(57)【要約】【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の主表面において、短波長の表面うねり及び中波長の表面うねりを十分に小さくできる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供すること。【解決手段】測定波長２．５〜８０μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜１．４０μｍであり、かつ、測定波長２．５〜８００μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜２．００μｍである、研磨面を有する軟質研磨パッドを用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定波長２．５〜８０μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜１．４０μｍであり、かつ、測定波長２．５〜８００μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜２．００μｍである、研磨面を有する軟質研磨パッドを用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む、
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記研磨面は、測定波長８．３〜２５００μｍにおける表面粗さＲａが０．６０〜２．３０μｍである、
請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記研磨工程は、平均粒子径が１〜５０ｎｍのシリカ粒子を含む研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨する工程を含む、
請求項１又は２に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、
前記磁気記録媒体用ガラス基板の主表面は、
測定波長４０〜２００μｍにおける表面うねりＷａが０．０６ｎｍ以下であり、かつ、測定波長２００〜１２５０μｍにおける表面うねりＷａが０．０８ｎｍ以下である、
磁気記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
前記主平面は、測定波長１２５０〜５０００μｍにおける表面うねりＷａが０．１３ｎｍ以下である、
請求項４に記載の磁気記録媒体用ガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク（以下、磁気記録媒体とも呼ぶ。）の高記録密度化の要求に伴い、磁気記録媒体上のビットサイズが微小化している。そのため、より小さなビットサイズに対応する、微弱な磁気信号を正確に記録及び／又は再生できることが求められている。
【０００３】
微弱な磁気信号を正確に記録及び／又は再生するためには、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの距離（磁気ヘッドの浮上量）をできるだけ小さくする必要がある。磁気ヘッドは、磁気記録媒体の主表面の表面うねりにある程度追従するが、磁気記録媒体の主表面の表面うねりが大き過ぎる場合、磁気ヘッドを安定的に浮上させることが困難となる。磁気ヘッドの浮上量が小さい状態で、安定的に記録の読み書きを行うためには、磁気記録媒体の基板である磁気記録媒体用ガラス基板の主表面の表面うねりを低減する必要がある。
【０００４】
表面うねりを低減するために、磁気記録媒用ガラス基板の主表面は、表面粗さが小さい軟質研磨パッドを用いて仕上げ研磨されている。具体的には、特許文献１においては、先ず、軟質研磨パッドを研磨定盤に装着した後に、その表面を、ダイヤモンド粒子等を砥粒として有するドレッサを用いてドレス処理する。そして、ドレス処理された軟質研磨パッドを用いて磁気記録媒体用ガラス基板を研磨して、表面うねりが小さい磁気記録媒体用ガラス基板を製造する。軟質研磨パッドは、研磨定盤の表面の凹凸形状に由来する軟質研磨パッドの表面のうねりなどを除去して研磨面をより平滑にするため、研磨定盤に装着した後にドレス処理が施されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１１２５７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載された方法でドレス処理された軟質研磨パッドを使用した場合においても、近年の高記録密度化の要求を満たす磁気記録媒体に対応する磁気記録媒体用ガラス基板を提供することが困難となっている。
【０００７】
