(57)【要約】【課題】ロールを用いて塗布液を所定のパターンで鋼帯の表面に連続的に塗布する際に、生産性を向上させつつ鋼帯の表面に均一に塗布すること。【解決手段】塗布装置を、塗布液３を貯留するパン皿２、グラビアロール４、オフセットロール５、バックアップロール６、および金属やゴムなどの樹脂からなるブレード７，８を備えて構成する。ブレード７は、グラビアロール４のロール面に近接して、回転方向に沿って最上部および最上部より上流側かつオフセットロール５との接触位置より上流側の第１のブレード設置範囲内に設け、塗布液３を掻き取ってパン皿２に戻す。ブレード８は、オフセットロール５のロール面に近接して、回転方向に沿って最上部および最上部より下流側かつグラビアロール４との接触位置より上流側の、第２のブレード設置範囲に設け、塗布液３を掻き取ってパン皿２に戻す。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液をロール面に付着可能に構成された第１のロールと、
前記第１のロールのロール面から前記塗布液を掻き取る第１の掻き取り手段と、
前記第１のロールのロール面と接触するロール面を有するとともに、前記第１のロールの回転方向とは逆方向に回転して前記第１のロールのロール面から前記塗布液が転写され、前記転写された塗布液を鋼帯に転写する第２のロールと、
前記第２のロールのロール面から前記塗布液を掻き取る第２の掻き取り手段と、を備え、
前記第１の掻き取り手段が、前記第１のロールの最上部または該最上部より前記第１のロールの回転方向に沿って上流側、かつ前記第２のロールとの接触位置より前記第１のロールの回転方向に沿って上流側に設置され、
前記第２の掻き取り手段が、前記第２のロールの最上部または該最上部より前記第２のロールの回転方向に沿って下流側、かつ前記第１のロールとの接触位置より前記第２のロールの回転方向に沿って上流側に設置されている
ことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記第１のロールが前記鋼帯に前記塗布液を塗布する塗布位置より、前記鋼帯の通板方向に沿った上流側の部分が、前記第１のロールの重力方向下方以外を通過するとともに、前記鋼帯の通板方向に沿った下流側で前記第２のロールから離間した部分における通板方向が重力方向に直角の方向に対して−２０°以上２０°以下の角度をなすように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記鋼帯を部分的に巻き付け可能に構成されているとともに、前記第２のロールとの間で前記鋼帯を挟持可能に構成されて、前記第１のロールの回転方向とは逆方向に回転する第３のロールをさらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記鋼帯の通板速度が３０ｍ／分以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記鋼帯が、電磁鋼板用の帯状冷延鋼帯であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項６】
第１のロールのロール面に塗布液を付着させる付着ステップと、
第１の掻き取り手段が、前記第１のロールの最上部または該最上部より前記第１のロールの回転方向に沿って上流側、かつ前記第２のロールとの接触位置より前記第１のロールの回転方向に沿って上流側において、前記第１のロールのロール面から前記塗布液を掻き取る第１の掻き取りステップと、
前記第１のロールの回転方向とは逆方向に回転する第２のロールのロール面に、前記第１のロールのロール面を接触させて前記第２のロールのロール面に前記塗布液を転写させる転写ステップと、
第２の掻き取り手段が、前記第２のロールの最上部または該最上部より前記第２のロールの回転方向に沿って下流側、かつ前記第１のロールとの接触位置より前記第２のロールの回転方向に沿って上流側において、前記第２のロールのロール面から前記塗布液を掻き取る第２の掻き取りステップと、
前記第２のロールとの間で鋼帯を挟持しつつ、前記第２のロールの回転方向とは逆方向に回転する第３のロールのロール面に部分的に巻き付いた鋼帯に前記塗布液を塗布する塗布ステップと、
を含むことを特徴とする塗布方法。
【請求項７】
