(57)【要約】【課題】処理待ち時間を作ることなく、効率よく固定子のワニス処理を行う。【解決手段】固定子を予備加熱する予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、予備加熱ユニットに予備加熱された固定子にワニスを塗布するワニス滴下ユニット３、及び固定子に塗布されたワニスを硬化させる硬化加熱を行うワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃの台数は、各ユニットの処理時間の概ねの比率に比例して設けられている。例えば、予備加熱ユニット、ワニス滴下ユニット、及びワニス硬化ユニットの処理時間の比率が２：１：３の場合は、２台の予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、１台のワニス滴下ユニット３、及び３台のワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃとなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定子を予備加熱する予備加熱ユニットと、
前記予備加熱ユニットにより予備加熱された前記固定子にワニスを塗布するワニス滴下ユニットと、
前記固定子に塗布されたワニスを硬化させる硬化加熱を行うワニス硬化ユニットと、を有し、
前記予備加熱ユニットにおける処理時間、前記ワニス滴下ユニットにおける処理時間、または前記ワニス硬化ユニットにおける処理時間のうち、最も短い処理時間を基準処理時間とし、前記基準処理時間よりも処理時間が、前記最も短い処理時間のユニットの台数より多い、ワニス処理装置。
【請求項２】
請求項１記載のワニス処理装置において、
前記予備加熱ユニット、前記ワニス滴下ユニット、及び前記ワニス硬化ユニットは、
前記予備加熱ユニットにおける処理時間、前記ワニス滴下ユニットにおける処理時間および前記ワニス硬化ユニットにおける処理時間の比率に応じた台数をそれぞれ有する、ワニス処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載のワニス処理装置において、
前記処理時間の比率は、概ねの比率であるワニス処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載のワニス処理装置において、
前記概ねの比率は、各ユニットの処理時間の比率に少数がある場合、少数部分を所定の基準で繰り上げた整数に置換した比率であるワニス処理装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のワニス処理装置において、
前記予備加熱ユニットは、前記ワニス硬化ユニットの上方に設けられている、ワニス処理装置。
【請求項６】
請求項５記載のワニス処理装置において、
前記ワニス滴下ユニットは、前記ワニス処理装置の設置面に対して水平な方向である配列方向に、前記予備加熱ユニット及び前記ワニス硬化ユニットに隣り合って配列される、ワニス処理装置。
【請求項７】
請求項５記載のワニス処理装置において、
前記予備加熱ユニット及び前記ワニス硬化ユニットをそれぞれ複数台有し、
複数の前記予備加熱ユニット及び複数の前記ワニス硬化ユニットは、
前記ワニス処理装置の設置面に対して水平な方向である配列方向にそれぞれ配列される、ワニス処理装置。
【請求項８】
請求項５記載のワニス処理装置において、
さらに、前記固定子を搬送する搬送ユニットを有し、
前記搬送ユニットは、前記ワニス硬化ユニット及び前記予備加熱ユニットの前面に設けられ、前記ワニス処理装置の設置面に対して水平な方向である配列方向、前記配列方向に対して垂直な方向である上下方向、及び前記配列方向に対して垂直な方向であり、前記上下方向に対しても垂直な方向である前後方向に前記固定子をそれぞれ搬送可能である、ワニス処理装置。
【請求項９】
請求項１記載のワニス処理装置において、
前記予備加熱ユニットの台数は、２台であり、
前記ワニス滴下ユニットの台数は、１台であり、
前記ワニス硬化ユニットの台数は、３台である、ワニス処理装置。
【請求項１０】
請求項９記載のワニス処理装置において、
３台の前記ワニス硬化ユニットは、前記ワニス処理装置の設置面に対して水平な方向である配列方向にそれぞれ配列され、
２台の前記予備加熱ユニットは、前記配列方向において、３台の前記ワニス硬化ユニットの上方にそれぞれ配列され、
