Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月28日(2021.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
盛り付け面と、前記盛り付け面と対向する面に形成される開口面と、前記盛り付け面および前記開口面を接続する側面と、を有する箱体と、
排出口を有し、前記開口面を塞ぐ底面と、前記排出口を前記底面に対して前記盛り付け面側と逆側に突出して覆う蓋と、を有する底面部材と、を備え、
前記底面部材は、前記開口面に対して前記盛り付け面側に持ち上げられた状態で前記箱体に固定され、
前記箱体および前記底面部材は、前記盛り付け面を保温または保冷するための保温・保冷剤を収容する空間を形成する、保温・保冷皿。
【請求項２】
前記底面は、前記排出口に向かって傾斜する傾斜面である、請求項１記載の保温・保冷皿。
【請求項３】
前記底面部材は、前記蓋が前記開口面よりも前記盛り付け面側に位置する、請求項１または２記載の保温・保冷皿。
【請求項４】
前記底面部材は、前記底面の周縁から前記側面に沿う方向に折れ曲がり、前記底面の持ち上げられる量に応じた延び量を有する固定片をさらに有し、
前記底面部材は、前記固定片の前記底面と接続した周縁と逆側の周縁が前記開口面の周縁と固定されることにより、前記箱体に固定される、請求項１から３の何れか一項記載の保温・保冷皿。
【請求項５】
前記開口面と同一面上に形成された脚形成面と、前記脚形成面上であり前記側面よりも内側に形成される脚と、を有する脚形成部材をさらに備える、請求項１から４の何れか一項記載の保温・保冷皿。
【請求項６】
前記脚形成部材は、前記脚形成面と、前記底面と、を繋ぐ接続片をさらに有する、請求項５記載の保温・保冷皿。
【請求項７】
前記脚形成部材は、前記脚形成部材の全周が前記底面部材に対して固定される、請求項５または６記載の保温・保冷皿。
【請求項８】
前記底面は、前記排出口に向って形成された線状の底面側折り筋を有し、
前記接続片は、前記底面側折り筋と連続的に形成された接続片側折り筋を有する、請求項６記載の保温・保冷皿。
【請求項９】
前記排出口は、前記空間側と逆側に突出し前記蓋と嵌まり合うねじ構造を有する、
請求項１から８の何れか一項記載の保温・保冷皿。
【請求項１０】
前記箱体および前記底面部材は、金属からなる、請求項１から９の何れか一項記載の保温・保冷皿。
【請求項１１】
前記箱体は、直方体または立方体である、請求項１から１０の何れか一項記載の保温・保冷皿。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月11日(2021.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波を用いて被検眼の眼圧を測定する超音波眼圧計であって、
超音波素子を有し、前記被検眼に超音波を照射する複数の超音波アクチュエータを備え、
前記複数の超音波アクチュエータは、前記被検眼に対して２以上の方向から超音波を照射することで、前記被検眼を変形させることを特徴とする超音波眼圧計。
【請求項２】
光学素子を有し、被検眼の情報を光学的に取得する光学ユニットをさらに備え、
前記超音波アクチュエータは、前記光学ユニットの光軸とは異なる方向から前記被検眼に対して超音波を照射することを特徴とする請求項１の超音波眼圧計。
【請求項３】
前記光軸の方向は、前記被検眼の正面方向であることを特徴とする請求項２の超音波眼圧計。
【請求項４】
前記複数の超音波アクチュエータの出力を個別に制御する制御手段をさらに備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれかの超音波眼圧計。
【請求項５】
超音波を用いて被検眼の眼圧を測定する超音波眼圧計であって、
光学素子を有し、前記被検眼の情報を光学的に取得する光学ユニットと、
超音波素子を有し、前記被検眼に超音波を照射する超音波アクチュエータと、を備え、
前記光学ユニットの光軸の方向は、前記被検眼の正面方向であり、
前記超音波アクチュエータは、前記光軸とは異なる方向から前記被検眼に対して超音波を照射することを特徴とする超音波眼圧計。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月1日(2021.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセスプラント内のオペレータディスプレイナビゲーション階層を構成するための方法であって、
プロセスプラントの構成環境内のグラフィカルディスプレイ構成アプリケーションを実行するコンピューティングデバイスのユーザインターフェースを介して、複数のディスプレイビューの表示を提示することであって、各ディスプレイビューが、前記プロセスプラントの操作環境内に含められる制御要素の表示を含む、提示することと、
前記グラフィカルディスプレイ構成アプリケーションで、前記複数のディスプレイビューの詳細レベルの選択を受信することと、
前記プロセスプラントの前記操作環境において、オペレータアプリケーションが、より低い詳細レベルの第１のディスプレイビューからより高い詳細レベルの第２のディスプレイビューにナビゲートするように、前記グラフィカルディスプレイ構成アプリケーションによって、前記受信された選択に従って前記複数のディスプレイビューの各々に詳細レベルを割り当てて、前記複数のディスプレイビューのディスプレイビュー階層を生成することと、
前記複数のディスプレイビュー及び前記複数のディスプレイビューのそれぞれの詳細レベルを含む前記ディスプレイビュー階層を、前記構成環境から、前記プロセスプラントの前記操作環境内での実行のためのユーザインターフェースデバイスにダウンロードして、それによって、前記ユーザインターフェースデバイスに、前記ディスプレイビュー階層に従って組織化された前記複数のディスプレイビューを提示させることと、を含む、方法。
【請求項２】
前記受信された選択に従って前記複数のディスプレイビューの各々に詳細レベルを割り当てることは、前記複数のディスプレイビューのうちの対応する１つのサブビューとして前記複数のディスプレイビューのうちの１つ以上を指定することを含み、前記１つ以上のサブビューには、前記対応するディスプレイビューよりも高い詳細レベルが割り当てられ、
代替的に、前記複数のディスプレイビューの詳細レベルの選択を受信することは、グラフィカルユーザコントロールを介して、第１のディスプレイビューを第２のディスプレイビューのサブビューとして指定する要求を受信することを含み、前記第１のディスプレイビューには、前記第２のディスプレイビューよりも高い詳細レベルが割り当てられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記グラフィカルディスプレイ構成アプリケーションを実行する前記コンピューティングデバイスの前記ユーザインターフェースを介して、前記ディスプレイビュー階層のグラフィカル描写を提示することをさらに含み、前記複数のディスプレイビューの各々の表示は、前記複数のディスプレイビューのそれぞれの詳細レベル及び別のディスプレイビューのサブビューとして指定されたディスプレイビュー間の関係を示すように、前記グラフィカル描写内に位置付けられ、