磁気記録媒体の高記録密度化に伴い、磁気ヘッドのスライダのサイズは小さく、磁気ヘッドの浮上量は小さくなる。磁気ヘッドは、そのスライダの長さより長い波長を有する磁気記録媒体の主表面のうねりには追従しやすいが、スライダの長さと同程度以下の波長を有するうねりに追従することは難しい。そのため、磁気ヘッドのスライダのサイズが小さくなった場合、より短い波長域の表面うねりを小さくして、磁気記録媒体上で磁気ヘッドが安定に浮上できるようにする必要がある。そして、磁気記録媒体の基板である磁気記録媒体用ガラス基板の主表面にも、より短い波長域の表面うねりを小さくすることが求められるようになってきている。
【０００８】
本願発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の主表面において、短波長の表面うねり及び中波長の表面うねりを十分に小さくできる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明は、測定波長２．５〜８０μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜１．４０μｍであり、かつ、測定波長２．５〜８００μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜２．００μｍである、研磨面を有する軟質研磨パッドを用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む、
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、磁気記録媒体用ガラス基板の主表面において、短波長の表面うねり及び中波長の表面うねりを十分に小さくできる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態に係るドレッサの一例の概略構成図である。
【図２】両面研磨装置の一例の模式的な縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００１３】
［磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の概略］
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の概略について説明する。
【００１４】
先ず、本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでも良く、結晶化ガラスでも良く、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス（例えば、化学強化ガラス）でも良い。一例を挙げると、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程（例えば、化学強化工程）を実施する。強化工程は、最初の研磨工程前、最後の研磨工程後、又は各研磨工程間のいずれで実施しても良い。
【００１５】
本発明の磁気記録媒体用ガラス基板のガラス素基板は、フロート法、フュージョン法、プレス成形法、ダウンドロー法又はリドロー法等の方法により成形されるが、本発明はこの点で限定されない。
【００１６】
磁気記録媒体用ガラス基板は、上述の方法で成形されたガラス素基板に、
（工程１）ガラス素基板を、中央部に円形孔を有する円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する形状付与工程；
（工程２）ガラス基板の端面（内周端面及び外周端面）を研磨する端面研磨工程；
（工程３）ガラス基板の上下両主表面を研磨する主表面研磨工程；
（工程４）ガラス基板を精密洗浄して乾燥する洗浄工程；
を含む工程を施すことによって製造される。
【００１７】
そして、上述の工程を含む製造方法によって得られた磁気記録媒体用ガラス基板は、磁性層などの薄膜を形成する工程を経て、磁気記録媒体とされる。
【００１８】
主表面研磨工程の前において、主表面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）を実施しても良く、また、各工程間にガラス基板の洗浄（工程間洗浄）やガラス基板表面のエッチング（工程間エッチング）を実施しても良い。なお、ここで言う主表面のラップは、広義の主表面の研磨である。また、研磨工程は、１次研磨のみでも良く、１次研磨と２次研磨を行っても良く、２次研磨の後に３次研磨を行っても良い。
【００１９】
次に、各々の工程について、説明する。
【００２０】
（工程１）形状付与工程
形状付与工程では、ガラス素基板を、中央部に円形孔を有する円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する。形状付与工程における、内周及び外周側面部の面取り加工は、一般にダイヤモンド砥粒を固定した砥石を用いて行う。
【００２１】
（工程２）端面研磨工程
端面研磨工程では、ガラス基板の内周端面及び外周端面を端面研磨する。
【００２２】
外周端面及び内周端面の研磨は、どちらを先に実施しても良い。
【００２３】
（工程３）主表面研磨工程
