(57)【要約】【課題】光学フィルムとパターン位相差フィルムとを貼り合せて光学積層体を製造する製造方法であって、パターン位相差フィルムの歪みを防止できる製造方法を提供する。【解決手段】パターン位相差フィルムはレターデーション又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有する層を備え、前記領域は一方向に延在していて、パターン位相差フィルムを前記領域の延在方向とローラの走行方向とが直交する向きに配置する工程と、パターン位相差フィルムに対向する位置に光学フィルムを配置する工程と、光学フィルムにローラの走行方向と平行な方向に１０ｍＮ／ｃｍ以下の張力をかけた状態でローラを走行させて、光学フィルムとパターン位相差フィルムとをローラで加圧することにより貼り合せる工程とを含む、光学積層体の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学フィルムとパターン位相差フィルムとを、走行可能なローラで加圧することにより貼り合せて光学積層体を製造する、光学積層体の製造方法であって、
前記パターン位相差フィルムは、レターデーション又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有する層を備え、
前記領域は、一方向に延在していて、
前記パターン位相差フィルムを、前記領域の延在方向と前記ローラの走行方向とが直交する向きに配置する工程と、
前記パターン位相差フィルムに対向する位置に、前記光学フィルムを配置する工程と、
前記光学フィルムに、前記ローラの走行方向と平行な方向に１０ｍＮ／ｃｍ以下の張力をかけた状態で前記ローラを走行させて、前記光学フィルムと前記パターン位相差フィルムとを前記ローラで加圧することにより貼り合せる工程とを含む、光学積層体の製造方法。
【請求項２】
前記パターン位相差フィルムの前記領域の延在方向における、前記領域の振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄが、０．０２以上０．２５以下である、請求項１記載の光学積層体の製造方法。
【請求項３】
前記光学フィルムと前記パターン位相差フィルムとを貼り合せる工程よりも前に、
クロスニコル状態で配置された一対の偏光子と、当該一対の偏光子の間に配置された前記パターン位相差フィルムとを含む測定系Ａを用意する工程と、
前記の偏光子の一方に光を照射しながら、前記パターン位相差フィルムを前記一対の偏光子に対して相対的に面内方向に回転させて、前記一対の偏光子及び前記パターン位相差フィルムを透過する光の輝度Ａを測定する工程と、
測定された輝度Ａに基づいて、前記パターン位相差フィルムの少なくとも１つの遅相軸の方向を検知する工程と、
クロスニコル状態で配置された一対の偏光子と、当該一対の偏光子の間に配置された前記光学フィルムとを含む測定系Ｂを用意する工程と、
前記の偏光子の一方に光を照射しながら、前記光学フィルムを前記一対の偏光子に対して相対的に面内方向に回転させて、前記一対の偏光子及び前記光学フィルムを透過する光の輝度Ｂを測定する工程と、
測定された輝度Ｂに基づいて、前記光学フィルムの光学軸の方向を検知する工程と、
検知された前記パターン位相差フィルムの遅相軸の方向と前記光学フィルムの光学軸の方向とが所望の角度をなすように、前記パターン位相差フィルム及び前記光学フィルムの相対位置を調整する工程と、を含む、請求項１又は２記載の光学積層体の製造方法。
【請求項４】
前記光学フィルムと前記パターン位相差フィルムとを貼り合せる工程よりも前に、
クロスニコル状態で配置された一対の偏光子と、当該一対の偏光子の間に配置された前記光学フィルムとを含む測定系Ｂを用意する工程と、
前記の偏光子の一方に光を照射しながら、前記光学フィルムを前記一対の偏光子に対して相対的に面内方向に回転させて、前記一対の偏光子及び前記光学フィルムを透過する光の輝度Ｂを測定する工程と、
測定された輝度Ｂに基づいて、前記光学フィルムの光学軸の方向を検知する工程と、
前記パターン位相差フィルムの前記領域の延在方向と検知された前記光学フィルムの光学軸の方向とが所望の角度をなすように、前記パターン位相差フィルム及び前記光学フィルムの相対位置を調整する工程と、を含む、請求項１又は２記載の光学積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム及びパターン位相差フィルムを備える光学積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
立体画像表示装置のある態様として、画素と位置合わせされた状態で設けられた、特定のパターンを有する位相差フィルムを備えるものが知られている。例えば、パッシブ形式の立体画像表示装置では、通常、同一画面内に右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示させ、これらの画像を専用のメガネを用いて左右の目それぞれに振り分けるようにしている。そのため、パッシブ形式の立体画像表示装置には、右目用の画像及び左目用の画像のそれぞれを、異なる偏光状態で表示させることが求められる。そのような表示を達成するため、パッシブ形式の立体画像表示装置には、異なるレターデーションを有する複数種類の領域からなるパターンを有するパターン位相差フィルムが設けられることがある。また、異なる方向に遅相軸を有する複数種類の領域からなるパターンを有するパターン位相差フィルムが設けられることもある（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１３４４０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前記のパターン位相差フィルムは、通常、他の光学フィルムと貼り合わせた光学積層体として用いられる。例えば、パターン位相差フィルムは、粘着層を用いて位相差フィルムと貼り合わせられた光学積層体として用いられることがある。
【０００５】
ところが、従来の技術では、パターン位相差フィルムと光学フィルムとを貼り合せる場合に、パターン位相差フィルムに歪みが生じることがあった。パターン位相差フィルムに歪みが生じると、そのパターン位相差フィルムが有する領域の形状及び寸法が変化する。例えば、ストライプ状に形成された領域を有するパターン位相差フィルムにおいて歪みが生じると、そのストライプを構成する領域の幅が変化する可能性がある。
【０００６】
このように歪みを生じたパターン位相差フィルムを備える光学積層体を立体画像表示装置に適用した場合には、パターン位相差フィルムの領域の位置と立体表示装置の画素の位置とを正確に合わせることが難しくなり、クロストークの原因となりえる。ここでクロストークとは、立体画像表示装置において、左目用画像が右目で視認されたり、右目用画像が左目で視認されたりする現象を意味する。
【０００７】
本発明は前記の課題に鑑みて創案されたものであって、光学フィルムとパターン位相差フィルムとを貼り合せて光学積層体を製造する製造方法であって、パターン位相差フィルムの歪みを防止できる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、光学フィルムとパターン位相差フィルムとを貼り合せる際に、パターン位相差フィルムの設置の向きを特定の方向に設定し、更に光学フィルムに所定の方向へ張力をかけることにより、貼り合わせによるパターン位相差フィルムの歪みを防止できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の通りである。
【０００９】
〔１〕  光学フィルムとパターン位相差フィルムとを、走行可能なローラで加圧することにより貼り合せて光学積層体を製造する、光学積層体の製造方法であって、
前記パターン位相差フィルムは、レターデーション又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有する層を備え、
前記領域は、一方向に延在していて、
前記パターン位相差フィルムを、前記領域の延在方向と前記ローラの走行方向とが直交する向きに配置する工程と、
前記パターン位相差フィルムに対向する位置に、前記光学フィルムを配置する工程と、
前記光学フィルムに、前記ローラの走行方向と平行な方向に１０ｍＮ／ｃｍ以下の張力をかけた状態で前記ローラを走行させて、前記光学フィルムと前記パターン位相差フィルムとを前記ローラで加圧することにより貼り合せる工程とを含む、光学積層体の製造方法。
〔２〕  前記パターン位相差フィルムの前記領域の延在方向における、前記領域の振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄが、０．０２以上０．２５以下である、〔１〕記載の光学積層体の製造方法。
〔３〕  前記光学フィルムと前記パターン位相差フィルムとを貼り合せる工程よりも前に、
クロスニコル状態で配置された一対の偏光子と、当該一対の偏光子の間に配置された前記パターン位相差フィルムとを含む測定系Ａを用意する工程と、
前記の偏光子の一方に光を照射しながら、前記パターン位相差フィルムを前記一対の偏光子に対して相対的に面内方向に回転させて、前記一対の偏光子及び前記パターン位相差フィルムを透過する光の輝度Ａを測定する工程と、
測定された輝度Ａに基づいて、前記パターン位相差フィルムの少なくとも１つの遅相軸の方向を検知する工程と、
クロスニコル状態で配置された一対の偏光子と、当該一対の偏光子の間に配置された前記光学フィルムとを含む測定系Ｂを用意する工程と、
前記の偏光子の一方に光を照射しながら、前記光学フィルムを前記一対の偏光子に対して相対的に面内方向に回転させて、前記一対の偏光子及び前記光学フィルムを透過する光の輝度Ｂを測定する工程と、
測定された輝度Ｂに基づいて、前記光学フィルムの光学軸の方向を検知する工程と、
検知された前記パターン位相差フィルムの遅相軸の方向と前記光学フィルムの光学軸の方向とが所望の角度をなすように、前記パターン位相差フィルム及び前記光学フィルムの相対位置を調整する工程と、を含む、〔１〕又は〔２〕記載の光学積層体の製造方法。
〔４〕  前記光学フィルムと前記パターン位相差フィルムとを貼り合せる工程よりも前に、
クロスニコル状態で配置された一対の偏光子と、当該一対の偏光子の間に配置された前記光学フィルムとを含む測定系Ｂを用意する工程と、
前記の偏光子の一方に光を照射しながら、前記光学フィルムを前記一対の偏光子に対して相対的に面内方向に回転させて、前記一対の偏光子及び前記光学フィルムを透過する光の輝度Ｂを測定する工程と、
測定された輝度Ｂに基づいて、前記光学フィルムの光学軸の方向を検知する工程と、
前記パターン位相差フィルムの前記領域の延在方向と検知された前記光学フィルムの光学軸の方向とが所望の角度をなすように、前記パターン位相差フィルム及び前記光学フィルムの相対位置を調整する工程と、を含む、〔１〕又は〔２〕記載の光学積層体の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の光学積層体の製造方法によれば、パターン位相差フィルムの歪みを防止しながら、光学フィルムとパターン位相差フィルムとを貼り合せて光学積層体を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の第一実施形態にかかるパターン位相差フィルムを模式的に示す斜視図である。
【図２】図２は、本発明の第一実施形態にかかるＰＲ層を概略的に示す上面図である。
【図３】図３は、本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法において、パターン位相差フィルムを配置する工程の様子を模式的に示す斜視図である。
【図４】図４は、本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法において、光学フィルムを配置する工程の様子を模式的に示す正面図である。
【図５】図５は、本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法において、パターン位相差フィルムと光学フィルムとを貼り合せる工程の様子を模式的に示す正面図である。
【図６】図６は、本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法において、パターン位相差フィルムと光学フィルムとを貼り合せる工程の様子を模式的に示す正面図である。
【図７】図７は、本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法において、パターン位相差フィルムと光学フィルムとを貼り合せる工程の様子を模式的に示す正面図である。
【図８】図８は、本発明の第二実施形態に係るパターン位相差フィルムの模式的な斜視図である。
【図９】図９は、本発明の第二実施形態に係る光学フィルムの模式的な斜視図である。
【図１０】図１０は、本発明の第二実施形態に係るパターン位相差フィルムの遅相軸の方向を検知するための測定系Ａを模式的に示す斜視図である。
【図１１】図１１は、本発明の第二実施形態に係るパターン位相差フィルムの測定系Ａにおいて、カメラの位置から偏光子及びパターン位相差フィルムを見た様子を模式的に示す上面図である。
【図１２】図１２は、本発明の第二実施形態に係るパターン位相差フィルムの測定系Ａにおいて、カメラの位置から偏光子及びパターン位相差フィルムを見た様子を模式的に示す上面図である。
【図１３】図１３は、本発明の第二実施形態に係る光学フィルムの遅相軸の方向を検知するための測定系Ｂを模式的に示す斜視図である。
【図１４】図１４は、本発明の第二実施形態に係る光学フィルムの測定系Ｂにおいて、カメラの位置から偏光子及び光学フィルムを見た様子を模式的に示す上面図である。
【図１５】図１５は、本発明の第二実施形態に係る光学フィルムの測定系Ｂにおいて、カメラの位置から偏光子及び光学フィルムを見た様子を模式的に示す上面図である。
【図１６】図１６は、実施例並びに比較例において、ＰＲ層の領域の振れ幅ΔＤ及び平均幅Ｄを測定する際のサンプルの様子を模式的に示す図である。
【図１７】図１７は、実施例及び比較例においてΔＤ／Ｄの測定のために光学積層体を撮影した場合に撮影される画像を模式的に示す図である。
【図１８】図１８は、図１７に示す画像の一部を拡大した様子を模式的に示す図である。
【図１９】図１９は、ＰＲ層の領域の振れ幅ΔＤの測定方法を説明するため、光学積層体を撮影して得られる画像における規格化されたＹ値を表すグラフの一例を示す図である。
【図２０】図２０は、本発明の実施例１において、パターン位相差フィルムを配置する工程の様子を模式的に示す斜視図である。
【図２１】図２１は、本発明の実施例１において、光学フィルムを配置する工程の様子を模式的に示す正面図である。
【図２２】図２２は、比較例４におけるパターン位相差フィルムと光学フィルムとの貼り合せの様子を模式的に示す正面図である。
【図２３】図２３は、比較例４において、光学フィルムを配置する工程の様子を模式的に示す正面図である。
【図２４】図２４は、光学フィルムにかかる張力を測定する様子を模式的に示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に挙げる実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
【００１３】
以下の説明において、「長尺」とは、幅に対して、少なくとも５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。幅に対する長さの倍率の上限は、特に限定されないが、通常５０００倍以下としてもよい。
【００１４】
また、「偏光板」、「１／４波長板」及び「１／２波長板」とは、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
【００１５】
また、「レターデーション」とは、別に断らない限り、面内レターデーションのことを意味する。フィルム又は層の面内レターデーションは、そのフィルム又は層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ、前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率ｎｙ、フィルム又は層の厚みｄを用いて、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値である。面内レターデーションは、市販の位相差測定装置（例えば、フォトニックラティス社製「ＷＰＡ−ｍｉｃｒｏ」）あるいはセナルモン法を用いて測定しうる。
【００１６】
また、「遅相軸」とは、別に断らない限り、面内の遅相軸のことを意味する。
【００１７】
また、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」及び「メタクリレート」の両者を含み、「（メタ）アクリル」とは「アクリル」及び「メタクリル」を含む。
【００１８】
また、「紫外線」とは、波長が１ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光のことを意味する。
【００１９】
また、構成要素の方向が「平行」、「直交」又は「垂直」とは、特に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
【００２０】
［１．第一実施形態］
〔１．１．パターン位相差フィルム〕
図１は、本発明の第一実施形態にかかるパターン位相差フィルムを模式的に示す斜視図である。
図１に示すように、パターン位相差フィルム１００は、レターデーション又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域１１１及び１１２を有する層（以下、適宜「ＰＲ層」ということがある。）１１０を備えるフィルムである。このパターン位相差フィルム１００は、ＰＲ層１１０単独で構成された単層構造の層であってもよいが、本実施形態では、基材フィルム層１２０と、その基材フィルム層１２０上に形成されたＰＲ層１１０とを備える複層フィルムであるものとする。
