(57)【要約】【課題】廃棄物の加熱処理時に発生する不要物質を低コストで充分に除去できる廃棄物処理装置を提供する。【解決手段】本発明の廃棄物処理装置１は、水分を含む有機性廃棄物を加熱する加熱部１０と、加熱部１０から排出されるガスを浄化するガス浄化部（ガス浄化手段２０，３０，４０）とを具備し、前記ガス浄化部が、前記ガスに水を噴霧する噴霧手段、及び、前記ガスを浄化する多孔質セラミックス焼成体製の吸着手段の少なくとも一方を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水分を含む有機性廃棄物を加熱する加熱部と、該加熱部から排出されるガスを浄化するガス浄化部とを具備し、
前記ガス浄化部が、前記ガスに水を噴霧する噴霧手段、及び、前記ガスを浄化する多孔質セラミックス焼成体製の吸着手段の少なくとも一方を備える、廃棄物処理装置。
【請求項２】
前記ガス浄化部が、前記噴霧手段と前記吸着手段の両方を備え、前記噴霧手段の下流側に前記吸着手段が配置されている、請求項１に記載の廃棄物処理装置。
【請求項３】
前記多孔質セラミックス焼成体が、多孔質セラミックス焼成体用原料が混合された後、乾燥されずに焼成されて得られたものである、請求項１または２に記載の廃棄物処理装置。
【請求項４】
前記多孔質セラミックス焼成体が粒状物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の廃棄物処理装置。
【請求項５】
前記噴霧手段で供給される水が、酸性物質、塩基性物質、界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の廃棄物処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、廃棄物処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
生ごみ、下水汚泥、養鶏・養豚場等の糞尿等の、水分を含む有機性廃棄物を処理する方法については様々な方法が知られている。
例えば、特許文献１には、下水処理場、家庭用・大型浄化槽あるいは食品工場の処理場に発生する汚泥の処理方法として、連続炭化装置を用いて汚泥を炭化して、燃料、肥料、水浄化剤、土壌改良剤として用いることができる紛炭にする方法が開示されている。
特許文献２には、下水道などから排出される有機性汚泥を４００℃〜８００℃の温度で、かつ、外気遮断性を高めた状態（すなわち、低酸素状態、還元性雰囲気）で加熱処理して、汚泥炭化物を得る方法が開示されている。
【０００３】
しかしながら、特許文献１，２に記載の方法で有機性廃棄物を処理した場合には、加熱処理時に悪臭物質等の不要物質が発生するため、改善が求められていた。
特許文献３には、農村集落排水処理施設、下水処理場、有機排水処理施設等から排出される汚泥を、ロータリーキルン式の炭化炉を用い、４５０〜５５０℃で炭化し、得られた炭化物を脱臭剤として用いることが開示されている。
特許文献４では、汚泥等の有機性廃棄物を低酸素状態で加熱して炭化物を生成し、その際に排出されるガス中の悪臭物質を、白金貴金属触媒を用いた触媒処理、マイクロバブルを用いたオゾン処理、高温プラズマを用いたプラズマ処理の少なくとも１つによって除去する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１２８５７６号公報
【特許文献２】特開２０００−８０３８６号公報
【特許文献３】特開２００６−６３１０５号公報
【特許文献４】特開２０１３−４３１４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献３に記載の汚泥の炭化物では、充分な脱臭性が得られなかった。特許文献４に記載の不要物質除去方法では、高コストであり、実用的ではなかった。
そこで、本発明は、廃棄物の加熱処理時に発生する不要物質を低コストで充分に除去できる廃棄物処理装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は以下の構成を有する。
［１］  水分を含む有機性廃棄物を加熱する加熱部と、該加熱部から排出されるガスを浄化するガス浄化部とを具備し、前記ガス浄化部が、前記ガスに水を噴霧する噴霧手段、及び、前記ガスを浄化する多孔質セラミックス焼成体製の吸着手段の少なくとも一方を備える、廃棄物処理装置。
［２］  前記ガス浄化部が、前記噴霧手段と前記吸着手段の両方を備え、前記噴霧手段の下流側に前記吸着手段が配置されている、［１］に記載の廃棄物処理装置。
［３］  前記多孔質セラミックス焼成体が、多孔質セラミックス焼成体用原料が混合された後、乾燥されずに焼成されて得られたものである、［１］または［２］に記載の廃棄物処理装置。
［４］  前記多孔質セラミックス焼成体が粒状物である、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の廃棄物処理装置。
［５］  前記噴霧手段で供給される水が、酸性物質、塩基性物質、界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の廃棄物処理装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の廃棄物処理装置は、水分を含む有機性廃棄物を減容化することができ、かつ、その際に発生する悪臭物質の排出を抑えた廃棄物処理装置を比較的安価に提供することができる。従って、中小規模の工場、廃棄物処理場、汚水処理場、養豚・養鶏場などであっても導入が容易であり、地域の臭気環境を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の廃棄物装置の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の廃棄物処理装置について説明する。
本発明の廃棄物処理装置は、水分を含む有機性廃棄物を加熱する加熱部と、該加熱部から排出されるガスを浄化するガス浄化部とを具備する。
