(57)【要約】【課題】本発明の課題は、ロール・ツー・ロール方式により連続的な機能性フィルムの製造方法でであって、薄膜転写用基材の表面再生手段を有し、平滑性、各種機能性及び異物故障耐性に優れた機能性フィルムの製造方法を提供することである。【解決手段】本発明の機能性フィルムの製造方法は、無端の耐熱基材を連続搬送する搬送手段、当該耐熱基材上に薄膜形成用塗布液を塗布及び乾燥して薄膜を形成する薄膜形成手段、連続搬送するプラスチックフィルム基材表面に前記形成した薄膜を転写する転写手段、及び前記薄膜を転写した後の前記耐熱基材表面を洗浄して、表面を再生する洗浄手段を有することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無端の耐熱基材を連続搬送する搬送手段、当該耐熱基材上に薄膜形成用塗布液を塗布及び乾燥して薄膜を形成する薄膜形成手段、連続搬送するプラスチックフィルム基材表面に前記形成した薄膜を転写する転写手段、及び前記薄膜を転写した後の前記耐熱基材表面を洗浄して、表面を再生する洗浄手段を有することを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
【請求項２】
表面性再生処理前の前記耐熱基材の表面粗さＲｐｖ１（ｎｍ）と、前記洗浄手段で前記耐熱基材表面に対し表面性再生処理を１００回行った後の前記耐熱基材の表面粗さＲｐｖ２（ｎｍ）との差（Ｒｐｖ２−Ｒｐｖ１）が、±５０（ｎｍ）の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記薄膜形成用手段と、前記転写手段との間に、前記薄膜を有する耐熱基材を、３００℃以上、当該耐熱基材の耐熱温度以下で熱焼成する熱焼成手段を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記薄膜形成手段の前に、前記耐熱基材上に離型層を付与する離型層塗布手段を有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックフィルム上に機能性の薄膜を転写する機能性フィルムの製造方法であって、薄膜転写用の耐熱基材表面の洗浄手段を具備した機能性フィルムの製造方法に関する。より詳細には、表面の均一性が求められるガスバリアー性薄膜を、プラスチックフィルム上に転写されたガスバリアーフィルム等を連続的に生産する際に、くり返し使用可能な耐熱基材の表面性再生手段を具備した機能性フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、各種機能を備えた機能性フィルムが広く知られている。機能性フィルムとしては、主には可撓性のプラスチックフィルム上に各種機能を発現する構成層（機能層）を設けたフィルムであり、例えば、ガスバリアーフィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、熱線遮断フィルム、透明導電フィルム、防湿フィルム、紫外線劣化防止フィルム、拡散フィルム、耐候フィルム、抗菌フィルム等が挙げられる。
【０００３】
機能性フィルムの一例であるガスバリアーフィルムは、一般に、熱可塑性樹脂からなる基板やフィルムの表面に、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素等の金属酸化物を含む薄膜、すなわちガスバリアー層が形成されたものである。このようなガスバリアーフィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断する機能を備え、物品の包装用途や、食品、工業用品及び医薬品等の変質を防止するための包装用途で広く用いられている。また、上記包装用途以外にも、液晶表示素子、太陽電池、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと略記する）基板等の電子デバイス材料として使用されている。
【０００４】
基材としてプラスチックフィルムを用いたガスバリアーフィルムは、ガラス基板を基材として用いた場合と比較してフレキシブル性（可撓性）に優れており、ロール方式での生産に適しており、このようなガスバリアーフィルムを用いることにより、電子デバイスの軽量化及び取扱い性の点において優位である。
【０００５】
このようなガスバリアーフィルムを製造する方法としては、主に、熱蒸着法、プラズマＣＶＤ法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：化学気相成長法、化学蒸着法）、スパッタ法等によってプラスチックフィルムなどの基材上に、ガスバリアー層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
しかしながら熱蒸着法、プラズマＣＶＤ法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：化学気相成長法、化学蒸着法）、スパッタ法等などは、大型の設備を必要とし、更に、使用する設備上の制約より、ロール・ツー・ロール方式による連続生産に制約があり、経済性及び生産性の面で問題があり、高速で良好なガスバリアー性を有するガスバリアーフィルムの製造方法が求められていた。
【０００７】
一方、蒸着以外でバリアー層を形成する方法としては、例えば、特開平８−２６９６９０号公報には、ポリエステルフィルムに、パーヒドロポリシラザン（以下、ＰＨＰＳともいう。）または有機ポリシラザンを含有する塗布液を塗布し、プラズマ処理によりＰＨＰＳまたは有機ポリシラザンを硬化及び重合させて酸化ケイ素系等から成る無機高分子層を形成する方法が開示されている。しかし、特開平８−２６９６９０号公報で開示されている方法における無機高分子層は、基材と金属蒸着層の中間層として、金属蒸着層の基材との密着性や、基材の化学的安定性を付与するための層であり、ガスバリアー層として効果は低い。
【０００８】
また、大気圧下で塗布方式によりプラスチックフィルム面上に、ポリシラザンに由来する化合物からなるポリシラザン層を形成する層形成ステップと、前記層形成ステップで形成されたポリシラザン層を化学変化してセラミック化することによりシリカ質の層に変化させるセラミック化ステップと、シリカ質の層にガス放電処理を施す放電処理ステップとを含むことを特徴とするシリカ被覆プラスチックフィルムの製造方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００９】
しかしながら、引用文献２に記載されている方法でも、プラスチックフィルム上で良好なシリカ被覆膜を形成するためには、長い処理時間を要しており、生産能力に問題を抱えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１１−１１６１２４号公報
【特許文献２】特開２０００−２４６８３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、ロール・ツー・ロール方式により連続的な機能性フィルムの製造方法でであって、薄膜転写用基材の表面再生手段を有し、平滑性、各種機能性及び異物故障耐性に優れた機能性フィルムの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、無端の耐熱基材を連続搬送する搬送手段、当該耐熱基材上に薄膜形成用塗布液を塗布及び乾燥して薄膜を形成する薄膜形成手段、連続搬送するプラスチックフィルム基材表面に前記形成した薄膜を転写する転写手段、及び前記薄膜を転写した後の前記耐熱基材表面を洗浄して、表面を再生する洗浄手段を有することを特徴とする機能性フィルムの製造方法により、生産性が高く、平滑性、ガスバリアー性及び異物故障耐性に優れた機能性フィルムの製造方法を提供することができることを見出した。
【００１３】
すなわち、本発明の上記課題は、下記の手段により解決される。
【００１４】
１．無端の耐熱基材を連続搬送する搬送手段、当該耐熱基材上に薄膜形成用塗布液を塗布及び乾燥して薄膜を形成する薄膜形成手段、連続搬送するプラスチックフィルム基材表面に前記形成した薄膜を転写する転写手段、及び前記薄膜を転写した後の前記耐熱基材表面を洗浄して、表面を再生する洗浄手段を有することを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
【００１５】
２．表面性再生処理前の前記耐熱基材の表面粗さＲｐｖ１（ｎｍ）と、前記洗浄手段で前記耐熱基材表面に対し表面性再生処理を１００回行った後の前記耐熱基材の表面粗さＲｐｖ２（ｎｍ）との差（Ｒｐｖ２−Ｒｐｖ１）が、±５０（ｎｍ）の範囲内であることを特徴とする第１項に記載の機能性フィルムの製造方法。
【００１６】
３．前記薄膜形成用手段と、前記転写手段との間に、前記薄膜を有する耐熱基材を、３００℃以上、当該耐熱基材の耐熱温度以下で熱焼成する熱焼成手段を有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の機能性フィルムの製造方法。
【００１７】
