Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月14日(2021.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車室外の空気である外気及び車室内の空気である内気を空調用空気として車室内に送風する車両用空調装置の送風ユニットであって、
少なくとも第１、第２空気通路（１２、１３）を含む複数の空気通路が内部に設けられた送風用ケーシング（１０、１１）と、
前記空気通路に外気を導入するために前記送風用ケーシングに設けられた外気導入口（１４）と、
前記空気通路に内気を導入するために前記送風用ケーシングに設けられた内気導入口（１５）と、
前記複数の空気通路のそれぞれに設けられ、前記外気導入口及び前記内気導入口を開閉する複数の内外気切替部材（１６、１７）と、
前記第１空気通路及び前記第２空気通路を分離する仕切り部材（２１）と、
を備え、
前記複数の内外気切替部材には、前記第１空気通路に設けられた第１内外気切替部材（１６）と、前記第２空気通路に設けられた第２内外気切替部材（１７）とが含まれており、
前記仕切り部材は、前記第１内外気切替部材及び前記第２内外気切替部材の間に設けられており、
前記第１内外気切替部材が前記外気導入口を開放するとともに前記内気導入口を閉鎖することで、前記第１空気通路に前記外気導入口から外気を導入し、前記第２内外気切替部材が前記外気導入口を閉鎖するとともに前記内気導入口を開放することで、前記第２空気通路に前記内気導入口から内気を導入する内外気２層モードを備えており、
前記仕切り部材には、少なくとも前記内外気２層モードにおいて、前記第１空気通路及び前記第２空気通路を連通させる開口部（２１ａ、２１ｂ）が形成されており、
前記内外気２層モードにおいて、
前記第１空気通路では、前記外気導入口から直接外気が導入され、さらに前記第２内外気切替部材によって前記外気導入口から前記第２空気通路への流入が制限された外気が前記仕切り部材の開口部を介して導入され、
前記第２空気通路では、前記内気導入口から直接内気が導入され、さらに前記第１内外気切替部材によって前記内気導入口から前記第１空気通路への流入が制限された内気が前記仕切り部材の開口部を介して導入される車両用空調装置の送風ユニット。
【請求項２】
前記仕切り部材と前記内外気切替部材との間には、前記第１空気通路に導入される外気と前記第２空気通路に導入される内気とを分離するシール構造（１６ｄ、１７ｅ、２１ｃ、２１ｅ）が設けられている請求項１に記載の車両用空調装置の送風ユニット。
【請求項３】
前記内外気２層モードにおいて、隣接する前記空気通路の並び方向から見て、前記第１内外気切替部材と前記第２内外気切替部材とが重なり合う重複部が存在しており、
前記仕切り部材における前記重複部に対応する部位には、前記開口部が設けられていない請求項１または２に記載の車両用空調装置の送風ユニット。
【請求項４】
車室外の空気である外気及び車室内の空気である内気を空調用空気として車室内に送風する車両用空調装置の送風ユニットであって、
少なくとも第１、第２空気通路（１２、１３）を含む複数の空気通路が内部に設けられ
た送風用ケーシング（１０、１１）と、
前記空気通路に外気を導入するために前記送風用ケーシングに設けられた外気導入口（１４）と、
前記空気通路に内気を導入するために前記送風用ケーシングに設けられた内気導入口（１５）と、
前記複数の空気通路のそれぞれに設けられ、前記外気導入口及び前記内気導入口を開閉する複数の内外気切替部材（１６、１７）と、
を備え、
前記複数の内外気切替部材には、前記第１空気通路に設けられた第１内外気切替部材（１６）と、前記第２空気通路に設けられた第２内外気切替部材（１７）とが含まれており、
前記第１内外気切替部材が前記外気導入口を開放するとともに前記内気導入口を閉鎖することで、前記第１空気通路に前記外気導入口から外気を導入し、前記第２内外気切替部材が前記外気導入口を閉鎖するとともに前記内気導入口を開放することで、前記第２空気通路に前記内気導入口から内気を導入する内外気２層モードを備えており、
前記内外気２層モードにおいて、前記第１内外気切替部材及び前記第２内外気切替部材が当接することで、前記第１内外気切替部材及び前記第２内外気切替部材の間に、前記第１空気通路に導入される外気と前記第２空気通路に導入される内気とを分離するシール構造（１６ｄ、１７ｅ）が形成され、
前記内外気２層モードにおいて、
前記第１空気通路では、前記外気導入口から直接外気が導入され、さらに前記第２内外気切替部材によって前記外気導入口から前記第２空気通路への流入が制限された外気が導入され、
前記第２空気通路では、前記内気導入口から直接内気が導入され、さらに前記第１内外気切替部材によって前記内気導入口から前記第１空気通路への流入が制限された内気が導入される車両用空調装置の送風ユニット。
【請求項５】
前記内外気切替部材は、回転軸（１６ａ、１７ａ）を中心に回動するロータリドアである請求項１ないし４のいずれか１つに記載の車両用空調装置の送風ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
送風用ケーシングには、少なくとも第１、第２空気通路（１２、１３）を含む複数の空気通路が内部に設けられている。外気導入口は、空気通路に外気を導入するために送風用ケーシングに設けられている。内気導入口は、空気通路に内気を導入するために送風用ケーシングに設けられている。複数の内外気切替部材は、複数の空気通路のそれぞれに設けられ、外気導入口及び内気導入口を開閉する。複数の内外気切替部材は、第１空気通路に設けられた第１内外気切替部材と、第２空気通路に設けられた第２内外気切替部材とを含んでいる。仕切り部材は、第１内外気切替部材及び第２内外気切替部材の間に設けられ、第１空気通路及び第２空気通路を分離する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
送風ユニットは、第１内外気切替部材が外気導入口を開放するとともに内気導入口を閉鎖することで、第１空気通路に外気導入口から外気を導入し、第２内外気切替部材が外気導入口を閉鎖するとともに内気導入口を開放することで、第２空気通路に内気導入口から内気を導入する内外気２層モードを備えている。仕切り部材には、少なくとも内外気２層モードにおいて、第１空気通路及び第２空気通路を連通させる開口部（２１ａ、２１ｂ）が形成されている。
内外気２層モードにおいて、第１空気通路では、外気導入口から直接外気が導入され、さらに第２内外気切替部材によって外気導入口から第２空気通路への流入が制限された外気が仕切り部材の開口部を介して導入される。第２空気通路では、内気導入口から直接内気が導入され、さらに第１内外気切替部材によって内気導入口から第１空気通路への流入が制限された内気が仕切り部材の開口部を介して導入される。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月25日(2021.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイス製造用Ｇｅ含有Ｃｏ膜を成膜させる為の材料であって、
