(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
色材料、光重合開始剤組成物及びエチレン性不飽和化合物を含有する光重合性組成物からなるカラーフィルターレジストにおいて、エチレン性不飽和化合物が、下記一般式（Ｉ）で示される置換基を少なくとも２個含有する化合物であることを特徴とするカラーフィルターレジスト。
【化１】
0003624466.tif 000021
（式中、ｍは１〜５の整数を示し、Ｒ１  ，Ｒ２  は水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒ３  は置換基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキレン基（該置換基は、水酸基、ハロゲン原子、水酸基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１５のアリール基、炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基である。）を示し、Ｒ４  は水素原子、水酸基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、炭素数７〜１５のアラルキル基又は炭素数２〜１０のアルケニル基を示し、Ｒ５  は水素原子又はメチル基を示す。）
【請求項２】
請求項１に記載のカラーフィルターレジストにおいて、エチレン性不飽和化合物が下記一般式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）  で示される化合物であることを特徴とするカラーフィルターレジスト。
【化２】
0003624466.tif 000022
【請求項３】
請求項１又は２に記載のカラーフィルターレジストにおいて、エチレン性不飽和化合物として、更に、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との付加反応で得られるエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合物を含有することを特徴とするカラーフィルターレジスト。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載のカラーフィルターレジストにおいて、沸点が５０℃以上の塗布溶媒を使用することを特徴とするカラーフィルターレジスト。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載のカラーフィルターレジストにおいて、光重合性組成物が黒色材料を含有し、乾燥膜厚１μｍ以下に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範囲での最小吸光度が２．０以上であることを特徴とするブラックマトリックス製造用カラーフィルターレジスト。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載のカラーフィルターレジストにおいて、光重合性組成物が赤、緑又は青色材料を含有し、乾燥膜厚１μｍ以下に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範囲での最大吸光度が１．１以上であることを特徴とする赤、緑又は青の色材画素製造用カラーフィルターレジスト。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はカラーテレビ、液晶表示素子、カメラ等に使用される光学的カラーフィルターの製造に使用されるカラーフィルターレジストに関する。
【０００２】
【従来の技術及び先行技術】
カラーフィルターは、通常、ブラックマトリックスを設けたガラス、プラスチックシート等の透明基板の表面に、赤，緑，青の３種の異なる色相により、１０〜５０μｍ幅のストライプ状、モザイク状等の色パターンを数μｍの精度で形成して製造される。
【０００３】
カラーフィルターの代表的な製造方法としては、染色法、印刷法、顔料分散法、電着法等がある。しかし、これらの方法では、耐熱性が悪い、パターンの位置精度が悪い、生産コストが高い、生産性が悪い等、いずれも一長一短があり、用途に応じて各方式等が使い分けられている。これらの製造方法のうち、色材料を含有する光重合性組成物を、ブラックマトリックスを設けた透明基板上に塗布し、画像露光、現像、熱硬化処理を繰り返すことでカラーフィルター画像を形成する顔料分散法は、カラーフィルター画素の位置、膜厚等の精度が高く、寿命が長く、ピンホール等の欠陥が少ない方法であるため、従来、広く採用されている。
【０００４】
しかし、この方法では、染料と比べ着色力が低い顔料を使用しているため、多くの顔料添加が必要であるが、大量の顔料添加は光重合性組成物の現像低下を招きやすく、一方、添加量が少ない場合には、膜厚を厚くする必要が生じ、色材画素の透明性を上げることが困難であるという問題点があった。
【０００５】
また、透明基板上に設けるクロム等のブラックマトリックスの形成コストが高いという問題もあった。この問題を解決するものとして、透明基板上に、黒色材料を含有する光重合性組成物を利用してブラックマトリックスを形成する方法が提案されている（特開平１−２９３３０６号公報、特開平２−９０２号公報等）。
【０００６】
また、本発明者らは黒色材料、光重合開始剤組成物及びエチレン性不飽和化合物を含有する光重合性組成物からなるカラーフィルターレジストにおいて、エチレン性不飽和化合物として、芳香族ポリグリシジルエーテル化合物と不飽和モノカルボン酸との付加反応、或いは、芳香族ポリヒドロキシ化合物とエポキシモノカルボン酸エステルとの付加反応、で得られるエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合物、具体的には、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの共縮合化合物を用いることにより、高い遮光性を有するブラックマトリックス用レジストが得られることを見出し、このカラーフィルターレジストについて、先に特許出願した（特願平７−９７６８号。以下「先願」という。）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の黒色材料を含有する光重合性組成物を使用したブラックマトリックスでは、遮光性が十分ではなく、また、膜厚が１．５μｍ以上となるため、赤、青、緑の色材画像の形成時に、色材画像周辺部が１μｍ以上も盛り上がることとなり、平滑なカラーフィルターを製造することができないという欠点がある。
【０００８】
前記先願のカラーフィルターレジストであれば、上記従来の欠点はある程度解決されるものの、高い遮光性を達成するためには、高い色材濃度のレジストが必要とされ、この場合、色材料を安定にレジスト液中に分散することが難しく、分散に長時間を要し、このため、レジストの生産性が悪く、製造コスト面でも不利であるという問題があった。
