(57)【要約】【課題】無機蒸着層とハードコート層とが十分な密着性を有する反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透明基材フィルム１０１と、透明基材フィルム１０１の一面側に形成される、アクリル系の活性エネルギー線硬化型樹脂を含むアクリル系樹脂層１０２と、アクリル系樹脂層１０２上に積層される無機酸化物蒸着層１０３と、を備え、アクリル系樹脂層１０２の少なくとも無機酸化物蒸着層１０３との積層面側に、平均粒径１００ｎｍ以下の無機酸化物微粒子を含有する無機粒子含有層が形成されており、前記無機粒子含有層における、アクリル系樹脂と前記無機酸化物微粒子との質量比が１：１〜１：２０となるように構成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムと、
前記透明基材フィルムの一面側に形成される、アクリル系の活性エネルギー線硬化型樹脂を含むアクリル系樹脂層と、
前記アクリル系樹脂層上に積層される無機酸化物蒸着層と、を備え、
前記アクリル系樹脂層の少なくとも前記無機酸化物蒸着層との積層面側に、平均粒径１００ｎｍ以下の無機酸化物微粒子を含有する無機粒子含有層が形成されており、
前記無機粒子含有層における、アクリル系樹脂と前記無機酸化物微粒子との質量比が１：１〜１：２０である反射防止フィルム。
【請求項２】
前記無機酸化物蒸着層がスパッタリングによって形成された層である請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記無機酸化物微粒子が、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、及び酸化ニオブより選択される一つ以上である請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記アクリル系樹脂層が前記無機酸化物蒸着層を保護するハードコート層として機能する場合、前記アクリル系樹脂層の屈折率が、１．５０〜１．８０である請求項１から３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記アクリル系樹脂層が前記ハードコート層と前記無機酸化物蒸着層との間に形成された中間層を有する場合、前記中間層の屈折率が、１．５５〜１．９０である請求項４に記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等においては、表示画面の表面が光を反射すると、表示されている画像等が見難くなる。表示画面の反射を解消するための技術としては、表示画面に低屈折率層を積層して反射を抑えるものが公知である。反射防止フィルムに関する技術は、例えば、特許文献１に記載されている。
また、反射防止フィルムは、表示画面の最上層に形成されるため、傷がつくことによって表示画像の視認性が損なわれる。このため、反射防止フィルムには、表面に硬さが要求されるものがある。
【０００３】
表面に硬さが求められる反射防止フィルムとしては、例えば、基材にハードコート層を積層し、さらに無機蒸着して反射防止層を設けたものが公知になっている（例えば、特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２９２８３１号公報
【特許文献２】特開２００９−１０９８５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ハードコート層に電離放射線硬化型アクリル等を使う場合、ハードコート層と無機蒸着層との間の、より高い密着性を実現することが望まれていた。
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、無機蒸着層とハードコート層とが十分な密着性を有する反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、透明基材フィルム（１０１）と、前記透明基材フィルムの一面側に形成される、アクリル系の活性エネルギー線硬化型樹脂を含むアクリル系樹脂層（１０２）と、前記アクリル系樹脂層上に積層される無機酸化物蒸着層（１０３）と、を備え、前記アクリル系樹脂層の少なくとも前記無機酸化物蒸着層との積層面側に、平均粒径１００ｎｍ以下の無機酸化物微粒子を含有する無機粒子含有層が形成されており、前記無機粒子含有層における、アクリル系樹脂と前記無機酸化物微粒子との質量比が１：１〜１：２０である反射防止フィルム。
このようにすれば、光学膜と無機材料膜との密着性が高い反射防止フィルムを提供することができる。
【０００７】
上記発明において、前記無機酸化物蒸着層がスパッタリングによって形成された層であることが望ましい。
