(57)【要約】【課題】振動板が液体によって侵食されるのを抑制して、振動特性にばらつきが生じるのを抑制すると共に、ヘッドの薄型化を実現することができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。【解決手段】液体を吐出するノズル開口２１に連通する圧力発生室１２が設けられた流路形成基板１０と、該流路形成基板１０の一方面側に設けられて前記圧力発生室１２を封止する弾性膜５０と、該弾性膜５０上に設けられて当該弾性膜５０を変形させる圧力発生手段である圧電アクチュエーター３００と、を具備し、少なくとも前記圧力発生室１２の内壁には、原子層堆積によって形成された酸化タンタル膜２００が設けられている。【選択図】      図３
2014124885.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吐出するノズル開口に連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板と、
該流路形成基板の一方面側に設けられて前記圧力発生室を封止する振動板と、
該振動板上に設けられて当該振動板を変形させる圧力発生手段と、を具備し、
少なくとも前記圧力発生室の内壁には、原子層堆積によって形成された酸化タンタル膜が設けられていることを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２】
前記酸化タンタル膜は、０．３Å以上、５０ｎｍ以下の厚さで形成されていることを特徴とする請求項１記載の液体噴射ヘッド。
【請求項３】
請求項１又は２記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズル開口から液体を吐出する液体噴射ヘッド及び液体噴射装置に関し、特に液体としてインクを吐出するインクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドは、例えば、ノズル開口に連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板の一方面側に圧電素子である圧電アクチュエーターを備え、この圧電アクチュエーターの駆動によって振動板を変形させて圧力発生室に圧力変化を生じさせることで、ノズルからインク滴を噴射させる。
【０００３】
ここで、振動板としては、流路形成基板側に酸化シリコンや酸化ジルコニウム等を設けたものが提案されている（例えば、特許文献１及び２等参照）。
【０００４】
また、流路形成基板や振動板が流路内のインクによって侵食されるのを防ぐために、圧力発生室等の流路の内壁に酸化タンタル等の耐液体性を有する保護膜が設けたものが提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−８３１４０号公報
【特許文献２】特開２０１１−８８３６９号公報
【特許文献３】特開２０１２−１４３９８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、振動板の流路形成基板側に酸化シリコンの保護膜を設けた場合、保護膜にピンホール等が形成されていると、流路内のインク（液体）によって振動板が侵食（エッチング）されて、振動板の振動特性に影響を及ぼし、振動板を安定して変形させることができなくなってしまうという問題がある。
【０００７】
特に、ノズル開口の高密度化、インクジェット式記録ヘッドを薄型化する際に、保護膜は薄くする必要があり、保護膜にピンホール等の不良が発生し易い。
【０００８】
なお、このような問題はインクジェット式記録ヘッドだけではなく、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドにおいても同様に存在する。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑み、振動板が液体によって侵食されるのを抑制して、振動特性にばらつきが生じるのを抑制すると共にヘッドの薄型化を実現することができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決する本発明の態様は、液体を吐出するノズル開口に連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板と、該流路形成基板の一方面側に設けられて前記圧力発生室を封止する振動板と、該振動板上に設けられて当該振動板を変形させる圧力発生手段と、を具備し、少なくとも前記圧力発生室の内壁には、原子層堆積によって形成された酸化タンタル膜が設けられていることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる態様では、少なくとも圧力発生室の内壁に原子層堆積によって形成された酸化タンタル膜を設けることで、酸化タンタル膜の膜密度を高めて緻密な膜とすることができるため、酸化タンタル膜によって圧力発生室の内壁が液体によって侵食されるのを抑制することができる。したがって、酸化タンタル膜によって圧力発生室を画成する振動板が液体によって侵食されるのを抑制して、振動板の振動特性を安定させることができる。また、耐液体性の高い酸化タンタル膜を形成することができることから、酸化タンタル膜を比較的薄く形成することができるため、酸化タンタル膜が振動板の変位を阻害するのを抑制して、圧電アクチュエーターの変位特性を向上することができると共に、圧電アクチュエーターを薄くすることができ、液体噴射ヘッドの薄型化を図ることができる。
