Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月14日(2021.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
液体である作動流体が流通する内部通路（５２０）を有するハウジング（５２）と、
弁座部（５６０ｂ；５６６ｂ；１５６０ｂ）から離間して前記作動流体の流通を許可する開弁状態と閉弁状態とに切り換えるように前記内部通路を開閉し、開弁する方向に前記作動流体の圧力が作用する弁部（５５０ｂ；５５２ｂ；１５５０ｂ）と、
一部に前記弁部を有し、前記弁部の表面に研磨処理または切削処理が施されていない、プレス加工、鍛造、圧造、面押し、転造、鋳造のいずれかまたは組み合わせによって前記弁部とともに形成されたプランジャ（５５；１５５；２５５；３５５）と、
通電時に前記プランジャを軸方向に駆動する磁気力を発生するコイル部（５４０）と、
前記通電時に前記プランジャとともに磁気回路を形成し、前記弁座部を一部に備えて、前記弁部と接触する前記弁座部の表面に研磨処理または切削処理が施されていない、プレス加工、鍛造、圧造、面押し、転造、鋳造のいずれかまたは組み合わせによって形成されたヨーク（５６；１５６；２５６）と、
を備える流体制御弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記プランジャと前記ヨークとの間を磁束が通る磁気経路である第１経路（５６５，５５２；５５１，５６１；５５２，５６３ａ）と、
前記第１経路とは異なる部位において前記プランジャと前記ヨークとの間を磁束が通る磁気経路である第２経路（５５０，５６０；５５２，５６４；５５２，５６６；１５５０，１５６０）と、
を備え、
前記開弁状態における通電開始時は前記第１経路の方が前記第２経路よりも磁束が大きくなる磁気経路を形成し、通電中である前記閉弁状態では前記第２経路の方が前記第１経路よりも磁束が大きくなる磁気経路を形成する請求項１に記載の流体制御弁。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
液体である作動流体が流通する内部通路（５２０）を有するハウジング（５２）と、
弁座部（５６０ｂ；５６６ｂ；１５６０ｂ）から離間して前記作動流体の流通を許可する開弁状態と閉弁状態とに切り換えるように前記内部通路を開閉し、開弁する方向に前記作動流体の圧力が作用する弁部（５５０ｂ；５５２ｂ；１５５０ｂ）と、
一部に前記弁部を有し前記弁部とともに形成されて、軸方向に駆動されるプランジャ（５５；１５５；２５５；３５５）と、
通電時に前記プランジャを前記軸方向に駆動する磁気力を発生するコイル部（５４０）と、
前記弁部に対して前記軸方向に対向する位置に前記弁座部を備えて、前記通電時に前記プランジャとともに磁気回路を形成するヨーク（５６；１５６；２５６）と、
前記プランジャと前記ヨークとの間を磁束が通る磁気経路である第１経路（５６５，５５２；５５１，５６１；５５２，５６３ａ）と、
前記第１経路とは異なる部位において前記プランジャと前記ヨークとの間を磁束が通る磁気経路である第２経路（５５０，５６０；５５２，５６４；５５２，５６６；１５５０，１５６０）と、
を備え、
前記開弁状態における通電開始時は前記第１経路の方が前記第２経路よりも磁束が大きくなる磁気経路を形成し、通電中である前記閉弁状態では前記第２経路の方が前記第１経路よりも磁束が大きくなる磁気経路を形成する流体制御弁。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
開示された流体制御弁の一つは、液体である作動流体が流通する内部通路（５２０）を有するハウジング（５２）と、弁座部（５６０ｂ；５６６ｂ；１５６０ｂ）から離間して作動流体の流通を許可する開弁状態と閉弁状態とに切り換えるように内部通路を開閉し、開弁する方向に作動流体の圧力が作用する弁部（５５０ｂ；５５２ｂ；１５５０ｂ）と、
一部に弁部を有し、弁部の表面に研磨処理または切削処理が施されていない、プレス加工、鍛造、圧造、面押し、転造、鋳造のいずれかまたは組み合わせによって弁部とともに形成されたプランジャ（５５；１５５；２５５；３５５）と、通電時にプランジャを軸方向に駆動する磁気力を発生するコイル部（５４０）と、通電時にプランジャとともに磁気回路を形成し、弁座部を一部に備えて、弁部と接触する弁座部の表面に研磨処理または切削処理が施されていない、プレス加工、鍛造、圧造、面押し、転造、鋳造のいずれかまたは組み合わせによって形成されたヨーク（５６；１５６；２５６）と、を備える。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
開示された流体制御弁の一つは、液体である作動流体が流通する内部通路（５２０）を有するハウジング（５２）と、弁座部（５６０ｂ；５６６ｂ；１５６０ｂ）から離間して作動流体の流通を許可する開弁状態と閉弁状態とに切り換えるように内部通路を開閉し、開弁する方向に作動流体の圧力が作用する弁部（５５０ｂ；５５２ｂ；１５５０ｂ）と、一部に弁部を有し弁部とともに形成されて、軸方向に駆動されるプランジャ（５５；１５５；２５５；３５５）と、通電時にプランジャを軸方向に駆動する磁気力を発生するコイル部（５４０）と、弁部に対して軸方向に対向する位置に弁座部を備えて、通電時にプランジャとともに磁気回路を形成するヨーク（５６；１５６；２５６）と、プランジャとヨークとの間を磁束が通る磁気経路である第１経路（５６５，５５２；５５１，５６１；５５２，５６３ａ）と、第１経路とは異なる部位においてプランジャとヨークとの間を磁束が通る磁気経路である第２経路（５５０，５６０；５５２，５６４；５５２，５６６；１５５０，１５６０）と、を備え、開弁状態における通電開始時は第１経路の方が第２経路よりも磁束が大きくなる磁気経路を形成し、通電中である閉弁状態では第２経路の方が第１経路よりも磁束が大きくなる磁気経路を形成する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月13日(2021.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のマウントを備えるアクセサリを着脱できる撮像装置であって、
前記第１のマウントとの結合が可能な第２のマウントと、
