(57)【要約】  【課題】分割露光する際に、遮光体を投影マスクの配置位置及び角度に倣って位置決めすることで、基板の各露光領域間の間隔を最小にする。【解決手段】分割された露光領域毎に、投影マスクに描かれた露光パターンを基板に露光する分割露光装置において、基板の上方位置に近接して配置され、複数の位置合わせマークを有する投影マスクと、投影マスクの上方位置に配置され、投影マスク面に平行な面内でスライド及び回転する移動機構と複数の位置合わせマークとを有する遮光体と、投影マスクの位置合わせマーク及び遮光体の位置合わせマークとにより遮光体の補正位置及び補正角度を算出する算出手段とを有し、投影マスクの所定の転写領域の配置位置及び角度に合わせて前記遮光体の位置及び角度を補正し、遮光体の端部を投影マスクの所定の転写領域に隣接する非透光スペースの中心線へ位置決めする。【選択図】図１
2014164007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を複数の露光領域に分割し、前記複数の露光領域にそれぞれ対応する複数の転写領域に露光パターンが描かれた投影マスクに対し、前記基板の露光領域と前記投影マスクの転写領域とを位置合わせし、露光領域毎に、前記転写領域に隣接する非透光スペースの中心線へ遮光体の端部を位置決めすることで、前記転写領域以外の領域に照射される光を遮蔽して、前記投影マスクに描かれた露光パターンを前記基板に露光する分割露光装置において、
前記基板の上方位置に近接して配置され、複数の位置合わせマークを有する投影マスクと、
前記投影マスクの上方位置に配置され、前記投影マスク面に平行な面内でスライド及び回転する移動機構と複数の位置合わせマークとを有する遮光体と、
前記投影マスクの位置合わせマーク及び前記遮光体の位置合わせマークとにより前記遮光体の補正位置及び補正角度を算出する算出手段と、
を有し、
前記投影マスクの所定の転写領域の配置位置及び角度に合わせて前記遮光体の位置及び角度を補正し、前記遮光体の端部を前記投影マスクの所定の転写領域に隣接する非透光スペースの中心線へ位置決めする
ことを特徴とする分割露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を複数の露光領域に分割し、投影マスクに描かれた露光パターンを露光領域毎に基板に転写する分割露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１６に従来の装置を示す。光源部１から出射した光１４は、集光部２、光反射部３、光強度一様化部４、平行化部５を通過して、ベース１１上のマスク枠８の下面へ載置された投影マスク９を透過し、露光テーブル６に載置された基板７へ照射される。露光テーブル６は、ベース１１内のＸＹＺθステージ１２−１〜４上に配置されている。マスク枠８の上方に位置する４個のＣＣＤカメラ１３は、独立してＸＹ方向に位置決め可能であり、画像処理装置（図示せず）に接続されている。Ｚステージ１２−１が上昇し、投影マスク９と基板７が近接した位置で、ＣＣＤカメラ１３を用いて、基板７と投影マスク９のそれぞれのアライメントマークを撮像し、画像処理装置を用いてそれぞれのマーク位置を測定し、投影マスク９位置に合わせるよう基板７位置の修正値を算出する。修正値に基づいてＸＹθステージ１２−２〜４を用いて基板７の位置合わせを行い、投影マスク９と基板７とが近接又は接触した状態で、光源部１からの光を投影マスク９を通して基板７上へ照射して、投影マスク９に描かれた露光パターンを基板７に転写する。
