Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月23日(2021.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個の電池を有した電源部と、
監視対象の状態を計測する計測部と、
上位ネットワークとの間で無線通信によりデータ通信する通信部と、
電源部，計測部，通信部を制御する制御部と、を備え、
電源部の各電池は、それぞれ制御部との間に介在する開閉スイッチにより、当該制御部に対して電気的断続可能に接続されており、
制御部は、
各開閉スイッチを開閉操作する開閉操作機能部と、
制御部に対する電源部の状態を検出する電源管理機能部と、
計測部で計測されたデータを検出する計測部検出機能部と、
電源管理機能部および計測部検出機能部で検出した検出データを、通信部を介して上位ネットワークに送信する通信機能部と、
を備え、開閉操作機能部によって各開閉スイッチの少なくとも一つが閉状態となり、当該閉状態によって制御部に電気的接続されている電池により、当該制御部が動作することを特徴とする監視装置。
【請求項２】
電源管理機能部は、制御部の起動時に、各電池の出力電圧を検出し、
制御部は、前記検出した出力電圧値と所定の出力電圧閾値とを比較して、監視装置の運用に対する当該各電池の適否判定をすることを特徴とする請求項１記載の監視装置。
【請求項３】
電源管理機能部により検出した検出データと適否判定結果とに基づく各電池の設定情報データを読み出し自在に記録可能な記録部を、更に備え、
記録部は、
制御部を起動する場合の各電池の使用状態を設定情報データとして記録する起動時電池情報部と、
適否判定後の各電池の使用状態を設定情報データとして記録する判定後電池情報部と、
各電池のメンテナンスの要否を設定情報データとして記録する電池枯渇情報部と、
を有していることを特徴とする請求項２記載の監視装置。
【請求項４】
制御部は、当該制御部を起動状態とスリープ状態とに交互に切り替える制御部切替機能部を、更に備えたことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の監視装置。
【請求項５】
制御部の外部から制御部切替機能部を操作して、スリープ状態の制御部を起動状態に起動復帰させる操作部を、更に備えたことを特徴とする請求項４記載の監視装置。
【請求項６】
電源管理機能部は、制御部に対する入力電圧を検出し、
制御部切替機能部は、電源管理機能部で検出した入力電圧値が所定の入力電圧閾値未満になった場合に、制御部を再起動してリセットすることを特徴とする請求項４または５記載の監視装置。
【請求項７】
開閉操作機能部は、制御部切替機能部によるリセット回数がｎ回（ｎは任意で設定される１以上の整数）に達した場合に、制御部と電気的接続されていた電池に係る開閉スイッチを開状態にし、制御部と電気的遮断されていた電池に係る開閉スイッチを閉状態にすることを特徴とする請求項６記載の監視装置。
【請求項８】
制御部切替機能部は、制御部を再起動してリセットした場合、当該制御部の各機能部のうち少なくとも一部を動作制限することを特徴とする請求項６または７記載の監視装置。
【請求項９】
開閉操作機能部は、制御部において、制御部切替機能部により各機能部が動作制限された起動状態での動作回数が所定回数に達した場合に、制御部と電気的接続されていた電池に係る開閉スイッチを開状態にし、制御部と電気的遮断されていた電池に係る開閉スイッチを閉状態にすることを特徴とする請求項８記載の監視装置。
【請求項１０】
制御部は、リセット回路を有し、
リセット回路は、制御部に対する入力電圧を検出し、当該入力電圧値が所定の入力電圧閾値未満になった場合に、制御部を再起動してリセットすることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の監視装置。
【請求項１１】
出力電圧閾値は、入力電圧閾値よりも大きいことを特徴とする請求項６〜１０の何れかに記載の監視装置。
【請求項１２】
電源管理機能部は、各電池のうち一部が制御部と電気的接続され残りが制御部と電気的遮断されている状態で、当該電気的接続されている電池の出力電圧を検出し、
開閉操作機能部は、前記電気的接続されている電池の検出された出力電圧値において時間変化に対する降下率が所定値未満になった場合に、前記電気的接続されている電池に係る開閉スイッチを開状態にし、前記電気的遮断されている電池に係る開閉スイッチを閉状態にすることを特徴とする請求項１〜１１の何れかに記載の監視装置。
【請求項１３】
各開閉スイッチの開閉状態を出力表示する出力部を、更に備え、
電源管理機能部は、開閉操作機能部による各開閉スイッチの開閉操作を検出し、当該検出データに基づいて出力部を出力表示させることを特徴とする請求項１〜１２の何れかに記載の監視装置。
【請求項１４】
多機能型のマンホール蓋に設けられた監視装置であって、
マンホール蓋は、
管渠に連通するマンホールの地上側の開口部を閉塞する蓋本体と、
電源部と制御部とをそれぞれ収容する筺体と、
蓋本体の裏側に形成された補強部と、
補強部により仕切られて各筺体が別個に設置される複数の空間と、
を備えたことを特徴とする請求項１〜１３の何れかに記載の監視装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】監視装置
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月21日(2021.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
白色光を発し、育成する植物（ＰＬ）に対向して設けられる白色光源（３１）と、
前記白色光源（３１）が配置される光源配置空間（２１）と前記育成する植物（ＰＬ）が配置される植物育成空間（２２）とを備え、外部の光が進入するのが遮断された格納設備（２）と、
前記格納設備（２）に水平方向に延在して設けられ、前記光源配置空間（２１）と前記植物育成空間（２２）との間の温度の伝導および空気の流通の少なくとも一方を遮断し、かつ前記白色光源（３１）の白色光のうち特定の波長の光を透過するフィルタ（５，１０５ａ，１０５ｂ，２０５，２０５１，２０５２）が設けられた仕切板（４，１０４，２０４）と、
を備えた植物育成装置（１，２０１，３０１）。
【請求項２】
前記仕切板（４）は、仕切板本体部（４ａ）と前記フィルタ（４ａ）を取り付ける取付部（４ｂ）とを備え、
前記フィルタ（５）は、前記取付部（４ｂ）に着脱可能に設けられている請求項１に記載の植物育成装置（１，３０１）。
【請求項３】
前記フィルタ（５）は、前記仕切板（４）の前記光源配置空間（２１）側に着脱可能に設けられている請求項２に記載の植物育成装置（１，３０１）。
【請求項４】
前記仕切板本体部（４ａ）は、前記白色光を透過する請求項２または３に記載の植物育成装置（１，３０１）。
【請求項５】
前記育成する植物（ＰＬ）が、所定の単位毎に区分されて植えられている場合において、
