【手続補正書】
【提出日】令和3年8月24日(2021.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素含有表面層の厚さが３００〜６００ｎｍであり、水との接触角が９〜５４°であり、メチレンブルー、メチルオレンジ、およびローダミンＢの全てで染色可能なポリカーボネート樹脂基材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材
【技術分野】
【０００１】  本発明は、フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材に関する。さらに詳しくは、例えば、染色可能なフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材に関する。
【背景技術】
【０００２】  ポリカーボネートは、強度が高いため、その強度を利用し、眼鏡用レンズや建材、各種生活道具等に利用されている。このポリカーボネートが使用される種々の用途で、着色の要求がある。【０００３】  しかし、各種樹脂材料の中で、ポリカーボネートは難染色性の材料であり、現在、ポリカーボネー着色するためには、顔料や染料の練り込みや、界面活性剤を用いた比較的高温での染色、表面に着色樹脂フィルムを貼り付ける等の方法が行われている（特許文献１、２等）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−３３１１０４号公報
【特許文献２】特表２００５−５０８４５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】  上述のように、ポリカーボネートは、そのままでは染色が困難である。また、吸水性が低く、十分な量の極性溶媒を、表面に担持することができない。従来、ポリカーボネートを染色するためには、界面活性剤等を利用した上で、高温にする等の量産に適さない製造条件が、必要であった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】  したがって、本発明は、染色可能なポリカーボネート樹脂を提供することを目的とする。【０００７】  すなわち、本発明は、下記のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材、およびフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材の製造方法に関する。〔１〕Ｘ線光電分光法分析で、２８６〜２８８ｅＶに示されるＣ−Ｃ結合のピーク高さ１に対して、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、２〜５０である表面層を有することを特徴とする、フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材。〔２〕Ｘ線光電分光法分析で、２８６〜２８８ｅＶに示されるＣ−Ｃ結合のピーク高さ１に対して、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、２〜５０である表面層の厚さが、１０〜５０００ｎｍである、上記〔１〕記載のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材。〔３〕Ｘ線光電分光法分析で、５３５〜５４０ｅＶの領域にカーボネート基またはフッ素化による影響を受けたカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来の、半値幅が５ｅＶ以下のピークが少なくともひとつ存在し、５３５〜５４０ｅＶの半値幅が５ｅＶ以下のピーク高さを１としたとき、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、０．５〜１．５である表面層を有する、上記〔１〕または〔２〕記載のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材。〔４〕Ｘ線光電分光法分析で、５３５〜５４０ｅＶの領域にカーボネート基またはフッ素化による影響を受けたカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来の、半値幅が５ｅＶ以下のピークが少なくともひとつ存在し、５３５〜５４０ｅＶの半値幅が５ｅＶ以下のピーク高さを１としたとき、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、０．５〜１．５である表面層の厚さが、１０〜５０００ｎｍである、上記〔１〕〜〔３〕のいずれか記載のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材。〔５〕ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを、純度が７０％以上のフッ素ガス雰囲気下、０．１〜５０ｋＰａの減圧下で、接触させるフッ素処理の６０分後の水との接触角をθｗ０と、グリセリンとの接触角をθＧ１とし、フッ素処理の７２時間後の水との接触角をθｗ７２と、グリセリンとの接触角をθＧ７２としたとき、〔（θｗ７２）／（θｗ０）〕／〔（θＧ７２）／（θＧ０）〕が、１．１〜１０である表面層を有する、フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材。