このようにすれば、特に密着性を高めることが望まれているスパッタリングによって形成された無機材料膜とアクリル系の活性エネルギー線硬化型樹脂を含む樹脂層とを積層した構成に本発明を適用し、本発明を効果的に活用することができる。
また、このようにすれば、無機微粒子のアクリル系樹脂層からの脱落を抑止する、適正な量の無機微粒子を光学膜に混入することができる。
【０００８】
上記発明において、前記無機酸化物微粒子が、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、及び酸化ニオブより選択される一つ以上であることが望ましい。
このようにすれば、無機酸化物蒸着層に対するアンカーとして機能する適正な無機酸化物微粒子をアクリル系樹脂層に含有させることができる。
【０００９】
上記発明において、前記アクリル系樹脂層が前記無機酸化物蒸着層を保護するハードコート層として機能する場合、前記アクリル系樹脂層の屈折率は、１．５０〜１．８０、好ましくは１．５５〜１．７５、より好ましくは１．６〜１．７０であることが望ましい。
このようにすれば、ハードコート層の保護機能を満たすことができる。
上記発明において、前記アクリル系樹脂層が前記ハードコート層と前記無機酸化物蒸着層との間に形成された中間層を有する場合、前記中間層の屈折率は、１．５５〜１．９０、好ましくは１．６０〜１．８０、より好ましくは１．６５〜１．７５であることが望ましい。
このようにすれば、厚さが均一で、しかも色味を調整することが容易な中間層を得ることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、無機蒸着層とハードコート層とが十分な密着性を有する反射防止フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態の反射防止フィルムを説明するための図である。
【図２】本発明の実施例１の反射防止フィルムの断面の電子顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施形態を説明する。
図１は、本実施形態の反射防止フィルム１００を説明するための図である。図示した反射防止フィルム１００は、透明基材フィルム１０１と、透明基材フィルム１０１上に設けられたハードコート層１０２と、ハードコート層１０２上に設けられた高屈折率層１０３と、高屈折率層１０３上に設けられた低屈折率層１０４と、を含んでいる。高屈折率層１０３、低屈折率層１０４は、無機材料を蒸着法して形成された無機蒸着膜である。
図１に示した反射防止フィルム１００によれば、反射防止フィルム１００が配置された画面と反射防止フィルム１００の界面で発生した反射光と、空気と反射防止フィルム１００との界面で発生した反射光とが干渉により打ち消しあい、画面の反射光を十分に低減することができる。
【００１３】
本実施形態の反射防止フィルム１００は、ハードコート層１０２と、ハードコート層１０２と直接接するように設けられた高屈折率層１０３とを備え、ハードコート層１０２に無機微粒子を混合した反射防止フィルムである。ただし、本実施形態の反射防止フィルム１００は、ハードコート層１０２上に高屈折率層１０３を直接設ける構成に限定されるものではなく、ハードコート層１０２と高屈折率層１０３との間に中屈折率層（図示せず）を設けることも考えられる。
このような場合、無機蒸着層は中屈折率層と直接接触するので、中屈折率層に無機微粒子が混入される。
【００１４】
本実施形態の反射防止フィルムによれば、公知の反射防止フィルムよりもハードコート層等と無機蒸着層との密着性を向上させることができた。無機微粒子を混合することによってハードコート層と無機蒸着層との密着性が向上する理由としては、（１）無機蒸着材料が、同じ無機の部材である無機微粒子との間で高い密着性を有すると推測されること、（２）無機微粒子を混入したことによってハードコート層、無機蒸着層の無機微粒子含有層の表面に細かな凹凸が形成され、凹凸がアンカー効果を有すること、が考えられる。
【００１５】
次に、図１に示した反射防止フィルム１００を構成する各部材について説明する。
＜透明基材フィルム＞
透明基材フィルム１０１の材質は、特に限定されないが、反射防止フィルムに用いられる一般的な材料を用いることができ、例えば、セルロースアシレート、シクロオレフィンポリマー、アクリレート系ポリマー、又はポリエステルを主体とするものが好ましい。ここで、「主体とする」とは、基材構成成分の中で最も含有割合が高い成分を示すものである。
【００１６】
