水切りを適用しており、被処理物に付着している水分、水滴を除去するには最適と考える。しかしながら、太陽電池用シリコンウェハに代表されるように、最近では、コスト削減の必要性から薄肉化（２００μｍ以下）が図られているが、このような被処理物は、機械的強度が非常に弱く、振動などにより割れるリスクが高くなり、また、その他の被処理物ではキズなどを生じる可能性があるため、回転機構を設けることには難点がある。
【００１３】
また、特許文献３においては、真空（減圧）中では伝導、対流の伝熱は余り期待できないので、真空容器を大気開放し、ヒータが有効に作用するようにして、被処理物を再加熱し、再度、真空（減圧）乾燥する方法を採っているが、このような方法は、乾燥に長時間を要するなど問題が多く、実用性に乏しい。
【００１４】
更に特許文献４においては、真空容器内の水分量が多くなり、乾燥に長時間を要することと、付帯設備として水蒸気発生機を設ける必要があることから、非経済的な装置となる。
【００１５】
更にまた特許文献５においては、真空容器内にファンを設け、雰囲気攪拌による乾燥効率向上を狙っているが、真空（減圧）中では、期待が薄い。
【００１６】
また特許文献６においては、ランプによる光加熱の均一照射及びスピン水切りのために、真空容器に回転及び転動機構を設けているが、特許文献２で述べた理由により問題が多い。
【００１７】
また特許文献７においては、被処理物の温度を直接検知して、マイクロ波を間欠照射しているが、現実的には温度の直接検知には難点があると考えられる。
【００１８】
そこで、本発明は、短時間で安定した乾燥が可能な真空（減圧）乾燥方法及び真空（減圧）乾燥装置を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
以上のように、水分、水滴が付着している被処理物のバッチ式処理形態の真空（減圧）乾燥においては、いかにして被処理物に熱を供給するかという点と、いかにして被処理物の水分量、水滴を少なくしてから真空（減圧）乾燥するかという点に、視点をおいて、様々な真空（減圧）乾燥方法及びその装置が開示、提供されている。それぞれについて懸念事項を述べたが、これは、１つの真空容器の中で、水切りと乾燥を行っているが故に生じるものと考えた。
【００２０】
そこで、本発明者は、１つの真空容器から２つの真空容器に考え方を変えて、いわゆる、水切りと乾燥を分離して鋭意研究を行い、その結果として、新たな真空（減圧）乾燥方法及びその装置を発明した。
【００２１】
即ち、本発明の真空（減圧）乾燥方法は、
水分と水滴が付着した被処理物を乾燥させる方法であって、
第１の真空容器を備えた蓄熱ユニットと、
第２の真空容器を備えた減圧ユニットと、を用いて、
前記蓄熱ユニットにおける第１の真空容器内において被処理物の蓄熱水切りを行う蓄熱水切り工程と、
該蓄熱水切り工程を経た被処理物を前記減圧ユニットにおける第２の真空容器内においていて真空（減圧）乾燥する真空（減圧）乾燥工程と、を含むことを特徴としている。
【００２２】
そして、前記蓄熱ユニットは、
真空室となる第１の真空容器と、該第１の真空容器の開閉蓋と、前記第１の真空容器を加熱するヒータと、前記第１の真空容器内に配設された、吸水シートと該吸水シートの受台とを具備した吸水仕組みと、前記第１の真空容器内を不活性雰囲気とするための真空ポンプによる排気系と、不活性ガス供給系と、を具備したことを特徴としている。
【００２３】
また、前記減圧ユニットは、
真空室となる第２の真空容器と、該第２の真空容器の開閉蓋と、前記第２の真空容器内に配設された、被処理物の載置部としてのホットプレートと、真空ポンプによる排気系と、真空室圧力調整用としての不活性ガス供給系又はドライエア供給系と、を具備したことを特徴としている。
【００２４】
そして、本発明の真空（減圧）乾燥装置は、
被処理物の蓄熱水切りを行う蓄熱ユニットと、
該蓄熱ユニットにおいて蓄熱水切りが行われた被処理物を真空（減圧）乾燥する減圧ユニットと、
被処理物を移載するためのバッチ式移載機構と、を具備し、
前記蓄熱ユニットとして前述の蓄熱ユニットを用いて、
