(57)【要約】【課題】優れたハードコート性、透明性、耐擦傷性を備え、耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供する。【解決手段】透明基材１１の少なくとも片面に、透明基材１１側より、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層１２と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層１３とを順に備えている。低屈折率層形成用塗液は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー又は単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、低屈折率粒子と、アクリロイル基を有する反応性レベリング剤とを含有している。低屈折率層１３の表面より深さ５０ｎｍ部分の超微小押し込み硬度は０．４０ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下の範囲である。【選択図】図１
2014126662.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側より、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とを順に備え、
前記低屈折率層形成用塗液が、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー又は単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、低屈折率粒子と、アクリロイル基を有する反応性レベリング剤とを含有し、
前記低屈折率層の表面より深さ５０ｎｍ部分の超微小押し込み硬度が０．４０ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下の範囲であることを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項２】
前記アクリロイル基を有する反応性レベリング剤が、ケイ素またはフッ素を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項１または２に記載の反射防止フィルムと、
前記反射防止フィルムにおいて前記透明基材に対して前記ハードコート層が形成された側とは反対側に配置された偏光板とを備えていることを特徴とする、反射防止フィルム付偏光板。
【請求項４】
請求項３に記載の反射防止フィルム付偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとを順に備え、
前記反射防止フィルム付偏光板において前記透明基材に対して前記ハードコート層が形成された側とは反対側に、前記液晶セルが保持されていることを特徴とする、透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化や、反射防止機能以外の機能との複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜を反射防止層として形成することで得られる。多層膜を形成する方法として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といったドライコーティング法が提案されている。また、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、及び低コスト化が可能であるウェットコーティング法も提案されている。
【０００４】
また、これらの反射防止層は、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。
【０００５】
また、ディスプレイ表面に用いられる場合、視認性を高くするために、反射防止フィルムは高い透明性が要求される。反射防止フィルムの透明性を向上させるために、反射防止フィルム表面を平滑にし、外光の散乱をなくす方法がある。
【０００６】
しかし、この方法では、その平滑さ故にフィルムの滑り性が悪く、フィルムを重ねたり、ロール状にしたりする場合、ブロッキング（貼り付き）が発生してしまい、剥離する際にフィルム表面があれてしまう。そこで、このようなブロッキングの改良法としては、フィルムの両端にテープ等のスペーサーを挟む方法や、フィルム表面に微細な凹凸を付与する方法等がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−０４５２３４号公報
【特許文献２】特開２００５−１４４８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、これらの方法では、フィルム加工時にテープを除去する工程が煩雑であるほか、フィルム表面の微細な凹凸によりフィルムの透明性が劣化するという問題が発生する。本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明の反射防止フィルムは、透明基材の少なくとも片面に、その透明基材側より、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とを順に備え、低屈折率層形成用塗液が、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー又は単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、低屈折率粒子と、アクリロイル基を有する反応性レベリング剤とを含有し、低屈折率層の表面より深さ５０ｎｍ部分の超微小押し込み硬度が０．４０ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下の範囲であることを特徴とする。
【００１０】
本発明の反射防止フィルムでは、アクリロイル基を有する反応性レベリング剤が、ケイ素またはフッ素を含有することが好ましい。
【００１１】
また本発明の反射防止フィルム付偏光板は、反射防止フィルムと、反射防止フィルムにおいて透明基材に対してハードコート層が形成された側とは反対側に配置された偏光板とを備えていることを特徴とする。
【００１２】
さらに本発明の透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム付偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとを順に備え、反射防止フィルム付偏光板において透明基材に対してハードコート層が形成された側とは反対側に、液晶セルが保持されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムを示す概略断面図
【図２】本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板を示す概略断面図
【図３】本発明の実施の形態３に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【図４】本発明の実施の形態４に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１６】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１を示す概略断面図である。本実施の形態１に係る反射防止フィルム１は、図１に示すように、透明基材１１の少なくとも片面に、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層１２と、低屈折率粒子１３１を含む低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層１３とを順次積層した積層体である。
【００１７】
図１は、透明基材１１の上面（表側の面）にだけハードコート層１２および低屈折率層１３を形成した反射防止フィルム１の一例である。
【００１８】
