(57)【要約】【課題】工業的に有用なナフトビスチアジアゾールの製造方法を提供する。【解決手段】ナフトビスチアジアゾールの製造方法では、テトラアミノナフタレン又はこの塩と硫黄化剤とを反応させてナフトビスチアジアゾールを得ている。Ｎ４Ｓ４等の危険物を用いていないので、工業的にナフトビスチアジアゾールを製造することが可能である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
テトラアミノナフタレン又はこの塩と硫黄化剤とを反応させてナフトビスチアジアゾールを得る、
ことを特徴とするナフトビスチアジアゾールの製造方法。
【請求項２】
塩基存在下で反応させる、
ことを特徴とする請求項１に記載のナフトビスチアジアゾールの製造方法。
【請求項３】
前記塩基として３級アミンからなる群から選ばれる少なくとも１種を用いる、
ことを特徴とする請求項２に記載のナフトビスチアジアゾールの製造方法。
【請求項４】
前記テトラアミノナフタレン又はこの塩として１，２，５，６−テトラアミノナフタレン又はこの塩を用いる、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のナフトビスチアジアゾールの製造方法。
【請求項５】
前記硫黄化剤として塩化チオニルを用いる、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のナフトビスチアジアゾールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ナフトビスチアジアゾールの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
種々の有機半導体材料の研究、開発、実用化が進められており、ナフトビスチアジアゾール骨格を有する有機半導体材料が有望視されている（例えば、非特許文献１、２）。
【０００３】
従来、ナフトビスチアジアゾール類は、以下の反応式に示すように、ジブロモジヒドロキシナフタレンと四硫化四窒素（Ｎ４Ｓ４）とを反応させて、ナフトビスチアジアゾールを製造する方法が開示されている（非特許文献３）。
【化１】
2014009163.tif 000002
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】J. Am. Chem. Soc., 133, 9638 (2011).
【非特許文献２】J. Am. Chem. Soc., 134(7), 3498 (2012).
【非特許文献３】Bull. Chem. Soc. Jpn., 64, 68-73 (1991).
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
非特許文献３では、Ｎ４Ｓ４を用いている。Ｎ４Ｓ４は大変不安定な物質で、熱や衝撃で容易に爆発する危険物質であり、取り扱いが困難である。すなわち、非特許文献３の方法は、工業的にナフトビスチアジアゾールを製造し得るものではない。
【０００６】
本発明は上記事項に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、工業的に有用なナフトビスチアジアゾールの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るナフトビスチアジアゾールの製造方法は、
テトラアミノナフタレン又はこの塩と硫黄化剤とを反応させてナフトビスチアジアゾールを得る、
ことを特徴とする。
【０００８】
また、塩基存在下で反応させることが好ましい。
【０００９】
また、前記塩基として３級アミンからなる群から選ばれる少なくとも１種を用いてもよい。
【００１０】
また、前記テトラアミノナフタレン又はこの塩として１，２，５，６−テトラアミノナフタレン又はこの塩を用いてもよい。
【００１１】
また、前記硫黄化剤として塩化チオニルを用いてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係るナフトビスチアジアゾールの製造方法では、Ｎ４Ｓ４等の取り扱いが困難な危険物を用いていないため、工業的にナフトビスチアジアゾールを製造することが可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本実施の形態に係るナフトビスチアジアゾールの製造方法は、下記反応式にて示すように、テトラアミノナフタレン又はこの塩と硫黄化剤とを反応させてナフトビスチアジアゾールを得る。
【化２】
2014009163.tif 000003
【００１４】
具体的には、テトラアミノナフタレン又はこの塩を過剰量の塩基あるいは塩基存在下の溶媒に溶解又は分散させておき、０℃から９０℃の温度範囲で、硫黄化剤を滴下又は添加し、その温度範囲で反応させ、水を添加し析出した固体を濾過、洗浄、乾燥することにより、ナフトビスチアジアゾールを高収率、高純度で得ることができる。また、カラムクロマトグラフィーや再結晶等によりさらに精製することもできる。本工程を実施するにあたり、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で反応を行うことが好ましい。
