【手続補正書】
【提出日】令和3年1月27日(2021.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスペンサのノズルを洗浄するシステムであって、
ノズルを有するディスペンサと、
プラットフォームと、
前記プラットフォームによって支持された洗浄基質と、
を備え、
前記洗浄基質は、裏打ち材から伸びる複数のフック構造を有しており、
前記複数のフック構造は、前記ノズルから材料を除去するように構成されており、
前記フック構造は、当該フック構造と前記裏打ち材との間に前記材料の少なくとも幾らかを捕捉するように構成されている
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記フック構造は、ナイロンまたはポリエステルを含んでいる
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
ディスペンサのノズルを洗浄するシステムであって、
前記システムは、
プラットフォームと、
前記プラットフォームによって支持された洗浄基質と、
を備え、
前記洗浄基質は、裏打ち材から伸びる複数のフック構造を有しており、
当該システムは、
前記複数のフック構造を用いて前記ノズルから材料を除去するべく前記ノズル及び前記洗浄基質のうちの少なくとも一方を前記ノズル及び前記洗浄基質のうちの他方に対して移動するための１または複数の信号を生成するように構成された制御部
を更に備えたことを特徴とするシステム。
【請求項４】
前記制御部は、更に、
前記洗浄基質の第１部分に対して前記ノズルを移動し、
前記洗浄基質の前記第１部分とは異なる第２部分に対して前記ノズルを移動し、
前記ノズルが前記洗浄基質の前記第１及び第２部分に対して移動された回数に基づく指標を生成し、
前記指標が所定値以上であることに基づいて前記洗浄基質の製品寿命の終了を提示する
ための１または複数の信号を生成するように構成されている
ことを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記プラットフォームによって支持され、前記洗浄基質を受容する容器と、
前記容器内において、前記フック構造を少なくとも部分的に覆う洗浄溶剤と、
前記容器を覆う蓋部と、
を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記洗浄溶剤は、エトキシ化アルコールを含む
ことを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記洗浄溶剤のレベルを検出し、
前記検出されたレベルを所定の閾値と比較し、
前記検出されたレベルが前記所定の閾値未満であることに応じて、洗浄溶液を前記容器に追加するための信号を生成する
ように構成されたレベル制御システム
を更に備えたことを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
前記蓋部の下方の前記容器内に前記洗浄基質を取り外し可能に固定するように構成された支持部
を更に備えたことを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項９】
前記ノズルから前記洗浄溶剤を除去するように構成された乾燥基質
を更に備えたことを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項１０】
前記乾燥基質は、前記蓋部の外側面上に位置決めされている
ことを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記乾燥基質は、繊維またはスポンジを有している
ことを特徴とする請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
ディスペンサのノズルを洗浄するシステムであって、
前記システムは、
プラットフォームと、
前記プラットフォームによって支持された洗浄基質と、
を備え、
前記洗浄基質は、裏打ち材から伸びる複数のフック構造を有しており、
前記複数のフック構造は、前記ノズルから材料を除去するように構成されており、
当該システムは、
前記プラットフォームに関連付けられたカメラ
を更に備え、
前記カメラは、前記ノズルの画像を捕捉するように構成されている
ことを特徴とするシステム。
【請求項１３】
前記カメラは、前記ノズルの開口の画像を捕捉するように構成されている
ことを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記カメラに関連付けられたミラー
を更に備え、
前記ミラーは、前記プラットフォームに対して角度付けられており、前記ノズルの前記開口の前記画像を前記カメラに向けて反射するように構成されている
ことを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記カメラ及び前記ミラーは、前記プラットフォームの下方に位置決めされている
ことを特徴とする請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記ノズルから流体または粘性材料をディスペンスし、
前記ノズルの画像を捕捉するように前記カメラを起動させ、
前記画像を処理して値を生成し、
前記値を利用して前記ノズルが洗浄されるべきか否かを判定し、
前記ノズルが洗浄されるべき場合、前記複数のフック構造を用いて前記ノズルから前記材料を除去するべく前記ノズル及び前記洗浄基質のうちの少なくとも一方を前記ノズル及び前記洗浄基質のうちの他方に対して移動するための１または複数の信号を生成する
ように構成された制御部
を更に備えたことを特徴とする請求項１３に記載のシステム。
【請求項１７】
ディスペンサのノズルを洗浄するシステムであって、
前記システムは、
プラットフォームと、
前記プラットフォームによって支持された洗浄基質と、
を備え、
前記洗浄基質は、裏打ち材から伸びる複数のフック構造を有しており、
