(57)【要約】【課題】紫外線防御化粧料の紫外線防御性能を正確に評価する方法を提供すること。【解決手段】１）紫外線防御化粧料を塗布しない基板の平面方向における紫外線透過光強度の分布を測定する、２）前記基板に紫外線防御化粧料を塗布し、塗布後の平面方向における紫外線透過光強度の分布を測定する、３）紫外線防御化粧料塗布後の紫外線透過光強度の分布における特定の位置での透過光強度を、紫外線防御化粧料塗布前の紫外線透過光強度の分布における同位置での透過光強度で除する。この操作を該基板における全ての測定領域に対して行うことで、紫外線防御化粧料塗布膜の平面方向における紫外線透過率の分布を算出する。【選択図】図１
2014071007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に塗布された紫外線防御化粧料塗布膜の平面方向における紫外線透過率の分布を測定し、該分布に基づき該塗布膜の均一性を評価する、紫外線防御化粧料塗布膜の均一性評価方法。
【請求項２】
下記１）〜３）の工程を含む、請求項１に記載の評価方法。
１）紫外線防御化粧料を塗布しない基板の平面方向における紫外線透過光強度の分布を測定する。
２）前記基板に紫外線防御化粧料を塗布し、塗布後の基板の平面方向における紫外線透過光強度の分布を測定する。
３）紫外線防御化粧料塗布後の紫外線透過光強度の分布における特定の位置での透過光強度を、紫外線防御化粧料塗布前の紫外線透過光強度の分布における同位置での透過光強度で除する。この操作を前記基板における全ての測定領域に対して行うことで、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率の分布を算出する。
【請求項３】
得られた紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率の分布から該塗布膜全体の紫外線透過率を算出する工程を更に含む、請求項１又は２に記載の評価方法。
【請求項４】
前記基板が紫外線光源と紫外領域に感度を持つカメラとの間に挿入されている、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の評価方法。
【請求項５】
前記基板と紫外線光源の間に、拡散板、積分球又は光ファイバーバンドル等の光を均一化する拡散照明ユニットを備えた、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の評価方法。
【請求項６】
前記基板として、ＰＭＭＡ基板、石英板、医療用テープ又は切除皮膚を用いる請求項１ないし５のいずれか１項に記載の評価方法。
【請求項７】
１０ピクセル/ｍｍ以上、５０００ピクセル/ｍｍ以下の解像度で前記分布を測定する、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の評価方法。
【請求項８】
請求項１ないし７記載のいずれか１項に記載の評価方法に基づく、紫外線防御化粧料の紫外線防御性能の評価方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の評価方法を用いた、紫外線防御化粧料のスクリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線防御化粧料の評価方法及び評価装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
地表に到達する太陽光は２８０〜４００ｎｍの紫外線を含んでいる。これらの紫外線は２８０〜３２０ｎｍの紫外線Ｂ波（ＵＶＢ）と３２０〜４００ｎｍの紫外線Ａ波（ＵＶＡ）とに大別される。それぞれ過剰な暴露により皮膚へ悪影響を及ぼす。ＵＶＢは紅斑やシミなどの発生要因となり、ＵＶＡは皮膚の黒化、シワなどの発生要因となる。
【０００３】
このような紫外線の悪影響から皮膚を防御するために、各種紫外線防御剤が開発され、これらを配合した紫外線防御化粧料が開発され販売されている。紫外線防御化粧料の紫外線防御効果を示す指標として、ＳＰＦ（Ｓｕｎ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  Ｆａｃｔｏｒ）値やＰＦＡ（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  Ｆａｃｔｏｒ  ｏｆ  ＵＶＡ）値が用いられている。ＳＰＦは主にＵＶＢに対する防御効果、ＰＦＡは主にＵＶＡに対する防御効果を示す指標として用いられている。これらの値は、それぞれ以下の手順で算出される。ヒト皮膚に紫外線を照射し、紫外線防御化粧料を塗布した場所とそうでない場所において、紅斑を起こさせるために必要な最小の紫外線量（最小紅斑量）、又は数時間持続する黒化が認められるために必要な最小の紫外線量（最小持続型即時黒化量）を算出する。紫外線防御化粧料を塗布しない場所での最小紅斑量を、紫外線防御化粧料を塗布した場所での最小紅斑量で除した値をＳＰＦ値とする。紫外線防御化粧料を塗布しない場所での最小持続型即時黒化量を、紫外線防御化粧料を塗布した場所での最小持続型即時黒化量で除した値をＰＦＡ値とする。
【０００４】
