(57)【要約】【課題】本発明は、多様な溶媒中で使用可能な新規な不斉脱水縮合剤、及びそれを用いるキラル有機酸の速度論的光学分割方法を提供する。【解決手段】本発明は、式：2014080371.tif 000068［式中、各記号は本明細書中で定義した通りである。］で表される化合物及びその光学活性体に関し、また、該光学活性体を不斉脱水縮合剤として用いるキラル有機酸の速度論的光学分割方法に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2014080371.tif 000052
[式中、
Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ７（ここで、Ｒ７は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、ＰＲ８（ここで、Ｒ８は、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）（ここで、Ｒ９及びＲ１０は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）又はＣ（Ｒ１１）（Ｒ１２）（ここで、Ｒ１１及びＲ１２は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示すか、又はＲ１１及びＲ１２はそれらが結合する炭素原子と一緒になって置換されていてもよい環状炭化水素基を形成してもよい。）を示し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよい環状基を示し、
Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルキル−カルボニル基、置換されていてもよいアルコキシ−カルボニル基、カルバモイル基、モノ若しくはジＣ１−６アルキルアミノ−カルボニル基、ホルミル基、シアノ基、置換されていてもよいアルコキシ基又は置換されていてもよい環状基を示すか、或いはＲ３−Ｙ且つＲ４、及び／又はＲ５且つＲ６はそれらが結合するベンゼン環と共に縮合環を形成してもよく、並びに
Ｘ-は、求核性がないか、又は求核性が低い対アニオンを示す。]
で表される化合物。
【請求項２】
式（Ｉ）で表される化合物が、式（Ｉ’）：
【化２】
2014080371.tif 000053
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される化合物、式（Ｉ’’）：
【化３】
2014080371.tif 000054
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される化合物、又はそれらの混合物である、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−３アルキル基である、請求項１又は２記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】
Ｙが、単結合である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ３が、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよいアリール基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ３が、アリール基により置換されていてもよいＣ２−６アルキニル基又は１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基である、請求項６記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ５且つＲ６が、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成してなる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項９】
Ｘ-が、フルオリド、クロリド、ブロミド、ヨージド、置換されていてもよいアルキルスルホナート、置換されていてもよいアリールスルホナート、ペルクロラート、テトラフルオロボラート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモナート、テトラフェニルボラート及びアルセナートからなる群より選択される対アニオンである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｘ-が、クロリド又はトリフルオロメタンスルホナートである、請求項９記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成し、及び
Ｘ-が、クロリド又はトリフルオロメタンスルホナートである、請求項１記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、アリール基により置換されていてもよいエチニル基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成し、及び
Ｘ-が、クロリド又はトリフルオロメタンスルホナートである、請求項１記載の化合物。
【請求項１３】
下記式：
【化４】
2014080371.tif 000055
で表される化合物又はその光学異性体。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の化合物からなる脱水縮合剤。
【請求項１５】
請求項２〜１３のいずれか１項に記載の化合物又はその光学異性体からなる不斉脱水縮合剤。
【請求項１６】
不斉脱水縮合剤が、不斉アミド化触媒である、請求項１５記載の不斉脱水縮合剤。
【請求項１７】
不斉脱水縮合剤が、不斉エステル化触媒である、請求項１５記載の不斉脱水縮合剤。
【請求項１８】
式（Ｉ）：
【化５】
2014080371.tif 000056
[式中、
Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ７（ここで、Ｒ７は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）、ＰＲ８（ここで、Ｒ８は、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）、Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）（ここで、Ｒ９及びＲ１０は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）又はＣ（Ｒ１１）（Ｒ１２）（ここで、Ｒ１１及びＲ１２は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示すか、又はＲ１１及びＲ１２はそれらが結合する炭素原子と一緒になって置換されていてもよい環状炭化水素基を形成してもよい。）を示し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよい環状基を示し、
Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルキル−カルボニル基、置換されていてもよいアルコキシ−カルボニル基、カルバモイル基、モノ若しくはジＣ１−６アルキルアミノ−カルボニル基、ホルミル基、シアノ基、置換されていてもよいアルコキシ基又は置換されていてもよい環状基を示すか、或いはＲ３−Ｙ且つＲ４、及び／又はＲ５且つＲ６はそれらが結合するベンゼン環と共に縮合環を形成してもよく、並びに
Ｘ-は、求核性がないか、又は求核性が低い対アニオンを示す。]
で表される化合物の製造方法であって、
式（ＩＩ）：
【化６】
2014080371.tif 000057
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物と、式（ＩＩＩ）：
【化７】
2014080371.tif 000058
[式中、Ｘ１は、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニロキシ基又は置換されていてもよいアリールスルホニロキシ基であり、Ｒ１は、上記と同意義である。]
で表される化合物とを反応溶媒中で反応させる工程を含む、製造方法。
【請求項１９】
式（Ｉ）で表される化合物が、式（Ｉ’）：
【化８】
2014080371.tif 000059
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される化合物、式（Ｉ’’）：
【化９】
2014080371.tif 000060
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される化合物、又はそれらの混合物であり、且つ式（ＩＩ）で表される化合物が、式（ＩＩ’）：
【化１０】
2014080371.tif 000061
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物、式（ＩＩ’’）：
【化１１】
2014080371.tif 000062
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物、又はそれらの混合物である、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、及び
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである、請求項１８又は１９記載の方法。
【請求項２１】
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、アリール基により置換されていてもよいエチニル基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、及び
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである、請求項１８又は１９記載の方法。
【請求項２２】
反応溶媒が、ＴＨＦ、水、アルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム、tert−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、アセトニトリル、アセトン又はそれら２種以上の混合溶媒である、請求項１８〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
キラル有機酸のラセミ体を、不斉脱水縮合剤及び式（ＩＩＩ）：
【化１２】
2014080371.tif 000063
[式中、Ｘ１は、ハロゲン原子又は置換されていてもよいアルキルスルホニロキシ基であり、Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基である。]で表される化合物の存在下に、反応溶媒中で、求核剤と反応させることにより、立体異性体的に富化されたキラル有機酸−求核剤縮合体を得る速度論的光学分割方法であって、該不斉脱水縮合剤として請求項２〜１３のいずれか１項に記載の化合物を用いることを特徴とする方法。
【請求項２４】
キラル有機酸が、Ｎ−保護α−アミノ酸である、請求項２３記載の方法。
【請求項２５】
Ｎ−保護α−アミノ酸が、Ｎ−保護α−フェニルアラニンである、請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
求核剤が、アルコール又はアミンであり、且つ対応するキラル有機酸−求核剤縮合体が、エステル又はアミドである、請求項２３〜２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
アミンが、第１級アミンである、請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
第１級アミンが、Ｃ７−１４アラルキルアミンである、請求項２７記載の方法。
【請求項２９】
反応溶媒が、低級アルコールを含む、請求項２３〜２８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
求核剤兼反応溶媒として、低級アルコールを含む、請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
不斉脱水縮合剤が、触媒量の式（ＩＩ’）：
【化１３】
2014080371.tif 000064
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物、式（ＩＩ’’）：
【化１４】
2014080371.tif 000065
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物、又はそれらの混合物と、式（ＩＩＩ）：
【化１５】
2014080371.tif 000066
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物との反応により反応系内で形成されることを特徴とする、請求項２３〜３０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３２】
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、及び
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、アリール基により置換されていてもよいエチニル基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、及び
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである、請求項３１記載の方法。
【請求項３４】
触媒量が、キラル有機酸のラセミ体に対して、０．１モル％〜５０モル％である、請求項３１〜３３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３５】
下記式：
【化１６】
2014080371.tif 000067
で表される化合物又はその光学異性体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、キラル光学活性第三級アミンとトリアジン誘導体から調製される新規なキラル光学活性第四級アンモニウム化合物、及び該化合物からなる不斉脱水縮合剤に関する。本発明はまた、上記不斉脱水縮合剤を用いるキラル有機酸のラセミ体の新規な速度論的光学分割方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学活性化合物の需要は飛躍的に増大しており、特に製薬業界において医薬中間体としての需要が高まっている。このため、光学活性化合物を効率よく得る方法の開発研究が世界中で活発に行われている。光学活性化合物を得る方法の一つに光学分割法がある。光学分割法には優先結晶法、ジアステレオマー分割法、速度論的分割法などが知られている。優先結晶法は適用範囲が狭いため、得られる化合物に大きな制限がある。ジアステレオマー分割法は化学量論量の分割剤が必要な上、多段階を要し、操作が煩雑であるなどの問題点があった。一方、速度論的分割法は、光学活性触媒を用いて反応を行うことにより、ラセミ体とエナンチオマー間で反応速度差が生じることを利用して、特定のエナンチオマーだけを優先的に反応させて光学分割をする手法であり、主に酵素を用いた分割方法が実用化されており、光学活性なアミノ酸やアルコールなどを得る有効な手段となっている。しかしながら、一般に酵素を用いた速度論的分割は、反応に長時間を要する上、高い光学収率を得るためには、基質の濃度を希薄にする必要があり、大量の光学活性化合物を得るには問題が残されていた。
【０００３】
化学的手法による速度論的光学分割法の研究例はいくつか報告されている。α−アミノ酸などのキラルなカルボン酸誘導体のラセミ体を化学的に光学分割する方法として、シンコナアルカロイド誘導体を触媒として用いるウレタン保護アミノ酸−Ｎ−カルボキシ無水物のアルコリシスによる光学分割方法が報告された（非特許文献１）。この方法は、触媒の選択により高い効率で光学分割を行える場合があるが、シンコナアルカロイド誘導体の合成は概して難しく、価格が高く入手が困難な物質であるため、大量の光学分割を行うには不向きである。また、上記方法は、基質濃度を高めて光学分割を行うと、エナンチオマー選択性が低下する問題も有している。
【０００４】
キラルなアミンのラセミ体を化学的に光学分割する方法として、下記式（１）(非特許文献２)及び式（２）(非特許文献３)で表されるような触媒的不斉アシル化反応による光学分割方法が報告されている。
【０００５】
【化１】
2014080371.tif 000002
【０００６】
【化２】
2014080371.tif 000003
【０００７】
しかし、これらはいずれもアシル化剤としてカルボン酸そのものではなく、脂溶性の酸無水物やエステルを用いた上で、非プロトン性の有機溶媒中、極低温で行われなければならないため、不斉アミド化反応としては実用性に乏しい方法であった。
【０００８】
最近、Kaminskiらにより化学量論量の不斉脱水縮合剤及び０．１当量の塩基存在下、ラセミ体のＮ−保護アミノ酸とＬ体のＣ−保護アミノ酸との反応からなるエナンチオ選択的なペプチド合成反応（式（３））が報告された(非特許文献４)。しかし、当該反応には、光学活性なキラル３級アミンが化学量論量以上必要であり、且つ予め調製された不斉脱水縮合剤を使用する必要がある。また、プロトン性溶媒（ＴＨＦ−ｔert−ＢｕＯＨ）中では、高い選択性は得られていない。さらに、当該反応で用いられる光学活性なキラル３級アミンであるストリキニーネは有毒な化合物であるため、実用的な方法とはいえない。
【０００９】
【化３】
2014080371.tif 000004
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】Deng, L.et al., J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 12696-12697．
【非特許文献２】Fu, G. C. et al., Angew. Chem. Int. Ed., 2001, 40, 234-236.
【非特許文献３】Seidel, D. et al., J. Am. Chem. Soc., 2009, 131, 17060-17061.
