(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体上に感光層を有する電子写真用感光体において、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、高分子電荷輸送物質及びシリコーン樹脂潤滑剤を含有するものであって、前記シリコーン樹脂潤滑剤が、ジメトキシジメチルシラン及び末端シラノールシリコーンオイルを共重合して得られるシリコーン樹脂潤滑剤であることを特徴とする電子写真用感光体。
【請求項２】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物貫が下記一般式１で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式１）
【化１】
0003709068.tif 000039
式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3はそれぞれ独立して置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ4は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ5，Ｒ6は置換もしくは無置換のアリール基、ｏ，ｐ，ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｋ，ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表し５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基、または下記一般式で表される２価基を表す。
【化２】
0003709068.tif 000040
式中、Ｒ101，Ｒ102は各々独立して置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表す。ｌ、ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＳＯ−，−ＳＯ2−，−ＣＯ−，−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を表す。）または、
【化３】
0003709068.tif 000041
（式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整数、Ｒ103、Ｒ104は置換または無置換のアルキル基又はアリール基を表す。）を表す。ここで、Ｒ101とＲ102，Ｒ103とＲ104は、それぞれ同−でも異なってもよい。
【請求項３】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式２で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式２）
【化４】
0003709068.tif 000042
式中、Ｒ7，Ｒ8は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ1，Ａｒ2，Ａｒ3は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項４】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式３で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式３）
【化５】
0003709068.tif 000043
式中、Ｒ9，Ｒ10は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ4，Ａｒ5，Ａｒ6は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項５】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式４で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式４）
【化６】
0003709068.tif 000044
式中、Ｒ11，Ｒ12は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ7，Ａｒ8，Ａｒ9は同一又は異なるアリレン基、Ｓは１〜５の整数を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項６】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式５で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式５）
【化７】
0003709068.tif 000045
式中、Ｒ13，Ｒ14は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ10，Ａｒ11，Ａｒ12は同一又は異なるアリレン基、Ｘ1，Ｘ2は置換もしくは無置換のエチレン基、又は置換もしくは無置換のビニレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項７】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式６で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式６）
【化８】
0003709068.tif 000046
式中、Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17，Ｒ18は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ13，Ａｒ14，Ａｒ15，Ａｒ16は同一又は異なるアリレン基、Ｙ1，Ｙ2，Ｙ3は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表し同一であっても異なってもよい。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項８】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式７で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式７）
【化９】
0003709068.tif 000047
式中、Ｒ19，Ｒ20は水素原子、置換もしくは無置換のアリール基を表し，Ｒ19とＲ20は環を形成していてもよい。Ａｒ17，Ａｒ18，Ａｒ19は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項９】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式８で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式８）
【化１０】
0003709068.tif 000048
式中、Ｒ21は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ20，Ａｒ21，Ａｒ22，Ａｒ23は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項１０】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤とともに含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式９で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式９）
【化１１】
0003709068.tif 000049
式中、Ｒ22，Ｒ23，Ｒ24，Ｒ25は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ24，Ａｒ25，Ａｒ26，Ａｒ27，Ａｒ28は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項１１】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、潤滑剤と共に含まれる高分子電荷輸送物質が下記一般式１０で表されることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
（一般式１０）
【化１２】
0003709068.tif 000050
式中、Ｒ26，Ｒ27は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ29，Ａｒ30，Ａｒ31は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【請求項１２】
前記、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に含まれる前記潤滑剤の含有率が高分子輸送物質に対して０．１〜３０重量％であることを特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ、ダイレクトデジタル製版機等の電子写真プロセスに用いられる電子写真用感光体に関するものであり、さらに詳しくは高感度、高画質で、耐久性に非常に優れた電子写真感光体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ、ダイレクトデジタル製版機等に応用されている電子写真用感光体を用いた電子写真方法とは、少なくとも電子写真用感光体に一次帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体（転写紙）へのトナー画像の転写、定着及び電子写真用感光体表面のクリーニングというプロセスよりなる方法である。