前記ワニス滴下ユニットは、前記配列方向において、前記予備加熱ユニット、及び前記ワニス硬化ユニットに隣り合って配列される、ワニス処理装置。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のワニス処理装置において、
前記予備加熱ユニット、前記ワニス滴下ユニット及び前記ワニス硬化ユニットの台数の比率が、２：１：３である、ワニス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固定子におけるワニス処理技術に関し、特に、固定子のワニス処理の効率化に有効な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
特開２０１２−５２８３号公報（特許文献１）には、電動機械における固定子コアに巻き線された電線コイルや固定子を加熱する技術として、予備加熱時や滴下したワニスの硬化加熱に誘導加熱を用いる技術が記載されている。
【０００３】
具体的には、誘導加熱部分が電動機械の固定子の外側部分の少なくとも半分以上を近接して覆い、かつ、該誘導加熱部分においてコイルに流れる誘導加熱電流が一方向になるように、誘導加熱コイルを配置し、誘導加熱コイルに誘導加熱電流を供給すると共に、固定子を回転させながら加熱するものである。
【０００４】
また、特開平０７−２４６３５５号公報（特許文献２）には、表面に離型性の良い樹脂層が形成されたハンガーにコイルを搭載して連続的に搬送させ、絶縁ワニスを含浸させる技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−５２８３号公報
【特許文献２】特開平０７−２４６３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
固定子に巻き線された電線コイルや固定子コアの水分除去やアニール処理のための予備加熱及びワニスを塗布した後ワニスを硬化させる本加熱に誘導加熱を用いた場合、固定子の温度上昇にかかる時間を短縮することができ、省エネルギ化を図ることができる。
【０００７】
しかしながら、上記した特許文献１では、予備加熱及び本加熱の時間を短縮するのみであり、固定子の予備過熱工程、ワニス塗布工程及び本加熱工程までのワニス処理に係る一連の作業を短時間で効率よく処理する技術については記載されていない。
【０００８】
また、特許文献２においては、予備加熱及び本加熱に誘導加熱を用いることが記載されておらず、加熱に電気ヒータなどを用いた場合、加熱乾燥に係る処理の効率が低下してまうことになる。
【０００９】
一連の工程からなるワニス処理を効率的に行うことが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、例えば、請求項１に記載のワニス処理装置を適用する。即ち、ワニス処理装置は、予備加熱ユニット、ワニス滴下ユニット及びワニス硬化ユニットをそれぞれ有する。予備加熱ユニットは、固定子を予備加熱する。ワニス滴下ユニットは、予備加熱ユニットにより予備加熱された固定子にワニスを塗布する。ワニス硬化ユニットは、固定子に塗布されたワニスを硬化させる硬化加熱を行う。
【００１１】
そして、予備加熱ユニットにおける処理時間、ワニス滴下ユニットにおける処理時間、またはワニス硬化ユニットにおける処理時間のうち、最も短い処理時間を基準処理時間とし、基準処理時間よりも処理時間が長いユニットの台数が、最も短い処理時間のユニットの台数より多いものである。
【発明の効果】
【００１２】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
【００１３】
本発明によれば、一連の工程からなるワニス処理の効率が向上するという効果を奏する。
【００１４】
本発明の他の課題や効果は以下の記載から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態によるワニス処理装置における一例を示す外観図である。
【図２】固定子におけるワニス処理時の温度プロファイルの一例を示す説明図である。
【図３】図１のワニス処理装置におけるワニス処理の一例を示すフローチャートである。
【図４】図１のワニス処理装置によって固定子を連続してワニス処理する一例を示したタイミングチャートである。
【図５】図４のタイミングチャートにおける固定子の処理例を示した説明図である。
