(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｎが５０〜７０重量％、Ａｇが０．１〜０．５重量％（０．５重量％を含まず）、Ｂｉが０．１〜２．０重量％、Ｃｕが０．０３〜０．３重量％、Ｓｂが０．１〜２．０重量％、残部がＰｂからなることを特徴とするはんだ合金。
【請求項２】
請求項１記載の組成１００重量部にＧａが０．５重量部〜０．００１重量部添加されていることを特徴とするはんだ合金。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明ははんだ付け部の目視検査が容易な耐熱疲労特性に優れたつや消しはんだ合金に関し、例えば、プリント回路基板に電子回路部品をフロ−法やリフロ−法によりはんだ付けする場合に使用されるものである。
【０００２】
【従来の技術】
プリント回路基板に半導体素子等の電子回路部品を実装する場合、フロ−法またはリフロ−法が使用されている。
【０００３】
フロ−法においては、プリント回路基板のスルホ−ルにディスクリ−ト部品のリ−ドを挿入し、この挿入箇所に溶融はんだを浸漬法や噴流法等により付着させてはんだ付けを行っている。
また、リフロ−法においては、クリ−ムはんだ（はんだ粉末とフラックスとの混練物）を使用し、このクリ−ムはんだの粘着力でチップタイプ回路部品を所定の位置に仮固定し、次いで加熱炉に導き、はんだを溶融してはんだ付けを行っている。
【０００４】
近来、電子機器の小型化、高性能化に伴い電子部品の実装高密度化が進み、発熱量の増加によりはんだ付け部が過酷な熱的環境に曝され、基板と表面実装部品との熱膨張率の差により発生する応力の増大が著しく、はんだにはこの過酷な熱応力に耐え得る耐熱疲労特性の向上が要求され、かかる要求に応じるために種々のはんだ合金が提案されている（例えば、特開平７−１１６８８７号、特開平７−１７８５８７号、特開平７−１９５１８９号、特開平７−２９９５８５号、特開平８−１３２２７８号、特公平８−２５０５１号、特許第２５４３９４１号、特許第２５４３９８５号等）
【０００５】
電子回路部品のはんだ付けにおいて生じる可能性のある欠陥は多様であり、ピン浮き、未はんだ、はんだウィック、濡れ性不良、はんだ量過多、はんだブリッジ、はんだボ−ル、はんだフィレット形状異常、部品位置ずれ、マンハッタン現象等を列挙できる。
はんだ付け品質自動検査装置として、Ｘ線透過方式（例えば、配線板を透過したＸ線をイメ−ジ・インテンシファイアで可視像に変換するもの）、超音波探傷方式、レ−ザ方式（欠陥箇所と非欠陥箇所とのレ−ザ照射による温度上昇の差異を赤外線で検知するもの）等が使用されているが、これらで上記多様な全ての欠陥を確実に検出することは困難であり、目視が最も確実で、かつ信頼性の高い方法である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、通常、はんだ付け部は、光沢性を有するために鏡面となり、微小かつ多数箇所のはんだ付け部の目視観察においては、検査員の眼睛疲労を促し、作業性の低下や検査精度の低下が避けられない。
従来、はんだ付け部のつやを消し、前記眼睛疲労の防止を図ったつや消しはんだが提案されているが（例えば、特開昭５５−５０９９５号、特開昭６２−１０７８９６号）、上記した通り、近来での電子回路部品の実装に要求されている耐熱疲労性は極めて高度であり、従来のつや消しはんだではかかる耐熱疲労性を充たし難い。
【０００７】
本発明者はかかる耐熱疲労性を充足し得るはんだ合金として、「Ｓｎが５０〜７０重量％、Ｂｉが０．１〜２．０重量％、Ｃｕが０．０３〜０．３重量％、Ｓｂが０．１〜２．０重量％、残部がＰｂからなるもの」を既に提案した（特許第３４２３３８７号）。
而るに、本発明者はこのはんだ合金の耐熱疲労性を保持しつつ前記のつや消し性を付与すべく、更に鋭意検討を行った結果、Ａｇを０．１〜０．５重量％（０．５重量％は含まない）で添加することの有効性を見出した。
従来、はんだ合金にＡｇを添加することは、例えば、銀食われの防止を目的として行うことが公知であるが、この場合の添加量は通常０．５重量％以上であり、かかる添加量では、ＳｎとＰｂとＡｇの三元共晶が生じ易く、光沢を呈し、有効なつや消しは期待できない。
【０００８】
本発明の目的は、はんだ付け部の容易な目視検査を可能とするつや消しと、優れた耐熱疲労性を共に達成できるはんだ合金を提供することにある。
