(57)【要約】  【課題】基板の凹凸と略同一となるように露光テーブルとマスクプレートを撓ませて、投影マスクを基板に均等に密着させる。  【解決手段】基板を載置する露光テーブルと、基板に対向配置された投影マスクを保持するマスクプレートと、露光テーブルを支持するテーブル枠と、テーブル枠の周縁部上面に設けられテーブル枠とマスクプレートとの間に密閉部を形成するリング状シール部と、内部に流体を有しテーブル枠の周縁部近傍で露光テーブルを支持する外側リング状チューブと、内部に流体を有しテーブル枠の内側領域で露光テーブルを支持し外側リング状チューブと共にテーブル枠と露光テーブルとの間に複数の空間部を形成する内側リング状チューブと、密閉部及び空間部の真空圧を個別に調整する真空圧調整手段と、外側リング状チューブ及び内側リング状チューブに接続し内部の流体圧力を個別に調整する流体圧力調整手段とを有することを特徴とする露光装置。【選択図】図２
2014157910.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を投影マスクを透過して基板へ照射する露光装置において、
前記基板を載置する露光テーブルと、
前記基板に対向配置された投影マスクを保持するマスクプレートと、
前記露光テーブルを支持するテーブル枠と、
前記テーブル枠の周縁部上面に設けられ、前記テーブル枠と前記マスクプレートとの間に密閉部を形成するリング状シール部と、
内部に流体を有し、前記テーブル枠の周縁部近傍で前記露光テーブルを支持する外側リング状チューブと、
内部に流体を有し、前記テーブル枠の内側領域で前記露光テーブルを支持し、前記外側リング状チューブと共に前記テーブル枠と前記露光テーブルとの間に複数の空間部を形成する内側リング状チューブと、
前記密閉部及び前記複数の空間部の真空圧を個別に調整する複数の真空圧調整手段と、
前記外側リング状チューブ及び前記内側リング状チューブに接続し、内部の流体圧力を個別に調整する複数の流体圧力調整手段と、
を有し、
前記基板の凹凸と略同一となるように前記露光テーブルと前記マスクプレートを撓ませて、前記投影マスクを前記基板に均等に密着させて露光する
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置における露光方法であって、
前記露光テーブルと前記マスクプレートとを近接又は接触させると共に前記リング状シール部を圧縮して前記テーブル枠と前記マスクプレートとの間に密閉部を形成し、
前記流体圧力調整手段により前記外側リング状チューブの内部及び前記内側リング状チューブの内部の流体圧力を個別に調整し、
前記真空圧調整手段により前記密閉部及び前記複数の空間部の真空圧を個別に調整し、
前記基板の凹凸と略同一となるように前記露光テーブルと前記マスクプレートを撓ませて、前記投影マスクを前記基板に均等に密着させて露光する
ことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板と投影マスクとを密着させて露光する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板等の製造の際、パターンが形成された投影マスクを、感光性を有する基板に密着させて露光することにより、パターンを基板に焼き付ける露光装置が用いられている。
【０００３】
露光テーブル上面に載置された基板と、マスク保持装置下面に保持された投影マスクとを密着させるために、例えば、特許文献１では、高さ調整可能なシールパッキンを投影マスク下面の縁端部に設け、該シールパッキンを介してマスク保持装置と露光テーブルとの間を密封状態にし、形成された密封領域を露光テーブルに設けられた吸引穴から真空吸引して、密着させている。
