(57)【要約】【課題】本発明は、酸素透過防止膜を含むドライフィルムフォトレジスト及びその製造方法を提供する。【解決手段】上部に酸素透過防止膜２０が形成された支持体フィルム１０と、酸素透過防止膜２０上に形成された感光性樹脂層３０と、感光性樹脂層３０上に形成された保護フィルム４０と、を含むドライフィルムフォトレジストを提供する。支持体フィルム１０上に酸素透過防止膜２０を含むことで、ドライフィルムフォトレジストの酸素透過による硬化反応の低下を防止すると共に、これにより、未剥離残渣を減少させて工程不良を最小限にすることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部に酸素透過防止膜が形成された支持体フィルムと、
前記酸素透過防止膜上に形成された感光性樹脂層と、
前記感光性樹脂層上に形成された保護フィルムと、を含む、ドライフィルムフォトレジスト。
【請求項２】
前記酸素透過防止膜は、酸素透過率が０．１未満である、請求項１に記載のドライフィルムフォトレジスト。
【請求項３】
前記酸素透過防止膜は、ダイヤモンドライクカーボン（Ｄｉａｍｏｎｄ  ｌｉｋｅ  ｃａｒｂｏｎ、ＤＬＣ）である、請求項１に記載のドライフィルムフォトレジスト。
【請求項４】
前記酸素透過防止膜は、エチレンビニルアセテート（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ、ＥＶＡ）である、請求項１に記載のドライフィルムフォトレジスト。
【請求項５】
前記支持体フィルムは、ポリエチレン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ、ＰＥ）である、請求項１に記載のドライフィルムフォトレジスト。
【請求項６】
前記感光性樹脂層は、結合剤高分子、モノマー、光開始剤、熱重合禁止剤、重合促進剤及び可塑剤からなる群より選ばれる１種以上を含む、請求項１に記載のドライフィルムフォトレジスト。
【請求項７】
前記保護フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）である、請求項１に記載のドライフィルムフォトレジスト。
【請求項８】
支持体フィルム上に酸素透過防止膜を形成する段階と、
前記酸素透過防止膜上に感光性樹脂層及び保護フィルムを順に形成する段階と、を含む、ドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項９】
前記酸素透過防止膜は、酸素透過率が０．１未満である、請求項８に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項１０】
前記酸素透過防止膜を形成する段階は、蒸着によって行われる、請求項８に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項１１】
前記酸素透過防止膜は、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）である、請求項８に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項１２】
前記酸素透過防止膜は、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）である、請求項８に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項１３】
前記エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）は、粘着または押出によって形成される、請求項１２に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項１４】
前記粘着は、ＰＤＭＳ（ｐｏｌｙ  ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｏｘａｎｅ）またはシロキサン（ｓｉｌｏｘａｎｅ）からなる、請求項１３に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項１５】
前記支持体フィルムは、ポリエチレン（ＰＥ）である、請求項８に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項１６】
前記感光性樹脂層は、結合剤高分子、モノマー、光開始剤、熱重合禁止剤、重合促進剤及び可塑剤からなる群より選ばれる１種以上を含む、請求項８に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【請求項１７】
前記保護フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）である、請求項８に記載のドライフィルムフォトレジストの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸素透過防止膜を含むドライフィルムフォトレジスト及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ドライフィルムフォトレジストは、１９６８年頃アメリカのデュポン社によって「ＲＩＳＴＯＮ」という商品名で開発されてから、現在の電気／電子産業、特に、印刷回路基板などの加工において重要な材料として用いられている。
【０００３】
