Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月21日(2021.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも表面がＩＩＩ族窒化物結晶で構成されたウエハを、ペルオキソ二硫酸イオンを含むエッチング液中に浸漬された状態で用意する工程と、
前記エッチング液を介して、前記ウエハの前記表面に、光を照射する工程と、
を有し、
前記ＩＩＩ族窒化物結晶は、波長が３１０ｎｍ以上である光が照射されることでホールが生成される組成を有し、
前記光を照射する工程では、ＳＯ４−＊ラジカルが生成された状態の前記エッチング液を介して、前記ウエハの前記表面に、波長が３１０ｎｍ以上であって、前記ＩＩＩ族窒化物結晶にホールを生成させる波長を有し、チョッピングされた光を、前記ＳＯ４−＊ラジカルの生成条件とは独立して制御されたチョッピング条件で照射する、構造体の製造方法。
【請求項２】
前記光を照射する工程では、
前記チョッピングされた光の、前記ウエハの前記表面への照射期間において、前記ＩＩＩ族窒化物結晶に含まれるＩＩＩ族元素の酸化物を生成させることと、
前記チョッピングされた光の、前記ウエハの前記表面への非照射期間において、前記照射期間に生成された前記酸化物を溶解させることと、
を交互に繰り返す、請求項１に記載の構造体の製造方法。
【請求項３】
少なくとも表面がＩＩＩ族窒化物結晶で構成されたウエハを、ペルオキソ二硫酸イオンを含むエッチング液中に浸漬された状態で収納する容器と、
前記エッチング液を介して、前記ウエハの前記表面に、光を照射する光照射装置と、
を有し、
前記ＩＩＩ族窒化物結晶は、波長が３１０ｎｍ以上である光が照射されることでホールが生成される組成を有し、
前記光照射装置は、ＳＯ４−＊ラジカルが生成された状態の前記エッチング液を介して、前記ウエハの前記表面に、波長が３１０ｎｍ以上であって、前記ＩＩＩ族窒化物結晶にホールを生成させる波長を有し、チョッピングされた光を、前記ＳＯ４−＊ラジカルの生成条件とは独立して制御されたチョッピング条件で照射する、構造体の製造装置。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】構造体の製造方法および製造装置
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月28日(2021.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル基板に載置される第１の面と前記第１の面とは反対側の第２の面とを有し、前記第１の面と前記第２の面とを貫通する貫通孔が形成されたステム本体と、
前記ステム本体の貫通孔に装着された筒状体と、
前記筒状体に挿通されて固定材で前記筒状体に固定され、一方の端部が前記ステム本体の前記第１の面から突出するリードと、
を有し、
前記筒状体は、前記ステム本体の前記第１の面よりも前記フレキシブル基板側に向かって突出し、前記リードの前記端部の外周面を囲み、前記フレキシブル基板の接地パターンに接合される突出部を有することを特徴とするステム。
【請求項２】
前記筒状体は、前記突出部と前記リードの前記端部の外周面との間に前記固定材が充填されていない空気層を有することを特徴とする請求項１に記載のステム。
【請求項３】
前記リードは、高周波信号を伝送するリードであり、
前記固定材は、前記リードとは異なる他のリードを固定するための他の固定材よりも比誘電率が低いことを特徴とする請求項１又は２に記載のステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月26日(2021.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学式Ａｌ１−ｘＹｂｘＮで表され、xの値が０より大きく０．３７より小さく、かつ格子定数比ｃ／ａが１．５３以上で１．６より小さい範囲にあることを特徴とする窒化物材料。
【請求項２】
xの値が０．２７より大きく０．３７より小さい範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の窒化物材料。
【請求項３】
格子定数比ｃ／ａが１．５３以上で１．５５５以下の範囲にあることを特徴とする請求項２に記載の窒化物材料。
【請求項４】
xの値が０より大きく０．１より小さい範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の窒化物材料。
【請求項５】
格子定数比ｃ／ａが１．５７以上で１．６より小さい範囲にあることを特徴とする請求項４に記載の窒化物材料。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項に記載の窒化物材料からなる圧電体。
【請求項７】
請求項６に記載の圧電体が基板上に設けられており、前記圧電体と前記基板との間に、少なくとも１層の中間層が設けられていることを特徴とする圧電体。
【請求項８】
前記中間層は、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、窒化インジウム、窒化チタン、窒化スカンジウム、窒化イッテルビウム、モリブデン、タングステン、ハフニウム、チタン、ルテニウム、酸化ルテニウム、クロム、窒化クロム、白金、金、銀、銅、アルミニウム、タンタル、イリジウム、パラジウムおよびニッケルの少なくとも１つを含んでいることを特徴とする請求項７に記載の圧電体。
【請求項９】
前記中間層と前記圧電体との間に、前記中間層を構成する物質と前記圧電体を構成する物質とが含まれる拡散層がさらに設けられていることを特徴とする請求項７または８に記載の圧電体。
【請求項１０】
請求項６〜９の何れか１項に記載の圧電体を用いたＭＥＭＳデバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月7日(2021.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第１結晶部材は、ウルツ鉱構造を有し、
前記第１結晶部材の＜０００１＞方向または＜０００−１＞方向は、前記第２方向に沿う、請求項１記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
前記第１結晶部材及び前記第２結晶部材は、ウルツ鉱構造を有し、
前記第１結晶部材の＜０００１＞方向または＜０００−１＞方向は、前記第２方向に沿い、
前記第２結晶部材の＜０００１＞方向または＜０００−１＞方向は、前記第２方向に沿う、請求項１２〜１５のいずれか１つに記載の半導体装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
第１電極と、
第２電極と、
第３電極と、
第４電極であって、前記第３電極から前記第４電極への第１方向は、前記第１電極から前記第２電極への第２方向と交差し、前記第３電極の前記第２方向における位置は、前記第１電極の前記第２方向における位置と、前記第２電極の前記第２方向における位置と、の間にある、前記第４電極と、
