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【手続補正書】
【提出日】令和3年5月17日(2021.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仕上げゾーンが、反応ゾーンの下流にあり、そして反応ゾーンがプラズマゾーンの下流にある、ファーネス型カーボンブラック反応器又はカーボンブラック反応器の仕上げゾーン内で炭素層によりコア粒子をコーティングして、炭素コーティング粒子を形成することを含み、コア粒子が非炭素コア粒子、プラズマカーボンブラックコア粒子又は予め形成されたコア粒子であり、炭素層がカーボンブラックを含む、炭素コーティング粒子の熱分解による製造方法。
【請求項２】
コア粒子が、予め形成されたコア粒子であり、そして予め形成されたコア粒子が、カーボンブラックコア粒子、再生熱分解炭素粒子、非炭素コア粒子、又はこれらの任意の組み合わせである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
プラズマカーボンブラックコア粒子又は非炭素コア粒子であるコア粒子をインサイチューで生成すること；及び
コア粒子をカーボンブラック熱分解プロセスにおいて炭素層によりコーティングして、炭素コーティング粒子を形成すること
を含む炭素コーティング粒子の調製方法であって、
前記炭素層がカーボンブラックを含み、そして前記コア粒子が一次粒子のアグリゲートである、方法。
【請求項４】
非炭素コア粒子がシリカコア粒子である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
予め形成されたコア粒子をカーボンブラック反応器に導入すること；及び
カーボンブラック反応器での液体又はガス状供給原料の熱分解により得られる炭素層によりコア粒子をコーティングすること、それにより炭素コーティング粒子を形成すること
を含み、カーボンブラック反応器が、カーボンブラックファーネス型反応器であり、そして炭素層がカーボンブラックを含む、
炭素コーティング粒子の熱分解による製造方法であって、前記予め形成されたコア粒子が、ガス状又は蒸気反応器ストリームと共に導入され、液体供給原料、分離ガス状ストリーム、又は分離水性ストリーム中に分散される、方法。
【請求項６】
予め形成されたコア粒子をカーボンブラック反応器に導入する前に、予め形成されたコア粒子を解凝集することをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
予め形成されたコア粒子が、クレイ、もみ殻シリカ、沈降シリカ、若しくは炭酸カルシウムのナノ粒子から選択される予め形成された非炭素コア粒子、予め形成されたカーボンブラック粒子、又は再生熱分解炭素粒子であり、
コアが、５０ｎｍ〜１０ミクロンの範囲内のサイズを有し、
炭素層が、０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲内の厚さを有し、かつ、部分的に又は完全にコアを被覆する、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
予め形成されたコア粒子をプラズマカーボンブラック反応器に導入すること、又はプラズマカーボンブラック反応器内でカーボンブラックコア粒子をインサイチューで調製すること；及び
コア粒子をガス状炭化水素供給原料から生成された炭素層によりコーティングすること
を含み、
前記予め形成されたコア粒子が、沈降シリカ、ヒュームドシリカ、表面修飾シリカ、もみ殻シリカ、クレイ、炭酸カルシウム、再生熱分解炭素またはカーボンブラック粒子であり、そして、
前記炭素層は、カーボンブラックを含む、
炭素コーティング粒子の調製方法。
【請求項９】
反応器のプラズマゾーン内でプラズマを発生させること、及びコア生成性炭化水素供給原料をカーボンブラックコア粒子と水素ガスに転化することにより、プラズマプロセスにおいてカーボンブラックコア粒子を調製すること；並びに
カーボンブラックコア粒子を炭素層によりコーティングして、炭素コーティング粒子を形成すること
を含み、
前記炭素層は、カーボンブラックを含む、
炭素コーティング粒子の製造方法。
【請求項１０】
炭素コーティング粒子が、３０〜２５０ｍ2／ｇの範囲内のＳＴＳＡ；及び５５〜４００ｃｃ／１００ｇの範囲内のＯＡＮを有する、請求項１、３、５、８又は９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
炭素コーティング粒子の製造方法であって、
カーボンブラック反応器中で、またはその仕上げゾーン内で、炭素層でコア粒子をコーティングして、炭素コーティング粒子を形成する工程、ならびに前記炭素コーティング粒子の表面を修飾する工程を含み、
コア粒子が、非炭素コア粒子、プラズマカーボンブラックコア粒子、または予め形成されたコア粒子であり、そして、
炭素層が、房状材料であり、そしてカーボンブラックのモルフォロジーおよび特性を有している、
方法。
【請求項１２】
炭素コーティング粒子の表面を修飾することさらに含む、請求項１、３、５、８または９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
炭素層によりコーティングされた非炭素コア、再生熱分解炭素コア、又はプラズマカーボンブラックコアを含み、前記炭素層が、前記非炭素コア、前記再生熱分解炭素コア、またはプラズマカーボンブラックコアを、ファーネス型カーボンブラック反応器もしくはその仕上げゾーンにおいてコーティングすることによって生成され、そして、炭素層がカーボンブラックを含む、炭素コーティング粒子。
【請求項１４】
非炭素コアが、沈降シリカ、ヒュームドシリカ、表面修飾シリカ；クレイ、もみ殻シリカ、炭酸カルシウムのナノ粒子；及びこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される材料から形成される、請求項１３に記載の炭素コーティング粒子。
【請求項１５】
炭素層が、０．５ｎｍ〜２０ｎｍ厚さであり、かつ、部分的に又は完全にコア粒子を被覆する、請求項１３に記載の炭素コーティング粒子。
【請求項１６】
２５０ｍ2／ｇの範囲内のＳＴＳＡ；及び５５〜１５０ｃｃ／１００ｇの範囲内のＣＯＡＮを有する、請求項１３に記載の炭素コーティング粒子。
【請求項１７】
炭素コーティング粒子が、３０〜２５０ｍ2／ｇの範囲内のＳＴＳＡ；及び５５〜４００ｃｃ／１００ｇの範囲内のＯＡＮを有する、請求項１３に記載の炭素コーティング粒子。
【請求項１８】
炭素層によりコーティングされた非炭素コア、再生熱分解炭素コア、又はプラズマカーボンブラックコアを含み、前記炭素層が、前記非炭素コア、前記再生熱分解炭素コア、またはプラズマカーボンブラックコアを、ファーネス型カーボンブラック反応器もしくはその仕上げゾーンにおいてコーティングすることによって生成され、そして、炭素層がカーボンブラックを含む、炭素コーティング粒子を含むゴム組成物又はゴム物品。
