(57)【要約】【課題】透過光の着色を抑え、且つ全光線透過率が高い透明導電性フィルム、及びその下地用の色調補正フィルムを提供する。【解決手段】色調補正フィルムは、透明基材フィルムの一方面に、ハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層が、他方面に、低屈折率層が順に積層され、ハードコート層は、屈折率が１．４９〜１．５４、膜厚が１．３〜３．５μｍであり、第一色調補正層は、屈折率が１．５９〜１．８２、膜厚が２５〜９０ｎｍであり、第二色調補正層は、屈折率が１．３２〜１．５２、膜厚が１０〜５５ｎｍであり、第二ハードコート層は、屈折率が１．４９〜１．５９、膜厚が１．３〜３．５μｍであり、低屈折率層は、屈折率が１．３２〜１．４４、膜厚が５０〜１３０ｎｍである。透明導電性フィルムは、この色調補正フィルムの第二色調補正層上に屈折率が１．８５〜２．３５、膜厚が５〜５０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層を積層する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの一方面に、ハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層がこの順に積層され、前記透明基材フィルムの他方面に、低屈折率層が積層されており、
前記ハードコート層は、屈折率が１．４９〜１．５４、膜厚が１．３〜３．５μｍであり、
前記第一色調補正層は、屈折率が１．５９〜１．８２、膜厚が２５〜９０ｎｍであり、
前記第二色調補正層は、屈折率が１．３２〜１．５２、膜厚が１０〜５５ｎｍであり、
前記低屈折率層は、屈折率が１．３２〜１．４４、膜厚が５０〜１３０ｎｍである、色調補正フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の色調補正フィルムの前記第二色調補正層上に錫ドープ酸化インジウム層が積層されており、
前記錫ドープ酸化インジウム層は、屈折率が１．８５〜２．３５、膜厚が５〜５０ｎｍである、透明導電性フィルム。
【請求項３】
全光線透過率が９２．５％以上であり、
ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊が−１．０〜１．０である、請求項２に記載の透明導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用として好適な色調補正フィルム、及び当該色調補正フィルム上に錫ドープ酸化インジウム層からなる透明導電層を備えた透明導電性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、画像表示部に直接触れることにより、情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは光を透過する入力装置を液晶表示装置等のディスプレイ画面上に配置したものであり、代表的な形式として、透明電極と指との間に生じる電流容量の変化を利用した静電容量式タッチパネルがある。
【０００３】
タッチパネル用の透明導電性フィルムとしては、透明基材フィルム上に、酸化錫を含有するインジウム酸化物（錫ドープ酸化インジウム、ＩＴＯ）や酸化亜鉛等の金属酸化物による透明導電層を積層したものが一般的に用いられている。このような透明導電性フィルムは、金属酸化物層の反射及び吸収に由来する可視光短波長領域の透過率の低下により、黄色の呈色が見られることが多い。そのため、タッチパネルの下に配置される表示装置の発色を正確に表現することが難しいという問題があった。
【０００４】
この問題を解決するために、透明導電層を多層光学膜と組み合わせた透明導電体が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１では、透明基材に、無機薄膜を用いた、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電層がこの順に設けられている。この透明導電体では、このような積層構成において各層の厚みと屈折率を規定し、色相調整機能と反射低減機能とを適切に発揮させることで、全光線透過率を高めるとともに着色の低減が図られている。具体的には、高屈折率層は酸化スズの含有率が１０〜６０質量％である非晶質なインジウム−スズ複合酸化物からなる無機薄膜であり、低屈折率層は屈折率が１．３０〜１．６０の無機薄膜からなり、透明導電性薄膜層は屈折率が１．８０〜２．２０の無機薄膜よりなり、かつ透明導電性フィルムの分光透過率のピークが４５０〜５３０ｎｍに存在し、かつ全光線透過率が９０％以上、カラーｂ値が−２〜２となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２８３３４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、タッチパネル用の透明導電性フィルムでは、タッチパネルの下に配置される表示画像の輝度向上や、ディスプレイ光源の消費電力低減のために、更に全光線透過率の高い透明導電性フィルムが求められている。これに対し、上記特許文献１記載の透明導電体では全光線透過率９０％以上を達成しているが、実際には９１％程度であり全光線透過率が十分とはいえない。また、特許文献１ではカラーｂ値−２〜２を達成しているが、透過光の着色（黄色）の抑制も十分とはいえない。
【０００７】
そこで、本発明の目的とするところは、透過光の着色を抑え、且つ全光線透過率がより高い透明導電性フィルム、及びその下地フィルムとして用いられる色調補正フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