【００２１】
ＰＲ層１１０が備える領域１１１及び１１２は、レターデーションのみが異なっていてもよく、遅相軸方向のみが異なっていてもよく、レターデーション及び遅相軸方向の両方が異なっていてもよい。通常、これらの２種類以上の領域１１１及び１１２は所定のパターンを形成するようになっていて、このため、パターン位相差フィルム１００の名称には「パターン」との用語が付されている。
【００２２】
ＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の好適な組み合わせの例としては、第一に、等方な領域（以下、「等方性領域」ということがある。）及び異方性を有する領域（以下、「異方性領域」ということがある。）との組み合わせが挙げられる。
【００２３】
異方性領域は、例えば、１／２波長板として機能しうる領域としてもよい。ここで、１／２波長板として機能しうる領域のレターデーションの値は、透過光の波長範囲の中心値の１／２の値から、通常±６５ｎｍ、好ましくは±３０ｎｍ、より好ましくは±１０ｎｍの範囲である。前記の透過光は通常は可視光であるため、透過光の波長範囲の中心値としては、通常、可視光の波長範囲の中心値である５５０ｎｍを適用する。
【００２４】
他方、等方性領域は、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションがほぼゼロであることが好ましい。具体的には、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値が、１ｎｍ以上が好ましく、３ｎｍ以上がより好ましく、また、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましい。
【００２５】
ＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の好適な組み合わせの例としては、第二に、遅相軸方向が略９０°異なる２種類の領域の組み合わせが挙げられる。ここで遅相軸方向が略９０°異なるとは、これらの遅相軸方向がなす角度が、通常９０°±５°以内、好ましくは９０°±１°以内であることをいう。
【００２６】
図２は、本発明の第一実施形態にかかるＰＲ層１１０を概略的に示す上面図である。
図２に示すように、ＰＲ層１１０が有する領域１１１及び１１２は、いずれも、ある一方向に延在している。この例において領域１１１及び１１２は、具体的には、いずれも一方向（領域１１１及び１１２の延在方向）Ｘに延在する帯状の形状を有している。
【００２７】
また、このＰＲ層１１０は、複数の領域１１１及び１１２を面内で交互に有している。そのため、ＰＲ層１１０は、これらの領域１１１及び１１２からなるストライプ状のパターンを有する。このストライプ状のパターンは、通常、液晶表示装置においてパターン位相差フィルムと組み合わせる液晶パネルの画素の位置に応じて設定される。例えば、液晶表示装置がパッシブ型の立体表示装置である場合、液晶パネルは通常２組の画素群（即ち、右目で観察されるための画素群及び左目で観察されるための画素群）を有する。この場合、ＰＲ層１１０が有する領域１１１及び１１２のパターンは、これらの画素群のうちの一方に対応する領域を等方性領域とし、他方に対応する領域を異方性領域としてもよい。
【００２８】
領域１１１及び１１２の幅Ｗ１１１及びＷ１１２は、組み合わせる液晶パネルの画素の寸法に合わせて設定してもよい。通常、液晶パネルの画素の寸法は均一であるため、いずれの領域１１１及び１１２の幅Ｗ１１１及びＷ１１２も同程度になる。また、異なる種類の領域１１１と領域１１２との境界１１３は液晶パネルの画素間にあるブラックマトリックスに対応する位置に位置合わせすることになり、そのブラックマトリックスはある程度の幅を有している。このため、当該ブラックマトリックスの幅の分は、領域１１１の幅Ｗ１１１と領域１１２の幅Ｗ１１２とに差があってもよい。したがって、異なる種類の領域１１１及び１１２の幅Ｗ１１１及びＷ１１２は、必ずしも同じでなくても構わない。
【００２９】
パターン位相差フィルム１００に張力をかけていない状態において、前記領域１１１及び１１２の延在方向Ｘにおける、前記領域１１１及び１１２の振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄは、好ましくは０．０２以上であり、より好ましくは０．２５以下、好ましくは０．２０以下、より好ましくは０．１５以下である。これは、パターン位相差フィルム１００に張力をかけていない状態において、前記の領域１１１及び１１２が真直性に優れることを意味する。すなわち、前記の領域１１１及び１１２の幅Ｗ１１１及びＷ１１２が、その領域１１１及び１１２の延在方向において不均一となったり、前記領域１１１及び１１２が湾曲したりすること無く、より直線に近い形状となることを意味する。このように各領域１１１及び１１２が真直性に優れることにより、パターン位相差フィルム１００と液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことができる。
【００３０】
ここで、前記の領域１１１及び１１２の延在方向Ｘにおける振れ幅ΔＤは、以下のようにして求めうる。
ＰＲ層１１０が有する領域１１１及び１１２から任意に選んだ複数（通常、１０本）の領域１１１及び１１２の、それぞれの幅方向中央の地点（以下、「中点」ということがある。）Ｐ１１１及びＰ１１２に着目する。この中点Ｐ１１１及びＰ１１２の幅方向Ｙの位置を、各領域１１１及び１１２について延在方向Ｘにおける複数個所で測定する。各領域１１１及び１１２の測定結果について、測定を開始した地点の中点Ｐ１１１及びＰ１１２の位置を基準として規格化を行う。選んだ全ての領域１１１及び１１２の測定結果の中から、規格化した中点Ｐ１１１及びＰ１１２の位置のうち、幅方向Ｙにおいて最も一端寄りとなった位置と最も他端寄りとなった位置との幅方向Ｙにおける距離を算出し、この距離を振れ幅ΔＤとする。
【００３１】
また、前記の領域１１１及び１１２の延在方向Ｘにおける平均幅Ｄは、前記の領域１１１及び１１２の幅Ｗ１１１及びＷ１１２の平均値を表す指標値である。この平均幅Ｄは、以下のようにして求めうる。
ＰＲ層１１０が有する領域１１１及び１１２から任意に選んだ複数（通常、１０本）の領域の、それぞれの幅Ｗ１１１及びＷ１１２を、各領域１１１及び１１２について延在方向Ｘにおける複数個所で測定する。選んだ全ての領域１１１及び１１２の全ての測定結果の平均値を算出し、この平均値を平均幅Ｄとする。
【００３２】
ＰＲ層１１０の厚みは、前記の領域１１１及び１１２それぞれで所望のレターデーションが得られるように適切な厚みに設定しうる。通常は、ＰＲ層１１０の厚みは、０．５μｍ以上５０μｍ以下の範囲である。
【００３３】
図１に示すように、本実施形態にかかるパターン位相差フィルム１００は、基材フィルム層１２０を備える。この基材フィルム層１２０としては、通常、樹脂フィルムを用いる。
【００３４】
基材フィルム層１２０は、レターデーションを有していてもよく、有していなくてもよい。本実施形態では、基材フィルム層１２０は、レターデーションを有さない等方なフィルムであるものとする。具体的には、測定波長５５０ｎｍで測定した基材フィルム層１２０の面内レターデーションの値が、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは３ｎｍ以上であり、また、好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下である。
【００３５】
〔１．２．パターン位相差フィルムの配置〕
図３は、本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法において、パターン位相差フィルム１００を配置する工程の様子を模式的に示す斜視図である。
図３に示すように、本実施形態に係る製造方法では、ローラ２００を備えた製造装置を用いて、光学積層体を製造する。このローラ２００は、その周方向に回転可能に設けられており、また、矢印Ａ１で示す一方向へ走行可能となっている。
【００３６】
また、本実施形態に係る製造方法では、パターン位相差フィルム１００は、パターン位相差フィルム１００を支持しうる上部ステージ２１０に固定される。このとき、パターン位相差フィルム１００は、ＰＲ層１１０が光学フィルム３００（図４参照）に対向できるようにするため、基材フィルム層１２０が上部ステージ２１０に接触する向きで上部ステージ２１０に固定される。
【００３７】
この上部ステージ２１０を所望の位置に配置することにより、パターン位相差フィルム１００を所望の位置に配置する。この際、パターン位相差フィルム１００は、ＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の延在方向Ｘと、矢印Ａ１で示すローラ２００の走行方向とが直交する向きに、配置する。
【００３８】
〔１．３．光学フィルムの配置〕
図４は、本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法において、光学フィルム３００を配置する工程の様子を模式的に示す正面図である。
本実施形態に係る製造方法では、図４に示すように、光学フィルム３００は、光学フィルム３００を支持しうる下部ステージ２２０に置かれる。この下部ステージ２２０のローラ２００に近い端部２３０には、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００との貼り合わせの開始時にローラ２００が下部ステージ２２０に当たらないようにするため、面取りが施されている。
【００３９】
また、光学フィルム３００は、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００との貼り合わせの開始時に光学フィルム３００をローラ２００が加圧できるようにするために、光学フィルム３００のローラ２００に近い端部３１０が下部ステージ２２０からはみ出すように置かれる。
【００４０】
さらに、光学フィルム３００のパターン位相差フィルム１００に対向する表面３００Ｕには、粘着層４００が形成される。この粘着層４００は、粘着剤の層である。粘着層４００は、光学フィルム３００を下部ステージ２２０に置く前に形成してもよく、光学フィルム３００を下部ステージ２２０に置いてから形成してもよい。
【００４１】
この下部ステージ２２０を所望の位置に配置することにより、光学フィルム３００を所望の位置に配置する。具体的には、光学フィルム３００を、パターン位相差フィルム１００に対向しうる位置に配置する。
【００４２】
ここで、光学フィルム３００を配置する工程は、前記のようにパターン位相差フィルム１００を所望の位置に配置する工程の前に行ってよく、後に行ってもよく、パターン位相差フィルム１００を所望の位置に配置する工程と同時に行ってもよい。
【００４３】
〔１．４．光学フィルムとパターン位相差フィルムとの貼り合わせ〕
図５〜図７は、いずれも、本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法において、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合せる工程の様子を模式的に示す正面図である。
前記のようにパターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００を配置した後で、図５〜図７に示すようにローラ２００を走行させて、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することにより貼り合せる。これにより、光学積層体５００を製造する。
【００４４】
具体的には、図５に示すように、下部ステージ２２０を、ローラ２００の走行方向の前方が下になるように傾斜させる。また、ローラ２００を矢印Ａ１で示す走行方向に走行させる。走行したローラ２００は、光学フィルム３００の端部３１０に到着し、この端部３１０において光学フィルム３００を押さえつける。
【００４５】
その後、図６に示すように、ローラ２００を矢印Ａ１で示す走行方向に更に走行させる。ローラ２００が走行した部分においてローラ２００と上部ステージ２１０との間で光学フィルム３００及びパターン位相差フィルム１００の加圧が行われるので、端部３１０から順に光学フィルム３００とパターン位相差フィルム１００との貼り合わせが行われる。この際、ローラ２００が回転可能になっているので、ローラ２００は矢印Ａ２で示すように周方向へ回転しながら走行する。
【００４６】
また、光学フィルム３００の端部３１０よりも先へとローラ２００を走行させる際、下部ステージ２２０も、傾斜した状態を維持したままで、ローラ２００と同じ向き（図６では、図中右向き）に移動させる。この際、下部ステージ２２０の移動方向は、矢印Ａ３に示すように、ローラ２００の走行方向と平行にする。これにより、光学フィルム３００及び接着層４００の自重、並びに、光学フィルム３００と下部ステージ２２０との間の摩擦によって、光学フィルム３００には、ローラ２００の走行方向と平行な方向に微弱な張力がかかる。このように、ローラ２００の走行方向と平行な方向に微弱な張力を光学フィルム３００にかけた状態で貼り合わせを行うことにより、貼り合わせの際のパターン位相差フィルム１００の歪みを防止できる。
【００４７】
光学フィルム３００にかける前記の張力の大きさは、通常１０ｍＮ／ｃｍ以下、好ましくは９ｍＮ／ｃｍ以下、より好ましくは８ｍＮ／ｃｍ以下である。ここで、張力の単位「ｍＮ／ｃｍ」とは、ローラ２００の走行方向に直交する方向の寸法１ｃｍ当たりの張力の大きさを示す。光学フィルム３００にかける張力の大きさを前記の範囲に収めることにより、パターン位相差フィルム１００の歪みを安定して防止でき、且つ、光学積層体５００のカールを防止できる。
【００４８】
光学フィルム３００にローラ２００の走行方向と平行な方向に張力をかけることによってパターン位相差フィルム１００の歪みを防止できる理由は必ずしも定かでは無い。しかし、本発明者の検討によれば、次のように推察される。
従来は、パターン位相差フィルムと光学フィルムとをローラで加圧することによって貼り合わせる場合、ローラから加えられる厚み方向の圧力により、パターン位相差フィルムが歪み、ＰＲ層の領域の幅が変化していたと考えられる。これに対し、光学フィルム３００にローラ２００の走行方向と平行に張力を与えることにより、この張力がローラ２００から加えられる圧力に抗することができるので、パターン位相差フィルム１００の歪みを小さくできていると推察される。さらに、ＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の延在方向をローラ２００の走行方向と直交するようにしたので、その領域１１１及び１１２の延在方向と直交する方向（図１の幅方向Ｙ参照）において領域１１１及び１１２の寸法を、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合わせる瞬間において固定できるので、これによっても、パターン位相差フィルム１００の歪みを小さくできていると推察される。また、過度に大きな張力を与えると、貼り合わせ後において光学フィルム３００に残留した応力がかえって歪みの原因となる可能性があることから、前記のように微弱な張力が好ましい。
【００４９】
ローラ２００の走行方向と平行な方向に光学フィルム３００にかける張力の下限は、ゼロより大きければ制限は無いが、好ましくは０．０１ｍＮ／ｃｍ以上、より好ましくは０．０３ｍＮ／ｃｍ以上、特に好ましくは０．０５ｍＮ／ｃｍ以上である。
【００５０】
ここで、本発明者の検討によれば、本実施形態のように下部ステージ２２０を移動させる方法で光学フィルム３００に張力をかける場合、その張力のほとんどは、光学フィルム３００と下部ステージ２２０との間の摩擦によって生じる。このため、光学フィルム３００にかかる張力の大きさは、下部ステージ２２０を移動させ始める時点（貼り合わせの開始時点）が最も大きく、光学フィルム３００の未貼合部分（即ち、光学フィルム３００の、未だパターン位相差フィルム１００と貼り合わせられていない部分）が小さくなるほど小さくなる。よって、下部ステージ２２０を移動させ始める時点で光学フィルム３００にかかる張力が前記の範囲に収まっていれば、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合わせる工程の全期間を通じて、光学フィルム３００にかかる張力の大きさを前記の範囲に収めることができる。したがって、下部ステージ２２０を移動させ始める時点で光学フィルム３００にローラ２００の走行方向と平行な方向にかかる張力の大きさを、前記の範囲に収めることが好ましい。
【００５１】
その後、ローラ２００を更に走行させ、且つ、下部ステージ２２０を更に移動させることにより、光学フィルム３００及びパターン位相差フィルム１００を全面で貼り合わせる。これにより、図７に示すように、光学フィルム３００、粘着層４００及びパターン位相差フィルム１００をこの順に備えた光学積層体５００が得られる。
【００５２】
この光学積層体５００においては、貼り合わせによるパターン位相差フィルム１００の歪みが小さい。そのため、ＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の幅Ｗ１１１及びＷ１１２は、貼り合わせ前のまま維持される。したがって、得られた光学積層体５００に含まれるＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の幅Ｗ１１１及びＷ１１２を設計どおりにできるので、歩留まりを向上させたり、立体画像表示装置においてクロストークを防止したりできる。また、通常は、得られた光学積層体５００に含まれるＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄを、貼り合わせる前における比ΔＤ／Ｄの範囲として前述した範囲に収めることができる。
【００５３】
〔１．５．その他の工程〕
本発明の第一実施形態に係る光学積層体の製造方法においては、前述した以外に任意の工程を更に行ってもよい。
