(57)【要約】【課題】本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関する。【解決手段】前記ポジ型感光性樹脂組成物は、ノボラック樹脂（Ａ）と、ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）と、ヒドロキシ化合物（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）と、を含む。前記ノボラック樹脂（Ａ）は、ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）及びキシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）を更に含む。前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）は、ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物と芳香族ヒドロキシ化合物とを縮合してなる。前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）は、アルデヒド類化合物とキシレノール化合物とを縮合してなる。ポストベークされたポジ型感光性樹脂組成物は、高い膜厚及び良好な断面プロフィールを有するパターンを有益に形成することができる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物と芳香族ヒドロキシ化合物とを縮合してなるヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）と、アルデヒド類化合物とキシレノール化合物とを縮合してなるキシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）と、を含むノボラック樹脂（Ａ）と、
ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）と、
ヒドロキシ化合物（Ｃ）と、
溶剤（Ｄ）と、を含む
ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）は、ヒドロキシベンゾフェノン、及び／又はヒドロキシルアリール化合物、及び／又は（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンを含む
請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記ヒドロキシ化合物（Ｃ）は、ヒドロキシベンゾフェノン、及び／又はヒドロキシルアリール化合物、及び／又は（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンを含む
請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
１００重量部のノボラック樹脂（Ａ）に対して、
ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）の含有量は５０〜９５重量部であり、
キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）の含有量は５〜５０重量部であり、
前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）の含有量は５〜５０重量部であり、
前記ヒドロキシ化合物（Ｃ）の含有量は１〜３０重量部であり、
前記溶剤（Ｄ）の含有量は１００〜５００重量部である
請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）及びキシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）の総含有量１００重量百分率に対して、
ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）の含有量は５０〜９５重量百分率であり、
キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）の含有量は５〜５０重量百分率である
請求項４に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１ないし５の何れか一項の前記ポジ型感光性樹脂組成物を、プリベーク工程、露光工程、現像工程、ポストベーク工程の順に処理して、基板にパターンを形成する
パターン形成方法。
【請求項７】
前記パターンの膜厚は、５μｍ〜２５μｍである
請求項６に記載のパターン形成方法。
【請求項８】
請求項７に記載のパターンを含む
薄膜トランジスタアレイ基板。
【請求項９】
請求項８に記載の薄膜トランジスタアレイ基板を含む
液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関する。具体的には、本発明は、薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；ＴＦＴ）液晶ディスプレイ（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）又はタッチパネルの製造中、ポストベーク（ｐｏｓｔｂａｋｅｄ）されて高い膜厚及び良好な断面プロフィールを有するようになるパターン形成用のポジ型感光性樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
日常生活における各種の電子製品の小型化に応じて、高性能を有する各種スマートフォン、スリムＴＶ及びマイクロプロセッサにおける高解像度に対する要求が益々増加するため、より微細な線幅を有するパターンを形成するように、フォトリソグラフィプロセスのより正確的な表現が要求されている。
【０００３】
上記の目的のために、日本国特開２００３−９８６６９号公報において、ノボラック樹脂と、光酸発生剤（ｐｈｏｔｏａｃｉｄ  ｇｅｎｅｒａｔｏｒ；ＰＡＧ）と、有機溶剤と、を含むポジ型感光性樹脂組成物が公開されている。前記ノボラック樹脂は、酸触媒の存在下で、５０ｗｔ％以上のｍ−クレゾールを含むフェノール類化合物（ｍ−クレゾール以外、また例えば、トリメチルフェノール、キシレノール、ｏ−クレゾールを含む）をアルデヒド類に反応させることで得られ、また前記ノボラック樹脂の一部又は全てのヒドロキシ基がアルコキシアルキル基により保護されて、前記ポジ型感光性樹脂組成物の感光性及び解像度を向上させるものである。また、日本国特開２００１−１８３８３８号公報において、ノボラック樹脂と、光酸発生剤と、酸により触媒された架橋剤と、を含むポジ型感光性樹脂組成物が公開されている。前記ノボラック樹脂は、酸触媒の存在下で、アルカリ可溶性樹脂とクレゾール化合物及び／又はキシレノール化合物との重縮合反応を行うことで得られて、前記ポジ型感光性樹脂組成物の感光性及び解像度を増加するものである。
【０００４】
しかしながら、従来の技術では、前記感光性樹脂組成物がポストベークされた後で、ポストベークされた感光性樹脂組成物が高い膜厚を有するパターンを形成することがありそうもない問題がしばしば見られる。また、形成されたパターンが悪い断面プロフィールを有することで、後のプロセスの収率がいっそう悪くなる。従って、如何に前記ポジ型感光性樹脂組成物をポストベークして、高い膜厚及び良好な断面プロフィールを有するパターンを形成することは、重要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】日本国特開２００３−９８６６９号公報
【特許文献２】日本国特開２００１−１８３８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、従来の技術における上記問題を克服するように、ポストベークされた後で高い膜厚及び良好な断面プロフィールを有するパターンを形成するポジ型感光性樹脂組成物材料を提供することが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