【０００３】
電子写真用感光体が、この電子写真法において要求される基本的な特性としては、
▲１▼  暗所で適当な電位に帯電できること
▲２▼  暗所に於いて電荷の散逸が少ないこと
▲３▼  光照射によって速やかに電荷を散逸できること
等が挙げられる。
【０００４】
更にこれらの特性以外に画質特性等の長期信頼性や低公害性、コストの低さ等も要求される。
従来、電子写真方式に於いて使用される感光体としては導電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とする光導電層を設けたもの、酸化亜鉛・硫化カドミウム等の無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般的に知られているが、近年ではコストの低さ、感光体設計の自由度の高さ、無公害性等から有機系感光体が広く利用されるようになってきている。
【０００５】
有機系の電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂、ＰＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが知られており、特に機能分離型の感光体が注目されている。
【０００６】
この機能分離型の感光体における静電潜像形成のメカニズムは、感光体を帯電した後光照射すると、光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷発生物質は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送層に注入され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和することにより静電潜像を形成するものである。機能分離型感光体においては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主に可視部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて用いることが知られており、かつ有用である。
【０００７】
ところが、電子写真方法に用いられる有機系電子写真用感光体の電荷輸送物質は多くが低分子化合物として開発されているが、低分子化合物は単独で製膜性がないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用いられる。しかるに、低分子電荷輸送物質と不活性高分子からなる電荷輸送層は一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合に現像システムやクリーニングシステムによる機械的な感光体表面への負荷により膜削れを生じやすいという耐摩耗性の低さが短所として挙げられる。
【０００８】
更に、この構成の電荷輸送層は電荷移動度に限界があり、電子写真プロセスの高速化あるいは小型化の障害となっていた。これは通常低分子電荷輸送物質の含有量が５０重量％以下で使用されることに起因している。即ち低分子電荷輸送物質の含有量を増すことで確かに電荷移動度は上げられるが、このとき逆に製膜性や耐摩耗性が劣化するためである。
【０００９】
この有機系感光体の特性を改善する技術として有機系感光体のバインダー樹脂を改良したもの（特開平５−２１６２５０公報）や高分子型の電荷輸送物質（特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５４−８５２７号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開昭５６−１５０７４９号公報、特開昭５７−７８４０２号公報、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平１−１７２８号公報、特開平１−１９０４９号公報、特開平３−５０５５５号公報、特開平４−２２５０１４公報、特開平５−３３１２３８公報等）が注目され開示されている。
【００１０】
また、電子写真用感光体は機械的な耐久性以外に、コロナ放電等の各種帯電システムから発生するオゾンやＮＯｘと大気中水分等が複合的に反応することによって発生する低抵抗物質の付着や、トナーのフィルミング等により画質劣化が引き起こされるという問題を抱えている。したがって、感光体にはこれらの物質が付着しにくい特性も要求されている。
【００１１】
有機系感光体における本特性を改善する技術として、電荷輸送層を含む最表面層に種々の潤滑効果を有する添加剤を含有させる方法（特開昭５７−３５８６３号公報、特開昭６２−７５６４１号公報、特開昭６３−６１２５６号公報、特開昭６３−７３２６７号公報、特開昭６４−３５４４８号公報、特開平２−１８９５５０号公報）等が開示されている。
【００１２】
しかしながら、これらの感光体は耐摩耗性の不十分な電荷輸送層中に潤滑剤が含有されているため、初期的には各種物質の付着抑制に効果が認められるものの、その長期持続性に関しては未だ不十分である。
この様に、これまでの電子写真用感光体は、電子写真エンジンが近年要求されている高性能、長寿命、高信頼性を高いレベルで達成するためには不十分であり、改良が強く望まれている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、この高性能、長寿命、高信頼性を高いレベルで達成する有機系電子写真用感光体を提供することであり、特に画質再現性、耐摩耗性に優れ、耐久性及び光感度に優れた有機系電子写真用感光体を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らはこれら有機系感光体表面の潤滑性が長期間持続しない問題を解析した結果、有機系感光体の結着樹脂マトリクスの各種潤滑剤に対する拘束力が、有機系感光体中に低分子量成分（電荷移動剤）が多量に、例えば電荷輸送層中に４０〜７０ｗｔ％程度も含有されていることにより小さく、電子写真プロセスにおける現像システムやクリーニングシステム等の機械的ハザードにより、感光層表面の摩耗とともに各種潤滑剤も有機系感光体系外へ消失してしまうためと判明した。
【００１５】
さらに、電子写真用感光体が要求される光感度、耐摩耗性も同時に実現させるための手段を鋭意検討した結果、電子写真用感光体を、導電性支持体から最も離れた表面側から、少なくとも１層中に特定の構造を有する高分子電荷輸送物質及びシリコーン樹脂潤滑剤を含有した電子写真用感光体とすることにより上記目的を達成できることが明らかになった。
【００１６】
これは有様系感光層最表面側から少なくとも１層に特定の構造を有する高分子電荷輸送物質を含有する構成とすると、電子写真プロセスにおける現像システムやクリーニングシステム等の機械的ハザードを受けても電荷移動成分が高分子マトリクス中に化学結合により固定されているため摩耗に非常に強く、また各種潤滑剤に対する拘束力も従来の低分子電荷輸送材の樹脂分散型感光体と比較した場合より強く、その効果を長期的に持続することが出来るためである。
【００１７】
更に、感光体の光感度も高分子電荷輸送物質を本発明の特定の構造とすることにより、非常に良好な物が得られ、各種電子写真方式画像形成装置を設計する上で大きなメリットが得られることも判明した。
以下図面に沿って本発明で用いられる電子写真感光体を説明する。
【００１８】
図１は、本発明において用いられる電子写真感光体の断面図であり、導電性支持体２１上に、感光層２３が形成されたものである。
図２は、別の構成を示す断面図であり、導電性支持体２１上に、電荷発生層３１と電荷輸送層３３からなる感光層２３が形成されたものである。
図３は、更に別の構成を示す断面図であり、導電性支持体２１と感光層２３との間に下引き層２５が形成されたものである。
次に、本発明に用いられる高分子電荷輸送物質について述べる。
【００１９】
本発明に用いられる高分子電荷輸送物質として、下記一般式１〜１０で表される高分子電荷輸送物質が有効に用いられる。一般式１〜１０で表される高分子電荷輸送物質を以下に例示し、具体例を示す。
【００２０】
（一般式１）
【００２１】
【化１３】
0003709068.tif 000002
【００２２】
式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3はそれぞれ独立して置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子、Ｒ4は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基、Ｒ5，Ｒ6は置換もしくは無置換のアリール基、ｏ，ｐ，ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｋ，ｊは組成を表し、０．１≦ｋ≦１、０≦ｊ≦０．９、ｎは繰り返し単位数を表し５〜５０００の整数である。Ｘは脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基、または下記一般式で表される２価基を表す。
【００２３】
【化１４】
0003709068.tif 000003
【００２４】
