(57)【要約】【課題】低騒音の磁気共鳴イメージング装置１００を提供する。【解決手段】撮像領域９に静磁場６を発生させる磁石１と、撮像領域９に傾斜した強度分布を持つ傾斜磁場１０を発生させる傾斜磁場コイル２と、磁石１と傾斜磁場コイル２を覆う外装カバー１３を備え、外装カバー１３に設けられた第１導電性部材１６と、磁石１又は外装カバー１３に設けられ第１導電性部材１６とは電気的に絶縁され第１導電性部材１６に近接したまま相対的に独立して移動しうる第２導電性部材１５とを有する。第１導電性部材１６の面と第２導電性部材１５の面は平行で対向している。第１導電性部材１６と第２導電性部材１５が互いに独立に振動するように、第１導電性部材１６と第２導電性部材１５の間には、スペーサが部分的に設けられたり、外装カバー１３より低弾性のスペーサが設けられたりする。【選択図】図１
2014039633.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像領域に静磁場を発生させる磁石と、
前記撮像領域に傾斜した強度分布を持つ傾斜磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、
前記磁石と前記傾斜磁場コイルを覆う外装カバーを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記外装カバーに設けられた第１導電性部材と、
前記磁石又は前記外装カバーに設けられ、前記第１導電性部材とは電気的に絶縁され、前記第１導電性部材に近接したまま相対的に独立して移動しうる第２導電性部材とを有することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
前記第１導電性部材の面と、前記第２導電性部材の面は、平行で対向していることを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項３】
前記第２導電性部材は、前記磁石に設けられ、前記磁石を構成する外側の容器の一部になっていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項４】
前記第２導電性部材は、前記磁石を構成する外側の面に設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
前記第１導電性部材と前記第２導電性部材が互いに独立に振動するように、前記第１導電性部材と前記第２導電性部材の間には、スペーサが部分的に設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項６】
前記第１導電性部材と前記第２導電性部材が互いに独立に振動するように、前記第１導電性部材と前記第２導電性部材の間には、前記外装カバーより低弾性のスペーサが設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項７】
前記外装カバーは二層構造であり、前記二層構造の各々に導電性部材が配置されていることを特徴とする請求項６に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項８】
前記第１導電性部材と前記第２導電性部材の互いに対向する面の内の少なくとも一方は凹凸形状を有することを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項９】
前記第１導電性部材と前記第２導電性部材はそれぞれ、板、箔、網、塗布膜のいずれかであることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項１０】
前記第１導電性部材と前記第２導電性部材の少なくともどちらか一方の面内方向の最小寸法は、２５ｃｍ以上であって３００ｃｍ以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項９のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項１１】
前記第１導電性部材と前記第２導電性部材の少なくともどちらか一方では、その導電率とその厚さの積が１０００シーメンス以上であって１０００００シーメンス以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項１２】
撮像領域に静磁場を発生させる磁石と、
前記撮像領域に傾斜した強度分布を持つ変動磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、
前記磁石と前記傾斜磁場コイルを覆う外装カバーを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記外装カバーに設けられた第１導電性部材と、
