Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月23日(2021.8.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面を有する第１スタンドと、
前記第１面と離間して対向した第２面を有する第２スタンドと、
前記第１面に設けられた第１清掃パッドと、
前記第２面に設けられ、前記第１清掃パッドと対向する第２清掃パッドと、
を備え、
前記第１清掃パッドと第２清掃パッドとは、形状が異なっている、清掃キット。
【請求項２】
前記第１清掃パッドは、不織布であり、
前記第２清掃パッドは、繊維群が植毛された植毛シートである、請求項１に記載の清掃キット。
【請求項３】
前記繊維群の長さは、５ｍｍ以上７ｍｍ以下である、請求項２に記載の清掃キット。
【請求項４】
前記第１清掃パッドと前記第２清掃パッドとの間隔は、１ｍｍ以上３ｍｍ以下である、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の清掃キット。
【請求項５】
前記第１スタンドの上面に固定された可撓シートをさらに備え、
前記可撓シートは、前記第２スタンドから離間している、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の清掃キット。
【請求項６】
第１面を有する第１板と、
第２面を有する第２板と、
前記第１面に設けられ、不織布からなる第１清掃パッドと、
前記第２面に設けられ、繊維群が植毛された植毛シートからなる第２清掃パッドと、
前記第１板と前記第２板とを回動可能に支持する軸部と、
を備える清掃キット。
【請求項７】
ケースと、
前記ケースに配置され、第１開口部を有する第１袋と、
前記第１袋内に設けられた第１清掃パッド及び第２清掃パッドと、
を備え、
前記第１清掃パッドと前記第２清掃パッドとは、形状が異なっており、前記第１袋内において対向している、収納キット。
【請求項８】
前記第１清掃パッドは、不織布であり、
前記第２清掃パッドは、繊維群が植毛された植毛シートである、
請求項７に記載の収納キット。
【請求項９】
前記ケースにおいて前記第１袋と離間して配置された第２袋をさらに備え、
前記第２袋は、前記第１開口部と対向する第２開口部を有している、請求項７又は８に記載の収納キット。
【請求項１０】
第１側面と、前記第１側面と対向する第２側面とを有する溝部が形成された基材と、
前記第２側面に設けられた第２清掃パッドと、
を備え、
前記第１側面と前記第２清掃パッドとは、形状が異なっている、収納キット。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月13日(2021.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
暗号化データベースを生成する方法であって、前記方法は、
（ａ）１つ以上の列に平文データエントリを有する平文データベースを受信することと、
（ｂ）拡張された平文データベースを生成するために前記受信した平文データベースを
拡張することであって、前記拡張が１つ以上の列を前記受信した平文データベースに追加することを含み、前記追加された各列が条件付きクエリのために利用可能にされるべき属性に対応する、拡張することと、
（ｃ）前記拡張された平文データベースを暗号化して、暗号化データエントリを含む前記暗号化データベースを生成することと
を備え、
前記暗号化データベースが、前記追加された列に対応するそれらの属性についての少なくとも１つの形式の条件付きクエリをサポートし、前記少なくとも１つの形式の条件付きクエリが、暗号化結果を生成するように、その復号なしで前記暗号化データエントリについて計算される、
方法。
【請求項２】
前記暗号化データが、意味的にセキュアな暗号化によって暗号化される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記暗号化データが、準同型暗号システムを使用して暗号化される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記準同型暗号システムが、相加的準同型暗号システムである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記準同型暗号システムが、２−ＤＮＦ（論理和標準形）演算をサポートする、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの形式の条件付きクエリが、ＷＨＥＲＥクエリまたはＧＲＯＵＰＢＹクエリのうちの１つである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
暗号化データベースを管理するシステムであって、前記システムは、
ハードウエアを介して実装された抽出、転送、および書き込み（ＥＴＬ）サーバであって、前記ＥＴＬサーバは、（ｉ）１つ以上の列において暗号化されていないデータエントリを有する平文データベースを入力として受信し、（ｉｉ）拡張された平文データベースを生成するように前記受信した平文データベースを拡張し、前記拡張された平文データベースが、前記入力された平文データベースに対する１つ以上の列の追加を含み、前記追加された各列が条件付きクエリに利用可能にされるべき属性に対応し、（ｉｉｉ）暗号化データエントリを含む前記暗号化データベースを生成するように前記拡張された平文データベースを暗号化するように動作する、ＥＴＬサーバと、
ハードウエアを介して実装されたデータベース（ＤＢ）サーバであって、前記ＤＢサーバは、（ｉ）前記ＥＴＬサーバから前記暗号化データベースを受信して保持し、（ｉｉ）前記ＤＢサーバに提出されたクエリに応答して暗号化データを返すように動作する、ＤＢサーバと、
ハードウエアを介して実装された計算サーバであって、（ｉ）クエリを前記ＤＢサーバに提出し、（ｉｉ）前記ＤＢサーバから返された暗号化データに関する計算を実行するように動作する、計算サーバと
を備え、前記計算が、前記暗号化データの復号なしに前記暗号化データベースからの前記暗号化データに対して実行され、前記計算から得られた結果が暗号化され、前記暗号化データベースが、前記暗号化データの基礎となる前記暗号化されていないデータのサンプルを明らかにすることなく、少なくとも１つの形式の条件付きクエリに応答して正しい暗号化結果を得ることをサポートするように構成されている、システム。
【請求項８】
前記暗号化データが、意味的にセキュアな暗号化によって暗号化される、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記暗号化データが、準同型暗号システムを使用して暗号化される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記準同型暗号システムが、相加的準同型暗号システムである、請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月30日(2021.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが入射光線を複数の光線に分離する複数の光学異方性層を有する光学ローパスフィルタであって、
前記複数の光学異方性層の夫々を光入射側から順に第１層乃至第Ｎ層（３≦Ｎ≦５）とし、該第１層乃至第（Ｎ−１）層による光線分離幅の合計値をＤａ［μｍ］、該第１層乃至第（Ｎ−１）層により分離された光線のうち前記入射光線に対して最大位相差を有する光線と最小位相差を有する光線との間の距離をＤｓ［μｍ］とするとき、
