(57)【要約】【課題】描画に用いられるデータの確認作業をスムーズに行えるように支援できる技術を提供する。【解決手段】支援装置４は、描画装置４に提供されるパターンデータ８の確認を支援する装置であって、パターンデータ内の１以上の位置を登録した位置リスト６を生成する位置リスト生成部と、位置リスト６を、表示部に表示させるリスト表示制御部と、位置リスト６に登録された１以上の位置のいずれかの選択を受け付ける選択受付部と、選択受付部が受け付けた位置と対応するパターンデータの部分領域を、表示部に表示させる領域表示制御部と、を備える。【選択図】図５
2014071200.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベクトル形式の設計データをＲＩＰ処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置に提供される前記パターンデータの確認を支援する装置であって、
パターンデータ内の１以上の位置を登録した位置リストを生成する位置リスト生成部と、
前記位置リストを、表示部に表示させるリスト表示制御部と、
前記位置リストに登録されている前記１以上の位置のいずれかの選択を受け付ける選択受付部と、
前記選択受付部が受け付けた位置と対応する前記パターンデータの部分領域を、前記表示部に表示させる領域表示制御部と、
を備える、支援装置。
【請求項２】
請求項１に記載の支援装置であって、
前記位置リスト生成部が、
前記位置リストに登録するべき１以上の位置の指定を受け付ける位置受付部と、
前記位置受付部が受け付けた１以上の位置のそれぞれにおいて、前記パターンデータと前記設計データとを比較して、両データの相違が許容値範囲内である場合に、当該位置に対して肯定的評価を与える評価部と、
前記位置リストに、前記位置受付部が受け付けた前記１以上の位置と対応づけて、前記１以上の位置のそれぞれについて前記評価部が与えた評価情報を登録する登録部と、
を備える、支援装置。
【請求項３】
請求項２に記載の支援装置であって、
前記パターンデータにおいて、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、
前記評価部が、
前記パターンデータにおける評価対象の位置を通り、両端が前記変換図形のエッジと一致する第１の線分の長さと、前記設計データにおける前記評価対象の位置と対応する位置を通り、前記第１の線分と平行な方向に延在して、両端が前記設計データに含まれる図形のエッジと一致する第２の線分の長さと、の差分を算出して、前記差分が許容範囲内である場合に、当該評価対象の位置に対して肯定的評価を与える、
支援装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の支援装置であって、
前記位置リスト生成部が、
前記パターンデータ内の領域の指定を受け付ける領域受付部と、
前記領域受付部が受け付けた領域内に存在する、定められた特徴を有する特徴部分を抽出する抽出部と、
前記位置リストに、前記抽出部が抽出した前記特徴部分の位置を登録する登録部と、
を備える、支援装置。
【請求項５】
請求項４に記載の支援装置であって、
前記位置リスト生成部が、
前記抽出部が抽出した前記特徴部分のうち、離間距離が定められた値以下のもの同士をまとめてグループ化するグループ化部、
を備え、
前記登録部が、
前記グループ化部によって複数の特徴部分が１つのグループにまとめられた場合に、当該複数の特徴部分を代表する１個の位置を、前記位置リストに登録する、
支援装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の支援装置であって、
前記パターンデータにおいて、前記設計データに含まれる図形が、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現されており、
前記抽出部が、
前記線分が、その長さが定められた値に満たないために生成されなかった部分を、前記特徴部分として抽出する、
支援装置。
【請求項７】
請求項４または５に記載の支援装置であって、
前記パターンデータにおいて、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、
前記抽出部が、
前記第２の方向に沿う長さが定められた許容値よりも小さい変換図形を、前記特徴部分として抽出する、
支援装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の支援装置であって、
前記パターンデータの前記部分領域が表示される表示領域の幾何学中心に、前記選択受付部が受け付けた位置が表示される、
支援装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の支援装置であって、
前記領域表示制御部が、
前記パターンデータの前記部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する前記設計データの部分領域を表示させる、
支援装置。
【請求項１０】
ベクトル形式の設計データをＲＩＰ処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて、前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置と、
請求項１から請求項９のいずれかに記載の支援装置と、
を備える、描画システム。
【請求項１１】
ベクトル形式の設計データをＲＩＰ処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置に提供される前記パターンデータの確認を支援する方法であって、
ａ）パターンデータ内の１以上の位置を登録した位置リストを生成する工程と、
ｂ）前記位置リストを、表示部に表示させる工程と、
ｃ）前記位置リストに登録されている前記１以上の位置のいずれかの選択を受け付ける工程と、
ｄ）前記ｃ）工程で受け付けられた位置と対応する前記パターンデータの部分領域を、前記表示部に表示させる工程と、
を備える、支援方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の支援方法であって、
前記ａ）工程が、
ａ１）前記位置リストに登録するべき１以上の位置の指定を受け付ける工程と、
ａ２）前記ａ１）工程で受け付けられた１以上の位置のそれぞれにおいて、前記パターンデータと前記設計データとを比較して、両データの相違が許容値範囲内である場合に、当該位置に対して肯定的評価を与える工程と、
ａ３）前記位置リストに、前記ａ１）工程で受け付けられた前記１以上の位置と対応づけて、前記１以上の位置のそれぞれについて前記ａ２）工程で与えられた評価情報を登録する工程と、
を備える、支援方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の支援方法であって、
前記パターンデータにおいて、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、
前記ａ２）工程において、
前記パターンデータにおける評価対象の位置を通り、両端が前記変換図形のエッジと一致する第１の線分の長さと、前記設計データにおける前記評価対象の位置と対応する位置を通り、前記第１の線分と平行な方向に延在して、両端が前記設計データに含まれる図形のエッジと一致する第２の線分の長さと、の差分を算出して、前記差分が許容範囲内である場合に、当該評価対象の位置に対して肯定的評価を与える、
支援方法。
【請求項１４】
請求項１１から１３のいずれかに記載の支援方法であって、
前記ａ）工程が、
ａ４）前記パターンデータ内の領域の指定を受け付ける工程と、
ａ５）前記ａ４）工程で受け付けられた領域内に存在する、定められた特徴を有する特徴部分を抽出する工程と、
ａ６）前記位置リストに、前記ａ５）工程で抽出された前記特徴部分の位置を登録する工程と、
を備える、支援方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の支援方法であって、
前記ａ）工程が、
ａ７）前記ａ５）工程で抽出された前記特徴部分のうち、離間距離が定められた値以下のもの同士をまとめてグループ化する工程、
を備え、
前記ａ６）工程において、
前記ａ７）工程において複数の特徴部分が１つのグループにまとめられた場合に、当該複数の特徴部分を代表する１個の位置を、前記位置リストに登録する、
支援方法。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の支援方法であって、
前記パターンデータにおいて、前記設計データに含まれる図形が、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現されており、
前記ａ５）工程において、
前記線分が、その長さが定められた値に満たないために生成されなかった部分を、前記特徴部分として抽出する、
支援方法。
【請求項１７】
請求項１４または１５に記載の支援方法であって、
前記パターンデータにおいて、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、
前記ａ５）工程において、
前記第２の方向に沿う長さが定められた許容値よりも小さい変換図形を、前記特徴部分として抽出する、
支援方法。
【請求項１８】
請求項１１から１７のいずれかに記載の支援方法であって、
前記ｄ）工程において、
前記パターンデータの前記部分領域が表示される表示領域の幾何学中心に、前記ｃ）工程で受け付けられた位置が表示される、
支援方法。
【請求項１９】
請求項１１から１８のいずれかに記載の支援方法であって、
前記ｄ）工程において、
前記パターンデータの前記部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する前記設計データの部分領域が表示される、
支援方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体基板、プリント基板、液晶表示装置等に具備されるカラーフィルタ用基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置等に具備されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、太陽電池用パネルなどの各種基板等（以下、単に「基板」ともいう）にパターンを描画する描画装置に提供されるデータの確認を支援する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板上に塗布された感光材料に回路などのパターンを露光するにあたって、マスクなどを用いず、パターンを記述したデータに応じて変調した光（描画光）で基板上の感光材料を走査することによって、当該感光材料に直接パターンを露光（描画）する描画装置が、近年注目されている。
【０００３】
ところで、描画装置には、基板に描画するべきパターンを記述したデータが、ラスター形式のデータで提供される。一般に、基板に描画するべきパターンは、設計段階では、例えば、ＣＡＤデータなどのベクター形式のデータ（設計データ）として作成されるため、これを、ラスター形式のデータ（パターンデータ）に変換するＲＩＰ(Raster Image Processor)処理を行う必要がある。
【０００４】
ここで、ベクター形式の設計データと、これをＲＩＰ処理することにより得られるラスター形式のパターンデータとは、必ずしも常に完全一致しているとは限らない。
【０００５】
例えば、設計データに記述される各図形（すなわち、パターンを表現した図形）は、パターンデータにおいては、第１の方向に沿う線分（以下「ラン」ともいう）が第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現されるところ、パターンデータには、描画装置にて描画可能な最小長さよりも短いランは含めさせることができないために、設計データでは表現できていた微小な形状部分が、パターンデータにて切り捨てられた形で表現されてしまう場合がある。
【０００６】
