Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月23日(2020.12.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロペラと、当該プロペラを回転させるモータと、当該モータを支持するアーム部と、少なくとも前記モータの状態を検知する検知部とを備え、操作者からの前進操作に応じて回転翼機の第一水平方向の少なくとも前方又は後方の方向指示表示を第１パターンで表示する前記回転翼機の制御方法であって、
前記検知部によって検知された前記モータの状態に基づいて、前記操作者からの前記前進操作に応じた前記回転翼機の移動方向を前記第一水平方向とは異なる第二水平方向に変更し、当該第二水平方向における少なくとも前方又は後方の前記方向指示表示を第２パターンで表示する、回転翼機の制御方法。
【請求項２】
前記方向指示表示は、ＬＥＤにより表示される請求項１に記載の回転翼機の制御方法。
【請求項３】
前記ＬＥＤは、色を前記第１パターンから前記第２パターンに変化させる請求項２に記載の回転翼機の制御方法。
【請求項４】
前記回転翼機は、前記操作者からの前記前進操作に応じた前記回転翼機の移動方向を前記第二水平方向に変更することに伴い、機材搭載部分の回転を行う請求項１から３のいずれかに記載の回転翼機の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月25日(2021.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のフライトコントローラ及び回転計を搭載する回転翼機のユーザに対する警告方法であって、
各フライトコントローラのログと前記回転計のログとを比較し、当該比較の結果に基づきフライトコントローラの交換を促す、
警告方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月25日(2021.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フライトコントローラ及び回転計、ＥＳＣを搭載する回転翼機のユーザに対する警告方法であって、
各フライトコントローラのログと前記回転計のログとを比較し、当該比較の結果に基づきＥＳＣの交換を促す、
警告方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月25日(2021.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータユニットを備える飛行体のユーザに対する警告方法であって、
ホバリング時における前記飛行体の振動に関する情報を含むログを取得するステップと、
前記ログに基づき、一定水準の振動を上回るとモータユニットの交換をユーザに促すステップと、を含む、
警告方法。
【請求項２】
請求項１に記載の警告方法において、更に、一定水準の振動を上回る状態が一定期間経過した場合は強制的に飛行を停止するステップを含む、警告方法。
【請求項３】
請求項１に記載の警告方法において、更に、一定水準の振動を上回って前記振動が強くなった場合は強制的に飛行を停止するステップを含む、警告方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月18日(2021.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセス流体中における基板（３０）の化学および電解の少なくとも一方の表面処理のための分布システム（１０）であって、
分布部（２１）と、
少なくとも１つのプロセス流体入口（２３）と、
チャンネル（２４）と
を備え、
前記分布部（２１）は、前記プロセス流体および電流の少なくとも一方の流れを前記基板（３０）へ導くように構成され、
前記チャンネル（２４）は、前記分布部（２１）の外周を少なくとも部分的に囲み、
前記チャンネル（２４）の断面のサイズは、前記分布部（２１）の外周に沿って変化し、
前記分布部（２１）は、ノズルアレイ（２５）を含み、
前記チャンネル（２４）は、前記プロセス流体を前記プロセス流体入口（２３）から前記ノズルアレイ（２５）へ分布させるように構成された、
分布システム（１０）。
【請求項２】
前記プロセス流体入口（２３）は、前記分布部（２１）に分散して配置された、請求項１に記載の分布システム（１０）。
【請求項３】
前記プロセス流体入口（２３）は、前記分布部（２１）に非対称に配置された、請求項１〜２のうちの何れか一項に記載の分布システム（１０）。
【請求項４】
前記分布部（２１）の１つの側面のみに配置された少なくとも２つの前記プロセス流体入口（２３）を備える、請求項１〜３の何れか一項に記載の分布システム（１０）。
【請求項５】
前記チャンネル（２４）は、前記プロセス流体を前記分布部（２１）におけるプロセス流体の基本的に均一な流れへ分布させるように構成された、請求項１〜４のうちの何れか一項に記載の分布システム（１０）。
【請求項６】
前記チャンネル（２４）は、前記プロセス流体を前記ノズルアレイ（２５）から出ていくプロセス流体の基本的に均一な出口速度へ分布させるように構成された、請求項１〜５のうちの何れか一項に記載の分布システム（１０）。
【請求項７】
前記チャンネル（２４）は、前記分布部（２１）の前記外周を全体的に囲む、請求項１〜６のうちの何れか一項に記載の分布システム（１０）。
【請求項８】
前記チャンネル（２４）は、前記プロセス流体を少なくとも１つのプロセス流体入口（２３）から前記ノズルアレイ（２５）へ均等に分布させるように構成された、請求項１〜７のうちの何れか一項に記載のシステム（１０）。
【請求項９】
前記分布部（２１）および前記チャンネル（２４）は、上面図において、角のある形状を有する、請求項１〜８のうちの何れか一項に記載のシステム（１０）。
【請求項１０】
上面図において前記分布部（２１）は、円形状を有し、前記チャンネル（２４）は、リング形状を有する、請求項１〜８のうちの何れか一項に記載のシステム（１０）。
【請求項１１】
前記チャンネル（２４）は、矩形断面を有する、請求項１〜１０のうちの何れか一項に記載のシステム（１０）。
【請求項１２】
前記チャンネル（２４）は、前記ノズルアレイ（２５）の幅の１〜２０％の範囲内、好
ましくは３〜１５％の範囲内、より好ましくは５〜１０％の範囲内の幅を有する、請求項１〜１１のうちの何れか一項に記載のシステム（１０）。
【請求項１３】
プロセス流体中における基板（３０）の化学および電解の少なくとも一方の表面処理のためのデバイス（１００）であって、
請求項１〜１２のうちの何れか一項に記載の分布システム（１０）と、
基板ホルダ（２０）と
を備え、
前記基板ホルダ（２０）は、前記基板（３０）を保持するように構成された、デバイス（１００）。
【請求項１４】
プロセス流体中における基板（３０）の化学および電解の少なくとも一方の表面処理のための分布方法であって、
前記プロセス流体および電流の少なくとも一方の流れを前記基板（３０）に導くように構成された分布部（２１）を設け、
