Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月24日(2020.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３相のモータ巻線（１１）を有するモータ（１０）の駆動を制御することでシフトレンジの切り替えを制御するシフトレンジ制御装置であって、
位相が異なる３相以上のエンコーダ信号を出力可能なエンコーダ（１３）から前記エンコーダ信号を取得する信号取得部（５１）と、
前記エンコーダの異常を監視する異常監視部（５２）と、
前記モータの回転位置が目標シフトレンジに応じた目標回転位置となるように、前記モータ巻線の通電相を切り替えることで前記モータの駆動を制御する駆動制御部（５５）と、
を備え、
前記エンコーダの異常が検出された場合、故障相特定制御にて前記モータを駆動し、前記エンコーダ信号の異常が生じている相である故障相、および、前記エンコーダ信号が正常である正常相を特定し、
前記駆動制御部は、
前記エンコーダが正常である場合、全相の前記エンコーダ信号に基づいて前記通電相を切り替える正常時フィードバック制御により前記モータの駆動を制御し、
前記故障相が特定された場合、前記正常相の前記エンコーダ信号に基づいて前記通電相を切り替える故障時フィードバック制御により前記モータの駆動を制御し、
前記故障時フィードバック制御中、前記故障相のパルスエッジが適正タイミングで発生していると判定された場合、前記故障相を正常復帰させるシフトレンジ制御装置。
【請求項２】
前記故障時フィードバック制御中であって、前記故障相の正常復帰前に前記故障相のパルスエッジが検出された場合、前記故障相のパルスエッジを読み飛ばし、前記通電相を保持する請求項１に記載のシフトレンジ制御装置。
【請求項３】
シフトレンジ切替開始時から前記故障時フィードバック制御を行う場合、任意の２相または１相への通電を保持する初回通電制御を行う請求項１または２に記載のシフトレンジ制御装置。
【請求項４】
３相のモータ巻線（１１）を有するモータ（１０）の駆動を制御することでシフトレンジの切り替えを制御するシフトレンジ制御装置であって、
位相が異なる３相以上のエンコーダ信号を出力可能なエンコーダ（１３）から前記エンコーダ信号を取得する信号取得部（５１）と、
前記エンコーダの異常を監視する異常監視部（５２）と、
前記モータの回転位置が目標シフトレンジに応じた目標回転位置となるように、前記モータ巻線の通電相を切り替えることで前記モータの駆動を制御する駆動制御部（５５）と、
を備え、
前記エンコーダの異常が検出された場合、故障相特定制御にて前記モータを駆動し、前記エンコーダ信号の異常が生じている相である故障相、および、前記エンコーダ信号が正常である正常相を特定し、
前記駆動制御部は、
前記エンコーダが正常である場合、全相の前記エンコーダ信号に基づいて前記通電相を切り替える正常時フィードバック制御により前記モータの駆動を制御し、
前記故障相が特定された場合、前記正常相の前記エンコーダ信号に基づいて前記通電相を切り替える故障時フィードバック制御により前記モータの駆動を制御し、
シフトレンジ切替開始時から前記故障時フィードバック制御を行う場合、任意の２相または１相への通電を保持する初回通電制御を行うシフトレンジ制御装置。
【請求項５】
前記モータの駆動中に前記エンコーダの異常が検出された場合、前記モータへの通電をオフにした後、前記故障相特定制御を行う請求項１〜４のいずれか一項に記載のシフトレンジ制御装置。
【請求項６】
前記駆動制御部は、
前記故障時フィードバック制御において、
前記正常相の前記エンコーダ信号のパルスエッジが検出されたタイミングにて前記通電相を切り替え、
次に検出されるべきパルスエッジが前記故障相のパルスエッジである場合、前記正常相のパルスエッジが検出されてから通電切替時間が経過したときに前記通電相を切り替える請求項１〜５のいずれか一項に記載のシフトレンジ制御装置。
【請求項７】
前記通電切替時間は、前記モータの回転数に応じて可変である請求項６に記載のシフトレンジ制御装置。
【請求項８】
前記駆動制御部は、
前記正常時フィードバック制御において、前記通電相の位相を進角または遅角させる位相補正制御を行い、
前記故障時フィードバック制御において、前記位相補正制御を行わない請求項１〜７のいずれか一項に記載のシフトレンジ制御装置。
【請求項９】
前記モータの回転位置が前記目標回転位置に到達したと判定された場合、固定相通電制御により前記モータを停止させる請求項１〜８のいずれか一項に記載のシフトレンジ制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
信号取得部は、位相が異なる３相以上のエンコーダ信号を出力可能なエンコーダ（１３）からエンコーダ信号を取得する。異常監視部は、エンコーダの異常を監視する。駆動制御部は、モータの回転位置が目標シフトレンジに応じた目標回転位置となるように、モータ巻線の通電相を切り替えることでモータの駆動を制御する。エンコーダの異常が検出された場合、故障相特定制御にてモータを駆動し、エンコーダ信号の異常が生じている相である故障相、および、エンコーダ信号が正常である正常相を特定する。これにより、エンコーダの異常が適切に特定され、正常相のエンコーダ信号の利用を継続可能であるので、シフトレンジを適切に切り替え可能である。駆動制御部は、エンコーダが正常である場合、全相のエンコーダ信号に基づいて通電相を切り替える正常時フィードバック制御によりモータの駆動を制御し、故障相が特定された場合、正常相のエンコーダ信号に基づいて通電相を切り替える故障時フィードバック制御によりモータの駆動を制御する。
第１の態様では、故障時フィードバック制御中、故障相のパルスエッジが適正タイミングで発生していると判定された場合、故障相を正常復帰させる。第２の態様では、シフトレンジ切替開始時から故障時フィードバック制御を行う場合、任意の２相または１相への通電を保持する初回通電制御を行う。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月15日(2021.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電動車両において、減速時又は減速する必要があるときに非駆動輪に連結される発電機
と、該発電機を冷却する冷凍装置と、前記発電機は該冷凍装置により冷却されて超電導発
電し、該発電された電気を充電するバッテリと、から構成されたことを特徴とする電動車