従って、本発明の一側面では、ノボラック樹脂（Ａ）と、ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）と、ヒドロキシ化合物（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）と、を含むポジ型感光性樹脂組成物を提供する。更に、前記ノボラック樹脂（Ａ）は、ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）と、キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）と、を含む。前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）は、ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物と芳香族ヒドロキシ化合物とを縮合してなる。前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）は、アルデヒド類化合物とキシレノール化合物とを縮合してなる。
【０００８】
本発明の別の側面では、上記ポジ型感光性樹脂組成物を塗装工程、プリベーク工程、露光工程、現像工程、ポストベーク工程を経過させて、基板にパターンを形成するパターン形成方法を提供する。ポストベークされた後で、上記ポジ型感光性樹脂組成物により、高い膜厚及び良好な断面プロフィールを有するパターンが形成される。
【０００９】
本発明のさらに他の側面では、上記パターンを含む薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）アレイ基板を提供する。
【００１０】
本発明のさらに１つの側面では、上記ＴＦＴアレイ基板を含む液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）装置を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
ポストベークされたポジ型感光性樹脂組成物は、高い膜厚及び良好な断面プロフィールを有するパターンを有益に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
下記添付図面の説明は、本発明の特徴構造、メリット、実施例をより分かりやすくするためのものである。
【図１】本発明の一実施例によるＬＣＤ装置用のＴＦＴアレイ基板を示す部分断面図である。
【図２】実施例１〜１０及び比較例１〜７のようなパターンの保護膜を有する断面プロフィール評価用の若干の断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の前記ポジ型感光性樹脂組成物、前記ＴＦＴアレイ基板、ＬＣＤ装置の構造、前記パターン形成方法について、それぞれ下記に説明する。
【００１４】
［ポジ型感光性樹脂組成物］
本発明の前記ポジ型感光性樹脂組成物は、ノボラック樹脂（Ａ）と、ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）と、ヒドロキシ化合物（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）と、を含む。これらについて、それぞれ下記に説明する。
【００１５】
［ノボラック樹脂（Ａ）］
このポジ型感光性樹脂組成物における前記ノボラック樹脂（Ａ）は、ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）を含み、また選択的にキシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）を更に含む。
【００１６】
上記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）は、酸触媒の存在下で、ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物と芳香族ヒドロキシ化合物とを縮合してなる。
【００１７】
上記ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物の具体例としては、ｏ−ヒドロキシルベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシルベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシルベンズアルデヒド等のヒドロキシルベンズアルデヒド化合物；２，３−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド等のジヒドロキシベンズアルデヒド化合物；２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒド、２，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド、２，４，６−トリヒドロキシベンズアルデヒド、３，４，５−トリヒドロキシベンズアルデヒド等のトリヒドロキシベンズアルデヒド化合物；ｏ−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド等のヒドロキシルアルキルベンズアルデヒド化合物を含む。前記ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。それらのヒドロキシルベンズアルデヒド化合物において、ｏ−ヒドロキシルベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシルベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシルベンズアルデヒド、２，３−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，３，４−トリヒドロキシベンズアルデヒド、ｏ−ヒドロキシメチルベンズアルデヒドが好ましい。
【００１８】
また、上記ヒドロキシルベンズアルデヒド化合物と縮合可能な前記芳香族ヒドロキシ化合物の具体例としては、フェノール；ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−クレゾールのようなクレゾール；２，３−キシレノール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、３，４−キシレノール等のキシレノール；ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−エチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノール、２，３，５−トリエチルフェノール、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−クレゾール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クレゾール、６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クレゾール等のアルキルフェノール；ｐ−メトキシフェノール、ｍ−メトキシフェノール、ｐ−エトキシフェノール、ｍ−エトキシフェノール、ｐ−プロポキシフェノール、ｍ−プロポキシフェノール等のアルコキシフェノール；ｏ−イソプロペニルフェノール、ｐ−イソプロペニルフェノール、２−メチル−４−イソプロペニルフェノール、２−エチル−４−イソプロペニルフェノール等のイソプロペニルフェノール；フェニルフェノールのようなアリールフェノール；４，４’−ジヒドロキシビフェニル、ビスフェノールＡ、レゾルシノール、ヒドロキノン、１，２，３−ピロガロール等のポリヒドロキシフェノールを含む。上記芳香族ヒドロキシ化合物は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。それらの芳香族ヒドロキシ化合物において、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール等が好ましい。
