Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月14日(2021.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンクリート下地の上面に人の歩行により加えられる力と前記コンクリート下地の収縮および膨張により生じる応力とを緩衝する機能と、前記コンクリート下地から発生する水蒸気の気体を通気させる機能とを有する通気緩衝シートを貼り付ける第１の工程と、
前記通気緩衝シートの上面に、ウレタンゴム系の塗膜防水材を塗布又は吹き付ける第２の工程と、
前記塗膜防水材の上面にシート状のウレタンクッションを張り付ける第３の工程と、
前記ウレタンクッションの上面に硬化させることによって弾力性及び防水性のある塗膜を形成する発泡ウレタンを塗布又は吹き付ける第４の工程と、
前記発泡ウレタンの上面に硬化させることによって弾力性のある塗膜を形成するソフトウレタンを塗布又は吹き付ける第５の工程と、
前記ソフトウレタンの上面にトップコートを塗布又は吹き付ける第６の工程とを備えており、
施工現場に応じて、前記ウレタンクッションの厚さ寸法と前記発泡ウレタンの厚さ寸法とを合わせた厚さ寸法と、前記ソフトウレタンの厚さ寸法とを変更することにより、コンクリート床面の硬さを調節することができることを特徴とするコンクリート床面の施工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この目的を達成するために請求項１に記載のコンクリート床面の施工方法は、コンクリート下地の上面に人の歩行により加えられる力と前記コンクリート下地の収縮および膨張により生じる応力とを緩衝する機能と、前記コンクリート下地から発生する水蒸気の気体を通気させる機能とを有する通気緩衝シートを貼り付ける第１の工程と、前記通気緩衝シートの上面に、ウレタンゴム系の塗膜防水材を塗布又は吹き付ける第２の工程と、前記塗膜防水材の上面にシート状のウレタンクッションを張り付ける第３の工程と、前記ウレタンクッションの上面に硬化させることによって弾力性及び防水性のある塗膜を形成する発泡ウレタンを塗布又は吹き付ける第４の工程と、前記発泡ウレタンの上面に硬化させることによって弾力性のある塗膜を形成するソフトウレタンを塗布又は吹き付ける第５の工程と、前記ソフトウレタンの上面にトップコートを塗布又は吹き付ける第６の工程とを備えており、施工現場に応じて、前記ウレタンクッションの厚さ寸法と前記発泡ウレタンの厚さ寸法とを合わせた厚さ寸法と、前記ソフトウレタンの厚さ寸法とを変更することにより、コンクリート床面の硬さを調節することができるように構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月17日(2021.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
イオン検出器３４による検出信号はアナログ−デジタル変換器（ＡＤＣ）３５でデジタルデータに変換され、データ処理部４に入力される。データ処理部４は、クロマトグラム作成部４０、定性分析部４１、及び定量分析部４２、を機能ブロックとして含む。また、制御部５は液体クロマトグラフ部１、質量分析部２、電圧生成部３などを制御するものであり、制御シーケンス記憶部５０、パラメータ自動調整部５１、分析制御部５２などを機能ブロックとして含む。また制御部５は、入力部６や表示部７を通したユーザーインターフェイスのほか、システム全体の統括的な制御も担う。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図６中の「original」は、アセノクマロールとワルファリンのそれぞれに対しコリジョンエネルギを最適化した状態であり、このとき、アセノクマロールに対するコリジョンエネルギは−１７eV、ワルファリンに対するコリジョンエネルギは−１９eVである。図６中の「＋１０」、「＋５」、「−１０」、「−５」は、上記「original」の状態からコリジョンエネルギを、それぞれ１０eV減少、５eV減少、１０eV増加、５eV増加させた状態である。なお、ここでは分析対象のイオンが正イオンであり、コリジョンエネルギはそれとは逆極性の負値であるので、例えば「＋１０」とはコリジョンエネルギを１０eVだけ下げることを意味する。例えば、「original」の状態からコリジョンエネルギを＋１０eV減少させると、アセノクマロールのイオン強度は１／５以下に下がり、ワルファリンのイオン強度も１／３以下に下がることが分かる。これは、コリジョンエネルギが下がったことでイオンの解離効率が低下したためであると推定される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
１…液体クロマトグラフ部
１０…移動相貯留容器
１１…送液ポンプ
１２…インジェクタ
１３…カラム
１４…カラムオーブン
２…質量分析部
２０…チャンバ
２１…イオン化室
２２…第１中間真空室
２３…第２中間真空室
２４…高真空室
２５…ＥＳＩプローブ
２６…脱溶媒管
２７…イオンガイド
２８…スキマー
２９…多重極型イオンガイド
３０…前段四重極マスフィルタ
３１…コリジョンセル
３２…イオンガイド
３３…後段四重極マスフィルタ
３４…検出器
３…電圧生成部
４…データ処理部
４０…クロマトグラム作成部
４１…定性分析部
４２…定量分析部
５…制御部
５０…制御シーケンス記憶部
５１…パラメータ自動調整部
５２…分析制御部
６…入力部
７…表示部
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月6日(2021.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の方向に延伸する入射側アームと固定部と受側アームとを備えるゴニオメータと、
前記入射側アームに配置され、前記第１の方向に交差する第２の方向に延伸するＸ線ビームを発生させるＸ線源と、
前記固定部に配置され、試料を支持する支持台と、
前記固定部に配置され、前記Ｘ線源より発生する前記Ｘ線ビームの前記第２の方向に沿う線幅を制限する平行スリットと、
前記受側アームに配置され、前記試料より発生する散乱Ｘ線を検出する検出器と、
を備える、Ｘ線分析装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線分析装置であって、
前記平行スリットを前記第２の方向に移動させる移動機構を備える、
ことを特徴とする、Ｘ線分析装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のＸ線分析装置であって、
前記平行スリットは、中空円の一部となる形状を有する、
ことを特徴とする、Ｘ線分析装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月10日(2021.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測距装置（１００）であって、
