Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月21日(2021.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
例えば、第２固定対向部分２２は、第２固定突出部２２ｐを除く第２固定非突出部２２ｄを含む。例えば、第２固定非突出部２２ｄの曲率は、第２固定突出部２２ｐの曲率よりも低い。例えば、第２固定非突出部２２ｄの曲率半径は、第２固定突出部２２ｐの曲率半径よりも大きい。例えば、第２固定非突出部２２ｄは、実質的に平面である。一方、第２可動部分１２の少なくとも一部は、実質的に平面状である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図１に示すように、可動部分（例えば、第１可動部分１１）の両側に、辺部分がある。例えば、可動部材１０は、第１可動辺部分１１ｓａ及び第２可動辺部分１１ｓｂを含む。第１可動部分１１は、第１可動辺部分１１ｓａと第２可動辺部分１１ｓｂとの間において第１可動辺部分１１ｓａ及び第２可動辺部分１１ｓｂに接続される。一方、第１固定部材２０は、第１固定対向辺部分２１ｓａと第２固定対向辺部分２１ｓｂを含む。第１固定対向辺部分２１ｓａは、第１可動辺部分１１ｓａに対向し、第１可動辺部分１１ｓａに沿う。第２固定対向辺部分２１ｓｂは、第２可動辺部分１１ｓｂに対向し、第２可動辺部分１１ｓｂに沿う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
以下、可動部材１０の保持の状態の例について、説明する。  
図２及び図３に示すように、センサ１１０は、基体６１、第２固定部材２０Ｂ及び接続部２０Ｎを含む。第２固定部材２０Ｂは、基体６１に固定される。既に説明したように、第１固定部材２０も、基体６１に固定される（図４参照）。基体６１から第２固定部材２０Ｂへの方向は、Ｚ軸方向に沿う（図３参照）。基体６１から第１固定部材２０への方向は、Ｚ軸方向に沿う（図４参照）。図３及び図４に示すように、基体６１と第２固定部材２０Ｂとの間、及び、基体６１と第１固定部材２０との間に絶縁膜が設けられている。絶縁層６２の上に設けられる導電層６３が、第１固定部材２０及び第２固定部材２０Ｂとなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
接続部２０Ｎは、例えば、弾性構造体である。第２固定部材２０Ｂと可動部材１０との間の距離（第２固定部材２０Ｂから可動部材１０への方向に沿う距離）は、変化可能である。この例では、接続部２０Ｎは、ミアンダ構造を有している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
上記の第１固定突出部２１ｐのような突出部がさらに設けられても良い。図１に示すように、第５〜第８可動部分１５〜１８は、第５〜第８領域１５Ｒ〜１８Ｒのそれぞれの一部である。第５〜第８固定対向部分２５〜２８は、第５〜第８可動部分１５〜１８にそれぞれ対向する。第５〜第８固定対向部分２５〜２８は、第５〜第８固定突出部２５ｐ〜２８ｐをそれぞれ含む。第５〜第８固定突出部２５ｐ〜２８ｐは、第５〜第８可動部分１５〜１８にそれぞれ対向する。第５〜第８固定対向部分２５〜２８は、第５〜第８固定突出部２５ｐ〜２８ｐを除く第５〜第８固定非突出部２５ｄ〜２８ｄを含む。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
図７に示すように、可動部材１０は、第１可動部分１１及び第２可動部分１２を含む。第１固定部材２０の少なくとも一部は、第１可動部分１１と第２可動部分１２との間にある。第１固定部材２０は、第１可動部分１１に対向する第１固定対向部分２１と、第２可動部分１２に対向する第２固定対向部分２２と、を含む。第１可動部分１１は、第１固定対向部分２１に向かって突出する第１可動突出部１１ｐを含む。第２可動部分１２は、第２固定対向部分２２に向かって突出する第２可動突出部１２ｐを含む。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
センサ１１１においても、センサのサイズが小さくできる。または、同じサイズにおいて、可動部材１０の動きに基づく信号をより安定して得やすい。可動部材１０の突出部は第１固定部材２０から離れ易い。本実施形態においても、より安定した検出を維持し易くなる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
（第３実施形態）  
図８は、第３実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。  
図８は、実施形態に係るセンサ１１２の一部を拡大して例示している。センサ１１２も、可動部材１０及び第１固定部材２０を含む。センサ１１２における可動部材１０及び第１固定部材２０の構造は、センサ１１０におけるそれと異なる。センサ１１２におけるその他の構成は、センサ１１０の構成と同じなので、説明を省略する。センサ１１２においては、可動部材１０の一部に突出部が設けられ、第１固定部材２０の一部に突出部が設けられる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
図８に示すように、センサ１１２において、可動部材１０は、第１可動部分１１及び第２可動部分１２を含む。第１固定部材２０の少なくとも一部は、第１可動部分１１と第２可動部分１２との間にある。第１固定部材２０は、第１可動部分１１に対向する第１固定対向部分２１と、第２可動部分１２に対向する第２固定対向部分２２と、を含む。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
（第６実施形態）  
図１３は、第６実施形態に係るセンサを例示する模式的平面図である。  
図１３は、実施形態に係るセンサ１２２の一部を拡大して例示している。センサ１２２も、可動部材１０及び第１固定部材２０を含む。センサ１２２における可動部材１０及び第１固定部材２０の構造は、センサ１２０におけるそれと異なる。センサ１２２におけるその他の構成は、センサ１２０の構成と同じである。センサ１２２においては、可動部材１０の一部に突出部が設けられ、第１固定部材２０の一部に突出部が設けられる。例えば、第１〜第８固定突出部２１ｐ〜２８ｐ、または、第１〜第８可動突出部１１ｐ〜１８ｐが設けられる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
（構成１６）  
複数の前記第１固定部材が設けられ、
