(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置され、前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、
前記透光層上の一部に配置された反射層と、
前記透光層上及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、
前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は前記傾斜面上に配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】
前記透光層は、前記傾斜面によって構成される谷状部を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項３】
基板と、
前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、
前記透光層上の一部に配置された反射層と、
前記開口内及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、
前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項４】
前記透光層は、前記基板に対して平行な平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記傾斜面上に張り出すように配置されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項５】
前記反射層は、可視光を散乱可能な微細な凹凸を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板。
【請求項６】
基板上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、
前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面を形成する工程と、
前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、
前記透光層上及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、
前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、
前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項７】
基板上に開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、
前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を形成する工程と、
前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、
前記開口内及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、
前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上若しくは前記透光層の前記開口内に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、
前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項８】
基板上に下地層を部分的に形成する工程と、
前記下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、
前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、
前記透光層上及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、
前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍と重ねて前記傾斜面が形成され、
前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、
前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項９】
前記下地層を形成する工程では、前記下地層の表面上に凹凸が形成され、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の前記凹凸上に前記透光層を形成することにより前記透光層の表面上に凹凸が形成され、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記凹凸上に前記反射層を形成することにより前記反射層に可視光を散乱可能な微細な凹凸が形成されることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１０】
基板と、
前記基板上に配置された前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、
前記透光層上の一部に配置された反射層と、
前記透光層上及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、
前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁が前記傾斜面上に配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
基板と、
前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、
前記透光層上の一部に配置された反射層と、
前記開口と重なる前記反射層が配置されていない領域と、
前記透光層上及び前記開口内に配置された着色層とを備え、
前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は、前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項６に記載の電気光学装置用基板の製造方法を工程として備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１０に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法に係り、特に、反射半透過型の液晶装置に適用する場合に好適な構造及び製造技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、外光を利用した反射型表示と、バックライト等の照明光を利用した透過型表示とのいずれをも視認可能とした反射半透過型の液晶表示パネルが知られている。この反射半透過型の液晶表示パネルは、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有し、この反射層をバックライト等の照明光が透過できるように構成したものである。この種の反射層としては、液晶表示パネルの画素毎に所定面積の開口（スリット）を備えたものがある。
【０００３】
図１３は、従来の反射半透過型の液晶表示パネル１００の概略構造を模式的に示す概略断面図である。この液晶表示パネル１００は、基板１０１と基板１０２とがシール材１０３によって貼り合せられ、基板１０１と基板１０２との間に液晶１０４を封入した構造を備えている。
【０００４】
基板１０１の内面上には、画素毎に開口部１１１ｈを有する反射層１１１が形成され、この反射層１１１の上に着色層１１２ｒ，１１２ｇ，１１２ｂ及び表面保護層１１２ｐを備えたカラーフィルタ１１２が形成されている。カラーフィルタ１１２の表面保護層１１２ｐの表面上には透明電極１１３が形成されている。
【０００５】
一方、基板１０２の内面上には透明電極１２１が形成され、対向する基板１０１上の上記透明電極１１３と交差するように構成されている。なお、基板１０１上の透明電極１１３上、及び、基板１０２上の透明電極１２１の上には、配向膜や硬質透明膜などが必要に応じて適宜に形成される。
【０００６】
また、上記の基板１０２の外面上には位相差板（１／４波長板）１０５及び偏光板１０６が順次配置され、基板１０１の外面上には位相差板（１／４波長板）１０７及び偏光板１０８が順次配置される。
【０００７】
以上のように構成された液晶表示パネル１００は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に設置される場合、その背後にバックライト１０９が配置された状態で取付けられる。この液晶表示パネル１００においては、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路Ｒに沿って外光が液晶１０４を透過した後に反射層１１１にて反射され、再び液晶１０４を透過して放出されるので、反射型表示が視認される。一方、夜間や野外などの暗い場所ではバックライト１０９を点灯させることにより、バックライト１０９の照明光のうち開口部１１１ｈを通過した光が透過経路Ｔに沿って液晶表示パネル１００を通過して放出されるので、透過型表示が視認される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の反射半透過型の液晶表示パネル１００においては、上記反射経路Ｒでは光がカラーフィルタ１１２を２回通過するのに対し、上記透過経路Ｔでは光がカラーフィルタ１１２を一度だけ通過するため、反射型表示の彩度に対して透過型表示における彩度が悪くなるという問題点がある。すなわち、反射型表示では一般的に表示の明るさが不足しがちであるので、カラーフィルタ１１２の光透過率を高く設定して表示の明るさを確保する必要があるが、このようにすると、透過型表示において十分な彩度を得ることができなくなる。
【０００９】
また、上記のように反射型表示と透過型表示とにおいては光がカラーフィルタを通過する回数が異なるので、反射型表示の色彩と、透過型表示の色彩とが大きく異なってしまうため、違和感を与えるという問題点もある。
