(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤とを含む一層以上の磁性層を設けた磁気記録媒体において、該磁性層中にメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
該磁性層に含まれるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の平均粒子径が０．０５〜１．５μｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
該磁性層中に含まれるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の含有量が、該磁性層に含まれる強磁性粉末１００重量部に対して、０．０５重量部以上、３重量部以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
非磁性支持体上に主として無機粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末と結合剤とを含む一層以上の磁性層を設けた磁気記録媒体において、該磁性層にメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項５】
該磁性層の厚みが０．０５〜０．８μｍであることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
該磁性層に含まれるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の粒子径が０．０５〜１．５μｍであることを特徴とする請求項４又は５に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
該磁性層中に含まれるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の含有量が、該磁性層に含まれる強磁性粉末１００重量部に対して、０．０５重量部以上、５重量部以下であることを特徴とする請求項４又は５に記載の磁気記録媒体。
【請求項８】
前記下層塗布層に含まれる無機粉末が、酸化チタン、α酸化鉄、硫酸バリウム、酸化亜鉛、アルミナの中から選ばれる一種以上であることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【請求項９】
前記下層塗布層と少なくともそれに接する磁性層がウェットオンウェット塗布方式で形成されたものであることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は磁気記録媒体、特に高密度で記録再生する磁気記録媒体に関するものであり、更に詳しくは高周波での出力、ＣＮＲに優れ、かつ低い摩擦係数を得る事ができる塗布型磁気記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデジタル方式まで検討されている。
この高密度化の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒体が検討されているが、それよりも生産性、腐食性等の実用信頼性の点で強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体に塗布したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしながら、金属薄膜に対して塗布型媒体は磁性物の充填度が低いために電磁変換特性が劣る。
塗布型磁気記録媒体としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、CrO2、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。
塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上には、強磁性粉末の磁気特性の改良、磁性層表面の平滑化、磁性層の薄層化などがあり、種々の方法が提案されている。近年、高密度化と共に記録波長が短くなる傾向にあり、従来以上にスペース損失による出力への寄与が大きくなっているので、更に平滑な磁性層表面が求められている。 しかしながら、磁性層を平滑化することで、摩擦係数が高くなり、走行耐久性、安定性に問題が発生する事は従来と変わらず、それに対して、種々の方法が従来より提案されてきている。
例えば、特公昭５２−１８５６１号にはカーボンブラック粒子とモース硬度６以上の非磁性粒子とを含有する事で耐摩耗性が改良されることが記載されているが、同時に表面性が大きくなり、特に短波長記録を行う高密度システムでは充分な電磁変換特性が得られない。
【０００３】
特公平４−７０６８８号では、磁性層にベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂もしくはベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド樹脂からなる球状微粒子を含有してなる磁気記録媒体を用いることにより、走行性、及び磁性層の塗膜物性の優れたものが得られると開示している。しかし、この技術の場合、トラック幅が４０μｍ以下である高密度システムでは充分な出力が得られず、またドロップアウトが多い事がある。
特公平５−７６６９９号には磁性層にモース硬度５以上である真比重０．８から２．５のベンゾグアナミン系樹脂粉末及びフタロシアニン系顔料からなる群より選択されたいずれかの１種の有機粉末を含有されたことを特徴とする磁気記録媒体を用いることにより、走行性、耐摩耗性、分散性に優れたものが得られると開示されている。しかし、この技術でも、塗布液の分散性が未だ不充分で、且つトラック幅が４０μｍ以下である高密度なシステムにおいては充分な電磁変換特性が得られず、またドロップアウトも多くなるという現象が見られた。
特開昭６２−１８５２３５号にはアルミナ粒子にベンゾグアナミン粒子を含む事を特徴とする磁気記録媒体が開示されているが、充分な電磁変換特性が得られておらず、また、充分な走行性を得る事も出来ていない。
特開平２−１３７１１９号にはモース硬度５以上の粒子とそれより平均粒子径の大きなベンゾグアナミン樹脂の粉末を含む事を特徴とする磁気記録媒体が開示されているが、これも充分な電磁変換特性を得る事が出来ていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決することにあり、電磁変換特性が良好で走行耐久性に優れ、更にドロップアウトの低減及び低い摩擦係数を可能にした磁気記録媒体を提供することであり、特にトラック幅４０μｍ以下、最短記録波長もしくはビット長の２倍が１μ以下である高密度磁気記録システムで良好な電磁変換特性と走行耐久性を向上させる事を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは従来から公知であった、ベンゾグアナミン系樹脂粉末の走行耐久性を確保しつつ、更に高い電磁変換特性を得ることができる素材を探索した結果、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物やベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物よりも、メラミンホルムアルデヒド樹脂粉末で良好な電磁変換特性を得ることを見いだした。
即ち、下記構成により、より高い電磁変換特性と走行耐久性を両立させることができることが見いだされた。
（１）  非磁性支持体上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤とを含む一層以上の磁性層を設けた磁気記録媒体において、該磁性層中にメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
