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【手続補正書】
【提出日】令和2年12月22日(2020.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
落下物を受け止めるために仮設足場に設置されるアサガオ装置であって、
仮設足場の外面に斜め上方に突き出すように設置される一対のガイドレールと、
一対のガイドレールによって挟まれて保持され、ガイドレールが延びる方向に沿って一列に配列される複数枚のパネルと、
一対のガイドレールの下端部に固定される下枠と、
一対のガイドレールの上端部に固定される上枠と、を備え、
ガイドレールの内側面には、複数枚のパネルを配列方向に沿ってスライド可能に保持する溝が形成されており、
各パネルは、パネル本体部と、パネル本体部の外周を囲む外枠部とを備え、外枠部がガイドレールの溝に保持される、アサガオ装置。
【請求項２】
各パネルの外枠部は、パネルの配列方向に対向する一対の辺に凹部を有し、上側の辺の凹部には把手が設けられており、下側の辺の凹部には、下側に隣接して配置されるパネルの把手が収容される、請求項１に記載のアサガオ装置。
【請求項３】
各パネルのパネル本体部は、平面視で矩形状であり、
各パネルの外枠部は、ガイドレールの溝に保持される一対の短辺と、短辺同士を接続する一対の長辺とを有する、請求項１に記載のアサガオ装置。
【請求項４】
各パネルの一対の長辺のうち、上枠に近い側の長辺には把手が設けられており、下枠に近い側の長辺には、隣接するパネルの把手を収容する凹部が設けられている、請求項３に記載のアサガオ装置。
【請求項５】
各パネルのパネル本体部は、パネルの配列方向に沿って波打った形状を有する、請求項１から４のいずれか１つに記載のアサガオ装置。
【請求項６】
上枠又は下枠と、ガイドレールとを固定する固定部材をさらに備える、請求項１から５のいずれか１つに記載のアサガオ装置。
【請求項７】
固定部材は、互いにＬ字状に形成されるとともにそれぞれが貫通孔を形成した一体的な第１の板部および第２の板部と、第１の板部の貫通孔に挿入される第１のボルトと、第２の板部の貫通孔に挿入される第２のボルトとを備え、
第１の板部は、上枠又は下枠に対して第１のボルトを介して固定され、第２の板部は、ガイドレールに対して第２のボルトを介して固定される、請求項６に記載のアサガオ装置。
【請求項８】
第２のボルトは、第１の直径を有する頭部と、第１の直径よりも短い第２の直径を有して第２の板部の貫通孔に挿通される軸部と、軸部に対して軸方向と交差するように挿通され第２の直径よりも長い挿通ピンとを有し、
第２の板部の貫通孔の直径は、頭部の第１の直径および挿通ピンの長さよりも短く、かつ、軸部の第２の直径よりも長く設定されている、請求項７に記載のアサガオ装置。
【請求項９】
ガイドレールの内側面におけるパネルを挿入する入口部分は、入口から奥に向かって狭くなるように傾斜した傾斜部を有する、請求項１から８のいずれか１つに記載のアサガオ装置。
【請求項１０】
仮設足場に落下物を受け止めるためのアサガオ装置を設置する方法であって、
パネル本体部とパネル本体部の外周を囲む外枠部とをそれぞれが備える複数枚のパネルを準備するステップと、
内側面に溝を形成した一対のガイドレールと、一対のガイドレールの下端部に固定された下枠とを準備するステップと、
複数枚のパネルを順に一対のガイドレールの溝に挿入してスライドさせ、ガイドレールが延びる方向に沿って一列に配列するステップと、
一対のガイドレールの上端部に上枠を固定するステップと、を含む、
アサガオ装置の設置方法。
【請求項１１】
パネルとして、各パネルの外枠部が、パネルの配列方向に対向する一対の辺に凹部を有し、上側の辺の凹部に把手が設けられたものを用い、
複数枚のパネルをスライドさせて配列するステップでは、各パネルの把手が、上側に隣接して配置されるパネルの外枠部における下側の辺の凹部に収容されるようにパネルを配置する、請求項１０に記載のアサガオ装置の設置方法。
【請求項１２】
パネルとして、各パネルのパネル本体部は、平面視で矩形状であり、各パネルの外枠部は、一対の短辺と、短辺同士を接続する一対の長辺とを有するものを用い、
複数枚のパネルをスライドさせて配列するステップでは、一対の短辺がガイドレールの溝に保持されるようにパネルをスライドさせる、請求項１０に記載のアサガオ装置の設置方法。
【請求項１３】
パネルとして、各パネルの一対の長辺のうち、上枠に近い側の長辺には把手が設けられており、下枠に近い側の長辺には凹部が設けられているものを用い、
複数枚のパネルをスライドさせて配列するステップでは、各パネルの把手が、上側に隣接して配置されるパネルの外枠部における下側の辺の凹部に収容されるようにパネルを配置する、請求項１２に記載のアサガオ装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月27日(2021.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
次に、画像形成装置１００による画像形成動作を説明する。画像形成開始信号が発せられると、所定のプロセススピードで回転駆動される各画像形成部１Ｙ，１Ｍ，１Ｃ，１Ｋの各感光ドラム２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｋは、それぞれ一次帯電器３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｋによって一様に負極性に帯電される。そして、レーザー露光装置７は、外部から入力されるカラー色分解された画像信号に従ってレーザー発光素子からレーザー光を出射する。レーザー光は、ポリゴンミラー及び反射ミラーを経由し各感光ドラム２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｋ上に各色の静電潜像を形成する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月17日(2021.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
コンピュータが、
研磨対象物を研磨可能な前記研磨装置を構成する機器の状態に関するデータ、および前記研磨対象物の状態に関するデータのうちの少なくとも１つを含む状態変数を取得する状態取得ステップと、
前記状態変数と、前記研磨対象物の膜厚の変化との関係をニューラルネットワークによって学習済みの学習部に、取得された前記状態変数を入力して前記変化を予測する、及びまたは取得された前記状態変数を入力して前記変化が異常であることを判断する推定ステップと、を実行することを特徴とする研磨方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８６】
以上、本発明の実施形態の例について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