両用の超電導式創蓄電システム及びプラットフォーム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月25日(2021.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理装置に用いられる基板支持アセンブリであって、
基板支持領域及びフォーカスリング支持領域を有する支持台であり、前記フォーカスリング支持領域は、前記基板支持領域を取り囲む、該支持台と、
前記フォーカスリング支持領域とフォーカスリングとの間に設けられ、印加電圧によって変動する厚みを有する少なくとも一つの圧電素子と、
を備え、
前記少なくとも一つの圧電素子の厚みの変化は、前記フォーカスリングの鉛直方向の位置を変化させ、
前記少なくとも一つの圧電素子の厚みは、前記フォーカスリングと前記フォーカスリング支持領域との間での空間の発生を抑制するように変化可能である、
基板支持アセンブリ。
【請求項２】
前記少なくとも一つの圧電素子は、誘電性エラストマーで構成されている、
請求項１に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項３】
前記少なくとも一つの圧電素子は、鉛直方向に沿って交互に配置された複数の第１電極層及び複数の第２電極層を有し、
前記複数の第１電極層は、互いに電気的に接続されており、
前記複数の第２電極層は、互いに電気的に接続されている、
請求項１又は２に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項４】
前記少なくとも一つの圧電素子は、耐腐食性を有する樹脂で覆われている、請求項１〜３の何れか一項に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項５】
前記少なくとも一つの圧電素子と前記フォーカスリングの間に介在する部材を更に備え、
前記少なくとも一つの圧電素子の変動厚みは、前記フォーカスリング支持領域と前記フォーカスリングとの間の間隙を埋める、
請求項１〜４の何れか一項に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項６】
前記部材は、静電チャックである、請求項５に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項７】
前記少なくとも一つの圧電素子として、互いから分離された複数の圧電素子を備える、請求項１〜６の何れか一項に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項８】
前記フォーカスリングは、第１のリング部材及び第２のリング部材を含み、
前記第１のリング部材は、前記フォーカスリング支持領域上で、前記第２のリング部材の内側に設けられており、
前記複数の圧電素子は、前記第１のリング部材と前記フォーカスリング支持領域との間に設けられた一つ以上の圧電素子と、前記第２のリング部材と前記フォーカスリング支持領域との間に設けられた一つ以上の圧電素子と、を含む、
請求項７に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項９】
前記複数の圧電素子は、径方向に沿って配列されている、請求項７に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１０】
前記複数の圧電素子は、周方向に沿って配列されている、請求項７に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１１】
前記複数の圧電素子は、径方向かつ周方向に沿って配列されている、請求項７に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１２】
前記複数の圧電素子は、該複数の圧電素子に個別に電圧が印加可能である、請求項７に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１３】
前記複数の圧電素子は複数のグループにグループ化されており、該複数のグループに個別に電圧が印加可能である、請求項７に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１４】
前記複数の圧電素子の全てに一括して電圧が印加可能である、請求項７に記載の基板支持アセンブリ。
【請求項１５】
プラズマ処理チャンバと、
前記プラズマ処理チャンバ内に設けられた基板支持アセンブリと、
直流電源と、
を備え、
前記基板支持アセンブリは、
基板支持領域及びフォーカスリング支持領域を有する支持台であり、前記フォーカスリング支持領域は、前記基板支持領域を取り囲む、該支持台と、
前記フォーカスリング支持領域の上方に配置されるフォーカスリングと、
前記フォーカスリング支持領域と前記フォーカスリングとの間に設けられ、前記直流電源により印加される電圧によって変動する厚みを有する少なくとも一つの圧電素子と、
を備え、
前記少なくとも一つの圧電素子の厚みの変化は、前記フォーカスリングの鉛直方向の位置を変化させ、
前記少なくとも一つの圧電素子の厚みは、前記フォーカスリングと前記フォーカスリング支持領域との間での空間の発生を抑制するように変化可能である、
プラズマ処理装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載のプラズマ処理装置を用いるプラズマ処理方法であって、
前記フォーカスリング支持領域の上方での前記フォーカスリングの上面の鉛直方向の位置を調整するために、前記少なくとも一つの圧電素子の厚みを調整する工程と、
前記基板支持領域上に基板が載置されている状態で、前記プラズマ処理チャンバ内でプラズマを生成する工程と、
を含むプラズマ処理方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月9日(2021.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電チャックの生産方法であって、
凹部、及び、前記凹部の底面上に凸部を有するプラズマ処理後の静電チャックを提供する工程と、
前記凸部を除いて前記凹部を覆う第１のマスクを形成する工程と、
前記第１のマスクを通して前記凸部の表面を除去する工程と、
前記第１のマスクを除去する工程と、
前記凸部の位置とは異なる位置の前記底面に第２のマスクを形成する工程と、
前記第２のマスクを通して前記プラズマ処理後の静電チャックの表面を除去する工程と、
前記第２のマスクを除去する工程と、を備える、
静電チャックの生産方法。
【請求項２】
前記第１のマスクを通して前記凸部の表面を除去する工程は、
前記凸部を削る、
請求項１に記載の静電チャックの生産方法。
【請求項３】
前記第２のマスクを通して前記プラズマ処理後の静電チャックの表面を除去する工程は、