前記減圧ユニットとして前述の減圧ユニットを用いた、ことを特徴としている。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の真空（減圧）乾燥方法及びその方法を実施するための真空（減圧）乾燥装置は、蓄熱水切り工程と真空（減圧）乾燥工程を分離したことを特徴としている。
【００２６】
そのため、本発明の真空（減圧）乾燥方法によれば、蓄熱水切り工程と真空（減圧）乾燥工程を分離したことにより、蓄熱水切り工程では、真空（減圧）乾燥に最も悪影響を与える水滴を消失させることができると共に、蓄熱を達成することができる。
【００２７】
また、真空（減圧）乾燥工程では、水分が少ないために、真空容器の加熱が不要で、微量の気体を導入しながら、所定の圧力で減圧処理を行えば、短時間で安定した乾燥ができる。
【００２８】
更には、本発明の真空（減圧）乾燥方法では、回転機構、ガスブロー機構などを採用していないため、機械的強度の弱い被処理物に対しては、割れ、キズなどで極めて大きな効果が発揮できる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明における蓄熱ユニットの実施例を説明するための図である。
【図２】本発明における減圧ユニットの実施例を説明するための図である。
【図３】サンプル作成条件を示す図である。
【図４】サンプルの排気特性曲線計測結果を示す図である。
【図５】本発明の真空（減圧）乾燥装置の実施例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
本発明の真空（減圧）乾燥方法では、まず、十分に脱気した純水でリンスされた被処理物を、設定温度に調節されている、蓄熱ユニットにおける真空容器内の吸水仕組みの吸水シート上に載置する。
【００３１】
ここで、被処理物が水分と酸素の混合雰囲気を嫌う場合は、本容器内の空気を不活性ガス置換機構を利用して不活性ガス（Ｎ２ガスなど）に置換し、圧力は大気圧程度とする。
【００３２】
そして、所定時間経過（被処理物が設定温度に到達）後に、蓄熱水切りされた被処理物を減圧ユニット真空容器へ移載する。ここでは、水分が氷結しない約６１０Ｐａ以上の圧力に、気体導入機構で調整して、所定時間真空（減圧）乾燥を行う。その後、大気開放して被処理物を取り出し、真空（減圧）乾燥が終了となる。
【００３３】
なお、圧力調整用気体としては、ドライエアが一般的であるが、水分と酸素の混合雰囲気を嫌う被処理物の場合は不活性ガス（N２ガスなど）とする。
【００３４】
また、乾燥終了の判定方法としては、圧力でもよい。この場合は、所定の排気システムにおいて、事前に、所定の設定圧力における排気特性曲線を求め、設定圧力（到達圧力）より若干高めの圧力を検知し、それに、排気特性曲線から算出する若干の時間を加味する方法が最も実用的と考える。
【００３５】
そして、この方法を実施するための本発明の蓄熱ユニットでは、自動開閉蓋付真空容器に対して、ヒータ加熱機構、不活性ガス置換機構（排気機構、不活性ガス供給機構）、容器内に設けた吸水シートによる吸水仕組みを備えている。
【００３６】
また、本発明の真空（減圧）乾燥方法を実施するための減圧ユニットでは、自動開閉蓋付真空容器に対して、排気機構、圧力調整用気体導入機構、容器内に設けた被処理物載置用ホットプレート仕組みを備えている。
【００３７】
ここで、被処理物収納容器の底部は、蓄熱ユニットにおいては、吸水シート（水分が多い）と接触しているため、その部分は水滴はないが水で濡れている状態となる。そこで、収納容器といえども、より安定的に乾燥を保障するために、減圧ユニットでは、ホットプレート仕組みを設け、これと被処理物収納容器の底部が接触するようにした。
【００３８】
更に、収納容器について述べる。一般に、バッチ式処理形態の場合は、収納容器に被処理物を収納して、洗浄、リンス、乾燥が実行される。ガラス基板、シリコンウェハなどの収納容器は、リンス後の水切り性が十分に考慮された構造で市販されているので問題ないが、機械部品などの市販収納容器（いわゆる洗浄カゴ）は金属ワイヤーと金網で製作しているものが多く、このような構造の場合は、スピンやガスブローでの水切り性は問題ないが、本発明で適用している静置（重力）方法では水切り性（特に水滴の除去）が非常に悪い。したがって、板状の材料を基本とした、水切り性のよい構造の収納容器の準備が重要となる。