入射光を受光するための複数の受光領域を有し、各前記受光領域を単位として前記入射光の受光を実行する受光部（３０）と、
前記各受光領域に対応して排他的に検出光の照射を前記測距装置の外部に向けて実行する発光部（２０）と、
前記検出光の照射に応じて前記受光部により前記入射光を受光する際に、前記複数の受光領域のうち、排他的な前記検出光の照射に対応する受光対象領域における入射光強度の特性と排他的な前記検出光の照射に対応しない受光非対象領域における入射光強度の特性との相違に応じて前記測距装置の受光部および発光部の少なくともいずれか一方に関する異常判定を行う異常判定部（１０）と、
を備える測距装置。
【請求項２】
請求項１に記載の測距装置において、
前記異常判定部は、前記複数の受光領域で前記入射光の受光を同時に実行する際に、前記受光対象領域と前記受光非対象領域とにおける前記入射光強度の特性の相違に応じた異常判定を行う、測距装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の測距装置において、
前記異常判定部は、前記受光対象領域と前記受光非対象領域とにおける前記入射光強度の特性が相関関係を有する場合に、前記測距装置に異常が発生していると判定する、測距装置。
【請求項４】
請求項３に記載の測距装置において、
前記相関関係は、時間に対する前記入射光強度の波形の類似度であり、
前記異常判定部は、前記類似度が予め定められた判定類似度よりも大きい場合に、前記測距装置に異常が発生していると判定する、測距装置。
【請求項５】
請求項３に記載の測距装置において、
前記相関関係は、時間に対する前記入射光強度の波形におけるピーク発生時期の近似度であり、
前記異常判定部は、前記近似度が予め定められた判定近似度よりも大きい場合に、前記測距装置に異常が発生していると判定する、測距装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の測距装置において、
前記異常判定部は、前記受光対象領域に対して前記検出光の反射光が入射された場合に、前記異常判定を行う、測距装置。
【請求項７】
請求項３から５のいずれか一項に記載の測距装置において、
前記異常判定部は、前記受光対象領域に対して前記検出光の反射光が入射されず、前記相関関係を有しない受光非対象領域の数が予め定められた第２の異常判定値よりも大きい場合に前記測距装置に異常が発生していると判定する、測距装置。
【請求項８】
請求項３から５のいずれか一項に記載の測距装置において、
前記異常判定部は、前記受光対象領域に対して前記検出光の反射光が入射され、前記相関関係を有する受光非対象領域の数が予め定められた異常判定値よりも大きい場合に受光部の異常を判定し、
前記受光対象領域に対して前記検出光の反射光が入射されず、前記相関関係を有しない受光非対象領域の数が予め定められた第２の異常判定値よりも大きい場合に発光部の異常を判定する、測距装置。
【請求項９】
測距装置（１００）における異常判定方法であって、
複数の受光領域を有する受光部（３０）における各前記受光領域を単位として排他的に検出光の照射を前記測距装置の外部に向けて実行し、
前記検出光の照射に応じて前記受光部により入射光の受光を実行する際に、前記複数の受光領域のうち、排他的な前記検出光の照射に対応する受光対象領域における入射光強度の特性と排他的な前記検出光の照射に対応しない受光非対象領域における入射光強度の特性との相違に応じて前記測距装置の受光部および発光部の少なくともいずれか一方に関する異常判定を実行すること、
を備える測距装置における異常判定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第１の態様は、測距装置を提供する。第１の態様に係る測距装置は、入射光を受光するための複数の受光領域を有し、各前記受光領域を単位として前記入射光の受光を実行する受光部と、前記各受光領域に対応して排他的に検出光の照射を前記測距装置の外部に向けて実行する発光部と、前記検出光の照射に応じて前記受光部により前記入射光を受光する際に、前記複数の受光領域のうち、排他的な前記検出光の照射に対応する受光対象領域における入射光強度の特性と排他的な前記検出光の照射に対応しない受光非対象領域における入射光強度の特性との相違に応じて前記測距装置受光部および発光部の少なくともいずれか一方に関する異常判定を行う異常判定部と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第２の態様は、測距装置における異常判定方法を提供する。第２の態様に係る測距装置における異常判定方法は、複数の受光領域を有する受光部における各前記受光領域を単位として排他的に検出光の照射を前記測距装置の外部に向けて実行し、前記検出光の照射に応じて前記受光部により前記入射光の受光を実行する際に、前記複数の受光領域のうち、排他的な前記検出光の照射に対応する受光対象領域における入射光強度の特性と排他的な前記検出光の照射に対応しない受光非対象領域における入射光強度の特性との相違に応じて前記測距装置受光部および発光部の少なくともいずれか一方に関する異常判定を実行すること、を備える。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月26日(2021.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記被温調物としての試験片を、前記第１被温調空間としての試験空間において保持する試験機本体と、
温調された空調空気を前記試験空間に供給する請求項１〜９のいずれか１項に記載の空調空気供給装置と、を備えた、材料試験機。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月12日(2021.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置に用いられるプロセスカートリッジであって、
潜像が形成される周面を有する回転可能な感光体と、
前記感光体上の前記潜像を現像するために前記感光体へ現像剤を供給する現像装置と、
前記感光体の前記周面に当接して当該周面をクリーニングする板状弾性体と、
を備え、
前記感光体は、前記周面に、前記周面の周方向に延びる溝が回転軸方向に複数並ぶように形成されており、
前記現像装置から前記感光体へと供給される前記現像剤は、
トナー粒子、及び、前記トナー粒子の表面を被覆する、下記式（１）で示される構造を有する有機ケイ素重合体、を有するトナーを含有し、
前記板状弾性体の前記感光体に対する侵入量をδ（ｍｍ）とし、
前記トナー粒子の表面における前記有機ケイ素重合体の固着率をα（％）としたときに、
下記式（２）を満たすことを特徴とするプロセスカートリッジ。
Ｒ−ＳｉＯ３／２                                  （１）