前記外装カバーに設けられ、前記第１導電性部材とは電気的に絶縁され、前記第１導電性部材に近接したまま相対的に独立して移動しうる第２導電性部材と、
前記磁石に設けられ、前記第１導電性部材と前記第２導電性部材とは電気的に絶縁され、前記第２導電性部材に近接したまま相対的に独立して移動しうる第３導電性部材とを有することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静磁場を発生させる磁石と傾斜磁場コイルを備えた磁気共鳴イメージング(以下、ＭＲＩ；Magnetic Resonance Imagingと称す)装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＲＩ装置は、均一な方向と強度の静磁場（撮像領域）中に置かれた被検体に高周波パルスを照射したときに生じる核磁気共鳴現象を利用して、被検体の物理的、化学的性質を示す断面画像を得る装置であり、特に、医療用として用いられている。ＭＲＩ装置は、主に、被検者が挿入される撮像領域に前記静磁場を生成する磁石装置と、撮像領域に位置情報を付与するために空間的に強度が勾配した磁場（傾斜磁場）をパルス状に発生させる傾斜磁場コイルと、被検者に前記高周波パルスを照射するＲＦコイルと、被検者からの磁気共鳴信号を受信する受信コイルと、受信した磁気共鳴信号を処理して画像を表示するコンピュータシステムとを有している。
【０００３】
ＭＲＩ装置の性能向上のために、前記静磁場の磁場強度が高められている。静磁場の磁場強度が高い程、より鮮明で多様な断面画像を得ることができる。このため、ＭＲＩ装置では、静磁場の磁場強度をより高くすることを指向して開発が続けられている。また、ＭＲＩ装置の性能向上のために、傾斜磁場の磁場強度が高められ、傾斜磁場のパルスの発生頻度が高められている（高速駆動）。これらは、撮像時間の短縮と断面画像の画質の向上に寄与し、これらによって、近年盛んに使用されている高速撮像法が実現した。なお、これらは、傾斜磁場コイルの駆動電源の性能向上により、高速なスイッチングと大電流の通電が可能になったことで実現した。
【０００４】
傾斜磁場コイルには、パルス状の傾斜磁場を発生させるために、パルス状の電流が流れる。また、傾斜磁場コイルは、前記撮像領域ではないが前記磁石装置が作る静磁場に置かれる。このため、傾斜磁場コイルには、時間変動する電磁力が作用し、傾斜磁場コイルは振動する。また、この振動によって傾斜磁場コイルを支持する磁石装置も振動する。傾斜磁場コイルと磁石装置の振動は、被検者やＭＲＩ装置の操作者に騒音として伝わる。この騒音（振動）は、傾斜磁場コイルの電流と、磁石装置の静磁場の磁場強度が、それぞれ大きくなるにしたがい大きくなる傾向にある。このため、ＭＲＩ装置の性能を向上させようとすると、前記騒音が大きくなった。
【０００５】
このため、この騒音を低減する技術が提案されている。例えば、穿孔された渦電流スクリーンを磁石装置に取り付ける技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。前記磁石装置が振動すると、渦電流スクリーンも振動し、渦電流スクリーンに渦電流が流れる。渦電流スクリーンでこの渦電流を減衰させることで、騒音を低減する。また、磁石装置と外部装飾カバー（外装カバー）の間の空間を固体発泡体層で充填し、磁石装置の初期振動を抑制することで、騒音を低減する技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００７−５２９２５９号公報
【特許文献２】特開２００９−２６１９４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
騒音（振動）は空気を伝播して被検者等に届くので、その伝播経路に外装カバーをおいて伝播を遮断することは、騒音の低減に有効である。さらに、特許文献２では、固体発泡体層によって、空気を微細に分割し、騒音が空気を伝播するのを阻止している。このように、外装カバーによって、騒音（振動）は低減するが、外装カバー自身も、空気や固体発泡体層を伝播した騒音（振動）によって、振動する。そして、この外装カバーの振動が新たな騒音の音源となる。外装カバーは、自身の振動を減衰させるようになっており、これにより、騒音の低減が可能になっているわけであるが、外装カバーにおけるこの振動を減衰させる能力（減衰力）が高められれば、騒音を一層低減でき、有用である。
【０００８】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、低騒音のＭＲＩ（磁気共鳴イメージング）装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明は、
撮像領域に静磁場を発生させる磁石と、
前記撮像領域に傾斜した強度分布を持つ傾斜磁場を発生させる傾斜磁場コイルと、