第１の発明は、透明基材フィルムの一方面に、ハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層がこの順に積層され、前記透明基材フィルムの他方面に、低屈折率層が積層されており、前記ハードコート層は、屈折率が１．４９〜１．５４、膜厚が１．３〜３．５μｍであり、前記第一色調補正層は、屈折率が１．５９〜１．８２、膜厚が２５〜９０ｎｍであり、前記第二色調補正層は、屈折率が１．３２〜１．５２、膜厚が１０〜５５ｎｍであり、前記低屈折率層は、屈折率が１．３２〜１．４４、膜厚が５０〜１３０ｎｍであることを特徴とする色調調整フィルムである。
【０００９】
第２の発明は、第１の発明の色調調整フィルムの前記第二色調補正層上に錫ドープ酸化インジウム層が積層されており、前記錫ドープ酸化インジウム層は、屈折率が１．８５〜２．３５、膜厚が５〜５０ｎｍであることを特徴とする透明導電性フィルムである。
【００１０】
第３の発明は、第２の発明の透明導電性フィルムにおいて、全光線透過率が９２．５％以上であり、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊が−１．０〜１．０である。
【００１１】
なお、本発明における膜厚とは、物理膜厚のことであり、光学膜厚ではない。また、本発明において数値範囲を示す「○○〜××」とは、特に明記しない限り「○○以上××以下」を意味する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、透明導電性フィルムの下地フィルムとなる色調補正フィルムにおいて、各層（ハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層、及び低屈折率層の屈折率および膜厚を適切に設定し、さらにこれの上に積層する錫ドープ酸化インジウム層の屈折率及び膜厚も適切に設定したことで、透過光の着色を押さえ、且つ全光線透過率がより高い透明導電性フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の色調補正フィルムは、透明基材フィルムの一方面に、当該透明基材フィルム側からハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層がこの順に積層されている。一方、透明基材フィルムの他方面には、低屈折率層が積層されている。以下に、この色調補正フィルムの構成要素について順に説明する。
【００１４】
＜透明基材フィルム＞
透明基材フィルムは、透明性を有している限り特に制限されないが、屈折率が１．５５〜１．７０の範囲内のものが好ましい。このような透明基材フィルムを形成する材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、屈折率：１．６７）等のポリエステル、ポリカーボネート（ＰＣ、屈折率：１．５９）、ポリアリレート（ＰＡＲ、屈折率：１．６０）及びポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ、屈折率：１．６５）等が挙げられる。これらのうち、ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性で好ましい。
【００１５】
透明基材フィルムの厚みは、好ましくは２５〜４００μｍ、さらに好ましくは２５〜１８８μｍである。透明基材フィルムの厚みが２５μｍより薄い場合や４００μｍより厚い場合には、色調補正フィルムの製造時及び使用時における取り扱い性が低下して好ましくない。透明基材フィルムの全光線透過率は、８５％以上であることが好ましい。８５％未満である場合は、透明導電性フィルムの全光線透過率が低くなり好ましくない。なお、透明基材フィルムには、全光線透過率が８５％未満とならない範囲で、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤として例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。
【００１６】
＜ハードコート層＞
透明基材フィルムの直上には、色調補正フィルム延いては透明導電性フィルムの表面硬度向上及びカール低減のために、ハードコート層が設けられている。なお、カールの低減とは、各層用の塗液を塗布して硬化させた際の、各層の硬化収縮によるフィルム全体の反り量を低減することを言う。
【００１７】
ハードコート層の材料としては、従来よりこの種の色調補正フィルムや透明導電性フィルム等に用いられる公知のものであれば、特に制限されない。例えば、テトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物や、活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることができ、これらを混合してもよい。そして、これらに光重合開始剤を加えて調製したハードコート層用塗液に紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射して硬化させてハードコート層を形成することができる。
【００１８】
活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸（ポリ）エチレングリコール基含有（メタ）アクリル酸エステル等が好ましい。多官能（メタ）アクリレートとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が好ましい。これらの単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートの屈折率は、１．４〜１．７である。また、これらの単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートの１種又は２種以上を使用することで、ハードコート層の鉛筆硬度（評価法：ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４）をＨ以上とすることができる。ハードコート層の鉛筆硬度がＨ以上であれば、生産性と硬度を両立させることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを指す。また、同様に、後述の「（メタ）アクリル単量体」は、アクリル単量体及びメタクリル単量体を指し、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基を指す。
