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【手続補正書】
【提出日】令和3年11月4日(2021.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置の装置本体に対して開閉可能な開閉部材と、
前記開閉部材をロックするロック部材と、
前記ロック部材を付勢する付勢部材と、
第１方向と前記第１方向と反対の第２方向とに移動可能で前記ロック部材と係合し前記ロック部材を付勢するプランジャと、励磁されることで前記プランジャを第１位置と前記第１位置から前記第２方向に移動した第２位置との間を移動させるコイルと有するソレノイドであって、非励磁状態で前記プランジャに磁力を作用させる磁石を有するソレノイドと、を備え、
前記非励磁状態で以下の式を満たすことを特徴とする画像形成装置。
Ｆ２＜Ｍ２
Ｆ１＞Ｍ１
前記プランジャが前記第１位置にある場合の前記付勢部材による前記ロック部材を付勢する前記第１方向への力をＦ１、
前記プランジャが前記第２位置にある場合の前記付勢部材による前記ロック部材を付勢する前記第１方向への力をＦ２、
前記プランジャが前記第１位置にある場合の前記磁石から前記プランジャに作用する前記第２方向への力をＭ１、
前記プランジャが前記第２位置にある場合の前記磁石から前記プランジャに作用する前記第２方向への力をＭ２。
【請求項２】
前記コイルは、第１電流方向の電流と第２電流方向の電流とによって、双方向に通電されるように構成され、
励磁状態で以下の式を満たすことを特徴とした請求項１記載の画像形成装置。
Ｆ１＜Ｍ１＋Ｅ
Ｆ２＋Ｒ＞Ｍ２
前記プランジャを前記第２方向に移動させるために前記第１方向の電流によって励磁された前記コイルから発生する力をＥ、
前記プランジャを前記第１方向に移動させるために前記第２方向の電流によって励磁された前記コイルから発生する力をＲ。
【請求項３】
画像形成装置の装置本体に対して開閉可能な開閉部材と、
前記開閉部材をロックするロック部材と、
前記ロック部材を付勢する付勢部材と、
第１方向と前記第１方向と反対の第２方向とに移動可能で前記ロック部材と係合し前記ロック部材を付勢するプランジャと、励磁されることで前記プランジャを第１位置と前記第１位置から前記第２方向に移動した第２位置との間を移動させるコイルと有するソレノイドであって、非励磁状態で前記プランジャに磁力を作用させる磁石を有するソレノイドと、を備え、
前記非励磁状態で以下の式を満たすことを特徴とする画像形成装置。
Ｆ１＜Ｍ１
Ｆ２＞Ｍ２
前記プランジャが前記第１位置にある場合の前記付勢部材による前記ロック部材を付勢する前記第２方向への力をＦ１、
前記プランジャが前記第２位置にある場合の前記付勢部材による前記ロック部材を付勢する前記第２方向への力をＦ２、
前記プランジャが前記第１位置にある場合の前記磁石から前記プランジャに作用する前記第１方向への力をＭ１、
前記プランジャが前記第２位置にある場合の前記磁石から前記プランジャに作用する前記第１方向への力をＭ２。
【請求項４】
前記コイルは、第１電流方向の電流と第２電流方向の電流とによって、双方向に通電されるように構成され、
励磁状態で以下の式を満たすことを特徴とした請求項３記載の画像形成装置。
Ｆ２＜Ｍ２＋Ｒ
Ｆ１＋Ｅ＞Ｍ１
前記プランジャを前記第２方向に移動させるために前記第１方向の電流によって励磁された前記コイルから発生する力をＥ、
前記プランジャを前記第１方向に移動させるために前記第２方向の電流によって励磁された前記コイルから発生する力をＲ。
【請求項５】
前記画像形成装置の装置本体に対して着脱可能なカートリッジを有し、
前記開閉部材は、前記カートリッジを露出する第１開放位置と前記カートリッジを覆う第２閉じ位置との間を移動可能であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記ロック部材は、前記開閉部材と接する面を有し、
前記開閉部材を閉じた状態において、前記面は、前記開閉部材の面に対して傾いていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記ロック部材は、前記開閉部材をロックするロック位置と前記開閉部材とのロックが解除されている解除位置との間を移動可能であり、
前記付勢部材は、前記ロック部材がロック位置に移動する方向に前記ロック部材を付勢することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記ロック部材は、前記開閉部材をロックするロック位置と前記開閉部材とのロックが解除されている解除位置との間を移動可能であり、
前記付勢部材は、前記ロック部材が解除位置に移動する方向に前記ロック部材を付勢することを特徴とする請求項３又は４に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記開閉部材の少なくとも一部であって、前記ソレノイドから画像形成装置の外部に放射される磁界を遮蔽する位置に、強磁性体が設置されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記ロック部材の少なくとも一部に、前記ソレノイドから放射される磁界を遮蔽するための強磁性体が設置されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記ソレノイドが、強磁性体で構成された装置本体に設置されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
対象物をロックするロック部材と、
前記ロック部材を付勢する付勢部材と、
第１方向と前記第１方向と反対の第２方向に移動可能で前記ロック部材と係合し前記ロック部材を付勢するプランジャと、励磁されることで前記プランジャを第１位置と前記第１位置から前記第２方向に移動した第２位置との間を移動させるコイルと有するソレノイドであって、非励磁状態で前記プランジャに磁力を作用させる磁石を有するソレノイドと、を備え、
前記コイルは、第１電流方向の電流と第２電流方向の電流とによって、双方向に通電されるように構成され、
前記非励磁状態で前記付勢部材の付勢力が前記磁石の磁力より大きいことで前記プランジャを前記第１位置で保持可能であり、
前記非励磁状態で前記付勢部材の付勢力が前記磁石の磁力より小さいことで前記プランジャを前記第２位置で保持可能であることを特徴とするロック機構。
【請求項１３】
対象物をロックするロック部材と、
前記ロック部材を付勢する付勢部材と、
第１方向と前記第１方向と反対の第２方向に移動可能で前記ロック部材と係合し前記ロック部材を付勢するプランジャと、励磁されることで前記プランジャを第１位置と前記第１位置から前記第２方向に移動した第２位置との間を移動させるコイルと有するソレノイドであって、非励磁状態で前記プランジャに磁力を作用させる磁石を有するソレノイドと、を備え、
前記コイルは、第１電流方向の電流と第２電流方向の電流とによって、双方向に通電されるように構成され、
