(57)【要約】      （修正有）【課題】優れた硬度と、同時に曲げに対する割れ（クラック）の発生が抑制できる耐屈曲性を備えた反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明基材の一方の面に、（Ａ）低屈折率ナノ微粒子、（Ｂ）多官能アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）溶剤を含む低屈折率層が積層された反射防止フィルムであって、（Ｂ）多官能アクリレート化合物が、分子中に下記化学式１で表される繰り返し単位と、３つ以上のアクリロイル基とを有する。2014123024.tif 000005【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に、少なくとも（Ａ）低屈折率ナノ微粒子、（Ｂ）多官能アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）溶剤を含む低屈折率層形成用組成物からなる低屈折率層が積層された反射防止フィルムであって、
前記（Ｂ）多官能アクリレート化合物が、分子中に下記化学式１で表される繰り返し単位と、３つ以上のアクリロイル基とを有することを特徴とする反射防止フィルム。
【化２】
2014123024.tif 000004
（式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）
【請求項２】
前記繰り返し単位がエチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項１〜２のいずれかに記載の反射防止フィルムと、前記透明基材の他方の面側に第１の偏光板を備えたことを特徴とする反射防止性偏光板。
【請求項４】
請求項３に記載の反射防止性偏光板と、液晶セルと、第２の偏光板と、バックライトユニットとを順次積層してなることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止性能及び帯電防止性能を備える反射防止フィルムに関する。さらには、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、ディスプレイ表面に傷が付かないように硬度を付与するなどの反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。
【０００４】
乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止層の生産が注目されている。
【０００５】
湿式成膜法により反射防止層、特に低屈折率層を設けるにあっては、形成される低屈折率層を低屈折率とするために塗液に低屈折率ナノ微粒子が添加される（特許文献１）。硬度を付与するためには多官能アクリレート系の活性エネルギー線硬化性樹脂をコーティングする方法などが挙げられる。しかし、反射防止フィルムの硬度が高くなると傷は付き難くなるが、曲げに対して脆くなり、反射防止フィルムの製造時や搬送時の取り扱いで割れ（クラック）が生じ、歩留まりが低下するという問題があった（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−２８３６１１
【特許文献２】特開２００８−２５０２６６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は優れた硬度と、同時に曲げに対する割れ（クラック）の発生が抑制できる耐屈曲性を備えた反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、透明基材の一方の面に、少なくとも（Ａ）低屈折率ナノ微粒子、（Ｂ）多官能アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）溶剤を含む低屈折率層形成用組成物からなる低屈折率層が積層された反射防止フィルムであって、
前記（Ｂ）多官能アクリレート化合物が、分子中に下記化学式１で表される繰り返し単
位と、３つ以上のアクリロイル基とを有することを特徴とする反射防止フィルムである。
【０００９】
【化１】
2014123024.tif 000002
（式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）
【００１０】
また、請求項２に係る発明としては、前記繰り返し単位がエチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムである。
【００１１】
また、請求項３に係る発明としては、請求項１〜２のいずれかに記載の反射防止フィルムと、前記透明基材の他方の面側に第１の偏光板を備えたことを特徴とする反射防止性偏光板である。
【００１２】
また、請求項４に係る発明としては、請求項３に記載の反射防止性偏光板と、液晶セルと、第２の偏光板と、バックライトユニットとを順次積層してなることを特徴とする透過型液晶ディスプレイである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る請求項１によれば、前記低屈折率層形成用組成物を構成する（Ｂ）多官能アクリレート化合物が、分子中に上記化学式１で表される繰り返し単位と、３つ以上のアクリロイル基を含むことにより、優れた硬度と耐屈曲性を備えた反射防止フィルムを提供することができる。
【００１４】
また、請求項２によれば、前記繰り返し単位がエチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることにより、エーテル結合に隣接するアルキル基の鎖長が短くなる。その結果、アルキル基によるエーテル結合の遮蔽が抑制され、エーテル結合による柔軟性をより効果的に発現することができる。
【００１５】
これにより、優れた硬度と耐屈曲性を備えた反射防止フィルムと、それを具備した反射防止性偏光板及び透過型液晶ディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一実施形態を示す概略断面図
【図２】図１の反射防止フィルムを具備した反射防止性偏光板を示す概略断面図
【図３】図２の反射防止性偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１は、本発明の反射防止フィルム１の一実施形態を示す概略断面図を示している。図１に示すように本発明の反射防止フィルム１は、透明基材１１の一方の面に、ハードコート層１２と、低屈折率層１３とが順次積層された積層体であり、前記低屈折率層１３が、（Ａ）低屈折率ナノ微粒子１３１、（Ｂ）多官能アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）溶剤を含む低屈折率層形成用組成物からなり、前記（Ｂ）多官能アクリレート化合物が分子中に、化学式１で表される繰り返し単位と、３つ以上のアクリロイル基とを有することを特徴とする。
【００１８】
以下、本発明の低屈折率層の形成に用いられる低屈折率層形成用組成物について説明する。
【００１９】
本発明に係る前記低屈折率層形成用組成物は、少なくとも（Ａ）低屈折率ナノ微粒子、（Ｂ）多官能アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）溶剤からなる。発明者等の鋭意研究の結果、前記（Ｂ）多官能アクリレート化合物が分子中に前記化学式１で表さ
れる繰り返し単位と、３つ以上のアクリロイル基とを有する化合物であるとき、優れた硬度と耐クラック性を併せ持つ低屈折率層が得られることを見出した。
【００２０】
すなわち、前記（Ｂ）多官能アクリレート化合物が分子中に上記化学式１で表されるエーテル結合を繰り返し単位として持つことで、エーテル結合に由来する柔軟性を発現できる。また、同分子中に３つ以上のアクリロイル基を有することで架橋密度を高めることができ、優れた硬度（ハードコート機能）を発現できる。特に、上記繰り返し単位の中でも、アルキル基の鎖長が短いエチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基は、前記エーテル結合の柔軟性を阻害することがないのでより好ましい。