水分を含む有機性廃棄物としては、農村集落排水処理施設、下水処理場、染色工場・食品工場・製紙工場などの有機排水処理施設等から排出される汚泥、養鶏、養豚、養牛場から排出される糞尿、食品加工場から排出される端材、飲食店から出される残飯などが挙げられるが、特に限定されるものではない。汚泥は、未消化汚泥、消化汚泥のいずれも用いることができる。
これらの有機性廃棄物は、フィルタープレス、ベルトプレス、遠心脱水等の脱水機によって脱水処理が施され、含水率が１００質量％以下とされたものが好ましい。
【００１０】
（加熱部）
加熱部は、水分を含む有機性廃棄物を加熱して炭化させるものである。有機性廃棄物を炭化することによって得られる炭化物は、発熱量が大きく燃料として好適である。
加熱部の形態は特に限定されず、例えば、密閉状態で加熱するもの、開放状態で加熱するもののいずれであってもよい。
加熱部の具体例としては、例えば、ロータリーキルン、ローラーハースキルン等の連続式加熱炉、シャトルキルン等の分回式加熱炉が挙げられる。中でも、生産性の観点からは、連続式加熱炉が好ましい。
より具体的には、汚泥等の加熱装置として知られているものが好ましく、例えば、特開平８−１５５４１９号公報に記載の熱処理装置、特開２０００−８０３８６号公報に記載の回転炉、特開２００６−６３１０５号公報に記載の炭化装置、特開２０１３−４３１４９号公報に記載の加熱炉などが挙げられる。また、特開２０１０−７５７８３号公報に記載の誘導加熱を利用した揮発性有機溶剤回収装置を加熱部として用いることができる。また、上記のロータリーキルン等に誘導加熱を組み合わせて加熱部として用いることも可能である。
加熱部によって有機性廃棄物を加熱処理した際には、悪臭物質、有害物質及び煤塵よりなる群から選ばれる少なくとも１つの不要物質を生じることが多い。
【００１１】
（ガス浄化部）
本発明におけるガス浄化部は、前記ガスに水を噴霧する噴霧手段、及び、前記ガスを浄化する多孔質セラミックス焼成体製の吸着手段の少なくとも一方を備える。
具体的に、ガス浄化部は、噴霧手段と吸着手段の両方を備えてもよいし、噴霧手段と吸着手段の一方のみを備えてもよい。ガス浄化率が高い点では、噴霧手段と吸着手段の両方を備え、噴霧手段の下流側に吸着手段が配置されることが好ましい。
また、噴霧手段及び吸着手段は、各々、１個でもよいし、複数個でもよい。
【００１２】
＜噴霧手段＞
噴霧手段を用いてガス中に水を噴霧することにより、不要物質に含まれる煤塵を水に捕捉させることができ、悪臭物質及び有害物質のうちの水溶性成分を水に溶け込ませることができる。
噴霧手段としては、水を噴霧できれば特に限定されず、例えば、スプレーノズルやジェットノズルなどが挙げられる。
噴霧手段から供給される水の噴霧パターンは、ガスとの接触面積を大きくするために、環状、面状または帯状が好ましい。
後述するように、噴霧手段で噴霧される水には、酸性物質、塩基性物質、界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が含まれてもよい。
【００１３】
噴霧手段は２個以上であることが好ましい。噴霧手段が２個以上であれば、２ヵ所以上から水を噴霧させることができ、様々な方向に無秩序に且つ高速に乱れ飛ぶ水滴が存在する空間中にガスを通過させることができる。これにより、ガスと水の接触機会を増加させることができ、水によって主に煤塵及び水溶性成分をより捕捉できる。
さらに、ガスと水との接触機会を高めるためには、２個以上の噴霧手段の水の噴霧方向は、各々、異なることが好ましい。
【００１４】
噴霧手段によって噴霧した水の一部を回収し、循環ポンプを用いて、再び、噴霧手段に供給しても構わない。
また、噴霧した水を一定量貯水し、その貯水された水に、加熱部から排出されたガスを通し、バブリングさせて、不要物質を捕捉してもよい。この場合、貯水された水を通過したガスに、噴霧手段から噴霧した水を接触させることになる。
【００１５】
＜吸着手段＞
吸着手段の配置は特に限定されないが、ガスとの接触機会が増えることから、ガスの進行方向に対して平行でない方向に配置することが好ましい。さらには、吸着手段を層状とし、ガスの進行方向に対して垂直に配置することがより好ましい。また、層状の吸着手段は複数配置してもよい。層状の吸着手段を複数配置した場合には、吸着手段の層と層の間に空気層を形成してもよいし、他のガス浄化部を配置してもよい。
また、吸着手段においては、水供給手段が設置されている部分を除いて、多孔質セラミックス焼成体で充填してもよい。
【００１６】
吸着手段を構成する多孔質セラミックス焼成体は、マイクロメートルオーダーの気孔及びナノメートルオーダーの気孔を有するものである。また、これらの気孔が連通しているものが好ましい。
より具体的には、多孔質セラミックス焼成体に形成されている気孔の大きさが、孔径１ｎｍ以上１０００ｎｍ未満のナノメートルオーダーの気孔及び孔径１μｍ以上１０００μｍ未満のマイクロメートルオーダーの気孔を有するものである。また、この範囲以外のミリメートルオーダーの気孔、またそれ以外の大きさの気孔を有していてもよい。
【００１７】
気孔の孔径は、多孔質セラミックス焼成体の原料の種類や、焼成条件を組み合わせることにより調節できる。気孔の孔径とは、気孔の長径を指す。ミリメートルオーダーの気孔の孔径は、多孔質セラミックス焼成体をカット（板状物の場合はその厚さ方向に沿ってカット）し、スケールを用いて測定される値である。ナノメートルオーダーの気孔の孔径及びマイクロメートルオーダーの気孔の孔径は、多孔質セラミックス焼成体をカット（板状物の場合はその厚さ方向に沿ってカット）し、電子顕微鏡を用いて測定される値である。
【００１８】
多孔質セラミックス焼成体がマイクロメートルオーダーの気孔及びナノメートルオーダーの気孔を有すると、後述する好ましい見かけ密度や飽和含水率にしやすくなる。そのため、ガスとの接触面積が増加して、不要物質の除去性能がより高くなる。
【００１９】
多孔質セラミックス焼成体は、多孔質セラミックス焼成体用原料を混合した後、乾燥せずに焼成して得たものであることが好ましい。ここでいう「乾燥」とは、含水率を１質量％以下にする操作のことである。
