Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月5日(2021.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレンズを有する光学系を備え、
前記光学系は、前記光学系の一部のレンズを変化させることで、前記光学系の焦点距離が第１の焦点距離となる第１の状態と、前記光学系の焦点距離が前記第１の焦点距離よりも短い第２の焦点距離となる第２の状態をとることができ、
前記第１の状態における最大像高をＹｍａｘ１、前記第２の状態における最大像高をＹｍａｘ２、前記第１の状態における最大半画角をθｍａｘ１、前記第２の状態における最大半画角をθｍａｘ２とし、
前記第１の状態における半画角θ（０≦θ≦θｍａｘ１）に対応する像高をＹ１（θ）、前記第２の状態における半画角θ（０≦θ≦θｍａｘ２）に対応する像高をＹ２（θ）、ΔＹ（θ）＝｜Ｙ１（θ）／Ｙｍａｘ１−Ｙ２（θ）／Ｙｍａｘ２｜で定義されるΔＹ（θ）のθに対する最大値をΔＹｍａｘとし、
前記第１の焦点距離をｆＬ、前記第２の焦点距離をｆＳとしたとき、
０．９０＜Ｙｍａｘ１／Ｙｍａｘ２＜１．１０
０．９０＜θｍａｘ１／θｍａｘ２＜１．１０
０．０４＜ΔＹｍａｘ＜０．５０
１．０５＜ｆＬ／ｆＳ＜４．００
なる条件式を満足することを特徴とするレンズ装置。
【請求項２】
８５°＜θｍａｘ１＜１１０°
８５°＜θｍａｘ２＜１１０°
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１のレンズ装置。
【請求項３】
前記光学系は、開口絞りと、前記開口絞りの物体側に配置された２枚以上の負レンズを有することを特徴とする請求項１または２に記載のレンズ装置。
【請求項４】
前記光学系は少なくとも１枚の負レンズを有し、
前記光学系に含まれる負レンズのうち最も物体側に配置された負レンズである第１負レンズＧ１の物体側の曲率半径をＧ１Ｒ１、前記第１負レンズＧ１の像側の曲率半径をＧ１Ｒ２としたとき、
１．００＜（Ｇ１Ｒ１＋Ｇ１Ｒ２）／（Ｇ１Ｒ１−Ｇ１Ｒ２）＜４．００
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のレンズ装置。
【請求項５】
前記光学系は少なくとも２枚の負レンズを有し、
前記光学系に含まれる負レンズのうち最も物体側に配置された第１負レンズＧ１の焦点距離をｆＧ１、前記光学系に含まれる負レンズのうち物体側から数えて２番目の負レンズである第２の負レンズＧ２の焦点距離をｆＧ２としたとき、
０．８０＜ｆＧ１／ｆＧ２＜３．５０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のレンズ装置。
【請求項６】
前記光学系は、複数のレンズ群を備え、
隣り合うレンズ群の光軸上の間隔を変化させることで前記第１の状態と前記第２の状態の間で撮影状態を変化させることが可能であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のレンズ装置。
【請求項７】
前記光学系に含まれるレンズ群を物体側から像側へ順に数えた際の番号をｎとし、
第ｎレンズ群の焦点距離をｆＬｎ、第ｎレンズ群の前記第１の状態と前記第２の状態の間での撮影状態の変化に伴う移動量をＭｎとし、
Ｍｆｎ＝｜Ｍｎ／ｆＬｎ｜で定義されるＭｆｎのｎに対する最大値をＭｆｍａｘとしたとき、
０．４＜Ｍｆｍａｘ＜１．０８
なる条件式を満足することを特徴とする請求項６に記載のレンズ装置。
【請求項８】
前記光学系は非球面を有し、
前記非球面の有効径をＥＡ、前記第１の状態において無限遠合焦時に最軸外光束の主光線が前記非球面に入射する位置の光軸からの高さをｈｍａｘ、前記第２の状態において無限遠合焦時に最軸外光束の主光線が前記非球面に入射する位置の光軸からの高さをｈｍｉｎとしたとき、
０．１５＜｜（ｈｍａｘ−ｈｍｉｎ）／ＥＡ｜
なる条件式を満足することを特徴とする請求項６または７に記載のレンズ装置。
【請求項９】
前記光学系は、物体側から像側へ順に配置された、負の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群、正の屈折力の第５レンズ群からなることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載のレンズ装置。
【請求項１０】
前記光学系は、物体側から像側へ順に配置された、負の屈折力の第１レンズ群、正の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群からなることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載のレンズ装置。
【請求項１１】