前記非励磁状態で前記付勢部材の付勢力が前記磁石の磁力より大きいことで前記プランジャを前記第２位置で保持可能であり、
前記非励磁状態で前記付勢部材の付勢力が前記磁石の磁力より小さいことで前記プランジャを前記第１位置で保持可能であることを特徴とするロック機構。
【請求項１４】
前記ロック部材の少なくとも一部に、前記ソレノイドから放射される磁界を遮蔽するための強磁性体が設置されていることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月5日(2021.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドーム型の監視カメラであって、
筐体内に位置するベースと、
前記ベースに連結される連結部材と、
前記連結部材に連結される複数のカメラと、
前記連結部材および前記複数のカメラを覆うように、前記ベースに固定されるドーム型のカバーと、
前記ベースを前記カバーの方向に付勢する付勢部材と、
前記ベースの前記カバーの方向への移動を規制するガイド部と、を備える、
監視カメラ。
【請求項２】
前記ガイド部を少なくとも２つ備える、
請求項１に記載の監視カメラ。
【請求項３】
前記ガイド部は、前記筐体の底部に向かうにつれ、幅が広がり、かつ前記カバーの方向に向かうにつれ、幅が狭くなる溝部を備える、
請求項１または２に記載の監視カメラ。
【請求項４】
前記ベースは、突起部を有し、
前記突起部は、前記ガイド部の溝部に挿入され、前記溝部の最も狭い幅は前記突起部の幅よりも狭くなっている、
請求項３に記載の監視カメラ。
【請求項５】
前記複数のカメラのうち１つのカメラは、撮影方向が前記カバーの天頂を向くように可動する、
請求項１から４のいずれか一項に記載の監視カメラ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月10日(2021.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板上に前記パターンを形成するために前記基板上に第１光を照射する第１光学系と、
前記基板を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された基板に設けられたアライメントマークを、第２光学系を介して前記基板が保持される面側から検出するための第２光を照射する検出部と、
前記第１光学系が前記基板に前記第１光を照射している間は前記第２光学系に照射される前記第１光を遮光させて、前記検出部が前記第２光を照射している間は前記第２光学系に照射される前記第２光を透過させるユニットと、を有する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項２】
前記ユニットは、前記第２光学系に照射される光を選択的に遮光するシャッタユニットであることを特徴とする請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項３】
前記シャッタユニットは、前記第２光学系に照射される前記第１光を遮光する遮光状態と、前記第２光学系に照射される前記第２光を透過する透過状態のいずれかの光透過状態となることを特徴とする請求項２に記載のパターン形成装置。
【請求項４】
前記基板上にパターンを形成するための前記第１光を照射している間には、前記シャッタユニットは遮光状態であることを特徴とする請求項３に記載のパターン形成装置。
【請求項５】
前記シャッタユニットは、移動可能なシャッタ部材を含み、
前記シャッタ部材が移動することにより、前記シャッタユニットの光透過状態は前記遮光状態と前記透過状態との間で変化することを特徴とする請求項３または４に記載のパターン形成装置。
【請求項６】
前記シャッタ部材を移動させるための空気を供給するノズルをさらに有することを特徴とする請求項５に記載のパターン形成装置。
【請求項７】
前記シャッタユニットは電磁石をさらに含み、
前記電磁石に対して通電を行うことで、磁性体である前記シャッタ部材を移動させることを特徴とする請求項５に記載のパターン形成装置。
【請求項８】
前記シャッタ部材を移動させるためのバルーンと、
前記バルーンに対して空気を供給するノズルをさらに有し、
前記バルーンに供給する空気の量を制御することにより、前記シャッタ部材を移動させることを特徴とする請求項５に記載のパターン形成装置。
【請求項９】
前記検出部は、像面に形成された前記アライメントマークの像を検出することで、前記アライメントマークの位置を取得することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１０】
前記検出部により前記アライメントマークの像が検出されている間には、前記ユニットは前記第２光学系に照射される光を透過することを特徴とする請求項９に記載のパターン形成装置。
【請求項１１】
前記第２光学系は、前記保持部に対する位置が固定されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１２】
移動可能なステージをさらに有し、
前記保持部は、前記ステージに対して着脱可能であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１３】
前記ユニットは、前記ステージ上に設けられていることを特徴とする請求項１２に記載のパターン形成装置。
【請求項１４】
前記ユニットは、移動可能なシャッタ部材と該シャッタ部材に連結された可動部を有し、
前記可動部は、前記ステージの移動に伴って移動されることを特徴とする請求項１２または１３に記載のパターン形成装置。
【請求項１５】
前記可動部にはプランジャが設けられており、
前記可動部は、前記プランジャのロック状態が解除されることにより移動可能となることを特徴とする請求項１４に記載のパターン形成装置。
【請求項１６】
前記第２光学系は、前記保持部の内部に固定して設けられていることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のパターン形成装置。
【請求項１７】
前記第２光学系は、前記保持部の内部に固定して設けられているリレー光学系であることを特徴とする請求項１６に記載のパターン形成装置。
【請求項１８】
基板上にパターンを形成するために前記基板上に第１光を照射する第１光学系と、
前記基板を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された基板に設けられたアライメントマークを、第２光学系を介して前記基板が保持される面側から検出するための第２光を照射する検出部と、
前記第２光学系に照射される光を遮光させ、透過させるユニットと、を有するパターン形成装置におけるアライメントマークの検出方法であって、
前記第１光学系が前記基板に前記第１光を照射している間は前記第２光学系に照射される前記第１光を遮光させて、前記検出部が前記第２光を照射している間は前記第２光学系に照射される前記第２光を透過させるように前記ユニットの光透過状態を制御するステップと、