以上説明したように、本発明は以下の形態を有する。
形態１
研磨対象物を研磨可能な研磨装置において、
前記研磨装置を構成する機器の状態に関するデータ、および前記研磨対象物の状態に関するデータのうちの少なくとも１つを含む状態変数を取得可能な状態取得部と、
前記状態変数と、前記研磨対象物の膜厚の変化との関係をニューラルネットワークによって学習済みであり、前記状態取得部から前記状態変数を入力されて前記変化を予測することができる、及びまたは前記状態取得部から前記状態変数を入力されて前記変化が異常
であることを判断可能である学習部と、を備えることを特徴とする研磨装置。
形態２
前記研磨装置を構成する機器の状態に関するデータは、前記機器の配置に関するデータ、前記機器の動作状態に関するデータ、および前記機器の消耗状態に関するデータのうちの少なくとも一つを含んでおり、
前記研磨対象物の状態に関するデータは、前記研磨対象物の膜厚を検出可能な膜厚検出部が検出するデータ、前記研磨対象物の温度を検出可能な温度検出部が検出するデータ、前記研磨対象物に加わる圧力を検出可能な圧力検出部が検出するデータ、および前記研磨対象物の特性に関するデータのうちの少なくとも一つを含んでいることを特徴とする形態１記載の研磨装置。
形態３
前記機器の配置に関するデータは、前記研磨対象物を保持可能なトップリングの位置に関するデータ、前記研磨対象物を研磨するための研磨パッドを回転可能な回転テーブルの位置に関するデータ、前記トップリングを保持するアームの位置に関するデータ、および前記研磨パッドのドレッシングを行うことが可能なドレッサの位置に関するデータのうちの少なくとも一つを含んでおり、
前記機器の動作状態に関するデータは、前記トップリングの回転数に関するデータ、および前記回転テーブルの回転数に関するデータのうちの少なくとも一つを含んでおり、
前記機器の消耗状態に関するデータは、前記研磨装置を構成する消耗品の使用時間に関するデータ、および前記消耗品の消費量に関するデータのうちの少なくとも一つを含んでおり、
前記研磨対象物の特性に関するデータは、前記研磨対象物の材質に関するデータ、ならびに前記研磨対象物が前記研磨装置によって研磨される前に有する膜厚および回路パターンに関するデータのうちの少なくとも一つを含んでいることを特徴とする形態２記載の研磨装置。
形態４
前記研磨装置は、前記研磨装置の異常の有無または異常の度合いを判定した判定データを取得する判定データ取得部を備え、
前記学習部は、前記状態変数および前記判定データの組合せに基づいて作成されるデータセットに基づいて、前記研磨対象物の膜厚の変化を学習可能であることを特徴とする形態１ないし３のいずれか１項に記載の研磨装置。
形態５
前記学習部は、前記状態取得部から前記状態変数を入力されて前記変化を学習可能であることを特徴とする形態１ないし４のいずれか１項に記載の研磨装置。
形態６
コンピュータが、
研磨対象物を研磨可能な前記研磨装置を構成する機器の状態に関するデータ、および前記研磨対象物の状態に関するデータのうちの少なくとも１つを含む状態変数を取得する状態取得ステップと、
前記状態変数と、前記研磨対象物の膜厚の変化との関係をニューラルネットワークによって学習済みの学習部に、前記状態取得部から前記状態変数を入力して前記変化を予測する、及びまたは前記状態取得部から前記状態変数を入力して前記変化が異常であることを判断する推定ステップと、を実行することを特徴とする研磨方法。
形態７
研磨装置が研磨可能な研磨対象物の膜厚の変化を学習可能な機械学習装置において、
前記研磨装置を構成する機器の状態に関するデータ、および前記研磨対象物の状態に関するデータのうちの少なくとも１つを含む状態変数を取得可能な状態取得部と、
前記状態変数と、前記研磨対象物の膜厚の変化との関係をニューラルネットワークによって学習済みであり、前記状態取得部から前記状態変数を入力されて前記変化を予測することができる、及びまたは前記状態取得部から前記状態変数を入力されて前記変化が異常
であることを判断可能である学習部と、を備えることを特徴とする機械学習装置。
形態８
研磨装置が研磨可能な研磨対象物の膜厚の変化を学習可能な機械学習装置において、
前記研磨装置を構成する機器の状態に関するデータ、および前記研磨対象物の状態に関するデータのうちの少なくとも１つを含む状態変数を取得可能な状態取得部と、
前記状態変数と、前記研磨対象物の膜厚の変化との関係をニューラルネットワークによって学習可能であり、前記状態取得部から前記状態変数を入力されて前記変化を学習することができる、及びまたは前記状態取得部から前記状態変数を入力されて前記変化が異常であることを学習することができる学習部と、を備えることを特徴とする機械学習装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月9日(2021.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板に、低抵抗領域を形成してｐｎ接合型の光電変換デバイスを作製する工程と、
前記第１の基板に、開口部を形成する工程と、
前記開口部に、第１の導電層を形成する工程と、
前記低抵抗領域、及び前記第１の導電層と重なる領域を有するように、絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上に、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、を、前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方が、前記低抵抗領域と電気的に接続され、前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方が、前記第１の導電層と電気的に接続されるように形成する工程と、
前記第１の基板を、前記第１の導電層が露出するように研磨する工程と、
前記第１の導電層と電気的に接続されるように、第２の導電層を形成する工程と、
前記第２の導電層と重なる領域を有するように、発光層を形成する工程と、
前記第２の導電層、及び前記発光層と重なる領域を有するように、第３の導電層を形成する工程と、を有し、
前記発光層は、赤外光を発する発光層と、可視光を発する発光層とを含む半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１のトランジスタ及び第２のトランジスタを形成した後に、前記第１の基板上の、前記第１のトランジスタ及び前記第２のトランジスタが形成されている面に、第２の基板を貼り合わせる半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第３の導電層を形成した後に、前記第１の基板上の、前記第３の導電層が形成されている面に、第３の基板を封止する半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第１のトランジスタ及び第２のトランジスタは、チャネル形成領域に金属酸化物を有し、
