(57)【要約】  【課題】  検出信号の伝達速度を向上させるとともに、入力位置の検出感度を向上させることができる入力装置および該入力装置を備える表示装置を提供することである。  【解決手段】  入力装置３においては、Ｘ検出電極パターン31は、Ｙ方向に沿って配列された、透光性材料からなる複数のＸ検出電極311、ならびにＹ方向に沿ってＸ検出電極311を介して交互に配列されて隣り合うＸ検出電極311同士を接続した、透光性材料からなる第１のＸ接続電極312および金属材料からなる第２のＸ接続電極313を有し、Ｙ検出電極パターン32は、Ｘ方向に沿って配列された、透光性材料からなる複数のＹ検出電極321、ならびにＸ方向に沿ってＹ検出電極321を介して交互に配列されて隣り合うＹ検出電極321同士を接続した、透光性材料からなる第１のＹ接続電極322および金属材料からなる第２のＹ接続電極323を有することを特徴とする。【選択図】  図４
2014123273.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面を有する基板と、該基板の前記主面上にＸ方向に沿って配列された複数のＸ検出電極パターンと、複数の該Ｘ検出電極パターンと絶縁膜を介して交差して、前記基板の前記主面上に前記Ｘ方向に直交するＹ方向に沿って配列された複数のＹ検出電極パターンとを備え、
前記Ｘ検出電極パターンは、前記Ｙ方向に沿って配列された、透光性材料からなる複数のＸ検出電極、ならびに前記Ｙ方向に沿って前記Ｘ検出電極を介して交互に配列されて隣り合う該Ｘ検出電極同士を接続した、透光性材料からなる第１のＸ接続電極および金属材料からなる第２のＸ接続電極を有し、
前記Ｙ検出電極パターンは、前記Ｘ方向に沿って配列された、透光性材料からなる複数のＹ検出電極、ならびに前記Ｘ方向に沿って前記Ｙ検出電極を介して交互に配列されて隣り合う該Ｙ検出電極同士を接続した、透光性材料からなる第１のＹ接続電極および金属材料からなる第２のＹ接続電極を有することを特徴とする入力装置。
【請求項２】
前記第２のＸ接続電極は、前記絶縁膜上に位置して前記第１のＹ接続電極と交差しており、
前記第２のＹ接続電極は、前記絶縁膜上に位置して前記第１のＸ接続電極と交差している請求項１に記載の入力装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の入力装置と、
前記基板の前記主面とは反対側に位置する反対主面に主面を対向させて配置された対向基板と、前記基板および前記対向基板の間に配置された、前記基板の前記主面に像情報を表示するための表示手段とを備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、デジタルカメラ、携帯ゲーム機または携帯情報端末などの様々な用途に用いられる入力装置および該入力装置を備える表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
入力装置では、基板の主面上にＸ方向に沿って配列された複数のＸ検出電極パターンと、基板の主面上にＹ方向に沿って配列されるとともに、複数のＸ検出電極パターンと絶縁膜を介して交差する複数のＹ検出電極パターンとを備える（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
Ｘ検出電極パターンは、複数のＸ検出電極および隣り合うＸ検出電極を接続するＸ接続電極を有する。また、Ｙ検出電極パターンは、複数のＹ検出電極および隣り合うＹ検出電極を接続するＹ接続電極を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−３１０５５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような入力装置では、Ｘ検出電極、Ｘ接続電極、Ｙ検出電極およびＹ接続電極が、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透光性導電材料によって形成されている。ここで、一般的に、透光性材料は抵抗率が大きい傾向にあることに加え、Ｘ接続電極およびＹ接続電極の面積はＸ検出電極およびＹ検出電極の面積に比べて小さいため、Ｘ接続電極およびＹ接続電極での抵抗値が大きくなってしまい、Ｘ検出電極パターンおよびＹ検出電極パターンの検出信号の伝達速度が低下する可能性があるという問題点があった。
【０００６】
