Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月22日(2021.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造装置における目標処理形状を得るための入力パラメータ値を探索する探索装置において、
記憶デバイスと、
前記目標処理形状を得るための入力パラメータ値を探索し前記記憶デバイスに格納されたプログラムとを有し、
入力パラメータ値と、前記半導体製造装置の処理結果の実測値である出力パラメータ値とを基に入力パラメータ値と出力パラメータ値との関係を示す予測モデルを生成する生成ステップが前記プログラムにより実行され、
前記生成ステップは、前記実測値が欠損データである場合、前記欠損データを生じさせた入力パラメータ値と、前記欠損データである実測値が置換された欠損代替データとを基に前記予測モデルを生成し、
前記欠損データは、計測不可能なデータまたは計測がスキップされたデータであることを特徴とする探索装置。
【請求項２】
請求項１に記載の探索装置において、
目標出力パラメータ値に対応し前記予測モデルにより予測された入力パラメータ値を用いて前記半導体製造装置により処理された処理結果から取得された実測値が前記目標処理形状に対応する目標値を満たさない場合、前記予測された入力パラメータ値と前記取得された実測値を用いて前記予測モデルが更新されることを特徴とする探索装置。
【請求項３】
請求項１に記載の探索装置において、
前記プログラムは受付部を有し、
初期データとして位置情報を受け付けるステップと、
前記位置情報を用いて前記処理結果を実測するステップとが前記プログラムにより実行されることを特徴とする探索装置。
【請求項４】
請求項１に記載の探索装置において、
前記欠損代替データは、出力パラメータ値の目標値との差が許容範囲外となる値として決定されることを特徴とする探索装置。
【請求項５】
請求項４に記載の探索装置において、
前記処理結果の実測値のうち、前記出力パラメータ値の目標値との距離が最も大きい値を前記欠損代替データの基準値として用いることを特徴とする探索装置。
【請求項６】
請求項１に記載の探索装置において、
前記処理結果の上面形状の計測値および断面形状の計測値を処理形状を表す出力パラメータとして含むことを特徴とする探索装置。
【請求項７】
半導体製造装置における目標処理形状を得るための入力パラメータ値を探索する探索方法において、
入力パラメータ値と、前記半導体製造装置の処理結果の実測値である出力パラメータ値とを基に入力パラメータ値と出力パラメータ値との関係を示す予測モデルを生成する生成工程を有し、
前記生成工程は、前記実測値が欠損データである場合、前記欠損データを生じさせた入力パラメータ値と、前記欠損データである実測値が置換された欠損代替データとを基に前記予測モデルを生成し、
前記欠損データは、計測不可能なデータまたは計測がスキップされたデータであることを特徴とする探索方法。
【請求項８】
請求項７に記載の探索方法において、
前記欠損代替データは、出力パラメータ値の目標値との差が許容範囲外となる値として決定されることを特徴とする探索方法。
【請求項９】
請求項７に記載の探索方法において、
前記出力パラメータ値は、第１の計測により取得される第１の出力パラメータ値と、第２の計測により取得される第２の出力パラメータ値とを有し、
前記第１の出力パラメータ値を基に前記第２の計測の可否を判断することを特徴とする探索方法。
【請求項１０】
試料がプラズマ処理される処理室と、プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、前記試料が載置される試料台とを備えるプラズマ処理装置において、
入力パラメータ値と、前記プラズマ処理装置の処理結果の実測値である出力パラメータ値とを基に入力パラメータ値と出力パラメータ値との関係を示す予測モデルが生成される制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記実測値が欠損データである場合、前記欠損データを生じさせた入力パラメータ値と、前記欠損データである実測値が置換された欠損代替データとを基に前記予測モデルを生成し、
前記欠損データは、計測不可能なデータまたは計測がスキップされたデータであることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載のプラズマ処理装置において、
前記欠損代替データは、出力パラメータ値の目標値との差が許容範囲外となる値として決定されることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載のプラズマ処理装置において、
前記処理結果の上面形状の計測値および断面形状の計測値を前記試料の処理形状を表す出力パラメータとして含むことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項１３】
半導体製造装置における目標処理形状を得るための入力パラメータ値を探索する探索装置において、
記憶デバイスと、
前記目標処理形状を得るための入力パラメータ値を探索し前記記憶デバイスに格納されたプログラムとを有し、
入力パラメータ値と、前記半導体製造装置の処理結果の実測値である出力パラメータ値とを基に入力パラメータ値と出力パラメータ値との関係を示す予測モデルを生成する生成ステップが前記プログラムにより実行され、
目標出力パラメータ値に対応し前記予測モデルにより予測された入力パラメータ値を用いて前記半導体製造装置により処理された処理結果から取得された実測値が前記目標処理形状に対応する目標値を満たさない場合、前記予測された入力パラメータ値と前記取得された実測値を用いて前記予測モデルが更新され、
前記処理結果の上面形状の計測値および断面形状の計測値を処理形状を表す出力パラメータとして含むことを特徴とする探索装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の探索装置において、
前記実測値が欠損データである場合、前記欠損データを生じさせた入力パラメータ値と、前記欠損データである実測値が置換された欠損代替データとを基に前記予測モデルが生成され、
前記欠損データは、計測不可能なデータまたは計測がスキップされたデータであることを特徴とする探索装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の探索装置において、
