(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にレーザーによる情報の書き込みおよび/または読みとりが可能な記録層が設けられた光学記録媒体において、該記録層が下記の一般式（II）で示されるピラゾールアゾ骨格を有する色素を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録媒体。
【化１】
0003633279.tif 000014
（式中、Ｘはヒドロキシ基もしくはアミノ基を表し、
Ｙは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、フルオロアルキルチオ基、アリールオキシ基、置換もしくは非置換のアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基を表し、
Ｒは、
水素原子；
炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基；
置換された炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基（置換基としては、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、フリル基、テトラヒドロフリル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アシルオキシ基を用いる。）；
アルケニル基；
シクロアルキル基；
非置換のフェニル基；
置換されたフェニル基（置換基としては、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルコキシ基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキルチオ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルキル基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルコキシ基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルキルチオ基を用いる。）；
を表し、
環Ａは、アルキル基、フルオロアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボン酸エステル基で置換されたベンゼン環か非置換ベンゼン環を表す。）
【請求項２】
書き込み及び読み取りのレーザー波長がともに３５０ｎｍ〜５３０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、青色レーザー光に対応し得る光学記録媒体に関する。詳しくは、ピラゾールアゾ化合物を記録層として用いた光学記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
レーザーを用いる光学記録は、高密度の情報記録保存及びその再生を可能とするため、近年、特に開発が取り進められている。
光学記録媒体の一例としては光ディスクを挙げることができる。
一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記録層に、１μｍ程度に収束したレーザー光を照射し、高密度の情報記録を行うものである。その光ディスクの中でも最近注目を集めているものに書き込み型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）がある。ＣＤ−Ｒは通常、案内溝を有するプラスチック基板上に色素を主成分とする記録層、金属反射膜、保護膜を順次積層することにより構成される。情報の記録は、照射されたレーザー光エネルギーの吸収によって、その箇所の記録層、反射層または基板に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生成することにより行われる。また、記録された情報の再生は、レーザー光により変形が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより行われる。したがって、光学記録媒体としてはレーザー光のエネルギーを効率よく吸収する必要があり、レーザー光吸収色素が用いられる。
【０００３】
このような有機色素を利用した光記録媒体は、有機色素溶液の塗布による簡単な方法で記録層を形成し得るため安価な光記録媒体としてますます普及することが期待され、その結果一層の高密度化が要望されている。このため、記録に用いるレーザー光を従来の７８０ｎｍを中心とした半導体レーザーから青色光領域にまで短波長化することが検討されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
光学記録媒体の記録層に適した色素としては、使用されるレーザー光に対応する波長領域に吸収を有すること以外に、レーザー光に対し感度が良いこと、吸収曲線がシャープであること或いは熱分解挙動が良好であることなどの特性が必要である。
本発明は、青色レーザー光に対応する光学記録媒体を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らはこの目的を達成するべく鋭意検討した結果、記録層にピラゾールアゾ化合物を使用した光学記録媒体が青色レーザーで良好に記録できることを見い出した。
すなわち本発明は基板と記録層からなり、該記録層が下記一般式（II）で示されるピラゾールアゾ骨格を有する色素を含有することを特徴とする光学記録媒体をその要旨とする。
【０００６】
【化２】
0003633279.tif 000002
（式中、Ｘはヒドロキシ基もしくはアミノ基を表し、
Ｙは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、フルオロアルキルチオ基、アリールオキシ基、置換もしくは非置換のアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のカルバモイル基を表し、
Ｒは、
水素原子；
炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基；
置換された炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基（置換基としては、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、フリル基、テトラヒドロフリル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アシルオキシ基を用いる。）；
アルケニル基；
シクロアルキル基；
非置換のフェニル基；
置換されたフェニル基（置換基としては、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルコキシ基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキルチオ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルキル基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルコキシ基、炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルキルチオ基を用いる。）；
を表し、
環Ａは、アルキル基、フルオロアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボン酸エステル基で置換されたベンゼン環か非置換ベンゼン環を表す。）