前記塗布ステップにおいて、前記第１のロールから前記鋼帯に前記塗布液を塗布する塗布位置より、前記鋼帯の通板方向に沿った上流側の部分が、前記第１のロールの重力方向下方以外を通過するとともに、前記鋼帯の通板方向に沿った下流側で前記第２のロールから離間した部分における通板方向を、重力方向に直角な方向に対して−２０°以上２０°以下の角度とすることを特徴とする請求項６に記載の塗布方法。
【請求項８】
前記鋼帯の通板速度を３０ｍ／分以上とすることを特徴とする請求項６または７に記載の塗布方法。
【請求項９】
前記鋼帯が、電磁鋼板用の帯状冷延鋼帯であることを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、冷間圧延を施された電磁鋼板用の帯状冷延鋼帯に連続してレジストインクを塗布する塗布装置および塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、方向性電磁鋼板は、主に変圧器の鉄心用材料として用いられているため、良好な磁気特性が要求されている。また、方向性電磁鋼板を変圧器の鉄心として使用する場合、エネルギー損失を小さくするために、磁気特性の中でも特に、鉄損を小さくすることが求められる。
【０００３】
この鉄損を小さくする方法としては、珪素（Ｓｉ）の含有量を増加させて鋼板の電気抵抗を増大させる方法、結   晶方位を（110）[001]方位に高度に揃える方法、板を薄くして板厚を小さくする方法が試行された。しかしながら、冶金学的な方法のみで鉄損を低減させるのは限界があった。
【０００４】
そこで、鉄損を低減させる方法として、人為的に磁区を細分化させる方法が試行されている。特許文献１には、磁区を細分化させる方法として、仕上げ焼鈍済みの鋼板の表面にレーザーを照射する方法が開示されている。ところが、特許文献１に記載された方法では、鉄損の改善には効果を奏するものの、レーザーにより導入された熱歪により磁区を細分化しているため、歪取り焼鈍によって熱歪が解消されて、鉄損の劣化を招いてしまうという問題がある。巻鉄心用の鋼板の製造においては、歪取り焼鈍は必須の工程である。そのため、特許文献１に記載された方法を方向性電磁鋼板における鉄損を低減させる方法として採用することは困難である。
【０００５】
これに対し、歪取り焼鈍を工程として含む方向性電磁鋼板の製造においても、鉄損の劣化を抑制できる技術として、特許文献２に記載された技術が知られている。特許文献２には、レジストインクを線状に塗布してパターンニングした後、このレジストパターンをマスクとして鋼板をエッチングし、形成された線状溝により磁区細分化する方法が開示されている。
【０００６】
また、レジストインクを線状パターンに塗布する方法としては、一般的に、インクジェット、スロットダイコーター、グラビアロールコーターなどが用いられる。鋼板のように硬く変形が生じやすい基材に対しては、弾性変形により鋼板の変形に追従できるゴムロールを用いた塗布方法が適している。
【０００７】
このゴムロールを用いたレジストインクの塗布方法においては、鋼ロールにゴムをライニングしたオフセットロールと、鋼板を巻き付けたバックアップロールとによって、鋼板を挟持しつつオフセットロールによってレジストインクを鋼板の表面に塗布する。鋼板には、バックアップロールに巻き付けられた状態でレジストインクが塗布されるため、鋼板の形状がある程度平滑な形状に矯正され、レジストパターンも平滑な形状に塗布される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特公昭５７−２２５２号公報
【特許文献２】特許第２９４２０７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献２に記載された技術においては、レジストインクを塗布する段階においてレジストパターンにおける線状溝が潰れていたり途切れていたりすると、鋼板をエッチングしても均一な線状溝が形成されないという問題が生じる。この場合、製造される方向性電磁鋼板の磁気特性にばらつきが生じてしまう。
【００１０】
また、特許文献２に記載された技術においては、レジストインクが塗布されたロールのロール面に対して、ブレードによりレジストインクが掻き取られる。このブレードによって掻き取ったレジストインクは、このレジストインクを貯留しているパン皿などの液溜まりに戻される。ところが、レジストインクの一部がロールを伝わって鋼板に付着する場合があった。このように掻き取られたレジストインクが鋼板に付着すると、鋼板の表面に所定の線状溝パターンを形成できずに、いわゆる塗布欠陥が生じてしまう。