【０００９】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、その第一の目的は、透明性に優れ、画像形成性、色材料の分散性にも優れたカラーフィルターの製造に適したカラーフィルターレジストを提供することにある。
【００１０】
本発明の第二の目的は、製造コストが安く、遮光性に優れ、画像形成性、色材料の分散性にも優れたブラックマトリックス用のカラーフィルターレジストを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段及び作用】
請求項１のカラーフィルターレジストは、色材料、光重合開始剤組成物及びエチレン性不飽和化合物を含有する光重合性組成物からなるカラーフィルターレジストにおいて、エチレン性不飽和化合物が、下記一般式（Ｉ）で示される置換基を少なくとも２個含有する化合物であることを特徴とする。
【００１２】
【化３】
0003624466.tif 000002
【００１３】
（式中、ｍは１〜５の整数を示し、Ｒ１  ，Ｒ２  は水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒ３  は置換基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキレン基（該置換基は、水酸基、ハロゲン原子、水酸基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜１５のアリール基、炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基である。）を示し、Ｒ４  は水素原子、水酸基を有しても良い炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、炭素数７〜１５のアラルキル基又は炭素数２〜１０のアルケニル基を示し、Ｒ５  は水素原子又はメチル基を示す。）請求項２のカラーフィルターレジストは、請求項１に記載のカラーフィルターレジストにおいて、エチレン性不飽和化合物が下記一般式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）  で示される化合物であることを特徴とする。
【００１４】
【化４】
0003624466.tif 000003
【００１５】
請求項３のカラーフィルターレジストは、請求項１又は２に記載のカラーフィルターレジストにおいて、エチレン性不飽和化合物として、更に、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との付加反応で得られるエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合物を含有することを特徴とする。
【００１６】
請求項４のカラーフィルターレジストは、請求項１ないし３のいずれか１項に記載のカラーフィルターレジストにおいて、沸点が５０℃以上の塗布溶媒を使用することを特徴とする。
【００１７】
請求項５のブラックマトリックス製造用カラーフィルターレジストは、請求項１ないし４のいずれか１項に記載のカラーフィルターレジストにおいて、光重合性組成物が黒色材料を含有し、乾燥膜厚１μｍ以下に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範囲での最小吸光度が２．０以上であることを特徴とする。
【００１８】
請求項６の赤、緑又は青の色材画素製造用カラーフィルターレジストは、請求項１ないし４のいずれか１項に記載のカラーフィルターレジストにおいて、光重合性組成物が赤、緑又は青色材料を含有し、乾燥膜厚１μｍ以下に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範囲での最大吸光度が１．１以上であることを特徴とする。
【００１９】
即ち、本発明者らは上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、特定のエチレン性不飽和化合物を配合した光重合性組成物を使用することで感度、画像形成性、顔料分散性が改良されることを見出し、本発明に到達した。
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
本発明のカラーフィルターレジストは、色材料と、光を吸収してラジカルを発生する光重合開始剤組成物と、該ラジカルにより重合が誘起される付加重合性のエチレン性不飽和二重結合を少なくとも２個以上有する化合物（以下、「エチレン性不飽和化合物」と称す。）とを含有し、更に好ましくは、相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等の改善のために、結合剤としての有機高分子物質を含有する光重合性組成物である。
【００２２】
これらの構成成分のうち、光重合開始剤組成物としては、下記のような紫外から可視領域に感度を有するものを、使用する露光光源に応じて、適宜選択可能である。
【００２３】
即ち、本発明において、上記４００ｎｍ未満の波長の紫外光を吸収してラジカルを発生する光重合開始剤組成物としては、例えば、ファインケミカル，１９９１年，３月１日号Ｖｏｌ  ２０，Ｎｏ．  ４，Ｐ．１６〜Ｐ．２６に記載のジアルキルアセトフェノン系，ベンジルジアルキルケタール系，ベンゾイン，ベンゾインアルキルエーテル系，チオキサントン誘導体，アシルホスフィンオキサイド系等、その他、特開昭５８−４０３０２号公報，特公昭４５−３７３７７号公報に記載のヘキサアリールビイミダゾール系，ｓ−トリハロメチルトリアジン系，特開昭５９−１５２３９６号公報に記載のチタノセン系組成物等を用いることができる。
【００２４】
一方、波長４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の可視光に感応する光重合開始剤組成物しては、例えば、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤及び染料を含有する組成物（特公昭４５−３７３７７号公報）、ヘキサアリールビイミダゾールと（ｐ−ジアルキルアミノベンジリデン）ケトンを含有する組成物（特開昭４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２号各公報）、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料を含有する組成物（特開昭４８−８４１８３号公報）、置換トリアジンとメロシアニン色素を含有する組成物（特開昭５４−１５１０２４号公報）、ケトクマリンと活性剤を含有する組成物（特開昭５２−１１２６８１号、特開昭５８−１５５０３号、特開昭６０−８８００５号各公報）、置換トリアジンと増感剤を含有する組成物（特開昭５８−２９８０３号、特開昭５８−４０３０２号各公報）、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールを含有する組成物（特開昭５９−５６４０３号公報）、ジアルキルアミノフェニル基を含有する増感剤とビイミダゾールを含有する組成物（特開平２−６９号、特開昭５７−１６８０８８号、特開平５−１０７７６１号、特開平５−２１０２４０号、特開平４−２８８８１８号各公報）、有機過酸化物と色素を含有する組成物（特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−１８９３４０号各公報）、チタノセン系組成物（特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−１０６０２号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２９１号、特開平３−１２４０３号、特開平３−２０２９３号、特開平３−２７３９３号、特開平３−５２０５０号各公報）、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基或はウレタン基を有する付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含有化合物を組合せた組成物（特開平４−２２１９５８号、特開平４−２１９７５６号各公報）等が挙げられる。