【００１９】
光重合開始剤は、紫外線（ＵＶ）等の活性エネルギー線によりハードコート層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光重合開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、１種を単独使用してもよいし、２種以上を混合することもできる。
【００２０】
光重合開始剤は、ハードコート層中に０．１〜１０質量部含まれることが好ましい。光重合開始剤の含有量が０．１質量部未満では、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤の含有量が１０質量部を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。
【００２１】
ハードコート層用塗液の溶媒は、この種の色調補正フィルムや透明導電性フィルム等において各層形成用の塗液に従来から使用されている公知のものであれば特に制限は無く、例えばアルコール系、ケトン系、エステル系の溶媒が適時選択できる。
【００２２】
また、ハードコート層には屈折率を調整する金属微粒子またはシリカ微粒子を含有していてもよい。金属微粒子は屈折率を積極的に高めるために配合されるものである。このような金属酸化物微粒子としては、酸化チタン及び酸化ジルコニウムが好ましい。酸化チタン及び酸化ジルコニウムの屈折率は製法によって異なるが、１．９０〜３．００であることが好ましい。一方、シリカ微粒子は、屈折率を積極的に低くするために配合されるものである。シリカ微粒子としては、コロイダルシリカや中空シリカ微粒子が好ましい。コロイダルシリカ及び中空シリカ微粒子の屈折率は製法によって異なるが、１．２５〜１．５０であることが好ましい。金属微粒子及びシリカ微粒子の平均粒子径は、１５０ｎｍ以下が好ましい。これらの平均粒子径が１５０ｎｍより大きいと、ハードコート層の屈折率の調整が困難となる。なお、金属微粒子を添加するかシリカ微粒子を添加するかは、活性エネルギー線硬化型樹脂の種類（これに基づく屈折率）と求めるハードコート層の屈折率との関係によって適宜選択すればよい。
【００２３】
金属酸化物微粒子を添加する場合、その含有量は、ハードコート層中に３０質量部未満であることが好ましい。金属酸化物微粒子の含有量が３０質量部以上では、ハードコート層の屈折率が後述の範囲外となるため好ましくない。また、シリカ微粒子を添加する場合、その含有量は、ハードコート層中に２０質量部未満であることが好ましい。シリカ微粒子の含有量が２０質量部以上では、ハードコート層の屈折率が後述の範囲外となるため好ましくない。
【００２４】
更に、ハードコート層は透光性粒子を含有していてもよい。透光性粒子は、ハードコート層に表面凹凸を形成し、製造工程上の巻き取り性を向上させるものである。透光性粒子としては、例えばシリカ粒子のほか、塩化ビニル、（メタ）アクリル単量体、スチレン、及びエチレンから選択される少なくとも１種の単量体を重合して得られる重合体などから形成される。透光性粒子の平均粒子径は、好ましくは０．３〜５．０μｍ程度、より好ましくは０．５〜２．５μｍ程度であればよい。他に、ハードコート層は、その他添加剤を含有していても良い。その他の添加剤としては、表面調整剤やスリップ剤等が挙げられる。
【００２５】
ハードコート層の屈折率は、１．４９〜１．５４になるように形成される。屈折率が１．４９未満の場合、透明基材フィルムとハードコート層との屈折率差が大きくなり、干渉ジマが発生するため好ましくない。屈折率が１．５４よりも大きい場合、屈折率を大きくするためにハードコート層へ高屈折率材料（金属微粒子）を多く添加する必要があるが、高屈折率材料に起因した光の吸収及び光の散乱が発生してハードコート層が着色し、且つ、全光線透過率が低下するため好ましくない。また、ハードコート層の乾燥硬化後の膜厚は、１．３〜３．５μｍとする。膜厚が１．３μｍより薄い場合は、鉛筆硬度がＨ未満になるため好ましくない。膜厚が３．５μｍより厚い場合は、硬化収縮によるカールが強くなるとともに、不必要に厚くなり、生産性や作業性が低下するため好ましくない。
【００２６】
＜第一色調補正層＞
第一色調補正層は、第二色調補正層との屈折率の相対関係によって、互いに協働して色調補正フィルムないし透明導電性フィルムの色調を調整（透過色の着色を抑制）する層である。第一色調補正層は、金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを混合してなる第一色調補正層用塗液を活性エネルギー線（例えば紫外線、電子線）により硬化させた硬化物からなる。
【００２７】
金属酸化物微粒子は、ハードコート層にて使用する金属酸化物微粒子と同種のものを使用すればよい。金属酸化物微粒子は、第一色調補正層中に３０〜９０質量部含まれることが好ましく、より好ましくは３５〜７５質量部である。金属酸化物微粒子の含有量が３０質量部未満では、第一色調補正層の屈折率が後述の範囲外となるため好ましくない。一方、金属酸化物微粒子の含有量が９０質量部を超えると、塗膜に対する金属酸化物微粒子の相対量が多くなり、塗膜がもろくなるため好ましくない。
【００２８】