ＳＰＦやＰＦＡは紫外線防御化粧料の紫外線防御効果を客観的に評価できるという点で有用である一方、上述の方法は多数の被験者が必要となり、費用と時間がかかるという課題がある。また紫外線をヒト皮膚に照射することから、倫理的な観点において、ヒトを用いない評価方法が望まれてきている。そこでヒト皮膚を模した基板上に紫外線防御化粧料を塗布し、その基板の紫外線透過率からＳＰＦの予測値としてｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値を算出するという方法が知られている。具体的には、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外領域の透過スペクトルを取得し、以下の式に基づいて値を算出する。
【０００５】
【数１】
2014071007.tif 000003
【０００６】
この方法は、測定が簡便であるため、開発段階における紫外線防御化粧料の紫外線防御効果の評価や紫外線防御剤配合量を決定していく上で、非常に有用である。
【０００７】
上述した方法で得られる紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率は、製品自体に配合された紫外線防御剤組成に加え、塗布膜の厚さの均一性（平面方向における膜厚の分布）や塗布膜中の紫外線防御剤の分布の均一性等の要因によって大きく変動する値であることが知られている（例えば非特許文献１、２）。実際、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値を測定する上で、基板上に均一な厚さで塗布するという手技が求められるが、同じ量の紫外線防御化粧料を均一な厚さで塗布した場合でも、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値が変動する。このため、さらなる変動因子の制御が重要である。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】J. O'Neill, Journal of Pharmaceutical Sciences, vol. 73, No. 7, p. 888-891, 1984
【非特許文献２】B. Herzog, Journal of Cosmetic Science, vol. 53, p. 11-26, 2002
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
紫外線防御化粧料の膜厚が均一であっても、紫外線防御効果は大きく変化する。よって本発明は、膜厚以外の紫外線防御効果に影響を及ぼす因子の特定及び当該因子の解析方法、更には因子の解析に基づく、紫外線防御剤のｉｎ  ｖｉｖｏ性能評価方法を提供することに関する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、紫外線防御化粧料塗布膜の平面方向における紫外線吸収性能の均一性が、紫外線防御化粧料の性能に大きく影響することを見出し、該紫外線防御性能の均一性が、基板上に塗布された紫外線防御化粧料塗布膜の平面方向における紫外線透過率の分布により表せることを見出した。更に、当該紫外線透過率分布の積分値が紫外線防御性能と相関が高いことを見出した。
【００１１】
すなわち本発明は、基板上に塗布された紫外線防御化粧料塗布膜の平面方向における紫外線透過率の分布を測定し、該分布に基づき該塗布膜の均一性を評価する、紫外線防御化粧料塗布膜の均一性評価方法を提供するものである。
【００１２】
また本発明は、前記の評価方法に基づく、紫外線防御化粧料の紫外線防御性能の評価方法を提供するものである
【００１３】
更に本発明は、前記の評価方法を用いた、紫外線防御化粧料のスクリーニング方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の方法によれば、基板上に塗布された紫外線防御化粧料塗布膜の平面方向における紫外線防御性能の均一性が測定可能となり、よって、当該紫外線防御性能の分布より、紫外線防御化粧料の紫外線防御性能を正確に評価することができる。更に、紫外線防御化粧料のスクリーニングに有効である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の評価装置の概要を示す図である。
【図２】紫外線防御化粧料の塗布前と塗布後での紫外線透過光強度分布の変化を示す図である。
【図３】紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率のヒストグラムを示す図である。
【図４】図３に示したデータを元に、横軸に紫外線透過率、縦軸に紫外線透過率と存在比率の積をプロットしたグラフを示す図である。
【図５】各解像度での紫外線防御化粧料の塗布後の紫外線透過光強度の分布を示す図である。
【図６】各解像度での紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率のヒストグラムを示す図である。
【図７】Ｗ／Ｏ型乳化化粧料塗布膜の紫外線透過率のヒストグラムを示す図である。
【図８】Ｏ／Ｗ型乳化化粧料塗布膜の紫外線透過率のヒストグラムを示す図である。
【図９】図７に示したデータを元に、横軸に紫外線透過率、縦軸に紫外線透過率と存在比率の積をプロットしたグラフを示す図である。