【請求項１９】
プラズマゾーン；
プラズマゾーンの下流の反応ゾーン；
反応ゾーンの下流の仕上げゾーン；
プラズマガスをプラズマゾーンに導入する管路；
第一の供給原料を反応器に導入する１つ又はそれより多くの入口；
第二の供給原料を反応器に導入する１つ又はそれより多くの入口；
プラズマゾーンと反応ゾーンとの間の収束ゾーン；及び
任意選択的に、反応ゾーンと仕上げゾーンとの間の収束ゾーン
を含む、請求項１３記載の炭素コーティング粒子を調製する装置。
【請求項２０】
コーティング粒子の表面が修飾されている、請求項１３に記載の、または請求項１１の方法で調製された炭素コーティング粒子。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月8日(2021.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化セリウムを遊離砥粒として含み、ガラス基板の表面を研磨する研磨処理に用いる研磨液であって、
前記酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全粒子体積のｘ［％］に達するときの粒径をＤｘ［μｍ］としたとき、
Ｄ５は、１μｍ以下であり、
Ｄ９５とＤ５の差は、３μｍ以上であり、
Ｄ５０は、０．８〜２．４μｍである、ことを特徴とする研磨液。
【請求項２】
前記粒度分布における頻度が最大となる粒径をDpeakとしたとき、
Ｄpeak−Ｄ５は、Ｄ９５−Ｄpeakより小さい、請求項１に記載の研磨液。
【請求項３】
酸化セリウムを遊離砥粒として含み、ガラス基板の表面を研磨する研磨処理に用いる研磨液であって、
前記酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全粒子体積のｘ［％］に達するときの粒径をＤｘ［μｍ］としたとき、
Ｄ５は、１μｍ以下であり、
Ｄ９５とＤ５の差は、３μｍ以上であり、
前記粒度分布における頻度が最大となる粒径をDpeakとしたとき、
Ｄpeak−Ｄ５は、Ｄ９５−Ｄpeakより小さい、ことを特徴とする研磨液。
【請求項４】
前記Ｄ９５とＤ５の差は、４μｍ以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の研磨液。
【請求項５】
前記Ｄ９５は、７μｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の研磨液。
【請求項６】
前記酸化セリウムの粒度分布は、前記研磨処理に用いることによって、小粒径の方向にシフトする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の研磨液。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の研磨液を用いて前記基板の端面を研磨する処理を含む、ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の研磨液を用いて前記基板の主表面を研磨する処理を含む、ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記ガラス基板は、磁気ディスク用ガラス基板である、請求項７または８に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載のガラス基板の製造方法で得られた前記磁気ディスク用ガラス基板の主表面に少なくとも磁性層を形成する処理を含む、磁気ディスクの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一態様は、酸化セリウムを遊離砥粒として含み、ガラス基板の表面を研磨する研磨処理に用いる研磨液である。
前記酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全粒子体積のｘ[％]に達するときの粒径をＤｘ［μｍ］としたとき、
Ｄ５は、１μｍ以下であり、Ｄ９５とＤ５の差は、３μｍ以上であり、
Ｄ５０は、０．８〜２．４μｍである。
ここで、前記粒度分布における頻度が最大となる粒径をDpeakとしたとき、Ｄpeak−Ｄ５は、Ｄ９５−Ｄpeakより小さいことが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の他の一態様は、酸化セリウムを遊離砥粒として含み、ガラス基板の表面を研磨する研磨処理に用いる研磨液である。
前記酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全粒子体積のｘ[％]に達するときの粒径をＤｘ［μｍ］としたとき、
Ｄ５は、１μｍ以下であり、Ｄ９５とＤ５の差は、３μｍ以上であり、前記粒度分布における頻度が最大となる粒径をDpeakとしたとき、Ｄpeak−Ｄ５は、Ｄ９５−Ｄpeakより小さい。
前記Ｄ９５とＤ５の差は、４μｍ以上であることが好ましい。
また、前記Ｄ９５は、７μｍ以下であることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
ここで、前記酸化セリウムの粒度分布は、前記研磨処理に用いることによって、小粒径の方向にシフトすることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の他の一態様は、前記研磨液を用いて前記基板の端面を研磨する処理を含む、ガラス基板の製造方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の他の一態様は、前記研磨液を用いて前記基板の主表面を研磨する処理を含む、ガラス基板の製造方法である。
前記ガラス基板は、磁気ディスク用ガラス基板である、ことが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月22日(2021.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸発原料としての薄膜形成用金属ハロゲン化合物を貯留し且つ蒸発させるための蒸発原料用容器であって、
容器壁を有する容器本体と、
前記容器本体に着脱自在に構成され、前記容器本体内にキャリアガスを導入するキャリアガス導入口及び蒸発した前記薄膜形成用金属ハロゲン化合物と前記キャリアガスとの混合ガスを外部に導出する混合ガス導出口を有する蓋体と、
前記容器本体と前記蓋体とを固定する締結部材と、
前記蓋体の前記キャリアガス導入口及び前記混合ガス導出口に配設された継手部材と、を備え、
前記容器壁は、内壁部材及び外壁部材によって構成された二重壁構造を有し、前記キャリアガス導入口から導入された前記キャリアガスが、前記二重壁構造の前記内壁部材と前記外壁部材の間を経由して前記容器本体内に導入され、
