(57)【要約】【課題】使用済みレジスト剥離液を分離する際には、予め水分量を検出しておき、分離工程における水分の粗分離の処理レートを調整する必要があるが、使用済みレジスト剥離液はレジスト成分と無機固形物が浮遊しているので、吸光度計では測定できなかった。【解決手段】使用済みレジスト剥離液中の水分量を超音波センサで検量し、前記水分量が所定の値より大きい場合は、処理量を低減する低減工程を有することを特徴とするレジスト剥離液の再生方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジストの剥離に用いられ、少なくとも溶剤と水とレジスト成分を含む使用済みレジスト剥離液から、
前記水の一部を廃液Ａとして気化分離し取り出す低沸点分離工程と、
前記低沸点分離工程の分離残留液を気化分離し、前記レジスト成分を含むレジスト含有残留液と、前記溶剤と前記水の残りを分離液として取り出す高沸点分離工程と、
前記高沸点分離工程の分離液から他の低沸点成分と前記水の残りを合わせて廃液Ｂとして気化分離し、分離残留液をレジスト剥離再生液として取り出す精製工程を有し、
前記使用済みレジスト剥離液中の水分量を前記低沸点分離工程の前段で超音波センサを用いて検量し、前記水分量が所定の値より大きい場合は、使用済みレジスト剥離液の処理量を低減する低減工程を有することを特徴とするレジスト剥離液の再生方法。
【請求項２】
前記低減工程は、前記低沸点分離工程に供給する前記使用済みレジスト剥離液の移送量と、前記低沸点分離工程から前記高沸点分離工程に移送する前記分離残留液の移送量を減らすことを特徴とする請求項１に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
【請求項３】
前記低減工程は、前記高沸点分離工程と、前記精製工程の処理温度を定常運転状態より低くすることを特徴とする請求項１または２の何れかの請求項に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
【請求項４】
前記低沸点分離工程の分離残留物が、前記低沸点分離工程から前記高沸点分離工程まで移送される際に保温されながら移送されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
【請求項５】
前記高沸点分離工程の分離液が、前記高沸点分離工程から前記精製工程まで移送される際に、減圧されなおかつ保温されながら移送されることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生方法。
【請求項６】
レジストの剥離に用いられ、少なくとも溶剤と水とレジスト成分を含む使用済みレジスト剥離液から、
前記水を含む低沸点成分の一部を分離させて廃液Ａとして気化分離し取り出す低沸点分離器と、
前記低沸点分離器の分離残留液を気化分離し、前記レジスト成分を含むレジスト含有残留液と、前記溶剤と前記水を含む低沸点成分の残りを分離液として取り出す高沸点分離器と、
前記高沸点分離器の分離液から前記水を含む低沸点成分の残りを廃液Ｂとして気化分離し、分離残留液をレジスト剥離再生液として取り出す精製器を有し、
前記使用済みレジスト剥離液中の水分量を前記低沸点分離工程の前段で超音波センサを用いて検量し、前記水分量が所定の値より大きい場合は、使用済みレジスト剥離液の処理量を低減するよう制御する制御装置を有することを特徴とするレジスト剥離液の再生装置。
【請求項７】
前記制御装置は、前記低沸点分離器に供給する前記使用済みレジスト剥離液の移送量と、前記低沸点分離器から前記高沸点分離器に移送する前記分離残留液の移送量を減らすことを特徴とする請求項６に記載されたレジスト剥離液の再生装置。
【請求項８】
前記制御装置は、前記高沸点分離器と、前記精製器の処理温度を定常運転状態より低くすることを特徴とする請求項６または７の何れかの請求項に記載されたレジスト剥離液の再生装置。
【請求項９】
前記低沸点分離器の分離残留液を、前記低沸点分離器から前記高沸点分離器まで移送する配管には、前記配管を保温する配管保温手段が配設されていることを特徴とする請求項６乃至８の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生装置。