【０００４】
図９に従来の装置を示す。光源１から出射した光２は、集光部３、反射部４、光強度一様化部５、平行化部６を通過して、ベース１１上面のブラケット１５上へ配置するマスク枠９が保持するガラス又はアクリル製のマスクプレート１０下面の投影マスク１６を透過し、露光テーブル７に載置された基板８へ照射される。露光テーブル７は、ベース１１内のＸＹＺθステージ１２−１〜４上に配置され、周縁部上面にはガラス又はアクリル製のマスクプレート１０との間に密閉部を形成するためのパッキン１７を備え、上面内側部には基板８を吸着固定するための複数の吸着穴３１が設けられている。
【０００５】
ガラス又はアクリル製のマスクプレート１０上方位置にはベース１１上のブラケット１４を介して案内装置（図示せず）と駆動装置（図示せず）が配置され、画像処理装置（図示せず）と接続する４個のＣＣＤカメラ１３−１〜４は、Ｚステージ１２−１が上昇して近接した基板８及び投影マスク１６双方のアライメントマークを撮像する。画像処理装置がマーク位置を測定し、双方の相対位置が近似するように算出された修正値に基づいてＸＹθステージ１２−２〜４が基板８の位置を修正し、Ｚステージ１２−１が更に上昇して露光テーブル７の４隅に設けられた吸引穴１８により基板８を投影マスク１６に近接又は接触させる。この時、ガラス又はアクリル製のマスクプレート１０がパッキン１７’を圧縮し、ガラス又はアクリル製のマスクプレート１０と露光テーブル７’で形成される空間を密封した状態で、露光テーブル７’の４隅に設けられた吸引穴１８’から真空吸引して基板８’と投影マスク１６を密着又は近接させる。ＣＣＤカメラ１３−１〜４が再び基板８及び投影マスク１６双方のアライメントマークを撮像し、双方の相対位置が規定以内にあることが確認されると、光源１からの出射光が投影マスク１６を透過して基板８’に照射される。露光テーブル７’、パッキン１７’、基板８’、吸引穴１８’は、基板８と投影マスク１６とが密着した時の状態を示す。
【０００６】
ところで、基板は、製造工程での加熱に伴って反りが生じてしまうが、このような反りは完全に矯正することはできない。
【０００７】
従来の装置では、このような反りのある基板８を投影マスク１６に密着させようとしても均等に密着させることはできず、基板８と投影マスク１６との間に隙間部（詳細は後述する。）が生じてしまい、隙間部を有したまま露光していたため、隙間部ではラインエッジがぼけるなど露光不良の原因の１つとなっていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−８１７０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような反りのある基板に対しても、投影マスクと基板全面とを均等に密着させることが可能な露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するための手段を、図１及び図２を参照して説明する。図２は図１における露光装置のＡ−Ａ断面図である。