印刷回路基板上の回路形成に用いられるフォトレジスト材料としては、全体の約５０％程度が感光性スクリーン印刷インクを用いているが、高密度と高信頼度が求められる両面板及び多層板の印刷回路基板の製作にはドライフィルムフォトレジストが必須に用いられている。
【０００４】
このようなドライフィルムフォトレジストは、主に、支持体フィルム（ｂａｓｅ  ｆｉｌｍ）及び感光性樹脂層（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ｌａｙｅｒ）の２層構造に積層され、ドライフィルムフォトレジストを使用する前まで感光性樹脂層を保護するために、保護フィルムをさらに含む。
【０００５】
一般に、支持体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステルフィルムが用いられる。このような支持体フィルムは、ドライフィルムフォトレジストを製造する間に感光性樹脂層の支持体の役割をするものであり、粘着力を有する感光性樹脂層の露光時に取り扱いを容易にする。
【０００６】
感光性樹脂は、光による反応メカニズムによってネガ型とポジ型とに分けられるが、ネガ型感光性樹脂の場合には、露光部位で光架橋反応が起こり、未露光部位はアルカリによって洗浄されてレジストパターンが残り、ポジ型感光性樹脂の場合には、露光部位で光分解反応が起こり、アルカリによって現像され、未露光部位が残ってレジストパターンを形成する。
【０００７】
感光性樹脂層は、光重合性モノマー、光重合開始剤、バインダーポリマーなどを含んで目的に合わせて製造され、このような感光性樹脂層は、支持体フィルム上に塗布される。このような感光性樹脂層は、フォトレジストに求められる機械的／化学的性質及び加工などの条件に応じて多様な組成を有する。
【０００８】
一方、保護フィルムは、取り扱い時にレジストの損傷を防止し、ほこりのような異物から感光性樹脂層を保護する保護カバーの役割をするものであり、感光性樹脂層の支持体フィルムが形成されていない裏面に積層される。
【０００９】
一般に、上記のような組成のドライフィルムフォトレジストを用いる場合、露光時には剥離されないドライフィルムの一部成分が基材表面に残渣の形態で残り、工程及び製品の不良をもたらす。
【００１０】
また、赤外分光器（ＦＴーＩＲ）分析法を用いたフィルムの上部及び下部の硬化度を測定評価するとき、支持体フィルムが存在する下端の硬化度と保護フィルムが存在する上端の硬化度が相違することを確認できるが、これは、支持体フィルム及び保護フィルムの酸素透過度の差から起因するものと予想できる。  
【００１１】
従って、このような点を解決するために、支持体フィルム上に酸素透過防止膜を含むことで、ドライフィルムの上部及び下部の硬化度を向上及び改善する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】韓国公開特許第２００９ー００１０７９７号公報
【特許文献２】韓国公開特許第２０１１ー０１３４３９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、支持体フィルム上に酸素透過防止膜を含んでドライフィルムフォトレジストの上部及び下部の硬化度を向上及び改善することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の一実施形態は、上部に酸素透過防止膜が形成された支持体フィルムと、上記酸素透過防止膜上に形成された感光性樹脂層と、上記感光性樹脂層上に形成された保護フィルムと、を含むドライフィルムフォトレジストを提供する。
【００１５】
上記酸素透過防止膜は、酸素透過率が０．１未満であることができる。
【００１６】
上記酸素透過防止膜は、ダイヤモンドライクカーボン（Ｄｉａｍｏｎｄ  ｌｉｋｅ  ｃａｒｂｏｎ）であることができる。
【００１７】
上記酸素透過防止膜は、エチレンビニルアセテート（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｖｉｎｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ、ＥＶＡ）であることができる。
【００１８】
上記支持体フィルムは、ポリエチレン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ、ＰＥ）であることができる。
【００１９】
上記感光性樹脂層は、結合剤高分子、モノマー、光開始剤、熱重合禁止剤、重合促進剤及び可塑剤からなる群より選ばれる１種以上を含むことができる。
【００２０】
上記保護フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）であることができる。
【００２１】
本発明の他の実施形態は、支持体フィルム上に酸素透過防止膜を形成する段階と、上記酸素透過防止膜上に感光性樹脂層及び保護フィルムを順に形成する段階と、を含むドライフィルムフォトレジストの製造方法を提供する。
【００２２】
上記酸素透過防止膜は、酸素透過率が０．１未満であることができる。
【００２３】
上記酸素透過防止膜を形成する段階は、蒸着によって行われることができる。
【００２４】
上記酸素透過防止膜は、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）であることができる。
【００２５】
上記酸素透過防止膜は、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）であることができる。
【００２６】
上記エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）は、粘着または押出によって形成されることができる。
