(57)【要約】【課題】そのまま一定の流量で塗布ノズル、もしくは液溜部および掻き上げ部等の吐出手段に供給し、さらに送液配管の途中で粒子の粒度分布を測定することにより安定的な塗布膜形成を行うことができる塗布方方法および塗布装置の提供が望まれていた。【解決手段】粒子が分散した塗布液を吐出することにより相対移動する被塗布体上に塗布液を塗布して薄膜を形成する塗布方法において、塗布液の原材料を一段階の分散処理にて目標とする粒子径にまで分散させて分散液とする分散工程と、分散工程で分散された分散液の粒子径を測定する粒度分布測定工程と、分散液または分散液の希釈液である前記塗布液を吐出手段から相対移動する被塗布体上に吐出して塗布する塗工工程とを配管内に有し、粒度分布測定工程において測定された粒度分布に基づいて分散工程の分散を制御することを特徴とする塗布方法および塗布装置を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子が分散した塗布液を吐出することにより相対移動する被塗布体上に前記塗布液を塗布して薄膜を形成する塗布方法において、
前記塗布液の原材料を一段階の分散処理にて目標とする粒子径にまで分散させて分散液とする分散工程と、
前記分散工程で分散された分散液の粒子径を測定する粒度分布測定工程と、
前記分散液または前記分散液の希釈液である前記塗布液を吐出手段から相対移動する被塗布体上に吐出して塗布する塗工工程と、
を配管内に有し、
前記粒度分布測定工程において測定された粒度分布に基づいて前記分散工程の分散を制御することを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
粒子が分散した塗布液を吐出することにより相対移動する被塗布体上に前記塗布液を塗布して薄膜を形成する塗布方法において、
前記塗布液の原材料を一段階の分散処理にて目標とする粒子径にまで分散させて分散液とする分散工程と、
前記分散工程で分散された分散液の粒子径を測定する粒度分布測定工程と、
前記分散液の希釈液である前記塗布液を吐出手段から相対移動する被塗布体上に吐出して塗布する塗工工程と、
前記分散液の濃度を測定する濃度測定工程と、
前記濃度測定工程の濃度測定結果により分散液を希釈して塗布液を作成する希釈工程と、
を配管内に有し、
前記粒度分布測定工程において測定された粒度分布に基づいて前記分散工程の分散を制御することを特徴とする塗布方法。
【請求項３】
配管上に、
塗布液の原材料を投入する投入口と、
前記塗布液の原材料を一段階の分散処理にて目標とする粒子径にまで分散する分散装置と、
粒度分布測定装置と、
被塗布体上に吐出する塗工装置とが設けられ、
前記粒度分布測定装置の測定結果に基づき前記分散装置が分散することを特徴とする塗布液を相対移動する被塗布体上に吐出して塗布する塗布装置。
【請求項４】
前記配管上に、濃度計と、
前記濃度計に基づき分散液を希釈する希釈手段を有することを特徴とする請求項３記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布液を製造するための分散工程を有し、その分散工程で製造された分散液もしくはその希釈液を塗布液として被塗布体に塗布するための塗布方法および塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイなどの表示装置の需要が高まりつつある。この表示装置は反射光を拡散するための防眩層を有する。この防眩層は、通常微細な凹凸表面を有する塗布膜で形成されている。
【０００３】
このような光学特性を有する塗膜の製造方法の代表的なものとして、走行するフィルムに樹脂溶液を支持基板上に塗布し、これを乾燥させて各種組成の塗布膜を形成する方法が挙げられる。
【０００４】
塗工装置としては、走行する支持体上に塗布液を全量塗布する、例えば、スリットダイ塗工装置や、液溜め部から塗布液を掻き上げて支持体に塗布し、塗布されなかった余剰の塗布液は回収され再度塗工装置に送液するコンマ塗工装置、バー塗工装置、グラビア装置、ロール塗布装置などがある。
【０００５】