また例えば、設計データに記述されている図形の幅（線幅）を細らせる（あるいは、太らせる）ように、ＲＩＰ処理のパラメータ（ＲＩＰパラメータ）が調整される場合もあり、この場合、パターンデータは、意図的に、設計データと相違するものとして生成される。
【０００７】
また例えば、ＲＩＰ処理のエラーによって、パターンデータに、設計データとは相違する部分が生じる可能性もある。
【０００８】
このように、パターンデータには、様々な理由によって、設計データと相違する部分が含まれる可能性がある。この点に関し、ＣＡＤデータと、これをＲＩＰ処理して得られたデータとの相違を検出する技術が、各種提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平９−１９０５２６号公報
【特許文献２】特開２００７−５２４６９号公報
【特許文献３】特開２００９−８７３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上述したとおり、描画装置に提供されるパターンデータには、様々な理由によって、設計データと相違する部分が含まれる可能性があり、オペレータは、当該相違する部分については、それが意図に沿うものであるかを、当該パターンデータを用いて実際に基板に対する描画が行われる前に、確認する必要がある。
【００１１】
ところで、近年、基板に形成されるパターンは、微細化の一途をたどっており、１枚の基板の描画に用いられるパターンデータのデータサイズは、非常に大きいものとなっている。したがって、このようにデータサイズが非常に大きなパターンデータを、オペレータが、これが意図に沿うものとなっているかを確認する作業は、非常に手間がかかるものとなってきている。
【００１２】
この発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、描画に用いられるデータの確認作業をオペレータがスムーズに行えるように支援できる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
第１の態様は、ベクトル形式の設計データをＲＩＰ処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置に提供される前記パターンデータの確認を支援する装置であって、パターンデータ内の１以上の位置を登録した位置リストを生成する位置リスト生成部と、前記位置リストを、表示部に表示させるリスト表示制御部と、前記位置リストに登録されている前記１以上の位置のいずれかの選択を受け付ける選択受付部と、前記選択受付部が受け付けた位置と対応する前記パターンデータの部分領域を、前記表示部に表示させる領域表示制御部と、を備える。
【００１４】
第２の態様は、第１の態様に係る支援装置であって、前記位置リスト生成部が、前記位置リストに登録するべき１以上の位置の指定を受け付ける位置受付部と、前記位置受付部が受け付けた１以上の位置のそれぞれにおいて、前記パターンデータと前記設計データとを比較して、両データの相違が許容値範囲内である場合に、当該位置に対して肯定的評価を与える評価部と、前記位置リストに、前記位置受付部が受け付けた前記１以上の位置と対応づけて、前記１以上の位置のそれぞれについて前記評価部が与えた評価情報を登録する登録部と、を備える。
【００１５】
第３の態様は、第２の態様に係る支援装置であって、前記パターンデータにおいて、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、前記評価部が、前記パターンデータにおける評価対象の位置を通り、両端が前記変換図形のエッジと一致する第１の線分の長さと、前記設計データにおける前記評価対象の位置と対応する位置を通り、前記第１の線分と平行な方向に延在して、両端が前記設計データに含まれる図形のエッジと一致する第２の線分の長さと、の差分を算出して、前記差分が許容範囲内である場合に、当該評価対象の位置に対して肯定的評価を与える。
【００１６】
第４の態様は、第１から第３のいずれかの態様に係る支援装置であって、前記位置リスト生成部が、前記パターンデータ内の領域の指定を受け付ける領域受付部と、前記領域受付部が受け付けた領域内に存在する、定められた特徴を有する特徴部分を抽出する抽出部と、前記位置リストに、前記抽出部が抽出した前記特徴部分の位置を登録する登録部と、を備える。
【００１７】
第５の態様は、第４の態様に係る支援装置であって、前記位置リスト生成部が、前記抽出部が抽出した前記特徴部分のうち、離間距離が定められた値以下のもの同士をまとめてグループ化するグループ化部、を備え、前記登録部が、前記グループ化部によって複数の特徴部分が１つのグループにまとめられた場合に、当該複数の特徴部分を代表する１個の位置を、前記位置リストに登録する。
【００１８】
第６の態様は、第４または第５の態様に係る支援装置であって、前記パターンデータにおいて、前記設計データに含まれる図形が、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現されており、前記抽出部が、前記線分が、その長さが定められた値に満たないために生成されなかった部分を、前記特徴部分として抽出する。
【００１９】
第７の態様は、第４または第５の態様に係る支援装置であって、前記パターンデータにおいて、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、前記抽出部が、前記第２の方向に沿う長さが定められた許容値よりも小さい変換図形を、前記特徴部分として抽出する。
【００２０】
第８の態様は、第１から第７のいずれかの態様に係る支援装置であって、前記パターンデータの前記部分領域が表示される表示領域の幾何学中心に、前記選択受付部が受け付けた位置が表示される。
【００２１】
第９の態様は、第１から第８のいずれかの態様に係る支援装置であって、前記領域表示制御部が、前記パターンデータの前記部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する前記設計データの部分領域を表示させる。
【００２２】
第１０の態様は、描画システムであって、ベクトル形式の設計データをＲＩＰ処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて、前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置と、第１から第９のいずれかの態様に係る支援装置と、を備える。
【００２３】
第１１の態様は、ベクトル形式の設計データをＲＩＰ処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置に提供される前記パターンデータの確認を支援する方法であって、ａ）パターンデータ内の１以上の位置を登録した位置リストを生成する工程と、ｂ）前記位置リストを、表示部に表示させる工程と、ｃ）前記位置リストに登録されている前記１以上の位置のいずれかの選択を受け付ける工程と、ｄ）前記ｃ）工程で受け付けられた位置と対応する前記パターンデータの部分領域を、前記表示部に表示させる工程と、を備える。
【００２４】
第１２の態様は、第１１の態様に係る支援方法であって、前記ａ）工程が、ａ１）前記位置リストに登録するべき１以上の位置の指定を受け付ける工程と、ａ２）前記ａ１）工程で受け付けられた１以上の位置のそれぞれにおいて、前記パターンデータと前記設計データとを比較して、両データの相違が許容値範囲内である場合に、当該位置に対して肯定的評価を与える工程と、ａ３）前記位置リストに、前記ａ１）工程で受け付けられた前記１以上の位置と対応づけて、前記１以上の位置のそれぞれについて前記ａ２）工程で与えられた評価情報を登録する工程と、を備える。
【００２５】
第１３の態様は、第１２の態様に係る支援方法であって、前記パターンデータにおいて、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、前記ａ２）工程において、前記パターンデータにおける評価対象の位置を通り、両端が前記変換図形のエッジと一致する第１の線分の長さと、前記設計データにおける前記評価対象の位置と対応する位置を通り、前記第１の線分と平行な方向に延在して、両端が前記設計データに含まれる図形のエッジと一致する第２の線分の長さと、の差分を算出して、前記差分が許容範囲内である場合に、当該評価対象の位置に対して肯定的評価を与える。
【００２６】
第１４の態様は、第１１から第１３のいずれかの態様に係る支援方法であって、前記ａ）工程が、ａ４）前記パターンデータ内の領域の指定を受け付ける工程と、ａ５）前記ａ４）工程で受け付けられた領域内に存在する、定められた特徴を有する特徴部分を抽出する工程と、ａ６）前記位置リストに、前記ａ５）工程で抽出された前記特徴部分の位置を登録する工程と、を備える。
【００２７】
第１５の態様は、第１４の態様に係る支援方法であって、前記ａ）工程が、ａ７）前記ａ５）工程で抽出された前記特徴部分のうち、離間距離が定められた値以下のもの同士をまとめてグループ化する工程、を備え、前記ａ６）工程において、前記ａ７）工程において複数の特徴部分が１つのグループにまとめられた場合に、当該複数の特徴部分を代表する１個の位置を、前記位置リストに登録する。
【００２８】
第１６の態様は、第１４または第１５の態様に係る支援方法であって、前記パターンデータにおいて、前記設計データに含まれる図形が、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現されており、前記ａ５）工程において、前記線分が、その長さが定められた値に満たないために生成されなかった部分を、前記特徴部分として抽出する。
【００２９】
第１７の態様は、第１４または第１５の態様に係る支援方法であって、前記パターンデータにおいて、第１の方向に沿う線分が前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、前記ａ５）工程において、前記第２の方向に沿う長さが定められた許容値よりも小さい変換図形を、前記特徴部分として抽出する。
【００３０】
第１８の態様は、第１１から第１７のいずれかの態様に係る支援方法であって、前記ｄ）工程において、前記パターンデータの前記部分領域が表示される表示領域の幾何学中心に、前記ｃ）工程で受け付けられた位置が表示される。
【００３１】
第１９の態様は、第１１から第１８のいずれかの態様に係る支援方法であって、前記ｄ）工程において、前記パターンデータの前記部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する前記設計データの部分領域が表示される。
【発明の効果】
【００３２】
第１、１０、１１の態様によると、パターンデータ内の１以上の位置が登録された位置リストが表示部に表示されるとともに、位置リストに登録されている位置のうち、オペレータが選択した位置と対応するパターンデータの部分領域が表示部に表示される。この構成によると、オペレータは、位置リストを見ながら任意の位置を選択するだけで、パターンデータにおける当該選択した位置と対応する部分領域の状態を確認することができる。したがって、オペレータは、パターンデータの確認作業をスムーズに行うことができる。
【００３３】
第２、第１２の態様によると、パターンデータ内の１以上の位置と、当該１以上の位置のそれぞれの評価結果を含んだ位置リストが表示部に表示される。したがって、オペレータは、位置リストに含まれる１以上の位置のそれぞれにおいて、パターンデータが設計データと許容範囲内で一致しているか否かを一目で把握することができる。
【００３４】
第３、第１３の態様によると、線分の長さの比較でパターンデータと設計データとの相違を評価するので、当該評価にかかる処理の負荷を抑えつつ、パターンデータ内の位置を適切に評価できる。
【００３５】
第４、第１４の態様によると、パターンデータ内における指定された領域に存在する特徴部分の位置が登録された位置リストが表示部に表示される。したがって、オペレータは、指定された領域内に存在する特徴部分の各々の状態をスムーズに確認することができる。
【００３６】
第５、第１５の態様によると、離間距離が定められた値以下の特徴部分同士がグループ化された場合は、位置リストに、１つのグループにまとめられた複数の特徴部分を代表する１個の位置が、登録される。したがって、オペレータは、パターンデータ内において比較的接近した位置に存在する一群の特徴部分の状態を、まとめて確認することができる。