式中、Ｒ101，Ｒ102は各々独立して置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表す。１，ｍは０〜４の整数、Ｙは単結合、炭素原子数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＳＯ−，−ＳＯ2−，−ＣＯ−，−ＣＯ−Ｏ−Ｚ−Ｏ−ＣＯ−（式中Ｚは脂肪族の２価基を表す。）または、
【００２５】
【化１５】
0003709068.tif 000004
【００２６】
（式中、ａは１〜２０の整数、ｂは１〜２０００の整数、Ｒ103，Ｒ104は置換または無置換のアルキル基又はアリール基を表す。）を表す。ここで、Ｒ101とＲ102，Ｒ103とＲ104は、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００２７】
一般式１の具体例
Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3はそれぞれ独立して置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同−であっても異なってもよい。
【００２８】
アルキル基として好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、Ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロペンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００２９】
Ｒ4は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表すがそのアルキル基の具体例としては上記のＲ1，Ｒ2，Ｒ3と同様のものが挙げられる。
Ｒ5，Ｒ6は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
【００３０】
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチルー２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジペンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ペンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【００３１】
上述のアリール基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、上記のＲ1，Ｒ2，Ｒ3と同様のものが挙げられる。
【００３２】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ105）としては、Ｒ105は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００３３】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００３４】
（５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【００３５】
Ｘは下記一般式（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ａ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００３６】
【化１６】
0003709068.tif 000005
【００３７】
一般式（Ｂ）のジオール化合物の具体例としては以下のものが挙げられる。
１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等の脂肪族ジオールや１，４−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール等の環状脂肪族ジオールが挙げられる。
【００３８】
また、芳香環を有するジオールとしては、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジプロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフイド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルオキシド、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロブロバン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）キサンテン、エチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、ジエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシペンゾエ−ト）、トリエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−テトラメチルジシロキサン、フェノール変性シリコーンオイル等が挙げられる。
【００３９】
（一般式２）
【００４０】
【化１７】
0003709068.tif 000006
【００４１】
式中、Ｒ7，Ｒ8は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ1，Ａｒ2，Ａｒ3は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【００４２】
一般式２の具体例
Ｒ7，Ｒ8は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基・トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジペンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基、または、
【００４３】
【化１８】
0003709068.tif 000007
【００４４】
ここで、Ｗは−Ｏ−，−ＳＯ−，−ＳＯ2−，−ＣＯ−及び以下の２価基を表す。
【００４５】
【化１９】
0003709068.tif 000008
【００４６】
で表される。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【００４７】
また、Ａｒ1，Ａｒ2およびＡｒ3で示されるアリレン基としてはＲ7およびＲ8で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。また、これら置環基は上記一般式中のＲ106、Ｒ107、Ｒ108の具体例として表される。
【００４８】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００４９】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ109）としては、Ｒ109は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００５０】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる．これはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００５１】
（５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【００５２】
（６）
【００５３】
【化２０】
0003709068.tif 000009
【００５４】
式中、Ｒ110及びＲ111は各々独立に（２）で定義したアルキル基またはアリール基を表し、アリール基としては例えばフェニル基、ビフェニル基、またはナフチル基が挙げられ、これらはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。またアリール基上の炭素原子と共同で環を形成しても良い。具体的には、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（ｐ−トリル）アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ユロリジル基等が挙げられる。
（７）メチレンジオキシ基、またはメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基またはアルキレンジチオ基等が挙げられる。
【００５５】
Ｘは下記一般式（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｃ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００５６】
【化２１】
0003709068.tif 000010
【００５７】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
【００５８】
（一般式３）
【００５９】
【化２２】
0003709068.tif 000011
【００６０】
式中、Ｒ9，Ｒ10は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ4，Ａｒ5，Ａｒ6は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【００６１】
一般式３の具体例
Ｒ9，Ｒ10は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジペンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