および／または、前記グラフィカルディスプレイ構成アプリケーションを実行する前記コンピューティングデバイスの前記ユーザインターフェースを介して、前記プロセスプラントの前記操作環境内での実行のための前記ユーザインターフェースデバイスに提示される前記ディスプレイビュー階層のプレビューとして、前記ディスプレイビュー階層の対話型グラフィカル描写を提示することをさらに含み、前記提示は、前記ディスプレイビュー階層内のディスプレイビューとサブビューとの間をトグルで切り換えるためのグラフィカルユーザコントロールを有するナビゲーションバーを提示することを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
示されたディスプレイビューに従って前記複数のディスプレイビューのうちの１つを前記ナビゲーションバー内に提示することと、
前記複数のディスプレイビューのうちの別のものにナビゲートするための、前記ナビゲーションバー内の前記グラフィカルユーザコントロールのうちの１つの選択の受信に応答して、他のディスプレイビューを提示することと、をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
プロセスプラント内のオペレータディスプレイナビゲーション階層を構成するためのコンピューティングデバイスであって、
１つ以上のプロセッサと、
ユーザインターフェースと、
通信ユニットと、
前記１つ以上のプロセッサ、前記ユーザインターフェース、及び前記通信ユニットに連結された非一時的コンピュータ可読媒体と、を備え、前記非一時的コンピュータ可読媒体は、請求項１から４のいずれか１項に記載の各ステップを行わせる、コンピューティングデバイス。
【請求項６】
プロセスプラント内のオペレータディスプレイナビゲーション階層を構成するためのシステムであって、
前記プロセスプラント内に配設された１つ以上のデバイスであって、各々が物理的機能を実施して工業プロセスを制御する、デバイスと、
プロセスプラントの構成環境内で実行するコンピューティングデバイスと、を備え、前記コンピューティングデバイスは、
１つ以上のプロセッサと、
ユーザインターフェースと、
前記１つ以上のプロセッサ及び前記ユーザインターフェースに連結された非一時的コンピュータ可読媒体と、を含み、前記非一時的コンピュータ可読媒体は、グラフィカルディスプレイ構成アプリケーションを記憶し、前記グラフィカルディスプレイ構成アプリケーションは、前記１つ以上のプロセッサによって実行されたとき、前記コンピューティングデバイスに、請求項１から４のいずれか１項に記載の各ステップを行わせる、システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、
前記露光光を通過させるための開口を含む遮光部材と、
前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量を検出するフォーカス検出部と、
前記基板において反射された後に前記遮光部材の開口を通過した光束を受光する受光素子と、
前記フォーカス検出部における検出結果に基づいて前記遮光部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させる制御部を含み、
前記フォーカス検出部は、前記受光素子において受光された光量に基づいて前記デフォーカス量を検出することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記受光素子において受光される光量が増加するように、前記遮光部材を移動させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記遮光部材は、前記投影光学系の光路中に配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記遮光部材は、前記デフォーカス量が所定量よりも小さい合焦状態において前記基板と光学的に共役な面に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記遮光部材は金属により構成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、前記露光光の集光位置を変化させる第１の遮光部材を含む露光ユニットと、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む第２の遮光部材と、前記第２の遮光部材を通過した光束を受光する受光素子を含む光学ユニットを有する露光装置であって、
前記受光素子において受光された光量に応じて、前記第１の遮光部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、前記露光光の集光位置を変化させる遮光部材を含む露光ユニットと、
前記基板において反射された光を受光する受光素子を含む光学ユニットを有する露光装置であって、
前記受光素子において受光された光量に応じて、前記遮光部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
複数の光変調素子を含む光変調部と、
該光変調部に光を照射する照明光学系をさらに有し、
前記光変調部によって反射された光が前記投影光学系に入射されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量を変化させるフォーカス制御が行われた状態で、前記照明光学系によって形成されたスポット光を前記投影光学系を介して前記基板上に投影する露光動作を行い、
前記基板上の特定の領域に対して前記露光動作を繰り返すことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の露光装置は、基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、前記露光光を通過させるための開口を含む遮光部材と、前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量を検出するフォーカス検出部と、前記基板において反射された後に前記遮光部材の開口を通過した光束を受光する受光素子と、前記フォーカス検出部における検出結果に基づいて前記遮光部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させる制御部を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む遮光部材と、
前記基板において反射された後に前記開口を通過した光束を受光する受光素子と、
前記受光素子において受光された光量に応じて、前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量を変化させるフォーカス制御を行う制御部と、を有する露光装置であって、
前記遮光部材は、前記デフォーカス量が所定量よりも小さい合焦状態において前記基板に対して光学的に共役な位置に配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記遮光部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記受光素子において受光される光量が増加するように、前記遮光部材を移動させることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記投影光学系の光路に配置された光学部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記受光素子において受光される光量が増加するように、前記光学部材を移動させることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記基板において反射された光をさらに反射する反射部材を有し、