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下本発明につき詳細に説明する。
本発明で使用されるピラゾールアゾ化合物は３５０〜５３０ｎｍの青色光領域に吸収を有し、青色レーザーでの記録に適する色素が好ましい。かかる色素としては、下記一般式（ＩＩ）で示される色素が挙げられる。
【０００９】
【化４】
0003633279.tif 000003
【００１１】
一般式（II）において、Ｘはヒドロキシ基又はアミノ基を示すが、好ましくはヒドロキシ基である。
Ｙとしては水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ドデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキルチオ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチル基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロポキシ基、ヘプタフルオロイソプロポキシ基、パーフルオロ−ｎ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｎ−ペンチルオキシ基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のフルオロアルコキシ基；トリフルオロメチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピルチオ基、ヘプタフルオロイソプロピルチオ基、パーフルオロ−ｎ−ブチルチオ基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブチルチオ基、パーフルオロ−ｎ−ペンチルチオ基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシルチオ基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のフルオロアルキルチオ基；ニトロ基等を有するフェノキシ基等のアリールオキシ基；アミノ基；炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を１個又は２個置換した置換アミノ基；炭素数１〜４のアルキル基を有するアルキルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基；炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基；カルバモイル基；炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を有するモノアルキルアミノカルボニル基もしくはジアルキルアミノカルボニル基等の置換カルバモイル基等が挙げられる。
【００１２】
Ｙとして好ましくは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、アルキル部分の炭素数が１〜４のアルコキシ基、アルキルチオ基、フルオロアルキル基、フルオロアルキルチオ基、フルオロアルコキシ基、モノ又はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、モノ又はジ置換カルバモイル基などが挙げられる。特に好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、かかるアルキル基を有するアルコキシカルボニル基、モノアルキルカルバモイル基等が挙げられる。
【００１３】
また、Ｒとしては水素原子；前述の如き炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基；置換基としてアルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、フリル基、テトラヒドロフリル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アシルオキシ基等を有する炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基；アルケニル基；シクロアルキル基；置換もしくは非置換のフェニル基等のアリール基が挙げられる。
【００１４】
置換アルキル基の具体例としては、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−ｎ−プロポキシエチル基、２−ｉｓｏ−プロポキシエチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−ｉｓｏ−ブトキシエチル基、２−ｓｅｃ−ブトキシエチル基、２−ｎ−ペンチルオキシエチル基、２−ｎ−ヘキシルオキシエチル基、２−ｎ−オクチルオキシエチル基、２−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル基、１−メチル−２−メトキシエチル基、１−メチル−２−エトキシエチル基、１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル基、１−メチル−２−ｉｓｏ−プロポキシエチル基、１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル基、１−メチル−２−ｉｓｏ−ブトキシエチル基、１−メチル−２−ｎ−ヘキシルオキシエチル基、１−メチル−２−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル基、２−メトキシプロピル基、３−メトキシプロピル基、３−メトキシブチル基、４−メトキシブチル基、３−エトキシブチル基、１−エチル−２−メトキシエチル基、１−エチル−２−エトキシエチル基等のアルコキシ置換アルキル基；２−アミノエチル基等のアミノ置換アルキル基；２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ）エチル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基等のアルキルアミノ置換アルキル基；２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、２−（２−エトキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｉｓｏ−プロポキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｉｓｏ−ブトキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｎ−ヘキシルオキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｎ−オクチルオキシエトキシ）エチル基、１−メチル−２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、１−メチル−２−（２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル基、３−（２−メトキシエトキシ）ブチル基、２−｛（２−（２−エチルヘキシルオキシ）エトキシ｝エチル基等のアルコキシアルコキシ置換アルキル基；２−フェノキシエチル基、１−メチル−２−フェノキシエチル基、１−エチル−２−フェノキシエチル基等のアリールオキシ置換アルキル基；２−アリルオキシエチル基、１−メチル−２−アリルオキシエチル基、１−エチル−２−アリルオキシエチル基等のアルケニルオキシ置換アルキル基；２−ベンジルオキシエチル基、１−メチルベンジルオキシエチル基、１−エチル−２−ベンジルオキシエチル基、２−β−フェネチルオキシエチル基等