(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を上下方向に多段に保持したボートを載置して熱処理炉内への搬入搬出および炉口の開閉を行う昇降可能な蓋体と、この蓋体が開放された炉口を遮蔽する水平方向に開閉移動可能なシャッターと、一方のボートによる熱処理中に他方のボートに対する被処理体の移替えを行うために該ボートを載置するボート載置部と、複数枚の被処理体が収容されて蓋で密閉されたキャリアを載置するキャリア載置部と、このキャリア載置部のキャリアと前記ボート載置部のボートとの間で被処理体の移替えを行う移載機構と、前記ボート載置部と前記蓋体との間でボートの搬送を行うボート搬送機構とを備え、ボート搬送に際し前記移載機構がボートとの干渉を避けるべく横方向へ退避可能に構成されていることを特徴とする縦型熱処理装置。
【請求項２】
前記キャリア載置部の上下方向の中心線上に、被処理体に設けられたノッチを一方向に整列させるためのノッチ整列機構が配置されていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
【請求項３】
前記ボート搬送機構が水平旋回および昇降可能な第１アームと、この第１アームの先端部に水平旋回可能に軸支され一つのボートを垂直に支持可能な開口を有する支持アームとを備え、この支持アームの開口中心が第１アームの旋回中心を通り、第１アームと支持アームの水平旋回動作を同期させることにより、水平直線方向への搬送が可能に構成されていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
【請求項４】
前記支持アームの開口内に前記移載機構の突出部が収納可能に構成されていることを特徴とする請求項３記載の縦型熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、縦型熱処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の製造においては、被処理体である半導体ウエハに例えば酸化、拡散、ＣＶＤ等の各種の処理を施す工程があり、このような処理を行う装置として例えば縦型熱処理装置が用いられている。この縦型熱処理装置は、オペレータや自動搬送機構が複数枚の半導体ウエハを収容したキャリアを持ち運ぶキャリア搬送領域と、キャリア内の半導体ウエハを熱処理の保持具であるボートに移替えて熱処理炉への搬入搬出を行うローディングエリアとを備えている。
【０００３】
このような縦型熱処理装置においては、ローディングエリアをより清浄な雰囲気とすると共に半導体ウエハの自然酸化膜の発生等を防止するために、大気側のキャリア搬送領域とローディングエリアを隔壁で仕切り、ローディングエリア内を不活性ガス例えば窒素（Ｎ2）ガスで満たした不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。また、前記縦型熱処理装置には、半導体ウエハのパーティクル汚染を抑えるために半導体ウエハの取出口が蓋で密閉されている密閉型のキャリア（クローズ型キャリアともいう）を適用することが更に好ましい。
【０００４】
この場合、キャリア搬送領域とローディングエリアを仕切る隔壁にキャリアをキャリア搬送領域側から当接させるための開口部を有するキャリア載置部を設け、その開口部を閉鎖する扉をローディングエリア側に設ける。処理を行う場合には、前記キャリア載置部にキャリアをセットし、その開口部の扉および前記キャリアの蓋を開けてキャリア内をローディングエリア側に開放し、開口部からキャリア内の半導体ウエハをローディングエリア側に搬送してボートへの移替えを行い、このボートを熱処理炉内に搬入して所定の熱処理を行うようにすればよい。
【０００５】
また、前記ボートを２個使用し、熱処理炉の炉口を開閉する昇降可能な蓋体上に一方のボートを載置し、このボートを熱処理炉内に搬入し、炉口を蓋体で密閉して熱処理している間に、他方のボートに対する半導体ウエハの移替えを行うようにすれば、スループットの向上が図れる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記縦型熱処理装置においては、直径が例えば３００ｍｍと大きい半導体ウエハを対象とする場合、熱処理炉が大容量のものとなると共に炉口も大口径のものとなる。このため、熱処理後炉口の蓋体を開放しつつボートを搬出してから次のボートを搬入して蓋体を閉めるまでの間、炉内の熱が炉口からローディングエリアに多量に放出し、ローディングエリア内の温度を上昇させ、機器等に熱影響を与えることが考えられる。更に、炉内は、一定の温度以上に保つ必要があるため、余計なエネルギーを消費してしまう。