前記金属酸化物は、Ｉｎと、Ｚｎと、Ｍ（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ又はＨｆ）と、を有する半導体装置の作製方法。
【請求項５】
画素を有する半導体装置であって、
前記画素は、第１の層と、第２の層と、を有し、
前記第１の層は、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、を有し、
前記第２の層は、発光デバイスと、光電変換デバイスと、を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記発光デバイスの一方の電極と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記光電変換デバイスの一方の電極と電気的に接続され、
前記発光デバイスは、赤外光および可視光を発する機能を有し、
前記第１のトランジスタ及び第２のトランジスタは、チャネル形成領域に金属酸化物を有し、
前記金属酸化物は、Ｉｎと、Ｚｎと、Ｍ（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ又はＨｆ）と、を有する半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月13日(2021.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配置され、基板に近接している第１領域と、前記第１領域の前記基板側とは反対の面に配置されており、前記第１領域よりキャリア濃度が低い第２領域と、を含む酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層と重なる領域を有し、前記酸化物半導体層の前記基板側とは反対の面に配置された第１ゲート電極と、
前記第１ゲート電極と前記酸化物半導体層との間の第１絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記基板との間に配置され、前記酸化物半導体層と接する領域を含む第１酸化物導電層及び第２酸化物導電層と、
を有するトランジスタ。
【請求項２】
前記第１酸化物導電層及び前記第２酸化物導電層は、前記酸化物半導体層の前記第１領域と接する請求項１に記載のトランジスタ。
【請求項３】
前記基板と前記酸化物半導体層との間の第２絶縁層と、
前記酸化物半導体層及び前記第１ゲート電極と重なる領域を有し、前記第２絶縁層と前記基板との間に配置された第２ゲート電極と、
をさらに有する、請求項１または請求項２に記載のトランジスタ。
【請求項４】
前記第１ゲート電極のチャネル長方向の幅は、前記第２ゲート電極のチャネル長方向の幅より広い、請求項３に記載のトランジスタ。
【請求項５】
前記第１酸化物導電層及び前記第２酸化物導電層の一端は、前記第１ゲート電極と重畳する、請求項１乃至４の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項６】
前記酸化物半導体層は、前記第１領域の導電率が前記第２領域の導電率より高い請求項１乃至５の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項７】
前記酸化物半導体層は、前記第１領域のバンドギャップが前記第２領域のバンドギャッ
プより小さく、かつ前記第１領域の仕事関数が前記第２領域の仕事関数より大きい請求項１乃至６の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項８】
前記酸化物半導体層は、前記第１領域のキャリア移動度が前記第２領域のキャリア移動度より大きい請求項１乃至７の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項９】
前記酸化物半導体層は、前記第１領域の結晶化率が前記第２領域の結晶化率より小さく、前記第２領域の方が前記第１領域より還元されにくい請求項１乃至８の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項１０】
前記酸化物半導体層は、前記第１領域の膜厚が前記第２領域の膜厚より大きい請求項１乃至９の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項１１】
前記第１絶縁層は、前記酸化物半導体層と接する窒化シリコン膜と、前記窒化シリコン膜と接する酸化シリコン膜とを含む、請求項１乃至１０の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項１２】
前記第１絶縁層は、水素を含まないシリコン系材料を用いて形成される請求項１乃至１１の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項１３】
前記酸化物半導体層の材料は、ＩｎとＧａとＳｎを含む酸化物材料である請求項１乃至１２の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項１４】
前記第１酸化物導電層及び前記第２酸化物導電層はＳｎまたはＴｉを含む酸化物材料である請求項１乃至１２の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項１５】
前記第１酸化物導電層及び前記第２酸化物導電層は、前記第１ゲート電極と重なる領域を有し、
前記第２酸化物導電層は、少なくとも前記第１ゲート電極と重なる領域において、平面視で、Ｕ字状に湾曲されたパターンを有し、
前記第１酸化物導電層は、平面視で、前記Ｕ字状に湾曲されたパターンの内側に伸びる直線状のパターンを有する、請求項１乃至１４の何れか１項に記載のトランジスタ。
【請求項１６】
請求項１乃至１５の何れか１項に記載のトランジスタと、
前記トランジスタと電気的に接続される表示素子と、を少なくとも含む画素を有する表示装置。
【請求項１７】
前記表示素子は、
透光性を有する第１電極と、
前記第１電極に対向して配置される第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との間の発光層と、
前記発光層と前記第１電極との間の電子輸送層と、を含み、
前記第１電極は、前記第１酸化物導電層と電気的に接続される、請求項１６に記載の表示装置。
【請求項１８】
基板上に第１酸化物導電層及び第２酸化物導電層を形成し、
前記第１酸化物導電層及び前記第２酸化物導電層と接する第１領域と、前記第１領域の前記基板側とは反対の面に配置され、前記第１領域よりキャリア濃度が低い第２領域と、を含む酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層を覆うように第１絶縁層を形成し、
前記第１絶縁層上に配置され、前記酸化物半導体層と重なる領域を有する第１ゲート電極を形成すること、を含むトランジスタの製造方法。
