【手続補正書】
【提出日】令和3年10月6日(2021.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学フィルタにおいて、
モノリシック基板と、
前記モノリシック基板の第１領域上に統合された第１成分フィルタであって、近赤外（ＮＩＲ）帯域通過フィルタを有し、約７００ｎｍ〜約１１００ｎｍまでのスペクトルレンジに関連付けられている、該第１成分フィルタと、及び
前記モノリシック基板の第２領域上に統合された第２成分フィルタであって、赤-緑-青（ＲＧＢ）帯域通過フィルタを有し、前記第１成分フィルタと前記第２成分フィルタとの間における離隔は約５０マイクロメートル（μｍ）未満である、該第２成分フィルタと、
を備えている、光学フィルタ。
【請求項２】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、さらに、
前記光学フィルタの遷移ゾーンに配置した吸収体であって、前記遷移ゾーンは前記第１成分フィルタ及び前記第２成分フィルタの端縁に位置する、該吸収体を備えている、光学フィルタ。
【請求項３】
請求項２記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタ及び前記第２成分フィルタは、前記吸収体と前記モノリシック基板との間に配置されている、光学フィルタ。
【請求項４】
請求項２記載の光学フィルタにおいて、前記吸収体は、前記第１成分フィルタと前記第２成分フィルタとの間に配置されている、光学フィルタ。
【請求項５】
請求項２記載の光学フィルタにおいて、前記吸収体は、前記第１成分フィルタと前記モノリシック基板との間、及び前記第２成分フィルタと前記モノリシック基板との間に配置されている、光学フィルタ。
【請求項６】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、さらに、
前記モノリシック基板の表面上に配置された反射防止コーティングであって、この配置は、前記モノリシック基板が、前記反射防止コーティングと前記第１成分フィルタとの間、及び前記反射防止コーティングと前記第２成分フィルタとの間に配置されるよう行われるものである、該反射防止コーティングを備える、光学フィルタ。
【請求項７】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記モノリシック基板は、ガラス基板又はシリカ基板である、光学フィルタ。
【請求項８】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタ及び前記第２成分フィルタは、スパッタ堆積手順を用いて前記モノリシック基板上に配置される、光学フィルタ。
【請求項９】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタ及び前記第２成分フィルタは、フォトリソグラフィ手順を用いて前記モノリシック基板上に配置される、光学フィルタ。
【請求項１０】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタは第１スペクトルレンジに関連付けられ、また前記第２成分フィルタは第２の異なるスペクトルレンジに関連付けられる、光学フィルタ。
【請求項１１】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第２成分フィルタは、約４００ｎｍ〜約７００ｎｍのスペクトルレンジに関連付けられる、光学フィルタ。
【請求項１２】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第２成分フィルタは、約４２０ｎｍ〜約６３０ｎｍのスペクトルレンジに関連付けられる、光学フィルタ。
【請求項１３】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタと前記第２成分フィルタとの間における離隔は約３０μｍ未満である、光学フィルタ。
【請求項１４】
光学系において、
入力光信号をフィルタ処理してフィルタ処理済み入力光信号を供給するよう構成された複数の成分フィルタを含む光学フィルタであって、
前記複数の成分フィルタは、２つ又はそれ以上のスペクトルレンジに関連付けられ、
前記複数の成分フィルタは、
１組のフィルタ層の第１セットと１組のフィルタ層の第２セットとを含む第１成分フィルタと、
１組のフィルタ層の第３セットと１組のフィルタ層の第４セットとを含む第２成分フィルタとを含み、
前記第１セットのフィルタ層または前記第２のセットのフィルタ層の少なくとも１つの層に関連付けられている第１厚さは、前記第３セットのフィルタ層または前記第４セットのフィルタ層の少なくとも１つの層に関連付けられている第２厚さとは異なっている、
該光学フィルタと、及び
前記フィルタ処理済み入力光信号を受光し、また出力電気信号を供給する光センサと、
を備える、光学系。
【請求項１５】
請求項１４記載の光学系において、前記フィルタ処理済み入力光信号は、２つ又はそれ以上のスペクトルレンジに対応する２つ又はそれ以上の成分フィルタ処理済み入力光信号を含む、光学系。
【請求項１６】
請求項１４記載の光学系において、前記出力電気信号は、
虹彩検出機能性、
虹彩認識機能性、又は
低光量セキュリティ写真機能性
のうち少なくとも１つを実施することに関連するものである、光学系。
【請求項１７】
帯域通過フィルタにおいて、
パターン形成した第１成分フィルタであって、
第１屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第１セット、
前記第１屈折率よりも小さい第２屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第２セット
を有する、該第１成分フィルタと、
パターン形成した第２成分フィルタであって、
第３屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第３セット、
前記第４屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第４セット
を有する、該第２成分フィルタと、
を備え、
前記第１成分フィルタは、約３０マイクロメートル（μｍ）未満の距離だけ前記第２成分フィルタから離隔し、
前記第２成分フィルタは赤-緑-青（ＲＧＢ）帯域通過フィルタを有し、
前記第１成分フィルタは第１帯域通過に関連付けられ、また前記第２成分フィルタは前記第１帯域通過とは異なる第２帯域通過に関連付けられており、
前記第１セットのフィルタ層または前記第２セットのフィルタ層の少なくとも１つに関連付けられている第１厚さは、前記第３セットのフィルタ層または前記第４セットのフィルタ層の少なくとも１つに関連付けられている第２厚さとは異なる、帯域通過フィルタ。
【請求項１８】
請求項１７記載の帯域通過フィルタにおいて、前記第１セットのフィルタ層、前記第２セットのフィルタ層、前記第３セットのフィルタ層、前記第４セットのフィルタ層、のうち少なくとも１つのフィルタ層は、
シリコンをベースとする材料、
水素化シリコンをベースとする材料、
ゲルマニウムをベースとする材料、
水素化ゲルマニウムをベースとする材料、
二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）材料、
酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）材料、
二酸化チタン（ＴｉＯ２）材料、
五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）材料、
五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）材料、又は
フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）材料、
のうちの１つである、帯域通過フィルタ。
【請求項１９】
請求項１７記載の帯域通過フィルタにおいて、前記第１セットのフィルタ層、前記第２セットのフィルタ層、前記第３セットのフィルタ層、前記第４セットのフィルタ層、のうち少なくとも１つのフィルタ層は、焼きなまし処理したものである、帯域通過フィルタ。
【請求項２０】
前記第１成分フィルタは、１つ又は複数の第１フィルタ層を含み、
前記第２成分フィルタは、１つ又は複数の第２フィルタ層を含み、
前記１つ又は複数の第１フィルタ層の少なくとも１つの層に関連付けられている第１厚さは、前記１つ又は複数の第２フィルタ層の少なくとも１つの層に関連付けられている第２厚さとは異なる、請求項１に記載の光学フィルタ。