【手続補正書】
【提出日】令和3年5月27日(2021.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽電子放出断層撮影法で使用するＨ215Ｏを調製し、注入するためのシステムのための調節手段であって、前記調節手段は、
−  第２の食塩水供給部４０１と、
−  Ｈ215Ｏの食塩溶液の第１のボーラスを備えるループ要素３２０と、
−  前記第２の食塩水供給部４０１から食塩水の事前に定められた第２のボーラスを回収し、前記第２のボーラスを事前に定められた速度で前記ループ要素３２０内に注入し、それにより、前記第２のボーラスが患者ライン５２０内に前記第１のボーラスを押し込むようにするための注入手段４２０と、
−  前記患者ライン５２０に隣接し、前記第１のボーラスの注入プロファイルを測定する第２の放射線検出器４４０と、を備え、
ここにおいて、前記第２のボーラスの注入速度および体積が、前記第１のボーラスの前記注入プロファイルを調節する、調節手段。
【請求項２】
陽電子放出断層撮影法で使用するＨ215Ｏを調製し、注入するためのシステムであって、前記システムは、
−  Ｈ215Ｏの食塩溶液を作製するための生成手段と、
−  注入する第１のボーラスを定めるためのボーラス手段であって、前記第１のボーラスはＨ215Ｏの前記食塩溶液を備え、事前に定められた体積および放射能濃度を有し、前記ボーラス手段は弁１００を備える、ボーラス手段と、
−  前記第１のボーラスの注入プロファイルを調節するための請求項１に記載の調節手段とを備える、システム。
【請求項３】
陽電子放出断層撮影法において使用するＨ215Ｏの流れを制御するための安全弁１００であって、前記安全弁１００は、
弁要素１２０を貫通する流路１２１を備える前記弁要素１２０と、
少なくとも３つの弁開口部１５１Ａ、Ｂ、Ｃを有する弁ハウジング１５０であって、各弁開口部１５１Ａ、Ｂ、Ｃは流体が前記安全弁１００内に流れ込む、または前記安全弁１００から流れ出るのを可能にする、弁ハウジング１５０と、
各々少なくとも１つの出口開口部を有する、少なくとも２つのオーバーフロー陥凹部１８０Ａ、Ｂ、Ｃとを備え、
ここにおいて、前記弁要素１２０および弁ハウジング１５０は、組み立て済み弁１００を形成するように接続可能であり、前記弁要素１２０および前記弁ハウジング１５０は接触領域１０１Ａ、Ｂ、Ｃにおいて互いに接触しており、
ここにおいて、前記組み立て済み弁１００は、少なくとも２つの異なる開放構成で配置構成され、前記開放構成のうちの一方は前記流路１２１および一組の前記弁開口部１５１Ａ、Ｂを通る流れ経路を画成し、前記開放構成のうちの他方は前記流路１２１および別の異なる一組の前記弁開口部１５１Ｂ、Ｃを通る流れ経路を画成し、
ここにおいて、前記少なくとも２つの開放構成の各々において、
−  各オーバーフロー陥凹部１８０Ａ、Ｂ、Ｃは、前記弁要素１２０と前記弁ハウジング１５０との間に配置構成され、
−  前記弁開口部のうちの少なくとも２つは、前記流路１２１によって接続され、
−  前記弁開口部のうちの少なくとも１つは、前記流路１２１に接続されず、
−  前記接触領域は、前記流路１２１に接続されていない前記少なくとも１つの弁開口部内に流体が流れ込むのを防ぐ流体ブロックを形成し、
−  前記オーバーフロー陥凹部は、前記流路１２１と流体的に連通せず、
−  各オーバーフロー陥凹部は、前記接触領域の途切れを定めて、前記オーバーフロー陥凹部がオーバーフロー流体を排出する安全逃し通気部を定めるように位置決めされ、過圧がかかった場合に、前記オーバーフロー流体は、それぞれの前記出口開口部を通って、前記流体ブロックを通過し、それにより、前記少なくとも２つの開放構成において、前記オーバーフロー流体が前記流路１２１に接続されていない前記少なくとも１つの弁開口部内に入るのを防がれる、安全弁１００。
【請求項４】
前記組み立て済み弁は、前記流路１２１が前記弁開口部１５１Ａ、Ｂ、Ｃのどれにも接続されず、したがって、前記流路１２１および弁開口部を通る流れ経路が定められない第３の異なる閉鎖構成で配置構成され得る、請求項３に記載の安全弁１００。