【請求項１９】
前記酸化物半導体層の前記第１領域を、スパッタガスとして希ガスを用いたスパッタリング法により形成し、
前記酸化物半導体層の前記第２領域を、スパッタガスとして希ガス及び酸素ガスを用いたスパッタリング法により形成する、
請求項１８に記載のトランジスタの製造方法。
【請求項２０】
前記第２領域を形成する時の酸素分圧は、前記第１領域を形成する時の酸素分圧より大きい請求項１９に記載のトランジスタの製造方法。
【請求項２１】
前記スパッタリング法による成膜は、ＩｎとＧａとＳｎを含む酸化物材料のターゲットを用いて行う、請求項１９または２０に記載のトランジスタの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月23日(2020.12.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
差動信号およびシングルエンド信号が入力および／または出力される第１半導体装置と、
差動信号およびシングルエンド信号が入力および／または出力される第２半導体装置と、
前記第１半導体装置と前記第２半導体装置とを接続し、前記差動信号の伝送に用いられる第１信号配線及び第２信号配線と、
前記第１半導体装置と前記第２半導体装置とを接続し、前記シングルエンド信号の伝送に用いられる第３信号配線と、
グラウンド配線と、を有し、
前記第１信号配線、前記第２信号配線、前記第３信号配線および前記グラウンド配線は、前記第２信号配線、前記第１信号配線、前記グラウンド配線および前記第３信号配線の順に配置され、
前記第１信号配線と前記グラウンド配線との間隔は、前記第１信号配線と前記第２信号配線との間隔よりも広いことを特徴とする伝送回路。
【請求項２】
前記第１信号配線と前記グラウンド配線との間隔は、前記第１信号配線と前記第２信号配線との間隔の２倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の伝送回路。
【請求項３】
前記第１信号配線、前記第２信号配線、前記第３信号配線、及び前記グラウンド配線が、１つのフレキシブル配線板に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の伝送回路。
【請求項４】
前記フレキシブル配線板は、導体層が１つである単層基板であり、
前記第１信号配線、前記第２信号配線、前記第３信号配線、及び前記グラウンド配線が、前記導体層に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の伝送回路。
【請求項５】
前記第１半導体装置及び／又は前記第２半導体装置が、前記フレキシブル配線板に実装されていることを特徴とする請求項３又は４に記載の伝送回路。
【請求項６】
前記フレキシブル配線板には、前記第１信号配線と前記グラウンド配線との間にスリットが形成されていることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の伝送回路。
【請求項７】
前記フレキシブル配線板には、前記第３信号配線と前記グラウンド配線との間にスリットが形成されていることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の伝送回路。
【請求項８】
前記差動信号の伝送速度をＲ［ｂｐｓ］、
前記フレキシブル配線板の誘電体の比誘電率をεｒ、
光速をＣｏ［ｍ／ｓ］としたとき、
前記第１信号配線、前記第２信号配線、及び前記グラウンド配線の配線長は、
【数１】
2020053726.tif 000001
以上であることを特徴とする請求項３乃至７のいずれか１項に記載の伝送回路。
【請求項９】
前記差動信号の伝送に用いられる第４信号配線及び第５信号配線を更に有し、
前記第１信号配線、前記第２信号配線、前記第４信号配線及び第５信号配線は、前記第１信号配線、前記第２信号配線、前記第４信号配線および前記第５信号配線の順に配置され、
前記第２信号配線と前記第４信号配線との間隔は、前記第１信号配線と前記第２信号配線との間隔よりも広いことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の伝送回路。
【請求項１０】
前記差動信号の伝送に用いられる第４信号配線及び第５信号配線を更に有し、
前記第１信号配線、前記第２信号配線、前記第４信号配線及び第５信号配線は、前記第１信号配線、前記第２信号配線、前記第４信号配線および前記第５信号配線の順に配置され、
前記第２信号配線と前記第４信号配線との間隔は、前記第１信号配線と前記第２信号配線との間隔よりも広く、
前記第４信号配線、及び前記第５信号配線が、前記フレキシブル配線板に形成されていることを特徴とする請求項３乃至８のいずれか１項に記載の伝送回路。
【請求項１１】
前記フレキシブル配線板には、前記第２信号配線と前記第４信号配線との間にスリットが形成されている、
ことを特徴とする請求項１０に記載の伝送回路。
【請求項１２】
前記第２信号配線、前記第１信号配線、前記グラウンド配線、及び前記第３信号配線は、前記グラウンド配線の長手方向と直交する方向にこの順に配置され、
前記第１信号配線及び前記第２信号配線は第１フレキシブル配線板に形成され、前記第３信号配線は前記第１フレキシブル配線板とは別の第２フレキシブル配線板に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の伝送回路。
【請求項１３】
前記第１信号配線と前記グラウンド配線との間隔は、前記第３信号配線と前記グラウンド配線との間隔よりも広いことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の伝送回路。
【請求項１４】
前記第１半導体装置は、撮像素子であり、
前記第２半導体装置は、前記撮像素子から伝送される信号を処理する処理回路であることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の伝送回路。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の伝送回路と、
前記伝送回路が収納される筐体と、を有する電子機器。
【請求項１６】
請求項１４に記載の伝送回路と、