前記遮光部材は、前記反射部材によって反射された光路中に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む遮光部材と、
前記基板において反射された後に前記開口を通過した光束を受光する受光素子と、
前記基板において反射された光をさらに反射する反射部材と、
前記受光素子において受光された光量に応じて、前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量を変化させるフォーカス制御を行う制御部を有する露光装置であって、
前記遮光部材は、前記反射部材によって反射された光路中に、前記デフォーカス量が所定量よりも小さい合焦状態において前記基板と光学的に共役な面からずらして配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
前記遮光部材は金属から構成されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
複数の光変調素子を含む光変調部と、
該光変調部に光を照射する照明光学系をさらに有し、
前記光変調部によって反射された光が前記投影光学系に入射されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記フォーカス制御が行われた状態で、前記照明光学系によって形成されたスポット光を前記投影光学系を介して前記基板上に投影する露光動作を行い、
前記基板上の特定の領域に対して前記露光動作を繰り返すことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記遮光部材は、複数の開口を含むことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記複数の開口の位置は、前記光変調部に含まれるそれぞれの光変調素子に対応する位置である特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記遮光部材に含まれる開口の数は、前記光変調部に含まれる光変調素子の数と同じ数であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系を含む露光装置であって、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む第１遮光部材と、
前記基板において反射された後に前記第１遮光部材の開口を通過した光束を受光する第１受光素子と、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む第２遮光部材と、
前記基板において反射された後に前記第２遮光部材の開口を通過した光束を受光する第２受光素子を有し、
前記第１遮光部材は、前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量が所定量よりも小さい合焦状態において前記基板と光学的に共役な面から前記第１受光素子側にずらして配置され、
前記第２遮光部材は、前記合焦状態において前記基板と光学的に共役な面から前記第２受光素子とは反対側にずらして配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
前記第１受光素子及び前記第２受光素子において受光された光量に応じて、前記デフォーカス量を変化させるフォーカス制御を行うことを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、前記露光光の集光位置を変化させる光学部材を含む露光ユニットと、
前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む遮光部材と、前記基板において反射された後に前記遮光部材の開口を通過した光束を受光する受光素子を含む光学ユニットを有する露光装置であって、
前記遮光部材は、前記基板に対して光学的に共役な位置に配置されており、前記受光素子において受光された光量に応じて、前記光学部材を前記投影光学系の光軸方向に移動させることを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の露光装置は、基板にパターンを形成するための露光光を基板上に投影する投影光学系と、前記基板において反射された光を通過させるための開口を含む遮光部材と、前記基板において反射された後に前記開口を通過した光束を受光する受光素子と、前記受光素子において受光された光量に応じて、前記露光光の集光位置と前記基板との位置ずれを示すデフォーカス量を変化させるフォーカス制御を行う制御部と、を有する露光装置であって、前記遮光部材は、前記デフォーカス量が所定量よりも小さい合焦状態において前記基板に対して光学的に共役な位置に配置されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月29日(2021.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスであって、
第１の透明基板と、
前記第１の透明基板の表面上に配置された第１の透明電極と、
第２の基板と、
前記第１の透明電極と対向する前記第２の基板の表面上に配置された第２の電極と、
前記第１の電極と第２の電極との間に印加された電圧によって液晶材料の配向を制御するように、前記第１の電極と第２の電極との間に配置された液晶材料と、
前記第１及び前記第２の電極のうちの少なくとも１つの電極を介して電流を印加して、前記液晶材料を抵抗加熱するように構成された制御システムと、を備え、
前記電流が、前記少なくとも１つの電極、前記液晶材料、及び、前記第１の透明基板及び前記第２の基板の少なくとも一部の、熱時定数に基づいて選択される、デバイス。
【請求項２】
前記第２の基板及び前記第２の電極が、透明である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記少なくとも１つの電極上に配置された第１及び第２の離間した電気接点をさらに備え、前記第１及び前記第２の電気接点が、前記少なくとも１つの電極よりも高い導電率を有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記第１及び前記第２の電極の一方または両方が、導電性酸化物を含む、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記電流が、パルス電流である、請求項１に記載のデバイス。
前記液晶材料の配向を制御するための電極、及び前記少なくとも１つの電極を通る電流を制御して前記液晶材料を抵抗加熱するように構成された加熱制御回路。
【請求項６】
ハイパースペクトル撮像システムであって、
第１の偏光子と、
第２の偏光子と、
前記第１の偏光子と前記第２の偏光子との間に配置された液晶可変遅延器であって、
第１の透明基板と、
前記第１の透明基板の表面上に配置された第１の透明電極と、
第２の透明電極と、
前記第１の透明電極と対向する前記第２の透明基板の表面上に配置された第２の透明電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置された液晶材料であって、前記第１の電極及び前記第２の電極が、前記第１の電極と前記第２の電極との間に印加された電圧によって前記液晶材料の配向を制御するように配設され、前記第１の電極及び前記第２の電極のうちの少なくとも１つの電極を介して印加された電流が、前記液晶材料を抵抗加熱する、液晶材料と、を備える、液晶可変遅延器と、
