(57)【要約】【課題】Ｘ線のエネルギーを変更した場合であっても、試料位置を変更せずに、試料にＸ線を集光する。【解決手段】集光装置は、Ｘ線を反射し、長手方向と、長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なる非球面ミラーと、前記非球面ミラーの長手方向の撓みを調整し、前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径を変更する変更手段と、を備え、前記非球面ミラーの長手方向に対して直交する方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域毎で異なる。【選択図】図５
2014163667.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を反射し、長手方向と、長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なる非球面ミラーと、
前記非球面ミラーの長手方向の撓みを調整し、前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径を変更する変更手段と、
を備え、
前記非球面ミラーの長手方向に対して直交する方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域毎で異なることを特徴とする、
集光装置。
【請求項２】
前記変更手段は、前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に照射されるＸ線のエネルギーに応じた値となるように、前記非球面ミラーの長手方向の撓みを調整し、
前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域が、Ｘ線のエネルギーに応じて選択されることを特徴とする、
請求項１に記載の集光装置。
【請求項３】
前記非球面ミラーの表面には、Ｘ線の波長に応じて選択された複数種類のコーティング膜が形成されていることを特徴とする、
請求項１又は２に記載の集光装置。
【請求項４】
Ｘ線を反射し、長手方向と、長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なる非球面ミラーの長手方向の撓みを調整し、前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径を変更する工程と、
前記非球面ミラーの表面にＸ線を照射する工程と、を備え、
前記非球面ミラーの長手方向に対して直交する方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域毎で異なることを特徴とする、
集光方法。
【請求項５】
Ｘ線を反射し、長手方向と、長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なる非球面ミラーの製造方法であって、
前記非球面ミラーの長手方向に対して直交する方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域毎で異なるように、前記非球面ミラーの表面形状を形成することを特徴とする非球面ミラーの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、集光装置、集光方法及び非球面ミラーの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線全反射集光ミラーは、Ｘ線管球、ローター光源、放射光などの光源から発生したＸ線のうち、利用波長以外の高エネルギー成分を除去し、利用波長のＸ線を測定試料位置に集光する。Ｘ線全反射集光ミラーは、光源と試料との間に設置される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平０５−１８０９９２号公報
