(57)【要約】【課題】本発明は、高い透明性を保持しつつも、導電性に優れた導電積層体を提供せんとするものである。【解決手段】基材の少なくとも片面に、線状金属構造体からなる導電成分がネットワーク構造を形成して存在する導電層を有し、前記線状金属構造体が、局所的に曲がっており、かつ、その局所的に曲がっている箇所においてお互いに接触していることを特徴とする導電積層体である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも片面に、線状金属構造体からなる導電成分がネットワーク構造を形成して存在する導電層を有し、前記線状金属構造体が、局所的に曲がっており、かつ、その局所的に曲がっている箇所においてお互いに接触していることを特徴とする導電積層体。
【請求項２】
請求項１に記載の導電積層体の製造方法であって、プレス処理を含み、該プレス処理のプレス面圧が０．４ＭＰａ以上であることを特徴とする導電積層体の製造方法。
【請求項３】
プレス処理におけるプレス温度が１００℃以下である請求項２に記載の導電積層体の製造方法。
【請求項４】
プレスの方法がロールプレスであって、搬送速度が１００ｍ／分以下、プレス線圧が２Ｎ／ｃｍ以上、導電層側のロールが金属ロール、バックアップロールが硬度Ｄ−３０以上の樹脂ロールである請求項２または３に記載の導電積層体の製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載の導電積層体、または、請求項２〜４のいずれかに記載の導電積層体の製造方法により得られる導電積層体を用いた表示体。
【請求項６】
請求項５に記載の表示体を用いたタッチパネル。
【請求項７】
請求項５に記載の表示体を用いた電子ペーパー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、線状金属構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分と、マトリックスとからなる導電層を配置した導電積層体に関する。さらに詳しくは、タッチパネル等に組み込んだ際の表示画像を鮮明にすることができる導電積層体に関するものである。またさらに、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどのディスプレイ関連および太陽電池モジュールなどに使用される電極部材にも使用される導電積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどのディスプレイ関連や太陽電池モジュールなどには電極用の導電部材が使用されている。
【０００３】
導電部材としては基材上に導電層を積層したものがあり、その導電層としては酸化インジウム錫（以下ＩＴＯと略す。）や金属薄膜、等の従来の導電性薄膜を用いたものの他に、カーボンナノチューブ（以下ＣＮＴと略す。）や金属系ナノワイヤーなどの線状の導電成分を用いたものが提案されている。例えば、ＣＮＴを導電成分とし紫外線硬化樹脂を混合した塗料を基材上に積層した導電積層体が提案されている（特許文献１）。また、金属系ナノワイヤーを導電成分とした導電層上に樹脂層を積層した導電積層体が提案されている（特許文献２）。さらに、透明導電膜の接点を圧着することにより、導電性を向上させた導電積層体が提案されている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開２００５／１０４１４１号パンフレット
【特許文献２】特表２００９−５０５３５８号公報
【特許文献３】国際公開２００９／０３５０５９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載されている導電積層体は、低い表面抵抗値（高い導電性）を達成するためには、ＣＮＴの含有量を高くする必要があり、光の吸収が大きくなることから、画像の鮮明さが低く、一方、特許文献２に記載されている導電積層体は導電性の高い線状金属構造体を導電材料として使用しているため低い表面抵抗値（高い導電性）を有するものの、画像の鮮明さに欠けていた。特許文献３に記載されている導電積層体は圧着により、接点抵抗は低下しているものの、透明導電性が不十分であった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような構成を採用する。すなわち、
（１）基材の少なくとも片面に、線状金属構造体からなる導電成分がネットワーク構造を形成して存在する導電層を有し、前記線状金属構造体が、局所的に曲がっており、かつ、その局所的に曲がっている箇所においてお互いに接触していることを特徴とする導電積層体。
（２）（１）に記載の導電積層体の製造方法であって、プレス処理を含み、該プレス処理のプレス面圧が０．４ＭＰａ以上であることを特徴とする導電積層体の製造方法。
