(57)【要約】【課題】転写の手法を使って作成された光学フィルムに関し、転写層を転写する際のバリの発生を抑え、高品質の光学フィルムを提供する。【解決手段】透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板９と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板８と、１／２波長板９、１／４波長板８の少なくとも一方を配向させる配向膜１１、１３と、を含む多層構造による転写層と、転写層を保持する支持体２１と、を備え、少なくとも配向膜１１、１９が、微粒子を含む転写フィルム２０を構成する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板と、前記１／２波長板、前記１／４波長板の少なくとも一方を配向させる配向膜と、を含む多層構造による転写層と、
前記転写層を保持する支持体と、を備え、
少なくとも前記配向膜は、微粒子を含むことを特徴とする
光学フィルム用転写体。
【請求項２】
前記配向膜の材料部材における前記微粒子の含有率が、
１０〜８０重量％であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム用転写体。
【請求項３】
前記配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム用転写体。
【請求項４】
前記配向膜にはライン状凹凸形状が設けられ、
前記ライン状凹凸形状の黒輝度に係る角度θのばらつき３σが、１．０度以下、０．０１度以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム用転写体。
【請求項５】
前記支持体がセパレータフィルムであり、
前記転写層は、
前記支持体により被覆される粘着層を備えることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の光学フィルム用転写体。
【請求項６】
前記微粒子は、シリカ部材でなる中空微粒子である
請求項１から５のいずれかに記載の光学フィルム用転写体。
【請求項７】
透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
１／４波長位相差板としての機能を担う１／４波長位相差板の光学機能層とが積層され、
前記１／４波長位相差板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層に転写された、請求項１から６のいずれかに記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層であることを特徴とする
光学フィルム。
【請求項８】
請求項７に記載の光学フィルムを配置したことを特徴とする
画像表示装置。
【請求項９】
偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、
透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板と、前記１／２波長板、前記１／４波長板の少なくとも一方を配向させる配向膜と、を含む多層構造による転写層を、前記転写層を保持する支持体上に形成する転写体の製造工程と、
透明基材に、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層を形成する直線偏光板の製造工程と、
前記直線偏光板の光学機能層に、前記転写体の製造工程で生産された前記支持体上の転写層を転写する転写工程と、を含み、
少なくとも前記配向膜が、微粒子を含むことを特徴とする
光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば画像表示パネルに配置して、偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像表示パネル等に関して、画像表示パネルの出射面に光学フィルムを配置し、この光学フィルムによる偏光面の制御により外来光の反射を低減する方法が提案されている。この光学フィルムは、直線偏光板、１／４波長位相差板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く１／４波長位相差板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、１／４波長位相差板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。
【０００３】
この光学フィルムに関して、特許文献１等には、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせて１／４波長位相差板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、逆分散特性により光学フィルムを構成することができる。
【０００４】
ところで有機ＥＬパネルを使用した画像表示装置においては、近年、可撓性を有するシート形状によるものが提供されつつある。このような可撓性を有するシート形状による画像表示装置では、例えば全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で、画像を表示することができ、従来に比して一段と画像表示装置の適用分野を拡大し得ると考えられる。
【０００５】
しかしながらこのように全体を外向きに折り曲げたり、これと逆向きに折り曲げたりした状態で画像表示する場合には、従来に比して格段的に外来光の反射を低減することが必要になる。これによりこのような可撓性を有するシート形状による画像表示装置においては、上述の光学フィルムを配置することにより、外来光による影響を有効に回避することが必要であると考えられる。特に有機ＥＬパネルでは、内部電極による外来光の反射が著しいことにより、この種の光学フィルムを適用することが望まれる。
【０００６】
画像表示パネルの可撓性を損なうことがない光学フィルムとしては、転写法を適用することが考えられる。ここで転写法は、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。この転写法によって光学フィルムを作成することにより、全体の厚みが薄い光学フィルムが提供できると考えられる。転写によって作成された光学フィルムは、例えば、特許文献２、特許文献３に記載されている。
【０００７】
またこの種の光学フィルムに関して、特許文献４には、転写法の適用を前提に、転写に供する部位の引き裂き強度を所定範囲に設定することにより、さらには微粒子の混入により再使用の際に一部の部位が破損するように構成することにより、転写に供する層の再利用を困難とする構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−６８８１６号公報
【特許文献２】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献３】特開２００７−１５６２３４号公報
【特許文献４】特開特開２０１２−２５０５０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記した特許文献２、特許文献３に記載の発明のように、光学フィルムを転写によって作成した場合、転写体を被転写体に転写する際に、転写体が被転写体上に転写されるべき部分の端部で切り離されず、被転写体上の転写体の側に余分な転写体の部分が残ってしまうことが起こり得る。本明細書では、以降、残ってしまった転写体の部分を「バリ」とも記す。
【００１０】
図２１（ａ）、（ｂ）は、バリを説明するための図である。図（ａ）は、バリＢが発生した例であり、図２１（ｂ）は、バリＢが発生しない、良好な転写の状態を示している。
