(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分として含む感光性ペーストを、表面に離型剤処理が施された可とう性基材上に塗布する工程、電極層を形成したガラス基板上に転写する工程、露光装置を用いて露光を行う工程、現像する工程および焼成する工程によって隔壁形成を行うことを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項２】
表面に離型剤処理が施された可とう性基材上に１００〜３００μｍの厚みで感光性ペーストを塗布することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項３】
可とう性基材が樹脂製のフィルムであることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項４】
可とう性基材上に形成された離型層の厚みが１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項５】
表面に離型剤処理が施された可とう性基材の剥離強度が２〜７Ｎ／２４ｍｍであることを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項６】
ガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有機成分の平均屈折率Ｎ２が次式を満たすことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
−０．１＜Ｎ１−Ｎ２＜０．１
【請求項７】
ガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有機成分の平均屈折率Ｎ２が次式を満たすことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
０＜Ｎ１−Ｎ２＜０．０９
【請求項８】
感光性ペーストが５０〜９５重量部のガラス微粒子と５〜５０重量部の有機成分を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項９】
ガラス微粒子が平均屈折率が１．５〜１．７の範囲のガラス微粒子であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項１０】
ガラス微粒子が酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を含有し、その含有率の合計がガラス微粒子全体の３〜２０重量％のガラス微粒子であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項１１】
ガラス微粒子が酸化珪素をガラス微粒子全体の３〜６０重量部、酸化ホウ素をガラス微粒子全体の５〜６０重量部含有するガラス微粒子であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
ガラス微粒子が酸化珪素をガラス微粒子全体の３〜６０重量部、酸化ホウ素をガラス微粒子全体の５〜６０重量部、酸化バリウムをガラス微粒子全体の１〜２５重量部、酸化アルミニウムをガラス微粒子全体の１〜２５重量部含有するガラス微粒子であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
有機成分が有機染料を０．０５〜５重量％含有することを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項１４】
有機成分が有機レベリング剤を０．１〜２０重量％含有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項１５】
感光性化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分として含む感光性ペーストを表面に離型剤処理が施された可とう性基材上に塗布する工程、露光装置を用いて露光を行う工程、電極層を形成したガラス基板上に転写する工程、現像する工程および焼成する工程によって隔壁形成を行うことを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項１６】
感光性化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分として含む感光性ペーストを表面に離型剤処理が施された可とう性基材上に塗布する工程、露光装置を用いて露光を行う工程、現像する工程、電極層を形成したガラス基板上に転写する工程および焼成する工程によって隔壁形成を行うことを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はプラズマディスプレイの製造方法に関する。本発明の方法は、プラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイをはじめとするガラス隔壁層が必要なディスプレイの製造に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ディスプレイにおいて、小型・高精細化が進んでおり、それに伴って、パターン加工技術も技術向上が望まれている。特に、プラズマディスプレイパネルの隔壁形成には、ガラスなどの無機材料を高精度かつ高アスペクト比でパターン加工をできる材料が望まれている。
【０００３】
従来、無機材料のパターン加工を行う場合、無機粉末と有機バインダーからなるペーストによるスクリーン印刷が多く用いられている。しかしながらスクリーン印刷は精度の高いパターンが形成できないという欠点があった。
【０００４】
