(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、該基体上に設けられた磁気記録層とを備え、前記磁気記録層は保磁力が異なる磁性材料を含む複数の層が積層されて構成され、該複数の層に含有される各磁性材料は、前記磁気記録層の最初の書込みを非磁化状態からの磁化によって行ったときの各層の出力比が１：０．７〜０．７：１の範囲内となり、かつ、ほぼ同一の初期磁化曲線を有し、最終的にほぼ同一の外部磁場でほぼ同一の飽和磁化に達するものであり、また、磁化状態からの磁化によって高保磁力の磁気記録層の書き換えをすると高保磁力の磁気記録層の飽和書込電流値が大きいため低保磁力の磁気記録層にその出力飽和値以上の書込電流が与えられることになって低保磁力の磁気記録層の出力低下が生じて書込不十分となる程度に、前記複数の層に含有される各磁性材料の保磁力が異なっていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記磁気記録層上の少なくとも一部に回折格子および／またはホログラムを備えることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、保磁力の異なる２種以上の磁性材料を含む磁性層を備えた偽造、変造の困難な磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基体の片面あるいは両面の全域またはストライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレジットカード、会員カード等のカード類、磁気テープ、磁気転写テープ、磁気ラベル等して幅広く使用されている。従来、このような磁気記録媒体は、磁気記録層に高い記録密度で情報を書込み、外部から簡単には記録情報を読み出せないようにしたものである。
【０００３】
しかしながら、磁気記録層の特性上、記録された情報の書換え、消去が自在であるため、偽造、変造が可能であり、近年、大きな社会問題としてクローズアップされている。特に、現在は磁気ストライプの入手が容易であるため、類似のカードを製造することも可能であり、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の表面に磁気記録層が露出している場合、磁気転写技術により磁気記録情報を他の磁気記録層に移すことが容易にできてしまうという問題もある。
【０００４】
このような問題を解決するために、磁気ストライプに用いる磁性材料を保磁力の高いものとした磁気記録媒体が開発されている。この磁気記録媒体は、磁気ストライプを加熱して磁性材料の保磁力を低下させることにより、入手容易な通常の磁気ヘッドによる記録、再生が可能となるが、常温状態では通常の磁気ヘッドによる記録、再生が困難であり、偽造、変造ができないものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような磁気記録媒体は、加熱した状態で磁気記録層に高い記録密度で情報を書込むため、磁気記録層を短時間で均一に加熱する必要があるが、この加熱記録条件の安定化が比較的困難であるという問題を抱えている。また、従来の磁気記録媒体に比べて記録時に加熱を必要とすることが異なるのみであり、この事実が一旦判明してしまえば、何らかの加熱手段を用いて偽造、変造を行うことは可能であるという問題があった。
【０００６】
上記のように、磁気記録層に記録された情報の偽造、変造を防止するための手段が種々開発されているが、簡単かつ効果的な偽造、変造防止手段は未だ確立されていない。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、磁気情報の記録が容易であり、その後の偽造、変造が極めて困難である磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明は基体と、該基体上に設けられた磁気記録層とを備え、前記磁気記録層は保磁力が異なる磁性材料を含む複数の層が積層されて構成され、該複数の層に含有される各磁性材料は、前記磁気記録層の最初の書込みを非磁化状態からの磁化によって行ったときの各層の出力比が１：０．７〜０．７：１の範囲内となり、かつ、ほぼ同一の初期磁化曲線を有し、最終的にほぼ同一の外部磁場でほぼ同一の飽和磁化に達するものであり、また、磁化状態からの磁化によって高保磁力の磁気記録層の書き換えをすると高保磁力の磁気記録層の飽和書込電流値が大きいため低保磁力の磁気記録層にその出力飽和値以上の書込電流が与えられることになって低保磁力の磁気記録層の出力低下が生じて書込不十分となる程度に、前記複数の層に含有される各磁性材料の保磁力が異なっているような構成とした。
【０００９】
【作用】
基体上に設けられた磁気記録層は、保磁力が異なるものの初期磁化曲線がほぼ同一である２種以上の磁性材料を含むので、加熱しない状態であっても比較的低い書込電流によって各磁性材料における同時記録を行うことができ、一旦記録がなされた後は、磁性材料の保磁力が異なるため、各磁性材料における磁気情報を同時に書き換えることは困難となる。
【００１０】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
【００１１】
図１は本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図である。図１において、本発明の磁気記録媒体１は、基体２と、この基体２上に設けられた磁気記録層３を備えている。上記の磁気記録層３は、基体２側に位置する第１磁気記録層３ａと、この第１磁気記録層３ａ上に設けられた第２磁気記録層３ｂとの２層構成を有している。
【００１２】
基体２は特に制限はなく、基体として要求される強度、剛性、隠蔽性、光不透過性等を考慮して従来の磁気記録媒体に用いられていた基体から適宜選定することができる。基体２として、例えば、ナイロン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等の樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組み合わせた複合体により構成することができる。このような基体２の厚さは、０．００５mm〜５mm程度とすることができる。尚、後述するように、磁気記録媒体とした後に加熱あるいは冷却しながら交流消磁を行って磁気記録層を非磁化状態とする場合には、耐熱性や耐寒性を備えた基体を使用すればよい。
【００１３】
本発明では、磁気記録層３を構成する第１磁気記録層３ａが含有する磁性材料、および第２磁気記録層３ｂが含有する磁性材料は、初期磁化曲線がほぼ同一であり、かつ、保磁力が異なるものである。
【００１４】