当該第２のマウントの周方向に沿って配され、前記アクセサリに第１の電圧である駆動電源を供給する際に用いる第１の端子と、当該第１の端子と隣り合って配され、前記撮像装置に装着された前記アクセサリの種類に対応する電圧を示す第２の端子と、を含む前記アクセサリとの電気的な接続に用いる複数の端子と、前記第２の端子と接続されたポートを備え、当該ポートの状態を入力状態および出力状態へと設定でき、前記第２の端子が示す電圧を検出できる制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記第１の端子を用いて前記アクセサリに前記駆動電源を出力していない期間において、前記第２の端子が接続された前記ポートの状態が前記入力状態となるように制御することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記第１の端子を用いて前記アクセサリに前記駆動電源を出力している期間において、前記第２の端子が接続された前記ポートの状態が前記出力状態となるように制御することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第２の端子は、前記出力状態における電圧がローレベルの場合は前記入力状態よりもインピーダンスが低くなり、前記第１の端子を用いて前記アクセサリに前記駆動電源を出力している期間において、前記出力状態における電圧がローレベルとなることを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記制御部の耐圧は、前記第１の電圧よりも低いことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記第２の端子は、第１の抵抗値である素子を介して前記ポートに接続され、前記第１の抵抗値と異なる第２の抵抗値である素子を介して前記第１の電圧よりも低い第２の電圧を出力する電源部にプルアップ接続されていることを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記第２の端子は、前記第１の抵抗値である前記第１の素子および、第３の抵抗値である第３の素子を介して前記ポートに接続されており、
前記第３の抵抗値は、前記ポートに入力できる電流値の上限を超えないように、前記第１の抵抗値および前記第２の抵抗値に基づいて設定されることを特徴とする請求項５に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記第２の端子が接続された前記ポートの状態が前記入力状態である場合に、前記第２の端子に接続された前記ポートの電圧に基づいて、前記撮像装置に装着された前記アクセサリの種類を判別できることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記第１の端子を用いた前記駆動電源の供給が停止されてから所定時間が経過するまで、前記第２の端子が接続された前記ポートの状態が前記出力状態となるように制御することを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記所定時間は、少なくとも、前記第１の端子を用いた前記駆動電源の供給が停止された後に、前記第１の端子の電圧が前記第２の電圧よりも小さくなるまでに必要な時間以上であることを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記第２のマウントの中心軸と平行な方向に段差を形成する端子保持部を有し、
前記第１の端子と前記第２の端子は、前記端子保持部の第１の段に配されていることを特徴する請求項１乃至９の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記複数の端子は、前記第１の段とは異なる第２の段に、前記撮像装置に前記アクセサリが装着されたことを検出するのに用いる第３の端子を備え、
前記第１の段は、前記第２の段よりも、前記複数の端子のうちで保持する端子の数が少ないことを特徴とする請求項１０に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記第１の端子は、前記アクセサリの内部に設けられたアクチュエータを駆動するための駆動電源を供給するのに用いる端子であることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項１３】
第１のマウントを備えるアクセサリを着脱できる撮像装置であって、
前記第１のマウントとの結合が可能な第２のマウントは、
当該第２のマウントの周方向に沿って配され、前記アクセサリとの電気的な接続に用いる複数の端子とを有し、
前記複数の端子は、前記端子保持部の第１の段に、前記アクセサリに第１の電圧である駆動電源を供給する際に用いる第１の端子と、当該第１の端子と隣り合って配され、前記撮像装置に装着された前記アクセサリの種類に対応する電圧となる第２の端子と、を備え、
前記第２の端子は、第１の抵抗値である第１の素子および第２の抵抗値である第２の素子を介して入力ポートに接続され、前記第１の抵抗値とは異なる第３の抵抗値である第３の素子を介して前記第１の電圧よりも低い第２の電圧を出力する電源部にプルアップ接続されており、
前記第２の抵抗値は、前記入力ポートに入力できる電流値の上限を超えないように、前記第１の抵抗値および前記第３の抵抗値に基づいて設定されることを特徴とする撮像装置。
【請求項１４】
前記第２の抵抗値は、前記第２の端子から前記入力ポートに入力される電圧レベルに基づいて、前記撮像装置に装着された前記アクセサリの種類を判別できるように、前記第１の抵抗値に基づいて設定されることを特徴とする請求項１３に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記第２の素子は、前記入力ポートに接続される信号ラインにおいて、前記第１の素子よりも前記入力ポートに近い側に配されていることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の撮像装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５の何れか１項に記載の撮像装置に着脱できるアクセサリ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の撮像装置は、第１のマウントを備えるアクセサリを着脱できる撮像装置であって、前記第１のマウントとの結合が可能な第２のマウントと、当該第２のマウントの周方向に沿って配され、前記アクセサリに第１の電圧である駆動電源を供給する際に用いる第１の端子と、当該第１の端子と隣り合って配され、前記撮像装置に装着された前記アクセサリの種類に対応する電圧を示す第２の端子と、を含む前記アクセサリとの電気的な接続に用いる複数の端子と、前記第２の端子と接続されたポートを備え、当該ポートの状態を入力状態および出力状態へと設定でき、前記第２の端子が示す電圧を検出できる制御部と、を有し、前記制御部は、前記第１の端子を用いて前記アクセサリに前記駆動電源を出力していない期間において、前記第２の端子が接続された前記ポートの状態が前記入力状態となるように制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月23日(2021.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ズーム状態に応じて絞りユニットの絞り位置を制御する光学機器であって、