この問題を改良する方法として、特開平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公報、特開平５−３４２９９２号公報では、感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ技術に形成する方法が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、感光性ペーストの感度や解像度が低く、高アスペクト比、高精細の隔壁が得られないために、例えば８０μｍを越えるような厚みのものをパターン加工する場合、複数回の加工工程（スクリーン印刷・露光・現像）を必要とするため、工程が長くなる欠点があった。
【０００６】
しかも、このフォトリソグラフィー技術による隔壁形成の場合、(1)  積層する各塗布膜の厚みにバラツキが生じやすい、(2)  積層回数が増加するに従い、前記バラツキが累積され、最終的な障壁の厚みが不均一となる、等の課題がある。
【０００７】
本発明者らは上記欠点のないプラズマディスプレイの製造方法について鋭意検討した結果、次の発明に到達した。特に、表面平坦性に優れ、厚みバラツキを抑えた高精度のパターン形成、特に隔壁層の形成を可能にする方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、感光性化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分とする感光性ペーストを表面に離型剤処理が施された可とう性基材上に塗布する工程、電極層を形成したガラス基板上に転写する工程、露光装置を用いて光照射を行う工程、現像する工程および焼成する工程によって隔壁形成を行うことを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
（可撓性基材）
本発明では可撓性基材として、例えば転写用フィルムを用いる。転写用フィルムは、公知のものであればとくに限定はないが、一般的にはポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ナイロンフィルムなどの樹脂製のフィルムを用いる。本目的のフィルムとしては転写や露光・現像時のハンドリング性に優れ、適度な離型性を有するフィルムが好ましく、とりわけ、フィルムとして、耐熱性、耐久性に優れ、パンチング性がよく、汎用で安価なポリエステルフィルムを用いるのが好ましい。この様な転写用フィルムの物性としては次の範囲で選択するのが好ましい。
（Ａ）フィルム厚み      ；２５〜３００μｍ
（Ｂ）引っ張り強度      ；３０００〜５０００ＭＰａ
（Ｃ）表面粗さ（Ｒａ）  ；０．０２〜０．１５μｍ。
【００１０】
上記のフィルムには、表面にワックスコート、メラミンコートあるいはシリコンコートなどの離型剤処理が施されることが好ましい。離型剤処理方法は、通常、離型剤溶液をフィルム上にバーコート、ディップコート、スピンコートなどの一般的な方法で塗布し、乾燥を９０〜１６０℃、１０〜６０秒で行う。一定厚みに塗布された溶液は乾燥後、溶媒部分が揮発して離型剤による離型層が形成される。離型層の厚みは、離型剤溶液の濃度と、塗布膜の厚みに依存する。たとえば、濃度０．１％の離型剤溶液をフィルム上に塗布することにより、厚さ１０ｎｍの離型層を形成することができる。離型層は１０ｎｍ以下が望ましく、離型剤の塗布は０．１から１０ｎｍが望ましく、上記において離型材溶液の濃度は０．００１〜０．０５％の範囲にすることによって、この厚みを得ることができる。このときの剥離強度は２〜７Ｎ／２４ｍｍの範囲であることが好ましい。離型層があまり厚いと、離型強度が低くなり、感光性ペーストを塗布する際に反発性が高すぎて良好なパターンが形成できない。
【００１１】
（感光性ペースト）本発明では表面に離型剤処理が施された可撓性基材上に感光性ペーストを塗布する。この感光性ペーストは感光性化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分として含む。
【００１２】
（有機成分）
本発明において使用される感光性ペーストは、感光性化合物を含む有機成分を必須成分として含む。ここで感光性化合物を含む有機成分とは、感光性ペーストから無機成分を除いた部分をいう。
【００１３】
感光性化合物としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選ばれる化合物が包含される。
【００１４】
感光性化合物としては、光不溶化型のものと光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する感光性のモノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの、（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性物質を含有するもの、（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。また、光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノンジアゾ類を含有するもの、（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフトキノン１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等がある。
【００１５】
本発明において用いる感光性化合物は、上記のすべてのものを用いることができる。感光性ペーストとして、ガラス微粒子と混合して簡便に用いることができる感光性化合物は、（Ａ）のものが好ましい。
【００１６】
感光性のモノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物が挙げられ、その具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち１〜５個を塩素または臭素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール及び上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用���ることができる。