【００６２】
複素環基としては、チエニル基、ペンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ａｒ4，Ａｒ5、およびＡｒ6で示されるアリレン基としてはＲ9およびＲ10で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【００６３】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−プチル基、ｓ−プチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ペンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルペンジル基、４−メトキシペンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００６４】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ112）としては、Ｒ112は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００６５】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００６６】
（５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
【００６７】
（７）アシル基；具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【００６８】
Ｘは下記一般式（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｄ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００６９】
【化２３】
0003709068.tif 000012
【００７０】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
一般式４
【００７１】
【化２４】
0003709068.tif 000013
【００７２】
式中、Ｒ11，Ｒ12は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ7、Ａｒ8、Ａｒ9は同一又は異なるアリレン基、ｓは１〜５の整数を表す。Ｘ，ｋ、ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【００７３】
一般式４の具体例
Ｒ11，Ｒ12は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
【００７４】
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ペンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ａｒ7，Ａｒ8およびＡｒ9で示されるアリレン基としてはＲ11およびＲ12で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【００７５】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロペンジル基、４−メチルペンジル基、４−メトキシペンジル基、４−フェニルペンジル基等が挙げられる。
【００７６】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ113）としては、Ｒ113は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルペンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００７７】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００７８】
（５）置換メルカブト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、Ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
【００７９】
（７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【００８０】
Ｘは下記一般式（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｅ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００８１】
【化２５】
0003709068.tif 000014
【００８２】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は−般式１と同じものが挙げられる。
一般式５
【００８３】
【化２６】
0003709068.tif 000015
【００８４】
式中、Ｒ13，Ｒ14は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ10、Ａｒ11，Ａｒ12は同一又は異なるアリレン基、Ｘ1，Ｘ2は置換もしくは無置換のエチレン基、又は置換もしくは無置換のビニレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【００８５】
一般式５の具体例
Ｒ13，Ｒ14は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジペンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
【００８６】
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ａｒ10，Ａｒ11およびＡｒ12で示されるアリレン基としてはＲ13およびＲ14で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【００８７】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００８８】
（３）アルコキシ基（一ＯＲ114）としては、Ｒ114は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００８９】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチルー２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００９０】
（５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基。Ｎ，Ｎ−ジペンジルアミノ基等が挙げられる。
【００９１】
（７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基。ペンゾイル基等が挙げられる。
Ｘ1，Ｘ2は置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のビニレン基を表し、この置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、上記Ｒ13，Ｒ14のアリール基、上記（２）のアルキル基が挙げられる。
【００９２】
Ｘは下記一般式（Ｆ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｆ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【００９３】
【化２７】
0003709068.tif 000016
【００９４】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
一般式６
【００９５】
【化２８】
0003709068.tif 000017
【００９６】
式中、Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17，Ｒ18は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ13，Ａｒ14，Ａｒ15，Ａｒ16は同一又は異なるアリレン基、Ｙ1，Ｙ2，Ｙ3は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表し同一であっても異なってもよい。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【００９７】
一般式６の具体例
Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17，Ｒ18は置換もしくは無置換のアリール基を表すが。その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【００９８】
また、Ａｒ13，Ａｒ14，Ａｒ15およびＡｒ16で示されるアリレン基としては、Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17およびＲ18で示した上記のアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【００９９】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１００】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ115）としては、Ｒ115は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１０１】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１０２】