【００１１】
ここで、前記酸化タンタル膜は、０．３Å以上、５０ｎｍ以下の厚さで形成されていることが好ましい。これによれば、原子層堆積によって５０ｎｍ以下の厚さの薄い酸化タンタル膜を容易に形成することができると共に、０．３Å以上の厚さの酸化タンタル膜によって液体による侵食を確実に抑制することができる。
【００１２】
さらに、本発明の他の態様は、上記態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。
液体の吐出特性を安定化して、小型化した液体噴射装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態１に係る記録ヘッドの分解斜視図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る記録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図３】本発明の実施形態１に係る記録ヘッドの断面図である。
【図４】一実施形態に係る記録装置の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図であり、図２は、図１の平面図及びそのＡ−Ａ′線断面図であり、図３は、図２（ｂ）のＢ−Ｂ′線断面図である。
【００１５】
図示するように、本実施形態の液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドＩが備える流路形成基板１０は、本実施形態では、例えば、シリコン単結晶基板からなる。この流路形成基板１０には、複数の隔壁１１によって区画された圧力発生室１２が同じ色のインクを吐出する複数のノズル開口２１が並設される方向に沿って並設されている。以降、この方向を圧力発生室１２の並設方向、又は第１の方向Ｘと称する。また、この第１の方向Ｘと直交する方向を、以降、第２の方向Ｙと称する。
【００１６】
また、流路形成基板１０の圧力発生室１２の長手方向の一端部側、すなわち第１の方向Ｘに直交する第２の方向Ｙの一端部側には、インク供給路１３と連通路１４とが複数の隔壁１１によって区画されている。連通路１４の外側（第２の方向Ｙにおいて圧力発生室１２とは反対側）には、各圧力発生室１２の共通のインク室（液体室）となるマニホールド１００の一部を構成する連通部１５が形成されている。すなわち、流路形成基板１０には、圧力発生室１２、インク供給路１３、連通路１４及び連通部１５からなる液体流路が設けられている。
【００１７】
ここで、流路形成基板１０の圧力発生室１２、インク供給路１３、連通路１４及び連通部１５からなる液体流路の内壁表面（内面）には、原子層堆積によって形成された酸化タンタル（ＴａＯｘ；アモルファス）を主成分とする酸化タンタル膜である保護膜２００が設けられている。本実施形態では、保護膜２００として、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）を用いた。なお、原子層堆積によって形成されているとは、原子層堆積法（ＡＬＤ）によって成膜されていることを言う。
【００１８】
このように、保護膜２００を酸化タンタル膜で形成することで、耐インク性を有する保護膜２００とすることができる。ここで言う耐インク性（耐液体性）とは、アルカリ性や酸性のインク（液体）に対する耐エッチング性のことである。
【００１９】
また、保護膜２００を原子層堆積法によって形成することで、当該保護膜２００を高い膜密度で緻密な膜とすることができる。そして、このように、保護膜２００を高い膜密度で形成することで、保護膜２００の耐インク性（耐液体性）を向上することができる。すなわち、保護膜２００は、酸化タンタルで形成することで、耐インク性を有するものであるが、原子層堆積法によって形成することで、保護膜２００の耐インク性をさらに向上することができる。したがって、保護膜２００の耐インク性を向上して、振動板（弾性膜５０）や流路形成基板１０等がインク（液体）によって侵食（エッチング）されるのを抑制することができる。また、耐インク性の高い緻密な保護膜２００を形成することができるため、保護膜２００をＣＶＤ法等によって形成する場合に比べて薄い膜厚で形成しても、十分な耐インク性を確保することができる。したがって、保護膜２００を比較的薄い膜厚で形成して、保護膜２００が詳しくは後述する振動板の変位を阻害するのを抑制して、振動板の変位量が低下するのを抑制することができる。また、振動板がインクによって侵食されるのを抑制することができるため、振動板の変位特性にばらつきが生じるのを抑制して、振動板を安定した変位特性で変形させることができる。