Ｄｓ≦０．５０Ｄａ
なる条件を満足することを特徴とする光学ローパスフィルタ。
【請求項２】
使用波長域における最短波長および最長波長をそれぞれλｍｉｎおよびλｍａｘ、前記第１層乃至第（Ｎ−１）層のうち少なくとも一つにおいて、前記最短波長λｍｉｎおよび前記最長波長λｍａｘに対して生じる位相差をそれぞれδｍｉｎおよびδｍａｘとするとき、
０．５≦δｍｉｎ／λｍｉｎ−δｍａｘ／λｍａｘ
なる条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項３】
使用波長域における最短波長及び最長波長をそれぞれλｍｉｎおよびλｍａｘ、前記第１層乃至第Ｎ層のうち少なくとも一つで生じる位相差をδｓとするとき、
０．５≦δｓ／λｍｉｎ−δｓ／λｍａｘ
なる条件を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項４】
前記第１層乃至第Ｎ層のうち互いに隣接する二つの光学異方性層の光線分離方向が互いになす角度は、１２０°以上１５０°以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項５】
前記第１層乃至第Ｎ層の光線分離幅が全て等しいことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項６】
第２層から前記第（Ｎ−１）層のうち少なくとも一つにおいて、使用波長域における最短波長λｍｉｎよりも長く最長波長よりも短い波長λａ［ｎｍ］に対して生じる位相差をΔｎｄ［ｎｍ］、自然数をｍとするとき、
Δｎｄ＝ｍ×λａ
なる式を満足することを特徴とする請求項５に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項７】
前記第１層乃至第Ｎ層は第１および第２の光学異方性層を含み、該第１の光学異方性層は第１の方向または該第１の方向に直交する第２の方向に前記入射光線を分離し、前記２の光学異方性層は前記第１または第２の方向に対して４５°または１３５°の方向に前記入射光線を分離することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項８】
前記第１の光学異方性層の光線分離幅は、前記第２の光学異方性層の光線分離幅よりも小さいこと特徴とする請求項７に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項９】
前記第２の光学異方性層において、使用波長域における最短波長λｍｉｎよりも長く最長波長よりも短い波長λａ［ｎｍ］に対して生じる位相差をΔｎｄ［ｎｍ］、自然数をｍとするとき、
Δｎｄ＝（ｍ＋０．５）／２×λａ
なる式を満足することを特徴とする請求項７または８に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項１０】
前記第１層乃至第Ｎ層は、水晶で構成される光学異方性層およびニオブ酸リチウムで構成される光学異方性層を含むことを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項１１】
Ｄｓ≦４．２
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項１２】
Ｄｓ≦０．４Ｄａ
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項１３】
使用波長域における最短波長および最長波長をそれぞれλｍｉｎおよびλｍａｘ、前記第１層乃至第（Ｎ−１）層のうち少なくとも一つにおいて、前記最短波長λｍｉｎおよび前記最長波長λｍａｘに対して生じる位相差をそれぞれδｍｉｎおよびδｍａｘとするとき、
０．５≦δｍｉｎ／λｍｉｎ−δｍａｘ／λｍａｘ≦３．０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項１４】
使用波長域における最短波長および最長波長をそれぞれλｍｉｎおよびλｍａｘ、前記第１層乃至第Ｎ層のうち少なくとも一つで生じる位相差をδｓとするとき、
０．５≦δｓ／λｍｉｎ−δｓ／λｍａｘ≦１０．０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタ。
【請求項１５】
請求項１から１４のいずれか一項に記載の光学ローパスフィルタと、
該光学ローパスフィルタを通過した光により形成された光学像を光電変換する撮像素子とを有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面としての光学ローパスフィルタは、それぞれが入射光線を複数の光線に分離する複数の光学異方性層を有する。該光学ローパスフィルタは、複数の光学異方性層の夫々を光入射側から順に第１層乃至第Ｎ層（３≦Ｎ≦５）とし、該第１層乃至第（Ｎ−１）層による光線分離幅の合計値をＤａ［μｍ］とし、第１層乃至第（Ｎ−１）層により分離された光線のうち入射光線に対して最大位相差を有する光線と最小位相差を有する光線との間の距離をＤｓ［μｍ］とするとき、
Ｄｓ≦０．５０Ｄａ
なる条件を満足することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月7日(2021.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成される、特定の波長範囲に対する第１反射防止構造体と、
前記第１反射防止構造体の一部分の上に堆積される少なくとも１層と、
前記少なくとも１層上に形成される、前記特定の波長範囲に対する第２反射防止構造体と、を有し、
前記第１反射防止構造体の第１表面と前記第２反射防止構造体の第２表面との間の深さ、前記第１反射防止構造体の第１の有効屈折率、前記第２反射防止構造体の第２の有効屈折率、および前記少なくとも１つの層の第３の屈折率は、前記特定の波長範囲を含む特定の波長に対して位相遅延を伴う回折光学素子が形成されるよう選択され、
前記第２の有効屈折率は、前記第３の屈折率と異なり、
前記第１反射防止構造体は、互いに異なる対応する屈折率を備えた２以上の層を含む、
光学素子。
【請求項２】
前記第１反射防止構造体は、前記基板の第１側に形成され、かつ前記基板の第２側に形成された反射防止被膜をさらに有する、請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記第１反射防止構造体は、前記第２反射防止構造体のエッチングに対するエッチングストップ層である、請求項１に記載の光学素子。
【請求項４】
前記少なくとも１つの層、前記第１反射防止構造体、または前記第２反射防止構造体のうち少なくとも１種が、薄膜堆積を用いて形成される、請求項１に記載の光学素子。
【請求項５】
前記第１反射防止構造体は、第１のシリコン層および第１の二酸化ケイ素層を含み、
前記少なくとも１つの層は、第２のシリコン層を含み、
前記第２反射防止構造体は、第２の二酸化ケイ素層を含み、かつ
前記特定の波長範囲は、約８４０ｎｍと約８６０ｎｍとの間である、請求項１に記載の光学素子。
【請求項６】
前記第１反射防止構造体、前記第２反射防止構造体および前記少なくとも１つの層は、シリコンおよび二酸化ケイ素の交互層から形成される、請求項１に記載の光学素子。
【請求項７】
前記第１反射防止構造体、前記第２反射防止構造体および前記少なくとも１つの層は、水素化シリコンおよび二酸化ケイ素の交互層から形成される、請求項１に記載の光学素子。
