(57)【要約】【課題】コアシェル構造を持つ外添被覆率の高いトナーを用いた場合でもフィルミングを抑制でき、かつ荷電低下の少ない現像ローラの提供。【解決手段】少なくとも金属からなる軸と、該軸の外周に担持された弾性層と、該弾性層の外周面に形成された表層からなり、該表層は、フルオロエチレンビニルエーテル共重合体とイソシアネートのシアヌレート体との反応物からなるポリウレタンと、一次粒子径が５〜３０ｎｍの微粒子を含有し、かつ前記ポリウレタンはＡＴＲ法による赤外吸収スペクトルにおけるＮＣＯ基と水酸基のピーク強度比が５．６〜８．８である現像ローラ。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも金属からなる軸と、該軸の外周に担持された弾性層と、該弾性層の外周面に形成された表層からなり、該表層は、フルオロエチレンビニルエーテル共重合体とイソシアネートのシアヌレート体との反応物からなるポリウレタンと、一次粒子径が５〜３０ｎｍの微粒子を含有し、かつ前記ポリウレタンはＡＴＲ法による赤外吸収スペクトルにおけるＮＣＯ基と水酸基のピーク強度比が５．６〜８．８であることを特徴とする現像ローラ。
【請求項２】
前記イソシアネートがヘキサメチレンジイソシアネートであることを特徴とする請求項１に記載の現像ローラ。
【請求項３】
前記微粒子が疎水化されたシリカであることを特徴とする請求項１又は２に記載の現像ローラ。
【請求項４】
前記微粒子の一次粒子径が１０〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の現像ローラ。
【請求項５】
前記表層の表面における微小凹凸の凹部の幅が平均で２．０〜３．０μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の現像ローラ。
【請求項６】
少なくとも、像担持体と、請求項１〜５のいずれかに記載の現像ローラとを有し、画像形成装置本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の現像ローラを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項６に記載のプロセスカートリッジを有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、現像ローラ、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一成分現像方式は小型で安価な現像方式として知られているが、荷電搬送の安定化のために規制ブレードによる高線圧をトナーに加える必要がある。その影響でトナーが現像ローラ表面にフィルミングし、現像ローラ寿命が短くなるという課題があった。この課題に対して、表層の高離型化によりフィルミングを抑制するという技術が提案されている。
例えば特許文献１には、ＨＨ環境下での耐刷印字条件で明瞭な画像を得ることができ、特に白地かぶりに対し有効な導電性ローラなどの提供を目的として、弾性層とその上の一層以上の層からなり、最外層として、バインダー樹脂成分のアクリル樹脂に、フッ素系ウレタン樹脂を添加した層を有する導電性ローラに係る発明が開示されている。
しかし、高離型化によりフィルミング抑制はできるものの、その改善メカニズムがフッ素の表面近傍への偏在によるもののため、表面近傍のフッ素の量が増えた分だけ、相対的に表面近傍の荷電サイトが少なくなり、その結果、少ないフィルミング量でも荷電低下が進むという問題があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、コアシェル構造を持つ外添被覆率の高いトナーを用いた場合でもフィルミングを抑制でき、かつ荷電低下の少ない現像ローラの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題は、次の１）の発明により解決される。