少なくとも１つのプロセス流体入口（２３）を設け、
前記分布部（２１）の外周を少なくとも部分的に囲むチャンネル（２４）を設け、前記チャンネル（２４）の断面のサイズは、前記分布部（２１）の外周に沿って変化し、
前記チャンネル（２４）を用いて前記プロセス流体を前記プロセス流体入口（２３）から前記分布部（２１）のノズルアレイ（２５）へ分布させる
ことを含む、分布方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月8日(2021.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ケーシング１２の内側には、２個のボールベアリング２１，２１を介して、中空筒状の入力軸１４ａが、内歯歯車１１の軸線と同軸で、第１キャリア部材１３ａ及び第２キャリア部材１３ｂに回転可能に軸支されている。入力軸１４ａにおいて、ボールベアリング２１，２１の間には、外径及び偏心量δ１が互いに等しく、偏心方向が互いに１８０度異なる位相となる一対の偏心部２２，２２が隣接して形成されている。各偏心部２２，２２には、全周に亘って配設される横断面円形状の複数のころ２３，２３・・からなるニードルベアリング２４が設けられて、ニードルベアリング２４を介して、外歯歯車１０，１０がそれぞれ回転可能に外装されている。入力軸１４ａにおける軸方向の入力側の端面には、複数のボルト孔が形成されている。入力軸１４ａにおける軸方向の出力側の端面位置は、出力側のボールベアリング２１における出力側の端面位置と、略同一の位置になっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
また、第１減速機である直交軸減速機１００と第２減速機である平行軸減速機２００とでオイルシールの位置が同じであるため、出力部の形状が同じとなる。このため、同じ出力部の形状の減速機シリーズを提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月8日(2021.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
中空の入力軸を有する第１減速部と、
前記入力軸に固定される第１ギア、及び前記第１ギアと噛み合い前記入力軸の軸線と直交する第２ギアからなる第２減速部と、
前記第２減速部を内蔵する筐体と、
前記筐体に固定され、前記入力軸及び前記第１ギアを同軸で貫通する筒状部材と、
前記第１減速部の出力部に配置されるオイルシールと、
を備える直交軸減速機であって、
前記筒状部材は、前記第１減速部または前記第１ギアを軸支せず、前記筐体に片持ちで固定されており、
前記筒状部材は、前記筐体に固定される固定部と、前記固定部とは反対側に形成された本体部とを含み、
前記本体部には前記オイルシールのリップのみが当接し、軸受は配置されていない
ことを特徴とする直交軸減速機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この目的を達成するために、請求項１記載の直交軸減速機は、中空の入力軸を有する第１減速部と、前記入力軸に固定される第１ギア、及び前記第１ギアと噛み合い前記入力軸の軸線と直交する第２ギアからなる第２減速部と、前記第２減速部を内蔵する筐体と、前記筐体に固定され、前記入力軸及び前記第１ギアを同軸で貫通する筒状部材と、前記第１減速部の出力部に配置されるオイルシールと、を備える直交軸減速機であって、前記筒状部材は、前記第１減速部または前記第１ギアを軸支せず、前記筐体に片持ちで固定されており、前記筒状部材は、前記筐体に固定される固定部と、前記固定部とは反対側に形成された本体部とを含み、前記本体部には前記オイルシールのリップのみが当接し、軸受は配置されていないことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ケーシング１２の内側には、２個のボールベアリング２１，２１を介して、中空筒状の入力軸１４ａが、内歯歯車１１の軸線と同軸で、第１キャリア部材１３ａ及び第２キャリア部材１３ｂに回転可能に軸支されている。入力軸１４ａにおいて、ボールベアリング２１，２１の間には、外径及び偏心量δ１が互いに等しく、偏心方向が互いに１８０度異なる位相となる一対の偏心部２２，２２が隣接して形成されている。各偏心部２２，２２には、全周に亘って配設される横断面円形状の複数のころ２３，２３・・からなるニードルベアリング２４が設けられて、ニードルベアリング２４を介して、外歯歯車１０，１０がそれぞれ回転可能に外装されている。入力軸１４ａにおける軸方向の入力側の端面には、複数のボルト孔が形成されている。入力軸１４ａにおける軸方向の出力側の端面位置は、出力側のボールベアリング２１における出力側の端面位置と、略同一の位置になっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ここで、入力軸１４ａを支持するボールベアリング２１，２１には、第２減速部２のベベルギア４１及びベベルピニオン４２により入力軸の軸線Ｏ１に垂直方向の荷重（ラジアル荷重）が掛かるが、ボールベアリング２１，２１とベベルギア４１との距離を短くすることで、当該ラジアル荷重を低減させることができる。上記形態では、筒状部材４が入力軸１４ａまたはベベルギア４１を軸支しないため、ボールベアリング２１，２１とベベルギア４１との距離を短くすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
第２アーム２０４を回転するモータの電源コードＡは固定台２０１の第１開口２０１ａ、第１筐体側開口２０２ａを経由して筒状部材４Ａの中空部を通過しモータに至る。把持部を回転するモータの電源コードＡは固定台２０１から筒状部材４Ａの中空部を通過した後、第１アーム２０３内に収納した直交軸減速機の筒状部材の中空部を通過してモータに至る。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月5日(2021.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−ガス混合物のための通過可能管腔（１６）を有する少なくとも１つの供給ダクト（１２）を画定する本体（８）と、
−前記通過可能管腔（１６）を修正するように前記供給ダクト（１２）内に設置されたチョークバルブ（２０）と、を備え
−前記チョークバルブ（２０）は、制御シャフト（２８）に接続された閉塞体（２４）が設けられ、少なくとも部分的に前記本体（８）の台座（３４）に収納されるエンジンのためのスロットル体または作動装置（４）であって、
−前記台座（３４）の内側で、前記閉塞体（２４）の側面の前記制御シャフト（２８）は、前記供給ダクト（１２）から来る汚れ及びガスの貫通を防ぐために第１のガスケット（６０）が設けられ、
−前記制御シャフト（２８）の前記側面の、前記第１のガスケット（６０）の下流の、少なくとも１つの排出口（６４）は、前記第１のガスケット（６０）を通って漏出する、すべてのガスの前記台座（３４）の外側への排出を許容するのに適するように設けられ、
