Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月12日(2021.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＲＲＣ＿ＣＯＮＮＥＣＴＥＤにおいて第１のＵＥ（Ｕｓｅｒ  Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ）がサイドリンクリソースを要求するための方法であって、
第１のＲＲＣ（Ｒａｄｉｏ  Ｒｅｓｏｕｒｃｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）メッセージをネットワークノードに送信することであって、前記第１のＲＲＣメッセージにおけるサイドリンクＱｏＳ（Ｑｕａｌｉｔｙ  ｏｆ  Ｓｅｒｖｉｃｅ）情報リストの存在は、任意選択である、送信すること、を含み、
前記第１のＲＲＣメッセージは、
Ｖ２Ｘ（Ｖｅｈｉｃｌｅ−ｔｏ−Ｅｖｅｒｙｔｈｉｎｇ）サービスのトラフィックを第２のＵＥに送信するためのサイドリンクリソースを要求するか、または
前記第２のＵＥとのＰＣ５ユニキャストリンクの確立を要求するために使用されるＰＣ５−Ｓメッセージを送信するためのサイドリンクリソースを要求するために使用され、
前記第１のＲＲＣメッセージが、前記Ｖ２Ｘサービスのトラフィックを前記第２のＵＥに送信するためのサイドリンクリソースを要求するために使用される場合、前記サイドリンクＱｏＳ情報リストは、前記ネットワークノードに送信される前記第１のＲＲＣメッセージに存在し、
前記第１のＲＲＣメッセージが、前記第２のＵＥとの前記ＰＣ５ユニキャストリンクの確立を要求するために使用される前記ＰＣ５−Ｓメッセージを送信するためのサイドリンクリソースを要求するために使用される場合、前記サイドリンクＱｏＳ情報リストは、前記ネットワークノードに送信される前記第１のＲＲＣメッセージに存在しない、方法。
【請求項２】
前記ＰＣ５−Ｓメッセージは直接通信要求メッセージである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記サイドリンクＱｏＳ情報リストは、ＰＣ５  ＱｏＳフローのＱｏＳプロファイルを示す情報要素と、前記ＰＣ５  ＱｏＳフローのＰＣ５  ＱｏＳフローアイデンティティを示す情報要素とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のＲＲＣメッセージはサイドリンクＵＥ情報メッセージである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のＲＲＣメッセージは、宛先アイデンティティ、キャストタイプ、または周波数のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
専用サイドリンク設定を割り当てるために、前記ネットワークノードから第２のＲＲＣメッセージを受信することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第２のＲＲＣメッセージ又は前記専用サイドリンク設定は、ＳＬＲＢ（Ｓｉｄｅｌｉｎｋ  Ｒａｄｉｏ  Ｂｅａｒｅｒ）へのＰＣ５  ＱｏＳフローマッピング、リソース割り当てモード、サイドリンクリソースプール、および／または論理チャネル設定のうちの少なくとも１つを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ネットワークノードは基地局である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
第１のＵＥ（Ｕｓｅｒ  Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ）は、
制御回路と、
前記制御回路に設けられたプロセッサと、
前記制御回路内に設置され、プロセッサに動作可能に結合されたメモリと、を含み、
前記プロセッサは、前記メモリに記憶されたプログラムコードを実行して、
第１のＲＲＣ（Ｒａｄｉｏ  Ｒｅｓｏｕｒｃｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）メッセージをネットワークノードに送信することであって、前記第１のＲＲＣメッセージにおけるサイドリンクＱｏＳ（Ｑｕａｌｉｔｙ  ｏｆ  Ｓｅｒｖｉｃｅ）情報リストの存在は、任意選択である、送信することを行うように構成されており、
前記第１のＲＲＣメッセージは、
Ｖ２Ｘ（Ｖｅｈｉｃｌｅ−ｔｏ−Ｅｖｅｒｙｔｈｉｎｇ）サービスのトラフィックを第２のＵＥに送信するためのサイドリンクリソースを要求するか、または
前記第２のＵＥとのＰＣ５ユニキャストリンクの確立を要求するために使用されるＰＣ５−Ｓメッセージを送信するためのサイドリンクリソースを要求するために使用され、
前記第１のＲＲＣメッセージが、前記Ｖ２Ｘサービスのトラフィックを前記第２のＵＥに送信するためのサイドリンクリソースを要求するために使用される場合、前記サイドリンクＱｏＳ情報リストは、前記ネットワークノードに送信される前記第１のＲＲＣメッセージに存在し、
前記第１のＲＲＣメッセージが、前記第２のＵＥとの前記ＰＣ５ユニキャストリンクの確立を要求するために使用される前記ＰＣ５−Ｓメッセージを送信するためのサイドリンクリソースを要求するために使用される場合、前記サイドリンクＱｏＳ情報リストは、前記ネットワークノードに送信される前記第１のＲＲＣメッセージに存在しない、第１のＵＥ。
【請求項１０】
前記ＰＣ５−Ｓメッセージは直接通信要求メッセージである、請求項９に記載の第１のＵＥ。
【請求項１１】
前記サイドリンクＱｏＳ情報リストは、ＰＣ５  ＱｏＳフローのＱｏＳプロファイルを示す情報要素と、前記ＰＣ５  ＱｏＳフローのＰＣ５  ＱｏＳフローアイデンティティを示す情報要素とを含む、請求項９に記載の第１のＵＥ。
【請求項１２】
前記第１のＲＲＣメッセージはサイドリンクＵＥ情報メッセージである、請求項９に記載の第１のＵＥ。
【請求項１３】
前記第１のＲＲＣメッセージは、宛先アイデンティティ、キャストタイプ、および／または周波数のうちの少なくとも１つを含む、請求項９に記載の第１のＵＥ。
【請求項１４】
専用サイドリンク設定を割り当てるために、前記ネットワークノードから第２のＲＲＣメッセージを受信することをさらに含む、請求項９に記載の第１のＵＥ。
【請求項１５】
前記第２のＲＲＣメッセージ又は前記専用サイドリンク設定は、ＳＬＲＢ（Ｓｉｄｅｌｉｎｋ  Ｒａｄｉｏ  Ｂｅａｒｅｒ）へのＰＣ５  ＱｏＳフローマッピング、リソース割り当てモード、サイドリンクリソースプール、または論理チャネル設定のうちの少なくとも１つを含む、請求項１４に記載の第１のＵＥ。
【請求項１６】
前記ネットワークノードは基地局である、請求項９に記載の第１のＵＥ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月4日(2021.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに直交する前後方向及び幅方向と、
着用者の前胴回りを覆う前胴回り域と、