また、バインダーとして用いられる活性エネルギー線硬化型樹脂も、ハードコート層で使用する活性エネルギー線硬化型樹脂と同種のものを使用すればよい。活性エネルギー線硬化型樹脂は、第一色調補正層中に１０〜７０質量部含まれることが好ましく、より好ましくは２５〜６５質量部である。活性エネルギー線硬化型樹脂の含有量が１０質量部未満では、塗膜に対する活性エネルギー線硬化型樹脂の相対量が少なく塗膜がもろくなるため好ましくない。一方、活性エネルギー線硬化型樹脂の含有量が質量部を超えると、第一色調補正層の屈折率が後述の範囲外となるため好ましくない。
【００２９】
さらに、第一色調補正層は光重合開始剤も含む。当該光重合開始剤もハードコート層で使用する光重合開始剤と同種のものを使用すればよい。光重合開始剤は、活性エネルギー線硬化型樹脂と金属酸化物微粒子との合計１００質量部に対して、第一色調補正層中に０．１〜１０質量部含まれる。光重合開始剤の含有量が０．１質量部未満では、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤の含有量が１０質量部を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。第一色調補正層用塗液の溶媒も、ハードコート層で使用する溶媒と同種のものを使用すればよい。
【００３０】
第一色調補正層は、金属酸化物微粒子及び活性エネルギー線硬化型樹脂をそれぞれ上記範囲で含むことによって、屈折率が１．５９〜１．８２になるように形成される。さらに、第一色調補正層の乾燥硬化後の膜厚は２５〜９０ｎｍであることが必要である。第一色調補正層の屈折率、膜厚が上記の範囲外では、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値が大きくなり、透明導電性フィルムの透過色の黄色味の着色が明瞭に認識されるようになる。
【００３１】
＜第二色調補正層＞
第二色調補正層は、第一色調補正層との屈折率の相対関係によって、互いに協働して色調補正フィルムないし透明導電性フィルムの色調を調整（透過色の着色を抑制）する層である。第二色調補正層は、シリカ微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを混合してなる第二色調補正層用塗液を活性エネルギー線（例えば紫外線、電子線）により硬化させた硬化物からなる。
【００３２】
シリカ微粒子は、ハードコート層にて使用するシリカ微粒子と同種のものを使用すればよい。シリカ微粒子は、第二色調補正層中に２０〜９０質量部含まれることが好ましく、より好ましくは３０〜８５質量部である。シリカ微粒子の含有量が２０質量部未満では、第二色調補正層の屈折率を後述の範囲とすることが出来ない。一方、シリカ微粒子の含有量が９０質量部より多いと、塗膜強度が弱くなるため好ましくない。
【００３３】
また、バインダーとして用いられる活性エネルギー線硬化型樹脂は、屈折率が１．４〜１．７であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、ハードコート層で使用する活性エネルギー線硬化型樹脂と同種のものを使用すればよい。活性エネルギー線硬化型樹脂は、第二色調補正層中に１０〜８０質量部含まれることが好ましく、より好ましくは１５〜７０質量部である。活性エネルギー線硬化型樹脂の含有量が１０質量部未満では、塗膜に対する活性エネルギー線硬化型樹脂の相対量が少なく塗膜がもろくなるため好ましくない。一方、活性エネルギー線硬化型樹脂の含有量が８０質量部を超えると、第二色調補正層の屈折率が後述後の範囲外となるため好ましくない。
【００３４】
さらに、第二色調補正層は光重合開始剤も含む。当該光重合開始剤もハードコート層で使用する光重合開始剤と同種のものを使用すればよい。光重合開始剤は、活性エネルギー線硬化型樹脂とシリカ微粒子との合計１００質量部に対して、第二色調補正層中に０．１〜１０ｗｔ％含まれることが好ましい。光重合開始剤の含有量が０．１質量部未満では、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤の含有量が１０質量部を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。第二色調補正層用塗液の溶媒も、ハードコート層で使用する溶媒と同種のものを使用すればよい。
【００３５】
第二色調補正層は、シリカ微粒子及び活性エネルギー線硬化型樹脂をそれぞれ上記範囲で含むことによって、屈折率が１．３２〜１．５２になるように形成される。さらに、第二色調補正層の乾燥硬化後の膜厚は１０〜５５ｎｍであることが必要である。第二色調補正層の屈折率、膜厚が上記の範囲外では、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値が大きくなってしまい、透明導電性フィルムの透過色の黄色味の着色が明瞭に認識されるようになる。
【００３６】
＜低屈折率層＞
低屈折率層は、透明基材フィルムとの相対関係によって、反射を低減することで透過率を向上する層である。低屈折率層は、シリカ微粒子と、活性エネルギー線硬化型樹脂とを混合してなる低屈折率層用塗液を活性エネルギー線（例えば紫外線、電子線）により硬化させた硬化物からなる。
【００３７】
シリカ微粒子は、屈折率を積極的に低くするために配合されるものである。シリカ微粒子は、ハードコート層、第二色調調整層にて使用するシリカ微粒子と同種のものを使用すればよい。シリカ微粒子は、低屈折率層中に２０〜９０質量部含まれることが好ましく、より好ましくは２０〜８５質量部である。シリカ微粒子の含有量が２０質量部未満では、低屈折率層の屈折率を後述の範囲とすることが出来ない。一方、シリカ微粒子の含有量が９０質量部より多いと、塗膜強度が弱くなるため好ましくない。
【００３８】