前記磁石と前記傾斜磁場コイルを覆う外装カバーを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記外装カバーに設けられた第１導電性部材と、
前記磁石又は前記外装カバーに設けられ、前記第１導電性部材とは電気的に絶縁され、前記第１導電性部材に近接したまま相対的に独立して移動しうる第２導電性部材とを有することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、低騒音のＭＲＩ（磁気共鳴イメージング）装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置（水平磁場型）の縦断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係るＭＲＩ装置の模式的な斜視図である。
【図３】近接導電性部材の振動低減効果の原理を示す摸式図であり、（ａ）は静磁場で第１導電性部材が振動している様子を示し、（ｂ）は第１導電性部材と第２導電性部材に渦電流が生じている様子を示し、（ｃ）は第１導電性部材と第２導電性部材に電磁力が作用している様子を示している。
【図４】（ａ）は第１の実施形態の近接導電性部材とその周辺の部分拡大断面図であり、（ｂ）はその変形例１であり、（ｃ）はその変形例２である。
【図５】（ａ）は本発明の第２の実施形態に係るＭＲＩ装置における近接導電性部材とその周辺の部分拡大断面図であり、（ｂ）はその変形例である。
【図６】（ａ）は本発明の第３の実施形態に係るＭＲＩ装置における近接導電性部材とその周辺の部分拡大断面図であり、（ｂ）はその変形例である。
【図７】本発明の第４の実施形態に係るＭＲＩ装置における近接導電性部材とその周辺の部分拡大断面図である。
【図８】本発明の第５の実施形態に係るＭＲＩ装置（垂直磁場型）の縦断面図である。
【図９】本発明の第５の実施形態に係るＭＲＩ装置の模式的な斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。
【００１３】
（第１の実施形態）
図１に、本発明の第１の実施形態に係る磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置（水平磁場型）１００の縦断面図を示し、図２に、その模式的な斜視図を示す。ＭＲＩ装置１００は、被検者７が挿入される撮像領域９に静磁場６を生成する静磁場磁石装置（磁石）１と、撮像領域９に位置情報を付与するために空間的に強度が勾配した磁場（傾斜磁場）１０をパルス状に発生させる傾斜磁場コイル２と、被検者７に高周波パルスを照射するＲＦコイル１２と、被検者７からの磁気共鳴信号を受信する受信コイル（図示省略）と、受信した磁気共鳴信号を処理して画像を表示するコンピュータシステム（図示省略）と、被検者７を寝かせたまま撮像領域９へ移動させる移動式ベッド２５と、静磁場磁石装置１と傾斜磁場コイル２を覆う外装カバー１３と、外装カバー１３と静磁場磁石装置１に設けられる近接導電性部材１１を有している。これにより、ＭＲＩ装置１００は、撮像領域９において、均一な方向と強度の静磁場６中に置かれた被検者７に高周波パルスを照射したときに生じる核磁気共鳴現象を利用して、被検者７の物理的、化学的性質を示す断面画像を、低騒音下で得ることができる。また、ＭＲＩ装置１００には、図示を省略したが、静磁場磁石装置１、傾斜磁場コイル２やＲＦコイル１２を駆動するための電源装置が設けられている。これらの電源装置は、前記コンピュータシステムによって制御されている。
【００１４】
静磁場磁石装置１は、被検者７の生体組織を構成する原子のスピンを配向させるために、撮像領域９に均一な方向と強度の静磁場６を形成する。静磁場磁石装置１は、水平方向に平行なｚ軸を中心軸とする円筒形状をしている(図２参照)。傾斜磁場コイル２は、静磁場磁石装置１の撮像領域９側に設けられている。傾斜磁場コイル２は、静磁場磁石装置１と中心軸を共通とする（ｚ軸を中心軸とする）円筒形状をしている。ＲＦコイル１２は、傾斜磁場コイル２の撮像領域９側に設けられている。ＲＦコイル１２は、静磁場磁石装置１と中心軸を共通とする（ｚ軸を中心軸とする）円筒形状をしている。
【００１５】
静磁場磁石装置１は、複数の超電導コイル３と、超電導コイル３を冷媒と共に収納し冷却する液体ヘリウム容器８と、液体ヘリウム容器８を覆い真空容器４から放射される輻射熱をシールドする輻射シールド５と、液体ヘリウム容器８と輻射シールド５を真空環境下に収納し断熱する真空容器４とを有している。傾斜磁場コイル２は、支持部材１４を介して真空容器４に取り付けられている。超電導コイル３を、図示していない液体ヘリウムおよび冷凍機によって極低温に冷却でき、その冷却状態を維持することができる。なお、超電導コイル３に替えて、常温で使用するコイルを用いてもよい。この場合、液体ヘリウム容器８、輻射シールド５、真空容器４を省くことができる。
【００１６】