前記基体から前記第２固定部材への方向と交差する平面において、前記第２固定部材の周りに前記複数の第１固定部材が設けられた、構成１５記載のセンサ。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月12日(2021.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の車載器から路側通信装置へ通信されたナンバープレート情報を受け付ける情報受付部と、
前記車両を撮影した路側カメラによって得られた車両画像を受け付ける画像受付部と、
受け付けられた車両画像に対するパターンマッチングによって、受け付けられるナンバープレート情報と比較されるナンバープレート認識結果を生成する画像認識部と、
生成されたナンバープレート認識結果が、受け付けられたナンバープレート情報と一致しない場合に、受け付けられた車両画像に基づいて、パターンマッチングに用いられたパターンデータを更新するパターン学習部と
を備えるパターン学習システム。
【請求項２】
前記画像認識部は、
前記車両画像に映っているナンバープレートの中の１つ以上の文字を検出し、検出された１つ以上の文字に対応する１つ以上の画像部分を前記車両画像から１つ以上の文字画像として切り出し、前記１つ以上の文字画像に対するパターンマッチングによって前記検出された１つ以上の文字に対応する１つ以上の文字パターンを前記パターンデータから選択し、選択された１つ以上の文字パターンによって識別される１つ以上の認識文字を示すデータを前記ナンバープレート認識結果として生成する
請求項１に記載のパターン学習システム。
【請求項３】
前記ナンバープレート情報は、前記車両のナンバープレートに記されている文字列を示し、
前記パターン学習部は、
前記ナンバープレート認識結果に示される１つ以上の認識文字を前記ナンバープレート情報に示される文字列と比較することによって、前記１つ以上の認識文字のうち前記文字列の中の対応文字と一致しない認識文字を誤認識文字として検出し、前記誤認識文字と比較された対応文字に対応する文字パターンを前記パターンデータから選択し、選択された文字パターンを前記誤認識文字に対応する文字画像に基づいて更新する
請求項２に記載のパターン学習システム。
【請求項４】
前記車両のナンバープレートには、車両属性ごとに文字列が記され、
前記ナンバープレート認識結果と前記ナンバープレート情報とのそれぞれは、車両属性ごとに文字列を示し、
前記パターン学習部は、
前記ナンバープレート認識結果から１つずつ認識文字を選択し、選択された認識文字を含む文字列の車両属性を対象属性として特定し、前記選択された認識文字を含む文字列において前記選択された認識文字の順番を示す番号を対象番号として特定し、前記ナンバープレート情報から前記対象属性の文字列を選択し、選択された文字列から前記対象番号の文字を前記対応文字として選択し、前記選択された認識文字を前記対応文字と比較し、前記選択された認識文字が前記対応文字と一致しない場合に前記選択された認識文字を前記誤認識文字として検出し、前記対応文字に対応する前記文字パターンを前記パターンデータから選択し、前記車両画像から切り出された前記１つ以上の文字画像から、前記対象属性の記載箇所から切り出された１つ以上の文字画像を選択し、選択された１つ以上の文字画像から前記対象番号の文字画像を前記誤認識文字に対応する前記文字画像として選択し、選択された前記文字パターンを前記誤認識文字に対応する前記文字画像に基づいて更新する
請求項３に記載のパターン学習システム。
【請求項５】
情報受付部が、車両の車載器から路側通信装置へ通信されたナンバープレート情報を受け付け、
画像受付部が、前記車両を撮影した路側カメラによって得られた車両画像を受け付け、
画像認識部が、受け付けられた車両画像に対するパターンマッチングによって、受け付けられるナンバープレート情報と比較されるナンバープレート認識結果を生成し、
パターン学習部が、生成されたナンバープレート認識結果が、受け付けられたナンバープレート情報と一致しない場合に、受け付けられた車両画像に基づいて、パターンマッチングに用いられたパターンデータを更新する
パターン学習方法。
【請求項６】
車両の車載器から路側通信装置へ通信されたナンバープレート情報を受け付ける情報受付部と、
前記車両を撮影した路側カメラによって得られた車両画像を受け付ける画像受付部と、
受け付けられた車両画像に対するパターンマッチングによって、受け付けられるナンバープレート情報と比較されるナンバープレート認識結果を生成する画像認識部と、
生成されたナンバープレート認識結果が、受け付けられたナンバープレート情報と一致しない場合に、受け付けられた車両画像に基づいて、パターンマッチングに用いられたパターンデータを更新するパターン学習部として、
コンピュータを機能させるためのパターン学習プログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月15日(2021.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現場で作業する作業者を支援する作業支援システムであって、
前記作業者によって所持される作業者端末と、
前記作業者端末と通信可能に接続する情報処理装置である作業支援装置と、
を備え、
前記作業支援装置は、
作業者が作業対象について過去に作業した際の視線の移動履歴である視線移動履歴情報を記憶し、
前記視線移動履歴情報に基づき、作業の模範者となる作業者が作業した場合における、基準となる時刻からの経過時間に対応づけて前記模範者の視線位置である模範者視線位置を示した情報である経路情報を生成し、
作業の模倣者である作業者が作業対象について作業を行う際、当該作業者の視線位置を誘導する情報である経路補正情報を前記経路情報に基づき生成し、
前記作業者端末は、前記経路補正情報に基づくコンテンツを出力する、
作業支援システム。
【請求項２】
請求項１に記載の作業支援システムであって、
前記作業者端末は、前記模倣者の現在の視線位置を示す情報である模倣者視線位置を取得するセンサを備え、
前記作業支援装置は、
前記模倣者と前記模範者の体格差を示す情報を記憶し、
前記模倣者視線位置と前記体格差に基づき、前記経路情報における前記模範者視線位置を補正することにより、前記経路補正情報を生成する、
作業支援システム。
【請求項３】
請求項２に記載の作業支援システムであって、
前記体格差は、前記模倣者と前記模範者の夫々の身長、視力、骨格、関節、及び筋力のうちの少なくとも何れかの差に基づく情報である、
作業支援システム。
【請求項４】
請求項２に記載の作業支援システムであって、
前記作業支援装置は、
各種センサを備えた移動計測端末と通信可能に接続し、
前記模倣者視線位置を前記移動計測端末の前記センサから取得される情報に基づき取得する、
作業支援システム。
【請求項５】
請求項２に記載の作業支援システムであって、
前記作業支援装置は、前記経過時間に沿って前記経路情報の各前記模範者視線位置についての前記経路補正情報を順次生成し、