１）  少なくとも金属からなる軸と、該軸の外周に担持された弾性層と、該弾性層の外周面に形成された表層からなり、該表層は、フルオロエチレンビニルエーテル共重合体とイソシアネートのシアヌレート体との反応物からなるポリウレタンと、一次粒子径が５〜３０ｎｍの微粒子を含有し、かつ前記ポリウレタンはＡＴＲ法による赤外吸収スペクトルにおけるＮＣＯ基と水酸基のピーク強度比が５．６〜８．８であることを特徴とする現像ローラ。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、コアシェル構造を持つ外添被覆率の高いトナーを用いた場合でもフィルミングを抑制でき、かつ荷電低下の少ない現像ローラを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】トナーが現像ローラ表面にフィルミングした状態の一例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、上記本発明１）について詳しく説明するが、本発明の実施の形態には、次の２）〜８）も含まれるので、これらについても併せて説明する。
２）  前記イソシアネートがヘキサメチレンジイソシアネートであることを特徴とする１）に記載の現像ローラ。
３）  前記微粒子が疎水化されたシリカであることを特徴とする１）又は２）に記載の現像ローラ。
４）  前記微粒子の一次粒子径が１０〜２０ｎｍであることを特徴とする１）〜３）のいずれかに記載の現像ローラ。
５）  前記表層の表面における微小凹凸の凹部の幅が平均で２．０〜３．０μｍであることを特徴とする１）〜４）のいずれかに記載の現像ローラ。
６）  少なくとも、像担持体と、１）〜５）のいずれかに記載の現像ローラとを有し、画像形成装置本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
７）  １）〜５）のいずれかに記載の現像ローラを有することを特徴とする画像形成装置。
８）  ６）に記載のプロセスカートリッジを有することを特徴とする画像形成装置。
【０００８】
従来の一般的な現像ローラは、軸体の外周に弾性層を有し、必要に応じて、更に表層を有する。このような現像ローラの表面にトナーがフィルミングした状態の一例を図１に示す。図１の下側の黒く見える部分は軸体の周囲の弾性体であり、上側のやや白く見える部分は覆いかぶさったフィルミング成分である。ここでのフィルミング成分は、粒径が約１μｍ程度の微小粒子、シェル材、外添材処理オイルなどからなる凝集体である。
本発明は、上記のようなフィルミングを抑制するため、現像ローラの表面に前記特定の材料からなる表層を設けることを特徴とする。
【０００９】
即ち、本発明の表層では、ポリウレタンのフルオロエチレンビニルエーテル共重合体由来の部分がフッ素による高離型化機能を有するためフィルミングの抑制に寄与する。フッ素が表面に偏在しないとウレアが表面に多く存在することになり、フッ素による離型効果が得られないためフィルミングが加速し、有効な荷電サイトが急激に減少してしまう。なお、後述するように、本発明で用いるポリウレタンはＮＣＯリッチな処方であるから、添加したＮＣＯのごく一部がＯＨと反応してウレタン化するが、ほとんどがＮＣＯとして残ることになる。この残ったＮＣＯと水が反応してアミン化し、最終的にウレア化すると考えられる。
【００１０】
本発明では上記フッ素による高離型化機能に加えて、微粒子により表層表面に形成される微小凹凸の凹部の幅が拡がることから、表層表面でトナー粒子が転がり易くなり、一層フィルミングが抑制される。その結果、現像ローラとトナー粒子との接触回数及び接触面積が大きくなって、現像ローラ表面の荷電低下が少なくなる。
【００１１】
本発明で用いるポリウレタンをＡＴＲ法（全反射吸収分光法）で測定した際の赤外吸収スペクトルにおけるＮＣＯ基と水酸基のピーク強度比（ＮＣＯ／ＯＨ）は５．６〜８．８とする。好ましくは６．４〜８．０である。前記ピーク強度比が前記規定範囲を外れると離型性が低下してフィルミングが増加する。
本発明で用いるポリウレタン成分となるフッ素含有ポリオールの例としては、３フッ化フッ素系樹脂、４フッ化フッ素系樹脂などが挙げられ、溶剤可溶性、硬化剤との反応性の観点から３フッ化フッ素系樹脂が好ましく、特に３フッ化１塩化フッ素系樹脂が好ましい。また、ポリウレタン成分となるイソシアネートの例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどが挙げられる。
表層の膜厚は０．１〜３μｍ程度が好ましい。
【００１２】
