【手続補正書】
【提出日】令和3年6月10日(2021.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバと、
電極を有し、前記チャンバ内に設けられた基板支持台と、
前記チャンバ内でガスからプラズマを生成するために高周波電力を供給するように構成された高周波電源と、
正極性の直流電圧及び負極性の直流電圧を発生するように構成されており、前記電極に電気的に接続された電源ユニットと、
を備え、
前記電源ユニットは、
前記チャンバ内でのエッチングガスからのプラズマの生成中の第１の期間において、直流電圧の前記電極への印加を停止し、
前記チャンバ内での前記エッチングガスからの前記プラズマの生成中、且つ、前記第１の期間の後の第２の期間において、正極性の直流電圧である第１の直流電圧を前記電極に印加し、
前記基板支持台上に載置された基板に対するエッチングのために、前記チャンバ内での前記エッチングガスからの前記プラズマの生成中、且つ、前記第２の期間の後の第３の期間において、負極性の直流電圧である第２の直流電圧を前記電極に印加する、
ように構成されており、
前記電源ユニットが出力する直流電圧が、前記第２の期間における前記第１の直流電圧から前記第３の期間における前記第２の直流電圧に連続的に切り替えられる、
プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記第１の直流電圧の絶対値は、前記第２の直流電圧の絶対値よりも小さい、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記第３の期間の時間長は、前記第１の期間の時間長と前記第２の期間の時間長の和以下である、請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記第３の期間の時間長は、１０μ秒以下である、請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記第２の期間の時間長は、前記第１の期間の時間長以下である、請求項３又は４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記電源ユニットは、前記第１の期間における前記電極への直流電圧の印加の停止、前記第２の期間における前記電極への前記第１の直流電圧の印加、及び前記第３の期間における前記電極への前記第２の直流電圧の印加を繰り返すように構成されている、請求項１〜５の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記電源ユニットは、
前記チャンバ内でのクリーニングガスからのプラズマの生成中の第４の期間において、負極性の直流電圧である第３の直流電圧を前記電極に印加し、
前記チャンバ内での前記クリーニングガスからの前記プラズマの生成中、且つ、前記第４の期間の後の第５の期間において、直流電圧の前記電極への印加を更に停止し、
前記チャンバ内での前記クリーニングガスからの前記プラズマの生成中、且つ、前記第５の期間の後の第６の期間において、正極性の直流電圧である第４の直流電圧を前記電極に印加する、
よう更に構成されており、
前記第４の期間の時間長は、前記第５の期間の時間長と前記第６の期間の時間長との和よりも長い、
請求項１〜６の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記第４の期間の時間長は、前記第３の期間の時間長より長い、請求項７に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記電源ユニットは、前記第４の期間における前記電極への前記第３の直流電圧の印加、前記第５の期間における前記電極への直流電圧の印加の停止、及び前記第６の期間における前記電極への前記第４の直流電圧の印加を繰り返すように構成されている、請求項７又は８に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
プラズマ処理装置を用いて実行されるプラズマ処理方法であって、
前記プラズマ処理装置は、
チャンバと、
電極を有し、前記チャンバ内に設けられた基板支持台と、
前記チャンバ内でガスからプラズマを生成するために高周波電力を供給するように構成された高周波電源と、
正極性の直流電圧及び負極性の直流電圧を発生するように構成されており、前記電極に電気的に接続された電源ユニットと、
を備え、該プラズマ処理方法は、
前記チャンバ内でのエッチングガスからのプラズマの生成中の第１の期間において、前記電源ユニットからの直流電圧の前記電極への印加を停止する工程と、
前記チャンバ内での前記エッチングガスからの前記プラズマの生成中、且つ、前記第１の期間の後の第２の期間において、前記電源ユニットから前記電極に第１の直流電圧を印加する工程であり、該第１の直流電圧は正極性の電圧である、該工程と、
前記基板支持台上に載置された基板に対するエッチングのために、前記チャンバ内での前記エッチングガスからの前記プラズマの生成中、且つ、前記第２の期間の後の第３の期間において、前記電源ユニットから前記電極に第２の直流電圧を印加する工程であり、前記第２の直流電圧は負極性の直流電圧である、該工程と、
含み、