【００１７】
感光性のモノマーを使用した場合には、これら以外に、不飽和酸やバインダーを加えることができる。不飽和カルボン酸等の不飽和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。また、バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。
【００１８】
また、前述の感光性のモノマーのうち少なくとも１種類を重合して得られたオリゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際に、これらのモノマーの含有率が１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合することができる。共重合するモノマーとしては、不飽和カルボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
【００１９】
こうして得られた側鎖にカルボキシル基等の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくい。
【００２０】
以上示した、ポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性を持つ感光性のポリマーや感光性のオリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などがあげられる。このような側鎖をオリゴマーやポリマーに付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させて作る方法がある。グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテルなどがあげられる。イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等がある。また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させることが好ましい。
【００２１】
感光性ペースト中には、５０〜９５重量部のガラス微粒子と５〜５０重量部の有機成分を含むことが好ましい。
【００２２】
有機成分には、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選ばれる感光性成分、およびバインダー、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤、有機レベリング剤などの添加剤成分を加えることも行われる。
【００２３】
本発明において用いられる感光性ペースト中には、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリング剤などの添加剤成分を加えることも行われる。
【００２４】
光重合開始剤としての具体的な例として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４、４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性化合物に対し、０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５重量％である。重合開始剤の量が少なすぎると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
【００２５】
紫外線吸光剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い吸光剤を添加することによって高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸光剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は０．０５〜５重量部が好ましい。０．０５重量％以下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、５重量％を越えると焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましくない。より好ましくは０．１５〜１重量％である。有機顔料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を上げると、有機顔料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、次に該有機溶媒中にガラス微粒子を混合後、乾燥することによってできる。この方法によってガラス粉末の個々の粉末表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状の粉末が作製できる。
【００２６】
増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
【００２７】
重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上させるために添加される。重合禁止剤の具体的な例としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、通常、０．００１〜１重量％である。
【００２８】
可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリンなどがあげられる。
【００２９】
酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−  （４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する場合、その添加量は通常、添加量は、ペースト中に、通常、０．００１〜１重量％である。