４．前記薄膜形成手段の前に、前記耐熱基材上に離型層を付与する離型層塗布手段を有することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の上記手段により、ロール・ツー・ロール方式により連続的な機能性フィルムの製造方法でであって、薄膜転写用基材の表面再生手段を有し、平滑性、各種機能性及び異物故障耐性に優れた機能性フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の機能性フィルムの製造方法に適用する薄膜転写用基材の表面再生方法の一例を示す概略工程図
【図２】本発明の機能性フィルムの製造方法に適用する薄膜転写用基材の表面再生方法の他の一例を示す概略工程図
【図３】洗浄手段に適用可能な耐熱基材表面の洗浄方法の一例を示す概略図
【図４】洗浄手段に適用可能な耐熱基材表面の洗浄方法の他の一例を示す概略図
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の機能性フィルムの製造方法は、無端の耐熱基材を連続搬送する搬送手段、当該耐熱基材上に薄膜形成用塗布液を塗布及び乾燥して薄膜を形成する薄膜形成手段、連続搬送するプラスチックフィルム基材表面に前記形成した薄膜を転写する転写手段、及び前記薄膜を転写した後の前記耐熱基材表面を洗浄して、表面を再生する洗浄手段を有することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項４に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２１】
本発明の実施態様としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、表面性再生処理前の前記耐熱基材の表面粗さＲｐｖ１（ｎｍ）と、前記洗浄手段で前記耐熱基材表面に対し表面性再生処理を１００回行った後の前記耐熱基材の表面粗さＲｐｖ２（ｎｍ）との差（Ｒｐｖ２−Ｒｐｖ１）が、±５０（ｎｍ）の範囲内であることが、連続して平滑性に優れた薄膜を安定して形成することができる観点から好ましい。
【００２２】
また、前記薄膜形成用手段と、前記転写手段との間に、前記薄膜を有する耐熱基材を、３００℃以上、当該耐熱基材の耐熱温度以下で熱焼成する熱焼成手段を有する方法であることが、緻密な無機膜等を安定して形成することができる観点から好ましい。
【００２３】
また、前記薄膜形成手段の前に、前記耐熱基材上に離型層を付与する離型層塗布手段を設けて、離型層を付与することにより、耐熱基材上に形成した塗膜を、転写工程で連続搬送するプラスチックフィルム基材表面に安定して転写することができる観点から好ましい態様である。
【００２４】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、以下の説明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２５】
《本発明の機能性フィルムの製造方法》
本発明の機能性フィルムの製造方法は、無端の耐熱基材を連続搬送する搬送手段、当該耐熱基材上に薄膜形成用塗布液を塗布及び乾燥して薄膜を形成する薄膜形成手段、連続搬送するプラスチックフィルム基材表面に前記形成した薄膜を転写する転写手段、及び前記薄膜を転写した後の前記耐熱基材表面を洗浄して、表面を再生する洗浄手段を有することを特徴とする。
【００２６】
《機能性フィルムの製造工程を構成する主要工程》
本発明において、機能性フィルムの製造工程としては、例えば、ガスバリアーフィルム等の製造に適用可能な工程であり、下記に示す各工程から構成されていることが好ましい。
【００２７】
１）連続搬送している耐熱基材上に、薄膜形成用塗布液を塗布及び乾燥して薄膜を形成する塗布工程、
２）耐熱基材の薄膜を有する面と、プラスチックフィルム面とを密着する密着工程、
３）前記薄膜をプラスチックフィルム面に転写する転写工程、
４）薄膜を転写した後の耐熱基材表面を洗浄して表面を再生する洗浄工程、
で、主に構成されている。
【００２８】
すなわち、本発明の機能性フィルムの製造方法においては、少なくとも、上記１）〜４）の工程を有していることを特徴とする。
【００２９】
更に、本発明の機能性フィルムの製造方法においては、必要に応じて、
５）形成した薄膜を乾燥する乾燥工程、
６）形成した前記薄膜を熱焼成して、例えば、無機層を形成する熱焼成工程、
７）前記密着工程の前に、プラスチックフィルム上に接着層を付与する接着層形成工程、
８）耐熱基材上に薄膜形成用塗布液を塗布及び乾燥して薄膜を形成する１）塗布工程の前に、耐熱基材上に離型層を形成する離型層形成工程、
を、必要に応じて設けることができる。
【００３０】
また、耐熱基材の表面再生工程においては、連続搬送する無端の耐熱基材と、プラスチックフィルムとして長尺の連続搬送するロール状フィルムを用い、工程１)〜８）までを、ロール・ツー・ロール方式（オンライン方式）で行うことにより、高い生産性を実現することができる。
【００３１】
《機能性フィルム製造工程の代表的なフロー》
以下、図を交えて本発明の耐熱基材の表面を洗浄して再生する洗浄手段を具備した機能性フィルムの製造方法の詳細について説明する。
【００３２】
図１は、本発明の耐熱基材の表面を洗浄して再生する洗浄手段を具備した機能性フィルムの製造方法の一例を示す概略工程図で、例えば、薄膜に熱焼成処理を施して無機層を形成するガスバリアーフィルムの作製に適用可能な工程図である。
【００３３】
図１は、連続搬送する無端の耐熱基材上に、薄膜形成用塗布液を塗布して薄膜を形成する工程、プラスチックフィルム基材表面に、形成した薄膜を転写する転写工程と、転写後の耐熱基材表面を洗浄する洗浄工程を有する基本的な構成を示した図である。
【００３４】
具体的には、図１に示すように、無端ベルトである耐熱基材Ｓを、複数のサポートローラーＳＲで保持しながら、駆動ローラー１１を用いて、所定の搬送速度（ｍ／ｍｉｎ）で連続的に搬送している。次いで、工程Ａである薄膜形成工程で、貯蔵タンク６に貯蔵している薄膜形成用塗布液を、所定の流量でコーターＣ２に供給し、連続搬送している耐熱基材Ｓ上に薄膜７、例えば、無機層を形成するための前駆体層等を形成する。次いで、形成した薄膜７を工程Ｂである乾燥工程の乾燥装置４にて温風等を用いて乾燥する。
【００３５】
次いで、工程Ｃである熱焼成工程にて、熱焼成装置８を用いて形成した薄膜７に加熱処理を施し、薄膜７を機能層９（例えば、無機層あるいはガスバリアー層）に改質する。形成した無機層は、工程Ｄで、冷却装置１０を用いて室温まで冷却する。
【００３６】
次いで、工程Ｅである転写工程で、変換した機能層９を有する耐熱基材Ｓと、もう一方の搬送ラインで連続搬送しているプラスチックフィルムＦとを、点Ｐで駆動ローラー１１とバックローラー１２とローラー対により密着させ、瞬時に離間することにより、耐熱基材Ｓ上に形成された機能層９、例えば、ガスバリアー層を、プラスチックフィルムＦに転写することにより、機能性フィルム、例えば、ガスバリアーフィルムを作製する。
【００３７】
一方、機能層９を転写した耐熱基材Ｓの表面には、転写時に残留した機能層９のカスや、後述する離型層の一部が付着した状態にあり、このよう状態で、再度工程Ａで薄膜形成用塗布液を塗布すると、付着している残渣等により、均質な塗膜を形成することができなくなり、その結果、ガスバリアー層としての耐透湿性の低下や、電子デバイス等に適用した際の湿度等の影響による発光不良（ダークスポットの発生）を招くことになる。
【００３８】
本発明では、このような問題を解決するため、機能層９を転写した耐熱基材Ｓの表面に対し、薄膜形成用塗布液を塗布する前に、その表面の汚れや異物を除去するための工程Ｗである洗浄工程を有することを特徴とする。
【００３９】
洗浄工程に適用可能な洗浄手段の具体例は後述するが、例えば、図１に示すように、洗浄容器１中に洗浄液２を貯蔵し、例えば、ローラー状の金属芯金の表面に、保水部材、例えば、スポンジ等を有する洗浄ローラー３を用いて、耐熱基材Ｓの表面を洗浄して、異物等を取り除く。また、洗浄工程で水等を使用する場合には、薄膜形成用塗布液を塗布する工程Ａの前に、工程Ｆとして乾燥装置４を有する乾燥工程を設けてもよい。
【００４０】
次いで、図２として、図１に対し、その他の工程を設けた薄膜転写用基材の表面性再生方法の他の一例を示す。
【００４１】
上記説明した図１に対し、更に、工程Ａで薄膜形成用塗布液を塗布する前に、耐熱基材Ｓ上に、離型層を付与する離型層塗布工程（工程Ｇ）を設けることができる。工程Ｇでは、貯蔵タンク５に貯蔵している離型層形成用塗布液を、所定の流量でコーターＣ１に供給し、連続搬送している耐熱基材Ｓ上に離型層１７を形成し、次いで、工程Ａで離型層１７上に、薄膜７を形成する。
【００４２】
また、他方のプラスチックフィルムＦの連続搬送ライン（図面に右下）においては、元巻繰り出し部より、長尺の積層ロール１３より、プラスチックフィルムＦを搬出し、工程Ｈで、プラスチックフィルムＦ上に、コーターＣ３より貯蔵タンク１４に貯蔵している接着層塗布液を供給して接着層を形成した後、工程Ｊに設けられた乾燥装置４で乾燥する。
【００４３】