【請求項５】
前記弁ハウジング１５０は、第１および第２の端部ならびに内部流体空間を有する接続要素をさらに備え、前記接続要素は前記第２の端部のところで前記弁ハウジング１５０に接続され、それにより、前記内部流体空間は、前記少なくとも３つの弁開口部１５１Ａ、Ｂ、Ｃのうちの１つと流体的に接触する、請求項３または４に記載の安全弁１００。
【請求項６】
前記少なくとも２つのオーバーフロー陥凹部は、前記弁ハウジング１５０内に配置構成される、請求項３から５のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項７】
前記少なくとも２つのオーバーフロー陥凹部は、前記弁要素１２０内に配置構成される、請求項３から６のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項８】
前記弁要素１２０は、第１の長手方向軸１２４を画成する第１の端部と第２の端部とをさらに備え、
前記弁ハウジング１５０は、
−  第１の端部および第２の端部、ならびに前記第１の端部と前記第２の端部との間に延在する第２の長手方向軸を備えるシェルであって、前記第２の長手方向軸は前記第１の長手方向軸と同軸である、シェルと、
−  前記弁要素１２０を受け入れるための内部スペーシングであって、前記内部スペーシングは前記シェルによって囲まれる、内部スペーシングをさらに備え、
−  前記少なくとも３つの弁開口部１５１Ａ、Ｂ、Ｃは、前記シェル内に配置構成され、各開口部は、流体が前記内部スペーシング内に流れ込む、または前記内部スペーシングから流れ出ることを可能にし、
ここにおいて、前記少なくとも２つのオーバーフロー陥凹部は、前記シェルの前記第１の端部と前記第２の端部との間に軸方向に延在し、
ここにおいて、前記弁要素１２０は、前記第２の長手方向軸に沿って軸方向に移動可能であり、それにより、前記弁要素１２０の一部は、前記組み立て済み構成を形成するために前記弁ハウジング１５０の前記内部スペーシング内に挿入可能であり、前記弁要素１２０は、前記第２の長手方向軸１５９の周りの前記内部スペーシング内で回転可能であり、それにより、前記弁要素１２０および弁ハウジング１５０は、前記少なくとも２つの異なる構成の間で変更することができ、
ここにおいて、前記弁要素１２０が前記２つの異なる構成で内部スペーシングの内側に配置構成されたときに、各オーバーフロー陥凹部は、前記弁要素１２０と前記シェルとの間に配置構成される、請求項３から７のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項９】
前記少なくとも２つのオーバーフロー陥凹部は、シェル１５６内に配置構成され、および／または前記少なくとも２つオーバーフロー陥凹部は、前記シェルの第１および／または第２の端部の間に延在し、前記シェルの第１及び／又は第２の端部の方向に開いており、及び／又は前記少なくとも２つのオーバーフロー陥凹部は、前記弁要素１２０の前記第１及び／又は第２の端部の間に延在し、前記弁要素１２０の第１及び／又は第２の端部の方向に開いている、請求項３から８のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１０】
前記組み立て済み弁の前記少なくとも２つの構成において、前記流路１２１および前記少なくとも３つの弁開口部１５１Ａ、Ｂ、Ｃは、同じ平面内に配置構成され、延在している、請求項３から９のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１１】
前記平面は、前記弁が前記組み立て済み構成をとるときに、第１および第２の長手方向軸１２４、１５９に対してほぼ垂直である、請求項１０に記載の安全弁１００。
【請求項１２】
前記オーバーフロー流体は、約１〜１０ｂａｒ、好ましくは約１から５ｂａｒ、より好ましくは約１から３ｂａｒである、請求項３から１１のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１３】