また、バインダーとして用いられる活性エネルギー線硬化型樹脂は、屈折率が１．４０〜１．７０であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、ハードコート層で使用する活性エネルギー線硬化型樹脂と同種のものを使用すればよい。活性エネルギー線硬化型樹脂は、低屈折率層中に１０〜８０質量部含まれることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量部である。活性エネルギー線硬化型樹脂の含有量が１０質量部未満では、塗膜に対する活性エネルギー線硬化型樹脂の相対量が少なく塗膜がもろくなるため好ましくない。一方、活性エネルギー線硬化型樹脂の含有量が８０質量部を超えると、低屈折率層の屈折率が後述の範囲外となるため好ましくない。ここで、シリカ微粒子は、（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤等により表面を修飾してもよい。（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤等でシリカ微粒子表面を修飾することにより、活性エネルギー線硬化型樹脂との共有結合が生じ、塗膜強度が強くなる傾向が見られる。
【００３９】
さらに、低屈折率層は光重合開始剤も含む。当該光重合開始剤もハードコート層で使用する光重合開始剤と同種のものを使用すればよい。光重合開始剤は、活性エネルギー線硬化型樹脂とシリカ微粒子との合計１００質量部に対して、低屈折率層中に０．１〜１０質量部含まれることが好ましい。光重合開始剤の含有量が０．１質量部未満では、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤の含有量が１０質量部を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。低屈折率層用塗液の溶媒も、ハードコート層で使用する溶媒と同種のものを使用すればよい。
【００４０】
低屈折率層は、屈折率が後述の範囲を外れない範囲で、その他の添加剤を含有していても良い。その他の添加剤としては、表面調整剤や防汚剤、スリップ剤等が挙げられる。
【００４１】
低屈折率層は、シリカ微粒子及び活性エネルギー線硬化型樹脂をそれぞれ上記範囲で含むことによって、屈折率が１．３２〜１．４４になるように形成される。さらに、低屈折率層の乾燥硬化後の膜厚は５０〜１３０ｎｍであることが必要である。低屈折率層の屈折率が１．３２未満の場合は、塗膜中のシリカ微粒子の割合が多くなり、ヘイズ値が上昇してしまう。また、低屈折率層の屈折率が１．４４より大きい場合は、反射低減機能が落ちるため全光線透過率が低くなってしまう。更に、低屈折率層の膜厚が上記の範囲外でも、反射低減機能が落ちるため全光線透過率が低くなってしまう。
【００４２】
＜ハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層及び低屈折率層の形成＞
ハードコート層は、透明基材フィルムにハードコート層用塗液を塗布した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。
【００４３】
一方、第一色調補正層は、形成されたハードコート層上に第一色調補正層用塗液を塗布した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。また、第二色調補正層は、形成された第一色調補正層上に第二色調補正層用塗液を塗布した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。更に、低屈折率層は、ハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層とは反対側の面に低屈折率層用塗液を塗布した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成することができる。ハードコート層用塗液、第一色調補正層用塗液、第二色調補正層用塗液、低屈折率層用塗液の塗布方法は特に制限されず、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等公知のいかなる方法も採用できる。また、活性エネルギー線の種類は特に制限されないが、利便性等の観点から紫外線を用いることが好ましい。尚、各ハードコート層の透明基材フィルムに対する密着性を向上させるために、予め透明基材フィルム表面にコロナ放電処理等の前処理を施すことも可能である。
【００４４】
《透明導電性フィルム》
透明導電性フィルムは、色調補正フィルムの第二色調補正層上に錫ドープ酸化インジウム層を積層した構成である。すなわち、透明導電性フィルムは、上（表側）から錫ドープ酸化インジウム層、第二色調補正層、第一色調補正層、ハードコート層、透明基材フィルム、低屈折率層が順に積層した構成である。
【００４５】
＜錫ドープ酸化インジウム層＞
第二色調補正層の上に積層される錫ドープ酸化インジウム層（以下、ＩＴＯ層と略することがある）は透明導電層であり、屈折率が１．８５〜２．３５である。屈折率がこの範囲を外れると、第一色調補正層及び第二色調補正層との光学干渉が適切に作用しなくなるため、透明導電性フィルムの透過色が着色を呈し、全光線透過率も低下する。また、ＩＴＯ層の膜厚は５〜５０ｎｍ、好ましくは１５〜５０ｎｍである。膜厚が５ｎｍより薄い場合は、均一に成膜することが難しく、安定した抵抗が得られないため好ましくない。また、膜厚が５０ｎｍより厚い場合は、ＩＴＯ層自身による光の吸収が強くなり、透過色の着色低減効果が薄れると共に、全光線透過率が小さくなる傾向があるため好ましくない。
【００４６】
＜錫ドープ酸化インジウム層の形成＞