前記第２光学系を介して像面に形成された前記アライメントマークの像を検出するステップを含むことを特徴とするアライメントマークの検出方法。
【請求項１９】
基板上にパターンを形成するために前記基板上に第１光を照射する第１光学系と、
前記基板を保持する保持部と、
前記保持部によって保持された基板に設けられたアライメントマークを、第２光学系を介して前記基板が保持される面側から検出するための第２光を照射する検出部と、
前記第２光学系に照射される光を遮光させ、透過させるユニットと、を有するパターン形成装置におけるパターン形成方法であって、
前記第１光学系が前記基板に前記第１光を照射している間は前記第２光学系に照射される前記第１光を遮光させて、前記検出部が前記第２光を照射している間は前記第２光学系に照射される前記第２光を透過させるように前記ユニットの光透過状態を制御するステップと、
前記基板に向けて前記第１光を照射することで前記基板上にパターンを形成するステップを含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２０】
請求項１乃至１７のいずれか１項に記載のパターン形成装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
パターンが形成された基板を加工することによって物品を製造する工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決する本発明の一側面としてのパターン形成装置は、基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、前記基板上に前記パターンを形成するために前記基板上に第１光を照射する第１光学系と、前記基板を保持する保持部と、前記保持部によって保持された基板に設けられたアライメントマークを、第２光学系を介して前記基板が保持される面側から検出するための第２光を照射する検出部と、前記第１光学系が前記基板に前記第１光を照射している間は前記第２光学系に照射される前記第１光を遮光させて、前記検出部が前記第２光を照射している間は前記第２光学系に照射される前記第２光を透過させるユニットと、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月12日(2021.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機微粒子と、該無機微粒子の表面を被覆している樹脂と、を有するコアシェル型のトナー用外添剤であって、
該トナー用外添剤の体積抵抗率が、１．０×１０8Ω・ｃｍ以上１．０×１０14Ω・ｃｍ以下であることを特徴するトナー用外添剤。
【請求項２】
前記コアシェル型のトナー用外添剤におけるシェル厚さは、前記無機微粒子の直径の１０．０％以下である請求項１に記載のトナー用外添剤。
【請求項３】
前記樹脂が、結晶性樹脂である請求項１又は２に記載のトナー用外添剤。
【請求項４】
前記結晶性樹脂が、結晶性ポリエステルである請求項３に記載のトナー用外添剤。
【請求項５】
前記無機微粒子が、シリカ微粒子である請求項１〜４のいずれか１項に記載のトナー用外添剤。
【請求項６】
前記樹脂と、前記無機微粒子の表面とが、化学的に結合している請求項１〜５のいずれか１項に記載のトナー用外添剤。
【請求項７】
トナー粒子、および、前記トナー粒子表面に請求項１〜６のいずれか１項に記載のトナー用外添剤を有するトナー。
【請求項８】
無機微粒子、該無機微粒子の表面を樹脂で被覆してなるトナー用コアシェル微粒子であって、該トナー用コアシェル微粒子の体積抵抗率が、１．０×１０8Ω・ｃｍ以上１．０×１０14Ω・ｃｍ以下であることを特徴するトナー用コアシェル微粒子。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月23日(2020.12.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、本発明は以下に関する。
［１］下記工程：
コードする蛋白質の機能が欠損している選択マーカー遺伝子を含む宿主糸状菌を提供すること、
標的遺伝子の、コード領域、プロモーター及びターミネーターを含む発現カセット、及びプロモーターが改変された選択マーカー遺伝子を用いて、該宿主糸状菌を形質転換すること、
を含む、糸状菌の形質転換方法、
［２］
選択する形質転換体が、標的遺伝子が複数コピー挿入された形質転換体である、［１］に記載の方法。
［３］
糸状菌が、アスペルギルス属、ニューロスポラ属、ペニシリウム属、フザリウム属、トリコデルマ属、ムコール属、クモノスカビ属に属する糸状菌から選択される、［１］又は［２］に記載の方法、
［４］
糸状菌が、アスペルギルス属に属する糸状菌から選択される、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の方法、
［５］
糸状菌が、アスペルギルス・ソーヤ、アスペルギルス・オリゼ、アスペルギルス・ニガー  、アスペルギルス・タマリ、アスペルギルス・ルウチウエンシス、アスペルギルス・ウサミ、アスペルギルス・カワチ、又はアスペルギルス・サイトイである、［１］〜［４］のいずれか１項に記載の方法、
［６］
糸状菌が、アスペルギルス・ソーヤ、又はアスペルギルス・オリゼである、［１］〜［５］のいずれか１項に記載の方法、
［７］
プロモーターの改変が、プロモーターの一部の欠損である、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の方法、
［８］
選択マーカーが、ｐｙｒＧ遺伝子、ｐｙｒＦ遺伝子、ａｄｅＡ遺伝子、ａｄｅＢ遺伝子、ａｒｇＢ遺伝子、ｎｉａＤ遺伝子、ｓＣ遺伝子、ａｍｄＳ遺伝子、ｔｒｐＣ遺伝子、ｌｅｕ２遺伝子、ｂｉｏＤＡ遺伝子、ｐｔｒＡ遺伝子、又はｂｅｎＡ遺伝子である、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の方法、
［９］
選択マーカーが、ｐｙｒＧ遺伝子もしくはａｄｅＡ遺伝子である、［１］〜［８］のいずれか１項に記載の方法、
［１０］
プロモーターの４０％、６０％又は８０％の長さ以上の配列が欠損している、［１］〜［９］のいずれか１項に記載の方法、
［１１］
プロモーターの長さを２５０ｂｐ、２００ｂｐ、１５０ｂｐ、１００ｂｐ、８０ｂｐ、又は６０ｂｐ以下にまで欠損させた［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の方法、
［１２］
形質転換に用いる遺伝子が、発現カセット、そして選択マーカー遺伝子の順で連結されている、［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の方法。
