(57)【要約】【課題】より高い保湿効果を得ることのできる保湿方法および保湿装置を提供する。【解決手段】本発明に係る保湿装置１００は、皮膚または毛髪を保湿するための保湿装置であって、大気中での放電により、空気から水分子と結合した正イオンおよび負イオンを発生するイオン発生装置７と、温スチームを噴射する温スチーム発生装置２とを備え、イオン発生装置７からの正イオンおよび負イオンの照射は、皮膚または毛髪への、温スチーム発生装置２からの温スチームの噴射と併用して行なわれる。【選択図】図１２
2014104009.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
皮膚または毛髪への、イオン発生装置を用いた大気中での放電によって空気から発生した正イオンおよび負イオンの照射と、温スチーム発生装置を用いて発生した温スチームの噴射とを併用して、皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる方法。
【請求項２】
前記温スチームの噴射の実行後に、前記正イオンおよび前記負イオンを照射することによって皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記温スチームの噴射の実行中および実行後に、前記正イオンおよび前記負イオンを照射することによって皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記正イオンは、Ｈ＋（Ｈ２Ｏ）ｍ（ｍは任意の自然数）であり、
前記負イオンは、Ｏ２−（Ｈ２Ｏ）ｎ（ｎは０または任意の自然数）である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
皮膚または毛髪を保湿するための保湿装置であって、
大気中での放電により、空気から水分子と結合した正イオンおよび負イオンを発生するイオン発生装置と、
温スチームを噴射する温スチーム発生装置とを備え、
前記イオン発生装置からの前記正イオンおよび前記負イオンの照射は、皮膚または毛髪への、前記温スチーム発生装置からの温スチームの噴射と併用して行なわれる、保湿装置。
【請求項６】
前記イオン発生装置および前記温スチーム発生装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、温スチームを噴射した後に、前記温スチームの噴射を停止するとともに、前記正イオンおよび前記負イオンを照射する、請求項５に記載の保湿装置。
【請求項７】
前記イオン発生装置および前記温スチーム発生装置を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、温スチームの噴射の実行中および実行後に、前記正イオンおよび前記負イオンを照射する、請求項５に記載の保湿装置。
【請求項８】
前記正イオンは、Ｈ＋（Ｈ２Ｏ）ｍ（ｍは任意の自然数）であり、
前記負イオンは、Ｏ２−（Ｈ２Ｏ）ｎ（ｎは０または任意の自然数）である、請求項５〜７のいずれか１項に記載の保湿装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保湿装置および保湿方法に関し、より特定的には、イオンおよび温スチームを併用して皮膚または毛髪の保湿効果を高めるための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
美容に関して肌の乾燥を防止する課題があり、肌水分量を増加させることが要望されている。
【０００３】
従来、肌水分量を増加させるためには、化粧水のような保湿成分を含む塗布剤を肌に塗る方法が一般的に行なわれている。
【０００４】
また、特開２０１１−５２６６号公報（特許文献１）のように、空気中の水分を凝縮させて霧化させて発生した微粒子水を肌に噴霧したり、特開２０００−３５６３７２号公報（特許文献２）のように、蒸気発生装置で発生した蒸気に負イオンを含ませてから肌に噴射したりすることによって、肌水分量を増加させる技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−５２６６号公報
【特許文献２】特開２０００−３５６３７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特開２０１１−５２６６号公報（特許文献１）および特開２０００−３５６３７２号公報（特許文献２）に記載された方法においては、肌に与える水分量を一時的に増加させることはできるが、保湿効果をより長く持続させることについては改善の余地があった。