【０００７】
一方、半導体ウエハの直径の増加（例えば直径３００ｍｍ）により縦型熱処理装置の幅、奥行きおよび高さ寸法が増大している。また同様に、設置するための床面積や天井高さも増大している。これらは全て縦型熱処理装置の生産コストや維持コストの増加を招いていることから、これらを解消すべく縦型熱処理装置をできるだけ小型化する必要性が生じている。
【０００８】
また、ローディングエリアには、一方のボートによる熱処理中に他方のボートに対する半導体ウエハの移替えを行うために該ボートを載置するボート載置部と、このボート載置部のボートと前記キャリア載置部のキャリアとの間で半導体ウエハの移替えを行う移載機構と、前記ボート載置部と前記蓋体との間でボートの搬送を行うボート搬送機構とを設けることが縦型熱処理装置による半導体ウエハの処理能力を向上するために望まれる。この場合、縦型熱処理装置を小型化するためには、ボートの移動軌跡と移載機構の占有空間をオーバーラップさせることが有効であるが、一部においてボートと移載機構が干渉する恐れがある。
【０００９】
更に、ボート載置部と蓋体との間でボートの搬送を行う場合、熱処理前のボートが熱処理後のボートの風下になる場合があるが、この場合、熱処理後のボートに付着しているパーティクルの飛散やアウトガスにより風下の熱処理前のボートに保持された半導体ウエハが汚染される恐れがある。
【００１０】
本発明は、上記事情を考慮してなされたものであり、本発明の目的は、ボートの移動軌跡と被処理体の移載機構の占有空間をオーバーラップさせる一方、ボートの搬送時にボートの移動軌跡から移載機構を横方向に退避させてボートと移載機構の干渉を防ぐことにより、ボート２個を使用して処理能力の向上が図れる小型の縦型熱処理装置を提供することにある。また、本発明の目的は、キャリア載置部の上下方向の中心線上にノッチ整列機構を配置することにより、高さ寸法を増加させることなく幅および奥行き寸法を減少させて、小型化を可能とした縦型熱処理装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、被処理体を上下方向に多段に保持したボートを載置して熱処理炉内への搬入搬出および炉口の開閉を行う昇降可能な蓋体と、この蓋体が開放された炉口を遮蔽する水平方向に開閉移動可能なシャッターと、一方のボートによる熱処理中に他方のボートに対する被処理体の移替えを行うために該ボートを載置するボート載置部と、複数枚の被処理体が収容されて蓋で密閉されたキャリアを載置するキャリア載置部と、このキャリア載置部のキャリアと前記ボート載置部のボートとの間で被処理体の移替えを行う移載機構と、前記ボート載置部と前記蓋体との間でボートの搬送を行うボート搬送機構とを備え、ボート搬送に際し前記移載機構がボートとの干渉を避けるべく横方向へ退避可能に構成されていることを特徴とする。
【００１３】
請求項２に係る発明は、請求項１記載の縦型熱処理装置において、前記キャリア載置部の上下方向の中心線上に、被処理体に設けられたノッチを一方向に整列させるためのノッチ整列機構が配置されていることを特徴とする。
【００１４】
請求項３に係る発明は、請求項１記載の縦型熱処理装置において、前記ボート搬送機構が水平旋回および昇降可能な第１アームと、この第１アームの先端部に水平旋回可能に軸支され一つのボートを垂直に支持可能な開口を有する支持アームとを備え、この支持アームの開口中心が第１アームの旋回中心を通り、第１アームと支持アームの水平旋回動作を同期させることにより、水平直線方向への搬送が可能に構成されていることを特徴とする。
【００１５】
請求項４に係る発明は、請求項３記載の縦型熱処理装置において、前記支持アームの開口内に前記移載機構の突出部が収納可能に構成されていることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基いて詳述する。図１は本発明を縦型熱処理装置に適用した実施の形態を示す概略的斜視図、図２は同縦型熱処理装置の概略的横断面図、図３は同縦型熱処理装置の概略的縦断面図、図４はキャリア載置部とノッチ整列機構の配置構造を示す概略的正面図、図５はボート搬送機構を示す斜視図、図６はボート搬送方法を説明する平面図、図７は従来のボート搬送方法を説明する平面図である。