【００３０】
本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００３１】
有機レベリング剤は、有機系の界面活性剤、より好ましくはノニオン系の界面活性剤を用いる。レベリング剤の具体的な例としては、分子量が３００〜３０００の特殊ビニル系重合物、特殊アクリル系重合物を石油ナフサ、キシロール、トルエン、酢酸エチル、１−ブタノール、およびミネラルターペンなどの溶媒に溶解させた”ディスパロン”（Ｌ−１９８０−５０、Ｌ−１９８２−５０、Ｌ−１９８３−５０、Ｌ−１９８４−５０、Ｌ−１９８５−５０、＃１９７０、＃２３０、ＬＣ−９００、ＬＣ９５１、＃１９２０Ｎ、＃１９２５Ｎ、Ｐ４０）（以上楠本化成株式会社製）、ノニオン系界面活性剤”カラースパース”１８８−Ａ、”ハイオニック”ＰＥ、”モディコール”Ｌ、Ｓ−６５、Ｕ−９９、Ｗ−７７（以上サンノプコ株式会社製）を光硬化性樹脂組成物に対して０．１〜２０重量％添加する。この場合、レベリング剤の量が２０重量％より多すぎればペースト感度の低下やパターン特性が劣化する。また、レベリング剤の量が０．１％より少なすぎると十分なレベリング効果が得られず表面にスクリーンメッシュ跡などの凹凸が残る。
【００３２】
（ガラス微粒子）
本発明において感光性ペーストの必須成分として含まれるガラス微粒子としては、公知のものであれば特に限定はなく、ケイ素及び／またはホウ素の酸化物を必須成分とするガラスが用いられる。
【００３３】
ガラス微粒子の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、５０重量％粒子径が０．１〜１０μｍ、１０重量％粒子径が０．４〜２μｍ、９０重量％粒子径が４〜１０μｍのサイズを有しており、比表面積０．２〜３ｍ2／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成上において好ましい。本発明のガラス微粒子は線熱膨張係数が６０〜９０×１０-7のガラス微粒子であることが好ましい。
【００３４】
また、発明者らは、ガラス微粒子として、形状が球状であるガラス微粒子を用いることによって、高アスペクト比のパターンニングが可能であることを見いだした。具体的には、球形率８０個数％以上であることが好ましい。より好ましくは平均粒子径１．５〜４μｍ、比表面積０．５〜１．５ｍ2／ｇ、球形率９０個数％以上である。 球形率とは、顕微鏡観察において、球形もしくは楕球形の形状を有する粒子の割合であり、光学顕微鏡において、円形、楕円形として観察される。
【００３５】
４３６ｎｍの波長での全光線透過率が５０％以上のガラス微粒子を用いることによって、より正確な形状のパターンを得ることができる。
【００３６】
プラズマディスプレイやプラズマアドレス液晶ディスプレイの隔壁に用いる場合は、熱軟化点が７００℃以下のガラス基板上にパターン形成するため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０〜６００℃のガラス微粒子を６０重量％以上用いることが好ましい。
【００３７】
このようなガラス微粒子としては、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を５〜５０重量％含むガラス微粒子を用いることによって、ガラス基板上にパターン加工できる温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスおよび酸化鉛のうち少なくとも１種類を５〜５０重量％含有するガラスを用いることは、ペーストのポットライフが長いなどの利点がある。また、酸化リチウムや酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を３〜２０重量％含有するガラス微粒子を使用することが好ましい。アルカリ金属の酸化物の添加によって、熱軟化温度や熱膨張係数のコントロールが容易になる。しかし、アルカリ金属の酸化物は添加量としては、好ましくは１５重量％以下にすることによって、ペーストのポットライフを向上することができる。特に好ましくは、ガラス微粒子が酸化ビスマスを５〜３０重量％含有しかつ酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を３〜１５重量％含有するガラス微粒子である。
【００３８】
ガラス微粒子の組成としては、ＳｉＯ2は３〜６０重量％の範囲で配合することが好ましく、３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安定性が低下し、またガラス基板と熱膨張係数のミスマッチが起こり、所望の値から外れる。また６０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
【００３９】
Ｂ2Ｏ3は５〜６０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。また６０重量％を越えるとガラスの安定性が低下する。
【００４０】
さらに、ガラス微粒子が酸化珪素を３〜６０重量部、酸化ホウ素を５〜６０重量部であることが好ましく、特にガラス微粒子が酸化珪素を３〜６０重量部、酸化ホウ素を５〜６０重量部、酸化バリウムを〜２５重量部、酸化アルミニウムを１〜２５重量部含有するガラス微粒子であることがより好ましい。
【００４１】
酸化ビスマスを５重量％以上配合することによって、ガラスペーストをガラス基板上に焼付けする時の焼付け温度を制御することができる。５０重量％を越えるとガラスの耐熱温度が低くなり過ぎてガラス基板上への焼き付けが難しくなる。酸化ビスマスを含むガラス組成としては、酸化物換算表記で
Ｂｉ2Ｏ3  ５〜５０重量％
ＳｉＯ2    ３〜６０重量％
Ｂ2Ｏ3    ５〜４０重量％