下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とするＧｅ含有Ｃｏ膜形成材料。
Ｃｏ（ＣＯ）４Ｒ４Ｒ５Ｇｅ−Ｃｏ（ＣＯ）４  ・・・・・（２）
（ここで、一般式（２）中、Ｒ４、Ｒ５は各々独立して水素、非芳香族炭化水素基、またはハロゲン化非芳香族炭化水素基である。ただし、前記非芳香族炭化水素基は架橋非芳香族炭化水素基を除き、前記ハロゲン化非芳香族炭化水素基は架橋ハロゲン化非芳香族炭化水素基を除く。）
【請求項２】
前記一般式（２）で表される化合物が、ＮＭｅ３、ＮＥｔ３、ＮｉＰｒ３、ＮＭｅＥｔ２、ＮＣ５Ｈ５、ＯＣ４Ｈ８、Ｍｅ２Ｏ、Ｅｔ２Ｏ、Ｅｔ２Ｓ、ｎＰｒ２ＳおよびｎＢｕ２Ｓからなる群より選択される１つまたは２つの中性付加物リガンドをさらに含む、請求項１に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜形成材料。
【請求項３】
前記一般式（２）で表される化合物であり、Ｒ４及びＲ５が、各々独立して炭素数が１以上４以下の炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基である、請求項１または請求項２に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜形成材料。
【請求項４】
前記一般式（２）で表される化合物が、Ｃｏ（ＣＯ）４Ｅｔ２Ｇｅ−Ｃｏ（ＣＯ）４である、請求項３に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜形成材料。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜形成材料を、ＣＶＤ法またはＡＬＤ法により堆積させて成膜された、Ｇｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項６】
ＧｅとＣｏとの組成比がＧｅ：Ｃｏ＝１：９９〜９９：１である、請求項５に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項７】
膜厚が０．１ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、請求項５または請求項６に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項８】
バルク抵抗値が６μΩ・ｃｍ以上３００μΩ・ｃｍ以下である、請求項５ないし請求項７のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項９】
表面粗度（ＲＭＳ）が０．０１ｎｍ以上１５ｎｍ以下である、請求項５ないし請求項８のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項１０】
少なくとも１つの凹部を有する基板上に成膜された場合において、前記基板の表面の膜厚に対する、前記凹部の内壁面または内底面の膜厚の比が０．２以上１．１以下である、請求項５ないし請求項９のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項１１】
最小連続膜厚が１ｎｍ以上５ｎｍ以下である、請求項５ないし請求項１０のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項１２】
ＳｉまたはＧｅ基板上に配置されたＦｉｎＦＥＴトランジスタのソース／ドレイン領域に成膜された低抵抗コンタクト層である、請求項５ないし請求項１１のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項１３】
配線層のバリア層である、請求項５ないし請求項１１のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜。
【請求項１４】
請求項５ないし請求項１３のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜を含む半導体デバイス。
【請求項１５】
請求項１４に記載の半導体デバイスを含む、電子機器。
【請求項１６】
Ｇｅ含有Ｃｏ膜を成膜させる方法であって、
基板をチャンバーに導入する第一の工程と、
下記一般式（１）または下記一般式（２）で表されるＧｅ含有Ｃｏ膜形成材料を、前記Ｇｅ含有Ｃｏ膜形成材料の導入量を制御しながら前記基板が配置されたチャンバーに導入する第二の工程と、
前記Ｇｅ含有Ｃｏ膜を形成するように、前記Ｇｅ含有Ｃｏ膜形成材料の少なくとも一部を前記基板上に成膜させる第三の工程と、
を含むＧｅ含有Ｃｏ膜の成膜方法。
Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｇｅ−Ｃｏ（ＣＯ）４  ・・・・・（１）
（ここで、一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は各々独立して水素、非芳香族炭化水素基、ハロゲノ基またはハロゲン化非芳香族炭化水素基である。ただし、前記非芳香族炭化水素基は架橋非芳香族炭化水素基を除き、前記ハロゲン化非芳香族炭化水素基は架橋ハロゲン化非芳香族炭化水素基を除く。）
Ｃｏ（ＣＯ）４Ｒ５Ｒ６Ｇｅ−Ｃｏ（ＣＯ）４  ・・・・・（２）
（ここで、一般式（２）中、Ｒ５及びＲ６は各々独立して水素、非芳香族炭化水素基、ハロゲノ基またはハロゲン化非芳香族炭化水素基である。ただし、前記非芳香族炭化水素基は架橋非芳香族炭化水素基を除き、前記ハロゲン化非芳香族炭化水素基は架橋ハロゲン化非芳香族炭化水素基を除く。）
【請求項１７】
前記第三の工程が、化学蒸着（ＣＶＤ）、原子層成膜（ＡＬＤ）、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）、プラズマ強化原子層成膜（ＰＥＡＬＤ）、パルス化学蒸着（ＰＣＶＤ）、低圧化学蒸着（ＬＰＣＶＤ）、減圧化学蒸着（ＳＡＣＶＤ）、常圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）、空間的ＡＬＤ、ラジカル支援成膜、超臨界流体成膜、およびそれらの組合せからなる群より選択される、請求項１６に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜の成膜方法。
【請求項１８】
前記チャンバーに、アンモニア、水素、不活性ガス、アルコール、アミノアルコール、アミン、ＧｅＨ４、Ｇｅ２Ｈ６およびそれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも１種の添加ガスを導入する第四の工程をさらに含む、請求項１６または請求項１７に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜の成膜方法。