【請求項８】
前記第１反射防止構造体は、第１の材料の第１の層および第２の材料の第２の層から形成され、
前記少なくとも１つの層は、前記第１の材料の第３層から形成され、かつ
前記第２反射防止構造体は、前記第１の層、前記第２の層、前記第３の層、前記第２の材料の第４の層および前記第１の層の第５の層から形成される、請求項１に記載の光学素子。
【請求項９】
前記第１反射防止構造体は、前記基板の第１側に形成され、かつ
前記基板の第２側に形成される、他の特定の波長範囲に対する第３の反射防止構造体と、
前記第３の反射防止構造体の一部分の上に堆積された他の少なくとも１つの層と、
前記他の少なくとも１つの層に形成される、前記他の特定の波長範囲に対する第４の反射防止構造体と、をさらに有する、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１０】
前記第１反射防止構造体および前記第２反射防止構造体は、２段階型のレリーフ・プロファイルを形成する、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１１】
前記第１反射防止構造体は、第１のシリコン層および第１の二酸化ケイ素層を含み、
前記少なくとも１つの層は、第２のシリコン層を含み、
前記第２反射防止構造体は、第２の二酸化ケイ素層を含み、かつ
前記特定の波長範囲は、約９３０ｎｍと約９５０ｎｍとの間である、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１２】
前記第１反射防止構造体は、第１のシリコン層および第１の二酸化ケイ素層を含み、
前記少なくとも１つの層は、第２のシリコン層を含み、
前記第２反射防止構造体は、第２の二酸化ケイ素層を含み、かつ
前記特定の波長範囲は、約１５４０ｎｍと約１５６０ｎｍとの間である、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１３】
前記特定の波長範囲は、約８４０ｎｍと約９４０ｎｍとの間である、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１４】
前記深さは、λ／４と３λ／４との間であり、当該λは前記特定の波長範囲を表わす、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１５】
前記光学素子の有効屈折率は、２．０と３．０との間である、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１６】
前記特定の位相遅延は、π位相遅延である、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１７】
前記特定の位相遅延は、非π位相遅延である、請求項１に記載の光学素子。
【請求項１８】
基板と、
第１の有効屈折率を有し、かつ第１の２以上の異なる屈折率を備える第１の２以上の層から形成される、前記基板上に堆積された第一組の層と、
特定の屈折率を有し、前記第一組の層の一部分の上に堆積される少なくとも１つのスペーサー層と、
第２の有効屈折率を有し、かつ第２の２以上の異なる屈折率を備える第２の２以上の層から形成される、前記少なくとも１つのスペーサー層上に堆積される第二組の層と、を有し、
前記第一組の層は、特定の波長で第１反射防止構造体を前記基板上に形成し、
前記第一組の層、前記少なくとも１つのスペーサー層および前記第二組の層は、前記基板上の特定の波長で第２反射防止構造体を一括して前記基板上に形成し、かつ前記特定波長に対する特定の位相遅延を備えた回折光学素子を前記基板上に形成し、
前記第二組の層の第１表面と前記第一組の層の第２表面との間の深さが前記特定の位相遅延を形成する、光学素子。
【請求項１９】
前記第１反射防止構造体および前記第２反射防止構造体は、前記基板の第１側上に形成され、前記基板の第２側上に形成される反射防止被膜をさらに含む、請求項１８の光学素子。
【請求項２０】
ウエハ上に複数の層を堆積し、当該堆積によって特定波長に対する第１反射防止構造体を、前記特定波長に対する前記第１反射防止構造体および第２反射防止構造体の一部分の上に形成される少なくとも１つの層の下で形成し、
前記第２反射防止構造体の有効屈折率は、前記少なくとも１つの層の屈折率とは異なり、
前記第１反射防止構造体は、互いに異なる対応する屈折率を備える２以上の層を含み、
前記第２反射防止構造体は、前記少なくとも１つの層の頂点部に形成され、
前記複数の層のうちの一部の層をエッチングして、２段階型のレリーフ・プロファイルを形成すること、を含む方法であって、
前記エッチングは、前記第１反射防止構造体と前記第２反射防止構造体との間に前記特定の波長範囲に対して位相遅延の伴った回折光学素子を形成すること、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月18日(2020.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縦横比の変更が可能な表示装置であって、
第１ユニットと第２ユニットを備えた表示領域を有し、
前記第１ユニットと前記第２ユニットとのそれぞれは、発光部と、接続領域と、を有し、
前記第１ユニットの前記接続領域は、前記第２ユニットの前記接続領域に電気的に接続され、
前記表示領域は、前記第１ユニットと前記第２ユニットとのなす角度を変更できる構造を有する表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
第３ユニットを備えたドライバ領域を有し、
前記第３ユニットは、駆動回路部を有し、
前記駆動回路部は、前記第１ユニットの前記発光部及び前記第２ユニットの前記発光部を駆動する機能を有し、
前記ドライバ領域は、前記第３ユニットが、前記第１ユニット又は前記第２ユニットのどちらか一方と平行となる構造を有する表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第１ユニットの第１方向の長さは、前記第１ユニットの第２方向の長さよりも長い表示装置。
【請求項４】
縦横比の変更が可能な表示装置であって、
複数の第１ユニットを備えた表示領域と、複数の第２ユニットを備えたドライバ領域と、を有し、
前記複数の第１ユニットと前記複数の第２ユニットのそれぞれは、接続領域を有し、
前記第１ユニットの前記接続領域は、前記第２ユニットの前記接続領域に電気的に接続され、
前記表示領域は、前記複数の第１ユニットのそれぞれが平行となる構造を有し、
前記ドライバ領域は、前記複数の第２ユニットのそれぞれが平行となる構造を有し、
前記第１ユニットと前記第２ユニットとのなす角度を変更できる構造を有する表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記複数の第１ユニットのそれぞれは、発光部を有し、
前記複数の第１ユニットのうちの一部は、駆動回路部を有し、
前記複数の第２ユニットのそれぞれは、駆動回路部を有し、
前記複数の第２ユニットのうちの一部は、発光部を有する表示装置。
【請求項６】
縦横比の変更が可能な表示装置であり、
第１ユニットと第２ユニットを備えた表示領域を有し、
前記第１ユニット及び前記第２ユニットは、それぞれ発光部を有し、
前記第２ユニットは、前記第１ユニットの第１領域と重畳し、
前記表示領域は、前記第１領域の面積を変更できる構造を有する表示装置。
【請求項７】
請求項６において、
第３ユニットと第４ユニットを備えたドライバ領域を有し、
