(57)【要約】【課題】平坦化特性を向上させた有機平坦化層用の感光性樹脂造成物及びこれを用いた表示装置を提供する。【解決手段】本発明の表示基板の製造方法は、ベース基板上に複数個の信号配線を形成する段階と、信号配線上に高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で構成された有機層を形成する段階と、有機層を乾燥させて平坦化層を形成する段階と、平坦化層上に第１電極を形成する段階と、を有する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル系共重合体１００重量部及び１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む溶質１０〜５０重量％と、
沸騰点が１９０℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、
前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合されることを特徴とする感光性樹脂造成物。
【請求項２】
前記アクリル系共重合体は、
前記共重合された不飽和カルボン酸又はその無水物５〜４５重量部と、
前記エポキシ基含有不飽和化合物１０〜７０重量部と、
前記オレフィン系不飽和化合物１０〜７０重量部と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂造成物。
【請求項３】
前記溶媒は、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールターシャリーブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルヘキシルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルヘキシルエーテルの中から選択された少なくともいずれか１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂造成物。
【請求項４】
前記溶媒は、アルコール、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、メチルベータメトキシプロピオネート、及びエチルベータエトキシプロピオネートの中から選択された少なくともいずれか１つを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の感光性樹脂造成物。
【請求項５】
前記グリコール系物質は、全体感光性樹脂造成物を１００重量％とする場合、５重量％以上であることを特徴とする請求項４に記載の感光性樹脂造成物。
【請求項６】
前記アクリル系共重合体１００重量部に対して可塑剤０．０００１重量部〜１０重量部を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂造成物。
【請求項７】
前記可塑剤は、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジオクチルアジペート、トリクレジルホスフェート、及び２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオンモノイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオンジイソブチレートの中から選択された少なくともいずれか１つを含むことを特徴とする請求項６に記載の感光性樹脂造成物。
【請求項８】
透過領域及び該透過領域に隣接して複数個の信号配線が配置された遮光領域を含む第１ベース基板と、
前記透過領域及び前記遮光領域に重畳し、前記複数個の信号配線をカバーして硬化された感光性樹脂造成物を含む有機平坦化層と、
前記有機平坦化層上に配置されて前記透過領域に重畳する画素電極と、を備え、
前記感光性樹脂造成物は、
アクリル系共重合体１００重量部及び１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む溶質１０重量％〜５０重量％と、
沸騰点が１９０℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、
前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合されることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
前記感光性樹脂造成物は、前記アクリル系共重合体１００重量部に対して可塑剤０．０００１重量部〜１０重量部を更に含むことを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記遮光領域に配置され、前記複数個の信号配線の中の対応する信号配線に連結されて前記画素電極に連結される薄膜トランジスターを更に含み、
前記有機平坦化層は、前記薄膜トランジスターをカバーすることを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂造成物及びこれを用いた表示装置に関し、より詳細には、感光性樹脂造成物及び感光性樹脂造成物を硬化させた有機平坦化層を含む表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平面表示装置には、液晶表示装置、有機発光表示装置等が含まれる。表示装置は一般的に表示素子及びこれらを駆動する駆動素子を含む。薄膜トランジスターのような駆動素子は各種配線を通じて表示素子、電源部、及び駆動部に連結される。高解像度の表示装置であるほど、駆動素子及び信号配線の数が増加して複雑に配置される。
【０００３】
表示装置は上面に平坦面を提供するために平坦化層を形成する。平坦化層は上部に積層される構成の安定性を確保して均一な表示品質を提供する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第７，４１６，８３２号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００９／０３２４８３１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、平坦化特性を向上させた有機平坦化層用の感光性樹脂造成物を提供することにある。
また、本発明の目的は、複雑な回路配線をカバーする均一な有機平坦化層を含む表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体１００重量部及び１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む溶質１０〜５０重量％と、沸騰点が１９０℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合される。
【０００７】
前記アクリル系共重合体は、前記共重合された不飽和カルボン酸又はその無水物５〜４５重量部と、前記エポキシ基含有不飽和化合物１０〜７０重量部と、前記オレフィン系不飽和化合物１０〜７０重量部と、を含み得る。
前記溶媒は、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールターシャリーブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルヘキシルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルヘキシルエーテルの中から選択された少なくともいずれか１つを含み得る。
前記溶媒は、アルコール、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、メチルベータメトキシプロピオネート、及びエチルベータエトキシプロピオネートの中から選択された少なくともいずれか１つを更に含み得る。
前記グリコール系物質は、全体感光性樹脂造成物を１００重量％とする場合、５重量％以上であり得る。
前記感光性樹脂造成物は、前記アクリル系共重合体１００重量部に対して可塑剤０．０００１重量部〜１０重量部を更に含むことができる。
前記可塑剤は、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジオクチルアジペート、トリクレジルホスフェート、及び２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオンモノイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオンジイソブチレートの中から選択された少なくともいずれか１つを含み得る。
【０００８】
上記目的を達成するためになされた本発明の一態様による表示装置は、透過領域及び該透過領域に隣接して複数個の信号配線が配置された遮光領域を含む第１ベース基板と、前記透過領域及び前記遮光領域に重畳し、前記複数個の信号配線をカバーして硬化された感光性樹脂造成物を含む有機平坦化層と、前記有機平坦化層上に配置されて前記透過領域に重畳する画素電極と、を備え、前記感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体１００重量部及び１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む溶質１０重量％〜５０重量％と、沸騰点が１９０℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合される。
【０００９】
前記感光性樹脂造成物は、前記アクリル系共重合体１００重量部に対して可塑剤０．０００１重量部〜１０重量部を更に含み得る。
前記表示装置は、前記遮光領域に配置され、前記複数個の信号配線の中の対応する信号配線に連結されて前記画素電極に連結される薄膜トランジスターを更に含むことができ、前記有機平坦化層は、前記薄膜トランジスターをカバーし得る。
【００１０】
前記有機平坦化層は、上面に少なくとも１つの段差を含み、前記第１ベース基板の上面から前記有機平坦化層の上面までの高さの最小値及び最大値の差異は、５０００Å以下であり得る。
前記有機平坦化層は、少なくとも１つのカラーを有し得る。
前記表示装置は、前記第１ベース基板の上側に配置されて前記第１ベース基板に対向する第２ベース基板と、前記第２ベース基板の下面上に配置されて前記透過領域に重畳する少なくとも１つのカラーパターンと、前記遮光領域に重畳して前記カラーパターンに隣接するブラックマトリックスを更に含むことができる。
前記表示装置は、前記第１ベース基板と前記第２ベース基板との間に封入されて前記画素電極上に配置された液晶層を更に含み、前記液晶層は、前記有機平坦化層の前記少なくとも１つの段差をカバーし得る。
【００１１】
本発明の表示装置の製造方法は、第１表示基板を形成する段階と、前記第１表示基板上に配置される第２表示基板を形成する段階と、を有し、前記第１表示基板を形成する段階は、複数個の信号配線及び該複数個の信号配線の中の対応する信号配線に連結される薄膜トランジスターが形成された第１ベース基板を形成する段階と、前記第１ベース基板上に前記複数個の信号配線及び前記薄膜トランジスターをカバーするように感光性樹脂造成物を含む有機層を塗布する段階と、前記有機層を硬化させて有機平坦化層を形成する段階と、前記平坦化層上に前記薄膜トランジスターに電気的に連結される画素電極を形成する段階と、を含む。