複数の超電導コイル３は、ｚ軸を互いに共通の中心軸とするリング形状をしている。複数の超電導コイル３は、撮像領域９に、均一な方向と強度の静磁場６を生成する。複数の超電導コイル３は、撮像領域９以外にも、特には、外装カバー１３とその周辺にも、静磁場６を生成する。撮像領域９は、円筒形状の静磁場磁石装置１で取り囲まれている。静磁場磁石装置１は、磁性体を有していてもよく、超電導コイル３に替えて磁性体を有してもよい。
【００１７】
静磁場磁石装置１には、傾斜磁場コイル２が支持部材１４を介して支持されている。傾斜磁場コイル２は、撮像領域９に、空間的には任意の方向に磁束密度（磁場強度分布）が傾斜し、時間的にはパルス状に変動する磁場（傾斜磁場）１０を発生させる。通常、撮像領域９における静磁場６の方向をz軸として、ｚ軸と直交する２方向にｘ軸（水平方向）とｙ軸（垂直方向）を取っているが、傾斜磁場コイル２は、これらｘ軸、ｙ軸、ｚ軸の３方向に、互いに独立な、傾斜磁場１０を発生させる。なお、図１の紙面左右方向をｚ軸、紙面上下方向をｙ軸、紙面に垂直な方向をｘ軸（図１では図示せず）としている。例えば、図１に示した傾斜磁場１０は、ｙ軸方向に磁場強度が傾斜し、磁場の方向がｚ軸方向の傾斜磁場である。傾斜磁場コイル２には、図示していないシムと呼ばれる磁性体の小片が複数個配置されている。このシムは、ＭＲＩ装置１００の外部装置が発生させる磁場の影響を含めて撮像領域９で静磁場６の磁場強度が均一となるように調整するための機構である。
【００１８】
静磁場磁石装置１、傾斜磁場コイル２およびＲＦコイル１２は、ＦＲＰ等の非導電性で非磁性の部材で作られた外装カバー１３によって覆われている。ＲＦコイル１２は、外装カバー１３上に設置されたり、外装カバー１３の一部を兼ねたりしてもよい。
【００１９】
静磁場磁石装置１を構成する外側の容器である真空容器４と、外装カバー１３には、近接導電性部材（導電性部材）１１が設置されている。近接導電性部材１１は、外装カバー１３に設けられる外装カバー１３側の導電性部材（第１導電性部材）１６と、導電性部材１６とは電気的に絶縁され、導電性部材１６に近接したまま相対的に独立して移動しうる静磁場磁石装置１側の導電性部材（第２導電性部材）１５とを有している。近接導電性部材１１（１５、１６）は、静磁場磁石装置１のｚ軸方向の両端面とその付近に設けられている。また、近接導電性部材１１（１５、１６）は、静磁場磁石装置１の円筒形状の外筒壁とその付近に設けられている。なお、静磁場磁石装置１が床に設置され、静磁場磁石装置１の床側が振動しないのであれば、静磁場磁石装置１の床側では、近接導電性部材１１（１５、１６）の配置を省くことができる。導電性部材（第１導電性部材）１６の面と、導電性部材（第２導電性部材）１５の面とは、互いに離れ、平行で対向している。導電性部材（第１導電性部材）１６と、導電性部材（第２導電性部材）１５とは、互いに近接しているが、機械的には接続しておらず、電気的には絶縁された状態となっている。すなわち、導電性部材１５と導電性部材１６は、例えばアルミニウム材や銅材の箔、板、網、または導電性塗料を塗布した塗布膜で形成され、機械的には振動を互いに伝えないような構造で、電気的には互いに導通が生じないようになっている。このような構造は、静磁場磁石装置１の真空容器４と、外装カバー１３が接触しないように、かつ、互いに独立に保持されることで実現される。あるいは、静磁場磁石装置１の真空容器４と外装カバー１３が、ゴムなどの弾性部材などの柔構造を介して互いに結合されることによっても実現可能である。真空容器４が金属材料で構成されている場合、真空容器４は導電性部材１５を兼ね、導電性部材１５を省くことができる。静磁場磁石装置１が、導電性の真空容器４を持たない場合や、真空容器４がステンレススチール材などの比抵抗の大きい材質で構成されている場合は、銅材やアルミニウム材などの比抵抗の低い部材の箔、板、網、または、導電性塗料の塗布膜を、導電性部材１５として、真空容器４上に設置する。
【００２０】
このように、導電性部材１６と１５とが、近接して、かつ、機械的および電気的に接続せずに設置されること（近接導電性部材１１）により、静磁場磁石装置１による静磁場６中で、大きな振動抑制効果が得られる。このため、傾斜磁場コイル２の振動が支持部材１４を介して静磁場磁石装置１の真空容器４等に伝搬し、さらに、真空容器４から空気や床を伝播して外装カバー１３が振動しても、導電性部材１６の取り付けられた外装カバー１３は、大きな振動抑制効果により、騒音の発生源となることを抑制する。また、傾斜磁場コイル２または真空容器４が振動して発生する放射音は、外装カバー１３を透過して被検者７または、ＭＲＩ装置１００の操作者に到達するが、放射音により傾斜磁場コイル２や真空容器４の周りの空気が振動し、これにより外装カバー１３が振動すると外装カバー１３を透過する騒音は大きくなる。この場合でも、近接導電性部材１１は外装カバー１３の振動を低減するので、透過する騒音を小さくすることができる。
【００２１】