のアラルキルオキシ置換アルキル基；ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、２−フェネチル基等のアリール置換アルキル基；シアノメチル基、２−シアノエチル基等のシアノ置換アルキル基；２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、１−メチル−２−ヒドロキシエチル基、１−エチル−２−ヒドロキシエチル基等のヒドロキシ置換アルキル基；２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３−クロロプロピル基、２−クロロプロピル基、２，２，２−トリフルオロエチル基等のハロゲン原子置換アルキル基；フルフリル基等のフリル基置換アルキル基；テトラヒドロフルフリル基等のテトラヒドロフリル���換アルキル基；メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニルメチル基、ｎ−ブトキシカルボニルメチル基、ｉｓｏ−ブトキシカルボニルメチル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニルメチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、フルフリルオキシカルボニルメチル基、テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルメチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、２−ｎ−プロポキシカルボニルエチル基、２−ｉｓｏ−プロポキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル基、２−ｉｓｏ−ブトキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、１−メチル−２−メトキシカルボニルエチル基、１−メチル−２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル基、２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基、２−ベンジルオキシカルボニルエチル基、２−フルフリルオキシカルボニルエチル基等の置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル置換アルキル基；２−アリルオキシカルボニルエチル基、１−メチル−２−アリルオキシカルボニルエチル基等のアルケニルオキシカルボニル置換アルキル基；２−アセチルオキシエチル基、２−プロピオニルオキシエチル基、２−ｎ−ブチリルオキシエチル基、２−ｉｓｏ−ブチリルオキシエチル基、２−トリフルオロアセチルオキシエチル基、３−アセチルオキシ−ｎ−プロピル基、４−アセチルオキシ−ｎ−ブチル基、１−メチル−２−アセチルオキシエチル基、２−ベンゾイルオキシエチル基等のアシルオキシ置換アルキル基等の置換アルキル基が挙げられる。
【００１５】
Ｒがアルケニル基の場合は、例えばアリル基、ビニル基等が挙げられる。
Ｒがシクロアルキル基の場合は、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒがフェニル基の場合には、その置換基としては例えば炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基；炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルコキシ基；炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキルチオ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルコキシカルボニル基；炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルキル基；炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルコキシ基；炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルキルチオ基等が挙げられる。
【００１６】
Ｒとして好ましくは、水素原子；置換基としてヒドロキシ基、ハロゲン原子を有していても良いアルキル基；置換又は非置換のフェニル基；シクロアルキル基、アルケニル基等が挙げられ、特に好ましくはフェニル基である。
また、環Ａで表されるベンゼン環はアゾ基以外に置換基を有していても良く、その場合にはアルキル基、フルオロアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボン酸エステル基で置換されたベンゼン環である。その置換基は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチル基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のフルオロアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；ニトロ基；−ＣＯＯＲ6で表されるカルボン酸エステル基；等が挙げられる。それら
の置換位置は特に限定されず、置換基の数も１〜５個の範囲で可能である。
【００１７】
ここでＲ6は水素原子、置換もしくは非置換の直鎖または分岐のアルキル基、シクロア
ルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のフェニル基を表す。
本発明に使用されるピラゾールアゾ化合物のさらに具体的なものとしては、例えば表−１に示されるものが挙げられる。
【００１８】
【表１】
0003633279.tif 000004
【００１９】
【表２】
0003633279.tif 000005
【００２０】
【表３】
0003633279.tif 000006
【００２１】
【表４】
0003633279.tif 000007
【００２２】
【表５】
0003633279.tif 000008
【００２３】
【表６】
0003633279.tif 000009
【００２４】
【表７】
0003633279.tif 000010
【００２５】
【表８】
0003633279.tif 000011
【００２６】
これらのピラゾールアゾ化合物は１種類用いてもよいし、数種類混合して使用しても構わない。また、ピラゾールアゾ化合物の製法は、公知の方法に従って製造することができる。
【００２７】
本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と前記ピラゾールアゾ化合物を含む記録層とから構成されるものであるが、さらに必要に応じて基板上に下引き層を設けることができる。
前記基板としては、使用するレーザー光に対して透明なものが好ましく、ガラスや種々のプラスチックが用いられる。プラスチックとしては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられるが、高生産性、コスト、耐吸湿性の点からポリカーボネート樹脂が好ましく、特に射出成型ポリカーボネート樹脂基板が好ましい。
【００２８】
本発明の光学記録媒体におけるピラゾールアゾ化合物を含有する記録層の膜厚は１００Å〜５μｍ、好ましくは７００Å〜３μｍである。
記録層は、ピラゾールアゾ骨格を有する色素を、必要に応じバインダーと共に、適当な溶媒に溶解し、又は溶解することなく、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法で成膜することにより形成できるが、量産性、コスト面からスピナー法による成膜が好ましい。
