【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年9月21日(2021.9.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポンプハウジング（１１９）によって画定された真空室（Ｖ）と、
ボード（２４１）と、を備えた、真空ポンプ、特にターボ分子ポンプ（１１１）であって、
ポンプハウジング（１１９）は、接続開口（２２５）を有し、接続開口（２２５）は、ボード（２４１）によって真空密に閉じられていて、これにより、ボード（２４１）は、真空室（Ｖ）を圧力室（Ｄ）から分離し、
真空側でボード（２４１）の手前に、ボード（２４１）に対して離間されたガスバリア（２３１）が設けられている、
真空ポンプ、特にターボ分子ポンプ（１１１）。
【請求項２】
ガスバリア（２３１）が、封止材料を含むことを特徴とする、請求項１に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項３】
少なくとも１つの接続導体（２３３）が、ガスバリア（２３１）を通って延びていて、ボード（２４１）に接続されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項４】
接続導体（２３３）とボード（２４１）との接続が、差込接続であることを特徴とする、請求項３に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項５】
接続導体（２３３）は、ガスバリア（２３１）の領域に、少なくとも部分的に、特にガスバリア（２３１）の端部領域に、少なくともほぼ気密な被覆体（２６５）を有することを特徴とする、請求項３又は４に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項６】
ガスバリア（２３１）は、真空ポンプ（１１１）の第１のポンプ部分（１２１）内に配置されていて、真空ポンプ（１１１）の、真空室（Ｖ）のポンピング領域（２４０）を画定する第２のポンプ部分（２４９）とは接触していないことを特徴とする、請求項１から５までの少なくともいずれか１項に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項７】
ガスバリア（２３１）は、ポンプハウジング（１１９）内に形成されていて真空室（Ｖ）に連通するチャネル（２２４）内に配置されていることを特徴とする、請求項１から６までの少なくともいずれか１項に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項８】
チャネル（２２４）は、屈曲した又は湾曲した領域（２２９）を有し、領域（２２９）は、ガスバリア（２３１）によって充填されていることを特徴とする、請求項７に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項９】
チャネル（２２４）の屈曲した領域（２２９）は、少なくとも２つの交差する穿孔部、特に袋穴（２２７ａ，２２７ｂ，２２７ｃ）及び／又はフライス加工部（２４５）によって形成されていることを特徴とする、請求項８に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項１０】
チャネル（２２４）の湾曲した領域（２２９）は、ラビリンス状に複数屈曲されていることを特徴とする、請求項８又は９に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項１１】
チャネル（２２４）の湾曲した領域（２２９）は、ポンプハウジング（１１９）の表面と、ポンプハウジング（１１９）に固定されたアングル部材（２５９）とによって画定されていることを特徴とする、請求項１０に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項１２】
アングル部材（２５９）とポンプハウジング（１１９）との間にシール要素（２６１）が配置されていることを特徴とする、請求項１１に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項１３】
真空室（Ｖ）の、ガスバリア（２３１）とボード（２４１）とによって画定された領域が、二次的なガス源に接続されていることを特徴とする、請求項１から１２までの少なくともいずれか１項に記載の真空ポンプ（１１１）。
【請求項１４】
ポンプハウジング（１１９）によって画定された真空室（Ｖ）とボード（２４１）とが用意され、
ポンプハウジング（１１９）に接続開口（２２５）が形成され、
接続開口（２２５）は、ボード（２４１）によって真空密に閉じられ、これにより、ボード（２４１）は、真空室（Ｖ）を圧力室（Ｄ）から分離し、
真空側でボード（２４１）の手前に設けられたガスバリア（２３１）が形成され、ガスバリア（２３１）は、ボード（２４１）に対して離間している、
真空ポンプ（１１１）の製造方法。
【請求項１５】
ポンプハウジング（１１９）内に、屈曲した又は湾曲した領域（２４９）を有するチャネル（２２４）が形成され、
チャネル（２２４）を通して少なくとも１つの接続導体（２３３）が敷設され、
チャネル（２２４）の屈曲した又は湾曲した領域（２２９）にガスバリア（２３１）が形成され、
接続導体（２３３）が、ボード（２４１）に接続され、
ボード（２４１）が、真空密にポンプハウジング（１１９）に取り付けられることを特徴とする、請求項１４に記載の真空ポンプ（１１１）の製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】真空ポンプ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ボードによって真空密に圧力室から分離された真空室を備える真空ポンプ、特にターボ分子ポンプ、及び真空ポンプの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来技術において、真空室から圧力室へ信号を導通するための、絶縁されたろう接部を有するガラスフィードスルーを有する真空ポンプが知られている。しかし、導通されるべき信号が多数のときには、ボードが、真空フィードスルーよりもはるかに安価である。そのようなボードを有する真空ポンプも同様に知られているが、腐食ガスをポンピングする場合には使用できない。というのも、腐食性のプロセスガスがボードを損傷し得るからである。したがって、例えば半導体産業において重要であるように、この種の用途には、ろう接部を有するより割高なガラスフィードスルーを用いなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