【０００７】
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであって、その目的は、より高い保湿効果を得ることのできる保湿方法および保湿装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る加湿方法は、皮膚または毛髪への、イオン発生装置を用いた大気中での放電によって空気から発生した正イオンおよび負イオンの照射と、温スチーム発生装置を用いて発生した温スチームの噴射とを併用して、皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる。
【０００９】
好ましくは、方法は、温スチームの噴射の実行後に、正イオンおよび負イオンを照射することによって皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる。
【００１０】
好ましくは、方法は、温スチームの噴射の実行中および実行後に、正イオンおよび負イオンを照射することによって皮膚または毛髪の保湿機能を向上させる。
【００１１】
好ましくは、方法は、正イオンは、Ｈ＋（Ｈ２Ｏ）ｍ（ｍは任意の自然数）であり、負イオンは、Ｏ２−（Ｈ２Ｏ）ｎ（ｎは０または任意の自然数）である。
【００１２】
本発明に係る加湿装置は、皮膚または毛髪を保湿するための保湿装置であって、大気中での放電により、空気から水分子と結合した正イオンおよび負イオンを発生するイオン発生装置と、温スチームを噴射する温スチーム発生装置とを備え、イオン発生装置からの正イオンおよび負イオンの照射は、皮膚または毛髪への、温スチーム発生装置からの温スチームの噴射と併用して行なわれる。
【００１３】
好ましくは、イオン発生装置および温スチーム発生装置を制御する制御装置をさらに備え、制御装置は、温スチームを噴射した後に、温スチームの噴射を停止するとともに、正イオンおよび負イオンを照射する。
【００１４】
好ましくは、イオン発生装置および温スチーム発生装置を制御する制御装置をさらに備え、制御装置は、温スチームの噴射の実行中および実行後に、正イオンおよび負イオンを照射する。
【００１５】
好ましくは、正イオンは、Ｈ＋（Ｈ２Ｏ）ｍ（ｍは任意の自然数）であり、負イオンは、Ｏ２−（Ｈ２Ｏ）ｎ（ｎは０または任意の自然数）である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明による保湿方法および保湿装置によれば、従来よりも高い保湿効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態に係る保湿装置の正面側の外観を示す斜視図である。
【図２】保湿装置の背面側の外観を示す斜視図である。
【図３】蓋を開けた状態における保湿装置の正面側の外観を示す斜視図である。
【図４】イオンの吹出方向及び蒸気の噴出方向を説明するための模式図である。
【図５】保湿装置内部の正面側の斜視図である。
【図６】蒸気発生装置の正面側の斜視図である。
【図７】蒸気発生装置の背面側の斜視図である。
【図８】蒸気発生装置の縦断側面図である。
【図９】排水状態を説明するための模式図である。
【図１０】保湿装置の底面図である。
【図１１】イオン発生装置の縦断側面図である。
【図１２】本実施の形態に係る保湿方法と、従来の技術による保湿方法との比較実験の結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
この発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、以下で参照する図面では、同一またはそれに相当する部材には、同じ番号が付されている。
【００１９】
［保湿装置の構成の説明］
図１は本発明の実施の形態に係る保湿装置１００の正面側の外観を示す斜視図、図２は保湿装置１００の背面側の外観を示す斜視図、図３は蓋を開けた状態における保湿装置１００の正面側の外観を示す斜視図、図４はイオンの吹出方向及び蒸気の噴出方向を説明するための模式図である。なお、図４において紙面左側は保湿装置１００の正面側（前側）、紙面右側は保湿装置１００の背面側（後側）であり、紙面垂直方向は保湿装置１００の左右方向である。本実施形態の保湿装置１００は、蒸気（温スチーム）を発生させて噴出し、更に外部から吸い込んだ空気とともに正イオン及び負イオン（以下、正負イオンという）を外部へ吹き出す機能を有する。噴出された蒸気を正負イオンとともに顔に当てることによって、肌および毛髪の水分量を増加させることができ、肌および／または毛髪の保湿効果を高めることができる。