近年においては、光学フィルムの高性能化によって塗布膜の薄膜化、膜厚ムラ防止及び表面凹凸の要求精度が以前に比べて格段に高くなっている。この為、単に塗工装置の機械精度を上げるだけでは解決できず、塗布経過時における塗布液中の固形分濃度や粒子径の経時的な変化を精度良く管理し、常に一定の固形分濃度や粒子径にすることが重要になってきている。
【０００６】
従来、塗布液の管理としては、特許文献１に見られるように、塗布膜の形成の際に塗布中の固形分濃度を計測し、その計測結果を用いて塗布厚みや粒子の分散状態をコントロールすることにより、塗布液の固形分濃度や粒度の経時的な変化に由来する塗布ムラを発生させないで安定的な塗布膜形成を行う方法が提示されている。
【０００７】
この方法によると、供給タンクから送液配管を介して送液される塗布液を、走行する支持体上に塗布ノズルから塗布して薄膜を形成するに際し、前記送液配管の途中で塗布液の濃度および粒度をインライン測定する工程と、測定した前記濃度と予め規定した目標濃度との濃度差を演算する工程と、前記濃度差に応じて前期塗布液の流量をフィードバック制御する工程と、測定した前記粒度と予め規定した目標粒度との粒度差を演算する工程と、前記粒度差に応じて前記供給タンク中の前記塗布液の分散状態をフィードバック制御することで、塗布ムラを発生させないで安定的な塗布膜形成を行うことができるとの記載がある。
【０００８】
しかし、この方法では、供給タンクから材料を供給し、インライン分散工程を経て塗布工程に至るまでの時間を一定に保つのが困難であり、塗布液の分散状態の経時的な変化に由来する問題を解決することができない。また、塗布液の粒度が予め規定した目標粒度よりも大きければ分散手段の回転数や超音波の出力を増やして制御することが可能だが、塗布液の粒度が予め規定した目標粒度より小さければ容易に目標粒度まで戻すことが難しくなる。
【０００９】
これは、一度分散処理を行った塗布液がタンクに還流するため、粒度を上げることが困
難だからである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１０−２５９９８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
近年、光学フィルムを製造する場合、塗布液に粒子が分散されているものを用いることが多く、時間と共に粉同士が凝集することが多々あるが、逆に強固に分散させると光学フィルムの特徴である防眩性が損なわれるため、分散状態を所望の粒子径にコントロールする必要がある。
【００１２】
しかし、完全に凝集してしまった状態では、粉体の方が塗布液の溶媒よりも密度が高くなり、塗布液が静止していると粉体が沈降する。
【００１３】
分散状態は、粉体と溶媒が混合、攪拌が開始されると同時に変化が開始するものであり、分散工程は、材料が供給される材料供給口と、材料を分散装置に供給するための送液配管と、分散装置とが一体になるものが必要である。
【００１４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、タンクの様なものに貯留させることなく、分散工程の際に最適な分散状態を得るために、一段階の分散処理により分散調整できることを特徴とする分散装置を用いることにより所望の特性を損なうことなく塗布することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
請求項１記載の発明は、粒子が分散した塗布液を吐出することにより相対移動する被塗布体上に前記塗布液を塗布して薄膜を形成する塗布方法において、
前記塗布液の原材料を一段階の分散処理にて目標とする粒子径にまで分散させて分散液とする分散工程と、
前記分散工程で分散された分散液の粒子径を測定する粒度分布測定工程と、
前記分散液または前記分散液の希釈液である前記塗布液を吐出手段から相対移動する被塗布体上に吐出して塗布する塗工工程と、
を配管内に有し、
前記粒度分布測定工程において測定された粒度分布に基づいて前記分散工程の分散を制御することを特徴とする塗布方法である。
【００１６】
請求項２記載の発明は、粒子が分散した塗布液を吐出することにより相対移動する被塗布体上に前記塗布液を塗布して薄膜を形成する塗布方法において、
前記塗布液の原材料を一段階の分散処理にて目標とする粒子径にまで分散させて分散液とする分散工程と、
前記分散工程で分散された分散液の粒子径を測定する粒度分布測定工程と、