前記光学系に含まれる一部のレンズを光軸上から退避させ、他のレンズを光軸上に挿入することで前記第１の状態と前記第２の状態の間で撮影状態を変化させることが可能であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のレンズ装置。
【請求項１２】
前記第１の状態と前記第２の状態の間で不変である第１部分光学系と、
前記第１部分光学系の像側に配置され前記第１の状態と前記第２の状態の間の撮影状態の変化に伴い光軸上から退避する第２部分光学系と、
前記第１の状態と前記第２の状態の間の撮影状態の変化に伴い、前記光学系の光路中であって前記第１部分光学系の像側に挿入される第３部分光学系と、
を有することを特徴とする請求項１１に記載のレンズ装置。
【請求項１３】
１．１０＜ｆＬ／ｆＳ＜２．５０
成る条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のレンズ装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のレンズ装置と、前記レンズ装置の前記光学系によって形成された像を受光する撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
最大半画角とは、最大像高に到達する軸外主光線の画角（光線が光軸と成す角度）である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月26日(2021.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また本発明のトナーは、回転平板型レオメーターによって測定される貯蔵弾性率Ｇ’（１２０↑）、及び貯蔵弾性率Ｇ’（６０↓）が下記式（１）の関係を満たすことが好ましく、より好ましくは（１）’の関係を満たすことである。上限については、特に制限はないが、好ましくは１０．０以下である。
貯蔵弾性率Ｇ’（６０↓）／貯蔵弾性率Ｇ’（１２０↑）≧２．００×１０4  式（１）
貯蔵弾性率Ｇ’（６０↓）／貯蔵弾性率Ｇ’（１２０↑）≧２．２０×１０4  式（１）’
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
また本発明のトナーは、樹脂組成物Ａ中の、脂肪族炭化水素、長鎖アルキルモノアルコールのアルコール残基、及び長鎖アルキルモノカルボン酸のカルボン酸残基の合計の含有量をＸ、トナー中に含まれる結晶性樹脂の含有量をＹとしたとき、以下の関係式（２）を満たすことが好ましい。
Ｘ／Ｙ≧０．５５…（２）
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結着樹脂及び磁性粒子を含有するトナー粒子を有するトナーであって、
（ｉ）回転平板型レオメーターにより、温度５０℃から１２０℃まで２℃／ｍｉｎで昇温させた時の１２０℃におけるトナーの貯蔵弾性率Ｇ’（１２０↑）が４．００×１０3Ｐａ以下であり、
（ｉｉ）ホットディスク法により測定されるトナーの熱伝導率が０．１９０Ｗ／ｍＫ以上
であることを特徴とするトナー。
【請求項２】
回転平板型レオメーターにより、温度１２０℃から５０℃まで２℃／ｍｉｎで降温させた時の６０℃におけるトナーの貯蔵弾性率Ｇ’（６０↓）が１．００×１０7Ｐａ以上である、請求項１に記載のトナー。
【請求項３】
回転平板型レオメーターによって測定される前記トナーの貯蔵弾性率Ｇ’（１２０↑）、及び前記トナーの貯蔵弾性率Ｇ’（６０↓）が下記式（１）の関係を満たす、請求項１または２に記載のトナー。
貯蔵弾性率Ｇ’（６０↓）／貯蔵弾性率Ｇ’（１２０↑）≧２．００×１０4  式（１）
【請求項４】
前記トナー粒子が、更に結晶性ポリエステルを含有し、
前記結着樹脂が樹脂組成物Ａを含有し、
前記樹脂組成物Ａが、
ｉ）炭素数の平均値が２７以上５０以下の長鎖アルキルモノアルコールのアルコール残基、及び炭素数の平均値が２７以上５０以下の長鎖アルキルモノカルボン酸のカルボン酸残基の少なくとも一方の残基を末端に有するポリエステル樹脂、及び
ｉｉ）炭素数の平均値が２７以上５０以下の脂肪族炭化水素、
を含有し、
前記樹脂組成物Ａ中の、前記脂肪族炭化水素、並びに、前記残基の合計の含有量が、２．５質量％以上１０．０質量％以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のトナー。
【請求項５】
前記樹脂組成物Ａ中の、前記脂肪族炭化水素、及び前記残基の合計の含有量をＸ、前記トナー中に含まれる前記結晶性ポリエステルの含有量をＹとしたとき、下記式（２）を満たす、請求項４に記載のトナー。
Ｘ／Ｙ≧０．５５  式（２）
【請求項６】
前記磁性粒子の表面のＸ線光電子分光分析（ＥＳＣＡ）を用いた測定において、下記式（３）及び（４）を満たす、請求項１〜５のいずれか一項に記載のトナー。
１．０≦ｄＳｉ／ｄＡｌ  式（３）
０．１０≦（ｄＳｉ＋ｄＡｌ）／（ｄＦｅ＋ｄＳｉ＋ｄＡｌ）≦０．５０  式（４）
（式中、ｄＳｉはケイ素原子のａｔｏｍｉｃ％を示す。ｄＡｌはアルミニウム原子のａｔｏｍｉｃ％を示す。ｄＦｅは鉄原子のａｔｏｍｉｃ％を示す。）