【００１５】
用いるテトラアミノナフタレンとして、１，２，５，６−テトラアミノナフタレン、１，２，６，７−テトラアミノナフタレン、１，２，７，８−テトラアミノナフタレン、２，３，６，７−テトラアミノナフタレンが挙げられる。そして、上記のテトラアミノナフタレンそれぞれに対応して、ナフト［１，２−ｃ：５，６−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール、ナフト［１，２−ｃ：６，７−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール、ナフト［１，２−ｃ：７，８−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール、ナフト［２，３−ｃ：６，７−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾールが合成され得る。
【００１６】
また、テトラアミノナフタレンの塩としては、テトラアミノナフタレン二塩酸塩、テトラアミノナフタレン四塩酸塩などの塩酸塩や硫酸塩などが挙げられる。
【００１７】
硫黄化剤として、特に限定されるものではなく、例えば、硫黄、一塩化硫黄、二塩化硫黄、塩化チオニル（ＳＯＣｌ２）、塩化スルフリル（ＳＯ２Ｃｌ２）、ローソン試薬（２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３，２，４−ジチアジホスフェタン−２，４−ジスルフィド）などが挙げられ、好ましくは塩化チオニルである。
【００１８】
塩基は、テトラアミノナフタレン又はこの塩のアミノ基のプロトン（Ｈ＋）を受け取り可能で、テトラアミノナフタレン又はこの塩と硫黄化剤との反応を促進させるものが用いられる。塩基として、例えば、水酸化化合物（水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等、水酸化テトラブチルアンモニウム等）、炭酸化合物（炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、リン酸化合物（リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム等）、３級アミン類（ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジイソプロピルエチルアミン、ＤＡＢＣＯ（１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン）等）、含窒素ヘテロ環化合物（ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）等）の有機塩基、アルコキシド化合物（ナトリウムメトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等）などが挙げられ、なかでも３級アミン類が好ましい。
【００１９】
また、塩基を溶媒兼として過剰量用いることもできるが、別途、溶媒を加えて反応させることもできる。用い得る溶媒として、芳香族系溶媒（例えば、トルエン、アニソール等）、アミド系溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、エーテル系溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、エステル系溶媒（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ニトリル系溶媒（例えば、アセトニトリル等）、スルホン系溶媒（例えば、スルホラン等）、塩素系溶媒（例えば、塩化メチレン、クロロホルム等）、炭化水素系溶媒（例えば、ヘプタン、メチルシクロヘキサン等）が挙げられる。これらの溶媒は単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
【００２０】
なお、原料となるテトラアミノナフタレンまたはこの塩は、「K. Imai et al., Macromolecules, 6(2), 158-162 (1973).」に開示されている方法等、公知の方法にて合成し用いればよい。
【実施例】
【００２１】
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。但し、本発明はこれらに限定されない。
【００２２】
なお、以下の実施例において、原料となる１，２，５，６−テトラアミノナフタレン及び四塩酸塩は、「K. Imai et al., Macromolecules, 6(2), 158-162 (1973)」を参考にして合成した。また、１，２，５，６−テトラアミノナフタレン二塩酸塩は、「S. Mataka et al., Bull. Chem. Soc. Jpn., 65, 2221-2226 (1992)」を参考にして合成した。
【００２３】
（実施例１）