前記容器本体の前記容器壁が、純度９９〜９９．９９９９％の銅、純度９９〜９９．９９９９％のアルミニウム、又は純度９９〜９９．９９９９％のチタンから構成され、
前記容器本体、前記蓋体、前記締結部材、及び前記継手部材のそれぞれには、フッ素樹脂コーティングが施されている、及び／又は、それぞれの表面に電解研磨が施されている、蒸発原料用容器。
【請求項２】
前記容器壁を構成する前記内壁部材の底面部に、前記内壁部材と前記外壁部材の間を経由した前記キャリアガスが前記容器本体に導入される容器内導入口を有する、請求項１に記載の蒸発原料用容器。
【請求項３】
前記締結部材が、前記容器本体及び前記蓋体に設けられたボルト挿入孔に挿入されたボルト部材及び前記ボルト部材に螺合して締結したナット部材からなる、請求項１または２に記載の蒸発原料用容器。
【請求項４】
前記容器本体内に懸架された、少なくとも１つの板状の棚部材を更に有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の蒸発原料用容器。
【請求項５】
前記棚部材の少なくとも１つは、複数の貫通孔が形成されたシャワーヘッド構造を有する、請求項４に記載の蒸発原料用容器。
【請求項６】
前記棚部材の少なくとも１つは、多孔質体によって構成されている、請求項４に記載の蒸発原料用容器。
【請求項７】
前記容器本体内に、一の方向における最大長さが１〜３０ｍｍで、アルミニウム製又は銅製の、一以上の球状、長球状、葉状、螺旋状、又はその他不定形状の部材を更に有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の蒸発原料用容器。
【請求項８】
前記蒸発原料としての前記薄膜形成用金属ハロゲン化合物が、下記一般式（１）で表される化合物である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の蒸発原料用容器。
一般式（１）：ＭＸｎ
（但し、前記一般式（１）において、Ｍは、Ａｌ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｗ、Ｇａ、Ｌａ、Ｍｇ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｔｍ及びＹｂのいずれかの元素を示す。Ｘは、ハロゲン元素を示す。ｎは、Ｘの価数である。）
【請求項９】
化学気相成長法による成膜に用いられる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の蒸発原料用容器。
【請求項１０】
原子層堆積法による成膜に用いられる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の蒸発原料用容器。
【請求項１１】
前記混合ガス導出口よりも下流側のガス流路の一部に配設されたバルブを更に備え、
前記バルブは、ＣＶ値（水置換）が０．２以上の真空バルブである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の蒸発原料用容器。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の蒸発原料用容器と、
前記蒸発原料用容器内に貯留された前記蒸発原料としての前記薄膜形成用金属ハロゲン化合物と、を備え、
前記蓋体の前記キャリアガス導入口から前記キャリアガスを供給し、蒸発した前記薄膜形成用金属ハロゲン化合物と前記キャリアガスとを混合させた混合ガスを前記蓋体の前記混合ガス導出口から供給する、固体気化供給システム。
【請求項１３】
前記容器本体内に前記キャリアガスを供給するキャリアガス供給手段を更に備える、請求項１２に記載の固体気化供給システム。
【請求項１４】
前記容器壁は、内壁部材及び外壁部材によって構成された二重壁構造を有し、
前記蒸発原料用容器内に、薄膜形成用金属ハロゲン化合物を投入し、
前記容器本体の前記容器壁を加熱して、前記容器本体内の前記薄膜形成用金属ハロゲン化合物を加熱するとともに、
前記蓋体の前記キャリアガス導入口からキャリアガスを導入し、加熱された前記容器壁の前記二重壁構造の前記内壁部材と前記外壁部材の間を経由させて、加熱された前記キャリアガスを前記容器本体内に導入し、
蒸発した前記薄膜形成用金属ハロゲン化合物と前記キャリアガスとを混合させて前記混合ガスを作製する、請求項１２又は１３に記載の固体気化供給システム。
【請求項１５】
前記混合ガス導出口よりも下流側の前記混合ガスのガス流路の一部に、前記ガス流路の開閉を行うバルブが配設され、
前記バルブは、ＣＶ値（水置換）が０．２以上の真空バルブである、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の固体気化供給システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月9日(2021.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なる方向を向いた複数の変倍光学系を通過した、撮像により互いに連続するように繋ぎ合わせられる複数の画像を取得する撮像手段と、
前記複数の変倍光学系のそれぞれの変倍動作を制御して前記変倍光学系ごとの画角を設定する画角設定手段と、
前記複数の変倍光学系のズーム倍率を異ならせても前記複数の変倍光学系を通して得られる部分画像間の視差をほぼ一致させるように前記複数の変倍光学系のノーダルポイントを制御するノーダルポイント制御手段と、
前記複数の変倍光学系を保持する本体と、
突出部材を検出する突出検出手段と、を有し、
前記画角設定手段は、前記突出検出手段の検出結果に基づいて、前記複数の変倍光学系のそれぞれの画角を、検出された前記突出部材が前記複数の変倍光学系のいずれの画角にも入らないように設定する画角設定制御を行うことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記突出検出手段は、前記複数の画像における前記突出部材の写り込みを検出することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記突出部材は、照明光を発することを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記突出部材は、前記本体を固定する三脚であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記画角設定手段は、前記三脚の複数の脚がなす開き角および前記脚の伸ばし量の少なくとも一方に応じて前記画角設定制御を行うことを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