【００２５】
波長４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光に感応する光重合開始剤組成物の好適例としては、波長４００〜５００ｎｍに吸収を有する増感色素と、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（以下、「化合物Ｒ−１」と称す。）、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−カルボエトキシフェニル）ビイミダゾール（以下、「化合物Ｒ−２」と称す。）、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ブロモフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール等のヘキサアリールビイミダゾール、及び、２−メルカプトベンズチアゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール等の有機チオール化合物からなる複合光重合開始剤組成物、或いは、波長４００〜５００ｎｍに吸収を有する増感色素とジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３−（ピロール−１−イル）−フェニル−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル−１−イル（以下、「化合物Ｓ−１」と称す。）、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イル等のチタノセン化合物、更に、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル、ミヒラーズケトン等のジアルキルアミノフェニル化合物からなる複合光重合開始剤組成物が挙げられる。
【００２６】
なお、上記のヘキサビイミダゾールを増感する色素としては、例えば特開平２−６９号公報，特開昭５７−１６８０８８号公報，特開平５−１０７７６１号公報，特開平５−２１０２４０号公報，特願平４−２８８８１８号に記載の増感色素を挙げることができる。
【００２７】
また、チタノセンを増感する色素としては、例えば特願平５−８３５８８号，特願平５−８４８１７号，特開平５−８３５８７号公報，特願平６−１２９４９号，特願平６−７４７４３号，特願平６−１４１５８８号に記載の増感色素を挙げることができる。
【００２８】
また、これらの可視光領域に感応する光重合開始剤組成物のうち、可視光と共に紫外部にも吸収を持ち、高い感度を示すものについては、紫外光領域の光源に対する光重合開始剤組成物として利用しても良い。
【００２９】
このような可視光及び紫外光領域に共に高い感度を示すものとしては、ヘキサアリールビイミダゾール、或いは、チタノセンを含有する光重合開始剤組成物等を挙げることができる。
【００３０】
上記の光重合開始剤組成物のうちでは、ヘキサアリールビイミダゾール、チタノセンを含有する光重合開始剤組成物が高い感度を示すことから好ましく、特に、チタノセンを含有する光重合開始剤組成物であれば、ヘキサアリールビイミダゾールを含有する光重合開始剤組成物に比べて、少量で高い感度を示すと共に、高い乾燥条件でも安定なため、本発明のような、高い色材料濃度を有するカラーフィルターレジストにはより一層好ましい。
【００３１】
本発明に使用されるエチレン性不飽和化合物は、下記一般式（Ｉ）で示される置換基を２個以上有するエチレン性不飽和化合物（以下「エチレン性不飽和化合物（Ａ）」と称す。）であり、優れた画像形成性を付与すると共に、色材料に対する高い分散性を与える機能を有する。
【００３２】
【化５】
0003624466.tif 000004
【００３３】
このエチレン性不飽和化合物（Ａ）の具体的な例としては、次のようにして製造されるものが挙げられる。
【００３４】
即ち、まず、ハイドロキノン、レゾルシン、ピロガロール等のヒドロキシベンゼン；ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＡ等のビスフェノール誘導体；ノボラック等の芳香族ポリヒドロキシ化合物と、置換基を有しても良いハロゲン化アルキルアルコールとをアルカリ条件下で反応させて芳香族ポリヒドロキシ化合物の水酸化アルキルエーテル化合物（以下、「芳香族ポリ水酸化アルキルエーテル化合物」と称す。）を製造する。この芳香族ポリ水酸化アルキルエーテル化合物とエピクロルヒドリンとをアルカリ条件下で反応させて芳香族ポリグリシジルエーテル化合物を製造する。次いで、この芳香族ポリグリシジルエーテル化合物に（メタ）アクリル酸等の不飽和モノカルボン酸を、４級アンモニウム又は３級アミン等を触媒として用いて反応させることによりエチレン性不飽和化合物（Ａ）を得る。或いは、前記の芳香族ポリ水酸化アルキルエーテル化合物と、グリシジル（メタ）アクリレート、下記［Ｔ−１］又は［Ｔ−２］等の構造のエポキシ（メタ）アクリレートを、“ＳＹＮＴＨＥＴＩＣ  ＣＯＭＭＵＮＩＣＡＴＩＯＮ，  ２４（２１）  ”３００９−３０１９（１９９４）  等に記載の酸又はアルカリの触媒を用いて付加反応させることにより、エチレン性不飽和化合物（Ａ）を得る。
【００３５】
【化６】
0003624466.tif 000005
【００３６】
エチレン性不飽和化合物（Ａ）としては、より具体的には、例えば、次の［Ｍ−１］，［Ｍ−２］，［Ｍ−３］，［Ｍ−４］等を挙げることができる。
【００３７】
【化７】
0003624466.tif 000006
【００３８】
更に具体的には、次の［ｍ−１］〜［ｍ−１４］が挙げられる（なお、式［ｍ−１］〜［ｍ−１４］中、Ｒ５  は前記と同じである。）。
【００３９】
【化８】
0003624466.tif 000007
【００４０】
【化９】
0003624466.tif 000008
【００４１】
【化１０】
0003624466.tif 000009
【００４２】
本発明においては、特に、ビスフェノールＡタイプの骨格を有する芳香族ポリヒドロキシ化合物から製造される上記一般式［Ｍ−１］，［Ｍ−２］，［Ｍ−４］等のエチレン性不飽和化合物（Ａ）が、他のエチレン性不飽和化合物（Ａ）の場合に比べ、画像形成性及び色材料に対する分散性に優れているために好ましい。