【００２１】
なお、前記（Ｂ）多官能アクリレート化合物は１種類であっても２種類以上であってもよく、種類の数は特に限定されない。
【００２２】
また、上記（Ｂ）多官能アクリレート化合物は化学式１で表される繰り返し単位を有する多官能アクリレート化合物と、上記繰り返し単位を持たない多官能アクリレート化合物との混合体であってもよい。また、繰り返し単位を持たない多官能アクリレート化合物は１種類であっても２種類以上であってもよく、種類や種類の数は特に限定されない。
【００２３】
化学式１で表される繰り返し単位を持つ多官能アクリレート化合物としては、例えば２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、エトキシ化ノニルフェニルアクリレート、アルコキシ化ノニルフェニルアクリレート、２−フェノキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシージエチレングリコールアクリレート、メトキシ−トリエチレングリコールアクリレート、２エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、メトキシーポリエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリアクリレートなどが挙げられる。
【００２４】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００２５】
本発明の低屈折率層形成用組成物に含まれる（Ａ）低屈折率ナノ微粒子としては、屈折率が１．２０以上１．４０以下の範囲であることを特徴とし、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）、シリカ等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
【００２６】
なお、低屈折率ナノ微粒子の平均粒径にあっては、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の凝集等の問題が生じる。なお、平均粒径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒径（ｄ５０  メジアン径）を意味する。
【００２７】
一般に、反射防止フィルムは低屈折率層単層で構成される単層構造の反射防止層や、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成することが知られている。本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止層が、バインダマトリックス中に低屈折率粒子を含む低屈折率層単層構造であることが好ましい。
【００２８】
このとき、低屈折率層単層は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設形成される。
【００２９】
本発明の低屈折率層形成用組成物に含まれる（Ｃ）光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００３０】
また、本発明の低屈折率層形成用組成物に含まれる（Ｄ）溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から溶解性や塗工適正等を考慮して適宜選択される。
【００３１】
また、本発明の低屈折率層形成用組成物には、必要に応じて各種添加剤を加えることができる。添加剤としては、例えば、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等がある。
【００３２】
本発明の反射防止フィルムに係る透明基材としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などを有した種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００３３】
中でも、トリアセチルセルロースフィルムは複屈折が少なく、透明性が良好であることから、液晶ディスプレイ用の反射防止フィルムにいる場合には好適である。トリアセチル
セルロースフィルムの屈折率は約１．５０であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。例えば、透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、１．６０程度である。
【００３４】
また、本発明の反射防止フィルムは、透明基材と低屈折率層との間にハードコート層を備えることが好ましく、優れた耐擦傷性や硬度を付与することができる。
【００３５】
上記ハードコート層は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とするハードコート層形成用組成物からなる。具体的には、下記（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを含むハードコート層形成用組成物を透明基材上に塗布し、必要に応じて乾燥をおこない、電離放射線を照射することによりハードコート層が形成される。
【００３６】
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー等を挙げることができる。
【００３７】
また、反射防止フィルムは、静電気を帯びやすく埃の付着などから外観上の問題となることがある。そのため、ハードコート層形成用組成物に静電気を防止するための導電性材料を添加し、帯電防止性能を付与することができる。例えば、ハードコート層に金属酸化物微粒子を分散させることによって帯電防止性を付与することができる。金属酸化物微粒子としては、透明導電膜に用いられるＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）やＩＴＯ（酸化インジウム酸化スズ）、酸化スズ、酸化チタン、五酸化アンチモンなどを用いることができる。また、導電性材料として、４級アンモニウム塩や導電性ポリマーを用いることもできる。４級アンモニウム塩の帯電防止剤として、例えばライトエステルＤＱ１００（共栄社化学製）、ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製、固形分１０％）などを挙げることができる。
【００３８】
このようにして形成されたハードコート層上に、前記低屈折率層形成用組成物を塗布した後、乾燥し、電離放射線を照射することにより低屈折率層を形成するで、本発明の一実施形態である反射防止フィルムを作製することができる。
【００３９】
以下に、本発明の一実施形態として、上記反射防止フィルムの作製方法についてより具体的に説明する。
【００４０】
透明基材に形成されたハードコート層の上に、前記低屈折率層形成用組成物を塗布
し、乾燥工程により塗膜中の溶媒を除去し、その後、電離放射線を照射することにより、低屈折率層が形成される。
【００４１】
前記低屈折率層形成用組成物を塗布する方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ダイコーターなどを用いることができる。また、乾燥手段としては、加熱、送風、熱風などを用いることができる。また、硬化するための電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、
カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。
【００４２】