前記作業者端末は、前記模倣者視線位置と前記経路情報の前記模範者視線位置との差が予め設定された所定範囲内となる度に、出力する前記コンテンツを、次の前記模範者視線位置の前記経路補正情報に基づく内容に更新する、
作業支援システム。
【請求項６】
請求項１に記載の作業支援システムであって、
前記作業支援装置は、前記視線移動履歴情報から前記模範者の視線移動情報である模範者経路情報を取得し、前記模範者経路情報から選択した一部の前記模範者視線位置に基づき前記経路情報を生成する、
作業支援システム。
【請求項７】
請求項６に記載の作業支援システムであって、
前記作業支援装置は、前記模範者視線位置の時間変化が予め設定された範囲を超えた時点の前記模範者視線位置を選択して前記経路情報を生成する、
作業支援システム。
【請求項８】
請求項７に記載の作業支援システムであって、
前記範囲は、前記模範者視線位置の移動平均と標準偏差とに基づき設定される、
作業支援システム。
【請求項９】
請求項１に記載の作業支援システムであって、
前記作業支援装置は、
複数の作業者の前記視線移動履歴情報を記憶し、
前記視線移動履歴情報の夫々に、前記作業者の作業経験、総作業時間、視線位置の総移動距離のうちの少なくとも何れかに基づく優先順位を設定し、
前記優先順位が高い前記作業者の前記視線移動履歴情報に基づき前記経路情報を生成する、
作業支援システム。
【請求項１０】
請求項１に記載の作業支援システムであって、
前記作業者端末は、
現場の映像を撮影する撮影装置と、
映像を表示する表示装置と、
を備え、
前記コンテンツとして、前記経路補正情報に基づく情報を、前記撮影装置で撮影された映像に重畳して前記表示装置に表示する、
作業支援システム。
【請求項１１】
請求項１に記載の作業支援システムにおける前記作業支援装置であって、
作業者が作業対象について過去に作業した際の視線の移動履歴である視線移動履歴情報を記憶し、
前記視線移動履歴情報に基づき、作業の模範者となる作業者が作業した場合における、基準となる時刻からの経過時間に対応づけて前記模範者の視線位置である模範者視線位置を示した情報である経路情報を生成し、
作業の模倣者である作業者が作業対象について作業を行う際、当該作業者の視線位置を誘導する情報である経路補正情報を前記経路情報に基づき生成する、
作業支援装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の作業支援装置であって、
前記作業者端末は、前記模倣者の現在の視線位置を示す情報である模倣者視線位置を取得するセンサを備えており、
前記模倣者と前記模範者の体格差を示す情報を記憶し、
前記模倣者視線位置と前記体格差に基づき、前記経路情報における前記模範者視線位置を補正することにより、前記経路補正情報を生成する、
作業支援装置。
【請求項１３】
現場で作業する作業者によって所持される作業者端末と、
前記作業者端末と通信可能に接続する情報処理装置である作業支援装置と、
を備えて構成される作業支援システムの制御方法であって、
前記作業支援装置が、
作業者が作業対象について過去に作業した際の視線の移動履歴である視線移動履歴情報を記憶するステップ、
前記視線移動履歴情報に基づき、作業の模範者となる作業者が作業した場合における、基準となる時刻からの経過時間に対応づけて前記模範者の視線位置である模範者視線位置を示した情報である経路情報を生成するステップ、及び、
作業の模倣者である作業者が作業対象について作業を行う際、当該作業者の視線位置を誘導する情報である経路補正情報を前記経路情報に基づき生成するステップ、
を実行し、
前記作業者端末が、前記経路補正情報に基づくコンテンツを生成するステップを実行する、
作業支援システムの制御方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の作業支援システムの制御方法であって、
前記作業者端末は、前記模倣者の現在の視線位置を示す情報である模倣者視線位置を取得するセンサを備えており、
前記作業支援装置が、
前記模倣者と前記模範者の体格差を示す情報を記憶するステップ、
前記模倣者視線位置と前記体格差に基づき、前記経路情報における前記模範者視線位置を補正することにより、前記経路補正情報を生成するステップ、
を更に実行する、
作業支援システムの制御方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の作業支援システムの制御方法であって、
前記作業支援装置が、前記視線移動履歴情報から前記模範者の視線移動情報である模範者経路情報を取得し、前記模範者経路情報から選択した一部の前記模範者視線位置に基づき前記経路情報を生成するステップ、
を更に実行する、
作業支援システムの制御方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月15日(2021.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テープ状の磁気記録媒体であって、
基体と、
前記基体上に設けられた下地層と、
前記下地層上に設けられ、磁性粉を含む磁性層と、
前記基体の前記下地層とは反対側に設けられたバック層と
を備え、
前記基体は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＣＴ（ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ＰＥＢ（ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート）およびポリエチレンビスフェノキシカルボキシレートのうちの少なくとも１種を含み、
前記磁性層の平均厚みが、９０ｎｍ以下であり、
前記磁性粉の平均アスペクト比が、１．０以上３．０以下であり、
前記磁気記録媒体の垂直方向における保磁力Ｈｃ１が、３０００Ｏｅ以下であり、
前記磁気記録媒体の垂直方向における保磁力Ｈｃ１と、長手方向における保磁力Ｈｃ２とが、Ｈｃ２／Ｈｃ１≦０．８の関係を満たす磁気記録媒体。
【請求項２】
テープ状の磁気記録媒体であって、
基体と、
前記基体上に設けられた下地層と、
前記下地層上に設けられ、磁性粉を含む磁性層と、
前記基体の前記下地層とは反対側に設けられたバック層と
を備え、
前記基体は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＣＴ（ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ＰＥＢ（ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート）およびポリエチレンビスフェノキシカルボキシレートのうちの少なくとも１種を含み、