次いで、工程Ｅで、機能層９を有する耐熱基材Ｓと、接着層を形成したプラスチックフィルムＦとを、機能層９面と接着層面とを、点Ｐで駆動ローラー１１とバックローラー１２でニップ及び密着させ、瞬時に離間することにより、耐熱基材Ｓ上に形成された機能層９、例えば、ガスバリアー層を、プラスチックフィルムＦに転写する。次いで、機能層９を転写したプラスチックフィルムＦは、転写後の耐熱基材Ｓ表面と同様に、転写屑や、離型層が付着しているため、洗浄工程Ｈでその表面を洗浄した後、必要に応じて乾燥し、巻き取り部で積層ロール１６として巻き取る。洗浄工程で適用する洗浄方法としては、上記の洗浄工程である工程Ｗで適用するのと同様の手段を用いることができる。
【００４４】
《機能性フィルムの製造方法の構成要素》
次いで、耐熱基材の表面を洗浄して再生する洗浄手段を具備した機能性フィルムの製造方法に適用する各工程及びその構成要素の詳細について説明する。
【００４５】
〔耐熱基材〕
本発明においては、耐熱基材としては、無端で連続搬送が可能なベルト状形状を有していることが好ましい。
【００４６】
本発明における耐熱基材としては、高温に加熱した後の物性に大きな変化を伴わないものであれば、とくに制限は無いが、金属であることが好ましく、例えば、ニッケル、ステンレス（ＳＵＳ）、炭素鋼、チタン合金等を挙げることができるが、に薬品や酸化に対しての耐久性を有し、物理的強度や５００℃までの耐熱性を有している点から、ステンレスが好ましく用いられる。ステンレスの種類としては、オーステナイト系ステンレス（クロムニッケル系）、マルテンサイト系ステンレス（クロム系）、フェライト系ステンレス（クロム系）、二相系ステンレス（クロムニッケル系））、析出硬化系ステンレス（クロムニッケル系）などが挙げられる。厚さとしては、耐久性と柔軟性の点から０．０５〜２．０ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【００４７】
〔工程Ｗ：耐熱基材表面の洗浄工程〕
工程Ｗは、転写後の耐熱基材Ｓの表面に付着している異物やゴミを除去する洗浄工程である。
【００４８】
本発明に適用可能な洗浄手段としては、洗浄処理を繰り返した後でも、耐熱基材Ｓ表面の表面平滑性を、初期の状態で維持するできる方法であれば特に制限はない。
【００４９】
洗浄方法としては、例えば、酸性、中性、アルカリ性の水または有機溶媒による洗浄、超音波洗浄等のウエット洗浄方式や、火炎処理、放電処理、プラズマ放電処理、ＵＶ／オゾン処理などの物理的な洗浄方法が好ましく用いられる。その他、金属繊維、ブラシ、ゴムなどの部材を接触して、摩擦を与えることで表面の汚れを除去して耐熱基材の表面を再生する方法も適用することができる。
【００５０】
洗浄の強度が弱いと、耐熱基材Ｓ上の汚れを完全に除去することができず、耐熱基材Ｓ表面の粗さが、洗浄をくり返し後で増大して、その後の工程で形成する薄膜の表面性が徐々に劣化していくことになる。逆に、洗浄の強度が過度に強すぎる場合には、耐熱基材Ｓの初期の表面粗さよりも小さくなることにより、薄膜の転写性が低下する場合があり、均一な薄膜転写が困難となる。あるいは、耐熱性基材の表面を不均一に洗浄及び磨耗することで、逆に表面粗さが増大して、この場合も薄膜の均一性、平滑性の劣化の原因となる。
【００５１】
本発明における耐熱基材の洗浄処理による再生方法としては、表面性再生処理前の耐熱基材Ｓの表面粗さＲｐｖ１（ｎｍ）と、洗浄手段（工程Ｗ）で耐熱基材Ｓ表面に対し表面性再生処理を１００回行った後の耐熱基材Ｓの表面粗さＲｐｖ２（ｎｍ）との差（Ｒｐｖ２−Ｒｐｖ１）が、±５０（ｎｍ）の範囲内となるように維持することが好ましい態様である。
【００５２】
本発明に係る熱焼成工程（工程Ｃ）及びその後の転写工程（工程Ｅ）で、例えば、熱焼成工程で薄膜７をガスバリアー層に改質し、プラスチックフィルムＦ上にガスバリアー層を転写した後、転写後の耐熱基材表面には、汚れ（異物、転写残渣等）が残りやすく落ちにくい。そのため十分な洗浄工程が必要であるが、基材表面性（粗さ）が変化すると良好な転写プロセスが維持しにくく、また転写後の形成したガスバリアー層のガスバリアー性も変動して性能の安定化が図れない。また、上述のように、洗浄が弱すぎると汚れが残り、平滑性が低下する。逆に、洗浄が強すぎる場合、基材表面を傷つけて凹凸が発生して平滑性が損なわれたり、基材表面を溶解させるような洗浄方法の場合は、平滑性が高くなりすぎて、安定した転写性が損なわれたりする。
【００５３】
すなわち、連続再生後の耐熱基材表面Ｒｐｖ変化率が、−５０％以下であれば、ガスバリアー層の耐熱基材Ｓからの転写性を維持でき、転写不良の発生を抑制し、ガスバリアー層のピンホールの発生を低減でき、そこからのガス透過（ガスパージ）を防止することができる。一方、基材表面Ｒｐｖ変化率を＋５０％以下とすることにより、ガスバリアー層の耐熱基材からの転写後の表面粗さが過度大きくなりすぎることを抑制でき、有機エレクトロルミネッセンス層を積層した場合、ダークスポットの発生を防止することができる。
【００５４】
本発明に適用可能な洗浄方法としては、以下に示す各種洗浄方法を制限なく用いることができる。
【００５５】
本発明でいう洗浄とは、転写後の耐熱基材表面に付着しているパーティクルや異物を取り除くための処理であり、その洗浄方法としては、下記に示す三つの方法に大別される。
【００５６】
第一の方法は、乾式洗浄方法（ドライ洗浄方法）と呼ばれる方法で、プラズマ洗浄法、イオンビーム洗浄法、ＵＶオゾン洗浄法、ＵＶエキシマ照射法、レーザー洗浄法等が挙げられる。
【００５７】
第二の方法は、湿式洗浄方法（ウェット洗浄方法）と呼ばれる方法で、耐熱基材を液体に浸漬した後、例えば、噴流洗浄、バブリング洗浄、超音波洗浄、流水洗浄等を用いて洗浄する方法である。
【００５８】
第三の方法は、物理的剥離方法で、耐熱基材表面に物理的な力（例えば、物体の衝撃力）を直接的に付与して洗浄する方法で、例えば、スクラブ洗浄、シャワー洗浄（例えば、高圧スプレー洗浄、超音波シャワー洗浄、二流体ノズル洗浄）、アイスブラスト洗浄（例えば、マイクロアイスジェット、ドライアイススクラブ洗浄）等が挙げられる。これらの物理的剥離方法は、耐熱基材表面に付着しているパーティクル等の異物に直接的に作用するため、その洗浄力（異物除去率）が極めて高く、かつ処理時間も短いという特徴を有している。
【００５９】
次いで、本発明に適用可能な物理的剥離方法の一つであるスクラブ洗浄について説明する。スクラブ洗浄とは、例えば、スポンジやブラシ等の摩擦材料を用いて耐熱基材表面の異物を機械的に除去・洗浄を行う物理的洗浄をいう。
【００６０】
具体的には、ローラー状の円筒体（例えば、金属製、プラスチック製）の表面にスポンジ部材やブラシ部材を全面に装着したスクラブローラーを用いる方法、あるいは、円盤状の部材から構成され、ガスバリアー層との接触面にブラシやスポンジが装着されたスクラブパッドを用い、このスクラブパッドを回転させながら、ガスバリアー層表面を洗浄する方法が挙げられる。その他、スクラブ洗浄方法としては、例えば、特許第４５５４３６７号公報、国際特許第２００９／０３１４０１号、特開２００９−１１７７６５号公報、同２０１０−２８６６３２号公報、同２０１１−０１８６６８号公報、同２０１１−０４０６５３号公報、同２０１１−０６６３８６号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【００６１】
図３は、本発明に適用可能な物理的剥離方法の一つであるスクラブ洗浄の一例を示す模式図である。
【００６２】
図３において、ガスバリアー層を転写した後の耐熱基材Ｓの表面に対し、金属芯金１８の全周に、スクラブ部材１９（例えば、スポンジ、ブラシ等）を具備し、搬送方向とは逆方向に回転している洗浄ローラー（スクラブローラー）３を接触させる。この時、洗浄ローラー３は、洗浄液２を保持した洗浄容器１に浸漬し、例えば、洗浄ローラーのスクラブ部材１９に、常に洗浄液２を供給しながら、耐熱基材Ｓの表面を洗浄して、異物Ｇ等を取り除く。
【００６３】
本発明に適用可能なその他の物理的剥離方法としては、シャワー洗浄（例えば、高圧スプレー洗浄、超音波シャワー洗浄、二流体ノズル洗浄）やアイスブラスト洗浄（例えば、マイクロアイスジェット洗浄）を挙げることができる。
【００６４】
高圧スプレー洗浄とは、高圧状態の水や洗浄剤等を、ノズル等の噴霧機構を用いてジェット状態でガスバリアー層表面に吹きつける方法である。超音波シャワー洗浄は、洗浄に用いる液体を、超音波振動素子を内蔵した容器内に導入し、この液体に超音波振動を付与した状態で、ガスバリアー層表面にシャワー液として付与する方法である。二流体ノズル洗浄方法は、二種類の流体、例えば、水と空気、洗浄剤と空気等を、ノズル部で会合させ、ジェット状態で噴射する方法である。
【００６５】
また、アイスブラスト洗浄の一例としては、氷粒子を混合したガスを用いるマイクロアイスジェット法を挙げることができる。マイクロアイスジェット法とは、圧縮した空気と水だけを用い、圧縮空気を絞り部で音速にし、拡張部で超音速に加速する際に断熱拡張し、温度が低下する。この時供給された水滴は、加速及び冷却されることにより、微小な氷粒子と過冷却液滴となって超音速で、ガスバリアー層表面に供給され、洗浄が行われる。氷粒子を混合したガスの代わりに、ドライアイス粒子を混合したガスを用いることもできる。
【００６６】
図４は、本発明に係る洗浄手段として、物理的剥離洗浄方法であるスクラブ洗浄方法の他の一例として、二流体ノズル洗浄方法を示す模式図である。
【００６７】