従来、この問題点に対し、Ｘ接続電極およびＹ接続電極の一方のみを金属材料で形成することで、検出信号の伝達速度の向上を図っていた。
【０００７】
しかしながら、このような入力装置では、一方の検出電極パターンでの検出信号の伝達速度は向上するが、他方の検出電極パターンでの検出信号の伝達速度は変わらない。そのため、他方の検出電極パターンの検出信号は外部または表示パネルからの電磁波ノイズの影響を受けやすく、入力位置の検出感度が低下する可能性がある。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、検出信号の伝達速度を向上させるとともに、入力位置の検出感度を向上させることができる入力装置および表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る入力装置は、主面を有する基板と、該基板の前記主面上にＸ方向に沿って配列された複数のＸ検出電極パターンと、複数の該Ｘ検出電極パターンと絶縁膜を介して交差して、前記基板の前記主面上に前記Ｘ方向に直交するＹ方向に沿って配列された複数のＹ検出電極パターンとを備え、前記Ｘ検出電極パターンは、前記Ｙ方向に沿って配列された、透光性材料からなる複数のＸ検出電極、ならびに前記Ｙ方向に沿って前記Ｘ検出電極を介して交互に配列されて隣り合う該Ｘ検出電極同士を接続した、透光性材料からなる第１のＸ接続電極および金属材料からなる第２のＸ接続電極を有し、前記Ｙ検出電極パターンは、前記Ｘ方向に沿って配列された、透光性材料からなる複数のＹ検出電極、ならび
に前記Ｘ方向に沿って前記Ｙ検出電極を介して交互に配列されて隣り合う該Ｙ検出電極同士を接続した、透光性材料からなる第１のＹ接続電極および金属材料からなる第２のＹ接続電極を有することを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る表示装置は、上記入力装置と、前記基板の前記主面とは反対側に位置する反対主面に主面を対向させて配置された対向基板と、前記基板および前記対向基板の間に配置された、前記基板の前記主面に像情報を表示するための表示手段とを備える。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る入力装置および該入力装置を備える表示装置によれば、検出信号の伝達速度を向上させるとともに、入力位置の検出感度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態における表示装置を表す平面図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。
【図３】第１基板の第１主面上に配置された検出電極パターン、検出用配線および第１回路基板を表す平面図である。
【図４】図１の入力装置のＸ検出電極パターン、Ｙ検出電極パターンおよび検出用配線を表す平面図である
【図５】図４のII−II線に沿った入力装置の断面図である。
【図６】第２基板の第１主面上に設けられた電極、配線、薄膜トランジスタなど表した平面図である。
【図７】図６のII−II線に沿った表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の実施形態における表示装置１について、図１〜図７を参照しながら説明する。
【００１４】
表示装置１は、表示パネル２と、入力装置３と、表示パネル２に向けて光を出射する光源装置４と、表示パネル２上に配置される第１偏光板５と、表示パネル２と光源装置４との間に配置される第２偏光板６と、入力装置３に接続された第１回路基板７と、表示パネル２に接続された第２回路基板８と、表示パネル２に接続されたドライバＩＣ９とを備えている。
【００１５】
本実施形態における表示パネル２は、表示領域ＥＤに像情報を表示するための表示手段として、信号電極と共通電極との間で電界を発生させて液晶層中の液晶分子の方向を制御することで、画素Ｐ毎に光源装置４からの光の透過率を調整して表示領域ＥＤに像を表示させる液晶表示手段を採用している。
【００１６】
また、本実施形態における液晶表示手段は、一対の基板のうち一方の基板に設けられた信号電極と共通電極との間で電界を発生させて液晶層中の液晶分子の方向を制御する、いわゆる横電界方式を採用している。なお、本実施形態における表示パネル２の液晶表示手段は横電界方式を採用しているが、これに限定されるものではなく、例えば縦電界方式を採用してもよい。
【００１７】