前記ズーム状態に応じて前記絞りユニットの目標絞り位置を設定する設定手段と、
前記絞りユニットの前記目標絞り位置までの残り駆動量に応じて、前記絞りユニットの駆動速度を制御する制御手段とを有することを特徴とする光学機器。
【請求項２】
前記制御手段は、前記残り駆動量が第１の値の場合は前記駆動速度を第１の速度とし、前記残り駆動量が前記第１の値よりも大きい第２の値の場合は前記駆動速度を前記第１の速度よりも絶対値が大きい第２の速度とすることを特徴とする請求項１に記載の光学機器。
【請求項３】
前記制御手段は、前記残り駆動量が所定値よりも大きいか否かを判断し、前記所定値よりも大きい場合は前記駆動速度を前記第２の速度とし、前記残り駆動量が前記所定値より小さい場合は前記駆動速度を前記第１の速度とすることを特徴とする請求項２に記載の光学機器。
【請求項４】
前記制御手段は、前記絞りユニットの駆動が前記ズーム状態の変更中に設定された前記目標絞り位置において停止しないように前記駆動速度を制御することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項５】
前記制御手段は、前記残り駆動量が同じ値であっても、前記ズーム状態のズーム領域に応じて前記駆動速度を異ならせることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の光学機器。
【請求項６】
前記ズーム状態が、第１ズーム領域と該第１ズーム領域よりも前記ズーム状態の単位変化量に対する前記目標絞り位置の変化量が小さい第２ズーム領域とで可変であり、
前記制御手段は、前記残り駆動量が同じ値であっても、前記ズーム状態が前記第１ズーム領域にある場合は前記第２ズーム領域にある場合に比べて前記駆動速度を絶対値が大きな速度に設定することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の光学機器。
【請求項７】
ズーム状態に応じて絞りユニットの絞り位置を制御する光学機器の制御方法であって、
前記ズーム状態に応じて前記絞りユニットの目標絞り位置を設定するステップと、
前記絞りユニットの前記目標絞り位置までの残り駆動量に応じて、前記絞りユニットの駆動速度を制御するステップとを有することを特徴とする光学機器の制御方法。
【請求項８】
ズーム状態に応じて絞りユニットの絞り位置を制御する光学機器のコンピュータに、請求項７に記載の制御方法に従う処理を実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面としての光学機器は、ズーム状態に応じて絞りユニットを制御する。該光学機器は、ズーム状態に応じて絞りユニットの目標絞り位置を設定する絞り位置設定手段と、絞りユニットの目標絞り位置までの残り駆動量に応じて、絞りユニットの駆動速度を制御する制御手段とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月8日(2021.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
胴体と、
前記胴体の前部に回転可能に装着されるカッタヘッドであって、開閉可能な開口部を有する前記カッタヘッドと、
前記胴体内に収容可能な補助掘削機と、
前記補助掘削機に取り付け可能な削孔装置と、
を備え、
開放された前記開口部から前記補助掘削機を前方に突き出した状態で、前記補助掘削機に取り付けられた前記削孔装置は地山を削孔可能である、トンネル掘削機。
【請求項２】
前記補助掘削機に取り付けられた前記削孔装置の、前記補助掘削機に対する向きを変更する削孔装置用向き変更手段を更に備える、請求項１に記載のトンネル掘削機。
【請求項３】
前記補助掘削機に取り付け可能な吹付装置を更に備え、
開放された前記開口部から前記補助掘削機を前方に突き出した状態で、前記補助掘削機に取り付けられた前記吹付装置から地山の掘削面にコンクリート又はモルタルを吹き付け可能である、請求項１又は請求項２に記載のトンネル掘削機。
【請求項４】
胴体の前部にカッタヘッドが回転可能に装着されたトンネル掘削機を用いるトンネルの施工方法であって、
前記カッタヘッドは、開閉可能な開口部を有し、
前記トンネル掘削機は、前記胴体内に収容可能な補助掘削機を備え、
前記施工方法は、開放された前記開口部から前記補助掘削機を前方に突き出した状態で、前記補助掘削機に取り付けられた削孔装置により地山を削孔する削孔工程を含む、
トンネルの施工方法。
【請求項５】
地山を第１の方向に削孔する場合と、地山を、前記第１の方向とは異なる第２の方向に削孔する場合とで、前記削孔装置の前記補助掘削機に対する取付向きが異なる、請求項４に記載のトンネルの施工方法。
【請求項６】
開放された前記開口部から前記補助掘削機を前方に突き出した状態で、前記補助掘削機に取り付けられた吹付装置から地山の掘削面にコンクリート又はモルタルを吹き付ける吹付工程を更に含む、請求項４又は請求項５に記載のトンネルの施工方法。
【請求項７】
胴体と、
前記胴体の前部に回転可能に装着されるカッタヘッドであって、開閉可能な開口部を有する前記カッタヘッドと、
前記胴体内に収容可能な腕体と、
前記腕体に取り付け可能な削孔装置と、
を備え、
開放された前記開口部から前記腕体を前方に突き出した状態で、前記腕体に取り付けられた前記削孔装置は地山を削孔可能である、トンネル掘削機。
【請求項８】
胴体の前部にカッタヘッドが回転可能に装着されたトンネル掘削機を用いるトンネルの施工方法であって、
前記カッタヘッドは、開閉可能な開口部を有し、
前記トンネル掘削機は、前記胴体内に収容可能な腕体を備え、
前記施工方法は、開放された前記開口部から前記腕体を前方に突き出した状態で、前記腕体に取り付けられた削孔装置により地山を削孔する削孔工程を含む、
トンネルの施工方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月1日(2021.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドナー数２６以上の非プロトン性溶媒と、カルボン酸ビニルエステル、反応及び／又は解繊促進添加剤と、を含む解繊溶液をセルロースに浸透させて、セルロースを解繊することを含むセルロース微細繊維の製造方法であって、前記反応及び／又は解繊促進添加剤が、下記式（１）で示される４級アンモニウム塩である製造方法：