図４において、ガスバリアー層を転写した後の耐熱基材Ｓを、紙面の左方向Ａに搬送しながら、搬送方向の斜め下部より、二流体ノズル洗浄装置１０７により洗浄を行う方法である。二流体ノズル洗浄装置１０７においては、一方のタンク１０８Ａに、例えば、水を貯留し、他方のタンク１０８Ｂには圧縮空気を貯留し、水と圧縮空気の二液を、噴射ノズル部１０９に同時に供給し、二液が混合した状態で、シャワー状１１０にして、耐熱基材Ｓの表面に高速で供給し、その表面に付着している異物Ｇを、除去・洗浄する方法である。
【００６８】
上記説明した洗浄方法は、図２に記載している転写後のプラスチックフィルム表面を洗浄する工程Ｈでも、同様に適用することができる。
【００６９】
（工程Ｇ：離型層の形成工程）
次いで、上記工程Ｗで表面を洗浄した耐熱基材１を、駆動ローラー１１を介して搬送しながら、洗浄済みに耐熱基材Ｓ上に、ストックタンク５に貯蔵している離型層形成用塗布液を、所定の流量でコーターＣ１に供給及び塗布して、離型層１７を形成する。
【００７０】
なお、工程Ｇの後に、必要に応じて、塗布した離型層１７を乾燥するための乾燥工程を設けても良い。
【００７１】
本発明に係る離型層を構成する材料としては、水または有機溶媒に溶解可能で塗布できる素材で、かつ焼成温度での耐久性、離型性を有しているものであれば特に制限無く用いることができるが、好ましくは有機、無機の低分子物、オリゴマー、ポリマーまたはそれらの混合物が好ましい。
【００７２】
有機系のものとしては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、酢酸セルロースなどのセルロース系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。無機系のものとしては、ポリシロキサン系樹脂、チタンオリゴマー、シリカゾルなどが挙げられる。
【００７３】
また、離型剤として、ポリビニルピロリドン類（ビニルピロリドン重合体を含む）を用いることもできる。ポリビニルピロリドン類としては、例えば、ポリビニルピロリドン（Ｍｗ約４０、０００）、ポリビニルピロリドン（Ｍｗ約９、０００）、ポリビニルピロリドン（Ｍｗ約１６、０００）、ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約４、０００）、ビニルピロリドン−メチルアクリレート共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約１、０００），ビニルピロリドン−エチルアクリレート共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約２５、０００）、ビニルピロリドン−ブチルアクリレート共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約７、０００）、ビニルピロリドン−２−エチルヘキシルアクリレート共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約１８、０００）、ビニルピロリドン−スチレン共重合体（共重合モル比＝１：３、Ｍｗ約２０、０００）等を挙げることができる。
【００７４】
ポリビニルピロリドンとしては、例えば、ポリビニルピロリドン単一ポリマーが挙げられる。また、ポリビニルピロリドンとしては、粘度平均分子量が、５０００〜５００００のものが好ましい。また、ポリビニルピロリドンとしては、市販品を用いることもでき、具体的には、ＢＡＳＦジャパン社製のＰＶＰＫ１５、ＰＶＰＫ３０が挙げられる。
【００７５】
本発明においては、上記ポリビニルピロリドン類を、適切な溶媒、例えば、水、アルコール類等の有機溶媒に溶解して、離型層塗布液を調製する。
【００７６】
工程Ｇで用いるコーターＣ１としては、湿式塗布方式のコーターであれば特に制限はなく、例えば、ブレードコーター、ナイフコーター、含浸コーター、ダイコーター、スロットダイコーター、ローラーコーター、グラビアコーター、バーコーター、コンマコーター、エクストルージョン型コーター、スライド型コーター、インクジェットヘッド等の塗布装置等が挙げられる。
【００７７】
また、離型層の塗布温度としては、特に制限はなく、適宜最適の温度を選択して行うことができる。
【００７８】
本発明において、離型層の層厚としては、特に制限はないが、下記に示す乾燥後の層厚は、ほぼ０．２〜１０μｍの範囲内であり、好ましくは０．５〜５．０μｍの範囲内であり、更に好ましくは、１．０〜３．０μｍの範囲内である。
【００７９】
（工程Ａ：薄膜の塗布工程）
次いで、工程Ａでは、上記形成した離型層１７上に薄膜７を形成する。
【００８０】
以下、機能層としてガスバリアー層（無機層）を形成するのに用いる無機層形成前駆体層の形成を、本発明に係る薄膜の一例として、以下説明する。
【００８１】
工程Ａである薄膜形成工程で、ストックタンク６に貯蔵している薄膜形成用塗布液を、所定の流量でコーターＣ２に供給し、連続搬送している耐熱基材Ｓ上に薄膜７である無機層形成前駆体層等を形成する。
【００８２】
薄膜７である無機層形成前駆体層が含有する無機層形成前駆体とは、次工程である熱焼成工程（工程Ｃ）で、加熱処理により無機層９に変換する材料であり、例えば、下記の材料を挙げることができる。
【００８３】
〈無機層形成前駆体〉
本発明に適用可能な無機層形成前駆体の一例としては、例えば、ＳｉＯ２前駆体として、ポリシラザン、ポリシロキサン、ポリシラン、ガラスフリット、ガラスペーストや、数ｎｍ〜数μｍの粒径範囲にある銀、銀−銅等の金属粒子を含む導電性を有する金属ナノペーストを挙げることができる。前者は、絶縁膜や酸素や水蒸気のガスバリアー層の形成に用いることができる。後者は、導電性膜として用いられる。
【００８４】
本発明で用いられる「ポリシラザン」とは、構造内にケイ素−窒素結合を持つポリマーで、Ｓｉ−Ｎ、Ｓｉ−Ｈ、Ｎ−Ｈ等の結合を有するＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４及び両方の中間固溶体ＳｉＯｘＮｙ等のセラミック前駆体無機ポリマーで酸化窒化ケイ素の前駆体となるポリマーであり、例えば、特開平８−１１２８７９号公報に記載の下記一般式（１）で表される単位からなる主骨格を有する化合物が好ましい。
【００８５】
一般式（１）
−Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）−Ｎ（Ｒ３）−
上記構造式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、又はアルコキシ基を表す。
【００８６】
本発明では、得られるガスバリアー層としての緻密性の観点から、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンが特に好ましい。
【００８７】
また、そのＳｉと結合する水素原子部分の一部がアルキル基等で置換されたオルガノポリシラザンは、メチル基等のアルキル基を有することにより下地層である離型層との接着性が改善され、かつ硬くてもろいポリシラザンによるセラミック膜に靭性を持たせることができ、より膜厚（平均膜厚）を厚くした場合でもクラックの発生が抑えられる利点がある。そこで用途に応じて適宜、パーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンを選択してよく、混合して使用することもできる。
【００８８】
パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と、６及び８員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されている。その分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で約６００〜２０００程度（ポリスチレン換算）で、液体または固体の物質があり、その状態は分子量により異なる。これらは有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されており、市販品をそのままポリシラザン含有塗布液として使用することができる。
【００８９】
低温でセラミック化するポリシラザンの他の例としては、上記一般式（１）で表される単位からなる主骨格を有するポリシラザンに、ケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン（例えば、特開平５−２３８８２７号公報参照）、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−１２２８５２号公報参照）、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２４０２０８号公報参照）、金属カルボン酸塩を反応させて得られる金属カルボン酸塩付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２９９１１８号公報参照）、金属を含むアセチルアセトナート錯体を反応させて得られるアセチルアセトナート錯体付加ポリシラザン（例えば、特開平６−３０６３２９号公報参照）、金属微粒子を添加して得られる金属微粒子添加ポリシラザン（例えば、特開平７−１９６９８６号公報参照）等が挙げられる。
