(57)【要約】【課題】放射性セシウムによって汚染された下水処理汚泥や枝葉等を処理するにあたり、回収した放射性セシウムを含む物質の取り扱いを容易とし、高い減容化率を得る。【解決手段】放射性セシウムで汚染された物質Ｃから放射性セシウムを揮発させ、揮発した放射性セシウムを冷却して放射性セシウムの濃縮塩Ｄを回収し、回収した濃縮塩を水洗し、水洗によって得られたろ液Ｌ１に含まれる放射性セシウムを吸着剤Ａに吸着させて回収する。放射性セシウムの濃縮塩を液固比２以上１０以下で水洗することが好ましく、水洗によって得られたろ液に含まれる放射性セシウムを吸着剤に吸着させ、吸着剤を凝集沈降させて回収し、さらに吸着剤を回収した後のろ液に残留する放射性セシウムをカラム法により回収することが好ましい。【選択図】図１
2014228502.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射性セシウムで汚染された物質から放射性セシウムを揮発させ、
該揮発した放射性セシウムを冷却して放射性セシウムの濃縮塩を回収し、
該回収した濃縮塩を水洗し、
該水洗によって得られたろ液に含まれる放射性セシウムを吸着剤に吸着させて回収することを特徴とする放射性セシウム汚染物の処理方法。
【請求項２】
前記放射性セシウムで汚染された物質に対し、（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比が１．０以上になるようにＣａ源又は／及びＭｇ源を添加し、１１５０℃以上１４５０℃以下の温度に加熱して放射性セシウムを揮発させることを特徴とする請求項１に記載の放射性セシウム汚染物の処理方法。
【請求項３】
前記放射性セシウムで汚染された物質に対し、（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比が０．３以上１．６以下になるようにＣａ源又は／及びＭｇ源を添加し、１２００℃以上１４５０℃以下の温度に加熱し、前記放射性セシウムで汚染された物質を溶融させて放射性セシウムを揮発させることを特徴とする請求項１に記載の放射性セシウム汚染物の処理方法。
【請求項４】
前記放射性セシウムで汚染された物質に対し、さらに塩素源を添加することを特徴とする請求項２又は３に記載の放射性セシウム汚染物の処理方法。
【請求項５】
前記放射性セシウムの濃縮塩を液固比２以上１０以下で水洗することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の放射性セシウム汚染物の処理方法。
【請求項６】
前記水洗によって得られたろ液に含まれる放射性セシウムを吸着剤に吸着させ、
該吸着剤を凝集沈降させて回収し、
さらに、前記吸着剤を回収した後のろ液に残留する放射性セシウムをカラム法により回収することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の放射性セシウム汚染物の処理方法。
【請求項７】
前記濃縮塩に磁性を有する吸着剤を添加し、該濃縮塩を水洗した後、磁力選別を行って前記吸着剤を回収することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の放射性セシウム汚染物の処理方法。
【請求項８】
前記吸着剤としてプルシアンブルーを用いることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の放射性セシウム汚染物の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射性セシウムによって汚染された下水処理汚泥や枝葉等を処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
先年の原子力発電所の事故により生じた上記放射性セシウム汚染物は、膨大な量に及ぶことが予想されるため、放射性セシウムを大量にかつ効率よく回収する必要がある。そこで、例えば、特許文献１には、放射性セシウムで汚染された土壌、廃棄物等を、焼成炉や溶融炉等で熱処理して放射性セシウムを揮発させ、廃棄物の放射能量を低減すると共に、揮発した放射性セシウムを冷却して減容化する技術が提案されている。