【０００３】
基板７は、あらかじめ感光性フィルムをラミネートされるか又はフォトレジスト感光剤が塗布されており、露光パターンで光路を遮られない部分が感光性フィルム又はフォトレジストへ照射され、光化学反応により、ネガタイプでは照射部が硬化し、ポジタイプでは非照射部が硬化して、マスクパターンと略同一のパターンを感光性フィルム又はフォトレジスト感光剤へ描き、現像により非硬化部を溶融除去して回路を形成するものである。
【０００４】
投影マスク９や基板７は、温湿度や洗浄、乾燥処理により伸縮するものであるため、大きく幾何変形すると基板全面を精度よく位置合わせできず、積層板各層の導体パターンの電気的接続による不良が生じてしまう。そこで、小領域として露光すれば寸法誤差が小さくなることから、基板７を複数の露光領域に分割し、投影マスク９を基板７の複数の露光領域にそれぞれ対応するように複数の転写領域に分割し、露光領域毎に、転写される領域以外に照射される光をＸ方向に移動する遮光体２５Ｘ及びＹ方向に移動する遮光体２５Ｙを用いて遮蔽することで露光する分割露光装置が用いられている。
【０００５】
ところで、図１７−ｃ）に示すように、投影マスク９面から照射光１４を遮蔽するための遮光体２５Ｘまでには所定の距離（ｓ１）が必要であり、遮光体２５Ｘの上側から投影マスク９に光１４を照射すると、照射光１４は必ずしも投影マスク９面に対して垂直ではないため、遮光体２５Ｘの端部Ｅに対応する投影マスク９面上では、投影マスク９面から遮光体２５Ｘ間までの距離に比例した幅（ｇ１）で照度が一様でないグレーゾーンが生じてしまう。照射光１４の照度が一様でない場合、露光工程後現像すると不安定なフォトレジストが基板７上に残ってしまうため、グレーゾーンへの照射光１４は露光には適さない。
【０００６】
そこで、特許文献１では、例えば、Ｘ方向については、図１７−ａ）に示す投影マスク９の各転写領域間にグレーゾーン幅（ｇ１）以上の幅（ｇ２）の非透光スペースＡｘを設け、露光領域毎に、基板７の各露光領域間を小さくするよう基板７と投影マスク９とを位置合わせ後、転写される領域に隣接する非透光スペースＡｘのほぼ中央に遮光体２５Ｘの端部を位置決めして光を遮蔽することで、各露光領域間の間隔（図１７−ｂ）で示すＢｘ）を極力小さくしようとしている。Ｙ方向についても同様である。
【０００７】
しかし、図１８に示すように、露光品種の変更毎に、例えばマスク枠８の基準線１５を目安にして投影マスク９を手で貼るので、投影マスク９の載置位置には位置誤差△ｘ、△ｙ、及び角度誤差△θがその都度生じてしまう。