【００１１】
さらに、近年、薄鋼板において比較的高価な方向性電磁鋼板においても製造コストの削減が要請されており、生産速度の向上による生産性の効率化が求められている。生産速度の向上のためには、製造ラインの速度（ライン速度）を増加させることが考えられるが、製造ラインの速度を増加させると、鋼板に対するレジストインクの塗布速度も増加させる必要が生じ、上述したブレードに関連して次のような問題が生じる。
【００１２】
すなわち、ライン速度を増加させるとブレードによって掻き取られたレジストインクの液溜まりにおける貯留液量が増加する。これにより、ロールを伝わってインクが鋼板または鋼板に線状溝パターンを転写するためのロール上に付着してしまい、転写された線状溝パターンに欠陥が生じる。この欠陥は、ライン速度の増加によって、掻き取るレジストインクの量が増加し、ロールの端部から流れ落ちるレジストインクの量も増加するため、レジストインクがパン皿などの液溜まりに戻る前に、ロールの側面部を伝わったレジストインクが別のロールの側面部や、鋼板に付着するために生じる欠陥である。
【００１３】
また、ブレードによりロールの端部からレジストインクが排出される以外に、ロール面に沿ってそのまま流れ落ちるレジストインクが鋼板に付着することによっても、欠陥が発生する。さらには、流れ落ちたレジストインクが、レジストインクの塗布前の鋼板表面に落下して付着しても同様に欠陥が発生する。これらの欠陥はいずれも、鋼板表面に均一な線状溝パターンを形成する際に悪影響となる。
【００１４】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、ロールを用いて塗布液を所定のパターンで鋼帯の表面に連続的に塗布する際に、生産性を向上させつつ鋼帯の表面に均一に塗布することができる塗布装置および塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上述した課題を解決し、上記目的を達成するために、本発明に係る塗布装置は、塗布液をロール面に付着可能に構成された第１のロールと、第１のロールのロール面から塗布液を掻き取る第１の掻き取り手段と、第１のロールのロール面と接触するロール面を有するとともに、第１のロールの回転方向とは逆方向に回転して第１のロールのロール面から塗布液が転写され、転写された塗布液を鋼帯に転写する第２のロールと、第２のロールのロール面から塗布液を掻き取る第２の掻き取り手段と、を備え、第１の掻き取り手段が、第１のロールの最上部または該最上部より第１のロールの回転方向に沿って上流側、かつ第２のロールとの接触位置より第１のロールの回転方向に沿って上流側に設置され、第２の掻き取り手段が、第２のロールの最上部または該最上部より第２のロールの回転方向に沿って下流側、かつ第１のロールとの接触位置より第２のロールの回転方向に沿って上流側に設置されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明に係る塗布装置は、上記の発明において、第１のロールが鋼帯に塗布液を塗布する塗布位置より、鋼帯の通板方向に沿った上流側の部分が、第１のロールの重力方向下方以外を通過するとともに、鋼帯の通板方向に沿った下流側で第２のロールから離間した部分における通板方向が重力方向に直角の方向に対して−２０°以上２０°以下の角度をなすように構成されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明に係る塗布装置は、上記の発明において、鋼帯を部分的に巻き付け可能に構成されているとともに、第２のロールとの間で鋼帯を挟持可能に構成されて、第１のロールの回転方向とは逆方向に回転する第３のロールをさらに備えることを特徴とする。
【００１８】
本発明に係る塗布装置は、上記の発明において、鋼帯の通板速度が３０ｍ／分以上であることを特徴とする。
【００１９】
本発明に係る塗布装置は、上記の発明において、鋼帯が、電磁鋼板用の帯状冷延鋼帯であることを特徴とする。
【００２０】