【０００３】
また、特許文献２には、放射性セシウムで汚染された土壌をロータリーキルン等で加熱し、放射性セシウムを含む排ガスと、放射性セシウムの含有率が低減された処理済みの土壌を得る汚染土壌の処理システムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−３６８８３号公報
【特許文献２】特開２０１３−１９７３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献等に記載の従来の技術では、放射性セシウムを含むダスト等をバグフィルター等の集塵機を用いて回収し、回収物をコンクリートキューブ等で保管することにより減容化する。
【０００６】
しかし、ダスト等に含まれる放射性セシウムは水溶性であるため、このダスト等を保管する容器は、遮蔽性だけでなく遮水性も求められるなど、ダスト等の取り扱いの面で改善の余地があった。
【０００７】
また、上記特許文献等に記載の技術では、放射性セシウム汚染物を減容化しているが、放射性汚染物の保管場所に苦慮していることから、減容化率をさらに高めることが要請されている。
【０００８】
そこで、本発明は、上記従来の技術における問題点に鑑みてなされたものであって、回収した放射性セシウムを含む物質の取り扱いが容易で、減容化率を高めることも可能な放射性セシウム汚染物の処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明は、放射性セシウム汚染物の処理方法であって、放射性セシウムで汚染された物質から放射性セシウムを揮発させ、該揮発した放射性セシウムを冷却して放射性セシウムの濃縮塩を回収し、該回収した濃縮塩を水洗し、該水洗によって得られたろ液に含まれる放射性セシウムを吸着剤に吸着させて回収することを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、放射性セシウムを吸着剤に吸着させて回収するため、回収物が水と接触しても放射性セシウムは溶出することがない。そのため、例えば、回収物を保管する容器は遮蔽性を備えるだけでよく、取り扱いが容易となる。
【００１１】
上記処理方法において、前記放射性セシウムで汚染された物質に対し、（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比が１．０以上になるようにＣａ源又は／及びＭｇ源を添加し、１１５０℃以上１４５０℃以下の温度に加熱して放射性セシウムを揮発させることができる。
【００１２】
また、前記放射性セシウムで汚染された物質に対し、（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比が０．３以上１．６以下になるようにＣａ源又は／及びＭｇ源を添加し、１２００℃以上１４５０℃以下の温度に加熱し、前記放射性セシウムで汚染された物質を溶融させて放射性セシウムを揮発させることができる。
【００１３】
さらに、上記放射性セシウム汚染物の処理方法において、前記放射性セシウムで汚染された物質に対し、さらに塩素源を添加することができる。これにより、塩化揮発を促進してより効率よく放射性セシウムを揮発させることができる。
【００１４】
また、前記放射性セシウムの濃縮塩を液固比２以上１０以下で水洗することができる。これにより、設備コストを低く抑えながら、水洗後の固相に放射性セシウムが残留することを防止することができる。
【００１５】
さらに、前記水洗によって得られたろ液に含まれる放射性セシウムを吸着剤に吸着させ、該吸着剤を凝集沈降させて回収し、さらに、前記吸着剤を回収した後のろ液に残留する放射性セシウムをカラム法により回収することができ、水洗によって得られたろ液が吸着率や選択性が低くなる塩水である場合にも、放射性セシウムを効率よく吸着することができる。
【００１６】
また、前記濃縮塩に磁性を有する吸着剤を添加し、該濃縮塩を水洗した後、磁力選別を行って前記吸着剤を回収することもできる。
【００１７】