【図１０】図８に示したデータを元に、横軸に紫外線透過率、縦軸に紫外線透過率と存在比率の積をプロットしたグラフを示す図である。
【図１１】図９及び図１０に示したグラフのプロットの積分値とｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値との関係を示す図である。
【図１２】紫外線防御化粧料の塗布後の紫外線透過光強度の分布を示す図である。
【図１３】図１２に示した紫外線防御化粧料の塗布膜について、横軸に紫外線透過率、縦軸に紫外線透過率と存在比率の積をプロットしたグラフを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の評価方法では、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過光強度の分布を測定する。評価に用いる紫外線の波長は２８０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましく、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦの評価と併せて実施する場合は、２８０ｎｍ以上３２０ｎｍ以下であることがより好ましい。評価に用いる紫外線の波長は単一の波長でも複数の波長を用いても良い。波長の設定には、バンドパスフィルターや分光器などを用いて任意の波長を設定できるようにすれば良い。紫外線光源としては水銀ランプなどの紫外線光源や太陽光、ソーラーシミュレーター（擬似太陽光源）などを用いれば良い。
【００１７】
基板上の各場所での透過率測定の精度に違いがないようにするために、紫外線は基板に対して均一に照射することが望ましい。例えば、必要であれば、基板と紫外線光源の間に、光を拡散させる板を導入するか、又は、積分球や光ファイバーバンドルやライトガイド等を備えることで基板に均一に照明が当たるようにすれば良い。またこのような均一な拡散照明を用いることで製剤中の光散乱剤の寄与分も近似的に透過光で取り扱うことができるようになる。
【００１８】
評価に用いる基板には特に制限はないが、２８０〜４００ｎｍの紫外線の透過性が高いものが好ましい。紫外線透過率の高い素材である石英板やポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）を材質とした基板が挙げられる。また表面形状を皮膚に合わせるために各種テープなどを貼付した基板を用いることができる。更に、薄く切除された切除皮膚を用いても良い。切除皮膚の厚さに特に制限は無いが、ハンドリングのし易さや紫外線透過性から、０．５〜５ｍｍが望ましい。テープとしては２８０〜４００ｎｍの紫外線の透過性が高いものであれば制限はないが、例えば医療用テープであるトランスポアテープ（登録商標、３Ｍ社製）が好ましい。
【００１９】
前記基板を保持する試料保持台は、紫外線防御化粧料を塗布する際に、基板が動かないように保持できるものであれば、特に制限は無いが、基板と光源の間に試料保持台が設置される場合は、その材質は紫外線透過率の高い素材であることが望ましい。
【００２０】
紫外線透過率の分布を評価する領域は、特に制限はないが、化粧料中の紫外線防御剤の分布の評価や基板上での塗りむらの評価を首尾良く行う観点から、好ましくは０．１ｍｍ四方以上、更に好ましくは０．５ｍｍ四方以上、より好ましくは１ｍｍ四方以上であり、好ましくは５ｃｍ四方以下、更に好ましくは３ｃｍ四方以下の領域で評価することが望ましい。この領域の設定には、異なる倍率の対物レンズや異なる大きさのカメラセンサーを使用すること等で調整すれば良い。
【００２１】
紫外線透過率の分布を評価する領域を設定する対物レンズには、石英などの紫外線透過率の高い材質のものを用いることが良い。またレンズの代わりにカセグレン鏡などの反射鏡を用いても良い。倍率には特に制限は無く、上述の必要な視野を確保できる倍率の対物レンズを選定すれば良い。本評価を行う際に、基板に紫外線防御化粧料を塗布する動作が含まれるため、作動距離が長い（２ｃｍ以上）レンズを選択するか、塗布動作の妨げにならないようにレンズを移動できる機構を備えていても良い。レンズを移動する機構を備える場合には、位置再現性の高い（５μｍ以下）機構を選定する必要がある。例えば、電動レボルバなどを利用することができる。
【００２２】
紫外線照射により、基板自体やその他部品から蛍光が発生する場合がある。この場合、これらの蛍光を除去する必要がある。基板と検出器の間にバンドパスフィルターや分光器などを設置して、照射した紫外線と同一の波長を検出器に導入できるようにすれば良い。
【００２３】
紫外線透過光強度の分布を検出する検出器は、２８０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の紫外領域の受光感度が高いカメラが良い。例えば、背面照射型ＣＣＤ（ｃｈａｒｇｅ−ｃｏｕｐｌｅｄ  ｄｅｖｉｃｅ）検出器などを用いることができる。このカメラで取得する紫外線透過光強度の平面方向の分布は、任意の時間に単一画像として取得しても良いし、連続画像として経時的に取得しても良い。透過光強度の分布の検出のための露光時間は、得られる透過光の強度に応じて、任意の露光時間を設定可能である。必要であれば画像取得の積算回数を増やしても良いが、紫外線防御化粧料塗布前後での撮像条件（露光時間や積算回数等）は統一する必要がある。