【請求項７】
前記トナーの透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いた断面観察において、前記磁性粒子の一次粒子の個数平均径（Ｄ１）が５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
１３μｍ×１３μｍの視野において、１μｍ×１μｍの範囲における前記磁性粒子の占める面積の標準偏差が１０．０以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のトナー。
【請求項８】
前記トナーの酢酸エチルを用いたソックスレー抽出において、１８時間抽出したときの前記結着樹脂中の酢酸エチル不溶分の含有量α［質量％］が、１８．０質量％以上３０．０質量％以下である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のトナー。
【請求項９】
前記トナーの酢酸エチルを用いたソックスレー抽出において、１８時間抽出したときの前記結着樹脂中の酢酸エチル不溶分の含有量をα［質量％］とし、
前記トナーのテトラヒドロフランを用いたソックスレー抽出において、１８時間抽出したときの前記結着樹脂中のテトラヒドロフラン不溶分の含有量をβ［質量％］としたとき、
前記α及び前記βが、下記式（５）を満たす、請求項１〜８のいずれか一項に記載のトナー。
１５．０≦（α−β）≦２５．０  式（５）
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月17日(2020.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図２は、画像供給装置１００からプロジェクター２００に供給される画像データを示す図であり、マトリクス状に配置された画素データを示す図である。
画像分割部１１０は、画像データの１ラインの画素データを２チャネルに割り当てる。
図２において、画像データの第１行目の画素を第１ラインの画素といい、第２行目の画素を第２ラインの画素という。以下、同様に、第３ラインの画素、第４ラインの画素、・・・という。図２には、第１ライン〜第８ラインまでの画素を示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
フレームメモリー２５５は、複数のバンクを備える。各バンクは、画像データの１フレームを書き込み可能な記憶容量を有する。フレームメモリー２５５は、例えば、ＳＤＲＡＭ（Synchronous Dynamic Random Access Memory）により構成される。ＳＤＲＡＭは、クロックに同期してデータの読み出し及び書き込みを行うＤＲＡＭである。
本実施形態では、プロジェクター２００が、１フレーム分の画素データを記憶するフレームメモリー２５５を備える場合について説明するが、１ライン分の画素データを記憶するラインバッファーをフレームメモリー２５５に代えて備える構成であってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
プロジェクター２００は、リモコン受光部２３１、操作パネル２３３、表示部２３５、及び入出力Ｉ／Ｆ部２３９を備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
上述の説明では、参照画素として、未設定画素に接する隣接画素を選択した場合を説明したが、参照画素として選択可能な画素は、隣接画素だけに限定されない。
例えば、フレームメモリー２５５に展開された画素データ、すなわち、欠落が検出されなかったチャネルの全画素データを参照画素に設定してもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図５は、フレームメモリーに展開された画素データを示す図である。特に、図５において、ハッチングを施した第１チャネル、第３チャネル及び第４チャネルには画素データの欠落はなく、第２チャネルにおいて画素データが欠落している。
画像供給装置１００は、画像データの１フレームを左上領域、右上領域、左下領域、右下領域の４つの均等サイズの領域に分割する。そして、画像供給装置１００は、分割した左上領域の画素データを第１チャネル、右上領域の画素データを第２チャネル、左下領域の画素データを第３チャネル、右下領域の画素データを第４チャネルに割り当ててプロジェクター２００に送信する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
図６は、プロジェクター２００の動作を示すフローチャートである。
