(57)【要約】      （修正有）【課題】ダメージした毛髪の状態を改善し、毛髪に十分なこしを与え、まとまりを良くし、エモリエント感のある仕上がり状態を与える毛髪処理剤の提供。【解決手段】式（１）により代表されるシリコーン誘導体を含有する、毛髪処理剤。2014073970.tif 000038（１）（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、又は水酸基であり、窒素原子を有してもよく、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３は、それぞれ独立に、前記Ｒと同様の基又は窒素原子を含有する残基であり、かつＸ１、Ｘ２、及びＸ３のうち少なくとも一つは、窒素原子を含有する残基であり、ｎは、０〜３００，０００の整数である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）、（２）、及び（３）で表されるシリコーン誘導体からなる群より選ばれる１種以上のシリコーン誘導体を含有する、毛髪処理剤。
【化１】
2014073970.tif 000032
（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、又は水酸基であり、窒素原子を有してもよく、
Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３は、それぞれ独立に、前記Ｒと同様の基又は式（４）で表わされる基であり、かつＸ１、Ｘ２、及びＸ３のうち少なくとも一つは、式（４）で表わされる基であり、
ｎは、０〜３００，０００の整数である。）
【化２】
2014073970.tif 000033
（２）
（式（２）中、Ｒは、前記同様の基であり、
Ｒ１は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の２価の炭化水素基であり、
Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、水酸基、又は水素原子であり、
Ｘ４は、それぞれ独立に、前記Ｒと同様の基又は式（４）で表わされる基であり、かつＸ４のうち少なくとも一つは、式（４）で表わされる基であり、
Ｚは、それぞれ独立に、ポリアルキレンオキシド基であり、
ｈは、それぞれ独立に、０〜３００，０００の整数であり、ｉは、それぞれ独立に、１〜３００，０００の整数であり、ｌは１〜３００，０００の整数である。）
【化３】
2014073970.tif 000034
（３）
（式（３）中、Ｒは、それぞれ独立に、前記同様の基であり、
Ｘ５は、下記式（４）で表わされる基であり、
ｐは、それぞれ独立に、１〜３００，０００の整数である。）
【化４】
2014073970.tif 000035
（４）
（式（４）中、Ａは、窒素原子を有するｍ＋１価の炭化水素基であり、
Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立に、炭素数１〜２３の炭化水素基であり、
Ｙは、それぞれ独立に、カルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩であり、
ｍは１〜１０の整数であり、ｊ、ｋは、それぞれ独立に、０、１又は２のいずれかの整数であって、ｊ、ｋは同時に０ではない。）
【請求項２】
前記式（４）中、ｍが１であり、Ａが式（５）で表される基である、請求項１に記載の毛髪処理剤。
【化５】
2014073970.tif 000036
（５）
（式（５）中、Ｒ５は、炭素数１〜２２の炭化水素基であり、Ｒ８は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基である。）
【請求項３】
前記式（４）中、ｍが２であり、Ａが式（６）で表される基である、請求項１に記載の毛髪処理剤。
【化６】
2014073970.tif 000037
（６）
（式（６）中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の炭化水素基である。）
【請求項４】
前記式（１）中、Ｒがメチル基であり、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３が下記（ａ）〜（ｄ）のいずれかを満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
（ａ）Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方は、式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基であり、Ｘ２は、メチル基である。
（ｂ）Ｘ１は、前記式（１）で定義されるＲと同様であり、Ｘ３は、式（４）で表される基であり、Ｘ２は、メチル基である。
（ｃ）Ｘ１及びＸ３は、前記式（１）で定義されるＲと同様であり、Ｘ２の少なくとも一つが式（４）で表される基である。
（ｄ）Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方は、式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基であり、Ｘ２の少なくとも一つが式（４）で表さる基である。
【請求項５】
前記式（４）のＲ３は、水素原子であり、Ｙは、カルボキシル基又はその塩である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【請求項６】
シリコーンをさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【請求項７】
Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤をさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【請求項８】
ポリヒドロキシル化合物をさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【請求項９】
Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【請求項１０】
ノニオン性界面活性剤をさらに含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【請求項１１】
両性界面活性剤をさらに含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【請求項１２】
カチオン性化合物をさらに含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、毛髪処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヘアスタイリングを行う場合には、ヘアスプレー、ヘアフォーム、ヘアジェル等の毛髪処理剤が使用され、毛髪をセットしたり、毛髪に光沢やなめらかさ等を付与したりしている。例えば、特許文献１又は特許文献２に開示される毛髪化粧料のようにシリコーン等のポリマーを配合した毛髪処理剤が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特公平６−２３０８４号公報
【特許文献２】特開平８−２０５１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１及び２に記載されているような毛髪処理剤は、合成樹脂を主原料とするものであったり、油類を可溶化、乳化したりしたものから成るものが多く、一般的にはダメージのある毛髪をケアする機能には乏しく、場合によっては継続使用により毛髪にダメージを与える場合もある。また、従来のシリコーン等のポリマーを配合したものでは一時的な感触の改善はできても、セット効果に劣り毛髪のこしがなくなってしまうこともある。そこで、毛髪にダメージを与えることなく、かつダメージを改善するとともに、毛髪に十分なこしを与え、まとまりを良くし、エモリエント感のある仕上がり状態を与える毛髪処理剤が望まれている。
【０００５】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、毛髪に対する付着性が良好で、ダメージのある毛髪の状態を改善し、毛髪に十分なこしを付与し、さらにまとまりを良くし、エモリエント感のある仕上がり状態を与える毛髪処理剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の化合物、即ち、シリコーン誘導体に着目し、これを配合して毛髪処理剤とすることで、ダメージのある毛髪の状態を改善し、毛髪に十分なこしを付与し、さらにまとまり感を向上させ、エモリエント感のある仕上がり状態を与える毛髪処理剤となることを見出した。
【０００７】
即ち本発明は、下記の通りである。
〔１〕
式（１）、（２）、及び（３）で表されるシリコーン誘導体からなる群より選ばれる１種以上のシリコーン誘導体を含有する、毛髪処理剤。
【化１】
2014073970.tif 000002
（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、又は水酸基であり、窒素原子を有してもよく、
Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３は、それぞれ独立に、前記Ｒと同様の基又は式（４）で表わされる基であり、かつＸ１、Ｘ２、及びＸ３のうち少なくとも一つは、式（４）で表わされる基であり、
ｎは、０〜３００，０００の整数である。）
【化２】
2014073970.tif 000003
（２）
（式（２）中、Ｒは、前記同様の基であり、
Ｒ１は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の２価の炭化水素基であり、
Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、水酸基、又は水素原子であり、
Ｘ４は、それぞれ独立に、前記Ｒと同様の基又は式（４）で表わされる基であり、かつＸ４のうち少なくとも一つは、式（４）で表わされる基であり、
Ｚは、それぞれ独立に、ポリアルキレンオキシド基であり、
ｈは、それぞれ独立に、０〜３００，０００の整数であり、ｉは、それぞれ独立に、１〜３００，０００の整数であり、ｌは１〜３００，０００の整数である。）
【化３】
2014073970.tif 000004
（３）
（式（３）中、Ｒは、それぞれ独立に、前記同様の基であり、
Ｘ５は、下記式（４）で表わされる基であり、
ｐは、それぞれ独立に、１〜３００，０００の整数である。）
【化４】
2014073970.tif 000005
（４）
（式（４）中、Ａは、窒素原子を有するｍ＋１価の炭化水素基であり、
Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立に、炭素数１〜２３の炭化水素基であり、
Ｙは、それぞれ独立に、カルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩であり、
ｍは１〜１０の整数であり、ｊ、ｋは、それぞれ独立に、０、１又は２のいずれかの整数であって、ｊ、ｋは同時に０ではない。）
〔２〕
前記式（４）中、ｍが１であり、Ａが式（５）で表される基である、前項〔１〕に記載の毛髪処理剤。
【化５】
2014073970.tif 000006
（５）
（式（５）中、Ｒ５は、炭素数１〜２２の炭化水素基であり、Ｒ８は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基である。）