前記第２の偏光子からの光を受け取るように配設された画像センサと、を備え、
前記電流が、前記少なくとも１つの電極、前記液晶材料、及び、前記第１の透明基板及び前記第２の基板の少なくとも一部の、熱時定数に基づいて選択される、システム。
【請求項７】
前記第１の電極及び前記第２の電極に電気的に連結された制御システムをさらに備え、前記制御システムが、前記電圧を供給して、前記液晶材料の前記配向を制御するように、かつ前記少なくとも１つの電極を介して前記電流を供給して前記液晶材料を加熱するように構成される、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
第１の透明電極と、第２の透明電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置された液晶材料と、を備える、液晶セルの制御方法であって、
前記第１の電極と前記第２の電極との間の電圧を制御することによって前記液晶材料の配向を制御することと、
前記第１及び前記第２の電極のうちの少なくとも１つの電極を介して電流を制御することによって、前記液晶材料を抵抗加熱することと、を含み、
前記電流が、前記少なくとも１つの電極、前記液晶材料、及び、前記第１の透明基板及び前記第２の基板の少なくとも一部の、熱時定数に基づいて選択される、方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの電極を介して電流を制御することが、パルス電流を供給することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記液晶材料の温度を検知することと、
前記検知された温度に応答して前記抵抗加熱を制御することと、を含む、請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年10月21日(2020.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサから第１情報を取得する取得部と、
前記第１情報が判定条件を満たすか否かを判定する判定部と、
前記第１情報が前記判定条件を満たした場合に、前記第１情報を加工した第２情報を作成する加工部と、
前記第１情報をサーバに送信する送信部と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の情報処理装置であって、
前記加工部は、前記第１情報の一部を抽出すること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の情報処理装置であって、
前記第１情報は画像であり、
前記加工部は、前記画像の中で前記判定条件を満たした部分を切り出して前記第２情報とすること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の情報処理装置であって、
前記第１情報は画像であり、
前記加工部は、前記画像の中で前記判定条件を満たした部分以外の少なくとも一部にモザイクをかけて前記第２情報を作成すること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項にに記載の情報処理装置であって、
前記第１情報は画像であり、
前記加工部は、前記画像を解析して文字列を読み取り、読み取った前記文字列を前記第２情報とすること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項６】
請求項１に記載の情報処理装置であって、
前記加工部は、前記画像の中で前記判定条件を満たしたことを示す情報を前記第２情報とすること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項７】
請求項１に記載の情報処理装置であって、
前記第１情報は画像であり、
前記加工部は、前記画像を解析して前記画像に含まれている物の種類を読み取り、読み取った前記種類を前記第２情報とすること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の情報処理装置であって、
前記取得部は、前記第１情報が前記判定条件を満たした場合に、前記センサから第３情報を取得し、
前記送信部は、前記第２情報と前記第３情報とを前記サーバに送信すること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の情報処理装置であって、
前記送信部は、前記第２情報が所定数蓄積した後に送信すること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の情報処理装置であって、
前記第１情報が判定条件を満たすか否かを判定するために必要な判定条件情報と、前記第１情報を加工するための加工処理情報とを含むミッション情報を受信する受信部をさらに備え、
前記判定部は、前記判定条件情報に基づいて前記第１情報が前記判定条件を満たすか否かを判定し、
前記加工部は、前記加工処理情報に基づいて前記第１情報を加工すること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の情報処理装置であって、
前記ミッション情報は、依頼主端末からの依頼に基づいて作成されること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の情報処理装置であって、
前記センサは、位置情報、画像、時刻、温度、気圧、操作状況、又は音声の少なくともいずれかを取得すること、
を特徴とする情報処理装置。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の情報処理装置であって、
前記第１情報は動画像であり、
前記加工部は、前記動画像の一部を切り出して前記第２情報とすること、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１４】
センサから第１情報を取得する取得部と、
前記第１情報が判定条件を満たすか否かを判定する判定部と、
前記第１情報が前記判定条件を満たした場合に、前記第１情報をサーバに送信する送信部と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月1日(2021.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクリミネータの第１のネットワークに、少なくともジェネレータが生成した第１のデータ又は訓練データのいずれかを入力し、
前記第１のネットワークの出力とコンディション情報とに基づいて、第１のスカラー値を計算し、
前記ディスクリミネータの第２のネットワークに前記第１のネットワークの出力を入力することで第２のスカラー値を計算し、
前記第１のスカラー値と前記第２のスカラー値とに基づいて、損失を計算し、
前記損失に基づいて、少なくとも前記ディスクリミネータ又は前記ジェネレータのいずれかを更新する、
モデル生成方法。
【請求項２】
ディスクリミネータの第１のネットワークに、少なくともジェネレータが生成した第１のデータ又は訓練データのいずれかを入力し、
前記第１のネットワークの出力とコンディション情報の積に基づいて、第１のスカラー値を計算し、
前記第１のスカラー値に基づいて、損失を計算し、