基板（８）を載置する露光テーブル（７）と、前記基板（８）に対向配置された投影マスク（１６）を保持するマスクプレート（１０）と、前記露光テーブル（７）を支持するテーブル枠（２０）と、前記テーブル枠（２０）の周縁部上面に設けられ、前記テーブル枠（２０）と前記マスクプレート（１０）との間に密閉部を形成するパッキン（１７）と、内部に流体を有し、前記テーブル枠（２０）の周縁部近傍で前記露光テーブル（７）を支持する外側リング状チューブ（２２）と、内部に流体を有し、前記テーブル枠（２０）の内側領域で前記露光テーブル（７）を支持し、前記外側リング状チューブ（２２）と共に前記テーブル枠（２０）と前記露光テーブル（７）との間に複数の空間部（Ｄ及びＥ）を形成する内側リング状チューブ（２３）と、前記密閉部及び前記複数の空間部（Ｄ及びＥ）の真空圧を個別に調整する複数の真空圧調整手段（２５−１〜４）と、前記外側リング状チューブ（２２）及び前記内側リング状チューブ（２３）に接続し、内部の流体圧力を個別に調整する複数の流体圧力調整手段（２４−１、２）と、を有し、前記基板（８）の凹凸と略同一となるように前記露光テーブル（７）と前記マスクプレート（１０）を撓ませて、前記投影マスク（１６）を前記基板（８）を均等に密着させる。
【００１１】
なお、上記のカッコ内の符号は、図面と対照するためのものであるが、これにより特許請求の範囲の記載に何ら影響を及ぼすものではない。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、反りのある基板に対しても、投影マスクと基板全面とを均等に密着させることができるため、Ｌ／Ｓの違いやラインエッジのボケなどによる露光不良を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る露光装置の露光テーブル平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】図２のＺ−Ｚ断面図である。
【図４】本発明の露光装置における、上凸形状基板と投影マスクとの密着動作説明図である。
【図５】本発明の露光装置における、下凸形状基板と投影マスクとの密着動作説明図である。
【図６】チューブ断面の寸法図である。
【図７】チューブの配置寸法図である。
【図８】モーメント算出の配置図である。
【図９】従来の露光装置の側面断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００１５】
まず、本発明の露光装置の構成について説明する。
【００１６】
図１〜図３に示すように、基板８を載置する露光テーブル７は、テーブル枠２０の４隅に設けられた複数のガイドピン３５を抱合する複数のボールガイド２１により上下方向に支持され、内部へ圧縮エアが供給された外側リング状チューブ２２はテーブル枠２０の周縁部近傍の内壁に沿って複数の位置決めピン２６−１によって位置決めされ、内部へ圧縮エアが供給された内側リング状チューブ２３はテーブル枠２０の内側領域に複数の位置決めピン２６−２によって位置決めされ、外側リング状チューブ２２及び内側リング状チューブ２３は露光テーブル７を載置すると共に露光テーブル７とテーブル枠２０との間に複数の空間部を形成するものである。空間部Ｄは、露光テーブル７、テーブル枠２０、及び内側リング状チューブ２３によって露光テーブル７の内側領域に形成され、空間部Ｅは、露光テーブル７、テーブル枠２０、外側リング状チューブ２２、及び内側リング状チューブ２３によって露光テーブル７の周縁部領域に形成される。
【００１７】
テーブル枠２０の周縁部上面に配置されたパッキン１７は、露光テーブル７とマスクプレート１０とを近接又は接触させる際に、テーブル枠２０及び露光テーブル７とマスクプレート１０との間に密閉部を形成するものである。
【００１８】