前記植物育成装置（１，３０１）は、前記所定の単位に対応して、異なる種類の複数の前記フィルタ（５，１０５ａ，１０５ｂ）を備える請求項２または３に記載の植物育成装置（１，３０１）。
【請求項６】
前記フィルタ（１０５ａ，１０５ｂ）は、前記仕切板（４）に一体に設けられている請求項１に記載の植物育成装置（１，３０１）。
【請求項７】
前記植物育成装置（２０１）は、前記フィルタ（２０５，２０５１，２０５２）を水平移動する水平移動装置（２０５ｃ，２０６）をさらに備える請求項１に記載の植物育成装置（２０１）。
【請求項８】
前記フィルタ（２０５，２０５１，２０５２）は、前記仕切板（２０４）の前記光源配置空間（２１）側に着脱可能に設けられている請求項７に記載の植物育成装置（２０１）。
【請求項９】
前記仕切板（２０４）は、前記白色光を透過する請求項７または８に記載の植物育成装置（２０１）。
【請求項１０】
前記育成する植物（ＰＬ）が、所定の単位毎に区分されて植えられている場合において、
前記植物育成装置（２０１）は、前記所定の単位に対応して、異なる種類の複数の前記フィルタ（２０５，２０５１，２０５２）を備える請求項７ないし請求項９のいずれか１項に記載の植物育成装置（２０１）。
【請求項１１】
前記植物育成装置（１，２０１，３０１）は、前記育成する植物（ＰＬ）に光を集める集光装置（４３）をさらに備える請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載の植物育成装置（１，２０１，３０１）。
【請求項１２】
前記集光装置（４３）は、前記植物育成空間（２２）に配置される請求項１１に記載の植物育成装置（１，２０１，３０１）。
【請求項１３】
前記植物育成装置（３０１）は、前記仕切板（４）を上下動させる上下動装置（８）をさらに備える請求項１ないし請求項１２のいずれか１項に記載の植物育成装置（３０１）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月7日(2021.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】駒体、バンド、時計及びバンドの表面処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、駒体、バンド、時計及びバンドの表面処理方法に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、駒体同士の連結部分についても十分な表面処理（めっき処理）を施すことができ、優れた外観に仕上げることのできる駒体、バンド、時計及びバンドの表面処理方法を提供することを目的とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乾式めっき法を用いて表面処理を施されるバンドの駒体であり、かつ複数連結されて前記バンドを形成する駒体であって、
連結方向における連結端面のうち少なくとも一部には、連結状態において隣り合う隣接駒体の端面に対して側面視楔形となるように傾斜する斜面が形成されている駒体。
【請求項２】
前記斜面が形成される前記連結端面は、前記駒体の厚み方向の所定位置に前記駒体の幅方向に延在する切替境界部を有し、当該切替境界部を境に前記斜面の傾斜方向が切り替えられるようになっており、
前記切替境界部から前記連結方向に延在する切替境界面を設定したときに、前記斜面は、前記切替境界面に対して６５度以下の傾きとなるように形成されている請求項１に記載の駒体。
【請求項３】
前記切替境界部は、前記駒体の厚み方向の中心の延長上に配置されている請求項２に記載の駒体。
【請求項４】
前記駒体には、幅方向に延在し前記隣接駒体を連結させるための連結部材を挿通させる孔部が形成されており、
前記切替境界部は、前記駒体の厚み方向における前記孔部の中心の延長上に配置されている請求項２に記載の駒体。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の駒体を複数連結して構成されるバンド。
【請求項６】
請求項５に記載のバンドを備える時計。
【請求項７】
複数連結されてバンドを形成する駒体の連結方向における連結端面のうち少なくとも一部に、連結状態において隣り合う隣接駒体の端面に対して側面視楔形となるように傾斜する斜面を形成し、
前記駒体を複数連結して駒ユニットを構成し、
前記駒ユニットに対し、乾式めっき法を用いて表面処理を施すバンドの表面処理方法。
【請求項８】
前記連結端面における、前記駒体の厚み方向の所定位置に前記駒体の幅方向に延在する切替境界部を設定し、
前記切替境界部を境に傾斜方向が切り替わるように前記斜面を形成し、
前記切替境界部から前記連結方向に延在する切替境界面を設定したときに、前記斜面の傾斜角度が、前記切替境界面に対して６５度以下の傾きとなるようにした請求項７に記載のバンドの表面処理方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月21日(2021.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の発射操作に基づいて遊技領域へ遊技球を発射可能な発射手段と、
前記遊技領域に設けられ、遊技球が入球可能又は入球しやすい第１状態と、遊技球が入球不能又は前記第１状態よりも入球しにくい第２状態とに切り替わり可能な可変入球手段と、
予め定められた特定契機に基づいて、前記可変入球手段を前記第２状態から前記第１状態とし、その後、前記第２状態とする可変入球制御を実行する可変入球制御手段と、
前記可変入球手段への遊技球の入球に基づいて遊技者に特典を付与可能な特典付与手段と、
を備え、
前記可変入球手段は、
前記遊技領域を流下する遊技球を受けることが可能な第１位置と、その所定部が前記第１位置よりも所定方向側の第２位置とに切り替わり可能な可動体を備え、
前記可動体が前記第１位置に配置される場合に前記第１状態と前記第２状態のうち一方の状態となり、前記可動体が前記第２位置に配置される場合に前記第１状態と前記第２状態のうち他方の状態となる構成であり、
前記可動体の球受け部において、前記可動体の位置が前記第１位置から前記第２位置に切り替えられる状況で遊技球を前記所定方向側に誘導することが可能な所定領域を有することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記球受け部において、前記所定領域としての第１領域と、前記可動体の位置が前記第１位置から前記第２位置に切り替えられる状況で遊技球を前記所定方向側とは異なる方向側に誘導することが可能な第２領域とを有することを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
遊技球が通過可能な特定通過部と、
前記所定方向側に誘導された遊技球が前記特定通過部を通過することを可能とする手段と、
を備えていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記可変入球手段への遊技球の入球に基づいて第１特典を付与可能な前記特典付与手段としての第１特典付与手段と、
遊技球が前記特定通過部を通過した場合、遊技者に第２特典を付与可能な第２特典付与手段と、
