【手続補正書】
【提出日】令和3年2月26日(2021.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜対象物を収容するチャンバと、
前記チャンバ内に配置された容器に収容される成膜材料を加熱するための加熱源へ供給する電力を制御する加熱制御部と、
前記チャンバ内に配置される、成膜対象物に対する成膜材料の成膜レートを検知するためのモニタユニットであって、水晶振動子と、遮蔽部及び開口部を有し前記水晶振動子と前記容器との間に配置される回転体と、を有するモニタユニットと、
前記遮蔽部が前記容器と前記水晶振動子との間に位置する遮蔽状態と、前記開口部が前記容器と前記水晶振動子との間に位置する非遮蔽状態と、のいずれかを取り得るように、前記回転体の回転を制御する回転制御部と、
前記水晶振動子の共振周波数の変化に基づいて前記成膜レートを取得する取得部と、
を備え、
前記成膜対象物に前記成膜材料による膜を成膜する成膜装置であって、
前記加熱制御部が前記加熱源へ供給する電力を一定に保った状態で、所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さが変化するように前記回転制御部が前記回転体の回転速度を変動させたときの前記所定の期間における前記共振周波数の変動量の変化に基づいて、成膜装置の状態を判定する状態判定部を備えることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記成膜を、前記取得部が取得する前記成膜レートが所定の値に維持されるように前記加熱制御部が電力量を制御するレート制御により行い、
前記取得部が取得する前記成膜レートが所定の閾値を超えたときに、前記状態判定部による成膜装置の状態の判定シーケンスが実行されることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記取得部が取得する前記成膜レートが所定の閾値を超えたときに、前記レート制御から、前記取得部が取得する前記成膜レートに依らずに設定される電力量で前記加熱制御部が電力供給する電力制御に切り替えることを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。
【請求項４】
所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さが変化するように前記回転制御部が前記回転体の回転速度を変動させたときの前記所定の期間における前記共振周波数の変動量が、所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さの変化に応じた変動量でな
い場合、前記状態判定部は前記モニタユニットに故障が発生している状態であると判定することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項５】
所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さが変化するように前記回転制御部が前記回転体の回転速度を変動させたときの前記所定の期間における前記共振周波数の変動量が、所定の値を超えない場合、前記状態判定部は前記モニタユニットに故障が発生している状態であると判定することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項６】
所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さが変化するように前記回転制御部が前記回転体の回転速度を変動させたときの前記所定の期間における前記共振周波数の変動量が、所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さの変化に応じた変動量の場合、前記状態判定部は前記成膜材料に突沸が発生した状態であると判定することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項７】
所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さが変化するように前記回転制御部が前記回転体の回転速度を変動させたときの前記所定の期間における前記共振周波数の変動量が、所定の値を超える場合、前記状態判定部は前記成膜材料に突沸が発生した状態であると判定することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記状態判定部が成膜装置の状態を前記モニタユニットに故障が発生している状態であると判定した場合、その後の前記成膜を、前記取得部が取得する前記成膜レートに依らずに設定される電力量で前記加熱制御部が電力供給する電力制御により行うことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記状態判定部が成膜装置の状態を前記成膜材料に突沸が発生した状態であると判定した場合、その後の前記成膜を、前記取得部が取得する前記成膜レートが所定の値に維持されるように前記加熱制御部が電力を制御するレート制御により行うことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項１０】