このように、磁気記録層３を構成する第１磁気記録層３ａと第２磁気記録層３ｂは、含有する磁性材料の初期磁化曲線がほぼ同一であるため、非磁化状態にある第１磁気記録層３ａおよび第２磁気記録層３ｂに対して比較的低い書込電流によって同時書込が可能となる。そして、この時の書込は、磁気記録層を短時間で均一に加熱する必要がなく、書込条件が簡易で安定したものとなる。
【００１５】
尚、第１磁気記録層３ａの磁性材料と第２磁気記録層３ｂの磁性材料の初期磁化曲線の同一の程度は、最初の磁気情報の書込により磁化状態となった第１磁気記録層３ａの出力と第２磁気記録層３ｂの出力の比率が所望の範囲、例えば、１：０．７〜０．７：１の範囲になるような程度であればよい。この出力範囲は、後述するように本発明の磁気記録媒体に対して書換え（偽装・変造）が行われた時に、その書換え条件によって第１磁気記録層と第２磁気記録層の情報が混在して読み出し不可能となったり、飽和書込電流の差により十分な出力低下が生じるために効果的で好ましい範囲である。また、上記の書込電流は、最初の磁気情報の書込により磁化状態となった第１磁気記録層３ａの磁性材料と第２磁気記録層３ｂの磁性材料の保磁力の差が十分に大きくなるように、例えば、保磁力の差が２倍以上、好ましくは５倍以上となるように設定することができる。
【００１６】
一方、上述のように磁気記録層３に書込が行われ一旦磁化状態になると、第１磁気記録層３ａの磁性材料と第２磁気記録層３ｂの磁性材料は、その保磁力が異なるので、第１磁気記録層３ａと第２磁気記録層３ｂの飽和書込電流も異なることになる。したがって、通常の磁気記録装置により第１磁気記録層３ａと第２磁気記録層３ｂの磁気情報を同時に書き換えることが困難であり、低保磁力の磁気記録層が書き換え可能となるのみである。このため、低保磁力の磁気記録層に不正に書き換えられた情報と、高保磁力の磁気記録層に記録されている本来の情報とが混在することになり、情報の読み出しが不可能となって、偽造が容易に判別される。また、通常の磁気記録装置によって高保磁力の磁気記録層の書き換えも可能である場合、高保磁力の磁気記録層の飽和書込電流値が大きいため、低保磁力の磁気記録層には、その出力飽和値以上の書込電流が与えられることになり、低保磁力の磁気記録層の出力低下が生じて書込不十分となる。したがって、この場合も第１磁気記録層３ａと第２磁気記録層３ｂの磁気情報を同時に書き換えることが不可能となって偽造が有効に防止される。
【００１７】
ここで、第１磁気記録層３ａと第２磁気記録層３ｂのいずれを高保磁力の磁性材料からなる層にするかは特に制限はなく、任意に選択することができる。
【００１８】
本発明において使用可能な初期磁化曲線がほぼ同一であって磁化後の保磁力が高い磁性材料および低い磁性材料としては、以下の例を挙げることができる。
【００１９】
（磁化後の保磁力が高い磁性材料）
▲１▼ＳｍＣｏ5 、（Ｓｍx Ｐｙy ）Ｃｏ5 、ＹＣｏ5 、ＬａＣｏ5 、
ＣｅＣｏ5 、ＰｒＣｏ5 等のＲ−Ｃｏ5 型の磁性材料
（但し、ｘ＋ｙ＝１）
▲２▼Ｍｎ−Ｂｉ
▲１▼：加熱により保磁力を低下させることができる磁性材料
▲２▼：冷却により保磁力を低下させることができる磁性材料
（磁化後の保磁力が低い磁性材料）
γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、
Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｂａフェライト、
Ｓｒフェライト
また、上記の磁性材料が分散される樹脂あるいはインキビヒクルとしては、ブチラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂等が用いられ、必要に応じてニトリルゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマー等が添加される。また、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン等のガラス転移温度（Ｔｇ）の高い樹脂、あるいは硬化反応によりＴｇが上昇する系を用いて磁気記録層に耐熱性を付与してもよい。上記のような樹脂あるいはインキビヒクル中に磁性材料が分散されてなる分散物中に、必要に応じて界面活性剤、シランカップリング剤、可塑剤、ワックス、シリコーンオイル、ガーボン等の顔料を添加してもよい。
【００２０】
上記のような磁性材料、樹脂あるいはインキビヒクルを用いて形成される第１磁気記録層３ａおよび第２磁気記録層３ｂの厚さは、塗布方法により形成される場合には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ程度である。また、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法等により形成される場合には１００Å〜１μｍ、好ましくは５００〜２０００Å程度である。
【００２１】
ここで、図１に示される磁気記録媒体１を例にして本発明の磁気記録媒体の製造方法を説明する。
【００２２】
磁気記録媒体１の製造方法としては、磁気転写シートを作製し、第１磁気記録層および第２磁気記録層を基体２上に転写する方法、および、基体２上に直接第１磁気記録層および第２磁気記録層を設ける方法とが挙げられる。
【００２３】
図２は、本発明の磁気記録媒体の製造に用いることのできる磁気転写シートの一例を示す概略断面図である。図２において磁気転写シート１１は、基材１２上に剥離層１３を介して第２磁気記録層１４ｂおよび第１磁気記録層１４ａからなる磁気記録層１４を印刷法、コーティング法、蒸着法等により形成する。そして、最後に第１磁気記録層１４ａ上に接着剤層１５を形成する。尚、磁気転写シート１１を構成する接着剤層１５は、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ゴム系樹脂、アイオノマー系樹脂等の公知の接着剤を用いて形成することができる。この接着剤層１５の厚さは、０．１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ程度とすることができる。
【００２４】
磁気転写シート１１を用いて磁気記録媒体１を製造する場合、磁気転写シート１１の第２磁気記録層１４ｂおよび第１磁気記録層１４ａを非磁化状態とするためには、（１）磁気記録層の形成工程において配向処理を行わない方法、（２）磁気記録層に配向処理を施し、その後に交流消磁を行う方法、とがある。（１）の方法を採った場合、工程は簡略であるが第２磁気記録層１４ｂおよび第１磁気記録層１４ａの電磁変換特性がやや低下する。一方、（２）の方法では、高保磁力の磁性材料を含む磁気記録層を加熱あるいは冷却することによって含有される磁性材料の保磁力を低下させた状態で交流消磁を行うことができる。
【００２５】
このように作製した磁気転写シート１１を、接着剤層１５が基体２上に当接するように熱圧着（例えば、１５０℃、１０分間、１００kg/cm2  のような条件）し、その後、剥離層１３によりベース基材１２を剥離することによって、基体２上に接着剤層、第１磁気記録層および第２磁気記録層を設けることができる。