の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ましい。
【００４２】
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムの合計含有量が５〜２０重量％のガラスを用いることによって、熱軟化温度、熱膨張係数のコントロールが容易になるだけでなく、ガラスの平均屈折率を低くすることができるため、有機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。なかでも、Ｌｉ2Ｏの添加は、比較的耐久性に優れたペーストを得ることができる。また、ガラス粉末中に、Ａｌ2Ｏ3、ＢａＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯなどを含有することができる。しかし、熱軟化点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量は４０重量％以下、より好ましくは２５重量％以下である。
【００４３】
一般に、絶縁体として用いられるガラスは、１．５２〜１．９程度の屈折率を有している。有機成分の平均屈折率が無機微粒子の平均屈折率と大きく異なる場合は、無機粒子と感光性有機成分の界面での反射・散乱が大きくなり、精細なパターンが得られない。
【００４４】
一般的な有機成分の屈折率は１．４５〜１．７であるため、無機粒子と有機成分の屈折率を整合させるためには、無機粒子の平均屈折率を１．５〜１．７５にすることが好ましい。さらに好ましくは、ガラス微粒子の平均屈折率を１．５〜１．７にすることによって、有機成分の選択の幅が広がる利点がある。
【００４５】
さらには、感光性ペースト中のガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有機成分の屈折率Ｎ２が次式を満たすことによって、反射、散乱が小さくなり高アスペクト比のパターンを高精度に形成することができる。
−０．１＜Ｎ１−Ｎ２＜０．１
【００４６】
また、重合によって有機成分の屈折率が変化することを考慮すると、次式を満たすことがより好ましい。
０＜Ｎ１−Ｎ２＜０．０９
【００４７】
一方、ガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有機成分が光照射によって重合した後の屈折率Ｎ３について、次の式を満たすことによって、高アスペクト比のパターンを形成できる。
−０．０３＜Ｎ１−Ｎ３＜０．０３
【００４８】
ここで、有機成分の屈折率は、露光により感光性成分を感光させる時点における感光性ペースト中の有機成分の屈折率のことである。つまり、感光性ペーストを塗布し、乾燥工程後に露光を行う場合は、乾燥工程後の感光性ペースト中の有機成分の屈折率のことである。
【００４９】
本発明における屈折率の測定は、一般的に行われるＶブロック法が好ましく、測定する波長は、ペーストを塗布した後に、露光する光の波長で測定することが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲中の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。また、有機成分が光照射によって重合した後の屈折率を測定するためには、感光性ペースト中に対して光照射する場合と同様の光を有機成分のみに照射することによって測定できる。ガラス基板上に焼き付けを行うことができる酸化ビスマスや酸化鉛を１０重量％以上含有するガラス微粒子は、屈折率が１．６以上になる場合があり、この場合は有機物の屈折率を高くする必要がある。
【００５０】
この場合、有機成分中に高屈折率成分を導入する必要があり、有機成分中に硫黄原子、臭素原子、ヨウ素原子、ナフタレン環、ビフェニル環、アントラセン環、カルバゾール環を有する化合物を１０重量％以上用いることが高屈折率化に有効である。また、ベンゼン環を２０重量％以上含有することによって、高屈折率化ができる。特に、硫黄原子もしくはナフタレン環を１０重量％以上含有することによって、より簡便に有機成分を高屈折率化することができる。但し、含有量が６０重量％以上になると光感度が低下するという問題が発生するので、１０〜６０重量％の範囲で含有することが好ましい。有機成分の屈折率を高くする方法としては、感光性のモノマーやバインダー中に、硫黄原子、ナフタレン環を持つ化合物を用いることが有効である。分子内に硫黄原子を原子を含有するモノマーとしては、次の一般式（Ａ）、（Ｂ）または（Ｃ）で示される化合物が挙げられる。式中のＲは水素原子もしくはメチル基を示す。
【００５１】
【化１】
0003690001.tif 000002
【００５２】
無機粒子として、Ｂ2Ｏ3やＳｉＯ2を含有するガラスやセラミックを用いた場合は、屈折率が比較的小さいため、有機成分として、１．５〜１．６のものを用いることによって、屈折率を整合することができる。
【００５３】
しかし、プラズマディスプレイやプラズマアドレス液晶ディスプレイの隔壁に用いるガラス微粒子は、ガラス基板上での焼成を行う必要があるため、熱軟化温度が３５０〜６００℃程度のガラス微粒子を用いることが好ましい。３５０〜６００℃の熱軟化温度を有するガラスとして、アルカリ金属の酸化物、酸化鉛、酸化ビスマスを含有するガラスを用いる方法がある。特にガラス微粒子がＮａ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏのうち少なくとも１種類を含有し、その含有率の合計がガラス微粒子全体の３〜２０重量％のガラス微粒子を用いることが好ましい。かかるガラス微粒子を用いることによって、熱軟化温度、平均屈折率をコントロールしやすくなる。特に、酸化リチウムを含有するガラス微粒子は好ましい。この結果、ガラス基板上に焼き付け可能な熱軟化温度を有し、平均屈折率を１．５〜１．