【手続補正書】
【提出日】令和3年7月30日(2021.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給管の一次ノズルを通して溶融金属を送り届けることと、
前記一次ノズルに隣接して位置付けられると共に溶融液溜め中に潜水可能な二次ノズルを通して、前記溶融金属を通過させることと、
前記二次ノズルを通して前記溶融金属を通過させることに応答して前記二次ノズルを通して補足流入を誘導することであって、前記補足流入が前記溶融液溜めから供給される、誘導することと、を含む、方法。
【請求項２】
２００以下の粒径の最大標準偏差を有する結晶構造を有するアルミニウム製品であって、
供給管の一次ノズルを通して溶融金属を送り届けることと、
前記一次ノズルに隣接して位置付けられると共に溶融液溜め中に潜水可能な二次ノズルを通して、前記溶融金属を通過させることと、
前記二次ノズルを通して前記溶融金属を通過させることに応答して前記二次ノズルを通して補足流入を誘導することであって、前記補足流入が前記溶融液溜めから供給される、誘導することと、によって得られる、アルミニウム製品。
【請求項３】
前記粒径の最大標準偏差が、８０以下である、請求項２に記載のアルミニウム製品。
【請求項４】
前記粒径の最大標準偏差が、３３以下である、請求項２に記載のアルミニウム製品。
【請求項５】
平均粒径が、７００μｍ以下である、請求項２に記載のアルミニウム製品。
【請求項６】
平均粒径が、４００μｍ以下である、請求項２に記載のアルミニウム製品。
【請求項７】
一次ノズルを通して溶融金属を送り届けることが、前記供給管に連結された流動制御デバイスを使用して流動を誘導することを含む、請求項２に記載のアルミニウム製品。
【請求項８】
平行に共に連結された第１のプレート及び第２のプレートを有するプレートノズルを含む供給管であって、少なくとも１つの出口ノズルの方へ前記プレートノズルを通して溶融金属を導くための通路を画定する、供給管を備え、
前記少なくとも１つの出口ノズルが、前記溶融金属を非平行方向に導くための２つの出口ノズルを含む、装置。
【請求項９】
溶融液溜め中に潜水可能かつ前記プレートノズルの前記少なくとも１つの出口ノズルに隣接して位置付け可能な二次ノズルを更に備え、前記二次ノズルが、溶融金属が前記プレートノズルから絞りを通過することに応答して前記溶融液溜めを循環させるために低圧領域を生成するように形作られた前記絞りを含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記二次ノズルが、前記プレートノズルに取り外し可能に連結可能である、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
溶融液溜め中に潜水可能な２つの二次ノズルを更に備え、各二次ノズルが、前記プレートノズルの前記２つの出口ノズルの対応する１つに隣接して位置付け可能であり、前記２つの二次ノズルのそれぞれが、溶融金属が前記２つの出口ノズルの前記対応する１つから絞りを通過することに応答して前記溶融液溜めを循環させるために低圧領域を生成するように形作られた前記絞りを含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１２】
前記プレートノズルを通る前記溶融金属の流動を制御するための、前記供給管に連結された流動制御デバイスを更に備える、請求項９に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７８】
実施例５２は、通路内の一対の電極を通過する磁場の方向及び電流の方向が共に、供給管の長さに垂直に方向付けられるように、一対の電極及び少なくとも１つの静的永久磁石が、位置付けられる、実施例５１の装置である。
本発明の態様を以下に記載する：
（請求項１）
溶融金属の源に連結可能な供給管と、
前記供給管の遠位端に位置する一次ノズルであって、前記溶融金属を溶融液溜めに送り届けるために前記溶融液溜め中に潜水可能な一次ノズルと、
前記溶融液溜め中に潜水可能かつ前記一次ノズルに隣接して位置付け可能な二次ノズルであって、前記溶融金属が前記源から絞りを通過することに応答して前記溶融液溜めを循環させるために低圧領域を生成するように形作られた前記絞りを含む、二次ノズルと、を備える、システム。
（請求項２）
前記溶融液溜めが、鋳造されているインゴットの液体金属である、請求項１に記載のシステム。
（請求項３）
前記溶融液溜めが、炉内の液体金属である、請求項１に記載のシステム。
（請求項４）
前記二次ノズルが、前記一次ノズルに連結される、請求項１に記載のシステム。
（請求項５）
前記一次ノズルを通る前記溶融金属の流動を制御するための、前記供給管に隣接した流動制御デバイスを更に備える、請求項１に記載のシステム。
（請求項６）