【００２６】
また、上記の磁気転写シート１１の磁気記録層１４を非磁化状態とせずに、作製された磁気記録媒体１の磁気記録層３に対して交流消磁を行うことにより非磁化状態とすることもできる。さらに、基体２上に直接第１磁気記録層および第２磁気記録層を設けて磁気記録媒体１を製造する場合も、作製された磁気記録媒体１の磁気記録層３に対して交流消磁を行うことにより非磁化状態とすることができる。このように、磁気記録媒体を作製した後に非磁化状態とする場合にも、高保磁力の磁性材料を含む磁気記録層を加熱あるいは冷却することによって含有される磁性材料の保磁力を低下させた状態で交流消磁を行うことができる。
【００２７】
磁気記録層の加熱方法としては、加熱ローラ、遠赤外線ランプ、レーザー加熱、磁気ヘッドによる加熱等を用いることができる。
【００２８】
加熱ローラは、磁気記録層あるいは後述するホログラム層の表面を傷付けないように、シリコンラバーのような軟質部材により周面を覆われたものが好ましい。また、ローラ径は一周で加熱領域をすべて加熱できるような大きさとし、一周目の表面温度と二周目の表面温度の差に起因した加熱ムラを防止することが好ましい。例えば、長さ８５mmのカードの全長に亘って加熱する場合は、直径を２５mm以上に設定した１個の加熱ローラを用いることができ、あるいは直径が５mm以下のローラを回転方向に複数配列した加熱ローラを用いることもできる。このような加熱ローラの表面温度は５０〜３００℃の範囲で適宜設定し、加熱ローラの速度は１０〜２００mm／sec.とすることが好ましい。
【００２９】
遠赤外線ランプによる加熱は、例えば１５０Ｗハロゲンランプを所定の磁気記録幅に集光して照射し、書込み領域の磁気記録層を５０〜３００℃の範囲で任意に加熱することにより行える。この遠赤外線ランプによる加熱によれば、後述する回折格子層あるいはホログラム層に熱ダメージを与えることなく磁気記録層のみを加熱することができる。さらに、集光時に焦点を磁気記録層近傍に設定することにより、より効率的に磁気記録層を加熱することができる。
【００３０】
レーザー加熱は、気体レーザー装置、固体レーザー装置、半導体レーザー装置等を使用して行うことができる。この中でも、特にヘリウム−ネオンレーザー、アルゴンガスレーザー、炭酸ガスレーザー等の気体レーザー、ＹＡＧレーザー等の固体レーザーが好ましく、レーザーパワーは１０〜１０００Ｗ程度とする。
【００３１】
磁気ヘッドによる加熱は、交流消磁に用いる磁気ヘッドを５０〜１２０℃程度まで加熱して行うことができる。磁気ヘッドの加熱には、例えば磁気ヘッドを構成するリングヘッドに巻着したニクロム線に通電するか、あるいは赤外線ランプを用いて磁気ヘッドを加熱する等の方法がある。
【００３２】
一方、磁気記録層の冷却方法としては、冷却ローラ、冷凍機、液体アルゴンや液体窒素による冷却等が挙げられる。
【００３３】
図１に示される本発明の磁気記録媒体の例では、磁気記録層３は第１磁気記録層３ａおよび第２磁気記録層３ｂの２層構成であるが、３層以上の積層構造であってもよい。また、磁気記録層３は、初期磁化曲線がほぼ同一で、かつ、保磁力の異なる３種以上の磁性材料により構成されていてもよい。３層構造の磁気記録層としては、例えば（高保磁力）／（低保磁力）／（高保磁力）としたり、保磁力を３段階として中間保磁力層を設けることもできる。
【００３４】
さらに、磁気記録層３は積層構造ではなく、単一の層で構成され、初期磁化曲線がほぼ同一で、かつ、保磁力の異なる２種以上の磁性材料を混合して含有するものでもよい。この場合も、多層構造の場合と同じ効果が得られ、さらに、構成層が少ないため、磁気記録層の最下部と磁気ヘッドとの距離を小さくできるという利点がある。
【００３５】
尚、上記の本発明の磁気記録媒体では、磁気記録層が基体の一方の面の全面に形成されていてもよく、また、図３に示されるように、基体２の一部にストライプ状に磁気記録層３を形成したものであってもよい。
【００３６】
図４は本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。図４において、本発明の磁気記録媒体２１は、基体２２と、この基体２２上に設けられた磁気記録層２３、回折格子および／またはホログラム層２４とを備えている。上記の磁気記録層２３は、基体２２側に位置する第１磁気記録層２３ａと、この第１磁気記録層２３ａ上に設けられた第２磁気記録層２３ｂとの２層構成を有している。そして、磁気記録層２３を構成する第１磁気記録層２３ａが含有する磁性材料、および第２磁気記録層２３ｂが含有する磁性材料は、初期磁化曲線がほぼ同一であり、かつ、保磁力が異なるものである。
【００３７】
基体２２および磁気記録層２３は、上述の磁気記録媒体１の基体２および磁気記録層３と同様の構成とすることでき、ここでの説明は省略する。
【００３８】
本発明の磁気記録媒体２１に用いられる回折格子および／またはホログラム層２４は、一般に樹脂から構成され、単一構造あるいは多層構造のいずれでもよい。多層構造の場合は、例えば基材フィルム上に回折格子やホログラムを形成するための樹脂を設けたもの、あるいは、回折格子やホログラムを形成するための樹脂自体が積層構造となっていてもよい。さらに、全域が回折格子層であってもホログラム層であってもよく、また回折格子層とホログラム層とが混在していてもよい。
【００３９】
ホログラム層は、平面ホログラム、体積ホログラムのいずれでもよく、平面ホログラムの場合、レリーフホログラムが量産性、耐久性およびコストとの面から好ましく、体積ホログラムの場合、リップマンホログラムが画像再現性および量産性の面から好ましい。
【００４０】
その他、フルネルホログラム、フラウンホーファホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザー再生ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラム、ホログラフィック回折格子等を用いることができる。
【００４１】
回折格子層は、ホログラム記録手段を利用した前記ホログラフィック回折格子により構成することもできるが、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子を作成することができる。
干渉縞を記録するための回折格子形成用感光材料あるいはホログラム形成用感光材料としては、銀塩、重クロム酸ゼラチン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモクロミックス材料、カルコゲンガラス等が使用できる。
【００４２】
本発明においては、回折格子層やホログラム層の形成材料として、ポリ塩化ビニル、メチルメタアクリレートのようなアクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、あるいは上記の熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂との混合物を使用することができる。