６５にすることができ、有機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。また、ガラス微粒子として、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3のうち少なくとも１種類を含有し、その含有率がガラス微粒子全体の５〜５０重量％のガラス微粒子を用いることによって、ガラス微粒子の熱軟化温度制御、耐水性向上に効果がある。特に、Ｂｉ2Ｏ3を含有するガラスはＰｂＯを含有するガラスに比べて、ペーストにした場合に有機成分との反応を起こしにくい利点がある。しかし、電子材料用途に従来から用いられてきたＰｂＯやＢｉ2Ｏ3を１０重量％以上含むガラス微粒子は、屈折率が１．６０以上になるものが多い。このため、Ｎａ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ、Ｋ2Ｏなどのアルカリ金属の酸化物とＰｂＯやＢｉ2Ｏ3を併用することによって、熱軟化点、熱膨張係数、耐水性、屈折率のコントロールが容易になる。
【００５４】
本発明におけるガラス微粒子の屈折率測定は、ベッケ法により行うことができる。屈折率は露光波長で測定することが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。
【００５５】
また、本発明に用いられるペースト中に、熱軟化点が５００℃以上のガラス微粒子やセラミックス微粒子を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができる。但し、この場合に用いるガラス微粒子の屈折率差が０．１以下、さらには、０．０５以下であることが、精度良くパターン形成する上で重要である。
【００５６】
また、プラズマディスプレイのコントラストを向上する目的で、隔壁層を黒色化する場合には、用いる感光性ペースト中に黒色の金属酸化物を１〜１０重量％含むことによって、黒色の隔壁を形成することができる。この際に用いる黒色の金属酸化物として、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくとも１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色の隔壁層を形成することができる。特に、ＦｅとＭｎの酸化物をそれぞれ０．５重量％以上含有することによって、より、黒色の隔壁層を形成できる。
【００５７】
本発明において、ガラス微粒子に含まれるＰｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および酸化物がペースト中に含有する感光性成分と反応してペーストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合がある。このような反応を防止するために安定化剤を添加してゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤としては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。トリアゾール化合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有効に作用する。本発明において使用されるベンゾトリアゾールによるガラス微粒子の表面処理の一例を上げると、ガラス微粒子に対して所定の量のベンゾトリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、メチルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、これら微粒子が十分に浸すことができるように溶液中に１〜２４時間浸積する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃下で自然乾燥して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った粉末を作製する。使用される安定化剤の割合（安定化剤／無機微粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。
【００５８】
また、増感剤は、露光波長に吸収を有しているものが用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈折率が極端に高くなるため、増感剤を多量に添加することによって、屈折率を向上することができる。この場合の増感剤の添加量として３〜１０重量％添加することができる。
【００５９】
感光性ペーストは、通常、ガラス微粒子、紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重合開始剤および溶媒等の各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散し作製する。
【００６０】
ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗布をスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合は、２０００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好ましい。
【００６１】
本発明に用いる感光性ペーストにおいては、感光性化合物の含有率が有機成分中の１０重量％以上、さらには、３０重量％以上であることが光に対する感度の点で好ましい。
【００６２】
（感光性ペーストの塗布方法）感光性ペーストを表面に離型剤処理が施された可撓性基材上に塗布する方法は特に限定されないが、通常感光性ペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター等公知の方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できるが、プラズマディスプレイの隔壁は１００〜２００μｍの厚みが必要であり、乾燥や焼成による収縮を考慮して、１００〜３００μｍ程度の厚みで塗布することが好ましい。