錫ドープ酸化インジウム層の製膜方法は特に限定されず、例えば蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法を採用できる。これらの中では、層の厚み制御の観点より蒸着法及びスパッタリング法が特に好ましい。尚、錫ドープ酸化インジウム層を形成した後、必要に応じて、１００〜２００℃の範囲内でアニール処理を施して結晶化することができる。具体的には、高い温度で結晶化すると錫ドープ酸化インジウム層の屈折率は小さくなる傾向を示す。従って、錫ドープ酸化インジウム層の屈折率は、アニール処理の温度と時間を制御することで調整可能である。
【００４７】
このような錫ドープ酸化インジウム層が積層された透明導電性フィルムの透過光の着色は、ＪＩＳＺ ８７２９に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊で評価でき、−１．０≦ｂ＊≦１．０である。ｂ＊＞１．０の場合、透明導電性フィルムが黄色に着色して見えてしまう問題がある。一方、ｂ＊＜−１．０の場合、透明導電性フィルムが青色に着色して見えてしまう問題がある。
【００４８】
同時に、透明導電性フィルムの全光線透過率は、９２．５％以上である。全光線透過率が９２．５％未満の場合、タッチパネルなどの部材に使用した時に輝度が悪化するため好ましくない。また、透明導電性フィルムのヘイズ値は、１％未満である。ヘイズ値が１％以上の場合透明性が低下し、タッチパネルなどの部材に使用した時に表示画像の視認性が悪化するため好ましくない。
【実施例】
【００４９】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はそれら実施例の範囲に限定されるものではない。
【００５０】
まず、ハードコート層用塗液、第一色調補正層用塗液、第二色調補正層用塗液、低屈折率層用塗液を調製し、各液を用いて形成される層の屈折率を次の方法にて測定した。
＜屈折率（ＩＴＯ層以外の層）＞
（１）屈折率が１．６７のＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１００」、東洋紡績株式会社製）上に、ディップコーター（杉山元理化学機器株式会社製）により、各層用塗液をそれぞれ乾燥硬化後の膜厚で１００〜１０００ｎｍ程度になるように層の厚さを調整して塗布した。
（２）乾燥後、紫外線照射装置（岩崎電気株式会社製）により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射して硬化した。硬化後のＰＥＴフィルム裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを反射分光膜厚計（「FE-3000」、大塚電子株式会社製）により、反射スペクトルを測定した。
（３）反射スペクトルより読み取った反射率から、下記に示すn-Cauchyの波長分散式（式１）の定数を求め、光の波長５８９ｎｍにおける屈折率を求めた。
Ｎ(λ)＝ａ／λ４＋ｂ／λ２＋ｃ  （式１）
（Ｎ：屈折率、λ：波長、ａ、ｂ、ｃ：波長分散定数）
【００５１】
〔ハードコート層用塗液の調製〕
ハードコート層用塗液として次の原料を使用し、各原料を下記表１に記載した組成にて、微粒子成分（シリカ微粒子又は金属酸化物微粒子）及び活性エネルギー線硬化型樹脂と、光重合開始剤と、溶媒を、質量比で１００：５：２００の割合で混合し、第一色調補正層用塗液ＨＣ１−１〜ＨＣ１−３を調製した。各原料としては、シリカ微粒子として、日揮触媒化成（株）製アクリル修飾中空シリカ微粒子スルーリアＮＡＵを使用した。また、金属酸化物微粒子として、酸化ジルコニウム微粒子分散液（シーアイ化成（株）製  ＺＲＭＥＫ２５％−Ｆ４７）を使用した。活性エネルギー線硬化型樹脂として、６官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業（株）製紫光ＵＶ−７６００Ｂ）または日本化薬（株）製ＤＰＨＡを使用した。光重合開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｉ−１８４）を使用した。また溶媒としてメチルイソブチルケトンを使用した。
【００５２】
得られたハードコート層用塗液ＨＣ１−１〜ＨＣ１−３を用いて形成されるハードコート層の屈折率を測定した。その結果を表１に示す。
【表１】
2014073613.tif 000002
【００５３】
〔第一色調補正層用塗液の調製〕
第一色調補正層用塗液として次の原料を使用し、各原料を下記表２に記載した組成にて、金属酸化物微粒子及び活性エネルギー線硬化型樹脂と、光重合開始剤と、溶媒を、質量比で１００：５：１０００の割合で混合し、第一色調補正層用塗液Ｃ１−１〜Ｃ１−５を調製した。各原料としては、金属酸化物微粒子として、酸化ジルコニウム微粒子分散液（シーアイ化成（株）製  ＺＲＭＥＫ２５％−Ｆ４７）または酸化チタン微粒子分散液（シーアイ化成（株）製  ＲＴＴＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｎ２４）を使用した。活性エネルギー線硬化型樹脂として、６官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業（株）製紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を使用した。光重合開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｉ−１８４）を使用した。また溶媒としてメチルイソブチルケトンを使用した。
【００５４】
得られた第一色調補正層用塗液Ｃ１−１〜Ｃ１−５を用いて形成される色調補正層の屈折率を測定した。その結果を表２に示す。
【表２】
2014073613.tif 000003
【００５５】
〔第二色調補正層用塗液の調製〕