【００２０】
保湿装置１００は、ハウジング１、蒸気発生装置２（温スチーム発生装置）、イオン発生装置７を備える。ハウジング１は、長円形の筒状をなす胴体部１０、上板１３、底板１４を備える。胴体部１０は２分割されており、前側を囲む半円状の前側胴体１１、後側及び左右両側を囲む後側胴体１２を有する。前側胴体１１及び後側胴体１２の突き合わせ部分には、後側胴体の端部１２ａが内側に屈曲していることによって上下に延びる隙間が生じ、この隙間により外部空気を取り入れる空気取入口１０ａが形成されている。
【００２１】
胴体部１０の上端部は上板１３で覆われており、上板１３は前後方向に傾斜しており、前側が低く、後側が高くしてある。上板１３には蒸気を噴出するための後部開口１３ａ、イオンを吹き出すための前部開口１３ｂが設けてある。また、上板１３には、使用者が保湿装置１００を操作するための操作ボタン１３ｃが設けてある。胴体部１０の底には底板１４が嵌めてある。
【００２２】
後部開口１３ａには、前側に半円形の凹部をなす水受皿５７が嵌めてあり、後側に給水タンク３０が挿入されている。水受皿５７の略中央には蒸気を噴射するノズル部５６が配置されており、ノズル部５６及び水受皿５７を覆う開閉式の蓋６０が設けてある。前部開口１３ｂには、正負イオンの吹出口８０を形成する吹出口下壁８１と吹出口上壁８２が配置されている。吹出口上壁８２は左右方向の軸で支持されて開閉自在としてある。吹出口上壁８２を上板１３に沿うように閉じた状態で吹出口８０が塞がれる。吹出口上壁８２は、吹出口８０を遮蔽する姿勢（図１参照）、又は吹出口８０を開放する姿勢（図３参照）に変更可能としてある。吹出口上壁８２をこれらのいずれかの姿勢に変更する手段は、上述のように吹出口上壁８２は左右方向の軸で支持し、吹出口上壁８２の回動により姿勢を変更するものに限られるものではない。吹出口上壁８２の姿勢を変更する手段は、例えば、吹出口上壁８２をスライドさせながら向きを変えることで姿勢を変更するようなものであってもよい。
【００２３】
図４に示すように、蒸気の噴出方向Ａは前方斜め上方向に向いており、正負イオンの吹出方向Ｂも同様である。ノズル部５６付近の蒸気は概ね領域Ａ１に分布し、吹出口８０付近の正負イオンは概ね領域Ｂ１に分布する。吹出口上壁８２はイオンの吹出方向を規制するとともに蒸気とイオンとを仕切る仕切板として機能する。ノズル部５６及び正負イオンの吹出口８０から離れた位置（例えば３０ｃｍ程度の位置）では、蒸気の分布域Ａ２、及びイオンの分布域Ｂ２は広がり、互いに重なった状態となり、この位置に顔を寄せることで、蒸気および正負イオンを肌に受けることができる。
【００２４】
図５は保湿装置１００内部の正面側の斜視図、図６は蒸気発生装置２の正面側の斜視図、図７は蒸気発生装置２の背面側の斜視図、図８は蒸気発生装置２の縦断側面図である。図８において紙面左側は保湿装置１００の正面側（前側）、紙面右側は保湿装置１００の背面側（後側）であり、紙面垂直方向は保湿装置１００の左右方向である。蒸気発生装置２は胴体部１０内の後部に、イオン発生装置７は前部に配置されている。イオン発生装置７の左右両側に板状の隔壁１２ｂ，１２ｂが上下方向に延設されており、隔壁１２ｂ，１２ｂの側縁は、後部胴体１２の端部１２ａの前縁に当接している。隔壁１２ｂ，１２ｂは蒸気発生装置２側からイオン発生装置７側への空気の通流を制限するように機能する。
【００２５】
蒸気発生装置２は、給水部２０、給水タンク３０、配管部４０、排水タンク４９、蒸発槽５１、蒸気槽５３、ノズル部５６を備える。給水タンク３０は、軸方向断面が半円状をなす有底筒状の容器本体３１と、容器本体３１の一端部に設けた口部３１ａに螺合する給水キャップ３２と、容器本体３１の他端部に固定されたヒンジ部３４とを備える。給水キャップ３２は、給水弁３３を有しており、給水弁３３が圧縮コイルばね３３ｂによって給水キャップ３２の軸方向外向きに付勢されることで弁が閉じ、容器本体３１を閉塞する。また、給水キャップ３２の外周にはＯリング等のシール部材が設けてある。ヒンジ部３４は、左右方向の軸回りに回動可能に蓋６０を支持する。
【００２６】
