(57)【要約】【課題】ＴＦＴ基板のシール部に形成された遮光部によって、紫外線硬化シール材の硬化が妨げられ、シール部の信頼性が低下することを防止する。【解決手段】シール材は内側シール材３０である紫外線硬化シール材３０と外側シール材４０である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０の２層構造となっている。外側シール材４０の下にはＴＦＴ基板１００に遮光部１０１が形成され、内側シール材３０の下にはＴＦＴ基板１００に遮光部１０１は形成されていない。ＴＦＴ基板１００側から紫外線を照射すると内側シール材３０が短時間で硬化し、その後、加熱することによって外側シール材４０を硬化させる。これによって、シール部全体を十分に硬化させることが出来、信頼性の高いシール部を形成することが出来る。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ基板と表示領域を有する対向基板がシール材を介して接着し、内部に滴下法によって注入された液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記シール材は紫外線硬化シール材からなる内側シール材と、熱硬化・紫外線硬化併用シール材あるいは熱硬化シール材からなる外側シール材が密着した構成となっており、
前記内側シール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の割合は、前記外側シール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の割合よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
ＴＦＴ基板と表示領域を有する対向基板がシール材を介して接着し、内部に滴下法によって注入された液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記シール材は紫外線硬化シール材からなる内側シール材と、熱硬化・紫外線硬化併用シール材あるいは熱硬化シール材からなる外側シール材が密着した構成となっており、
前記内側シール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の幅は、前記外側シール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の幅よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
ＴＦＴ基板と表示領域を有する対向基板がシール材を介して接着し、内部に滴下法によって注入された液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記シール材は、熱硬化・紫外線硬化併用シール材あるいは熱硬化シール材からなる第１のシール材と、前記第１のシール材を覆って、紫外線硬化シール材からなる第２のシール材とから形成され、
前記第２のシール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の割合は、前記第１のシール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の割合よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
ＴＦＴ基板と表示領域を有する対向基板がシール材を介して接着し、内部に滴下法によって注入された液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記シール材は、熱硬化・紫外線硬化併用シール材あるいは熱硬化シール材からなる第１のシール材と、前記第１のシール材を覆って、紫外線硬化シール材からなる第２のシール材とから形成され、
前記第２のシール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の幅は、前記第１のシール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の幅よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記表示領域の端部から前記対向基板の端部までの幅は１．２ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に係り、狭額縁でありながら、シールの信頼性を確保し、かつ、液晶の汚染を防止した液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、ＴＦＴ基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
【０００３】
液晶表示装置はフラットで軽量であることから、色々な分野で用途が広がっている。携帯電話やＤＳＣ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｔｉｌｌ Ｃａｍｅｒａ）等には、小型の液晶表示装置が広く使用されている。小型の液晶表示装置では、所定の表示領域を確保しつつ、外形を小さくしたいという要求が強い。そうすると、表示領域の端部と外形端部との距離、いわゆる額縁が小さくなる。この場合、液晶を封止するための封止部の面積が小さくなり、シール部の信頼性の確保が問題となる。
【０００４】
