(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に、主として無機粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性金属粉末と結合剤とを含む一層以上の磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記磁性層の厚みが０．０５μｍ以上０．８μｍ以下で、磁性層に含まれる磁性体の主成分がＦｅであり、Ｆｅに対して、Ｃｏを１０原子％以上４０原子％以下、Ｙを１．５原子％以上１０原子％以下含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
上記磁性層にモース硬度６以上の非磁性粉末を磁性体１００重量部に対して、２重量部以上１５重量部以下含む事を特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
上記磁性層に含まれるモース硬度６以上の非磁性粉末がα−Ａｌ2Ｏ3、γ−Ａｌ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、α−Ｆｅ2Ｏ3、β−ＳｉＣ、ダイヤモンドから選ばれる１種類以上であることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記下層塗布層に含まれる無機粉末が酸化チタン、α−酸化鉄、硫酸バリウム、酸化亜鉛、アルミナの中から選ばれる一種以上であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記下層塗布層と少なくともそれに接する磁性層がウェットオンウェット塗布方式で形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は磁気記録媒体、特にデジタル信号を高密度で記録再生する磁気記録媒体に関するものであり、更に詳しくは高周波での出力、ＣＮＲに優れ、蒸着型磁気テ−プとの互換性が良好でヘッド摩耗が少ない塗布型磁気記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
磁気記録媒体は録音用テープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデジタル方式まで検討されている。この高密度化の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒体が検討されているが、生産性、腐食性等の実用信頼性の点で強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体に塗布したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。塗布型磁気記録媒体としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ2 、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。しかしながら、金属薄膜に対して塗布型磁気記録媒体は磁性体の充填度が低いために電磁変換特性が劣る。
【０００３】
塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化などがあり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対しては十分なものではない。また、近年、高密度化と共に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚いと出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚み損失の問題が大きくなっており、極薄層の塗布型磁気記録媒体も提案されている。また、近年Ｈｉ−８や民生用デジタルＶＣＲでは金属薄膜を蒸着したテ−プ、いわゆるＭＥ(metal evaporated)テ−プが実用化されてきており、合金粉末テ−プいわゆるＭＰ(metal particulate) テ−プとＭＥテ−プとの両者が使用されるシステムが実用化されてきている。
【０００４】
特に、１９９４年にフォーマットが規定された、ＤＶＣではＨｉ−８ＭＥテープより更に性能が高いＭＥテープがサブリファレンスとして、設定されている。このＭＥテープは従来のＨｉ−８ＭＥテープと磁性体組成が異なり、Ｃｏ−Ｎｉ合金からＣｏ系へ変更している。更に、金属薄膜を保護するために、ＤＬＣ（Diamond like carbon ）膜を設けている。
【０００５】
ＤＶＣシステムでＭＥテ−プと共存させるためには、ＭＰテープもＭＥテープ同様、磁性層を薄層化して高出力化を図らねばならない。また、ＭＥテープは硬い金属と表層を保護するＤＬＣ（Diamond like carbon)膜を有するので、ＭＰテープとはヘッド当たりが異なる。さらに、ＤＶＣ用ＭＥテープはヘッド摩耗が従来のＨｉ８−ＭＥテープに比べて非常に少なくなっているので、ＤＶＣではヘッド先端の有効厚みがこれまでのシステムに比べて少なく設計している。
【０００６】
従来、ＭＰテープは目詰まりや出力低下を少なくするために、磁性層内にモース硬度が高い研磨材を添加する事が一般的である。しかしながら、研磨材を多く添加するとヘッド摩耗が増加する弊害が出てくる。逆に、研磨材を減らして、ヘッド摩耗を減らそうとすると、目詰まりや出力低下が発生し易くなる。
本出願人は下層に非磁性層を設けて、上層磁性層を薄くすることによる極薄層磁気記録媒体を提案してきた。
【０００７】
例えば、以下の発明がある。
特公平６−９３２９７号には、平均長軸長が０．３μｍ未満で結晶子サイズが３００Ａ未満である強磁性粉末を分散し、非磁性層上に塗布する媒体が開示されているが、本発明では必ずしもＭＥテープ同等以下のヘッド摩耗とＭＥテープとのヘッド当たり互換性を得ることができなかった。
【０００８】
特開平５−２９８６５３号には、磁性層厚みを０．３μ未満にし、かつ厚みの標準偏差を一定の範囲に納めることにより、オーバーライト特性（１．９ＭＨｚの信号を７．６ＭＨｚの信号でオーバーライト）とデジタル記録時の歪が少ない媒体を得る事が開示されているが、ＭＥテープとのヘッド当たり互換性及びヘッド摩耗に関する開示はない。
【０００９】
特開平５−７３８８３号には、磁性層の厚みを１μｍ以下、かつその厚み変動を規制する事により、短波長領域での自己減磁損失を低減し、平滑な磁性層によりスペース損失を排除した高出力を、低域から高域に至るまで達成できるＭＥテ−プに匹敵する性能のＭＰテ−プが提供できる旨の開示があり、ヘッド当たりが良好でかつ保存安定性、走行耐久性に優れ、ドロップアウト、ブロックエラーレートが低く、エッジダメージが少ない磁気記録媒体を提供するとしているが、ＤＬＣ膜を有する高性能ＭＥテープとのヘッド当たり互換性を改良する事に関する開示はない。
【００１０】
特開平５−２８４６４号には、非磁性層が結合剤と半固状または液状の添加剤のみからなり、磁性層の厚みが１μｍ以下の磁気記録媒体を開示し、面あれをを防止し、波形応答性、オーバーライト特性（１０ＭＨｚの信号を２０ＭＨｚの信号でオーバーライト）、４０ＭＨｚでの出力等を改善するとしているが、ＭＥテープとのヘッド当たり互換性及びヘッド摩耗に関する記載はない。
【００１１】
特開平６−２１５３６０号には金属磁性体中のＦｅに対するＡｌと希土類元素との比率を規定し、電磁変換特性、走行耐久性が改良されることが開示されているが、Ｃｏ量や希土類にＹの開示はあるが、ＭＥテープとのヘッド当たり互換性やヘッド摩耗との関係は開示されておらず、本願の目的を達成しなかった。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を提供することであり、特にＭＥテープとのヘッド当たり互換性が良好で、出力低下や目詰まりがなく、かつヘッド摩耗が少ない媒体を得ることが目的である。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