【００４３】
本発明においては、エチレン性不飽和化合物として、上記エチレン性不飽和化合物（Ａ）と共に、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸との付加反応（エステル反応）で得られる、エチレン性不飽和二重結合を２個以上含有するエチレン性不飽和化合物（以下「エチレン性不飽和化合物（Ｂ）」と称す。）を併用することが好ましい。このエチレン性不飽和化合物（Ｂ）は、現像時の非画線部の溶解性を高め、高画質の画像を形成させる機能を有する。
【００４４】
このようなエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の具体的な例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート，トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート，トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート，トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート，ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート，ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート，ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート，ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート，ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート，ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート，グリセロール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル、これらの例示化合物の（メタ）アクリレートをイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロトネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等がある。これらのうち、特に、４官能〜６官能のジペンタエリスリトールポリアクリレートが画像形成性に優れる点から好ましい。
【００４５】
なお、前記エチレン性不飽和化合物（Ａ）及びエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の製造に当っては、芳香族ポリグリシジルエーテル化合物、或いは、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和モノカルボン酸とを反応させる際に、不飽和モノカルボン酸と共に飽和のモノカルボン酸を付加させ、該エチレン性不飽和化合物の粘性等の物性を制御することもできる。
【００４６】
本発明において、エチレン性不飽和化合物（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）との使用割合は、重量比で、エチレン性不飽和化合物（Ａ）：エチレン性不飽和化合物（Ｂ）＝１００：０〜１０：９０、好ましくは９０：１０〜２０：８０、更に好ましくは８０：２０〜３０：７０である。
【００４７】
その他、本発明において併用できるエチレン性不飽和化合物の例としては、エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物、不飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド、側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸、例えばイタコン酸、プロピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキシ又はジアミン化合物との縮重合体、側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如き反応活性を有する官能基を有する重合体、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリエピクロルヒドリン等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸との高分子反応により得られるポリマー等が挙げられる。
【００４８】
本発明のカラーフィルターレジスト中には、該レジストの成膜性、現像性を改良する目的で、有機高分子物質を結合剤として添加することができる。該有機高分子物質としては、メチル（メタ）アクリル酸、エチル（メタ）アクリル酸、プロピル（メタ）アクリル酸、ブチル（メタ）アクリル酸、２−エチルヘキシル（メタ）アクリル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリル酸、ベンジル（メタ）アクリル酸等の（メタ）アクリル酸のアルキルエステル；ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル酸、メトキシフェニル（メタ）アクリル酸等の（メタ）アクリル酸の置換基を有していても良いフェニルエステル；アクリロニトリル；酢酸ビニル、バーサチック酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル、ピバリン酸ビニル等の酸ビニル；スチレン、α−メチル−スチレン等の共重合体、エピクロロヒドリンとビスフェノールＡとのポリエーテル、可溶性ナイロン、ポリビニルアルキルエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレートイソフタレート、アセチルセルロース及びポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が挙げられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル」とは「アクリル又はメタクリル」を示す。「（メタ）アクリレート」についても同様である。
【００４９】
本発明においては、得られる塗膜の皮膜強度、耐塗布溶剤性、基板接着性を高める目的で、上記有機高分子物質のうち、カルボン酸基を有するものの、カルボン酸基の一部又は全部を、グリシジル（メタ）アクリレート、前記［Ｔ−１］又は［Ｔ−２］の構造のエポキシ（メタ）アクリレートと反応させて、光重合性の有機高分子物質とすることもできる。
【００５０】