図２１（ａ）、（ｂ）に示した転写体９０３は、粘着層９０２によって被転写体９０１に転写される。転写後、転写体９０３を支持していた支持体９０４が剥離され、転写体９０３の被転写体９０１に対する転写が完了する。
【００１１】
図２１（ａ）に示したように、支持体９０４が剥離される際、転写体９０３が被転写体９０１の端部で切り離されずに、被転写体９０１上の転写体９０３の側に残ってしまう。転写体９０３の側に残った不要な転写体９０３の部分を、バリＢとして示す。一方、図２１（ｂ）に示した状態では、転写体９０３は、支持体９０４の剥離時、被転写体９０１の端部で転写体９０３が切り離され、バリＢが発生しないで被転写体９０１に転写されている。バリＢの発生は、転写によって作成された光学フィルムの端部に不要な部材が残ることになり、光学フィルムの品質を損なうものである。
【００１２】
この問題を解決する１つの方法として、特許文献４に開示の手法を利用することも考えられるものの、この場合、材料選定の幅が著しく損なわれることにより、位相差層を作製できない場合も発生し、さらにはバリが残る場合も発生し、これにより実際上、適用することができない。
【００１３】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、転写の手法を使って作成された光学フィルムに関し、転写層を転写する際のバリの発生を抑え、高品質の光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、転写の手法を適用して作成された光学フィルムにおいて、転写層が微粒子を含むようにすることによって転写層を切り離しやすくする、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１５】
（１）  透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板と、前記１／２波長板、前記１／４波長板の少なくとも一方を配向させる配向膜と、を含む多層構造による転写層と、前記転写層を保持する支持体と、を備え、少なくとも前記配向膜は、微粒子を含むことを特徴とする光学フィルム用転写体。
（１）によれば、転写の手法を使って作成された光学フィルムに関し、転写層を転写する際のバリの発生を抑え、高品質の光学フィルムを提供することができる。
【００１６】
（２）  前記配向膜の材料部材における前記微粒子の含有率が、
１０〜８０重量％であることを特徴とする、（１）に記載の光学フィルム用転写体。
（２）によれば、配向膜の材料部材に含まれる微粒子が配向膜の配向規制力に影響を及ぼすことを防ぐことができる。
（３）  前記配向膜は、十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下であることを特徴とする（１）または（２）に記載の光学フィルム用転写体。
（３）によれば、配向膜表面の粗さのばらつきを十分に低減して液晶層を配向させることができる。
【００１７】
（４）  前記配向膜にはライン状凹凸形状が設けられ、前記ライン状凹凸形状の黒輝度に係る角度θのばらつき３σが、１．０度以下、０．０１度以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム用転写体。
（４）によれば、充分にばらつきを小さくして液晶層を十分に配向させることができる。
（５）  前記支持体がセパレータフィルムであり、前記転写層は、前記支持体により被覆される粘着層を備える（１）から（４）のいずれかに記載の光学フィルム用転写体。
（５）によれば、（１）から（４）に記載の光学フィルム用転写体を、粘着層を使って被転写体に転写することができる。
【００１８】
（６）  前記微粒子は、シリカ部材でなる中空微粒子である（１）から（５）のいずれかに記載の光学フィルム用転写体。
（６）によれば、転写層の配向状態や透明度に及ぼす影響を抑えることができる。
（７）  透明フィルムによる基材と、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、１／４波長位相差板としての機能を担う１／４波長位相差板の光学機能層とが積層され、前記１／４波長位相差板の光学機能層が、前記直線偏光板の光学機能層に転写された、（１）から（６）のいずれかに記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層であることを特徴とする光学フィルム。
（７）によれば、転写層を転写する際のバリの発生を抑え、高品質の光学フィルムを提供することができる。
（８）  （７）に記載の光学フィルムを配置したことを特徴とする画像表示装置。
（８）によれば、転写層を転写する際のバリの発生を抑え、高品質の光学フィルムを備えた画像表示装置を提供することができる。
（９）  偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムの製造方法において、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板と、前記１／２波長板、前記１／４波長板の少なくとも一方を配向させる配向膜と、を含む多層構造による転写層を、前記転写層を保持する支持体上に形成する転写体の製造工程と、透明基材に、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層を形成する直線偏光板の製造工程と、前記直線偏光板の光学機能層に、前記転写体の製造工程で生産された前記支持体上の転写層を転写する転写工程と、を含み、少なくとも前記配向膜が、微粒子を含むことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
（９）によれば、転写層を転写する際のバリの発生を抑え、高品質の光学フィルムの製造方法を提供することができる。
【発明の効果】
【００１９】
偏光面の制御により外来光の反射を低減する光学フィルムに関して、転写の手法を使って作成された光学フィルムに関し、転写層を転写する際のバリの発生を抑え、高品質の光学フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。
【図２】図１の画像表示装置に設けられる光学フィルムを説明するための図である。
【図３】第１実施形態の転写体である転写フィルムの構成を示す図である。
【図４】本発明の第１実施形態の光学フィルムの製造工程を示す図である。
【図５】図４に示した転写フィルムの製造工程を示す図である。
【図６】図５に示した転写フィルムの製造工程の後に行われる工程を示す図である。
【図７】本発明の第１実施形態の光学フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。
【図８】本発明の第１実施形態のラビング処理対象の表面形状を撮影した写真である。
【図９】本発明の第１実施形態のラビング処理対象の表面形状を、倍率を増大させて撮影した写真である。
【図１０】本発明の第１実施形態のラビング処理対象の表面形状を、さらに倍率を増大させて撮影した写真である。
【図１１】図８に示した部位の表面形状の測定結果を示す図である。
【図１２】図９に示した部位の表面形状の測定結果を示す図である。
【図１３】図１０に示した部位の表面形状の測定結果を示す図である。
【図１４】本発明の第２実施形態の配向膜の検討に供した測定装置の構成を示す図である。
【図１５】図１４に示した測定装置が計測したラビング処理の時間と角度θのばらつきとの関係を示す図である。
【図１６】図１４に示した測定装置が計測した黒輝度と角度θのばらつきとの関係を示す図である。
【図１７】図１４に示した測定装置が計測した二乗平均粗さと角度θのばらつきとの関係を示す図である。
【図１８】図１４に示した測定装置が計測した十点平均粗さと角度θのばらつきとの関係を示す図である。