図３に、近接導電性部材１１の振動低減効果の原理を説明するための摸式図を示す。図３（ａ）に示すように、近接導電性部材１１の導電性部材１６と１５は、磁場の方向が矢印の方向に一致する静磁場６中に置かれていると考えることができる。静磁場６の磁場の方向は、導電性部材１６と１５の互いに対向する面のそれぞれと、略平行になっている。静磁場６中で、外装カバー１３の振動に伴って、導電性部材１６が振動２０のように運動（移動）すると、図３（ｂ）に示すような渦電流２１が、導電性部材１６に発生する。なお、渦電流２１の方向は、一方向でなく振動の変位の方向に応じて反転する。図３（ｃ）に示すように、渦電流２１には静磁場６との間にローレンツ力(電磁力)２３が生じ、この電磁力２３の方向は、前記振動の変位の方向と反対方向になる。これにより、振動減衰効果が得られる。また、渦電流２１が流れることで、導電性部材１６には電気抵抗によるジュール発熱が生じる。導電性部材１６の振動２０の運動エネルギが、電気エネルギを介して、熱エネルギに変換され、放熱することで消費されることで、振動減衰効果が得られる。
【００２２】
このように、静磁場６中での導電性部材１６の振動は、導電性部材１６単独でも振動低減の効果が得られるが、導電性部材１５が近接して配置されることにより、この振動低減の効果を高めることができる。渦電流２１による誘導起電力のために、導電性部材１５には、渦電流２２が生じる。渦電流２２は渦電流２１と方向が反対になる。また、導電性部材１６と１５が近接していて、導電性部材１５の抵抗値が小さいと、渦電流２２は渦電流２１とほぼ同じ大きさになる。このとき、渦電流２１と渦電流２２は互いに打ち消し合う方向であるため、導電性部材１６が振動によって静磁場６から受ける磁場（磁束）変化を打ち消そうと、導電性部材１６には、単独の場合よりも大きな渦電流２１が生じる。すなわち、導電性部材１６と１５の間の相互インダクタンス分だけ導電性部材１６の見かけ上のインダクタンスが低減するために、渦電流２１は増大する。これにより、渦電流２１によって発生する振動変位と反対方向の前記電磁力２３と前記ジュール発熱が大きくなるため、導電性部材１６の振動低減の効果も大きくなる。また、渦電流２２は、渦電流２１の反対の方向に流れ、これにより、振動による導電性部材１６と１５の間の距離の変位と反対方向の電磁力２３と２４が導電性部材１６と１５に作用し、導電性部材１６の振動低減の効果が大きくなる。
【００２３】
ＭＲＩ装置１００において近接導電性部材１１の好ましい位置は、静磁場磁石装置１が発生する静磁場６中にあって、傾斜磁場コイル２やＲＦコイル１２からの磁場（漏れ磁場）の影響が小さな部分である。具体的な例としては、図１、図２に示すように、静磁場磁石装置１のｚ軸方向の前後面、および、それに近接する外装カバー１３である。他の好ましい設置位置として、静磁場磁石装置１の円筒形状の外周側面とそれに近接する外装カバー１３である。
【００２４】
導電性部材１５と１６は同じ大きさで有る必要は無く、騒音を伴う振動に対して渦電流が発生するに充分な面積があれば良い。騒音として特に低減が求められる振動周波数は、５００［Ｈｚ］以上であって５ｋ［Ｈｚ］以下である。この騒音が空気を伝搬する際の音の波長は５〜５０［ｃｍ］（音の波長が５［ｃｍ］以上であって５０［ｃｍ］以下のもの）である。一般に板状の材料では、音の板面への入射角度θに依存するが、音の波長λの１〜３倍の波長λBで振動すると遮音効果が低下する(コインシデンス効果、正確にはλB=λ/sinθの場合)。板面では、音の波長の１〜３倍の距離で振動振幅が最大の範囲を含むので、導電性部材１５と１６の幅が共にこれ以上の寸法であれば、振動に伴う渦電流が充分発生し、板材の振動を低減でき、遮音効果の低下を避けることができる。すなわち、導電性部材１５と１６のいずれか一方の面内方向の最小寸法が５０［ｃｍ］以上となるように構成することで、振動周波数が５００［Ｈｚ］以上の振動を低減でき、導電性部材１５と１６のいずれか一方の面内方向の最小寸法が２５［ｃｍ］以上となるように構成することで、振動周波数が１ｋ［Ｈｚ］以上の振動を低減でき、遮音効果の低下を防ぎ騒音低減に効果がある。また、ＭＲＩ装置１００または外装カバー１３の外周全面を覆うように、すなわち導電性部材１５または１６の面内方向の最大寸法を３００[ｃｍ]とすれば、外装カバー１３の振動が抑えられ、騒音低下に効果がある。
【００２５】