本発明に係る塗布方法は、第１のロールのロール面に塗布液を付着させる付着ステップと、第１の掻き取り手段が、第１のロールの最上部または該最上部より第１のロールの回転方向に沿って上流側、かつ第２のロールとの接触位置より第１のロールの回転方向に沿って上流側において、第１のロールのロール面から塗布液を掻き取る第１の掻き取りステップと、第１のロールの回転方向とは逆方向に回転する第２のロールのロール面に、第１のロールのロール面を接触させて第２のロールのロール面に塗布液を転写させる転写ステップと、第２の掻き取り手段が、第２のロールの最上部または該最上部より第２のロールの回転方向に沿って下流側、かつ第１のロールとの接触位置より第２のロールの回転方向に沿って上流側において、第２のロールのロール面から塗布液を掻き取る第２の掻き取りステップと、第２のロールとの間で鋼帯を挟持しつつ、第２のロールの回転方向とは逆方向に回転する第３のロールのロール面に部分的に巻き付いた鋼帯に塗布液を塗布する塗布ステップと、を含むことを特徴とする。
【００２１】
本発明に係る塗布方法は、上記の発明において、塗布ステップにおいて、第１のロールから鋼帯に塗布液を塗布する塗布位置より、鋼帯の通板方向に沿った上流側の部分が、第１のロールの重力方向下方以外を通過するとともに、鋼帯の通板方向に沿った下流側で第２のロールから離間した部分における通板方向を、重力方向に直角な方向に対して−２０°以上２０°以下の角度とすることを特徴とする。
【００２２】
本発明に係る塗布方法は、上記の発明において、鋼帯の通板速度を３０ｍ／分以上とすることを特徴とする。
【００２３】
本発明に係る塗布方法は、上記の発明において、鋼帯が、電磁鋼板用の帯状冷延鋼帯であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る塗布装置および塗布方法によれば、ロールを用いて塗布液を所定のパターンで鋼帯の表面に連続的に塗布する際に、生産性を向上させつつ、鋼帯の表面に均一に塗布することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態によるレジスト塗布装置の主構成を示す構成図である。
【図２】図２は、本発明の第１の実施形態によるレジストの塗布方法を説明するためのフローチャートである。
【図３】図３は、本発明の第１の実施形態による鋼帯表面に形成された線状溝パターンの一例を示す平面図である。
【図４】図４は、本発明の第２の実施形態によるレジスト塗布装置の要部を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。また、本発明は以下に説明する実施形態によって限定されるものではない。
【００２７】
（第１の実施形態）
まず、本発明の第１の実施形態による塗布装置および塗布方法について説明する。図１は、この第１の実施形態による塗布装置としてのレジスト塗布装置の主構成を示す。
【００２８】
（レジスト塗布装置）
図１に示すように、この第１の実施形態によるレジスト塗布装置は、鋼帯１に対してレジストインクを塗布する装置である。この塗布装置は、レジストインクなどの塗布液３が貯留されるパン皿２、グラビアロール４、オフセットロール５、バックアップロール６、およびブレード７，８を備える。
【００２９】
第１のロールとしてのグラビアロール４は、略円柱形状を有し、この略円柱形状の長手方向に沿った中心軸の周りを回転可能に構成されているとともに、その略円柱形状における曲面からなる側面の一部が塗布液３に浸るように設けられている。グラビアロール４は、液溜まりとしてのパン皿２から塗布液３をくみ上げ可能に構成されている。
【００３０】
また、グラビアロール４の円柱形状の曲面からなる側面（ロール面）には、溝が形成されている。この側面に形成された溝は、後述する鋼帯１の表面に転写される線状溝パターンに基づいた形状を有する。具体的には、グラビアロール４の曲面側の側面に形成された溝は、鋼帯１の表面に線状溝パターンが転写された段階で、この線状溝パターンが格子状または線状になるように形成されている。
【００３１】
また、第２のロールとしてのオフセットロール５は、例えば円柱形状の鋼ロールに、例えばゴムなどの弾性体を、そのライニング厚を例えば５ｍｍ以上４０ｍｍ以下としてライニングしたゴムロールから構成される。なお、このゴム硬度（Ｈｓ：ショア硬さ）は例えば４０Ｈｓ以上９５Ｈｓ以下とする。ゴム硬度を４０Ｈｓ未満にして柔らかくするとゴムの変形が大きくなってしまい、塗布液３による線状溝がつぶれて、鋼帯１に転写する線状溝パターンにおける線状溝の形成が不良になりやすい。他方、ゴム硬度を９５Ｈｓより大きくして硬くすると、鋼帯１の変形に追従できなくなり、塗布液３の塗布むらが生じやすい。これにより、オフセットロール５は、鋼帯１の変形に追従可能、かつ鋼帯１の表面に疵を付けないように構成されている。