【００２４】
前記検出器において、紫外線透過光強度が各ピクセルでの紫外線検出強度として得られる。各ピクセルで検出した紫外線強度の紫外線防御化粧料塗布前後での変化率（塗布後の強度を塗布前の強度で除したもの）を紫外線透過率として算出する。この操作を測定領域の各ピクセルに対して行うことにより紫外線透過率の平面方向における分布を取得することができる。得られた紫外線透過率の分布の情報に基づいて、例えば紫外線透過率のヒストグラムを作成することが可能である。観察している領域全体の紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率は、各ピクセルで得られた紫外線透過率を平均化することで取得可能である。これらの情報から、紫外線透過率の分布と視野全体の紫外線透過率を同時に得ることができる。
【００２５】
当該紫外線透過率の分布は、紫外線防御化粧料塗布膜の平面方向における紫外線防御性能の均一性を表すものであり、平均的な紫外線透過率に対して、紫外線透過率の高い位置が高頻度で認められる場合は、均一性が低いと判断される。
また横軸に紫外線透過率、縦軸に紫外線透過率と存在比率（ピクセル数を全ピクセル数で除したもの）の積をプロットしたグラフを作成する。このグラフにおける各プロットの積分値（視覚的には、曲線下面積）は、透過率と対応する。つまり、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率が高ければ、前記積分値は大きくなり、紫外線透過率が低ければ、前記積分値は小さくなる。積分値の算出は、各プロットの紫外線透過率と存在比率の積の総和として算出すれば良い。
【００２６】
更に、塗布膜の分布の評価を行う場合には、各ピクセルで得られた紫外線透過率を紫外線吸光度に変換して解析を行うことも可能である。透過率から吸光度への変換は以下の式を用いて行う。
【００２７】
【数２】
2014071007.tif 000004
【００２８】
この操作により、紫外線吸光度の平面方向における分布を取得でき、紫外線吸光度のヒストグラムを作成することが可能である。また紫外線吸光度は、以下の式で表現される。
【００２９】
【数３】
2014071007.tif 000005
【００３０】
つまり、別途測定した評価波長における吸光係数と濃度の情報があれば、塗布膜内における紫外線防御剤の分散性が一定との近似をおいた場合、紫外線吸光度を吸光係数と濃度で除することにより光路長、つまり紫外線防御化粧料塗布膜の膜厚を取得できる。この操作を各ピクセルで実行することで紫外線防御化粧料塗布膜の膜厚の平面方向における分布を定量的に取得することが可能であり、紫外線防御化粧料塗布膜の膜厚のヒストグラムを作成することが可能である。ここで得たヒストグラムの標準偏差や半値幅等から、膜厚分布の広がりを評価することが可能である。これらの算出には、汎用のパーソナルコンピュータ等を用いることができる。
【００３１】
好ましい解像度は好ましくは１０ピクセル／ｍｍ以上、更に好ましくは５０ピクセル／ｍｍ以上、一層好ましくは１５０ピクセル／ｍｍ以上であり、５０００ピクセル／ｍｍ以下が好ましい。
【００３２】
本評価に用いる紫外線防御化粧料の種類には特に制限はない。紫外線防御効果の高い紫外線防御化粧料であれば、塗布膜を透過する紫外線強度が低くなるので、より高感度なカメラの採用や露光時間などの撮像条件を変更すれば良い。
紫外線防御化粧料の塗布量、塗布方法についても特に制限はない。塗布量や塗布方法の違いによる塗布膜分布の違いの評価に用いることも可能である。塗布量については、ヒト皮膚でのＳＰＦ評価に用いられる試料塗布量や、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦの評価に用いられる試料塗布量又はヒト皮膚に対して紫外線防御化粧料を適用する場合の実使用量が望ましい。具体的には、好ましくは０．１ｍｇ／ｃｍ2以上、更に好ましくは０．５ｍｇ／ｃｍ2以上であり、好ましくは１０ｍｇ/ｃｍ2以下、更に好ましくは５．０ｍｇ／ｃｍ2以下の塗布量が望ましい。
塗布方法は、均一な厚さに塗布できるように、予め基板全体に万遍なく小さなスポット状に紫外線防御化粧料を設置し、全体に塗り広げることが望ましいが、均一な厚さに塗布できる方法であれば、この方法に制限されるものではない。
【００３３】
本発明の評価方法により、基板上における紫外線防御化粧料の塗布膜の平面方向における紫外線防御能の均一性を正確に評価できる。したがって、本発明の方法は、塗布膜の均一性を指標とした紫外線防御化粧料の研究開発、紫外線防御化粧料の性能評価、スクリーニング、処方開発、ＳＰＦ並びにｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ評価者の手技の評価等の目的で用いることが好ましい。
【００３４】
上述した実施形態に関し、本発明においては更に以下の態様が開示される。
＜１＞  基板上に塗布された紫外線防御化粧料塗布膜の平面方向における紫外線透過率の分布を測定し、該分布に基づき該塗布膜の均一性を評価する、紫外線防御化粧料塗布膜の均一性評価方法。