本発明の目的は、また、すでに本発明者が提案した特許第３４２３３８７号のはんだ合金の優れた耐熱疲労性を維持しつつ、つや消し性を付与することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るはんだ合金は、Ｓｎが５０重量％以上でかつ７０重量％以下、Ａｇが０．１重量％以上でかつ０．５重量％未満）、Ｂｉが０．１重量％以上でかつ２．０重量％以下、Ｃｕが０．０３重量％以上でかつ０．３重量％以下、Ｓｂが０．１重量％以上かつ２．０重量％以下、残部がＰｂからなることを特徴とする構成であり、この組成１００重量部にＧａを０．５重量部〜０．０１重量部添加することができる。
【００１０】
本発明の合金においては、添加元素（Ｂｉ，Ｃｕ，Ｓｂ，Ａｇ）以外の成分を不純物として含有するのが通常であり、ＪＩＳ−Ｚ−３２８２−表３に規定されているＡ級の化学成分に従い、Ｚｎを０．００３重量％以下、Ｆｅを０．０３重量％以下、Ａｌを０．００５重量％以下、Ａｓを０．０３重量％以下、Ｃｄを０．００５重量％以下の範囲で含有することが許容される。
【００１１】
本発明に係るはんだ合金において、Ｓｎ−Ｐｂ系合金をベ−スとした理由は、はんだ付けの基本的要件である濡れ性を確保するためであり、Ｓｎを５０〜７０重量％とした理由は、これ以外の範囲では、はんだ付けの作業性がＳｎ−Ｐｂ共晶合金に較べて相当に悪化し、液相線が高くなってプリント回路基板や電子回路部品の熱衝撃が苛酷となり、特に７０重量％を越えると高コストとなるからである。
【００１２】
Ｂｉ，Ｃｕ，Ｓｂの添加は、特定の配合割合のもとで、相乗効果によつてはんだ自体の機械的強度、伸び性、クリ−プ等の機械的特性を高め、この場合、固相線と液相線とをよく近接させ半溶融状態を極力排除してはんだ組織の粗大化を防止し、その機械的特性の向上を効果的に促進し、更に、はんだ付け界面に堅牢な組織の合金層を形成させて接合強度を高めて耐熱疲労特性を向上させることにあり、Ａｇの添加は、Ｂｉとの相乗効果によって微細結晶の析出によって表面のつやを消すことにある。
【００１３】
すなわち、Ａｇの添加は、はんだ合金の凝固時に微細結晶を析出させて表面をつや消しすることにあり、その添加量を０．１〜０．５重量％とした理由は、０．１重量％未満ではつや消しを満足に達成し得ず、０．５重量％を越えるとＳｎとＰｂとＡｇの三元共晶組成に近づくために光沢を帯るに至るからである。
【００１４】
Ｂｉの添加は、Ａｇとの共存下で凝固時に微細結晶を析出させて表面をつや消しすることとはんだ合金の機械的強度を増大させることにあり、その添加量を０．１〜２．０重量％とした理由は、０．１重量％未満ではその効果を満足に達成し得ず、２．０重量％を越えると、はんだ自体の粘性が低下し、耐熱疲労性に諸に関与する伸びが減少し、脆くなるからである。
【００１５】
Ｃｕの添加は、はんだ合金の機械的強度を増大させることにあり、その添加量を０．０３重量％〜０．３重量％とした理由は、０．０３重量％未満ではその効果を満足に達成し得ず、０．３重量％を越えると液相線温度が高くなってプリント回路基板や電子回路部品の熱衝撃が苛酷となるばかりか、耐熱疲労性に諸に関与する機械的強度が減少し、更にはんだの流動性が低下するからである。
【００１６】
Ｓｂの添加ははんだ合金の機械的強度と接着強度を増大させることにあり、その添加量を０．１〜２．０重量％とした理由は、０．１重量％未満ではこれらの効果を満足に達成し得ず、２．０重量％を越えるとはんだが硬い脆弱な組織となり、伸びが低下し、また界面接合強度が低下して所望の耐熱疲労性を得ることができず、更に流動性が悪くなり、はんだ付け作業性が低下するからである。
【００１７】
上記請求項２記載の発明において、Ｇａを添加する理由は、溶融下での酸化を抑制し、その酸化物の巻き込みによる接合部の機械的強度の低下を防止すると共にＣｕやＳｂの添加による濡れ性の低下を補償するためであり、その添加量を０．００１〜０．５重量部とした理由は、０．００１重量部以下では当該効果を満足に達成し得ず、０．５重量部以上でははんだの脆弱化か招来されるからである。
本発明に係るはんだ合金においては、フロ−法でのはんだ浴、リフロ−法での粉末はんだの他、棒状や線状、やに入りはんだの形態でも使用可能である。
【００１８】