【００４３】
さらに、回折格子層やホログラム層の形成材料として、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能であり、これには下記の２種のものがある。
（１）ガラス転移点が０〜２５０℃のポリマー中にラジカル重合性不飽和基を有するもの。より具体的には、下記の▲１▼〜▲８▼に示される化合物を重合もしくは共重合させたポリマーに対して、後述する方法（イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを挙げることができる。
【００４４】
▲１▼  水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロールアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート等。
【００４５】
▲２▼  カルボキシル基を有する単量体：アクリル酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート等。
【００４６】
▲３▼  エポキシ基を有する単量体：グリシジルメタクリレート等。
【００４７】
▲４▼  アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエチルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸アリル等。
【００４８】
▲５▼  アミド基を有する単量体：アクリルアミド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート等。
【００４９】
▲６▼  スルフォン基を有する単量体：２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。
【００５０】
▲７▼  イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシアネートと、活性水素を有するラジカル重合単量体の付加物等。
【００５１】
▲８▼  上記の共重合体のガラス転移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重合させることもできる。共重合可能な単量体としては、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルメタクリレート、エチルアクリレート、プロピルメタクリレート、プロピルアクリレート、ブチルメタクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソアミルメタクリレート、イソアミルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が挙げられる。
【００５２】
次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不飽和基を導入することにより、回折格子形成樹脂あるいはホログラム形成樹脂を得ることができる。
【００５３】
（イ）  水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体等を縮合反応させる。
【００５４】
（ロ）  カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、上記の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
【００５５】
（ハ）  エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、上記の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
【００５６】
（ニ）  水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体、ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の１対１モルの付加物を付加反応させる。
【００５７】
上記の反応を行うには、微量のハイドロキノン等の重合抑制剤を加え、乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。
【００５８】
（２）融点が０〜２５０℃であり、ラジカル重合性不飽和基を有する化合物。具体的には、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコールジアクリレート、スピログリコールジメタクリレート等が挙げられる。
【００５９】
また、回折格子形成樹脂あるいはホログラム形成樹脂としては、上記（１）、（２）を混合して用いることもでき、さらに、それらに対してラジカル重合性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を向上させ、耐熱性を向上させるものであり、上述の単量体の他に、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレート等を用いることができる。このような単量体は、上記の共重合体混合物の固形分１００重量部に対して、０．１〜１００重量部の割合で用いることが好ましい。また、上記のものは電子線により充分に硬化することが可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアチル類等の紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いることができる。
【００６０】
また、上述のように加熱しながら磁気記録層を交流消磁して非磁化状態とする場合には、磁気記録層の加熱を効率よく行うために、回折格子層２４あるいはホログラム層２４を熱伝導性の高いものとすることが好ましい。ここで、回折格子層２４あるいはホログラム層２４を構成する上記の樹脂の熱伝導率κは、０．１〜０．３（ Joule／ｍ・sec ・ｋ）と低いものである。このため、熱伝導率κが１０（ Joule／ｍ・sec ・ｋ）以上の添加剤、例えばエチレングリコール、グリセリン、ジオクチルフタレート等の可塑剤（κは数百（ Joule／ｍ・sec ・ｋ））、ＴｉＯ2 、ＢｅＯ、ＳｉＯ2 等の酸化剤（κは数十〜数百（ Joule／ｍ・sec ・ｋ））等を回折格子層２４あるいはホログラム層２４に含有させることが好ましい。
【００６１】