【００３７】
第６、第１６の態様によると、パターンデータの指定された領域内に、線分が、その長さが定められた値に満たないために生成されなかった部分が存在する場合に、当該部分が特徴部分として抽出される。したがって、オペレータは、このような特徴部分の状態をスムーズに確認することができる。
【００３８】
第７、第１７の態様によると、パターンデータの指定された領域内に、第２の方向に沿う長さが定められた許容値よりも小さい変換図形が存在する場合に、当該変換図形が特徴部分として抽出される。したがって、オペレータは、このような特徴部分の状態をスムーズに確認することができる。
【００３９】
第８、第１８の態様によると、オペレータが選択した位置が、表示領域の幾何学中心に表示される。したがって、オペレータは、選択した位置の周囲の状況を適切に確認することができる。
【００４０】
第９、第１９の態様によると、パターンデータの部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する設計データの部分領域が表示される。したがって、オペレータは、選択した位置と対応するパターンデータの部分領域を、設計データと比較しつつ、適切に確認することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】描画システムの全体構成を示す図である。
【図２】設計データに含まれる元図形とパターンデータに含まれる変換図形との関係を説明するための図である。
【図３】支援装置のハードウエア構成を示すブロック図である。
【図４】支援装置の機能構成を示すブロック図である。
【図５】第１支援画面の構成例を示す図である。
【図６】第２支援画面の構成例を示す図である。
【図７】第２支援画面の構成例を示す図である。
【図８】第２支援画面の構成例を示す図である。
【図９】第３支援画面の構成例を示す図である。
【図１０】第４支援画面の構成例を示す図である。
【図１１】寸法評価リストを生成する処理の流れを示す図である。
【図１２】極小ランリストを生成する処理の流れを示す図である。
【図１３】幅狭図形リストを生成する処理の流れを示す図である。
【図１４】支援装置にて実行される処理の流れを示す図である。
【図１５】変形例に係る第１支援画面の構成例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の実施の形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。また、図面においては、理解容易のため、各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。
【００４３】
＜１．描画システム１００＞
実施の形態に係る描画システム１００について、図１を参照しながら説明する。図１は、描画システム１００の全体構成を示す図である。
【００４４】
描画システム１００は、設計データ作成装置１と、ＲＩＰ装置２と、支援装置３と、描画装置４と、を備える。これら各装置１〜４は、ＬＡＮ等のネットワーク等を介して互いに接続されている。もっとも、これら各装置１〜４は、必ずしも別体に構成される必要はなく、少なくとも２つの装置が一体化されて構成されていてもよい。
【００４５】
＜設計データ作成装置１＞
設計データ作成装置１は、基板Ｗに描画するべき図形（具体的には、例えば、回路などのパターン）を記述したデータを、例えばＣＡＤ（Computer Aided Design）を用いて作成・編集する装置であり、基板Ｗに描画するべき図形を記述したベクター形式のデータ（具体的には、例えば、ＣＡＤデータ）を出力する。ＣＡＤデータは、例えば、ストリームフォーマット（例えば、ＧＤＳII）と呼ばれるセル階層を有するデータフォーマットで表現されており、各セル階層には、少なくとも１以上の図形に関する情報（例えば、図形の位置および形状に関する情報であり、具体的には、図形の頂点位置座標等）やセル参照情報などが保有されている。設計データ作成装置１から出力されたデータを、以下「設計データ７」ともいう。
【００４６】
＜ＲＩＰ装置２＞
ＲＩＰ装置２は、設計データ作成装置１から設計データ７を取得し、当該取得した設計データ７をＲＩＰ処理して出力する。ＲＩＰ処理とは、具体的には、ベクター形式のデータをラスター形式のデータに変換する処理である。設計データ７をＲＩＰ処理して得られるラスター形式のデータ（以下、「パターンデータ８」ともいう）では、図２に模式的に示されるように、設計データ７に含まれる各図形（以下「元図形」ともいう）７１が、複数の線分（ラン８０）によって表現された図形（以下「変換図形」ともいう）８１に変換される。つまり、設計データ７に含まれる各元図形７１は、パターンデータ８においては、第１の方向に沿って１以上の画素が配列されてなるランが、第１の方向と直交する第２の方向に沿って１個以上配列されることによって、表現される（所謂、「ランレングスデータ」）。以下の説明においては、第１の方向、すなわち、ランの延在方向を、Ｙ方向とする。また、第２の方向、すなわち、ランの配列方向を、Ｘ方向とする。ＲＩＰ装置２は、設計データ７をＲＩＰ処理することによって得られたラスター形式のデータを、必要に応じてランレングス符号化処理した上で、描画装置４に出力する。
【００４７】
＜支援装置３＞
支援装置３は、描画装置４に提供されるパターンデータ８の確認を支援する装置である。すなわち、オペレータは、ＲＩＰ装置２が設計データ７をＲＩＰ処理するのに先立って、当該ＲＩＰ処理で意図に沿うパターンデータ８が得られることを確認する作業を行い、必要に応じてＲＩＰパラメータの変更を行うところ、支援装置３は、オペレータのこの確認作業を支援する。支援装置３の構成については、後に具体的に説明する。
【００４８】
＜描画装置４＞
描画装置４は、感光材料が形成された基板Ｗにパターンを露光（描画）する装置である。具体的には、描画装置４は、設計データ７をＲＩＰ処理したパターンデータ８（すなわち、基板Ｗに描画するべき図形を、画素位置ごとの露光の有無で表現したデータであるパターンデータ８）をＲＩＰ装置２から取得して、当該パターンデータ８に応じて光に変調を施して描画光を生成し、この描画光を感光材料が形成された基板Ｗに向けて照射しながら、基板上の感光材料を走査して、基板Ｗにパターンを描画する。
【００４９】
描画装置４の構成について具体的に説明する。描画装置４は、ステージ４１と、ステージ駆動機構４２と、描画ヘッド４３とを備える。また、描画装置４は、例えば一般的なコンピュータにより構成され、各種の演算処理を実行しつつ描画装置４が備える各部の動作を制御する描画制御部４４を備える。
【００５０】
ステージ４１は、平板状の外形を有し、その上面に描画対象物である基板Ｗを水平姿勢に載置して保持する。ステージ４１の上面には、例えば、複数の吸引孔（図示省略）が形成されており、この吸引孔に負圧（吸引圧）を形成することによって、ステージ４１上に載置された基板Ｗをステージ４１の上面に固定保持することができるようになっている。
【００５１】
ステージ駆動機構４２は、ステージ４１を基台に対して移動させる機構であり、ステージ４１を主走査方向、主走査方向と直交する副走査方向、および回転方向（鉛直軸周りの回転方向）の各方向にそれぞれ移動させる。
【００５２】
描画ヘッド４３は、ステージ４１に載置された基板Ｗの上面に描画光を照射して、基板Ｗにパターンを描画する機構である。描画ヘッド４３は、光源４３１と変調部４３２とを主として備える。
【００５３】
光源４３１は、レーザ光を出射する。光源４３１から出射された光は、照明光学系（図示省略）を介して強度分布が均一な線状の光（光束断面が線状の光であるラインビーム）とされた上で、変調部４３２に入射する。
【００５４】
変調部４３２は、光源４３１から出射された光に空間変調を施す機能部である。ただし、光を空間変調させるとは、具体的には、光の空間分布（振幅、位相、および偏光等）を変化させることを意味する。変調部４３２は、例えば、固定リボンと可動リボンとが一次元に配設された回折格子型の空間光変調器であるＧＬＶ（Grating Light Valve：グレーチング・ライト・バルブ)（「ＧＬＶ」は登録商標）を含む構成としてもよいし、ＤＭＤ（Digital Micromirror Device：デジタルマイクロミラーデバイス）のような、変調単位であるマイクロミラーが二次元的に配列された空間光変調器を含む構成としてもよい。
【００５５】
例えば、変調部４３２として回折格子型の空間光変調器を用いた場合、この空間光変調器は、複数の変調素子を一次元に並べた構成となる。各変調素子は、その動作が電圧のオン／オフで制御されるものであり、電圧状態の切り換えによって、パターンの描画に寄与する必要光を出射する状態と、パターンの描画に寄与しない不要光を出射する状態とで切り換えられる。空間光変調器は、複数の変調素子のそれぞれに対して独立に電圧を印加可能なドライバ回路ユニットを含んで構成され、各変調素子の電圧が、独立して切り換え可能とされる。
【００５６】
描画ヘッド４３においては、光源４３１から出射されたラインビームが、その線状の光束断面の長幅方向を変調素子の配列方向に沿わせるようにして、一列に配列された複数の変調素子に入射し、描画制御部４４が、パターンデータ８に応じて各変調素子の状態を切り換える。これによって、各変調素子にて個々に空間変調された光を含む、断面が帯状の描画光が形成され、基板Ｗに向けて出射されることになる。この描画光は、パターンデータ８に記述されたパターンを表現したものとなっており、描画ヘッド４３が、描画光を基板Ｗに照射しつつ基板Ｗを走査することによって、基板Ｗ上の描画対象領域の全域に、パターンデータ８に記述されたパターンが描画されることになる。
【００５７】
＜２．処理の流れ＞
描画システム１００にて実行される処理の流れについて、引き続き図１を参照しながら説明する。
【００５８】
設計データ作成装置１にて作成された設計データ７は、まず、支援装置３に送られる。オペレータは、支援装置３にて、設計データ７をＲＩＰ処理して得られるパターンデータ８が意図に沿うものとなるかを確認する作業を行う。意図に沿うパターンデータ８が得られていないと判断した場合、オペレータは、ＲＩＰパラメータを変更した上で、当該新たなＲＩＰパラメータでＲＩＰ処理して得られる新たなパターンデータ８が意図に沿うものとなるかを確認する。意図に沿うパターンデータ８が得られることが確認されると、オペレータは、当該パターンデータ８を与えるＲＩＰパラメータを、ＲＩＰ装置２にて実行されるＲＩＰ処理のＲＩＰパラメータに確定させる。
【００５９】
ＲＩＰパラメータが確定されると、ＲＩＰ装置２は、当該確定されたＲＩＰパラメータで、設計データ作成装置１から取得した設計データ７をＲＩＰ処理する。
【００６０】
ＲＩＰ装置２は、設計データ７をＲＩＰ処理して得られるパターンデータ８を、次々と描画装置４に送り、描画装置４は、当該取得したパターンデータ８に基づいて基板Ｗに対する描画処理を行う。上述したとおり、ＲＩＰ装置２にてＲＩＰ処理が実行されるのに先立って、オペレータが、支援装置３にて確認作業を行って、当該ＲＩＰ処理にて意図に沿うパターンデータ８が得られることを確認している。したがって、この描画処理において、オペレータが意図する通りのパターンが基板Ｗに描画されることになる。
【００６１】
基板Ｗに対する描画処理は、具体的には、例えば、次の通りに行われる。すなわち、描画対象となる基板Ｗがステージ４１に吸着保持された状態となると、描画制御部４４が、ステージ駆動機構４２にステージ４１を主走査方向に沿って移動させる動作（主走査）を開始させる。ステージ４１が主走査方向に沿って移動開始されると、描画制御部４４は、描画ヘッド４３に描画光（変調部４３２よって、パターンデータ８に応じた空間変調が施された、副走査方向に沿う複数画素分の光）を生成させて、これを基板Ｗに向けて断続的に照射させる。したがって、１回の主走査が終了すると、基板Ｗの表面内の１本の帯状領域（主走査方向に沿い、複数画素分の幅を有する帯状領域）に、パターンの描画が行われることになる。主走査が終了すると、ステージ駆動機構４２は、ステージ４１を、副走査方向に沿って、例えば帯状領域の幅に相当する距離だけ移動させる（副走査）。副走査が終了すると、再び主走査が行われるところ、ここでも描画ヘッド４３から基板Ｗに対する描画光の照射が行われ、これによって先に描画されている帯状領域の隣の帯状領域に、パターンの描画が行われる。描画光の照射を伴う主走査が、副走査を挟みつつ、繰り返して行われることによって、基板Ｗの表面の全域にパターンが描画されることになる。