前記欠損代替データは、出力パラメータ値の目標値との差が許容範囲外となる値として決定されることを特徴とする探索装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本願において開示される発明の一側面となる探索装置は、半導体製造装置における目標処理形状を得るための入力パラメータ値を探索する探索装置であって、記憶デバイスと、目標処理形状を得るための入力パラメータ値を探索し記憶デバイスに格納されたプログラムとを有し、入力パラメータ値と、半導体製造装置の処理結果の実測値である出力パラメータ値とを基に入力パラメータ値と出力パラメータ値との関係を示す予測モデルを生成する生成ステップがプログラムにより実行され、生成ステップは、実測値が欠損データである場合、欠損データを生じさせた入力パラメータ値と、欠損データである実測値が置換された欠損代替データとを基に予測モデルを生成し、欠損データは、計測不可能なデータまたは計測がスキップされたデータであることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月27日(2021.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技の進行を制御する遊技制御手段と、
前記遊技の進行に関する事象を検出する第１の検出手段及び第２の検出手段と、を備える遊技機であって、
前記遊技制御手段は、
所定の周期毎に定期処理を実行する定期処理手段と、
所定の周期毎には処理を実行しない非定期処理手段と、
シリアル信号が入力されるシリアル入力ポートと、
前記第１の検出手段又は前記第２の検出手段の信号が個別に入力される汎用入力ポートと、を有し、
前記第１の検出手段の信号は、一回の前記定期処理内で一回信号を検出した結果に基づいて信号レベルが判定されるものであって、
前記第２の検出手段の信号は、一回の前記定期処理内で複数回の信号を検出した結果に基づいて信号レベルが判定されるものであって、
前記第２の検出手段の信号は、前記汎用入力ポートへ入力される、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
パチンコ機は、主制御ＭＰＵに入力される各種信号を用いて遊技の進行を制御している。特許文献１に記載されたパチンコ機は、主制御手段はシリアル入力ポート及びパラレル入力ポートを有し、主制御手段のシリアルポートに対してセンサ信号を伝送する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−２２２６２号公報
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
主制御ＭＰＵには遊技球検出センサからの信号や各種操作スイッチからの信号や異常検出センサからの信号が入力されるが、特に入力信号の誤検知により遊技機が機能できなくなるような重要な信号については、入力される信号の種類と入力機能と入力判定方法の組み合わせについて工夫が必要である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、主制御ＭＰＵに入力される重要な信号を正確に取り込める遊技機の提供を課題とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記した目的を達成するために、本発明においては、
遊技の進行を制御する遊技制御手段と、
前記遊技の進行に関する事象を検出する第１の検出手段及び第２の検出手段と、を備える遊技機であって、
前記遊技制御手段は、
所定の周期毎に定期処理を実行する定期処理手段と、
所定の周期毎には処理を実行しない非定期処理手段と、
シリアル信号が入力されるシリアル入力ポートと、
前記第１の検出手段又は前記第２の検出手段の信号が個別に入力される汎用入力ポートと、を有し、
前記第１の検出手段の信号は、一回の前記定期処理内で一回信号を検出した結果に基づいて信号レベルが判定されるものであって、
前記第２の検出手段の信号は、一回の前記定期処理内で複数回の信号を検出した結果に基づいて信号レベルが判定されるものであって、
前記第２の検出手段の信号は、前記汎用入力ポートへ入力される、
ことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の遊技機においては、主制御ＭＰＵに入力される重要な信号を正確に取り込むことができる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月21日(2021.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
洗濯処理や乾燥処理には、数十分から１時間程度を要する。このため、ユーザーがコインランドリーから離れて、洗濯等が終了しても洗濯物が洗濯乾燥機等の内部に放置されることがある。このとき、第三者により洗濯物が洗濯乾燥機等から勝手に取り出されると、ユーザーが不快に思ったり、盗難のおそれ等もあった。
そこで、開閉扉をロックして第三者が洗濯物に触れないようにした機能を備える洗濯乾燥機等もある。
しかしながら、ＩＣカードや専用サーバーが必要となったり、インターネットに接続したりするため、設備コスト、運転コストがかさんでしまう。特に、小規模のコインランドリーの経営者にとっては、導入しづらいという問題がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、実施形態のコインランドリーは、前記扉ロックは、前記入力部から利用者一致情報を受け取れない場合であっても、前記料金受付部から超過料金完済情報を受け取ると前記開閉扉を強制解錠することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
筐体２は、フロントパネル２ａのほぼ中央に、円形状のパネル開口２ｂを有する。外胴３は、衣類やシーツなどの洗濯物を出し入れする投入口６を有し、この投入口６がパネル開口２ｂに露出するように固定される。
フロントパネル２ａには、投入口６を開閉する開閉扉７が配置される。開閉扉７は、投入口６を閉塞できる円板形を有し、中央部分には窓が設けられる。開閉扉７と投入口６の縁部との間には、気密性を高めるためのシール材（不図示）が配置される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2019165864.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2019165864.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月18日(2021.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗濯物を洗濯及び／又は乾燥するランドリー機器のドラム及びその駆動系を含む個別構成要素の集合体である本体ユニットと、前記本体ユニットに接続され、前記ランドリー機器の個別構成要素が共用する共有構成要素による共有ユニットと、を備えたことを特徴とするコインランドリーシステム。