【００２０】
また、保護膜２００を原子層堆積法によって形成することによって、圧力発生室１２等の凹凸のある流路形成基板１０の流路の内面、すなわち、弾性膜５０上や隔壁１１上等に略均一な膜厚で保護膜２００を形成することができる。すなわち、保護膜２００は、流路形成基板１０の一方面に振動板である弾性膜５０や後述する圧電アクチュエーター３００等を形成した後、流路形成基板１０に圧力発生室１２等の流路を形成し、その後、圧力発生室１２等の流路内に原子層堆積法によって形成されるものである。このため、原子層堆積法以外の方法、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等によって保護膜を形成した場合には、保護膜２００は、方向の異なる面に均一な厚さで形成するのが困難である。本実施形態では、保護膜２００を原子層堆積法によって形成することで、方向の異なる面上に均一な膜厚で形成することができ、振動板の変位特性にばらつきが生じるのを抑制することができると共に、保護膜２００のカバレッジ不良による振動板（弾性膜５０）や流路形成基板１０のインクによる侵食を抑制することができる。
【００２１】
なお、このような原子層堆積法によって形成された酸化タンタルを主成分とする保護膜２００の厚さは、原子層堆積法では均一且つ緻密（高膜密度）に成膜されるので、０．３Å以上、５０ｎｍ以下の範囲とすればよく、１０ｎｍ以上、３０ｎｍ以下の範囲が好適である。また、Ｔａ２Ｏ５（ＴａＯＸ）は、アルカリに可溶だが、膜密度が高ければ（７ｇ／ｃｍ２程度）アルカリに溶けにくくなり、耐酸性は、フッ化水素以外の溶液には溶けないという特徴をもつので、強アルカリ液や強酸液に対する保護膜として有効である。すなわち、原子層堆積法によれば、保護膜２００を５０ｎｍ以下という比較的薄い厚さで容易に高精度に形成することができる。また、原子層堆積法によって形成された保護膜２００は、高い膜密度で形成されるため、０．３Å以上の厚さで十分な耐インク性を確保することができる。ちなみに、保護膜２００をこれより厚く形成すると、成膜に時間がかかりコスト高になるため好ましくない。また、保護膜２００をこれより薄く形成すると、全体に均一な膜が形成されない虞があるため好ましくない。
【００２２】
このように保護膜２００の厚さを薄くすることで、保護膜２００が振動板の変位を阻害するのを低減して、詳しくは後述する圧電アクチュエーター３００の変位を向上することができる。また、保護膜２００の厚さを薄くすることができるため、流路形成基板１０の厚さを薄くしても圧力発生室１２の容積を確保することができると共に、圧電アクチュエーター３００の厚さを薄くすることができる。したがって、インクジェット式記録ヘッドＩの薄型化及びノズル開口２１の高密度化を実現することができる。
【００２３】
流路形成基板１０の一方面側、すなわち圧力発生室１２等の液体流路が開口する面には、各圧力発生室１２に連通するノズル開口２１が穿設されたノズルプレート２０が、接着剤や熱溶着フィルム等によって接合されている。すなわち、ノズルプレート２０には、第１の方向Ｘにノズル開口２１が並設されている。
【００２４】
流路形成基板１０の他方面側には、酸化シリコン（ＳｉＯ２）を含む材料で形成された弾性膜５０と、弾性膜５０上に酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）を含む材料で形成された絶縁体膜５５とが形成されている。なお、圧力発生室１２等の液体流路は、流路形成基板１０を一方面側（ノズルプレート２０が接合された面側）から異方性エッチングすることにより形成されており、圧力発生室１２等の液体流路の他方面は、弾性膜５０によって画成されており、弾性膜５０の圧力発生室１２側には、上述のように保護膜２００が形成されている。
【００２５】