前記流動制御デバイスが、前記供給管内に変動磁場を生成するための１つ以上の磁気源を含む、請求項５に記載のシステム。
（請求項７）
前記１つ以上の磁気源が、前記供給管内の前記溶融金属の回転運動を誘導するように位置付けられる、請求項６に記載のシステム。
（請求項８）
前記供給管内の前記溶融金属から熱を取り除くための、前記供給管に隣接して位置付けられた温度制御デバイスを更に備える、請求項６に記載のシステム。
（請求項９）
前記溶融金属の温度を測定するための、前記供給管に隣接した温度プローブと、
前記温度プローブによって測定された前記温度に応答して前記温度制御デバイスを調整するための、前記温度プローブ及び前記温度制御デバイスに連結されたコントローラと、を更に備える、請求項８に記載のシステム。
（請求項１０）
前記一次ノズルが、矩形形状である、請求項１に記載のシステム。
（請求項１１）
前記供給管が、前記供給管の前記遠位端に位置する第２の一次ノズルを更に含み、前記第２の一次ノズルが、前記溶融金属を前記溶融液溜めに送り届けるために前記溶融液溜め中に潜水可能であり、前記システムが、前記溶融液溜め中に潜水可能かつ前記第２の一次ノズルに隣接して位置付け可能な第２の二次ノズルを更に備え、前記第２の二次ノズルが、前記溶融金属が前記源から第２の絞りを通過することに応答して前記溶融液溜めを循環させるために第２の低圧領域を生成するように形作られた前記第２の絞りを含む、請求項１に記載のシステム。
（請求項１２）
前記一次ノズル及び前記第２の一次ノズルを通る前記溶融金属の流動を制御するための、前記供給管に隣接した流動制御デバイスを更に備える、請求項１１に記載のシステム。
（請求項１３）
前記流動制御デバイスが、前記供給管を通して磁場を生成するための、前記供給管の周りに位置付けられた複数の永久磁石と、前記供給管内の前記溶融金属を通して電流を伝導するための、前記供給管内の経路に電気的に連結された複数の電極と、を含む、請求項１２に記載のシステム。
（請求項１４）
溶融金属の源に連結可能な供給管と、
前記供給管の遠位端に位置するノズルであって、前記溶融金属を溶融液溜めに送り届けるために前記溶融液溜め中に潜水可能なノズルと、
前記供給管に隣接して位置付けられた流動制御デバイスであって、前記供給管内の前記溶融金属の運動を誘導するための少なくとも１つの磁気源を含む、流動制御デバイスと、を備える、システム。
（請求項１５）
前記流動制御デバイスが、少なくとも１つの回転子の周りに位置付けられた複数の永久磁石を含み、変動磁場が、前記少なくとも１つの回転子の回転に応答して生成される、請求項１４に記載のシステム。
（請求項１６）
前記供給管が、前記流動制御デバイスに隣接してロフト形状を有し、前記ロフト形状が、前記変動磁場の形状に対応する、請求項１５に記載のシステム。
（請求項１７）
前記少なくとも１つの回転子の回転軸が、前記供給管の長手方向軸に対して可変である、請求項１５に記載のシステム。
（請求項１８）
前記流動制御デバイスが固定子を含み、前記固定子が、第１の位相において駆動される少なくとも１つの第１の電磁気コイル、第２の位相において駆動される少なくとも１つの第２の電磁気コイル、及び第３の位相において駆動される少なくとも１つの第３の電磁気コイルを含み、前記第１の位相が、前記第２の位相及び前記第３の位相から１２０°だけオフセットされ、前記第２の位相が、前記第３の位相から１２０°だけオフセットされ、変動磁場が、前記固定子の駆動に応答して生成される、請求項１４に記載のシステム。
（請求項１９）
前記供給管が螺旋ネジを含み、前記変動磁場が、前記供給管内の前記溶融金属の回転運動を誘導する、請求項１８に記載のシステム。
（請求項２０）
前記溶融金属の前記運動が、前記供給管内の回転運動であり、前記供給管が、前記供給管内の前記溶融金属の前記回転運動に応答して前記供給管内の前記溶融金属の長手方向運動を生成する角度に形作られた内壁を含む、請求項１４に記載のシステム。
（請求項２１）
電源を更に備え、前記供給管が、前記供給管内の前記溶融金属を通る電流を提供するために前記電源に連結された複数の電極を含む、請求項１４に記載のシステム。
（請求項２２）
前記供給管内の前記溶融金属から熱を取り除くための、前記供給管に隣接して位置付けられた温度制御デバイスを更に備える、請求項１４に記載のシステム。
（請求項２３）
前記溶融金属の温度を測定するための、前記供給管に隣接した温度プローブと、
前記温度プローブによって測定された前記温度に応答して前記温度制御デバイスを調整するための、前記温度プローブ及び前記温度制御デバイスに連結されたコントローラと、を更に備える、請求項２２に記載のシステム。
（請求項２４）
前記溶融液溜め中に潜水可能かつ前記ノズルに隣接して位置付け可能な二次ノズルを更に備え、前記二次ノズルが、前記溶融金属が前記源から絞りを通過することに応答して前記溶融液溜めを循環させるために低圧領域を生成するように形作られた前記絞りを含む、請求項１４に記載のシステム。