前記磁性層の平均厚みが、９０ｎｍ以下であり、
前記磁性粉の平均アスペクト比が、１．０以上３．０以下であり、
前記磁気記録媒体の垂直方向における保磁力Ｈｃ１が、３０００Ｏｅ以下であり、
前記磁気記録媒体の垂直方向における保磁力Ｈｃ１と、長手方向における保磁力Ｈｃ２とが、Ｈｃ２／Ｈｃ１≦０．７５の関係を満たす磁気記録媒体。
【請求項３】
前記磁性層が、複数のサーボバンドを有し、
前記磁性層の表面の面積に対する前記複数のサーボバンドの総面積の割合が、４．０％以下である請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記サーボバンドの数が、５以上である請求項３に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記サーボバンドの数が、５＋４ｎ（但し、ｎは正の整数である。）以上である請求項３に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
前記サーボバンドの幅が、９５μｍ以下である請求項３に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
前記磁性層が、複数のデータトラックを形成可能に構成され、
前記データトラックの幅が、３．０μｍ以下である請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項８】
前記磁性層が、磁化反転間距離の最小値Ｌとデータトラックの幅Ｗの比率Ｗ／ＬがＷ／Ｌ≦２００の関係を満たすように、データを記録可能に構成されている請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項９】
前記磁性層が、磁化反転間距離の最小値Ｌが４８ｎｍ以下となるように、データを記録可能に構成されている請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】
前記磁気記録媒体の長手方向における前記保磁力Ｈｃ２が、２０００Ｏｅ以下である請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月26日(2021.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円周方向に並んでいる２つの第１サーボセクタと、２つの前記第１サーボセクタの間に位置する少なくとも１つの第２サーボセクタとを有するディスクと、
前記ディスクに対してデータのライトし、前記ディスクからデータをリードするヘッドと、
前記第１サーボセクタの全てのデータを復調し、前記第２サーボセクタの一部のデータを復調するコントローラと、を備え、
前記第１サーボセクタは、バーストデータと、前記バーストデータの前記円周方向の前にライトされた第１データパターンとを有し、
前記第２サーボセクタは、前記バーストデータ、前記バーストデータの前記円周方向の前にライトされた前記第１データパターンと、前記バーストデータの前記円周方向の後にライトされた第２データパターンとを有し、
前記第１データパターンの第１周波数と前記第２データパターンの第２周波数とは、異なり、
前記第１データパターンの前記円周方向の第１の長さと前記第２データパターンの前記円周方向の第２の長さとは、異なる、磁気ディスク装置。
【請求項２】
前記第２の長さは、前記第１の長さよりも短い、請求項１に記載の磁気ディスク装置。
【請求項３】
前記第１データパターンは、プリアンブルを有し、前記第１周波数と前記プリアンブルの第３周波数とは、同じである、請求項１又は２に記載の磁気ディスク装置。
【請求項４】
前記第２周波数は、前記第３周波数の２分の１に相当し、前記バーストデータの第４周波数と同じである、請求項３に記載の磁気ディスク装置。
【請求項５】
前記第２の長さは、前記第２周波数の逆数と前記第３周波数の逆数の２倍との和以上である、請求項３又は４に記載の磁気ディスク装置。
【請求項６】
前記第１データパターンは、前記プリアンブルの後にライトされたサーボマークと、前記サーボマークの後にライトされたグレイコードと、を有する、請求項３乃至５のいずれか１項に記載の磁気ディスク装置。
【請求項７】
前記コントローラは、前記第１サーボセクタにおいて、前記第１データパターン、前記バーストデータ、の順に復調し、前記第２サーボセクタにおいて、前記バーストデータ及び前記第２データパターンの順に復調する、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の磁気ディスク装置。
【請求項８】
ディスクと、前記ディスクに対してデータのライトし、前記ディスクからデータをリードするヘッドと、を備える磁気ディスク装置に適用されるサーボセクタのライト方法であって、
第１データパターンをライトし、
前記第１データパターンの後にバーストデータをライトし、
前記バーストデータの後に前記ディスクの半径方向において１サーボトラック周期で第１位相が同じになる第２データパターンをライトする、サーボセクタのライト方法。
【請求項９】
円周方向に並んでいる２つの第１サーボセクタと、２つの前記第１サーボセクタの間に位置する少なくとも１つの第２サーボセクタとを有するディスクと、前記ディスクに対してデータのライトし、前記ディスクからデータをリードするヘッドと、を備え、前記第１サーボセクタは、バーストデータと、前記バーストデータの前記円周方向の前にライトされた第１データパターンとを有し、前記第２サーボセクタは、前記バーストデータ、前記バーストデータの前記円周方向の前にライトされた前記第１データパターンと、前記バーストデータの前記円周方向の後にライトされた第２データパターンとを有する磁気ディスク装置に適用されるサーボ復調位置の補正方法であって、
前記第２データパターンを復調して前記第２データパターンの第１位相を取得し、
前記第１位相と基準位相との差分値を算出し、
前記差分値の絶対値が閾値以上である場合に前記第２サーボセクタより復調したサーボ復調位置を補正する、サーボ復調位置の補正方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月29日(2021.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
フィリング用油中水型乳化油脂組成物に添加されている乳化剤とそれらの乳化剤の構成脂肪酸が表１に示されている。脂肪酸組成の分析は基準油脂分析試験法２．１．１．３−２０１３の方法に準じて行い、炭素数６以上の脂肪酸について定量した。乳化剤Ｂがクエン酸モノグリセリドであることをカタログで確認し、その脂肪酸組成を分析しなかった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