例えば、光学積層体５００から基材フィルム層１２０を剥がしてもよい。通常は光学フィルム３００が機械的強度に優れるので、基材フィルム層１２０を剥がしても、ＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２が変形する可能性は低い。また、基材フィルム層１２０を剥がすことにより、光学積層体５００の厚みを薄くすることができる。
【００５４】
さらに、例えば、光学積層体５００に更に任意のフィルムを貼り合せてもよい。このような任意のフィルムの例を挙げると、位相差フィルム、反射防止フィルム、ギラツキ防止フィルム、アンチグレアフィルム、ハードコートフィルムおよびプリズムシート等を挙げることができる。
【００５５】
［２．第二実施形態］
一般に、光学積層体の形状は、適用される液晶表示装置の画面の形状に合わせて、矩形にされることが多い。このため、光学フィルム及びパターン位相差フィルムの形状も、矩形にされることが多い。したがって、光学フィルムとパターン位相差フィルムとを貼り合せる場合には、光学フィルム及びパターン位相差フィルムの矩形の辺同士を揃えることにより、両者の面内方向の向き（方位角方向の向き）を合わせることが一般的である。
【００５６】
他方、光学フィルムとして光学軸を有するフィルムを用いる場合、光学フィルムの光学軸の方向とパターン位相差フィルムのＰＲ層の遅相軸の方向とが所望の角度をなすように、光学フィルム及びパターン位相差フィルムの面内方向の向きを調整することが求められる。例えば、光学フィルムとして位相差フィルムを用い、ＰＲ層の領域として異方性領域と等方性領域とを組み合わせて用いる場合には、その位相差フィルムの遅相軸の方向とＰＲ層の異方性領域の遅相軸の方向とが所望の角度をなすように、位相差フィルムとパターン位相差フィルムの面内方向の向きを調整することが求められる。したがって、一般的には、前記のように光学フィルム及びパターン位相差フィルムの矩形の辺を目印にして貼り合わせを行った場合に光学フィルムの光学軸の方向とパターン位相差フィルムのＰＲ層の遅相軸の方向とが所望の角度をなすように、光学フィルム及びパターン位相差フィルムの設計が行われる。
【００５７】
しかし、実際の工業製品においては、光学軸の方向には数度（通常は、１°〜２°程度）の誤差が含まれる可能性がある。したがって、光学積層体の品質向上のためには、前記の光学軸の方向の誤差の影響を排除して、光学フィルム及びパターン位相差フィルムの面内方向の向きを正確に調整することが好ましい。
【００５８】
このように光学フィルム及びパターン位相差フィルムの面内方向の向きを正確に調整するためには、光学フィルムの光学軸の方向及びパターン位相差フィルムの遅相軸の方向を正確に検知することが好ましい。以下、このように光学フィルムの光学軸の方向及びパターン位相差フィルムの遅相軸の方向を検知した上で、光学フィルム及びパターン位相差フィルムの面内方向の向きを正確に調整してから、光学積層体の製造を行う製造方法について、第二実施形態を挙げて説明する。
【００５９】
図８は、本発明の第二実施形態に係るパターン位相差フィルム１００の模式的な斜視図である。
図８に示すように、本発明の第二実施形態に係るパターン位相差フィルム１００は、第一実施形態と同様のＰＲ層１１０及び基材フィルム層１２０を備える。ただし、本実施形態に係るパターン位相差フィルム１００では、ＰＲ層１１０の領域１１１が異方性領域となっており、領域１１２が等方性領域となっているものとする。パターン位相差フィルム１００の基材フィルム層１２０及びＰＲ層１１０の領域１１２が遅相軸を有さないので、本実施形態に係るパターン位相差フィルム１００が有する遅相軸は、ＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１だけである。したがって、本実施形態では、前記の輝度Ａにより、領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向を検知することになる。
【００６０】
図９は、本発明の第二実施形態に係る光学フィルム３００の模式的な斜視図である。
本発明の第二実施形態に係る光学フィルム３００としては、位相差フィルムを用いている。したがって、図９に示すように、光学フィルム３００は、光学軸として遅相軸Ａ３００を有する。
【００６１】
本発明の第二実施形態に係る光学積層体の製造方法では、第一実施形態と同様にして、パターン位相差フィルム１００を領域１１１及び１１２の延在方向とローラ２００の走行方向とが直交する向きに配置し、さらに、パターン位相差フィルム１００に対向する位置に光学フィルム３００を配置する。その後、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向を検知する工程、及び、光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知する工程を行う。これらの工程はいずれを先に行ってもよいが、本実施形態では、先にパターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向の検知を行う。
【００６２】
図１０は、本発明の第二実施形態に係るパターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向を検知するための測定系Ａを模式的に示す斜視図である。ただし、図１０においては、上部ステージ２１０の図示は省略する。
本発明の第二実施形態にかかる光学積層体の製造方法では、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向を検知するために、上部ステージ２１０の上下に一対の偏光子６１０及び６２０、光源６３０並びに輝度測定装置としてのカメラ６４０を設置して、図１０に示すような測定系Ａを用意する。
【００６３】
この測定系Ａは、クロスニコル状態で配置された一対の偏光子６１０及び６２０と、当該一対の偏光子６１０及び６２０の間に配置されたパターン位相差フィルム１００とを含む。クロスニコル状態であるので、偏光子６１０の偏光透過軸Ａ６１０と偏光子６２０の偏光透過軸Ａ６２０とは、厚み方向で見て直交している。光源６３０、一方の偏光子６１０、パターン位相差フィルム１００、他方の偏光子６２０及びカメラ６４０は、この順に並んでいる。したがって、測定系Ａにおいて、光源６３０から発せられた光は偏光子６１０に照射され、その後、パターン位相差フィルム１００及び偏光子６２０を通った光の輝度Ａが、カメラ６４０で測定されうるようになっている。
【００６４】
そこで、前記の測定系Ａを用意した後で、光源６３０から偏光子６１０（偏光子の一方）に光を照射しながら、パターン位相差フィルム１００を一対の偏光子６１０及び６２０に対して相対的に面内方向に回転させて、一対の偏光子６１０及び６２０並びにパターン位相差フィルム１００を透過する光の輝度Ａをカメラ６４０により測定する。そして、測定された輝度Ａに基づいて、パターン位相差フィルム１００の少なくとも１つの遅相軸Ａ１１１の方向を検知する。
【００６５】
一対の偏光子６１０及び６２０がクロスニコル状態で配置されているので、図１０に示す測定系Ａでは、偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０と領域１１１の遅相軸Ａ１１１とが厚み方向で見て平行又は直交する場合に、カメラ６４０で測定される輝度Ａは最小となる。したがって、カメラ６４０で測定される輝度Ａが最小となるときの偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸の方向を調べることにより、ＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向を検知できる。
【００６６】
領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向の検知方法を、図面を示して更に詳しく説明する。図１１及び図１２は、本発明の第二実施形態に係るパターン位相差フィルム１００の測定系Ａにおいて、カメラ６４０の位置から偏光子６２０及びパターン位相差フィルム１００を見た様子を模式的に示す上面図である。
輝度Ａの測定の際、図１１に示すように、面内での光学軸の向きを決める基準とするために、基準線Ｌを設定する。本実施形態では、測定開始時点における偏光子６２０の偏光透過軸と平行な直線を基準線Ｌとして設定している。
【００６７】
そして、光源６３０から偏光子６１０に、光を照射する。また、カメラ６４０によって偏光子６１０及び６２０並びにパターン位相差フィルム１００を透過する光の輝度Ａを測定しながら、一対の偏光子６１０及び６２０をクロスニコル状態を維持したまま、矢印Ａ４に示すように面内方向に回転させる。
【００６８】
図１２に示すように、回転した偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０がＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１と平行又は直交するとき、カメラ６４０によって測定される輝度Ａは最小となる。このため、偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０と平行又は直交する方向が、領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向として検知される。本実施形態では、基準線Ｌと偏光子６２０の偏光透過軸Ａ６２０とがなす角の大きさが角度θとなったときに、輝度Ａが最小になったものとする。
【００６９】
前述のように、偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０と領域１１１の遅相軸Ａ１１１とが平行又は直交となるとき、輝度Ａは最小となる。そのため、輝度Ａの値だけから領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向を検知しようとすれば、偏光子６２０の偏光透過軸Ａ６２０に平行な方向及び直交する方向という、２つの方向が遅相軸Ａ１１１の方向の候補として導き出される。したがって、一見すると、前記の方法では領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向を一義には検知できないように思われる。しかし、通常は、領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向として、誤差の範囲を除くおおよその方向は判明しているので、前記の２つの方向のうちいずれが領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向であるかは、容易に判断できる。また、この点は、後述する光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００についても、同様である。
【００７０】
次に、光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知する工程を行う。図１３は、本発明の第二実施形態に係る光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知するための測定系Ｂを模式的に示す斜視図である。ただし、図１３においては、下部ステージ２２０及び粘着層４００の図示は省略する。
光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知するため、下部ステージ２２０の上下に一対の偏光子６１０及び６２０、光源６３０並びに輝度測定装置としてのカメラ６４０を設置して、図１３に示すような測定系Ｂを用意する。
【００７１】
この測定系Ｂは、パターン位相差フィルム１００を光学フィルム３００に置き換えたこと以外は、輝度Ａを測定した後の測定系Ａ（図１０参照）と同様である。したがって、図１３に示す測定系Ｂは、クロスニコル状態で配置された一対の偏光子６１０及び６２０と、当該一対の偏光子６１０及び６２０の間に配置された光学フィルム３００とを含み、更に光源６３０及びカメラ６４０を含む。そして、光源６３０から発せられた光が偏光子６１０に照射され、その後、光学フィルム３００及び偏光子６２０を通った光の輝度Ｂが、カメラ６４０で測定されるようになっている。また、この測定系Ｂでは、偏光子６２０の偏光透過軸Ａ６２０の方向は、基準線Ｌと角度θをなす方向となっている。したがって、この測定系Ｂにおいて一対の偏光子６１０及び６２０は、前記のように特定されたＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１と平行又は直交する偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０を有することになる。
【００７２】
前記の測定系Ｂを用意した後で、光源６３０から偏光子６１０（偏光子の一方）に光を照射しながら、光学フィルム３００を一対の偏光子６１０及び６２０に対して相対的に面内方向に回転させて、一対の偏光子６１０及び６２０並びに光学フィルム３００を透過する光の輝度Ｂをカメラ６４０により測定する。そして、測定された輝度Ｂに基づいて、光学フィルム３００の光学軸である遅相軸Ａ３００の方向を検知する。
【００７３】
一対の偏光子６１０及び６２０がクロスニコル状態で配置されているので、図１３に示す測定系Ｂでは、偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００とが厚み方向で見て平行又は直交する場合に、カメラ６４０で測定される輝度Ｂは最小となる。したがって、カメラ６４０で測定される輝度Ｂが最小となるときの偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０の方向を調べることにより、光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知できる。
【００７４】
光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向の検知方法を、図面を示して更に詳しく説明する。図１４及び図１５は、本発明の第二実施形態に係る光学フィルム３００の測定系Ｂにおいて、カメラ６４０の位置から偏光子６２０及び光学フィルム３００を見た様子を模式的に示す上面図である。
輝度Ｂの測定の際、光源６３０から偏光子６１０に光を照射する。また、カメラ６４０によって偏光子６１０及び６２０並びに光学フィルム３００を透過する光の輝度Ｂを測定しながら、下部ステージ２２０を回転させることによって、図１４に示すように、光学フィルム３００を矢印Ａ５に示すように回転させる。
【００７５】
図１５に示すように、回転した光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００が、偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０と平行又は直交するとき、カメラ６４０によって測定される輝度Ｂは最小となる。このため、偏光子６１０及び６２０の偏光透過軸Ａ６１０及びＡ６２０と平行又は直交する方向が、光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向として検知される。本実施形態では、偏光子６２０の偏光透過軸Ａ６２０と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００とが直交することにより、輝度Ｂが最小になったものとする。したがって、本実施形態では、光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００が、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１と、厚み方向で見て直交する方向を向いたときに、輝度Ｂが最小となっている。
【００７６】
パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とを検知した後に、パターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００の相対位置を調整する。詳しくは、検知されたパターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とが所望の角度をなすように、上部ステージ２１０及び下部ステージ２２０の向きを調整して、パターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００の相対位置を調整する。
【００７７】
その後、第一実施形態と同様に、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合わせて、光学積層体５００を製造する。パターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００の相対位置を正確に調整することにより、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とがなす角度を正確に制御して、貼り合わせを行うことができる。これにより、光学軸の方向を正確に制御した光学積層体５００が得られる。この光学積層体５００は、優れた光学特性を有する。そのため、この光学積層体５００を備える表示装置の画質を高めることができる。
【００７８】