前記分散液の希釈液である前記塗布液を吐出手段から相対移動する被塗布体上に吐出して塗布する塗工工程と、
前記分散液の濃度を測定する濃度測定工程と、
前記濃度測定工程の濃度測定結果により分散液を希釈して塗布液を作成する希釈工程と、
を配管内に有し、
前記粒度分布測定工程において測定された粒度分布に基づいて前記分散工程の分散を制御することを特徴とする塗布方法である。
【００１７】
また、請求項３記載の発明は、配管上に、
塗布液の原材料を投入する投入口と、
前記塗布液の原材料を一段階の分散処理にて目標とする粒子径にまで分散する分散装置と、
粒度分布測定装置と、
被塗布体上に吐出する塗工装置とが設けられ、
前記粒度分布測定装置の測定結果に基づき前記分散装置が分散することを特徴とする塗布液を相対移動する被塗布体上に吐出して塗布する塗布装置である。
【００１８】
また、請求項４記載の発明は、請求項３に基づくもので、
前記配管上に、濃度計と、
前記濃度計に基づき分散液を希釈する希釈手段を有することを特徴とする塗布装置である。
【発明の効果】
【００１９】
以上説明したように、本発明によれば分散処理前の材料同士を混合し、経時劣化の無い新鮮な塗布液を一段階の分散処理で所望の分散状態にすることにより、塗布液が還流し多段階処理を行う状態となることがなく、そのまま一定の流量で塗布ノズル、もしくは液溜部および掻き上げ部等の吐出手段に供給し、さらに送液配管の途中で粒子の粒度分布を測定することにより安定的な塗布膜形成を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の塗布装置の構成を説明するための配管図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
従来の分散装置と塗工装置とを組み合わせた塗布方式では、塗布液を安定的に所望の分散状態を得ることができない。仮に分散状態を管理し、粒度や固形分濃度をフィードバック制御により分散状態をコントロールしたとしても、タンクを介しているために材料投入から所望の分散状態の塗布液に達するまでの時間が一定せず、また、分散処理が多段階となるため、一定の流量で塗布することが困難である。
【００２２】
そこで、発明者は鋭意研究した結果、材料供給から塗工装置までの送液配管中において、材料供給口と一段階の分散処理にて分散処理を行う分散装置と分散した塗布液の粒子径を管理する粒度分布測定装置を導入することで、塗布液の分散状態を最適な分散状態にした上で、一定の流量で塗布・乾燥を行うことができ、さらに塗膜の光学特性を一定にできることを見いだした。
【００２３】
この場合の一段階の分散処理とは、一度分散処理された分散液が再び分散処理されることがなく、一度分散処理を経た分散液がそのまま、もしくは希釈して塗布液となることを意味する。
【００２４】
このように、本発明は、多量の塗布液の粒子径を短時間で調整し易い分散装置の特徴と、一定の流量で塗布ノズル、もしくは液溜部および掻き上げ部などの吐出手段から塗布液を吐出することにより被塗布体に塗布でき、例えば、乾燥を経たフィルム上の塗膜の光学特性を一定にできる。また、塗布液の粘度変化として現れない塗布液中の微小な固形濃度変化であっても、塗布液の粒度分布を検出する事で高精度且つリアルタイムに検出することができる。
【００２５】
以下、図１を用いて本発明に係る塗布液の塗布方法及び塗布装置、並びにその塗布装置を使用して製造した光学フィルムの好ましい実施の形態を用いて詳説する。ここでは、代
表的な液晶ディスプレイなどの反射防止フィルムを例に行い、塗工装置としてスリットダイ塗工装置を例に行う。
【００２６】
もちろん、それ以外の材料を被塗布体とするのを排除する意図ではない。
【００２７】
図１に示すように、反射防止フィルムの製造ラインは、分散装置４より送液配管を介してバルブ６に送液ポンプ５で送液するようになっており、さらに、そのバルブ６からは送液ポンプ７により塗工装置である塗布ノズル８に送液配管を介して送液するようになっている。
【００２８】
また、バルブ６は粒度分布測定装置１４へも配管されている。
【００２９】
この場合、塗布液を送液ポンプ７にて流量制御し、走行するフィルム上に塗布ノズル８を通して塗布する。
【００３０】