また、絶縁体膜５５上には、本実施形態の圧力発生手段である第１電極６０と圧電体層７０と第２電極８０とを有する圧電アクチュエーター３００が形成されている。ここで、圧電アクチュエーター３００は、第１電極６０、圧電体層７０及び第２電極８０を含む部分をいう。一般的には、圧電アクチュエーター３００の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体層７０を各圧力発生室１２毎にパターニングして構成する。そして、ここではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体層７０から構成され、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部という。本実施形態では、第１電極６０を圧電アクチュエーター３００の共通電極とし、第２電極８０を圧電アクチュエーター３００の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。なお、上述した例では、弾性膜５０、絶縁体膜５５及び第１電極６０が振動板として作用するが、勿論これに限定されるものではなく、例えば、弾性膜５０及び絶縁体膜５５を設けずに、第１電極６０のみが振動板として作用するようにしてもよい。また、圧電アクチュエーター３００自体が実質的に振動板を兼ねるようにしてもよい。ちなみに、流路形成基板１０上に直接第１電極６０を設けたとしても、本実施形態では、第１電極６０の圧力発生室１２側の面に酸化タンタルの保護膜が形成されるため、第１電極６０とインクとが導通することなく、絶縁することができる。
【００２６】
圧電体層７０は、第１電極６０上に形成される分極構造を有する酸化物の圧電材料からなり、例えば、一般式ＡＢＯ３で示されるペロブスカイト型酸化物からなることができ、Ａは、鉛を含み、Ｂは、ジルコニウムおよびチタンのうちの少なくとも一方を含むことができる。前記Ｂは、例えば、さらに、ニオブを含むことができる。具体的には、圧電体層７０としては、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３：ＰＺＴ）、シリコンを含むニオブ酸チタン酸ジルコン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ，Ｎｂ）Ｏ３：ＰＺＴＮＳ）などを用いることができる。
【００２７】
また、圧電体層７０は、鉛を含まない非鉛系圧電材料、例えば、鉄酸ビスマスや鉄酸マンガン酸ビスマスと、チタン酸バリウムやチタン酸ビスマスカリウムとを含むペロブスカイト構造を有する複合酸化物などとしてもよい。
【００２８】
さらに、このような圧電アクチュエーター３００の個別電極である各第２電極８０には、インク供給路１３側の端部近傍から引き出され、絶縁体膜５５上にまで延設される、例えば、金（Ａｕ）等からなるリード電極９０が接続されている。
【００２９】
このような圧電アクチュエーター３００が形成された流路形成基板１０上、すなわち、第１電極６０、弾性膜５０、絶縁体膜５５及びリード電極９０上には、マニホールド１００の少なくとも一部を構成するマニホールド部３１を有する保護基板３０が接着剤３５を介して接合されている。このマニホールド部３１は、本実施形態では、保護基板３０を厚さ方向に貫通して圧力発生室１２の幅方向に亘って形成されており、上述のように流路形成基板１０の連通部１５と連通されて各圧力発生室１２の共通のインク室となるマニホールド１００を構成している。また、流路形成基板１０の連通部１５を圧力発生室１２毎に複数に分割して、マニホールド部３１のみをマニホールドとしてもよい。さらに、例えば、流路形成基板１０に圧力発生室１２のみを設け、流路形成基板１０と保護基板３０との間に介在する弾性膜５０及び絶縁体膜５５にマニホールドと各圧力発生室１２とを連通するインク供給路１３を設けるようにしてもよい。
【００３０】
保護基板３０には、圧電アクチュエーター３００に対向する領域に、圧電アクチュエーター３００の運動を阻害しない程度の空間を有する圧電アクチュエーター保持部３２が設けられている。なお、圧電アクチュエーター保持部３２は、圧電アクチュエーター３００の運動を阻害しない程度の空間を有していればよく、当該空間は密封されていても、密封されていなくてもよい。
【００３１】
また、保護基板３０には、保護基板３０を厚さ方向に貫通する貫通孔３３が設けられている。そして、各圧電アクチュエーター３００から引き出されたリード電極９０の端部近傍は、貫通孔３３内に露出するように設けられている。
【００３２】
また、保護基板３０上には、信号処理部として機能する駆動回路１２０が固定されている。駆動回路１２０としては、例えば、回路基板や半導体集積回路（ＩＣ）等を用いることができる。そして、駆動回路１２０とリード電極９０とは、貫通孔３３を挿通させたボンディングワイヤー等の導電性ワイヤーからなる接続配線１２１を介して電気的に接続されている。
【００３３】
保護基板３０としては、流路形成基板１０の熱膨張率と略同一の材料、例えば、ガラス、セラミック材料等を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板１０と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。
【００３４】