（前記Ｒは、炭素数が１以上、６以下の炭化水素基を示す。）
δ≦０．０２×α−０．４                        （２）
【請求項２】
前記トナー粒子の表面における前記トナー粒子の表面を被覆する、前記式（１）で示される構造を有する有機ケイ素重合体の固着率が、３０％以上１００％以下である、請求項１に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項３】
前記トナーは、無機微粒子を外添剤として用いない、請求項１又は２に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項４】
前記Ｒは、炭素数が１以上、６以下のアルキル基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項５】
前記溝の前記周面の母線方向における幅が、０．５μｍ以上４０μｍ以下の範囲内であり、
前記溝の本数が、前記周面の母線方向の幅１０００μｍあたり２０本以上１０００本以下であり、
前記感光体の前記周面の弾性変形率が、５０％以上６５％以下であり、
前記感光体の前記周面のユニバーサル硬さ値（ＨＵ）が、１５０Ｎ／ｍｍ２以上２１０Ｎ／ｍｍ２以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項６】
前記溝の、幅０．５μｍ以上４０μｍ以下の範囲内の本数を前記周面の母線方向の幅１０００μｍあたりｉ本（２０≦ｉ≦１０００）とし、
前記ｉ本の溝の、幅０．５μｍ以上４０μｍ以下の範囲内にある溝の幅をそれぞれＷ１〜Ｗｉ［μｍ］としたときに、下記関係式（ａ）を満足する請求項５に記載のプロセスカートリッジ。
【数１】
2020079911.tif 000001
【請求項７】
前記感光体の前記周面の十点平均面粗さ（Ｒｚ）が、０．３μｍ以上１．３μｍ以下であり、
前記十点平均面粗さ（Ｒｚ）と、前記周面の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）との差（Ｒｍａｘ−Ｒｚ）が、０．３μｍ以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項８】
前記板状弾性体を支持する板状支持体と、
前記感光体を回転可能に支持するとともに、前記板状支持体が固定される枠体と、
をさらに備え、
前記板状弾性体は、一端が前記板状支持体に固定され、自由端である他端が前記周面に当接し、
前記板状支持体は、一端が前記枠体に固定され、自由端である他端に前記板状弾性体が固定され、
前記板状支持体の前記一端から前記板状弾性体の前記他端へ延びる方向が、前記他端が前記周面と当接する部分における前記感光体の回転方向とは逆方向である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項９】
使用時の姿勢において、前記感光体は、前記板状弾性体が当接する部分において、前記周面が上方から下方に向かう方向に移動するように回転する、請求項１〜８のいずれか１項に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項１０】
装置本体と、
前記装置本体に対して着脱可能な、請求項１〜９のいずれか１項に記載のプロセスカートリッジと、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月19日(2021.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層して配置される複数のプレート部材（１１）により冷媒流路（６０，６０ａ，６０ｂ，６０ｃ）及び流体流路（６１）が形成され、前記冷媒流路を流れる冷媒と、前記流体流路を流れる流体との間で熱交換が行われる熱交換器（１０）であって、
前記冷媒流路に配置されるインナフィン（８０，８０ａ，８０ｂ、８０ｃ）を備え、
前記インナフィンは、所定方向に延びるように形成され、且つ互いに平行に配置される複数の側壁部（８１）を有し、
互いに対向する前記側壁部の間に形成される隙間は、冷媒が流れる流路部（８３）となっており、
前記側壁部には、前記所定方向に複数の開口部（８４）が並べて形成され、
前記所定方向における前記冷媒流路の一端部には、前記冷媒流路に冷媒を流入させる流入口（４０，４０ａ，４０ｂ，４０ｃ）が形成され、
前記所定方向における前記冷媒流路の他端部には、前記冷媒流路を流れた冷媒を排出する排出口（４１，４１ａ，４１ｂ，４１ｃ）が形成され、
前記側壁部において隣り合う開口部の間に位置する部分には、前記所定方向に対して傾斜する傾斜面（８５）が形成され、
前記側壁部のうち、前記所定方向において中央部よりも前記流入口に近い部分には、前記傾斜面として、冷媒の流れ方向を前記排出口から離間する方向に変化させるように傾斜する傾斜面（８５ａ）のみが形成され、
前記側壁部のうち、前記所定方向において中央部よりも前記排出口に近い部分には、前記傾斜面として、冷媒の流れ方向を前記排出口に向かう方向に変化させるように傾斜する傾斜面（８５ｂ）のみが形成されている
熱交換器。
【請求項２】
積層して配置される複数のプレート部材（１１）により冷媒流路（６０，６０ａ，６０ｂ，６０ｃ）及び流体流路（６１）が形成され、前記冷媒流路を流れる冷媒と、前記流体流路を流れる流体との間で熱交換が行われる熱交換器（１０）であって、
前記冷媒流路に配置されるインナフィン（８０，８０ａ，８０ｂ、８０ｃ）を備え、
前記インナフィンは、所定方向に延びるように形成され、且つ互いに平行に配置される複数の側壁部（８１）を有し、
互いに対向する前記側壁部の間に形成される隙間は、冷媒が流れる流路部（８３）となっており、
前記側壁部には、前記所定方向に複数の開口部（８４）が並べて形成され、
前記所定方向における前記冷媒流路の一端部には、前記冷媒流路に冷媒を流入させる流入口（４０）が形成され、
前記所定方向における前記冷媒流路の他端部には、前記冷媒流路を流れた冷媒を排出する排出口（４１）が形成され、
前記側壁部において隣り合う開口部の間に位置する部分には、前記所定方向に対して傾斜する傾斜面（８５）が形成され、
前記側壁部のうち、前記所定方向において中央部よりも前記流入口に近い部分には、前記傾斜面として、冷媒の流れ方向を前記排出口に向かう方向に変化させるように傾斜する傾斜面（８５ｂ）のみが形成され、
前記側壁部のうち、前記所定方向において中央部よりも前記排出口に近い部分には、前記傾斜面として、冷媒の流れ方向を前記排出口から離間する方向に変化させるように傾斜する前記傾斜面（８５ａ）のみが形成されている
熱交換器。
【請求項３】
前記インナフィンは、波状に形成されており、互いに平行に配置される複数の前記側壁部と、隣り合う側壁部を互いに連結する連結部（８２）とを有するものであり、
前記開口部及び前記傾斜面は、前記連結部には形成されておらず、前記側壁部のみに形成されている
