(57)【要約】【課題】大量生産に適し且つ高い耐紫外線機能を有する透明導電フィルムおよびタッチパネルを提供する。【解決手段】基材４に、導電性高分子を含む透明導電層５と、紫外線吸収剤を含む紫外線遮断層６とが積層されている透明導電性積層体１１とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に、導電性高分子を含む透明導電層と、紫外線吸収剤を含む紫外線遮断層とが積層されていることを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項２】
前記紫外線遮断層と前記透明導電層とが接触した状態で積層されていることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性積層体。
【請求項３】
前記紫外線遮断層は粘着剤に紫外線吸収剤が含まれていることを特徴とする請求項２に記載の透明導電性積層体。
【請求項４】
前記紫外線遮断層は酸含有の粘着剤にハロゲン基含有の紫外線吸収剤が含まれていることを特徴とする請求項３に記載の透明導電性積層体。
【請求項５】
前記紫外線遮断層は酸含有の粘着剤または酸フリーの粘着剤にハロゲン基フリーの紫外線吸収剤が含まれていることを特徴とする請求項３に記載の透明導電性積層体。
【請求項６】
前記紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項４または５に記載の透明導電性積層体。
【請求項７】
前記導電性高分子がポリチオフェン誘導体であることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の透明導電性積層体。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の透明導電性積層体を備えることを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性積層体およびそれを備えたタッチパネルに関し、特に、導電性高分子を含む透明導電性層を備えた透明導電性積層体およびタッチパネルについて、耐紫外線機能を向上させる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示画面に直接触れることにより情報を入力できるタッチパネルは、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行のＡＴＭ端末等の電子機器に広く利用されている。
図１９は、従来の一般的な静電容量型のタッチパネルを示す断面模式図である。図１９に示すように、例えば静電容量型のタッチパネル１００は、第１の基材１０１に、第１の透明導電層１０２、第１の粘着層１０３、第２の基材１０４、第２の透明導電層１０５、第２の粘着層１０６および保護層１０７等がその順で積層された積層構造を有する。
【０００３】
そして、第１の透明導電層１０２および第２の透明導電層１０５の材料には、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の金属酸化物が用いられている。特に、ＩＴＯは、良好な導電性を有するだけでなく、耐紫外線機能も高いため、屋外で使用されるタッチパネルの製造に適した材料である。ＩＴＯからなる透明導電層は、スパッタリングや真空蒸着等の真空成膜法を用いて形成されている。
【０００４】
しかしながら、真空成膜法を用いて透明導電層を形成する工程は、真空チャンバを真空引きするのに長時間を要し、また基材等の大きさが真空チャンバの容量によって制限されたりもするため、生産性に優れた工程ではない。そのため、透明導電層がＩＴＯで形成されたタッチパネルは、大量生産に適しているとは言えない。
そこで、特許文献１〜３では、導電性高分子からなる透明導電層を備えたタッチパネルが提案されている。導電性高分子からなる透明導電層は、塗布等の液相成膜法で形成することができるため、形成工程において真空チャンバを必要としない。したがって、真空引きするための時間を要さず、また真空チャンバによって基材の大きさが制限されることもないため、生産性に優れている。すなわち、透明導電層が導電性高分子で形成されたタッチパネルは、大量生産に適していると言える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２９１０３２号公報
【特許文献２】特開２００７−０９５５０６号公報
【特許文献３】特開２０１１−１３４６９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、実際に、導電性高分子からなる透明導電層を備えたタッチパネルを製造してみたところ、大量生産には適していた反面、耐紫外線機能が弱いという欠点が見出された。例えば、屋外で使用されるタッチパネルの場合は、耐紫外線機能が要求されるが、導電性高分子からなる透明導電層を備えた従来のタッチパネルには、その要求を満たすだけの耐紫外線機能がなかった。