（請求項２５）
供給管を通して溶融金属を金属源から金属液溜めに送り届けることと、
前記供給管に隣接して変動磁場を生成することと、
前記変動磁場の生成に応答して前記供給管内の前記溶融金属の運動を誘導することと、を含む、方法。
（請求項２６）
温度制御デバイスによって、前記供給管内の前記溶融金属から熱を取り除くことと、
前記溶融金属中の固体金属の割合を判定することと、
前記溶融金属中の前記固体金属の割合の判定に応答して前記温度制御デバイスを制御することと、を更に含む、請求項２５に記載の方法。
（請求項２７）
溶融金属を前記金属源から送り届けることが、
溶融液溜め中に潜水可能な一次ノズルを通して一次金属流動を生成することと、
絞りを有する二次ノズルを通して前記一次金属流動を通過させることと、
前記二次ノズルを通して前記一次金属流動を通過させることに応答して前記二次ノズルを通して補足流入を生成することであって、前記補足流入が前記溶融液溜めから供給される、生成することと、を含む、請求項２５に記載の方法。
（請求項２８）
供給管の一次ノズルを通して溶融金属を送り届けることと、
前記一次ノズルに隣接して位置付けられると共に溶融液溜め中に潜水可能な二次ノズルを通して、前記溶融金属を通過させることと、
前記二次ノズルを通して前記溶融金属を通過させることに応答して前記二次ノズルを通して補足流入を誘導することであって、前記補足流入が前記溶融液溜めから供給される、誘導することと、を含む、方法。
（請求項２９）
２００以下の粒径の最大標準偏差を有する結晶構造を有するアルミニウム製品であって、
供給管の一次ノズルを通して溶融金属を送り届けることと、
前記一次ノズルに隣接して位置付けられると共に溶融液溜め中に潜水可能な二次ノズルを通して、前記溶融金属を通過させることと、
前記二次ノズルを通して前記溶融金属を通過させることに応答して前記二次ノズルを通して補足流入を誘導することであって、前記補足流入が前記溶融液溜めから供給される、誘導することと、によって得られる、アルミニウム製品。
（請求項３０）
前記粒径の最大標準偏差が、８０以下である、請求項２９に記載のアルミニウム製品。
（請求項３１）
前記粒径の最大標準偏差が、３３以下である、請求項２９に記載のアルミニウム製品。
（請求項３２）
平均粒径が、７００μｍ以下である、請求項２９に記載のアルミニウム製品。
（請求項３３）
平均粒径が、４００μｍ以下である、請求項２９に記載のアルミニウム製品。
（請求項３４）
一次ノズルを通して溶融金属を送り届けることが、前記供給管に連結された流動制御デバイスを使用して流動を誘導することを含む、請求項２９に記載のアルミニウム製品。
（請求項３５）
平行に共に連結された第１のプレート及び第２のプレートを有するプレートノズルを含む供給管であって、少なくとも１つの出口ノズルの方へ前記プレートノズルを通して溶融金属を導くための通路を画定する、供給管を備える、装置。
（請求項３６）
溶融液溜め中に潜水可能かつ前記プレートノズルの前記少なくとも１つの出口ノズルに隣接して位置付け可能な二次ノズルを更に備え、前記二次ノズルが、溶融金属が前記プレートノズルから絞りを通過することに応答して前記溶融液溜めを循環させるために低圧領域を生成するように形作られた前記絞りを含む、請求項３５に記載の装置。
（請求項３７）
前記二次ノズルが、前記プレートノズルに取り外し可能に連結可能である、請求項３６に記載の装置。
（請求項３８）
前記少なくとも１つの出口ノズルが、前記溶融金属を非平行方向に導くための２つの出口ノズルを含む、請求項３５に記載の装置。
（請求項３９）
溶融液溜め中に潜水可能な２つの二次ノズルを更に備え、各二次ノズルが、前記プレートノズルの前記２つの出口ノズルの対応する１つに隣接して位置付け可能であり、前記２つの二次ノズルのそれぞれが、溶融金属が前記２つの出口ノズルの前記対応する１つから絞りを通過することに応答して前記溶融液溜めを循環させるために低圧領域を生成するように形作られた前記絞りを含む、請求項３８に記載の装置。
（請求項４０）
前記プレートノズルを通る前記溶融金属の流動を制御するための、前記供給管に連結された流動制御デバイスを更に備える、請求項３５に記載の装置。
（請求項４１）
前記流動制御デバイスが、前記通路を通る磁場を生成するように前記供給管に隣接して位置付けられた少なくとも１つの静的永久磁石と、前記通路と接触して前記供給管に位置付けられた一対の電極と、を含む、請求項４０に記載の装置。
（請求項４２）
前記一対の電極及び前記少なくとも１つの静的永久磁石は、前記通路内の前記一対の電極を通過する前記磁場の方向及び電流の方向が共に、前記供給管の長さに垂直に方向付けられるように、位置付けられる、請求項４１に記載の装置。