本発明で用いる微粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、チタン、マグネタイトなどの微粒子及びそれらの混合物などが挙げられるが、塗工液中の沈降などを考慮すると、比重の軽いシリカ又はアルミナが好ましい。特に、ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）、ＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）、ＤＤＳ（ジメチルジクロロシラン）などの疎水化処理剤で疎水化されたシリカが好ましい。
疎水化方法は、シリカ粒子分散液に疎水化処理剤を添加し、３０℃〜８０℃で反応させて疎水化処理を施した後、乾燥させることにより疎水性シリカを得る方法、粉体の親水性シリカと疎水化処理剤をヘンシェルミキサーなどで１００℃〜２００℃程度で過熱しながら反応させることにより疎水性シリカを得る方法などがある。
微粒子の一次粒子径は５〜３０ｎｍとするが、好ましくは１０〜２０ｎｍである。また、シリカは入手可能なものは６〜７ｎｍのものが最小であり、技術的にこれより小さいものを手に入れることができない。
【００１３】
軸体は、通常、細長い直円柱状であり、金属（例えば鉄、アルミニウム合金、ステンレス鋼）などで作製される。
弾性層は、通常、ゴム組成物からなる。ゴム組成物のゴム成分としては、天然ゴム、クロロプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム（ＥＰＤＭ）、ブチルゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、イソプレンゴム、シリコンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴムなどが挙げられるが、特に限定されない。
弾性層の厚さは１〜１０ｍｍ程度が好ましい。
【００１４】
上記本発明の現像ローラはコアシェル構造を持つ外添被覆率の高いトナーを用いた場合でも有効である。このようなコアシェル構造を有するトナーは公知であり、製造法や材料にも特に制限は無いが、例えば懸濁重合法、乳化凝集会合法、溶解懸濁法などの湿式造粒法で作製したトナー母体表面に、ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂などで被覆した構造を持つものが挙げられる。そして、更に表面に外添材を付着させることによりトナー粒子が得られる。なお、外添被覆率が高いトナーとは、トナー母体表面積に対する外添材投影面積の比が１５０％以上のトナーのことを言う。この比を求める際には、トナー母体表面積、外添材投影面積の何れについても、それぞれ測定した体積平均径を有する球形であると仮定した場合の面積に置き換えて計算する。
【００１５】
本発明のプロセスカートリッジは、少なくとも像担持体と本発明の現像ローラを有し、更に必要に応じて、その他の手段を有する。また、画像形成装置本体に着脱可能である。更に、接触１成分現像方式、特にコアシェル構造を持つ外添被覆率の高いトナーを高規制圧で使用する場合に効果を発揮する。このような条件の場合、トナー表面からシェル材及び遊離外添材が剥がれて凝集体を形成し、接触部材へフィルミングすることにより、各部材の機能を低下させてしまう。本発明の現像ローラは、そのような条件下でもフィルミングが無く、使用可能なトナー処方の範囲が格段に拡がるため、該現像ローラとトナーの組み合わせを含むプロセスカートリッジも応用範囲が広くなる。
【００１６】
本発明の画像形成装置は、本発明の現像ローラ又は本発明のプロセスカートリッジを有し、更に必要に応じて、その他の手段を有する。例えば、像担持体（「静電潜像担持体」「感光体」と称することもある）と、静電潜像形成手段と、現像手段（本発明の現像ローラ）とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の手段を有する。
本発明の現像ローラ又はプロセスカートリッジを用いた画像形成方法は、静電潜像形成工程と、現像工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
上記画像形成装置や画像形成方法は、本発明の現像ローラの特性によりトナーの制約が非常に少なくなるため、現像のみならず定着まで含めた画像形成の条件が緩和されることになる。
【実施例】
【００１７】
以下、実施例及び比較例を示して本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、例中の「部」及び「％」は特に断りのない限り「重量部」及び「重量％」である。