所定の期間において前記非遮蔽状態となる期間が第１の長さとなるように前記回転制御部が前記遮蔽部を回転させる第１遮蔽モードと、
前記所定の期間において前記非遮蔽状態となる期間が前記第１の長さよりも長い第２の長さとなるように前記回転制御部が前記遮蔽部を回転させる第２遮蔽モードと、
を有し、
前記加熱制御部が前記加熱源へ供給する電力を一定に保った状態で、前記第１遮蔽モードから前記第２遮蔽モードに切り替えたときの、前記所定の期間における前記共振周波数の変動量の変化に基づいて、前記状態判定部が成膜装置の状態を判定することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項１１】
前記回転制御部は、前記第２遮蔽モードにおいて、前記非遮蔽状態における回転速度が、前記遮蔽状態における回転速度よりも遅くなるように、前記遮蔽部を回転させることを特徴とする請求項１０に記載の成膜装置。
【請求項１２】
前記回転制御部は、前記第２遮蔽モードの前記非遮蔽状態における回転速度が、前記第１遮蔽モードの前記非遮蔽状態における回転速度よりも遅くなるように、前記遮蔽部を回転させることを特徴とする請求項１０または１１に記載の成膜装置。
【請求項１３】
前記回転制御部は、前記第２遮蔽モードにおける前記所定の期間において前記非遮蔽状態となる頻度が、前記第１遮蔽モードにおける前記所定の期間において前記非遮蔽状態と
なる頻度よりも高くなるように、前記第２遮蔽モードにおいて前記遮蔽部を往復回転させることを特徴とする請求項１０に記載の成膜装置。
【請求項１４】
前記成膜材料を収容し、前記チャンバ内に配置される容器と、
電力が供給されることで前記容器を加熱する加熱源であって、供給される電力が前記加熱制御部によって制御される加熱源と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項１５】
成膜対象物を収容するチャンバと、
前記チャンバ内に配置された容器に収容される成膜材料を加熱するための加熱源へ供給する電力を制御する加熱制御部と、
前記チャンバ内に配置される、成膜対象物に対する成膜材料の成膜レートを検知するためのモニタユニットであって、水晶振動子と、遮蔽部及び開口部を有し前記水晶振動子と前記容器との間に配置される回転体と、を有するモニタユニットと、
前記遮蔽部が前記容器と前記水晶振動子との間に位置する遮蔽状態と、前記開口部が前記容器と前記水晶振動子との間に位置する非遮蔽状態と、のいずれかを取り得るように、前記回転体の回転を制御する回転制御部と、
前記水晶振動子の共振周波数の変化に基づいて前記成膜レートを取得する取得部と、
を備え、
前記成膜対象物に前記成膜材料による膜を成膜する成膜装置の制御方法において、
前記取得部が取得する前記成膜レートが所定の値に維持されるように前記加熱制御部が電力量を制御するレート制御により前記成膜を行う第１工程と、
前記取得部が取得する前記成膜レートが所定の閾値を超えたときに、前記レート制御から、前記取得部が取得する前記成膜レートに依らずに設定される電力量で前記加熱制御部が電力供給する電力制御に切り替えて前記成膜を行う第２工程と、
前記第２工程の間に、所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さが変化するように前記回転制御部が前記回転体の回転速度を変動させる第３工程と、
前記第３工程において前記回転速度を変動させたときの前記所定の期間における前記共振周波数の変動量の変化に基づいて、成膜装置の状態を判定する第４工程と、
を有することを特徴とする成膜装置の制御方法。
【請求項１６】
前記第４工程において、前記変動量が所定の値を超えない場合、前記モニタユニットに故障が発生している状態であると判定し、前記変動量が所定の値を超える場合、前記成膜材料に突沸が発生した状態であると判定することを特徴とする請求項１５に記載の成膜装置の制御方法。
【請求項１７】
前記第４工程において、成膜装置の状態を前記成膜材料に突沸が発生した状態であると判定した場合、前記電力制御から前記レート制御に切り替えて前記成膜を継続する第５工程をさらに有することを特徴とする請求項１５または１６に記載の成膜装置の制御方法。
【請求項１８】
前記第４工程において、成膜装置の状態を前記モニタユニットに故障が発生している状態であると判定した場合、前記電力制御により前記成膜を継続する第６工程をさらに有することを特徴とする請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の成膜装置の制御方法。