また、本発明の表示パネル２の表示手段は、液晶表示手段に限定されるものではなく、プラズマ、エレクトロルミネセンスまたは発光ダイオードなどを用いた表示手段であってもよい。
【００１８】
表示パネル２では、第１基板21と第２基板22とが対向配置され、第１基板21と第２基板22との間に液晶層23が設けられているとともに、この液晶層23を取り囲むように第１基板
21と第２基板22とを接合するシール材24が設けられている。
【００１９】
第１基板21は、複数の画素Ｐからなる表示領域ＥＤおよび表示領域ＥＤに重なる入力領域ＥＩを有する第１主面21ａと、第１主面21ａとは反対側に位置する第２主面21ｂとを有している。第１基板21の材料は、透光性を有するものが挙げられ、例えばガラス、プラスチックなどである。なお、第１基板21は、入力装置３の基板および表示パネル２の基板として兼用されている。
【００２０】
入力装置３では、第１基板21と、第１基板21の第１主面21ａ上に設けられた複数のＸ検出電極パターン31および複数のＹ検出電極パターン32と、第１基板21の第１主面21ａ上に設けられた複数の検出用配線33と、Ｘ検出電極パターン31とＹ検出電極パターン32とを絶縁する第１絶縁膜34と、第１絶縁膜34上に設けられた第２絶縁膜35とを備える。
【００２１】
複数のＸ検出電極パターン31は、入力領域ＥＩに重なる第１基板21の第１主面21ａ上に設けられている。複数のＸ検出電極パターン31はＸ方向に沿って配列されている。また、Ｘ検出電極パターン31は、複数のＸ検出電極311、第１のＸ接続電極312および第２のＸ接続電極313を有している。
【００２２】
Ｘ検出電極311は、入力領域ＥＩに近接した指などの入力手段との間での容量の変化を
検出する機能を有する。複数のＸ検出電極311は第１絶縁膜34に設けられているとともに
、Ｙ方向に沿って配列している。また、Ｘ検出電極311の形状は特に限定されない。Ｘ検
出電極31は、導電性を有する透光性材料で形成され、例えばＩＴＯ、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、ＡＴＯ（Antimony Tin Oxide）、ＡＺＯ（Al-Doped Zinc Oxide）、酸化錫、酸化亜鉛または導電性高分子によって形成される。
【００２３】
なお、Ｘ検出電極311は例えば下記方法によって形成される。
【００２４】
まず、スパッタリング法、蒸着法または化学気相成長法によって、第１基板21の第１主面21ａ上に導電膜を形成する。この導電膜の表面に対して感光性樹脂を塗布し、塗布した感光性樹脂に対して露光処理および現像処理を行なうことで、感光性樹脂に所望の形状のパターンを形成する。次いで、導電膜をエッチング液でエッチングして、導電膜を所望の形状にした後、塗布した感光性樹脂を剥離する。このように、導電性材料を成膜およびパターニングすることでＸ検出電極311を形成できる。
【００２５】
第１のＸ接続電極312は隣り合うＸ検出電極311同士を接続する機能を有する。複数の第１のＸ接続電極312は第１絶縁膜34に設けられている。また、第１のＸ接続電極312の面積はＸ検出電極311の面積に比べて小さい。なお、第１のＸ接続電極312は導電性を有する透光性材料で形成され、Ｘ検出電極311と同様の材料で形成してもよい。なお、第１のＸ接
続電極312はＸ検出電極311と同様の方法で形成できる。
【００２６】
第２のＸ接続電極313は隣り合うＸ検出電極311同士を接続する機能を有する。複数のＸ検出電極311は第１基板21の第１主面21ａに設けられている。また、第２のＸ接続電極313は第１絶縁膜34によって覆われている。また、第１基板21の第１主面21ａに位置する第２のＸ接続電極313はコンタクトホールＣを介して第１絶縁膜34に位置するＸ検出電極311と接続されている。また、第２のＸ接続電極313の面積はＸ検出電極311の面積に比べて小さい。また、第２のＸ接続電極313は、第１絶縁膜34を介在してＹ検出電極パターン32の第
１のＹ接続電極322と重なっている。
【００２７】
第２のＸ接続電極313は導電性を有する金属材料で形成され、例えば、アルミニウム、
モリブデン、チタン、ネオジム、クロム、銅またはこれらを含む合金によって形成される
。すなわち、第２のＸ接続電極313は、Ｘ検出電極311の材料および第１のＸ接続電極312
の材料に比べて抵抗率が低い材料で形成されている。なお、第２のＸ接続電極313はＸ検
出電極311と同様の方法で形成できる。また、図４において、第２のＸ接続電極313を斜線で表している。