【０００７】
本発明は、上記の課題に鑑み、大量生産に適し且つ高い耐紫外線機能を有する透明導電フィルムおよびタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る透明導電性積層体は、基材に、導電性高分子を含む透明導電層と、紫外線吸収剤を含む紫外線遮断層とが積層されていることを特徴とする。
本発明に係るタッチパネルは、上記透明導電性積層体を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る透明導電性積層体は、導電性高分子を含む透明導電層を備えており、その透明導電層は、塗布等の液相成膜法で形成可能であるため、生産性に優れ、大量生産に適している。
さらに、本発明に係る透明導電性積層体は、紫外線吸収剤を含む紫外線遮断層を備えているため、透明導電性積層体に入射する紫外線を、透明導電層に到達する前に、紫外線遮断層によって遮断することが可能である。すなわち、紫外線が入射する側に紫外線遮断層が位置し、その反対側に透明導電層が位置するような向きで透明導電性積層体を配置すれば、透明導電層に到達する前に紫外線遮断層で紫外線を遮断することができる。したがって、本発明に係る透明導電性積層体は、高い耐紫外線機能を有する。
【００１０】
本発明に係るタッチパネルは、上記のような透明導電性積層体を備えるため、大量生産に適し且つ高い耐紫外線機能を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一態様に係るタッチパネルを示す断面模式図である。
【図２】紫外線吸収剤の一例を示す構造式であって、（ａ）はハロゲン基含有の紫外線吸収剤、（ｂ）はハロゲン基フリーの紫外線吸収剤である。
【図３】実施例に係る透明導電性積層体を示す平面模式図である。
【図４】実施例１に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。
【図５】実施例２に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。
【図６】実施例３に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。
【図７】実施例４に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。
【図８】実施例５に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。
【図９】実施例６に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。
【図１０】比較例に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。
【図１１】透明導電性積層体の耐紫外線機能の評価結果を示すグラフである。
【図１２】透明導電性積層体の耐紫外線機能の評価結果を示すグラフである。
【図１３】紫外線遮断層の紫外線吸収スペクトルを示すグラフである。
【図１４】実験結果をまとめた表である。
【図１５】変形例１に係るタッチパネルを示す断面模式図である。
【図１６】変形例２に係るタッチパネルを示す断面模式図である。
【図１７】変形例３に係るタッチパネルを示す断面模式図である。
【図１８】変形例４に係るタッチパネルを示す断面模式図である。
【図１９】従来のタッチパネルを示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の一態様に係る透明導電性積層体およびタッチパネルを、図面を参照しながら説明する。なお、各図面における各層の縮尺は実際のものとは異なる。
＜透明導電性積層体およびタッチパネルの構成＞
（全体構成）
図１は、本発明の一態様に係るタッチパネルを示す断面模式図である。図１に示すように、本発明の一態様に係るタッチパネル１０は、静電容量型のタッチパネルであって、第１の基材１に、第１の透明導電層２、粘着層３、第２の基材４、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７が、その順で積層された積層構造を有する。本発明の一態様に係る透明導電性積層体１１は、第２の基材４、第２の透明導電層５および紫外線遮断層６で構成されている。
【００１３】
タッチパネル１０は、例えば、液晶表示装置、電界放出表示装置、プラズマ表示装置、電子発光ディスプレイ、真空蛍光表示装置等の表示装置（不図示）の表示面に、第１の基材１が表示装置側となるよう配置され使用される。
（第１の基材および第２の基材）
第１の基材１および第２の基材４は、それぞれが、タッチパネルの用途に応じて、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＥ（ポリエチレン）、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）、ＣＯＣ（シクロオレフィンコポリマー）、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、アクリル、シロキサン架橋型アクリルシリコーン樹脂、ナイロン、ウレタン等からなる可撓性フィルムや、ガラス、石英等からなる硬質フィルムを用いて形成される。これらの基材は透明基材であることが好ましい。