この従来技術から出発して、本発明の課題は、経済的に製造可能であるとともによりフレキシブルに使用可能な真空ポンプを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明によれば、この課題は、請求項１の特徴を有する真空ポンプ及び請求項１３の特徴を有する真空ポンプの製造方法によって解決される。
【発明の効果】
【０００５】
本発明に係る真空ポンプ、特にターボ分子ポンプは、ポンプハウジングによって画定された真空室と、ボードと、を備え、ポンプハウジングは、接続開口を有し、接続開口は、ボードによって真空密に閉じられていて、これにより、ボードは、真空室を圧力室から分離し、真空側でボードの手前に、ボードに対して離間されたガスバリアが設けられている。
【０００６】
本発明は、プロセスガスをボードから隔離するという一般的な思想を根底としている。その利点によれば、腐食性のプロセスガスを、これがボードと接触してボードを損傷することなく、ポンピングできる。これにより、本発明に係る真空ポンプは、よりフレキシブルな利用性を有する。本発明に係る真空ポンプでは、腐食性のプロセスガスをポンピングする際にもボードを真空フィードスルーとして使用でき、このことは、ろう接部を有するガラスフィードスルーよりも簡単で安価な手段である。したがって、本発明に係る真空ポンプは、より経済的に製造可能である。
【０００７】
ガスバリアは、少なくともほぼ気密であり、少なくとも実質的に、ポンピングされたガスの通過を阻止する。ガスバリアは、真空ポンプの真空室内に、プロセスガスがボードから隔離されるように配置されている。ボード及び場合によってはボードの電気的な接続結合部がガスバリアによって損なわれないようにするために、ガスバリアは、ボード及び／又は接続結合部と直接には接触していない。さらに、その利点によれば、ボード及び接続結合部が、ガスバリアが存在しても、メンテナンス、変更及び／又は修理のためにアクセス可能であるので、例えばボードを容易に交換できる。
【０００８】
真空ポンプの動作状態で真空室内に少なくとも１つのポンプ段によって生成される真空が存在し得る一方、ボードは、真空フィードスルーとして、真空室を、例えば大気圧が作用し得る圧力室から分離する。真空フィードスルーとしてのボードの漏れ率は、少なくとも実質的に無視できる。
【０００９】
本発明の有利な構成は、従属請求項、明細書及び図面から明らかである。
【００１０】
一実施形態によれば、真空ポンプのガスバリアが、封止材料を含む。封止材料は、好適には、任意の幾何学形状でかつ場合によってはその中に包囲される構成部材とともに、真空室の少なくとも一部に注入成形を行うために使用できる。ガスバリアとしての封止材料は、真空室又は真空室の一部を、付加的なシール手段を使用することなく、少なくともほぼ気密に充填できる。
【００１１】
ガスバリアの形成は、材料に応じて様々な形態で行える。例えば、封止材料を、流動性の状態で、真空室の、ガスバリアを収容するために設けられた領域に流し込むことができ、そこで、封止材料は、これに続いて硬化する。別の形態で形成されるガスバリアは、それぞれ適切な形で真空ポンプの真空室に導入できる。例えば、真空ポンプのガスバリアは、自己膨張性の材料特性を有してよい。さらに、ガスバリアは、固体として、真空室の一部に導入して、そこで膨張できる。この場合、固体は、形状記憶特性を有し、そして真空室に導入するために圧縮可能であり、これにより、後の独自の受動的な膨張が可能となるだけではなく、補助手段又は補助剤を使用して、これにより、強制的な膨張を行える。
【００１２】
好適には、真空ポンプは、少なくとも１つの接続導体を有し、接続導体は、ガスバリアを通って延びていて、そしてボードに、特にボードの、ガスバリアに面する側に接続されている。電気的な接続導体の他端は、真空ポンプのモータ、アクチュエータ系及び／又はセンサ系に接続され得るので、信号を、ガスバリアを通して、ボードと真空ポンプのモータ、アクチュエータ系及び／又はセンサ系との間で伝送できる。
【００１３】
好適には、接続導体とボードとの接続は、差込接続である。このことは、特に接続導体が多数のときに安価であると同時に、その取扱いがろう接部よりも快適である。さらに、差込接続は、真空ポンプの組立て、修理及び／又はメンテナンスに関して有利である。というのも、差込接続は、破壊されることなく解除可能であり、そして再び接続可能であり得るからである。代替的に、接続導体は、解除不能にボードに取り付けられ得、特に、接続導体は、ろう接され得る。
【００１４】
接続導体は、ガスバリアの領域に、少なくとも部分的に、特にガスバリアの端部領域に、少なくともほぼ気密な被覆体を有してよい。特に、接続導体は、部分的にその周に沿って、接続導体の絶縁体又は接続導体の内部へのガスの進入を阻止する材料によって囲繞され得る。これにより、ガスバリアを通る、接続導体の表面又は場合によっては接続導体の絶縁体の内側又は外側を介するガス交換をさらに効果的に阻止できる。被覆体として、例えば、特に内側接着剤を有する収縮チューブや別のシール手段が適している。収縮チューブや別のシール手段は、特にガスバリアの端部領域に、つまり真空室の、ボード側又はポンピング領域側の領域と直接に接触していて、そして場合によってはその中に存在するガスと接触している、ガスバリアの領域に使用できる。
【００１５】
ガスバリアは、一実施形態によれば、ポンプの第１のポンプ部分に配置されていて、そしてポンプの、真空室のポンピング領域を画定する第２のポンプ部分とは接触していない。特に、ガスバリアは、本実施形態によれば、第２のポンプ部分のポンプハウジングの一部と接触しない。この場合、ポンプ部分は、特に、組み立てられた真空ポンプにおいて互いに結合された、例えばねじ止めされた、真空ポンプの別個の構成部材であり得る。第１のポンプ部分は、例えばポンプ下部分であり得、第２のポンプ部分は、ポンプ上部分であり得る。真空室のポンピング領域は、真空ポンプの１つ又は複数のポンプ段を含んでよく、また真空ポンプのモータ、アクチュエータ系及び／又はセンサ系を少なくとも部分的に含んでもよい。
【００１６】
ガスバリアが、第２のポンプ部分と接触することなく、第１のポンプ部分のみに配置されていると、このことは、一方ではガスバリアの導入を容易に行え、他方では真空ポンプの組立て及び／又は分解、ひいてはポンプのメンテナンス、変更及び／又は修理を容易に行える。というのも、ポンプ部分の別個の取扱いや故障した構造群の容易にされた交換を行えるからである。
【００１７】
一実施形態によれば、ガスバリアが、ポンプハウジング内に形成されていて真空室に連通するチャネル内に配置されている。特に、チャネルは、真空ポンプの接続開口からポンプハウジングを通してポンピング領域まで延び得る。チャネルは、これがガスバリアに対して付加的に、モータ、アクチュエータ系及び／又はセンサ系にボードを接続するための１つ又は複数の接続導体を収容できるように寸法付けられ得る。チャネルは、ボードに接続するための接続導体のコネクタの導通も可能にする寸法を有してよい。特に、チャネルは、必要とされる最大のボード対応コネクタの対角寸法が導通可能である幅を有してよい。
