(57)【要約】【課題】露光感度が高く、耐熱形状保持性に優れた有機絶縁膜を備え、かつ、信頼性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること。【解決手段】下記一般式（１）で表される構造単位と、下記一般式（２）で表される構造単位とを有する重合体（Ａ１）を含有する重合体（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）及び架橋剤（Ｃ）を含有する感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。2014029766.tif 000009【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される構造単位と、下記一般式（２）で表される構造単位とを有する重合体（Ａ１）を含有する重合体（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）及び架橋剤（Ｃ）を含有する感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【化５】
2014029766.tif 000007
（上記一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基である。）
【化６】
2014029766.tif 000008
（上記一般式（２）中、Ｒ３は、化学的な単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の２価の炭化水素基であり、Ｒ４は、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基である。）
【請求項２】
前記有機絶縁膜が、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する、隣接する有機発光層間を分離するための画素分離膜であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記有機絶縁膜が、前記有機エレクトロルミネッセンス素子表面を平坦化するための平坦化膜であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記重合体（Ａ）が、前記一般式（２）で表される構造単位のみからなる重合体（Ａ２）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記架橋剤（Ｃ）が、２種以上の異なる化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記感放射線性樹脂組成物が、酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子に関し、露光感度が高く、耐熱形状保持性に優れた有機絶縁膜を備え、信頼性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品の一例としての有機エレクトロルミネッセンス素子には、その劣化や損傷を防止するための保護膜、素子表面や配線を平坦化するための平坦化膜、電気絶縁性を保つための電気絶縁膜、発光体部を分離するための画素分離膜など種々の樹脂膜が設けられている。
【０００３】
従来、これらの樹脂膜を形成するための樹脂材料としては、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂材料が汎用されていた。しかしその一方で、近年の配線やデバイスの高密度化に伴い、これらの樹脂材料にも、透明性に優れ、電気絶縁性が高く、耐熱性に優れた新しい樹脂材料が求められてきた。
【０００４】
このような種々の要求に応えるべく、各種樹脂材料を用いた感放射線組成物が提案されている。たとえば、特許文献１では、脂環式オレフィン樹脂、酸発生剤、架橋剤、特定のフェノール老化防止剤及び溶媒からなる感放射線樹脂組成物が開示されている。しかしながら、この感放射線樹脂組成物を用いて大気中での加熱工程後の樹脂の透明性を維持するには多量のフェノール系の老化防止剤を添加しなければならず、そうすると放射線に対する感度が低くなり感放射線組成物として十分に機能しないことがあった。
【０００５】
また、特許文献２では、樹脂材料として、アクリル系感光性樹脂を用いた感放射線樹脂組成物が提案されている。しかしながら、この特許文献２によれば、アクリル系感光性樹脂を用いることで、得られる樹脂膜の電気特性の向上は可能となるものの、耐熱性が十分でなく、さらには、長時間電流を印加した際における信頼性が十分でないという問題があった。
【０００６】
さらに、上述した有機エレクトロルミネッセンス素子を構成するための樹脂膜においては、パターン化させて用いる場合に、加熱工程の前後でパターン形状が溶融したり変形したりせず、形状を保持できること（耐熱形状保持性）が求められているところ、上述した特許文献１，２の技術では、このような耐熱形状保持性も十分なものではなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第０３／１００５２４号公報パンフレット
【特許文献２】特開平９−１５２６２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、露光感度が高く、耐熱形状保持性に優れた有機絶縁膜を備え、かつ、信頼性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成するための有機絶縁膜を形成するための樹脂組成物として、特定の（メタ）アクレートからなる構造単位と、特定のエチレン性不飽和結合基含有フェノール化合物からなる構造単位とを備える重合体と、感放射線化合物と、架橋剤とを含有する感放射線性樹脂組成物を用いることにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち、本発明によれば、下記一般式（１）で表される構造単位と、下記一般式（２）で表される構造単位とを有する重合体（Ａ１）を含有する重合体（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）及び架橋剤（Ｃ）を含有する感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子が提供される。
【化１】
2014029766.tif 000002
（上記一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基である。）
【化２】
2014029766.tif 000003
（上記一般式（２）中、Ｒ３は、化学的な単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の２価の炭化水素基であり、Ｒ４は、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基である。）
【００１１】
本発明においては、前記有機絶縁膜が、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する、発光波長が互いに異なる有機発光層間を分離するための画素分離膜であることが好ましい。
あるいは、本発明においては、前記有機絶縁膜が、前記有機エレクトロルミネッセンス素子表面を平坦化するための平坦化膜であることが好ましい。
また、本発明においては、前記重合体（Ａ）が、上記一般式（２）で表される構造単位のみからなる重合体（Ａ２）をさらに含有することが好ましい。
また、本発明においては、前記架橋剤（Ｃ）が、２種以上の異なる化合物を含有することが好ましい。
さらに、本発明においては、前記感放射線性樹脂組成物が、酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。
【００１２】
本発明は、基板上に形成された複数の半導体層と、各半導体層上に設けられた平坦化膜と、前記平坦化膜の厚み方向に貫通し、各半導体層に導通する複数の電極（アノード）と、各電極の上（半導体層とは反対側）に、各電極に対応して、各電極に導通して設けられた複数の発光層と、隣接する前記発光層間を分離する画素分離膜と、を備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記画素分離膜および／または前記平坦化膜は、前記感放射線性樹脂組成物により形成されている。さらに、前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記画素分離膜および前記発光層上（前記電極とは反対側の面）に対向電極（カソード）をさらに備える。この際、前記感放射線性樹脂組成物に用いられる前記重合体（Ａ）は、前記一般式（２）で表される構造単位のみからなる重合体（Ａ２）をさらに含有することが好ましい。また、前記感放射線性樹脂組成物に用いられる前記架橋剤（Ｃ）は、２種以上の異なる化合物を含有することが好ましい。さらに、前記感放射線性樹脂組成物は、酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、露光感度が高く、耐熱形状保持性に優れた有機絶縁膜を備え、かつ、信頼性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、後述する一般式（１）で表される構造単位と、後述する一般式（２）で表される構造単位とを有する重合体（Ａ１）を含有する重合体（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）及び架橋剤（Ｃ）を含有する感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜を備えることを特徴とする。