【表１】
2018113961.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月30日(2020.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子デバイスを製造する方法であって、
底面の周縁に沿って形成された第１側壁を有する第１基板を与えることであって、前記第１側壁は前記第１基板の底面に配置された電子回路を取り囲み、前記第１側壁は第１金属からなる第１金属層から形成されることと、
第２側壁を有する第２基板を与えることであって、前記第２基板の頂面の周縁に沿って形成された前記第２側壁は第２金属からなる第２金属層と第３金属からなる第３金属層とが順に積層されて形成され、前記第２金属及び前記第３金属は互いに異なりかつ前記第１金属とも異なることと、
前記第１基板の底面、前記第２基板の頂面、前記第１側壁、及び前記第２側壁により内部にキャビティを画定するべく前記第１基板と前記第２基板とを位置合わせすることであって、前記第１側壁は前記第２側壁に対向かつ接触することと、
液相拡散接合により前記第１側壁と前記第２側壁とを互いに接合させるように前記第１基板及び第２基板を加熱することであって、前記第３金属層が溶融することにより前記第１金属層及び前記第２金属層それぞれと第１合金層及び第２合金層を形成することと
を含む方法。
【請求項２】
前記第１基板を与えることは、圧電体を有する基板を与えることであり、
前記電子回路は、圧電薄膜共振器、バルク弾性波素子、音響多層膜共振器及び弾性表面波素子の少なくとも一つを含む請求項１の方法。
【請求項３】
前記第３金属の融点は前記第２金属の融点未満である請求項１の方法。
【請求項４】
前記第３金属層は、前記第１合金層及び前記第２合金層が形成されたときになくなっている請求項１の方法。
【請求項５】
前記第２側壁を、前記第１側壁の高さよりも大きな高さを有するように形成することをさらに含む請求項１の方法。
【請求項６】
前記第２側壁を、前記第１側壁の幅よりも大きな幅を有するように形成することをさらに含む請求項１の方法。
【請求項７】
前記第３金属層と前記第２金属層との合金形成の開始温度が、前記第３金属層と前記第１金属層との合金形成の開始温度よりも低い請求項１の方法。
【請求項８】
前記第１金属、前記第２金属及び前記第３金属それぞれが、前記液相拡散接合の間に同時に溶融される状態が存在しない請求項７の方法。
【請求項９】
前記第１金属は金を含む請求項１の方法。
【請求項１０】
前記第２金属は銅を含む請求項９の方法。
【請求項１１】
前記第３金属は、錫及びインジウムの少なくとも一方を含む請求項９の方法。
【請求項１２】
前記第１基板の厚さは、前記第２基板の厚さとは異なる請求項１の方法。
【請求項１３】
前記キャビティの中において前記第１基板の底面と前記第２基板の頂面との間に柱を形成することをさらに含む請求項１の方法。
【請求項１４】
前記柱を形成することは、前記柱を、前記第２合金層の上に積層された前記第１合金層から形成することを含む請求項１３の方法。
【請求項１５】
前記柱を形成することは、前記柱を、前記第１合金層がテーパー状となるように形成することを含む請求項１４の方法。
【請求項１６】
前記第１基板を通過するビアを形成することをさらに含み、
前記ビアの側面の表面粗さが、前記第１基板の底面の表面粗さよりも大きい請求項１の方法。
【請求項１７】
前記ビアを形成することは、
第１金属を含む第１ストッパ層を前記第１基板の底面に形成することと、
第２金属を含む第２ストッパ層を前記第１ストッパ層に形成することと、
前記ビアを形成するべく前記第１基板をエッチングすることと
を含み、
前記第１基板のエッチングが前記第１ストッパ層及び前記第２ストッパ層の一方において終わる請求項１６の方法。
【請求項１８】
前記ビアを貫通する部分と、前記第１基板の上面の上方に延びる上方拡張部分とを有する第１材料層を含む外部電極を形成することをさらに含む請求項１６の方法。
【請求項１９】
前記ビアと前記電子回路との電気接続を形成することをさらに含む請求項１６の方法。
【請求項２０】
前記ビアに及び前記第２基板の頂面に結合された柱を形成することをさらに含む請求項１６の方法。
【請求項２１】
前記第１基板を与えることは、前記第１基板を、前記第１基板の上面の表面粗さが前記第１基板の底面の表面粗さよりも大きくなるように与えることを含む請求項１の方法。
【請求項２２】
前記第１合金層を形成することは、前記第１合金層を、テーパー状の断面を有するように形成することを含む請求項１の方法。
【請求項２３】
前記第１基板及び前記第２基板をプリント基板の頂面に接合することと、
前記プリント基板の頂面を、平均直径を備えた粒子を有するフィラーを含む樹脂によって覆うことと
をさらに含み、
前記第１側壁及び前記第２側壁は、前記第１基板及び前記第２基板それぞれの周縁から内部に、前記フィラーの粒子の平均直径の半分以下となる距離だけ後退する請求項１の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月30日(2020.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子デバイスを製造する方法であって、
第１基板の底面の周縁に沿って第１側壁を形成して前記第１基板の底面に配置された電子回路を取り囲むことと、
前記第１基板の底面と前記第１基板の頂面とに連通するビアを形成することと、
第２基板の頂面の周縁に沿って第２側壁を形成することと、
前記第１基板の底面、前記第２基板の頂面、前記第１側壁、及び前記第２側壁により内部にキャビティを画定するべく前記第１側壁と前記第２側壁とを位置決めして接合することと
を含み、
前記ビアを形成することは、
前記ビアの直下で前記第１基板の底面の一部分に第１ストッパ層及び第２ストッパ層を順に積層することと、
前記ビアに対応するスルーホールを形成するべく、前記第１基板及び前記第１ストッパ層を貫通するようにエッチングすることと
を含み、
前記第１基板のエッチング速度は前記第１ストッパ層のエッチング速度よりも大きく、
前記第１ストッパ層のエッチング速度は前記第２ストッパ層のエッチング速度よりも大きい方法。
【請求項２】
前記第１基板は圧電体を含む請求項１の方法。
【請求項３】
前記電子回路は、圧電薄膜共振器、バルク弾性波素子、音響多層膜共振器及び弾性表面波素子の少なくとも一つを含む請求項１の方法。
【請求項４】
前記第１基板のエッチングはドライエッチングにより行われる請求項１の方法。
【請求項５】
前記第１ストッパ層はチタン及びクロムの少なくとも一方を含む請求項１の方法。
【請求項６】
前記第２ストッパ層は金を含む請求項１の方法。
【請求項７】
前記第２ストッパ層の厚さは前記第１ストッパ層の厚さよりも大きい請求項１の方法。