【００２８】
Ｙ方向において、第１のＸ接続電極312と第２のＸ接続電極313とはＸ検出電極311を介
して交互に配置されている。すなわち、Ｙ方向において、第１のＸ接続電極312によって
接続された２つのＸ検出電極311に隣り合うＸ検出電極311は第２のＸ接続電極313に接続
されている。
【００２９】
なお、本実施形態では、第２のＸ接続電極313が第１基板21の第１主面21ａに位置し、
第１のＸ接続電極312が第１絶縁膜34に位置しているが、これには限られず、第２のＸ接
続電極313が第１絶縁膜34に位置し、第１のＸ接続電極312が第１基板21の第１主面21ａに位置してもよい。
【００３０】
複数のＹ検出電極パターン32は、入力領域ＥＩに重なるように第１基板21の第１主面21ａ上に設けられている。複数のＹ検出電極パターン32はＹ方向に配列されている。また、Ｙ検出電極パターン32は、複数のＹ検出電極321、第１のＹ接続電極322および第２のＹ接続電極323を有している。
【００３１】
Ｙ検出電極321は、入力領域ＥＩに近接した指などの入力手段の間での容量の変化を検
出する機能を有する。複数のＹ検出電極321は第１絶縁膜34に設けられているとともに、
Ｘ方向に沿って配列している。また、Ｙ検出電極321の形状は特に限定されない。Ｙ検出
電極321は、導電性を有する透光性材料で形成され、Ｘ検出電極311と同様の材料で形成してもよい。なお、Ｙ検出電極321はＸ検出電極311と同様の方法で形成できる。
【００３２】
第１のＹ接続電極322は隣り合うＹ検出電極321同士を接続する機能を有する。複数の第１のＹ接続電極322は第１絶縁膜34に設けられている。また、第１のＹ接続電極322の面積はＹ検出電極321の面積に比べて小さい。なお、第１のＹ接続電極322は導電性を有する透光性材料で形成され、Ｘ検出電極311と同様の材料で形成してもよい。なお、第１のＹ接
続電極322はＸ検出電極311と同様の方法で形成できる。
【００３３】
第２のＹ接続電極323は隣り合うＹ検出電極321同士を接続する機能を有する。複数のＹ検出電極321は第１基板21の第１主面21ａに設けられている。また、第２のＹ接続電極323は第１絶縁膜34によって覆われている。また、第１基板21の第１主面21ａに位置する第２のＹ接続電極323はコンタクトホールＣを介して第１絶縁膜34に位置するＹ検出電極321と接続されている。また、第２のＹ接続電極323の面積はＹ検出電極321の面積に比べて小さい。また、第２のＹ接続電極323は、第１絶縁膜34を介在してＸ検出電極パターン31の第
１のＸ接続電極312と重なっている。
【００３４】
すなわち、第１絶縁膜34に位置する第１のＸ接続電極312と第１基板21の第１主面21ａ
に位置する第２のＹ接続電極323とが交差するとともに、第１基板21の第１主面21ａに位
置する第１のＹ接続電極322と第１絶縁膜34に位置する第２のＸ接続電極313とが交差することで、Ｘ検出電極パターン31およびＹ検出電極パターン32が第１絶縁膜34を介して立体交差している。
【００３５】
なお、本実施形態では、第２のＹ接続電極323が第１基板21の第１主面21ａに位置し、
第１のＹ接続電極322が第１絶縁膜34に位置しているが、これには限られず、第２のＹ接
続電極323が第１絶縁膜34に位置し、第１のＹ接続電極322が第１基板21の第１主面21ａに位置してもよい。
【００３６】
第２のＹ接続電極323は導電性を有する金属材料で形成され、例えば、アルミニウム、
モリブデン、チタン、ネオジム、クロム、銅またはこれらを含む合金などによって形成される。すなわち、第２のＹ接続電極323は、Ｙ検出電極321の材料および第１のＹ接続電極322の材料に比べて抵抗率が低い材料で形成されている。なお、第２のＹ接続電極323はＸ検出電極311と同様の方法で形成できる。また、図４において、第２のＹ接続電極323を斜線で表している。
【００３７】
Ｘ方向において、第１のＹ接続電極322と第２のＹ接続電極323とはＹ検出電極321を介
して交互に配置されている。すなわち、Ｘ方向において、第１のＹ接続電極322によって
接続された２つのＹ検出電極321に隣り合うＹ検出電極321は第２のＹ接続電極323に接続
されている。
【００３８】