炭化シリコン、シリコン、カーボン及びゲルマニウムよりなる群から選択された少なくとも１つを含む半導体部材であって、前記半導体部材は、第１領域及び第２領域を含み、前記第１領域は、前記第２方向において前記第１電極と前記第３電極との間にあり、前記第２領域は、前記第２方向において前記第３電極と前記第２電極との間にある、前記第１領域及び前記第２領域は、前記第４電極と電気的に接続された、前記半導体部材と、
前記第２方向において、前記第１領域と前記第３電極との間に設けられた第１結晶部材と、
前記第２方向において、前記第２領域と前記第３電極との間に設けられた第２結晶部材と、
を備えた半導体装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
第１領域１１と第２部分ｐ２との間の第１部分ｐ１における不純物濃度は、第１領域１１よりも低く、第２部分ｐ２よりも低いことが好ましい。これにより、例えば、オフ電流（例えば、リーク電流）を抑制できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
半導体装置１２０において、例えば、第１結晶部材２１及び第２結晶部材２２は、ウルツ鉱構造を有する。例えば、第１結晶部材の＜０００１＞方向または＜０００−１＞方向は、第２方向（Ｘ軸方向）に沿う。第２結晶部材の＜０００１＞方向または＜０００−１＞方向は、第２方向（Ｘ軸方向）に沿う。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
第３電極５３の第２方向（Ｘ軸方向）における位置は、第１電極５１の第２方向における位置と、第２電極５２の第２方向における位置と、の間にある。例えば、Ｘ軸方向において、第３電極５３は、第１電極５１と第２電極５２との間にある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
第４電極５４の第２方向（Ｘ軸方向）における位置は、第１電極５１の第２方向における位置と、第２電極５２の第２方向における位置と、の間にある。例えば、第４電極５４は、第３電極５３の上方に設けられる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
例えば、第１領域１１のうちの第１結晶部材２１の近傍領域に、２次元電子ガス１０ｅが形成される。例えば、第２領域１２のうちの第２結晶部材２２の近傍領域に、２次元ホールガス１０ｈが形成される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
例えば、第１電極５１の電位が低電位に設定される。第２電極５２の電位が高電位に設定される。この高電位は、上記の低電位よりも高い。第３電極５３に入力信号が入力される。入力信号に応じて、第１電極５１と第４電極５４との間の抵抗状態、及び、第２電極５２と第４電極５４との間の抵抗状態が制御される。これにより、入力信号に応じた信号が第４電極５４から出力される。半導体装置１３０は、例えば、ＣＭＯＳ（Complementary metal-oxide-semiconductor）素子として機能する。半導体装置１３０において、例えば、高速のスイッチング特性が得られる。例えば、消費電力を低くできる。特性の向上が可能な半導体装置を提供できる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
結晶部材（第１結晶部材２１及び第２結晶部材２２）は、ＡｌＮを含むことが好ましい。これにより、高い耐圧が得られる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月19日(2021.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極体と、前記陽極体の表面に設けられた誘電体酸化被膜層と、前記誘電体酸化被膜層の表面に設けられた固体電解質層と、前記固体電解質層の表面に設けられた陰極体と、陽極側と陰極側とを絶縁分離する絶縁層と、を備えた複数のコンデンサ素子と、
前記複数のコンデンサ素子を被覆する外装体と、
前記陽極体の端部である陽極端子部と電気的に接続された陽極側電極層と、
前記陰極体と電気的に接続された陰極側電極層と、
前記陽極側電極層の表面に設けられた陽極側外部電極と、
前記陰極側電極層の表面に設けられた陰極側外部電極と、を有し、
前記陽極端子部は、前記陽極側電極層に入り込んでいる、
固体電解コンデンサ。
【請求項２】
前記陽極体の端部である陽極端子部と金属結合されたコンタクト層を有する、
請求項１に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項３】
前記コンタクト層は、金属粒子を高速で前記陽極端子部に衝突させて形成された、
請求項２に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項４】
前記コンタクト層では、前記金属粒子が塑性変形している、
請求項３に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項５】
前記コンタクト層と前記陽極端子部との間には、合金層があり、
前記合金層は、前記コンタクト層の金属と前記陽極端子部の金属との合金である、
請求項２から４のいずれか１項に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項６】
前記コンタクト層は、前記陽極体よりもイオン化傾向の小さい金属を含む、
請求項２から５のいずれか１項に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項７】
前記コンタクト層のヤング率は、前記外装体および前記絶縁層を構成する部材のヤング率よりも大きい、
請求項２から６のいずれか１項に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項８】
前記陽極側電極層の材料は、樹脂材料中に金属粒子が混入された導電樹脂材料である、
請求項１から７のいずれか１項に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項９】
前記陽極側電極層により被覆される前記外装体および前記絶縁層それぞれの表面の粗さＲａは、５マイクロメートル以上である、
請求項１から８のいずれか１項に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項１０】
陽極体と、陰極体と、を備えた複数のコンデンサ素子を形成する素子形成工程と、
支持基材上に、導電材を介して、前記複数のコンデンサ素子を積層する積層工程と、
前記複数のコンデンサ素子を被覆する外装体を形成する封止工程と、
前記陽極体の端部である陽極端子部が露呈した陽極端面を形成する露呈工程と、
前記陽極端子部が入り込むことで電気的に接続された陽極側電極層を形成し、かつ、前記陰極体と電気的に接続された陰極側電極層を形成する第１の電極形成工程と、
前記陽極側電極層を被覆する陽極側外部電極を形成し、かつ、前記陰極側電極層を被覆する陰極側外部電極を形成する第２の電極形成工程と、を含む、
固体電解コンデンサの製造方法。
【請求項１１】
