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【手続補正書】
【提出日】令和3年6月25日(2021.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オブジェクトを、複数の撮像装置により複数の方向から撮像することで取得される複数の画像を取得する取得手段と、
前記複数の画像における空間分解能であって、前記オブジェクトの形状を表す３次元形状データを構成する候補である要素を前記撮像装置の画像平面に射影したときの当該要素に対応する領域の幅に基づいて決定される空間分解能に基づき、前記撮像装置の信頼度を決定する信頼度決定手段と、
前記複数の画像と前記信頼度とに基づき、前記オブジェクトの形状を表す３次元形状データを生成する生成手段と
を有することを特徴とする生成装置。
【請求項２】
前記生成手段は、他の撮像装置よりも前記信頼度が高い撮像装置によって取得される画像に基づいて、前記３次元形状データを生成することを特徴とする請求項１に記載の生成装置。
【請求項３】
前記要素を撮像装置の画像平面に射影したときのピクセルの幅を算出することにより、前記撮像装置の空間分解能を決定する空間分解能決定手段を更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の生成装置。
【請求項４】
前記信頼度決定手段は、前記信頼度の値として、前記空間分解能に応じて変わる値を決定することを特徴とする請求項１乃至３の何れか1項に記載の生成装置。
【請求項５】
前記信頼度決定手段は、前記信頼度の値として、前記空間分解能に応じて段階的に変わる値の何れかの値を決定することを特徴とする請求項１乃至３の何れか1項に記載の生成装置。
【請求項６】
前記取得手段によって取得される複数の画像は、前記オブジェクトのシルエットを表す画像を含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れか1項に記載の生成装置。
【請求項７】
前記生成手段は、他の撮像装置よりも前記信頼度が高い撮像装置によって取得されたシルエット画像に基づき、前記３次元形状データを生成することを特徴とする請求項６に記載の生成装置。
【請求項８】
前記生成手段は、前記信頼度に応じて変化する判定条件に従い、前記３次元形状データを構成する要素が前記オブジェクトに属するかを判定することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の生成装置。
【請求項９】
前記空間分解能又は前記信頼度に基づき、多視点ステレオマッチングで用いる、重み及びマッチング評価値を決定する評価値決定手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の生成装置。
【請求項１０】
前記評価値決定手段は、他の撮像装置よりも前記信頼度が高い前記撮像装置に対する重みを、前記他の撮像装置に対する重みより、高く設定することを特徴とする請求項９に記載の生成装置。
【請求項１１】
前記信頼度決定手段は、前記空間分解能と、前記複数の撮像装置の配置に基づき、前記信頼度を導出することを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の生成装置。
【請求項１２】
前記撮像装置により取得された画像において分割された撮像フィールドに対応する領域と前記信頼度との間の関係を保持する保持手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の生成装置。
【請求項１３】
前記信頼度決定手段は、前記オブジェクトが前記分割された撮像フィールドに対応する領域のうち何れに位置するかに基づき、前記信頼度を決定することを特徴とする請求項１２に記載の生成装置。
【請求項１４】
オブジェクトを、複数の撮像装置により複数の方向から撮像することで取得される複数の画像を取得するステップと、
前記複数の画像における空間分解能あって、前記オブジェクトの形状を表す３次元形状データを構成する候補である要素を前記撮像装置の画像平面に射影したときの当該要素に対応する領域の幅に基づいて決定される空間分解能に基づき、前記撮像装置の信頼度を決定するステップと、
前記複数の画像と前記信頼度とに基づき、前記オブジェクトの形状を表す３次元形状データを生成するステップと
を有することを特徴とする方法。
【請求項１５】
コンピュータを、請求項１乃至１３の何れか１項に記載の生成装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一実施形態は、オブジェクトを、複数の撮像装置により複数の方向から撮像することで取得される複数の画像を取得する取得手段と、前記複数の画像における空間分解能であって、前記オブジェクトの形状を表す３次元形状データを構成する候補である要素を前記撮像装置の画像平面に射影したときの当該要素に対応する領域の幅に基づいて決定される空間分解能に基づき、前記撮像装置の信頼度を決定する信頼度決定手段と、前記複数の画像と前記信頼度とに基づき、前記オブジェクトの形状を表す３次元形状データを生成する生成手段とを有することを特徴とする生成装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月28日(2021.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像と、前記入力画像に含まれる画素それぞれに対応する、合焦面からの距離に関する距離情報と、を取得する取得手段と、
前記入力画像の画素値を用いて、前記距離情報の確度を示す評価値を導出する導出手段と、
前記評価値に基づき、前記距離情報を修正する修正手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記距離情報は、デフォーカス情報、像ずれ量、もしくは、前記合焦面から物体までの距離を示す情報のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記導出手段は、前記距離情報に対する評価値の空間分布を導出し、
前記修正手段は、前記空間分布に基づいて、前記距離情報を修正することを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記導出手段は、前記空間分布に基づいて、前記入力画像を複数の領域に分割し、
前記修正手段は、前記分割した領域ごとに前記距離情報を修正することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記導出手段は、前記空間分布が示す値が高いほど細かく分割し、前記空間分布が示す値が低いほどおおまかに分割することを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記導出手段は、前記入力画像を複数の領域に分割し、