Ｙ1，Ｙ2，Ｙ3は単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表し同一であっても異なってもよい。
アルキレン基としては、上記（２）で示したアルキル基より誘導される２価基を表す。具体的には、メチレン基、エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、２−メチル−１，３−プロピレン基、ジフルオロメチレン基、ヒドロキシエチレン基、シアノエチレン基、メトキシエチレン基、フェニルメチレン基、４−メチルフェニルメチレン基、２，２−プロピレン基、２，２−ブチレン基、ジフェニルメチレン基等を挙げることができる。
【０１０３】
シクロアルキレン基としては、１，１−シクロペンチレン基、１，１−シクロヘキシレン基、１，１−シクロオクチレン基等を挙げることができる。
アルキレンエーテル基としては、ジメテレンエーテル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチレンエーテル基、ビス（トリエチレン）エーテル基、ポリテトラメチレンエーテル基等が挙げられる。
【０１０４】
Ｘは下記一般式（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｇ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１０５】
【化２９】
0003709068.tif 000018
【０１０６】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
一般式７
【０１０７】
【化３０】
0003709068.tif 000019
【０１０８】
式中、Ｒ19，Ｒ20は水素原子、置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ19とＲ20は環を形成していてもよい。Ａｒ17，Ａｒ18，Ａｒ19は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、−般式１の場合と同じである。
【０１０９】
一般式７の具体例
Ｒ19，Ｒ20は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同−であっても異なってもよい。
芳書族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
【０１１０】
複素環基としては、チエニル基、ペンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ｒ19，Ｒ20は環を形成する場合、９−フルオリニリデン、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘブテニリデンなどが挙げられる。
また、Ａｒ17，Ａｒ18およびＡｒ19で示されるアリレン基としてはＲ19およびＲ20で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【０１１１】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、Ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１１２】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ116）としては、Ｒ116は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルペンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１１３】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１１４】
（５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【０１１５】
（６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１１６】
Ｘは下記一般式（Ｈ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｈ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１１７】
【化３１】
0003709068.tif 000020
【０１１８】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
（一般式８）
【０１１９】
【化３２】
0003709068.tif 000021
【０１２０】
式中、Ｒ21は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ20，Ａｒ21，Ａｒ22，Ａｒ23は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１２１】
一般式８の具体例
Ｒ21は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
【０１２２】
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ａｒ20，Ａ21，Ａｒ22およびＡｒ23で示されるアリレン基としてはＲ21で示したアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【０１２３】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１２４】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ117）としては、Ｒ117は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１２５】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１２６】
（５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１２７】
Ｘは下記一般式（Ｊ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｊ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１２８】
【化３３】
0003709068.tif 000022
【０１２９】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
（一般式９）
【０１３０】
【化３４】
0003709068.tif 000023
【０１３１】
式中、Ｒ22，Ｒ23，Ｒ24，Ｒ25は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ24，Ａｒ25，Ａｒ26，Ａｒ27，Ａｒ28は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１３２】
一般式９の具体例
Ｒ22，Ｒ23，Ｒ24，Ｒ25は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同一であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
【０１３３】
複素環基としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ａｒ24，Ａｒ25，Ａｒ26，Ａｒ27およびＡｒ28で示されるアリレン基としては、Ｒ22，Ｒ23，Ｒ24およびＲ25で示した上記のアリール基の２価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【０１３４】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロペンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１３５】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ118）としては、Ｒ118は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０１３６】
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１３７】
（５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１３８】
Ｘは下記一般式（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｌ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーポネートは交互共重合体となる。
【０１３９】
【化３５】
0003709068.tif 000024
【０１４０】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
一般式１０
【０１４１】
【化３６】
0003709068.tif 000025