【図６】図５に続く固定子の連続処理例を示した説明図である。
【図７】図６に続く固定子の連続処理例を示した説明図である。
【図８】図７に続く固定子の連続処理例を示した説明図である。
【図９】図８に続く固定子の連続処理例を示した説明図である。
【図１０】図９に続く固定子の連続処理例を示した説明図である。
【図１１】図１０に続く固定子の連続処理例を示した説明図である。
【図１２】図１１に続く固定子の連続処理例を示した説明図である。
【図１３】図１２に続く固定子の連続処理例を示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。
【００１７】
また、以下の実施の形態において、要素の数等（個数、数値、量、範囲等を含む）に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でもよい。
【００１８】
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。
【００１９】
同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。
【００２０】
また、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。なお、図面をわかりやすくするために平面図であってもハッチングを付す場合がある。
【００２１】
〈ワニス処理装置の構成例〉
図１は、本発明の実施の形態によるワニス処理装置における一例を示す外観図である。
【００２２】
ワニス処理装置１は、モータや発電機などの回転電機に用いられる固定子にワニスを塗布し、硬化させる処理を行う装置である。このワニス処理装置１は、図１に示すように、予備加熱ユニット部２、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化加熱ユニット部４、搬送機構５、制御装置６、冷却ユニット７、搬入部８及び搬出部９を有する。
【００２３】
図１において、ワニス硬化加熱ユニット部４は、例えば３つのワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃを有している。これらワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃは、設置面である床面に水平に配列されている。以下、ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃが配列されている方向を配列方向という。
【００２４】
ワニス硬化加熱ユニット部４の上部には、予備加熱ユニット部２が設けられている。予備加熱ユニット部２は、例えば２つの予備加熱ユニット２ａ，２ｂを有する。これら予備加熱ユニット２ａ，２ｂも同様に、配列方向に配列された構成となっている。
【００２５】
配列方向において、ワニス硬化加熱ユニット部４、及び予備加熱ユニット部２の一端側には、ワニス滴下ユニット３が隣り合うように設けられている。また、配列方向において、予備加熱ユニット部２の他端側には、隣り合うように冷却ユニット７が設けられている。この冷却ユニット７には、配列方向に、該冷却ユニット７に隣り合って搬入部８が設けられており、該搬入部８の下方には、搬出部９が設けられている。
【００２６】
予備加熱ユニット２ａ，２ｂは、固定子を予備加熱するユニットである。予備加熱とは、固定子を構成する固定子コア、該固定子に巻き線された電線コイル、及び絶縁物の水分除去やアニール処理を行うための加熱である。
【００２７】
ワニス滴下ユニット３は、固定子にワニスを滴下して塗布するユニットである。ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃは、ワニス滴下ユニット３においてワニスが塗布された固定子を加熱し、ワニスを硬化させる本加熱を行うユニットである。
【００２８】
予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、及びワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃは、例えば電磁誘導加熱によって固定子を加熱する。電磁誘導加熱は、例えば電磁誘導加熱コイルに交流電流を流すことにより、該電磁誘導加熱コイルから放射される交番磁束に起因する被加熱電気導体となる固定子の渦電流によるジュール熱発生の原理を用いて、該固定子の表面を加熱するものである。