（３）プレス処理における処理温度が１００℃以下である（２）に記載の導電積層体の製造方法。
（４）プレスの方法がロールプレスであって、搬送速度が１００ｍ／分以下、プレス線圧が２Ｎ／ｃｍ以上、導電層側のロールが金属ロール、バックアップロールが硬度Ｄ−３０以上の樹脂ロールである（２）または（３）に記載の導電積層体の製造方法。
（５）前記（１）記載の導電積層体、または、（２）〜（４）のいずれかに記載の導電積層体の製造方法により得られる導電積層体、を用いた表示体。
（６）前記（５）に記載の表示体を用いたタッチパネル。
（７）前記（５）に記載の表示体を用いた電子ペーパー。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、高い透明性を保持しつつも、導電性に優れた導電積層体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の線状金属構造体の横断面を撮影したＦＩＢ−ＳＥＭ画像の一例である。
【図２】本発明の線状金属構造体の横断面を示す模式図である。
【図３】本発明の一様態であるタッチパネルの一例を示す断面模式図である。
【図４】本発明の一様態である電子ペーパーの一例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［導電成分］
本発明の導電積層体は、基材の少なくとも片面に、線状金属構造体からなる導電成分がネットワーク構造を形成して存在する導電層を有し、前記線状金属構造体が、局所的に曲がっており、かつ、その局所的に曲がっている箇所においてお互いに接触していることを特徴とする。
【００１０】
本発明における導電層中に存在する導電成分は、線状金属構造体（いわゆる金属系ナノワイヤーとして知られているもの）からなり、ネットワーク構造を形成して存在するものである。
【００１１】
本発明における線状金属構造体の材質は金属、合金、金属酸化物、金属窒化物、金属水酸化物、等の金属成分を含有するものである。かかる金属成分を構成する金属としては、元素の短周期型周期律表におけるＩＩＡ属、ＩＩＩＡ属、ＩＶＡ属、ＶＡ属、ＶＩＡ属、ＶＩＩＡ属、ＶＩＩＩ属、ＩＢ属、ＩＩＢ属、ＩＩＩＢ属、ＩＶＢ属またはＶＢ属に属する元素が挙げられる。具体的には、金、白金、銀、ニッケル、銅、アルミニウム、ガリウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、マンガン、アンチモン、パラジウム、ビスマス、テクネチウム、レニウム、鉄、オスミウム、コバルト、亜鉛、スカンジウム、ホウ素、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、テルル、錫、マグネシウムなどが挙げられる。合金としては、前記金属を含む合金（ステンレス鋼、黄銅、等）が挙げられる。金属酸化物としては、ＩｎＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、などが挙げられ、またこれらの金属酸化物複合体（ＩｎＯ２Ｓｎ、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ４、ＳｎＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＴｉＯ２（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、ＳｉＯ２（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、Ｋ２Ｏ−ｎＴｉＯ２−（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、Ｋ２Ｏ−ｎＴｉＯ２−Ｃなど）も挙げられる。またこれらは表面処理を施されていてもよい。さらに、有機化合物や非金属材料からなる線状構造体の表面に前記金属や金属酸化物がコーティングまたは蒸着されたものも本発明において用いられる線状金属構造体に含まれるものとする。これら線状金属構造体としては、得られる導電積層体の透明性等の光学特性や導電性等の観点から銀ナノワイヤーを特に好ましく使用することができる。
【００１２】
これら線状金属構造体は例えば、特表２００９−５０５３５８号公報、特開２００９−１４６７４７号公報、特開２００９−７０６６０号公報に開示されている製法により得ることができる。
【００１３】
また、線状金属構造体を単独、又は複数を組み合わせて混合して使用することもでき、さらに、必要に応じて他のマイクロ〜ナノサイズの導電性材料を添加してもよく、特にこれらに限定されるものではない。
【００１４】
［局所的に曲がっている線状金属構造体］