【請求項１０】
前記高沸点分離器の分離液を、前記高沸点分離器から前記精製器まで移送する配管には、前記配管内を減圧する減圧手段と、前記配管を保温する配管保温手段が配設されていることを特徴とする請求項６乃至９の何れか１の請求項に記載されたレジスト剥離液の再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、使用済みのレジスト剥離液から溶剤成分を分離し、再生使用する剥離液の再生方法に関し、特に、使用済みのレジスト剥離液の水分濃度を超音波センサで検量し、低沸点分離工程前の水分濃度が分かり、低沸点分離工程で最適となる運転状況を自動制御若しくは手動設定変更により可能とするレジスト剥離液の再生方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体や液晶ディスプレイ、有機および無機のＥＬディスプレイの製造では、フォトリソグラフィの技術が多用される。ここでは、基板上に材料薄膜を形成し、その上にレジストでパターンを形成する。そしてそのレジストパターンに沿ってエッチング処理を行い、材料薄膜を所望のパターンに形成する。そして、最後に残ったレジストを剥離する。
【０００３】
レジストは、感光性を有する樹脂材料であり、例えばノボラック樹脂等が好適に利用されている。したがって、レジストを剥離させるためには溶剤が基体となる剥離剤が使用される。例えば、モノエタノールアミン、ジメチルスルホキシドの混合物や、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合物である所謂シンナー等、更に複数の溶剤成分と水分からなる水系剥離液が使用される。
【０００４】
これらの溶剤は大量に使用され、決して安価ではない。また、再資源化の観点から、各溶剤成分に分離・再資源化が最も効果的な方法であるが、個別溶剤を再利用化できるまで、分離・精製するにはコスト面から実用的な方法には至っていない。一般的には、使用済みレジスト剥離液を助燃剤として使用される場合が多いが、水分を有することもあり、大量に使用されるため、燃焼によって分解させるにもコストがかかる。
【０００５】
したがって、使用済みレジスト剥離液は回収して気化分離し、再使用することが行われている。特許文献１では、そのような溶剤の再生方法が開示されている。特許文献１の再生方法では、使用済みレジスト剥離液から樹脂成分をまず除去し、次に低沸点不純物を蒸発除去する。そして、その残留液を蒸留し、溶剤成分を蒸発させ凝縮液として回収する。
【０００６】
回収した使用済みレジスト剥離液から再生液を得るためには、使用済みレジスト剥離液中に存在する成分を測定し、それに応じて分離や調整工程を変更する必要がある。特許文献２には、フォトレジストの現像工程において現像液の使用済み液を受け入れる際に炭酸ガス由来の化学種の濃度測定に吸光度を利用することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−０１４４７５号公報（特許第３４０９０２８号）
【特許文献２】特開２００５−０７０３５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
使用済みレジスト剥離液の再生では、後工程での気化分離効率を上げるため、最初に水の粗分離を行う。すなわち、低沸点分離工程より後の工程では水分量を所定の値以下にしておくことが効率の高い再生には必要である。レジスト剥離液は最初の調製の際に各成分の比率が正確に調整されているので、使用後であっても、水分量はほぼ一定になる。
【０００９】
ところが、使用後のレジスト剥離液には、さまざまな理由で、予定していた場合より多くの水分が混入する場合がある。また、逆に少なくなる場合もある。レジスト剥離液の再生装置は、所定濃度の水分を分離する条件で運転されるので、使用後のレジスト剥離液の水分濃度が変化すると、運転異常の状態になるおそれがある。
【００１０】
