【手続補正書】
【提出日】令和3年1月19日(2021.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するように構成された第１の基板ホルダと、
前記基板を保持するように構成された第２の基板ホルダと、
センサ及び／又は検出器を保持するように構成されたセンサホルダと、
パターニングデバイスにより放射ビームに付与されたパターンを、前記基板のターゲット部分へと投影するように構成された投影システムと、
前記基板の面内変形に関する情報及び／又は前記基板の高さプロファイルに関する情報を提供するように構成された測定デバイスと、
前記基板上の基板アライメントマークの位置に関する情報を提供するように構成された追加的な測定デバイスと、
を備える露光装置であって、
前記測定デバイスは、大量の測定に基づいて詳細なアライメント情報を提供するように構成され、
前記追加的な測定デバイスは、前記基板上の３個から１６個の基板アライメントマークの測定に基づいて、粗いウェーハアライメント情報を提供するように構成され、
前記露光装置は、前記基板が前記第２の基板ホルダによって保持されているときに、前記第１の基板ホルダ上に第２の基板を保持するように構成され、
前記追加的な測定デバイスは、前記測定デバイスが前記第２の基板から前記詳細なアライメント情報を取得している間、前記第２の基板ホルダによって保持された前記基板から前記粗いウェーハアライメント情報を取得するように構成されている、露光装置。
【請求項２】
前記測定デバイスは、単数のアライメントセンサを備える第１のアライメントシステムを有する、請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１のアライメントシステムによって測定される基板アライメントマークの数は、９６個以上である、請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１の基板ホルダの下面に配置された第１のスケールを備える、及び／又は、
前記測定デバイスの下方に配置された第１のエンコーダヘッドを備える、請求項２又は３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１のエンコーダヘッドは、前記第１のアライメントシステムの下方に配置され、静止支持体に保持されている、請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１のエンコーダヘッドと、前記第１のエンコーダヘッドに対向する前記第１のスケールと、を有し、前記第１の基板ホルダの位置情報を表す第１の信号を提供するように構成される第１の位置測定システムを備える、請求項４又は５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１の位置測定システムは、前記第１の基板ホルダが前記測定デバイス付近にあるときに、前記第１の基板ホルダの位置情報を表す第１の信号を提供するように構成される、請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第２の基板ホルダの下面に配置された第２のスケールを備える、及び／又は、
前記追加的な測定デバイスの下方に配置された第２のエンコーダヘッドを備える、請求項１から７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第２の基板ホルダ及び／又は前記センサホルダが、前記追加的な測定デバイス及び／又は前記投影システム付近にあるときに、前記第２の基板ホルダ及び／又は前記センサホルダの位置情報を表す第２の信号を提供するように構成された第２の位置測定システムを備える、請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２の位置測定システムは、前記第２のエンコーダヘッドと、前記第２の基板ホルダの表面に配置された前記第２のスケールと、を有し、
前記第２のエンコーダヘッドは、前記第２の基板ホルダが前記投影システム付近にあるときに前記第２のスケールに対向するように配置される、請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第２の位置測定システムは、前記センサホルダの表面に配置された第３のスケールをさらに有し、
前記第２のエンコーダヘッドは、前記センサホルダが前記投影システム付近にあるときに前記第３のスケールに対向するように配置される、請求項９又は１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記測定デバイスによって提供される前記基板の高さプロファイルに関する情報は、前記基板の平坦さに関する情報である、請求項１から１１の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記測定デバイスによって提供される前記基板の平坦さに関する情報は、前記第１の基板ホルダに保持された前記基板の平坦さに関する情報である、請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記追加的な測定デバイスは、第２のアライメントシステムを備える、請求項１から１３の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第２のアライメントシステムは、複数のアライメントセンサを有する、請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第２のアライメントシステムによって測定される基板アライメントマークの数は、３個から１６個である、請求項１４又は１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