【請求項２】
前記共有ユニットは、前記ランドリー機器が共用するバーナー、送風機及びリントフィルターのいずれか一つ以上であることを特徴とする請求項１に記載のコインランドリーシステム。
【請求項３】
被洗濯物を洗濯及び／又は乾燥する複数のランドリー機器の制御の全て若しくはその一部の制御を一元管理するプログラムを有する集中管理ユニットに接続され、前記複数のランドリー機器は前記集中管理ユニットの前記プログラムによる制御を受信する出力制御機器を搭載することを特徴とするコインランドリーシステム。
【請求項４】
前記複数のランドリー機器は、動力系の前記出力制御機器のみ搭載していることを特徴とする請求項３に記載のコインランドリーシステム。
【請求項５】
前記ランドリー機器は複数で構成され、その各々は外板パネルの全て若しくはその一部が無く、
前記本体ユニットの前面側は、各ランドリー機器に前記被洗濯物を出し入れする開口部の複数が開口している室内壁が保護カバーとなっていることを特徴とする請求項１に記載のコインランドリーシステム。
【請求項６】
前記室内壁は、さらに表示部の開口部又は保守部へアクセスする開口部が開口していることを特徴とする請求項５に記載のコインランドリーシステム。
【請求項７】
被洗濯物を洗濯及び／又は乾燥する前記複数のランドリー機器の各機器同士は、上下、左右への連結が可能な構造とし、組み合わせを自由に選択出来る事を特徴とする請求項５に記載のコインランドリーシステム。
【請求項８】
前記請求項１〜７のいずれか１項に記載のコインランドリーシステムを設置したことを特徴とするコインランドリー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、実施形態のコインランドリーシステムは、被洗濯物を洗濯及び／又は乾燥するランドリー機器のドラム及びその駆動系を含む個別構成要素の集合体である本体ユニットと、前記本体ユニットに接続され、前記ランドリー機器の個別構成要素が共用する共有構成要素による共有ユニットと、を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
他の実施形態のコインランドリーシステムは、被洗濯物を洗濯及び／又は乾燥する複数のランドリー機器の制御の全て若しくはその一部の制御を一元管理するプログラムを有する集中管理ユニットに接続され、前記複数のランドリー機器は前記集中管理ユニットの前記プログラムによる制御を受信する出力制御機器を搭載することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月25日(2021.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機において、
表示手段と、
線状のデザインを少なくとも含む第１装飾体及び第２装飾体を重畳可能に備え、
前記第１装飾体と前記第２装飾体とが重畳した状態において、重なり合う線状のデザインが視認可能であり、前記第１装飾体と前記第２装飾体のうち少なくとも一方を動作させることにより、前記第１装飾体に形成された線状のデザインと、前記第２装飾体に形成された線状のデザインとの交点を移動させる特定演出を実行可能であり、
前記表示手段は、前記第１装飾体及び前記第２装飾体の動作態様に応じた演出表示を表示可能である、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（Ａ）遊技を行うことが可能な遊技機において、
表示手段と、
線状のデザインを少なくとも含む第１装飾体及び第２装飾体を重畳可能に備え、
前記第１装飾体と前記第２装飾体とが重畳した状態において、重なり合う線状のデザインが視認可能であり、前記第１装飾体と前記第２装飾体のうち少なくとも一方を動作させることにより、前記第１装飾体に形成された線状のデザインと、前記第２装飾体に形成された線状のデザインとの交点を移動させる特定演出を実行可能であり、
前記表示手段は、前記第１装飾体及び前記第２装飾体の動作態様に応じた演出表示を表示可能である、
ことを特徴とする。
（１）上記目的を達成するため、本願に係る遊技機（例えば、パチンコ遊技機１）は、遊技を行うことが可能な遊技機において、線状のデザイン（例えば、デザイン溝２３１、デザイン溝２５１）を少なくとも含む第１装飾体（例えば、第１装飾体２３０）及び第２装飾体（例えば、第２装飾体２５０）を重畳可能に備え（例えば、図５に示すように、第１装飾体２３０と第２装飾体２５０とは重ねて設けられる）、前記第１装飾体と前記第２装飾体とが重畳した状態において、重なり合う線状のデザインが視認可能（例えば図９に示すように、デザイン溝２３１とデザイン溝２５１が視認可能）であり、前記第１装飾体と前記第２装飾体のうち少なくとも一方を動作させることにより、前記第１装飾体に形成された線状のデザインと、前記第２装飾体に形成された線状のデザインとの交点を移動させる特定演出を実行可能である（例えば、図９（ａ）〜（ｃ）に示すように、交点ａ、ｂ、ｃ、ｄが移動する）、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月22日(2021.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が流下可能な遊技領域に含まれる第１と第２の遊技領域に遊技球を打ち分け可能で、前記第１と第２の遊技領域のうち遊技者にとって遊技球を流下させると有利な有利遊技領域が遊技状態に応じて切り替わる遊技機であって、
開状態と閉状態に開閉されて遊技球の入球し易さが変化する第１と第２の可変入球部を備え、
遊技状態を、通常状態と、前記通常状態よりも前記第１と第２の可変入球部が共に前記開状態になり易い第１特別状態と、前記第１特別状態よりも前記第１の可変入球部が前記開状態になり難くかつ前記通常状態よりも前記第２の可変入球部が前記開状態になり易い第２特別状態と、に制御する遊技状態制御手段を備え、