前記第３ユニットは、前記第１ユニットの前記発光部を駆動する機能を有し、
前記第４ユニットは、前記第２ユニットの前記発光部を駆動する機能を有し、
前記第４ユニットは、前記第３ユニットの第１領域と重畳し、
前記ドライバ領域は、前記第３ユニットの前記第１領域の面積を変更できる構造を有する表示装置。
【請求項８】
請求項７において、
第１絶縁体と、第２絶縁体と、を有し、
前記第１ユニットと、前記第３ユニットと、は、前記第１絶縁体に覆われ、
前記第２ユニットと、前記第４ユニットと、は、前記第２絶縁体に覆われ、
前記第２絶縁体は、前記第１絶縁体の上方に位置し、
前記第１絶縁体、前記第２絶縁体のそれぞれは、伸縮性を有する表示装置。
【請求項９】
請求項６において、
第３ユニットと、第１絶縁体と、を有し、
前記第３ユニットは、前記第１ユニットと、前記第２ユニットと、のそれぞれの前記発光部を駆動する機能を有し、
前記第１ユニットと、前記第２ユニットと、前記第３ユニットと、は前記第１絶縁体に覆われ、
前記第１絶縁体は、伸縮性を有する表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項３、請求項５乃至請求項９のいずれか一において、
前記発光部は、発光素子を有する表示装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月19日(2021.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の１）〜 ２）の工程を含む多能性幹細胞を所望の細胞型へ分化させる方法、
１） 所望の細胞型への分化誘導に必要な転写因子を含むセンダイウイルスベクターを、細胞培地中の多能性幹細胞に１回添加する工程、及び、
２） 該多能性幹細胞を培養して、所望の細胞型へ分化させる工程。
【請求項２】
前記センダイウイルスベクターは、温度感受性である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、POU5F1タンパク質の発現量を実質的に除去又は低減させる作用を持つ化合物の遺伝子を前記多能性幹細胞に添加する工程を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記POU5F1タンパク質の発現量を実質的に除去又は低減させる作用を持つ化合物の遺伝子は、POU5F1に対するsiRNAである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記多能性幹細胞は、POU5F1タンパク質の発現量を実質的に除去又は低減させた多能性幹細胞である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
前記所望の細胞型は骨格筋細胞であり、前記転写因子はMYOD1である、請求項１ 〜５のいずれか１に記載の方法。
【請求項７】
前記骨格筋細胞の分化効率は７５％以上である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記骨格筋細胞の分化効率は７５％以上であり、かつ、１種類の細胞培養培地を使用する、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
前記所望の細胞型は運動ニューロンであり、前記転写因子はNEUROG3である、請求項１〜 ５のいずれか１ に記載の方法。
【請求項１０】
前記運動ニューロンの分化効率は約９０％である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記運動ニューロンの分化効率は約９０％であり、かつ、１種類の細胞培養培地を使用する、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記所望の細胞型は肝細胞であり、前記転写因子はFOXA1及びHNF1Aである、請求項１ 〜５のいずれか１に記載の方法。
【請求項１３】
２種類の細胞培養培地を使用する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記所望の細胞型は造血細胞であり、前記転写因子はSPI1である、請求項１〜５のいずれか１に記載の方法。
【請求項１５】
前記所望の細胞型はドーパミン作動性ニューロンであり、前記転写因子はFOXA1である、請求項１〜５のいずれか１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月27日(2020.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両底面の受電部に対して前記車両外部の送電装置から充電を行う際の充電支援装置であって、
車両画像とカメラで撮影された車両周辺とを俯瞰画像で表示する制御部を有し、
前記制御部は、
前記カメラの撮影画像から前記送電装置の位置を検出し、
前記送電装置が前記車両の下に隠れた後は、前記車両の移動方向および移動距離に基づき前記送電装置の位置を算出すると共に、前記受電部の位置を示す第１の画像と前記送電装置の位置を示す第２の画像を前記俯瞰画像に表示し、
所定の充電効率が得られる位置に前記受電部が位置したとき、少なくとも前記第１の画像または前記第２の画像の一方の色または大きさを変えて表示することを特徴とする充電支援装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記受電部を示す表示または前記送電装置を示す表示のそれぞれの中心位置を示すマークを表示することを特徴とする請求項１に記載の充電支援装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記送電装置が前記車両の下に隠れる前に前記送電装置の位置を認識することを特徴とする請求項１に記載の充電支援装置。
【請求項４】
前記俯瞰画像は、前記車両の上方を視点として前記車両の方向を見た画像であり、前記制御部は、前記俯瞰画像における車両画像に前記送電装置の画像を重畳して表示することを特徴とする請求項１に記載の充電支援装置。
【請求項５】
車両に非接触で電力を供給する送電装置を含む、前記車両の周囲を撮影する撮像部により撮影された画像、前記車両の移動方向、移動距離を取得し、前記画像、前記移動方向、前記移動距離に基づいて、前記送電装置の位置を検出し、前記車両に含まれる前記電力の供給を受ける受電部の位置と前記送電装置の位置との距離に基づく充電効率を算出し、前記充電効率に基づいた通知を出力部に出力させる制御部を備え、
前記通知は、前記充電効率に基づいて、前記車両を俯瞰する俯瞰画像に重畳して表示される前記送電装置の色及び大きさを変化させることで行う、
充電支援装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記俯瞰画像の撮影時刻、現時刻、前記車両の前記移動方向及び前記移動距離に基づいて、前記送電装置の位置を算出する、
請求項５に記載の充電支援装置。 
【請求項７】
車両底面の受電部に対して前記車両外部の送電装置から充電を行う際の充電支援装置が、
車両画像とカメラで撮影された車両周辺とを俯瞰画像で表示し、
前記カメラの撮影画像から前記送電装置の位置を検出し、
前記送電装置が前記車両の下に隠れた後は、前記車両の移動方向および移動距離に基づき前記送電装置の位置を算出すると共に、前記受電部の位置を示す第１の画像と前記送電装置の位置を示す第２の画像を前記俯瞰画像に表示し、