以下においては、まず、本発明で用いる感放射線性樹脂組成物について説明する。
【００１６】
（感放射線性樹脂組成物）
本発明で用いる感放射線性樹脂組成物は、重合体（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）及び架橋剤（Ｃ）を含有する。
【００１７】
（重合体（Ａ））
本発明で用いる重合体（Ａ）は、下記一般式（１）で表される構造単位と、下記一般式（２）で表される構造単位とを有する重合体（Ａ１）（以下、適宜、「重合体（Ａ１）」と略記する。）を少なくとも含有する。
【化３】
2014029766.tif 000004
【化４】
2014029766.tif 000005
【００１８】
上記一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基であり、好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜２のアルキル基である。
【００１９】
上記一般式（２）中、Ｒ３は、化学的な単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の２価の炭化水素基であり、好ましくは、化学的な単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基（分岐型または直鎖型）であり、より好ましくは、化学的な単結合、又は炭素数１〜２のアルキレン基である。また、上記一般式（２）中、Ｒ４は、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６の１価の炭化水素基であり、好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜２のアルキル基である。
【００２０】
なお、置換基としては、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基などの炭素数１〜１０のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；フェニル基、４−メチルフェニル基、２−クロロフェニル基などの置換基を有していてもよいフェニル基、ヒドロキシル基；などが挙げられる。
【００２１】
上記一般式（１）で表される構造単位と、上記一般式（２）で表される構造単位とを有する重合体（Ａ１）は、たとえば、上記一般式（１）で表される構造単位を形成することとなる単量体と、上記一般式（２）で表される構造単位を形成することとなる単量体とを共重合することにより得ることができる。
【００２２】
上記一般式（１）で表される構造単位を形成することとなる単量体としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−デシル、アクリル酸ｎ−ドデシル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−デシル、メタクリル酸ｎ−ドデシルなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、また、２種以上組み合わせて用いてもよい。これらのなかでも、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子の信頼性の向上効果が高いという点より、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−ブチルが好ましい。
【００２３】
また、上記一般式（２）で表される構造単位を形成することとなる単量体としては、４−ヒドロキシスチレン（ｐ−ビニルフェノール）、３−ヒドロキシスチレン（ｍ−ビニルフェノール）、２−ヒドロキシスチレン（ｏ−ビニルフェノール）、α−メチル−４−ヒドロキシスチレン、α−メチル−３−ヒドロキシスチレン、α−メチル−２−ヒドロキシスチレン、４−ヒドロキシアリルベンゼン、３−ヒドロキシアリルベンゼン、２−ヒドロキシアリルベンゼンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、また、２種以上組み合わせて用いてもよい。これらのなかでも、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子の信頼性の向上効果が高いという点より、４−ヒドロキシスチレン（ｐ−ビニルフェノール）が好ましい。
【００２４】
本発明で用いる重合体（Ａ１）中における、上記一般式（１）で表される構造単位と、上記一般式（２）で表される構造単位との含有割合は、「上記一般式（１）で表される構造単位：上記一般式（２）で表される構造単位」の重量比率で、好ましくは１０：９０〜９０：１０、より好ましくは２０：８０〜４０：６０である。これらの重量比率を上記範囲とすることにより、リソグラフィによりパターンを形成する際の露光感度および絶縁膜として使用した場合の有機エレクトロルミネッセンス素子の寿命特性を良好なものとすることができる。
【００２５】
また、本発明で用いる重合体（Ａ１）は、上記一般式（１）で表される構造単位、及び上記一般式（２）で表される構造単位以外に、これらと共重合可能な他の単量体を共重合したものであってもよい。このような共重合可能な他の単量体としては、たとえば、ビニルエステル化合物、（メタ）アクリル酸〔アクリル酸及び／又はメタクリル酸、以下、（メタ）アクリル酸エステルなども同様。）、芳香族ビニル化合物（ただし、フェノール基を有する化合物を除く）、シアン化ビニル化合物、不飽和二塩基酸及びその無水物などが挙げられる。
【００２６】
ビニルエステル化合物の具体例としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどが挙げられる。
芳香族ビニルの具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルピリジンなどが挙げられる。
シアン化ビニル化合物の具体例としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、シアン化ビニリデンなどが挙げられる。
不飽和二塩基酸及びその無水物の具体例としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などが挙げられる。
【００２７】
本発明で用いる重合体（Ａ１）中における、共重合可能な他の単量体の単位の含有割合は、好ましくは３０重量％以下、より好ましくは１５重量％以下である。
【００２８】
本発明で用いる重合体（Ａ１）の製造方法としては、特に限定されないが、溶液重合法、懸濁重合法、塊状重合法、乳化重合法などのいずれの方法も用いることができる。また、重合体（Ａ１）を製造する際には、上記一般式（２）で表される構造単位を形成することとなる単量体として、上述したエチレン性不飽和結合基含有フェノール化合物の代わりに、該化合物のフェノール性水酸基を、予めアルコキシ化した単量体を用いて共重合を行い、得られた共重合体のアルコキシ基を加水分解することで、フェノール性水酸基とするような方法を採用してもよい。
【００２９】
本発明で用いる重合体（Ａ１）の平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定した単分散ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは３，０００〜２０，０００、より好ましくは４，０００〜１５，０００、さらに好ましくは４，５００〜１２，０００である。
【００３０】
また、本発明で用いる重合体（Ａ）としては、上述した重合体（Ａ１）に加えて、上記一般式（２）で表される構造単位のみからなる重合体（Ａ２）をさらに含有することが好ましい。重合体（Ａ２）をさらに含有することにより、有機絶縁膜とした際における、露光感度及び耐熱形状保持性をより高めることができ、また、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子の信頼性をより向上させることができる。
【００３１】
なお、上記一般式（２）で表される構造単位のみからなる重合体（Ａ２）（以下、適宜、「重合体（Ａ２）」と略記する。）は、上記一般式（２）で表される構造単位のみから構成される重合体であればよく、たとえば、上記一般式（２）で表される構造単位を与える２以上の単量体を共重合してなる共重合体であってもよいし、あるいは、上記一般式（２）で表される構造単位を与える単一の単量体を単独重合してなる単独重合体であってもよいが、単独重合体であることが好ましい。また、本発明においては、重合体（Ａ２）としては、実質的に、上記一般式（２）で表される構造単位のみから構成されると判断できるものであればよく、たとえば、不純物量程度であれば、他の単量体の単位を含有するものであっても差支えない。
【００３２】
上記一般式（２）で表される構造単位を形成することとなる単量体としては、上記した重合体（Ａ１）と同様のものを用いることができる。
【００３３】
本発明で用いる重合体（Ａ２）の製造方法としては、特に限定されないが、溶液重合法、懸濁重合法、塊状重合法、乳化重合法などのいずれの方法も用いることができる。また、重合体（Ａ２）を製造する際には、上記一般式（２）で表される構造単位を形成することとなる単量体として、上述したエチレン性不飽和結合基含有フェノール化合物の代わりに、該化合物のフェノール性水酸基を、予めアルコキシ化した単量体を用いて重合を行い、得られた重合体のアルコキシ基を加水分解することで、フェノール性水酸基とするような方法を採用してもよい。
【００３４】
本発明で用いる重合体（Ａ２）の平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定した単分散ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは３，０００〜２０，０００、より好ましくは４，０００〜１５，０００、さらに好ましくは４，５００〜１２，０００である。