〔３〕
前記式（４）中、ｍが２であり、Ａが式（６）で表される基である、前項〔１〕に記載の毛髪処理剤。
【化６】
2014073970.tif 000007
（６）
（式（６）中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の炭化水素基である。）
〔４〕
前記式（１）中、Ｒがメチル基であり、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３が下記（ａ）〜（ｄ）のいずれかを満たす、前項〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
（ａ）Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方は、式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基であり、Ｘ２は、メチル基である。
（ｂ）Ｘ１は、前記式（１）で定義されるＲと同様であり、Ｘ３は、式（４）で表される基であり、Ｘ２は、メチル基である。
（ｃ）Ｘ１及びＸ３は、前記式（１）で定義されるＲと同様であり、Ｘ２の少なくとも一つが式（４）で表される基である。
（ｄ）Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方は、式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基であり、Ｘ２の少なくとも一つが式（４）で表さる基である。
〔５〕
前記式（４）のＲ３は、水素原子であり、Ｙは、カルボキシル基又はその塩である、前項〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
〔６〕
シリコーンをさらに含む、前項〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
〔７〕
Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤をさらに含む、前項〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
〔８〕
ポリヒドロキシル化合物をさらに含む、前項〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
〔９〕
Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤をさらに含む、前項〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
〔１０〕
ノニオン性界面活性剤をさらに含む、前項〔１〕〜〔９〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
〔１１〕
両性界面活性剤をさらに含む、前項〔１〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
〔１２〕
カチオン性化合物をさらに含む、前項〔１〕〜〔１１〕のいずれか１項に記載の毛髪処理剤。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の毛髪処理剤は、毛髪に対する付着性が良好で、ダメージを受けた毛髪の状態を改善し、毛髪に十分なこしを付与し、さらにまとまりを良くし、エモリエント感のある仕上がり状態を与えることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」という。）について具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【００１０】
［毛髪処理剤］
本実施形態の毛髪処理剤は、下記式（１）、（２）、及び（３）で表わされるシリコーン誘導体からなる群より選ばれる１種以上のシリコーン誘導体を含有する。
【００１１】
本実施形態において「毛髪処理剤」とは、香粧品（医薬部外品含む）や医薬品の、ヘアシャンプー、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアクリーム、ヘアトリートメント、ヘアローション、ヘアフォーム、ヘアジェル、ヘアスプレー等として用いることができるものをいう。
【００１２】
［シリコーン誘導体］
以下、シリコーン誘導体について説明する。
本実施形態で用いるシリコーン誘導体は式（１）、（２）、又は（３）で表される。
【化７】
2014073970.tif 000008
（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、又は水酸基であり、窒素原子を有してもよく、
Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３は、それぞれ独立に、前記Ｒと同様の基又は式（４）で表わされる基であり、かつＸ１、Ｘ２、及びＸ３のうち少なくとも一つは、式（４）で表わされる基であり、
ｎは、０〜３００，０００の整数である。）
【化８】
2014073970.tif 000009
（２）
（式（２）中、Ｒは、前記同様の基であり、
Ｒ１は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の２価の炭化水素基であり、
Ｒ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、水酸基、又は水素原子であり、
Ｘ４は、それぞれ独立に、前記Ｒと同様の基又は式（４）で表わされる基であり、かつＸ４のうち、少なくとも一つは、下記式（４）で表わされる基であり、
Ｚは、それぞれ独立に、ポリアルキレンオキシド基であり、
ｈは、それぞれ独立に、０〜３００，０００の整数であり、ｉは、それぞれ独立に、１〜３００，０００の整数であり、ｌは１〜３００，０００の整数である。）
【化９】
2014073970.tif 000010
（３）
（式（３）中、Ｒは、前記同様の基であり、
Ｘ５は、下記式（４）で表わされる基であり、
ｐは、それぞれ独立に、１〜３００，０００の整数である。）
【化１０】
2014073970.tif 000011
（４）
（式（４）中、Ａは、窒素原子を有するｍ＋１価の炭化水素基であり、
Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立に、炭素数１〜２３の炭化水素基であり、
Ｙは、それぞれ独立に、カルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩であり、
ｍは１〜１０の整数であり、ｊ、ｋは、それぞれ独立に、０、１又は２のいずれかの整数であって、ｊ、ｋは同時に０ではない。）
【００１３】
＜式（１）で表わされるシリコーン誘導体＞
式（１）で表わされるシリコーン誘導体について説明する。式（１）中、Ｒは炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、又は水酸基であり、窒素原子を有してもよく、複数あるＲはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
【００１４】
炭素数１〜２２のアルキル基としては、特に限定されないが、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、トリフルオロプロピル基等が挙げられる。
【００１５】
炭素数１〜２２のアルコキシ基としては、特に限定されないが、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、フェノキシ基等が挙げられる。
【００１６】
炭素数２〜２２のアルケニル基としては、特に限定されないが、具体的には、ビニル基やアリル基が挙げられる。
【００１７】
炭素数６〜２２のアリール基としては、特に限定されないが、具体的には、フェニル基、ベンジル基、トリル基、キシリル基等が挙げられる。
【００１８】
分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基としては、特に限定されないが、具体的には、主鎖にエーテル結合を有する直鎖状の高分子鎖であり、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等のポリアルキレンオキシドやポリフェニレンオキシド等が挙げられる。
【００１９】
炭素数１〜２４のアルキルエステル基としては、特に限定されないが、具体的には、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブチルエステル等が挙げられる。
【００２０】
Ｒは、水素がフッ素置換された基であってもよい。また、Ｒは、カルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩等の置換基を有する基でもよく、これらの置換基を有することによって弱酸性での溶解性が向上する。
【００２１】
さらに、Ｒはフェニル基、フェノール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基（炭素数０〜１４）、イミノ基、（アミノエチル）アミノ基、（ジメチルアミノエチル）アミノ基、ポリオキシアルキレン基、メルカプト基、及びエポキシ基等の置換基を有していてもよい。
【００２２】
Ｒは、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数６〜１２のアリール基、ポリアルキレンオキシドであることが好ましく、より好ましくは、炭素数１〜３のアルキル基、フェニル基であり、さらに好ましくはメチル基、プロピル基又はフェニル基である。このうち、汎用性及び価格の点からはメチル基が、特に好ましく、毛髪処理剤の耐熱性の点からはフェニル基が、特に好ましい。
【００２３】
式（１）中、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３のうち少なくとも一つは、式（４）で表わされる基であり、それ以外は上記のＲと同様であり、同様のものが好ましく用いられる。複数あるＸ２は同じでも異なっていてもよい。
【００２４】
式（１）中、ｎは０〜３００，０００の整数である。好ましくは、ｎは０〜１００，０００である。より好ましくは、ｎは０〜２０，０００である。
【００２５】
また、式（１）で表されるシリコーン誘導体の分子量としては、特に限定されないが、５０〜１０，０００，０００であることが好ましく、１００〜１００，０００であることがより好ましく、５００〜１０，０００であることがさらに好ましい。
【００２６】
＜式（２）で表わされるシリコーン誘導体＞
式（２）で表わされるシリコーン誘導体について説明する。式（２）中、Ｒは式（１）と同様に定義され、同様のものが好ましく用いられる。
【００２７】
式（２）中、Ｒ１は炭素数１〜２２の２価の炭化水素基であり、特に限定されないが、具体的には、アルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられる。アルキル基としては、特に限定されないが、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基等が挙げられる。アルケニル基としては、特に限定されないが、具体的には、ビニル基やアリル基が挙げられる。アリール基としては、特に限定されないが、具体的には、フェニル基、ベンジル基、トリル基、キシリル基等が挙げられる。
【００２８】