【００１８】
実施例１
ＳＵＳ製８φの金属シャフト上に、日本ゼオン社製エピクロロヒドリンゴムＨｙｄｒｉｎ  Ｔ３１０６を、ゴム厚が４ｍｍになるように押出成型してローラ状とし、１５０℃の環境で９０分間保管して加硫した後、ローラ表面を水口製作所製研磨機ＬＥＯ６００−Ｆ４Ｌ−ＢＭＥで粗研磨し、更に水口製作所製ＳＺＣにより仕上げ研磨して、現像ローラ用ゴム基材（金属からなる軸の外周に弾性層を担持した基材）を得た。
次に、酢酸エチル９部、酢酸ブチル１部、旭硝子社製フルオロエチレンビニルエーテル共重合体ＬＦ−２００を０．１０９７部、三井化学社製イソシアヌレートＤ１７０Ｎを１．００００部、富士色素社製カーボンブラックＡＣＬ−４を０．２２００部、クラリアント社製疎水性シリカＨ２０ＴＭ（平均一次粒子径１０〜２０ｎｍの微粒子）を０．０２２０部含有する表層用材料混合物を、ロールミルにより６０分間撹拌した後、触媒（日東化成社製ネオスタンＵ−８２０）を０．１０００部添加し、更に１分間攪拌してトナー担持体層塗工液を調製した。
次に、上記塗工液をアトマックス社製スプレーコーティング装置により前記現像ローラ用ゴム基材表面に噴霧し、１５０℃で１時間保管して、トナー担持体層の膜厚が４μｍの実施例１の現像ローラを得た。
【００１９】
実施例２
シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７６Ｓ（平均一次粒子径５〜７ｎｍ）に変更し、フルオロエチレンビニルエーテルを旭硝子社製フルオロエチレンビニルエーテルＬＦ９１６  ０．０２９０部に変更した点以外は、実施例１と同様にして、実施例２の現像ローラを得た。
【００２０】
実施例３
シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＮＡＸ５０（平均一次粒子径２０〜３０ｎｍ）に変更し、フルオロエチレンビニルエーテルを旭硝子社製フルオロエチレンビニルエーテルＬＦ６００  ０．０９９１部に変更した点以外は、実施例１と同様にして、実施例３の現像ローラを得た。
【００２１】
実施例４
シリカをチタン工業社製シリカＳＴＴ３０Ｓ（平均一次粒子径１０〜２０ｎｍ）に変更した点以外は、実施例３と同様にして、実施例４の現像ローラを得た。
【００２２】
実施例５
シリカを日本触媒社製シリカ  エポスターＭＸ０２０Ｗ（平均一次粒子径１０〜３０ｎｍ）に変更した点以外は、実施例３と同様にして、実施例５の現像ローラを得た。
【００２３】
実施例６
イソシアヌレートを三井化学社製イソシアヌレートＤ−１２７Ｎに変更し、フルオロエチレンビニルエーテルＬＦ６００の量を０．１２３１部に変更し、シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７２（平均一次粒子径１６ｎｍ）に変更した点以外は、実施例３と同様にして実施例６の現像ローラを得た。
【００２４】
実施例７
イソシアヌレート量を０．０９３０部に変更し、シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７２に変更した点以外は、実施例３と同様にして、実施例７の現像ローラを得た。
【００２５】
実施例８
イソシアヌレート量を０．１１５０部に変更し、シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７２に変更した点以外は、実施例３と同様にして、実施例８の現像ローラを得た。
【００２６】
実施例９
シリカを日本アエロジル社製アルミナＡｌｕ１３０（平均一次粒子径１０〜２０μｍ）に変更した点以外は、実施例３と同様にして、実施例９の現像ローラを得た。
【００２７】
比較例１
シリカを日本アエロジル社製シリカＲＸ５０（平均一次粒子径４０ｎｍ）に変更した点以外は、実施例３と同様にして、比較例１の現像ローラを得た。
【００２８】
比較例２
イソシアヌレートを旭化成ケミカルズ社製Ｄ１０１（２官能イソシアネート）に変更し、フルオロエチレンビニルエーテル量を０．０９４０部に変更した点以外は、実施例３と同様にして、比較例２の現像ローラを得た。
【００２９】
比較例３
イソシアヌレートを三井化学社製Ｄ１６０Ｎ（イソシアネートのＴＭＰアダクト体）に変更し、フルオロエチレンビニルエーテル量を０．０４９２部に変更し、シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７２に変更した点以外は、実施例３と同様にして、比較例３の現像ローラを得た。