本発明において、特に好ましい有機高分子物質としては、基板への接着性を高める目的で、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル酸、メトキシフェニル（メタ）アクリル酸、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルスルホアミド等のフェニル基を有する共重合モノマーを１０〜８０モル％、好ましくは２０〜７０モル％、より好ましくは３０〜６０モル％の割合で含有し、その他（メタ）アクリル酸を２〜５０重量％、好ましくは５〜４０重量％、より好ましくは５〜３０重量％の割合で含有する共重合体、或いは、全共重合モノマーに対して２〜５０モル％、好ましくは５〜４０モル％、より好ましくは１０〜３０モル％のエポキシ（メタ）アクリレートが付加された反応物が望ましい。
【００５１】
このような有機高分子物質の分子量としては、重量平均分子量（Ｍｗ）で１，０００〜１０００，０００、好ましくは２，０００〜５００，０００、より好ましくは３，０００〜２００，０００の範囲である。有機高分子物質のＭｗがこの範囲より著しく低いと、現像時に画線部分の膜ベリが生じ、逆に有機高分子物質のＭｗが著しく高いと現像時に非画線部の抜け性不良を生じ易い。
【００５２】
本発明において、前記光重合開始剤組成物の含有量は、色材料を除く光重合性組成物の全固形分に対し、０．１〜４０重量％、好ましくは０．２〜３０重量％、より好ましくは０．２〜２０重量％であり、前記エチレン性不飽和化合物（エチレン性不飽和化合物（Ａ）と共に、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、その他のエチレン性不飽和化合物を併用する場合、これらのエチレン性不飽和化合物の合計）の含有量は、色材料を除く光重合性組成物の全固形分に対し、２０〜９９重量％、好ましくは５０〜９５重量％、より好ましくは６０〜９０重量％であり、前記有機高分子物質の含有量は、色材料を除く光重合性組成物の全固形分に対し、０〜８０重量％、好ましくは１０〜７０重量％、より好ましくは２０〜６０重量％である。
【００５３】
本発明に使用される色材料としては、ブラックマトリックス用カラーフィルターレジストには黒色の色材料であり、赤，緑，青用カラーフィルターレジストには、それに対応する色材料を使用する。
【００５４】
黒色の色材料としては、カーボンブラック、特開平５−３１１１０９号公報，特開平６−１１６１３号公報等に記載の黒鉛、特開平４−３２２２１９号公報，特開平３−２７４５０３号公報等に記載の無機黒色顔料、特開平２−２１６１０２号公報等に記載のアゾ系ブラック色素等の有機黒色顔料、その他、赤，緑，青、黄、シアン、マジェンタ等の有機色材料を混合した黒色顔料等を挙げることができる。
【００５５】
赤，緑，青に対応する色材料としては、具体的には、ビクトリアピュアブルー（４２５９５）、オーラミンＯ（４１０００）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダミンＢ（４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（５０２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、Ｎｏ．１２０／リオノールイエロー（２１０９０）、リオノールイエローＧＲＯ（２１０９０）、シムラーファーストイエロー８ＧＦ（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ（２１０９５）、シムラーファーストレッド４０１５（１２３５５）、リオノールレッド７Ｂ４４０１（１５８５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）、リオノールブルーＥＳ（ピグメントブルー１５：６、ピグメントブルー１５３６）、リオノーゲンレッドＧＤ（ピグメントレッド１６８、ピグメントレッド１０８）、リオノールグリーン２ＹＳ（ピグメントグリーン３６）等が挙げられる（上記の（  ）内の数字は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する）。
【００５６】
また、更に他の顔料について（Ｃ．Ｉ．）で示すと、例えば、Ｃ．Ｉ．黄色顔料２０，２４，８６，９３，１０９，１１０，１１７，１２５，１３７，１３８，１４７，１４８，１５３，１５４，１６６、Ｃ．Ｉ．オレンヂ顔料３６，４３，５１，５５，５９，６１、Ｃ．Ｉ．赤色顔料９，９７，１２２，１２３，１４９，１６８，１７７，１８０，１９２，２１５，２１６，２１７，２２０，２２３，２２４，２２６，２２７，２２８，２４０、Ｃ．Ｉ．バイオレット顔料１９，２３，２９，３０，３７，４０，５０、Ｃ．Ｉ．青色顔料１５，１５：１，１５：４，２２，６０，６４、Ｃ．Ｉ．緑色顔料７、Ｃ．Ｉ．ブラウン顔料２３，２５，２６等を挙げることができる。
【００５７】
これらの色材料の光重合性組成物中の含有量は次の通りである。
【００５８】
即ち、黒の色材光重合性組成物で形成されるブラックマトリックスは、１．０μｍ以下、好ましくは０．３〜０．７μｍ、より好ましくは０．３〜０．６μｍの膜厚に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範囲における最小吸光度（Ｏ．Ｄ．ｍｉｎ．）が２．０以上、好ましくは２．２以上のブラックマトリックスを形成させるために、該光重合性組成物中に含有される前記黒色の色材料の含有量としては、全固形分に対し、４０〜９０重量％、好ましくは５０〜８０重量％、より好ましくは６０〜７０重量％の範囲である。
【００５９】
一方、赤，緑，青の色材光重合性組成物で形成される色材画素は、１．０μｍ以下、好ましくは０．３〜０．７μｍ、より好ましくは０．３〜０．６μｍの膜厚に形成した塗膜の、４００〜７００ｎｍの範囲における最大吸光度（Ｏ．Ｄ．ｐｅａｋ．）が１．１以上、好ましくは１．３以上の色材画素を形成させるために、該光重合性組成物中に含有される前記赤，緑，青の色材料の添加量としては、全固形分に対し、４０〜９０重量％、好ましくは５０〜８０重量％、より好ましくは６０〜７０重量％の範囲である。
【００６０】
本発明に係る光重合性組成物は、このような高い色材料含有率の状態で、高画質なブラックマトリックス画像又は色材画素を形成させると共に、各画素上に塗設して形成される色材光重合性層、或いは、ポリアミド，ポリイミド等の保護層等の塗布溶剤に対する耐溶剤性、及び、透明基板に対する高い接着性を与える機能を有する。
【００６１】
このような光重合性組成物は、適当な溶剤を用いて調液された塗布液として塗布される。
【００６２】
本発明において、光重合性組成物の塗布に用いられる溶剤としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下「ＰＧＭＡｃ」と略記する。）、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、クロロホルム、ジクロロメチン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラハイドロフラン等が挙げられる。特に、好ましい塗布溶剤としては、本発明に係るエチレン性不飽和化合物を用いて色材料を塗布溶剤中に分散させる際の分散性をより一層高めることができるシクロヘキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の沸点が５０℃以上、好ましくは沸点１００℃以上のジアルキルケトンが挙げられる。