まず、透明基材１１について説明する。透明基材１１としては、種々の有機高分子からなるフィルムを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材を用いることができる。透明基材１１には、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが好適に用いられる。セルロース系フィルムは、複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性に優れており、さらに溶剤によって容易に溶解または膨潤するので、本発明においては他のフィルムよりも好ましい。
【００１９】
透明基材１１には、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が添加されていてもよい。また、透明基材１１の厚さは特に限定されるものではないが、２０μｍ以上、２００μｍ以下が好ましい。ただし、トリアセチルセルロースフィルムの場合には、４０μｍ以上、８０μｍ以下が好ましい。
【００２０】
次に、透明基材１１上に形成されるハードコート層１２について説明する。ハードコート層１２は、四級アンモニウムカチオンと透明基材１１を溶解または膨潤させる溶剤とを含むハードコート層形成用塗液を使用して形成する。ハードコート層１２は、湿式成膜法によりハードコート層形成用塗液を透明基材１１上に塗布することにより透明基材１１上に塗膜を形成し、該塗膜に電離放射線を照射し、該塗膜を硬化させることにより形成することができる。
【００２１】
ハードコート層形成用塗液は、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料を含むことが好ましい。アクリル系材料としては、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及び（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００２２】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２３】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２４】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００２５】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成されるハードコート層１２の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００２６】
ハードコート層形成用塗液に含まれる溶剤は、透明基材１１を溶解または膨潤させる溶剤である。
【００２７】
透明基材１１を溶解または膨潤させる溶剤を含むハードコート層形成用塗液を用いてハードコート層１２を形成することにより、透明基材１１とハードコート層１２との密着性を向上させることができる。すなわち、透明基材成分とハードコート層成分とが混在したハードコート層１２を形成することができ、得られる反射防止フィルム１において干渉ムラの発生を防ぐことができる。
【００２８】
溶剤としては、例えば透明基材１１としてセルロース系フィルムを用いた場合には、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤として、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられ、これらを単独で、もしくは２種類以上組み合わせて用いてもよい。また、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンおよびシクロヘキサノンの少なくとも１種類を用いることが好ましい。
【００２９】
また、ハードコート層１２に四級アンモニウムカチオンや導電性金属微粒子などを添加し、ハードコート層１２に導電性を付与しても構わない。
【００３０】
ハードコート層１２の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられ、透明基材１１の少なくとも片面にハードコート層形成用塗液を塗布することにより形成することができる。特に薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることも可能である。
【００３１】
ハードコート層１２を形成する際の塗膜の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を採用することができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【００３２】
かくして得られるハードコート層１２の膜厚は、３μｍ以上であれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いの点から、５μｍ以上、１０μｍ以下の範囲が好ましい。膜厚が１０μｍを超えると、硬化収縮による透明基材１１の反り、ゆがみ、折れが発生する恐れがある。さらに、膜厚が５μｍ以上、７μｍ以下の範囲であると、ハードコート層１２としては非常に好ましい。
【００３３】
次に、ハードコート層１２上に形成される低屈折率層１３について説明する。低屈折率層１３は、低屈折率粒子を含む低屈折率層形成塗液を、ハードコート層１２の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき反射防止層である低屈折率層単層の膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層１３の屈折率（ｎ）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計されることが好ましい。低屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に低屈折率粒子を分散させたものを用いることができる。
【００３４】
低屈折率粒子としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ3ＡｌＦ6（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子となる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【００３５】
低屈折率粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層１３が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下する恐れがある。一方、平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層１３における粒子の不均一性等の問題が生じる恐れがある。
【００３６】
低屈折率層１３を形成する電離放射線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー又は単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。
【００３７】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３８】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３９】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００４０】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される低屈折率層１３の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００４１】
なお、低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒を加えることができる。例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択される。
【００４２】
