(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン及びメタノールからなることを特徴とする弗素化炭化水素系共沸組成物。
【請求項２】
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン８１．７重量％及びメタノール１８．３重量％からなることを特徴とする請求項１記載の弗素化炭化水素系共沸組成物。
【請求項３】
請求項１の組成物からなることを特徴とする洗浄用溶剤。
【請求項４】
請求項１の組成物からなることを特徴とする水切り乾燥用溶剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はフッ素化炭化水素系共沸組成物および共沸様組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、トリフルオロトリクロロエタンのような塩素を含むフロン系炭化水素や１，１，１−トリクロロエタンのような塩素系炭化水素などはプラスチック、ゴム製品、電子部品などの洗浄用溶剤として広く用いられている。
しかし、かかる塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素は塩素原子を有するためオゾン層を破壊するという重大な欠点が指摘され、世界的規模でその生産と使用を停止することが決められている。
このような状況下、従来の塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素に代わり、オゾン層を破壊しない代替品の開発が活発に行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素の洗浄性や低毒性などの優れた性質を損なうことなく、オゾン層破壊の心配がない新規な組成物を提供することを目的としている。
【０００４】
本発明は前記の課題を解決するものとして、１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン及びメタノールからなることを特徴とする
弗素化炭化水素系共沸組成物を提供する。
【０００５】
本発明の組成物は１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン及びメタノールからなり、好ましくは１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン８１．７重量％及びメタノール１８．３重量％からなる共沸組成物である。このように本発明の組成物は共沸組成が存在するため、リサイクル使用しても組成の変動がない。また本発明の共沸組成物の沸点は常圧で６３．５℃である。該沸点は代表的洗浄剤でオゾン層を破壊するため生産等が中止されるトリフルオロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエタンの沸点の中間に位置することから、これらの代替品として使用できる特色がある。
【０００６】
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンは既知の物質であり、例えば、オクタフルオロシクロペンテンをパラジウム系触媒の存在下に水素化することにより容易に得ることができる。
【０００７】
本発明の組成物は必要に応じて安定化剤や希釈剤などを添加することができる。安定化剤としては、例えば、ニトロメタン、ニトロエタンなどの脂肪族ニトロ化合物；３−メチル−１−ペンチン−３−オールなどのアセチレンアルコール類；グリシドール、メチルグリシジルエーテル、アクリルグリシジルエーテルなどのエポキシド類；ジメトキシメタン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類；ヘキセン、ヘプテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどの不飽和炭化水素類；アリルアルコール、１−ブテン−３−オールなどの不飽和アルコール；アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル類；ジエチルアミン、トリエチルアミン、ブチルアミンなどのアミン類；フェノール類などが挙げられる。
希釈剤としては、例えばシクロペンタン、シクロヘキサン、ヘプタン、ヘキサンなどの飽和炭化水素類が挙げられる。
【０００８】
本発明の組成物は塩素原子を含まないためオゾン層破壊の心配がない。
かかる本発明の組成物は、従来の塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素などと同程度の洗浄作用を有するため、プラスチック、ゴム製品、電子部品などのフラックスや油脂の洗浄に用いることが利用できる。洗浄方法は浸漬法、スプレー法、蒸気洗浄法、あるいはこれらの組合せなどの従来から用いられている方法が採用される。この場合、加熱、超音波照射などを行うこともできる。
【０００９】
また、本発明の組成物は優れた水切り乾燥作用も有するので、水切り乾燥用溶剤として用いることができる。水切り乾燥方法も特に限定されず、例えば、浸漬法、蒸気乾燥法、スプレー法など、あるいはこれらの組合せなどの従来から用いられている方法が採用される。
【００１０】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び％は特に断りのないかぎり重量基準である。
【００１１】
参考例１
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンの合成
１リットルのステンレス製反応器にオクタフルオロシクロペンテン６００グラムと５％パラジウムカーボン触媒１２グラムを仕込み、５０℃で水素圧６Ｋｇ／ｃｍ2下にて水素化を行った。
水素の吸収がなくなったところで反応を終了し、反応混合物から触媒及び副生する弗化水素を除去し、単蒸留を行ったところ、５９０グラムの反応生成物を得た。
次に、反応生成物を理論段数５５段の蒸留塔を用い、常圧にて蒸留を行ったところ、純度９９％の１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン（沸点７９℃）４５０グラムを得た。
【００１２】
実施例１
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２０グラム及びメタノール９６グラムを混合し、理論段数５５段の蒸留塔を用い、常圧にて蒸留を行ったところ、沸点６３．５℃の共沸留分４１５グラムを得た。このものの組成をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン８１．７重量％、メタノール１８．３重量％であった。
【００１３】
実施例２
実施例１の組成物（１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン８１．７重量％及びメタノール１８．３重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行った。
ポリイミド樹脂製のプリント基板（３０ｍｍ×３０ｍｍ×０．２ｍｍ厚）全面にフラックス（千住金属社製ＰＯ−Ｆ−１０１０Ｓ）を塗布し、約２５０℃で２分間焼付けを行った。これを試験片として実施例１の組成物１００ミリリットル中に３分間浸漬した。フラックスの除去度合を肉眼で観察したところ、完全に除去されていた。
【００１４】
実施例３
ポリイミド樹脂製のプリント基板に代えて、ガラスエポキシ樹脂のプリント基板（５０ｍｍ×２５ｍｍ×１．８ｍｍ厚）を用いること以外は実施例２と同様に試験を行ったところ、フラックスは完全に除去されていた。
【００１５】
実施例４
実施例１の組成物（１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン８１．７重量％及びメタノール１８．３重量％）を用いて水切り乾燥試験を行った。
カバーガラス（１５ｍｍ×１５ｍｍ）を予めよく脱脂洗浄し、これを試験片として純水に浸漬し、次いで実施例１の組成物１００ミリリットル中に３０秒間浸漬した。試験片を引き上げ、常温にて１分間放置し、残存した組成物を蒸発させた。
次に、１０グラムのエタノール（水分５７０ｐｐｍ）に入れ、エタノールの水分増加量をカールフィッシャー水分計により測定したところ２５ｐｐｍであった。
常温下に放置したカバーガラスを用いてブランクの水分増加量を測定したところ５０ｐｐｍであった。
また、純水に浸漬したのみで、実施例１の組成物に浸漬しないものの水分増加量は３２００ｐｐｍであった。
以上より、実施例１の組成物を用いてほぼ完全に水切り乾燥が行えることがわかった。