【００３９】
また、本発明の真空（減圧）乾燥装置は、被処理物を蓄熱水切りするための蓄熱ユニットと、真空（減圧）乾燥するための減圧ユニットと、被処理物の移載機構の構成であることを特徴としており、蓄熱ユニットは前述の蓄熱ユニットをもちいており、減圧ユニットは前述の減圧ユニットを用いていることを特徴としている。
【実施例１】
【００４０】
本発明の真空（減圧）乾燥方法の実施例について説明すると、本実施例の真空（減圧）乾燥方法は、水分と水滴が付着した被処理物を乾燥させる方法であり、蓄熱水切り工程と、真空（減圧）乾燥工程によって被処理物を乾燥させることを特徴としている。
【００４１】
そして、前記蓄熱水切り工程は、第１の真空容器を備えた蓄熱ユニットにおいて行い、真空（減圧）工程は、第２の真空容器を備えた減圧ユニットにおいて行うこととしている。
【００４２】
ここで、前記蓄熱水切り工程について図１を参照して説明すると、図１は、前記蓄熱水切り工程を実施するための本発明の蓄熱ユニットの実施例を説明するための図であり、図において１０が本実施例の蓄熱ユニットである。
【００４３】
そして、本実施例の蓄熱ユニット１０は、第１の真空容器を備えており、この第１の真空容器内で蓄熱水切り工程を実施することとしている。即ち、図において１１が第１の真空容器であり、本実施例において前記第１の真空容器１１は、材質がステンレス製の箱型の真空容器１１としており、ヒータ１２と、図示しない温度調節器を具備して、所定温度に加熱ができる。
【００４４】
なお、本実施例における前記第１の真空容器１１は、容器内の温度を監視する温度モニター１３、開閉弁１４、圧力計１５を具備して構成されている市販の真空乾燥器であり、内容積は２０L、ヒータ容量は８４０Wで、扉は、図示していないが図１の前面に設けてある。
【００４５】
次に、本実施例における前記蓄熱ユニット１０では、前記第１の真空容器１１内に吸水仕組みを具備している。即ち、本実施例の蓄熱ユニット１０では、前記第１の真空容器１１内の底部分にシート受台１９を配設し、このシート受台１９の上面側に吸水シート１８を配設し、この吸水シート１８とシート受台１９で吸水仕組みを構成している。
【００４６】
そして、前記吸水仕組みの上方に、処理の対象とした被処理物１６を収納する収納容器１７を配設することとしており、本実施例において被処理物１６は、太陽電池用シリコンウェハ（１２５×１２５×ｔ０．２）を１７枚とし、収納容器１７は樹脂製カセットとしている。
【００４７】
なお、本実施例において前記シート受台１９は金属製としており、前記吸水シート１８は、例えば、トーヨーポリマー株式会社製の商品名ルビーセルなどが考えられる。また、吸水仕組みは被処理物収納容器の構造に準じて、最適な仕組みとする必要があるが、吸水シートと受台の基本構成は変わらない。
【００４８】
次に、このように構成される蓄熱ユニット１０による蓄熱水切り方法の手順を図１で説明すると、まず、蓄熱ユニット１０はヒータ１２で事前に所定の温度に加熱温度調節しておく。
【００４９】
また、第１の真空容器１１は若干陽圧となっているので、開閉弁１４で大気圧としておく。
【００５０】
次に、前面の扉を開けて、純水リンスした被処理物１６を吸水シート１８上に載置し、扉を閉めて所定時間加熱する。そうすると、高温多湿雰囲気にさらされた被処理物１６は、蓄熱と純水の表面張力及び粘性の低下により良好な水切りがほどこされる。
【００５１】
そして、所定時間経過後に、開閉弁１４で大気圧とし、扉を開け、極力短時間で、被処理物１６を次の減圧ユニット５０へ移動させる。
【００５２】
次に、前記真空（減圧）乾燥工程について図２を参照して説明すると、図２は、前記真空（減圧）乾燥工程を実施するための本発明の減圧ユニットの実施例を説明するための図であり、図において５０が本実施例の減圧ユニットである。
【００５３】