【非特許文献４】Kolesinska, B. et al., Tetrahedron Lett., 2010, 51, 20-22.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
カルボン酸とアミンからアミドを合成するには、一般に脱水縮合剤が用いられる。脱水縮合反応は、カルボン酸の活性化とそれに続くアミンのアシル化からなる２段階反応であるが、第一段階で生じるカルボン酸の活性中間体は、通常、水やアルコール等の求核性のあるプロトン性溶媒中では不安定であり、溶媒分子により分解されるため、アミド化反応は効率的に進行しない。一方、カルボキシ基又はアミノ基を有する化合物は、一般に高極性であるため有機溶媒に不溶若しくは難溶であることが多い。かかる二律背反性の問題点を有していたため、これまで光学活性なキラル脱水縮合剤によるアミンとカルボン酸との触媒的不斉アミド化反応をプロトン性溶媒中で成功した例は皆無であった。
【００１２】
本発明の目的は、水やアルコール等のプロトン性溶媒を含む広範な溶媒中で安定に使用し得、且つ実用的な不斉脱水縮合剤として有用な新規化合物、及びそれを用いるキラル化合物、特にキラル有機酸、の速度論的光学分割方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、かかる状況下、鋭意検討を重ねた結果、下記の式（Ｉ）：
【００１４】
【化４】
2014080371.tif 000005
【００１５】
[式中、
Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ７（ここで、Ｒ７は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、ＰＲ８（ここで、Ｒ８は、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）（ここで、Ｒ９及びＲ１０は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）又はＣ（Ｒ１１）（Ｒ１２）（ここで、Ｒ１１及びＲ１２は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示すか、又はＲ１１及びＲ１２はそれらが結合する炭素原子と一緒になって置換されていてもよい環状炭化水素基を形成してもよい。）を示し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよい環状基を示し、
Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルキル−カルボニル基、置換されていてもよいアルコキシ−カルボニル基、カルバモイル基、モノ若しくはジＣ１−６アルキルアミノ−カルボニル基、ホルミル基、シアノ基、置換されていてもよいアルコキシ基又は置換されていてもよい環状基を示すか、或いはＲ３−Ｙ且つＲ４、及び／又はＲ５且つＲ６はそれらが結合するベンゼン環と共に縮合環を形成してもよく、並びに
Ｘ-は、求核性がないか、又は求核性が低い対アニオンを示す。]で表される化合物［以下、化合物（Ｉ）と称する場合がある。また、後述する化合物（Ｉ’）又は化合物（Ｉ’’）を含む広義の略称として、「本発明の化合物（Ｉ）」と称する場合がある。］が、安定に単離できることを初めて見出した。本発明者らは、またプロトン性溶媒存在下、化合物（Ｉ）の光学異性体である化合物（Ｉ’）：
【００１６】
【化５】
2014080371.tif 000006
【００１７】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]又は化合物（Ｉ’’）：
【００１８】
【化６】
2014080371.tif 000007
【００１９】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]を、反応系内で触媒量の光学的に純粋なキラル第三級アミンである化合物（ＩＩ’）：
【００２０】
【化７】
2014080371.tif 000008
【００２１】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]又は化合物（ＩＩ’’）：
【００２２】
【化８】
2014080371.tif 000009
【００２３】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]とトリアジン化合物（ＩＩＩ）：
【００２４】
【化９】
2014080371.tif 000010
【００２５】
[式中、Ｘ１は、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニロキシ基又は置換されていてもよいアリールスルホニロキシ基であり、Ｒ１は、上記と同意義である。]
との反応により用時調製することにより、化合物（Ｉ’）又は化合物（Ｉ’’）を単離することなく、そのままキラル有機酸の速度論的光学分割に使用できることも見出した。これにより、本発明の化合物（Ｉ）が新規且つ実用的な不斉脱水縮合剤として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００２６】
すなわち、本発明は以下の通りである。
［１］式（Ｉ）：
【００２７】
【化１０】
2014080371.tif 000011
【００２８】
[式中、
Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ７（ここで、Ｒ７は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、ＰＲ８（ここで、Ｒ８は、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）（ここで、Ｒ９及びＲ１０は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）又はＣ（Ｒ１１）（Ｒ１２）（ここで、Ｒ１１及びＲ１２は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示すか、又はＲ１１及びＲ１２はそれらが結合する炭素原子と一緒になって置換されていてもよい環状炭化水素基を形成してもよい。）を示し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよい環状基を示し、
Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルキル−カルボニル基、置換されていてもよいアルコキシ−カルボニル基、カルバモイル基、モノ若しくはジＣ１−６アルキルアミノ−カルボニル基、ホルミル基、シアノ基、置換されていてもよいアルコキシ基又は置換されていてもよい環状基を示すか、或いはＲ３−Ｙ且つＲ４、及び／又はＲ５且つＲ６はそれらが結合するベンゼン環と共に縮合環を形成してもよく、並びに
Ｘ-は、求核性がないか、又は求核性が低い対アニオンを示す。]
で表される化合物。
［２］式（Ｉ）で表される化合物が、式（Ｉ’）：
【００２９】
【化１１】
2014080371.tif 000012
【００３０】
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される化合物、式（Ｉ’’）：
【００３１】
【化１２】
2014080371.tif 000013
【００３２】
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される化合物、又はそれらの混合物である、上記［１］記載の化合物。
［３］Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−３アルキル基である、上記［１］又は［２］記載の化合物。
［４］Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［５］Ｙが、単結合である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載の化合物。
［６］Ｒ３が、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよいアリール基である、上記［１］〜［５］のいずれかに記載の化合物。
［７］Ｒ３が、アリール基により置換されていてもよいＣ２−６アルキニル基又は１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基である、上記［６］記載の化合物。
［８］Ｒ５且つＲ６が、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成してなる、上記［１］〜［７］のいずれかに記載の化合物。
［９］Ｘ-が、フルオリド、クロリド、ブロミド、ヨージド、置換されていてもよいアルキルスルホナート、置換されていてもよいアリールスルホナート、ペルクロラート、テトラフルオロボラート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモナート、テトラフェニルボラート及びアルセナートからなる群より選択される対アニオンである、上記［１］〜［８］のいずれかに記載の化合物。
［１０］Ｘ-が、クロリド又はトリフルオロメタンスルホナートである、上記［９］記載の化合物。
［１１］Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成し、及び
Ｘ-が、クロリド又はトリフルオロメタンスルホナートである、上記［１］記載の化合物。
［１２］Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、アリール基により置換されていてもよいエチニル基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成し、及び
Ｘ-が、クロリド又はトリフルオロメタンスルホナートである、上記［１］記載の化合物。
［１３］下記式：
【００３３】
【化１３】
2014080371.tif 000014
【００３４】
で表される化合物又はその光学異性体。
［１４］上記［１］〜［１３］のいずれかに記載の化合物からなる脱水縮合剤。
［１５］上記［２］〜［１３］のいずれかに記載の化合物又はその光学異性体からなる不斉脱水縮合剤。
［１６］不斉脱水縮合剤が、不斉アミド化触媒である、上記［１５］記載の不斉脱水縮合剤。
［１７］不斉脱水縮合剤が、不斉エステル化触媒である、上記［１５］記載の不斉脱水縮合剤。
［１８］式（Ｉ）：
【００３５】
【化１４】
2014080371.tif 000015
【００３６】
[式中、
Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ７（ここで、Ｒ７は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）、ＰＲ８（ここで、Ｒ８は、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）、Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）（ここで、Ｒ９及びＲ１０は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）又はＣ（Ｒ１１）（Ｒ１２）（ここで、Ｒ１１及びＲ１２は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示すか、又はＲ１１及びＲ１２はそれらが結合する炭素原子と一緒になって置換されていてもよい環状炭化水素基を形成してもよい。）を示し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよい環状基を示し、
Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルキル−カルボニル基、置換されていてもよいアルコキシ−カルボニル基、カルバモイル基、モノ若しくはジＣ１−６アルキルアミノ−カルボニル基、ホルミル基、シアノ基、置換されていてもよいアルコキシ基又は置換されていてもよい環状基を示すか、或いはＲ３−Ｙ且つＲ４、及び／又はＲ５且つＲ６はそれらが結合するベンゼン環と共に縮合環を形成してもよく、並びに
Ｘ-は、求核性がないか、又は求核性が低い対アニオンを示す。]
で表される化合物の製造方法であって、
式（ＩＩ）：
【００３７】
【化１５】
2014080371.tif 000016
【００３８】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物と、式（ＩＩＩ）：
【００３９】
【化１６】
2014080371.tif 000017
【００４０】
[式中、Ｘ１は、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニロキシ基又は置換されていてもよいアリールスルホニロキシ基であり、Ｒ１は、上記と同意義である。]
で表される化合物とを反応溶媒中で反応させる工程を含む、製造方法。
［１９］式（Ｉ）で表される化合物が、式（Ｉ’）：
【００４１】
【化１７】
2014080371.tif 000018
【００４２】
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される化合物、式（Ｉ’’）：
【００４３】
【化１８】
2014080371.tif 000019
【００４４】
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される化合物、又はそれらの混合物であり、且つ式（ＩＩ）で表される化合物が、式（ＩＩ’）：
【００４５】
【化１９】
2014080371.tif 000020
【００４６】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物、式（ＩＩ’’）：
【００４７】
【化２０】
2014080371.tif 000021
【００４８】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物、又はそれらの混合物である、上記［１８］記載の方法。
［２０］Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、及び
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである、上記［１８］又は［１９］記載の方法。
［２１］Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、アリール基により置換されていてもよいエチニル基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、及び
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである、上記［１８］又は［１９］記載の方法。
［２２］反応溶媒が、ＴＨＦ、水、アルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム、tert−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、酢酸エチル、ヘキサン、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、アセトニトリル、アセトン又はそれら２種以上の混合溶媒である、上記［１８］〜［２１］のいずれかに記載の方法。
［２３］キラル有機酸のラセミ体を、不斉脱水縮合剤及び式（ＩＩＩ）：
【００４９】
【化２１】
2014080371.tif 000022
【００５０】
[式中、Ｘ１は、ハロゲン原子又は置換されていてもよいアルキルスルホニロキシ基であり、Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基である。]で表される化合物の存在下に、反応溶媒中で、求核剤と反応させることにより、立体異性体的に富化されたキラル有機酸−求核剤縮合体を得る速度論的光学分割方法であって、該不斉脱水縮合剤として上記［２］〜［１３］のいずれかに記載の化合物を用いることを特徴とする方法。
［２４］キラル有機酸が、Ｎ−保護α−アミノ酸である、上記［２３］記載の方法。
［２５］Ｎ−保護α−アミノ酸が、Ｎ−保護α−フェニルアラニンである、上記［２４］記載の方法。
［２６］求核剤が、アルコール又はアミンであり、且つ対応するキラル有機酸−求核剤縮合体が、エステル又はアミドである、上記［２３］〜［２５］のいずれかに記載の方法。
［２７］アミンが、第１級アミンである、上記［２６］記載の方法。
［２８］第１級アミンが、Ｃ７−１４アラルキルアミンである、上記［２７］記載の方法。
［２９］反応溶媒が、低級アルコールを含む、上記［２３］〜［２８］のいずれかに記載の方法。
［３０］求核剤兼反応溶媒として、低級アルコールを含む、上記［２９］記載の方法。
［３１］不斉脱水縮合剤が、触媒量の式（ＩＩ’）：
【００５１】
【化２２】
2014080371.tif 000023
【００５２】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物、式（ＩＩ’’）：
【００５３】
【化２３】
2014080371.tif 000024
【００５４】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物、又はそれらの混合物と、式（ＩＩＩ）：
【００５５】
【化２４】
2014080371.tif 000025
【００５６】
[式中の各記号は、上記と同意義である。]
で表される化合物との反応により反応系内で形成されることを特徴とする、上記［２３］〜［３０］のいずれかに記載の方法。
［３２］Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、及び
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである、上記［３１］記載の方法。
［３３］Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり、
Ｙは、単結合であり、
Ｒ３が、アリール基により置換されていてもよいエチニル基であり、
Ｒ４が、水素原子であり、及び
Ｒ５且つＲ６は、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである、上記［３１］記載の方法。
［３４］触媒量が、キラル有機酸のラセミ体に対して、０．１モル％〜５０モル％である、上記［３１］〜［３３］のいずれかに記載の方法。
［３５］下記式：
【００５７】
【化２５】
2014080371.tif 000026
【００５８】
で表される化合物又はその光学異性体、
等に関する。
【発明の効果】
【００５９】
