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(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
大重量で振動を伴う機器を支える機器の基礎構造であって、  杭の上側に、マット基礎より増厚されたマット基礎増厚部と、前記機器を支える機器基礎とが順に設けられ、前記マット基礎増厚部と前記機器基礎との間に防振材が介装され、該防振材が、前記杭の真上位置に集中配置されていることを特徴とする機器の基礎構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、比較的大重量で振動を伴う機器を支える、機器の基礎構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
大型の輪転機は、大重量で、しかも回転部分を有する関係上振動を伴う。
従来一般に、このような大重量でかつ振動を伴う機器を支える基礎構造として図５および図６に示すように、杭１０の上側にフラットスラブからなるマット基礎１１を設け、該マット基礎１１の上方に機器１２を支える機器基礎１３を設け、マット基礎１１と機器基礎１３との間に複数の防振材１４を、機器基礎１３の全面にわたって均等に介装してなるものが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来の機器の基礎構造にあっては、次の問題があった。
すなわち、機器基礎１３は防振用として質量効果を持たせるため、ある程度重量を重くする必要があり、この重量が嵩む機器基礎１３と大重量の機器１２の荷重を、均等配置された防振材１４を介して下側のマット基礎１１で受け、マット基礎１１に係る荷重を局所的に配置された下側の杭１０で受けることとなる。
このとき、マット基礎１１は機器１２等の荷重をほぼ上面全域で受け、該荷重を下側の局所的に配置された杭１０の頭部に伝えるため、強度上ある程度の厚さＴｂが必要になり、結果的にマット基礎１１を一定値以上に薄くすることができない。この結果、厚めのマット基礎１１を施工するため根伐量が多くなったり、またマット基礎１１を打設するため大量のコンクリートが必要となっていた。
【０００４】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、マット基礎の厚さを薄くすることができ、これに伴い、根伐量とコンクリートの使用量を減少させるとともに、工期並びに工費の低減が図れる機器の基礎構造を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため請求項１にかかる発明では、大重量で振動を伴う機器を支える機器の基礎構造であって、杭の上側に、マット基礎より増厚されたマット基礎増厚部と、前記機器を支える機器基礎とが順に設けられ、前記マット基礎増厚部と前記機器基礎との間に防振材が介装され、該防振材が、前記杭の真上位置に集中配置されていることを特徴としている。
【０００６】
この発明によれば、機器基礎は、上面で上側の機器の荷重をうけて下方の局所的に配置された防振材に伝え、さらに杭に伝える。
この結果、防振材の下側に配置するマット基礎の厚さを薄くできる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づき本発明の機器の基礎構造の実施の形態を説明する。
図１〜図４は本発明にかかる機器の基礎構造の実施の形態を示している。図１において符号１は杭である。杭１の上側には、マット基礎２より増厚されたマット基礎増厚部２ａと、例えば輪転機等の機器３を支える機器基礎４とが順に設けられている。マット基礎増厚部２ａと機器基礎４との間には防振材５が介装されている。
【０００８】
前記防振材５は、杭１の真上位置に集中配置されている。ここで真上位置とは、マット基礎３の厚さをＴａとしたとき、この厚さＴａの値と同程度（あるいは０．５倍程度）杭１の外周位置１Ａからはみ出したものも含むものとする。
防振材５は、前記図５および図６で説明した防振材１４と同じ機能をもつものが使用され、その数も従来と同程度にされており、したがって、防振材１個あたりが受け持つ荷重は従来のものと同程度である。
【０００９】
防振材５の具体的構造の一例について説明すると、図３および図４に示すように、ここでは、防振材５として、上板６と底板７との間にゴム材８が挟み込まれた一般的なものを用いている。上板６のゴム材８からはみ出した部分６ａは下方に斜めに折り曲げられており、ゴム材８の上端部の変形を若干拘束する構造になっている。また、ゴム材８の上面部には複数の空所８ａが形成されており、この空所８ａの容量や位置によって防振材５の特性が決定される。したがって、ここでは、ゴム材８の空所８ａの容量や位置は輪転機等の機器３および機器基礎４の重量や、機器３の振動の振幅、周波数等によって決定される。
【００１０】
また、輪転機等の機器３が脚部を有する場合には、該脚部を配置する個所は、防振材５の真上、言い換えれば、杭１の真上が好ましい。機器基礎４に加わる剪断荷重を減少させられるからである。
【００１１】
上記構成の機器の基礎構造によれば、機器３の重量や振動等の荷重は機器基礎４に伝わり、機器基礎４の下側に配置された防振材５を介して下方マット基礎増厚部２ａに伝わり、さらにその下側の杭１に伝わる。
この結果、防振材５の下側に配置するマット基礎２の厚さＴａを薄くできる。
【００１２】
ちなみに、輪転機等機器３の重量や振動の特性によっても異なるが、図５、図６で示した従来のマット基礎１１では、厚さＴｂが１５００ｍｍ程度必要であったものが、本願発明の基礎構造を採用することにより、厚さＴａが１／３の５００ｍｍで足りることとなっり、マット基礎増厚部２ａの厚さは７００ｍｍとなる。
【００１３】
上述した発明の実施の形態の機器の基礎構造によれば、防振材として主にゴム材を用いたものを例に挙げたが、これに限られることなく、他の減衰材料を主とした防振材を用いる場合でも、本発明は適用可能である。
また、上述した発明の実施の形態では、機器基礎４としてコンクリート製のものを用いたが、勿論他の材料からなる機器基礎４を用いた場合にも本発明は適用可能である。
【００１４】
【発明の効果】
請求項１にかかる発明によれば、杭の上側に、マット基礎より増厚されたマット基礎増厚部と、前記機器を支える機器基礎とが順に設けられ、前記マット基礎増厚部と前記機器基礎との間に防振材が介装され、該防振材が、前記杭の真上位置に集中配置されているから、防振材の下側に配置するマット基礎増厚部のみの厚さを厚くし、その他のマット基礎の厚さが少なくできる。この結果、マット基礎を施工する際の根伐量を少なくでき、かつ、コンクリートの使用量を減少させることもできる。さらに、工期並びに工費の低減が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の機器の基礎構造の実施の形態を示すもので、同基礎構造の断面図である。
【図２】  図１のＸーＸ線に沿う矢視図である。
【図３】  同基礎構造の中で用いられる防振材の平面図である。
【図４】  同防振材の断面図である。