主表面研磨工程では、両面研磨装置を用いて、ガラス基板の主表面に研磨液を供給しながらガラス基板の上下主表面を研磨する。なお、両面研磨装置としては、特に限定されないが、例えば１６Ｂ型両面研磨装置、２０Ｂ型両面研磨装置、２２Ｂ型両面研磨装置等を使用することができる。
【００２４】
研磨工程は、１次研磨（仕上げ研磨）のみの１段研磨でも良いし、１次研磨と２次研磨（仕上げ研磨）を行う２段研磨でも良いし、１次研磨、２次研磨を経て３次研磨（仕上げ研磨）を行う３段研磨でも良い。通常、各々の研磨工程の間には、洗浄工程（工程間洗浄）を設ける。
【００２５】
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、この仕上げ研磨工程において、後述する特定の方法を実施することによって、主表面の表面うねりが十分に小さい磁気記録媒体用ガラス基板を製造するものである。仕上げ研磨の詳細については、後述する。
【００２６】
（工程４）洗浄工程
洗浄工程では、仕上げ研磨後のガラス基板を、例えば、洗剤を用いたスクラブ洗浄、洗剤溶液へ浸漬した状態での超音波洗浄、純水へ浸漬した状態での超音波洗浄等を順次行い、イソプロピルアルコール等の蒸気により乾燥する。
【００２７】
［本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法］
本実施形態においては、上述の（工程３）における仕上げ研磨の研磨具として、後述する研磨面特性を有する軟質研磨パッドと、コロイダルシリカを含有する研磨液を用いて、両面研磨装置により上下主表面を研磨する。
【００２８】
軟質研磨パッドとは、一般的に、ベース層と、プラスチックフォーム等で作られた表面層（一般的にＮＡＰ層と呼ばれる）と、を有する研磨パッドのことを指す。本実施形態では、ドレス処理によって、軟質研磨パッドの表面層の表皮を研削除去する。これにより、プラスチックフォームに含まれる気泡が開口され、ガラス基板を研磨する研磨面が形成される。このように、表面層の表皮を研削除去してプラスチックフォームの気泡を開口した状態の軟質研磨パッドは、スエードタイプの研磨パッドともいわれる。軟質研磨パッドは、ガラス基板の仕上げ研磨によく使用される。
【００２９】
コロイダルシリカを含有する研磨液としては、一次粒子の平均粒子直径が１〜５０ｎｍ、好ましくは５〜３０ｎｍ、更に好ましくは１０〜３０ｎｍのコロイダルシリカを主成分とするものを使用することが好ましい。
【００３０】
軟質研磨パッドは、ガラス基板を研磨する前に、予めドレッサを用いてドレス処理を施し、研磨パッドの研磨面の形状及び表面粗さを調整する。
【００３１】
例えばウレタン製の軟質研磨パッドは、内部に発泡層を有し、その中に研磨剤粒子を一時的に保持する構成を有する。そのため、軟質研磨パッドの研磨面に、この発泡層を開口させるために、ドレッサを用いてドレス処理し、研磨パッドの表面層を研削除去し、研磨面を形成させる必要がある。ドレス処理としては、後述する研磨装置の定盤に研磨パッドを装着した後、後述するドレッサを用いて研磨パッドの表面層を研削除去する。
【００３２】
図１に、本実施形態に係るドレッサの一例の概略構成図を示す。
【００３３】
図１に示すように、ドレッサ１０は、ステンレス又はアルミニウム合金等の金属を円盤形状に加工した台座１２と、台座１２の上平面１４に形成されたダイヤモンド砥粒等の砥粒層１６と、を有する。砥粒層１６は、例えば電着法又はロウ付け法などの方法によって、所定のパターンに形成される。図１では、砥粒層１６の積層パターンの一例として、台座１２の周方向に、複数の扇形状の砥粒層１６が形成された構成を示したが、本発明はこの点において限定されない。
【００３４】
なお、砥粒の形成方法の一例であるロウ付け法とは、ダイヤモンド砥粒等の砥粒を保持（固定）する砥粒層を、ロウ付けにより形成する方法である。より具体的には、高温の溶融状態のロウを、ダイヤモンド砥粒等の砥粒の表面に付着させた後に固化させることで、砥粒を固定する方法である。
【００３５】
ロウ付け法で砥粒層を形成したドレッサの砥粒層の表面は、後述する電着法で砥粒層を形成したものに比べ、砥粒の突き出し量が多く、かつ、砥粒の上部の高さが均一となる。そのため、ロウ付法で砥粒層を形成したドレッサを用いて研磨パッドの表面をドレス処理すると、より平滑な研磨面を得ることができる。
【００３６】
一方、電着法で砥粒層を形成する場合、砥粒を固定（保持）する砥粒層の金属を、メッキ法などによって台座の上平面に形成して、砥粒を砥粒層に埋め込むため、砥粒の直径の半分以上が金属の砥粒層中に埋まることとなる。そのため、電着法で砥粒層を形成したドレッサの砥粒層の表面は、ロウ付け法のドレッサの表面と比して、砥粒の突き出し量が小さくなる。また、ドレス処理中に砥粒が砥粒層から外れることを防止するため、粒径が異なる砥粒を混合し、粒径が大きい砥粒の間に粒子径が小さい砥粒が入る構成となる。そのため、電着法で砥粒層を形成したドレッサの表面は、ロウ付け法で形成したドレッサの表面と比して、不均一となる。そのため、電着法で砥粒層を形成したドレッサを用いて研磨パッドをドレス処理すると、研磨パッドの研磨面の表面粗さは大きくなる傾向がある。しかしながら、電着法により砥粒層を形成したドレッサでのドレス処理は、ロウ付け法で砥粒層を形成したドレッサでのドレス処理と比して、ドレス処理速度が速く、かつ、研磨パッドの研削の際の抵抗が小さくなる。