非撮像時において前記本体に対して格納された前記複数の変倍光学系が、撮像時において前記本体に対して突出することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項７】
互いに異なる方向を向いた複数の変倍光学系を通過した、撮像により互いに連続するように繋ぎ合わせられる複数の画像を取得する撮像手段と、
前記複数の変倍光学系のそれぞれの変倍動作を制御して前記変倍光学系ごとの画角を設定する画角設定手段と、
前記複数の変倍光学系のズーム倍率を異ならせても前記複数の変倍光学系を通して得られる部分画像間の視差をほぼ一致させるように前記複数の変倍光学系のノーダルポイントを制御するノーダルポイント制御手段と、
前記複数の変倍光学系を保持する本体と、
前記本体から突出する突出部材を検出する突出検出手段と、を有し、
前記画角設定手段は、前記突出検出手段の検出結果に基づいて、前記複数の変倍光学系のそれぞれの画角を、検出された前記突出部材の写りこみ量が低減するように設定する画角設定制御を行うことを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
互いに異なる方向を向いた複数の変倍光学系を通過した、撮像により互いに連続するように繋ぎ合わせられる複数の画像を取得する撮像装置の制御方法であって、
前記複数の変倍光学系のそれぞれの変倍動作を制御して前記変倍光学系ごとの画角を設定するステップと、
前記複数の変倍光学系のズーム倍率を異ならせても前記複数の変倍光学系を通して得られる部分画像間の視差をほぼ一致させるように前記複数の変倍光学系のノーダルポイントを制御するステップと、
突出部材を検出するステップと、を有し、
前記設定するステップは、前記検出するステップの検出結果に基づいて、前記複数の変倍光学系のそれぞれの画角を、検出された前記突出部材が前記複数の変倍光学系のいずれの画角にも入らないように設定する画角設定制御を行うことを特徴とする。
【請求項９】
互いに異なる方向を向いた複数の変倍光学系を通過した、撮像により互いに連続するように繋ぎ合わせられる複数の画像を取得する撮像装置のコンピュータに、
前記複数の変倍光学系のそれぞれの変倍動作を制御して前記変倍光学系ごとの画角を設定する画角設定制御を行わせ、
前記複数の変倍光学系のズーム倍率を異ならせても前記複数の変倍光学系を通して得られる部分画像間の視差をほぼ一致させるように前記複数の変倍光学系のノーダルポイントを制御させ、
突出部材を検出させ、
前記画角設定制御において、前記検出部材の検出結果に基づいて、前記複数の変倍光学系のそれぞれの画角を、検出された前記突出部材が前記複数の変倍光学系のいずれの画角にも入らないように設定させることを特徴とする撮像制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一側面としての撮像装置は、互いに異なる方向を向いた複数の変倍光学系を通過した、撮像により互いに連続するように繋ぎ合わせられる複数の画像を取得する撮像手段と、前記複数の変倍光学系のそれぞれの変倍動作を制御して前記変倍光学系ごとの画角を設定する画角設定手段と、前記複数の変倍光学系のズーム倍率を異ならせても前記複数の変倍光学系を通して得られる部分画像間の視差をほぼ一致させるように前記複数の変倍光学系のノーダルポイントを制御するノーダルポイント制御手段と、前記複数の変倍光学系を保持する本体と、突出部材を検出する突出検出手段と、を有し、前記画角設定手段は、前記突出検出手段の検出結果に基づいて、前記複数の変倍光学系のそれぞれの画角を、検出された前記突出部材が前記複数の変倍光学系のいずれの画角にも入らないように設定する画角設定制御を行うことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月29日(2021.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【非特許文献１】Ｙ理論の原点  小林茂講演録  株式会社西研究所
【非特許文献２】企業の人間的側面−統合と自己統制による経営ダグラス・マグレガー著  高橋達男翻訳  産能大学出版部
【非特許文献３】ホンダ  イノベーションの神髄  小林三郎著  日経ＢＰ社
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月15日(2021.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズの光軸に垂直な平面上の第１の方向と、前記平面上の前記第１の方向とは異なる第２の方向とにおいて、レンズの屈折力が異なるトーリック眼内用レンズであって、
前記レンズの前記第１および第２の方向のそれぞれにおいて、前記レンズの光軸から逆向きに同じ距離に位置する２つの部分の屈折力は互いに同じであり、
前記レンズの前記第１の方向の経線と前記光軸とを含む平面内での球面収差量である第１の球面収差量と、前記レンズの前記第２の方向の経線と前記光軸とを含む平面内での球面収差量である第２の球面収差量とが異なる値となるように、前記レンズの径方向の位置に応じて、前記第１の方向と前記第２の方向における屈折力の差である屈折力差が前記レンズの中心から周辺に向かって無段階で連続的に変化することを特徴とし、
前記第１の方向における前記レンズの近軸部における第１の屈折力と周辺部における第２の屈折力と、前記第２の方向における前記レンズの近軸部における第３の屈折力と周辺部における第４の屈折力のうち、前記第１の屈折力と前記第３の屈折力の差を前記レンズの近軸部の屈折力差とし、前記第２の屈折力と前記第４の屈折力の差を前記レンズの周辺部の屈折力差とし、前記レンズの近軸部の屈折力差と前記レンズの周辺部の屈折力差とが実質的に異なるトーリック眼内用レンズ。
【請求項２】
レンズの光軸に垂直な平面上の第１の方向と、前記平面上の前記第１の方向とは異なる第２の方向とにおいて、レンズの屈折力が異なるトーリック眼内用レンズであって、
前記レンズの前記第１および第２の方向のそれぞれにおいて、前記レンズの光軸から逆向きに同じ距離に位置する２つの部分の屈折力は互いに同じであり、
前記第１の方向における前記レンズの近軸部における第１の屈折力をＰ１、前記第１の方向における前記レンズの周辺部における第２の屈折力をＰ１’、前記第２の方向における前記レンズの近軸部における第３の屈折力をＰ２、前記第２の方向における前記レンズの周辺部における第４の屈折力をＰ２’、前記レンズの前記第１の方向についての焦点距離をｆ１、前記レンズの前記第１の方向についての球面収差量の距離をＳＡ１、前記レンズの前記第２の方向についての焦点距離をｆ２、前記レンズの前記第２の方向についての球面収差量の距離をＳＡ２、とすると、以下の式（１）〜（６）が成り立ち、
【数１】
2021039387.tif 000001