また、本実施形態の方法でパターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とを検知したとき、検知後のパターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００は、パターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００の面内方向の向きを変えなくても、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とは厚み方向で見て直交している。すなわち、本実施形態に係る光学積層体５００の製造方法において、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とが直交するようにしたい場合には、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向を検知する工程及び光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知する工程が、パターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００の相対位置を調整する工程を兼ねている。したがって、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とが直交するようにしたい場合、上述した第二実施形態に係る製造方法は、手間を減らして製造効率を高められる点で、好ましい。
【００７９】
さらに、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とが厚み方向で見て平行になるようにしたい場合も、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向を検知する工程及び光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知する工程に、パターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００の相対位置を調整する工程を兼ねさせることができる。
【００８０】
また、本実施形態のように、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１及び光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００を、パターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００が上部ステージ２１０及び下部ステージ２２０等のステージに取り付けられた状態で測定したい場合には、例えば、ステージに測定用の窓を設けたり、ステージからはみ出したフィルムの端部にて測定を行ったりしてもよい。
【００８１】
［３．第三実施形態］
第二実施形態では、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向を検知した。しかし、パターン位相差フィルム１００においては、通常、ＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の延在方向により、ＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向を特定できることが多い。したがって、第二実施形態のようにＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とが所望の角度をなすように相対位置の調整を行う代わりに、ＰＲ層１１０の領域１１１及び１１２の延在方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とが所望の角度をなすように相対位置の調整を行ってもよい。
【００８２】
例えば、上述した第二実施形態に係る光学積層体の製造方法において、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向と光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向とが所望の角度をなすようにパターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００の相対位置を調整する代わりに、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の領域１１１又は１１２の延在方向と光学フィルム３００の光学軸である遅相軸Ａ３００の方向とが所望の角度をなすようにパターン位相差フィルム１００及び光学フィルム３００の相対位置を調整するようにしてもよい。
【００８３】
具体的には、ＰＲ層１１０の領域１１１又は１１２の延在方向と平行な直線を仮想的に設定し、この直線を領域１１１の遅相軸Ａ１１１と同様に扱って、前記の第二実施形態と同様にして光学積層体５００を製造してもよい。この場合、第二実施形態とは異なり、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の領域１１１の遅相軸Ａ１１１の方向を検知することは、不要である。これにより、第二実施形態よりも簡単に、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００との相対位置の調整を行うことができる。
【００８４】
［４．変形例］
以上、本発明について実施形態を示して説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、更に変更して実施してもよい。
例えば、前述の実施形態ではいずれもパターン位相差フィルム１００としてＰＲ層１１０と基材フィルム層１２０とを備えた複層フィルムを用いたが、ＰＲ層１１０からなる単層フィルムをパターン位相差フィルムとして用いてもよい。
【００８５】
また、例えば、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合せる際に光学フィルム３００に張力をかける方法は任意であり、第一実施形態で例示した以外の方法を用いてもよい。具体例を挙げると、把持子で光学フィルム３００の端部を把持し、その把持子によってパターン位相差フィルム１００を引っ張ってもよい。ただし、第一実施形態で例示したように下部ステージ２２０との摩擦を利用する方法は、実施が容易であり、且つ、パターン位相差フィルム１００に面内で均一な張力をかけられる点で、好ましい。
【００８６】
また、前述の実施形態ではいずれも粘着剤で形成した粘着層によってパターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合わせるようにしたが、粘着剤の代わりに接着剤を用いてもよく、粘着剤及び接着剤を用いずにパターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを直接に貼り合わせてもよい。さらに、接着剤を用いた場合には、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合わせた後で、必要に応じて加熱処理及び紫外線照射処理等の硬化処理を行うことにより、その接着剤を硬化させることが好ましい。
【００８７】
また、前述の実施形態ではいずれも光学フィルム３００の表面に粘着層４００を形成し、その粘着層４００によってパターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合わせるようにしたが、パターン位相差フィルム１００の表面に粘着層４００を形成し、その粘着層４００によってパターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とを貼り合わせるようにしてもよい。
【００８８】
また、第二実施形態及び第三実施形態では、ＰＲ層１１０の領域１１１及び領域１１２の組み合わせとして異方性領域と等方性領域との組み合わせを例に挙げて説明したが、領域１１１及び領域１１２の組み合わせは任意である。例えば、領域１１１及び領域１１２の組み合わせとして、遅相軸方向が略９０°異なる２種類の領域の組み合わせを採用した場合でも、第二実施形態及び第三実施形態と同様にして光学積層体を製造することができる。
【００８９】
さらに、第二実施形態及び第三実施形態では、パターン位相差フィルム１００を領域１１１及び１１２の延在方向とローラ２００の走行方向とが直交する向きに配置し、さらに、パターン位相差フィルム１００に対向する位置に光学フィルム３００を配置した後で、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向及び光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知する工程を行った。しかし、パターン位相差フィルム１００の遅相軸Ａ１１１の方向及び光学フィルム３００の遅相軸Ａ３００の方向を検知する工程は、光学フィルム３００とパターン位相差フィルム１００とを貼り合せる工程よりも前の任意の時期に行いうる。
【００９０】
［５．パターン位相差フィルムの製造方法］
以下、パターン位相差フィルムの製造方法について説明する。
パターン位相差フィルムは、例えば、基材フィルム層上にＰＲ層を形成することにより、製造しうる。
【００９１】
ＰＲ層は、例えば、液晶相を呈することができ且つ紫外線（ＵＶ）等のエネルギー線の照射を受けて硬化しうる材料を用いて製造しうる。かかる材料を、以下において「硬化性液晶組成物」ということがある。また、かかる材料の、未硬化状態の層又は硬化後の層を、以下において「液晶樹脂層」ということがある。
【００９２】
例えば、異方性領域と等方性領域とを有するＰＲ層は、硬化性液晶組成物を適切な基材フィルム層に塗布して未硬化状態の液晶樹脂層を得て、その液晶樹脂層の一部をある配向状態で硬化させ、他の一部を等方相の配向状態（すなわち、配向していない状態）で硬化させることにより製造してもよい。このような製造方法は、基材フィルム層として長尺の基材フィルム層を用いて行うことが可能である。また、このような製造方法は、基材フィルム層を搬送方向にラビングすることで、そのラビング方向と平行に硬化性液晶組成物が配向させることが可能である。そのため、このような製造方法は、ＰＲ層を長尺のフィルムとして製造できるので、生産効率の点で優れている。
【００９３】
具体的には、
ｉ．基材フィルム層の一方の表面に、エネルギー線を遮光しうる遮光部と前記エネルギー線を透過させうる透光部とを有するマスク層を作製する工程と、
ii．前記基材フィルム層の前記マスク層とは反対側の表面に、未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程と、
iii．前記基材フィルム層の前記マスク層側に、前記遮光部で遮光されるが前記透光部を透光する波長のエネルギー線を照射して、前記液晶樹脂層の一部の領域を硬化させる第一の硬化工程と、
iv．前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させる工程と、
ｖ．前記基材フィルム層の前記マスク層とは反対側にエネルギー線を照射して前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域を硬化させる第二の硬化工程と
を有する製造方法により製造してもよい。
【００９４】
このようにして製造されたＰＲ層は、通常はマスク層を剥がした後で使用される。また、必要であれば、ＰＲ層から基材フィルム層を剥がしてもよい。ただし、適宜、基材フィルム層及びマスク層は、本発明の効果を著しく損なわない限り、剥がさずに使用してもよい。
【００９５】
上記の製造方法において、基材フィルム層の材料としては、未硬化状態の液晶樹脂層を硬化させる工程において液晶樹脂層が硬化できる程度に紫外線等のエネルギー線を透過させられる材料を用いうる。通常は、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上である材料が好適である。ここで、全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１９９７に準拠して、濁度計（日本電色工業社製、ＮＤＨ−３００Ａ）を用いて測定しうる。
【００９６】
基材フィルム層の材料の例としては、樹脂が挙げられる。これらの樹脂が含む重合体の例を挙げると、鎖状オレフィン重合体、シクロオレフィン重合体、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース系重合体、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、鎖状オレフィン重合体及びシクロオレフィン重合体が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、シクロオレフィン重合体が特に好ましい。
【００９７】
ここで、樹脂は、１種類の重合体を単独で含むものを用いてもよく、２種類以上の重合体を任意の比率で組み合わせて含むものを用いてもよい。また、樹脂には、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含ませてもよい。好適な樹脂の具体例を挙げると、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」を挙げることができる。
【００９８】
基材フィルム層の厚みは、製造時のハンドリング性、材料のコスト、薄型化及び軽量化の観点から、好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上であり、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
【００９９】
基材フィルム層は、延伸されていない未延伸フィルムであってもよく、延伸された延伸フィルムであってもよい。また、基材フィルム層は、等方なフィルムであってもよく、異方性を有するフィルムであってもよい。
【０１００】
基材フィルム層は、一層のみを備える単層構造のフィルムであってもよく、二層以上の層を備える複層構造のフィルムであってもよい。通常は、生産性及びコストの観点から、単層構造のフィルムを用いる。
【０１０１】
基材フィルム層は、その片面又は両面に表面処理が施されたものであってもよい。表面処理を施すことにより、基材フィルム層の表面に直接形成される他の層との密着性を向上させることができる。表面処理としては、例えば、エネルギー線照射処理及び薬品処理などが挙げられる。また、基材フィルム層の硬化性液晶組成物を塗布する面に、配向膜を形成していてもよい。
【０１０２】
マスク層の材料としては、エネルギー線（例えば、紫外線）を遮光することができ、且つパターンの形成が容易なマスク用組成物を適宜選択して用いてもよい。
【０１０３】
通常、マスク用組成物としては、樹脂を用いる。前記の樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロースエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ウレタンアクリレート硬化樹脂、エポキシアクリレート硬化樹脂およびポリエステルアクリレート硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種類の樹脂が好ましい。これらの樹脂を含むことにより、紫外線を遮光する材料を高温環境下においても保持し、安定した遮光部を作製することができる。前記の樹脂は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１０４】
マスク用組成物に含まれる樹脂のガラス転移温度は、通常８０℃以上、好ましくは１００℃以上であり、通常４００℃以下、好ましくは３５０℃以下である。ガラス転移温度を８０℃以上にすることによりマスク層の耐熱性を高めることができ、例えば液晶樹脂層の加熱時にマスク層が変形することを防止できる。また、ガラス転移温度を４００℃以下にすることにより、樹脂の溶解性を高めてマスク用組成物の印刷を簡単にできる。印刷前の状態とマスク層を形成した後の状態とで樹脂のガラス転移温度が変化する場合には、マスク層を形成した後の状態においてガラス転移温度が前記の範囲に収まることが好ましい。
【０１０５】
マスク用組成物は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。これによりマスク層の遮光部が紫外線吸収剤を含むことになり、遮光部において紫外線を安定して遮光することができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤およびトリアジン系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種類の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。紫外線吸収剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤の使用量は、マスク層中のモノマー、オリゴマー及びポリマー１００重量部に対して、通常５重量部以上、好ましくは８重量部以上、より好ましくは１０重量部以上であり、通常２０重量部以下、好ましくは１８重量部以下、より好ましくは１５重量部以下である。
【０１０６】
マスク用組成物は、さらに、着色剤、金属粒子、溶媒、光重合開始剤、架橋剤等の任意の成分を含んでいてもよい。
【０１０７】
マスク用組成物を用いてマスク層を形成する方法としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ロータリースクリーン印刷法、グラビアオフセット印刷法、インクジェット印刷法、又はこれらの組み合わせである印刷法を好ましく挙げることができる。透光部と遮光部は、例えば、マスク層の厚みが薄い層と厚い層とを形成することにより設けてもよい。
【０１０８】