【００３０】
比較例４
フルオロエチレンビニルエーテル量を０．０８４９部に変更し、シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７２に変更した点以外は、実施例３と同様にして、比較例４の現像ローラを得た。
【００３１】
比較例５
フルオロエチレンビニルエーテル量を０．１１８９部に変更し、シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７２に変更した点以外は、実施例３と同様にして、比較例５の現像ローラを得た。
【００３２】
比較例６
フルオロエチレンビニルエーテルを三井化学社製ポリウレタンポリオールＡ２７８９  ０．２４８４部に変更し、シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７２に変更した点以外は、実施例３と同様にして、比較例６の現像ローラを得た。
【００３３】
比較例７
フルオロエチレンビニルエーテルをＤＩＣ社製アクリル変性フッ素樹脂ディフェンザＴＲ１０１  ０．５２８５部に変更し、シリカを日本アエロジル社製疎水性シリカＲ９７２に変更した点以外は、実施例３と同様にして、比較例７の現像ローラを得た。
【００３４】
上記実施例及び比較例の現像ローラについて、以下のようにして各種特性を測定し評価した。結果を纏めて表１に示す。
【００３５】
＜樹脂分散体の製造方法＞
冷却管、撹拌機及び窒素導入管の付いた反応容器中に、ドデシル硫酸ナトリウム０．７部、イオン交換水４９８部を入れ、攪拌しながら８０℃に加熱して溶解させた後、過硫酸カリウム２．６部をイオン交換水１０４部に溶解させたものを加え、その１５分後に、スチレンモノマー２００部、ｎ−オクタンチオール４．２部の単量体混合液を９０分かけて滴下し、その後、更に６０分間８０℃に保って重合反応させ、体積平均粒子径１３５ｎｍの白色の樹脂分散体を得た。
この樹脂分散体を２ｍＬシャーレに取り、分散媒を蒸発させて得られた乾固物を測定したところ、数平均分子量が８３００、重量平均分子量が１６９００、Ｔｇが８３℃であった。
【００３６】
＜ポリエステル１の合成＞
冷却管、攪拌機及び窒素導入管の付いた反応槽中に、ビスフェノールＡエチレンオキサイド２モル付加物２２９部、ビスフェノールＡプロピオンオキサイド３モル付加物５２９部、テレフタル酸２０８部、アジピン酸４６部及びジブチルスズオキシド２部を投入し、常圧下、２３０℃で８時間反応させた。更に、１０〜１５ｍｍＨｇの減圧下で５時間反応させた後、反応槽中に無水トリメリット酸４４部を添加し、常圧下、１８０℃で２時間反応させて、ポリエステル１を合成した。
得られたポリエステル１は、数平均分子量が２，５００、重量平均分子量が６，７００、ガラス転移温度が４３℃、酸価が２５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００３７】
＜ポリエステル２の合成＞
冷却管、撹拌機及び窒素導入管の付いた反応容器中に、ビスフェノールＡエチレンオキサイド２モル付加物２６４部、ビスフェノールＡプロピレンオキサイド２モル付加物５２３部、テレフタル酸１２３部、アジピン酸１７３部及びジブチルチンオキサイド１部を入れ、常圧下、２３０℃で８時間反応させた。更に１０〜１５ｍｍＨｇの減圧下で８時聞反応させた後、反応容器に無水トリメリット酸２６部を入れ、１８０℃、常圧下で２時間反応させてポリエステル２を得た。得られたポリエステル２は、数平均分子量が４０００、重量平均分子量が４７０００、ガラス転移温度が６５℃、酸価が１２であった。
【００３８】
＜イソシアネート変性ポリエステルの合成＞
冷却管、撹拌機及び窒素導入管の付いた反応容器中に、ビスフェノールＡエチレンオキサイド２モル付加物６８２部、ビスフェノールＡプロピレンオキサイド２モル付加物８１部、テレフタル酸２８３部、無水トリメリット酸２２部及びジブチルスズオキシド２部を仕込み、常圧下、２３０℃で８時間反応させた。更に、１０〜１５ｍｍＨｇの減圧下で、５時間反応させて、中間体ポリエステルを合成した。