を備えていることを特徴とする請求項３に記載の遊技機。
【請求項５】
その前面に前記遊技領域が形成された遊技盤と、
前記遊技領域より前記遊技盤の背面側に設けられ、前記所定方向側に誘導された遊技球を前記特定通過部側に導出可能な通路部と、
を備え、
前記通路部の少なくとも一部において当該通路部内を移動する遊技球を遊技機前方から視認可能な構成であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の遊技機。
【請求項６】
その前面に前記遊技領域が形成された遊技盤と、
前記遊技領域より前記遊技盤の背面側に設けられ、前記所定方向側に誘導された遊技球が通過可能な通路部と、
を備え、
前記通路部は、当該通路部に流入した遊技球を前記遊技盤の前面側に導く手段を備えていることを特徴とする請求項３乃至５のいずれかに記載の遊技機。
【請求項７】
前記球受け部の前記所定領域に、前記可動体の位置が前記第１位置から前記第２位置に切り替えられる状況で遊技球が前記所定方向側に押し出されることを可能とする押出手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の遊技機。
【請求項８】
前記遊技領域に設けられ、前記可変入球手段とは異なる特定入球部を備え、
前記特定入球部は、前記押出手段により前記所定方向側に押し出された遊技球が当該特定入球部に入球可能となるように配置されており、
前記押出手段は、前記可動体が前記第１位置に配置される場合に、前記特定入球部との間を遊技球が通過可能なように前記特定入球部に対して離間することを特徴とする請求項７に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、
所定の発射操作に基づいて遊技領域へ遊技球を発射可能な発射手段と、
前記遊技領域に設けられ、遊技球が入球可能又は入球しやすい第１状態と、遊技球が入球不能又は前記第１状態よりも入球しにくい第２状態とに切り替わり可能な可変入球手段と、
予め定められた特定契機に基づいて、前記可変入球手段を前記第２状態から前記第１状態とし、その後、前記第２状態とする可変入球制御を実行する可変入球制御手段と、
前記可変入球手段への遊技球の入球に基づいて遊技者に特典を付与可能な特典付与手段と、
を備え、
前記可変入球手段は、
前記遊技領域を流下する遊技球を受けることが可能な第１位置と、その所定部が前記第１位置よりも所定方向側の第２位置とに切り替わり可能な可動体を備え、
前記可動体が前記第１位置に配置される場合に前記第１状態と前記第２状態のうち一方の状態となり、前記可動体が前記第２位置に配置される場合に前記第１状態と前記第２状態のうち他方の状態となる構成であり、
前記可動体の球受け部において、前記可動体の位置が前記第１位置から前記第２位置に切り替えられる状況で遊技球を前記所定方向側に誘導することが可能な所定領域を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月21日(2021.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の発射操作に基づいて遊技球を発射可能な発射手段と、
遊技球が入球可能又は入球しやすい第１状態と、遊技球が入球不能又は前記第１状態よりも入球しにくい第２状態とに切り替わり可能な可変入球手段と、
予め定められた特定契機に基づいて、前記可変入球手段を前記第２状態から前記第１状態とし、その後、前記第２状態とする可変入球制御を実行する可変入球制御手段と、
前記可変入球手段への遊技球の入球に基づいて遊技者に第１特典を付与可能な第１特典付与手段と、
を備え、
前記可変入球手段が前記第１状態である状況で第１領域に遊技球が到達した場合に当該遊技球が前記可変入球手段に流入することが可能となっており、
前記可変入球手段が前記第１状態及び前記第２状態の一方から前記第１状態及び前記第２状態の他方に切り替わる状況で前記第１領域に遊技球が存在する場合に当該遊技球が第２領域に誘導されることを可能とする特定手段と、
前記第２領域を遊技球が通過した場合に第２特典を遊技者に付与可能な第２特典付与手段と、
を備えていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記第２領域に誘導された遊技球が通過可能な特定通過部を備え、
前記第２特典付与手段は、前記特定通過部への遊技球の通過に基づいて前記第２特典を付与可能なものであることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記特定手段は、前記可変入球手段が前記第２状態から前記第１状態に切り替わる状況で前記第１領域に遊技球が存在する場合に当該遊技球が前記第２領域に誘導されることを可能とするものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記可変入球手段における前記第２状態から前記第１状態への切り替わりに際して前記第１領域の遊技球が前記特定手段により前記第２領域に誘導されなかった場合、その遊技球が前記第１状態に切り替えられた前記可変入球手段に入球可能なように構成されていることを特徴とする請求項３に記載の遊技機。
【請求項５】
前記可変入球手段が前記第２状態から前記第１状態に切り替わる状況で前記第１領域に遊技球が存在する場合に当該遊技球が前記特定手段により前記第２領域に誘導されるよりも前記可変入球手段に入球しやすくなるように構成されていることを特徴とする請求項４に記載の遊技機。
【請求項６】
前記可変入球手段が前記第２状態である所定状況で遊技球が前記第２領域を通過した場合に前記第２特典付与手段による前記第２特典が付与されないことを可能とする手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の遊技機。
【請求項７】
前記可変入球手段が前記第１状態である特定状況で前記第１領域に遊技球が到達した場合に当該遊技球が前記第２領域に誘導されないことを可能とする手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、
所定の発射操作に基づいて遊技球を発射可能な発射手段と、
遊技球が入球可能又は入球しやすい第１状態と、遊技球が入球不能又は前記第１状態よりも入球しにくい第２状態とに切り替わり可能な可変入球手段と、
予め定められた特定契機に基づいて、前記可変入球手段を前記第２状態から前記第１状態とし、その後、前記第２状態とする可変入球制御を実行する可変入球制御手段と、
前記可変入球手段への遊技球の入球に基づいて遊技者に第１特典を付与可能な第１特典付与手段と、
を備え、
前記可変入球手段が前記第１状態である状況で第１領域に遊技球が到達した場合に当該遊技球が前記可変入球手段に流入することが可能となっており、
前記可変入球手段が前記第１状態及び前記第２状態の一方から前記第１状態及び前記第２状態の他方に切り替わる状況で前記第１領域に遊技球が存在する場合に当該遊技球が第２領域に誘導されることを可能とする特定手段と、