〔６〕ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを、純度が７０％以上のフッ素ガス雰囲気下、０．１〜３ｋＰａの減圧下で、接触させる、上記〔１〕〜〔５〕のいずれか記載のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材の製造方法。〔７〕ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させる際のフッ素ガスの温度が、０〜１００℃である、上記〔６〕記載のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】  本発明〔１〕によれば、親水性であり、染色可能な表面を有するポリカーボネート樹脂基材を提供することができる。本発明〔６〕によれば、従来技術より低温で、かつ界面活性剤等の助剤の添加を使用せずに、親水性で、染色可能な表面を有するポリカーボネート樹脂を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材のＸ線光電分光法分析の結果の一例である。
【図２】本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材のＸ線光電分光法分析の結果の一例である。
【図３】比較例１の接触角の測定結果を示す図である。
【図４】実施例１の接触角の測定結果を示す図である。
【図５】比較例１と、実施例１〜７の接触角測定の結果をまとめたグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】  以下、本発明を実施形態に基づいて具体的に説明する。なお、％は特に示さない限り、また数値固有の場合を除いて質量％である。
【００１１】〔フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材の製造方法〕  本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材の製造方法は、ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを、純度が７０％以上のフッ素ガス雰囲気下、０．１〜３ｋＰａの減圧下で、接触させる。ポリカーボネート樹脂基材の表面を、適切な条件下でフッ素化し、場合によりエージングすることにより、数百ナノメートル程度の親水層を表面に形成することができ、これに染色液を担持することが可能であることから、これまでよりも低温で、かつ界面活性剤等の助剤の添加を必要とせずに、染色を行うことができる。また、吸い込んだ溶液は平面方向には素早く広がらないことから、部分的な着色も容易に実現することができる。このフッ素化された表面は、染色に加えて、印刷、防曇、めっき性、徐放性、自己修復膜等（以下、染色等という）の用途への応用も可能である。
【００１２】  本発明の表面が改質されたポリカーボネート樹脂基材の製造方法は、純度が７０％以上のフッ素ガスを用い、０．１〜３ｋＰａの減圧下で当該フッ素ガスとポリカーボネート樹脂基材とを接触させる。
【００１３】  ポリカーボネート樹脂は、特に、限定されない。ポリカーボネート樹脂としては、例えば、種々のジヒドロキシジアリール化合物とホスゲンとを反応させるホスゲン法、またはジヒドロキシジアリール化合物とジフェニルカーボネート等の炭酸エステルとを反応させるエステル交換法によって得られる、重合体または共重合体が挙げられ、代表的なものとしては、ジヒドロキシジアリール化合物として２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）を用いて製造されたポリカーボネート樹脂等が、挙げられる。
【００１４】  ポリカーボネート樹脂基材の形態は、用途に応じて適宜決定すればよく、特に、限定されない。ポリカーボネート樹脂基材の形態としては、例えば、フィルム、プレート、ロッド、所定形状に成形されたポリカーボネート樹脂からなる成形体の形状等が、挙げられる。
【００１５】  ポリカーボネート樹脂基材の表面に、汚れが付着している場合には、あらかじめ洗浄を行うと、好ましい。ポリカーボネート樹脂基材の表面に洗浄を行う方法は、特に、限定されないが、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール等の水溶性有機溶媒を用いて洗浄する方法、界面活性剤を用いて洗浄する方法等が、挙げられる。なお、ポリカーボネート樹脂基材の表面に汚れが付着していないのであれば、当該ポリカーボネート樹脂基材に、洗浄を行わなくてもよい。
【００１６】  ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させる方法は、特に、限定されないが、ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させる際に、フッ素ガスが大気中に放出されることを防止する観点から、密閉式のバッチ式反応装置等の反応装置を用いると、好ましい。
【００１７】  以下、反応装置を用いてポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させる場合の一実施態様について説明するが、本発明は、この実施態様に限定されない。