本発明によれば、光学的に純粋な化合物（Ｉ）を簡便かつ収率良く合成することができ、且つプロトン性溶媒（水、アルコール等）を含む広範な溶媒中で安定に使用することができるので、各種キラル化合物、特にキラル有機酸（例えば、α−アミノ酸誘導体）の速度論的光学分割に適した新規な不斉脱水縮合剤を提供することができる。また、本発明によれば、光学的に純粋な化合物（Ｉ）は、触媒量の光学的に純粋なキラル第三級アミン（ＩＩ）とトリアジン化合物（ＩＩＩ）との反応により反応系内で調製することができ、該化合物（Ｉ）の単離が不要で、且つ回収・再利用が容易であることから、各種キラル化合物の簡便且つ実用的な速度論的光学分割方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００６０】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００６１】
（定義）
【００６２】
本明細書中、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。
【００６３】
本明細書中、「置換されていてもよいアルキル基」における「アルキル基」としては、直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数１以上のアルキル基を意味し、特に炭素数範囲の限定がない場合には、好ましくは、Ｃ１−２０アルキル基であり、中でも、Ｃ１−１２アルキル基がより好ましく、Ｃ１−６アルキル基が更に好ましく、Ｃ１−３アルキル基が特に好ましい。
【００６４】
本明細書中、「Ｃ１−２０アルキル基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１〜２０のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、エイコシル等が挙げられる。
【００６５】
本明細書中、「Ｃ１−１２アルキル基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１〜１２のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられる。
【００６６】
本明細書中、「Ｃ１−６アルキル基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１〜６のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル等が挙げられる。
【００６７】
本明細書中、「Ｃ１−３アルキル基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１〜３のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル等が挙げられる。
【００６８】
本明細書中、「アリール基」は、芳香族性を示す単環式あるいは多環式（縮合）の炭化水素基を意味し、具体的には、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ビフェニリル、ターフェニル、ジフェニルナフチル、２−アンスリル、フェナントリル等のＣ６−２２アリール基を示す。中でも、Ｃ６−１４アリール基が好ましく、Ｃ６−１０アリール基が特に好ましい。
【００６９】
本明細書中、「Ｃ６−１０アリール基」としては、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチルが挙げられ、フェニルが特に好ましい。
【００７０】
本明細書中、「Ｃ６−１０アリールオキシ基」とは、酸素原子に「Ｃ６−１０アリール基」が結合した基を意味し、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ等が挙げられる。中でも、フェノキシ基が好ましい。
【００７１】
本明細書中、「置換されていてもよい芳香環基」における「芳香環」とは、Ｃ６−２２芳香族炭化水素または芳香族複素環を示す。
本明細書中、「Ｃ６−２２芳香族炭化水素」とは、「Ｃ６−２２アリール基」に対応する環を示す。Ｃ６−２２芳香族炭化水素としては、「Ｃ６−１４アリール基」に対応する環が好ましく、「Ｃ６−１０アリール基」に対応する環（例、ベンゼン又はナフタレン）が特に好ましい。
本明細書中、「芳香族複素環」とは、「芳香族複素環基」に対応する環を示す。なかでも、単環式芳香族複素環が好ましく、５または６員の単環式芳香族複素環が特に好ましい。
本明細書中、該「芳香環」は、置換可能な位置に、置換基を有していてもよい。置換基の数は、置換可能な数であれば特に限定されないが、好ましくは１ないし５個、より好ましくは１ないし３個である。複数の置換基が存在する場合、各置換基は、同一でも異なっていてもよい。
【００７２】
本明細書中、「芳香族複素環基」とは、環構成原子として炭素原子に加えて、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１乃至４個含有する、芳香族性を示す単環式又は多環式（縮合）複素環基を意味する。
【００７３】
本明細書中、「単環式芳香族複素環基」としては、例えば、フリル、チエニル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピラジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル（１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル）、チアジアゾリル（１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル）、トリアゾリル（１，２，４−トリアゾリル、１，２，３−トリアゾリル）、テトラゾリル、トリアジニル等が挙げられる。中でも、５又は６員の単環式芳香族複素環基が好ましく、ピリジルが特に好ましい。。
【００７４】
本明細書中、「多環式（縮合）芳香族複素環基」とは、上記単環式芳香族複素環基が、単環式芳香族環（好ましくは、ベンゼン環又は単環式芳香族複素環）と縮合した基を意味し、例えば、キノリル、イソキノリル、キナゾリル、キノキサリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、インドリル、インダゾリル、ピロロピリジル、ピラゾロピリジル、イミダゾピリジル、チエノピリジル、ピロロピラジニル、ピラゾロピラジニル、イミダゾピラジニル、チエノピラジニル、ピロロピリミジニル、ピラゾロピリミジニル、イミダゾピリミジニル、チエノピリミジニル、ピラゾロチエニル等が挙げられる。
【００７５】
本明細書中の「複素環（基）」としては、芳香族複素環基および非芳香族複素環基が挙げられる。
【００７６】
本明細書中の「芳香族複素環基」としては、前記した基が挙げられる。
【００７７】
本明細書中の「非芳香族複素環基」としては、例えば、環構成原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１ないし４個含有する４ないし７員（好ましくは５または６員）の単環式非芳香族複素環基および縮合非芳香族複素環基が挙げられる。該縮合非芳香族複素環基としては、例えば、これら４ないし７員の単環式非芳香族複素環基に対応する環と、１または２個の窒素原子を含む５または６員の芳香族複素環（例、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピラジン、ピリジン、ピリミジン）、１個の硫黄原子を含む５員の芳香族複素環（例、チオフェン）およびベンゼン環から選ばれる１または２個の環が縮合した環から誘導される基、ならびに該基の部分飽和により得られる基等が挙げられる。
【００７８】
非芳香族複素環基の好適な例としては、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペラジニル、ヘキサメチレンイミニル、オキサゾリジニル、チアゾリジニル、イミダゾリジニル、オキサゾリニル、チアゾリニル、イミダゾリニル、ジオキソリル、ジオキソラニル、ジヒドロオキサジアゾリル、ピラニル、テトラヒドロピラニル、チオピラニル、テトラヒドロチオピラニル、テトラヒドロフリル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、テトラヒドロピリミジニル、ジヒドロトリアゾリル、テトラヒドロトリアゾリル等の単環式非芳香族複素環基、ジヒドロインドリル、ジヒドロイソインドリル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロベンゾジオキシニル、ジヒドロベンゾジオキセピニル、テトラヒドロベンゾフラニル、クロメニル、ジヒドロクロメニル、ジヒドロキノリニル、テトラヒドロキノリニル、ジヒドロイソキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、ジヒドロフタラジニル等の縮合非芳香族複素環基等が挙げられる。
【００７９】
本明細書中、「置換されていてもよいアラルキル基」における「アラルキル」とは、「アルキル基」に「アリール基」が置換した基を意味し、好ましくは、「Ｃ７−１４アラルキル」である。
【００８０】
本明細書中、「Ｃ７−１４アラルキル」とは、「Ｃ１−４アルキル基」に「Ｃ６−１０アリール基」が置換した基を意味し、例えば、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、（ナフチル−１−イル）メチル、（ナフチル−２−イル）メチル、１−（ナフチル−１−イル）エチル、１−（ナフチル−２−イル）エチル、２−（ナフチル−１−イル）エチル、２−（ナフチル−２−イル）エチル、ビフェニリルメチル等が挙げられる。
【００８１】
本明細書中、「Ｃ７−１４アラルキルオキシ」とは、酸素原子に「Ｃ７−１４アラルキル基」が結合した基を意味し、例えば、ベンジロキシ、１−ナフチルメチルオキシ、２−ナフチルメチルオキシ等が挙げられる。中でも、ベンジロキシ基が好ましい。
【００８２】
本明細書中、「置換されていてもよいアルケニル基」における「アルケニル基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数２以上のアルケニル基を意味し、特に炭素数範囲は限定されないが、好ましくは、Ｃ２−６アルケニル基である。
【００８３】
本明細書中、「Ｃ２−６アルケニル基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数２〜６のアルケニル基を意味し、例えば、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−ヘキセニル等が挙げられる。中でも、特にＣ２−４アルケニル基が好ましい。
【００８４】
本明細書中、「置換されていてもよいアルキニル基」における「アルキニル基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数２以上のアルキニル基を意味し、特に炭素数範囲は限定されないが、好ましくは、Ｃ２−６アルキニル基である。
【００８５】
本明細書中、「Ｃ２−６アルキニル基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数２〜６のアルキニル基を意味し、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル等が挙げられる。中でも、Ｃ２−４アルキニル基が好ましく、エチニル基が特に好ましい。
【００８６】
本明細書中、「Ｃ３−８シクロアルキル基」としては、炭素原子数３〜８の環状アルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。中でも、Ｃ３−６シクロアルキル基が好ましい。
【００８７】
本明細書中、「置換されていてもよいアルコキシ基」における「アルコキシ基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１以上のアルコキシ基を意味し、特に炭素数範囲は限定されないが、好ましくは、Ｃ１−６アルコキシ基である。
【００８８】
本明細書中、「Ｃ１−６アルコキシ基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１〜６のアルコキシ基を意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。中でも、Ｃ１−４アルコキシ基が好ましい。
【００８９】
本明細書中、「Ｃ１−６アルキルチオ基」とは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数１〜６のアルキルチオ基を意味し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ等が挙げられる。中でも、Ｃ１−４アルキルチオ基が好ましい。
【００９０】
本明細書中、「Ｃ６−１０アリールチオ基」とは、硫黄原子に「Ｃ６−１０アリール基」が結合した基を意味し、例えば、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ等が挙げられる。中でも、フェニルチオ基が好ましい。
【００９１】
本明細書中、「置換されていてもよいアルキル−カルボニル基」における「アルキル−カルボニル基」とは、−Ｃ＝Ｏ−に「アルキル基」が結合した基を意味し、特に炭素数範囲は限定されないが、好ましくは、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基である。
【００９２】
「Ｃ１−６アルキル−カルボニル基」とは、−Ｃ＝Ｏ−に「Ｃ１−６アルキル基」が結合した基を意味し、例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ−ブチルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、ネオペンチルカルボニル、ヘキシルカルボニル等が挙げられる。中でも、Ｃ１−４アルキル−カルボニル基が好ましい。
【００９３】
「Ｃ１−６アルキル−カルボニルオキシ基」とは、酸素原子に「Ｃ１−６アルキル−カルボニル基」が結合した基を意味し、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ、ペンチルカルボニルオキシ、イソペンチルカルボニルオキシ、ネオペンチルカルボニルオキシ、ヘキシルカルボニルオキシ等が挙げられる。中でも、Ｃ１−４アルキル−カルボニルオキシ基が好ましい。
【００９４】
本明細書中、「Ｃ６−１０アリール−カルボニル基」とは、−Ｃ＝Ｏ−に「Ｃ６−１０アリール基」が結合した基を意味し、例えば、ベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフトイル等が挙げられる。中でも、ベンゾイル基が好ましい。
【００９５】
本明細書中、「Ｃ６−１０アリール−カルボニルオキシ基」とは、酸素原子に「Ｃ６−１０アリール−カルボニル基」が結合した基を意味し、例えば、ベンゾイルオキシ、１−ナフトイルオキシ、２−ナフトイルオキシ等が挙げられる。中でも、ベンゾイルオキシ基が好ましい。
【００９６】
本明細書中、「Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基」とは、−Ｃ＝Ｏ−に「Ｃ１−６アルコキシ基」が結合した基を意味し、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。中でも、Ｃ１−４アルコキシ−カルボニル基が好ましい。
【００９７】
本明細書中、「Ｃ２−６アルケニルオキシ−カルボニル基」とは、−Ｃ＝Ｏ−に「Ｃ２−６アルケニルオキシ基」が結合した基を意味し、例えば、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、２−メチル−１−プロペニルオキシカルボニル、１−ブテニルオキシカルボニル、２−ブテニルオキシカルボニル、３−ブテニルオキシカルボニル、１−ペンテニルオキシカルボニル、１−ヘキセニルオキシカルボニル等が挙げられる。中でも、特にアリルオキシカルボニル基が好ましい。
【００９８】
本明細書中、「Ｃ６−１０アリールオキシ−カルボニル基」とは、−Ｃ＝Ｏ−に「Ｃ６−１０アリールオキシ基」が結合した基を意味し、例えば、フェノキシカルボニル、１−ナフチルオキシカルボニル、２−ナフチルオキシカルボニル等が挙げられる。中でも、フェノキシカルボニル基が好ましい。
【００９９】
本明細書中、「Ｃ７−１４アラルキルオキシ−カルボニル基」とは、−Ｃ＝Ｏ−に「Ｃ７−１４アラルキルオキシ基」が結合した基を意味し、例えば、ベンジルオキシカルボニル、１−ナフチルメチルオキシカルボニル、２−ナフチルメチルオキシカルボニル等が挙げられる。中でも、ベンジルオキシカルボニル基が好ましい。
【０１００】
本明細書中、「Ｃ１−６アルキルスルホニル基」とは、−Ｓ（Ｏ）２−に「Ｃ１−６アルキル基」が結合した基を意味し、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル等が挙げられる。中でも、Ｃ１−４アルキルスルホニル基が好ましい。
【０１０１】
本明細書中、「Ｃ６−１０アリールスルホニル基」とは、−Ｓ（Ｏ）２−に「Ｃ６−１０アリール基」が結合した基を意味し、例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル、２−ナフチルスルホニル等が挙げられる。中でも、フェニルスルホニル基が好ましい。
【０１０２】
本明細書中、「置換されていてもよいアルキルスルホニロキシ基」における「アルキルスルホニロキシ基」とは、−Ｓ（Ｏ）２−Ｏ−の硫黄原子に「アルキル基」が結合した基を意味し、例えば、メチルスルホニロキシ、エチルスルホニロキシ、プロピルスルホニロキシ、イソプロピルスルホニロキシ、ブチルスルホニロキシ、イソブチルスルホニロキシ、ｓｅｃ−ブチルスルホニロキシ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニロキシ、ペンチルスルホニロキシ、イソペンチルスルホニロキシ、ネオペンチルスルホニロキシ、ヘキシルスルホニロキシ等のＣ１−６アルキルスルホニロキシ基が挙げられる。中でも、Ｃ１−４アルキルスルホニロキシ基が好ましい。「置換されていてもよいアルキルスルホニロキシ基」としては、ハロゲン原子により置換されていてもよいメチルスルホニロキシ基（例、トリフルオロメタンスルホニロキシ基）が特に好ましい。
【０１０３】
本明細書中、「置換されていてもよいアリールスルホニロキシ基」とは、−Ｓ（Ｏ）２−Ｏ−の硫黄原子に「アリール基」が結合した基を意味し、例えば、フェニルスルホニロキシ、１−ナフチルスルホニロキシ、２−ナフチルスルホニロキシ等が挙げられる。中でも、フェニルスルホニロキシ基が好ましい。「置換されていてもよいアリールスルホニロキシ基」としては、メチル基により置換されていてもよいフェニルスルホニロキシ基（例、ベンゼンスルホニロキシ基、ｐ−トルエンスルホニロキシ基）が特に好ましい。
【０１０４】