給水部２０は、タンク収容部２１、貯水槽２２を有する。タンク収容部２１は半円筒状の収容部２１ａの下部に円筒状の給水筒部２１ｃを連結してなる。給水筒部２１ｃには、給水キャップ３２の給水弁３３を押し込むための突起部２１ｂが設けられている。収容部２１ａの下端部内面は、給水キャップ３２の外形が嵌る形状としてある。給水キャップ３２の外周に設けたシール部材がタンク収容部２１下端部の内周面に密着することにより、給水タンク３０の容器本体３１は給水筒部２１ｃに連通した状態で密閉される構造となっている。
【００２７】
貯水槽２２は有底円筒状をなし、上端部２２ａにタンク収容部２１の収容部２１ａ下端部が嵌められており、内部にタンク収容部２１の給水筒部２１ｃが挿入されている。貯水沿う２の底部には給水口２２ｂを設けてある。給水筒部２１ｃの下端面２１ｄは、貯水槽２２の上下方向の中途部やや下よりに位置する。上述のように給水タンク３０の容器本体３１が給水筒部２１ｃに連通した状態で密閉されるので、給水筒部２１ｃの下端面２１ｄが給水部２０の定水位Ｓとなる。
【００２８】
次に配管部４０について説明する。配管部４０は、給水管４１、還流管４２、オーバーフロー管４３、弁箱４４を備える。給水管４１は、貯水槽２２底部の給水口２２ｂに一端部を連結し、該一端部から下方へ向けて配管され、中途部４１ａを経て他端部を蒸発槽５１の底部に連結する。給水管４１により貯水槽２２と蒸発槽５１とが連通する。中途部４１ａは貯水槽２２及び蒸発槽５１夫々の底部より低い位置にあり、中途部４１ａから見て両側の給水管４１は水平又は上方へ延び、下降しないように配管されている。給水管４１は、中途部４１ａから分岐する分岐管４１ｂが設けてあり、分岐管４１ｂの端部は後述する弁箱４４の一次側室４５ａへ連通している。分岐管４１ｂは、給水管４１の中途部４１ａから一次側室４５ａへ水平又は下降するように配管されている。
【００２９】
還流管４２は、一端部が蒸気槽５３の底部に連結され、他端部が排水弁箱４４の一次側室４５ａへ連結されている。還流管４２により蒸気槽５３と排水弁箱４４の一次側室４５ａとが連通する。還流管４２は、一次側室４５ａ及び分岐管４１ｂを介して給水管４１に連通されることになる。還流管４２は、蒸気槽５３の底部から一次側室４５ａへ水平又は下降するように配管されている。
【００３０】
オーバーフロー管４３は、一端部が貯水槽２２側壁の定水位Ｓより上側の位置に連結し、下方へ延設され、他端部が排水弁箱４４の二次側室４５ｂへ連結してある。オーバーフロー管４３により貯水槽２２の定水位Ｓより上側の空気層と二次側室４５ｂとが連通する。通常、オーバーフロー管４３には水の流れはない。オーバーフロー管４３を通して、貯水槽２２の定水位Ｓより上側の空気層に空気が供給される。
【００３１】
弁箱４４は、一次側室４５ａ、二次側室４５ｂ、排水弁４６を備える。一次側室４５ａは有底円筒状をなし、左右夫々に分岐管４１ｂ及び還流管４２が連結されている。二次側室４５ｂは、一次側室４５ａより径が大きい有底円筒状をなし、一次側室４５ａと同軸に配してある。二次側室４５ｂの後側端部はテーパ状に縮径し、一次側側室４５ａの前側端部に連結されている。排水弁４６は円錐台状の弁体を有しており、該弁体は圧縮コイルばね４６ａによって後方へ付勢され、二次側室４５ｂの後側端部の内面に押圧される。該弁体の中心に軸体が固着されており、軸体の後側端部に押釦４６ｂが固定してある。
【００３２】
図９は排水状態を説明するための模式図である。押釦４６ｂを前方へ押し込むことで弁が開き、矢印で示すように一次側室４５ａから二次側室４５ｂへ水が流れ込む。二次側室４５ｂの下部には排水口４７が設けてあり、二次側室４５ｂへ流れ込んだ水は排水口４７から下方へ流出する。
【００３３】
排水タンク４９は半円状の箱体であり、着脱可能な蓋体４９ａを有する。蓋体４９ａは、排水口４７の下端に対応する位置に注水穴４９ｂが、後縁部に指掛け凹部４９ｃが形成してある。また、蓋体４９ａの上面に排水口４７の外径より大きい凹部を排水口４７に対向するように設け、該凹部の底に注水穴４９ｂを形成するようにしてもよい。また、排水タンク４９は透明又は半透明（例えば乳白色など）の材料で形成することにより、外部から水位が視認可能としてある。
【００３４】
図１０は保湿装置１００の底面図である。底板１４の後部にはガイド板１４ａ，１４ａが前後方向に延設してある。排水タンク４９は、保湿装置１００の後方からガイド板１４ａ，１４ａで案内して前方向へ挿入することにより保湿装置１００に装着され、指掛け凹部４９ｃに指を掛けて後方へ引き出すことで保湿装置１００から抜き出される。排水タンク４９の底部には、載置面に接触する凸部４９ｄを３箇所に設けてある。