第二色調補正層用塗液として次の原料を使用し、各原料を下記表３に記載した組成にて、微粒子成分（シリカ微粒子又は金属酸化物微粒子）及び活性エネルギー線硬化型樹脂と、光重合開始剤と、溶媒を、質量比で１００：５：４０００の割合で混合して、第二色調補正層用塗液Ｃ２−１〜Ｃ２−５を調製した。各原料としては、シリカ微粒子として、扶桑化学工業（株）製ＰＬ−１または日揮触媒化成（株）製 アクリル修飾中空シリカ微粒子スルーリアＮＡＵを使用した。また金属酸化物微粒子として、酸化ジルコニウム微粒子分散液（シーアイ化成（株）製  ＺＲＭＥＫ２５％−Ｆ４７）を使用した。また活性エネルギー線硬化型樹脂として、日本化薬（株）製ＤＰＨＡを使用した。光重合開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（Ｉ−９０７）を使用した。そして溶媒として、イソプロピルアルコールを使用した。
【００５６】
得られた第二色調補正層用塗液Ｃ２−１〜Ｃ２−５を用いて形成される色調補正層の屈折率を測定した。その結果を表３に示す。
【表３】
2014073613.tif 000004
【００５７】
〔低屈折率層用塗液の調製〕
低屈折率層用塗液として次の原料を使用し、各原料を下記表４に記載した組成にて、微粒子成分（中空シリカ微粒子又は金属酸化物微粒子）成分及び活性エネルギー線硬化型樹脂と、光重合開始剤と、溶媒を、質量比で１００：５：４０００の割合で混合して、低屈折率層用塗液Ｌ１−１〜Ｌ１−５を調製した。各原料としては、中空シリカ微粒子として、日揮触媒化成（株）製アクリル修飾中空シリカ微粒子スルーリアＮＡＵを使用した。また、金属酸化物微粒子として、酸化ジルコニウム微粒子分散液（シーアイ化成（株）製  ＺＲＭＥＫ２５％−Ｆ４７）を使用した。また、活性エネルギー線硬化型樹脂：日本化薬（株）製  ＤＰＨＡを使用した。光重合開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（Ｉ−９０７）を使用した。そして溶媒として、イソプロピルアルコールを使用した。
【００５８】
得られた低屈折率層用塗液Ｌ１−１〜Ｌ１−５を用いて形成される低屈折率層の屈折率を測定した。その結果を表４に示す。
【表４】
2014073613.tif 000005
【００５９】
（実施例１−１）
屈折率が１．６７、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルムの一方面に、ハードコート層用塗液（ＨＣ１−１）をバーコーターにて塗布し、１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることによりハードコート層を形成した。
【００６０】
上記ハードコート層上に、第一色調補正層用塗液（Ｃ１−１）をバーコーターにて塗布し、１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより第一色調補正層を形成した。上記第一色調補正層上に、第二色調補正層用塗液（Ｃ２−１）をバーコーターにて塗布し、１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより第二色調補正層を形成した。
【００６１】
ＰＥＴフィルムの他方面（ハードコート層の反対面）に、低屈折率層用塗液（Ｌ１−１）をバーコーターにて塗布し、１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより低屈折率層を形成し、色調補正フィルム(Ｓ１−１)を作製した（各層の膜厚は下記表５を参照）。
【００６２】
（実施例１−２〜実施例１−１７）
ハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層、低屈折率層を下記表５に記載した塗液及び膜厚とした以外は、実施例１−１と同様にして、色調補正フィルム（Ｓ１−２〜Ｓ１−１７）を作製した。
【００６３】
【表５】
2014073613.tif 000006
【００６４】
（比較例１−１〜比較例１−１３）
ハードコート層、第一色調補正層、第二色調補正層、低屈折率層を下記表６に記載した塗液及び膜厚とした以外は、実施例１−１と同様にして、色調補正フィルム（Ｓ’１−１〜Ｓ’１−１３）を作製した。
【００６５】
【表６】
2014073613.tif 000007
【００６６】
（実施例２−１）
上記色調補正フィルム(Ｓ１−１)の第二色調補正層上に、インジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより、膜厚が２０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し、１５０℃、３０分のアニール処理を施し、透明導電性フィルムを作製した。得られた透明導電性フィルムについて、透過色ｂ＊、全光線透過率、ヘイズ値を次の方法で測定した。その結果を下記表７に示す。
【００６７】
＜透過色＞
色差計（「ＳＱ−２０００」、日本電色工業株式会社製）を用いて透明導電性フィルムの透過色、ｂ＊を測定した。このｂ＊は、ＪＩＳＺ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における値である。
【００６８】
＜全光線透過率・ヘイズ値＞
ヘイズメーター（「ＮＤＨ２０００」、日本電色工業株式会社製）により透明導電性フィルムの全光線透過率（％）及びヘイズ値を測定した。
【００６９】
（実施例２−２〜実施例２−２０）
表５に記載された各色調補正フィルム（Ｓ１−２〜Ｓ１−１７）を用い、実施例２−１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
（実施例２−１８）