セルロースアシレートの具体例としては、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。シクロオレフィンポリマーとしては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が挙げられ、より具体的には、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製スミライトＦＳ‐１７００、ＪＳＲ（株）製アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製アペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製オプトレッツＯＺ‐１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。アクリレート系ポリマーの具体例としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル‐（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等が挙げられる。ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
【００１７】
本発明にあっては、透明基材フィルム１０１の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは３０μｍ以上２００μｍ以下である。透明基材フィルムは、その上にハードコート層１０２を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。
【００１８】
＜ハードコート層＞
ハードコート層１０２は、少なくともアクリル系樹脂材料と無機微粒子とを含んでいる。アクリル系樹脂材料と無機微粒子との重量比は、アクリル系樹脂：無機微粒子＝１：１〜１：２０である。
アクリル系樹脂材料と無機微粒子の混合の割合については、無機微粒子が適正な量よりも少ないと、ハードコート層１０２と高屈折率層１０３との密着性が低下する。また、無機微粒子が適正な量よりも多いと無機微粒子がハードコート層１０２から脱落しやすくなる。
無機微粒子としては、粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物を用いることが好ましい。この理由は、径が１００ｎｍを越える微粒子が増えると内部ヘイズが上がり、ハードコート層１０２が白濁し、視認性が低下するためである。金属酸化物の材料としては、所望の光学設計に合わせて適宜選択できるが、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、Ｍｂ2Ｏ5が好適である。
【００１９】
ハードコート層１０２のアクリル系樹脂材料は、アクリル系の活性エネルギー線硬化型樹脂を含む。アクリル系の活性エネルギー線硬化型樹脂としては特に限定されず、従来公知のものが使用できる。たとえば、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合体を用いて形成すればよい。
【００２０】
多官能性モノマーとしては、１，４−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エボキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
【００２１】
ハードコート層１０２を形成するに際しては、前記多官能モノマーに有機溶剤を加え、必要により重合開始剤やレベリング剤などを加えた組成物を作製し、従来公知のウエットコーティング法により透明基材フィルム上に塗工する。その際、ハードコート層１０２と透明基材フィルム１０１の界面で生じる干渉縞を防ぐため、有機溶剤には、透明基材フィルム１０１に浸透もしくは透明基材フィルム１０１を溶解させるものを混合することが望ましい。
【００２２】
ハードコート層１０２の膜厚は２μｍ〜２０μｍが好ましく、５μｍ〜１０μｍが特に好ましい。薄過ぎるとハードコート層としての硬さが不足し、また、前記浸透層の形成が不十分となり干渉縞を防止できない。厚過ぎると取り回し中にクラックが入りやすくなる。好ましい屈折率は１．５以上１．８０以下である。
ハードコート層１０２の好ましい屈折率の上記範囲は、無機粒子が入っていないハードコート層の屈折率が１．５２程度であり、屈折率１．８を超えるとハードコート層１０２の厚さを２μｍ未満にしないと視感反射率が１％を超えてしまうことから定められる。
【００２３】
なお、ハードコート層１０２の屈折率については、中屈折率層を設ける場合は特段調整する必要が無い。中屈折率層を設けない場合には、ハードコート層１０２の屈折率を高屈折率層と低屈折率層の間の屈折率とする。ただし、ハードコート層１０２が下層を保護する十分な効果（ハードコート性）を得るためには、２μｍ以上の厚さが必要である。このため、ハードコート層１０２の屈折率は中屈折率層よりも低く、１．５０〜１．８０の範囲が適しており、好ましくは１．５５〜１．７５、より好ましくは１．６〜１．７０である。