このような投影マスク９と遮光体２５Ｘ、２５Ｙの位置及び角度が合っていないと、投影マスク９の非透光スペースの中央に遮光体２５Ｘ、２５Ｙの端部Ｅを精度よく位置決めすることができず、各露光領域間の間隔を最小にすることができず、基板面積を効率的に使用することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−２１５８０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、基板の各露光領域間の間隔を最小にすることが可能な分割露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するための手段を、図１及び図２を参照して説明する。基板（７）の上方位置に近接して配置され、複数の位置合わせマーク（Ｎｏ１〜Ｎｏ４）を有する投影マスク（９）と、前記投影マスク（９）の上方位置に配置され、前記投影マスク（９）面に平行な面内でスライド及び回転する移動機構（４１Ｘ及び４１Ｙ、３５Ｘ及び３５Ｙ）と複数の位置合わせマーク（ａ〜ｆ）とを有する遮光体（２５Ｘ及び２５Ｙ）と、前記投影マスク（９）の位置合わせマーク（Ｎｏ１〜Ｎｏ４）及び前記遮光体（２５Ｘ及び２５Ｙ）の位置合わせマーク（ａ〜ｆ）とにより前記遮光体（２５Ｘ及び２５Ｙ）の補正位置及び補正角度を算出する算出手段（１３−１〜４及び３３）と、を有し、前記投影マスク（９）の所定の転写領域の配置位置及び角度に合わせて前記遮光体（２５Ｘ及び２５Ｙ）の位置及び角度を補正し、前記遮光体（２５Ｘ及び２５Ｙ）の端部（Ｅ）を前記投影マスク（９）の所定の転写領域に隣接する非透光スペースの中心線へ位置決めする。
【００１１】
なお、上記のカッコ内の符号は、図面と対照するためのものであるが、これにより特許請求の範囲の記載に何ら影響を及ぼすものではない。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、遮光体を投影マスクの配置位置及び角度に倣って位置決めすることで、基板の各露光領域間の間隔を最小にでき、基板面積を効率よく使用することを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る分割露光装置の平面図である。
【図２】本発明に係る分割露光装置の側面図である。
【図３】ＣＣＤカメラ傾き修正及びキャリブレーションの説明図である。
【図４】ＣＣＤカメラの走査軸の平行、直角調整の説明図である。
【図５】遮光体（Ｘ方向）の角度修正の説明図である。
【図６】遮光体（Ｙ方向）の角度修正の説明図である。
【図７】遮光体（Ｘ方向）の位置誤差による補正値算出の説明図である。
【図８】遮光体（Ｙ方向）の位置誤差による補正値算出の説明図である。
【図９】投影マスクの配置位置誤差及び角度誤差の説明図である。
【図１０】遮光体（Ｘ方向）の角度修正による補正値算出の説明図である。
【図１１】遮光体（Ｙ方向）の角度修正による補正値算出の説明図である。
【図１２】基板と投影マスクの相対位置合わせの説明図である。
【図１３】遮光体による縦２分割、横２分割、４分割遮光時の説明図である。
【図１４】遮光体の補正値を精度よく求めるため、分割単位でマーク測定を行なう説明図である。
【図１５】回転中心算出のため、基準マークを回転して撮像測定する説明図である。
【図１６】従来の分割露光装置の側面図である。
【図１７】遮光体、投影マスク及び基板の位置関係を示す図である。
【図１８】マスク枠への投影マスクの載置説明図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００１５】