前記陽極端子部に金属粒子を高速で衝突させてコンタクト層を形成するコンタクト層形成工程を、前記露呈工程と前記第１の電極形成工程との間にさらに含み、
前記コンタクト層形成工程では、前記コンタクト層の形成と同時に、前記陽極端面を粗化する、
請求項１０に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本開示の一態様に係る固体電解コンデンサは、陽極体と、前記陽極体の表面に設けられた誘電体酸化被膜層と、前記誘電体酸化被膜層の表面に設けられた固体電解質層と、前記固体電解質層の表面に設けられた陰極体と、陽極側と陰極側とを絶縁分離する絶縁層と、を備えた複数のコンデンサ素子と、前記複数のコンデンサ素子を被覆する外装体と、前記陽極体の端部である陽極端子部と電気的に接続された陽極側電極層と、前記陰極体と電気的に接続された陰極側電極層と、前記陽極側電極層の表面に設けられた陽極側外部電極と、前記陰極側電極層の表面に設けられた陰極側外部電極と、を有し、前記陽極端子部は、前記陽極側電極層に入り込んでいる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本開示の一態様に係る固体電解コンデンサの製造方法は、陽極体と、陰極体と、を備えた複数のコンデンサ素子を形成する素子形成工程と、支持基材上に、導電材を介して、前記複数のコンデンサ素子を積層する積層工程と、前記複数のコンデンサ素子を被覆する外装体を形成する封止工程と、前記陽極体の端部である陽極端子部が露呈した陽極端面を形成する露呈工程と、前記陽極端子部が入り込むことで電気的に接続された陽極側電極層を形成し、かつ、前記陰極体と電気的に接続された陰極側電極層を形成する第１の電極形成工程と、前記陽極側電極層を被覆する陽極側外部電極を形成し、かつ、前記陰極側電極層を被覆する陰極側外部電極を形成する第２の電極形成工程と、を含む。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月11日(2021.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外弧、内弧、および、前記外弧の端点と前記内弧の端点とを結ぶ一対の端辺で画成されるアーチ形状の断面を有し、
前記端辺によって画成される側面に設けられるとともに前記断面において前記内弧の開き角の二等分線方向に対して平行である平行基準面、および、前記外弧によって画成される外周面に設けられるとともに前記断面において前記内弧の開き角の二等分線方向に垂直な垂直基準面のうちの少なくとも前記垂直基準面を有し、
前記外周面には前記垂直基準面と隣り合う曲面が設けられている、永久磁石。
【請求項２】
前記断面において、前記内弧の開き角の二等分線方向に関する前記平行基準面の長さをｈとし、前記内弧の端点を通りかつ前記内弧の開き角の二等分線方向に平行な第１の基準線における長さをＨとしたときに、０．３≦ｈ／Ｈ≦０．８である、請求項１に記載の永久磁石。
【請求項３】
前記断面において、前記内弧の開き角の二等分線方向に直交する方向に関する前記垂直基準面の長さをｗとし、前記外弧の端点を通りかつ前記内弧の開き角の二等分線方向に直交する第２の基準線における長さをＷとしたときに、０．３≦ｗ／Ｗ≦０．８である、請求項１または２に記載の永久磁石。
【請求項４】
前記断面において前記内弧側に位置する仮想中心を基準に放射状に着磁されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の永久磁石。
【請求項５】
前記内弧の開き角θの範囲が１０°≦θ≦９０°である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の永久磁石。
【請求項６】
前記平行基準面および前記垂直基準面の両方を備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載の永久磁石。
【請求項７】
シャフトと該シャフトを囲むように複数の永久磁石が取り付けられるロータコアとを有するロータと、該ロータの外周に配置された複数のコイルを有するステータとを備える回転電機であって、
前記永久磁石が、外弧、内弧、および、前記外弧の端点と前記内弧の端点とを結ぶ一対の端辺で画成されるアーチ形状の断面を有し、前記外弧によって画成される外周面に設けられるとともに前記断面において前記内弧の開き角の二等分線方向に対して平行である平行基準面、および、前記端辺によって画成される側面に設けられるとともに前記断面において前記内弧の開き角の二等分線方向に垂直な垂直基準面のうちの少なくとも前記垂直基準面を備え、
前記外周面には前記垂直基準面と隣り合う曲面が設けられている、回転電機。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月21日(2021.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交流電力が入力される１次側コイル（２１）を有する送電機器（２０）から前記交流電力を受電可能であり、負荷（１６）に電力を供給し、車両（１５）に搭載された受電機器（３０）であって、
前記１次側コイルから非接触で受電可能な２次側コイル（３１）と、
前記２次側コイルに接続され、該２次側コイルとともに共振回路（３３）を構成するコンデンサ（３２）と、
入出力の一方が、前記コンデンサに接続され、他方が前記負荷に接続されたフィルタ回路（４０）と、を備えており、
前記フィルタ回路において、前記送電機器に対して前記受電機器が最も離れると想定される位置での前記負荷の出力電圧及び出力電力に基づき、予め定めた所定以上の電力伝送効率になるように、フィルタ定数が調整されており、
前記コンデンサは、前記２次側コイルに直列に接続されており、
前記フィルタ回路は、インダクタ（４１）とキャパシタ（４２）とインダクタ（４１）がＴ字状に接続されたイミタンスフィルタであり、
前記フィルタ定数は、下記式（１）に基づいて算出された算出値ｘ又はその算出値ｘを含む所定の範囲内に調整されている受電機器。
【数１】
2020096496.tif 000001
ここで、Ｖｂは前記負荷への出力電圧であり、Ｐｏｕｔは前記負荷での出力電力であり、ω０は前記交流電力の周波数であり、ｋは前記１次側コイルと前記２次側コイルの結合係数であり、Ｌ１は前記１次側コイルのインダクタンスであり、Ｌ２は前記２次側コイルのインダクタンスであり、ｒ１は前記１次側コイルの内部抵抗であり、ｒ２は前記２次側コイルの内部抵抗である。
【請求項２】
前記フィルタ定数は、前記算出値ｘの６０〜１６０％の範囲内になるように調整されている請求項１に記載の受電機器。
【請求項３】
前記車両の床部に設けられた受電機器であって、
前記結合係数は、前記車両の車高が最大値である場合の値になっている請求項１又は請求項２に記載の受電機器。
【請求項４】
前記フィルタ定数は、前記算出値ｘの６０〜１００％の範囲内になるように調整されている請求項３に記載の受電機器。
【請求項５】
前記２次側コイルと前記負荷との間にインピーダンス可変装置が設けられていない請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の受電機器。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月19日(2020.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】フィルタ回路、