【図５】  従来の機器の基礎構造を示すもので、同基礎構造の断面図である。
【図６】  図５のＹーＹ線に沿う矢視図である。
１  杭
２  マット基礎
３  機器
４  機器基礎
５  防振材
６  上板
７  底板
８  ゴム材
【図１】
0003690499.tif 000002
【図２】
0003690499.tif 000003
【図３】
0003690499.tif 000004
【図４】
0003690499.tif 000005
【図５】
0003690499.tif 000006
【図６】
0003690499.tif 000007
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シールドと、該シールド内に張設されたワイヤ電極と、シールドの開口部に感光体と所定の間隔をもって配設されたグリッド電極と、該グリッド電極に形成された多数の開口とを備え、前記開口の感光体側の周縁に突起部を形成したことを特徴とするスコロトロン帯電装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真法等を用いる複写機、プリンタ、ファクシミリ等の画像形成装置において、感光体表面を一様に帯電させるためのスコロトロン帯電装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図２は、本発明が適用されるスコロトロン帯電装置を示し、図２（Ａ）は断面図、図２（Ｂ）は図２（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、図２（Ｃ）はグリッド電極の平面図である。
【０００３】
図２（Ａ）および図２（Ｂ）に示すように、導電性材料で構成された略コ字状断面のシールド１と、このシールド１内に張設されたコロナ放電用ワイヤ電極２と、シールド１の開口部に感光体４と所定の間隔をもって配設されたグリッド電極３を備えている。グリッド電極３には、図２（Ｃ）に示すように、感光体４の移動方向に対して角度を有して多数の開口５がグリッド電極３の長手方向に並べられて形成されている。そして、シールド１とワイヤ電極２の間に数ｋＶの直流高電圧を印加し、グリッド電極３に数１００Ｖの高電圧を印加する。
【０００４】
これにより、ワイヤ電極１からグリッド電極３の開口５を通って感光体４表面に向かってイオンが放射され光導電層への帯電が行われる。感光体４の表面に過剰帯電する部分が発生しても、感光体４表面に存在する過剰イオンはグリッド電極３に吸収され、グリッド電極３に印加された高電圧へ均一に帯電することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のスコロトロン帯電装置においては、ワイヤ電極１から放射されたイオンは、グリッド電極３の開口５を通った状態では、図３（Ａ）に示すように、グリッド電極３と感光層４ａ間で形成される等電位線が滑らかな分布を有し、その結果、感光体４表面を帯電させるために使用される単位時間当たりのイオン流量が少なく、感光体４表面を所望の電位にまで帯電させるために時間がかかるという問題を有し、とくに、画像形成装置の高速化に伴い感光体４を高速回転させた場合には、図３（Ｂ）に示すように、ワイヤ電極２のコロナ点（放電点）２ａから放射され、感光体４に帯電された帯電斑（ハッチング部）６間に隙間が生じてしまい、均一な帯電ができないという問題を有している。
【０００６】
本発明は、上記従来の問題を解決するものであって、感光体の表面電位を設定値どおりに、均一かつ高速に帯電させることができる帯電装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
そのために本発明のスコロトロン帯電装置は、シールドと、該シールド内に張設されたワイヤ電極と、シールドの開口部に感光体と所定の間隔をもって配設されたグリッド電極と、該グリッド電極に形成された多数の開口とを備え、前記開口の感光体側の周縁に突起部を形成したことを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。図１は、本発明のスコロトロン帯電装置の１実施形態を示し、図１（Ａ）はグリッド電極の一部断面図、図１（Ｂ）は作用を説明するための図である。
【０００９】
本発明のスコロトロン帯電装置は、図２（Ａ）および図２（Ｂ）で説明したように、導電性材料で構成された略コ字状断面のシールド１と、このシールド１内に張設されたコロナ放電用ワイヤ電極２と、シールド１の開口部に感光体４と所定の間隔をもって配設されたグリッド電極３を備えている。グリッド電極３には、図２（Ｃ）に示すように、感光体４の移動方向に対して角度を有して多数の開口５がグリッド電極３の長手方向に並べられて形成されている。そして、シールド１とワイヤ電極２の間に数ｋＶの直流高電圧を印加し、グリッド電極３に数１００Ｖの高電圧を印加する。
【００１０】
本発明の特徴とする点は、図１（Ａ）に示すように、グリッド電極３の開口５の感光体４側の周縁に突起部７を形成した点である。図中、点線は等電位線、４ａは感光層、４ｂは感光層担持体を示し、感光層担持体４ｂは接地されている。
【００１１】
上記構成からなる本発明のスコロトロン帯電装置の作用について説明する。ワイヤ電極１からグリッド電極３の開口５を通って感光体４表面に向かってイオンが放射され光導電層４ａへの帯電が行われる。感光体４の表面に過剰帯電する部分が発生しても、感光体４表面に存在する過剰イオンはグリッド電極３に吸収され、グリッド電極３に印加された高電圧へ均一に帯電することができる。
【００１２】
本発明においては、グリッド電極３の開口５の感光体４側の周縁に突起部７を形成しているため、ワイヤ電極１から放射されたイオンは、グリッド電極３の開口５を通った状態では、図１（Ａ）の等電位線で示すように、開口５付近で電界強度が増大し、その結果、開口５をイオンが通過し易くなり、感光体４表面を帯電させるために使用される単位時間当たりのイオン流量が増大し、感光体４表面を所望の電位にまで短時間で帯電させることができる。
【００１３】
従って、感光体４を高速回転させた場合でも、図１（Ｂ）に示すように、ワイヤ電極２のコロナ点（放電点）２ａから放射され、感光体４に帯電された帯電斑（ハッチング部）６間の隙間が埋められ（図３（Ｂ）と比較して）、均一な帯電を行うことができ、感光体の表面電位を設定値どおりに、均一かつ高速に帯電させることができる。
【００１４】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、シールドと、該シールド内に張設されたワイヤ電極と、シールドの開口部に感光体と所定の間隔をもって配設されたグリッド電極と、該グリッド電極に形成された多数の開口とを備え、前記開口の感光体側の周縁に突起部を形成したので、感光体の表面電位を設定値どおりに、均一かつ高速に帯電させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のスコロトロン帯電装置の１実施形態を示し、図１（Ａ）はグリッド電極の一部断面図、図１（Ｂ）は作用を説明するための図である。