【００９０】
ポリシラザン含有の塗布液中には、酸化ケイ素化合物への転化を促進するため、アミンや金属の触媒を添加することもできる。具体的には、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製のアクアミカ  ＮＡＸ１２０−２０、ＮＮ１１０、ＮＮ３１０、ＮＮ３２０、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０及びＳＰ１４０等が挙げられる。
【００９１】
ポリシラザンを含有する塗布液を調製する有機溶媒としては、ポリシラザンと容易に反応してしまうようなアルコール系や水分を含有するものを用いることは避けることが好ましい。
【００９２】
従って、ポリシラザンを含有する塗布液を調製する有機溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用でき、具体的には、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン等の炭化水素、塩化メチレン、トリコロロエタン等のハロゲン炭化水素、ジブチルエーテル、ジオキサン及びテトラヒドロフラン等のエーテル類等が挙げられる。
【００９３】
これらの有機溶媒は、ポリシラザンの溶解度や溶媒の蒸発速度等に応じて選択し、複数の有機溶媒を混合してもよい。
【００９４】
ポリシラザン等の無機層形成前駆体を含む塗布液を塗布するコーターＣ２としては、工程Ｇで記載したのと同様の湿式コーターを用いることができる。
【００９５】
塗布厚さは、目的に応じて適切に設定され得る。例えば、塗布厚さは、乾燥後の厚さが１０ｎｍ〜１０μｍ程度であり、好ましくは１０ｎｍ〜１μｍ程度である。
【００９６】
（工程Ｂ：乾燥工程）
上記工程Ａで耐熱基材Ｓ上に形成された湿潤状態の無機層形成前駆体層７は、乾燥装置４を用いて乾燥される。
【００９７】
工程Ｂで適用可能な乾燥装置４としては、例えば、温風加熱法、ヒーター加熱法（例えば、パネルヒーター、ハロゲンヒーター等）の加熱装置等が挙げられる。
【００９８】
具体的な乾燥装置４を構成する加熱手段としては、ヒーター加熱法（例えば、赤外線ヒーター、ハロゲンヒーター、パネルヒーター等を耐熱基材の上面、あるいは上下面に設置し、輻射熱で加熱）、耐熱基材Ｓを搬送する搬送ローラーとして、ヒートローラーを用いて加熱する方法、温風加熱法（例えば、温度制御された熱風を、耐熱基材Ｓの上下から吹きつけて、乾燥する方法）が挙げられ、本発明においては、温度制御が精度よく行える点から、温風加熱法が好ましい。
【００９９】
（工程Ｃ：熱焼成工程）
工程Ｃにおいては、上記工程Ａ及び工程Ｂにて形成した無機層形成前駆体層に、熱焼成処理を施して、無機層、例えば、ＳｉＯ２から構成されるガスバリアー層に改質する。
【０１００】
工程Ｃである熱焼成工程では、熱焼成装置８を用いて、例えば、ポリシラザン等で形成されている無機層形成前駆体層に、高温の熱エネルギーを付与して、ＳｉＯ２等から構成される無機層９（ガスバリアー層）にする。熱焼成装置８としては、その内部に、複数の熱焼成部材を備え、所定の温度履歴に従って、無機層形成前駆体層を加熱して、無機層９に変換する。
【０１０１】
熱焼成装置８内部に具備される熱焼成部材は、耐熱基材Ｓの両面に配置してもよいし、あるいは、無機層形成前駆体層を有する面側にのみ配置した構成であっても良い。
【０１０２】
熱焼成部材は、熱焼成装置８内部に複数個配置し、加熱温度をそれぞれ独立に設定することにより、所望の加熱プロファイルで熱焼成処理を施すことができる。
【０１０３】
熱焼成温度としては、特に制限はないが、３００℃以上、当該耐熱基材の耐熱温度以下で熱焼成することが好ましい。
【０１０４】
また、熱焼成装置内には、温度計、例えば、非接触式の反射温度計等を装備し、熱焼成過程の耐熱基材表面の温度を常にモニターすることが好ましい態様である。
【０１０５】
また、熱焼成工程に適用可能な熱焼成装置としては、ローラーハースキン、放電プラズマ焼成装置、パルス通電焼成装置、高周波焼成装置、近赤外焼成装置（ＮＩＲ）等が挙げられるが、その中でも、効率的に熱焼成処理を行うことができる観点から近赤外焼成装置（ＮＩＲ）が好ましい。近赤外焼成装置としては、例えば、アドフォス社製のＮＩＲランプを用いることができる。アドフォス社製のＮＩＲランプは、波長帯が８００から１５００ｎｍの近赤外領域であり、８５０ｎｍに極大波長を有するランプであり、加熱対象物（無機層形成前駆体層）の内部まで、均等に熱線が到達するため、熱エネルギーが高速かつ均一に無機層形成前駆体層を透過することにより、膜全体が均質に無機膜に変換された無機層を形成することができる。このようなＮＩＲランプを適用する場合には、熱焼成部材９であるＮＩＲランプは、無機層形成前駆体層を有する一方の面側にのみ配置する構成であっても良い。
【０１０６】
また、本発明においては、上記熱焼成工程で、無機層形成前駆体層に熱処理を施す前に、
例えば、紫外線、可視光線、赤外線、超音波、プラズマ放電、コロナ放電、マイクロ波等の前処理を行ってもよい。
【０１０７】
（工程Ｄ：冷却工程）
工程Ｄは、前工程である工程Ｃにて高温に加熱された耐熱基材を冷却する工程である。
【０１０８】
具体的には、冷却装置１０内には、耐熱基材Ｓを挟んで両面側に冷却部材を配置して、冷風等を吹き付けて無機層９を有する耐熱基材Ｓを室温近傍まで冷却する。
【０１０９】
この冷却工程１０（工程Ｄ）では、次工程である密着転写工程（工程Ｅ）で、プラスチックフィルムＦと貼合するときの温度まで冷却する。
【０１１０】
冷却装置１０で適用することができる冷却手段としては、水冷ローラーやチルローラーによる冷却や、冷風による冷却等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１１１】
また、冷却装置内には、温度計、例えば、非接触式の反射温度計等を装備し、冷却過程における耐熱基材表面の温度を常にモニターすることが好ましい態様である。
【０１１２】
（工程Ｈ：プラスチックフィルムへの接着層の付与）
〈プラスチックフィルムＦ〉
図２の右下に示すような被転写側のプラスチックフィルムＦとしては、熱可塑性樹脂を主成分として含み、可撓性を有するものであると好ましい。より好ましくは、熱可塑性樹脂からなる基材が用いられ、このような基材としては、一般に、プラスチックフィルムまたはシートが用いられ、無色透明な樹脂からなるフィルムまたはシートが好ましく用いられる。用いられるプラスチックフィルムは、接着層、転写するガスバリアー層等を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。本発明においては、プラスチックフィルムＦとしては、具体的には、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂からなるフィルム、有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした耐熱透明フィルム（製品名シルプラス、新日鐵化学株式会社製）、更には、上記したフィルム材料を２層以上積層して成るハイブリッドプラスチックフィルム等が挙げられる。
【０１１３】
本発明に適用するプラスチックフィルムの厚さは、用途によって適宜選択されるため特に制限がないが、典型的には１〜８００μｍの範囲内であり、好ましくは５〜５００μｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲内、特に好ましくは２５〜１５０μｍの範囲内である。
【０１１４】
プラスチックフィルムは、表面の平滑性が高いものが好ましい。表面の平滑性としては、平均表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であるものが好ましい。下限は特にないが、実用上、０．０１ｎｍ以上である。必要に応じて、プラスチックフィルムの両面、例えば、ガスバリアー層を設ける面側を研摩し、平滑性を向上させておいてもよい。
【０１１５】
〈接着層付与〉
工程Ｈでは、上記準備したプラスチックフィルムＳ上に、湿式塗布方式により接着層を付与する工程である。ストックタンク１４に貯蔵している接着層形成用塗布液を、所定の流量でコーターＣ３に供給し、連続搬送しているプラスチックフィルムＦ上に接着層を形成する。接着剤層２２を付与した後、必要に応じて前述のような乾燥工程（工程Ｊ）を設けてもよい。
【０１１６】
接着層としては、樹脂成分により形成されていることが好ましく、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂及び塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用できる。
【０１１７】
その中でも、主剤となるポリエポキシ樹脂と硬化剤であるポリアミン樹脂を含む、ガスバリアー性ドライラミネート用エポキシ樹脂の接着剤「マクシーブ（登録商標）」（三菱ガス化学株式会社製）を好ましく用いることができる。
【０１１８】
接着層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。接着層の厚さは、１〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは３〜５０μｍの範囲内である。