【００２７】
上記粘着は、ＰＤＭＳ（ｐｏｌｙ  ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｏｘａｎｅ）またはシロキサン（ｓｉｌｏｘａｎｅ）からなることができる。
【００２８】
上記支持体フィルムは、ポリエチレン（ＰＥ）であることができる。
【００２９】
上記感光性樹脂層は、結合剤高分子、モノマー、光開始剤、熱重合禁止剤、重合促進剤及び可塑剤からなる群より選ばれる１種以上を含むことができる。
【００３０】
上記保護フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）であることができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によると、支持体フィルム上に酸素透過防止膜を含むことで、ドライフィルムフォトレジストの酸素透過による硬化反応の低下を防止すると共に、これにより、未剥離残渣を減少させて工程不良を最小限にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の一実施形態によるドライフィルムフォトレジストの積層構造の断面図である。
【図２】本発明の他の実施形態によるドライフィルムフォトレジストの積層構造の断面図である。
【図３】本発明の一実施形態によるドライフィルムフォトレジストの製造方法を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、添付の図面を参照し、本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。なお、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
【００３４】
ドライフィルムフォトレジスト１００は、上部に酸素透過防止膜２０が形成された支持体フィルム１０と、上記酸素透過防止膜２０上に形成された感光性樹脂層３０と、上記感光性樹脂層３０上に形成された保護フィルム４０と、を含んで形成される。
【００３５】
上記支持体フィルム１０としては、コスト、柔軟性、強度及び硬度などの長所によってポリエチレンを主に用いる。上記支持体フィルム１０は、ドライフィルムフォトレジスト１００を製造する間に感光性樹脂層３０の支持体の役割をし、粘着力を有する感光性樹脂層３０の露光時に取り扱いを容易にする。
【００３６】
上記感光性樹脂層３０は、結合剤高分子、モノマー、光開始剤、熱重合禁止剤、重合促進剤、可塑剤などを含み、酸素透過防止膜２０上に塗布され、塗布された後に使用目的に合わせて厚さが決定され、これに求められる機械的、化学的性質及び加工などの条件に応じて多様な組成を有する。
【００３７】
上記保護フィルムとしては、主にポリエステル系、特に、ポリエチレンテレフタレートを用いる。上記保護フィルムは、取り扱い時にドライフィルムフォトレジスト１００の損傷を防止し、ほこりのような異物から感光性樹脂層３０を保護するカバーの役割をするものであり、感光性樹脂の支持体フィルム１０が形成されていない裏面に積層される。
【００３８】
一般に、ドライフィルムフォトレジスト１００は、支持体フィルム１０を除去し、基材上に感光性樹脂層３０が密着されるように、熱、圧力を加えてラミネート（ｌａｍｉｎａｔｅ）してから、保護フィルム４０上に露光し、保護フィルム４０除去した後に現像してパターンを形成する。このとき、剥離されなかったドライフィルムフォトレジスト１００の一部成分が基材表面に残渣の形態で残り、工程及び製品の不良をもたらすようになる。
【００３９】
また、赤外分光器（ＦＴーＩＲ）分析法を用いたドライフィルムフォトレジスト１００の上端及び下端の硬化度を測定して評価するとき、支持体フィルム１０が存在する下端の硬化度と保護フィルム４０が存在する上端の硬化度が相違することを確認できる。
【００４０】
即ち、支持体フィルム１０が存在する下端の硬化度は、同じ条件で平均２０〜３０％程度硬化度が低い現象を示す。これは、剥離端で残渣物質を残す原因を提供するが、このような硬化度の差は、支持体フィルム１０及び保護フィルム４０の酸素透過度の差から起因するものと予想できる。
【００４１】
一般に、酸素は、開始反応によって形成されたラジカル及びオリゴマーラジカルに対してラジカル酸素除去剤（ｓｃａｖｅｎｇｅｒ）として作用してラジカル活性を除去する作用を行い、重合の速度を遅延させる可能性がある。また、ドライフィルムフォトレジスト１００内の酸素は、露光初期にラジカルと反応して一定量を消耗し、以後のラジカルが爆発的な重合反応を起こす。即ち、酸素は光重合反応において反応速度や硬化度に重要な影響を及ぼす。
【００４２】
また、露光面に近い光開始剤が紫外線（ＵＶ）を吸収することが原因で基板と接触した下部面に到逹するＵＶ光量が足りず、未硬化が発生する可能性を確認するために、ドライフィルムフォトレジスト１００の保護フィルム４０上ではなく、支持体フィルム１０上で露光を行って硬化度を評価した結果、支持体フィルム１０上の平均硬化度は５２％、保護フィルム上の平均硬化度は８４％を示した。
【００４３】
即ち、露光方向に関係なく、支持体フィルム１０上の下端領域の硬化度が保護フィルム４０上の上端領域の硬化度に比べて平均２５％以上低いことが分かる。従って、下端領域に到逹するＵＶ光量が足りないことが原因で未硬化が発生する可能性は低いと判断される。
【００４４】
