(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペロブスカイトおよび自己秩序化層状超格子材料からなる群から選択される強誘電性材料を含む薄膜強誘電性層（１１２）と、上部電極（１１６）とを支持する基板（１０２）を備える強誘電性デバイス（１００）であって、該デバイスは、該薄膜強誘電性層（１１２）と該上部電極（１１６）との間に挿入された３ｎｍ〜３０ｎｍの厚さを有するキャッピング層（１１４）を備え、該キャッピング層は、超格子ジェネレータ金属を豊富に含む非強誘電性材料を含む、強誘電性デバイス。
【請求項２】
前記強誘電性層は、実質的に自己秩序化層状超格子材料からなる、請求項１に記載の強誘電性デバイス。
【請求項３】
前記超格子ジェネレータ金属は、前記自己秩序化層状超格子材料中の超格子ジェネレータ元素と同一である、請求項２に記載の強誘電性デバイス。
【請求項４】
前記層状超格子材料は、ストロンチウムビスマスタンタレート、ストロンチウムビスマスニオベートおよびストロンチウムビスマスニオブタンタレートからなる群から選択される、請求項２に記載の強誘電性デバイス。
【請求項５】
前記超格子ジェネレータ金属は実質的にビスマスからなる、請求項１に記載の強誘電性デバイス。
【請求項６】
前記キャッピング層は、前記強誘電性材料および前記電極と直接的に接触する、請求項１に記載の強誘電性デバイス。
【請求項７】
前記キャッピング層は、厚さが５ｎｍ〜２０ｎｍである、請求項１に記載の強誘電性デバイス。
【請求項８】
前記強誘電性材料と前記基板との間には下部電極（１１０）が挿入される、請求項１に記載の強誘電性デバイス。
【請求項９】
前記キャッピング層材料は、酸化ビスマス、ビスマスストロンテート、ビスマスタンタレート、ビスマスニオベートおよびビスマスニオブタンタレートからなる群から選択される、請求項１に記載の強誘電性デバイス。
【請求項１０】
前記キャッピング層は酸化ビスマスを含む、請求項１に記載の強誘電性デバイス。
【請求項１１】
強誘電性デバイス（１００）を作製する方法であって、
基板（１０２）上に強誘電性層（１１２）用の強誘電性材料を堆積する工程であって、該強誘電性材料は、ペロブスカイトおよび自己秩序化層状超格子材料からなる群から選択される、工程と、
上部電極層（１１６）を堆積する工程であって、該上部電極は、該強誘電性層（１１２）よりも該基板（１０２）から離れている、工程と、
該強誘電性層と該上部電極との間に超格子ジェネレータ金属を含む非強誘電性キャッピング層（１１４）を堆積する工程であって、該キャッピング層は、３ｎｍ〜３０ｎｍの厚さを有する、工程と、
該強誘電性層および該キャッピング層のうちの１層以上をアニーリングする工程と、
を包含する、方法。
【請求項１２】
前記強誘電性層用の材料を堆積する工程は、自己秩序化層状超格子材料用の材料を堆積する工程を包含する、請求項１１に記載方法。
【請求項１３】
前記キャッピング層超格子ジェネレータ金属を堆積する工程は、前記自己秩序化層状超格子材料中の超格子ジェネレータ金属と同じ超格子ジェネレータ金属を堆積する工程を包含する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記強誘電性層用の材料を堆積する工程は、ストロンチウムビスマスタンタレート、ストロンチウムビスマスニオベートおよびストロンチウムビスマスニオブタンタレートからなる群から選択される層状超格子材料用の材料を堆積する工程を包含する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記キャッピング層を堆積する工程は、酸化ビスマス、ビスマスストロンテート、ビスマスタンタレート、ビスマスニオベート、ビスマスニオブタンタレートおよびビスマス２−ヘキサノン酸エチルの溶液からなる群から選択される材料を堆積する工程を包含する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記アニーリング工程は、前記強誘電性層の一部に前記キャッピング層を拡散させて、前記強誘電性材料の上に超格子ジェネレータ金属を豊富に含む層状超格子材料を形成する工程を包含する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記キャッピング層は、厚さが５ｎｍ〜２０ｎｍである、請求項１１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の背景）
（発明の分野）
本発明は、集積回路用途の薄膜の分野に関し、特に、強誘電性薄膜に関する。本発明は、より詳細には、強誘電性薄膜の性能を向上させる、特殊なキャッピング層に関する。
【０００２】
（問題の提言）
