(57)【要約】【課題】密閉空間内の過酸化水素ガスの濃度格差を低減することが可能な殺菌システムを提供すること。【解決手段】密閉空間１００内に配置された殺菌対象を殺菌する過酸化水素ガスを発生させる発生装置１１と、発生装置１１に設けられ、複数の孔部３４を有し、密閉空間１００内に延設可能な供給管３１と、供給管３１に設けられ、発生装置１１で発生した過酸化水素ガスを供給管３１に供給する圧送手段３２と、を備える構成とする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
密閉空間内に配置された殺菌対象を殺菌する過酸化水素ガスを発生させる発生装置と、
前記発生装置に設けられ、複数の孔部を有し、前記密閉空間内に延設可能な供給管と、
前記供給管に設けられ、前記発生装置で発生した前記過酸化水素ガスを前記供給管に供給する圧送手段と、
を備えることを特徴とする殺菌システム。
【請求項２】
前記供給管は、前記密閉空間内の壁面に近接して延設されることを特徴とする請求項１に記載の殺菌システム。
【請求項３】
前記供給管は、その断面積が前記孔部の開口面積の総和よりも大きく形成されていることを特徴とする請求項１に記載の殺菌システム。
【請求項４】
前記圧送手段は、ブロアであって、
前記圧送手段及び前記孔部は、前記孔部から吹き出す風速が８ｍ／ｓ以上１６ｍ／ｓ以下に設定されることを特徴とする請求項１に記載の殺菌システム。
【請求項５】
前記供給管は、前記孔部が前記密閉空間の天井面に対向して配置されることを特徴とする請求項１に記載の殺菌システム。
【請求項６】
前記供給管は、前記孔部が前記密閉空間の床面に対向して配置されることを特徴とする請求項１に記載の殺菌システム。
【請求項７】
前記供給管は、前記発生装置に複数設けられ、
前記複数の供給管の一部は、前記孔部が前記密閉空間の天井面に対向して配置され、
前記複数の供給管の他部は、前記孔部が前記密閉空間の床面に対向して配置されることを特徴とする請求項１に記載の殺菌システム。
【請求項８】
前記供給管は、前記壁面から１５ｃｍ以上１２０ｃｍ以下離間して配置されることを特徴とする請求項２に記載の殺菌システム。
【請求項９】
前記供給管は、前記孔部が単数又は複数形成された複数の管部により形成されることを特徴とする請求項１に記載の殺菌システム。
【請求項１０】
前記供給管は、前記管部間、又は、前記発生装置及び前記管部を連結する連結管を備えることを特徴とする請求項９に記載の殺菌システム。
【請求項１１】
前記連結管は、可撓性及び伸縮性を有することを特徴とする請求項１０に記載の殺菌システム。
【請求項１２】
前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出可能な検出器と、
前記密閉空間内の所定の殺菌効果が得られる閾値を記憶する記憶手段と、
前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を前記閾値と比較し、前記第１積分値及び前記第２積分値の積が前記閾値以上の場合に、前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有すると判断する制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の殺菌システム。
【請求項１３】
前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であることを特徴とする請求項１２に記載の殺菌システム。
【請求項１４】
前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であることを特徴とする請求項１２に記載の殺菌システム。
【請求項１５】
前記制御手段は、前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有していると判断後、前記供給装置を停止させることを特徴とする請求項１２に記載の殺菌システム。
【請求項１６】
前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、低濃度帯であることを特徴とする請求項１２乃至請求項１５のいずれかに記載の殺菌システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、過酸化水素ガスを用いて密閉空間を殺菌する殺菌システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、密閉空間や密閉空間に配置された製品や装置等の対象物を殺菌する方法として、ホルムアルデヒドを用いた薫蒸殺菌する技術が知られていた。しかし、ホルムアルデヒドを用いた殺菌方法では、人体への影響等の問題がある。そこで、安全性や生産性の高い過酸化水素ガス（Vapor Hydrogen Peroxide）を用いた殺菌方法が知られている。
【０００３】
このような過酸化水素ガスを用いた殺菌システムとして、発生器を備え、発生器から過酸化水素ガスを密閉空間内に供給して充満させることで、過酸化水素ガスのラジカルにより微生物のＤＮＡ、細胞壁又は酵素等を破壊して殺菌を行う技術が知られている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【０００４】
また、多孔性包材からなる包装容器に封入されたプレフィルドシリンジの表面を殺菌するために、プレフィルドシリンジの表面温度を管理するとともに、その後、別の温度及び湿度を管理して殺菌を行う殺菌方法も知られている（例えば、特許文献３参照）。他にも、密閉空間内の過酸化水素蒸気の濃度を急速に上昇させ、その後、当該濃度が所定濃度以下となった場合に、密閉空間の過酸化水素蒸気を除去する殺菌方法も知られている（例えば、特許文献４参照）。
【０００５】
このような殺菌システムは、発生器から、直接過酸化水素ガスを密閉空間内に供給する技術が知られている。また、殺菌システムは、発生器に接続された単数又は複数のホースと、ホースの先端に、回転する頭部を備えた子機を有し、回転する頭部から過酸化水素ガスを密閉空間に供給する技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−３２０４８６号公報
【特許文献２】特開２００５−１４３７２７号公報
【特許文献３】特開２０１０−５７５９７号公報
【特許文献４】特開２００５−３１２７９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述した殺菌システムでは、以下の問題があった。即ち、上述した殺菌システムでは、密閉空間内に過酸化水素ガスを直接、又は、子機により供給することから、過酸化水素ガスは、密閉空間内の濃度が、殺菌システム又は子機の周囲で高くなる、という問題があった。このため、密閉空間内において、過酸化水素ガスの濃度格差が発生し、密閉空間の場所に応じて殺菌効果に差が生ずる問題があった。また、目標とする殺菌効果を得るためには、濃度が低い箇所で殺菌効果を得るまで、殺菌を行う必要があり、結果、空間全体の殺菌時間が長くなり、効率が悪い、という問題もある。また、殺菌時間が長くなると、密閉空間内の設備の腐食等の影響もある。
【０００８】
そこで本発明は、密閉空間内の過酸化水素ガスの濃度格差を低減することが可能な殺菌システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決し目的を達成するために、本発明の殺菌システムは、次のように構成されている。
【００１０】
本発明の一態様として、密閉空間内に配置された殺菌対象を殺菌する過酸化水素ガスを発生させる発生装置と、前記発生装置に設けられ、複数の孔部を有し、前記密閉空間内に延設可能な供給管と、前記供給管に設けられ、前記発生装置で発生した前記過酸化水素ガスを前記供給管に供給する圧送手段と、を備える。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、密閉空間内の過酸化水素ガスの濃度格差を低減することが可能な殺菌システムを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る殺菌システムの構成を模式的に示す説明図。
【図２】同殺菌システムに用いられる発生装置及びガス供給装置の構成を模式的に示す説明図。
【図３】同ガス供給装置に用いられる供給管の構成を示す平面図。
【図４】同殺菌システムが用いられる密閉空間の一例の構成を示す斜視図。
【図５】同殺菌システムと比較を行う比較例１の構成を模式的に示す説明図。
【図６】同殺菌システムと比較を行う比較例２の構成を模式的に示す説明図。
【図７】同殺菌システムを実施例１の条件で殺菌を行った場合の、殺菌時間とＶＨＰ濃度との関係を示す説明図。
【図８】同比較例１の条件で殺菌を行った場合の、殺菌時間とＶＨＰ濃度との関係を示す説明図。