本発明の導電積層体の導電層においてネットワーク構造を形成して存在する線状金属構造体は、図１、図２に示すように局所的に曲がっており（図２の符号２のあたり）、かつ、その局所的に曲がっている箇所においてお互いに接触していることを特徴とする。ここでいう局所的に曲がっているとは、次のように定義される。線状金属構造体同士の交差箇所である交点における、線状金属構造体のＳＥＭ画像において、図２に示す交点を中心に、線状金属構造体の直径の約１００倍の画像において、線状金属構造体の両端の座標を（Xs，Ys）（Xe，Ye）、中心の座標を（Xm，Ym）とした場合、式（１）、（２）の関係を同時に満たすことをいう。局所的に曲がっており、かつ、その局所的に曲がっている箇所においてお互いに接触していることを特徴とする前記線状金属構造体を含有することで線状金属構造体の形成するネットワーク構造における接点数が増加し、導電性が向上することによって表面抵抗値が低下する。また、線状金属構造体が曲がってもう一つの線状金属構造体と接することにより、線状金属構造体が単に接している場合と比較して接触面積が増加し、表面抵抗値が低下する。さらに接点箇所における導電性の安定性も向上する。
Xe−Xs≦5μm  式（１）
Ym-（Ys+Ye）/2≧50nm  式（２）。
【００１５】
［導電層のマトリックス］
本発明において、前記導電層は、線状金属構造体とマトリックスから形成されていることが好ましい。マトリックスが存在することで、導電積層体に要求される、耐湿熱性、耐アルカリ性、耐酸性、耐擦過性などの要件を満たすことが容易となる。導電層のマトリックスを形成する材料は、重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を２個以上有する化合物が重合反応した構造を含む高分子から構成される。かかる高分子は、重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を２個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマーからなる組成物を、該炭素−炭素二重結合を反応点としてビニル重合（ジエン重合含む）することで得られる高分子化合物である。
【００１６】
炭素−炭素二重結合基を含む官能基としては、例えば、イソプロペニル基、イソペンテニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリリデン基、アリリジン基、ビニルエーテル基や、炭素−炭素二重結合基の炭素にフッ素や塩素等のハロゲン元素が結合したもの（例えば、フッ化ビニル基、フッ化ビニリデン基、塩化ビニル基、塩化ビニリデン基等）や、炭素−炭素二重結合基の炭素にフェニル基やナフチル基等の芳香環を有する置換基が結合したもの（例えばスチリル基等）や、ブタジエニル基（例えば、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−Ｃ（＝ＣＨ２）−（Ｒ１、Ｒ２はＨまたはＣＨ３））のように共役ポリエン構造を有する基、等が挙げられる。これらから要求する特性や生産性等を考慮して、１種または２種以上混合して使用すればよい。これらの中でも、耐酸性、耐アルカリ性を付与するという観点から、炭素−炭素二重結合基部分の反応性が高い、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、を好ましく使用することができる。また、炭素−炭素二重結合の周辺に立体障害が大きいメチル基（−ＣＨ３）を有するメタクリロイル基やメタクリロイルオキシ基よりも、立体障害の小さい水素（−Ｈ）を有するアクリロイル基、アクリロイルオキシ基は、得られるマトリックスがより緻密な構造を形成しやすく、耐酸性及び耐アルカリ性を付与することができることから好ましい。中でもエステル結合（−ＣＯＯ−）を有しているアクリロイルオキシ基より、安定性の高いカルボニル結合（−ＣＯ−）のみを有しているアクリロイル基の方が、より好ましい。
【００１７】
重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を２個以上有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールエトキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシトリメタクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリメタクリレート、ジトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパントリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート、グリセリンプロポキシトリメタクリレートや、