Ｒ２は炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基、水酸基、又は水素原子であり、複数あるＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
【００２９】
炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルコキシ基、炭素数２〜２２のアルケニル基、炭素数６〜２２のアリール基、分子量１０，０００，０００以下のポリエーテル基、炭素数１〜２４のアルキルエステル基としては式（１）におけるＲと同様のものが挙げられる。Ｒ２としては式（１）におけるＲと同様のものと水素が好ましく用いられる。Ｚはポリアルキレンオキシドであり、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等が挙げられ、好ましい分子量としては１０，０００，０００以下である。複数ある場合のＲ１、Ｒ２、Ｚは同じでも異なっていてもよい。
【００３０】
式（２）中、複数あるＸ４のうち、少なくとも一つのＸ４は、下記式（４）で表わされる基であり、その他のＸ４は上記のＲと同様であり、同様のものが好ましく用いられる。複数ある場合のＸ４は同じでも異なっていてもよい。
【００３１】
式（２）中、ｈは０〜３００，０００の整数であり、好ましくは０〜１００，０００であり、より好ましくは０〜２０，０００である。ｉは、１〜３００，０００の整数であり、好ましくは１〜１００，０００であり、より好ましくは１〜２０，０００である。ｌは１〜３００，０００の整数であり、好ましくは１〜１００，０００であり、より好ましくは１〜２０，０００である。
【００３２】
また、式（２）で表されるシリコーン誘導体の分子量としては、特に限定されないが、５０〜１０，０００，０００であることが好ましく、１００〜１００，０００であることがより好ましく、５００〜１０，０００であることがさらに好ましい。
【００３３】
＜式（３）で表わされるシリコーン誘導体＞
式（３）で表わされるシリコーン誘導体について説明する。式（３）中、Ｒは式（１）と同様に定義され、同様のものが好ましく用いられる。複数ある場合のＲは同じでも異なっていてもよい。式（３）中、Ｘ５は、式（４）で表わされる基である。
【００３４】
式（３）中、ｐは１〜３００，０００の整数で、好ましくは１〜１００，０００であり、より好ましくは１〜２０，０００であり、複数あるｐは同じでも異なっていてもよい。
【００３５】
また、式（３）で表されるシリコーン誘導体の分子量としては、特に限定されないが、５０〜１０，０００，０００であることが好ましく、１００〜１００，０００であることがより好ましく、５００〜１０，０００であることがさらに好ましい。
【００３６】
＜式（４）で表わされる基＞
次に式（４）で表わされる基について説明する。まず、式（４）におけるＡについて説明するために、下記式（４）を下記式（７）とおく。
【化１１】
2014073970.tif 000012
（４）
【化１２】
2014073970.tif 000013
（７）
【００３７】
式（４）中、Ａは、窒素原子を有するｍ＋１価の炭化水素基である。式（４）におけるＡは、式（７）で表わされるＱと、シリコーン部の結合部に相当する。Ａの窒素原子はＱと直接結合していることが好ましい。Ａの窒素原子とＱが結合していることにより、シリコーン誘導体としての安定性が高く、高温や、酸、アルカリの環境下においても、問題なく用いることができる。
【００３８】
また、シリコーン誘導体が式（４）で表わされる基を有していることにより、本実施形態の毛髪処理剤は毛髪に対する高い付着性を有するといった効果を奏する。
【００３９】
式（４）中、ｍは１〜１０の整数であり、Ａにはｍ個のＱが結合している。ｍは１〜３が好ましい。より好ましくは、ｍは１又は２である。Ａ中に窒素原子が複数存在する場合、ｍは３より大きくなる。
【００４０】
具体例として、下記にｍが１の場合（式（７−１））と、ｍが２の場合（式（７−２））を示す。
【化１３】
2014073970.tif 000014
【００４１】
式（４）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基である。Ｒ３が炭素数１〜３の炭化水素基の場合、置換基として水酸基、カルボキシル基又はスルホン酸基を有してもよい。炭素数１〜３の炭化水素基の具体例としては、特に限定されないが、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシ（イソ）プロピル基、ジヒドロキシ（イソ）プロピル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基及びスルホエチル基等を挙げることができる。好ましくは、水素原子である。
【００４２】
式（４）中、Ｒ４は炭素数１〜２３の炭化水素基である。好ましくは、炭素数が７から１７の炭化水素基であり、より好ましくは、炭素数が１１から１７の炭化水素基である。Ｒ４は、直鎖、分岐鎖、又は環状鎖（芳香族炭化水素鎖）のいずれでもよく、置換基を有していてもよい。好ましくは、直鎖である。また、当該炭化水素基は飽和でも不飽和でも使用できるが、飽和であるものが好ましい。Ｒ３、Ｒ４が複数ある場合、同じでも異なっていてもよい。
【００４３】
式（４）中、Ｙはカルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩を表す。好ましくは、カルボキシル基又はその塩である。
【００４４】
Ｙが塩である場合、塩を形成する塩基性物質として、アルキル金属、アルカリ土類金属等が挙げられ、アルカリ金属としては、特に限定されないが、具体的には、ナトリウム、カリウム及びリチウム等の金属が挙げられ、アルカリ土類金属としては、特に限定されないが、具体的には、カルシウム及びマグネシウム等の金属が挙げられる。また、それ以外の金属として、アルミニウム、亜鉛、鉄、コバルト、チタン、ジルコニウム、及び銀が挙げられる。その他にも上記以外の多価金属等が挙げられる。
【００４５】
また、金属以外の塩を形成しうる塩基性物質としては、特に限定されないが、具体的には、有機アミン、塩基性アミノ酸等が挙げられる。有機アミンとしては、特に限定されないが、具体的には、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン及びトリイソプロパノールアミン等が挙げられ、塩基性アミノ酸としては、特に限定されないが、具体的には、アルギニン及びリジンが挙げられる。また、Ｙは上記の塩から任意に選ばれる２種以上の塩を含むことができる。
【００４６】
式（４）中、ｊ、ｋはそれぞれ独立に０、１、２のいずれかを表わすが、ｊ、ｋは同時に０ではない。Ｙ、ｊ、ｋが複数ある場合、同じでも異なっていてもよい。
【００４７】
上記の中でも式（４）中のＲ３は、水素原子であり、Ｙは、カルボキシル基又はその塩である組み合わせが好ましい。式（４）がこのような基であれば、生分解性が良好となる傾向にある。
【００４８】
本実施形態で用いるシリコーン誘導体の一態様として、式（４）中、Ａが下記式（５）で表される基であり、ｍが１であることが好ましい。このような式（８）で表される基を有することにより、毛髪処理剤の使用感の観点から好ましい。
【化１４】
2014073970.tif 000015
（５）
（式（５）中、Ｒ５は炭素数１〜２２の炭化水素基であり、Ｒ８は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基である。）
【化１５】
2014073970.tif 000016
（８）
（式（８）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ、ｊ、ｋは式（４）で定義されるものと同様であり、Ｒ５、Ｒ８は式（５）で定義されるものと同様である。）
【００４９】
式（５）、（８）中、Ｒ５は炭素数１〜２２の炭化水素基であり、好ましくは炭素数１〜１８の炭化水素基である。Ｒ５は直鎖、分枝鎖、環状鎖のいずれでもよく、置換基を有していてもよい。また、Ｒ５はフッ素置換されていてもよい。
【００５０】
式（５）、（８）中、Ｒ８は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基である。特に、Ｒ８が水素原子であることが、シリコーン誘導体の安定性の観点から、好ましい。
【００５１】
式（５）、（８）における、−ＮＲ８−により、シリコーン部と式（７）に示すＱの結合が強固となるため、シリコーン誘導体としての安定性が高くなる。そのため、本実施形態に用いるシリコーン誘導体は、高温や、酸、アルカリの環境下においても、結合が切れることがない。また、シリコーン化合物と式（７）に示すＱの強固な結合により、本実施形態に用いるシリコーン誘導体は、乳化安定性が高くなる。さらに、シリコーン誘導体の臭気を抑制できるため、毛髪処理剤の臭気も低減できる。
【００５２】
本実施形態で用いるシリコーン誘導体の一態様として、式（４）中、Ａが下記式（６）で表される基であり、ｍが２であることが好ましい。このような式（９）で表される基を有することにより、毛髪処理剤の安定性の観点から好ましい。
【化１６】
2014073970.tif 000017
（６）
（式（６）中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の炭化水素基である。）
【化１７】
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（９）
（式（９）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｙ、ｊ、ｋは式（４）で定義されるものと同様であり、Ｒ６、Ｒ７は式（６）で定義されるものと同様である。）
【００５３】
式（６）、（９）中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、炭素数１〜２２の炭化水素基であり、式（５）における、Ｒ５と同様のものが好ましく用いられる。
【００５４】
本実施形態の毛髪処理剤は、式（１）中、全てのＲがメチル基であり、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３が下記（ａ）〜（ｄ）のいずれかを満たすシリコーン誘導体を用いることが好ましい。
（ａ）Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方は、式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基であり、Ｘ２はメチル基である。
（ｂ）Ｘ１は、前記式（１）で定義されるＲと同様であり、Ｘ３は、式（４）で表される基であり、Ｘ２は、メチル基である。
（ｃ）Ｘ１及びＸ３は、前記式（１）で定義されるＲと同様であり、Ｘ２の少なくとも一つが式（４）で表される基である。
（ｄ）Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方は、式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基であり、Ｘ２の少なくとも一つが式（４）で表される基である。
【００５５】
式（１）中、Ｒがメチル基であり、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３が上記（ａ）を満たすシリコーン誘導体は式（１０）で表わされる。式（１０）で表されるシリコーン誘導体は、シリコーン部の両末端に式（４）を有する、若しくは式（４）と窒素原子を有する炭化水素を有するシリコーン誘導体である。
【化１８】