【図９】同比較例２の条件で殺菌を行った場合の、殺菌時間とＶＨＰ濃度との関係を示す説明図。
【図１０】同実施例１、比較例１及び比較例２の条件で殺菌を行った場合の、殺菌効果を示す説明図。
【図１１】同殺菌システムを用いた実施例２の構成を模式的に示す説明図。
【図１２】同殺菌システムを用いた実施例３の構成を模式的に示す説明図。
【図１３】同殺菌システムを用いた実施例４の構成を模式的に示す説明図。
【図１４】同実施例２乃至実施例４の条件で殺菌を行った場合の、殺菌効果を示す説明図。
【図１５】同殺菌システムを用いた実施例５、及び、実施例５と比較を行う比較例３に用いられる密閉空間の一例の構成を示す説明図。
【図１６】実施例５及び比較例３の条件で殺菌を行った場合の、殺菌効果を示す説明図。
【図１７】本発明の第２の実施形態に係る殺菌システムに用いられるＤＨｖ値を算出するための濃度及び湿度、並びに、時間の関係の一例を示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態に関わる殺菌システム１の構成を、図１乃至図１５を用いて説明する。  
図１は本発明の第１の実施形態に係る殺菌システム１の構成を模式的に示す説明図、図２は殺菌システム１に用いられる発生装置１１及びガス供給装置１２の構成を模式的に示す説明図、図３はガス供給装置１２に用いられる供給管３１の構成を模式的に示す説明図、図４は殺菌システム１が用いられる密閉空間１００の一例の構成を示す斜視図である。
【００１４】
殺菌システム１は、密閉された室内等の密閉空間、例えば、図１及び図４に示す密閉空間１００や図１５に示す密閉空間１１０に配置される。殺菌システム１は、密閉空間１００，１１０又は密閉空間１００，１１０に配置された装置や容器等の殺菌対象を過酸化水素ガス（ＶＨＰ：Vapor Hydrogen Peroxide）により殺菌可能に形成されている。
【００１５】
なお、「密閉空間」とは、殺菌対象が配置されるとともに、密閉された室である。密閉空間は、室内が外部と遮断された空間が好ましいが、室内の過酸化水素ガスが外部に漏洩しても、当該過酸化水素ガスの濃度等の低下が少ない気密性を有する室も含まれる。また、殺菌システム１は、密閉空間１００，１１０内の過酸化水素ガスの濃度（ＶＨＰ濃度）が低濃度帯での殺菌に用いられる。ここで、低濃度帯とは、人体及び装置に損傷を与えることが防止可能な密閉空間１００，１１０内のＶＨＰ濃度であって、例えば、密閉空間１００，１１０内の過酸化水素ガスの濃度が１００ｐｐｍ以下の範囲である。
【００１６】
なお、本実施形態における殺菌は、滅菌であって、無菌性保障レベル（Sterility assurance level：ＳＡＬ）を採用する。また、本実施形態における殺菌は、無菌性保障レベルＳＡＬ≦１０−６となるレベルとする。なお、当該レベルを、殺菌効果Ｄとして、その表示を＞６Ｄとして以下説明する。ここで、６Ｄの「６」とは、冪数（対数）を示しており、殺菌効果Ｄとして、例えば、ＳＡＬ≦１０−５は５Ｄとし、ＳＡＬ≦１０−４は４Ｄとして以下説明するとともに、同様に、ＳＡＬの値の冪数を殺菌効果Ｄと用いて以下説明する。
【００１７】
図１に示すように、殺菌システム１は、過酸化水素ガスを発生させる発生装置１１と、過酸化水素ガスを密閉空間１００に供給するガス供給装置１２と、密閉空間１００内に配置された検出器１３と、発生装置１１、ガス供給装置１２及び検出器１３に信号線Ｔ等を介して接続される制御手段１４と、を備えている。
【００１８】
発生装置１１は、外郭部材２１と、タンク２２と、供給手段２３と、プレートヒータ２４と、を備えている。外郭部材２１は、ガス供給装置１２の後述する供給管３１を介して密閉空間１００と連通する。発生装置１１は、密閉空間１００の過酸化水素ガスの濃度が低濃度帯となるように、過酸化水素ガスを発生可能に形成されている。
【００１９】
タンク２２は、過酸化水素水を貯留可能に形成されている。なお、本実施形態において、過酸化水素水は、その濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水が用いられる。
【００２０】
供給手段２３は、制御手段１４に、信号線Ｔを介して接続される。供給手段２３は、タンク２２内の過酸化水素水を所定の量だけプレートヒータ２４上に供給可能に形成されている。例えば、供給手段２３は、過酸化水素水を霧状に噴霧可能なスプレーや、過酸化水素水を滴下するノズルである。プレートヒータ２４は、１５０℃以上に加熱され、供給された過酸化水素水を蒸発させて、過酸化水素ガスを発生可能に形成されている。
【００２１】
ガス供給装置１２は、発生装置１１に単数又は複数、例えば、一対設けられる。ガス供給装置１２は、外郭部材２１内に発生した過酸化水素ガスを密閉空間１００に供給可能に形成されている。ガス供給装置１２は、外郭部材２１に接続され、密閉空間１００に配置される供給管３１と、供給管３１内に、外郭部材２１内で発生した過酸化水素ガスを密閉空間１００に供給するブロア等の圧送手段３２と、を備えている。即ち、ガス供給装置１２は、発生装置１１に一対の供給管３１及び圧送手段３２が配置される。なお、ガス供給装置１２は、供給管３１を開閉する開閉弁等を有していても良い。
【００２２】
供給管３１は、過酸化水素水及び過酸化水素ガスに耐性を有する材料、例えば、塩化ビニル樹脂、テフロン（登録商標）、アルミニウム鋼材、又は、ＳＵＳ等のステンレス鋼材等により形成されている。供給管３１は、敷設作業のため、比較的軽い材料で形成されていることが望ましく、塩化ビニル樹脂又はテフロン（登録商標）等の樹脂材料により形成されていることが好ましい。
【００２３】
供給管３１は、密閉空間１００内に、任意の形状で配置可能に形成され、その外周面に開口する複数の孔部３４を備えている。供給管３１は、供給管３１密閉空間１００の壁面から離間して、密閉空間１００の壁面に沿って延設される。供給管３１は、好ましくは、１５ｃｍ以上１２０ｃｍ以下の距離、密閉空間１００の壁面から離間して配置される。
【００２４】
供給管３１は、それら孔部３４が上方に向って開口する場合に、密閉空間１００の、高さ方向で下方、例えば床面上に配置される。供給管３１は、それら孔部３４が下方に向って開口する場合に、密閉空間１００の、高さ方向で上方、例えば天井面から吊り下げられて配置される。なお、供給管３１は、床面から天井面間での高さが４ｍに形成された密閉空間１００の天井面から吊り下げられる場合には、天井面から１．５ｍ以上離間する位置であって２．５ｍの位置よりも天井面に近い位置に設置されることが好ましい。さらに言えば、供給管３１は、天井面から２ｍ程度はなれた位置に配置されることがより好ましい。
【００２５】
一対の供給管３１は、双方の供給管３１の孔部３４が上方に向って開口するように配置されるか、双方の孔部３４が下方に向って開口するように配置されるか、又は、一方の供給管３１の孔部３４が上方に向って開口するとともに、他方の供給管３１の孔部３４が下方に向って開口するように配置される。
【００２６】
供給管３１は、単数の管材、又は、複数の管材３５の組み合わせにより構成される。また、供給管３１は、複数の管材３５からなる構成の場合には、管材３５同士、並びに、発生装置１１及び管材３５を連結可能な連結管３６を有していてもよい。本実施形態においては、供給管３１は、複数の管材３５及び連結管３６の組み合わせにより形成される構成を用いて説明する。
【００２７】
図３に示すように、供給管３１は、複数の管材３５と、可撓性を有する連結管３６と、を備えている。管材３５は、互いに連結可能、且つ、連結管３６と連結可能に形成されている。管材３５は、単数又は複数の孔部３４が形成されている。また、管材３５は、同一の形状に形成されているか、又は、図３に示すように、密閉空間１００の形状や敷設作業性等に応じて、適宜、異なる長さ及び形状に形成されている。
【００２８】
連結管３６は、可撓性及び伸縮性を有して構成される。例えば、連結管３６は、蛇腹状の配管である。連結管３６は、隣り合う管材３５間、並びに、発生装置１１及び管材３５間に設けられる。なお、連結管３６は、孔部３４を有さない。
【００２９】
このような供給管３１は、供給管３１の断面積をＳ（ｃｍ２）とし、孔部３４の開口面積をｓ（ｃｍ２）とした場合に、供給管３１の断面積Ｓが、孔部３４の総和である総開口面積Σｓよりも大きく（Ｓ＞Σｓ）形成される。
【００３０】
圧送手段３２は、制御手段１４に、信号線Ｔを介して接続される。圧送手段３２は、例えば、外郭部材２１内に配置されたブロアファンである。
【００３１】
殺菌対象が配置された空間の空間容積、即ち、密閉空間１００の空間容積をＶ（ｍ３）とし、圧送手段３２のブロア能力（風量）をＱ（ｍ３／ｈ）とし、孔部３４からの噴出し風速をｖ（ｍ／ｓ）とすると、圧送手段３２は、ブロア能力Ｑが２Ｖ≦Ｑ≦３Ｖの範囲内の能力を有して設定される。なお、圧送手段３２は、ブロア能力Ｑの下限を２Ｖとし、ブロア能力の上限を３Ｖとすることが望ましい。
【００３２】