前記着用者の後胴回りを覆う後胴回り域と、
前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に配置された股下域と、
少なくとも前記股下域に配置された吸収コアと、を有する展開型吸収性物品であって、
前記展開型吸収性物品は、前記幅方向に沿った幅折り目と、前記前後方向に沿った前後折り目と、を基点に折り畳まれており、
前記前後折り目は、前記股下域の前記吸収コアを、前記吸収コアの肌面側同士が向き合うように折り畳むコア前後折り目を有する、展開型吸収性物品。
【請求項２】
前記コア前後折り目は、前記吸収コアの前記幅方向の中心を挟んで一対で設けられている、請求項１に記載の展開型吸収性物品。
【請求項３】
前記前後折り目は、展開状態において前記吸収コアよりも前記幅方向の外側に位置し、
前記展開型吸収性物品の肌面側同士が向き合うように前記展開型吸収性物品を折り畳む物品前後折り目を有し、
前記コア前後折り目は、前記物品前後折り目を基点に折り畳まれた第１折り状態において、前記吸収コアを折り畳む、請求項１又は請求項２に記載の展開型吸収性物品。
【請求項４】
前記幅折り目は、前記コア前後折り目を基点に折り畳まれた第２折り状態において、前記展開型吸収性物品を折り畳む、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の展開型吸収性物
品。
【請求項５】
前記幅折り目は、前記前後方向に間隔を空けて一対で設けられている、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の展開型吸収性物品。
【請求項６】
前記請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の展開型吸収性物品と、
前記展開型吸収性物品を個別に包装する包装シートと、を有する吸収性物品の包装体であって、
前記展開型吸収性物品と前記包装シートにそれぞれ当接し、前記展開型吸収性物品と前記包装シートを仮接合する仮接合部が設けられており、
前記仮接合部の前記包装シートに対する接合強度は、前記仮接合部の前記展開型吸収性物品に対する接合強度よりも高い、吸収性物品の包装体。
【請求項７】
前記仮接合部は、前記吸収コアと重なる領域に配置されている、請求項６に記載の吸収性物品の包装体。
【請求項８】
前記展開型吸収性物品は、前記吸収コアよりも肌側に位置する起立性の防漏ギャザーを有しており、
前記防漏ギャザーは、前記吸収コアよりも肌面側に位置する表面シートに固定された固定部と、前記表面シートに対して起立可能な起立部と、を有し、
前記幅折り目は、前記起立部の前記前後方向の中心を挟んで、前記前後方向に間隔を空けて一対で設けられており、
前記仮接合部の少なくとも一部は、前記幅折り目よりも前記前後方向の外側にそれぞれ配置されている、請求項６又は請求項７に記載の吸収性物品の包装体。
【請求項９】
前記展開型吸収性物品は、前記吸収コアよりも肌側に位置する起立性の防漏ギャザーを有しており、
前記防漏ギャザーは、前記吸収コアよりも肌面側に位置する表面シートに固定された固定部と、前記表面シートに対して起立可能な起立部と、を有し、
前記仮接合部の少なくとも一部は、展開状態において、前記起立部よりも前記前後方向の外側に位置する、請求項６から請求項８のいずれか１項に記載の吸収性物品の包装体。
【請求項１０】
互いに直交する前後方向及び幅方向と、着用者の前胴回りを覆う前胴回り域と、前記着用者の後胴回りを覆う後胴回り域と、前記前胴回り域と前記後胴回り域との間に配置された股下域と、少なくとも前記股下域に配置された吸収コアと、を有する展開型吸収性物品と、
前記展開型吸収性物品を個別に包装する包装シートと、を有する吸収性物品の包装体の製造方法であって、
前記股下域の前記吸収コアを、前記吸収コアの肌面側同士が向き合うようにコア前後折り目を基点に折り畳む第１工程と、
前記第１工程によって折り畳まれた吸収性物品を、前記包装シート上に載置する第２工程と、
前記第２工程の後に、前記コア前後折り目に沿って前記包装シートを折り畳む第３工程と、
前記第３工程の後に、前記包装シート及び前記吸収性物品を、前記幅方向に沿って延びる幅折り目を基点に折り畳む第４工程と、を有する、吸収性物品の包装体の製造方法。
【請求項１１】
前記第３工程は、折り畳んだ包装シート同士が重なるように折り畳み、包装接合部を介して重なった包装シート同士を接合する、請求項１０に記載の吸収性物品の包装体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
次いで、図３に基づいて、吸収性物品の包装体１の製造方法における折り畳み工程について説明する。なお、包装体の製造方法は、以下において説明する折り畳み工程を含んでいればよく、折り畳み工程以外の工程については、周知の工程を用いることができる。また、以下の折り畳み態様の説明においては、吸収性物品１０と包装シート１００の両方を折り畳む包装体の折り畳み態様を説明するが、変形例において、吸収性物品１０のみを折り畳んでもよい。吸収性物品１０及び包装シート１００の展開状態（図３（Ａ）に示す状態）において、吸収性物品１０を、第１前後折り目ＦＬ１を基点に折り畳む。図３（Ｂ）は、第１前後折り目ＦＬ１を基点に折り畳んだ第１折り状態を示している。次いで、第１折り状態において、吸収性物品１０を、第２前後折り目ＦＬ２を基点に折り畳む第１工程を有する。第１折り状態において、第２前後折り目ＦＬ２は、第１前後折り目ＦＬ１よりも幅方向Ｗの内側に位置する。なお、第１工程は、第１折り状態において第２前後折り目ＦＬ２を基点に吸収性物品１０を折り畳む工程であってもよいし、展開状態において第２前後折り目ＦＬ２を基点に吸収性物品１０を折り畳む工程であってもよい。第１工程によって折り畳まれた吸収性物品１０を、包装シート１００上に載置する第２工程を有する。図３（Ｃ）は、第２前後折り目ＦＬ２を基点に折り畳んだ第２折り状態であって、第２工程の後の状態を示している。第２工程の後に、包装シート１００を、第３前後折り目ＦＬ３に沿って包装シート１００を折り畳む第３工程を有する。第３工程は、吸収性物品１０の第２前後折り目ＦＬ２に沿った第３前後折り目ＦＬ３を基点に包装シート１００を折り畳む。第３前後折り目ＦＬ３の幅方向Ｗの位置は、第２前後折り目ＦＬ２と略一致している。換言すると、第３前後折り目ＦＬ３は、第２前後折り目ＦＬ２に沿って形成されてよい。図３（Ｄ）は、一対の第３前後折り目ＦＬ３のうち一方の第３前後折り目ＦＬ３を基点に折り畳まれた状態であり、図３（Ｅ）は、一対の第３前後折り目ＦＬ３の両方を基点に折り畳んだ第３折り状態を示している。第３工程は、折り畳んだ包装シート１００同士が重なるように折り畳み、包装接合部１０１を介して重なった包装シート１００同士を接合してもよい。包装接合部１０１を介して包装シート１００同士を接合することにより、折り畳んだ包装シートが展開せずに折り畳んだ状態を維持でき、吸収性物品１０をよりコンパクトに収容できる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月8日(2021.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを受け取る受取口を有し、シート供給機構として、シートの搬送路でシートの搬送を一時停止することができる第１給送装置が前記受取口に接続される第１構成、シート供給機構として、シートの搬送路でシートの搬送を一時停止することができない第２給送装置が前記受取口に接続される第２構成、及びシート供給機構として、シートの搬送路でシートの搬送を一時停止することができるシート搬送装置が前記受取口に接続され、該シート搬送装置の上流に前記第２給送装置が接続される第３構成のいずれでも動作可能な画像形成装置であって、