（２）  該磁性層に含まれるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の平均粒子径が０．０５〜１．５μｍであることを特徴とする上記（１）に記載の磁気記録媒体。
（３）  該磁性層中に含まれるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の含有量が、該磁性層に含まれる強磁性粉末１００重量部に対して、０．０５重量部以上、３重量部以下であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の磁気記録媒体。
（４）  非磁性支持体上に主として無機粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末と結合剤とを含む一層以上の磁性層を設けた磁気記録媒体において、該磁性層にメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
（５）  該磁性層の厚みが０．０５〜０．８μｍであることを特徴とする上記（４）に記載の磁気記録媒体。
（６）  該磁性層に含まれるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の粒子径が０．０５〜１．５μｍであることを特徴とする上記（４）又は（５）に記載の磁気記録媒体。
（７）  該磁性層中に含まれるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の含有量が、該磁性層に含まれる強磁性粉末１００重量部に対して、０．０５重量部以上、５重量部以下であることを特徴とする上記（４）又は（５）に記載の磁気記録媒体。
（８）  前記下層塗布層に含まれる無機粉末が、酸化チタン、α酸化鉄、硫酸バリウム、酸化亜鉛、アルミナの中から選ばれる一種以上であることを特徴とする上記（４）に記載の磁気記録媒体。
（９）  前記下層塗布層と少なくともそれに接する磁性層がウェットオンウェット塗布方式で形成されたものであることを特徴とする上記（４）に記載の磁気記録媒体。
【０００６】
更に、本発明の好ましい態様は以下の通りである。
（10）前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として、粒径０．０８μ以下の粒状非磁性金属酸化物であることを特徴とする磁気記録媒体。
（11）前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として、長軸長０．３μ以下の針状非磁性金属酸化物であることを特徴とする磁気記録媒体。
（12）前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として、板径０．０８μ以下の板状非磁性金属酸化物であることを特徴とする磁気記録媒体。
（13）前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末は、Ｈｃが１６００Oe以上、３５００Oe以下、かつσSが１２５emu/g以上、１８０emu/g以下、長軸長が0.04μ以上、0.18μ以下、結晶子サイズが 100Å以上、 200Å以下のα−Ｆｅを主成分とする金属磁性粉末であることを特徴とする磁気記録媒体。
（14）前記上層磁性層に含まれる結合剤の含有量が、強磁性粉末に対して８重量％以上２４重量％以下であることを特徴とする磁気記録媒体。それは、好ましくは９重量％以上２２重量％以下、更に好ましくは１０重量％以上１５重量％以下である。
（15）磁性層に含まれる非磁性粉末の含有量が２重量％以上１５重量％以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【０００７】
即ち本発明は以下のような構成要素の作用機構によって達成される。
従来より知られているベンゾグアナミン系樹脂粉末は、耐衝撃性、耐溶剤性があり、なおかつバインダー樹脂との親和性が良好であり、走行耐久性を向上させる好適な素材として知られている。これは添加することにより磁性層面の突起が増え、磁性層と摺動対象との摩擦抵抗が軽減されるためであると考えられる。しかしながら、ベンゾグアナミン樹脂粉末は添加することによる電磁変換特性の低下が著しく、また、添加量によってはドロップアウトが多くなる傾向があった。これは、詳細を調べたところ、ベンゾグアナミン樹脂粉末の場合、凝集して、２次粒子を形成し易く、分散性が不良であるため、非常に鋭く、大きい突起が磁性層面に形成される。それのために、ヘッドと磁性層面との隙間が大きくなり、いわゆるスペーシングロスが増えるためと考えられる。
【０００８】
それに対し、本発明に用いるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末を磁性層に適用した場合、凝集しにくく、２次粒子を形成しにくく、分散性が良好であることが判明した。この作用により、ベンゾグアナミン系樹脂粉末と同量の添加量でも、微細な粒子による低い突起が形成され、スペーシングロスが少なくなり、電磁変換特性が改善された。それと同時に、磁性層面の突起は所定量存在するため、摩擦抵抗低減への効果も同等に達成できた。
また、本発明に用いるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の効果は、超薄層磁性層（膜厚、０．０５〜０．８μｍ）において、特に顕著になる。これは、超薄層磁性層を塗布するためには、塗布液の送液量が少なくなり、特に樹脂粉末が凝集し易くなってしまい、顕著な電磁変換特性の低下になってしまう。しかし、本発明に用いるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末は、前述の如く、分散性に優れているため、凝縮し易い超薄層磁性層の場合に特に顕著な効果が得られる。
【０００９】
本発明に用いられるメラミンホルムアルデヒド樹脂とは、メラミンとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で、縮合させて得られる熱硬化性樹脂をいう。
上記メラミンホルムアルデヒド樹脂は、日刊工業新聞社プラスチック材料講座▲８▼ユリア・メラミン樹脂等に記載の方法により製造することができる。
ここで、該樹脂の粉末の粒子中には、メラミンホルムアルデヒド樹脂以外に他の種類の添加剤を含んでもよい。それら他の添加剤としては、該樹脂を補強するために、α−セルロース等の充填剤等を挙げることができる。その添加量としては、メラミンホルムアルデヒド樹脂に対して５〜５０重量％の範囲である。
用いられるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の粒子径としては、０．０５〜１．５μｍ、好ましくは０．１〜１．２μｍ、更に好ましくは０．１〜０．６μｍである。上記粒子径が１．５μｍを超えると、表面粗さが大きくなり電磁特性が低下し、ドロップアウトが増加する。上記粒子径が０．０５μｍ未満だと、摩擦係数低減の効果が少ない。
【００１０】
該樹脂粉末の好ましい特性としては、真比重が１．３〜１．７であり、比表面積が４〜４０m2/g、好ましくは５〜３０m2/g、更に好ましくは７〜２５m2/gであり、吸油量が５０〜１００ml/100g、好ましくは６０〜９０ml/100g、更に好ましくは７０〜８５ml/100gである。
本発明に用いることができるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末としては、例えば、日本触媒製エポスターＳ、Ｓ６、Ｓ１２、大日精化製ＦＦ−１等を挙げる事ができる。