また、圧送手段３２及び孔部３４は、噴出風速ｖが８（ｍ／ｓ）≦ｖ≦１６（ｍ／ｓ）の範囲となるように、それぞれ設定される。なお、ここで、噴出し風速ｖが８（ｍ／ｓ）よりも小さい（ｖ＜８（ｍ／ｓ））構成では、殺菌時間効率及び拡散効率が低下する虞がある。また、噴出し風速ｖが１６（ｍ／ｓ）よりも大きい（ｖ＞１６（ｍ／ｓ））では、密閉空間１００の空間形状によっては気流を発生し、拡散効率が低下する虞がある。このため、圧送手段３２の能力及び孔部３４の形状は、噴出風速ｖが８（ｍ／ｓ）≦ｖ≦１６（ｍ／ｓ）の範囲の能力を有していることが望ましい。
【００３３】
なお、密閉空間１００よりも煩雑な空間形状を組合せた殺菌対象空間（密閉空間）においては、孔部３４の噴出風速ｖを８（ｍ／ｓ）≦ｖ≦１６（ｍ／ｓ）に維持する条件として、ブロア能力Ｑを２Ｖ≦Ｑを満たす必要がある。また、ブロア能力ＱがＱ＞３Ｖとなる場合は前述の通り、余計な気流を生み、拡散効力つまり殺菌効果を低減させる可能性がある。このため、前述したように、圧送手段３２は、ブロア能力Ｑが２Ｖ≦Ｑ≦３Ｖであることが好ましい。
【００３４】
検出器１３は、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度、及び、密閉空間１００内の湿度を検出可能に形成されている。検出器１３は、単数又は複数設けられる。また、検出器１３は、検出した濃度及び湿度の情報を制御手段１４に送信可能に形成されている。なお、本実施形態においては、湿度は相対湿度を示す。
【００３５】
制御手段１４は、発生装置１１及びガス供給装置１２を制御可能に形成されている。制御手段１４は、供給手段２３の過酸化水素水の供給及び停止を制御可能に形成されている。制御手段１４は、圧送手段３２の運転及び停止を制御可能に形成されている。制御手段１４は、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度を、例えば、供給手段２３によりプレートヒータ２４に供給する過酸化水素水の量により制御可能に形成されている。
【００３６】
また、制御手段１４は、記憶手段４１を有している。記憶手段４１は、予め外部から入力された殺菌の情報、例えば、目標とする密閉空間１００内のＶＨＰ濃度、及び、検出器１３で検出されたＶＨＰ濃度及び湿度の情報を記憶可能に形成されている。
【００３７】
（第１評価試験）
次に、このような密閉空間１００の殺菌を行う殺菌システム１の評価方法の一である第１評価試験について、図４乃至図１０を用いて以下説明する。なお、図５は殺菌システム１を用いた実施例１と比較を行う比較例１の構成を模式的に示す説明図、図６は殺菌システム１の実施例１と比較を行う比較例２の構成を模式的に示す説明図、図７は殺菌システム１を実施例１の条件で殺菌を行った場合の殺菌時間とＶＨＰ濃度との関係を示す説明図、図８は比較例１の条件で殺菌を行った場合の、殺菌時間とＶＨＰ濃度との関係を示す説明図、図９は比較例２の条件で殺菌を行った場合の、殺菌時間とＶＨＰ濃度との関係を示す説明図、図１０は殺菌システム１の実施例１、比較例１及び比較例２の条件でそれぞれ密閉空間１００内の殺菌を行った場合の殺菌効果Ｄを示す説明図である。
【００３８】
第１評価試験は、殺菌システム１を下記実施例１の条件で用いることで密閉空間１００の殺菌を行うとともに、以下に示す従来の殺菌システム２００，２１０を用いて比較例１及び比較例２の条件でそれぞれ密閉空間１００の殺菌を行う。これら実施例１、比較例１及び比較例２のＶＨＰ濃度の推移及び殺菌効果Ｄの比較を行うことで、本実施例１の殺菌システム１の評価を行う。
【００３９】
具体的には、第１評価試験で用いる密閉空間１００は、図４に示すように、床面から天井面までの高さが４ｍに形成された、空間容積が４５０ｍ３の長方形状の空間とする。また、密閉空間１００は、殺菌開始時の相対湿度を３０％とする。
【００４０】
また、第１評価試験においては、密閉空間１００内に、検出器１３及び複数のバイオロジカルインジケータ（以下、「ＢＩ」として説明）を配置する。本実施形態においては、ＢＩは、過酸化水素ガスの耐性指標の一でとして、Apex Laboratory, Inc.製Geobacillus stearothermophilus ATCC12980（菌数１０６cfu/disc）を用いる。
【００４１】
検出器１３及びＢＩは、図４に示すように、密閉空間１００の位置Ａ乃至位置Ｆに配置する。なお、図１に示す検出器１３は、それぞれ位置Ａ乃至位置Ｆに配置された状態を模式的に示す。位置Ａ乃至位置Ｆは、それぞれ、密閉空間１００の壁面であって、高さ方向に密閉空間１００の床面から１８０ｃｍの位置の壁面に配置する。また、位置Ａ乃至位置Ｃ及び位置Ｅ乃至位置Ｆは、密閉空間１００の対向する壁面にそれぞれ配置するとともに、壁面の幅方向に均等に配置する。
【００４２】
第１評価試験の評価方法は、実施例１、比較例１及び比較例２の条件による殺菌開始から２時間、４時間、６時間、８時間の経過時に密閉空間１００からＢＩを回収し、生算菌数測定を行い、殺菌効果Ｄの評価を行う。また、検出器１３により、殺菌開始からの位置Ａ乃至位置Ｆにおける密閉空間１００の過酸化水素ガスの濃度（ＶＨＰ濃度）を検出する。
【００４３】
この実施例１、比較例１及び比較例２のそれぞれの殺菌効果Ｄを比較することで、第１評価試験として、殺菌システム１の評価を行う。
【００４４】
（実施例１）
殺菌システム１による殺菌として、供給手段２３により、濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水を６ｇ／ｍの供給量でプレートヒータ２４に供給し、発生した過酸化水素ガスを、供給管３１を介して密閉空間１００内に供給し、過酸化水素ガスの供給開始から８時間、密閉空間１００内の殺菌を行う。
【００４５】
図１に示すように、殺菌システム１は、発生装置１１を位置Ａ及び位置Ｄ間に配置する。また、殺菌システム１は、供給管３１を発生装置１１に一対設け、発生装置１１から位置Ａ及び位置Ｄに向ってそれぞれ延設させるとともに、略９０度曲折して、位置Ａ乃至位置Ｃ及び位置Ｄ乃至位置Ｆ間に延設させて、密閉空間１００内に、略対称に配置する。
【００４６】
発生装置１１は、孔部３４からの噴出風速ｖが１０（ｍ／ｓ）となるように、圧送手段３２及び孔部３４を設定する。
【００４７】
供給管３１は、塩化ビニル樹脂により形成され、直径が１００ｍｍに形成されたものを用いる。また、供給管３１は、孔部３４が、その直径が２５ｍｍに形成され、１，２００ｍｍピッチで３０個が供給管３１に設けられたものを用いる。供給管３１は、密閉空間１００の床面に直接設置するとともに、密閉空間１００の壁面から１００ｃｍ離間して配置し、孔部３４を密閉空間１００の天井に向って配置する。
【００４８】
（比較例１）
図５に示すように、殺菌システム２００として、発生装置１１を２つ、位置Ｃ付近及び位置Ｄ付近に配置する。即ち、比較例１の殺菌システム２００は、２つの発生装置１１を備え、本実施形態のガス供給装置１２を有さない構成である。
【００４９】
殺菌システム２００による殺菌として、発生装置１１にそれぞれ設けられた供給手段２３により、濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水を３ｇ／ｍの供給量でプレートヒータ２４に供給し、発生した過酸化水素ガスを、発生装置１１から直接密閉空間１００内に供給し、過酸化水素ガスの供給開始から８時間、密閉空間１００内の殺菌を行う。
【００５０】
（比較例２）
図６に示すように、比較例２に用いられる殺菌システム２１０は、発生装置１１と、発生装置１１に設けられた一対の供給管２１１と、を備えている。供給管２１１は、テフロン（登録商標）で形成されたホースであって、発生装置１１の外郭部材２１に接続される。また、供給管２１１は、その先端に、その上部（頭部）から過酸化水素ガスを噴出可能、且つ、上部を回転可能な子機２１２を備えている。図６に示すように、殺菌システム２１０は、発生装置１１を位置Ｅ付近に配置するとともに、子機２１２を位置Ａ及び位置Ｃ間、並びに、位置Ｃ及び位置Ｆ間にそれぞれ配置する。
【００５１】
殺菌システム２１０による殺菌として、発生装置１１に設けられた供給手段２３により、濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水を６ｇ／ｍの供給量でプレートヒータ２４に供給し、発生した過酸化水素ガスを、供給管２１１を介して密閉空間１００内に供給し過酸化水素ガスの供給開始から６時間、密閉空間１００内の殺菌を行う。なお、供給管２１１を介して密閉空間１００内に過酸化水素ガスを供給する際に、子機２１２を回転させる。
【００５２】
（第１評価試験の結果）