印刷ジョブに基づいてシートに画像を形成する画像形成手段と、
前記シート供給機構の構成を表す構成情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得した前記構成情報に基づいて、前記シート供給機構に対してシートの給送を開始させる給送要求及びシートの受け渡しを指示する受渡要求を送信するタイミングを決定する制御手段と、を備えることを特徴とする、
画像形成装置。
【請求項２】
前記シート供給機構を構成する装置の種類毎に、装置内のシートの搬送時間を算出するための情報を記憶する記憶手段をさらに備えており、
前記制御手段は、前記構成情報に応じて、該装置内のシートの搬送時間を算出するための情報を前記記憶手段から読み取り、読み取った該情報により前記シート供給機構へ前記給送要求を送信するタイミングを決定することを特徴とする、
請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記画像形成手段は、画像が形成される感光体と、前記感光体に形成された画像を前記シートに転写する転写手段とを備えており、
前記記憶手段は、前記シート供給機構を構成する装置の種類毎に、装置内のシートの搬送距離及び搬送速度を記憶しており、
前記制御手段は、前記画像が前記感光体に形成されて前記転写手段による転写位置へ到達するのに要する時間、前記シートの搬送速度、及び前記シートの搬送距離に応じて、前記シート供給機構へ前記給送要求を送信するタイミングを決定することを特徴とする、
請求項２記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記シート供給機構が前記第１構成である場合に、前記感光体から前記転写位置へ前記画像が到達するのに要する時間、前記シートが前記第１給送装置の内部を搬送されるのに要する時間、前記第１給送装置の内部で一時停止する時間、及び供給された前記シートが前記転写位置まで搬送されるのに要する時間に応じて、１ページ目のシートの給送要求を送信するタイミングを決定することを特徴とする、
請求項３記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記感光体から前記転写位置へ前記画像が到達するタイミングと、供給されたシートを前記転写位置まで搬送するのに要する時間とに応じて、前記第１給送装置へ前記受渡要求を送信するタイミングを決定することを特徴とする、
請求項４記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記制御手段は、２ページ目のシートの給送要求を、前記受渡要求と同時に前記第１給送装置へ送信することを特徴とする、
請求項５記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記シート供給機構が前記第２構成である場合に、前記感光体から前記転写位置へ前記画像が到達するのに要する時間、前記シートが前記第２給送装置の内部を搬送されるのに要する時間、及び供給された前記シートが前記転写位置まで搬送されるのに要する時間に応じて、１ページ目のシートの給送要求を送信するタイミングを決定することを特徴とする、
請求項３記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記シートが前記第２給送装置から給紙されるタイミングで、前記第２給送装置へ前記受渡要求及び２ページ目のシートの給送要求を送信することを特徴とする、
請求項７記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記シート供給機構が前記第３構成である場合に、前記感光体から前記転写位置へ前記画像が到達するのに要する時間、前記シートが前記第２給送装置の内部を搬送されるのに要する時間、前記シートが前記シート搬送装置の内部を搬送されるのに要する時間、前記シート搬送装置の内部で一時停止する時間、及び供給された前記シートが前記転写位置まで搬送されるのに要する時間に応じて、１ページ目のシートの給送要求を送信するタイミングを決定することを特徴とする、
請求項３記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記感光体から前記転写位置へ前記画像が到達するタイミングと、供給されたシートを前記転写位置まで搬送するのに要する時間とに応じて、前記シート搬送装置へ前記受渡要求を送信するタイミングを決定することを特徴とする、
請求項９記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、２ページ目のシートの給送要求を、１ページ目のシートが前記シート搬送装置から前記画像形成装置へ供給されるタイミングで前記２ページ目のシートが前記シート搬送装置へ供給されるようなタイミングで、前記第２給送装置へ送信することを特徴とする、
請求項１０記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の画像形成装置は、シートを受け取る受取口を有し、シート供給機構として、シートの搬送路でシートの搬送を一時停止することができる第１給送装置が前記受取口に接続される第１構成、シート供給機構として、シートの搬送路でシートの搬送を一時停止することができない第２給送装置が前記受取口に接続される第２構成、及びシート供給機構として、シートの搬送路でシートの搬送を一時停止することができるシート搬送装置が前記受取口に接続され、該シート搬送装置の上流に前記第２給送装置が接続される第３構成のいずれでも動作可能な画像形成装置であって、印刷ジョブに基づいてシートに画像を形成する画像形成手段と、前記シート供給機構の構成を表す構成情報を取得する取得手段と、前記取得手段により取得した前記構成情報に基づいて、前記シート供給機構に対してシートの給送を開始させる給送要求及びシートの受け渡しを指示する受渡要求を送信するタイミングを決定する制御手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月12日(2021.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学フィルタであって、