前記修正手段は、前記分割された領域ごとに前記距離情報を修正することを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記導出手段は、高い評価値を有する前記距離情報の密度が高い領域は細かく分割し、前記密度が低い領域はおおまかに分割することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記修正手段は、評価値が高い距離情報の値がより重みが高くなるように重み付けを行うことで、前記距離情報の修正を行うことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記修正手段にて修正された距離情報と、画像処理条件とを用いて、出力装置から出力される画像の鮮鋭度を制御する制御手段を更に有し、
前記画像処理条件は、前記距離情報に応じて変動する前記出力装置の出力特性に基づいて定められることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、コントラスト処理もしくはシャープネス処理を行うことにより、前記出力装置から出力される画像の鮮鋭度を制御することを特徴とする請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
入力画像と、前記入力画像に含まれる画素それぞれに対応する、合焦面からの距離に関する距離情報と、を取得する取得工程と、
前記入力画像の画素値を用いて、前記距離情報の確度を示す評価値を導出する導出工程と、
前記評価値に基づき、前記距離情報を修正する修正工程と
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１２】
前記距離情報は、デフォーカス情報、像ずれ量、もしくは、前記合焦面から物体までの距離を示す情報のいずれかであることを特徴とする請求項１１に記載の画像処理方法。
【請求項１３】
前記導出工程では、前記距離情報に対する評価値の空間分布を導出し、
前記修正工程では、前記空間分布に基づいて、前記距離情報を修正することを特徴とする請求項１１または１２に記載の画像処理方法。
【請求項１４】
前記導出工程では、前記空間分布に基づいて、前記入力画像を複数の領域に分割し、
前記修正工程では、前記分割した領域ごとに前記距離情報を修正することを特徴とする請求項１３に記載の画像処理方法。
【請求項１５】
前記導出工程では、前記空間分布が示す値が高いほど細かく分割し、前記空間分布が示す値が低いほどおおまかに分割することを特徴とする請求項１４に記載の画像処理方法。
【請求項１６】
前記導出工程では、前記入力画像を複数の領域に分割し、
前記修正工程では、前記分割された領域ごとに前記距離情報を修正することを特徴とする請求項１１または１２に記載の画像処理方法。
【請求項１７】
前記導出工程では、高い評価値を有する前記距離情報の密度が高い領域は細かく分割し、前記密度が低い領域はおおまかに分割することを特徴とする請求項１６に記載の画像処理方法。
【請求項１８】
前記修正工程では、評価値が高い距離情報の値がより重みが高くなるように重み付けを行うことで、前記距離情報の修正を行うことを特徴とする請求項１１乃至１７のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１９】
前記修正工程にて修正された距離情報と、画像処理条件とを用いて、出力装置から出力される画像の鮮鋭度を制御する制御工程を更に有し、
前記画像処理条件は、前記距離情報に応じて変動する前記出力装置の出力特性に基づいて定められることを特徴とする請求項１１乃至１８のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項２０】
前記制御工程では、コントラスト処理もしくはシャープネス処理を行うことにより、前記出力装置から出力される画像の鮮鋭度を制御することを特徴とする請求項１９に記載の画像処理方法。
【請求項２１】
コンピュータを、
入力画像と、前記入力画像に含まれる画素それぞれに対応する、合焦面からの距離に関する距離情報とを取得する取得手段、
前記入力画像の画素値を用いて、前記距離情報の確度を示す評価値を導出する導出手段、
前記評価値に基づき、前記距離情報を修正する修正手段
として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するために、以下の構成を有する。すなわち、入力画像と、前記入力画像に含まれる画素それぞれに対応する、合焦面からの距離に関する距離情報と、を取得する取得手段と、前記入力画像の画素値を用いて、前記距離情報の確度を示す評価値を導出する導出手段と、前記評価値に基づき、前記距離情報を修正する修正手段とを有する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月15日(2021.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリンタドライバによって使用されるプリンタの機能に関する情報であって、機能間の組み合わせの無効性を示す情報を含む第１のデータを予め保持した情報処理装置であって、
プリンタから、当該プリンタの有する機能に関する情報であって、機能間の組み合わせの無効性を示す第２の情報を含む第２のデータを取得する取得手段と、
前記取得手段で取得した前記第２のデータで前記第１のデータを更新する更新手段と、
前記更新手段による前記更新によって得られたデータを用いて、組み合わせが無効となる複数の機能の組み合わせを発生させないための禁則処理を行う処理手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
プリンタドライバによって使用されるプリンタの機能に関する情報であって、機能間の組み合わせの無効性を示す情報を含む第１のデータを予め保持した情報処理装置を制御する制御方法であって、
プリンタから、当該プリンタの有する機能に関する情報であって、機能間の組み合わせの無効性を示す第２の情報を含む第２のデータを取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記第２のデータで前記第１のデータを更新する更新工程と、
前記更新工程による前記更新によって得られたデータを用いて、組み合わせが無効となる複数の機能の組み合わせを発生させないための禁則処理を行う処理工程と、
を有することを特徴とする情報処理装置を制御する制御方法。
【請求項３】
プリンタドライバによって使用されるプリンタの機能に関する情報であって、機能間の組み合わせの無効性を示す情報を含む第１のデータを予め保持したコンピュータを制御するプログラムであって、
プリンタから、当該プリンタの有する機能に関する情報であって、機能間の組み合わせの無効性を示す第２の情報を含む第２のデータを取得する取得工程と、
前記取得工程で取得した前記第２のデータで前記第１のデータを更新する更新工程と、
前記更新工程による前記更新によって得られたデータを用いて、組み合わせが無効となる複数の機能の組み合わせを発生させないための禁則処理を行う処理工程と、を前記コンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項４】
前記プリンタドライバは、標準プリンタドライバであることを特徴とする請求項３に記載のプログラム。
【請求項５】