露光テーブル７、テーブル枠２０、外側リング状チューブ２２、及び内側リング状チューブ２３で形成される空間部Ｅは継手２７（ｅ部）を通じて真空圧調整弁２５−１につながり、真空源に配管接続され、真空圧が調整される。同様に、露光テーブル７、テーブル枠２０、及び内側リング状チューブ２３で形成される空間部Ｄは、継手４７（ｄ部）を通じて真空圧調整弁２５−３につながり、真空源に配管接続され、真空圧が調整される。外側リング状チューブ２２は、テーブル枠２０の一端面からカバー２９とＯリング３０によりシールされた供給チューブ４６（ｃ部）を通じて減圧弁２４−１につながり、エア源へ接続される。同様に、内側リング状チューブ２３は、テーブル枠２０の下面からＯリング２８によりシールされた供給チューブ３２（ｂ部）を通じて、減圧弁２４−２につながり、エア源へ接続される。露光テーブル７とマスクプレート１０との間の密閉部は、継手１９（ｆ部）を通じて真空圧調整弁２５−４につながり、真空源に配管接続され、真空圧が調整される。露光テーブル７上に載置された基板８は、カバー４１とＯリング４８によってシールされた配管チューブ３３、継手４３（ａ部）を通じて真空圧調整弁２５−２につながり真空源に配管接続された吸着穴３１により吸着固定される。
【００１９】
次に、作用について説明する。
【００２０】
一般に、基板８と露光テーブル７との間に±０．５ｍｍ程度以上の隙間部があると、基板８は露光テーブル７上面の複数の吸着穴３１で吸着固定されないため、本実施例では、反り量が±０．５ｍｍ以内の基板８を対象とする。
【００２１】
基板８の反り量及び反りの形状については、例えば、基準位置から基板８表面までの距離を複数個所測定しておき、その最大値と最小値との差により「反り量」を算出し、最大値と最小値を示す位置によって上凸形状であるか下凸形状であるかを判別する。
【実施例１】
【００２２】
上凸形状に反った基板８が投影マスク１６と密着する様子を図４（ａ）〜（ｅ）に示す。各図は同じ部分を示す図であるので、図４（ａ）にのみ各部の符号を付す。上凸形状に反った基板８が露光テーブル７上へ載置されると、ａ部につながる複数の吸着穴３１によって露光テーブル７に吸着固定される（図４（ａ））。露光テーブル７が上昇すると、投影マスク１６と基板８は近接し、この位置で図９で示すＣＣＤカメラ１３−１〜４が基板８及び投影マスク１６の４隅に設けられたアライメントマーク座標を測定し、図９で示すＸＹθステージ１２−２〜４により相対位置の修正を行なう（図４（ｂ））。更に上昇すると、ガラス又はアクリル製のマスクプレート１０下面の投影マスク１６の中央部が、基板８の中央部の上凸部分に接触し（図４（ｃ））、更に上昇が進むと、パッキン１７が圧縮されると共にガラス又はアクリル製のマスクプレート１０も上凸形状に撓み、押し切れずに、隙間４５が残った状態となる（図４（ｄ））。ここで、ｂ部から内側リング状チューブ２３へエア供給してエア圧を上昇し、内側リング状チューブ２３のチューブ径を大きくすると共に、ｃ部からエア圧を下降させて外側リング状チューブ２２のチューブ径を小さくし、同時にｅ部から真空吸引して空間部Ｅを負圧にし、ｄ部を大気開放することで、露光テーブル７は基板８の反りに倣って上凸形状に撓み、更にｆ部から真空吸引すると、隙間部４５はなくなり、投影マスク１６と基板８全面とを均等に密着させるものである（図４（ｅ））。
【実施例２】
【００２３】