そのような運転異常の状態を回避するため、若しくは仮に運転異常になった際にはその原因が把握できるようにするため、水溶性の使用済みレジスト剥離液中の水分量はモニタしておく必要がある。従来は使用後のレジスト剥離液中の成分の分析には、特許文献２のように光透過若しくはＩＲによる方法が用いられていた。
【００１１】
しかし、使用後のレジスト剥離液は、濃いワイン色をしており、光が十分に透過しない場合があり、さらには、レジストがデブリ状態で浮遊していると、光を用いた測定では、バックグラウンドのノイズが高くなり、実質的に測定するのは困難になるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は上記の課題に鑑みて想到されたものであり、使用後のレジスト剥離液を低沸点分離工程に投入する前に超音波センサで水分量を検量し、水分量に合わせて、低沸点分離工程での処理量等を調整するように制御する。若しくは手動での設定変更により、運転を最適化する。
【００１３】
より具体的に本発明のレジスト剥離液の再生方法は、
レジストの剥離に用いられ、少なくとも溶剤と水とレジスト成分を含む使用済みレジスト剥離液から、
前記水の一部を廃液Ａとして気化分離し取り出す低沸点分離工程と、
前記低沸点分離工程の分離残留液を気化分離し、前記レジスト成分を含むレジスト含有残留液と、前記溶剤と前記水の残りを分離液として取り出す高沸点分離工程と、
前記高沸点分離工程の分離液から他の低沸点成分と前記水の残りを合わせて廃液Ｂとして気化分離し、分離残留液をレジスト剥離再生液として取り出す精製工程を有し、
前記使用済みレジスト剥離液中の水分量を前記低沸点分離工程の前段で超音波センサを用いて検量し、前記水分量が所定の値より大きい場合は、使用済みレジスト剥離液の処理量を低減する低減工程を有することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明のレジスト剥離液の再生装置は、
レジストの剥離に用いられ、少なくとも溶剤と水とレジスト成分を含む使用済みレジスト剥離液から、
前記水を含む低沸点成分の一部を分離させて廃液Ａとして気化分離し取り出す低沸点分離器と、
前記低沸点分離器の分離残留液を気化分離し、前記レジスト成分を含むレジスト含有残留液と、前記溶剤と前記水を含む低沸点成分の残りを分離液として取り出す高沸点分離器と、
前記高沸点分離器の分離液から前記水を含む低沸点成分の残りを廃液Ｂとして気化分離し、分離残留液をレジスト剥離再生液として取り出す精製器を有し、
前記使用済みレジスト剥離液中の水分量を前記低沸点分離工程の前段で超音波センサを用いて検量し、前記水分量が所定の値より大きい場合は、使用済みレジスト剥離液の処理量を低減するよう制御する制御装置を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のレジスト剥離液の再生方法では、使用後のレジスト剥離液中の水分量を超音波センサで検量するので、使用済みレジスト剥離液の色が濃い場合であっても、また、レジスト剥離液中にレジストがデブリ状態で浮遊していても、正確な水分量を検量することができる。また、この水分量の情報によって、低沸点分離工程での処理時間を調整することで後段の気化分離工程は常に効率の高い状態で運転することが出来る。
【００１６】
また、水分の分離は低沸点分離工程だけでなく、その後段の工程でもおこなうため、この時点での水分測定はそれほど厳しい精度は必要としない。超音波センサは、この状況での測定精度に十分耐える精度を有する上、インラインで使用でき、省スペースでしかも安価であるのでコストの削減にも寄与する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係るレジスト剥離液の再生装置の構成を示す図である。
【図２】分離装置の詳細な構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に本発明に係るレジスト剥離液の再生方法および装置について図面を用いて説明する。なお、下記の説明は本発明の一実施形態を説明するのであり、下記の説明に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更することができる。
【００１９】