前記第２のマスクが形成された位置に新たな凸部を形成することを含む、
請求項１または請求項２に記載の静電チャックの生産方法。
【請求項４】
前記第２のマスクを除去する工程は、
新たな前記凸部の表面を研磨する、
請求項３に記載の静電チャックの生産方法。
【請求項５】
前記静電チャックを提供する工程において提供される前記プラズマ処理後の静電チャックは、前記静電チャックの外周縁部に設けられたリブを有し、
前記第１のマスクを形成する工程は、前記凸部を除いた前記リブ及び前記凹部を覆う前記第１のマスクを形成する、
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の静電チャックの生産方法。
【請求項６】
前記第２のマスクを除去する工程は、
新たな前記凸部の表面、及び、前記リブの表面を研磨する、
請求項５に記載の静電チャックの生産方法。
【請求項７】
前記プラズマ処理後の静電チャックの表面を除去する工程は、
ブラスト加工を用いる、
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の静電チャックの生産方法。
【請求項８】
前記静電チャックが配置されるプラズマ処理装置の動作時間、前記プラズマ処理装置のメンテナンスサイクル、前記静電チャックを貫通する貫通穴を上下動するピンの駆動トルク値に基づいて、生産時期を判定する、
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の静電チャックの生産方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】静電チャックの生産方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本開示は、静電チャックの生産方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
一の側面では、本開示は、加工量を減らすことができる静電チャックの生産方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、一の態様によれば、静電チャックの生産方法であって、凹部、及び、前記凹部の底面上に凸部を有するプラズマ処理後の静電チャックを提供する工程と、前記凸部を除いて前記凹部を覆う第１のマスクを形成する工程と、前記第１のマスクを通して前記凸部の表面を除去する工程と、前記第１のマスクを除去する工程と、前記凸部の位置とは異なる位置の前記底面に第２のマスクを形成する工程と、前記第２のマスクを通して前記プラズマ処理後の静電チャックの表面を除去する工程と、前記第２のマスクを除去する工程と、を備える、静電チャックの生産方法が提供される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一の側面によれば、加工量を減らすことができる静電チャックの生産方法を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月28日(2021.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の組成物に接触させる接触領域を一部に有するモールドを用いて、当該組成物を成形する成形装置であって、
前記モールドに力を加えることにより、前記接触領域を前記基板に向けて撓むように変形させる変形部と、
前記変形部による前記接触領域の変形を制御しながら前記モールドと前記基板との間隔を小さくすることにより前記接触領域と前記基板上の組成物とを接触させる接触処理を、前記基板における複数のショット領域の各々について行う制御部と、
を含み、
前記複数のショット領域は、前記接触領域の全体が接触する第１ショット領域および第２ショット領域を含み、且つ、前記第１ショット領域および第２ショット領域は、前記接触処理中に前記モールドと前記基板とが対面する面積を示す対面面積が前記第１ショット領域に対する前記接触処理と前記第２ショット領域に対する前記接触処理中とで異なるように前記基板上に位置し、
前記制御部は、前記対面面積に応じて、前記接触処理の処理条件を前記第１ショット領域と前記第２ショット領域とで変更する、ことを特徴とする成形装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記間隔を小さくするように前記モールド及び前記基板の少なくとも１つを相対的に駆動するときの相対速度を前記処理条件として変更する、ことを特徴とする請求項１に記載の成形装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記対面面積が小さいほど、前記相対速度が速くなるように前記処理条件を変更する、ことを特徴とする請求項２に記載の成形装置。
【請求項４】
前記制御部は、
第１相対速度で前記間隔を小さくするように前記モールドと前記基板とを近づけ、前記間隔が所定の間隔になったとき前記第１相対速度より遅い第２相対速度に切り替えて、前記第２相対速度で前記間隔を小さくするように前記モールドと前記基板とを近づけるように前記接触処理を制御し、
前記所定の間隔、前記第１相対速度、及び前記第２相対速度のうち少なくとも１つを前記処理条件として変更する、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記対面面積が小さいほど、前記所定の間隔を小さくするように前記処理条件を変更する、ことを特徴とする請求項４に記載の成形装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記対面面積が小さいほど、前記第１相対速度および前記第２相対速度のうち少なくとも１つが速くなるように前記処理条件を変更する、ことを特徴とする請求項４に記載の成形装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記変形部により前記モールドに加える力を前記処理条件として変更する、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記対面面積が小さいほど、前記変形部により前記モールドに加える力が大きくなるように前記処理条件を変更する、ことを特徴とする請求項７に記載の成形装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記接触領域を前記基板上のインプリント材に押圧するときの押圧力を前記処理条件として変更する、ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記対面面積が小さいほど前記押圧力が小さくなるように前記処理条件を変更する、ことを特徴とする請求項９に記載の成形装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記第１ショット領域に対する前記接触処理中の前記接触領域と前記第２ショット領域に対する前記接触処理中の前記接触領域との形状差が低減するように前記処理条件を変更する、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項１２】