【請求項８】
前記電子回路は配線パッドを含み、
前記第１ストッパ層及び前記第２ストッパ層は前記配線パッドの上まで拡張されるように形成される請求項１の方法。
【請求項９】
前記電子回路は配線パッドを含み、
前記第１ストッパ層及び前記第２ストッパ層は前記配線パッドを形成する請求項１の方法。
【請求項１０】
前記第１側壁及び前記第２側壁を加熱することをさらに含み、
液相拡散接合により第１合金層が形成され、液相拡散接合により第２合金層が形成される請求項１の方法。
【請求項１１】
前記第１側壁及び前記第２側壁を真空下で加熱することをさらに含む請求項１０の方法。
【請求項１２】
前記第１側壁は第１金属の第１金属層を含み、
前記第２側壁は、順に積層された第２金属の第２金属層及び第３金属の第３金属層を含み、
前記第３金属層は、第１金属層及び前記第２金属層それぞれと前記第１合金層及び前記第２合金層を形成するべく溶融される請求項１１の方法。
【請求項１３】
前記第２側壁を形成することは、
前記第２金属層を前記第２基板の頂面に成膜することと、
前記第３金属層を第２金属層に成膜することと
を含み、
前記第３金属層の厚さは前記第２金属層の厚さよりも小さい請求項１２の方法。
【請求項１４】
前記第１側壁を形成することと前記第２側壁を形成することとは、前記第１側壁の幅が前記第２側壁の幅未満となるように形成することを含む請求項１の方法。
【請求項１５】
前記第１側壁を形成することと前記第２側壁を形成することとは、前記第１側壁及び第２側壁を、前記第１基板の周縁及び前記第２基板の周縁から内側に後退した所定位置に形成することを含む請求項１の方法。
【請求項１６】
スパッタ膜を前記第１基板の頂面に成膜することをさらに含む請求項１の方法。
【請求項１７】
前記ビアに電気的に接続された外部電極を、前記スルーホールの上にある前記スパッタ膜に形成することをさらに含む請求項１６の方法。
【請求項１８】
前記第１基板の頂面が前記第１基板の底面よりも粗面化される請求項１の方法。
【請求項１９】
前記スルーホールの側面が前記第１基板の底面よりも粗面化される請求項１の方法。
【請求項２０】
スパッタ膜を前記スルーホールの側面に成膜することをさらに含む請求項１９の方法。
【請求項２１】
前記電子回路が配置された前記第１基板の一部分が、前記第１側壁が形成された前記第１基板の一部分よりも厚く形成される請求項１の方法。
【請求項２２】
前記ビアの下において前記第１基板の底面と前記第２基板の頂面との間に柱を形成することをさらに含む請求項１の方法。
【請求項２３】
前記柱を形成することは、前記柱の直径が前記ビアの直径よりも大きくなるように形成することを含む請求項２２の方法。
【請求項２４】
前記柱を形成することは、金と錫及びインジウムの一方とを含む第１合金層を、銅と錫及びインジウムの一方とを含む第２合金層に積層することにより、前記柱を形成することを含む請求項２２の方法。
【請求項２５】
前記第１合金層を断面がテーパー状となるように形成することをさらに含む請求項２４の方法。
【請求項２６】
前記第１ストッパ層及び前記第２ストッパ層を、前記第１基板の底面と前記柱との間に介在させることをさらに含む請求項２２の方法。
【請求項２７】
前記第１基板は第１ウェハであり、
前記第２基板は第２ウェハであり、
前記方法は、
前記第１ウェハの底面の周縁まわりに第１封止壁を形成することと、
前記第２ウェハの頂面の周縁まわりに第２封止壁を形成することと、
前記第１封止壁と前記第２封止壁とを位置合わせすることと、
前記第１ウェハと前記第２ウェハとの間にウェハ封止部を形成するべく前記第１封止壁と前記第２封止壁とを接合することと
を含む請求項１の方法。
【請求項２８】
前記第１封止壁と前記第２封止壁とを接合することは、
液相拡散接合により前記第１封止壁を接合することと、
液相拡散接合により前記第２封止壁を接合することと
を含む請求項２７の方法。
【請求項２９】
前記第１ウェハ及び前記第２ウェハの一方の周縁をトリミングすることをさらに含み、
前記第１ウェハ及び前記第２ウェハの一方の周縁をトリミングすることにより、前記第１ウェハ及び前記第２ウェハの前記一方の周縁においてウェハ封止部が露出する請求項２７の方法。
【請求項３０】
前記第１封止壁と前記第２封止壁とを接合することは、前記第１側壁と前記第２側壁とを接合することと同時に行われる請求項２８の方法。
【請求項３１】
前記柱を形成することは前記柱を前記ビアの直下に形成することを含む請求項２２の方法。
【請求項３２】
前記第１基板の頂面に外部電極を配置することをさらに含む請求項１８の方法。
【請求項３３】
前記第１基板及び前記第１ストッパ層を貫通するようにエッチングすることはさらに、前記第２ストッパ層の中へとエッチングするが前記第２ストッパ層を貫通しないようにエッチングすることを含む請求項１の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月30日(2020.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子デバイスであって、
底面の周縁に沿って形成されて前記底面に配置された電子回路を取り囲む第１側壁を有する第１基板であって、外部電極が前記第１基板の頂面に形成され、前記外部電極は、前記第１基板の底面と連通するビアを介して前記電子回路に接続される第１基板と、
頂面の周縁に沿って形成された第２側壁を有する第２基板と
を含み、
前記第１基板の底面、前記第２基板の頂面、前記第１側壁、及び前記第２側壁により内部にキャビティを画定するべく前記第２側壁は前記第１側壁に位置合わせされて接合され、
前記第１側壁は、第１金属と第３金属との第１合金を含み、
前記第２側壁は、第２金属と前記第３金属との第２合金を含み、
前記第１金属は、前記第２金属と異なりかつ前記第３金属とも異なり、
前記第１側壁の幅は前記第２側壁の幅よりも小さい電子デバイス。
【請求項２】
前記第１基板は圧電体を含む請求項１の電子デバイス。
【請求項３】
前記電子回路は、圧電薄膜共振器、バルク弾性波素子、音響多層膜共振器及び弾性表面波素子の少なくとも一つを含む請求項１の電子デバイス。
【請求項４】
前記外部電極は前記ビアの直上に配置される請求項１の電子デバイス。
【請求項５】
前記第１基板の厚さは前記第２基板の厚さ未満である請求項１の電子デバイス。
【請求項６】
前記第１基板の頂面の表面粗さは、前記第１基板の底面の表面粗さよりも大きい請求項１の電子デバイス。
【請求項７】
前記ビアの側面の表面粗さは、前記第１基板の底面の表面粗さよりも大きい請求項１の電子デバイス。
【請求項８】
前記ビアの側面はスパッタ膜に覆われる請求項７の電子デバイス。
【請求項９】
前記第１側壁と前記第２側壁とは液相拡散接合によって互いに接合される請求項１の電子デバイス。