2014073970.tif 000019
（１０）
（式（１０）中、Ｘ１かＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方は式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基であり、ｎは式（１）で定義したものと同様である。）
【００５６】
式（１）中、Ｒがメチル基であり、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３が上記（ｂ）を満たすシリコーン誘導体は式（１１）で表わされる。式（１１）で表されるシリコーン誘導体は、シリコーン部の片末端に式（４）を有するシリコーン誘導体である。
【化１９】
2014073970.tif 000020
（１１）
（式（１１）中、Ｘ３は式（４）で表される基であり、Ｒ、ｎは式（１）で定義したものと同様である。）
【００５７】
式（１）中、Ｒがメチル基であり、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３が上記（ｃ）を満たすシリコーン誘導体は式（１２）で表わされる。式（１２）で表されるシリコーン誘導体は、シリコーン部の側鎖に式（４）を有するシリコーン誘導体である。
【化２０】
2014073970.tif 000021
（１２）
（式（１２）中、複数あるＸ２の少なくとも一つが式（４）で表される基であり、それ以外のＸ２は式（１）で定義したＲと同様であり、式中Ｒ、ｎは式（１）で定義したものと同様である。）
【００５８】
式（１）中、Ｒがメチル基であり、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３が上記（ｄ）を満たすシリコーン誘導体は式（１３）で表わされる。式（１３）で表されるシリコーン誘導体は、シリコーン部の両末端に式（４）、若しくは式（４）と窒素原子を有する炭化水素を有し、側鎖にも式（４）を有するシリコーン誘導体である。
【化２１】
2014073970.tif 000022
（１３）
（式（１３）中、Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方は、式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基であり、複数あるＸ２の少なくとも一つが式（４）で表される基であり、それ以外のＸ２は式（１）で定義されるＲと同様であり、ｎは式（１）で定義したものと同様である。）
【００５９】
式（１０）〜（１３）で表されるシリコーン誘導体のうち、式（１０）で表されるシリコーン誘導体が安定性の観点から好ましい。なお、式（１０）〜（１３）における式（４）で表される基は、Ａが式（５）又は式（６）で表される基である場合が好ましい。
【００６０】
［シリコーン誘導体の製造方法］
以下で、本実施形態に用いるシリコーン誘導体の製造方法の具体例を挙げて説明する。
【００６１】
＜製造方法１  Ｎ−アシル酸性アミノ酸無水物と変性オルガノポリシロキサン化合物＞
前記式（１）、（２）、又は（３）で表されるシリコーン誘導体の製造方法としては、特に限定されないが、具体的には、下記式（１４）で示されるＮ−アシル酸性アミノ酸無水物と、アミノ基を１つ以上有する変性オルガノポリシロキサン化合物とを、無溶媒で又は溶媒存在下に−５℃〜２５０℃で反応させることにより得ることができる。
【化２２】
2014073970.tif 000023
（１４）
（式（１４）中、Ｒ３、Ｒ４、ｊ、ｋは式（４）と同様である。）
【００６２】
原料として使用される式（１４）で示されるＮ−アシル酸性アミノ酸無水物とは、Ｎ−アシル化された酸性アミノ酸の無水物である。Ｎ−アシル酸性アミノ酸無水物は、Ｎ−アシル酸性アミノ酸と脱水剤、例えば、無水酢酸等の無水カルボン酸等とを反応することにより得ることができる。
【００６３】
Ｎ−アシル酸性アミノ酸無水物は、光学異性体であるＤ−体、Ｌ−体、ラセミ体のいずれであってもよい。Ｌ−体が、生分解性に優れることから好ましい。
【００６４】
酸性アミノ酸は、分子中に存在するカルボキシル基の数がアミノ基より多いものである。例えば、カルボキシル基とアミノ基の数がそれぞれ２個と１個であるモノアミノジカルボン酸等が挙げられる。アミノ基の水素は、炭素数１〜３の炭化水素基で置換されていてもよい。
【００６５】
酸性アミノ酸としては、特に限定されないが、具体的には、グルタミン酸、アスパラギン酸、ランチオニン、β−メチルランチオニン、シスタチオニン、ジエンコール酸、フェリニン、アミノマロン酸、β−オキシアスパラギン酸、α−アミノ−α−メチルコハク酸、β−オキシグルタミン酸、γ−オキシグルタミン酸、γ−メチルグルタミン酸、γ−メチレングルタミン酸、γ−メチル−γ−オキシグルタミン酸、α−アミノアジピン酸、α−アミノ−γ−オキシアジピン酸、α−アミノピメリン酸、α−アミノ−γ−オキシピメリン酸、β−アミノピメリン酸、α−アミノスベリン酸、α−アミノセバシン酸、パントテン酸等が挙げられる。これらの中でも、生分解性が特に優れることから、Ｌ−酸性アミノ酸が好ましい。より好ましくはＬ−グルタミン酸又はＬ−アスパラギン酸であり、さらに好ましくはＬ−グルタミン酸である。
【００６６】
またもう一方の原料として使用される、アミノ基を１つ以上有する変性オルガノポリシロキサン化合物としては、特に限定されないが、具体的には、アミノ変性オルガノポリシロキサン等が挙げられる。アミノ変性オルガノポリシロキサンを用いると、本実施形態に用いるシリコーン誘導体の生成純度、安定性が向上するので好ましい。なお、変性オルガノポリシロキサン化合物の変性部位は両末端、片末端、側鎖型、側鎖両末端型のいずれでもよい。
【００６７】
前記変性オルガノポリシロキサン化合物とＮ−アシル酸性アミノ酸無水物は、酸アミド結合を形成する。この結合が、前記式（４）における−Ａ−に相当する。
【００６８】
さらに、変性オルガノポリシロキサン化合物は、光学異性体であるＤ−体、Ｌ−体、ラセミ体のいずれであってもよく、各異性体であってもよい。
【００６９】
アミノ基を有する変性オルガノポリシロキサン化合物としては、特に限定されないが、以下のものが挙げられる。
【００７０】
例えば、信越シリコーン製の変性オルガノポリシロキサン化合物としては、具体的には、ＫＦ−８６８，ＫＦ−８６５，ＫＦ−８６４，ＫＦ−８５９，ＫＦ−３９３，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８７７，ＫＦ−８８０，ＫＦ−８００４，ＫＦ−８００２，ＫＦ−８００５，ＫＦ−８６７，Ｘ−２２−３８２０Ｗ，ＫＦ−８６９，ＫＦ−８６１，Ｘ−２２−３９３９Ａ，ＰＡＭ−Ｅ，ＫＦ−８０１０，Ｘ−２２−１６１Ａ，Ｘ−２２−１６１Ｂ，ＫＦ−８０１２，ＫＦ−８００８，Ｘ−２２−１６６０Ｂ−３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８００１，ＫＦ−８６２，Ｘ−２２−９１９２，ＫＦ−８５８が挙げられる。
【００７１】
東レ・ダウコーディング製の変性オルガノポリシロキサン化合物としては、具体的には、ＢＹ１６−２０５，ＦＺ−３７６０，ＳＦ８４１７，ＢＹ１６−８４９，ＢＹ１６−８９２，ＦＺ−３７８５，ＢＹ１６−８７２，ＢＹ１６−２１３，ＢＹ１６−２０３，ＢＹ１６−８９８，ＢＹ１６−８９０，ＢＹ１６−８９１，ＢＹ１６−８９３，ＢＹ１６−８７１，ＢＹ１６−８５３Ｕ、ＦＺ−３７８９が挙げられる。
【００７２】
チッソ製の変性オルガノポリシロキサン化合物としては、具体的には、ＦＭ−３３１１，ＦＭ−３３２１，ＦＭ−３３２５が挙げられる。
【００７３】
モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製の変性オルガノポリシロキサン化合物としては、具体的には、ＴＳＦ４７０２，ＴＳＦ４７０３，ＴＳＦ４７０４，ＴＳＦ４７０５，ＴＳＦ４７０６，ＴＳＦ４７０７，ＴＳＦ４７０８，ＴＳＦ４７０９，ＸＦ４２−Ｂ１９８９，ＸＦ４２−Ｂ８９２２，ＸＦ４２−Ｃ０３３０，ＸＦ４９−Ｃ１１０９，ＳＩＬＳＯＦＴ  Ａ−５５３，ＳＩＬＳＯＦＴ  Ａ−８４３，ＳＩＬＳＯＦＴ  Ａ−８５８，ＸＦ４２−Ａ３３３５、ＴＳＦ４７０２，ＴＳＦ４７０３が挙げられる。
【００７４】
旭化成ワッカーシリコーン製の変性オルガノポリシロキサン化合物としては、具体的には、ＷＡＣＫＥＲ  Ｌ６５２，ＷＡＣＫＥＲ  Ｌ６５３，ＷＡＣＫＥＲ  Ｌ６５５，ＷＡＣＫＥＲ  Ｌ６５６，ＷＡＣＫＥＲ  ＦＩＮＩＳＨ  ＷＲ１１００，ＷＡＣＫＥＲ  ＦＩＮＩＳＨ  ＷＲ１２００，ＷＡＣＫＥＲ  ＦＩＮＩＳＨ  ＷＲ１３００，ＷＡＣＫＥＲ  ＦＩＮＩＳＨ  ＷＲ１６００，ＷＡＣＫＥＲ  ＦＩＮＩＳＨ  ＷＴ１２５０，ＷＡＣＫＥＲ  ＦＩＮＩＳＨ  ＷＴ１６５０が挙げられる。
【００７５】
Ｎ−アシル酸性アミノ酸無水物と変性オルガノポリシロキサン化合物とを反応させる際、溶媒を使用してもよい。反応の際に使用する溶媒としては、特に限定されないが、具体的には、水、水と有機溶媒との混合溶媒、又はテトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、クロロホルム及びアセトン等の不活性溶媒が挙げられる。反応温度としては、−５℃〜２５０℃、かつ上記化合物の融点以上の温度で混合し、反応させることが好ましい。
【００７６】
＜製造方法２  Ｎ−アシル酸性アミノ酸モノ低級エステルと変性オルガノポリシロキサン化合物＞
式（１）、（２）、又は（３）で表されるシリコーン誘導体の別の製造方法としては、Ｎ−アシル酸性アミノ酸無水物ではなくＮ−アシル酸性アミノ酸モノ低級エステル（例えば、メチルエステル、エチルエステル）と、前記変性オルガノポリシロキサン化合物とを反応させることによって得る方法がある。
【００７７】
Ｎ−アシル酸性アミノ酸モノ低級エステルと変性オルガノポリシロキサン化合物とを、ジメチルホルムアミド等の適当な溶媒中に溶解し、炭酸カリウム等の触媒を加え、減圧下において−５℃〜２５０℃で加熱反応させた後、反応溶媒を除去することで、シリコーン誘導体が得られる。または、溶媒を用いずに無溶媒で加熱溶融し、水酸化ナトリウム等の触媒を加えて室温〜２５０℃でエステル交換反応させることによっても得ることもできる。この場合に用いるＮ−アシル酸性アミノ酸モノ低級エステルは、Ｌ体であることが好ましい。変性オルガノポリシロキサンとしては上記と同様のものを用いることができる。
【００７８】
＜製造方法３  Ｎ−アシル酸性アミノ酸と変性オルガノポリシロキサン化合物＞
さらに、式（１）、（２）、又は（３）で表されるシリコーン誘導体の別の製造方法としては、Ｎ−アシル酸性アミノ酸無水物ではなくＮ−アシル酸性アミノ酸と、前記変性オルガノポリシロキサン化合物とを反応させることによって得る方法がある。
【００７９】
Ｎ−アシル酸性アミノ酸と変性オルガノポリシロキサン化合物とを、トルエン等の適当な溶媒中に溶解し、必要に応じ触媒を加え、−５℃〜２５０℃で加熱反応させた後、反応溶媒を除去することで得られる。または、溶媒を用いずに無溶媒で加熱溶融し、必要に応じ触媒を加えて室温〜２５０℃で反応させることによっても得ることもできる。この場合に用いるＮ−アシル酸性アミノ酸は、Ｎ−アシル−Ｌ−酸性アミノ酸であることが好ましい。変性オルガノポリシロキサンとしては上記と同様のものを用いることができる。
【００８０】
さらに、上述の製造方法１〜３で得られたシリコーン誘導体をアルカリで中和することによって、そのアルカリ塩を得ることができる。これらの方法で得られるシリコーン誘導体は、適宜精製手段により式（１）、（２）、又は（３）で表されるシリコーン誘導体を単離することができる。
【００８１】