ハードコート層１０２の屈折率が１．８０を超えると、ハードコート層の厚さを２μｍ以下にする必要がある。屈折率が１．５０を下回る材料は、フッ素系などの低屈折粒子を含むか、フッ素で有機分子中の水素が置換されているか、シロキサン構造を含むため、重合後のそれ自体の材質が硬くなくハードコート性がない。
【００２４】
また、中屈折率層を設ける場合、中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．９０が適しており、好ましくは１．６０〜１．８０、より好ましくは１．６５〜１．７５である。屈折率は中屈折率層の厚さを調整することによって変更可能であり、屈折率が低いと、厚さを厚くする必要がある。中屈折率層の厚さを厚くすると、ａ＊、ｂ＊の絶対値が大きくなるので色味の調整が難しくなる。屈折率が高いと、厚さを薄くする必要があり、膜の厚さの均一性を保つのが難しくなる。
【００２５】
＜高屈折率層＞
本実施形態の高屈折率層１０３は、無機蒸着層であって、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、真空蒸着、イオンプレーティング法及びＣＶＤ（化学気相成長法）等のドライコーティング法によって形成される。
また、スパッタ法は比較的膜厚分布の均一性が高い成膜方法ではあるが、特にロールツウロールでプラスチック基材に成膜する場合は、プラスチック故の厚さや材質の不均一性、メインロールの温度分布ムラなどのため、膜厚分布にムラが生じやすい。膜厚が平均値から５％ずれた場合でも反射光の色ムラが認識されるため、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系においては、なるべくａ＊、ｂ＊の絶対値が大きくなるようにしたいが、赤系、黄系、緑系の反射光は観察者の印象が良くないため、反射光を青系とし、かつ表示装置の視認性を妨げないためには、ａ＊が−１０〜＋１０、かつｂ＊が０〜−２０、好ましくは、ａ＊が０〜１０、ｂ＊が０〜−１５、より好ましくはａ＊が３〜７、ｂ＊が−３〜−１１が良い。
【００２６】
高屈折率層１０３の材料としては、インジウム、錫、チタン、シリコン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、カリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム及びハフニウム等の金属、あるいは、これらの金属を２種類以上含む合金、これらの金属の酸化物、フッ化物、硫化物及び窒化物が考えられる。
具体的には、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化セリウム等があげられる。また、これらの金属を複数積層する場合には、必ずしも同じ材料を選択する必要はなく、材料は目的にあわせて適宜選択される。
【００２７】
＜低屈折率層＞
本実施形態の低屈折率層１０４は、高屈折率層１０３と同様に無機蒸着層であって、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、真空蒸着、イオンプレーティング法及びＣＶＤ（化学気相成長法）等のドライコーティング法によって形成される。
低屈折率層１０４の膜厚は５０ｎｍ〜１５０ｎｍが好ましい。好ましい屈折率は１．４以上１．５以下である。
【００２８】
低屈折率層１０４の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム及び弗化ランタン等が適用できる。ただし、本実施形態は、低屈折率層１０４がこのような材料によって成膜される構成に限定されるものではない。また、このような材料の薄膜を積層して低屈折率層１０４を形成する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要なく、材料は目的にあわせて適宜選択される。
【００２９】
［実施例］
次に、以上説明した本実施形態の実施例１ないし３を説明する。なお、実施例１ないし３では、いずれも以上説明した実施形態の反射防止フィルム１００を作成し、そのハードコート層と無機蒸着層との間の密着性の試験を行った。なお、密着性の試験は、碁盤目試験（ＪＩＳ  Ｋ５４００−８．５）によって行われた。
また、実施例では、反射防止フィルム１００の屈折率を測定した。屈折率の測定は、透明基材フィルム上に透明粘着テープで貼った小片（５×８ｍｍ）のシリコンウェハ上に薄膜を積層し、エリプソメータを使って行った。また、全光線透過率、視感反射率、反射色相の測定は、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ−７１００）を使って行った。