硬化性液晶組成物としては、液晶化合物（液晶性を有する化合物）を含む組成物を用いうる。前記の液晶化合物としては、例えば、重合性基を有する液晶化合物、側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。重合性基を有する液晶化合物としては、例えば、特開平１１−５１３３６０号公報、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報などに記載された重合性基を有する棒状液晶化合物などが挙げられる。また、側鎖型液晶ポリマー化合物としては、例えば、特開２００３−１７７２４２号公報などに記載の側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。また、好ましい液晶化合物の例を製品名で挙げると、ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」等が挙げられる。液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１０９】
硬化性液晶組成物における液晶化合物の屈折率異方性Δｎは、波長５４６ｎｍにおいて、好ましくは０．０５以上、より好ましくは０．１０以上であり、好ましくは０．３０以下、より好ましくは０．２５以下である。屈折率異方性Δｎを前記範囲の下限値以上にすることにより、所望の光学的機能を得るために液晶樹脂層に求められる厚みを薄くできるので、配向均一性を良好にできる。また、経済コスト的にも有利である。屈折率異方性Δｎを前記範囲の上限以下にすることにより、所望の光学的機能を得るために液晶樹脂層の厚みが過度に薄くなることを防止でき、厚み精度の観点で有利である。また、屈折率異方性Δｎが０．３０より大きい場合、液晶樹脂層の紫外線吸収スペクトルの長波長側の吸収端が可視域に及ぶ場合がありえるが、該スペクトルの吸収端が可視域に及んでも所望する光学的性能に悪影響を及ぼさない限り、使用可能である。
硬化性液晶組成物が液晶化合物を１種類だけ含む場合には、当該液晶化合物の屈折率異方性を、そのまま硬化性液晶組成物における液晶化合物の屈折率異方性とする。また、硬化性液晶組成物が液晶化合物を２種類以上含む場合には、各液晶化合物それぞれの屈折率異方性Δｎの値と各液晶化合物の含有比率とから求めた加重平均の値を、硬化性液晶組成物における液晶化合物の屈折率異方性とする。屈折率異方性Δｎの値は、セナルモン法により測定しうる。
【０１１０】
さらに、硬化性液晶組成物は、製造方法及び最終的な性能に対して適正な物性を付与するために、液晶化合物以外に任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分の例を挙げると、有機溶媒、界面活性剤、キラル剤、重合開始剤、紫外線吸収剤、架橋剤、酸化防止剤などが挙げられる。これらの成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１１】
有機溶媒のうち好適な例を挙げると、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、およびエーテル類等が挙げられる。これらの中でも、環状ケトン類、環状エーテル類が、液晶化合物を溶解させやすいために好ましい。環状ケトン類としては、例えば、シクロプロパノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられ、中でもシクロペンタノンが好ましい。環状エーテル類としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン等が挙げられ、中でも１，３−ジオキソランが好ましい。溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよく、硬化性液晶組成物としての相溶性、粘性、及び表面張力の観点などから最適化されることが好ましい。
有機溶媒の配合割合は、有機溶媒以外の固形分全量に対する割合として、通常は３０重量％以上９５重量％以下である。
【０１１２】
界面活性剤としては、配向を阻害しないものを適宜選択して使用することが好ましい。好ましい界面活性剤の例を挙げると、疎水基部分にシロキサン及びフッ化アルキル基等を含有するノニオン系界面活性剤などが挙げられる。中でも、１分子中に２個以上の疎水基部分を持つオリゴマーが特に好適である。これらの界面活性剤の例を製品名で挙げると、ＯＭＮＯＶＡ社ＰｏｌｙＦｏｘのＰＦ−１５１Ｎ、ＰＦ−６３６、ＰＦ−６３２０、ＰＦ−６５６、ＰＦ−６５２０、ＰＦ−３３２０、ＰＦ−６５１、ＰＦ−６５２；ネオス社フタージェントのＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２０４Ｄ；ＤＩＣ社メガファックのＦ−４７７、Ｆ−５５３、Ｆ−５５４、Ｆ−５５５、Ｆ−５５６、ＴＦ−１３６７；住友スリーエム社ノベックのＦＣ−４３０、ＦＣ−４４３０、ＦＣ−４４３２；セイミケミカル社サーフロンのＫＨ−４０等が挙げられる。界面活性剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１３】
界面活性剤の配合割合は、硬化性液晶組成物を硬化して得られる液晶樹脂層中における界面活性剤の濃度が０．０５重量％以上３重量％以下となるようにすることが好ましい。界面活性剤の配合割合を前記範囲の下限値以上にすることにより、空気界面における配向規制力を高くできるので、配向欠陥を防止できる。また、上限値以下にすることにより、過剰の界面活性剤が液晶性化合物の分子間に入り込まないようできるので、配向均一性を高くできる。
【０１１４】
キラル剤は、重合性化合物であってもよく、非重合性化合物であってもよい。キラル剤としては、通常、分子内にキラルな炭素原子を有し、液晶化合物の配向を乱さない化合物を使用する。キラル剤の例を挙げると、重合性のキラル剤としてはＢＡＳＦ社製「ＬＣ７５６」等が挙げられる。また、例えば、特開平１１−１９３２８７号公報、特開２００３−１３７８８７号公報などに記載されているものも挙げられる。キラル剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。キラル剤は、通常、ツイステッドネマチック相を有する領域を形成する場合に、重合性を有する液晶化合物と組み合わせて用いられる。
【０１１５】
重合開始剤は、例えば熱重合開始剤を用いてもよいが、通常は光重合開始剤を用いる。光重合開始剤としては、例えば、紫外線又は可視光線によってラジカル又は酸を発生させる化合物を使用しうる。光重合開始剤の例を挙げると、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、ビアセチル、アセトフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルイソブチルエーテル、テトラメチルチウラムモノ（ジ）スルフィド、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、２，２−ジエトキシアセトフェノン、β−アイオノン、β−ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α−アミルシンナックアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐｐ′−ジクロロベンゾフェノン、ｐｐ′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス（２，６−メトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、アントラセンベンゾフェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、１−クロルメチルナフタリン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］や１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン１−（ｏ−アセチルオキシム）などのカルバゾールオキシム化合物、（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、３−メチル−２−ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−（ｐ−フェニルチオフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。重合開始剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに、必要に応じて硬化性液晶組成物に、例えば三級アミン化合物等の光増感剤又は重合促進剤を含ませて、硬化性液晶組成物の硬化性を調整してもよい。光重合効率を向上させるためには、液晶化合物及び光重合開始剤などの平均モル吸光係数を適切に選定することが好ましい。
【０１１６】
紫外線吸収剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、４−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）−１−（２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのヒンダードアミン系紫外線吸収剤；２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエート系紫外線吸収剤；ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系；などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、所望する耐光性を付与するために、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１７】
紫外線吸収剤の配合割合は、液晶化合物１００重量部に対して、通常０．００１重量部以上、好ましくは０．０１重量部以上であり、通常５重量部以下、好ましくは１重量部以下である。紫外線吸収剤の配合割合を前記範囲の下限値以上にすることにより、紫外線吸収能を十分に高くできる。また、上限値以下にすることにより、硬化性液晶組成物を紫外線等の活性エネルギー線で硬化させる際に硬化を十分に進行させることができるので、液晶樹脂層の機械的強度及び耐熱性を高くできる。
【０１１８】
硬化性液晶組成物には、所望する機械的強度に応じて架橋剤を含ませてもよい。架橋剤の例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス［３−（１−アジリジニル）プロピオネート］、４，４−ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート型イソシアネート、ビウレット型イソシアネート、アダクト型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン等のアルコキシシラン化合物；などが挙げられる。架橋剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、硬化性液晶組成物には架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を含ませ、膜強度及び耐久性の向上に加えて生産性を向上させるようにしてもよい。
【０１１９】
前記架橋剤の配合割合は、硬化後の液晶樹脂層中における架橋剤の濃度が０．１重量％以上２０重量％以下となるようにすることが好ましい。架橋剤の配合割合を前記範囲の下限値以上にすることにより、架橋密度を十分に高めることができる。また、上限値以下にすることにより、硬化後の液晶樹脂層の安定性を高くできる。
【０１２０】
酸化防止剤としては、例えば、テトラキス（メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）メタン等のフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤などが挙げられる。酸化防止剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。酸化防止剤の配合量は、透明性が低下しない範囲としうる。
【０１２１】
未硬化状態の液晶樹脂層を設ける場合、通常は、塗布法を用いる。硬化性液晶組成物の塗布方法としては、例えば、リバースグラビアコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法等の方法が挙げられる。硬化性液晶組成物を基材フィルム層の表面に塗布することにより、未硬化状態の液晶樹脂層が形成される。
【０１２２】
硬化性液晶組成物は、基材フィルム層の表面に直接に塗布してもよく、基材フィルム層の表面に例えば配向膜等を介して間接的に塗布してもよい。配向膜を用いれば、液晶樹脂層において液晶化合物を容易に配向させることができる。
【０１２３】
配向膜は、例えば、セルロース、シランカップリング剤、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、エポキシアクリレート、シラノールオリゴマー、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、ポリオキサゾール、環化ポリイソプレンなどを用いて形成してもよい。これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１２４】
配向膜の厚みは、通常、所望の液晶樹脂層の配向均一性が得られる厚みとする。具体的な厚みの範囲は、好ましくは０．００１μｍ以上、より好ましくは０．０１μｍ以上であり、好ましくは５μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下である。
【０１２５】
さらに、例えば、特開平６−２８９３７４号公報、特表２００２−５０７７８２号公報、特許４０２２９８５号公報、特許４２６７０８０号公報、特許４６４７７８２号公報、米国特許５３８９６９８号明細書などに示されるような光配向膜と偏光ＵＶを用いる方法によって、液晶化合物を配向させるようにしてもよい。
【０１２６】
また、上述した配向膜以外の手段によって、液晶化合物を配向させるようにしてもよい。例えば、配向膜を使用せずに基材フィルム層の表面を直接ラビングするような配向処理を施してもよい。通常、基材フィルム層の搬送方向とラビング方向は平行になる。
前記の配向膜の形成、基材フィルム層の表面のラビング等の処理工程は、マスク層形成工程の工程前、工程中及び工程後のいずれの時点で行ってもよく、未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程の前に行うことが好ましい。
【０１２７】
ＰＲ層の製造方法においては、第一の硬化工程に先立ち、必要に応じて、未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程を行った後で、液晶樹脂層の液晶化合物を配向させる配向工程を行ってもよい。配向工程における具体的な操作としては、例えば、オーブン内で未硬化状態の液晶樹脂層を所定の温度に加熱する操作を挙げることができる。
【０１２８】
配向工程において液晶樹脂層を加熱する温度は、通常４０℃以上、好ましくは５０℃以上であり、通常２００℃以下、好ましくは１４０℃以下である。また、加熱処理における処理時間は、通常１秒以上、好ましくは５秒以上であり、通常３分以下、好ましくは１２０秒以下である。これにより、液晶樹脂層中の液晶化合物が配向できる。また、硬化性液晶組成物に溶媒が含まれていた場合、前記の加熱によって通常は溶媒が乾燥するので、液晶樹脂層から溶媒が除去される。したがって、配向工程を行うと、通常は液晶樹脂層を乾燥させる乾燥工程も同時に進行する。通常、液晶樹脂層の配向軸はラビング方向と平行となり、配向軸が遅相軸となる。
【０１２９】
必要に応じて配向工程を行った後で、液晶樹脂層の一部の領域を硬化させる第一の硬化工程を行う。第一の硬化工程は、通常、紫外線の照射により行う。紫外線の照射時間、照射量、及びその他の条件は、硬化性液晶組成物の組成及び液晶樹脂層の厚みなどに応じて適切に設定しうる。照射時間は通常０．０１秒から３分の範囲であり、照射量は通常０．０１ｍＪ／ｃｍ２から５０ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。
【０１３０】
第一の硬化工程の後で、液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させる工程を行う。この工程において、配向状態を変化させる方法としては、例えば、ヒーターにより、液晶樹脂層を、硬化性液晶組成物の透明点（ＮＩ点）以上に加熱してもよい。これにより、液晶化合物分子の配向はランダムになるので、液晶樹脂層の未硬化状態の領域は等方相となる。
【０１３１】
液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させた後で、第二の硬化工程を行う。第二の硬化工程は、紫外線の照射により行ってもよい。紫外線の照射時間、照射量などは、硬化性液晶組成物の組成及び液晶樹脂層の厚みなどに応じて適切に設定しうるが、照射量は通常５０ｍＪ／ｃｍ２から１０，０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。照射に際して、必要に応じてヒーターによる加熱を継続して、未硬化状態の液晶樹脂層の等方相を維持した状態で照射を行ってもよい。
このような製造方法により、異方性領域と等方性領域とを有するＰＲ層を備えるパターン位相差フィルムを製造できる。
【０１３２】
さらに、別の製造方法として、異方性領域と等方性領域とを有するＰＲ層は、
ｉ．基材フィルム層の一方の表面に、未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程と、
ii．前記基材フィルム層の液晶樹脂層を設けた面と反対側の表面に、ストライプパターンの透光部および遮光部をガラス上に設けたガラスマスクを介して、エネルギー線を照射して、前記液晶樹脂層の一部の領域を硬化させる第一の硬化工程と、
iii．前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させる工程と、
iv．前記基材フィルム層の液晶樹脂層を設けた面にエネルギー線を照射して前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域を硬化させる第２の硬化工程と