【００１４】
（第１の透明導電層および第２の透明導電層）
第１の透明導電層２および第２の透明導電層５は、それら透明導電層間の静電容量の変化により座標を検出するための層であって、それぞれが、導電性高分子を含む層として形成されている。ここで、導電性高分子を含む層とは、導電性高分子のみからなる層や、導電性高分子以外の１または複数種類の材料と導電性高分子との両方含む層であることを意味する。但し、透明導電層には、少なくとも真空成膜法を用いなくても形成できる程度に、導電性高分子が含まれていなければならない。導電性高分子のみからなる層、または、主として導電性高分子からなる層は、塗布等の液相成膜法を用いて形成することができるため、高い生産性が期待できる。
【００１５】
導電性高分子としては、ＰＥＤＯＴ（ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン）等のポリチオフェン誘導体や、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリピリジルビニレン、ポリアジン等が挙げられる。特に、ポリチオフェン誘導体は、塗布性に優れているため好ましい。
【００１６】
なお、第１の透明導電層２と第２の透明導電層５は、必ずしも同じ材料で形成されている必要はなく、異なる材料で形成されていても良い。但し、少なくとも一方は、本発明に係る透明導電層として、導電性高分子を含む層でなければならない。残りの他方は、導電性高分子を含む層であっても良いし、導電性高分子を含まない層であっても良い。
導電性高分子を含まない層としては、例えば、ＩＴＯなどの金属酸化物からなる層が挙げられる。他方が導電性高分子を含まない透明導電層であっても、一方が導電性高分子を含む透明導電層であれば、少なくともその一方の透明導電層の形成工程に関しては、高い生産性が期待できる。
【００１７】
（粘着層）
粘着層３は、第１の透明導電層２上に透明導電性積層体１１を貼り合せるための層であって、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系、ポリエステル系等の樹脂材料等の粘着剤で形成されている。なお、本願における粘着剤の概念には接着剤も含まれる。
（紫外線遮断層）
紫外線遮断層６は、第１の透明導電層２および第２の透明導電層５に入射しようとする紫外線を遮断するための層であって、例えば、紫外線吸収剤が添加された粘着剤（粘着剤の概念には接着剤も含まれる）からなる。言い換えれば、紫外線遮断層６には、紫外線吸収剤と粘着剤とが含まれる。
【００１８】
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、トリアジン系、ヒドロキシフェニルトリアジン系、ベンゾイミダゾール系、サリシレート系、ヒンダードアミン系、シアノアクリレート系、サリチル酸系等の紫外線吸収剤が挙げられる。特に、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は、紫外線吸収効果を持つ吸収範囲が紫外線の全波長領域にわたり吸収能力が優れるため好ましい。ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤としては、図２（ａ）のようなハロゲン基を含有する紫外線吸収剤（Ｅｖｅｒｌｉｇｈｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製：ＥＶＥＲＳＯＲＢ  １０９）や図２（ｂ）のようなハロゲン基フリーの紫外線吸収剤（東洋インキ製造株式会社製：オリバイン  ＢＸＸ５９３０）等があげられる。
【００１９】
また、紫外線吸収剤としては、長波長領域で高い紫外線吸収性を有する方が好ましい。さらに、紫外線吸収剤は、取り扱い易さを考慮して、液状の材料または粘着剤に溶解し易い材料であることが好ましい。
次に、粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系、ポリエステル系等の樹脂材料等が挙げられる。紫外線吸収剤がハロゲン基含有の紫外線吸収剤である場合は、粘着剤は、酸含有の粘着剤であることが好ましい。酸含有の粘着剤であれば、紫外線吸収剤に含有されるハロゲン基によって透明導電層の抵抗値が上昇することを抑制可能である。ここで、酸含有の粘着剤とは、化学構造に酸性官能基を有する化合物を含んだ粘着剤を意味する。
【００２０】
但し、紫外線吸収剤がハロゲン基フリーの紫外線吸収剤である場合は、粘着剤が酸フリーの粘着剤（酸を含有しない粘着剤）であっても、紫外線吸収剤によって透明導電層の抵抗値が上昇することがない。したがって、酸フリーの粘着剤は、ハロゲン基フリーの紫外線吸収剤との組み合わせにおいて好ましいと言える。