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルタ回路であって、
入力部及び出力部を有するラダー型フィルタと、
前記入力部と前記出力部との間で前記ラダー型フィルタと並列接続されたループ回路と
を含み、
前記ラダー型フィルタは、
前記入力部と前記出力部との間の信号経路に沿って直列に接続された複数の直列腕弾性波素子と、
前記信号経路とグランドとの間に接続された複数の並列腕弾性波素子と
を含み、
各直列腕弾性波素子及び各並列腕弾性波素子がバルク弾性波素子であり、
前記ループ回路は、弾性波フィルタ、第１キャパシタ、第２キャパシタ、第３キャパシタ及び第４キャパシタを含み、
前記第１キャパシタは前記入力部に接続され、
前記第２キャパシタは前記出力部に接続され、
前記弾性波フィルタは前記第１キャパシタと前記第２キャパシタとの間に直列に接続され、
前記弾性波フィルタは、第１弾性波素子、第２弾性波素子、第３弾性波素子及び第４弾性波素子を含み、
前記第３キャパシタは前記第３弾性波素子と前記入力部との間に接続され、
前記第４キャパシタは前記第４弾性波素子と前記出力部との間に接続され、
前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子はそれぞれが信号電極及びグランド電極を有するとともに、前記信号電極から前記グランド電極への方向が、前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子のそれぞれにおいて同じ向きとなるように配列される、フィルタ回路。
【請求項２】
各バルク弾性波素子が圧電薄膜共振器である、請求項１のフィルタ回路。
【請求項３】
各バルク弾性波素子が音響多層膜共振器である、請求項１のフィルタ回路。
【請求項４】
前記弾性波フィルタは縦結合型弾性表面波フィルタであり、
前記ループ回路の前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子はそれぞれが弾性表面波素子である、請求項１のフィルタ回路。
【請求項５】
前記第３弾性波素子及び前記第４弾性波素子はそれぞれが信号電極及びグランド電極を含み、
前記第１弾性波素子、前記第２弾性波素子及び前記第３弾性波素子は、前記信号電極から前記グランド電極への方向が第１方向となるように配列され、
前記第４弾性波素子は、前記信号電極から前記グランド電極への方向が、前記第１方向とは逆の第２方向となるように配列される、請求項１のフィルタ回路。
【請求項６】
前記ループ回路の前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子はそれぞれがバルク弾性波素子である、請求項１のフィルタ回路。
【請求項７】
前記ループ回路の前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子はそれぞれが圧電薄膜共振器である、請求項６のフィルタ回路。
【請求項８】
前記ループ回路の前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子はそれぞれが音響多層膜共振器である、請求項６のフィルタ回路。
【請求項９】
フィルタ回路であって、
入力部と出力部との間の信号経路に沿って直列に接続された複数の直列腕弾性波素子を含むラダー型フィルタと、
第１キャパシタ、第２キャパシタ、及び前記第１キャパシタと前記第２キャパシタとの間に接続された弾性波フィルタを含むループ回路と
を含み、
前記ラダー型フィルタはさらに、前記信号経路とグランドとの間に接続された複数の並列腕弾性波素子を含み、
前記第１キャパシタは前記入力部に接続され、
前記第２キャパシタは前記信号経路に沿ったノードに接続され、
前記複数の並列腕弾性波素子の第１並列腕弾性波素子が前記ノードと前記グランドとの間に接続され、
前記複数の直列腕弾性波素子の一つの直列腕弾性波素子が前記ノードと前記出力部との間に接続され、
前記弾性波フィルタは第１弾性波素子及び第２弾性波素子を含み、
前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子はそれぞれが信号電極及びグランド電極を有するとともに、前記信号電極から前記グランド電極への方向が前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子のそれぞれにおいて同じ向きとなるように配列される、フィルタ回路。
【請求項１０】
各直列腕弾性波素子及び各並列腕弾性波素子はバルク弾性波素子である、請求項９のフィルタ回路。
【請求項１１】
各バルク弾性波素子は圧電薄膜共振器及び音響多層膜共振器の一方である、請求項１０のフィルタ回路。
【請求項１２】
前記弾性波フィルタは縦結合型弾性表面波フィルタであり、
前記ループ回路の前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子はそれぞれが弾性表面波素子である、請求項９のフィルタ回路。
【請求項１３】
前記ループ回路の前記第１弾性波素子及び前記第２弾性波素子はそれぞれがバルク弾性波素子である、請求項９のフィルタ回路。
【請求項１４】
各バルク弾性波素子は圧電薄膜共振器及び音響多層膜共振器の一方である、請求項１３のフィルタ回路。
【請求項１５】
フィルタ回路であって、
複数の一次弾性波素子を含む一次フィルタと、
第１キャパシタ、第２キャパシタ、及び前記第１キャパシタと前記第２キャパシタとの間に直列に接続された弾性波フィルタを含むループ回路と
を含み、
前記複数の一次弾性波素子は、前記一次フィルタに通過帯域及び阻止帯域を与えるように構成及び配列され、
前記複数の一次弾性波素子は、
前記フィルタ回路の入力部と前記フィルタ回路の出力部との間の信号経路に沿って直列に接続された複数の直列腕弾性波素子と、
前記信号経路とグランドとの間に接続された複数の並列腕弾性波素子と
を含み、
前記第１キャパシタは前記一次フィルタの入力部に接続され、
前記第２キャパシタは前記一次フィルタの信号経路に沿ったノードに接続され、
前記複数の並列腕弾性波素子の第１並列腕弾性波素子が前記ノードと前記グランドとの間に接続され、
前記複数の直列腕弾性波素子のうちの少なくとも一つの直列腕弾性波素子が前記ノードと前記一次フィルタの出力部に接続され、
前記弾性波フィルタは第１二次弾性波素子及び第２二次弾性波素子を含み、
前記第１二次弾性波素子及び前記第２二次弾性波素子はそれぞれが信号電極及びグランド電極を有するとともに、前記信号電極から前記グランド電極への方向が前記第１二次弾性波素子及び前記第２二次弾性波素子それぞれにおいて同じ向きとなるように配列され、
前記ループ回路は、前記一次フィルタの前記阻止帯域における信号の一部分を、信号の位相をキャンセルすることにより減衰させるように構成される、フィルタ回路。
【請求項１６】
前記ループ回路の前記弾性波フィルタは縦結合型弾性表面波フィルタであり、