【００１０】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、反射型表示と透過型表示の双方を可能にする表示装置に用いた場合に、反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能なカラーフィルタ基板を提供することにある。また、反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能な反射半透過型の電気光学装置を提供することにある。さらに、反射型表示と透過型表示との間の色彩の差異を低減することのできる表示技術を実現することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上に配置され、前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上の一部に配置された反射層と、前記透光層上及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は前記傾斜面上に配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されてことを特徴とする。
【００１２】
この発明によれば、反射層の開口部の縁が傾斜面上に配置されていることにより、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視野角特性を改善することができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【００１３】
本発明において、前記透光層は前記傾斜面によって構成される谷状部を有することが好ましい。
【００１４】
この発明によれば、谷状部が構成されていることにより谷状部を構成する傾斜面が多方向を向いているので、外光の反射方向をさらに広げることができる。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、電気光学装置の反射型表示における視野角特性を改善することが可能になる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上の一部に配置された反射層と、前記開口内及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする。
【００１６】
この発明によれば、反射層の開口部の縁が傾斜面上若しくはその内側の前記透光層の開口内に配置されていることにより、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視角依存性を改善することができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【００１７】
本発明において、前記反射層は前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有し、前記傾斜反射面は少なくとも前記傾斜面上に配置されていることが好ましい。
【００１８】
この発明によれば、傾斜反射面によって反射光の反射角度範囲が広がり、反射型表示における視野角特性を改善できる。
【００１９】
さらには、前記透光層は前記基板に対して平行な平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記傾斜面上に張り出すように配置されていることが好ましい。
【００２０】
この発明によれば、傾斜反射面を平坦な反射面と一体に構成することができるので、反射層のパターニングが容易になる。
【００２１】
本発明において、前記反射層は可視光を散乱可能な微細な凹凸を有することが好ましい。
【００２２】
この発明によれば、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、電気光学装置の反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりすることを防止できる。
【００２３】
本発明において、前記透光層上に着色層が配置されていることが好ましい。
【００２４】
この発明によれば、この着色層は反射層の開口部と平面的に重なる領域が、透光層の傾斜面や開口に対応した厚肉部となっている。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、反射型表示の明るさを確保しつつ（すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく）、透過型表示の彩度を向上させることができる。また、着色層の厚肉部が透光層の傾斜面上や反射層の傾斜反射面上に、或いは、これらに囲まれた透光層の開口内に設けられることにより、着色層を構成する素材を充填しやすくなるため、着色層の表面の平坦性を向上させることが可能になる。
【００２５】
次に、本発明の別の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上の一部に配置された反射層と、前記反射層上に配置され、前記基板に対して傾斜した傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上に配置された着色層とを備え、前記傾斜面は前記反射層の縁と重なって配置され、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角は、６８〜７９度の範囲内であることを特徴とする。
【００２６】
この発明によれば、反射層の開口部は、少なくとも透光層の傾斜面の一部と重なっており、さらにその開口部上に着色層が配置されていることから、開口部上には着色層がその他の部分よりも厚く配置される。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、反射型表示の明るさを確保しつつ（すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく）、透過型表示の彩度を向上させることができる。また、着色層の厚肉部が透光層の傾斜面上や反射層の傾斜反射面上に設けられることにより、着色層を構成する素材を充填しやすくなるため、着色層の表面の平坦性を向上させることが可能になる。
そして、傾斜角が、基板の表面に対して６８〜７９度の範囲内であることから、着色層の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【００２７】
さらに、本発明のまた別の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上の一部に配置された反射層と、前記反射層上に配置され、前記反射層が配置されていない領域に重なる開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上及び前記開口内に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層の縁が、前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角は、６８〜７９度の範囲内であることを特徴とする。
【００２８】
この発明によれば、反射層の開口部は透光層の開口に重なり、開口の周囲には傾斜面が形成されていることにより、透光層の開口及び傾斜面上においては着色層がその他の部分よりも厚く形成される。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、反射型表示の明るさを確保しつつ（すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく）、透過型表示の彩度を向上させることができる。また、着色層の厚肉部が透光層の傾斜面上や反射層の傾斜反射面上に、並びに、これらに囲まれた透光層の開口内に設けられることにより、着色層を構成する素材を充填しやすくなるため、着色層の表面の平坦性を向上させることが可能になる。
そして、傾斜角が、基板の表面に対して６８〜７９度の範囲内であることから、着色層の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【００２９】
次に、本発明の電気光学装置用基板の製造方法は、基板上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面を形成する工程と、前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、前記透光層上及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする。
【００３０】
この発明によれば、透光層を軟化させることによってその流動性を利用して容易に傾斜面を形成することが可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光層の傾斜面上に反射層の開口部が形成されていることにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成する際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが可能になる。また、基板の製造過程において傾斜面部上の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとともに高精度に開口部を形成することが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【００３１】
また、本発明の別の電気光学装置用基板の製造方法は、基板上に開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を形成する工程と、前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、前記開口内及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上若しくは前記透光層の前記開口内に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする。
【００３２】
この発明によれば、透光層を流動させることによって開口の周囲に傾斜面を容易に形成することが可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光層の開口と重なる開口部が反射層に設けられ、反射層の開口部の縁が透光層の傾斜面上若しくは開口内に設けられることにより、その上に着色層を形成する際に、反射層の開口部上に着色層の厚肉部を形成することが可能になる。また、基板の製造過程において傾斜面部上の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとともに高精度に開口部を形成することが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【００３３】