前記標準プリンタドライバは、複数のベンダの何れのベンダのプリンタへも印刷指示が可能なプリンタドライバであり、前記コンピュータのオペレーティングシステムのパッケージ内に含まれているプリンタドライバであることを特徴とする請求項４に記載のプログラム。
【請求項６】
前記第１のデータに含まれる機能の情報は、プリンタの基本的な機能の情報であり、前記第２のデータに含まれる機能の情報は、当該第２のデータを取得してきたプリンタの機能の情報であることを特徴とする請求項５に記載のプログラム。
【請求項７】
前記第１のデータはファイル内のデータであって、前記更新工程では当該ファイルが前記第２のデータによって更新されることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載のプログラム。
【請求項８】
オペレーティングシステムにおいて動作する印刷制御プログラムであって、
接続されているプリンタから、当該プリンタの第１のプリンタ記述ファイルを取得する取得手段と、
前記取得手段が取得した前記第１のプリンタ記述ファイルと、前記印刷制御プログラムが有する第２のプリンタ記述ファイルとを合成する合成手段と、
前記合成手段により合成されて得られた第３のプリンタ記述ファイルを、前記プリンタと前記印刷制御プログラムとに関連付けて記憶する記憶手段と、
アプリケーションのからの指示に応じて、前記第３のプリンタ記述ファイルに従って前記プリンタに出力する印刷ジョブを生成する生成手段と、
を有することを特徴とする印刷制御プログラム。
【請求項９】
前記合成手段は、前記第１のプリンタ記述ファイルと前記第２のプリンタ記述ファイルとで重複する機能をマージし、前記第１のプリンタ記述ファイルと前記第２のプリンタ記述ファイルで固有の機能をそのまま記述することで前記第１のプリンタ記述ファイルと前記第２のプリンタ記述ファイルとを合成することを特徴とする請求項８に記載の印刷制御プログラム。
【請求項１０】
前記取得手段が前記プリンタから前記第１のプリンタ記述ファイルを取得できなかった場合、前記生成手段は、前記記憶手段が前記第３のプリンタ記述ファイルを記憶していれば当該第３のプリンタ記述ファイルを使用し、前記記憶手段が前記第３のプリンタ記述ファイルを記憶していないときは前記第２のプリンタ記述ファイルを使用して前記プリンタに出力する印刷ジョブを生成することを特徴とする請求項８又は９に記載の印刷制御プログラム。
【請求項１１】
前記第１のプリンタ記述ファイルは、前記プリンタが有する機能と、当該機能の組み合わせの禁則条件を示す情報を含むことを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の印刷制御プログラム。
【請求項１２】
前記記憶手段に記憶された前記第３のプリンタ記述ファイルに従って、印刷設定のユーザインタフェースを表示部に表示させる手段を、更に有することを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか１項に記載の印刷制御プログラム。
【請求項１３】
前記記憶手段は、前記オペレーティングシステムにおいてプリントキューが作成されることに応じて、当該プリントキューに紐づく前記第３のプリンタ記述ファイルを記憶することを特徴とする請求項８乃至１２のいずれか１項に記載の印刷制御プログラム。
【請求項１４】
オペレーティングシステム上で実行するアプリケーションプログラムを有する情報処理装置であって、
プリンタと接続するインタフェースと、
ユーザの操作を受け付けるユーザインタフェースと、
請求項８乃至１３のいずれか１項に記載の印刷制御プログラムと、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷制御プログラム、情報処理装置とその制御方法、およびプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、印刷制御プログラム、情報処理装置とその制御方法、およびプログラムに関する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月9日(2021.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内部に配置され内側でプラズマが形成される処理室と、前記処理室内の下方に
配置されその上面に処理対象のウエハが載せられる試料台と、前記処理室の前記試料台上
面上方で前記試料台と対向して配置され前記処理室の前記内側に前記プラズマを形成する
ための電界が透過する少なくとも１つの誘電体製の窓部材と、前記真空容器の外側で前記
処理室の外周を囲んで配置されて前記処理室の前記内側に磁界を形成するコイルと、前記
処理室の前記内側で前記試料台と前記誘電体製の窓部材との間に配置されて前記試料台に向かって下向きに末広がりの形状を有した誘電体製の筒状の部材と、前記筒状の部材の内側に前記誘電体製の窓部材と前記筒状の部材との間から処理用のガスを供給する複数のガス供給口と、前記筒状の部材の外側から前記プラズマが形成される前記処理室の前記内側に処理用のガスを供給する複数のガス供給口とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
前記筒状の部材は、前記筒状の部材の内側壁面が、前記コイルが形成する前記磁界の磁
力線の向きに沿って、前記試料台に向かって下方に向かうに伴って外側に傾斜して末広が
りとなる形状を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記試料台上に載せられた前記ウエハは、前記筒状の部材の下端部から前記筒状の部材
の内側壁面の前記磁界の磁力線の向きに沿った下向き末広がりの方向に投影された範囲の
内側に配置されたプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記窓部材の外周側部分の下面下方で前記筒状の部材の外側を囲んで配置され当該筒状
の部材の外側の空間に面して前記処理用のガスを前記処理室の中央側に向けて供給する前
記ガス供給口を備えたリング状部材を備えたプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記筒状の部材の前記内側の空間上方の前記窓部材の下面と上面との間の厚さは、前記
筒状の部材の外側の空間の厚さより大きくされたプラズマ処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記筒状の部材の高さ方向上端と下端との間で前記内側と外側との空間を連通する開口
を備え、この開口を通して前記電界と前記磁界とにより形成される電子サイクロトロン共
鳴面が形成されるプラズマ処理装置。
【請求項７】
真空容器と、
前記真空容器の内部で被処理試料を載置する載置台と、
前記真空容器の上部に前記載置台と対抗して配置されて誘電体材料で形成された誘電体
窓と、
前記真空容器の上部から前記誘電体窓を介して前記真空容器の内部に高周波波電力を供
給する電力供給部と、
前記真空容器の外部に配置されて前記真空容器の内部に磁界を発生させる磁界発生部と
、
前記真空容器の内部に処理ガスを供給するガス供給部と
を備えたプラズマ処理装置であって、
前記誘電体窓と前記載置台との間に配置されて前記ガス供給部から供給された前記処理