第１のミラーおよび第２のミラーであって、前記第１のミラーおよび前記第２のミラー各々は、１つ以上の第１の１／４波長スタックを含み、前記１つ以上の第１の１／４波長スタックのうちの１つの１／４波長スタックは、第１の材料および第２の材料の交互の層の組を含み、前記第１の材料は、前記第２の材料よりも高い屈折率と対応付けられ、前記第１のミラーおよび前記第２のミラー各々は、１つ以上の第２の１／４波長スタックを含み、前記１つ以上の第２の１／４波長スタックのうちの１つの１／４波長スタックは、第３の材料および第４の材料の１つ以上の交互の層を含み、前記第３の材料は、前記第４の材料よりも高い屈折率と対応付けられ、前記第１の材料、前記第２の材料、前記第３の材料、および前記第４の材料は、３つ以上の異なる材料を含む、第１のミラーおよび第２のミラーと、
前記第１のミラーと前記第２のミラーとの間に配置されるスペーサと
を備える、光学フィルタ。
【請求項２】
前記３つ以上の異なる材料のうちの少なくとも１つは、酸化物材料であり、
前記酸化物材料は、酸化ニオブチタン（ＮｂＴｉＯｘ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、それらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、
請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項３】
前記３つ以上の異なる材料のうちの少なくとも１つは、窒化物材料、フッ化物材料、硫化物材料、セレン化物材料、それらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項４】
前記第１のミラーおよび前記第２のミラーのうちの少なくとも１つは、水素化シリコン（Ｓｉ：Ｈ）材料を含む、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項５】
前記スペーサは、水素化シリコン（Ｓｉ：Ｈ）スペーサである、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項６】
前記３つ以上の異なる材料のうちの少なくとも１つは、約８００ｎｍ〜約１１００ｎｍのスペクトル域での２．０を超える屈折率と対応付けられる、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項７】
前記３つ以上の異なる材料のうちの少なくとも１つは、約８００ｎｍ〜約１１００ｎｍのスペクトル域での３．０未満の屈折率と対応付けられる、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項８】
前記光学フィルタは、９３２ｎｍの中心波長での約０．９ｎｍ〜約５．３ｎｍの５０％相対帯域幅と対応付けられる、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
前記光学フィルタは、８００ｎｍの中心波長での約３．７５ｎｍ〜約５．７５ｎｍの５０％相対帯域幅と対応付けられる、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
前記光学フィルタは、１１００ｎｍの中心波長での約４ｎｍ〜約８ｎｍの５０％相対帯域幅と対応付けられる、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
前記光学フィルタは、センサ素子アレイのセンサ素子の組と対応付けられる基板上に形成され、
前記光学フィルタの前記スペーサは、前記センサ素子アレイの前記センサ素子の組に対応する複数のチャネルを形成する複数の層を含む、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項１２】
前記光学フィルタは、センサ素子アレイのセンサ素子の組に対応する光学フィルタのアレイに存在する、請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項１３】
マルチスペクトルフィルタであって、
第１の誘電体層の組であって、当該第１の誘電体層の組への光の一部を反射し、１つ以上の第１の１／４波長スタックを含み、３つ以上の第１の異なる材料の組を備える、第１の誘電体層の組と、
スペーサ層の組であって、当該スペーサ層の組のうちの層は、当該層の屈折率に基づいて選択され、センサ素子の組のうちの前記スペーサ層の組によって形成されるチャネルの組のうちのチャネルに対応するセンサ素子へと向けられる光の波長に対応する、スペーサ層の組と、
第２の誘電体層の組であって、当該第２の誘電体層の組への光の一部を反射し、１つ以上の第２の１／４波長スタックを含み、３つ以上の第２の異なる材料の組を備える、第２の誘電体層の組と
を備える、マルチスペクトルフィルタ。
【請求項１４】
前記３つ以上の第１の異なる材料の組および前記３つ以上の第２の異なる材料の組は、共通の３つ以上の異なる材料の組である、請求項１３に記載のマルチスペクトルフィルタ。
【請求項１５】
前記１つ以上の第１の１／４波長スタックは、
前記３つ以上の第１の異なる材料の組のうちの第１の材料と、前記３つ以上の第１の異なる材料の組のうちの第２の材料とを含む第１の１／４波長スタックと、
前記第１の材料と、前記３つ以上の第２の異なる材料の組のうちの第３の材料とを含む第２の１／４波長スタックと
を含む、請求項１３に記載のマルチスペクトルフィルタ。
【請求項１６】
前記チャネルの組のチャネル量は、チャネル量閾値以上であり、
前記チャネル量閾値は、８チャネル、１６チャネル、３２チャネル、６４チャネル、１２８チャネルのうちの１つである、
請求項１３に記載のマルチスペクトルフィルタ。
【請求項１７】
前記第１の誘電体層の組および前記第２の誘電体層の組のうちの少なくとも１つの層の厚さは、１／４波長厚さから離調される、請求項１３に記載のマルチスペクトルフィルタ。
【請求項１８】
前記厚さは、閾値パーセンテージによって離調され、
前記閾値パーセンテージは、１０％低減、２０％低減、３０％低減、４０％低減、５０％低減、１０％増加、２０％増加、３０％増加、４０％増加、５０％増加のうちの少なくとも１つを含む、請求項１７に記載のマルチスペクトルフィルタ。
【請求項１９】
光学フィルタであって、
基板と、
第１のミラーおよび第２のミラーであって、前記第１のミラーおよび前記第２のミラー各々は、複数の１／４波長スタックを含み、前記複数の１／４波長スタックは、第１の材料、第２の材料、および第３の材料を含む複数の層を含む、第１のミラーおよび第２のミラーと、
前記第１のミラーと前記第２のミラーとの間に配置されるスペーサと
を備える、光学フィルタ。
【請求項２０】
前記複数の１／４波長スタックのうちの１つの１／４波長スタックの高指数材料の屈折率と前記複数の１／４波長スタックのうちの前記１つの１／４波長スタックの低指数材料の屈折率との差は、閾値よりも大きい、請求項１９に記載の光学フィルタ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月7日(2021.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記憶手段を備えるコンピュータを、
第一場所情報を含むユーザの第一スケジュールと、当該第一スケジュールよりも後の当該ユーザの第二スケジュールであって、前記第一場所情報とは異なる第二場所情報を含む第二スケジュールを受け付けて前記記憶手段に記憶する受付手段、