回折格子層２４あるいはホログラム層２４は、従来公知の方法により形成することができる。例えば、ホログラムがレリーフホログラムである場合、干渉縞が凹凸の形で記録されたホログラム原版をプレス型として用い、このホログラム原版上にホログラム形成用樹脂シートを載置し、加熱ロール等の手段により両者を加熱圧接し、ホログラム形成用樹脂シート表面にホログラム原版の凹凸模様を複製する方法によって、レリーフ形成面を有するホログラム層１４を得ることができる。ホログラムが、体積ホログラムである場合、フォトポリマー等を基材上にコーティング形成し、予め作成してあるホログラム原板と重ね合わせて、スリット状のレーザー光を照射することにより、巻取複製することができる。その後、熱現像等の処理をしてもよい。いずれにしても、個々の記録体ができるだけ個別の再生像を保持できるように複製版を多く準備したり、ランダムパターンとしたり、種々工夫することができる。
【００６２】
また、本発明の磁気記録媒体は、図５に示されるように、上述のような回折格子層２４あるいはホログラム層２４と、磁気記録層２３との間に薄膜層２５を備えていてもよい。薄膜層２５は回折あるいはホログラム効果をより効果的に発現するものであればよく、通常、一般的な反射性金属薄膜が使用される。また、ホログラムが透明型ホログラムの場合、後述するような磁気記録層２３上の着色層や絵柄を隠蔽しない材質であればよく、例えば回折格子層２４あるいはホログラム層２４とは屈折率の異なる透明材料、厚みが２００Å以下の反射性金属薄膜層が挙げられる。
【００６３】
前者の場合、透明材料の屈折率は回折格子層２４あるいはホログラム層２４よりも大きくても小さくてもよいが、屈折率の差は０．１以上、好ましくは０．５以上であり、屈折率の値は１．０以上であることが好ましい。このように、屈折率の異なる透明薄膜層を設けることにより、回折あるいはホログラム効果を発現でき、しかも、下層の着色や絵柄を隠蔽させない作用が得られる。
【００６４】
また、後者の場合は、反射性金属薄膜ではあるが、厚みが２００Å以下であるため、光波の透過率が大きく、そのため回折あるいはホログラム効果の発現作用とともに、表示部非隠蔽作用を発揮する。すなわち、反射性金属薄膜中を光波が通過する場合、その振幅は一波長当たり、ｅｘｐ（−２πＫ）で急激に減少するため、その膜厚が２００Åを越えると透過率はかなり小さいものとなる。したがって、膜厚を２００Å以下とすることにより透過率は充分なものとなり、回折あるいはホログラム効果を発現させることができる。また、膜厚を２００Å以下とすることにより、従来みられた高い輝度の銀白色による外観上の違和感も解消する。
【００６５】
上記のような薄膜層２５の形成に用いられる材料としては、以下のような（１）〜（６）の材料が挙げられる。
（１）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が大きい透明連続薄膜
これには、可視領域で透明なものと、赤外あるいは紫外領域で透明なものとがあり、前者は表１に、後者は表２にそれぞれ示す。表中、ｎは屈折率を示す（以下、（２）〜（６）においても同様）。
【００６６】
【表１】
0003662612.tif 000002
【００６７】
【表２】
0003662612.tif 000003
（２）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が大きい透明強誘電体
上記の透明強誘電体の例を表３に示す。
【００６８】
【表３】
0003662612.tif 000004
（３）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が小さい透明連続薄膜
上記の透明連続薄膜の例を表４に示す。
【００６９】
【表４】
0003662612.tif 000005
（４）厚さ２００Å以下の反射性金属薄膜
反射性金属薄膜は、複素屈折率を有し、この複素屈折率ｎ＊はｎ＊＝ｎ−ｉＫで表される。ここで、ｎは屈折率、Ｋは吸収係数を示す。
【００７０】
本発明に使用できる反射性金属薄膜の材質を表５に示し、併せて上記のｎおよびＫの値を示す。
【００７１】
【表５】
0003662612.tif 000006
また、上記の表５に挙げた材質の他に、Ｓｎ，Ｉｎ，Ｔｅ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｚｎ，Ｇｅ，Ｐｂ，Ｃｄ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｇａ，Ｒｂ等の金属が使用可能である。さらに、上記の金属の酸化物、窒化物等も使用可能であり、また、金属、その酸化物、窒化物等は、単独で用いることもでき、あるいは、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（５）回折格子層またはホログラム層と屈折率の異なる樹脂
回折格子層またはホログラム層に対して屈折率が大きいもの、小さいもの、いずれでもよい。これらの例を表６に示す。
【００７２】
【表６】
0003662612.tif 000007
また、上記の表６に挙げた樹脂の他に、一般的な合成樹脂が使用可能であるが、特に回折格子層またはホログラム層との屈折率の差が大きい樹脂が好ましい。
（６）上記の（１）〜（５）に示される材質を適宜組み合わせてなる積層体
上記の（１）〜（５）の材質の組み合わせは任意であり、また層構成における各層の上下位置関係も任意に選択できる。
【００７３】
上記の（１）〜（６）の薄膜層のうち、（４）の薄膜層の厚さは２００Å以下が好ましく、（１）〜（３）および（５）、（６）の薄膜層の厚さは、薄膜層が透明性を維持できる範囲であればよく、使用する材質により適宜設定することができ、一般的には１０〜１００００Å程度、好ましくは１００〜５０００Å程度である。
【００７４】
上記の（１）〜（４）に示されるような材質を用いて薄膜層を形成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、電気メッキ法等の一般的薄膜形成手段を用いることができる。また、上記の（５）に示されるような材質を用いて薄膜層を形成する場合は、一般的なコーティング方法等を用いることができる。さらに、上記の（６）に示されるような材質を用いて薄膜層を形成する場合は、上記の各手段、方法等を適宜組み合わせて用いることができる。
【００７５】
尚、上記の（５）に示されるような材質を用いる場合、透明材料である限り薄膜でなくてもよく、０．５μｍ以上、好ましくは１．０〜３．０μｍの厚みを有する樹脂層を形成してもよい。特に、透明型とすることで、磁気記録層、絵柄層との積層であることが一目で判別できるようにする。また、光学的加熱の際は、光が直接磁気記録層へ届くため、より効果的である。
【００７６】
上述のように、本発明の磁気記録媒体２１では磁気記録層２３上に回折格子層２４またはホログラム層２４が存在することにより、磁気記録層２３が露出するのが防止され、磁気記録層２３に書き込まれている情報を直接別のカードの磁気ストライプに移す磁気転写が困難となる。そして、回折格子層２４またはホログラム層２４は、外観上美しく、それ自体の製造が容易ではなく、類似品の作製は困難であり、本発明の磁気記録媒体は、偽造、変造の困難な磁気記録媒体である。