前記損失に基づいて、少なくとも前記ディスクリミネータ又は前記ジェネレータのいずれかを更新する、
モデル生成方法。
【請求項３】
前記ディスクリミネータの第２のネットワークに前記第１のネットワークの出力を入力することで第２のスカラー値を計算し、
第１のスカラー値と前記第２のスカラー値とに基づいて、前記損失を計算する、
請求項２に記載のモデル生成方法。
【請求項４】
前記第１のネットワークの出力と前記コンディション情報の内積によって、前記第１のスカラー値を計算する、
請求項１乃至３のいずれかに記載のモデル生成方法。
【請求項５】
前記コンディション情報は、ワン・ホット・ベクトルである、
請求項１乃至４のいずれかに記載のモデル生成方法。
【請求項６】
前記コンディション情報は、カテゴリーに関する情報を含む、
請求項１乃至５のいずれかに記載のモデル生成方法。
【請求項７】
前記第１のデータは、画像データである、
請求項１乃至６のいずれかに記載のモデル生成方法。
【請求項８】
前記ジェネレータにノイズを入力することで前記第１のデータを生成する、
請求項１乃至７のいずれかに記載のモデル生成方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載のモデル生成方法で生成されたジェネレータにノイズを入力することでデータを生成するデータ生成方法。
【請求項１０】
少なくとも１台のコンピュータに請求項１乃至８のいずれかに記載のモデル生成方法を実行させるプログラム。
【請求項１１】
少なくとも１台のコンピュータに請求項９に記載のデータ生成方法を実行させるプログラム。
【請求項１２】
ジェネレータとディスクリミネータの２つのニューラルネットワークから構成される敵対生成ネットワークの生成方法であって、
前記ディスクリミネータが、下記式（１１）のモデルで演算を行った結果を出力する、
生成方法。
【数１】
2019079436.tif 000001
ここで、
xは、前記ジェネレータにより生成されたデータ又は訓練データ、
yは、xのコンディション情報、
Vは、yの埋め込み行列、
2019079436.tif 000002
は、xを引数にしてベクトルを出力する関数、
2019079436.tif 000003
は、
2019079436.tif 000004
を引数にしてスカラー値を出力する関数、
2019079436.tif 000005
は、学習パラメータであり、損失を最小化するように訓練されるパラメータである。
【請求項１３】
ディスクリミネータの第１のネットワークに、少なくともジェネレータが生成した第１のデータ又は訓練データのいずれかを入力し、
前記第１のネットワークの出力とコンディション情報とに基づいて、第１のスカラー値を計算し、
前記ディスクリミネータの第２のネットワークに前記第１のネットワークの出力を入力することで第２のスカラー値を計算し、
前記第１のスカラー値と前記第２のスカラー値とに基づいて、損失を計算し、
前記損失に基づいて、少なくとも前記ディスクリミネータ又は前記ジェネレータのいずれかを更新する、
モデル生成装置。
【請求項１４】
ディスクリミネータの第１のネットワークに、少なくともジェネレータが生成した第１のデータ又は訓練データのいずれかを入力し、
前記第１のネットワークの出力とコンディション情報の積に基づいて、第１のスカラー値を計算し、
前記第１のスカラー値に基づいて、損失を計算し、
前記損失に基づいて、少なくとも前記ディスクリミネータ又は前記ジェネレータのいずれかを更新する、
モデル生成装置。
【請求項１５】
前記ディスクリミネータの第２のネットワークに前記第１のネットワークの出力を入力することで第２のスカラー値を計算し、
第１のスカラー値と前記第２のスカラー値とに基づいて、前記損失を計算する、
請求項１４に記載のモデル生成装置。
【請求項１６】
前記第１のネットワークの出力と前記コンディション情報の内積によって、前記第１のスカラー値を計算する、
請求項１３乃至１５のいずれかに記載のモデル生成装置。
【請求項１７】
前記コンディション情報は、ワン・ホット・ベクトルである、
請求項１３乃至１６のいずれかに記載のモデル生成装置。
【請求項１８】
前記コンディション情報は、カテゴリーに関する情報を含む、
請求項１３乃至１７のいずれかに記載のモデル生成装置。
【請求項１９】
前記第１のデータは、画像データである、
請求項１３乃至１８のいずれかに記載のモデル生成装置。
【請求項２０】
前記ジェネレータにノイズを入力することで前記第１のデータを生成する、
請求項１３乃至１９のいずれかに記載のモデル生成装置。
【請求項２１】
請求項１３乃至２０のいずれかに記載のモデル生成装置で生成されたジェネレータにノイズを入力することでデータを生成するデータ生成装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月15日(2021.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体と、前記本体の前面に開口を有する調理庫と、前記調理庫の上部に設けられる上ヒータと、前記調理庫の下部に設けられる下ヒータと、前記下ヒータと前記上ヒータとの間に配置される被加熱物が載置される皿と、を備え、
解凍工程を有し、前記解凍工程では前記上ヒータで前記被加熱物を加熱する、加熱調理器。
【請求項２】
請求項１に記載の加熱調理器において、
前記解凍工程と焼き工程とを有し、前記解凍工程では前記上ヒータで前記被加熱物を加熱し、前記焼き工程では前記下ヒータで前記被加熱物を加熱し、前記解凍工程後に前記焼き工程に移行する、加熱調理器。
【請求項３】
請求項１または２に記載の加熱調理器において、
前記皿に接触して前記皿の温度を検知する皿温度センサを備え、前記上ヒータの通電によって前記解凍工程を開始したのちに前記皿温度センサの測定温度が所定温度上昇した場合に前記焼き工程に移行する、加熱調理器。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の加熱調理器において、
前記解凍工程が終了する際の前記被加熱物の温度は０℃よりも低い、加熱調理器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の加熱調理器は、本体と、本体の前面に開口を有する調理庫と、調理庫の上部に設けられる上ヒータと、調理庫の下部に設けられる下ヒータと、下ヒータと上ヒータとの間に配置される被加熱物が載置される皿と、を備え、解凍工程を有し、前記解凍工程では前記上ヒータで前記被加熱物を加熱するものである。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月22日(2021.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）ＡＰＯＥ４／４ホモ接合であり；かつ（ｉｉ）組成物の初回投与の前の６０日以内に行われたミニメンタルステート検査（ＭＭＳＥ）で≧２２のベースラインＭＭＳＥスコアを有する；あるいは
（ｉｉ）ＡＰＯＥ４ヘテロ接合であり；かつ（ｉｉ）組成物の初回投与の前の６０日以内に行われたミニメンタルステート検査（ＭＭＳＥ）で≧１６のベースラインＭＭＳＥスコアを有する
と決定される対象のみにおけるアルツハイマー病の処置における使用のための、バリル−３−アミノ−１−プロパンスルホン酸またはこれらの薬学的に許容可能な塩を含む医薬組成物。
【請求項２】
前記対象がＡＰＯＥ４／４ホモ接合であり、かつ、２２〜２６のベースラインＭＭＳＥスコアを有する、請求項１に記載の使用のための組成物。