本明細書中、「置換されていてもよいアルキルスルホナート」における「アルキルスルホナート」とは、−ＳＯ３−に「アルキル基」が結合した基を意味し、例えば、メチルスルホナート、エチルスルホナート、プロピルスルホナート、イソプロピルスルホナート、ブチルスルホナート、イソブチルスルホナート、ｓｅｃ−ブチルスルホナート、ｔｅｒｔ−ブチルスルホナート、ペンチルスルホナート、イソペンチルスルホナート、ネオペンチルスルホナート、ヘキシルスルホナート等が挙げられる。中でも、Ｃ１−４アルキルスルホナートが好ましい。「置換されていてもよいアルキルスルホナート」としては、ハロゲン原子により置換されていてもよいメチルスルホナート（例、トリフルオロメタンスルホナート）が特に好ましい。
【０１０５】
本明細書中、「置換されていてもよいアリールスルホナート」における「アリールスルホナート」とは、−ＳＯ３−に「アリール基」が結合した基を意味し、例えば、フェニルスルホナート、１−ナフチルスルホナート、２−ナフチルスルホナート等のＣ６−１０アリールスルホナートが挙げられる。中でも、フェニルスルホナートが好ましい。「置換されていてもよいアリールスルホナート」における「アリールスルホナート」としては、メチル基により置換されていてもよいフェニルスルホナート（例、ベンゼンスルホナート、ｐ−トルエンスルホナート）が特に好ましい。
【０１０６】
本明細書中、「モノ若しくはジ−Ｃ１−６アルキルアミノ−カルボニル基」とは、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜６のアルキル基によりモノ若しくはジ−置換されたアミノ基にカルボニルが結合した基を意味し、例えば、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、イソプロピルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジイソプロピルアミノカルボニル基等が挙げられる。
【０１０７】
本明細書中、「トリ置換シリル基」とは、同一又は異なる３個の置換基（例、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ６−１０アリール基）により置換されたシリル基を意味し、当該基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基等が好ましい。
【０１０８】
本明細書中、「保護されたアミノ基」は、同一又は異なる１個又は２個の「保護基」により保護されたアミノ基を意味する。当該「保護基」としては、例えば、Protective Groups in Organic Synthesis,John Wiley and Sons刊(1980)に記載のアミノ基の保護基を使用し得、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ６−１０アリール基、Ｃ７−１４アラルキル基、ホルミル基、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基、Ｃ２−６アルケニルオキシ−カルボニル基、Ｃ６−１０アリール−カルボニル基、Ｃ７−１４アラルキル−カルボニル基、Ｃ６−１０アリールオキシ−カルボニル基、Ｃ７−１４アラルキルオキシ−カルボニル基、Ｃ６−１０アリールスルホニル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、トリＣ１−６アルキルシリル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、フタロイル基等の保護基が挙げられる。上記の保護基は、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基又はニトロ基でそれぞれ置換されていてもよい。当該アミノ基の保護基の具体例としては、アセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル、ベンズヒドリル、トリチル、フタロイル、アリルオキシカルボニル、ｐ−トルエンスルホニル、ｏ−ニトロベンゼンスルホニル、トリメチルシリルエトキシカルボニル等が挙げられる。
【０１０９】
本明細書中、「置換されていてもよい」とは、特に規定する場合を除き、１個以上の置換基を有していてもよいことを意味し、該「置換基」としては、（１）ハロゲン原子、（２）ニトロ基、（３）シアノ基、（４）ヒドロキシ基、（５）アミノ基、（６）オキソ基、（７）チオキソ基、（８）メルカプト基、（９）カルバモイル基、（１０）Ｃ１−６アルキル基、（１１）カルボキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルキル基、（１３）Ｃ３−８シクロアルケニル基、（１４）Ｃ２−６アルケニル基、（１５）Ｃ２−６アルキニル基、（１６）Ｃ１−６アルコキシ基、（１７）Ｃ１−６アルコキシ−Ｃ１−６アルコキシ基、（１８）Ｃ１−６アルキレンジオキシ基、（１９）Ｃ６−１０アリール基、（２０）Ｃ６−１０アリールオキシ基、（２１）Ｃ７−１４アラルキル基、（２２）Ｃ７−１４アラルキルオキシ基、（２３）Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基、（２４）Ｃ７−１４アラルキルオキシ−カルボニル基、（２５）Ｃ１−６アルキル−カルボニル基、（２６）Ｃ６−１０アリール−カルボニル基、（２７）Ｃ１−６アルキル−カルボニルオキシ基、（２８）Ｃ６−１０アリール−カルボニルオキシ基、（２９）Ｃ６−１０アリールオキシ−カルボニル基、（３０）Ｃ１−６アルキルスルホニル基、（３１）Ｃ６−１０アリールスルホニル基、（３２）ホルミル基、（３３）アジド基、（３４）Ｃ１−６アルキルチオ基、（３５）Ｃ６−１０アリールチオ基、（３６）モノ若しくはジ−Ｃ１−６アルキルアミノ−カルボニル基、（３７）芳香族複素環基、（３８）トリ置換シリル基、（３９）保護されたアミノ基等が挙げられる。中でも、ハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ１−６アルキル、Ｃ１−６アルコキシ、メチレンジオキシ、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、ベンジルオキシカルボニル、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、カルバモイル、ベンジル、トリチル、フェニル、フェノキシ、ナフチル、ピリジル、チエニル、フリル、ピロリル、インドリル、キノリル、アジド、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルアミノ、アセチルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノが好ましい。また、複数の置換基が存在する場合、各置換基は、同一でも異なっていてもよい。
【０１１０】
上記置換基は、さらに上記置換基で置換されていてもよい。置換基の数は、置換可能な数であれば特に限定されないが、好ましくは１乃至５個、より好ましくは１乃至３個である。複数の置換基が存在する場合、各置換基は、同一でも異なっていてもよい。当該置換基はまたさらにＣ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルケニル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１４アラルキル基、複素環基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、オキソ基等で置換されていてもよい。置換基の数は、置換可能な数であれば特に限定されないが、好ましくは１乃至５個、より好ましくは１乃至３個である。複数の置換基が存在する場合、各置換基は、同一でも異なっていてもよい。
【０１１１】
本明細書中、「置換されていてもよい環状基」の「環状基」としては、例えば、Ｃ３−８シクロアルキル基、Ｃ３−８シクロアルケニル基、Ｃ６−１０アリール基等の環状炭化水素基、複素環基等が挙げられる。中でも、Ｃ３−８シクロアルキル基又はＣ６−１０アリール基が好ましく、Ｃ６−１０アリール基が特に好ましい。
【０１１２】
本明細書中、「縮合環」とは、隣接するベンゼン環と１対１で辺を共有する飽和又は不飽和の炭素環又は複素環構造を意味し、例えば、インダン、テトラリン、ナフタレン、キノリン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、インドール、インドリン等が挙げられる。中でも、飽和又は不飽和の炭素環が好ましく、ナフタレンが特に好ましい。
【０１１３】
本明細書中、「キラル化合物」とは、中心性キラリティー、軸性キラリティー又は面性キラリティーを持つ化合物を意味し、例えば、中心性キラリティー（不斉中心、すなわち、不斉炭素原子）を持つ化合物が挙げられる。
【０１１４】
本明細書中、「キラル有機酸」とは、中心性キラリティー、軸性キラリティー又は面性キラリティーを持つカルボン酸又はスルホン酸を意味し、中でも、中心性キラリティー（不斉炭素原子）を持つカルボン酸が好ましく、カルボキシ基のα位に不斉炭素原子を有するカルボン酸がより好ましく、α−アミノ酸が特に好ましい。
【０１１５】
本明細書中、「求核剤」とは、反応性の孤立電子対をもつ化学種であればよく、電気的に中性なもの、有機アニオン、無機アニオンのいずれでも構わない。これら求核剤の例として、含窒素求核剤（アミン、アミド、イミド、アンモニア、ヒドラジン、アジド等）、含酸素求核剤（水、アルコール、水酸物イオン、アルコキサイド、シロキサン、カーボキシレート、パーオキサイド等）、含硫黄求核剤（メルカプタン、チオレート、ビスルファイト、チオシアネート等）、含炭素求核剤（シアニド、マロネート、アセチリド、エノレート、イノレート、グリニャール試薬、有機銅試薬、有機亜鉛試薬、有機リチウム試薬等）、ヒドリドアニオン等が挙げられ、中でもアミン、水、アルコールまたはチオールが好ましく、さらに取り扱いが容易であることからアミンまたはアルコールが特に好ましい。中でも、反応速度の観点から、アミンとしては、第一級アミンが好ましく、具体的には、アリルアミン、ベンジルアミン、フェネチルアミン、フェニルプロピルアミン等が好適に使用でき、アルコールとしては、第一級アルコールが好ましく、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、アリルアルコール、トリフルオロエタノール、シンナミルアルコール等が好適に使用できる。また、求核剤部位を反応基質（例、キラル有機酸）の一部に含有させれば、分子内反応による速度論的分割も行うことができる。また、求核剤として、反応性のガス（例、ＨＣＮガス）を使用することもできる。その際のガス分圧は、好ましくは０．１〜１０００ａｔｍ、より好ましくは０．５〜１００ａｔｍ、さらに好ましくは１〜１０ａｔｍの範囲である。
【０１１６】
本明細書中、「キラル有機酸−求核剤縮合体」とは、キラル有機酸と求核剤とが、脱水縮合反応等により結合形成した化合物を意味し、具体的には、キラル有機酸としてキラルカルボン酸を使用し、求核剤としてアルコール又はアミンを使用した場合の「キラル有機酸−求核剤縮合体」とは、それぞれキラルエステル又はキラルアミドである。
【０１１７】
本明細書中、「触媒量」とは、反応基質の量を基準とする触媒の準化学量論的な量を意味する。具体的には、触媒量とは、反応基質の量（１００モル％）に対して、０．０１モル％〜９０モル％、より好ましくは、０．１モル％〜５０モル％、特に好ましくは、０．１モル％〜１０モル％の触媒を意味する。
【０１１８】
本明細書中、「立体異性的に富化された」とは、エナンチオ選択的に富化された又はジアステレオ選択的に富化された状態を意味し、具体的には、その生成物の他の可能な立体異性体類よりも優先して反応生成物の特定の立体異性体を生成するものである。「エナンチオ選択的に富化された」とは、反応生成物中の２種の可能なエナンチオマーのうちの一方の生成が、他方の生成よりも優先した状態を意味するものである。
【０１１９】
キラル有機酸としてラセミ体を用いる場合には、本発明の不斉脱水縮合剤の存在下で、キラル有機酸の一方の反応体エナンチオマーが他方よりもゆっくりと反応することで反応速度によって分割され、エナンチオマー的に富化されたキラル有機酸−求核剤縮合体を生じる。このようなプロセスは「速度論的光学分割」と称される。本発明の速度論的光学分割方法により分割され得る立体異性体は、二つ以上の不斉中心を有していてもよく、互いにジアステレオマーの関係であってもよい。
【０１２０】
本明細書中、「ｅｅ」とは、鏡像異性体過剰率（ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒｉｃ  ｅｘｃｅｓｓ）の略称であり、キラルな化合物の光学純度を表す。「ｅｅ」は、多い方の鏡像異性体の物質量から少ない方の鏡像異性体の物質量を引き、全体の物質量で割った値に１００を掛けて算出され、「％ｅｅ」で表される。
【０１２１】
本明細書中、「光学的に純粋な」とは、９９％ｅｅ以上の光学純度を示す状態を表す。
【０１２２】
本明細書中、「光学活性な」とは、光の平面偏光を回転させる性質、すなわち、旋光能を有する状態を意味する。好ましくは、光学的に純粋な状態である。
【０１２３】
本明細書中、「鏡像異性体」とは、光学活性なキラル化合物中の全ての不斉炭素原子の立体配置が異なっている光学的対掌体を意味し、光学活性なキラル化合物と互いに右手と左手との関係にある１対の光学異性体を構成している。具体的には、例えば、光学活性なキラル化合物が（Ｌ）−Ｎ−ベンゾイルフェニルアラニンである場合の鏡像異性体は、（Ｄ）−Ｎ−ベンゾイルフェニルアラニンである。
【０１２４】
（本発明の化合物）
本発明の化合物は、下記式（Ｉ）で表される化合物（化合物（Ｉ））である。
【０１２５】
式（Ｉ）：
【０１２６】
【化２６】
2014080371.tif 000027
【０１２７】
[式中、
Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示し、
Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ７（ここで、Ｒ７は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、ＰＲ８（ここで、Ｒ８は、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）（ここで、Ｒ９及びＲ１０は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）又はＣ（Ｒ１１）（Ｒ１２）（ここで、Ｒ１１及びＲ１２は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示すか、又はＲ１１及びＲ１２はそれらが結合する炭素原子と一緒になって置換されていてもよい環状炭化水素基を形成してもよい。）を示し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよい環状基を示し、
Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルキル−カルボニル基、置換されていてもよいアルコキシ−カルボニル基、カルバモイル基、モノ若しくはジＣ１−６アルキルアミノ−カルボニル基、ホルミル基、シアノ基、置換されていてもよいアルコキシ基又は置換されていてもよい環状基を示すか、或いはＲ３−Ｙ且つＲ４、及び／又はＲ５且つＲ６はそれらが結合するベンゼン環と共に縮合環を形成してもよく、並びに
Ｘ-は、求核性がないか、又は求核性が低い対アニオンを示す。]で表される化合物である。
【０１２８】
以下、本発明の化合物（Ｉ）の各基について説明する。
【０１２９】
Ｒ１は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基及び置換されていてもよい芳香環基からなる群より選択される基を表し、Ｒ１の選択により、本発明の化合物（Ｉ）の溶解性、反応性等を制御することが可能である。
【０１３０】
Ｒ１は、好ましくは、Ｃ１−２０アルキル基、またはＣ６−２２アリール基であり、中でもＣ１−１２アルキル基、またはＣ６−１４アリール基が好ましく、Ｃ１−６アルキル基、またはＣ６−１０アリール基（例、フェニル基、ナフチル基）がより好ましく、Ｃ１−３アルキル基が特に好ましい。各基は、それぞれ前述した置換基により置換されていてもよく、複数の置換基を有する場合、それらは、同一でも異なっていてもよい。
【０１３１】
Ｒ２は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を表す。
【０１３２】
Ｒ２は、好ましくは、Ｃ１−３アルキル基である。該基は、前述した置換基により置換されていてもよく、複数の置換基を有する場合、それらは、同一でも異なっていてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子が好ましい。
【０１３３】
Ｒ２は、特に好ましくは、１乃至３個のハロゲン原子（例、フッ素原子）により置換されていてもよいメチル基、またはエチル基である。
【０１３４】
Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＮＲ７（ここで、Ｒ７は、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアラルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、ＰＲ８（ここで、Ｒ８は、置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよい芳香環基を示す。）、Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）（ここで、Ｒ９及びＲ１０は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示す。）又はＣ（Ｒ１１）（Ｒ１２）（ここで、Ｒ１１及びＲ１２は、独立してそれぞれ、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよい芳香環基を示すか、又はＲ３が水素原子であり、且つＲ１１及びＲ１２はそれらが結合する炭素原子と一緒になって置換されていてもよい環状炭化水素基（例、Ｃ３−８シクロアルキル基）を形成してもよい。）を表す。
【０１３５】
Ｙは、好ましくは、単結合である。
【０１３６】
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよい環状基を表す。
【０１３７】
Ｒ３は、好ましくは、置換されていてもよいアルキニル基又は置換されていてもよい環状基であり、より好ましくは、置換されていてもよいＣ２−６アルキニル基又は置換されていてもよいアリール基であり、更に好ましくは、置換されていてもよいエチニル基又は置換されていてもよいＣ６−２２アリール基であり、特に好ましくは、置換されていてもよいエチニル基又は置換されていてもよいＣ６−１０アリール基（例、フェニル基、ナフチル基）である。各基は、前述した置換基により置換されていてもよく、複数の置換基を有する場合、それらは、同一でも異なっていてもよい。該アルキニル基の置換基としては、置換されていてもよいアリール基が好ましく、また該環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、または１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基が好ましい。中でもフェニル基により置換されたエチニル基、又は１乃至３個のハロゲン原子（例、フッ素原子）により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基（例、フェニル基、ナフチル基）が、Ｒ３として最も好ましい。