【特許文献２】特開平０６−１４８３９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
Ｘ線を物質平面に入射すると、視斜角（入射角の余角）θが所定値以下の場合、Ｘ線は全反射される。Ｘ線が全反射される角度を全反射臨界角θｃという。全反射臨界角θｃについては、以下の数式１が成立する。
【０００５】
【数１】
2014163667.tif 000003
Ｅは、Ｘ線のエネルギー（ｋｅＶ）である。ρは、物質の密度（ｇ／ｃｍ3）である。
数式１に示すように、Ｘ線のエネルギーが大きくなると、全反射臨界角θcは小さくなる
。
【０００６】
例えば、視斜角θ及び全反射臨界角θｃについて、θｃ（Ｅ＝１６ｋｅＶ）＜θ＜θｃ（Ｅ＝８ｋｅＶ）の関係があるとする。視斜角θは、８ｋｅＶのＸ線の全反射臨界角θｃよりも小さいため、図１に示すように、８ｋｅＶのＸ線は全反射される。また、視斜角θは、１６ｋｅＶのＸ線の全反射臨界角θｃよりも大きいため、図１に示すように、１６ｋｅＶのＸ線の反射率は急激に落ちる。Ｘ線の高エネルギー成分の反射率が急激に落ちるように視斜角θを設定することで、Ｘ線の高エネルギー成分を選択的に除去する。
【０００７】
Ｘ線の集光は、表面形状が曲面のミラーを用いる。図２から図４は、Ｘ線を集光する円筒形状ミラーを示す。Ｘ線の進行方向をｘ方向、水平方向であってＸ線の進行方向に対して直交する方向（横方向）をｙ方向、垂直方向（縦方向）をｚ方向とする。Ｘ線の横方向の集光には、図２に示すように、横方向の曲率半径がＲｓの円筒形状ミラー２１が用いられる。光源２２から出射されたＸ線は、円筒形状ミラー２１によって試料２３に集光する。Ｘ線の縦方向の集光には、図３に示すように、縦方向の曲率半径がＲｍの円筒形状ミラー２４が用いられる。光源２２から出射されたＸ線は、円筒形状ミラー２４によって試料２３に集光する。
【０００８】
Ｘ線の横方向及び縦方向の集光には、図４に示すように、横方向の曲率半径（Ｒｓ）と縦方向の曲率半径（Ｒｍ）とが異なる曲面を持つ円筒形状ミラー２５が用いられる。ここで、光源２２から円筒形状ミラー２５の照射面までの距離をｆ１とし、円筒形状ミラー２５の照射面から試料２３までの距離（集光距離）をｆ２とすると、以下の数式２及び数式３が成立する。
【０００９】
【数２】
2014163667.tif 000004
【００１０】
【数３】
2014163667.tif 000005
Ｘ線のエネルギーを変更した場合、変更後のエネルギーに応じて、視斜角θの変更が行われる。上記の数式２におけるｆ１及びＲｓを固定値とする場合、視斜角θを変更すると、ｆ２の値が変わる。したがって、Ｘ線のエネルギーの変更前後において、円筒形状ミラー２５の照射面から試料２３までの距離が異なる。そのため、Ｘ線のエネルギーを変更する毎に試料位置の変更が生じる。
【００１１】
本件は、Ｘ線のエネルギーを変更した場合であっても、試料位置を変更せずに、試料にＸ線を集光する技術の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本件の一観点による集光装置は、Ｘ線を反射し、長手方向と、長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なる非球面ミラーと、前記非球面ミラーの長手方向の撓みを調整し、前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径を変更する変更手段と、を備え、前記非球面ミラーの長手方向に対して直交する方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域毎で異なる。
【発明の効果】
【００１３】
本件によれば、Ｘ線のエネルギーを変更した場合であっても、試料位置を変更せずに、試料にＸ線を集光することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】Ｘ線の高エネルギー成分を選択的に除去する場合の説明図である。
【図２】Ｘ線を集光する円筒形状ミラーを示す図である。
【図３】Ｘ線を集光する円筒形状ミラーを示す図である。