乾燥せずに焼成することにより、焼成時に、混合物に含まれる水分が短時間に大量に蒸発し、多孔質セラミックス焼成体に亀裂が入る。この焼成時の亀裂により、得られる多孔質セラミックス焼成体の内部にまで、焼成時に熱が伝わり、マイクロメートルオーダーの気孔やナノメートルサイズの気孔をより形成できる。さらに、得られた多孔質セラミックス焼成体の亀裂を通して、多孔質セラミックス焼成体に供給される水や水に含まれる酸性物質等、さらにはガス中の不要物質が多孔質セラミックス焼成体の内部に入り込みやすくなり、さらに除去性能を向上できる。
多孔質セラミックス焼成体の亀裂の大きさは、混合物の組成、焼成速度、焼成時間等により調整できる。
【００２０】
多孔質セラミックス焼成体の形状は、板状物、柱状物、球状物、塊状物、粒状物のいずれであってもよいが、ガスの流れに対する抵抗を小さくし、かつ、ガスと多孔質セラミックス焼成体の接触機会を容易に増やせることから、粒状物が好ましい。
多孔質セラミックス焼成体の粒状物の粒子径は５ｃｍ以下であることが好ましく、３ｃｍ以下であることがより好ましい。多孔質セラミックス焼成体の粒状物の粒子径が前記上限値以下であれば、不要物質との接触機会をより多くできる。
一方、多孔質セラミックス焼成体の粒状物の粒子径は、ガスの流れに対して抵抗が小さくなることから、１ｍｍ以上であることが好ましく、５ｍｍ以上であることがより好ましい。
【００２１】
多孔質セラミックス焼成体の粒状物は、様々な大きさの粒状物を用意し、任意の割合で配合して得てもよい。なお、粒子径は篩分けにより測定される値であり、例えば５ｍｍ超１０ｍｍ以下の粒状物とは、目開き１０ｍｍの篩を通過し、目開き５ｍｍの篩を通過できないものを意味する。
なお、粒状物が大きく篩の入手が困難な場合は、粒状物の長辺をノギス等で測定し、粒子径としてもよい。
【００２２】
多孔質セラミックス焼成体は、見かけ密度が０．３〜１．５ｇ／ｍｌであることが好ましい。見かけ密度の上限については、１．１ｇ／ｍｌ以下であることがより好ましく、０．８ｇ／ｍｌ以下であることがより好ましい。上記範囲内であれば、多孔質セラミックス焼成体の強度を保ちつつ、多孔質セラミックス焼成体内の気孔が多くなる。そのため、多孔質セラミックス焼成体の表面積が大きくなり、ガス中の不要物質との接触機会を増大させることができる。
上記の見かけ密度は、「土壌標準分析・測定法」（博友社）の中の三相分布・容積重（実容積法）にて測定される乾土質量（ｇ）より求められる容積重（仮比重、ｇ／ｍｌ）である。
なお、多孔質セラミックス焼成体が大きいときの見かけ密度の単位は、実施例で説明する測定方法より、「ｇ／ｃｍ３」となる。
【００２３】
多孔質セラミックス焼成体は、飽和含水率が１５〜１００質量％であることが好ましい。飽和含水率の下限については、３０質量％以上であることがより好ましい。飽和含水率が上記の範囲内であれば、多孔質セラミックス焼成体の強度を保ちつつ、多孔質セラミックス焼成体内の気孔が多くなる。そのため、多孔質セラミックス焼成体の表面積が大きくなり、ガス中の不要物質との接触機会を増大させることができる。
なお、多孔質セラミックス焼成体の飽和含水率は、多孔質セラミックス焼成体の気孔率とみなすこともできる。
【００２４】
また、多孔質セラミックス焼成体には、酸性物質、塩基性物質、界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が担持されてもよい。
具体的な酸性物質、塩基性物質、界面活性剤としては、以下のものが挙げられる。
酸性物質としては、酸化チタン、二酸化けい素、硫酸アルミニウム、塩化アンモニウム、塩化亜鉛などの無機化合物、アクリル酸などのカルボキシル基含有化合物やスルホン酸基含有化合物、リン酸系化合物などの有機化合物が挙げられる。
塩基性物質としては、酸化亜鉛、酸化マグネシウムおよび酸化バリウム等の無機化合物、ポリアミン系化合物、ジシアンジアミド系化合物、第四級アンモニウム系化合物などの有機化合物が挙げられる。
なお、酸化亜鉛や酸化アルミニウムなどの両性物質は、処理の対象物質が酸性物質である場合には塩基性物質となり、処理の対象物質が塩基性物質の場合には酸性物質となる。
界面活性剤としては、カルボン酸塩、硫酸エステル塩、スルホン酸塩、リン酸エステル塩などのアニオン界面活性剤、アミン塩型、第４級アンモニウム塩型などのカチオン系界面活性剤、脂肪酸エチレンオキサイド付加物などのポリエチレングリコール型の非イオン界面活性剤、グリセロールの脂肪酸エステルなどの多価アルコール型の非イオン界面活性剤、ベタイン型、アミノ酸型、イミダゾリン型両性界面活性剤が挙げられる。これらの界面活性剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
前記の酸性物質、塩基性物質、界面活性剤は臭いを有さないものが好ましく、例えば、両性界面活性剤ではアルキル部の炭素数が１０以上で、純度の高いものが好ましい。
酸性物質、塩基性物質、界面活性剤は、複数のものを組み合わせて使用してもよいが、酸性物質と塩基性物質を併用する場合にはこれらが結合しないように界面活性剤等で均一な分散状態を保つようにすることが好ましい。
【００２５】
多孔質セラミックス焼成体の製造方法の一例について説明する。ただし、多孔質セラミックス焼成体の製造方法は、下記例の製造方法に限定されるものではない。
本例の多孔質セラミックス焼成体の製造方法は、多孔質セラミックス焼成体用の原料を混合して混合物（以下、単に「混合物」ということがある）を調製し（混合工程）、該混合物を成形して成形体を作製し（成形工程）、該成形体を焼成して多孔質セラミックス焼成体を得る（焼成工程）方法である。
【００２６】
混合工程は、粘土を含む原料を混合して混合物を得る工程である。