さらに、導電性部材１５と１６は板厚と導電率によっても騒音低減効果のある周波数が変化する。導電性部材１５又は１６の導電率が小さいか板厚が薄い場合は高い周波数での騒音低減効果が大きく、導電性部材１５と１６の双方の導電率が大きいか板厚が厚い場合は低い周波数からの騒音低減効果が期待できる。導電性部材の板厚ｄ［ｍ］と導電率σ［シーメンス／ｍ］の騒音低減効果が期待できる最小値は、それらの積σｄでも制限され、５００［Ｈｚ］ないし１ｋ［Ｈｚ］以上の騒音に低減効果を期待する場合、前記の最小寸法を満たした上で、積σｄは１０００［シーメンス］以上あればよい。例えば、導電性部材１５と１６に導電率σ＝５×１０７［シーメンス／ｍ］の銅材を使用する場合には、板厚ｄが０．０２［ｍｍ］以上、導電率σ＝２×１０６［シーメンス］のステンレス材を使用する場合には、板厚ｄが０．５［ｍｍ］以上あれば外装カバー１３の振動は抑えられ騒音低減に効果がある。一方、導電性部材１５または１６の板厚ｄの最大値は、銅材の場合２[ｍｍ]程度であるので、積σｄが１０００００[シーメンス]以下であれば外装カバー１３の振動を低減でき、騒音低減に効果がある。
【００２６】
図４（ａ）に、第１の実施形態の近接導電性部材１１とその周辺の部分拡大断面図を示す。近接導電性部材１１は、真空容器４と外装カバー１３の対向する面に設置されている。近接導電性部材１１の導電性部材１６は、外装カバー１３に設けられている。近接導電性部材１１の導電性部材１５は、真空容器４に設けられている。導電性部材１５と導電性部材１６とは、機械的・電気的に接続（接触）することを避けるために、導電性部材１５と導電性部材１６の間には、スペース１８が設けられている。また、導電性部材１５と１６の少なくとも一方の面に、塗布等により薄い絶縁性の膜を設け、導電性部材１５と１６間の絶縁性を確保してもよい。また、導電性部材１５と１６間の間隔が広くなるが、導電性部材１６を外装カバー１３の静磁場磁石装置１の反対側の表面に設置してもよい。また、真空容器４が絶縁性部材で形成されている場合には、導電性部材１５を静磁場磁石装置１の外装カバー１３の反対側の表面に設置してもよい。真空容器４が導電性部材で形成されている場合には、導電性部材１５を省いてもよい。
【００２７】
図４（ｂ）に、第１の実施形態の変形例１の近接導電性部材１１とその周辺の部分拡大断面図を示す。近接導電性部材１１の導電性部材１５と１６が互いに独立に振動（移動）しうるように、導電性部材１５と１６の間には、スペーサ（支持構造物）２６が部分的に設けられている。部分的なスペーサ２６によって、真空容器４（導電性部材１５）に対して、外装カバー１３（導電性部材１６）が支持されている。スペーサ（支持構造物）２６によって、導電性部材１５と１６の間のスペース１８が保たれている。導電性部材１５と１６は、機械的に接続されていないことにはならないが、外装カバー１３が薄いＦＲＰ材などの柔軟な材質であれば、スペーサ２６があっても、外装カバー１３（導電性部材１６）は真空容器４（導電性部材１５）に対して概ね独立に振動が可能であり、近接導電性部材１１による振動低減効果を得ることができる。外装カバー１３と導電性部材１６の振動では、スペーサ２６の設けられている箇所が、振動の節となり、隣り合うスペーサ２６の間に、振動の腹が生じる。また、導電性部材１５と１６間の間隔が広くなるが、導電性部材１６を外装カバー１３の静磁場磁石装置１の反対側の表面に設置してもよい。また、真空容器４が絶縁性部材で形成されている場合には、導電性部材１５を静磁場磁石装置１の外装カバー１３の反対側の表面に設置してもよい。真空容器４が導電性部材で形成されている場合には、導電性部材１５を省いてもよい。
【００２８】
図４（ｃ）に、第１の実施形態の変形例２の近接導電性部材１１とその周辺の部分拡大断面図を示す。近接導電性部材１１の導電性部材１５と１６が互いに独立に振動（移動）するように、導電性部材１５と１６の間には、外装カバー１３より低弾性のスペーサ２７が設けられている。導電性部材１５と１６の間のスペース１８には、例えばゴムなどの柔軟性のある弾性部材（低弾性スペーサ）２７が充填されている。弾性部材２７によって、真空容器４（導電性部材１５）に対して、外装カバー１３（導電性部材１６）が支持されている。弾性部材２７によって、導電性部材１５と１６の間のスペース１８が保たれている。導電性部材１５と１６は、機械的に接続されていないことにはならないが、外装カバー１３が薄いＦＲＰ材などの柔軟な材質であれば、弾性部材２７があっても、外装カバー１３（導電性部材１６）は真空容器４（導電性部材１５）に対して概ね独立に振動が可能であり、近接導電性部材１１による振動低減効果を得ることができる。また、第１の実施形態の変形例１と２を組み合わせて、変形例１の部分的なスペーサ２６に弾性部材２７を用いてもよい。
【００２９】
（第２の実施形態）