以下で、具体的に例を示して、本実施形態に用いるシリコーン誘導体の製造における反応を説明する。例えば下記反応式（１５）は、前記式（１４）のＮ−アシル酸性アミノ酸無水物と、片末端アミノ変性オルガノポリシロキサンとを反応させてシリコーン誘導体を製造する際の反応の一例である。
【化２３】
2014073970.tif 000024
（１５）
（反応式（１５）中、Ｒ、ｎは式（１）と同様であり、Ｒ３、Ｒ４、ｊ、ｋは式（４）と同様である。Ｒ９は炭素数１〜２２の炭化水素基である。）
【００８２】
本実施形態に用いるシリコーン誘導体の毛髪処理剤中の配合量は特に制限はないが、シリコーン誘導体を０．０００１〜３０質量％とするのが好ましく、目的に応じて調節することができる。洗い流すタイプの毛髪処理剤の場合、より好ましくは０．０１〜２０質量％であり、洗い流さないタイプの毛髪処理剤の場合、より好ましくは０．０１〜５質量％である。シリコーン誘導体の毛髪処理剤中の配合量が上記範囲内であることにより、べたつき等の感触を向上できる傾向にある。
【００８３】
［シリコーン］
次に前記シリコーン誘導体と、それ以外のシリコーンとを含む毛髪処理剤について説明する。本実施形態の毛髪処理剤は、前記シリコーン誘導体以外のシリコーンをさらに含んでもよい。シリコーンを含むことにより、毛髪処理剤の毛髪に対する感触が向上する傾向にある。
【００８４】
本実施形態で用いるシリコーンとしては、特に限定されないが、具体的には、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン等の鎖状ポリシロキサン；オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ポリシロキサン；３次元網目構造を形成しているシリコーン樹脂；シリコーンゴム；アミノ変性ポリシロキサン、ポリエーテル変性ポリシロキサン、アルキル変性ポリシロキサン、フッ素変性ポリシロキサン等の各種変性ポリシロキサン等が挙げられる。
【００８５】
本実施形態の毛髪処理剤において、毛髪処理剤中のシリコーンの配合量は０．０１〜６０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。シリコーンは１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。前記好ましい範囲であることにより、使用時のべたつきが減少する傾向にある。
【００８６】
［Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤］
次にシリコーン誘導体とＮ−アシルアミノ酸型界面活性剤とを含む毛髪処理剤について説明する。本実施形態の毛髪処理剤は、Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤をさらに含んでもよい。Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤を含むことにより、皮膚への刺激性が低減する傾向にある。
【００８７】
本実施形態において、Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤のＮ−アシルアミノ酸とは、アミノ酸のアミノ基に、炭素数２〜２４の飽和又は不飽和の脂肪酸から誘導されるアシル基を導入したものである。Ｎ−アシルアミノ酸中のアミノ酸残基としては、特に限定されないが、具体的には、α−アミノ酸、β−アミノ酸、γ−アミノ酸やω−アミノ酸等各種アミノ酸等が挙げられ、アミノ基としては、特に限定されないが、具体的には、Ｎ−メチル体、Ｎ−エチル体等が挙げられる。また、Ｎ−アシルアミノ酸は光学異性体すなわちＤ−体、Ｌ−体、ラセミ体のいずれでもよい。また、Ｎ−アシルアミノ酸は塩を形成していてもかまわない。
【００８８】
アミノ酸の具体例としては、特に限定されないが、具体的には、グルタミン酸、アスパラギン酸、グリシン、アラニン、ランチオニン、β−メチルランチオニン、シスタチオニン、ジエンコール酸、フェリニン、アミノマロン酸、β−オキシアスパラギン酸、α−アミノ−α−メチルコハク酸、β−オキシグルタミン酸、γ−オキシグルタミン酸、γ−メチルグルタミン酸、γ−メチレングルタミン酸、γ−メチル−γ−オキシグルタミン酸、α−アミノアジピン酸、α，α’−ジアミノアジピン酸、β，β’−ジアミノアジピン酸、α−アミノ−γ−オキシアジピン酸、α−アミノピメリン酸、α−アミノ−γ−オキシピメリン酸、β−アミノピメリン酸、α−アミノスベリン酸、α−アミノセバシン酸、パントテン酸等が挙げられる。
【００８９】
アシル基の具体例としては、特に限定されないが、具体的には、炭素原子数２〜２４の飽和又は不飽和の脂肪酸から誘導されるものであればよく、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。好ましくは炭素数７〜２４の飽和又は不飽和の脂肪酸から誘導されるものであり、より好ましくは炭素数１２〜２４の飽和又は不飽和の脂肪酸から誘導されるものである。
【００９０】
Ｎ−アシルアミノ酸は、Ｌ体であることが好ましく、それにより生分解性が良好となる傾向にある。より好ましくはＮ−アシル−Ｌ−酸性アミノ酸であり、さらに好ましくはＮ−アシル−Ｌ−グルタミン酸である。
【００９１】
本実施形態の毛髪処理剤において、毛髪処理剤中のＮ−アシルアミノ酸型界面活性剤の配合量は０．０１〜６０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤は１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。前記好ましい範囲であることにより、使用感が向上する傾向にある。
【００９２】
［ポリヒドロキシル化合物］
次にシリコーン誘導体とポリヒドロキシル化合物とを含む毛髪処理剤について説明する。本実施形態の毛髪処理剤は、ポリヒドロキシル化合物をさらに含んでもよい。ポリヒドロキシル化合物を含むことにより、毛髪処理剤の保湿性が向上する傾向にある。
【００９３】
本実施形態で用いるポリヒドロキシル化合物としては、以下のポリヒドロキシル化合物が挙げられる。これらのポリヒドロキシル化合物は、毛髪処理剤において、０．０１〜６０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。これらのポリヒドロキシル化合物は１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。
【００９４】
２価のポリヒドロキシル化合物としては、特に限定されないが、具体的には、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、ジメチロールシクロヘキサン、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、イソプレングリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ソルバイト、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、ダイマージオール、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、酒石酸、ジヒドロキシ酒石酸、メバロン酸、３，４−ジヒドロキシけい皮酸、３，４−ジヒドロキシヒドロけい皮酸、ジヒドロキシ安息香酸、ジヒドロキシステアリン酸、ジヒドロキシフェニルアラニン、ジエタノールアミン等及びこれらの各異性体等が挙げられる。
【００９５】
３価ポリヒドロキシル化合物としては、特に限定されないが、具体的には、グリセリン、トリオキシイソブタン、１，２，３−ブタントリオール、１，２，３−ペンタントリオール、２−メチル−１，２，３−プロパントリオール、２−メチル−２，３，４−ブタントリオール、２−エチル−１，２，３−ブタントリオール、２，３，４−ペンタントリオール、２，３，４−ヘキサントリオール、４−プロピル−３，４，５−ヘプタントリオール、２，４−ジメチル−２，３，４−ペンタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，４−ペンタントリオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリエタノールアミン、トリヒドロキシステアリン酸等が挙げられる。
【００９６】
４価ポリヒドロキシル化合物としては、特に限定されないが、具体的には、ペンタエリスリトール、エリスリトール、１，２，３，４−ペンタンテトロール、２，３，４，５−ヘキサンテトロール、１，２，４，５−ペンタンテトロール、１，３，４，５−ヘキサンテトロール、ジグリセリン、ソルビタン等が挙げられる。
【００９７】
５価ポリヒドロキシル化合物としては、特に限定されないが、具体的には、アドニトール、アラビトール、キシリトール、トリグリセリン、タロース、アロース等が挙げられる。
【００９８】
６価ポリヒドロキシル化合物としては、特に限定されないが、具体的には、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、イジトール、イノシトール、ダルシトール等が挙げられ、これらの脱水縮合物、ポリグリセリン等もポリヒドロキシル化合物として挙げられる。
【００９９】
また、ポリヒドロキシル化合物として糖類も挙げられる。糖類としては、特に限定されないが、具体的には、エリスロース、スレオース、エリスルロース等のテトロース；リボース、アラビノース、キシロース、リクソース、キシルロース、リブロース等のペントース；アロース、アルトロース、グルコース、マンノース、ギューロース、イドース、ガラクトース、タロース、フラクトース、ソルボース、プシコース、タガトース等のヘキソース等の単糖類；マルトース、イソマルトース、セロビオース、ゲンチオビオース、メリビオース、ラクトース、ツラノース、トレハロース、サッカロース、マンニトリオース、セロトリオース、ゲンチアノース、ラフィノース、メレチトース、セロテトロース、スタキオース等のオリゴ糖類が挙げられる。
【０１００】
また、その他の糖類、例えばヘプトース、デオキシ糖、アミノ糖、チオ糖、セレノ糖、アルドン糖、ウロン酸、糖酸、ケトアルドン酸、アンヒドロ糖、不飽和糖、糖エステル、糖エーテル、グリコシド等の残基を用いることもでき、デンプン、グリコーゲン、セルロース、キチン、キトサン等の多糖類又はそれらを加水分解したものを用いることもできる。
【０１０１】
［Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤］
次にシリコーン誘導体とＮ−アシルアミノ酸型界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤とを含む毛髪処理剤について説明する。本実施形態の毛髪処理剤は、Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤をさらに含んでもよい。
【０１０２】
Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤としては、特に限定されないが、具体的には、アルカンスルホン酸塩、アルファ−オレフィンスルホン酸塩（ＡＯＳ）、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩（ＳＡＳ）、高級脂肪酸エステルのスルホン酸塩、アルファースルホン化脂肪酸塩、高級脂肪酸アミドのスルホン酸塩、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、硫酸化油脂、アルキル硫酸エステル塩（ＡＳ）、アルキルエーテル硫酸塩、高級脂肪酸エステルの硫酸塩、高級脂肪酸アルキロールアミドの硫酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩（ＡＥＳ）、ポリオキシアルキレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸塩、ナフタリンスルフォン酸塩ホルマリン縮合物、テトラデセンスルホン酸塩、ミリスチン酸塩、脂肪酸塩、金属石鹸等が挙げられる。ここで、これらのアニオン界面活性剤の塩の対イオンは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンから任意に選択される。
【０１０３】
毛髪処理剤中のＮ−アシルアミノ酸型界面活性剤以外のアニオン界面活性剤の配合量は使用感の観点から０．０１〜６０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤以外のアニオン界面活性剤は、１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。中でも、脂肪酸塩、金属石鹸、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩を配合することが好ましい。
【０１０４】
［ノニオン性界面活性剤］
次にシリコーン誘導体とノニオン性界面活性剤とを含む毛髪処理剤について説明する。本実施形態の毛髪処理剤は、ノニオン性界面活性剤をさらに含んでもよい。ノニオン性界面活性剤としては、特に限定されないが、具体的には、アルキルポリグルコシド、（ポリ）グリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル等の多価アルコールエステル；ポリオキシエチレンアルキルエーテル（ＡＥ）、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシアルキレンアルキルグルコシド、ポリオキシアルキレン硬化ひまし油、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール等の酸化エチレン縮合型化合物；脂肪酸アルカノールアミド、糖アミンアシル化物、トリエタノールアミン脂肪酸部分エステル、アルキルアミンオキサイド、脂肪酸ジエタノールアミド、ポリオキシエチレンジオレイン酸メチルグルコシド等のポリオキシエチレン脂肪酸エステルメチルグリコシド、ジステアリン酸ポリエチレングリコール等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル等が挙げられる。これらのノニオン性界面活性剤は、１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。毛髪処理剤中のノニオン界面活性剤の配合量は使用感の観点から０．０１〜６０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【０１０５】
［両性界面活性剤］
次にシリコーン誘導体と両性界面活性剤とを含む毛髪処理剤について説明する。本実施形態の毛髪処理剤は、両性界面活性剤をさらに含んでもよい。両性界面活性剤としては、特に限定されないが、具体的には、アルキルベタイン類、アルキルアミドベタイン類、アルキルスルホベタイン類、イミダゾリニウムベタイン類、レシチン類等が挙げられる。より具体的にはラウリン酸アミドプロピルベタインが例示される。
【０１０６】
これらの両性界面活性剤は、１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。毛髪処理剤中の両性界面活性剤の配合量は使用感の観点から０．０１〜６０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【０１０７】
特に、脂肪酸ジエタノールアミド、ポリオキシエチレンジオレイン酸メチルグルコシド、及びジステアリン酸ポリエチレングリコール等のノニオン性界面活性剤；テトラデセンスルホン酸塩、及びミリスチン酸塩類等のアニオン界面活性剤；ミリスチルジメチルアミン等のカチオン界面活性剤と、両性界面活性剤との併用は、毛髪処理剤の粘度、起泡力を増加させる点で有用であり、また刺激性を一層低減させるという点に於いてきわめて有用である。
【０１０８】
［カチオン性化合物］
次にシリコーン誘導体とカチオン性化合物とを含む毛髪処理剤について説明する。本実施形態の毛髪処理剤は、カチオン性化合物をさらに含んでもよい。カチオン性化合物としては、特に限定されないが、具体的には、第１〜第３級脂肪アミン塩、塩化アルキルアンモニウム塩、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、アルキルヒドロキシエチルイミダゾリニウム塩、ジアルキルモルフォリニウム塩、アルキルイソキノリウム塩、ベンゼトニウム塩、ベンザルコニウム塩、ミリスチルジメチルアミン等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。これらの対イオンとしては塩素、ヨウ素、臭素等のハロゲンイオン；メトサルフェート、エトサルフェート、メトフォスフェート、エトフォスフェート等の有機アニオンが挙げられる。また、カチオン性化合物としては、カチオン化セルロース誘導体、カチオン性澱粉、カチオン化グアーガム誘導体、ジアリル第４級アンモニウム塩／アクリルアミド共重合体、４級化ポリビニルピロリドン誘導体、４級化ビニルピロリドン／ビニルイミダゾールポリマー、ポリグリコール／アミン縮合物、４級化コラーゲンポリペプチド、ポリエチレンイミン、カチオン性シリコーンポリマー、アジピン酸／ジメチルアミノヒドロキシプロピルジエチレントリアミンコポリマー、ポリアミノポリアミド、カチオン性キチン誘導体、４級化ポリマー等のカチオン性ポリマーが挙げられる。これらのカチオン性化合物は、１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。毛髪処理剤中のカチオン性化合物の配合量は使用感の観点から０．０１〜６０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【０１０９】
［毛髪処理剤の製造方法］
本実施形態の毛髪処理剤は通常の攪拌機、混合機、分散機等を備えた装置を用いる方法によって製造することができる。
【０１１０】
［その他添加物］
本実施形態の毛髪処理剤は、用途、目的に応じて以下の各種の添加物を配合することができる。
【０１１１】
天然ゴム類としては、特に限定されないが、具体的には、アラビアゴム、トラガントゴム等が挙げられる。
【０１１２】
グルコシド類としては、特に限定されないが、具体的には、サポニン等が挙げられる。
【０１１３】
セルロース誘導体としては、特に限定されないが、具体的には、メチルセルロース、カルボキシセルロース、ヒドロキシメチルセルロース等が挙げられる。
【０１１４】
天然高分子としては、特に限定されないが、具体的には、リグニンスルホン酸塩、セラック等が挙げられる。
【０１１５】
陰イオン性高分子としては、特に限定されないが、具体的には、ポリアクリル酸塩、スチレン−アクリル酸共重合物の塩、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合物の塩、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩、リン酸塩等が挙げられる。
【０１１６】
分散剤としては、特に限定されないが、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール等のノニオン性高分子等が挙げられる。
【０１１７】
高分子界面活性剤としては、特に限定されないが、具体的には、アルギン酸ナトリウム、デンプン誘導体等が挙げられる。
【０１１８】
天然界面活性剤としては、特に限定されないが、具体的には、レシチン、ラノリン、コレステロール、サポニン等が挙げられる。
【０１１９】
油脂としては、特に限定されないが、具体的には、アボガド油、アーモンド油、オリーブ油、カカオ油、ゴマ油、サフラワー油、大豆油、椿油、パーシック油、ひまし油、ミンク油、綿実油、モクロウ、ヤシ油、卵黄油、パーム油、パーム核油、合成トリグリセライド、ホホバ油等が挙げられる。
【０１２０】
炭化水素としては、特に限定されないが、具体的には、流動パラフィン、ワセリン、セレシン、マイクロクリスタリンワックス、イソパラフィン等が挙げられる。
【０１２１】
ロウとしては、特に限定されないが、具体的には、ミツロウ、鯨ロウ、ラノリン、カルナバロウ、キャンデリラロウ及びその誘導体等が挙げられる。
【０１２２】
高級脂肪酸としては、特に限定されないが、具体的には、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、ベヘニン酸、ウンデシレン酸、ラノリン脂肪酸、硬質ラノリン脂肪酸、軟質ラノリン脂肪酸等が挙げられる。
【０１２３】
低級アルコールとしては、特に限定されないが、具体的には、エタノール、イソプロパノール、ブチルアルコール、ベンジルアルコール等が挙げられる。
【０１２４】
高級アルコールとしては、特に限定されないが、具体的には、ラウリルアルコール、セタノール、セトステアリルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ベヘニルアルコール、ラノリンアルコール、水添ラノリンアルコール、へキシルデカノール、オクチルドデカノール等が挙げられる。
【０１２５】
ステロール類としては、特に限定されないが、具体的には、コレステロール、フィトステロール等が挙げられる。
【０１２６】
その他のエステル油としては、特に限定されないが、具体的には、ミリスチン酸イソプロピル、ステアリン酸ブチル等が挙げられる。
【０１２７】
揮発性及び不揮発性の油分としては、特に限定されないが、具体的には、金属石鹸等が挙げられる。
【０１２８】
保湿剤としては、特に限定されないが、具体的には、トリメチルグリシン、ソルビトール、ラフィノース、ピロリドンカルボン酸塩類、乳酸塩類、ヒアルロン酸塩類、セラミド類等が挙げられる。
【０１２９】
水溶性及び油溶性高分子としては、特に限定されないが、具体的には、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリドエーテル、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、メチルデンプン、アルギン酸プロピレングリコールエステル、ポリビニルメチルエーテル、カルボキシビニルポリマー、グアーガム、ローカストビンガム、クインスシード、カラギーナン、ガラクタン、ペクチン、マンナン、デンプン、キサンタンガム、デキストラン、サクシノグルカン、カードラン、ヒアルロン酸、ゼラチン、カゼイン、アルブミン、コラーゲン、メトキシエチレン無水マレイン酸共重合体、両性メタクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ジメチルメチレンピペリジニウム、ポリアクリル酸エステル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、シリコーンレジン等が挙げられる。
【０１３０】
金属イオン封鎖剤としては、特に限定されないが、具体的には、エチレンジアミン四酢酸及びその塩類、ヒドロキシエチレンジアミン３酢酸及びその塩類、リン酸、アスコルビン酸、コハク酸、グルコン酸、ポリリン酸塩類、メタリン酸塩、ヒノキチール類等が挙げられる。
【０１３１】