【００６３】
本発明で用いる塗布液は、これらの溶剤を用いて、光重合性組成物濃度が５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％の範囲となるように調液される。
【００６４】
なお、本発明に係る塗布液を調製するに当り、エチレン性不飽和化合物（Ａ）による優れた色材料に対する分散性を十分に発揮させるために、次のような手順で塗布液の調製を行うのが好ましい。
【００６５】
即ち、まず、色材料とエチレン性不飽和化合物（Ａ）及び併用するエチレン性不飽和化合物（Ｂ）等のエチレン性不飽和化合物とを撹拌混合し、混合液をペイントシェーカー等により１〜５０時間程度分散処理する。分散処理終了後、光重合開始剤組成物及び有機高分子物質を添加して撹拌する。また、さらに必要に応じて該調液塗布液を再度ペイントシェーカー等で分散処理してもよい。この分散処理は、３０分〜５時間の短時間で十分に色材料を分散させることができる。
【００６６】
本発明のカラーフィルターレジストを用いて、カラーフィルターを製造するに当り、光重合性層の露光の際に、酸素による光重合性層の感度低下を防止する目的で、色材光重合性層の上に、ポリビニルアルコール層等の酸素遮断層を塗設する場合があるが、本発明においては、このような酸素遮断層を塗設することなく、光重合性層を露光、現像して画像形成することが、工程数の大幅な減少の面から好ましい。酸素遮断層を設けない場合、色材光重合性組成物中に、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル酸，ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド，ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルスルホアミド等のヒドロキシフェニル基等の芳香族水酸基を有するモノマーを共重合モノマー成分として５〜５０モル％，好ましくは１０〜３０モル％の割合で有する有機高分子物質を使用したり、特開平４−２１８０４８号公報，特開平５−１９４５３号公報等に記載のジアゾ化合物を１〜２０重量％，好ましくは２〜１０重量％含有させたりする。これにより、酸素による感度低下を低く抑えることができ、酸素遮断層を不要とすることができる。
【００６７】
次に、本発明のカラーフィルターレジストを用いるカラーフィルターの製造方法について説明する。
【００６８】
本発明で使用されるカラーフィルターの透明基板としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等のプラスチックシート、或いは、各種ガラス板等を挙げることができる。
【００６９】
このような透明基板には、表面の接着性等の物性を改良するために、必要に応じて、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種ポリマーの薄膜形成処理等を行うことができる。
【００７０】
なお、透明基板の板厚は、０．０５〜１０ｍｍ、特に０．１〜７ｍｍの範囲であることが好ましい。また、各種ポリマーの薄膜形成処理を行う場合には、その膜厚は０．０１〜１０μｍ、特に０．０５〜５μｍの範囲であることが好ましい。
【００７１】
この透明基板は、通常、赤，緑，青の画素画像を形成する前に、予め金属薄膜、又は前述のブラックマトリックス用光重合性組成物を利用したブラックマトリックスが設けられる。前者の例としては、クロム単層又はクロムと酸化クロムの２層のものが挙げられ、これらを蒸着又はスパッタリング法等により薄膜を形成した後、その上に、感光性被膜を形成し、ストライプ、モザイク、トライアングル等の繰り返しパターンを有するフォトマスクを用いて露光・現像し、レジスト画像を形成させ、続いて、該薄膜をエッチング処理により、透明基板上にブラックマトリックスを形成させたものが挙げられる。
【００７２】
このようにしてブラックマトリックスを設けた透明基板上に、赤，緑，青のうちの１つの色の色材料を含有する光重合性組成物を、スピナー，ワイヤーバー，フローコーター，ダイコーター，ロールコーター，スプレー等の塗布装置により塗布した後、５０〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃の温度で１５秒〜１０分間、好ましくは３０秒〜５分間乾燥して当該色材光重合性層を形成させる。なお、ここで、光重合性組成物の塗布液を塗布、乾燥して得られる光重合性層の膜厚は、好ましくは０．２〜２μｍ、より好ましくは０．５〜１μｍである。
【００７３】
ここで、乾燥温度は、高温なほど透明基板に対する接着性が向上するが、一方、高過ぎると光重合開始剤組成物が分解し、熱重合を誘発して現像不良を起こし易い。
【００７４】
次に、この色材光重合性層上に色材画素用のネガフォトマスクを置き、該フォトマスクを介して、紫外又は可視等の光源を用いて画像露光する。この際、必要に応じて酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐため、光重合性層上にポリビニルアルコール層等の酸素遮断層を塗設した後、露光を行っても良い。
【００７５】
続いて、アルカリ現像液、含水有機溶剤現像液或いは界面活性剤現像液により現像処理を行い透明基板上に第１の色材画素画像を形成させる。なお、必要に応じてこの現像処理の前に、光重合層の感度或いはγ値（階調）を高くする目的で露光試料を７０〜２００℃で１５秒〜２０分間、好ましくは８０〜１５０℃で３０秒〜１０分間の熱処理を施すことができる。
【００７６】
現像に使用されるアルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機のアルカリ剤、或いはジエタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩等の有機のアルカリ剤を含有し、必要に応じ、画質向上、現像時間の短縮等の目的で界面活性剤、水溶性の有機溶剤、水酸基又はカルボン酸基を有する低分子化合物等を含有させた水溶液を用いることができる。
【００７７】
現像液の界面活性剤としては、ナフタレンスルホン酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウム基を有するアニオン性界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有するノニオン性界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤等を挙げることができ、また、水溶性の有機溶剤としては、エタノール、プロピオンアルコール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を挙げることができる。
【００７８】
また、水酸基又はカルボキシ基を有する低分子化合物としては、１−ナフトール、２−ナフトール、ピロガロール、安息香酸、コハク酸、グルタル酸等を挙げることができる。
