【手続補正書】
【提出日】令和3年1月8日(2021.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、基板に露光処理を行う露光装置、基板処理装置、露光方法および基板処理方法に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（９）露光装置は、投光部内の圧力が処理室内の圧力に一致するかまたは近づくように投光部内の圧力を制御する圧力制御部をさらに備え、投光部は、透光性の窓部材を有し、窓部材を通して処理室内の基板に真空紫外線を照射してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
（３）制御部
図３は、図１の制御部１１０の構成を示す機能ブロック図である。図３に示すように、制御部１１０は、酸素濃度取得部Ａ、排気制御部Ｂ，Ｃ、給気制御部Ｄ，Ｅ、開閉制御部Ｆ、昇降制御部Ｇ、照度取得部Ｈ、露光量算出部Ｉおよび投光制御部Ｊを含む。制御部１１０は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリにより構成される。制御部１１０のメモリには、制御プログラムが予め記憶されている。制御部１１０のＣＰＵがメモリに記憶された制御プログラムを実行することにより、制御部１１０の各部の機能が実現される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
ステップＳ７ａでは、連結制御部Ｋは、連結管１０１のバルブｖ９を閉止する。ステップＳ１２ａでは、排気制御部Ｃは、バルブｖ３，ｖ４を閉止する。ステップＳ１４ａでは、給気制御部Ｅは、給気部１９０のバルブｖ７を開放する。ステップＳ１４ｂでは、連結制御部Ｋは、連結管１０１のバルブｖ９を開放する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収容する処理室と、
前記処理室内において、基板が載置される載置部と、
前記処理室内の気体を排出するための第１の排気部と、
前記処理室内に不活性ガスを供給するための第１の給気部と、
真空紫外線を出射する投光部と、
前記第１の排気部により前記処理室内の気体の排出が開始されてから予め定められた第１の時間が経過した後に、前記処理室内への不活性ガスの供給が開始されるように前記第１の給気部を制御する第１の給気制御部と、
前記処理室内の気体中の酸素濃度が予め定められた濃度まで低下した状態で、前記処理室内の基板に真空紫外線を照射することにより基板を露光するように前記投光部を制御する投光制御部と、
前記処理室内への基板の搬入および前記処理室外への基板の搬出の際に前記載置部が前記処理室内の第１の位置にあり、前記投光部による基板への真空紫外線の照射の際に前記載置部が前記第１の位置よりも前記投光部に近い第２の位置にあるように、前記載置部を前記第１の位置と前記第２の位置とに移動させる駆動部とを備える、露光装置。
【請求項２】
前記第１の給気部により前記処理室内への不活性ガスの供給が開始されてから予め定められた第２の時間が経過した後に、前記処理室内の気体の排出が停止されるように前記第１の排気部を制御する排気制御部をさらに備える、請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記投光部は、前記載置部の上方に配置され、真空紫外線を下方に出射し、
前記第２の位置は前記投光部の下方にあり、前記第１の位置は前記第２の位置の下方にあり、
前記駆動部は、前記載置部を前記第１の位置と前記第２の位置との間で昇降させる、請求項１または２記載の露光装置。
【請求項４】
前記駆動部は、前記第１の排気部により前記処理室内の気体が排出される際に、前記載置部が前記第１の位置よりも上方でかつ前記第２の位置よりも下方の第３の位置にあるように前記載置部を移動させる、請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１の排気部は、前記処理室内において気体を排出する排気口を有し、
前記第１の給気部は、前記処理室内において不活性ガスを供給する給気口を有し、
前記排気口は、前記第３の位置よりも上方または下方のいずれか一方に配置され、
前記給気口は、前記第３の位置よりも上方または下方のいずれか他方に配置される、請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記排気口は、前記第３の位置よりも下方に配置され、
前記給気口は、前記第３の位置よりも上方に配置される、請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記排気口と前記給気口とは、前記第３の位置を挟むように配置される、請求項５または６記載の露光装置。
【請求項８】
前記処理室内において、上下方向に延びる複数の支持部材をさらに備え、
前記複数の支持部材の上端は前記第１の位置よりも高くかつ前記第２の位置よりも低く、
前記載置部は、前記複数の支持部材が通過可能な複数の貫通孔を有し、
前記複数の支持部材は、前記載置部が前記第１の位置にあるときに前記載置部の前記複数の貫通孔を貫通する、請求項３〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記投光部内の圧力が前記処理室内の圧力に一致するかまたは近づくように前記投光部内の圧力を制御する圧力制御部をさらに備え、
前記投光部は、透光性の窓部材を有し、前記窓部材を通して前記処理室内の基板に真空紫外線を照射する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記圧力制御部は、
前記投光部内の気体を排出するための第２の排気部と、
前記投光部内に不活性ガスを供給するための第２の給気部と、
前記第２の排気部により前記投光部内の気体の排出が開始されてから前記第１の時間が経過した後に、前記投光部内への不活性ガスの供給が開始されるように前記第２の給気部を制御する第２の給気制御部とを含む、請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記圧力制御部は、
前記処理室の内部空間と前記投光部の内部空間とを連結する連結部と、
前記投光部内に不活性ガスを供給する第２の給気部とを含む、請求項９記載の露光装置。
【請求項１２】
基板に処理液を塗布することにより基板に膜を形成する塗布処理部と、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理する熱処理部と、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光する請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置と、
前記露光装置により露光された基板に溶剤を供給することにより基板の膜を現像する現像処理部とを備える、基板処理装置。
【請求項１３】
処理液は、誘導自己組織化材料を含む、請求項１２記載の基板処理装置。
【請求項１４】
駆動部により載置部を処理室内の第１の位置に移動させるステップと、
前記処理室内へ基板を搬入し、前記載置部に載置するステップと、
第１の排気部により前記処理室内の気体の排出を開始するステップと、
前記第１の排気部により前記処理室内の気体の排出が開始されてから予め定められた第１の時間が経過した後に、第１の給気部により前記処理室内への不活性ガスの供給を開始するステップと、
前記処理室内の気体中の酸素濃度が予め定められた濃度まで低下した状態で、前記駆動部により前記載置部を前記第１の位置よりも投光部に近い第２の位置に移動させるステップと、
前記投光部により前記処理室内の基板に真空紫外線を照射することにより基板を露光するステップと、
前記駆動部により前記載置部を前記第１の位置に移動させるステップと、
前記処理室内から基板を搬出するステップとを含む、露光方法。
【請求項１５】
塗布処理部により基板の被処理面に処理液を塗布することにより基板に膜を形成するステップと、
前記塗布処理部により膜が形成された基板を熱処理部により熱処理するステップと、
前記熱処理部により熱処理された基板を露光装置により露光する請求項１４記載の露光方法と、
前記露光装置により露光された基板の被処理面に現像処理部により溶剤を供給することにより基板の膜を現像するステップとを含む、基板処理方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２３】
2019057640.tif 000001