液晶はシール材によって封止されるが、滴下法（ＯＤＦ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）によって液晶を注入する場合、シール材を硬化する前に液晶が滴下される。シール材が硬化する前は、液晶中に、シール材の材料が拡散し、液晶の品質を劣化させるという問題が生ずる。「特許文献１」には、硬化する前のシール材が液晶中に拡散することを防止するために、液晶を封止する封止材として、弾性体シールを使用する。この弾性体シールは液晶を閉じ込めるだけの役割を有し、ＴＦＴ基板と対向基板との接着の役割は無い。そして、弾性体シールの外側にＴＦＴ基板と対向基板を接着するための熱硬化あるいは紫外線（ＵＶ）硬化シール材を形成する構成が記載されている。
【０００５】
また、「特許文献１」の段落「０００５」および図１１には、内側にＵＶ硬化シールを形成し、その外側に熱硬化シールを形成する構成が記載されている。但し、内側のシールと外側のシールは間隔を空けて形成されている。また、ＵＶ硬化シールとＴＦＴ基板に形成された遮光部との関係については記載は無い。
【０００６】
「特許文献２」には、シール材として、内側に熱硬化型の接着層を形成し、外側に２液性接着剤あるいは紫外線硬化樹脂による接着層を形成する構成が記載されている。「特許文献２」の目的は熱硬化樹脂によってＴＦＴ基板と対向基板を接着する際、熱歪によって、基板が変形し、ＴＦＴ基板と対向基板との間隔が変化する現象を防止することである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−１２３５３７号公報
【特許文献２】特開平１１−６４８６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
液晶の注入を滴下法によって行う場合、シール材としては、硬化速度の速いＵＶ硬化シール材が用いられている。しかし、液晶表示パネルにおいて、表示領域の端部と液晶表示パネルの端部との距離が小さい、いわゆる狭額縁の製品が要求されている。対向基板側には、ブラックマトリクスが形成されているので、紫外線の照射は、ＴＦＴ基板側から行われる。
【０００９】
しかし、狭額縁製品においては、シール材の下側に占める配線や回路などの遮光部の割合が大きくなっている。そうすると、これらの遮光部の上に存在する紫外線硬化樹脂は十分に硬化せず、高温高湿試験等において、シールが剥がれるといる不良が発生している。また、シール材が十分硬化していないと、外部からの力によって、液晶表示パネルの変形量が大きくなり、いわゆる摺動耐性が悪化する。
【００１０】
図１０および図１１は、以上のような問題点を示す平面図および断面図である。図１０は、携帯電話等に使用される液晶表示パネルである。この液晶表示パネルはいわゆる狭額縁になっており、表示領域１０の端部から対向基板２００の端部までの距離ｄは例えば、１．２ｍｍである。図１０において、ＴＦＴ基板１００の上に対向基板２００が紫外線硬化シール材３０によって接着している。ＴＦＴ基板１００は対向基板２００よりも大きく形成され、ＴＦＴ基板１００が1枚となっている部分は端子部１５０となっている。端子部１５０には、図示しないＩＣドライバが搭載され、また、図示しないフレキシブル配線基板が接続される。
【００１１】
図１０において、紫外線硬化シール材３０の下側、すなわち、ＴＦＴ基板１００には、配線あるいは走査線駆動回路等の遮光部１０１が存在している。紫外線硬化シール材３０を硬化させる紫外線は、ＴＦＴ基板１００側から照射されるので、このような遮光部１０１が存在すると、その部分の紫外線硬化シール材３０は十分に硬化しないことになる。
【００１２】
図１１は、図１０のＢ−Ｂ断面図である。図１１において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００が紫外線硬化シール材３０を介して接着している。紫外線硬化シール材３０の下のＴＦＴ基板１００には、配線等の遮光部１０１が形成されており、遮光部１０１の上には、絶縁層１０２が形成されている。なお、ＴＦＴ基板１００には、ＴＦＴ、パッシベーション膜、画素電極等が形成されているが、図１１ではこれらの層は省略されている。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間には液晶３００が挟持されている。
【００１３】
図１１において、紫外線硬化シール材３０は、ＴＦＴ基板１００側から紫外線を照射することによって硬化する。遮光部１０１の直上には紫外線が照射されないので、紫外線硬化シール材３０の未硬化領域３１が生じてしまう。そうすると、この部分における接着力が小さいために、この部分からシール材３０の剥がれをおこす危険が生ずる。
【００１４】
一方、紫外線硬化シール材の代わりに、熱硬化シール材あるいは熱硬化・紫外線硬化併用シール材を用いる方法もあるが、熱硬化シール材は硬化速度が遅く、未硬化のシール材が液晶中に拡散してしまう危険がある。また、熱硬化・紫外線硬化併用シール材は紫外線ラジカル剤と熱ラジカル剤が入っており、ラジカル剤の量が多くなり、液晶が汚染されてしまうという危険がある。
【００１５】
本発明の課題は、ＯＤＦによる液晶注入法を用いた液晶表示装置において、シール材の接着力を確保し、シール材を通して外部からの水分等の不純物の浸入を防止し、かつ、液晶がシール材、あるいは、紫外線ラジカル剤や熱ラジカル剤によって汚染されない液晶表示装置を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段の主なものは次のとおりである。
【００１７】