【００１２】
前記感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体１００重量部及び１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む溶質１０〜５０重量％と、沸騰点が１９０℃以上であるグリコール系物質を含有する残部の溶媒と、を有し、前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物が共重合されて形成され得る。
前記グリコール系物質は、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールターシャリーブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルヘキシルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルヘキシルエーテルの中から選択された少なくともいずれか１つを含み得る。
前記グリコール系物質は、全体感光性造成物の５重量％以上であり得る。
前記有機平坦化層を形成する段階は、前記溶媒を除去して前記感光性造成物を硬化させる段階を含み得る。
前記第２表示基板を形成する段階は、第２ベース基板を形成する段階と、前記第２ベース基板上に前記画素電極に重畳する開口部を含むブラックマトリックスを形成する段階と、前記ブラックマトリックス上に共通電極を形成する段階と、を含み得る。
前記表示装置の製造方法は、前記第１表示基板及び前記第２表示基板を所定の間隔を有するように合着する段階と、前記第１表示基板及び前記第２表示基板の間に液晶を注入する段階を含むことができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、表示基板の製造方法において高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物を用いて平坦化層を形成する。高沸騰点グリコール系溶媒は、平坦化層を形成するための工程時間を延長させずに平坦化特性が高い平坦化層を形成させることができる。従って、信号配線や素子が配置された領域が増加しても比較的平坦な上面が提供されるため、表示品質を向上させた高解像度の表示基板を形成することができる。また、表示基板を含む表示装置の製造方法において大面積でも均一に分布する液晶層を形成することができ、表示装置の製造方法における工程時間が短縮され、均一な平坦度、感度、解像度、明暗比の特性を向上させた表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態による表示装置のブロック図である。
【図２】図１に示した表示パネルの斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態による表示パネルの部分平面図である。
【図４】本発明の一実施形態による表示パネルの部分断面図である。
【図５】本発明の一実施形態による表示パネルの部分断面図である。
【図６Ａ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｂ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｃ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｄ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｅ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｆ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｇ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【図６Ｈ】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための形態の具体例を詳細に説明する。
【００１６】
本発明の一実施形態による感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体１００重量部、１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む溶質１０〜５０重量％、及びグリコール系物質を含有する残部の溶媒を含む。
【００１７】
アクリル系共重合体は、共重合された不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物を含む。アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物を、共重合用溶媒及び重合開始剤の存在下でラジカル合成させる。
【００１８】
不飽和カルボン酸、その無水物、又はこれらの混合物は、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和モノカルボン酸、マイレン酸、フマル酸、シトラコン酸、メタコン酸（ｍｅｔｈａｃｏｎｉｃａｃｉｄ）、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸、又はこれらの不飽和ジカルボン酸の無水物等を単独又は２種以上混合して使用し、特にアクリル酸、メタクリル酸、又は無水マイレン酸を使用することが、共重合反応性と現像液であるアルカリ水溶液に対する溶解性においてより望ましい。
【００１９】
不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの混合物は、全体の総単量体に対して５〜４５重量部である。その含量がこの範囲内である場合、アルカリ水溶液の溶解性が向上する。
【００２０】
エポキシ基含有不飽和化合物は、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、アクリル酸−β−エチルグリシジル、メタクリル酸−β−エチルグリシジル、アクリル酸−３、４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニールベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニールベンジルグリシジルエーテル、又はｐ−ビニールベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル等を用い、これらの化合物を単独又は２以上混合して使用する。
【００２１】
特に、エポキシ基含有不飽和化合物は、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニールベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニールベンジルグリシジルエーテル、又はｐ−ビニールベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸３，４−シクロヘキシルの中の少なくともいずれか１つであり得る。この場合、エポキシ基不飽和化合物は共重合反応性が向上し、パターンの耐熱性が向上する。
【００２２】
エポキシ基含有不飽和化合物は、全体の総単量体に対して１０〜７０重量部である。この場合、感光性樹脂造成物の耐熱性及び保存安定性が向上する。
【００２３】
オレフィン系不飽和化合物は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、イソプロパノールアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、１−アダマンチルアクリレート、１−アダマンチルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェニルメタクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−ヒドロキシルエチルメタクリレート、スチレン、σ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニールトルエン、ｐ−メトキシスチレン、１，３−ブタジエン、イソプレン、又は２，３−ジメチル１，３−ブタジエン等を用い、これらの化合物を単独又は２以上混合して使用する。
【００２４】
例えば、オレフィン系不飽和化合物は、スチレン、ジシクロペンタニルメタクリレート、又はｐ−メトキシスチレンであり得る。この場合、オレフィン系不飽和化合物の共重合反応性が向上し、アルカリ水溶液に対する溶解性が向上して現像（Ｄｅｖｅｌｏｐ）工程が容易に進行する。
【００２５】
オレフィン系不飽和化合物は、全体の総単量体に対して１０〜７０重量部で含まれることが望ましい。その含量がこの範囲内である場合、現像工程の際に、膨潤形状（Ｓｗｅｌｌｉｎｇ）が生じないようにし、現像液であるアルカリ水溶液に溶解性を理想的に維持する。
【００２６】
共重合用の溶媒は、メタノール、テトラヒドロキシフラン、トルエン、ジオキサン等である。重合開始剤は、ラジカル重合開始剤を使用する。具体的に、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２−アゾビス（４−メトキシ２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、又はジメチル２，２’−アゾビスイソブチルレート等である。
【００２７】
ラジカル合成された溶液を沈殿及び濾過させた後、真空状態の乾燥工程を通じて未反応単量体を除去してアクリル系共重合体を形成する。この場合、アクリル系共重合体は、ポリスチレン換算重量の平均分子量（Ｍｗ）が５，０００〜３０，０００である。
【００２８】
１，２−キノンジアジド化合物は、感光性樹脂造成物に使用される公知の化合物が使用され、具体的な例として、１，２−キノンジアジド４−スルホン酸エステル、１，２−キノンジアジド５−スルホン酸エステル、又は１，２−キノンジアジド６−スルホン酸エステル等を使用する。
【００２９】
本実施形態による感光性樹脂造成物は、全体感光性樹脂造成物内の固形分が１０〜５０重量％になるように残部を構成する溶媒を含む。溶媒は高沸騰点グリコール系物質を含む。高沸騰点グリコール系物質は、沸騰点が１９０℃以上１０００℃以下であるグリコール系物質を意味する。
【００３０】
例えば、溶媒は、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールターシャリーブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールメチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、及びジプロピレングリコールメチルヘキシルエーテルの中から選択された少なくともいずれか１つを含む。
【００３１】