【図４】Ｘ線を集光する円筒形状ミラーを示す図である。
【図５】実施形態に係る集光装置を示す図である。
【図６】非球面ミラーの斜視図である。
【図７】非球面ミラーの上面図である。
【図８】Ｘ線について、全反射臨界角θｃ、視斜角θ、ｆ１、ｆ２、Ｒｓ、Ｒｍを示した図である。
【図９】光源の移動が容易でない場合における視斜角θを調整する場合の説明図である。
【図１０】非球面ミラーの反射面に対するＸ線の照射領域を変更する場合の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本実施形態に係る集光装置、集光方法及び非球面ミラーの製造方法について説明する。以下に示す集光装置、集光方法及び非球面ミラーの製造方法の構成は例示であり、本実施形態に係る集光装置、集光方法及び非球面ミラーの製造方法の構成は、以下に示す構成に限定されない。
【００１６】
図５は、実施形態に係る集光装置１を示す図である。集光装置１は、光源２、非球面ミ
ラー（曲面ミラー）３、ベンド機構４及び制御装置５を備える。光源２は、Ｘ線管球、Ｘ線ローター光源、放射光光源等のＸ線を発生する装置である。光源２から出射されたＸ線は、スリット６を通って矩形に整形され、非球面ミラー３の表面（反射面）に照射される。非球面ミラー３は、長手方向（縦方向）及び長手方向に対して直交する方向（横方向）で撓んでおり、長手方向と長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なっている。
【００１７】
非球面ミラー３は、シリコン結晶、石英ガラス（溶融石英）又は焼結炭化ケイ素を加工したミラー母材に接着層を成膜し、接着層の上にコーティング膜を成膜することにより製造される。接着層は、例えば、Ｃｒ（クロム）である。接着層の膜厚は、例えば、１０ｎｍ以下程度である。コーティング膜は、例えば、Ｍｏ（モリブデン）、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｒｈ（ロジウム）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｔａ（タンタル）、Ｗ（タングステン）、Ｐｔ（白金）、Ａｕ（金）及びこれらの合金である。コーティング膜は、例えば、スパッタ法又は蒸着法を用いて形成してもよい。
【００１８】
Ｘ線の波長に応じて、コーティング膜にＸ線が吸収されるため、Ｘ線の波長に適したコーティング膜を、非球面ミラー３の表面に形成してもよい。すなわち、Ｘ線の波長に応じて選択されたコーティング膜を、非球面ミラー３の表面に形成してもよい。この場合、Ｘ線の波長に応じて選択された複数種類のコーティング膜を、非球面ミラー３の表面に形成してもよい。
【００１９】
図６は、非球面ミラー３の斜視図である。非球面ミラー３は、例えば、トロイダルミラー、円筒面ミラー、楕円面ミラー、回転楕円面ミラー、放物面ミラー、回転放物面ミラーである。図６に示すように、光源２から出射された横方向（非球面ミラー３に対して水平方向）のＸ線及び縦方向（非球面ミラー３に対して垂直方向）のＸ線が、非球面ミラー３の表面に照射される。非球面ミラー３の表面に照射されたＸ線は、非球面ミラー３の表面で反射され、所定位置に配置された試料１０に集光する。非球面ミラー３の長手方向に対して直交する方向の曲率半径は、非球面ミラー３の表面に対するＸ線の照射領域毎で異なるように、非球面ミラー３の長手方向に沿って変化している。ここで、非球面ミラー３の長手方向に対して直交する方向の曲率半径をＲｓとする。
【００２０】
図７は、非球面ミラー３の上面図である。Ｒｓは、非球面ミラー３の領域１０１〜１１６毎で異なっている。非球面ミラー３の領域１０１〜１１６は、非球面ミラー３の表面に対するＸ線の照射領域である。非球面ミラー３の領域１０１〜１１６のＲｓの値は、Ｒｓ（領域１０１）＞Ｒｓ（領域１０２）＞・・・＞Ｒｓ（領域１１５）＞Ｒｓ（領域１１６）である。非球面ミラー３の領域１０１〜１１６のＲｓは、非球面ミラー３の長手方向に沿って連続的に変化している。非球面ミラー３の領域１０１〜１１６のＲｓの値は、Ｘ線の進行方向に向かって徐々に小さくなっている。図７では、非球面ミラー３を領域１０１〜１１６に区分する例を示しているが、非球面ミラー３における領域数は図７に示す例に限定されない。