（保護層）
保護層７は、紫外線遮断層６を覆うことによって、透明導電性積層体の各層を保護するための層であって、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＥＳ、ＰＣ、ＰＥ、ＰＰ、ＣＯＰ、ＣＯＣ、ＰＭＭＡ、シロキサン架橋型アクリルシリコーン樹脂、アクリル、ナイロン、ウレタン等からなる可撓性フィルムや、ガラス、石英等からなる硬質フィルムにより形成される。
【００２１】
＜実験＞
以下では、実験結果に基づきながら、本発明に係る透明導電性積層体の耐紫外線機能および生産性について説明する。
［評価用の透明導電性積層体の構成］
実験では、実施例１〜実施例６として、異なる積層構造を有する６種類の透明導電性積層体と、比較例として、紫外線遮断層を備えていない透明導電性積層体を作製した。
【００２２】
（１）実施例１
図３は、実施例１に係る透明導電性積層体を示す平面模式図である。図４は、実施例１に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。図３に示すように、実施例１に係る透明導電性積層体は、平面視において長方形であり、その長手方向両端縁には、短手方向全体に亘ってそれぞれ配線層が形成されている。また、図４に示すように、実施例１に係る透明導電性積層体は、基材に、透明導電層、紫外線遮断層、樹脂層、粘着層および保護層をその順で積層させた積層構造を有する。配線層は、透明導電層上に形成されている。
【００２３】
基材はＰＥＴで形成されており、透明導電層はＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ(ポリ-３，４-エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸)で形成されており、紫外線遮断層はハロゲン基含有の紫外線吸収剤（例えばクロロ基を含むベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等）が添加された酸含有の粘着剤で形成されており、樹脂層はＰＥＴフィルムで形成されており、粘着層は酸含有のアクリル系粘着剤で形成されており、保護層はＰＥＴで形成されており、配線層は銀で形成されている。また、ハロゲン基含有の紫外線吸収剤は図２（ａ）に示す化合物であって、酸含有の粘着剤はアクリル系粘着剤でありアクリル酸を含んでいる。
【００２４】
実施例１に係る透明導電性積層体の作製方法としては、まず、ＰＥＴフィルム（東レ株式会社製：ルミラーＵ４８）上に、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（中京油脂株式会社製  Ｒ−８０１）水溶液を塗布し、塗布層を１４０℃、９０秒で乾燥させることで、基材および透明導電層からなる積層体を得た。塗布により形成した透明導電層のシート抵抗は１７８Ω／□（三菱化学アナリテック株式会社製：ポータブル低抵抗計ロレスタ-ＥＰ  ＰＳＰプローブで測定）、全光線透過率は８６％（日本電色工業株式会社製：ヘイズメーターＮＤＨ５０００で測定）であった。
【００２５】
実施例１に係る紫外線遮断層の作製方法としては、まず、酸含有のアクリル系粘着剤（サイデン化学株式会社製  サイビノール  ＡＴ-３５２）１００部に、酢酸エチルを２２．２部、ハロゲン基を有する紫外線吸収剤（Ｅｖｅｒｌｉｇｈｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製  ＥＶＥＲＳＯＲＢ  １０９）を０．３６部(粘着剤の固形分に対し２％)、硬化剤（サイデン化学株式会社製  ＡＬ）０．２６部、硬化剤（サイデン化学株式会社製  Ａ−３７５）０．２部、添加剤（サイデン化学株式会社製  Ｓ−１）１．０部を添加して、ラミネートフィルム上にその混合液を塗布し、塗布層を９０℃、１８０秒で乾燥させた後、ラミネートフィルムで覆った。さらに、室温で５日間エージングすることで、紫外線遮断層を得た。
【００２６】
次に、上記の積層体を４０ｍｍ×６５ｍｍの長方形にカットし、カット後の積層体の長手方向両端にそれぞれ幅５ｍｍの配線層形成領域を空けながら、それら配線層形成領域の間の４０ｍｍ×５５ｍｍの範囲に、上記の紫外線遮断層を貼り付け、透明導電層上に紫外線遮断層を形成した。
次に、紫外線遮断層を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製：コスモシャインＡ４３００、厚さ１００μｍ）で覆うことにより、紫外線遮断層上に樹脂層を形成した。さらに、紫外線吸収剤が添加されていない酸含有のアクリル系粘着剤を貼り合わせて、透明導電層上に粘着層を形成した。さらに、粘着層を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製：コスモシャインＡ４３００、厚さ１００μｍ）で覆うことにより、粘着層上に保護層を形成した。最後に、配線層形成領域にそれぞれ銀ペーストを塗布して、一対の配線層を形成した。