【００２９】
冷却ユニット７は、ワニス処理が終了した固定子を所望の温度まで冷却させるユニットであり、例えば３つ程度の固定子を載置することができる。なお、冷却ユニット７における固定子の載置台数は、これに限定されるものではなく、２台以下、あるいは４台以上の固定子を載置する構成としてもよい。
【００３０】
搬入部８は、ワニス処理装置１によりワニス処理される前の固定子が載置されるステージである。搬出部９は、ワニス処理装置１によってワニスの硬化処理が終了し、冷却ユニット７において冷却された後の固定子が載置されるステージである。
【００３１】
搬送機構５は、搬入部８、予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃ、冷却ユニット７、搬入部８および搬出部９の間を移動して固定子を搬送する。
【００３２】
これら搬入部８、予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃ、冷却ユニット７、搬入部８および搬出部９の前方の設置面には、配列方向に延びるレール１０が設けられている。搬送機構５は、そのレール１０上を移動することによって配列方向に移動する構成となっている。
【００３３】
搬送機構５は、図示しない保持部、上下移動部、及び前後移動部をそれぞれ有している。保持部は、固定子の外径を保持して該固定子を移動させる。上下移動部は、保持部を配列方向に垂直な方向である上下方向に移動させる。前後移動部は、保持部を前後方向に移動させる。前後方向とは、配列方向、及び上下方向に対してそれぞれ垂直となる方向である。
【００３４】
これら予備加熱ユニット部２、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化加熱ユニット部４、及び搬送機構５は、制御装置６にそれぞれ接続されている。制御装置６は、予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、及びワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃにおける温度設定、ワニス滴下ユニット３におけるワニスの塗布、及び搬送機構５による固定子搬送の際の駆動などの制御をそれぞれ行う。
【００３５】
制御装置６は、例えば、ＭＰＵ（Micro-Processing Unit）またはＣＰＵ（Central Processing Unit）を有するプログラマブルコントローラであり、図示しない不揮発性記憶装置に記憶されたプログラムと、ＣＰＵなどとの協働によって予備加熱ユニット部２、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化加熱ユニット部４、及び搬送機構５の制御を行う。
【００３６】
〈ワニス処理の温度プロファイル例〉
図２は、固定子におけるワニス処理時の温度プロファイルの一例を示す説明図である。
【００３７】
ワニス処理時の温度プロファイルは、図２に示すように、第１の処理時間である予備加熱期間Ｔ１、第２の処理時間であるワニス塗布期間Ｔ２、及び第３の処理時間であるワニス硬化期間Ｔ３を有する。
【００３８】
予備加熱期間Ｔ１は、予備加熱ユニット２ａ，２ｂのいずれかに固定子が搬入され、予備加熱が開始されてから終了するまでの期間である。ワニス塗布期間Ｔ２は、予備加熱が終了した固定子がワニス滴下ユニット３に搬入され、該固定子へのワニス塗布が終了するまでの期間である。ワニス硬化期間Ｔ３は、ワニスが塗布された固定子がワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃのいずれかに搬送され、本加熱が開始されてから終了するまでの期間である。
【００３９】
予備加熱期間Ｔ１は、固定子を所望の温度まで上昇させた後、所望の温度まで該固定子を冷却する温度プロファイルとなっている。固定子を所望の温度まで上昇させるのは、固定子に含まれる水分を蒸発させると共に、巻き線された電線の絶縁被膜へのダメージを緩和するためである。
【００４０】
電線の絶縁被膜には、固定子コアに電線を組み込む際にダメージを受けるが、アニール処理により該ダメージを緩和することができる。また、予備加熱期間Ｔ１における固定子の冷却は、固定子の温度がワニスの塗布に適した温度となるようにするためである。