（１）ＴＦＴ基板と表示領域を有する対向基板がシール材を介して接着し、内部に滴下法によって注入された液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記シール材は紫外線硬化シール材からなる内側シール材と、熱硬化・紫外線硬化併用シール材あるいは熱硬化シール材からなる外側シール材とから形成され、前記内側シール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の割合は、前記外側シール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の割合よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【００１８】
（２）ＴＦＴ基板と表示領域を有する対向基板がシール材を介して接着し、内部に滴下法によって注入された液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記シール材は、熱硬化・紫外線硬化併用シール材あるいは熱硬化シール材からなる第１のシール材と、前記第１のシール材を覆って、紫外線硬化シール材からなる第２のシール材とから形成され、前記第２のシール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の割合は、前記第１のシール材が前記ＴＦＴ基板と接する部分における前記ＴＦＴ基板に形成された遮光部の割合よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ＴＦＴ基板あるいは対向基板とシール材の接着強度が向上するために外部からの力による液晶表示パネルの変形を防止することが出来、いわゆる摺動耐性を向上させることが出来る。
【００２０】
また、本発明によれば、シール材と基板との密着性が向上するので、シール部を介しての、外部からの水分等の不純物の浸入を防止することが出来る。
【００２１】
さらに、本発明によれば、液晶と接する部分のシール材は、紫外線硬化シール材を用いているので、硬化が速いために、液晶中へシール材あるいはラジカル剤が拡散して、液晶が汚染されることを防止することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施例１による液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】本発明による液晶表示装置の製造フローである。
【図４】実施例１のシール材の描画方法を示す模式図である。
【図５】実施例１において、液晶を滴下した状態を示す断面図である。
【図６】ＴＦＴ基板に対向基板を貼り合わせ、ギャップを規定し、紫外線をシール部に照射している状態を示す断面図である。
【図７】実施例２の構造を示す断面図である。
【図８】実施例２のシール材の描画方法を示す模式図である。
【図９】実施例２において、液晶を滴下した状態を示す断面図である。
【図１０】従来例における液晶表示装置の平面図である。
【図１１】図１０のＢ−Ｂ断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
【実施例１】
【００２４】
図１は本発明による液晶表示装置の平面図である。図１はシール部を除いては図１０において説明した液晶表示パネルと同様な構成となっているので、説明を省略する。この液晶表示パネルはいわゆる狭額縁になっており、表示領域の端部から対向基板の端部までの距離ｄは例えば、１．２ｍｍである。本発明は、このように、額縁の幅ｄが１．２ｍｍ以下の狭額縁の液晶表示パネルにおいて特に効果がある。つまり、狭額縁となることによって、シール材の下側に配線等の遮光部が形成される割合が大きくなり、紫外線硬化シール材を使用した場合に、未硬化部が生ずる可能性が高くなるからである。
【００２５】
図１の構成が従来例である図１０の構成と異なるのは、シール部である。図１において、シール材は内側シール材３０と外側シール材４０の２層で形成されている。内側シール材３０は、配線等の遮光部１０１よりも内側に形成されている。内側シール材３０は、紫外線硬化シール材３０で形成されている。
【００２６】
内側シール材３０と密着して外側シール材４０が形成されている。外側シール材４０は熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０によって形成されている。内側シール材３０と外側シール材４０は密着して形成されているので、シール部全体の幅は小さく維持することが出来、狭額縁とすることが出来る。
【００２７】
図２は図１のＡ−Ａ断面図である。図２の構成はシール部をのぞいては、図１１で説明したのと同様であるので、説明を省略する。図２において、シール部は、紫外線硬化シール材３０からなる内側シール材３０と、熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０からなる外側シール材４０から形成されている。
【００２８】
図２において、外側シール材４０を構成する熱硬化シール材４０または熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０の下側のＴＦＴ基板１００には配線等の遮光部１０１が形成されている。しかし、内側シール材３０を構成する紫外線硬化シール材３０の下側のＴＦＴ基板１００には遮光部１０１は形成されていない。このようなシール材の構成において、ＴＦＴ基板１００の下側から紫外線を照射すると、下方に遮光部１０１の無い紫外線硬化シール材３０は先に硬化する。したがって、シール材あるいはラジカル剤による液晶への汚染を防止することが出来る。