【００２７】
（２）実施例２
図５は、実施例２に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。図５に示すように、実施例２に係る透明導電性積層体は、粘着層と紫外線遮断層の位置が入れ替わっている点を除いて、実施例１に係る透明導電性積層体と略同様の構成を有する。実施例２の平面構造は、図３に示すとおりであり、実施例１の平面構造と同様である。実施例２に係る透明導電性積層体は、基材に、透明導電層、粘着層、樹脂層、紫外線遮断層および保護層をその順で積層させて作成する。なお、各層の作成方法は、実施例１の各層の作成方法と略同様である。
【００２８】
（３）実施例３
図６は、実施例３に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。図６に示すように、実施例３に係る透明導電性積層体は、紫外線遮断層および粘着層の材料が実施例１に係る透明導電性積層体と大きく異なる点を除いて、実施例１に係る透明導電性積層体と略同様の構成を有する。実施例３の平面構造は、図３に示すとおりであり、実施例１の平面構造と同様である。
【００２９】
実施例３に係る紫外線遮断層は、実施例１と同じハロゲン基を有する紫外線吸収剤が添加された酸フリーのアクリル系粘着剤で形成されている。ハロゲン基を有する紫外線吸収剤は図２（ａ）に示す化合物であって、酸フリーの粘着剤はアクリル系粘着剤（東洋インキ株式会社製  オリバインＢＰＳ５２９６）であり、アクリル酸フリーにすることで金属への耐腐食性を持つことを特徴とする粘着剤である。
【００３０】
実施例３に係る紫外線遮断層の作製方法としては、まず、酸フリーのアクリル系粘着剤（東洋インキ株式会社製  オリバインＢＰＳ５２９６）１００部に、ハロゲン基を有する紫外線吸収剤（Ｅｖｅｒｌｉｇｈｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製  ＥＶＥＲＳＯＲＢ  １０９）を０．７４部(粘着剤の固形分に対し２％)、硬化剤（東洋インキ株式会社製  ＢＸＸ４７７３）０．３部を添加して、ラミネートフィルム上にその混合液を塗布し、塗布層を９０℃、１８０秒で乾燥させた後、ラミネートフィルムで覆った。さらに、室温で５日間エージングすることで、紫外線遮断層を得た。
【００３１】
実施例３に係る粘着層は、紫外線吸収剤を配合しない酸フリーのアクリル系粘着剤で形成されている。なお、実施例３の作成方法は、実施例１の作成方法と略同様である。
（４）実施例４
図７は、実施例４に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。図７に示すように、実施例４に係る透明導電性積層体は、粘着層と紫外線遮断層の位置が入れ替わっている点を除いて、実施例３に係る透明導電性積層体と略同様の構成を有する。実施例４の平面構造は、図３に示すとおりであり、実施例１の平面構造と同様である。実施例４に係る透明導電性積層体は、基材に、透明導電層、粘着層、樹脂層、紫外線遮断層および保護層をその順で積層させて作成する。なお、各層の作成方法は、実施例１の各層の作成方法と略同様である。
【００３２】
（５）実施例５
図８は、実施例５に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。図８に示すように、実施例５に係る透明導電性積層体は、紫外線遮断層および粘着層の材料が実施例１に係る透明導電性積層体と大きく異なる点を除いて、実施例１に係る透明導電性積層体と略同様の構成を有する。実施例５の平面構造は、図３に示すとおりであり、実施例１の平面構造と同様である。
【００３３】
実施例５では、紫外線遮断層が、図２（ｂ）に示すハロゲン基フリーの紫外線吸収剤（東洋インキ株式会社製  オリバイン  ＢＸＸ５９３０）が添加された酸フリーのアクリル系粘着剤で形成されている。ハロゲン基フリーの紫外線吸収剤はベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であり、実施例１の紫外線吸収剤との大きな差はクロロ基をもたないことである。酸フリーの粘着剤は、実施例３と同じアクリル系粘着剤である。
【００３４】
実施例５に係る紫外線遮断層の作製方法としては、まず、酸フリーのアクリル系粘着剤（東洋インキ株式会社製  オリバインＢＰＳ５２９６）１００部に、ハロゲン基フリーの紫外線吸収剤（東洋インキ株式会社製  オリバインＢＸＸ５９３０）を３部(粘着剤の固形分に対し８％)、硬化剤（東洋インキ株式会社製  ＢＸＸ４７７３）０．３部を添加して、ラミネートフィルム上にその混合液を塗布し、塗布層を９０℃、１８０秒で乾燥させた後、ラミネートフィルムで覆った。さらに、室温で５日間エージングすることで、紫外線遮断層を得た。
【００３５】
実施例５に係る粘着層は、紫外線吸収剤を配合しない酸フリーのアクリル系粘着剤で形成されている。なお、実施例５の作成方法は、実施例１の作成方法と略同様である。