前記第２領域を遊技球が通過した場合に第２特典を遊技者に付与可能な第２特典付与手段と、
を備えていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月21日(2021.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の発射操作に基づいて遊技領域へ遊技球を発射可能な発射手段と、
前記発射手段により発射された遊技球が入球可能な特定入球手段と、
遊技の状態が第１状態である状況で遊技球が前記特定入球手段に入球した場合に所定特典が付与されることなく遊技球が前記遊技領域から排出されることを可能とする第１手段と、
遊技の状態が前記第１状態とは異なる第２状態である状況で遊技球が前記特定入球手段に入球した場合に前記所定特典が付与されることを可能とする第２手段と、
を備えていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記特定入球手段の下流側に設けられ、遊技球が通過可能な通過部を備え、
前記第２手段は、遊技球が前記通過部を通過したことに基づいて前記所定特典を付与可能なものであり、
前記第１手段は、遊技の状態が前記第１状態である状況で前記特定入球手段に入球した遊技球が前記通過部を通過しないようにするものであることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記特定入球手段の下流側に設けられ、遊技球が通過可能な通過部を備え、
前記第２手段は、遊技球が前記通過部を通過したことに基づいて前記所定特典を付与可能なものであり、
前記第１手段は、遊技の状態が前記第１状態である状況で前記特定入球手段に入球した遊技球が前記通過部を通過しても前記所定特典が付与されないようにするものであることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項４】
前記第２手段は、所定の可動体が駆動されることに応じて前記特定入球手段への入球が生じた場合、前記所定特典が付与されることを可能とするものであり、
前記第１手段は、前記所定の可動体の駆動を伴わずに前記特定入球手段への入球が生じた場合、前記所定特典が付与されることなく遊技球が前記遊技領域から排出されることを可能とするものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の遊技機。
【請求項５】
前記遊技領域に設けられ、遊技球が入球可能又は入球しやすい第１態様と、遊技球が入球不能又は前記第１態様よりも入球しにくい第２態様とに切り替わり可能な可変入球手段と、
前記可変入球手段を前記第２態様から前記第１態様とし、その後、前記第２態様とする可変入球制御を実行する可変入球制御手段と、
を備え、
前記第２状態は、前記可変入球制御が少なくとも１回実行される状態であり、
前記第１状態は、前記可変入球制御の実行中ではない状態であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の遊技機。
【請求項６】
前記特定入球手段に入球した遊技球が流入可能な通路部と、
発光可能な発光手段と、
を備え、
前記発光手段は、その照射光が前記通路部に当たるようにして設けられており、
前記第２状態である場合に前記発光手段が発光し、前記第１状態である場合に前記発光手段が発光しない又は前記第２状態である場合よりも目立ちにくい態様で発光するように前記発光手段を制御する発光制御手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の遊技機。
【請求項７】
その前面に前記遊技領域が形成された遊技盤を備え、
前記通路部は前記遊技盤の背面側に設けられており、
前記通路部の少なくとも一部において当該通路部を流れる遊技球を遊技機前方から視認可能な構成とされていることを特徴とする請求項６に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、
所定の発射操作に基づいて遊技領域へ遊技球を発射可能な発射手段と、
前記発射手段により発射された遊技球が入球可能な特定入球手段と、
遊技の状態が第１状態である状況で遊技球が前記特定入球手段に入球した場合に所定特典が付与されることなく遊技球が前記遊技領域から排出されることを可能とする第１手段と、
遊技の状態が前記第１状態とは異なる第２状態である状況で遊技球が前記特定入球手段に入球した場合に前記所定特典が付与されることを可能とする第２手段と、
を備えていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月26日(2021.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、ＥＵＶ光を反射する多層反射膜を有する多層反射膜付き基板と、該多層反射膜付き基板上に、ＥＵＶ光を吸収する吸収体膜とが少なくとも形成されている反射型マスクブランクの製造方法であって、
前記多層反射膜付き基板は、第１の基準マークを有し、
前記吸収体膜は、第２の基準マークを有し、
前記多層反射膜付き基板に対して欠陥検査を行う工程と、
前記欠陥検査によって得られた欠陥情報に基づいて、前記第１の基準マークを基準とした第１の欠陥マップを作成する工程と、
前記第２の基準マークを基準とした前記第１の基準マークの座標を検出し、前記多層反射膜付き基板の前記第１の欠陥マップを前記第２の基準マークを基準とした第２の欠陥マップに変換する工程と、
を含むことを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項２】
前記多層反射膜付き基板は、前記多層反射膜上に保護膜が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項３】
前記多層反射膜付き基板の欠陥検査は、１００ｎｍよりも短い波長の検査光を用いて行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項４】
前記第１の基準マークは、座標計測器を用いて基準マーク形成座標を特定することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項５】
前記第２の基準マークを座標計測器で計測することにより、電子線描画工程の基準座標に変換することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項６】