【００６２】
＜３．支援装置３＞
＜３−１．ハードウェア構成＞
支援装置３のハードウェア構成について、図３を参照しながら説明する。
【００６３】
支援装置３は、例えば、ＣＰＵ３０１、ＲＯＭ３０２、ＲＡＭ３０３、記憶装置３０４等がバスライン３０５を介して相互接続された一般的なコンピュータを含んで構成される。ＲＯＭ３０２は基本プログラム等を格納しており、ＲＡＭ３０３はＣＰＵ３０１が所定の処理を行う際の作業領域として供される。記憶装置３０４は、フラッシュメモリ、あるいは、ハードディスク装置等の不揮発性の記憶装置によって構成されている。記憶装置３０４にはプログラムＰｒが格納されており、このプログラムＰｒに記述された手順に従って、主制御部としてのＣＰＵ３０１が演算処理を行うことにより、各種機能が実現されるように構成されている。プログラムＰｒは、通常、予め記憶装置３０４等のメモリに格納されて使用されるものであるが、ＣＤ−ＲＯＭあるいはＤＶＤ−ＲＯＭ、外部のフラッシュメモリ等の記録媒体に記録された形態（プログラムプロダクト）で提供され（あるいは、ネットワークを介した外部サーバからのダウンロードなどにより提供され）、追加的または交換的に記憶装置３０４等のメモリに格納されるものであってもよい。なお、支援装置３において実現される一部あるいは全部の機能は、専用の論理回路等でハードウエア的に実現されてもよい。
【００６４】
また、バスライン３０５には、さらに、入力部３０６、表示部３０７、通信部３０８が接続されている。入力部３０６は、例えば、キーボードおよびマウスによって構成される入力デバイスであり、オペレータからの各種の操作（コマンドや各種データの入力といった操作）を受け付ける。なお、入力部３０６は、各種スイッチ、タッチパネル等により構成されてもよい。表示部３０７は、液晶表示装置、ランプ等により構成される表示装置であり、ＣＰＵ３０１による制御の下、各種の情報を表示する。通信部３０８は、ネットワークを介して外部装置との間でコマンドやデータなどの送受信を行うデータ通信機能を有する。
【００６５】
＜３−２．機能構成＞
支援装置３は、上述したとおり、オペレータが、設計データ７をＲＩＰ処理して得られるパターンデータ８が意図に沿うものであるかを確認する作業を、支援する。支援装置３にて実現される機能構成について、図４を参照しながら説明する。図４は、支援装置３が備える機能構成を示すブロック図である。図示される各部は、例えば、プログラムＰｒに記述された手順に従ってＣＰＵ３０１が演算処理を行うことにより実現される。
【００６６】
支援装置３は、位置リスト６を生成するリスト生成部３０を備える。さらに、支援装置３は、リスト生成部３０が生成した位置リスト６を表示部３０７に表示させるリスト表示制御部３５と、位置リスト６に含まれる１以上の位置のいずれかを選択する選択操作をオペレータから受け付ける選択受付部３６と、オペレータが選択した位置に対応するパターンデータ８の部分領域を表示部３０７に表示させる領域表示制御部３７とを備える。
【００６７】
図５〜図１０には、これら各部３０〜３７の制御下で表示部３０７に表示される確認支援画面５の構成例が示されている。確認支援画面５には、位置リスト６の表示領域であるリスト表示領域５１０と、パターンデータ８の部分領域の表示領域であるパターンデータ表示領域５２０とが並置される。さらに、確認支援画面５には、位置リスト６の生成などに関する各種のアイコンなどが表示される入力項目表示領域５００が配置される。また、確認支援画面５には、表示内容を切り換える複数のタブ５４０が配置されている。選択されるタブ５４０によって、リスト表示領域５１０に表示される位置リスト６の種類が変わってくるとともに、入力項目表示領域５００に表示されるアイコンなどの種類も変わってくる。
【００６８】
＜i．リスト生成部３０＞
リスト生成部３０は、位置リスト６を生成する。位置リスト６は、パターンデータ８内の１以上の位置が登録されたリストである。すなわち、位置リスト６においては、パターンデータ８内の１つの位置が１個のレコードと対応付けられており、各レコードには、パターンデータ８内の位置を特定する情報（座標情報）が少なくとも含まれる。
【００６９】
リスト生成部３０は、複数種類の位置リスト６を生成することができる。すなわち、リスト生成部３０は、第１の位置リスト６である「寸法評価リスト６１」を生成する第１生成部３１と、第２の位置リスト６である「極小ランリスト６２」を生成する第２生成部３２と、第３の位置リスト６である「幅狭図形リスト６３」を生成する第３生成部３３と、第４の位置リスト６である「マークリスト６４」を生成する第４生成部３４と、を備える。もっとも、リスト生成部３０は、必ずしもこれら４つの生成部３１〜３４の全てを備える必要はなく、少なくとも１個の生成部を含む構成とすることができる。
【００７０】
以下において、４種類の位置リスト（すなわち、寸法評価リスト６１、極小ランリスト６２、幅狭図形リスト６３、および、マークリスト６４）を区別しない場合は、単に「位置リスト６」という。
【００７１】
＜ａ．第１生成部３１＞
第１生成部３１について、図４に加え、図５を参照しながら説明する。図５は、確認支援画面５（具体的には、「Manual」と表示されたタブ５４０が選択された状態の確認支援画面５であり、以下「第１支援画面５１」とも示す）の構成例を示す図である。第１支援画面５１は、寸法評価リスト６１を表示する表示画面として機能するとともに、寸法評価リスト６１の生成に関する各種の入力をオペレータから受け付ける入力画面としても機能する。
【００７２】
第１生成部３１は、寸法評価リスト６１を生成する処理部であり、位置受付部３１１と、評価部３１２と、評価情報登録部３１３とを備える。
【００７３】
寸法評価リスト６１においては、パターンデータ８内の１つの位置が１個のレコードと対応付けられており、各レコードには、パターンデータ８内の位置を特定する情報（座標情報）と、当該位置に関する評価情報とが含まれる。具体的には、寸法評価リスト６１には、パターンデータ８内の位置座標を登録する「Ｘ」「Ｙ」の項目欄と、評価情報を登録する各項目欄（具体的には、評価対象となる方向を登録する「Dir」の項目欄、設計データ７に規定された線分の長さを登録する「CAD」の項目欄、パターンデータ８に規定された線分の長さを登録する「Measure」の項目欄、および、評価結果を登録する「Judgement」の項目欄）が含まれる。
【００７４】
また、寸法評価リスト６１には、上記に説明した各項目欄の他に、オペレータから、当該寸法評価リスト６１に含まれる１以上のレコードのいずれかを選択する操作を受け付ける「View」の項目欄が設けられる。オペレータは、選択したいレコードの「View」の項目に表示されたチェックボックス６０にチェックを入れることによって、当該レコードを選択することができる。
【００７５】
なお、寸法評価リスト６１には、上記に説明した各項目欄に加えてさらなる項目欄が設けられてもよい。例えば、各レコードを識別するための番号が登録される「NO.」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、オペレータが各レコードに対応する位置を確認したか否か等の情報を登録できる「Approve」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、オペレータが各レコードに対応する位置に対するコメントを登録できる「Comment」の項目欄が設けられてもよい。
【００７６】
＜位置受付部３１１＞
位置受付部３１１は、寸法評価リスト６１に含めるべき位置の指定を受け付けて、寸法評価リスト６１に登録する。ここでは、オペレータは、第１支援画面５１を介して直接に位置の指定を入力することによって、あるいは、別途作成されているデータ（寸法評価リスト６１に登録すべき位置を登録したデータ）を読み込む旨を指示入力することによって、寸法評価リスト６１に含めるべき位置を指定することができるようになっている。
【００７７】
すなわち、位置受付部３１１は、オペレータが、「Add」と表示されたアイコン５１５を操作すると、寸法評価リスト６１に新たなレコードを１個作成する。続いて、オペレータが、パターンデータ８内の１個の位置を指定すると、位置受付部３１１は、当該指定された位置の座標を、新たなレコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。オペレータからの位置の指定は、どのような態様でなされてもよい。例えば、オペレータが、リスト表示領域５１０において、新たに作成されたレコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に、指定したいパターンデータ８内の位置の座標値を入力することによって行われてもよい。また、例えば、パターンデータ表示領域５２０にパターンデータ８が表示されている場合、オペレータが、当該表示されている領域内の指定したい位置にカーソルを合わせてクリック操作することによって行われてもよい。
【００７８】
また、位置受付部３１１は、オペレータが、「Load」と表示されたアイコン５１３を操作すると、記憶装置３０４などに記憶された定められたデータを読み込んで、当該データに登録されている１以上の位置を寸法評価リスト６１に登録する。すなわち、位置受付部３１１は、当該データに登録されている１以上の位置の個数と同数個のレコードを寸法評価リスト６１に作成し、当該登録されている各位置の座標を、各レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。したがって、オペレータは、例えば、設計データ７の作成時に、寸法評価リスト６１に登録したい１以上の位置をリストアップしたデータを作成して、これを記憶装置３０４に記憶させておけば、アイコン５１３を操作するだけで、所望する１以上の位置を寸法評価リスト６１に直ちに登録することができる。さらに、この場合、共通の設計データ７から作成される複数のパターンデータ８（例えば、異なるＲＩＰパラメータでＲＩＰ処理される複数のパターンデータ８）の各々の確認作業において、共通のデータを利用して、寸法評価リスト６１に位置を登録することができる。
【００７９】
なお、位置受付部３１１は、オペレータが、寸法評価リスト６１のレコードを選択した上で、「Remove」と表示されたアイコン５１６を操作すると、当該選択されたレコードを、寸法評価リスト６１から削除する。
【００８０】
＜評価部３１２＞
評価部３１２は、寸法評価リスト６１に登録されている１以上の位置のそれぞれを評価して、各位置の評価情報を取得する。評価部３１２が、各位置の評価を行う態様について、図２を参照しながら具体的に説明する。
【００８１】
評価部３１２は、評価の対象となる位置（以下「対象位置Ｐ」ともいう）のＸ方向の評価と、Ｙ方向の評価とを行う。
【００８２】
対象位置ＰのＸ方向の評価を行う場合、評価部３１２は、まず、パターンデータ８内に、対象位置Ｐを通り、Ｘ軸に沿って延在して両端が変換図形８１のエッジと一致する線分（第１のＸ線分）Ｘ１を規定し、当該線分Ｘ１の長さを記憶する。なお、図示の例では、対象位置Ｐが変換図形８１の内部に存在しているため、第１のＸ線分の長さは、変換図形８１のＸ軸に沿う長さを示しているが、対象位置Ｐが変換図形８１の外部に存在している場合、第１のＸ線分の長さは、変換図形８１間の隙間のＸ軸に沿う長さを示すことになる。一方で、評価部３１２は、設計データ７内に、対象位置Ｐと対応する位置Ｑを通り、Ｘ軸に沿って延在して両端が元図形７１のエッジと一致する線分（第２のＸ線分）Ｘ２を規定し、当該線分Ｘ２の長さを記憶する。そして、評価部３１２は、第１のＸ線分Ｘ１の長さと第２のＸ線分Ｘ２の長さとの差分ΔＸ（ΔＸ＝Ｘ１−Ｘ２）を算出する。そして、評価部３１２は、得られた差分ΔＸが許容範囲内であるか否か（より具体的には、当該差分ΔＸの絶対値が所定の閾値Ｄ１以下であるか否か）を判断し、許容範囲内である場合に、対象位置ＰのＸ方向に対して、肯定的評価を与える。
【００８３】
