【手続補正書】
【提出日】令和3年1月13日(2021.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に設けられた複数のマークを検出する検出装置であって、
光学系と、
前記複数のマークの各々が少なくとも１つの光束で照明されるように、前記光学系を介して複数の光束で前記複数のマークを選択的に照明する照明部と、
前記光学系を介して前記複数のマークを撮像する撮像部と、
を含み、
前記照明部は、前記基板上の前記複数のマークの位置に応じて、前記複数の光束の各々が前記光学系の瞳面に入射する入射角を個別に変更することにより、前記基板上における前記複数の光束の各々の照射位置を個別に変更する変更部を含む、ことを特徴とする検出装置。
【請求項２】
前記変更部は、複数のミラーを含み、前記複数のミラーにより前記複数の光束の各々の反射方向を個別に調整することにより、前記複数の光束の各々の前記瞳面への入射角を個別に変更する、ことを特徴とする請求項１に記載の検出装置。
【請求項３】
前記照明部は、前記複数の光束をそれぞれ射出する複数の光源を更に含み、
前記変更部は、前記複数の光源の各々を個別に駆動することにより、前記複数の光束の各々の前記瞳面への入射角を個別に変更する、ことを特徴とする請求項１に記載の検出装置。
【請求項４】
前記照明部は、光源から射出された光束を回折して前記複数の光束を生成する回折素子と、前記回折素子で生成された複数の光束を集光するレンズとを含み、
前記変更部は、前記回折素子と前記レンズとの相対位置を変更することにより、前記複数の光束の各々の前記瞳面への入射角を個別に変更する、ことを特徴とする請求項１に記載の検出装置。
【請求項５】
前記回折素子は、回折格子を有する回折光学素子、音響光学素子、空間光位相変調器のうち少なくとも１つを含む、ことを特徴とする請求項４に記載の検出装置。
【請求項６】
前記撮像部は、前記光学系を介して前記複数のマークを一括して撮像する、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項７】
前記照明部は、前記複数の光束で前記瞳面に極を形成し、
前記撮像部は、前記瞳面のうち、前記極が形成された領域とは異なる領域を介して、前記複数のマークを撮像する、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項８】
前記照明部は、複数の第１光束で前記複数のマークを選択的に照明する第１照明部と、複数の第２光束で前記複数のマークを選択的に照明する第２照明部とを含む、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項９】
前記第２照明部は、前記第１照明部により前記複数の第１光束で選択的に照明された前記複数のマークを前記複数の第２光束で選択的に照明する、ことを特徴とする請求項８に記載の検出装置。
【請求項１０】
前記複数のマークは、第１方向の位置を検出するための複数の第１マークと、前記第１方向とは異なる第２方向の位置を検出するための複数の第２マークとを含み、
前記第１照明部は、前記複数の第１光束で前記複数の第１マークを選択的に照明し、前記第２照明部は、前記複数の第２光束で前記複数の第２マークを選択的に照明する、ことを特徴とする請求項８に記載の検出装置。
【請求項１１】
前記第１照明部は、前記第１方向と垂直な方向から前記複数の第１光束で前記複数の第１マークを選択的に照明し、前記第２照明部は、前記第２方向と垂直な方向から前記複数の第２光束で前記複数の第２マークを選択的に照明する、ことを特徴とする請求項１０に記載の検出装置。
【請求項１２】
前記複数の第１マークと前記複数の第２マークとを互いに異なるタイミングで撮像させるように前記撮像部を制御する制御部を更に含み、
前記制御部は、前記撮像部に前記複数の第１マークを撮像させる際には、前記複数の第１マークを選択的に照明するように前記第１照明部を制御し、前記撮像部に前記複数の第２マークを撮像させる際には、前記複数の第２マークを選択的に照明するように前記第２照明部を制御する、ことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の検出装置。
【請求項１３】
前記第１照明部は、前記複数の第１光束で前記瞳面に第１の極を形成し、前記第２照明部は、前記複数の第２光束で前記瞳面に第２の極を形成する、ことを特徴とする請求項８乃至１２のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項１４】
前記撮像部は、前記基板に設けられた前記複数のマークを、原版に設けられた複数のマークを介して撮像する、ことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項１５】
前記複数の光束は、前記瞳面上に１つの極を形成する少なくとも２つの光束を含み、
前記変更部は、前記複数のマークのうち互いに異なる少なくとも２つのマークを前記少なくとも２つの光束でそれぞれ照射するように、前記少なくとも２つの光束の各々の前記入射角を変更する、ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項１６】
前記複数の光束は、第１の極を前記瞳面に形成する複数の第１光束と、前記瞳面に前記第１の極とは異なる第２の極を前記瞳面に形成する複数の第２光束とを含み、
前記変更部は、前記複数のマークのうち互いに異なる少なくとも２つのマークを前記複数の第１光束でそれぞれ照射するように、前記複数の第１光束の各々の前記入射角を個別に変更し、前記複数の第１光束でそれぞれ照射された前記少なくとも２つのマークを前記複数の第２光束でそれぞれ照射するように、前記複数の第２光束の各々の前記入射角を個別に変更する、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項１７】
前記照明部は、前記基板上における前記複数のマークの位置を示す情報に基づいて、前記複数のマークの各々が少なくとも１つの光束で照明されるように、前記変更部による前記複数の光束の各々の前記入射角を個別に制御する、ことを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項１８】
前記照明部は、前記入射角と前記複数の光束の各々の前記照射位置との関係を示す第２情報に基づいて、前記複数の光束の各々の前記入射角を決定し、決定した前記入射角に基づいて前記変更部を制御する、ことを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項１９】
前記変更部は、前記入射角として、前記複数の光束の各々が前記光学系に入射する角度を個別に変更する、ことを特徴とする請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の検出装置。
【請求項２０】
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
複数のマークが設けられた基板を保持するステージと、
前記複数のマークを検出する請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の検出装置と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記リソグラフィ装置は、前記基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置である、ことを特徴とする請求項２０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２２】
請求項２０又は２１に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、を含み、
加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての検出装置は、基板に設けられた複数のマークを検出する検出装置であって、光学系と、前記複数のマークの各々が少なくとも１つの光束で照明されるように、前記光学系を介して複数の光束で前記複数のマークを選択的に照明する照明部と、前記光学系を介して前記複数のマークを撮像する撮像部と、を含み、前記照明部は、前記基板上の前記複数のマークの位置に応じて、前記複数の光束の各々が前記光学系の瞳面に入射する入射角を個別に変更することにより、前記基板上における前記複数の光束の各々の照射位置を個別に変更する変更部を含む、ことを特徴とする。