【００１８】  反応装置を用いてポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させる場合には、反応装置内にポリカーボネート樹脂基材を入れた後、反応装置内にフッ素ガスを導入すると、好ましい。この場合、ポリカーボネート樹脂基材の表面の改質を促進させる観点から、反応装置内にポリカーボネート樹脂基材を入れ、その後、反応装置内を脱気したり、ヘリウムガス、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスで置換したりした後に、反応装置内にフッ素ガスを導入すると、好ましい。フッ素ガスは、酸化力があると好ましく、Ｆ２ガス（以下に使用するフッ素ガスである）、ＢｒＦ３，ＢｒＦ５、ＩＦ３、ＩＦ５等が、挙げられる。
【００１９】  反応装置内に入れられるポリカーボネート樹脂基材の大きさは、ポリカーボネート樹脂基材の用途、反応装置の大きさ等によって異なるため、一概には決めることができない。したがって、ポリカーボネート樹脂基材の大きさは、その用途、反応装置の大きさ等に応じて、適宜、決定すればよい。
【００２０】  次に、反応装置内にフッ素ガスを導入することにより、ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させる。このとき、ポリカーボネート樹脂基材の表面の少なくとも改質させる部分に、フッ素ガスが接触するように、反応装置内にフッ素ガスを導入すると、好ましい。
【００２１】  本発明においては、フッ素ガスとして、純度が７０％（容量％、以下、フッ素ガスについては、同じである）以上であるフッ素ガス、換言すれば、フッ素ガスの含有率が７０％以上であるフッ素ガスを用いることが、１つの大きな特徴である。本発明においては、このように純度が７０％以上であるフッ素ガスが用いられているため、ポリカーボネート樹脂基材の表面に、染色可能なフッ素含有表面層を形成させることができる。
【００２２】  フッ素ガスの純度は、ポリカーボネート樹脂基材の表面の改質性の観点から、７０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。したがって、本発明においては、フッ素ガスとして、一般に、市販品として、容易に入手することができるフッ素ガスを、希釈せず、そのまま用いることができるため、従来のように、煩雑なフッ素ガスと酸素ガスや不活性ガスとを所定比率となるように混合する、という操作を避けることができる。なお、高純度（例えば、９９％以上）のフッ素ガスを用いるときには、必要に応じて、所定の純度になるように、不活性ガスで、フッ素ガスを希釈してもよい。この不活性ガスは、特に、限定されないが、例えば、ヘリウムガス、アルゴンガス、窒素ガス等が挙げられる。
【００２３】  ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させるときのフッ素ガスの圧力は、０．１〜５０ｋＰａとなるように、調節する。本発明においては、このようにポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させるときのフッ素ガスの圧力を０．１〜５０ｋＰａに調整する点も、１つの大きな特徴である。
【００２４】  従来、フッ素ガスまたはフッ素ガスと不活性ガスとの混合ガスは、そのガスの圧力が低いと、基材表面をフッ素化させる効率が低下する、と考えられているため、通常、常圧（大気圧：約１０１．３ｋＰａ）程度で用いられている。本発明では、大気圧よりも格段に低い圧力（０．１〜５０ｋＰａ）下で、ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させる、という方法であるため、純度が７０％以上であるフッ素ガスを用いることとの相乗効果で、ポリカーボネート樹脂基材の表面に、染色可能なフッ素含有表面層を形成させることができる。
【００２５】  フッ素ガスとポリカーボネート樹脂基材とを接触させる際のフッ素ガスの圧力は、ポリカーボネート樹脂基材の表面を効率よく改質させる観点から、０．１ｋＰａ以上、好ましくは０．５ｋＰａ以上、さらに好ましくは１ｋＰａ以上であり、ポリカーボネート樹脂基材の表面に染色性等に優れたフッ素含有表面層を形成させる観点から、５０ｋＰａ以下、好ましくは３０ｋＰａ以下、さらに好ましくは２０ｋＰａ以下である。
【００２６】  フッ素ガスとポリカーボネート樹脂基材とを接触させる際のフッ素ガスの温度は、効率よくポリカーボネート樹脂基材を改質させる観点から、好ましくは０℃以上、より好ましくは５℃以上、さらに好ましくは１０℃以上であり、安全性の観点から、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１００℃以下、さらに好ましくは４０℃以下である。このように、本発明においては、あえて加熱または冷却しなくても、室温（常温）でポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させることにより、ポリカーボネート樹脂基材を改質させることができるため、本発明の製造方法は、工業的生産性にも優れている。なお、ポリカーボネート脂基材とフッ素ガスとを接触させる際のフッ素ガスの温度は、ポリカーボネート樹脂基材の変形等を防止する観点から、ポリカーボネート樹脂基材に用いられているポリカーボネート樹脂のガラス転移温度より低い温度となるように、調節することが好ましい。