前記排出口（６４）は、前記排出口（６４）から前記台座（３４）への前記ガスの逆流を防ぐように、前記排出口（６４）を通る前記ガスの逆流防止装置（６５）が設けられる、スロットル体または作動装置（４）。
【請求項２】
前記逆流防止装置（６５）は、前記排出口（６４）から前記台座（３４）へのガスの逆流を防ぐように逆流防止弁（６６）を備える、請求項１に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項３】
前記逆流防止弁（６６）は、前記排出口（６４）の内側に一体化されている、請求項２に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項４】
前記逆流防止弁（６６）は、前記排出口（６４）に対して外部に、下流にある、請求項２に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項５】
ガスの前記逆流防止装置（６５）は、前記排出口（６４）から前記台座（３４）へのガスの逆流を防止するように、吸引システム（６７）を備え、または吸引システムと流れるように接続される、請求項１に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項６】
ガスの前記逆流防止装置（６５）は、前記排出口（６４）への前記ガスの逆流を防ぐように、排出圧力（Ｐｕ）より高い注入圧力（Ｐｉ）で、前記スロットル体（４）の注入部分（７１）より低い前記排出圧力（Ｐｕ）である、前記スロットル体（４）の排出部分（７０）を備える、または排出部分と流れるように接続される、請求項１に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項７】
前記排出口（６４）は、前記台座（３４）に引き出された全てのガスを前記供給ダクト（１２）自身に再入するように前記供給ダクト（１２）に流れるように接続される、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項８】
前記制御シャフト（２８）は、溝または小さな溝（７２）が設けられ、前記排出口（６４）は、前記溝または小さな溝（７２）において、前記台座（３４）に導き入れるように配置される、請求項１乃至７のいずれか１項に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項９】
前記排出口（６４）は、前記台座（３４）に対する及び／または前記制御シャフト（２８）の支持ベアリング（８０）に対する前記制御シャフト（２８）の連結間隔より大きい通過可能領域（７６）を備える、請求項１乃至８のいずれか１項に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項１０】
前記制御シャフト（２８）は、前記排出口（６４）の下流で、前記台座（３４）の内側に配置され、前記供給ダクト（１２）から汚れ及びガスの貫通を防ぐ、第２のガスケット（８４）が装着される少なくとも１つの支持ベアリング（８０）を備える、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項１１】
前記第２のガスケット（８４）は、溝または小さな溝（７２）が前記第１及び第２のガスケット（６０、８４）の間にあるように、前記制御シャフト（２８）の前記溝または小さな溝（７２）の下流に配置される、請求項１０に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項１２】
前記制御シャフト（２８）は、前記閉塞体（２４）への第１の接続部（３６）と、モータ手段（４８）に接続される駆動機構（４４）への第２の接続部（４０）を備え、前記第１の接続部（３６）は、前記第２の接続部（４０）の直径より小さい直径を有する、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項１３】
前記制御シャフト（２８）は、前記台座（３４）の内側の肩部（９０）へ前記制御シャフト（２８）を軸方向に拘束するための少なくとも１つのプレート（８８）を備える、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項１４】
前記プレート（８８）は、前記排出口（６４）の下流に配置される、請求項１３に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【請求項１５】
前記プレート（８８）は、前記制御シャフト（２８）の支持ベアリング（８０）を保護するために、前記排出口（６４）の下流で、前記台座（３４）の内側に配置された前記制御シャフト（２８）の第２のガスケット（８４）の上流に配置される、請求項１３または１４に記載のスロットル体または作動装置（４）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月24日(2021.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
液体流通用の第１の流路の一端側に該第１の流路と交わる方向に伸設された流路分岐用通路が接続形成され、該流路分岐用通路の一端側からは液体流通用の第２の流路が伸設形成され、前記流路分岐用通路には流路開閉弁が設けられて、該流路開閉弁は前記流路分岐用通路の伸長方向に伸長されて該流路分岐用通路の伸長方向に沿って移動自在に設けられたロッドと、該ロッドの一端側に設けられた弁体とを有して、該弁体は前記ロッドに抜け止め状態で該ロッドの伸長方向に摺動自在に設けられ、該ロッドの外周側には一端側が前記弁体に支持されたバネ体が前記ロッドに抜け止め状態で該ロッドの伸長方向に伸縮自在に設けられており、前記流路開閉弁は、前記ロッドを前記流路分岐用通路の伸長方向に沿って進退移動させることにより、前記弁体を該弁体の弁閉位置として前記第１の流路と前記第２の流路との液体流通を断つ非接続状態と、前記弁体を該弁体の弁閉位置から離れる方向に前記ロッドに連動させて移動させることにより前記第１の流路と前記第２の流路との間に液体を流通させる接続状態とを切り替え自在と成していることを特徴とする二方弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明は上記目的を達成するために、次の構成をもって課題を解決する手段としている。すなわち、第１の発明の二方弁は、液体流通用の第１の流路の一端側に該第１の流路と交わる方向に伸設された流路分岐用通路が接続形成され、該流路分岐用通路の一端側からは液体流通用の第２の流路が伸設形成され、前記流路分岐用通路には流路開閉弁が設けられて、該流路開閉弁は前記流路分岐用通路の伸長方向に伸長されて該流路分岐用通路の伸長方向に沿って移動自在に設けられたロッドと、該ロッドの一端側に設けられた弁体とを有して、該弁体は前記ロッドに抜け止め状態で該ロッドの伸長方向に摺動自在に設けられ、該ロッドの外周側には一端側が前記弁体に支持されたバネ体が前記ロッドに抜け止め状態で該ロッドの伸長方向に伸縮自在に設けられており、前記流路開閉弁は、前記ロッドを前記流路分岐用通路の伸長方向に沿って進退移動させることにより、前記弁体を該弁体の弁閉位置として前記第１の流路と前記第２の流路との液体流通を断つ非接続状態と、前記弁体を該弁体の弁閉位置から離れる方向に前記ロッドに連動させて移動させることにより前記第１の流路と前記第２の流路との間に液体を流通させる接続状態とを切り替え自在と成している構成を持って課題を解決する手段としている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月29日(2021.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に転写用パターンを備えた、表示装置製造用のフォトマスクであって、