【図１９】本発明の第３実施形態の転写フィルムを示す図である。
【図２０】本発明の第３実施形態の転写フィルムの製造工程を示す図である。
【図２１】本発明が解決すべき課題を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の第１実施形態ないし第３実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２２】
［第１実施形態］
(画像表示装置及び光学フィルム)
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置及び光学フィルムを示す図である。画像表示装置１では、画像表示パネル２のパネル面に、光学フィルム３が配置される。画像表示パネル２は、可撓性を有するシート形状による有機ＥＬパネルであり、所望のカラー画像を表示する。
【００２３】
光学フィルム３は、偏光面の制御により、画像表示パネル２に到来する外来光の反射を抑圧する光学フィルムである。このため光学フィルム３は、直線偏光板５、１／４波長位相差板６を積層して構成される。光学フィルム３は、図示しないセパレータフィルムを剥離して感圧接着剤による粘着層４を露出させた後、この粘着層４により、画像表示パネル２のパネル面に貼り付けられて保持される。また直線偏光板５及び１／４波長位相差板６は、粘着層７を介して一体化される。
【００２４】
１／４波長位相差板６は、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板として機能する部位８（１／４波長板と呼ぶ）と、透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板として機能する部位９（１／２波長板と呼ぶ）との積層体により構成される。これにより１／４波長位相差板６は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で正の分散特性を確保し、光学フィルム３は、広い波長帯域で十分に外来光の反射を抑圧する。
【００２５】
画像表示装置１では、画像表示パネル２の表示画面側より、順次、１／４波長板８、１／２波長板９、直線偏光板５が配置される。また図２に示すように、矢印により示す直線偏光板５の透過軸に対して、１／２波長板９及び１／４波長板８の遅相軸（それぞれ矢印により示す）が、それぞれ反時計回りに１５度、７５度の角度を成すように配置される。
【００２６】
より具体的に、１／４波長板８は、面内位相差（Ｒｅ）が１２５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下により作成され、１／２波長板９は面内位相差（Ｒｅ）が２３５ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下により作成される。これにより光学フィルム３は、直線偏光板５側より入射する可視光域波長域（４５０〜７５０ｎｍ）の透過光を、楕円率０．８以上の円偏光により出射する。
【００２７】
１／４波長位相差板６には、画像表示パネル２側から、順次、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板８が設けられる。１／４波長板用賦型樹脂層１０は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、この実施形態ではこの賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお、紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。
１／４波長板用賦型樹脂層１０は、賦型処理によって形成された微細な凹凸形状を表面に有している。１／４波長位相差板６では、１／４波長板用賦型樹脂層１０の表面形状により１／４波長板用配向膜１１が形成される。１／４波長板８は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、液晶材料は、１／４波長板用配向膜１１の配向規制力により配向される。
【００２８】
また、１／４波長位相差板６には、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板９が順次設けられる。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、微細な凹凸形状の賦型に供する賦型用樹脂層であり、第１実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお、紫外線硬化性樹脂については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。１／２波長板用賦型樹脂層１２は、賦型処理によって形成された微細な凹凸形状を表面に有している。１／４波長位相差板６では、１／２波長板用賦型樹脂層１２の表面形状により１／２波長板用配向膜１３が形成される。１／２波長板９は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、液晶材料は、１／２波長板用配向膜１３の配向規制力により配向される。
【００２９】
１／２波長板用配向膜１３及び１／４波長板用配向膜１１に係る微細な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が直線偏光板５の透過軸に対して、それぞれ反時計回りに１５度、７５度の角度を成す方向となるように作成される。
【００３０】
以上の構成において、第１実施形態では、１／４波長位相差板６を剥離する際のバリの発生を抑えるため、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／２波長板用賦型樹脂層１２がシリカ部材でなる無機シリカ微粒子（図示せず）を含んでいる。そして、第１実施形態では、この無機シリカ微粒子が液晶材料の配向性に影響することを防ぐため、無機シリカ微粒子の径を光学フィルムが適用される光の波長以下とする。この結果、無機シリカ微粒子の径は、０．００１〜０．１μｍの範囲となる。
【００３１】
また、第１実施形態では、無機シリカ微粒子が液晶材料の配向性に影響することを防ぐため、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／２波長板用賦型樹脂層１２が無機シリカ微粒子を含有する含有率を、１０〜８０重量％の範囲とする。なおこの含有率は、好ましくは、２０〜７０重量％、より好ましくは３０〜６０重量％、さらに好ましくは４０〜６０重量％である。シリカ微粒子の含有率が１０重量％未満では、転写層を転写する際のバリの発生を十分に抑えことができず、８０重量％を超えると、配向層が脆くなり、この上に配向層を積層するに際し粒子の脱落などが生じて異物となり、歩留まりが低下する。なお、シリカ微粒子の含有率が３０重量％を超えると、２次凝集による白濁によりヘイズが上がりやすくなるので、コロイダルシリカのようなスラリー状の材料を用いるのが好ましい。どのような性状の粒子材料を用いるかは、ヘイズが、白濁感が認識される１％を超えるかどうかで判断するのが好ましい。
【００３２】
従って微粒子は、ヘイズが１％以内であることを満足する限り、中空、棒状、球状等、各種の形状のものを適用することができるものの、ヘイズを１％以下とする観点より、粒径は０．１μｍ以下であることが必要である。
【００３３】
また、微粒子としては、金属酸化物、有機物いずれも使用できるが、２次凝集によるヘイズの発生を抑えるため、粒径は０．１μｍ以下であることが好ましい。なおこの場合、ヘイズが１％を超えない範囲であれば、０．１μを超える粒径の粒子を使用することもできる。金属酸化物としては、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛などを用いることができるが、種類も多く扱いやすいため酸化ケイ素が最も好ましい。単純材質の粒子もコアシェル構造の粒子も使用できる。これらの粒子に、コロイダルシリカのような微粒子を混合して用いることもできる。