また、保護基板３０上には、封止膜４１及び固定板４２とからなるコンプライアンス基板４０が接合されている。ここで、封止膜４１は、剛性が低く可撓性を有する材料、例えば、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）フィルムからなり、この封止膜４１によってマニホールド部３１の一方面が封止されている。また、固定板４２は、金属等の硬質の材料、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等で形成される。この固定板４２のマニホールド１００に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部４３となっているため、マニホールド１００の一方面は可撓性を有する封止膜４１のみで封止されている。
【００３５】
このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドＩでは、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導入口からインクを取り込み、マニホールド１００からノズル開口２１に至るまで内部をインクで満たした後、駆動回路１２０からの記録信号に従い、圧力発生室１２に対応するそれぞれの第１電極６０と第２電極８０との間に電圧を印加し、弾性膜５０、絶縁体膜５５、第１電極６０及び圧電体層７０をたわみ変形させることにより、各圧力発生室１２内の圧力が高まりノズル開口２１からインク滴が吐出する。
【００３６】
以上説明したように、本実施形態のインクジェット式記録ヘッドＩでは、流路形成基板１０内に原子層堆積法によって形成された酸化タンタルを主成分とする保護膜２００を設けることで、振動板（弾性膜５０）や流路形成基板１０の隔壁１１等がインクによって侵食されるのを抑制することができる。このため、振動板の変位特性が変化するのを抑制して、振動板の変位特性を安定させて、インク滴の吐出特性を安定させることができる。
【００３７】
また、保護膜２００を原子層堆積法によって形成することで、膜密度の高い緻密な保護膜２００を形成することができる。したがって、保護膜２００の厚さを比較的薄くすることができ、保護膜２００が振動板（弾性膜５０）の変形を阻害するのを抑制して、圧電アクチュエーター３００の変位量を向上することができる。また、保護膜２００を薄く設けることで、振動板の変形を阻害するのを抑制することができることから、圧電アクチュエーター３００の圧電体層７０を薄くすることができると共に、流路形成基板１０の厚さ（圧力発生室１２の深さ）を薄くすることができ、インクジェット式記録ヘッドＩの薄型化を図ることができると共に、ノズル開口２１の高密度化を図ることができる。
【００３８】
（他の実施形態）
以上、本発明の実施形態１について説明したが、本発明の基本的構成は上述したものに限定されるものではない。
【００３９】
例えば、上述した実施形態１では、酸化シリコンからなる弾性膜５０と、酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜５５とを設けるようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、弾性膜５０として、窒化シリコン膜、ポリシリコン膜、有機膜（ポリイミド、パリレンなど）等の材料を用いるようにしてもよい。また、絶縁体膜５５としては、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、アルミン酸ランタン（ＬａＡｌＯ３）等の材料を用いるようにしてもよい。弾性膜５０に何れの材料を用いたとしても、保護膜２００を設けることで、インクによる侵食を抑制することができる。
【００４０】
また、上述した実施形態１では、流路形成基板１０の圧力発生室１２、インク供給路１３、連通路１４及び連通部１５の内壁表面（内面）に保護膜２００を設けるようにしたが、特にこれに限定されず、少なくとも圧力発生室１２の内壁表面に原子層堆積法によって形成された酸化タンタルを主成分とする保護膜２００を設ければよい。すなわち、保護膜２００は、主に振動板（弾性膜５０）がインクによって侵食されるのを抑制するためのものであり、流路形成基板１０の圧力発生室１２以外の領域は、保護膜２００を形成する原子層堆積法とは異なる方法、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等によって形成された他の保護膜で保護されていてもよい。また、流路形成基板１０の圧力発生室１２以外の領域は、酸化タンタル以外の材料で保護されていてもよい。すなわち、本実施形態では、原子層堆積法によって形成された酸化タンタルを主成分とする保護膜２００によって振動板（弾性膜５０）を保護することで、振動板が侵食されるのを抑制して、振動板の変位特性のばらつきを抑制するものであり、流路形成基板１０の隔壁１１等が保護膜に形成されたピンホール等によって侵食されたとしても、隣り合う流路同士を連通するまでには至らず、支障はない。
【００４１】