前記転写用パターンは、被転写体上にホールを形成するためのホールパターンであって、
前記透明基板が露出した、径Ｗ１（μｍ）の透光部と、
前記透光部を囲む、幅Ｒ（μｍ）の遮光リム部と、
前記遮光リム部を囲む、位相シフト部を有し、
前記位相シフト部と前記透光部の、露光光の代表波長の光に対する位相差が略１８０度であり、
前記透光部の片側に位置する前記位相シフト部を透過する露光光が被転写体上に形成する光強度分布において、前記位相シフト部と前記遮光リム部の境界位置から前記遮光リム部側に向かって、第１の谷の極小値点Ｂ１までの距離をｄ１（μｍ）とし、第２の谷の極小値点Ｂ２までの距離をｄ２（μｍ）とするとき、
（ｄ１−０．５×Ｗ１）≦Ｒ≦（ｄ２−０．５×Ｗ１）
であることを特徴とする、フォトマスク。
【請求項２】
透明基板上に転写用パターンを備えた、表示装置製造用のフォトマスクであって、
前記転写用パターンは、被転写体上にホールを形成するためのホールパターンであって、
前記透明基板が露出した、径Ｗ１（μｍ）の透光部と、
前記透光部を囲む、幅Ｒ（μｍ）の遮光リム部と、
前記遮光リム部を囲む、位相シフト部を有し、
前記位相シフト部と前記透光部の、露光光の代表波長の光に対する位相差が略１８０度であり、
前記透光部の片側に位置する前記位相シフト部を透過する露光光が被転写体上に形成する光強度分布において、前記位相シフト部と前記遮光リム部の境界位置から前記遮光リム部側に向かって、第１の山の極大値点Ｐにおける光強度の１／２を示す２つの点のうち、前記山の前記遮光リム部に近い側の傾斜部にある点をＱ１、遠い側の傾斜部にある点をＱ２とし、前記境界位置からＱ１までの距離をｄ３とし、Ｑ２までの距離をｄ４とするとき、
（ｄ３−０．５×Ｗ１）≦Ｒ≦（ｄ４−０．５×Ｗ１）
であることを特徴とする、フォトマスク。
【請求項３】
前記転写用パターンは、前記被転写体上に、径Ｗ２（但しＷ２≦Ｗ１）のホールを形成するためのホールパターンであることを特徴とする、請求項１又は２に記載のフォトマスク。
【請求項４】
前記位相シフト部は、前記代表波長の光に対して、２〜１０％の透過率をもつことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフォトマスク。
【請求項５】
開口数（ＮＡ）が０．０８〜０．２０であり、ｉ線、ｈ線、又はｇ線を含む露光光源をもつ等倍の投影露光装置を用いて、前記転写用パターンを露光し、被転写体上に、径Ｗ２が０．８〜３．０（μｍ）のホールを形成することに用いる、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフォトマスク。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のフォトマスクを用意する工程と、
開口数（ＮＡ）が０．０８〜０．２０であり、ｉ線、ｈ線、又はｇ線を含む露光光源をもつ等倍の投影露光装置を用いて、前記転写用パターンを露光し、被転写体上に、径Ｗ２が０．８〜３．０（μｍ）のホールを形成する工程とを含む、表示装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月7日(2021.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイミドと溶媒とからなる蓄電素子電極形成用のバインダ溶液であって、前記ポリイミドが、テトラカルボン酸として芳香族テトラカルボン酸、ジアミンとして脂肪族ジアミンを用いたポリイミドであることを特徴とする蓄電素子電極形成用バインダ溶液。
【請求項２】
芳香族テトラカルボン酸が、ピロメリット酸二無水物、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３′，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、４，４′−オキシジフタル酸無水物、３，３′，４，４′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物から選ばれる少なくとも一種であり、前記脂肪族ジアミンが、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノヘキサン、２−メチル−１，５−ジアミノペンタン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，１１−ジアミノウンデカン、１，１２−ジアミノドデカン、４，４′−メチレンビスシクロヘキシルアミン、ダイマジアミンから選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項１記載の蓄電素子電極形成用バインダ溶液。
【請求項３】
ポリイミドの重量平均分子量（Ｍｗ）が、５０００以上、１０００００以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の蓄電素子電極形成用バインダ溶液。
【請求項４】
溶媒として、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、水から選ばれる少なくとも一種を全溶媒質量に対し、７０質量％以上含むことを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の蓄電素子電極形成用バインダ溶液。
【請求項５】
請求項１〜４いずれかに記載のバインダ溶液に、蓄電素子電極の活物質を配合してなる蓄電素子電極形成用塗液。
【請求項６】
請求項５に記載の塗液の蓄電素子電極への使用。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月21日(2020.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
注入システム（１５０）を備えるＺピンチ装置（１０８）であって、前記注入システム（１５０）が、
導電性の液体（１５８）を圧力下で収容しリザーバ端部（１６４）を有する、リザーバ（１５２）と、