窒素雰囲気下、１００ｍｌの三口フラスコに１，２，５，６−テトラアミノナフタレン（０．５０ｇ）、ピリジン（１６．０ｇ）を入れ、室温で塩化チオニル（１．３ｇ）をゆっくり滴下した。滴下後、７０℃まで昇温し、２時間撹拌した。
その後、水（１６．０ｇ）を滴下し、１時間撹拌した。
その後、０〜５℃まで冷却し、析出した固体を濾取・乾燥し、ナフトビスチアジアゾール（ナフト［１，２−ｃ：５，６−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール）（０．４３ｇ、収率６６．２％）を得た。
得られたナフトビスチアジアゾールの液体クロマトグラフ分析を行ったところ、９８．４％であった。
また、得られたナフトビスチアジアゾールの測定結果を以下に示す。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3, ppm) δ 8.93(d, 2H, J=9.3Hz), 8.20(d, 2H, J=9.3Hz)
【００２４】
（実施例２）
窒素雰囲気下、１００ｍｌの三口フラスコに１，２，５，６−テトラアミノナフタレン（０．５０ｇ）、ピリジン（１６．０ｇ）を入れ、内温を０〜５℃になるように冷却した。
ここに塩化チオニル（１．３ｇ）をゆっくり滴下した。滴下後、５０℃まで昇温し、２時間撹拌した。
その後、水（１６．０ｇ）を滴下し、１時間撹拌した。
その後、０〜５℃まで冷却し、析出した固体を濾取・乾燥し、ナフトビスチアジアゾール（ナフト［１，２−ｃ：５，６−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール）（０．４５ｇ、収率６９．２％）を得た。
得られたナフトビスチアジアゾールの液体クロマトグラフ分析を行ったところ、９９．０％であった。
【００２５】
（実施例３）
窒素雰囲気下、１００ｍｌの三口フラスコに１，２，５，６−テトラアミノナフタレン二塩酸塩（０．５０ｇ）、ピリジン（１６．０ｇ）を入れ、内温を０〜５℃になるように冷却した。
ここに塩化チオニル（１．３ｇ）をゆっくり滴下した。滴下後、５０℃まで昇温し、２時間撹拌した。
その後、水（１６．０ｇ）を滴下し、１時間撹拌した。
その後、０〜５℃まで冷却し、析出した固体を濾取・乾燥し、ナフトビスチアジアゾール（ナフト［１，２−ｃ：５，６−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール）（０．３１ｇ、収率６６．４％）を得た。
得られたナフトビスチアジアゾールの液体クロマトグラフ分析を行ったところ、９８．６％であった。
【００２６】
（実施例４）
窒素雰囲気下、３００ｍｌの三口フラスコに１，２，５，６−テトラアミノナフタレン四塩酸塩（９．１０ｇ）、ピリジン（１４２．０ｇ）を入れ、内温を０〜５℃になるように冷却した。
ここに塩化チオニル（１４．２ｇ）をゆっくり滴下した。滴下後、７０℃まで昇温し、２時間撹拌した。
その後、水（１４２．０ｇ）を滴下し、１時間撹拌した。
その後、０〜５℃まで冷却し、析出した固体を濾取・乾燥し、ナフトビスチアジアゾール（ナフト［１，２−ｃ：５，６−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール）（４．７５ｇ、収率７１．３％）を得た。
得られたナフトビスチアジアゾールの液体クロマトグラフ分析を行ったところ、９８．１％であった。
【００２７】
（実施例５）
窒素雰囲気下、１００ｍｌの三口フラスコに１，２，５，６−テトラアミノナフタレン（０．５０ｇ）、ピリジン（６．０ｇ）、ジオキサン（１０．０ｇ）を入れ、室温で塩化チオニル（１．３ｇ）をゆっくり滴下した。滴下後、５０℃まで昇温し、３時間撹拌した。
その後、水（３０．０ｇ）を滴下し、１時間撹拌した。
その後、０〜５℃まで冷却し、析出した固体を濾取・乾燥し、ナフトビスチアジアゾール（ナフト［１，２−ｃ：５，６−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール）（０．４０ｇ、収率６１．５％）を得た。
得られたナフトビスチアジアゾールの液体クロマトグラフ分析を行ったところ、９７．０％であった。
【００２８】
（実施例６）
窒素雰囲気下、１００ｍｌの三口フラスコに１，２，５，６−テトラアミノナフタレン（０．５０ｇ）、トリエチルアミン（１．１ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０．０ｇ）を入れ、内温を０〜５℃になるように冷却した。
ここに塩化チオニル（０．８ｇ）をゆっくり滴下した。滴下後、５０℃まで昇温し、１時間撹拌した。
その後、塩を濾過し、溶媒を留去させ、水を加えスラリー化させた。
析出した固体を濾取・乾燥し、ナフトビスチアジアゾール（ナフト［１，２−ｃ：５，６−ｃ’］ビス［１，２，５］チアジアゾール）（０．２０ｇ、収率３０．８％）を得た。
得られたナフトビスチアジアゾールの液体クロマトグラフ分析を行ったところ、８１．０％であった。
【００２９】
上記の実施例で示したように、四硫化四窒素等の危険物を用いずに、ナフトビスチアジアゾールを製造できることを確認した。したがって、工業的にナフトビスチアジアゾールを製造することが可能である。