【００３５】
重合体（Ａ）を、重合体（Ａ１）に加えて、重合体（Ａ２）を含有するものとする場合における、重合体（Ａ１）と、重合体（Ａ２）との割合は、「重合体（Ａ１）：重合体（Ａ２）」の重量比率で、好ましくは９０：１０〜５０：５０、より好ましくは８０：２０〜６０：４０である。重合体（Ａ１）と、重合体（Ａ２）との割合を上記範囲とすることにより、有機絶縁膜とした際における、露光感度及び耐熱形状保持性の向上効果、及び、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子の信頼性の向上効果をより高めることができる。
【００３６】
（感放射線化合物（Ｂ））
本発明で用いる感放射線化合物（Ｂ）は、紫外線や電子線等の放射線の照射により、化学反応を引き起こすことのできる化合物である。本発明において感放射線化合物（Ｂ）は、感放射線性樹脂組成物により形成される有機絶縁膜のアルカリ溶解性を制御できるものが好ましく、特に、光酸発生剤を使用することが好ましい。
【００３７】
このような感放射線化合物（Ｂ）に用いる光酸発生剤としては、例えば、アセトフェノン化合物、トリアリールスルホニウム塩、キノンジアジド化合物等のアジド化合物等が挙げられるが、好ましくはアジド化合物、特に好ましくはキノンジアジド化合物である。
【００３８】
キノンジアジド化合物としては、例えば、キノンジアジドスルホン酸ハライドとフェノール性水酸基を有する化合物とのエステル化合物を用いることができる。キノンジアジドスルホン酸ハライドの具体例としては、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロライド、１，２−ベンゾキノンジアジド−５−スルホン酸クロライド等が挙げられる。フェノール性水酸基を有する化合物の代表例としては、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール等が挙げられる。これら以外のフェノール性水酸基を有する化合物としては、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ノボラック樹脂のオリゴマー、フェノール性水酸基を１つ以上有する化合物とジシクロペンタジエンとを共重合して得られるオリゴマー等が挙げられる。
これらの中でも、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノール性水酸基を有する化合物との縮合物が好ましく、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライド（２．０モル）との縮合物（エステル体）がより好ましい。
【００３９】
また、光酸発生剤としては、キノンジアジド化合物の他、オニウム塩、ハロゲン化有機化合物、α，α’−ビス（スルホニル）ジアゾメタン系化合物、α−カルボニル−α’−スルホニルジアゾメタン系化合物、スルホン化合物、有機酸エステル化合物、有機酸アミド化合物、有機酸イミド化合物等、公知のものを用いることができる。
これらの感放射線化合物は、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができるが、リソグラフィによりパターンを形成する際の露光感度を良好なものとすることができるという点より、２種以上を組み合わせて用いることが好ましい。
【００４０】
本発明で用いる感放射線性樹脂組成物中における感放射線化合物（Ｂ）の含有量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは１０〜６０重量部、より好ましくは１５〜５５重量部、さらに好ましくは２０〜５０重量部、最も好ましくは２５〜４５重量部の範囲である。感放射線化合物（Ｂ）の含有量がこの範囲にあれば、感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜をパターン化する際に、放射線照射部と放射線未照射部との現像液への溶解度差が大きくなり、放射線感度も高くなり、現像によるパターン化が容易であるので好適である。
【００４１】
（架橋剤（Ｃ））
本発明で用いる感放射線性樹脂組成物は、上述した重合体（Ａ）及び感放射線化合物（Ｂ）に加えて、架橋剤（Ｃ）をさらに含有する。架橋剤（Ｃ）としては、加熱により架橋剤分子間に架橋構造を形成するものや、重合体（Ａ）と反応して樹脂分子間に架橋構造を形成するものであり、具体的には、２以上の反応性基を有する化合物である。
【００４２】
このような反応性基としては、例えば、アミノ基、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、イソシアネート基等が挙げられ、これらのなかでも、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基が好ましく、アミノ基及びエポキシ基がより好ましい。また、エポキシ基は、末端エポキシ基、脂環式エポキシ基が好ましく、脂環式エポキシ基がより好ましい。
【００４３】
架橋剤（Ｃ）の分子量は、特に限定されないが、好ましくは１００〜１００，０００、より好ましくは３００〜５０，０００、さらに好ましくは５００〜１０，０００である。架橋剤は、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができるが、有機絶縁膜とした際における、露光感度及び耐熱形状保持性をより高めることができ、さらには、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子の信頼性をより向上させることができるという点より、２種以上を組み合わせて用いることが好ましい。
【００４４】
架橋剤（Ｃ）の具体例としては、ヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ポリアミン類；４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルフォン等の芳香族ポリアミン類；２，６−ビス（４’−アジドベンザル）シクロヘキサノン、４，４’−ジアジドジフェニルスルフォン等のアジド類；ナイロン、ポリヘキサメチレンジアミンテレレフタルアミド、ポリヘキサメチレンイソフタルアミド等のポリアミド類；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’ ’，Ｎ’ ’−（ヘキサアルコキシアルキル）メラミン等のメチロール基やイミノ基等を有していてもよいメラミン類（商品名「サイメル３０３、サイメル３２５、サイメル３７０、サイメル２３５、サイメル２７２、サイメル２３２、サイメル２１２、マイコート５０６」｛以上、サイテックインダストリーズ社製｝等のサイメルシリーズ、マイコートシリーズ）；Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−（テトラアルコキシアルキル）グリコールウリル等のメチロール基やイミノ基等を有していてもよいグリコールウリル類（商品名「サイメル１１７０」｛サイテックインダストリーズ社製｝等のサイメルシリーズ）；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアクリレート化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート系ポリイソシアネート、トリレンジイソシアネート系ポリイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物；１，４−ジ−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ジ−（ヒドロキシメチル）ノルボルナン；１，３，４−トリヒドロキシシクロヘキサン；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ポリフェノール型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、脂肪族グリシジルエーテル、エポキシアクリレート重合体等のエポキシ化合物；を挙げることができる。
【００４５】
このようなエポキシ化合物の具体例としては、ジシクロペンタジエンを骨格とする３官能性のエポキシ化合物（商品名「ＸＤ−１０００」、日本化薬社製）、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物（シクロヘキサン骨格及び末端エポキシ基を有する１５官能性の脂環式エポキシ樹脂、商品名「ＥＨＰＥ３１５０」、ダイセル化学工業社製）、エポキシ化３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸ビス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトン（脂肪族環状３官能性のエポキシ樹脂、商品名「エポリードＧＴ３０１」、ダイセル化学工業社製）、エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトン（脂肪族環状４官能性のエポキシ樹脂、商品名「エポリードＧＴ４０１」、ダイセル化学工業社製）等の脂環構造を有するエポキシ化合物；
【００４６】