【請求項１９】
前記第三の工程が、０℃以上３５０℃以下の温度で行われる、請求項１６ないし請求項１８のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜の成膜方法。
【請求項２０】
前記チャンバー内の圧力が、０．０６Ｔｏｒｒ以上大気圧以下である、請求項１６ないし請求項１９のいずれか１項に記載のＧｅ含有Ｃｏ膜の成膜方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月15日(2021.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
携帯器から固有の識別情報を認証したときに、扉を制御する扉制御システムであって、
前記扉に対して少なくとも一方側に配置され、応答要求信号を送信し、該応答要求信号に応答した前記携帯器からの応答信号を受信する読取装置と、
前記応答信号の前記識別情報が正当か否かを認証する認証部と、
前記応答信号を認証した場合に前記扉を制御する扉制御部と、を備え、
前記応答要求信号を妨害する妨害信号を生成し、前記扉に対して少なくとも他方側で前記妨害信号を送信することを特徴とする扉制御システム。
【請求項２】
前記読取装置は、前記応答要求信号の送信を開始するための開始部を備えていて、
前記一方側の前記読取装置の前記開始部により開始が指示された場合、前記一方側の前記読取装置が前記応答要求信号の送信を開始すると共に、前記他方側で前記妨害信号の送信が開始されることを特徴とする請求項１に記載の扉制御システム。
【請求項３】
前記扉制御部は、前記扉に設けられた電気錠の施解錠を制御するように構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の扉制御システム。
【請求項４】
前記扉制御部は、前記扉の開閉を制御するように構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の扉制御システム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月2日(2020.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上述した特許文献１の流体制御バルブでは、弁体を回動させて入口側パイプと出口側パイプとの連通状態を切り替える際、前記弁体が常にパッキンに摺接した状態で動作する。そのため、例えば、弁体やパッキンの製造誤差や組付誤差等によって前記弁体とパッキンとが所定位置に対して若干だけ位置ずれしている場合、弁体の開閉動作の途中において、弁体の外周面と流量制御穴の端部との境界部である角部が前記パッキンのシール面へと当たり始める際、前記角部によってパッキンのシール面が削られてしまい摩耗が進行してしまうと同時にシール性の低下を招くという問題がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、導出部２２の内部には、その端部から収納室２４まで一直線状に延在する導出流路５６が形成され、本体部１８の第２開口３８と連通することで導出部２２と収納室２４とが連通している。そして、導出部２２の端部には図示しないチューブが接続され、導入部２０から収納室２４へと流れた流体が導出部２２の導出流路５６を通じて図示しない内燃機関等の冷却水回路へと排出される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
詳細には、ランド部４８ａに対して弁体１４のエッジ部６４が接触した場合でも、前記弁体１４がさらに回転することで外周面が前記ランド部４８ａに当接することで所定位置となり回転方向に沿って案内されることになるため、前記エッジ部６４によるシール面４６へのかじりを防止できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
以上のように、本実施の形態では、ボディ１２の収納室２４において弁体１４の摺接するシール部材４０を備え、このシール部材４０は、弾性材料から形成され弁体１４の摺接する環状のシール面４６と、該シール面４６に対して弁体１４の回転方向に沿った外側に形成され、且つ、前記シール面４６と断面同一曲面となるように形成されたランド部４８ａ、４８ｂとを有している。これにより、弁閉状態又は弁開状態から弁体１４を回転させる際、その回転途中において弁孔６２の端部に形成されたエッジ部６４がシール部材４０へと接触した場合でも、このエッジ部６４が、シール面４６より先にランド部４８ａ、４８ｂへと接触することになるため、該エッジ部６４による前記シール面４６に対するかじりが防止される。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月17日(2020.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両用懸架装置に用いられるスプリングにおいて、
ばね部を構成する金属製の線材と、
前記ばね部に作用する荷重を受けるゴム製のシート部と、
前記シート部に設けられ、前記線材を径方向一方側及び他方側から挟み込む弾性変形可能な第１挟持部及び第２挟持部とを備える懸架装置用スプリング。
【請求項２】
前記線材が接着剤にて前記シート部に仮固定されている請求項１に記載の懸架装置用スプリング。
【請求項３】
ばね部に作用する荷重を受けるゴム製のシート部において、
前記ばね部を構成する金属製の線材を径方向一方側及び他方側から挟み込む弾性変形可能な第１挟持部及び第２挟持部を備える懸架装置用スプリングシート部。
【請求項４】
当該シート部には、前記線材を仮固定可能な接着剤がある請求項３に記載の懸架装置用スプリングシート部。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月4日(2020.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両用懸架装置に用いられるスプリングにおいて、
ばね部を構成する金属製の線材であって、表面に被覆層が設けられた線材と、
前記ばね部に作用する荷重を受けるゴム製のシート部であって、接着剤にて前記被覆層に接着されたシート部とを備え、
前記シート部の硬度と前記接着剤の硬度との差は、前記接着剤の硬度と前記被覆層の硬度との差より大きい懸架装置用スプリング。
【請求項２】
前記ばね部はコイルばねであり、
前記シート部は、前記ばね部の座巻部に接着されている請求項１に記載の懸架装置用スプリング。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月18日(2021.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸線回りに回転する回転軸と、