【００４１】
ワニス塗布期間Ｔ２は、予備加熱が終了した固定子にワニスを塗布する期間である。ワニス硬化期間Ｔ３は、固定子に本加熱を行う期間である。このワニス硬化期間Ｔ３は、固定子への加熱を開始した後、塗布したワニスに見合った温度、及び時間を維持してワニスを硬化させる。
【００４２】
主に、ワニス処理においては、ワニス塗布期間Ｔ２、予備加熱期間Ｔ１、そしてワニス硬化期間Ｔ３の順番で各処理に係る時間が長くなる場合が多い。よって、図２の温度プロファイルでは、予備加熱期間Ｔ１、ワニス塗布期間Ｔ２、及びワニス硬化期間Ｔ３の時間が、概ね２：１：３の比率となっている場合の例を示している。
【００４３】
そこで、図１のワニス処理装置１では、図２の予備加熱期間Ｔ１、ワニス塗布期間Ｔ２、及びワニス硬化期間Ｔ３における処理時間の比率に着目し、該比率に見合うように、２つの予備加熱ユニット２ａ，２ｂと３つのワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃを有する構成としている。
【００４４】
この場合、処理時間の比率の最も短いワニス滴下ユニット３の処理時間であるワニス塗布期間Ｔ２を基準処理時間とする。そして、基準処理時間よりも処理時間が多い予備加熱期間Ｔ１、およびワニス硬化期間Ｔ３を有する予備加熱ユニットとワニス硬化ユニットとの台数を増加させている。
【００４５】
具体的には、図２において、予備加熱期間Ｔ１の時間比率は２であるので、２つの予備加熱ユニット２ａ，２ｂを有する構成とする。ワニス塗布期間Ｔ２の時間比率は１であるので、１つのワニス滴下ユニット３を備え、ワニス硬化期間Ｔ３の時間比率は３であるので、３つのワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃを有する構成としている。
【００４６】
また、各処理の時間比率と同じだけのユニットを設ける他に、各処理の時間比率の整数倍のユニットをそれぞれ設ける構成としてもよい。処理の時間比率が２：１：３の場合においては、例えば、４つの予備加熱ユニット、２つのワニス滴下ユニット、及び６つのワニス硬化ユニットをそれぞれ設ける構成などである。
【００４７】
この場合においても、予備加熱ユニットは、ワニス硬化ユニットの上方に設置され、ワニス滴下ユニットは、予備加熱ユニット、及びワニス硬化ユニットの一端側に隣り合うように設けられる。また、予備加熱ユニット、ワニス硬化ユニット、及びワニス滴下ユニットは、それぞれ配列方向に配列されている構成とする。
【００４８】
ここで、予備加熱ユニット、ワニス硬化ユニット、及びワニス滴下ユニットがそれぞれ１つしか設けられていないワニス処理装置において固定子のワニス処理を連続して行う場合について考える。
【００４９】
最初の固定子の予備加熱処理が終了すると、該固定子は、ワニス塗布処理に移行する。このとき、２つめの固定子の予備加熱が行われる。図２の温度プロファイルの場合、ワニス塗布期間Ｔ２が最も短いため、２つめの固定子の予備加熱中に最初の固定子は、ワニス硬化処理に移行する。
【００５０】
続いて、２つめの固定子の予備加熱が終了すると、該固定子は、ワニス塗布処理に移行する。このワニス塗布処理が終了すると、２つめの固定子は、ワニス硬化処理が行われることになる。
【００５１】
しかし、図２に示す温度プロファイルにおける時間比率では、２つめの固定子のワニス塗布処理が終了しても、最初の固定子のワニス硬化処理が終了しておらず、２つめの固定子は、最初の固定子のワニス硬化処理が終了するまでワニス硬化処理を実行できず、処理待ち時間が発生してしまうことなる。これにより、ワニス処理のスループットが低下してしまうことになる。
【００５２】
一方、図１のワニス処理装置１では、図２の温度プロファイルの時間比率に見合うように、予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、ワニス滴下ユニット３、及びワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃをそれぞれ設けた構成とすることにより、固定子の処理待ち時間をなくし、連続して固定子のワニス処理を行うことができるようになる。
【００５３】