【００１８】
これらの図において、１はクリーンルーム内に設置される縦型熱処理装置の外郭を形成する筐体である。この筐体１内は、キャリア２の搬入搬出、保管等を行うためのキャリア搬送領域Ｓａと、キャリア２内に収容された被処理体（被処理基板ともいう）である半導体ウエハＷのボート（ウエハボートともいう）３への移替え（移載）、熱処理炉４へのボート３の搬入搬出等を行うためのローディングエリアＳｂとに隔壁（バルクヘッド）５により仕切られている。
【００１９】
前記筐体１の前面部には、オペレータあるいは搬送ロボットによりキャリア２を搬入搬出するための搬入出口６が設けられ、この搬入出口６には上下に開閉移動するドア７が設けられている。キャリア搬送領域Ｓａには、搬入出口６近傍にキャリア２を置くための置き台８が設けられ、この置き台８の後部にはキャリア２の蓋（図示省略）を開けて半導体ウエハＷの位置および枚数を検出するセンサ機構９が設けられている。また、置き台８の上方および隔壁５側の上方には、複数個のキャリア２を保管しておくための棚状の保管部１０が設けられている。
【００２０】
前記隔壁５側には、ウエハ移載を行うために、キャリア２を載置するためのキャリア載置部（トランスファステージともいう）１１が設けられている。キャリア載置部１１は、一方のキャリア載置部で半導体ウエハＷの移載を行っている間に、他方のキャリア載置部でキャリア２の交換を行ってスループットの向上を図るために、上下方向に複数例えば２つ（２段）設けられていることが好ましい。キャリア搬送領域Ｓａには、前記置き台８、保管部１０およびキャリア載置部１１の間でキャリア２の搬送を行うためのキャリア搬送機構１２が設けられている。このキャリア搬送機構１２は、キャリア搬送領域Ｓａの一側部に設けられた昇降機構１２ａにより昇降移動される昇降アーム１２ｂと、この昇降アーム１２ｂに設けられ、キャリア２の底部を支持して水平方向に搬送する搬送アーム１２ｃとから主に構成されている。
【００２１】
前記キャリア２は、いわゆるクローズ型キャリアであり、複数枚の半導体ウエハＷを収容すると共に図示しない蓋で密閉されている。キャリア２は、所定口径例えば直径３００ｍｍの半導体ウエハを水平状態で上下方向に所定間隔で多段に複数枚例えば１３枚もしくは２５枚程度収容可能で持ち運び可能なプラスチック製の容器からなり、その前面部に開口形成されたウエハ取出口にこれを気密に塞ぐための蓋が着脱可能に備えている（図示省略）。
【００２２】
キャリア搬送領域Ｓａは、図示しないフィルタを介して清浄な空気が供給されていて大気雰囲気とされている。ローディングエリアＳｂは、清浄な空気が供給される大気雰囲気または不活性ガス例えば窒素ガスが供給されていて不活性ガス雰囲気とされている。前記隔壁５には、キャリア載置部１１に載置されたキャリア２を大気側であるキャリア搬送領域Ｓａ側から当接させてキャリア２内とローディングエリアＳｂ内を連通するための開口部１３がキャリア載置部１１と対応して上下に２つ設けられていると共に、各開口部１３をローディングエリアＳｂ側から閉鎖する扉１４が開閉可能に設けられている。開口部１３は、キャリア２のウエハ取出口とほぼ同口径に形成されており、開口部１３からキャリア２内の半導体ウエハＷの出し入れが可能になっている。
【００２３】
前記扉１４には、キャリア２の蓋を開閉する図示しない蓋開閉機構および扉１４をローディングエリアＳｂ側から開閉する図示しない扉開閉機構が設けられ、この扉開閉機構により扉１４および蓋がローディングエリアＳｂ側に開放移動され、更に半導体ウエハＷの移替えの邪魔にならないように上方または下方へ移動（退避）されるようになっている。前記キャリア載置部１１の下方には、結晶方向を揃えるために半導体ウエハＷの周縁部に設けられているノッチ（切欠部）を一方向に整列させるためのノッチ整列機構１５が設けられている。このノッチ整列機構１５は、ローディングエリアＳｂ側に臨んで開放されており、後述する移載機構２２によりキャリア載置部１１上のキャリア２から移載された半導体ウエハＷのノッチを整列させるように構成されている。
【００２４】