混合物としては、例えば、発泡剤と粘土とを含むものが好ましく、発泡剤、有機汚泥及び粘土を含むものがより好ましい。発泡剤と粘土を用いることで大きなミリメートルオーダーの気孔やマイクロメートルオーダーの気孔また多孔質セラミックス焼成体の表面にミリメートルオーダー、マイクロメートルオーダーの凹凸を形成することができる。さらに、有機汚泥を用いることでより多くのマイクロメートルオーダーの気孔と、さらに小さなナノメートルオーダーの気孔を形成することができる。このような混合物を焼成して得られた多孔質セラミックス焼成体は、相互の気孔が連通した孔を有するものとなる。
【００２７】
発泡剤は、焼成時に発泡するものであり、例えば、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、炭酸マグネシウム、スラグ等の公知のセラミックス用の発泡剤を用いることができる。これら発泡剤の中でも、スラグが好ましい。スラグは、特に限定されず、例えば、金属精錬時に発生する高炉スラグ、都市ゴミの溶融時に発生する都市ゴミ溶融スラグ、下水汚泥の溶融時に発生する下水汚泥溶融スラグ、ダクタイル鋳鉄等の鋳鉄時に発生する鋳鉄スラグ等のガラス質スラグ等が挙げられ、中でも、組成が安定しているため安定した発泡状態が得られると共に、他のスラグに比べ１．５〜２倍程度の発泡率である鋳鉄スラグがより好ましい。
また、鋳鉄スラグは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＦｅＯ、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏなどの成分を含み、得られる多孔質セラミックス焼成体は、塩基性物質を担持させなくとも優れた酸性物質除去性を有している。
【００２８】
配合物中のスラグの配合量は、混合物の成形性を勘案して決定することができ、例えば、８０質量％以下が好ましく、２０〜７５質量％がより好ましく、３０〜６５質量％がさらに好ましい。上記範囲内であれば、混合物の成形性を損なわず、かつ円滑に成形できると共に、多孔質セラミックス焼成体の見かけ密度、気孔率（飽和含水率）を好適な範囲にすることができる。
【００２９】
有機汚泥は、主成分として有機物を含有する汚泥である。有機汚泥は、任意のものを用いることができ、下水や工場等の排水処理に由来する活性汚泥が特に好ましい。活性汚泥は、活性汚泥法を用いた排水処理設備から、凝集・脱水工程を経て排出される。このような有機汚泥を用いることで、マイクロメートルオーダーの気孔を効率的に形成でき、さらに、ナノメートルオーダーの気孔を形成できる。ナノメートルオーダーの気孔が形成されることで、多孔質セラミックス焼成体の見かけ密度を小さく、気孔率（飽和含水率）をより高めることができ、不要物質との接触機会を増加させることができる。さらに、廃棄物の位置付けであった排水処理由来の活性汚泥を原料として利用することができる。
有機汚泥の含水率は、例えば、１０〜９０質量％が好ましく、６５〜８５質量％がより好ましい。上記範囲内であれば、均質な混合物が得られると共に、良好な成形性を維持しやすい。
【００３０】
有機汚泥中の有機物の含有量は、特に限定されないが、例えば、有機汚泥の固形分中の有機物の含有量（有機物含有量）として７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。前記有機物含有量が多いほど、マイクロメートルオーダーの気孔を容易に形成でき、さらに、ナノメートルオーダーの気孔を形成できる。なお、有機物含有量は、乾燥後の汚泥をＪＩＳ  Ｍ８８１２−１９９３に準じ、炭化温度７００℃で灰分（質量％）を測定し、下記（１）式により求まる値である。
【００３１】
有機物含有量（質量％）＝１００（質量％）−灰分（質量％）    ・・・（１）
【００３２】
有機汚泥の平均粒子径は、好ましくは１〜５μｍ、より好ましくは１〜３μｍとされる。有機汚泥は、焼成により焼失し、その部分に気孔を形成するため、平均粒子径が小さいほど、マイクロメートルオーダーの気孔を容易に形成でき、さらに、ナノメートルオーダーの気孔を形成できる。なお、平均粒子径は、粒度分布測定装置（ＬＡ−９２０、株式会社堀場製作所製）により測定される体積基準のメディアン径（体積５０％径）である。
【００３３】
混合物中の有機汚泥の含有量は、混合物の成形性等を勘案して決定することができ、例えば、１〜６０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、５〜３０質量％がさらに好ましい。上記範囲内であれば混合物は適度な流動性と可塑性とを備え、成形性が向上し、成形装置を閉塞することなく円滑に成形できる。
【００３４】
粘土は、一般的に窯業原料として用いられる粘土状の性状を示す鉱物材料である。
粘土は、セラミックスに用いられる公知のものを用いることができ、石英、長石、粘土系等の鉱物組成で構成され、構成鉱物はカオリナイトを主とし、ハロイサイト、モンモリロナイト、イライト、ベントナイト、パイロフィライトを含むものが好ましい。このような粘土としては、例えば、蛙目粘土等が挙げられる。粘土は、１種単独で又は２種以上を適宜組み合わせて配合できる。これらの粘土に含まれる成分もガスに含まれる悪臭物質、有害物質の除去に効果を発揮する。
【００３５】
混合物中の粘土の含有量は、多孔質セラミックス焼成体に求める強度や成形性等を勘案して決定でき、例えば、５〜６０質量％が好ましく、５〜５０質量％がより好ましく、１０〜４０質量％がさらに好ましい。上記範囲内であれば混合物の成形性を損なわず、かつ円滑に成形できると共に、多孔質セラミックス焼成体の強度を充分なものにできる。
【００３６】
混合物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、任意成分を含有してもよい。任意成分としては、例えば、マイティ２０００ＷＨ（商品名、花王株式会社製）等のナフタリン系の流動化剤、メルメントＦ−１０（商品名、昭和電工株式会社製）等のメラミン系の流動化剤、ダーレックススーパー１００ｐＨ（商品名、グレースケミカルズ株式会社製）等のポリカルボン酸系の流動化剤、銀、銅、亜鉛等の抗菌剤、塩化アンモニウム、塩化亜鉛等の消臭剤、ゼオライト、アパタイト等の吸着剤、長さが１ｍｍ〜５ｃｍの炭素繊維、バサルト繊維、ロックウールなどの強度向上剤、また、金属アルミニウム等が挙げられる。