【００１８】
チャネルは、屈曲した又は湾曲した領域を有してよく、その領域は、ガスバリアによって充填されている。このようなチャネル配置構造体は、ガスバリアをボード及び／又は接続結合部から隔離するのに有利である。チャネルの、屈曲した又は湾曲した領域は、ガスバリアが湾曲した領域又は屈曲した領域だけを充填する一方、チャネル又は真空室の、ガスバリアに隣接する領域は、ガスバリアの材料から解放されたままであることによって、サイホン状に作用できる。例えば、チャネルは、ガスバリアによって特定のレベルまで充填されていて、この場合、チャネルの、ガスバリアの前及び／又は後の領域が解放されたままであるＶ字形又はＵ字形の部分を有してよい。特に、封止材料が使用されると、注入の作業動作のために、チャネルを含むポンプ部分は、封止材料がサイホン状に屈曲した又は湾曲した領域だけに至り、チャネルが全周にわたってガスバリアによって充填されるまで、注入方向に配向できる。封入材料が硬化した後で、ガスバリアを有するポンプ部分は、ポンプの動作状態で任意に位置決めできる。
【００１９】
一実施形態によれば、チャネルの屈曲した領域は、少なくとも２つの交差する穿孔部、特に袋穴及び／又はフライス加工部によって、ポンプの少なくとも一部に形成されている。このようにすると、屈曲したチャネルを容易にポンプ部分に形成できる。様々な穿孔部、袋穴及び／又はフライス加工部は、ポンプ部分の同一の表面から又は異なる表面から出発してよく、この場合、結果として得られるチャネルは、圧力室に隣接する接続開口から真空ポンプのポンピング領域に向けて延び得る。付加的な穿孔部、袋穴及び／又はフライス加工部は、チャネルの延びを好適に補足できるので、接続導体及び／又はコネクタをチャネルに収容できる。代替的に又は追加的に、チャネルは、例えばアングル部材又は他の要素による別個の構成要素の導入によって成形できる。
【００２０】
チャネルの、屈曲した領域は、ラビリンス状に複数回屈曲され得る。特に、通り抜けが想定されるとき、複数回方向を大幅に変更しなければならず、チャネルは、そのように延び得る。この場合、例えば方向は、それぞれ互いに直角であってよく、この場合、構造的な事情の枠内で別の角度も可能である。これにより、チャネルは、ここでもまた部分的に槽状に又はサイホン状に形成され得、これにより、ボードから真空ポンプのポンピング領域への接続導体の導通が可能となり、そしてガスバリアによるチャネル又はチャネル部分の気密な充填が可能となる。
【００２１】
チャネルの屈曲した領域は、ポンプハウジングの表面と、ポンプハウジングに固定されたアングル部材とによって画定され得る。特に、アングル部材は、ポンプハウジングに取り付けられた別個の構成部材であり得、そして少なくとも２つの部分を有し、これらの部分の表面は、互いに角度を成して延びている。特に、表面は、互いに直角を形成できるが、別の角度も可能である。
【００２２】
例えば、開いたチャネルがポンプハウジング内に配置され得、このチャネルは、別個の構成部材、特にアングル部材を組み付けることによって、屈曲した幾何学形状を有するチャネルへと改変される。アングル部材の屈曲した表面を収容するために、開いたチャネルに対して付加的に、別の穿孔部、袋穴及び／又はフライス加工部がポンプハウジング内に配置され得る。これにより、好適には、よりコンパクトなチャネルを使用できる。というのも、開いたチャネルの寸法だけが、場合によっては接続導体のコネクタを導通するのに収容するのに十分な大きさを有すればよく、他方、チャネルの屈曲した領域が接続導体自体だけを収容すればよく、コネクタを収容しなくてよいからである。開いたチャネルは、さらに、製造時にチャネル内に形成される全ての縁部に対する容易なアクセスを提供するので、縁部に簡単にバリ取り及び／又は丸み付けを行える。これにより、好適には、接続導体又は接続導体の絶縁体の損傷を回避できる。
【００２３】
好適には、アングル部材とポンプハウジングとの間にシールエレメントが配置されている。シールエレメントは、例えばＯリング又はシールストリップであり得る。これにより、屈曲したチャネルを、別個に取り付けられたアングル部材の領域でもシールできるので、特にガスバリアとして封止材料を使用するとき、注入中の封止材料の流出が阻止される。シール要素は、別種のガスバリアを使用するとき又は高粘度の封止材料を使用するときには省略できる。
【００２４】
真空領域の、ガスバリアとボードとの間に残っている空間ボリュームは、例えば少なくとも大体において、真空室のポンピング領域及び圧力室の両方に、ガスを導くように接続され得ず、したがって、以下デッドスペースとも称される。これに応じて、デッドスペースと、真空室の、ガスバリアによって分離されるとともにこれに隣接するポンピング領域との間の圧力差、及び／又はデッドスペースと、ボードによって分離されるとともにこれに隣接する圧力室との間の圧力差が、デッドスペースと真空室のポンピング領域及び／又は圧力室との間の直接の圧力適合をもたらさすことはない。場合によっては、真空室のポンピング領域とデッドスペースとの間、又は圧力室とデッドスペースとの間の漏れ率に基づいて特定可能である、残っている漏れガス流によって、ゆっくりと進行する圧力適合がもたらされ得るが、しかしこの圧力適合は、低い漏れ率の場合には、例えば数時間又は数ヶ月も経過して行われ得るものである。
【００２５】
一実施形態によれば、真空ポンプの、ガスバリアとボードとによって画定される領域が、二次的なガス源に接続されている。
【００２６】
好適には、二次的なガス源は、例えばシールガス、保護ガス、不活性ガス又は通気ガスを提供し、これにより、デッドスペース内に、腐食性成分を有しない所定の雰囲気が形成される。そのような保護ガス雰囲気によって、たとえガスバリアが無視できない程度の漏れ率を有するはずであっても、真空室のポンピング領域からガスバリアを通してデッドスペースへ向かう所望されないガス拡散を効果的に阻止できる。
【００２７】
この場合、真空ポンプの動作中のデッドスペース内の圧力は、真空室のポンピング領域の圧力に適合され得、この場合、例えば、デッドスペース内でより高い圧力下にあるガスが、ゆっくりと真空室のポンピング領域に拡散し得る。これに続いて真空ポンプがスイッチオフされ、真空室のポンピング領域が通気されると、例えば、再びガスが、ガスバリアの漏れ率に応じて、真空室のポンピング領域からデッドスペースへと戻って拡散し得る。デッドスペースに拡散するガスが依然として微量の腐食性のプロセスガスを含むとき、腐食性のプロセスガスによって、真空フィードスルーとしてのボードの損傷が引き起こされ得る。二次的なガス源によって生成される保護ガス雰囲気は、このような事態を好適に阻止できる。