まず、本発明の露光装置の構成について説明する。
【００１６】
図１及び図２に示すように、マスク枠８の上方に位置する４個のＣＣＤカメラ１３−１〜４は、一対のガイド２２Ｘ−１〜４、２２Ｙ−１〜４を案内とし、モータ２０Ｘ−１〜４、２０Ｙ−１〜４によりボールネジ２１Ｘ−１〜４、２１Ｙ−１〜４を介して駆動する一体構造の駆動装置４０Ｘ−１〜４、４０Ｙ−１〜４により、ＸＹ方向へそれぞれ独立して位置決め可能である。
【００１７】
投影マスク９に照射される光１４を遮蔽するための遮光体２５Ｘ、２５Ｙの各々４個の端面は、平行、直交精度が確保されており、端面から正確な位置精度で各々３個のアライメントマークａ〜ｃ、アライメントマークｄ〜ｆが配置されている。そして、一対のガイド３８Ｘ、３８Ｙを案内とし、モータ３６Ｘ、３６Ｙによりボールネジ３７Ｘ、３７Ｙを介して駆動する一体構造の駆動装置４１Ｘ、４１Ｙにより、マスク枠８上方の近接した位置の直交するＸ方向、Ｙ方向へそれぞれ独立して位置決め可能である。
【００１８】
更に、遮光体２５Ｘ、２５Ｙは、各々の一端に配置されたモータ２３Ｘ、２３Ｙ、ネジ２４Ｘ、２４Ｙ、ヒンジピン２６Ｘ、２６Ｙ、各々の中央部に配置された回転中心ピン２７Ｘ、２７Ｙにより構成された角度調整機構３５Ｘ、３５Ｙが設けられ、一端はスライダー４２Ｘ、４２Ｙ上へ固定され、他端にはローラ４３Ｘ、４３Ｙが配置され、各々駆動アクチュエータ４１Ｘ、４１Ｙと平行に配置される支持ブラケット４４Ｘ、４４Ｙ上のガイドバー４５Ｘ、４５Ｙ上方で回転可能に配置されている。
【００１９】
露光テーブル６上面の中心には基準マーク３０が配置されており、基準マーク３０は、十分な焦点深度を有するレンズ４６−１〜４を先端に装着したＣＣＤカメラ１３−１〜４及び画像処理装置（図示せず）の測定基準となる。
【００２０】
次に、作用について説明する。
【００２１】
ＣＣＤカメラ１３−１〜４で遮光体２５Ｘのアライメントマークａ〜ｃ、遮光体２５Ｙのアライメントマークｄ〜ｆの位置測定を行い、測定値に基づいて遮光体２５Ｘ、２５Ｙの角度修正を行い、遮光体２５Ｘ、２５Ｙの端面とＣＣＤカメラ１３−１〜４の走査方向を合わせておく。
【００２２】
次に、ＣＣＤカメラ１３−１〜４及び画像処理装置３３で投影マスク９のアライメントマークＮｏ１〜Ｎｏ４の位置測定を行い、投影マスク９の配置位置、角度に倣うように遮光体２５Ｘ、２５Ｙの補正角度及び位置決め補正値を算出しておき、分割露光時に、補正値に基づいて遮光体２５Ｘ、２５Ｙの角度及び位置修正を行い、投影マスク９の非透光スペースの中心線へ遮光体２５Ｘ、２５Ｙの端面が配置するように位置決めすることで、基板７の非露光領域に照射される光を遮蔽する。
【実施例１】
【００２３】
図３に示すように、あらかじめ、４個のＣＣＤカメラ１３−１〜４で露光テーブル６の中心へ配置された基準マーク３０を撮像して、ＣＣＤカメラ１３−１〜４及び画像処理装置３３の原点設定、傾き設定、キャリブレーションを行った後、図５及び図６に示すように、遮光体２５Ｘ、２５Ｙの各々３個のアライメントマークａ〜ｃ、ｄ〜ｆの位置を測定して、角度調整機構３５Ｘ、３５Ｙを用いて遮光体２５Ｘ、２５Ｙの端面の角度をＣＣＤカメラ１３−１〜４の走査軸へ合わせ、図７及び図８に示すように遮光体２５Ｘ、２５Ｙの位置決め補正値△Ｘｂ、△Ｘｃ、△Ｙｅ、△Ｙｆを求める。