メラミンホルムアルデヒド樹脂粉末の添加量は、磁性体１００重量部に対して、単層構成磁性層の場合０．０５〜３重量部、好ましくは０．１〜２重量部、より好ましくは０．２〜１重量部である。厚みが０．２μ以上の塗布層が二層以上からなる重層構成磁性層の場合、０．０５〜５重量部、より好ましくは０．１重量部〜３重量部、更に好ましくは０．２〜１重量部である。上記添加量が大きすぎると、表面粗さが大きくなり、電磁特性が低下し、エラーレートが大きくなる。添加量が少なすぎると、摩擦係数低減の効果少ない。
本発明に用いることができるメラミンホルムアルデヒド樹脂粉末とともに、従来より公知のモース硬度５以上の非磁性粉末やカーボンブラックと併用することはなんら問題なく、目的に応じて独立に添加することができる。
【００１１】
次に磁性層に関する詳細な説明をする。
本発明における磁性層に使用する強磁性粉末としては、γ−ＦｅＯx（x＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯx（x＝１．３３〜１．５）、α−ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金粉末、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性粉末が使用できるが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、メタル磁性体の場合はＡｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｍ，Ｂがα−Ｆｅ以外に含まれる元素として重要である。特にＣｏはＦｅに対して１〜４０atm％、Ａｌは３〜２０atm％、Ｙは１〜１０atm％、Ｓｉは１〜２０atm％、Ｎｄは１〜１０atm％、Ｓｍは１〜１０atm％の範囲で含まれることが好ましい。
これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭44-14090号、特公昭45-18372号、特公昭47-22062号、特公昭47-22513号、特公昭46-28466号、特公昭46-38755号、特公昭47-4286号、特公昭47-12422号、特公昭47-17284号、特公昭47-18509号、特公昭47-18573号、特公昭39-10307号、特公昭48-39639号、米国特許3026215号、同3031341号、同3100194号、同3242005号、同3389014号などに記載されている。
【００１２】
上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末については少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００１３】
本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば４５〜８０ｍ2／ｇであり、好ましくは５０〜７０ｍ2／ｇである。更に好ましくは５０〜６０ｍ2／ｇである。４５ｍ2／ｇ未満ではノイズが高くなり、８０ｍ2／ｇを超える場合では表面性が得にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは８０〜３５０オングストロームであり、好ましくは１００〜２００オングストローム、更に好ましくは１２０〜２００オングストロームである。
磁性金属粉末のσSは１００〜１８０ｅｍｕ／ｇが好ましく、さらに好ましくは１１０emu/g〜１８０emu/g、更に好ましくは１２５〜１８０emu/gである。金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）は１，６００Oe以上、３，５００Oe以下であり、好ましくは、１，６００Oe以上、３，０００Oe以下、更に好ましくは１，８００Oe以上２５００Oe以下である。強磁性粉末の長軸長は、０．０４〜０．１８μｍが好ましく、より好ましくは０．０４〜０．１１μｍである。強磁性粉末の針状比は４以上１８以下が好ましく、更に好ましくは５以上１２以下である。強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。  強磁性粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜２０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。
【００１４】
また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、紡錘状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。強磁性粉末のＳＦＤが０．６以下を達成するためには、強磁性粉末のＨｃの分布を小さくする必要がある。そのためには、ゲータイトの粒度分布をよくする、γ−ヘマタイトの焼結を防止するという方法がある。
【００１５】
本発明に使用される結合剤としては従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１，０００程度のものである。
【００１６】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層塗布層、または上層磁性層に使用することも可能である。
【００１７】
これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげられる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレタン、など公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、  −Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ、−Ｎ+（Ｒは炭化水素基）エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイン、ホスホベタイン、カルボキシベタインなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。
【００１８】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト社製  ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、ＵＲ−８７００、ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、ＦＢ−８４、ＦＢ−７９、大日精化社製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製、ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、ＴＩＭ−３００３、ＴＩＭ−３００５、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。この中でＭＲ−１０４、ＭＲ１１０、ＭＰＲ−ＴＡＯ、ＵＲ−８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、ＵＲ−５５００、ＴＩＭ−３００５が好ましい。
【００１９】
本発明の磁性層に用いられる結合剤の添加量は、強磁性粉末に対し、８〜２４重量％の範囲が好ましく、より好ましくは９〜２２重量％の範囲、特に好ましくは１０〜１５重量％の範囲で用いられる。
塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ましい。
本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２，０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ2、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ2が好ましい。