請求項１又は２に記載の熱交換器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、積層して配置される複数のプレート部材（１１）により冷媒流路（６０，６０ａ，６０ｂ，６０ｃ）及び流体流路（６１）が形成され、冷媒流路を流れる冷媒と、流体流路を流れる流体との間で熱交換が行われる熱交換器（１０）は、冷媒流路に配置されるインナフィン（８０，８０ａ，８０ｂ、８０ｃ）を備える。インナフィンは、所定方向に延びるように形成され、且つ互いに平行に配置される複数の側壁部（８１）を有する。互いに対向する側壁部の間に形成される隙間は、冷媒が流れる流路部（８３）となっている。側壁部には、所定方向に複数の開口部（８４）が並べて形成される。所定方向における冷媒流路の一端部には、冷媒流路に冷媒を流入させる流入口（４０，４０ａ，４０ｂ，４０ｃ）が形成される。所定方向における冷媒流路の他端部には、冷媒流路を流れた冷媒を排出する排出口（４１，４１ａ，４１ｂ，４１ｃ）が形成される。側壁部において隣り合う開口部の間に位置する部分には、所定方向に対して傾斜する傾斜面（８５）が形成されている。側壁部のうち、所定方向において中央部よりも流入口に近い部分には、傾斜面として、冷媒の流れ方向を排出口から離間する方向に変化させるように傾斜する傾斜面（８５ａ）のみが形成される。側壁部のうち、所定方向において中央部よりも排出口に近い部分には、傾斜面として、冷媒の流れ方向を排出口に向かう方向に変化させるように傾斜する傾斜面（８５ｂ）のみが形成されている。
上記課題を解決するために、積層して配置される複数のプレート部材（１１）により冷媒流路（６０，６０ａ，６０ｂ，６０ｃ）及び流体流路（６１）が形成され、冷媒流路を流れる冷媒と、流体流路を流れる流体との間で熱交換が行われる他の熱交換器（１０）は、冷媒流路に配置されるインナフィン（８０，８０ａ，８０ｂ、８０ｃ）を備える。インナフィンは、所定方向に延びるように形成され、且つ互いに平行に配置される複数の側壁部（８１）を有する。互いに対向する側壁部の間に形成される隙間は、冷媒が流れる流路部（８３）となっている。側壁部には、所定方向に複数の開口部（８４）が並べて形成される。所定方向における冷媒流路の一端部には、冷媒流路に冷媒を流入させる流入口（４０）が形成される。所定方向における冷媒流路の他端部には、冷媒流路を流れた冷媒を排出する排出口（４１）が形成される。側壁部において隣り合う開口部の間に位置する部分には、所定方向に対して傾斜する傾斜面（８５）が形成される。側壁部のうち、所定方向において中央部よりも流入口に近い部分には、傾斜面として、冷媒の流れ方向を排出口に向かう方向に変化させるように傾斜する傾斜面（８５ｂ）のみが形成される側壁部のうち、所定方向において中央部よりも排出口に近い部分には、傾斜面として、冷媒の流れ方向を排出口から離間する方向に変化させるように傾斜する傾斜面（８５ａ）のみが形成されている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月20日(2021.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板と、
前記配線基板上に接着層を介して搭載された光導波路と、
を有し、
前記光導波路は、
第１のクラッド層と、
前記第１のクラッド層の前記配線基板側の面に形成されたコア層と、
前記コア層の周囲を覆うように前記第１のクラッド層の前記配線基板側の面に形成された第２のクラッド層と、
前記第２のクラッド層側が開口され、前記第２のクラッド層及び前記コア層を貫通し、前記第１のクラッド層側が閉鎖された開口部と、
前記開口部内で前記コア層の端面に設けられた金属膜と、
を有し、
前記第２のクラッド層が前記接着層を介して前記配線基板と対向し、
前記コア層の前記端面は、前記金属膜の前記コア層と接する面が、前記配線基板とは反対側を向く方向に傾斜しており、
前記開口部内に前記接着層の一部が充填されており、
前記開口部は、前記コア層の前記端面を含み、開口側から閉鎖側に至る傾斜面を備え、
前記第２のクラッド層の前記配線基板側の面と前記傾斜面とのなす角θ１と、前記コア層の厚さＴ２と、前記第２のクラッド層の前記コア層より前記配線基板側の部分の厚さＴ３との間に、Ｔ２＋Ｔ３＜Ｗ×ｔａｎθ１の関係が成り立ち、
前記第１のクラッド層の厚さをＴ３としたとき、Ｗ×ｔａｎθ１＜Ｔ１＋Ｔ２＋Ｔ３の関係が成り立つことを特徴とする光導波路搭載基板。
【請求項２】
前記角θ１が４５ｄｅｇ±５ｄｅｇであることを特徴とする請求項１に記載の光導波路搭載基板。
【請求項３】
前記開口部内で前記金属膜が形成されている部分は、前記傾斜面の平面視で前記開口部の開口端と重なり合う範囲内にあることを特徴とする請求項１又は２に記載の光導波路搭載基板。
【請求項４】
前記第１のクラッド層、前記コア層及び前記第２のクラッド層は、ポリマーから構成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光導波路搭載基板。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光導波路搭載基板と、
前記光導波路に光を出射する発光素子若しくは前記光導波路から出た光を入射する受光素子又はこれらの両方と、
を有することを特徴とする光通信装置。
【請求項６】
支持体上に第１のクラッド層を形成する工程と、
前記第１のクラッド層の前記支持体とは反対側の面にコア層を形成する工程と、
前記コア層の周囲を覆うように前記第１のクラッド層の前記支持体とは反対側の面に第２のクラッド層を形成する工程と、
前記第２のクラッド層側からレーザ光を照射することにより、前記第２のクラッド層側が開口され、前記第２のクラッド層及び前記コア層を貫通し、前記第１のクラッド層側が閉鎖された開口部を形成する工程と、
前記開口部内で前記コア層の端面に金属膜を設ける工程と、
接着層を介して前記第２のクラッド層を配線基板に貼り付けながら、前記開口部に前記接着層の一部を充填する工程と、
を有し、
前記コア層の前記端面は、前記金属膜の前記コア層と接する面が、前記配線基板とは反対側を向く方向に傾斜し、
前記開口部は、前記コア層の前記端面を含み、開口側から閉鎖側に至る傾斜面を備え、
前記第２のクラッド層の前記配線基板側の面と前記傾斜面とのなす角θ１と、前記コア層の厚さＴ２と、前記第２のクラッド層の前記コア層より前記配線基板側の部分の厚さＴ３との間に、Ｔ２＋Ｔ３＜Ｗ×ｔａｎθ１の関係が成り立ち、
前記第１のクラッド層の厚さをＴ３としたとき、Ｗ×ｔａｎθ１＜Ｔ１＋Ｔ２＋Ｔ３の関係が成り立つことを特徴とする光導波路搭載基板の製造方法。
【請求項７】
前記開口部を形成する工程の前に、前記第２のクラッド層の前記支持体とは反対側の面に保護フィルムを形成する工程を有し、
前記開口部を形成する工程は、前記開口部に繋がり、平面視で前記コア層の前記端面を露出する第２の開口部を前記保護フィルムに形成する工程を有し、
前記金属膜を設ける工程は、
蒸着法により前記金属膜を形成する工程と、