所定の充電効率が得られる位置に前記受電部が位置したとき、少なくとも前記第１の画像または前記第２の画像の一方の色または大きさを変えて表示する
ことを特徴とする充電支援方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月27日(2020.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両底面の受電部に対して前記車両外部の送電装置から充電を行う際の充電支援装置であって、
車両画像とカメラで撮影された車両周辺とを俯瞰画像で表示する制御部を有し、
前記制御部は、前記送電装置が前記車両の下に隠れる前に撮影しておいた画像に基づき前記送電装置の位置を算出し、前記送電装置が前記車両の下に隠れた状態となってから前記俯瞰画像の前記車両の下に存在する前記送電装置の位置の表示を開始し、
前記制御部は、前記送電装置が前記車両の下に隠れた状態において、前記車両の移動方向および移動距離を算出し、前記車両と前記送電装置の位置関係を表示する
ことを特徴とする充電支援装置。
【請求項２】
前記車両の位置において予想される充電効率を前記送電装置の色によって表示することを特徴とする請求項１記載の充電支援装置。
【請求項３】
前記送電装置が前記車両の下に隠れた後に、前記車両の位置において予想される充電効率を前記送電装置の色によって表示することを特徴とする請求項１記載の充電支援装置。
【請求項４】
あらかじめ用意された前記送電装置の画像を前記送電装置の位置の表示に利用することを特徴とする請求項１記載の充電支援装置。
【請求項５】
充電位置に前記車両が位置したことを報知することを特徴とする請求項１記載の充電支援装置。
【請求項６】
車両の下に隠れる前に撮影された送電装置の画像を使用し前記送電装置の位置の表示を開始することを特徴とする請求項１記載の充電支援装置。 
【請求項７】
車両底面の受電部に対して前記車両外部の送電装置から充電を行う際の充電支援装置が、
車両画像とカメラで撮影された車両周辺とを俯瞰画像で表示し、
前記送電装置が前記車両の下に隠れる前に撮影しておいた画像に基づき前記送電装置の位置を算出し、前記送電装置が前記車両の下に隠れた状態となってから前記俯瞰画像の前
記車両の下に存在する前記送電装置の位置の表示を開始し、
前記送電装置が前記車両の下に隠れた状態において、前記車両の移動方向および移動距離を算出し、前記車両と前記送電装置の位置関係を表示する
ことを特徴とする充電支援方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月4日(2021.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のセルに区切られ、前記複数のセルの各々に薬剤が投入されるトレイと、
前記複数のセルの各々に対応して設けられて複数色を切り替え表示可能な発光部と、
処方データに基づいて作業支援画面を表示するモニタと、
前記モニタおよび前記発光部を制御する制御部とを備え、
前記作業支援画面は、前記トレイの前記複数のセルをセル配置に対応して模式的に表したセルイメージを表示するセルイメージ領域と、薬剤の外観画像を表示する薬剤画像領域とを含み、
前記制御部は、前記処方データに基づいて、前記セルイメージにおいて、前記複数のセルのうち所定の薬剤を投入すべきセルを、当該薬剤の服用時期毎に互いに異なる色に対応づけて表示すると共に、当該セルに投入すべき錠数を表示し、
前記制御部は、前記処方データに基づいて、前記トレイに投入すべき薬剤の外観画像を前記薬剤画像領域に表示し、
前記制御部は、前記トレイにおいて前記所定の薬剤を投入すべきセルに対応する発光部が、前記作業支援画面の前記セルイメージにおいて当該セルに対応づけられた色と同じ色を表示するように前記発光部を制御する、薬剤手撒き装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月25日(2021.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアニオンおよび水性媒体を含む液の中で、共役系導電性重合体を得るための単量体化合物を重合して、共役系導電性重合体を含む分散液（１）を得ると共に、前記分散液（１）に分散処理を施して、前記共役系導電性重合体を含有する分散液（２）を得る工程（Ａ）を含み、
前記工程（Ａ）において、前記分散液（１）に、または前記分散液（１）を得る途上の前記水性媒体に塩化合物を添加する
共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項２】
前記塩化合物の添加量が前記分散液（２）の量の０．０１〜３０質量％となる量である、請求項１に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項３】
前記塩化合物が、有機酸塩及び無機酸塩から選択される少なくとも１種である、請求項１または２に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項４】
前記塩化合物が、クエン酸塩、乳酸塩、グリコール酸塩、グルコン酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩、酒石塩、塩酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、リン酸水素塩、およびリン酸塩からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項５】
前記単量体化合物の重合中に前記液、または前記分散処理中の前記分散液（１）に、前記塩化合物を添加する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項６】
前記分散処理は、前記重合の後に行われ、前記単量体化合物の重合後かつ前記分散処理前の前記分散液（１）に前記塩化合物を添加する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項７】
前記分散処理の後、脱塩する請求項５または６に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項８】
前記分散処理は、高圧ホモジナイザーを用いて行われる請求項１〜７のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項９】
前記水性媒体にポリアニオンにより保護コロイド化されたシード粒子が分散している、請求項１〜８のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項１０】
前記シード粒子がエチレン性不飽和単量体の重合体の粒子である請求項９に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項１１】
前記ポリアニオンにより保護コロイド化されたシード粒子のｄ５０粒子径が０．０１〜１０μｍである請求項９または１０に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項１２】
前記単量体化合物が、ピロール化合物、アニリン化合物、及びチオフェン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜１１のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項１３】
前記単量体化合物が、下記式（１）
【化１】