本発明の磁気記録媒体は二層以上の構成にすることが好ましい。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層塗布層と上層磁性層、その他磁性層とで変えることはもちろん可能であり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、上下層、中間層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには上層磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にする為には、上層磁性層以外の磁性層か中間層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることにより達成される。
本発明に用いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４−４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮデスモジュールＨＬ，大日本インキ製バーノックＤ５０２等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層塗布層、上層磁性層とも用いることができる。
【００２０】
次に下層塗布層を用いる場合、それに関する詳細な内容について説明する。
本発明の下層塗布層に用いられる無機粉末は、非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは、入手の容易さ、コスト、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多い事等から、アルミナ、二酸化チタン等の酸化チタン、酸化亜鉛、α酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。より好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍであり、特に０．０１μｍ〜０．０８μｍが好ましい。また、金属酸化物が針状である場合、長軸長が０．３μｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは、０．０４〜０．２μｍである。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ2／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ2／ｇ、更に好ましくは１０〜６５ｍ2／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μが更に好ましい。DBPを用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。
比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。
【００２１】
強熱減量は２０重量％以下であることが好ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本発明に用いられる上記無機粉体のモース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。無機粉体のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μmol／m2、更に好ましくは２〜１５μmol/m2である。下層塗布層非磁性粉体の２５℃での水への湿潤熱は２００erg/cm2〜６００erg/cm2の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個/100Åが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。
【００２２】
これらの非磁性粉体の表面にはAl2O3、SiO2、TiO2、ZrO2，SnO2，Sb2O3，ZnO3, Y2O3で表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはAl2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、であるが、更に好ましいのはAl2O3、SiO2、ZrO2である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００２３】
本発明の下層塗布層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製HIT-100,ZA-G1、戸田工業社製αヘマタイトDPN-250，DPN-250BX、DPN-245,DPN-270BX、DBN-SA1、DBN-SA3、石原産業製酸化チタンTTO-51B、TTO-55A,TTO-55B、TTO-55C、TTO-55S、TTO-55D、SN-100,αヘマタイトE270,E271,E300,E303、チタン工業製酸化チタンSTT-4D、STT-30D、STT-30、STT-65C、αヘマタイトα−４０、テイカ製MT-100S、MT-100T、MT-150W、MT-500B、MT-600B、MT-100F、MT-500HD。堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-10,BF-20,ST-M、同和鉱業製DEFIC-Y,DEFIC-R、日本アエロジル製AS2BM,TiO2P25,宇部興産製100A,500A、及びそれを焼成したものが挙げられる。
【００２４】
特に好ましい非磁性粉体は二酸化チタンとα−酸化鉄である。α−酸化鉄（ヘマタイト）は以下のような諸条件の基で実施される。即ち、本発明におけるα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末は、通常の▲１▼第一鉄水溶液に等量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト粒子を生成させる方法。▲２▼第一鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ3を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により紡錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法  ▲３▼第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ2+に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法及び▲４▼第一鉄水溶液と等量未満の水酸化アルカリまたは炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法等により得られた針状ゲータイト粒子を前駆体粒子とする。
【００２５】
尚、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉末の特性向上等の為に通常添加されている、Ｎｉ、Ｚｎ，Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障はない。
【００２６】
前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 を粒子を得る。
【００２７】
尚、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータイト粒子が表面にＰ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障はない。