【図２】本発明が適用されるスコロトロン帯電装置を示し、図２（Ａ）は断面図、図２（Ｂ）は図２（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、図２（Ｃ）はグリッド電極の平面図である。
【図３】本発明の課題を説明するための図である。
【符号の説明】
１…シールド
２…ワイヤ電極
３…グリッド電極
４…感光体
５…開口
７…突起部
【図１】
0003690497.tif 000002
【図２】
0003690497.tif 000003
【図３】
0003690497.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶接のプログラムをスタートするステップと、溶接部の溶接長等の数値を入力するステップと、溶接施工をスタートするステップと、溶接条件分析に必要な電流、電圧、パス間温度、アークタイム等の各値を自動計測するステップと、これらの計測値から入熱を計算するステップと、入熱及びパス間温度と基準値との比較を行うステップと、入熱及びパス間温度が基準値をクリアした場合は、次パス以降の溶接施工を継続して行うステップと、入熱は基準値をクリアするがパス間温度が高くなり過ぎた場合は、温度基準をクリアするまで電源供給を強制的に停止するステップと、入熱、パス間温度共に基準値をクリアできなかった場合は、管理者に通告し今後の対応を検討するステップとを含むことを特徴とする溶接制御システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、炭酸ガスアーク溶接等の溶接制御システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
阪神大震災後、鉄骨構造物の溶接部の品質に関して注目を浴び、溶接部に求められる品質に対する概念が変化すると共に、より良い品質を確保するための手法が模索されている。溶接部の品質は、外観検査と非破壊検査による内部欠陥検出によって確認することが一般的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の外観検査と非破壊検査による内部欠陥検出は、厄介であると共に非能率的であり、既設建物への適用が容易でない問題があり、このため新設時に溶接部の品質を確保することが要望される。
炭酸ガスアーク溶接等において、溶接部の良好な品質を得るための手法の一つとして溶接条件によるプロセス管理が考えられる。ここで溶接条件とは、入熱とパス間温度と呼ばれるものである。入熱は、電流と電圧の積を溶接速度で除した数値（電流×電圧／溶接速度）で表される溶接時の投入エネルギーであり、パス間温度は溶接直前の母材表面温度である。溶接条件は溶接部の機械的性質に大きな影響を与えるにも拘わらず、従来の品質管理体制下では作業者の熟練や勘に依存する場合が多く、必ずしも充分満足できるものではなかった。
【０００４】
本発明は、このような従来の事態に鑑みなされたもので、炭酸ガスアーク溶接等の場合に、作業者の熟練や勘に頼ることなく、溶接施工時の溶接条件を自動計測し、これに基づいて溶接品質の向上と管理ができるようにした溶接制御システムを提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するための具体的手段として、本発明は、溶接のプログラムをスタートするステップと、溶接部の溶接長等の数値を入力するステップと、溶接施工をスタートするステップと、溶接条件分析に必要な電流、電圧、パス間温度、アークタイム等の各値を自動計測するステップと、これらの計測値から入熱を計算するステップと、入熱及びパス間温度と基準値との比較を行うステップと、入熱及びパス間温度が基準値をクリアした場合は、次パス以降の溶接施工を継続して行うステップと、入熱は基準値をクリアするがパス間温度が高くなり過ぎた場合は、温度基準をクリアするまで電源供給を強制的に停止するステップと、入熱、パス間温度共に基準値をクリアできなかった場合は、管理者に通告し今後の対応を検討するステップとを含む溶接制御システムを要旨とするものである。
【０００６】
本発明は、溶接時における溶接条件を自動的に計測し分析することによって、溶接施工を制御し、溶接部の良好な品質を確保することができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
次に、本発明を鉄骨躯体の炭酸ガスアーク溶接に適用した実施形態を添付図面に基づいて説明する。図１は、溶接制御システムのフローを示すもので、先ず溶接最適制御プログラムをスタート（ステップＳ０）させ、第１のステップＳ１にて管理者による溶接部の板幅（フランジ幅）等の数値が入力される。この板幅等の数値を後ほど自動計測するアークタイムで除算することで、入熱計算に必要な溶接速度を算出できる。
【０００８】
次いで、第２のステップＳ２にて溶接施工をスタートし、その溶接開始状況に基づき第３のステップＳ３にて電流、電圧、パス間温度、アークタイム（１パスに要する時間）等を自動計測する。この計測値に基づいて、第４のステップＳ４にて入熱の計算を行う。
【０００９】
計算により得られた入熱及び前記パス間温度と、予め入力し記憶させてある基準値とを第５のステップＳ５において比較し、その後のアクションを制御する。即ち、入熱、パス間温度共に基準値をクリアした場合（ＹＥＳ）は、次パス以降も継続して溶接施工を行い、入熱は基準値をクリアしたがパス間温度が高くなり過ぎた場合（ＮＯ）は、第６のステップＳ６で電流を停止し、その後第７のステップでパス間温度と所定温度との比較をし、それを満足した場合（ＹＥＳ）には溶接施工を開始し、満足しない場合（ＮＯ）には第６のステップＳ６に戻り、所定温度に達するまで電流停止を続行する。又、入熱、パス間温度共に基準値をクリアできなかった場合（ＮＯ）には、第８のステップＳ８にて管理者に通告し今後の対応を検討する。
【００１０】
このようにして、溶接条件を自動的に計測し且つ分析することによって、溶接施工を自律的にコントロールし、溶接部の品質を確保すると共に効率良く溶接施工することができる。尚、上記実施形態では炭酸ガスアーク溶接の例で説明したが、本発明はこれに限らず各種の溶接に適用できるものである。
【００１１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、溶接施工時に電流、電圧、パス間温度、アークタイム等を自動計測し、この計測値に基づいて入熱を計算し、入熱及びパス間温度と基準値と比較することで溶接施工を制御するようにしたので、従来の作業者の熟練や勘に頼ることなく適正な溶接施工が可能となる。従って、本発明は次のような優れた効果を奏することができる。
▲１▼  溶接部の品質が安定する。
▲２▼  溶接品質確保に必要な検査労務を削減できる。
▲３▼  溶接条件の変化に柔軟に対応できる。
▲４▼  溶接品質管理体制を確立できる。
▲５▼  溶接品質を確保しつつ、溶接効率の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る溶接制御システムの実施形態を示すフロー図である。
