【手続補正書】
【提出日】令和3年1月28日(2021.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルタトウ材料（１２）から製造された、たばこ加工産業の連続するフィルタストランド（２２）を監視するための方法であって、前記フィルタストランド（２２）は、被覆紙テープ（１８）で巻き付けられて連続ストランドに成形されたフィルタトウ材料（１２）から製造されていて、前記被覆紙テープ（１８）が、この被覆紙テープ（１８）の内面に塗布されている接着剤（２１）によって前記フィルタトウ材料（１２）に接着されていて、前記被覆紙テープ（１８）で包まれた連続する前記フィルタストランド（２２）が、その監視のために静電容量式高周波ストランド測定装置（２４）を通過して搬送され、前記フィルタストランド（２２）の材料特性に依存する高周波測定信号が、前記静電容量式高周波ストランド測定装置（２４）内で測定される当該方法において、
前記フィルタストランド（２２）の誘電率の虚数部が、前記高周波測定信号から算出され、前記被覆紙テープ（１８）上に塗布されている前記接着剤（２１）の量が、前記誘電率の当該算出された虚数部から算出されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記高周波測定信号は、１０ｋＨｚ〜３００ＭＨｚ又は１ＭＨｚ〜１５ＭＨｚの周波数を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記フィルタストランド（２２）の誘電率の実数部がさらに算出されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記被覆紙テープ（１８）で巻き付かれた前記フィルタストランド（２２）は、マイクロ波ストランド測定装置（２６）をさらに通過して搬送され、マイクロ波周波数の場合の前記フィルタストランド（２２）の誘電率の実数部及び／又は虚数部が算出されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
１ＧＨｚ〜３０ＧＨｚ又は４ＧＨｚ〜８ＧＨｚのマイクロ波周波数の場合に算出されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記接着剤の量に加えて、前記フィルタストランド（２２）中の前記フィルタトウ材料（１２）の密度、前記フィルタストランド（２２）の湿度、前記フィルタストランド（２２）中の可塑剤の量及び／又は前記フィルタストランド（２２）中の異物も算出又は検出されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
低温硬化型接着剤が、接着剤（２１）として前記被覆紙テープ（１８）上に塗布されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記接着剤（２１）は、共重合体に基づくか又はポリビニルアセテートに基づくことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記接着剤の塗布の変動が算出され、当該算出された変動が、１つ又は複数の変動の限界値と比較され、この変動の限界値又はこれらの変動の限界値を超えたときに、引き続き、裁断された限界値に合致しないフィルタロッド（３２）又はフィルタシガレットが、さらなる処理から除外されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記接着剤の塗布の変動は、塗布されている接着剤の量の変動及び／又は接着剤塗布軌跡（２１ａ）の均一性の変動であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
連続するフィルタストランド（２２）の規定の生産の開始前に、校正が実行され、前記被覆紙テープ（１８）上に塗布される接着剤の量が、２つ以上のステップで又は時間的に連続して増大され、高周波周波数の場合の前記フィルタストランド（２２）の誘電率の前記算出された虚数部が、当該調整された接着剤の量に応じて算出され、後の規定の生産の場合の測定のための校正データが、当該接着剤の量に応じた算出からから算出されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
さらに、高周波周波数と場合によってはマイクロ波周波数との場合の誘電率のさらに算出された成分が、当該調整された接着剤の量に応じて算出され、後の規定の生産の場合の測定のための校正データが、当該算出された接着剤の量の依存性から算出されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記接着剤（２１）は、回転ノズルの円運動によって前記被覆紙テープ（１８）上にループ状の接着剤塗布軌跡（２１ａ）で塗布され、フィルタストランド（２２）の規定の生産の開始前に、前記回転ノズルの円運動が、使用される前記接着剤（２１）と使用される前記接着剤の量とに合わせて調整され、前記接着剤の量の変動が、前記回転ノズルの調整に応じて算出され、前記円運動に起因する変動が、前記接着剤塗布軌跡（２１ａ）を連続する複数のループ状に部分的に重ねることによって最小にされるように、前記回転ノズルが調整されることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
フィルタトウ材料（１２）から製造されたたばこ加工産業のフィルタストランドを製造するための設備（１０）であって、当該装置は、フィルタトウ貯蔵部からストランド成形装置（１６）を通過して裁断装置（２７）へ向かう搬送路を有するフィルタトウ材料（１２）用の搬送装置と、被覆紙テープ貯蔵部と、この被覆紙テープ貯蔵部から引き出される、前記ストランド成形装置（１６）内又は後方でストランド状に成形された前記フィルタトウ材料（１２）の周りに巻き付けられる被覆紙テープ（１８）の内面に接着剤を塗布するための接着剤塗布装置（２０）と、前記フィルタストランド（２２）の存在中に高周波測定信号を測定するように適合されていて且つ構成されている静電容量式高周波ストランド測定装置（２４）と、評価装置（２８）とを有する当該設備（１０）において、
前記フィルタストランド（２２）の誘電率の虚数部を前記高周波測定信号の変化から算出し、前記被覆紙テープ（１８）上に塗布される接着剤（２１）の量を前記フィルタストランド（２２）の誘電率の当該算出された虚数部から算出するように、前記評価装置（２８）が適合されていて且つ構成されていることを特徴とする設備（１０）。
【請求項１５】
前記設備（１０）は、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法を実行するように構成されていて且つ適合されていることを特徴とする請求項１４に記載の設備（１０）。
【請求項１６】
マイクロ波ストランド測定装置（２６）を有し、複数のフィルタロッド（３２）に裁断する前の前記フィルタストランド（２２）の前記搬送路が、前記マイクロ波ストランド測定装置（２６）を通過することを特徴とする請求項１４又は１５に記載の設備（１０）。
【請求項１７】
前記静電容量式高周波ストランド測定装置（２４）と前記マイクロ波ストランド測定装置（２６）とが、ほぼ同じ電磁界構造及び／又はほぼ同じ測定容量を有することを特徴とする請求項１６に記載の設備（１０）。
【請求項１８】
前記接着剤塗布装置は、接着剤ノズル（２０）として又は回転ノズルとして構成されていることを特徴とする請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の設備（１０）。
【請求項１９】
前記接着剤塗布装置は、ループ状の接着剤塗布軌跡（２１ａ）を前記被覆紙テープ（１８）上に塗布するように構成されていることを特徴とする請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の設備（１０）。
【請求項２０】
前記評価装置（２８）は、排除装置（３４）を制御するように構成されていることを特徴とする請求項１４〜１９のいずれか１項に記載設備（１０）。