ガスを前記真空容器の内部に供給する多数の細孔が形成されたシャワープレートと、
前記ガス供給部から供給された前記処理ガスを前記真空容器の壁面に形成された多数の
細孔を介して前記真空容器の内部に環状に供給する環状ガス供給部と、
前記シャワープレートから供給された前記処理ガスと前記環状ガス供給部から供給され
た前記処理ガスとを前記真空容器の内部で分離するガス分離部と
を更に備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項８】
請求項７記載のプラズマ処理装置であって、前記ガス分離部は、前記シャワープレート
に取り付けられており、前記シャワープレートに取り付けられた位置から前記載置台の方
向に向かって末広がりの円筒状の形状を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項９】
請求項８記載のプラズマ処理装置であって、前記ガス分離部は、下端部の前記載置台に
一番近い部分の外径が、前記載置台に載置された被処理試料の外径よりも小さいことを特
徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載のプラズマ処理装置であって、前記ガス分離部は、前記末広がり
の円筒形状に内面に沿って前記載置台の方向に延長させた線が前記載置台の高さの部分に
おいて前記載置台に載置された被処理試料の外径よりも外側を通ることを特徴とするプラ
ズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的は、真空容器内部に配置され内側でプラズマが形成される処理室と、この処理
室内の下方に配置されその上面に処理対象のウエハが載せられる試料台と、処理室の試料
台上面上方で試料台と対向して配置され処理室の内側にプラズマを形成するための電界が
透過する少なくとも１つの誘電体製の窓部材と、真空容器の外側で処理室の外周を囲んで
配置されて処理室の内側に磁界を形成するコイルと、試料室の内部で試料台と窓部材との
間に配置されて試料台に向かって下向きに末広がりの形状を有した誘電体製の筒状の部材
と、この筒状の部材で内側に誘電体窓と筒状の部材との間から処理用のガスを供給する複
数のガス供給口と、筒状の部材の外側からプラズマが形成される処理室の内側に処理用のガスを供給する複数のガス供給口とを備えたプラズマ処理装置により達成される。また、上記課題を解決するために、本発明では、真空容器と、この真空容器の内部で被処理試料を載置する載置台と、真空容器の上部に試料台と対抗して配置されて誘電体材料で形成された誘電体窓と、真空容器の上部から誘電体窓を介して真空容器の内部に高周波波電力を供給する電力供給部と、真空容器の外部に配置されて真空容器の内部に磁界を発生させる磁界発生部と、真空容器の内部に処理ガスを供給するガス供給部とを備えたプラズマ処理装置において、誘電体窓と載置台との間に配置されてガス供給部から供給された処理ガスを真空容器の内部に供給する多数の細孔が形成されたシャワープレートと、ガス供給部から供給された処理ガスを真空容器の壁面に形成された多数の細孔を介して真空容器の内部に環状に供給する環状ガス供給部と、シャワープレートから供給された処理ガスと環状ガス供給部から供給された処理ガスとを真空容器の内部で分離するガス分離部とを更に備えて構成した。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月7日(2021.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
載置台を有するプラズマ処理装置の制御方法であって、
（ａ）第１の周波数でバイアス波形を、前記プラズマ処理装置に配置され、被処理体を支持する前記載置台に供給する工程と、
（ｂ）前記第１の周波数よりも高い第２の周波数でソース高周波波形を前記載置台に供給する工程と、を有し、
前記（ｂ）の工程は、前記第１の周波数を有する前記バイアス波形の位相に対応して前記第２の周波数を変化させることを含む、制御方法。
【請求項２】
前記第２の周波数を変化させることは、前記第１の周波数の逆数である１サイクルにおいて前記第２の周波数を徐々に変化させることを含む、請求項１に記載の制御方法。
【請求項３】
前記第２の周波数を徐々に変化させることは、前記第１の周波数の１サイクルにおいて前記第２の周波数を連続的に変化させることを含む、請求項２に記載の制御方法。
【請求項４】
前記（ａ）の工程において前記バイアス波形は高周波波形である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項５】
前記（ｂ）の工程において、前記ソース高周波波形は周波数可変電源により供給されることを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項６】
前記（ｂ）の工程は、第１の状態および第２の状態を有する前記ソース高周波波形を供給することを含み、前記第１の状態は、前記第２の状態とは異なる前記ソース高周波波形の周波数又は電圧レベルのうちの少なくとも１つを有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項７】
前記（ｂ）の工程において、前記第１の状態の間、前記バイアス波形の少なくとも１つのサイクルの間、固定周波数で前記ソース高周波波形が供給され、
前記第２の状態の間、前記バイアス波形の少なくとも別のサイクルの間、変化する周波数で前記ソース高周波波形が供給される、請求項６に記載の制御方法。
【請求項８】
前記（ｂ）の工程は、更に、
前記第１の状態の間、前記ソース高周波波形を前記バイアス波形の１サイクルの第１部分で振幅変調し、
前記第２の状態の間、前記ソース高周波波形を前記バイアス波形の１サイクルの第２部分で振幅変調し、
前記第１の状態の間の前記ソース高周波波形のピーク電圧は、前記第２の状態の間の前記ソース高周波波形のピーク電圧よりも大きい、請求項６に記載の制御方法。
【請求項９】
前記第２の状態の間、前記ソース高周波波形の前記ピーク電圧は０Ｖである、請求項８に記載の制御方法。
【請求項１０】
前記第２の周波数を変化させることは、前記バイアス波形のサイクル内で前記第２の周波数を変化させることを含み、前記サイクルは、第１セクションと第２セクションとを有し、前記第１セクションでは前記第２の周波数が一の周波数に設定され、前記第２セクションでは前記第２の周波数が前記一の周波数と異なる他の周波数に変更される、請求項１〜９のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項１１】
前記第１セクションは、前記サイクル内の前記バイアス波形のピーク電圧を含み、
前記第２セクションは、前記サイクル内の前記バイアス波形の最小電圧を含む、請求項１０に記載の制御方法。
【請求項１２】
所定時間の後、前記第１の周波数又は電圧レベルのうちの少なくとも１つを変化させる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項１３】
前記所定時間は、前記バイアス波形の１サイクル又は整数サイクル数である、請求項１２に記載の制御方法。
【請求項１４】