【００３７】
ドレス処理は、前述の主表面研磨工程における、両面研磨装置を用いて実施することができる。図２に、主表面研磨工程やドレス処理工程で使用できる、両面研磨装置の一例の模式的な縦断面図を示す。図２に示されるように、両面研磨装置１００は、複数のガラス基板の両主表面を同時に研磨するように構成されている。両面研磨装置１００は、基台２００と、下定盤３００と、上定盤４００と、昇降機構５００と、回転伝達機構６００とを有する。基台２００の上部には、下定盤３００が回転可能に支持されており、基台２００の内部には、後述する駆動部としての上定盤４００等を回転駆動する駆動モーターが取り付けられている。
【００３８】
下定盤３００は、図示しないキャリヤに保持された複数のガラス基板の下面を研磨する下側研磨パッドを有する。また、上定盤４００は、下定盤３００の上方に対向配置され複数のガラス基板の上面を研磨する上側研磨パッドを有する。
【００３９】
昇降機構５００は、基台２００の上方に起立する門型のフレーム７００により支持されており、キャリヤ交換時に上定盤４００を昇降させる昇降用シリンダ装置５２０を有する。昇降用シリンダ装置５２０は、フレーム７００の梁７２０の中央に垂下方向に伸縮動作するように取り付けられている。昇降用シリンダ装置５２０のピストンロッド５４０は、下方に延在している。
【００４０】
ピストンロッド５４０の下側先端部には、吊下部材８００の中央部が結合されている。吊下部材８００は、上定盤４００を吊下するように取り付けられている。吊下部材８００は、上下方向に延在する複数の支柱８００ａと、支柱８００ａの下端部に固定された円環状取付部材８００ｂと、支柱８００ａの上端部に固定された板状取付部材８００ｃとを備える。円環状取付部材８００ｂの下面に、上定盤４００の上面が固定されている。したがって、昇降用シリンダ装置５２０のピストンロッド５４０が上方向または下方向に駆動されると、ピストンロッド５４０と吊下部材８００を介して連結された上定盤４００も同時に駆動されて上昇または降下する。
【００４１】
回転伝達機構６００は、上定盤４００の駆動モーターのモーター駆動軸６１０の上端に円筒形状に形成された結合部６２０を有する。また、回転伝達機構６００は、上定盤４００の中心孔を貫通する結合部６２０の上側側面に形成されたキー溝（凹部）６２０ａに嵌合可能なキー（爪）８１０を有する。上定盤４００の内周側に突出するキー８１０は、支軸８２０を揺動中心として、支軸８２０によって円環状取付部材８００ｂに揺動可能に取り付けられている。
【００４２】
両面研磨装置１００は、上定盤４００、昇降機構５００、回転伝達機構６００を制御する制御部９００を有する。制御部９００は、ＣＰＵ等の演算処理装置を備え、演算処理装置により処理される所定のプログラムに従って、所定の処理を実行できる。
【００４３】
図２で示した両面研磨装置を用いたドレス処理の方法としては、先ず、両面研磨装置の定盤表面に軟質研磨パッドを装着する。そして、予め作成されたドレッサを用いて、水を流しながら所定の圧力、所定の時間でドレス処理を施す。これにより、軟質研磨パッドの表面層を細部に研削除去し、微細な開口部を研磨面に出現させるとともに、軟質研磨パッドの研磨面を所定の表面粗さに調整する。なお、ドレス処理は、１種類のドレッサを用いて１回のドレス処理を施すことで実施されても良いし、２種類以上のドレッサを用いて２回以上のドレス処理を施すことで実施されても良い。
【００４４】
本実施形態においては、ドレス処理後の軟質研磨パッドの研磨面が、
（ａ）測定波長２．５〜８０μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜１．４０μｍ、より好ましくは０．４０〜１．３４μｍ、更に好ましくは０．４０〜１．２４μｍであり、かつ、（ｂ）測定波長２．５〜８００μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜２．００μｍ、より好ましくは０．４０〜１．８０μｍ、更に好ましくは０．４０〜１．７５μｍである、軟質研磨パッドを用いてガラス基板の主表面を仕上げ研磨する。
【００４５】
上述の軟質研磨パッドを用いて仕上げ研磨することにより、測定波長４０〜２００μｍにおける表面うねりＷａ（短波長の表面うねり）が、０．０６ｎｍ以下であり、かつ、測定波長２００〜１２５０μｍにおける表面うねりＷａ（中波長の表面うねり）が、０．０８ｎｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板を製造することができる。即ち、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、短波長領域から中波長領域に亘る表面うねりが十分に小さい磁気記録媒体用ガラス基板を製造できる。