前記保護フィルムを、前記金属膜のうち前記保護フィルムの表面上の部分と共に除去する工程と、
を有することを特徴とする請求項６に記載の光導波路搭載基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本開示の一形態によれば、配線基板と、前記配線基板上に接着層を介して搭載された光導波路と、を有し、前記光導波路は、第１のクラッド層と、前記第１のクラッド層の前記配線基板側の面に形成されたコア層と、前記コア層の周囲を覆うように前記第１のクラッド層の前記配線基板側の面に形成された第２のクラッド層と、前記第２のクラッド層側が開口され、前記第２のクラッド層及び前記コア層を貫通し、前記第１のクラッド層側が閉鎖された開口部と、前記開口部内で前記コア層の端面に設けられた金属膜と、を有し、前記第２のクラッド層が前記接着層を介して前記配線基板と対向し、前記コア層の前記端面は、前記金属膜の前記コア層と接する面が、前記配線基板とは反対側を向く方向に傾斜しており、前記開口部内に前記接着層の一部が充填されており、前記開口部は、前記コア層の前記端面を含み、開口側から閉鎖側に至る傾斜面を備え、前記第２のクラッド層の前記配線基板側の面と前記傾斜面とのなす角θ１と、前記コア層の厚さＴ２と、前記第２のクラッド層の前記コア層より前記配線基板側の部分の厚さＴ３との間に、Ｔ２＋Ｔ３＜Ｗ×ｔａｎθ１の関係が成り立ち、前記第１のクラッド層の厚さをＴ３としたとき、Ｗ×ｔａｎθ１＜Ｔ１＋Ｔ２＋Ｔ３の関係が成り立つことを特徴とする光導波路搭載基板が提供される。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月8日(2021.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成を行っていない状態として、低電力状態と前記低電力状態よりも消費電力が大きいレディ状態とを有する画像形成装置であって、
前記低電力状態と前記レディ状態とで動作する第１電源と、
前記低電力状態では動作せず、前記レディ状態では動作する第２電源と、
商用電源から電力を供給されて発熱する定着器と、
前記商用電源と前記定着器との間に設けられ、前記定着器へ供給される前記電力を制御する定着制御手段と、
前記第１電源からの電力で動作し、前記定着器の温度が目標温度に維持されるように前記定着制御手段を制御する第１制御手段と、
前記低電力状態では前記第２電源の動作を停止させ、前記第１電源から前記定着制御手段と前記第１制御手段への電力供給を遮断させ、前記低電力状態から前記レディ状態への復帰時には前記第２電源の起動を開始させ、前記第２電源の起動が完了する前であっても前記第１電源から前記定着制御手段と前記第１制御手段への電力供給を開始させる第２制御手段と、を備えることを特徴とする、
画像形成装置。
【請求項２】
前記第１電源から前記定着制御手段及び前記第１制御手段の各々へ電力を供給する経路に設けられる第１スイッチをさらに備え、
前記第２制御手段は、前記第１電源から前記定着制御手段及び前記第１制御手段への電力の供給を制御するよう前記第１スイッチを制御することを特徴とする、
請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記第２制御手段は、前記低電力状態時に前記第１スイッチをオフ状態にし、前記低電力状態から前記レディ状態への復帰時に前記第１スイッチをオン状態にすることを特徴とする、
請求項２記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記商用電源と前記定着制御手段との間に設けられ、前記第１電源からの電力で動作し、前記商用電源から前記定着器への電力の供給と遮断を行う第２スイッチを有し、
前記第１制御手段は、前記低電力状態から前記レディ状態への復帰時に前記商用電源から前記定着器へ電力を供給するように前記第２スイッチを制御することを特徴とする、
請求項１〜３のいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記第２スイッチの後段に設けられ、前記第１電源からの電力で動作し、前記商用電源から出力される電圧の電圧値を検出する検出手段を有し、
前記第１制御手段は、前記検出手段が検出した前記電圧値が所定の電圧値未満であれば、前記商用電源から前記定着器への電力の供給を遮断させるよう前記定着制御手段を制御することを特徴とする、
請求項４記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記定着器の温度を検知する温度検知手段を有し、
前記第１制御手段は、前記温度検知手段により検知される前記ヒータの温度に応じて、前記定着器への電力供給を開始するタイミングを決定することを特徴とする、
請求項１〜５のいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記第１制御手段は、前記温度検知手段により検知される温度が所定温度よりも低い場合、第１タイミングで前記定着器への通電を開始させるよう前記定着制御手段を制御し、前記温度検知手段により検知される温度が所定温度以上の場合、第１タイミングよりも後の第２タイミングで前記定着器への電力供給を開始させるよう前記定着制御手段を制御することを特徴とする、
請求項６記載の画像形成装置。
【請求項８】
モータと、
前記第２電源からの電力で動作し、前記モータを駆動する駆動手段と、
前記定着器に設けられ、前記モータにより駆動される回転部材と、を備え、
前記第１制御手段は、前記第１タイミングで前記定着制御手段により前記定着器への電力供給を開始させた場合に、所定時間後に前記回転部材を回転させるように前記駆動手段を制御し、前記第２タイミングで前記定着制御手段により前記定着器への電力供給を開始させた場合に、前記所定時間が経過する前に前記回転部材を回転させるように前記駆動手段を制御することを特徴とする、