前記対面面積は、上方から前記モールドと前記基板とを見たときに前記モールドと前記基板とが重なり合う面積である、ことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項１３】
前記接触領域は、前記基板上の組成物に転写すべきパターンを有し、
前記成形装置は、前記モールドの前記接触領域を前記基板上の組成物に接触させることにより、前記基板上に組成物のパターンを形成する、ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項１４】
前記接触領域は、平面であり、
前記成形装置は、前記モールドの前記接触領域を前記基板上の組成物に接触させることにより当該組成物を平坦にする、ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の成形装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の成形装置を用いて基板上の組成物を成形する成形工程と、
成形工程を経た前記基板を加工する工程と、を含み、
加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての成形装置は、基板上の組成物に接触させる接触領域を一部に有するモールドを用いて、当該組成物を成形する成形装置であって、前記モールドに力を加えることにより、前記接触領域を前記基板に向けて撓むように変形させる変形部と、前記変形部による前記接触領域の変形を制御しながら前記モールドと前記基板との間隔を小さくすることにより前記接触領域と前記基板上の組成物とを接触させる接触処理を、前記基板における複数のショット領域の各々について行う制御部と、を含み、前記複数のショット領域は、前記接触領域の全体が接触する第１ショット領域および第２ショット領域を含み、且つ、前記第１ショット領域および第２ショット領域は、前記接触処理中に前記モールドと前記基板とが対面する面積を示す対面面積が前記第１ショット領域に対する前記接触処理と前記第２ショット領域に対する前記接触処理中とで異なるように前記基板上に位置し、前記制御部は、前記対面面積に応じて、前記接触処理の処理条件を前記第１ショット領域と前記第２ショット領域とで変更する、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月6日(2021.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【図１】第１の実施形態に係る配線基板の構造を示す断面図である。
【図２】導電層、充填材及び第１の配線層を示す断面図である。
【図３】第１の実施形態に係る配線基板の製造方法を示す断面図（その１）である。
【図４】第１の実施形態に係る配線基板の製造方法を示す断面図（その２）である。
【図５】第１の実施形態に係る配線基板の製造方法を示す断面図（その３）である。
【図６】第１の実施形態に係る配線基板の製造方法を示す断面図（その４）である。
【図７】第１の実施形態に係る配線基板の製造方法を示す断面図（その５）である。
【図８】第１の実施形態に係る配線基板の製造方法を示す断面図（その６）である。
【図９】第２の実施形態に係る配線基板の製造方法を示す断面図（その１）である。
【図１０】第２の実施形態に係る配線基板の製造方法を示す断面図（その２）である。
【図１１】第３の実施形態に係る半導体パッケージを示す断面図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
（第３の実施形態）
次に、第３の実施形態について説明する。第３の実施形態は半導体パッケージに関する。図１１は、第３の実施形態に係る半導体パッケージ５００を示す断面図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
図１１に示すように、第３の実施形態に係る半導体パッケージ５００は、第１の実施形
態に係る配線基板１００、半導体チップ３００、バンプ３１２、アンダーフィル樹脂３３
０及び外部接続端子３３１を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2020061449.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2020061449.tif 000002
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月15日(2021.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
厚膜抵抗体は、厚膜抵抗体用ペーストをセラミックス基板上に印刷し、焼成することにより形成される。この厚膜抵抗体用ペーストは、導電性粉末と、ガラスフリットと、これらを印刷に適したペースト状にするための有機ビヒクルとにより、実質的に構成される。導電性粉末としては、二酸化ルテニウム（ＲｕＯ２）やパイロクロア型ルテニウム系酸化物（Ｐｂ２Ｒｕ２Ｏ７−Ｘ、Ｂｉ２Ｒｕ２Ｏ７）などのルテニウム（Ｒｕ）系酸化物が、ガラスフリットとしては、ホウケイ酸鉛ガラス（ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３）やアルミノホウケイ酸鉛ガラス（ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３）などの鉛を多量に含むホウケイ酸鉛系ガラスが、それぞれ使用されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