前記伝送回路が収納される筐体と、を有する撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】伝送回路、電子機器、及び撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の伝送回路は、差動信号およびシングルエンド信号が入力および／または出力される第１半導体装置と、差動信号およびシングルエンド信号が入力および／または出力される第２半導体装置と、前記第１半導体装置と前記第２半導体装置とを接続し、前記差動信号の伝送に用いられる第１信号配線及び第２信号配線と、前記第１半導体装置と前記第２半導体装置とを接続し、前記シングルエンド信号の伝送に用いられる第３信号配線と、グラウンド配線と、を有し、前記第１信号配線、前記第２信号配線、前記第３信号配線および前記グラウンド配線は、前記第２信号配線、前記第１信号配線、前記グラウンド配線および前記第３信号配線の順に配置され、前記第１信号配線と前記グラウンド配線との間隔は、前記第１信号配線と前記第２信号配線との間隔よりも広いことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月17日(2021.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が複数の光電変換部を有する複数のブロックが複数の列および複数の行を構成するように配置された第１基板と、
前記複数のブロックの各々の前記複数の光電変換部から信号を読み出すための処理回路の少なくとも一部が配置された第２基板と、を備え、
前記処理回路は、前記複数のブロックの各々の前記複数の光電変換部を駆動するための複数の駆動信号線を駆動するように構成され、
前記複数の駆動信号線は、各々が前記複数のブロックのうち行方向に並んだ少なくとも２つのブロックに対して共通に割り当てられた複数の第１信号線と、各々が前記複数のブロックのうちの１つのブロックに対して個別に割り当てられた複数の第２信号線と、を含み、
前記処理回路は、複数の伝達線と、各々が前記複数の第２信号線のうちの１つの第２信号線に対応する複数の選択回路とを含み、
前記複数の選択回路の各々は、前記複数の伝達線にそれぞれ供給される複数の駆動信号から１つの駆動信号を選択して前記複数の第２信号線のうち対応する第２信号線に供給する、
ことを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
前記複数の第１信号線は、前記第１基板に配置され、
前記処理回路は、前記第１基板に配置され前記複数の第１信号線を駆動する垂直走査回路を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
【請求項３】
前記複数の第２信号線は、前記第１基板および前記第２基板に配置され、
前記複数の選択回路は、前記第２基板に配置されている、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電変換装置。
【請求項４】
前記複数の伝達線は、前記第２基板に配置されている、
ことを特徴とする請求項３に記載の光電変換装置。
【請求項５】
前記複数の選択回路を制御する複数の選択信号線が前記第２基板に配置されている、
ことを特徴とする請求項４に記載の光電変換装置。
【請求項６】
前記複数の伝達線は、前記複数の行の各々が延びている方向に延びていて、
前記複数の選択信号線は、前記複数の列の各々が延びている方向に延びている、
ことを特徴とする請求項５に記載の光電変換装置。
【請求項７】
前記処理回路は、前記複数の選択回路と前記複数の第２信号線との間に各々配置され、前記複数の選択回路から出力される複数の信号の振幅を大きくする複数の電圧振幅変換回路を更に含む、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項８】
前記複数の電圧振幅変換回路は、前記第２基板に配置されている、
ことを特徴とする請求項７に記載の光電変換装置。
【請求項９】
前記複数のブロックの各々は、複数の単位回路を含み、各単位回路は、光電変換部と、電荷電圧変換部と、前記光電変換部から前記電荷電圧変換部に電荷を転送する転送部と、を含み、
前記第２信号線は、前記転送部を駆動する転送信号線を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１０】
前記複数のブロックの各々は、複数の単位回路を含み、各単位回路は、光電変換部と、ゲインを変更するゲイン変更部と、を含み、
前記第２信号線は、前記ゲイン変更部にゲインを設定するゲイン設定信号線を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１１】
前記複数のブロックの各々は、複数の単位回路を含み、各単位回路は、光電変換部と、前記光電変換部で発生した電荷に応じた信号と比較信号とを比較する比較回路と、を含み、
前記第２信号線は、前記比較信号を伝達する比較信号線を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１２】
各単位回路は、前記光電変換部をリセットするリセット部を更に含み、
前記第１信号線は、前記リセット部を駆動する信号線を含む、
ことを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１３】
前記複数の第２信号線は、第一の第２信号線と、第二の第２信号線とを含み、
前記第一の第２信号線は、前記複数のブロックのうちの１つのブロックにおける１つの行に配置された光電変換部に割り当てられ、前記１つのブロックのうち他の光電変換部には割り当てられておらず、
前記第二の第２信号線は、前記複数のブロックのうちの他の１つのブロックにおける１つの行に配置された光電変換部に割り当てられ、前記他の１つのブロックのうち他の光電変換部には割り当てられていない、
ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の光電変換装置と、
前記光電変換装置から出力される信号を処理する処理部と、
を備えることを特徴とする撮像システム。
【請求項１５】
請求項１４に記載の撮像システムと、
前記撮像システムから出力される信号を処理する集積回路と、
を備えることを特徴とする移動体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月2日(2021.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
有線中継装置２０の記憶部２０２は、上述の無線中継装置１０の記憶部１０４と同様の構成によるものである。有線中継装置２０の記憶部２０２には、無線中継装置１０の記憶部１０４と同様に有線中継装置２０又はＥＣＵ３０と通信するための経路情報が、例えばテーブル形式にて記憶されている。当該経路情報は、無線中継装置１０、有線中継装置２０及び有線中継装置２０に接続されたＥＣＵ３０のアドレスが含まれている。有線中継装置２０は、例えばレイヤー２スイッチ、又はレイヤー３スイッチとして機能する。有線中継装置２０がレイヤー２スイッチとして機能する場合、無線中継装置１０、有線中継装置２０又はＥＣＵ３０のＭＡＣアドレスが経路情報として記憶部２０２に記憶される。有線中継装置２０がレイヤー３スイッチとして機能する場合、無線中継装置１０、有線中継装置２０又はＥＣＵ３０のＩＰアドレスが経路情報として記憶部２０２に記憶される。従って、記憶部２０２に記憶されている経路情報を参照することにより、有線中継装置２０の制御部２０１は、自装置に接続されたＥＣＵ３０と車外の通信装置との間の通信、又は自装置に接続されたＥＣＵ３０と他の有線中継装置２０に接続されたＥＣＵ３０との通信を中継することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