請求項７記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の画像形成装置は、画像形成を行っていない状態として、低電力状態と前記低電力状態よりも消費電力が大きいレディ状態とを有する画像形成装置であって、前記低電力状態と前記レディ状態とで動作する第１電源と、前記低電力状態では動作せず、前記レディ状態では動作する第２電源と、商用電源から電力を供給されて発熱する定着器と、前記商用電源と前記定着器との間に設けられ、前記定着器へ供給される前記電力を制御する定着制御手段と、前記第１電源からの電力で動作し、前記定着器の温度が目標温度に維持されるように前記定着制御手段を制御する第１制御手段と、前記低電力状態では前記第２電源の動作を停止させ、前記第１電源から前記定着制御手段と前記第１制御手段への電力供給を遮断させ、前記低電力状態から前記レディ状態への復帰時には前記第２電源の起動を開始させ、前記第２電源の起動が完了する前であっても前記第１電源から前記定着制御手段と前記第１制御手段への電力供給を開始させる第２制御手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図２は、プリンタ１００の動作を制御するコントローラの説明図である。図２では、コントローラが定着器１５０の動作を制御する構成について説明する。コントローラは、商用電源５００に接続される常夜電源５０１（第１電源）及び非常夜電源５０２（第２電源）を備える。プリンタ１００は、メインスイッチ３０１を備える。メインスイッチ３０１がオンされることでプリンタ１００が起動する。常夜電源５０１は、メインスイッチ３０１の操作では起動と停止が制御できない電源である。非常夜電源５０２は、メインスイッチ３０１の操作により起動と停止が制御可能な電源である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月4日(2021.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透過率が変化する領域を含む光学素子であって、
第１及び第２の反射防止層と、
該第１及び第２の反射防止層の間に配置された吸収層とを有し、
前記吸収層において前記第１の反射防止層に隣接する第１の膜の屈折率をｎＡ、前記吸収層において前記第２の反射防止層に隣接する第２の膜の屈折率をｎＢ、前記第１の反射防止層において前記吸収層に隣接する第３の膜の屈折率をｎ１、前記第２の反射防止層において前記吸収層に隣接する第４の膜の屈折率をｎ２とするとき、
｜ｎＡ−ｎ１｜≦０．３５
｜ｎＢ−ｎ２｜≦０．３５
なる条件式を満足することを特徴とする光学素子。
【請求項２】
第１及び第２の透光部材を有し、前記第１及び第２の反射防止層は前記第１及び第２の透光部材の間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記第１の透光部材の屈折率をＮｓ、前記第２の透光部材の屈折率をＮｇとするとき、
｜Ｎｓ−Ｎｇ｜≦０．４５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記第１の反射防止層を構成する膜の数は、前記第２の反射防止層を構成する膜の数と等しいことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項５】
前記第１の反射防止層は前記第３の膜を含む複数の膜を備え、前記第２の反射防止層は前記第４の膜を含む複数の膜を備えることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項６】
前記第１及び第２の膜は共通の膜であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項７】
前記吸収層は、前記第１及び第２の膜を含む複数の膜を備えることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項８】
前記吸収層は、同心円状の膜厚分布を有することを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項９】
前記吸収層の膜厚は、中心から周辺部に向かって増加することを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１０】
前記吸収層は、径方向における中心に設けられていないことを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１１】
前記吸収層の消衰係数をｋとするとき、
０．０５≦ｋ≦０．３５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１２】
複数の光学素子を有し、該複数の光学素子は請求項１乃至１１の何れか一項に記載の光学素子を含むことを特徴とする光学系。
【請求項１３】
撮像素子と、請求項１乃至１１の何れか一項に記載の光学素子とを有することを特徴とする光学機器。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月2日(2020.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠心送風機に用いられる遠心ファンにおいて、
空気の吸込口（５）を有する環状の側板（２）と、
前記側板に対向して設けられる主板（３）と、
前記側板と前記主板との間に回転方向に所定間隔で配置される複数の翼（４）と、を備え、
前記翼は、負圧面（８）と正圧面（９）とを貫通し、且つ、後縁（７）に開口していない複数の貫通孔（１０）を有しており、
前記貫通孔のうち前記前縁側の内壁から前記前縁までの距離（Ｄ１）と、前記貫通孔のうち後縁側の内壁から前記前縁までの距離（Ｄ２）との差分（ΔＤ）を孔幅と定義したとき、
複数の前記貫通孔のうち、所定の前記貫通孔の孔幅は、その所定の前記貫通孔の前記側板側に隣接する他の前記貫通孔の孔幅に対し大きいものとされている、遠心ファン。
【請求項２】
遠心送風機に用いられる遠心ファンにおいて、
空気の吸込口（５）を有する環状の側板（２）と、
前記側板に対向して設けられる主板（３）と、
前記側板と前記主板との間に回転方向に所定間隔で配置される複数の翼（４）と、を備え、
前記翼は、負圧面（８）と正圧面（９）とを貫通し、且つ、後縁（７）に開口していない複数の貫通孔（１０）を有しており、
複数の前記貫通孔のうち、所定の前記貫通孔は、その所定の前記貫通孔の前記側板側に隣接する他の前記貫通孔に対し前縁側に設けられている、遠心ファン。
【請求項３】
前記貫通孔は、前記翼のうち前縁と前記後縁との間に形成される最大そり位置（Ｗ）よりも前記後縁側に設けられている、請求項１または２に記載の遠心ファン。
【請求項４】
複数の前記貫通孔のうち、所定の前記貫通孔は、その所定の前記貫通孔の前記側板側に隣接する他の前記貫通孔に対し前記前縁側に設けられており、
所定の前記貫通孔の孔幅は、その所定の前記貫通孔の前記側板側に隣接する他の前記貫通孔の孔幅に対し大きいものとされている、請求項１ないし３のいずれか１つに記載の遠心ファン。
【請求項５】
前記貫通孔は、前記翼の前記負圧面における開口面積（Ｓ１）よりも前記翼の前記正圧面における開口面積（Ｓ２）の方が大きい、請求項１ないし４のいずれか１つに記載の遠心ファン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、請求項１に係る発明は、
遠心送風機に用いられる遠心ファンにおいて、
空気の吸込口（５）を有する環状の側板（２）と、
側板に対向して設けられる主板（３）と、
側板と主板との間に回転方向に所定間隔で配置される複数の翼（４）と、を備え、