強誘電性材料は、印加電界が無い場合にでも誘発された分極状態を保持する能力によって特徴付けられる。ある方向の分極状態が論理「０」の分極状態として識別され、その方向と反対方向の分極状態が論理「１」の分極状態として識別され、分極状態を感知する適切な回路が提供された場合、強誘電性薄膜は、高速の不揮発性コンピュータメモリの情報記憶媒体として用いられ得る。このような強誘電性メモリの作製は、従来のＤＲＡＭキャパシタ回路の誘電性キャパシタ材料の代わりに強誘電性材料を用い、読出し／書込み回路に適切な変更を施して強誘電性膜を情報記憶媒体として用いることにより可能であることが公知である。例えば、Ｃｕｃｈｉａｒｏらに付与された、１９９８年７月２１日に発行された米国特許第５，７８４，３１０号を参照されたい。このような取り換えにより、印加電界が無くても強誘電性材料中の誘発された分極状態が長期間保持されるため、ＤＲＡＭセルは不揮発性メモリセルに変換される。Ｙａｍａｎｏｂｅらに付与された米国特許第５，７８０，８８６号に記載されているような、強誘電性薄膜の不揮発性分極状態による、１つの電界効果トランジスタからなる強誘電性メモリセルを作製することも可能である。
【０００３】
薄膜強誘電性の利用において生じている問題は、薄膜表面上の誘発された電荷の存在が印加電界に逆向きの電界を生じるため、薄膜表面の電荷欠損によって印加電界に遮蔽効果が及ぼされる点である。この問題のため、結晶の内部の強誘電性領域の一部は、その領域を完全に分極化させるのに十分な大きさを有する電界にさらされなくなる。この電界遮蔽の結果、薄膜の分極能力が悪影響を受ける。強誘電性メモリの密度は、強誘電性材料から得られ得る残留分極の大きさによって限定される。加えて、従来からの薄膜用強誘電性材料は典型的には、分極疲労率が高い場合が多く、使用期間が長くなるほど分極の大きさが低減するため、長期間の使用の場合、メモリの信頼性は無くなる。さらに、ゼロの電圧値またはゼロの電界値に対し、薄膜強誘電性の分極ヒステリシス曲線がシフトまたはインプリント（ｉｍｐｒｉｎｔ）することもあり得る。最終的には、疲労の問題またはインプリントの問題のいずれかにより、公知の強誘電性材料と結合された制御回路が、材料の疲労分極状態を読み出すことができなくなり、そのため、ビット情報を記憶または検索することができなくなる。従って、強誘電性メモリを向上させるために、薄膜強誘電性材料の分極を高める必要がある。
【０００４】
これらの疲労の問題およびインプリントの問題は、１９９８年７月２１日に発行された、Ｃｕｃｈｉａｒｏらに付与された米国特許第５，７８４，３１０号に記載されているように、層状超格子材料を用いることで大幅に解消することができる。強誘電性のペロブスカイト様の層状超格子材料は、公知の自己秩序化（ｓｅｌｆ−ｏｒｄｅｒｉｎｇ）結晶の種類の１種であり、例えば、１９９６年５月２１日に発行された、Ａｒａｕｊｏらに付与された米国特許第５，５１９，２３４号に記載されているように、集積回路用途に適した薄膜として用いられてきた。「ペロブスカイト様」という用語は一般的には、相互接続した多数の酸素８面体（ｏｘｙｇｅｎ  ｏｃｔａｈｅｄｒａ）を指す。最初のセルは典型的には、１つの立方体中に配置された１つの酸素８面体で形成される。この立方体は、酸素原子が立方体の平面中心部を占める大きなＡサイト金属と、立方体の中心を占める、小さなＢサイト元素とから規定される。いくつかの場合、この酸素８面体は、Ａサイト元素の無い状態で保存され得る。
【０００５】
層状超格子材料は、層状構造中に熱力学的安定性を見出す能力によって特徴付けられる。超格子を形成する金属は、熱処理を受けると不規則溶解を生じ、自発的に、相互に並べられた（ｉｎｔｅｒｃｏｌｌａｔｅｄ）ペロブスカイト様８面体層を有する１つの層状超格子材料化合物と、酸化ビスマス等の超格子ジェネレータとを形成する。その結果生じた自己秩序化構造は、多重層に対応する２重周期性によって超格子を形成する。層状超格子材料は、この自己秩序化能力を有し、そのため、各層を別個の堆積工程で堆積させる必要がある半導体異種格子と異なる。
【０００６】
化学量論的前駆体が用いられた場合、層状超格子材料の分極率が低下することが公知である。これは、ビスマス等の元素は揮発性が高く、乾燥時およびアニーリング時に材料から均衡を失わせるほどに除去されるからである。そのため、このような揮発性元素を多めに用いた前駆体を用いる場合が多く、これにより、乾燥およびアニーリングの後に生じる材料はほぼ化学量論通りとなる。また、ビスマスの勾配は、実質的に化学量論通りの完成状態の層状超格子材料を得るためにも用いられる（例えば、１９９５年８月８日に発行された、Ｗａｔａｎａｂｅらに付与された米国特許第５，４３９，８４５号を参照のこと）。勾配を用いたデバイスは、向上した分極率を示すものの、多重層から構成されているため厚みを必要とし、そのため、強誘電性メモリの密度が低くなる。
【０００７】
強誘電性メモリおよび強誘電性材料を含む他の集積回路の密度を上げるために、薄膜強誘電性材料（特に層状超格子材料）からの残留分極値を大きくする必要がある。
【０００８】
（解決方法）