同様に、対象位置ＰのＹ方向の評価を行う場合、評価部３１２は、まず、パターンデータ８内に、対象位置Ｐを通り、Ｙ軸に沿って延在して両端が変換図形８１のエッジと一致する線分（第１のＹ線分）Ｙ１を規定し、当該線分Ｙ１の長さを記憶する。一方で、評価部３１２は、設計データ７内に、対象位置Ｐと対応する位置Ｑを通り、Ｙ軸に沿って延在して両端が元図形７１のエッジと一致する線分（第２のＹ線分）Ｙ２を規定し、当該線分Ｙ２の長さを記憶する。そして、評価部３１２は、第１のＹ線分Ｙ１の長さと第２のＹ線分Ｙ２の長さとの差分ΔＹ（ΔＹ＝Ｙ１−Ｙ２）を算出する。そして、評価部３１２は、得られた差分ΔＹが許容範囲内であるか否か（より具体的には、当該差分ΔＹの絶対値が所定の閾値Ｄ１以下であるか否か）を判断し、許容範囲内である場合に、対象位置ＰのＹ方向に対して、肯定的評価を与える。
【００８４】
このように、評価部３１２は、寸法評価リスト６１に登録されたパターンデータ８内の各位置において、パターンデータ８と設計データ７とを比較して、両データ７，８の相違が許容値範囲内である場合に、当該位置に対して肯定的評価を与える。なお、この評価に用いられる閾値Ｄ１の値は、例えば、評価部３１２が、第１支援画面５１を介して、オペレータから受け付ける。具体的には、評価部３１２は、オペレータが、「Delta」と表示された入力ボックス５１１に入力した値を、当該評価に用いる閾値Ｄ１として受け付ける。
【００８５】
＜評価情報登録部３１３＞
評価情報登録部３１３は、寸法評価リスト６１に登録されたパターンデータ８内の１以上の位置のそれぞれを評価部３１２が評価することにより得られた評価情報を、寸法評価リスト６１に登録する。ただし、ここでは、評価情報登録部３１３は、Ｘ軸に沿う第１のＸ線分Ｘ１と、Ｙ軸に沿う第１のＹ線分Ｙ１とを比較して、短い線分を与えている方向を、登録対象とし、登録対象とされた方向についての評価情報だけを、評価部３１２に登録する。パターンデータ８の確認において重要となるのは、多くの場合、変換図形８１の短尺方向の幅（すなわち、パターンの短尺方向の寸法）であるところ、この構成によると、当該短尺方向の幅を効率的に確認することができる。もっとも、評価部３１２は、Ｘ方向についての評価情報と、Ｙ方向についての評価情報との両方を、寸法評価リスト６１に登録する構成であってもよい。
【００８６】
評価情報登録部３１３は、寸法評価リスト６１における、評価の対象とされた位置のレコードに、当該位置を評価することにより得られた評価情報を、登録する。具体的には、「Dir」の項目に、登録対象となる方向がＸ方向、Ｙ方向のどちらであるかを示す情報を登録する。また「CAD」の項目に、設計データ７に規定された線分（ただし、登録対象となる方向に沿う線分）の長さを登録し、「Measure」の項目に、パターンデータ８に規定された線分（ただし、登録対象となる方向に沿う線分）の長さを登録する。また、「Judgement」の項目に、登録対象となる方向の評価結果を登録する。例えば、登録対象とされた方向がＸ方向である場合、評価情報登録部３１３は、「ＣＡＤ」の項目欄に第２のＸ線分Ｘ２の長さを登録するとともに、「Measure」の項目に第１のＸ線分Ｘ１の長さを登録し、「Judgement」の項目にＸ方向の評価結果（すなわち、第１のＸ線分Ｘ１の長さと第２のＸ線分Ｘ２の長さとの差分ΔＸの絶対値が、閾値Ｄ１以下であるか否かの判定結果）を登録する。
【００８７】
＜寸法評価リスト６１を生成する処理の流れ＞
第１生成部３１が寸法評価リスト６１を生成する処理の流れについて、図１１を参照しながら説明する。図１１は、当該処理の流れを示す図である。
【００８８】
まず、位置受付部３１１が、寸法評価リスト６１に含めるべき位置の指定を受け付けて、寸法評価リスト６１に登録する（ステップＳ１１）。
【００８９】
１以上の位置が寸法評価リスト６１に登録された状態で、オペレータが、「Measure」と表示されたアイコン５１２を操作すると、評価部３１２は、寸法評価リスト６１に登録されている１以上の位置のそれぞれを評価する（ステップＳ１２）。
【００９０】
位置の評価が行われることにより評価情報が得られると、評価情報登録部３１３が、得られた評価情報を、評価の対象とされた位置と対応付けて、寸法評価リスト６１に登録する（ステップＳ１３）。
【００９１】
寸法評価リスト６１に登録されている全ての位置について、寸法評価リスト６１に評価情報が登録されると（ステップＳ１４でＹＥＳ）、寸法評価リスト６１を生成する処理が終了する。生成された寸法評価リスト６１は、図５に示されるように、後述するリスト表示制御部３５の制御下でリスト表示領域５１０に表示されることになる。
【００９２】
寸法評価リスト６１が生成された後、オペレータが「Save」と表示されたアイコン５１４を操作すると、生成された寸法評価リスト６１が、記憶装置３０４に記憶される。また、また、オペレータが「Load」と表示されたアイコン５１５を操作すると、リスト表示制御部３５が記憶装置３０４に記憶された寸法評価リスト６１を読み出して、リスト表示領域５１０に表示する。
【００９３】
＜ｂ．第２生成部３２＞
第２生成部３２について、図４に加え、図６〜図８を参照しながら説明する。図６〜図８の各図は、確認支援画面５（具体的には、「Minimum Run」と表示されたタブ５４０が選択された状態の確認支援画面５であり、以下「第２支援画面５２」とも示す）の構成例を示す図である。第２支援画面５２は、極小ランリスト６２を表示する表示画面として機能するとともに、極小ランリスト６２の生成に関する各種の入力をオペレータから受け付ける入力画面としても機能する。
【００９４】
第２生成部３２は、極小ランリスト６２を生成する処理部であり、領域受付部３２１と、極小ラン抽出部３２２と、グループ化処理部３２３と、抽出情報登録部３２４とを備える。
【００９５】
極小ランリスト６２においては、パターンデータ８内の１つの位置が１個のレコードと対応付けられており、各レコードには、パターンデータ８内の位置を特定する情報（座標情報）が含まれる。具体的には、極小ランリスト６２には、パターンデータ８内の位置座標を登録する「Ｘ」「Ｙ」の項目欄が含まれる。
【００９６】
極小ランリスト６２においては、各レコードに含まれるパターンデータ８内の位置は、パターンデータ８の指定領域における「極小ラン」の位置（複数の極小ランがグループ化されている場合は、当該グループ化された複数の極小ランを代表する１個の位置）となっている。ここで、「極小ラン」について説明する。ＲＩＰ処理においては、ＲＩＰパラメータによって、生成可能なランの最小長さが規定される。通常は、パターンデータ８に、描画装置４にて描画可能な最小長さよりも短いランが生成されないように、当該ＲＩＰパラメータの値が設定される。例えば、ＲＩＰパラメータによって、生成可能なランの最小長さが例えば「５μｍ」に設定されたとする。この場合、当該ＲＩＰパラメータで設計データ７をＲＩＰ処理して得られるパターンデータ８は、理想のパターンデータ（すなわち、生成可能なランの最小長さが「ゼロ」に設定された理想のＲＩＰパラメータで、設計データ７をＲＩＰ処理して得られるパターンデータ）から、長さが「５μｍ」より小さい極小ランが欠落したものとなる。このように、理想では（すなわち、生成可能なランの最小長さがゼロであるとすると）生成されるはずの極小ランが、生成可能なランの最小長さがゼロより大きな値に設定されたために、カットされる。つまり、パターンデータ８には、長さが定められた値に満たないために生成されなかった（すなわち、カットされた）ランが生じる可能性があり、このようにカットされたランを、ここでは「極小ラン」という。
【００９７】
極小ランリスト６２には、上記に説明した各項目欄の他に、オペレータから、当該極小ランリスト６２に含まれる１以上のレコードのいずれかを選択する操作を受け付ける「View」の項目欄が設けられる。オペレータは、選択したいレコードの「View」の項目に表示されたチェックボックス６０にチェックを入れることによって、当該レコードを選択することができる。
【００９８】
なお、極小ランリスト６２には、上記に説明した各項目欄に加えてさらなる項目欄が設けられてもよい。例えば、各レコードを識別するための番号が登録される「NO.」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、オペレータが各レコードに対応する位置を確認したか否か等の情報を登録できる「Approve」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、オペレータが各レコードに対応する位置に対するコメントを登録できる「Comment」の項目欄が設けられてもよい。
【００９９】
＜領域受付部３２１＞
領域受付部３２１は、極小ランの検索の対象とするべきパターンデータ８内の領域（ここでは、矩形領域）の指定を受け付ける。ここでは、オペレータは、第２支援画面５２を介して位置の指定を入力することによって、極小ランの検索の対象とするべき領域を指定することができるようになっている。
【０１００】
すなわち、オペレータが、「Wafer Area」の元に表示された「Left」「Right」「Bottom」「Top」の各項目の入力ボックス５２１のそれぞれに数値を入力すると、領域受付部３２１は、各方向の辺の座標位置が各入力値から規定されるような矩形領域を、極小ランの検索の対象とするべき領域として受け付ける。また、図６に例示されるように、パターンデータ表示領域５２０にパターンデータ８が表示されている場合、オペレータが、例えば、「Left」と「Bottom」を選択した上で、当該表示されている領域内の第１の位置Ｅ１にカーソルを合わせてクリック操作し、さらに、「Right」と「Top」を選択した上で、当該表示されている領域内の第２の位置Ｅ２にカーソルを合わせてクリック操作すると、領域受付部３２１は、第１の位置Ｅ１を左下の頂点とし、第２の位置Ｅ２を右上の頂点とした矩形領域Ｅを、極小ランの検索の対象とするべき領域として受け付ける。
【０１０１】
＜極小ラン抽出部３２２＞
極小ラン抽出部３２２は、領域受付部３２１が受け付けたパターンデータ８内の領域（以下「指定領域」ともいう）内に存在する極小ランを抽出する。
【０１０２】
具体的には、極小ラン抽出部３２２は、指定領域内に相当する設計データ７を、オペレータから与えられているＲＩＰパラメータ（すなわち、描画装置４の描画性能を加味して、生成可能なランの最小長さがゼロより大きな値に設定されているＲＩＰパラメータ）でＲＩＰ処理して、指定領域のパターンデータ８を生成する。その一方で、極小ラン抽出部３２２は、指定領域内に相当する設計データ７を、理想のＲＩＰパラメータ（すなわち、生成可能なランの最小長さが「ゼロ」に設定されたＲＩＰパラメータ）で、ＲＩＰ処理して、指定領域の理想のパターンデータを生成する。そして、極小ラン抽出部３２２は、指定領域について、パターンデータ８と理想のパターンデータとを比較し、理想のパターンデータには存在するのに、パターンデータ８に存在しないランを、極小ランとして抽出する。極小ラン抽出部３２２は、さらに、極小ランとして抽出した各ランの位置（具体的には、例えば、ランの中心の位置）を、極小ランの位置情報として取得する。
【０１０３】
＜グループ化処理部３２３＞
グループ化処理部３２３は、極小ラン抽出部３２２が抽出した極小ランを、グループ化する。すなわち、グループ化処理部３２３は、抽出された各極小ランのうち、離間距離（例えば、ランの中点間の離間距離）が定められた値Ｒ１以下の極小ラン同士をまとめてグループ化する。そして１つのグループにまとめられた複数の極小ランを代表する１個の位置（代表位置）を取得する。この代表位置として、具体的には、例えば、１つのグループにまとめられた複数の極小ランを囲むことができる最小の矩形領域の中心の位置、また例えば、当該複数の極小ランの座標位置を平均した位置、などを採用することができる。
【０１０４】
なお、このグループ化の基準となる離間距離の大きさは、例えば、グループ化処理部３２３が、第２支援画面５２を介して、オペレータから受け付ける。具体的には、グループ化処理部３２３は、オペレータが、「Integrated Range」と表示された入力ボックス５２２に入力した値を、グループ化の基準となる離間距離の値Ｒ１として受け付ける。
【０１０５】