【００２８】
３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子の極表面を溶融させて空孔ををふさいで平滑な表面形態とさせる事が好ましいからである。
【００２９】
本発明において用いられるα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末は前記脱水または焼き鈍しをして得られた針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・厚密処理等を施す事により得られる。用いられるＡｌ化合物は酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末に対してＡｌ換算で０．０１〜５０重量％である。０．０１重量％未満である場合には、結合剤樹脂中における分散が不十分であり、５０重量％を超える場合には粒子表面に浮遊するＡｌ化合物同士が相互作用するために好ましくない。本発明における下層の非磁性粉末においては、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとして、Ｐ，Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ，Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂから選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆することもできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末に対して０．０１〜５０重量％の範囲である。０．０１重量％未満である場合には添加による分散性向上の効果が殆どなく、５０重量％を超える場合には、粒子表面以外に浮遊する化合物同士が相互作用をする為に好ましくない。
二酸化チタンの製法に関しては以下の通りである。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ4にＦｅはＦｅＣｌ2となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ4と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ4は精留により精製した後核生成剤を添加し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。
【００３０】
表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれる。まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉体にAlCl3,SiCl4の蒸気を通じその後水蒸気を流入してAl,Si表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法についてはG.D.Parfitt and K.S.W. Sing”Characterization of Powder Surfaces”Academic Press,1976を参考にすることができる。
【００３１】
磁性層、下層塗布層にカーボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。  下層塗布層のマイクロビッカース硬度は通常、２５〜６０ｋｇ／ｍｍ2 、好ましくはヘッド当たりを調整するために、３０〜５０ｋｇ／ｍｍ2 であり、ＮＥＣ製薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて、測定する。光透過率は一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、例えばＶＨＳでは０．８％以下であることが規格化されている。
【００３２】
下層のカーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ2／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g、好ましくは３０〜２００ml/100gである。カーボンブラックの粒子径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましくは１０〜５０ｍμ、さらに好ましくは１０〜４０ｍμである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ml、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化成工業社製、＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００，＃４０１０、コンロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  8800,8000,7000,5750,5250,3500,2100,2000,1800,1500,1255,1250、アクゾー社製ケッチェンブラックECなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧  カーボンブラック協会編」を参考にすることができる。
【００３３】
また下層塗布層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭62-18564号、特開昭60-255827号に記されているようなものが使用できる。
【００３４】
下塗層は一般の磁気記録媒体において設けることが行われているが、これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるために設けられるものであって、厚さも０．５μｍ以下が一般的である。
【００３５】
本発明に用いられる研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ＰＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ2／ｇ、が好ましい。
本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製、ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−６０，ＨｉＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−７０Ａ、ＨＩＴ−８０，ＨＩＴ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製、Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤は下層塗布層、上層磁性層で種類、量および組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在する研磨剤は５〜１５０個／１００μｍ2、好ましくは１０〜１２０個／１００μｍ2である。
【００３６】
本発明に使用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。
【００３７】
これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート 、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、があげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物  等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００３８】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は中間層、磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、中間層、磁性層で融点のことなる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。
【００３９】
また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【００４０】
本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート、ブチルラウレート、エルカ酸、関東化学社製、オレイン酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンアーマー社製、アーマイドＰ、アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油社製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ−２００  イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００イオネットＤＯ−２００などが挙げられる。
【００４１】
本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と中間層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。中間層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層磁性層溶剤組成の算術平均値が下層塗布層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上２０以下の溶剤が５０重量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【００４２】
本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体が１〜１００μｍであるが、特に、１〜８μｍの薄い非磁性支持体を用いる場合に有効である。  上層磁性層と下層塗布層を合わせた厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。また、非磁性支持体と下層塗布層の間に密着性向上のためのの接着層を設けることができる。接着層の厚みは０．０１〜２μｍ、このましくは０．０２〜０．５μｍである。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの接着層、バックコート層は公知のものが使用できる。
【００４３】
本発明に用いられる非磁性支持体は、マイクロビッカース硬度が７５kg/mm2以上のものであり、二軸延伸を行ったポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフィルムが使用できる。特に、アラミド樹脂もしくはポリエチレンナフタレートを用いた非磁性支持体が好ましい。  これらの非磁性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体の磁性層を塗布する面の中心線平均表面粗さが１０ｎｍ以下０．１ｎｍ以上、好ましくは６ｎｍ以下０．２ｎｍ以上、さらに好ましくは４ｎｍ以下０．５ｎｍ以上のものを使用する必要がある。また、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて非磁性支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーとしては一例としてはＡｌ，Ｃａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久性との両立を図るためには、バック層を塗布する面の粗さは磁性層を塗布する面の粗さより粗い事が好ましい。バック層塗布面の中心線表面粗さは好ましくは１ｎｍ以上、更に好ましくは４ｎｍ以上である。磁性層塗布面とバック層塗布面との粗さを変える場合には、デュアル構成の支持体を用いても良いし、コーテイング層を設ける事によって変えても構わない。
【００４４】
本発明に用いられる非磁性支持体のテープ走行方向のＦ−５値は好ましくは１０〜５０ｋｇ／ｍｍ2、テープ幅方向のＦ−５値は好ましくは１０〜３０Ｋｇ／ｍｍ2であり、テープの長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでない。また、非磁性支持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2、弾性率は１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ2、が好ましい。また、本発明での９００nmでの光透過率は３０％以下が好ましく、更に好ましくは３％以下である。
【００４５】
本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、本発明に用いる樹脂粉末、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術のを一部の工程としてを用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することにより初めて本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができた。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。また、下層塗布層非磁性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。
【００４６】
本発明において重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法を説明する。
本発明において用いることができる塗布方式としては、前記下層塗布層と少なくともそれに接する磁性層がウェットオンウェット塗布方式が好ましい。
本発明において重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案できる。
１，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層がウェット状態にのうちに特公平1-46186号や特開昭60-238179号，特開平2-265672号に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層磁性層を塗布する。
２，特開昭63-88080号、特開平2-17971号，特開平2-265672号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。
３，特開平2-174965号に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する。
なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62-95174号や特開平1-236968号に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平3-8471号に開示されている数値範囲を満足する必要がある。
【００４７】