前記リザーバ端部に位置し、ゲート板開口（２１８）の円形アレイを有し、前記ゲート板開口の円形アレイの中心を通る中央軸（２２２）の周りで回転可能な、ゲート板（２１６）と、
前記ゲート板に隣接した定位置にあり、前記ゲート板開口を補完するように配置されたフェース板オリフィス（２５６）の円形アレイ（２５８）を有する、フェース板（２５０）と、
前記中央軸の周りで前記ゲート板を回転させるように構成された、モータ（２４２）と、
前記モータを、
前記ゲート板開口及び前記フェース板オリフィスが位置合わせされ、カソード板（２６８）に向けた注入エリア（２５２）への液体ジェットの円筒状アレイ（２８６）の注入を開始する、位置合わせクロッキング配向へと、前記ゲート板を回転させ、
区別された量の前記液体が注入された後、前記ゲート板を、前記フェース板オリフィスに対して、前記ゲート板開口の非位置合わせクロッキング配向へと回転させて、前記液体ジェットの形成を停止する
よう制御するように構成された、コントローラ（２４８）と、
電流のパルスを前記フェース板に印加するように構成された電源（２７６）と
を含み、
前記電流は、前記液体ジェットを通り前記カソード板へと流れ、前記液体ジェットを前記中央軸に沿ったプラズマへと変態させる、Ｚピンチ装置（１０８）。
【請求項２】
前記フェース板オリフィス（２５６）のうちの少なくとも１つがオリフィスライニング（２６０）を含み、前記ライニングが、前記オリフィスライニングの受け端から前記オリフィスライニングの送出端への方向に沿ってサイズがテーパする円錐形の内部（２６２）を有する、請求項１に記載のＺピンチ装置（１０８）。
【請求項３】
前記液体（１５８）が溶融金属であり、
前記リザーバ（１５２）が、前記溶融金属を溶融状態に維持するように構成されたリザーバヒータ（１６０）を含む、請求項１又は２に記載のＺピンチ装置（１０８）。
【請求項４】
前記液体（１５８）を加圧するために前記リザーバ（１５２）内で摺動可能に取付けられたピストン（１６８）を更に含む、請求項１から３の何れか一項に記載のＺピンチ装置（１０８）。
【請求項５】
前記注入エリア（２５２）が、前記フェース板（２５０）と前記フェース板から離間した位置にあるカソード板（２６８）との間で延びる囲み要素（２７２）によって集合的に画定される核融合チャンバ（２７４）である、請求項１から４の何れか一項に記載のＺピンチ装置（１０８）。
【請求項６】
区別された液体ジェット（２８６）の円筒状アレイを注入する方法（３００）であって、
コントローラ（２４８）から命令されるモータ（２４２）を用いて、ゲート板開口（２１８）の円形アレイが前記ゲート板に隣接した定位置にあるフェース板（２５０）のフェース板オリフィス（２５６）の円形アレイ（２５８）と位置合わせされている位置合わせクロッキング配向へと、ゲート板（２１６）を回転させる（３０４）ステップ、
リザーバ（１５２）内の圧力下にある液体（１５８）を、前記ゲート板開口及びフェース板オリフィスに通過させて（３０６）、液体ジェット（２８６）の円筒状アレイの注入エリア（２５２）への注入を開始するステップ、
前記コントローラから命令される前記モータを用いて、前記ゲート板を非位置合わせクロッキング配向へと回転させる（３０８）ステップ、並びに
前記ゲート板を前記非位置合わせクロッキング配向へと回転させることに応じて、前記液体ジェットの形成を停止する（３１０）ステップ
を含む、方法。
【請求項７】
前記液体（１５８）が溶融金属であり、前記方法が、
前記溶融金属を溶融状態に維持するために、リザーバヒータ（１６０）を用いて前記リザーバ（１５２）に熱を加えることを更に含む、
請求項６に記載の方法（３００）。
【請求項８】
前記コントローラ（２４８）に通信可能に連結された温度検知器（１６２）を用いて、前記リザーバ（１５２）内の前記液体（１５８）の温度を監視することと、
前記液体の温度が閾値温度を下回ったとき、前記コントローラの命令により、前記リザーバヒータ（１６０）の熱出力を調整することと
を更に含む、請求項７に記載の方法（３００）。
【請求項９】
前記液体ジェット（２８６）が停止したときに、電源（２７６）を用いて、前記フェース板（２５０）に電流のパルスを印加することと、
前記電流を用いて、前記液体ジェットをプラズマへと加熱することと
を更に含む、請求項６から８の何れか一項に記載の方法（３００）。
【請求項１０】
前記電流の少なくとも一部を前記電源（２７６）に戻すことを更に含む、
請求項９に記載の方法（３００）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月18日(2021.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）ジアミド系殺虫活性成分と、
（２）比誘電率（εｒ）が５以上であり、且つ遷移エネルギー（ＥＴ（３０））が３８ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上である溶媒と、
（３）ノニオン性界面活性剤と、
（４）組成物全体の３０重量％未満の量で含まれる非極性溶媒と、
を含む、殺虫組成物。
【請求項２】
（２）溶媒の比誘電率（εｒ）が５以上、７８以下であり、且つ遷移エネルギー（ＥＴ（３０））が３８ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上、５２ｋｃａｌ／ｍｏｌ以下である請求項１記載の組成物。
【請求項３】
（１）ジアミド系殺虫活性成分が、ブロフラニリドである請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
（２）溶媒が、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレン尿素、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、Ｎ−ブチルピロリドン、シクロヘキサノン、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、５−（ジメチルアミノ）−２−メチル−５−オキソペンタン酸メチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクタンアミド、乳酸ジメチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルデカンアミド、γ−ブチロラクトン、３−メチル−２−オキサゾドン、エチレングリコールモノメチルエーテル及びベンジルアルコールからなる群から選ばれる１種以上である請求項１から３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
（３）ノニオン性界面活性剤が、フェニルエーテル系界面活性剤である請求項１から４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
フェニルエーテル系界面活性剤が、ポリオキシアルキレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテルのホルマリン縮合物である請求項５記載の組成物。