【００６３】
（ガラス基板）表面に離型剤処理が施された可撓性基材上に塗布した感光性ペーストは電極層を形成したガラス基板上に転写する。電極層の形成は常法によって行うことができる。
【００６４】
本発明に用いるガラス基板は、公知のものであれば特に限定はないが、一般的なソーダライムガラスやソーダライムガラスをアニール処理したガラス、または、高歪み点ガラス（旭硝子社製  商品名ＰＤ−２００）等を用いることができる。ガラス基板のサイズには特に限定はなく、１〜５ｍｍの厚みのガラスを用いることができる。また、ガラス基板上に、銀やアルミ、銅、金、ニッケル、酸化錫、ＩＴＯ等をスクリーン印刷や感光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によって、電極層をパターン形成したものを用いることが一般的である。さらに、放電の安定化のために電極層の上に誘電体層をもうけたガラス基板を用いても良い。
【００６５】
（転写方法）表面に離型剤処理が施された可撓性基材上に塗布した感光性ペーストをガラス基板上に転写する方法としては特に限定されないが、例えば、塗布工程で得た塗布膜を所望の大きさに切断し、ガラス基板に重ね合わせた後、通常５０〜１５０℃に加熱した加圧用ローラーで１〜１．５ＭＰａで加圧することにより塗布膜をガラス基板上に転写する。
【００６６】
ここで転写時に感光性ペーストとガラス基板との密着性を高めるためにガラス基板の表面処理を行うことができる。表面処理液としてはシランカップリング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップリング剤あるいは有機金属を有機溶媒例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表面処理ができる
（露光工程）
転写した後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。また、フォトマスクを用いずに、レーザー光などで直接描画する方法を用いても良い。露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。  露光工程を１回だけ行うことが、複数回の露光を行う場合に比べて、精度良く簡便に隔壁層を形成する方法としては好ましい。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性ペーストを転写した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな有効露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【００６７】
この際使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、０．５〜１００ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３０分間露光を行なう。  特に、露光量が０．３〜５Ｊ／ｃｍ2程度の露光を行うことが好ましい。
【００６８】
塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜を設けることによって、パターン形状を向上することができる。酸素遮蔽膜の一例としては、ＰＶＡやセルロースなどの膜、あるいは、ポリエステルなどのフィルムが上げられる。ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥することによって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するのは次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害すると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮断できるので露光時に感度が向上するので好ましい。ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用いる方法がある。
【００６９】
（現像工程）
露光後、現像液を使用して現像を行なうが、この場合、浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行なう。現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや水酸化カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、公知のアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎれば未露光部が除去されずに、アルカリ濃度が高すぎれば、パターン部を剥離させ、また露光部を腐食させるおそれがあり良くない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００７０】
（焼成工程）
次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成温度は４００〜６１０℃で行う。ガラス基板上にパターン加工する場合は、５２０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。また、以上の工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【００７１】
本発明においては、塗布工程、転写工程、露光工程、現像工程、焼成工程の順により隔壁が形成されるが、塗布工程、露光工程、転写工程、現像工程、焼成工程の順であっても、塗布工程、露光工程、現像工程、転写工程、焼成工程の順であっても隔壁を形成することができる。