また、本発明は、上記の方法で取得した形質転換体、及びその形質転換体を用いて標的タンパク質を製造する方法にも関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数コピーの標的遺伝子が挿入された糸状菌の形質転換体を製造する方法であって、
標的遺伝子の発現カセット、及び、
改変プロモーターに発現可能に連結されている選択マーカー遺伝子
を用いて、宿主糸状菌を形質転換する工程、並びに
前記選択マーカー遺伝子を用いて選択培地で生育可能な前記形質転換体を選択する工程を含み、
前記改変プロモーターは、改変されていないプロモーターを使用した場合と比較して前記選択マーカー遺伝子のコードする蛋白質の発現量が低下するように改変されたものであり、
前記宿主糸状菌は、前記選択マーカー遺伝子のコードする蛋白質の機能を欠損する糸状菌である、方法。
【請求項２】
標的遺伝子が非相同組み換え機構により挿入される工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記改変プロモーターが、改変されていないプロモーターの塩基配列において、一部又は全部の塩基の置換、欠失又は挿入を有する塩基配列でコードされたものである、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記マーカー遺伝子が、栄養要求性遺伝子又は薬剤耐性遺伝子である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記選択マーカー遺伝子が、ｐｙｒＧ遺伝子、ｐｙｒＦ遺伝子、ａｄｅＡ遺伝子、ａｄｅＢ遺伝子、ａｒｇＢ遺伝子、ｎｉａＤ遺伝子、ｓＣ遺伝子、ａｍｄＳ遺伝子、ｔｒｐＣ遺伝子、ｌｅｕ２遺伝子、ｂｉｏＤＡ遺伝子、ｐｔｒＡ遺伝子、又はｂｅｎＡ遺伝子である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記糸状菌が、アスペルギルス属、ニューロスポラ属、ペニシリウム属、フザリウム属、トリコデルマ属、ムコール属、クモノスカビ属に属する糸状菌から選択される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
請求項1〜６のいずれか１項に記載の方法で取得した形質転換体。
【請求項８】
請求項７に記載の形質転換体を用いて目的物質を製造する方法。
【請求項９】
前記形質転換体を培養して得られる培養物から目的物質を抽出する工程を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記目的物質が、前記標的遺伝子が発現する蛋白質又はその代謝産物である、請求項８又は９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月31日(2021.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、オーミック電極層と、酸化物半導体層と、ショットキー電極層とを、この順に積層する、又は
基板と、ショットキー電極層と、酸化物半導体層と、オーミック電極層とを、この順に積層するショットキーバリアダイオード素子であって、
前記酸化物半導体層が、実質的に、インジウム（Ｉｎ）を主成分として含む多結晶及び／又は非晶質の酸化物半導体のみからなるショットキーバリアダイオード素子。
【請求項２】
基板と、オーミック電極層と、酸化物半導体層と、ショットキー電極層とを、この順に積層する請求項１記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項３】
基板と、ショットキー電極層と、酸化物半導体層と、オーミック電極層とを、この順に積層する請求項１記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項４】
前記酸化物半導体が、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｇａ及びＳｎからなる群から選択される１種以上を含む請求項１〜３のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項５】
前記酸化物半導体層中に含まれる全金属元素に対するインジウムの原子組成百分率（［Ｉｎ］／（［Ｉｎ］＋［Ｉｎ以外の全金属元素］）×１００）が３０〜１００ａｔｍ％である請求項１〜４のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項６】
前記酸化物半導体層が、さらに、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｓｍ、及びＳｎから選ばれる１種以上の元素を含む請求項１〜５のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項７】
前記酸化物半導体層の室温におけるキャリア濃度が１×１０１４ｃｍ−３以上、１×１０１７ｃｍ−３以下である請求項１〜６のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項８】
前記酸化物半導体層の端部が露出しないように絶縁膜により被覆されている請求項１〜７のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子を含む電気回路。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子を含む電気機器。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子を含む電子機器。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子を含む車両。
【請求項１３】
基板と、第１の金属薄膜と、酸化物半導体層と、第２の金属薄膜と、をこの順で積層し、
前記酸化物半導体層が、実質的に、インジウム（Ｉｎ）を主成分として含む多結晶及び／又は非晶質の酸化物半導体のみからなり、
前記酸化物半導体層と前記第２の金属薄膜とが電気的に接触する領域を含む
構造体。
【請求項１４】
前記第２の金属薄膜の仕事関数が４．７ｅＶ以上である請求項１３に記載の構造体。
【請求項１５】
前記酸化物半導体が結晶質であり、
前記酸化物半導体中に、Ａｌ，Ｓｉ，Ｃｅ、Ｇａ、Ｈｆ、Ｚｒ及びＳｍから選ばれる少なくとも１種類の元素が全金属元素中３ａｔ％以上、３０ａｔ％以下の割合で含まれている請求項１３又は１４に記載の構造体。
【請求項１６】
前記酸化物半導体の室温におけるキャリア濃度が１×１０１４ｃｍ−３以上、１×１０１７ｃｍ−３以下である請求項１３〜１５のいずれかに記載の構造体。
【請求項１７】
前記酸化物半導体層の膜厚が５０ｎｍ〜２０μｍである請求項１３〜１６のいずれかに記載の構造体。
【請求項１８】
前記基板が導電性基板である請求項１３〜１７のいずれかに記載の構造体。
【請求項１９】
前記導電性基板が単結晶シリコン、多結晶シリコン及び微結晶シリコンから選ばれる１以上から構成される請求項１８に記載の構造体。