【００７９】
含水有機溶剤現像液に使用される有機溶剤としては、前記のアルカリ現像液中に用いられた水溶性の有機溶剤の中より適宜選択して使用することができる。
【００８０】
界面活性剤現像液に使用される界面活性剤としては、前記のアルカリ現像液中に用いられた界面活性剤の中より適宜選択して使用することができる。
【００８１】
上記の現像処理は、通常、２０〜４０℃、好ましくは２５〜３５℃の現像温度で、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。
【００８２】
現像後の試料は、必要に応じて、該試料の上に塗布される色材光重合性層、或いは、ポリアミド，ポリイミド等の保護層の塗布溶剤に対する耐久性、又は、ガラス基板等の透明基板との接着性を高める目的で、該試料を１００〜２５０℃，５〜６０分間の熱硬化処理を行うか、或いは、適正露光量以上の露光量、好ましくは、適正露光量の１〜１０倍の露光量による光硬化処理を施すことができる。
【００８３】
続いて、該試料の上に赤，緑，青のうち他の２色の光重合性組成物についても前記と同様にしてそれぞれ塗布・乾燥した後、該試料を、色材画素用のネガフォトマスクを用いて前記と同様に露光、現像、必要に応じて熱又は光硬化処理を繰り返し行い、ブラックマトリックス間に３色の画素を形成してカラーフィルターを作製する。
【００８４】
このようにして作製されたカラーフィルターは、このままの状態で、上にＩＴＯ（透明電極）が形成され、カラーディスプレーの部品の一部として使用されるが、更にカラーフィルターの表面平滑性、或いは耐久性を高める目的でポリアミド，ポリイミド等のトップコート層を設けることもできる。
【００８５】
本発明において画像露光に使用される光源としては、キセノンランプ，ハロゲンランプ，タングステンランプ，高圧水銀灯，メタルハライドランプ，中圧水銀灯，低圧水銀灯等のランプ光源、及びアルゴンイオンレーザー，ＹＡＧレーザー，エキシマーレーザー，窒素レーザー等のレーザー光源が挙げられる。これらの光源には、必要とされる照射光の波長領域に応じて、適宜光学フィルターを使用することもできる。
【００８６】
ブラックマトリックスを、黒の色材料を含有する本発明に係る光重合性組成物を利用して形成する場合には、透明基板上に赤，緑，青の画素画像を形成する方法と同様の方法を採用することでブラックマトリックスを形成する。
【００８７】
以上、ブラックマトリックスが形成された透明基板上に赤，緑，青の画素画像を形成する方法を説明したが、赤，緑，青の画素画像形成後にブラックマトリックスを形成する方法も採用可能である。
【００８８】
また、本発明のカラーフィルターレジストを用いて、透明基板上に、ブラックストライプ、又は、赤，緑，青の色材画素画像を形成させる際に、該カラーフィルターレジストと透明基板との現像画像接着性及び／又は熱硬化画像の接着性を高める目的で、該透明基板上に色材料を含有しない光重合性組成物を光硬化させた光硬化接着層を設けることができる。
【００８９】
該光硬化接着層に使用される光重合性組成物に含有している光重合開始剤組成物、エチレン性不飽和化合物、及び必要に応じて用いられる有機高分子物質は、本発明のカラーフィルターレジストの光重合性組成物の中から適宜選択して用いることができ、このような光硬化接着層は、この光重合性組成物を、通常、上記と同様の方法により、乾燥膜厚が０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０２〜１μｍの範囲となるように透明基板上に塗設した後、該塗布された光重合性組成物層の適正露光量の１〜１０倍の露光量で露光して光硬化させることにより、形成することができる。
【００９０】
更に、また、本発明のカラーフィルターレジストを用いて透明基板上に形成されたブラックストライプ、又は、赤，緑，青の色材画素等のレジスト画像の、経時による透明基板からの剥離、傷などの欠陥の発生を防ぐ目的で、該レジスト画像を形成させた透明基板の上に、上記の光硬化接着層の場合と同様の方法により、光硬化層を設けることもできる。
【００９１】
本発明に係る光重合性組成物は、高い色材料含有率の状態で、色材料の分散性に優れ、高画質なブラックマトリックス画像又は色材画素を形成させると共に、各画素上に塗設して形成される色材光重合性層、或いは、ポリアミド，ポリイミド等の保護層等の塗布溶剤に対する耐溶剤性、及び、透明基板に対する高い接着性を与える機能を有する。
【００９２】
【実施例】
以下に、合成例、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
【００９３】
合成例１（後掲のエチレン性化合物▲２▼の合成）
ビスフェノールＡ２０ｇと２−ブロモエタノール３５ｇ及びカセイソーダ３ｇを水１５ｇに溶かした溶液を、還流冷却装置を設けた３００ｍｌの３つ口フラスコに入れ、１２０℃で５時間撹拌し、その後室温に戻した。該フラスコのカセイソーダ水溶液を除去し、試料を水で５回洗浄した。続いて試料を減圧乾燥し、下記［ｕ−１］式で示される２，２−ビス（４−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン２０ｇを得た。
【００９４】
【化１１】
0003624466.tif 000010
【００９５】
次に、５０重量％カセイソーダ３０２ｇに硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム４．３ｇを溶かした溶液を３００ｍｌの３つ口フラスコに入れ、２０℃で撹拌した状態で、２，２−ビス（４−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン［ｕ−１］２０ｇとエピクロヒドリン３５０ｇを１．５時間かけて滴下し、更に２０℃で３時間反応させた。
【００９６】
次に、フラスコを室温に戻した後、食塩水で中性になるまで洗浄し、その後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、残存するエピクロヒドリンを減圧下留去して、目的とする２，２−ビス（４−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン［ｕ−１］のグリシジル化合物［ｕ−２］を２３ｇ得た。
【００９７】
【化１２】
0003624466.tif 000011
【００９８】
次に、得られたグリシジル化合物［ｕ−２］２０ｇ、アクリル酸１５ｇ及びトリエチルアミン０．２ｇと、トルエン３０ｇを、還流冷却装置を設けた３００ｍｌの３つ口フラスコに入れ、１００℃で４８時間撹拌した後、アクリル酸及びトルエンを減圧下、９０℃で留去し、目的とする下記エポキシアクリレート１９ｇを得た。
【００９９】
【化１３】
0003624466.tif 000012
【０１００】
実施例１〜１６，比較例１〜４
光重合開始剤組成物として下記化１４の種類及び配合を採用し、有機高分子物質としては、下記化１５のものを用い、エチレン性不飽和化合物としては下記化１６，化１７のものを用い、また、塗布溶剤として下記  （ａ）〜（ｆ）  を用い、下記配合で黒の色材を含有するブラックマトリックス形成用光重合性組成物の塗布液を調液した。