芳香族アミン型多官能エポキシ化合物（商品名「Ｈ−４３４」、東都化成工業社製）、クレゾールノボラック型多官能エポキシ化合物（商品名「ＥＯＣＮ−１０２０」、日本化薬社製）、フェノールノボラック型多官能エポキシ化合物（エピコート１５２、１５４、ジャパンエポキシレジン社製）、ナフタレン骨格を有する多官能エポキシ化合物（商品名ＥＸＡ−４７００、大日本インキ化学株式会社製）、鎖状アルキル多官能エポキシ化合物（商品名「ＳＲ−ＴＭＰ」、坂本薬品工業社製）、多官能エポキシポリブタジエン（商品名「エポリードＰＢ３６００」、ダイセル化学工業社製）、グリセリンのグリシジルポリエーテル化合物（商品名「ＳＲ−ＧＬＧ」、阪本薬品工業株式会社製）、ジグリセリンポリグリシジルエーテル化合物（商品名「ＳＲ−ＤＧＥ」、阪本薬品工業株式会社製、ポリグリセリンポリグリシジルエーテル化合物（商品名「ＳＲ−４ＧＬ」、阪本薬品工業株式会社製）等の脂環構造を有さないエポキシ化合物；を挙げることができる。
【００４７】
これらエポキシ化合物のなかでも、エポキシ基を２つ以上有する多官能エポキシ化合物が好ましく、感放射線性樹脂組成物を用いて得られる有機絶縁膜の耐熱形状保持性に優れることから、脂環構造を有し、かつ、エポキシ基が３個以上の多官能エポキシ化合物が、特に好ましい。また、架橋剤（Ｃ）としてのエポキシ化合物を２種以上を組み合わせて用いる場合には、エポキシ基が３個以上の多官能エポキシ化合物を２種以上組み合わせて用いることが好ましく、エポキシ基が３個以上であり、かつ、互いにエポキシ基の数が異なる多官能エポキシ化合物を２種以上組み合わせて用いることがより好ましい。このようなエポキシ化合物を２種以上組み合わせて用いることにより、露光感度及び耐熱形状保持性の向上効果、及び、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子の信頼性の効果をより高めることができる。
【００４８】
感放射線性樹脂組成物中における架橋剤（Ｃ）の含有量は、特に限定されず、感放射線性樹脂組成物を用いて得られる有機絶縁膜にパターンを設ける場合に求められる耐熱性の程度を考慮して任意に設定すればよいが、重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは２０〜１００重量部、より好ましくは２５〜９０重量部、さらに好ましくは３０〜８０重量部、特に好ましくは３０〜７０重量部である。架橋剤（Ｃ）が、多すぎても少なすぎても耐熱性が低下する傾向がある。
【００４９】
（酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ））
また、本発明で用いる感放射線性樹脂組成物は、上述した重合体（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）及び架橋剤（Ｃ）に加えて、酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）を含有していることが好ましい。酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）は、酸性基又は加熱により酸性基を生じる熱潜在性酸性基を有するものであればよく、特に限定されないが、好ましくは脂肪族化合物、芳香族化合物、複素環化合物であり、さらに好ましくは芳香族化合物、複素環化合物である。
これらの酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物は、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５０】
酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）の酸性基及び熱潜在性酸性基の数は、特に限定されないが、合計で２つ以上の酸性基及び／又は熱潜在性酸性基を有するものが好ましい。酸性基又は熱潜在性酸性基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
酸性基としては、酸性の官能基であればよく、その具体例としては、スルホン酸基、リン酸基等の強酸性基；カルボキシ基、チオール基及びカルボキシメチレンチオ基等の弱酸性基；が挙げられる。これらの中でも、カルボキシ基、チオール基又はカルボキシメチレンチオ基が好ましく、カルボキシ基が特に好ましい。また、これらの酸性基の中でも、酸解離定数ｐＫａが３．５以上５．０以下の範囲にあるものが好ましい。なお、酸性基が２つ以上ある場合は第一解離定数ｐＫａ１を酸解離定数とし、第一解離定数ｐＫａ１が上記範囲にあるものが好ましい。また、ｐＫａは、希薄水溶液条件下で、酸解離定数Ｋａ＝［Ｈ３Ｏ＋］［Ｂ−］／［ＢＨ］を測定し、ｐＫａ＝−ｌｏｇＫａにしたがって、求められる。ここでＢＨは、有機酸を表し、Ｂ−は有機酸の共役塩基を表す。
なお、ｐＫａの測定方法は、例えばｐＨメータを用いて水素イオン濃度を測定し、該当物質の濃度と水素イオン濃度から算出することができる。
【００５１】
また、熱潜在性酸性基としては、加熱により酸性の官能基を生じる基であればよく、その具体例としては、スルホニウム塩基、ベンゾチアゾリウム塩基、アンモニウム塩基、ホスホニウム塩基、ブロックカルボン酸基等（商品名「ノフキュアＴＮ−１」「ノフキュアＴＮ−２」、日油社製）が挙げられる。これらの中でも、パターンの寸法安定性が向上すること、感放射線性樹脂組成物の保管中に粘度や露光感度などの特性が変化しない、すなわち保存安定性に優れること等の観点から、ブロックカルボン酸基が好ましい。なお、ブロックカルボン酸基を得るために用いられるカルボキシ基のブロック化剤は特に限定されないが、ビニルエーテル化合物であることが好ましい。
【００５２】
また、酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）は、酸性基及び熱潜在性酸性基以外の置換基を有していてもよい。
このような置換基としては、アルキル基、アリール基等の炭化水素基のほか、ハロゲン原子；アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ヘテロ環オキシ基；アルキル基又はアリール基又は複素環基で置換されたアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基；アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基；等のプロトンを有しない極性基、これらのプロトンを有しない極性基で置換された炭化水素基、等を挙げることができる。
【００５３】
このような酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）のうち、酸性基有する化合物の具体例としては、メタン酸、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、グリコール酸、グリセリン酸、エタン二酸（「シュウ酸」ともいう。）、プロパン二酸（「マロン酸」ともいう。）、ブタン二酸（「コハク酸」ともいう。）、ペンタン二酸、ヘキサン二酸（「アジピン酸」ともいう。）、１、２―シクロヘキサンジカルボン酸、２−オキソプロパン酸、２−ヒドロキシブタン二酸、２−ヒドロキシプロパントリカルボン酸、メルカプトこはく酸、ジメルカプトこはく酸、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、１，２，３−トリメルカプトプロパン、２，３，４−トリメルカプト−１−ブタノール、２，４−ジメルカプト−１，３−ブタンジオール、１，３，４−トリメルカプト−２−ブタノール、３，４−ジメルカプト−１，２−ブタンジオール、１，５−ジメルカプト−３−チアペンタン等の脂肪族化合物；
【００５４】
安息香酸、ｐ−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、o−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、２−ナフタレンカルボン酸、メチル安息香酸、ジメチル安息香酸、トリメチル安息香酸、３−フェニルプロパン酸、ジヒドロキシ安息香酸、ジメトキシ安息香酸、ベンゼン−１，２−ジカルボン酸（「フタル酸」ともいう。）、ベンゼン−１，３−ジカルボン酸（「イソフタル酸」ともいう。）、ベンゼン−１，４−ジカルボン酸（「テレフタル酸」ともいう。）、ベンゼン−１，２，３−トリカルボン酸、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ベンゼン−１，３，５−トリカルボン酸、ベンゼンヘキサカルボン酸、ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸、２−(カルボキシメチル)安息香酸、３−(カルボキシメチル)安息香酸、４−(カルボキシメチル)安息香酸、２−(カルボキシカルボニル)安息香酸、３−(カルボキシカルボニル)安息香酸、４−(カルボキシカルボニル)安息香酸、２−メルカプト安息香酸、４−メルカプト安息香酸、ジフェノール酸、２−メルカプト−６−ナフタレンカルボン酸、２−メルカプト−７−ナフタレンカルボン酸、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，４−ナフタレンジチオール、１，５−ナフタレンジチオール、２，６−ナフタレンジチオール、２，７−ナフタレンジチオール、１，２，３−トリメルカプトベンゼン、１，２，４−トリメルカプトベンゼン、１，３，５−トリメルカプトベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン等の芳香族化合物；
【００５５】