該回転軸から径方向外側に向かって延びて、周方向に間隔をあけて複数が設けられた動翼と、
該動翼を径方向外側から囲むとともに、動翼の先端を収容するキャビティをなす凹部が形成されたケーシングと、
前記凹部の底部及び動翼の先端の一方から延びて他方との間でクリアランスを形成するシール部と、
前記キャビティ内に突出した突出位置と、前記ケーシング内に収容された収容位置との間で変位可能に、前記ケーシングに設けられた可変ブレーカと、
を備え、
前記ケーシングの凹部には、前記可変ブレーカを収容可能な収容溝が形成され、
前記可変ブレーカは、前記収容溝内に収容された状態である収容位置と、前記収容溝から径方向内側に突出した状態である突出位置との間で変位可能に支持されている回転機械。
【請求項２】
前記可変ブレーカは、前記軸線に対する径方向に延びる回動軸回りに回動可能である請求項１に記載の回転機械。
【請求項３】
前記可変ブレーカは、前記ケーシング内から前記キャビティ内に向かって前記軸線に対する径方向に進退動可能である請求項１に記載の回転機械。
【請求項４】
前記可変ブレーカは、前記ケーシング内から前記キャビティ内に向かって前記軸線方向に進退動可能である請求項１に記載の回転機械。
【請求項５】
前記ケーシングには前記軸線に対する径方向に延びる固定溝が形成され、前記可変ブレーカが前記突出位置にある時に、該可変ブレーカの少なくとも一部は前記固定溝によって周方向に変位不能に固定されている請求項３又は４に記載の回転機械。
【請求項６】
前記可変ブレーカは、前記軸線に対する周方向に等間隔をあけて複数設けられている請求項１から５のいずれか一項に記載の回転機械。
【請求項７】
前記回転軸の振動を検知する振動検知部と、
該振動検知部によって振動が検知された場合に前記可変ブレーカを前記突出位置に変位させるとともに、振動が検知されない場合には前記可変ブレーカを前記収容位置に変位させる制御装置と、
をさらに備える請求項１から６のいずれか一項に記載の回転機械。
【請求項８】
前記回転軸の振動を検知する振動検知部と、
該振動検知部によって振動が検知された場合に前記可変ブレーカを前記突出位置に変位させるとともに、振動が検知されない場合には前記可変ブレーカを前記収容位置に変位させる制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記回転軸の振動の強度に応じて、前記突出位置に変位させる前記可変ブレーカの個数を決定する請求項７に記載の回転機械。
【請求項９】
前記制御装置は、前記回転軸の振動の強度が高くなるに従って、前記収容位置から前記突出位置に変位させる前記可変ブレーカの個数を増加させ、かつ複数の前記可変ブレーカが周方向に等間隔となるように前記突出位置に変位させる請求項８に記載の回転機械。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の第一の態様によれば、回転機械は、軸線回りに回転する回転軸と、該回転軸から径方向外側に向かって延びて、周方向に間隔をあけて複数が設けられた動翼と、該動翼を径方向外側から囲むとともに、動翼の先端を収容するキャビティをなす凹部が形成されたケーシングと、前記凹部の底部及び動翼の先端の一方から延びて他方との間でクリアランスを形成するシール部と、前記キャビティ内に突出した突出位置と、前記ケーシング内に収容された収容位置との間で変位可能に、前記ケーシングに設けられた可変ブレーカと、を備え、前記ケーシングの凹部には、前記可変ブレーカを収容可能な収容溝が形成され、前記可変ブレーカは、前記収容溝内に収容された状態である収容位置と、前記収容溝から径方向内側に突出した状態である突出位置との間で変位可能に支持されている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月3日(2021.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
マニホールド１０は、タービンケーシング３１に固定されており、図２に示すように、タービン周方向に複数並設されたタービン静翼３２と、ディフューザ９との間に配置されている。マニホールド１０は、タービン軸４を中心としてタービン周方向に連続するリング状通路１０ａが形成されている。マニホールド１０は、リング状通路１０ａのタービン径方向内側がタービン周方向に連続して開放された開口部１０ｂを有しており、当該開口部１０ｂがディフューザ９における通路９ｂのタービン径方向外側端に連通するようにディフューザ９に連結されている。また、マニホールド１０は、リング状通路１０ａのタービン径方向外側がタービン径方向に貫通し、タービン周方向に複数並設された穴部１０ｃを有しており、当該穴部１０ｃが各タービン静翼３２に設けられた冷却通路３２ａに連通するように各タービン静翼３２のシュラウド部３２ｂに連結されている。冷却通路３２ａは、１つのタービン静翼３２の内部に複数形成され、タービン径方向内側のシュラウド部３２ｂにおいて１つの入口部３２ｂａにまとめられ、穴部１０ｃは、この入口部３２ｂａに連通するように形成されている。従って、マニホールド１０は、ディフューザ９によりタービン径方向外側に案内された圧縮空気Ｐの冷却空気をタービン周方向に案内しつつ各タービン静翼３２の冷却通路３２ａに供給する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2019157710.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月15日(2021.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
携帯器から固有の識別情報を認証したときに、扉を制御する扉制御システムであって、
前記扉に対して一方側に配置され、応答要求信号を送信し、該応答要求信号に応答した前記携帯器からの応答信号を受信する送受信装置と、
前記応答信号に含まれる前記識別情報が正当か否かを認証する認証部と、
前記応答信号を認証した場合に前記扉を制御する扉制御部と、
前記扉に対して他方側に向けて所定の通信信号を送信する送信装置と、を備え、
前記送受信装置及び前記送信装置の少なくとも一方は、背面側に信号抑制部材を備えることを特徴とする扉制御システム。
【請求項２】
前記所定の通信信号は、前記携帯器に前記応答要求信号を受信させないようにする信号であることを特徴とする請求項１に記載の扉制御システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月9日(2021.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタンまたはチタン合金からなる基材本体を有し、