【００３２】
また、オフセットロール５は、円柱形状の長手方向に沿った中心軸の周りを回転可能に構成されているとともに、この円柱形状の曲面の一部が、グラビアロール４の塗布液３に浸っていない曲面の部分と接触している。そして、この接触部分において、グラビアロール４からオフセットロール５に、線状溝パターンで塗布液３が転写される。オフセットロール５は、転写された線状溝パターンの塗布液３を鋼帯１の表面に転写する。
【００３３】
また、この第１の実施形態においては、第１の掻き取り手段としてのブレード７は、例えば金属やゴムなどの樹脂からなり、グラビアロール４のロール面に近接して設けられている。このブレード７は、グラビアロール４の表面から余剰な塗布液３を均一に掻き取る。ここで、この第１の実施形態において、ブレード７は、グラビアロール４の最上部、またはグラビアロール４の回転方向に沿って最上部より上流側かつオフセットロール５との接触位置より上流側の、第１のブレード設置範囲内に設けられている。さらに、ブレード７は、グラビアロール４のパン皿２に貯留された塗布液３に浸った位置より、回転方向に沿った下流側に設けられる。ブレード７の設置位置が第１のブレード設置範囲より外れてグラビアロール４の最上部より下流側になると、ブレード７による塗布液溜まりから余剰な塗布液３がグラビアロール４の平面円形状の側面、そしてオフセットロール５における平面円形状の側面を順次伝わって、鋼帯１の表面に付着する可能性がある。このような余剰な塗布液３が鋼帯１の表面に付着すると、鋼帯１表面に転写される線状溝パターンを均一にできなくなり、形成に支障が生じる。
【００３４】
また、第２の掻き取り手段としてのブレード８は、例えば金属やゴムなどの樹脂からなり、オフセットロール５のロール面に近接して設けられている。このブレード８は、オフセットロール５の表面から転写後に残った余剰な塗布液３を掻き取る。ここで、この第１の実施形態によるブレード８は、オフセットロール５の最上部、またはオフセットロール５の回転方向に沿って最上部より下流側かつグラビアロール４との接触位置より上流側の、第２のブレード設置範囲に設けられている。ブレード８の設置位置が第２のブレード設置範囲より外れてオフセットロール５の最上部より上流側になると、ブレード８による塗布液溜まりがオフセットロール５の回転方向上流側に形成され、オフセットロール５のロール面および平面円形状の側面とを伝わって流れ出してしまい、鋼帯１の表面に塗布液３が付着する可能性がある。塗布液３が鋼帯１の表面に付着すると、鋼帯１表面に転写される線状溝パターンを均一にできなくなり、形成に支障が生じる。
【００３５】
また、第３のロールとしてのバックアップロール６は、例えば略円柱形状を有し、その曲面となる側面（ロール面）の一部に鋼帯１を接触させた状態、すなわち巻き付け可能に構成されている。そして、鋼帯１が部分的に巻き付いたバックアップロール６とオフセットロール５とによって鋼帯１を挟持するとともに、オフセットロール５によって鋼帯１に塗布液３が転写され塗布される。
【００３６】
以上の構成によって、グラビアロール４、オフセットロール５、およびバックアップロール６の回転方向の関係は次のようになる。すなわち、グラビアロール４の回転方向とオフセットロール５の回転方向とは反対方向になる。また、オフセットロール５の回転方向とバックアップロール６の回転方向とは反対方向になるとともに、いずれの回転方向もそれらが接触する位置においては同方向となる。
【００３７】
また、このレジスト塗布装置は、鋼帯１のオフセットロール５による塗布液３の塗布位置より上流側において、オフセットロール５が線状溝パターンの塗布液３を塗布する位置よりオフセットロール５側に鋼帯１が位置しないように構成される。すなわち、この塗布装置においては、鋼帯１を、オフセットロール５に対して重力方向の下方に位置しないように通過させる。すなわち、鋼帯１の通板方向に沿った上流側の部分は、塗布液３の塗布位置より、オフセットロール５の重力方向下方以外を通過させる。鋼帯１が、オフセットロール５の重力方向下方、すなわち塗布液３の塗布位置に対して水平方向に沿ってオフセットロール５側を通過すると、オフセットロール５の表面を伝わって流れた塗布液３やブレード８をすり抜けた塗布液３が落下した際に、この落下した塗布液３が鋼帯１の表面に付着してしまう。この場合、結果的に鋼帯１の表面において線状溝パターンの塗布欠陥となり、線状溝パターンが鋼帯１の表面に均一に形成されなくなる。