前記（ｂ）の工程は、更に前記載置台に前記ソース高周波波形を供給する工程を備える、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の制御方法。
【請求項１５】
前記ソース高周波波形のレベルを、前記載置台に供給される前記バイアス波形と前記ソース高周波波形との双方により生じるインピーダンスの不整合による相互変調歪を抑制するように制御する、請求項１４に記載の制御方法。
【請求項１６】
前記（ａ）の工程は、前記バイアス波形の一部を、固定又は可変ＤＣ電圧として供給することを含む、請求項１に記載の制御方法。
【請求項１７】
前記（ａ）の工程は、前記固定又は可変ＤＣ電圧を、パルス化されたＤＣ電圧波形として供給することを含む、請求項１６に記載の制御方法。
【請求項１８】
前記パルス化されたＤＣ電圧波形は、０Ｖの第１電圧レベルと０Ｖより大きい第２電圧レベルの状態でオン／オフ変調される、請求項１７に記載の制御方法。
【請求項１９】
被処理体を支持するように構成された載置台と、
プラズマ処理空間にてプラズマを生成するように構成されたプラズマ生成ソースであって、バイアス波形の第１の周波数よりも高い第２の周波数でソース高周波波形を前記載置台に供給するように構成されたソース電源と、前記第１の周波数で前記バイアス波形を前記載置台に供給するように構成されたバイアス電源と、
前記第１の周波数を有する前記バイアス波形の位相に対応して、所定時間前記第２の周波数を変化させるように構成された制御部と、
を有するプラズマ処理装置。
【請求項２０】
前記制御部は、前記第１の周波数の逆数である１サイクルにおいて前記第２の周波数を徐々に変化させるように構成される、請求項１９に記載のプラズマ処理装置。
【請求項２１】
前記制御部は、前記第１の周波数の１サイクルにおいて前記第２の周波数を連続的に変化させるように構成される、請求項２０に記載のプラズマ処理装置。
【請求項２２】
前記バイアス電源は、高周波波形として前記バイアス波形を供給するように構成される、請求項１９又は２０に記載のプラズマ処理装置。
【請求項２３】
被処理体を支持するように構成された載置台と、
プラズマ処理空間にてプラズマを生成するように構成されたプラズマ生成ソースであって、バイアス波形の第１の周波数よりも高い第２の周波数でソース高周波波形を前記載置台に供給するように構成されたソース電源と、
前記第１の周波数で前記バイアス波形を前記載置台に供給するように構成されたバイアス電源と、
前記載置台に供給される前記バイアス波形と前記ソース高周波波形との双方により生じるインピーダンスの不整合による相互変調歪を抑制するように、前記第１の周波数の位相に対応して、所定期間前記第２の周波数を変化させる手段と、
を有するプラズマ処理装置。
【請求項２４】
前記載置台は、静電チャックを含む、請求項１９〜２３のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月28日(2021.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図１２は、図６のＡ−Ａ’線で切断したフォトダイオードアレイ２００の断面の第５の例を示す断面図である。図１１との相違点を説明する。図１２の例では、半導体層２９３と、ソース電極２９４及びドレイン電極２９５と、の接続がコンタクト型である。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月16日(2020.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子装置  
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は電子装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
本発明の目的は電子装置を提供することにある。本発明は、各種の製品サイズ及び機能に対してそれぞれの製造工程を設計する必要がなく、簡単な製造工程により低コストで製造可能であると共に、更に応用面においても柔軟性を備え、多様に変化する製品要求に適用することを可能にせんとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記の通り、本発明の電子装置では、少なくとも一つの薄膜トランジスタと少なくとも一つの導電配線とを含む薄膜回路、及び少なくとも一つの第１の接続パッドを基板上に形成するとともに、導電体によって駆動回路板の第２の接続パッド及び基板の第１の接続パッドの少なくとも一部分上を覆い、第２の接続パッドは導電体を介して第１の接続パッドに電気的に接続される設計とすることによって、本発明は、各種の製品サイズ及び機能に対してそれぞれの製造工程を設計する必要がないため、簡単な製造工程により低コストで製造可能であると共に、更に応用面における柔軟性を備え、多様に変化する製品要求に適用することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子装置であって、
対向する第１の表面と第２の表面とを有する基板と、
少なくとも一つの薄膜トランジスタと少なくとも一つの導電配線とを含み、前記基板の前記第１の表面上に設けられる薄膜回路と、
前記基板の前記第１の表面上に設けられ、前記導電配線を介して前記薄膜トランジスタに電気的に接続される少なくとも一つの第１の接続パッドと、
少なくとも一つの第２の接続パッドを含み、この上に、前記第２の表面が対向するように前記基板を設け、且つ前記第２の接続パッドは前記第１の接続パッドに隣接するとともに、前記第１の接続パッドに対応して設けられる、駆動回路板と、
前記第２の接続パッド及び前記第１の接続パッドの少なくとも一部分上を覆い、且つこれを介して前記第２の接続パッドは前記第１の接続パッドに電気的に接続される、導電体と、
を備えることを特徴とする電子装置。
【請求項２】
複数の前記基板は前記駆動回路板上にアレイ配置されており、各前記基板は複数の前記薄膜回路と複数の前記第１の接続パッドとを有しており、各前記薄膜回路は対応する複数の前記第１の接続パッドに電気的に接続され、前記駆動回路板は複数の前記第２の接続パッドを有しており、前記導電体は複数であり、各前記薄膜回路が対応するうちの一つの前記第１の接続パッドは前記駆動回路板のうちの一つの前記第２の接続パッドに、そのうちの一つの前記導電体を介して互いに電気的に接続されており、このうち、二つの隣接する前記基板にそれぞれ設けられる二つの前記薄膜回路は、二つの前記第１の接続パッド及びその対応する少なくとも一つの前記第２の接続パッド、及び二つの前記導電体を介して互いに電気的に接続されることを特徴とする請求項１に記載の電子装置。
【請求項３】
複数の前記基板は前記駆動回路板上にアレイ配置されており、各前記基板は複数の前記薄膜回路と複数の前記第１の接続パッドとを有しており、各前記薄膜回路は対応する複数の前記第１の接続パッドに電気的に接続され、前記駆動回路板は複数の前記第２の接続パッドを有しており、前記導電体は複数であり、各前記薄膜回路が対応するうちの一つの前記第１の接続パッドは前記駆動回路板のうちの一つの前記第２の接続パッドに、そのうちの一つの前記導電体を介して互いに電気的に接続されており、このうち、二つの隣接する前記基板にそれぞれ設けられる二つの前記薄膜回路は、二つの前記第１の接続パッド及びその対応する少なくとも一つの前記第２の接続パッド、及び一つの前記導電体を介して互いに電気的に接続されることを特徴とする請求項１に記載の電子装置。