【００２８】
ガスバリアがなければ、ケーブル接続部に沿って、大量の保護ガスを、ボードの十分な保護を保証するために、真空ポンプの動作中及び動作後に、真空室のポンピング領域の方向へ流さなければならない。少なくともほぼ気密なガスバリアと組み合わせると、デッドスペースにおける所定の雰囲気を生成するための保護ガスの消費量の増加は、極めて小さく、無視できるまでの量である。
【００２９】
二次的なガス源は、様々な形態でデッドスペースに接続され得、例えば、二次的なガス源の、真空ポンプ内にすでに存在する別のガスインレットに向かう穿孔部又はカバーされたチャネルの形態の横接続部によって、かつ／又は二次的なガス源によって通気可能な別の領域に向かう横接続部によって、かつ／又は、二次的なガス源へのデッドスペースの別個の接続部によって接続され得る。
【００３０】
本発明の別の対象は、真空ポンプの製造方法である。この製造方法では、ポンプハウジングによって画定された真空室及びボードが用意され、ポンプハウジングに接続開口が形成され、接続開口は、ボードによって真空密に閉じられ、これにより、ボードが、真空室を圧力室から分離し、真空側でボードの手前に設けられたガスバリアが形成され、ガスバリアは、ボードに対して離間していることが想定される。そのように製造される真空ポンプによって、前述された利点を相応に達成できる。
【００３１】
一実施形態によれば、ポンプハウジング内に、屈曲した又は湾曲した領域を有するチャネルが形成され得、チャネルを通して少なくとも１つの接続導体が敷設され得、チャネルの屈曲した又は湾曲した領域にガスバリアが形成され得、接続導体が、ボードに接続され得、ボードが、真空密にポンプハウジングに取り付けられ得る。
【００３２】
この場合、チャネルは、ポンプハウジングによってワンピースに、又はポンプハウジング及び／又は付加的な構成要素、例えばアングル部材、被覆要素又はこれに類するものによってマルチピースに形成され得る。
【００３３】
チャネル及び別のコンポーネントの具体的な構成に応じて、方法ステップの順序を変更できる。アングル部材が付けられた開いたチャネルが使用されるとき、例えば、アングル部材を組み付けることによって屈曲したチャネルが形成される前に、初めに、開いたチャネルを通して接続導体を敷設できる。代替的に又は付加的に他の方法ステップについても然りである。
【００３４】
以下、添付の図を参照して、例示的に、好適な実施形態に基づいて本発明を説明する。図面、図面の説明及び特許請求の範囲には、多数の特徴が組み合わされて開示されている。当業者であれば、これらの特徴を好ましくは個別に見なして、これらを統合されて有意義な別の組み合わせを成すであろう。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】ターボ分子ポンプの斜視図を示す。
【図２】図１のターボ分子ポンプの下面図を示す。
【図３】図２に示した切断線Ａ−Ａに沿ったターボ分子ポンプの断面図を示す。
【図４】図２に示した切断線Ｂ−Ｂに沿ったターボ分子ポンプの断面図を示す。
【図５】図２に示した切断線Ｃ−Ｃに沿ったターボ分子ポンプの断面図を示す。
【図６】第１の実施形態による、屈曲したチャネルとガスバリアと真空フィードスルーとしてのボードとを有するポンプ下部分の断面図を示す。
【図７Ａ】図６のチャネルを形成するための製造概略図を示す。
【図７Ｂ】図６の屈曲したチャネルの断面図を示す。
【図７Ｃ】注入方向にある図６のポンプ下部分の断面図を示す。
【図８】第２の実施形態による、屈曲したチャネルとガスバリアと真空フィードスルーとしてのボードとを有するポンプ下部分の断面図を示す。
【図９Ａ】図８のチャネルを形成するための製造概略図を示す。
【図９Ｂ】図８の屈曲したチャネルの断面図を示す。
【図９Ｃ】注入方向にある図８のポンプ下部分の断面図を示す。
【図１０】第３の実施形態による、アングル部材が付けられた屈曲したチャネルとガスバリアと真空フィードスルーとしてのボードとを有するポンプ下部分の断面図を示す。
【図１１Ａ】ポンプ下部分の平面図及び図１０のアングル部材を示す。
【図１１Ｂ】図１０の開いたチャネルを形成するための製造概略図を示す。
【図１１Ｃ】図１０のアングル部材が付けられた屈曲したチャネルの断面図を示す。
【図１１Ｄ】注入方向にある図１０のポンプ下部分の断面図を示す。
【図１２】第３の実施形態のポンプ下部分を有する真空ポンプの断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
図１に示されたターボ分子ポンプ１１１は、インレットフランジ１１３に取り囲まれたポンプインレット１１５を有する。このポンプインレット１１５には、自体公知の手段で、図示されていない真空容器を接続できる。真空容器から到来するガスは、ポンプインレット１１５を介して真空容器から吸引され、そしてポンプを通してポンプアウトレット１１７へと圧送できる。ポンプアウトレット１１７には、予真空ポンプ（例えばロータリーベーンポンプ）が接続され得る。
【００３７】
インレットフランジ１１３は、図１の真空ポンプの方向では、真空ポンプ１１１のハウジング１１９の上端部を形成する。ポンプハウジング１１９は、下部分１２１を有する。下部分１２１には、側方にエレクトロニクスハウジング１２３が配置されている。エレクトロニクスハウジング１２３内には、真空ポンプ１１１の電気的なかつ／又は電子的なコンポーネントが収容されている。これらのコンポーネントは、例えば、真空ポンプ内に配置された電動モータ１２５を動作させるためのものである。エレクトロニクスハウジング１２３には、アクセサリに対する複数の接続部１２７が設けられている。さらに、データインタフェース１２９（例えばＲＳ４８５規格に準拠するもの）及び電流供給接続部１３１が、エレクトロニクスハウジング１２３に配置されている。
【００３８】
ターボ分子ポンプ１１１のハウジング１１９には、通気インレット１３３が、特に通気バルブの形態で設けられている。この通気インレット１３３を介して、真空ポンプ１１１に通気を行える。ポンプ下部分１２１の領域には、さらにシールガス接続部１３５（パージガス接続部とも称される）が配置されている。このシールガス接続部１３５を介して、パージガスを、ポンプによって圧送されるガスに対して電動モータ１２５（例えば図３参照）を保護するため、モータ室１３７内に送り込み可能である。モータ室１３７内で、真空ポンプ１１１に、電動モータ１２５が収容されている。ポンプ下部分１２１には、その上さらに２つの冷却剤接続部１３９が配置されている。この場合、一方の冷却剤接続部は、冷却剤用のインレットとして、そして他方の冷却剤接続部は、アウトレットとして設けられている。冷却剤は、冷却目的で真空ポンプ内に導入可能である。
【００３９】