【請求項２０】
前記基板が電気絶縁性基板である請求項１３〜１７のいずれかに記載の構造体。
【請求項２１】
請求項１３〜２０のいずれかに記載の構造体を用いたパワー半導体素子。
【請求項２２】
請求項１３〜２０のいずれかに記載の構造体を用いたダイオード素子。
【請求項２３】
請求項１３〜２０のいずれかに記載の構造体を用いたショットキーバリアダイオード素子。
【請求項２４】
前記第２の金属薄膜をショットキー電極層とする請求項２３に記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項２５】
前記第１の金属薄膜をショットキー電極層とする請求項２３に記載のショットキーバリアダイオード素子。
【請求項２６】
請求項２１に記載のパワー半導体素子、請求項２２に記載のダイオード素子、又は請求項２３〜２５のいずれかに記載のショットキーバリアダイオード素子を含む電気回路。
【請求項２７】
請求項２６に記載の電気回路を含む電気機器。
【請求項２８】
請求項２６に記載の電気回路を含む電子機器。
【請求項２９】
請求項２６に記載の電気回路を含む車両。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
実施例１３〜２０
酸化物半導体の組成等を適宜変更しながら、実施例１２と同様にショットキーバリアダイオード素子を作製し、評価した。結果を表２に示す。
尚、「４Ｈ−ＳｉＣ」とは４層繰り返し構造を有する六方晶ＳｉＣ基板を意味し、「ＹＳＺ」とはイットリア安定化ジルコニア基板を意味する。
また、実施例１３、１６、１８、１９、２０においては高抵抗の基板を用いているため、電気測定はオーミック電極とショットキー電極に端子を当てて行った。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月5日(2021.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品を、当該電子部品のリードが突出する下面が下向きとなる起立姿勢で基板に装着するためのヘッド装置であって、
負圧発生源に接続された吸引路を有し、前記負圧発生源で生じた負圧を利用して前記吸引路の開口端で前記電子部品を保持するノズルを有する部品保持部と、
前記ノズルの前記開口端の向きを下向あるいは横向きになるように前記部品保持部の姿勢を変更する姿勢変更機構と、
前記ノズルに保持された前記電子部品に当接して前記基板へ向かって押すプッシャと、
前記姿勢変更機構が装着され回転する回転体と、
を備え、
前記部品保持部は前記姿勢変更機構の下部に装着され、
前記開口端を下向きに向けた前記ノズルで前記電子部品の前記下面が前記プッシャとは反対方向を向く姿勢の前記電子部品を保持する、
ヘッド装置。
【請求項２】
昇降機構と、
前記昇降機構によって昇降する昇降部と、
前記回転体を回転させる回転機構と、を備え、
前記回転体は前記昇降部の一端に装着される、請求項１に記載のヘッド装置。
【請求項３】
前記姿勢変更機構が、水平軸を中心に回転自在なスイング部材と、空圧によって上下方向へ移動するロッドによって前記スイング部材を回転させる駆動ピストンとを備え、
前記スイング部材と共に回転する出力軸に前記部品保持部が装着されている、請求項１または２に記載のヘッド装置。
【請求項４】
さらに、バネ部材によって上下方向へ移動するロッドを備え、前記バネ部材の付勢力によって前記スイング部材を前記駆動ピストンによる回転方向とは逆方向に回転させる戻しピストンと、を有する請求項３に記載のヘッド装置。
【請求項５】
前記プッシャは前記回転体に装着され前記回転体とともに回転し、
下向きになった前記ノズルの前記開口端の中心は、平面視において前記プッシャとの間に前記回転体の回転中心を挟む位置に配置されている、請求項１に記載のヘッド装置。
【請求項６】
前記ノズルの前記開口端で前記電子部品を保持する前に、前記開口端の下方に位置する前記電子部品の前記下面が前記プッシャとは反対方向を向く姿勢になるように前記回転体が回転する、
請求項１から５のいずれかに記載のヘッド装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明のヘッド装置は、電子部品を、当該電子部品のリードが突出する下面が下向きとなる起立姿勢で基板に装着するためのヘッド装置であって、負圧発生源に接続された吸引路を有し、前記負圧発生源で生じた負圧を利用して前記吸引路の開口端で前記電子部品を保持するノズルを有する部品保持部と、前記ノズルの前記開口端の向きを下向あるいは横向きになるように前記部品保持部の姿勢を変更する姿勢変更機構と、前記ノズルに保持された前記電子部品に当接して前記基板へ向かって押すプッシャと、前記姿勢変更機構が装着され回転する回転体と、を備え、前記部品保持部は前記姿勢変更機構の下部に装着され、前記開口端を下向きに向けた前記ノズルで前記電子部品の前記下面が前記プッシャとは反対方向を向く姿勢の前記電子部品を保持する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月27日(2021.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を浸漬して処理する処理槽と、
リン酸水溶液と添加剤とを混合して混合液を生成する混合装置と、
前記混合装置から前記処理槽に前記混合液を送る送液路と、
前記送液路に設けられる流量計と、
前記送液路において前記流量計よりも下流側から分岐し、前記混合液を前記混合装置に戻す帰還路と、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
基板を浸漬して処理する処理槽と、
リン酸水溶液と添加剤とを混合して混合液を生成する混合装置と、
前記混合装置から前記処理槽に前記混合液を送る送液路と、
前記送液路から前記混合液を前記混合装置に戻す帰還路と、
を備え、
前記混合装置は、タンクと、前記タンクから出て前記タンクに戻る循環路とを有し、
前記送液路は、前記循環路から分岐して設けられる
基板処理装置。
【請求項３】
前記循環路において前記送液路との分岐部よりも下流側に設けられる背圧弁をさらに備える
請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記処理槽と、前記混合装置と、前記送液路と、前記帰還路と、前記背圧弁とを制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記混合液を前記循環路で循環させて前記混合液を生成する際には前記背圧弁を全開にし、前記混合液を前記送液路に送液する際には前記背圧弁を絞る
請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
１つの前記処理槽に対して複数の前記混合装置が設けられ、
複数の前記混合装置は、１つの前記処理槽に対して排他的に前記混合液を供給する