【請求項７】
（１）ジアミド系殺虫活性成分の含有量が組成物全体の０．１〜３０重量％である請求項１から６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
組成物が液状であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の殺虫組成物を、植物、土壌または水面に施用する、有害生物の防除方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、本発明は、以下［１］から［９］のとおりである。
［１］  （１）ジアミド系殺虫活性成分と、
（２）比誘電率（εｒ）が５以上であり、且つ遷移エネルギー（ＥＴ（３０））が３８ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上である溶媒と、
（３）ノニオン性界面活性剤と、
（４）組成物全体の３０重量％未満の量で含まれる非極性溶媒と、
を含む、殺虫組成物。
［２］  （２）溶媒の比誘電率（εｒ）が５以上、７８以下であり、且つ遷移エネルギー（ＥＴ（３０））が３８ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上、５２ ｋｃａｌ／ｍｏｌ以下である［１］記載の組成物。
［３］  （１）ジアミド系殺虫活性成分が、ブロフラニリドである［１］または［２］に記載の組成物。
［４］  （２）溶媒が、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレン尿素、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、Ｎ−ブチルピロリドン、シクロヘキサノン、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、５−（ジメチルアミノ）−２−メチル−５−オキソペンタン酸メチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクタンアミド、乳酸ジメチルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルデカンアミド、γ−ブチロラクトン、３−メチル−２−オキサゾドン、エチレングリコールモノメチルエーテル及びベンジルアルコールからなる群から選ばれる１種以上である［１］から［３］のいずれかに記載の組成物。
［５］  （３）ノニオン性界面活性剤が、フェニルエーテル系界面活性剤である［１］から［４］のいずれかに記載の組成物。
［６］  フェニルエーテル系界面活性剤が、ポリオキシアルキレン（モノ、ジまたはトリ）スチリルフェニルエーテルのホルマリン縮合物である［５］記載の組成物。
［７］  （１）ジアミド系殺虫活性成分の含有量が組成物全体の０．１〜３０重量％である［１］から［６］のいずれかに記載の組成物。
［８］  組成物が液状であることを特徴とする［１］から［７］のいずれかに記載の組成物。
［９］  ［１］から［８］のいずれかに記載の殺虫組成物を植物、土壌または水面に施用する、有害生物の防除方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明において遷移エネルギー（ＥＴ（３０））とは、ディムロースとライヒャルトにより提唱された極性パラメーターの一つであり、ピリジニウム−Ｎ−フェノキシドベタインのＣＴ吸収が、溶媒極性が大きくなるほど短波長側にシフトする（負のソルバトクロミズム）ことを利用して、溶媒の極性の度合いを評価するものである。以下に具体的な測定条件を記述する。
試験機    ：紫外可視分光光度計  ＵＶ−１８００（島津製作所社製）
染料      ：Ｒｅｉｃｈａｒｄｔ‘ｓ  ｄｙｅ（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ社製）
測定温度  ：気温（２５±２℃）
測定方法  ：染料を溶解した各種溶媒を分光高度計により測定し、λmaxを求める。
λmaxを用いて下記算出式より遷移エネルギー（ＥＴ（３０））を求める。
2020083756.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
［実施例６］
ブロフラニリド１．０重量部、ポリオキシエチレン（３８）ジスチリルフェニルエーテルのホルマリン縮合物（ソルポールＦ−２７、東邦化学工業社製）２．５重量部および３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド（εｒ＝１９．６／ＥＴ（３０）＝４１．７ｋｃａｌ／ｍｏｌ、ＫＪＣＭＰＡ（登録商標）−１００、ＫＪケミカルズ社製）９６．５重量部、を室温で攪拌溶解して実施例６の殺虫組成物を得た。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月17日(2021.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機粉末（Ａ）およびポリエーテル構造を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｂ−１）を含有するペースト。
【請求項２】
２５℃におけるＴＩ値（３ｒｐｍ／３０ｒｐｍ）が１．０以上３．０以下である請求項１に記載のペースト。
【請求項３】
前記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ−１）がジカルボン酸構造および／またはジカルボン酸無水物構造を有する請求項１または２に記載のペースト。
【請求項４】
さらにＳＰ値が１８．５〜２２．１（Ｊ／ｃｍ３）１／２である有機溶剤（Ｃ−１）を含有する請求項１〜３いずれかに記載のペースト。
【請求項５】
前記有機溶剤（Ｃ−１）が、エーテル構造および酢酸エステル構造を含む請求項４に記載のペースト。
【請求項６】
さらに光反応性官能基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｂ−２）を含有する請求項１〜５いずれかに記載のペースト。
【請求項７】
前記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ−２）がノボラック構造を有する請求項６に記載のペースト。
【請求項８】
前記アルカリ可溶性樹脂（Ｂ−１）が下記一般式（３）で表される構造を有する請求項１〜７いずれかに記載のペースト。
【化１】
2020083947.tif 000001
（上記一般式（３）中、ｌは任意の自然数、Ｒ６は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ７はエーテル基またはそれぞれ独立の２個の水酸基、Ｒ８は炭素数１〜２４の１価の炭化水素基を表す。ａおよびｂは繰り返し単位のモル％（ａ＋ｂ＝１００）を表し、ａは３５〜６５、ｂは３５〜６５の範囲である。なお、各繰り返し単位において、複数のＲ６、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ同じでも異なってもよい。）