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等の環状骨格を分子内に有する化合物（例えば、トリアクリレート、トリメタクリレート、テトラアクリレート、テトラメタクリレート、ペンタアクリレート、ペンタメタクリレート、ヘキサアクリレート、ヘキサメタクリレート等）や、これら化合物の一部を変性した化合物（例えば２−ヒドロキシプロパン酸等で変性した２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールトリメタクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、また、シリコーン骨格を導入したシリコーントリアクリレート、シリコーントリメタクリレート、シリコーンテトラアクリレート、シリコーンテトラメタクリレート、シリコーンペンタアクリレート、シリコーンペンタメタクリレート、シリコーンヘキサアクリレート、シリコーンヘキサメタクリレート等）や、骨格内にビニル基および／またはビニリデン基と共にその他骨格を有する化合物（例えば、ウレタン骨格を有するウレタントリアクリレート、ウレタントリメタクリレート、ウレタンテトラアクリレート、ウレタンテトラメタクリレート、ウレタンペンタアクリレート、ウレタンペンタメタクリレート、ウレタンヘキサアクリレート、ウレタンヘキサメタクリレート、エーテル骨格を有するポリエーテルトリアクリレート、ポリエーテルトリメタクリレート、ポリエーテルテトラアクリレート、ポリエーテルテトラメタクリレート、ポリエーテルペンタアクリレート、ポリエーテルペンタメタクリレート、ポリエーテルヘキサアクリレート、ポリエーテルヘキサメタクリレート、エポキシ由来の骨格を有するエポキシトリアクリレート、エポキシトリメタクリレート、エポキシテトラアクリレート、エポキシテトラメタクリレート、エポキシペンタアクリレート、エポキシペンタメタクリレート、エポキシヘキサアクリレート、エポキシヘキサメタクリレート、エステル骨格を有するポリエステルトリアクリレート、ポリエステルトリメタクリレート、ポリエステルテトラアクリレート、ポリエステルテトラメタクリレート、ポリエステルペンタアクリレート、ポリエステルペンタメタクリレート、ポリエステルヘキサアクリレート、ポリエステルヘキサメタクリレート等）が挙げられる。これらを用途や要求する特性や生産性等を考慮して、単体で重合したものもしくは単体で重合したものを２種以上混合した組成物、また２種以上が共重合した２量体以上のオリゴマーから形成される組成物等を使用することができるが、特にこれらに限定されるものではない。これら化合物のうち、重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を４個以上、すなわち４官能以上の化合物が、耐酸性、対アルカリ性付与の観点から特に好ましく用いることができる。４官能以上の化合物は、例えば、前記４官能のテトラアクリレート、テトラメタクリレート、５官能のペンタアクリレート、ペンタメタクリレート、６官能のヘキサアクリレート、ヘキサメタクリレート等が挙げられ、さらに７官能以上のものでもよい。
【００１８】
これら化合物は、具体的に市販されているものとして例えば、共栄社化学（株）製のライトアクリレートシリーズ、ライトエステルシリーズ、エポキシエステルシリーズ、ウレタンアクリレートＡＨシリーズ、ウレタンアクリレートＡＴシリーズ、ウレタンアクリレートＵＡシリーズ、ダイセル・サイテック（株）製のＥＢＥＣＲＹＬシリーズ、ＰＥＴＩＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＯＴＡ  ４８０、ＤＰＨＡ、ＰＥＴＡ−Ｋ、綜研化学（株）製のフルキュアシリーズ、東洋インキ（株）製の“ＬＩＯＤＵＲＡＳ”（リオデュラス）（登録商標）シリーズ、中国塗料（株）製のフォルシードシリーズ、マツイカガク（株）製のＥＸＰシリーズ、ダイセル・サイテック（株）製のＥＢＥＣＲＹＬ１３６０、信越化学工業（株）製のＸ−１２−２４５６シリーズ等が挙げられる。
【００１９】
［架橋層］
本発明において前記導電積層体の基材の導電層を設けた反対面に架橋層を設けることが好ましい。かかる架橋層を形成する材料としてマトリックスを形成する材料を用いることができる。架橋層を設けることにより、導電層の反対面を平滑化して導電積層体表面での散乱を抑える効果があるので好ましい。また前記以外にも、染料または顔料、またはその両方を添加することで色味を適宜調節する効果、基材より析出する可能性のある低分子化合物の析出を抑制する効果を発揮すること、また、ハードコート層として機能することにより、耐摩耗性、高表面硬度、耐溶剤性、耐汚染性等の効果を発揮することなどが挙げられる。
【００２０】
［導電層及び架橋層を基材上に形成する方法］
線状金属構造体の塗布