（６）実施例６
図９は、実施例６に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。図９に示すように、実施例６に係る透明導電性積層体は、粘着層と紫外線遮断層の位置が入れ替わっている点を除いて、実施例５に係る透明導電性積層体と略同様の構成を有する。実施例６の平面構造は、図３に示すとおりであり、実施例１の平面構造と同様である。実施例６に係る透明導電性積層体は、基材に、透明導電層、粘着層、樹脂層、紫外線遮断層および保護層をその順で積層させて作成する。なお、各層の作成方法は、実施例１の各層の作成方法と略同様である。
【００３６】
（７）比較例
図１０は、比較例に係る透明導電性積層体を示す断面模式図である。図１０に示すように、比較例に係る透明導電性積層体は、基材に透明導電層を積層させた積層構造を有し、透明導電層上には長手方向両端の配線層のみ存在し、紫外線遮断層および保護層は形成されていない。基材はＰＥＴで形成されており、透明導電層はＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ(ポリ-３，４-エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸）で形成されている。比較例に係る透明導電性積層体の平面視における形状も４０ｍｍ×６５ｍｍの長方形である。
【００３７】
［透明導電性積層体の耐紫外線機能の評価方法］
各透明導電性積層体を、カーボンフェード試験機（スガ試験機株式会社製：紫外線オートフェードメ−ターＵ４８ＡＵ）に４８０時間入れた後、各透明導電性積層体の長手方向両端の配線層間の端子間抵抗値を測定した。カーボンフェード試験機のブラックパネルの温度は６３℃、槽内湿度は５０％ＲＨに設定した。そして、抵抗値の変化の程度によって、耐紫外線機能を評価した。
【００３８】
［紫外線遮断層の紫外線吸収機能の評価方法］
実施例１〜実施例６について、紫外線遮断層の紫外線吸収スペクトルを分光光度計（日本分光株式会社製：紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−６７０）で測定し、紫外線遮断層そのものの紫外線吸収機能を評価した。
評価は、２枚のＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製：コスモシャインＡ４１００、厚さ１００μｍ）の間に、厚さ５０μｍの紫外線遮断層を形成したサンプルを用いた。各サンプルの紫外線遮断層としては、ハロゲン基含有の紫外線吸収剤が添加された酸含有の粘着剤からなる実施例１の紫外線遮断層と、ハロゲン基含有の紫外線吸収剤が添加された酸フリーの粘着剤からなる実施例３の紫外線遮断層と、ハロゲン基フリーの紫外線吸収剤が添加された酸フリーの粘着剤からなる実施例５の紫外線遮断層とを選択した。実施例２の紫外線遮断層は、実施例１の紫外線遮断層と同様であるため省略した。実施例４の紫外線遮断層は、実施例３の紫外線遮断層と同様であるため省略した。実施例５の紫外線遮断層は、実施例６の紫外線遮断層と同様であるため省略した。また、参考として、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製：コスモシャインＡ４１００、厚さ１００μｍ）１枚の紫外線吸収スペクトルも測定した。
【００３９】
［実験結果およびその考察］
図１１は、透明導電性積層体の耐紫外線機能の評価結果を示すグラフである。図１１に示すように、紫外線遮断層を備えた実施例１〜６は、紫外線遮断層を備えていない比較例と比べて、透明導電層の抵抗値の上昇の程度が顕著に小さいことから、いずれも高い耐紫外線機能を有することが確認できた。
【００４０】
図１２は、図１１と同じく透明導電性積層体の耐紫外線機能の評価結果を示すグラフであるが、実施例１〜実施例６の抵抗値の上昇の程度を比較し易いように、Ｙ軸の一目盛り当たりの数値が図１１のものよりも小さくなっている。図１２に示すように、実施例１と実施例２、実施例３と実施例４、実施例５と実施例６をそれぞれ比較すると、何れも透明導電層と紫外線遮断層が直接貼合されている構成(実施例１，３，５)で抵抗値が上昇する程度が大きい傾向が確認された。これは、紫外線遮断層中に添加されている紫外線吸収剤が透明導電層に何らかの影響を与えていることを示唆している。
【００４１】
次に、図１３は、紫外線遮断層の紫外線吸収スペクトルを示すグラフである。実施例１，２に用いられているハロゲン基含有の紫外線吸収剤が添加された紫外線遮断層は、実施例３〜６の紫外線遮断層よりも、長波長領域まで紫外線を遮断が可能となっており、図１２では実施例１，２の端子間抵抗の変化比が小さい傾向にある。また実施例３，４の紫外線遮断層は、紫外線劣化の影響が大きい３６０から３８０ｎｍの波長を一部透過しているため、実施例３，４の端子間抵抗の変化比が特に大きいと考えられる。但し、実施例３〜６においても、紫外線吸収剤の配合量を最適調整することで、さらに長波長領域まで紫外線を遮断できる可能性がある。