【００３４】
なお配向膜に係る１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／２波長板用賦型樹脂層１２の材料としては、無機微粒子と有機樹脂成分からなり、有機樹脂成分は高分子もしくは低分子を用いることができ、これらの混合物も使用できるが、無機微粒子を分散でき、配向膜上に積層される液晶材料の配向性を乱さない必要がある。前記低分子としては、モノマーやオリゴマー、これらの混合物を用いることができ、熱で重合するものも電離放射線で重合するものも用いることができる。電離放射線としては、電子線、紫外線が上げられる。電離放射線に紫外線を用いる場合、開始剤を用いることができる。配向膜の塗工適性を向上するため、レベリング剤を混合することもできる。
【００３５】
有機高分子としては、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系などを用いることができる。有機低分子としては、アクリル系として、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノフェニルエーテル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)クリレート、ベンジル(メタ)クリレート、シクロヘキシル(メタ)クリレート、メタクリル酸、およびこれらのウレタン変性物や混合物などを用いることができる。
【００３６】
ウレタン系として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトールなどのポリオールと、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、1,3-フェニレンジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート、ブタン-1,4- ジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン-1,4-ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン-4,4-ジイソシアネート、1,3-ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、m-テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ビスイソシアネートメチルノルボルナンなどのイソシアネートとの反応物を用いることができる。
【００３７】
その他に、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α-エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピルアクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α-エチルアクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテルなどのエポキシ変性アクリルなども用いることができる。
【００３８】
開始剤としては、アルキルフェノン系、アシルフォスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシムエステル系、カチオン系などを用いることができる。レベリング剤としては、フッ素系、シリコーン系いずれも用いることができ、高分子も低分子も用いることができるが、電離放射線で重合するものが好ましい。有機樹脂成分と開始剤、レベリング剤の割合は適宜設定できるが、99：1：0〜89：10：1である。開始剤が1より少ないと、反応に時間がかかるため生産性に劣り、8より多くても反応速度は変わらないため無駄となる。レベリング剤は液晶材料の配向性に影響を及ぼす可能性があるので少ない方がよく、無い方がより好ましいが、10より多いと配向膜表面の濡れ性が下がり、ハジキなどが発生して液晶材料の塗工適性が落ちる。
【００３９】
液晶材料としては、スペーサとメソゲンを含む液晶モノマーを使用することができ、単官能もしくは多官能もしくはこれらの混合物を用いることができる。棒状、円盤状いずれも用いることができる。棒状液晶モノマーとしては、以下の式で表されるものを用いることができる。
【化１】
2014174228.tif 000003
【００４０】
ここで、A、Eはそれぞれ独立に、アクリル、メタクリル、ビニル、ビニルオキシ、スチレン、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、水素、フッ素、シアノ、1,4-フェニルからなる官能基であり、Bはメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、水素、フッ素、シアノからなる基であり、ただし、A、Eの少なくともいずれかは反応性であり、
Cは、単結合、
【化２】
2014174228.tif 000004
であり、Dは、単結合、炭素数が1から6のオキシアルキレンである。また、複数種類を混合して用いることができる。液晶材料には、前記光開始剤、レベリング剤を混合して用いることができる。
【００４１】
直線偏光板５は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材１５の下面側が鹸化処理された後、光学機能層１６が配置される。なお基材１５は、これに代えてポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。
【００４２】
光学機能層１６は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。
【００４３】
光学フィルム３の１／４波長位相差板６に係る構成においては、１／４波長板８の厚みを１μｍ、１／２波長板９の厚みを２μｍ程度にすることができる。また、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／４波長板用賦型樹脂層１０の厚みを２μｍ程度、粘着層４の厚みを１５μｍ以下にすることができる。
さらに、直線偏光板５に係る構成においては、基材１５の厚みを３０μｍ程度に構成することができ、光学機能層１６の厚みを２０μｍ以下、粘着層７の厚みを１５μｍ程度に構成することができる。
以上のことから、第１実施形態は、光学フィルム３全体の厚みを８７μｍ以下にすることができる。このような光学フィルム３は、画像表示パネル２の可撓性を十分に確保することができる。
【００４４】
すなわち、第１実施形態の画像表示パネル２は、可撓性を有するシート形状である。光学フィルム３は、画像表示パネル２に比して格段的に可撓性を有していると言える。しかしながらこの種の光学フィルム３においては、画像表示パネル以外の、著しく曲率の大きな部材に配置される場合も予測され、この場合には一段と可撓性が求められる。
【００４５】
そこで光学フィルム３について、それぞれＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１に規定の円筒形マンドレル試験により耐屈曲性を試験した。試験した結果によれば、光学フィルム３の場合、マンドレルの直径が３ｍｍの場合であっても、表面に、割れ及びはがれ等が発生しないことが確認された。これによりこの直径３ｍｍによる耐屈曲性の試験を満足することが判った。ここでこの程度の耐屈曲性を備えている場合には、配置対象物が可撓性を有するシート形状による画像表示パネルであっても、十分に配置対象物の可撓性を損なわないことを確認することができた。また配置対象が一段と大きな曲率を備えた部材であっても、光学フィルム３を損傷しないで配置することができる。