よって、ドライフィルムフォトレジスト１００における上端及び下端の硬化度の差に対する原因を把握するために、保護フィルム４０及び支持体フィルム１０の酸素透過度測定実験を先に行った。上記実験には、２１％の酸素条件下で２４時間、フィルムの１ｍ×１ｍ領域で保護フィルム４０及び支持体フィルム１０の酸素が透過した量を測定する方法が用いられた。
【００４５】
上記のような方法によって酸素の透過度を測定した結果、支持体フィルム１０として用いられたポリエチレン（ＰＥ）の酸素透過度は平均２３８２．７ｃｃ／ｍ２ーｄａｙであり、保護フィルム４０として用いられたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の酸素透過度は平均２３．０ｃｃ／ｍ２ーｄａｙであることから、ポリエチレン（ＰＥ）の酸素透過度は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）に比べて約１００倍程度高いことが分かった。
【００４６】
ポリエチレン（ＰＥ）の酸素透過度がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）に比べて顕著に高いため、露光時にポリエチレン（ＰＥ）の平均硬化度が重合抑制剤としての酸素の影響をさらに受けて硬化度が低い可能性がある。
【００４７】
従って、酸素が抑制された環境でドライフィルムフォトレジスト１００の硬化挙動を観察するために、酸素を大気中の濃度より１／５以下に減少させた雰囲気でドライフィルムフォトレジスト１００の硬化度を評価する実験を行った。
【００４８】
その結果、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の平均硬化度は大きい差を示さないに対し、ポリエチレン（ＰＥ）の平均硬化度は酸素の濃度を抑制した環境で硬化度が１０％〜１５％増加する傾向を示した。
【００４９】
結果的に、ポリエチレン（ＰＥ）の平均硬化度は、重合抑制剤の役割をする酸素の影響によって低いということが把握できる。
【００５０】
従って、本発明では、ドライフィルムフォトレジスト１００の上端及び下端の硬化度の差を解決するために、支持体フィルム１０上に酸素透過防止膜２０を形成することで、粘着性と離型性を維持すると共に、ドライフィルムフォトレジスト１００下部の硬化度を向上及び改善することができる。
【００５１】
図１は、本発明の一実施形態によるドライフィルムフォトレジスト１００の積層構造の断面図である。
【００５２】
図１には、上部に酸素透過防止膜２０が形成された支持体フィルム１０と、上記酸素透過防止膜２０上に形成された感光性樹脂層３０と、上記感光性樹脂層３０上に形成された保護フィルム４０と、を含むドライフィルムフォトレジスト１００が示されている。
【００５３】
ここで、上記酸素透過防止膜２０は、酸素透過率が０．１未満であり、０は除く。即ち、酸素透過率の下限はないが、０．１以上である場合には酸素によって開始剤が変性し、硬化度に影響を及ぼし得るという問題点がある。
【００５４】
酸素透過防止膜２０としてのダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）は、炭素の非晶質化合物であり、酸素透過防止性が高く、化学的に不活性物質であるため、外部条件によって変性されず、耐磨耗性や光透過性、電気的絶縁性などを備えており、現在、多数の産業的な用途に用いられている。
【００５５】
また、酸素透過防止膜２０としてのエチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）は、酸素透過防止性が高い物質である。
【００５６】
上記のように支持体フィルム１０上に酸素透過防止膜２０を含む場合、ドライフィルムフォトレジスト１００の酸素透過による硬化反応の低下を防止すると共に、これにより、未剥離残渣を減少させて工程不良を最小限にすることができる。
【００５７】
図２は、本発明の他の実施形態によるドライフィルムフォトレジスト１００の積層構造の断面図である。
【００５８】
図２には、上部に酸素透過防止膜２０が形成された支持体フィルム１０と、上記酸素透過防止膜２０上に形成された感光性樹脂層３０と、上記感光性樹脂層３０上に形成された保護フィルム４０と、を含み、上記酸素透過防止膜２０と支持体フィルム１０との間に粘着層２１をさらに含むドライフィルムフォトレジスト１００が示されている。
【００５９】
ここで、上記粘着層２１は、ＰＤＭＳ（ｐｏｌｙ  ｄｉｍｅｔｈｙｌ  ｓｉｌｏｘａｎｅ）またはシロキサン（ｓｉｌｏｘａｎｅ）からなり、酸素透過防止膜２０と支持体フィルム１０との粘着を容易にする。
【００６０】
以下では、実施例に基づいて本発明を詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
【００６１】
実施例
【００６２】
ポリエチレン上にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）をＰＥＣＶＤ方法で蒸着し、溶融タンクで光重合性モノマー、光重合開始剤、その他の添加剤などを溶媒に溶解して感光性樹脂層を製造した後、感光性樹脂層及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を順に積層してドライフィルムフォトレジストを製造した。
【００６３】
上記ドライフィルムフォトレジストのＰＥＴまたはＰＥ上でＵＶを１０分間露光して上端及び下端の硬化度を測定し、その結果を下記表１に示した。
【００６４】
【表１】
2014123089.tif 000003
【００６５】