【０１４２】
式中、Ｒ26，Ｒ27は置換もしくは無置換のアリール基、Ａｒ29，Ａｒ30，Ａｒ31は同一又は異なるアリレン基を表す。Ｘ，ｋ，ｊおよびｎは、一般式１の場合と同じである。
【０１４３】
一般式１０の具体例
Ｒ26，Ｒ27は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げることができ、同−であっても異なってもよい。
芳香族炭化水素基として、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられる。
【０１４４】
複素環基として、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
また、Ａｒ29，Ａｒ30およびＡｒ31で示されるアリレン基としてはＲ26およびＲ27で示したアリール基の２価基が挙げられ、同−であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有してもよい。
【０１４５】
（１）ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基。
（２）アルキル基としては、好ましくは、Ｃ1〜Ｃ12とりわけＣ1〜Ｃ8、さらに好ましくはＣ1〜Ｃ4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【０１４６】
（３）アルコキシ基（−ＯＲ119）としては、Ｒ119は（２）で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、Ｃ1〜Ｃ4のアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、６−メチル−２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【０１４７】
（５）置換メルカプト基またはアリールメルカプト基としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は（２）で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。
（７）アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【０１４８】
Ｘは下記一般式（Ｍ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式（Ｂ）のジオール化合物を併用することにより主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。また、Ｘは下記一般式（Ｍ）のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式（Ｂ）から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【０１４９】
【化３７】
0003709068.tif 000026
【０１５０】
一般式（Ｂ）のジオール化合物は一般式１と同じものが挙げられる。
導電性支持体２１としては、体積抵抗１０10Ω以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、鉄などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの酸化物を、蒸着またはスパッタリングによりフィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらをＤ．１．，ｌ．ｌ．，押出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨などで表面処理した管などを使用することが出来る。
【０１５１】
本発明における感光層２３は、単層型でも積層型でもよいが、ここでは説明の都合上、まず積層型について述べる。
はじめに、電荷発生層３１について説明する。電荷発生層３１は、電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
【０１５２】
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【０１５３】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることが出来る。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ペンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または２種以上の混合物として用いることが出来る。
【０１５４】
電荷発生層３１に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリステレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが用いられる。これらのバインダー樹脂は、単独または２種以上の混合物として用いることが出来る。
【０１５５】
また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、先に記した一般式１〜１０の高分子電荷輸送物質が良好に用いられるが、その他の高分子電荷輸送物質として以下のものが挙げられる。
【０１５６】
（ａ）主鎖および／または側鎖にカルバゾール環を有する重合体
例えば、ポリーＮ−ビニルカルバゾール、特開昭５０−８２０５６号公報、特開昭５４−９６３２号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開平４−１８３７１９号公報に記載の化合物等が例示される。
【０１５７】
（ｂ）主鎖および／または側鎖にヒドラゾン構造を有する重合体
例えば、特開昭５７−７８４０２号公報、特開平３−５０５５５号公報に記戦の化合物等が例示される。
（ｃ）ポリシリレン重合体
例えば、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平５−１９４９７号公報、特開平５−７０５９５号公報に記載の化合物等が例示される。
【０１５８】
（ｄ）主鎖および／または側鎖に第３級アミン構造を有する重合体
例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−４−アミノポリスチレン、特開平１−１３０６１号公報、特開平１−１９０４９号公報、特開平１−１７２８号公報、特開平１−１０５２６０号公報、特開平２−１６７３３５号公報、特開平５−６６５９８号公報、特開平５−４０３５０号公報に記載の化合物等が例示される。
【０１５９】
（ｅ）その他の重合体
例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５６−１５０７４９号公報に記載の化合物等が例示される。
本発明に使用される電子供与性基を有する重合体は、上記重合体だけでなく、公知単量体の共重合体や、ブロック重合体、グラフト重合体、スターポリマーや、また、例えば特開平３−１０９４０６号公報に開示されているような電子供与性基を有する架橋重合体等を用いることも可能である。更に、必要に応じて低分子電荷輸送物質を添加してもよい。
電荷発生層３１に併用できる低分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
【０１６０】
電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独または２種以上の混合物として用いることが出来る。
【０１６１】
正孔輸送物質としては、以下に表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。たとえば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独または２種以上の混合物として用いることが出来る。
【０１６２】
電荷発生層３１を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電重合法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
【０１６３】
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法などを用いて行なうことができる。
【０１６４】
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
次に、電荷輸送層３３について説明する。
【０１６５】
電荷輸送層３３は、高分子電荷輸送物質及び潤滑剤を主成分とする層であり、高分子電荷輸送物質及び潤滑剤を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することにより形成できる。高分子電荷輸送物質は先述の公知材料を用いることができるが、前記一般式１〜１０の高分子電荷輸送物質が本発明の目的を達成するために特に良好に使用される。また、必要により高分子電荷輸送物質及び潤滑剤以外に適当なバインダー樹脂、低分子電荷輸送物質、可塑剤やレベリング剤等を適量添加することもできる。
【０１６６】
電荷輸送層３３に併用できるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート（ビスフェノールＡタイプ、ビスフェノールＺタイプ）、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが用いられる。これらのバインダーは、単独または２種以上の混合物として用いることが出来る。