次に、実施例１、比較例１及び比較例２の条件で第１評価試験を行った結果を、図７乃至図１０に示す。なお、実施例１、比較例１及び比較例２における、殺菌効果Ｄ及び検出器１３により検出された濃度については、密閉空間１００の形状が長方形状であり、且つ、位置Ａ乃至位置Ｃ及び位置Ｄ乃至位置Ｆ、並びに、殺菌システム１，２００，２１０の構成が対称に構成されていることから、位置Ａ、位置Ｃ及び位置Ｅで測定した結果についてのみ示す。また、測定した結果は、殺菌開始から２時間経過後、４時間経過後、及び、６時間経過後の殺菌効果Ｄのみ示す。
【００５３】
（実施例１）
図７に示すように、実施例１の殺菌システム１によれば、位置Ａ，位置Ｃ及び位置Ｅにおいて、ＶＨＰ濃度は、同程度の濃度で推移する結果となった。具体的には、図７に示すように、実施例１の殺菌システム１によれば、位置Ａ，位置Ｃ及び位置Ｅのすべてにおいて、殺菌開始から２時間経過後から、ＶＨＰ濃度が略６０ｐｐｍから７０ｐｐｍ間を推移する結果となった。
【００５４】
また、図１０に示すように、実施例１の殺菌システム１によれば、殺菌開始から４時間経過後に、位置Ｃにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。また、実施例１の殺菌システム１によれば、６時間経過後、位置Ａ、位置Ｃ及び位置Ｅのすべてにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。なお、図１０中の数字は、殺菌効果Ｄとして、無菌性保障レベルの冪数（対数）を示している。
【００５５】
このように、実施例１の殺菌システム１によれば、過酸化水素ガスが密閉空間１００内で安定して拡散することで、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度格差の発生を極力防止し、目標とする殺菌効果Ｄを得ることができた。
【００５６】
（比較例１）
図８に示すように、比較例１の殺菌システム２００によれば、位置ＣにおけるＶＨＰ濃度がもっとも高く、殺菌開始から２時間経過後から、ＶＨＰ濃度が略８０ｐｐｍから９０ｐｐｍ間を推移した。位置ＥにおけるＶＨＰ濃度は、位置ＣにおけるＶＨＰ濃度よりも低く、殺菌開始から２時間経過後から、ＶＨＰ濃度が略６０ｐｐｍから７０ｐｐｍ間を推移した。位置ＡにおけるＶＨＰ濃度は、位置Ｃ及び位置Ｅに比べもっとも低く、殺菌開始から２時間経過後から、ＶＨＰ濃度が４０ｐｐｍ前後を推移した。
【００５７】
また、図１０に示すように、比較例１の殺菌システム２００によれば、殺菌開始から６時間経過後、位置Ｃにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。また、殺菌開始から８時間経過後、位置Ｅにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。なお、位置Ａにおいては、殺菌開始から８時間経過後であっても、殺菌効果Ｄは５．３Ｄであり、位置Ａにおいて、目標とする殺菌効果Ｄを得ることができなかった。
【００５８】
このように、比較例１の殺菌システム２００によれば、過酸化水素ガスは、発生装置１１に近いほどＶＨＰ濃度が高く、発生装置１１から離間するにしたがってＶＨＰ濃度が低下した。また、密閉空間１００内に、２台の発生装置１１を配置したが、ＶＨＰ濃度にばらつきが発生し、位置によっては、殺菌開始から８時間が経過しても目標とする殺菌効果Ｄを得られなかった。
【００５９】
（比較例２）
図９に示すように、比較例２の殺菌システム２１０によれば、位置ＥにおけるＶＨＰ濃度がもっとも高く、殺菌開始から２時間経過後から、ＶＨＰ濃度が略８０ｐｐｍ前後を推移した。位置Ａ及び位置ＣにおけるＶＨＰ濃度は、同程度の濃度で推移する結果となり、殺菌開始から２時間経過後から、ＶＨＰ濃度が６０ｐｐｍ前後を推移した。
【００６０】
また、図１０に示すように、比較例２の条件により密閉空間１００の殺菌を行った結果、殺菌開始から６時間経過後、位置Ｅにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。また、殺菌開始から８時間経過後、位置Ａ，位置Ｃ及び位置Ｅにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。殺菌開始から８時間経過後に、目標とする殺菌効果Ｄを得ることができた。
【００６１】
このように、比較例２の殺菌システム２１０によれば、過酸化水素ガスは、子機２１２により拡散されることから、一対の子機２１２間においてＶＨＰ濃度が高く、他方の子機２１２と離間するに従って、他方の子機２１２から拡散された過酸化水素ガスが到達しないことから、子機２１２に近いか、又は、両方の子機２１２から極端に離間すると、ＶＨＰ濃度が低くなる。このため、密閉空間１００内に、ＶＨＰ濃度のばらつきが発生し、位置によっては、例えば、位置Ｂ及び位置Ｅ間の中心等においては、ＶＨＰ濃度が極端に高くなる虞がある。
【００６２】
これら第１評価試験によれば、実施例１に係る殺菌システム１は、従来の技術である比較例１及び比較例２に比べ、過酸化水素ガスを密閉空間１００内で安定して拡散することが可能となり、各位置Ａ乃至位置Ｆにおいて、６時間経過時に目標とする殺菌効果Ｄを得ることができた。
【００６３】
（第２評価試験）
次に、密閉空間１００の殺菌を行う殺菌システム１の評価方法の一である第２評価試験について、図４、図１１乃至図１４を用いて、以下説明する。図１１は、殺菌システム１を用いた実施例２の構成を模式的に示す説明図、図１２は殺菌システム１を用いた実施例３の構成を模式的に示す説明図、図１３は殺菌システム１を用いた実施例４の構成を模式的に示す説明図、図１４は殺菌システム１を用いた実施例２乃至実施例４の条件でそれぞれ密閉空間１００内の殺菌を行った場合の殺菌効果Ｄを示す説明図である。
【００６４】
第２評価試験は、下記実施例２乃至実施例４の条件において、密閉空間１００の殺菌を行い、実施例２乃至実施例４の各殺菌システム１の評価を行う。
【００６５】
第２評価試験で用いる密閉空間１００は、図４に示すように、床面から天井面までの高さが４ｍに形成された、空間容積が４５０ｍ３の長方形状の空間とし、密閉空間１００内に複数のＢＩを配置する。また、密閉空間１００は、殺菌開始時の相対湿度を３０％とする。
【００６６】
ＢＩは、図４に示す密閉空間１００の位置Ａ乃至位置Ｈに配置する。なお、位置Ｇ及び位置Ｈは、図４に示すように、密閉空間１００の天井面に設けられる２つのＨＥＰＡフィルター（High Efficiency Particulate Air Filter）１０１をそれぞれ位置Ｇ及び位置Ｈとする。なお、位置Ｇ及び位置Ｈは、密閉空間１００の高さと同様に、それぞれ密閉空間１００の床面から４ｍの高さ位置に設けられる。
【００６７】
ここで、ＨＥＰＡフィルター１０１とは、ＪＩＳ  Ｚ  ８１２２によって規定された、定格風量で粒径が０．３μｍの粒子に対して、９９．９７％以上の粒子捕集率を有し、且つ、初期圧力損失が２４５Ｐａ以下の性能を持つエアフィルタである。
【００６８】
第２評価試験の評価方法は、実施例２乃至実施例４による殺菌開始から２時間、４時間、６時間の経過時に密閉空間１００からＢＩを回収し、生算菌数測定を行い、殺菌効果Ｄの評価を行う。これら実施例２乃至実施例４のそれぞれの殺菌効果Ｄを比較することで、第２評価試験として、殺菌システム１の評価を行う。
【００６９】
（実施例２）
殺菌システム１による殺菌として、供給手段２３により、濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水を６ｇ／ｍの供給量でプレートヒータ２４に供給し、発生した過酸化水素ガスを、供給管３１を介して密閉空間１００内に供給し、過酸化水素ガスの供給開始から６時間、密閉空間１００内の殺菌を行う。
【００７０】
図１１に示すように、殺菌システム１は、発生装置１１を位置Ａ及び位置Ｄ間に配置する。殺菌システム１は、供給管３１を、発生装置１１に一対設け、発生装置１１から位置Ａ及び位置Ｄに向ってそれぞれ延設させるとともに、略９０度曲折して、位置Ａ乃至位置Ｃ及び位置Ｄ乃至位置Ｆ間に延設させて、密閉空間１００内に、略対称に配置する。
【００７１】
発生装置１１は、孔部３４からの噴出風速ｖが１０（ｍ／ｓ）となるように、圧送手段３２及び孔部３４を設定する。
【００７２】
供給管３１は、塩化ビニル樹脂により形成され、直径が１００ｍｍに形成されたものを用いる。また、供給管３１は、孔部３４が、その直径が２５ｍｍに形成され、１，２００ｍｍピッチで３０個が供給管３１に設けられたものを用いる。また、一対の供給管３１は、それぞれ、密閉空間１００の床面に直接設置するとともに、密閉空間１００の壁面から１００ｃｍ離間して配置し、孔部３４を密閉空間１００の天井に向って配置する。
【００７３】
（実施例３）
殺菌システム１による殺菌として、供給手段２３により、濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水を６ｇ／ｍの供給量でプレートヒータ２４に供給し、発生した過酸化水素ガスを、供給管３１を介して密閉空間１００内に供給し、過酸化水素ガスの供給開始から６時間、密閉空間１００内の殺菌を行う。