この基材本体の表面に、化学式ＴｉｎＯ２ｎ−１（４≦ｎ≦１０）で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜が形成されており、
前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、Ｔｉ４Ｏ７及びＴｉ５Ｏ９の少なくも一方又は両方を含有し、
前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、ナノメートルオーダー又はマイクロメートルオーダーのポーラス構造を有することを特徴とするチタン基材。
【請求項２】
前記マグネリ相酸化チタン皮膜の膜厚が０．１μｍ以上３０μｍ以下の範囲内とされていることを特徴とする請求項１に記載のチタン基材。
【請求項３】
前記基材本体は、気孔率が３０％以上９７％以下の範囲内とされた多孔質体とされていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のチタン基材。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のチタン基材の製造方法であって、
チタンまたはチタン合金からなる基材本体の表面にＴｉＯ２皮膜を成膜するＴｉＯ２皮膜形成工程と、
前記基材本体の表面に形成されたＴｉＯ２皮膜をマイクロ波プラズマ還元法によって還元し、化学式ＴｉｎＯ２ｎ−１（４≦ｎ≦１０）で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜とする還元処理工程と、
を備えており、
還元処理工程は、基板温度４００℃以下、処理時間１５分以下の条件で実施することを特徴とするチタン基材の製造方法。
【請求項５】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のチタン基材からなることを特徴とする水電解用電極。
【請求項６】
２．５Ｖで１分保持及び０Ｖで１分保持を１サイクルとしたボルタンメトリー試験において、１２００サイクル後の電解効率が初期値に対して９０％以上であることを特徴とする請求項５に記載の水電解用電極。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に記載の水電解用電極を備えたことを特徴とする水電解装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような課題を解決して、前記目的を達成するために、本発明のチタン基材は、チタンまたはチタン合金からなる基材本体を有し、この基材本体の表面に、化学式ＴｉｎＯ２ｎ−１（４≦ｎ≦１０）で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜が形成されており、前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、Ｔｉ４Ｏ７及びＴｉ５Ｏ９の少なくも一方又は両方を含有し、前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、ナノメートルオーダー又はマイクロメートルオーダーのポーラス構造を有することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記マグネリ相酸化チタン皮膜が、特に導電性及び耐食性に優れたＴｉ４Ｏ７及びＴｉ５Ｏ９の少なくも一方又は両方を含有しているので、高電位、酸素存在、強酸性雰囲気等の過酷な腐食環境下において使用される通電部材として特に適している。
さらに、前記マグネリ相酸化Ｔｉ皮膜がポーラス構造を有するので、電極の比表面積がさらに向上し、電極の反応場を広く提供することが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年4月16日(2021.4.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品（１４）の導電性表面（１２）の電気的修正のための装置（１６）であって、
マスクパターン（２８）を有するステンシル（２６）と、
電解液を取り込むように構成されたリテーナであって、前記ステンシルと接合されているリテーナ（３０）と、
一体型アセンブリを形成するように前記ステンシル及び前記リテーナに接合された犠牲金属（２４）と
を備え、
前記犠牲金属（２４）は、前記装置（１６）の周囲で延在する連続的金属板であり、前記ステンシルが、（ａ）前記部品の前記導電性表面と接触し、且つ（ｂ）所定の極性を有する電力が前記犠牲金属と前記導電性表面との間に印加される際に、前記電解液と前記導電性表面との間で前記マスクパターンを通して電気的接触を確立するように、前記アセンブリ内に配置されている、装置。
【請求項２】
前記所定の極性が、前記犠牲金属（２４）に印加される際に負である、請求項１に記載の装置（１６）。
【請求項３】
前記所定の極性が、前記導電性表面（１２）に印加される際に負である、請求項１又は２に記載の装置（１６）。
【請求項４】
前記リテーナ（３０）が、吸着剤及び吸収性材料のうちの１つ又は複数である、請求項１から３のいずれか一項に記載の装置（１６）。
【請求項５】
前記ステンシル（２６）、前記リテーナ（３０）、及び前記犠牲金属（２４）が、非導電性フレーム（３２）によって機械的に接合されており、前記犠牲金属が、前記非導電性フレームの中に部分的に組み込まれ、前記犠牲金属の一部が、前記部品（１４）の前記導電性表面（１２）と接触するように、露出且つ配置されている、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置（１６）。
【請求項６】
部品（１４）の導電性表面（１２）の電気的修正のための方法であって、
マスクパターン（２８）を有するステンシル（２６）、電解液を支持するリテーナ（３０）、犠牲金属（２４）、並びに前記ステンシル、前記リテーナ、及び前記犠牲金属を一体型アセンブリとして共に保持する非導電性フレーム（３２）を含む電気的修正装置（１６）を設けること（５０）と、ここで前記犠牲金属（２４）は、前記装置（１６）の周囲で延在する連続的金属板であり、
前記装置の前記ステンシルを前記導電性表面と接触させること（５２）と、
所定の極性を有する電力を前記犠牲金属と前記導電性表面との間に印加することであって、前記ステンシルが、前記マスクパターンを通して前記電解液と前記導電性表面との間に電気的接触を確立する、印加すること（５４）と、
前記導電性表面の電解エッチング（５６）及び前記導電性表面上への金属の電着（５８）のうちの１つによって、前記導電性表面の電気的修正を可能にすることと
を含む方法。
【請求項７】
