【手続補正書】
【提出日】令和3年8月16日(2021.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、該製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルが基づいている対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルであって、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、前記対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルとの間の類似性を評価する方法であって、
該製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルを測定すること；
該製造された光学デバイスの該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルから1つの対象領域を認定することであって、該認定された対象領域の測定屈折力プロファイル及び/又は測定表面プロファイルが、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、前記認定すること；
半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する該対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルと、オフセットされた測定屈折力プロファイル及び／又はオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、対象領域全体に対して、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルへの1つのオフセットを判断すること；
該オフセット及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること；及び
該比較に少なくとも部分的に基づいて、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルが該予め定められた品質管理メトリクスを満たしているかどうかを判断すること
を含み、
該光学デバイスが、光学デバイスを製造するために一般に使用される高速製造ライン上で製造され、該方法が、製造状況の間に実質的にリアルタイムに行われる、前記方法。
【請求項２】
(i)前記測定屈折力プロファイル及び/又は前記測定表面プロファイルが、前記予め定められた品質管理メトリクスを満たしていない場合、前記製造された光学デバイスを、別の公称屈折力プロファイル、屈折力、及び/又は表面プロファイルと関連付けるかどうかを判断すること；
(ii)前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、スケールされ、かつ、オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール因子を、前記オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記オフセットされた測定表面プロファイルに適用すること、及び、該スケール因子、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること；及び/又は
(iii)前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、補正され、スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は補正され、スケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面補正又は傾き補正を、前記スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記スケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用すること；及び、回転、スケール因子、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること
をさらに含む、請求項1記載の方法。
【請求項３】
前記統計的数量子が、前記対象領域にわたって算出された差分二乗和である、請求項1又は2記載の方法。
【請求項４】
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、
(i)半コードに沿って少なくとも3、4、又は5つのピーク及び/又は谷を有し、
(ii)少なくとも2つの球面収差項を含み、かつ/又は
(iii) デフォーカス項及び少なくとも2つの球面収差項を含む、
請求項1〜3の1以上に記載の方法。
【請求項５】
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、
(a)少なくとも3つの球面収差項を含む、
(b)少なくとも4、5、6、7、又は8つの球面収差項を含む、
請求項1〜4の1以上に記載の方法。
【請求項６】
製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、該製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルが基づいている対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルであって、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、前記対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルとの間の類似性を評価するシステムであって、
該製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルを受信するためのインプット；及び
該製造された光学デバイスの測定屈折力プロファイル及び/又は測定表面プロファイルから1つの対象領域を認定し（ここで、該認定された対象領域の測定屈折力プロファイル及び/又は測定表面プロファイルは、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する）；
対象領域全体に対して該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルへの1つのオフセットを判断して、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する該公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルと、該オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にし；
該オフセット及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較し；及び
該比較に少なくとも部分的に基づいて、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルが該予め定められた品質管理メトリクスを満たすかどうかを判断するように構成されたプロセッサ
を含み、
該光学デバイスが、光学デバイスを製造するために一般に使用される高速製造ライン上で製造され、該比較が、製造状況の間に実質的にリアルタイムに行われる、前記システム。
【請求項７】
前記プロセッサが、
(i)前記測定屈折力プロファイル及び/又は前記測定表面プロファイルが、前記予め定められた品質管理メトリクスを満たしていない場合、前記製造された光学デバイスを、別の公称屈折力プロファイル、屈折力、及び/又は表面プロファイルと関連付けるかどうかを判断し；
(ii)前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール因子を、前記オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記オフセットされた測定表面プロファイルに適用し、該スケール因子、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較し；かつ/又は
(iii)前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、補正され、スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は補正され、スケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面補正又は傾き補正を、前記スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記スケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用し、回転、スケール因子、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較する
ようにさらに構成されている、請求項6記載のシステム。
【請求項８】
前記統計的数量子が、前記対象領域にわたって算出された差分二乗和である、請求項6又は7記載のシステム。
【請求項９】
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半コードに沿って少なくとも3、4、又は5つのピーク及び/又は谷を有する、請求項6〜8の1以上に記載のシステム。
【請求項１０】
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、
(a)少なくとも2つの球面収差項を含み、
(b)デフォーカス項及び少なくとも2つの球面収差項を含み、
(c)少なくとも3つの球面収差項を含み、かつ/又は
(d)少なくとも4、5、6、7、又は8つの球面収差項を含む、
請求項6〜9の1以上に記載のシステム。