【００１９】
上記酸触媒の具体例としては、塩酸、硫酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、ｐ−トルエンスルホン酸等を含む。
【００２０】
前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）は、上記酸触媒の存在下で、アルデヒド類化合物とキシレノール化合物とを縮合してなる。
【００２１】
上記アルデヒド類化合物の具体例としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、トリメチルアセトアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド、シクロヘキサンアルデヒド、フルフラール、フリルアクロレイン、ベンズアルデヒド、テレフタルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、α−フェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアルデヒド、ｏ−メチルベンズアルデヒド、ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデヒド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズアルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、桂皮アルデヒド等を含む。上記アルデヒド類化合物は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。それらのアルデヒド類化合物において、メタナール、ベンズアルデヒドが好ましい。
【００２２】
上記キシレノール化合物の具体例としては、２，３−キシレノール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、３，４−キシレノールを含むことが好ましい。
【００２３】
全体の特性に影響を与えずに、本発明の前記ポジ型感光性樹脂組成物は、上記酸触媒の存在下で、アルデヒド類化合物と芳香族ヒドロキシ化合物とを縮合してなる別のノボラック樹脂（Ａ−３）を選択的に備えてよい。前記アルデヒド類化合物及び前記芳香族ヒドロキシ化合物の両者は、何れも前文に記載のようなものであるため、繰り返して説明しないことにする。ノボラック樹脂（Ａ−３）は、前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）及び前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）と異なる構造を有する。
【００２４】
前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）、前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）、別のノボラック樹脂（Ａ−３）は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。前記ノボラック樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常は、前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）の含有量は５０〜９５重量部であり、前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）の含有量は５〜５０重量部であり、前記別のノボラック樹脂（Ａ−３）の含有量は０〜４５重量部である。前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）は、良好な現像性（ｄｅｖｅｌｏｐａｂｉｌｉｔｙ）を有し、また前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）は、良好な残膜率（ｆｉｌｍ−ｒｅｍａｉｎｉｎｇ  ｒａｔｉｏ）を有する。前記ポジ型感光性樹脂組成物には前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）又は前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）が使用されない場合、得られたポジ型感光性樹脂組成物には、ポストベークされた後で、悪い断面プロフィール及び不十分な膜厚を有することのような問題がある。しかしながら、前記ポジ型感光性樹脂組成物が上記含有量のヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）及びキシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）を有する場合、得られたポジ型感光性樹脂組成物は、ポストベークされた後で、断面プロフィールが良好であるメリットを有し、またこれにより、ポストベーク工程の期間中に熱せられたパターンの流れにより、得られたパターンが欠陥又は不十分な膜厚を有することを防止することができる。
【００２５】
また、前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）と前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）との総量１００重量百分率に対して、通常、前記ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）の含有量は５０〜９５重量百分率であり、前記キシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）の含有量は５〜５０重量百分率である。前記ポジ型感光性樹脂組成物が５０〜９５重量部のヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）及び５〜５０重量部のキシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）を有する場合、得られたポジ型感光性樹脂組成物は、ポストベークされた後で良好な断面プロフィールを有する。
【００２６】
［ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）］
このポジ型感光性樹脂組成物におけるｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）は、特に限定されず、従来のよく見られるｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルから選ばれて良い。本発明の好適例において、上記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）は、ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸及びヒドロキシ化合物（例えば、ｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸、ｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸、ｏ−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸）のようなエステルを含むが、それらに限定されない。しかしながら、前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸及びポリヒドロキシル化合物の上記エステルがより好ましい。