前記吸着剤としてプルシアンブルーを用いることができ、セシウムのみを選択的に吸着するプルシアンブルーを用いることで、減容化率を高めることができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように、本発明の放射性セシウム汚染物の処理方法によれば、回収した放射性セシウムを含む物質の取り扱いが容易で、減容化率をさらに高めることも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る放射性セシウム汚染物の処理方法を実施するための装置を示す全体構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
次に、本発明を実施するための形態について、図１を参照しながら詳細に説明する。本発明に係る処理方法の対象となる放射性セシウム汚染物は、放射性セシウムで汚染された土壌、下水汚泥乾粉・焼却灰、都市ごみ焼却灰・溶融スラグ、農林系廃棄物（剪定枝葉、バーク、堆肥、稲わら、牧草、米ぬかなど）等である。また、放射性セシウムとは、セシウムの放射性同位体であるセシウム１３４及びセシウム１３７である。
【００２１】
図１は、本発明に係る放射性セシウム汚染物の処理方法を実施するための装置を示し、この処理装置１は、放射性セシウム汚染物（以下「汚染物」という。）Ｃから放射性セシウム（以下「放射性Ｃｓ」という。）を揮発させるロータリーキルン２と、ロータリーキルン２の排ガスＧ１を冷却する冷却装置３と、冷却によって生じた放射性Ｃｓの濃縮塩を含むダストＤを回収する集塵機４と、回収されたダストＤを水洗する水洗装置６と、水洗後のろ液に含まれる放射性Ｃｓを吸着剤に吸着させて回収する吸着装置７等で構成される。
【００２２】
ロータリーキルン２は、窯尻にキルン内部へ汚染物ＣやＣａ源又は／及びＭｇ源を供給するための投入口を備え、窯前に微粉炭等の化石燃料を用いて汚染物Ｃを高温加熱するためのバーナ等を備える。ロータリーキルン２を用いることで、放射性Ｃｓの揮発に適した温度及び汚染物Ｃの滞留時間に容易に調整することができて好ましいが、ロータリーキルン２に代えて、ストーカ炉、電気炉、焼却炉等を用いることもできる。
【００２３】
冷却装置３は、ロータリーキルン２の排ガスＧ１を冷却し、汚染物Ｃから揮発した放射性Ｃｓ等を固体状にして回収するために備えられる。排ガスＧ１の冷却は、排ガスＧ１への散水や、冷却空気の導入によって行う。水による冷却、空気による冷却を各々単独で行ってもよく、両者を併用してもよい。
【００２４】
集塵機４は、冷却装置３からの排ガスＧ２に含まれる放射性Ｃｓの濃縮塩を含むダストＤを集塵するために備えられ、バグフィルター、ヘパフィルター、電気集塵機等を用いることができる。最終排ガスにダストを発生させない観点から、バグフィルター、ヘパフィルターを用いることが特に好ましい。また、集塵機４の前段にサイクロン等の分級手段を設け、高濃度の放射性Ｃｓを含む微粉のみを集塵機４で捕集し、粗粉をロータリーキルン２に戻してもよい。さらに、放射性Ｃｓの濃縮塩等を除去した後の排ガスＧ３に含まれる酸性ガス等を吸着除去するため、２次集塵機を設けてもよい。集塵機４の後段には、排ガスＧ３を系外に排出するためのファン５が設けられる。
【００２５】
水洗装置６は、ダストＤに水Ｗを添加してスラリーＳを生成させ、ダストＤに含まれる放射性Ｃｓの濃縮塩を水中に溶解させる溶解槽１１と、溶解槽１１から供給されたスラリーＳを水洗しながら、ろ液Ｌ１とケーキＣ１とに固液分離するフィルタープレス１２とで構成される。フィルタープレス１２に代えてベルトフィルター等を用いることもできる。
【００２６】
吸着装置７は、フィルタープレス１２で分離されたろ液Ｌ１に含まれる放射性Ｃｓをプルシアンブルー等の吸着剤Ａに吸着させて回収する吸着槽１３と、吸着槽１３からのろ液Ｌ２に含まれる放射性Ｃｓを吸着した吸着剤Ａ等を沈降させる沈降槽１４と、沈降槽１４からのろ液Ｌ３をろ過するろ過機１５と、ろ過機１５からのろ液Ｌ４に含まれる重金属を除去するための薬液反応槽１６と、薬液反応槽１６からのろ液Ｌ５を固液分離するフィルタープレス１７と、フィルタープレス１７からのろ液Ｌ６に残留する固形物をさらにろ過する砂ろ過機１８と、砂ろ過機１８からのろ液Ｌ７に残留する放射性Ｃｓ等を吸着する樹脂１９とで構成される。
【００２７】