【００３０】
＜実施例１＞
実施例１では、透明基材フィルムとして、幅３０ｃｍ、長さ１００ｍ、厚さ８０μのＴＡＣフィルムを用いた。そして、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムの片面にインキをダイコートによって塗工し、紫外線を照射して厚さ１０μｍのハードコート層を得た。実施例１でＴＡＣフィルムに塗工されたインキの組成は、重量比で以下の通りである。
ペンタエリスリトールトリアクリレート      ６５
イソシアヌル酸変性ジアクリレート      ３５
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン      ６
シリコン系レベリング剤      ０．０４５
ＭＥＫ（メチルエチルケトン）      ３０
トルエン      ３０
【００３１】
次に、実施例１では、ハードコート層上にインキをダイコートによって塗工し、紫外線を照射して厚さ６５ｎｍの中屈折率層を得た。ハードコート層上に塗工されたインキの組成は、重量比で以下の通りである。中屈折率層の屈折率は１．７４であった。
ＺｒＯ2微粒子（屈折率２．０、平均粒径１０ｎｍ）      ８０
ペンタエリスリトールトリアクリレート      １０
イソシアヌル酸変性ジアクリレート      １０
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン      １．２
ＭＥＫ      ３０
トルエン      ３０
【００３２】
次に、実施例１では、中屈折率層上にマグネトロンスパッタ装置を用い、以下の条件によって高屈折率層となる厚さ９３ｎｍのＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）膜を形成した。高屈折率層の屈折率は２．００であった。
使用電源      ＤＣ電源
投入電力      １２ＫＷ／ｍ2
ターゲットと基材間距離      ６０ｍｍ
ライン速度      ０．１ｍ／ｍｉｎ
成膜圧力      ４×１０-1Ｐａ
ロール温度      ０℃
キャリアガス      アルゴン（２００ｓｃｃｍ）
酸素（１ｓｃｃｍ）
【００３３】
次に、実施例１では、ＩＴＯ層上にマグネトロンスパッタ装置を用い、以下の条件によって低屈折率層となる厚さ８４ｎｍのＳｉＯ2膜を形成した。低屈折率層の屈折率は１．４７であった。
使用電源      ＭＦ（ｍｅｄｉｕｍ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）電源
投入電力      ２５ＫＷ／ｍ2
ターゲットと基材間距離      ５０ｍｍ
ライン速度      ０．１ｍ／ｍｉｎ
成膜圧力      １×１０-1Ｐａ
ロール温度      ０℃
キャリアガス      アルゴン（１０ｓｃｃｍ）
【００３４】
以上説明した実施例１によれば、全光線透過率が９２％、視感反射率は０．４％、ａ＊＝３．１、ｂ＊＝−４．１の反射防止フィルムを形成することができた。実施例１の反射防止フィルムにおけるハードコート層と高屈折率層との密着性を碁盤目試験よって評価したところ、剥離はみられなかった。
【００３５】
実施例１では、反射防止フィルムの低屈折率層（ＳｉＯ2膜）、高屈折率層（ＩＴＯ膜）、中屈折率層の断面を電子顕微鏡で観察した。図２は、観察の結果得られた電子顕微鏡写真である。図２において、「１」で示した範囲が低屈折率層、「２」で示した範囲が高屈折率層、「３」で示した範囲が中屈折率層を示している。図２に示した電子写真によれば、中屈折率層の表面に微細な凹凸が発生し、凹凸の上に高屈折率層が積層されている様子がみられた。
なお、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層の各厚さは、以下のとおりである。
低屈折率層：ＳｉＯ2膜      ８４ｎｍ
高屈折率層：ＩＴＯ膜      ９３ｎｍ
中屈折率層：アクリル系樹脂＋ＺｒＯ2      ６５ｎｍ
【００３６】
＜実施例２＞
次に、本実施形態の実施例２を説明する。実施例２では、高屈折率層を実施例１のＩＴＯ層に代えてＮｂ2Ｏ5（五酸化ニオブ）膜とし、他の条件は実施例１と同じにして反射防止フィルム１００を形成した。Ｎｂ2Ｏ5膜の厚さは１００ｎｍ、高屈折率層の屈折率は２．３０であった。以下に、Ｎｂ2Ｏ5膜の形成条件を記す。
【００３７】
使用電源      ＤＣ電源
投入電力      １４ＫＷ／ｍ2
ターゲットと基材間距離      ６０ｍｍ
ライン速度      ０．１ｍ／ｍｉｎ
成膜圧力      ２×１０-1Ｐａ
ロール温度      ０℃
キャリアガス      アルゴン（１５０ｓｃｃｍ）