まず、図１に本発明のレジスト剥離液の再生装置１の概要を示す。本発明の再生装置１は、使用済みレジスト剥離液が貯留されている回収槽５０から使用済みレジスト剥離液を移送する配管ＬＸと、使用済みレジスト剥離液からレジスト濃縮液とレジスト剥離再生液と主として水である廃液Ａおよび廃液Ｂを排出する分離装置１０と、配管ＬＸに連結され、配管ＬＸ中の溶液の水分量を検量する超音波水分計３５と、超音波水分計３５からの信号Ｓｗに基づいて、ポンプ５２を含む、分離装置１０の各所を制御する制御装置３０を含む。
【００２０】
半導体等の製造に用いるフォトリソグラフィでは、回路や絶縁パターンをエッチングで形成してゆく。この時にエッチングさせず残しておく部分にレジストを形成させる。そして、エッチングが完了した後、このレジストを除去する。このレジスト除去工程で使用されるのが、レジスト剥離液である。レジスト自体は感光性樹脂であり、レジストを除去するのは、基本的に有機溶剤である。ここでは、レジスト剥離液を溶剤と水の混合液であるとして説明を続ける。
【００２１】
溶剤としては、複数の溶剤が含まれていてもよい。好適に利用されるものとして、アミン化合物およびグリコールエーテルの混合物がある。また、より具体的にはアミン化合物はモノエタノールアミン（ＭＥＡ）であり、グリコールエーテルは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）が好適に用いられる。また防食機能を有する添加剤は、剥離液組成物を構成するアルカリ性の溶剤の濃度やｐＨ及び、フォトリソグラフィによって形成される金属配線の材料によって、適宜純水に微量添加しても良い。添加剤は、フォトリソグラフィによって形成した金属配線のパターンを侵食させないためのものである。主として有機物であり、例えばソルビトールやキシリトールが挙げられる。
【００２２】
レジスト剥離液は図示しないエッチング工程で使用され、剥離させたレジストと共に使用済みレジスト剥離液となって回収槽５０に貯留される。図１はその回収槽５０から記載される。回収槽５０に貯留された使用済みレジスト剥離液は、ポンプ５２によって分離装置１０に送られる。分離装置１０内の詳細は図２を用いて後述する。
【００２３】
分離装置１０からは、レジストや回路パターンで使用されたアルミニウムやＳｉＯ２といった物質が濃縮されたレジスト濃縮液と、複数の溶剤の混合物であるレジスト剥離再生液と、廃液Ａおよび廃液Ｂとして取り出される水分が排出される。
【００２４】
＜分離装置の説明＞
ここで、図２を参照して、分離装置１０の詳細を説明する。分離装置１０は、低沸点分離器１２と、高沸点分離器１４と残渣濃縮器１５と精製器１６から構成される。また、分離装置１０の入口１０ｉと低沸点分離器１２の間は配管Ｌ０で連通されている。低沸点分離器１２と高沸点分離器１４は配管Ｌ１で連通されている。
【００２５】
配管Ｌ１には、ポンプ５３が配置されている。低沸点分離器１２の分離残留液はこのポンプ５３によって、配管Ｌ１中を高沸点分離器１４まで移送される。また低沸点分離器１２からのベーパー状分離液は配管Ｌ２で取り出される。このベーパー状分離液が廃液Ａである。
【００２６】
高沸点分離器１４は残渣濃縮器１５と配管Ｌ３と配管Ｌ４で連通されている。高沸点分離器１４の分離残留液（レジスト含有残留液）は配管Ｌ３で残渣濃縮器１５に移送される。また残渣濃縮器１５からの分離液は配管Ｌ４で再度高沸点分離器１４に送られる。高沸点分離器１４からのベーパー状分離液は配管Ｌ５で精製器１６に移送される。
【００２７】
精製器１６からは分離残留液を配管Ｌ６で取り出す。この時の分離残留液はレジスト剥離液中の複数の主溶剤の混合液である。また、精製器１６のベーパー状分離液は配管Ｌ７で還流タンク１７に移送される。還流タンク１７からは、配管Ｌ１１によって廃液Ｂが取り出される。この廃液Ｂは主溶剤成分より低沸点である変性された溶剤および水分である。還流タンク１７の残りは、配管Ｌ１０を介して再び精製器１６の頂上付近に還流される。また配管Ｌ７には分岐管が引き出され真空ポンプＶＰが配置されている。
【００２８】