【００７４】
図１２に示すように、殺菌システム１は、発生装置１１を位置Ａ及び位置Ｄ間に配置する。殺菌システム１は、供給管３１を、発生装置１１に一対設け、発生装置１１から位置Ａ及び位置Ｄに向ってそれぞれ延設させるとともに、略９０度曲折して、位置Ａ乃至位置Ｃ及び位置Ｄ乃至位置Ｆ間に延設させて、密閉空間１００内に、略対称に配置する。
【００７５】
発生装置１１は、孔部３４からの噴出風速ｖが１０（ｍ／ｓ）となるように、圧送手段３２及び孔部３４を設定する。検出器１３は、位置Ａ乃至位置Ｆにそれぞれ配置する。
【００７６】
供給管３１は、塩化ビニル樹脂により形成され、直径が１００ｍｍに形成されたものを用いる。また、供給管３１は、孔部３４が、その直径が２５ｍｍに形成され、１，２００ｍｍピッチで３０個が供給管３１に設けられたものを用いる。また、一対の供給管３１は、それぞれ、密閉空間１００の天井面から高さ方向に２００ｃｍの位置であって、密閉空間１００の壁面から１００ｃｍ離間して、密閉空間１００の天井面に吊り下げることで配置し、孔部３４を密閉空間１００の床面に向って配置する。
【００７７】
（実施例４）
殺菌システム１による殺菌として、供給手段２３により、濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水を６ｇ／ｍの供給量でプレートヒータ２４に供給し、発生した過酸化水素ガスを、供給管３１を介して密閉空間１００内に供給し、過酸化水素ガスの供給開始から６時間、密閉空間１００内の殺菌を行う。
【００７８】
図１３に示すように、殺菌システム１は、発生装置１１を位置Ａ及び位置Ｄ間に配置する。殺菌システム１は、供給管３１を、発生装置１１に一対設け、発生装置１１から位置Ａ及び位置Ｄに向ってそれぞれ延設させるとともに、略９０度曲折して、位置Ａ乃至位置Ｃ及び位置Ｄ乃至位置Ｆ間に延設させて、密閉空間１００内に、略対称に配置する。
【００７９】
発生装置１１は、孔部３４からの噴出風速ｖが１０（ｍ／ｓ）となるように、圧送手段３２及び孔部３４を設定する。検出器１３は、位置Ａ乃至位置Ｆにそれぞれ配置する。
【００８０】
供給管３１は、塩化ビニル樹脂により形成され、直径が１００ｍｍに形成されたものを用いる。また、供給管３１は、孔部３４が、その直径が２５ｍｍに形成され、１，２００ｍｍピッチで３０個が供給管３１に設けられたものを用いる。
【００８１】
一対の供給管３１の一方は、密閉空間１００の床面に直接設置されるとともに、密閉空間１００の壁面から１００ｃｍ離間して配置し、孔部３４を密閉空間１００の天井に向って配置する。
【００８２】
一対の供給管３１の他方は、密閉空間１００の天井面から高さ方向に２００ｃｍの位置であって、密閉空間１００の壁面から１００ｃｍ離間して、密閉空間１００の天井面に吊り下げることで配置し、孔部３４を密閉空間１００の床面に向って配置する。
【００８３】
（第２評価試験の結果）
次に、実施例２乃至実施例４の条件で第２評価試験を行った結果を、図１４に示す。なお、実施例２乃至実施例４における殺菌効果Ｄは、位置Ａ乃至位置Ｈのすべての位置において、殺菌開始から２時間、４時間及び６時間経過後に測定した結果について示す。
【００８４】
（実施例２）
図１４に示すように、実施例２の殺菌システム１によれば、殺菌開始から４時間経過後に、位置Ａ乃至位置Ｈの全てにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。このように、実施例２の殺菌システム１によれば、過酸化水素ガスを密閉空間１００内で安定して拡散することが可能となり、床面から１．８ｍの高さ位置の各位置Ａ乃至位置Ｆ、及び、床面から４ｍの天井面における位置Ｇ及び位置Ｈにおいて、４時間経過時に目標とする殺菌効果Ｄを得ることができた。
【００８５】
このように、実施例２の殺菌システム１によれば、過酸化水素ガスが密閉空間１００内で安定して拡散することで、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度格差の発生を極力防止し、目標とする殺菌効果Ｄを得ることができた。
【００８６】
（実施例３）
図１４に示すように、実施例３の条件により密閉空間１００の殺菌を行った結果、殺菌開始から６時間経過後、位置Ａ、位置Ｂ、位置Ｄ及び位置Ｅにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。しかし、位置Ｃ及び位置Ｆ乃至位置Ｈにおいては、殺菌開始から６時間経過しても、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たさなかった。
【００８７】
実施例３の条件を用いた殺菌システム１によれば、一対の供給管３１の双方が、床面に向って孔部３４が配置されることから、密閉空間１００の床面付近に過酸化水素ガスがより集中すると考えられる。このため、実施例３の条件を用いた殺菌システム１では、床面から１．８ｍの高さ位置の各位置Ａ乃至位置Ｆ、及び、床面から４ｍの天井面における位置Ｇ及び位置Ｈにおいて、目標とする殺菌効果Ｄを得ることできなかった。しかし、この結果から、実施例３の条件においては、床面付近を殺菌対象として殺菌を行う場合により高い殺菌効果を得ることが可能である。
【００８８】
（実施例４）
図１４に示すように、実施例４の条件により密閉空間１００の殺菌を行った結果、殺菌開始から６時間経過後、位置Ａ、位置Ｅ及び位置Ｆにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。しかし、位置Ｂ乃至位置Ｄ、位置Ｇ及び位置Ｈにおいては、殺菌開始から６時間経過しても、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たさなかった。
【００８９】
実施例４の条件を用いた殺菌システム１によれば、一対の供給管３１の一方を天井面に、他方を床面に対向するように孔部３４を配置することで、密閉空間１００内に大きな気流が発生することから、各位置における瞬間的なガスの拡散効率が低下し、殺菌効果にばらつきが発生した。
【００９０】
これは、過酸化水素ガスの殺菌機構自体が、殺菌対象表面で凝縮することで殺菌効果が得られることに準ずる。即ち、気流により殺菌対象表面での過酸化水素ガスの凝縮が阻害されることで、殺菌効果のバラツキ及び低下が発生したと考えられる。しかし、複雑な形状の密閉空間１００や密閉空間１００内に配置される殺菌対象物や各設備等の、通常の拡散では、細部に過酸化水素ガスが行き届かない構成の殺菌を行う場合には、大きな気流を発生させて過酸化水素ガスの循環を促すことで、高い殺菌効果を得られることが可能となる。
【００９１】
これら第２評価試験によれば、ガス拡散効率は、実施例２、実施例３、実施例４の順に高い結果となった。また、図４に示す密閉空間１００の殺菌を行う等の一般環境下においては、殺菌システム１は、実施例２に示すように、供給管３１の孔部３４を、天井面に対向させて、過酸化水素ガスを床面から吹き上げる構成が、密閉空間１００内において、高い拡散効率となり、過酸化水素ガスの濃度格差の発生を防止し、密閉空間１００内を隈無く殺菌することが可能である。
【００９２】
なお、ガス拡散効率及び殺菌効果は、密閉空間１００内の空気室、過酸化水素ガスの比率、温湿度、密閉空間１００内の構成及び設備等の形状及び表面温度、濃度勾配、並びに、殺菌対象物の形状及び位置等の要因により決定される。このため、殺菌の条件によっては、実施例３及び実施例４の条件であっても、目標とする殺菌効果を得ることが可能となる。
【００９３】
（第３評価試験）
次に、密閉空間１１０の殺菌を行う殺菌システム１の評価方法の一である第３評価試験について、図１５及び図１６を用いて以下説明する。なお、図１５は殺菌システム１を用いた実施例５、及び、実施例５と比較を行う比較例３に用いられる密閉空間１１０の一例の構成を示す説明図、図１６は殺菌システム１を用いた実施例５及び比較例３の条件で密閉空間１１０内の殺菌を行った場合の殺菌効果Ｄを示す説明図である。
【００９４】
第３評価試験は、下記実施例５及び比較例３の条件において、密閉空間１１０の殺菌を行い、実施例５及び比較例３の殺菌の比較を行い、本実施例５の殺菌システム１の評価を行う。
【００９５】
第３評価試験で用いる密閉空間１１０は、図１５に示すように、上面視で、２方向に延設された空間により形成される。具体的には、密閉空間１１０は、一方向に延設された第１空間１１０ａと、この第１空間１１０ａの中途部から一方側に突出するように、第１空間１１０ａと直交する方向に延設された第２空間１１０ｂとを有し、第１空間１１０ａ及び第２空間１１０ｂにより、上面視で略「Ｔ」字形状に形成されている。
【００９６】