翼は、負圧面（８）と正圧面（９）とを貫通し、且つ、後縁（７）に開口していない複数の貫通孔（１０）を有している。そして、請求項１に係る発明は、貫通孔のうち前縁側の内壁から前縁までの距離（Ｄ１）と、貫通孔のうち後縁側の内壁から前縁までの距離（Ｄ２）との差分（ΔＤ）を孔幅と定義したとき、複数の貫通孔のうち、所定の貫通孔の孔幅は、その所定の貫通孔の側板側に隣接する他の貫通孔の孔幅に対し大きいものとされている。
請求項２に係る発明は、
遠心送風機に用いられる遠心ファンにおいて、
空気の吸込口（５）を有する環状の側板（２）と、
側板に対向して設けられる主板（３）と、
側板と主板との間に回転方向に所定間隔で配置される複数の翼（４）と、を備え、
翼は、負圧面（８）と正圧面（９）とを貫通し、且つ、後縁（７）に開口していない複数の貫通孔（１０）を有している。そして、請求項２に係る発明は、複数の貫通孔のうち、所定の貫通孔は、その所定の貫通孔の側板側に隣接する他の貫通孔に対し前縁側に設けられている。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月24日(2020.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒内に燃料を噴射する燃料噴射弁（３０）と、吸気弁（３１）及び排気弁（３２）のうち少なくとも吸気弁の開閉タイミングを可変とする可変動弁装置（３３，３４）と、を備える内燃機関（１０）に適用され、
前記内燃機関の吸入空気量に基づいて燃料噴射量を制御するとともに、前記内燃機関の運転状態に基づいて、前記可変動弁装置により前記吸気弁の開閉タイミングを制御する内燃機関の制御装置（４０）であって、
前記内燃機関の温度、前記燃料噴射弁の燃料噴射量、及び前記燃料噴射弁に供給される燃料の燃圧の少なくともいずれかに基づいて、前記筒内の未気化状態の燃料の発生量を算出する算出部と、
前記内燃機関の始動時において、前記算出部により算出された前記筒内の未気化状態の燃料の発生量に基づいて、筒内が燃料ウエットの懸念の大きいウエット懸念状態であるか、又は筒内が燃料の浮遊液滴の多い浮遊液滴状態であるかを判定する判定部と、
前記判定部により前記ウエット懸念状態であると判定された場合に、前記可変動弁装置による前記開閉タイミングの制御として、前記吸入空気量を低減させる第１制御を実施する第１制御部と、
前記判定部により前記浮遊液滴状態であると判定された場合に、前記可変動弁装置による前記開閉タイミングの制御として、筒内温度を上昇させる第２制御を実施する第２制御部と、
を備える内燃機関の制御装置。
【請求項２】
筒内に燃料を噴射する燃料噴射弁（３０）と、吸気弁（３１）及び排気弁（３２）のうち少なくとも吸気弁の開閉タイミングを可変とする可変動弁装置（３３，３４）と、を備える内燃機関（１０）に適用され、
前記内燃機関の吸入空気量に基づいて燃料噴射量を制御するとともに、前記内燃機関の運転状態に基づいて、前記可変動弁装置により前記吸気弁の開閉タイミングを制御する内燃機関の制御装置（４０）であって、
前記内燃機関の始動時において、筒内が燃料ウエットの懸念の大きいウエット懸念状態であるか、又は筒内が燃料の浮遊液滴の多い浮遊液滴状態であるかを判定する判定部と、
前記判定部により前記ウエット懸念状態であると判定された場合に、前記可変動弁装置による前記開閉タイミングの制御として、前記吸入空気量を低減させる第１制御を実施する第１制御部と、
前記判定部により前記浮遊液滴状態であると判定された場合に、前記可変動弁装置による前記開閉タイミングの制御として、筒内温度を上昇させる第２制御を実施する第２制御部と、
を備え、
前記内燃機関の出力軸（２８）を回転させる始動装置（５０）により前記内燃機関に初期回転が付与された後、前記内燃機関に初爆が生じてから１燃焼サイクルの期間を、第１期間とし、前記初爆が生じてから１燃焼サイクルの期間に続く期間を、第２期間として、
前記判定部は、前記第１期間である場合に、前記ウエット懸念状態であると判定し、前記第２期間である場合に、前記浮遊液滴状態であると判定する、
内燃機関の制御装置。
【請求項３】
筒内に燃料を噴射する燃料噴射弁（３０）と、吸気弁（３１）及び排気弁（３２）のうち少なくとも吸気弁の開閉タイミングを可変とする可変動弁装置（３３，３４）と、を備える内燃機関（１０）に適用され、
前記内燃機関の吸入空気量に基づいて燃料噴射量を制御するとともに、前記内燃機関の運転状態に基づいて、前記可変動弁装置により前記吸気弁の開閉タイミングを制御する内燃機関の制御装置（４０）であって、
前記内燃機関の始動時において、筒内が燃料ウエットの懸念の大きいウエット懸念状態であるか、又は筒内が燃料の浮遊液滴の多い浮遊液滴状態であるかを判定する判定部と、
前記判定部により前記ウエット懸念状態であると判定された場合に、前記可変動弁装置による前記開閉タイミングの制御として、前記吸入空気量を低減させる第１制御を実施する第１制御部と、
前記判定部により前記浮遊液滴状態であると判定された場合に、前記可変動弁装置による前記開閉タイミングの制御として、筒内温度を上昇させる第２制御を実施する第２制御部と、
所定の自動停止条件が成立した場合に前記内燃機関を自動停止させ、その後に所定の再始動条件が成立した場合に、前記内燃機関を自動で始動させる再始動制御部と、
を備え、
前記再始動制御部により前記内燃機関が始動された場合は、前記内燃機関の出力軸（２８）を回転させる始動装置（５０）により前記内燃機関に初期回転が付与された後、前記内燃機関の回転速度が安定状態になるまでの期間を、第１期間とするとともに、前記内燃機関の回転速度が前記安定状態になった後の期間を、第２期間とし、
前記内燃機関の始動が前記再始動制御部による始動でない場合は、前記内燃機関に初爆が生じてから１燃焼サイクルの期間を前記第１期間とするとともに、前記初爆が生じてから前記１燃焼サイクルの期間に続く期間を前記第２期間として、
前記判定部は、前記第１期間である場合に、前記ウエット懸念状態であると判定し、前記第２期間である場合に、前記浮遊液滴状態であると判定する、
内燃機関の制御装置。
【請求項４】
前記第１制御部は、前記第１制御として、前記吸気弁の閉じ時期を下死点から離す早閉じ又は遅閉じの制御を実施し、
前記第２制御部は、前記第２制御として、前記吸気弁の閉じ時期を下死点に近づける制御、又は前記吸気弁及び前記排気弁が共に開放されるバルブオーバーラップを増加させる制御を実施する、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の内燃機関の制御装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月9日(2021.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光安定化物質および高分子を含有する被覆層を有し、式（Ｉ）：
【化１】
2020079283.tif 000001
で示される化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する固形製剤であって、
当該被覆層中の光安定化物質が食用タール色素、食用レーキ化したタール色素、酸化鉄、酸化チタンおよびタルクからなる群から選択される１以上であり、