得られた中間体ポリエステルは、数平均分子量が２，２００、重量平均分子量が９，７００、ガラス転移温度が５４℃、酸価が０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が５２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
次に、冷却管、撹拌機及び窒素導入管の付いた反応容器中に、中間体ポリエステル４１０部、イソホロンジイソシアネート８９部、酢酸エチル５００部を入れて１００℃で５時間反応させ、イソシアネート変性ポリエステルを得た。
【００３９】
＜マスターバッチの作成＞
カーボンブラック（キャボット社製リーガル４００Ｒ）：４０部、結着樹脂：ポリエステル樹脂（三洋化成社製ＲＳ−８０１  酸価１０、Ｍｗ２０，０００、Ｔｇ６４℃）：６０部、水：３０部をヘンシェルミキサーで混合し、顔料凝集体中に水が染み込んだ混合物を得た。これをロール表面温度１３０℃に設定した２本ロールにより４５分間混練し、パルベライザーで１ｍｍの大きさに粉砕して、マスターバッチを得た。
【００４０】
＜油相作製工程＞
撹拌棒及び温度計をセットした容器に、ポリエステル１を５４５部、［パラフィンワックス（融点７４℃）］１８１部、酢酸エチル１４５０部を仕込み、撹拌しつつ８０℃に昇温し、８０℃のまま５時間保持した後、１時間で３０℃に冷却した。
次いで容器にマスターバッチ５００部、酢酸エチル１００部を仕込み、１時間混合して原料溶解液を得た。この原料溶解液１５００部を容器に移し、ビーズミル（ウルトラビスコミル、アイメックス社製）を用いて、送液速度１ｋｇ／ｈｒ、ディスク周速度６ｍ／秒、０．５ｍｍジルコニアビーズを８０体積％充填、３パスの条件で、顔料、ＷＡＸの分散を行った。
次いで、ポリエステル２の６６％酢酸エチル溶液６５５部を加え、上記条件のビーズミルで１パスし、顔料・ＷＡＸ分散液を得た。この顔料・ＷＡＸ分散液９７６部をＴＫホモミキサー（特殊機化製）により５，０００ｒｐｍで１分間混合した後、イソシアネート変性ポリエステル８８部を加え、ＴＫホモミキサー（特殊機化製）により５，０００ｒｐｍで１分間混合して油相を得た。
得られた油相の固形分を測定したところ５２．０％であり、固形分に対する酢酸エチルの量は９２％であった。
【００４１】
＜水相の調製＞
イオン交換水９７０部、分散安定用の有機樹脂微粒子（スチレン−メタクリル酸−アクリル酸ブチル−メタクリル酸エチレンオキサイド付加物硫酸エステルのナトリウム塩の共重合体）の２５％水性分散液４０部、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウムの４８．５％水溶液９５部、酢酸エチル９８部を混合撹拌したところ、ｐＨ６．２となった。これに、１０％水酸化ナトリウム水溶液を滴下してｐＨ９．５に調整し、水相を得た。
【００４２】
＜芯粒子作製工程＞
前記油相に水相１２００部を加え、ミキサーのせん断熱による温度上昇を抑えるために水浴で冷却をすることにより液中温度を２０〜２３℃の範囲になるように調整しながら、ＴＫホモミキサーを用いて回転数８，０００〜１５，０００ｒｐｍに調整しつつ２分間混合した。更にアンカー翼を取り付けたスリーワンモーターで回転数１３０〜３５０ｒｐｍの間に調整しながら１０分間攪拌し、芯粒子となる油相の液滴が水相に分散された芯粒子スラリーを得た。
【００４３】
＜シェル部の形成＞
芯粒子スラリーをアンカー翼を取り付けたスリーワンモーターで回転数１３０〜３５０ｒｐｍの間に調整しつつ攪拌しながら、液温が２２℃の状態で、樹脂分散体１０６部とイオン交換水７１部を混合したもの（固形分濃度１５％）を３分間かけて滴下した。更に、回転数を２００〜４５０ｒｐｍの間に調整して３０分間攪拌を続け、複合粒子スラリーを得た。この複合粒子スラリーを１ｍＬ取って１０ｍＬに希釈し、遠心分離を行ったところ、上澄み液は透明であった。
【００４４】
＜脱溶工程＞
撹拌機及び温度計をセットした容器に複合粒子スラリーを投入し、攪拌しながら３０℃で８時間脱溶剤を行い、分散スラリーを得た。このスラリーを少量スライドグラス上に置き、カバーガラスを挟んで光学顕微鏡により２００倍の倍率で様子を観察したところ、均一な着色粒子が観察され、更に１０倍に希釈して遠心分離を行ったところ、上澄み液は透明であった。
【００４５】
＜洗浄工程＞
分散スラリー１００部を減圧濾過した後、次のような洗浄操作を行って濾過ケーキを得た。
・濾過ケーキにイオン交換水１００部を加え、ＴＫホモミキサーで混合（回転数１２，０００ｒｐｍで１０分間）した後、濾過した。