ニコチン酸、イソニコチン酸、２−フロ酸、ピロール−２，３−ジカルボン酸、ピロール−２，４−ジカルボン酸、ピロール−２，５−ジカルボン酸、ピロール−３，４−ジカルボン酸、イミダゾール−２，４−ジカルボン酸、イミダゾール−２，５−ジカルボン酸、イミダゾール−４，５−ジカルボン酸、ピラゾール−３，４−ジカルボン酸、ピラゾール−３，５−ジカルボン酸等の窒素原子を含む五員複素環化合物；チオフェン−２，３−ジカルボン酸、チオフェン−２，４−ジカルボン酸、チオフェン−２，５−ジカルボン酸、チオフェン−３，４−ジカルボン酸、チアゾール−２，４−ジカルボン酸、チアゾール−２，５−ジカルボン酸、チアゾール−４，５−ジカルボン酸、イソチアゾール−３，４−ジカルボン酸、イソチアゾール−３，５−ジカルボン酸、１，２，４−チアジアゾール−２，５−ジカルボン酸、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジカルボン酸、３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−チアジアゾール、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、３，５−ジメルカプト−１，２，４−チアジアゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、３−（５−メルカプト−１，２，４−チアジアゾール−３−イルスルファニル）こはく酸、２−（５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール−２−イルスルファニル）こはく酸、（５−メルカプト−１，２，４−チアジアゾール−３−イルチオ）酢酸、（５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール−２−イルチオ）酢酸、３−（５−メルカプト−１，２，４−チアジアゾール−３−イルチオ）プロピオン酸、２−（５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール−２−イルチオ）プロピオン酸、３−（５−メルカプト−１，２，４−チアジアゾール−３−イルチオ）コハク酸、２−（５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール−２−イルチオ）コハク酸、４−（３−メルカプト−１，２，４−チアジアゾール−５−イル）チオブタンスルホン酸、４−（２−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール−５−イル）チオブタンスルホン酸等の窒素原子と硫黄原子を含む五員複素環化合物；
【００５６】
ピリジン−２，３−ジカルボン酸、ピリジン−２，４−ジカルボン酸、ピリジン−２，５−ジカルボン酸、ピリジン−２，６−ジカルボン酸、ピリジン−３，４−ジカルボン酸、ピリジン−３，５−ジカルボン酸、ピリダジン−３，４−ジカルボン酸、ピリダジン−３，５−ジカルボン酸、ピリダジン−３，６−ジカルボン酸、ピリダジン−４，５−ジカルボン酸、ピリミジン−２，４−ジカルボン酸、ピリミジン−２，５−ジカルボン酸、ピリミジン−４，５−ジカルボン酸、ピリミジン−４，６−ジカルボン酸、ピラジン−２，３−ジカルボン酸、ピラジン−２，５−ジカルボン酸、ピリジン−２，６−ジカルボン酸、トリアジン−２，４−ジカルボン酸、２−ジエチルアミノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン、２−ジプロピルアミノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン、２−ジブチルアミノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン、２−アニリノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン等の窒素原子を含む六員複素環化合物；が挙げられる。
これらの中でも、得られる有機絶縁膜の密着性を高めることができるという観点から、酸性基を有する化合物における酸性基の数は、２つ以上であることが好ましい。
【００５７】
また、酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）のうち、熱潜在性酸性基を有する化合物の具体例としては、前述の酸性基有する化合物の酸性基を熱潜在性酸性基に変換した化合物を挙げられる。例えば、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸のカルボキシ基をブロックカルボン酸基に変換して得られる１，２，４−ベンゼントリカルボン酸トリス（１−プロポキシエチル）などを熱潜在性酸性基を有する化合物として用いることができる。得られる樹脂膜の密着性をより高めることができるという観点から、熱潜在性酸性基を有する化合物における熱潜在性酸性基の数は、２つ以上であることが好ましい。
【００５８】
感放射線性樹脂組成物中における酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）の含有量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．１〜５０重量部、より好ましくは１〜４５重量部、さらに好ましくは２〜４０重量部、さらに好ましくは３〜３０重量部の範囲である。酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）の使用量を上記範囲とすることで、感放射線性樹脂組成物を液状安定性に優れたものとすることができる。
【００５９】
また、感放射線性樹脂組成物は、溶剤を含有していてもよい。溶剤としては、特に限定されず、感放射線性樹脂組成物の溶剤として公知のもの、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−オクタノン、３−オクタノン、４−オクタノンなどの直鎖のケトン類；ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキサノールなどのアルコール類；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのアルコールエーテル類；ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類；セロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートなどのセロソルブエステル類；プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコール類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルなどのジエチレングリコール類；γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−カプリロラクトンなどの飽和γ−ラクトン類；トリクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミドなどの極性溶媒などが挙げられる。これらの溶剤は、単独でも２種以上を組み合わせて用いてもよい。溶剤の含有量は、重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは４００〜２，０００重量部、より好ましくは４５０〜１，６００重量部、さらに好ましくは５００〜１，２００重量部の範囲である。
【００６０】
また、本発明で用いる感放射線性樹脂組成物は、本発明の効果が阻害されない範囲であれば、所望により、界面活性剤、酸性化合物、カップリング剤又はその誘導体、増感剤、潜在的酸発生剤、酸化防止剤、光安定剤、消泡剤、顔料、染料、フィラー等のその他の配合剤；等を含有していてもよい。これらのうち、たとえば、界面活性剤、カップリング剤又はその誘導体、増感剤、酸化防止剤、光安定剤は、たとえば、特開２０１１−７５６０９号公報に記載されたものなどを用いることができる。
【００６１】
本発明で用いる感放射線性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されず、上述した各成分を公知の方法により混合すればよい。
混合の方法は特に限定されないが、上述した各成分を、溶剤に溶解又は分散して得られる溶液又は分散液を混合するのが好ましい。これにより、感放射線性樹脂組成物は、溶液又は分散液の形態で得られる。
【００６２】
上述した各成分を溶剤に溶解又は分散する方法は、常法に従えばよい。具体的には、攪拌子とマグネティックスターラーを使用した攪拌、高速ホモジナイザー、ディスパー、遊星攪拌機、二軸攪拌機、ボールミル、三本ロール等を使用して行なうことができる。また、各成分を溶剤に溶解又は分散した後に、例えば、孔径が０．５μｍ程度のフィルター等を用いて濾過してもよい。
【００６３】
感放射線性樹脂組成物の固形分濃度は、通常、１〜７０重量％、好ましくは５〜６０重量％、より好ましくは１０〜５０重量％である。固形分濃度がこの範囲にあれば、溶解安定性、塗布性や形成される樹脂膜の膜厚均一性、平坦性等が高度にバランスされ得る。
【００６４】
（有機エレクトロルミネッセンス素子）
次いで、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子について、説明する。図１は、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す断面図である。図１に示すように、本発明の一例に係る有機エレクトロルミネッセンス素子１は、複数の薄膜トランジスタ３を備える基板２上に、複数の薄膜トランジスタ３上に形成された平坦化膜４、及び平坦化膜４の厚み方向を貫通して形成されたスルーホール内の貫通電極（アノード）５と、貫通電極５の上（薄層トランジスタとは反対側の面）に当接する有機発光層７，８，９と、隣接する有機発光層7，8，9間を分離する画素分離膜６と、画素分離膜６および有機発光層７，８，９の上側面を全て覆うように形成され、貫通電極５の対向電極として機能する電極（カソード）１０と、を備えている。有機エレクトロルミネッセンス素子１においては、薄膜トランジスタ３と、貫通電極５と、各有機発光層７，８，９と、電極１０とが導通しており、薄膜トランジスタ３により、各有機発光層７，８，９のＯＮ／ＯＦＦが切替えられ、これにより、各種表示を行うようになっている。なお、各有機発光層７，８，９は、たとえば、赤色の有機発光層、緑色の有機発光層、及び青色の有機発光層にそれぞれ対応するようにできる。この場合には、隣接する有機発光層７，８，９は、互いに発光波長が相違するものとなる。