【００４６】
（光学フィルム用転写体）
第１実施形態の光学フィルム用転写体である光学フィルム３は、１／４波長位相差板６が粘着層７を介して直線偏光板５と一体化され、この一体化の処理に、転写法が適用される。
【００４７】
第１実施形態では、直線偏光板５に、１／４波長位相差板６に係る層構成を転写法により積層する。従って被転写基材は、直線偏光板５であり、転写に供する層（転写層）は、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板９の積層体である。
【００４８】
図３は、第１実施形態の転写体である転写フィルムの構成を示す図である。転写フィルム２０は、支持体基材２１上に、順次、１／４波長位相差板６に係る１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板９が設けられる。
【００４９】
ここで支持体基材２１は、転写に供する層（転写層）を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。第１実施形態では、透明フィルム材であるＰＥＴ（PolyEthylene Terephthalate）フィルムが支持体基材２１に適用される。このことから、転写フィルム２０は、光学特性を検査可能に構成される。
なお、ＰＥＴフィルムは、コロナ処理され、これにより後述する離型層との間の密着力を適切に設定する。なお支持体基材２１は、全体の形状をシート形状としてもよい。また支持体基材２１は、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。支持体基材２１の厚みは、２０〜１００μｍである。なお、転写層との剥離性が不十分な場合は、支持体基材２１には、転写層側に、剥離を促進する離型層を設ける。
【００５０】
離型層は、相対的に、支持体基材２１との密着性は高く（剥離性は低く）、転写層との密着性は低い（剥離性は高い）材料を適用することができる。この実施形態では、転写層の最下層が紫外線硬化性樹脂による１／４波長板用賦型樹脂層１０であることにより、上述の支持体基材２１に対して、例えばシリコン樹脂（有機珪素系高分子化合物）、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂（アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等）との混合物が用いられる。
【００５１】
なお、コロナ処理したＰＥＴフィルムにメラミン樹脂による離型層を設ける代わりに、何ら表面処理してないＰＥＴフィルムを支持体基材に適用して離型層を省略してもよい。また、これに代えていわゆるノンソルと呼ばれる浸透層を設けていないＴＡＣフィルムを支持体基材２１に適用して離型層を省略してもよい。このようにすると、第１実施形態の転写体の構成を簡略化することができる。
【００５２】
また、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材２１と離型層との間に剥離層を設け、剥離層によって離型層の剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層は、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く（剥離性は高く）、剥離層との密着性が高い（剥離性は低い）材料を適用することができる。より具体的には、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した２種以上の混合物、或いは以上のなかから選択した１種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、１〜１０μｍ程度である。また剥離層は、支持体基材２１に設けてもよく、剥離層に設けてもよい。
【００５３】
１／４波長板用賦型樹脂層１０は、支持体基材２１の上に、又は支持体基材２１の上に形成された剥離層の上に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／４波長板用配向膜１１は、賦型に供する微細凹凸形状を周側面に形成した賦型用金型（ロール版）を用いて１／４波長板用賦型樹脂層１０を賦型処理して作成される。第１実施形態では、１／４波長板用賦型樹脂層１０となる紫外線硬化性樹脂の塗付液がシリカ微粒子を含むものとする。１／４波長板８は、１／４波長板用配向膜１１上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。
【００５４】
１／２波長板用賦型樹脂層１２は、１／４波長板８の上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０と同様に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／２波長板用配向膜１３は、１／４波長板用配向膜１１と同様に、賦型用金型を用いて１／２波長板用賦型樹脂層１２を賦型処理して作成される。第１実施形態では、１／２波長板用賦型樹脂層１２となる紫外線硬化性樹脂の塗付液がシリカ微粒子を含むものとする。１／２波長板９は、１／２波長板用配向膜１３上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。
第１実施形態では、上述した１／４波長位相差板に係る層構成である、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板８、１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板９が、転写に供する転写層である。
【００５５】
転写フィルム２０の１／４波長位相差板６上には、粘着層７、セパレータフィルム２３が設けられる。粘着層７は、転写層と被転写基材とを接着するための層であり、転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。第１実施形態では、粘着層７として、アセチルセルロース（酢酸纖維素）、ニトロセルロース（硝酸纖維素又は硝化綿）、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース（纖維素）系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。粘着層７の厚みは、１〜３０μｍ程度である。
【００５６】
セパレータフィルム２３は、粘着層７の表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム２３は、粘着層７が露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。
【００５７】
（光学フィルムの製造方法）
図４は、光学フィルム３の製造工程を示す図である。この製造工程３０は、直線偏光板５に係る鹸化処理が実行された基材１５、光学機能層１６に係るフィルム材が供給ロール３１、３２により提供される。また転写フィルム２０が供給リール３３により提供される。工程３０では、供給リール３３から転写フィルム２０が引き出され、剥離ロール３４によってセパレータフィルム２３が剥離されて粘着層７を露出させる。なお、剥離されたセパレータフィルム２３は、巻き取りリール３６に巻き取られる。
【００５８】
供給ロール３１からは基材１５が引き出される。供給ロール３２からは、光学機能層１６に係るフィルム材が引き出される。引き出された基材１５、光学機能層１６は、セパレータフィルム２３を剥離した転写フィルム２０と積層され、押圧ローラ３８Ａ、３８Ｂによって押圧される。以上の工程により、基材１５、光学機能層１６、転写層が一体化する。