なお、図２では、予備加熱期間Ｔ１、ワニス塗布期間Ｔ２、及びワニス硬化期間Ｔ３の時間が、概ね２：１：３の比率となっている場合について示した。しかし、これら予備加熱期間Ｔ１、ワニス塗布期間Ｔ２、及びワニス硬化期間Ｔ３の時間は、ワニスの成分、固定子のサイズ、あるいは誘導加熱の熱電源出力などによって変化してしまう。そのため、期間Ｔ１〜Ｔ３の時間変化に応じて、予備加熱ユニット、ワニス滴下ユニット、及びワニス硬化ユニットのそれぞれの数を増減させる。
【００５４】
〈ワニス処理例〉
図３は、図１のワニス処理装置１におけるワニス処理の一例を示すフローチャートである。なお、この図３では、１つの固定子を搬入部８から取り出してワニス処理を行い、搬出部９に載置するまでについて説明する。
【００５５】
上述したように、予備加熱ユニット２ａ，２ｂやワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃにおける温度設定、ワニス滴下ユニット３におけるワニスの塗布、及び搬送機構５による固定子搬送の際の駆動などの制御は、制御装置６によってそれぞれ行われる。
【００５６】
まず、搬送機構５は、搬入部８に載置されているワニス処理前の固定子を取り出して搬送し、例えば、予備加熱ユニット２ａに搬送した固定子を投入する（ステップＳ１０１）。
【００５７】
続いて、固定子が投入されると、予備加熱ユニット２ａは、固定子の予備加熱を行う（ステップＳ１０２）。この予備加熱は、例えば図２の予備加熱期間Ｔ１に示す温度プロファイルとなるように制御装置６によって制御が行われる。
【００５８】
そして、予備加熱が終了すると、搬送機構５は、固定子を予備加熱ユニット２ａから取り出した後、ワニス滴下ユニット３まで搬送し、該ワニス滴下ユニット３に固定子を投入する。
【００５９】
ワニス滴下ユニット３は、固定子が投入されると、固定子へのワニスの塗布を行う（ステップＳ１０３）。このワニス滴下ユニット３によるワニスの塗布は、例えば固定子を回転させながらワニスを滴下含浸させることにより、電線コイルなどにワニスを含浸させる。
【００６０】
ワニス滴下ユニット３におけるワニスの塗布が終了すると、搬送機構５は、固定子をワニス滴下ユニット３から取り出し、ワニスの塗布が終了した固定子を、例えばワニス硬化ユニット４ａに投入する。固定子が投入されると、ワニス硬化ユニット４ａは、固定子の本加熱を行い、ワニスを硬化させる（ステップＳ１０４）。この本加熱は、例えば図２のワニス硬化期間Ｔ３に示す温度プロファイルとなるように制御装置６によって制御が行われる。
【００６１】
また、ワニス硬化ユニット４ａは、固定子を回転させる図示しない回転機構を有しており、該固定子を回転させながら本加熱を行う構成となっている。これにより、ワニス硬化ユニット内に固定子に塗布されたワニスが滴下することを防止することができる。
【００６２】
ワニス硬化ユニット４ａにおいて本加熱が終了すると、搬送機構５は、固定子をワニス硬化ユニット４ａから取り出して冷却ユニット７まで搬送し、この冷却ユニット７において固定子を所望の温度まで冷却させる（ステップＳ１０５）。また、冷却ユニット７での固定子の冷却は、自然冷却であってもよいし、例えばスポットクーラなどによって冷風を固定子にあてることによって冷却する構成としてもよい。この場合、冷却させる温度は、例えば、作業者が固定子を取り扱うことができる温度が好ましいが、これに限るものではない。
【００６３】
固定子の冷却が終了すると、搬送機構５は、固定子を冷却ユニット７から取り出し、搬出部９まで搬送する（ステップＳ１０６）。これにより、ワニス処理装置１におけるワニス処理が終了となる。
【００６４】
〈連続ワニス処理例〉
図４は、図１のワニス処理装置１によって固定子を連続してワニス処理する際の一例を示したタイミングチャートである。図５〜図１３は、図４のタイミングチャートにおける固定子の連続処理例を示した説明図である。
【００６５】
図４〜図１３においては、最初にワニス処理する固定子を固定子Ｗ１として示している。以下、２番目にワニス処理する固定子を固定子Ｗ２、３番目にワニス処理する固定子を固定子Ｗ３、４番目にワニス処理する固定子を固定子Ｗ４として示している。同様に、５番目にワニス処理する固定子を固定子Ｗ５とし、６番目にワニス処理する固定子を固定子Ｗ６として示している。
【００６６】
また、図４に示したタイミングチャートは、固定子Ｗ１〜Ｗ６がワニス処理される際の温度プロファイルを図２に示した温度プロファイルにて処理するものとしている。よって、予備加熱期間Ｔ１、ワニス塗布期間Ｔ２、及びワニス硬化期間Ｔ３の処理時間は、それぞれ２：１：３程度の比率となっている。