なお、図１又は図２に示すごとく、最下流に接続される有線中継装置２０は、上流側に位置する他の有線中継装置２０と接続するための有線通信部２０７のみを有するものであってもよい。また、最下流に接続される有線中継装置２０は、電源スイッチ２０６を有さないものであってもよい。最下流に接続される有線中継装置２０は、例えば、自動運転系ＥＣＵ３０等の車両１の走行安全性に関する優先度が最も高いＥＣＵ３０が接続されるため、自装置の上流に接続される他の有線中継装置２０との通信が遮断された場合であっても、これら優先度が最も高いＥＣＵ３０間の通信を担保することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2020053778.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月21日(2021.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｄｏｗｎｌｉｎｋ  Ｓｈａｒｅｄ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＤＳＣＨ）のスケジューリングのために用いられるＤｏｗｎｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ（ＤＣＩ）フォーマットを含むＰｈｙｓｉｃａｌ  Ｄｏｗｎｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＤＣＣＨ）をサービングセルのアクティブ下りリンクＢａｎｄＷｉｄｔｈ  Ｐａｒｔ（ＢＷＰ）でモニターし、前記ＰＤＳＣＨを前記アクティブ下りリンクＢＷＰで受信する受信部と、
Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｒｅｐｅａｔ  ｒｅＱｕｅｓｔ（ＨＡＲＱ−ＡＣＫ）をＰｈｙｓｉｃａｌ  Ｕｐｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＵＣＣＨ）で送信する送信部と、を備え、
前記ＤＣＩフォーマットに含まれる周波数領域リソース割り当てフィールドの値ＮＲＩＶは、ＬＲＢｓ−１がｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）以下の場合、ＮｓｉｚｅＢＷＰ＊(ＬＲＢｓ−１)＋ＲＢｓｔａｒｔと等しく、
前記ＮＲＩＶは、ＬＲＢｓ−１がｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）より大きい場合、ＮｓｉｚｅＢＷＰ＊(ＮｓｉｚｅＢＷＰ−ＬＲＢｓ＋１)＋（ＮｓｉｚｅＢＷＰ−１−ＲＢｓｔａｒｔ)と等しく、
前記ｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）は前記ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２を超えない範囲での最大の整数であり、
前記ＲＢｓｔａｒｔは、前記ＰＤＳＣＨの割り当ての先頭のリソースブロックであり、
前記ＬＲＢｓは、前記ＰＤＳＣＨに割り当てられたリソースブロックの数であり、
前記ＮｓｉｚｅＢＷＰは、前記ＤＣＩフォーマットがコモンサーチスペースで検出される場合、第１のパラメータによって設定される初期下りリンクＢＷＰのリソースブロック数に基づいて与えられる、
端末装置。
【請求項２】
前記ＮｓｉｚｅＢＷＰは、
インデックス０の制御リソースセットが設定されず、前記ＤＣＩフォーマットが前記コモンサーチスペースで検出される場合、前記初期下りリンクＢＷＰのリソースブロックの数に基づいて与えられ、
前記インデックス０の制御リソースセットが前記第１のパラメータと異なる第２のパラメータによって設定され、前記ＤＣＩフォーマットが前記コモンサーチスペースで検出される場合、前記インデックス０の制御リソースセットのリソースブロックの数に基づいて与えられる、
請求項１に記載の端末装置。
【請求項３】
Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｄｏｗｎｌｉｎｋ  Ｓｈａｒｅｄ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＤＳＣＨ）のスケジューリングのために用いられるＤｏｗｎｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ（ＤＣＩ）フォーマットを含むＰｈｙｓｉｃａｌ  Ｄｏｗｎｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＤＣＣＨ）をサービングセルのアクティブ下りリンクＢａｎｄＷｉｄｔｈ  Ｐａｒｔ（ＢＷＰ）で送信し、前記ＰＤＳＣＨを前記アクティブ下りリンクＢＷＰで送信する送信部と、
Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｒｅｐｅａｔ  ｒｅＱｕｅｓｔ（ＨＡＲＱ−ＡＣＫ）をＰｈｙｓｉｃａｌ  Ｕｐｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＵＣＣＨ）で受信する受信部と、を備え、
前記ＤＣＩフォーマットに含まれる周波数領域リソース割り当てフィールドの値ＮＲＩＶは、ＬＲＢｓ−１がｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）以下の場合、ＮｓｉｚｅＢＷＰ＊(ＬＲＢｓ−１)＋ＲＢｓｔａｒｔと等しく、
前記ＮＲＩＶは、ＬＲＢｓ−１がｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）より大きい場合、ＮｓｉｚｅＢＷＰ＊(ＮｓｉｚｅＢＷＰ−ＬＲＢｓ＋１)＋（ＮｓｉｚｅＢＷＰ−１−ＲＢｓｔａｒｔ)と等しく、
前記ｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）は前記ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２を超えない範囲での最大の整数であり、
前記ＲＢｓｔａｒｔは、前記ＰＤＳＣＨの割り当ての先頭のリソースブロックであり、
前記ＬＲＢｓは、前記ＰＤＳＣＨに割り当てられたリソースブロックの数であり、
前記ＮｓｉｚｅＢＷＰは、前記ＤＣＩフォーマットがコモンサーチスペースで検出される場合、第１のパラメータによって設定される初期下りリンクＢＷＰのリソースブロック数に基づいて与えられる、
基地局装置。
【請求項４】
前記ＮｓｉｚｅＢＷＰは、
インデックス０の制御リソースセットが設定されず、前記ＤＣＩフォーマットが前記コモンサーチスペースで検出される場合、前記初期下りリンクＢＷＰのリソースブロックの数に基づいて与えられ、