【請求項９】
前記一般式（３）におけるｌが５〜６０の整数である請求項８に記載のペースト。
【請求項１０】
請求項１〜９いずれかに記載のペーストを硬化してなる硬化膜。
【請求項１１】
請求項１０に記載の硬化膜を焼成してなる焼成体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の焼成体を含む電子部品。
【請求項１３】
請求項１〜９いずれかに記載のペーストをスクリーン印刷法により塗布する工程、乾燥する工程、露光・現像する工程を有する電子部品の製造方法。
【請求項１４】
セラミック層上に配線ピッチが１０〜６０μｍの配線パターンを有する配線つきセラミックを複数層有する積層体の最上層にさらにセラミック層を有する配線つきセラミック積層体であって、配線パターンを含む部分の最大厚みＡと、配線パターンを含まない部分の最小厚みＢとの差が１０μｍ以下である配線つきセラミック積層体。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年2月15日(2021.2.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項２】
結晶形である、請求項１に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項３】
結晶形が、６．１±０．２°、１２．１±０．２°、１３．９±０．２°、１６．９±０．２°、１９．４±０．２°及び２１．６±０．２℃の２θ反射角で６つの最も強い特徴的なピークを示すＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを有するＡ型である、請求項２に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項４】
ＸＲＰＤパターンが、以下の２θ反射角：８．８±０．２°、１８．４±０．２°、１８．９±０．２°、２０．３±０．２°、２１．１±０．２°、２１．８±０．２°、２３．３±０．２°、２４．９±０．２°及び２８．０±０．２°に特徴的なピークをさらに含む、請求項３に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項５】
５０．５±１℃のピーク開始温度及び５５．４±１℃及び６３．０±１℃のピーク最大値を有する２つの吸熱ピークを含む示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムパターンを有する、請求項３に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項６】
結晶形が、以下の２θ反射角：６．５±０．２°、１３．０±０．２°、１８．２±０．２°、１９．０±０．２°、２０．１±０．２°、及び２０．９±０．２°でその６つの最も強い特徴的ピークを示すＸＲＰＤパターンを有するＢ型である、請求項２に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項７】
ＸＲＰＤパターンが、以下の２θ反射角：８．７±０．２°、１３．８±０．２°、１５．０±０．２°、１５．９±０．２°、２２．４±０．２°、２３．７±０．２°、２６．２±０．２°、２７．５±０．２°及び２８．５±０．２°における特徴的なピークをさらに含む、請求項６に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項８】
５０．９±１℃のピーク開始温度及び５６．４±１℃及び６４．２±１℃のピーク最大を有する２つの吸熱ピークを含むＤＳＣサーモグラムパターンを有する、請求項６に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項９】
結晶形が、以下からなる群から選択される、請求項２に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物：
（ａ）６．１±０．２°、１２．１±０．２°、１３．９±０．２°、１６．９±０．２°、１９．４±０．２°及び２１．６±０．２°の２θ反射角で６つの最も強い特徴ピークを示す粉末Ｘ線回析（ＸＲＰＤ）図を有するＡ型；
（ｂ）６．５±０．２°、１３．０±０．２°、１８．２±０．２°、１９．０±０．２°、２０．１±０．２°及び２０．９±０．２°の２θ反射角で６つの最も強い特徴ピークを示すＸＲＰＤ図を有するＢ型；及び
（ｃ）これらの混合物。
【請求項１０】
結晶形が３０±５℃未満の温度でＡ型であり、結晶が３０±５℃を超える温度でＢ型である、請求項９に記載のベラプロスト−３１４ｄ・一水和物。
【請求項１１】
以下の工程を含む、ベラプロスト−３１４ｄ・一水和物結晶を調製するための方法：
ベラプロスト−３１４ｄを、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド及びこれらの混合物からなる群より選択される第１の溶媒に溶解して、均一溶液を形成する工程；
温度を低下させ、及び／又は第２の溶媒を添加し、ここで第２の溶媒は水であり、沈殿物が形成されるまで撹拌する工程。
【請求項１２】
以下の工程をさらに含む、請求項１１に記載の方法：
第２の溶媒又は第１の溶媒と第２の溶媒との混合物を添加して沈殿物を洗浄する工程；
沈殿物を濾過して除去し、場合により沈殿を乾燥させる工程。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
本発明において、ベラプロスト−３１４ｄ・一水和物の結晶形は、以下からなる群から選択される：
（ａ）６．１±０．２°、１２．１±０．２°、１３．９±０．２°、１６．９±０．２°、１９．４±０．２°及び２１．６±０．２°の２θ反射角で６つの最も強い特徴ピークを示す粉末Ｘ線回析（ＸＲＰＤ）図を有するＡ型；
（ｂ）６．５±０．２°、１３．０±０．２°、１８．２±０．２°、１９．０±０．２°、２０．１±０．２°及び２０．９±０．２°の２θ反射角で６つの最も強い特徴ピークを示すＸＲＰＤ図を有するＢ型；及び
（ｃ）これらの混合物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月8日(2021.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インデンの含有量が８０〜９９．５質量％のインデン組成物であり、
前記インデン以外の成分に占める、５員環及び６員環の縮合環構造を有する炭素数９又は１０の炭化水素化合物の含有割合が９０質量％以上であり、
ベンゾニトリルの含有量が０．５質量％以下、硫黄の含有量が５質量ｐｐｍ以下である、インデン組成物。
【請求項２】
前記炭化水素化合物が、脂環式化合物を含有する、請求項１に記載のインデン組成物。
【請求項３】