真空ポンプの下面１４１は、ベースとして使用できるので、真空ポンプ１１１は、下面１４１にて縦置きで動作できる。しかし、真空ポンプ１１１は、インレットフランジ１１３を介して真空容器に固定することも可能であり、これにより、いわば懸架した状態で動作できる。さらに、真空ポンプ１１１は、図１に示された向きとは別の形で方向付けられているときにも動作できるように構成され得る。下面１４１を下向きではなく、横向きに、又は上向きに配置可能である真空ポンプの形態も実現可能である。
【００４０】
図２に示された下面１４１には、さらに種々のねじ１４３が配置されている。これらのねじによって、ここでは詳細には特定されない真空ポンプの構成部材が互いに固定されている。例えば、軸受カバー１４５が下面１４１に固定されている。
【００４１】
下面１４１には、さらに固定孔１４７が配置されている。固定孔１４７を介して、ポンプ１１１を、例えば設置面に固定できる。
【００４２】
図２〜図５には、冷却剤配管１４８が示されている。この冷却剤配管１４８において、冷却剤接続部１３９を介して導入又は導出される冷却剤が循環可能である。
【００４３】
図３〜図５の断面図に示されているように、真空ポンプは、複数のプロセスガスポンプ段を有する。これらのプロセスガスポンプ段は、ポンプインレット１１５に作用するプロセスガスをポンプアウトレット１１７へと圧送するためのものである。
【００４４】
ポンプハウジング１１９内には、ロータ１４９が配置されている。このロータ１４９は、回転軸線１５１を中心として回転可能なロータ軸１５３を有する。
【００４５】
ターボ分子ポンプ１１１は、ポンピング作用を及ぼすように互いに直列に接続された複数のターボ分子ポンプ段を有する。これらのターボ分子ポンプ段は、ロータ軸１５３に固定された複数の半径方向のロータディスク１５５と、ロータディスク１５５の間に配置され、そしてハウジング１１９内に固定されたステータディスク１５７とを有する。この場合、１つのロータディスク１５５とこれに隣り合う１つのステータディスク１５７とが、それぞれ１つのターボ分子ポンプ段を形成する。ステータディスク１５７は、スペーサリング１５９によって、互いに所望の軸方向間隔を置いて保持されている。
【００４６】
真空ポンプは、さらに、半径方向で互いに内外に配置され、そしてポンピング作用を及ぼすように互いに直列に接続されたホルベックポンプ段を有する。ホルベックポンプ段のロータは、ロータ軸１５３に配置されたロータハブ１６１と、ロータハブ１６１に固定され、そしてこのロータハブ１６１によって支持される円筒側面状の２つのホルベックロータスリーブ１６３，１６５を有する。これらのホルベックロータスリーブ１６３，１６５は、回転軸線１５１に対して同軸に配向されていて、そして半径方向で互いに内外に接続されている。さらに、円筒側面状の２つのホルベックステータスリーブ１６７，１６９が設けられている。これらのホルベックステータスリーブ１６７，１６９は同様に、回転軸線１５１に対して同軸に配向されていて、そして半径方向で見て互いに内外に接続されている。
【００４７】
ホルベックポンプ段の、ポンピング作用を奏する表面は、側面によって、つまりホルベックロータスリーブ１６３，１６５及びホルベックステータスリーブ１６７，１６９の半径方向の内側面及び／又は外側面によって形成されている。外側のホルベックステータスリーブ１６７の半径方向の内側面は、半径方向のホルベック間隙１７１を形成しつつ、外側のホルベックロータスリーブ１６３の半径方向の外側面と対向していて、そしてこのホルベック間隙１７１とともに、ターボ分子ポンプに後続する第１のホルベックポンプ段を形成する。外側のホルベックロータスリーブ１６３の半径方向の内側面は、半径方向のホルベック間隙１７３を形成しつつ、内側のホルベックステータスリーブ１６９の半径方向の外側面と対向していて、そしてこのホルベック間隙１７３とともに、第２のホルベックポンプ段を形成する。内側のホルベックステータスリーブ１６９の半径方向の内側面は、半径方向のホルベック間隙１７５を形成しつつ、内側のホルベックロータスリーブ１６５の半径方向の外側面と対向していて、そしてこのホルベック間隙１７５とともに、第３のホルベックポンプ段を形成する。
【００４８】
ホルベックロータスリーブ１６３の下側端部には、半径方向に延びるチャネルが設けられ得る。このチャネルを介して、半径方向外側に位置するホルベック間隙１７１が、中央のホルベック間隙１７３に接続されている。さらに、内側のホルベックステータスリーブ１６９の上側端部には、半径方向に延びるチャネルが設けられ得る。このチャネルを介して、中央のホルベック間隙１７３が、半径方向内側に位置するホルベック間隙１７５と接続されている。これにより、互いに内外に接続される複数のホルベックポンプ段が、互いに直列で接続される。半径方向内側に位置するホルベックロータスリーブ１６５の下側端部には、さらに、アウトレット１１７に通じる接続チャネル１７９が設けられ得る。
【００４９】
ホルベックステータスリーブ１６３，１６５の、上述したポンプピング作用を奏する表面は、それぞれ、螺旋状に回転軸線１５１の周りを周回しつつ軸方向に延びる複数のホルベック溝を有する。他方、ホルベックロータスリーブ１６３，１６５の、これに対向する側面は、滑らかに形成されていて、そして真空ポンプ１１１の動作のためのガスをホルベック溝内にて前方へ送り出す。
【００５０】
ロータ軸１５３の回転可能な軸支のため、ポンプアウトレット１１７の領域に転がり軸受１８１が設けられていて、ポンプインレット１１５の領域に永久磁石式の磁気軸受１８３が設けられている。
【００５１】
転がり軸受１８１の領域には、ロータ軸１５３に円錐形のスプラッシュナット１８５が設けられている。これは、転がり軸受１８１の方へ増大する外径を有する。スプラッシュナット１８５は、作動媒体貯蔵部の少なくとも１つの掻落とし部材と滑り接触している。作動媒体貯蔵部は、上下にスタックされた吸収性の複数のディスク１８７を有する。これらディスク１８７には、転がり軸受１８１のための作動媒体、例えば潤滑剤が含浸されている。
【００５２】
真空ポンプ１１１の動作時、作動媒体は、毛細管現象によって、作動媒体貯蔵部から掻落とし部材を介して、回転するスプラッシュナット１８５へと伝達され、そして、遠心力に基づいてスプラッシュナット１８５に沿って、スプラッシュナット１８５の、増大していく外径の方へと、転がり軸受１８１に向かって送られる。そこでは例えば、潤滑機能が発揮される。転がり軸受１８１及び作動媒体貯蔵部は、真空ポンプ内にて槽状のインサート１８９と軸受カバー１４５とによって囲繞されている。
【００５３】