前記インデックス０の制御リソースセットが前記第１のパラメータと異なる第２のパラメータによって設定され、前記ＤＣＩフォーマットが前記コモンサーチスペースで検出される場合、前記インデックス０の制御リソースセットのリソースブロックの数に基づいて与えられる、
請求項３に記載の基地局装置。
【請求項５】
端末装置に用いられる通信方法であって、
Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｄｏｗｎｌｉｎｋ  Ｓｈａｒｅｄ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＤＳＣＨ）のスケジューリングのために用いられるＤｏｗｎｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ（ＤＣＩ）フォーマットを含むＰｈｙｓｉｃａｌ  Ｄｏｗｎｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＤＣＣＨ）をサービングセルのアクティブ下りリンクＢａｎｄＷｉｄｔｈ  Ｐａｒｔ（ＢＷＰ）でモニターし、
前記ＰＤＳＣＨを前記アクティブ下りリンクＢＷＰで受信し、
Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｒｅｐｅａｔ  ｒｅＱｕｅｓｔ（ＨＡＲＱ−ＡＣＫ）をＰｈｙｓｉｃａｌ  Ｕｐｌｉｎｋ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ＣＨａｎｎｅｌ（ＰＵＣＣＨ）で送信し、
前記ＤＣＩフォーマットに含まれる周波数領域リソース割り当てフィールドの値ＮＲＩＶは、ＬＲＢｓ−１がｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）以下の場合、ＮｓｉｚｅＢＷＰ＊(ＬＲＢｓ−１)＋ＲＢｓｔａｒｔと等しく、
前記ＮＲＩＶは、ＬＲＢｓ−１がｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）より大きい場合、ＮｓｉｚｅＢＷＰ＊(ＮｓｉｚｅＢＷＰ−ＬＲＢｓ＋１)＋（ＮｓｉｚｅＢＷＰ−１−ＲＢｓｔａｒｔ)と等しく、
前記ｆｌｏｏｒ（ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２）は前記ＮｓｉｚｅＢＷＰ／２を超えない範囲での最大の整数であり、
前記ＲＢｓｔａｒｔは、前記ＰＤＳＣＨの割り当ての先頭のリソースブロックであり、
前記ＬＲＢｓは、前記ＰＤＳＣＨに割り当てられたリソースブロックの数であり、
前記ＮｓｉｚｅＢＷＰは、前記ＤＣＩフォーマットがコモンサーチスペースで検出される場合、第１のパラメータによって設定される初期下りリンクＢＷＰのリソースブロック数に基づいて与えられる、
通信方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月7日(2021.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地局と、
前記基地局と光ファイバにより１対１で接続されると共に、ＬＣＸにより数珠つなぎに接続された複数の中継局と、を備え、
前記数珠つなぎの一端の前記中継局はＬＣＸにより前記基地局と接続され、
前記数珠つなぎの他端の前記中継局とＬＣＸにより接続される終端中継局をさらに備え、
前記基地局は、前記複数の中継局のうち少なくとも２つの中継局である対象中継局に光ファイバを介して試験信号を送信し、
前記終端中継局は、前記対象中継局からＬＣＸを介して前記試験信号を受信し、前記対象中継局から受信した前記試験信号の位相差を測定して前記基地局に送信し、
前記基地局は、前記試験信号の位相差に基づき、前記対象中継局と前記基地局とを接続する光ファイバの遅延補正を行う、
無線通信システム。
【請求項２】
前記基地局は、前記対象中継局を変更して前記試験信号の送信を繰り返す、
請求項１に記載の無線通信システム。
【請求項３】
前記対象中継局は、無線通信エリアが隣接する複数の中継局である、
請求項１又は２に記載の無線通信システム。
【請求項４】
基地局と、
前記基地局と光ファイバにより１対１で接続されると共に、ＬＣＸにより数珠つなぎに接続された複数の中継局と、を備え、
前記数珠つなぎの一端の前記中継局はＬＣＸにより前記基地局と接続され、
前記数珠つなぎの他端の前記中継局とＬＣＸにより接続される終端中継局をさらに備え、
前記基地局は、
光ファイバを介して各前記中継局に第１試験信号を送信すると共に、中継局監視回線を介して各前記中継局における前記第１試験信号の受信時刻を取得し、
ＬＣＸを介して各前記中継局に第２試験信号を送信すると共に、中継局監視回線を介して各前記中継局における前記第２試験信号の受信時刻を取得し、
前記第１試験信号の送信時刻と各前記中継局における受信時刻との時間差を第１時間差として算出し、
前記第２試験信号の送信時刻と各前記中継局における受信時刻との時間差を第２時間差として算出し、
前記第１時間差と前記第２時間差の差に基づき、各前記中継局に接続された光ファイバによる伝送路の遅延補正を行う、
無線通信システム。
【請求項５】
前記基地局は、時刻情報を各前記中継局に送信することにより、前記基地局と各前記中継局の時刻を同期する、
請求項４に記載の無線通信システム。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の無線通信システムである第１無線通信システムと第２無線通信システムが、前記終端中継局を共通に使用して連結された無線通信システムであって、
前記第１無線通信システムの前記基地局は、光ファイバを介して一つの前記中継局に第３試験信号を送信し、
前記第２無線通信システムの前記基地局は、光ファイバを介して一つの前記中継局に第４試験信号を送信し、
前記終端中継局は、ＬＣＸを介して前記第３試験信号と前記第４試験信号を受信し、前記第３試験信号と前記第４試験信号の位相差を基地局間位相差として測定し、前記基地局間位相差を前記第２無線通信システムの前記基地局へ送信し、
前記第２無線通信システムの前記基地局は、前記基地局間位相差に基づき、各前記中継局に送信する信号の位相を補正する、
無線通信システム。
【請求項７】
前記基地局は、光ファイバの長さを調整することにより前記遅延補正を行う、
請求項１から６のいずれか１項に記載の無線通信システム。
【請求項８】
ＬＣＸにより数珠つなぎに接続された複数の中継局と光ファイバにより１対１で接続される基地局であって、
前記数珠つなぎの一端の前記中継局とＬＣＸにより接続され、
前記複数の中継局のうち少なくとも２つの中継局である対象中継局に光ファイバを介して試験信号を送信し、
前記数珠つなぎの他端の前記中継局とＬＣＸにより接続された終端中継局で測定された、前記対象中継局から前記終端中継局に送信された前記試験信号の位相差を前記終端中継局から受信し、
前記終端中継局から受信した前記試験信号の位相差に基づき、前記対象中継局と前記基地局とを接続する光ファイバの遅延補正を行う、