上記表１から分かるように、ドライフィルムフォトレジストのＰＥＴ上でＵＶを１０分間露光して上端及び下端の硬化度を測定したとき、上端（ＰＥＴ）の硬化度は８６％、下端（ＰＥ）の硬化度は７２％を示した。
【００６６】
また、ドライフィルムフォトレジストのＰＥ上でＵＶを１０分間露光して上端及び下端の硬化度を測定したとき、上端（ＰＥＴ）の硬化度は８５％、下端（ＰＥ）の硬化度は７６％を示した。
【００６７】
従って、ドライフィルムフォトレジストが酸素透過防止膜を含む場合、上端及び下端の硬化度の差は約１０％内外であり、従来の酸素透過防止膜を含まない場合の約２０％内外の差に比べて減少したことが分かる。
【００６８】
比較例
【００６９】
ポリエチレン上に溶融タンクで光重合性モノマー、光重合開始剤、その他の添加剤などを溶媒に溶解して感光性樹脂層を製造した後、感光性樹脂層及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を順に積層してドライフィルムフォトレジストを製造した。
【００７０】
上記ドライフィルムフォトレジストのＰＥＴまたはＰＥ上でＵＶを１０分間露光して上端及び下端の硬化度を測定し、その結果を下記表２に示した。
【００７１】
【表２】
2014123089.tif 000004
【００７２】
上記表２から分かるように、ドライフィルムフォトレジストのＰＥＴ上でＵＶを１０分間露光して上端及び下端の硬化度を測定したとき、上端（ＰＥＴ）の硬化度は８５％、下端（ＰＥ）の硬化度は６２％を示した。
【００７３】
また、ドライフィルムフォトレジストのＰＥ上でＵＶを１０分間露光して上端及び下端の硬化度を測定したとき、上端（ＰＥＴ）の硬化度は８９％、下端（ＰＥ）の硬化度は６９％を示した。
【００７４】
従って、ドライフィルムフォトレジストが酸素透過防止膜を含まない場合、上端及び下端の硬化度の差は約２０％内外であり、本発明の酸素透過防止膜を含む場合の約１０％内外の差に比べて硬化度差が大きいことが分かる。
【００７５】
図３は、本発明の一実施形態によるドライフィルムフォトレジスト１００の製造方法を示す図面である。
【００７６】
図３には、支持体フィルム１０上に酸素透過防止膜２０を形成する段階（Ｓ１）と、上記酸素透過防止膜２０上に感光性樹脂層３０及び保護フィルム４０を順に形成する段階（Ｓ２）と、を含むドライフィルムフォトレジスト１００の製造方法が示されている。
【００７７】
上記酸素透過防止膜２０は、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）またはエチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）であることができる。
【００７８】
一般に、支持体フィルム１０上に酸素透過防止膜２０を形成する段階（Ｓ１）は、酸素透過防止膜２０であるダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）またはエチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）が蒸着によって形成されるが、プラズマ化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ、ｐｌａｓｍａ  ｅｎｈａｎｃｅｄ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、イオンビームスパッタリング蒸着法（ｉｏｎ  ｂｅａｍ  ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）、イオンビーム蒸着法（ｉｏｎ  ｂｅａｍ  ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）、レーザーアブレーション（ｌａｓｅｒ  ａｂｌａｔｉｏｎ）及び真空濾過アーク（ｆｉｌｔｅｒｅｄ  ｖａｃｕｕｍ  ａｒｃ、ＦＶＡ）などを用いて行われる。
【００７９】
上記プラズマ化学気相蒸着は、常温でもポリマー基板に蒸着を可能にすることができ、フレキシブル基板上にも大面積にわたって均一な蒸着を可能にすることができるという長所がある。
【００８０】
また、上記エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）は、蒸着のほかにも粘着または押出によって形成されることができる。
【００８１】
粘着は、支持体フィルム１０とエチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）との粘着を容易にするために粘着層２１を追加する方法であり、押出は、空気浸透を止するために支持体フィルム１０及びエチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）を熱を用いて同時に押出する方法である。上記粘着または押出は、事前に生産されたフィルムを用いることができるという長所があるが、生産時間が長くなる場合が多い。
【００８２】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有するものには明らかである。
【符号の説明】
【００８３】
１０  支持体フィルム
２０  酸素透過防止膜
２１  粘着層
３０  感光性樹脂層
４０  保護フィルム
１００  ドライフィルムフォトレジスト
【図１】
2014123089.tif 000005
【図２】
2014123089.tif 000006
【図３】
2014123089.tif 000007