請求項１〜４のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項６】
複数の前記処理槽に対して複数の前記混合装置が設けられ、
前記混合液の供給が必要な前記処理槽に対して前記混合液の生成が完了した前記混合装置から順に前記混合液を供給する
請求項１〜４のいずれか一つに記載の基板処理装置。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
開示の実施形態は、基板処理装置に関する。 
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本開示の一態様による基板処理装置は、処理槽と、混合装置と、送液路と、流量計と、帰還路とを備える。処理槽は、基板を浸漬して処理する。混合装置は、リン酸水溶液と添加剤とを混合して混合液を生成する。送液路は、前記混合装置から前記処理槽に前記混合液を送る。流量計は、前記送液路に設けられる。帰還路は、前記送液路において前記流量計よりも下流側から分岐し、前記混合液を前記混合装置に戻す。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月27日(2021.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を浸漬して処理する処理槽と、
リン酸水溶液と添加剤とを混合して混合液を生成する混合装置と、
前記混合装置から前記処理槽に前記混合液を送る送液路と、
前記混合装置から供給される前記混合液にシリコン含有化合物水溶液を供給するシリコン溶液供給部と、
前記処理槽と、前記混合装置と、前記送液路と、前記シリコン溶液供給部とを制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記処理槽で前記基板が浸漬されているときには、前記シリコン含有化合物水溶液を含まない前記混合液を前記処理槽に供給するよう制御する
基板処理装置。
【請求項２】
前記送液路には流量計が設けられ、
前記送液路は、前記流量計よりも下流側から分岐し、前記混合装置に設けられるタンクに戻る帰還路を備える
請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
１つの前記処理槽に対して複数の前記混合装置が設けられ、
前記制御部は、複数の前記混合装置が１つの前記処理槽に対して排他的に前記混合液を供給するように制御する
請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
複数の前記処理槽に対して複数の前記混合装置が設けられ、
前記制御部は、前記混合液の供給が必要な前記処理槽に対して前記混合液の生成が完了した前記混合装置から順に前記混合液を供給するように制御する
請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
リン酸水溶液と添加剤とを混合して混合液を生成する混合液生成工程と、
生成された前記混合液にシリコン含有化合物水溶液を供給するシリコン溶液供給工程と、
前記シリコン含有化合物水溶液が供給された前記混合液に基板を浸漬する浸漬工程と、
を含み、
処理槽で前記基板が浸漬されているときには、前記シリコン含有化合物水溶液を含まない前記混合液を前記処理槽に供給する
基板処理方法。
【請求項６】
前記シリコン溶液供給工程の後に、前記シリコン含有化合物水溶液が供給された前記混合液を加温する加温工程
をさらに含む
請求項５に記載の基板処理方法。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置および基板処理方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
開示の実施形態は、基板処理装置および基板処理方法に関する。 
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本開示の一態様による基板処理装置は、処理槽と、混合装置と、送液路と、シリコン溶液供給部と、制御部とを備える。処理槽は、基板を浸漬して処理する。混合装置は、リン酸水溶液と添加剤とを混合して混合液を生成する。送液路は、前記混合装置から前記処理槽に前記混合液を送る。シリコン溶液供給部は、前記混合装置から供給される前記混合液にシリコン含有化合物水溶液を供給する。制御部は、前記処理槽と、前記混合装置と、前記送液路と、前記シリコン溶液供給部とを制御する。また、前記制御部は、前記処理槽で前記基板が浸漬されているときには、前記シリコン含有化合物水溶液を含まない前記混合液を前記処理槽に供給するよう制御する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月31日(2021.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的を達成するため、本発明に係るスピーカ装置の一様態は、スピーカと、第１のマイクと、第２のマイクと、前記スピーカを、ユーザの耳から基準距離離れた基準範囲に保持するスピーカ保持手段と、前記第１のマイクを、環境音を収音できる第１位置に保持する第１のマイク保持手段と、前記第２のマイクを、前記第１位置よりも前記環境音の収音が制限された第２位置に保持する第２のマイク保持手段と、前記第１のマイクおよび前記第２のマイクにより収音された音に基づいて、前記環境音を低減する音を出力するように前記スピーカを制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スピーカと、第１のマイクと、第２のマイクと、
前記スピーカを、ユーザの耳から基準距離離れた基準範囲に保持するスピーカ保持手段と、
前記第１のマイクを、環境音を収音できる第１位置に保持する第１のマイク保持手段と、
前記第２のマイクを、前記第１位置よりも前記環境音の収音が制限された第２位置に保持する第２のマイク保持手段と、
前記第１のマイクおよび前記第２のマイクにより収音された音に基づいて、前記環境音を低減する音を出力するように前記スピーカを制御する制御部と、
を備えることを特徴とするスピーカ装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記ユーザが鑑賞するための鑑賞音を前記スピーカから出力させ、
前記第２位置は、前記第１位置よりも前記環境音の収音が制限された位置で、かつ、前記第１位置よりも前記スピーカから出力される音の収音に適した位置であり、
前記制御部は、前記第１のマイクおよび前記第２のマイクにより収音された音に基づいて、前記ユーザの耳に対して前記環境音が低減された状態で前記鑑賞音が聞こえるように前記スピーカから出力される音を制御する、
ことを特徴とする請求項１に記載のスピーカ装置。
【請求項３】
前記第１のマイクは、前記環境音を収音して第１電気信号を出力し、
前記第２のマイクは、前記スピーカから出力された前記鑑賞音および前記環境音が合成された合成音を収音して第２電気信号を出力し、