【請求項４】
前記基板はハードプレート又はソフトプレートであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電子装置。
【請求項５】
前記導電体の材料ははんだペースト、シルバーペースト、又は異方性導電性接着剤、又はそれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電子装置。
【請求項６】
前記薄膜回路上を覆う保護層を更に備えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電子装置。
【請求項７】
少なくとも一つの第３の接続パッドを更に含む前記駆動回路板上に設けられる表面実装素子を更に備えており、前記表面実装素子は前記第２の接続パッドを介して前記薄膜トランジスタに電気的に接続され、且つ前記第３の接続パッドを介して前記駆動回路板の回路に電気的に接続されることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電子装置。
【請求項８】
前記基板の前記第１の表面上に設けられ、前記導電配線を介して前記薄膜トランジスタに電気的に接続される少なくとも一つの第４の接続パッドと、
前記基板の前記第１の表面上に設けられており、前記第４の接続パッドを介して前記薄膜トランジスタに電気的に接続される一つの表面実装素子と、
を備えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電子装置。
【請求項９】
前記基板の前記第１の表面上に設けられ、前記導電配線を介して前記薄膜トランジスタに電気的に接続される少なくとも一つの第４の接続パッドと、
前記基板の前記第１の表面上に設けられており、前記第４の接続パッドを介して前記薄膜トランジスタに電気的に接続される少なくとも一つの機能性チップと、
を備えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電子装置。
【請求項１０】
前記薄膜回路及び前記機能性チップ上を覆う保護層を更に備えることを特徴とする請求項９に記載の電子装置。
【請求項１１】
前記表面実装素子は少なくとも一つの発光ダイオードチップ又はマイクロ発光ダイオードチップを含むパッケージであることを特徴とする請求項７又は８に記載の電子装置。
【請求項１２】
前記機能性チップは発光ダイオードチップ又はマイクロ発光ダイオードチップであることを特徴とする請求項９に記載の電子装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月30日(2021.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
図１５を参照すると、特許文献１に開示されたケーブルハーネス９０は、同軸ケーブル９２と、同軸コネクタ装置（コネクタ）９４とを備えている。同軸ケーブル９２は、中心導体９２２と、中心導体９２２を覆う内部絶縁体９２４と、内部絶縁体９２４を覆う外側導体（外部導体）９２６と、外部導体９２６を覆う表皮絶縁体９２８とを備えている。コネクタ９４は、中心導体接続部９４２を有するコンタクト部材と、シェル部９４４及びケーブル支持部９４６を有するグラウンドコンタクト部材とを備えている。同軸ケーブル９２は、中心導体９２２の端部を露出させ、且つ、外部導体９２６の端部を露出させた状態でケーブル支持部９４６に取り付けられている。図示されたシェル部９４４を折り曲げてケーブル支持部９４６と組み合わせると、中心導体接続部９４２は、中心導体９２２を挟み込み、シェル部９４４及びケーブル支持部９４６は、外部導体９２６を挟み込む。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月27日(2021.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
つまり、磁石３０３の周辺に、磁石３０３の表面の絶縁層の厚みに相当する空気領域を設定し、二次元磁界解析を実施する。そして、二次元磁界解析から得られた部分二次元メッシュ３０５の境界領域の磁気ベクトルポテンシャル値の時系列データを保存する。そして、部分三次元メッシュ３０８の境界面における回転軸方向に平行な辺の境界条件として、部分二次元メッシュ３０５の境界領域の磁気ベクトルポテンシャル値と回転軸方向に平行な辺の長さの積を割り当てる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月25日(2021.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、以下の導電性薄膜、積層体、アクチュエータ素子並びにその製造方法を提供するものである。
項１．  酸化・還元機能を持つ導電性ポリマー、セルロースナノファイバー（ＣＮＦ）およびイオン液体を含む導電性薄膜。
項２．  前記導電性ポリマーがポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）（PEDOT）である、項１に記載の導電性薄膜。
項３．  前記導電性ポリマーがポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）：ポリスチレンスルホン酸（PEDOT：PSS）である、項１又は２に記載の導電性薄膜。
項４．  項１〜３のいずれか１項に記載の導電性薄膜層とイオン伝導層を有する積層体。
項５．  項４に記載の積層体を含むアクチュエータ素子。
項６．  イオン伝導層の表面に、項１〜３のいずれか１項に記載の導電性薄膜を電極とする導電性薄膜層が互いに絶縁状態で少なくとも２個形成され、当該導電性薄膜層に電位差を与えることにより変形可能に構成されている項５に記載のアクチュエータ素子。
項７．  以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法：
工程１：酸化・還元機能を持つ導電性ポリマー、セルロースナノファイバー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程；
工程２：ベースポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程；
工程３：工程１の分散液を用いる導電性薄膜の形成と工程２の溶液を用いるイオン伝導層の形成を同時にあるいは順次行い、導電性薄膜層とイオン伝導層の積層体を形成する工程。
項８．  以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法：
工程１：酸化・還元機能を持つ導電性ポリマー、セルロースナノファイバー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程；
工程２：ベースポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程；