まず、制御部２７０は、第１受信部２４１、第２受信部２４２、第３受信部２４３及び第４受信部２４４のいずれかにおいて、画像信号を受信したか否かを判定する（ステップＳ１）。制御部２７０は、画像信号を受信していない場合（ステップＳ１／ＮＯ）、画像信号を受信するまで処理の開始を待機する。また、制御部２７０は、画像信号を受信した場合（ステップＳ１／ＹＥＳ）、第１チャネル〜第４チャネルのすべてのチャネルで画像信号を受信したか否かを判定する（ステップＳ２）。ステップＳ２は、本発明の「検出ステップ」に相当する。制御部２７０は、すべてのチャネルで画像信号を受信した場合（ステップＳ２／ＹＥＳ）、受信した画像信号から取り出した画素データをフレームメモリー２５５に展開し、展開した画素データを画像処理部２５７に処理させる。画像処理部２５７は画像処理を実行して、処理後の画素データをフレームメモリー２５５から読み出し、表示画像データとして駆動部２２０の光変調部駆動部２２２に出力する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
次に、補間処理が完了すると、制御部２７０は、画像処理部２５７及び駆動部２２０を制御して、スクリーンＳＣに画像を表示させる（ステップＳ８）。画像処理部２５７は、補間処理が完了し、１フレーム分の画素データが展開されたフレームメモリー２５５から画素データを読み出して表示画像データとして駆動部２２０の光変調部駆動部２２２に出力する。これにより、表示画像データに基づく画像光が投射画像としてスクリーンＳＣに投射される（ステップＳ８）。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月17日(2021.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素と、回路と、を有する表示装置であって、
前記画素は、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、第３のトランジスタと、第４のトランジスタと、第１の容量素子と、第２の容量素子と、表示素子と、を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第１の容量素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第１の配線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第１の容量素子の他方の電極と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第２の配線と電気的に接続され、
前記第１の容量素子の一方の電極は、前記第３のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、前記第２の容量素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第２の容量素子の他方の電極と電気的に接続され、
前記第２の容量素子の他方の電極は、前記第４のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記表示素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記回路は、前記第１の配線及び前記第２の配線と電気的に接続され、
前記回路は、前記第１の配線に、第１の画像信号を供給する機能を有し、
前記回路は、前記第２の配線に、参照電位を供給する機能を有し、
前記回路は、前記第２の配線に、第２の画像信号を供給する機能を有する、表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記参照電位は、外光の照度に応じた大きさの電位である、表示装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記外光の照度が高いほど、前記参照電位の電位は小さい、表示装置。
【請求項４】
請求項２又は３において、
前記参照電位は、負電位である、表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第１の容量素子の容量値は、前記第２の容量素子の容量値より大きい、表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記表示素子は、有機ＥＬ素子である、表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記第１のトランジスタは、チャネル形成領域に金属酸化物を有し、
前記金属酸化物は、Ｉｎと、Ｚｎと、Ｍ（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｓｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ又はＨｆ）と、を有する、表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一に記載の表示装置と、カメラと、を有する、電子機器。