【請求項３】
前記対象がＡＰＯＥ４ヘテロ接合であり、かつ、１６〜１９のベースラインＭＭＳＥスコアを有する、請求項１に記載の使用のための組成物。
【請求項４】
前記医薬組成物の各投与後に、前記医薬組成物が、１００ｍｇ〜１５０ｍｇのトラミプロセートに等しいトラミプロセート曝露量を達成する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用のための組成物。
【請求項５】
前記医薬組成物が、２６０と２７０ｍｇの間のバリル−３−アミノ−１−プロパンスルホン酸を含む、請求項４に記載の使用のための組成物。
【請求項６】
前記組成物が、２６５ｍｇのバリル−３−アミノ−１−プロパンスルホン酸を含み、前記組成物が、即時放出の経口錠剤またはカプセルとして製剤化される、請求項５に記載の使用のための組成物。
【請求項７】
前記医薬組成物が１日に２回投与される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の使用のための組成物。
【請求項８】
前記対象が８５歳以下である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の使用のための組成物。
【請求項９】
前記処置が前記対象の認知低下を減少させる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の使用のための組成物。
【請求項１０】
対象のＡＰＯＥ４ステータスと該対象のアルツハイマー病の重篤度を、バリル−３−アミノ−１−プロパンスルホン酸による処置に関する対象の適合性の指標とする方法であって、
該対象がＡＰＯＥ４／４ホモ接合であり、かつ≧２２のベースラインミニメンタルステート検査（ＭＭＳＥ）スコアを有する；あるいは
該対象がＡＰＯＥ４ヘテロ接合であり、かつ≧１６のベースラインミニメンタルステート検査（ＭＭＳＥ）スコアを有する
場合に、該対象が処置に適合していることが示されることを特徴とする、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月2日(2021.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯牙への付着性と水への溶解性とを有し、かつ薬用成分（ｘａ）を含有する最内貼付層（Ｘ）、並びに
最内貼付層（Ｘ）よりも歯牙への付着性と水への溶解性とが低い層であって、水不溶性高分子（ｙａ）を含有し、かつプロピレングリコール（ｙｂ）及びグリセリン（ｙｃ）から選ばれる１種又は２種を含有する、最外保護層（Ｙ）
が積層されてなる歯牙用貼付シートであって、
成分（ｙａ）が、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート、セルロースアセテートフタレート、ヒプロメロースフタル酸エステル、セラック、ポリビニルアセテート、ポリメチルメタクリレート、メタクリロイルエチルベタイン／メタクリレート共重合体、メタクリル酸共重合体、アミノアルキルメタクリレート共重合体及び寒天から選ばれる１種又は２種以上であり、かつ
成分（ｙｂ）及び成分（ｙｃ）の合計含有量と成分（ｙａ）の含有量との質量比（（（ｙｂ）+（ｙｃ））／（ｙａ））が０．１〜９である、歯牙用貼付シート。
【請求項２】
最内貼付層（Ｘ）が、さらにノニオン界面活性剤（ｘｂ）を含有し、かつ
最内貼付層（Ｘ）１００質量％中における成分（ｘｂ）の含有量が、２質量％以上６質量％以下である請求項１に記載の歯牙用貼付シート。
【請求項３】
成分（ｘｂ）が、少なくともポリオキシエチレン硬化ひまし油（ｘｂ−１）及びポリグリセリン脂肪酸エステル（ｘｂ−２）を含有し、かつ
最内貼付層（Ｘ）中における成分（ｘｂ−１）の含有量と成分（ｘｂ−２）の含有量との質量比（（ｘｂ−１）／（ｘｂ−２））が、０．１以上１０以下である請求項２に記載の歯牙用貼付シート。
【請求項４】
最外保護層（Ｙ）の厚みが、０．１μｍ以上５μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の歯牙用貼付シート。
【請求項５】
最内貼付層（Ｘ）が、さらに香料（ｘｃ）を含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の歯牙用貼付シート。
【請求項６】
最内貼付層（Ｘ）が、プルラン、ヒドロキシエチルセルロース、グアガム、ヒドロキシプロリピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ゼラチン及び寒天から選ばれる１種又は２種以上の水溶性高分子（ｘｄ）を含有する請求項１〜５のいずれか１項に記載の歯牙用貼付シート。
【請求項７】
成分（ｙｂ）の含有量と成分（ｙｂ）及び成分（ｙｃ）の合計含有量との質量比（（ｙｂ）／（（ｙｂ）+（ｙｃ）））が０．５より大きい、請求項１〜６のいずれか１項に記載の歯牙用貼付シート。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月11日(2021.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗ＣＤ４０抗体を作製する方法であって、
フコシル化阻害剤の存在下で抗ＣＤ４０抗体をコードする核酸配列を含む宿主細胞を培養するステップ
を含み、前記抗ＣＤ４０抗体は、配列番号１の重鎖可変領域および配列番号２の軽鎖可変領域、ならびにヒト定常領域を含み；前記定常領域は、ＥＵインデックスに従った残基Ｎ２９７においてＮ−グリコシド結合型糖鎖を有し、ここで、Ｎ−グリコシド結合型糖鎖の約１０％未満が、フコース残基を含む、方法。
【請求項２】
前記宿主細胞が前記抗ＣＤ４０抗体を発現する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記フコシル化阻害剤が、フコース類似体または前記フコース類似体の産物である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記フコース類似体が２−フルオロフコースである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記フコース類似体が、フコースサルベージ経路内の１つまたは複数の酵素を阻害する、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記フコース類似体の前記産物が、完全または部分的に脱エステル化された類似体である、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
前記フコシル化阻害剤が細胞内代謝産物である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項８】