ただし、「Integrated Range」と表示された入力ボックス５２２には、ゼロ以上の任意の値を入力可能となっており、オペレータが入力ボックス５２２にゼロを入力した場合、グループ化処理部３２３は、極小ランのグループ化を行わない。
【０１０６】
＜抽出情報登録部３２４＞
抽出情報登録部３２４は、極小ラン抽出部３２２が抽出した各極小ランの位置（極小ランがグループ化されている場合は、１つのグループにまとめられている複数の極小ランを代表する１個の位置）を、極小ランリスト６２に登録する。
【０１０７】
すなわち、抽出情報登録部３２４は、グループ化されていない極小ランについては、１個の極小ランについて１個のレコードを極小ランリスト６２に作成し、当該極小ランの位置の座標を、当該レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。また、抽出情報登録部３２４は、グループ化されている複数の極小ランについては、当該複数の極小ランについて１個のレコードを極小ランリスト６２に作成し、当該複数の極小ランの代表位置の座標を、当該レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。
【０１０８】
＜極小ランリスト６２を生成する処理の流れ＞
第２生成部３２が極小ランリスト６２を生成する処理の流れについて、図４および図６〜図８に加え、図１２を参照しながら説明する。図１２は、当該処理の流れを示す図である。
【０１０９】
まず、領域受付部３２１が、極小ランの検索の対象とするべきパターンデータ８内の領域の指定を受け付ける（図６参照）（ステップＳ２１）。
【０１１０】
続いて、オペレータが、「Make List」と表示されたアイコン５２３を操作すると、極小ラン抽出部３２２は、ステップＳ２１で受け付けられた指定領域内に存在する極小ランを抽出するとともに、抽出された各極小ランの位置情報を取得する（ステップＳ２２）。
【０１１１】
オペレータがグループ化を指示していない場合（具体的には、図７に示されるように、「Integrated Range」と表示された入力ボックス５２２に、ゼロを入力している場合）（ステップＳ２３でＮＯ）、抽出情報登録部３２４が、ステップＳ２２で抽出された各極小ランの位置を、極小ランリスト６２に登録する。具体的には、抽出情報登録部３２４は、ステップＳ２２で抽出された極小ランの個数と同数個のレコードを極小ランリスト６２に作成し、各極小ランの位置の座標を、各レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。
【０１１２】
一方、オペレータがグループ化を指示している場合（具体的には、図８に示されるように、「Integrated Range」と表示された入力ボックス５２２に、ゼロより大きな値を入力している場合）（ステップＳ２３でＹＥＳ）、グループ化処理部３２３が、ステップＳ２２で抽出された極小ランを、グループ化する（ステップＳ２４）。
【０１１３】
極小ランのグループ化が終了すると、続いて、抽出情報登録部３２４が、ステップＳ２２で抽出された各極小ランの位置（複数の極小ランがグループ化されている場合は、当該グループ化された複数の極小ランを代表する１個の位置）を、極小ランリスト６２に登録する（ステップＳ２５）。具体的には、抽出情報登録部３２４は、ステップＳ２２で抽出された極小ランのうち、グループ化されなかった極小ランについては、１個の極小ランについて１個のレコードを極小ランリスト６２に作成し、当該極小ランの位置の座標を、当該レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。また、抽出情報登録部３２４は、ステップＳ２２で抽出された極小ランのうち、グループ化された複数の極小ランについては、当該複数の極小ランについて１個のレコードを極小ランリスト６２に作成し、当該複数の極小ランの代表位置の座標を、当該レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。
【０１１４】
指定領域から抽出された全ての極小ランの位置（あるいは、代表位置）が、極小ランリスト６２に登録されると、極小ランリスト６２を生成する処理が終了する。生成された極小ランリスト６２は、図７、図８に示されるように、後述するリスト表示制御部３５の制御下でリスト表示領域５１０に表示されることになる。
【０１１５】
極小ランリスト６２が生成された後、オペレータが「Save」と表示されたアイコン５２５を操作すると、生成された極小ランリスト６２が、記憶装置３０４に記憶される。また、また、オペレータが「Load」と表示されたアイコン５２４を操作すると、リスト表示制御部３５が記憶装置３０４に記憶された極小ランリスト６２を読み出して、リスト表示領域５１０に表示する。
【０１１６】
＜ｃ．第３生成部３３＞
第３生成部３３について、図４に加え、図９を参照しながら説明する。図９は、確認支援画面５（具体的には、「Sliver」と表示されたタブ５４０が選択された状態の確認支援画面５であり、以下「第３支援画面５３」とも示す）の構成例を示す図である。第３支援画面５３は、幅狭図形リスト６３を表示する表示画面として機能するとともに、幅狭図形リスト６３の生成に関する各種の入力をオペレータから受け付ける入力画面としても機能する。
【０１１７】
第３生成部３３は、幅狭図形リスト６３を生成する処理部であり、領域受付部３３１と、幅狭図形抽出部３３２と、グループ化処理部３３３と、抽出情報登録部３３４とを備える。
【０１１８】
幅狭図形リスト６３においては、パターンデータ８内の１つの位置が１個のレコードと対応付けられており、各レコードには、パターンデータ８内の位置を特定する情報（座標情報）が含まれる。具体的には、幅狭図形リスト６３には、パターンデータ８内の位置座標を登録する「Ｘ」「Ｙ」の項目欄が含まれる。
【０１１９】
幅狭図形リスト６３においては、各レコードに含まれるパターンデータ８内の位置は、パターンデータ８の指定領域における「幅狭図形」の位置（複数の幅狭図形がグループ化されている場合は、当該グループ化された複数の幅狭図形を代表する１個の位置）となっている。ここで、「幅狭図形」について説明する。パターンデータ８に含まれる変換図形８１のうち、Ｘ方向（ランの配列方向）の長さが極端に小さい、スジ状の図形は、オペレータが意図しないものである可能性が高い。例えば、ＲＩＰ処理の誤変換等に起因して、パターンデータ８内に、設計データ７に存在しない図形が変換図形８１として形成されてしまう場合があるところ、このような図形は、Ｘ方向の長さが極端に小さく、Ｙ方向の長さが極端に大きい、スジ状の図形として現れることが多い。また、線幅を細らせ過ぎた場合にも、Ｘ方向の長さが極端に小さいスジ状の変換図形８１が形成されてしまう可能性がある。ここでは、Ｘ方向（ランの配列方向）の長さが定められた許容値よりも小さい変換図形８１を、「幅狭図形」という。
【０１２０】
幅狭図形リスト６３には、上記に説明した各項目欄の他に、オペレータから、当該幅狭図形リスト６３に含まれる１以上のレコードのいずれかを選択する操作を受け付ける「View」の項目欄が設けられる。オペレータは、選択したいレコードの「View」の項目に表示されたチェックボックス６０にチェックを入れることによって、当該レコードを選択することができる。
【０１２１】
なお、幅狭図形リスト６３には、上記に説明した各項目欄に加えてさらなる項目欄が設けられてもよい。例えば、各レコードを識別するための番号が登録される「NO.」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、オペレータが各レコードに対応する位置を確認したか否か等の情報を登録できる「Approve」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、オペレータが各レコードに対応する位置に対するコメントを登録できる「Comment」の項目欄が設けられてもよい。
【０１２２】
＜領域受付部３３１＞
領域受付部３３１は、幅狭図形の検索の対象とするべきパターンデータ８内の領域（ここでは、矩形領域）の指定を受け付ける。ここでは、オペレータは、第３支援画面５３を介して位置の指定を入力することによって、幅狭図形の検索の対象とするべき領域を指定することができるようになっている。
【０１２３】
すなわち、オペレータが、「Wafer Area」の元に表示された「Left」「Right」「Bottom」「Top」の各項目の入力ボックス５３１のそれぞれに数値を入力すると、領域受付部３３１は、各方向の辺の座標位置が各入力値から規定されるような矩形領域を、幅狭図形の検索の対象とするべき領域として受け付ける。また、パターンデータ表示領域５２０にパターンデータ８が表示されている場合、オペレータが、例えば、「Left」と「Bottom」を選択した上で、当該表示されている領域内の第１の位置にカーソルを合わせてクリック操作し、さらに、「Right」と「Top」を選択した上で、当該表示されている領域内の第２の位置にカーソルを合わせてクリック操作すると、領域受付部３３１は、第１の位置を左下の頂点とし、第２の位置を右上の頂点とした矩形領域を、幅狭図形の検索の対象とするべき領域として受け付ける（図６参照）。
【０１２４】
＜幅狭図形抽出部３３２＞
幅狭図形抽出部３３２は、領域受付部３３１が受け付けたパターンデータ８内の領域（以下「指定領域」ともいう）内に存在する幅狭図形を抽出する。
【０１２５】
具体的には、幅狭図形抽出部３３２は、例えば、指定領域内に存在する全ての変換図形８１（すなわち、少なくとも一部分が指定領域に含まれるような変換図形８１）のＸ方向に沿う寸法を計測する。そして、当該寸法が所定の閾値Ｄ２よりも小さい変換図形８１を、幅狭図形として抽出する。幅狭図形抽出部３３２は、さらに、幅狭図形として抽出した各変換図形８１の位置（具体的には、例えば、変換図形８１の中心の位置）を、幅狭図形の位置情報として取得する。
【０１２６】
なお、変換図形８１が幅狭図形であるか否かの判定に用いられる閾値Ｄ２の値は、例えば、幅狭図形抽出部３３２が、第３支援画面５３を介して、オペレータから受け付ける。具体的には、幅狭図形抽出部３３２は、オペレータが、「Judgement Width」と表示された入力ボックス５３２に入力した値を、変換図形８１が幅狭図形であるか否かの判定に用いる閾値Ｄ２の値として受け付ける。
【０１２７】
＜グループ化処理部３３３＞
グループ化処理部３３３は、幅狭図形抽出部３３２が抽出した幅狭図形を、グループ化する。すなわち、グループ化処理部３３３は、抽出された各幅狭図形のうち、離間距離（例えば、幅狭図形の中心間の離間距離）が定められた値Ｒ２以下の幅狭図形同士をまとめてグループ化する。そして１つのグループにまとめられた複数の幅狭図形を代表する１個の位置（代表位置）を取得する。この代表位置として、具体的には、例えば、１つのグループにまとめられた複数の幅狭図形を囲むことができる最小の矩形領域の中心の位置、また例えば、当該複数の幅狭図形の座標位置を平均した位置、などを採用することができる。
【０１２８】
なお、このグループ化の基準となる離間距離の大きさは、例えば、グループ化処理部３３３が、第３支援画面５３を介して、オペレータから受け付ける。具体的には、グループ化処理部３３３は、オペレータが、「Integrated Range」と表示された入力ボックス５３３に入力した値を、グループ化の基準となる離間距離の値Ｒ２として受け付ける。
【０１２９】
ただし、「Integrated Range」と表示された入力ボックス５３２には、ゼロ以上の任意の値を入力可能となっており、オペレータが入力ボックス５３２にゼロを入力した場合、グループ化処理部３３３は、幅狭図形のグループ化を行わない。
【０１３０】
＜抽出情報登録部３３４＞
抽出情報登録部３３４は、幅狭図形抽出部３３２が抽出した各幅狭図形の位置（幅狭図形がグループ化されている場合は、１つのグループにまとめられている複数の幅狭図形を代表する１個の位置）を、幅狭図形リスト６３に登録する。
【０１３１】