密閉空間１１０は、第１空間１１０ａと第２空間１１０ｂとの交差する稜部が室内から室外側に向って延出して形成される。また、密閉空間１１０内には、食品等の包装容器の密封装置、殺菌システム及びコンベア等の設備１１１が配置されている。設備１１１は、例えば第１空間１１０ａに沿って延設されるとともに、第２空間１１０ｂに沿った空間に延設されることで、略「Ｌ」字形状に密閉空間１１０内に配置される。
【００９７】
また、密閉空間１１０は、図１５に示すように、第１空間１１０ａの長手方向の寸法Ｌ１が８００ｃｍ、第２空間１１０ｂの内壁面から第１空間１１０ａの壁面までの寸法Ｌ２が１８０ｃｍ、同寸法Ｌ３が３２０ｃｍ、第２空間１１０ｂの幅寸法Ｌ４が１８０ｃｍ、第１空間１１０ａの幅寸法Ｗ１が４２０ｃｍ、第２空間１１０ｂの長手方向の寸法Ｗ２が１２６０ｃｍに形成されている。また、密閉空間１１０は、床面から天井面間での距離が４２０ｃｍで一定に形成されている。
【００９８】
このような密閉空間１１０内に、複数のＢＩを配置する。ＢＩは、図１５に示すように、密閉空間１１０の位置Ｉ乃至位置Ｎに配置される。位置Ｉ乃至位置Ｎは、それぞれ、密閉空間１１０の壁面であって、高さ方向に密閉空間１００の床面から１８０ｃｍの位置に配置される。具体的には、位置Ｉは、第１空間１１０ａの長手方向の一方の端部の中央部である。位置Ｊは、第２空間１１０ｂの長手方向の中央部であって、第１空間１１０ａの一方の端部側である。位置Ｋは、第２空間１１０ｂの長手方向の第１空間１１０ａと連続する側とは相対する端部であって、第１空間１１０ａの他方の端部側である。位置Ｌは、第１空間１１０ａの他方の端部側の、第１空間１１０ａ及び第２空間１１０ｂの稜部である。位置Ｍは、第１空間１１０ａの他方の端部の、第２空間１１０ｂが設けられる側の角部である。位置Ｎは、第２空間１１０ｂが設けられる側とは相対する、第１空間１１０ａの長手方向の中央部である。
【００９９】
第３評価試験の評価方法は、実施例５及び比較例３の条件による殺菌開始から２時間、３時間、４時間、５時間の経過時に密閉空間１１０からＢＩを回収し、生算菌数測定を行い、殺菌効果Ｄの評価を行う。この実施例５及び比較例３の殺菌効果Ｄを比較することで、第３評価試験として、殺菌システム１の評価を行う。
【０１００】
（実施例５）
殺菌システム１による殺菌として、供給手段２３により、濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水を５ｇ／ｍの供給量でプレートヒータ２４に供給し、発生した過酸化水素ガスを、供給管３１を介して密閉空間１００内に供給し、過酸化水素ガスの供給開始から５時間、密閉空間１００内の殺菌を行う。
【０１０１】
殺菌システム１は、発生装置１１を位置Ｉに配置する。殺菌システム１は、供給管３１を、発生装置１１に一対設け、一方の供給管３１を、位置Ｉから位置Ｊが設けられた壁面の端部まで密閉空間１１０の壁面に沿って延設し、他方の供給管３１を、位置Ｉから位置Ｎ、位置Ｍ及び位置Ｌを通過して位置Ｋのある壁面の端部まで密閉空間１１０の壁面に沿って延設する。
【０１０２】
発生装置１１は、孔部３４からの噴出風速ｖが約１０（ｍ／ｓ）となるように、圧送手段３２及び孔部３４を設定する。
【０１０３】
供給管３１は、塩化ビニル樹脂により形成され、直径が１００ｍｍに形成されたものを用いる。また、供給管３１は、孔部３４が、その直径が２５ｍｍに形成され、１，２００ｍｍピッチで３０個が供給管３１に設けられたものを用いる。また、一対の供給管３１は、それぞれ、密閉空間１１０の床面に直接設置されるとともに、密閉空間１１０の壁面から３０ｃｍ離間して配置し、孔部３４を密閉空間１００の天井に向って配置する。
【０１０４】
（比較例３）
比較例１と同様に、殺菌システム２００として、発生装置１１を２つ、密閉空間１１０内の位置Ｉ付近及び位置Ｍ付近に配置する。即ち、比較例３の殺菌システム２００は、本実施形態のガス供給装置１２を有さない構成である。
【０１０５】
殺菌システム２００による殺菌として、それぞれの供給手段２３により濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水を２．５ｇ／ｍの供給量でプレートヒータ２４に供給し、発生した過酸化水素ガスを、発生装置１１から直接密閉空間１００内に供給し、過酸化水素ガスの供給開始から６時間、密閉空間１１０内の殺菌を行う。
【０１０６】
（第３評価試験の結果）
次に、実施例５及び比較例３の条件で第３評価試験を行った結果を、図１６に示す。なお、実施例５及び比較例３における、殺菌効果Ｄは、位置Ｉ乃至位置Ｋのすべての位置において、殺菌開始から２時間、３時間、４時間及び５時間経過後に測定した結果について示す。
【０１０７】
（実施例５）
図１６に示すように、実施例５の殺菌システム１によれば、殺菌開始から２時間経過後、位置Ｊにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。また、実施例５の殺菌システム１によれば、４時間経過後、位置Ｉ乃至位置Ｎのすべてにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。
【０１０８】
このように、実施例１の殺菌システム１によれば、過酸化水素ガスが密閉空間１００内で安定して拡散することで、密閉空間１１０内の過酸化水素ガスの濃度格差の発生を極力防止し、目標とする殺菌効果Ｄを得ることができた。
【０１０９】
（比較例３）
図１６に示すように、比較例３の条件により密閉空間１１０の殺菌を行った結果、殺菌開始から４時間経過後、位置Ｌにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。また、殺菌開始から５時間経過後、位置Ｎにおいて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなった。なお、位置Ｉ乃至位置Ｊ、及び、位置Ｍにおいては、殺菌開始から５時間経過後であっても、目標とする殺菌効果Ｄを得ることができなかった。
【０１１０】
これら第３評価試験によれば、実施例５に係る殺菌システム１によれば、密閉空間１１０の形状が複雑であっても、従来の技術である比較例３に比べ、過酸化水素ガスを密閉空間１００内で安定して拡散することが可能となり、各位置Ｉ乃至位置Ｎにおいて、４時間経過時に目標とする殺菌効果Ｄを得ることができた。
【０１１１】
このように構成された殺菌システム１によれば、発生装置１１で発生させた過酸化水素ガスを、密閉空間１００（及び密閉空間１１０）の壁面に沿って延設された供給管３１に設けられた孔部３４から、所定の風量により噴出させて密閉空間１００に供給することで、高い拡散効率で過酸化水素ガスを供給することが可能となる。
【０１１２】
殺菌システム１は、供給管３１を床面に配置して、孔部３４を天井面に対向するように配置することで、孔部３４から噴出した過酸化水素ガスが天井に向って移動するとともに、天井に移動した過酸化水素ガスが重力により再度床面方向に移動する。これにより、殺菌システム１は、高い拡散効率で過酸化水素ガスを密閉空間１００内に拡散させることが可能となり、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度格差を低減することが可能となる。
【０１１３】
殺菌システム１は、高い拡散効率で過酸化水素ガスを密閉空間１００内に供給可能となることで、殺菌に必要な時間の低減、及び、過酸化水素ガスの濃度の低減が可能となる。このため、殺菌システム１は、密閉空間１００内に設置された設備等への過酸化水素ガスによる影響を低減することが可能となる。また、殺菌システム１は、人体等への影響を防止可能な低濃度、例えば１００ｐｐｍ以下の濃度の過酸化水素ガスであっても、殺菌効果Ｄ（＞６Ｄ）を得ることが可能となり、使用の自由度が向上する。
【０１１４】
また、供給管３１は、密閉空間１００（１１０）の壁面から離間して配置することで、過酸化水素ガスの拡散効率を向上することが可能となる。これは、供給管３１の孔部３４から天井面（床面）に向って噴出した過酸化水素ガスが重力、気流又は天井面（床面）への衝突により床面（天井面）に移動する際に、孔部３４の軸心（噴出方向）を中心に、放射状に移動可能となる。即ち、供給管３１を壁面から離間させることで、全方向に分散する方向を確保することが可能となり、より拡散効率を向上させることが可能となる。
【０１１５】
例えば、密閉空間１００の壁面から供給管３１までの距離Ｘは、１５（ｃｍ）≦Ｘ≦１２０（ｃｍ）に設定される。換言すると、供給管３１は、密閉空間３１の壁面から１５ｃｍ以上、且つ、当該壁面から１２０ｃｍ以下で離間するように、密閉空間３１に配置される。
【０１１６】
即ち、密閉空間１００の壁面に近接して供給管３１を設置した場合、密閉空間１００の壁面に過酸化水素ガスが凝縮する虞がある。このため、空間への拡散に充分な効果を発揮できる距離を離間する必要がある。また、密閉空間１００の壁面から供給管３１が離れる距離が長くなると、過酸化水素ガスが密閉空間１００の中心側で滞留する虞がある。
【０１１７】