【０１３８】
Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいアルキル−カルボニル基、置換されていてもよいアルコキシ−カルボニル基、置換されていてもよいカルバモイル基、ホルミル基、シアノ基、置換されていてもよいアルコキシ基又は置換されていてもよい環状基を表すか、或いはＲ３−Ｙ且つＲ４、及び／又はＲ５且つＲ６はそれらが結合するベンゼン環と共に縮合環を形成する。
【０１３９】
Ｒ４は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基、カルバモイル基、ホルミル基、シアノ基、Ｃ１−６アルコキシ基である。各基は、それぞれ前述した置換基により置換されていてもよく、複数の置換基を有する場合、それらは、同一でも異なっていてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、Ｃ１−６アルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基が好ましい。
【０１４０】
Ｒ４は、より好ましくは、水素原子またはハロゲン原子である。
【０１４１】
Ｒ５及びＲ６は、好ましくは、それらが結合するベンゼン環と共に縮合環を形成する。該縮合環は、前述した置換基により置換されていてもよく、複数の置換基を有する場合、それらは、同一でも異なっていてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、または１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１−６アルコキシ基が好ましい。
【０１４２】
Ｒ５及びＲ６は、より好ましくは、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成するものである。
【０１４３】
Ｘ-は、求核性がないか、又は求核性が低い対アニオンを表し、好ましくは、例えば、フルオリド、クロリド、ブロミド、ヨージド、置換されていてもよいアルキルスルホナート、置換されていてもよいアリールスルホナート、ペルクロラート、テトラフルオロボラート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモナート、テトラフェニルボラート、およびアルセナートからなる群より選択される対アニオンである。
【０１４４】
Ｘ-は、より好ましくは、クロリド、トリフルオロメタンスルホナート、ペルクロラート、またはテトラフルオロボラートであり、特に好ましくは、クロリド、トリフルオロメタンスルホナートである。
【０１４５】
化合物（Ｉ）としては、式（Ｉ’）：
【０１４６】
【化２７】
2014080371.tif 000028
【０１４７】
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される光学的に純粋な化合物（以下、「化合物（Ｉ’）」と称することもある。）、式（Ｉ’’）：
【０１４８】
【化２８】
2014080371.tif 000029
【０１４９】
[式中の各記号は、前記と同意義を示す。]で表される光学的に純粋な化合物（以下、「化合物（Ｉ’’）」と称することもある。）、又はそれらの非等量混合物が好適であり、中でも以下の化合物がより好適である。
【０１５０】
［化合物（ＩＡ）］
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり；
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり；
Ｙが、単結合であり；
Ｒ３が、置換されていてもよいアリール基であり；
Ｒ４が、水素原子であり；
Ｒ５且つＲ６が、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成し；及び
Ｘ-が、フルオリド、クロリド、ブロミド、ヨージド、置換されていてもよいアルキルスルホナート、置換されていてもよいアリールスルホナート、ペルクロラート、テトラフルオロボラート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモナート、テトラフェニルボラート又はアルセナートである、化合物（Ｉ’）、化合物（Ｉ’’）又はそれらの非等量混合物。
【０１５１】
［化合物（ＩＢ）］
Ｒ１が、Ｃ１−３アルキル基であり；
Ｒ２が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよい置換されていてもよいＣ１−３アルキル基であり；
Ｙが、単結合であり；
Ｒ３が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいＣ６−１０アリール基であり；
Ｒ４が、水素原子であり；
Ｒ５且つＲ６が、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成し；及び
Ｘ-が、クロリド、トリフルオロメタンスルホナート、ペルクロラート、またはテトラフルオロボラートである、化合物（Ｉ’）、化合物（Ｉ’’）又はそれらの非等量混合物。
【０１５２】
［化合物（ＩＣ）］
Ｒ１が、メチル基、エチル基又はイソプロピル基であり；
Ｒ２が、１乃至３個のフッ素原子により置換されていてもよい置換されていてもよいメチル基であり；
Ｙが、単結合であり；
Ｒ３が、１乃至３個のハロゲン原子により置換されていてもよいフェニル基又はナフチル基であり；
Ｒ４が、水素原子であり；
Ｒ５且つＲ６が、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成し；及び
Ｘ-が、クロリド又はトリフルオロメタンスルホナートである、化合物（Ｉ’）、化合物（Ｉ’’）又はそれらの非等量混合物。
【０１５３】
［化合物（ＩＤ）］
Ｒ１が、メチル基、エチル基又はイソプロピル基であり；
Ｒ２が、１乃至３個のフッ素原子により置換されていてもよい置換されていてもよいメチル基であり；
Ｙが、単結合であり；
Ｒ３が、フェニル基により置換されていてもよいエチニル基であり；
Ｒ４が、水素原子であり；
Ｒ５且つＲ６が、それらが結合するベンゼン環と共にナフタレン環を形成し；及び
Ｘ-が、クロリド又はトリフルオロメタンスルホナートである、化合物（Ｉ’）、化合物（Ｉ’’）又はそれらの非等量混合物。
【０１５４】
特に好適な化合物（Ｉ）は、具体的には以下の化合物、又はそれらの光学異性体である。
【化２９】
2014080371.tif 000030
【０１５５】
また、本願発明には、上記化合物（Ｉ）の合成中間体である、以下のキラル第三級アミン化合物（ＩＩ）、又はそれらの光学異性体も含まれる。
【化３０】
2014080371.tif 000031
【０１５６】
（本発明の化合物（Ｉ）の合成）
本発明の化合物（Ｉ）の製造方法としては、特に限定されないが、例えば、以下のような反応を経て合成することができる。
【０１５７】
原料化合物は、特に述べない限り、市販品として容易に入手できるか、あるいは、自体公知の方法（Ooi, T. et al., J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 5139-5151.）またはこれらに準ずる方法に従って製造することができる。
【０１５８】
［製造法１］
本発明の化合物（Ｉ）は、例えば、以下の工程により製造することができる。
【０１５９】
【化３１】
2014080371.tif 000032
【０１６０】
［式中の各記号は、前記と同義である。］
【０１６１】
工程（１−１）
当該工程は、化合物（１ａ）の２個のヒドロキシ基をトリフルオロメタンスルホニル化することにより、化合物（１ｂ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、塩基の存在下、トリフルオロメタンスルホニル化剤を用いて行われる。
【０１６２】
トリフルオロメタンスルホニル化剤としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸ハライド等が使用可能であり、中でも、トリフルオロメタンスルホン酸無水物が好ましい。
該トリフルオロメタンスルホニル化剤の使用量は、化合物（１ａ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０１６３】
塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、テトラメチルグアニジン等の有機塩基類等が挙げられ、中でもトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が好ましい。
該塩基の使用量は、化合物（１ａ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０１６４】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコール−ジメチルエーテル（ＤＭＥ）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグライム（ｄｉｇｌｙｍｅ））等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類が挙げられ、中でもジクロロメタン、クロロホルム、ＤＭＥ等が特に好ましい。
【０１６５】
反応温度は、通常−７８℃〜１２０℃、好ましくは−７８℃〜室温である。
反応時間は、通常０．１〜３０時間である。
【０１６６】
工程（１−２）
当該工程は、化合物（１ｂ）の２個のトリフルオロメタンスルホニロキシ基を、メチル基へと変換して、化合物（１ｃ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、ニッケル（ＩＩ）触媒存在下、グリニャール試薬（メチルマグネシウムヨージド）を用いて行われる。
【０１６７】
ニッケル（ＩＩ）触媒としては、例えば、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）ジクロリド、[１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン]ニッケル（ＩＩ）ジクロリド、[１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン]ニッケル（ＩＩ）ジクロリド等が挙げられ、中でも、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）ジクロリドが好ましい。
該ニッケル（ＩＩ）触媒の使用量は、化合物（１ｂ）１当量に対して、通常０．０００１〜０．２当量であり、好ましくは、０．０１〜０．１当量である。
【０１６８】
グリニャール試薬の使用量は、化合物（１ｂ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０１６９】
溶媒としては、例えば、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類が挙げられ、中でもジエチルエーテル等が特に好ましい。
【０１７０】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは、室温〜６０℃である。
反応時間は、通常０．１〜３０時間である。
【０１７１】
工程（１−３）
当該工程は、化合物（１ｃ）の２個のメチル基（ベンジル位）をブロモ化して、化合物（１ｄ）を製造する工程である。
【０１７２】
当該工程に使用し得るブロモ化剤としては、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（ＮＢＳ）が好適である。当該ブロモ化剤は、触媒量のアゾイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）と共に使用される。
【０１７３】
ＡＩＢＮの使用量は、化合物（１ｃ）１当量に対して、通常０．００１〜０．５当量であり、好ましくは、０．０１〜０．１当量である。
【０１７４】
ＮＢＳの使用量は、化合物（１ｃ）１当量に対して、通常２〜４当量であり、好ましくは、２〜２．４当量である。
【０１７５】
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられ、中でもベンゼンが特に好ましい。
【０１７６】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１〜３０時間である。
【０１７７】
工程（１−４）
当該工程は、化合物（１ｄ）と第一級アミン（Ｒ２ＮＨ２）との反応により、キラル第三級アミン化合物（ＩＩ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。
【０１７８】
第一級アミンとしては、メチルアミン等が挙げられ、第一級アミンが水溶液として入手可能な場合、当該水溶液をそのまま反応に使用することもできる。
第一級アミンの使用量は、化合物（１ｄ）１当量に対して、通常２〜２０当量である。
【０１７９】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類が挙げられ、中でもジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、アセトニトリル等が特に好ましい。
【０１８０】
反応温度は、通常−７８℃〜１２０℃、好ましくは０℃〜６０℃である。
反応時間は、通常０．１〜３０時間である。
【０１８１】
工程（１−５）
当該工程は、キラル第三級アミン化合物（ＩＩ）とトリアジン化合物（１ｆ）との反応により、化合物（Ｉ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。
【０１８２】
化合物（１ｆ）の使用量は、化合物（ＩＩ）１当量に対して、通常１〜４当量である。
【０１８３】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；メタノール、エタノール等のアルコール類が挙げられ、中でもジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、アセトニトリル等が特に好ましい。
【０１８４】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１〜６時間である。
【０１８５】
当該反応により得られた化合物（Ｉ）は、必要に応じて、反応に影響を及ぼさない溶媒中、ＭＸ’と混合することにより、対アニオンであるＸ-を他の対アニオンＸ’−へと変換することができるので、化合物（Ｉ）の他の塩を容易に調製することができる。
【０１８６】
ＭＸ’で表される反応剤におけるＭは、金属原子、または４級アンモニウム基を示し、具体的には、例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、セシウム等のアルカリ金属；マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属、金、銀等の貴金属、タリウム等の重金属、テトラメチルアンモニウム基等が挙げられ、中でも好ましくは、リチウム、ナトリウムまたは銀である。
【０１８７】
ＭＸ’で表される反応剤におけるＸ’は、前記Ｘ-に対応する基のうち、塩素原子、置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基又は置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基以外の求核性がないか、又は求核性が低い基を示し、具体的には、例えば、ペルクロラート、テトラフルオロボラート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモナート、テトラフェニルボラート、アルセナート等が挙げられる。
【０１８８】
該ＭＸ’の使用量は、化合物（Ｉ）１当量に対して、通常１〜１０当量であり、好ましくは、１〜３当量である。
【０１８９】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類；それらの混合溶媒等が挙げられ、中でもジクロロメタンが特に好ましい。
【０１９０】
反応温度は、通常−３０〜１００℃、好ましくは０〜４０℃である。
反応時間は、通常０．１〜３０時間である。
【０１９１】
［製造法２］
化合物（Ｉ）において、Ｙが単結合であり、且つＲ３が置換されていてもよいアリール基である化合物（本明細書中、化合物（Ｉ−１）と略記することがある）は、例えば、下記製造法２またはこれに準ずる方法により製造することができる。
【０１９２】
【化３２】
2014080371.tif 000033
【０１９３】
（式中の各記号は前記と同義を示す。）
【０１９４】
工程（２−１）
当該工程は、化合物（２ａ）の２個のヒドロキシ基をメトキシメチル化することにより、化合物（２ｂ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、塩基の存在下、メトキシメチルクロリドを用いて行われる。
原料化合物（２ａ）は市販のものを用いるか、または自体公知の方法［例えば、「Advanced Organic Chemistry, 4th Ed.」（Jerry March著）、「Comprehensive Organic Transformations, 2nd Ed.」（Richard C. Larock著）、「Brunel, J. M., Chem. Rev., 2005, 105, 857-897.」に記載の方法］またはこれらに準ずる方法で製造することができる。
【０１９５】
メトキシメチルクロリドの使用量は、化合物（２ａ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０１９６】
塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等のヒドリド系塩基；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、テトラメチルグアニジン等の有機塩基類等が挙げられ、中でも水素化ナトリウムが好ましい。
該塩基の使用量は、化合物（２ａ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０１９７】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；メタノール、エタノール等のアルコール類が挙げられ、中でもＴＨＦが特に好ましい。