【０１６７】
電荷輸送層３３に併用できる低分子電荷輸送物質は、電荷発生層３１の説明に記載したものと同じものを用いることができる。電荷輸送層３３の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当であり、好ましくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。また、本発明において電荷輸送層３３中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。
【０１６８】
可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、バインダー樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。
【０１６９】
レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、バインダー樹脂１００重量部に対して０〜１重量部程度が適当である。
次に、感光層２３が単層構成の場合について述べる。
【０１７０】
キャスティング法で単層感光層を設ける場合、多くは電荷発生物質と低分子ならびに高分子電荷輸送物質及び潤滑剤を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することにより形成できる。電荷発生物質ならびに電荷輸送物質には、前出の材料を用いることができる。
【０１７１】
また、必要により可塑剤やレベリング剤を添加することもできる。更に、必要に応じて用いることの出来るバインダー樹脂としては、先に電荷輸送層３３で挙げたバインダー樹脂をそのまま用いる他に、電荷発生層３１で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。単層感光体の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当であり、好ましくは、１０〜４０μｍ程度が適当である。
【０１７２】
本発明において、導電性基体より最も離れた表面側から少なくとも１層に、高分子電荷輸送物質とともに含有され、感光体最表面の摩擦係数、撥水性、離型性を改善する潤滑剤としては、シリコーン系樹脂粉体が用いられる。一般にシリコーン樹脂粉体は易滑剤、潤滑剤、撥水性機能をもち市販され、高硬度なものからエラストマー的柔らかいもの、球状、不定形なもの多岐わたる。
【０１７３】
シリコーン系樹脂粉体としては,ジメトキシジメチルシラン及び末端シラノールシリコーンオイルを共重合して得られるシリコーン樹脂粉体が挙げられる。
【０１７４】
又、シロキサン三次元網目構造は、ジメトキシジメチルシラン及び末端シラノールシリコーンオイルを共重合して得られる。この樹脂粉体は有機溶媒に溶解するが、高分子電荷輸送物質と相溶せず、高分子電荷輸送層表層にマイグレートし微少な海島構造ができる。
【０１７５】
シリコーン系ビニル樹脂粉体はジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタクリレートなどの二官能ビニル化合物と末端メタクリレートシリコーンオイルと乳化重合で三次元網目構造球状粉体が得られ、共重合種としてステレン、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ステアリルメタクリレートなどができる。
【０１７６】
潤滑剤として含有されるシリコーン系樹脂粉体の形態は球形、不定形のいずれでも用いることが出来る。粉体の粒径に関しては０．１μｍ〜１０μｍが好適に用いられる。
【０１７７】
シリコーン系樹脂粉末の添加量は高分子電荷輸送体に対して０．０１から３０重量％で好ましくは０．１から２０重量％であり、０．１重量％未満であると初期、効果はあるものの持続性が小さく、２０重量％を超えると電気特性の劣化をまねく。
【０１７８】
本発明に用いられる電子写真感光体には、導電性支持体２１と感光層２３（積層タイプの鴇合には、電荷発生層３１）との間に下引き層２５を設けることができる。下引き層２５は、接着性を向上する、モワレなどを防止する、上層の塗工性を改良する、残留電位を低減するなどの目的で設けられる。下引き層２５は一般に樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤を用いて塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶解性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂などが挙げられる。また、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物、あるいは金属硫化物、金属窒化物などの微粉末を加えてもよい。これらの下引き層は、前述の感光層のごとく適当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。
【０１７９】
更に本発明の下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用して、例えばゾル−ゲル法等により形成した金属酸化物層も有用である。
この他に、本発明の下引き層にはＡｌ2Ｏ3を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物や、ＳｉＯ，ＳｎＯ2，ＴｉＯ2，ＩＴＯ，ＣｅＯ2等の無機物を真空薄膜作製法にて設けたものも良好に使用できる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。
【０１８０】
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加してもよいが、電荷輸送物質を含む層に添加すると良好な結果が得られる。
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
【０１８１】
モノフエノール系化合物
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなど。
【０１８２】
ビスフェノール系化合物
２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）など。
【０１８３】
高分子フェノール系化合物
１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−プチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロビオネート〕メタン、ビス〔３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド〕クリコールエステル、トコフエロール類など。
【０１８４】
パラフェニレンジアミン類
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
【０１８５】
ハイドロキノン類
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
【０１８６】
有機硫黄化合物類
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネートなど。
有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。
【０１８７】
これら化合物は、ゴム、プラスチック、油脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる。
本発明における酸化防止剤の添加量は、電荷輸送物質１００重量部に対して０．１〜１００重量部、好ましくは２〜３０重量部である。
【０１８８】
以下シリコーン樹脂粉体の合成例を示す
合成例１
トリエトキシエチルシラン                                      ５部
ジメトキシジメチルシラン                                      ３部
メトキシトリメチルシラン                                  ０．５部
末端シラノールジメチルシリコーンオイル（東レ・ダウコーニ
ングシリコーン社製、ＰＲＸ４１３）                            １０部
イソプロピルアルコール                                      ２０部
８％塩酸水溶液                                            ０．１部
上記溶液を秤取り室温で３時間撹拌、１晩放置後ホットプレート上で揮発物を除去、ゲル状物を得る。このゲルをシャーレーに移し１５０℃真空下５時間反応させ白色硬化物８部を得た、これを粉砕しイオン交換水１００ｍｌで３回洗浄、メタノール１００ｍｌで洗薄、乾燥した。
【０１８９】
合成例２
ジビニルベンゼン                                            １０部
末端メタクリレートシリコーンオイル（東レ・ダウコーニングシ
リコーン社製  ＢＸ１６−１９２）                              ２０部
アゾビスジメチルバレロニトリル                            ０．６部
を溶解し１０％ポリビニルアルコール２４部、イオン交換水１６部に注ぎ、ホモミキサーで乳化し、イオン交換水８０部で希釈し、窒素気流中、６０℃で撹拌下１２時間重合した。得られた重合体を遠心分離して水溶液を除き、白色粉体をイオン交換水で２００ｍｌで撹拌下洗浄を５回繰り返した、分雑は遠心分離で粉体を分取し、メタノール２００ｍｌで洗浄３回行い、乾燥、２８部を得た。粉体は球状の３μｍであった。