紫外線硬化の場合、照射される紫外線の積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内であることが好ましい。照射される紫外線の積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２未満の場合は、硬化が不十分であり、低屈折率層の耐擦傷性が低下してしまう。一方、照射される紫外線の積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２を超える場合であっては、シワが発生してしまう。
【００４３】
本発明の反射防止フィルムは、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。ディスプレイとしてはＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等を挙げることができる。また、ディスプレイ内部に用いることもできる。以下、本発明の反射防止フィルムを用いた反射防止性偏光板、透過型液晶ディスプレイの構成について説明する。
【００４４】
図２は、図１の反射防止フィルムを具備した反射防止性偏光板を示す概略断面図である。図２に示すように、本発明の反射防止性偏光板２００は、反射防止フィルム１と偏光板２とを備え、該反射防止フィルム１のハードコート層１２が形成されていない面側に、偏光層２３および透明基材２１からなる偏光板２が配置されている。すなわち、透明基材１１の一方の面（上面）に、透明基材１１側から順に、ハードコート層１２および低屈折率層１３が積層されており、透明基材１１のもう一方の面（下面）に、透明基材１１側から順に、偏光層２３および透明基材２１が積層されている。なお、これら偏光層２３および透明基材２１には特に限定がなく、通常の反射防止性偏光板に用いられるものを適宜用いることができる。
【００４５】
図３は、図２の反射防止性偏光板２００を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図である。図３に示す透過型液晶ディスプレイは、前記反射防止フィルム１と前記偏光板２からなる反射防止性偏光板２００、液晶セル３、偏光板４、バックライトユニット５とを順次積層してなる。
【００４６】
前記偏光板４は透明基材４１、４２間に偏光層４３が挟持された構造からなり、前記バックライトユニット５は光源と光拡散板とを備える。また、液晶セル３は、一方の透明基材に電極が設けられ、他方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。そして、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００４７】
なお、本発明の透過型液晶ディスプレイは、他の機能性部材を備えていてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
以上のように、本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイを作製することができる。
【実施例】
【００４９】
以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【００５０】
（実施例１）
透明基材として、厚さ６０μｍ、トリアセチルセルロースフィルムを用い、その一方の面に下記ハードコート層形成用組成物をワイヤーバーコーターにより塗布し、２０秒２５℃で室温乾燥をおこなった。その後、オーブンで４０秒８０℃乾燥をおこない、乾燥後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線硬化装置で露光量２００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射し、厚さ５μｍの電防止機能付きハードコート層を形成した。
＜ハードコート層形成用組成物＞
・アクリレート化合物（α）：                                   ４７重量部
（プロポキシ化グリセリルトリアクリレート）
・光重合開始剤：                                                 １重量部
（チバジャパン社製：ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ）
・帯電防止剤（ライトエステルＤＱ１００）：                       ３重量部
・溶剤：メチルエチルケトン                                     ２９重量部
イソプロピルアルコール                                 １９重量部
【００５１】
次に、上記ハードコート層の上に、下記低屈折率層形成用組成物１をワイヤーバーコーターにより塗布し、２０秒２５℃で室温乾燥をおこなった。その後、オーブンで４０秒６０℃乾燥をおこない、乾燥後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線硬化装置で露光量２４０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射して反射防止層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
＜低屈折率層形成用組成物１＞
・多孔質シリカ微粒子分散液：                            １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・アクリレート化合物（α）：                              １．９９重量部
ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＤＰＥＡ−１２、日本化薬社製）
・光重合開始剤：                                          ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
・添加剤：（ＧＥ東芝シリコーン社製：ＴＳＦ４４６０）      ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン                            ８２．８重量部
【００５２】
（実施例２）
下記低屈折率層形成用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
＜低屈折率層形成用組成物２＞
・多孔質シリカ微粒子分散液：                            １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・アクリレート化合物（α）：                              １．９９重量部
エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
・光重合開始剤：                                          ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
・添加剤：（ＧＥ東芝シリコーン社製：ＴＳＦ４４６０）      ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン                            ８２．８重量部
【００５３】
（実施例３）
下記低屈折率層形成用組成物３を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
＜低屈折率層形成用組成物３＞
・多孔質シリカ微粒子分散液：                            １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・アクリレート化合物（α）：                              １．９９重量部