前記第１二次弾性波素子及び前記第２二次弾性波素子はそれぞれが弾性表面波素子である、請求項１５のフィルタ回路。
【請求項１７】
各一次弾性波素子は圧電薄膜共振器及び音響多層膜共振器の一方である、請求項１５のフィルタ回路。
【請求項１８】
各一次弾性波素子は圧電薄膜共振器であり、
前記複数の一次弾性波素子及び前記弾性波フィルタは共通基板上に形成される、請求項１５のフィルタ回路。
【請求項１９】
前記ラダー型フィルタの前記複数の直列腕弾性波素子及び前記複数の並列腕弾性波素子と、前記ループ回路の前記弾性波フィルタとが共通基板上に形成される、請求項１又は１０のフィルタ回路。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月20日(2020.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リチウムイオン二次電池
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の領域と、前記第１の領域の外側に位置する第２の領域と、を有する正極活物質を備えたリチウムイオン二次電池であって、
前記第１の領域は、リチウムと、元素Ｍと、酸素と、を有し、
前記元素Ｍは、コバルト、マンガン、およびニッケルより選ばれる一以上の元素であり、
前記第２の領域は、前記元素Ｍと、酸素と、マグネシウムと、フッ素と、を有し、
前記元素Ｍに対する前記リチウムの原子数比（Ｌｉ／Ｍ）は、０．５以上０．８５以下であり、
前記元素Ｍに対する前記マグネシウムの原子数比（Ｍｇ／Ｍ）は、０．２以上０．５以下であるリチウムイオン二次電池。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２の領域の厚さは０．５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であるリチウムイオン二次電池。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の領域は、層状岩塩型の結晶構造を有し、
前記第２の領域は、岩塩型の結晶構造を有するリチウムイオン二次電池。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第１の領域の結晶構造は、空間群Ｒ−３ｍで表され、
前記第２の領域の結晶構造は、空間群Ｆｍ−３ｍで表されるリチウムイオン二次電池。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記元素Ｍに対する前記フッ素の原子数比（Ｆ／Ｍ）は、０．０２以上０．１５以下であるリチウムイオン二次電池。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記元素Ｍはコバルトであるリチウムイオン二次電池。
【請求項７】
第１の領域と、前記第１の領域の外側に位置する第２の領域と、を有する正極活物質を備えたリチウムイオン二次電池であって、
前記第１の領域は、リチウムと、元素Ｍと、酸素と、を有し、
前記元素Ｍは、コバルト、マンガン、およびニッケルより選ばれる一以上の元素であり、
前記第２の領域は、前記元素Ｍと、酸素と、マグネシウムと、フッ素と、を有し、
前記正極活物質は、複数の原料を用いて形成され、
前記複数の原料が有する元素Ｍの原子数の合計に対する、前記複数の原料が有するリチウムの原子数の合計の比（Ｌｉ／Ｍ）は、１．０２より大きく１．０５より小さいリチウムイオン二次電池。
【請求項８】
請求項７において、
前記複数の材料が有する元素Ｍの原子数の合計に対する、前記複数の原料が有するマグネシウムの原子数は、０．００５以上０．０５以下であるリチウムイオン二次電池。
【請求項９】
請求項７または請求項８において、
前記複数の材料が有する元素Ｍの原子数の合計に対する、前記複数の原料が有するフッ素の原子数は、０．０１以上０．１以下であるリチウムイオン二次電池。
【請求項１０】
請求項７乃至請求項９のいずれか一において、
前記複数の原料の一は、元素Ｍを有する化合物であり、
前記複数の原料の他の一は、リチウムを有する化合物であり、
前記複数の原料の他の一は、マグネシウムを有する化合物であるリチウムイオン二次電池。
【請求項１１】
請求項７乃至請求項１０のいずれか一において、
前記第２の領域の厚さは、０．５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であるリチウムイオン二次電池。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月29日(2021.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表地及び裏地を有した衣服本体と、前記表地及び裏地の間を挿通する配線部材とを備え、
前記配線部材が、並列に設けられた複数の長尺箔状をなす配線要素からなる並列線部と、各配線要素の端部がまとめて接続される短尺の節部とが交互に形成されたものであることを特徴とする配線付き衣服。
【請求項２】
前記配線部材の一端部と他端部は、衣服本体に設定された２ヶ所にそれぞれ取り付けられている一方、その中間部は、表地及び裏地の間に固定されることなく、又は１以上の箇所で衣服本体に取り付けられていることを特徴とする請求項１記載の配線付き衣服。
【請求項３】
前記配線部材が、螺旋状または螺旋を潰して扁平にした形状をなすものである請求項１又は２記載の配線付き衣服。
【請求項４】
前記節部が短尺箔状をなし、該節部から一体に前記配線要素が延伸させてある請求項１ないし３いずれか記載の配線付き衣服。
【請求項５】
衣服本体の表地及び裏地の間を挿通する衣服用配線部材であって、
並列に設けられた複数の配線要素からなる長尺の並列線部と、各配線要素の端部がまとめて接続される短尺の節部とが交互に形成されたものであり、
前記配線要素が長尺箔状をなすものであることを特徴とする衣服用配線部材。
【請求項６】
表地及び裏地を有した衣服本体と、前記表地及び裏地の間を挿通する配線部材とを備え、
前記配線部材が、長尺箔状をなし、かつ、螺旋状または螺旋を潰して扁平にした形状をなすものであることを特徴とする配線付き衣服。
【請求項７】
衣服本体の表地及び裏地の間を挿通する衣服用配線部材であって、
長尺箔状をなし、かつ、螺旋状または螺旋を潰して扁平にした形状をなすものであることを特徴とする衣服用配線部材。
【請求項８】
長尺箔状をなし、かつ、螺旋状または螺旋を潰して扁平にした形状をなすものであることを特徴とする配線部材。
【請求項９】
並列に設けられた複数の長尺箔状をなす配線要素からなる並列線部と、各配線要素の端部がまとめて接続される短尺の節部とが交互に形成されたものであることを特徴とする配線部材。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月10日(2021.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品の金属端子がハンダボールを介して基板上の通電部に接するように基板表面に載せて、リフロー炉内で加熱することによって、該電子部品を基板にハンダ付けする、表面実装電子部品のハンダ付け方法であって、