我々は、ＤＬＣ膜を有する高性能ＭＥテープとのヘッド当たり互換性を確保しつつ、ヘッド摩耗を低減し、かつＭＥテープ同等以上の電磁変換特性を有する磁気記録媒体を研究してきた。その結果、以下の要件を満たすと、先の目的を達成することを明らかにした。すなわち、非磁性支持体上に、主として無機粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁性金属粉末と結合剤とを含む一層以上の磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記磁性層の厚みが０．０５μ以上０．８μ以下で、磁性層に含まれる磁性体の主成分がＦｅであり、Ｆｅに対して、Ｃｏを１０原子％以上４０原子％以下、Ｙを１．５原子％以上１０原子％以下含むことを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１４】
本発明の好ましい態様は、以下の通りである。
（１）前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として、粒径０．０８μｍ以下の粒状非磁性金属酸化物であること。
（２）前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として、長軸長０．３μｍ以下でアスペクト比が２〜２０の針状非磁性金属酸化物であること。
【００１５】
（３）前記上層磁性層に含まれる磁性体のＨｃは１８００Oe以上、３５００Oe以下、かつσS が１２５emu/g 以上、１８０emu/g 以下の金属磁性粉末を用いること。その際、磁性体には実質的にＮｉを含まない事が好ましい。
（４）前記金属磁性体の長軸長が０．０４μｍ以上０．１３μｍ以下、結晶子サイズが１００Ａ以上２２０Ａ以下、針状比が３以上１０以下であること。
【００１６】
（５）前記上層磁性層に含まれる結合剤が磁性体に対して、８重量％以上２４重量％以下、好ましくは９重量％以上２２重量％以下、更に好ましくは１０重量％以上１５重量％以下であること。
（６）前記磁性層に含まれる非磁性粉末の含有量が２重量％以上１５重量％以下であること。
【００１７】
（７）上層磁性層分散液にはポリイソシアネートを含まず、下層非磁性層分散液にポリイソシアネートを含むこと。
（８）前記磁性層に含まれるモース硬度６以上の非磁性粉末を磁性体１００重量部に対して、２重量部以上１５重量部以下、好ましくは２．２重量部以上１０重量部以下、更に好ましくは２．５重量部以上７．５重量部以下含むこと。
【００１８】
（９）前記記磁性層に含まれるモース硬度６以上の最も多く含まれている非磁性粉末の平均粒子径が、０．０５μｍ以上０．４μｍ以下であること。
（１０）前記金属磁性体中に含まれるＣｏがＦｅに対し、好ましくは１０原子％以上４０原子％以下、更に好ましくは１５原子％以上３５原子％以下、より好ましくは２０原子％以上３５原子％以下であること。
【００１９】
（１１）前記金属磁性体中に含まれるＭｇ量が、０．１原子％以上５原子％以下であること。
【００２０】
【作用】
即ち、本発明は以下のような作用機構によって達成される。
従来用いられていた強磁性金属粉末に含まれるＣｏはせいぜい、５原子％が限度であったが、これでは、高性能ＭＥテープと良好なヘッド当たり互換性を取ることは出来なかった。我々は、高性能ＭＥテープがＣｏを主成分とする磁性層を有するので、それにならい、Ｆｅを主成分とはするが、Ｃｏを更に多く添加したＦｅ／Ｃｏ合金の磁性粉末を結合剤中に分散することで、同じくＣｏ主成分の高性能ＭＥテープとヘッドの馴染みがよくなると考えた。結果は実施例に示すが、ＭＥテープと同等程度の磁性層厚みである０．０５〜０．８μｍに設定すると、非常に良好なヘッド当たりを確保することができるようになった。また、従来、焼結防止剤にはＡｌを含む素材が用いられていたが、Ｃｏ添加量を増加させるためには焼結防止剤にＹを含む素材を採用して、それを所定量使用することで、Ｃｏ量を従来以上に多量に含有でき、かつ粒子サイズの揃ったＦｅ／Ｃｏ合金を得る事ができるようになった。ヘッド摩耗を低減するためには、以上のように、Ｃｏ及びＹを磁性体に添加することでヘッドとの馴染みがよくなり、かつ、ヘッドとの摺動もなめらかになったので、摩耗も減ったものと推定している。
【００２１】
次に下層塗布層の詳細な内容について説明する。
本発明の下層塗布層に用いられる無機粉末は、非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せて使用される。特に好ましいのは、入手の容易さ、コスト、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多い事等から、酸化チタン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、硫酸バリウム、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）であり、更に好ましいのは酸化チタン、α−酸化鉄である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ2 ／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ2 ／ｇ、更に好ましくは１０〜６５ｍ2 ／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μが更に好ましい。ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１００ml／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ml／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ml／１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。
【００２２】
強熱減量は２０重量％以下であることが好ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本発明に用いられる上記無機粉体のモース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。無機粉体のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μmol ／ｍ2 、更に好ましくは２〜１５μmol ／ｍ2 である。下層塗布層非磁性粉体の２５℃での水への湿潤熱は２００erg/cm2 〜６００erg/cm2 の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Ａが適当である。水中での等電点のｐＨは、３〜６の間にあることが好ましい。
【００２３】
これらの非磁性粉体の表面にはAl2O3 、SiO2、TiO2、ZrO2、SnO2、Sb2O3 、ZnO3、Y2O3で表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはAl2O3 、SiO2、TiO2、ZrO2であるが、更に好ましいのはAl2O3 、SiO2、ZrO2である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００２４】