吸着槽１３は、フィルタープレス１２から供給されたろ液Ｌ１に吸着剤Ａを添加して放射性Ｃｓを吸着剤Ａに吸着させて回収すると共に、凝集沈降剤Ｆを添加して放射性Ｃｓを吸着した吸着剤Ａを凝集沈降させるために備えられる。
【００２８】
吸着剤Ａには、プルシアンブルー、ゼオライト、ベントナイト等を用いることができる。ろ液に含まれているＮａ、Ｋ、セシウムの中からセシウムのみを選択的に吸着し、塩化物イオン含有量の高い溶液でもセシウム吸着量が高いという観点からプルシアンブルーが特に好ましい。プルシアンブルー、ゼオライトに磁性粉を複合化した磁性吸着剤を用いてもよい。
【００２９】
凝集沈降剤Ｆとして、ポリ塩化アルミニウム、炭酸ナトリウム、消石灰、硫酸第二鉄等を用いることができる。
【００３０】
薬液反応槽１６は、ろ過機１５からのろ液Ｌ４に含まれる重金属を除去するために備えられ、後述するように、鉛等の重金属を硫化して硫化鉛等の析出物を生成してこれらを凝集させ、ろ液Ｌ４中のセレンを還元する。
【００３１】
フィルタープレス１７は、薬液反応槽１６からのろ液Ｌ５をろ液Ｌ６と２次ケーキＣ２とに固液分離し、ろ液Ｌ５から硫化鉛及びセレン等の析出物を２次ケーキＣ２側に分離するために設けられる。
【００３２】
樹脂１９は、シリカゲル粒やイオン交換樹脂等の多孔質体の細孔内にプルシアンブルーを担持するものなどであって、砂ろ過機１８からのろ液Ｌ７に残留する放射性Ｃｓを吸着させて使用する。多孔質体に代えて、カラムにプルシアンブルーと酸化物等の無機材料を混練・過熱して造粒した無機ビーズを充填してもよく、プルシアンブルーナノ粒子分散液により木綿布を着色したものや、製造の際に材料にプルシアンブルーを織り込んだ不織布を用いてもよい。さらに、繰り返し使用可能な分子認識吸着剤（株式会社タクマが商品名：t-RECs（ティーレックス）で使用）等を用いることもできる。
【００３３】
次に、上記処理装置１を用いた本発明に係る放射性セシウム汚染物の処理方法について、図１を参照しながら説明する。
【００３４】
ロータリーキルン２の窯尻に、汚染物Ｃと共に、汚染物Ｃに対して（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比が１．０以上になるようにＣａ源又は／及びＭｇ源を添加する。Ｃａ源として、石灰石、生石灰、消石灰、ドロマイト、高炉スラグ、炭酸マグネシウム等を使用することができ、Ｍｇ源として、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、ドロマイト、蛇紋岩、フェロニッケル、スラグ合金等を使用することができる。
【００３５】
上記質量比を１．０以上とすることで、塩化水素の発生が抑制され、かつＮａやＫの揮発量を少なくしつつ放射性Ｃｓをより多く揮発させることができ、ロータリーキルン２の排ガスＧ１を冷却装置３で冷却した後、集塵機４で回収される放射性Ｃｓの濃縮塩の発生量も少なくすることができる。また、回収される濃縮塩中の放射性Ｃｓは、より水溶性が高まり、水洗装置６、吸着装置７において水洗残渣に残存するものが少なくなる。ロータリーキルン２の窯尻に供給される汚染物ＣのＣｓ濃度が高い場合には、（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比を高くすることが好ましい。
【００３６】
また、ロータリーキルン２内での塩化揮発を促進する観点から、ロータリーキルン２の窯尻に塩素源を添加してもよい。ここで、Ｃｌ／（Ｃｓ＋Ｋ）モル比が０．０５以上１．０以下となるように塩素源を添加することが好ましく、Ｃｌ濃度は１００ｍｇ以上１％以下が好ましい。Ｃｌ／（Ｃｓ＋Ｋ）モル比が０．０５以上、又はＣｌ濃度が１００ｍｇ以上の場合には、回収される放射性Ｃｓの濃縮塩中のＣｓは、より水溶性が高まって水洗残渣に残存するものが少なくなる。一方、Ｃｌ／（Ｃｓ＋Ｋ）モル比が１．０より大きい場合、又はＣｌ濃度が１％より大きい場合には、溶融温度が低下するためにより高温での焼成ができず、放射性Ｃｓが揮発しにくくなる。また、ロータリーキルン２内でのＮａやＫの揮発量も多くなり、回収される濃縮塩の発生量も多くなる。塩素源としてＣａＣｌ2、ＫＣｌ、ＮａＣｌ、塩化ビニルを用いることができ、揮発促進の観点からＣａＣｌ2を添加するのが好ましい。