前記ノッチ整列機構１５は、例えば２枚の半導体ウエハＷのノッチ整列が可能なものを上下に２段配置してなり、一方がノッチ整列を行っている間に、他方のノッチ整列の終了した半導体ウエハＷをボート３に移載してスループットの向上を図るように構成されている。なお、ノッチ整列機構１５としては、例えば３枚もしくは５枚の半導体ウエハのノッチ整列が可能なものを上下に２段配置してなるものであってもよい。前記ノッチ整列機構１５は、同機構内でノッチを整列させる半導体ウエハＷの中心線が図４に概略的に示すように、キャリア載置部１１に載置されたキャリア内の半導体ウエハＷの中心線１６上に配置されていることが、縦型熱処理装置の幅の縮小化および半導体ウエハＷの移載時間の短縮化を図る上で好ましい。
【００２５】
一方、ローディングエリアＳｂの奥部上方には、多数枚例えば１００枚もしくは１５０枚程度の半導体ウエハＷを上下方向に所定間隔で多段に保持した例えば石英製のボート３を載置して熱処理炉４内への搬入搬出および炉口４ａの開閉を行う蓋体１７が図示しない昇降機構により昇降可能に設けられている。炉口４ａの近傍には、蓋体１７が開放されて熱処理後のボート３が搬出された際に炉口４ａを遮蔽するためのシャッター１８が水平方向に開閉移動可能に設けられている。このシャッター１８は、これを水平方向に旋回移動させて開閉させるシャッター駆動機構１８ａを有している。
【００２６】
ローディングエリアＳｂの一側には、半導体ウエハＷの移替え等のためにボート３を載置しておくためのボート載置部（ボートステージともいう）１９が設けられている。このボート載置部１９は、前後に配置された第１載置部１９ａと第２載置部１９ｂを有している。前記ボート載置部１９の近傍には、ローディングエリアＳｂ内の雰囲気（清浄な空気または不活性ガス雰囲気）をフィルターを介して清浄化しつつ側方から循環送風する送風部２０が設けられている。
【００２７】
ローディングエリアＳｂ内の下方で、キャリア載置部１１と熱処理炉４との間には、ボート載置部１９と蓋体１７との間、具体的にはボート載置部１９の第１載置部１９ａもしくは第２載置部１９ｂと降下された蓋体１７との間、および第１載置部１９ａと第２載置部１９ｂとの間でボート３の搬送を行うボート搬送機構２１が設けられている。また、このボート搬送機構２１の上方には、キャリア載置部１１のキャリア２とボート載置部１９のボート３との間、具体的にはキャリア載置部１１上のキャリア２とノッチ整列機構１５との間、ノッチ整列機構１５とボート載置部１９の第１載置部１９ａ上のボート３との間、および第１載置部１９ａ上の熱処理後のボート３とキャリア載置部１１上の空のキャリア２との間で半導体ウエハＷの移替えを行う移載機構２２が設けられている。
【００２８】
前記ボート搬送機構２１は、一つのボート３を垂直に支持して水平に伸縮可能なアームを有している。すなわち、ボート搬送機構２１は、図５にも示すように、水平旋回および昇降可能な第１アーム２１ａと、この第１アーム２１ａの先端部に水平旋回可能に軸支されボート３を垂直に支持可能な平面略Ｃ字状の開口２１ｃを有する支持アーム２１ｂとを備え、この支持アーム２１ｂの開口２１ｃ中心が第１アーム２１ａの旋回中心を通るように設計し、第１アーム２１ａと支持アーム２１ｂの水平旋回動作を同期させることにより、水平直線方向の搬送が可能に構成されている。このようにしてアームを伸縮させることによりボート３を搬送するエリアを必要最小限にすることが可能で、装置幅と奥行き寸法を減少できる。図５において、矢印はボート搬送機構２１の動作方向を示している。ボート３の搬送を行う場合には、図６に示すように、熱処理後ボート３を炉内からローディングエリアＳｂに搬出したなら、先ず第１載置部１９ａ上に待機している熱処理前のボート３を第２載置部１９ｂに搬送し（▲１▼）、次に熱処理後のボート３を蓋体１７上から第１載置部１９ａに搬送し（▲２▼）、最後に第２載置部１９ｂ上の熱処理前のボート３を蓋体１７上に搬送する（▲３▼）。すなわち、熱処理前のボート３が熱処理後のボート３の風下にならないようにボート３を搬送するように構成されており、これによりボート搬送時に熱処理後のボート側から熱処理前の半導体ウエハを搭載したボート側へ及ぼすパーティクルおよびアウトガスの汚染を防止することができる。
【００２９】