【００３８】
また、このレジスト塗布装置においては、鋼帯１における、オフセットロール５との接触位置である塗布液３の塗布位置より下流側かつバックアップロール６に巻き付いていない部分が、重力方向に直角な方向である水平方向に対して傾きβ（°）をなしている。傾きβ（°）は、水平方向に対して上方側を正として、−２０°以上２０°以下（−２０°≦β≦２０°）とするのが望ましく、水平に近い−１０°以上１０°以下（−１０°≦β≦１０°）とするのがより望ましい。鋼帯１における塗布位置より下流側、かつバックアップロール６に巻き付いていない部分の鋼帯１の通板方向を、−２０°未満または２０°を越えた急峻な角度にすると、塗布後の塗布液３がレベリング作用によって流れてしまう。この場合、線状溝パターンにおける非塗布部がつぶれたり、非塗布部の一部がつながったりするという欠陥が発生する。以上のようにして、この第１の実施形態によるレジスト塗布装置が構成されている。
【００３９】
（レジストの塗布方法）
次に、以上のように構成されたレジスト塗布装置を用いた塗布方法について説明する。図２は、この第１の実施形態による塗布方法としてのレジストの塗布方法を示すフローチャートである。
【００４０】
すなわち、図２に示すように、この第１の実施形態によるレジスト塗布方法においては、まず塗布液３のすくい上げを行う（図２中、ステップＳＴ１）。具体的には、図１に示すように、従来公知の方法によりレジストからなる塗布液３がパン皿２に供給される。続いて、グラビアロール４を回転させることにより、パン皿２内の塗布液３がグラビアロール４にすくい上げられる。
【００４１】
次に、グラビアロール４のロール面に付着した余剰の塗布液３がブレード７によって除去される（図２中、ステップＳＴ２）。これにより、グラビアロール４のロール面の塗布液３が均一化される。なお、グラビアロール４のロール面に形成された溝によって、線状溝パターンが規定される。
【００４２】
次に、グラビアロール４の表面の塗布液３が線状溝パターンでオフセットロール５に転写される（図２中、ステップＳＴ３）。オフセットロール５はグラビアロール４から転写された線状溝パターンを鋼帯１の表面に転写して、鋼帯１への塗布液３の塗布を行う（図２中、ステップＳＴ４）。その後、オフセットロール５のロール面に残った塗布液３がブレード８によって除去される（図２中、ステップＳＴ５）。
【００４３】
そして、以上のステップＳＴ１〜ＳＴ５を繰り返し行うことによって、鋼帯１の全面に亘って、レジストからなる線状溝パターンを形成する。
【００４４】
図３は、上述したグラビアロール４からオフセットロール５を介して鋼帯１の表面に転写される線状溝パターンの一例を示す平面図である。図３に示すように、グラビアロール４のロール面に形成された溝のパターンは、鋼帯１の表面に線状溝パターンが転写された段階で例えば線状になるように形成されている。なお、線状溝パターンは線状に限られるものではなく、格子状としてもよい。
【００４５】
そして、この第１の実施形態においては、鋼帯１の表面に転写される線状溝パターンは、転写された段階で鋼帯１の圧延方向（長手方向）に対して所定角度θをなす、鋼帯１の幅方向に延びた線状のパターンである。この線状溝パターンの所定角度θが鋼帯１の圧延方向（長手方向）に対して、７０°未満または１１０°より大きくなると、方向性電磁鋼板となる鋼帯１における磁区細分化の効果が十分に得られない。そのため、この所定角度θは、例えば７０°以上１１０°以下（７０°≦θ≦１１０°）が好ましい。
【００４６】
また、図３に示す鋼帯１の表面における線状溝パターンの塗布部１ａは、鋼帯１の長手方向に沿った所定長Ｌの領域である。この塗布部１ａにおける鋼帯１の長手方向に沿った所定長Ｌが１ｍｍ未満または１０ｍｍを超えると、鋼帯１における磁区細分化の効果が十分に得られない。したがって、この塗布部１ａの所定長Ｌ（ｍｍ）は、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下（１ｍｍ≦Ｌ≦１０ｍｍ）が好ましい。
【００４７】