溶媒は、他の物質を更に含むことができる。例えば、溶媒は、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール、ヘキシルアルコール等のアルコ−ル類、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコールメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールエチルエーテルプロピオネート等のエチレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、メチルベータメトキシプロピオネート、エチルベータエトキシプロピオネートの中から選択された少なくともいずれか１つを更に含む。この場合、高沸騰点グリコール系物質は、全体感光性樹脂造成物の少なくとも５重量％以上である。
【００３２】
感光性樹脂造成物は、プリンティング又はパターニング等の多様な加工工程で使用される。特に、本実施形態による感光性樹脂造成物は、表示装置の製造過程で使用される。感光性樹脂造成物を硬化させて有機平坦化層を形成する際に、パターニングマスクとして活用される。
【００３３】
本実施形態による感光性樹脂造成物を利用する有機平坦化層は、平坦化特性が向上し、均一な表面を形成することができる。溶媒は、グリコール系物質を含むことによって、層間有機平坦化層の平坦化特性を向上させ、コーティングまだらの発生を抑制して均一なパターンプロフィール（ｐａｔｔｅｒｎ  ｐｒｏｆｉｌｅ）を形成する。
【００３４】
本実施形態による感光性樹脂造成物は、可塑剤（Ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｒ）を更に含む。可塑剤は、感光性樹脂造成物のアクリル系共重合体１００重量部に対して０．０００１〜１０重量部である。可塑剤は、感光性樹脂造成物の加工性を向上させる。例えば、可塑剤は、ジオクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジオクチルアジペート、トリクレジルホスフェート、及び２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオンモノイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオンジイソブチレートの中から選択された少なくともいずれか１つを含む。
【００３５】
本実施形態による感光性樹脂造成物は、接着剤を更に含む。接着剤は、基板と感光性樹脂造成物との接着性を向上させる。接着剤は、感光性樹脂造成物全体に対して０．０１〜１０重量％で含まれる。
【００３６】
接着剤は、カルボキシル基、メタクリル基、イソシアナート基、又はエポキシ基等のような反応性置換基を有するシランカップリング剤等が選択される。例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、又はβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を使用する。
【００３７】
或いは、本実施形態による感光性樹脂造成物は、界面活性剤を更に含む。界面活性剤は、感光性造成物の塗布性や現像性を向上させる作用をする。本実施形態による感光性樹脂造成物は、界面活性剤及び接着剤の中のいずれか１つを選択的に含む。
【００３８】
界面活性剤は、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、Ｆ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３（商品名：大日本インキ社）、ＦＣ４３０、ＦＣ４３１（商品名：住友３Ｍ社）、又はＫＰ３４１（商品名：信越化学工業社）等を使用する。
【００３９】
界面活性剤は、感光性樹脂造成物に対して０．０００１〜２重量％で含まれる。この場合、本実施形態による感光性樹脂造成物は、塗布性が向上し、優れた現像性を有する。
【００４０】
本実施形態による感光性樹脂造成物は、接着力、耐熱性、絶縁性、平坦性、耐化学性等の性能が優れて液晶表示装置の画像形成用材料に適合し、特に液晶表示装置の絶縁膜形成の際に、感度、残膜率、解像度、明暗比の特性が優秀であるため、その硬化物は液晶表示装置の平坦化用有機平坦化層に適合する。これについて、図１及び図２を参照してより詳細に説明する。
【００４１】
図１は、本発明の一実施形態による表示装置のブロック図であり、図２は、図１に示した表示パネルの斜視図である。図１に示したように、本実施形態による表示装置は、信号制御部１００、ゲート駆動部２００、データ駆動部３００、及び表示パネルＤＰを含む。
【００４２】
信号制御部１００は、入力映像信号ＲＧＢを受信し、入力映像信号ＲＧＢを表示パネルＤＰの動作に相応しい映像データＲ’Ｇ’Ｂ’に変換する。また、信号制御部１００は、各種制御信号ＣＳを受信して第１及び第２制御信号ＣＯＮＴ１、ＣＯＮＴ２を出力する。制御信号ＣＳは、例えば垂直同期信号、水平同期信号、メインクロック信号、及びデータイネーブル信号等である。
【００４３】
ゲート駆動部２００は第１制御信号ＣＯＮＴ１に応答して表示パネルＤＰにゲート信号を出力する。第１制御信号ＣＯＮＴ１は、ゲート駆動部２００の動作を開始する垂直開示信号、ゲート電圧の出力時期を決定するゲートクロック信号、及びゲート電圧のオンパルス幅を決定する出力イネーブル信号等を含む。
【００４４】
データ駆動部３００は第２制御信号ＣＯＮＴ２及び映像データＲ’Ｇ’Ｂ’を受信する。データ駆動部３００は映像データＲ’Ｇ’Ｂ’をデータ電圧に変換して表示パネルＤＰに提供する。
【００４５】
第２制御信号ＣＯＮＴ２は、データ駆動部３００の動作を開始する水平開示信号、データ電圧の極性を反転させる反転信号、及びデータ駆動部３００からデータ電圧が出力される時期を決定する出力指示信号等を含む。
【００４６】
表示パネルＤＰは複数個の信号配線及び複数個の信号配線に連結された複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍを含む。複数個の信号配線は複数個のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ及び複数個のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍを含む。
【００４７】
複数個のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎは、第１方向ＤＲ１に延長され、第１方向ＤＲ１と交差する第２方向ＤＲ２に配列される。複数個のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎはゲート駆動部２００に連結される。複数個のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎはゲート駆動部２００からゲート信号を受信する。
【００４８】
複数個のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍは複数個のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと絶縁されるように交差する。複数個のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍはデータ駆動部３００に連結される。複数個のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍはデータ駆動部３００からデータ電圧を受信する。
【００４９】
複数個の信号配線は少なくとも１つの共通ラインを更に含む。共通ラインには基準電圧が印加される。基準電圧は後述する共通電極ＣＥに印加される電圧と同じ電圧である。
【００５０】
複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍはマトリックス形態に配列される。複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍの各々は複数個のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎの中の対応するゲートライン及び複数個のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍの中の対応するデータラインに連結される。
【００５１】
表示パネルＤＰは、特別に限定されるものではなく、例えば有機発光表示パネル（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）、液晶表示パネル（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）、プラズマ表示パネル（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）、電気泳動表示パネル（ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）、及びエレクトロ・ウェッティング表示パネル（ｅｌｅｃｔｒｏｗｅｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）等が適用される。
【００５２】
表示パネルＤＰは平面上で表示領域ＤＡ及び表示領域に隣接する非表示領域ＮＤＡに区分される。表示領域ＤＡには複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍが配置される。非表示領域ＮＤＡには、複数個の信号配線、ゲート駆動部２００、及びデータ駆動部３００が配置される。
【００５３】
本実施形態では、液晶表示パネルを含む液晶表示装置を例示的に説明する。液晶表示パネルは、２つの表示基板（ＤＳ１、ＤＳ２）及び２つの表示基板（ＤＳ１、ＤＳ２）の間に配置された液晶層（図示せず）を含む。但し、本実施形態による表示装置において、表示基板（ＤＳ１、ＤＳ２）は独立した表示基板である。
【００５４】
図１に示した複数個のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ、複数個のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍ、及び複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍは、第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２との中のいずれか１つに配置される。第１表示基板ＤＳ１及び第２表示基板ＤＳ２は表示基板の厚さ方向ＤＲ３（以下、第３方向）に離隔されて配置される。
【００５５】
第１表示基板ＤＳ１及び第２表示基板ＤＳ２の間にはシール部材ＳＬが配置される。シール部材ＳＬは非表示領域ＮＤＡに重畳して配置される。シール部材ＳＬは第１表示基板ＤＳ１及び第２表示基板ＤＳ２を結合させ、第１表示基板ＤＳ１及び第２表示基板ＤＳ２の間に液晶層（図示せず）を封入する。
【００５６】