【００２４】
図９に示すように、ＣＣＤカメラ１３−１〜４と画像処理装置３３で投影マスク９の４隅のアライメントマークＮｏ１〜Ｎｏ４位置座標を測定後、投影マスク９の配置角度△θｘ、△θｙ及び重心誤差△Ｘｇ、△Ｙｇを求め、角度調整機構３５Ｘ、３５Ｙを用いて遮光体２５Ｘ、２５Ｙの角度を投影マスク９の載置角度に合わせると共に、この時の遮光体２５Ｘ、２５Ｙの修正角による位置修正値△Ｘｓｂ、△Ｘｓｃ、△Ｙｓｅ、△Ｙｓｆを算出して、トータル補正値△ＸＢ、△ＸＣ、△ＹＥ、△ＹＦを求め、理論位置決め値に加えて最終的な位置決め値Ｘｂ、Ｘｃ、Ｙｅ、Ｙｆを算出する。
【００２５】
露光動作に当たっては、図１２に示す基板７のアライメントマークＡ〜Ｄと投影マスク９のアライメントマークＮｏ１〜Ｎｏ４を撮像し、画像処理装置（図示せず）で基板７位置の修正値を算出後、修正値に基づいて、ＸＹθステージ１２−１〜３で基板７位置の修正を行うタイミングで、図１３に示すように、遮光体２５Ｘ、２５Ｙを最終的な位置決め値Ｘｂ、Ｘｃ、Ｙｅ、Ｙｆへ位置決めし、投影マスク９と基板７が近接又は接触した状態で光源部１からの光を投影マスク９を介して基板７上へ照射することで分割露光を行う。
【００２６】
具体的には、次のステップ１〜６である。
【００２７】
図３に示すように、４個のＣＣＤカメラ１３−１〜４が順次露光テーブル６中心の基準マーク３０上に位置決めして撮像し、モニタ３１の映像のように画像処理装置３３で原点設定を行い、次にＣＣＤカメラ１３−１〜４がＸＹ方向へ±数ｍｍ走査するごとに基準マーク３０を撮像して、ＸＹ軸の走査方向設定を行うことにより、ＣＣＤカメラ１３−１〜４の取り付け角度の修正を行うと共に走査距離を画像処理装置３３へ入力してキャリブレーションを行う。ここで、ＣＣＤカメラ１３−１〜４の走査軸及び遮光体２５Ｘ、２５Ｙの走査軸は、図４に示すように、露光テーブル６上へスコヤ３２を載置し、スコヤ３２の端面へダイヤルゲージ３４を当てて走査しながらＣＣＤカメラ１３−１〜４及び遮光体２５Ｘ、２５Ｙの駆動装置の取付調整を行うことで、ＸＹ走査方向の直角及び平行が確保されている。（ステップ１）
【００２８】
図５−ａ）に示すように、Ｘ方向の遮光体２５ＸのアライメントマークａをＣＣＤカメラ１３−１位置へＸ方向に位置決めし、図５−ｂ）に示すように、ＣＣＤカメラ１３−１がアライメントマークａ上へＹ方向に位置決めして、マーク位置（Ｘａ、Ｙａ）を測定後、図５−ｃ）に示すように、ＣＣＤカメラ１３−１がアライメントマークｂ上へ位置決めして、マーク位置（Ｘｂ、Ｙｂ）を測定する。アライメントマークａ、ｂのＹ方向配置寸法をＳｙとして、遮光体２５Ｘの取付角度△φｘ＝Ｔａｎ−１（△Ｘ／△Ｙ）＝Ｔａｎ−１（（Ｘａ−Ｘｂ）／（Ｙｂ−Ｙａ＋Ｓｙ））を求める。図１に示す角度調整機構３５Ｘで遮光体２５Ｘを△φｘ回転して取付角度の修正を行い、図５−ｄ）に示すように、ＣＣＤカメラ１３−１の走査軸と遮光体２５Ｘの端面の方向を合わせる。同様に、図６−ａ）〜ｃ）に示すように、遮光体２５Ｙの取付角度△φｙを求めて、角度調整機構３５Ｙで遮光体２５Ｙを△φｙ回転して取付角度の修正を行い、ＣＣＤカメラ１３−１の走査軸と遮光体２５Ｙの端面の方向を合わせる。（ステップ２）