【００２１】
また、非球面ミラー３の領域１０１〜１１６のＲｓの値を、Ｒｓ（領域１０１）＜Ｒｓ（領域１０２）＜・・・＜Ｒｓ（領域１１５）＜Ｒｓ（領域１１６）としてもよい。非球面ミラー３の領域１０１〜１１６のＲｓの値が、Ｘ線の進行方向に向かって徐々に大きくなってもよい。
【００２２】
図５の説明に戻る。ベンド機構４は、非球面ミラー３の長手方向の撓みを調整することにより、非球面ミラー４の長手方向の曲率半径を変更する。ベンド機構４は、変更手段の一例である。制御装置５は、ベンド機構４を制御する。制御装置５は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）及び主記憶装置を有している。ＣＰＵは、プロセッサとも呼ばれる。
ＣＰＵは、主記憶装置に実行可能に展開されたコンピュータプログラムを実行する。主記
憶装置は、メモリとも呼ばれる。主記憶装置は、ＣＰＵが実行するコンピュータプログラム、ＣＰＵが処理するデータ等を記憶する。主記憶装置は、例えば、揮発性のＲＡＭ（Random Access Memory）又は不揮発性のＲＯＭ（Read Only Memory）である。主記憶装置は、ＲＡＭ及びＲＯＭを有していてもよい。制御装置５は、例えば、パーソナルコンピュータであってもよい。
【００２３】
ベンド機構４は、固定部１１及び調整部１２を有する。固定部１１は、非球面ミラー３の裏面（表面の反対面）の中心点を固定する。固定部１１は、制御装置５の制御に従って、内部に設けられたパルスモーターを駆動し、非球面ミラー３の高さを調整する。
【００２４】
調整部１２は、制御装置５の制御に従って、非球面ミラー３の長手方向の両端部を挟み込む。調整部１２は、制御装置５の制御に従って、内部に設けられたパルスモーターを駆動し、非球面ミラー３の長手方向の両端部を上げ下げすることにより、非球面ミラー３の長手方向の撓みを調整する。非球面ミラー３の長手方向の撓みの調整が行われた場合、調整部１２は、制御装置５の制御に従って、非球面ミラー３の長手方向の両端部の挟み込みを解除する。
【００２５】
非球面ミラー３の表面に対して、臨界角θｃより大きな角度でＸ線が入射する場合、Ｘ線は反射されず、Ｘ線は非球面ミラー３を透過する。一方、非球面ミラー３の表面に対して、臨界角θｃより小さな角度でＸ線が入射する場合、Ｘ線は非球面ミラー３の表面で全反射される。光源２から出射されたＸ線には、基本波の他、高調波が含まれる。非球面ミラー３の表面に対して、基本波では全反射が生じる角度であって、高調波では全反射が生じない角度で、Ｘ線を入射することにより、高調波を除去することが行われる。
【００２６】
ここで、非球面ミラー３の長手方向の曲率半径をＲｍとする。また、光源２から非球面ミラー３の表面までの距離をｆ１とし、非球面ミラー３の表面から試料１０までの距離（集光距離）をｆ２とすると、以下の数式４及び数式５が成り立つ。
【００２７】
【数４】
2014163667.tif 000006
【００２８】
【数５】
2014163667.tif 000007
Ｘ線のエネルギーを変更した場合であっても、光源２、非球面ミラー３及び試料１０の位置変更は行わないため、ｆ１とｆ２との合計距離は一定である。
【００２９】
コーティング膜の密度をρ（ｇ／ｃｍ3）とし、Ｘ線のエネルギー（ｋｅＶ）をＥとす
るとき、全反射臨界角θｃについては、以下の数式６が成立する。
【００３０】
【数６】
2014163667.tif 000008
例えば、コーティング膜としてＲｈが用いられ、Ｒｈの密度が９．７ｇ／ｃｍ3であり
、Ｘ線のエネルギーが１５ｋｅＶである場合、全反射臨界角θｃ＝４．２３２６７ｍｒａｄとなる。視斜角（入射角の余角）θを全反射臨界角θｃの６３％に設定する場合、視斜角θ＝２．６６６５８ｍｒａｄとなる。ここでは、視斜角θを全反射臨界角θｃの６３％に設定するが、この値は例示であり、例えば、視斜角θを全反射臨界角θｃの５０％に設定してもよいし、視斜角θを全反射臨界角θｃの８０％に設定してもよい。