プロポキシ化グリセリルトリアクリレート
・光重合開始剤：                                          ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
・添加剤：（ＧＥ東芝シリコーン社製：ＴＳＦ４４６０）      ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン                            ８２．８重量部
【００５４】
（実施例４）
下記低屈折率層形成用組成物４を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
＜低屈折率層形成用組成物４＞
・多孔質シリカ微粒子分散液：                            １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・アクリレート化合物（α）：                              １．９９重量部
プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート
・光重合開始剤：                                          ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
・添加剤：（ＧＥ東芝シリコーン社製：ＴＳＦ４４６０）      ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン                            ８２．８重量部
【００５５】
（比較例１）
下記低屈折率層形成用組成物５を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
＜低屈折率層形成用組成物５＞
・多孔質シリカ微粒子分散液：                            １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・アクリレート化合物（α）：                              １．９９重量部
トリエチレングリコールジアクリレート
・光重合開始剤：                                          ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
・添加剤：（ＧＥ東芝シリコーン社製：ＴＳＦ４４６０）      ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン                            ８２．８重量部
【００５６】
（比較例２）
下記低屈折率層形成用組成物６を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
＜低屈折率層形成用組成物６＞
・多孔質シリカ微粒子分散液：                            １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・アクリレート化合物（β）：                              １．９９重量部
トリメチロールプロパントリアクリレート
・光重合開始剤：                                          ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
・添加剤：（ＧＥ東芝シリコーン社製：ＴＳＦ４４６０）      ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン                            ８２．８重量部
【００５７】
（比較例３）
下記低屈折率層組成物７を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
＜低屈折率層形成用組成物７＞
・多孔質シリカ微粒子分散液：                           １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量部、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・アクリレート化合物（β）：                              １．９９重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
・光重合開始剤：                                          ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）
・添加剤：（ＧＥ東芝シリコーン社製：ＴＳＦ４４６０）      ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン                            ８２．８重量部
【００５８】
＜評価及び方法＞
実施例１〜４及び比較例１〜３で得られた反射防止フィルムについて、以下の屈曲性、密着性、鉛筆硬度及び耐擦傷性を評価した。結果を下記の表１に示す。
【００５９】
「屈曲性評価」
ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−１に準拠してマンドレル試験を実施した。クラックの発生した曲率半径が１０ｍｍ以下のものを丸印（○）、１０ｍｍ以上のものをバツ印（×）として評価した。
【００６０】
「密着性評価」
ＪＩＳ−Ｋ−５６００−５−６のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。カットの間隔を１ｍｍとし、碁盤目およびカット交差部が全く剥がれていない場合を丸印（○）、少しでも剥がれている場合をバツ印（×）として評価した。
【００６１】
「鉛筆硬度評価」
ＪＩＳ−Ｋ５４０１に準拠して鉛筆硬度試験を実施した。
【００６２】
「耐擦傷性評価」
得られた反射防止フィルムについて、＃００００のスチールウールを用いて２００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら１０往復し、キズの発生の有無を確認した。キズがない場合を丸印（○）、キズが発生していない場合をバツ印（×）として評価した。
【００６３】
【表１】
2014123024.tif 000003
【００６４】
＜比較結果＞
実施例１〜４で作製した本発明品は、屈曲性、密着性、鉛筆硬度及び耐擦傷性においていずれも優れた性能が得られた。一方、比較例１〜３で作製した比較例品はいずれも実用レベルに至らなかった。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の反射防止フィルムは、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００６６】
１        反射防止フィルム
１１      透明基材
１２      ハードコート層
１３      低屈折率層
１３１    低屈折率ナノ微粒子
２        偏光板
２１      透明基材
２２      透明基材
２３      偏光層
２００    反射防止性偏光板
３        液晶セル
４        偏光板
４１      透明基材
４２      透明基材
４３      偏光層
５        バックライトユニット
【図１】
2014123024.tif 000006
【図２】
2014123024.tif 000007
【図３】
2014123024.tif 000008