【符号の説明】
Ｓ０…プログラムスタート
Ｓ１…第１のステップ
Ｓ２…第２のステップ
Ｓ３…第３のステップ
Ｓ４…第４のステップ
Ｓ５…第５のステップ
Ｓ６…第６のステップ
Ｓ７…第７のステップ
Ｓ８…第８のステップ
【図１】
0003690491.tif 000002
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上下方向水路の弁室２３の側部にシリンダー１５と、シリンダー１５の対側の下部に、流入口Ｂ２０と、流入口Ｂ２０の周囲に弁座２１と、シリンダー１５の上部の弁室空間内で、そこからボール弁１２が落下して弁座２１を塞ぐに充分な落差のある水平な場所にシリンダー入口２４と、その周囲にシリンンダー入口弁座１３を設け、シリンダー入口弁座１３の上にボール弁１２を乗せてボール弁１２の一端をシリンダー１５の内部でシリンダー１５との間に機密性をもって重力と浮力を受けて上下運動するピストン状浮き子１８の上端とをワイヤー１４で連結した給水の自動停止装置。
【請求項２】
ピストン状浮き子１８が、液体の浮力を受けない時は、ボール弁１２は、ピストン状浮き子１８の重力によりワイヤー１４を介して下方に引っ張られながらシリンダー入口弁座１３の上に安置され、ピストン状浮き子１８が液体による浮力を受けた時は、その浮力によりピストン状浮き子１８がシリンダー１５の内部で上昇するとともにワイヤー１４がたるみ、ボール弁１２がピストン状浮き子１８の上端で突き上げられて弁座２１の上に瞬時に落下し、弁座２１を塞いいで給水を瞬時に停止する請求項１記載の給水の自動停止装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液体を、器に供給する場合、一定量で供給を止める装置である。
【０００２】
【従来の技術】
従来、風呂の給湯は、手動で蛇口を開閉しており、給湯量が定量になっても自動的には止まらなかった。
又、石油ストーブに灯油を給油する場合においては、定量が見えにくく、給油を止める時が分かりにくかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従来、風呂の給湯は手動で行っている為、給湯中に他の家事をしているうち、蛇口を締め忘れて湯が溢れ出すことがあった。
又、石油ストーブに灯油を給油中においては、定量が見えにくく、灯油が溢れ出すことがあった。
本発明は、このような湯水や、灯油等が溢れ出るのを、防ぐことを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のバルブの自動給水停止装置においては、注入する液体が定量になった時に、ピストン状浮き子の動きによりボール弁を弁座へ瞬時に落下させて注入を止めるようにしたものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】
発明の実施の形態を、風呂の給湯の実施例にもとづき、図面（図１）を参照して説明する。
【０００６】
削除
【０００７】
給湯を始めた時、即ち湯船の湯面がピストン状浮き子（１８）より下部にある時は、ピストン状浮き子（１８）に浮力は働かずボール弁（１２）はピストン状浮き子（１８）の重力でワイヤー１４を介して引っ張られてシリンダー入口弁座（１３）の位置に安置する。
この状態で、蛇口（１）から流れ下る湯は、流入口Ａ（５）から入り流入口Ｂ（２０）を通り、流出口（２２）へと流れ下る。
【０００８】
給湯量が定量になった時、即ち湯面がピストン状浮き子（１８）に到達した時は、ボール弁（１２）はピストン状浮き子（１８）の浮力にによって突き上げられ、シリンダー入口弁座（１３）から
弁座（２１）の位置へ瞬時に落下する。
【０００９】
弁座（２１）の位置に落下したボール弁（１２）は、流入口Ｂ（２０）を塞ぎ、湯が流入口Ｂ（２０）へ流入するのを止める。
【００１０】
再び湯面がピストン状浮き子（１８）より下がった時に、再び自動的に給水を始めるか否かは、ボール弁（１２）とピストン状浮き子（１８）の重力と浮力との三つの力関係を組み合わせることによって選択することが出来る即ち、その力関係がピストン状浮き子（１８）の浮力＞ボール弁（１２）の重力＞ピストン状浮き子（１８）の重力の場合は給水は再開されず、ピストン状浮き子（１８）の浮力＞ピストン状浮き子（１８）の重力＞ボール弁（１２）の重力の場合は再び自動給水状態となる。
【００１１】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したように構成されているので以下に記述する効果がある。
【００１２】
本発明の定量感知バルブを風呂の蛇口に取り付けておけば、湯船の湯量が定量になった時、自動的に給湯を止めることが出来るので、蛇口の閉め忘れによって湯が溢れ出すことはない。
【００１３】
弁を閉じる作動は、ボール弁（１２）の落下によって瞬時に作動するので、給湯時間への影響はない。
【図面の簡単な説明】
【図１】定量感知バルブの断面図であり、弁が開いている状態の図である。
【図２】定量感知バルブの断面図であり、弁が閉じている状態の図である。
【図３】定量感知バルブを下から見た時の図面である。
【符号の説明】
１      蛇口
２      止めネジ
３      カプラー接手
４      Ｏリング
５      流入口Ａ
６      カプラーボール
７      スプリング
８      ボルト
９      リングパッキン
１０      本体
１１      連結ネジ
１２      ボール弁
１３シリンダー入口弁座
１４      ワイヤー
１５      シリンダー
１６      ワイヤー止め
１７      シリンダー下部
１８      ピストン状浮き子
１９      浮き子ツバ
２０      流入口Ｂ
２１      弁座
２２      流出口
２３      弁室
２４      シリンダー入り口
【図１】
0003690369.tif 000002
【図２】
0003690369.tif 000003
【図３】
0003690369.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータのファイル等に保存される各種データに対する利用許可モードを利用形態と権限の強い区分順にしたユーザ区分の２次元配列で表示する手段と、
前記２次元配列の表示に対するユーザ区分と利用形態の１区分の変更指示を受け付けるユーザインタフェースと、
前記変更指示される区分の現在モードが利用不許可か利用許可かを判定する手段と、
前記判定で現在モードが利用不許可であれば利用許可に変更すると共に当該ユーザ区分よりも権限の強い区分を利用許可に変更する手段と、
前記判定で現在モードが利用許可であれば利用不許可に変更すると共に当該ユーザ区分よりも権限の弱い区分を利用不許可に変更する手段とを備えたことを特徴とするデータ利用許可モードの変更方式。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンピュータのファイル等に保存される各種データに対する利用許可モード（パーミッション）の変更方式に関する。
【０００２】