図示しないが、液晶表示装置は表示パネルＤＰに光を提供するバックライトユニット（図示せず）を更に含む。液晶表示パネルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード又はＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ−Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、及びＰＬＳ（Ｐｌａｎｅ  ｔｏ  Ｌｉｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等から選択されたいずれか１つのパネルであり、特定モードのパネルに限定されない。
【００５７】
図３は、本発明の一実施形態による表示パネルＤＰの部分平面図であり、図４は、本発明の一実施形態による表示パネルＤＰの部分断面図である。図４には図３のI−I’に沿って切断した断面を図示した。本実施形態で、複数個のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ、複数個のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍ、及び複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍは、第１表示基板ＤＳ１に配置される。図３には、説明を容易にするために第１表示基板ＤＳ１の平面図を図示した。
【００５８】
第１表示基板ＤＳ１は、第１ベース基板ＳＵＢ１、ゲートラインＧＬｉ、データラインＤＬｊ、ＤＬｊ＋１、共通ラインＣＬｉ、及び画素ＰＸｉｊを含む。
【００５９】
図３及び図４は、複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍ（図１参照）の中のｉ番目のゲートラインＧＬｉ及びｊ番目のデータラインＤＬｊに連結された画素ＰＸｉｊを例示的に図示した。画素ＰＸｉｊは薄膜トランジスターＴＦＴ及び薄膜トランジスターＴＦＴに連結された画素電極ＰＥを含む。
【００６０】
薄膜トランジスターＴＦＴはｉ番目のゲートラインＧＬｉ及びｊ番目のデータラインＤＬｊに連結される。薄膜トランジスターＴＦＴはｉ番目のゲートラインＧＬｉに印加されたゲート信号に応答してｊ番目のデータラインＤＬｊに印加されたデータ電圧を画素電極ＰＥに出力する。画素電極ＰＥはデータ電圧に応答する画素電圧を受信する。複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍは画素ＰＸｉｊと同一の構成を有する。また、画素ＰＸｉｊの構成は変更され得る。
【００６１】
第１ベース基板ＳＵＢ１は、ガラス基板、プラスチック基板、シリコン基板等のような絶縁基板である。また、第１ベース基板ＳＵＢ１は透明な基板である。薄膜トランジスターＴＦＴのゲート電極ＧＥとｉ番目のゲートラインＧＬｉとが第１ベース基板ＳＵＢ１上に配置される。ゲート電極ＧＥはｉ番目のゲートラインＧＬｉに連結される。
【００６２】
ゲート電極ＧＥは、ｉ番目のゲートラインＧＬｉと同一の物質で構成され、同一の層構造を有する。ゲート電極ＧＥとｉ番目のゲートラインＧＬｉとは、銅Ｃｕ、アルミニウムＡｌ、これらの合金、又は各々の合金を含む。ゲート電極ＧＥとｉ番目のゲートラインＧＬｉとはアルミニウム層と他の金属層を含む多層構造を有する。
【００６３】
共通ラインＣＬｉはｉ番目のゲートラインＧＬｉと同一層上に配置される。共通ラインＣＬｉは、ｉ番目のゲートラインＧＬｉと同一の物質で構成され、同一の層構造を有する。但し、本実施形態で共通ラインＣＬｉは省略され得る。
【００６４】
第１ベース基板ＳＵＢ１上に、ゲート電極ＧＥ、ｉ番目のゲートラインＧＬｉ、共通ラインＣＬｉをカバーする絶縁層ＩＬが配置される。絶縁層ＩＬ上にゲート電極ＧＥに重畳する半導体層ＡＬが配置される。絶縁層ＩＬはゲート絶縁膜として説明される。
【００６５】
絶縁層ＩＬ上にデータラインＤＬｊ、ＤＬｊ＋１が配置される。データラインＤＬｊ、ＤＬｊ＋１は、銅Ｃｕ、アルミニウムＡｌ、これらの合金、又は各々の合金を含む。データラインＤＬｊ、ＤＬｊ＋１は、アルミニウム層と他の金属層、例えばクロム又はモリブデンを含む多層構造を有することができる。
【００６６】
絶縁層ＩＬ上に薄膜トランジスターＴＦＴのソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥが配置される。ソース電極ＳＥはデータラインＤＬｊ、ＤＬｊ＋１の中のｊ番目のデータラインＤＬｊに連結される。ソース電極ＳＥはデータラインＤＬｊ、ＤＬｊ＋１と同一の物質で構成され、同一の層構造を有する。
【００６７】
ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは互いに離隔されて配置される。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥの各々は半導体層ＡＬの一部と重畳する。
【００６８】
絶縁層ＩＬ上に有機平坦化層ＯＬ（以下、平坦化層）が配置される。平坦化層ＯＬはソース電極ＳＥ、ドレイン電極ＤＥ、及びデータラインＤＬｊ、ＤＬｊ＋１をカバーする。平坦化層ＯＬは薄膜トランジスターＴＦＴ及び共通ラインＣＬｉの上部を平坦化させる。平坦化層ＯＬは感光性樹脂造成物で形成される。感光性樹脂造成物は高沸騰点グリコール系溶媒を含む。これに対する詳細な説明は後述する。
【００６９】
平坦化層ＯＬ上に画素電極ＰＥが配置される。画素電極ＰＥは平坦化層ＯＬを貫通する貫通ホールＣＨを通じてドレイン電極ＤＥに連結される。図示しないが、平坦化層ＯＬ及び画素電極ＰＥの間に配置された無機絶縁膜を更に含む。無機絶縁膜は平坦化層ＯＬから排出される水分を遮断して他の構成を保護する。無機絶縁膜はパッシベーション膜（Ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ  ｌａｙｅｒ）である。また、平坦化層ＯＬの上には画素電極ＰＥをカバーする保護層（図示せず）及び配向層（図示せず）が更に配置される。
【００７０】
一方、画素電極ＰＥの形状は図３に示した形状に制限されない。他の実施形態で、画素電極ＰＥは複数個のスリットを含むことができる。複数個のスリットは画素ＰＸｉｊを複数個のドメインに分ける。複数個のドメインは視野角を向上させる。
【００７１】
第２表示基板ＤＳ２は、第２ベース基板ＳＵＢ２、ブラックマトリックスＢＭ、カラーフィルターＣＦ、及び共通電極ＣＥを含む。第２ベース基板ＳＵＢ２は、ガラス基板、プラスチック基板、又はシリコン基板等のような透明な基板である。
【００７２】
ブラックマトリックスＢＭが配置された領域は遮光領域ＳＡとして定義される。ブラックマトリックスＢＭは複数個の開口部を含む。図４には１つの画素ＰＸｉｊに対応する１つの開口部を図示した。実質的に開口部は透過領域ＴＡを定義する。
【００７３】
開口部にはカラーフィルターＣＦが配置される。カラーフィルターＣＦは複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍに各々対応する。画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍに配置されたカラーフィルターはそれぞれ異なるカラーを含む。例えば、カラーフィルターの中の一部は赤色、他の一部は緑色、その他の一部は青色を有する。
【００７４】
但し、図示しないが、他の実施形態で、平坦化層ＯＬは少なくとも１つの色相を含むことができる。この場合、平坦化層ＯＬはカラーフィルター層（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ  Ｌａｙｅｒ）になる。カラーフィルター層ＯＬが第１表示基板ＤＳ１に配置されることによって、画素整列が容易になり、製造工程が単純化される。この場合、第２表示基板ＤＳ２のカラーフィルターＣＦは省略される。
【００７５】
共通電極ＣＥはブラックマトリックスＢＭ及びカラーフィルターＣＦ上に配置される。図示しないが、第２表示基板ＤＳ２はブラックマトリックスＢＭとカラーフィルターＣＦとをカバーする平坦化層を更に含む。共通電極ＣＥは平坦化層上に配置される。
【００７６】
共通電極ＣＥの上には共通電極ＣＥをカバーする保護層（図示せず）及び配向膜（図示せず）が更に配置される。一方、他の実施形態で、共通電極ＣＥは複数個のドメインを形成する複数個のスリットを含むことができ、第１ベース基板ＳＵＢ１上に配置されることもある。
【００７７】
第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２との間には液晶層ＬＣＬが配置される。液晶層ＬＣＬは液晶分子と液晶分子の配向を制御する配向分子とを含む。液晶分子は画素電極ＰＸ及び共通電極ＣＥが形成する電界によって配向分子の配列が変化されて表示パネルの階調を調節する。
【００７８】
図４に示したように、第１表示基板ＤＳ１は遮光領域ＳＡ及び遮光領域ＳＡに隣接する透過領域ＴＡに区分される。透過領域ＴＡは図示しない光源から放出された光が透過する領域である。透過領域ＴＡは映像が表示される領域である。
【００７９】
遮光領域ＳＡは放出された光が遮断される領域である。遮光領域ＳＡには薄膜トランジスターＴＦＴ、複数個の信号配線が配置される。薄膜トランジスターＴＦＴ、複数個の信号配線は放出された光を実質的に遮断する。
【００８０】
平坦化層ＯＬの上面は遮光領域ＳＡで不均一である。平坦化層ＯＬの上面は遮光領域ＳＡで少なくとも１つの段差が形成される。段差は薄膜トランジスターＴＦＴ及び複数個の信号配線によって形成される。これに対して、透過領域ＴＡは平坦な第１ベース基板ＳＵＢ１上に絶縁層ＩＬが配置されるだけであり、別の素子が配置されないため、平坦化層ＯＬの上面は透過領域ＴＡで比較的均一な平坦面を形成する。
【００８１】
透過領域ＴＡの上面と遮光領域ＳＡの上面との間には薄膜トランジスターＴＦＴの高さ又は共通ラインＣＬｉの高さに対応する段差が発生する。第１ベース基板ＳＵＢ１から平坦化層ＯＬの上面までの高さは透過領域ＴＡと遮光領域ＳＡとで互いに異なる。
【００８２】
段差解消のために平坦化層ＯＬが配置される。段差は平坦化層ＯＬの上面間の高さの差異を意味する。段差が解消されない場合、液晶層ＬＣＬが遮光領域ＳＡ及び透過領域ＴＡに均一に形成され難いため、液晶層ＬＣＬを構成する配向分子の配列が不均一になる。
【００８３】
本実施形態による平坦化層ＯＬは高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で形成される。高沸騰点グリコール系溶媒は沸騰点が約１９０℃以上であるグリコール系物質を含む。平坦化層ＯＬは遮光領域ＳＡ及び透過領域ＴＡの間の段差を約５０００Å以下に平坦化させる。これに対する詳細な説明は後述する。
【００８４】
図５は、本発明の他の実施形態による表示パネルの部分断面図である。図５は、図４に対応する領域を図示した。一方、図１〜図４で説明した構成と同一の構成に対しては同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００８５】