【００２７】
上記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）は、完全もしくは部分的にエステル化されてよい。上記ヒドロキシ化合物の種類としては、例えば（１）ヒドロキシベンゾフェノン、及び／又は（２）化学式（Ｉ）を有するヒドロキシルアリール化合物、及び／又は（３）化学式（ＩＩ）を有する（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンがあり、これらについては、それぞれ下記のように説明する。
【００２８】
（１）前記ヒドロキシベンゾフェノンの具体例としては、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，６−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，５’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，５，５’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、又は２，３，３’，４，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンを含む。
【００２９】
（２）前記ヒドロキシルアリール化合物の具体例としては、化学式（Ｉ）に示す構造を有する。
【００３０】
【化１】
2014164303.tif 000002
化学式（Ｉ）において、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立的に水素原子又は低級アルキル基であり、Ｒ４〜Ｒ９はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、シクロアルキルであり；Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基であり、ｘ及びｙはそれぞれ独立的に１〜３の整数である。ｚは０〜３の整数であり、ｎは０又は１である。
【００３１】
本発明の好適例において、化学式（Ｉ）に示す構造を有するヒドロキシルアリール化合物は、トリ（４−ヒドロキシルフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシル−３，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−３，５−ジメチルフェニル）−３−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−３，５−ジメチルフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシル−３，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−２，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−２，５−ジメチルフェニル）−３−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−２，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−３，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−２，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−３，５−ジメチルフェニル）−２，４−ジヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシル−２，５−ジメチルフェニル）−２，４−ジヒドロキシルフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシルフェニル）−３−メトキシル−４−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシルフェニル）−３−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシルフェニル）−２−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシルフェニル）−４−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシル−６−メチルフェニル）−２−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシル−６−メチルフェニル）−３−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシル−６−メチルフェニル）−４−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシル−６−メチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−６−ヒドロキシルフェニル）−３−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−６−ヒドロキシルフェニル）−４−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−６−ヒドロキシルフェニル）−２−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−６−ヒドロキシル−４−メチルフェニル）−２−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−６−ヒドロキシル−４−メチルフェニル）−４−ヒドロキシルフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−６−ヒドロキシル−４−メチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシルフェニルメタン、１−［１−（４−ヒドロキシルフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）エチル］ベンゼン又は１−［１−（３−メチル−４−ヒドロキシルフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシルフェニル）エチル］ベンゼンである。
【００３２】
（３）前記（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンの具体例としては、以下の化学式（ＩＩ）に示す構造を有する。
【００３３】
【化２】
2014164303.tif 000003
化学式（ＩＩ）において、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ独立的に水素原子又は低級アルキル基であり、ｘ’及びｙ’はそれぞれ独立的に１〜３の整数である。
【００３４】
本発明の好適例において、化学式（ＩＩ）に示す構造を有する（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンは、２−（２，３，４−トリヒドロキシルフェニル）−２−（２’，３’，４’−トリヒドロキシルフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシルフェニル）−２−（２’，４’−ジヒドロキシルフェニル）プロパン、２−（４−ヒドロキシルフェニル）−２−（４’−ヒドロキシルフェニル）プロパン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシルフェニル）メタン又はビス（２，４−ジヒドロキシルフェニル）メタンである。