【０１０１】
【化１４】
0003624466.tif 000013
【０１０２】
【化１５】
0003624466.tif 000014
【０１０３】
【化１６】
0003624466.tif 000015
【０１０４】
【化１７】
0003624466.tif 000016
【０１０５】
［塗布溶剤］
（ａ）  シクロヘキサノン
（ｂ）  メチルエチルケトン
（ｃ）  メチルイソブチルケトン
（ｄ）  メチルセロソルブ
（ｅ）  プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＡ）
（ｆ）  乳酸メチル
［黒の色材光重合性塗布液組成］
光重合開始剤組成物    ：表１〜３に記載
有機高分子物質        ：表１〜３に記載
エチレン性不飽和化合物：表１〜３に記載
塗布溶剤  ：表１〜３に記載、添加率は色材光重合性塗布液の全固形分の重量の９倍量
黒色顔料（カーボンブラック（三菱化学社製「ＭＡ−１００」））：添加率は表１〜３に記載
調液方法としては、黒の色材及びエチレン性不飽和化合物を塗布溶剤と混合撹拌した後、該混合溶液の５０ｇと粒径０．５ｍｍのジルコニアビーズ１５０ｇとをステンレス製容器に入れ、ペイントシェーカーで、２時間分散処理した。次に、この分散処理液に光重合開始剤組成物及び有機高分子物質を添加した後、マグネットスタラーにて３０分間撹拌し、更に超音波で１０分間撹拌し、色材を含む塗布液（２時間分散処理）を調液した。上記と同様にしてペイントシェーカーで表１〜３に示す時間分散処理を施して、各分散処理時間毎に塗布液を調液した。
【０１０６】
調製された黒の色材含有光重合性塗布液を、ガラス基板（コーニング社製Ｎｏ．７０５９）に表１〜３に記載の乾燥膜厚になるようにワイヤーバーコーターにより塗布し、１２０℃の乾燥温度で２分間乾燥し、更にポリビニルアルコール水溶液を乾燥膜厚２μｍになるように同様の方法により塗布、乾燥した。次に、幅３０μｍで縦３３０μｍ、横１１０μｍのピッチで繰り返すブラックマトリックス用ネガフォトマスクを用いて、２Ｋｗ高圧水銀灯により表１〜３に示す適正露光量で露光した後、０．１重量％のトリエタノールアミン、３重量％のアニオン性界面活性剤（花王社製「ペレックスＮＢＬ」）含有水溶液に２５℃で浸漬し、スポンジで５回こする現像処理を行い、ブラックマトリックスを形成させ、次に２００℃，７分間の熱処理により熱硬化させた。該試料を以下の評価方法で評価し、その結果を表１〜３に示した。
【０１０７】
なお、本明細書において、適正露光量（塗付面側の適正露光量）とは、色材光重合性層上に、ウグラテストチャートを置き、該テストチャートを介して露光量を変化させながら光照射し、次いで現像処理を行って得られるテストチャートの色材画像より、テストチャート画像中のネガとポジの細線画像の最も細い細線の線幅が同じになる時の露光量を言う。
【０１０８】
［吸光度（Ｏ．Ｄ．）］
７００ｎｍの光の最小吸光度（Ｏ．Ｄ．ｍｉｎ）を測定した。
【０１０９】
［顔料濃度］
黒の色材光重合性塗布液の固形分中に含有されている顔料の割合。
顔料濃度＝顔料の重量／全固形分重量
［画質］
前記と同様の方法により、ガラス基板上に黒の色材光重合性層塗布液を塗布、乾燥させ、更にポリビニルアルコール水溶液を塗布、乾燥させた後、ウグラテストチャートを用いて適正露光量で露光し、現像処理を行い色材画像を形成させた。該色材画像の中の細線画像を４００倍の顕微鏡で観察し、再現されている最も細い細線の線幅より、画質を下記基準で評価した。細い細線が再現するほど良好な画質を示している。
【０１１０】
Ａ：１０μｍ以下の線幅の細線が再現されている。
Ｂ：１０〜１５μｍの線幅の細線が再現されている。
Ｃ：１５〜２５μｍの線幅の細線が再現されている。
Ｄ：２５μｍ以上の線幅の細線が再現されている。
【０１１１】
［分散性］
ペイントシェーカーによる分散処理時間がそれぞれ２時間，４時間，８時間，１６時間，３２時間の色材を用いて調液した塗布溶液を表１の膜厚に塗布・乾燥した際の７００ｎｍの吸光度の大きさより、該塗布溶液の分散性を評価した。
【０１１２】
目的の吸光度に達する分散処理時間が短い程、分散性の良好な塗布溶液であることを示す。
【０１１３】
【表１】
0003624466.tif 000017
【０１１４】
【表２】
0003624466.tif 000018
【０１１５】
【表３】
0003624466.tif 000019
【０１１６】
実施例１７〜２２、比較例５
ガラス基板（コーニング社製Ｎｏ．７０５９）に、幅３０μｍで縦３３０μｍ、横１１０μｍのピッチで繰り返す膜厚０．２μｍのブラックマトリックスをクロムで形成した基板を用いて、下記組成の赤の色材含有光重合性塗布液を表４に記載の乾燥膜厚になるようにワイヤーバーコーターにより塗布し、表４に示す乾燥温度で２分間乾燥した。次に、幅８０μｍで横方向に３３０μｍのピッチで繰り返すストライプパターン用ネガフォトマスクを用いて、２Ｋｗ高圧水銀灯により表４に示す適正露光量で露光した後、実施例１と同様の条件で現像、加熱処理を行った。該試料を実施例１と同様の評価方法で評価し、その結果を表４に示した。ただし、吸光度は４５０ｎｍのものを求めた。
【０１１７】
［赤の色材含有光重合性塗布液組成］
光重合開始剤組成物    ：表４に記載
有機高分子物質        ：表４に記載
エチレン性不飽和化合物：表４に記載
塗布溶剤  ：種類は表４に記載、添加率は色材光重合性塗布液の全固形分の重量の９倍量
赤色顔料（リオノーゲンレッドＧＤ（東洋インキ製造社製）／リオノーゲンオレンジＲ（東洋インキ製造社製）（＝１３：５（重量比）））：添加率は表４に記載
【０１１８】
【表４】
0003624466.tif 000020
【０１１９】
実施例２３，２４
実施例１７において、赤の顔料の替わりに下記の緑の顔料（実施例２３）又は青の顔料（実施例２４）を使用したこと以外は同様にして、評価を行ったところ、実施例１７と同様の良好な分散特性が得られた。
【０１２０】
緑色顔料：リオノールグリーン２ＹＳ（東洋インキ製造社製）／リオノーゲンイエロー３Ｇ（東洋インキ製造社製）（＝９：１７（重量比））
青色顔料：リオノールブルーＥＳ（東洋インキ製造社製）／リオノーゲンバイオレットＲＬ（東洋インキ製造社製）（＝１３．５：３．５（重量比））
実施例２５
実施例１において、現像液として１０重量％のアニオン性界面活性剤（花王社製「ペレックスＮＢＬ」）含有水溶液を用いたこと以外は同様にして画像形成及び評価を行ったところ、適正露光量が５００ｍＪ／ｃｍ２  に、また、画質がＡに改善された。
【０１２１】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明のカラーフィルターレジストは、色材の分散性、透明性、基板との接着性に優れるため、高品質のカラーフィルターを低コストで容易に形成することができる。特に、本発明のカラーフィルターレジストは、従来よりも大幅に分散処理時間を短縮することができるため、生産性に優れ、製造コストが安く、その上、遮光性に優れ、基板との接着性にも優れたブラックマトリックス用のカラーフィルターレジストとして有用である。