【００２９】
図７−ａ）に示すように、遮光体２５Ｘのアライメントマークｂが露光テーブル６中心の基準マーク３０と重なる理論座標（図５−ａ）のＬｘ１）へ遮光体２５Ｘを位置決め後、ＣＣＤカメラ１３−１が基準マーク３０上へ位置決めしてアライメントマークｂの位置（Ｘｂ、Ｙｂ）の測定を行う。アライメントマークｂの遮光体２５Ｘの端面からのＸ方向配置寸法ＸＢは規定値であるので、遮光体２５Ｘの端面が露光テーブル６の基準マーク３０位置座標のＸ方向中心へ配置するには、理論値に対して、△Ｘｂ＝ＸＢ＋Ｘｂ（式１）となり、図７−ｂ）に示すように、アライメントマークｃについても遮光体２５Ｘが理論座標Ｌｘ２へ位置決めして、マーク位置（Ｘｃ、Ｙｃ）を測定して、△Ｘｃ＝ＸＣ＋Ｘｃ（式２）となり、同様に、アライメントマークｅ、ｆは、図８−ａ）、ｂ）に示すように、△Ｙｅ＝ＹＥ＋Ｙｅ（式３）、△Ｙｆ＝ＹＦ＋Ｙｆ（式４）となる。これらは、遮光体２５Ｘ、２５Ｙの傾き修正に使用する。（ステップ３）
【００３０】
投影マスク９の重心座標と傾き角を測定する。図９−１）に４分割時の投影マスク９のアライメントマーク配置及びマーク撮像時のＣＣＤカメラ１３−１〜４の配置を示す。ＣＣＤカメラ１３−１〜４が４隅のアライメントマークＮｏ１〜Ｎｏ４の位置を測定する。理論配置位置を（Ｘ１、Ｙ１）、（Ｘ２、Ｙ２）、（Ｘ３、Ｙ３）、（Ｘ４、Ｙ４）、測定値を（△Ｘ１、△Ｙ１）、（△Ｘ２、△Ｙ２）、（△Ｘ３、△Ｙ３）、（△Ｘ４、△Ｙ４）とすると、アライメントマークＮｏ１〜Ｎｏ４の実配置位置は、（Ｘ１＋△Ｘ１、Ｙ１＋△Ｙ１）、（Ｘ２＋△Ｘ２、Ｙ２＋△Ｙ２）、（Ｘ３＋△Ｘ３、Ｙ３＋△Ｙ３）、（Ｘ４＋△Ｘ４、Ｙ４＋△Ｙ４）となり、基準マーク３０と重心とのズレは、△Ｘｇ＝（Ｘ１＋Ｘ２＋Ｘ３＋Ｘ４）／４（式５）、△Ｙｇ＝（Ｙ１＋Ｙ２＋Ｙ３＋Ｙ４）／４（式６）となる。アライメントマークＮｏ１とアライメントマークＮｏ４の中点座標はＸｃ１４＝（Ｘ１＋△Ｘ１＋Ｘ４＋△Ｘ４）／２、Ｙｃ１４＝（Ｙ１＋△Ｙ１＋Ｙ４＋△Ｙ４）／２となり、アライメントマークＮｏ２とアライメントマークＮｏ３の中点座標はＸｃ２３＝（Ｘ２＋△Ｘ２＋Ｘ３＋△Ｘ３）／２、Ｙｃ２３＝（Ｙ２＋△Ｙ２＋Ｙ３＋△Ｙ３）／２となる。よって投影マスク９の傾きは、Ｘ軸に対しては、△θｘ＝Ｔａｎ−１（（Ｙ１２−Ｙ３４）／（Ｘ３４−Ｘ１２））（式７）、Ｙ軸に対しては、△θｙ＝Ｔａｎ−１（（Ｘ１４−Ｘ２３）／（Ｙ１４−Ｙ２３））（式８）となる。図９−２、３で示す縦方向、横方向に２分割時も同様である。（ステップ４）
【００３１】
遮光体２５Ｘが基板７の右半分を遮光時の式８の△θｙによる補正値は、図１０に示す関係から次のように求める。遮光体２５Ｘ端面の延長線をＹ＝ａｌ×Ｘ＋ｂ１とすると、傾きａｌは、ａｌ＝１／Ｔａｎ（△θｙ）となり、Ｙ＝１／Ｔａｎ（△θｙ）×Ｘ＋ｂ１となる。この式は、（−Ｌｘｂ×ｃｏｓ（△θｙ）、Ｌｘｂ×ｓｉｎ（△θｙ））を通るので、Ｌｘｂ×ｓｉｎ（△θｙ）＝１／Ｔａｎ（△θｙ）×（−Ｌｘｂ×ｃｏｓ（△θｙ））＋ｂ１より、ｂ１＝Ｌｘｂ×ｓｉｎ（△θｙ）−１／Ｔａｎ（△θｙ）×（−Ｌｘｂ×ｃｏｓ（△θｙ））となり、Ｙ＝ＹｂにおけるＸ座標は、Ｘｘｂ＝（Ｙｂ−ｂ１）×Ｔａｎ（△θｙ）（式９）となる。