【従来の技術】
複数の人が使用するコンピュータでは、ファイル等に保存した各種データに対して、その所有者（通常、データを保存したユーザ）だけでなく、他のユーザにも「制限付き」で利用可能とすることで、複数のユーザ間で円滑なデータ共有を実現できるようにしている。
【０００３】
この場合、例えば、ユーザは、所有者と、所有者と同じグループのユーザと、その他のユーザという３つの区分に分け、各区分毎に利用許可と不許可を設定できるようにしている。さらに、同じ区分でもデータの読出し、書込み、実行などのデータ利用形態別に許可と不許可を設定できるようにしている。
【０００４】
図２は、従来の利用許可モードの設定のためのユーザインタフェース例を示す。同図では、利用者区分を所有者と、グループに属するユーザと、その他のユーザに分け、利用形態を読出しと書込みと実行に分けて設定できるようにしており、このインタフェース画面上の設定で利用許可モードを変更する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従来の利用許可モードの変更方式では、ユーザが任意に設定変更できるため、運用上で不自然な設定をそのまま受け付けてしまうという問題がある。
【０００６】
ここで、不自然な設定とは、下記表１に示す設定例のように、「所有者」にとって「書込み不許可」でそれ以外のユーザが「書込み許可」に設定され、主な利用者より権限の弱い区分のユーザに強い権限を持たせている。
【０００７】
【表１】
0003690007.tif 000002
【０００８】
本発明の目的は、ファイル等のデータの利用許可モードの変更に不自然な設定を無くす変更方式を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ある区分のモード変更には、その利用形態の上位（権限の強い）区分又は下位（権限の弱い）区分についても自動的に利用許可又は利用不許可にモード変更することにより不自然な変更を無くすようにしたもので、以下の構成、
コンピュータのファイル等に保存される各種データに対する利用許可モードを利用形態と権限の強い区分順にしたユーザ区分の２次元配列で表示する手段と、
前記２次元配列の表示に対するユーザ区分と利用形態の１区分の変更指示を受け付けるユーザインタフェースと、
前記変更指示される区分の現在モードが利用不許可か利用許可かを判定する手段と、
前記判定で現在モードが利用不許可であれば利用許可に変更すると共に当該ユーザ区分よりも権限の強い区分を利用許可に変更する手段と、
前記判定で現在モードが利用許可であれば利用不許可に変更すると共に当該ユーザ区分よりも権限の弱い区分を利用不許可に変更する手段とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施形態を示す利用モード変更指示に対する処理手順図である。
【００１１】
（Ｓ１）ユーザによる利用モード変更指示には、現在の許可モードＭｏｄｅ「ＵＥＮＤ，ＦＥＮＤ」を表示する。この許可モード表示には、各ファイルについて変更モードの状態を保持するデータ領域として、下記表に示すように２次元配列で用意する。
【００１２】
【表２】
0003690007.tif 000003
【００１３】
この配列の第１の次元は、ユーザ区分に相当し、最も権限の強いユーザ区分に番号１を与え、以降には権限の１段階弱くなる毎にユーザ区分の通し番号２、３、…、ＵＥＮＤを与える。
【００１４】
同配列の第２の次元は、ファイルに対する「読出し」、「書込み」などの機能を、利用形態の場合の数（ＦＥＮＤ通り）だけ用意する。
【００１５】
（Ｓ２）利用モード変更を行うユーザがユーザ区分ｕｓｅｒと利用区分ｆｕｎｃを入力する。この利用モードの変更指示を受け付ける手段には、図２の場合と同様のユーザインタフェースを使用する。
【００１６】
このユーザによる入力形態は、１回の利用モード変更指示では１つのフラグのみがユーザによって操作され、同時に２つ以上のフラグが操作されないものとされ、いずれか１つのフラグをユーザが操作することでそのフラグがＯＮ（利用許可）とＯＦＦ（利用不許可）で交互に切り替えられる。
【００１７】
（Ｓ３）処理Ｓ２でユーザによって入力された変更区分Ｍｏｄｅ「ｕｓｅｒ，ｆｕｎｃ」の値をフラグ変数０ｆｌａｇに代入する。例えば、処理Ｓ２での入力内容でｕｓｅｒが前記表２のユーザ区分ＵＥＮＤで、ｆｕｎｃが利用方法１とすると、この２次元データが０ｆｌａｇに入力される。
【００１８】
（Ｓ４）処理Ｓ３で入力されたフラグ変数０ｆｌａｇの２次元配列に相当する利用モード（表２）の内容がＯＦＦか否かを判定する。
【００１９】
（Ｓ５）処理Ｓ４での判定がＯＦＦであれば、１からｕｓｅｒまでの各ユーザ区分ｕについて変更区分Ｍｏｄｅ「ｕ，ｆｕｎｃ」の値をＯＮにする。
【００２０】
例えば、処理Ｓ２での入力内容でｕｓｅｒが前記表２のユーザ区分ＵＥＮＤで、ｆｕｎｃが利用方法１であれば、当該区分をそれまでのＯＦＦからＯＮにすると共に、当該区分よりも権限の強いユーザ区分の全てをＯＮにし、利用区分の変更に不自然な設定を無くす。
【００２１】
（Ｓ６）処理Ｓ４での判定がＯＦＦでなければ、すなわちＯＮであれば、ｕｓｅｒからＵＥＮＤまでの各ユーザ区分について変更区分Ｍｏｄｅ「ｕ，ｆｕｎｃ」の値をＯＦＦにする。
【００２２】
例えば、処理Ｓ２での入力内容でｕｓｅｒが前記表２のユーザ区分１で、ｆｕｎｃが利用方法１であれば、当該区分をそれまでのＯＮからＯＦＦにすると共に、当該区分よりも権限の弱いユーザ区分の全てをＯＦＦにし、権限の弱いユーザ区分にＯＮが存在するという利用区分の変更に不自然な設定を無くす。
【００２３】
（Ｓ７）処理Ｓ５又は処理Ｓ６で変更された新しい許可モードＭｏｄｅ「ＵＥＮＤ，ＦＥＮＤ」の表示を行う。
【００２４】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明によれば、ある区分のモード変更には、その利用形態の上位区分又は下位区分についても自動的に利用許可又は利用不許可にモード変更するようにしたため、ユーザによるモード変更指示に不自然な変更を無くすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態を示す利用モード変更指示に対する処理手順。
【図２】利用モード変更指示のユーザインタフェースの例。
【図１】
0003690007.tif 000004
【図２】
0003690007.tif 000005
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
切換レバーが第１位置及び第２位置に夫々偏移されたときに夫々縁かがり縫い及び他の縫いがなされるように駆動され、前記縁かがり縫い及び前記他の縫いがなされる前に夫々第１針板及び第２針板が機枠の一方側に設けられた針板機構に装架されるようにしたミシンにおいて、前記切換レバーが第１位置に偏移されたときに前記針板機構に前記第２針板が装架されていた場合に、前記切換レバーと連動するリンク機構の遊端部が前記第２針板を前記針板機構から排除するようにしたミシン。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する利用分野】