前記細胞内代謝産物が、ＧＤＰ修飾類似体、または完全もしくは部分的に脱エステル化された類似体である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記フコシル化阻害剤が、フコキナーゼまたはＧＤＰ−フコース−ピロホスホリラーゼの活性を阻害する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記フコシル化阻害剤が、フコシルトランスフェラーゼを阻害する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記フコシルトランスフェラーゼが１，６−フコシルトランスフェラーゼである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記１，６−フコシルトランスフェラーゼがＦＵＴ８（アルファ１，６−フコシルトランスフェラーゼ酵素）である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記フコシル化阻害剤が、フコースの新規合成経路内の酵素の活性を阻害する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記フコシル化阻害剤が、ＧＤＰ−マンノース４，６−デヒドラターゼまたはＧＤＰ−フコース合成酵素の活性を阻害する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記フコシル化阻害剤がフコーストランスポーターを阻害する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記フコーストランスポーターがＧＤＰ−フコーストランスポーターである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
Ｎ−グリコシド結合型糖鎖の約５％未満が、フコース残基を含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記宿主細胞がＣＨＯ細胞である、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記重鎖可変領域が配列番号１のアミノ酸１〜１１３であり、前記軽鎖可変領域が配列番号２のアミノ酸１〜１１３である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
抗ＣＤ４０抗体を作製する方法であって、
抗ＣＤ４０抗体をコードする核酸配列を含む宿主細胞を培養するステップであって、ＦＵＴ８（アルファ１，６−フコシルトランスフェラーゼ酵素）の活性が低減される、ステップ
を含み、前記抗ＣＤ４０抗体は、配列番号１の重鎖可変領域および配列番号２の軽鎖可変領域、ならびにヒト定常領域を含み；前記定常領域は、ＥＵインデックスに従った残基Ｎ２９７においてＮ−グリコシド結合型糖鎖を有し、ここで、Ｎ−グリコシド結合型糖鎖の約１０％未満が、フコース残基を含む、方法。
【請求項２１】
ＦＵＴ８の活性が遺伝子ノックアウト、遺伝子ノックイン、またはＲＮＡ干渉により低減される、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
Ｎ−グリコシド結合型糖鎖の約５％未満が、フコース残基を含む、請求項２０または２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記宿主細胞が前記抗ＣＤ４０抗体を発現する、請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
前記宿主細胞がＣＨＯ細胞である、請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記重鎖可変領域が配列番号１のアミノ酸１〜１１３であり、前記軽鎖可変領域が配列番号２のアミノ酸１〜１１３である、請求項２０〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月28日(2020.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処置が必要な被験体において消化器系疾患を処置するための医薬品の調製におけるベータ遮断薬の使用であって、ここで：
該医薬品が、該被験体の腸内で該ベータ遮断薬を優先的に放出しそして該被験体の胃内における該ベータ遮断薬の放出を阻害するように製剤化されており；
該消化器系疾患を処置することが、該被験体における腸の炎症の低減を含み；
該ベータ遮断薬が、ナドロール、チモロール、プロプラノロール、およびベタキソロールからなる群より選択され；そして
該消化器系疾患が、潰瘍性大腸炎である、使用。
【請求項２】
前記ベータ遮断薬が、ナドロールである、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記ベータ遮断薬が、チモロールである、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
前記ベータ遮断薬が、プロプラノロールである、請求項１に記載の使用。
【請求項５】
前記ベータ遮断薬が、ベタキソロールである、請求項１に記載の使用。
【請求項６】
前記ベータ遮断薬が、前記被験体の小腸内で放出される、請求項１に記載の使用。
【請求項７】
前記ベータ遮断薬が、前記被験体の大腸内で放出される、請求項１に記載の使用。
【請求項８】
前記医薬品が、局所投与のために製剤化される、請求項１に記載の使用。
【請求項９】
前記医薬品が、経口投与のために製剤化される、請求項１に記載の使用。
【請求項１０】
前記医薬品が、直腸内投与のために製剤化される、請求項１に記載の使用。
【請求項１１】
前記医薬品が、結腸の中での前記ベータ遮断薬の放出を促進するポリマーを含む、請求項１に記載の使用。
【請求項１２】
前記被験体が、ヒトである、請求項１に記載の使用。
【請求項１３】
処置が必要な被験体において消化器系疾患を処置するのに使用するための、ベータ遮断薬を含む薬学的組成物であって、ここで：
該薬学的組成物が、該被験体の腸内で該ベータ遮断薬を優先的に放出しそして該被験体の胃内における該ベータ遮断薬の放出を阻害するように製剤化されており；
該消化器系疾患を処置することが、該被験体における腸の炎症の低減を含み；
該ベータ遮断薬が、ナドロール、チモロール、プロプラノロール、およびベタキソロールからなる群より選択され；そして
該消化器系疾患が、潰瘍性大腸炎である、薬学的組成物。
【請求項１４】
前記ベータ遮断薬が、ナドロールである、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項１５】
前記ベータ遮断薬が、チモロールである、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項１６】
前記ベータ遮断薬が、プロプラノロールである、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項１７】
前記ベータ遮断薬が、ベタキソロールである、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項１８】
前記ベータ遮断薬が、前記被験体の小腸内で放出される、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項１９】
前記ベータ遮断薬が、前記被験体の大腸内で放出される、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項２０】
前記薬学的組成物が、局所投与のために製剤化される、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項２１】
前記薬学的組成物が、経口投与のために製剤化される、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項２２】
前記薬学的組成物が、直腸内投与のために製剤化される、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項２３】
