(57)【要約】【課題】  Ｚ方向の変動が多い測定基板の、合焦点取得にかかる時間を短くする検査装置を提供する。【解決手段】  検査用基板を特定のエリアに分割し、検査時に各エリア内に位置する点を計測した際に得られた合焦点位置のＺ座標の平均値をエリアごとに記録し、検査時、計測点までのＸ・Ｙ方向の移動に先行して、あるいは同時に、計測点のＸ・Ｙ座標が含まれるエリアのＺ座標の平均値の位置に合焦点取得用の装置を移動させることにより、合焦点取得にかかる移動時間を低減させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面を複数に分割し、分割されたエリアの計測点を記録する手段と、前記計測点へ移動する手段と、前記計測点の画像の合焦点位置を取得し、計測する手段とを有する検査装置において、取得した前記計測点での平均合焦点位置との差分に基づいて新たな合焦点位置を統計処理することを特徴とする検査装置。
【請求項２】
請求項１において、統計処理された各計測点の合焦点位置を個別に記録する手段を持つことを特徴とする検査装置。
【請求項３】
請求項１において、次の計測点への移動が、新たな合焦点位置への移動前に行われることを特徴とする検査装置。
【請求項４】
請求項１において、次の計測点への移動が、新たな合焦点位置への移動時に行われることを特徴とする検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板表面を撮像した画像データに基づいて検査する基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板表面を撮像した画像データに基づいて検査する装置において、特に顕微鏡を利用して撮像する装置では、撮像された画像を鮮明にするために合焦点を取得する必要がある。このとき、合焦点位置を得る装置が実際に合焦点位置を得るまでには、合焦点を得られる方向に顕微鏡を移動し続ける必要がある。また、合焦点位置に移動するためには、合焦点位置までの距離に応じて時間がかかり、合焦点を得る回数が多いほど時間がかかる。
【０００３】
このような問題に対処する技術として、例えば、特許文献１には、合焦点を行う箇所を決定し、特定の計測点のみで合焦点を取得することで、かかる時間を短縮する技術が提示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１６８７６０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、計測点の、合焦点方向のばらつきが大きいときは、各計測点すべてにおいて合焦点を得る必要があるため、特定の計測点のみに限定して合焦点を取得することは難しい。そのため、すべての計測点で合焦点を取得しつつ、計測全体でかかる時間を下げるためには、一回ごとの合焦点取得にかかる時間を下げることが望ましい。
本発明の目的は、合焦点方向のばらつきが大きい基板に対しても、合焦点位置取得にかかる時間を短縮することが可能な合焦点取得方法下げるものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、基板表面の検査手段に関し、Ｘ・Ｙ軸方向の移動手段及び合焦点位置へのＺ軸方向の移動手段を特徴とする検査方法および検査装置等において、計測点のＸ・Ｙ方向の座標を記録する手段と、記録された計測点の座標へ移動する手段と、各計測点の合焦点位置を取得する手段と、各計測点の合焦点位置を計測する手段と、統計処理された各計測点のＺ方向の合焦点位置を個別に記録する手段において、計測点ごとに個別に記録された合焦点位置へあらかじめ移動することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、現在までに計測した基板より、各座標エリアの合焦点位置Ｚ座標の平均値を算出し、次回の計測点への移動前もしくは移動中に、先行してＺ軸移動を行うことにより、計測点に移動した後の合焦点にかかる時間を減らし、計測全体にかかる時間を下げる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】合焦点位置の簡易動作を示した説明図である。
【図２】基板検査装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図２は、本発明の実施形態に係る基板検査装置１の構成を示す斜視図である。