このため、供給管３１は、壁面に過酸化水素ガスが凝縮せずに、空間への拡散に充分な効果を発揮できるように、少なくとも密閉空間１００の壁面より１５ｃｍ以上離間して配置するのが好ましい。また、孔部３４から噴射される過酸化水素ガスの風速が１０ｍ／ｓの場合においては、密閉空間３１の壁面から１２０ｃｍ以上離間させると、密閉空間１００の下方（床面側）及び壁面側へのガス拡散効果が著しく低下する。このため、密閉空間１００の壁面から供給管３１までの距離Ｘが１５（ｃｍ）≦Ｘ≦１２０（ｃｍ）の位置に、供給管３１を配置することが好ましい。
【０１１８】
また、供給管３１は、密閉空間１００の天井面から吊り下げる場合には、密閉空間１００の床面から天井面間での高さが４ｍの場合には、天井面から１．５ｍから２．５ｍの位置に配置されることで、過酸化水素ガスの拡散効率を向上することが可能となる。即ち、供給管３１は、密閉空間１００の天井面から吊り下げる場合には、密閉空間１００の床面から天井面間の距離の中間位置近辺に配置することが、好ましい。
【０１１９】
上述したように、本発明の第１の実施形態に係る殺菌システム１によれば、密閉空間１００，１１０内の過酸化水素ガスの濃度格差を低減することが可能となる。
【０１２０】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態に係る殺菌システム１について、図１７を用いて説明する。  
図１７は本発明の第２の実施形態に係る殺菌システム１に用いるＤＨｖ値と殺菌効果Ｄとの関係の一例を示す説明図である。なお、第２の実施形態に係る殺菌システム１は、上述した第１の実施形態に係る殺菌システム１と同等の構成であり、各構成に同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【０１２１】
殺菌システム１は、密閉された室内等の密閉空間、例えば、密閉空間１００に配置される。殺菌システム１は、過酸化水素ガスを発生させる発生装置１１と、ガス供給装置１２と、密閉空間１００内に配置された検出器１３と、発生装置１１、ガス供給装置１２及び検出器１３に信号線Ｔ等を介して接続される制御手段１４と、を備えている。
【０１２２】
制御手段１４は、発生装置１１及びガス供給装置１２を制御可能に形成されている。制御手段１４は、供給手段２３の過酸化水素水の供給及び停止を制御可能に形成されている。制御手段１４は、圧送手段３２の運転及び停止を制御可能に形成されている。制御手段１４は、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度を、例えば、供給手段２３によりプレートヒータ２４に供給する過酸化水素水の量により制御可能に形成されている。
【０１２３】
また、制御手段１４は、記憶手段４１を有している。記憶手段４１は、予め外部から入力された殺菌の情報、例えば、目標とする密閉空間１００内のＶＨＰ濃度、及び、検出器１３で検出されたＶＨＰ濃度及び湿度の情報を記憶可能に形成されている。また、記憶手段４１は、密閉空間１００内の所定の殺菌効果Ｄ（＞６Ｄ）を満たす閾値であるＤＨｖ０値が記憶されている。
【０１２４】
さらに、制御手段１４は、以下の機能（１）〜（４）を有している。
【０１２５】
（１）過酸化水素ガスを発生させて、密閉空間１００に供給する機能。
【０１２６】
（２）検出された濃度及び湿度から密閉空間１００の殺菌効果Ｄの状態を示すＤＨｖ値を算出する機能。
【０１２７】
（３）算出したＤＨｖ値と、記憶手段４１に記憶されたＤＨｖ０値との比較を行う機能。
【０１２８】
（４）ＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも大きい場合に、過酸化水素ガスの供給を停止させる機能。
【０１２９】
なお、第２の実施形態に係る殺菌システム１は、上述した第１の実施形態に係る殺菌システム１と同等の構成であって、制御手段１４の機能及び記憶手段４１に記憶された閾値が異なる構成である。
【０１３０】
次に、これら制御手段１４の機能（１）〜（４）について説明する。  
機能（１）は、制御手段１４が供給手段２３を制御し、発生装置１１により過酸化水素ガスを発生させ、圧送手段３２を駆動して発生させた過酸化水素ガスを、供給管３１を介して発生装置１１から密閉空間１００に供給する機能である。
【０１３１】
機能（２）は、制御手段１４が、検出器１３により検出された濃度及び湿度の情報を受信し、当該濃度及び湿度の情報に基づいてＤＨｖ値を算出する。ＤＨｖ値は、以下の数式（１）により求められる。
【数１】
2014073190.tif 000003
【０１３２】
具体的には、ＤＨｖ値は、密閉空間１００内の濃度の変化から求められる関数ｆ（ｘ）を時間ｘで積分することで求められる第１積分値、及び、密閉空間１００内の湿度の変化から求められる関数ｆ′（Ｘ）を時間ｘで積分することで求められる第２積分値を積算して求められる。このＤＨｖ値は、殺菌効果Ｄの基準となる閾値であるＤＨｖ０値と比較することで、殺菌効果Ｄを推測する値である。
【０１３３】
機能（３）は、制御手段１４が、機能（２）で算出されたＤＨｖ値と、記憶手段４１に記憶された殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たすＤＨｖ０値とを比較する機能である。
【０１３４】
機能（４）は、機能（３）で比較した結果、ＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも大きい（ＤＨｖ＞ＤＨｖ０）場合には、密閉空間１００の所定の殺菌が終了したものと判断し、発生装置１１を停止させる機能である。
【０１３５】
次に、記憶手段４１に記憶された、殺菌の終了の基準となるＤＨｖ０値について、図１７を用いて説明する。  
ＤＨｖ０値は、所定の条件下において複数回の条件で複数回、密閉空間を殺菌して上述の数式（１）からＤＨｖ値を求め、これら求めたＤＨｖ値のうち、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを得られるＤＨｖ値を閾値として設定したものである。
【０１３６】
具体的には、先ず、密閉空間に、ＢＩを複数配置させる。なお、本実施形態においては、過酸化水素ガスの耐性指標の一でとして、Apex Laboratory, Inc.製Geobacillus stearothermophilus ATCC1298（菌数１０６cfu/disc）のＢＩを用いた。
【０１３７】
なお、ＤＨｖ０値を求めるために殺菌を行う密閉空間は、容積や形状等が異なる空間を行う。なお、図１７に示すように、当該密閉空間として、異なる空間Ａ及び空間Ｂを用いた。
【０１３８】
次に、過酸化水素ガスの濃度、密閉空間内の湿度及び殺菌時間を複数の異なる条件として、それぞれで密閉空間の殺菌を行う。殺菌開始から所定の経過時間で、密閉空間内のＢＩの生残菌数測定により評価を行い、殺菌効果Ｄが＞６Ｄであるか否かを評価する。
【０１３９】
次に、図１７に示すように、殺菌の複数の条件下における殺菌効果ＤとＤＨｖ値との関係を求める。図１７に示すように、殺菌効果ＤとＤＨｖ値の関係から、略確実に密閉空間内を殺菌効果Ｄが＞６Ｄで殺菌できる、ＤＨｖ値の下限値を求める。このＤＨｖ値の下限値を、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなる閾値であるＤＨｖ０値とする。
【０１４０】
なお、図１７は、上述した殺菌を複数回行って求められた殺菌効果ＤとＤＨｖ値との関係を示しており、図１７中実線は殺菌効果Ｄの平均値（ａｖｅ．）を、破線は標準偏差（＋σ、−σ）をそれぞれ示している。
【０１４１】
本実施形態においては、図１７に示すように、密閉空間１００内を殺菌効果Ｄが６Ｄで確実に除菌できる閾値として、平均値及び標準偏差がともに殺菌効果Ｄが６Ｄを満たすＤＨｖ値を閾値（ＤＨｖ０値）とし、このＤＨｖ０値は図１７に示すように、５５，０００以上であることが求められた。
【０１４２】
次に、このように構成された殺菌システム１を用いた殺菌方法について説明する。  
先ず、例えば密閉空間１００に供給管３１を、図１に示すように、密閉空間１００内の壁面に沿って配置する。次に、制御手段１４により発生装置１１を駆動して過酸化水素ガスを発生させ、ガス供給装置１２により密閉空間１００内に過酸化水素ガスを供給する。これにより、密閉空間１００内の殺菌が開始される。
【０１４３】
次に、検出器１３により、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度及び密閉空間１００内の湿度を、殺菌の開始時から連続して検出し、制御手段１４に送信する。なお、検出器１３による濃度及び湿度の検出は、所定の時間毎に検出してもよい。
【０１４４】
制御手段１４は、検出器１３により検出された濃度及び湿度の情報を受信すると、当該情報及び殺菌を実施している時間から、数式（１）を用いてＤＨｖ値を算出する。
【０１４５】