【００２７】  ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させるのに要する時間は、ポリカーボネート樹脂基材の表面が改質されるのに要する時間であり、ポリカーボネート樹脂基材に用いられているポリカーボネート樹脂の種類、ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させる際のフッ素ガスの圧力およびその温度等によって異なるため、一概には決定することができない。ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させるのに要する時間は、ポリカーボネート樹脂基材の表面を十分に改質させる観点から、通常、１分間〜１時間程度であるが、要求される染色性等を考慮して、適宜、決定することが好ましい。このように、本発明においては、ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを、短時間で接触させることにより、ポリカーボネート樹脂基材を改質させることができる点で、本発明の製造方法は、工業的生産性に優れている。
【００２８】  ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを接触させた後には、安全性の観点から、不活性ガスを反応装置内に導入し、反応装置内の内部雰囲気を不活性ガスで置換すると、好ましい。不活性ガスは、特に、限定されないが、例えば、ヘリウムガス、アルゴンガス、窒素ガス等が挙げられる。
【００２９】  次に、フッ素ガスによって改質されたポリカーボネート樹脂基材は、反応装置から取り出した後、例えば、染色等の処理が、行われる。
【００３０】  なお、表面が改質されたポリカーボネート樹脂基材の表面は、必要により、洗浄してもよい。ポリカーボネート樹脂基材の表面を洗浄する方法は、特に、限定されないが、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール等の水性有機溶媒を用い、洗浄する方法、界面活性剤を用い、洗浄する方法等が、挙げられる。
【００３１】  このように、本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材の製造方法によれば、染色性等に優れた表面を有するフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材を製造することができる。
【００３２】〔フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材〕  本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、上述のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材の製造方法（以下、フッ素処理という）により、製造ずることができる。このフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、染色等の用途に、非常に有用である。
【００３３】  上述のフッ素処理により製造されたフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材の表面層の詳細については、不明な部分が多く、詳細な微細構造、有用な特性の全てを説明することはできないが、以下、特性の一部を説明する。
【００３４】  本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、Ｘ線光電分光法分析で、２８６〜２８８ｅＶに示されるＣ−Ｃ結合のピーク高さ１に対して、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、２〜５０である表面層を有する。
【００３５】  図１に、本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材のＸ線光電分光法分析の結果の一例を示す。図１では、未処理のポリカーボネート樹脂基材は、２８６〜２８８ｅＶに示されるＣ−Ｃ結合のピーク高さ１に対して、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、約０．０７である。一方、フッ素処理済みのポリカーボネート樹脂基材は、２８６〜２８８ｅＶに示されるＣ−Ｃ結合のピーク高さ１に対して、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、約６〜３６である。このように、フッ素処理により、ポリカーボネート層が、フッ素を有することがわかる。
【００３６】  また、本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、Ｘ線光電分光法分析で、５３５〜５４０ｅＶの領域にカーボネート基またはフッ素化による影響を受けたカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来の、半値幅が５ｅＶ以下のピークが少なくともひとつ存在し、その高さの、同試料について２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さに対する比率が、０．５〜１．５である表面層を有すると、好ましい。