【００３５】
また、前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）は、（４）他の芳香族ヒドロキシ化合物を選択的に含んでよい。他の芳香族ヒドロキシ化合物の具体例としては、フェノール、ｐ−メトキシフェノール、キシレノール、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ナフトール、ピロカテコール、１，２，３−ピロガロールモノメチルエーテル、１，２，３−ピロガロール−１，３−ジメチルエーテル、没食子酸（３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸）又は部分的にエステル化又はエーテル化された没食子酸（３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸）がある。
【００３６】
それらの例には、前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）は、好ましくは、前記ヒドロキシルアリール化合物及び前記（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンを含む。また、前記ヒドロキシルアリール化合物及び前記（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンの具体例としては、１−［１−（４−ヒドロキシルフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）エチル］ベンゼンとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸塩とのエステル、４，４’−エチレン−ビス（２−メチルフェノール）とナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸塩とのエステル、及び２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸塩とのエステルがある。前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３７】
キノンジアジドを含む化合物は、本発明のポジ型感光性樹脂組成物における前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）として使用されることができ、例えば、前記化合物は、ｏ−ナフトキノンジアジド−４（又は５）−スルホニルハロゲニドと上記（１）〜（４）ヒドロキシ化合物との縮合反応によって完全もしくは部分的にエステル化される。上記縮合反応は、有機溶剤（例えば、ジオキサン、Ｎ−ピロリドン等）において行われ、より好ましくは、アルカリ性縮合剤（例えば、トリエタノールアミン、アルカリ炭酸塩、又はアルカリ性重炭酸塩）の存在で行われる。
【００３８】
本発明の好適例において、前記ヒドロキシ化合物におけるヒドロキシ基の総含有量１００モル％に対して、好ましくは５０モル％を超え、より好ましくは６０モル％を超えた前記ヒドロキシ化合物と、ｏ−ナフトキノンジアジド−４（又は５）−スルホニルハロゲニドとを縮合してエステルになり、前記縮合反応のエステル化度は、５０％を超え、また好ましくは６０％を超える。
【００３９】
本発明の具体例において、前記ノボラック樹脂（Ａ）１００重量部に対して、本発明における前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）の含有量は、５〜５０重量部であり、好ましくは１０〜４５重量部であり、より好ましくは１５〜４０重量部である。前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）が前記ヒドロキシルアリール化合物又は前記（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンを含む場合、得られたポジ型感光性樹脂組成物は、ポストベークされた後で良好な断面プロフィールを有する。
【００４０】
［ヒドロキシ化合物（Ｃ）］
本ヒドロキシ化合物（Ｃ）は、前記ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）に用いられる上記ヒドロキシ化合物（１）〜（４）を含んでよく、またヒドロキシ化合物（１）〜（３）が好ましい。
【００４１】
それらのヒドロキシ化合物において、前記ヒドロキシ化合物（Ｃ）に、ヒドロキシ化合物（２）を使用することが好ましい。また、ヒドロキシ化合物（２）の具体例としては、トリ（４−ヒドロキシルフェニル）メタン、１−［１−（４−ヒドロキシルフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）エチル］ベンゼン、ビス（４−ヒドロキシル−３，５−ジメチルフェニル）フェニルメタン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、１，２，３−ピロガロールモノメチルエーテル等がある。前記ヒドロキシ化合物（Ｃ）は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
１００重量部のノボラック樹脂（Ａ）に対して、前記ヒドロキシ化合物（Ｃ）の含有量は、１〜３０重量部であり、好ましくは５〜３０重量部であり、より好ましくは１０〜２５重量部である。前記ポジ型感光性樹脂組成物にヒドロキシ化合物（Ｃ）が使用されない場合、得られたポジ型感光性樹脂組成物には、ポストベークされた後で断面プロフィールが悪いという問題がある。前記ポジ型感光性樹脂組成物が上記含有量のヒドロキシ化合物（Ｃ）を有する場合、得られたポジ型感光性樹脂組成物は、ポストベークされた後で断面プロフィールが良好であるメリットを有する。
【００４３】
［溶剤（Ｄ）］
本発明の前記ポジ型感光性樹脂組成物の前記溶剤（Ｄ）とは、他の有機成分を溶解できるが、他の有機成分と反応しない有機溶剤である。
【００４４】
本発明の特定な実施例において、前記溶剤（Ｄ）としては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル酢酸エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル酢酸エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル酢酸エーテル、プロピレングリコール酢酸エーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキル酢酸エーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル（乳酸メチルともいう）、２−ヒドロキシプロパン酸エチル（乳酸エチルともいう）等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エトキシエチル、酢酸ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、酢酸３−メトキシ−３−メチルブチル、プロピオン酸３−メトキシ−３−メチルブチル、酢酸エチル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルブチル、酢酸イソブチル、酢酸ノルマルアミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ノルマルブチル、酪酸エチル、酪酸ノルマルプロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ノルマルブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ノルマルプロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；メチルベンゼン、ジメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のカルボン酸アミド類がある。上記溶剤（Ｄ）は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。前記溶剤（Ｄ）は、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル酢酸エーテル、又は乳酸エチルであることが好ましい。