【００３５】
蒸発槽５１は矩形の箱体であり、内部にヒータ５１ａを有する（図６参照）。上述のように、蒸発槽５１は給水管４１によって貯水槽２２と連通しており、貯水槽２２と同じ定水位Ｓまで水が満たされる。ヒータ５１ａはＵ字状をなし、定水位Ｓより下側に位置し、前後方向に延びる下側延在部分と、定水位Ｓの上側に位置し、前後方向に延びる上側延在部分とを有し、夫々の前側端部が円弧状に連結され、他端側が蒸発槽５１の後部端面から突出し、図示しない電気回路に接続される。ヒータ５１ａは、ヒータ線を絶縁体で被覆し、絶縁体の周囲を耐腐食性の高い管体で覆う構造としてある。
【００３６】
蒸気槽５３は矩形の箱体であり、連通管５２によって蒸発槽５１と連通している。蒸発槽５１で発生した蒸気は、連通管５２を通して蒸気槽５３に溜められ、蒸発が進行するに従って蒸気圧が増す。蒸気槽５３の上部にはノズル部５６へ蒸気を送出するための送出口５３ａが設けてある。蒸気槽５３の底部には結露水を還流するための還流口５３ｂが設けてある。還流口５３ｂには、還流管４２の上端部が連結されている。
【００３７】
ノズル部５６は円筒状をなし、先端部に噴出口５６ａが形成してある。ノズル部５６の基端部５６ｂは、蒸気槽５３の送出口５３ａの上端に取り付けたベローズ５５の上端部に嵌合する。蒸気槽５３から送り出された蒸気がベローズ５５を介してノズル部５６内に流入し、噴出口５６ａから噴き出される。ノズル部５６は、水受皿５７に開設された前後方向に長い長穴に嵌めてあり、ノズル部５６の胴部の中途部に設けた鍔が長穴の縁に当接することで長穴との隙間を塞ぐ。ノズル部５６の基端部５６ｂには図示しない左右方向の軸体の一端が連結してあり、該軸体の他端はハウジング１の胴体部１０の外面に突設された摘み５６ｃに連結してある。摘み５６ｃを回すことによって、ノズル部５６は左右方向の軸回りに回転し、噴出口５６ａが長穴の長手方向（前後方向）に移動する。
【００３８】
水受皿５７に開設した前記長穴とノズル部５６との間の隙間は、上述のようにノズル部５６に周設した鍔によって塞がれているが、該鍔と長穴の縁との当接部分を伝って水受皿５７に溜まった水が内部へ侵入する。水溜め槽５８は、水受皿５７から侵入してくる水を受ける。水溜め槽５８は蒸気槽５３の送出口５３ａの上方に位置する蒸気の通り道を囲うように設けてあり、ベローズ５５が内部に収容される。水溜め槽５８の上端面は水受皿５７の下面に固着されており、ハウジング１内部へ槽内から蒸気や水が漏れないよう密閉されている。水溜め槽５８の底部には排水管４８の上端が連結されている。排水管４８は下端が排水タンク４９の蓋４９ａに開設された穴部に対向するように配管されている。
【００３９】
次にイオン発生装置７について説明する。図１１はイオン発生装置７の縦断側面図である。イオン発生装置７は、送風機７２、通流部７３、イオン発生器７６、吹出口８０を備える。空気の吸込口７１は送風機７２の前側に設けられている。
【００４０】
送風機７２は、高さが低い円筒形状の収容体７２ｃ、収容体７２ｃの内部に収容されたモータ７２ａ及び羽根車７２ｂを有する遠心形である。モータ７２ａの回転軸は左右方向を向いている。羽根車７２ｂは、外縁に対し回転中心側が回転方向へ変位する複数の羽根を有する多翼羽根車である。羽根車７２ｂはモータ７２ａにより、左右方向の軸回りに回転する。収容体７２ｃは、モータ７２ａの回転軸の両端に対応する両底面に円形の開口７２ｄを有し、上部の後方側に送風口７２ｅを有する。
【００４１】
羽根車２１は、開口７２ｄから中心部の空洞へ吸込んだ空気を外周部の羽根の間から放出するように構成されている。収容体７２ｃの側壁は、羽根車７２ｂの回転により発生する気流を羽根車７２ｂの回転方向へ誘導し、送風口７２ｅへ導く。送風機２は、例えばシロッコファン、ターボファン等である。
【００４２】
通流部７３は、その下端が送風口７２ｅに連なり、その上端が吹出口８０へ連なる筒形をなす。通流部３は、送風口７２ｅの前側の縁から上方へ延在する平板状の前側壁７４と、送風口７２ｅの後側及び左右の縁から上方へ延在する断面が円弧形状の後側壁７５とを有する。前側壁７４及び後側壁７５の左右の縁は接合されている。送風口７２ｅから送風された空気は、前側壁７４及び後側壁７５に沿って層流になるように誘導される。また、前側壁７４にはイオン発生器７６の放電電極７６ａを流路に突出させるために開口しており、前側壁７４の外面にイオン発生器７６が取り付けられている。通流部７３の上端は吹出口８０に臨み、前側壁７４及び後側壁７５夫々の端部７４ａ及び７５ａは前方へ屈曲している。