【０１１９】
接着層の形成に用いるコーターとしては、ブレードコーター、ナイフコーター、含浸コーター、ダイコーター、スロットダイコーター、ローラーコーター、グラビアコーター、バーコーター、コンマコーター、エクストルージョン型コーター、スライド型コーター、インクジェットヘッド等の塗布装置等が挙げられる。
【０１２０】
また、接着層の塗布温度としては、特に制限はなく、２０〜５０℃の温度範囲で、適宜最適の温度を選択して行うことができる。
【０１２１】
（工程Ｅ：密着・転写工程）
工程Ｅである密着・転写工程では、前記工程Ｄの冷却工程で、熱焼成処理後に冷却された無機層９を有する耐熱基材Ｓと、前記工程Ｈで接着層を付与したプラスチックフィルムＦとを密着及び転写する工程である。
【０１２２】
密着は、耐熱基材Ｓ上に設けた無機層９と、プラスチックフィルムＦ上に形成した接着層とが対向するように配置した後、会合点Ｐで密着する。密着は、搬送ローラー１１及びバックローラー１２を用いてニップを形成し、ニップ間を加圧搬送させて密着する。この際、必要に応じて搬送ローラー１１及びバックローラー１２を加熱することもできる。
【０１２３】
搬送ローラー１１及びバックローラー１２としては、ゴムローラーと金属ローラーとを組み合わせるか、あるいはゴムローラーとゴムローラーとを組み合わせることができる。
【０１２４】
会合点Ｐで圧着処理を施した後、剥離及び転写を行う。転写操作としては、特に制限はなく、耐熱基材ＳとプラスチックフィルムＦに左右に分離する力を加え、耐熱基材１上に形成した無機層９を、プラスチックフィルムＦ上に形成した接着層面側に転写する。
【０１２５】
この時、耐熱基材Ｓと無機層９間の接着力Ｆ１と、プラスチックフィルムＦ表面に形成した接着層の無機層９との接着力Ｆ２との関係が、Ｆ１＜Ｆ２であれば、安定して転写することができる。
【０１２６】
《機能性フィルム（ガスバリアーフィルム）の適用分野》
本発明により製造されるガスバリアーフィルムの用途としては、下記のような電子デバイスや、光学部材への応用が挙げられる。
【０１２７】
（電子デバイス）
本発明の耐熱基材の表面を洗浄して再生する洗浄手段を具備した機能性フィルムの製造方法により製造されるガスバリアーフィルムは、例えば、空気中の化学成分（例えば、酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等）によって性能が劣化する電子デバイスに好ましく用いることができる。当該電子デバイスの例としては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子、液晶表示素子（ＬＣＤ）、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池（ＰＶ）等を挙げることができる。本発明の効果がより効率的に得られるという観点から、有機エレクトロルミネッセンス素子または太陽電池に好ましく用いられ、有機エレクトロルミネッセンス素子に特に好ましく用いられる。
【０１２８】
〈有機エレクトロルミネッセンス素子〉
本発明に係るガスバリアーフィルムが適用可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の例は、例えば、特開２００７−３０３８７号公報に詳しく記載されている内容を参照することができる。
【実施例】
【０１２９】
以下、本発明の効果を、以下の実施例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。また、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。また、下記操作において、特記しない限り、操作および物性等の測定は、２５℃、相対湿度５０％ＲＨの環境下で行った。
【０１３０】
実施例１
《ガスバリアーフィルムの作製》
〔ガスバリアーフィルム１の作製〕
（プラスチックフィルムＦの準備）
プラスチックフィルムＦとして、熱可塑性樹脂支持体であって、両面に易接着加工された厚さ１００μｍのポリエステルフィルム（東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００）を用いた。
【０１３１】
（接着層の形成）
上記プラスチックフィルムＦの片面に、パナック株式会社製の粘着フィルム、パナクリーンＰＤ−Ｒ５（粘着層厚み２５μｍ）を気泡が混入しないように均一に貼り合わせて、プラスチックフィルム上に接着層を有するプラスチックフィルムを準備した（図２の工程Ｈ）。
【０１３２】
（耐熱基材Ｓの準備）
厚さ０．２ｍｍのステンレス基材（ＳＵＳ３０４Ｈ、耐熱温度５００℃）の表面をバフ研磨することにより、表面粗さＲｐｖ１を１００ｎｍとした耐熱基材Ｓを準備した。なお、耐熱基材Ｓの表面粗さＲｐｖは、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡  ＡＦＭ：Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用い、極小の先端半径の触針を持つ検出器で連続測定した凹凸の断面曲線から算出され、極小の先端半径の触針により測定方向が３０μｍの区間内を多数回測定し、微細な凹凸の振幅に関する平均の粗さから求めた。
【０１３３】
（耐熱基材上への離型層の形成）
ポリビニルアセタール樹脂（積水化学工業株式会社製エスレックＫＳ−１）の５％ブタノール溶液を、連続搬送している耐熱基材上に塗布した後、１２０℃で２分乾燥することにより、乾燥後の膜厚が０．３μｍとなるようにして離型層を耐熱基材上に形成した（図２の工程Ｇ）。
【０１３４】
（無機層形成前駆体層の形成）
上記形成した離型層上に、薄膜として無機層形成前駆体層を以下に示す条件で形成した。
【０１３５】
パーヒドロキシポリシラザン（略称：ＰＨＰＳ、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製  アクアミカ  ＮＮ１２０−２０）の２０質量％ジブチルエーテル溶液を、乾燥後の膜厚が、０．２５μｍとなるように塗布（図２に記載の工程Ａ）及び乾燥（工程Ｂ）した。
【０１３６】
（熱焼成処理及び冷却処理）
上記工程Ａで形成した耐熱基材上に無機層形成前駆体層を塗布した試料を、２５℃の室温から、３００℃まで５０℃／分の割合で昇温し、３００℃に２分間保持して第一熱焼成を行った後、４５０℃まで５０℃／分の割合で昇温し、４５０℃で２分間保持して第二熱焼成を施して、無機層形成前駆体層を無機層（ガスバリアー層）に改質した。その後、１００℃／分の割合で試料温度を降下させ、室温まで戻した（図２に記載の工程Ｃ及び工程Ｄ）
（転写工程）
上記作製したプラスチックフィルムの接着層面と、工程Ｃ及び工程Ｄを経て作製した無耐熱基材上の無機層面とを対面させ、図２に記載の方法で密着及び加圧した後、両者を剥離することにより、耐熱基板上に形成した無機層を、プラスチックフィルムの接着層上に転写させた
上記操作を、連続搬送しながら１００回行い、１００回目に作製した試料をガスバリアーフィルム１とした。
【０１３７】
〔ガスバリアーフィルム２の作製〕
上記ガスバリアーフィルム１の作製方法において、転写工程でガスバリアー層を転写した後の耐熱基材を、洗浄工程である工程Ｗで、下記の方法で洗浄処理１を施した以外は同様にして、ガスバリアーフィルム２を作製した。
【０１３８】
（洗浄処理１）
洗浄処理１は、横長の水洗槽を準備し、水洗槽中に、洗浄液としてアルカリ性ブランソニック（水系洗浄剤  ブランソンＩＳ−III、ブランソン製）を満たし、５０℃に保温し、攪拌した状態とした。次いで、この洗浄液中を５分間かけて耐熱基材を連続搬送して、洗浄処理１を行った。
【０１３９】
〔ガスバリアーフィルム３の作製〕
上記ガスバリアーフィルム２の作製方法において、前記洗浄処理１に代えて、下記洗浄処理２を用いた以外は同様にして、ガスバリアーフィルム３を作製した。
【０１４０】
（洗浄処理２）
洗浄処理２は、横長の水洗槽を準備し、水洗槽中に、ブランソニック超音波洗浄器  ＤＨＡ−１０００−６Ｊ（ブランソン社製）を配置し、３０℃の純水浴で、超音波を発振させながら、この純水浴中を１０分間かけて耐熱基材を連続搬送して、洗浄処理２を行った。
【０１４１】
〔ガスバリアーフィルム４の作製〕
上記ガスバリアーフィルム２の作製方法において、前記洗浄処理１に代えて、下記洗浄処理３を用いた以外は同様にして、ガスバリアーフィルム３を作製した。
【０１４２】
（洗浄処理３）
洗浄処理３は、上記洗浄処理２において、純水浴を、前記洗浄処理１で用いたアルカリ性ブランソニック（水系洗浄剤  ブランソンＩＳ−III、ブランソン製）浴に変更し、５０℃に加熱し、このアルカリ洗浄浴中を、超音波を発振させながら１分間かけて耐熱基材を連続搬送して、洗浄処理３を行った。
【０１４３】
〔ガスバリアーフィルム５の作製〕
上記ガスバリアーフィルム２の作製方法において、前記洗浄処理１に代えて、下記洗浄処理４を用いた以外は同様にして、ガスバリアーフィルム４を作製した。
【０１４４】
（洗浄処理４）
特開２００６−２０００２号公報の実施例に記載の方法で、回転ブラシによる洗浄を、洗浄処理４とした。