本発明は、残留分極の大きさが向上した薄膜強誘電性デバイスを提供することにより、当該分野において先んじ、上記の問題を解消する。これらの向上は、上部電極と強誘電性材料との間にあるキャッピング層を用いて強誘電性材料と電極との間のインターフェース上の欠陥を補正することにより、得られる。本発明を用いれば、残留分極測定結果が３２％も向上する。
【０００９】
本発明による強誘電性デバイスは、ペロブスカイトおよび自己秩序化層状超格子材料からなる群から選択される薄膜強誘電性層を支持する基板を含む。この強誘電性材料は、上側および側面をキャッピング層によって「キャップされる」。好適には、キャッピング層は非強誘電性材料である。キャッピング層の上部には電極がある。キャッピング層は好適には、厚さが少なくとも３ナノメートル（ｎｍ）であり、電極および強誘電性材料の両方と直接接触した状態であるのが好ましい。キャッピング層は超格子ジェネレータ金属で濃縮され、超格子ジェネレータ金属としては通常は三価ビスマスまたは三価タリウムがあり得る。好適には、キャッピング層材料は、酸化ビスマス、ビスマスストロンテート、ビスマスタンタレート、ビスマスニオベートおよびビスマスニオブタンタレートからなる群から選択される。
【００１０】
好適には、キャッピング層は、上部電極の下の強誘電性材料をキャップするが、強誘電性キャパシタの場合のように電極が２つある場合は、キャッピング層は、強誘電性層の上部および下部両方をキャップし得る。
【００１１】
好適な実施形態において、超格子ジェネレータ金属と、自己秩序化層状超格子材料中の超格子ジェネレータ金属とは同一である。好適な実施形態において、強誘電性層は、ビスマスを含有する自己秩序化層状超格子材料から実質的になり、超格子ジェネレータ金属は、ビスマスから実質的になる。特に好適な層状超格子材料は、ストロンチウムビスマスタンタレート、ストロンチウムビスマスニオベートおよびストロンチウムビスマスニオブタンタレートからなる群から選択される。最も好適なキャッピング層材料は酸化ビスマスである。
【００１２】
キャッピング層は好適には、厚さが少なくとも約３ｎｍであり、厚さの範囲は好適には３ｎｍ〜３０ｎｍであり、最も好適な厚さは５ｎｍ〜２０ｎｍであり、これにより、寄生容量による有意な問題を回避するのに十分な薄さを保持しつつ、適切な欠陥補正を提供する。
【００１３】
キャッピング層の使用は、強誘電性から導体への移行を提供することにより、電界遮蔽を防止するように見える。キャッピング層を使用すると、優れた強誘電性特性を備えた、非常に薄型の強誘電性デバイスが可能となる。本発明の他の多くの機能、目的および利点は、以下の説明を添付の図面と共に読めば、明らかである。
【００１４】
（好適な実施形態の詳細な説明）
（向上した強誘電性デバイス）
図１は、強誘電性キャパシタ１０４を支持する基盤１０２を含む強誘電性デバイス１００を示す。強誘電性デバイス１００は、強誘電性メモリに実用性を有する薄膜強誘電性キャパシタおよび強誘電性を必要とする他の集積回路用途である。例えば、強誘電性デバイス１００は、強誘電性キャパシタとして、または、電界効果トランジスタ（「ＦＥＴ」）内のゲートとして有用である。
【００１５】
基板１０２は、半導体ウェハ１０６（好適にはシリコン）および絶縁層１０８（好適には二酸化シリコン）を含む。集積回路分野において、ウェハ１０６は「基板」と呼ばれることが多い。本明細書中、「基板」という用語は、他の層へ支持を提供する任意の層または層の組合わせに広範囲に適用される。例えば、強誘電性キャパシタ１０４の基板１０２は、絶縁層１０８と隣接しているが、基板１０２はまた、ウェハ１０６およびウェハ１０６と絶縁層１０８との組合わせも含むと広く解釈され得る。当該分野における慣例に習い、完成状態が異なるデバイスも基板と呼び、基板は、基準時点までに完成する全ての層を含むものとして意図される。
【００１６】
本明細書中、方向付けを示す用語（例えば、「上」、「上部」「上段」、「下」、「下部」および「下段」）は、図１〜３中のウェハ１０６への相対位置を意味する。すなわち、第２の素子が第１の素子の「上」にある場合、これは、第２の素子の方が第１の素子よりもウェハ１０６から離れていることを意味し、第２の素子が別の素子の「下」にある場合、これは、第２の素子がその別の素子よりもウェハ１０６に近接することを意味する。本明細書中、ウェハ１０６の長さ（ｌｏｎｇ  ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ）は、「水平」面と見なされる面を規定し、この面に垂直な方向は、「垂直」であると見なされる。
【００１７】
本明細書中、「薄膜」という用語は、集積回路における用途に適切な厚さを有する薄膜を意味する。このような薄膜は、厚さが１ミクロン未満であり、通常は２ナノメートル（ｎｍ）〜５００ｎｍの厚さを有する。本明細書中の「薄膜」という用語と、光学分野などの巨視的な分野において基本的に用いられる「薄膜」という用語とを区別することが重要である。というのも、このような巨視的な分野では、「薄膜」といえば１ミクロンを越える（通常は２〜１００ミクロン）膜を意味するからである。このような巨視的な分野での「薄膜」は、集積回路分野で意味する「薄膜」よりも数百倍〜数千倍の厚みがあり、全く別のプロセスによって作製される。このようなプロセスは、亀裂、細孔および他の欠陥の生成を伴うことが多く、集積回路にとって破滅的な影響を与えるが、光学分野および他の巨視的な分野にとってはなんの影響も与えない。