【００３７】  図２に、本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材のＸ線光電分光法分析の結果の一例を示す。図２では、未処理のポリカーボネート樹脂基材は、５３５〜５３７ｅＶに示されるカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来のピーク高さ１に対して、５３８〜５４０ｅＶに示されるフッ素化による影響を受けたカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来の結合のピーク高さが、約０．０８である。一方、フッ素処理済みのポリカーボネート樹脂基材は、５３５〜５３７ｅＶに示されるカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来のピーク高さ１に対して、５３８〜５４０ｅＶに示されるフッ素化による影響を受けたカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来の結合のピーク高さが、約２．０〜３．５である。
【００３８】  また、本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、Ｘ線光電分光法分析で、２８６〜２８８ｅＶに示されるＣ−Ｃ結合のピーク高さ１に対して、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、２〜５０である表面層の厚さが、１０〜５０００ｎｍであると、ポリカーボネート樹脂基材の染色性等の観点から、好ましい。
【００３９】  また、本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、Ｘ線光電分光法分析で、５３５〜５３７ｅＶに示されるカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来のピーク高さ１に対して、５３８〜５４０ｅＶに示されるフッ素化による影響を受けたカーボネート期に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来の結合のピーク高さが、１．５〜４．０である表面層の厚さが、１０〜５０００ｎｍであると、好ましい。
【００４０】  以下、上述とは、別の視点から説明する。本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、ポリカーボネート樹脂基材とフッ素ガスとを、純度が７０％以上のフッ素ガス雰囲気下、０．１〜５０ｋＰａの減圧下で、接触させるフッ素処理の６０分後の水との接触角をθｗ０と、グリセリンとの接触角をθＧ１とし、フッ素処理の７２時間後の水との接触角をθｗ７２と、グリセリンとの接触角をθＧ７２としたとき、〔（θｗ７２）／（θｗ０）〕／〔（θＧ７２）／（θＧ０）〕が、１．１〜１０、好ましくは、１．３〜５．０、より好ましくは、１．５〜２．５である表面層を有する。なお、この説明を特許請求の範囲に記載すると、いわゆるプロダクト・バイ・プロセス・クレームに該当するが、経時変化について説明するためには、製造方法の文言を含まずに、説明することができない。本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、経時変化により、水との接触角は、小さくなる一方、グリセリンとの接触角は、大きく変化しない。ここで、接触角は、協和界面科学（株）製接触角計（型番：ＤＭ−７０１）を用い、室温（約２５℃）で測定する。接触角については、後述する実施例で、詳細に説明する。
【実施例】
【００４１】  以下に、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００４２】〔比較例１〕  ポリカーボネート樹脂基材として、ポリカーボネート樹脂からなる表面が平滑な樹脂プレート（縦：３０ｍｍ、横：１０ｍｍ、厚さ：１ｍｍ）を使用した。この未処理の樹脂プレートに水滴径が約１ｍｍの水滴を滴下し、協和界面科学（株）製接触角計（型番：ＤＭ−７０１）を用い、室温（約２５℃）で、滴下３０秒後の水の接触角を測定した。他の実施例、比較例においても、接触角は、同様に測定した。図３に、結果を示す。図３に示された結果から、この未処理の樹脂プレートの水の接触角は、９２°であることがわかった。【００４３】〔実施例１〕  次に、この樹脂プレートを、ニッケル製の反応管（内径：２０ｍｍ、長さ：２５０ｍｍ）内に入れた後、反応管内の不純物ガスを除去するために、室温下で反応装置の内圧が０．１Ｐａ以下となるまで減圧した。【００４４】  次に、反応管内に、フッ素ガス（純度：９９．７％）を導入し、反応管内のフッ素ガスの圧力を１．３３ｋＰａに調整した後、室温（約２３℃）で１時間静置することにより、フッ素ガスと樹脂プレートとを接触させ、樹脂プレートの表面を改質させた。その後、この樹脂プレートを反応管から取り出した。このようにして作製された表面が改質された樹脂プレート（フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材）の水、およびグリセリンとの６０分後の接触角を、測定した。図４に、結果を示す。図４に示された結果から、水の接触角は、５４°であることがわかった。【００４５】〔実施例２〜７〕  実施例２〜７は、実施例１の経時変化を観察した。実施例２は、フッ素処理後、１日目である。実施例３は、フッ素処理後、３日目である。実施例４は、フッ素処理後、７日目である。実施例５は、フッ素処理後、１４日目である。実施例６は、フッ素処理後、３０日目である。実施例７は、フッ素処理後、６０日目である。表１と図５に、比較例１、実施例１〜７の接触角測定の結果をまとめた表とグラフを示す。【００４６】