前記反射型マスクブランクの表面の欠陥検査を全面検査で行うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の反射型マスクブランクの製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の反射型マスクブランクの製造方法により得られる反射型マスクブランクにおける前記吸収体膜をパターニングして、吸収体膜パターンを形成することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の反射型マスクの製造方法により得られる反射型マスクを用いて、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写することにより、半導体装置を製造する半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月27日(2021.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明の一態様は、複数の鍵を有する鍵盤と、前記複数の鍵の操作面を露出するようにして前記鍵盤を収納するとともに、前記複数の鍵の後端側で前記操作面よりも高い位置にスピーカの音を前方に放音するための放音孔が設けられている前面部を有するケースと、を備え、前記ケースは、前記前面部に連結するとともに前記前面部の後方に延びる第１補強リブと、前記第１補強リブと連結するとともに前記複数の鍵の配列方向に延びる第２補強リブと、を有する、鍵盤楽器である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の鍵を有する鍵盤と、
前記複数の鍵の操作面を露出するようにして前記鍵盤を収納するとともに、前記複数の鍵の後端側で前記操作面よりも高い位置にスピーカの音を前方に放音するための放音孔が設けられている前面部を有するケースと、
を備え、
前記ケースは、前記前面部に連結するとともに前記前面部の後方に延びる第１補強リブと、前記第１補強リブと連結するとともに前記複数の鍵の配列方向に延びる第２補強リブと、を有する、鍵盤楽器。
【請求項２】
前記第２補強リブは、前記第１補強リブの後端部に連結し、前記鍵の前後方向の長さより前記複数の鍵の配列方向の長さが長い枠状のリブである、請求項１に記載の鍵盤楽器。
【請求項３】
前記ケースは、前記前面部における前記複数の鍵の配列方向の異なる位置にそれぞれ連結する複数の前記第１補強リブを有し、
前記第２補強リブは、前記複数の鍵の配列方向の異なる位置に前記複数の前記第１補強リブがそれぞれ連結されている、請求項１または２に記載の鍵盤楽器。
【請求項４】
白鍵と黒鍵を含む複数の鍵を有する鍵盤と、
前記複数の鍵の操作面を露出するようにして前記鍵盤を収納するとともに、前記複数の鍵の後端側で前記操作面よりも高い位置にスピーカの音を前方に放音するための放音孔が設けられている前面部を有するケースと、
を備え、
前記ケースは、前記前面部に連結するとともに前記前面部の後方に延びる第１補強リブを有し、
複数の前記黒鍵それぞれに対応した位置に複数の前記第１補強リブが設けられている、鍵盤楽器。
【請求項５】
複数の鍵を有する鍵盤と、
前記複数の鍵の操作面を露出するようにして前記鍵盤を収納するとともに、前記複数の鍵の後端側で前記操作面よりも高い位置にスピーカの音を前方に放音するための放音孔が設けられている前面部を有するケースと、
を備え、
前記ケースは、前記前面部に連結するとともに前記前面部の後方に延びる第１補強リブを有し、
前記第１補強リブの下部には、少なくともフェルト及び放音部材のいずれか一方の位置を規制する位置規制部が設けられている、鍵盤楽器。
【請求項６】
前記ケースは、前記複数の鍵の配列方向の異なる位置に前記第２補強リブが複数設けられている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の鍵盤楽器。
【請求項７】
前記ケースは、前記第２補強リブに連結する複数の前記第１補強リブと、前記第２補強リブに連結しない複数の前記第１補強リブを有する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の鍵盤楽器。
【請求項８】
前記ケースは、前記スピーカの音を後方に放音するための放音孔が設けられている背面放音部を有する、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の鍵盤楽器。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月1日(2021.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示面を内側にして折り曲げが可能な、可撓性を有する表示パネルを備えた電子機器であって、
前記表示パネルの裏面側に配置された、第１の支持体及び第２の支持体と、
前記表示パネルに重ねて配置され、それぞれ可撓性を有する第１のシート及び第２のシートと、を有し、
前記表示パネルは、第１乃至第３の部分を有し、
前記第１の部分は、前記第１の支持体に支持され、
前記第２の部分は、前記第１の部分と前記第３の部分との間に位置し、
前記第３の部分は、前記第２の支持体に支持され、
前記表示パネルの表示領域は、前記第１の部分乃至前記第３の部分にわたって設けられ、
前記表示パネルが折り曲げられた状態において、前記表示パネルは、前記第２の部分に湾曲する部分を有し、
前記第１のシートは、少なくとも前記湾曲する部分の前記裏面側に貼り付けられ、
前記第２のシートは、前記表示面側の前記表示領域より外側の領域に配置され、
前記第１のシートは、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記第２のシートは、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記第１のシートは、金属を有する電子機器。
【請求項２】
表示面を内側にして折り曲げが可能な、可撓性を有する表示パネルを備えた電子機器であって、
前記表示パネルの裏面側に配置された、第１の支持体及び第２の支持体と、
前記表示パネルに重ねて配置され、それぞれ可撓性を有する第１のシート及び第２のシートと、を有し、
前記表示パネルは、第１乃至第３の部分を有し、
前記第１の部分は、前記第１の支持体に支持され、
前記第２の部分は、前記第１の部分と前記第３の部分との間に位置し、
前記第３の部分は、前記第２の支持体に支持され、
前記表示パネルの表示領域は、前記第１の部分乃至前記第３の部分にわたって設けられ、
前記表示パネルが折り曲げられた状態において、前記表示パネルは、前記第２の部分に湾曲する部分を有し、
前記第１のシートは、少なくとも前記湾曲する部分の前記裏面側に貼り付けられ、
前記第２のシートは、前記表示面側の前記表示領域より外側の領域に配置され、
前記第１のシートは、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記第２のシートは、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記第１のシートは、金属を有し、
前記表示パネルが折り曲げられた状態において、前記第２の部分からの距離が遠いほど断面視における前記第１の部分と前記第３の部分との間隔が小さい電子機器。
【請求項３】
表示面を内側にして折り曲げが可能な、可撓性を有する表示パネルを備えた電子機器であって、
前記表示パネルの裏面側に配置された、第１の支持体及び第２の支持体と、
前記表示パネルに重ねて配置され、それぞれ可撓性を有する第１のシート及び第２のシートと、を有し、