永久磁石式の磁気軸受１８３は、ロータ側の軸受半部１９１と、ステータ側の軸受半部１９３を有する。これらは、それぞれ１つのリングスタックを有し、リングスタックは、軸方向に上下にスタックされた永久磁石の複数のリング１９５，１９７から成っている。リング磁石１９５，１９７は、互いに半径方向の軸受間隙１９９を形成しつつ、対向していて、この場合、ロータ側のリング磁石１９５は、半径方向外側に、そしてステータ側のリング磁石１９７は、半径方向内側に配置されている。軸受間隙１９９内に存在する磁界は、リング磁石１９５，１９７の間に磁気的反発力を引き起こす。その反発力は、ロータ軸１５３の半径方向の支持を実現する。ロータ側のリング磁石１９５は、ロータ軸１５３の支持部分２０１によって支持されている。この支持部分２０１は、リング磁石１９５を半径方向外側で取り囲んでいる。ステータ側のリング磁石１９７は、ステータ側の支持部分２０３によって支持されている。この支持部分２０３は、リング磁石１９７を通って延びていて、そしてハウジング１１９の半径方向の支材２０５に懸架されている。回転軸線１５１に対して平行に、ロータ側のリング磁石１９５が、支持部分２０３と連結されたカバー要素２０７によって固定されている。ステータ側のリング磁石１９７は、回転軸線１５１に対して平行に１つの方向で、支持部分２０３に結合された固定リング２０９と支持部分２０３に結合された固定リング２１１とによって固定されている。さらに、固定リング２１１とリング磁石１９７との間には、皿ばね２１３が設けられ得る。
【００５４】
磁気軸受内に、非常軸受又は安全軸受２１５が設けられている。この非常軸受又は安全軸受２１５は、真空ポンプの通常の動作時には、非接触で空転し、そしてロータ１４９がステータに対して相対的に半径方向に過剰に変位するとようやく係合し、これにより、ロータ側の構造とステータ側の構造との衝突が阻止されるので、ロータ１４９に対する半径方向のストッパが形成される。安全軸受２１５は、非潤滑式の転がり軸受として構成されていて、そしてロータ１４９及び／又はステータとともに半径方向の間隙を形成する。この間隙によって、安全軸受２１５は、通常のポンプ動作時には係合しないようになる。安全軸受が係合する半径方向の変位は、十分に大きく寸法付けられているので、安全軸受２１５は、真空ポンプの通常の動作中は係合せず、そして同時に十分に小さいので、ロータ側の構造とステータ側の構造との衝突があらゆる状況で阻止される。
【００５５】
真空ポンプ１１１は、ロータ１４９を回転駆動する電動モータ１２５を有する。電動モータ１２５の電機子は、ロータ１４９によって形成されている。ロータ１４９のロータ軸１５３は、モータステータ２１７を通って延びている。ロータ軸１５３の、モータステータ２１７を通って延びる部分には、半径方向外側に又は埋入して、永久磁石アセンブリが配置され得る。モータステータ２１７と、ロータ１４９の、モータステータ２１７を通って延びる部分との間には、中間室２１９が配置されている。この中空室２１９は、半径方向のモータ間隙を有する。このモータ間隙を介して、モータステータ２１７と永久磁石アセンブリとは、駆動トルクを伝達するため、磁気的に影響し合うことが可能である。
【００５６】
モータステータ２１７は、ポンプハウジング内で、電動モータ１２５に対して設けられたモータ室１３７内に固定されている。シールガス接続部１３５を介して、シールガス（パージガスとも称され、これは例えば空気や窒素であってよい）が、モータ室１３７内へと至ることが可能である。シールガスを介して、電動モータ１２５は、プロセスガス、例えばプロセスガスの腐食性の部分に対して保護できる。モータ室１３７は、ポンプアウトレット１１７を介して真空化できる。つまりモータ室１３７に、少なくとも近似的に、ポンプアウトレット１１７に接続された予真空ポンプによって実現される真空圧が作用する。
【００５７】
ロータハブ１６１と、モータ室１３７を画成する壁部２２１との間には、さらに、それ自体公知のいわゆるラビリンスシール２２３が設けられ得る。これにより、特に、半径方向外側に位置するホルベックポンプ段に対するモータ室２１７のより良好なシールが達成される。
【００５８】
図６は、ターボ分子ポンプ１１１のポンプ下部分１２１の第１の実施形態を、組み立てられた動作状態で示している。ターボ分子ポンプ１１１は、ポンプハウジング１１９によって画定された真空室Ｖを有し、真空室Ｖは、真空フィードスルーとしてのボード２４１によって、圧力室Ｄから分離されている。ボード２４１は、接続開口２２５の領域で、Ｏリング２４３を用いて真空密にポンプハウジング１１９に取り付けられている。
【００５９】
真空室Ｖは、屈曲したチャネル２２４を有し、チャネル２２４内には、ガスバリア２３１が配置されていて、ガスバリア２３１は、真空側でボード２４１の手前に設けられていて、そしてプロセスガスを、ボード２４１及びボード２４１の接続結合部から隔離する。図示された実施形態では、ガスバリア２３１は、チャネル２２４の、サイホン状に屈曲した領域２２９（図７Ｂ）を気密に充填する封止材料である。
【００６０】
ボード２４１は、接続導体２３３に接続されていて、接続導体２３３は、ガスバリア２３１を通して開口２３９まで、ターボ分子ポンプ１１１のポンピング領域２４０（図８）に向けて延びている。接続導体２３３は、コネクタ２３５を有し、コネクタ２３５は、ボード２４１に接続されている。コネクタ２３５と、接続導体２３３の、コネクタ２３５に接続する部分とが、屈曲したチャネル２２４の収容室２２６に収容されている。接続導体２３３は、そのポンピング領域２４０寄りの端部で、ターボ分子ポンプ１１１のモータ、アクチュエータ系及び／又はセンサ系に接続され得る。
【００６１】
封止材料２３１は、ボード２４１又はコネクタ２３５と接触していないので、ガスバリア２３１による、特に封止材料による接触の障害が生じ得ない。したがって、ガスバリア２３１及びボード２４１は、真空室Ｖの、デッドスペースＴと称される領域を画定し、この領域は、少なくとも実質的に、ガスを導くようには、ポンピング領域２４０及び圧力室Ｄに接続されていない。デッドスペースＴには、二次的なガス源（図示されていない）を接続可能であり、二次的なガス源は、保護ガスによるデッドスペースＴの通気を可能にし、これにより、腐食性のプロセスガスがボード２４１からさらに効果的に離隔される。ポンプ下部分１２１は、動作状態で必要に応じて方向付けられている、又は必要に応じて任意の配向で配置できる。というのも、硬化した封止材料２３１が、全ての配向の下でガスバリアとしてその作用が保持されるからである。
【００６２】
封止材料２３１は、図示された実施形態では、専らポンプ下部分１２１に配置されていて、そして真空室のポンピング領域２４０を画定するポンプ上部分２４９（図８）とは接触していない。したがって、ポンプ下部分１２１を、好適にはサービス、メンテナンス及び修理目的で簡単に分解して、別個に取り扱える。ターボ分子ポンプ１１１の組立て及び分解時の付加的なフレキシビリティは、ボード２４１の接続結合部が差込み可能に構成されていることによって得られ、これにより、例えばボード２４１の容易な交換が可能となる。
【００６３】