本発明の磁気記録媒体を得るためには強力な配向を行う必要がある。１，０００Ｇ以上のソレノイドと２，０００Ｇ以上のコバルト磁石を同極対向で併用することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。高密度記録を行うためには、針状、板状に関わらず、磁化容易軸を垂直方向に傾けることが有効であることが知られており、これと組み合わせることも有効である。
また、非磁性層、磁性層を同時重層塗布する以前にポリマーを主成分とする接着層を設けることやコロナ放電、ＵＶ照射、ＥＢ照射することにより接着性を高める公知の手法を組み合わせることが好ましい。
【００４８】
さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属ロール同志で処理することも出来る。処理温度は、好ましくは７０〜１２０℃、さらに好ましくは８０〜１００℃以上である。線圧力は好ましくは２００〜５００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ましくは３００〜４００Ｋｇ／ｃｍ以上である。
【００４９】
本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは０．１〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３である。表面固有抵抗は好ましくは１０4〜１０12オーム／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ2、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ2、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、長い方向とも好ましくは１００〜１，５００Ｋｇ／ｍｍ2、残留伸びは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下で、０％が理想である。磁性層のガラス転移温度(110HZで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層塗布層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０8〜８×１０9dyne/cm2の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障がでやすい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2以下であり、上層磁性層に含まれる残留溶媒が下層塗布層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層が有する空隙率は非磁性下層塗布層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。
【００５０】
本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場１０ｋＯｅでＶＳＭで測定した場合、テープ走行方向のＨｃは１６００〜３５００Oe、好ましくは１８００〜３０００Oe、更に好ましくは２０００〜２５００Oeである。角形比は０．７５以上であり、好ましくは０．８０以上であり、さらに好ましくは０．８５以上である。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となることが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であることが好ましく、更に好ましくは０．５以下、理想的には０である。長手方向のレマネンス抗磁力Ｈｒも１８００Oe以上３０００Oe以下が好ましい。垂直方向のＨｃ及びＨｒは１０００Oe以上５０００Oe以下であることが好ましい。
【００５１】
磁性層の中心線表面粗さＲａは０．５ｎｍ〜１０ｎｍが好ましいが、その値は目的により適宜設定されるべきである。電磁変換特性を良好にする為にはＲａは小さいほど好ましいが、走行耐久性を良好にするためには逆に大きいほど好ましい。ＡＦＭによる評価で求めたＲＭＳ表面粗さＲRMSは２ｎｍ〜１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００５２】
本発明の磁気記録媒体が下層塗布層と上層磁性層を有する場合、目的に応じ下層塗布層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層塗布層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。また、支持体のテンシライズ方法を変更して、ヘッド当たりを改良することが本発明においても有効であり、テープ長手方向に対し、直角な方向にテンシライズした支持体の方がヘッド当たりが良好になる場合が多い。
【００５３】
【実施例】
次に本発明の実施例、比較例により具体的に本発明を説明するが、本発明の内容がこれらに限定されるものではない。実施例中、「部」との表示は「重量部」を表す。
ここで用いた有機樹脂粉末は以下の３種類である。
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【００５４】
【化１】
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【００５５】
実施例１
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上記の塗料をオープンニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン（株）製コロネートＬ）を、５部、さらにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層形成用の塗布液を調整した。
得られた磁性層塗布液を磁性層の厚さが２．０μｍになるように、厚さ８μｍで磁性層塗布面の中心線表面粗さが０．００２μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上にダイコート塗布をおこない、塗布した層がまだ湿潤状態にあるうちに４０００Ｇの磁力をもつコバルト磁石と３０００Ｇの磁力をもつソレノイドにより配向させ乾燥後、金属ロールのみから構成される７段のカレンダで温度９０℃にて分速２００m/min.で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層を塗布した。８mmの幅にスリットしてデジタルビデオテープを作成した。
【００５６】
比較例１
上記、実施例１の上記有機樹脂粉末Ａの代わりに上記有機樹脂粉末Ｂのベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂粉末を添加して、それ以外は実施例１と同様にして８ｍｍビデオテープを作成した。
【００５７】
比較例２
上記、実施例１の上記有機樹脂粉末Ａを省略して、それ以外は実施例１と同様にして８ｍｍビデオテープを作成した。
【００５８】
実施例２
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【００５９】
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上記の塗料のそれぞれについて、各成分をオープンニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた下層分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン（株）製コロネートＬ）を下層塗布層の塗布液には５部加え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層塗布層、磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。