また、低屈折率層形成用塗液を塗工及び硬化の際に発生する表面のムラを防止する為に、低屈折率層形成用塗液にレベリング剤が添加される。本発明における低屈折率層形成用塗液に添加するレベリング剤は、アクリロイル基を有する反応性レベリング剤であることを特徴とする。レベリング剤にアクリロイル基を有することにより、レベリング剤が電離放射線硬化時にモノマーと結合する。使用するレベリング剤が非反応性であり、モノマーと結合しないものであると、レベリング剤が低屈折率層１３の表面に浮いている状態である為、形成した反射防止フィルム１を重ねた際に、低屈折率層１３の表面のレベリング剤が上のフィルムの基材に付着してしまい、それに起因してブロッキングが発生してしまう。また、剥がしたときに低屈折率層１３の表面、及びその上のフィルムの基材を汚してしまう。モノマーとレベリング剤を結合させることで、このフィルムを重ねた際の裏移り及びそれに伴うブロッキングを防ぐことができる。
【００４３】
特に、ケイ素やフッ素を含有するアクリロイル基を有する反応性レベリング剤を用いることで、好適に、フィルムを重ねた際の裏移り及びそれに伴うブロッキングを防ぐことができる。
【００４４】
また、レベリング剤の添加量は、低屈折率層形成用塗液の全固形分に対して０．５〜１０重量部が好ましい。０．５重量部未満の場合レベリング性が弱く、１０重量部より多い場合レベリング剤が析出してしまう、またはハジキの原因となってしまう。
【００４５】
また、バインダマトリックス形成材料として前記電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層１３を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等を用いることができる。
【００４６】
低屈折率層１３を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液をハードコート層１２の表面に塗布し、低屈折率層１３を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で低屈折率層１３を形成する真空成膜法による方法とに分けられる。本発明においては、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。
【００４７】
なお、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１においては、ハードコート層１２と透明基材１１との間、またはハードコート層１２と低屈折率層１３との間に、他の機能層を設けてもかまわない。他の機能層としては、例えば、電磁波シールド性能を有する電磁波シールド層、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層、紫外線吸収性能を有する紫外線吸収層、色補正性能を有する色補正層等を挙げることができる。
【００４８】
かくして得られる本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１は、低屈折率層１３の表面より深さ５０ｎｍ部分の超微小押し込み硬度が０．４０ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下の範囲にあることが好ましい。低屈折率層１３の表面より深さ５０ｎｍ部分の超微小押し込み硬度が０．４０ＧＰａに満たない場合、フィルムを重ねた際、ブロッキングが発生してしまう。低屈折率層１３の表面の柔軟性により、低屈折率層１３の表面と上の反射防止フィルムの透明基材１１の密着性が良いことに起因される。また、低屈折率層１３の表面の硬度不足により耐擦傷性も弱くなってしまう。一方、低屈折率層１３の表面より深さ５０ｎｍ部分の超微小押し込み硬度が１．０ＧＰａを超える場合、ハードコート層１２の表面の柔軟性がなくなり、フィルムを曲げた際にクラック（亀裂）が入り易くなってしまう。
【００４９】
本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として好適に用いることができる。
【００５０】
（実施の形態２）
図２は、実施の形態１に係る反射防止フィルム１を備えた、本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板２００を示す概略断面図である。
【００５１】
図２に示すように、本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１と偏光板２とを備え、該反射防止フィルム１のハードコート層１２が形成されていない面側に、偏光層２３および透明基材２１からなる偏光板２が配置されている。すなわち、透明基材１１の一方の面（図２では上面）に、透明基材１１側から順に、ハードコート層１２および低屈折率層１３が積層されており、透明基材１１のもう一方の面（図２では下面）に、透明基材１１側から順に、偏光層２３および透明基材２１が積層されている。なお、これら偏光層２３および透明基材２１は、特定のものに限定されることなく、通常、反射防止フィルム付偏光板に用いられるものを適宜用いることができる。
【００５２】
（実施の形態３）
図３は、本発明の実施の形態３に係る、反射防止フィルム付偏光板２００’を備えた透過型液晶ディスプレイの一例を示す概略断面図である。
【００５３】
図３に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム付偏光板２００’と、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを順に備え、該反射防止フィルム付偏光板２００’のハードコート層１２が形成されていない面側に、液晶セル３が保持されている。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００’において透明基材１１に対してハードコート層１２が形成された側とは反対側に保持されている。反射防止フィルム付偏光板２００’は、反射防止フィルム１と、該反射防止フィルム１の透明基材１１側に偏光板２’を備えている。偏光板２’は、透明基材１１側から順に、透明基材２２と偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００’のハードコート層１２が形成されていない面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００５４】
図３に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム１の透明基材１１と、偏光板２’の透明基材２２とを別々に備えるディスプレイである。
【００５５】
バックライトユニット５は、光源と光拡散板とを備える。液晶セル３は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２’、及び偏光板４においては、透明基材２１、２２間に偏光層２３が挟持され、透明基材４１、４２間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【００５６】
（実施の形態４）
図４は、本発明の実施の形態４に係る、反射防止フィルム付偏光板２００を備えた透過型液晶ディスプレイの他の一例を示す概略断面図である。
【００５７】
図４に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム付偏光板２００と、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを順に備え、該反射防止フィルム付偏光板２００のハードコート層１２が形成されていない面側に、液晶セル３が保持されている。反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１と、該反射防止フィルム１の透明基材１１側に偏光板２を備えている。偏光板２は、透明基材１１側から順に、偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００のハードコート層１２が形成されていない面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００５８】