【００１０】
基板検査装置1は、スライダー７を介して台座２に取り付けられている計測用ヘッド部８と電気的に接続している制御検査ユニット１０を備えている。スライダー７は台座２に立脚する２本の支柱部５と、２本の支柱部を繋ぐ台座２と略平行なスライド部６を備えている。計測用ヘッド部８はスライド部６に支持され、図示するｘ方向に移動可能である。
【００１１】
また、計測用ヘッド部８は、支柱部５が台座２上を移動することにより、図示するｙ方向に移動可能である。計測用ヘッド部８には、基板表面を撮像する撮像装置９が取り付けられている。
【００１２】
撮像装置９は、Ｚ軸方向に移動する合焦点取得用の装置を搭載しており、計測位置の合焦点取得後に撮像を行う。
検査対象である基板３は、台座２上に形成されたステージ４にセットされ、撮像装置９によって撮像された基板画像は、制御検査ユニット１０によって処理される。制御検査ユニット１０は、図示しない記憶手段を有し、計測位置のＸ・Ｙ座標及びＺ（合焦点）座標を記録するとともに、計測された合焦点位置のＺ座標に対して統計処理を行う。更に、制御検査ユニット１０は、撮像装置９により撮像された基板表面の画像を処理して検査を行う。
【００１３】
本実施形態における基板表面の合焦点位置を測定した場合の一例を示す。
【００１４】
基板表面を縦横に分割し、複数の正方形の領域に分ける。
基板の計測時には撮像を行うＸ・Ｙ座標に計測用ヘッドが移動し、合焦点のＺ座標を取得した後に撮像を行う。
【００１５】
このとき撮像が行われたＸ・Ｙ座標が、事前に複数分割された領域のうちいずれの領域に含まれるかを確認する。ここでは、計測点のＸ・Ｙ座標が含まれる領域を、領域Ａとする。
領域Ａでは、計測された合焦点位置のＺ座標を元に統計処理を行う。ここでは例として、平均を算出する。
【００１６】
過去数回分の合焦点位置Ｚ座標の平均値を元に、新たに取得された合焦点位置Ｚ座標を加味して新たに平均値を算出する。
【００１７】
次回、領域Ａ内部の座標にて合焦点を取得する際、合焦点取得動作の前に合焦点位置の平均値に合焦点取得装置をＺ方向移動し、その位置から合焦点取得動作を行う。
【００１８】
以上の合焦点位置Ｚ座標の平均値の算出、および、平均値への合焦点取得装置の移動を分割された他の領域についても行う。
上記は一例であり、領域の分割時の形状や数、領域同士の重複、統計処理の方法はこれに限定しない。
【実施例１】
【００１９】
図１は、本発明の簡易的な動作を示す説明図である。マス目は基板を領域ごとに分割した際の分割領域であり、各マス目に書かれた数字は、各領域で取得された合焦点のＺ座標の値平均値、を簡易的に表したものである。空欄のマス目は、過去に計測されたことが無いため、平均値のデータが存在しない領域である。本発明の主体は合焦点位置の取得動作にあるので、合焦点の取得方法については省略する。
【００２０】
図１のＡの矢印において、合焦点位置の平均値が「５」の領域にて合焦点を取得後、次に合焦点位置の平均値が「０」の領域を測定する。このとき、合焦点位置の平均値が「５」の領域では、取得される合焦点は５に近しい値となることが予想され、同様に合焦点位置の平均値が「０」の領域では取得される合焦点は「０」に近しい値となることが予想される。
【００２１】
このとき、合焦点位置取得用の装置において、合焦点位置を取得する際のＺ座標の変移速度は、位置を指定してのＺ座標変移速度よりはるかに遅いことが一般的である。
そのため、「５」近辺のＺ座標位置から合焦点の取得を開始するより、一旦「０」まで移動した後に合焦点位置の取得を開始するほうが、取得完了までにかかる時間を短縮させることができる。
また、同様に次回測定点の平均合焦点位置へ合焦点取得装置のＺ座標を移動させる動作については、次回計測点が含まれる領域を問わないため、Ｂの矢印のように離れた領域にも対応が可能である。
【符号の説明】
【００２２】
１  基板検査装置
２  台座
３  基板
４  ステージ
５  支柱部
６  スライド部
７  スライダー
８  計測用ヘッド部
９  撮像装置
１０  制御検査ユニット
【図１】
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【図２】
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