【００５９】
続いて、基材１５、光学機能層１６と一体化された転写層の支持体基材２１が、剥離ローラ３９によって剥離される。なお、剥離された支持体基材２１は、巻き取りロール４０に巻き取られる。続いて、支持体基材２１が剥離された面に、粘着層４に係る粘着剤が塗付される。粘着材の塗布後、供給リール４１より供給されるセパレータフィルム４２が加圧ローラ４３Ａ、４３Ｂによって貼り付けられる。セパレータフィルムが貼り付けられた光学フィルム３は、巻き取りリール４４に巻き取る。
【００６０】
（光学フィルム用転写体の製造方法）
図５及び図６は、図４に示した転写フィルム２０（光学フィルム用転写体）の製造工程５０を示す略線図である。製造工程５０では、支持体基材２１が供給リール５１から引き出され、ダイ５２によって紫外線硬化樹脂の塗布液が支持体基材２１上に塗布される。紫外線硬化樹脂の塗布液には、シリカ微粒子が含まれている。製造工程５０においては、ロール版５３は１／４波長板用配向膜１１に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。
【００６１】
製造工程５０では、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材２１が加圧ローラ５４によりロール版５３に押圧される。紫外線硬化樹脂は、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置５５による紫外線の照射により硬化される。このような工程により、ロール版５３の周側面に形成された凹凸形状が支持体基材２１に転写される。その後、剥離ローラ５６によりロール版５３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１が剥離される。紫外線硬化樹脂上には、液晶材料がダイ５９によって塗布される。液晶材料は、紫外線照射装置５７による紫外線の照射によって硬化する。以上の一連の工程により、支持体基材２１の上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板８が形成される。支持体基材２１、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板８は、巻き取りリール５８に巻き取られる。
【００６２】
図６に示すように、続く製造工程６０において、巻き取りリール５８に巻き取られた支持体基材２１が引き出され、ダイ６２によって１／４波長板８上に紫外線硬化樹脂の塗布液が塗布される。塗布された紫外線硬化樹脂には、シリカ微粒子が含まれている。
製造工程６０において、ロール版６３は、１／２波長板用配向膜１３に係る微細凹凸形状が周側面に形成された賦型用金型である。製造工程６０では、紫外線硬化樹脂が塗布された支持体基材２１が加圧ローラ６４によりロール版６３に押圧される。支持体基材２１上の紫外線硬化樹脂は、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置６５による紫外線の照射により硬化される。このような工程により、ロール版６３の周側面に形成された凹凸形状が支持体基材２１に転写される。その後、剥離ローラ６６によりロール版５３から硬化した紫外線硬化性樹脂と共に支持体基材２１が剥離される。
【００６３】
紫外線硬化樹脂上には、液晶材料がダイ６９により塗布され、紫外線照射装置６７による紫外線の照射により硬化される。以上の一連の工程により、支持体基材２１の上に、１／４波長板用賦型樹脂層１０、１／４波長板用配向膜１１、１／４波長板８、さらには１／２波長板用賦型樹脂層１２、１／２波長板用配向膜１３、１／２波長板９が順次作成され、支持体基材２１の上に１／４波長位相差板６に係る構成が作成される。転写体には、さらに粘着層７、セパレータフィルム２３が設けられ、その後、巻き取りリール６８に巻き取られる。
（ロール版製造工程）
図７は、光学フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。この製造工程では、母材４０の周側面を研磨して平滑化する（図７（ａ））。この製造工程では、続いて、下地層７４１が作製される（図７（ａ））。ここで母材７４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材７４０は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材７４０は、銅が適用される。
【００６４】
下地層７４１は、上層に設けられる材料層について、母材７４０に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層７４１は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚５００ｎｍで作製される。
【００６５】
続いてこの工程は、下地層７４１の上に、無機材料層７４２を作製する。この実施形態では、無機材料層７４２にクロム層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍにより作製される。なおこの無機材料層７４２７４２には、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどを適用することができる。
【００６６】
続いてこの工程は、図７（ｂ）に示すように、第１の凹凸形状作製工程において、無機材料層７４２７４２の全面に微小なライン状の凹凸形状を形成する。第１実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理により凹凸形状が作製される。なお図７では、便宜上、ラビングロールＲによりラビング処理を示す。
【００６７】
（ラビング工程）
ところで、上述のロール版製造工程におけるラビング処理を詳細に検討したところ、ラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することが判った。
図８、図９、図１０は、順次倍率を増大させてラビング処理対象の表面形状を撮影した写真である。図８（ａ）、図９（ａ）、図１０（ａ）は、研磨した銅の表面に、無電解メッキにより、膜厚５００ｎｍによるリンをドープしたニッケル層の下地層を作製し、その上に膜厚１００ｎｍによるチタン層をスパッタリングにより作製したものである。また図８（ｂ）、図９（ｂ）、図１０（ｂ）は、この図８（ａ）、図９（ａ）、図１０（ａ）によるチタン層の表面を一定の押圧力によりラビング布で押圧した状態で、ラビング処理した結果であり、水平方向がラビング方向である。なおラビングの回数は３０００回である。また図８（ｃ）、図９（ｃ）、図１０（ｃ）は、図８（ｂ）、図９（ｂ）、図１０（ｂ）と同一の条件により、ラビング処理の回数を５０００回に設定した結果である。
【００６８】
これら図８、図９、図１０によれば、何らラビング処理しない場合には、チタンの粒界により表面が覆われており、これによりこのチタンの粒界による凹凸形状が表面に現れていることが判る。しかしながらラビングの回数の増大により、粒界が引き伸ばされたような表面形状に変形が見られ、全体的に表面が平坦になっているように観察される。これによりこれら図８、図９、図１０によれば、金属粒界による凹凸形状がラビング処理により徐々に平坦化されているように見える。
【００６９】
このようにラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することを前提に、ラビング処理対象の表面形状による重合性液晶材料との密着力を検討した結果、平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上確保することが必要であることが判った。これにより密着力を強化する観点から、ラビング処理の回数は、一定回数以下に制限することが必要であることが判った。