下凸形状に反った基板が投影マスク１６と密着する様子を図５（ａ）〜（ｅ）に示す。各図は同じ部分を示す図であるので、図５（ａ）にのみ各部の符号を付す。下凸形状に反った基板８が露光テーブル７上へ載置されると、ａ部につながる複数の吸着穴３１によって露光テーブル７に吸着固定される（図５（ａ））。露光テーブル７が上昇すると、投影マスク１６と基板８は近接し、この位置で図９で示すＣＣＤカメラ１３−１〜４が基板８及び投影マスク１６の４隅に設けられたアライメントマーク座標を測定し、図９で示すＸＹθステージ１２−２〜４により相対位置の修正を行なう（図５（ｂ））。更に上昇すると、ガラス又はアクリル製のマスクプレート１０下面の投影マスク１６と基板８がそれぞれの周囲部で接触し（図５（ｃ））、更に上昇が進むと、パッキン１７が圧縮されると共にガラス又はアクリル製のマスクプレート１０も上凸形状に撓み、押し切れずに、隙間４５が残った状態となる（図５（ｄ））。ここで、ｃ部から外側リング状チューブ２２へエア供給してエア圧を上昇し、外側リング状チューブ２２のチューブ径を大きくすると共に、ｂ部からエア圧を下降させて内側リング状チューブ２３のチューブ径を小さくし、同時にｄ部から真空吸引して空間部Ｄを負圧とし、ｅ部を大気開放することで、露光テーブル７は基板８の反りに倣って下凸形状に撓み、更にｆ部から真空吸引すると、隙間部４５はなくなり、投影マスク１６と基板８全面とを均等に密着させるものである（図５（ｅ））。
【００２４】
基板８の反りが０．５ｍｍ／（６００／２）ｍｍとすると、反りの角度は△θ＝Ｔａｎ−１（０．５／３００）≒０．１°となり、ボールガイド２１のボール−ガイドシャフト間の隙間が３０μｍ程度のものを採用し、ボールガイド２１の長さを１５ｍｍとすると、△φ＝Ｔａｎ−１（０．０３／１５）≒０．１１°となり反りの角度変化を吸収できる。
【００２５】
露光テーブル７の材質をアルミニウム、厚さをｔＴ＝８ｍｍ、ヤング係数をＥＴ＝７０ＧＰａ＝７×１０３ｋｇｆ／ｍｍ２、空間部Ｄの真空圧をＰ＝５０ｋＰａ≒０．５ｋｇｆ／ｃｍ２、空間部Ｄの領域サイズをＡＤ＝３０×４０ｃｍ２とすると、露光テーブル７の最大撓みは、等分布荷重を受ける周辺支持長方形板の撓みの公式からσＴｍａｘ＝β・Ｐ・ａ４／（ＥＴ・ｔＴ３）＝０．０６９７×０．５×１０−２ｋｇ／ｍｍ２×４００４ｍｍ４／（７×１０３ｋｇｆ／ｍｍ２×８３ｍｍ３）＝２．４９ｍｍとなる（ここで、βは空間部Ｄの領域の縦横比：ａ／ｂ≒１．３によるたわみ係数β＝０．０６９７、Ｐは空間部Ｄの真空圧、ａは空間部Ｄの領域の長辺の長さ、ＥＴはヤング係数、ｔは露光テーブルの厚さである。）。よって、露光テーブル７は、基板の反り量（±０．５ｍｍ以内）以上に撓むことができる。
【００２６】
マスクプレート１０の材質をガラス、厚さをｔＧ＝５ｍｍ、ヤング係数をＥＧ＝８０ＧＰａ＝８×１０３ｋｇｆ／ｍｍ２とすると、マスクプレート１０の最大撓みは同様に、σＧｍａｘ＝β・Ｐ・ａ４／（ＥＧｔＧ３）＝０．０６９７×０．５×１０−２ｋｇ／ｍｍ２×４００４ｍｍ４／（８×１０３ｋｇｆ／ｍｍ２×５３ｍｍ３）＝８．９ｍｍとなる。よって、ガラス製のマスクプレート１０は、基板の反り量（±０．５ｍｍ以内）以上に撓むことができる。
【００２７】
マスクプレート１０の材質をアクリル、厚さをｔＡ＝５ｍｍ、ヤング係数をＥＡ＝３．１４ＧＰａ＝３．１４×１０３ｋｇ／ｍｍ２とすると、マスクプレート１０の最大撓みは同様に、σＡｍａｘ＝β・Ｐ・ａ４／（ＥＡｔＡ３）＝０．０６９７×０．５×１０−２ｋｇ／ｍｍ２×４００４ｍｍ４／（３．１４×１０３ｋｇｆ／ｍｍ２×５３ｍｍ３）＝２２．７ｍｍとなる。よって、アクリル製のマスクプレート１０は、基板の反り量（±０．５ｍｍ以内）以上に撓むことができる。
【００２８】
よって、上記２つの実施例において、露光テーブル７及びガラス又はアクリル製のマスクプレート１０は、本発明で許容する基板８の反り量（±０．５ｍｍ以内）に合わせて撓むことができる。
【００２９】