なお、本明細書を通じて、「変性された溶剤」とは、主溶剤成分より低沸点側の溶剤をいい、主溶剤成分の一部が含まれていてもよい。気化分離では、分離温度の前後の沸点の物質が多少とも分離側、残渣側に含まれる。したがって、主溶剤の回収率を高めようとすれば、主溶剤側に水分が混入し、回収する主溶剤の純度を高めようとすると、水側に溶剤成分が混入する。つまり、「変性された溶剤」にどれくらいの主溶剤が含まれるかは、装置の運転条件で決まるからである。
【００２９】
上述した制御装置３０は、超音波水分計３５と連結されており、超音波水分計３５からの信号Ｓｗに基づいて指令信号（以後単に「指令」ともいう。）を送信する。制御装置３０は、ポンプ５２には指令Ｃｐ１を、ポンプ５３に指令Ｃｐ２を送信することができる。または、ポンプ５２、ポンプ５３がインバータ付ポンプでない場合は、これらの直後に流量調整弁を挿入し、制御装置３０は流量調整弁を制御するようにしてもよい。
【００３０】
これらの指令によって制御装置３０は、ポンプ５２とポンプ５３の流量を制御することができる。すなわち、回収槽５０からの使用済みレジスト剥離液を分離装置１０に移送する量と、低沸点分離器１２から高沸点分離器１４に分離残留物を移送する量を制御することができる。
【００３１】
また、制御装置３０は、低沸点分離器１２に指令Ｃｔ１を、高沸点分離器１４に指令Ｃｔ２を、そして精製器１６に指令Ｃｔ３を送信することができる。また、ポンプ５２には指令Ｃｐ１を、ポンプ５３には指令Ｃｐ２を送信することもできる。これらの指令によって制御装置３０は、低沸点分離器１２および高沸点分離器１４の設定温度を維持するように蒸気の流入量及び使用済み剥離液の移送量を変更することができる。
【００３２】
以上のように構成された分離装置１０について、まず、定常的に使用済みレジスト剥離液が処理されている場合の、各部の動作を説明する。これを定常運転状態と呼ぶ。分離装置１０には、回収槽５０から使用済みレジスト剥離液が導入される。使用済みレジスト剥離液は、レジスト剥離液と、剥離されたレジスト成分と、アルミニウムやＳｉＯ２といったパターン形成された膜構成物質（無機固形物）が混合状態になっている。すなわち、分離装置１０には、水と、溶剤と、レジスト成分および無機固形物の混合物が配管ＬＸを通じて導入される。
【００３３】
配管ＬＸを流れている使用済みレジスト剥離液の水分量は超音波水分計３５によって水分量が測定される。使用済みレジスト剥離液には多くのレジストが混入しており、濃いワイン色に近い色をしている。また、レジストは一様に溶けているのではなく、一部はデブリ状になって浮遊しているものもある。つまり、光は通過しにくく、また液中の浮遊物で散乱させられる。
【００３４】
しかし、超音波水分計３５は、このような状態の使用済みレジスト剥離液であっても、液中の音速を測定し、予め測定しておいた検量線と比較することで、水分量を測定することができる。超音波水分計３５は、このようにして測定した使用済みレジスト剥離液中の水分比率（若しくは水分量）を信号Ｓｗとして制御装置３０に送信する。定常運転状態においては、制御装置３０は、使用済みレジスト剥離液中の水分量を予め決められた量だけ気化分離するように、分離装置１０への使用済みレジスト剥離液の供給および各分離器の運転状態を制御している。
【００３５】
分離装置１０の初段には低沸点分離器１２が設置されている。低沸点分離器１２は、ステンレス製の筒状形状をしており、周囲は蒸気等で加熱され、グラスウール等の断熱材でおおわれている。低沸点分離器１２の内部は塔底で約１１５℃から１４０℃、塔頂で約８５℃から１１５℃が好適であり、より好ましくは、塔底で１２０℃から１３５℃、塔頂で９０℃から１１０℃に加熱されている。
【００３６】
ここでは主として使用済みレジスト剥離液中の水分を気化し粗分離する。なお、低沸点分離器１２は、制御装置３０からの指示Ｃｔ１によって、運転温度を変化させる。後段の高沸点分離器１４内では、減圧下で昇温されるため、沸点の低い多量の水分は完全に気化し、高沸点分離器１４の大部分の容積を占めてしまい、より沸点の高い材料の分離効率が低下するからである。したがって、低沸点分離器１２からのベーパー状分離液である廃液Ａはほぼ水分である。気化分離された水分（廃液Ａ）は配管Ｌ２によって取り出される。
【００３７】