2019179855.tif 000001
（式中、Ｒ1及びＲ2は、各々独立して水素原子、水酸基、置換基を有してもよい炭素数１〜１８のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜１８のアルコキシ基、若しくは置換基を有してもよい炭素数１〜１８のアルキルチオ基を表し、または
Ｒ1及びＲ2は、Ｒ1とＲとが互いに結合して、置換基を有してもよい炭素数３〜１０の脂環、置換基を有してもよい炭素数６〜１０の芳香環、置換基を有してもよい炭素数２〜１０の酸素原子含有複素環、置換基を有してもよい炭素数２〜１０のイオウ原子含有複素環、若しくは置換基を有してもよい炭素数２〜１０のイオウ原子及び酸素原子含有複素環を表す。）で示される化合物である請求項１〜１２のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項１４】
前記ポリアニオンが、スルホ基およびスルホ基の塩からなる基の少なくとも一方を有するポリマーである請求項１〜１３のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項１５】
前記ポリアニオンが、前記ポリアニオン中のアニオン性基の割合が前記単量体化合物１モルに対し０．２５〜３０．００モルとなる量で使用される請求項１〜１４のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法。
【請求項１６】
表面に誘電体被膜を有する弁作用金属からなる多孔性陽極体と、前記誘電体被膜の表面に設けられた固体電解質層とを有する固体電解コンデンサの製造方法であって、
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の共役系導電性重合体を含有する分散液（２）の製造方法によって、分散液（２）を得る工程（Ａ）、
前記分散液（２）を、表面に誘電体被膜を有する弁作用金属からなる多孔性陽極体に付着させる工程（Ｂ）、および
前記多孔性陽極体に付着した前記分散液（２）から前記水性媒体を除去し固体電解質層を形成する工程（Ｃ）
を有し、
前記工程（Ａ）において、前記分散液（１）に、または前記分散液（１）を得る途上の前記水性媒体に塩化合物を添加する
固体電解コンデンサの製造方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の製造方法により得られた固体電解コンデンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】共役系導電性重合体を含有する分散液の製造方法、固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月19日(2021.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体の表面の一部に真空領域を形成可能な真空形成部材と、
前記真空領域を介して前記物体に荷電粒子ビームを照射する照射装置と、
前記物体の表面とは反対側の裏面に保持力を及ぼし、前記物体を保持して前記真空形成部材に対して移動可能なステージと
を備え、
前記ステージは、前記物体の裏面における前記真空形成部材の位置に応じて、前記裏面の一部の領域に対して前記裏面の他の領域とは異なる前記保持力を及ぼす
荷電粒子装置。
【請求項２】
前記ステージは、前記物体の前記裏面との間に形成される空間を複数の区画に分割する隔壁部材を備え、
前記複数の区画のうちの前記物体の表面における前記真空形成部材の位置に対応した一の区画の気圧を、前記複数の区画のうちの他の区画の気圧と異ならせる気圧調整装置を更に備える
請求項１に記載の荷電粒子装置。
【請求項３】
前記真空形成部材は、第１排気装置を用いて前記真空領域を形成し、
前記気圧調整装置は、前記第１排気装置とは異なる第２排気装置を用いて前記空間を排気する
請求項２に記載の荷電粒子装置。
【請求項４】
前記第２排気装置は、拡散ポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ及びスパッタイオンポンプのうち少なくとも１つを含む
請求項３に記載の荷電粒子装置。
【請求項５】
前記真空形成部材は、第１排気装置を用いて前記真空領域を形成し、
前記気圧調整装置は、前記第１排気装置を用いて前記空間を排気する
請求項２に記載の荷電粒子装置。
【請求項６】
前記気圧調整装置は、前記一の区画の気圧を、前記他の区画の気圧よりも低く調整する
請求項２から５のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項７】
前記ステージは、前記物体を保持する保持部材を備え、
前記保持部材は、前記空間に、前記他方の面を支持する複数のピン状部材を有する
請求項２から６のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項８】
前記気圧調整装置は、前記真空形成装置が形成する真空領域による吸引力に起因した前記物体の変形を抑制するように前記一の区画の気圧を調整する
請求項２から７のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項９】
前記気圧調整装置が気圧を調整する前記一の区画の位置は、前記ステージの移動による前記物体と前記真空形成部材との相対的な位置関係の変化に伴って変化する
請求項２から８のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項１０】
前記ステージは、前記物体の前記裏面の複数の領域に静電力を及ぼして前記保持力を発生させる複数の静電チャックを備え、
一部の前記静電チャックが及ぼす静電力を、他の前記静電チャックが及ぼす静電力と異ならせる
請求項１から９のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項１１】
前記物体の表面における前記真空形成部材の位置に対応した前記裏面の一部の領域に前記一部の静電チャックが及ぼす静電力を、前記裏面の他の領域に前記他の静電チャックが及ぼす前記静電力より大きくする
請求項１０に記載の荷電粒子装置。
【請求項１２】
前記一部の静電チャックは、前記真空形成部材が形成する前記真空領域による吸引力に起因した前記物体の変形を抑制するように、前記一部の領域に及ぼす前記静電力を調整する
請求項１１に記載の荷電粒子装置。
【請求項１３】
前記一部の領域の位置は、前記ステージの移動による前記物体と前記真空形成装置の相対位置の変化に伴って移動し、前記移動に伴って前記他の静電チャックが前記一部の静電チャックとなる
請求項１１又は１２に記載の荷電粒子装置。
【請求項１４】
前記ステージと前記物体の前記裏面との間に形成される空間を排気して、前記物体の前記裏面に前記保持力の少なくとも一部を付与する気圧調整装置を更に備える
請求項１０から１３のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項１５】
前記物体の表面の前記真空領域が形成されている領域以外の領域は、非真空領域又は前記真空領域よりも真空度が低い領域である
請求項１から１４のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項１６】
前記真空形成部材は、前記物体の表面と対向するように設けられ、第３排気装置と連通している第１の開口を有する、
請求項１から１５のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項１７】