Ｘ−（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）Ｎ＋−Ｒ４−Ｙ                （１）
（式中、Ｘ−は、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、炭酸イオン、水酸化物イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、テトラフルオロホウ素イオン及びヘキサフルオロホウ素イオンのいずれかを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数が１〜２４のアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ４は炭素数が１〜６のアルキレン基、ＹはＯＨ、ＳＨ又はＮＨ２を表す）。
【請求項２】
前記ドナー数２６以上の非プロトン性溶媒が、スルホキシド類、ピリジン類、ピロリドン類およびアミド類からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記反応及び／又は解繊促進添加剤の含有割合が、解繊溶液全体に対して０．１重量％〜２０重量％である請求項１又は請求項２に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち本発明は、以下の構成からなることを特徴とし、上記課題を解決するものである。
［１］  ドナー数２６以上の非プロトン性溶媒と、カルボン酸ビニルエステル、反応及び／又は解繊促進添加剤と、を含む解繊溶液をセルロースに浸透させて、セルロースを解繊することを含むセルロース微細繊維の製造方法であって、前記反応及び／又は解繊促進添加剤が、下記式（１）で示される４級アンモニウム塩である製造方法：
Ｘ−（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）Ｎ＋−Ｒ４−Ｙ                （１）
（式中、Ｘ−は、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、炭酸イオン、水酸化物イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、テトラフルオロホウ素イオン及びヘキサフルオロホウ素イオンのいずれかを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数が１〜２４のアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ４は炭素数が１〜６のアルキレン基、ＹはＯＨ、ＳＨ又はＮＨ２を表す）。
［２］  前記ドナー数２６以上の非プロトン性溶媒が、スルホキシド類、ピリジン類、ピロリドン類およびアミド類からなる群より選択される少なくとも１種である、前記［１］に記載の製造方法。
［３］  前記反応及び／又は解繊促進添加剤の含有割合が、解繊溶液全体に対して０．１重量％〜２０重量％である前記［１］又は前記［２］に記載の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
前記反応及び／又は解繊促進添加剤は、前記式（１）で表される４級アンモニウム系化合物からなる群より選択された少なくとも１種であってもよい。
前記反応及び／又は解繊促進添加剤は、前記式（１）で示される４級アンモニウム塩であれば特に限定されないが、Ｘ−が塩素イオン、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３がメチル基、Ｒ４は炭素数が２のアルキレン基、ＹはＯＨの化合物が好ましい。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月23日(2021.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
比較例２
３−メチル−３−ブテニル＝５−メチルヘキサノエート（Ｂ）２００ｍｇに、安定剤としてＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）及びＨＢＭＣＢＴ（２−(２'−ヒドロキシ−３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５'−メチルフェニル)−５−クロロベンゾトリアゾール）をそれぞれ２質量％含むように加え、混合物を調製した。実施例１と同様のチューブ状の容器に、前記混合物を前記チューブ状の容器の一端より注入した後、両端を高周波過熱しながら加圧して液体を封じ、溶接部分を切断して長さ２０ｃｍの徐放性フェロモン製剤Ｂを作製した。
これらを風速０．３ｍ／秒、温度２５℃を保った恒温槽に設置し、徐放性フェロモン製剤内部の混合物を放出させた。
３１日後、６１日後、９１日後の各日数経過後に徐放性フェロモン製剤を３本ずつ回収し、２，６−ジメチル−１，５−ヘプタジエン−３−イル＝アセテートの残存量を内部標準法／ガスクロマトグラム分析により、定量した。さらに、２，６−ジメチル−１，５−ヘプタジエン−３−イル＝アセテートの残存率（ａ）について、３本における平均値を算出した。結果を表１及び図４に示す。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月13日(2021.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者の発射操作により発射された遊技球が流下可能な遊技領域を有した遊技盤と、
外枠と、
前記外枠に対して開閉可能に設けられていると共に、前記遊技盤が取付けられる本体枠と、
を具備し、所定の遊技制御手段により遊技に関する制御が行われる遊技機において、
前記遊技領域に設けられた所定の入賞口への入賞に関する入賞情報と、前記遊技盤から排出される遊技球に関する排出情報とに基づいて、特定情報の表示制御を行う特定情報表示制御手段と、
前記本体枠に設けられ、前記遊技盤から排出される遊技球を検知可能なセンサ部と、
を備え、
前記排出情報は、前記遊技盤から排出された遊技球が前記センサ部を通過することで更新されるものであり、
前記本体枠から遊技球を排出する際には、前記外枠よりも後方に遊技球を放出可能であり、
当該遊技機に背面側には、前記特定情報が表示される特定表示部が設けられ、
前記本体枠から遊技球を排出する通路の出口部には、遊技球の落下方向を後方に変化させうる誘導片が形成され、