【００３１】
非球面ミラー３の表面に対するＸ線の照射領域に応じて、ｆ１及びｆ２の値は異なる。したがって、非球面ミラー３の表面に対するＸ線の照射領域を変更すると、ｆ１及びｆ２の値が変わる。
【００３２】
Ｘ線のエネルギーが１５ｋｅＶである場合、例えば、ｆ１＝２０ｍ、ｆ２＝５ｍとすると、上記の数式４から、Ｒｓ＝０．０２１３３ｍ、Ｒｍ＝３０００．１０１０６ｍとなる。ここでは、ｆ１とｆ２との合計距離を２５ｍとするが、この値は例示であり、ｆ１とｆ２との合計距離は２５ｍに限定されない。
【００３３】
Ｘ線のエネルギーが１５ｋｅＶである場合、Ｒｍ＝３０００．１０１０６ｍとなるように、ベンド機構４によって非球面ミラー３の長手方向の撓みを調整する。したがって、ベンド機構４によって非球面ミラー３の長手方向の撓みを調整することにより、Ｘ線のエネルギー（１５ｋｅＶ）に応じたＲｍの値を選択することができる。
【００３４】
非球面ミラー３の領域１０１〜１１６毎でＲｓが異なっているため、１５ｋｅＶのＸ線を、非球面ミラー３の領域１１１における非球面ミラー３の表面に照射する。非球面ミラー３の領域１１１のＲｓは、０．０２１３３ｍに設定されている。したがって、１５ｋｅＶのＸ線を、非球面ミラー３の領域１１１における非球面ミラー３の表面に照射することにより、Ｘ線のエネルギー（１５ｋｅＶ）に応じたＲｓ（０．０２１３３ｍ）を選択することができる。
【００３５】
図８は、５ｋｅＶ〜２０ｋｅＶのＸ線について、全反射臨界角θｃ、視斜角θ、ｆ１、ｆ２、Ｒｓ、Ｒｍを示した図である。図８に示す例に限らず、Ｘ線のエネルギーは、５ｋｅＶよりも小さくてもよいし、２０ｋｅＶよりも大きくてもよい。また、Ｘ線のエネルギーは、５．１ｋｅＶのように、小数点を含んでもよい。
【００３６】
図８のｄＺ（ｍ）は、非球面ミラー３の領域１０１〜１１６の幅（非球面ミラー３の長手方向の幅）を、Ｘ線のエネルギー毎に示したものである。ｄＺ（ｍ）は、Ｘ線の縦方向（非球面ミラー３に対して垂直方向）の幅を０．０００２ｍとして、以下の数式７により算出される。
【００３７】
【数７】
2014163667.tif 000009
図８のshiftＺ（ｍ）は、非球面ミラーの１５ｋｅＶのエネルギーのＸ線の照射領域を
基準（shiftＺ（ｍ）＝０）とした場合におけるＸ線の各エネルギーの照射領域の変位量
である。ここでは、光源との距離が短くなる場合をマイナス（−）とし、光源との距離が長くなる場合をプラス（＋）としている。
【００３８】
Ｘ線の各エネルギーのｆ１は、以下の数式８により算出され、Ｘ線の各エネルギーのｆ２は、以下の数式９により算出される。
【００３９】
【数８】
2014163667.tif 000010
【００４０】
【数９】
2014163667.tif 000011
例えば、下記条件の場合、数式６から、全反射臨界角θｃ＝１２．６９８ｍｒａｄとなる。視斜角θを全反射臨界角θｃの６３％に設定する場合、視斜角θ＝７．９９９７４ｍｒａｄとなる。
・コーティング膜：Ｒｈ
・Ｒｈの密度：９．７ｇ／ｃｍ3
・Ｘ線のエネルギー：５ｋｅＶ
・視斜角θ＝全反射臨界角θｃ×０．６３
そして、数式８から、ｆ１＝１９．４９９９９ｍとなり、数式９から、ｆ２＝５．５０００１ｍとなる。数式４から、Ｒｓ＝０．０６８６４ｍとなり、Ｒｍ＝１０７２．５４７７ｍとなる。
【００４１】
Ｘ線のエネルギーが５ｋｅＶである場合、Ｒｍ＝１０７２．５４７７ｍとなるように、ベンド機構４によって非球面ミラー３の長手方向の撓みを調整する。したがって、ベンド機構４によって非球面ミラー３の長手方向の撓みを調整することにより、Ｘ線のエネルギー（５ｋｅＶ）に応じたＲｍの値（１０７２．５４７７ｍ）を選択することができる。
【００４２】