上記色調補正フィルム（Ｓ１−１）の第二色調補正層上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより、膜厚が２０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し、１５０℃、２時間のアニール処理を施し、透明導電性フィルムを作製した。
（実施例２−１９）
上記色調補正フィルム（Ｓ１−１）の第二色調補正層上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより、膜厚が２０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し、１００℃、１時間のアニール処理を施し、透明導電性フィルムを作製した。
（実施例２−２０）
上記色調補正フィルム（Ｓ１−１）の第二色調補正層上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより、膜厚が５０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し、１５０℃、３０分のアニール処理を施し、透明導電性フィルムを作製した。
【００７０】
得られた実施例２−２〜実施例２−２０の透明導電性フィルムについて、実施例２−１と同様に透過色ｂ＊、全光線透過率、ヘイズ値を測定した。その結果を下記表７に示す。
【表７】
2014073613.tif 000008
【００７１】
（比較例２−１〜比較例２−１３）
表６に記載された各色調補正フィルム（Ｓ’１−１〜Ｓ’１−１３）を用い、実施例２−１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
（比較例２−１４）
上記色調補正フィルム（Ｓ’１−１）の第二色調補正層上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより、膜厚が２０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し、１５０℃、２時間のアニール処理を施し、透明導電性フィルムを作製した。
（比較例２−１５）
上記色調補正フィルム（Ｓ’１−１）の第二色調補正層上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより、膜厚が２０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し、１００℃、１時間のアニール処理を施し、透明導電性フィルムを作製した。
（比較例２−１６）
上記色調補正フィルム（Ｓ’１−１）の第二色調補正層上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより、膜厚が５０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し、１５０℃、３０分のアニール処理を施し、透明導電性フィルムを作製した。
【００７２】
得られた比較例２−１〜比較例２−１６の透明導電性フィルムについて、実施例２−１と同様に透過色ｂ＊、全光線透過率、ヘイズ値を測定した。その結果を下記表８に示す。
【表８】
2014073613.tif 000009
【００７３】
また、実施例２−１〜実施例２−２０及び比較例２−１〜比較例２−１６の透明導電性フィルムについて、ＩＴＯ層の屈折率を次の方法にて測定し、その結果を上記表７，８に併記する。
＜屈折率（ＩＴＯ層）＞
（１）屈折率が１．６７のＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１００」、東洋紡績株式会社製）上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行い、実膜厚２０ｎｍの透明導電層としての錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し、下記実施例および比較例のそれぞれの条件でアニーリングを施し、透明導電性フィルムを作製した。
（２）上記透明導電性フィルム裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを反射分光膜厚計（「FE-3000」、大塚電子株式会社製）により、反射スペクトルを測定した。
（３）反射スペクトルより読み取った反射率から、上記（式１）を用いて、光の波長５８９ｎｍにおける屈折率を求めた。
なお、各表（後述）に記載の各層の屈折率は、上記屈折率測定用サンプルから求めた屈折率である。
【００７４】
（結果および考察）
実施例２−１〜実施例２−１８（表７）の結果から明らかなように、ハードコート層の屈折率を１．４９〜１．５４とし、第一色調補正層の屈折率を１．５９〜１．８２、膜厚を２５〜９０ｎｍとし、第二色調補正層の屈折率を１．３２〜１．５２、膜厚を１０〜５５ｎｍとし、低屈折率層の屈折率を１．３２〜１．４４、膜厚が５０〜１３０ｎｍとし、且つＩＴＯ層の屈折率を１．８５〜２．３５、膜厚を５〜５０ｎｍとすると、透過色ｂ＊の値が小さく、透明導電性フィルムの着色を十分に抑え、更に、優れた全光線透過率を実現することが出来た。
【００７５】
その一方、比較例２−１〜２−７、比較例２−１４〜２−１６（表８）では、各色調補正層、又は錫ドープ酸化インジウム層の屈折率、及び膜厚のいずれかが上記範囲を外れており、透過色ｂ＊の値が大きく透明導電性フィルムが着色する、若しくは、全光線透過率が低くなった。
【００７６】
比較例２−８、２−９、２−１１〜２−１３（表８）では、低屈折率層の屈折率、膜厚が上記範囲外もしくは低屈折率層が積層されていないため、全光線透過率が十分高くならなかった。これに対し、比較例２−１０では、低屈折率層の屈折率が１．３０であって（表６参照）上記範囲を外れていたが、着色を抑制し、優れた全光線透過率を実現することができた。しかしながら、低屈折率層中の中空シリカの割合が多くなっているため、ヘイズ値が高くなった。