前記ＰＣ、ＰＣ’が実質的に異なる値となり、前記レンズの径方向の位置に応じて、前記第１の方向と前記第２の方向における屈折力の差である屈折力差が前記レンズの中心から周辺にわたって無段階で連続的に変化することを特徴とするトーリック眼内用レンズ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】トーリック眼内用レンズ
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月29日(2021.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペンの位置を導出し、導出したペンの位置を示すレポートをホストコンピュータに対して送信するデバイスにより実行される方法であって、
所定のスキャン時刻ごとに前記ペンの位置を導出し、導出した位置を示す位置データ及び前記ペンのペン先に加わる圧力を示す筆圧値を含む前記レポートを生成する生成ステップと、
前記生成ステップにおいて生成された前記レポートを、順次、前記ホストコンピュータに対して送信する送信ステップと、
前記ペンがパネルから離れたペンアップを検出したことに応じて、未送信の１以上の前記レポートに含まれる前記筆圧値を加工する加工ステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記デバイスは、前記ペンから受信される筆圧値が０以下になったことに応じて、前記ペンアップを検出する、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記未送信の１以上のレポートは、前記ペンアップを検出した時点で未生成のレポートである、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記加工ステップは、前記ペンアップを検出した直後に生成されるレポート内の筆圧値を、０より大きい値に書き換えるステップを含む、
請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記未送信の１以上のレポートは、前記ペンアップを検出した時点で生成済みのレポートである、
請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記加工ステップは、前記ペンアップを検出した直後に生成されるレポート内の筆圧値を加工しない、
請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ペンの位置を導出し、導出したペンの位置を示すレポートをホストコンピュータに対して送信するタッチコントローラであって、
所定のスキャン時刻ごとに前記ペンの位置を導出し、導出した位置を示す位置データ及び前記ペンのペン先に加わる圧力を示す筆圧値を含む前記レポートを生成し、
前記生成ステップにおいて生成された前記レポートを、順次、前記ホストコンピュータに対して送信し、
前記ペンがパネルから離れたペンアップを検出したことに応じて、未送信の１以上の前記レポートに含まれる前記筆圧値を加工する、
タッチコントローラ。
【請求項８】
ペンの位置を導出し、導出したペンの位置を示すレポートをホストコンピュータに対して送信するデバイスにより実行される方法であって、
前記レポートは、導出された前記位置を示す位置データを格納する第１の領域と、該位置データとは異なる非位置データを格納する第２の領域とを含み、
前記方法は、
複数の前記レポートを保持するためのバッファ領域をメモリ内に確保する確保ステップと、
所定のスキャン時刻ごとに前記ペンの位置を導出し、導出した位置を示す位置データを含む前記レポートを生成し、前記バッファ領域に蓄積する蓄積ステップと、
前記非位置データを取得したことに応じて、前記バッファ領域内に蓄積されている１以上の前記レポートそれぞれの前記第２の領域に非位置データを書き込む書込ステップと、
前記バッファ領域に蓄積された複数の前記レポートを前記ホストコンピュータに対して送信する送信ステップと、
を含む方法。
【請求項９】
前記非位置データは、前記スキャン時刻ごとに変化しない静的データであり、
前記書込ステップは、前記静的データを取得したことに応じて、前記バッファ領域内に蓄積されている１以上の前記レポートそれぞれの前記第２の領域に、取得した前記静的データを書き込むステップである、
請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記静的データは、前記ペンを識別するためのペンＩＤ、前記ペンのベンダーを識別するためのベンダーＩＤ、ユーザによって前記ペンに設定された色、及び、前記ペンの種類を示すペンタイプのいずれか１つ以上を含む、
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ペンは、タッチ面への接触を検出したことに応じて、前記デバイスに対して前記静的データを送信するよう構成される、
請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記非位置データは、前記ペンからの信号に基づき前記位置データに比べて少ない頻度で取得されることのある低頻度データであり、
前記書込ステップは、前記低頻度データを取得したことに応じて、前記バッファ領域内に蓄積されている１以上の前記レポートそれぞれの前記第２の領域に、それまで取得されていた最新の前記低頻度データと、今回取得された前記低頻度データとに基づいて導出される低頻度データを書き込むステップである、
請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記デバイスは、前記ペンがタッチ面に接触していないホバー状態である場合、前記書込ステップを行わない、
請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
ペンの位置を導出し、導出したペンの位置を示す位置データを格納する第１の領域と、該位置データとは異なる非位置データを格納する第２の領域とを含むレポートをホストコンピュータに対して送信するタッチコントローラであって、
複数の前記レポートを保持するためのバッファ領域をメモリ内に確保し、
所定のスキャン時刻ごとに前記ペンの位置を導出し、導出した位置を示す位置データを含む前記レポートを生成して前記バッファ領域に蓄積し、
前記非位置データを取得したことに応じて、前記バッファ領域内に蓄積されている１以上の前記レポートそれぞれの前記第２の領域に非位置データを書き込み、
前記バッファ領域に蓄積された複数の前記レポートを前記ホストコンピュータに対して送信する、
タッチコントローラ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月3日(2021.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