本発明における導電層及び架橋層を基材上に形成する方法としては、線状金属構造体やマトリックス層、及び架橋層を構成する材料の種類により最適な方法を選択すればよく、キャスト、スピンコート、ディップコート、バーコート、スプレー、ブレードコート、スリットダイコート、グラビアコート、リバースコート、スクリーン印刷、鋳型塗布、印刷転写、インクジェットなどのウエットコート法等、一般的な方法を挙げることができる。導電層の形成においては、導電層を均一に積層できかつ基材への傷が入りにくいスリットダイコート、もしくは導電層を均一にかつ生産性よく形成できるマイクログラビアを使用したウエットコート法が好ましい。尚、導電層を基材上に形成するにあたり、導電材（線状金属構造体）からなるネットワーク構造を有する導電成分を予め基材上に配置した後に、マトリックスを配置し、導電材と複合化することで導電層を形成してもよく、また、導電材とマトリックスを予め混合して導電マトリックス組成物とし、その導電マトリックス組成物を基材上に積層することでネットワーク構造を有する導電成分を含む導電層を形成してもよい。なお、後述するように線状金属構造体を局所的に曲げることが容易になるという点において、導電材（線状金属構造体）からなるネットワーク構造を有する導電成分を予め基材上に配置した後に、マトリックスを配置し、導電材と複合化することで導電層を形成する方法が好ましい。
【００２１】
また、上記導電材は、単一の素材からなるものでもよいし、複数の素材の混合物であってもよい。マトリックス層、及び架橋層も同様に、単一の素材からなるものでもよいし、複数の素材の混合物であってもよい。
【００２２】
本発明の導電積層体における導電層のマトリックスを形成する材料を硬化する方法として、加熱硬化や、紫外光、可視光、電子線等の活性電子線の照射による光硬化（以降、光硬化と記す）が挙げられる。加熱硬化の場合は、硬化開始温度に系全体を加熱するのに時間を要する一方、光硬化の場合は、後述するような光硬化の開始剤（以降、光開始剤と記す）を含有させ、そこに活性電子線を照射することで系全体に同時に活性種を発生させることができるため、硬化開始に要する時間を短縮できることから、硬化時間も短縮できる。かかる理由から光硬化がより好ましい。ここで、光開始剤とは、紫外領域の光、可視領域の光、電子線等の活性電子線を吸収し、反応を開始させる活性種であるラジカル種、カチオン種、アニオン種等の活性種を生成し、化学反応を開始させる物質である。
【００２３】
使用可能な光開始剤としては例えば、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１などのα−ヒドロキシケトン系やα−アミノケトン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、メチルフェニルグリオキシレートなどが挙げられ、極大吸収波長の値、吸光度、色見、着色度合い等の観点から、これら光開始剤のうち１または２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００２４】
かかる光開始剤の、市販品としては、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとしてＣｉｂａ  ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（チバ・ジャパン（株）製）、２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンとしてＣｉｂａ  ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７（チバ・ジャパン（株）製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＣｉｂａ  ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）３６９（チバ・ジャパン（株）製）等が挙げられる。
【００２５】
［線状金属構造体を局所的に曲げる方法］
本発明における線状金属構造体を局所的に曲げる方法としては線状金属構造体に対し、プレス処理を施すことで線状金属構造体同士の交点、基材上または導電層内部に存在する粒子との接触点において屈曲させる方法等が挙げられる。プレス処理の方法としては、枚葉のプレス機によって線状金属構造体が形成された基材ごとプレスする方法、線状金属構造体が形成された基材を２本のロールでニップし、連続的にプレス処理を施す方法（以下、ロールツーロールプレス）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。尚、均一かつ連続的に生産性よくプレス処理を施すことができる点から、ロールツーロールプレスが好ましい。また、これらのプレス処理はマトリックスを配置する前であっても配置した後であってもよいが、線状金属構造体に圧力が伝わり易くプレス処理が容易であるという点から、マトリックスを配置する前にプレス処理をする方が好ましい。