混合物に任意成分を配合する場合、任意成分の配合量は、例えば、５〜１０質量％の範囲で決定することが好ましい。
【００３７】
また、成形性の観点より、混合物の流動性の調整等を目的として、適宜、水を配合してもよいが、有機汚泥が好適な配合比で配合されている場合には、混合工程にて水を添加しなくてもよい。
また、水分が多い場合には、例えば、ガラス、瓦、フライアッシュ、クリンカーアッシュなどの破砕物を含むことが好ましい。特に瓦の破砕物を配合することにより、過剰な水分を吸収し、配合物の流動性を調整でき、成形性を向上させることができる。
ガラスを用いる場合には、好ましくは、溶融温度が９００℃以上の高融点ガラスの粒子状フィラーがより好ましい。高融点ガラスの粒子を用いることで、多孔質セラミックス焼成体に形成される気孔を維持しながら水分調整が可能である。また、高融点ガラスやフライアッシュは強度向上剤としても用いることができる。
【００３８】
高融点ガラスや瓦の粒子の粒子径は、０．１〜５ｍｍが好ましい。粒子径が０．１ｍｍ未満であると、多孔質セラミックス焼成体における気孔の形成が不充分になるおそれがある。気孔の形成が不充分であると、ガス中に含まれる不要物質の除去性能、多孔質セラミックス焼成体の耐久性が低下することがある。
粒子径が５ｍｍ超であると、成形性が低下したり、成形時に押出し口の金具が破損するおそれがある。
【００３９】
また、クリンカーアッシュやフライアッシュは、火力発電所から排出されるものであって、廃棄物の有効活用の観点より好ましい。
【００４０】
混合物中の高融点ガラス、瓦の粒子、フライアッシュ、クリンカーアッシュの含有量は、本発明の目的を逸脱しない範囲で配合物の目的とする流動性にあわせて適宜選択すればよいが、高融点ガラスや瓦以外の原料の合計１００質量部に対し、３〜４０質量部が好ましく、１０〜３０質量部がより好ましい。
【００４１】
混合工程に用いられる混合装置は特に限定されず、公知の混合装置を用いることができる。
混合装置としては、例えば、ミックスマラー（東新工業株式会社製）等の混練機や、ニーダー（株式会社モリヤマ製）、混合機（日陶科学株式会社製）等が挙げられる。
【００４２】
成形工程は、混合工程で得られた混合物を任意の形状に成形する工程である。
成形方法は、公知の成形方法を用いることができ、混合物の性状や所望する成形体の形状を勘案して決定することができる。具体的な成形方法としては、成形機を用いて、押し出し成形し、ペレットなどを含めた板状、粒状又は柱状等の成形体を得る方法、混合物を任意の形状の型枠に充填して成形体を得る方法、あるいは、混合物を押し出し、延伸又は圧延した後、任意の寸法に切断する方法等が挙げられる。
成形機としては、真空土練成形機、平板プレス成形機、平板押出し成形機等が挙げられ、中でも、真空土練成形機が好ましい。
【００４３】
焼成前の混合物の含水率は１質量％超であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましく、２０質量％以上であることが特に好ましい。混合物の含水率が前記下限値を下回ると、得られる多孔質セラミックス焼成体の内部に不要物質が入り込みにくくなることがある。
一方、焼成前の混合物の含水率は４５質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。混合物の含水率が前記上限値を超えると、成形性が損なわれるおそれがある。
【００４４】
焼成工程は、成形体を焼成し（焼成操作）、粘土等を焼成して多孔質セラミックス焼成体を得る工程である。
上述したように、成形体を乾燥せずに焼成することが好ましい。原料を混合した後、乾燥せずに焼成して得た多孔質セラミックス焼成体は、不要物質の除去性能がより高くなる。また、乾燥しない場合には、多孔質セラミックス焼成体の生産性を向上させることもできる。
【００４５】
成形体を乾燥する場合には、成形体を自然乾燥してもよいし、５０〜２２０℃の熱風乾燥炉で任意の時間処理して乾燥してもよい。乾燥により、成形体の含水率を１質量％以下としてもよい。
【００４６】
焼成操作は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、ローラーハースキルン等の連続式焼結炉、シャトルキルン等の回分式焼結炉を用い、任意の温度で焼成する方法が挙げられる。中でも、焼成操作には、生産性の観点から連続式焼結炉を用いることが好ましい。
焼成温度（最高到達温度）は、混合物の性状等に応じて決定でき、例えば、８５０℃〜１２００℃とされる。上記下限値以上であれば、有機汚泥中の有機物の大部分が揮発して減量する。上記上限値超であると、セラミックス焼成体の組織全体のガラス化が進み、気孔が閉塞するおそれがある。
上記の製造方法によりマイクロメートルオーダーの気孔及びナノメートルオーダーの気孔を有する多孔質セラミックス焼成体が得られる。
【００４７】
焼成工程の後、粒状物としたい場合には、必要に応じて、任意の大きさに多孔質セラミックス焼成体を破砕する破砕工程を有してもよい。破砕工程では、焼成工程で得られた多孔質セラミックス焼成体をハンマーミル、二軸回転式破砕、ジェットミル、ボールミル、エッジランナーミル等で破砕、粉砕し、多孔質セラミックス焼成体の粒状物を得ることができる。得られた粒状物は必要に応じ任意の粒子径になるように篩分けする。
【００４８】
多孔質セラミックス焼成体を製造する際に原料として用いられる粘土あるいはスラグには金属酸化物等が含まれ、この金属酸化物が焼成体において酸性成分または塩基性成分として機能する。この多孔質セラミックス焼成体の酸性成分は塩基性物質を吸着可能であり、多孔質セラミックス焼成体の塩基性成分は酸性物質を吸着可能である。
【００４９】
［水供給手段］
ガス浄化部が多孔質セラミックス焼成体を具備する場合には、多孔質セラミックス焼成体に水を供給するための水供給手段をさらに具備することが好ましい。多孔質セラミックス焼成体に水を供給すると、ガス中の成分が多孔質セラミックス焼成体の塩基性成分、酸性成分等と接触しやすくなり、ガス中の不要物質を除去しやすくなる。