【００４３】
イオン発生器７６は、針状の放電電極７６ａ、放電電極７６ａに対向配置された誘導電極（図示略）を有し、高電圧を印加された放電電極７６ａがコロナ放電を起こして正負イオンを発生させる。イオン発生器７６の放電電極７６ａは、通流部７３内の流路に突出しており、発生した正負イオンは通流する空気中に浮遊し、吹出口８０から空気とともに外部に吹き出される。
【００４４】
なお、正イオンは、水素イオン（Ｈ＋）の周囲に複数の水分子がクラスター化したクラスターイオンであり、Ｈ＋（Ｈ２Ｏ）ｍ（ただし、ｍは任意の自然数である）と表わされる。また負イオンは、酸素イオン（Ｏ２−）の周囲に複数の水分子がクラスター化したクラスターイオンであり、Ｏ２−（Ｈ２Ｏ）ｎ（ただし、ｎは０または任意の自然数である）と表わされる。
【００４５】
吹出口８０は、吹出口下壁８１、吹出口上壁８２を備え、ハウジング１の上板１３の前部開口１３ｂに遊挿されている。吹出口下壁８１は前後方向に延設された板状をなし、後端部８１ｂが後側壁７５の端部７５ａに設けられた左右方向の枢軸８５によって回動可能に支持されている。吹出口下壁８１の前端部８１ａは、下方にやや膨らむ湾曲した形状としてある。吹出口下壁８１は、枢軸８５を中心に回転し、図１１に示す位置で前側壁７４の端部７４ａに設けたストッパーに係止片（図示略）が係止する。
【００４６】
吹出口上壁８２は、上壁部８２ａ、側壁部８２ｂを有し、後端部が吹出口下壁８１の後端部８１ｂに設けられた左右方向の枢軸８６によって回動可能に支持されている。上壁部８２ａは吹出口下壁８１に対向しており、側壁部８２ｂは上壁部８１ａの左右の縁に連なり、吹出口下壁８１の左右の側部に外挿される。吹出口上壁８２は、枢軸８６を中心に回転し、図１１に示す位置で後側壁７５の端部７５ａに設けたストッパーに係止片（図示略）が係止する。吹出口上壁８２は、前部を押し下げるようにして回転させることができ、水平から更に回転してハウジング１１の上板１３に沿う角度まで回転する。このとき、上壁部８２ａは吹出口下壁８１に当接し、更に吹出口上壁８２を押し込むことで、吹出口下壁８１が外れて、吹出口下壁８１とともに吹出口上壁８２が回動する。
【００４７】
ハウジング内には制御装置９（図示略）が設けられており、制御装置９は、ユーザによる設定および操作等に基づいて、イオン発生装置７、蒸気発生装置２等を制御する。
【００４８】
次に保湿装置１００の動作について説明する。まず、保湿装置１００への給水時、蓋６０を回動させて上向きにして、給水タンク３０をタンク収容部２１から上方へ抜き取る（図８等参照）。給水タンク３０の給水キャップ３２を取り外し、水を容器本体３１に供給し、給水キャップ３２を再び給水タンク３０の口部３１ａに取り付ける。給水タンク３０をタンク収容部２１へ上方から挿入すると、給水弁３３が給水筒部２１ｃの突起部２１ｂによって押され、弁が開いて本体容器３１内の水が貯水槽２２内に流れ込む。給水タンク３０の容器本体３１は、給水筒部２１ｃに連通した状態で密閉されるので、給水筒部２１ｃの下端面２１ｄが給水部２０の定水位Ｓとなる。
【００４９】
図６に示すように、給水管４１により貯水槽２２と蒸発槽５１とが連通しているので、蒸発槽５１も定水位Ｓまで水が満たされる。また、弁箱４４の一次側室４５ａ及び還流管４２にも水が流入し、還流管４２の定水位Ｓまで水が満たされる。水が供給されるとき、オーバーフロー管４３を介して空気が貯水槽２２へ補充され、補充された空気は、給水筒部２１ｃの下端面２１ｄを通して給水タンク３０の容器本体３１の上部に溜まる。なお、定水位Ｓより上に水面が上昇した場合にオーバーフロー管４３を通して、二次側室４５ｂへ排水される。
【００５０】