前記第一スケジュールの第一場所情報が示す場所から、前記第二スケジュールの第二場所情報が示す場所までの移動経路であって、当該第一スケジュールと当該第二スケジュールの間で移動可能な移動経路を検索する検索手段、
前記検索手段の検索結果を前記ユーザに提案し、前記検索結果が複数存在する場合、前記ユーザが所属するグループに所属する他のユーザの移動スケジュールに基づき、複数の検索結果の中から前記ユーザに提案する検索結果を抽出する提案手段、
前記提案手段による提案に対して前記ユーザの承認が得られた場合に、前記検索手段の検索結果を、前記第一スケジュールと前記第二スケジュールとの間の前記ユーザの移動スケジュールとして前記記憶手段に記憶する追加手段、
として機能させるためのプログラム。
【請求項２】
前記提案手段は、前記検索結果が複数存在する場合、前記他のユーザの移動スケジュールが示す移動経路と同一の移動経路を抽出する、
請求項１に記載のプログラム。
【請求項３】
前記提案手段は、前記検索結果が複数存在する場合、前記他のユーザの移動スケジュールが示す移動経路と異なる移動経路を抽出する、
請求項１に記載のプログラム。
【請求項４】
記憶手段と、
第一場所情報を含むユーザの第一スケジュールと、当該第一スケジュールよりも後の当該ユーザの第二スケジュールであって、前記第一場所情報とは異なる第二場所情報を含む第二スケジュールを受け付けて前記記憶手段に記憶する受付手段と、
前記第一スケジュールの第一場所情報が示す場所から、前記第二スケジュールの第二場所情報が示す場所までの移動経路であって、当該第一スケジュールと当該第二スケジュールの間で移動可能な移動経路を検索する検索手段と、
前記検索手段の検索結果を前記ユーザに提案し、前記検索結果が複数存在する場合、前記ユーザが所属するグループに所属する他のユーザの移動スケジュールに基づき、複数の検索結果の中から前記ユーザに提案する検索結果を抽出する提案手段と、
前記提案手段による提案に対して前記ユーザの承認が得られた場合に、前記検索手段の検索結果を、前記第一スケジュールと前記第二スケジュールとの間の前記ユーザの移動スケジュールとして前記記憶手段に記憶する追加手段と、
を備える情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月12日(2021.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともプロセッサとメモリを有し、サーボコントローラの外部端子に接続される拡張モジュールであって、
前記プロセッサは、前記サーボコントローラの前記外部端子に接続されることによって、前記サーボコントローラから、前記サーボコントローラに制御されるモータの容量を含む、機械学習モデルを特定するために必要な情報を収集し、
前記プロセッサは、多数種類の中間学習モデルから選択された中間学習モデルに対し、前記サーボコントローラから取得した情報を教師データとして学習を行う、
拡張モジュール。
【請求項２】
前記中間学習モデルは、発生頻度の低い事象に対する学習を済ませた学習モデルである、請求項１に記載の拡張モジュール。
【請求項３】
前記発生頻度の低い事象は、長時間の前記モータの運転に伴い生じる摩耗及び経年劣化の少なくともいずれかに起因する故障、長時間の前記モータの運転に伴い生じる摩耗及び経年劣化の少なくともいずれかに起因する故障の予兆、及び、異物の噛み込み及び破損の少なくともいずれかを含む偶発的事象、から選ばれる少なくとも一の事象を含む、請求項２に記載の拡張モジュール。
【請求項４】
前記メモリに、前記多数種類の中間学習モデルを記憶し、
前記プロセッサは、前記機械学習モデルを特定するために必要な情報に基づいて、前記多数種類の中間学習モデルから前記中間学習モデルを選択する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の拡張モジュール。
【請求項５】
前記プロセッサは、外部サーバに前記機械学習モデルを特定するために必要な情報を送信し、前記サーバより前記選択された中間学習モデルを受信して前記メモリに記憶する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の拡張モジュール。
【請求項６】
前記機械学習モデルを特定するために必要な情報は、前記サーボコントローラに関する情報と、前記サーボコントローラにより制御される機器及びその構成を特定する情報を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の拡張モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一側面に係る拡張モジュールは、少なくともプロセッサとメモリを有し、サーボコントローラの外部端子に接続される拡張モジュールであって、前記プロセッサは、前記サーボコントローラの前記外部端子に接続されることによって、前記サーボコントローラから、前記サーボコントローラに制御されるモータの容量を含む、機械学習モデルを特定するために必要な情報を収集し、前記プロセッサは、多数種類の中間学習モデルから選択された中間学習モデルに対し、前記サーボコントローラから取得した情報を教師データとして学習を行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の一側面に係る拡張モジュールでは、前記中間学習モデルは、発生頻度の低い事象に対する学習を済ませた学習モデルであってよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の一側面に係る拡張モジュールでは、前記発生頻度の低い事象は、長時間の前記モータの運転に伴い生じる摩耗及び経年劣化の少なくともいずれかに起因する故障、長時間の前記モータの運転に伴い生じる摩耗及び経年劣化の少なくともいずれかに起因する故障の予兆、及び、異物の噛み込み及び破損の少なくともいずれかを含む偶発的事象、から選ばれる少なくとも一の事象を含んでよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の一側面に係る拡張モジュールでは、前記メモリに、前記多数種類の中間学習モデルを記憶し、前記プロセッサは、前記機械学習モデルを特定するために必要な情報に基づいて、前記多数種類の中間学習モデルから前記中間学習モデルを選択してよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の一側面に係る拡張モジュールでは、前記プロセッサは、外部サーバに前記機械学習モデルを特定するために必要な情報を送信し、前記サーバより前記選択された中間学習モデルを受信して前記メモリに記憶してよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の一側面に係る拡張モジュールでは、前記機械学習モデルを特定するために必要な情報は、前記サーボコントローラに関する情報と、前記サーボコントローラにより制御される機器及びその構成を特定する情報を含んでよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】拡張モジュール、産業用機器、及び産業用機器のパラメータ又は前記産業用機器により制御される機器の内部状態の推定方法