図５（ａ）に、本発明の第２の実施形態に係るＭＲＩ装置における近接導電性部材１１とその周辺の部分拡大断面図を示す。第２の実施形態が、第１の実施形態の変形例２と異なっている点は、近接導電性部材１１の導電性部材１５と１６の両方が、外装カバー１３に設けられている点である。外装カバー１３は、外側層１３ａと内側層１３ｂの表裏２層にわかれており、その間にゴムなどの柔軟性のある弾性部材２７を挟み込んだ構造をしている。導電性部材１６は、外装カバー１３の外側層１３ａの外側に設けられている。導電性部材１５は、外装カバー１３の内側層１３ｂの真空容器４側に設けられている。第２の実施形態でも、第１の実施形態の変形例２と同様に、導電性部材１６と１５が互いに独立に振動（移動）するように、導電性部材１６と１５の間には、外装カバー１３より低弾性の弾性部材（低弾性スペーサ）２７が設けられている。外装カバー１３が振動すると、弾性部材２７のために、外装カバー１３の外側層１３ａ（導電性部材１６）と内側層１３ｂ（導電性部材１５）が独立に振動し、導電性部材１５と１６は近接したままその間隔が変化し、導電性部材１５と１６に大きな渦電流が生じて外装カバー１３の振動が減衰する。なお、図５（ａ）では、外装カバー１３の外側層１３ａの外側に、導電性部材１６を設置したが、これに限らず、弾性部材２７の側に設置してもよい。また、外装カバー１３の内側層１３ｂの真空容器４側に、導電性部材１５を設置したが、これに限らず、弾性部材２７の側に設置してもよい。すなわち、導電性部材１５と１６は、弾性部材２７を挟んで対向するように設置してもよい。また、弾性部材２７と外装カバー１３と導電性部材１６（又は１５）の３層を更に増して、導電性部材１６（又は１５）を２つ以上とすることで、振動減衰効果をさらに高めることができる。
【００３０】
図５（ｂ）に、本発明の第２の実施形態の変形例に係るＭＲＩ装置における近接導電性部材１１とその周辺の部分拡大断面図を示す。第２の実施形態の変形例が、第２の実施形態と異なっている点は、導電性部材１６と１５とは電気的に絶縁され、導電性部材１６と１５に近接したまま相対的に独立して振動（移動）しうる導電性部材（第３導電性部材）１７（近接導電性部材１１）が、真空容器４に設けられている点である。これによれば、外装カバー１３の振動低減効果を更に増すことができる。なお、導電性部材１７（真空容器４）と導電性部材１５（外装カバー１３）の間には、弾性部材２７を設けてもよい。また、真空容器４が導電性部材の場合には、導電性部材１７を省くことができる。
【００３１】
（第３の実施形態）
図６（ａ）に、本発明の第３の実施形態に係るＭＲＩ装置における近接導電性部材１１とその周辺の部分拡大断面図を示す。第３の実施形態が、第１の実施形態の変形例１と異なっている点は、近接導電性部材１１の導電性部材１５と１６の両方が、外装カバー１３に設けられている点である。外装カバー１３は、外側層１３ａと内側層１３ｂの表裏２層にわかれており、その間にスペーサ（部分スペーサ）２６を部分的に挟み込んだ構造をしている。導電性部材１６は、外装カバー１３の外側層１３ａの外側に設けられている。導電性部材１５は、外装カバー１３の内側層１３ｂの真空容器４側に設けられている。第３の実施形態でも、第１の実施形態の変形例１と同様に、導電性部材１６と１５が互いに独立に振動（移動）するように、導電性部材１６と１５の間には、スペーサ２６が部分的に設けられている。外装カバー１３が振動すると、スペーサ２６のために、外装カバー１３の外側層１３ａ（導電性部材１６）と内側層１３ｂ（導電性部材１５）が独立に振動し、導電性部材１５と１６は近接したままその間隔が変化し、導電性部材１５と１６に大きな渦電流が生じて外装カバー１３の振動が減衰する。なお、図６（ａ）では、外装カバー１３の外側層１３ａの外側に、導電性部材１６を設置したが、これに限らず、スペーサ２６の側に設置してもよい。また、外装カバー１３の内側層１３ｂの真空容器４側に、導電性部材１５を設置したが、これに限らず、スペーサ２６の側に設置してもよい。すなわち、導電性部材１５と１６は、スペーサ２６を挟んで対向するように設置してもよい。また、スペーサ２６と外装カバー１３と導電性部材１６（又は１５）の３層を更に増して、導電性部材１６（又は１５）を２つ以上とすることで、振動減衰効果をさらに高めることができる。
【００３２】
図６（ｂ）に、本発明の第３の実施形態の変形例に係るＭＲＩ装置における近接導電性部材１１とその周辺の部分拡大断面図を示す。第３の実施形態の変形例が、第３の実施形態と異なっている点は、導電性部材１６と１５とは電気的に絶縁され、導電性部材１６と１５に近接したまま相対的に独立して振動（移動）しうる導電性部材１７（近接導電性部材１１）が、真空容器４に設けられている点である。これによれば、外装カバー１３の振動低減効果を更に増すことができる。なお、導電性部材１７（真空容器４）と導電性部材１５（外装カバー１３）の間には、スペーサ２６を設けてもよい。また、真空容器４が導電性部材の場合には、導電性部材１７を省くことができる。
【００３３】
（第４の実施形態）