前記脂環式化合物が、シクロヘキセン環とシクロペンテン環とが縮合した縮合環構造を有する炭素数９の化合物を含む、請求項２に記載のインデン組成物。
【請求項４】
前記脂環式化合物が、ノルボルナン環又はノルボルネン環と５員環とが縮合した縮合環構造を有する炭素数１０の化合物を含む、請求項２又は３に記載のインデン組成物。
【請求項５】
前記脂環式化合物の含有量が、０．１〜１質量％である、請求項２〜４のいずれか一項に記載のインデン組成物。
【請求項６】
前記炭化水素化合物が、インダン、メチルインダン及びメチルインデンからなる群より選択される少なくとも一種の芳香族化合物を含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のインデン組成物。
【請求項７】
前記芳香族化合物の含有量が０．１〜１９．９質量％である、請求項５に記載のインデン組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のインデン組成物の製造方法であって、
インダンを含む原料組成物を脱水素触媒に接触させて、インデンを含む反応生成物を得る脱水素工程と、
前記反応生成物を精製して前記インデン組成物を得る精製工程と、
を備え、
前記脱水素触媒が、アルミニウムを含む担体と、当該担体に担持された第１４族金属元素及び白金と、を含み、
前記脱水素触媒における前記白金の含有量が、前記脱水素触媒の全量基準で０．６〜４．０質量％である、製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のインデン組成物の製造方法であって、
インダン及び分子状水素を含む原料ガスを脱水素触媒に接触させて、インデンを含む反応生成物を得る脱水素工程と、
前記反応生成物を精製して前記インデン組成物を得る精製工程と、
を備え、
前記脱水素触媒が、アルミニウムを含む担体と、当該担体に担持された担持金属とを有し、
前記担持金属が、第１４属金属元素及び白金を含み、前記脱水素触媒における前記白金に対する前記第１４属金属元素の原子比が、８．０以下である、製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月17日(2020.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
シフトレバー１０で選択可能なシフトレンジの種類は適宜設計可能であるが、本実施形態の場合、Ｐレンジ（パーキングレンジ）、Ｎレンジ（ニュートラルレンジ）、Ｄレンジ（ドライブレンジ）及びＲレンジ（リバースレンジ）を含む。自動変速機６ｂはＤレンジが選択されると車両１が前進するようにエンジン６ａからの駆動力の駆動伝達経路を切り替え、Ｒレンジが選択されると車両１が後進するように駆動伝達経路を切り替える。なお、シフトレバー１０に代えて、ボタン式のシフトレンジの選択装置を採用してもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
ＥＣＵ２２は操作装置ＯＰに対する乗員の操作等に基づき、駆動ユニット６を制御する。操作装置ＯＰは、アクセルペダル、ブレーキペダル、上述したシフトレバー１０を含む。ＥＣＵ２３は撮影装置４及び表示装置７を制御する。ＥＣＵ２３は、撮影装置４の撮影画像に対してノイズ除去や輪郭強調といった画像処理も行う。ＥＣＵ２３は、そのような画像処理に特化した専用のプロセッサを含んでもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ＥＣＵ２４はセンサＳＥを制御し、その検知結果を取得する。センサＳＥには、上記の照度センサ９が含まれる。ＥＣＵ２５は通信装置１２を制御し、外部機器との通信を行う。通信装置１２は無線通信装置であり、ＥＣＵ２５は、例えばインターネットなどのネットワーク上のサーバから地図情報や天気情報を取得可能である。ＥＣＵ２６はＧＰＳセンサ１３を制御し、その検知結果を取得する。ＧＰＳセンサ１３によって車両１の現在位置を特定することができる。時刻回路２７は現在時刻情報を出力する回路である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図６（Ｃ）はそのための照度センサ９の配置例を示している。同図の例では、車両１の左右に離間して照度センサ９Ｒ、９Ｌが設けられている。照度センサ９Ｒは撮影装置４Ｒに隣接して、照度センサ９Ｌは撮影装置４Ｌに隣接して、それぞれ配置されている。右側の撮影装置４Ｒ、表示装置７Ｒの組みは照度センサ９Ｒの検知結果に基づき動作モードを設定し、左側の撮影装置４Ｌ、表示装置７Ｌの組みは照度センサ９Ｌの検知結果に基づき動作モー
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2020083071.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2020083071.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月17日(2020.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の周辺を撮影する撮影手段と、
前記撮影手段の撮影画像を表示する表示手段と、
乗員に情報を報知する報知手段と、を備え、
前記報知手段は、前記表示手段による前記撮影画像の表示開始を少なくとも条件として、前記車両が発進可能な状態にあることを乗員に報知する、
ことを特徴とする車載装置。
【請求項２】
請求項１に記載の車載装置であって、
前記報知手段は、
前記車両の推進力を発揮する駆動源が運転可能状態であること、及び、前記表示開始を少なくとも条件として前記車両が発進可能な状態にあることを乗員に報知する、
ことを特徴とする車載装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の車載装置であって、
前記表示手段による前記撮影画像の表示開始は、前記表示手段が非表示状態から表示状態に要する時間の経過に基づき判定される、
ことを特徴とする車載装置。
【請求項４】
請求項３に記載の車載装置であって、
前記時間は、気温によらずに一律に定められた時間である、
ことを特徴とする車載装置。
【請求項５】
請求項３に記載の車載装置であって、
前記時間は、気温に応じて変更される時間である、
ことを特徴とする車載装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の車載装置であって、
前記報知手段は、
前記表示手段による表示が、故障により困難な場合、前記表示手段による前記撮影画像の表示開始を条件とせずに、前記車両が発進可能な状態にあることを乗員に報知する、
ことを特徴とする車載装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の車載装置であって、
前記撮影手段は、前記車両の側方後方を撮影し、
前記車両は、サイドミラーレス車両である、
ことを特徴とする車載装置。