本発明に係るはんだ合金によれば、液相線温度をほぼ１９０℃程度に抑えることができ、プリント回路基板や電子回路部品の熱的破損の畏れなくフロ−法やリフロ−によるはんだ付けを安全に行うことができ、また、フロ−はんだの流動性が良く作業性に優れている等の利点は勿論のこと、  はんだ接合部の外面をつや消し面にできるから、はんだ付後、光反射による眼睛疲労を排除して目視検査を容易に行うことができ、  はんだ自体の機械的強度、伸び等が優れており、また、はんだ接合界面の接着強度を大にできるから、繰返し応力に対してはんだ接合部に優れた耐久性、即ち、耐熱疲労特性を付与できる、等の利点を得ることができる。
このことは、次ぎの実施例と比較例との対比からも明らかである。
【００１９】
【実施例】
以下の実施例並びに比較例における引張り強度並びに伸びは、各合金組成についてＪＩＳ−Ｚ−２２０１−４号の規定に準じて試験片を２０個調整し、ロ−ドセル方式万能試験機を用い、引張り速度５ｍｍ／ｍｉｎ、温度２０℃にて測定した測定値の平均値である。
【００２０】
また、ヒ−トサイクル試験の不良発生率は、紙フエノ−ルプリント回路基板にナイロン製コネクタ−（ピン数４０本）を噴流浴槽を使用し、フロ−法によりはんだ付けした試料２０個につき、１２５℃で１時間加熱、−５５℃で１時間冷却を１サイクルとして１０００サイクル、ヒ−トサイクル試験を行い、はんだ接合部に皺、クラック、剥離等の不良の発生の有無を観察して求めた。
【００２１】
また、その観察時、作業者が光の反射なしに観察できたものをつや消し効果が優、光の反射のために観察に著しく目障りになったものをつや消し効果が不可、光の反射の程度が観察に目障りになるものであったが目障りが比較的軽度のものをつや消し効果が可として評価した。
【００２２】
〔実施例１〕
Ｓｎ：６３重量％、Ａｇ：０．１重量％、Ｂｉ：０．６重量％、Ｃｕ：０．０９重量％、Ｓｂ：０．６重量％、残部Ｐｂの合金組成である。引張り強度は６．２kg/mm 、伸びは８０％であった。また、ヒ−トサイクル試験の不良発生率は１５％であり、つや消し効果は優であった。
〔実施例２〜９〕
表１に示す通りの合金組成であり、引張り強度、伸び、ヒ−トサイクル試験の不良発生率は表１の通りであり、つや消し効果は全て優であった。
【００２３】
【表１】
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【００２４】
〔比較例１〜９〕
表２に示す通りの合金組成であり、引張り強度、伸び、ヒ−トサイクル試験の不良発生率、つや消し効果は表２に示す通りであった。
【表２】
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【００２５】
（比較例１〜比較例６）と比較例７との対比から、添加元素Ｓｂ、Ｂｉ及びＣｕの何れを欠如しても接合不良発生率が高く、しかも、つや消し効果が悪く不良箇所の目視検査が困難であって、信頼性のあるはんだ付けが難しい。
また、比較例７と実施例との対比から、添加元素Ｓｂ、Ｂｉ及びＣｕの全てを含んでいてもＡｇを欠如すれば、接合不良発生率は高く保持できても、つや消し効果が悪く不良箇所の目視が困難であって、目視検査は困難である。
更に、比較例８と９とから、Ａｇを添加しても、その添加量が０．１〜０．５重量％の範囲外となると、つや消し効果を保持し得ず不良箇所の目視が困難であって、目視検査は困難である。
【００２６】
〔実施例１０〜１８〕
表３に示す通りの合金組成であり、引張り強度、伸び、ヒ−トサイクル試験の不良発生率、つや消し効果は表３に示す通りであった。
【００２７】
【表３】
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【００２８】
実施例１０〜１８の試験結果から、Ｇａの添加による酸化物の発生防止効果としての機械的特性の向上やヒ−トサイクル試験の不良発生率低下がつや消し効果を維持しつつ得られることが明らかである。
【００２９】
【発明の効果】
本発明に係るはんだ合金によれば、表面つや消しのはんだ付けを行い得るために目視検査を検査員の眼睛疲労を抑えて容易に見過ごしなく行い得、しかも、添加元素の相乗効果によって機械的強度及び接合強度を増強させて熱履歴による繰返し応力に対し安定なはんだ付けが可能となる。
従って、電子回路基板における半導体部品等の電子部品の導通信頼性、安定性を長期にわたって確保できるはんだ付けが可能となる。