また、前記透光層を形成する工程では、前記透光層を軟化させたときに、前記透光層の縁部近傍において素材が流動して前記傾斜面が形成されるように、前記透光層を前記基板上に部分的に形成することが好ましい。
【００３４】
この発明によれば、透光層を軟化させたときに透光層が形成されていない部分に素材を流れ込ませることで、透光層に傾斜面を容易に形成することができる。
【００３５】
また、本発明の別の電気光学装置用基板の製造方法は、基板上に下地層を部分的に形成する工程と、前記下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、前記透光層上及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍と重ねて前記傾斜面が形成され、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする。
【００３６】
この発明によれば、部分的に形成した下地層上に透光層を形成することによって、下地層によって形成された段差に沿って傾斜面が自然に構成されるので、簡単に傾斜面を形成できる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【００３７】
また、本発明において、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記基板に対して平行な平行面上から前記傾斜面上に張り出すように前記反射層を形成することが好ましい。
【００３８】
この発明によれば、傾斜面に沿って形成されている反射層のうち傾斜面の下部分に形成されている反射層をエッチング液等の薬液で除去する際に、精度よく反射層を除去できる。
【００３９】
また、本発明において、前記反射層を形成する工程では、前記反射層の表面に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好ましい。さらには、前記透光層の表面に凹凸を形成することが好ましい。
【００４０】
この発明によれば、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いた際、電気光学装置の反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりすることを防止できる。また、透光層の表面にあらかじめ凹凸が形成してあれば、その透光層上に反射層を形成することで容易に反射層に凹凸を形成することができる。また、反射層の凹凸を透光層表面の凹凸形状によって制御することができるので、反射層が凹凸を形成することが難しい素材であっても、容易に所望の凹凸形状を形成することができる。
【００４１】
また、本発明において、前記下地層を形成する工程では、前記下地層の表面上に凹凸が形成され、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の前記凹凸上に前記透光層を形成することにより前記透光層の表面上に凹凸を形成し、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記凹凸上に前記反射層を形成することにより前記反射層に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好ましい。
【００４２】
この発明によれば、下地層の表面にあらかじめ凹凸を形成しておけば、その下地層上に透光層を形成するだけで少なくとも透光層の表面に凹凸を容易に形成することができ、また、その透光層上に反射層を形成するだけで反射層上に凹凸を容易に形成できる。
【００４３】
さらに、本発明の異なる電気光学装置用基板の製造方法は、基板上の一部に反射層を形成する工程と、前記反射層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記傾斜面が前記反射層の縁に重ねて設けられるように形成され、かつ、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角が、６８〜７９度の範囲内となるように形成されることを特徴とする。
【００４４】
さらに、本発明の異なる電気光学装置用基板の製造方法は、基板上の一部に反射層を形成する工程と、前記反射層上に、前記反射層が形成されていない領域に重なる開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上及び前記開口内に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記開口の周囲に設けられ前記基板に対して傾斜した傾斜面を、前記反射層の縁が前記傾斜面と重なるように若しくは前記透光層の前記開口の内側に設けられるように、かつ、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角が、６８〜７９度の範囲内となるように形成することを特徴とする。
【００４５】
次に、本発明の電気光学装置は、基板と、前記基板上に配置された前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上の一部に配置された反射層と、前記透光層上及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁が前記傾斜面上に配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする。
【００４６】
この発明によれば、反射層の開口部の縁が透光層の傾斜面上に配置されていることにより、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視野角特性を改善することができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【００４７】
また、前記透光層は、前記傾斜面によって構成される谷状部を有することが好ましい。
【００４８】
この発明によれば、谷状部が構成されていることにより谷状部を構成する傾斜面が多方向を向いているので、外光の反射方向をさらに広げることができる。したがって、反射型表示における視野角特性を改善することが可能になる。
【００４９】
さらに、本発明の異なる電気光学装置は、基板と、前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上の一部に配置された反射層と、前記開口と重なる前記反射層が配置されていない領域と、前記透光層上及び前記開口内に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は、前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする。
【００５０】
この発明によれば、反射層の開口部の縁が透光層の傾斜面上若しくは開口内に配置されていることにより、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視野角特性を改善することができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【００５１】
本発明において、前記反射層は前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有し、前記傾斜反射面は少なくとも前記傾斜面上に配置されていることが好ましい。さらには、前記透光層は前記基板に対して平行な平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記傾斜面上に張り出すように配置されていることが好ましい。
【００５２】
この発明によれば、傾斜反射面によって外光の反射方向を広げることができるので、反射型表示における視野角特性を改善することが可能になる。
【００５３】
さらに、前記反射層は可視光を散乱可能な微細な凹凸を有することが好ましい。
【００５４】
この発明によれば、電気光学装置の反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりすることを防止できる。
【００５５】
本発明において、前記透光層上に着色層が配置されていることが好ましい。
【００５６】
この発明によれば、着色層は反射層の開口部を平面的に重なる領域が、透光層の傾斜面に対応した厚肉部となる。したがって、反射型表示の明るさを確保しつつ（すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく）、透過型表示の彩度を向上させることができる。
【００５７】
また、本発明の別の電気光学装置は、基板と、前記基板上の一部に配置された反射層と、前記反射層上に配置された前記基板に対して傾斜した傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上に配置された着色層とを備え、前記傾斜面は前記反射層の縁と重なって配置され、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角は、６８〜７９度の範囲内であることを特徴とする。
【００５８】
この発明によれば、反射層の開口部は、少なくとも透光層の傾斜面の一部と重なっており、さらにその開口部上に着色層が配置されていることから、開口部上には着色層がその他の部分よりも厚く配置される。したがって、反射型表示の明るさを確保しつつ（すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく）、透過型表示の彩度を向上させることができる。
そして、傾斜角が、基板の表面に対して６８〜７９度の範囲内であることから、着色層の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【００５９】
さらに、本発明の異なる電気光学装置は、基板と、前記基板上の一部に配置された反射層と、前記反射層上に配置され前記反射層が配置されていない領域に重なる開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上及び前記開口内に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層の縁が、前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置され、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角は、６８〜７９度の範囲内であることを特徴とする。
【００６０】