【００２９】
その後、熱を加えることによって、外側シール材４０である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０を硬化させ、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を強固にシールする。外側シール材４０である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０の下側のＴＦＴ基板１００には遮光部１０１が形成されているが、熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０は熱によって硬化するので、シール材は全体として完全に硬化させることが出来、シール部の信頼性を確保することが出来る。
【００３０】
図３は本発明による液晶表示装置の製造フローである。図３において、画素電極等が形成されたＴＦＴ基板に配向膜を形成し、配向処理を行う。その後、本発明によるシール材を塗布し、シール材によって囲まれた領域内に滴下法によって液晶を注入する。その後、別途形成された対向基板とＴＦＴ基板とをシール材を介して真空中で貼り合わせ、常温において、ＴＦＴ基板と対向基板のギャップ出しを行う。
【００３１】
その後、ＴＦＴ基板側から紫外線を照射し、主として内側シール材である紫外線硬化シール材を硬化させる。その後、液晶表示パネルを加熱することによって、熱硬化・紫外線硬化併用シール材あるいは熱硬化シール材を硬化させる。これによって、内側シール材、外側シール材とも完全に硬化させることが出来、信頼性の高いシール部を形成することが出来る。
【００３２】
図４は、本発明によるシール部を形成するためのディスペンサによるシール材の塗布を示す模式図である。図４において、第１のディスペンサ４００によって熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０を塗布し、第２のディスペンサ５００によって紫外線硬化シール材３０を塗布する。すなわち、第１のディスペンサ４００と第２のディスペンサ５００がペアで使用される。
【００３３】
まず、第１のディスペンサ４００によって外側シール材である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０または熱硬化シール材４０を描画する。その後、第２のディスペンサ５００を用いて初めに描画した外側シール材の少し内側に、外側シール材４０と接触して内側シール材３０である紫外線硬化シール材３０を第２のディスペンサ５００によって描画する。
【００３４】
この時、最初に描画する外側シール材４０である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０の粘度よりも内側シール材３０である紫外線硬化シール材３０の粘度を低くすることによって、内側シール材３０によって、外側シール材４０の内側を覆い易くすることが出来る。したがって、内側シール材３０と外側シール材４０の密着性が向上する。
【００３５】
図５は図４のようにして形成されたシール材で囲まれた領域内に滴下法によって液晶３００を滴下した状態を示している。図６は、このようにして、液晶３００が滴下されたＴＦＴ基板１００に対して対向基板２００を重ね合わせ、シール材３０、４０を介して接着し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間にギャップｇを形成した状態を示す断面図である。この工程は真空中、あるいは減圧雰囲気中で行われる。この時、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００とは所定のギャップｇを有するように制御される。
【００３６】
その後、図６に示すように、シール部に対して、ＴＦＴ基板１００側から紫外線を照射して、まず、内側シール材３０である紫外線硬化シール材３０を硬化させ、その後、加熱して外側シール材４０である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０を硬化させてシールを完成させる。
【００３７】
以上の説明においては、説明を単純化するために、図２等に示すように、内側シール材３０である紫外線硬化シール材３０の下側のＴＦＴ基板１００には、遮光膜１０１は存在していないとしている。しかし、現実の製品においては、配線等は連続して形成されており、紫外線硬化シール材３０の下に遮光部１０１が全く無いということはあり得ない。遮光部１０１が存在しても紫外線を照射した場合に、紫外線による硬化を妨げない程度の遮光部は存在することはありうる。
【００３８】
一方、外側シール材４０である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０の下側には、比較的広い面積の割合で遮光部１０１が存在しており、この遮光部１０１によって、ＴＦＴ基板１００の下側から紫外線を照射した場合、遮光部１０１の直上においては、紫外線硬化シール材３０を配置しても硬化されないので、この部分には熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０を配置し、熱によって硬化させる。
【００３９】