【００６７】
また、図５〜図１３では、簡単のため、予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、ワニス滴下ユニット３、及びワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃのみを示している。
【００６８】
まず、図５に示すように、最初にワニス処理される固定子Ｗ１が、例えば予備加熱ユニット２ａに投入され、予備加熱が開始される。そして、予備加熱期間Ｔ１の半分程度が過ぎたところで、図６に示すように、２番目にワニス処理される固定子Ｗ２が予備加熱ユニット２ｂに投入され、予備加熱が開始となる。
【００６９】
固定子Ｗ１の予備加熱期間Ｔ１が終了すると、図７に示すように、該固定子Ｗ１は、予備加熱ユニット２ａから取り出されてワニス滴下ユニット３に投入され、ワニス塗布が行われる。また、空きとなった予備加熱ユニット２ａには、３番目にワニス処理される固定子Ｗ３が投入され、予備加熱が開始される。
【００７０】
図８に示すように、固定子Ｗ１のワニス塗布期間Ｔ２が終了すると、該固定子Ｗ１は、ワニス滴下ユニット３から取り出されてワニス硬化ユニット４ａに投入され、本加熱処理が行われる。
【００７１】
このとき、固定子Ｗ２の予備加熱期間Ｔ１が終了（図４参照）となり、固定子Ｗ２は、予備加熱ユニット２ｂから取り出されてワニス滴下ユニット３に投入される。そして、空きとなった予備加熱ユニット２ｂには、４番目にワニス処理される固定子Ｗ４が投入され、予備加熱が開始される。
【００７２】
続いて、固定子Ｗ２のワニス塗布期間Ｔ２が終了すると、該固定子Ｗ２は、図９に示すように、ワニス滴下ユニット３から取り出されてワニス硬化ユニット４ｂに投入され、本加熱処理が行われる。
【００７３】
また、固定子Ｗ３の予備加熱期間Ｔ１が終了となるので、該固定子Ｗ３は、図９に示すように、空きとなったワニス滴下ユニット３に投入され、ワニス塗布が行われる。空きとなった予備加熱ユニット２ａには、５番目にワニス処理される固定子Ｗ５が投入され、予備加熱が開始される。
【００７４】
固定子Ｗ３のワニス塗布期間Ｔ２が終了すると、該固定子Ｗ３は、図１０に示すように、ワニス滴下ユニット３から取り出されてワニス硬化ユニット４ｃに投入され、本加熱処理が行われる。
【００７５】
また、空きとなったワニス滴下ユニット３には、予備加熱期間Ｔ１が終了した固定子Ｗ４が投入されてワニス塗布が行われる。空きとなった予備加熱ユニット２ｂには、６番目にワニス処理される固定子Ｗ６が投入され、予備加熱が開始される。
【００７６】
そして、固定子Ｗ１のワニス硬化期間Ｔ３が終了すると、該固定子Ｗ１は、搬送機構５によってワニス硬化ユニット４ａから取り出される。取り出された固定子Ｗ１は、搬送機構５によって冷却ユニット７に搬送されて冷却した後、搬出部９まで搬送される。
【００７７】
このとき、固定子Ｗ４のワニス塗布期間Ｔ２が終了するので、該固定子Ｗ４は、図１１に示すように、ワニス滴下ユニット３から取り出されてワニス硬化ユニット４ａに投入され、本加熱処理が行われる。
【００７８】
また、固定子Ｗ５の予備加熱期間Ｔ１が終了すると、図１１に示すように、該固定子Ｗ５は、予備加熱ユニット２ａから取り出されて、空きとなったワニス滴下ユニット３に投入され、ワニス塗布が行われる。
【００７９】
その後、固定子Ｗ２のワニス硬化期間Ｔ３が終了すると、該固定子Ｗ２は、搬送機構５によってワニス硬化ユニット４ｂから取り出される。取り出された固定子Ｗ２は、搬送機構５によって冷却ユニット７に搬送されて冷却した後、搬出部９まで搬送される。
【００８０】
このとき、固定子Ｗ５のワニス塗布期間Ｔ２が終了となり、該固定子Ｗ５は、図１２に示すように、ワニス滴下ユニット３から取り出されて空きとなったワニス硬化ユニット４ｂに投入され、本加熱処理が行われる。
【００８１】
続いて、固定子Ｗ３のワニス硬化期間Ｔ３が終了すると、該固定子Ｗ３は、搬送機構５によってワニス硬化ユニット４ｃから取り出される。取り出された固定子Ｗ３は、搬送機構５によって冷却ユニット７に搬送されて冷却した後、搬出部９まで搬送される。
【００８２】
このとき、固定子Ｗ６のワニス塗布期間Ｔ２が終了となるので、該固定子Ｗ６は、図１３に示すように、ワニス滴下ユニット３から取り出されて空きとなったワニス硬化ユニット４ｃに投入され、本加熱処理が行われる。