前記所定の極性が、前記犠牲金属（２４）に印加される際に負である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記所定の極性が、前記導電性表面（１２）に印加される際に負である、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記導電性表面（１２）が、金属表面、金属クラッド複合表面、複合部品の部分的に金属製の金属表面、及び複合部品の導電性表面のうちの１つ又は複数である、請求項６から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記部品（１４）が取り付けられている、請求項６から９のいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
部品１４の導電性表面１２は、電気的修正に対して感受性のある任意の種類の導電性表面であり得る。非限定的な可能性としては、導電性表面１２は、金属表面、金属クラッド複合表面、複合部品の部分的に金属製の表面、複合部品の導電性表面、或いは部品上の金属コーティング又は金属メッキであり得る。必須ではないが、導電性表面１２における金属の同一性は、犠牲金属２４における金属の同一性に適合する場合があり、或いは、さもなければ、導電性表面１２における金属は、犠牲金属２４内の金属と親和性のある酸化還元対を形成する金属を含む場合がある。非限定的な可能性として、導電性表面１２内の金属は、鋼、鉄、アルミニウム、銅、コバルト、ニッケル、チタン、亜鉛、又は前述の元素の合金を含み得る。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
条項３
導電性表面が金属クラッド複合表面である、条項１に記載の装置。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
条項８
リテーナが、吸着剤及び吸収性材料のうちの１つ又は複数である、条項１に記載の装置。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
条項１５
リテーナが、吸着剤及び吸収性材料のうちの１つ又は複数である、条項１２に記載の漕を用いない電気的修正システム。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
条項１６
導電性表面が、金属表面、金属クラッド複合表面、複合部品の部分的に金属製の表面、及び複合部品の導電性表面のうちの１つ又は複数である、条項１２に記載の漕を用いない電気的修正システム
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月12日(2021.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料、架橋ポリマー、及び水を含有する顔料水分散体であって、
架橋ポリマーがカルボキシ基を有するポリマーを多官能エポキシ化合物で架橋してなり、その酸価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、
カルボキシ基を有するポリマーがアクリル系ポリマーであり、
顔料水分散体中に、１，３，５−トリアジン−１，３，５−（２Ｈ，４Ｈ，６Ｈ）−トリス（エタノール）、１，３−ビス（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメチルヒダントイン、及びシス−１−（３−クロロアリル）−３，５，７−トリアザ−１−アゾニアアダマンタンクロリドから選ばれる１種以上のホルムアルデヒドを放出する化合物を含む、顔料水分散体。
【請求項２】
ホルムアルデヒドを放出する化合物の含有量が、顔料水分散体中、１００ｐｐｍ以上１５００ｐｐｍ以下である、請求項１に記載の顔料水分散体。
【請求項３】
顔料水分散体中の架橋ポリマーに対するホルムアルデヒドを放出する化合物の質量比（ホルムアルデヒドを放出する化合物／架橋ポリマー）が、０．００１以上０．０５以下である、請求項１又は２に記載の顔料水分散体。
【請求項４】
多官能エポキシ化合物のエポキシ当量が、１００以上３００以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の顔料水分散体。
【請求項５】
カルボキシ基を有するポリマーの架橋度が、５モル％以上４０モル％以下である、請求項１〜４のいずれかに記載の顔料水分散体。
【請求項６】
顔料と架橋ポリマーが、顔料を含有する架橋ポリマー粒子の形態で存在する、請求項１〜５のいずれかに記載の顔料水分散体。
【請求項７】
顔料水分散体中の水の含有量が、５０質量％以上９０質量％以下である。請求項１〜６のいずれかに記載の顔料水分散体。
【請求項８】
インクジェット記録用である、請求項１〜７のいずれかに記載の顔料水分散体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月30日(2021.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料、ポリマー、水溶性有機溶媒、及び水を含有するインクジェット記録用水系インクであって、
ポリマーが、（ａ）アクリル酸及びメタクリル酸から選ばれる１種以上のモノマー由来の構成単位と、（ｂ）疎水性ビニルモノマー由来の構成単位を含有するランダム共重合体又はブロック共重合体であって、その酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるカルボキシ基含有ポリマーであり、
水溶性有機溶媒が、多価アルコール及び多価アルコールアルキルエーテルから選ばれる１種以上の化合物を含み、多価アルコールと多価アルコールアルキルエーテルの合計量が、インク中、１８質量％以上であり、
ホルムアルデヒドを放出する化合物を含み、その含有量が、インク中、１３０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である、インクジェット記録用水系インク。
【請求項２】
ホルムアルデヒドを放出する化合物が、トリアジン化合物及びヒダントイン化合物から選ばれる１種以上の化合物である、請求項１に記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項３】
ホルムアルデヒドを放出する化合物が、１，３，５−トリアジン−１，３，５−（２Ｈ，４Ｈ，６Ｈ）−トリス（エタノール）、１，３−ビス（ヒドロキシメチル）−５，５−ジメチルヒダントイン、及びシス−１−（３−クロロアリル）−３，５，７−トリアザ−１−アゾニアアダマンタンクロリドから選ばれる１種以上の化合物である、請求項１又は２に記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項４】
沸点２５０℃以下の多価アルコールと多価アルコールアルキルエーテルの合計量が、インク中、１８質量％以上である、請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項５】
顔料とポリマーが、顔料を含有するポリマー粒子の形態である、請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項６】