【０１９８】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１〜６時間である。
【０１９９】
工程（２−２）
当該工程は、化合物（２ｂ）の２個のメトキシメトキシ基のオルト位に臭素原子を導入し、化合物（２ｃ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、化合物（２ｂ）の２個のメトキシメトキシ基のオルト位をリチオ化後、求電子的にブロモ化剤を用いて行われる。
【０２００】
化合物（２ｂ）の２個のメトキシメトキシ基のオルト位のリチオ化に使用する有機リチウム試薬としては、ｎ−ブチルリチウムが好適に使用される。
ｎ−ブチルリチウムの使用量は、化合物（２ｂ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２０１】
求電子的なブロモ化剤としては、臭素が好適に使用される。
該ブロモ化剤の使用量は、化合物（２ｂ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２０２】
溶媒としては、例えば、ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類が挙げられ、中でもＴＨＦが特に好ましい。
【０２０３】
反応温度は、通常−７８℃〜１００℃、好ましくは−７８℃〜室温である。
反応時間は、通常０．１〜６時間である。
【０２０４】
工程（２−３）
当該工程は、化合物（２ｃ）の２個のメトキシメチル基を除去し、化合物（２ｄ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、化合物（２ｃ）を酸処理することにより行われる。
【０２０５】
酸としては、例えば、Protective Groups in Organic Synthesis,John Wiley and Sons刊(1980)に記載のメトキシメチル基の脱保護に使用可能なものが挙げられるが、化合物（２ｃ）上の他の置換基に影響を与えないものであれば、特に限定されない。好ましい酸としては、塩酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸等が挙げられ、塩酸が特に好ましい。
該酸の使用量は、化合物（２ｃ）１当量に対して、通常０．１〜１０当量である。
【０２０６】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類；メタノール、エタノール等のアルコール類；酢酸エチル等のエステル類が挙げられ、中でもジオキサンが特に好ましい。
【０２０７】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１〜６時間である。
【０２０８】
工程（２−４）
当該工程は、化合物（２ｄ）の２個のヒドロキシ基をトリフルオロメタンスルホニル化して、化合物（２ｅ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法１の工程（１−１）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２０９】
工程（２−５）
当該工程は、化合物（２ｅ）の２個のブロモ基を所望のアリール基で置換して、化合物（１ｂ）を製造する工程である。
本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、例えば、パラジウム触媒及び塩基の存在下、アリールボロン酸とのクロスカップリング反応（鈴木カップリング反応）等により行うことができる。
【０２１０】
パラジウム触媒としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、[１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]ジクロロパラジウムやトリフェニルホスフィン存在下での酢酸パラジウム等が挙げられ、中でも、トリフェニルホスフィン存在下、酢酸パラジウムを使用する系が好ましい。
パラジウム触媒の使用量は、化合物（２ｅ）１当量に対して、通常０．００１〜０．５当量であり、好ましくは、０．０５〜０．２当量である。
【０２１１】
所望のアリールボロン酸は、市販品を使用するか、又は市販の原料から自体公知の方法により合成したものを使用することができる。
アリールボロン酸の使用量は、化合物（２ｅ）１当量に対して、通常２〜４当量である。
【０２１２】
塩基としては、例えば、リン酸三カリウム、リン酸三ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等が挙げられ、中でもリン酸三カリウムが好ましい。
【０２１３】
溶媒としては、例えば、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類、ジオキサン、ＤＭＦが挙げられ、中でもＴＨＦが特に好ましい。
【０２１４】
反応温度は、通常５０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１１０℃である。
反応時間は、通常０．１〜１２時間である。
【０２１５】
工程（２−６）
本工程は、化合物（２ｆ）から前記製造法１の工程（１−２）〜工程（１−５）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２１６】
［製造法３］
化合物（Ｉ）において、Ｙが単結合であり、且つＲ３が置換されていてもよいアリール基（例、３，４，５−トリフルオロフェニル基）である化合物（Ｉ−１）は、例えば、下記製造法３またはこれに準ずる方法によっても製造することができる。
【０２１７】
【化３３】
2014080371.tif 000034
【０２１８】
（式中の各記号は前記と同義を示す。）
【０２１９】
工程（３−１）
当該工程は、化合物（２ｂ）の２個のメトキシメトキシ基のオルト位にヒドロキシ基を導入して、化合物（３ａ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、化合物（２ｂ）の２個のメトキシメトキシ基のオルト位をリチオ化後、ボロナート化に続く酸化により行われる。
【０２２０】
化合物（２ｂ）の２個のメトキシメトキシ基のオルト位のリチオ化に使用する有機リチウム試薬としては、ｎ−ブチルリチウムが好適に使用される。
ｎ−ブチルリチウムの使用量は、化合物（２ｂ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２２１】
ボロナート化には、トリメトキシボランが使用される。
トリメトキシボランの使用量は、化合物（２ｂ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２２２】
ボロナート化に続く酸化反応に使用する酸化剤としては、過酸化水素が好適に使用される。
酸化剤の使用量は、化合物（２ｂ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２２３】
溶媒としては、例えば、ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類が挙げられ、中でもベンゼンが特に好ましい。
【０２２４】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１〜６時間である。
【０２２５】
工程（３−２）
当該工程は、化合物（３ａ）の２個のヒドロキシ基をメチル化することにより、化合物（３ｂ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、塩基の存在下、メチル化剤を用いて行われる。
【０２２６】
メチル化剤としては、特に限定されないが、メチルヨージドが好適に使用される。
【０２２７】
メチル化剤の使用量は、化合物（３ａ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２２８】
塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等のヒドリド系塩基；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、テトラメチルグアニジン等の有機塩基類等が挙げられ、中でも炭酸カリウムが好ましい。
該塩基の使用量は、化合物（３ａ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２２９】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；メタノール、エタノール等のアルコール類；アセトン等のケトン類が挙げられ、中でもアセトンが特に好ましい。
【０２３０】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１〜２４時間である。
【０２３１】
工程（３−３）
当該工程は、化合物（３ｂ）の２個のメトキシメチル基を除去し、化合物（３ｃ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法２の工程（２−３）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２３２】
工程（３−４）
当該工程は、化合物（３ｃ）の２個のヒドロキシ基をトリフルオロメタンスルホニル化することにより、化合物（３ｄ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法１の工程（１−１）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２３３】
工程（３−５）
当該工程は、化合物（３ｄ）の２個のトリフルオロメタンスルホニロキシ基を、メチル基へと変換して、化合物（３ｅ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法１の工程（１−２）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２３４】
工程（３−６）
当該工程は、化合物（３ｅ）の２個のメトキシ基を、脱メチル化して、化合物（３ｆ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、ルイス酸を用いて行われる。
【０２３５】
ルイス酸としては、例えば、Protective Groups in Organic Synthesis,John Wiley and Sons刊(1980)に記載のメトキシ基の脱保護に使用可能なものが挙げられるが、化合物（３ｅ）上の他の置換基に影響を与えないものであれば、特に限定されない。好ましいルイス酸としては、塩化アルミニウム、三臭化ホウ素等が挙げられ、三臭化ホウ素が特に好ましい。
該ルイス酸の使用量は、化合物（３ｅ）１当量に対して、通常２〜１０当量であり、好ましくは２〜３当量である。
【０２３６】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類等が挙げられ、中でもジクロロメタンが特に好ましい。
【０２３７】
反応温度は、通常０℃〜室温である。
反応時間は、通常０．１〜２４時間である。
【０２３８】
工程（３−７）
当該工程は、化合物（３ｆ）の２個のヒドロキシ基をトリフルオロメタンスルホニル化することにより、化合物（３ｇ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法１の工程（１−１）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２３９】
工程（３−８）
当該工程は、化合物（３ｇ）の２個のトリフルオロメタンスルホニロキシ基を所望のアリール基で置換して、化合物（３ｈ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法２の工程（２−５）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２４０】
工程（３−９）
本工程は、化合物（３ｈ）から前記製造法１の工程（１−３）〜工程（１−５）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２４１】
［製造法４］
化合物（Ｉ）において、Ｙが酸素原子である化合物（本明細書中、化合物（Ｉ−２）と略記することがある）は、例えば、下記製造法４またはこれに準ずる方法により製造することができる。
【０２４２】
【化３４】
2014080371.tif 000035
【０２４３】
（式中、Ｘ１は、脱離基を示し、他の各記号は前記と同義を示す。）
【０２４４】
工程（４−１）
当該工程は、化合物（３ａ）の２個のヒドロキシ基をＲ３Ｘ１によりアルキル化又はアラルキル化することにより、化合物（４ａ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、塩基の存在下、所望のアルキル化剤又はアラルキル化剤を用いて行われる。
【０２４５】
Ｒ３Ｘ１で表されるアルキル化剤又はアラルキル化剤としては、特に限定されないが、脱離基Ｘ１としては、例えば、ハロゲン原子（好ましくは、ヨウ素原子、臭素原子など）、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等が挙げられる。Ｒ３Ｘ１の具体例としては、例えば、tert−ブチルクロリド、トリチルクロリド等が挙げられる。
【０２４６】
Ｒ３Ｘ１で表されるアルキル化剤又はアラルキル化剤の使用量は、化合物（３ａ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２４７】
塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等のヒドリド系塩基；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、テトラメチルグアニジン等の有機塩基類等が挙げられ、中でも水素化ナトリウムが好ましい。
該塩基の使用量は、化合物（３ａ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２４８】
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素類；ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；メタノール、エタノール等のアルコール類が挙げられ、中でもＴＨＦが特に好ましい。
【０２４９】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１〜６時間である。
【０２５０】
工程（４−２）
当該工程は、化合物（４ａ）の２個のメトキシメチル基を除去し、化合物（４ｂ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法２の工程（２−３）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２５１】
工程（４−３）
本工程は、化合物（４ｂ）から前記製造法１の工程（１−１）〜工程（１−５）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２５２】
［製造法５］
化合物（Ｉ）において、ＹがＳｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）又はＣ（Ｒ１１）（Ｒ１２）（式中の各記号は前記と同義を示す。）である化合物（本明細書中、化合物（Ｉ−３）と略記することがある）は、例えば、下記製造法５またはこれに準ずる方法により製造することができる。
【０２５３】
【化３５】
2014080371.tif 000036
【０２５４】
（式中、Ｘ２は、脱離基を示し、他の各記号は前記と同義を示す。）
【０２５５】
工程（５−１）
当該工程は、化合物（２ｃ）の２個のブロモ基をＹ−Ｒ３基で置換して、化合物（５ａ）を製造する工程である。
本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、化合物（２ｃ）の２個のメトキシメトキシ基のオルト位をリチオ化後、Ｒ３ＹＸ２との反応により行われる。
【０２５６】
化合物（２ｃ）の２個のメトキシメトキシ基のオルト位のリチオ化に使用する有機リチウム試薬としては、ｎ−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム等が好適に使用される。
有機リチウム試薬の使用量は、化合物（２ｃ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２５７】
Ｒ３ＹＸ２で表されるシリル化剤又はアルキル化剤としては、特に限定されないが、脱離基Ｘ２としては、例えば、ハロゲン原子（好ましくは、ヨウ素原子、臭素原子など）、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等が挙げられる。Ｒ３ＹＸ２の具体例としては、例えば、tert−ブチルジメチルシリルクロリド、tert−ブチルジフェニルシリルクロリド、トリフェニルクロリド等のシリルハライド；tert−ブチルクロリド、トリチルクロリド等のアルキルハライド等が挙げられる。
該塩基の使用量は、化合物（２ｃ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２５８】
溶媒としては、例えば、ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類が挙げられ、中でもＴＨＦが特に好ましい。
【０２５９】
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１〜６時間である。
【０２６０】
工程（５−２）
当該工程は、化合物（５ａ）の２個のメトキシメチル基を除去し、化合物（５ｂ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法２の工程（２−３）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２６１】
工程（５−３）
本工程は、化合物（５ｂ）から前記製造法１の工程（１−１）〜工程（１−５）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２６２】
［製造法６］
化合物（Ｉ）において、ＹがＮＲ７（式中のＲ７は前記と同義を示す。）である化合物（本明細書中、化合物（Ｉ−４）と略記することがある）は、例えば、下記製造法６またはこれに準ずる方法により製造することができる。
【０２６３】
【化３６】
2014080371.tif 000037
【０２６４】
（式中の各記号は前記と同義を示す。）
【０２６５】
工程（６−１）
当該工程は、化合物（２ｃ）の２個のブロモ基をＮ（Ｒ３）（Ｒ７）基で置換して、化合物（６ａ）を製造する工程である。
本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、例えば、パラジウム触媒存在下、アミン（（Ｒ３）（Ｒ７）ＮＨ）とのクロスカップリング反応（Ｂｕｃｈｗａｌｄ−Ｈａｒｔｗｉｇカップリング反応）等により行うことができる。