【００１８】
強誘電性キャパシタ１０４は、金属下部電極１１０を含む。金属下部電極の構造は、集積回路における用途に適した任意の金属または電極構造（例えば、アルミニウム、金、ルテニウム、ロジウムおよびパラジウム）であり得る。下部電極１１０は好適には、白金１１１とチタン１０９との組合わせで作製され、チタンは、白金元素が酸化物層から剥離するのを防止する接着金属として機能する。タンタル、イリジウムおよび酸化イリジウムも、接着金属として有用である。チタンまたは他の接着金属１０９は典型的には、１０ｎｍ〜２０ｎｍの厚さになるまでスパッタリングされる。白金１１１の厚さは好適には、１００ｎｍ〜２００ｎｍである。下部電極１１０の金属層は、従来の原子スパッタリング技術（例えば、ＤＣ磁電管スパッタリングまたは無線周波数スパッタリング）によって形成される。
【００１９】
強誘電性層１１２は、下部電極１１０の上にある。強誘電性層１１２は好適には、誘電率および強誘電性特性が高い金属酸化物である。強誘電性層１１２の作製について以下に詳細に説明する。強誘電性層１１２の厚さは好適には、約４００ｎｍ未満であり、最も好適には約２００ｎｍ未満である。強誘電性層１１２は、ペロブスカイト（例えば、バリウムストロンチウムチタネートまたはストロンチウムチタネート）であり得る。強誘電性層１１２はより好適には、層状超格子材料であり、最も好適には混成の層状超格子材料である。
【００２０】
本明細書中、「ペロブスカイト」という用語は、一般式がＡＢＯ3（ＡおよびＢはカチオンであり、Ｏは酸素アニオン元素である）の公知の種類の材料を含む。この用語「ペロブスカイト」は、ＡおよびＢが複数の元素を示す材料を含むものとして意図される；例えば、「ペロブスカイト」は、Ａ’Ａ”ＢＯ3、ＡＢ’Ｂ”Ｏ3およびＡ’Ａ”Ｂ’Ｂ”Ｏ3（Ａ’、Ａ”、Ｂ’およびＢ”は異なる金属要素）の形態をとる材料を含む。Ａ、Ａ’およびＡ”は好適には、Ｂａ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｐｂ、ＣａおよびＬａからなる金属群から選択された金属であり、Ｂ、Ｂ’およびＢ”は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｍｏ、ＷおよびＮｂからなる群から選択された金属である。ＡサイトおよびＢサイトという用語は、ペロブスカイトの酸素８面体格子中の特定の位置を指す。
【００２１】
多層の超格子材料は、対応する数の酸化ビスマス層によって分断された、複数のペロブスカイト様酸素８面体層を有する。層状超格子材料は典型的には、強誘電性材料であるが、このような材料ならば全てが室温において強誘電性を呈し得るとは限らない。これらの材料は通常、誘電率が高く、強誘電性の有無に関わらず誘電率の高いキャパシタにおいて有用である。
【００２２】
全ての種類の層状超格子材料は、以下のような標準的実験式のもとで要約され得る。
【００２３】
【数１】
0003656031.tif 000002
式（１）は、化学量論的にバランスのとれた超格子形成部分（ｍｏｉｅｔｙ）のリストを示す点に留意されたい。式（１）は、単位格子構造を示すものではなく、各層への元素割当てを試みるものでもない。式（１）において、Ａ１、Ａ２．．．Ａｊは、ペロブスカイト様８面体構造中のＡサイトの元素を示し、Ａサイトの元素は、ストロンチウム、カルシウム、バリウム、ビスマス、鉛およびこれらの混合物ならびにイオン半径が類似する他の金属等の元素を含む。Ｓ１、Ｓ２．．．Ｓｋは、超格子ジェネレータ元素を示し、これらの超格子ジェネレータ元素は好適にはビスマスのみを含むが、三価材料（例えば、イットリウム、スカンジウム、ランタン、アンチモン、クロムおよびタリウム）も含み得る。Ｂ１、Ｂ２．．．Ｂｌは、ペロブスカイト様構造中のＢサイトの元素を示し、これらのＢサイトの元素は、チタン、タンタル、ハフニウム、タングステン、ニオブ、バナジウム、ジルコニウムおよび他の元素等の元素であり得る。Ｑはアニオンを示し、好適には酸素であるが、他の元素（例えば、フッ素、塩素およびこれらの元素の混成物（例えば、オキシフルオライド、オキシクロライド等））でもあり得る。式（１）中の上付き記号は、各元素の原子価を示す。下付き記号は、実験式化合物中の特定の元素の原子数を示す。単位格子に関して、下付き記号は、単位格子中の元素の原子数の平均を示す。これらの下付き記号は、整数または分数であり得る。すなわち、式（１）は、材料中の至るところの単位格子が異なり得る場合を含み得る（例えば、Ｓｒ.75Ｂａ.25Ｂｉ2Ｔａ2Ｏ9において、平均して、Ｓｒの７５％はＡサイトの原子であり、Ｂａの２５％はＡサイトの原子である）。化合物中にＡサイトの元素が１つしかない場合、この元素は「Ａ１」元素によって表され、ｗ２．．．ｗｊは全てゼロに等しい。化合物中にＢサイトの元素が１つしかない場合、この元素は「Ｂ１」元素によって表され、ｙ２．．．ｙｌは全てゼロに等しく、超格子ジェネレータ元素も同様である。通常の場合、Ａサイトの元素が１つ、超格子ジェネレータ元素が１つ、Ｂサイト元素が１つまたは２つある。しかし、本発明ではＡサイトおよびＢサイトならびに超格子ジェネレータのいずれかが複数の元素を有し得る場合を含むよう意図しているため、式（１）はより一般式に近い式で書かれる。ｚの値は、以下の等式から分かる。