【００４６】
近年、磁気記録媒体の高記録密度化に伴って、磁気ヘッドのスライダの大きさは小さく、スライダの浮上量は小さくなっている。磁気ヘッドのスライダの長さと同程度の波長域における、磁気記録媒体の主表面のうねりが大きい場合、スライダは、そのうねりに対して追従が難しくなり、スライダの浮上姿勢が不安定となり、磁気記録媒体の主表面で安定的にスライダを浮上させることが困難となる。
【００４７】
また、磁気記録媒体の主表面のうねりは、磁気記録媒体の基板である磁気記録媒体用ガラス基板の主表面のうねりに大きな影響を受ける。そのため、スライダの浮上姿勢を安定化させるためには、スライダの長さと同程度の波長域における、磁気記録媒体用ガラス基板の主表面のうねりを十分小さくすることが重要である。
【００４８】
なお、表面粗さが粗いドレッサを用いてドレス処理された軟質研磨パッドを用いてガラス基板の主表面を研磨した場合、主表面の長波長領域の表面うねりを小さくできるが、短波長領域の表面うねりを低減することは困難である。一方、表面粗さが細かいドレッサを用いてドレス処理された軟質研磨パッドを用いてガラス基板の主表面を研磨した場合、主表面の短波長領域の表面うねりを小さくできるが、長波長領域の表面うねりを低減することは困難である。
【００４９】
本実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、近年の磁気記録媒体の高記録密度化に伴い、サイズが小さくなっていく磁気ヘッドのスライダに対応するため、上述の特性を満たす研磨面を有する軟質研磨パッドを用いて仕上げ研磨することにより、磁気記録媒体用ガラス基板の主表面の短波長領域の表面うねり（測定波長４０〜２００μｍにおける表面うねりＷａ）、および、中波長領域の表面うねり（測定波長２００〜１２５０μｍにおける表面うねりＷａ）を十分に低減することができる。
【００５０】
また、近年、磁気記録装置の読み出し速度を上げるため、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）中で磁気記録媒体の回転速度を高速化する傾向にあるが、磁気記録媒体をＨＤＤ中で高速回転させたときに生じる、フラッタリングと呼ばれる磁気ディスクの振動により、磁気ヘッドの浮上姿勢が不安定となる問題が指摘されている。
【００５１】
フラッタリングを発生させる原因は種々あるが、数ｍｍオーダの表面のうねりも原因の一つと考えられる。このような長波長領域の表面うねりを小さくすることにより、高速回転時のフラッタリングを抑制し、磁気ヘッドの浮上姿勢をより安定化させることが期待できる。そのため、磁気記録媒体の基板である磁気記録媒体用ガラス基板の主表面も、長波長領域の表面うねりを小さくすることが求められる。
【００５２】
本実施形態においては、測定波長８．３〜２５００μｍにおける表面粗さＲａが、０．６０〜２．３０μｍである軟質研磨パッドを用いて仕上げ研磨することが好ましい。これにより、測定波長１２５０〜５０００μｍといった長波長領域の表面うねりＷａが、０．１３ｎｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板を製造することができる。
【００５３】
磁気記録媒体用ガラス基板における、短波長領域から中波長領域に亘る表面うねりを小さくし、かつ、長波長領域の表面うねりも小さくすることにより、磁気記録媒体をＨＤＤで高速回転させたときの磁気ヘッドの浮上姿勢がより安定化することが期待できる。
【００５４】
また、磁気記録媒体用ガラス基板における、短波長領域から中波長領域に亘る表面うねりを小さくし、かつ、長波長領域の表面うねりを小さくすることにより、最も精密な（小さい）磁気ヘッドのスライダである「フェムトスライダ」（長さ約０．８５ｍｍ）であっても、それよりも大きいスライダであっても、適用可能な磁気記録媒体用ガラス基板となる。
【００５５】
そのため、異なるサイズのスライダを使用している異なる品種のＨＤＤ用の磁気記録媒体用ガラス基板を同時に製造可能となり、複数品種のＨＤＤ向けの磁気記録媒体用ガラス基板を生産性良く製造できる。
【００５６】
なお、研磨パッドの研磨面の表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６５１−２００１に準拠して、触針式の表面粗さ計を用いて測定することができる。
【００５７】
また、磁気記録媒体用ガラス基板の主表面の表面うねりＷａは、光散乱方式表面観察機を用いて測定することができる。測定方法としては、レーザ光を測定対象物の表面に入射し、測定対象物からの反射光を検出して、主表面の高さ情報を得る。
【００５８】
（磁気ディスクの製造方法）
本発明の磁気記録媒体は、例えば下記のような方法により磁気記録媒体用ガラス基板に磁性層を含む多層膜を形成させて得られる。ここでは、一例を挙げるが、本発明は下記方法に限定されない。