【００３７】
ロータリーキルン２の内部での汚染物Ｃの加熱温度は、１１５０℃以上１４５０℃以下であり、好ましくは１２００℃以上１３５０℃以下であって、原料が溶融しない温度が好ましい。この温度で、汚染物Ｃを１５分以上１２０分以下加熱する。加熱後に得られる焼成物Ｐは、必要に応じて粉砕し、セメント混合材、コンクリート用骨材、アスファルト用骨材、埋め戻し材、盛り土材、路盤材等として利用することができる。
【００３８】
汚染物Ｃの放射性Ｃｓ濃度が高い場合には、（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比を高くして、原料が溶融しない範囲で温度を高くすることにより、汚染物Ｃに含まれる放射性Ｃｓの大部分を揮発させることができる。
【００３９】
次に、ロータリーキルン２の排ガスＧ１を冷却装置３で冷却し、集塵機４で回収された濃縮塩を含むダストＤを溶解槽１１に供給し、溶解槽１１においてダストＤに水Ｗを所定量添加して撹拌してスラリーＳを生成する。水洗の際の液固比は２以上１０以下が好ましく、３以上５以下がより好ましい。液固比が２以下の場合には、水洗後フィルタープレス１２で固液分離した場合のケークＣ１に放射性Ｃｓが残留する虞がある。一方、液固比が１０以上では、装置が大きくなり過ぎて好ましくない。水洗装置６においてスラリーＳを撹拌する時間は１０分程度とし、５０℃程度の温水を用いることで後工程でのろ過速度を高めることができる。
【００４０】
次いで、溶解槽１１からのスラリーＳをフィルタープレス１２で水洗しながらろ液Ｌ１とケーキＣ１とに固液分離し、ダストＤに含まれる濃縮塩をろ液Ｌ１に回収する。ケーキＣ１に含まれる放射性Ｃｓがクリアランスレベル以上残留している場合には、ロータリーキルン２の窯尻に戻して再加熱することが好ましい。また、再度ケーキＣ１を水洗して含まれる放射性Ｃｓの量を低下させることもできる。一方、ケーキＣ１に含まれる放射性Ｃｓがクリアランスレベル以下の場合には、充填材等に使用することができ、乾燥して埋め土材等の土工資材等として使用することもできる。
【００４１】
吸着槽１３で、フィルタープレス１２で分離されたろ液Ｌ１に吸着剤Ａを添加して所定時間撹拌した後、凝集沈降剤Ｆを添加して放射性Ｃｓを含有する吸着剤Ａを凝集沈殿させた後、沈降槽１４及びろ過機１５で回収し、放射性Ｃｓを粗取りする、尚、吸着剤Ａにプルシアンブルーを用いた場合には、処理後のろ液Ｌ８がシアンの排水基準を満足する必要があるため、プルシアンブルー自体を凝集沈降させる必要があるが、ポリ塩化アルミニウム、炭酸ナトリウム及び消石灰を混合して凝集沈降剤Ｆとすることで、プルシアンブルー自体の凝集沈降が可能となる。
【００４２】
次に、薬液反応槽１６において、放射性Ｃｓを粗取りした後のろ過機１５からのろ液Ｌ４に、水硫化ソーダ（ＮａＳＨ）等の硫化剤を添加し、ろ液Ｌ４中の鉛等の重金属を硫化して硫化鉛等の析出物を生成する。さらに、塩酸等を添加してｐＨを下げた後、第一鉄化合物等を添加し、次にアルカリ剤としてＣａ（ＯＨ）2等を添加し、ｐＨを７．５以上１１以下とすることで、セレンの還元に最適なｐＨとすると共に、析出させたセレンと鉛等の析出物を凝集させる。
【００４３】
薬液反応槽１６からのろ液Ｌ５をフィルタープレス１７に供給し、ろ液Ｌ６と２次ケーキＣ２とに固液分離し、ろ液Ｌ５から硫化鉛、セレン等をケーキＣ２側に分離除去する。砂ろ過機１８において、さらにろ液Ｌ６に残留する硫化鉛等を回収した後、砂ろ過機１８からのろ液Ｌ７に残留する放射性Ｃｓを樹脂１９に吸着させて回収する。樹脂１９による吸着にあたっては、ＳＶ１０、ｐＨ８程度とすることが好ましい。樹脂１９から排出されたろ液Ｌ８のＣＯＤが高い場合には、排水処理を行った後、河川等へ放流する
【００４４】
沈降槽１４や樹脂１９で回収した放射性Ｃｓを吸着した吸着剤Ａは、高濃度の放射性Ｃｓを含むため、散乱して内部被曝しないように壊れにくい容器（コンクリートキューブ、ドラム缶等）に保管する。大量に保管する場合には、外部被曝を避ける観点からコンクリート容器等の遮蔽性を要する容器に保管することがより好ましい
【００４５】