施設内の監視対象物の稼働の制御及び監視を行う監視システムであって当該監視システムを遠隔監視する遠隔監視装置を含む監視システムに、初期設定値に基づいて、当該監視対象物の稼働に必要となる初期設定を行う初期設定手段と、
前記監視対象物が前記初期設定に従って稼働する場合に、前記監視システムにより記録されることが想定される想定稼働ログを取得する想定稼働ログ取得手段と、
前記監視対象物が前記初期設定に従って稼働した後に、実際に前記監視システムによって記録される実稼働ログを取得する実稼働ログ取得手段と、
前記想定稼働ログと前記実稼働ログとを比較して、前記初期設定の適否を判定するログ判定手段と、
遠隔監視装置初期設定値に基づいて、遠隔監視に必要となる初期設定を行う遠隔監視装置初期設定手段と、
前記遠隔監視装置初期設定手段が初期設定を行った後に、前記遠隔監視装置から初期設定された遠隔監視装置設定値を取得する遠隔監視装置設定値取得手段と、
前記遠隔監視装置初期設定値と前記遠隔監視装置設定値とを比較して、前記遠隔監視装置の初期設定の適否を判定する遠隔監視装置設定値判定手段と、
を備えることを特徴とする監視システム設定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の監視システム設定装置において、
前記施設における前記監視対象物の情報と、前記初期設定値とに基づいて、前記想定稼働ログを生成する想定稼働ログ生成手段を備え、
前記想定稼働ログ取得手段は、前記想定稼働ログ生成手段により生成された前記想定稼働ログを取得する、ことを特徴とする監視システム設定装置。
【請求項３】
請求項１に記載の監視システム設定装置において、
前記監視システムに接続される新規監視対象物を検知する検知手段を備え、
前記検知手段が前記新規監視対象物を検知した場合に、少なくとも当該新規監視対象物を対象として、前記初期設定手段、前記想定稼働ログ取得手段、前記実稼働ログ取得手段、及び前記ログ判定手段による各処理を行って、当該新規監視対象物の初期設定の適否を判定することを特徴とする監視システム設定装置。
【請求項４】
請求項１に記載の監視システム設定装置において、
前記初期設定手段が初期設定を行った後に、前記監視システムから初期設定された設定値を取得する設定値取得手段と、
前記初期設定値と前記設定値とを比較して、前記初期設定の適否を判定する設定値判定手段と、
を備えることを特徴とする監視システム設定装置。
【請求項５】
施設内の監視対象物の稼働の制御及び監視を行う監視システムであって当該監視システムを遠隔監視する遠隔監視装置を含む監視システムに、初期設定値に基づいて、当該監視対象物の稼働に必要となる初期設定を行う初期設定ステップと、
前記監視対象物が前記初期設定に従って稼働する場合に、前記監視システムにより記録されることが想定される想定稼働ログを取得する想定稼働ログ取得ステップと、
前記監視対象物が前記初期設定に従って稼働した後に、実際に前記監視システムによって記録される実稼働ログを取得する実稼働ログ取得ステップと、
前記想定稼働ログと前記実稼働ログとを比較して、前記初期設定の適否を判定するログ判定ステップと、
遠隔監視装置初期設定値に基づいて、遠隔監視に必要となる初期設定を行う遠隔監視装置初期設定ステップと、
遠隔監視に必要となる初期設定を行った後に、前記遠隔監視装置から初期設定された遠隔監視装置設定値を取得する遠隔監視装置設定値取得ステップと、
前記遠隔監視装置初期設定値と前記遠隔監視装置設定値とを比較して、前記遠隔監視装置の初期設定の適否を判定する遠隔監視装置設定値判定ステップと、
を含むことを特徴とする監視システム設定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明にかかる監視システム設定装置は、施設内の監視対象物の稼働の制御及び監視を行う監視システムであって当該監視システムを遠隔監視する遠隔監視装置を含む監視システムに、初期設定値に基づいて、当該監視対象物の稼働に必要となる初期設定を行う初期設定手段と、前記監視対象物が前記初期設定に従って稼働する場合に、前記監視システムにより記録されることが想定される想定稼働ログを取得する想定稼働ログ取得手段と、前記監視対象物が前記初期設定に従って稼働した後に、実際に前記監視システムによって記録される実稼働ログを取得する実稼働ログ取得手段と、前記想定稼働ログと前記実稼働ログとを比較して、前記初期設定の適否を判定するログ判定手段と、遠隔監視装置初期設定値に基づいて、遠隔監視に必要となる初期設定を行う遠隔監視装置初期設定手段と、前記遠隔監視装置初期設定手段が初期設定を行った後に、前記遠隔監視装置から初期設定された遠隔監視装置設定値を取得する遠隔監視装置設定値取得手段と、前記遠隔監視装置初期設定値と前記遠隔監視装置設定値とを比較して、前記遠隔監視装置の初期設定の適否を判定する遠隔監視装置設定値判定手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明にかかる監視システム設定装置の一態様では、前記監視システムに接続される新規監視対象物を検知する検知手段を備え、前記検知手段が前記新規監視対象物を検知した場合に、少なくとも当該新規監視対象物を対象として、前記初期設定手段、前記想定稼働ログ取得手段、前記実稼働ログ取得手段、及び前記ログ判定手段による各処理を行って、当該新規監視対象物の初期設定の適否を判定することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明にかかる監視システム設定方法は、施設内の監視対象物の稼働の制御及び監視を行う監視システムであって当該監視システムを遠隔監視する遠隔監視装置を含む監視システムに、初期設定値に基づいて、当該監視対象物の稼働に必要となる初期設定を行う初期設定ステップと、前記監視対象物が前記初期設定に従って稼働する場合に、前記監視システムにより記録されることが想定される想定稼働ログを取得する想定稼働ログ取得ステップと、前記監視対象物が前記初期設定に従って稼働した後に、実際に前記監視システムによって記録される実稼働ログを取得する実稼働ログ取得ステップと、前記想定稼働ログと前記実稼働ログとを比較して、前記初期設定の適否を判定するログ判定ステップと、遠隔監視装置初期設定値に基づいて、遠隔監視に必要となる初期設定を行う遠隔監視装置初期設定ステップと、遠隔監視に必要となる初期設定を行った後に、前記遠隔監視装置から初期設定された遠隔監視装置設定値を取得する遠隔監視装置設定値取得ステップと、前記遠隔監視装置初期設定値と前記遠隔監視装置設定値とを比較して、前記遠隔監視装置の初期設定の適否を判定する遠隔監視装置設定値判定ステップと、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月13日(2021.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ放送の双方向機能によりテレビチューナーから注文を受ける注文処理装置の電子商取引方法であって、
