【手続補正書】
【提出日】令和3年10月27日(2021.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎ（ｎは２以上の整数）個の反応室と、
前記ｎ個の反応室に第１のガスと第２のガスとの混合ガスを供給する主ガス供給路と、
前記主ガス供給路から分岐され前記反応室のそれぞれに接続され、１本の第１の副ガス供給路と、（ｎ−１）本の第２の副ガス供給路と、を含むｎ本の副ガス供給路と、
前記主ガス供給路の中の圧力を測定する第１の圧力計と、
前記第１の副ガス供給路に設けられた１個の主流量コントローラと、
前記第２の副ガス供給路のそれぞれに設けられた（ｎ−１）個の副流量コントローラと、
前記第１の圧力計の測定結果に基づき、前記主流量コントローラに第１の流量値を指令する第１の制御回路と、
前記主流量コントローラで測定される流量値と前記副流量コントローラで測定される流量値の総和のｎ分の１である第２の流量値を算出し、前記副流量コントローラのそれぞれに前記第２の流量値を指令する第２の制御回路と、
を備える気相成長装置。
【請求項２】
前記ｎ個の反応室のそれぞれに接続されたｎ本の第２のガス排出路と、
前記ｎ本の第２のガス排出路に接続された第１のガス排出路と、
前記第１のガス排出路に接続された排気ポンプと、
前記第１のガス排出路の中の圧力を測定する第２の圧力計と、
前記排気ポンプと前記第２の圧力計との間に設けられた圧力調整バルブと、
前記第２の圧力計の測定結果に基づき、前記圧力調整バルブに指令し、前記第１のガス排出路の中の圧力を制御する第３の制御回路と、
を更に備える請求項１記載の気相成長装置。
【請求項３】
前記主ガス供給路に前記第１のガスを供給する第１のガス供給路と、
前記主ガス供給路に前記第２のガスを供給する第２のガス供給路と、
を更に備える請求項１又は請求項２記載の気相成長装置。
【請求項４】
前記第１の制御回路は、前記主ガス供給路の中の圧力が所定の値となるように前記主流量コントローラに前記第１の流量値を指令する請求項１ないし請求項３いずれか一項記載の気相成長装置。
【請求項５】
ｎ（ｎは２以上の整数）個の反応室と、
前記ｎ個の反応室にガスを供給する主ガス供給路と、
前記主ガス供給路から分岐され前記反応室のそれぞれに接続され、１本の第１の副ガス供給路と、（ｎ−１）本の第２の副ガス供給路と、を含むｎ本の副ガス供給路と、
前記主ガス供給路の中の圧力を測定する第１の圧力計と、
前記第１の副ガス供給路に設けられた１個の主流量コントローラと、
前記第２の副ガス供給路のそれぞれに設けられた（ｎ−１）個の副流量コントローラと、
前記第１の圧力計の測定結果に基づき、前記主流量コントローラに第１の流量値を指令する第１の制御回路と、
前記主流量コントローラで測定される流量値と前記副流量コントローラで測定される流量値の総和のｎ分の１である第２の流量値を算出し、前記副流量コントローラのそれぞれに前記第２の流量値を指令する第２の制御回路と、
を備える気相成長装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一態様の気相成長装置は、ｎ（ｎは２以上の整数）個の反応室と、前記ｎ個の反応室に第１のガスと第２のガスとの混合ガスを供給する主ガス供給路と、前記主ガス供給路から分岐され前記反応室のそれぞれに接続され、１本の第１の副ガス供給路と、（ｎ−１）本の第２の副ガス供給路と、を含むｎ本の副ガス供給路と、前記主ガス供給路の中の圧力を測定する第１の圧力計と、前記第１の副ガス供給路に設けられた１個の主流量コントローラと、前記第２の副ガス供給路のそれぞれに設けられた（ｎ−１）個の副流量コントローラと、前記第１の圧力計の測定結果に基づき、前記主流量コントローラに第１の流量値を指令する第１の制御回路と、前記主流量コントローラで測定される流量値と前記副流量コントローラで測定される流量値の総和のｎ分の１である第２の流量値を算出し、前記副流量コントローラのそれぞれに前記第２の流量値を指令する第２の制御回路と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記態様の気相成長装置において、前記ｎ個の反応室のそれぞれに接続されたｎ本の第２のガス排出路と、前記ｎ本の第２のガス排出路に接続された第１のガス排出路と、前記第１のガス排出路に接続された排気ポンプと、前記第１のガス排出路の中の圧力を測定する第２の圧力計と、前記排気ポンプと前記第２の圧力計との間に設けられた圧力調整バルブと、前記第２の圧力計の測定結果に基づき、前記圧力調整バルブに指令し、前記第１のガス排出路の中の圧力を制御する第３の制御回路と、を更に備えることが望ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記態様の気相成長装置において、前記第１の制御回路は、前記主ガス供給路の中の圧力が所定の値となるように前記主流量コントローラに前記第１の流量値を指令することが望ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の別の一態様の気相成長装置は、ｎ（ｎは２以上の整数）個の反応室と、前記ｎ個の反応室にガスを供給する主ガス供給路と、前記主ガス供給路から分岐され前記反応室のそれぞれに接続され、１本の第１の副ガス供給路と、（ｎ−１）本の第２の副ガス供給路と、を含むｎ本の副ガス供給路と、前記主ガス供給路の中の圧力を測定する第１の圧力計と、前記第１の副ガス供給路に設けられた１個の主流量コントローラと、前記第２の副ガス供給路のそれぞれに設けられた（ｎ−１）個の副流量コントローラと、前記第１の圧力計の測定結果に基づき、前記主流量コントローラに第１の流量値を指令する第１の制御回路と、前記主流量コントローラで測定される流量値と前記副流量コントローラで測定される流量値の総和のｎ分の１である第２の流量値を算出し、前記副流量コントローラのそれぞれに前記第２の流量値を指令する第２の制御回路と、を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
第１の実施形態の気相成長装置は、４個の反応室１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ、第１のガス供給路１１、第２のガス供給路２１、第３のガス供給路３１、第１の主マスフローコントローラ１２、第２の主マスフローコントローラ２２、第３の主マスフローコントローラ３２、主ガス供給路１３、第１の副ガス供給路１４ａ（第１の副ガス供給路）、第２の副ガス供給路１４ｂ（第２の副ガス供給路）、第３の副ガス供給路１４ｃ（第２の副ガス供給路）、第４の副ガス供給路１４ｄ（第２の副ガス供給路）、第１の副マスフローコントローラ１５ａ（主流量コントローラ）、第２の副マスフローコントローラ１５ｂ（副流量コントローラ）、第３の副マスフローコントローラ１５ｃ（副流量コントローラ）、第４の副マスフローコントローラ１５ｄ（副流量コントローラ）、第１の副ガス排出路１６ａ（第２のガス排出路）、第２の副ガス排出路１６ｂ（第２のガス排出路）、第３の副ガス排出路１６ｃ（第２のガス排出路）、第４の副ガス排出路１６ｄ（第２のガス排出路）、主ガス排出路１７（第１のガス排出路）、排気ポンプ１８、第１の圧力計４１、第２の圧力計４２、圧力調整バルブ４５、第１の制御回路５１、第２の制御回路５２、第３の制御回路５３、を備える。