【００６５】
基板２としては、特に限定されず、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、脂環式オレフィンポリマーなどの柔軟性のあるプラスチック基板、石英、ソーダガラス、無機アルカリガラスなどのガラス基板、シリコンウェハーなどのシリコン基板などを挙げることができる。
【００６６】
薄膜トランジスタ３としては、特に限定されず、公知の薄膜トランジスタを制限なく用いることができる。
【００６７】
貫通電極５としては、たとえば、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）などの導電性材料（透明導電材料等）で形成することができる。
【００６８】
有機発光層７，８，９としては、特に限定されず、公知の有機エレクトロルミネッセンス材料を用いて形成することができる。
電極１０としては、例えばアルミニウムなどの導電性材料で形成することができる。
【００６９】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子１は、平坦化膜４及び画素分離膜６のうち、少なくとも一方が、上述した感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜により形成されている。本発明においては、平坦化膜４及び画素分離膜６のうち、少なくとも一方を、上述した感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜により形成することにより、有機エレクトロルミネッセンス素子１の信頼性、特に長時間電流を印加した際における信頼性を優れたものとすることが可能となる。なお、本発明においては、平坦化膜４及び画素分離膜６のうち、少なくとも一方を、上述した感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜により形成すればよいが、平坦化膜４及び画素分離膜６の両方を、上述した感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜により形成してもよい。
【００７０】
平坦化膜４は、通常、有機エレクトロルミネッセンス素子１の表面を平坦化するために設けられる層であり、図１に示すように、その厚み方向を貫通した状態で、貫通電極５が形成されることとなる。
【００７１】
また、画素分離膜６は、図１に示すように、隣接する有機発光層７，８，９間を分離するための層であり、各有機発光層７，８，９の周囲を囲むように形成される。
【００７２】
平坦化膜４及び画素分離膜６のうち、少なくとも一方を、上述した感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜により形成する場合における、形成方法としては、特に限定されず、例えば、塗布法やフィルム積層法等の方法を用いることができる。
【００７３】
塗布法は、例えば、感放射線性樹脂組成物を、基板２上（平坦化膜４の場合）又は平坦化膜４上（画素分離膜６の場合）に塗布した後、加熱乾燥して溶剤を除去する方法である。感放射線性樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ドクターブレード法、回転塗布法、バー塗布法、スクリーン印刷法等の各種の方法を採用することができる。加熱乾燥条件は、各成分の種類や配合割合に応じて異なるが、通常、３０〜１５０℃、好ましくは６０〜１２０℃で、通常、０．５〜９０分間、好ましくは１〜６０分間、より好ましくは１〜３０分間で行なえばよい。
【００７４】
フィルム積層法は、感放射線性樹脂組成物を、樹脂フィルムや金属フィルム等のＢステージフィルム形成用基材上に塗布した後に加熱乾燥により溶剤を除去してＢステージフィルムを得、次いで、このＢステージフィルムを、基板２上（平坦化膜４の場合）又は平坦化膜４上（画素分離膜６の場合）に積層する方法である。加熱乾燥条件は、各成分の種類や配合割合に応じて適宜選択することができるが、加熱温度は、通常、３０〜１５０℃であり、加熱時間は、通常、０．５〜９０分間である。フィルム積層は、加圧ラミネータ、プレス、真空ラミネータ、真空プレス、ロールラミネータ等の圧着機を用いて行なうことができる。
【００７５】
平坦化膜４及び画素分離膜６の厚さは、特に限定されないが、好ましくは０．１〜１００μｍ、より好ましくは０．５〜５０μｍ、さらに好ましくは０．５〜３０μｍである。
【００７６】
また、感放射線性樹脂組成物は、上述したように架橋剤（Ｃ）を含むため、基板２上（平坦化膜４の場合）又は平坦化膜４上（画素分離膜６の場合）に形成した後に、架橋反応を行なうことができる。このような架橋は、架橋剤（Ｃ）の種類に応じて適宜方法を選択すればよいが、通常、加熱により行なう。加熱方法は、例えば、ホットプレート、オーブン等を用いて行なうことができる。加熱温度は、通常、１８０〜２５０℃であり、加熱時間は、平坦化膜４及び画素分離膜６の面積や厚さ、使用機器等により適宜選択され、例えばホットプレートを用いる場合は、通常、５〜６０分間、オーブンを用いる場合は、通常、３０〜９０分間の範囲である。加熱は、必要に応じて不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。不活性ガスとしては、酸素を含まず、かつ、平坦化膜４及び画素分離膜６を酸化させないものであればよく、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン等が挙げられる。これらの中でも窒素とアルゴンが好ましく、特に窒素が好ましい。特に、酸素含有量が０．１体積％以下、好ましくは０．０１体積％以下の不活性ガス、特に窒素が好適である。これらの不活性ガスは、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７７】
また、平坦化膜４及び画素分離膜６は、パターン化されていてもよい。たとえば、平坦化膜４であれば、図１に示すように、その厚み方向に貫通する貫通電極５を形成するためのスルーホールを形成するために、後述するようなパターン化を用いることができる。また、画素分離膜６であれば、図１に示すように、有機発光層７，８，９を形成するための発光エリアを形成するために、後述するようなパターン化を用いることができる。
【００７８】
平坦化膜４及び画素分離膜６をパターン化する方法としては、例えば、パターン化前の樹脂膜に活性放射線を照射して潜像パターンを形成し、次いで潜像パターンを有する樹脂膜に現像液を接触させることによりパターンを顕在化させる方法などが挙げられる。
【００７９】
活性放射線としては、感放射線性樹脂組成物に含有される感放射線化合物（Ｂ）を活性化させ、感放射線化合物（Ｂ）を含む感放射線性樹脂組成物のアルカリ可溶性を変化させることができるものであれば特に限定されない。具体的には、紫外線、ｇ線やｉ線等の単一波長の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光等の光線；電子線のような粒子線；等を用いることができる。これらの活性放射線を選択的にパターン状に照射して潜像パターンを形成する方法としては、常法に従えばよく、例えば、縮小投影露光装置等により、紫外線、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光等の光線を所望のマスクパターンを介して照射する方法、又は電子線等の粒子線により描画する方法等を用いることができる。活性放射線として光線を用いる場合は、単一波長光であっても、混合波長光であってもよい。照射条件は、使用する活性放射線に応じて適宜選択されるが、例えば、波長２００〜４５０ｎｍの光線を使用する場合、照射量は、通常１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であり、照射時間と照度に応じて決まる。このようにして活性放射線を照射した後、必要に応じ、樹脂膜を６０〜１３０℃程度の温度で１〜２分間程度加熱処理する。
【００８０】
次に、パターン化前の樹脂膜に形成された潜像パターンを現像して顕在化させる。現像液としては、通常、アルカリ性化合物の水性溶液が用いられる。アルカリ性化合物としては、例えば、アルカリ金属塩、アミン、アンモニウム塩を使用することができる。アルカリ性化合物は、無機化合物であっても有機化合物であってもよい。これらの化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム等のアルカリ金属塩；アンモニア水；エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第一級アミン；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン等の第二級アミン；トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三級アミン；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリン等の第四級アンモニウム塩；ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン；ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、Ｎ−メチルピロリドン等の環状アミン類；等が挙げられる。これらアルカリ性化合物は、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８１】