プロセッサが以下のステップを含むプログラムを実行する電子商取引方法、
前記テレビチューナーにおいて注文操作が行われたテレビ番組に関連する商品のアイテム識別子を前記テレビチューナーから受信するステップ、
前記注文操作をした視聴者の個人情報及び決済情報を受信するステップ、
前記アイテム識別子、前記個人情報及び前記決済情報に基づき前記注文操作が行われた前記テレビ番組に関連する商品の代金決済及び配送手配等の注文処理を実行するステップ、
前記代金の一部を前記テレビ番組を放送したテレビ局に分配する処理を実行するステップ。
【請求項２】
前記決済情報及び個人情報を前記テレビチューナーから受信する、請求項１に記載の電子商取引方法。
【請求項３】
前記決済情報及び個人情報を前記注文処理装置が前記テレビチューナー以外のデータベースから受信する、請求項１に記載の電子商取引方法。
【請求項４】
請求項１に記載の前記プログラムを実行する前記プロセッサを備えた電子商取引システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月6日(2021.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
店員の操作により商品の登録が行われる登録装置と、前記登録装置により登録された商品に関する登録データに基づく精算を客の操作により行う複数の精算装置と、を備える商品販売データ処理システムにおいて、
前記登録装置において、前記精算が実行可能なように前記複数の前記精算装置のうちの一の前記精算装置に前記登録データを出力する登録データ出力手段と、
前記精算装置において、前記登録データに基づく精算を実行する精算手段と、
前記登録装置において、前記精算装置における前記精算が未済である未精算登録データを呼び戻す呼び戻し手段と、
前記登録装置において、前記複数の前記精算装置のうちから前記精算装置を選択する選択手段と
を備え、
前記呼び戻し手段は、
前記選択手段により選択された前記精算装置における前記未精算登録データを呼び戻す ことを特徴とする商品販売データ処理システム。
【請求項２】
店員の操作により商品を登録するとともに、登録された商品に関する登録データに基づく精算を客の操作により行う複数の精算装置の何れかに出力する登録装置であって、
前記精算が実行可能なように前記複数の前記精算装置のうちの一の前記精算装置に前記登録データを出力する登録データ出力手段と、
前記精算装置における前記精算が未済である未精算登録データを呼び戻す呼び戻し手段と、
前記複数の前記精算装置のうちから前記精算装置を選択する選択手段と
を備え、
前記呼び戻し手段は、
前記選択手段により選択された前記精算装置における前記未精算登録データを呼び戻す
ことを特徴とする登録装置。
【請求項３】
店員の操作により商品の登録が行われる登録装置と、前記登録装置により登録された商品に関する登録データに基づく精算を客の操作により行う複数の精算装置と、を備える商品販売データ処理システムおける前記登録装置として第１のコンピュータを機能させ、前記精算装置として第２のコンピュータを機能させるプログラムであって、
前記第１のコンピュータを、
前記精算が実行可能なように前記複数の前記精算装置のうちの一の前記精算装置に前記登録データを出力する登録データ出力手段と、
前記精算装置における前記精算が未済である未精算登録データを呼び戻す呼び戻し手段と、
前記複数の前記精算装置のうちから前記精算装置を選択する選択手段
として機能させ、
前記第２のコンピュータを、
前記登録データに基づく精算を実行する精算手段
として機能させ、
前記呼び戻し手段は、
前記選択手段により選択された前記精算装置における前記未精算登録データを呼び戻す
ことを特徴とするプログラム。
【請求項４】
店員の操作により商品を登録するとともに、登録された商品に関する登録データに基づく精算を客の操作により行う複数の精算装置の何れかに出力する登録装置としてコンピュータを機能させるプログラムであって、
前記コンピュータを、
前記精算が実行可能なように前記複数の前記精算装置のうちの一の前記精算装置に前記登録データを出力する登録データ出力手段と、
前記精算装置における前記精算が未済である未精算登録データを呼び戻す呼び戻し手段と、
前記複数の前記精算装置のうちから前記精算装置を選択する選択手段と
として機能させ、
前記呼び戻し手段は、
前記選択手段により選択された前記精算装置における前記未精算登録データを呼び戻す
ことを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】商品販売データ処理システム、登録装置及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、商品販売データ処理システム、登録装置及びプログラムに関する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月18日(2021.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気流量測定装置であって、
基面（４１）と、前記基面とは反対側に位置する後面（４２）と、前記基面の端部および前記後面の端部に接続されている第１側面（５１）と、前記基面のうち前記第１側面とは反対側の端部および前記後面のうち前記第１側面とは反対側の端部に接続されている第２側面（５２）と、前記基面に形成される流量流路入口（４３１）と、前記後面に形成されている流量流路出口（４３２）と、前記流量流路入口および前記流量流路出口に連通する流量流路（４３、４４）と、を有するハウジング（３０）と、
前記流量流路内に配置されている基板（７６）と、
前記流量流路を流れる空気の流量に応じた信号を出力する流量検出部（７５）と、
を備え、
前記流量流路は、前記流量流路のうち前記第１側面側に位置する第１内面（６１）と、前記流量流路のうち前記第２側面側に位置する第２内面（６２）と、を含み、
前記流量検出部は、前記基板のうち前記第１内面側に実装されており、
前記基板の厚み方向における前記基板から前記第１内面までの距離（Ｌ１）は、前記基板の厚み方向における前記基板から前記第２内面までの距離（Ｌ２）よりも大きく、
前記基板の厚み方向における前記基板から前記第２内面までの距離（Ｌ２）は、ゼロよりも大きい、空気流量測定装置。
【請求項２】
前記基板に実装されており、前記流量流路を流れる空気の物理量に応じた信号を出力する物理量検出部（８２）を備える請求項１に記載の空気流量測定装置。
【請求項３】
前記ハウジングは、前記基面に形成されている物理量流路入口（５００）と、前記第２側面および前記第２側面のいずれかに形成される物理量流路出口（５０１、５０２）と、前記物理量流路入口および前記物理量流路出口に連通する物理量流路（５０）と、を有し、