を有する製造方法により製造してよい。この製造方法においては、先に説明した製造方法と同様の操作は、先に説明した製造方法と同様の条件で行ってもよい。
【０１３３】
また、第一の硬化工程としては、特開平４−２９９３３２号公報に示した方法を使用してもよい。また、ガラスマスクは、例えば、ガラス表面にクロムスパッタを施し、さらにフォトレジストを塗布し、ストライプ状に露光してフォトレジストを感光させて、洗浄し、クロムをエッチングしたものを用いてもよい。あるいは、例えば感光性乳剤を塗布したＰＥＴフィルムをストライプ状にレーザー描画し、洗浄し、該ＰＥＴフィルムをガラス上に接着層を介して貼り合わせたものを用いてもよい。
さらに、上述した各製造方法では、ＰＲ層が得られる限り、各工程の順番は任意である。
【０１３４】
上述した製造方法によれば、いずれも、遮光部及び透光部により形成されるマスク層又はガラスマスクのマスクパターンを精度よく写し取ったパターンを有するＰＲ層が製造できる。さらに、当該方法により得られたＰＲ層においては、異方性領域と等方性領域との間には、物質的な連続性がある。したがって、領域間の空隙による反射及び散乱等を生じない点で光学的に有利であり、また、領域間の空隙を起点とした破損等を生じない点で機械的強度の点でも有利である。
【０１３５】
また、例えば、遅相軸方向が異なる複数の異方性領域を有するＰＲ層は、以下に説明する方法で製造してもよい。
すなわち、この製造方法は、
i．基材フィルム層の表面に、光配向材料の層（以下、「光配向材料層」ということがある。）を形成する工程と、
ii．光配向材料層の一部の領域に、偏光を照射する工程と、
iii．光配向材料層の全体に、前記の偏光の振動方向に対して垂直な振動方向を有する偏光を照射して、配向膜を得る工程と、
iv．前記配向膜の表面に、液晶化合物を含み活性エネルギー線の照射により硬化しうる硬化性液晶組成物の層（即ち、未硬化状態の液晶樹脂層）を形成する工程と、
v．前記液晶樹脂層に活性エネルギー線を照射して、液晶樹脂層を硬化させる工程とを有する。
【０１３６】
これらのようにして製造されたＰＲ層は、必要であれば、基材フィルム層を剥がした後で使用してもよい。ただし、本発明の効果を著しく損なわない限り、基材フィルム層は、剥がさずに使用してもよい。
【０１３７】
光配向材料とは、偏光を照射されることにより不可逆的に配向する材料である。このような光配向材料の例としては、特許４２６７０８０号公報に記載のＰＰＮ層に使用されるＰＰＮ材料、特許４６４７７８２号公報に記載のＬＰＰ／ＬＣＰ混合物、第２５４３６６６号公報に記載のＰＰＮ材料などが挙げられる。なお、これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１３８】
基材フィルム層の表面に、必要に応じてコロナ放電処理（例えば、出力０．２ｋＷ、基材フィルム層濡れ指数５６ｄｙｎｅ／ｃｍ２）を施し、その処理面に光配向材料を塗布することにより、光配向材料層を形成する。光配向材料層の厚みは、通常、所望する液晶樹脂層の配向均一性が得られる厚みにする。具体的な範囲を挙げると、好ましくは０．００１μｍ以上、より好ましくは０．０１μｍ以上であり、好ましくは５μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下である。
【０１３９】
光配向材料層を形成した後で、光配向材料層の一部の領域に偏光を照射する工程（第一の偏光照射工程）を行う。偏光を照射された領域では、光配向材料層において光配向材料が不可逆的に配向し、その配向状態を維持したまま固定化される。
【０１４０】
第一の偏光照射工程では、通常、マスクを介して光配向材料層に偏光を照射する。この際、マスクとしては、通常、ある方向に対して平行に延在する帯状の遮光部及び透光部を有するマスクを用いる。これにより、光配向材料層の、ある方向に対して平行に延在する帯状の領域に、偏光を照射することができる。
【０１４１】
マスクとしては、例えば、基材フィルム層の光配向材料層とは反対側に形成されたマスク層を用いてもよい。マスク層は、異方性領域と等方性領域とを有するＰＲ層の製造方法の説明において上述したものと同様に形成してもよい。
【０１４２】
また、マスクとしては、例えば、ガラス表面にクロムスパッタを施し、さらにフォトレジストを塗布し、ストライプ状に露光してフォトレジストを感光させて、洗浄し、クロムをエッチングしたガラスマスクを用いてもよい。
あるいは、例えば感光性乳剤を塗布したＰＥＴフィルムをストライプ状にレーザー描画し、洗浄し、該ＰＥＴフィルムをガラス上に接着層を介して貼り合わせたマスクを用いてもよい。
【０１４３】
第一の偏光照射工程では、偏光として、光配向材料を配向させうる波長であって、マスクの遮光部で遮光されるが透光部を透過しうる波長の光を用いる。このような偏光として、通常は紫外線を用いる。紫外線の照射時間、照射量、及びその他の条件は、光配向材料の組成及び光配向材料層の厚みに応じて適切に設定しうる。また、偏光の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。
【０１４４】
第一の偏光照射工程の後で、光配向材料層の全体に、前記の偏光の振動方向に対して垂直な振動方向を有する偏光を照射する第二の偏光照射工程を行う。これにより、第一の偏光照射工程において偏光が照射されていなかった領域において、光配向材料が不可逆的に配向し、その配向状態を維持したまま固定化される。また、第一の偏光照射工程で照射した偏光と第二の偏光照射工程で照射した偏光とは振動方向が垂直であるので、光配向材料層において第二の偏光照射工程で配向した領域の配向方向は、第一の偏光照射工程で配向した領域の配向方向と垂直になる。
【０１４５】
第二の偏光照射工程は、例えば、マスクを介さずに偏光を照射することにより行ってもよい。偏光の照射時間、照射量などは、光配向材料の組成及び光配向材料層の厚みに応じて適切に設定しうるが、照射量は通常５０ｍＪ／ｃｍ２から１０，０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、偏光の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。
【０１４６】
上述した製造方法により、基材フィルム層の表面に光配向材料層からなる配向膜が得られる。この配向膜においては、配向方向が互いに垂直な２群の領域が、遮光部及び透光部により形成されるマスクのマスクパターンを精度よく写し取ったパターンを形成する。本例においては、配向方向が互いに垂直な２群の領域が、いずれもある方向に対して平行に延在する帯状の形状を有して交互に並ぶことにより、全体としてストライプ状のパターンが形成される。
【０１４７】
基材フィルム層に配向膜を形成した後で、その配向膜の表面に、液晶樹脂層を形成する。硬化性液晶組成物としては、例えば、異方性領域と等方性領域とを有するＰＲ層の製造方法の説明において上述したものと同様の硬化性液晶組成物を用いてもよい。
【０１４８】
未硬化状態の液晶樹脂層を設ける場合、通常は、塗布法を用いる。硬化性液晶組成物の塗布方法としては、例えば、異方性領域と等方性領域とを有するＰＲ層の製造方法の説明において上述したものと同様の方法を用いてもよい。硬化性液晶組成物を基材フィルム層の表面に塗布することにより、未硬化状態の液晶樹脂層が形成される。
【０１４９】
未硬化状態の液晶樹脂層を形成する工程を行った後で、必要に応じて、液晶樹脂層に含まれる液晶化合物を配向させる配向工程を行ってもよい。配向工程を行うことにより、配向膜の各領域の配向方向に応じた方向へと液晶化合物が配向する。配向工程における具体的な操作としては、例えば、異方性領域と等方性領域とを有するＰＲ層の製造方法の説明において上述したのと同様の操作を行なってもよい。
【０１５０】
必要に応じて配向工程を行った後で、未硬化状態の液晶樹脂層を硬化させる工程（硬化工程）を行う。硬化させられる液晶樹脂層の各領域では硬化性液晶組成物において重合反応が進行し、液晶化合物は配向状態を維持したまま固定化される。これにより、基材フィルム層の表面に、配向膜を介して、液晶樹脂層からなるＰＲ層が形成される。
【０１５１】
硬化工程は、通常、紫外線の照射により行う。紫外線の照射時間、照射量などは、硬化性液晶組成物の組成及び液晶樹脂層の厚みなどに応じて適切に設定しうるが、照射量は通常５０ｍＪ／ｃｍ２から１０，０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。
【０１５２】
このＰＲ層においては、遅相軸方向が異なる２種類の異方性領域が、配向膜に形成された異なる配向方向を有する領域のパターンを精度よく写し取ったパターンを形成する。通常、配向膜の各領域における配向方向と、その表面に形成されたＰＲ層の各異方性領域の遅相軸方向とは、平行又は垂直となる。したがって、本例のように配向方向が互いに垂直な領域を配向膜に形成した場合、遅相軸方向が略９０°異なる異方性領域を有するＰＲ層を備えるパターン位相差フィルムを製造できる。
【０１５３】
さらに、当該製造方法により得られたＰＲ層においては、遅相軸方向が異なる異方性領域の間には、物質的な連続性がある。したがって、上述した製造方法は、異なる異方性領域間の空隙による反射及び散乱等を生じない点で光学的に有利であり、また、異方性領域間の空隙を起点とした破損等を生じない点で機械的強度の点でも有利である。
【０１５４】
また、上述した製造方法においては、必要に応じて、上述した工程以外の工程を行うようにしてもよい。
また、所望のパターン位相差フィルムが得られる限り、各工程の順番は任意である。
【０１５５】
こうして得られたパターン位相差フィルムは、通常、高い透明性を有する。具体的には、パターン位相差フィルムの全光線透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。なお、上限は理想的には１００％である。ここで、全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１９９７に準拠して測定する。
【０１５６】
さらに、パターン位相差フィルムは、通常、ヘイズが小さい。具体的には、パターン位相差フィルムのヘイズは、通常１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは１％以下である。なお、下限値は理想的にはゼロであるが、通常は０．１％以上である。ここで、ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１９９７に準拠して測定する。
【０１５７】
［６．光学フィルム］
光学フィルムとしては、光学積層体の用途に応じて任意のフィルムを用いうる。
例えば、異方性領域と等方性領域とを有するＰＲ層を備えたパターン位相差フィルムと貼り合せる光学フィルムとしては、１／４波長板として機能しうる位相差フィルムを用いてもよい。ここで、１／４波長板として機能しうる位相差フィルムのレターデーションの値は、透過光の波長範囲の中心値の１／４の値から、通常±６５ｎｍ、好ましくは±３０ｎｍ、より好ましくは±１０ｎｍの範囲であるか、または、中心値の３／４の値から通常±６５ｎｍ、好ましくは±３０ｎｍ、より好ましくは±１０ｎｍの範囲である。前記の透過光は通常は可視光であるため、透過光の波長範囲の中心値としては、通常、透過光の波長範囲の中心値である５５０ｎｍを適用する。
【０１５８】
また、例えば、遅相軸方向が略９０°異なる２種類の領域を有するＰＲ層を備えたパターン位相差フィルムと貼り合せる光学フィルムとしては、等方なフィルムを用いてもよい。
【０１５９】
このような光学フィルムとしては、通常、樹脂フィルムを用いる。光学フィルムを形成する樹脂は、通常、重合体を含む。これらの樹脂が含む重合体の例を挙げると、鎖状オレフィン重合体、シクロオレフィン重合体、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース系重合体、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、鎖状オレフィン重合体及びシクロオレフィン重合体が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、シクロオレフィン重合体が特に好ましい。
【０１６０】
ここで、樹脂は、１種類の重合体を単独で含むものを用いてもよく、２種類以上の重合体を任意の比率で組み合わせて含むものを用いてもよい。また、樹脂には、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含ませてもよい。好適な樹脂の具体例を挙げると、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」を挙げることができる。
【０１６１】
光学フィルムは、延伸されていない未延伸フィルムであってもよく、延伸された延伸フィルムであってもよい。
また、光学フィルムは、一層のみを備える単層構造のフィルムであってもよく、二層以上の層を備える複層構造のフィルムであってもよい。
【０１６２】
さらに、光学フィルムは、通常、高い透明性を有する。具体的には、光学フィルムの全光線透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。なお、上限は理想的には１００％である。
また、光学フィルムは、通常、ヘイズが小さい。具体的には、光学フィルムのヘイズは、通常１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは１％以下である。なお、下限値は理想的にはゼロであるが、通常は０．１％以上である。
【０１６３】
好適な光学フィルムの例を挙げると、位相差フィルムとしては、市販の斜め延伸フィルム、長尺の横延伸フィルム、例えば、日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」や「横延伸ゼオノアフィルム」などを挙げることができる。また、等方なフィルムとしては、日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」などを挙げることができる。
【０１６４】
［７．粘着剤］
粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリオレフィン系粘着剤、変性ポリオレフィン系粘着剤、ポリビニルアルキルエーテル系粘着剤、ゴム系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤、塩化ビニル−酢酸ビニル系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン共重合体）系粘着剤、ＳＩＳ（スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体）系粘着剤、エチレン−スチレン共重合体などのエチレン系粘着剤、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体などのアクリル酸エステル系粘着剤などが挙げられる。特に、光学的透明性、粘着特性、耐候性、ハンドリング性、溶剤との相溶性の観点で、アクリル系粘着剤が好ましい。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１６５】
アクリル系粘着剤を形成するベースポリマーとして、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、ラウリル基、ドデシル基、デカニル基、イソデカニル基等のアルキル基を有するアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルなどが挙げられる。また、前記のアルキル基の炭素原子数は、２〜１４が好ましい。さらに、前記のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等のベースポリマーは、必要に応じ改質用モノマーと共に重合処理をして用いてもよい。また、ベースポリマー及び改質用モノマーは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１６６】
改質用モノマーとしては、（メタ）アクリル酸エステルと共重合可能な改質用モノマーを用いうる。改質用モノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリル、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）−メチルアクリレート等のヒドロキシル基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物モノマー；２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー；２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等の燐酸基含有モノマーなどが挙げられる。
【０１６７】
また、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−置換（メタ）アクリルアミド等のアミド系モノマー；Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレイミド系モノマー；Ｎ−メチルイタコンイミド、Ｎ−エチルイタコンイミド、Ｎ−ブチルイタコンイミド、Ｎ−オクチルイタコンイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルイタコンイミド、Ｎ−シクロヘキシルイタコンイミド、Ｎ−ラウリルイタコンイミド等のイタコンイミド系モノマー；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−６−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−８−オキシオクタメチレンスクシンイミド等のスクシンイミド系モノマー；なども改質用モノマーとして挙げられる。