前記誘導片は、先端部分が前記出口部の開口辺のうち遊技機前方側の開口辺を形成するとともに後方に突出した形状とされる
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
遊技者の発射操作により発射された遊技球が流下可能な遊技領域を有した遊技盤と、
外枠と、
前記外枠に対して開閉可能に設けられていると共に、前記遊技盤が取付けられる本体枠と、
を具備し、所定の遊技制御手段により遊技に関する制御が行われる遊技機において、
前記遊技領域に設けられた所定の入賞口への入賞に関する入賞情報と、前記遊技盤から排出される遊技球に関する排出情報とに基づいて、特定情報の表示制御を行う特定情報表示制御手段と、
前記本体枠に設けられ、前記遊技盤から排出される遊技球を検知可能なセンサ部と、
を備え、
前記排出情報は、前記遊技盤から排出された遊技球が前記センサ部を通過することで更新されるものであり、
前記本体枠から遊技球を排出する際には、前記外枠よりも後方に遊技球を放出可能であり、
当該遊技機に背面側には、前記特定情報が表示される特定表示部が設けられ、
前記本体枠から遊技球を排出する通路の出口部には、前記センサ部を支持する所定の支持部材が設けられ、
前記支持部材は、前記出口部と共に前記外枠よりも後方に位置する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
この種の遊技機として、遊技盤を前方から着脱可能に保持していると共に払出装置が取付けられている本体枠において、遊技盤よりも下側の部位に、遊技盤から排出された遊技媒体（アウト球）を受取って遊技機外へ排出するものが知られている（例えば、特許文献１）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、従来の遊技機は、アウト球等の検知に関し、遊技機の信頼性が不十分で
あった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−２１２１２１号公報
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、本発明は、上記の実情に鑑み、遊技機の信頼性を高めることを課題とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記した目的を達成するために、本発明においては、
遊技者の発射操作により発射された遊技球が流下可能な遊技領域を有した遊技盤と、
外枠と、
前記外枠に対して開閉可能に設けられていると共に、前記遊技盤が取付けられる本体枠と、
を具備し、所定の遊技制御手段により遊技に関する制御が行われる遊技機において、
前記遊技領域に設けられた所定の入賞口への入賞に関する入賞情報と、前記遊技盤から排出される遊技球に関する排出情報とに基づいて、特定情報の表示制御を行う特定情報表示制御手段と、
前記本体枠に設けられ、前記遊技盤から排出される遊技球を検知可能なセンサ部と、
を備え、
前記排出情報は、前記遊技盤から排出された遊技球が前記センサ部を通過することで更新されるものであり、
前記本体枠から遊技球を排出する際には、前記外枠よりも後方に遊技球を放出可能であり、
当該遊技機に背面側には、前記特定情報が表示される特定表示部が設けられ、
前記本体枠から遊技球を排出する通路の出口部には、遊技球の落下方向を後方に変化させうる誘導片が形成され、
前記誘導片は、先端部分が前記出口部の開口辺のうち遊技機前方側の開口辺を形成するとともに後方に突出した形状とされる
ことを特徴とする。
また、遊技者の発射操作により発射された遊技球が流下可能な遊技領域を有した遊技盤と、
外枠と、
前記外枠に対して開閉可能に設けられていると共に、前記遊技盤が取付けられる本体枠と、
を具備し、所定の遊技制御手段により遊技に関する制御が行われる遊技機において、
前記遊技領域に設けられた所定の入賞口への入賞に関する入賞情報と、前記遊技盤から排出される遊技球に関する排出情報とに基づいて、特定情報の表示制御を行う特定情報表示制御手段と、
前記本体枠に設けられ、前記遊技盤から排出される遊技球を検知可能なセンサ部と、
を備え、
前記排出情報は、前記遊技盤から排出された遊技球が前記センサ部を通過することで更新されるものであり、
前記本体枠から遊技球を排出する際には、前記外枠よりも後方に遊技球を放出可能であり、
当該遊技機に背面側には、前記特定情報が表示される特定表示部が設けられ、
前記本体枠から遊技球を排出する通路の出口部には、前記センサ部を支持する所定の支持部材が設けられ、
前記支持部材は、前記出口部と共に前記外枠よりも後方に位置する
ことを特徴とする。
また、本発明とは別の発明として、以下の手段を参考的に開示する。
手段１：遊技機において、
「遊技媒体が打込まれることで遊技が行われる遊技領域と、
該遊技領域に遊技媒体を打込むために遊技者が操作可能なハンドルと、
該ハンドルの軸芯を中心として遊技者の手指を挿入可能な大きさで筒状に形成されており、外周面を貫通している少なくとも一つの切欠開口部を有するハンドルフードと
を具備している」ものであることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
本発明によれば、遊技機の信頼性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月31日(2021.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光コヒーレンストモグラフィを用いることにより得た被検眼の３次元画像データであって、前記被検眼の特定部位に相当する前記３次元画像データの一部である部分画像データを指定するための指定部と、
前記部分画像データを用いて前記３次元画像データに対して断面を設定する断面設定部と、を有し、
前記断面設定部は、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の端部を特定し、前記特定された端部に関する情報を用いて前記断面の向きを設定することを特徴とする光干渉断層撮影装置。
【請求項２】
前記断面設定部は、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の３つ以上の端部を特定し、前記特定された３つ以上の端部により形成される面の傾斜角度に関する情報を用いて、３次元における前記断面の向きを設定することを特徴とする請求項１に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項３】