【表１】
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【００４７】  表１、図５からわかるように、未処理の比較例１は、水との接触角が非常に大きかった。これに対して、実施例１〜７は、水との濡れ性が向上した。また、経時変化により、濡れ性が向上した。なお、実施例１〜７では、測定中の時間経過により、水が表面層から内部に浸透していくことがわかった。また、〔（θｗ７２）／（θｗ０）〕／〔（θＧ７２）／（θＧ０）〕は、約１．６７であった。【００４８】  実施例１〜７の表面を、Ｘ線光電分光法分析で、観察した。図１、２に、結果を示す。 【００４９】  図１では、未処理のポリカーボネート樹脂基材（比較例１）は、２８６〜２８８ｅＶに示されるＣ−Ｃ結合のピーク高さ１に対して、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、約０．０７であった。一方、フッ素処理済みのポリカーボネート樹脂基材（実施例１〜７）は、２８６〜２８８ｅＶに示されるＣ−Ｃ結合のピーク高さ１に対して、２９２〜２９４ｅＶに示されるＣ−Ｆ結合のピーク高さが、約６〜３６であった。このように、フッ素処理により、ポリカーボネート層が、フッ素を有することがわかった。【００５０】  図２では、未処理のポリカーボネート樹脂基材（比較例１）は、５３５〜５３７ｅＶに示されるカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来のピーク高さ１に対して、５３８〜５４０ｅＶに示されるフッ素化による影響を受けたカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来のピーク高さが、約０．０８であった。一方、フッ素処理済みのポリカーボネート樹脂基材（実施例１〜７）は、５３５〜５３７ｅＶに示されるカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来のピーク高さ１に対して、５３８〜５４０ｅＶに示されるフッ素化による影響を受けたカーボネート基に含まれる酸素の１ｓ軌道電子由来のピーク高さが、約２．０〜３．５であった。【００５１】〔実施例８〜１１〕  実施例８〜１１では、反応管内のフッ素ガスの圧力以外は、実施例１と同様にして、表面が改質された樹脂プレート（フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材）を、作製した。実施例８では４．００ｋＰａ、実施例９では６．６７ｋＰａ、実施例１０では１３．３ｋＰａ、実施例１１では４８．０ｋＰａにした。【００５２】  作製した表面が改質された樹脂プレート（フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材）を、目視で観察した。実施例１は青色、実施例８、９は緑色、実施例１０、１１は、桃色であった。また、実施例１、８〜１１の表面が改質された樹脂プレート（フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材）のフッ素含有表面層の厚さを、断面観察した。断面観察は、極低加速電圧対応走査型電子顕微鏡（ＺＥＩＳＳ社製、型番：ＵＬＴＲＡ５５）で行った。実施例１、８〜１１のフッ素含有表面層の厚さは、３００ｎｍ（実施例１）、５００ｎｍ（実施例８、９）、６００ｎｍ（実施例１０、１１）であった。【００５３】〔染色性試験〕  実施例１、８〜１１の表面が改質された樹脂プレート（フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材）を、超純水で、１５分間、超音波洗浄した後、染色液に５分間浸漬した後、６０℃で３０分間乾燥した。その後、超純水に５分間浸漬した後、６０℃で６０分間���燥した。その後、目視で、着色を観察した。染色液には、メチレンブルー、メチルオレンジ、ローダミンＢの３種を用い、濃度は全て５．０×１０−５ｍｏｌ／ｄｍ３であった。【００５４】  比較例２として、まず、未処理のポリカーボネート樹脂基材について、染色性試験を行った。３種類全ての染色液で、染色ができなかった。【００５５】  実施例１、８〜１１では、３種類全ての染色液で、染色を確認できた。また、実施例１、８〜１１の順に、染色が濃くなっていることを確認できた。また、純水で洗浄しても、染色が落ちないことも確認した。【００５６】〔マーキング性試験〕  実施例１、８〜１１の表面が改質された樹脂プレート（フッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材）と、比較例２の未処理のポリカーボネート樹脂基材の表面に、油性インキのペンで字を書き（部分的な着色に該当する）、目視で観察した。【００５７】  実施例１、８〜１１の表面には、滲みのない描写ができた。また、油性インキは、表面から内部に浸透するため、時間が経過しても滲みの発生はなかった。【００５８】  以上のように、本発明のフッ素含有表面層を有するポリカーボネート樹脂基材は、親水性で、染色可能であり、マーキング性も良好であった。