この発明によれば、反射層の開口部は透光層の開口と重なり、この開口の周囲において透光層に傾斜面が設けられていて、さらにその開口部上に着色層が配置されていることから、開口部上には着色層がその他の部分よりも厚く配置される。したがって、反射型表示の明るさを確保しつつ（すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく）、透過型表示の彩度を向上させることができる。
そして、傾斜角が、基板の表面に対して６８〜７９度の範囲内であることから、着色層の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【００６１】
次に、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面を形成する工程と、前記透光層上に開口部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記開口部の縁が設けられるように前記開口部が形成されることを特徴とする。
【００６２】
この発明によれば、透光層を軟化させることによってその流動性を利用して容易に傾斜面を形成することが可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光層の傾斜面上に反射層の開口部が形成されていることにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成する際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが可能になる。また、基板の製造過程において傾斜面部上の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとともに高精度に開口部を形成することが可能になる。
【００６３】
また、本発明の別の電気光学装置の製造方法は、基板上に開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を形成する工程と、前記透光層上に前記開口と重なる開口部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上若しくはその内側の前記透光層の前記開口上に前記開口部の縁が設けられるように前記開口部が形成されることを特徴とする。
【００６４】
この発明によれば、透光層を軟化させることによってその流動性を利用して開口の周囲に傾斜面を容易に形成することが可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光層の開口上に反射層の開口部が形成され、透光層の開口の周囲に傾斜面が形成されていることにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成する際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが可能になる。また、基板の製造過程において開口上の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとともに高精度に開口部を形成することが可能になる。
【００６５】
本発明において前記透光層を形成する工程では、前記透光層を軟化させたときに、前記透光層の縁部近傍において素材が流動して前記傾斜面が形成されるように、前記透光層を前記基板上に部分的に形成することが好ましい。
【００６６】
この発明によれば、透光層を軟化させたときに透光層が形成されていない部分に素材を流れ込ませることで、透光層に傾斜面を容易に形成することができる。
【００６７】
また、本発明の別の電気光学装置の製造方法は、基板上に下地層を部分的に形成する工程と、前記下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上に開口部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍上に前記傾斜面が形成され、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記開口部の縁が設けられるように前記開口部が形成されることを特徴とする。
【００６８】
この発明によれば、部分的に形成した下地層上に透光層を形成することによって、下地層によって形成された段差に沿って傾斜面が自然に構成されるので、簡単に傾斜面を形成できる。
【００６９】
本発明において、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記基板に対して平行な平行面上から前記傾斜面上に張り出すように前記反射層を形成することが好ましい。
【００７０】
この発明によれば、傾斜面に沿って形成されている反射層のうち傾斜面の下部分に形成されている反射層をエッチング液等の薬液で除去する際に、精度よく反射層を除去できる。
【００７１】
また、本発明において、前記反射層を形成する工程では、前記反射層の表面に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好ましい。さらには、前記透光層の表面に凹凸を形成することが好ましい。
【００７２】
この発明によれば、反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりすることを防止できる。また、透光層の表面にあらかじめ凹凸が形成してあれば、その透光層上に反射層を形成することで容易に反射層に凹凸を形成することができる。また、反射層の凹凸を透光層表面の凹凸形状によって制御することができるので、反射層が凹凸を形成することが難しい素材であっても、容易に所望の凹凸形状を形成することができる。
【００７３】
さらに、前記下地層を形成する工程では、前記下地層の表面上に凹凸を形成し、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の前記凹凸上に前記透光層を形成することにより前記透光層の表面上に凹凸を形成し、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記凹凸上に前記反射層を形成することにより前記反射層に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好ましい。
【００７４】
この発明によれば、下地層の表面にあらかじめ凹凸を形成しておけば、その下地層上に透光層を形成するだけで少なくとも透光層の表面に凹凸を容易に形成することができ、また、その透光層上に反射層を形成するだけで反射層上に凹凸を容易に形成できる。
【００７５】
次に、本発明の別の電気光学装置の製造方法は、基板上に開口部を有する反射層を形成する工程と、前記反射層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記傾斜面が前記開口部の縁上に設けられるように形成されることを特徴とする。
【００７６】
さらに、本発明の異なる電気光学装置の製造方法は、基板上に開口部を有する反射層を形成する工程と、前記反射層上に前記開口部に重なる開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を、前記反射層の前記開口部の縁上に前記傾斜面若しくはその内側の前記透光層の前記開口が設けられるように形成することを特徴とする。
【００７７】
上記各手段において、光学特性を重視する場合には、上記透光層の開口や傾斜面によって着色層に設けられる厚肉部の厚さは、開口部周辺の着色層の部分（厚肉部以外の着色層の部分）、或いは、透光層の傾斜面や開口以外の透光層上に設けられる着色層の部分、の厚さに対してほぼ２〜６倍の範囲内であることが好ましい。厚肉部の厚さが２倍未満である場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の明度を充分に確保することが難しくなり、反射領域の明度を最適化すると透過領域の彩度を確保することが難しくなる。厚肉部の厚さが６倍を越える場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の彩度を確保することが難しくなり、反射領域の色表現を最適化するとバックライトの光量を増大しないと透過領域の明度を確保することが難しくなるとともに、カラーフィルタ基板の平坦性を確保することも困難になる。
【００７８】
さらに、カラーフィルタの平坦性と光学特性とを両立させるためには、反射層の開口部と重なる範囲における厚肉部の厚さの平均値を１．０〜３．０μｍの範囲内の値とし、開口部周辺の反射層と重なる領域の着色層の部分の厚さ（開口部以外の着色層の部分の厚さ）を０．２〜１．５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。このようにすると、厚肉部の存在に起因するカラーフィルタの厚さの不均一性を低減しつつ、反射領域と透過領域の色表示の品位を向上させることが可能になる。
【００７９】
また、本発明の電子機器は、上記のいずれかの電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを備えたものである。本発明の電子機器としては、特に、携帯電話、携帯型情報端末などの携帯型電子機器であることが、反射半透過型の電気光学装置を有効に用いることが出来る点で好ましい。
【００８０】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る電気光学装置用基板、その製造方法、電気光学装置、その製造方法、及び電子機器の実施形態について詳細に説明する。
【００８１】
［第１実施形態］
まず、図１及び図２を参照して本発明の第１実施形態の電気光学装置について説明する。
図１は、本発明に係る第１実施形態の液晶装置を構成する液晶パネル２００の外観を示す概略斜視図であり、図２（ａ）は液晶パネル２００の模式的な概略断面図であり、図２（ｂ）は液晶パネル２００を構成するカラーフィルタ基板２１０の拡大部分平面図である。
【００８２】
この液晶装置は、いわゆる反射半透過方式のパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００に対して、必要に応じて図示しないバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを適宜に取付けてなる。
【００８３】
図１に示すように、液晶パネル２００は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１基板２１１を基体とするカラーフィルタ基板２１０と、これに対向する同様の第２基板２２１を基体とする対向基板２２０とがシール材２３０を介して貼り合わせられ、シール材２３０の内側に注入口２３０ａから液晶２３２が注入された後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えている。