【００７０】
しかしながらラビング処理の回数を少なくすると、配向膜に充分な配向規制力を付与できない恐れがある。すなわち位相差層の配向に供する凹凸形状は、この図８〜図１０では見て取ることができない程度の微細なものであり、ラビング処理の回数の増大により配向規制力が増大する。充分な配向規制力を確保する観点より、ラビング処理回数と配向規制力との関係を検討したところ、平均面粗さ（Ｒａ）が４ｎｍ以下となるまでラビング処理すると、充分な配向規制力を確保できることが判った。
【００７１】
なおこれらの平均面粗さ（Ｒａ）は、当然のことながらラビング処理した金型を使用した賦型処理により配向膜を作製し、この配向膜と重合性液晶材料との密着力を検討し、さらに配向規制力を検討したものである。また平均面粗さ（Ｒａ）は、規格ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１に規定の算術平均粗さであり、ラビング方向と直交する方向に測定したものである。
【００７２】
これらにより配向膜において、平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上、４ｎｍ以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要であることが判った。ここでこの種の賦型処理においては、充分に賦型用金型の表面形状を転写することができることにより、賦型用金型であるロール版２０の周側面にあっても、平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上用、４ｎｍ以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要である。なおラビング処理においては、ラビング布の押圧力等のラビング処理の条件によって、ラビング処理回数と表面粗さの変化との関係が変化する。従って平均粗さ（Ｒａ）を上述の範囲に設定する場合、ラビング処理回数は、ラビング処理の条件に応じて適宜選定することが必要である。
【００７３】
図１１、図１２、図１３は、それぞれ図８、図９、図１０に示した部位の表面形状の測定結果を示す図である。図１１〜図１３は、ラビング方向と直交する方向についての測定結果である。図１１（ａ１）、（ａ２）に示した測定の結果、無機材料層７４２の平均面粗さ（Ｒａ）は４．５ｎｍであった。また、図１２に示した測定結果において、無機材料層７４２の平均面粗さ（Ｒａ）は２．０ｎｍであった。また、図１３の測定結果において、無機材料層７４２の平均面粗さ（Ｒａ）は０．８５ｎｍであった。これら図１１〜図１３による結果によっても、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定して、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上できることが判った。
【００７４】
以上の構成によれば、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定したことにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００７５】
以上説明した第１実施形態によれば、転写の手法を適用して光学フィルム３を作成することにより、光学フィルム３は、直線偏光板５側の１枚の基材１５により直線偏光板に係る光学機能層、１／２波長板に係る光学機能層、１／４波長板に係る光学機能層を一体に保持することができ、これにより構成を簡略化し、さらには全体形状を薄型化して十分な可撓性を確保することができる。
【００７６】
また、第１実施形態によれば、１／４波長板用配向膜１１を形成する紫外線硬化樹脂、１／２波長板用配向膜１３を形成する紫外線硬化樹脂にシリカ微粒子が含まれている。このため、被転写体となる直線偏光板５に転写フィルム２０を転写した後、直線偏光板５の端部からはみ出している転写フィルム２０が、直線偏光板５の端部でバリを発生することなく切り離される。このような第１実施形態によれば、バリの発生がなく、高品質の光学フィルム、この光学フィルムを形成することができる転写フィルム（転写体）を提供することができる。
【００７７】
［第２実施形態］
第２実施形態では、上述の構成を前提に、さらに配向膜の表面粗さについて検討を試みた。図１４は、この配向膜の検討に供した測定装置の構成を示す図である。この測定装置では、直交ニコル配置による偏光板７７０Ａ及び７７０Ｂの間に光学フィルム３を配置する。この状態で、偏光板７７０Ａ及び７７０Ｂに対する光学フィルム３の角度θを変化させながら、透過光量を計測し、最も透過光量が小さくなる角度θを計測する。なおこの最も透過光量が小さくなる場合の光量は、黒輝度とも呼ばれる。この実施形態では、１つの光学フィルム３について、この黒輝度の光量、黒輝度に係る傾きを複数個所で計測し、計測結果を統計的に処理した。なおこの測定に係るラビング処理は、レーヨンを使用した植毛布を使用して押し込み量０．５ｍｍにより実行した。また光学フィルム３は、母材７４０の周側面に計測用の試料を貼り付けて作成した試験用金型により作成した。
【００７８】
図１５及び図１６は、この計測結果を示す図である。図１５の測定結果は、ラビング処理の時間を横軸に取り、角度θのばらつき３σを縦軸により示すものである。なおσは、標準偏差である。また符号Ｌ１により示す測定結果は、符号Ｌ２により示す測定結果に比して、ラビング処理時における母材に対するラビングクロスの変位速度を５倍に設定した場合の測定結果である。この図１５による計測結果によれば、母材に対するラビングクロスの変位速度が低い程、またラビング処理時間が短い程、黒輝度に係る角度θのばらつき３σが小さいことが判った。特に、処理時間を一定時間より短くすると、ばらつき３σが急激に小さくなることが判る。
【００７９】
また、図１６は、黒輝度を横軸に示し、角度θのばらつき３σを縦軸に示すものである。なお、横軸の単位はカンデラであり、一定の光量により測定に供する光を照射した場合の透過光量である。この図１６によれば、ばらつき３σが小さい程、黒輝度も小さくなることが判る。特に、ばらつき３σのほぼ１．０度を境にして、これよりばらつき３σが小さくなると、ばらつき３σの変化に対する黒輝度の変化量が小さくなる。このばらつき３σの１．０度を境にした測定結果の変化は、図１５の測定結果でも見て取ることができる。なお黒輝度の計測は、液晶配向性はライトボックス上に偏光板をクロスニコル配置し、この偏光板の間に計測対象のフィルムを挿入し、消光位の状態にて、透過光を色彩輝度計（LUMINANCE  COLORIMETER  BM-5A（株式会社トプコン製）により計測して実行した。ライトボックスは、出射面に拡散板を設け、暗室中にて計測した。輝度計の設定は、FIELDが０．２度、輝度計のレンズ前端と被計測対象との間隔は６０ｃｍである。偏光板1枚のみで測定した輝度は４５０cd/m2であり、クロスニコルのみで測定した輝度は０．３４cd/m2であった。
【００８０】
ここでこのばらつき３σが小さい場合、黒輝度が小さい場合には、１／２位相差板、１／４位相差板に適用し、精度良く所望の位相差を付与することができる。
【００８１】
これらにより精度良く位相差層を作成するためには、母材とラビング布との相対速度を一定速度以下に設定して短い処理時間によりラビング処理することが必要であり、従来のラビング処理に係る考え方とは真逆の考え方によりラビング処理することが必要であることが判った。しかし、このように相対速度を一定速度以下に設定して短い時間によりラビング処理する場合には、十分な深さのライン状凹凸形状が作成されていないと考えられる。
【００８２】