＜２＞  下記１）〜３）の工程を含む、前記＜１＞に記載の評価方法。
１）紫外線防御化粧料を塗布しない基板の平面方向における紫外線透過光強度の分布を測定する。
２）前記基板に紫外線防御化粧料を塗布し、塗布後の基板の平面方向における紫外線透過光強度の分布を測定する。
３）紫外線防御化粧料塗布後の紫外線透過光強度の分布における特定の位置での透過光強度を、紫外線防御化粧料塗布前の紫外線透過光強度の分布における同位置での透過光強度で除する。この操作を前記基板における全ての測定領域に対して行うことで、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率の分布を算出する。
＜３＞  得られた紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率の分布から該塗布膜全体の紫外線透過率を算出する工程を更に含む、前記＜１＞又は＜２＞に記載の評価方法。
＜４＞  前記基板が紫外線光源と紫外領域に感度を持つカメラとの間に挿入されている、前記＜１＞ないし＜３＞のいずれか１に記載の評価方法。
＜５＞  前記基板と紫外線光源の間に、拡散板、積分球又は光ファイバーバンドル等の光を均一化する拡散照明ユニットを備えた、前記＜１＞ないし＜４＞のいずれか１に記載の評価方法。
＜６＞  前記基板として、ＰＭＭＡ基板、石英板、医療用テープ又は切除皮膚を用いる前記＜１＞ないし＜５＞のいずれか１に記載の評価方法。
＜７＞  １０ピクセル／ｍｍ以上、５０００ピクセル／ｍｍ以下の解像度で前記分布を測定する、前記＜１＞ないし＜６＞のいずれか１に記載の評価方法。
＜８＞  前記＜１＞ないし＜７＞記載のいずれか１に記載の評価方法に基づく、紫外線防御化粧料の紫外線防御性能の評価方法。
＜９＞  前記＜１＞ないし＜８＞のいずれか１項に記載の評価方法を用いた、紫外線防御化粧料のスクリーニング方法。
＜１０＞  塗布量が０．１ｍｇ／ｃｍ2以上、１０ｍｇ/ｃｍ2以下である前記＜１＞ないし＜９＞のいずれか１に記載の方法。
＜１１＞  測定面積が０．１ｍｍ四方以上、５ｃｍ四方以下である＜１＞ないし＜１０＞のいずれか１に記載の方法。
【実施例】
【００３５】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。特に断らない限り「％」は「質量％」を意味する。
【００３６】
〔実施例１  剤系の違いによる紫外線防御化粧料塗布膜の分布の違い〕
本発明の評価法を用いて、剤系の違いによる紫外線防御化粧料塗布膜の分布の違いについて評価を行った。評価試料として、Ｗ／Ｏ型乳化化粧料とＯ／Ｗ型乳化化粧料を用いた。それぞれの試料の組成は、以下の表１（Ｗ／Ｏ型乳化化粧料）、表２（Ｏ／Ｗ型乳化化粧料）に示したとおりである。共に紫外線防御剤として、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル（ユビナールＭＣ８０、ＢＡＳＦ社製）を８．０％、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）を２．０％含むように調製した。評価装置の概要は図１に示したとおりである。基板への評価試料の塗布は、予め基板全体に万遍なく小さなスポット状に紫外線防御化粧料を設置し、全体に塗り広げるようにして行った。測定条件は以下のとおりである。
【００３７】
【表１】
2014071007.tif 000006
【００３８】
【表２】
2014071007.tif 000007
【００３９】
＜測定条件＞
光源：超高圧型１３０Ｗ  水銀ランプＩＮＴＥＮＳＩＬＩＧＨＴ  Ｃ−ＨＧＦＩ（Ｎｉｋｏｎ社製）。バンドパスフィルターＦＢ３８０−１０（ｔｈｏｒｌａｂｓ社製）、オパール光拡散ガラス（Ｅｄｍｕｎｄ  Ｏｐｔｉｃｓ社製）を用いて３８０ｎｍを試料に均一に照射した。
評価基板：石英板にトランスポアテープ（登録商標、３Ｍ社製）を貼付したもの。
試料塗布量：２．０ｍｇ／ｃｍ2
対物レンズ：ＩＮＦＩＮＩＰＲＯＢＥ  ＵＶマイクロスコープレンズ・ライトアングル（ＩＮＦＩＮＩＴＹ社製）
カメラ：ＸＣ−ＥＵ５０（ＳＯＮＹ社製）
【００４０】
前記のカメラにて検出された光を、カメラアダプターキット（ＤＣ−７００、ＳＯＮＹ社製）、及びＵＳＢ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  Ｓｅｒｉａｌ  Ｂｕｓ）接続ビデオキャプチャー（ＧＶ−ＵＳＢ２、ＩＯデータ社製）を経由してパーソナルコンピュータに取り込み、ｔｉｆｆ形式の画像として取得した。画像は紫外線防御化粧料の塗布前と塗布１５分後に取得した。本条件での解像度は、１７０ピクセル／ｍｍである。測定領域は、塗布領域内の４ｍｍ×３ｍｍの領域とした。
前記測定で用いた紫外線防御化粧料の塗布膜について、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ測定（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ  ＵＶ−１０００Ｓ  ＵＶ  ＴＲＡＮＳＭＩＴＴＡＮＣＥ  ＡＮＡＬＹＺＥＲ、Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社製）を併せて行った。