酸素（２０ｓｃｃｍ）
実施例２によれば、全光線透過率が９３％、視感反射率が０．２％、ａ＊＝６．５、ｂ＊＝−８．７の反射防止フィルムが得られた。また、実施例２の反射防止フィルムにおけるハードコート層と高屈折率層との密着性を碁盤目試験よって評価したところ、剥離はみられなかった。
【００３８】
＜実施例３＞
次に、本実施形態の実施例３を説明する。実施例３の反射防止フィルムは、ハードコート層の組成が実施例１の構成と相違する点と、中屈折率層を設けない点以外は、実施例１と同様の条件で作成された。実施例３では、以下の組成のインキをＴＡＣフィルムに塗工し、紫外線を照射して厚さ３μｍのハードコート層を形成した。実施例３のハードコート層の屈折率は１．６８であった。
ＺｒＯ2微粒子（屈折率１．８、平均粒径１０ｎｍ）      ５０
ペンタエリスリトールトリアクリレート    ２５
イソシアヌル酸変性ジアクリレート      ２５
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン      ３
ＭＥＫ      ３０
トルエン      ３０
【００３９】
次に、実施例３では、上記したハードコート層上に、高屈折率層として厚さ１２０ｎｍのＩＴＯ膜を成膜し、ＩＴＯ膜上に低屈折率層として厚さ７０ｎｍのＳｉＯ2を成膜した。
以上説明した実施例３によれば、全光線透過率が９１％、視感反射率が０．９％、ａ＊＝４．８、ｂ＊＝−１０．９の反射防止フィルムを作成することができた。実施例３の反射防止フィルムを碁盤目試験にて評価したところ、剥離はみられなかった。
【００４０】
＜比較例＞
本発明の発明者らは、本実施形態の反射防止フィルムによって得られる効果を説明するため、前記した実施例の比較例となる反射防止フィルムを作成した。以下、比較例で作成された反射防止フィルムについて説明する。
【００４１】
・比較例１
比較例１の反射防止フィルムは、中屈折率層を含まない点以外は上記した実施例１の反射防止フィルムと同様の構成を有している。実施例１では、中屈折率層が無機微粒子を含んでいたことから、中屈折率層がない比較例１の反射防止フィルムは、ハードコート層と高屈折率層となるＩＴＯ膜との界面に無機微粒子が存在しないことになる。
比較例１によれば、全光線透過率が９２％、視感反射率が１．０％、ａ＊＝１９．０、ｂ＊＝−２３．８の反射防止フィルムが得られた。また、比較例１の反射防止フィルムを碁盤目試験によって評価したところ、１００／１００の剥離がみられた。
【００４２】
・比較例２
比較例２の反射防止フィルムは、中屈折率層における無機微粒子の混入量がアクリル系樹脂に対して１：１以下（１：２）である点以外は上記した実施例１の反射防止フィルムと略同様の構成を有している。すなわち、実施例２では、インキをダイコータでＴＡＣの片面に塗工し、厚さ６５ｎｍの中屈折率層を形成した。比較例２の中屈折率層の形成に使用されたインキの組成は、重量比で以下の通りである。また、比較例２の中屈折率層の中屈折率層の屈折率は１．６２であった。
ＺｒＯ2微粒子（屈折率１．８、平均粒径１０ｎｍ）      １５
ペンタエリスリトールトリアクリレート      １５
イソシアヌル酸変性ジアクリレート      １５
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン      １．８
ＭＥＫ      ３０
トルエン      ３０
【００４３】
比較例２によれば、全光線透過率が９２％、視感反射率が１．０％、ａ＊＝２０．３、ｂ＊＝−２３．８の反射防止フィルムが得られた。また、比較例２の反射防止フィルムを碁盤目試験によって評価したところ、１００／１００の剥離がみられた。
【００４４】
＜実施形態の効果＞
以上、説明したように、本実施形態によれば、ハードコート層、あるいはハードコート層上の中屈折率層上にドライコーティングによって高屈折率層等を形成する場合、ハードコート層等と高屈折率層等との間で高い密着性を得ることができる。
また、本実施形態は、ハードコート層、あるいは中屈折率層に適正な量の無機微粒子を混入することにより、ハードコート層等から無機微粒子が脱落することを抑止し、効果的にハードコート層等と高屈折率層等との間で高い密着性を得ることができる。
【００４５】
さらに、本実施形態は、アクリル系の材料を含むハードコート層とドライコーティングによって形成された高屈折率層等との間の密着性を高めることができる。このような本実施形態の反射防止フィルムは、市場の要求に応えるものである。
【符号の説明】
【００４６】
１００：反射防止フィルム
１０１：透明基材フィルム
１０２：ハードコート層
１０３：高屈折率層
１０４：低屈折率層
【図１】
2014071382.tif 000003
【図２】
2014071382.tif 000004