【００２４】
【数２】
0003656031.tif 000003
層状超格子材料は本来、式（１）に適合するあらゆる材料を含むわけではなく、結晶化するときに自然に個別の結晶質層を形成する元素のみを含む。この自然結晶化は典型的には、元素の混合物に熱処理またはアニーリングを施すことにより支援される。この温度改善により、超格子形成部分の順序がペロブスカイト様８面体等の熱力学的に好ましい構造になることが促進される。
【００２５】
Ｓ１、Ｓ２．．．Ｓｋに適用されるような「超格子ジェネレータ元素」という用語は、これらの金属が２層のペロブスカイト様層間に差し挟まれた集中金属酸化物層の形態である場合に特に安定性に優れる事実を指している。これは、超格子ジェネレータ金属が層状の混成超格子材料中の至るところで一様に不規則に分布しているのと対照的である。特に、ビスマスは、特定のイオン半径を有し、このイオン半径は、ビスマスがＡサイトの材料または超格子ジェネレータのいずれかとして機能することを可能にする。しかし、ビスマスは、化学量論的閾比率，未満の量である場合、非ペロブスカイト様の酸化ビスマス層として自然集中する。
【００２６】
また、本明細書中、「層状超格子材料」という用語は、ドープ層状超格子材料も含む。すなわち、式（１）に含まれる材料は全て、様々な材料（例えば、シリコン、ゲルマニウム、ウラニウム、ジルコニウム、スズ、クロム、ジスプロシウムまたはハフニウム）でドープ可能である。
【００２７】
式（１）は、少なくとも、３種類のスモレンスキー（Ｓｍｏｌｅｎｓｋｉｉ）型の強誘電性層状超格子材料（すなわち、以下の各実験式を有する材料）全てを含む。
【００２８】
【数３】
0003656031.tif 000004
ここで、Ａは、ペロブスカイト様超格子中のＡサイトの金属であり、Ｂは、ペロブスカイト様超格子中のＢサイトの金属であり、Ｓは、ビスマスまたはタリウム等の三価超格子ジェネレータ金属であり、ｍは、式の電荷全体のバランスをとるのに十分な数である。ｍが分数である場合、標準的な実験式は概して、別個のまたは混成の複数のペロブスカイト様層を提供し、このような複数の層において、各層は、厚さが異なるペロブスカイト様酸素８面体を有する。
【００２９】
キャッピング層１１４は、強誘電性層１１２上に形成される。キャッピング層１１４を用いて、強誘電性層１１２の上段表面中の点電荷欠損を補正する。強誘電性層１１２用に層状超格子材料を用いる好適な用途において、キャッピング層１１４は好適には、超格子ジェネレータ金属の酸化物である。最も良く知られている超格子ジェネレータ金属は、現在では酸化ビスマスであるため、キャッピング層１１４は最も好適には、超格子中の酸化ビスマスシーケンスの通常の周期性よりも大きな厚さを有する酸化ビスマスとして配置される。キャッピング層材料は好適には、酸化ビスマス、ビスマスストロンテート、ビスマスタンタレート、ビスマスニオベートおよびビスマスニオブタンタレートからなる群から選択される。キャッピング層の厚さは好適には、少なくとも３ｎｍであり、好適には３ｎｍ〜３０ｎｍであり、最も好適な厚さは５ｎｍ〜２０ｎｍである。最良の結果が得られるのは、厚さが１０ｎｍである場合である。キャッピング層の厚さが約３０ｎｍより厚い場合、キャッピング材料の誘電性挙動が印加電界の遮蔽と関連付けられ、電荷欠損による電界遮蔽の場合と同様の有害な様式で寄生容量が発生する場合がある。
【００３０】
特定の環境下において、キャッピング層１１４は、強誘電性層１１２中に拡散するのに十分なくらいに薄い。同様に、強誘電性層１１２はキャッピング層１１４中に拡散し得、または、両層は相互拡散し得る。
【００３１】