図４に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム１のハードコート層１２が形成されていない面、すなわち、透明基材１１面に、偏光板２として、偏光層２３と透明基材２２とがこの順に設けられたディスプレイである。
【００５９】
図３に示す透過型液晶ディスプレイと同様に、バックライトユニット５は、光源と光拡散板とを備える。液晶セル３は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２（反射防止フィルム付偏光板２００の一部）、及び偏光板４においては、透明基材２１、１１間に偏光層２３が挟持され、透明基材４１、４２間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【００６０】
なお、本発明の透過型液晶ディスプレイは、他の機能性部材を備えていてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
（実施例）
以下に、ハードコート層形成用塗液（表１）および低屈折率層形成用塗液（表２）の調製例、ならびにこれらを用いた実施例および比較例を示す。
【００６２】
調製例１（ハードコート層形成用塗液１）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート１５．０重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１５．０質量部、ウレタンアクリレート２５重量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）１重量部、レベリング剤（ＢＹＫ−３４０、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．１重量部を用い、これをメチルエチルケトン４３．９重量部に溶解してハードコート層形成用塗液１を調製した。
【００６３】
調製例２（ハードコート層形成用塗液２）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート１５．０重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１５．０質量部、ウレタンアクリレート２５重量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．３重量部、レベリング剤（ＢＹＫ−３４０、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．１重量部を用い、これをメチルエチルケトン４４．６重量部に溶解してハードコート層形成用塗液２を調製した。
【００６４】
調製例３（低屈折率層形成用塗液１）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、レベリング剤（ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ビックケミー・ジャパン（株）製、固形分＞９７％）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．６２重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液１を調製した。
【００６５】
調製例４（低屈折率層形成用塗液２）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、レベリング剤（ＢＹＫ−ＵＶ３５７０、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．６２重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液２を調製した。
【００６６】
調製例５（低屈折率層形成用塗液３）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、レベリング剤（ＲＳ−７５、ＤＩＣ（株）製、固形分４０％）０．４０重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．４４重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液３を調製した。
【００６７】
調製例６（低屈折率層形成用塗液４）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、レベリング剤（ＲＳ−７６−Ｅ、ＤＩＣ（株）製、固形分４０％）０．４０重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．４４重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液４を調製した。
【００６８】
調製例７（低屈折率層形成用塗液５）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、レベリング剤（ＲＳ−７７、ＤＩＣ（株）製、固形分２０％）０．８０重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．０４重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液５を調製した。
【００６９】
調製例８（低屈折率層形成用塗液６）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、レベリング剤（ＢＹＫ−３１０、ビックケミー・ジャパン（株）製、固形分２５％）０．８０重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．０４重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液６を調製した。
【００７０】
調製例９（低屈折率層形成用塗液７）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、レベリング剤（ＢＹＫ−３３３、ビックケミー・ジャパン（株）製、固形分９８％）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．６２重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液７を調製した。
【００７１】
調製例１０（低屈折率層形成用塗液８）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、レベリング剤（Ｆ−４７７、ＤＩＣ（株）製、固形分１００％）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．６２重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液８を調製した。
【００７２】
調製例１１（低屈折率層形成用塗液９）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０２重量部、レベリング剤（ＢＹＫ−３５００、ビックケミー・ジャパン（株）製、固形分＞９７％）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．６９重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液９を調製した。
【００７３】
調製例１２（低屈折率層形成用塗液１０）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０２重量部、レベリング剤（ＲＳ−７５、ＤＩＣ（株）製、固形分４０％）０．４０重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．５１重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液１０を調製した。
【００７４】