得られた下層塗布層塗布液を、乾燥後の厚さが１μｍになるようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．１１μｍになるように、厚さ５．５μｍで磁性層塗布面の中心線表面粗さが０．００１μｍのポリエチレンナフタレート支持体上に同時重層塗布をおこない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００Ｇの磁力をもつコバルト磁石と３０００Ｇの磁力をもつソレノイドにより配向させ乾燥後、金属ロールのみから構成される７段のカレンダで温度９０℃にて分速２００m/min.で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層を塗布した。８mmの幅にスリットし、デジタルビデオテープを作成した。
【００６０】
実施例３  実施例２において、用いた上記有機樹脂粉末Ａの添加量を０．１重量部にした。それ以外は、実施例２と同様にしてデジタルビデオテープを作成した。
実施例４  実施例２の上層磁性層の厚みを０．８μ迄厚くした。それ以外は、実施例２と同様にしてデジタルビデオテープを作成した。
実施例５  実施例２のメラミンーホルムアルデヒド樹脂粉末の添加量を５重量部まで増加させた。それ以外は、実施例２と同様にしてデジタルビデオテープを作成した。
【００６１】
比較例３  実施例２の上記有機樹脂粉末Ａの代わりに、上記有機樹脂粉末Ｂのベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂粉末を用いた。それ以外は、実施例２と同様にしてデジタルビデオテープを作成した。
比較例４  実施例２の上記有機樹脂粉末Ａの代わりに、上記有機樹脂粉末Ｃであるベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粉末を用いた。それ以外は、実施例２と同様にしてデジタルビデオテープを作成した。
【００６２】
実施例６  実施例２の強磁性金属微粉末を以下の物に変更した。それ以外は、実施例２と同様にしてデジタルビデオテープを作成した。
0003662285.tif 000007
実施例７  実施例２の上記有機樹脂粉末Ａの代わりに、上記有機樹脂粉末Ｄであるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂粉末を用いた。それ以外は、実施例２と同様にしてデジタルビデオテープを作成した。
【００６３】
以下に、上記で示した物性値の測定方法を示す。
＜磁性層の厚み測定方法＞
磁気記録媒体の長手方向に渡ってダイアモンドカッターで約０．１μｍの厚みに切り出し、透過型電子顕微鏡で倍率３万倍で観察し、その写真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ４版である。その後、磁性層、非磁性層の強磁性粉末や非磁性粉末の形状差に着目して界面を目視判断して黒く縁どり、かつ磁性層表面も同様に黒く縁どった。その後、Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて縁とりした線の間隔を測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの範囲に渡り、測定点を点取って測定した。その際の測定値の単純加算平均値を磁性層の厚みとした。
【００６４】
＜ＢＥＴ法による比表面積＞
カンターソープ（ＵＳカンタークロム社製）を用いた。２５０℃，３０分間窒素雰囲気で脱水後ＢＥＴ一点法（分圧０．３０）で測定した。
＜磁気特性Ｈｃ，Ｂｒ、角型比＞
振動試料型磁束計（東英工業製）を用い、Ｈｍ１０ｋOeで測定した。
Ｂｍは上記磁性層厚み測定方法により求めた。
＜強磁性粉末、非磁性粉体の粒子径＞
透過型電子顕微鏡写真を撮影し、その写真から強磁性粉末の短軸径と長軸径とを直接読みとる方法と画像解析装置カールツァイス社製ＩＢＡＳＳ１で透過型顕微鏡写真をトレースして読みとる方法とを適宜併用して平均粒子径を求めた。
【００６５】
＜強磁性粉末結晶子サイズ＞
Ｘ線回折によりγ酸化鉄強磁性粉末では（４，４，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値幅のひろがり分から求めた。メタル強磁性粉末の場合は同様に（１，１，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値幅の広がり分から求められる。
＜中心線平均表面粗さ＞
ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いて、媒体表面をＭＩＲＡＵ法で約２５０ｎｍ×２５０ｎｍの面積のＲａを測定した。測定波長は約６５０ｎｍで球面補正、円筒補正を加えている。本方式は光干渉にて測定する非接触の表面粗さ計である。
【００６６】
次に、上記で得られた種々のデジタルビデオテープの諸特性を下記のように、評価した。その評価した結果、及び主な構成を下記表−１に示した。
＜突起数＞
デジタルインスツルメンツ社のナノスコープ３（ＡＦＭ：原子間力顕微鏡）を用いて稜角７０゜の四角錐のＳｉＮの探針を使って、３０μｍ2 角の中の突起高さ２０nm以上の突起の数と５０nm以上の突起の数を測定した。
【００６７】
＜電磁変換特性＞
「出力」
レファレンスは当社８ｍｍ用レファレンスＭＰテ−プで、外当て式ドラムテスタを用いて、相対速度１０．２ｍ／ｓｅｃで記録波長０．４８８μでの出力を測定した。用いたヘッドはＦｅ系ヘッドでＢｓが１．５Ｔである。
「ビット誤り率」
上記の外当て式ドラムテスターを用いて、コンピューターにてランダムデータを２４−２５変換したスクランブルドインターリーブド  ＮＲＺ−Ｉ信号をテスト信号とし、本テスト信号を記録／再生したデータをＰＲ４復調し、このデータをテスト信号と比較して、エラー検出し、そのエラーの比率を表した。誤り率は１０-3以下であれば、画像に破綻が出る事はないが、１０-4以下であることが望ましい。
【００６８】
＜摩擦係数＞
４ｍｍφのＳＵＳ４２０Ｊに１８０度の角度でテープを渡し、荷重を１０g、秒速１８ｍｍで摺動させて、オイラーの式に基づいて摩擦係数を求めた。
【００６９】
【化２】
0003662285.tif 000008
【００７０】
＜ドロップアウト＞
Hi-8デッキV-S900を用い、7.6MHz単一信号を入力し、スレショルドレベル-10dB 、0.5 μsecのドロップアウトを芝測製ドロップアウトカウンターで測定した。
【００７１】
【表１】
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【００７２】
【表２】
0003662285.tif 000010
【００７３】
上記表−１に示すように、本発明の実施例１〜７は、上記有機樹脂粉末Ａ又はＤ（メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粉末）を用いることにより、磁性層上の大きな突起が少なく、出力、ビット誤り率、即ち電磁変換特性が良好で、且つ摩擦係数、ドロップアウトを低減できた。
一方、有機樹脂粉末を用いないか、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、あるいはベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド樹脂を用いた比較例１〜４は、上記電磁変換特性、摩擦係数、ドロップアウトの全てにおいて、満足した結果は得られなかった。
【００７４】
【発明の効果】
本発明により、電磁変換特性が良好で走行耐久性に優れ、ドロップアウトの低減及び低い摩擦係数を可能にした磁気記録媒体を提供でき、特にトラック幅４０μｍ以下、最短記録波長もしくはビット長の２倍が１μ以下である高密度磁気記録システムで良好な電磁変換特性と走行耐久性を向上させる事ができる。