非球面ミラー３の領域１０１〜１１６毎にＲｓが異なっているため、５ｋｅＶのＸ線を、非球面ミラー３の領域１０１における非球面ミラー３の表面に照射する。非球面ミラー３の領域１０１のＲｓは、０．０６８６４ｍに設定されている。したがって、５ｋｅＶのＸ線を、非球面ミラー３の領域１０１における非球面ミラー３の表面に照射することにより、Ｘ線のエネルギー（５ｋｅＶ）に応じたＲｓの値（０．０６８６４ｍ）を選択することができる。
【００４３】
例えば、下記条件の場合、数式６から、全反射臨界角θｃ＝３．１７４５ｍｒａｄとなる。視斜角θを全反射臨界角θｃの６３％に設定する場合、視斜角θ＝１．９９９９４ｍｒａｄとなる。
・コーティング膜：Ｒｈ
・Ｒｈの密度：９．７ｇ／ｃｍ3
・Ｘ線のエネルギー：２０ｋｅＶ
・視斜角θ＝全反射臨界角θｃ×０．６３
数式８から、ｆ１＝２０．４３７５２ｍとなり、数式９から、ｆ２＝４．５６２４８ｍとなる。数式４から、Ｒｓ＝０．０１４９２ｍとなり、Ｒｍ＝３７２９．９５６８１ｍとなる。
【００４４】
Ｘ線のエネルギーが２０ｋｅＶである場合、Ｒｍ＝３７２９．９５６８１ｍとなるように、ベンド機構４によって非球面ミラー３の長手方向の撓みを調整する。したがって、ベンド機構４によって非球面ミラー３の長手方向の撓みを調整することにより、Ｘ線のエネルギー（２０ｋｅＶ）に応じたＲｍの値（３７２９．９５６８１ｍ）を選択することができる。
【００４５】
非球面ミラー３の領域１０１〜１１６毎にＲｓが異なっているため、２０ｋｅＶのＸ線を、非球面ミラー３の領域１１６における非球面ミラー３の表面に照射する。非球面ミラー３の領域１１６のＲｓは、０．０１４９２ｍに設定されている。したがって、２０ｋｅＶのＸ線を、非球面ミラー３の領域１１６における非球面ミラー３の表面に照射することにより、Ｘ線のエネルギー（２０ｋｅＶ）に応じたＲｓの値（０．０１４９２ｍ）を選択することができる。
【００４６】
視斜角θの値が変わった場合、すなわち、Ｘ線のエネルギーが変わった場合であっても、Ｘ線のエネルギーに応じたＲｓの値及びＲｍの値を選択することにより、試料１０の位置を変更せずに、試料１０にＸ線を集光することができる。
【００４７】
Ｘ線のエネルギーを変更する場合、Ｘ線の全反射臨界角θｃ及び視斜角θが変わる。光源２の移動が容易な場合、光源２を移動及び回転することにより、視斜角θの調整が行われる。Ｘ線管球は、移動が容易な光源２である。光源２の移動が容易でない場合、図９に示すように、非球面ミラー３の中心を回転軸として、非球面ミラー３を回転させることにより、視斜角θの調整が行われる。Ｘ線ローター光源、放射光光源は、移動が容易でない光源２である。非球面ミラー３の回転は、図５に示す固定部１１によって行われてもよい。
【００４８】
図１０に示すように、非球面ミラー３の高さを変更することにより、非球面ミラー３の表面に対するＸ線の照射領域の変更が行われる。例えば、非球面ミラー３の領域１１６における非球面ミラー３の表面に対してＸ線の照射が行われている場合、非球面ミラー３を高くすることにより、非球面ミラー３の領域１０１〜１１５における非球面ミラー３の表面に対してＸ線の照射が行われる。例えば、非球面ミラー３の領域１０１における非球面ミラー３の表面に対するＸ線の照射が行われている場合、非球面ミラー３を低くすることにより、非球面ミラー３の領域１０２〜１１６における非球面ミラー３の表面に対するＸ線の照射が行われる。図５に示す固定部１１は、制御装置５の制御に従って、非球面ミラー３の高さの上げ下げを行う。
【００４９】
〈非球面ミラー３の製造方法〉
非球面ミラー３の表面形状は、非球面ミラー３の表面の高さｚを、ｚ＝ｆ（ｘ，ｙ）により定義される。ｘは、非球面ミラー３の長手方向に沿った表面の位置（座標）であり、ｙは、非球面ミラー３の長手方向に直交する方向に沿った表面の位置（座標）である。非球面ミラー３の領域１０１〜１１６毎にＲｓが異なっているため、非球面ミラー３の領域１０１〜１１６毎のＲｓに基づいて、非球面ミラー３の領域１０１〜１１６毎の非球面ミラー３の表面の高さｚを算出する。
【００５０】
非球面ミラー３の領域１０１〜１１６毎の非球面ミラー３の表面の高さｚを、非球面ミラー３の全面の高さに内挿し、非球面ミラー３の全面のｚ（ｘ，ｙ）分布を算出する。非球面ミラー３の全面のｚ（ｘ，ｙ）分布に基づいて、非球面ミラー３の表面形状をＮＣ（Numerical Control）加工によって形成することにより、非球面ミラー３を製造する。