運転開始前に、図４に示すように、イオン発生装置７の吹出口上壁８２の縁に指を掛けて、上方へ引き上げるようにして吹出口８０を開け、蒸気発生装置２の蓋６０も後方側へ傾斜させた位置に開く。操作ボタン１３ｃを操作することにより、イオン発生装置７を運転し、更に蒸気発生装置２を運転する。蒸気の噴出方向Ａ、及び正負イオンの吹出方向Ｂは前方斜め上方向に向いており、ノズル部５６付近の蒸気は概ね領域Ａ１に分布し、吹出口８０付近の正負イオンは概ね領域Ｂ１に分布する。吹出口上壁８２により、イオンの吹出方向が規制され、蒸気とイオンとが仕切られる。ノズル部５６及び正負イオンの吹出口８０から離れた位置（例えば３０ｃｍ程度の位置）では、蒸気の分布域Ａ２、及びイオンの分布域Ｂ２は広がり、互いに重なった状態となり、この位置に顔を寄せることで、蒸気を及び正負イオンを肌に受けることができる。なお、ノズル部５６から噴出する蒸気は１００℃前後の温度であるが、ノズル部５６から３０ｃｍ程度離れた位置では約４０℃となる。
【００５１】
蒸気発生装置２によって蒸気が発生する過程について説明する。図６に示すように、蒸発槽５１内のヒータ５１ａに通電することにより、定水位Ｓより下側に位置するヒータ５１ａの下側延在部によって、水が加熱され沸騰する。水の沸騰によって発生する蒸気の温度は１００℃であるが、定水位Ｓの上側に位置するヒータ５１ａの上側延在部によって蒸気がさらに２００度前後まで加熱される。加熱された蒸気は連通管５２を通って蒸気槽５３に充満し、圧力を増す。蒸気槽５３は運転開始時には常温であるため、蒸気の一部は結露水となって蒸気槽５３の底に溜まり、還流管４２を通って、還流される。蒸気槽５３は徐々に加熱されていく。蒸気槽５３の圧力が増すと蒸気はノズル部５６の噴出口５６ａから外部へ噴出する。
【００５２】
ノズル部５６から噴出された蒸気の一部はノズル部５６付近で結露し、水受皿５７に溜まる。水受皿５７に溜まった水は、水溜め槽５８に流入し、排水管４８を通って排水タンク４９へ排出される。
【００５３】
保湿装置１００を使用した後、蒸気発生装置２及びイオン発生装置７の運転を停止させて、蒸気発生装置２内の水を抜く。図８及び図９に示すように押釦４６ｂを前方へ押し込むことで弁が開き、一次側室４５ａから二次側室４５ｂへ水が流れ込む。上述のように、一次側室４５ａには、給水管４１、還流管４２が連通しているので、給水タンク３０、貯水槽２２、蒸発槽５１、給水管４１及び還流管４２の内部にある水が全て二次側室４５ｂへ流れ込む。二次側室４５ｂに流れ込んだ水は、二次側室４５ｂの下部に設けた排水口４７から排水タンク４９へ流出する。水の排出が完了した後、排水タンク４９の指掛け凹部４９ｃに指を掛けて後方へ排水タンク４９を引き出す。排水タンク４９の蓋４９ａを開けて、排水タンク４９内に溜まった水を捨てる。再び、排水タンク４９に蓋４９ａを取り付けて、保湿装置１００の後方から挿入するようにして排水タンク４９を保湿装置１００に装着する。このようにして、保湿装置１００の使用後に水を抜き去ることで、蒸気発生装置２内を清潔に保つことができる。
【００５４】
本実施の形態に従う保湿装置１００においては、上述のように、肌および／または毛髪に蒸気発生装置２により生成された蒸気（温スチーム）が噴射され、さらにイオン発生装置７で生成されたイオンが照射される。これにより、温スチームとして供給された水分により肌水分量を増加できるとともに、イオンによって肌表面が局所的に親水化されて空気中の水分子を取り込むことで肌水分量をさらに増加することができ、肌および／または毛髪の保湿効果を高めることができる。
【００５５】
以下、本実施の形態に従う保湿装置を用いた場合の効果について、比較例とともに実験した結果について説明する。
【００５６】
［検証実験の説明］
検証実験においては、被検者１０名に対して（１）温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合、（２）温スチーム噴射のみを行った場合、（３）何も処理しない場合、の３ケースについて、皮膚の水分量の時間的変化を測定した。被検部位は、被検者の頬（小鼻の水平ラインと目じりの垂直ラインの交点付近）とした。
【００５７】
被検者は、室温２１．０±２℃、湿度３０±３％の部屋において、２０分間安静に過ごした後に、温スチームを上記の被検部位に向けて１５分間噴射し、温スチームの噴射直後から２時間イオンを照射した。
【００５８】
温スチームの成分は、水のみとし、皮膚から３０ｃｍ離れた位置から被検部位に噴射した。また、イオンは、被検部位から６０ｃｍ離れた位置から、正イオンおよび負イオンの各々が１００，０００個／ｃｍ3のイオン濃度になるようにして照射した。なお、送風機による風の条件を同等とするために、イオン照射を行なわない場合においても、同じ送風機を用いて送風のみを行なった。
【００５９】