塗布ノズル８は、本実施の形態の場合、スリットダイであるが、他の塗工装置であっても構わない。スリットダイとは配管から供給された塗布液をマニホールドと呼ばれる溝で幅方向に均一に分配し、その左記に設けられたスリット部から幅方向に均一な塗布厚みになるように塗布液をフィルムなどの被塗布体に塗布する事ができるものである。
【００３１】
特に精度に問題がなければ、スリットダイの材質としては、ステンレス鋼、セラミックス、ガラス、やＰＥＥＫ、ＰＡＩなどの樹脂等が使用できる。塗布液としては、アルミナ、ＳｉＯ２およびＴｉＯ２の内の少なくとも一つ以上の成分を含有するバインダ、溶剤を含むものが用いられる。
【００３２】
また、分散装置４は、一段階の分散処理により所望の粒子径を得るような分散装置で、その後の分散処理を必要としない装置である必要があり、ディスパー・プロペラ、ホモミキサー、櫛歯型、ジェット流発生型、薄膜旋回式、ビーズミルなどのせん断力与えることで粒子を分散させる方式であることが好ましい。
【００３３】
バルブ６は、分散処理された分散液を塗布ノズル８もしくは粒度分布装置１４に送液するために切り替えるための装置である。バルブの切り替え動作は一定の間隔で粒度分布を測定する際、自動的に切り替えが行われる。
【００３４】
分散を行うに際して、分散装置４の分散条件を予め決定する必要があり、そのための操作方法を以下説明する。
【００３５】
分散装置４で分散処理を行った分散液を、バルブ６を塗布ノズル８に送る側に設定し、送液ポンプ５、送液ポンプ７により分散液を塗布ノズル８に送り塗布液とし、被塗布体に塗布を開始する。塗布開始より一定期間経過後、塗布液を粒度分布測定に必要な量だけ濃度計１２に送液し、その後バルブ６を元の状態に戻す。
【００３６】
粒度分布測定装置１４の測定結果に基づき、目標粒子径よりも現在の粒子が大きければ、塗布液内の粒子が凝集していると判断して分散手段の回転数の出力を増やし、目標粒子径よりも現在の粒子が小さければ、塗布液の内の粒子が過剰に分散されていると判断して、分散手段の回転数の出力を下げることにより調整を行ない、分散装置４の分散条件を決定する。ここで決定した分散条件は、これ以降塗布の途中で変更しない。
【００３７】
濃度制御機構は、主として、配管内を流れる分散液の濃度をインライン測定する濃度計１２と、測定した測定濃度と予め規定した塗布液の目標濃度との濃度差を演算し、前記濃
度差による塗布液の濃度が粒度分布測定器で測定可能な濃度範囲になるように、前記濃度差を定量ポンプ１１にフィードバックし、濃度差がなくなるように希釈溶剤の流量を調整することにより分散液を塗布液に希釈できる。ここでいう定量ポンプはプランジャーポンプ、ダイヤフラムポンプ、ギアポンプ等の定量ポンプ１１であることが好ましい。
【００３８】
この濃度計１２は、バルブ６と粒度分布測定装置１４をつなぐ配管に設けられ、さらにそこにはバルブ１３も取り付けられ、そのバルブ１３から希釈液を入れる溶剤投入口９まで配管され、さらにその配管には定量ポンプ１１が設けられ、上記濃度計１２の測定結果に基づいてこの定量ポンプ１１が作動して、予め規定した塗布液の目標濃度との濃度差の範囲内に収まるようにしている。粒度分布測定装置１４を経た希釈された塗布液は塗液ラインに戻されることなく廃棄される。
【００３９】
粒度分布測定装置１４は、粒子の分散状態を管理するための装置であり、サブミクロンの粒子径を測定出来るものが必要である。光学特性を得るためには、粒子の粒子径が数ミクロン程度のものに調整する必要があり、分散が不十分で粒子径が大きくなりすぎると塗布膜の特性が失われ、一方分散が進行しすぎて粒子径が小さくなりすぎると光学特性が失われる。このため数ミクロンから数十ミクロンという粒子径範囲に対応するものが要求される。
【００４０】
このような広範囲の測定レンジをカバーする粒度分布測定装置としては、測定の簡便性、迅速性および測定データの再現性の観点から、レーザ回折・散乱方式の粒度分布測定装置が最も広く使用されている。レーザ回折・散乱方式による粒度分布の測定は、レーザ光を被測定粒子群に照射し、粒子による回折や散乱によって生じた散乱光の散乱角度に対する強度分布を検出することにより行う。散乱光は、光学レンズによって集光され、レンズ焦点面に配置された検出用受光素子によって検出される。散乱光の散乱角度に対する強度分布から、フラウンホーファの回折理論あるいはＭｉｅの散乱理論に基づく演算式により、試料粒子の粒度分布を求めることができる。