【００２６】
ロールツーロールプレスの具体的な条件について後述する。使用する２本のロールのうち導電層側のロールは樹脂製のロールや金属ロールを用いることができるが、小さい力でより強い圧力をかけることのできる金属ロールを用いることが好ましい。また、基材を挟んで導電層とは反対側に用いるロール（以下、バックアップロールと記載）も同様に、金属ロールや樹脂製のロールを用いることができるが、金属ロールを用いた場合、フィルムにしわが入り易いこと、フィルムが切れ易いことなどからフィルムにかける張力の条件設定が難しく、生産性が悪くなるといった点からバックアップロールには樹脂製のロールを用いることが望ましい。金属ロールとしては、平滑性を出しやすい、傷がつきにくい、剛性が強い点からＨＣｒでめっきされた金属ロールを用いることが好ましい。なお、導電層側のロールに金属ロールを用いた場合のバックアップロールの硬度としては、小さい力でより大きな圧力を線状金属構造体が形成された基材に対して与えることができるという点からＤ−３０以上であることが好ましい。
【００２７】
搬送速度については速度を大きくすると、プレス保持時間が短くなり、線状金属構造体が形成された基材に対する圧力（以下、面圧と記載）が小さくなる傾向にあり、プレス処理の効果が小さくなる可能性があることから、１００ｍ／分以下であることが好ましい。生産性、プレス保持時間の関係から、搬送速度としては３ｍ／分以上１５ｍ／分以下であることがより好ましい。
【００２８】
２本のロールそれぞれの径については、径が小さくなるとプレス時の２本のロールの接触面積が小さくなることから面圧が大きくなる。線圧［Ｎ／ｃｍ］については大きくすると面圧が大きくなる。これら２本のロールの材質、硬度、搬送速度、ロール径及び線圧の条件を組み合わせることにより、面圧を調整する。面圧は０．４ＭＰａ以上であることが好ましい。０．４ＭＰａ未満であると、プレスの効果が小さく、局所的に曲がっていない線状金属構造体が９０％以上になってしまい、表面抵抗値低下の効果が小さくなる場合がある。安定的に効果が得られるという点からより好ましくは８ＭＰａ以上である。
【００２９】
また、処理温度については安定的にプレス処理ができるという点から１００℃以下であることが好ましい。１００℃を超えてプレス処理を行うと、線状金属構造体が断裂するなどネットワークの形成において不具合が生じる可能性がある。温度が低いとプレス処理の効果が小さくなるという可能性もあることから、より好ましくは３０℃以上１００℃以下である。ここで、処理温度は、ロール処理の場合は金属ロールの表面温度のことである。
【００３０】
［本発明の導電積層体の用途］
本発明の導電積層体は、高い導電性を保持しつつも、高い透明性を示し、鮮明な画像を得ることができるので、表示体に好ましく適用することができる。とりわけ、タッチパネルや電子ペーパーといった用途に好ましく用いることができる。タッチパネルの一例を示した断面模式図を図３に示す。本発明のタッチパネルは、線状金属構造体からなるネットワーク構造を有する導電層を積層した本発明の導電積層体を単独もしくは複数枚、さらには他の部材と組み合わせて搭載したものであり、その例として抵抗膜式タッチパネルや静電容量式タッチパネル等が挙げられる。
【００３１】
本発明の導電積層体の導電層は、線状金属構造体を含み、接点を有するネットワーク構造を形成している。本発明の導電積層体を搭載してなるタッチパネルは、たとえば図３に示すように導電層がパターン化された導電積層体６を、接着剤や粘着剤等の接合層９によって接合して積層したものであり、さらに、タッチパネルの画面側の基材１０、タッチパネルの画面側の基材に積層したハードコート層１１が設けられる。かかるタッチパネルは、例えば、リード線と駆動ユニット等を取り付け、液晶ディスプレイの前面に組み込んで用いられる。
【００３２】
次に電子ペーパーの一例を示した断面模式図を図４に示す。本発明の電子ペーパーは、線状金属構造体からなるネットワーク構造を有する導電層１３を積層した本発明の導電積層体１４を単独もしくは複数枚、さらには他の部材と組み合わせて搭載したものである。図４に示すように透明なマイクロカプセル１８が、上部に配置された本発明の導電積層体１４と下部に配置された下部電極複合体２１との間に隙間なく並べられた構造となっている。上部に配置された導電積層体１４は基材１２と導電層１３とから構成され、下部電極複合体２１は下部電極１９と支持基材２０とから構成される。マイクロカプセル１８中には正に帯電した白色顔料粒子１５と負に帯電した黒色顔料粒子１７が透明分散媒１６と共に収められている。図４に示す電子ペーパーでは、外部の制御回路からの電圧印加によって２枚の電極間に電界が生じ、正に帯電した白色顔料粒子１５と負に帯電した黒色顔料粒子１７が透明分散媒１６中を泳動して、いずれか電圧によって選ばれた色の顔料粒子がカプセルの表示面側に集まることで、白黒の表示を行い、微小な電極によって作られる各画素ごとに白黒の表示が選ばれる。電圧を切っても顔料粒子は簡単に動かないため、印刷物のように読みとることができる。