本発明の下層塗布層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製HIT-100 、ZA-G1 、戸田工業社製αヘマタイト、DPN-250 、DPN-250BX 、DPN-245 、DPN-270BX 、石原産業製酸化チタンTTO-51B 、TTO-55A 、TTO-55B 、TTO-55C 、TTO-55S 、TTO-55D 、SN-100、αヘマタイトE270、E271、E300、チタン工業製STT-4D、STT-30D 、STT-30、STT-65C 、テイカ製MT-100S 、MT-100T 、MT-150W 、MT-500B 、MT-600B 、MT-100F 、MT-500HD、堺化学製FINEX-25、BF-1、BF-10 、BF-20 、ST-M、同和鉱業製DEFIC-Y 、DEFIC-R 、日本アエロジル製AS2BM 、TiO2P25 、宇部興産製100A、500A  、チタン工業製Y-LOP 及びそれを焼成したものが挙げられる。
【００２５】
特に好ましい非磁性粉体は、酸化チタンとα−酸化鉄である。α−酸化鉄（ヘマタイト）は以下のような諸条件の基で作製される。即ち、本発明におけるα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末は、通常の▲１▼第一鉄水溶液に等量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト粒子を生成させる方法、▲２▼第一鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ3 を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により紡錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法、▲３▼第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ2+に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法及び▲４▼第一鉄水溶液と等量未満の水酸化アルカリまたは炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法等により得られた針状ゲータイト粒子を前駆体粒子とする。
【００２６】
尚、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉末の特性向上等の為に通常添加されているＮｉ、Ｚｎ，Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障はない。
【００２７】
前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 を粒子を得る。
【００２８】
尚、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータイト粒子が表面にＰ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障はない。
【００２９】
３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子の極表面を溶融させて空孔ををふさいで平滑な表面形態とさせる事が好ましいからである。
【００３０】
本発明において用いられるα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末は、前記脱水または焼き鈍しをして得られた針状α−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ2 Ｏ3 の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・厚密処理等を施す事により得られる。用いられるＡｌ化合物は酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末に対してＡｌ換算で０．０１〜５０重量％である。０．０１重量％未満である場合には、結合剤樹脂中における分散が不十分であり、５０重量％を超える場合には粒子表面に浮遊するＡｌ化合物同士が相互作用するために好ましくない。本発明における下層の非磁性粉末においては、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとして、Ｐ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂから選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆することもできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化合物の添加量は、それぞれα−Ｆｅ2 Ｏ3 粒子粉末に対して０．０１〜５０重量％の範囲である。０．０１重量％未満である場合には添加による分散性向上の効果が殆どなく、５０重量％を超える場合には、粒子表面以外に浮遊する化合物同士が相互作用をする為に好ましくない。
【００３１】
酸化チタンの製法に関しては以下の通りである。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法はイルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ、Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核剤の種類により分けられる。この粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して、酸化チタンを作成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ4 に、ＦｅはＦｅＣｌ2 となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ4 と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ4 は精留により精製した後核生成剤を添加し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。
【００３２】
表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれる。まず、所定量のＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはハンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉体にＡｌＣｌ3 、ＳｉＣｌ4 の蒸気を通じその後水蒸気を流入してＡｌ、Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法については、G.D.Parfitt and K.S.W.Sing  ”Characterization of Powder Surfaces ”Academic Press,1976 を参考にすることができる。
【００３３】
下層塗布層にカ−ボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。下層塗布層のマイクロビッカース硬度は通常、２５〜６０kg/mm2 、好ましくはヘッド当たりを調整するために、３０〜５０kg/mm2 であり、ＮＥＣ製薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定する。光透過率は一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、例えばＶＨＳテープでは０．８％以下であることが規格化されている。このためにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。