【００８４】
第１基板２１１の内面（第２基板２２１に対向する表面）上には複数並列したストライプ状の透明電極２１６が形成され、第２基板２２１の内面上には複数並列したストライプ状の透明電極２２２が形成されている。また、上記透明電極２１６は配線２１８Ａに導電接続され、上記透明電極２２２は配線２２８に導電接続されている。透明電極２１６と透明電極２２２とは相互に直交し、その交差領域はマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これらの画素配列が液晶表示領域Ａを構成している。
【００８５】
第１基板２１１は第２基板２２１の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、この基板張出部２１０Ｔ上には、上記配線２１８Ａ、上記配線２２８に対してシール材２３０の一部で構成される上下導通部を介して導電接続された配線２１８Ｂ、及び、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部２１９が形成されている。また、基板張出部２１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ，２１８Ｂ及び入力端子部２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体ＩＣ２６１が実装されている。また、基板張出部２１０Ｔの端部には、上記入力端子部２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板２６３が実装されている。
【００８６】
この液晶パネル２００において、図２（ａ）に示すように、第１基板２１１の外面には位相差板（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１が配置され、第２基板２２１の外面には位相差板（１／４波長板）２５０及び偏光板２５１が配置されている。
【００８７】
＜カラーフィルタ基板２１０の構造＞
次に、図２（ａ）及び（ｂ）を参照して、本発明の電気光学装置用基板に相当するカラーフィルタ基板２１０の構造を詳細に説明する。第１基板２１１の表面には、可視光に対して透光性を有する透光層２１２が形成される。この透光層は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂層などで構成することができる。また、透光層は、可視光に対してほぼ透明であることが望ましい。例えば、可視光領域においてほぼ７０％以上の光透過率を有し、可視光領域内における光透過率の変動範囲が１０％以下であるものなどが好ましい。
【００８８】
透光層２１２の表面の一部には、第１基板２１１の表面に対して傾斜した傾斜面２１２ａが上記の画素毎に設けられている。図示例では、傾斜面２１２ａは全体として断面谷状（Ｖ字状）に構成されている。
【００８９】
上記透光層２１２上には反射層２１３が形成されている。反射層２１３は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などの金属薄膜で構成することができる。反射層２１３には、上記画素毎に開口部２１３ｈが設けられている。この開口部２１３ｈは、上記透光層２１２の傾斜面２１２ａ上に開口部の縁２１３ａが位置するように形成されている。
【００９０】
また、反射層２１３は、透光層２１２の平坦な表面上においてほぼ平坦な反射面を有する平坦部となっているが、上記開口部２１３ｈ周辺において上記傾斜面２１２ａ上に配置され、傾斜面２１２ａの傾斜角度とほぼ等しく傾斜した反射面を備えた傾斜反射面２１３ｂとなっている。この傾斜反射面２１３ｂは、反射層２１３の平坦部から上記傾斜面２１２ａに張り出すように構成されている。
【００９１】
反射層２１２の上には画素毎に着色層２１４が形成され、その上を透明樹脂等によって構成される表面保護層（オーバーコート層）２１５が被覆している。この着色層２１４と表面保護層２１４とによってカラーフィルタが形成される。
【００９２】
着色層２１４は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、補色系その他の種々の色調で形成できる。通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によって不要部分を除去することによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返す。
【００９３】
本実施形態においては、着色層２１４が透光層２１３の傾斜面２１３ａをも含む領域に形成されている結果、傾斜面２１３ａ上に形成された着色層２１４は他の部分よりも厚く形成されている。より具体的に述べると、透光層２１３には断面谷状（Ｖ字状）の傾斜面２１３ａが形成されているので、この上に形成される着色層２１４の厚肉部２１４ａ（図３参照）は、第１基板２１１に向けた断面山状に形成されている。
【００９４】
なお、着色層の配列パターンとして、図２（ｂ）に示す図示例ではストライプ配列を採用しているが、このストライプ配列の他に、デルタ配列や斜めモザイク配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００９５】
表面保護層２１５の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２１６が形成されている。透明電極２１６は図２（ｂ）の図示上下方向に伸びる帯状に形成され、複数の透明電極２１６が相互に並列してストライプ状に構成されている。透明電極２１６の上にはポリイミド樹脂等からなる配向膜２１７が形成されている。
【００９６】
一方、上記カラーフィルタ基板２１０と対向する対向基板２２０は、ガラス等からなる第２基板２２１上に、上記と同様の透明電極２２２、ＳｉＯ２やＴｉＯ２などからなる硬質保護膜２２３、上記と同様の配向膜２２４を順次積層させたものである。
【００９７】
以上のように構成された本実施形態において、対向基板２２０側から入射した外光は液晶２３２を透過してカラーフィルタを透過した後に反射層２１３にて反射し、再び液晶２３２及び対向基板２２０を透過して出射する。このとき、反射光はカラーフィルタの着色層２１４を２回通過する。
【００９８】
一方、着色層２１４は反射層２１３の開口部２１３ｈを覆っているので、例えばカラーフィルタ基板２１０の背後にバックライト等を配置して、背後から照明光を照射した場合には、当該照明光の一部が透光層２１２の傾斜面２１２ａ及び反射層２１３の開口部２１３ｈを通過して着色層２１４を透過し、液晶２３２及び対向基板２２０を通過して出射する。このとき、透過光は着色層２１４を１回だけ透過する。
【００９９】
本実施形態では、第１基板２１１上に透光層２１２が形成され、この透光層２１２に傾斜面２１２ａが設けられ、この傾斜面２１２ａ上に開口部の縁２１３ａを有する反射層２１３が形成されているので、後述する製造方法の実施形態において詳述するように、反射層２１３のパターニングが容易になり、開口部２１３ｈを高精度に形成することが可能になる。
【０１００】
図３は、上記液晶パネル２００のカラーフィルタ基板２１０における１画素の部分を示す拡大部分断面図（ａ）及び拡大部分平面図（ｂ）である。この図に示すように、本実施形態では、透光層２１２の傾斜面２１２ａ上の一部に反射層２１３の一部である傾斜反射面２１３ｂが配置されていることにより、外光の反射方向の範囲が広がるため、液晶パネル２００の視野角特性がなだらかになり、液晶パネル２００の基板表面に対して傾斜した方向から見た場合の反射型表示の視認性が向上する。
【０１０１】
また、本実施形態の着色層２１４には、透光層２１２の傾斜面２１２ａ上に厚肉部２１４ａが形成され、この厚肉部２１４ａは反射層２１３の開口部２１３ｈと平面的に重なる領域に設けられている。したがって、透過光ＯＴは第１基板２１１及び傾斜面２１２ａを経て着色層２１４の厚肉部２１４ａを通過した後に液晶を透過し、さらに対向基板２２０から出射する。一方、反射光ＯＲは反射層２１３で反射されるので、着色層２１４の厚肉部２１４ａ以外の部分（薄肉部分）を２回通過した後に出射される。
【０１０２】
このように、反射光ＯＲは着色層２１４の薄肉部分を２回通過するのに対して透過光ＯＴは１回だけではあるが着色層２１４の厚肉部２１４ａを通過するため、図１３に示す従来構造の液晶パネル１００に較べて、反射型表示の明るさを確保しつつ、すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく、透過型表示の彩度を高めることができる。換言すれば、反射型表示と透過型表示の色彩の相違を低減できる。
【０１０３】
本実施形態において、カラーフィルタの光学特性を重視する場合、すなわち、透過表示と、反射表示のいずれにおいてもそのカラー表示態様が共に良好な色再現性を持つことを優先する場合には、反射層２１３の開口部２１３ｈと重なる部分における厚肉部２１４ａの厚さの平均値は、反射層の平坦部上の着色層の厚さの２〜６倍の範囲内であることが好ましい。厚肉部２１４ａの厚さの上記平均値が２倍未満である場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の明度を充分に確保することが難しくなり、反射領域の明度を最適化すると透過領域の彩度を確保することが難しくなる。厚肉部２１４ａの厚さの上記平均値が６倍を越える場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の彩度を確保することが難しくなり、反射領域の色表現を最適化するとバックライトの光量を増大しないと透過領域の明度を確保することが難しくなるため、バックライトの消費電力の増大を招くとともに、カラーフィルタ基板の平坦性を確保することも困難になる。
【０１０４】
ところで、実際に液晶表示装置を構成する場合において、カラーフィルタの平坦性は液晶層の厚さの均一性や再現性を担保することによってその表示品位を向上させる上で重要であり、また、カラーフィルタの光学特性は透過表示と反射表示におけるカラー表示態様の品位を共に向上させるために重要である。本発明者らは、カラーフィルタの平坦性と光学特性とを共に満足させるためには、着色層２１４の厚さを所定範囲内に限定することが有効であることを見出した。すなわち、着色層２１４の厚肉部２１４ａの厚さ（透過領域における着色層の厚さ）の平均値Ｄｔを１．０〜３．０μｍ、その他の部分の厚さ（反射領域における着色層の厚さ）Ｄｓを０．２〜１．５μｍの範囲内にすることによって、カラーフィルタの平坦性と光学特性とを両立させることができる。厚さＤｔが上記範囲を越えると着色層の段差が大きくなるため平坦性を確保することが困難になり、厚さＤｔが上記範囲を下回ると透過表示の彩度を維持することが困難になる。また、厚さＤｓが上記範囲を越えると着色層の段差が大きくなるために平坦性を確保することが困難になり、厚さＤｓが上記範囲を下回ると反射表示の彩度を維持することが困難になる。なお、このような着色層の厚さＤｔ，Ｄｓの条件範囲内であっても、ＤｔとＤｓの比は、上述と同様に２〜６の範囲内であることが望ましいことは当然である。