そして、本実施例の減圧ユニット５０は、材質がステンレス製の円筒型の第２の真空容器５１を有しており、この第２の真空容器５１内の底部分には、収納容器に収納された被処理物を載置する棚５２が備えられている。
【００５４】
また、本実施例の減圧ユニット５０は、真空ポンプ５３、ピラニー真空計５４、ガスフィルター５８を具備して構成され、更には、排気開閉弁５５、大気開放開閉弁５６、及び圧力調整用ニードル開閉弁５７を有している。
【００５５】
ここで、真空ポンプ５３は、排気速度５００L／分のオイルフリースクロール真空ポンプで、水蒸気の排気が可能である。また、第２の真空容器５１の内容積は１００Lである。尚、扉は図示していないが、図２の前面に設けてある。
【００５６】
次に、このように構成される減圧ユニット５０による真空（減圧）乾燥方法の手順を図２で説明すると、真空ポンプ５３を最大排気速度の回転数とし、ピラニー真空計５４をモニターしながら、ニードル開閉弁５７で所定の圧力に調整しておく。
【００５７】
そしてまず、排気開閉弁５５と大気開放開閉弁５６とで、第２の真空容器５１を大気圧とし、前面扉を開けて、蓄熱水切りが終了した被処理物１６を棚５２に載置して、扉を閉めて、排気開閉弁５５と大気開放開閉弁５６とで、真空（減圧）を開始する。
【００５８】
そして、所定圧力への回復と所定時間の確認により、乾燥終了となり、最後に、排気開閉弁５５と大気開放開閉弁５６とで、真空容器５１を大気圧とし、扉を開け被処理物１６を取出す。
【００５９】
次に、本実施例の蓄熱水切りと真空（減圧）乾燥の評価について説明する。評価方法としては、種々の条件でサンプルを作成し、減圧ユニットにおける排気特性曲線を計測して、それを比較するやり方とした。更には、目視及び金属顕微鏡によるシミ、ムラなどの外観チェックとした。
【００６０】
ここで、サンプル作成条件を図３を参照して説明すると、蓄熱水切り条件は、吸水シートの有無、温度８０℃と１００℃、時間１０分の組合せとした。ここで、吸水シート無とは、蓄熱ユニットにおいて吸水仕組みを取り外し、被処理物を直接真空容器に載置した場合である。
【００６１】
一方、真空（減圧）乾燥条件は、圧力は８００Ｐａ、温度は室温、時間は１０分の固定とした。また、事前に十分乾燥した被処理物を真空（減圧）乾燥条件だけで処理した場合をブランクとした。
【００６２】
そして、それぞれのサンプルの排気特性曲線の計測結果を図４に示す。横軸は排気開始からの経過時間、縦軸はピラニー真空計の出力で、圧力８００Ｐａの場合の出力は４．３ｍＶとなる。本発明の真空（減圧）乾燥方法を適用したサンプルの計測結果はＡ、Ｂが該当する。蓄熱温度８０℃においても乾燥時間は十分に満足できるが、蓄熱温度１００℃の場合は、ブランクとの比較においても、極めて満足できる乾燥時間となっている。また、目視、金属顕微鏡での外観チェックで特に異常は見られなかった。
【００６３】
更に、比較のための蓄熱ユニットの吸水仕組みを取り外した場合のサンプルの測定結果はＣ．Ｄが該当する。明らかにサンプルＡ、Ｂより悪い。これは、安定的に真空（減圧）乾燥を行うためには、蓄熱水切りが極めて重要であり、手段としての吸水仕組みは、単純ではあるが威力を十分に発揮している。
【００６４】
次に、本発明の真空（減圧）乾燥装置１００の実施例について図５を参照して説明すると、本実施例の真空（減圧）乾燥装置は、水分と水滴が付着した被処理物の蓄熱水切りを行う蓄熱ユニットと、真空（減圧）乾燥を行う減圧ユニットと、被処理物を移動させる移載機構と、を具備した装置としている。
【００６５】
そして、洗浄液に水あるいは水系洗浄剤を用いる洗浄装置の乾燥工程と、水分と酸素の混合雰囲気を嫌うような被処理物の乾燥に適用可能としており、また、本実施例の真空（減圧）乾燥装置１００では、被処理物を収納容器に収納して処理がなされるバッチ式処理形態としてある。
【００６６】
まず、蓄熱ユニットは、開閉蓋１０２を備えた第１の真空容器１０１を有しており、この真空容器１０１にはヒータ１０３が具備され、これにより、所定温度に加熱可能としている。
【００６７】