【００３４】
カ−ボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ2 ／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ml／１００ｇである。カ−ボンブラックの粒子径は５μｍ〜８０μｍ、好ましくは１０〜５０μｍ、さらに好ましくは１０〜４０μｍである。カ−ボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ、３１５０Ｂ、３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コンロンビアカ−ボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。
【００３５】
本発明で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」（カ−ボンブラック協会編）を参考にすることができる。
また下層塗布層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン系樹脂粉末も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記されているようなものが使用できる。
【００３６】
下層塗布層は一般の磁気記録媒体において設けることが行われているが、これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるために設けられるものであって、厚さも０．５μｍ以下が一般的である。
【００３７】
下層塗布層のバインダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層のそれが適用できる。特に、バインダー量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００３８】
次に磁性層に関する詳細な説明をする。
本発明の上層磁性層に使用する強磁性粉末としては、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、金属磁性体の場合はＡｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂがα−Ｆｅ以外に含まれる元素として重要である。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【００３９】
上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末については少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００４０】
本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば４５〜８０ｍ2 ／ｇであり、好ましくは５０〜７０ｍ2 ／ｇである。４０ｍ2 ／ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ2 ／ｇ以上では表面性が得にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは３５０〜８０Ａであり、好ましくは２５０〜１００Ａ、更に好ましくは２００〜１４０Ａである。磁性金属粉末のσS は１２５〜１８０emu/g が好ましく、さらに好ましくは１１０emu/g 〜１７０emu/g 、更に好ましくは１２５〜１６０emu/g である。金属粉末の抗磁力は１，８００Oe以上３，５００Oe以下が好ましく、更に好ましくは１，８００Oe以上３０００Oe以下である。強磁性粉末の針状比は３以上１０以下が好ましく、更に好ましくは５以上１２以下である。強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。
【００４１】
強磁性粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。
【００４２】
また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。
また形状については先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。強磁性粉末のＳＦＤが０．６以下を達成するためには、強磁性粉末のＨｃの分布を小さくする必要がある。尚、ＳＦＤが０．６以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。強磁性粉末のＨｃの分布を小さくするためには、ゲ−タイトの粒度分布を良くする、γ−ヘマタイトの焼結を防止する方法がある。
【００４３】
本発明に使用される結合剤としては従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１，０００程度のものである。
【００４４】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ−トプレポリマ−との混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリイソシアネ−トとの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートとの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層塗布層、または上層磁性層に使用することも可能である。
【００４５】
これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものがあげられる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テルポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、（以上につきＭは水素原子またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ2 、−Ｎ+Ｒ3 （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイン、ホスホベタイン、カルボキシベタインなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8当量／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6当量／ｇである。
【００４６】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、ＦＢ−８４、ＦＢ−７９、大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、ＴＩＭ−３００３、ＴＩＭ−３００５、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。この中でＭＲ−１０４、ＭＲ１１０、ＭＰＲ−ＴＡ、ＵＲ−８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３００、ＴＩＭ−３００５が好ましい。
【００４７】