強誘電性層１１２がペロブスカイトである場合、この相互拡散の効果は通常は、局在化した層状超格子材料領域をペロブスカイト上に生成することである。例えばビスマスが超格子ジェネレータ元素である場合、キャッピング層１１４に対応する、ビスマスを豊富に含む層状の超格子材料の領域が図１に示すように形成される場合が多い。この層状超格子材料の領域は、自然秩序化した超格子からなる。この自然秩序化した超格子は、層状のシーケンス中に熱力学的安定性を求める相互拡散金属酸化物として発生する。同様に、強誘電性層１１２が層状超格子材料である場合、相互拡散の効果は、図１に示すキャッピング層１１４に対応する、超格子ジェネレータ元素を豊富に含む層状の超格子材料領域を生成することである。キャッピング層が強誘電性層１１２中に拡散しない場合は、強誘電性層１１２がペロブスカイトである場合および強誘電性層１１２が層状超格子材料である場合のどちらにおいても、キャッピング層自身が、配置されると、ペロブスカイトまたは層状超格子材料のいずれかと比較して分子あたりの超格子ジェネレータ元素が多い点において、超格子ジェネレータ元素を豊富に含む層となる。例えば、キャッピング層１１４がビスマス以外の超格子ジェネレータ金属を含む場合、上記３つの場合においてそれぞれ、ビスマスを豊富に含むキャッピング層が形成される。本明細書中用いられるように、この段落において説明した代替例は全て、キャッピング層１１４への適用例と同様に、「超格子ジェネレータ金属を豊富に含むキャッピング層」という用語の意味の範囲内である。また、超格子ジェネレータ元素は、超格子ジェネレータ金属とも呼ばれ、ビスマスおよびタリウムと同様のイオン半径を有する三価金属である。
【００３２】
上部電極１１６は典型的には、厚さが約１００ｎｍ〜２００ｎｍであり、通常は下部電極１１０と同じ金属または電極構造で作製される。但し、チタンまたは他の接着金属は通常は不要である。上部電極１１６はまた、下部電極１１０とは別の異なる構造を有するかまたは異なる金属で作製され得る。
【００３３】
当該分野において公知のように、強誘電性デバイス１００は、拡散障壁層等の他の従来の層を含み得る。上述した層の任意の層に多くの別の材料を用いることができ、例えば、絶縁層１０８用に窒化シリコンを用い、ウェハ１０６用にガリウムヒ素、アンチモン化インジウム、酸化マグネシウム、ストロンチウムチタネート、サファイアまたは石英を用い、また、他の多くの接着層、障壁層および電極材料を用いることができる。下部電極１１０は、除去可能であり、その場合、強誘電性デバイス１００は強誘電性キャパシタでなくなり、金属強誘電性絶縁体半導体セルとして公知の１Ｔまたはトランジスタゲートとして有用となる。さらに、図１は、実在の電子デバイスの任意の特定の部位の実際の断面図を意図したものではなく、別の場合に可能な本発明の構造およびプロセスをより明確かつ十分に示すために用いられる理想化された図示に過ぎないことが理解されるべきである。例えば、個々の層の相対的厚さの図示は釣り合ったものではない。なぜならば、相対関係を無視しなければ、基板１０６等の特定の層の厚さが大き過ぎるものとなり、図面が用いにくくなるからである。
【００３４】
（比較目的のための第２の実施形態）
図２は、第２の強誘電性デバイス２００を示す。図２において、類似の参照符号は、図１の構成要素と同じ構成要素を指す。強誘電性デバイス２００は、強誘電性キャパシタ２０２を含み、この強誘電性キャパシタ２０２は、強誘電性層１１２と下部電極１１０との間に酸化ビスマスキャッピング層２０４を追加挿入している点において強誘電性キャパシタ１０４と異なる。図２の実施形態では上段キャッピング層１１４が無いが、キャッピング層１１４を上部電極１１６と強誘電性層１１２との間に配置してもよい。
【００３５】
（比較目的のための第３のデバイス（従来技術））
図３は、従来技術による強誘電性デバイス３００を示す。図３において、類似の参照符号は、図１の構成要素と同じ構成要素を指す。強誘電性デバイス３００は、強誘電性キャパシタ３０２を含み、この強誘電性キャパシタ３０２は、キャッピング層１１４およびキャッピング層２０４の無い点において強誘電性キャパシタ１０４および２０２と異なる。
【００３６】
（デバイス１００を作製する方法）
デバイス１００、デバイス２００およびデバイス３００の構成要素は、キャッピング層１１４および２０４を除いて全て公知の方法に従って作製される。これらの従来の方法は当該分野において周知であり、例えば、ウェハ１０６を熱酸化させて絶縁層１０８を生じる方法または層１０８をスピンオンガラス堆積（ｓｐｉｎ−ｏｎ  ｇｌａｓｓ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）して実質的に類似の結果を得る方法などがある。従来のスパッタリングプロセスを用いて、下部電極１１０および上部電極１１６を堆積させる。従来のレジストエッチング技術を用いて、デバイスを集積回路中への収容に適した形態にパターニングする。これらのプロセスは、本発明にとって重要ではない。例えば、基板１０２は、従来のＣＭＯＳプロセスから得られた積層（ｓｔａｃｋｅｄ）集積回路構造でもある。
【００３７】
これらの従来のプロセスに従って、強誘電性層１１２の堆積を、スパッタリング法、化学蒸着法、ミスト化液体堆積法（ｍｉｓｔｅｄ  ｌｉｑｕｉｄ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、スピンオン液体堆積法（ｓｐｉｎ−ｏｎ  ｌｉｑｕｉｄ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）または他のあらゆる適切な堆積方法を用いて行う。強誘電性層１１２を高温環境下にさらしてアニーリングし、層１１２中の強誘電性を最適化する。これらの温度は典型的には、６５０°Ｃ〜８５０°Ｃである。これらの温度は、ビスマス金属を揮発させ、強誘電性層１１２に相当する層状超格子材料中のビスマスが消失することによる欠陥を生じさせると考えられる。