検出用配線33は第１基板21の第１主面21ａに設けられている。検出用配線33はＸ検出電極パターン31またはＹ検出電極パターン32に接続されている。検出用配線33は、入力領域ＥＩの外側に位置する領域に配置されている。検出用配線33は導電性を有する金属材料で形成され、第２のＸ接続電極313と同様の材料で形成できる。なお、検出用配線33はＸ検
出電極311と同様の方法で形成できる。また、図４において、検出用配線33を斜線で表し
ている。
【００３９】
第１絶縁膜34は、Ｘ検出電極パターン31およびＹ検出電極パターン32を電気的に絶縁する機能を有する。第１絶縁膜34は、第２のＸ接続電極313、第２のＹ接続電極323および検出用配線33を覆うように第１基板21の第１主面21ａ上に設けられている。第１絶縁膜34の材料としては、透光性および絶縁性を有する材料が挙げられ、例えば、アクリル樹脂などである。
【００４０】
第２絶縁膜35は、複数のＸ検出電極311、複数のＹ検出電極321、複数の第１のＸ接続電極312および複数の第１のＹ接続電極322を覆うように複数の第１絶縁膜34に設けられている。第２絶縁膜35は入力領域ＥＩおよび入力領域ＥＩの外側に位置する領域に配置されている。
【００４１】
次に、入力位置の検出原理について説明する。
【００４２】
入力領域ＥＩにおいて複数のＸ検出電極311および複数のＹ検出電極321がマトリックス状に近接して配置されている。例えば、複数のＸ検出電極パターン31をグランドなどの一定電位に設定し、複数のＹ検出電極パターン32に信号電圧を印加すると、隣接するＸ検出電極311とＹ検出電極321との間で電界が発生する。この状態で、使用者の指などの入力手段が入力領域ＥＩへ近づくと、入力手段が近接した領域に位置するＸ検出電極311とＹ検
出電極321との間で電界の大きさが変化する。この変化は電圧変化として検出手段である
コントローラ（不図示）によって読み取られる。コントローラは所定値を超えた電圧変化をしたＸ検出電極311およびＹ検出電極321を特定し、特定したＸ検出電極311とＹ検出電
極321とが配置された領域が入力位置として認識する。
【００４３】
入力装置３では、透光性材料からなる第１のＸ接続電極312と金属材料からなる第２の
Ｘ接続電極313とが、透光性材料からなる複数のＸ検出電極311を介してＹ方向に沿って交互に配列されているとともに、透光性材料からなる第１のＹ接続電極322と金属材料から
なる第２のＹ接続電極323とが、透光性材料からなる複数のＹ検出電極321を介してＸ方向に沿って交互に配列されている。Ｘ検出電極パターン31が第２のＸ接続電極313を有する
とともに、Ｙ検出電極パターン32が第２のＹ接続電極323を有するので、Ｘ検出電極パタ
ーン31およびＹ検出電極パターン32の抵抗値を下げることができ、Ｘ検出電極パターン31
およびＹ検出電極パターン32の検出信号の伝達速度を向上させることができる。
【００４４】
加えて、Ｘ検出電極パターン31は第１のＸ接続電極312および第２のＸ接続電極313が交互に設けられているとともに、Ｙ検出電極パターン32は第１のＹ接続電極322および第２
のＹ接続電極323が交互に設けられている。すなわち、Ｘ検出電極パターン31およびＹ検
出電極パターン32のいずれか一方のみの抵抗値を下げるのではなく、Ｘ検出電極パターン31およびＹ検出電極パターン32の両方の抵抗値を下げているので、Ｘ検出電極パターン31の抵抗値およびＹ検出電極パターン32の抵抗値との差を低減し、検出電極パターン31およびＹ検出電極パターン32の両方の検出信号の伝達速度を向上させることで、Ｘ検出電極パターン31およびＹ検出電極パターン32の検出信号が外部または表示パネルからの電磁波ノイズの影響を受けにくくなり、入力位置の検出感度の低下を抑制できる。
【００４５】
また、入力装置３では、第２のＸ接続電極313、第２のＹ接続電極323および検出用配線33が同じ面上である第２基板21の第１主面21ａに配置されているとともに、第２のＸ接続電極313、第２のＹ接続電極323および検出用配線33が同じ材料で形成されている。すなわち、入力装置３では、第２の接続電極313、第２のＹ接続電極323および検出用配線33を同一の成膜工程およびパターニング工程で形成することができるので、入力装置３の製造工程を簡略化できる。
【００４６】
第１基板21の第２主面21ｂ上には、遮光膜216およびカラーフィルタ217が設けられている。
【００４７】
遮光膜216は光を遮光する機能を有する。遮光膜216は、第１基板21の第２主面21ｂ上に設けられている。また。遮光膜216は、画素Ｐの外周に沿って格子状に設けられており、