実施例１（反射防止フィルムの作製）
図１に示す構成の反射防止フィルム１を作製した。透明基材１１には、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム（株）製）を用いた。
【００７５】
（１）ハードコート層の形成
透明基材１１の片面に、ハードコート層形成用塗液１を塗布し、８０℃で６０秒間オーブンにて乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ2で紫外線照射を行うことにより、乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層１２を形成した。
【００７６】
（２）低屈折率層の形成
前記ハードコート層１２上に、乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように低屈折率層形成用塗液１を塗布し、塗膜を形成した。前記紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ2で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて低屈折率層１３を形成し、反射防止フィルム１を得た。
【００７７】
実施例２（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液２を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００７８】
実施例３（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液３を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００７９】
実施例４（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液４を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８０】
実施例５（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液５を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８１】
比較例１（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液６を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８２】
比較例２（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液７を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８３】
比較例３（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液８を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８４】
比較例４（反射防止フィルムの作製）
ハードコート層形成用塗液１のかわりに、ハードコート層形成用塗液２を、低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液９を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８５】
比較例５（反射防止フィルムの作製）
ハードコート層形成用塗液１のかわりに、ハードコート層形成用塗液２を、低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液１０を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８６】
実施例１〜５および比較例１〜５で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。その結果を表３に示す。
【００８７】
（ヘイズ値）
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業（株）製、ＮＤＨ−２０００）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１に記載の方法に準拠してヘイズ値を測定した。
【００８８】
（平均視感反射率）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面について、自動分光光度計（（株）日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層が形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【００８９】
（表面抵抗値）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面の表面抵抗値を、高抵抗抵抗率計（（株）ダイアインスツルメンツ製、ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１−１９９４に記載の方法に準拠して測定した。
【００９０】
（耐擦傷性）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面を、スチールウール（日本スチールウール（株）製、ボンスター＃００００）にて荷重２５０ｇ／ｃｍ2で１０往復擦り、傷の有無を目視にて観察して評価した。表３中、傷が確認されなかったものを“○”、傷が確認されたものを“×”で示す。
【００９１】
（超微小押し込み硬度）
得られた反射防止フィルムについて、超微小押し込み硬度試験機（MTSシステムズ社製ＮａｎｏＩｎｄｅｎｔｅｒＳＡ２）を用い、低屈折率層の表面より５０ｎｍ部分の押し込み硬度を測定した（圧子：先端曲率半径１００ｎｍ、稜角度８０°の三角錐圧子、押し込み速度＝２．０ｎｍ／ｓ）。
【００９２】
（耐ブロッキング性）
得られた反射防止フィルムを１０ｃｍ角にカットし、このカットしたフィルムをガラス板上に５枚重ね、５０℃で２４時間静置した。その後、フィルム面積（１００ｃｍ2）に占めるブロッキング部分の面積を目視にて観察して評価した。表３中、フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が５０％未満であるものを“○”、５０％以上であるものを“×”で示す。
【００９３】
【表１】
2014126662.tif 000003
【表２】
2014126662.tif 000004
【表３】
2014126662.tif 000005
【００９４】
表３に示す結果から、実施例１および５で得られた本発明の反射防止フィルム１は、優れたハードコート性、帯電防止性、透明性および耐擦傷性を備え、しかも耐ブロッキング性にも優れたものであることが分かる。
【００９５】
これに対して、比較例１〜３で得られた反射防止フィルムは、耐ブロッキング性に劣り、比較例４〜５で得られた反射防止フィルムは、耐ブロッキング性及び耐擦傷性に劣ることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明の反射防止フィルムは、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００９７】
１      反射防止フィルム
１１    透明基材
１２    ハードコート層
１３    低屈折率層
１３１  低屈折率粒子
２      偏光板
２’    偏光板
２１    透明基材
２２    透明基材
２３    偏光層
２００  反射防止フィルム付偏光板
３      液晶セル
４      偏光板
４１    透明基材
４２    透明基材
４３    偏光層
５      バックライトユニット
【図１】
2014126662.tif 000006
【図２】
2014126662.tif 000007
【図３】
2014126662.tif 000008
【図４】
2014126662.tif 000009