【００７７】
また、本発明の磁気記録媒体は、図６に示されるように磁気記録層３上に保護層４が設けられているもの、あるいは、図５に示されるような磁気記録媒体において回折格子層２４またはホログラム層２４上に保護層を備えるものでもよい。磁気記録層３上、または、回折格子層２４あるいはホログラム層２４上への保護層の形成は、合成樹脂フィルムをラミネートするか、エクストルージョンコート法によるか、あるいは合成樹脂塗料を塗布することにより行うことができる。保護層を構成する樹脂としては、耐久性、耐熱性あるいは他の層との密着性等を考慮して、上述の着色層を形成するに際して用いられる合成樹脂類と同様のものでもよく、また、物理的特性の高い紫外線・電子線硬化型の樹脂がより好ましい。
【００７８】
保護層形成用の電離放射線硬化性樹脂としては、分子中に重量性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマ−、オリゴマー、および／または単量体等による混合樹脂組成物が利用される。尚、上記のプレポリマ−やオリゴマーの具体例は、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等による不飽和ポリエステル類をはじめ、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類等が挙げられる。さらに、単量体の具体例は、スチレン、α・メチルスチレン等によるスチレン系単量体、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、メタクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）エチル、メタクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和酸の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等のジアクリレート化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコール等の分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物等が利用される。
保護層を上記のような電離放射線硬化型樹脂により形成する場合、電離放射線硬化型樹脂によるコーティング剤の塗工適性を考慮して、通常、上述のプレポリマーまたはオリゴマーの５〜９５重量％と、単量体および／またはポリチオール化合物の９５〜５重量％との混合組成物が利用される。また、電離放射線硬化型樹脂によるコーティング剤中には、このコーティング剤が紫外線の照射により硬化される場合、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α・アミロキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類等による光重合開始剤と、必要に応じてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤とを添加してもよいことは勿論である。
【００７９】
保護層を形成する際のコーティング剤の塗工方法は、ロールコート、カーテンフローコート、ワイヤーバーコート、リバースコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、エアナイフコート、キスコート、ブレードコート、スムーズコート、コンマコート等の公知の方法を用いることができる。
【００８０】
また、電離放射線硬化型樹脂による保護層形成における硬化には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラックライトランプ、メタルハライドランプ等の光源からの紫外線照射、あるいは、コックロフトワルトン型、ハンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器による１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーの電子線照射が用いられる。
【００８１】
尚、保護層には、耐久性、耐熱性を向上させるために、テフロンパウダー等の粉体、好ましくは軟化点が１００℃以上であり透明性が高い粒径が数μｍ、さらにはサブミクロン程度の微粉体が含有されてもよい。また、保護層中にシリコーン、ポリエチレンワックス等を添加して表面に剥離性を与えてもよい。
【００８２】
尚、このような保護層と、回折格子層２４あるいはホログラム層２４との間に、両層の接着性を高め、かつ回折格子層２４あるいはホログラム層２４の耐久性を高めるために、硬化型アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等からなるオーバプリント層を設けてもよい。また、上記の薄膜層２５と磁気記録層２３との間には、両層の接着性を高めるために、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂等からなるアンカー層を設けてもよい。
【００８３】
また、本発明の磁気記録媒体は、その他の構成層の間にも必要に応じてアンカー層を備えていてもよい。この場合のアンカー層は、上記のアンカー層用の樹脂の他にエチレン／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／プロピオン酸共重合体、ゴム系樹脂、シアノアクリレート樹脂、セルロース系樹脂、アイオノマー樹脂、ポリオレフィン系共重合体等の樹脂に、必要に応じて可塑剤、安定剤、硬化剤等を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練してなるアンカー層用塗料を用いて塗布することにより形成することができる。アンカー層用塗料の塗布は、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の塗布方法により行うことができる。特に、磁気記録層上にアンカー層を設ける場合、磁気記録層の再溶解を防止するため、熱可塑性樹脂をエマルジョン化して塗布し、乾燥してヒートシール型のアンカー層とすることが好ましい。
【００８４】
本発明では、磁気記録媒体１の磁気記録層３上に、あるいは磁気記録媒体２１の磁気記録層２３上に、あるいは、図７〜図９に示されるように、隠蔽・装飾効果をもたせるための着色層や絵柄を設けてもよい。
【００８５】