図７Ａ〜図７Ｃは、図６におけるポンプ下部分１２１の第１の実施形態の製造を略示している。分かりやすくするために、ポンプ下部分１２１内に配置された、ターボ分子ポンプ１１１の他のコンポーネントは、図示されていない。
【００６４】
図７Ａは、チャネル２２４の、ガスバリア２３１を収容するために設けられた部分が、互いに交差する２つの袋穴２２７ａ，２２７ｂから作製されていて、袋穴２２７ａ，２２７ｂが、ポンプ下部１２１の、互いに反対の側から出発して、図示された実施形態では９０°の角度を成して交差することを示している。もちろん、構造的な周辺条件に応じて、原則的に、別の角度も考えられる。第１の袋穴２２７ａは、ポンプハウジング１１９内で、所定の圧力室Ｄの側から出発して、そして接続開口２２５を画定する。第２の袋穴２２７ｂは、ターボ分子ポンプ１１１のポンピング領域２４０に向かう開口２３９を画定する。ポンプハウジング１１９は、接続開口２２５の領域に、第３の袋穴２２７ｃを有し、第３の袋穴２２７ｃは、チャネル２２４を、電気的な又は電子的な接続コンポーネントを収容するための収容室２２６の分だけ拡張する。図示された実施形態では、第３の袋穴２２７と第１の袋穴２２７ａとが、４５°の角度を成して交差し、この場合、ここでも別の角度が可能である。
【００６５】
図７Ｂは、結果として得られるチャネル２２４の全断面を示している。第１の袋穴２２７ａと第２の袋穴２２７ｂとが交差する領域では、チャネル２２４は、屈曲した輪郭２２９を有する領域を有し、この輪郭２２９は、ポンプ下部分１２１の図示された配向では、右向きに配向されている。
【００６６】
図７Ｃは、図示された実施形態では図６における動作状態に対して９０°右向きにポンプ下部分１２１を回動させた状態に対応する注入方向でのガスバリア２３１の導入中のポンプ下部分１２１を示している。チャネル２２４を通して、まずは接続導体２３３が敷設され、接続導体２３３は、接続開口２２５の側で、ボード２４１に接続するためのコネクタ２３５を有する。この場合、チャネル２２４の寸法は、接続導体２３３及びコネクタ２３５を導通できるように選択されている。シール溝２３７が、ボード２４１を真空密に組み付けるためのＯリング２４３を収容するために設けられている。
【００６７】
図示された実施形態では、ガスバリア２３１は、封止材料として構成されていて、封止材料は、最初は、注入によってチャネル２２４に導入するのに十分な流動性を有し、これに続いて、そこで硬化する。注入のために、ポンプ下部分１２１は、図示されたように、屈曲した領域２２９がサイホンの形態でチャネル２２４の最も下側の点を形成するように位置決めされている。接続開口２２５及び／又はポンプ領域２４０に向かう開口２３９を通して、封止材料２３１が、チャネル２２４が気密に閉じられるまで、チャネル２２４のサイホン状の領域２２９に導入される。その際、接続導体２３３は、封止材料２３１に埋め込まれる。封止材料の前後の領域は、ガスバリア２３１から解放されたままであるので、封止材料は、ボード２４１又はボード２４１の接続結合部と接触しない。封止材料２３１が硬化するまで、ポンプ下部分１２１は、図示された配向で保持される。
【００６８】
図８は、ターボ分子ポンプ１１１のポンプ下部分１２１の第２の実施形態を、組み立てられた動作状態で示していて、図９Ａ〜図９Ｃは、第２の実施形態の製造を略示している。第２の実施形態は、図６に示され第１の実施形態と大体において類似していて、したがって、以下、特にこれらの実施形態の間の相違点について言及する。
【００６９】
図８は、ポンプ下部分１２１を示していて、ポンプ下部分１２１は、真空フィードスルーとしてのボード２４１と屈曲したチャネル２２４とを有し、チャネル２２４内には、ガスバリア２３１が配置されている。別のポンプ部分、ここではターボ分子ポンプ１１１のポンピング領域２４０を画定するポンプ上部分２４９は、ポンプ下部分１２１上に組み付けられていて、そしてシール溝２４７内に配置されたＯリングによってシールされている。
【００７０】
図９Ａが示しているように、チャネル２２４は、２つの袋穴２２７ａ，２２７ｂから作製されていて、袋穴２２７ａ，２２７ｂは、９０°の角度を成して交差し、この場合、構造的な事情を考慮すると別の角度の選択もできる。両方の袋穴２２７ａ，２２７ｂは、ポンプ下部分１２１の同一の側、ここではポンピング領域２４０の側から形成されているので、穿孔部が、ポンピング領域２４０に向かう開口２３９と、ポンプハウジング１１９に設けられた別の穿孔開口２５１とを画定する。ポンプ下部分１２１の、これとは反対の側に設けられたフライス加工部２４５が、接続開口２２５の側への屈曲したチャネル２２４の導通を完成させる。図６のチャネル２２４と比べて、ここでは、真空フィードスルーとしてのボード２４１に対する接続開口２２５をより小さく構成できる。というのも、フライス加工部２４５が、ポンプハウジング１１９の表面に対して直角を成しているからである。
【００７１】
図９Ｂは、結果として得られるチャネル２２４の全断面を示している。交差する袋穴２２７ａ，２２７ｂが、チャネル２２４の、サイホン状の屈曲した領域２２９を形成する。
【００７２】
図９Ｃは、注入方向でのガスバリア２３１としての封入材料の導入中の配向で、ポンプ下部分１２１を示している。図９Ａにおける両方の袋穴２２７ａ，２２７ｂがポンプハウジング１１９の同一の側から形成されているので、ポンプ上部分２４９は、穿孔開口２５１を封止材料２３１によってシールするために、すでに注入時に組み付けられていなければならない。開口２３９は、チャネル２２４と、ターボ分子ポンプ１１１のポンピング領域２４０との連通を確立する。
【００７３】
ガスバリア２３１をチャネル２２４に注入成形するために、ポンプ下部分１２１及びポンプ上部分２４９は、導通された接続導体２３３とともに、サイホン状に屈曲した領域２２９に接続開口２２５から封入材料２３１を充填できるように配置されている。その際、穿孔開口２５１にも同様に封入材料２３１が充填され、穿孔開口２５１は、ポンプ上部分２４９との接触によってシールされる。
【００７４】
封止材料２３１が硬化した後で、ボード２４１を、接続導体２３３のコネクタ２３５に接続し、そしてポンプ下部分１２１の接続開口２２５上に真空密に組み付けできるので、ボードは、真空室Ｖを圧力室Ｄから分離する。この場合、ポンプ下部材１２１及びポンプ上部分２４９は、ターボ分子ポンプ１１１の動作のために設定通りに方向付けられてよく、特に、ポンプ下部分１２１は下向きに、ポンプ上部分２４９は上向きに方向付けられてよい（図８）。
【００７５】
ポンプ下部分１２１の第３の実施形態が、図１０に断面図で示されていて、この種のポンプ下部分１２１を作製するためのステップが、図１１Ａ〜１１Ｃに略示されている。図示された実施形態は、ラビリンス状に複数回屈曲したチャネル２２４を有する。この場合、屈曲した領域は、一部ではポンプハウジング１１９の表面によって画定され、一部ではポンプハウジング１１９に固定されたアングル部材２５９によって画定される。