・得られた濾過ケーキにイオン交換水９００部を加え、超音波振動を付与してＴＫホモミキサーで混合（回転数１２，０００ｒｐｍで３０分間）した後、減圧濾過した。リスラリー液の電気伝導度が１０μＣ／ｃｍ以下となるように、この操作を繰り返した。
・得られたリスラリー液のｐＨが４となるように１０％塩酸を加え、そのままスリーワンモーターで攪拌３０分後、濾過した。
・得られた濾過ケーキにイオン交換水１００部を加え、ＴＫホモミキサーにより混合（回転数１２０００ｒｐｍで１０分間）した後、濾過した。
・リスラリー液の電気伝導度が１０μＣ／ｃｍ以下になるまで操作を繰り返した。
【００４６】
＜乾燥工程＞
濾過ケーキを循風乾燥機により４５℃で４８時間乾燥し、目開き７５μｍメッシュで篩い、トナー母体を得た。
【００４７】
＜外添工程＞
トナー母体１００部に対し、外添剤として、日本アエロジル社製Ｒ８２００（疎水性シリカ）１．５部、日本アエロジル社製ＲＹ５０（疎水性シリカ）３．０部、チタン工業社製ＳＷ３６０（チタン酸ストロンチウム）０．６部を用いてヘンシェルミキサーで攪拌し篩をかけて、トナー母体粒子の表面に外添剤を付着させた評価用トナーを得た。トナー母体粒子の被覆率は１８０％である。
【００４８】
１．全反射吸収分光法（ＡＴＲ法）によるピーク強度比（ＮＣＯ／ＯＨ）
Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ社製ＦＴ−ＩＲ（Ｓｐｅｃｔｒｕｍ  Ｏｎｅ  ＴｙｐｅＢ）に、ユニバーサルＡＴＲアクセサリーを据え付け、ＡＴＲクリスタル上にサンプル（現像ローラの表面から芯金方向にカッターを入れて剥ぎ取ったもの）をトナー担持体層が当接するように設置し、圧力レバーをクリスタル上に移動させ、サンプルに圧力を加えてＩＲスペクトルを測定した。モニターで示される圧力の値が１０になるように圧力レバーを調節し８回測定した。得られたＩＲスペクトルからイソシアヌレート由来のＮＣＯ基の単独ピーク（１６８０〜１６９０ｃｍ−１付近）と、ＯＨ基の単独ピーク（１７１０〜１７３０ｃｍ−１付近）のピーク強度比（ＮＣＯ／ＯＨ）を算出した。
なお、表中の（  ）内の倍率は、ＮＣＯとＯＨのモル比を示しており、ＮＣＯリッチな処方となっている。
【００４９】
２．フィルミング
２７℃８０％ＲＨ環境において、リコー社製ＩＰＳＩＯ  Ｃ７３０に現像ローラを搭載し、１％イールド１Ｐ／Ｊで２万枚ランニングした後、シリカ付着量を、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴＩＲ）により、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｎｉｃｏｌｅｔ社製ＦＴ−ＩＲ（ＮＥＸＵＳ４７０）を用いて測定し、次の基準で評価した。
〔評価基準〕
◎：０．０３未満
○：０．０３以上、０．１０未満
△：０．１０以上、０．３０未満
×：０．３０以上
【００５０】
３．荷電低下
２３℃５０％ＲＨにおいて、リコー社製ＩＰＳＩＯ  Ｃ７３０に現像ローラを搭載し、１％イールド１Ｐ／ＪでＱ／Ｍ（単位質量当たりの電荷量）を測定し、初期のＱ／Ｍに対する２万枚後のＱ／Ｍの低下率を、次の基準で評価した。Ｑ／Ｍはトレックジャパン社製吸引式小型帯電量測定装置ＭＯＤＥＬ  ２１２ＨＳを用いて測定した。
〔評価基準〕
◎：１５％未満
○：１５％以上、２５％未満
△：２５％以上、５０％未満
×：５０％以上
【００５１】
４．地汚れ
２７℃８０％ＲＨ環境において、リコー社製ＩＰＳＩＯ  Ｃ７３０に現像ローラを搭載し、１％イールド１Ｐ／Ｊで白紙現像中の感光体上のトナー付着をサカタインクスエンジニアリング社製Ｘ−ｌｉｔｅにより測定して、次の基準で評価した。
〔評価基準〕
◎：Ｌ＊が９２．０以上
○：Ｌ＊が９０．５以上、９２．０未満
△：Ｌ＊が８９．５以上、９０．５未満
×：Ｌ＊が８９．５未満
【００５２】
５．微小凹凸の凹部の幅
キーエンス社製レーザー顕微鏡と５０倍のレンズを使用して、トナー担持体層の表面をピッチ０．１μｍ刻みで撮影し、凹凸プロファイルから山と山の間の距離を１００箇所分測定し、その平均値を微小凹凸の凹部の幅とした。
【００５３】
【表１】
2014215546.tif 000002
【先行技術文献】
【特許文献】
【００５４】
【特許文献１】特開２０１１−２１５４６７号公報
【図１】
2014215546.tif 000003