図１７及び図１８は、このような観点より配向膜の表面形状とばらつき３σとの関係を測定した結果である。この測定結果は、図１５及び図１６の測定に供した光学フィルムについて、紫外線硬化性樹脂を塗付する前の段階で配向膜の表面形状を測定したものである。図１７は、二乗平均粗さＲＭＳ（Ｒｑ）を横軸に取り、角度θのばらつき３σを縦軸に取った測定結果である。この測定結果によれば、ばらつき３σが小さい場合には、二乗平均粗さによる粗さも小さいことが判るものの、図１５及び図１６の測定結果について上述したばらつき３σの１．０度に係る境界については、見て取ることができない。
【００８３】
図１８は、十点平均粗さＲｚを横軸に取り、角度θのばらつき３σを縦軸に取った測定結果である。これら図１７及び図１８の測定結果によれば、表面粗さが粗い場合程、すなわち配向膜に係るライン状凹凸形状が十分な深さにより作成されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化することが判る。換言すれば、配向膜に係るライン状凹凸形状が浅い場合程、位相差層にかかる液晶分子が揃った状態で配向し易いと言える。
【００８４】
図１８の測定結果によれば、図１５及び図１６の測定結果との対比により、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下であるようにラビング処理すれば、ばらつき３σが１．２度以下であるようにラビング処理することができ、また黒輝度も十分に抑圧できることが判る。なお、十点平均粗さの下限値は、位相差層に適用される液晶分子の大きさの１０倍程度は必要であり、これにより１ｎｍ以上は必要である。しかしながらさらに実用的な余裕を確保する観点から、好ましくは下限値は、１０ｎｍ以上は必要である。
【００８５】
これらにより充分にばらつきを小さくして液晶層を十分に配向させるために、配向膜は、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることが必要であることが判った。これによりこの実施形態では、第１及び第２の実施形態の構成を前提に、ラビングの処理回数、ラビング処理速度の設定により、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように設定した。またこれによりこの実施形態では、ロール版の周側面の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように作製される。
【００８６】
第２実施形態によれば、配向膜の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、これにより高い品質で光学フィルム、位相差板を作製することができる。また、図１１（ａ１）〜図１２（ａ２）の計測結果による十点平均粗さＲｚとの対比によれば、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上である場合には、概ね、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００８７】
［第３実施形態］
図１９は、本発明の第３実施形態の転写フィルムを示す図である。なお、図１９に示した構成のうち、図３に示した構成と同様の構成については同様の符号を付して示し、その説明を一部省くものとする。
転写フィルム７０は、ＰＥＴフィルムによる支持体基材２１に代えて、セパレータフィルム７１、粘着層４の積層体が配置され、セパレータフィルム７１が支持体を構成すると共に、粘着層４が転写層の一部を構成する。ここでセパレータフィルム７１及び粘着層４は、図１について上述した画像表示パネル２への光学フィルム３の配置に係る構成である。第３実施形態は、セパレータフィルム７１、粘着層４に関する構成が異なる点を除いて、第１実施形態と同一に構成される。
【００８８】
実施形態２では、図５及び図６中に括弧書により示したように、転写体の製造工程において、支持体基材２１に代えて、セパレータフィルム７１、粘着層４の積層体が供給リール５１から供給されて、順次１／４波長位相差板６に係る層構造が作成され、転写フィルム７０が生産される。
【００８９】
また、第３実施形態の光学フィルムの製造工程では、図２０に示したように、支持体基材２１を剥離する構成（３９、４０：図４参照）、粘着層、セパレータフィルム４２を配置する構成（４１、４２、４３Ａ、４３Ｂ：図４参照）が省略されて、転写フィルム７０より光学フィルム３が生産される。
【００９０】
この実施形態では、光学フィルム３に係る粘着層４及びセパレータフィルムの積層体を適用して転写体を生産するようにしても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。またこの場合、転写層を転写した後、改めて、光学フィルムの粘着層、セパレータフィルムを設けなくてもよいことにより、生産材の消費を低減して効率よく光学フィルムを生産することができる。また工程も簡略化することができる。
【００９１】
［他の実施形態］
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００９２】
すなわち上述の実施形態では、転写層側に粘着層を設けるようにして、この粘着層により直線偏光板と転写層とを一体化する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、この粘着層を直線偏光板側に設けるようにしてもよい。
【００９３】
また上述の実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種賦型用樹脂を適用する場合、さらには加熱等により軟化させた基材を押し付けて賦型する場合等にも広く適用することができる。
【００９４】
また上述の実施形態では、ロール版により賦型処理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により賦型処理する場合にも広く適用することができる。
【００９５】
また上述の実施形態では、賦型処理により配向膜を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作成する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、１／２波長板、１／４波長板の何れか一方のみを光配向膜により配向させてもよく、双方を光配向膜により作成してもよい。
【００９６】
また上述の実施形態では、ロール材の連続した処理により粘着層４、セパレータの配置を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、光学フィルムをシート形状により切り出した後に配置するようにしてもよい。
【００９７】
また上述の実施形態では、可撓性を有するシート形状による画像表示パネルに光学フィルムを配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、液晶表示パネル等による一般の画像表示装置に適用する場合、さらには各種の部材に配置して反射防止を図る場合に広く適用することができる。
【符号の説明】
【００９８】
１  画像表示装置
２  画像表示パネル
３、７３  光学フィルム
４、７  粘着層
５  直線偏光板
６  １／４波長位相差板
８  １／４波長板
９  １／２波長板
１０  １／４波長板用賦型樹脂層
１１  １／４波長板用配向膜
１２  １／２波長板用賦型樹脂層
１３  １／２波長板用配向膜
１５  基材
１６  光学機能層
２０  転写フィルム
２１  支持体基材
２３、７１  セパレータフィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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