前記第２の可変入球部は、前記第１特別状態における前記有利遊技領域に遊技球を流下させる場合よりも、前記第２特別状態における前記有利遊技領域に遊技球を流下させる場合の方が、遊技球を入球させ易くなっている遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
特許文献１の遊技機では、遊技状態として通常状態と時短状態が設けられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
新たな遊技性を付与可能な遊技機が望まれる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の手段は、遊技球が流下可能な遊技領域に含まれる第１と第２の遊技領域に遊技球を打ち分け可能で、前記第１と第２の遊技領域のうち遊技者にとって遊技球を流下させると有利な有利遊技領域が遊技状態に応じて切り替わる遊技機であって、開状態と閉状態に開閉されて遊技球の入球し易さが変化する第１と第２の可変入球部を備え、遊技状態を、通常状態と、前記通常状態よりも前記第１と第２の可変入球部が共に前記開状態になり易い第１特別状態と、前記第１特別状態よりも前記第１の可変入球部が前記開状態になり難くかつ前記通常状態よりも前記第２の可変入球部が前記開状態になり易い第２特別状態と、に制御する遊技状態制御手段を備え、前記第２の可変入球部は、前記第１特別状態における前記有利遊技領域に遊技球を流下させる場合よりも、前記第２特別状態における前記有利遊技領域に遊技球を流下させる場合の方が、遊技球を入球させ易くなっている遊技機である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月22日(2021.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開状態と閉状態に開閉されて遊技球の入球し易さが変化する第１と第２の可変入球部を備え、
遊技状態を、通常状態と、前記通常状態よりも前記第１と第２の可変入球部が共に前記開状態になり易い第１特別状態と、前記第１特別状態よりも前記第１の可変入球部が前記開状態になり難くかつ前記通常状態よりも前記第２の可変入球部が前記開状態になり易い第２特別状態と、に制御する遊技状態制御手段を備える遊技機。
【請求項２】
前記通常状態は、遊技球が流下可能な遊技領域に含まれる第１遊技領域と第２遊技領域のうち、前記第１遊技領域に遊技球を流下させる方が遊技者にとって有利な状態であり、
前記第１特別状態は、前記第１遊技領域よりも前記第２遊技領域に遊技球を流下させる方が遊技者にとって有利な状態であり、
前記第１特別状態では、前記第２遊技領域に遊技球を流下させた場合に、前記第１の可変入球部の方が前記第２の可変入球部よりも遊技球を入球させ易くなっている、請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
特許文献１の遊技機では、電動役物により開閉される始動口への入球し易さが異なる遊技状態として、通常状態と時短状態（確変状態も含む）が設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の手段は、開状態と閉状態に開閉されて遊技球の入球し易さが変化する第１と第２の可変入球部を備え、遊技状態を、通常状態と、前記通常状態よりも前記第１と第２の可変入球部が共に前記開状態になり易い第１特別状態と、前記第１特別状態よりも前記第１の可変入球部が前記開状態になり難くかつ前記通常状態よりも前記第２の可変入球部が前記開状態になり易い第２特別状態と、に制御する遊技状態制御手段を備える遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月14日(2021.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を前面側に形成する遊技盤と、
横方向の一側方に開口し、遊技球が入球可能な入球口と、を有する遊技機において、
前記入球口より下方に配され、横方向の他方へ下るように傾斜し、前記入賞口よりも横方向の一方側を流下する遊技球を受け止めて転動させる転動面を備える受止部と、
前記転動面の少なくとも一部を前後方向で傾斜させ、遊技球を前記入球口とは異なる方向に跳ね返す跳ね返し手段と、を有する遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するためになされた請求項１の発明は、遊技領域を前面側に形成する遊技盤と、横方向の一側方に開口し、遊技球が入球可能な入球口と、を有する遊技機において、前記入球口より下方に配され、横方向の他方へ下るように傾斜し、前記入賞口よりも横方向の一方側を流下する遊技球を受け止めて転動させる転動面を備える受止部と、前記転動面の少なくとも一部を前後方向で傾斜させ、遊技球を前記入球口とは異なる方向に跳ね返す跳ね返し手段と、を有する遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月22日(2021.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１装飾部と、
前記第１装飾部の外側近傍に配置される第２装飾部と、を有する遊技機において、
前記第１装飾部の裏側から前記第１装飾部に向けて光を照射可能な発光手段と、
前記発光手段からの光を前記第２装飾部側へ導く光案内手段と、を有する、遊技機。
【請求項２】
前記第１装飾部には、光拡散板と、前記光拡散板に重なる対向部材と、が設けられ、
前記対向部材に形成された開口部と前記光拡散板とによって、前記発光手段からの光を透過させる光透過部が形成されている、請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記対向部材は、前記光拡散板に裏側から対向し、前記対向部材の裏面には、前記発光手段からの光を前記第２装飾部側へ反射させる反射部が形成されている、請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記第２装飾部には、前記第１装飾部を囲む囲み部と、前記囲み部から内側に延びて前記第１装飾部に裏側から当接する当接部と、が設けられている、請求項１から３の何れか１の請求項に記載の遊技機。
【請求項５】
前記当接部は、前記囲み部の内側に架け渡された架橋部になっている、請求項４に記載の遊技機。
【請求項６】
前記第１装飾部の裏面には、前記当接部を受容する係合凹部が形成されている、請求項４又は５に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月14日(2021.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を前面側に形成する遊技盤と、