図７に示される磁気記録媒体２１は、レリーフホログラムの方式により記録されたホログラム層２４と、ホログラム層２４を構成する材料の屈折率と異なる屈折率を有する上述の透明材料からなる薄膜層２５とからなる透明型ホログラムを有している。そして、磁気記録層２３と薄膜層２５との間にアンカー層２７が存在するとともに、絵柄２６が形成されている。絵柄２６は図のように、磁気記録層２３に接していても、薄膜層２５に接していてもよく、さらに、アンカー層２７中にあってもよい。このように、絵柄２６を薄膜層２５の下に設けると、ホログラムの照明光と観察者に対する角度依存性により、ホログラム再生像が見える角度から磁気記録媒体２１を観察すれば、絵柄２６がホログラム再生像に隠蔽され、また、上記の角度と異なる角度から観察すれば、ホログラム再生像に隠蔽されずに絵柄２６を観察することができる。
【００８６】
図８に示される例では、磁気記録媒体２１は、体積ホログラムであるリップマンホログラムの方式により記録されたホログラム層２４と磁気記録層２３との間に、着色層２８が形成されている。リップマンホログラムからなるホログラム層２４は実質的に透明であり、ホログラム再生像の見やすさの点および磁気記録層を隠蔽するという点から、暗色の着色塗料によって着色層２８を構成することが好ましい。また、リップマンホログラムは反射再生光の波長選択性を有しているため、反射再生光の波長と異なる反射波長をもつ着色塗料で着色層２８を構成したり、あるいは反射再生光によるホログラム再生像の色と補色の関係にある着色塗料を用いることが、装飾性を考慮すると好ましい。尚、アンカー層に着色塗料を混入しても同様の効果が得られる。
【００８７】
図９に示される例では、磁気記録媒体２１は、電子線描画装置により機械的に描画することにより回折格子が記録された回折格子層２４上に、または回折格子層２４と反射性金属からなる薄膜層２５との間に絵柄２６が形成されている。このように、薄膜層２５の上に絵柄層２６を形成すると、薄膜層２５で反射された光を背景として、絵柄２６を常時観察することができる。また、回折格子層２４上に絵柄２６を形成する場合には、記録・再生時における磁気ヘッドの走査等のこすれにより絵柄２６が消失することを防ぐために、上述したような保護層２９を設けることが好ましい。
【００８８】
着色層や絵柄はエチルセルロース、硝酸セルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単独あるいは共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーに、着色すべき色に応じて各種の顔料を添加し、さらに必要に応じて、可塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキを用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法、オフセット法等の塗布方法あるいは印刷方法により、所望部分に形成できる。
【００８９】
尚、図９に示される磁気記録媒体２１において、絵柄２６のない構成の磁気記録媒体（図１０参照）とすることも当然可能である。また、上述の本発明の磁気記録媒体は、基体の全面に磁気記録層を設けたものであるが、図３に示されるように、基体の一部にストライプ状に磁気記録層を設けてもよい。
【００９０】
上記の磁気記録層２３および回折格子層２４および／またはホログラム層２４を基体２２上に設ける方法としては、磁気記録媒体１の製造と同様に、磁気転写シートを作製し、従来公知の方法に従って接着剤層、第１磁気記録層、第２磁気記録層、薄膜層および回折格子および／またはホログラムを基体２２上に転写することが簡便である。
【００９１】
次に、より具体的な実施例を示して本発明の磁気記録媒体を更に詳細に説明する。
（実施例１）
厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、下記の組成の剥離層形成用の塗工液をグラビアコート法により塗布し、その後、溶剤を除去して剥離層（厚さ１μｍ）を形成した。さらに、この剥離層上に、下記の組成を有する各塗工液をグラビアコート法により塗布して、第２磁気記録層（厚さ１０μｍ）、第１磁気記録層（厚さ５μｍ）および接着剤層（厚さ３μｍ）を順次形成して磁気転写シートを作製した。尚、磁気記録層の形成時には配向処理を行った。
【００９２】
（剥離層形成用の塗工液）
・酢酸セルロース樹脂                        …      ５重量部
・メタノール                                …    ２５重量部
・メチルエチルケトン                        …    ４５重量部
・トルエン                                  …    ２５重量部
・メチロール化メラミン樹脂                  …  ０．５重量部
・パラトルエンスルフォン酸                  …０．０５重量部
（第２磁気記録層形成用の塗工液）
・Ｍｎ−Ｂｉ（保磁力＝１５０００Ｏe ）      …    ３６重量部
・ウレタン樹脂                              …    １２重量部
・トルエン                                  …    ２０重量部
・メチルエチルケトン                        …    １５重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    １５重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ２重量部
（第１磁気記録層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝２７５０Ｏe ）    …    ３６重量部
・ウレタン樹脂                              …    １２重量部
・トルエン                                  …    ２０重量部
・メチルエチルケトン                        …    １５重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    １５重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ２重量部
（接着剤層形成用の塗工液）
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体            …    ２０重量部
・アクリル樹脂                              …    １０重量部
・酢酸エチル                                …    ２０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