工程３：工程１の分散液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出し又は射出により、導電性薄膜を形成、その後、必要に応じて、作製した導電性薄膜の熱厚密化を行い、密度を大きくする工程、あるいは数枚の導電性薄膜を熱圧着すると同時に厚密化し、密度を大きくする工程；
工程４：工程２の溶液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出し又は射出により、イオン伝導層を形成する工程；
工程５：工程３で形成した導電性薄膜と工程４で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。
項９．  以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法：
工程１：酸化・還元機能を持つ導電性ポリマー、セルロースナノファイバー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程；
工程２：ベースポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程；
工程３：工程１の分散液を用いキャスト後加熱により、導電性薄膜を形成する工程；
工程４：工程２の溶液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導層を形成する工程；
工程５：工程３で形成した導電性薄膜と工程４で形成したイオン伝導層を圧着により積層し、積層体を形成する工程。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化・還元機能を持つ導電性ポリマー、セルロースナノファイバー（ＣＮＦ）およびイオン液体を含む導電性薄膜。
【請求項２】
前記導電性ポリマーがポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）（PEDOT）である、請求項１に記載の導電性薄膜。
【請求項３】
前記導電性ポリマーがポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）：ポリスチレンスルホン酸（PEDOT：PSS）である、請求項１又は２に記載の導電性薄膜。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性薄膜層とイオン伝導層を有する積層体。
【請求項５】
請求項４に記載の積層体を含むアクチュエータ素子。
【請求項６】
イオン伝導層の表面に、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性薄膜を電極とする導電性薄膜層が互いに絶縁状態で少なくとも２個形成され、当該導電性薄膜層に電位差を与えることにより変形可能に構成されている請求項５に記載のアクチュエータ素子。
【請求項７】
以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法：
工程１：酸化・還元機能を持つ導電性ポリマー、セルロースナノファイバー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程；
工程２：ベースポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程；
工程３：工程１の分散液を用いる導電性薄膜の形成と工程２の溶液を用いるイオン伝導層の形成を同時にあるいは順次行い、導電性薄膜層とイオン伝導層の積層体を形成する工程。
【請求項８】
以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法：
工程１：酸化・還元機能を持つ導電性ポリマー、セルロースナノファイバー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程；
工程２：ベースポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程；
工程３：工程１の分散液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出し又は射出により、導電性薄膜を形成、その後、必要に応じて、作製した導電性薄膜の熱厚密化を行い、密度を大きくする工程、あるいは数枚の導電性薄膜を熱圧着すると同時に厚密化し、密度を大きくする工程；
工程４：工程２の溶液を用いキャスト、印刷、塗布、押し出し又は射出により、イオン伝導層を形成する工程；
工程５：工程３で形成した導電性薄膜と工程４で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。
【請求項９】
以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法：
工程１：酸化・還元機能を持つ導電性ポリマー、セルロースナノファイバー、イオン液体および溶媒を含む分散液を調製する工程；
工程２：ベースポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程；
工程３：工程１の分散液を用いキャスト後加熱により、導電性薄膜を形成する工程；工程４：工程２の溶液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導層を形成する工程；
工程５：工程３で形成した導電性薄膜と工程４で形成したイオン伝導層を圧着により積層し、積層体を形成する工程。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月21日(2021.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非リアルタイムＯＳ及びリアルタイムＯＳがインストールされ、制御対象装置をモーション制御するためのコンピュータで実行されるモーション制御プログラムであって、
前記コンピュータを、
前記非リアルタイムＯＳ上で動作する複数の受付部であって、複数の受付部の各々が前記制御対象装置を制御する複数のユーザ作成プログラムの各々と対応づけられる、複数の受付部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作するチャネル管理部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作する、複数の制御指令モジュールを含む定周期処理部と
して機能させ、
前記チャネル管理部は、前記複数の受付部に共通の操作用チャネルを、前記非リアルタイムＯＳ及び前記リアルタイムＯＳから参照可能な共有メモリ上に作成し、
前記受付部は、該受付部に対応づけられる前記ユーザ作成プログラムから、前記制御対象装置へのモーション制御を開始する準備を行うことの準備指示を受け付けた場合、前記操作用チャネルを介して、制御指令用チャネルの生成を前記チャネル管理部に指示し、
前記チャネル管理部は、前記受付部から前記指示を受けた場合に、前記準備指示を行った前記ユーザ作成プログラムに対応づけられる前記制御指令用チャネルを前記共有メモリ上に生成し、