前記真空形成部材は、前記第１の開口の周囲に前記物体の表面と対向するように設けられ、第４排気装置と連通している第２の開口を有する
請求項１６に記載の荷電粒子装置。
【請求項１８】
前記第１の開口内の空間の真空度は、前記第２の開口における真空度よりも高い
請求項１７に記載の荷電粒子装置。
【請求項１９】
前記真空形成部材は、前記物体と前記真空形成部材との間の間隙、及び、前記第１の開口と前記第２の開口とによって、前記物体の表面に非接触で前記真空領域を形成する差動排気方式の真空形成部材である
請求項１７又は１８に記載の荷電粒子装置。
【請求項２０】
前記真空領域の気圧は、１×１０−３パスカル以下である
請求項１から１９のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項２１】
前記真空形成部材と前記物体との間の距離は、１μｍ以上且つ１０μｍ以下である
請求項１から２０のいずれか一項に記載の荷電粒子装置。
【請求項２２】
請求項１から２１のいずれか一項に記載の荷電粒子装置と、
大気圧下で前記物体を計測する計測装置と
を備え、
前記荷電粒子装置は、前記荷電粒子ビームが照射された前記物体からの荷電粒子の検出結果に基づいて、前記物体を計測する荷電粒子線計測装置である
計測システム。
【請求項２３】
前記計測装置で計測される前記物体上の領域の少なくとも一部を、前記荷電粒子線計測装置で計測する
請求項２２に記載の計測システム。
【請求項２４】
前記領域には、所定の指標物が形成されている
請求項２３に記載の計測システム。
【請求項２５】
前記領域にはレジストパターンが形成されている
請求項２３又は２４に記載の計測システム。
【請求項２６】
前記荷電粒子線計測装置は、前記物体の内部に形成されたパターンに関する情報を取得する
請求項２２から２５のいずれか一項に記載の計測システム。
【請求項２７】
前記計測装置による計測後に、前記荷電粒子線計測装置による計測を行う
請求項２２から２６のいずれか一項に記載の計測システム。
【請求項２８】
前記計測装置は、光学顕微鏡及び回折干渉計の少なくとも一方を含み、
前記回折干渉計は、前記物体上で回折された回折光同士を互いに干渉させて得られる干渉光を検出することで前記物体を計測する
請求項２２から２７のいずれか一項に記載の計測システム。
【請求項２９】
物体の表面に荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビームの照射方法であって、
前記物体の表面とは反対側の裏面に保持力を及ぼして前記物体をステージ上に保持することと、
前記物体の表面の一部に真空領域を形成することと、
前記真空領域を介して前記物体に荷電粒子ビームを照射することと、
前記物体と前記真空領域との相対位置を変更することと、
前記物体の表面における前記真空領域の位置に応じて、前記裏面の一部の領域に対して前記裏面の他の領域とは異なる前記保持力を及ぼすことと
を含む荷電粒子ビームの照射方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月15日(2021.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源を点灯させる点灯電力の供給経路となる配線具と、
一面の側に前記光源が配置されるとともに前記一面と反対側である他面の側に前記配線具が配置される主部、および、前記配線具が配置される配線領域の端縁部に沿うように前記他面の側に立設して前記主部と一体に形成された１つの壁部を有する台座と、
を備えた灯具。
【請求項２】
前記壁部は、
前記配線領域の一方の前記端縁部に沿って形成されている請求項１に記載の灯具。
【請求項３】
前記配線領域は、
前記一方の前記端縁部の側が前記壁部によって閉塞されており、前記一方の前記端縁部と反対側である他方の前記端縁部の側が前記壁部の前記配線領域の側の面から離れる向きに開放されている請求項１または請求項２に記載の灯具。
【請求項４】
前記配線領域は、
前記他面から離れる向きに開放されている請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の灯具。
【請求項５】
前記他面の側には、
前記点灯電力を生成する点灯装置が前記壁部に近接して配置される請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の灯具。
【請求項６】
前記配線領域は、
前記一方の前記端縁部の側が前記点灯装置によって閉塞されており、前記一方の前記端縁部と反対側である前記他方の前記端縁部の側が前記点灯装置から離れる向きに開放されている請求項５に記載の灯具。
【請求項７】
光源と、
前記光源を点灯させる点灯電力の供給経路となる配線具と、
一面の側に前記光源が配置されるとともに前記一面と反対側である他面の側に前記配線具が配置される主部、および、前記配線具が配置される配線領域の端縁部に沿うように前記他面の側に立設して前記主部と一体に形成された１つの壁部を有する台座と
を備えた灯具と、
前記灯具が着脱自在に装着される照明器具とからなる照明装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る灯具は、光源と、前記光源を点灯させる点灯電力の供給経路となる配線具と、一面の側に前記光源が配置されるとともに前記一面と反対側である他面の側に前記配線具が配置される主部、および、前記配線具が配置される配線領域の端縁部に沿うように前記他面の側に立設して前記主部と一体に形成された１つの壁部を有する台座とを備えている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
＜点灯装置３５＞
点灯装置３５は、ネジ（図示は省略）等の固定具を用いて台座主部３１０の取付面部３１１に取り付けられている。詳しくは、主部３１０の短手方向における一端側に寄せて取り付けられている。点灯装置３５は、商用電源等の外部電源から端子台２４３を介して供給される電力を、発光素子３０１を点灯させる点灯電力に変換して発光部３０に供給する。点灯装置３５は、点灯装置３５の外郭部である電源ケース３５１と電源ケース３５１に収納され点灯電力を生成する電源回路が載置された電源ユニット（図示は省略）とを有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
＜本実施の形態の作用効果＞
このように、本実施の形態では、灯具３の短手方向において、配線領域となる取付面部３１１片側の端部には、死角の原因となり配線作業を妨げる原因となる台座３１の台座側壁部および台座側壁部と係合するカバー３３の取付部が形成されていない。このため、照明装置１は施工時の配線作業が向上する。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月22日(2020.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像に対して仮想光の効果を付与するリライティング処理を行う画像処理装置であって、
前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する複数の取得手段を有し、
ここで前記複数の取得手段は、前記画像の視差情報に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第１の取得手段と、前記視差情報とは異なる特徴量に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第２の取得手段と、を含み、