本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁性粉末に対し、５〜２５重量％の範囲、好ましくは８〜２２重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネ−トは２〜２０重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ましい。特に、上層にポリイソシアネートを含まず、下層にポリイソシアネートを含む構成が望ましい。
【００４８】
本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２，０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ2 、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ2 が好ましい。
【００４９】
本発明の磁気記録媒体は二層以上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層塗布層と上層磁性層、その他磁性層とで変えることはもちろん可能であり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、上下層、中間層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには上層磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にする為には、上層磁性層以外の磁性層か中間層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることにより達成される。
【００５０】
本発明に用いるポリイソシアネ−トとしては、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネ−トＨＬ、コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭＲ、ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製タケネ−トＤ−１０２、タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュ−ルＬ、デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ルＮデスモジュ−ルＨＬ、大日本インキ製バーノックＤ５０２などがあり、これらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層塗布層、上層磁性層とも用いることができる。
【００５１】
本発明に使用されるカ−ボンブラックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラックなどを用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ccが好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製＃２４００Ｂ、＃２３００、＃５、＃９００、＃９５０、＃９７０、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コンロンビアカ−ボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  １５０、５０、４０、１５などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。カ−ボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好ましい。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−ボンブラックは上層磁性層、下層塗布層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」（カ−ボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００５２】
本発明に用いられる研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素など、主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ＰＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ2 ／ｇが好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−６０、ＨｉＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−７０Ａ、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−８０Ｇ、ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製ＴＦ−１００、ＴＦ−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤は下層塗布層、上層磁性層で種類、量および組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ2 以上が好ましい。
【００５３】
本発明に使用される添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。
【００５４】
これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステアレ−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ルがあげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００５５】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は中間層、磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、中間層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。
【００５６】
また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【００５７】