【００７２】
（ディスプレイ作製工程）
以上の工程によって得られた隔壁層を有するガラス基板はプラズマディスプレイの前面側もしくは背面側に用いることができる。また、プラズマアドレス液晶ディスプレイのアドレス部分の放電を行うための基板として用いることができる。形成した隔壁層の間に蛍光体を塗布した後に、前背面のガラス基板を合わせて封着し、ヘリウム、ネオン、キセノン等の希ガスを封入することによって、プラズマディスプレイのパネル部分を製造できる。さらに、駆動用のドライバーＩＣを実装することによって、プラズマディスプレイを製造することができる。
【００７３】
【実施例】
以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。なお、実施例、比較例中の濃度（％）は重量％である。
【００７４】
実施例１〜８
以下のＡ〜Ｈの成分からなり表１に示す組成で構成されるガラス微粒子および有機成分からなる感光性ペーストを製造した。
【００７５】
作製手順は、まず有機成分の各成分を８０℃に加熱しながら溶解し、その後ガラス微粒子を添加し、混練機で混練することによってペーストを作製した。ペーストの粘度は溶媒の量で調整した。
【００７６】
＜感光性ペースト＞
Ａ．ガラス微粒子：（）内はガラス微粒子中の組成重量％を示す。
【００７７】
ガラス微粒子Ｉ；ＳｉＯ2（１６）、Ｂ2Ｏ3（２４）、Ｌｉ2Ｏ（７）、ＢａＯ（３）、ＺｎＯ（１７）、ＭｇＯ（４）、ＣａＯ（３）、平均粒子径４．１μｍ
ガラス微粒子ＩＩ：ＳｉＯ2（３６）、Ｂ2Ｏ3（１６）、Ｌｉ2Ｏ（１１）、ＢａＯ（４）、Ａｌ2Ｏ3（６）ＺｎＯ（１７）、平均粒子径２．９μｍ
Ｂ．感光性ポリマー：側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体４０％のメタクリル酸（ＭＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体にＭＡＡに対して０．４当量のグリシジルメタアクリレート（ＧＭＡ）を付加反応させたポリマー
Ｃ．感光性モノマー：トリメチロールプロパントリアクリレート
Ｄ．光重合開始剤：２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モノホリノプロパノン−１をポリマーとモノマーとの総和に対して２０％添加した
Ｅ．増感剤：２，４−ジエチルチオキサントンをポリマーとモノマーとの総和に対して２０％添加した
Ｆ．有機染料：アゾ系有機染料スダン−４を０．１％添加した
Ｇ．有機レベリング剤：特殊ビニル系重合物ＬＣ−９００（楠本化成社製）を添加した
Ｈ．溶媒：γ−ブチロラクトン。
【００７８】
【表１】
0003690001.tif 000003
【００７９】
次に、ポリエステルフィルム（東レ製”ルミラーＴ６０  ＃１００”を使用）表面に、トルエン溶媒により０．０５〜０．００５％に希釈した離型剤塗布液を塗布した。塗布液は、離型剤、硬化剤、溶媒を調合し用いた。離型剤はシリコン樹脂（東レダウコーニング社製”ＳＲＸ３７０”）、硬化剤は、同社”ＳＲＸ２１２を用いた。また溶媒はトルエンを用いた。離型剤と硬化剤の調合比率は９９：１とした。塗布条件は、メタバーの＃６を用いバーコートを行った。この方法で溶液を塗布する場合、９μｍの塗布が可能であった。乾燥は１４０℃、３０秒とした。乾燥後の離型剤からなる離型層の厚みは約１ｎｍであった。
【００８０】
剥離強度の測定は、幅２４ｍｍのセロハンテープ（ニットー製”３１Ｂ”を使用）を１０ｃｍの長さに切り、表面処理したフィルム面に貼り付けた。これを、引張り試験機を用いて５ｍｍ／ｓｅｃの速度にて、セロハンテープをフィルム面から引き剥がした。この際の荷重を剥離強度とした。離型剤溶液濃度０．１〜０．００５％の範囲でパターン形成が良好で、かつ、パターン剥離性の良好な剥離強度３〜７Ｎ／２４ｍｍが得られた。
【００８１】
次に、３０ｃｍ角のポリエステルフィルム上に、ドクターブレード法により２００μｍの塗布厚みで塗布を行った後、８０℃で６０分乾燥した。
【００８２】
次に、ガラス基板上に重ね合わせ、７０℃に加熱した加圧用ローラーで１ＭＰａで加圧し塗布膜をガラス基板上に転写した。
【００８３】
次にフォトマスクを介して露光を行った。マスクは、ピッチ２２０μｍ、線幅６０μｍ、プラズマディスプレイにおけるストライプ状の隔壁パターン形成が可能になるように設計したクロムマスクを用いた。露光は、２０ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯で２分間紫外線露光を行った。
【００８４】
その後、モノエタノールアミンの１％水溶液に浸漬して、現像を行った。
【００８５】
さらに、得られたガラス基板を１２０℃で１時間乾燥した後、５８０℃で１時間焼成を行った。焼成により約２０％程度の収縮が生じた。
【００８６】
得られた、ガラス板上の隔壁の厚みばらつき、およびパターン特性を表２に示した。
【００８７】
【表２】
0003690001.tif 000004
【００８８】
実施例においては、厚みバラツキが少なくかつ高精細のパターンが形成できた。この高精細パターンを有するガラス板を用いてプラズマディスプレイを作製した。
【００８９】
実施例９
実施例１において工程の順番を、塗布工程、露光工程、転写工程、現像工程、焼成工程の順に変更する以外は実施例１と同様にして隔壁パターンを有するガラス板を作製した。実施例１と同様な良好なガラス板が得られた。
【００９０】
また、工程の順番を、塗布工程、露光工程、現像工程、転写工程、焼成工程の順に変更する以外は実施例１と同様にして隔壁パターンを有するガラス板を作製した。実施例１と同様な良好なガラス板が得られた。
【００９１】
【発明の効果】
本発明のプラズマディスプレイの製造方法によって、表面平坦性に優れ、厚みバラツキを抑え、隔壁高さのバラツキを抑えた高精度の隔壁を簡便な工程で形成できる。