前記移載機構２２は、水平回動可能な基台２２ａ上に半導体ウエハを載置する複数枚例えば２枚もしくは５枚の薄板フォーク状の支持アーム２２ｂを進退可能に設けてなり、搬送時のボート３との干渉を避けるために、図２に仮想線で示す作業位置Ａから実線で示す退避位置Ｂに旋回アーム２３を介して横方向に退避可能に構成されている。旋回アーム２３の基部側は、ローディングエリアＳｂの他側に設けられた図示しない昇降機構に連結されており、これにより移載機構２２が昇降可能とされている。移載機構２２が下限に降下したときに、基台２２ａ下部の突出部２２ｃが降下待機位置のボート搬送機構２１の支持アーム２１ｂの開口２１ｃ内に収容されるようにしてあり、これにより移載機構２２とボート搬送機構２１との干渉を避けると共に移載機構２２の下限ストロークを稼いでいる。
【００３０】
次に、以上の構成からなる縦型熱処理装置の作用およびボート搬送方法について述べる。キャリア２を搬入出口６から置き台８上に載置すると、センサ機構９によりキャリア２の蓋が開けられ、キャリア２内の半導体ウエハＷの位置および枚数が検出された後、キャリア２は蓋が閉められた状態でキャリア搬送機構１２により保管部１０に搬送される。また、キャリア搬送機構１２により、保管部１０のキャリア２はキャリア載置部１１に搬送される。
【００３１】
キャリア載置部１１上のキャリア２の蓋および隔壁５の開口部１３の扉１４が開放されると、移載機構２２がキャリア２内から半導体ウエハＷを取出し、ノッチ整列機構１５を経由してボート載置部１９の第１載置部１９ａ上で待機する空のボート３に順次移載する。この間、ボート搬送機構２１は、下方に降下されて退避しているため、移載機構２２がボート搬送機構２１と干渉することがない。また、前記キャリア載置部１１の中心線１６上にノッチ整列機構１５が配置されているため、縦型熱処理装置の幅を縮小化でき、縦型熱処理装置のコンパクト化が図れると共に、半導体ウエハＷを効率よく移載でき、移載時間の短縮化によるスループットの向上が図れる。半導体ウエハＷの移載が終了すると、移載機構２２は、旋回アーム２３により作業位置Ａから横方向の筐体１側部側の退避位置Ｂに退避する。
【００３２】
一方、熱処理が終了すると、蓋体１７の降下により熱処理後のボート３が熱処理炉４内からローディングエリアＳｂに搬出され、蓋体１７が開放された炉口４ａは、シャッター１８によって直ちに遮蔽される。このため、熱処理炉４の炉口４ａからローディングエリアＳｂに熱が多量に放出されることがなく、ローディングエリアＳｂ内の機器への熱影響を防止することができる。熱処理後のボート３が搬出されると、ボート搬送機構２１が先ず第１載置部１９ａ上に待機している熱処理前のボート３を第２載置部１９ｂに搬送し（▲１▼）、次に熱処理後のボート３を蓋体１７上から第１載置部１９ａに搬送し（▲２▼）、最後に第２載置部１９ｂ上の熱処理前のボート３を蓋体１７上に搬送する（▲３▼）。すなわち、熱処理前のボート３が熱処理後のボート３の風下にならないようにボート３を搬送するため、ボート搬送時に熱処理後のボート側から熱処理前のボート側へ及ぼすパーティクルおよびアウトガスによる汚染を防止することができる。また、熱処理後のボート３を搬出した直後には、熱処理前のボート３が熱処理後のボート３から遠く離れた位置にあるため、熱処理後のボート３から熱処理前のボート３への熱影響を抑制ないし防止することができる。
【００３３】
これに対して、従来のボート搬送方法は、図７に示すように、熱処理後のボート３が搬出されると、先ず熱処理後のボート３を蓋体１７上から第２載置部１９ｂに搬送し（▲１▼）、次に第１載置部１９ａ上の熱処理前のボート３を蓋体１７上に搬送し（▲２▼）、最後に第２載置部１９ｂ上の熱処理後のボート３を第１載置部１９ａに搬送していた（▲３▼）。このため、熱処理前のボート３が熱処理後のボート３の風下になってしまい、ボート搬送時に熱処理後のボート側から熱処理前のボート側へパーティクル汚染を及ぼす恐れがあった。
【００３４】
ボート３の搬送作業中には、移載機構２２がボート搬送機構２１の上方ではなく、横方向に退避しているため、搬送中のボート３と移載機構２２とが干渉することを防止することができる。また、移載機構２２が上方向に退避するのではなく、横方向に退避するように構成されているため、水平方向に開閉移動するシャッター１８と移載機構２２とが互いに干渉することもない。
【００３５】
前記蓋体１７上に搬送された熱処理前のボート３をシャッター１８が開放された炉口４ａから熱処理炉４内に搬入して熱処理を開始する一方、第１載置部上１９ａに搬送された熱処理後のボート３からキャリア載置部１１上の空のキャリア２内に移載機構２２により熱処理後の半導体ウエハＷを戻し、前述したサイクルを繰り返せばよい。