前記断面設定部は、前記３次元画像データを解析することにより、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の端部を特定することを特徴とする請求項１または２に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項４】
前記断面設定部は、前記３次元画像データを解析することにより前記被検眼の視神経乳頭部を特定し、前記特定された視神経乳頭部に関する情報を用いて前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の端部を特定することを特徴とする請求項３に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項５】
前記断面設定部は、前記被検眼の正面画像の情報を用いて、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の端部を特定することを特徴とする請求項１または２に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項６】
前記断面設定部は、前記被検眼の正面画像の情報を用いて前記被検眼の視神経乳頭部を特定し、前記特定された視神経乳頭部に関する情報を用いて前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の端部を特定することを特徴とする請求項５に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項７】
前記設定された断面を表す断面像データを形成する形成部と、
前記断面像データに基づく画像を表示部に表示させる表示制御部と、
を更に有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項８】
前記指定部は、前記画像が前記表示部に表示されている状態において、ユーザの操作に応じて、前記断面の位置及び向きの少なくとも１つを変更することを特徴とする請求項７に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項９】
前記端部は、ブルッフ膜オープニングであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１０】
前記特定部位は、前記被検眼の篩状板であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１１】
前記指定部は、ユーザの操作に応じて、前記部分画像データを指定することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１２】
前記指定部は、前記３次元画像データを解析することにより、前記部分画像データを自動的に指定することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光干渉断層撮影装置。
【請求項１３】
光コヒーレンストモグラフィを用いることにより得た被検眼の３次元画像データの一部である部分画像データを用いて前記３次元画像データに対して断面を設定する断面設定部を有し、
前記断面設定部は、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の端部を特定し、前記特定された端部に関する情報を用いて前記断面の向きを設定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項１４】
前記断面設定部は、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の３つ以上の端部を特定し、前記特定された３つ以上の端部により形成される面の傾斜角度に関する情報を用いて、３次元における前記断面の向きを設定することを特徴とする請求項１３に記載の画像処理装置。
【請求項１５】
前記設定された断面を表す断面像データを形成する形成部と、
前記断面像データに基づく画像を表示部に表示させる表示制御部と、
を更に有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の画像処理装置。
【請求項１６】
光コヒーレンストモグラフィを用いることにより得た被検眼の３次元画像データの一部である部分画像データを用いて前記３次元画像データに対して断面を設定する工程を有し、
前記断面を設定する工程では、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の端部を特定し、前記特定された端部に関する情報を用いて前記断面の向きを設定することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１７】
前記断面を設定する工程では、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の３つ以上の端部を特定し、前記特定された３つ以上の端部により形成される面の傾斜角度に関する情報を用いて、３次元における前記断面の向きを設定することを特徴とする請求項１６に記載の画像処理方法。
【請求項１８】
前記設定された断面を表す断面像データを形成する工程と、
前記断面像データに基づく画像を表示部に表示させる工程と、
を更に有することを特徴とする請求項１６または１７に記載の画像処理方法。
【請求項１９】
請求項１６乃至１８のいずれか１項に記載の画像処理方法をコンピュータに実行させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る光干渉断層撮影装置の一つは、
光コヒーレンストモグラフィを用いることにより得た被検眼の３次元画像データであって、前記被検眼の特定部位に相当する前記３次元画像データの一部である部分画像データを指定するための指定部と、
前記部分画像データを用いて前記３次元画像データに対して断面を設定する断面設定部と、を有し、
前記断面設定部は、前記３次元画像データにおける前記被検眼の層境界の端部を特定し、前記特定された端部に関する情報を用いて前記断面の向きを設定する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月13日(2021.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者の発射操作により発射された遊技球が流下可能な遊技領域を有した遊技盤と、
外枠と、
前記外枠に対して開閉可能に設けられていると共に、前記遊技盤が取付けられる本体枠と、
を具備し、所定の遊技制御手段により遊技に関する制御が行われる遊技機において、
