【手続補正書】
【提出日】令和3年5月6日(2021.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系を介して基板を露光する露光動作を行う露光装置であって、
前記投影光学系の光学素子の温度分布を制御する温度調整部を備え、
前記露光動作が実施される第１期間において、前記露光動作が実施されることによる前記投影光学系の収差の変化が低減されるように前記温度調整部が動作し、
前記第１期間に続く、露光動作が実施されない第２期間において、前記第１期間において前記露光動作が実施されたことによる前記収差の変化が低減されるように前記温度調整部が動作する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１期間に前記温度調整部によって前記光学素子に与えられる温度分布と前記第２期間に前記温度調整部によって前記光学素子に与えられる温度分布とが逆位相である、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１期間において、前記温度調整部は、前記第１期間の開始時からの経過時間に応じた指令値に従って前記光学素子の温度分布を制御し、
前記第２期間において、前記温度調整部は、前記第２期間の開始時からの経過時間に応じた指令値に従って前記光学素子の温度分布を制御する、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記温度調整部は、前記温度調整部によって温度分布が制御される前記光学素子の有効径の外側に配置されている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記温度調整部は、前記収差としてゼルニケ多項式におけるＮθ成分（Ｎは自然数）の少なくとも１つを低減する、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記温度調整部は、前記収差として非点収差を低減する、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１期間は、１枚の基板に対する最初の前記露光動作の開始から前記１枚の基板に対する最後の前記露光動作の終了までの期間である、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第２期間は、前記１枚の基板に対する前記最後の前記露光動作の終了時に開始する期間である、
ことを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１期間は、第１ロットにおける１枚目の基板に対する最初の露光動作の開始から、前記第１ロットの最後の基板に対する最後の露光動作の終了までの期間である、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２期間は、前記第１ロットの最後の基板に対する最後の露光動作の終了から、前記第１ロットに続く第２ロットにおける１枚目の基板に対する最初の露光動作の開始までの期間である、
ことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第１期間は、基板における１つのショット領域に対する露光動作の開始から前記１つのショット領域に対する前記露光動作の終了までの期間である、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第２期間は、前記基板における前記１つのショット領域に対する前記露光動作の終了から、前記１つのショット領域に続くショット領域に対する露光動作の開始までの期間である、
ことを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記温度調整部は、互いに異なる位置に配置された第１温度制御部及び第２温度制御部を含むことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第１期間において、前記第１温度制御部は、前記収差の変化が低減されるように熱を発生し、
前記第２期間において、前記第２温度制御部は、前記収差の変化が低減されるように熱を発生する、
ことを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第１期間において、前記収差の変化が低減されるように前記第１温度制御部および前記第２温度制御部が動作し、
前記第２期間において、前記収差の変化が低減されるように前記第１温度制御部および前記第２温度制御部が動作する、
ことを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第１期間および前記第２期間において、所定範囲内での前記収差の変化を許容しつつ、前記収差が前記所定範囲から外れないように、前記第１温度制御部および前記第２温度制御部が動作する、
ことを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
投影光学系を介して基板を露光する露光動作を行う露光方法であって、
前記露光動作が実施される第１期間において、前記露光動作が実施されることによる前記投影光学系の収差の変化が低減されるように、温度調整部によって前記投影光学系の光学素子の温度分布を制御する第１工程と、
前記第１期間に続く、露光動作が実施されない第２期間において、前記第１期間において前記露光動作が実施されたことによる前記収差の変化が低減されるように、前記温度調整部によって前記投影光学系の光学素子の温度分布を制御する第２工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１８】
前記第１工程において前記温度調整部によって前記光学素子に与えられる温度分布と前記第２工程において前記温度調整部によって前記光学素子に与えられる温度分布とが逆位相である、
ことを特徴とする請求項１７に記載の露光方法。
【請求項１９】