【００７６】
図１１Ａは、ポンプ下部分１２１をターボ分子ポンプ１１１のポンピング領域２４０の側から見た平面図で示していて、そして組付け前のアングル部材２５９を示している。ポンプ下部分１２１には、開いたチャネル２５３が貫通穿孔されていて、ポンプ下部分１２１は、これに隣接して、付加的に、接続導体２３３を収容するための第１の凹部２５５ａと第２の凹部２５５ｂとを有する。アングル部材２５９をポンプ下部分１２１に組み付けるために、固定領域２６０が設けられている。シール溝２５７が、開いたチャネル２５３と凹部２５５ａ，２５５ｂとを囲繞しているので、シール要素２６１を、アングル部材２５９とポンプハウジング１１９との間に配置できる。
【００７７】
図１１Ｂは、開いたチャネル２５３と凹部２５５ａ，２５５ｂとを有するポンプ下部分１２１の断面図を示している。開いた構造形態によって、全ての縁部２６２は、加工のために良好にアクセス可能である。特に、縁部２６２にバリ取り又は丸み付けを行え、これにより、接続導体２３３又は接続導体２３３の絶縁体が損傷されることはない。
【００７８】
図１１Ｃに示されているように、開いたチャネル２５３と、凹部２５５ａ，２５５ｂと、組み付けられたアングル部材２５９とが、ラビリンス状のチャネル２２４を形成し、チャネル２２４の壁部は、ポンプハウジング１１９と、ポンプハウジング１１９に取り付けられたアングル部材２５９とによって形成される。チャネル２２４は、屈曲した領域２２９を有し、領域２２９は、ガスバリア２３１、例えば封止材料を収容するために設けられている。図６又は図８に示された、チャネル２２４の第１及び第２の実施形態と比べて、開いて構成されたチャネル２５３は、その全体の延伸長さ部分にわたって、コネクタ２３５の導通を可能にする寸法を有しなくてよい。むしろ、屈曲した領域２２９は、接続導体２３３のためのスペースを提供するだけでよく、これにより、チャネルのコンパクトな寸法が可能となる。アングル部材２５９とポンプハウジング１１９との間でシール溝２５７内にガイドされるシールストリップ２６１が、チャネル２２４をシールする。
【００７９】
ガスバリア２３１としての封止材料を注入成形するために、ポンプ下部分１２１は、開いたチャネル２５３を通して接続導体２３３を導通して、ラビリンス状のチャネル２２４を形成するためにアングル部材２５９を組み付けた後に、注入成形方向に位置決めされるので、屈曲した領域２２９への注入を接続開口２２５から行える（図１１Ｄ）。シールストリップ２６１は、より低い粘度の封入材料を使用するときには領域２２９をシールするが、より高い粘度の封入材料においては省略できる。
【００８０】
封止材料２３１が硬化した後、接続導体２３３を、コネクタ２３５を介して、ボード２４１に接続でき、ボード２４１を、接続開口２２５上で真空密にポンプハウジング１１９に組み付けでき、そしてポンプ下部１２１を、ターボ分子ポンプ１１１の動作のために設定通りに方向付けて、ポンプのポンプ上部２４９に結合できる。
【００８１】
封止材料２３１を通る、接続導体２３３の絶縁体の内側及び／又は外側の表面を介する、ターボ分子ポンプ１１１のポンピング領域２４０とボード２４１との間のガス交換を回避するために、図１２における接続導体２３３は、ガスバリア２３１の領域にて、少なくとも部分的に、少なくともほぼ気密な被覆体２６５を有する。特に、ポンピング領域２４０の側又はボード２４１の側で真空領域Ｖと直接に接触している、ガスバリア２３１の端部領域では、気密な被覆体２６５は、接続導体２３３の表面又は絶縁体へのガスの進入を阻止し、ひいては接続導体２３３に沿った、封止材料２３１を通る、起こり得るガスの通過を阻止する。ここに示されているように、気密な被覆体２６５は、収縮チューブ、特に内側の接着剤を含む収縮チューブによって得られる。
【００８２】
接続導体２３３の内部を介するガス交換を阻止するために、図１２に示されているように、接続導体２３３の、ボード２４１から離反する側の端部で、ターボ分子ポンプ１１１のモータ、アクチュエータ系及び／又はセンサ系に通じる接続箇所２６７も同様に封入材料２６９に埋め込み可能である。
【符号の説明】
【００８３】
１１１  ターボ分子ポンプ
１１３  インレットフランジ
１１５  ポンプインレット
１１７  ポンプアウトレット
１１９  ポンプハウジング
１２１  ポンプ下部分
１２３  エレクトロニクスハウジング
１２５  電動モータ
１２７  アクセサリ接続部
１２９  データインタフェース
１３１  電流供給接続部
１３３  通気インレット
１３５  シールガス接続部
１３７  モータ室
１３９  冷却剤接続部
１４１  下面
１４３  ねじ
１４５  軸受カバー
１４７  固定孔
１４８  冷却剤配管
１４９  ロータ
１５１  回転軸線
１５３  ロータ軸
１５５  ロータディスク
１５７  ステータディスク
１５９  スペーサリング
１６１  ロータハブ
１６３  ホルベックロータスリーブ
１６５  ホルベックロータスリーブ
１６７  ホルベックステータスリーブ
１６９  ホルベックステータスリーブ
１７１  ホルベック間隙
１７３  ホルベック間隙
１７５  ホルベック間隙
１７９  接続チャネル
１８１  転がり軸受
１８３  永久磁石式の磁気軸受
１８５  スプラッシュナット
１８７  ディスク
１８９  インサート
１９１  ロータ側の軸受半部
１９３  ステータ側の軸受半部
１９５  リング磁石
１９７  リング磁石
１９９  軸受間隙
２０１  支持部分
２０３  支持部分
２０５  半径方向の支柱
２０７  カバー要素
２０９  支持リング
２１１  固定リング
２１３  皿ばね
２１５  非常軸受又は安全軸受
２１７  モータステータ
２１９  中間室
２２１  壁部
２２３  ラビリンスシール
２２４  チャネル
２２５  接続開口
２２６  収容室
２２７ａ  第１の袋穴
２２７ｂ  第２の袋穴
２２７ｃ  第３の袋穴
２２９  サイホン状に屈曲した領域
２３１  ガスバリア
２３３  接続導体
２３５  コネクタ
２３７  ボードに対するシール溝
２３９  ポンピング領域に向いた開口
２４０  ポンピング領域
２４１  ボード
２４３  Ｏリング
２４５  フライス加工部
２４７  ポンプ上部分に対するシール溝
２４９  ポンプ上部分
２５１  穿孔開口
２５３  開いたチャネル
２５５ａ  第１の凹部
２５５ｂ  第２の凹部
２５７  アングル部材に対するシール溝
２５９  アングル部材
２６０  固定領域
２６１  シールストリップ
２６２  縁部
２６５  気密な被覆体
２６７  モータ、アクチュエータ系、センサ系との接続箇所
２６９  接続箇所の封止材料
Ｖ  真空室
Ｄ  圧力室
Ｔ  デッドスペース