【０２６６】
パラジウム触媒としては、例えば、リン配位子存在下、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムもしくは酢酸パラジウムを使用する系等が挙げられ、中でも、二座キレート型リン配位子存在下、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムを使用する系が好ましい。
リン配位子として使用可能な二座キレート型有機リン化合物としては、例えば、２,２'-ビス（ジフェニルホスフィノ）-１,１'-ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）や１,１'-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン（ＤＰＰＦ）、４,５-ビス(ジフェニルホスフィノ)-９，９-ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）等が挙げられ、中でもＢＩＮＡＰが好ましい。
パラジウム触媒の使用量は、化合物（２ｃ）１当量に対して、通常０．０１〜０．２当量である。
有機リン化合物の使用量は、化合物（２ｃ）１当量に対して、通常０．０１〜０．２当量である。
【０２６７】
（Ｒ３）（Ｒ７）ＮＨとしては、特に限定されず、（Ｒ３）（Ｒ７）ＮＨのＲ３及びＲ７が、それらが結合する窒素原子と共に環状基を形成していてもよい。
（Ｒ３）（Ｒ７）ＮＨの使用量は、化合物（２ｃ）１当量に対して、通常２〜８当量である。
【０２６８】
溶媒としては、例えば、ジオキサン、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類；ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類が挙げられ、中でもトルエンが特に好ましい。
【０２６９】
反応温度は、通常室温〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１１０℃である。
反応時間は、通常０．１〜６時間である。
【０２７０】
工程（６−２）
当該工程は、化合物（６ａ）の２個のメトキシメチル基を除去し、化合物（６ｂ）を製造する工程である。
本工程は、前記製造法２の工程（２−３）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２７１】
工程（６−３）
本工程は、化合物（６ｂ）から前記製造法１の工程（１−１）〜工程（１−５）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２７２】
［製造法７］
化合物（Ｉ）において、Ｙが単結合であり、且つＲ３が置換されていてもよいアルキニル基である化合物（本明細書中、化合物（Ｉ−５）と略記することがある）は、例えば、下記製造法７またはこれに準ずる方法により製造することができる。
【０２７３】
【化３７】
2014080371.tif 000038
【０２７４】
（式中の各記号は前記と同義を示す。）
【０２７５】
工程（７−１）
当該工程は、化合物（３ｇ）の２個のトリフルオロメタンスルホニロキシ基を所望のアルキニル基で置換して、化合物（７ａ）を製造する工程である。
本工程は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、例えば、パラジウム触媒、銅触媒及び塩基の存在下、末端アルキン（例えば、アリールアセチレン）とのクロスカップリング反応（薗頭クロスカップリング反応）等により行うことができる。
【０２７６】
パラジウム触媒としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリドやトリフェニルホスフィン存在下での酢酸パラジウム等が挙げられ、中でも、トリフェニルホスフィン存在下、酢酸パラジウムを使用する系が好ましい。
パラジウム触媒の使用量は、化合物（３ｇ）１当量に対して、通常０．００１〜０．５当量であり、好ましくは、０．０５〜０．２当量である。
【０２７７】
銅触媒としては、例えば、臭化銅（Ｉ）やヨウ化銅（Ｉ）等が挙げられ、中でも臭化銅（Ｉ）が好ましい。
銅触媒の使用量は、化合物（３ｇ）１当量に対して、通常０．００１〜０．５当量であり、好ましくは、０．０５〜０．２当量である。
【０２７８】
塩基としては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミンが挙げられ、中でもジエチルアミンが好ましい。
【０２７９】
末端アルキンの種類は、特に限定されないが、アリールアセチレン（例、フェニルアセチレン）が好ましい。
末端アルキンは、市販品を使用するか、又は市販の原料から自体公知の方法により合成したものを使用することができる。
末端アルキンの使用量は、化合物（３ｇ）１当量に対して、通常２〜４当量である。
【０２８０】
溶媒としては、例えば、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＤＭＥ、ジグライム等のエーテル類、ジオキサン、ＤＭＦ、酢酸エチル、ベンゼン等が挙げられ、中でもＤＭＦが特に好ましい。
【０２８１】
反応温度は、通常室温〜１５０℃、好ましくは室温〜１１０℃である。
反応時間は、通常０．１〜１２時間である。
【０２８２】
工程（７−２）
本工程は、化合物（７ａ）から前記製造方法１の工程（１−３）〜工程（１−５）と同様の反応条件下で行うことができる。
【０２８３】
化合物（Ｉ）が、光学異性体、立体異性体、位置異性体等の異性体を有する場合には、いずれの異性体もそれらの混合物も本発明の化合物（Ｉ）に包含される。例えば、化合物（Ｉ）に光学異性体が存在する場合には、ラセミ体から分割された光学異性体も化合物（Ｉ）に包含される。これらの異性体は、自体公知の合成手法、分離手法（例、濃縮、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶）等によりそれぞれを光学的に純粋な化合物として得ることができる。
【０２８４】
化合物（Ｉ）は、溶媒和物であっても、無溶媒和物であってもよい。
【０２８５】
化合物（Ｉ）はまた、同位元素（例、３Ｈ，１４Ｃ等）などで標識されていてもよい。
さらに、化合物（Ｉ）は、重水素変換体であってもよい。
【０２８６】
本発明の化合物（Ｉ）は、安定に単離することができ、取扱いが容易であること、また、アルコール等のプロトン性溶媒を含む反応系中でも失活することなく、不斉脱水縮合剤として使用することができる。また、本発明の化合物（Ｉ）は、触媒量の光学活性なキラル第三級アミン化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）との反応により容易に用時調製でき、単離することなく、そのまま不斉脱水縮合剤（不斉脱水縮合触媒）として使用することができるので、以下に示すように、実用的なキラル化合物の速度論的光学分割方法を提供することができる。
【０２８７】
（光学的に純粋な化合物（Ｉ）を用いるα−アミノ酸のラセミ体の速度論的光学分割方法）
光学的に純粋な本発明の化合物（Ｉ）、すなわち、化合物（Ｉ’）又は化合物（Ｉ’’）は、アルコール等のプロトン性溶媒を含む反応系内でも失活することなく不斉脱水縮合剤として使用することができる。また、反応系中で容易に調製することもできるので、実用的には、触媒量の光学活性なキラル第三級アミン化合物（ＩＩ）（化合物（ＩＩ’）又は化合物（ＩＩ’’））、トリアジン化合物（ＩＩＩ）及び各種求核剤の存在下でキラル有機酸のラセミ体の速度論的光学分割に使用することが好ましい。すなわち、少量の光学活性なキラル第三級アミン化合物（ＩＩ）を触媒的に用いて、繰り返し脱水縮合剤を発生させてもよい。例えば、キラル有機酸であるＮ−保護−α−アミノ酸の速度論的光学分割は、以下のように実施することができる。
【０２８８】
【化３８】
2014080371.tif 000039
【０２８９】
（式中の各記号は前記と同義を示す。）
【０２９０】
本発明において使用される「Ｎ−保護−α−アミノ酸」としては、アミノ基が保護されていればよく、特に限定されないが、Ｎ−保護−フェニルアラニン、Ｎ−保護−ロイシン等が好適である。Ｎ−保護−α−アミノ酸のアミノ基の保護基としては、例えば、前述したProtective Groups in Organic Synthesis,John Wiley and Sons刊(1980)に記載のアミノ基の保護基を使用し得る。当該アミノ基の保護基の具体例としては、ベンゾイル、ベンジルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル等が挙げられ、好ましくは、ベンゾイル又はベンジルオキシカルボニルである。
【０２９１】
本発明において使用される「求核剤」としては、前述のものが挙げられるが、中でも、アミン又はアルコールが好適に使用できる。具体的には、アミンとしては、第一級アミン（例、アリルアミン、ベンジルアミン、フェネチルアミン、フェニルプロピルアミン等）が好ましく、また、アルコールとしては、第一級アルコール（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、アリルアルコール、トリフルオロエタノール、シンナミルアルコール等）が好ましい。
【０２９２】
本発明にて使用される求核剤の量は、Ｎ−保護−α−アミノ酸１当量に対して、好ましくは、０．１〜１０当量、より好ましくは、０．２５〜５当量、特に好ましくは、０．４〜２当量の範囲である。
【０２９３】
本発明にて使用されるキラル第三級アミン化合物（ＩＩ）の量は、触媒量であればよく、Ｎ−保護−α−アミノ酸１当量に対して、好ましくは、０．００１〜０．５当量、より好ましくは、０．０１〜０．３当量、特に好ましくは、０．０５〜０．２当量の範囲である。
【０２９４】
本発明にて使用される化合物（ＩＩＩ）の量は、Ｎ−保護−α−アミノ酸０．５当量に対して、１．０〜５当量、より好ましくは、１．０〜３当量、特に好ましくは、１〜２当量の範囲である。
【０２９５】
本発明における速度論的分割方法は、溶媒中で行うのが好ましい。溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されない。反応液は均一系、不均一系のいずれでもよいが、均一系の方が反応速度に優れる利点がある。好適な溶媒としては、エーテル系溶媒（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（ＭＴＢＥ）、ＴＨＦ、ジオキサン、シクロプロピルメチルエーテルなど）、ハロゲン化炭化水素系溶媒（四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど）、炭化水素系溶媒（ヘキサン、ペンタンなど）、芳香族系溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、スチレン、アニソール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、安息香酸メチルなど）、エステル系溶媒（酢酸エチルなど）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトンなど）、プロトン性溶媒（メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等の低級アルコール、水）、非プロトン性極性溶媒（アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイドなど）等が挙げられ、これらを２種以上組み合わせて用いることもできる。
【０２９６】
本発明の化合物（Ｉ）は、アルコールや水等のプロトン性溶媒を使用しても失活することなく、高いエナンチオマー選択性を示す傾向にあることから、アミノ酸等のような高極性且つ各種溶媒に対する溶解性が低い化合物の光学分割に特に好適に使用することができる。
【０２９７】
本発明における速度論的分割方法では、イオン性液体や超臨界流体などを溶媒として使用することもできる。また、エマルジョンやサスペンションなどの二相系溶媒および脂質二重相を溶媒として使用することもできる。さらには、固相中で反応を行うこともできる。
【０２９８】
本発明の速度論的光学分割方法を第一級アミンのような求核剤非存在下で、アルコール含有溶媒中で行うと、溶媒として使用したアルコールが求核剤としても作用し、Ｎ−保護−α−アミノ酸−求核剤縮合体として対応する光学活性なＮ−保護−α−アミノ酸エステルが得られる。
【０２９９】
本発明の速度論的分割方法は、特殊な温度調節を必要とせず、室温下で効率良く行える。また、本発明によれば、キラル第三級アミン化合物である化合物（ＩＩ’）又は化合物（ＩＩ’’）は、反応終了後に容易に回収・再利用することも可能であることから、実用性に優れた方法を提供することができる。
【０３００】
以下に合成例、参考実施例、実施例及び試験例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、これによって本発明が限定されるものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化させてもよい。
反応は、Ｍｅｒｃｋ  ６０  Ｆ２５４  シリカゲルプレート（厚さ０．２５ｍｍ）を用いて、薄層クロマトグラフィーによりモニターした。
１Ｈ及び１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルは、ＪＥＯＬ  ＥＣＳ４００またはＥＣＳ６００を用い、重クロロホルムまたは重メタノールを溶媒として測定した。１Ｈ−ＮＭＲについてのデータは、化学シフト（δｐｐｍ）、多重度（ｓ＝シングレット、ｄ＝ダブレット、ｔ＝トリプレット、ｑ＝カルテット、ｍ＝マルチプレット、ｄｄ＝ダブルダブレット、ｄｔ＝ダブルトリプレット、ｂｒｓ＝ブロードシングレット、ｓｅｐ＝セプテット）、カップリング定数（Ｈｚ）、積分及び割当てとして報告する。
高分解能質量スペクトル解析（ＨＲＭＳ）は、ＪＥＯＬ  ＪＭＳ-ＳＸ１０２Ａを用いて実行した。
融点（ｍｐ）測定は、柳本微量融点測定器を用いて行った。
元素分析は、Ｙａｎａｃｏ  ＣＨＮ  Ｃｏｒｄｅｒ  ＭＴ−５を用いて実行した。
調製した本発明の化合物（Ｉ）、（ＩＩ）の光学純度の測定には日本分光製高速液体クロマトグラフィーポンプＰＵ−２０８０、日本分光製紫外可視検出器  ＭＤ−９１０、日本分光製旋光検出器  ＯＲ−９９０を用いた。キラルカラムとしては、ダイセル製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＩＢ-３若しくはＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤを用いた。
分取薄層クロマトグラフィーは、Ｍｅｒｃｋ  ６０  Ｆ２５４  シリカゲルプレート（厚さ０．５ｍｍ）を用いて行った。フラッシュクロマトグラフィーは、関東化学株式会社（日本、東京）のシリカゲル６０Ｎを用いて行った。
以下の実施例中の「室温」は通常約１０℃ないし約３０℃を示す。混合溶媒において示した比は、特に断らない限り容量比を示す。％は、特に断らない限り重量％を示す。
【０３０１】
以下の実施例において、化合物（ＩＩＩ）として使用した４，６−ジメトキシ−２−トリフルオロメタンスルホニロキシ−１，３，５−トリアジンは、自体公知の方法（Kunishima, M. et al., Tetrahedron Lett., 2002, 43, 3323-3326.）により製造したものを使用した。また、キラル第三級アミン化合物（ＩＩ）の合成に使用した原料化合物である（Ｒ）−２，２’−ビス(ブロモメチル)−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフチル、（Ｒ）−２，２’−ビス(ブロモメチル)−３，３’−ビス（２−ナフチル）−１，１’−ビナフチル、及び（Ｒ）−２，２’−ビス(ブロモメチル)−３，３’−ビス（３，４，５−トリフルオロフェニル）−１，１’−ビナフチルは、市販品、又は自体公知の方法（Ooi, T. et al., J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 5139-5151.）若しくはこれらに準ずる方法に従って製造することができる。
【実施例】
【０３０２】
（合成例１）
２−クロロ−４，６−ジイソプロポキシ−１，３，５-トリアジン
【０３０３】
【化３９】
2014080371.tif 000040
【０３０４】
１００ｍＬのナスフラスコ中に６０％水素化ナトリウム（１．８０ｇ，４５．０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を加えた。この溶液に窒素雰囲気下、０℃で２−プロパノール（２．２９ｍＬ，３０．０ｍｍｏｌ）を滴下し、滴下終了後３０分反応させアルコキシド溶液とした。別の１００ｍＬナスフラスコ中に塩化シアヌル（２．７７ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を加えた。この溶液に、アルコキシド溶液を窒素雰囲気下、−７８℃中で滴下した。その後、０℃まで昇温し１２時間反応させた。反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶液で希釈した後、酢酸エチルで抽出を行った。抽出した有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０：１）にて分離精製を行い目的物（２．１０ｇ，収率６１％）で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ５．３７（sep，２Ｈ），１．４０（ｄ，１２Ｈ）；
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝２３２（（Ｍ＋Ｈ）＋）．
【０３０５】
（参考実施例１）
（Ｒ）−４，５−ジヒドロ−４-メチル−２，６−ジフェニル−３Ｈ−ジナフト[２，１−ｃ：１’，２’−ｅ]アゼピン（化合物（ＩＩ−１ａ））の合成
【０３０６】
【化４０】
2014080371.tif 000041
【０３０７】