【００４２】
図１４は、耐紫外線機能の評価結果をまとめた表である。カーボンフェード試験投入前の端子間抵抗（初期抵抗値Ｒ０）と４８０時間経過後の端子間抵抗（Ｒ４８０）を測定し、端子間抵抗の変化比を求め、紫外線遮断層が透明導電層に直接接触している場合の変化比(実施例１、３、５)と，直接接触していない場合の変化比(実施例２、４、６)の差(実施例２−１、実施例４−３、実施例６−５)を算出して比較した。変化比の差が１．０未満を「○」、１．０以上２．０未満を「△」、２．０以上を「×」とした。
【００４３】
実施例１〜４の結果から、実施例３と４の端子間抵抗の変化比が大きく、紫外線遮断層から透明導電層への影響が大きいと考えられる。実施例１，２と実施例３，４は、いずれも紫外線吸収剤がハロゲン基を含有しており、粘着剤が酸含有か否かが異なる。この結果から、紫外線吸収剤がハロゲン基を含有する場合、粘着剤が酸含有であることが好ましいことが分かる。また、実施例５、６の結果から、紫外線吸収剤がハロゲン基を含有しない場合、酸を含有しない（酸フリー）の粘着剤を用いても、紫外線遮断層から透明導電層への影響は少ないことが分かる。
【００４４】
上記のメカニズムとしては、透明導電層に用いたＰＥＤＯＴのような導電性高分子はアルカリに弱いため、紫外線遮断層がアルカリ性を有していれば透明導電層のＰＥＤＯＴが劣化する恐れがある。紫外線吸収剤にハロゲン基が含有されている場合は、水の存在下でアルカリ性を示す可能性があり、粘着剤が酸含有であればハロゲン基含有の紫外線吸収剤に起因するアルカリ化が抑制されると考えられる。一方、粘着剤が酸フリーであればハロゲン基含有の紫外線吸収剤に起因するアルカリ化を抑制できないため、ＰＥＤＯＴが劣化してしまうと考えられる。そのため、粘着剤に酸フリーのものを用いる場合は、ハロゲン基を含有しない紫外線吸収剤を用いる必要があると考えられる。
【００４５】
＜変形例＞
以上、本発明の一態様に係る透明導電性積層体およびタッチパネルを具体的に説明してきたが、それらは、本発明に係る透明導電性積層体およびタッチパネルの構成および作用効果を分かり易く説明するための一例であって、本発明に係る透明導電性積層体およびタッチパネルが、それらの内容に限定されるわけではない。例えば、上記の材料、数値等は好ましいものを例示しているだけであり、それに限定されることはない。
【００４６】
（透明導電性積層体について）
図１に示すタッチパネル１０の透明導電性積層体１１は、基材（第２の基材４）、透明導電層（第２の透明導電層５）および紫外線遮断層６がその順に積層されていたが、本発明に係る透明導電性積層体は、基材、透明導電層および紫外線遮断層が、必ずしもその順に積層されている必要はない。
【００４７】
例えば、図１５に示すように、変形例１に係るタッチパネル２０は、第１の透明導電層２、第１の基材１、粘着層３、第２の透明導電層５、第２の基材４、紫外線遮断層６および保護層７が、その順で積層された積層構造を有する。そして、透明導電性積層体２１は、透明導電層（第２の透明導電層５）、基材（第２の基材４）、紫外線遮断層６の順で積層されている。このように、第２の透明導電層５が、第２の基材４を挟んで紫外線遮断層６とは反対側に配置されていても良い。
【００４８】
基材、透明導電層および紫外線遮断層が、どのような順で積層されていようとも、紫外線が入射する側に紫外線遮断層が配置され、その反対側に透明導電層が配置されれば、透明導電層に入射しようとする紫外線を紫外線遮断層によって遮断することができる。
なお、変形例１に係るタッチパネル２０の第１の基材１、第１の透明導電層２、粘着層３、第２の基材４、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７は、図１に示すタッチパネル１０の第１の基材１、第１の透明導電層２、粘着層３、第２の基材４、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７と、それぞれ略同様の構成であるため説明は省略する。
【００４９】
次に、本発明に係る透明導電性積層体は、少なくとも、基材、透明導電層および紫外線遮断層の３層を備えていれば良い。図１に示すタッチパネル１０の透明導電性積層体１１は、基材（第２の基材４）、透明導電層（第２の透明導電層５）および紫外線遮断層６の３層だけで構成されていたが、本発明に係る透明導電性積層体には、基材、透明導電層および紫外線遮断層の３層以外の別の層が含まれていても良い。別の層は、１層であっても良いし、複数層であっても良い。
【００５０】
具体例として、図１６に示す、変形例２に係るタッチパネル３０は、第１の基材１、第１の透明導電層２、誘電体層８、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７が、その順で積層された積層構造を有し、透明導電性積層体３１は、第１の基材１、第１の透明導電層２、誘電体層８、第２の透明導電層５および紫外線遮断層６の５層で構成されている。