つまり、内側シール材である紫外線硬化シール材３０がＴＦＴ基板１００に接する部分における遮光部１０１の割合は、外側シール材である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材３０に対応する部分がＴＦＴ基板１００に接する部分における遮光部１０１の割合よりも小さい必要がある。あるいは、内側シール材である紫外線硬化シール材３０がＴＦＴ基板１００に接する部分における遮光部１０１の幅は、外側シール材である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０がＴＦＴ基板１００に接する部分における遮光部１０１の幅よりも小さい必要がある。
【００４０】
また、以上の説明では、シール材はＴＦＴ基板１００側に形成するとして説明したが、内側シール材３０と外側シール材４０の位置を正確に制御することが出来れば対向基板１００側に本実施例におけるシール材を形成してもよい。
【００４１】
本実施例によれば、シール部全体を完全に硬化することが出来るので、シール部の信頼性を向上させることが出来る。また、液晶に接する内側シール材である紫外線硬化シール材は紫外線によって先に硬化するので、シール材やラジカル材が液晶中に拡散して、液晶を汚染する危険を防止することが出来る。
【実施例２】
【００４２】
図７は、本発明の第２の実施例を示す断面図である。図７は図１のＡ−Ａ断面に相当する断面図である。図７の構成はシール部をのぞいては、図１１、あるいは実施例１の図２と同様である。図７に示す本実施例が図２等に示す第１の実施例と異なるのはシール部の形状である。図７において、ＴＦＴ基板１００に形成された遮光部１０１の直上には、熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０からなる第１のシール材４０が形成されている。この第１のシール材４０を覆って紫外線硬化シール材３０からなる第２のシール材３０が形成されている。
【００４３】
本実施例においても、紫外線硬化シール材３０を硬化させるための紫外線はＴＦＴ基板１００の下側から照射される。図７において、紫外線をＴＦＴ基板１００の下側から照射した場合、遮光部１０１の直上の部分には紫外線は当たらない。したがって、この部分には、第１のシール材４０である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０を形成し、熱によって硬化させる。一方、遮光部１０１の上方であっても、遮光部１０１から距離が離れている対向基板２００付近であれば、紫外線が回折あるいは屈折等によって回り込み、第２のシール材３０である紫外線硬化シール材３０を硬化させることが出来る。
【００４４】
図７において、第１のシール材４０を囲むようにして形成された第２のシール材３０である紫外線硬化シール材３０の下側には、遮光部１０１が存在していない。しかし、実施例１においても説明したように、配線等は連続しており、第２のシール材３０の下側であってもある程度の遮光部１０１は存在している。しかし、第２のシール材３０がＴＦＴ基板１００に接する部分における遮光部１０１の割合は、第１のシール材４０がＴＦＴ基板１００に接する部分における遮光部１０１の割合よりも小さい。あるいは、第２のシール材３０がＴＦＴ基板１００と接する部分における遮光部１０１の幅は、第１のシール材４０がＴＦＴ基板１００に接する部分における遮光部１０１の幅よりも小さいということが出来る。
【００４５】
図８は、本実施例によるシール部をディスペンサによって形成する場合の斜視図である。第１のディスペンサ４００によって、第１のシール材である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０または熱硬化シール材４０を描画し、これを覆うように、第２のシール材３０である紫外線硬化シール材３０を描画する。この場合も、第２のシール材３０の粘度は第１のシール材４０の粘度よりも小さいことが好ましい。第１のシール材４０と第２のシール材３０の密着性をより向上させるためである。
【００４６】
図９は、このようにしてＴＦＴ基板１００の全周にシール材を形成した後、シール材の内側に液晶３００を滴下法によって注入した状態を示している。その後、真空中で、本実施例によるシール材を介して対向基板２００を貼り合わせ、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００のギャップを調整する。その後、まず、紫外線によって第２のシール材３０である紫外線硬化シール材３０を硬化させ、その後、熱を加えることによって、第１のシール材４０である熱硬化・紫外線硬化併用シール材４０あるいは熱硬化シール材４０を硬化させ、シール部の硬化を完了する。
【００４７】
本実施例によれば、シール部全体を完全に硬化することが出来るので、シール部の信頼性を向上させることが出来る。また、液晶に接する第２のシール材である紫外線硬化シール材は先に硬化するので、シール材やラジカル材が液晶中に拡散して、液晶を汚染する危険を防止することが出来る。
【符号の説明】
【００４８】
１０…表示領域、  ２０…配線、  ３０…紫外線硬化シール材、内側シール材、第２のシール材  ４０…熱硬化・紫外線硬化併用シール材、熱硬化シール材、外側シール材、第１のシール材、  １００…ＴＦＴ基板、  １０１…遮光部、  １０２…絶縁層、  ２００…対向基板、  ３００…液晶、  ４００…第１のディスペンサ、  ５００…第２のディスペンサ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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