前記表示パネルは、第１乃至第３の部分を有し、
前記第１の部分は、前記第１の支持体に支持され、
前記第２の部分は、前記第１の部分と前記第３の部分との間に位置し、
前記第３の部分は、前記第２の支持体に支持され、
前記表示パネルの表示領域は、前記第１の部分乃至前記第３の部分にわたって設けられ、
前記表示パネルが折り曲げられた状態において、前記表示パネルは、前記第２の部分に湾曲する部分を有し、
前記第１のシートは、少なくとも前記湾曲する部分の前記裏面側に貼り付けられ、
前記第２のシートは、前記表示面側の前記表示領域より外側の領域に配置され、
前記第１のシートは、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記第２のシートは、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記第１のシートは、金属を有し、
前記第２のシートは、ゴムを有する電子機器。
【請求項４】
表示面を内側にして折り曲げが可能な、可撓性を有する表示パネルを備えた電子機器であって、
前記表示パネルの裏面側に配置された、第１の支持体及び第２の支持体と、
前記表示パネルに重ねて配置され、それぞれ可撓性を有する第１のシート及び第２のシートと、を有し、
前記表示パネルは、第１乃至第３の部分を有し、
前記第１の部分は、前記第１の支持体に支持され、
前記第２の部分は、前記第１の部分と前記第３の部分との間に位置し、
前記第３の部分は、前記第２の支持体に支持され、
前記表示パネルの表示領域は、前記第１の部分乃至前記第３の部分にわたって設けられ、
前記表示パネルが折り曲げられた状態において、前記表示パネルは、前記第２の部分に湾曲する部分を有し、
前記第１のシートは、少なくとも前記湾曲する部分の前記裏面側に貼り付けられ、
前記第２のシートは、前記表示面側の前記表示領域より外側の領域に配置され、
前記第１のシートは、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記第２のシートは、前記表示パネルよりも可撓性が低く、
前記第１のシートは、金属を有し、
前記第２のシートは、ゴムを有し、
前記表示パネルが折り曲げられた状態において、前記第２の部分からの距離が遠いほど断面視における前記第１の部分と前記第３の部分との間隔が小さい電子機器。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記表示パネルが折り曲げられた状態において、前記湾曲する部分の曲率半径の最小値は、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下である電子機器。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月22日(2021.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上の４回非対称の電磁散乱素子の配列と、
を備えるメタ表面であって、
前記４回非対称の電磁散乱素子の各素子は、２回回転対称性を有し、４回回転対称性を欠き、
前記４回非対称の電磁散乱素子は、前記基板よりも高い屈折率を有し、
前記メタ表面は、周期的格子の点に中心を有するユニットセルに分割され、
各ユニットセルは、前記ユニットセルの中心に配置された４回非対称の電磁散乱素子の一つの素子に関連付けられ、
各ユニットセルの偏光依存型の散乱応答が、前記関連する素子の、長径、短径、及び長軸方向の１つ以上によって提供され、
各ユニットセルでの前記メタ表面の偏光依存型の散乱応答は、前記ユニットセルの偏光依存型の散乱応答により提供される
メタ表面。
【請求項２】
前記４回非対称の電磁散乱素子は、同じ高さを有する、請求項１に記載のメタ表面。
【請求項３】
前記周期的格子の格子定数は、何れの前記４回非対称の電磁散乱素子の長径よりも大きい、請求項１に記載のメタ表面。
【請求項４】
前記各ユニットセルの偏光依存型の散乱応答は、前記関連する素子の高さによってさらに提供される、請求項１に記載のメタ表面。
【請求項５】
前記ユニットセルは六角形である、請求項１に記載のメタ表面。
【請求項６】
前記メタ表面を透過した電磁波は、主に各ユニットセルの前記関連する素子の内部に閉じ込められ、隣接するユニットセルは弱く結合される、請求項１に記載のメタ表面。
【請求項７】
前記電磁波は７２％から９７％の範囲の強度効率で透過する、請求項６に記載のメタ表面。
【請求項８】
前記基板はシリカでできており、前記４回非対称の電磁散乱素子はアモルファスシリコンでできている、請求項１に記載のメタ表面。
【請求項９】
前記４回非対称の電磁散乱素子は、４回非対称のシリンダーである、請求項１から８の何れか一項に記載のメタ表面。
【請求項１０】
前記４回非対称のシリンダーの長軸は、前記メタ表面の前記偏光依存型の散乱応答に従って指向される、請求項９に記載のメタ表面。
【請求項１１】
前記４回非対称のシリンダーは、第１群および第２群の４回非対称のシリンダーを備え、前記第１群は、前記第２群の長軸とは異なる方向に指向された長軸を有する、請求項９又は１０に記載のメタ表面。
【請求項１２】
前記４回非対称のシリンダーの各シリンダーの長径、短径、及び長軸方向の１つ以上は、前記シリンダーの前記長軸または前記短軸に平行な偏光で前記シリンダーに関連するユニットセルに入射した電磁波が、前記ユニットセルの出射後に、不変の偏光を有するが、シフトした位相を有するように構成される、請求項９に記載のメタ表面。
【請求項１３】
前記４回非対称の電磁散乱素子は、楕円形、長方形、または菱形である、請求項１に記載のメタ表面。
【請求項１４】
前記４回非対称のシリンダーの各シリンダーの長径、短径、及び長軸方向は、前記シリンダーに関連する前記ユニットセルに入射し前記ユニットセルから出射する電磁波のジョーンズ行例に従って決定される、請求項１２に記載のメタ表面。
【請求項１５】
前記４回非対称の電磁散乱素子の寸法は、前記メタ表面の動作波長の範囲に従って選択される、請求項１から９のいずれか一項に記載のメタ表面。
【請求項１６】
メタ表面により散乱される電磁波の所望の偏光及び位相シフトを提供するステップであって、前記メタ表面は、基板及び前記基板上の４回非対称の電磁散乱素子の配列を備え、前記４回非対称の電磁散乱素子の各素子は、２回回転対称性を有し、４回回転対称性を欠き、前記４回非対称の電磁散乱素子は、前記基板よりも高い屈折率を有するステップと、
前記メタ表面を、周期的格子の点に中心を有するユニットセルに分割するステップと、
前記提供するステップと前記分割するステップとに基づいて、各ユニットセルについて該ユニットセルの位置での散乱された電磁波のそれぞれのジョーンズ行列を確立するステップと、
前記４回非対称の電磁散乱素子の各素子を個々のユニットセルに関連付けるステップと、
前記それぞれのジョーンズ行列に従って、前記関連づけられた素子の長径、短径、及び長軸方向を決定するステップと、
前記決定するステップに基づいて、前記関連付けられたユニットセルの中心に前記４回非対称の電磁散乱素子の各素子を配置することによって、前記メタ表面を製造するステップと