【００５９】
磁気記録媒体は、例えば、ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層（磁気記録層）、保護層、潤滑層が積層された構成になっている。このとき、磁性層の下に、付着層及び／又は下地層などのその他の層を形成しても良い。
【００６０】
磁性層は、長手方向記録方式でも、垂直記録方式でも良いが、記録密度向上の点から、垂直記録方式であることが好ましい。
【００６１】
垂直記録方式の場合、通常、ＣｏＮｉＦｅ、ＦｅＣｏＢ、ＣｏＣｕＦｅ、ＮｉＦｅ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＴａＮ、ＦｅＮ、ＦｅＴａＣ、ＣｏＦｅＢ又はＣｏＺｒＮなどの、（軟磁性）下地層を形成させる。（軟磁性）下地層を形成させることにより、磁気ヘッドからの記録磁界を還流させることができる。
【００６２】
また、下地層と磁性層との間に、ＲｕやＲｕ合金などの非磁性中間層を形成しても良い。非磁性中間層を形成することにより、エピタキシャル成長により成膜する磁性層を、より容易に形成できる。また、軟磁性下地層及び記録用磁性層との磁気交換結合を断つことができる。
【００６３】
垂直記録方式の磁性層は、磁化容易軸が基板面に対して垂直方向を向いた磁性膜であり、通常、ＣｏＰｔ系合金が使用される。このとき、高い固有媒体ノイズの原因となる、粒間交換結合を低減するため、十分に隔離された微粒子構造とするのが好ましい。具体的には、ＣｏＰｔ系合金などに、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｏＯ、Ｔａ２Ｏ３又はＴｉＯ２などの酸化物や、Ｃｒ、Ｂ、Ｃｕ、Ｔａ又はＺｒなどの金属を添加し、ＣｏＰｔ系合金間を十分に隔離することが好ましい。
【００６４】
軟磁性下地層、中間層及び磁性層は、上述のガラス基板の製造方法で得られたガラス基板を、精密洗浄（成膜前洗浄）して表面の粒子を除去した後、インラインスパッタ法、ＤＣマグネトロンスパッタ法などの手法により、連続的に形成できる。
【００６５】
保護層は、磁性層の腐食を防ぐために形成する。また、磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触したときに、磁気記録媒体表面の損傷を防ぐ役割も果たす。具体的な保護層の例としては、Ｃ、ＺｒＯ２又はＳｉＯ２などを含む材料が挙げられる。保護層の形成方法としては、例えば、インラインスパッタ法、ＣＶＤ法又はスピンコート法などが挙げられる。
【００６６】
磁気ヘッドと磁気記録媒体との摩擦を低減するために、保護膜の表面には潤滑膜を形成する。潤滑膜の具体例としては、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール又はフッ素化カルボン酸などを使用できる。潤滑膜は、ディップ法又はスプレー法などの手法により、形成できる。
【００６７】
［実施例］
以下、実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
【００６８】
［ドレス処理］
（例１）
ドレス処理として、先ず、ウレタン製の軟質研磨パッドを、研磨装置の上下定盤に装着した。
【００６９】
次に、１段回目のドレス処理として、軟質研磨パッドの研磨面に水を流しながら、圧力３．０ｋＰａ、ドレス処理時間１０分間の条件で、ドレス処理を施した。ドレッサとしては、直径９５ｍｍのステンレス円盤に電着法により♯８００のダイヤモンド砥粒を付着させたものを使用した。
【００７０】
次に、２段階目のドレス処理として、軟質研磨パッドの研磨面に水を流しながら、圧力３．０ｋＰａ、ドレス処理時間３０分間の条件で、ドレス処理を施した。ドレッサとしては、直径９５ｍｍのステンレス製円盤に、ロウ付け法で♯１０００のダイヤモンド砥粒を付着させたものを使用した。
【００７１】
（例２）
２段階目のドレス処理において、直径９５ｍｍのステンレス製円盤に、ロウ付け法で♯８００のダイヤモンド砥粒を付着させたドレッサを使用し、ドレス処理時間を１０分間に変更した以外は例１と同様の方法でドレス処理を行った。
【００７２】
（例３）
１段階目のドレス処理において、直径９５ｍｍのステンレス製円盤に、ロウ付け法で♯８００のダイヤモンド砥粒を付着させたドレッサを使用し、ドレス処理時間を２０分間に変更し、２段階目のドレス処理を実施しなかった以外は例１と同様の方法で、ドレス処理を行った。
【００７３】
（例４）
２段階目のドレス処理を実施しなかった以外は例１と同様の方法で、ドレス処理を行った。
【００７４】
（例５）
１段階目のドレス処理において、直径９５ｍｍのステンレス製円盤に、ロウ付け法で♯１０００のダイヤモンド砥粒を付着させたドレッサを使用し、ドレス処理時間を３０分間に変更し、２段階目のドレス処理を実施しなかった以外は例１と同様の方法で、ドレス処理を行った。
【００７５】
（例６）