前記遊技領域を流下する遊技球が入球可能な入球口と、を有する遊技機において、
前記遊技領域で遊技球を落下させる落下手段と、
前記落下手段によって落下させられた遊技球を受止可能な受止部と、を有し、
前記入球口は、前記受止部より上側で前記落下手段により落下させられた遊技球を受け入れ可能に構成され、
前記受止部には、受け止めた遊技球を前記入球口とは異なる方向に跳ね返す跳ね返し手段が設けられ、
前記跳ね返し手段に水平方向で対向する位置に配され、前記落下手段により落下させられた遊技球の勢いを低減可能な減勢手段を有する遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するための請求項１の発明は、遊技領域を前面側に形成する遊技盤と、前記遊技領域を流下する遊技球が入球可能な入球口と、を有する遊技機において、前記遊技領域で遊技球を落下させる落下手段と、前記落下手段によって落下させられた遊技球を受止可能な受止部と、を有し、前記入球口は、前記受止部より上側で前記落下手段により落下させられた遊技球を受け入れ可能に構成され、前記受止部には、受け止めた遊技球を前記入球口とは異なる方向に跳ね返す跳ね返し手段が設けられ、前記跳ね返し手段に水平方向で対向する位置に配され、前記落下手段により落下させられた遊技球の勢いを低減可能な減勢手段を有する遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月9日(2021.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動役物装置を備えた遊技機において、
前記可動役物装置は、
固定ベースに支持されて第１位置と第２位置との間を移動可能な支持ベースと、
前記支持ベースに回転可能に支持されると共に、互いに回転自在に連結された１対の可動体を含む可動演出部と、
前記１対の可動体のうち互いの連結部分から離れた部位同士の距離を変化させることで、前記可動演出部を、前記１対の可動体が直線状に配置される第１状態と、前記１対の可動体が折れ線状に配置される第２状態と、に変化させる可変機構と、を有し、
前記可変機構は、
前記固定ベースに設けられて、前記可動体の回転軸に略平行であって前記支持ベースの移動方向に対して傾斜する傾斜ガイド面と、
前記１対の可動体のうち少なくとも一方の可動体に設けられ、前記支持ベースが移動したときに前記傾斜ガイド面に摺接して該一方の可動体をその回転軸を中心にして回転させる摺接部と、を有する、遊技機。
【請求項２】
前記可動役物装置は、前記可動演出部を１対備え、
１対の前記可動演出部は、前記第１状態で略平行に配置され、前記第１状態から前記第２状態へ変化するときに、互いに近づくように折れ曲がる、請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
１対の前記可動演出部は、前記第１状態において表示部を縁取るように配置される、請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の手段は、可動役物装置を備えた遊技機において、前記可動役物装置は、固定ベースに支持されて第１位置と第２位置との間を移動可能な支持ベースと、前記支持ベースに回転可能に支持されると共に、互いに回転自在に連結された１対の可動体を含む可動演出部と、前記１対の可動体のうち互いの連結部分から離れた部位同士の距離を変化させることで、前記可動演出部を、前記１対の可動体が直線状に配置される第１状態と、前記１対の可動体が折れ線状に配置される第２状態と、に変化させる可変機構と、を有し、前記可変機構は、前記固定ベースに設けられて、前記可動体の回転軸に略平行であって前記支持ベースの移動方向に対して傾斜する傾斜ガイド面と、前記１対の可動体のうち少なくとも一方の可動体に設けられ、前記支持ベースが移動したときに前記傾斜ガイド面に摺接して該一方の可動体をその回転軸を中心にして回転させる摺接部と、を有する、遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月15日(2021.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動役物装置を備えた遊技機において、
前記可動役物装置は、
前後方向に沿った回動軸を中心に第１回動位置から第２回動位置へと回動する回動部材と、
前記回動部材に搭載されて、前記第１回動位置から前記第２回動位置へと回動しながら前記回動部材に対して移動する進退部材と、
前記進退部材に搭載されて、前記第１回動位置から前記第２回動位置へと回動しながら前記回動部材に対して移動しつつ、さらに、前記進退部材に対して移動する突出部材と、を備える遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１の手段は、可動役物装置を備えた遊技機において、前記可動役物装置は、前後方向に沿った回動軸を中心に第１回動位置から第２回動位置へと回動する回動部材と、前記回動部材に搭載されて、前記第１回動位置から前記第２回動位置へと回動しながら前記回動部材に対して移動する進退部材と、前記進退部材に搭載されて、前記第１回動位置から前記第２回動位置へと回動しながら前記回動部材に対して移動しつつ、さらに、前記進退部材に対して移動する突出部材と、を備える遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月14日(2021.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が流下可能な遊技領域を前面側に形成する遊技盤と、
前記遊技盤の前面から突出する前進位置と該前進位置よりも突出が抑えられた後退位置との間を移動可能であって、前記前進位置に配置された状態で横方向の一方側に遊技球を転動させるように形成された可動体と、
前記可動体に対し横方向の一方側に配置されて、前記前進位置に配置された前記可動体の上を転動してきた遊技球を受け入れ可能な入球口と、を備え、
前記可動体には、前記後退位置に配置された状態で前記入球口を遮って入球を規制する一方で前記前進位置に配置された状態で前記入球口から外れる進入規制部が備えられていて、