結腸の中での前記ベータ遮断薬の放出を促進するポリマーをさらに含む、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【請求項２４】
前記被験体が、ヒトである、請求項１３に記載の薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月25日(2021.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
黄斑部毛細血管拡張症に罹患した患者においてそれを処置する方法における使用のための、生体適合性カプセルを含む医薬組成物であって、前記生体適合性カプセルは、
ａ）治療有効量の毛様体神経栄養因子（ＣＮＴＦ）を分泌するように遺伝子操作された０．５×１０６の間のＡＲＰＥ−１９細胞を含むコアであって、前記治療有効量のＣＮＴＦが０．１ｎｇ／眼／日から５０ｎｇ／眼／日の間である、コア、
ｂ）前記コアを取り囲む半透膜であって、公称分子量カットオフ（ＭＷＣＯ）が１〜１５０ｋＤであり、前記ＣＮＴＦのそれを通る拡散を許容し、９０〜１２０μｍの間の厚さである、半透膜、および
ｃ）撚られて不織糸中にあるヤーンとなった複数のモノフィラメントを含むマトリックスであって、前記細胞は前記モノフィラメント上に分散されており、前記モノフィラメントはポリエチレンテレフタレートを含む、マトリックス
を含み、
前記医薬組成物は、前記患者の眼に埋め込まれることを特徴とし、
前記生体適合性カプセルは、移植後少なくとも１２カ月の間、治療有効量の前記ＣＮＴＦを生成し、前記眼に埋め込まれた前記医薬組成物は、前記医薬組成物が埋め込まれなかった眼と比較した場合に、楕円体ゾーン（ＥＺ）の喪失または破壊を少なくとも３０％だけ低減する、
医薬組成物。
【請求項２】
前記生体適合性カプセルが、移植後少なくとも２年の間、治療有効量の前記ＣＮＴＦを生成する、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記カプセルが、硝子体、房水、眼周囲空間、前眼房、後眼房、またはテノン嚢下空間に埋め込まれることを特徴とする、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記モノフィラメントが、前記カプセルの内部体積の４０〜８５％を占める、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記生体適合性カプセルが、埋め込みの後に眼の構造に固着される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記半透膜が、選択透過性、免疫防御性の膜を含む、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記半透膜が、１００ｎｍの孔サイズの中央値を有する、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記カプセルが、中空繊維またはフラットシートとして構成されている、請求項１に記載の生体適合性カプセル。
【請求項９】
前記カプセルが、中空繊維として構成されている、請求項８に記載の生体適合性カプセル。
【請求項１０】
前記デバイスの長さが、４ｍｍ〜１１ｍｍの間である、請求項１に記載の生体適合性カプセル。
【請求項１１】
前記デバイスが、０．９ｍｍ〜１．２ｍｍの間の内径を有する、請求項１に記載の生体適合性カプセル。
【請求項１２】
少なくとも１種の追加の生物学的に活性な分子が、前記デバイスから共送達される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記少なくとも１種の追加の生物学的に活性な分子が、非細胞源からである、請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記少なくとも１種の追加の生物学的に活性な分子が、細胞源からである、請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記少なくとも１種の追加の生物学的に活性な分子が、前記コア中の１つまたは複数の遺伝子操作されたＡＲＰＥ−１９細胞によって産生される、請求項１４に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月5日(2021.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料を噴射するための噴孔（５１１）が、長手方向における一端に形成されたハウジング（１００）と、
前記ハウジングの内部において前記長手方向に沿って移動することにより、前記噴孔の開閉を切り換えるニードル（２００）と、
少なくとも一部が磁性体によって形成された部材であって、前記ハウジングの内部に固定されている固定コア（４００）と、
少なくとも一部が磁性体によって形成された部材であって、前記ハウジングの内部において、前記長手方向に沿って前記ニードルと共に移動可能な状態で配置されている可動コア（３００）と、
前記固定コアと前記可動コアとの間に磁気吸引力を発生させるコイル（６００）と、を備え、
前記ニードルと前記ハウジングとの間には、前記ニードルの動作速度を減衰させるためのダンパー室（２５０）が形成されており、
前記可動コアを、前記長手方向に沿って前記噴孔とは反対側に向けて付勢する弾性部材を更に備え、
前記ダンパー室は、前記長手方向に沿って前記弾性部材とは重ならない位置に配置されている燃料噴射弁。
【請求項２】
前記ニードルには、
小径部（２３２）と、前記小径部よりも外径の大きな部分である大経部（２３１，２４０）とが、前記長手方向に沿って並ぶように設けられており、
前記ダンパー室は前記小径部の周りに形成されている、請求項１に記載の燃料噴射弁。
【請求項３】
前記ハウジングの内部には、外部から供給された燃料を前記噴孔に導くための燃料通路が形成されており、
前記ニードルと前記ハウジングとが互いに対向している摺動部（２７１，２７２，２７３）とは異なる位置に、前記ダンパー室と前記燃料通路との間を連通させる連通路（２３３，２４１，２６１）が形成されている、請求項１又は２に記載の燃料噴射弁。
【請求項４】
燃料として気体燃料が用いられる、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の燃料噴射弁。
【請求項５】
燃料として水素が用いられる、請求項４に記載の燃料噴射弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本開示に係る燃料噴射弁（１０）は、燃料を噴射するための噴孔（５１１）が、長手方向における一端に形成されたハウジング（１００）と、ハウジングの内部において長手方向に沿って移動することにより、噴孔の開閉を切り換えるニードル（２００）と、少なくとも一部が磁性体によって形成された部材であって、ハウジングの内部に固定されている固定コア（４００）と、少なくとも一部が磁性体によって形成された部材であって、ハウジングの内部において、長手方向に沿ってニードルと共に移動可能な状態で配置されている可動コア（３００）と、固定コアと可動コアとの間に磁気吸引力を発生させるコイル（６００）と、を備える。ニードルとハウジングとの間には、ニードルの動作速度を減衰させるためのダンパー室（２５０）が形成されている。この燃料噴射弁は、可動コアを、長手方向に沿って噴孔とは反対側に向けて付勢する弾性部材を更に備える。ダンパー室は、長手方向に沿って弾性部材とは重ならない位置に配置されている。