図５に示したように、第１表示基板ＤＳ１−１はカラー層ＣＬを更に含む。カラー層ＣＬは絶縁層ＩＬ及び平坦化層ＯＬの間に配置される。カラー層ＣＬは複数個の画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍ（図１参照）に各々対応する。
【００８６】
カラー層ＣＬは画素ＰＸ１１〜ＰＸｎｍに各々配置された複数個のカラーパターンを含む。複数個のカラーパターンはそれぞれ異なるカラーを含む。例えば、カラー層ＣＬは、赤色カラーパターン、緑色カラーパターン、又は青色カラーパターンを含む。
【００８７】
第１表示基板ＤＳ１−１上に第２表示基板ＤＳ２−１が配置される。第２表示基板ＤＳ２−１は少なくとも１つの開口部ＢＭ−ＯＰが定義されたブラックマトリックスＢＭを含む。この場合、第２表示基板ＤＳ２−１はカラーフィルターを含まない。カラー層ＣＬが第１表示基板ＤＳ１−１の構成に含まれることで、第２表示基板ＤＳ２−１の工程が単純化され、カラーパターンと画素との間の誤整列不良が改善される。
【００８８】
本実施形態による平坦化層ＯＬは比較的薄い厚さに形成されても平坦化度が高い平坦面を提供する。例えば、平坦化層ＯＬは透過領域ＴＡ内で約３μｍ以下の厚さに形成される。一般的に平坦化層ＯＬは厚さが薄いほど、平坦面を形成するのが難しい。本実施形態による平坦化層ＯＬは薄い厚さでも平坦化特性が優れるため、カラー層が遮光領域に配置されたＣｏＡ（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ  ｏｎ  Ａｒｒａｙ）構造でも厚さの増加無しに均一な平坦面を提供することができる。
【００８９】
平坦化層ＯＬは本実施形態による感光性樹脂造成物によって形成される。平坦化層ＯＬは感光性樹脂造成物の硬化物を含む。感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体、１、２−キノンジアジド化合物、及び高沸騰点グリコール系物質を含む溶媒を含む。本実施形態で高沸騰点グリコール系物質は少なくとも１９０℃以上の沸騰点を有する。可塑剤は多様な比率で構成される。例えば、可塑剤はアクリル系共重合体１００重量部に対して０．０００１〜１０重量部で含まれる。
【００９０】
この範囲内の可塑剤を更に含む平坦化層は、均一度（Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）、感度、解像度、接着力、透過度、明暗比（Ｃｏｎｔｒａｓｔ  Ｒａｔｉｏ）特性が優れた表示パネルを形成することができる。可塑剤はアクリル系共重合体及び１，２キノンジアジド化合物と相互作用して平坦化特性を向上させるため、大面積高精度液晶表示装置の有機平坦化層を提供することができる。
【００９１】
本実施形態の有機平坦化層を構成する感光性樹脂造成物は接着剤又は界面活性剤を更に含む。接着剤は有機平坦化層と界面を形成する他の層構成、例えば絶縁層ＩＬ（図４参照）又はカラー層ＣＬ（図５参照）との接着性を向上させる。接着剤は全体感光性樹脂造成物に対して０．０１〜１０重量％の比率で含まれる。一方、平坦化層を構成する感光性樹脂造成物は０．１〜０．２μｍのミリポアフィルター（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ  ｆｉｌｔｅｒ）等で濾過した後、使用される。
【００９２】
本実施形態による平坦化層は溶媒の種類及び比率を調節することによって、平坦化特性が向上する。表１に本実施形態の平坦化層の平坦化特性を比較した実験データを示した。以下、下記の表１を参照して本実施形態による平坦化層の平坦化特性を説明する。
【００９３】
【表１】
2014164305.tif 000003
【００９４】
第１有機膜Ｒ１は沸騰点が１７６℃であるジエチレングリコールメチルエチルエーテル（ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ：ＭＥＤＧ）を含み、第２有機膜Ｒ２は沸騰点が１８９℃であるジエチレングリコールジエチルエーテル（ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｄｉｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ：ＤＥＤＧ）を含み、第３有機膜Ｒ３は沸騰点が２１２℃であるジエチレングリコールブチルメチルエーテル（ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｂｕｔｙｌ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ：ＭＢＤＧ）を含む。
【００９５】
有機膜Ｒ１〜Ｒ３は各々メチル３−メトキシプロピオネート（ｍｅｔｈｙｌ  ３−ｍｅｔｈｏｘｙ  ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ：ＭＭＰ）を低沸騰点溶媒に含む混合溶媒を有する感光性樹脂造成物を含む。表１は、基板上にそれぞれ異なる溶媒を含む感光性樹脂造成物を塗布し、乾燥して形成した平坦化層の表面段差を測定して平坦度を比較したものである。表１には平坦化層の上面に形成された段差の平均値をレベルリング段差で示した。
【００９６】
有機膜の平坦化特性が向上するほど、レベルリング段差は小さくなる。有機膜の平坦化特性は高沸騰点溶媒の含有量より高沸騰点溶媒の沸騰点によって更に大きい影響を受ける。例えば、第１有機膜Ｒ１及び第２有機膜Ｒ２を比較すると、第１有機膜Ｒ１が更に多い高沸騰点溶媒を含むが、沸騰点が更に高い高沸騰点グリコール溶媒を含む第２有機膜Ｒ２が向上した平坦化特性を有する。
【００９７】
第３有機膜Ｒ３は沸騰点が２１２℃である高沸騰点グリコール溶媒を含む。１９０℃以上の沸騰点を有するグリコール溶媒を含む場合、平坦化特性が著しく向上する。一般的にレベルリング段差が約５０００Å又はそれ以下である場合、表示パネルの駆動及び表示品質に及ぼす影響が少ない。また、約５０００Å又はそれ以下のレベルリング段差を有する表面は液晶のぼかし（ｂｌｕｒ  ｎｏｉｓｅ）に対して及ぼす影響が減少する。本実施形態による表示パネルは表示パネルの全面に均一に形成された液晶層を具現することができる。
【００９８】
【表２】
2014164305.tif 000004
【００９９】
表２にはジエチレングリコールブチルメチルエーテル（ｄｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｂｕｔｙｌ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ：ＭＢＤＧ）を高沸騰点グリコール系溶媒に含む実施形態の平坦化特性を含有量に従って比較したものである。構成比率に従う平坦化特性を説明するために、高沸騰点グリコール系溶媒が含まれない第４有機膜Ｒ４、約５重量％の高沸騰点グリコール系溶媒が含まれる第５有機膜Ｒ５、及び１５重量％の高沸騰点グリコール系溶媒が含まれる第６有機膜Ｒ６を比較して記載した。一方、本実験例で混合溶媒に含まれる溶媒は１４６℃の沸騰点を有するプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｍｏｎｏｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ  ａｃｅｔａｔｅ：ＰＧＭＥＡ）を利用する。
【０１００】
表２に示したように、高沸騰点グリコール系溶媒を含まない第４有機膜Ｒ４と比較すると、高沸騰点グリコール系溶媒を含む有機膜Ｒ５、Ｒ６のレベルリング段差は著しく減少する。高沸騰点グリコール系溶媒を約５重量％のみ更に含んでもレベルリング段差は約９００Å以上減少する効果が示される。
【０１０１】
上述したように、一般的に約５０００Å程度のレベルリング段差を有する場合、液晶のぼかし性の低下現象が減少し、表示品質低下が防止される。表２に示したように、高沸騰点グリコール系溶媒が１５重量％の比率で含まれる場合、レベルリング段差は平均的に約５０００Åの段差を有する。１５重量％以上の高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で形成された有機平坦化層は表示品質が向上した表示パネルを具現することができる。
【０１０２】
本実施形態による表示パネルは、高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物を利用して、遮光領域ＳＡ及び透過領域ＴＡの間の段差が解消された平坦化層を具現することができる。遮光領域ＳＡの比重が高い高解像度表示パネルにも液晶が均一に分布されて表示品質が向上する。
【０１０３】
図６Ａ〜図６Ｈは、本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を示した断面図である。図６Ａ〜図６Ｈは、図４に示した断面図に対応する実施形態について図示した。以下、図１〜図５に示した構成と同一の構成に対しては同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【０１０４】
先ず、第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２とを製造する。第１表示基板ＤＳ１を製造した後、第２表示基板ＤＳ２を製造する。第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２との製造順序は制限されない。第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２とを同時に製造することもある。
【０１０５】
図６Ａに示したように、第１ベース基板ＳＵＢ１上に薄膜トランジスターＴＦＴを形成する。第１ベース基板ＳＵＢ１上に、共通ラインＣＬｉ、ゲートラインＧＬｉ（図３参照）、及びゲートラインＧＬｉに連結されたゲート電極ＧＥを形成する。スパッタリング方式によって導電層（図示せず）を形成した後、フォトリソグラフィー工程及びエッチング工程を遂行する。
【０１０６】
第１ベース基板ＳＵＢ１上に、共通ラインＣＬｉ、ゲートラインＧＬｉ、及びゲート電極ＧＥをカバーする絶縁層ＩＬを形成する。絶縁層ＩＬはシリコン窒化物又はシリコン酸化物を含む。絶縁層ＩＬはプラズマ加速化学気相蒸着法ＰＥＣＶＤによって形成される。
【０１０７】
絶縁層ＩＬ上に半導体層ＡＬを形成する。半導体層ＡＬは、プラズマ加速化学蒸着法ＰＥＣＶＤによってシリコン層を形成した後、フォトリソグラフィー工程及びエッチング工程を遂行してシリコン層をパターニングして形成する。
【０１０８】
半導体層ＡＬ上に導電層をパターニングしてソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥを形成する。導電層（図示せず）は、蒸着、スパッタリング方式によって形成できるが、これに制限されない。導電層をフォトリソグラフィー工程及びエッチング工程を遂行してソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥを形成する。
【０１０９】
この場合、絶縁層ＩＬ、半導体層ＡＬ、又は電極（ＳＥ、ＤＥ）は平坦化特性が低い。絶縁層ＩＬ、半導体層ＡＬ、又は電極（ＳＥ、ＤＥ）は形成される界面の段差を解消しない。従って、絶縁層ＩＬ、半導体層ＡＬ、又は電極（ＳＥ、ＤＥ）の上面は段差を有する。