前記遊技領域に設けられた所定の入賞口への入賞に関する入賞情報と、前記遊技盤から排出される遊技球に関する排出情報とに基づいて、特定情報の表示制御を行う特定情報表示制御手段と、
前記本体枠に設けられ、前記遊技盤から排出される遊技球を検知可能なセンサ部と、
を備え、
前記排出情報は、前記遊技盤から排出された遊技球が前記センサ部を通過することで更新されるものであり、
前記本体枠から遊技球を排出する際には、前記外枠よりも後方に遊技球を放出可能であり、
前記特定情報は、所定のラムクリア操作が行われても消去されることなく保持される情報であり、
前記本体枠から遊技球を排出する通路の出口部には、遊技球の落下方向を後方に変化させうる誘導片が形成され、
前記誘導片は、先端部分が前記出口部の開口辺のうち遊技機前方側の開口辺を形成するとともに後方に突出した形状とされる
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
遊技者の発射操作により発射された遊技球が流下可能な遊技領域を有した遊技盤と、
外枠と、
前記外枠に対して開閉可能に設けられていると共に、前記遊技盤が取付けられる本体枠と、
を具備し、所定の遊技制御手段により遊技に関する制御が行われる遊技機において、
前記遊技領域に設けられた所定の入賞口への入賞に関する入賞情報と、前記遊技盤から排出される遊技球に関する排出情報とに基づいて、特定情報の表示制御を行う特定情報表示制御手段と、
前記本体枠に設けられ、前記遊技盤から排出される遊技球を検知可能なセンサ部と、
を備え、
前記排出情報は、前記遊技盤から排出された遊技球が前記センサ部を通過することで更新されるものであり、
前記本体枠から遊技球を排出する際には、前記外枠よりも後方に遊技球を放出可能であり、
前記特定情報は、所定のラムクリア操作が行われても消去されることなく保持される情報であり、
前記本体枠から遊技球を排出する通路の出口部には、前記センサ部を支持する所定の支持部材が設けられ、
前記支持部材は、前記出口部と共に前記外枠よりも後方に位置する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
この種の遊技機として、遊技盤を前方から着脱可能に保持していると共に払出装置が取付けられている本体枠において、遊技盤よりも下側の部位に、遊技盤から排出された遊技媒体（アウト球）を受取って遊技機外へ排出するものが知られている（例えば、特許文献１）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、従来の遊技機は、アウト球等の検知に関し、遊技機の信頼性が不十分で
あった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−２１２１２１号公報
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、本発明は、上記の実情に鑑み、遊技機の信頼性を高めることを課題とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記した目的を達成するために、本発明においては、
遊技者の発射操作により発射された遊技球が流下可能な遊技領域を有した遊技盤と、
外枠と、
前記外枠に対して開閉可能に設けられていると共に、前記遊技盤が取付けられる本体枠と、
を具備し、所定の遊技制御手段により遊技に関する制御が行われる遊技機において、
前記遊技領域に設けられた所定の入賞口への入賞に関する入賞情報と、前記遊技盤から排出される遊技球に関する排出情報とに基づいて、特定情報の表示制御を行う特定情報表示制御手段と、
前記本体枠に設けられ、前記遊技盤から排出される遊技球を検知可能なセンサ部と、
を備え、
前記排出情報は、前記遊技盤から排出された遊技球が前記センサ部を通過することで更新されるものであり、
前記本体枠から遊技球を排出する際には、前記外枠よりも後方に遊技球を放出可能であり、
前記特定情報は、所定のラムクリア操作が行われても消去されることなく保持される情報であり、
前記本体枠から遊技球を排出する通路の出口部には、遊技球の落下方向を後方に変化させうる誘導片が形成され、
前記誘導片は、先端部分が前記出口部の開口辺のうち遊技機前方側の開口辺を形成するとともに後方に突出した形状とされる
ことを特徴とする。
また、遊技者の発射操作により発射された遊技球が流下可能な遊技領域を有した遊技盤と、
外枠と、
前記外枠に対して開閉可能に設けられていると共に、前記遊技盤が取付けられる本体枠と、
を具備し、所定の遊技制御手段により遊技に関する制御が行われる遊技機において、
前記遊技領域に設けられた所定の入賞口への入賞に関する入賞情報と、前記遊技盤から排出される遊技球に関する排出情報とに基づいて、特定情報の表示制御を行う特定情報表示制御手段と、
前記本体枠に設けられ、前記遊技盤から排出される遊技球を検知可能なセンサ部と、
を備え、
前記排出情報は、前記遊技盤から排出された遊技球が前記センサ部を通過することで更新されるものであり、
前記本体枠から遊技球を排出する際には、前記外枠よりも後方に遊技球を放出可能であり、
前記特定情報は、所定のラムクリア操作が行われても消去されることなく保持される情報であり、
前記本体枠から遊技球を排出する通路の出口部には、前記センサ部を支持する所定の支持部材が設けられ、
前記支持部材は、前記出口部と共に前記外枠よりも後方に位置する
ことを特徴とする。
また、本発明とは別の発明として、以下の手段を参考的に開示する。
手段１：遊技機において、
「遊技者によって遊技が行われる遊技領域と、
該遊技領域が設けられており、島設備に取付けられる本体部材と、
該本体部材の前面を開閉可能に設けられており、前記遊技領域を前方から視認可能としている前部材と、
該前部材に設けられており、前端に鍵穴を有するシリンダ本体、該シリンダ本体の軸芯に対して偏芯した位置に設けられ、前記鍵穴に挿入された鍵を回転させると回転する伝達部を有しているシリンダ錠と、
前記本体部材に対して前記扉枠を閉じることで前記シリンダ錠の前記伝達部と係合して回転が伝達される被伝達部、及び該被伝達部の回転により少なくとも前記本体部材に対して前記前部材を開錠・施錠する鉤部を有しており、前記本体部材に設けられている施錠ユニットと
を具備している」ものであることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本発明によれば、遊技機の信頼性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月28日(2021.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ溶接システムにおいて複数のワークピースを溶接するために使用されるレーザ光強度の出力を決定する方法であって、方法は、