【請求項１０】
前記第１金属は金を含む請求項１の電子デバイス。
【請求項１１】
前記第２金属は銅を含む請求項１０の電子デバイス。
【請求項１２】
前記第３金属は錫及びインジウムの一方を含む請求項１０の電子デバイス。
【請求項１３】
前記第１基板の頂面は、前記外部電極の下に配置されたスパッタ膜を含む請求項１の電子デバイス。
【請求項１４】
前記外部電極は、前記ビアを貫通する部分と前記第１基板の頂面の上に延びる上方拡張部とを含む第１材料層を含む請求項１の電子デバイス。
【請求項１５】
前記外部電極はさらに、前記上方拡張部の上面に配置された半田層を含む請求項１４の電子デバイス。
【請求項１６】
前記ビアの少なくとも一部分の下において前記第１基板の底面の一部分に配置された第１ストッパ層をさらに含む請求項１の電子デバイス。
【請求項１７】
前記第１ストッパ層は、チタン及びクロムの少なくとも一方を含む請求項１６の電子デバイス。
【請求項１８】
前記ビアの少なくとも一部分の下において前記第１ストッパ層に配置された第２ストッパ層をさらに含む請求項１６の電子デバイス。
【請求項１９】
前記第２ストッパ層は金を含む請求項１８の電子デバイス。
【請求項２０】
前記ビアの下において前記第１基板の底面と前記第２基板の頂面との間に配置された柱をさらに含む請求項１８の電子デバイス。
【請求項２１】
前記柱の直径は前記ビアの直径よりも大きい請求項２０の電子デバイス。
【請求項２２】
前記柱は、前記第１合金の層の上に積層された前記第２合金の層を含む請求項２０の電子デバイス。
【請求項２３】
前記柱の前記第１合金の層の断面がテーパー状にされる請求項２２の電子デバイス。
【請求項２４】
前記第１ストッパ層及び前記第２ストッパ層が前記第１基板の底と前記柱との間に介在される請求項２０の電子デバイス。
【請求項２５】
前記第１側壁の断面がテーパー状にされる請求項１の電子デバイス。
【請求項２６】
電子デバイスであって、
底面の周縁に沿って形成されて前記底面に配置された電子回路を取り囲む第１側壁を有する第１基板であって、外部電極が前記第１基板の頂面に形成され、前記外部電極は、前記第１基板の底面と連通するビアを介して前記電子回路に接続される第１基板と、
頂面の周縁に沿って形成された第２側壁を有する第２基板と、
前記ビアの下において前記第１基板の底面と前記第２基板の頂面との間に配置された柱と
を含み、
前記第１基板の底面、前記第２基板の頂面、前記第１側壁、及び前記第２側壁により内部にキャビティを画定するべく前記第２側壁は前記第１側壁に位置合わせされて接合され、
前記第１側壁は、第１金属と第３金属との第１合金を含み、
前記第２側壁は、第２金属と前記第３金属との第２合金を含み、
前記第１金属は、前記第２金属と異なりかつ前記第３金属とも異なり、
前記柱は、前記第１合金の層の上に積層された前記第２合金の層を含み、
前記柱の前記第１合金の層の断面がテーパー状にされる電子デバイス。
【請求項２７】
電子デバイスであって、
底面の周縁に沿って形成されて前記底面に配置された電子回路を取り囲む第１側壁を有する第１基板であって、前記第１側壁の断面がテーパー状にされ、外部電極が前記第１基板の頂面に形成され、前記外部電極は、前記第１基板の底面と連通するビアを介して前記電子回路に接続される第１基板と、
頂面の周縁に沿って形成された第２側壁を有する第２基板と
を含み、
前記第１基板の底面、前記第２基板の頂面、前記第１側壁、及び前記第２側壁により内部にキャビティを画定するべく前記第２側壁は前記第１側壁に位置合わせされて接合され、
前記第１側壁は、第１金属と第３金属との第１合金を含み、
前記第２側壁は、第２金属と前記第３金属との第２合金を含み、
前記第１金属は、前記第２金属と異なりかつ前記第３金属とも異なる電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月22日(2020.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置が撮影する撮影領域が重複する第１の共通領域と、前記第１の撮影装置群とは異なる第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置が撮影する撮影領域が重複する第２の共通領域とを特定する特定手段と、
前記特定手段により特定される前記第１の共通領域及び前記第２の共通領域に基づく情報を表示手段に表示させる表示制御手段と、
前記表示制御手段により表示手段に表示される情報に基づくユーザ入力に基づいて、前記第１の撮影装置群及び前記第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置により得られる複数の撮影画像に基づいて生成される仮想視点映像に係る仮想視点を表す情報を決定する決定手段と、
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記表示制御手段は、前記第１の共通領域と前記第２の共通領域とを識別可能な情報を表示手段に表示させることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記表示制御手段は、所定の品質よりも高い品質を有する仮想視点映像の生成が不可能な領域を認識可能な情報を表示手段に表示させることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記表示制御手段は、前記第１の撮影装置群及び前記第２の撮影装置群により撮影される撮影空間全体における前記第１の共通領域及び前記第２の共通領域を識別可能な情報を表示手段に表示させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記特定手段は、前記第１の撮影装置群及び前記第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置の画角の情報を少なくとも含む撮影情報に基づいて、前記第１の共通領域及び前記第２の共通領域を特定することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記撮影情報を記憶する記憶手段を有し、
前記特定手段は、前記記憶手段から取得される前記撮影情報に基づいて、前記第１の共通領域及び第２の共通領域を特定する、
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記第１の撮影装置群及び前記第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置は、ネットワークを介して接続され、
前記特定手段は、前記ネットワークを介して前記複数の撮影装置から取得される前記撮影情報に基づいて、前記第１の共通領域及び第２の共通領域を特定する、