【００４５】
本発明の特定な実施例において、１００重量部のノボラック樹脂（Ａ）に対して、上記溶剤（Ｄ）の含有量は、１００〜５００重量部であり、好ましくは１００〜４５０重量部であり、より好ましくは１００〜４００重量部である。
【００４６】
［助剤（Ｅ）］
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、助剤（Ｅ）を選択的に備えてよい。前記助剤（Ｅ）は、粘性改良剤、表面調整剤、希釈剤、感光剤等を含むが、それらに限定されない。
【００４７】
上記粘性改良剤は、前記基板への前記ポジ型感光性樹脂組成物の接着性を改良するために、メラミン化合物及びシラン化合物を含んでよいが、それらに限定されない。上記メラミンの具体例としては、例えば、市販のＣｙｍｅｌ−３００、Ｃｙｍｅｌ−３０３（ＣＹＴＥＣ社製）；ＭＷ−３０ＭＨ、ＭＷ−３０、ＭＳ−１１、ＭＳ−００１、ＭＸ−７５０又はＭＸ−７０６（三和化成株式会社（Ｓａｎｗａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）製）がある。上記シラン化合物の具体例としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−（メチル）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリ（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン又はビス−１，２−（トリメトキシシラン）エタンがある。
【００４８】
本発明の特定な実施例において、１００重量部のノボラック樹脂（Ａ）に対して、上記メラミン化合物における粘性改良剤の含有量は、０重量部〜２０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１８重量部であり、またより好ましくは１．０重量部〜１５重量部である。上記シラン化合物における前記粘性改良剤の含有量は、０重量部〜２重量部であり、好ましくは０．００１重量部〜１重量部であり、またより好ましくは０．００５重量部〜０．８重量部である。
【００４９】
上記表面調整剤は、フッ素系インターフェース活性剤又はシラン表面活性剤を含んでよいが、それらに限定されない。上記フッ素系インターフェース活性剤の具体例としては、例えば、市販のＦｌｏｕｒａｔｅ  ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（３Ｍ社製）、又はＦ  ｔｏｐ  ＥＦ１２２Ａ、１２２Ｂ、１２２Ｃ、１２６、ＢＬ２０（Ｔｏｃｈｅｍ  ｐｒｏｄｕｃｔ製）がある。上記シラン表面活性剤の具体例としては、例えば、市販のＳＦ８４２７又はＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニング株式会社（Ｔｏｒａｙ  Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）製）がある。
【００５０】
本発明の特定な実施例において、１００重量部のノボラック樹脂（Ａ）に対して、上記表面調整剤の含有量は、０重量部〜１．２重量部であり、好ましくは０．０２５重量部〜１．０重量部であり、またより好ましくは０．０５０重量部〜０．８重量部である。
【００５１】
上記希釈剤の具体例としては、例えば、市販の製品（例えば）ＲＥ８０１又はＲＥ８０２（帝国インキ（Ｔｅｉｋｏｋｕ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ  Ｉｎｋｓ  Ｍｆｇ．  Ｃｏ．,  Ｌｔｄ．）製）がある。
【００５２】
上記感光剤の具体例としては、例えば、市販製品（例えば）ＴＰＰＡ−１０００Ｐ、ＴＰＰＡ−１００−２Ｃ、ＴＰＰＡ−１１００−３Ｃ、ＴＰＰＡ−１１００−４Ｃ、ＴＰＰＡ−１２００−２４Ｘ、ＴＰＰＡ−１２００−２６Ｘ、ＴＰＰＡ−１３００−２３５Ｔ、ＴＰＰＡ−１６００−３Ｍ６Ｃ又はＴＰＰＡ−ＭＦ（本州化学工業株式会社（Ｈｏｎｓｈｕ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄｕｓｔｒｙ  Ｃｏ．,  Ｌｔｄ．）製）、及び好ましくはＴＰＰＡ−１６００−３Ｍ６Ｃ又はＴＰＰＡ−ＭＦである。上記感光剤は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５３】
上記助剤（Ｅ）は、単独で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の特定な実施例において、１００重量部のノボラック樹脂（Ａ）に対して、上記感光剤の含有量は、０重量部〜２０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１８重量部であり、またより好ましくは１．０重量部〜５重量部である。また、本発明は、必要に応じて、可塑剤及び安定剤のような他の助剤を使用してもよい。
【００５４】
［ポジ型感光性樹脂組成物の調製方法］
通常、本発明のポジ型感光性樹脂組成物は下記工程によって調製される。従来のミキサーで上記ノボラック樹脂（Ａ）、ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）、ヒドロキシ化合物（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を、全ての成分が溶液状態となるまで均一に混合し、必要に応じて、各種の助剤を上記混合物に選択的に添加して、ポジ型感光性樹脂組成物を得る。
【００５５】
［パターン形成方法］
得られた上記ポジ型感光性樹脂組成物を、プリベーク工程、露光工程、現像工程、ポストベーク工程の順に処理して、基板にパターンを形成する。
【００５６】
特に、本発明の上記ポジ型感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法は、スピンコート、カーテンコーティング又はロールコーティング等によって、上記ポジ型感光性樹脂組成物を基板に塗装し、また前記溶剤をプリベークして塗装した後で除去して、プリベーク塗膜を形成する。各種の成分の種類及び混合比によってプリベーク状態を変えることができ、またプリベークは、７０〜１１０℃の温度で１〜１５分間行われる。
【００５７】
プリベークされた後、前記塗膜を所望の露光用マスクで露光してから、２３±２℃の温度で前記塗膜を現像液に１５秒間〜５分間浸入して、不要な領域を除去し、また指定のパターンを形成する。前記露光が、好ましくはｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線であり、前記紫外線は、紫外線照明設備（例えば、（超）高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプ）で発生してよい。
【００５８】