【０１０５】
本実施形態では、反射層２１３上に透光層２１２を形成することによって上記着色層２１４の厚さＤｔとＤｓを設定するようにしているが、これによって着色層２１４を形成した場合に、その厚肉部２１４ａの上部表面に窪みが発生し、これが保護層２１５の表面の窪みの原因となる。上記Ｄｔ，Ｄｓを上記範囲内に設定することによって両窪みの深さを小さくし、それによって液晶層の厚さの均一性及び再現性を高めることができる。より具体的には、着色層２１４の窪みの深さを０．５μｍ以下、保護層２１５の窪みの深さを０．２μｍ以下とすることが好ましい。特に、保護層２１５の窪みの深さを０．１μｍ以下にすることによって表示ムラ等のない高品位の液晶表示を実現することができる。
【０１０６】
また、上記着色層２１４の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層２１４の表面の平坦性を向上させるためには、上記透光層２１２の傾斜面２１２ａの傾斜角（本実施形態では反射層２１３の傾斜反射面２１３ｂの傾斜角でもある。）は、基板２１１の表面に対して６８〜７９度（基板２１１の法線に対して１１〜２２度）の範囲内であることが好ましい。この角度範囲よりも傾斜面２１２ａが急峻になると、素材の流れ込み性或いは充填性を向上させる効果が低下する。また、上記角度範囲よりも傾斜面２１２ａをなだらかに形成することは製造上困難である。
【０１０７】
［第２実施形態］
次に、図４（ａ）及び（ｂ）を参照して、本発明に係る第２実施形態の液晶パネル２００’の構造について説明する。この液晶パネル２００’は、基本的に第１実施形態の液晶パネル２００とほぼ同様の構造を有し、第１実施形態と同様のカラーフィルタ基板２１０に設けられた第１基板２１１、透光層２１２、着色層２１４、表面保護層２１５、透明電極２１６及び配向膜２１７と、第２基板２２１、硬質保護膜２２３及び配向膜２２４を備えた対向基板２２０とを有し、さらに、第１実施形態と同様のシール材２３０、液晶２３２、位相差板２４０，２５０、偏光板２４１，２５１を備えているので、これらについての説明は省略する。
【０１０８】
本実施形態では、透光層２１２上に形成された反射層２１３’が画素毎に分離した状態に設けられている。この反射層２１３’には、第１実施形態と同様に画素毎に開口２１３ｈ’が設けられている。また、画素毎に形成された着色層２１４の間の画素間領域には黒色遮光膜（ブラックマトリクス或いはブラックマスク）２１４ＢＭが形成されている。この黒色遮光膜２１４ＢＭとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものや、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
【０１０９】
なお、上記第１実施形態及び第２実施形態においては、透光層と反射層との積層構造の上に着色層を形成した例を示したが、カラーフィルタを必要としない液晶パネルである場合（例えばモノクロ表示を行う液晶パネルなど）、或いは、対向基板２２０側（第２基板２２１上）にカラーフィルタを形成する場合には、反射層の上に絶縁膜等を介して直接透明電極を形成しても構わない。
【０１１０】
本実施形態においても、反射層２１３’の開口部２１３ｈ’と重なる部分における厚肉部の厚さの平均値は、反射層の平坦部上の着色層の厚さの２〜６倍の範囲内であることが好ましい。また、着色層２１４の厚肉部の厚さ（透過領域における着色層の厚さ）の平均値Ｄｔを１．０〜３．０μｍ、その他の部分の厚さ（反射領域における着色層の厚さ）Ｄｓを０．２〜１．５μｍの範囲内にすることが好ましい。
【０１１１】
［第３実施形態］
次に、図５（ａ）〜（ｅ）を参照して、本発明に係る液晶装置の製造方法において、或いは、本発明に係る液晶装置用基板の製造方法において用いることのできるカラーフィルタ基板２１０の製造プロセスについて説明する。
【０１１２】
まず、図５（ａ）に示すように、第１基板２１１上に透光層２１２Ｘを全面的に形成する。透光層２１２Ｘの素材としては、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などを塗布、乾燥させて形成した透明樹脂体などを用いることができる。
【０１１３】
次に、図５（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ技術とエッチング法を用いて、上記透光層２１２Ｘに第１基板２１１上の画素毎に開口部２１２Ｙを形成する。その後、透光層２１２Ｘを加熱して軟化させることによって流動化させ、図５（ｃ）に示すように、上記開口部２１２Ｙに臨む縁部近傍の表面に傾斜面２１２ａを形成する。
【０１１４】
その後、上記透光層２１２上において全面的にアルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金等の金属を蒸着法やスパッタリング法等によって被着し、図５（ｄ）に示す反射層２１３Ｘを形成する。そして、反射層２１３Ｘに対してフォトリソグラフィ技術及びエッチング法を施して、図５（ｅ）に示すように、上記透光層２１２の傾斜面２１２ａ上に開口部の縁２１３ａが配置されるように開口部２１３ｈを形成して、反射層２１３を完成させる。ここで、反射層２１３は、透光層２１２の平坦な表面部分上から傾斜面２１２ａの一部（外周部分）上に張り出した状態に形成される。
【０１１５】
なお、上記各実施形態及び本実施形態においては、透光層２１２の傾斜面２１２ａを断面Ｖ字状に図示しているが、これはあくまでも模式的に描いたものであって、実際には、曲面状に傾斜した表面を有するものであってもよい。
【０１１６】
なお、第１実施形態の液晶装置用基板であるカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図３に示す着色層２１４を画素毎に形成すればよい。着色層２１４の形成は、例えば透明樹脂中に所定の色相を呈する顔料や染料等の着色材を分散させたものをパターニングして行う。例えば、所定の色相を呈する感光性樹脂を基板上に塗布して、所定の露光パターンにて露光し、その後、現像処理を行って着色層を形成する。複数の色（例えばＲ、Ｇ，Ｂ）の着色層を所定の配列パターンで形成するには、上記手順を色毎に繰り返せばよい。
【０１１７】
本実施形態においては、反射層２１３に開口部２１３ｈを設ける際に、その開口部２１３ｈを形成するために除去される部分が透光層２１２の傾斜面２１２ａ上に位置することから、当該部分に大きな段差が存在せず、なだらかに傾斜しているため、開口部２１３ｈを形成するためのレジスト等からなるマスクの形成工程やエッチング等のパターニング処理工程を容易に、かつ、高精度に行うことができるという利点がある。
【０１１８】
［第４実施形態］
次に、図６（ａ）〜（ｅ）を参照して本発明に係る液晶装置の製造方法において用いるカラーフィルタ基板２１０の別の製造プロセスについて説明する。
【０１１９】
この実施形態では、まず、図６（ａ）に示すように、第１基板２１１上に下地層２１２Ａを形成し、図６（ｂ）に示すように、この下地層２１２Ａに画素毎に開口部２１２Ａａを形成する。下地層２１２Ａとしては、透光性を有するものであることが好ましいが、必ずしも透光性を有するものでなくてもよい。また、この下地層２１２Ａを軟化させ、流動させる必要はないので、ＳｉＯ２やＴｉＯ２などの硬質膜で形成することも可能である。
【０１２０】
次に、図６（ｃ）に示すように、上記下地層２１２Ａ上に透光層２１２Ｂを形成する。この透光層２１２Ｂの素材や形成方法は第３実施形態と同様の素材や方法を用いることができるが、この透光層２１２Ｂを軟化させ、流動させる必要はないので、ＳｉＯ２やＴｉＯ２などの硬質膜で形成することも可能である。
【０１２１】
このとき、透光層２１２Ｂはほぼ全面的に形成されるが、上記の下地層２１２Ａには画素毎に開口部２１２Ａａが形成されていることにより、下地層２１２Ａの開口縁部近傍において透光層２１２Ｂの表面には傾斜面２１２ａが形成される。
【０１２２】
その後は、上記第３実施形態と同様に、図６（ｄ）に示すように反射層２１３Ｘを形成し、その後、開口部２１３ｈを形成することにより図６（ｅ）に示す反射層２１３を完成させる。
【０１２３】
なお、第１実施形態の液晶装置用基板であるカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図３に示す着色層２１４を画素毎に形成すればよい。この着色層の形成工程は上記第３実施形態と同様である。
【０１２４】
［第５実施形態］
次に、図７を参照して、本発明の第５実施形態の液晶パネル及び液晶装置用基板の構造について説明する。本実施形態においては、上記第１実施形態の液晶パネル２００と基本的に同じ構造を有するので、同一部分の構造については図示及び説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
【０１２５】
この実施形態においては、第１基板２１１上に透光層３１２が形成され、この透光層３１２の表面には微細な凹凸が形成されている。この透光層３１２において、傾斜面３１２ａは上記第１実施形態と同様に構成されている。
【０１２６】
透光層３１２上には反射層３１３が形成されている。この反射層３１３は第１実施形態と同様に透光層３１２の傾斜面３１２ａ上に開口部の縁３１３ａが設けられている。この反射層３１３は、上記透光層３１２の微細な凹凸上に形成されているために、当該透光層３１２の凹凸を反映した微細な凹凸状の反射面を備えている。そして、この微細な凹凸状の反射面は、可視光を散乱させるように構成されている。
【０１２７】
この実施形態では、反射層３１３の特に平坦な反射面領域が微細な凹凸状（すなわち粗面状）に形成されているので、液晶パネルの反射型表示において、反射層による正反射に起因して生ずる背景の写りこみや照明光による幻惑を防止することができる。
【０１２８】
［第６実施形態］
次に、図８（ａ）〜（ｅ）を参照して、本発明の液晶装置及び液晶装置用基板の製造方法に関する第６実施形態として、上記第５実施形態のカラーフィルタ基板（液晶装置用基板）を形成するための製造プロセスについて説明する。