基地局。
【請求項９】
前記対象中継局を変更して前記試験信号の送信を繰り返す、
請求項８に記載の基地局。
【請求項１０】
基地局と光ファイバにより１対１で接続されると共に、ＬＣＸにより他の中継局と数珠つなぎに接続された中継局であって、
光ファイバを介して前記基地局から試験信号を受信すると、ＬＣＸを介して前記試験信号を他の前記中継局または前記数珠つなぎの一端の前記中継局と接続された終端中継局へ送信する、
中継局。
【請求項１１】
ＬＣＸにより数珠つなぎに接続された複数の中継局の一端の前記中継局とＬＣＸにより接続される終端中継局であって、
基地局から光ファイバを介して試験信号を受信した、前記複数の中継局のうち少なくとも２つの中継局である対象中継局から、ＬＣＸを介して前記試験信号を受信し、前記対象中継局から受信した前記試験信号の位相差を測定して前記基地局に送信する、
終端中継局。
【請求項１２】
ＬＣＸにより数珠つなぎに接続された複数の中継局と光ファイバにより１対１で接続される基地局であって、
前記数珠つなぎの一端の前記中継局とＬＣＸにより接続され、
光ファイバを介して各前記中継局に第１試験信号を送信すると共に、中継局監視回線を介して各前記中継局における前記第１試験信号の受信時刻を取得し、
ＬＣＸを介して各前記中継局に第２試験信号を送信すると共に、中継局監視回線を介して各前記中継局における前記第２試験信号の受信時刻を取得し、
前記第１試験信号の送信時刻と各前記中継局における受信時刻との時間差を第１時間差として算出し、
前記第２試験信号の送信時刻と各前記中継局における受信時刻との時間差を第２時間差として算出し、
前記第１時間差と前記第２時間差の差に基づき、各前記中継局に接続された光ファイバによる伝送路の遅延補正を行う、
基地局。
【請求項１３】
時刻情報を各前記中継局に送信することにより、各前記中継局の時刻と同期する、
請求項１２に記載の基地局。
【請求項１４】
基地局と光ファイバにより１対１で接続されると共に、ＬＣＸにより他の中継局と数珠つなぎに接続された中継局であって、
光ファイバを介して前記基地局から第１試験信号を受信し、中継局監視回線を介して前記第１試験信号の受信時刻を他の前記中継局または前記数珠つなぎの一端の前記中継局と接続された終端中継局へ送信し、
ＬＣＸを介して前記基地局から第２試験信号を受信し、中継局監視回線を介して前記第２試験信号の受信時刻を他の前記中継局または前記終端中継局へ送信する、
中継局。
【請求項１５】
ＬＣＸにより数珠つなぎに接続された複数の中継局の一端の前記中継局とＬＣＸにより接続される終端中継局であって、
各前記中継局が光ファイバを介して基地局から受信した第１試験信号の受信時刻を中継局監視回線を介して前記基地局へ送信し、
各前記中継局がＬＣＸを介して前記基地局から受信した第２試験信号の受信時刻を中継局監視回線を介して前記基地局へ送信する、
終端中継局。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】無線通信システム、基地局、中継局、および終端中継局
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月22日(2021.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレームと、
画像光を出射する画像出射部と、
前記フレームの側面部を覆うように取り付けられ、前記画像出射部を収容する筐体と、
前記フレームの側面部側とは反対側の前記筐体の側面に取り付けられるテンプルと、を備え、
前記筐体の前記側面は、
前記テンプルと当接する当接部と、
前記テンプルから離隔するように傾斜し、前記テンプルとの間に第１隙間を有する傾斜部と、を有することを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の頭部装着型表示装置において、
前記テンプルは、前記側面の前記当接部が嵌まり込む凹部を有することを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の頭部装着型表示装置において、
前記テンプルは、前記側面の前記当接部と当接する突出部を有し、
前記突出部は、弾性を有することを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の頭部装着型表示装置において、
前記テンプルは、前記突出部の一部を囲む開口部を有することを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の頭部装着型表示装置において、
前記フレームは、第１方向に延出し、
前記テンプルは、前記第１方向と交差する第２方向に延出し、
前記側面は、前記テンプルが取り付けられる第１取付部と第２取付部とを有し、
前記テンプルは、
前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに交差する第３方向において、前記第１取付部に取り付けられる第１接続部と、
前記第３方向において、前記第２取付部に取り付けられる第２接続部と、を有し、
前記第３方向における前記第１取付部と前記第２取付部との間には、第２隙間が設けられていることを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載の頭部装着型表示装置において、
前記第１方向に沿って前記フレームに支持され、前記画像出射部から出射された前記画像光を所定の視認位置に導く導光部を有することを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に記載の頭部装着型表示装置において、
前記第１取付部と前記第２取付部とのそれぞれは、前記当接部に設けられることを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の頭部装着型表示装置において、
前記フレームは、金属により形成され、
前記画像出射部は、前記フレームに固定されていることを特徴とする頭部装着型表示装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の頭部装着型表示装置において、
前記筐体は、前記筐体内に設けられる内部筐体を有し、
前記内部筐体は、前記画像出射部と前記側面との間に位置する起立部を有することを特徴とする頭部装着型表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一態様に係る頭部装着型表示装置は、フレームと、画像光を出射する画像出射部と、前記フレームの側面部を覆うように取り付けられ、前記画像出射部を収容する筐体と、前記フレームの側面部側とは反対側の前記筐体の側面に取り付けられるテンプルと、を備え、前記筐体の前記側面は、前記テンプルと当接する当接部と、前記テンプルから離隔するように傾斜し、前記テンプルとの間に第１隙間を有する傾斜部と、を有することを特徴とする。