【０１６８】
さらに、例えば、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン等のビニル系モノマー；ジビニルベンゼン等のジビニル系モノマー；１，４−ブチルジアクリレート、１，６−ヘキシルジアクリレート等のジアクリレート系モノマー；（メタ）アクリル酸グリシジル、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等のアクリル酸エステル系モノマー；メチル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等の、上記した主成分をなすモノマーとは異なるエステル基を有する（メタ）アクリル酸エステル；なども改質用モノマーとして挙げられる。
【０１６９】
前記粘着剤には、ベースポリマーの種類に応じて、任意の配合剤を配合してもよい。任意の配合剤としては、粘着付与剤、架橋剤又は硬化剤、酸化防止剤、光拡散剤、消泡剤、安定剤が挙げられる。また、配合剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１７０】
粘着層の厚みは、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上、特に好ましくは５μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下、特に好ましくは３０μｍ以下である。粘着層の厚みを前記範囲の下限値以上とすることにより、粘着層の塗工むらによる光学的な欠陥を取り除くことができる。また、上限値以下とすることにより、良好な接着力保持ができる。
【０１７１】
粘着剤の塗工方法は特に制限されず、例えば、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法、バーコート法などが挙げられる。
【実施例】
【０１７２】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
また、以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。
さらに、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
【０１７３】
また、以下の実施例及び比較例において粘着剤として使用した「ＰＳＡ」とは、アクリル粘着剤（綜研化学社製、製品名「ＳＫダイン２０９４」）に硬化剤（綜研化学社製、製品名「Ｅ−ＡＸ」）を、アクリル粘着剤中のポリマー１００重量部に対して５重量部の割合で添加したものを示す。
【０１７４】
［ΔＤ／Ｄの測定方法］
図１６は、実施例並びに比較例において、ＰＲ層の領域の振れ幅ΔＤ及び平均幅Ｄを測定する際のサンプルの様子を模式的に示す図である。ただし、図１６においては基材フィルム、等方性を有する光学フィルム及び粘着層の図示は省略する。
図１６に示すように、ガラス板に貼り合わせた直線偏光板１０及び２０を用意し、ガラス板が内側になるようにして配置した。この際、一方の直線偏光板１０の透過軸Ａ１０と、他方の直線偏光板２０の透過軸Ａ２０とは垂直にして、クロスニコル状態となるようにした。この直線偏光板１０と直線偏光板２０との間に、ＰＲ層３１を備えるパターン位相差フィルムと１／４波長板として機能しうる光学フィルム３２とを備える光学積層体３０を挿入した。このとき、１／４波長板として機能しうる光学フィルム３２の遅相軸Ａ３２が、直線偏光板１０及び２０の偏光板透過軸Ａ１０及びＡ２０と４５°あるいは１３５°の角度をなすようにした。さらに、直線偏光板２０と光学フィルム３２との間に１／４波長板として機能しうる光学フィルム３５を挿入した。このとき、光学フィルム３５の遅相軸Ａ３５と遅相軸Ａ３２とが直交となるようにした。
【０１７５】
こうして用意したサンプルを、二次元測定機（中村製作所社製「ＥＸＬＯＮｙ９９」）の定盤上に設置し、ＣＣＤカメラにて撮影し、観察した。前記の二次元測定器の仕様は、以下の通りである。
測定機の仕様
測定範囲：Ｘ軸＝９００ｍｍ、Ｙ軸＝９００ｍｍ
最小読取量：０．００１ｍｍ
各軸精度：Ｕ１＝５＋５Ｌ／１０００
座標検出：光学式リニアエンコーダー
画像検出：ＣＣＤカメラ
照明装置：ＬＥＤ落射照明
【０１７６】
ＰＲ層３１の異方性領域３３に相当する部分は光が透過し、等方性領域３４に相当する部分は光が遮光される。したがって、前記の撮影では、図１７で示すように、透過部分と遮光部分とがストライプ状に形成された画像が撮影される。撮影された画像において、黒色の部分が延在する方向を領域の延在方向Ｘ、それに垂直な方向を幅方向Ｙとした。さらに、二次元測定機に予め信頼性の高い基準点を設け、その基準点を原点（０，０）として、撮影された画像にＸＹ座標を設定した。
【０１７７】
図１８に、撮影された画像の一部を拡大した様子を模式的に示す。図１８で示すように、黒色の部分４０の幅方向Ｙのエッジ４１及び４２を、画像処理により検出し、黒色の部分４０の幅方向両端のエッジ４１及び４２のＹ座標を「Ｙ値」として測定した。
Ｘ座標が同一の値（ｘ）となる位置において、一端側のエッジ４１のＹ値（ｙ４１）と他端側のエッジ４２のＹ値（ｙ４２）の平均値（（ｙ４１＋ｙ４２）／２）を、当該Ｘ座標（ｘ）における中点４３のＹ値とした。また、一端側のエッジＸ４１のＹ値（ｙ４１）と他端側のエッジＸ４２のＹ値（ｙ４２）の差（ｙ４２−ｙ４１）を、当該Ｘ座標（ｘ）における黒色の部分４０の幅とした。このような計算を、その黒色の部分４０について、延在方向Ｘにおいて２０ｍｍピッチで２９箇所で行った。
【０１７８】
前記の測定を、図１７に示すように、幅方向の端部から連続した５本の黒色の部分４０Ａ〜４０Ｅ、並びに、２０ｍｍピッチで５本の黒色の部分４０Ｆ〜４０Ｊについて行い、黒色の部分４０Ａ〜４０Ｊそれぞれの各Ｘ座標における幅及び中点のＹ値を求めた。
【０１７９】
上述したようにして求めた１０本の黒色の部分４０Ａ〜４０Ｊの幅の全測定結果の平均値を、このサンプルの領域の平均幅Ｄとした。
【０１８０】
１０本の黒色の部分４０Ａ〜４０Ｊそれぞれについて、Ｘ座標が０となる位置における中点のＹ値を「０」として、全ての中点のＹ値を規格化し、図１９で示すようにグラフに表した。このグラフにおいて、延在方向ＸでのＹ値の最大値と最小値との差を、領域の振れ幅ΔＤとした。
【０１８１】
［貼り合わせによる歪みの評価方法］
実施例及び比較例で得られた光学積層体を、評価用ディスプレイ（ＢｅｎＱ社製「Ｍ２７００ＨＤ」）の視認側偏光板上に、評価用ディスプレイパネルの画素の位置と光学積層体のＰＲ層の領域（即ち、異方性領域及び等方性領域）の位置とが対応するように位置合わせをした後に、ＰＳＡを用いて貼り合わせた。
【０１８２】
評価用ディスプレイに、パーソナルコンピュータより評価用画像を入力し、表示された画像を、円偏光板を介して観察した。この際の評価用画像は、評価用ディスプレイの画面の横方向に延在する白表示列と黒表示列とを１ドットずつ配置したストライプ状の画像であった。また、白表示列は、観察に用いた円偏光板で遮光される光学積層体の領域と対応する位置関係に設定した。このような構成では、白表示列から発せられた光が光学積層体の適切な領域を透過した場合、その透過した光は円偏光板で遮光される。また、白表示列から発せられた光が光学積層体の適切でない領域を透過した場合、その透過した光は円偏光板で遮光されない。
【０１８３】
したがって、画面が全面で黒表示に見える場合には、光学積層体のＰＲ層において歪みが無く、ＰＲ層の領域のトータルピッチ（即ち、図２に示す１組の領域１１１の幅Ｗ１１１と領域１１２の幅Ｗ１１２の合計）が光学フィルムとパターン位相差フィルムとの貼り合わせによっても大きく変化しなかったことを示している。この場合の結果は「良」で示す。
また、画面が黒表示と白表示とが混在して見える場合には、光学積層体のＰＲ層において歪みが生じ、ＰＲ層の領域のトータルピッチが光学フィルムとパターン位相差フィルムとの貼り合わせによって大きく変化したことを示している。このような光学積層体を備える液晶表示装置は、立体表示装置としては不良である。この場合の結果は「不良」で示す。
【０１８４】
［実施例１］
（１．１．液晶組成物の調製）
重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」）２５部と、重合開始剤（チバ・ジャパン社製「Ｉｒｇ  ３７９」）１部と、液晶性を示さない化合物１（構造式は下記の通り）５部と、架橋剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート３部と、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（ネオス社製「フタージェント２０９Ｆ」）０．０３部と、溶媒としてメチルエチルケトン６６部とを混合して、液晶組成物を調製した。
【０１８５】
【化１】
2014174470.tif 000003
【０１８６】
（１．２．パターン位相差フィルム層の製造）
基材フィルム層として、長尺のポリエステル樹脂のフィルム（東洋紡社製「コスモシャインＡ４１００」）を用意した。この基材フィルム層を、フィルム搬送装置の繰り出し部に取り付け、当該基材フィルム層を搬送しながらラビング処理を施し、ラビング処理を施した面に前記にて用意した液晶組成物をダイコーターを使用して塗布した。これにより、基材フィルム層の片面に、塗膜として未硬化状態の液晶組成物層を形成して、（基材フィルム層）−（液晶組成物層）の層構成を備える未硬化積層体を得た。
【０１８７】
前記の液晶組成物層を４０℃で２分間配向処理して、液晶組成物層中の重合性液晶化合物を配向させた。
【０１８８】
その後、液晶組成物層に対して、基材フィルム層の液晶組成物層が形成されたのとは反対側からガラスマスクを介して０．１ｍＪ／ｃｍ２〜４５ｍＪ／ｃｍ２の微弱な紫外線を照射した。前記のガラスマスクとしては、基材フィルム層の長尺方向に延在する透光部及び遮光部が互いに平行に並んでストライプ状に形成されたものを用いた。ガラスマスクの透光部の幅は３００．２３μｍ、遮光部の幅は３２２．０１μｍとした。
【０１８９】
液晶組成物層の前記遮光部に相当する位置では露光されなかったために液晶組成物層は未硬化状態のままであるが、前記透光部に相当する位置では露光されたために液晶組成物層が硬化した。これにより、液晶組成物層の露光部分において、１／２波長板として機能しうる領域（異方性領域）を形成した。
【０１９０】
次に、液晶組成物層を９０℃で１０秒間加熱処理して、液晶組成物層の未硬化状態の部分（遮光部に相当する部分）の液晶相を等方相に転移させた。
この状態を維持しながら、基材フィルムの液晶組成物層側から窒素雰囲気下で液晶組成物層に対して２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、液晶組成物層の未硬化部分を硬化させた。これにより、レターデーションが小さい領域（等方性領域）が形成された。
【０１９１】
このようにして、異方性領域と等方性領域とを同一面内に有する液晶組成物層をＰＲ層として得た。また、これにより、（基材フィルム層）−（ＰＲ層）の層構成を備える複層フィルムとして、長尺のパターン位相差フィルムを得た。形成されたＰＲ層の乾燥厚みは５．０μｍであった。異方性領域のレターデーションは２５０ｎｍであり、その面内の遅相軸はパターン位相差フィルムの長尺方向と０°の角度をなしていた。一方、等方性領域のレターデーションは１０ｎｍ以下であった。異方性領域及び等方性領域の配置は、それぞれの領域が長尺方向に帯状に延在する配置となっており、全体としてストライプ状のパターンを形成していた。それぞれの領域の幅は、３１１．１μｍであった。
【０１９２】
（１．３．パターン位相差フィルムと等方性を有する光学フィルムとの貼り合わせ）
前記のように製造した長尺のパターン位相差フィルムから矩形にフィルム片を切り出し、このフィルム片として枚葉のパターン位相差フィルムを得た。
【０１９３】
また、光学フィルムとして、トリアセチルセルロース製の等方性を有するフィルム（富士フイルム社製「フジタック」；厚み８０μｍ；測定波長５５０ｎｍでの面内における位相差２ｎｍ）を用意した。
【０１９４】
図３に示すように、枚葉のパターン位相差フィルム１００を、上部ステージ２１０に、基材フィルム層側で上部ステージ２１０に接するように固定した。そして、上部ステージ２１０を、ローラ２００が走行しうる位置に移動させた。この際、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、矢印Ａ１で示すローラ２００の走行方向と直交するようにした。
【０１９５】
図４に示すように、等方性を有する光学フィルム３００の片面にＰＳＡを塗布して粘着層４００を形成した。この光学フィルム３００を下部ステージ２２０に置き、パターン位相差フィルム１００に対向する位置に配置した。この際、光学フィルム３００の粘着層側の面が、パターン位相差フィルム１００に向き合うようにした。
【０１９６】
その後、図５〜図７に示すように、下部ステージ２２０を水平方向に対して５°傾け、この下部ステージ２２０をローラ２００の走行方向と平行に移動させながら、ローラ２００を走行させた。この際、ローラ２００の走行の際には、ローラ２００と上部ステージ２１０との間で、等方性を有する光学フィルム３００とパターン位相差フィルム１００とが挟まれるようにした。また、ローラ２００の圧力は０．３０ＭＰａ、ローラ２００の走行速度は２０ｍｍ／秒にした。これにより、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とがローラ２００で加圧されることにより貼り合せられて、光学積層体５００が得られた。
【０１９７】
（１．４．中間積層体と１／４波長板として機能しうる光学フィルムとの貼り合わせ）
図２０は、本発明の実施例１において、パターン位相差フィルム７１０を配置する工程の様子を模式的に示す斜視図である。また、図２１は、本発明の実施例１において、光学フィルムを配置する工程の様子を模式的に示す正面図である。
【０１９８】
光学積層体５００を上部ステージ２１０から剥がした。この光学積層体５００を、等方性を有する光学フィルム側で上部ステージ２１０に接するように、上部ステージ２１０に固定した。その後、基材１２０を剥離した。これにより、図２０に示すように、上部ステージ２１０上に、光学フィルム３００、粘着層４００及びＰＲ層１１０をこの順に備えるパターン位相差フィルム７１０を得た。そして、上部ステージ２１０を、ローラ２００が走行しうる位置に移動させた。この際、光学積層体７１０のＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、矢印Ａ１で示すローラ２００の走行方向と直交するようにした。
【０１９９】
図２１に示すように、シクロオレフィン重合体樹脂製の１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」；厚み５５μｍ；測定波長５５０ｎｍでの面内における位相差１２５ｎｍ）の片面にＰＳＡを塗布して粘着層７３０を形成した。この１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０を下部ステージ２２０に置き、パターン位相差フィルム７１０に対向する位置に配置した。この際、１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０の粘着層側の面が、パターン位相差フィルム７１０に向き合うようにした。また、１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０の遅相軸とパターン位相差フィルム７１０のＰＲ層１１０の異方性領域１１１の遅相軸Ａ１１１（図８参照）とは、厚み方向で見て９０°の角度をなすようにした。
【０２００】
その後、前記工程（１．３）と同様に、下部ステージ２２０を水平方向に対して５°傾け、この下部ステージ２２０をローラ２００の走行方向と平行に移動させながら、ローラ２００を走行させた。この際、ローラ２００の走行の際には、ローラ２００と上部ステージ２１０との間で、１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０とパターン位相差フィルム７１０とが挟まれるようにした。また、ローラ２００の圧力は０．３０ＭＰａ、ローラ２００の走行速度は２０ｍｍ／秒にした。これにより、パターン位相差フィルム７１０と１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０とがローラ２００で加圧されることにより貼り合せられて、１／４波長板として機能しうる光学フィルム７２０、粘着層７３０、ＰＲ層１１０、粘着層４００及び等方性を有する光学フィルム３００をこの順に備える光学積層体が得られた。
【０２０１】
この光学積層体をサンプルとして用いて、前述の要領で振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄを測定した。
また、この光学積層体を評価用ディスプレイに取り付け、前述の要領で、ＰＲ層の歪みを評価した。
【０２０２】
［実施例２］
前記工程（１．３）においてパターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の圧力を０．２０ＭＰａにし、ローラ２００の走行速度を５０ｍｍ／秒にした。
さらに、前記工程（１．４）においてパターン位相差フィルム７１０と光学フィルム７２０とをローラ２００で加圧することによって貼り合せるとき、ローラ２００の圧力を０．２０ＭＰａにし、ローラ２００の走行速度を５０ｍｍ／秒にした。
前記の事項以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２０３】
［実施例３］
前記工程（１．３）においてパターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の圧力を０．１０ＭＰａにした。