【００２９】
また、バインダーを使用する場合は、バインダーとしてはポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ケトン樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート等既知のものが用いられる。この場合、本発明のピラゾールアゾ骨格を有する色素は、樹脂中に１０重量％以上含有されていることが好ましい。
スピナー法による成膜の場合、回転数は５００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、場合によっては、加熱あるいは溶媒蒸気に接触させる等の処理を行ってもよい。
【００３０】
また、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（たとえば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していてもよい。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００３１】
さらに、必要に応じて他系統の色素を併用することもできる。他系統の色素としては、主として記録用のレーザー波長域に吸収を有し、照射されたレーザー光エネルギーの吸収によって、その箇所の記録層、反射層または基板に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を伴いピットが形成されるならば特に制限されない。また、ＣＤ−Ｒのような７７０〜８３０ｎｍから選ばれた波長の近赤外レーザーやＤＶＤ−Ｒのような６２０〜６９０ｎｍから選ばれた赤色レーザーでの記録に適する色素を併用して、複数の波長域のレーザーでの記録に対応する光記録媒体とすることもできる。他系統の色素としては含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
【００３２】
ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法、特にスピナー法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒なら特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステル系溶媒等が挙げられる。
【００３３】
また、記録層上に金、銀、アルミニウムまたはそれらの合金の様な金属反射層および保護層を設けて高反射率の媒体としてもよい。その時の反射層としては金、銀、アルミニウム等が挙げられるが、金やアルミニウムでは、本発明で使用する５３０ｎｍ以下の波長のレーザー光では反射率が十分ではなく、銀であることが好ましい。
金属反射層は、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法によって成膜される。なお、金属反射層と記録層の間に層間の密着力を向上させるため、または、反射率を高める等の目的で中間層を設けてもよい。
保護層としては、例えば、ＵＶ硬化樹脂組成物などが挙げられる。
また、接着層を介して貼りあわせ両面記録型光記録媒体としてもよいし、記録層を基板の両面に設けてもよいし、片面に設けてもよい。
【００３４】
本発明の光学記録媒体について使用されるレーザー光は、高密度記録のため波長は短いほど好ましいが、特に３５０ｎｍ〜５３０ｎｍのレーザー光が好ましい。かかるレーザー光の代表例としては、中心波長４１０ｎｍ、５１５ｎｍのレーザー光が挙げられる。
波長３５０ｎｍ〜５３０ｎｍの範囲のレーザー光の一例は、４１０ｎｍの青色または５１５ｎｍの青緑色の高出力半導体レーザーを使用することにより得ることが出来るが、その他、例えば、（ａ）基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な半導体レーザー、又は（ｂ）半導体レーザーによって励起されかつ基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な固体レーザーのいずれかを第二高調波発生素子（ＳＨＧ）により波長変換することによっても得ることが出来る。
【００３５】
上記のＳＨＧとしては、反転対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ、ＡＤＰ、ＢＮＮ、ＫＮ、ＬＢＯ、化合物半導体などが好ましい。第二高調波の具体例としては、基本発振波長が８６０ｎｍの半導体レーザーの場合は、その倍波の４３０ｎｍ、また半導体レーザー励起の固体レーザーの場合は、ＣｒドープしたＬｉＳｒＡｌＦ６  結晶（基本発振波長８６０ｎｍ）からの倍波の４３０ｎｍなどが挙げられる。
【００３６】
上記のようにして得られた光学記録媒体への記録は、基板の両面または片面に設けた記録層に０．４〜０．６μｍ程度に集束したレーザー光を照射することにより行う。レーザー光の照射された部分には、レーザー光エネルギーの吸収による、分解、発熱、溶融等の記録層の熱的変形が起こる。
記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより行う。
【００３７】
【実施例】
以下、実施例によりこの発明を具体的に説明するが、かかる実施例はその要旨を越えない限り、本発明を限定するものではない。
【００３８】
参考例１
（ａ）記録媒体の製造
下記構造式（III)で示されるピラゾールアゾ化合物（クロロホルム中でのλmax ＝３９７ｎｍ、モル吸光係数は３．２３×１０4）のオクタフルオロペンタノール１重量％溶液を調製し、ろ過して、溶解液を得た。この溶液を直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法により塗布した。塗布後、１００℃で３０分間乾燥した。次に、この塗布膜の上にスパッタリング法により、膜厚１０００Åの銀膜を成膜し、反射層を形成した。さらにこの反射層の上に紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、これに紫外線を照射して硬化させ、厚み５μｍの保護層を形成した。
塗布膜の最大吸収波長は３９７ｎｍであった。塗布膜の可視部吸収スペクトルを図１に示す。得られた光記録媒体の４８８ｎｍにおける反射率は６８％であった。
【００３９】
【化５】
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【００４０】
（ｂ）光記録法
上記光記録媒体に、中心波長４８８ｎｍのＡｒレーザー光を照射したところ、良好な記録ピットを形成することが出来た。
【００４１】
実施例１−４
参考例１において用いた化合物の代わりに表−２に示した色素を用いて参考例１と同様に基板上に塗布して、光学記録媒体を製造した。使用した色素の最大吸収波長、分子吸光係数（ε）および基板上の塗布膜の最大吸収波長を表−２に示した。
また、得られた光学記録媒体は、中心波長４８８ｎｍのＡｒレーザー光を照射したところ、良好な記録ピットを形成することが出来た。
【００４２】
【表９】
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【００４３】
【発明の効果】
本発明のピラゾールアゾ化合物を用いた光学記録媒体により、青色レーザー光に対応し得る、安価な高密度の記録媒体が提供され、工業的に極めて有用なものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】参考例１で使用したピラゾールアゾ化合物のポリカーボネート基板上の塗布膜の吸収スペクトルを表す図。
【図１】
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