肌水分量の測定は、温スチーム噴射前を初期値とし、温スチーム噴射開始から１５分後（温スチーム噴射終了時）、７５分後（温スチーム噴射後１時間経過時）、１３５分後（温スチーム噴射後２時間経過時）に行った。各測定において５回ずつ測定を実施し、５回分の平均値を算出し、温スチーム噴射前の水分量を１００とした場合の相対値で評価した。なお、肌水分量の測定は、皮膚表面（角質）の水分量を計測する水分計を用いて行った。
【００６０】
図１２は、上述のような条件において測定した皮膚表面（角質）の水分量の結果を示したグラフである。横軸には時間が示されており、縦軸には温スチーム噴霧前の水分量を１００とした場合の水分量の相対値が示される。図１２においては、Ｗ１０が温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合を表わし、Ｗ２０が温スチーム噴射のみを行った場合を表し、Ｗ３０が何も処理しない場合を示している。
【００６１】
図１２のグラフによれば、温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合（Ｗ１０）は、温スチーム噴射のみを行った場合（Ｗ２０）よりも温スチーム噴射が終わった直後（１５分後）の水分量が大きくなっており、高い保湿効果が得られているという結果が得られた。温スチーム噴射のみを行った場合（Ｗ２０）における温スチーム噴射終了時の水分量は、何も処理しない場合（Ｗ３０）に比べ、約６７％アップという結果を示したのに対し、温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合（Ｗ１０）における温スチーム噴射終了時の水分量は、何も処理しない場合（Ｗ３０）に比べ、約１０４％アップという結果を示した。すなわち、温スチーム噴射とイオン照射を併用することで、温スチーム噴射のみの場合よりも１．５倍以上水分量を増加させることができた。
【００６２】
さらに、その効果は温スチーム噴射後２時間経過時まで維持されており、保湿効果の持続性も確認できた。温スチーム噴射のみを行った場合（Ｗ２０）における温スチーム噴射後２時間経過時の水分量は、何も処理しない場合（Ｗ３０）に比べ、約１２％アップという結果を示したのに対し、温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後イオンのみを照射し続けた場合（Ｗ１０）における温スチーム噴射後２時間経過時の水分量は、何も処理しない場合（Ｗ３０）に比べ、約３８％アップという結果を示した。すなわち、温スチーム噴射とイオン照射を併用することで、温スチーム噴射のみの場合よりも３倍以上水分量を増加させることができた。
【００６３】
なお、特開２０１１−９８１８７号公報では、正負イオンを照射することで肌表面の水分量を増加させることが記載されているが、正負イオンの照射のみによる水分量の増加は確実に見られるものの１０％に満たない程度である。これに対し、検証実験におけるイオン照射の効果は上述のように１０％を大きく超えている。このことから温スチーム噴射とイオン照射を同時に行い、その後正負イオンのみを照射し続けた場合（Ｗ１０）の水分量増加は、温スチーム噴射と正負イオン照射とによる相乗効果がもたらすものであると考えられる。
【００６４】
このような結果が得られたのは、温スチーム噴射と正負イオン照射を同時に実施することで、温スチームに正負イオンが吸着され、温スチームの水分量が高くなり、効率的に肌への水分補給が可能になる等の理由が考えられる。特に加熱された液体である温スチームを正負イオンと併用することで、お互いの相乗効果を促進する作用が得られたと考えられる。
【００６５】
以上のような保湿方法により、皮膚および／または毛髪への温スチームの噴射と正負イオンの照射とを併用することによって、従来よりも高い保湿効果を得ることができる。
【００６６】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００６７】
１        ハウジング
１２ｂ    隔壁
２        蒸気発生装置
５６      ノズル部
５６ａ    噴出口
５７      水受皿（凹部）
７        イオン発生装置
８０      吹出口
９        制御装置
１００    保湿装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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