を含むメタ表面の製造方法。
【請求項１７】
前記４回非対称の電磁散乱素子はアモルファスシリコンでできており、前記基板はシリカでできている、請求項１６に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記４回非対称の電磁散乱素子は、楕円形、長方形、または菱形である、請求項１６又は１７に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記提供するステップに基づいて、前記メタ表面により散乱される電磁波のメタ表面ジョーンズ行列を計算するステップを含み、
前記ユニットセルの位置でのそれぞれのジョーンズ行列を確立するステップは、前記メタ表面ジョーンズ行列に基づく前記それぞれのジョーンズ行列の近似を含む、
請求項１６に記載の製造方法。
【請求項２０】
前記決定するステップは、前記関連付けられた素子の高さを決定することをさらに含む、請求項１６に記載の製造方法。
【請求項２１】
前記メタ表面の各ユニットセルを透過する光波の偏光および位相は、前記関連付する素子の設計に従って変更され、前記設計は、前記関連する素子の前記長径、前記短径、及び前記長軸方向の１つ以上を含む、請求項１に記載のメタ表面。
【請求項２２】
基板と、
前記基板上の電磁散乱素子の配列と、
を備えるデバイスであって、
前記電磁散乱素子は、４回回転対称性を欠くことにより、前記配列の偏光依存型の散乱応答を可能とし、前記基板よりも高い屈折率を有し、
各電磁散乱素子は、それぞれの回転方向を有し、
前記電磁散乱素子の前記それぞれの回転方向は、いくつかの前記電磁散乱素子が他の電磁散乱素子の前記回転方向とは異なる回転方向を有するように配置され、前記電磁散乱素子の前記それぞれの回転方向は、前記配列が所望の偏光依存型の散乱応答を示すよう選択される、デバイス。
【請求項２３】
前記基板はシリカでできており、前記電磁散乱素子はアモルファスシリコンでできている、請求項２２に記載のデバイス。
【請求項２４】
前記電磁散乱素子は、４回回転対称性を欠くシリンダーであり、各シリンダーはそれぞれの長軸を有し、前記それぞれの長軸の方向は前記それぞれの回転方向を規定する、請求項２２または２３に記載のデバイス。
【請求項２５】
前記シリンダーは第１群および第２群のシリンダーを備え、前記第１群は前記第２群の長軸とは異なる方向に指向された長軸を有する、請求項２４に記載のデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】メタ表面、メタ表面の製造方法及びデバイス
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月16日(2021.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１波長帯域光を蛍光光に変換する蛍光発光領域と、前記第１波長帯域光を透過する透過領域と、を含む蛍光部材と、
前記透過領域を透過した前記第１波長帯域光を前記透過領域へ反射する反射部材と、
前記蛍光部材と前記反射部材との間に配置され、前記第１波長帯域光を透過し、前記第１波長帯域光の偏光方向を変換する偏光変換素子と、
を備えることを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記反射部材の反射面は、前記蛍光部材に照射される前記第１波長帯域光の焦点を中心として球面状に湾曲していることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記第１波長帯域光のうち第１偏光方向の成分を反射し、前記第１波長帯域光のうち前記第１偏光方向と直交する第２偏光方向の成分を透過し、前記蛍光光を透過または反射するダイクロイックミラーを備え、
前記偏光変換素子は、前記透過領域を透過した前記第１波長帯域光及び前記反射部材で反射した前記第１波長帯域光を透過して、前記第１偏光方向の前記第１波長帯域光を前記第２偏光方向に偏光変換することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光源装置。
【請求項４】
前記第１偏光方向は、Ｓ偏光方向、前記第２偏光方向は、Ｐ偏光方向であり、
前記第１波長帯域光がＳ偏光のとき、前記ダイクロイックミラーは前記蛍光光を透過し、
前記第１波長帯域光がＰ偏光のとき、前記ダイクロイックミラーは前記蛍光光を反射する、
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載の光源装置。
【請求項５】
前記偏光変換素子は、１／４波長板であることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れかに記載の光源装置。
【請求項６】
前記蛍光発光領域は、第２波長帯域光を出射する第１蛍光発光領域と、第３波長帯域光を出射する第２蛍光発光領域とを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れかに記載の光源装置。
【請求項７】
前記第１波長帯域光は、青色波長帯域光であり、
前記第２波長帯域光は、緑色波長帯域光であり、
前記第３波長帯域光は、赤色波長帯域光である、
ことを特徴とする請求項６に記載の光源装置。
【請求項８】
前記第1波長帯域光を出射する発光素子を備え、
前記発光素子は、前記ダイクロイックミラーを基準として前記蛍光部材と対向する位置に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の光源装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８の何れか記載の光源装置と、
前記光源装置からの光源光が照射され、画像光を形成する表示素子と、
前記表示素子から出射された前記画像光をスクリーンに投影する投影側光学系と、
前記表示素子と前記光源装置を制御する制御部と、
を有することを特徴とする投影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の光源装置は、第１波長帯域光を蛍光光に変換する蛍光発光領域と、前記第１波長帯域光を透過する透過領域と、を含む蛍光部材と、前記透過領域を透過した前記第１波長帯域光を前記透過領域へ反射する反射部材と、前記蛍光部材と前記反射部材との間に配置され、前記第１波長帯域光を透過し、前記第１波長帯域光の偏光方向を変換する偏光変換素子と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月25日(2021.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最も寸法が小さい測定対象部品の一対の電極の方向の寸法よりも小さく、この電極の方向と直交する方向の寸法よりも大きい寸法で第1方向に延びた底部と前記第一方向に延び前記底部から上方へ向かうにつれて互いに離間する一対の傾斜面を有する前記第一方向に延びる溝を含み、検査されるべき電子部品が載置される部品載置部と、