水供給手段としては、スプレーノズル、ジェットノズル、孔の開いたパイプやプレート状物等が挙げられる。孔の開いたパイプやプレート状物の場合には、多孔質セラミックス焼成体の上方に配置することが好ましい。
ガス浄化部が水供給手段を備える場合には、ポンプ等を用いて、多孔質セラミックス焼成体を通過した水を再び水供給手段に供給してもよい。
後述するように、水供給手段で供給される水には、酸性物質、塩基性物質、界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が含まれてもよい。
【００５０】
＜他の構成＞
上記廃棄物処理装置においては、ガスを廃棄物処理装置内に流すための吸引ファンや送風ファンが設置されてもよい。また、ガス中のミストを捕捉するデミスターが設置されてもよい。
また、本発明の目的を逸脱しない範囲で、温度計や濃度計等の各種計器が設置されてもよい。
【００５１】
（廃棄物処理方法）
上記廃棄物処理装置１を用いた廃棄物処理方法は、加熱工程とガス浄化工程とを有する。
【００５２】
加熱工程は、水分を含む有機性廃棄物を加熱して炭化させる工程である。
加熱工程における加熱温度は、任意の温度にすることができるが、１００℃以上が好ましい。加熱温度が前記１００℃未満では、汚泥等の減容化に時間を要し、生産性が低くなる。また、加熱温度は、好ましくは２５０℃以上である。加熱温度が２５０℃以上であれば、水分を含む有機性廃棄物を容易に炭化することができる。
【００５３】
また、加熱温度は１５００℃以下が好ましく、９５０℃以下がより好ましい。加熱温度が前記上限値を超えると、加熱処理に用いられるエネルギー量に比べ、減容化の程度が変わらず、コストの点で不利である。
また、９５０℃以下であれば、水分を含む有機性廃棄物を炭化して得た炭化物を燃料として容易に用いることができる。９５０℃以下で加熱処理した汚泥等の水分を含む有機性廃棄物は、大きな発熱量を持ち、燃料として好ましく用いることができる。
また、低温で加熱処理して得た炭化物は、高温で加熱処理した炭化物よりも発熱量が大きくなり、具体的には、加熱温度が６００℃以下であることがより好ましい。
通常、加熱温度が低温になるほど臭気が強くなる。これは、高温で加熱すれば、加熱部から排出されるガス中に含まれる不要物質も熱分解されてガス中の不要物質の量が減少するが、加熱温度が低くなれば、不要物質の熱分解量が減るため、ガス中に含まれる不要物質が増加する。しかし、本発明の廃棄物処理装置では、６００℃以下の低温で有機性廃棄物を加熱しても、不要物質の排出を抑制することができる。
また、加熱時における加熱部の内部の雰囲気は、還元性雰囲気であることが好ましい。さらには、有機性廃棄物を容易に熱分解できることから、可燃物が燃焼を継続するために必要な酸素濃度である限界酸素濃度をおおむね上回らない程度の雰囲気とすることが好ましい。
【００５４】
ガス浄化工程は、加熱工程で発生したガスに水を噴霧手段によって噴霧すること、加熱工程で発生したガスを吸着手段の多孔質セラミックス焼成体に通すことの少なくとも一方をおこなう工程である。
【００５５】
加熱工程で発生したガス中に煤塵、悪臭物質及び有害物質として水溶性成分が含まれる場合、ガスに水を噴霧することによって、主に、煤塵を水に捕捉させることができ、また、悪臭物質及び有害物質のうちの水溶性成分を水に溶け込ませることができる。
前記ガスに水を噴射する場合には、前記ガス中に２か所以上から、様々な方向に無秩序に且つ高速に噴霧することが好ましい。このように水を噴射すると、ガス中の煤塵及び水溶性成分と水の接触の機会を増大させることができる。そのため、粉塵及び水溶性成分の除去性能が高くなる。
【００５６】
噴霧する水には、酸性物質、塩基性物質、界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有させてもよい。酸性物質、塩基性物質、界面活性剤を水に添加した場合には、煤塵及び水溶性成分に加えて、水に不溶性、難溶性の、塩基性物質、酸性物質、油系成分、中性成分等を除去することも可能になる。
酸性物質、塩基性物質、界面活性剤としては、多孔質セラミックス焼成体に担持されるものと同様のものを用いることができる。
また、本発明の目的を逸脱しない範囲で、水には、マスキングのための香料、キレート剤、抗菌剤、触媒等を添加してもよい。
【００５７】
水噴霧の際の温度は、浄化処理されるガスの温度、ガスに含まれる成分の溶解度や蒸気圧などを勘案し任意に設定すればよい。
【００５８】
加熱工程で発生したガスを多孔質セラミックス焼成体に通した際には、不要物質を多孔質セラミックス焼成体の表面に物理吸着させて除去する。また、多孔質セラミックス焼成体中の酸性成分により、主に、ガス中の塩基性成分をイオン的に吸着して除去し、多孔質セラミックス焼成体中の塩基性成分により、主に、ガス中の酸性成分をイオン的に吸着して除去する。
【００５９】
ガスを多孔質セラミックス焼成体で浄化する場合には、不要物質の除去率が高くなることから、多孔質セラミックス焼成体に水を供給することが好ましい。
また、多孔質セラミックス焼成体に供給する水の中に、酸性物質、塩基性物質、界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有させることが好ましい。酸性物質、塩基性物質、界面活性剤としては、多孔質セラミックス焼成体に担持されるものと同様のものを用いることができる。
多孔質セラミックス焼成体に供給する水の中に、前記酸性物質等を含ませた場合には、前記酸性物質等を多孔質セラミックス焼成体に担持させなくても、不要物質をより除去できる。大きな表面積を有する多孔質セラミックス焼成体中に、水と共に前記酸性物質等を通過させれば、ガス中の各成分と酸性物質等との接触機会が増え、また、新しい酸性成分等が多孔質セラミックス焼成体中に供給されるため、不要物質の除去性能がより高くなるものと考えられる。
【００６０】