さらに、前記工程（１．４）においてパターン位相差フィルム７１０と光学フィルム７２０とをローラ２００で加圧することによって貼り合せるとき、ローラ２００の圧力を０．１０ＭＰａにした。
前記の事項以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２０４】
［実施例４］
前記工程（１．３）において、光学フィルム３００として、シクロオレフィン重合体樹脂製の１/４波長板として機能しうる光学フィルムを用いた。
さらに、前記工程（１．４）において、光学フィルム７２０として、トリアセチルセルロース製の等方性を有するフィルムを用いた。
前記の事項以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２０５】
［実施例５］
前記工程（１．３）において、光学フィルム３００として、シクロオレフィン重合体樹脂製の１/４波長板として機能しうる光学フィルムを用いた。また、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の圧力を０．２０ＭＰａにし、ローラ２００の走行速度を５０ｍｍ／秒にした。
さらに、前記工程（１．４）において、光学フィルム７２０として、トリアセチルセルロース製の等方性を有するフィルムを用いた。また、パターン位相差フィルム７１０と光学フィルム７２０とをローラ２００で加圧することによって貼り合せるとき、ローラ２００の圧力を０．２０ＭＰａにし、ローラ２００の走行速度を５０ｍｍ／秒にした。
前記の事項以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２０６】
［実施例６］
前記工程（１．３）において、光学フィルム３００として、シクロオレフィン重合体樹脂製の１/４波長板として機能しうる光学フィルムを用いた。また、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の圧力を０．１０ＭＰａにした。
さらに、前記工程（１．４）において、光学フィルム７２０として、トリアセチルセルロース製の等方性を有するフィルムを用いた。また、パターン位相差フィルム７１０と光学フィルム７２０とをローラ２００で加圧することによって貼り合せるとき、ローラ２００の圧力を０．１０ＭＰａにした。
前記の事項以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２０７】
［比較例１］
前記工程（１．３）において、枚葉のパターン位相差フィルム１００を上部ステージ２１０に固定する際、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、ローラ２００の走行方向と平行になるようにした。
さらに、前記工程（１．４）において、光学積層体５００を上部ステージ２１０に固定する際、ＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、ローラ２００の走行方向と平行になるようにした。
前記の事項以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２０８】
［比較例２］
前記工程（１．３）において、枚葉のパターン位相差フィルム１００を上部ステージ２１０に固定する際、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、ローラ２００の走行方向と平行になるようにした。また、光学フィルム３００として、シクロオレフィン重合体樹脂製の１/４波長板として機能しうる光学フィルムを用いた。さらに、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の圧力を０．１０ＭＰａにした。
さらに、前記工程（１．４）において、光学積層体５００を上部ステージ２１０に固定する際、ＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、ローラ２００の走行方向と平行になるようにした。また、光学フィルム７２０として、トリアセチルセルロース製の等方性を有するフィルムを用いた。さらに、パターン位相差フィルム７１０と光学フィルム７２０とをローラ２００で加圧することによって貼り合せるとき、ローラ２００の圧力を０．１０ＭＰａにした。
前記の事項以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２０９】
［比較例３］
前記工程（１．３）において、枚葉のパターン位相差フィルム１００を上部ステージ２１０に固定する際、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、ローラ２００の走行方向と平行になるようにした。また、光学フィルム３００として、シクロオレフィン重合体樹脂製の１/４波長板として機能しうる光学フィルムを用いた。さらに、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の圧力を０．２０ＭＰａにし、ローラ２００の走行速度を８０ｍｍ／秒にした。
さらに、前記工程（１．４）において、光学積層体５００を上部ステージ２１０に固定する際、ＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、ローラ２００の走行方向と平行になるようにした。また、光学フィルム７２０として、トリアセチルセルロース製の等方性を有するフィルムを用いた。さらに、パターン位相差フィルム７１０と光学フィルム７２０とをローラ２００で加圧することによって貼り合せるとき、ローラ２００の圧力を０．２０ＭＰａにし、ローラ２００の走行速度を８０ｍｍ／秒にした。
前記の事項以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２１０】
［比較例４］
実施例１と同様にして、枚葉のパターン位相差フィルムを用意した。
また、光学フィルムとして、実施例１と同様に、トリアセチルセルロース製の等方性を有するフィルムを用意した。
【０２１１】
図３に示すように、枚葉のパターン位相差フィルム１００を、上部ステージ２１０に、基材フィルム層側で上部ステージ２１０に接するように固定した。そして、上部ステージ２１０を、ローラ２００が走行しうる位置に移動させた。この際、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、矢印Ａ１で示すローラ２００の走行方向と直交するようにした。
【０２１２】
図２２は、比較例４におけるパターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００との貼り合せの様子を模式的に示す正面図である。
図２２に示すように、光学フィルム３００の片面にＰＳＡを塗布して粘着層４００を形成した。この光学フィルム３００をシート８００上に置き、パターン位相差フィルム１００に対向する位置に配置した。この際、光学フィルム３００の粘着層側の面が、パターン位相差フィルム１００に向き合うようにした。
【０２１３】
その後、ローラ２００がシート８００を介して光学フィルム３００を持ち上げるようにしながら、ローラ２００を矢印Ａ１で示すように走行させた。この際、ローラ２００の圧力は０．５０ＭＰａ、ローラ２００の走行速度は８０ｍｍ／秒にした。これにより、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とがローラ２００で加圧されることにより貼り合せられて、光学積層体５００が得られた。この貼り合せでは、光学フィルム３００には面内方向の張力はかからない。
【０２１４】
図２３は、比較例４において、光学フィルムを配置する工程の様子を模式的に示す正面図である。
光学積層体５００を上部ステージ２１０から剥がした。この光学積層体５００を、等方性を有する光学フィルム側で上部ステージ２１０に接するように、上部ステージ２１０に固定した。その後、基材１２０を剥離した。これにより、図２０に示すように、上部ステージ２１０上に、光学フィルム３００、粘着層４００及びＰＲ層１１０をこの順に備えるパターン位相差フィルム７１０を得た。そして、上部ステージ２１０を、ローラ２００が走行しうる位置に移動させた。この際、パターン位相差フィルム体７１０のＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、矢印Ａ１で示すローラ２００の走行方向と直交するようにした。
【０２１５】
図２３に示すように、シクロオレフィン重合体樹脂製の１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０の片面にＰＳＡを塗布して粘着層７３０を形成した。この１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０をシート８００上に置き、パターン位相差フィルム７１０に対向する位置に配置した。この際、１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０の粘着層側の面が、パターン位相差フィルム７１０に向き合うようにした。また、１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０の遅相軸とパターン位相差フィルム７１０のＰＲ層１１０の異方性領域１１１の遅相軸Ａ１１１（図８参照）とは、厚み方向で見て９０°の角度をなすようにした。
【０２１６】
その後、ローラ２００がシート８００を介して光学フィルム７２０を持ち上げるようにしながら、ローラ２００を矢印Ａ１で示すように走行させた。この際、ローラ２００の圧力は０．５０ＭＰａ、ローラ２００の走行速度は８０ｍｍ／秒にした。これにより、パターン位相差フィルム７１０と１/４波長板として機能しうる光学フィルム７２０とがローラ２００で加圧されることにより貼り合せられて、１／４波長板として機能しうる光学フィルム７２０、粘着層７３０、ＰＲ層１１０、粘着層４００及び等方性を有する光学フィルム３００をこの順に備える光学積層体が得られた。
【０２１７】
この光学積層体をサンプルとして用いて、前述の要領で振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄを測定した。
また、この光学積層体を評価用ディスプレイに取り付け、前述の要領で、ＰＲ層の歪みを評価した。
【０２１８】
［比較例５］
パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の走行速度を１００ｍｍ／秒にした。
さらに、パターン位相差フィルム７１０と光学フィルム７２０とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の走行速度を１００ｍｍ／秒にした。
前記の事項以外は比較例４と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２１９】
［比較例６］
枚葉のパターン位相差フィルム１００を上部ステージ２１０に固定する際、パターン位相差フィルム１００のＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、ローラ２００の走行方向と平行になるようにした。また、パターン位相差フィルム１００と光学フィルム３００とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の走行速度を１００ｍｍ／秒にした。
さらに、光学積層体５００を上部ステージ２１０に固定する際、ＰＲ層１１０の異方性領域１１１及び等方性領域１１２の延在方向Ｘが、ローラ２００の走行方向と平行になるようにした。また、パターン位相差フィルム７１０と光学フィルム７２０とをローラ２００で加圧することによって貼り合わせるとき、ローラ２００の走行速度を１００ｍｍ／秒にした。
前記の事項以外は比較例４と同様にして、光学積層体を製造し、評価した。
【０２２０】
［参考例１：光学フィルムにかかる張力の測定］
実施例及び比較例において光学フィルムにかかった張力の大きさを測定するため、次のような参考例を行った。
【０２２１】
図２４は、光学フィルムにかかる張力を測定する様子を模式的に示す正面図である。
実施例及び比較例で用いるのと同様の材料で、表面に粘着層９１０を備えた光学フィルム９２０を作製した。この光学フィルム９２０を、図２４に示すように、実施例及び比較例で用いたのと同様の材料で形成された下部ステージ９３０上に、光学フィルム９２０の一端９２１がはみ出るように置いた。
この下部ステージ９３０を、台９４０に設置したジャッキ９５０及び９６０上に固定した。
また、光学フィルム９２０の一端９２１を、幅２１０ｍｍのクリップ９７０で固定し、そのクリップ９７０をフォースゲージ９８０に繋げた。
【０２２２】
ジャッキ９５０及び９６０を用いて下部ステージ９３０を水平方向に対して５°傾斜させた。その状態で、台９４０を矢印Ａ６で示すように移動させ、その時に光学フィルム９２０にかかる張力をフォースゲージ９８０で測定した。
また、下部ステージ９３０を水平にした状態で、台９４０を同様に移動させ、その時に光学フィルム９２０にかかる張力をフォースゲージ９８０で測定した。
【０２２３】
その結果、下部ステージ９３０を水平にした場合と傾斜させた場合とで、測定された張力はほぼ同じであった。これは、いずれの実施例及び比較例で用いる材料を用いて作製した光学フィルム９２０においても同様であった。
したがって、光学フィルム９２０にかかる張力は、光学フィルム９２０の自重ではなく、光学フィルム９２０と下部ステージ９３０との摩擦により生じることが判明した。
【０２２４】
そこで、前記のようのフォースゲージ９８０で測定された張力の値から、光学フィルム９２０と下部ステージ９３０との動摩擦係数を計算した。また、得られた動摩擦係数と、光学フィルム９２０及び粘着層９１０の重量とから、光学フィルム９２０の幅１ｃｍ当たりにかかる張力の大きさを計算した。
その結果、実施例及び比較例において、トリアセチルセルロース製の等方性を有する光学フィルムにかかっていた貼り合わせ開始直後の張力は１．９２２ｍＮ／ｃｍであり、貼り合わせが進むに従って張力が小さくなっていったことが分かった。また、シクロオレフィン重合体樹脂製の１/４波長板として機能しうる光学フィルムにかかっていた貼り合わせ開始直後の張力は０．８５４ｍＮ／ｃｍであり、貼り合わせが進むに従って張力が小さくなっていったことが分かった。
【０２２５】
［結果］
実施例及び比較例の結果を、下記の表１及び表２に示す。
表１及び表２において、ＴＡＣとはトリアセチルセルロースを示し、ＣＯＰとはシクロオレフィン重合体樹脂を示す。また、表１及び表２において貼合方向の記載は、パターン位相差フィルムの領域の延在方向とローラの走行方向との関係を示す。
【０２２６】
【表１】
2014174470.tif 000004
【０２２７】
【表２】
2014174470.tif 000005
【０２２８】
［検討］
前記のように、実施例においてはＰＲ層の歪みの評価結果がいずれも「良」であった。これに対し、ＰＲ層の領域の延在方向とローラの走行方向とが直交とならない向きにパターン位相差フィルムを配置した比較例１〜３及び６、並びに、光学フィルムにローラの走行方向と平行な方向へ張力をかけていない比較例４〜６では、ＰＲ層の歪みの評価結果がいずれも「不良」であった。以上の結果から、本発明のように、ＰＲ層の領域の延在方向とローラの走行方向とが直交する向きにパターン位相差フィルムを配置し、且つ、光学フィルムにローラの走行方向と平行な方向へ微弱な張力をかけることにより、光学フィルムとパターン位相差フィルムとを貼り合せて光学積層体を製造する際のパターン位相差フィルムの歪みを防止できることが確認された。
【０２２９】
また、発明者の検討によれば、実施例のようにパターン位相差フィルムを光学フィルムと２回以上貼り合せる場合には、最初の貼り合せの際にＰＲ層に歪みが発生すると、２回目以降の貼り合せの際に前記の歪みを修正することが困難であることが判明している。したがって、実施例のようにパターン位相差フィルムを光学フィルムと２回以上貼り合せる場合には、最初の貼り合わせの際にＰＲ層の歪みを効果的に小さくできることが、本発明の大きな利点の一つであるといえる。
【符号の説明】
【０２３０】
１０，２０  直線偏光板
３０  光学積層体
３１  ＰＲ層
３２  光学フィルム
３３  異方性領域
３４  等方性領域
４０，４０Ａ〜４０Ｊ  黒色の部分
４１，４２  黒色の部分の幅方向のエッジ
４３  黒色の部分の中点
１００  パターン位相差フィルム
１１０  ＰＲ層
１１１，１１２  ＰＲ層の領域
１１３  ＰＲ層の領域の境界
１２０  基材フィルム層
２００  ローラ
２１０  上部ステージ
２２０  下部ステージ
２３０  下部ステージの端部
３００  光学フィルム
３１０  光学フィルムの端部
４００  粘着層
５００  光学積層体
６１０，６２０  偏光子
６３０  光源
６４０  カメラ
７１０  パターン位相差フィルム
７２０  光学フィルム
７３０  粘着層
８００  シート
９１０  粘着層
９２０  光学フィルム
９２１  光学フィルムの一端
９３０  下部ステージ
９４０  台
９５０，９６０  ジャッキ
９７０  クリップ
９８０  フォースゲージ
【図１】
2014174470.tif 000006
【図２】
2014174470.tif 000007
【図３】
2014174470.tif 000008
【図４】
2014174470.tif 000009
【図５】
2014174470.tif 000010
【図６】
2014174470.tif 000011
【図７】
2014174470.tif 000012
【図８】
2014174470.tif 000013
【図９】
2014174470.tif 000014
【図１０】
2014174470.tif 000015
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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