側方から見て前記入球口と重ならない位置に、前記可動体が前記前進位置から前記後退位置へ移動するときに、前記進入規制部と前記遊技盤の前面との間に挟まれる遊技球に当接して該遊技球を横方向にずらす球当接部を備えた、遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するためになされた請求項１の発明は、遊技球が流下可能な遊技領域を前面側に形成する遊技盤と、前記遊技盤の前面から突出する前進位置と該前進位置よりも突出が抑えられた後退位置との間を移動可能であって、前記前進位置に配置された状態で横方向の一方側に遊技球を転動させるように形成された可動体と、前記可動体に対し横方向の一方側に配置されて、前記前進位置に配置された前記可動体の上を転動してきた遊技球を受け入れ可能な入球口と、を備え、前記可動体には、前記後退位置に配置された状態で前記入球口を遮って入球を規制する一方で前記前進位置に配置された状態で前記入球口から外れる進入規制部が備えられていて、側方から見て前記入球口と重ならない位置に、前記可動体が前記前進位置から前記後退位置へ移動するときに、前記進入規制部と前記遊技盤の前面との間に挟まれる遊技球に当接して該遊技球を横方向にずらす球当接部を備えた、遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月8日(2020.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、装置本体と、前記装置本体から上方に延びる前脚部および後脚部と、前記前脚部と前記後脚部の間を撮像光学系の光軸に略平行に接続する把持部と、を有するハンドルと、撮像光学系の光軸方向における前記ハンドルの前方に前記ハンドルと一体に形成される前方部と、前記前方部に対して第１回転軸部を介して略水平方向に回動可能に支持される表示ユニットと、を備え、前記前脚部の側面には、第１の外部機器が接続されるコネクタが設けられていることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体と、
前記装置本体から上方に延びる前脚部および後脚部と、前記前脚部と前記後脚部の間を撮像光学系の光軸に略平行に接続する把持部と、を有するハンドルと、
撮像光学系の光軸方向における前記ハンドルの前方に前記ハンドルと一体に形成される前方部と、
前記前方部に対して第１回転軸部を介して略水平方向に回動可能に支持される表示ユニットと、を備え、
前記前脚部の側面には、第１の外部機器が接続されるコネクタが設けられていることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記コネクタは、前記表示ユニットよりも下側で、かつ下側に向かうにつれて所定の角度だけ内側に傾斜した前記側面に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第１の外部機器は、外付けマイクであることを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記表示ユニットは、前記光軸に略平行な収納状態と表示面が視認できる少なくとも二つの使用状態との間で前記第１回転軸部を中心として回動可能に支持され、前記使用状態において前記第１回転軸部に略直交する第２回転軸部を中心として回動可能に支持されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記表示ユニットの先端部は、前記収納状態において、前記コネクタより後側に配置されていることを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記前方部には、前記第１回転軸部と前記第２回転軸部を有するヒンジが固定され、
前記ヒンジおよび前記表示ユニットの上方を覆う上側ユニットをさらに備えることを特徴とする請求項４又は５に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記上側ユニットは、前記第１回転軸部と略同一軸の開口部を有し、前記ヒンジには、前記開口部に係合する凸部が前記第１回転軸部と略同一軸上に設けられており、前記凸部には、前記開口部より外形の大きいフランジ部材が連結されていることを特徴とする請求項６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記上側ユニットは、前記凸部に設けられるフレーム板金を有することを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記表示ユニットと前記上側ユニットとの間には、所定のクリアランスが設けられていることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記ヒンジと前記上側ユニットの間において、最も近接している箇所には、他の部材に比べて摺動抵抗の低い部材が設けられていることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記把持部の後側に回動可能に取り付けられた電子ビューファインダおよび前記把持部に設けられた第２の外部機器の取り付け部を有し、
樹脂の材料で形成された前記把持部に対して、金属の材料で形成された前記取り付け部が前記電子ビューファインダの回動軸を保持する部材と共に固定されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記第２の外部機器は、画像表示装置であることを特徴とする請求項１１に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記取り付け部は、前記第２の外部機器が前記把持部を把持する際の妨げにならない位置に配置されていることを特徴とする請求項１１又は１２記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記取り付け部は、前記把持部の外観面を形成する部材とともに固定されていることを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記把持部には、前記電子ビューファインダの収納状態で前記電子ビューファインダの凸部が収納される凹部が設けられていることを特徴とする請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１６】
前記電子ビューファインダの凸部の内部には、少なくとも前記電子ビューファインダを制御する基板が配置されていることを特徴とする請求項１５に記載の撮像装置。
【請求項１７】