記粗いウェーハアライメント情報は、前記基板の形状、前記基板の位置、及び／又は、前記基板の面内変形に関する情報である、請求項１から１６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記センサホルダは、波面収差測定デバイス、照度モニタ、照度むらセンサ、及び／又は、均一性センサを保持する、請求項１から１７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記基板を前記第１の基板ホルダから前記第２の基板ホルダへと運ぶように構成される移動デバイスを備える、請求項１から１８の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記第２の基板ホルダ及び前記センサホルダは、前記基板の露光前及び／又は露光後に、一体となって動くように構成されている、請求項１から１９の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記測定デバイスは、前記第２の基板ホルダによって保持された前記基板の露光中に、前記第２の基板の基板アライメントマークの位置を測定するように構成されている、請求項１から２０の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記第２の基板ホルダ及び前記センサホルダは、前記測定デバイスが前記第２の基板の基板アライメントマークの位置を測定し続けている間、一体となって動くように構成されている、請求項１から２１の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記センサホルダによって保持された前記センサ及び／又は検出器は、前記測定デバイスが前記第２の基板の基板アライメントマークの位置を測定している間、
前記放射ビームの特性を測定すること、
前記投影システムの特性を測定すること、及び／又は、
前記投影システムによって投影された前記パターンの空間像を測定すること、
を行うように構成されている、請求項１から２２の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
空間像を測定するように構成された空間像測定デバイスを備え、
前記第２の基板ホルダは、マーカを有し、
前記空間像測定デバイスは、前記第２の基板ホルダ上の前記マーカと、前記センサホルダ上の前記検出器と、を有する、請求項１から２３の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記マーカは、少なくとも一つの基準プレートを備える、請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記検出器は、前記第２の基板ホルダ及び前記センサホルダが一体となっているときに前記空間像を測定する、請求項２４又は２５に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記空間像の光学特性を制御すること、及び／又は、前記投影システムの光学特性を制御すること、を行うように構成された制御ユニットを備える、請求項２４から２６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２８】
前記制御ユニットは、詳細なアライメント情報に基づいて詳細な歪みマップを生成すること、粗いウェーハアライメント情報に基づいて粗い歪みマップを生成すること、及び／又は、前記詳細な歪みマップと前記粗い歪みマップとを組み合わせることにより統合歪みマップを生成すること、を行うように構成される、請求項２７に記載の露光装置。
【請求項２９】
前記投影システムは、鏡筒と、光学要素と、前記光学要素を保持するように構成されたレンズホルダと、を有し、
前記制御ユニットは、前記詳細な歪みマップ及び／又は前記統合歪みマップに基づき、前記第２の基板ホルダの位置、前記空間像の前記光学特性、前記投影システムの前記光学特性、及び／又は、前記鏡筒に対する前記光学要素の位置及び／又は向きを制御することにより、フィールド間オーバーレイエラー及び／又はフィールド内オーバーレイエラーを補償する、請求項２８に記載の露光装置。
【請求項３０】
前記詳細な歪みマップは、線形成分及び／又は高次成分を有する、請求項２８又は２９に記載の露光装置。
【請求項３１】
前記制御ユニットによって制御される前記空間像の光学特性、及び／又は、前記投影システムの光学特性は、倍率Ｘ、倍率Ｙ、歪曲収差、コマ収差、像面湾曲、球面収差、及び／又は、非点収差を含む、請求項２７から３０の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項３２】
前記投影システムは、変形可能ミラーを有する、請求項１から３１の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項３３】
前記放射ビームは、１９３ｎｍの波長、又は、１９３ｎｍ付近の波長を有する紫外線放射である、請求項１から３２の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項３４】
前記投影システムと、前記第２の基板ホルダ、前記基板及び前記センサホルダの少なくとも一つと、の間に画定される空間に、液浸液を供給して閉じ込めるように構成された液体ハンドリングシステムを備える、請求項１から３３の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項３５】
前記液体ハンドリングシステムは、前記空間から前記液浸液を回収するように構成された回収ポートを有する、請求項３４に記載の露光装置。
【請求項３６】
前記回収ポートには、多孔性部材が配置されている、請求項３５に記載の露光装置。