本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製ＮＡＡ−１０２、ＮＡＡ−４１５、ＮＡＡ−３１２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１８０、ＮＡＡ−１７４、ＮＡＡ−１７５、ＮＡＡ−２２２、ＮＡＡ−３４、ＮＡＡ−３５、ＮＡＡ−１７１、ＮＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１７３Ｋ、ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、ＮＡＡ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡＢ、カチオンＢＢ、ナイミ−ンＬ−２０１、ナイミ−ンＬ−２０２、ナイミ−ンＳ−２０２、ノニオンＥ−２０８、ノニオンＰ−２０８、ノニオンＳ−２０７、ノニオンＫ−２０４、ノニオンＮＳ−２０２、ノニオンＮＳ−２１０、ノニオンＨＳ−２０６、ノニオンＬ−２、ノニオンＳ−２、ノニオンＳ−４、ノニオンＯ−２、ノニオンＬＰ−２０Ｒ、ノニオンＰＰ−４０Ｒ、ノニオンＳＰ−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５Ｒ、ノニオンＬＴ−２２１、ノニオンＳＴ−２２１、ノニオンＯＴ−２２１、モノグリＭＢ、ノニオンＤＳ−６０、アノンＢＦ、アノンＬＧ、ブチルステアレ−ト、ブチルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製オレイン酸、竹本油脂社製ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰＭ、サンソサイザ−Ｅ４０３０、信越化学社製ＴＡ−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０、ＫＦ４２０、ＫＦ９６５、ＫＦ５４、ＫＦ５０、ＫＦ５６、ＫＦ９０７、ＫＦ８５１、Ｘ−２２−８１９、Ｘ−２２−８２２、ＫＦ９０５、ＫＦ７００、ＫＦ３９３、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６５、Ｘ−２２−９８０、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３７１０、Ｘ−２２−３７１５、ＫＦ−９１０、ＫＦ−３９３５、ライオンア−マ−社製ア−マイドＰ、ア−マイドＣ、ア−モスリップＣＰ、ライオン油脂社製デュオミンＴＤＯ、日清製油社製ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製プロファン２０１２Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００、イオネットＭＯ−２００、イオネットＤＬ−２００、イオネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００、イオネットＤＯ−２００などが挙げられる。
【００５８】
本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と中間層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。中間層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層磁性層溶剤組成の算術平均値が下層塗布層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上２０以下の溶剤が５０重量％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメ−タは８〜１１であることが好ましい。
【００５９】
本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体が１〜１００μｍであるが、特に、１〜８μｍの薄い非磁性支持体を用いる場合に有効である。上層磁性層磁性層と下層塗布層を合わせた厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。また、非磁性支持体と下層塗布層の間に密着性向上のためのの接着層を設ける。接着層の厚みは０．０１〜２μｍ、このましくは０．０２〜０．５μｍである。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの接着層、バックコ−ト層は公知のものが使用できる。
【００６０】
本発明に用いられる非磁性支持体は、マイクロビッカース硬度が７５kg/mm2以上のものであり、二軸延伸を行ったポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフィルムが使用できる。特に、アラミド樹脂もしくはポリエチレンナフタレートを用いた非磁性支持体が好ましい。これらの非磁性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体の磁性層を塗布する面の中心線平均表面粗さが１０ｎｍ以下０．１ｎｍ以上、好ましくは６ｎｍ以下０．２ｎｍ以上、さらに好ましくは４ｎｍ以下０．５ｎｍ以上のものを使用する必要がある。また、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて非磁性支持体に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコントロ−ルされるものである。これらのフィラ−としては一例としてはＡｌ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久性との両立を図るためには、バックコート層を塗布する面の粗さは磁性層を塗布する面の粗さより粗い事が好ましい。バックコート層塗布面の中心線表面粗さは好ましくは１ｎｍ以上、更に好ましくは４ｎｍ以上である。磁性層塗布面とバックコート層塗布面との粗さを変える場合には、デュアル構成の支持体を用いても良いし、コーテイング層を設ける事によって変えても構わない。
【００６１】
本発明に用いられる非磁性支持体のテ−プ走行方向のＦ−５値は好ましくは１０〜５０ｋｇ／ｍｍ2 、テ−プ幅方向のＦ−５値は好ましくは１０〜３０Ｋｇ／ｍｍ2 であり、テ−プの長手方向のＦ−５値がテ−プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでない。また、非磁性支持体のテ−プ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2 、弾性率は１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ2 が好ましい。また、本発明での波長９００nmでの光透過率は３０％以下が好ましく、更に好ましくは３％以下である。
【００６２】
本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来公知の製造技術の一部の工程を用いることができることは勿論であるが、混練工程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど強い混練力をもつものを使用することにより初めて本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができた。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。また、下層塗布層非磁性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。
【００６３】
本発明のような重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案できる。
１．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層がウェット状態にのうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層磁性層を塗布する。
【００６４】
２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９７１号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。
３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する。
【００６５】
なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号に開示されている数値範囲を満足する必要がある。
【００６６】