【０１１０】
図６Ｂに示したように、薄膜トランジスターＴＦＴ及び共通ラインＣＬｉ上に有機物層ＯＬ−Ｉを形成する。有機物層ＯＬ−Ｉは感光性樹脂造成物で構成される。感光性樹脂造成物は、アクリル系共重合体１００重量部、１，２−キノンジアジド化合物５〜１００重量部を含む溶質１０〜５０重量％、及び残部の溶媒を含む。
【０１１１】
アクリル系共重合体は、不飽和カルボン酸又はその無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、及びオレフィン系不飽和化合物を共重合して形成される。溶媒は高沸騰点グリコール系物質を含む。本実施形態で、高沸騰点グリコール系物質は沸騰点が約１９０℃以上１０００℃以下のグリコール系物質を意味する。溶媒は、高沸騰点グリコール系物質単独で構成されるか、又は他の物質が混合される。
【０１１２】
有機物層ＯＬ−Ｉは多様な方法によって形成される。例えば、スプレー法、ロールコータ法、回転塗布法等が利用されるが、これに限定されない。
【０１１３】
図６Ｃ及び図６Ｄに示したように、第１ベース基板ＳＵＢ１上に塗布された有機物層ＯＬ−Ｉは乾燥工程を経る。第１ベース基板ＳＵＢ１上に比較的厚く形成された有機物層ＯＬ−Ｉは乾燥工程を経ながら溶媒が除去される。有機物層ＯＬ−Ｉは、溶媒が除去されながら厚さが薄くなり、有機平坦化層ＯＬ（以下、平坦化層）を形成する。乾燥工程は、例えば真空乾燥工程である。
【０１１４】
有機物層ＯＬ−Ｉに含まれた溶媒が除去されながら有機物層ＯＬ−Ｉの粘性は低下し、徐々に乾燥して平坦化層ＯＬが形成される。従って、有機物層ＯＬ−Ｉのぼかし性又は粘性は有機物層ＯＬ−Ｉに含まれる溶媒によって決定される。
【０１１５】
乾燥工程で溶媒が除去される時間は平坦化層ＯＬの平坦度に影響を及ぼす。有機物層ＯＬ−Ｉが第１ベース基板ＳＵＢ１上に平坦な表面を形成する時間を確保するために圧力を徐々に減少させて溶媒が除去される時間を長くすることができるが、工程時間が長くなる。
【０１１６】
本実施形態による平坦化層ＯＬを形成する有機物層ＯＬ−Ｉは高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物を含む。高沸騰点グリコール系溶媒は、真空乾燥工程で溶媒が乾燥しながら有機物の粘度が増加する現象を遅延させることができる。
【０１１７】
例えば、揮発性が高い低粘度溶媒を主溶媒とし、高沸騰点グリコール系溶媒を少量添加する場合、溶媒の大部分を占める低沸騰点溶媒は真空乾燥工程の初期に乾燥する。少量添加された高沸騰点グリコール系溶媒は真空乾燥の後期まで残って平坦化処理を持続して最終平坦化層ＯＬを形成する。高沸騰点グリコール系溶媒を含む有機物層ＯＬ−Ｉは乾燥時間を短く維持して生産性を確保でき、後期の平坦化を調節することによって平坦化特性が向上した平坦化層ＯＬを形成することができる。
【０１１８】
図６Ｄに示したように、溶媒が除去されて形成された平坦化層ＯＬは薄膜トランジスターＴＦＴ及び共通ラインＣＬｉによって形成された段差を解消する。平坦化層ＯＬは、高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で形成されることによって、平均レベルリング段差が約６０００Å以下の上面を形成する。
【０１１９】
また、図示しないが、平坦化層ＯＬは少なくとも１つのパターンを有する。有機物層ＯＬ−Ｉをプリベーク（ｐｒｅ−ｂａｋｅ）工程を通じて溶媒を除去する。溶媒を除去した後、第１ベース基板ＳＵＢ１上にマスクを配置し、光を照射した後、現像工程を経て所定のパターンを形成する。
【０１２０】
この場合、現像工程に使用される現像液は、アルカリ水溶液を使用することが良く、具体的に水酸化ナトリウム水酸化カリウム炭酸ナトリュ−ムを含む無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミンを含む第１級アミン類、ジエチルアミン、ｎ−プロピルアミン含む第２級アミン類、トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミン含む第３級アミン類、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコ−ルアミン類、又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド含む第４級アンモニウム塩の水溶液等を使用する。この場合、現像液は、アルカリ性化合物を約０．１〜１０重量％の濃度に溶解させて使用され、メタノール、エタノール等のような水溶性有機溶媒及び界面活性剤を適正量添加することもある。
【０１２１】
また、上記のような現像液で現像した後、超純水で洗浄して不必要な部分を除去し乾燥してパターンを形成し、形成されたパターンに紫外線等の光を照射した後、パターンをオーブン等の加熱装置によって加熱処理して最終パターンを得る。
【０１２２】
図６Ｅに示したように、平坦化層ＯＬ上に画素電極ＰＥを形成して第１表示基板ＤＳ１を形成する。平坦化層ＯＬのドレイン電極ＤＥに重畳する領域にコンタクトホールＣＨを形成し、平坦化層ＯＬ上に電極層をパターニングして画素電極ＰＥを形成する。画素電極ＰＥはコンタクトホールＣＨを通じてドレイン電極ＤＥに連結される。図示しないが、画素電極ＰＥの上には画素電極ＰＥをカバーする保護層（図示せず）及び配向膜（図示せず）が更に形成される。
【０１２３】
図６Ｈに示したように、第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２とを合着する。第２表示基板ＤＳ２は第２ベース基板ＳＵＢ２上にブラックマトリックスＢＭを形成する。ブラックマトリックスＢＭは、第２ベース基板ＳＵＢ２上にブラックの有機層をコーティングした後、開口部をパターニングして形成する。本実施形態では開口部にカラーを有する有機層を充填してカラーフィルター層を形成する。
【０１２４】
その後、ブラックマトリックスＢＭ及びカラーフィルターＣＦ上に共通電極ＣＥを形成する。図示しないが、共通電極ＣＥ上に共通電極ＣＥをカバーする保護層（図示せず）又は配向膜（図示せず）が更に形成される。
【０１２５】
第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２との間にシール部材ＳＬ（図２参照）を形成し、第１表示基板ＤＳ１及び第２表示基板ＤＳ２を合着する。シール部材ＳＬは第１表示基板ＤＳ１又は第２表示基板ＤＳ２上に形成される。第１表示基板ＤＳ１又は第２表示基板ＤＳ２の枠領域に接着性を有する絶縁膜を形成した後、パターニングするか、或いはインクジェットプリンティング方式でシール部材ＳＬを形成する。シール部材ＳＬは第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２との間にセルギャップを形成して維持させる。
【０１２６】
図６Ｇに示したように、合着された第１表示基板ＤＳ１と第２表示基板ＤＳ２との間に液晶ＬＣを注入する。液晶ＬＣは、画素を基準に一方向に広がり、セルギャップを満たす。本実施形態による表示パネルは高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物によって形成された平坦化層ＯＬを含むことによって、液晶ＬＣが注入される通路に平坦化された上面を提供する。
【０１２７】
平坦化層ＯＬは透過領域ＴＡと薄膜トランジスターＴＦＴ及び複数個の信号配線が配置された遮光領域ＳＡとの間の段差を約６０００Å以下に減少させる。これによって、液晶ＬＣは遮光領域ＳＡ上でも容易に通過する。
【０１２８】
図６Ｈに示したように、液晶ＬＣ（図６Ｇ参照）は平坦化された平坦化層上に均一に塗布されて液晶層ＬＣＬを形成する。液晶層ＬＣＬは平坦化層ＯＬによって表示パネルの全面で均一なセルギャップを維持することができる。液晶層ＬＣＬの配向分子が均一に配向されて表示パネル全面で均一な電界を形成でき、表示品質が向上する。
【０１２９】
本実施形態による表示パネルは厚さが薄くて平坦化特性が高い有機平坦化層を含む。本実施形態による平坦化層ＯＬは別の平坦化工程を経なくても液晶が均一に分布される平坦化面を提供する。平坦化層ＯＬは、配線が多い構造、例えば遮光領域ＳＡの分布が複雑化し、広い領域を有する高解像度ＵＨＤの表示パネルでも平坦化特性が高い平坦面を提供する。
【０１３０】
高沸騰点グリコール系溶媒を含む感光性樹脂造成物で形成された平坦化層ＯＬは平坦性とコーティングまだらとを発生しないようにして均一なパターンプロフィール（ｐａｔｔｅｒｎ  ｐｒｏｆｉｌｅ）を形成する。
【０１３１】
また、本実施形態による表示パネルは、高沸騰点グリコール系溶媒を使用して製造されることによって、均一な平坦度、感度、解像度、接着力、透過度、明暗比（Ｃｏｎｔｒａｓｔ  Ｒａｔｉｏ）のような表示特性が向上する。特に高沸騰点グリコール系溶媒は、アクリル系共重合体及び１，２キノンジアジド化合物との商用性が優れ、平坦化特性が優れた大面積を有する高精度表示装置が製造され得る。
【０１３２】
以下、本発明の理解を助けるために感光性樹脂造成物の望ましい実施例を提示する。但し、これは本発明の一実施例を例示するものであり、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるものではない。
【０１３３】
＜合成例１（アクリル系共重合体製造）＞
冷却器と攪拌器とが具備されたフラスコにテトラヒドロフラン約４００重量部、メタクリル酸約３０重量部とスチレン約３０重量部、及びグリシジルメタクリレート約４０重量部の混合溶液を投入した。液相造成物を混合容器で約６００ｒｐｍにより十分に混合した後、２，２’−アゾビス２，４−ジメチルバレロニトリル約１５重量部を添加した。重合混合溶液を約５５℃まで緩やかに上昇させて、この温度で約２４時間の間維持した後、常温に冷却し、重合禁止ゼロヒドロベンゾフェノンを約５００ｐｐｍ添加して固形分濃度が約３０重量％である重合体溶液を得た。重合体溶液の未反応単量体を除去するためにｎ−Ｈｅｘａｎｅ約１０００重量部を使用して重合体溶液約１００重量部を沈殿させた。沈殿の後、メッシュ（Ｍｅｓｈ）を利用するフィルタリング工程を通じて溶解度が低い貧溶媒（Ｐｏｏｒ  ｓｏｌｖｅｎｔ）を除去した。フィルタリング工程の後、約３０℃以下で真空乾燥工程を進行して残っている未反応単量体を除去してアクリル系共重合体を製造した。アクリル系共重合体の重量平均分子量は約６，０００であった。ここで、重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ  Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ：ＧＰＣ）を使用して測定したポリスチレン換算平均分子量である。
【０１３４】
＜合成例２（１，２−キノンジアジド化合物製造）＞
４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール約１モルと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸［クロライド］約２モルを縮合反応させて４，４’−［１−［４−［１−［４ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルを製造した。