【００４１】
分散装置４への材料供給は、原材料が一種であれば供給機構は一種だけで構わないが、この実施の形態では材料Ａと材料Ｂの２種類を供給できるようになっているので、材料Ａ投入口１ａから分散装置４への配管と、材料Ｂ投入口１ｂから分散装置４への配管の２系統構成となっており、各々バルブ２ａ、２ｂと送液ポンプ３ａ、３ｂを備えている。
【実施例】
【００４２】
従来の分散装置と塗工装置とを組み合わせた塗布方式では、塗布液を安定的に所望の分散状態を得ることができない。仮に分散状態を管理し、粒度や固形分濃度をフィードバック制御により分散状態をコントロールしたとしても、材料投入から所望の分散状態の塗布液に達するまでの時間が一定せず、一定の流量で塗布することが困難である。
【００４３】
そこで、発明者は鋭意研究した結果、材料供給から塗工装置までの送液配管中において、材料供給口と一段階の分散処理にて分散処理を行う分散装置と分散した塗布液の粒子径を管理する粒度分布測定装置を導入することで、塗布液の分散状態を最適な分散状態にした上で、一定の流量で塗布・乾燥を行うことができ、さらに塗膜の光学特性を一定にできることを見いだした。
【００４４】
このように、本発明は、多量の塗布液の粒子径を短時間で調整し易い分散装置の特徴と、一定の流量で塗布ノズル、もしくは液溜部および掻き上げ部から塗布液を塗布でき、乾燥を経たフィルム上の塗膜の光学特性を一定にできる。また、塗布液の粘度変化として現れない塗布液中の微小な固形濃度変化であっても、塗布液の粒度分布を検出する事で高精度且つリアルタイムに検出することができる。
【００４５】
以下、図１を用いて本発明に係る塗布液の塗布方法及び塗布装置、並びにその塗布装置を使用して製造した光学フィルムの好ましい実施の形態について詳説する。ここでは、代表的な液晶ディスプレイなどの反射防止フィルムを例に行い、塗布装置としてスリットダイ塗工装置を例に行う。
【００４６】
図１に示すように、反射防止フィルムの製造ラインは、分散装置４より送液配管を介して塗工装置に送液された塗布液の粒子径を粒度分布測定装置１４を用いて測定し、塗布液を送液ポンプ７にて流量制御し、走行するフィルム上に塗布ノズル８を通して塗布する。
【００４７】
塗布ノズル８はスリットダイの事を示す。スリットダイとは配管から供給された塗布液をマニホールドと呼ばれる溝で幅方向に均一に分配し、その左記に設けられたスリット部から幅方向に均一な塗布厚みになるように塗布液をフィルムに塗布する事ができる金型である。
【００４８】
特に精度に問題がなければ、スリットダイの材質としては、ステンレス鋼、セラミックス、ガラス、やＰＥＥＫ、ＰＡＩなどの樹脂等が使用できる。塗布液としては、ＳｉＯ２およびＴｉＯ２の内の少なくとも一つ以上の成分を含有するバインダ、溶剤を含むものが用いられる。
【００４９】
また、分散機４は、一段階の分散処理により所望の粒子径を得るような分散装置である必要があり、ディスパー・プロペラ、ホモミキサー、櫛歯型、ジェット流発生型、薄膜旋回式、ビーズミルなどのせん断力与えることで粒子を分散させる方式であることが好ましい。
【００５０】
分散を行うに際して、目標粒子径よりも現在の粒子が大きければ、塗布液内の粒子が凝集していると判断して分散手段の回転数の出力を増やし、目標粒子径よりも現在の粒子が小さければ、塗布液の内の粒子が過剰に分散されていると判断して、分散手段の回転数の出力を下げることにより調整を行う。
【００５１】
濃度制御機構は、主として、配管内を流れる塗布液の濃度をインライン測定する濃度計１２と、測定した測定濃度と予め規定した塗布液の目標濃度との濃度差を演算し、前記濃度差による塗布液の濃度が粒度分布測定器で測定可能な濃度範囲になるように、前記濃度差を定量ポンプ１１にフィードバックし、濃度差がなくなるように希釈溶剤の流量を調整する。ここでいう定量ポンプはプランジャーポンプ、ダイヤフラムポンプ、ギアポンプ等の定量ポンプであることが好ましい。
【００５２】