【０１２９】
この実施形態においては、まず、図８（ａ）に示すように、第１基板２１１上に第３実施形態と同様の素材を用いて同様の方法で透光層３１２Ｘを形成する。次に、図８（ｂ）に示すように、第３実施形態と同様にフォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用いて透光層３１３Ｘに開口部３１２Ｙを形成し、さらに、フォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用いて透光層３１２Ｘの表面上に微細な凹凸を形成する。
【０１３０】
次に、図８（ｃ）に示すように、第３実施形態と同様に透光層３１２Ｘを加熱することにより軟化させ、その開口縁を流動させて、傾斜面３１２ａを備えた透光層３１２を形成する。このとき、透光層３１２Ｘの表面上の微細な凹凸も素材の軟化によって若干崩れるが、凹凸自体は透光層３１２の表面上に残存するようにする。
【０１３１】
次に、図８（ｄ）に示すように、反射層３１３Ｘを第３実施形態と同様の素材を用いて同様の方法で形成する。このとき、反射層３１３Ｘには、上記透光層３１２の表面上に微細な凹凸が残存していることにより、当該凹凸を反映して微細な凹凸状の反射面を有するものとなる。
【０１３２】
最後に、上記反射層３１３Ｘをフォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用いてパターニングし、開口部３１３ｈを有する反射層３１３を完成させる。
【０１３３】
なお、第５実施形態の液晶装置用基板であるカラーフィルタ基板を形成するには、第３実施形態に記載したところと同様に、その後、図７に示す着色層２１４を画素毎に形成すればよい。
【０１３４】
［第７実施形態］
次に、図９を参照して、本発明の液晶装置及び液晶装置用基板の製造方法に関する第６実施形態として、上記第５実施形態のカラーフィルタ基板（液晶装置用基板）を形成するための製造プロセスについて説明する。
【０１３５】
この実施形態においては、まず、図９（ａ）に示すように、第１基板２１１上に第４実施形態と同様の下地層３１２Ａを形成する。そして、図９（ｂ）に示すように、この下地層３１２Ａの表面には、さらにフォトリソグラフィ技術及びエッチング法により微細な凹凸を形成する。
【０１３６】
次に、図９（ｃ）に示すように、上記下地層３１２Ａ上に透光層３１２Ｂを形成する。この透光層３１２Ｂの素材や形成方法は第４実施形態と同様である。このとき、透光層３１２Ｂはほぼ全面的に形成されるが、上記の下地層３１２Ａには画素毎に開口部３１２Ａａが形成されていることにより、下地層３１２Ａの開口縁部近傍において、透光層３１２Ｂには傾斜面部３１２ａが形成される。また、下地層３１２Ａの表面上には上記のように微細な凹凸が形成されているので、この凹凸を反映して、透光層３１２Ｂの表面にも微細な凹凸が形成される。
【０１３７】
その後、上記第４実施形態と同様に、図９（ｄ）に示すように反射層３１３Ｘを形成し、その後、開口部３１３ｈを形成することにより図９（ｅ）に示す反射層３１３を完成させる。このとき、反射層３１３は、透光層３１２Ｂの表面上の微細な凹凸を反映して、微細な凹凸を有する反射面を備えたものとなる。この反射面の微細な凹凸は、可視光を散乱させることができるように構成される。
【０１３８】
なお、第１実施形態の液晶装置用基板であるカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図７に示す着色層２１４を画素毎に形成すればよい。この着色層の形成工程は上記第３実施形態と同様である。
【０１３９】
［その他の構成例］
次に、上記各実施形態に適用可能な他の構成例について図１０（ａ）〜（ｄ）を参照して詳細に説明する。
【０１４０】
図１０（ａ）に示す構成例１は、基板４１１上に、傾斜面４１２ａを有する透光層４１２を形成し、この透光層４１２上に、上記傾斜面４１２ａ上に開口部の縁４１３ａを有する反射層４１３を形成し、この開口部の縁４１３ａは傾斜面４１２ａ上に配置され、さらに、この反射層４１３上に着色層４１４を形成している点で上記各実施形態と同様である。
【０１４１】
この構成例１においては、透光層４１２の傾斜面４１２ａのうち最も低い部分が基板４１１の表面から或る程度離れるように、すなわち当該部分においても透光層４１２が或る程度の層厚を有するように、構成されている点で上記各実施形態とは若干異なる。この場合、着色層４１４に所定の厚さ増加分を有する厚肉部４１４ａを形成するに必要な厚さ以上に透光層４１２が厚く形成されていることとなるが、光学的には上記各実施形態と同様の作用効果が得られる。
【０１４２】
図１０（ｂ）に示す構成例２も、基板５１１上に、傾斜面５１２ａを備えた透光層５１２を形成し、この透光層５１２上に、上記傾斜面５１２ａ上に開口部の縁５１３ａを有する反射層５１３を形成し、この開口部の縁５１３ａは傾斜面５１２ａ上に配置され、さらに、この反射層５１３上に着色層５１４を形成している点で上記各実施形態と同様である。
【０１４３】
この構成例２においては、透光層５１２の傾斜面５１２ａの内側に透光素材の存在しない開口５１２ｂが設けられている点で、上記各実施形態とは若干異なる。しかしながら、この構成例２においても光学的には上記各実施形態と同様の作用効果が得られる。また、開口５１２ｂを設けることにより、傾斜面５１２ａの角度を変えることなく、反射層の開口部の大きさに応じて透光層５１２の厚さを調整することができる。透光層５１２の厚さは、上記第１実施形態において説明したように、着色層５１４における厚肉部の厚さの平均と、反射層５１３の平坦部上の厚さとの関係を規制するため、透光層５１２の厚さを調整することにより、反射型表示と透過型表示の色表示特性を最適化することが可能になる。
【０１４４】
図１０（ｃ）に示す構成例３においては、基板６１１上に、画素毎に開口部６１３ｈを有する反射層６１３が形成され、この反射層６１３上に透光層６１２が形成される。この透光層６１２には上記と同様の傾斜面６１２ａが形成されている。透光層６１２は上記各実施形態と同様の素材及び方法で形成される。そして、透光層６１２上に着色層６１４が形成される。透光層６１２の傾斜面６１２ａは、反射層６１３の開口部の縁６１３ａ上に配置されている。
【０１４５】
この構成例３においても、傾斜面６１２ａを有する透光層６１２上に着色層６１４が形成されることにより、着色層６１４における傾斜面６１２ａ上に厚肉部６１４ａが形成され、この厚肉部６１４ａは反射層の開口部６１３ｈと平面的に重なる領域に位置しているので、反射型表示の明るさを確保しつつ、透過型表示の彩度を向上させることが出来る点で上記各実施形態と同様である。
【０１４６】
図１０（ｄ）に示す構成例４においては、構成例３と同様に、基板７１１上に、画素毎に開口部７１３ｈを有する反射層７１３が形成され、この反射層７１３上に透光層７１２が形成される。この透光層７１２には開口７１２ｂが設けられ、この開口７１２ｂの周囲に上記と同様の傾斜面７１２ａが形成されている。透光層７１２の傾斜面７１２ａは、反射層７１３の開口部の縁７１３ａ上に配置されている。
【０１４７】
この実施形態でも、上記構成例３と同様の効果が得られるが、さらに、開口７１２ｂを設けることにより、傾斜面７１２ａの角度を変えることなく、反射層の開口部の大きさに応じて透光層７１２の厚さを調整することができる。透光層７１２の厚さは、上記第１実施形態において説明したように、着色層７１４における厚肉部の厚さの平均と、反射層７１３の平坦部上の厚さとの関係を規制するため、透光層７１２の厚さを調整することにより、反射型表示と透過型表示の色表示特性を最適化することが可能になる。
【０１４８】
上記構成例１〜４のいずれにおいても、透光層に傾斜面が設けられ、この傾斜面と反射層の開口部の縁とが重なるように配置されている。したがって、液晶装置の透過領域は反射層の開口部によって画成されるとともに、反射層の開口部は、透光層の傾斜面（及び存在する場合には透光層の開口）によって設けられた着色層の厚肉部と重なることになる。ここで、厚肉部となる部分の下に透光層の傾斜面或いはその傾斜面上に設けられた反射層の傾斜反射面が存在するため、着色層を形成する際における感光性着色樹脂等の着色材料の充填性を高めることが可能になり、また、着色材料の充填性の向上と、開口部近傍における透光層の高低差の緩和により当該厚肉部の表面に窪みが発生したり窪みの深さが大きくなったりすることを防止することができるので、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【０１４９】
上記構成例２及び構成例４においては、図１０（ｂ）及び（ｄ）に示すようにいずれも透光層に開口が設けられ、この開口の周囲に傾斜面が形成されている。この場合、反射層の開口部の縁は透光層の傾斜面と重なる位置に設ける必要は必ずしもない。
【０１５０】
例えば、構成例２においては図１０（ｂ）に示すように反射層５１３の開口部の縁５１３ａは透光層５１２の傾斜面５１２ａ上に配置されているが、図１４（ａ）及び（ｂ）に示す変形例では、反射層の開口部の縁の位置が構成例２とは異なる構造となっている。
【０１５１】
図１４（ａ）に示す例では、基板１５０１上に透光層１５１２が形成され、この透光層１５１２には開口１５１２ｂが設けられている。開口１５１２ｂの周囲には傾斜面１５１２ａが形成されている。透光層１５１２上には反射層１５１３が設けられ、反射層１５１３には開口部１５１３ｈが形成されている。反射層１５１３上には着色層１５１４が形成されている。
【０１５２】
この例では、反射層１５１３が透光層１５１２の傾斜面１５１２ａ上を完全に覆い、反射層１５１３の開口部の縁１５１３ａは、透光層１５１２の開口１５１２ｂの開口縁とほぼ一致する位置に配置されている。したがって、着色層１５１４において透過型表示に用いられる部分は、透光層１５１２の開口１５１２ｂ上にある部分だけとなり、透過領域における着色層１５１４の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例２と同じであっても、構成例２よりも大きく（最大に）なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例２よりも高めることができる。
【０１５３】
図１４（ｂ）に示す例では、基板２５０１上に透光層２５１２が形成され、この透光層２５１２には開口２５１２ｂが設けられている。開口２５１２ｂの周囲には傾斜面２５１２ａが形成されている。透光層２５１２上には反射層２５１３が設けられ、反射層２５１３には開口部２５１３ｈが形成されている。反射層２５１３上には着色層２５１４が形成されている。
【０１５４】