【実施例】
【００３３】
以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
［評価方法］
まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。
【００３４】
（１）線状金属構造体の構造（形状）、ネットワーク状態
絶縁抵抗計（三和電気計器（株）製、ＤＧ６）を用いて、サンプルの各面に探針をあて、通電の有無からサンプルの導電面を特定する。次いでサンプルの導電領域を走査透過電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジーズ製  日立走査透過電子顕微鏡ＨＤ−２７００）もしくは電界放射型走査電子顕微鏡（日本電子（株）製  ＪＳＭ−６７００−Ｆ）を用いて加速電圧３．０ｋＶ、観察倍率と画像のコントラストを適宜調節して各倍率にて観察した。前記方法にて観察が困難な場合は、次いでカラー３Ｄ  レーザー顕微鏡（（株）キーエンス製  ＶＫ−９７００／９７１０）、観察アプリケーション（（株）キーエンス製  ＶＫ−Ｈ１Ｖ１）、形状解析アプリケーション（（株）キーエンス製  ＶＫ−Ｈ１Ａ１）を用いて、付属の標準対物レンズ１０Ｘ（（株）ニコン製  ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩ  Ｐｌａｎ  １０Ｘ）、２０Ｘ（（株）ニコン製  ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩ  Ｐｌａｎ  ２０Ｘ）、５０Ｘ（（株）ニコン製  ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩ  Ｐｌａｎ  Ａｐｏ  ５０Ｘ）、１５０Ｘ（（株）ニコン製  ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩ  Ｐｌａｎ  Ａｐｏ  １５０Ｘ）にて各倍率で導電側の同位置を表面観察し、その画像データから画像解析した。
【００３５】
（２）局所的に曲がっており、お互いに接触している線状金属構造体の含有率（％）
集束イオンビーム加工装置（FIB）と走査型電子顕微鏡（SEM）が一体となった装置（FIB-SEM、FEI製  Strata400S）を用いた。FIBにより、２本以上の線状金属構造体の交点の断面出しを行い、斜め52°から加速電圧３．０ｋVにてSEM観察を実施するという作業を繰り返すことで局所的に曲がっており、お互いに接触している線状金属構造体をカウントして求めた。
なお、含有率を求めるに際し、線状金属構造体同士の交差箇所である交点における、線状金属構造体のＳＥＭ画像において、図２に示す交点を中心に、線状金属構造体の直径の約１００倍の長さを一辺とする正方形の画像写真を１００枚観察し、１００枚中局所的に曲がっており、お互いに接触している線状金属構造体が観察される画像写真の枚数の割合を含有率（％）で表した。
【００３６】
（３）表面抵抗値
導電積層体の導電層側の表面抵抗値を、非接触式抵抗率計（ナプソン（株）製  ＮＣ−１０）を用い渦電流方式で１００ｍｍ×５０ｍｍのサンプルの中央部分を測定した。５サンプルについて平均値を算出し、これを表面抵抗値［Ω／□］とした。
【００３７】
（４）プレス面圧
プレス面圧の測定はプレシート（富士フィルム株式会社製）を用いて実施した。具体的には２本のロールでニップしてプレスする場合の面圧測定には、プレシートを導電積層体の幅方向と同じ幅になるようにカットして貼り付け、プレスした。次に、プレスしたプレシートを圧力画像解析システムPRESCALE Data Shotを用いて解析し、プレス面圧を決定した。また、枚葉でプレスする場合はプレス機のプレス面の大きさにプレシートをカットし、導電積層体に貼り付けてプレスした。
【００３８】
（５）プレス温度
プレス温度については、２本のロールでニップしてプレスする場合はプレス時のロールの温度をもってプレス温度とした。具体的には温度センサー（ＬＫ−５００  株式会社カスタム製）とＴＨＥＲＭＯＭＥＴＥＲ（ＣＴ−１２００Ｄ  株式会社カスタム製）を用いて直接ロールの温度を測定した。また、枚葉でプレスする場合はプレス機のプレス面の温度をもってプレス温度とした。温度を測定する手段としてはこの他非接触式のものを用いてもよい。