【００５１】
以上の実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
【００５２】
（付記１）
Ｘ線を反射し、長手方向と、長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なる非球面ミラーと、
前記非球面ミラーの長手方向の撓みを調整し、前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径を変更する変更手段と、
を備え、
前記非球面ミラーの長手方向に対して直交する方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域毎で異なることを特徴とする、
集光装置。
【００５３】
（付記２）
前記変更手段は、前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に照射されるＸ線のエネルギーに応じた値となるように、前記非球面ミラーの長手方向の撓みを調整し、
前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域が、Ｘ線のエネルギーに応じて選択されることを特徴とする、
付記１に記載の集光装置。
【００５４】
（付記３）
前記非球面ミラーの表面には、Ｘ線の波長に応じて選択された複数種類のコーティング膜が形成されていることを特徴とする、
付記１又は２に記載の集光装置。
【００５５】
（付記４）
Ｘ線を反射し、長手方向と、長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なる非球面ミラーの長手方向の撓みを調整し、前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径を変更する工程と、
前記非球面ミラーの表面にＸ線を照射する工程と、を備え、
前記非球面ミラーの長手方向に対して直交する方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域毎で異なることを特徴とする、
集光方法。
【００５６】
（付記５）
前記非球面ミラーの長手方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に照射されるＸ線のエネルギーに応じた値となるように、前記非球面ミラーの長手方向の撓みが調整され、
前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域が、Ｘ線のエネルギーに応じて選択されることを特徴とする、
付記４に記載の集光方法。
【００５７】
（付記６）
前記非球面ミラーの表面には、Ｘ線の波長に応じて選択された複数種類のコーティング膜が形成されていることを特徴とする、
付記４又は５に記載の集光方法。
【００５８】
（付記７）
Ｘ線を反射し、長手方向と、長手方向に対して直交する方向とで曲率半径が異なる非球面ミラーの製造方法であって、
前記非球面ミラーの長手方向に対して直交する方向の曲率半径が、前記非球面ミラーの表面に対するＸ線の照射領域毎で異なるように、前記非球面ミラーの表面形状を形成することを特徴とする非球面ミラーの製造方法。
【００５９】
（付記８）
前記非球面ミラーの表面に、Ｘ線の波長に応じて選択された複数種類のコーティング膜を形成することを特徴とする付記７に記載の非球面ミラーの製造方法。
【符号の説明】
【００６０】
１    集光装置
２    光源
３    非球面ミラー（曲面ミラー）
４    ベンド機構
５    制御装置
６    スリット
１０  試料
１１  固定部
１２  調整部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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