前記表面実装電子部品がポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を成形して得られる成形品と、金属端子とを備えるものであること、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物が、
ポリアリーレンスルフィド樹脂と、
無機質充填剤、前記ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び２以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも１種の他の成分と、
を含有すること、かつ、ポリアリーレンスルフィド樹脂１００質量部に対し、前記他の成分が１〜３００質量部であること、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、前記ジヨード芳香族化合物、前記単体硫黄及び前記重合禁止剤を含む溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ることのできるものであること、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、前記重合禁止剤に由来するカルボキシル基及びカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有すること、
を特徴とするハンダ付け方法。
【請求項２】
ハンダが、鉛フリーはんだである、請求項１に記載のハンダ付け方法。
【請求項３】
前記基板が、プリント印刷された配線基板または回路基板である、請求項１又は２に記載のハンダ付け方法。
【請求項４】
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、
主鎖中に下記一般式（２０）
【化１】
2021113319.tif 000001
で表されるジスルフィド結合を有するポリアリーレンスルフィド樹脂と、該ポリアリーレンスルフィド樹脂に対し０．０１〜１０，０００ｐｐｍの範囲となる割合でヨウ素原子を含む混合物である、請求項１〜３の何れか一項記載のハンダ付け方法。
【請求項５】
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、
末端に下記一般式（ａ）
【化５】
2021113319.tif 000002
で表される一価の基、下記一般式（ｂ）
【化６】
2021113319.tif 000003
で表される一価の基、又は下記一般式（ｃ）
【化７】
2021113319.tif 000004
（ただし、一般式（ａ）〜（ｃ）中のＸは、水素原子又はアルカリ金属原子である。一般式（ｂ）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜６のアルキレン基を表す。一般式（ｃ）中、Ｒ１１は炭素原子数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒ１２は炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）〕で表される一価の基を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のハンダ付け方法。
【請求項６】
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、０．８０〜１．７０のＭｗ／Ｍｔｏｐを有し、
前記Ｍｗ及びＭｔｏｐはそれぞれゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量及びピーク分子量である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のハンダ付け方法。
【請求項７】
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、３００℃における０．９５〜１．７５の非ニュートニアン指数、及び、０．８０〜１．７０のＭｗ／Ｍｔｏｐを有し、
前記Ｍｗ及びＭｔｏｐはそれぞれゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量及びピーク分子量である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のハンダ付け方法。
【請求項８】
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物はペレット状である、請求項１〜７の何れか一項記載のハンダ付け方法。
【請求項９】
前記重合禁止剤が、下記一般式（３）、（４）または（５）
【化９】
2021113319.tif 000005
【化１０】
2021113319.tif 000006
【化１１】
2021113319.tif 000007
〔式中、一般式（３）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、又は、下記一般式（ａ）、（ｂ）若しくは（ｃ）で表される一価の基を表し、Ｒ１又はＲ２の少なくともいずれか一方は一般式（ａ）、（ｂ）又は（ｃ）で表される一価の基である。一般式（４）中、Ｚは、ヨウ素原子又はメルカプト基を表し、Ｒ３は、下記一般式（ａ）、（ｂ）又は（ｃ）で表される一価を表す。一般式（５）中、Ｒ４は、一般式（ａ）、（ｂ）又は（ｃ）で表される一価の基を表す。
【化１２】
2021113319.tif 000008
【化１３】
2021113319.tif 000009
【化１４】
2021113319.tif 000010
（ただし、一般式（ａ）〜（ｃ）中のＸは、水素原子又はアルカリ金属原子である。一般式（ｂ）中、Ｒ１０は炭素原子数１〜６のアルキレン基を表す。一般式（ｃ）中、Ｒ１１は炭素原子数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒ１２は炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）〕で表される化合物を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載のハンダ付け方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月28日(2021.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光ドラムと、前記感光ドラムを露光するレーザ光が通過する長尺の透明窓を備える光走査装置と、を有し、前記レーザ光に走査されることによって前記感光ドラムに形成される静電潜像をトナーによって現像し、現像されたトナー像を記録媒体に転写し、記録媒体上に転写されたトナー像を定着する画像形成手段であって、前記感光ドラムにトナー像を形成するための画像形成条件を調整する調整シーケンスとして記録感光ドラム上に濃度が異なる複数のトナー像を形成する前記画像形成手段と、
前記透明窓を清掃する清掃部材と、
前記清掃部材を前記透明窓の長手方向における前記透明窓の一端側と前記長手方向における前記透明窓の他端側とに移動させる清掃機構と、を備え、