さらに、鋼帯１の表面における線状溝パターンの非塗布部１ｂは、鋼帯１の長手方向に沿った所定幅ｄ（μｍ）の線状領域である。この非塗布部１ｂの所定幅ｄが１０μｍ未満になると、塗布後の塗布液３がレベリングした際に塗布液３が非塗布部１ｂにまで濡れ広がり、線状溝形状を分断する。他方、非塗布部１ｂの所定幅ｄが５００μｍより大きくなると、鋼帯１における磁区細分化の効果が十分に得られない。したがって、非塗布部１ｂにおける鋼帯１の長手方向に沿った所定幅ｄは、１０μｍ以上５００μｍ以下（１０μｍ≦ｄ≦５００μｍ）が好ましい。
【００４８】
（実施例１〜６および比較例１〜９）
次に、以上説明したこの第１の実施形態に基づいた実施例１〜６と、これらの実施例１〜６の効果と対比するための比較例１〜９について説明する。
【００４９】
まず、実施例１〜６においては、図１に示すレジスト塗布装置を用いて、板厚が０．２３ｍｍ、板幅が８００ｍｍの電磁鋼板用の帯状冷延鋼帯となる鋼帯１に対して、種々の塗布条件によって線状溝パターンの塗布を行い、乾燥後の塗布外観の評価を行った。なお、グラビアロール４は硬質クロム鋳金を施した溝付ロールとし、オフセットロール５は、ゴム硬度が８０Ｈｓのゴムをゴムライニング厚が２０ｍｍとしてライニングしたゴムロールとする。また、グラビアロール４の溝形状は、回転方向に沿った非塗布部の幅を１００μｍ、塗布部の幅を３ｍｍとする。さらに、グラビアロール４およびオフセットロール５のロール径はいずれも２５０ｍｍである。使用した塗布液は、アルキド系樹脂を主成分としてエチレングリコールモノブチルエーテルで希釈し、２０℃での粘度が１５００ｍＰａ・ｓになるレジストインクを使用した。また、図１に示す鋼帯１の通板方向を、その傾きβが０°、すなわち水平方向になるようにし、鋼帯１のたるみが生じた場合であっても傾斜が−２０°以上２０°以下になるようにした。一方、比較例１〜９においては、実施例１〜６における塗布条件に比して、ブレード７，８の少なくとも一方の設置位置を、上述の第１の実施形態における設置位置とは異なる設置位置とした。
【００５０】
これらの実施例１〜６および比較例１〜９の塗布条件および結果を表１に示す。なお、線状溝パターンをマスクとした電解エッチングは、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）の電解液中において電流密度を１０Ａ／ｄｍ2として、エッチング処理を３０秒間行った。また、線状溝パターンの塗布後の外観評価は、乾燥後の鋼帯１を切り出して目視及び顕微鏡観察により行った。この外観評価に関しては、均一な線状溝が得られているものについては「◎」（良）、線状溝にわずかに歪みが発生しているものについて「○」（可）、線状溝に途切れがあるものについて「×」（不可）とした。また、Ｗ17/50は、磁気測定装置を用いて周波数５０Ｈｚで励磁して最大磁束密度が１．７Ｔになる時の鉄損値を示し、Ｂ8は磁化力を８００Ａ／ｍとした際の磁束密度を示す。
【００５１】
【表１】
2014171999.tif 000003
【００５２】
表１から、ブレード７，８の設置位置をそれぞれ、第１のブレード設置範囲内および第２のブレード設置範囲内としている実施例１〜６においては、外観が「◎」または「○」であるのに対し、これらの設置位置外としている比較例１〜９においては、外観が「○」または「×」であることが分かる。すなわち、ブレード７，８の設置位置をそれぞれ、第１のブレード設置範囲内および第２のブレード設置範囲内としていない場合においては、鋼帯１の表面に転写される線状溝パターンの形状が不良になることが分かる。
【００５３】
また、表１から、実施例１〜６における鋼帯１のライン速度のように、比較例１〜９における鋼帯１のライン速度より大きく、具体的には２０ｍ／分以上、さらには３０ｍ／分以上で４０ｍ／分以上とした場合においても、線状溝パターンを良好に形成できることが分かる。すなわち、この第１の実施形態による実施例１〜６においては、オフセットロール５を用いたレジストインクの塗布において、高速かつ均一な線状溝パターンでレジストインクを鋼帯１表面に転写できることが分かる。他方、表１から、比較例１〜９においては、鋼帯１の表面に転写される線状溝パターンの形状が不良になることが分かる。また、表１から、線状溝パターンの形状をわずかに歪みの発生する程度（「○」）にするためには、鋼帯１のライン速度を小さくする必要があるので、生産性が低下してしまうことが分かる。
【００５４】
（実施例７〜１０および比較例１０〜１３）
次に、以上説明した第１の実施形態に基づいた実施例７〜１０と、これらの実施例７〜１０の効果と対比するための比較例１０〜１３について説明する。
【００５５】