前記第１工程において、前記第１期間の開始時からの経過時間に応じた指令値に従って前記温度調整部が制御され、
前記第２工程において、前記第２期間の開始時からの経過時間に応じた指令値に従って前記温度調整部が制御される、
ことを特徴とする請求項１７または１８に記載の露光方法。
【請求項２０】
前記温度調整部は、前記温度調整部によって温度分布が制御される前記光学素子の有効径の外側に配置されている、
ことを特徴とする請求項１７乃至１９のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項２１】
前記温度調整部は、前記収差としてゼルニケ多項式におけるＮθ成分（Ｎは自然数）の少なくとも１つを低減する、
ことを特徴とする請求項１７乃至２０のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項２２】
前記温度調整部は、前記収差として非点収差を低減する、
ことを特徴とする請求項１７乃至２０のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項２３】
前記第１期間は、１枚の基板に対する最初の前記露光動作の開始から前記１枚の基板に対する最後の前記露光動作の終了までの期間である、
ことを特徴とする請求項１７乃至２２のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項２４】
前記第２期間は、前記１枚の基板に対する前記最後の前記露光動作の終了時に開始する期間である、
ことを特徴とする請求項２３に記載の露光方法。
【請求項２５】
前記第１期間は、第１ロットにおける１枚目の基板に対する最初の露光動作の開始から、前記第１ロットの最後の基板に対する最後の露光動作の終了までの期間である、
ことを特徴とする請求項１７乃至２２のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項２６】
前記第２期間は、前記第１ロットの最後の基板に対する最後の露光動作の終了から、前記第１ロットに続く第２ロットにおける１枚目の基板に対する最初の露光動作の開始までの期間である、
ことを特徴とする請求項２５に記載の露光方法。
【請求項２７】
前記第１期間は、基板における１つのショット領域に対する露光動作の開始から前記１つのショット領域に対する前記露光動作の終了までの期間である、ことを特徴とする請求項１７乃至２２のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項２８】
前記第２期間は、前記基板における前記１つのショット領域に対する前記露光動作の終了から、前記１つのショット領域に続くショット領域に対する露光動作の開始までの期間である、
ことを特徴とする請求項２７に記載の露光方法。
【請求項２９】
前記温度調整部は、互いに異なる位置に配置された第１温度制御部及び第２温度制御部を含むことを特徴とする請求項１７乃至２８のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項３０】
前記第１工程において、前記収差の変化が低減されるように前記第１温度制御部が熱を発生し、
前記第２工程において、前記収差の変化が低減されるように前記第２温度制御部が熱を発生する、
ことを特徴とする請求項２９に記載の露光方法。
【請求項３１】
前記第１工程において、前記収差の変化が低減されるように前記第１温度制御部および前記第２温度制御部が制御され、
前記第２工程において、前記収差の変化が低減されるように前記第１温度制御部および前記第２温度制御部が制御される、
ことを特徴とする請求項２９に記載の露光方法。
【請求項３２】
前記第１工程および前記第２工程において、所定範囲内での前記収差の変化を許容しつつ、前記収差が前記所定範囲から外れないように、前記第１温度制御部および前記第２温度制御部が制御される、
ことを特徴とする請求項３１に記載の露光方法。
【請求項３３】
投影光学系を介して基板を露光する露光工程を含み、
露光された基板から物品を得る物品の製造方法であって、
前記露光工程において、露光動作が実施されることによる前記投影光学系の収差の変化が低減されるように、前記投影光学系の光学素子の温度分布を制御し、
前記露光工程に続く、露光動作が実施されない期間において、前記露光動作が実施されたことによる前記収差の変化が低減されるように、前記投影光学系の光学素子の温度分布を制御することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項３４】
物品製造方法であって、
請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の露光装置によって基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を現像する現像工程と、
前記現像工程で現像された前記基板を処理する処理工程と、を含み、
前記処理工程で処理された前記基板から物品を得ることを特徴とする物品製造方法。
【請求項３５】
物品製造方法であって、
請求項１７乃至３２のいずれか１項に記載の露光方法によって基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を現像する現像工程と、
前記現像工程で現像された前記基板を処理する処理工程と、を含み、
前記処理工程で処理された前記基板から物品を得ることを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の１つの側面は、投影光学系を介して基板を露光する露光動作を行う露光装置に係り、前記露光装置は、前記投影光学系の光学素子の温度分布を制御する温度調整部を備え、前記露光動作が実施される第１期間において、前記露光動作が実施されることによる前記投影光学系の収差の変化が低減されるように前記温度調整部が動作し、前記第１期間に続く、露光動作が実施されない第２期間において、前記第１期間において前記露光動作が実施されたことによる前記収差の変化が低減されるように前記温度調整部が動作する。