シェルが円筒形である、請求項３から１２のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１４】
前記弁要素１２０は、円筒形である、請求項３から１３のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１５】
前記弁開口部は、前記シェルの周上に均一に分布し、前記弁開口部は、好ましくは周方向において約１２０度の相互角度で分布する、請求項３から１４のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１６】
前記弁ハウジング１５０は、３つの弁開口部１５１Ａ、Ｂ、Ｃを備える、請求項３から１５のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１７】
前記弁ハウジングは、３つのオーバーフロー陥凹部を備える、請求項３から１６のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１８】
前記弁要素１２０は、１つの流路１２１を備える、請求項３から１７のいずれか一項に記載の安全弁１００。
【請求項１９】
前記弁は、請求項３から１８のいずれか一項に記載の安全弁である、請求項２に記載のシステム。
【請求項２０】
食塩溶液中でＨ215Ｏを調製し、注入するためのシステムにおける請求項３から１８のいずれか一項に記載の安全弁の使用。
【請求項２１】
前記調製し、注入するためのシステムは、請求項２に記載のシステムである、請求項２０に記載の安全弁の使用。
【請求項２２】
陽電子放出断層撮影法で使用するＨ215Ｏを調製するための方法であって、前記方法は、
−  高温下で15ＯおよびＨ2を備えるガス混合物２２１をＨ215Ｏに変換するステップと、
−  前記ガス混合物２２１の流れを調節するための弁制御要素２５０を設けるステップと、
−  Ｈ215Ｏを第１の食塩水供給部からの食塩水と組み合わせてＨ215Ｏの食塩溶液を作製するステップと、
−  Ｈ215Ｏの前記食塩溶液中の放射能を測定するための第１の放射線検出器２４０を設けるステップと、
−  前記第１の放射線検出器２４０により前記ガス混合物２２１を調節するステップと、
−  Ｈ215Ｏの前記食塩溶液を受け入れるための貯槽２８１を設けるステップと、
−  前記貯槽２８１から過剰なガスを排出するための第２のガス廃棄物部を設けるステップと、
−  第３のポンプを設けるステップと、ここで、前記第３のポンプは一方の端部で前記貯槽２８１に、他方の端部で減衰ラインに接続され、前記減衰ラインは液体廃棄物部に接続されるものであり、
−  前記第３のポンプにより、前記貯槽２８１から過剰な液体廃棄物を前記減衰ラインを通して前記液体廃棄物部に注ぎ込むステップと、
−  前記貯槽２８１からループ要素３２０を通してＨ215Ｏの前記食塩溶液を循環させて前記貯槽２８１に戻すための輸送管３０１および第２のポンプ３０２を設けるステップと、
−  調節デバイス３４０を設けるステップと、
−  前記ループ要素内３２０でＨ215Ｏの前記食塩溶液の第１のボーラスを定めるステップと、ここで、前記第１のボーラスは事前に定められた体積および放射能濃度を有するものであり、
−  第２の食塩水供給部４０１を設けるステップと、
−  前記第２の食塩水供給部４０１から食塩水の事前に定められた第２のボーラスを回収するステップと、
−  前記第２のボーラスが前記第１のボーラスを患者ライン５２０内に押し込むように、前記第２のボーラスを事前に定められた速度で前記ループ要素３２０内に注入するステップと、
−  患者ライン５２０に隣接する第２の放射線検出器４４０により前記第１のボーラスの注入プロファイルを測定するステップと、
−  前記第２のボーラスの注入速度および体積により前記第１のボーラスの前記注入プロファイルを調節するステップと、を備える、方法。