これらの厚膜抵抗体用ペーストにおいて、成膜後の厚膜抵抗体の特性を改善するために、各種の添加剤が含有されている。たとえば、抵抗温度係数（ＴＣＲ）を調整するための添加剤として酸化チタン（ＴｉＯ２）が使用されている。特開昭６１-２０６２０１号公報には、導電性粉末と、ＰｂＯを含有するガラス粉末と、酸化チタンが組成物中の固形分１００重量部あたりＴｉとして０．０２５重量部〜６．０重量部添加されている、厚膜抵抗体用組成物が開示されている。この添加剤としての酸化チタンは、厚膜抵抗体用組成物中に、粒径の大きな粉末として添加されるか、あるいは、ガラス粉末中に予め添加されている。しかしながら、添加剤として酸化チタンを用いて、鉛を含有しない厚膜抵抗体を作製すると、その抵抗値を１０ｋΩ以上とした場合に、電流ノイズが高いという問題がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の厚膜抵抗体用組成物、厚膜抵抗体用ペースト、および厚膜抵抗体は、有害な鉛を含有することなく、抵抗値が高く、かつ、電流ノイズが小さいという、良好な電気的特性を発揮することができるため、従来の鉛を含む厚膜抵抗体用ペーストに代替することで、環境汚染の問題のないチップ抵抗器やハイブリッドＩＣなどの抵抗部品を提供できるため、その工業的価値はきわめて大きい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
以下、本発明の厚膜抵抗体用組成物、厚膜抵抗体用ペースト、および厚膜抵抗体について、詳細に説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
［厚膜抵抗体用ペーストの調製方法］
厚膜抵抗体用ペーストの調製は、公知の技術を用いればよく、たとえば、３本ロールミル、ボールミルなどを用いることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
［厚膜抵抗体用ペーストの作製］
厚膜抵抗体の目標とする、焼成後の膜厚を７μｍ〜９μｍ、面積抵抗値を１０ｋΩ（±２０％）、３３ｋΩ（±２０％）、１００ｋΩ（±２０％）に設定し、実施例１〜３、および、比較例１〜３として、上述した導電性粉末、ガラスフリット、およびヒュームドチタンを表１に示す割合で含有する厚膜抵抗体用組成物６０質量％と、有機ビヒクル４０質量％とを混合し、３本ロールミルで混練して、厚膜抵抗体用抵抗ペーストを作製した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
［厚膜抵抗体の作製］
実施例１〜３、および、比較例１〜３のそれぞれについて、あらかじめＡｇＰｄペーストを用いて電極を形成しておいたアルミナ基板上に、上記の通りに作製した厚膜抵抗体用ペーストを、幅１ｍｍで、電極間が１ｍｍ（１ｍｍ×１ｍｍ）となるサイズにスクリーン印刷により塗布し、その後、基板に塗布された厚膜抵抗体用ペーストを、オーブンを用いて１５０℃で１０分間乾燥した後、ベルト焼成炉を用いて、ピ−ク温度８５０℃、ピーク時間９分、焼成時間をトータルで３０分とする条件にて、焼成することにより、表２に示す厚膜抵抗体をそれぞれ作製した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
［厚膜抵抗体の評価］
それぞれの実施例および比較例で製造した厚膜抵抗体の電気的特性を評価するため、それぞれの厚膜抵抗体について、以下のように、面積抵抗値、および電流ノイズを測定した。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月5日(2021.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯車部を有するはすば歯車であって、
前記歯車部には、歯直角に対して直角な方向で切った歯の断面に平行なファイバーフローが形成されている、はすば歯車。
【請求項２】
前記歯車部と一体成形された回転軸を有する請求項１に記載のはすば歯車。
【請求項３】
前段金型によって平歯車を成形する平歯車成形工程と、
前記平歯車の軸心を中心に被加工材を捻り部材により保持して捻りながら、前記前段金型によって成形された前記平歯車を押込み部材により後段金型に押込むことにより、前記後段金型によってはすば歯車を成形するはすば歯車成形工程と、を有するはすば歯車の製造方法。
【請求項４】
前記前段金型は、第１金型と第２金型とを有し、
前記第１金型は、押込まれた前記被加工材を、第１の歯たけを有する平歯車に成形し、
前記第２金型は、前記第１の歯たけを有する平歯車を、前記第１の歯たけよりも高い第２の歯たけを有する平歯車に成形する請求項３に記載のはすば歯車の製造方法。
【請求項５】
前記後段金型は、第３金型と第４金型とを有し、
前記第３金型は、押込まれた前記平歯車を、第１のねじれ角を有するはすば歯車に成形し、
前記第４金型は、前記第１のねじれ角を有するはすば歯車を、前記第１のねじれ角よりも大きな第２のねじれ角を有するはすば歯車に成形する請求項３又は請求項４に記載のはすば歯車の製造方法。
【請求項６】
前記ねじり部材は、前記被加工材に一体成形された回転軸に係合して回転する回転部材により構成され、
前記はすば歯車成形工程では、前記回転部材によって前記被加工材を捻る請求項３〜請求項５のいずれかに記載のはすば歯車の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月19日(2021.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の金属板材の成形方法において、成形品は、無段変速機のプーリに摺接する側面及び薄肉部を有するボディと、ボディの上端部から突出するネックと、ネックに連なり且つネックより幅広のヘッドとを有し、ボディとヘッドとの間に金属ベルトを挟持する無段変速機用エレメントであり、載置工程及び押圧工程では、厚み縮小部として薄肉部を形成する。この金属板材の成形方法は、無段変速機用エレメントを得る場合に、特に好適に適用することができる。これによって、表面の厚みムラ等が抑制され、品質に優れた無段変速機用エレメントを得ることが可能になる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の金属板材の成形方法において、傾斜面には、外側端部から内側端部に向かって、該傾斜面の少なくとも一部が切欠かれた切欠き部が形成され、金属板材の、載置工程で切欠き部に臨む位置に載置されたことで、押圧工程で厚み縮小部より厚肉に形成された厚肉部の少なくとも一部を残して、金属板材に無段変速機用エレメントの外形形状を打抜き加工する打抜き工程を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板材にパンチとダイを用いたつぶし加工を施すことで厚みを縮小させた厚み縮小部を備える成形品を得る金属板材の成形方法であって、
前記ダイの加工面には、間隔をおいて対向する一対の傾斜面と、前記一対の傾斜面同士の間に介在する平坦面とが設けられ、
前記一対の傾斜面のそれぞれは、前記平坦面に近接する側の内側端部と、前記平坦面から離間する側の外側端部とを有するとともに、前記内側端部から前記外側端部に向かうにつれて前記平坦面から突出する方向に傾斜し、