前記基板は、前記流量流路内および前記物理量流路内に配置されており、
前記空気流量測定装置は、前記基板に実装されており、前記物理量流路を流れる空気の物理量に応じた信号を出力する物理量検出部（８１）を備える請求項１または２に記載の空気流量測定装置。
【請求項４】
前記物理量流路入口は、前記物理量流路入口のうち前記第２側面側に位置し、前記基面に接続されている第３内面（６４）を含み、
前記基板の厚み方向における前記基板から前記第３内面までの距離（Ｌ４）は、ゼロよりも大きい請求項３に記載の空気流量測定装置。
【請求項５】
前記物理量検出部は、前記基板のうち前記第２内面側に実装されている請求項２ないし４のいずれか１つに記載の空気流量測定装置。
【請求項６】
前記基板を覆う基板保護部（７７１、７７２）をさらに備え、
前記基板保護部は、凸に湾曲する外縁を有する請求項１ないし５のいずれか１つに記載の空気流量測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、空気流量測定装置であって、基面（４１）と、基面とは反対側に位置する後面（４２）と、基面の端部および後面の端部に接続されている第１側面（５１）と、基面のうち第１側面とは反対側の端部および後面のうち第１側面とは反対側の端部に接続されている第２側面（５２）と、基面に形成される流量流路入口（４３１）と、後面に形成されている流量流路出口（４３２）と、流量流路入口および流量流路出口に連通する流量流路（４３、４４）と、を有するハウジング（３０）と、流量流路内に配置されている基板（７６）と、流量流路を流れる空気の流量に応じた信号を出力する流量検出部（７５）と、を備え、流量流路は、流量流路のうち第１側面側に位置する第１内面（６１）と、流量流路のうち第２側面側に位置する第２内面（６２）と、を含み、流量検出部は、基板のうち第１内面側に実装されており、基板の厚み方向における基板から第１内面までの距離（Ｌ１）は、基板の厚み方向における基板から第２内面までの距離（Ｌ２）よりも大きく、前記基板の厚み方向における前記基板から前記第２内面までの距離（Ｌ２）は、ゼロよりも大きい、空気流量測定装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月15日(2021.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
空気流量測定装置であって、
基面（４１）と、前記基面とは反対側に位置する後面（４２）と、前記基面の端部および前記後面の端部に接続されている第１側面（５１）と、前記基面のうち前記第１側面とは反対側の端部および前記後面のうち前記第１側面とは反対側の端部に接続されている第２側面（５２）と、前記基面に形成される流量流路入口（４３１）と、前記後面に形成されている流量流路出口（４３２）と、前記流量流路入口および前記流量流路出口に連通する流量流路（４３、４４）と、前記基面に形成されている物理量流路入口（５００）と、を有するハウジング（３０）と、
前記流量流路内に配置されており、前記流量流路を流れる空気の流量に応じた信号を出力する流量検出部（７５）と、
前記物理量流路入口に配置されている基板（７６）と、
前記基板のうち前記第１側面側の基板面（７６１）に実装されている物理量検出部（８１）と、
を備え、
前記物理量流路入口は、前記物理量流路入口のうち前記第１側面側に位置する第１内面（６１）と、前記物理量流路入口のうち前記第２側面側に位置する第２内面（６２）と、前記基面、前記第１内面および前記第２内面に接続されている第３内面（６３）と、前記基面、前記第１内面のうち前記第３内面とは反対側の端部および前記第２内面のうち前記第３内面とは反対側の端部に接続されている第４内面（６４）と、を含み、
前記物理量検出部は、前記基板面と、前記第１内面と、前記第３内面と、前記第４内面と、によって区画形成される基板流路（９０）に設けられ、前記基板流路を流れる空気の物理量に応じた信号を出力し、
前記基板、前記第１内面、前記第３内面および前記第４内面のいずれかは、前記基面から前記後面に向かう方向に沿って前記基板流路の流路面積を小さくすることにより、前記基板流路のうち前記物理量検出部、前記基板、前記第１内面、前記第３内面および前記第４内面によって区画形成される流路面積を、前記基板流路のうち前記基面側の流路面積よりも小さくする空気流量測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、空気流量測定装置であって、基面（４１）と、基面とは反対側に位置する後面（４２）と、基面の端部および後面の端部に接続されている第１側面（５１）と、基面のうち第１側面とは反対側の端部および後面のうち第１側面とは反対側の端部に接続されている第２側面（５２）と、基面に形成される流量流路入口（４３１）と、後面に形成されている流量流路出口（４３２）と、流量流路入口および流量流路出口に連通する流量流路（４３、４４）と、基面に形成されている物理量流路入口（５００）と、を有するハウジング（３０）と、流量流路内に配置されており、流量流路を流れる空気の流量に応じた信号を出力する流量検出部（７５）と、物理量流路入口に配置されている基板（７６）と、基板のうち第１側面側の基板面（７６１）に実装されている物理量検出部（８１）と、を備え、物理量流路入口は、物理量流路入口のうち第１側面側に位置する第１内面（６１）と、物理量流路入口のうち第２側面側に位置する第２内面（６２）と、基面、第１内面および第２内面に接続されている第３内面（６３）と、基面、第１内面のうち第３内面とは反対側の端部および第２内面のうち第３内面とは反対側の端部に接続されている第４内面（６４）と、を含み、物理量検出部は、基板面と、第１内面と、第３内面と、第４内面と、によって区画形成される基板流路（９０）に設けられ、その基板流路を流れる空気の物理量に応じた信号を出力し、基板、第１内面、第３内面および第４内面のいずれかは、基面から後面に向かう方向に沿って基板流路の流路面積を小さくすることにより、基板流路のうち物理量検出部、基板、第１内面、第３内面および第４内面によって区画形成される流路面積を、基板流路のうち基面側の流路面積よりも小さくする空気流量測定装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月30日(2021.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
この場合、例えば、検査対象の被検査物２１の風速の定常値が閾値以上であれば、その被検査物２１の空隙は大きなものであるため、その被検査物２１は基準を満たさずＮＧである（当該空隙は欠陥に相当する）と判定できる。他方、検査対象の被検査物２１の風速の定常値が閾値未満であれば、その被検査物２１の空隙は小さく、その被検査物２１は基準を満しＯＫである（当該空隙は欠陥に相当しない）と判定できる。