吸着手段を２つ具備する場合、一方の吸着手段では、酸性物質を含む水を多孔質セラミックス焼成体に供給して主にガス中の塩基性物質を除去し、他方の吸着手段では、塩基性物質を含む水を多孔質セラミックス焼成体に供給して主にガス中の酸性物質を除去してもよい。
【００６１】
（作用効果）
上記廃棄物処理装置では、加熱部によって有機性廃棄物を加熱した際に発生したガス中の不要物質を、水の噴霧及び多孔質セラミックス焼成体による吸着の少なくとも一方によって除去する。そのため、不要物質を低コストで充分に除去できる。
また、本発明の廃棄物処理装置によって有機性廃棄物を炭化した炭化物は、燃料、脱臭剤、土壌改良材等に利用することができ、廃棄物を有益物として使用することができる。
【実施例】
【００６２】
以下、本発明について実施例を示してより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００６３】
（製造例１）多孔質セラミックス焼成体の製造
スラグ５０質量部、有機汚泥２５質量部、粘土２５質量部（合計１００質量部）に対し、瓦２０質量部を添加し、これらを、ミックスマラー（新東工業株式会社製）を用いて混合し、可塑状態の混合物を得た（混合工程）。
次いで、真空土練成形機で上記混合物を直径１．５ｃｍの円柱状に押し出し、次いで、長さ３ｃｍに切断して円柱状の成形体（含水率１５質量％）を得た。その成形体を、乾燥工程を経ずに引き続き、連続式焼結炉を用いて、焼成温度１０５０℃、焼成温度での滞留時間７分間の焼成条件にて焼成した（焼成工程）。連続式焼結炉としては、ローラーハースキルン（焼結炉の有効長：全長１５ｍ、焼結炉を各１．５ｍのゾーン１〜１０に分割）を用いた。焼成によって得られた多孔質セラミックス焼成体は細かな亀裂が入った長径が３ｃｍ〜１０ｃｍ程度の粒状物と塊状物が混在したものであった。
得られた多孔質セラミックス焼成体の粒状物及び塊状物をハンマーミルで粉砕した。次に、篩を用いて、５ｍｍ超１０ｍｍ以下のものに篩分けして、多孔質セラミックス焼成体の粒状物を得た。得られた多孔質セラミックス焼成体の粒状物は、マイクロメートルオーダーの気孔とナノメートルオーダーの気孔が確認された。特に孔径が１μｍ〜３０μｍ及び２００ｎｍ〜５００ｎｍのものが多く観察された。また、多孔質セラミックス焼成体の見かけ密度は０．７ｇ／ｍｌ、飽和含水率は４３質量％であり、気孔同士の連通も確認された。
【００６４】
＜使用原料＞
なお、上記製造例で用いた多孔質セラミックス焼成体の原料は、具体的には次のものである。
【００６５】
［有機汚泥］
有機汚泥としては、染色工場（小松精練株式会社）の活性汚泥法による排水処理設備から凝集・脱水工程を経て排出された活性汚泥を用いた。この活性汚泥の有機物含有量（対固形分）は８３質量％、含水率は８５質量％であった。
【００６６】
［粘土］
粘土としては、蛙目粘土（岐阜県）を用いた。
【００６７】
［スラグ］
発泡剤として、鋳鉄スラグを用いた。この鋳鉄スラグは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＦｅＯ、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏを主成分とするダクタイル鋳鉄スラグである。
【００６８】
［瓦］
住宅用の瓦として使用された後、廃棄されたものを粉砕した粒子径０．１ｍｍ〜１．２ｍｍのものを用いた。
【００６９】
＜物性の測定・確認＞
多孔質セラミックス焼成体の物性値は以下の方法により測定した。
【００７０】
［孔径の確認］
多孔質セラミックス焼成体のマイクロメートルオーダーの気孔及びナノメートルオーダーの気孔の確認は、電子顕微鏡（ＳＥＭＥＤＸ  Ｔｙｐｅ  Ｈ形、日立サイエンスシステムズ製）を用い、３０倍〜１００００倍で観察した。
【００７１】
［見かけ密度］
多孔質セラミックス焼成体が粒状物のものの場合は、「土壌標準分析・測定法」（博友社）の中の三相分布・容積重（実容積法）にて測定される乾土質量（ｇ）より求められる容積重（仮比重、ｇ／ｍｌ）を見かけ密度とした。
また、多孔質セラミックス焼成体の粒状物が測定容器と比べ大きい場合には、サンプルを直方体にカットし、サンプルの外形寸法をノギスにより測定し体積を求めた。カットしたサンプルを絶乾状態にし、電子天秤にて質量を測定（絶乾状態質量）し、下記（２）式により見かけ密度を算出した。
見かけ密度（ｇ／ｃｍ３）＝［絶乾状態質量（ｇ）］／［体積（ｃｍ３）］  ・・・（２）
【００７２】
［飽和含水率］
多孔質セラミックス焼成体を、水に６０分間浸漬し、水中から取り出し、直ちに質量を測定（飽和含水状態質量）し、下記（３）式により飽和含水率を求めた。飽和含水率の測定を試料数（Ｎ）＝１０について行い、平均値を求めた。
飽和含水率（質量％）＝［（飽和含水状態質量−絶乾状態質量）／絶乾状態質量］×１００・・・（３）
【００７３】
［気孔同士の連通の有無の確認］
多孔質セラミックス焼成体における気孔同士の連通の有無の確認は、得られた多孔質セラミックス焼成体を水に浸漬し、充分に吸水させた後に切断または潰し、その断面を観察することで確認した。多孔質セラミックス焼成体の内部に、満遍なく水分が分布・保水されている場合、気孔同士が連通していると判断した。多孔質セラミックス焼成体の内部に水分が行き渡っていない場合には、個々の気孔又は孔隙が独立しており、気孔同士が連通していない又は連通が不充分であると判断した。
【００７４】
（実施例１）
図１に示すように、実施例１における廃棄物処理装置１は、ロータリーキルンを用いた加熱部１０と、第１浄化手段２０と、第２浄化手段３０と、第３浄化手段４０とを具備するものとした。
【００７５】
第１浄化手段２０は、槽２１の側面２１ａにスプレーノズル２２が取り付けられたものとした。また、第１浄化手段２０においては、槽２１の底部に溜まった水を循環して、再度、スプレーノズル２２に供給する循環ポンプ２３及び配管２４を設けた。また、槽２１の下部に溜まった水を排出する排出管２５を取り付けた。
【００７６】