前記電子ビューファインダの回動軸の軸方向に負荷が加わった場合に、前記電子ビューファインダの凸部と前記把持部の前記凹部とが当接することを特徴とする請求項１５又は１６に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月27日(2021.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光板と位相差フィルムとが接着剤層を介して積層された円偏光板であって、
前記円偏光板は、その表面に粘着剤層を有し、
前記偏光板は、偏光子を有し、
前記位相差フィルムは、前記偏光板と前記粘着剤層との間に配置され、
前記位相差フィルムは位相差層を１層のみ含み、
前記位相差層は、重合性液晶化合物が硬化した層を含み、
前記位相差フィルムは、突刺し弾性率が１５ｇｆ／ｍｍ以上９０ｇｆ／ｍｍ以下であり、
前記円偏光板の形状は実質的に矩形であり、
前記偏光板において、前記偏光子の位相差フィルム側とは反対側の面に保護フィルムが積層されており、
前記保護フィルムは延伸フィルムであり、
前記保護フィルム延伸方向と円偏光板の短辺方向とが実質的に平行であり、
前記保護フィルムの延伸方向は前記偏光子の吸収軸に対して４５度であり、
前記突刺し弾性率は、先端径が１ｍｍφ、０．５Ｒであるニードルを用いて、突刺し速度が０．３３ｃｍ／秒である試験で測定される弾性率であり、当該試験は、直径１１ｍｍの円形の穴が開いた２枚の板の間に位相差フィルムを固定した状態で行われる円偏光板。
【請求項２】
偏光板と位相差フィルムとが接着剤層を介して積層された円偏光板であって、
前記円偏光板は、その表面に粘着剤層を有し、
前記偏光板は、偏光子を有し、
前記位相差フィルムは、前記偏光板と前記粘着剤層との間に配置され、
前記位相差フィルムは位相差層を２層のみ含み、
前記位相差層は、重合性液晶化合物が硬化した層を含み、
前記位相差フィルムは、突刺し弾性率が１５ｇｆ／ｍｍ以上１００ｇｆ／ｍｍ以下であり、
前記円偏光板の形状は実質的に矩形であり、
前記偏光板において、前記偏光子の位相差フィルム側とは反対側の面に保護フィルムが積層されており、
前記保護フィルムは延伸フィルムであり、
前記保護フィルム延伸方向と円偏光板の短辺方向とが実質的に平行であり、
前記保護フィルムの延伸方向は前記偏光子の吸収軸に対して４５度であり、
前記突刺し弾性率は、先端径が１ｍｍφ、０．５Ｒであるニードルを用いて、突刺し速度
が０．３３ｃｍ／秒である試験で測定される弾性率であり、当該試験は、直径１１ｍｍの円形の穴が開いた２枚の板の間に位相差フィルムを固定した状態で行われる円偏光板。
【請求項３】
前記偏光子は厚みが１５μｍ以下である請求項１または請求項２に記載の円偏光板。
【請求項４】
前記位相差フィルムの厚みが２５μｍ以下である請求項１〜請求項３のいずれかに記載の円偏光板。
【請求項５】
前記偏光子は、液晶化合物が硬化した層から形成される請求項１または請求項２に記載の円偏光板。
【請求項６】
請求項１〜５に記載の円偏光板と前面板とが接着層を介して積層された前面板付き円偏光
板。
【請求項７】
請求項１〜請求項５のいずれかに記載の円偏光板が、前記粘着剤層を介して、表示素子に積層されている表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４１】
［実施例４］（比較）
実施例２において、重合性液晶化合物が硬化した層の遅相軸が、偏光子の吸収軸に対し
て４５度であり、保護フィルムＡの延伸方向に対して０度になるように、保護フィルムＡ
を偏光子に貼り合わせたこと以外は、実施例２と同様にして円偏光板を作製し、評価用の
サンプルを作製した。このとき、保護フィルムＡの延伸方向は、長辺方向と平行であった
。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月10日(2021.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子の一方の面に積層される偏光子保護用ポリエステルフィルムであって、以下の要件（１）及び（２）を満たす偏光子保護用ポリエステルフィルム。
（１）偏光子の透過軸と平行な方向における、前記ポリエステルフィルムの収縮力Ｆｆが８００Ｎ／ｍ以上９０００Ｎ／ｍ以下である（ただし、収縮力Ｆｆ（Ｎ／ｍ）は、ポリエステルフィルムの厚み（ｍｍ）×弾性率（Ｎ／ｍｍ２）×８０℃・３０分処理の熱収縮率（％）÷１００×１０００である。ここで、弾性率は、偏光子の透過軸と平行な方向における、ポリエステルフィルムの弾性率であり、熱収縮率は、偏光子の透過軸と平行な方向における、ポリエステルフィルムの熱収縮率である。）
（２）偏光子の透過軸と平行な方向における、前記ポリエステルフィルムの収縮力Ｆｆと偏光子の吸収軸と平行な方向における、前記ポリエステルフィルムの収縮力Ｆｖの比（Ｆｆ/Ｆｖ）が２．５以上１２．０以下である（ただし、収縮力Ｆｖ（Ｎ／ｍ）は、ポリエステルフィルムの厚み（ｍｍ）×弾性率（Ｎ／ｍｍ２）×８０℃・３０分処理の熱収縮率（％）÷１００×１０００である。ここで、弾性率は、偏光子の吸収軸と平行な方向における、ポリエステルフィルムの弾性率であり、熱収縮率は、偏光子の吸収軸と平行な方向における、ポリエステルフィルムの熱収縮率である。）
【請求項２】
さらに以下の要件（３）を満たす、請求項１に記載の偏光子保護用ポリエステルフィルム。
（３）前記ポリエステルフィルムの熱収縮率が最大となる方向と偏光子の透過軸と平行な方向が略平行である
【請求項３】
前記ポリエステルフィルムが３０００〜３００００ｎｍのリタデーションを有する請求項１又は２に記載の偏光子保護用ポリエステルフィルム。
【請求項４】
前記ポリエステルフィルムの厚みが４０〜２００μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の偏光子保護用ポリエステルフィルム。
【請求項５】
前記ポリエステルフィルムの、偏光子が積層される面とは反対側の面に、ハードコート層、反射防止層、低反射層、防眩層、又は、反射防止防眩層を有する、請求項１〜４のいずれかに記載の偏光子保護用ポリエステルフィルム。
【請求項６】
偏光子の少なくとも一方の面に請求項１〜５のいずれかに記載の偏光子保護用ポリエステルフィルムを積層した偏光板。
【請求項７】
偏光子の一方の面に請求項１〜５のいずれかに記載の偏光子保護用ポリエステルフィルムが積層され、偏光子のもう一方の面にはフィルムを有しない偏光板。
【請求項８】
偏光板が長方形の形状であり、偏光板の長辺とその透過軸とが平行である、請求項６又は７に記載の偏光板。
【請求項９】