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月27日(2021.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置の表示面上に配置される光学構造体であって、
低屈折率層と、
前記低屈折率層に積層され、且つ屈折率が前記低屈折率層よりも高い高屈折率層と、を備え、
前記低屈折率層と前記高屈折率層との界面が凹凸形状をなし、
前記凹凸形状を形成する凹部及び凸部はシート状の前記低屈折率層及び前記高屈折率層の面方向に平行な第１方向に交互に並び、前記面方向に平行で前記第１方向に交差する第２方向に沿って線状に延び、
前記凹部及び前記凸部のそれぞれが、前記低屈折率層及び前記高屈折率層の前記面方向に沿って延びる平坦部を有しており、
前記凹部は前記低屈折率層側に凹んだ部分であり、前記凸部は前記高屈折率層側に凸となる部分であり、前記凹部の平坦部と前記凸部の平坦部との間に前記凹凸形状の側面が形成され、
前記凹部の平坦部を挟んで隣り合う前記凹凸形状の２つの側面は、前記高屈折率層側から前記低屈折率層側に向けて先細り形状を形成し、前記凸部の平坦部を挟んで隣り合う前記凹凸形状の２つの側面は、前記低屈折率層側から前記高屈折率層側に向けて先細り形状を形成し、
前記高屈折率層が前記表示装置の表示面側に向けられるように配置され、
前記表示装置の前記表示面から当該光学構造体を介して外部に投射される光を、前記低屈折率層及び前記高屈折率層の法線方向と平行な前記表示装置の正面視方向と、前記正面視方向及び前記第１方向を含む平面において前記正面視方向に対して傾斜する方向とから観察した際に、前記正面視方向に投射される光の色に対する前記傾斜する方向に投射される光の色変化Δｕ’ｖ’が、前記正面視方向から当該正面視方向に対して４０度以上５５度以下の間に設定される傾向変化角度まで次第に増加し、前記傾向変化角度以降は減少傾向に転じる、光学構造体。
【請求項２】
前記表示面から前記光学構造体を介して外部に投射される光の前記傾向変化角度における色変化Δｕ’ｖ’は、前記表示面から前記光学構造体を介さずに外部に投射される光の前記傾向変化角度に対応する角度での色変化Δｕ’ｖ’よりも小さい、請求項１に記載の光学構造体。
【請求項３】
前記正面視方向に対して６０度以上７０度以下の範囲における、前記表示面から前記光学構造体を介して外部に投射される光の色変化Δｕ’ｖ’の各値が、前記表示面から当該光学構造体を介さずに外部に投射される光の前記各値に対応する位置での色変化Δｕ’ｖ’の値に対して半分以下になる、請求項２に記載の光学構造体。
【請求項４】
前記凹凸形状の側面が、前記高屈折率層側に凸となる曲面、折れ面、又は少なくとも一つの前記高屈折率層側に凸となる曲面と少なくとも一つの平面とを含む面となっており、
前記凹凸形状の側面の両端点を結んだ直線と、前記低屈折率層及び前記高屈折率層の法線方向と、により規定される前記凹凸形状の側面の平均斜面角度が、１１度以上１７度以下となっており、
前記凹凸形状の側面が前記低屈折率層及び前記高屈折率層の法線方向となす最大角度と最小角度との差が、１４度以上１８度以下となっており、
前記凹部及び前記凸部の１周期分の長さに対する前記平坦部の合計長さの割合が、０．７５以上０．８５以下となっている、請求項３に記載の光学構造体。
【請求項５】
偏光板と、
前記偏光板の表面に請求項１乃至４のいずれかに記載の光学構造体と、を備える、光学構造体付き偏光板。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれかに記載の光学構造体が表示面に配置された、表示装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月14日(2021.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
教育コンテンツに取り組む人物を撮影するために取得された画像における前記人物の視線の方向に基づいて、前記人物が前記教育コンテンツに集中しているか否かに関する判定を行い、該判定の結果に基づく集中判定結果情報を記録する集中判定部
を有する判定システム。
【請求項２】
前記集中判定部は、前記画像に前記人物が存在するか否か、前記画像における前記人物の顔領域の位置および大きさと、前記画像における前記人物の眼が開いているか否かと、前記人物の視線の方向とに基づいて、前記人物が集中しているか否か判定する、
請求項１に記載の判定システム。
【請求項３】
前記集中判定部は、
前記画像に基づき、前記人物が所定位置に居るか否か判定し、前記人物の眼が開いているか否か判定し、前記人物の視線方向が所定方向に向いているか否か判定し、前記人物が所定の良好体勢であるか否か判定し、
前記人物が前記所定位置に居り、かつ、前記人物の眼が開いており、かつ、前記人物の視線方向が前記所定方向に向いており、かつ、前記人物が前記良好体勢であるとき、前記人物は集中していると判定する、
請求項１に記載の判定システム。
【請求項４】
前記集中判定部は、前記画像の所定閾値範囲内に前記人物の顔の領域があり、前記顔の領域が所定閾値以上の大きさであれば、前記人物は前記良好体勢であると判定する、
請求項３に記載の判定システム。
【請求項５】
前記集中判定部は、前記人物の眼が閉じている時間に基づいて、前記人物の眼が開いているか否か判定する、
請求項３に記載の判定システム。
【請求項６】
前記集中判定部は、前記視線の方向が所定範囲内にある時間の割合が所定閾値以上であるか否かに基づいて、前記視線方向が前記所定方向に向いているか否か判定する、
請求項３に記載の判定システム。
【請求項７】
コンピュータが、
教育コンテンツに取り組む人物を撮影するために取得された画像における前記人物の視線の方向に基づいて、前記人物が前記教育コンテンツに集中しているか否かに関する判定を行い、該判定の結果に基づく集中判定結果情報を記録する、
判定方法。
【請求項８】
教育コンテンツに取り組む人物を撮影するするために取得された画像における前記人物の視線の方向に基づいて、前記人物が前記教育コンテンツに集中しているか否かに関する判定を行い、該判定の結果に基づく集中判定結果情報を記録する、
ことをコンピュータに実行させるための判定プログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月18日(2021.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半透過反射層と、
第１サブ画素に対応して設けられる第１反射層と、
出射される光の波長域が前記第１サブ画素と同じ第２サブ画素に対応して設けられる第
２反射層と、
前記第１反射層と前記半透過反射層との間、かつ、前記第２反射層と前記半透過反射層
との間に設けられる発光機能層と、
を備え、
前記第２サブ画素における前記発光機能層の厚さは、前記第１サブ画素における前記発
光機能層の厚さよりも厚い、
ことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記第１反射層と前記発光機能層との間に設けられる第１画素電極と、