粒度分布測定装置は、粒子の分散状態を管理するための装置であり、サブミクロンの粒子径を測定出来るものが必要である。光学特性を得るためには、粒子の粒子径が数ミクロン程度のものに調整する必要があり、分散が不十分で粒子径が大きくなりすぎると塗布膜の特性が失われ、一方分散が進行しすぎて粒子径が小さくなりすぎると光学特性が失われる。このため数ミクロンから数十ミクロンという粒子径範囲に対応するものが要求される。
【００５３】
このような広範囲の測定レンジをカバーする粒度分布測定装置としては、測定の簡便性、迅速性および測定データの再現性の観点から、レーザ回折・散乱方式の粒度分布測定装置が最も広く使用されている。レーザ回折・散乱方式による粒度分布の測定は、レーザ光を被測定粒子群に照射し、粒子による回折や散乱によって生じた散乱光の散乱角度に対する強度分布を検出することにより行う。散乱光は、光学レンズによって集光され、レンズ焦点面に配置された検出用受光素子によって検出される。散乱光の散乱角度に対する強度分布から、フラウンホーファの回折理論あるいはＭｉｅの散乱理論に基づく演算式により、試料粒子の粒度分布を求めることができる
（本塗布装置による塗膜の光学特性評価の実施例）
以下、塗膜の光学特性評価の実施例を示す。
【００５４】
図１と同一の構成で塗布液として、バインダ樹脂に、ポリエステル樹脂（非晶質飽和共重合ポリエステル；東洋紡績株式会社製、商品名：「バイロン６００」、Ｔｇ：４７℃、数平均分子量１６０００、比重１．２５）をメチルエチルケトン／トルエン混合溶剤（質量混合比２０：８０）中３０質量％溶解した溶液９３質量部に、アルミナ粒子（一般アルミナ；住友化学株式会社製、商品名：「Ａ−２１」、比重３．９５、平均粒径：３μｍ）７質量部を加え、攪拌・混合してアルミナ粒子が均一に分散した溶液を用いた。
【００５５】
塗布幅１０００ｍｍの塗布ノズルを用いて、長さ１０００ｍｍの区間を塗布厚み２０μｍでＰＥＴフィルム上に塗布速度５０ｍｍ／ｓで塗布を行った。塗布後は乾燥機を用いて乾燥し、塗布面積をタテ４×ヨコ４の１６分割で検査を行い、ＪＩＳＫ７１０５：７３６１に準拠して、ヘイズメーター（「ＨＲ−１００」、株式会社村上色材研究所製もしくは相当機種）で測定した。
【００５６】
塗布テストは１００枚実施し、ヘイズが基準値から±５％の範囲内のものは○、範囲を外れたものは×として判定した。
【００５７】
（比較実験）
比較例としてあらかじめ所望の粒子径に調整した塗布液で塗布した場合を比較例１とし、実施例とその他は同一の条件で塗布を行った。
【００５８】
ここで実施例と比較例との比較結果を表１に示し、判定結果に対応する枚数で比較した。
【００５９】
実施例の場合、光学特性が一定に保たれるのに対し、あらかじめ所望の粒子径に調整した比較例の場合、塗工に要した時間による経時劣化の影響を受け、粒子径が変化してしまい範囲外の塗布結果が多くなった。
【００６０】
このように、塗布液を塗工の直前で一段階の分散を行うことにより作製した場合、分散状態を一定に制御できるため実施例の場合、光学特性は一定に保たれるのに対し、あらかじめ所望の粒子径に調整した比較例の場合、塗工に要した時間による経時劣化の影響を受け、粒子径が変化してしまい光学特性が範囲外の塗布結果が多くなった。
【００６１】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、マイクログラビアなどの塗布方法などでも使用できる。
【００６２】
【表１】
2014087716.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００６３】
本発明は、材料供給口から材料を供給し、一段階の分散処理により分散調整できることを特徴とする分散装置を用いることにより所望の分散状態を形成させることにより一定の分散状態で塗布・乾燥を行い、光学特性を一定にできる。
【符号の説明】
【００６４】
１ａ・・・材料Ａ投入口
１ｂ・・・材料Ｂ投入口
２ａ・・・バルブ
２ｂ・・・バルブ
３ａ・・・送液ポンプ
３ｂ・・・送液ポンプ
４・・・分散装置
５・・・送液ポンプ
６・・・バルブ
７・・・送液ポンプ
８・・・塗布ノズル
９・・・溶剤投入口
１０・・・バルブ
１１・・・定量ポンプ
１２・・・濃度計
１３・・・バルブ
１４・・・粒度分布測装置
【図１】
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