カルボキシ基含有ポリマーのガラス転移温度が５０℃以上である、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項７】
カルボキシ基含有ポリマー中の［（ａ）アクリル酸及びメタクリル酸から選ばれる１種以上のモノマー由来の構成単位／（ｂ）疎水性ビニルモノマー由来の構成単位］の質量比が０．５以上２．０以下である、請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項８】
多価アルコールと多価アルコールアルキルエーテルの沸点（加重平均値）が、１５０℃以上２５０℃以下である、請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項９】
沸点が２５０℃を超える有機溶媒の含有量が、水溶性有機溶媒中、１０質量％未満である、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット記録用水系インク。
【請求項１０】
水系インク中の水溶性有機溶媒の含有量が、水と該水溶性有機溶媒との合計量に対して、１５質量％以上６０質量％以下である、請求項１〜９のいずれかに記載のインクジェット記録用水系インク。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月24日(2021.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学セルにおいて、金属窒化物を含む固体電解質を横切って窒化物イオン（Ｎ3-）を輸送するための方法であって、
前記電気化学セルが、
第１の触媒電極層と、
第２の触媒電極層と、
第１の触媒電極層及び第２の触媒電極層の間の前記固体電解質と、を含み、
前記方法が、
前記電気化学セルに電圧を印加することと、
窒素（Ｎ2）を第１の触媒電極層に提供することであって、前記窒素が、反応して窒化物イオンを第１の触媒電極層の表面で形成する、提供することと、
前記固体電解質を横切って窒化物イオンを輸送することと、を含み、
前記電気化学セルが、１５０℃〜２５０℃の範囲の温度で動作され、
前記窒素（Ｎ2）は、１ｂａｒ〜１０ｂａｒの範囲の圧力で提供され、
前記固体電解質が、窒化リチウムを含む、方法。
【請求項２】
第１の触媒電極層及び第２の触媒電極層のうちの少なくとも１つは、アルカリ促進ルテニウム触媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
金属窒化物電解質は、前記電気化学セル内でその場で形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記電気化学セルが、複数のセルを備える電気化学スタック内に配置される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
第１の触媒電極層及び第２の触媒電極層のうちの１つは、ルテニウム（Ｒｕ）触媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
第１の触媒電極層及び第２の触媒電極層のうちの１つは、ルテニウム（Ｒｕ）触媒を含まない、請求項５に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４９】
上に開示されるならびに他の特長及び機能の変形、またはそれらの代替は、多数の異なるシステムまたは用途に組み合わされてもよいことが理解されるであろう。それらにおける種々の現在予期されていないまたは予想外の代替、修正、変形、または改善が当業者によって引き続き行われてもよく、それらもまた、以下の特許請求の範囲によって包含されることが意図される。
次に、本発明のまた別の好ましい態様を示す。
１．  金属窒化物を含む固体電解質を横切って窒化物イオン（Ｎ3-）を輸送するための方法であって、
窒素を前記固体電解質の第１の側に提供することであって、前記窒素が、反応して窒化物イオンを形成する、提供することと、
前記固体電解質を横切って窒化物イオンを輸送することと、を含む、方法。
２．  前記金属窒化物が、リチウム（Ｌｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、ナトリウム（Ｎａ）、またはそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの金属を含む、上記１に記載の方法。
３．  前記固体電解質が、窒化リチウムを含む、上記１に記載の方法。
４．  少なくとも１つの窒素含有化合物を電気化学セル内に生成するための方法であって、
前記電気化学セルが、
固体電解質膜であって、金属窒化物を含み、窒化物イオンを輸送し得る、固体電解質膜を含み、
前記方法が、
前記膜の第１の側に窒素を提供することであって、前記窒素が、反応して窒化物イオン（Ｎ3-）を形成し、前記固体金属窒化物電解質が、窒化物イオン（Ｎ3-）を輸送する、提供することと、
前記膜の第２の側に反応物質を提供することであって、前記反応物質が、窒化物イオン（Ｎ3-）と反応して前記少なくとも１つの窒素含有化合物を形成する、提供することと、を含む、方法。
５．  前記電気化学セルが、複数のセルを備える電気化学スタック内に配置される、上記４に記載の方法。
６．  前記電気化学セルが、水素源及び窒素源を供給され、前記電気化学セルが、電源と一体化され、前記方法が、アンモニアを電気化学的に生成する、上記４に記載の方法。
７．  前記金属窒化物が、窒化リチウムであり、前記電気化学セルが、第１の触媒電極層及び第２の触媒電極層をさらに備え、前記第１の触媒電極層及び前記第２の触媒電極層のうちの少なくとも１つが、ルテニウム（Ｒｕ）触媒を含む、上記４に記載の方法。
８．  前記窒素が、前記膜の前記第１の側に第１の圧力または分圧で提供され、前記窒化物イオンが、前記膜の第２の側で反応して窒素（Ｎ2）を形成し、
前記方法が、窒素（Ｎ2）を、出口を通して第２の圧力または分圧で前記膜の第２の側から除去することをさらに含み、
前記第２の圧力または分圧が、前記第１の圧力または分圧よりも大きい、上記１に記載の方法。
９．  前記窒素が、前記膜の前記第１の側に、少なくとも１つの追加的なガスをさらに含むガス状混合物中で提供される、上記８に記載の方法。
１０．  窒化物イオン（Ｎ3-）を輸送するための電気化学システムであって、
金属窒化物を含み、窒化物イオンを輸送することが可能な固体電解質膜を備える、システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キカラスウリの植物抽出物を有効成分として含有する、筋肉活性化剤。
【請求項２】
筋肉活性化剤が筋肉増強剤又は筋肉減衰予防剤である、請求項１に記載の筋肉活性化剤。
【請求項３】
筋肉活性化剤が皮膚改善剤である、請求項１又は２に記載の筋肉活性化剤。
【請求項４】