【００３８】
一次イオンとしてセシウムを用いた二次イオン質量分光測定の結果を通じて、図３の強誘電性層１１２に相当する従来の層状超格子材料の最上段部分中に化学量論ビスマスが欠損していることがわかっている。これらの実験結果は、ビスマス揮発欠損の存在を証明する。このような欠損の範囲は、アニーリング時間と温度との関数であり、堆積方法とアニーリング中の他の層（特に上部電極１１６）の有無との関数でもある。従って、キャッピング層１１４の１つの重要な機能は、金属揮発欠損から生じた強誘電性層中の欠陥を補正することである。これらの揮発欠損は他の金属にも起こり得るが、ビスマスのみの欠損からは生じない。
【００３９】
キャッピング層１１４および２０４は、スパッタリングされた金属をアニーリングで酸化させることにより生成され得る。酸化した金属自身がスパッタリングされ得るか、または、これらの層は、スピンオン液体前駆体（例えば、ゾル−ゲル（金属アルコキシド（ａｌｋｏｘｉｄｅ））の溶液、金属カルボキシレート（ｃａｌｂｏｘｙｌａｔｅ）溶液または金属アルコキシカルボキシレート（ａｌｋｏｘｙｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）溶液から生成され得る。ミスト化液体堆積法または化学蒸着法も用いられ得る。
【００４０】
以下に示す非限定的実施例は、本発明を実施する際の好適な方法および材料を示す。
【００４１】
（実施例１）
一枚の基板を強誘電性層１１２の堆積用として調製した。従来のシリコンウェハを従来の手段で調製し、熱成長した酸化物層を含ませた。チタン金属を従来のＤＣ磁電管手段を用いてスパッタリングして、厚さを約２０ｎｍにした。白金金属をスパッタリングして、厚さを約１８０ｎｍにした。
【００４２】
強誘電性層１１２の堆積用として、キシレン中に金属２−ヘキサノン酸エチルがある、リサーチグレードの純度の溶液を、日本の高純度化学研究所に注文して購入した。溶液中のストロンチウム、ビスマスおよびタンタルのモル比は、１：２．８：２である。従って、この溶液は、ビスマス揮発の無い、ＳｒＢｉ2.8Ｔａ2Ｏ10.2の実験式を有する層状超格子材料を生じることが可能である。この式は、標準的実験式が、上記の式（３）（ｍ＝２）に相当する強誘電性層１１２の化学量論を有するために必要とするビスマス量よりも約３０％多くのビスマスを含む。従って、この基板用に意図されたアニーリング条件を用いて調製された、他のサンプルからの二次イオン質量分光データに基づいた仮定では、アニーリング中、揮発によってサンプル中の約３０％のビスマスが欠損したと仮定された。この溶液の実験式に対応する金属のモル濃度は０．２であった。３ミリリットルの溶液のアリコートを、２ミリリットルのｎ−ブチルアセテートの共溶媒と混合して、基板ウェッティング能力が向上した、０．１２Ｍ溶液を提供した。
【００４３】
この基板を、従来のスピン塗布器中に配置した。基板を１９００ｒｐｍで３０秒間スピンさせた。スピン中、ピペットを用いて３ｍｌの溶液を基板に与えた。この塗布作業により、前駆体液体の薄膜が基板上に生じた。基板をスピン塗布器から取り外し、空気中の加熱板上に１分間配置した。加熱板は、１５０°Ｃで保持して、溶媒を除去することにより前駆体膜を乾燥するようにした。次いで、基板を加熱板上に２６０°Ｃで４分間保持し、前駆体膜からさらなる溶媒および有機配位子を除去した。次いで、乾燥した前駆体膜を含む基板を、従来のハロゲンランプのＲＴＡデバイス下の空気中の急速熱処理に７２５°Ｃで３０秒間さらした。熱処理中、室温から７２５°Ｃまでは１秒あたり１２５°Ｃの割合で加熱し、７２５°Ｃから室温に戻るまでは１２５°Ｃの割合で冷却した。急速熱アニーリングを通じた前駆体堆積工程を２回繰り返して、厚さの総計が約２００ｎｍまでの強誘電性層を構築した。
【００４４】
キシレン中にビスマス２−ヘキサノン酸エチルを有する、濃度が０．４Ｍのリサーチグレードの純度の溶液を、日本の高純度化学研究所に注文して購入した。この溶液の１ｍｌのアリコートを、１．６ｍｌのｎ−ブチルアセテートと混合して、０．１５４Ｍの溶液を得た。ウェハを従来のスピン塗布器中に配置して、１５００ｒｐｍで３０秒間スピンした。スピン中、ピペットで溶液を与えた。基板をスピン塗布器から取り外して、空気中の加熱板上に１分間保持した。加熱中、溶媒を除去することにより前駆体膜を乾燥させるため、加熱板を１５０°Ｃに保持した。次いで、基板を加熱板上に２６０°Ｃで４分間保持して、さらなる溶媒および有機配位子を前駆体膜から除去した。乾燥によるこれらの前駆体堆積工程を２回繰り返して、厚さの総計が約１０ｎｍのキャッピング層１１４を構築した。
【００４５】