よって、遮光体２５Ｘの回転による補正値は、遮光体２５Ｘの回転中心と端部のＸ方向配置寸法をＬｘｂとすると、△Ｘｓｂ＝Ｘｘｂ−Ｌｘｂ（式１０）となる。同様に、アライメントマークｃ、ｅ、ｆについては、図１０及び図１１に示す関係から、それぞれ、△Ｘｓｃ＝Ｘｘｃ−Ｌｘｃ（式１１）、△Ｙｓｅ＝Ｙｙｅ−Ｌｙｅ（式１２）、△Ｙｓｆ＝Ｙｙｆ−Ｌｙｆ（式１３）となる。遮光体２５Ｘが基板７の左半分を遮光時の補正値は、（式１）、（式５）、（式１０）から、△ＸＢ＝△Ｘｂ＋△Ｘｇ＋△Ｘｓｂ（式１４）、遮光体２５Ｘが右半分を遮光時の補正値は、△ＸＣ＝△Ｘｃ＋△Ｘｇ＋△Ｘｓｃ（式１５）、遮光体２５Ｙが上半分を遮光時の補正値は、△ＹＥ＝△Ｙｅ＋△Ｙｇ＋△Ｙｓｅ（式１６）、遮光体２５Ｙが下半分を遮光時の補正値は、△ＹＦ＝△Ｙｆ＋△Ｙｇ＋△Ｙｓｆ（式１７）となる。（ステップ５）
【００３２】
よって、遮光体２５Ｘ、２５Ｙの位置決め値は、次のように求めことができる。遮光体２５Ｘが基板７の右半分を遮光時は、理論値Ｌｘ１に式１４の補正値を加えて、Ｘｂ＝Ｌｘ１＋△ＸＢ、遮光体２５Ｘが基板７の左半分を遮光時は、Ｘｃ＝Ｌｘ２＋△ＸＣ、遮光体２５Ｙが基板７の上半分を遮光時は、Ｙｅ＝Ｌｙ１＋△ＹＥ、遮光体２５Ｙが基板７の下半分を遮光時は、Ｙｆ＝Ｌｙ２＋△ＹＦとなる。（ステップ６）
【００３３】
基板７及び投影マスク９のアライメントマークの測定により、基板７は投影マスク９位置に合わせて位置修正されるので、投影マスク９に倣って遮光体２５Ｘ、２５Ｙの位置決めを行えば、基板７に対して倣って位置決めされたことになる。
【００３４】
例えば、投影マスク９のサイズをＬ＝５１０×６１０ｍｍ、遮光体２５Ｘ、２５Ｙとの位置誤差を△ｘ＝０．５ｍｍ、△ｙ＝０．５ｍｍ、角度誤差を△θ＝０．５°とすると、投影マスク９との合計位置ズレ量は△Ｌｘ＝±（６１０×ｓｉｎ０．５°＋０．５）＝±（５．３＋０．５）＝±５．８ｍｍとなり、基板７の各露光領域間の間隔はこれ以上となってしまい、基板７を効率よく使用するには無視できないズレ量である。一方、遮光体２５Ｘ、２５Ｙを、投影マスク９の載置角度に倣い角度補正した後、非透光スペースの中心線へ遮光体２５Ｘ、２５Ｙの端面が配置するように位置決めすれば、基板７の各露光領域間の間隔は、照射光１４が必ずしも投影マスク９に対して垂直でないことにより生じる照度が一様でないグレーゾーン、遮光体２５Ｘ、２５Ｙの位置決め誤差、及び遮光体２５Ｘ、２５Ｙ端面での回折を含めても、±１ｍｍ程度に抑えることができる。
【００３５】
露光品種の変更等により投影マスク９を新たにマスク枠８の基準線１５を目安に貼り付けする際は、ステップ４、５を繰り返せばよく、ステップ１〜３は、メンテナンスで取り外す際等に初期設定を行っておけばよいものである。
【００３６】
更に、精度よく行うため、投影マスク９の４隅のアライメントマーク座標を対象とするのではなく、図１４に示すように、分割領域毎に投影マスク９のアライメントマーク座標を測定し、補正値を算出して遮光体２５Ｘ、２５Ｙを位置決めすることもでき、分割数が６分割、８分割になっても同様に行うことができる。
【００３７】