【０１３５】
＜実施例１（感光性樹脂造成物製造）＞
上記合成例１で製造したアクリル系共重合体約１０重量部に対して、上記合成例２で製造した４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル約３０重量部及び混合物の固形分含量が約２０重量％になるようにトリエチレングリコールジメチルエーテルで溶解させた後、約０．１μｍのミリポアフィルターで濾過して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１３６】
＜実施例２＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールブチルメチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１３７】
＜実施例３＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにトリエチレングリコールブチルメチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１３８】
＜実施例４＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールターシャリーブチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１３９】
＜実施例５＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにテトラエチレングリコールジメチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１４０】
＜実施例６＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジプロピレングリコールジエチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１４１】
＜実施例７＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールエチルヘキシルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１４２】
＜実施例８＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、ジオクチルフタレートを追加に１０重量部を使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１４３】
＜実施例９＞
上記実施例８で感光性樹脂造成物の製造の際に、ジオクチルフタレートの代わりに２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオンジイソブチレートを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１４４】
＜実施例１０＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールモノメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールモノメチルエーテル１００重量％である実施例１０ａ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル１５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５重量％である実施例１０ｂ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル１０重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０重量％である実施例１０ｃ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９５重量％である実施例１０ｄ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル４重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９６重量％である実施例１０ｅ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル３重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９７重量％である実施例１０ｆを製造した。実施例１０は実施例１０ａ〜１０ｆを含む。
【０１４５】
＜実施例１１＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールモノエチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールモノエチルエーテル１００重量％である実施例１１ａ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル１５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５重量％である実施例１１ｂ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル１０重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０重量％である実施例１１ｃ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９５重量％である実施例１１ｄ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル４重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９６重量％である実施例１１ｅ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル３重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９７重量％である実施例１１ｆを製造した。実施例１１は実施例１１ａ〜１１ｆを含む。
【０１４６】
＜実施例１２＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールブチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル１００重量％である実施例１２ａ、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル１５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５重量％である実施例１２ｂ、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル１０重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０重量％である実施例１２ｃ、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９５重量％である実施例１２ｄ、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル４重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９６重量％である実施例１２ｅ、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル３重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９７重量％である実施例１２ｆを製造した。実施例１２は実施例１２ａ〜１２ｆを含む。
【０１４７】
＜実施例１３＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにトリエチレングリコールブチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル１００重量％である実施例１３ａ、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル１５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５重量％である実施例１３ｂ、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル１０重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０重量％である実施例１３ｃ、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９５重量％である実施例１３ｄ、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル４重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９６重量％である実施例１３ｅ、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル３重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９７重量％である実施例１３ｆを製造した。実施例１３は実施例１３ａ〜１３ｆを含む。
【０１４８】
＜比較例１＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１４９】
＜比較例２＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにプロピレングリコールメチルエーテルプロピオネートを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１５０】
＜比較例３＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにエチレングリコールメチルエーテルを使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。
【０１５１】
