【手続補正書】
【提出日】令和2年12月4日(2020.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析プレートのバッチを分析するための分析システムを操作する方法であって、
（ｉ）前記分析プレートのバッチにおけるそれぞれのプレートが、時間長さＮの一連の異なる処理サイクルを受け、
（ｉｉ）前記分析プレートのバッチにおける選択されたプレートにおいて、前記一連の前記異なる処理サイクル内の前記異なる処理サイクルが少なくとも時間Ｙのインキュベーション期間分離され、
（ｉｉｉ）前記一連の異なる処理サイクルの前記異なる処理サイクルのそれぞれが、前記分析プレートのバッチにおける複数のプレートにおいて順次的に実行され、
（ｉｖ）前記分析プレートのバッチにおける前記プレートの数が、Ｙ／Ｎ以下である、方法。
【請求項２】
前記一連の異なる処理サイクルの前記異なる処理サイクルの少なくとも１つが、長さＡのプレインキュベーションサブサイクル及び長さＢのポストインキュベーションサブサイクルへと分割された交互のサイクルであり、Ａ＋Ｂ＝Ｎであり、前記選択されたプレートにおいて、長さＡの前記プレインキュベーションサブサイクルの完了と長さＢの前記ポストインキュベーションサブサイクルの開始とが時間Ｎの倍数であるインキュベーション時間によって分離され、
前記分析プレートのバッチにおいて前記交互のサイクルが、
（ｉ）前記分析プレートのバッチにおいて前記プレインキュベーションサブサイクルを受けていない第１のプレートを識別し、それにおいて前記プレインキュベーションサブサイクルを実行するか、または、プレインキュベーション処理のためいかなるプレートも使用可能でない場合は、時間Ａの間アイドリングし、
（ｉｉ）前記分析プレートのバッチにおいて前記インキュベーションを完了しつつも前記ポストインキュベーションサブサイクルを受けていない前記第１のプレートを識別し、それにおいて前記ポストインキュベーションサブサイクルを実行するか、または、ポストインキュベーション処理のためいかなるプレートも使用可能でない場合は、時間Ｂの間アイドリングし、
（ｉｉｉ）前記分析プレートのバッチにおける全ての前記プレートが前記プレインキュベーションサブサイクル及び前記ポストインキュベーションサブサイクルを受けるまでステップ（ｉｉ）を繰り返す、
ことによって実行される、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記異なる処理サイクルが、
（ｉ）サンプル付加サイクルと、
（ｉｉ）検出試薬付加サイクルと、
（ｉｉｉ）プレート読み取りサイクルと、
を備える、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
分析プレートのシーケンスを分析するための分析システムを操作する方法であって、
（ｉ）前記分析プレートのシーケンスにおけるそれぞれのプレートが時間長さＮの一連の異なる処理サイクルを受け、
（ｉｉ）前記一連の異なる処理サイクルの前記異なる処理サイクルの少なくとも１つが、長さＡのプレインキュベーションサブサイクル及び長さＢのポストインキュベーションサブサイクルへと分割された交互のサイクルであり、Ａ＋Ｂ＝Ｎであり、選択されたプレートにおいて、前記長さＡのプレインキュベーションサブサイクルの完了と前記長さＢのポストインキュベーションサブサイクルの開始とが、時間Ｎの倍数であるインキュベーション時間によって分離され、
（ｉｉｉ）
（ａ）前記分析プレートのシーケンスにおいて前記プレインキュベーションサブサイクルを受けていない前記第１のプレートを識別し、それにおいて前記プレインキュベーションサブサイクルを実行するか、または、プレインキュベーション処理のためいかなるプレートも使用可能でない場合は、時間Ａの間アイドリングし、
（ｂ）前記分析プレートのシーケンスにおいて前記インキュベーションを完了しつつも前記ポストインキュベーションサブサイクルを受けていない前記第１のプレートを識別し、それにおいて前記ポストインキュベーションサブサイクルを実行し、または、ポストインキュベーション処理のためいかなるプレートも使用可能でない場合は、時間Ｂの間アイドリングすることによって、前記分析プレートのシーケンスにおいて前記交互のサイクルを実行し、
（ｉｖ）前記シーケンスにおける全ての前記プレートが前記プレインキュベーションサブサイクル及び前記ポストインキュベーションサブサイクルを受けるまでステップ（ｉｉｉ）を繰り返す、
方法。
【請求項５】
前記システムが、プレート動作ロボット、処理デッキ、プレートホテル、ピペットディスペンサ、プレート洗浄器、振動インキュベータ、及びプレートリーダーを備える、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記異なる処理サイクルが、以下の、
ａ．前記プレート動作ロボットを使用して、前記分析プレートのバッチの単一の分析プレートを前記プレートホテルまたは前記振動インキュベータから前記処理デッキへと移動させるステップ、
ｂ．前記プレート動作ロボットを使用して、サンプルまたは試薬プレートを前記プレートホテルまたは前記振動インキュベータから前記処理デッキへと移動させるステップ、