次に、制御手段１４は、算出したＤＨｖ値と記憶手段４１に記憶されたＤＨｖ０値を比較する。ＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも小さい（ＤＨｖ＜ＤＨｖ０）場合には、密閉空間１００内に過酸化水素ガスの供給を継続する。
【０１４６】
ＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも大きい（ＤＨｖ＞ＤＨｖ０）場合には、制御手段１４は、密閉空間１００内の殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たしており、殺菌が終了したと判断する。これにより、制御手段１４は、供給手段２３及びガス供給装置１２を停止し、過酸化水素ガスの供給を停止させる。これらの工程により、殺菌システム１を用いて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たす密閉空間１００の殺菌が行われる。
【０１４７】
このように第２の実施形態に係る殺菌システム１を用いた殺菌方法においては、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０の範囲であって、且つ、殺菌開始時の密閉空間１００の湿度は２０％より高く、７０％以下であることが好ましい。さらに言えば、殺菌開始時の密閉空間１００の湿度が高い程、殺菌効果を得られるが金属の腐食等の要因となることから、密閉空間１００内に配置された設備等の金属の腐食を防止するために、ＤＨｖ０値を、例えば上述のように、５５，０００とした場合には、湿度は３０％から６０％の範囲内が好ましい。
【０１４８】
また、さらに言えば、金属等の腐食を確実に防止するためには、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は、３０％から５０％の範囲内がよく、当該湿度を３０％から５０％とする場合には、例えば、ＤＨｖ０値を、５５，０００よりも高く設定しても、殺菌効果Ｄを確実に＞６Ｄを満足でき、且つ、腐食を防止できる。
【０１４９】
このように構成された殺菌システム１によれば、供給管３１を用いたガス供給装置１２を用いて、発生装置１１で発生した過酸化水素ガスを、密閉空間１００の相対湿度が３０％以上であって、且つ、ＤＨｖ０値が５５，０００以上として供給することで、過酸化水素ガスの濃度を必要以上に上げることなく＞６Ｄを満たすことが可能となる。また、過酸化水素ガスを高い拡散効率で密閉空間１００内に拡散することが可能となる。
【０１５０】
また、殺菌システム１を用いた殺菌方法として、密閉空間１００の殺菌条件である、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度、密閉空間１００内の湿度及び殺菌時間に基づいて数式（１）から求められるＤＨｖ値が、閾値であるＤＨｖ０値よりも大きい場合に、発生装置１１を停止させる。このように、本実施形態に係る殺菌システム１は、殺菌を行う条件を、ＤＨｖ値及びＤＨｖ０値に基づいて管理することで、容易に殺菌効果Ｄを得ることが可能となる。
【０１５１】
上述したように本発明の第２の実施形態に係る殺菌システム１によれば、予め設定されたＤＨｖ０値及び殺菌の条件から求められるＤＨｖ値の関係に基づいて発生装置１１を停止させるとともに、孔部３４を有する供給管３１及び圧送手段３２を用いて密閉空間１００に過酸化水素ガスを供給することで、密閉空間内の濃度格差を低減するとともに、殺菌効果を容易に管理することが可能となる。
【０１５２】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではない。上述した例では、殺菌システム１が一台の発生装置１１及び一対のガス供給装置１２を備える構成を説明したがこれに限定されない。例えば、殺菌を行う密閉空間の構成が単純であって、容積が小さい場合には、殺菌システム１は、一台の発生装置１１にガス供給装置１２を単数設ける構成とし、このガス供給装置１２の一の供給管３１を密閉空間の壁面に沿って配置する構成であってもよい。
【０１５３】
また、例えば、殺菌を行う密閉空間の構成が複雑であって、容積が大きい場合には、殺菌システム１は、一台の発生装置１１に、２以上のガス供給装置１２を設ける構成であってもよく、また、二台の発生装置１１に、それぞれ２以上のガス供給装置１２を設ける構成であってもよい。即ち、殺菌システム１は、複数の孔部３４を有する供給管３１を密閉空間内に延設させることで、過酸化水素ガスを高い拡散効率で拡散させる構成であれば、適宜設定可能である。
【０１５４】
また、上述した例では、一対のガス供給装置１２を設けた場合に、双方の供給管３１を、孔部３４が天井面、床面、又は、一方が天井面であって他方が床面と対向するように配置する構成を記載したがこれに限定されない。例えば、３以上のガス供給装置１２を設けた構成においては、供給管３１の孔部３４の方向を天井面及び床面の少なくとも一方と対向するように適宜設定可能である。
【０１５５】
また、例えば、密閉空間の形状や設備等の条件に応じて、供給管３１の一方側を、孔部３４が天井面を向くように床面に配置し、中途部から天井面に吊り下げて配置し、孔部３４が床面を向くように配置する構成であってもよい。即ち、密閉空間内の殺菌効果を、目標の殺菌効果とすることが可能であれば、各条件に応じて適宜設定可能である。
【０１５６】
また、上述した例では、第２の実施形態の殺菌システム１は、記憶手段４１に記憶されたＤＨｖ０値が５５，０００であって、このＤＨｖ０値を、殺菌条件で求められるＤＨｖ値と比較して、殺菌の継続及び停止を判断する構成を説明したがこれに限定されない。例えば、ＤＨｖ０値は、５５，０００よりも大きい値であってもよい。例えば、５５，０００を超えれば、適宜設定可能である。しかし、腐食性を考慮すると、殺菌開始時の湿度を３０％以上５０％以下とした閾値は、ＤＨｖ０＝５５，０００とすることが望ましい。
【０１５７】
また、上述した例では、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たす条件で、殺菌システム１の構成を適宜説明したが、殺菌効果Ｄはこれに限定されない。例えば、殺菌効果Ｄが５Ｄを要求されている場合であっても、殺菌システム１は、勿論適用可能である。また、殺菌効果Ｄが５Ｄで良い場合には、当該５Ｄを満足できるＤＨｖ０値を求め、当該求めたＤＨｖ０値をＤＨｖ値が超えた場合に、殺菌が完了したと判断すればよい。
【０１５８】
同様に、殺菌効果の基準も、無菌性保障レベル（Sterility assurance level：ＳＡＬ）を採用するのではなく、他の規格を採用してもよい。即ち、孔部３４を有する供給管３１を介して過酸化水素ガスを密閉空間内に拡散することで、密閉空間を殺菌する殺菌システム１の構成であれば、過酸化水素ガスが高い拡散効率で拡散可能となる。また、同様に、過酸化水素ガスの濃度及び密閉空間の湿度を管理し、閾値を求め、当該閾値と実際の殺菌時のＤＨｖ値とを比較して、ＤＨｖ値が閾値を超えた場合には、殺菌が完了したと推測可能となる。
【０１５９】
また、上述した例では、発生装置１１は、供給手段２３で供給した過酸化水素水をプレートヒータ２４で蒸発させて過酸化水素ガスを発生させる構成を説明したが、過酸化水素ガスを発生可能であれば、これら構成に限定されない。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。
【符号の説明】
【０１６０】
１…殺菌システム、１１…発生装置、１２…ガス供給装置、１３…検出器、１４…制御手段、２１…外郭部材、２２…タンク、２３…供給手段、２４…プレートヒータ、３１…供給管、３２…圧送手段、３４…孔部、３５…管材、３６…連結管、４１…記憶手段、１００…密閉空間、１０１…ＨＥＰＡフィルター、１１０…密閉空間、１１１…設備、２１１…供給管、２１２…子機。
【図１】
2014073190.tif 000004
【図２】
2014073190.tif 000005
【図３】
2014073190.tif 000006
【図４】
2014073190.tif 000007
【図５】
2014073190.tif 000008
【図６】
2014073190.tif 000009
【図７】
2014073190.tif 000010
【図８】
2014073190.tif 000011
【図９】
2014073190.tif 000012
【図１０】
2014073190.tif 000013
【図１１】
2014073190.tif 000014
【図１２】
2014073190.tif 000015
【図１３】
2014073190.tif 000016
【図１４】
2014073190.tif 000017
【図１５】
2014073190.tif 000018
【図１６】
2014073190.tif 000019
【図１７】
2014073190.tif 000020