＜比較例４＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールメチルエチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル１００重量％である比較例４ａ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル１５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５重量％である比較例４ｂ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル１０重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０重量％である比較例４ｃ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９５重量％である比較例４ｄ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル４重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９６重量％である比較例４ｅ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル３重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９７重量％である比較例４ｆを製造した。比較例４は比較例４ａ〜４ｆを含む。
【０１５２】
＜比較例５＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジエチレングリコールジエチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジエチレングリコールジエチルエーテル１００重量％である比較例５ａ、ジエチレングリコールジエチルエーテル１５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５重量％である比較例５ｂ、ジエチレングリコールジエチルエーテル１０重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０重量％である比較例５ｃ、ジエチレングリコールジエチルエーテル５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９５重量％である比較例５ｄ、ジエチレングリコールジエチルエーテル４重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９６重量％である比較例５ｅ、ジエチレングリコールジエチルエーテル３重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９７重量％である比較例５ｆを製造した。比較例５は比較例５ａ〜５ｆを含む。
【０１５３】
＜比較例６＞
上記実施例１で感光性樹脂造成物の製造の際に、トリエチレングリコールジメチルエーテルの代わりにジプロピレングリコールジメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合物を使用したことを除外すれば、実施例１と同じ方法によって実施して感光性樹脂造成物を製造した。但し、混合物の混合比率を異にして、ジプロピレングリコールジメチルエーテル１００重量％である比較例６ａ、ジプロピレングリコールジメチルエーテル１５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８５重量％である比較例６ｂ、ジプロピレングリコールジメチルエーテル１０重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０重量％である比較例６ｃ、ジプロピレングリコールジメチルエーテル５重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９５重量％である比較例６ｄ、ジプロピレングリコールジメチルエーテル４重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９６重量％である比較例６ｅ、ジプロピレングリコールジメチルエーテル３重量％とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９７重量％である比較例６ｆを製造した。比較例６は比較例６ａ〜６ｆを含む。
【０１５４】
上記実施例１〜９及び比較例１〜３の感光性樹脂造成物の物性を下記のように測定して下記の表３に示した。
【０１５５】
Ａ）均一度−シリコン窒化物ＳｉＮｘが蒸着された約３７０ｃｍ×４７０ｃｍガラス基板上にスリットコータ（Ｓｌｉｔ  ｃｏａｔｅｒ）を使用して上記実施例１〜９、及び上記比較例１〜３で製造されたポジティブ形感光性樹脂造成物溶液を塗布した。その後、約０．５ｔｏｒｒまで真空乾燥（Ｖａｃｕｕｍ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｄｒｙｉｎｇ：ＶＣＤ）の後、約１００℃で、約２分間ホットプレート上でプリベークして約４．０μｍの塗布膜を形成した。本実施例では均一度（Ｕｎｉｆｏｍｉｔｙ）を評価するために塗布膜の各領域に従う厚さ差異を測定する。均一度が約３％未満である場合を○、約３％〜５％である場合を△、５％以上である場合を×で表示した。
【０１５６】
Ｂ）感度−上記Ａ）で得られた膜に対してコンタクトホールの臨界値（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｈｏｌｅ  Ｃｒｉｔｉｃａｌ  Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ：Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｈｏｌｅ  ＣＤ）が約１２μｍ×１４μｍであり、パッド部のハーフトーン（Ｈａｌｆ  ｔｏｎｅ）透過率が約７５％であるパターンマスクを使用して広帯域（Ｂｒｏａｄｂａｎｄ）での強度が約２５ｍＷ／ｃｍ２である紫外線を約１秒間隔で１〜１０秒間照射した。その後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド約２．３８重量％の水溶液に約２３℃で７０秒間現像した後、超純水で約６０秒間洗浄した。最終硬化のためにオーブン中で約２３０℃約３０分間加熱してパターン膜を得た。走査電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｏｐｅ：ＳＥＭ）を利用してコンタクトホール臨界値が約９．５μｍ×１２．５μｍ形成される露光量を基準に感度を測定した。
【０１５７】
Ｃ）限界解像度−上記Ｂ）の感度測定の際に、形成されたパターン膜のコンタクトホールを基準に最小大きさとして測定した。但し、臨界値偏向度（Ｃｒｉｔｉｃａｌ  Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ  Ｂｉａｓ）が同一である場合のみに限界解像度として示す。
【０１５８】
Ｄ）Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｈｏｌｅ  Ｓｃｕｍ−上記Ａ）の感度測定の際に、形成されたパターン膜のコンタクトホールを基準にスカム（Ｓｃｕｍ）を検査した。スカムが無い場合を○、スカムが観察される場合を×で表示した。
【０１５９】
Ｅ）接着力−上記Ｂ）の感度測定の際に、形成されたパッド部パターン膜の最小スカムが約０．５μｍ未満である場合を○、約０．５μｍ〜１．５μｍである場合を△、約１．５μｍ以上である場合を×で表示した。
【０１６０】
Ｆ）透過度−透明性の評価は上記Ａ）の感度測定の際に、形成されたパターン膜で進行した。分光光度計を利用してパターン膜の透過率を測定し、測定された透過率と約４００ｎｍ〜８００ｎｍの透過率とを積算して実施例の透過率として算出して測定した。この時の透過率が約９８％以上である場合を○、約９５％〜９８％である場合を△、約９５％未満の場合を×で表示した。但し、透過度測定はベアガラス（ｂａｒｅ  ｇｌａｓｓ）基板に基づいて測定した。
【０１６１】
Ｇ）明暗比−上記Ｅ）の透明性評価の際の測定基板を、明暗測定器（Ｃｏｎｔｒａｓｔ  Ｔｅｓｔｅｒ  Ｍｏｄｅｌ：ＣＴ−１）を利用してノーマリーホワイトモード（Ｎｏｒｍａｌｌｙ  ｗｈｉｔｅ  Ｍｏｄｅ）の偏光板の間に基板を装着した。本実験ではホワイト輝度、ブラック輝度を測定してブラック輝度に対するホワイト輝度の比（ホワイト輝度／ブラック輝度）で明暗比（Ｃｏｎｔｒａｓｔ  Ｒａｔｉｏ）を測定した。この時の明暗比値が約２２００以上である場合を○、約２０００以上約２２０００未満である場合を△、約２００００未満である場合を×で表示した。
【０１６２】
Ｈ）平坦度−下部段差が約１．０μｍ〜１．５μｍのＴＦＴ基板上に上記Ａ）〜Ｂ）の条件下でコーティング、現像、硬化工程を進行した後、薄膜トランジスター基板のチャンネルが重畳する部分と画素が重畳する部分との段差差異を通じて平坦度を評価した。即ち、遮光領域と透過領域との段差差異が、コーティングの後、厚さ対比約５％未満である場合を○、約５％〜１０％である場合を△、約１０％以上である場合を×で表示した。
【０１６３】
【表３】
2014164305.tif 000005
【０１６４】
また、上記実施例１０〜１３及び比較例４〜６の感光性樹脂造成物の平坦度を測定して下記の表４に示した。下部段差が約１．０μｍ〜１．５μｍのＴＦＴ基板上に上記Ａ）〜Ｂ）の条件下でコーティング、現像、硬化工程を進行した後、薄膜トランジスター基板のチャンネルが重畳する部分と画素が重畳する部分との段差差異を通じて平坦度を評価した。この時の段差差異が、コーティングの後、厚さ対比約５％未満である場合を○、約５％〜１０％である場合を△、約１０％以上である場合を×で表示した。
【０１６５】
【表４】
2014164305.tif 000006
【０１６６】
以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
【符号の説明】
【０１６７】
１００    信号制御部
２００    ゲート駆動部
３００    データ駆動部
ＡＬ    半導体層
ＢＭ    ブラックマトリックス
ＢＭ−ＯＰ    開口部
ＣＥ    共通電極
ＣＦ    カラーフィルター（カラー層）
ＣＨ    貫通ホール
ＣＬ    共通ライン
ＤＡ    表示領域
ＤＰ    表示パネル
ＤＳ１    第１表示基板
ＤＳ２    第２表示基板
ＤＥ    ドレイン電極
ＤＬ    データライン
ＧＥ    ゲート電極
ＧＬ    ゲートライン
ＩＬ    絶縁層
ＬＣＬ    液晶層
ＮＤＡ    非表示領域
ＯＬ    平坦化層
ＰＥ    画素電極
ＰＸ    画素
ＳＡ    遮光領域
ＳＥ    ソース電極
ＳＬ    シール部材
ＳＵＢ１    第１ベース基板
ＳＵＢ２    第２ベース基板
ＴＡ    透過領域
ＴＦＴ    薄膜トランジスター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
2014164305.tif 000013
【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図６Ｆ】
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【図６Ｇ】
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【図６Ｈ】
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