前記植物抽出物の抽出部位が、葉、茎、根、果実、果皮、種子、種皮、地上部、地下部及び全草からなる群より選択される１種又は２種以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の筋肉活性化剤。
【請求項５】
前記植物抽出物の抽出溶媒が、水、メタノール、エタノール及び含水エタノールからなる群より選択される１種又は２種以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の筋肉活性化剤。
【請求項６】
前記植物の乾燥重量に対する前記抽出溶媒の重量比が、１：２〜１：３０である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の筋肉活性化剤。
【請求項７】
食品である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の筋肉活性化剤。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月19日(2021.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の設定項目について、人の指示により設定された設定値を記憶する記憶手段と、
情報処理装置から前記所定の設定項目の設定値を含む印刷設定を受信する受信手段と、
前記印刷設定に含まれる前記所定の設定項目の設定値と前記記憶手段に記憶された設定値とに基づく判定を行う判定手段と、
前記判定の結果に基づく情報を前記情報処理装置に送信する送信手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記送信手段は、前記印刷設定に含まれる前記所定の設定項目の設定値が前記記憶手段の記憶する設定値と異なるという前記判定に基づき、前記情報を前記情報処理装置に送信することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記情報は、受信した前記設定に基づく印刷を実行することができないことを示す情報であることを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記送信手段は、前記情報とともに前記記憶手段に記憶された前記所定の設定項目を示す情報を送信することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記送信手段は、前記情報と共に前記印刷設定に含まれる前記所定の設定項目の設定値を前記情報処理装置に送信することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記送信手段は、前記情報とともに前記印刷設定に含まれる設定値に代わる設定値を送信することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記受信手段は、前記印刷設定と前記印刷設定の検証要求を前記情報処理装置から受信することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記送信手段は、前記検証要求に対する応答として前記情報を前記情報処理装置に送信することを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記受信手段が受信した他の印刷設定に含まれる前記所定の設定項目の設定値が前記記憶手段に記憶された前記所定の設定項目の設定値と一致する場合、前記他の印刷設定が競合する設定値を含むか否かを判定する判定手段をさらに有し、
前記送信手段は、前記判定手段による判定の結果を前記情報処理装置に送信することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記送信手段は、前記他の印刷設定に競合する設定値が含まれない場合、前記他の印刷設定の検証が成功したことを前記情報処理装置に通知することを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記送信手段は、前記他の印刷設定に競合する設定値が含まれている場合、競合する設定項目を示す情報を前記情報処理装置に送信することを特徴とする請求項９または１０に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
前記送信手段は、前記他の印刷設定に含まれる前記競合する設定値に代わる設定値を送信しないことを特徴とする請求項１１に記載の画像形成装置。
【請求項１３】
前記情報を受信した前記情報処理装置から印刷データを受信する他の受信手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項１４】
前記記憶手段は、前記所定の設定項目の設定値とユーザの識別情報を対応づけて記憶し、
前記受信手段は、前記情報処理装置からユーザの識別情報を受信し、
前記判定手段は、受信した前記印刷設定に含まれる所定の設定項目の設定値と受信した前記ユーザの識別情報と対応づけて記憶された前記設定項目の設定値との比較に基づき前記判定を行うことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項１５】
前記所定の設定項目は、印刷のカラーモードに関する、両面印刷に関する設定、ページ集約設定のいずれかであることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項であることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項１６】
画像形成装置の制御方法であって、
所定の設定項目について、人の指示により設定された設定値を記憶する記憶工程と、
情報処理装置から前記所定の設定項目の設定値を含む印刷設定を受信する受信工程と、
前記印刷設定に含まれる前記所定の設定項目の設定値と前記記憶工程において記憶された設定値とに基づく判定を行う判定工程と、
前記判定の結果に基づく情報を前記情報処理装置に送信する送信工程と、
を有することを特徴とする画像形成装置の制御方法。
【請求項１７】
請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の各手段をコンピュータが実現するためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は上述の課題の少なくともひとつを鑑みてなされたものであり、所定の設定項目について、人の指示により設定された設定値を記憶する記憶手段と、情報処理装置から前記所定の設定項目の設定値を含む印刷設定を受信する受信手段と、前記印刷設定に含まれる前記所定の設定項目の設定値と前記記憶手段に記憶された設定値とに基づく判定を行う判定手段と、前記判定の結果に基づく情報を前記情報処理装置に送信する送信手段と、を有することを特徴とする画像形成装置である。