当該被覆層中の高分子がセルロース系高分子、アクリル系高分子およびビニル系高分子から選択される１以上である、固形製剤（但し、酸化チタンおよび／またはタルク、ならびにヒプロメロースを含有する被覆層を有するものは除く。）。
【請求項２】
被覆層中の光安定化物質が食用赤色２号、食用赤色３号、食用赤色１０２号、食用赤色１０４号、食用赤色１０５号、食用赤色１０６号、食用黄色４号、食用黄色５号、食用緑色３号、食用青色１号、食用青色２号、食用赤色３号アルミニウムレーキ、食用黄色４号アルミニウムレーキ、食用黄色５号アルミニウムレーキ、食用青色１号アルミニウムレーキ、食用青色２号アルミニウムレーキ、三二酸化鉄、黄色三二酸化鉄、黒酸化鉄、黄酸化鉄、酸化チタンおよびタルクからなる群から選択される１以上である請求項１記載の固形製剤。
【請求項３】
被覆層中の光安定化物質が三二酸化鉄、黄色三二酸化鉄、黒酸化鉄、黄酸化鉄、酸化チタンおよびタルクからなる群から選択される１以上である請求項２記載の固形製剤。
【請求項４】
被覆層中の光安定化物質が酸化チタンおよびタルクからなる群から選択される１以上である請求項３記載の固形製剤。
【請求項５】
被覆層中の高分子がセルロース系高分子であり、当該セルロース系高分子がヒプロメロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース、ヒプロメロースフタル酸エステル、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネートおよびエチルセルロースから選択される１以上である請求項１〜４のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項６】
セルロース系高分子がヒプロメロースおよび／またはヒドロキシプロピルセルロースである請求項５記載の固形製剤。
【請求項７】
セルロース系高分子がヒプロメロースである請求項６記載の固形製剤。
【請求項８】
被覆層中の高分子がアクリル系高分子であり、当該アクリル系高分子がメタクリル酸コポリマー、アミノアルキルメタアクリレートコポリマーEおよびアミノアルキルメタアクリレートコポリマーRSから選択される１以上である請求項１〜４のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項９】
被覆層中の高分子がビニル系高分子であり、当該ビニル系高分子がポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよびポリビニルアルコール・メチルメタクリレート・アクリル酸共重合体から選択される１以上である請求項１〜４のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項１０】
ビニル系高分子がポリビニルアルコールである請求項９記載の固形製剤。
【請求項１１】
被覆層中の光安定化物質が三二酸化鉄、黄色三二酸化鉄、黒酸化鉄、黄酸化鉄、酸化チタンおよびタルクからなる群から選択される１以上であり、被覆層中の高分子がヒプロメロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよび／またはポリビニルアルコールである請求項１記載の固形製剤。
【請求項１２】
１２０万lux・hrの光を照射した際、色差ΔＥが１３以下である請求項１〜１１のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項１３】
さらに崩壊剤を含有する請求項１〜１２のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項１４】
当該崩壊剤が低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルメロースカルシウム、クロスカルメロースナトリウム、クロスポビドン、部分α化デンプンおよびカルボキシメチルスターチナトリウムから選択される１以上である請求項１３記載の固形製剤。
【請求項１５】
崩壊剤が低置換度ヒドロキシプロピルセルロースまたはクロスカルメロースナトリウムである請求項１４記載の固形製剤。
【請求項１６】
崩壊剤がクロスカルメロースナトリウムである請求項１５記載の固形製剤。
【請求項１７】
式（Ｉ）：
【化５】
2020079283.tif 000002
で示される化合物、またはその製薬上許容される塩、および崩壊剤を含有し、
当該崩壊剤が低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルメロースカルシウム、クロスカルメロースナトリウム、クロスポビドン、部分α化デンプンおよびカルボキシメチルスターチナトリウムから選択される１以上である固形製剤。
【請求項１８】
崩壊剤が低置換度ヒドロキシプロピルセルロースまたはクロスカルメロースナトリウムである請求項１７記載の固形製剤。
【請求項１９】
崩壊剤がクロスカルメロースナトリウムある請求項１８記載の固形製剤。
【請求項２０】
光安定化物質および高分子を含有する被覆層を有し、式（Ｉ）：
【化１】
2020079283.tif 000003
で示される化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する固形製剤であって、
被覆層中の光安定化物質が三二酸化鉄、黄色三二酸化鉄、黒酸化鉄、黄酸化鉄、酸化チタンおよびタルクからなる群から選択される１以上であり、
被覆層中の高分子がヒプロメロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよび／またはポリビニルアルコールであり、
さらに崩壊剤を含有し、当該崩壊剤が低置換度ヒドロキシプロピルセルロースまたはクロスカルメロースナトリウムである、固形製剤（但し、酸化チタンおよび／またはタルク、ならびにヒプロメロースを含有する被覆層を有するものは除く。）。
【請求項２１】
溶出試験開始４５分後の式（Ｉ）で示される化合物の溶出率が８０％以上である請求項１〜２０のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項２２】
固形製剤が顆粒剤または錠剤である請求項１〜２１のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項２３】
式（Ｉ）：
【化８】
2020079283.tif 000004
で示される化合物を、１０ｍｇ、２０ｍｇ、４０ｍｇまたは８０ｍｇ含有する、請求項１〜２２のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項２４】
インフルエンザ罹病期間を短縮するために用いられる、請求項１〜２３のいずれかに記載の固形製剤。
【請求項２５】
インフルエンザウイルスを減少させるために用いられる、請求項１〜２３のいずれかに記載の固形製剤。