【００４１】
図２に各紫外線防御化粧料の塗布前後の紫外線透過光強度の分布を示す。塗布により全体的に紫外線透過光強度が低下したが、その強度低下の程度は場所によって大きく異なった。またその剤系の違いによって紫外線透過光強度の分布の挙動が異なった。
紫外線防御化粧料塗布前後での紫外線透過光強度の変化から紫外線透過率を算出し、そのヒストグラムを図３に示す。本明細書では見易さのために、ヒストグラムを便宜上折れ線グラフで表示する。図３の括弧内には、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦの測定値を記載した。ここから、比較的ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値が低くなったＯ／Ｗ型乳化化粧料の塗布膜は、Ｗ／Ｏ型乳化化粧料の塗布膜よりも、紫外線透過率が高い（０．７〜０．９５）領域が広くなっていることがわかった。対照的に、紫外線透過率が低い（０．０５〜０．３）領域は、Ｗ／Ｏ型乳化化粧料の塗布膜の方が広くなっていた。
【００４２】
図４に、横軸に紫外線透過率、縦軸に紫外線透過率と存在比率（ピクセル数を全ピクセル数で除したもの）の積をプロットしたグラフを示す。このグラフにおける各プロットの積分値（視覚的には、曲線下面積）は、観測領域全体における平均透過率と対応する。つまり、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率が高ければ、前記積分値は大きくなり、紫外線透過率が低ければ、前記積分値は小さくなる。図４において、比較的紫外線透過率が低く、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値が高くなったＷ／Ｏ型乳化化粧料の塗布膜は、Ｏ／Ｗ型乳化化粧料の塗布膜よりも、前記積分値が小さくなっていることがわかった。仮に、ここでの積分値が同程度であれば、塗布膜の紫外線透過率も同程度であることが分かる。しかし、積分値が同程度でもグラフの形状が異なれば、塗布膜自体の紫外線透過率分布、塗布均一性は異なることが分かる。例えば、ピークトップの位置が高紫外線透過率側であれば、その塗布膜は比較的不均一であり、ピークトップの位置が低紫外線透過率側であれば、その塗布膜は比較的均一であると評価することも可能である。このように、本システムでは、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率とその均一性を同時に評価することが可能である。
【００４３】
〔実施例２  解像度の違いによる紫外線防御化粧料塗布膜の分布評価結果の違い〕
本発明の評価法を用いて、解像度の違いによる紫外線防御化粧料塗布膜の分布評価結果の違いについて評価を行った。評価試料として、Ｏ／Ｗ型乳化化粧料を用いた。試料の組成は、先に述べた表２に示したとおりである。紫外線防御剤として、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル（ユビナールＭＣ８０、ＢＡＳＦ社製）を８．０％、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）を２．０％含むように調製した。基板への評価試料の塗布は、予め基板全体に万遍なく小さなスポット状に紫外線防御化粧料を設置し、全体に塗り広げるようにして行った。測定条件は以下のとおりである。
＜測定条件＞
光源：超高圧型１３０Ｗ  水銀ランプＩＮＴＥＮＳＩＬＩＧＨＴ  Ｃ−ＨＧＦＩ（Ｎｉｋｏｎ社製）。バンドパスフィルターＦＢ３８０−１０（ｔｈｏｒｌａｂｓ社製）、オパール光拡散ガラス（Ｅｄｍｕｎｄ  Ｏｐｔｉｃｓ社製）を用いて３８０ｎｍを試料に均一に照射した。
評価基板：石英板にトランスポアテープ（登録商標、３Ｍ社製）を貼付したもの。
試料塗布量：２．０ｍｇ／ｃｍ2
対物レンズ：ＩＮＦＩＮＩＰＲＯＢＥ  ＵＶマイクロスコープレンズ・ライトアングル（ＩＮＦＩＮＩＴＹ社製）
カメラ：ＸＣ−ＥＵ５０（ＳＯＮＹ社製）
【００４４】
前記のカメラにて検出された光を、カメラアダプターキット（ＤＣ−７００、ＳＯＮＹ社製）、及びＵＳＢ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  Ｓｅｒｉａｌ  Ｂｕｓ）接続ビデオキャプチャー（ＧＶ−ＵＳＢ２、ＩＯデータ社製）を経由してパーソナルコンピュータに取り込み、ｔｉｆｆ形式の画像として取得した。画像は紫外線防御化粧料の塗布前と塗布１５分後に取得した。取得した画像の解像度は、１７０ピクセル／ｍｍ、５０ピクセル／ｍｍ、１０ピクセル／ｍｍ、５ピクセル／ｍｍとなるようにした。測定領域は、塗布領域内の４ｍｍ×３ｍｍの領域とした。
【００４５】
図５に各解像度での紫外線防御化粧料の塗布後の紫外線透過光強度の分布を示す。解像度の違いによって紫外線透過光強度の分布評価結果が異なった。紫外線防御化粧料塗布前後での紫外線透過光強度の変化から紫外線透過率を算出し、そのヒストグラムを図６に示す。１０ピクセル／ｍｍでは、ヒストグラムの形状がそれ以上の解像度のヒストグラム形状とほぼ同じになり、５０ピクセル／ｍｍ以上では、それ以上解像度を高くしてもヒストグラムの形状が大きく変化しなかった。このように、本システムを用いて行う分布評価においては、１０ピクセル／ｍｍ以上が必要であり、５０ピクセル／ｍｍ以上の解像度がより適していた。