前記傾斜面には、該傾斜面の長手方向に形成された切欠き部を有し、
前記一対の傾斜面の両方に渡るように前記金属板材を前記ダイに載置する載置工程と、
前記ダイに前記パンチを接近させて、前記一対の傾斜面のそれぞれと前記パンチとの間で前記金属板材を押圧することで前記厚み縮小部を形成する押圧工程と、を有し、
前記押圧工程では、前記金属板材の前記内側端部に臨む面と、該内側端部との間に隙間が形成された状態で維持されるように前記パンチの下死点を設定し、
前記成形品は、無段変速機用エレメントとして、
薄肉部と、無段変速機のプーリに摺接する側面とを有するボディと、
前記ボディの上端部から突出するネックと、
前記ネックよりも幅広であり且つ前記ネックに連なるヘッドと、を有し、
前記無段変速機用エレメントは、前記ボディと前記ヘッドとの間に金属ベルトを挟持し、
前記載置工程および前記押圧工程では、前記厚み縮小部として前記薄肉部を形成し、
前記切欠き部は、前記外側端部から前記内側端部に向かって前記傾斜面に形成され、
前記載置工程で前記切欠き部に臨む位置に厚肉部を載置することにより、前記押圧工程で形成された前記厚肉部の少なくとも一部を前記薄肉部よりも厚く残しつつ、前記金属板材に前記無段変速機用エレメントの外形形状を打抜き加工する打抜き工程をさらに有することを特徴とする金属板材の成形方法。
【請求項２】
請求項１記載の金属板材の成形方法において、
前記切欠き部は、前記外側端部から前記内側端部に向かって、前記傾斜面の中央に形成され、
前記載置工程では、前記金属板材の前記厚み縮小部より厚肉となる前記厚肉部を形成する箇所が前記切欠き部に臨むように前記金属板材を前記ダイに載置することを特徴とする金属板材の成形方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月5日(2021.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースと、前記ベースおよびピペットチップの配列に関連付けられているピペットチップレセプタクルプレートと、シートとを備えるピペットチップトレイであって、
前記ベースは、ベース底と、複数の壁とを備え、
前記複数の壁の各々は、上側末端と、内側表面とを備え、
前記ベースは、前記複数の壁のうちの２つ以上の壁の前記内側表面上に上下方向に配置されている複数のベースリブを備え、
前記複数のベースリブの各々は、上側末端を備え、
前記複数のベースリブの各々は、前記複数のベースリブのうちの別のベースリブに接触せず、
前記ピペットチップレセプタクルプレートは、上側表面と、下側表面と、前記上側表面から前記下側表面まで前記プレートを横切るボアの配列と、前記プレートの前記下側表面上に配置されている複数のプレートリブとを備え、
前記複数のプレートリブの各々は、下側縁と、２つの対向する側縁とを備え、
前記複数のベースリブの少なくともサブセットの各々の前記上側末端の少なくとも一部は、プレートリブの前記下側縁の一部に接触し、
前記シートは、上側表面と、下側表面と、前記プレート内の前記ボアの配列におけるボアと中心を共有する穴の配列とを備え、
前記シートの前記下側表面は、前記プレートの前記上側表面に接触し、
前記ピペットチップの配列における前記複数のピペットチップの各々は、外側表面を備え、前記シートの前記穴の配列における穴内に配置され、前記プレートの前記ボアの配列のボア内に配置されている、
ピペットチップトレイ。
【請求項２】
前記シートの前記複数の穴の各々は、内側穴縁と有効直径とを備え、
前記シートの前記複数の穴の各々の前記穴縁は、前記シートの前記穴内に配置されているピペットチップの外側表面に接触し、
前記シートの前記穴の前記有孔直径は、前記穴縁に接触している前記ピペットチップの前記外側表面の外部直径より小さい、
請求項１に記載のピペットチップトレイ。
【請求項３】
前記穴縁は、締りばめによって前記ピペットチップの前記外側表面に接触している、請求項２に記載のピペットチップトレイ。
【請求項４】
前記穴縁は、重力より大きな力によって前記ピペットチップを保持する、請求項３に記載のピペットチップトレイ。
【請求項５】
前記ピペットチップの配列における前記複数のピペットチップの各々は、上下方向に配置された複数のリブを備え、前記上下方向に上側リブ末端から下側リブ末端への主要長さを有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のピペットチップトレイ。
【請求項６】
前記ピペットチップの配列における前記複数のピペットチップの各々に配置されている前記複数のリブの各々の前記下側リブ末端は、前記シートの前記上側表面に接触している、請求項５に記載のピペットチップトレイ。
【請求項７】
前記ピペットチップの配列における前記複数のピペットチップの各々は、フィルタを備える、請求項１〜６のいずれか一項に記載のピペットチップトレイ。
【請求項８】
前記ピペットチップの配列における前記複数のピペットチップの各々は、フィルタを備えない、請求項１〜６のいずれか一項に記載のピペットチップトレイ。
【請求項９】
前記ボアの配列における前記複数のボアの各々は、内側ボア縁を備え、
前記複数のボアの各々は、有孔直径を有し、
前記有孔直径は、前記ボア縁に隣接する前記ピペットチップの前記外側表面の外部直径より小さい、請求項１に記載のピペットチップトレイ。
【請求項１０】
ベースと、前記ベースおよびピペットチップの配列に関連付けられているピペットチップレセプタクルプレートと、シートとを備えるピペットチップトレイであって、
前記ベースは、ベース底と、複数の壁とを備え、
前記複数の壁の各々は、上側末端と、内側表面とを備え、
前記ベースは、前記複数の壁のうちの２つ以上の壁の前記内側表面上に上下方向に配置されている複数のベースリブを備え、
前記複数のベースリブの各々は、上側末端を備え、
前記複数のベースリブの各々は、前記複数のベースリブのうちの別のベースリブに接触せず、
前記ピペットチップレセプタクルプレートは、上側表面と、下側表面と、前記上側表面から前記下側表面まで前記プレートを横切るボアの配列と、前記プレートの前記下側表面上に配置されている複数のプレートリブとを備え、
前記複数のプレートリブの各々は、下側縁と、２つの対向する側縁とを備え、
前記複数のベースリブの少なくともサブセットの各々の前記上側末端の少なくとも一部は、プレートリブの前記下側縁の一部に接触し、
前記シートは、上側表面と、下側表面と、前記プレート内の前記ボアの配列におけるボアと中心を共有する穴の配列とを備え、
前記ピペットチップの配列における前記ピペットチップの各々は、上側末端と、上側末端内側直径と、外側表面とを備え、