防腐剤としては、特に限定されないが、具体的には、パラオキシ安息香酸エステル類、安息香酸及びその塩類、フェノキシエタノール、ヒノキチール等が挙げられる。
【０１３２】
ｐＨ調整剤としては、特に限定されないが、具体的には、クエン酸、リンゴ酸、アジピン酸、グルタミン酸、アスパラギン酸等が挙げられる。
【０１３３】
ふけ、かゆみ防止剤としては、特に限定されないが、具体的には、その他トリクロロルカルバニリド、サリチル酸、ジンクピリチオン、イソプロピルメチルフェノール等が挙げられる。
【０１３４】
紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、具体的には、ベンゾフェノン誘導体、パラアミノ安息香酸誘導体、パラメトキシ桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体等が挙げられる。
【０１３５】
美白剤としては、特に限定されないが、具体的には、アルブチン、コウジ酸、アスコルビン酸、ヒノキチール及びその誘導体等が挙げられる。
【０１３６】
血行促進剤としては、特に限定されないが、具体的には、センブリエキス、セファランチン、ビタミンＥ及びその誘導体、ガンマーオリザノール等が挙げられる。
【０１３７】
局所刺激剤としては、特に限定されないが、具体的には、トウガラシチンキ、ショオウキョウチンキ、カンタリスチンキ、ニコチン酸ベンジルエステル等が挙げられる。
【０１３８】
栄養剤としては、特に限定されないが、具体的には、各種ビタミンやアミノ酸等が挙げられる。
【０１３９】
女性ホルモン剤としては、特に限定されないが、具体的には、エストラジオール、エチニルエストラジオール等が挙げられる。
【０１４０】
毛根賦活剤としては、特に限定されないが、具体的には、パントテン酸および誘導体、月桂樹の抽出成分、プラセンタエキス、アラントイン、感光素３０１が挙げられる。
【０１４１】
抗炎症剤としては、特に限定されないが、具体的には、グリチルレチン酸、グリチルリチン酸誘導体、アラントイン、アズレン、アミノカプロン酸、ヒドロコルチゾン等が挙げられる。
【０１４２】
収斂剤としては、特に限定されないが、具体的には、酸化亜鉛、硫酸亜鉛、アラントインヒドロキシアルミニウム、塩化アルミニウム、スルホ石炭酸亜鉛、タンニン酸等が挙げられる。
【０１４３】
清涼剤としては、特に限定されないが、具体的には、メントール、カンフル等が挙げられる。
【０１４４】
抗ヒスタミン剤としては、特に限定されないが、具体的には、塩酸ジフェンヒドラミン、フマル酸クレマスチン、d−マレイン酸クロルフェニラミン、塩酸シプロヘプタジン、塩酸プロメタジンが挙げられる。
【０１４５】
酸化防止剤としては、特に限定されないが、具体的には、高分子シリコーン、環状シリコーン等のシリコーン系物質、トコフェロール類、ブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、没食子酸、ノルジヒドログアヤレチック酸（ＮＤＧＡ）等が挙げられる。
【０１４６】
皮脂抑制剤としては、特に限定されないが、具体的には、エストラジオール、エストロン、エチニルエストラジオール等が挙げられる。
【０１４７】
角質剥離、溶解剤としては、特に限定されないが、具体的には、イオウ、サリチル酸、レゾルシン等が挙げられる。
【０１４８】
また、有機合成色素（染料、レーキ、有機顔料）、天然色素、無機顔料（体質顔料、着色顔料、白色顔料）、真珠光沢顔料、高分子紛体、及び機能性顔料は、球状、板状、針状等の形状；煙霧状、微粒子、顔料級等の粒子径；多孔質、無孔質等の粒子構造等に限定せずに添加することができる。
【０１４９】
例えば、タルク、カオリン、セリサイト、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化クロム、水酸化クロム、タール系色素等、マイカ、（合成）セリサイト、炭化ケイ素、窒化硼素、二酸化チタン、黒酸化チタン、コンジョウ、赤酸化鉄、黒酸化鉄、黄酸化鉄、群青、チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマス、ベンガラ、粘結顔料、グンジョウピンク、グンジョウバイオレット、水酸化クロム、雲母チタン、酸化クロム、酸化アルミニウムコバルト、カーボンブラック、無水ケイ酸、ケイ酸マグネシウム、ベントナイト、（合成）マイカ、酸化ジルコニウム、（メタ）ケイ酸アルミン酸マグネシウム、ケイ酸アルミン酸カルシウム、ポリエチレン粉末、ナイロン粉末、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート−ポリメチルメタクリレート積層粉末、アクリロニトリル−メタクリル酸共重合粉末、塩化ビニリデン−メタクリル酸共重合粉末、ウールパウダー、シルクパウダー、結晶セルロース、Ｎ−アシルリジン、ポリメチルシルセスキオキサン紛末、植物の実や皮を粉末状にしたもの、オキシ塩化ビスマス、雲母チタン、酸化鉄コーティング雲母、酸化鉄雲母チタン、有機顔料処理雲母チタン、アルミニウムパウダー、微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛、微粒子酸化チタン被覆雲母チタン、微粒子酸化亜鉛被覆雲母チタン、硫酸バリウム被覆雲母チタンが挙げられる。
【０１５０】
色素としては、特に限定されないが、具体的には、カルミン色素、β−カロチン、クロロフィル、サンセットエローＦＣＦ、ポンソーＳＸ、エオシンＹＳ、テトラブロモフルオレセイン、ローダミンＢ、キノリンエローＳＳ、キノリンエローＷＳ、アリザニンシアニングリーン、キニザリングリーン、リソールビンＢ、リソールビンＢＣＡ、パーマトンレッド、ヘリンドンピンクＣＮ、フタロシアニンブルー、β−アポ−８−カロチナール、カプサンチン、リロピン、ビキシン、クロシン、カンタキサンチン、シソニン、ラファニン、ニノシアニン、カルサミン、サフロールイエロー、ルチン、クエルセチン、カカオ色素、リポフラビン、ラッカイン酸、カルミン酸、ケルメス酸、アリザニン、シコニン、アルカニン、ニキノクローム、血色素、クルクミン、ベタニン、等の化粧品用色材が挙げられる。
【０１５１】
そのほかにも精製水、カキョクエキス、Ｎ−メチル−Ｌ−セリン、ホエイ、ニコチン酸アミド、ジイソプロピルアミンジクロロ酢酸、メバロン酸、γ−アミノ酪酸（γ−アミノ−β−ヒドロキシ酪酸を含む）、アルテアエキス、アロエエキス、アンズ核エキス、ウコンエキス、ウーロン茶エキス、海水乾燥物、加水分解コムギ粉末、加水分解シルク、カロットエキス、キューカンバエキス、ゲンチアナエキス、酵母エキス、米胚芽油、コンフリーエキス、サボンソウエキス、ジオウエキス、シコンエキス、シラカバエキス、セイヨウハッカエキス、センブリエキス、ビサボロ−ル、プロポリス、ヘチマエキス、ボダイジュエキス、ホップエキス、マロニエエキス、ムクロジエキス、メリッサエキス、ユーカリエキス、ユキノシタエキス、ローズマリーエキス、ローマカミツレエキス、ローヤルゼリーエキス、海草、米ヌカ、カンゾウ、チンピ、トウキ、モモノハの粉砕物、スフィンゴ脂質、グアイアズレン、ビタミンＣ等を含むことができる。
【０１５２】
また、本実施形態の毛髪処理剤は塩基性物質による中和率を調整することにより、広範囲のｐＨ域で使用することができる。ｐＨの値は好ましくはｐＨ３〜１２であり、より好ましくはｐＨ４．５〜１１であり、さらに好ましくはｐＨ５〜８である。
【実施例】
【０１５３】
以下、実施例等を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例等により何ら限定させるものではない。
【０１５４】
本発明の実施例等で用いる評価手段等は以下の通りである。
［毛髪評価試験］
健常毛束はすべて同一人物黒毛、長さ１５ｃｍ、重量２ｇを使用した。
（毛髪付着試験１）
健常毛束を精製水で十分に洗浄後、乾燥し、試験毛髪とした。
それぞれの試験毛髪をサンプル溶液に５分浸漬し、自然乾燥の後、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した。
観察用試料；処理後の毛髪を適当な長さに切り出し、試料台に固定した。５ｎｍ程度の
Ｏｓコーティングを施し、ＳＥＭ観察用試料とした。
ＳＥＭ；装置    ：ＨＩＴＡＣＨＩ  Ｓ−４７００
加速電圧：１ｋＶ
Ｗ．Ｄ．：１０ｍｍ
ＭＯＤＥ：ＵｌｔｒａＨｉｇｈＲｅｓｏｌｕｔｉｏｎ
検出器  ：Ｕｐｐｅｒ
【０１５５】
（毛髪付着試験２）
健常毛束をラウレス硫酸Ｎａ１％水溶液で洗浄し、完全にラウレス硫酸Ｎａをすすいだ後、乾燥器７０℃１時間で乾燥した。毛束の初期重量を測定した後、サンプル溶液に５分浸漬し、サンプル溶液の液を切り、乾燥器７０℃１時間乾燥し、重量測定、毛束１００ｇ当たりの付着量を算出した。その後、３８℃の温水で５秒すすいだ後、液を切り、乾燥器７０℃１時間乾燥し、重量測定し、毛束１００ｇ当たりの付着量を算出した。
【０１５６】
（毛髪補修試験１）
健常毛束を過酸化水素に３０分浸漬し、十分に洗浄後、乾燥し、試験用ダメージ毛髪１とした。それぞれの試験用ダメージ毛髪１をサンプル溶液に５分浸漬し、自然乾燥の後、ＳＥＭで観察した。
観察用試料作製条件、ＳＥＭの測定条件は毛髪付着試験１と同条件とした。
【０１５７】
（毛髪補修試験２）
健常毛束をアセトンに３０分浸漬し、十分に洗浄後、乾燥し、試験用ダメージ毛髪２とした。それぞれの試験用ダメージ毛髪２をサンプル溶液に５分浸漬し、自然乾燥の後、ＳＥＭで観察した。
観察用試料作製条件、ＳＥＭの測定条件は毛髪付着試験１と同条件とした。
【０１５８】
（官能評価１）
健常毛束をラウレス硫酸Ｎａ１％水溶液で洗浄し、完全にラウレス硫酸Ｎａをすすいだ後、乾燥器７０℃１時間乾燥した。サンプル溶液に５分浸漬し、サンプル溶液の液を切り、乾燥器７０℃１時間乾燥し、エモリエント感、セット力、手ぐしでのまとまりやすさに関してパネラー１０名で官能評価を行なった。
【０１５９】
［シリコーン誘導体］
（製造例１）
以下に、式（１）中、Ｒ、Ｘ２がメチル基であり、Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方が式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基で表される基であるシリコーン誘導体の製造例を示す。
【０１６０】
両末端アミノ変性シリコーン（信越シリコーン；ＫＦ−８０１０）６５．０ｇをアセトン２９３．４ｇ中で混合した。この混合溶液に、室温下で攪拌しながらＮ−パルミトイル−Ｌ−グルタミン酸無水物６０．７ｇを３０分かけて添加し、５０℃下で３時間反応を実施した。さらに常温にて２４時間攪拌を継続した後、得られた反応溶液から溶媒を除去し、シリコーン誘導体１２４．０ｇを得た。反応の進行はＧＰＣ（カラム（東ソー；Ｇ１０００ＨＨＲ＋Ｇ２０００ＨＸＬ、溶媒；ＴＨＦ）、示差屈折率検出器（島津製作所；ＲＩＤ−１０Ａ））測定による反応生成物のピーク出現と相対面積比増加、Ｎ−パルミトイル−Ｌ−グルタミン酸無水物のピークの相対面積比減少、及びＮＭＲ（ＡＶＡＮＣＥ６００ＭＨｚ（ＢＲＵＫＥＲ  ＢＩＯＳＰＩＮ））により確認した。得られたシリコーン誘導体を水酸化ナトリウムで完全中和し乾燥後、シリコーン誘導体のナトリウム塩（シリコーン誘導体（Ｉ））を得た。
【０１６１】
（製造例２）
以下に、式（１）中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ３がメチル基であり、複数あるＸ２の少なくとも一つが式（４）で表される基であるシリコーン誘導体の製造例を示す。