【００４６】
〔実施例３  塗布の違いによる紫外線防御化粧料塗布膜の違い〕
本発明の評価法を用いて塗布の違いによる紫外線防御化粧料塗布膜の分布の違いについて評価を行った。評価試料として、Ｗ／Ｏ型乳化化粧料とＯ／Ｗ型乳化化粧料を用いた。それぞれの試料の組成は、表１（Ｗ／Ｏ型乳化化粧料）、表２（Ｏ／Ｗ型乳化化粧料）に示したとおりである。共に紫外線防御剤として、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル（ユビナールＭＣ８０、ＢＡＳＦ社製）を８．０％、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）を２．０％含むように調製した。基板への評価試料の塗布は、予め基板全体に万遍なく小さなスポット状に紫外線防御化粧料を設置し、全体に塗り広げるようにして行った。測定条件は以下のとおりである。
＜測定条件＞
光源：超高圧型１３０Ｗ  水銀ランプＩＮＴＥＮＳＩＬＩＧＨＴ  Ｃ−ＨＧＦＩ（Ｎｉｋｏｎ社製）。バンドパスフィルターＦＢ３８０−１０（ｔｈｏｒｌａｂｓ社製）、オパール光拡散ガラス（Ｅｄｍｕｎｄ  Ｏｐｔｉｃｓ社製）を用いて３８０ｎｍを試料に均一に照射した。
評価基板：石英板にトランスポアテープ（登録商標、３Ｍ社製）を貼付したもの。
試料塗布量：２．０ｍｇ／ｃｍ2
対物レンズ：ＩＮＦＩＮＩＰＲＯＢＥ  ＵＶマイクロスコープレンズ・ライトアングル（ＩＮＦＩＮＩＴＹ社製）
カメラ：ＸＣ−ＥＵ５０（ＳＯＮＹ社製）
【００４７】
前記のカメラにて検出された光を、カメラアダプターキット（ＤＣ−７００、ＳＯＮＹ社製）、及びＵＳＢ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  Ｓｅｒｉａｌ  Ｂｕｓ）接続ビデオキャプチャー（ＧＶ−ＵＳＢ２、ＩＯデータ社製）を経由してパーソナルコンピュータに取り込み、ｔｉｆｆ形式の画像として取得した。画像は紫外線防御化粧料の塗布前と塗布１５分後に取得した。本条件での解像度は、１７０ピクセル／ｍｍである。測定領域は、塗布領域内の４ｍｍ×３ｍｍの領域とした。Ｗ／Ｏ型乳化化粧料及びＯ／Ｗ型乳化化粧料のそれぞれについて５回ずつ基板への塗布を実施し、測定を行った。
前記測定で用いた紫外線防御化粧料の塗布膜について、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ測定（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ  ＵＶ−１０００Ｓ  ＵＶ  ＴＲＡＮＳＭＩＴＴＡＮＣＥ  ＡＮＡＬＹＺＥＲ、Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社製）を併せて行った。
【００４８】
紫外線防御化粧料塗布前後での紫外線透過光強度の変化から紫外線透過率を算出し、そのヒストグラムを図７（Ｗ／Ｏ型乳化化粧料）と図８（Ｏ／Ｗ型乳化化粧料）に示す。図７、図８の凡例には、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦの測定値を記載した。図７より、Ｗ／Ｏ型乳化化粧料では、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値が１０．３〜２２．３になった。この中で、比較的ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値が低くなった塗布膜は、紫外線透過率が低い（０〜０．２）領域の存在比率が小さくなった。図８より、Ｏ／Ｗ型乳化化粧料では、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値が６．６〜８．７になった。Ｏ／Ｗ型乳化化粧料ではＷ／Ｏ型乳化化粧料に比べて、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値の変動が小さくなった。図８に示したヒストグラムの形状も大きな違いはなかったが、ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値が８．７と最も高くなった塗布膜については、ヒストグラムの最頻値が他に比べて小さくなっていた。
【００４９】
図９（Ｗ／Ｏ型乳化化粧料）と図１０（Ｏ／Ｗ型乳化化粧料）に、横軸に紫外線透過率、縦軸に紫外線透過率と存在比率の積をプロットしたグラフを示す。このグラフにおける各プロットの積分値（視覚的には、曲線下面積）は、透過率と対応する。つまり、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率が高ければ、前記積分値は大きくなり、紫外線透過率が低ければ、前記積分値は小さくなる。図９と図１０から、算出した前記積分値の逆数とｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値との関係を図１１に示す。図１１より、積分値の逆数とｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＳＰＦ値には高い相関が見られた。このように、本システムでは、紫外線防御化粧料塗布膜ごとの均一性と紫外線防御効果を併せて評価することが可能である。