ｃ．ピペッタを使用して、サンプルまたは試薬を前記処理デッキ上の前記サンプルまたは試薬プレートから前記処理デッキ上の前記分析プレートへと送るステップ、
ｄ．前記プレート洗浄器を使用して、前記処理デッキ上の前記分析プレートの前記ウェルを洗浄するステップ、
ｅ．前記ロボットを使用して、前記処理デッキ上の前記分析プレートを前記プレートホテルまたは前記振動インキュベータへと送るステップ、
ｆ．前記プレート動作ロボットを使用して、前記分析プレートを前記プレートリーダーへと送るステップ、の１つまたは複数を備える、
請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記分析プレートのシーケンスがＥＣＬ計測を実行するための電極を備え、前記プレートリーダーがＥＣＬリーダーである、
請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記一連の異なる処理サイクルが、
（ｉ）サンプル付加サイクルと、
（ｉｉ）検出試薬付加サイクルと、
（ｉｉｉ）プレート読み取りサイクルと、
を備える、
請求項４に記載の方法。
【請求項９】
前記一連の異なる処理サイクルが遮断サイクルをさらに備える、
請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記一連の異なる処理サイクルの前記異なる処理サイクルの前記少なくとも１つが、分析、サンプルまたは試薬プレートをインキュベーションするステップをさらに備え、前記インキュベーション時間が時間Ｎより短い、
請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
一定数の分析プレートを備えたＥＣＬ免疫測定システムを操作する方法であって、それぞれのプレートは、次の分析プレートが処理される前に完全に処理され、それぞれの分析プレートの処理期間によって分割される前記プレートのインキュベーション期間が、処理される前記プレートの数に等しい、
方法。
【請求項１２】
ＥＣＬ免疫測定システムを操作する方法であって、前記システムが、ピペットディスペンサと、マルチウェルプレート内に含まれる電極に取り付けられたＥＣＬ複合体を保管するように適合された複数の前記マルチウェルプレートと、インキュベータと、ＥＣＬリーダーと、を備え、前記方法が、以下の、
ａ．単一のマルチウェルプレートを棚から取り除くステップと、
ｂ．オプションとして、前記単一のマルチウェルプレートを洗浄するステップと、
ｃ．試験されるサンプルを前記単一のマルチウェルプレート上の前記ウェルへと付着させるステップと、
ｄ．前記サンプルにおける検体との複合体を形成するために少なくとも１つの試薬を付着させるステップと、
ｅ．オプションとして、残りの検体を取り除くために前記単一のマルチウェルプレートを洗浄するステップと、
ｆ．洗浄後に前記単一のマルチウェルプレートを前記インキュベータ内に配置するステップと、
ｇ．前記インキュベータが満たされるまで別の単一のマルチウェルプレートでステップａ〜ｆを繰り返すステップであって、インキュベーションの期間は、前記インキュベータをマルチウェルプレートで満たすための時間の和である、前記繰り返すステップと、
ｈ．完全にインキュベーションされたマルチウェルプレートを前記ＥＣＬリーダー内に配置するステップと、
を備える方法。
【請求項１３】
ステップｇが、全てのインキュベーションされたプレートが前記ＥＣＬリーダーに配置されるまで繰り返される、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記インキュベータ内に保存されたマルチウェルプレートの数が、ステップａ〜ｆを完了するための時間によって分割される前記インキュベーション期間に等しい、
請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ピペットディスペンサを包囲するハウジングと、複数のマルチウェルプレートに含まれる電極に取り付けられたＥＣＬ複合体を保持するように適合された前記複数のマルチウェルプレートと、インキュベータと、ＥＣＬリーダーと、冷却器と、を備え、前記冷却器が、前記ハウジングの後部表面近傍に配置され、前記ハウジングが、空気流れを前記冷却器から前記ハウジングの前部表面へと方向付けるフロープレナムをさらに備える、
ＥＣＬ免疫測定システム。
【請求項１６】
前記フロープレナムが前記ハウジングの上部表面近傍に配置された、
請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記フロープレナムが前記ハウジングの底部表面近傍に配置された、
請求項１５に記載のシステム。
【請求項１８】
前記フロープレナムが前記上部表面と前記上部表面の下に配置された第２の上部表面との間の空間である、
請求項１６に記載のシステム。
【請求項１９】
前記第２の上部表面が冷却器近傍に開口する少なくとも１つの侵入部と、前記前部表面に開口する少なくとも１つの排出部とを備える、
請求項１８に記載のシステム。