（Ｒ）−２，２’−ビス(ブロモメチル)−３，３’−ジフェニル−１，１’−ビナフチル（２．７２g，４．６０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１８ｍＬ）に、４０％メチルアミン水溶液（４．６ｍＬ，５５．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で８時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルを加えて希釈し、蒸留水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、ろ過後、溶媒を除去し、残渣をジクロロメタン-ヘキサン溶液から再結晶して化合物（ＩＩ−１ａ）（１．９４ｇ、収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ７．９５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．９４（ｓ，２Ｈ），７．５９-７．５７（ｍ，４Ｈ），７．５０-７．３７（ｍ，１０Ｈ），７．２９（ｄ，２Ｈ，７．３Ｈｚ），３．８２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ），３．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），１．８５（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  １４１．３８，１４０．４３，１３６．０７，１３２．５１，１３１．７０，１３０．８２，１３０．０５，１２８．９９，１２８．２７，１２８．１０，１２７．５４，１２７．０５，１２５．７７，１２５．６８，５２．６９，４２．９０；
ＩＲ（ＫＢｒ）：３０３７，３０２０，３００５，２９７６，２９３１，１５８９，１４９４，１４４８，１１９４，１０４７，８９５，７５２，７２５，６８７ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ）：計算値（Ｃ３５Ｈ３８Ｎ（Ｍ＋Ｈ）＋）：４６２．２２２２；実測値：４６２．２２１８；
元素分析（Ｃ３５Ｈ２７Ｎ）：計算値：Ｃ，９１．０７；Ｈ，５．９０；Ｎ，３．０３．実測値：Ｃ，９１．０１；Ｈ，５．９８；Ｎ，３．１５；
融点：２３４-２３８℃．
【０３０８】
（参考実施例２）
（Ｒ）−４，５−ジヒドロ−４-メチル−２，６−ビス（２−ナフチル）−３Ｈ−ジナフト[２，１−ｃ：１’，２’−ｅ]アゼピン（化合物（ＩＩ−１ｂ））の合成
【０３０９】
【化４１】
2014080371.tif 000042
【０３１０】
（Ｒ）−２，２’−ビス(ブロモメチル)−３，３’−ビス（２−ナフチル）−１，１’−ビナフチル（２１ｍｇ，０．０３０３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．１２０ｍＬ）に、４０％メチルアミン水溶液（０．０３ｍＬ，０．３６４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮し、残渣を薄層クロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝5：1）で分離精製することにより、化合物（ＩＩ−１ｂ）（１１ｍｇ、収率６５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ８．０６-８．０４（ｄ，２Ｈ），８．０４（ｓ，２Ｈ），８．００-７．９８（ｍ，２Ｈ），７．９３-７．８９（ｍ，６Ｈ），７．７４-７．７３（ｍ，２Ｈ），７．５４-７．５０（ｍ，８Ｈ），７．３４-７．３０（ｍ，２Ｈ），３．９１-３．８９（ｄ，２Ｈ），３．１８-３．１４（ｄ，２Ｈ），１．８４（ｓ，３Ｈ）；
ＥＳＩ-ＭＳ：ｍ／ｚ＝５６２（（Ｍ＋Ｈ）+）．
【０３１１】
（参考実施例３）
（Ｒ）−２，６−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−４，５−ジヒドロ−４−メチル−３Ｈ−ジナフト［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピン（化合物（ＩＩ−１ｃ））の合成
【０３１２】
【化４２】
2014080371.tif 000043
【０３１３】
（Ｒ）−３，３’−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−２，２’−ビス(ブロモメチル)−１，１’−ビナフチル（４．０ｍg，４．６μｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４６μＬ）に、４０％メチルアミン水溶液（５μＬ，５５μｍｏｌ）を加え、室温で４時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルを加えて希釈し、蒸留水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、ろ過後、溶媒を除去し、残渣を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５：１）で精製することにより、化合物（ＩＩ−１ｃ）（３．０ｍｇ，収率８９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ８．１３（ｂｒｓ，４Ｈ），８．００（ｄ，２Ｈ,Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．９８（ｓ，２Ｈ），７．５７-７．５４（ｍ，２Ｈ），７．４７（ｄ，２Ｈ,Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３７-７．３４（ｍ，２Ｈ），３．５９（ｄ，２Ｈ,Ｊ＝１２．７Ｈｚ），３．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ），１．９３（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  １４３．３２，１３７．２１，１３６．３１，１３２．４９，１３１．７０，１３１．４８，１３１．２４，１３０．８６，１３０．１９，１２９．６２，１２８．５２，１２７．４６，１２６．７８，１２６．５３，１２４．２６，１２２．４５，１２１．０４，５２．７４，４２．４７；
ＥＳＩ-ＭＳ：ｍ／ｚ＝７３４（（Ｍ＋Ｈ）+）．
【０３１４】
（参考実施例４）
（Ｒ）−４，５−ジヒドロ−４−メチル−２，６−ビス（３，４，５，−トリフルオロフェニル）−３Ｈ−ジナフト[２，１−ｃ：１’，２’−ｅ]アゼピン（化合物（ＩＩ−１ｄ））の合成
【０３１５】
【化４３】
2014080371.tif 000044
【０３１６】
（Ｒ）−２，２’−ビス(ブロモメチル)−３，３’−ビス（３，４，５−トリフルオロフェニル）−１，１’−ビナフチル（７８．８ｍｇ，０．１１３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．４５ｍＬ）に、４０％メチルアミン水溶液（０．１１３ｍＬ，１．３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で８時間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮した。残渣をメタノールに溶解させ、水を加えて固体を析出させ濾取することにより、化合物（ＩＩ−１ｄ）（６１．２ｍｇ、収率９５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ７．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．９０（ｓ，２Ｈ），７．５４-７．５０（ｍ，２Ｈ），７．４１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３３-７．２９（ｍ，２Ｈ），３．７１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ），３．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ），１．９５（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  １５０．８１（ｄｄｄ，Ｊ＝２５１，４．６，４．６Ｈｚ），１３９．２７（ｄ，Ｊ＝２５２Ｈｚ），１３７．３８，１３７．１７，１３６．２２，１３２．４１，１３１．０４，１３０．７４，１２９．３２，１２８．４０，１２７．４０，１２６．５１，１２６．３７，１１４．１８（ｄｄ），５２．５４，４２．８１；
ＥＳＩ−ＭＳ：ｍ／ｚ＝５７０（（Ｍ＋Ｈ）＋）．
【０３１７】
（参考実施例５）
（Ｒ）−４，５−ジヒドロ−４−メチル−２，６−ビス（フェニルエチニル）−３Ｈ−ジナフト[２，１−ｃ：１’，２’−ｅ]アゼピン（化合物（ＩＩ-１ｅ））の合成
【０３１８】
【化４４】
2014080371.tif 000045
【０３１９】
（Ｒ）−２，２’−ビス(ブロモメチル)− ３，３’−ビス（フェニルエチニル）−１，１’−ビナフチル（１６．３ｍg，２５．４μmol）のＴＨＦ溶液（０．２５ｍＬ）に、４０％メチルアミン水溶液（２５μＬ，３０５μｍｏｌ）を加え、室温で５時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルを加えて希釈し、蒸留水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、ろ過後、溶媒を除去し、残渣を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５：１）で精製し、化合物（ＩＩ−１ｅ）（１１.０ｍｇ、収率８５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ８．２７（ｓ，２Ｈ），７．９３（ｄ，２Ｈ, Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６１-７．６０（ｍ，４Ｈ），７．４８（ｄｄ，２Ｈ, Ｊ＝７．９，６．９Ｈｚ），７．３９-７．３５（ｍ，８Ｈ），７．２９-７．２６（ｍ，２Ｈ），４．４６（ｄ，２Ｈ, Ｊ＝１２．４Ｈｚ），３．１３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ），２．５７（ｓ，３Ｈ）；
ＥＳＩ-ＭＳ：ｍ／ｚ＝５１０（（Ｍ＋Ｈ）+）．
【０３２０】
（実施例１）
（Ｒ）−４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４，５−ジヒドロ−４−メチル−２，６−ジフェニル−３Ｈ−ジナフト[２，１−ｃ：１’，２’−ｅ]アゼピニウム  トリフルオロメタンスルホナート（化合物（Ｉ−１ａ））の合成
【０３２１】
【化４５】
2014080371.tif 000046
【０３２２】
参考実施例１で得られた化合物（ＩＩ−１ａ）（２５.0ｍｇ，５４.２μｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（０．３ｍＬ）に、４，６-ジメトキシ-１，３，５-トリアジニル-２-トリフルオロメタンスルホン酸（２３．５μＬ，８１．２μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で５分間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮し、得られた残渣に無水ジエチルエーテルを加えて上澄みを除去した。この操作を5回繰り返し、残留した固体を乾燥させて化合物（Ｉ−１ａ）（３５．９ｍｇ、収率８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ８．１５（ｓ，１Ｈ），８．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８７（ｓ，１Ｈ），７．７１−７．６３（ｍ，２Ｈ），７．５２−７．３８（ｍ，１４Ｈ），５．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．３Ｈｚ），５．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．３Ｈｚ），４．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．３Ｈｚ），４．１９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．３Ｈｚ），３．９１（ｓ，６Ｈ），３．０９（ｓ，３Ｈ）．
【０３２３】
（実施例２）〜（実施例４）は、上記（実施例１）と同様の方法により、参考実施例２〜４のいずれかの化合物（化合物（ＩＩ−１ｃ）〜（ＩＩ−１ｅ））と、４，６-ジメトキシ-１，３，５-トリアジニル-２-トリフルオロメタンスルホン酸との反応により化合物（Ｉ−１ｃ）〜（Ｉ−１ｅ）を合成した。化合物（Ｉ−１ｃ）〜（Ｉ−１ｅ）の化学収率、及び物性データを以下に示す。
【０３２４】
（実施例２）
（Ｒ）−２，６−ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５-トリアジン−２−イル）−４，５−ジヒドロ−４−メチル−３Ｈ−ジナフト[２，１−ｃ：１’，２’−ｅ]アゼピニウム  トリフルオロメタンスルホナート（化合物（Ｉ−１ｃ））
【０３２５】
【化４７】
2014080371.tif 000047
【０３２６】
収率  ４３％、白色固体；
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ８．１６（ｓ，１Ｈ），８．１３（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．０５（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．９９（ｓ，１Ｈ），７．９６-７．２９（ｂｒ，３Ｈ）７．９２（ｓ，１Ｈ），７．９１（ｓ，1Ｈ），７．７８-７.７０（ｍ，３Ｈ），７．５４−７．４６（ｍ，４Ｈ），５．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），５．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．４０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），３．９５（ｓ，６Ｈ），３．２０（ｓ，３Ｈ）；
ＥＳＩ-ＭＳ：ｍ／ｚ＝８７３（（Ｍ）+）.
【０３２７】
（実施例３）
（Ｒ）−４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４，５−ジヒドロ−４−メチル−２，６−ビス（３，４，５−トリフルオロフェニル）−３Ｈ−ジナフト[２，１−ｃ：１’，２’−ｅ]アゼピニウム  トリフルオロメタンスルホナート（化合物（Ｉ−１ｄ））
【０３２８】
【化４８】
2014080371.tif 000048
【０３２９】
収率  ６０％、白色固体；
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ  ；８．１２（ｓ，１Ｈ），８．０９（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．００（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．８４（ｓ，1Ｈ），７．７２（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６８（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４９-７．４１（ｍ，４Ｈ），７．１１（ｂｒｓ，４Ｈ），５．４３（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝１３．７Ｈｚ），５．０９（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝１３．７Ｈｚ），４．８４（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝１３．７Ｈｚ），４．２１（ｄ，１Ｈ,Ｊ＝１３．７Ｈｚ），４．０６（ｓ，６Ｈ），３．２２（ｓ，３Ｈ）；
ＥＳＩ-ＭＳ：ｍ／ｚ＝７０９（（Ｍ）+）.
【０３３０】
（実施例４）
（Ｒ）−４，５−ジヒドロ−４−メチル−２，６−ビス（フェニルエチニル）−３Ｈ−ジナフト［２，１−ｃ：１’，２’−ｅ］アゼピニウム  トリフルオロメタンスルホナート（化合物（Ｉ−１ｅ））
【０３３１】
【化４９】
2014080371.tif 000049
【０３３２】
収率  ３４％、白色固体；
ＥＳＩ-ＭＳ：ｍ／ｚ＝６４９（（Ｍ）+）．
【０３３３】
（試験例１）
化合物（ＩＩ−１ａ）及び化合物（ＩＩＩ−１）を用いるＮ−ベンジロキシカルボニル−フェニルアラニンのラセミ体の速度論的光学分割
【０３３４】
【化５０】
2014080371.tif 000050
【０３３５】
１０ｍＬのナスフラスコに２−プロパノール（０．６５ｍＬ）、Ｎ−ベンジロキシカルボニルフェニルアラニン（１９．５ｍｇ、６５．０μｍｏｌ）、キラル第三級アミン化合物（ＩＩ−１ａ）（３．００ｍｇ、６．５０μｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）、２−フェネチルアミン（８μＬ、６５．０μｍｏｌ）を加えた。２−クロロ−４，６−ジイソプロポキシ−１，３，５−トリアジン（化合物（ＩＩＩ−１））（１６．６ｍｇ、７１．５μｍｏｌ）を加え、室温下で１．５時間反応させた。Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン（８μＬ、７１．５μｍｏｌ）を加えて３０分間撹拌することで反応を終了させた。この溶液に、酢酸エチルを加えて希釈し、１Ｍ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、目的のアミド化合物（８．４ｍｇ、収率３２％、＞９９％ｅｅ）で得た。目的のアミド化合物の光学異性体のＨＰＬＣ分析条件：ダイセルキラルパックＩＢ−３、ヘキサン／２−プロパノール＝９：１、流速＝１．０ｍＬ／ｍｉｎ、保持時間１２分（Ｓ体）と１７分（Ｒ体）。２−プロパノール
【０３３６】
【化５１】
2014080371.tif 000051
【０３３７】
本反応は、上図のような触媒サイクルを経て進行すると考えられる。すなわち、化合物（ＩＩ−１ａ）と化合物（ＩＩＩ−１）との反応により生成する脱水縮合剤である化合物（Ｉ−１ｅ）が、Ｎ−Ｃｂｚ−フェニルアラニンの一方の光学異性体と優先的に反応し、キラル中間体を生成した後、アミンと縮合することにより、一方のキラルアミドが高エナンチオ選択的に得られ、Ｎ−Ｃｂｚ−フェニルアラニンの他方の光学異性体は、未反応のまま高い光学純度で回収される。
【０３３８】
本アミド化反応において、高エナンチオ選択性が実現できたのは、不斉脱水縮合剤である化合物（Ｉ−１ｅ）及びキラル中間体が、プロトン性溶媒中においても十分な安定性を有することに起因すると考えられ、この点も従来技術にはみられない本発明の特徴の１つである。
【産業上の利用可能性】
【０３３９】
本発明の化合物（Ｉ）は、安定に単離することができ、取扱いが容易であること、また、アルコール等のプロトン性溶媒を含む反応系中でも失活することなく、不斉脱水縮合剤として使用することができる。また、本発明によれば、触媒量の光学活性な化合物（ＩＩ）とトリアジン化合物（ＩＩＩ）との反応により容易に本発明の化合物（Ｉ）を用時調製することができ、単離することなく、そのまま触媒として使用することができるので、キラル化合物の実用的な速度論的光学分割方法を提供することができる。