前記調整シーケンスにおいて、前記画像形成手段は、前記清掃機構が前記清掃部材を移動させることによる前記透明窓の清掃動作が完了した後、前記複数のトナー像を前記感光ドラムに形成することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記調整シーケンスにおいて、前記清掃機構に前記清掃動作をさせるか否かを選択可能であって、
前記清掃機構による前記清掃動作が行われる清掃モードが選択された場合、前記画像形成手段は、前記清掃機構による前記清掃動作が完了した後、前記複数のトナー像を前記感光ドラムに形成し、
前記清掃モードが選択されなかった場合、前記清掃機構による前記清掃動作が行われることなく、前記画像形成手段が前記複数のトナー像を前記感光ドラムに形成することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記清掃機構に前記清掃動作をさせるか否かを選択可能であって、
前記調整シーケンスにおいて、
前記清掃機構による前記清掃動作が行われる清掃モードが選択されていた場合、前記画像形成手段は、前記清掃機構による前記清掃動作が完了した後、前記複数のトナー像を前記感光ドラムに形成し、
前記清掃モードが選択されていなかった場合、前記清掃機構による前記清掃動作が行われることなく、前記画像形成手段が前記複数のトナー像を前記感光ドラムに形成することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
ユーザが前記清掃モードを選択するための選択画面を表示する表示部を備え、
ユーザは前記表示部を介して前記清掃モードを選択可能であることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
画像形成装置本体の内部の温度を検知する検知部と、
前記調整シーケンスが実行されたことに応じて、前記検知部が検知した温度を記憶する温度記憶部と、を備え、
前記検知部が検知した温度と前記温度記憶部に記憶された温度との差の絶対値が所定の値よりも大きい場合に、前記調整シーケンスが実行されることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記画像形成手段によって画像形成された記録媒体のページ数をカウントするカウンタを備え、
前記カウンタの値は前記調整シーケンスが実行されたことに応じてリセットされ、かつ前記カウンタの値が所定の値に達したことに応じて前記調整シーケンスが実行されることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記感光ドラムに現像されたトナー像が転写されることによって画像形成された記録媒体の枚数をカウントするカウンタを備え、
前記調整シーケンスは前記カウンタの値が所定の値に到達したことに応じて実行され、かつ前記調整シーケンスが実行されたことに応じて前記カウンタの値はリセットされることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記画像形成手段が前記感光ドラムに現像したトナー像から当該トナー像の濃度に関する濃度情報を検知する濃度検知手段を備え、
前記濃度検知手段によって検知した前記濃度情報に基づいて前記感光ドラムを走査するレーザ光の光量が調整されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記感光ドラムに形成されたトナー像が転写される中間転写ベルトと、
前記中間転写ベルトに転写された前記トナー像から当該トナー像の濃度に関する濃度情報を検知する濃度検知手段と、を備え、
前記濃度検知手段によって検知した前記濃度情報に基づいて前記感光ドラムを走査するレーザ光の光量が調整されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記清掃機構は、前記清掃部材を前記透明窓の長手方向における一端側と前記長手方向における前記透明窓の他端側とに往復移動させることにより、前記清掃部材に前記透明窓を清掃させる、ことを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明に係る画像形成装置の代表的な構成は、感光ドラムと、前記感光ドラムを露光するレーザ光が通過する長尺の透明窓を備える光走査装置と、を有し、前記レーザ光に走査されることによって前記感光ドラムに形成される静電潜像をトナーによって現像し、現像されたトナー像を記録媒体に転写し、記録媒体上に転写されたトナー像を定着する画像形成手段であって、前記感光ドラムにトナー像を形成するための画像形成条件を調整する調整シーケンスとして記録感光ドラム上に濃度が異なる複数のトナー像を形成する前記画像形成手段と、前記透明窓を清掃する清掃部材と、前記清掃部材を前記透明窓の長手方向における前記透明窓の一端側と前記長手方向における前記透明窓の他端側とに移動させる清掃機構と、を備え、前記調整シーケンスにおいて、前記画像形成手段は、前記清掃機構が前記清掃部材を移動させることによる前記透明窓の清掃動作が完了した後、前記複数のトナー像を前記感光ドラムに形成することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月2日(2021.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学イメージング装置において、
第１の光スキャニング素子と、
第２の光スキャニング素子と、
対物レンズと、
前記第１の光スキャニング素子を含んでいる第１の光路を介して、前記対物レンズに照明光を送出する照明源と、
光検出器と、
を含んでおり、
前記第１の光スキャニング素子は、前記照明光を前記対物レンズの周縁領域へと再方向付け、それによって前記照明光は、前記対物レンズを通過し、組織において斜めのイメージング面を形成し、前記組織における前記斜めのイメージング面の位置は、前記第１の光スキャニング素子の向きに応じて変化し、
前記対物レンズは、前記斜めのイメージング面からの戻り光を受け取って、該戻り光を、前記第２の光スキャニング素子を含んでいる第２の光路に送り、前記第２の光スキャニング素子は、固定の傾斜した中間イメージ面を形成するために、前記戻り光を前記第２の光路に沿って進ませ、
前記光検出器は、前記固定の傾斜した中間イメージ面のイメージを捕捉し、
前記光学イメージング装置は、さらに、前記第１の光路および前記第２の光路の両方に配置されている望遠鏡を含んでおり、
前記照明光は、前記望遠鏡に到達する前に、単一の反射表面に到達し、
前記照明光は、前記対物レンズに到達する前に、前記望遠鏡に到達し、
前記戻り光は、前記望遠鏡に到達する前に、前記対物レンズに到達し、
前記戻り光は、前記単一の反射表面に到達する前に、前記望遠鏡に到達する、
光学イメージング装置。
【請求項２】
前記単一の反射表面が、前記第１の光スキャニング素子としても、前記第２の光スキャニング素子としても使用される、
請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記装置は、さらに、前記第１の光路に配置されている照明望遠鏡と、前記第２の光路に配置されている戻り光望遠鏡と、を含んでおり、