【請求項１９】
前記成膜装置は、
所定の期間において前記非遮蔽状態となる期間が第１の長さとなるように前記回転制御部が前記遮蔽部を回転させる第１遮蔽モードと、
前記所定の期間において前記非遮蔽状態となる期間が前記第１の長さよりも長い第２の長さとなるように前記回転制御部が前記遮蔽部を回転させる第２遮蔽モードと、
を有し、
前記第１工程において、前記第１遮蔽モードを実行し、
前記第３工程において、前記第１遮蔽モードから前記第２遮蔽モードに切り替えることを特徴とする請求項１５〜１８のいずれか１項に記載の成膜装置の制御方法。
【請求項２０】
前記回転制御部は、前記第２遮蔽モードにおいて、前記非遮蔽状態における回転速度が、前記遮蔽状態における回転速度よりも遅くなるように、前記遮蔽部を回転させることを特徴とする請求項１９に記載の成膜装置の制御方法。
【請求項２１】
前記回転制御部は、前記第２遮蔽モードの前記非遮蔽状態における回転速度が、前記第１遮蔽モードの前記非遮蔽状態における回転速度よりも遅くなるように、前記遮蔽部を回転させることを特徴とする請求項１９または２０に記載の成膜装置の制御方法。
【請求項２２】
前記回転制御部は、前記第２遮蔽モードにおける前記所定の期間において前記非遮蔽状態となる頻度が、前記第１遮蔽モードにおける前記所定の期間において前記非遮蔽状態となる頻度よりも高くなるように、前記第２遮蔽モードにおいて前記遮蔽部を往復回転させることを特徴とする請求項１９に記載の成膜装置の制御方法。
【請求項２３】
前記成膜装置は、
前記成膜材料を収容し、前記チャンバ内に配置される容器と、
電力が供給されることで前記容器を加熱する加熱源であって、供給される電力が前記加熱制御部によって制御される加熱源と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１５〜２２のいずれか１項に記載の成膜装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明の成膜装置は、
成膜対象物を収容するチャンバと、
前記チャンバ内に配置された容器に収容される成膜材料を加熱するための加熱源へ供給する電力を制御する加熱制御部と、
前記チャンバ内に配置される、成膜対象物に対する成膜材料の成膜レートを検知するためのモニタユニットであって、水晶振動子と、遮蔽部及び開口部を有し前記水晶振動子と前記容器との間に配置される回転体と、を有するモニタユニットと、
前記遮蔽部が前記容器と前記水晶振動子との間に位置する遮蔽状態と、前記開口部が前記容器と前記水晶振動子との間に位置する非遮蔽状態と、のいずれかを取り得るように、前記回転体の回転を制御する回転制御部と、
前記水晶振動子の共振周波数の変化に基づいて前記成膜レートを取得する取得部と、
を備え、
前記成膜対象物に前記成膜材料による膜を成膜する成膜装置であって、
前記加熱制御部が前記加熱源へ供給する電力を一定に保った状態で、所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さが変化するように前記回転制御部が前記回転体の回転速度を変動させたときの前記所定の期間における前記共振周波数の変動量の変化に基づいて、成膜装置の状態を判定する状態判定部を備えることを特徴とする。
上記目的を達成するため、本発明の成膜装置の制御方法は、
成膜対象物を収容するチャンバと、
前記チャンバ内に配置された容器に収容される成膜材料を加熱するための加熱源へ供給
する電力を制御する加熱制御部と、
前記チャンバ内に配置される、成膜対象物に対する成膜材料の成膜レートを検知するためのモニタユニットであって、水晶振動子と、遮蔽部及び開口部を有し前記水晶振動子と前記容器との間に配置される回転体と、を有するモニタユニットと、
前記遮蔽部が前記容器と前記水晶振動子との間に位置する遮蔽状態と、前記開口部が前記容器と前記水晶振動子との間に位置する非遮蔽状態と、のいずれかを取り得るように、前記回転体の回転を制御する回転制御部と、
前記水晶振動子の共振周波数の変化に基づいて前記成膜レートを取得する取得部と、
を備え、
前記成膜対象物に前記成膜材料による膜を成膜する成膜装置の制御方法において、
前記取得部が取得する前記成膜レートが所定の値に維持されるように前記加熱制御部が電力量を制御するレート制御により前記成膜を行う第１工程と、
前記取得部が取得する前記成膜レートが所定の閾値を超えたときに、前記レート制御から、前記取得部が取得する前記成膜レートに依らずに設定される電力量で前記加熱制御部が電力供給する電力制御に切り替えて前記成膜を行う第２工程と、
前記第２工程の間に、所定の期間における前記非遮蔽状態となる期間の長さが変化するように前記回転制御部が前記回転体の回転速度を変動させる第３工程と、
前記第３工程において前記回転速度を変動させたときの前記所定の期間における前記共振周波数の変動量の変化に基づいて、成膜装置の状態を判定する第４工程と、
を有することを特徴とする。