本発明の磁気記録媒体を得るためには強力な配向を行う必要がある。１，０００Ｇ以上のソレノイドと２，０００Ｇ以上のコバルト磁石を同極対向で併用することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。高密度記録を行うためには、針状、板状に関わらず、磁化容易軸を垂直方向に傾けることが有効であることが知られており、これと組み合わせることも有効である。
【００６７】
また、非磁性層、磁性層を同時重層塗布する以前にポリマーを主成分とする接着層を設けることやコロナ放電、ＵＶ照射、ＥＢ照射することにより接着性を高める公知の手法を組み合わせることが好ましい。
【００６８】
さらに、カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金属ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好ましくは７０〜１２０℃、さらに好ましくは８０〜１００℃以上である。線圧力は好ましくは２００〜５００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ましくは３００〜４００Ｋｇ／ｃｍ以上である。
【００６９】
本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は、好ましくは０．１〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３である。表面固有抵抗は好ましくは１０4 〜１０12オーム／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ2 、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ2 、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、長さ方向とも好ましくは１００〜１，５００Ｋｇ／ｍｍ2 、残留伸びは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下で、０％が理想である。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層塗布層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０8 〜８×１０9dyne/cm2 の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障がでやすい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2 以下であり、上層磁性層に含まれる残留溶媒が下層塗布層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。磁性層が有する空隙率は非磁性下層塗布層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。
【００７０】
本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場１０ｋＯｅでＶＳＭで測定した場合、テ−プ走行方向のＨｃは２０００〜３０００Oe、更に好ましくは２１００〜２５００Oeである。角形比は０．７５以上であり、好ましくは０．８０以上であり、さらに好ましくは０．８５以上である。テ−プ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となることが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であることが好ましく、更に好ましくは０．５以下、理想的には０である。長手方向のレマネンス抗磁力Ｈｒも１８００Oe以上３０００Oe以下が好ましい。垂直方向のＨｃ及びＨｒは１０００Oe以上５０００Oe以下であることが好ましい。
【００７１】
磁性層の中心線表面粗さＲａは１ｎｍ〜１０ｎｍが好ましいが、その値は目的により適宜設定されるべきである。電磁変換特性を良好にする為にはＲａは小さいほど好ましいが、走行耐久性を良好にするためには逆に大きいほど好ましい。ＡＦＭによる評価で求めたＲＭＳ表面粗さＲRMS は２ｎｍ〜１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００７２】
本発明の磁気記録媒体は下層塗布層と上層磁性層を有するが、目的に応じ下層塗布層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層塗布層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。また、支持体のテンシライズ方法を変更して、ヘッド当たりを改良することが本発明においても有効であり、テ−プ長手方向に対し、直角な方向にテンシライズした支持体の方がヘッド当たりが良好になる場合が多い。
【００７３】
【実施例】
次に本発明の実施例、比較例により具体的に本発明を説明する。実施例中、「部」との表示は「重量部」を表す。
【００７４】
0003669520.tif 000002
0003669520.tif 000003
【００７５】
上記の塗料のそれぞれについて、各成分をオープンニ−ダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた下層分散液にポリイソシアネ−ト（日本ポリウレタン（株）製コロネートＬ）を下層塗布層の塗布液には５部加え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層塗布層、磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。
【００７６】
得られた下層塗布層塗布液を、乾燥後の厚さが１．０μｍになるようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．１２μｍになるように、厚さ５．５μｍで磁性層塗布面の中心線表面粗さが０．００２μｍのポリエチレンナフタレート支持体上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００Ｇの磁力をもつコバルト磁石と３０００Ｇの磁力をもつソレノイドにより配向させ乾燥後、金属ロ−ルのみから構成される７段のカレンダで温度９０℃にて分速２００m/min.で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層を塗布した。６．３５mmの幅にスリットし、ＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
【００７７】
実施例２：
金属磁性層を下記に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
0003669520.tif 000004
【００７８】
実施例３；
金属磁性層を下記に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
0003669520.tif 000005
【００７９】
比較例１：
金属磁性層を下記に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
0003669520.tif 000006
【００８０】
比較例２：
金属磁性層を下記に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
0003669520.tif 000007
【００８１】
比較例３：