【００５１】
変形例２に係るタッチパネル２０の第１の基材１、第１の透明導電層２、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７は、図１に示すタッチパネル１０の第１の基材１、第１の透明導電層２、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７と、それぞれ略同様の構成であるため説明は省略する。誘電体層８は、第１の透明導電層２と第２の透明導電層５の間の静電容量の変化を大きくし、位置検出精度を向上させるための層であって、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系等の樹脂材料や、ＳｉＯ2、ＳｉＯＮ、ＳｉＮ、Ａｌ2Ｏ3等の無機材料で形成されている。
【００５２】
基材、透明導電層および紫外線遮断層の３層以外の別の層が含まれている別の具体例として、図１７に示す、変形例３に係るタッチパネル４０は、第１の透明導電層２、第１の基材１、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７が、その順で積層された積層構造を有し、透明導電性積層体４１は、第１の透明導電層２、第１の基材１、第２の透明導電層５および紫外線遮断層６の４層で構成されている。この構成では、基材（第１の基材１）の両面に透明導電層（第１の透明導電層２および第２の透明導電層５）が配置されている。
【００５３】
なお、変形例３に係るタッチパネル４０の第１の基材１、第１の透明導電層２、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７は、図１に示すタッチパネル１０の第１の基材１、第１の透明導電層２、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７と、それぞれ略同様の構成であるため説明は省略する。
次に、本発明に係る基材は、単に基材としての機能を備えるだけでなく、他の機能を備えていても良い。例えば、基材が、保護層としての機能を備えていても良い。言い換えれば、保護層を基材と見なしても良い。例えば、図１に示すタッチパネル１０において、保護層７、紫外線遮断層６および第２の透明導電層５の３層からなる積層体を、透明導電性積層体１１Ａと見なすことができる。この場合、保護層７が、本発明に係る基材に該当する。
【００５４】
（タッチパネルについて）
図１に示すタッチパネル１０は、静電容量型のタッチパネルであったが、本発明に係るタッチパネルは静電容量型に限定されず、抵抗膜型、光学型、超音波型等であっても良い。例えば、図１８に示すタッチパネル５０は、変形例４に係る抵抗膜型のタッチパネルである。
【００５５】
タッチパネル５０は、第１の基材１に、第１の透明導電層２、スペーサ９、第２の透明導電層５、第２の基材４、紫外線遮断層６および保護層７が、その順で積層された積層構造を有する。変形例に係る透明導電性積層体５１は、第１の基材１、第１の透明導電層２、スペーサ９、第２の透明導電層５、第２の基材４および紫外線遮断層６で構成されている。なお、第１の基材１、第１の透明導電層２、第２の透明導電層５、第２の基材４、紫外線遮断層６および保護層７は、図１に示すタッチパネル１０の第１の基材１、第１の透明導電層２、第２の透明導電層５、紫外線遮断層６および保護層７と、それぞれ略同様の構成であるため説明は省略する。
【００５６】
第１の透明導電層２と第２の透明導電層５との間には、複数のスペーサ９が、例えばマトリクス状に一定間隔を空けて配置されており、第１の透明導電層２と第２の透明導電層５とが隙間５２を空けて向かい合って不要に接触しないようになっている。
以上のような構成のタッチパネル５０の場合も、第１の透明導電層２および第２の透明導電層５が導電性高分子を含む層であるため、液相成膜法を用いてそれら第１の透明導電層２および第２の透明導電層５を形成することができる。したがって、タッチパネル５０は、生産性に優れ、大量生産に適している。また、タッチパネル５０は、紫外線吸収剤を含む紫外線遮断層６を備えているため、耐紫外線機能も高い。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明に係る透明導電性積層体およびタッチパネルは、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行のＡＴＭ端末等の電子機器に広く利用可能である。
【符号の説明】
【００５８】
１０，２０，３０，４０，５０  タッチパネル
１１，１１Ａ，２１，３１，４１，５１  透明導電性積層体
１，４  基材
２，５  透明導電層
６  紫外線遮断層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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