低沸点分離器１２の分離残留液は、図示しない加熱器（リボイラー）によって、約１２０℃〜１５０℃に加熱され、配管Ｌ１を介して高沸点分離器１４に移送される。配管Ｌ１は、周囲をグラスウール等の断熱材で覆われている。そして配管Ｌ１中の分離残留液は、約１１５℃から１４０℃に保温される。
【００３８】
配管Ｌ１を保温する断熱材を配管保温手段ＨＬ１とよぶ。分離残留液は、使用済みレジスト剥離液となる際に空気中の炭酸ガスを吸収している場合がある。この炭酸ガスは、溶剤（例えばモノエタノールアミン等）と反応すると炭酸塩が生成する。
【００３９】
この炭酸塩は、分解温度が約１２０℃以上であり、以後の分離工程でも溶剤と共に分離される。この炭酸塩が混入した溶剤を再度レジスト剥離液として利用すると、剥離性の機能が損なわれ、剥離不良が発生し、残渣残り等基板不良の原因となる。低沸点分離器１２の分離残留物の移送の際に配管Ｌ１を約１１５℃から１４０℃に保温するのは、後段の高沸点分離器１４への熱エネルギーを有効に利用すると共に炭酸ガスの反応を防止する効果もある。
【００４０】
また、配管Ｌ１にはポンプ５３が配設されている。低沸点分離器１２の分離残留液を高沸点分離器１４に移送する移送レート（単位時間当たりの移送量）を制御するためである。なお、ポンプ５３は、制御装置３０からの指令Ｃｐ２によって移送レートを変化させることができる。
【００４１】
高沸点分離器１４は、低沸点分離器１２同様ステンレス製の筒状形状をしている。周囲には、加熱手段が配設され、さらに、グラスウール等の断熱材でおおわれている。高沸点分離器１４の中は、真空ポンプＶＰによって１．９から２．１ｋＰａ（１４から１６Ｔｏｒｒ）程度に減圧され、塔頂９０℃から１１０℃、塔底９５℃から１１５℃での温度調整をしている。この環境下では剥離液の主成分である溶剤が気化分離する。もちろん、残留している水および炭酸ガスも同時に気化分離する。なお、高沸点分離器１４は、制御装置３０からの指示Ｃｔ２によって、運転温度を変化させる。
【００４２】
これらのベーパー状分離液は配管Ｌ５によって精製器１６に移送される。配管Ｌ５は配管Ｌ１同様、周囲を断熱材で覆い略１２０℃から１５０℃で保温される。配管Ｌ５を保温するのは配管保温手段ＨＬ５である。また、配管Ｌ５内は、精製器１６と還流タンク１７の間の配管Ｌ７に配設された、系内の減圧手段である真空ポンプＶＰによって減圧される。また、真空ポンプＶＰによる減圧は高沸点分離器１４内におよび、内部のベーパー状分離液は精製器１６に移送される。
【００４３】
高沸点分離器１４内に残留する分離残留液は、レジスト成分、および無機固形物である。これらをレジスト含有残留液と呼ぶ。レジスト含有残留液は、配管Ｌ３を介して残渣濃縮器１５に移送される。残渣濃縮器１５は、配管Ｌ３から送られたレジスト含有残留液から、沸点が減圧下で１２５℃以下のものを再度気化分離し、気化分離されたものを配管Ｌ４で高沸点分離器１４に戻す。なお、ここで高沸点分離器１４に戻されるのは、水と溶剤である。残渣濃縮器１５の分離残留液をレジスト濃縮液という。
【００４４】
したがって、残渣濃縮器１５から配管Ｌ８を介して得られるレジスト濃縮液はほぼレジスト成分と無機固形物である。また、残渣濃縮器１５には、配管Ｌ１から低沸点分離器１２の分離残留液を直接導入できる配管Ｌ９も配設されている。これは、残渣濃縮器１５を洗浄する際に用いる。
【００４５】
高沸点分離器１４からのベーパー状分離液は精製器１６に移送される。精製器１６もステンレス製の筒状形状をしている。また、周囲も蒸気等で加熱され、グラスウール等の断熱材でおおわれている。高沸点分離器１４からのベーパー状分離液は、精製器１６の中ほどに放出される。
【００４６】
精製器１６内は図示しないがリボイラー部で８０℃から９０℃、精製器１６中段部で６５℃から９０℃、精製器１６塔頂では２５℃から３２℃で温度調整される。さらに真空ポンプＶＰによって１．９から２．１ｋＰａ（１４から１６Ｔｏｒｒ）程度に減圧されている。ここでは、溶剤は沸点以下の温度になるので、液化し分離残留液として配管Ｌ６を介して回収される。この分離残留液がレジスト剥離再生液である。
【００４７】