前記ピペットチップの配列における前記ピペットチップの各々は、前記プレートの前記ボアの配列のボア内に配置され、
前記シートの前記下側表面は、前記ピペットチップの前記上側末端に接触しており、
前記シートの前記穴の配列の前記複数の穴の各々は、前記ピペットチップの配列のピペットチップの前記上側末端内側直径と中心を共有する、
ピペットチップトレイ。
【請求項１１】
前記シートの前記下側表面は、接着剤によってピペットチップの上側表面に接着している、請求項１０に記載のピペットチップトレイ。
【請求項１２】
前記シートは、接着力によって前記ピペットチップを保持している、請求項１０または請求項１１に記載のピペットチップトレイ。
【請求項１３】
前記接着力は、重力より大きい、請求項１２に記載のピペットチップトレイ。
【請求項１４】
前記ピペットチップの配列における前記複数のピペットチップの各々は、フィルタを備える、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載のピペットチップトレイ。
【請求項１５】
前記ピペットチップの配列における前記複数のピペットチップの各々は、フィルタを備えない、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載のピペットチップトレイ。
【請求項１６】
前記ボアの配列における前記複数のボアの各々は、内側ボア縁を備え、
前記複数のボアの各々は、有孔直径を有し、
前記有孔直径は、前記ボア縁に隣接する前記ピペットチップの前記外側表面の外部直径より小さい、請求項１０に記載のピペットチップトレイ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月21日(2021.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
散薬を放出するために収容することができ、散薬放出装置に取り付けられることができ、散薬を放出する排出口と前記排出口を遮蔽する遮蔽部とを有し、前記遮蔽部の遮蔽面の、遮蔽部近傍の底面となす角度が、前記遮蔽部が開いた際に静止状態で散薬の崩れない角度以下である、略直方体の散薬収容容器を、前記排出口が略水平方向であるように保管できる散薬収容容器保管棚。
【請求項２】
請求項１に記載の散薬収容容器保管棚から、散薬収容容器移送装置によって前記排出口が略水平方向の姿勢のまま移送される前記散薬収容容器を、前記排出口が略水平方向であるように取付けて、散薬を放出する散薬放出装置。
【請求項３】
前記散薬収容容器は、前記排出口を更に遮蔽する追加遮蔽部を有することを特徴とする請求項２に記載の散薬放出装置。
【請求項４】
前記散薬収容容器の前記追加遮蔽部を、前記散薬収容容器の着脱の際に、機械的に開閉することを特徴とする請求項３に記載の散薬放出装置。
【請求項５】
Ａ）散薬収容容器と、
Ｂ）請求項１に記載の散薬収容容器保管棚と
Ｃ）前記散薬収容容器保管棚から前記散薬収容容器を移送する散薬収容容器移送装置と、
Ｄ）前記散薬収容容器移送装置から、前記散薬収容容器の移送を受けて、前記排出口が略水平方向であるように該散薬収容容器を取付けて、散薬を放出する散薬放出装置と、
Ｅ）前記散薬放出装置から放出された散薬を包装する散薬包装装置と
を有する散薬分包機。
【請求項６】
請求項５に記載の散薬分包機であって、前記散薬収容容器移送装置が、
前記散薬収容容器を保持する散薬収容容器保持部と、
前記散薬収容容器保持部を、第１の直線方向に移動可能な第１の移動部と、
前記散薬収容容器保持部を、第２の直線方向に移動可能な第２の移動部と、
前記散薬収容容器保持部を、第３の直線方向に移動可能な第３の移動部と
を有することを特徴とする散薬分包機。
【請求項７】
−散薬収容容器と、
−請求項１に記載の散薬収容容器保管棚と
−前記散薬収容容器を手動で移送し、前記排出口が略水平方向であるように該散薬収容容器を取付けて、散薬を放出する散薬放出装置と、
−前記散薬放出装置から放出された散薬を包装する散薬包装装置と
を有する散薬分包機。
【請求項８】
−散薬収容容器と、
−請求項１に記載の散薬収容容器保管棚と
を有する散薬分包機用の散薬事前充填装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月9日(2021.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示画面と、
前記表示画面を観察する被験者の注視点の位置を検出する注視点検出部と、
前記表示画面に対して特定対象物と、前記特定対象物とは異なる比較対象物とが含まれる画像を表示する表示制御部と、
前記特定対象物に対応した特定領域と、前記比較対象物に対応した比較領域とを設定する領域設定部と、
前記注視点の位置に基づいて、前記画像が表示される期間に前記注視点が前記特定領域及び前記比較領域に存在するか否かをそれぞれ判定する判定部と、
前記判定部における判定結果に基づいて、注視点データを算出する演算部と、
前記注視点データに基づいて、前記被験者の評価データを求める評価部と
を備え
前記表示制御部は、
前記表示画面に前記特定対象物と前記比較対象物とを表示する期間において前記特定対象物の表示形態を変化させる第１表示動作を行った後に前記特定対象物と前記比較対象物とを前記表示画面に表示する第２表示動作を行い、
前記第１表示動作において前記表示形態が変化する対象を記憶するよう促す指示を表示する
評価装置。
【請求項２】
前記第１表示動作において前記特定対象物の表示形態を変化させる動作は、前記特定対象物の少なくとも一部を非表示とする動作を含む
請求項１に記載の評価装置。
【請求項３】
前記第２表示動作において表示する前記特定対象物の画像は、前記第１表示動作において変化する前の画像である
請求項１または請求項２に記載の評価装置。
【請求項４】
前記評価部は、前記表示制御部が前記第２表示動作を行なっている期間において前記注視点が前記特定領域に存在した時間が所定時間以上であれば、被験者が認知機能障害および脳機能障害者である可能性が低いと評価する
請求項１から３のいずれか１項に記載の評価装置。
【請求項５】
前記評価部は、前記表示制御部が前記第２表示動作を行なっている期間において前記注視点が到達した最終領域が前記特定領域であれば、被験者が認知機能障害および脳機能障害者である可能性が低いと評価する
請求項１から３のいずれか１項に記載の評価装置。
【請求項６】
表示画面に画像を表示することと、
前記表示画面を観察する被験者の注視点の位置を検出することと、
特定対象物と前記特定対象物とは異なる比較対象物とが含まれる前記画像を前記表示画面に表示することと、