前記制御部は、前記第１電気信号および前記第２電気信号に基づいて、前記環境音を低減する音を出力するように前記スピーカを制御する、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のスピーカ装置。
【請求項４】
前記制御部は、適応フィルタと、前記第１電気信号および前記第２電気信号に基づいて、前記適応フィルタの補正係数を算出する適応アルゴリズムと、を有し、前記適応フィルタのフィルタ係数を前記補正係数により更新し、前記フィルタ係数を更新した前記適応フィルタにより前記第１電気信号を処理した第３電気信号を前記スピーカに出力する、
ことを特徴とする請求項３に記載のスピーカ装置。
【請求項５】
前記スピーカ保持手段は、柔軟性を有する部材で形成され、前記ユーザの首のまわりに巻き付ける円環状またはＵ字状の形状を有するネックウエアを含む、
ことを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載のスピーカ装置。
【請求項６】
前記スピーカ保持手段は、シートに取り付けられたヘッドレストを含み、
前記ヘッドレストは、前記スピーカを前記ユーザの耳から基準距離離れた基準範囲に保持する、
ことを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載のスピーカ装置。
【請求項７】
前記ユーザの耳と前記スピーカと前記第２のマイクとを覆う防音壁を備え、
前記第１のマイクは、前記防音壁の外に配置されている、
ことを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載のスピーカ装置。
【請求項８】
前記防音壁は、前記ユーザの頭に被せることができる形状を有し、吸音効果および遮音効果のうち少なくとも何れかの効果を有する防音シートで形成されている、
ことを特徴とする請求項７に記載のスピーカ装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記防音壁を用いない状態に最適化された第１の制御モードと、前記防音壁を用いる状態に最適化された第２の制御モードと、を有し、前記防音壁を用いない場合、前記第１の制御モードにより、環境音を低減する音を出力するように前記スピーカを制御し、前記防音壁を用いる場合、前記第２の制御モードにより、環境音を低減する音を出力するように前記スピーカを制御する、
ことを特徴とする請求項７または８に記載のスピーカ装置。
【請求項１０】
前記第１の制御モードは、耳の鼓膜の位置に第３のマイクを有するダミー人形を用いて、前記ダミー人形の頭部に前記防音壁を覆わない状態で、前記第３のマイクに環境音が到達しないように最適化されたものであり、前記第２の制御モードは、前記ダミー人形の頭部に前記防音壁を覆った状態で、前記第３のマイクに環境音が到達しないように最適化されたものである、
ことを特徴とする請求項９に記載のスピーカ装置。
【請求項１１】
環境音を収音できる第１位置に保持されている第１のマイクにより収音された音を示す第１電気信号と、前記第１位置よりも前記環境音の収音が制限された第２位置に保持されている第２のマイクにより収音された音を示す第２電気信号と、に基づいて、適応フィルタのフィルタ係数を予め決定し、
決定された前記フィルタ係数が設定されている前記適応フィルタにより前記第１電気信号を処理した第３電気信号をスピーカに出力する、
音響制御方法。
【請求項１２】
スピーカと、
前記スピーカをユーザの耳から基準距離離れた基準範囲に保持するスピーカ保持手段と、
環境音を収音して電気信号を出力する第１のマイクと、
前記スピーカから出力された音を収音する位置に取り付けられ、前記スピーカから出力された音および環境音が合成された合成音を収音して電気信号を出力する第２のマイクと、
前記第１のマイクおよび前記第２のマイクにより収音された音を示す電気信号に基づいて、環境音を低減する音を出力するように前記スピーカを制御する制御部と、
を備えることを特徴とするスピーカ装置。
【請求項１３】
スピーカと、
前記スピーカをユーザの耳から基準距離離れた基準範囲に保持するスピーカ保持手段と、
環境音を収音して電気信号を出力する第１のマイクと、
前記スピーカから出力された音を収音する位置に取り付けられ、前記スピーカから出力された音および環境音が合成された合成音を収音して電気信号を出力する第２のマイクと、
を備えるスピーカ装置を用いて音響を制御する音響制御方法であって、
前記第１のマイクおよび前記第２のマイクにより収音された音を示す電気信号に基づいて、環境音を低減する音を出力するように前記スピーカを制御するステップを備えることを特徴とする音響制御方法。
【請求項１４】
スピーカと、
前記スピーカをユーザの耳から基準距離離れた基準範囲に保持するスピーカ保持手段と、
環境音を収音して電気信号を出力する第１のマイクと、
前記スピーカから出力された音を収音する位置に取り付けられ、前記スピーカから出力された音および環境音が合成された合成音を収音して電気信号を出力する第２のマイクと、
を備えるスピーカ装置を制御するコンピュータを、
前記第１のマイクおよび前記第２のマイクにより収音された音を示す電気信号に基づいて、環境音を低減する音を出力するように前記スピーカを制御する制御部として機能させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月9日(2021.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤と、抽選条件の成立に基づいて当りか否かの抽選を行う抽選手段と、を備え、該抽選手段による抽選結果が当りである場合に遊技者にとって有利な特別遊技状態に制御する遊技機であって、
前記遊技盤に設けられて発光体が実装される複数の回路基板を備え、
前記複数の回路基板は、
実装面に白色からなる明色塗膜が形成される特定回路基板と、
実装面に緑色又は黒色からなる暗色塗膜が形成される特別回路基板と、を備え、
前記特定回路基板の実装面の前記白色からなる明色塗膜上には、発光体を特定する表記部が特定色で形成され、
発光体のうち前記特定回路基板に実装される第１発光体は、前記抽選手段による抽選結果が当りである場合に前記特定色と同一又は類似する特定発光態様で発光制御可能とされ、
発光体のうち前記特別回路基板に実装される第２発光体は、所定の操作手段が操作されたことに基づいて発光態様を変更して遊技情報を発光表示し得るものであり、前記特定色とは異なる特別色に発光制御される、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項１に係る発明によれば、
遊技盤と、抽選条件の成立に基づいて当りか否かの抽選を行う抽選手段と、を備え、該抽選手段による抽選結果が当りである場合に遊技者にとって有利な特別遊技状態に制御する遊技機であって、
前記遊技盤に設けられて発光体が実装される複数の回路基板を備え、