白金上部電極を、ＤＣ磁電管を用いて適所でスパッタリングした。上部電極を適切に配置した基板を、拡散炉中の正の（ｐｏｓｉｔｉｖｅ）酸素流下において、８００°Ｃのアニーリングに中に６０分間放置した。アニーリング中、５分間で最高温度まで上昇させ、５分間で減少させた。次いで、当業者には明らかなように、デバイスを、（フォトレジストの塗布の次にイオンエッチングが続くなどの）従来の反応性イオンエッチングプロセスでパターニングした。従って、この基板は、それぞれのキャパシタが６９４０μｍ2の面積を有する複数の正方形のキャパシタへサポートを提供する。
【００４６】
代表のキャパシタを試験測定用として選択した。Ｈｅｗｌｅｔｔ  Ｐａｃｋａｒｄ  ３３１４Ａファンクションジェネレータを、Ｈｅｗｌｅｔｔ  Ｐａｃｋａｒｄ  ５４５０２Ａデジタルオシロスコープに接続した。分極ヒステリシス測定を、１０ＫＨｚの正弦波で０．５ボルト、１ボルト、３ボルト、５ボルトおよび１０ボルトの電圧振幅で行った。試験は、Ｃｏｌｏｒａｄｏ州のＣｏｌｏｒａｄｏ  Ｓｐｒｉｎｇｓの標準気圧で２０°Ｃで行われた。図４は、ヒステリシスの結果を示す。
【００４７】
（実施例２）
（比較的測定）
上部電極の下に酸化ビスマスキャッピング層を配置した点以外は実施例１において説明したプロセスと同じプロセスで、別個のウェハを調製した。本明細書中、実施例１からの基板のことを、強誘電性層状超格子材料上に酸化ビスマス層を含んでいるため、ＢｉＯｘ／ＬＳＭサンプルと呼ぶ。この構造は、図１に示す強誘電性デバイス１００に相当する。
【００４８】
ＬＳＭ／ＢｉＯｘサンプルを、図２に示す強誘電性デバイス２００に対応するものとして調整した。このデバイスでは、酸化ビスマスキャッピング層２０４を、強誘電性層状超格子材料の下かつ下部電極の上に配置している。従って、酸化ビスマス前駆体の堆積処理工程および乾燥処理工程を、強誘電性層状超格子材料の堆積後の直後ではなく、下部電極の堆積直後に行った。
【００４９】
強誘電性キャパシタ中にキャッピング層が無いＬＳＭサンプルを調製した。このデバイスは、図３に示す強誘電性デバイス３００に相当する。従って、このＬＳＭサンプルの場合、実施例１に示す酸化ビスマス層を堆積する工程は省略した。
【００５０】
図５は、ＬＳＭ、ＢｉＯｘ／ＬＳＭおよびＬＳＭ／ＢｉＯｘのサンプルそれぞれの残留分極を比較する棒グラフである。これらの残留分極値は、各基板上の代表的セルのヒステリシス曲線からとった５ボルトおよび１０ボルトの場合の２Ｐｒとして測定された。ＬＳＭサンプルと比較して、実施例１のＢｉＯｘ／ＬＳＭサンプルは、１０Ｖの場合に３２％の残留分極の向上を示し、５Ｖの場合に１９％の残留分極の向上を示した。この向上を可能にしたのは、酸化ビスマスキャッピング層である。同様にＬＳＭサンプルとＬＳＭ／ＢｉＯｘサンプルとを比較した結果、１０Ｖの場合に残留分極の向上は殆ど無く、５Ｖの場合に残留分極は４％低下した。
【００５１】
図６は、各サンプルについて２Ｅｃと決定された限界スイッチング電界の比較結果を示す。ＢｉＯｘ／ＬＳＭサンプルは、１０Ｖの場合に７％の低下を示し、５Ｖの場合に１０％の低下を示した。ＬＳＭ／ＢｉＯｘサンプルは、それよりも小さな低下を示し、１０Ｖの場合に２％の低下を示し、５Ｖの場合に５％の低下を示した。この２Ｅｃの値における低下は、向上である。なぜならば、強誘電性材料の分極状態をスイッチングするためにはより低い電圧が必要だからである。集積回路において、有利なことに、より低い電圧は、より小さな熱生成および小さな電力消費と関連づけられる。
【００５２】
上記より、上段キャッピング層を備えるキャパシタが非常に有意な向上を示し、下段キャッピング層を備えるキャパシタは殆ど向上を示さないことが明らかである。
【００５３】
当業者であれば、上記の好適な実施形態は、本発明の真正なる範囲および意図から逸脱することなく改変され得ることを理解する。従って、本発明者らは、ここに、本発明の権利の十分な保護を得られるよう、均等論に基づいて自らの意図を述べる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、本発明による強誘電性デバイスを示し、強誘電性層の上にキャッピング層があり、強誘電性層の上に上部電極がある。
【図２】  図２は、強誘電性層の下でかつ下部電極の上にキャッピング層を有する強誘電性デバイスを示す。
【図３】  図３は、図１および２の様態においてキャッピング層の無い比較用デバイスを示す。
【図４】  図４は、図１に相当するサンプルから得られた分極ヒステリシス曲線を示す。
【図５】  図５は、図１、２および３に相当する３つのサンプルの各々から得られた残留分極測定結果を比較する棒グラフである。
【図６】  図６は、図１、２および３に相当する３つのサンプルの各々から得られた保磁電界測定結果を示す棒グラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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