１段階目のドレス処理において、直径９５ｍｍのステンレス製円盤に、電着法で♯６００のダイヤモンド砥粒を付着させたドレッサを使用し、ドレス処理時間を８分間に変更し、２段階目のドレス処理を実施しなかった以外は例１と同様の方法で、ドレス処理を行った。
【００７６】
（例７）
１段階目のドレス処理において、直径９５ｍｍのステンレス製円盤に、電着法で♯４００のダイヤモンド砥粒を付着させたドレッサを使用し、ドレス処理時間を５分間に変更し、２段階目のドレス処理を実施しなかった以外は例１と同様の方法で、ドレス処理を行った。
【００７７】
（例８）
１段階目のドレス処理において、直径９５ｍｍのステンレス製円盤に、ロウ付け法で♯８００のダイヤモンド砥粒を付着させたドレッサを使用し、ドレス処理時間を１０分間に変更し、２段階目のドレス処理を実施しなかった以外は例１と同様の方法で、ドレス処理を行った。
【００７８】
ドレッサの砥粒が付着している表面について、レーザ顕微鏡（オリンパス社製、型式：ＬＥＸＴ−ＯＬＳ３５００）を用いて、表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を測定した。砥粒が付着しているドレッサの表面には、砥粒が突き出しているため、触針式表面粗さ計を用いた表面粗さ測定では、測定中の触針の状態を安定に保つことできないおそれがある。そのため、本実施形態においては、上述のレーザ顕微鏡を用いた光学的な方法により表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を測定した。なお、光学的方法で測定した表面粗さと、触針式表面粗さ計を用いて測定した表面粗さは、その測定方式が異なるため、得られた表面粗さは異なる値となる。
ドレッサの算術平均粗さＲａは、レーザ顕微鏡の対物レンズを５倍、ズームを１倍に設定し、測定視野を２５６０μｍ×１９２０μｍとし、カットオフが８５３．３μｍの条件で測定した。測定したドレッサの算術平均粗さＲａを表１に示す。また、表１に、各例における、ドレス処理の条件を示す。
【００７９】
【表１】
2014154187.tif 000003
各例における、ドレス処理後の軟質研磨パッドの表面粗さＲａは、研磨装置の定盤に研磨パッドを装着した状態で表面粗さを容易に測定できる触針式表面粗さ計（東京精密社製：Ｓｕｒｆｃｏｍ  １３０Ａ）を用いて測定した。なお、カットオフ値（λｓ、λｃ）は、（２．５μｍ，８０μｍ）、（２．５μｍ，８００μｍ）、（８．３μｍ，２５００μｍ）の３つの条件に設定した。
【００８０】
ドレス処理後の軟質研磨パッドの表面粗さＲａをまとめたものを表２に示す。
【００８１】
【表２】
2014154187.tif 000004
［磁気記録媒体用ガラス基板の製造］
フロート法で成形されたシリケートガラス板を、中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板に加工した。この円盤形状ガラス基板の内周側面と外周側面を面取り加工し、その後、ガラス基板の上下面のラッピングを、酸化アルミニウム砥粒を用いて行い、砥粒を洗浄除去した。
【００８２】
内周側面と内周面取り部を研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、内周側面と内周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように加工した。次に、内周端面研磨を行ったガラス基板を、外周側面と外周面取り部を研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を用いて研磨し、外周側面と外周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように加工した。内周端面研磨と外周端面研磨を行ったガラス基板は、超音波洗浄により、砥粒を洗浄除去した。
【００８３】
次に、図２の両面研磨装置を使用して、ガラス基板の主表面を１次研磨、次いで、洗浄、乾燥した。その後、ガラス基板の主表面を２次研磨し、次いで、洗浄、乾燥した。
【００８４】
洗浄後のガラス基板に対して、３次研磨（仕上げ研磨）を実施した。仕上げ研磨の研磨具としては、前述のドレス処理を施した後の軟質ウレタン製の研磨パッドと、一次粒子の平均粒子直径が２０〜３０ｎｍのコロイダルシリカを含有する研磨液とを用いて、１６Ｂ型両面研磨装置（スピードファム社製：ＤＳＭ−１６Ｂ−５ＰＶ）を使用して、上下主表面を研磨した。研磨時間は、総研磨量が上下両主平面の厚さ方向の合計で１μｍになるように設定した。
【００８５】
研磨後のガラス基板について、洗浄後に、光散乱方式表面観察機（ＫＬＡ  Ｔｅｎｃｏｒ社製：ＯＳＡ６１００）を用いて表面うねりＷａを測定した。測定方法としては、波長４０５ｎｍのレーザ光を測定対象物の表面に６０度の角度で入射し、測定対象物からの反射光を検出して、主表面の高さ情報を得る。本実施形態においては、φ６５ｍｍのガラス基板について、上下主表面の半径１５ｍｍ〜３１ｍｍの範囲を測定領域として測定した。前述の測定範囲は、磁気記録媒体の記録再生領域を含む。