前記第２反射層と前記発光機能層との間に設けられる第２画素電極と、
前記第１反射層と前記第１画素電極との間、かつ、前記第２反射層と前記第２画素電極
との間に設けられ、第１の層厚を有する絶縁層と、
を備える、請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
第１サブ画素と、
第２サブ画素と、
第３サブ画素と、
を備え、
前記第１サブ画素、前記第２サブ画素および前記第３サブ画素は、
反射層と、
半透過反射層と、
前記反射層と前記半透過反射層との間に設けられる発光機能層と、
前記反射層と前記発光機能層との間に設けられる調整層と、
を有し、
前記第２サブ画素における前記発光機能層の厚さは、前記第１サブ画素における前記発
光機能層の厚さよりも厚い、
ことを特徴とする発光装置。
【請求項４】
前記第１サブ画素における前記発光機能層の厚さは、前記第３サブ画素における前記発
光機能層の厚さと同じであり、
前記第１サブ画素における前記調整層の厚さは、前記第２サブ画素における前記調整層
の厚さと同じであり、
前記第３サブ画素における前記調整層の厚さは、前記第１サブ画素における前記調整層
の厚さおよび前記第２サブ画素における前記調整層の厚さとは異なる、
ことを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記第１サブ画素は、前記第２サブ画素よりも表示領域の中央に配置される、
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の発光装置を備えた電子機器。
【請求項７】
表示領域に配置された、第１サブ画素および第２サブ画素を含み、前記第１サブ画素お
よび前記第２サブ画素は、反射層と、絶縁層と、画素電極と、発光機能層と、半透過反射
層とを有する発光装置の製造方法であって、
前記表示領域を規定する第１マスクと、複数の開口部が設けられた第２マスクと、を用
いて、蒸着法によって前記発光機能層を形成する工程を含み、
前記表示領域において、前記第１サブ画素は、前記第２サブ画素よりも中央に配置され
、
前記第２マスクの前記複数の開口部は、前記第１サブ画素に対応するエリアよりも前記
第２サブ画素に対応するエリアで密である、発光装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月18日(2021.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半透過反射層と、
第１サブ画素に対応して設けられる第１反射層と、
出射される光の波長域が前記第１サブ画素と同じ第２サブ画素に対応して設けられる第
２反射層と、
前記第１反射層と前記半透過反射層との間、かつ、前記第２反射層と前記半透過反射層
との間に設けられる発光機能層と、
を備え、
前記第２反射層と前記半透過反射層との間の距離は、前記第１反射層と前記半透過反射
層との間の距離よりも長い、
ことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
半透過反射層と、
第１サブ画素に対応して設けられる第１反射層と、
前記第１サブ画素に対応し、かつ、前記半透過反射層の前記第１反射層とは反対側に設
けられる第１カラーフィルターと、
第２サブ画素に対応して設けられる第２反射層と、
前記第２サブ画素に対応し、かつ、前記半透過反射層の前記第２反射層とは反対側に設
けられ、透過させる光の波長域が前記第１カラーフィルターと同じ第２カラーフィルター
と、
前記第１反射層と前記半透過反射層との間、かつ、前記第２反射層と前記半透過反射層
との間に設けられる発光機能層と、
を備え、
前記第２反射層と前記半透過反射層との間の距離は、前記第１反射層と前記半透過反射
層との間の距離よりも長い、
ことを特徴とする発光装置。
【請求項３】
前記第１反射層と前記発光機能層との間に設けられる第１画素電極と、
前記第２反射層と前記発光機能層との間に設けられる第２画素電極と、
前記第１反射層と前記第１画素電極との間、かつ、前記第２反射層と前記第２画素電極
との間に設けられ、第１材料を含む第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料を含む第
２層と、を有する、絶縁層と、
を備え、
前記第２サブ画素における前記第２層の厚さは、前記第１サブ画素における前記第２層
の厚さより厚い、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記第１サブ画素は、前記第２サブ画素よりも表示領域の中央に配置される、
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の発光装置を備えた電子機器。
【請求項６】
半透過反射層と、第１サブ画素に対応する第１反射層と、出射される光の波長域が前記
第１サブ画素と同じ第２サブ画素に対応する第２反射層と、発光機能層と、絶縁層と、を
備えた発光装置の製造方法であって、
第１材料を含む前記絶縁層の第１層を形成する工程と、
前記第１層の上に、前記第１層に含まれる材料とは異なる材料を用いて第１材料層を形
成する工程と、
前記第１材料層の上にレジストマスクを形成し、前記第１層をエッチングストッパーと
して前記第１材料層をパターニングすることで、前記絶縁層の第２層を形成する工程と、
前記第２層の上に、前記第２層に含まれる材料と同じ材料を用いて第２材料層を形成す
る工程と、
前記第２材料層の上にレジストマスクを形成し、前記第２材料層をパターニングするこ
とで、前記絶縁層の第２層を厚くする工程と、を含み、
表示領域において、前記第２サブ画素よりも中央に配置される前記第１サブ画素におけ
る前記第２層の厚さは、前記第２サブ画素における前記第２層の厚さよりも薄くする、発
光装置の製造方法。
【請求項７】
半透過反射層と、第１サブ画素に対応する第１反射層と、出射される光の波長域が前記
第１サブ画素と同じ第２サブ画素に対応する第２反射層と、発光機能層と、絶縁層と、を
備えた発光装置の製造方法であって、
第１材料を含む前記絶縁層の第１層を形成する工程と、
前記第１層の上に、前記第１層に含まれる材料とは異なる材料を用いて材料層を形成す
る工程と、
前記材料層の上にレジストを形成し、多階調の露光マスクを用いて階調露光を行う工程
と、
前記階調露光によって形成されたレジストマスクを用いて、前記材料層をパターニング
することで、前記材料層に前記レジストマスクの形状を転写して、前記絶縁層の第２層を
形成する工程と、を含み、
表示領域において、前記第２サブ画素よりも中央に配置される前記第１サブ画素におけ
る前記第２層の厚さは、前記第２サブ画素における前記第２層の厚さよりも薄くする、発
光装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月18日(2021.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半透過反射層と、
第１サブ画素に対応して設けられる第１反射層と、
前記第１サブ画素に対応して設けられる第１画素電極と、
前記第１サブ画素に対応し、かつ、前記半透過反射層の前記第１反射層とは反対側に設