本発明に用いられる現像液の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、メチルケイ酸ナトリウム、アンモニア溶液、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、コリン、ピロール、ピペリジン、又は１，８−ジアザビシクロ−［５，４，０］−７−ウンデセン等のアルカリ性化合物である。
【００５９】
前記現像液の濃度が、好ましくは０．００１ｗｔ％〜１０ｗｔ％であり、より好ましくは０．００５ｗｔ％〜５ｗｔ％であり、さらにより好ましくは０．０１ｗｔ％〜１ｗｔ％である。
【００６０】
上記アルカリ性化合物を含む現像液を使用する場合、現像後、水で塗膜を洗ってから、圧縮空気又は圧縮窒素ガスによって前記塗膜を乾燥させる。その後、加熱装置（例えば、加熱板又はオーブン）によって、前記塗膜をポストベークする。前記ポストベーク工程としては、１００℃〜２５０℃の温度で、前記加熱板で１〜６０分間を行ない、又は前記オーブンで５〜９０分間行ってよい。上記工程の後で、前記基板にパターンを形成できる。
【００６１】
得られたパターンの厚さは、５μｍ〜２５μｍであり、好ましくは８μｍ〜２５μｍであり、またより好ましくは１０μｍ〜２５μｍである。得られたパターンの厚さが５μｍ〜２５μｍである場合、前記パターンは、導電層、絶縁層又は保護膜の精細的な配置に寄与する。
【００６２】
［ＴＦＴアレイ基板］
本発明の前記ＴＦＴアレイ基板は、上記方法によって製造される。要するに、例えば、スピンコート、カーテンコーティング、ロールコーティングのような塗装方法を使用することで、本発明のポジ型感光性樹脂組成物をガラス基板又はプラスチック基板に塗装して、ポジ型フォトレジスト層を形成する。その後、プリベーク、露光工程、現像工程、ポストベーク工程によって、前記ポジ型フォトレジスト層を処理した後、得られた感光樹脂パターンに対してエッチング及び離型を行う。上記工程を繰り返して行った後、複数のＴＦＴ又は電極を含むＴＦＴアレイ基板が得られる。
【００６３】
本発明の一実施例によるＬＣＤ装置用のＴＦＴアレイ基板を示す部分断面図である図１を参照する。まず、ガラス基板１０１のアルミニウム薄膜に、ゲート電極１０２ａ及び蓄積容量Ｃｓ電極１０２ｂを配置する。また、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）薄膜１０３又は窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）薄膜１０４を前記ゲート電極１０２ａに被覆して、絶縁膜を形成し、その後、前記絶縁膜に半導体活性層としてアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）層１０５を形成する。そして、インターフェースインピーダンスを減少させるために、前記アモルファスシリコン層１０５に窒素不純物ドープのアモルファスシリコン層１０６を設けてよい。その後、アルミニウムのような金属によって、データ信号線（図示せず）に接続されたドレイン電極１０７ａ、及び画像電極（又は、副画像電極ともいう）１０９に接続されたソース電極１０７ｂを形成する。その後、保護膜１０８として窒化ケイ素薄膜を設けて、前記下方の半導体活性層（例えば、前記アモルファスシリコン層１０５、前記ドレイン電極１０７ａ、前記ソース電極１０７ｂ等）を保護することに用いる。
【００６４】
［ＬＣＤ装置］
本発明のＬＣＤ装置は、少なくとも、上記ＴＦＴアレイ基板を備え、また必要に応じて、他の部材を備えてよい。
【００６５】
上記ＬＣＤ装置の基本構造の具体例については、下記に説明する。（１）駆動装置（例えば、ＴＦＴ及び前記画像電極）によって、前記ＴＦＴアレイ基板（駆動基板）を設ける。カラーフィルター基板は、フィルター及び対極（又は、導電層ともいう）を含む。前記ＴＦＴアレイ基板（駆動基板）と前記カラーフィルター基板は、対向して設けられ、両者の間にはスペーサーが挿入されている。前記２つの基板の間のスペースは、液晶材料で充填され、それから封止されて前記ＬＣＤ装置を形成する。あるいは、（２）本発明の上記ＴＦＴアレイ基板に直接に形成されたフィルターを含む集積ＴＦＴアレイ基板を提供する。前記集積ＴＦＴアレイ基板と対極（導電層）を有する対向基板は、対向して設けられ、その両者の間にはスペーサーが挿入されている。前記２つの基板の間のスペースは、液晶材料で充填され、それから封止されて前記ＬＣＤ装置を形成する。上記液晶材料は、従来の如何なるＬＣ化合物又は組成物であってよく、如何なる制限もない。
【００６６】
上記導電層の具体例としては、酸化インジウムスズ（ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）薄膜、金属薄膜（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、鉄、ニッケル、クロム、モリブデン等）；又は、金属酸化物薄膜（例えば、二酸化ケイ素等）がある。好ましくは、前記導電層は透明な膜層であり、具体的にはＩＴＯ薄膜である。
【００６７】
本発明に用いられるＴＦＴアレイ基板、カラーフィルター基板及び対向基板の具体例としては、例えば、Ｎａ−Ｃａガラス、低膨張ガラス、無アルカリガラス、又は石英ガラスのような従来のガラスがある。また、プラスチック薄膜から構成された基板を使用してもよい。
【００６８】
以下、下記の各種の典型的な実施例を参照しながら、本発明の各種の適用をより詳しく説明するが、これらの典型的な実施例は、本発明の適用を限制するものではない。従って、当業者であれば、本発明の基本的な特徴を容易に理解でき、また本発明の精神や範囲から逸脱せずに、各種の用途や条件に適うように、本発明に対して各種な変更や修正することができる。
【実施例】
【００６９】
本発明の細部にかかわる本実施例及びその例を添付図面に示す。可能な限り、図面及び説明に使用される同一の部分には同一の符号を付している。
【００７０】
［ノボラック樹脂（Ａ）の調製］
表１に基づいて、合成例Ａ−１−１〜Ａ−３−３を介して、ノボラック樹脂（Ａ）を調製した。
【００７１】
【表１】
2014164303.tif 000004
［合成例Ａ−１−１］
窒素ガスによって、窒素ガス入口、攪拌器、加熱器、冷却器、温度計付きの１０００ｍＬの四口フラスコを洗浄して、下記成分を前記フラスコに入れた。上記成分として、０．７０モルのｍ−クレゾール、０．３０モルのｐ−クレゾール、０．５モルの３，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、０．０２０モルのシュウ酸という成分を、ゆっくり攪拌して１００℃まで加熱して、重縮合反応を６時間行わせた。次に、反応物を再び１８０℃に加熱して、１０ｍｍＨｇの低下する圧力で乾燥させて、前記溶剤を蒸発させて、ヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１−１）を得た。
【００７２】
［合成例Ａ−１−２〜Ａ−３−３］
合成例Ａ−１−２〜Ａ−３−３としては、種類及び分量がヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１−１）と異なる成分を使用して、合成例Ａ−１−１と同様な方法によって達成した。合成例Ａ−１−２〜Ａ−３−３の組成についても、表１に例示されたが、詳しく言及しなかった。
【００７３】
［ポジ型感光性樹脂組成物の調製］
以下の例は、表２及び表３によって、実施例１〜１０及び比較例１〜７のポジ型感光性樹脂組成物を調製することを図った。
【００７４】
【表２】
2014164303.tif 000005
【００７５】
【表３】
2014164303.tif 000006
Ｂ−１
１−［１−（４−ヒドロキシルフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）エチル］ベンゼンとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸塩とのエステル
Ｂ−２