磁性層の厚さを０．１２μｍから０．０４μｍに変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
【００８２】
実施例４：
磁性層の厚さを０．１２μｍから０．８μｍに変更するとともに、更に下層非磁性層およびベース厚さを変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
【００８３】
比較例４：
磁性層の厚さを０．１２μｍから１．０μｍに変更するとともに、更に下層非磁性層およびベース厚さを変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
【００８４】
実施例５：
金属磁性層を下記に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
0003669520.tif 000008
【００８５】
比較例５：
磁性体のＹ含有量を７原子％から１２原子％に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。尚、磁性体の物性は以下の通りである。
0003669520.tif 000009
【００８６】
実施例６：
磁性体のＹ含有量を７原子％から２原子％に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。尚、磁性体の物性は以下の通りである。
0003669520.tif 000010
【００８７】
比較例６：
磁性体のＹ含有量を７原子％から１原子％に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。尚、磁性体の物性は以下の通りである。
0003669520.tif 000011
【００８８】
比較例７：
磁性層の厚さを０．１２μｍから１．３μｍに変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
【００８９】
実施例８：
金属磁性層を下記に変更した以外は、実施例１と同様にしてＤＶＣ用デジタルビデオテ−プを製造した。
0003669520.tif 000012
【００９１】
以上の作製テープを、下記の如く評価した。
＜磁性層の厚み測定方法＞
磁気記録媒体の長手方向に渡ってダイアモンドカッターで約０．１μｍの厚みに切り出し、透過型電子顕微鏡で倍率３万倍で観察し、その写真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ４版である。その後、磁性層、非磁性層の強磁性粉末や非磁性粉末の形状差に着目して界面を目視判断して黒く縁どり、かつ磁性層表面も同様に黒く縁どった。その後、Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて縁とりした線の間隔を測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの範囲に渡り測定点を点取って測定した。その際の測定値の単純加算平均値を磁性層の厚みとした。
【００９２】
＜ＢＥＴ法による比表面積＞
カンターソープ（ＵＳカンタークロム社製）を用いた。２５０℃，３０分間窒素雰囲気で脱水後ＢＥＴ一点法（分圧０．３０）で測定した。
【００９３】
＜磁気特性Ｈｃ，Ｂｒ、角型比＞
振動試料型磁束計（東英工業製）を用い、Ｈｍ１０ｋOeで測定した。Ｂｍは上記磁性層厚み測定方法により求めた。
【００９４】
＜中心線平均表面粗さ＞
ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いて、媒体表面をＭＩＲＡＵ法で約２５０ｎｍ×２５０ｎｍの面積のＲａを測定した。測定波長は約６５０ｎｍで球面補正、円筒補正を加えている。本方式は光干渉にて測定する非接触の表面粗さ計である。
【００９５】
＜強磁性粉末、非磁性粉体の粒子径＞
透過型電子顕微鏡写真を撮影し、その写真から強磁性粉末の短軸径と長軸径とを直接読みとる方法と画像解析装置カールツァイス社製ＩＢＡＳＳ１で透過型顕微鏡写真をトレースして読みとる方法とを適宜併用して平均粒子径を求めた。
【００９６】
＜強磁性粉末結晶子サイズ＞
Ｘ線回折によりγ酸化鉄強磁性粉末では（４，４，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値幅の広がり分から求めた。金属強磁性粉末の場合は同様に（１，１，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値幅の広がり分から求められる。
【００９７】
＜メタル磁性体の組成分析方法＞
０．１ｇのメタル磁性体に４Ｎの塩酸を加え、２５ｍｌとして溶解した後、１Ｎに希釈し、標準液と濃度が合うように、１Ｎの塩酸溶液で希釈し、濃度調整を行い、検液とする。この検液をセイコー電子工業製のＩＣＰ発光分析装置（ＳＰＳ１２００Ａ）にて測定し、各元素の含有量を求め、Ｆｅに対する割合を原子％で表す。なお、標準液は市販の原子吸光分析用試薬（金属標準液）を用いた。
【００９８】
＜電磁変換特性＞
「１／２Ｔｂの出力」
一つのチャンネルビット間の間隔をＴｂと呼ぶことにする。
レファレンスはＨＤ協議会で設定した高性能ＭＥ：ＭＴＲ−１２２１（松下電器産業製）で、外当て式ドラムテスタを用いて、相対速度１０．２ｍ／ｓｅｃで２１ＭＨｚの信号を入力し、その再生出力を測定した。用いたヘッドはＦｅ系ＭＩＧヘッドでＢｓが１．５Ｔである。ＤＶＣにおける１／２Ｔｂ信号の記録波長は０．４９μに相当する。１／２Ｔｂの出力は高いほど好ましい。ＭＴＲ−１２２１に対して、−１ｄＢ以上であるとＤＶＣ用ビデオテ−プとして用いることができる。
【００９９】
「１／２ＴｂのＣＮＲ」
上記外当て式ドラムテスターに信号を上記の要領で記録し、１／２Ｔｂ出力、１／２．２５Ｔｂでの総ノイズ、１／１．１８での総ノイズ、１／２Ｔｂでのアンプノイズを測定する。解像度帯域は３０ｋＨｚである。
１／２Ｔｂ周波数でのテ−プノイズを以下の様に定義する。
【０１００】
Ｎtape＝（Ｎtot2 −Ｎamp2 ）1 /2
Ｎtot ＝（Ｎtot1 ＋Ｎtot2 ）／２
Ｎtot1 ：１／２．２５Ｔｂ周波数での総ノイズ
Ｎtot2 ：１／１．８Ｔｂ周波数での総ノイズ
Ｎamp ：１／２Ｔｂでのアンプノイズ
上記、１／２Ｔｂノイズと１／２Ｔｂ出力との相対比をｄＢ表示して１／２ＴｂのＣＮＲと定義する。サブレファレンステ−プＭＴＲ−１２２１に対するｄＢ差を１／２ＴｂのＣＮＲと呼ぶ。１／２ＴｂのＣＮＲが−２ｄＢ以上であるとＤＶＣ用テ−プとして使用することができる。
【０１０１】
「エンベロープ平坦度」
高性能ＭＥテープを１時間走行させ、その後試験テ−プにモノスコ信号を記録し、それを再生してエンベロープを測定する。最も出力が低い部分と高い部分との比を％で表示する。９０％以上であることが好ましい。ヘッド当たり互換性の尺度として用いる。
【０１０２】
「ヘッド摩耗」
ＤＶＣを想定した実験機を準備し、２５℃５０％ＲＨの環境で１００時間走行させて走行前後のヘッドハイト量の差を測定した。用いたヘッドはＴＳＳでギャップ長は０．２μである。
【０１０３】
以上の評価結果を表１に示す。
【０１０４】
【表１】
0003669520.tif 000013
【０１０５】
【表２】
0003669520.tif 000014
【０１０６】
表１から明らかなように、本発明の範囲内にある試料は再生出力、ＣＮＲ、エンベロープ平坦度に優れ、またヘッド摩耗が少ないことが確認された。
【０１０７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、磁気特性に優れることは勿論のこと、ＭＥテープとのヘッド当たり互換性が良好で、出力低下や目詰まりがなく、かつヘッド摩耗が少ない磁気記録媒体が提供される。