【０１９０】
【発明の実施の形態】
次に、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。尚、実施例中使用する部は、すべて重量部を表わす。
【０１９１】
参考例１
φ３０ｍｍのアルミニウムドラム上に、下記組成の下引き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工液を順次、塗布乾燥することにより、３．５μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層、２５μｍの電荷輸送層を形成して、参考例の電子写真感光体を得た。
【０１９２】
＜下引き層用塗工液＞
アルキッド樹脂（ベッコゾール  １３０７−６０−ＥＬ、大日本
インキ化学工業製）                                              ６部
メラミン樹脂（スーパーベッカミン  Ｇ−８２１−６０、大日本
インキ化学工業製）                                              ４部
酸化チタン                                                  ４０部
メチルエチルケトン                                        ２００部
＜電荷発生層用塗工液＞
オキソチタニウムフタロシアニン顔料                            ２部
ポリビニルブチラール（ＵＣＣ：ＸＹＨＬ）                  ０．２部
テトラヒドロフラン                                          ５０部
＜電荷輸送層用塗工液＞
下記構造の高分子電荷輸送物質（共重合比率３：１重量、ポリ
スチレン換算分子量Ｍｗ１３万）                                １０部
【０１９３】
【化３８】
0003709068.tif 000027
【０１９４】
シリコーン樹脂粉体（東芝シリコーン社製、トスパール１０５）０．８部
塩化メチレン                                              １００部
参考例２
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（共重合比率２：１重量、ポリスチレン換算分子量Ｍｗ１１万）を以下の構造のものとシリコーン樹脂粉体を変えた以外は全く同様に作製した。
【０１９５】
【化３９】
0003709068.tif 000028
【０１９６】
シリコーン樹脂粉体（東レ・ダウコーニングシリコーン社製
トレフィルＥ−５０１）                                      ０．５部
参考例３
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（共重合比率２：１重量、ポリスチレン換算分子量Ｍｗ１５万）を以下の構造のものに変え、シリコー樹脂粉体を変えた以外は全く同様に作製した。
【０１９７】
【化４０】
0003709068.tif 000029
【０１９８】
シリコーン樹脂粉体（信越化学社製  ＫＭＰ５９０）          ０．８部
実施例１
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（共重合比率３：１重量、ポリスチレン換算分子量Ｍｗ９．５万）を以下の構造のものとシリコーン樹脂粉体を変えた以外は全く同様に作製した。
【０１９９】
【化４１】
0003709068.tif 000030
【０２００】
合成例１のシリコーン樹脂粉体                              ０．８部
参考例４
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（共重合比率２：１重量、ポリスチレン換算分子量Ｍｗ２０万）を以下の構造のものとシリコーン樹脂粉体を変えた以外は全く同様に作製した。
【０２０１】
【化４２】
0003709068.tif 000031
【０２０２】
合成例２のシリコーン樹脂粉体                              ０．８部
参考例５
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（共重合比率１：１ｍｏｌの交互共重合体、ポリスチレン換算分子量８．５万）を以下の構造のものとシリコーン樹脂粉体を変えた以外は全く同様に作製した。
【０２０３】
【化４３】
0003709068.tif 000032
【０２０４】
シリコーン樹脂粉体（東芝シリコーン社製ＸＣ９９−Ａ５２６３
１．０部
参考例６
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（共重合比率１：１ｍｏｌの交互共重合体、ポリスチレン換算分子量Ｍｗ１１万）を以下の構造のものとシリコーン樹脂粉体を変えた以外は全く同様に作製した。
【０２０５】
【化４４】
0003709068.tif 000033
【０２０６】
合成例２のシリコーン樹脂粉体                              ０．８部
参考例７
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（共重合比率１：１ｍｏｌの交互共重合体ポリスチレン換算分子量Ｍｗ１５万）を以下の構造のものとシリコーン樹脂粉体を変えた以外は全く同様に作製した。
【０２０７】
【化４５】
0003709068.tif 000034
【０２０８】
シリコーン樹脂粉体（東レ・ダウコーニングシリコーン社製
トレフィルＥ−５００）                                      ０．６部
参考例８
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（共重合比率３：１重量、ポリスチレン換算分子量Ｍｗ９．８万）を以下の構造のものとシリコーン樹脂粉体を変えた以外は全く同様に作製した。
【０２０９】
【化４６】
0003709068.tif 000035
【０２１０】
合成例２のシリコーン樹脂粉体                              ０．８部
参考例９
参考例１における電荷輸送層に用いた高分子電荷輸送物質（ポリスチレン換算分子量Ｍｗ１０万）を以下の構造のものに変えた以外は全く同様に作製した。
【０２１１】
【化４７】
0003709068.tif 000036
【０２１２】
シリコーン樹脂粉体（東芝シリコーン社製トスパール１０５）  ０．８部
比較例１
実施例１における電荷輸送層用塗工液を以下のものに変更した以外は、実施例１と全く同様に作製した。
【０２１３】
＜電荷輸送層用塗工液＞
ビスフェノールＡ型ポリカーボネート（帝人化成社製：パンラ
イトＣ１４００）                                              １０部
下記構造の低分子電荷輸送物質                                １０部
【０２１４】
【化４８】
0003709068.tif 000037
【０２１５】
シリコーン樹脂粉体（東芝シリコーン社製  トスパール）    ０．０８部
塩化メチレン                                              １００部
以上のように作製した実施例１、参考例１〜９および比較例１の電子写真感光体を実装用にした後、以下のようにして評価を行った。
【０２１６】
＜実機ランニング特性評価方法＞
市販電子写真複写機イマジオＭＦ２００〔（株）リコー製〕により、それぞれの感光体について１０万枚までの通紙試験を行った。通紙試験中及び通紙試験後に感光体の画像品質特性・感光層摩耗量の評価を適時行った。
暗部電位：各感光体の表面電位を初期８５０Ｖになるように調整した
明部電位：各感光体の表面電位を初期８０Ｖになるように調整した
画像品質：ベタ濃度、細線再現性、異常画像等総合的に評価
摩耗量：実機ランニングによる感光層厚減少量
評価結果を表１に示す。
【０２１７】
【表１】
0003709068.tif 000038
【０２１８】
表１より明らかなように、本発明の特許請求の範囲を満たす実施例１の電子写真用感光体は、帯電性及び光感度に優れ、電気特性の劣化が少なく、又感光層の摩耗も少なく、高画質のハードコピーを長期間安定して得られる事がわかる。一方比較例の、低分子電荷輸送物質を用いた電子写真用感光体では摩耗が非常に大きく、電気特性や画像特性が短期間で大きく劣化してしまい、本発明の感光体の優位性が明らかである。
【０２１９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明により光感度特性、耐摩耗性、画質安定性に優れた電子写真用感光体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電子写真感光体の溝成を示す断面図。
【図２】本発明の電子写真感光体の別の構成を示す断面図。
【図３】本発明の電子写真感光体の更に別の構成を示す断面図。
【符号の説明】
２１  導電性支持体
２３  感光層
２５  下引き層
３１  電荷発生層
３３  電荷輸送層
【図１】
0003709068.tif 000051
【図２】
0003709068.tif 000052
【図３】
0003709068.tif 000053