【０１４５】
〔ガスバリアーフィルム６の作製〕
上記ガスバリアーフィルム２の作製方法において、前記洗浄処理１に代えて、下記洗浄処理５を用いた以外は同様にして、ガスバリアーフィルム５を作製した。
【０１４６】
（洗浄処理５）
洗浄処理５は、横長の洗浄槽を準備し、洗浄槽中に、ｎ−ブタノール／シクロヘキサノン＝１／１の混合溶媒を満たし、５０℃に保温し、攪拌した状態とした。次いで、この洗浄液中を３分間かけて耐熱基材を連続搬送して、洗浄処理５を行った。
【０１４７】
〔ガスバリアーフィルム７の作製〕
上記ガスバリアーフィルム２の作製方法において、前記洗浄処理１に代えて、下記洗浄処理６を用いた以外は同様にして、ガスバリアーフィルム７を作製した。
【０１４８】
（洗浄処理６）
連続搬送する耐熱基材上にサムコ株式会社製プラズマクリーナー  ＰＸＡ−１００用いて、ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）で、Ａｒプラズマを延べ３分間照射し、これを洗浄処理６とした。
【０１４９】
〔ガスバリアーフィルム８の作製〕
上記ガスバリアーフィルム２の作製方法において、前記洗浄処理１に代えて、下記洗浄処理７を用いた以外は同様にして、ガスバリアーフィルム８を作製した。
【０１５０】
（洗浄処理７）
連続搬送する耐熱基材上に、サムコ株式会社製ＵＶオゾンクリーナー  ＵＶ−３００ＨＣを用いて、ＵＶオゾン洗浄手段を延べ５分間行い、これを洗浄処理７とした。
【０１５１】
〔ガスバリアーフィルム９〜１２の作製〕
前記ガスバリアーフィルム４の作製において、熱焼成処理（工程Ｃ）における第二熱焼成温度を、４００℃から表１に記載の温度に変更したい以外は同様にして、ガスバリアーフィルム９〜１２を作製した。
【０１５２】
《表面性再生方法の評価》
〔耐熱基材Ｓの表面粗さＲｐｖの測定〕
（表面性再生処理前の耐熱基材の表面粗さＲｐｖ１の測定）
前述の通り、表面をバフ研磨して、表面性再生処理前の耐熱基材の表面粗さＲｐｖ１として、１００ｎｍとした。表面粗さＲｐｖ１は、前述の通り、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡  ＡＦＭ：Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用い、極小の先端半径の触針を持つ検出器で連続測定した凹凸の断面曲線から算出され、極小の先端半径の触針により測定方向が３０μｍの区間内を多数回測定し、微細な凹凸の振幅に関する平均の粗さから求めた。
【０１５３】
上記ガスバリアーフィルム１〜１２の作製において、表面粗さＲｐｖ１は、全て１００ｎｍである。
【０１５４】
（表面性再生処理を１００回行った後の耐熱基材の表面粗さＲｐｖ２の測定）
上記ガスバリアーフィルム１〜１２の作製において、工程Ｇ、工程Ａ〜工程Ｅ、工程Ｗ、工程Ｆまでを１サイクルとして、これを１００サイクルまで行った後、工程Ｗ及び工程Ｆにおける耐熱基材の表面粗さＲｐｖを、上記の方法と同様にして測定し、これを表面粗さＲｐｖ２とした。
【０１５５】
次いで上記測定した表面粗さＲｐｖ２と表面粗さＲｐｖ１（１００ｎｍ）との差（Ｒｐｖ２−Ｒｐｖ１（１００ｎｍ））を求めた。
【０１５６】
《ガスバリアーフィルムの評価》
〔表面平滑性の評価〕
上記ガスバリアーフィルム１〜１２の作製において、工程Ｇ、工程Ａ〜工程Ｅ、工程Ｗ、工程Ｆまでを１サイクルとして、これを１００サイクルまで行った後にサンプリングしたガスバリアーフィルムについて、表面粗さを表す最大断面高さＲｐｖを、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡  ＡＦＭ：Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔ  ｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用い、極小の先端半径の触針を持つ検出器で連続測定した凹凸の断面曲線から算出され、極小の先端半径の触針により測定方向が３０μｍの区間内を多数回測定し、微細な凹凸の振幅に関する平均の粗さから求めた。次いで、下記に示す基準に従って、表面平滑性を評価した。なお、１サイクル目でサンプリングしたガスバリアーフィルム１〜１３の評価ランクは、全て「５」であった。
【０１５７】
５：最大断面高さＲｐｖが、２０ｎｍ未満である
４：最大断面高さＲｐｖが、２０ｎｍ以上、５０ｎｍ未満である
３：最大断面高さＲｐｖが、５０ｎｍ以上、１００ｎｍ未満である
２：最大断面高さＲｐｖが、１００ｎｍ以上、２００ｎｍ未満である
１：最大断面高さＲｐｖが、２００ｎｍ以上である
〔ガスバリアー性（水蒸気透過率）の評価〕
上記ガスバリアーフィルム１〜１２の作製において、工程Ｇ、工程Ａ〜工程Ｅ、工程Ｗ、工程Ｆまでを１サイクルとして、これを１００サイクルまで行った後にサンプリングしたガスバリアーフィルムについて、ＭＯＣＯＮ社製、ＭＯＣＯＮ水蒸気透過率測定装置ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗを用いて、３９℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過率を測定した。次いで、下記に示す基準に従って、ガスバリアー性を評価した。なお、１サイクル目でサンプリングしたガスバリアーフィルム１〜１２のガスバリアー性は、全てランク５であった。
【０１５８】
５：水蒸気透過率が、０．０５ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満である
４：水蒸気透過率が、０．０５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上、０．１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満である
３：水蒸気透過率が、０．１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上、１．００ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満である
２：水蒸気透過率が、１．００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上、５．００ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満である
１：水蒸気透過率が、５．００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上である
以上により得られた結果を、表１に示す。
【０１５９】
【表１】
2014213221.tif 000003
【０１６０】
表１に記載の結果より明らかなように、本発明の耐熱基材の表面を洗浄して再生する洗浄手段を具備した機能性フィルムの製造方法により再生された耐熱基材を用いて転写、作製されたガスバリアーフィルムは、くり返し再現性良く高い表面平滑性とガスバリアー性が連続生産した後でも、初期性能が維持されていることが分かる。
【０１６１】
実施例２
《ガスバリアーフィルム１３〜１９の作製》
実施例１に記載のガスバリアーフィルム４の作製において、洗浄処理３におけるアルカリ洗浄浴の温度を２０〜７０℃の範囲、洗浄時間を１０秒〜１０分の範囲で適宜変化させ、１００サイクル後の耐熱基材の表面粗さＲｐｖ２、及び表面粗さＲｐｖの変化幅が、表２に記載の値になるように調整した以外は同様にして、ガスバリアーフィルム１３〜１９を作製した。表面粗さＲｐｖの測定は、実施例１に記載の方法と同様にして行った。
【０１６２】
《ガスバリアーフィルム及び有機ＥＬ素子の評価》
〔ガスバリアーフィルムの評価〕
実施例１に記載の方法と同様にして、ガスバリアーフィルムの表面平滑性及びガスバリアー性（水蒸気透過率）の評価を行った。
【０１６３】
〔有機ＥＬ素子の評価〕
下記の方法に従って、各ガスバリアーフィルムを用いて有機ＥＬ素子を作製した後、下記の評価を行った。
【０１６４】
（有機ＥＬ素子の作製）
〈透明導電膜の形成〉
プラズマ放電装置として、電極が平行平板型のものを用い、この電極間に上記作製した表面性再生処理を１００回行った後の各ガスバリアーフィルムを載置し、放電空間に混合ガスを導入して透明導電膜の形成を行った。  なお、アース（接地）電極としては、２００ｍｍ×２００ｍｍ×２ｍｍのステンレス板に高密度、高密着性のアルミナ溶射膜を被覆し、その後、テトラメトキシシランを酢酸エチルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外線照射により硬化させ封孔処理を行い、このようにして被覆した誘電体表面を研磨し、平滑にしてＲｍａｘが５μｍとなるように加工した電極を用いた。また、印加電極としては、中空の角型の純チタンパイプに対し、アース電極と同様の条件にて誘電体を被覆した電極を用いた。印加電極は複数作製し、アース電極に対向して設け放電空間を形成した。また、プラズマ発生に用いる電源としては、パール工業（株）製高周波電源ＣＦ−５０００−１３Ｍを用い、周波数１３．５６ＭＨｚで、５Ｗ／ｃｍ２の電力を供給した。