アルカリ水性溶液の水性媒体としては、水；メタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤を使用することができる。アルカリ水性溶液は、界面活性剤等を適当量添加したものであってもよい。
潜像パターンを有する樹脂膜に現像液を接触させる方法としては、例えば、パドル法、スプレー法、ディッピング法等の方法が用いられる。現像は、通常、０〜１００℃、好ましくは５〜５５℃、より好ましくは１０〜３０℃の範囲で、通常、３０〜１８０秒間の範囲で適宜選択される。
【００８２】
このようにして目的とするパターンを有する平坦化膜４及び画素分離膜６を形成した後、必要に応じて、現像残渣を除去するために、リンス液でリンスすることができる。リンス処理の後、残存しているリンス液を圧縮空気や圧縮窒素により除去する。
さらに、必要に応じて、感放射線化合物（Ｂ）を失活させるために、有機エレクトロルミネッセンス素子１が形成されている基板２全面に、活性放射線を照射することもできる。活性放射線の照射には、上記潜像パターンの形成に例示した方法を利用できる。照射と同時に、又は照射後に平坦化膜４及び画素分離膜６を加熱してもよい。加熱方法としては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子１をホットプレートやオーブン内で加熱する方法が挙げられる。温度は、通常、１００〜３００℃、好ましくは１２０〜２００℃の範囲である。
【００８３】
本発明において、平坦化膜４及び画素分離膜６は、パターン化した後に、架橋反応を行なうことができる。架橋は、上述した方法にしたがって行なえばよい。
【００８４】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、平坦化膜４及び画素分離膜６を、上述した感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜により形成するため、このような有機絶縁膜は、露光感度が高いため、比較的少ない露光量でパターン化することができ、そのため、生産性に優れ、該有機絶縁膜は、耐熱形状保持性に優れているため、所望のパターン形状を適切に形成することができる。加えて、本発明によれば、平坦化膜４及び画素分離膜６を、上述した感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜により形成することで、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子を、信頼性（特に長時間電流を印加した際における信頼性）に優れたものとすることができるものである。
【００８５】
なお、上記においては、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子として、図１に示すように、画素分離膜６を備えるような構成を例示したが、このような構成に特に限定されず、たとえば、画素分離膜６を備えないような構成であってもよい。この場合には、平坦化膜４のみを、上述した感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜で形成すればよい。
【実施例】
【００８６】
以下に、実施例及び比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。各例中の「部」及び「％」は、特に断りのない限り、重量基準である。
なお、各特性の定義及び評価方法は、以下のとおりである。
【００８７】
＜露光感度＞
ガラス基板（ コーニング社、製品名コーニング１７３７ ） 上に、感放射線性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、ホットプレートを用いて１１０ ℃ で２分間加熱乾燥（プリベーク）して、膜厚１．５μｍの樹脂膜を形成した。次いで、樹脂膜をパターニングするために、１０．０μｍのラインアンドスペースパターンを形成可能なマスクを用いて、５０ ｍＪ／ｃｍ２から２００ｍＪ／ｃｍ２まで２５ｍＪ／ｃｍ２ごとに露光量を変化させることにより、露光工程を行った。次いで、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、２５℃で膜厚が１．１μｍとなるように時間を調整して現像処理を行ったのち、超純水で３０秒間リンスすることにより、露光量の異なるラインアンドスペースを有する樹脂膜と、ガラス基板とからなる積層体を得た。
【００８８】
そして、光学顕微鏡を用いて、得られた積層体のライン及びスペースの形成部分を観察し、各露光量で露光された部分の樹脂膜のライン及びスペースの長さをそれぞれ測定した。そして、各露光量と、対応する露光量において形成された樹脂膜のライン及びスペースの長さの関係から近似曲線を作成し、ライン及びスペースが１０μｍとなる時の露光量を算出し、その露光量を露光感度として算出した。ライン及びスペースが１０μｍとなる時の露光量が低いほど、低いエネルギーで、又は短い時間でパターンを形成できることができるため、好ましい。
【００８９】
＜耐熱形状保持性（パターン寸法耐熱性）＞
上述した露光感度の測定と同様の方法で、感放射線性樹脂組成物を用いて、基板上に、１０μｍのラインアンドスペースパターンを形成し、その基板全面に１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光光を照射した。次いで、酸素濃度が１０分後に１％以下となるように窒素を流した２３０℃のオーブンに基板を投入し、６０分間加熱処理を行い、加熱処理後の基板のラインパターンを光学顕微鏡にて観察した。そして、加熱処理後のパターン幅と加熱前のパターン幅（１０μｍ）との差の絶対値を算出し、その値をパターン寸法耐熱性として評価した。パターン寸法耐熱性の値が小さいほど、耐熱形状保持性に優れ、加熱処理によるパターンの変形量が小さく、基板面内のパターンバラつきなどが抑えることができると判断できるため、好ましい。
【００９０】
＜有機エレクトロルミネッセンス素子の信頼性評価（有機ＥＬ素子の寿命時間）＞
表面にパターニングされた膜厚５０ｎｍ、シート抵抗５０Ω／□、表面粗さ（Ｒａ）１ｎｍのＩＴＯ透明電極膜を有するガラス基板を、紫外線−オゾン処理により表面洗浄したのちに、超純水にて５分間の超音波処理を実施し、その後、窒素を基板表面に吹き付けることによって水分を除去した。このＩＴＯ膜付きガラス基板上に、各実施例・比較例で得た感放射線性樹脂組成物をスピンコーターにより塗付し、ホットプレート上で１１０℃にて１２０秒間加熱乾燥した。次いで、露光機（「マスクアライナーＰＬＡ５０４Ｆ」、キヤノン社製）を用いて所定のパターンを有するマスクを介して露光し、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液で６０秒間パドル現像処理を実施した。その後、オーブンにて窒素を流しながら２３０℃にて６０分間加熱処理することにより、縦１０μｍ、横１００μｍの発光エリアが２ｍｍ角のエリア内に並んでおり、発光エリアの周りを厚さ１．５μｍの樹脂膜で取り囲んでなる格子状パターンを形成した。次いで、酸素ガスを用いて１００ｍＷのプラズマ処理を３分間基板上に施した。
【００９１】
次いで、格子状パターンを形成した基板を、市販の蒸着装置（日本真空技術社製）の基板ホルダーに固定し、真空層を１×１０−４Ｐａまで減圧した。その後、加熱ボートに設置した材料を真空蒸着することで、格子状パターンを形成した基板の発光エリアに、以下に説明する複数の層を製膜した。
すなわち、まず、酸化モリブデン層を約０．７５ｎｍの厚みで製膜した。次いで、Ｎ、Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ、Ｎ’−ジフェニルベンジジン（α―ＮＰＤ）を約９０ｎｍ、トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（III）（Ａｌｑ）を約７０ｎｍ、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を約０．８ｎｍ、アルミニウム（Ａｌ）を約１００ｎｍ製膜した。そして、最後に、ゲッター剤付きガラスキャップを、シール剤を用いて接着することで、有機エレクトロルミネッセンス素子サンプルを作製した。
【００９２】
そして、このようにして得られた有機エレクトロルミネッセンス素子サンプルについて、発光特性経時変化評価システム（「ＥＬＳ−１０８」、イーエッチシー社製）を用いて、８０℃の雰囲気下で定電流駆動（５０ｍＡ／ｃｍ２）によってパネルを発光させた時の寿命特性の評価を行った。評価は、有機発光層の輝度が初期の８０％になるまでの駆動時間を、寿命時間とし、この駆動時間が長いほど、発光寿命が長く、信頼性が高いといえる。
【００９３】
《合成例１》
ｐ−ｔ−ブトキシスチレン５０部、メタクリル酸メチル５０部及び重合開始剤としてのアゾビスイソブチロニトリル４部を、溶剤としてのプロピレングリコールモノメチルエーテル１５０部に溶解させ、窒素雰囲気下、反応温度を７０℃に保持して、１０時間重合させた。そして、反応溶液に硫酸を加えて反応温度を９０℃に保持して１０時間反応させ、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン単位を脱保護してｐ−ビニルフェノール単位に変換した。そして、得られた共重合体に酢酸エチルを加え、水洗を５回繰り返し、酢酸エチル相を分取し、溶剤を除去することで、ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−１）を得た。得られた共重合体（Ａ１−１）における、各単量体単位の比率は、ｐ−ビニルフェノール単位：メタクリル酸メチル単位＝５０：５０（重量比）であった。重量平均分子量（Ｍｗ）は９６００であった。