【００８６】
表２には、各例で得られたガラス基板の表面うねりＷａも示した。
【００８７】
［評価］
（グライドハイトテスト）
各例で作製したガラス基板を、精密洗浄した後、インライン型スパッタリング装置にて、軟磁性下地層としてＮｉＦｅ層、非磁性中間層としてＲｕ層、垂直磁気記録層としてＣｏＣｒＰｔＳｉＯ２のグラニュラ構造層を順次積層した。その後、保護層として非晶質ダイヤモンド状カーボン膜を形成した。その後、ディップ法により、潤滑膜としてパーフルオロポリエーテル膜を形成し、磁気記録媒体を作製した。
【００８８】
得られた磁気記録媒体について、磁気ヘッド浮上特性の評価をグライドハイトテスト（グライドアバランシェ試験）により実施した。
【００８９】
グライドハイトテストとは、磁気記録媒体の主表面において、スライダが安定して浮上できる高さの最小値を評価するテストである。
【００９０】
グライドハイトテストを実施するテスト装置について説明する。テスト装置は、磁気記録媒体を回転させるスピンドルと、磁気記録媒体上に位置し、磁気ディスクの回転により浮上するグライドスライダと、アコースティック・エミッション（ＡＥ）センサと、接触探知部と、を備える。
【００９１】
ＡＥセンサは、グライドスライダの浮上姿勢が不安定になり、グライドスライダが磁気記録媒体の主表面に接触した場合に発生する弾性波を検出する機能を有する。また、接触探知部は、ＡＥセンサのフィルタを通した出力が所定の値以上であるか否かを検出する機能を有する。
【００９２】
グライドハイトテストの具体的な実施方法について説明する。先ず、磁気記録媒体を回転させ、グライドスライダを浮上させる。次に、グライドスライダを磁気記録媒体上の記録領域全面に移動させる。そして、グライドスライダの浮上姿勢が不安定となり、グライドスライダが磁気記録媒体の主表面に接触した際に発生する弾性波をＡＥセンサで検出する。
【００９３】
一定の回転速度で磁気記録媒体を回転させた後、徐々に回転速度を減少させ、グライドスライダの浮上高さを減少させる。そして、ＡＥセンサのフィルタを通した出力が所定の値以上になったときの、グライドスライダの浮上高さをグライドハイトとする。なお、グライドスライダの浮上高さは、磁気記録媒体の回転速度から算出することができる。
【００９４】
高記録密度化の観点から、磁気記録媒体のグライドハイトテストにより測定されたグライドハイトは、２．５ｎｍ以下であることが好ましく、２．０ｎｍ以下であることがより好ましく、１．８ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【００９５】
各例における、グライドハイトテストの結果を表３に示す。
【００９６】
【表３】
2014154187.tif 000005
表３の結果から、測定波長２．５〜８０μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜１．４０μｍであり、かつ、測定波長２．５〜８００μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜２．００μｍである研磨面を有する軟質研磨パッドを用いて仕上げ研磨した例１〜例４の磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体は、グライドハイトが２．５ｎｍ以下と良好であった。一方、例５〜例８の磁気記録媒体用ガラス基板を用いて作製された磁気記録媒は、これらの試験結果も不十分であった。
【００９７】
特に、例３と例５との比較において、例５では、例３で使用したドレス工具よりも表面粗さが小さいドレス工具を用いて、より長いドレス時間でドレス処理を施した軟質研磨パッドを用いて仕上げ研磨を施している。その結果、例５のガラス基板は、測定波長が短波長領域（４０〜２００μｍ）の表面うねりは、例３のガラス基板よりも小さくなったが、測定波長が中波長領域（２００〜１２５０μｍ）の表面うねりが大きくなっている。そのため、例５のガラス基板はグライドハイトテストの結果が、好ましい値を満たしていない。
【００９８】
即ち、本発明によれば、磁気記録媒体用ガラス基板の主表面を、測定波長２．５〜８０μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜１．４０μｍであり、かつ、測定波長２．５〜８００μｍにおける表面粗さＲａが０．４０〜２．００μｍである研磨面を有する、軟質研磨パッドを用いて仕上げ研磨することにより、高記録密度に対応した磁気記録媒体を提供できる。
【符号の説明】
【００９９】
１０  ドレッサ
１２  台座
１４  上平面
１６  砥粒層
１００  両面研磨装置
２００  基台
３００  下定盤
４００  上定盤
５００  昇降機構
６００  回転伝達機構
【図１】
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【図２】
2014154187.tif 000007