バックライト光源と、２つの偏光板の間に配された液晶セルとを有する液晶表示装置であって、前記２つの偏光板のうち少なくとも一方が請求項６又は７に記載の偏光板である、液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月4日(2021.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理容器と、
前記プラズマ処理容器内に配置され、基板載置領域を有するサセプタと、
前記サセプタの上方に配置される上部電極であり、前記サセプタと前記上部電極との間にプラズマ処理空間が規定され、前記上部電極は、内側電極と前記内側電極を取り囲む外側電極とを含み、前記外側電極は、前記内側電極から電気的に絶縁され、前記内側電極は、前記プラズマ処理空間に露出する内側露出面を有し、前記外側電極は、前記プラズマ処理空間に露出する外側露出面を有し、前記外側露出面の少なくとも一部は、前記内側露出面の上方に配置される、上部電極と、
前記外側電極に第１の可変直流電圧を印加する第１の直流給電部と、
を有する、プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記外側露出面は、径方向外向きのテーパ状突起を有する請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記内側露出面は、径方向内向きのテーパ状突起を有する請求項１または２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記外側電極を保持するクランプと、
前記クランプの下部および外側側面に隣接配置される接地ブロックと、
をさらに備える請求項１から３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記外側露出面は、前記内側露出面から約３ｍｍ高い環状面を有する請求項１から４のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記サセプタの前記基板載置領域上に載置された基板を取り囲むように配置される環状部材をさらに有し、
前記環状部材は、３６０ｍｍから３８０ｍｍの範囲内の外径を持つ請求項１から５のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記内側電極に第２の可変直流電圧を印加する第２の直流給電部をさらに備える請求項１から６のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
バイアス高周波電力を前記サセプタに印加するバイアス高周波給電部をさらに備える請求項１から７のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置を用いて、プラズマ処理時の電子密度のピークを、前記サセプタに載置された基板の外周上または外周よりも径方向外側に生じさせるプラズマ処理方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月18日(2021.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
ＩＣＰ−ＭＳにおいて、上述したようなコリジョンセルによる干渉イオンの除去は現在広く利用されているものの、次のような問題がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
コリジョンセル１１内にガスを供給し始めても、該ガスがコリジョンセル１１内に充満するまでには少し時間が掛かり、それまで実質的な分析を行うことはできない。この期間が分析準備期間である。制御部２２からの指示を受けた電圧制御部２１はこのとき、ＩＣＰイオン源５で生成される不所望のイオンが持つ初期エネルギよりも高い電位障壁がスキマー８と引込電極９との間に形成されるべく、引込電極９に所定電圧値の正の直流電圧を印加するように電圧発生部２０を制御する（ステップ１０３）。ここでいうＩＣＰイオン源５で生成される不所望のイオンとは、主として、ＩＣＰイオン源５で使用されるプラズマガス由来のイオンであり、プラズマガスがＡｒである場合、Ａｒ+、Ａｒ2+などである。この不所望のイオンが持つ初期エネルギはそれほど大きくないので、一般に、引込電極９に印加される電圧は＋数Ｖ程度である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
上述したように引込電極９に印加される直流電圧により、該引込電極９の近傍には、イオンと同極性の電場による電位障壁が形成される。ＩＣＰイオン源５で生成され、サンプリングコーン７のイオン通過口７０１及びスキマー８のイオン通過口８０１を経て第２真空室３に入ったプラズマガス等に由来するイオンは、上記電位障壁で堰き止められる。そのため、スキマー８と引込電極９との間の領域３１にはイオンが滞留し、イオンの密度が高くなる。ＩＣＰイオン源５からは、上記のようなイオンのみならず、プラズマガス由来の反応性中性粒子やプラズマガス分子も真空領域中に侵入しようとする。ところが、スキマー８と引込電極９との間の領域３１のイオン密度は高いため、スキマー８のイオン通過口８０１を通過した反応性中性粒子やガス分子はイオンに接触し易い。イオンに接触した反応性中性粒子やガス分子は軌道を変え、周囲の電極等に衝突して消滅したり或いは第２真空室３内から外部へ排出されたりする。そのため、反応性中性粒子やガス分子がコリジョンセル１１の入口にまで到達しにくくし、コリジョンセル１１の内部に入り込む反応性中性粒子やガス分子の量を減らすことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
例えばコリジョンモードでは、ＩＣＰイオン源５で生成された試料成分由来のイオンはプラズマガス由来の不所望のイオンとともに、コリジョンガスが充満されているコリジョンセル１１内に導入される。導入されたイオンはコリジョンガスと繰り返し衝突し、そのエネルギが減衰する。衝突断面積が大きなイオンほどコリジョンガスとの衝突の機会が多く、エネルギの減衰が大きい。通常、プラズマガス由来のイオンの衝突断面積は目的とする試料成分由来のイオンの衝突断面積よりも大きいため、プラズマガス由来のイオンのほうが運動エネルギが小さくなる。そのため、プラズマガス由来のイオンはコリジョンセル１１の出口に形成されている電位障壁を乗り越えにくい。こうして運動エネルギ弁別法によりプラズマガス等に由来する不要なイオンを除去して、主として試料成分のイオンを四重極マスフィルタ１６に送り込んで分析することができる。