前記照明光は、前記照明望遠鏡に到達する前に、前記第１の光スキャニング素子に到達し、
前記照明光は、前記対物レンズに到達する前に、前記照明望遠鏡に到達し、
前記戻り光は、前記戻り光望遠鏡に到達する前に、前記対物レンズに到達し、
前記戻り光は、前記第２の光スキャニング素子に到達する前に、前記戻り光望遠鏡に到達する、
請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記第１の光スキャニング素子および前記第２の光スキャニング素子は、機械的に相互に独立している、
請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記第１の光スキャニング素子および前記第２の光スキャニング素子は、機械的に相互に独立している、
請求項２記載の装置。
【請求項６】
前記光検出器は、前記固定の傾斜した中間イメージ面に直接的に位置決めされている、
請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記光検出器は、前記固定の傾斜した中間イメージ面から離れた場所に位置決めされており、
前記光学イメージング装置は、さらに、前記固定の傾斜した中間イメージ面からの光を前記光検出器へと進ませる少なくとも１つの望遠鏡を含んでいる、
請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記光検出器は、前記固定の傾斜した中間イメージ面から離れた場所に位置決めされており、
前記光学イメージング装置は、さらに、前記固定の傾斜した中間イメージ面からの光を前記光検出器へと進ませる光ファイババンドルを含んでいる、
請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記照明源は、ペンシルビームを生成するレーザと、前記ペンシルビームを光のシートへと拡張させる補助光スキャニング素子と、を含んでおり、
前記光検出器は、線形イメージセンサを含んでいる、
請求項１記載の装置。
【請求項１０】
前記照明源は、ペンシルビームを生成するレーザと、前記ペンシルビームを光のシートへと拡張させるシリンドリカルレンズと、を含んでおり、
前記光検出器は、２Ｄイメージセンサを含んでいる、
請求項１記載の装置。
【請求項１１】
前記戻り光は、前記照明光による前記斜めのイメージング面における前記組織の照明に応答して、前記斜めのイメージング面において前記組織から放出された蛍光を含んでいる、
請求項１記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月15日(2021.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄水源から供給される洗浄水により便器を洗浄して汚物を排出する水洗大便器であって、
ボウル形状の汚物受け面と、この汚物受け面の上部に形成されたリム部と、上記汚物受け面の上端部に形成された棚部と、汚物受け面の下方に形成された溜水部と、を備えるボウル部と、
上記溜水部にその入口が接続され汚物を排出する排水路と、
上記ボウル部に洗浄水を吐水して上記汚物受け面上に旋回流を形成する吐水口部と、を備え、
上記ボウル部の上記汚物受け面は、上記汚物受け面の先端部と、上記溜水部の先端部よりも後方側との間において、前方側に向かって拡がるように形成された扇形の凹部を形成し、
上記汚物受け面の扇形の凹部は、その横方向の両側にそれぞれ前後方向に延びる端部を有し、上記ボウル部の前後方向に延びる中心線に対して直交する横方向に沿った断面において、上記凹部の上端部とこの凹部に接続された上記汚物受け面の下端部である接続部との間が凸状の曲面により接続され、この凸状の曲面が上記扇形の凹部の端部となり、この凹部の端部が、上記凹部の上端部を通る接線と上記汚物受け面の接続部を通る接線とが交わる変曲点により決定される前後方向に延びる仮想線の下方に位置するように形成され、
上記汚物受け面の凹部は、凹部の中央底面から凹部の端部までの高さが、上記汚物受け面の前方から後方に向けて増大するように形成されていることを特徴とする水洗大便器。
【請求項２】
上記ボウル部の上記汚物受け面の上記凹部は、左右方向の断面における上記凹部の中央底面の曲率半径が、上記汚物受け面の先端部から上記溜水部の先端部に向かって減少するように形成されている請求項１に記載の水洗大便器。
【請求項３】
上記ボウル部の上記汚物受け面の上記凹部は、３０度〜１２０度の範囲の中心角により形成される扇形として形成されている請求項１又は２に記載の水洗大便器。
【請求項４】
上記ボウル部の上記汚物受け面の上記凹部は、上記溜水部の先端部近傍の左右方向の断面における上記凹部の中央底面の曲率半径が、１０〜１２０の範囲に形成されている請求項１乃至３の何れか１項に記載の水洗大便器。
【請求項５】
上記ボウル部の上記汚物受け面の上記凹部は、上記凹部の上記中央底面から、上記汚物受け面の上端部に設けられた棚部までの高さが、上記汚物受け面の先端部から上記溜水部の先端部に向かって増大するように形成されている請求項１乃至４の何れか１項に記載の水洗大便器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明は、洗浄水源から供給される洗浄水により便器を洗浄して汚物を排出する水洗大便器であって、ボウル形状の汚物受け面と、この汚物受け面の上部に形成されたリム部と、汚物受け面の上端部に形成された棚部と、汚物受け面の下方に形成された溜水部と、を備えるボウル部と、溜水部にその入口が接続され汚物を排出する排水路と、ボウル部に洗浄水を吐水して汚物受け面上に旋回流を形成する吐水口部と、を備え、ボウル部の上記汚物受け面は、汚物受け面の先端部と、溜水部の先端部よりも後方側との間において、前方側に向かって拡がるように形成された扇形の凹部を形成し、汚物受け面の扇形の凹部は、その横方向の両側にそれぞれ前後方向に延びる端部を有し、ボウル部の前後方向に延びる中心線に対して直交する横方向に沿った断面において、凹部の上端部とこの凹部に接続された汚物受け面の下端部である接続部との間が凸状の曲面により接続され、この凸状の曲面が扇形の凹部の端部となり、この凹部の端部が、凹部の上端部を通る接線と汚物受け面の接続部を通る接線とが交わる変曲点により決定される前後方向に延びる仮想線の下方に位置するように形成され、汚物受け面の凹部は、凹部の中央底面から凹部の端部までの高さが、汚物受け面の前方から後方に向けて増大するように形成されていることを特徴としている。
このように構成された本発明においては、汚物受け面上を旋回する洗浄水を、溜水部から拡がるように形成された扇形の凹部により比較的広い領域から溜水部に向かって導きやすくすることができ、扇形の凹部によって導かれる洗浄水が溜水部の先端に向かって集められ、それにより、溜水部内に汚物を押し込む比較的強い押し込み流を発生させることができ、汚物排出性能を向上させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
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