上記のように作製した転写シートを１２．７mm幅にスリットして転写テープとし、この磁気転写テープをポリ塩化ビニル（大平化学（株）製  厚さ１００μｍ）上に、接着層が当接するように重ね合わせ、転写テープ側から１５０℃、２ｍ／分の条件で加熱して仮転写した。その後、転写テープのポリエステルフィルムを剥離して接着剤層、第１磁気記録層、第２磁気記録層が、この順に積層されたストライプを設けた。
【００９３】
次に、予めオフセット印刷により文字、絵柄を印刷した厚さ５６０μｍの硬質塩化ビニルコアを、上記のようにストライプを設けたポリ塩化ビニルフィルムと、ストライプを設けていない同じポリ塩化ビニルフィルムとで挟んだ状態で熱圧着（１５０℃、１００kg／cm2 、１０分間）して一体化し、８６mm×５４mmの大きさのカード状に打ち抜いて磁気記録媒体とした。
【００９４】
次に、この磁気記録媒体の磁気ストライプ部を液体窒素中に浸漬することによって約−１５０℃に冷却した状態で交流消磁（条件：１０００ガウス）を行って、磁気記録層を非磁化状態とした。
【００９５】
次に、この磁気記録媒体の第１磁気記録層、第２磁気記録層に、室温において書込み電流５００ｍＡで磁気情報を記録した。その後、読取りを行ったところ、約５Ｖの出力で磁気情報を良好に読み取ることができた。
【００９６】
しかし、上記の記録済の磁気記録媒体に、室温において書込み電流５００ｍＡで別の磁気情報を記録し、その後、読取りを行ったところ、約５Ｖの出力が得られたものの、２種の磁気情報が混在しており、本来の磁気情報を読み取ることができなかった。
（実施例２）
実施例１における磁気転写シートの作製において、磁気記録層の形成時に配向処理を行わなかった他は実施例１と同様にして磁気転写シートを作製し、この磁気転写シートを用いて実施例１と同様にしてカード状の磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体の磁気記録層は非磁化状態であった。
【００９７】
次に、この磁気記録媒体の第１磁気記録層、第２磁気記録層に、室温において書込み電流５００ｍＡで磁気情報を記録した。その後、読取りを行ったところ、約３Ｖの出力で磁気情報を良好に読み取ることができた。
【００９８】
しかし、上記の記録済の磁気記録媒体に、室温において書込み電流５００ｍＡで別の磁気情報を記録し、その後、読取りを行ったところ、約３Ｖの出力が得られたものの、２種の磁気情報が混在しており、本来の磁気情報を読み取ることができなかった。
（実施例３）
ポリイミドフィルム（厚さ２００μｍ）に下記の第１磁気記録層用塗工液および第１磁気記録層用塗工液をグラビアコート法により塗布して、第１磁気記録層（厚さ１０μｍ）、第２磁気記録層（厚さ５μｍ）を順次積層した後、８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて磁気記録媒体とした。
【００９９】
（第２磁気記録層形成用の塗工液）
・γ−Ｆｅ2 Ｏ3 （保磁力＝３００Ｏe ）      …    ３６重量部
・ウレタン樹脂                              …    １２重量部
・トルエン                                  …    ２０重量部
・メチルエチルケトン                        …    １５重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    １５重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ２重量部
（第１磁気記録層形成用の塗工液）
・ＳｍＣｏ5 （保磁力＝１００００Ｏe ）      …    ３６重量部
・ウレタン樹脂                              …    １２重量部
・トルエン                                  …    ２０重量部
・メチルエチルケトン                        …    １５重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    １５重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ２重量部
次に、この磁気記録媒体の磁気記録部を加熱ローラによって約４００℃に加熱した状態で交流消磁（条件：２０００ガウス）を行って、磁気記録層を非磁化状態とした。
【０１００】
次に、この磁気記録媒体の第１磁気記録層、第２磁気記録層に、室温において書込み電流３００ｍＡで磁気情報を記録した。その後、読取りを行ったところ、約５Ｖの出力で磁気情報を良好に読み取ることができた。
【０１０１】
しかし、上記の記録済の磁気記録媒体に、室温において書込み電流３００ｍＡで別の磁気情報を記録し、その後、読取りを行ったところ、約５Ｖの出力が得られたものの、２種の磁気情報が混在しており、本来の磁気情報を読み取ることができなかった。
【０１０２】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば磁気記録層は保磁力が異なるが初期磁化曲線がほぼ同一である２種以上の磁性材料を含むので、非磁化状態において加熱せずに比較的低い書込電流によって各磁性材料に対する同時記録を行うことができ、磁気情報の記録が容易であり、磁気記録層に一旦記録がなされ磁化状態になった後は、磁性材料の保磁力が異なるため、各磁性材料における磁気情報を同時に書き換えることは困難となり、偽造が有効に防止される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の磁気記録媒体の製造に用いることのできる磁気転写シートの一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。
【図７】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。
【図８】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。
【図９】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。
【図１０】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１，２１…磁気記録媒体
２，２２…基体
３，２３…磁気記録層
３ａ，２３ａ…第１磁気記録層
３ｂ，２３ｂ…第２磁気記録層
４，２９…保護層
２４…回折格子および／またはホログラム層
２５…薄膜層
１１…磁気転写シート
１２…基材
１３…剥離層
１４…磁気記録層
１４ａ…第１磁気記録層
１４ｂ…第２磁気記録層
１５…接着剤層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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