すなわち、ゲート配線221およびソース配線223に平面視して重なるように設けられている。なお、本実施形態における遮光膜216は第２主面21ｂ上に格子状に形成されているが、
これには限られない。遮光膜216の材料は、例えば、遮光性の高い色（例えば黒色）の染
料または顔料が添加された樹脂、またはクロムなどの金属が挙げられる。
【００４８】
カラーフィルタ217は、可視光のうち特定の波長光のみを透過させる機能を有する。複
数のカラーフィルタ217は、第１基板21の第２主面21ｂ上に位置しており、各画素Ｐごと
に設けられている。各カラーフィルタ217は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のいず
れかの色を有している。また、カラーフィルタ217は、上記の色に限られず、例えば、黄
色（Ｙ）、白（Ｗ）などの色を有してもよい。カラーフィルタ217の材料としては、例え
ば染料または顔料を添加した樹脂が挙げられる。
【００４９】
第２基板22は、第１基板21の第２主面21ｂに対向する第１主面22ａと、第１主面22ａの反対側に位置する第２主面22ｂとを有している。第２基板22は第１基板21と同様の材料で形成できる。
【００５０】
第２基板22の第１主面22ａ上には、複数のゲート配線221が設けられており、複数のゲ
ート配線221を覆うようにゲート絶縁膜222が設けられている。このゲート絶縁膜222上に
は複数のソース配線223が設けられているとともに、複数のソース配線223を覆うように平坦化膜224が設けられている。また、平坦化膜224上には共通電極225が設けられている。
共通電極225を覆うように平坦化膜224上には層間絶縁膜226が設けられており、この層間
絶縁膜226上には複数の信号電極227が設けられている。
【００５１】
ゲート配線221は、ドライバＩＣ９から供給される電圧を薄膜トランジスタTFTに印加する機能を有する。図５に示すように、複数のゲート配線221はＹ方向に沿って配列されて
いる。
【００５２】
ゲート絶縁膜222はゲート配線221を覆うように第１主面22ａ上に設けられている。ゲート絶縁膜222は、窒化シリコン、酸化シリコンなどの絶縁性を有する材料によって形成さ
れる。なお、ゲート絶縁膜222は、上記のスパッタリング法、蒸着法または化学気相成長
法などによって第２基板22の第１主面22ａ上に形成できる。
【００５３】
ソース配線223は、ドライバＩＣ９から供給される信号電圧を薄膜トランジスタTFTを介して信号電極227に印加する機能を有する。ソース配線223はゲート絶縁膜222上に設けら
れている。図５に示すように、複数のソース配線223は線状に形成されているとともに、
Ｙ方向に延在している。また、複数のソース配線223はＸ方向に沿って配列されている。
ソース配線223はゲート配線221と同様の材料で形成してもよい。
【００５４】
なお、画素Ｐとは、複数のゲート配線221と複数のソース配線223とによって囲まれた領域である。
【００５５】
薄膜トランジスタTFTは、非晶質シリコン、多結晶シリコンまたは酸化物半導体などの
半導体層と、この半導体層上に設けられて、ソース配線223に接続されたソース電極と、
ドレイン電極とを有する。薄膜トランジスタTFTでは、ゲート配線221を介して半導体層に印加される電圧に応じてソース電極およびドレイン電極間の半導体層の抵抗が変化することで、信号電極227への画像信号の書き込みまたは非書き込みが制御される。
【００５６】
平坦化膜224はソース配線223を覆うようにゲート絶縁膜222上に設けられている。平坦
化膜224は有機材料によって形成され、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂または
ポリイミド系樹脂などの樹脂で形成される。なお、平坦化膜224の膜厚は例えば１μｍ〜
５μｍの範囲で設定されている。
【００５７】
共通電極225は、ドライバＩＣ９から印加された電圧によって信号電極227との間で電界を発生させる機能を有する。共通電極225は平坦化膜224上に設けられている。共通電極225は、導電性を有する透光性材料によって形成され、例えばＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＴＯ、Ａ
ＺＯ、酸化錫、酸化亜鉛または導電性高分子によって形成される。
【００５８】
層間絶縁膜226は、信号電極227と共通電極225とを電気的に絶縁する機能を有する。層