【０１６５】
そして、上記電極間に以下の組成の混合ガスを流し、プラズマ状態とし、各ガスバリアーフィルムを大気圧プラズマ処理し、ガスバリアー層上にスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜を１００ｎｍの厚さで成膜し、透明導電膜を形成した。
【０１６６】
放電ガス：ヘリウム  ９８．５体積％
反応性ガス１：酸素  ０．２５体積％
反応性ガス２：インジウムアセチルアセトナート  １．２体積％
反応性ガス３:ジブチルスズジアセテート  ０．０５体積％
〈有機機能層の形成〉
得られた透明導電膜を形成したガスバリアーフィルム１３〜１９を１００ｍｍ×８０ｍｍのサイズに断裁し、ガスバリアーフィルム基板とし、これにパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けたガスバリアーフィルム基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥した。このガスバリアーフィルム基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方、モリブデン製抵抗加熱ボートにα−ＮＰＤを２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにホスト化合物としてＣＢＰを２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにバソキュプロイン（ＢＣＰ）を２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＩｒ−１を１００ｍｇ入れ、更に別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＡｌｑ３を２００ｍｇ入れ、真空蒸着装置に取り付けた。
【０１６７】
【化１】
2014213221.tif 000004
【０１６８】
次いで、真空槽を４×１０−４Ｐａまで減圧した後、α−ＮＰＤの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒でガスバリアーフィルム基板上に、中央に位置する様に８０ｍｍ×６０ｍｍの面積で蒸着し、正孔輸送層を設けた。
【０１６９】
次いで、ＣＢＰとＩｒ−１の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、それぞれ蒸着速度０．２ｎｍ／秒、０．０１２ｎｍ／秒で、前記正孔輸送層上に共蒸着して発光層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。
【０１７０】
更にＢＣＰの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記発光層の上に蒸着して膜厚１０ｎｍの正孔阻止層を設けた。
【０１７１】
その上に、更にＡｌｑ３の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記正孔阻止層の上に蒸着して、更に膜厚４０ｎｍの電子輸送層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。
【０１７２】
引き続き、フッ化リチウム０．５ｎｍ及びアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、それぞれガスバリアーフィルム１３〜１９を用いた有機ＥＬ素子試料１３〜１９を作製した。
【０１７３】
〈有機ＥＬ素子試料の封止〉
窒素ガス（不活性ガス）によりパージされた環境下で、有機ＥＬ素子試料１３〜１９の陰極蒸着面と、厚さ１００μｍのアルミ箔を対面させる様にして、ナガセケムテックス社製エポキシ系接着剤を介して、ガスバリアーフィルム基材端部の４辺をそれぞれ１０ｍｍ幅で接着させて封止を行って、有機ＥＬ素子１３〜１９を作製した。
【０１７４】
（有機ＥＬ素子の評価：ダークスポット耐性の評価）
上記作製した有機ＥＬ素子１３〜１９を２５℃、４０％ＲＨの環境下で通電を行い、ダークスポットの発生、発光ムラの状況を０時間から１００時間まで目視観察し、下記の基準に従って、ＤＳ耐性（ダークスポット耐性）評価を行った。
【０１７５】
５：発光開始時では、ダークスポットや輝度ムラの発生は認められない。また、連続１００時間通電後でも、非発光領域が全発光面積の０．１％未満であり、発生したダークスポットは全て目視では容易に観察できない大きさ（０．１ｍｍ以下）である
４：通電開始時にわずかにダークスポットの発生は認められるが、発生したダークスポットは、全て目視では容易に観察できない大きさ（０．１ｍｍ以下）であり、輝度ムラの発生は認められない。連続１００時間通電後に非発光領域が全発光面積の０．１％以上、０．５％未満であり、発生したダークスポットは目視では容易に観察できない大きさ（０．１ｍｍ以下）を維持した。
【０１７６】
３：通電開始時では目視で判別可能な輝度ムラが観察されず、発生したダークスポットは全て目視では容易に観察できない大きさ（０．１ｍｍ以下）であった。連続１００時間通電後に、非発光領域が全発光面積の０．５％以上、１．０％未満であった。
【０１７７】
２：通電開始時に、目視で判別可能な輝度ムラやダークスポットの発生が認められ、連続通電６０時間後に、ダークスポットの総非発光領域が、初期全発光面積の１０％以上である
１：通電開始時に、目視で判別可能なダークスポットや輝度ムラの非発光領域が全発光面積の１．０％を超えて観察され、３０時間以内に非発光領域が全発光面積の３０％を超えた
以上により得られた各評価結果を、表２に示す。
【０１７８】
【表２】
2014213221.tif 000005
【０１７９】
表２に記載の結果より明らかなように、本発明の耐熱基材の表面を洗浄して再生する洗浄手段を具備した機能性フィルムの製造方法を適用して作製したガスバリアーフィルムを具備した有機ＥＬ素子の中でも、表面粗さＲｐｖ１（ｎｍ）と、表面粗さＲｐｖ２（ｎｍ）との差（Ｒｐｖ２−Ｒｐｖ１）が、±５０（ｎｍ）の範囲内である洗浄方法を用いた耐熱基材により製したガスバリアーフィルムを具備した有機ＥＬ素子が、有機ＥＬ素子のダークスポット耐性がより優れていることが分かる。
【０１８０】
実施例３
《導電性フィルム１３〜１９の作製》
実施例２に記載のガスバリアーフィルム１３〜１９の作製において、ガスバリアー層の形成材料であるパーヒドロキシポリシラザンに代えて、高導電銀ナノ粒子ペースト（三ツ星ベルト株式会社製、ＭＤｏｔ−ＳＬＰ）をスクリーン印刷法により、離型層上に塗布を行い、膜厚３．０μｍの導電性層を形成した以外は同様にして、導電性フィルム１３〜１９を作製した。
【０１８１】
《導電性フィルムの評価：表面平滑性の評価》
表面再生処理を行っていない耐熱基材を用いて作製した導電性フィルムの表面粗さＲ（１）と、表面性再生処理を１００回行った耐熱基材を用いて作製した後の導電性フィルムの表面粗さＲ（１００）を測定し、下式に従って、表面粗さ変化率（％）を求め、下記の基準に従って表面平滑性の評価を行った。
【０１８２】
表面粗さ変化率（％）＝［Ｒ（１００）−Ｒ（１）］／Ｒ（１）
５：表面粗さ変化率が、１．０％未満である
４：表面粗さ変化率が、１．０％以上、３．０％未満である
３：表面粗さ変化率が、３．０％以上、１０．０％未満である
２：表面粗さ変化率が、１０．０％以上、５０．０％未満である
１：表面粗さ変化率が、５０．０％以上である
なお、表面粗さは、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡  ＡＦＭ：Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用い、極小の先端半径の触針を持つ検出器で連続測定した凹凸の断面曲線から算出され、極小の先端半径の触針により測定方向が３０μｍの区間内を多数回測定し、微細な凹凸の振幅に関する平均の粗さから求めた。
【０１８３】
以上により得られた結果を、表３に示す。
【０１８４】
【表３】
2014213221.tif 000006
【０１８５】
表３に記載の結果より明らかなように、本発明の耐熱基材の表面を洗浄して再生する洗浄手段を具備した機能性フィルムの製造方法を適用して作製した導電性フィルムの中でも、表面粗さＲｐｖ１（ｎｍ）と、表面粗さＲｐｖ２（ｎｍ）との差（Ｒｐｖ２−Ｒｐｖ１）が、±５０（ｎｍ）の範囲内である洗浄方法を用いた耐熱基材により作製した導電性フィルムは、表面粗さ変化率が小さく、連続製造した際にも、繰り返し再現性が高く、均一性の高い導電性フィルムを製造することができることが分かる。
【符号の説明】
【０１８６】
１  洗浄容器
２  洗浄液
３  洗浄ローラー
４  乾燥装置
５、６、１４  貯蔵タンク
７  薄膜
８  熱焼成装置
９  機能層
１０  冷却装置
１１  駆動ローラー
１２  バックローラー
１３、１６  積層ロール
Ｃ１〜Ｃ３  コーター
Ｆ  プラスチックフィルム
Ｓ  耐熱基材
【図１】
2014213221.tif 000007
【図２】
2014213221.tif 000008
【図３】
2014213221.tif 000009
【図４】
2014213221.tif 000010