【手続補正書】
【提出日】令和3年1月29日(2021.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で表される構成成分を有するポリマーであって、前記ポリマーがポリイミド化合物、又はポリアミド化合物であるポリマー。
【化１】
2020143266.tif 000001
式（Ｉ）中、ＲＢは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、ＲＡ及びＲＣは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子を示す。但し、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子である。前記の炭素数１〜４のアルキル基はトリフルオロメチルではない。＊＊は連結部位を示す。
【請求項２】
前記式（Ｉ）で表される構成成分がジアミン由来成分である、請求項１に記載のポリマー。
【請求項３】
前記ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つが、前記の炭素数１〜４のアルキル基である、請求項１又は２に記載のポリマー。
【請求項４】
下記式（Ｉａ）で表されるｍ−フェニレンジアミン化合物を原料としてポリマーを得ることを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリマーの製造方法。
【化２】
2020143266.tif 000002
式（Ｉａ）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは、それぞれ、前記式（Ｉ）におけるＲＡ、ＲＢ及びＲＣと同義である。
【請求項５】
下記式（Ｉ）で表される構成成分を有するポリマーを含有してなるガス分離層を有するガス分離膜。
【化３】
2020143266.tif 000003
式（Ｉ）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子を示す。但し、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子である。前記の炭素数１〜４のアルキル基はトリフルオロメチルではない。＊＊は連結部位を示す。
【請求項６】
ガス分離層を構成するポリマーとして、下記式（II）で表される構成単位を有するポリイミド化合物を含有する、ガス分離膜。
【化４】
2020143266.tif 000004
式（II）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子を示す。但し、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子である。前記の炭素数１〜４のアルキル基はトリフルオロメチルではない。
Ｒは下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−２８）のいずれかで表される基を示す。ここでＸ１〜Ｘ３は単結合又は２価の連結基を、Ｌは−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ２−を、Ｒ１及びＲ２は水素原子又は置換基を示し、＊は式（II）中のカルボニル基との結合部位を示す。
【化４】
2020143266.tif 000005
【請求項７】
前記ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つが、前記の炭素数１〜４のアルキル基である、請求項６に記載のガス分離膜。
【請求項８】
前記ガス分離膜が、前記ガス分離層をガス透過性の支持層上側に有するガス分離複合膜である、請求項５〜７のいずれか１項に記載のガス分離膜。
【請求項９】
二酸化炭素及びメタンを含むガスから二酸化炭素を選択的に透過させるために用いられる、請求項５〜８のいずれか１項に記載のガス分離膜。
【請求項１０】
請求項５〜９のいずれか１項に記載のガス分離膜を有するガス分離モジュール。
【請求項１１】
請求項５〜９のいずれか１項に記載のガス分離膜を有するガス分離装置。
【請求項１２】
下記式（Ｉａ−１）で表されるｍ−フェニレンジアミン化合物。
【化５】
2020143266.tif 000006
式（Ｉａ−１）中、Ｒａは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアシルオキシ基を示し、−Ｃ（Ｒａ）３の炭素数は１〜４である。
ＲＢ及びＲＣは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子を示す。
但し、−Ｃ（Ｒａ）３はトリフルオロメチルではなく、ＲＢ及びＲＣとして採り得る炭素数１〜４のアルキル基もトリフルオロメチルではない。また、−Ｃ（Ｒａ）３を構成する３つのＲａと、ＲＢと、ＲＣのすべてが水素原子となることはない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の上記課題は下記手段により解決される。
〔１〕
下記式（Ｉ）で表される構成成分を有するポリマーであって、上記ポリマーがポリイミド化合物、又はポリアミド化合物であるポリマー。
【化１】
2020143266.tif 000007
式（Ｉ）中、ＲＢは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、ＲＡ及びＲＣは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子を示す。但し、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子である。上記の炭素数１〜４のアルキル基はトリフルオロメチルではない。＊＊は連結部位を示す。
〔２〕
上記式（Ｉ）で表される構成成分がジアミン由来成分である、〔１〕に記載のポリマー。
〔３〕
上記ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つが、上記の炭素数１〜４のアルキル基である、〔１〕又は〔２〕に記載のポリマー。
〔４〕
下記式（Ｉａ）で表されるｍ−フェニレンジアミン化合物を原料としてポリマーを得ることを含む、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載のポリマーの製造方法。
【化２】
2020143266.tif 000008
式（Ｉａ）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは、それぞれ、上記式（Ｉ）におけるＲＡ、ＲＢ及びＲＣと同義である。
〔５〕
下記式（Ｉ）で表される構成成分を有するポリマーを含有してなるガス分離層を有するガス分離膜。
【化３】
2020143266.tif 000009
式（Ｉ）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子を示す。但し、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子である。前記の炭素数１〜４のアルキル基はトリフルオロメチルではない。＊＊は連結部位を示す。
〔６〕
ガス分離層を構成するポリマーとして、下記式（II）で表される構成単位を有するポリイミド化合物を含有する、ガス分離膜。
【化４】
2020143266.tif 000010
式（II）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子を示す。但し、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子である。上記の炭素数１〜４のアルキル基はトリフルオロメチルではない。
Ｒは下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−２８）のいずれかで表される基を示す。ここでＸ１〜Ｘ３は単結合又は２価の連結基を、Ｌは−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ２−を、Ｒ１及びＲ２は水素原子又は置換基を示し、＊は式（II）中のカルボニル基との結合部位を示す。
【化５】
2020143266.tif 000011
〔７〕
上記ＲＡ、ＲＢ及びＲＣの少なくとも１つが、上記の炭素数１〜４のアルキル基である、〔６〕に記載のガス分離膜。
〔８〕
上記ガス分離膜が、上記ガス分離層をガス透過性の支持層上側に有するガス分離複合膜である、〔５〕〜〔７〕のいずれかに記載のガス分離膜。
〔９〕
二酸化炭素及びメタンを含むガスから二酸化炭素を選択的に透過させるために用いられる、〔５〕〜〔８〕のいずれかに記載のガス分離膜。
〔１０〕
〔５〕〜〔９〕のいずれかに記載のガス分離膜を有するガス分離モジュール。
〔１１〕
〔５〕〜〔９〕のいずれかに記載のガス分離膜を有するガス分離装置。
〔１２〕
下記式（Ｉａ−１）で表されるｍ−フェニレンジアミン化合物。
【化６】
2020143266.tif 000012
式（Ｉａ−１）中、Ｒａは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜３のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアシルオキシ基を示し、−Ｃ（Ｒａ）３の炭素数は１〜４である。
ＲＢ及びＲＣは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はハロゲン原子を示す。
但し、−Ｃ（Ｒａ）３はトリフルオロメチルではなく、ＲＢ及びＲＣとして採り得る炭素数１〜４のアルキル基もトリフルオロメチルではない。また、−Ｃ（Ｒａ）３を構成する３つのＲａと、ＲＢと、ＲＣのすべてが水素原子となることはない。