また、前記第１の真空容器１０１内には、吸水シート１０４と、複数孔付きの金属製のシート受台１０５が配設され、この吸水シート１０４とシート受台１０５とで吸水仕組みが構成されている。
【００６８】
更に、前記第１の真空容器１０１には、真空ポンプ１０６、放熱器１０７、真空計１０８、温度調節計１０９、ガスフィルター１１０、不活性ガス供給源１１１、ドレン開閉弁１１２、排気開閉弁１１３、不活性ガス供給開閉弁１１４が、直接あるいは間接に連結され、これを蓄熱ユニットの機器構成としてある。
【００６９】
尚、第１の真空容器１０１と開閉蓋１０２は、図示していないＯリングなどのシール材で密閉できる構造としてある。また、放熱器１０７は真空ポンプ１０６の熱による故障を防止するために設けた。更には、一般的な方法であるので図示していないが、真空破壊時の異物巻き上げ低減用ディフューザーを不活性ガス供給系に設けてある。
【００７０】
ここで、水分と酸素の混合雰囲気を嫌う被処理物の蓄熱水切り方法の手順を説明すると、第１の真空容器１０１は、ヒータ１０３と温度調節計１０９により、空気雰囲気で所定の温度（例えば、８０℃）に加熱温度調節されていることを前提とする。
【００７１】
まず、ドレン開閉弁１１２で真空容器１０１のドレンと若干陽圧となっている真空容器１０１の大気圧化を図る。
【００７２】
そして、開閉蓋１０２を開け、十分に脱気した純水でリンス後の被処理物を移載機構で金属製受台１０５の吸水シート１０４に載置する。開閉蓋１０２を閉め、真空ポンプ１０６、放熱器１０７、排気開閉弁１１３の排気系で真空計１０８を利用して到達圧力（１０Ｐａ程度）まで排気する。
【００７３】
次に、不活性ガス供給源１１１、ガスフィルター１１０、不活性ガス開閉弁１１４の不活性ガス供給系で第１の真空容器１０１を大気圧とする。これで不活性ガス雰囲気となり、所定時間の蓄熱水切りを行う。
【００７４】
その後、ドレン開閉弁１１２で第１の真空容器１０１のドレンと大気圧化を図り、開閉蓋１０２を開け、被処理物を、移載機構で減圧ユニットへ移動させる。
【００７５】
尚、空気雰囲気での蓄熱水切りが許せるような被処理物の場合の手順は、真空容器１０１が所定の温度（例えば、８０℃）に加熱温度調節されていることを前提として、まず、ドレン開閉弁１１２で第１の真空容器１０１のドレンと若干陽圧となっている真空容器１０１の大気圧化を図り、純水リンス後の被処理物を移載機構で吸水シート１０４に載置し、開閉蓋１０２を閉め、所定時間の蓄熱水切りを行い、その後、ドレン開閉弁１１２で真空容器１０１のドレンと大気圧化を図り、開閉蓋１０２を開け、被処理物を移載機構で減圧ユニットへ移動させる。
【００７６】
次に、前記減圧ユニットについて説明すると、本実施例において前記減圧ユニットは、開閉蓋１１６を備えた第２の真空容器１１５を有しており、この第２の真空容器１１５内の底部には、ホットプレート１１７と、このホットプレート１１７を受けている樹脂製の受台１３３が配設されている。
【００７７】
また、前記第２の真空容器１１５には、真空ポンプ１１８、真空計１１９、温度調節計１２０、ガスフィルター１２１、不活性ガスパージボックス１２２、不活性ガス供給源１２３、不活性ガス用微圧計１２４、ドライエアパージボックス１２５、ドライエア供給源１２６、ドライエア用微圧計１２７、排気開閉弁１２８、大気開放開閉弁１２９、エアフィルター１３０、不活性ガスニードル開閉弁１３１、ドライエアニードル開閉弁１３２が直接あるいは間接に連結され、これを減圧ユニットの機器構成としてある。
【００７８】
尚、第２の真空容器１１５と開閉蓋１１６は図示していないＯリングなどのシール材で密閉できる構造としてある。また、ホットプレート１１７の受台１３３の材質を樹脂製としているのは、ホットプレート１１７の熱ロス防止にある。更には、これも図示していないが、真空破壊時の異物巻上げ低減用ディフューザーを大気開放系に設けてある。
【００７９】
ここで、水分と酸素の混合雰囲気を嫌う被処理物の真空（減圧）乾燥方法の手順を説明すると、第２の真空容器１１５は、排気系（真空ポンプ１１８、排気開閉弁１２８）と不活性ガス供給系（不活性ガス供給源１２３、不活性ガスパージボックス１２２、不活性ガス微圧計１２４、不活性ガスニードル開閉弁１３１、ガスフィルター１２１）で、約６１０Ｐａ以上の所定の圧力（例えば、８００Ｐａ）に調整されていること、及び、ホットプレート１１７は温度調節計１２０を利用して、所定の温度（例えば、４０℃）に調整されていることを前提とする。
