【手続補正書】
【提出日】令和3年8月2日(2021.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主要表面を有する基体と、
前記主要表面上に配置され、かつ反射防止表面を形成する、反射防止コーティングを有してなる光学コーティングと
を有してなる物品であって、
該物品が、１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって前記反射防止表面の上で測定される場合、８ＧＰａ以上の硬度を示し、
該物品が、４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の光学波長領域において、９％以下の、前記反射防止表面において測定された片面平均光反射率、ならびに、
前記反射防止表面において測定した場合、色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）および前記基体の透過率色座標の少なくとも１つを有してなる基準点から２未満の基準点色シフトを示す、国際照明委員会の光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品透過率色座標、および
前記反射防止表面において測定した場合、色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）、色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）および前記基体の反射率色座標の少なくとも１つを有してなる基準点から５未満の基準点色シフトを示す、国際照明委員会の光源下で直角入射での（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）測色系における物品反射率色座標
のいずれか一方、または両方を示し、
前記基準点が色座標（ａ＊＝０、ｂ＊＝０）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品）２＋（ｂ＊物品）２）によって定義され、
前記基準点が色座標（ａ＊＝−２、ｂ＊＝−２）である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品＋２）２＋（ｂ＊物品＋２）２）によって定義され、かつ
前記基準点が前記基体の色座標である場合、前記色シフトは、√（（ａ＊物品−ａ＊基体）２＋（ｂ＊物品−ｂ＊基体）２）によって定義され、
前記反射防止コーティングが、複数の層を含み、該複数の層が、第１の低ＲＩ層と第２の高ＲＩ層とを含んでなり、
前記反射防止コーティングが、前記第1の低ＲＩ層と前記第２の高ＲＩ層とが交互に並ぶように少なくとも１つの周期を含み、
前記第１の低ＲＩ層が、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯＸＮＹ、ＳｉＯＸＮＹ、ＳｉＵＡｌＶＯＸＮＹ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＭｇＦ２、ＢａＦ２、ＣａＦ２、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹＦ３、ＣｅＦ３、またはこれらの組合せを含み、
前記第２の高ＲＩ層が、ＳｉＵＡｌＶＯＸＮＹ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＯＸＮＹ、ＳｉＯＸＮＹ、ＨｆＯ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ダイヤモンド様カーボン、またはこれらの組合せを含み、及び、
前記反射防止コーティングが、１０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の物理的厚さを有することを特徴とする、物品。
【請求項２】
前記反射防止コーティングが、１０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の物理的厚さを有することを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項３】
前記反射防止コーティングが、１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の物理的厚さを有することを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項４】
前記反射防止コーティングが、１０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲の物理的厚さを有することを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項５】
前記反射防止コーティングが、１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の物理的厚さを有することを特徴とする、請求項１記載の物品。
【請求項６】
前記光学コーティングが、更に、耐擦傷性層を含み、前記反射防止コーティングが、第１の部分と第２の部分とを含み、前記耐擦傷性層が、前記第１の部分と前記第２の部分との間に配置され、前記耐擦傷性層が、１ｎｍ〜０．２μｍの範囲の物理的厚さを有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の物品。
【請求項７】
前記複数の層に含まれる前記第１の低ＲＩ層の合計した物理的厚さが、前記光学コーティングの物理的厚さの６０％未満であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の物品。
【請求項８】
前記物品が、１００ｎｍ以上の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって前記反射防止表面の上で測定される場合、１２ＧＰａ以上の最大硬度を示すことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の物品。
【請求項９】
前記物品が、前記反射防止表面においてＴａｂｅｒ  Ｔｅｓｔを使用して５００サイクルの摩擦後に、
（ｉ）８ｍｍの直径を有する開口部を有する曇り度計を使用して測定される１％以下の曇り度、
（ｉｉ）原子間力顕微鏡法によって測定される１２ｎｍ以下の平均粗さＲａ、
（ｉｉｉ）６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、４０度以下の極散乱角において、０．０５（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光度、および
（ｉｖ）６００ｎｍの波長で、２ｍｍの開口部を用いて、散乱測定用イメージングスフィアを使用して、直角入射の透過で測定される、２０度以下の極散乱角において、０．１（１／ステラジアンの単位）以下の散乱光度
のいずれか１つまたはそれ以上を満たす耐摩擦性を示すことを特徴とする、請求項１〜８のうちいずれか１項に記載の物品。
【請求項１０】
前記基体が、ガラスセラミック基体であることを特徴とする、請求項１〜９のうちいずれか１項に記載の物品。
【請求項１１】
デバイスをその中に有してなる電子製品であって、前記電子製品が、前記デバイスを保護するために、請求項１〜１０のうちのいずれか１項に記載の物品を含むことを特徴とする、電子製品。
【請求項１２】
主要表面を有する基体と、
前記主要表面上に配置され、かつ反射防止表面を形成する、反射防止コーティング及び耐擦傷性層を有してなる光学コーティングと
を有してなる物品であって、
該物品が、１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の押し込み深さに沿って、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  Ｉｎｄｅｎｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  Ｔｅｓｔによって前記反射防止表面の上で測定される場合、８ＧＰａ以上の硬度を示し、
前記反射防止コーティングが、複数の層を含み、該複数の層が、第１の低ＲＩ層と第２の高ＲＩ層とを含んでなり、
前記反射防止コーティングが、前記第1の低ＲＩ層と前記第２の高ＲＩ層とが交互に並ぶように少なくとも１つの周期を含み、
前記第１の低ＲＩ層が、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯＸＮＹ、ＳｉＯＸＮＹ、ＳｉＵＡｌＶＯＸＮＹ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＭｇＦ２、ＢａＦ２、ＣａＦ２、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹＦ３、ＣｅＦ３、またはこれらの組合せを含み、
前記第２の高ＲＩ層が、ＳｉＵＡｌＶＯＸＮＹ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＮＸ、ＡｌＯＸＮＹ、ＳｉＯＸＮＹ、ＨｆＯ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ダイヤモンド様カーボン、またはこれらの組合せを含み、
前記反射防止コーティングが、第１の部分と第２の部分とを含み、前記耐擦傷性層が、前記第１の部分と前記第２の部分との間に配置されること、及び、
前記耐擦傷性層が、１ｎｍ〜０．２μｍの範囲の物理的厚さを有し、
前記反射防止コーティングが、１０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の物理的厚さを有することを特徴とする、物品。
【請求項１３】
前記基体が、ガラスセラミック基体であることを特徴とする、請求項１２に記載の物品。
【請求項１４】
デバイスをその中に有してなる電子製品であって、前記電子製品が、前記デバイスを保護するために、請求項１２または１３に記載の物品を含むことを特徴とする、電子製品。