【００３６】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更等が可能である。例えば、被処理体としては、半導体ウエハ以外に、例えばガラス基板やＬＣＤ基板等が適用可能である。
【００３７】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような効果を奏することができる。
【００３９】
（１）請求項１に係る発明によれば、被処理体を上下方向に多段に保持したボートを載置して熱処理炉内への搬入搬出および炉口の開閉を行う昇降可能な蓋体と、この蓋体が開放された炉口を遮蔽する水平方向に開閉移動可能なシャッターと、一方のボートによる熱処理中に他方のボートに対する被処理体の移替えを行うために該ボートを載置するボート載置部と、複数枚の被処理体が収容されて蓋で密閉されたキャリアを載置するキャリア載置部と、このキャリア載置部のキャリアと前記ボート載置部のボートとの間で被処理体の移替えを行う移載機構と、前記ボート載置部と前記蓋体との間でボートの搬送を行うボート搬送機構とを備え、前記移載機構がボートとの干渉を避けるべく横方向へ退避可能に構成されているため、移載機構とボートおよびシャッターとの干渉を防止することができ、縦型熱処理装置の小型化が可能となる。
【００４０】
（２）請求項２に係る発明は、前記キャリア載置部の上下方向の中心線上にノッチ整列機構が配置されているため、縦型熱処理装置の幅、奥行き寸法および高さの縮小化が可能であり、更に半導体ウエハの移載時間の短縮化が図れる。
【００４１】
（３）請求項３に係る発明によれば、前記ボート搬送機構が水平旋回および昇降可能な第１アームと、この第１アームの先端部に水平旋回可能に軸支され一つのボートを垂直に支持可能な開口を有する支持アームとを備え、この支持アームの開口中心が第１アームの旋回中心を通り、第１アームと支持アームの水平旋回動作を同期させることにより、水平直線方向への搬送が可能に構成されているため、ボートを搬送するエリアを必要最小限にすることができ、縦型熱処理装置の幅および奥行き寸法を縮小することができる。
【００４２】
（４）請求項４に係る発明によれば、前記支持アームの開口内に前記移載機構の突出部が収納可能に構成されているため、縦型熱処理装置の高さを増加することなく移載機構の上下ストロークを増加することができる。
【００４３】
（６）請求項６に係る発明によれば、被処理体を上下方向に多段に保持したボートを載置して熱処理炉内への搬入搬出および炉口の開閉を行う昇降可能な蓋体と、一方のボートによる熱処理中に他方のボートに対する被処理体の移替えを行うために該ボートを載置するボート載置部と、このボート載置部と前記蓋体との間でボートの搬送を行うボート搬送機構と、前記ボート載置部の近傍に設けられ側方から清浄雰囲気を送風する送風部とを備えた縦型熱処理装置における前記ボート載置部と蓋体との間でボートの搬送を行うに際して、熱処理前のボートが熱処理後のボートの風下にならないようにボートを搬送するため、ボート搬送時の汚染を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を縦型熱処理装置に適用した実施の形態を示す概略的斜視図である。
【図２】同縦型熱処理装置の概略的横断面図である。
【図３】同縦型熱処理装置の概略的縦断面図である。
【図４】キャリア載置部とノッチ整列機構の配置構造を示す概略的正面図である。
【図５】ボート搬送機構を示す斜視図である。
【図６】ボート搬送方法を説明する平面図である。
【図７】従来のボート搬送方法を説明する平面図である。
【符号の説明】
Ｗ  半導体ウエハ（被処理体）
２  キャリア
３  ボート
４  熱処理炉
４ａ  炉口
１１  キャリア載置部
１５  ノッチ整列機構
１６  中心線
１７  蓋体
１８  シャッター
１９  ボート載置部
２０  送風部
２１  ボート搬送機構
２２  移載機構
【図１】
0003664897.tif 000002
【図２】
0003664897.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0003664897.tif 000008