【００５０】
〔実施例４  紫外線防御剤組成の違いによる紫外線防御化粧料塗布膜の分布の違い〕
本発明の評価法を用いて紫外線防御剤組成の違いによる紫外線防御化粧料塗布膜の分布の違いについて評価を行った。評価試料として、先に述べた表２（試料（Ａ））、及び以下の表３（試料（Ｂ））に示した組成のＯ／Ｗ型乳化化粧料を用いた。評価試料には、紫外線防御剤として、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル（ユビナールＭＣ８０、ＢＡＳＦ社製）を８．０％、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）を２．０％含むように調製した試料（Ａ）と、紫外線防御剤として、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル（ユビナールＭＣ８０、ＢＡＳＦ社製）を４．０％、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル（ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）を１．０％含むように調製した試料（Ｂ）を用いた。基板への評価試料の塗布は、予め基板全体に万遍なく小さなスポット状に紫外線防御化粧料を設置し、全体に塗り広げるようにして行った。測定条件は以下のとおりである。
＜測定条件＞
光源：超高圧型１３０Ｗ  水銀ランプＩＮＴＥＮＳＩＬＩＧＨＴ  Ｃ−ＨＧＦＩ（Ｎｉｋｏｎ社製）。バンドパスフィルターＦＢ３８０−１０（ｔｈｏｒｌａｂｓ社製）、オパール光拡散ガラス（Ｅｄｍｕｎｄ  Ｏｐｔｉｃｓ社製）を用いて３８０ｎｍを試料に均一に照射した。
評価基板：ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）基板（ＨＥＬＩＯＰＬＡＴＥ  ＨＤ６）
試料塗布量：１．３ｍｇ／ｃｍ2
対物レンズ：ＩＮＦＩＮＩＰＲＯＢＥ  ＵＶマイクロスコープレンズ・ライトアングル（ＩＮＦＩＮＩＴＹ社製）
カメラ：ＸＣ−ＥＵ５０（ＳＯＮＹ社製）
【００５１】
前記のカメラにて検出された光を、カメラアダプターキット（ＤＣ−７００、ＳＯＮＹ社製）、及びＵＳＢ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  Ｓｅｒｉａｌ  Ｂｕｓ）接続ビデオキャプチャー（ＧＶ−ＵＳＢ２、ＩＯデータ社製）を経由してパーソナルコンピュータに取り込み、ｔｉｆｆ形式の画像として取得した。画像は紫外線防御化粧料の塗布前と塗布１５分後に取得した。本条件での解像度は、１７０ピクセル／ｍｍである。測定領域は、塗布領域内の４ｍｍ×３ｍｍの領域とした。
【００５２】
【表３】
2014071007.tif 000008
【００５３】
図１２に各紫外線防御化粧料の塗布後の紫外線透過光強度の分布を示す。紫外線防御剤配合量の違いによって、紫外線透過光強度の分布の挙動が異なった。紫外線防御化粧料塗布前後での紫外線透過光強度の変化から紫外線透過率を算出し、横軸に紫外線透過率、縦軸に紫外線透過率と存在比率の積をプロットしたグラフを図１３に示す。このグラフにおける各プロットの積分値（視覚的には、曲線下面積）は、透過率と対応する。つまり、紫外線防御化粧料塗布膜の紫外線透過率が高ければ、前記積分値は大きくなり、紫外線透過率が低ければ、前記積分値は小さくなる。図１３より、紫外線防御剤配合量が多い試料（Ａ）では、試料（Ｂ）に比べて積分値が小さくなった。このように、紫外線防御剤配合量の増量による紫外線透過率の低下を評価可能である。また、図１３のピークトップは、紫外線防御剤配合量が多い試料（Ａ）の方が試料（Ｂ）よりも、低紫外線透過率側にシフトしていた。これは、紫外線防御剤配合量の増量により、透過率が高い（０．８５〜１．０）領域が狭くなったと示していると考えられる。このように、本システムでは、紫外線防御剤配合量を変化させた場合の均一性の評価が可能である。
【００５４】
以上のように、本発明の方法によれば、基板上における紫外線防御化粧料の塗布膜の紫外線透過率分布を正確に評価でき、塗布膜の均一性の評価が可能になる。
【図１】
2014071007.tif 000009
【図３】
2014071007.tif 000010
【図４】
2014071007.tif 000011
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図２】
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【図５】
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【図１２】
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【図１３】
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