【００８３】
この時点で、ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃには、固定子Ｗ４，Ｗ５，Ｗ６がそれぞれ投入されていることになる。その後、順次固定子Ｗ４，Ｗ５，Ｗ６におけるワニス硬化期間Ｔ３が終了となり、冷却ユニット７による冷却後に、搬出部９まで搬送される。
【００８４】
このように、図１のワニス処理装置１では、固定子のワニス処理を連続して行うことができるので、処理待ち時間をなくすことができ、固定子のワニス処理におけるスループットを大幅に向上させることができる。
【００８５】
また、ワニス硬化加熱ユニット部４の上方に予備加熱ユニット部２を設け、該予備加熱ユニット部２の一端側に、ワニス滴下ユニット３を設けた構成とすることにより、固定子を連続して処理する際に、搬送機構５が配列方向に移動する距離を短くすることができる。
【００８６】
例えば、予備加熱ユニット部２、ワニス滴下ユニット３、及びワニス硬化加熱ユニット部４を配列方向にそれぞれ配列した場合、搬送機構５が配列方向に移動する距離が大幅に長くなってしまうことになる。移動距離が長くなれば、より多くの移動時間が必要となり、ワニス処理に要する全体の処理時間が増加してしまい、処理効率を低下させてしまうことになる。
【００８７】
また、予備加熱ユニット部２を上側に、ワニス硬化加熱ユニット部４を該予備加熱ユニット部２の下側に配置する構成とすることによって、本加熱中に固定子からワニスが滴下することがあっても、予備加熱処理中の固定子を滴下したワニスが付着することを防止することができる。それにより、高品質なワニス処理を行うことができる。
【００８８】
ここでは、予備加熱ユニット、ワニス滴下ユニット、及びワニス硬化ユニットにおける各処理の時間比率が、２：１：３である場合について説明した。しかし、各処理の時間比率は、必ずしも整数比にならないため、該時間比率に見合うように、予備加熱ユニット、ワニス硬化ユニット、及びワニス滴下ユニットをそれぞれ有するようにしなければならない。
【００８９】
時間比率が整数比とならない場合には、例えば、整数となるように四捨五入するなどが考えられる。予備加熱ユニット、ワニス滴下ユニット、及びワニス硬化ユニットにおける各処理の時間比率が、例えば、１．５：１：２．５の場合には、整数でない数字を四捨五入することによって、２：１：３となる。よって、２台の予備加熱ユニット、１台のワニス滴下ユニット、及び３台のワニス硬化ユニットをそれぞれ有する構成とする。これによって、処理待ち時間が発生することなく、滞りなく固定子のワニス処理を行うことができる。
【００９０】
なお、整数でない比の扱いは、四捨五入に限らず、切り上げや任意の閾値を適用できるのいうまでもない。なお、切り上げの場合は、必ず各処理間の待ち時間を短縮できるという効果がある。
【００９１】
以上、発明を適用した一実施形態であるワニス処理装置を具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【００９２】
なお、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施の形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。
【００９３】
また、ある実施の形態の構成の一部を他の実施の形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施の形態の構成に他の実施の形態の構成を加えることも可能である。また、各実施の形態の構成の一部について、他の構成の追加、削除、置換をすることが可能である。
【符号の説明】
【００９４】
１  ワニス処理装置
２  予備加熱ユニット部
２ａ  予備加熱ユニット
２ｂ  予備加熱ユニット
３  ワニス滴下ユニット
４  ワニス硬化加熱ユニット部
４ａ  ワニス硬化ユニット
４ｂ  ワニス硬化ユニット
４ｃ  ワニス硬化ユニット
５  搬送機構
６  制御装置
７  冷却ユニット
８  搬入部
９  搬出部
１０  レール
Ｗ１〜Ｗ６  固定子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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