前記電源ユニットが出力する直流電圧が、前記第２の期間における前記第１の直流電圧から前記第３の期間における前記第２の直流電圧に連続的に切り替えられる、
プラズマ処理方法。
【請求項１１】
前記第１の直流電圧の絶対値は、前記第２の直流電圧の絶対値よりも小さい、請求項１０に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１２】
前記第３の期間の時間長は、前記第１の期間の時間長と前記第２の期間の時間長の和以下である、請求項１０又は１１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１３】
前記第３の期間の時間長は、１０μ秒以下である、請求項１２に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１４】
前記第２の期間の時間長は、前記第１の期間の時間長以下である、請求項１２又は１３に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１５】
停止する前記工程、第１の直流電圧を印加する前記工程、及び第２の直流電圧を印加する前記工程が繰り返される、請求項１０〜１４の何れか一項に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１６】
前記チャンバ内でのクリーニングガスからのプラズマの生成中の第４の期間において、前記電源ユニットから前記電極に第３の直流電圧を印加する工程であり、該第３の直流電圧は負極性の直流電圧である、該工程と、
前記チャンバ内での前記クリーニングガスからの前記プラズマの生成中、且つ、前記第４の期間の後の第５の期間において、前記電源ユニットからの直流電圧の前記電極への印加を更に停止する工程と、
前記チャンバ内での前記クリーニングガスからの前記プラズマの生成中、且つ、前記第５の期間の後の第６の期間において、前記電源ユニットから前記電極に第４の直流電圧を印加する工程であり、該第４の直流電圧は正極性の直流電圧である、該工程と、
を更に含み、
前記第４の期間の時間長は、前記第５の期間の時間長と前記第６の期間の時間長との和よりも長い、
請求項１０〜１５の何れか一項に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１７】
前記第４の期間の時間長は、前記第３の期間の時間長より長い、請求項１６に記載のプラズマ処理方法。
【請求項１８】
第３の直流電圧を印加する前記工程、更に停止する前記工程、及び前記第４の直流電圧を印加する前記工程が繰り返される、請求項１６又は１７に記載のプラズマ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
プラズマ処理装置１は、電源ユニット６４を更に備える。電源ユニット６４は、下部電極１８に印加される直流電圧を発生するように構成されている。電源ユニット６４は、負極性の直流電圧及び正極性の直流電圧を発生するように構成されている。電源ユニット６４は、下部電極１８に電気的に接続されている。一実施形態では、電源ユニット６４は、ローパスフィルタ６６を介して、整合器６３と電極プレート１９とを互いに接続する電気的パスに接続されている。電源ユニット６４の動作の詳細については、後述する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
プラズマ処理装置１は、制御部ＭＣを更に備える。制御部ＭＣは、プロセッサ、記憶装置、入力装置、表示装置等を備えるコンピュータであり、プラズマ処理装置１の各部を制御する。具体的に、制御部ＭＣは、記憶装置に記憶されている制御プログラムを実行し、当該記憶装置に記憶されているレシピデータに基づいてプラズマ処理装置１の各部を制御する。制御部ＭＣによる制御により、レシピデータによって指定されたプロセスがプラズマ処理装置１において実行される。種々の実施形態に係るプラズマ処理方法は、制御部ＭＣによるプラズマ処理装置１の各部の制御により、プラズマ処理装置１において実行され得る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
図３に示すように、第４の期間Ｐ４の時間長Ｔ４は、第５の期間Ｐ５の時間長Ｔ５と第６の期間Ｐ６の時間長Ｔ６との和よりも長い。即ち、Ｔ４＞Ｔ５＋Ｔ６が満たされる。換言すると、第４の期間Ｐ４、第５の期間Ｐ５、及び第６の期間Ｐ６からなる期間において第４の期間Ｐ４が占める割合（即ち、デューティー比）は、５０％よりも大きい。一実施形態において、第４の期間Ｐ４の時間長Ｔ４は、第３の期間Ｐ３の時間長Ｔ３よりも長い。即ち、一実施形態では、Ｔ４＞Ｔ３が満たされる。第４の期間Ｐ４の時間長Ｔ４が比較的長い場合には、第４の直流電圧Ｖ４が大きくなり、第６の期間Ｐ６においてプラズマのポテンシャルが高くなる。したがって、高いエネルギーを有するイオンがチャンバ１０の内壁面に向けて供給され、チャンバ１０の内壁面のクリーニングの効率が高くなる。一実施形態において、第６の期間Ｐ６の時間長Ｔ６は、第２の期間Ｐ２の時間長Ｔ２よりも長い。即ち、一実施形態では、Ｔ２＜Ｔ６が満たされる。この実施形態では、第４の直流電圧Ｖ４が印加されている期間の時間長が長くなる。したがって、第４の直流電圧Ｖ４が矩形状の電圧として印加され、チャンバ１０の内壁面のクリーニングの効果が十分に発揮される。