側鎖型アミノ変性シリコーン（信越シリコーン；ＫＦ−８６８）８８．０ｇをアセトン２１３．３ｇ中で混合した。この混合溶液に、室温下で攪拌しながらＮ−ミリストイル−Ｌ−グルタミン酸無水物３．４ｇを３０分かけて添加し、５０℃下で５時間反応を実施した。さらに常温にて２４時間攪拌を継続した後、得られた反応溶液から溶媒を除去し、シリコーン誘導体９０．５ｇを得た。反応生成物はＧＰＣ、ＮＭＲにより確認した。得られたシリコーン誘導体を水酸化ナトリウムで完全中和し乾燥後、シリコーン誘導体のナトリウム塩（シリコーン誘導体（ＩＩ））を得た。
【０１６２】
（製造例３）
以下に、式（１）中、Ｒがメチル基であり、Ｘ１及びＸ３の一方は、式（４）で表される基であり、もう一方が式（４）で表される基又は窒素原子を有する炭化水素基で表される基であり、複数あるＸ２の少なくとも一つが式（４）で表される基であるシリコーン誘導体の製造例を示す。
【０１６３】
側鎖両末端型アミノ変性シリコーン（信越シリコーン；ＫＦ−８６２）６５．０ｇをアセトン２３７．４ｇ中で混合した。この混合溶液に、室温下で攪拌しながらＮ−パルミトイル−Ｌ−グルタミン酸無水物３６．７ｇを４５分かけて添加し、５０℃下で５時間反応を実施した。さらに常温にて２４時間攪拌を継続した後、得られた反応溶液から溶媒を除去し、シリコーン誘導体９９．７ｇを得た。反応生成物はＧＰＣ、ＮＭＲにより確認した。得られたシリコーン誘導体を水酸化ナトリウムで完全中和し乾燥後、シリコーン誘導体のナトリウム塩（シリコーン誘導体（ＩＩＩ））を得た。
【０１６４】
（製造例４）
以下に、式（３）で表されるシリコーン誘導体の製造例を示す。
片端型アミノ変性シリコーン（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ；ＴＳＦ４７０１）５０．０ｇをアセトン１３５．１ｇ中で混合した。この混合溶液に、室温下で攪拌しながらＮ−ステアロイル−Ｌ−グルタミン酸無水物７．９ｇを４５分かけて添加し、５０℃下で５時間反応を実施した。さらに常温にて２４時間攪拌を継続した後、得られた反応溶液から溶媒を除去し、シリコーン誘導体５７．３ｇを得た。反応生成物はＧＰＣ、ＮＭＲにより確認した。得られたシリコーン誘導体を水酸化ナトリウムで完全中和し乾燥後、シリコーン誘導体のナトリウム塩（シリコーン誘導体（ＩＶ））を得た。
【０１６５】
（製造例５）
以下に、式（１）中、Ｒ、Ｘ１、Ｘ３がメチル基であり、複数あるＸ２の少なくとも一つが、式（６）で表される基を含む式（４）で表される基であるシリコーン誘導体の製造例を示す。
【０１６６】
側鎖型アミノ変性シリコーン（信越シリコーン；ＫＦ−３９３）５０．０ｇをアセトン２２０．５ｇ中で混合した。この混合溶液に、室温下で攪拌しながらＮ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸無水物４４．５ｇを３０分かけて添加し、５時間反応を実施した。さらに常温にて２４時間攪拌を継続した後、得られた反応溶液から溶媒を除去し、シリコーン誘導体９３．５ｇを得た。反応生成物はＧＰＣ、ＮＭＲにより確認した。得られたシリコーン誘導体を水酸化ナトリウムで完全中和し乾燥後、シリコーン誘導体のナトリウム塩（シリコーン誘導体（Ｖ））を得た。
【０１６７】
（製造例６）
以下に、式（２）中、複数あるＸ２の少なくとも一つが式（６）で表されるシリコーン誘導体の製造例を示す。
【０１６８】
側鎖型アミノ変性シリコーン（東レ・ダウシリコーン；ＦＺ−３７８９）１２０．０ｇをアセトン３６５．７ｇ中で混合した。この混合溶液を攪拌しながら常温下でＮ−パルミトイル−Ｌ−グルタミン酸無水物３６．７ｇを３０分かけて添加し、５０℃下で３時間反応を実施した。さらに常温にて２４時間攪拌を継続した後、反応溶媒から溶媒を除去し、シリコーン誘導体１５５．２ｇを得た。反応生成物はＧＰＣ、ＮＭＲにより確認した。得られたシリコーン誘導体を水酸化カリウムで完全中和し乾燥後、シリコーン誘導体のカリウム塩（シリコーン誘導体（ＶＩ））を得た。
【０１６９】
［実施例１〜６、比較例１］
表１に示す各成分を、表１に示す配合量で使用し、実施例１〜６、比較例１の毛髪処理剤を作製した。各毛髪処理剤について評価した結果を表１に示す。
【０１７０】
毛髪付着試験１に対する評価基準は次のとおりである。
ＳＥＭ観察でサンプル溶液の表面への付着が観察される  ：○
ＳＥＭ観察でサンプル溶液の表面への付着が観察されない：×
【０１７１】
毛髪補修試験１、毛髪補修試験２に対する評価基準は次のとおりである。
ＳＥＭ観察でキューティクルの開口の改善が観察される  ：○
ＳＥＭ観察でキューティクルの開口の改善が観察されない：×
【０１７２】
【表１】
2014073970.tif 000025
表中の数字は質量％を示す。総量が１００質量％となるようにした。
【０１７３】
［実施例７、比較例２］
表２に示す各成分を、表２に示す配合量で使用し、実施例７、比較例２の毛髪処理剤を作製した。各毛髪処理剤について評価した結果を表２に示す。
【０１７４】
毛髪付着試験２に対する評価基準は次のとおりである。
サンプル液浸漬後、すすぎ乾燥後の付着量が０．２５ｇ以上：○
サンプル液浸漬後、すすぎ乾燥後の付着量が０．２５ｇ未満：×
【０１７５】
官能評価１のエモリエント感、セット力、及び手ぐしでのまとまりやすさに対する評価基準は次のとおりである。
毛髪処理剤の代わりに精製水で処理した毛束についての評価結果を基準３として、１〜５の５段階評価を行った。なお、５が最も良好である。
パネラーの平均評価が４以上：○
パネラーの平均評価が４未満：×
【０１７６】
【表２】
2014073970.tif 000026
表中の数字は質量％を示す。総量が１００質量％となるようにした。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド：カチオン性化合物
【０１７７】
［実施例８、比較例３］
表３に示す各成分を、表３に示す配合量で使用し、実施例８、比較例３の毛髪処理剤（シャンプー）を作製した。健常毛束をこの毛髪処理剤で洗浄し、水道水ですすぎ、タオルドライ後の毛髪のこしをパネラー１０名で評価した。その結果を表３に示す。
評価基準は次のとおりである。
実施例８は比較例３と比べ優れていると答えた人数が７人以上の場合  ：  ○
実施例８は比較例３と比べ優れていると答えた人数が７人未満の場合  ：  ×
【０１７８】
【表３】
2014073970.tif 000027
表中の数字は質量％を示す。総量が１００質量％となるようにした。
ラウレス硫酸Ｎａ：アニオン性界面活性剤
ポリクオタニウム−１０：カチオン性化合物：東邦化学工業株式会社製、製品名；カチナール ＬＣ−２００
【０１７９】
［実施例９、比較例４］
表４に示す各成分を、表４に示す配合量で使用し、毛髪処理剤（ヘアローション）を作製した。健常毛束にこの毛髪処理剤を使用し、使用後の毛髪のこし及び毛髪のまとまりやすさをパネラー１０名で評価した。その結果を表４に示す。
「毛髪のこし」、「毛髪のまとまりやすさ」に対する評価基準は次のとおりである。
実施例９は比較例４に比べ優れていると答えた人数が７人以上の場合  ：  ○
実施例９は比較例４に比べ優れていると答えた人数が４〜６人の場合  ：  △
実施例９は比較例４に比べ優れていると答えた人数が３人以下の場合  ：  ×
【０１８０】
【表４】
2014073970.tif 000028
表中の数字は質量％を示す。総量が１００質量％となるようにした。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド：カチオン性化合物
１，３−ブチレングリコール：ポリヒドロキシル化合物
グリセリン：ポリヒドロキシル化合物
メチルフェニルポリシロキサン：シリコーン：信越化学工業株式会社製、製品名；ＫＦ−５０−１，０００ｃｓ
【０１８１】
［実施例１０〜１１、比較例５］
表５に示す各成分を、表５に示す組成で配合した原液と、液化石油ガスとを、原液／液化石油ガス＝９０／１０（質量比）の割合で混合して、毛髪処理剤（ヘアフォーム）を作製した。健常毛束にこの毛髪処理剤を使用し、使用後の毛髪のこし及び毛髪のまとまりやすさをパネラー１０名で評価した結果を表５に示す。
「毛髪のこし」、「毛髪のまとまりやすさ」に対する評価基準は次のとおりである。
実施例１０〜１１は比較例５に比べ優れていると答えた人数が７人以上の場合  ：  ○
実施例１０〜１１は比較例５に比べ優れていると答えた人数が４〜６人の場合  ：  △
実施例１０〜１１は比較例５に比べ優れていると答えた人数が３人以下の場合  ：  ×
【０１８２】
【表５】
2014073970.tif 000029
表中の数字は質量％を示す。総量が１００質量％となるようにした。
Ｎ−ラウロイルグルタミン酸カリウム：Ｎ−アシルアミノ酸型界面活性剤
グリセリン：ポリヒドロキシル化合物
【０１８３】
［実施例１２、比較例６］
表６に示す各成分を、表６に示す配合量で使用し、毛髪処理剤（ヘアクリーム）を作製した。健常毛束にこの毛髪処理剤を使用し、使用後の毛髪のこし及び毛髪のまとまりやすさをパネラー１０名で評価した結果を表６に示す。
「毛髪のこし」、「毛髪のまとまりやすさ」に対する評価基準は次のとおりである。
実施例１２は比較例６に比べ優れていると答えた人数が７人以上の場合  ：  ○
実施例１２は比較例６に比べ優れていると答えた人数が４〜６人の場合  ：  △
実施例１２は比較例６に比べ優れていると答えた人数が３人以下の場合  ：  ×
【０１８４】
【表６】
2014073970.tif 000030
表中の数字は質量％を示す。総量が１００質量％となるようにした。
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油：ノニオン性界面活性剤：日光ケミカルズ株式会社製、製品名；ＮＩＫＫＯＬ  ＨＣＯ−２０
流動パラフィン：カネダ株式会社製、製品名；ハイコールＫ−１６０
ワセリン：日清オイリオグループ株式会社製、製品名；ノムコート W
サラシ蜜蝋：横関油脂工業株式会社製、製品名；精製ミツロウＣＹ−１００
カルボキシビニルポリマー：カチオン性化合物：Ｌｕｂｒｉｚｏｌ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社製、製品名；カーボポール９８１
【０１８５】
［実施例１３、比較例７］
表７に示す各成分を、表７に示す配合量で使用し、毛髪処理剤（ヘアスタイリングジェル）を作製した。健常毛束にこの毛髪処理剤を使用し、使用後の毛髪のこしをパネラー１０名で評価した結果を表７に示す。
「毛髪のこし」、「毛髪のまとまりやすさ」に対する評価基準は次のとおりである。
実施例１３は比較例７に比べ優れていると答えた人数が７人以上の場合  ：  ○
実施例１３は比較例７に比べ優れていると答えた人数が４〜６人の場合  ：  △
実施例１３は比較例７に比べ優れていると答えた人数が３人以下の場合  ：  ×
【０１８６】
【表７】
2014073970.tif 000031
表中の数字は質量％を示す。総量が１００質量％となるようにした。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド：カチオン性化合物
カルボキシビニルポリマー：カチオン性化合物：Ｌｕｂｒｉｚｏｌ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社製、製品名；カーボポール９８１
ポリビニルピロリドン：ＢＡＳＦジャパン株式会社製、製品名；ルビスコールＫ１７
グリセリン：ポリヒドロキシル化合物
水酸化ナトリウムはｐＨが７になるよう投入した。
【産業上の利用可能性】
【０１８７】
本発明は、ダメージのある毛髪の状態を改善し、毛髪に十分なこしを与え、まとまりを良くし、つややかな仕上がり状態を与える毛髪処理剤として好適に利用することができる。