【００８０】
まず、排気開閉弁１２８と大気開放開閉弁１２９で第２の真空容器１１５を大気圧とし、開閉蓋１１６を開け、蓄熱水切り後の被処理物を移載機構でホットプレート１１７に載置する。
【００８１】
そして、開閉蓋１２８を閉め、排気開閉弁１２８により真空（減圧）乾燥を開始する。排気系の作動で圧力調整用としての不活性ガスがパージボックス１２２から微量吸引される。また、気体を導入しながらの、真空（減圧）乾燥方法は真空容器１１５及び開閉蓋１２８の内壁の結露防止にもなる。ここで、乾燥終了判定方法は、圧力検知及び圧力検知に若干の時間を加味するやり方があるが、後者の方がより安定化を図ることができる。
【００８２】
次に、乾燥終了後、排気開閉弁１２８と大気開放開閉弁１２９により、第２の真空容器１１５を大気開放する。最後に、開閉蓋１１６を開け、移載機構で被処理物を取出す。
【００８３】
尚、空気雰囲気での真空（減圧）乾燥が許せるような被処理物の場合の手順は、不活性ガス供給系をドライエア供給系（ドライエア供給源１２６、ドライエアパージボックス１２５、ドライエア用微圧計１２７、ドライエアニードル開閉弁１３２）に切替え、前記と同じ手順で行えばよい。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
本発明のバッチ式処理形態の真空（減圧）乾燥方法及びその装置は、スピンあるいはガスブローなどのように、被処理物に衝撃を与えないことと、水分と酸素の混合雰囲気を嫌う被処理物の乾燥に対応できていることが大きな特徴であり、電子部品、電気部品、機械部品などの広い分野において、被処理物の割れ、キズなどで困っている所、被処理物の乾燥による変質（サビなど）で困っている所、更には、乾燥工程に有機溶剤を使用していて、環境負荷低減を計画している所などに利用できる。
【符号の説明】
【００８５】
１０    蓄熱ユニット
１１    真空容器
１２    ヒータ
１３    温度モニター
１４    開閉弁
１５    圧力計
１６    被処理物
１７    収納容器
１８    吸水シート
１９    金属製シート受台
５０    減圧ユニット
５１    真空容器
５２    棚
５３    真空ポンプ
５４    ピラニー真空計
５５    排気開閉弁
５６    大気開放開閉弁
５７    圧力調整用ニードル開閉弁
５８    ガスフィルター
１００    真空（減圧）乾燥装置
１０１    第１の真空容器
１０２    開閉蓋
１０３    ヒータ
１０４    吸水シート
１０５    複数孔付き金属製受台
１０６    真空ポンプ
１０７    放熱器
１０８    真空計
１０９    温度調節計
１１０    ガスフィルター
１１１    不活性ガス供給源
１１２    ドレン開閉弁
１１３    排気開閉弁
１１４    不活性ガス供給開閉弁
１１５    第２の真空容器
１１６    開閉蓋
１１７    ホットプレート
１１８    真空ポンプ
１１９    真空計
１２０    温度調節計
１２１    ガスフィルター
１２２    不活性ガスパージボックス
１２３    不活性ガス供給源
１２４    不活性ガス用微圧計
１２５    ドライエアパージボックス
１２６    ドライエア供給源
１２７    ドライエア微圧計
１２８    排気開閉弁
１２９    大気開放開閉弁
１３０    エアフィルター
１３１    不活性ガスニードル開閉弁
１３２    ドライエアニードル開閉弁
１３３    樹脂製受台
【図１】
2014029234.tif 000003
【図２】
2014029234.tif 000004
【図３】
2014029234.tif 000005
【図４】
2014029234.tif 000006
【図５】
2014029234.tif 000007