前記特定対象物に対応した特定領域と、前記比較対象物に対応した比較領域とを設定することと、
前記注視点の位置に基づいて、前記表示画面に前記画像が表示される表示期間に前記注視点が前記特定領域及び前記比較領域に存在するか否かをそれぞれ判定することと、
判定結果に基づいて、前記表示期間における注視点データを算出することと、
前記注視点データに基づいて、前記被験者の評価データを求めることと、
前記表示画面に前記特定対象物と前記比較対象物とを表示する期間において前記特定対象物の表示形態を変化させる第１表示動作を行った後に前記特定対象物と前記比較対象物とを前記表示画面に表示する第２表示動作を行うことと、
前記第１表示動作において前記表示形態が変化する対象を記憶するよう促す指示を表示することと
を含む評価方法。
【請求項７】
表示画面に画像を表示する処理と、
前記表示画面を観察する被験者の注視点の位置を検出する処理と、
特定対象物と前記特定対象物とは異なる比較対象物とが含まれる前記画像を前記表示画面に表示する処理と、
前記特定対象物に対応した特定領域と、前記比較対象物に対応した比較領域とを設定する処理と、
前記注視点の位置に基づいて、前記表示画面に前記画像が表示される表示期間に前記注視点が前記特定領域及び前記比較領域に存在するか否かをそれぞれ判定する処理と、
判定結果に基づいて、前記表示期間における注視点データを算出する処理と、
前記注視点データに基づいて、前記被験者の評価データを求める処理と、
前記表示画面に前記特定対象物と前記比較対象物とを表示する期間において前記特定対象物の表示形態を変化させる第１表示動作を行った後に前記特定対象物と前記比較対象物とを前記表示画面に表示する第２表示動作を行う処理と、
前記第１表示動作において前記表示形態が変化する対象を記憶するよう促す指示を表示する処理と
をコンピュータに実行させる評価プログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月23日(2020.12.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気パネルに描画された文字、図形等を消去可能な磁気筆記具であって、
一方の端部と、当該一方の端部に対向する他方の端部とを有し、長手方向に延在する内部空間が形成され、磁界を透過可能な材料から構成されたハウジングと、
前記内部空間内に長手方向に沿うように配置され、回転軸を中心に回転可能である第１の磁石とを有し、
第１の磁石は、前記回転軸の径方向にＳ極とＮ極とが着磁され、少なくとも前記ハウジングの長手方向において磁界を作用させて磁気パネル上の文字等を消去可能である、磁気筆記具。
【請求項２】
第１の磁石は、前記ハウジングの一方の端部から磁力線を生じさせるように前記ハウジング内に配置され、前記一方の端部において磁気パネル上の文字等を消去可能である、請求項１に記載の磁気筆記具。
【請求項３】
前記磁気筆記具はさらに、内部空間内の前記一方の端部側に配置され、かつ前記回転軸を中心に回転可能な第２の磁石を含み、
第２の磁石は、前記回転軸の径方向にＳ極とＮ極が着磁され、
第２の磁石は、前記ハウジングの一方の端部から磁力線を生じさせるように配置され、前記ハウジングの一方の端部において磁気パネル上の文字等を消去可能である、請求項１に記載の磁気筆記具。
【請求項４】
磁気筆記具はさらに、内部空間内の長手方向に延在する筆記用部材を含み、筆記用部材の先端には磁性体部材が取り付けられ、前記磁性体部材は、磁気パネル上に描画するとき、ハウジングの一方の端部から突出可能である、請求項１ないし３いずれか１つに記載の磁気筆記具
【請求項５】
前記筆記用部材は、ハウジング内に複数収容され、複数の筆記用部材は、異なる線種を描画するための磁性体部材を先端に含み、選択された１つの筆記用部材がハウジングの一方の端部から突出可能である、請求項４に記載の磁気筆記具。
【請求項６】
前記磁気筆記具はさらに、第１の磁石を回転させるためのモータ、およびバッテリーをハウジング内に含む、請求項１ないし５いずれか１つに記載の磁気筆記具。
【請求項７】
表示用の磁気パネルに磁界を作用させ、任意の文字、図形、記号等を描画することができる磁気筆記具であって、
前記磁気筆記具の先端部に取り付けられ、磁性体材料から構成されたホルダーと、
前記ホルダー内の内部空間に収容された少なくとも１つの磁石とを有し、
前記ホルダーは、開口が形成された底部と当該底部に接続された側部とを有し、前記内部空間が前記底部と前記側部とによって形成され、前記磁石は、前記底部の開口によって露出される表面を有する、磁気筆記具。
【請求項８】
前記ホルダー内に複数の磁石が収容される、請求項７に記載の磁気筆記具。
【請求項９】
前記底部の開口の大きさは、前記磁石からの磁力線の半径方向の大きさを調整する、請求項７に記載の磁気筆記具。
【請求項１０】
前記底部および前記開口は円形状であり、前記側部は円筒状である、請求項７に記載の磁気筆記具。
【請求項１１】
前記磁石の前記開口によって露出される表面は、前記底部の厚さの分だけ前記底部の表面から窪んだ位置にある、請求項７ないし１０いずれか１つに記載の磁気筆記具。
【請求項１２】
前記底部は、前記側部から折り曲げられる、請求項７または１１に記載の磁気筆記具。
【請求項１３】
前記底部の開口から露出する磁石の表面は、磁界を透過可能な材料から構成された保護部材によって保護されている、請求項７ないし１２いずれか１つに記載の磁気筆記具。
【請求項１４】
磁気筆記具は、把持用のグリップ部と、
前記グリップ部の一方の端部に設けられた回転機構とを有し、
前記ホルダーは、前記回転機構を介してグリップ部に接続される、請求項７ないし１３いずれか１つに記載の磁気筆記具。
【請求項１５】
前記ホルダーは、グリップ部の長手方向の軸中心に対して直交する方向において回転可能である、請求項１４に記載の磁気筆記具。
【請求項１６】
請求項１ないし１５いずれか１つに記載の磁気筆記具と、
磁気パネルと、
を有する磁気筆記システム。
【請求項１７】
表示用の磁気パネルに磁界を作用させ、任意の文字、図形、記号等を描画することができる磁気筆記具の先端部に取り付けられる磁性体ホルダーの製造方法であって、
内部空間が形成されるように底部と当該底部に接続された側部を持つように磁性体材料の部材を加工し、
前記底部を貫通する開口を形成し、
前記内部空間内に少なくとも１つの磁石を収容させ、前記底部の開口から前記磁石の表面の一部を露出させる、製造方法。
【請求項１８】
前記部材は、塑性加工によりカップ形状に加工される、請求項１７に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記底部の厚さを切削加工する工程を含む、請求項１７または１８に記載の製造方法。