この例では、反射層２５１３が透光層２５１２の傾斜面２５１２ａを完全に覆い、反射層２５１３の開口部の縁２５１３ａは、透光層２５１２の開口２５１２ｂの内部に配置されている。したがって、透光層２５１２の開口２５１２ｂの面積は、反射層２５１３の開口部２５１３ｈの面積よりも大きくなっている。したがって、着色層２５１４において透過型表示に用いられる部分は、透光層２５１２の開口２５１２ｂ内における反射層２５１３の開口部２５１３ｈ上にある部分だけとなり、透過領域における着色層２５１４の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例２と同じであっても、構成例２よりも大きく（最大に）なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例２よりも高めることができる。
【０１５５】
また、構成例４においては図１０（ｄ）に示すように反射層７１３の開口部の縁７１３ａ上に透光層７１２の傾斜面７１２ａが配置されているが、図１４（ｃ）及び（ｄ）に示す変形例では、反射層の開口部の縁の位置が構成例４とは異なる構造となっている。
【０１５６】
図１４（ｃ）に示す例では、基板１７０１上に開口部１７１３ｈを有する反射層１７１３が形成されている。そして、反射層１７１３上に透光層１７１２が形成されている。この透光層１７１２には開口１７１２ｂが設けられ、この開口１７１２ｂの周囲に傾斜面１７１２ａが形成されている。透光層１７１２上には着色層１７１４が形成されている。
【０１５７】
この例では、透光層１７１２が反射層１７１３を完全に覆い、透光層１７１２の開口１７１２ｂの開口縁は、反射層１７１３の開口部１７１３ｈの縁１７１３ａとほぼ一致する位置に配置されている。したがって、着色層１７１４において透過型表示に用いられる部分は、透光層１７１２の開口１７１２ｂ上にある部分だけとなり、透過領域における着色層１７１４の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例４と同じであっても、構成例４よりも大きく（最大に）なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例４よりも高めることができる。
【０１５８】
図１４（ｄ）に示す例では、基板２７０１上に開口部２７１３ｈを有する反射層２７１３が形成されている。そして、反射層２７１３上に透光層２７１２が形成されている。この透光層２７１２には開口２７１２ｂが設けられ、この開口２７１２ｂの周囲に傾斜面２７１２ａが形成されている。透光層２７１２上には着色層２７１４が形成されている。
【０１５９】
この例では、透光層２７１２が反射層２７１３を完全に覆い、反射層２７１３の開口部の縁２７１３ａは、透光層２７１２の開口２７１２ｂの内部に配置されている。したがって、透光層２７１２の開口２７１２ｂの面積は、反射層２７１３の開口部２７１３ｈの面積よりも大きくなっている。したがって、着色層２７１４において透過型表示に用いられる部分は、透光層２７１２の開口２７１２ｂ内における反射層２７１３の開口部２７１３ｈ上にある部分だけとなり、透過領域における着色層２７１４の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例４と同じであっても、構成例４よりも大きく（最大に）なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例４よりも高めることができる。
【０１６０】
本発明においては、反射層の開口部の縁を、透光層の傾斜面や開口を基準としてどの位置に配置するかによって、着色層の光学特性を変えることができる。例えば、反射層の開口部の縁の位置を透光層の傾斜面と重なる範囲で変化させた場合には、透過型表示に寄与する着色層の厚さの平均値を変化させることができる。例えば、反射層の開口部の形状や面積を一定に設定してある場合には、透過層の傾斜面の位置を調整することによって透過型表示に用いられる着色層の厚さを実質的に調整することが可能になり、透過型表示における彩度を調整することが可能になる。
【０１６１】
［電子機器の実施形態］
最後に、上記液晶パネルを含む液晶装置を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。図１１は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記と同様の液晶パネル２００と、これを制御する制御手段１２００とを有する。ここでは、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路２００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有する。
【０１６２】
表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されている。
【０１６３】
表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【０１６４】
図１２は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話を示す。この携帯電話２０００は、ケース体２０１０の内部に回路基板２００１が配置され、この回路基板２００１に対して上述の液晶パネル２００が実装されている。ケース体２０１０の前面には操作ボタン２０２０が配列され、また、一端部からアンテナ２０３０が出没自在に取付けられている。受話部２０４０の内部にはスピーカが配置され、送話部２０５０の内部にはマイクが内蔵されている。
【０１６５】
ケース体２０１０内に設置された液晶パネル２００は、表示窓２０６０を通して表示面（上記の液晶表示領域Ａ）を視認することができるように構成されている。
【０１６６】
尚、本発明の電気光学装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用することができる。また、上記実施形態の液晶パネルは所謂ＣＯＧタイプの構造を有しているが、ＩＣチップを直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
【０１６７】
さらに、上記各実施形態は液晶装置用基板及び液晶装置に関するものであるが、本発明は上記構成に限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミッションディスプレイ装置等の各種の電気光学装置用基板及び電気光学装置に適用することができる。
【０１６８】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、傾斜面部を備えた透光層上に開口を有する反射層を形成することにより、反射層を容易に、かつ、高精度にパターニングすることができる。
【０１６９】
また、反射層に、傾斜面部上に配置された傾斜反射部を設けることにより、電気光学装置の視野角特性を改善することができる。
【０１７０】
さらに、上記構造上に着色層を形成することにより、反射型表示の明るさを確保しつつ透過型表示の彩度を向上できる。或いは、反射型表示と透過型表示との間の色彩の差異を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図２】第１実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図（ａ）及びカラーフィルタ基板の平面構造を示す拡大部分平面図（ｂ）である。
【図３】第１実施形態のカラーフィルタ基板における画素内の表面構造を拡大して示す拡大部分断面図（ａ）及び拡大部分平面図（ｂ）である。
【図４】本発明に係る第２実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図（ａ）及びカラーフィルタ基板の平面構造を示す拡大部分平面図（ｂ）である。
【図５】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第３実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。
【図６】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第４実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。
【図７】本発明に係る液晶装置の第５実施形態のカラーフィルタ基板における画素内の表面構造を拡大して示す拡大部分断面図（ａ）及び拡大部分平面図（ｂ）である。
【図８】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第６実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。
【図９】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第７実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。
【図１０】本発明に係る液晶装置用基板の構成例を示す概略断面図（ａ）〜（ｄ）である。
【図１１】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図１２】上記電子機器の実施形態の一例として携帯電話の外観を示す斜視図である。
【図１３】従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。
【図１４】図１０に示す構成例２の変形例を示す拡大部分断面図（ａ）及び（ｂ）、並びに、図１０に示す構成例４の変形例を示す拡大部分断面図（ｃ）及び（ｄ）である。
【符号の説明】
２００  液晶パネル
２１１  第１基板
２１２  透光層
２１２ａ  傾斜面
２１３  反射層
２１３ａ  開口部の縁
２１３ｂ  傾斜反射面
２１３ｈ  開口部
２１４  着色層
２１５  表面保護層
２１６  透明電極
２２１  第２基板
２２２  透明電極
【図１】
0003633591.tif 000002
【図２】
0003633591.tif 000003
【図３】
0003633591.tif 000004
【図４】
0003633591.tif 000005
【図５】
0003633591.tif 000006
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
0003633591.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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