図７に、本発明の第４の実施形態に係るＭＲＩ装置における近接導電性部材１１とその周辺の部分拡大断面図を示す。第４の実施形態が、第１〜３の実施形態と異なっている点は、導電性部材１５と１６の互いに対向する面（相手側の面）の内の少なくとも一方は凹凸形状を有している点である。これによれば、導電性部材１５と１６の互いに対向する面の対向面積を、外装カバー１３と真空容器４の対向面積よりも大きくすることが可能となり、外装カバー１３が振動した場合に発生する渦電流をより大きくすることができる。そして、外装カバー１３の振動低減効果をさらに増すことができる。凹凸形状は必ずしも導電性部材１５と１６の双方に必要ではなく、どちらか一方でもよい。また、第４の実施形態は、第１の実施形態だけでなく、第２、３の実施形態にも適用することができる。また、導電性部材１５と１６の凹凸形状のピッチは互いに一致していることが好ましい。これによれば、凹凸形状の凹凸の高さによらず、導電性部材１５と１６の凹凸形状の面を互いに近づけることができる。
【００３４】
（第５の実施形態）
図８に、本発明の第５の実施形態に係るＭＲＩ装置（垂直磁場型）１００の縦断面図を示し、図９に、その模式的な斜視図を示す。第５の実施形態が、第１〜４の実施形態と異なっている点は、撮像領域９における静磁場６の方向が、水平方向から替わって、垂直方向である点である。これに伴い、ｚ軸方向が静磁場６の方向に合わせて垂直方向になっている。ｙ軸方向とｘ軸方向は水平方向になっている。静磁場６を発生する静磁場磁石装置１は、円環形状の上下で対をなす複数の超電導コイル３と、円盤形状の上下で対をなす磁性体２８で構成された上下一対の磁極からなり、その上下一対の磁極が、支持柱２９（図９参照）によって互いに支持され、離れて配置されている。なお、静磁場磁石装置１は、図５に示すように、超電導コイル３と磁性体２８の両方で構成してもよいし、どちらか一方で構成してもよい。
【００３５】
静磁場磁石装置１の上下一対の磁極それぞれの撮像領域９側には、円板形状の上下一対の傾斜磁場コイル２が設けられている。傾斜磁場コイル２は、静磁場磁石装置１の磁性体２８から支持部材１４を介して支持されている。傾斜磁場コイル２は、第１の実施形態と同様に、ｘ軸、ｙ軸、ｚ軸の３方向に独立な傾斜磁場を発生することができる。図８に示した傾斜磁場１０は、磁場の方向がｚ軸方向であり、ｙ軸方向に磁場強度分布が傾斜した傾斜磁場の例を示している。上下一対の傾斜磁場コイル２それぞれの撮像領域９側には、円板形状の上下一対のＲＦコイル１２が設けられている。上下一対の外装カバー１３は、静磁場磁石装置１の上下一対の磁極と、上下一対の傾斜磁場コイル２を覆っている。上下一対の外装カバー１３のそれぞれの撮像領域９側の面には、ＲＦコイル１２が設置されている。
【００３６】
本第５の実施形態においても、近接導電性部材１１は、静磁場磁石装置１による静磁場６中にあって、傾斜磁場コイル２およびＲＦコイル１２が発生する磁場（漏れ磁場）の影響が小さな場所に配置することが望ましい。近接導電性部材１１は、静磁場磁石装置１の円板形状の磁性体２８の側面と、撮像領域９と反対側の面と、それらに対向する外装カバー１３の面に設けられる。また、近接導電性部材１１は、静磁場磁石装置１の円環形状の真空容器４の側面と、撮像領域９側の面と、それらに対向する外装カバー１３の面に設けられる。真空容器４および磁性体２８が導電性部材で形成されている場合は、真空容器４および磁性体２８に設けられる近接導電性部材１１の導電性部材１５は省略することができる。本第５の実施形態においても、第２の実施形態のスペーサ２６や、第３の実施形態の弾性部材２７や、第４の実施形態の凹凸形状を適用できる。本第５の実施形態においては、導電性部材１１の対向し近接する導電性部材１５と１６は互いに同じ大きさ、形状ではないが、導電性部材１５と１６の大きさと導電率および板厚が、第１の実施形態で説明した条件を満たせば、騒音低減に充分な効果が期待できる。
【００３７】
なお、前記した第１〜５の実施形態では、静磁場磁石装置１に超電導コイル３を用いたが、これに限らず、常電導コイルや永久磁石（磁性体２８）を用いてもよい。
【符号の説明】
【００３８】
１      静磁場磁石装置（磁石）
２      傾斜磁場コイル
３      超電導コイル
４      真空容器（磁石を構成する外側の容器）
５      輻射シールド
６      静磁場（の方向）
７      被検者
８      液体ヘリウム容器
９      撮像領域
１０    傾斜磁場（変動磁場）
１１    （近接）導電性部材
１２    ＲＦコイル
１３    外装カバー
１４    支持部材
１５    静磁場磁石装置側の導電性部材（第２導電性部材）
１６    外装カバー側の導電性部材（第１導電性部材）
１７    第３導電性部材
１８    スペース
２０    振動を表す矢印
２１、２２  渦電流
２３、２４  電磁力
２５    移動式ベッド
２６    支持構造物（（部分）スペーサ）
２７  弾性部材（（低弾性）スペーサ）
２８  磁性体
２９  支持柱
１００  磁気共鳴イメージング装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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