ここで、加工誤差及び組み立て誤差があるため、露光テーブル６の中心とθステージ１２−２の回転中心が一致しない場合、真の回転中心を求める必要があるが、図１５に示すように、ＣＣＤカメラの１つ１３−１が基準マーク３０上へ位置決めした状態からθステージ１２−２をθ°回転し、基準マーク３０のθ回転前後の座標（Ｘ１、Ｙ１）、（Ｘ２、Ｙ２）を測定し、Ｌ＝（（Ｘ１−Ｘ２）２＋（Ｙ１−Ｙ２）２）１／２、ｓｉｎ（θ／２）＝Ｌ／２Ｒ、（Ｘ１−α）２＋（Ｙ１−β）２＝Ｒ２、（Ｘ２−α）２＋（Ｙ２−β）２＝Ｒ２から、回転中心座標（α、β）を算出することで、別途測定用治具を用意する必要がない。
【００３８】
更に、基準マーク３０上へＣＣＤカメラ１３−１〜４がそれぞれ位置決めして、基準マーク３０を撮像しながらＺステージ１２−１を上下動させ、基準マーク３０の映像が縦横にぶれないようＣＣＤカメラ１３−１〜４及びレンズ４６−１〜４の取付を行うことで、Ｚステージ１２−１に対する垂直方向の組立調整を容易に行うことができる。また、ＸＹ軸の走査方向設定によるＣＣＤカメラ１３−１〜４の取付角度の修正及びキャリブレーションと原点設定を、すべてのＣＣＤカメラ１３−１〜４について同一の基準マーク３０で行うことができるので作業効率がよく、初期設定及びメンテナンス時の復元が容易で、測定精度の維持及び信頼性の高い装置を提供することもできる。
【００３９】
この実施例のような構成にすることによって、遮光体が投影マスクの配置位置及び角度に倣って位置決めを行うので、基板の各露光領域間の間隔を最小する分割露光装置を提供することができる。
【符号の説明】
【００４０】
１        光源部
２        集光部
３        光反射部
４        光強度一様化部
５        平行化部
６        露光テーブル
７        基板
８        マスク枠
９        投影マスク
１１      ベース
１２−１〜４      ＸＹＺθステージ
１３−１〜４      ＣＣＤカメラ
１４      光
１５      基準線
２０Ｘ、２０Ｙ      モータ
２１Ｘ、２１Ｙ      ボールネジ
２２Ｘ、２２Ｙ      ガイド
２３Ｘ、２３Ｙ      モータ
２４Ｘ、２４Ｙ      ネジ
２５Ｘ、２５Ｙ      遮光体
２６Ｘ、２６Ｙ      ヒンジピン
２７Ｘ、２７Ｙ      回転中心ピン
３０      基準マーク
３１      画像処理装置のモニタ
３２      スコヤ
３３      画像処理装置
３４      ダイヤルゲージ
３５Ｘ、３５Ｙ      角度調整機構
３６Ｘ、３６Ｙ      モータ
３７Ｘ、３７Ｙ      ボールネジ
３８Ｘ、３８Ｙ      ガイド
４０Ｘ、４０Ｙ      ＣＣＤカメラの駆動装置
４１Ｘ、４１Ｙ      遮光体の駆動装置
４２Ｘ、４２Ｙ      スライダー
４３Ｘ、４３Ｙ      ローラ
４４Ｘ、４４Ｙ      支持ブラケット
４５Ｘ、４５Ｙ      ガイドバー
４６−１〜４      レンズ
５０      ブラケット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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