第２浄化手段３０は、１層の多孔質セラミックス焼成体層３２を備える槽３１を備えるものとした。槽３１は、槽２１の上部に連結した。多孔質セラミックス焼成体層３２は、製造例１で得た多孔質セラミックス焼成体の粒状物をメッシュ状容器に厚さ約２．５ｃｍで充填することにより構成され、ガスの流れに対して垂直になるように配置した。また、槽３１の内部には、多孔質セラミックス焼成体層３２の上面に水を噴霧するスプレーノズル３３が設けられ、スプレーノズル３３の上方には、ミストを捕捉して除去する不織布製のデミスター３４が設けられた。
また、第２浄化手段３０においては、槽３１の底部に溜まった水を循環して、再度、スプレーノズル３３に供給する循環ポンプ３５及び配管３６を設けた。
【００７７】
第３浄化手段４０は、槽４１にスプレーノズル４２ａ，４２ｂ，４２ｃが取り付けられたものとした。スプレーノズル４２ａは、槽４１の側面４１ａに取り付けられ、スプレーノズル４２ｂ，４２ｃは、槽４１の上面４１ｂに取り付けられた。スプレーノズル４２ｂは、真下に水を噴霧し、スプレーノズル４２ｃは、斜め下に水を噴霧するものとした。
スプレーノズル４２ｃの上方には、ミストを捕捉して除去する不織布製のデミスター４４が設けられた。また、第３浄化手段４０においては、槽２１の下部に溜まった水の一部を排出する排出管４３を取り付けた。また、槽４１の底部に溜まった水の一部を循環して、再度、スプレーノズル４２ａ，４２ｂに供給する循環ポンプ４５及び配管４６を設けた。
また、第３浄化手段４０は、薬液タンク４７と薬液タンク４７の内部に入れられた薬液をスプレーノズル４２ｃに供給するための配管４８及びポンプ４９を具備するものとした。
【００７８】
また、加熱部１０の上部と槽２１の上部とを配管５１で接続し、槽３１の上部と槽４１の上部とを配管５２で接続し、槽４１の上部に配管５３を取り付けた。配管５１には送風ファン６４ａを取り付け、配管５２には送風ファン６４ｂを取り付け、配管５３には排気ファン６４ｃを取り付けた。
【００７９】
本例の廃棄物処理装置１では、加熱部１０で汚泥を加熱し、第１浄化手段２０と第２浄化手段３０と第３浄化手段４０とによって、加熱部１０から排出されたガスを浄化した。
具体的には、加熱部１０によって、汚泥を４５０〜５００℃で加熱処理した。加熱部１０は、可燃物（汚泥）が燃焼を継続するために必要な酸素濃度である限界酸素濃度を概ね上回らない程度の状態で加熱され、汚泥中の有機物が熱分解されるものとした。加熱処理により汚泥は炭化された。得られた炭化物の低位発熱量は２３０００ｋＪ／ｋｇ（５３５０ｋｃａｌ／ｋｇ）（分析方法：ＪＩＳ  Ｍ８８１４）であり、燃料として用いるのに充分な発熱量を有していた。
次いで、加熱部１０から排出されたガスを、送風ファン６４ａを用い、配管５１に通して槽２１にガス供給速度３ｍ３／分で導入した。
次いで、槽２１の内部のガスに、水供給管２４ａから供給した水道水を、スプレーノズル２２を用いて充円形状のスプレーパターンで噴霧した。槽２１の底部に溜まった水の一部は、循環ポンプ２３及び配管２４を用いて、再度、スプレーノズル２２から槽２１の内部に噴霧し、残りの水は排出管２５を通して廃棄した。これにより、第１浄化手段２０において、主に、ガスに含まれる煤塵及び水溶性成分を除去した。
【００８０】
次いで、槽２１の上部から排出させたガスを、槽３１に導入し、多孔質セラミックス焼成体層３２に通した。その際、循環ポンプ３５及び配管３６を用いて、槽２１の底部に溜まった水と、水供給管３６ａから供給した水道水をスプレーノズル３３に供給し、スプレーノズル３３から多孔質セラミックス焼成体層３２に水道水を噴霧した。
多孔質セラミックス焼成体層３２を通過したガスをデミスター３４に通してミストを捕捉した後、送風ファン６４ｂを用い、配管５２に通して槽４１の上部に導入した。
【００８１】
次いで、槽４１に導入したガスに、水供給管４６ａから供給した水道水を、スプレーノズル４２ａ，４２ｂを用いて充円形状のスプレーパターンで噴霧した。また、薬液タンク４７に入れられた薬液を、配管４８及びポンプ４９を介してスプレーノズル４２ｃに供給し、スプレーノズル４２ｃを用いて薬液を充円形状のスプレーパターンで噴霧した。薬液は、塩化亜鉛と塩化アンモニウムと界面活性剤を添加した水とした。
また、循環ポンプ４５及び配管４６を用いて、槽４１の底部に溜まった水の一部をスプレーノズル４２ａ，４２ｂに返送し、残りの水を排出管４３に通して廃棄した。
槽４１を通過したガスをデミスター４４に通してミストを捕捉した後、排気ファン６４ｃを用い、配管５２に通して槽４１の外部に放出した。
【００８２】
実施例１における悪臭物質等の脱臭性能について、以下の方法により評価した。
すなわち、ガスに含まれるプロピオン酸、ノルマル酪酸、ノルマル吉草酸、イソ吉草酸、硫黄酸化物（これらはいずれも悪臭物質である。）の濃度を、昭和４７年環境庁告示第９号に従って測定した。測定結果を表１に示す。
また、ガスの臭いについて試験者が官能試験した。評価結果を表１に示す。
なお、ガスのサンプリング箇所は、配管５１、配管５２、配管５３とした。
【００８３】
【表１】
2014213267.tif 000003
【００８４】
表１に示すように、廃棄物処理装置１では、加熱部から排出されたガスに含まれる悪臭物質を、ガス浄化部によって充分に除去できた。
また、実施例１において、薬液タンク４７に香料を少し添加したところ、不快な悪臭は全く感じず、香料の良い香りが感じられた。
【符号の説明】
【００８５】
１  廃棄物処理装置
１０  加熱部
２０  第１浄化手段
２１  槽
２２  スプレーノズル
２３  循環ポンプ
２４  配管
２５  排出管
３０  第２浄化手段
３１  槽
３２  多孔質セラミックス焼成体層
３３  スプレーノズル
３４  デミスター
３５  循環ポンプ
３６  配管
４０  第３浄化手段
４１  槽
４２ａ，４２ｂ，４２ｃ  スプレーノズル
４３  排出管
４４  デミスター
４５  循環ポンプ
４６  配管
４７  薬液タンク
４８  配管
４９  ポンプ
５１，５２，５３  配管
６４ａ，６４ｂ  送風ファン
６４ｃ  排気ファン
【図１】
2014213267.tif 000004