尚、上記実施の形態では、ロータリーキルン２を用いて汚染物ＣにＣａ源等を添加して焼成する場合について説明したが、コークスベット溶融炉、旋回溶融炉、表面溶融炉等の溶融炉を用い、汚染物Ｃに対して（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比が０．３以上１．６以下になるようにＣａ源又は／及びＭｇ源を添加し、塩化揮発の促進のためにＣａＣｌ2を１０％以上、より好ましくは２０％以上添加し、１２００℃以上１４５０℃以下の温度で１５分以上１２０分以下加熱して放射性Ｃｓを揮発させてもよい。
【００４６】
また、上記実施の形態では、放射性Ｃｓを吸着回収するにあたって、凝集沈殿法と、カラム法を併用した場合について説明したが、必ずしも併用する必要はなく、いずれか一方の方法を用いることもできる。
【００４７】
さらに、凝集沈殿法やカラム法に代えて、又はこれらと並行して、集塵機４からのダストＤに磁性を有した吸着剤Ａを添加し、水洗装置６で水洗を行う際に磁力選別を行って吸着剤Ａのみを回収し、吸着剤Ａを回収した後のスラリーをフィルタープレス等で固液分離し、分離したケーキをロータリーキルン２の窯尻に戻したり、土工資材として利用してもよい。
【００４８】
また、集塵機４で放射性Ｃｓの濃縮塩を含むダストＤを回収し、水洗装置６で回収されたダストＤを水洗するのではなく、冷却装置３の排ガスＧ２を直接湿式スクラバ等の湿式集塵機に導入し、湿式集塵機から排出されたスラリーに含まれる放射性Ｃｓを回収してもよい。
【実施例】
【００４９】
次に、本発明に係る放射性セシウム汚染物の処理方法の実施例として、凝集沈殿法と、カラム法を併用した場合について説明する。
（１）濃縮Ｃｓ塩の作製
表１に示す組成の粘土に対し、Ｃｓ源として塩化セシウム（非放射性）を５０ｍｇ／ｋｇを添加し、さらに水を添加してスラリーの状態で混合した。その後、脱水して乾燥した粘土を粉砕し、粉砕した粘土に（ＣａＯ＋１．３９ＭｇＯ）／ＳｉＯ2質量比が２．０となるように生石灰を添加して混合し、Ｃｓ濃度を３０ｍｇ／ｋｇとした。さらに、塩化カルシウムも添加し、Ｃｌ／（Ｃｓ＋Ｋ）モル比が０．５、Ｃｌ濃度が２５００ｍｇ／ｋｇの焼成原料とした。
【００５０】
【表１】
2014228502.tif 000003
【００５１】
上記のようにして得られた焼成原料を、３０ｋｇ／ｈの割合でロータリーキルン（φ３７０ｍｍ×３２００ｍｍＬ）に投入し、最高温度１３５０℃、滞留時間６０分で焼成し、計１０時間ロータリーキルンを運転し、キルン出口より焼成物を回収した。この焼成物のＣｓ含有量は０．３５ｍｇ／ｋｇであった。キルン排ガスを冷却した後、サイクロンでダストの粗粉を分離し、バグフィルターでＣｓの濃縮塩を回収した。回収した微粉のＣｓ濃度は８３０ｍｇ／ｋｇであった。尚、上記焼成原料、焼成物、濃縮塩のＣｓ濃度は、酸溶解後、ＩＣＰ質量分析計を用いて測定した。
（２）Ｃｓの濃縮塩の水洗
上記濃縮塩１ｋｇに対し、５０℃の温水を３倍量添加し、１０分間撹拌した後吸引ろ過し、Ｃｓ含有量３０ｍｇ／ｋｇ−ｗｅｔのケーキと、４１４ｍｇ／ｌの水洗ろ液を得た。
（３）水洗ろ液からのＣｓ回収
Ｃｓを４１４ｍｇ／ｌ含む水洗ろ液に、フェロシアン化鉄４９８０ｍｇ／ｌを添加し、さらに凝集剤として消石灰を１１２０ｍｇ／ｌ添加し、次に０．２％溶液の高分子凝集剤を２０００ｍｇ／ｌ添加して撹拌した。これを吸引ろ過し、得られたろ液のＣｓ濃度を測定したところ、１．２ｍｇ／ｌであった。また、ろ過により分離されたＣｓ回収物は３５ｇであった。さらに、Ｃｓ濃度１．２ｍｇ／ｌのろ液を、ピュロライト・インターナショナル株式会社製のセシウム吸着剤ＣＳ４００にＳＶ（空間速度）１０で通過させたところ、Ｃｓ濃度は０．００１ｍｇ／ｌになった。以上より、Ｃｓ除去率は、９９．９％となった。
【符号の説明】
【００５２】
１  処理装置
２  ロータリーキルン
３  冷却装置
４  集塵機
５  ファン
６  水洗装置
７  吸着装置
１１  溶解槽
１２  フィルタープレス
１３  吸着槽
１４  沈降槽
１５  ろ過機
１６  薬液反応槽
１７  フィルタープレス
１８  砂ろ過機
１９  樹脂
【図１】
2014228502.tif 000004