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記表示制御手段は、前記仮想視点の位置に関する制限条件を示す情報を表示手段に表示させることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記表示制御手段は、前記ユーザ入力により仮想視点の位置に関する前記制限条件を満たさない仮想視点の位置が指定された場合、前記制限条件を満たさないことを示す警告表示を表示手段に表示させることを特徴とする請求項８に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記制限条件は、前記仮想視点の高さに関する条件であることを特徴とする請求項８又は９に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記表示制御手段は、前記ユーザ入力により指定される仮想視点の位置に対応するサンプル画像を表示手段に表示させることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記決定手段は、前記ユーザ入力に基づいて、前記仮想視点の移動経路を表す情報を決定することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記決定手段は、前記ユーザ入力に基づいて、前記仮想視点が注目する注目点の移動経路を決定することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
前記第１の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置の画角は、前記第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置の画角と異なることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１５】
前記第１の共通領域に対応する解像度は、前記第２の共通領域に対応する解像度と異なることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１６】
第１の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置が撮影する撮影領域が重複する第１の共通領域と、前記第１の撮影装置群とは異なる第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置が撮影する撮影領域が重複する第２の共通領域とを特定する特定工程と、
前記特定工程において特定される前記第１の共通領域及び前記第２の共通領域に基づく情報を表示する表示工程と、
前記表示工程において表示される情報に基づくユーザ入力に基づいて、前記第１の撮影装置群及び前記第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置により得られる複数の撮影画像に基づいて生成される仮想視点映像に係る仮想視点を表す情報を決定する決定工程と、
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１７】
コンピュータを、請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の画像処理装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る画像処理装置は、第１の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置が撮影する撮影領域が重複する第１の共通領域と、前記第１の撮影装置群とは異なる第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置が撮影する撮影領域が重複する第２の共通領域とを特定する特定手段と、前記特定手段により特定される前記第１の共通領域及び前記第２の共通領域に基づく情報を表示手段に表示させる表示制御手段と、前記表示制御手段により表示手段に表示される情報に基づくユーザ入力に基づいて、前記第１の撮影装置群及び前記第２の撮影装置群に含まれる複数の撮影装置により得られる複数の撮影画像に基づいて生成される仮想視点映像に係る仮想視点を表す情報を決定する決定手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月10日(2021.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
可撓性があり、曲面形状にされることが可能な表示部（１）と、
前記表示部の形状情報に応じた信号を出力する形状情報出力部（２）と、
前記表示部に表示される画像のうち文字、数字および記号のいずれか１つを含む部分を第１部分として、前記画像から前記第１部分のみまたは前記第１部分および前記第１部分に隣接する一部の領域である、第１領域を抽出するコンテンツ分類部（３１）と、
前記表示部のうち前記画像を表示する側の面を画像表示面（１ａ）として、前記表示部が曲面形状であるとき、前記画像のうち前記第１領域が、前記表示部が平板状であると仮定した場合における前記画像表示面のなす平面（Ｐ１）に対して平行な仮想平面（Ｐ２）に描画されて見えるように、前記画像のうち前記第１領域を選択的に補正するコンテンツ補正部（３２）と、
前記コンテンツ補正部を有する制御部（３）と、を備え、
前記制御部は、前記表示部が曲面形状、かつ前記画像が前記第１領域を含む場合、前記画像のうち前記第１領域について選択的に平面化補正を行い、前記画像の残部については補正をしない制御を実行する、表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の表示装置は、可撓性があり、曲面形状にされることが可能な表示部（１）と、表示部の形状情報に応じた信号を出力する形状情報出力部（２）と、文字、数字および記号のいずれか１つを含む部分を第１部分として、表示部に表示される画像から第１部分のみまたは第１部分および第１部分に隣接する一部の領域である、第１領域を抽出するコンテンツ分類部（３１）と、表示部のうち画像を表示する側の面を画像表示面（１ａ）とし、表示部が平板状であると仮定した場合における画像表示面のなす平面（Ｐ１）に対して平行な平面を仮想平面（Ｐ２）として、表示部が曲面形状であるとき、画像のうち第１領域が仮想平面に描画されて見えるように、画像のうち第１領域を選択的に補正するコンテンツ補正部（３２）と、コンテンツ補正部を有する制御部（３）と、を備え、制御部は、表示部が曲面形状、かつ画像が第１領域を含む場合、画像のうち第１領域について選択的に平面化補正を行い、画像の残部については補正をしない制御を実行する。