けられる第１カラーフィルターと、
第２サブ画素に対応して設けられる第２反射層と、
前記第２サブ画素に対応して設けられる第２画素電極と、
前記第２サブ画素に対応し、かつ、前記半透過反射層の前記第２反射層とは反対側に設
けられ、透過させる光の波長域が前記第１カラーフィルターと同じ第２カラーフィルター
と、
前記第１反射層と前記半透過反射層との間、かつ、前記第２反射層と前記半透過反射層
との間に設けられる発光機能層と、
前記第１反射層と前記第１画素電極との間、かつ、前記第２反射層と前記第２画素電極
との間に設けられる絶縁層と、
を備え、
前記第１画素電極は、前記第１反射層と前記発光機能層との間に設けられ、
前記第２画素電極は、前記第２反射層と前記発光機能層との間に設けられ、
前記第２サブ画素における前記絶縁層の厚さは、前記第１サブ画素における前記絶縁層
の厚さよりも厚い、
ことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
半透過反射層と、
第１サブ画素に対応して設けられる第１反射層と、
前記第１サブ画素に対応して設けられる第１画素電極と、
出射される光の波長域が前記第１サブ画素と同じ第２サブ画素に対応して設けられる第
２反射層と、
前記第２サブ画素に対応して設けられる第２画素電極と、
前記第１反射層と前記半透過反射層との間、かつ、前記第２反射層と前記半透過反射層
との間に設けられる発光機能層と、
前記第１反射層と前記第１画素電極との間、かつ、前記第２反射層と前記第２画素電極
との間に設けられる絶縁層と、
を備え、
前記第１画素電極は、前記第１反射層と前記発光機能層との間に設けられ、
前記第２画素電極は、前記第２反射層と前記発光機能層との間に設けられ、
前記第２サブ画素における前記絶縁層の厚さは、前記第１サブ画素における前記絶縁層
の厚さよりも厚い、
ことを特徴とする発光装置。
【請求項３】
前記絶縁層は、第１材料を含む第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料を含む第２
層とを有し、
前記第２サブ画素における前記第１層の厚さは、前記第１サブ画素における前記第１層
の厚さよりも厚い、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記第１サブ画素は、前記第２サブ画素よりも表示領域の中央に配置される、
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の発光装置を備えた電子機器。
【請求項６】
表示領域に配置された、第１サブ画素および第２サブ画素を備え、
反射層と、絶縁層と、発光機能層と、半透過反射層とをこの順番で有し、
前記絶縁層は、第１材料を含む第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料を含む第２
層とを有する発光装置の製造方法であって、
前記第１層の材料層を形成する工程と、
前記第１層の材料層の上に、第１レジストマスクを形成する工程と、
前記第１レジストマスクを介して、前記第１層の材料層をハーフエッチングすることで
、前記第１層を形成する工程と、
前記第１層の上に、前記第２層の材料層を形成する工程と、
前記第２層の材料層の上に、第２レジストマスクを形成する工程と、
前記第２レジストマスクを介して、前記第２層の材料層をエッチングすることで、前記
第２層を形成する工程と、を含み、
前記表示領域において、前記第２サブ画素よりも中央に配置される前記第１サブ画素に
おける前記第１層の厚さは、前記第２サブ画素における前記第１層の厚さよりも薄くする
、発光装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月19日(2021.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層状態の紙葉類が載置され、当該紙葉類の積層方向に沿って往復移動可能に構成された可動床と、
前記可動床を挟んで垂立状態で配置された一対の側板と、
前記可動床を弾性的に支持する弾性部材と、
前記一対の側板のそれぞれと相対する前記可動床の一対の側面のそれぞれにおいて、当該側面に垂直な方向に突出する一対の第１の係合突起及び一対の第２の係合突起と、
前記一対の側板のそれぞれに、前記一対の第１の係合突起のそれぞれに対応して形成され、前記一対の第１の係合部のそれぞれが挿入される一対の第１の係合部と、
前記一対の側板のそれぞれに、前記一対の第２の係合突起のそれぞれに対応して形成され、前記一対の第２の係合部のそれぞれが挿入される一対の第２の係合部と、を有し、
前記可動床が傾斜するとき、前記一対の第１の係合突起、前記一対の第２の係合突起、前記一対の第１の係合部及び前記一対の第２の係合部が協働して、前記可動床の傾斜が所定の角度以上になることを規制する紙葉類収納装置。
【請求項２】
前記可動床が前記積層方向及び前記垂直な方向のそれぞれと直交する第２の方向に対して傾斜し、前記所定の角度まで傾斜したときに、
前記第１の係合突起が前記第１の係合部の側面と接触すると共に、前記第２の係合突起が前記第２の係合部の側面と接触して、前記側板を挟持することにより、前記可動床の傾斜が前記所定の角度以上になることが規制される請求項１に記載の紙葉類収納装置。
【請求項３】
前記一対の第１の係合部のそれぞれは、前記一対の側板のそれぞれを貫通する孔状に形成される請求項１〜２のいずれかに記載の紙葉類収納装置。
【請求項４】
前記一対の第１の係合突起のそれぞれは、
前記一対の第１の係合部の孔の幅より小さく形成され、当該孔に挿入される脚部と、
前記脚部の先端に、前記孔の幅より大きく形成され、前記一対の側板の前記可動床と反対側に配置される頭部と、から構成される請求項３に記載の紙葉類収納装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の紙葉類収納装置と、
外部から紙葉類を受け入れる受入口と、
前記受入口から受け入れられた前記紙葉類を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構から供給された前記紙葉類を前記紙葉類収納装置に押し込む押込機構と、
を備える紙葉類取扱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の紙葉類収納装置の好ましい例では、前記可動床が前記積層方向及び前記垂直な方向のそれぞれと直交する第２の方向に対して傾斜し、前記所定の角度まで傾斜したときに、
前記第１の係合突起が前記第１の係合部の側面と接触すると共に、前記第２の係合突起が前記第２の係合部の側面と接触して、前記側板を挟持することにより、前記可動床の傾斜が前記所定の角度以上になることが規制される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の紙葉類収納装置の他の好ましい例では、紙葉類取扱装置が、紙葉類収納装置と、外部から紙葉類を受け入れる受入口と、前記受入口から受け入れられた前記紙葉類を搬送する搬送機構と、前記搬送装置から供給された前記紙葉類を前記紙葉類収納装置に押し込む押込機構と、を備える。