前記複数の回路基板は、
実装面に白色からなる明色塗膜が形成される特定回路基板と、
実装面に緑色又は黒色からなる暗色塗膜が形成される特別回路基板と、を備え、
前記特定回路基板の実装面の前記白色からなる明色塗膜上には、発光体を特定する表記部が特定色で形成され、
発光体のうち前記特定回路基板に実装される第１発光体は、前記抽選手段による抽選結果が当りである場合に前記特定色と同一又は類似する特定発光態様で発光制御可能とされ、
発光体のうち前記特別回路基板に実装される第２発光体は、所定の操作手段が操作されたことに基づいて発光態様を変更して遊技情報を発光表示し得るものであり、前記特定色とは異なる特別色に発光制御される、
ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このように、本発明の遊技機によれば、実装面に白色からなる明色塗膜が形成されるとともに発光体を特定する表記部が特定色で形成される特定回路基板に実装される発光体を特定色と同一又は類似する特定発光態様で発光制御可能とされるため、特定回路基板の実装面の反射効率を高く維持することができ、特定回路基板の実装面に実装される発光体の発光を効率よく使用して光量の低下を抑制した特定発光態様での発光制御を実行することができる。また、操作手段の操作に基づいて遊技情報を発光表示するため、遊技者に不利益を与えないようにすることが可能である（例えば、段落２９４４〜段落３０３２、図２４８〜図２５４等を参照）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月20日(2021.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
双方向性プロモーターを含むベクターを含む非自然発生のＣＲＩＳＰＲ−Ｃａｓ系であって、前記双方向性プロモーターが、
ａ）ＣＲＩＳＰＲ−Ｃａｓ系のガイドＲＮＡ（ｇＲＮＡ）をコードする少なくとも１つのヌクレオチド配列の１つの方向の転写をもたらす制御エレメントであって、前記ｇＲＮＡが、ＤＮＡ分子の標的配列とハイブリダイズする、制御エレメントと；
ｂ）ＣＲＩＳＰＲ酵素をコードするヌクレオチド配列の反対方向の転写をもたらす制御エレメントと
を含む、系。
【請求項２】
前記双方向性プロモーターがＨ１双方向性プロモーターである、請求項１に記載の系。
【請求項３】
前記標的配列が、ヌクレオチド配列ＡＮ１９ＮＧＧ、ＧＮ１９ＮＧＧ、ＣＮ１９ＮＧＧまたはＴＮ１９ＮＧＧを含む、請求項１に記載の系。
【請求項４】
前記ＣＲＩＳＰＲ酵素がＣａｓ９タンパク質である、請求項１に記載の系。
【請求項５】
前記Ｃａｓ９タンパク質がＩＩ型Ｃａｓ９タンパク質である、請求項４に記載の系。
【請求項６】
前記標的配列が細胞内に存在する、請求項１に記載の系。
【請求項７】
前記ＣＲＩＳＰＲ酵素をコードする前記ヌクレオチド配列が、前記細胞内での発現について最適化されたコドンである、請求項６に記載の系。
【請求項８】
前記細胞が真核細胞である、請求項６に記載の系。
【請求項９】
前記真核細胞が哺乳動物細胞またはヒト細胞である、請求項８に記載の系。
【請求項１０】
前記真核細胞が網膜光受容体細胞である、請求項８に記載の系。
【請求項１１】
前記ＤＮＡ分子が前記細胞内で発現される１または複数の遺伝子産物をコードする、請求項１に記載の系。
【請求項１２】
前記ＣＲＩＳＰＲ酵素が、前記ＤＮＡ分子を切断して、前記１または複数の遺伝子産物の発現を変更する、請求項１１に記載の系。
【請求項１３】
前記１または複数の遺伝子産物がロドプシンである、請求項１２に記載の系。
【請求項１４】
前記１または複数の遺伝子産物の前記発現が低減される、請求項１２に記載の系。
【請求項１５】
前記系が単一のアデノ随伴ウイルス（ＡＡＶ）粒子中にパッケージングされる、請求項１に記載の系。
【請求項１６】
被験体における眼の神経変性疾患を処置するための、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の系。
【請求項１７】
細胞内の１または複数の遺伝子産物の発現を変更するｉｎ  ｖｉｔｒｏの方法であって、前記細胞が、前記１または複数の遺伝子産物をコードするＤＮＡ分子を含み、前記方法が、前記細胞中に、双方向性プロモーターを含むベクターを含む非自然発生のＣＲＩＳＰＲ−Ｃａｓ系を導入するステップを含み、前記双方向性プロモーターが、
ａ）ＣＲＩＳＰＲ−Ｃａｓ系のガイドＲＮＡ（ｇＲＮＡ）をコードする少なくとも１つのヌクレオチド配列の１つの方向の転写をもたらす制御エレメントであって、前記ｇＲＮＡが、前記ＤＮＡ分子の標的配列とハイブリダイズする、制御エレメントと；
ｂ）ＣＲＩＳＰＲ酵素をコードするヌクレオチド配列の反対方向の転写をもたらす制御エレメントと
を含み、
前記ｇＲＮＡが、前記標的配列をターゲティングし、これとハイブリダイズし、前記ＣＲＩＳＰＲ酵素が、前記ＤＮＡ分子を切断して、前記細胞内の前記１または複数の遺伝子産物の発現を変更する、方法。
【請求項１８】
前記標的配列が、ヌクレオチド配列ＡＮ１９ＮＧＧ、ＧＮ１９ＮＧＧ、ＣＮ１９ＮＧＧまたはＴＮ１９ＮＧＧを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記ＣＲＩＳＰＲ酵素が、前記細胞内での発現について最適化されたコドンである、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記ＣＲＩＳＰＲ酵素がＣａｓ９タンパク質である、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記Ｃａｓ９タンパク質がＩＩ型Ｃａｓ９タンパク質である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記細胞が真核細胞である、請求項１７に記載の方法。
【請求項２３】
前記真核細胞が哺乳動物細胞またはヒト細胞である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記真核細胞が網膜光受容体細胞である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記１または複数の遺伝子産物がロドプシンである、請求項１７に記載の方法。
【請求項２６】
前記１または複数の遺伝子産物の前記発現が低減される、請求項１７に記載の方法。
【請求項２７】
前記系が単一のアデノ随伴ウイルス（ＡＡＶ）粒子を用いて前記細胞中に導入される、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月1日(2021.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
この包装シート５８は、図３に示すように、一枚で吸収体５６の全体を包む形態とする他、上下２枚等の複数枚のシートで吸収体５６の全体を包むようにしてもよい。包装シート５８は省略することもできる。