まず、実施例７〜１０においては、図１に示すレジスト塗布装置のグラビアロール４として、ロール径が５０ｍｍ、長手方向に沿った長さ（面長）が１００ｍｍのロールを用いる。なお、鋼帯１を、板厚が０．２３ｍｍ、３００×２５０ｍｍの鋼板切板とする。そして、この鋼帯１表面に対して傾斜をつけた台上でレジストインクの塗布を行い、この傾斜を維持した状態で３秒間放置した後、乾燥した塗装外観の評価を行った。なお、グラビアロール４の溝形状は、回転方向に沿った非塗布部の幅が１００μｍ、塗布部の幅が３ｍｍである。
【００５６】
これらの実施例７〜１０および比較例１０〜１３の塗布条件および結果を表２に示す。なお、線状溝パターンをマスクとした電解エッチングは、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）の電解液中において電流密度を１０Ａ／ｄｍ2とし、３０秒間行った。また、線状溝パターンの塗布後の外観評価は、乾燥後の鋼帯１を切り出して目視及び顕微鏡観察により行った。そして、外観評価に関して均一な線状溝が得られているものについては「◎」（良）、線状溝にわずかに歪みが発生しているものについては「○」（可）、線状溝に途切れがあるものについては「×」（不可）とした。
【００５７】
【表２】
2014171999.tif 000004
【００５８】
表２から、傾斜角度を２０°より大きく２５°以上とすると外観が不良になることが分かる。すなわち、線状溝パターンの塗布後、すなわちレジスト塗布装置における塗布液３の塗布位置より下流側における鋼帯１の通板方向の角度を、−２０°未満または２０°より大きくして急峻にすると、線状溝パターンを均一に形成できず、鋼帯１に均一な溝を形成するのが困難になることが分かる。
【００５９】
以上説明した第１の実施形態によれば、レジストインクなどの塗布液３を鋼帯１の表面に連続的に塗布する際に、生産性を向上させつつ、鋼帯１表面に、均一な線状溝パターンを転写させて形成することが可能となる。
【００６０】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。図４は、この第２の実施形態によるレジスト塗布装置を示す構成図である。
【００６１】
図４に示すように、この第２の実施形態によるレジスト塗布装置においては、第１の実施形態と異なり、塗布液３の塗布位置より上流側の鋼帯１の通板の向きを鉛直下方としている。そして、この鋼帯１の通板の向きの相違に伴って、グラビアロール４、オフセットロール５、およびバックアップロール６の回転方向が、第１の実施形態におけると反対方向になる。
【００６２】
また、グラビアロール４のロール面の余剰な塗布液３を掻き取るブレード７は、オフセットロール５との接触位置からグラビアロール４の回転方向に沿った上流側、かつグラビアロール４の塗布液３に浸っている位置より下流側に設けられる。また、オフセットロール５のロール面に残った塗布液３を掻き取るブレード８は、鋼帯１に接触して塗布液３を転写する塗布位置より下流側、かつオフセットロール５の回転方向に沿ってグラビアロール４との接触位置より上流側に設けられる。その効果および他の構成については、第１の実施形態と同様であるので説明を省略する。
【００６３】
また、この第２の実施形態においては、鋼帯１において塗布液３の塗布位置より上流側の鋼帯１の通板の向きを鉛直下方としていることにより、オフセットロール５などから塗布液３がたれ落ちた場合であっても、鋼帯１の表面に付着しないため、鋼帯１の表面に転写された線状溝パターンの形状不良を防止できる。
【００６４】
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。例えば、上述の実施形態において挙げた数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。
【符号の説明】
【００６５】
１  鋼帯
１ａ  塗布部
１ｂ  非塗布部
２  パン皿
３  塗布液
４  グラビアロール
５  オフセットロール
６  バックアップロール
７，８  ブレード
【図１】
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【図２】
2014171999.tif 000006
【図３】
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【図４】
2014171999.tif 000008