間絶縁膜226はゲート絶縁膜222と同様の材料で形成してもよい。
【００５９】
信号電極227は、ドライバＩＣ９から印加された信号電圧によって共通電極225との間で電界を発生させる機能を有する。複数の信号電極227は層間絶縁膜226上に設けられている。各信号電極227にはスリットが形成されている。なお、信号電極227は共通電極225と同
様の材料で形成してもよい。
【００６０】
液晶層23は、第１基板21と第２基板22との間に設けられている。液晶層23は、ネマティック液晶などを含んでいる。
【００６１】
シール材24は、第１基板21と第２基板22とを貼り合わせる機能を有する。シール材24は第１基板21と第２基板22との間に設けられている。このシール材24は、エポキシ樹脂などによって形成される。
【００６２】
光源装置４は、表示パネル２に向けて光を出射する機能を有する。光源装置４は、光源41と、導光板42とを有している。なお、本実施形態における光源装置４では、光源41にＬＥＤなどの点光源を採用しているが、冷陰極管などの線光源を採用してもよい。
【００６３】
第１回路基板７は、異方性導電膜などの導電性接合部材を介して第１基板21の検出用配線33に接続されている。第１回路基板７はその一部が第１基板21と対向している。
【００６４】
第２回路基板８は、導電性接合部材を介して第２基板22に接続されている。第２回路基板８はその一部が第２基板22と対向している。
【００６５】
第１偏光板５は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第１偏光板５は第１基板21の第１主面21ａ上に設けられている。具体的には、第１偏光板５は第２絶縁膜35上に設けられている。第１偏光板５は表示領域ＥＤに重なるように位置している。
【００６６】
第２偏光板６は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第２偏光板６は、第２基板22の第２主面22ｂに対向するように配置されている。
【００６７】
ドライバＩＣ９は、ゲート配線221、ソース配線223などの駆動を制御する機能を有する。ドライバＩＣ９は、導電性接合部材Ｂを介して第２基板22の第１主面22ａ上に設けられている。本実施形態では、ゲート配線221用のドライバＩＣ９と、ソース配線223用のドライバＩＣ９との２つのドライバＩＣ９が設けられている。
【００６８】
表示装置１では、入力装置３を備えているので、上記で説明した効果と同様の効果を奏する。
【００６９】
本発明は上記実施形態に特に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変更および改良が可能である。例えば、表示装置１では、第１基板21が入力装置３の基板および表示パネル２の基板として兼用されているが、これには限られない。すなわち、入力装置３が第１基板22と異なる基板を別部材として備えてもよい。
【符号の説明】
【００７０】
１  表示装置
２  表示パネル
ＥＤ  表示領域
Ｐ  画素
ＥＩ  入力領域
３  入力装置
21  第１基板
21ａ  第１主面（主面）
21ｂ  第２主面（反対主面）
31  Ｘ検出電極パターン
311  Ｘ検出電極
312  第１のＸ接続電極
313  第２のＸ接続電極
32  Ｙ検出電極パターン
321  Ｙ検出電極
322  第１のＹ接続電極
323  第２のＹ接続電極
33  検出用配線
34  第１絶縁膜
35  第２絶縁膜
216  遮光膜
217  カラーフィルタ
22  第２基板（対向基板）
22ａ  第１主面（主面）
22ｂ  第２主面
221  ゲート配線
222  ゲート絶縁膜
223  ソース配線
224  平坦化膜
225  共通電極
226  層間絶縁膜
227  信号電極
TFT  薄膜トランジスタ
23  液晶層
24  シール材
４  光源装置
41  光源
42  導光板
５  第１偏光板
６  第２偏光板
７  第１回路基板
８  第２回路基板
９  ドライバＩＣ
【図１】
2014123273.tif 000003
【図２】
2014123273.tif 000004
【図３】
2014123273.tif 000005
【図４】
2014123273.tif 000006
【図５】
2014123273.tif 000007
【図６】
2014123273.tif 000008
【図７】
2014123273.tif 000009