前記溝の前記第一方向における両端から、前記部品載置部に載置された電子部品の一対の電極の各々に接続可能に設けられた一対の測定子と
を備えた検査装置。
【請求項２】
前記電子部品を保持し、前記電子部品を前記部品載置部に載置する部品保持部と、
請求項１に記載の検査装置と
を含むことを特徴とする電子部品実装機。
【請求項３】
検査される電子部品の底面のほぼ全面が接触する底部と、その底部の両側から延び、略Ｖ字形状の溝に形成する傾斜面とからなる部品載置部と、
電子部品を保持し、予め定められた姿勢で前記部品載置部の底部に載置する部品保持部と、
少なくとも一方が他方に対して接近する方向に移動することにより、前記底部に載置された前記電子部品を挟んで、前記電子部品の両端に設けられた一対の電極の各々に電気的に接続可能に設けられた一対の測定子と、
を備えたことを特徴とする電子部品実装機。
【請求項４】
前記部品保持部は、前記電子部品の前記一対の電極が、前記一対の測定子の各々に対向する向きになる姿勢で、前記部品載置部の底部に載置する、請求項２または３に記載の電子部品実装機。
【請求項５】
前記部品保持部が前記部品載置部の底部に載置した前記電子部品を前記部品載置部へ引き寄せる引き寄せ部を備えたことを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１つに記載の電子部品実装機。
【請求項６】
電子部品が載置される部品載置部と、
前記電子部品の両端に設けられた一対の電極の各々に電気的に接続可能であり、少なくとも一方が他方に対して接近する方向に移動することにより、前記部品載置部に載置された前記電子部品を挟む一対の測定子と、
検査されるべき電子部品を保持し、前記電子部品の前記一対の電極が前記一対の測定子の各々に対向する向きになる姿勢で、前記部品載置部に載置する部品保持部と、
前記部品保持部が前記部品載置部に載置した前記電子部品を前記部品載置部へ引き寄せる引き寄せ部と、
を備えた電子部品実装機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】検査装置及び電子部品実装機
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月25日(2021.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ケース、ケースの製造方法及び時計の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ケース、ケースの製造方法及び時計の製造方法に関するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、ケース本体と外装部材とをレーザ溶接することによってケースを形成する場合に、レーザ光の反射光が到達した部分が溶けても、内部に部材を収容した場合に、正確に位置決めすることができるケース、ケースの製造方法及び時計の製造方法を提供することを目的とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題を解決するために、本発明に係るケースは、
ケース本体と、
前記ケース本体にレーザ溶接される外装部材と、
を備え、
前記ケース本体と前記外装部材との溶接部に向かって照射されるレーザ光の、照射面に対する入射角度に対応して、前記照射面で反射した反射光が到達する位置に凹部状の反射光受け部を形成したことを特徴としている。
本発明に係るケースの製造方法は、
ケース本体と外装部材との溶接部に向かってレーザ光を照射することで、前記ケース本体と前記外装部材との溶接部を溶接するケースの製造方法であって、
前記溶接部が位置するレーザ光の照射面で反射した反射光は、レーザ光の入射角度に応じた角度で前記外装部材に形成された凹部状の反射光受け部に向かって照射されることを特徴としている。
本発明に係る時計の製造方法は、
ケース本体と外装部材との溶接部に向かってレーザ光を照射することで、前記ケース本体と前記外装部材との溶接部を溶接する時計の製造方法であって、
前記溶接部が位置するレーザ光の照射面で反射した反射光は、レーザ光の入射角度に応じた角度で前記外装部材に形成された凹部状の反射光受け部に向かって照射されることを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケース本体と、
前記ケース本体にレーザ溶接される外装部材と、
を備え、
前記ケース本体と前記外装部材との溶接部に向かって照射されるレーザ光の、照射面に対する入射角度に対応して、前記照射面で反射した反射光が到達する位置に凹部状の反射光受け部を形成したことを特徴とするケース。
【請求項２】
ケース本体と外装部材との溶接部に向かってレーザ光を照射することで、前記ケース本体と前記外装部材との溶接部を溶接するケースの製造方法であって、
前記溶接部が位置するレーザ光の照射面で反射した反射光は、レーザ光の入射角度に応じた角度で前記外装部材に形成された凹部状の反射光受け部に向かって照射されることを特徴とするケースの製造方法。
【請求項３】
ケース本体と外装部材との溶接部に向かってレーザ光を照射することで、前記ケース本体と前記外装部材との溶接部を溶接する時計の製造方法であって、
前記溶接部が位置するレーザ光の照射面で反射した反射光は、レーザ光の入射角度に応じた角度で前記外装部材に形成された凹部状の反射光受け部に向かって照射されることを特徴とする時計の製造方法。
【請求項４】
前記ケース本体と前記外装部材とを接合するに際して、
前記ケース本体の上側に防水リングを介して前記外装部材を配置する第１工程と、
前記ケース本体の裏面側から前記溶接部をレーザ溶接する第２工程と、
前記ケース本体の裏面側からモジュールを配置する第３工程と、
前記ケース本体の裏面側の開口部分に防水リングを介して裏蓋部材を取り付ける第４工程と、
を含むことを特徴とする請求項３に記載の時計の製造方法。
【請求項５】
前記第１工程は、前記ケース本体の内周側の上面と、前記外装部材の下端面と、が接触した状態であることを特徴とする請求項４に記載の時計の製造方法。
【請求項６】
前記第２工程は、ケース本体２の裏面側の中心部近傍から前記溶接部に向かってレーザ光を照射し、前記ケース本体と前記外装部材とが溶着される工程を含み、
前記第２工程と前記第３工程との間において、前記溶接部の照射面で反射した反射光が、レーザ光の入射角度に応じた角度で前記反射光受け部に向かって照射され、前記反射光受け部内を溶かす工程を含むことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の時計の製造方法。
【請求項７】
前記第３工程は、モジュールの上面を、前記外装部材のモジュール受け面に突き当てる工程を含むことを特徴とする請求項４から請求項６のいずれか一項に記載の時計の製造方法。
【請求項８】
前記第４工程の後に、外装部材の表面側の開口部分に防水リングを介して風防部材を取り付け、前記開口部分を閉塞する工程を含むことを特徴とする請求項４から請求項７のいずれか一項に記載の時計の製造方法。