前記複数の取得手段のうち、どの取得手段により取得された距離分布情報を用いて前記リライティング処理を行うかを決定する決定手段をさらに有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記リライティング処理のモードを設定する設定手段をさらに有し、
前記決定手段は、前記設定手段により設定されたモードに基づき、どの取得手段により取得された距離分布情報を優先して用いて前記リライティング処理を行うかを決定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記モードは、撮影後に自動的にリライティング処理を行う第１のモードと、撮影され記録媒体に記録された画像に対しユーザ操作に基づきリライティング処理を行う第２のモードとを含むことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１のモードにおいて、前記決定手段は前記第２の取得手段により取得された距離分布情報を優先して用い、前記第２のモードにおいて、前記決定手段は前記第１の取得手段により取得された距離分布情報を優先して用いることを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第１の取得手段により取得された距離分布情報の信頼度を取得する第３の取得手段をさらに含み、
前記第２のモードにおいて、前記第３の取得手段により取得された信頼度が所定値より低い場合、前記決定手段は前記第２の取得手段により取得された距離分布情報を用いることを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記モードは、前記画像全体に前記リライティング処理を行う第３のモードと、前記画像のうち特定の領域に前記リライティング処理を行い、前記画像全体に前記リライティング処理を行わない第４のモードとを含むことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記第３のモードにおいて、前記決定手段は前記第１の取得手段により取得された距離分布情報を優先して用い、前記第４のモードにおいて、前記決定手段は前記第２の取得手段により取得された距離分布情報を優先して用いることを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記モードは、特定の被写体領域及び前記特定の被写体の背景領域に前記リライティング処理を行う第５のモードと、前記特定の被写体領域に前記リライティング処理を行い、前記特定の被写体の背景領域に前記リライティング処理を行わない第６のモードとを含むことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記第５のモードにおいて、前記決定手段は前記第１の取得手段により取得された距離分布情報を優先して用い、前記第６のモードにおいて、前記決定手段は前記第２の取得手段により取得された距離分布情報を優先して用いることを特徴とする請求項８に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記第２の取得手段は、前記画像内の顔領域の特徴量に基づき前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記第２の取得手段は、前記画像内の顔領域のみ距離分布情報を取得することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
画像に対して仮想光の効果を付与するリライティング処理を行う画像処理装置であって、
前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する複数の取得手段を有し、
ここで前記複数の取得手段は、前記画像の視差情報に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第１の取得手段と、前記視差情報とは異なる特徴量に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第２の取得手段と、を含み、
前記第１の取得手段により取得された前記画像に含まれる被写体の距離分布情報と前記第２の取得手段により取得された前記画像に含まれる被写体の距離分布情報とを選択的に用いて前記リライティング処理を行う処理手段をさらに有する画像処理装置。
【請求項１３】
画像に対して仮想光の効果を付与するリライティング処理を行う画像処理装置の制御方法であって、
複数の取得方法のうち少なくとも１つを用いて、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得するステップを有し、
ここで前記複数の取得方法は、前記画像の視差情報に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第１の取得方法と、前記画像の、前記視差情報とは異なる特徴量に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第２の取得方法とを含み、
前記複数の取得手段のうち、どの取得方法により取得された距離分布情報を用いて前記リライティング処理を行うかを決定するステップをさらに有する制御方法。
【請求項１４】
画像に対して仮想光の効果を付与するリライティング処理を行う画像処理装置の制御方法であって、
複数の取得方法のうち少なくとも１つを用いて、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得するステップを有し、
ここで前記複数の取得方法は、前記画像の視差情報に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第１の取得方法と、前記画像の、前記視差情報とは異なる特徴量に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第２の取得方法とを含み、
前記第１の取得手段により取得された前記画像に含まれる被写体の距離分布情報と前記第２の取得手段により取得された前記画像に含まれる被写体の距離分布情報とを選択的に用いて前記リライティング処理を行う処理ステップをさらに有する制御方法。
【請求項１５】
コンピュータを、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させる、コンピュータが実行可能なプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る画像処理装置は、画像に対して仮想光の効果を付与するリライティング処理を行う画像処理装置であって、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する複数の取得手段を有し、ここで前記複数の取得手段は、前記画像の視差情報に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第１の取得手段と、前記視差情報とは異なる特徴量に基づく、前記画像に含まれる被写体の距離分布情報を取得する第２の取得手段と、を含み、前記複数の取得手段のうち、どの取得手段により取得された距離分布情報を用いて前記リライティング処理を行うかを決定する決定手段をさらに有することを特徴とする。