また、上述した実施形態１では、ノズル開口２１からインク滴を吐出する圧力発生手段として、薄膜型の圧電アクチュエーター３００を用いて説明したが、特にこれに限定されるものではなく、例えば、グリーンシートを貼付する等の方法により形成される厚膜型の圧電アクチュエーターや、圧電材料と電極形成材料とを交互に積層させて軸方向に伸縮させる縦振動型の圧電アクチュエーターを用いてもよい。
【００４２】
また、上述した実施形態１では、ノズル開口２１からインク滴を吐出する圧力発生手段として圧電アクチュエーター３００を用いて説明したが、特にこれに限定されず、例えば、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズル開口から液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなどを使用することができる。
【００４３】
また、これら各実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図４は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
【００４４】
図４に示すように、インクジェット式記録ヘッドを有する記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、インク供給手段を構成するカートリッジ２Ａ及び２Ｂが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３は、装置本体４に取り付けられたキャリッジ軸５に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出するものとしている。
【００４５】
そして、駆動モーター６の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト７を介してキャリッジ３に伝達されることで、記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３はキャリッジ軸５に沿って移動される。一方、装置本体４にはキャリッジ軸５に沿ってプラテン８が設けられており、図示しない給紙ローラーなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートＳがプラテン８に巻き掛けられて搬送されるようになっている。
【００４６】
また、上述したインクジェット式記録装置ＩＩでは、インクジェット式記録ヘッドＩ（記録ヘッドユニット１Ａ、１Ｂ）がキャリッジ３に搭載されて主走査方向に移動するものを例示したが、特にこれに限定されず、例えば、インクジェット式記録ヘッドＩが固定されて、紙等の記録シートＳを副走査方向に移動させるだけで印刷を行う、所謂ライン式記録装置にも本発明を適用することができる。
【００４７】
なお、上記実施の形態においては、液体噴射ヘッドの一例としてインクジェット式記録ヘッドを、また液体噴射装置の一例としてインクジェット式記録装置を挙げて説明したが、本発明は、広く液体噴射ヘッド及び液体噴射装置全般を対象としたものであり、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドや液体噴射装置にも勿論適用することができる。その他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンター等の画像記録装置に用いられる各種の記録ヘッド、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオｃｈｉｐ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられ、かかる液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置にも適用できる。
【符号の説明】
【００４８】
Ｉ  インクジェット式記録ヘッド（液体噴射ヘッド）、  ＩＩ  インクジェット式記録装置（液体噴射装置）、  １０  流路形成基板、  １２  圧力発生室、  １３  インク供給路、  １４  連通路、  １５  連通部、  ２０  ノズルプレート、  ２１  ノズル開口、  ３０  保護基板、  ４０  コンプライアンス基板、  ５０  弾性膜、  ５５  絶縁体膜、  ６０  第１電極、  ７０  圧電体層、  ８０  第２電極、  ９０  リード電極、  １００  マニホールド、  １２０  駆動回路、  ２００  保護膜（酸化タンタル膜）、  ３００  圧電アクチュエーター
【図１】
2014124885.tif 000003
【図２】
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【図３】
2014124885.tif 000005
【図４】
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