内部エア圧、真空圧によるチューブ径の算出については、次のように行なう。図６に示すように、内部エア圧が０ＭＰａ時のチューブ半径をｒｚ、厚さをｔとし、チューブ内へのエア圧ｐｉＭＰａ、ｐｏＭＰａが作用する時の内外のリング状チューブ（２３、２２）のチューブ半径をｒｉｍｍ、ｒｏｍｍ、露光テーブル７が内外のリング状チューブ（２３、２２）上へ載置され、真空圧が作用してチューブ断面が横長楕円形状になった時の内外のリング状チューブ（２３、２２）の半径をｒｉ’ｍｍ、ｒｏ’ｍｍ、直線部の長さをＸｉ、Ｘｏ、内部エア圧をｐｉ＋△ｐｉ、ｐｏ＋△ｐｏ、チューブの弾性係数をＥＭＰａ、露光テーブル７の重量をＷｋｇｆとし、図７に示す配置寸法とすると、内側リング状チューブ２３長はＬｉ＝２（Ｙｉ＋Ｔｉ）ｍｍ、外側リング状チューブ２２長はＬｏ＝２（Ｙｏ＋Ｔｏ）ｍｍ、となり、図８に示すように、露光テーブル７を下凸形状とするために空間部Ｄから真空圧ＰｓｉｋＰａで吸引すると真空圧とテーブル重量がチューブに作用する線荷重ｗは、モーメントの関係から、ｗｏ＝（Ｗ＋Ｐｓｉ×Ｙｉ×Ｔｉ）×（Ｙｉ×Ｔｉ）／（Ｔｏ＋Ｔｉ＋Ｌｏ＋Ｌｉ）ｋｇｆ／ｍｍ、ｗｉ＝（Ｗ＋Ｐｓｉ×Ｙｉ×Ｔｉ）×（Ｙｏ×Ｔｏ）／（Ｔｏ＋Ｔｉ＋Ｌｏ＋Ｌｉ）ｋｇｆ／ｍｍ、図６の内外力の関係から、ｗｏ＝（２ｒｏ’＋Ｘｏ）・△ｐｏ、ｗｉ＝（２ｒｉ’＋Ｘｉ）・△ｐｉ、縦弾性係数の関係式Ｅ＝σ／εから、直線部の長さＸは、Ｘ＝２ｒ’（ｐ＋△ｐ）Ｘｏ／（２ｔＸｏＥ）＋Ｘｏ、Ｘｏ＝０から、Ｘｏ＝ｒｏ’（ｐｏ＋△ｐｏ）／（ｔＥ）、Ｘｉ＝ｒｉ’（ｐｉ＋△ｐｉ）／（ｔＥ）、更にボイルの法則から、ＰＶ＝Ｐ’Ｖ’→ＰＳ＝Ｐ’Ｓ’より、Ｐｏ・πｒｏ２＝（ｐｏ＋△ｐｏ）（πｒｏ’２＋２ｒｏ’Ｘｏ）、Ｐｉ・πｒｉ２＝（ｐｉ＋△ｐｉ）（πｒｉ’２＋２ｒｉ’Ｘｉ）となる。よって、内外のリング状チューブ（２３、２２）のチューブ半径ｒｉｍｍ、ｒｏｍｍ、内部上昇エア圧△ｐｉ、ｐｏ、及び直線部の長さＸｉ、Ｘｏを求めることができる。
【００３０】
例えば、上凸形状の基板８の場合、空間部Ｅからの真空吸引圧Ｐｓｏ＝５０ｋＰａ、内側リング状チューブ２３、外側リング状チューブ２２のチューブ内圧ｐｉ＝０．５ＭＰａ、ｐｏ＝０．２ＭＰａ、チューブ半径ｒｉ＝ｒｏ＝１０ｍｍ、チューブ厚さｔ＝１ｍｍ、チューブの弾性係数Ｅ＝５ＭＰａ、露光テーブル７の重量Ｗ＝３０ｋｇｆ、内側リング状チューブ２３の長さＹｉ＝３００ｍｍ、Ｔｉ＝４００ｍｍ、外側リング状チューブ２２の長さＹｏ＝５００ｍｍ、Ｔｏ＝６００ｍｍとすると、横長楕円形状になったときの内側リング状チューブ２３、外側リング状チューブ２２のチューブ半径ｒｉ’
≒７．１ｍｍ、ｒｏ’ ≒６．７ｍｍ、直線部の長さＸｉ＝０．８１ｍｍ、Ｘｏ＝０．４３ｍｍ、内部エア圧△ｐｉ＝０.０７ＭＰａ、△ｐｏ＝０．１２ＭＰａとなり、内側リング状チューブ２３、外側リング状チューブ２２のチューブ半径の差による角度は、△φ’＝Ｔａｎ−１（（６．７−７．１）／１００）≒−０．２３°となることから、内側リング状チューブ２３、外側リング状チューブ２２は、本発明で許容する基板の反り（±０．５ｍｍ／（６００／２）ｍｍ）のなす角度０．１°以上の角度を形成することができ、基板８の反り量（±０．５ｍｍ以内）に合わせて露光テーブル７及びガラス又はアクリル製のマスクプレート１０を撓ませることができる。
【００３１】