前記受付部は、前記ユーザ作成プログラムから、前記制御対象装置が複数のモーション制御サイクルに渡って行うべき動作を示す制御指令を受け付け、受け付けた制御指令の内容を示す制御指令情報を、前記制御指令用チャネルに格納し、
前記複数の制御指令モジュールのうち、前記制御指令用チャネルから取得した前記制御指令情報に含まれる識別子に対応する制御指令モジュールは、前記制御対象装置に対して前記モーション制御サイクルごとに実行させるべき動作を示す補間指令を前記モーション制御サイクルごとに送信することで、前記制御対象装置をモーション制御する、
モーション制御プログラム。
【請求項２】
非リアルタイムＯＳ及びリアルタイムＯＳがインストールされ、制御対象装置をモーション制御するためのモーション制御装置が行うモーション制御方法であって、
前記モーション制御装置は、
前記非リアルタイムＯＳにおいて、前記制御対象装置を制御する複数のユーザ作成プログラムの各々と対応づけられる、複数の受付部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作するチャネル管理部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作する、複数の制御指令モジュールを含む定周期処理部と、
を有し、
前記チャネル管理部が、前記複数の受付部に共通の操作用チャネルを、前記非リアルタイムＯＳ及び前記リアルタイムＯＳから参照可能な共有メモリ上に作成するステップと、
前記受付部が、該受付部に対応づけられる前記ユーザ作成プログラムから、前記制御対象装置へのモーション制御を開始する準備を行うことの準備指示を受け付けた場合、前記操作用チャネルを介して、制御指令用チャネルの生成を前記チャネル管理部に指示するステップと、
前記チャネル管理部が、前記受付部から前記指示を受けた場合に、前記準備指示を行った前記ユーザ作成プログラムに対応づけられる前記制御指令用チャネルを前記共有メモリ上に生成するステップと、
前記受付部が、前記ユーザ作成プログラムから、前記制御対象装置が複数のモーション制御サイクルに渡って行うべき動作を示す制御指令を受け付け、受け付けた制御指令の内容を示す制御指令情報を、前記制御指令用チャネルに格納するステップと、
前記複数の制御指令モジュールのうち、前記制御指令用チャネルから取得した前記制御指令情報に含まれる識別子に対応する制御指令モジュールが、前記制御対象装置に対して前記モーション制御サイクルごとに実行させるべき動作を示す補間指令を前記モーション制御サイクルごとに送信することで、前記制御対象装置をモーション制御するステップと、
を含むモーション制御方法。
【請求項３】
非リアルタイムＯＳ及びリアルタイムＯＳがインストールされ、制御対象装置をモーション制御するモーション制御装置であって、
前記非リアルタイムＯＳ上で動作する複数の受付部であって、複数の受付部の各々が前記制御対象装置を制御する複数のユーザ作成プログラムの各々と対応づけられる、複数の受付部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作するチャネル管理部と、
前記リアルタイムＯＳ上で動作する、複数の制御指令モジュールを含む定周期処理部と
を有し、
前記チャネル管理部は、前記複数の受付部に共通の操作用チャネルを、前記非リアルタイムＯＳ及び前記リアルタイムＯＳから参照可能な共有メモリ上に作成し、
前記受付部は、該受付部に対応づけられる前記ユーザ作成プログラムから、前記制御対象装置へのモーション制御を開始する準備を行うことの準備指示を受け付けた場合、前記操作用チャネルを介して、制御指令用チャネルの生成を前記チャネル管理部に指示し、
前記チャネル管理部は、前記受付部から前記指示を受けた場合に、前記準備指示を行った前記ユーザ作成プログラムに対応づけられる前記制御指令用チャネルを前記共有メモリ上に生成し、
前記受付部は、前記ユーザ作成プログラムから、前記制御対象装置が複数のモーション制御サイクルに渡って行うべき動作を示す制御指令を受け付け、受け付けた制御指令の内容を示す制御指令情報を、前記制御指令用チャネルに格納し、
前記複数の制御指令モジュールのうち、前記制御指令用チャネルから取得した前記制御指令情報に含まれる識別子に対応する制御指令モジュールは、前記制御対象装置に対して前記モーション制御サイクルごとに実行させるべき動作を示す補間指令を前記モーション制御サイクルごとに送信することで、前記制御対象装置をモーション制御する、
モーション制御装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月16日(2021.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交換可能なバッテリによりモータを駆動して走行可能な電動車両と，前記バッテリを充電可能なバッテリステーションと，前記電動車両及び前記バッテリステーションに対して通信網を介して接続された管理サーバと，を含むバッテリ管理システムであって，
前記電動車両には，用途の異なる複数カテゴリの電動車両が含まれており，
前記管理サーバは，前記バッテリの劣化度に応じて，前記バッテリを搭載させる電動車両のカテゴリを決定する
バッテリ管理システム。
【請求項２】
交換可能なバッテリを動力源とする電動機器と，前記バッテリを充電可能なバッテリステーションと，前記電動機器及び前記バッテリステーションに対して通信網を介して接続された管理サーバと，を含むバッテリ管理システムであって，
前記電動機器には，用途の異なる複数カテゴリの電動機器が含まれており，
前記管理サーバは，前記バッテリの劣化度に応じて，前記バッテリを利用させる電動機器のカテゴリを決定する
バッテリ管理システム。
【請求項３】
交換可能なバッテリによりモータを駆動して走行可能な電動車両と，前記バッテリを充電可能なバッテリステーションとに対して，通信網を介して接続された管理サーバであって，
前記電動車両には，用途の異なる複数カテゴリの電動車両が含まれており，
前記バッテリの劣化度に応じて，前記バッテリを搭載させる電動車両のカテゴリを決定する
管理サーバ。
【請求項４】
交換可能なバッテリを動力源とする電動機器と，前記バッテリを充電可能なバッテリステーションとに対して，通信網を介して接続された管理サーバであって，
前記電動機器には，用途の異なる複数カテゴリの電動機器が含まれており，
前記バッテリの劣化度に応じて，前記バッテリを搭載させる電動機器のカテゴリを決定する
管理サーバ。
【請求項５】
サーバ装置を，請求項３又は請求項４に記載の管理サーバとして機能させるためのコンピュータプログラム。
【請求項６】
交換可能なバッテリによりモータを駆動して走行可能な電動車両に，用途の異なる複数カテゴリの電動車両が含まれている場合に，前記バッテリの劣化度に応じて，前記バッテリを搭載させる電動車両のカテゴリを決定する
コンピュータによって実行されるバッテリ管理方法。
【請求項７】
交換可能なバッテリを動力源とする電動機器に，用途の異なる複数カテゴリの電動機器が含まれている場合に，前記バッテリの劣化度に応じて，前記バッテリを搭載させる電動機器のカテゴリを決定する
コンピュータによって実行されるバッテリ管理方法。