【００３９】
［材料］
＜基材＞
各実施例及び比較例に使用した基材を以下に示す。
【００４０】
（１）基材
・ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  “ルミラー”（登録商標）Ｕ４８）
・厚み１２５μｍ
＜導電成分＞
各実施例及び比較例における、各導電材を用いた導電成分の形成方法を以下に示す。
【００４１】
（１）線状金属構造体「銀ナノワイヤー」
銀ナノワイヤー導電材（短軸：４０〜１００ｎｍ、長軸：１０〜４０μｍ）。米国Ｃａｍｂｒｉｏｓ社製ＣｌｅｒａＯｈｍ  Ｉｎｋ−Ａ  ＡＱ。
【００４２】
＜マトリックス、添加剤＞
各実施例及び比較例のマトリックス、添加剤に使用した材料を以下に示す。
【００４３】
（１）マトリックス材料
アクリロイル基として重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を２個以上有する化合物を含有するアクリル系組成物（綜研化学（株）製  フルキュアＨＣ−６、固形分濃度５１質量％）。
【００４４】
（２）添加剤
構造式（１）の構造を分子内に有する化合物（米国ＤｕＰｏｎｔ社製のＺｏｎｙｌ  ＦＳＡ）。
＜ロール＞
プレス処理を実施する際のロールとしていずれも直径（ロール径）２００ｍｍ、金属ロールは表面がクロムメッキ処理されたもの、樹脂ロールの表面の硬度（ロール硬度）はＡ−３０、Ｄ−３０、Ｄ−８３のものを用意した。
＜導電積層体の具体的な製造方法＞
（実施例１〜１１、比較例１〜２）
線状金属構造体として、銀ナノワイヤー分散液（米国Ｃａｍｂｒｉｏｓ社製ＣｌｅｒａＯｈｍ  Ｉｎｋ−Ａ  ＡＱ）を用意した。この銀ナノワイヤー分散液を、銀ナノワイヤーの濃度が０．０４２質量％となるように希釈して銀ナノワイヤー分散塗液を調製した。
【００４５】
次いで、この銀ナノワイヤー分散塗液を、材質がステンレス（ｓｕｓ）のシム（シム厚み５０μｍ）を装着したスリットダイコートを使用して基材の片面に塗布、９０℃で２分間乾燥し導電成分を積層形成した。さらに２本のロールでニップし、連続的にプレス処理を施した。なお、プレスの効果を確認するため、プレス処理を実施する前とプレス処理を実施した後でサンプリングを行い、表面抵抗値の確認を実施した。
【００４６】
最後に、マトリックス材料を、希釈し前記基材の導電成分を積層形成した面の上に材質がステンレス（ｓｕｓ）のシム（シム厚み５０μｍ）を装着したスリットダイコートを使用し、６ｍ／分の塗工速度で塗布、１２０℃で３分間乾燥し、照射量９５．１ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を実施してマトリックス層を硬化させた。
評価結果及び製造条件については表１に記載する。
【００４７】
【表１】
2014071999.tif 000002
【００４８】
実施例１〜１１においては、プレス処理を実施しており、プレス面圧も０．４ＭＰａ以上であることから、線状金属構造体どうしがその交点において局所的に曲がり、表面抵抗値が低下している。これに対し、比較例１はロールの硬度不足により、また比較例２ではプレス線圧不足によりプレス面圧不足となり、線状金属構造体を局所的に曲げることができず、表面抵抗値が低下しなかった。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明の導電積層体は、タッチパネル等に組み込んだ際の表示画像を鮮明にすることができるので、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどのディスプレイ関連および太陽電池モジュールなどに使用される電極部材として有用である。
【符号の説明】
【００５０】
１  線状金属構造体
２  線状金属構造体の中心
３  線状金属構造体の中心の座標（Xm，Ym）
４  線状金属構造体の左端の中央の座標（Xs，Ys）
５  線状金属構造体の右端の中央の座標（Xe，Ye）
６：タッチパネルに組み込んだ導電積層体
７：タッチパネルに組み込んだ導電積層体の親水性基材
８：タッチパネルに組み込んだ導電積層体の導電層
９：接着剤や粘着剤による、導電積層体を積層するための接合層
１０：タッチパネルの画面側の基材
１１：タッチパネルの画面側の基材に積層したハードコート層
１２  基材
１３  導電層
１４  導電積層体
１５  正に帯電した白色顔料粒子
１６  透明分散媒
１７  負に帯電した黒色顔料粒子
１８  マイクロカプセル
１９  下部電極
２０  支持基材
２１  下部電極複合体
【図２】
2014071999.tif 000003
【図３】
2014071999.tif 000004
【図４】
2014071999.tif 000005
【図１】
2014071999.tif 000006