同様に、下凸形状の基板８の場合、空間部Ｄからの真空吸引圧Ｐｓｉ＝５０ｋＰａ、内側リング状チューブ２３、外側リング状チューブ２２のチューブ内圧ｐｉ＝ｐｏ＝０．４ＭＰａ、チューブ半径ｒｉ＝ｒｏ＝１０ｍｍ、チューブ厚さｔ＝１ｍｍ、チューブの弾性係数Ｅ＝５ＭＰａ、露光テーブル７の重量Ｗ＝３０ｋｇｆ、内側リング状チューブ２３の長さＹｉ＝３００ｍｍ、Ｔｉ＝４００ｍｍ、外側リング状チューブ２２の長さＹｏ＝５００ｍｍ、Ｔｏ＝６００ｍｍとすると、横長楕円形状になった内側リング状チューブ２３、外側リング状チューブ２２のチューブ半径ｒｉ’
≒６．７ｍｍ、ｒｏ’ ≒７．５ｍｍ、直線部の長さＸｉ＝０．７１ｍｍ、Ｘｏ＝０．６８ｍｍ、内部エア圧△ｐｉ＝０.１３４ＭＰａ、△ｐｏ＝０．０５１ＭＰａとなり、内側リング状チューブ２３、外側リング状チューブ２２のチューブ半径の差による角度は、△φ’＝Ｔａｎ−１（（７．５−６．７）／１００）≒０．４６°となることから、内側リング状チューブ２３、外側リング状チューブ２２は、本発明で許容する基板の反り（±０．５ｍｍ／（６００／２）ｍｍ）のなす角度０．１°以上の角度を形成することができ、基板８の反り量（±０．５ｍｍ以内）に合わせて露光テーブル７及びガラス又はアクリル製のマスクプレート１０を撓ませることができる。
【００３２】
上記２つの実施例においては、外側リング状チューブ２２及び内側リング状チューブ２３の流体として圧縮エアを用いたが、流体として気体（圧縮性流体）のみならず液体（非圧縮性流体）を使用することもできる。液体の場合、半径方向支持力が強くなるので振動等に強くなるが、その粘性のために追随速度が遅くなる。従って、液体を用いる場合は出来るだけ粘性の低いものを選ぶと良い。
【００３３】
この実施例のような構成にすることによって、基板と投影マスクを均等に近接又は接触させることができ、品質の安定した露光装置を提供することが可能になる。
【符号の説明】
【００３４】
１        光源
２        出射光
３        集光部
４        反射部
５        光強度一様化部
６        平行化部
７        露光テーブル
８        基板
９        マスク枠
１０      マスクプレート
１１      ベース
１２−１〜４      ＸＹＺθステージ
１３−１〜４      ＣＣＤカメラ
１４      ブラケット
１５      ブラケット
１６      投影マスク
１７      パッキン
１８      吸引穴
１９      継手
２０      テーブル枠
２１      ボールガイド
２２      外側リング状チューブ
２３      内側リング状チューブ
２４−１、２      減圧弁
２５−１〜４      真空圧調整弁
２６−１、２      位置決めピン
２７      継手
２８      Ｏリング
２９      カバー
３０      Ｏリング
３１      吸着穴
３２      供給チューブ
３３      供給チューブ
３５      ガイドピン
４１      カバー
４３      継手
４５      隙間
４６      供給チューブ
４７      継手
４８      Ｏリング
【図１】
2014157910.tif 000003
【図２】
2014157910.tif 000004
【図３】
2014157910.tif 000005
【図４】
2014157910.tif 000006
【図５】
2014157910.tif 000007
【図６】
2014157910.tif 000008
【図７】
2014157910.tif 000009
【図８】
2014157910.tif 000010
【図９】
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