レジスト剥離再生液は複数の溶剤の混合物である。なお、図示しないが、配管Ｌ６は配管ＬＸと熱交換させ、より安定な温度でレジスト剥離再生液として回収する。なお、精製器１６は、制御装置３０からの指示Ｃｔ３によって、運転温度を変化させる。
【００４８】
一方、水分と炭酸ガスはベーパー状分離液として配管Ｌ７によって還流タンク１７へ移送される。この配管Ｌ７も、配管Ｌ５、配管Ｌ１同様、周囲を断熱材で覆われ約１２０℃から１５０℃に保温される。配管Ｌ７に配設される配管保温手段は、配管保温手段ＨＬ７と呼ぶ。配管Ｌ７は、配管保温手段ＨＬ７で保温され、真空ポンプＶＰで減圧されている。還流タンク１７からは、水と炭酸ガスを配管Ｌ１１で廃液Ｂとして取り出し、一部は再び配管Ｌ１０を介して精製器１６に戻す。また、廃液Ｂには水以外の他の低沸点成分も含まれる。
【００４９】
ここで、分離装置１０へ供給する使用済みレジスト剥離液中の水分量が多くなったとする。これは配管ＬＸ中を流れる使用済みレジスト剥離液中の水分量を超音波水分計３５が検出し、信号Ｓｗによって制御装置３０へ伝える。
【００５０】
高沸点分離器１４では所定の水分量を有する分離残留液を処理するのが最も効率がよいので、高沸点分離器１４に移送する低沸点分離器１２の分離残留物中の水分量は所定の比率にしたい。そこで、制御装置３０は、低沸点分離器１２での水分分離量を多くするような制御を行う。
【００５１】
具体的には、使用済みレジスト剥離液の低沸点分離器１２中の滞留時間を長くすることである。このようにすることで、多くの水分を粗分離することができるので、高沸点分離器１４には所定の値の水分比率の分離残留物を送ることが出来る。
【００５２】
低沸点分離器１２中での使用済みレジスト剥離液の滞留時間を長くするために、制御装置３０は、ポンプ５２の移送量を減らすと共に、ポンプ５３の移送量も定常運転状態より低減する。これにより、高沸点分離器１４と精製器１６の処理量を減らすことで、結果として、各分離器で分離させる温度が下がらず、良い品質のレジスト剥離再生液を得ることができる。なお、高沸点分離器１４と精製器１６の処理温度を下げてもよい。
【００５３】
また、低沸点分離器１２の処理量を増やしてもよい。具体的には低沸点分離器１２の運転温度を高めることである。しかし、低沸点分離器１２の運転温度をあまり高くすると、本来分離残留物として、高沸点分離器１４に移送する溶剤等も気化分離してしまう。つまり、溶剤の回収率が低下してしまう。
【００５４】
低沸点分離器１２の運転温度は、水分の粗分離ができる範囲に留め、それ以上の水分の分離が必要な場合は、滞留時間の延長という制御を行うのがよい。このように、制御装置３０は、超音波水分計３５で使用済みレジスト剥離液中の水分が多い場合は、分離装置１０中の単位時間当たりの処理量を定常運転状態より低減する制御を行う。これを低減工程と呼ぶ。
【００５５】
以上のように本発明のレジスト剥離液の再生装置１では、回収槽５０から分離装置１０へ移送される使用済みレジスト剥離液を超音波水分計３５で測定するので、使用済みレジスト剥離液がレジスト成分や無機固形物で混濁していても、水分量を計測することが出来る。その結果、分離装置１０の低沸点分離器１２での水分の粗分離を適切に行えるので、効率的に分離処理を行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明のレジスト剥離液の再生装置および再生方法は、フォトリソグラフィを利用して配線パターンなどを形成する工程を有する電子機器等の製造工場における、レジスト剥離液の再生利用に好適に利用することができる。
【符号の説明】
【００５７】
１  再生装置
１０  分離装置
１０ｉ  入口
１２  低沸点分離器
１４  高沸点分離器
１５  残渣濃縮器
１６  精製器
１７  還流タンク      
３０  制御装置
３５  超音波水分計
５０  回収槽
５２、５３  ポンプ
ＨＬ１、ＨＬ５、ＨＬ７  配管保温手段
ＬＸ、Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９  配管
Ｌ１０、Ｌ１１  配管
ＶＰ  真空ポンプ
【図１】
2014078643.tif 000003
【図２】
2014078643.tif 000004