本発明は、ミシンに関し、特に切換レバーの操作により縁かがり縫いと他の縫い（例えば二重環縫い）を選択できるにしたミシンに関する。
【０００２】
【従来の技術】
上記したようなミシンとしては、例えば、実開平５−９１５７６号公報に開示されたものがある。このミシンにおいては、縁かがり縫い（二重環縫い）を行う場合、まず切換レバーが第１の位置（第２の位置）に偏移される。そして、フレーム上に縁かがり縫い（二重環縫い）専用針板が載置される。しかして、切換レバーの先端部には突起が形成されており、この突起が、各専用針板に形成された穴に係合することにより、前記した各専用針板の載置が完全になされる。もし、切換レバーが第１の位置（第２の位置）に偏移された状態で、フレーム上に二重環縫い（縁かがり縫い）専用針板が載置されようとすると、その穴に突起が嵌合できないので、針板の取り違えが判明できるようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記したミシンにおいては、各針板に前記したような穴を形成する他、各針板のフレームに対する位置決め用の穴を、別途、形成する必要がある。その際に、かような位置決め用の穴に嵌合する突起も、また、フレーム側に形成せねばならない。そして、縁かがり縫い（二重環縫い）専用針板上の２つの穴間のピッチを、フレーム上の突起と第１の位置（第２の位置）にある切換レバー上の突起との間のピッチに等しくせねばならない。かくして、上記したミシンにおいては、部品の精度管理や組み付け時の精度管理をシビアに行う必要があり、実用化には困難が伴う。
【０００４】
それ故に、本発明は、かかる従来技術の不具合を解消せんことを技術的課題とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記技術的課題を解決するために請求項１記載の発明において講じた技術的手段は、切換レバーが第１位置及び第２位置に夫々偏移されたときに夫々縁かがり縫い及び他の縫いがなされるように駆動され、前記縁かがり縫い及び前記他の縫いがなされる前に夫々第１針板及び第２針板が機枠の一方側に設けられた針板機構に装架されるようにしたミシンにおいて、前記切換レバーが第１位置に偏移されたときに前記針板機構に前記第２針板が装架されていた場合に、前記切換レバーと連動するリンク機構の遊端部が前記第２針板を前記針板機構から排除するようにしたことである。
【０００６】
【作用および効果】
上記した第１の構成においては、切換レバーが第１位置に偏移されたときに針板機構に第２針板が装架されていた場合、切換レバーと連動するリンク機構の遊端部が第２針板を針板機構から排除するようにしたので、他の縫いのための第２針板が針板機構に装架された状態で縁かがり縫いの駆動がなされて、上ルーパが上下動することにより第２針板と衝突するような事態を避けることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明に係るミシンの一実施形態を添付図面にもとづいて説明する。
【０００８】
図１において、ミシン１０は機枠１１を備える。機枠１１はベッド部１２とアーム部１３とから形成されている。しかして、アーム部１３は、ベッド部１２の右側部から起立した後ベッド部１２と平行して左側に延在して、顎部１３ａにて終焉する。針１４が装架された置顎部１３ａは、ベッド部１２の左側部内に配設された針板機構２０の針板２１（若しくは２２）と所定の間隔をおいて対峙している。
【０００９】
ミシン１０は、機枠１１の右側下部に装架されたレバー３０のが図２のＣ位置にあるときは二重環縫いを行い、図２のＳ位置にあるときは縁かがり縫いを行うようになっている。すなわち、レバー３０の一端部３０ａは機枠１１の表面に露呈しており、他端部は、ベッド部１２内において図示されない機構と連係している。そして、レバー３０がＣ位置にあるときは、軸４１の先端部に連結された上ルーパ４２は、図２に示す実線位置に保持されて、図示されない環ルーパと針１４とが共同して二重環縫いを行うようになっている。また、レバー３０がＳ位置にあるときは、図示されない下ルーパと実線位置と破線位置との間を上下方向に往復動する上ルーパ４２とが共同して縁かがり縫いを行うようになっている。
【００１０】
図３に明瞭に示されるように、レバー３０の中間部３０ｂが、アーム部１２の内部表面にネジ５３にて枢支された第１リンク体５１の下方延在腕５１ａと連結されている。しかして、第１リンク体５１の左方延在位腕５１ｂにはピン５２が固定されており、このピン５２は、アーム部１２の内部表面にネジ５４にて枢支された第２リンク体５５の右腕部に形成されたスリット５５ｂ内に摺動係合している。そして、第２リンク体５５の左腕部の先端部には平面部５５ａが形成されている。
【００１１】
更に図２を参照して第１リンク体５１及び第２リンク体５５について説明すると、レバー３０のが図２のＣ位置にあってミシンが二重環縫いを行うときは、第１リンク体５１及び第２リンク体５５は、実線位置にある。このとき、第２リンク体５５の左腕部の先端の平面部５５ａは、二重環縫い用針板２２の下面に突設された突起２２ａと僅かな間隔をおいて対峙している。もし、ミシン１０が縁かがり縫いを行わせる場合、二重環縫い用針板２２を縁かがり縫い用針板２１に置き換えずに、レバー３０を図２のＳ位置に偏移させると、第１リンク体５１及び第２リンク体５５が破線位置に偏移し、第２リンク体５５の左腕部の先端の平面部５５ａが、二重環縫い用針板２２の下面に突設された突起２２ａと係合して押し上げ、二重環縫い用針板２２が針板機構２０から排除される。かくして、使用者は、縁かがり縫い針板２１の装着の失念に気が付き、縁かがり縫い針板２１をミシン駆動前に正しく装着することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のミシンの一実施形態例の透視的正面図である。
【図２】図１に示すミシンの要部の正面図である。
【図３】リンク機構の先端部と各針板の関係を示す斜視図である。
【符号の説明】
２０    針板機構
２１    縁かかり縫い専用針板（第１針板）
２２    二重環縫い専用針板（第２針板）
３０    レバー
５５    リンク体（リンク機構）
５５ａ  遊端部
【図１】
0003690087.tif 000002
【図２】
0003690087.tif 000003
【図３】