【００９４】
《合成例２》
ｐ−ｔ−ブトキシスチレンの配合量を５０部から７５部に、メタクリル酸メチルの配合量を５０部から２５部に、それぞれ変更した以外は、合成例１と同様にして、ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−２）を得た。得られた共重合体（Ａ１−２）における、各単量体単位の比率は、ｐ−ビニルフェノール単位：メタクリル酸メチル単位＝７５：２５（重量比）であった。重量平均分子量（Ｍｗ）は６４８０であった。
【００９５】
《合成例３》
ｐ−ｔ−ブトキシスチレンの配合量を５０部から１００部に変更し、メタクリル酸メチルを配合しなかった以外は、合成例１と同様にして、ｐ−ビニルフェノールの単独重合体（Ａ２−１）を得た。重量平均分子量（Ｍｗ）は９４００であった。
【００９６】
《合成例４》
メタクリル酸メチル５０部の代わりに、メタクリル酸ｎ−ブチル５０部を使用した以外は、合成例１と同様にして、ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸ｎ−ブチルとの共重合体（Ａ１−３）を得た。得られた共重合体（Ａ１−３）における、各単量体単位の比率は、ｐ−ビニルフェノール単位：メタクリル酸ｎ−ブチル単位＝５０：５０（重量比）であった。重量平均分子量（Ｍｗ）は１１０００であった。
【００９７】
《合成例５》
メタクリル酸メチル５０部の代わりに、スチレン５０部を使用した以外は、合成例１と同様にして、ｐ−ビニルフェノールとスチレンとの共重合体（Ａ１−４）を得た。得られた共重合体（Ａ１−４）における、各単量体単位の比率は、ｐ−ビニルフェノール単位：スチレン単位＝５０：５０（重量比）であった。重量平均分子量（Ｍｗ）は４７００であった。
【００９８】
《実施例１》
合成例１で得られたｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−１）１００部、感放射線化合物（Ｂ）としての４,４’−[１-[４−[１−(４−ヒドロキシフェニル)−１−メチルエチル]フェニル］エチリデン］ビスフェノールと６−ジアゾ−５,６−ジヒドロ−５−オキソ−ナフタレン−1−スルホン酸とのエステル体（２モル体）（商品名「ＴＳ−２００」、東洋合成工業株式会社製）１５部、同じく感放射線化合物（Ｂ）としての２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと６−ジアゾ−５，６−ジヒドロ−５−オキソ−ナフタレン−１−スルホン酸とのエステル体（３モル体）（商品名「４ＮＴ−３００」、東洋合成工業株式会社製）２５部、架橋剤（Ｃ）としての２，２−ビス（ヒドロキシメチル）１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物（商品名「ＥＨＰＥ３１５０」、ダイセル化学工業社製、シクロヘキサン骨格及び末端エポキシ基を有する１５官能性の脂環式エポキシ樹脂）３０部、同じく架橋剤（Ｃ）としてのエポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトン（商品名「エポリードＧＴ４０１」、ダイセル化学工業社製、脂肪族環状４官能性のエポキシ樹脂））２０部、及び溶剤としてのジエチレングリコールエチルメチルエーテル６３０部を混合することにより、感放射線性樹脂組成物を得た。感放射線性樹脂組成物の固形分濃度は、２３〜２４重量％の間になるように調整を行った（以下の実施例も同じ）。
【００９９】
そして、得られた感放射線性樹脂組成物を用いて、上記した方法にしたがい、樹脂膜の露光感度及び耐熱形状保持性、ならびに、有機エレクトロルミネッセンス素子の信頼性の各測定・評価を行った。結果を表１に示す。この際、平坦化膜４の膜厚は４．０μｍ、画素分離膜６の膜厚は１．５μｍになるように製膜した（以下の実施例も同じ）。
【０１００】
《実施例２》
ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−１）１００部の代わりに、合成例２で得られたｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−２）１００部を用いた以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０１】
《実施例３》
ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−１）の配合量を１００部から８０部に変更し、かつ、合成例３で得られたｐ−ビニルフェノールの単独重合体（Ａ２−１）２０部をさらに配合した以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０２】
《実施例４》
ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−１）の配合量を１００部から６０部に変更し、かつ、合成例３で得られたｐ−ビニルフェノールの単独重合体（Ａ２−１）４０部をさらに配合した以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０３】
《実施例５》
ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−１）１００部の代わりに、合成例４で得られたｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸ｎ−ブチルとの共重合体（Ａ１−３）１００部を用いた以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０４】
《実施例６》
架橋剤（Ｃ）としてのエポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトの配合量を５０部とし、かつ、架橋剤（Ｃ）としての２，２−ビス（ヒドロキシメチル）１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物を配合しなかった以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０５】
《実施例７》
酸性基又は熱潜在性酸性基を有する化合物（Ｄ）としてのブロックカルボン酸基含有化合物（「ノフキュアＴＮ−１」、日油社製）５部をさらに配合した以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０６】
《比較例１》
ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−１）１００部の代わりに、合成例３で得られたｐ−ビニルフェノールの単独重合体（Ａ２−１）１００部を用いた以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０７】
《比較例２》
ｐ−ビニルフェノールとメタクリル酸メチルとの共重合体（Ａ１−１）１００部の代わりに、合成例５で得られたｐ−ビニルフェノールとスチレンとの共重合体（Ａ１−４）１００部を用いた以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を得て、同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０８】
【表１】
2014029766.tif 000006
【０１０９】
表１に示すように、実施例１〜７の結果より、上記一般式（１）で表される構造単位と、上記一般式（２）で表される構造単位とを有する重合体（Ａ１）を含有する重合体（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）及び架橋剤（Ｃ）を含有する感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜は、露光感度が高く、パターン寸法耐熱性（耐熱形状保持性）に優れ、さらには、有機エレクトロルミネッセンス素子の画素分離膜として用いた場合に、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子は、寿命時間が長く、高い信頼性を有するものであった。なお、本実施例では、パターン寸法耐熱性は、ラインアンドスペースパターンを形成したもので評価したが、スルーホールを形成した場合でも、同様に良好な結果が得られると予想できる。さらに、本実施例では、感放射線性樹脂組成物からなる有機絶縁膜を画素分離膜として用いた場合の評価を行ったが、平坦化膜として用いた場合でも、同様に良好な結果が得られると予想できる。
【０１１０】
一方、上記一般式（２）で表される構造単位のみを有する重合体のみを用いた比較例１では、得られる有機絶縁膜は、露光感度が低く、パターン寸法耐熱性（耐熱形状保持性）に劣り、さらには、有機エレクトロルミネッセンス素子の画素分離膜として用いた場合に、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子は、寿命時間が短く、信頼性に劣るものであった。
さらに、上記一般式（２）で表される構造単位と、スチレンとの共重合体を用いた比較例２においても、得られる有機絶縁膜は、露光感度が低く、パターン寸法耐熱性（耐熱形状保持性）に劣り、さらには、有機エレクトロルミネッセンス素子の画素分離膜として用いた場合に、得られる有機エレクトロルミネッセンス素子は、寿命時間が短く、信頼性に劣るものであった。
【符号の説明】
【０１１１】
１…有機エレクトロルミネッセンス素子
２…基板
３…薄膜トランジスタ
４…平坦化膜
５…貫通電極
６…画素分離膜
７，８，９…有機発光層
１０…電極
【図１】
2014029766.tif 000010