４，４’−エチレン−ビス（２−メチルフェノール）とナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸塩とのエステル
Ｂ−３
２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸塩とのエステル
Ｃ−１
トリ（４−ヒドロキシルフェニル）メタン
Ｃ−２
１−［１−（４−ヒドロキシルフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）エチル］ベンゼン
Ｃ−３
ビス（４−ヒドロキシル−３，５−ジメチルフェニル）フェニルメタン
Ｃ−４
２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン
Ｃ−５
１，２，３−ピロガロールモノメチルエーテル
Ｄ−１
プロピレングリコールモノメチルエーテル酢酸エーテル（ＰＧＭＥＡ）
Ｄ−２
乳酸エチル（ＥＬ）
Ｄ−３
プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＥＥ）
Ｅ−１
表面活性剤；商品名ＳＦ８４２７（東レダウコーニング株式会社製）
Ｅ−２
粘性改良剤；商品名Ｃｙｍｅｌ−３０３（ＣＹＴＥＣ社製）
（実施例１）
合成例Ａ−１−１の７０重量部のヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１−１）、３０重量部の合成例Ａ−２−１のヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−２−１）、３０重量部の１−［１−（４−ヒドロキシルフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）エチル］ベンゼン、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステルのエステル（Ｂ−１）（平均エステル化度８５％）、及び１０重量部のトリ（４−ヒドロキシルフェニル）メタン（Ｃ−１）を、３００重量部のプロピレングリコールモノメチルエーテル酢酸エーテル（ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｍｏｎｏｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ  ａｃｅｔａｔｅ；ＰＧＭＥＡ）溶剤（Ｄ−１）に添加して、シェーキングミキサーによって上記混合物を攪拌し前記溶剤に溶解させて、本発明の実施例１におけるポジ型感光性樹脂組成物を形成した。次に、以下の評価方法によって、前記ポジ型感光性樹脂組成物の性質を確定し、結果を表２に記録した。ポストベークされたパターンの膜厚及び断面プロフィールの検査方法については、下記のように説明した。
【００７６】
（実施例２〜１０）
実施例２〜１０は、種類及び分量が実施例１の前記ポジ型感光性樹脂組成物と異なる成分を使用し、実施例１と同様な方法で達成された。実施例２〜１０の組成も表２に例示されたが、詳しく言及しなかった。
【００７７】
（比較例１〜７）
比較例１〜７は、種類及び用量が実施例１と異なる成分を使用し、実施例１と同様な方法によって達成された。前記組成及び評価結果は、表３に例示された。
【００７８】
［評価方法］
１．ポストベークされたパターンの膜厚
実施例１〜１０及び比較例１〜７のポジ型感光性樹脂組成物をガラス基板にスピンコートしてから、１００℃で１２０秒間プリベークして、厚さが約１０μｍのプリベーク・塗装された薄膜が得られた。次に、プリベーク・塗装された薄膜を指定のマスク（日本フイルコン（Ｆｉｌｃｏｎ）製）に置いて、２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光（規格ＡＧ５００−４Ｎの露光機、Ｍ＆Ｒ  Ｎａｎｏ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）で照射した。そして、２３℃で２．３８％のＴＭＡＨ溶液において薄膜に対して３分間現像を行って、基板における薄膜の露光部分を除去した。純水で洗って、薄膜に残ったパターンが得られた。１２０℃で薄膜を２分間ポストベークして、保護膜としてのパターンを含むガラス基板を得た。光学式反射分光膜厚計（規格ＭＦＳ−６３０−Ｆ、Ｈｏｎｇ−Ｍｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ製）によって、前記保護膜の膜厚を測定した。
【００７９】
２．ポストベークされたパターンの断面プロフィール
走査電子顕微鏡（ｓｃａｎｎｉｎｇ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ；ＳＥＭ）によって、実施例１〜１０及び比較例１〜７のパターンを有する保護膜の断面プロフィールを撮影して、以下の基準及び図２の若干の断面図によって、前記断面プロフィールを評価した。
【００８０】
◎：垂直側壁２０１の垂直断面
○：錐体部分２０３の垂直断面
×：転倒した錐体部分２０５、楕円状２０７の垂直断面
上記実施例及び比較例により得られたポジ型感光性樹脂組成物のポストベークされたパターンの膜厚及び断面プロフィールの評価結果は、表２及び表３に示す。
【００８１】
表２及び表３における結果に示すように、前記ポジ型感光性樹脂組成物が特定の比率のヒドロキシ型ノボラック樹脂（Ａ−１）及びキシレノール型ノボラック樹脂（Ａ−２）を備える場合、得られたパターンは、ポストベークされた後高い膜厚及び良好な断面プロフィールを有するというメリットを有する。また、前記ポジ型感光性樹脂組成物にヒドロキシルアリール化合物又は（ヒドロキシルフェニル）ハイドロカーボンを有するｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）が使用される場合、このようなポジ型感光性樹脂組成物がヒドロキシ化合物（Ｃ）として前記ヒドロキシルアリール化合物を更に備えるため、得られたパターンの良好な断面プロフィールを良く達成することができ、本発明の目的を実際的に達成することができる。
【００８２】
注意すべきなのは、本発明の一例として、特定の化合物、成分、反応条件、プロセス、評価方法や特定の設備を説明して、本発明のポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を説明したが、当業者であれば、本発明は上記実施例に限定されなく、本発明の精神や範囲から逸脱せずに、本発明のポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法が他の化合物、成分、反応条件、プロセス、評価方法や特定の設備によって製造することもできることは、理解すべきである。
【００８３】
上記実施例を参照して本発明を公開したが、これらの実施例は、本発明を限制するためのものではない。上記事情に鑑み、本発明は、特許請求の範囲に添付される精神や範囲に含まれる各種の修正や類似の方案を含んでいる。従って、本発明の範囲に対しては、もっとも広範な解釈を与えて、あらゆる修正及び類似の構造を含ませるべきである。
【符号の説明】
【００８４】
１０１：ガラス基板
１０２ａ：ゲート電極
１０２ｂ：蓄積容量Ｃｓ電極
１０３：酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）薄膜
１０４：窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）薄膜
１０５：アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）層
１０６：アモルファスシリコン層
１０７ａ：ドレイン電極
１０７ｂ：ソース電極
１０８：保護膜
１０９：画像電極
２０１：垂直側壁
２０３：錐体部分
２０５：転倒した錐体部分
２０７：楕円状
【図１】
2014164303.tif 000007
【図２】
2014164303.tif 000008