0003690087.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタン製真空容器を１０-5Ｔｏｒｒ以下の真空度の他の真空容器内に入れて、４００〜８００℃で１２時間以上の加熱処理を行うことを特徴とするチタン製真空容器の熱処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は短時間で１０-10 Ｔｏｒｒ以下の超高真空に到達させることができるチタン製真空容器の真空中での熱処理法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、チタン製（純チタン及びチタン合金を含む）真空容器は耐蝕性を向上させるためだけの目的で表面の酸化などによる不動態化処理が行われていた（例えば、特開平４−２９９６７４号公報参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この不動態化処理は真空容器内壁に均一に施すことが困難である。また、その処理自身が水などの主要残留ガスの吸着をどの程度低減できるか、あるいは内部に吸蔵された水素などの脱離をどの程度抑制できるかが分かっておらず、装置のメインテナンスや試料の交換のために容器を大気に開放する機会の多い用途においては、真空の再現性のためにその都度長時間（約１２時間）の焼き出しが必要であった。このことは、高いスループットが要求される半導体生産などのラインや超高真空領域の実験でのチタン製真空容器の使用には問題があることを示している。
【０００４】
そこで本発明では上記問題点を解決するため、チタン製真空容器の内壁表面及び内部に吸蔵されたガス成分を効率的に除去することができる方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明はチタン製真空容器を１０-5Ｔｏｒｒ以下の真空度の他の真空容器内に入れて、４００〜８００℃で１２時間以上の加熱処理を行うことを特徴とするチタン製真空容器の熱処理方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明で使用するチタン製真空容器とは、例えばＡｌ：１．８〜２．５％、Ｚｒ：２〜３％含有のチタン合金をベースに製作した図１に示すような容器であるが、容器はこの形状に限られるものではなく何れの形であってもよい。また、素材としてＡｌ：１．８〜２．５％、Ｚｒ：２〜３％、残りがＴｉとなる合金を例示したが、チタンとしては純チタンもしくは真空材料として用いられるチタン合金であれば何れでもよい。本発明の４００〜８００℃で１２時間以上の加熱処理において、真空度は１０-5Ｔｏｒｒ以下とすることにより水素の離脱が著しく向上する。好ましくは５×１０-6Ｔｏｒｒ以下、さらに好ましくは１０-6Ｔｏｒｒ以下がよい。また、４００〜８００℃における上限８００℃はチタン内部に吸蔵された水素を効率的に、かつ十分に除去するために、下限４００℃はチタン表面に吸着した水分を最低限除去するために必要であり、好ましくは残留水素ガス分圧ピークをむかえる４７５℃以上、さらに好ましくは５００℃以上がよい。加熱時間についてはチタン内部あるいは表面に存在する水素や水分を除去するのに最低限必要な拡散時間である１２時間を下限としたものであり、２４時間以上あれば万全といえる。また、本発明の効果という点からいえば長時間の加熱により真空度が低下することは考えられないので上限は不要であるが、経済性という点からいえば３０時間以下が好ましい。
【０００７】
（作用）
本発明の方法においては、チタン製真空容器を真空中で４００〜８００℃、１２時間以上の加熱処理を行うことにより、該容器の内部及び内壁表面に吸蔵された水素や水分などのガス成分を十分に除去できる。これは表記温度範囲において生じる熱脱離現象に起因するものである。
【０００８】
【実施例】
以下に本発明の方法を実施例にしたがって詳細に説明する。
本発明で使用するチタン合金製真空容器の形状を図１に示す。図１（ａ）は同容器の縦断面図、図１（ｂ）は（ａ）の半割平面図、図１（ｃ）は（ａ）の側面図である。この容器は図１に示すように、上下に２個の上下貫通穴１、その外周囲に等間隔に４個の横貫通穴２を有したものであり、Ａｌ：１．８〜２．５％、Ｚｒ：２〜３％、残りＴｉからなるチタン合金で形成されたものである。この容器に真空中で５００℃、２４時間の熱処理を図２に示す手順で施す。
【０００９】
図３は本発明で用いたチタン合金素材の高温における脱ガス特性を示している。図３の横軸は走査温度を、縦軸は試料から脱離してくる各脱離種の個数を示す。また、丸印で囲んだ領域を拡大することにより、詳細な検出状況を示す。このときの昇温速度は１０℃／分である。また、丸印で囲んだ領域を拡大することにより詳細な検出状況を示した。図３の（ｃ）は未処理のチタン合金素材を１０-6Ｔｏｒｒの真空中で８００℃まで昇温したときの脱離種を検出した結果を示している。５００℃付近では素材表面に吸着した水とそれに起因する水素が検出され、６００℃以上では素材内部に吸蔵された水素が検出された。これらの成分は８００℃までの加熱により十分に除去可能である。この加熱処理後、処理容器からチタン合金素材を取り出すことなく図３の（ｃ）と同じ条件での室温から再度の加熱処理を行なったところ、図３の（ｂ）に示すようにほとんど脱離してくるものがなかった。また、同じ素材を８００℃までの加熱処理後大気中に室温で２４時間放置して、それを真空処理容器内で図３の（ｃ）と同一条件での加熱処理を行なっても、図３の（ａ）に示すようにほとんど再吸着するものはない。このことから、４００〜８００℃の温度範囲での１０-5Ｔｏｒｒ以下の真空熱処理がチタン合金素材の真空特性によい影響を及ぼすことは明らかである。
【００１０】
この素材を用いて図１に示した真空容器を作製し、排気量：３００リットル／秒のターボ分子ポンプと１２０リットル／分の油回転式ポンプとの組み合わせで排気を行った。その実際の排気特性を測定した結果を図４に示す。図４より、加工直後の熱処理をしていない状態でも容易に２４時間（１４４０分）程度で１０-10 Ｔｏｒｒ台の真空度Ａが実現でき、これに５００℃、２４時間の真空熱処理を施すことにより到達真空度Ｂ及び排気速度の向上が確認された。５００℃の熱処理で除去されるのは表面に吸着した水に起因する水素のみであり、８００℃まで加熱することにより内部に吸蔵された水素も除去できるため、より一層の真空特性の向上が容易に推測できる。
【００１１】
【発明の効果】
本発明は、チタンまたはチタン合金を素材とした真空容器に、真空での熱処理をあらかじめ施しておけば、この真空容器により短時間で超高真空を実現することが可能となると共に一度大気にさらしても急速に元の到達真空度に復帰することを可能にした。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例として試作したチタン合金製真空容器の概略図。
【図２】本発明の一実施例として試作したチタン合金製真空容器の真空熱処理手順を示した図表。
【図３】本発明の一実施例で使用したチタン合金素材の温度に対する脱ガス種及び脱ガス量を示した図表。
【図４】本発明の一実施例として試作したチタン合金製真空容器の真空排気特性図。
【図１】
0003690845.tif 000002
【図２】
0003690845.tif 000003
【図３】
0003690845.tif 000004
【図４】
0003690845.tif 000005
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
化１で表わされるチウラム化合物
【化１】
0003690835.tif 000007
（ここでＲ1，Ｒ2はそれぞれ独立して、水素またはメチル基を示す。）
【請求項２】