レーザバンクから複数のレーザ光送達バンドルを通してレーザ光源を方向付けるステップであって、複数のレーザ光送達バンドルの各々が、送達端を有する少なくとも１つのレーザ光送達光ファイバからなり、複数のレーザ光送達バンドルが、導波路を通して、溶接されるべき複数のワークピースに少なくともレーザ光送達光ファイバの送達端を通してレーザ光を送出するステップと、
複数の光センサファイバを配置するステップであって、各光センサファイバは、複数のレーザ送達バンドルのうちの１つと関連しており、各光センサファイバは、関連するセンサに接続され、かつ光センサファイバの入力端が、溶接されるべき複数のワークピースと、関連するレーザ送達バンドルの少なくとも１つのレーザ送達光ファイバの送達端との間に配置されるように、光センサファイバそれぞれは、少なくとも１つのレーザ光送達光ファイバの強度出力に関係がある、関連するレーザ光送達バンドルの少なくとも１つの送達光ファイバによって出力されたレーザ光を感知し、光センサファイバそれぞれは、感知されたレーザ光を、光センサファイバの遠位端に位置する関連するセンサに中継し、関連するセンサは、コントローラに強度出力のフィードバックを提供するように、各光センサファイバは配置される、ステップと
を含む、方法。
【請求項２】
各光センサファイバをレーザ光送達バンドルの端部までずっと光学的に遮蔽するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
レーザ溶接システムが、同時レーザ溶接システムである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
レーザ溶接システムが、直接送達レーザ溶接システムである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
レーザ溶接装置であって、
導波路を通して、溶接されるべき複数のワークピースにレーザ光源から複数のレーザ光送達バンドルを通してレーザ光を出力するためのレーザバンクであって、各レーザ光送達バンドルが少なくとも１つのレーザ光送達光ファイバからなり、少なくとも１つのレーザ光送達光ファイバは、導波路を通して複数のワークピースにレーザ光を送出する送達端を有する、レーザバンクと、
複数の光センサファイバであって、各光センサファイバは、複数のレーザ光送達バンドルのうちの１つと関連しており、光センサファイバそれぞれは、関連するセンサに接続され、かつ、光センサファイバの入力端が、溶接されるべき複数のワークピースと、関連するレーザ光送達バンドルの少なくとも１つのレーザ送達光ファイバの送達端との間に配置されるように、光センサファイバそれぞれは配置され、光センサファイバそれぞれは、少なくとも１つのレーザ光送達光ファイバの強度出力に関係がある、関連するレーザ光送達バンドルの少なくとも１つの送達光ファイバによって出力されたレーザ光を感知し、複数の光センサファイバのそれぞれは、感知されたレーザ光出力を、光センサファイバの遠位端に位置する関連するセンサに中継し、関連するセンサは、コントローラに強度出力のフィードバックを提供する、複数の光センサファイバと
を備える、レーザ溶接装置。
【請求項６】
複数の光センサファイバのそれぞれが、対応するレーザ光送達バンドルの送達端までずっと光学的に遮蔽される、請求項５に記載のレーザ溶接装置。
【請求項７】
レーザ溶接装置が、同時レーザ溶接装置である、請求項５に記載のレーザ溶接装置。
【請求項８】
レーザ溶接装置が、直接送達レーザ溶接装置である、請求項５に記載のレーザ溶接装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月27日(2021.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象の眼（４）を観察可能にする観察ビームパス（２）と、
検査対象の前記眼（４）の屈折を測定するための波面測定デバイス（１１）と、
ＯＣＴ照明ビームパスを含むＯＣＴデバイス（１０）であって、ＯＣＴ照明放射をＯＣＴスポットとして検査対象の前記眼（４）に集束させることができるＯＣＴデバイス（１０）と、
前記波面測定デバイス（１１）の少なくとも１つの測定値が供給される制御ユニット（３２）と、
を含み、
前記制御ユニット（３２）は、前記ＯＣＴスポットのビーム径及び／又はビーム形を、供給された前記少なくとも１つの測定値に基づき設定し、
前記制御ユニット（３２）は、前記ＯＣＴ照明放射に焦点外れ及び／又は変形が加えられるように前記ＯＣＴデバイス（１０）を作動させ、前記焦点外れ及び／又は変形は、検査対象の前記眼（４）によって生じる前記焦点外れ及び／又は変形とは逆である、
顕微鏡。
【請求項２】
前記波面測定デバイス（１１）は、検査対象の前記眼（４）の球面収差を測定する、請求項１に記載の顕微鏡。
【請求項３】
前記波面測定デバイス（１１）は、検査対象の前記眼（４）の非点収差を測定する、請求項１又は２に記載の顕微鏡。
【請求項４】
前記ＯＣＴデバイス（１０）は、前記ＯＣＴ照明放射をコリメートするためのコリメーション光学ユニット（２３）を含み、前記制御ユニット（３２）は、前記ＯＣＴスポットの前記ビーム径及び／又は前記ビーム形を設定する目的で前記コリメーション光学ユニット（２３）を作動させる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の顕微鏡。
【請求項５】
前記コリメーション光学ユニット（２３）は、軸方向に変位可能なレンズを含み、前記軸方向に変位可能なレンズの軸方向位置は、前記ＯＣＴスポットの前記ビーム径を設定する目的で前記制御ユニット（３２）により設定される、請求項４に記載の顕微鏡。
【請求項６】
前記コリメーション光学ユニット（２３）は液体レンズを含み、前記液体レンズは、前記ＯＣＴスポットの前記ビーム径及び／又は前記ビーム形を設定する目的で前記制御ユニット（３２）により作動される、請求項４又は５に記載の顕微鏡。
【請求項７】
前記コリメーション光学ユニット（２３）はアダプティブミラーを含み、前記制御ユニット（３２）は、前記アダプティブミラーを、前記ＯＣＴスポットの前記ビーム径及び／又は前記ビーム形を設定する目的で作動させる、請求項４〜６のいずれか一項に記載の顕微鏡。
【請求項８】
前記観察ビームパス（２）は主対物レンズ（５）を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の顕微鏡。
【請求項９】
前記主対物レンズは、前記ＯＣＴ照明ビームパスの一部及び／又は前記波面測定デバイスの検出ビームパスの一部である、請求項８に記載の顕微鏡。