すなわち、抽出情報登録部３３４は、グループ化されていない幅狭図形については、１個の幅狭図形について１個のレコードを幅狭図形リスト６３に作成し、当該幅狭図形の位置の座標を、当該レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。また、抽出情報登録部３３４は、グループ化されている複数の幅狭図形については、当該複数の幅狭図形について１個のレコードを幅狭図形リスト６３に作成し、当該複数の幅狭図形の代表位置の座標を、当該レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。
【０１３２】
＜幅狭図形リスト６３を生成する処理の流れ＞
第３生成部３３が幅狭図形リスト６３を生成する処理の流れについて、図４および図９に加え、図１３を参照しながら説明する。図１３は、当該処理の流れを示す図である。
【０１３３】
まず、領域受付部３３１が、幅狭図形の検索の対象とするべきパターンデータ８内の領域の指定を受け付ける（ステップＳ３１）。
【０１３４】
続いて、オペレータが、「Make List」と表示されたアイコン５３４を操作すると、幅狭図形抽出部３３２は、ステップＳ３１で受け付けられた指定領域内に存在する幅狭図形を抽出するとともに、抽出された各幅狭図形の位置情報を取得する（ステップＳ３２）。
【０１３５】
オペレータがグループ化を指示していない場合（具体的には、「Integrated Range」と表示された入力ボックス５３３に、ゼロを入力している場合）（ステップＳ３３でＮＯ）、抽出情報登録部３３４が、ステップＳ３２で抽出された各幅狭図形の位置を、幅狭図形リスト６３に登録する。具体的には、抽出情報登録部３３４は、ステップＳ３２で抽出された幅狭図形の個数と同数個のレコードを幅狭図形リスト６３に作成し、各幅狭図形の位置の座標を、各レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。
【０１３６】
一方、オペレータがグループ化を指示している場合（具体的には、「Integrated Range」と表示された入力ボックス５３３に、ゼロより大きな値を入力している場合）（ステップＳ３３でＹＥＳ）、グループ化処理部３３３が、ステップＳ３２で抽出された幅狭図形を、グループ化する（ステップＳ３４）。
【０１３７】
幅狭図形のグループ化が終了すると、続いて、抽出情報登録部３３４が、ステップＳ３２で抽出された各幅狭図形の位置（複数の幅狭図形がグループ化されている場合は、当該グループ化された複数の幅狭図形を代表する１個の位置）を、幅狭図形リスト６３に登録する（ステップＳ３５）。具体的には、抽出情報登録部３３４は、ステップＳ３２で抽出された幅狭図形のうち、グループ化されなかった幅狭図形については、１個の幅狭図形について１個のレコードを幅狭図形リスト６３に作成し、当該幅狭図形の位置の座標を、当該レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。また、抽出情報登録部３３４は、ステップＳ３２で抽出された幅狭図形のうち、グループ化された複数の幅狭図形については、当該複数の幅狭図形について１個のレコードを幅狭図形リスト６３に作成し、当該複数の幅狭図形の代表位置の座標を、当該レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。
【０１３８】
指定領域から抽出された全ての幅狭図形の位置（あるいは、代表位置）が、幅狭図形リスト６３に登録されると、幅狭図形リスト６３を生成する処理が終了する。生成された幅狭図形リスト６３は、図９に示されるように、後述するリスト表示制御部３５の制御下でリスト表示領域５１０に表示されることになる。
【０１３９】
幅狭図形リスト６３が生成された後、オペレータが「Save」と表示されたアイコン５３６を操作すると、生成された幅狭図形リスト６３が、記憶装置３０４に記憶される。また、また、オペレータが「Load」と表示されたアイコン５３５を操作すると、リスト表示制御部３５が記憶装置３０４に記憶された幅狭図形リスト６３を読み出して、リスト表示領域５１０に表示する。
【０１４０】
＜ｄ．第４生成部３４＞
第４生成部３４について、図４に加え、図１０を参照しながら説明する。図１０は、確認支援画面５（具体的には、「Alignment」と表示されたタブ５４０が選択された状態の確認支援画面５であり、以下「第４支援画面５４」とも示す）の構成例を示す図である。第４支援画面５４は、マークリスト６４を表示する表示画面として機能する。
【０１４１】
第４生成部３４は、マークリスト６４を生成する処理部であり、マーク位置登録部３４１を備える。
【０１４２】
マークリスト６４においては、パターンデータ８内の１つの位置が１個のレコードと対応付けられており、各レコードには、パターンデータ８内の位置を特定する情報（座標情報）が含まれる。具体的には、マークリスト６４には、パターンデータ８内の位置座標を登録する「Ｘ」「Ｙ」の項目欄が含まれる。
【０１４３】
マークリスト６４においては、各レコードに含まれるパターンデータ８内の位置は、パターンデータ８内におけるアライメントマークＡＬの位置となっている。ただし、アライメントマークＡＬとは、描画処理において基板Ｗの位置合わせなどに用いられるマークであり、設計データ７の作成段階において、定められた位置に作成される。
【０１４４】
マークリスト６４には、上記に説明した各項目欄の他に、オペレータから、当該マークリスト６４に含まれる１以上のレコードのいずれかを選択する操作を受け付ける「View」の項目欄が設けられる。オペレータは、選択したいレコードの「View」の項目に表示されたチェックボックス６０にチェックを入れることによって、当該レコードを選択することができる。
【０１４５】
なお、マークリスト６４には、上記に説明した各項目欄に加えてさらなる項目欄が設けられてもよい。例えば、各レコードを識別するための番号が登録される「NO.」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、各レコードに登録された位置にあるアライメントマークＡＬの種類を登録できる「Kind」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、オペレータが各レコードに対応する位置を確認したか否か等の情報を登録できる「Approve」の項目欄が設けられてもよい。また例えば、オペレータが各レコードに対応する位置に対するコメントを登録できる「Comment」の項目欄が設けられてもよい。
【０１４６】
＜マーク位置登録部３４１＞
マーク位置登録部３４１は、設計データ７に含まれるアライメントマークＡＬの位置を、マークリスト６４に登録する。具体的には、マーク位置登録部３４１は、オペレータが「Alignment」と表示されたタブ５４０を選択して第４支援画面５４を表示させると、記憶装置３０４などに記憶された定められたデータを読み込んで、当該データに登録されている設計データ７内のアライメントマークＡＬの各位置を寸法評価リスト６１に登録する。すなわち、マーク位置登録部３４１は、当該データに登録されている１以上の位置の個数と同数個のレコードをマークリスト６４に作成し、当該登録されている各位置の座標を、各レコードの「Ｘ」「Ｙ」の各項目に登録する。したがって、オペレータは、例えば、設計データ７の作成時に、設計データ７内のアライメントマークＡＬの位置をリストアップしたデータを作成して、これを記憶装置３０４に記憶させておけば、当該アライメントマークＡＬの位置をマークリスト６４に直ちに登録することができる。
【０１４７】
生成されたマークリスト６４は、図１０に示されるように、後述するリスト表示制御部３５の制御下でリスト表示領域５１０に表示されることになる。
【０１４８】
＜ii．リスト表示制御部３５＞
再び図４を参照する。リスト表示制御部３５は、表示部３０７を制御して、確認支援画面５のリスト表示領域５１０に、リスト生成部３０によって生成された位置リスト６を、表示させる。ただし、上述したとおり、リスト表示領域５１０にどの種類の位置リスト６が表示されるかは、選択されるタブによって変わってくる。すなわち、リスト表示制御部３５は、「Manual」と表示されたタブ５４０が選択された状態の第１支援画面５１のリスト表示領域５１０には、寸法評価リスト６１を表示させる（図５）。また、リスト表示制御部３５は、「Minimum Run」と表示されたタブ５４０が選択された状態の第２支援画面５２のリスト表示領域５１０には、極小ランリスト６２を表示させる（図７、図８）。また、リスト表示制御部３５は、「Sliver」と表示されたタブ５４０が選択された状態の第３支援画面５３のリスト表示領域５１０には、幅狭図形リスト６３を表示させる（図９）。また、リスト表示制御部３５は、「Alighment」と表示されたタブ５４０が選択された状態の第４支援画面５４のリスト表示領域５１０には、マークリスト６４を表示させる（図１０）。
【０１４９】
なお、リスト表示領域５１０内に位置リスト６の全体が表示されない場合、リスト表示領域５１０の周囲に、リスト表示領域５１０内に表示される部分の切り換えを行う機能を有するスクロールバー５０が、必要に応じて表示される。ユーザは、カーソルをスクロールバー５０に合わせてスクロールバー５０を移動させる操作などを行うことによって、領域内に表示されていない隠れた部分を、リスト表示領域５１０内に表示させることができる。
【０１５０】
＜iii．選択受付部３６＞
選択受付部３６は、リスト表示領域５１０を介して、ここに表示されている位置リスト６に登録されている１以上の位置のいずれかを選択する選択操作をオペレータから受け付ける。つまり、リスト表示領域５１０は、当該選択操作をオペレータから受け付ける受付画面領域としても機能する。
【０１５１】
具体的には、リスト表示領域５１０に表示されている位置リスト６の各レコードには、上述したとおり、「View」の項目欄に、オペレータからの選択を受け付けるチェックボックス６０が表示されており、オペレータが、当該位置リスト６のうちの１のレコードを選択して、当該レコードのチェックボックス６０にチェックを入力すると、選択受付部３６が、当該チェックが入力されたレコードと対応する位置を、選択位置として受け付ける。つまり、オペレータは、位置リスト６に登録されている位置のうち、所望の位置のレコードのチェックボックス６０にチェックを入れることによって、当該位置を選択することができる。
【０１５２】
＜iv．領域表示制御部３７＞
領域表示制御部３７は、表示部３０７を制御して、確認支援画面５のパターンデータ表示領域５２０に、選択受付部３６がオペレータから受け付けた位置（選択位置）と対応するパターンデータ８の部分領域と、当該部分領域と対応する設計データ７の部分領域とを重ねて、表示させる。ただし、領域表示制御部３７の制御下で表示されるパターンデータ表示領域５２０においては、その幾何学中心Ｃに、選択位置が表示される。したがって、パターンデータ表示領域５２０が矩形領域である場合、選択位置に対応するパターンデータ８の部分領域とは、選択位置を中心とする矩形領域となる。
【０１５３】
パターンデータ表示領域５２０に表示されるパターンデータ８の部分領域の寸法は、例えば、パターンデータ表示領域５２０の画素数に応じて規定される。具体的には、例えば、パターンデータ８における１μｍ×１μｍの領域が、パターンデータ表示領域５２０の１０ピクセル×１０ピクセルの領域で表示されるように規定されている場合、パターンデータ表示領域５３０が、５００ピクセル×５００ピクセルの表示領域であるとすると、ここに表示されるパターンデータ８の部分領域は、５０μｍ×５０μｍの寸法となる。
【０１５４】
なお、パターンデータ表示領域５２０の周囲にも、パターンデータ表示領域５２０内に表示される部分の切り換えを行う機能を有するスクロールバー５０が、必要に応じて表示される。ユーザは、カーソルをスクロールバー５０に合わせてスクロールバー５０を移動させる操作などを行うことによって、領域内に表示されていない隠れた部分（つまり、選択位置に対応するパターンデータ８の部分領域の周囲）を、パターンデータ表示領域５２０内に表示させることができる。
【０１５５】
＜３−３．処理の流れ＞
支援装置３にて実行される処理の流れについて、図１４を参照しながら説明する。図１４は、当該処理の流れを示す図である。
【０１５６】
オペレータがＲＩＰパラメータを入力するとともに、当該ＲＩＰパラメータでＲＩＰ処理を行うことによって得られるパターンデータ８の確認を行う旨の指示を入力すると（ステップＳ１でＹＥＳ）、表示部３０７に確認支援画面５が表示される（ステップＳ２）。