ゴムに請求項１の化１で示される化合物を添加してなる当該ゴムの加硫促進方法。
【請求項３】
請求項１の化１で示される化合物を主成分とするゴム用加硫促進剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は新規チウラム化合物に関する。さらに詳しくは、ゴムの加硫促進剤として機能し、また農薬中間体、工業用殺菌剤等多くの分野での利用が考えられる新規チウラム化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、特表平４−５０６６５３号にはメチルメトキシジチオカルバミン酸のテクネチウム塩が、さらにはフランス特許２１０２７１１号にはメチルメトキシジチオカルバミン酸のトリエチルアミン塩が開示されているが、上記に示される新規チウラム化合物は開示されていない。また、ゴム等の加硫促進剤としてのチウラム化合物としては、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラベンジルチウラムジスルフィド、テトラ（２−エチルヘキシル）チウラムジスルフィドなどが公知である。
【０００３】
【課題を解決するための手段】
本発明は化２で表される新規チウラム化合物、および当該化合物によるゴム用加硫促進剤に関する。
【化２】
0003690835.tif 000002
（ここでＲ1，Ｒ2はそれぞれ独立して、水素またはメチル基を示す。）
【０００４】
本発明に係る新規チウラム化合物としては、Ｎ，Ｎ’−ジメトキシ−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウラムジスルフィド、Ｎ，Ｎ’−ジメトキシチウラムジスルフィド、Ｎ，Ｎ’−ジヒドロキシ−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウラムジスルフィド、Ｎ，Ｎ’−ジヒドロキシチウラムジスルフィドが挙げられる。これらの新規チウラム化合物の内、常温で油状になるものは、シリカ等、任意の充填剤に吸着、混合してゴム用加硫促進剤として使用することも可能である。
【０００５】
また、本発明に係る新規チウラム化合物が加硫促進剤として適用できるゴムとしては、各種ジエンゴム、即ち、天然ゴム，イソプレンゴム，アクリロニトリルブタジエンゴム，スチレンブタジエンゴム，ブチルゴム，エチレンプロピレンジエンゴム，ブタジエンゴム，クロロプレンゴムなどが例示される。
【０００６】
【作用】
従来からゴムの加硫促進剤として用いられているテトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドなどのチウラム系加硫促進剤は、ゴムの加工時及び使用の際に発ガン性ニトロソアミンを生成するため、ヨーロッパを中心に規制されつつある。しかしながら、本発明の新規チウラム化合物に使用されるアミンのうち、例えば、メトキシメチルアミンがニトロソ化したニトロソメトキシメチルアミンは、Richard  L.ら〔Chem.−Biol.Interactions，23（2）159（1978）〕によると非発ガン性とされている。また、モノメトキシアミン、モノヒドロキシアミンは１級アミンであるため、ニトロソ化合物を生成しない。したがって、本発明の新規チウラム化合物は、従来のチウラム系加硫促進剤に替わる安全な加硫促進剤として利用される可能性がある。
【０００７】
【実施例】
実施例１  Ｎ，Ｎ’−ジメトキシ−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウラムジスルフィドの合成
Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルアミン塩酸塩（15.8ｇ，0.16ｍｏｌ）を水１６０ｍｌで希釈した系に、二硫化炭素（12.2ｇ，0.16ｍｏｌ）を滴下し、３０℃以下で４８％水酸化ナトリウム２７ｇを滴下した。４０℃で２時間撹拌してＮ−メトキシ−Ｎ−メチルジチオカルバミン酸ナトリウムの水溶液を得た。次いで２０℃以下で、９８％硫酸８．１ｇと３５％過酸化水素水７．９ｇを水３２３ｍｌで希釈した酸化剤を１時間かけて滴下した。室温で１時間撹拌し析出した結晶物をろ別した。イソプロピルアルコールで再結晶して、１６．６ｇ（75.3％）の目的物を得た。
融点    １２８．８−１３０．１℃
ＩＲ（ＫＢｒ）1460,1360,1100,1020,580,480cm-1
1Ｈ−ＮＭＲ．（ＤＭＳＯ−ｄ6）
δ＝４．０８（６Ｈ，Ｓ，−ＯＣＨ3）
δ＝３．８５（６Ｈ，Ｓ，−ＣＨ3）
0003690835.tif 000003
【０００８】
実施例２
Ｎ，Ｎ’−ジメトキシチウラムジスルフィドの合成
Ｎ−メトキシアミン塩酸塩を用い、実施例１と同様にして黄色油状物を得た。（収率８４％）
ＩＲ  1465,1370,1080,1020,580,480cm-1
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）
δ＝４．０２（６Ｈ，Ｓ，ＣＨ3Ｏ−）
0003690835.tif 000004
【０００９】
実施例３
Ｎ，Ｎ’−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウラムジスルフィドの合成
Ｎ−メチルヒドロキシアミン塩酸塩を用い、実施例１と同様にして黄色油状物を得た。（収率７９％）
ＩＲ  1468,1372,1100,1020,570,470cm-1
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）
δ＝３．８２（６Ｈ，Ｓ，−ＣＨ3）
0003690835.tif 000005
【００１０】
試験例
実施例１で合成したＮ，Ｎ’−ジメトキシ−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウラムジスルフィドのゴム用加硫促進剤としての試験例を示す。下記に示す配合割合（重量部）において、ゴムの加硫試験を行った。結果は表１に示す。試験結果中、引張試験のデータはＪＩＳ  Ｋ６３０１加硫ゴム物理試験方法における「引張試験」に準拠して測定した。なお、比較例の加硫促進剤としてはテトラメチルチウラムジスルフィドであり、その配合量は、等モルの配合になるように、ゴム１００重量部に対して、実施例の、Ｎ，Ｎ’−ジメトキシ−Ｎ，Ｎ’−ジメチルチウラムジスルフィドが１．１３部、比較例のテトラメチルチウラムジスルフィドが１．０部とした。
天然ゴム                      １００
ＨＡＦカーボンブラック          ５０
ナフテン系プロセスオイル          ５
ステアリン酸                      １
亜鉛華                            ５
硫黄                              １．５
加硫促進剤                     上記
【００１１】
【表１】
0003690835.tif 000006
【００１２】
【発明の効果】
本発明の新規チウラム化合物はゴムの加硫促進剤として機能する有用な化合物であることが判明した。