当該システムは、
較正ステーション、タッチセンサステーション、パージステーション及び重量測定ステーションうちの少なくとも１つ
を更に備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１８】
ディスペンサのノズルを洗浄する方法であって、
裏打ち材から伸びる複数のフック構造を有する洗浄基質を提供する工程と、
前記複数のフック構造で前記ノズルの外面から材料を除去するべく前記ノズル及び前記洗浄基質の少なくとも一方を前記ノズル及び前記洗浄基質のうちの他方に対して移動する工程と、
を備えたことを特徴とする方法。
【請求項１９】
前記ノズルと前記洗浄基質との少なくとも一方を移動する工程は、
前記洗浄基質に対して第１方向に前記ノズルを移動する工程と、
前記洗浄基質に対して前記第１方向とは異なる第２方向に前記ノズルを移動する工程と、
を有する
ことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記ノズルと前記洗浄基質との少なくとも一方を移動する工程は、
直線パターン、ジグザグパターン、矩形パターン、正方形パターン、楕円形パターン、及び、円形パターンのうちの少なくとも１つに従って、前記洗浄基質に対して前記ノズルを移動する工程
を含む
ことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記洗浄基質と、少なくとも部分的に前記フック構造を覆う洗浄溶剤と、を受容する容器の蓋部を開放する工程と、
前記洗浄溶剤及び前記洗浄基質と接触するように前記ノズルを移動する工程と、
前記容器から前記ノズルを取り出す工程と、
前記容器の前記蓋部を閉じる工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
前記ノズルから前記洗浄溶剤を除去するための乾燥基質と接触するように前記ノズルを移動する工程
を更に備えたことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記洗浄溶剤のレベルを検出する工程と、
前記検出されたレベルを所定の閾値と比較する工程と、
前記検出されたレベルが前記所定の閾値未満であることに基づいて、洗浄溶液を前記容器に追加するための信号を生成する工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記ノズルをカメラの近傍に移動する工程と、
前記カメラを用いて前記ノズルの画像を捕捉する工程と、
前記画像を処理して、前記ノズルからの材料の量に基づく値を生成する工程と、
前記値が所定値に対する範囲内であるか否かを判定する工程と、
を更に備え、
前記ノズル及び前記洗浄基質の少なくとも一方を移動する工程は、前記値が前記範囲内であることに応じて行われる
ことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２５】
前記ノズル及び前記洗浄基質の少なくとも一方を他方に対して移動する前記工程の後に、前記ノズルを前記カメラの近傍に移動する工程と、
前記カメラを用いて前記ノズルの第２の画像を捕捉する工程と、
前記第２の画像を処理して、前記ノズル上の材料の量に基づく第２の値を生成する工程と、
前記第２の値が前記範囲内であるか否かを判定する工程と、
前記第２の値が前記範囲内でないことに基づいて、前記ノズル及び前記洗浄基質の少なくとも一方を前記ノズル及び前記洗浄基質のうちの他方に対して移動する工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記値が前記範囲内である場合に、前記ノズルを起動して流体または粘性材料をディスペンスする工程
を更に備えたことを特徴とする請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
前記洗浄基質の第１部分に対して前記ノズルを移動する工程と、
前記洗浄基質の前記第１部分とは異なる第２部分に対して前記ノズルを移動する工程と、
前記ノズルが前記洗浄基質の前記第１及び第２部分に対して移動された回数に基づく指標を生成する工程と、
前記指標が所定値以上であることに基づいて前記洗浄基質の製品寿命の終了を提示する工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２８】
前記ノズルが前記洗浄基質に対して移動された合計回数を判定する工程と、
前記合計回数が所定数以上であることを判定する工程と、
前記合計回数が前記所定数以上であるという判定に応じて、前記洗浄基質の製品寿命の終了を提示する工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２９】
印刷回路基板上に共形の被覆材をディスペンスする工程
を更に備えたことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項３０】
第２ノズルに対して前記洗浄基質に向けて前記ノズルを移動する工程
を更に備えたことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項３１】
前記ノズル及び前記洗浄基質の少なくとも一方を前記ノズル及び前記洗浄基質のうちの他方に対して移動する前記工程は、前記洗浄基質に対して前記第２ノズルと共に前記ノズルを移動する工程を含む
ことを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記フック構造は、剛性である
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３３】
前記ノズルを有する前記ディスペンサ
を更に備えたことを特徴とする請求項３に記載のシステム。
【請求項３４】
前記フック構造と前記裏打ち材との間に前記材料を捕捉する工程
を更に備えたことを特徴とする請求項１８に記載の方法。