【０１５７】
確認支援画面５が表示されると、リスト生成部３０が、オペレータからの指示に応じて、位置リスト６を生成する（ステップＳ３）。リスト生成部３０が位置リスト６を生成する処理については上述したとおりである。オペレータは、任意のタブ５４０を選択して、任意の種類の位置リスト６を生成させることができる。
【０１５８】
位置リスト６が生成されると、リスト表示制御部３５が、表示部３０７を制御して、当該生成された位置リスト６を、リスト表示領域５１０に表示させる（ステップＳ４）。
【０１５９】
選択受付部３６が、リスト表示領域５１０を介して、ここに表示されている位置リスト６に含まれる１以上の位置のいずれかを選択する選択操作をオペレータから受け付けると（ステップＳ５でＹＥＳ）、領域表示制御部３７が、表示部３０７を制御して、ステップＳ５で受け付けられた選択位置に対応するパターンデータ８の部分領域を、パターンデータ表示領域５２０に表示させる（ステップＳ６）。
【０１６０】
オペレータは、パターンデータ表示領域５２０に表示された画像を見て、パターンデータ８内の選択した位置に対応する部分領域の状態を確認して、パターンデータ８が適切なものとなっているかを確認することができる。
【０１６１】
例えば、オペレータは、変換図形８１と元図形７１との寸法誤差の有無を確認したい場合は、寸法誤差が生じやすいようなパターンデータ８内の位置などを登録した寸法評価リスト６１を、リスト生成部３０に作成させる。そして、当該寸法評価リスト６１に登録された評価情報をみながら、気になる位置（例えば、否定的な評価結果を与えられている位置）を１つずつ選択して、当該位置の状態をパターンデータ表示領域５２０で次々と確認していけばよい。これによって、パターンデータ８内の各位置（例えば、否定的な評価結果が与えられている位置）を効率的に確認していくことができる。
【０１６２】
また例えば、オペレータは、パターンデータ８内の、長さが定められた値に満たないために生成されなかったランの存在部分を確認したい場合は、このようなランが生じやすいような領域を指定して、リスト生成部３０に、極小ランリスト６２を作成させる。そして、当該極小ランリスト６２に登録された位置を１つずつ選択して、当該位置の状態をパターンデータ表示領域５２０で次々と確認していけばよい。これによって、パターンデータ８内における、長さが定められた値に満たないために生成されなかったランの存在部分を効率的に確認していくことができる。したがって、ランがカットされたために変換図形８１が意図に沿わない形となっている場合、これを速やかに検知することができる。
【０１６３】
また例えば、オペレータは、パターンデータ８内の、幅狭図形の形成部分を確認したい場合は、幅狭図形が生じやすいような領域を指定して、リスト生成部３０に、幅狭図形リスト６３を作成させる。そして、当該幅狭図形リスト６３に登録された位置を１つずつ選択して、当該位置の状態を、パターンデータ表示領域５２０で次々と確認していけばよい。これによって、パターンデータ８内における、幅狭図形が形成されている部分を効率的に確認していくことができる。
【０１６４】
また例えば、オペレータは、パターンデータ８内のアライメントマークＡＬの形成部分を確認したい場合は、リスト生成部３０に、マークリスト６４を作成させる。そして、当該マークリスト６４に登録された位置を１つずつ選択して、アライメントマークＡＬが形成されているはずの位置の状態を、パターンデータ表示領域５２０で次々と確認していけばよい。これによって、パターンデータ８内の適切な位置にアライメントマークＡＬが適切に形成されているか否かを、効率的に確認していくことができる。
【０１６５】
パターンデータ８が意図に沿うものでないと判断した場合、オペレータは、ＲＩＰパラメータを変更する。オペレータからＲＩＰパラメータの変更を受け付けると（ステップＳ７でＹＥＳ）、新たなＲＩＰパラメータのＲＩＰ処理で得られるパターンデータ８について、ステップＳ２〜ステップＳ６の処理が行われる。
【０１６６】
一方、パターンデータ８が意図に沿うものであると判断した場合、オペレータは、当該パターンデータ８を与えたＲＩＰパラメータを、ＲＩＰ装置２にて実際に使用するＲＩＰパラメータとして確定する旨を入力する。オペレータからＲＩＰパラメータの確定を受け付けると（ステップＳ８でＹＥＳ）、一連の処理が終了する。
【０１６７】
なお、上記の一連の処理において、必ずしも、設計データ７の全体に対して、ＲＩＰ処理（ステップＳ１あるいはステップＳ７で受け付けられたＲＩＰパラメータでのＲＩＰ処理）を施して、設計データ７の全体に対応するパターンデータ８を生成する必要はない。すなわち、パターンデータ８が必要な部分領域（例えば、パターンデータ表示領域５２０に表示するべきパターンデータ８の部分領域、設計データ７と比較するべきパターンデータ８の部分領域、極小ラン、あるいは、幅狭図形の抽出対象となるパターンデータ８の部分領域、など）に相当する設計データ７の部分領域のみに対してＲＩＰ処理を施して、パターンデータ８を部分的に生成すればよい。
【０１６８】
＜４．効果＞
上記の実施の形態によると、パターンデータ８内の１以上の位置が登録されている位置リスト６が表示部３０７に表示されるとともに、位置リスト６に登録された位置のうち、オペレータが選択した位置と対応するパターンデータ８の部分領域が表示部３０７に表示される。この構成によると、オペレータは、位置リスト６を見ながら任意の位置を選択するだけで、パターンデータ８における当該選択した位置と対応する部分領域の状態を確認することができる。したがって、オペレータは、パターンデータ８の確認作業をスムーズに行うことができる。
【０１６９】
特に、上記の実施の形態によると、オペレータが選択した位置が、パターンデータ表示領域５２０の幾何学中心Ｃに表示される。したがって、オペレータは、選択した位置の周囲の状況を適切に確認することができる。
【０１７０】
特に、上記の実施の形態によると、パターンデータ８の部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する設計データ７の部分領域が表示される。したがって、オペレータは、選択した位置と対応するパターンデータ８の部分領域を、設計データ７と比較しつつ、適切に確認することができる。
【０１７１】
また、上記の実施の形態によると、パターンデータ８内の１以上の位置と、当該１以上の位置のそれぞれの評価結果を含んだ寸法評価リスト６１が表示部３０７に表示される。したがって、オペレータは、寸法評価リスト６１に含まれる１以上の位置のそれぞれにおいて、パターンデータ８が設計データ７と許容範囲内で一致しているか否かを一目で把握することができる。
【０１７２】
特に、評価部３１２が、線分の長さの比較で、パターンデータ８と設計データ７との相違を評価するので、当該評価にかかる処理の負荷を抑えつつ、パターンデータ８内の各位置を適切に評価できる。
【０１７３】
また、評価部３１２が、元図形７１と変換図形８１とを、定められた方向に沿う寸法の一致度で評価するので、元図形７１と変換図形８１とが、寸法誤差はないものの、互いに微小にずれた位置に形成されている場合には、肯定的な評価が与えられる。したがって、実質的に問題のある相違部分だけに否定的評価が与えられるので、オペレータがパターンデータ８を確認する作業がより効率的に行われる。
【０１７４】
また、評価部３１２は、パターンデータ８の全域ではなく、寸法評価リスト６１に登録された位置に対してのみ評価を行うので、例えば、オペレータは、パターンデータ８において、同じ形状の図形が繰り返されて現れる場合に、そのうちの１つの図形内の位置を寸法評価リスト６１に登録しておき、その評価結果およびその位置に対応する部分領域の状態を見るだけで、他の繰り返し部分の図形の状況も推認することができる。したがって、評価に係る処理の無駄を省けるとともに、オペレータはパターンデータ８を確認する作業を効率的に行うことができる。
【０１７５】
また、上記の実施の形態によると、パターンデータ８内における指定された領域に存在する特徴部分である極小ランの位置が登録された極小ランリスト６２が、表示部３０７に表示される。また、パターンデータ８内における指定された領域に存在する特徴部分である幅狭図形の位置が登録された幅狭図形リスト６３が、表示部３０７に表示される。したがって、オペレータは、指定された領域内に存在する特徴部分の各々の状態をスムーズに確認することができる。また、抽出の対象となる領域が予め絞り込まれるので、特徴部分を抽出する処理に要する負荷も小さくてすむ。
【０１７６】
特に、離間距離が定められた値以下の特徴部分同士がグループ化された場合は、位置リスト６２，６３に、１つのグループにまとめられた複数の特徴部分を代表する１個の位置が、登録される。したがって、オペレータは、パターンデータ８内において比較的接近した位置に存在する一群の特徴部分の状態を、まとめて確認することができる。
【０１７７】
＜５．変形例＞
上記の実施の形態において、領域表示制御部３７は、パターンデータ表示領域５２０内に、選択位置に対応するパターンデータ８の部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する設計データ７の部分領域を表示させる構成としたが、当該部分領域と対応する設計データ７の部分領域は必ずしも表示させる必要はなく、図１５のパターンデータ表示領域５２０ａに示されるように、パターンデータ８の部分領域のみを表示する構成としてもよい。
【０１７８】
また、上記の実施の形態において、確認支援画面５と同一の画面内に、ＲＩＰパラメータの設定を受け付ける画面領域をさらに設けてもよい。
【０１７９】
また、上記の実施の形態において、リスト表示制御部３５は、リスト表示領域５１０に寸法評価リスト６１を表示するにあたって、否定的な評価結果を与えられている位置のレコード部分と、肯定的な評価結果を与えられている位置のレコード部分とを、異なる態様で表示させてもよい。例えば、前者を赤色で表示してもよい。
【０１８０】
また、上記の実施の形態において、領域表示制御部３７は、パターンデータ表示領域５２０に表示される特徴部分（極小ラン、あるいは、幅狭図形）を、他の部分と異なる態様で表示させてもよい。例えば、極小ラン、あるいは、幅狭図形の部分を、赤色で表示してもよい。
【０１８１】
また、上記の実施の形態に係る評価部３１２は、対象位置Ｐについて、Ｘ方向とＹ方向のそれぞれの評価を行う構成としていたが、これら各方向に加えて（あるいは、これらの少なくとも１つと代えて）、Ｘ方向およびＹ方向と非平行な第３の方向の評価を行う構成としてもよい。
【０１８２】
また、上記の実施の形態においては、パターンデータ８内に存在する変換図形８１のうち、Ｘ方向に沿う長さが所定の許容値よりも小さいものを幅狭図形として検出していたが、例えば、パターンデータ８内に存在する変換図形８１のうち、Ｙ方向の長さに対してＸ方向の長さが極端に小さい変換図形８１（すなわち、Ｘ方向の長さが所定の許容値よりも小さく、かつ、Ｙ方向の長さが所定の許容値よりも大きい変換図形８１）を、幅狭図形として検出してもよい。
【符号の説明】
【０１８３】
１００  描画システム
１  設計データ作成装置
２  ＲＩＰ装置
３  支援装置
３０７  表示部
４  描画装置
７  設計データ
８  パターンデータ
３０  リスト生成部
３１  第１生成部
３１１  位置受付部
３１２  評価部
３１３  評価情報登録部
３２  第２生成部
３２１  領域受付部
３２２  極小ラン抽出部
３２３  グループ化処理部
３２４  抽出情報登録部
３３  第３生成部
３３１  領域受付部
３３２  幅狭図形抽出部
３３３  グループ化処理部
３３４  抽出情報登録部
３４  第４生成部
３４１  マーク位置登録部
３５  リスト表示制御部
３６  選択受付部
３７  領域表示制御部
６  位置リスト
６１  寸法評価リスト
６２  極小ランリスト
６３  幅狭図形リスト
６４  マークリスト
５  確認支援画面
５１０  リスト表示領域
５２０  パターンデータ表示領域
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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