【請求項９】
表示素子と、第１の配線及び第２の配線と電気的に接続されたメモリ回路と、が設けられた画素を有する表示装置の動作方法であって、
前記第２の配線に、参照電位を供給し、
前記第１の配線を介して、前記メモリ回路に第１の画像信号を格納し、
前記第２の配線を介して、前記メモリ回路に第２の画像信号を供給することにより、前記第１の画像信号に前記第２の画像信号を付加し、
前記表示素子により、前記第１の画像信号に対応する画像と、前記第２の画像信号に対応する画像と、を重ね合わせた画像を表示する、表示装置の動作方法。
【請求項１０】
請求項９において、
前記参照電位は、外光の照度に応じた大きさの電位である、表示装置の動作方法。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記外光の照度が高いほど、前記参照電位の電位は小さい、表示装置の動作方法。
【請求項１２】
請求項１０又は１１において、
前記参照電位は、負電位である、表示装置の動作方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月24日(2021.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学フィルタであって
基板と、
第１ミラーと、
第２ミラーと、及び
スペーサと
を備え、
前記第１ミラー、前記第２ミラー、及び前記スペーサは、複数の成分フィルタを形成し、
前記複数の成分フィルタのうち第１成分フィルタは第１断面積を有し、
前記複数の成分フィルタのうち第２成分フィルタは第２断面積を有し、
前記第１断面積及び前記第２断面積は、前記第１成分フィルタ及び第２成分フィルタの応答バランス取りを行うよう構成されている、
光学フィルタ。
【請求項２】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記複数の成分フィルタの断面積は、それぞれに対応する入力光束、フィルタ応答性、及びセンサ応答性に少なくとも部分的に基づくよう構成されている、光学フィルタ。
【請求項３】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記光学フィルタは、少なくとも６４チャンネルを形成する、光学フィルタ。
【請求項４】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１ミラー、前記第２ミラー、又は前記スペーサのうち少なくとも１つは、
ゲルマニウム層、
シリコン・ゲルマニウム層、
水素化シリコン層、
水素化ゲルマニウム層、
水素化シリコン・ゲルマニウム層
のうち少なくとも１つを有する、光学フィルタ。
【請求項５】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１ミラー、前記第２ミラー、又は前記スペーサのうち少なくとも１つは、
シリコン層、
二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層、
酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）層、
二酸化チタン（ＴｉＯ２）層、
五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）層、
五酸化タンタル、（Ｔａ２Ｏ５）層、又は
フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）層
のうち少なくとも１つを有する、光学フィルタ。
【請求項６】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記複数の成分フィルタのうち少なくとも２つの成分フィルタは共通波長に関連付けられ、また
前記少なくとも２つの成分フィルタの正味断面積は、前記少なくとも２つの成分フィルタを前記複数の成分フィルタにおける他の成分フィルタに対して応答バランス取りを行うよう構成されている、光学フィルタ。
【請求項７】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１断面積は、前記第２断面積から１％より大きい分だけの差異がある、光学フィルタ。
【請求項８】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１断面積は、前記第２断面積から５％より大きい分だけの差異がある、光学フィルタ。
【請求項９】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１断面積は、前記第２断面積から１０％より大きい分だけの差異がある、光学フィルタ。
【請求項１０】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１断面積は、前記第２断面積から２０％より大きい分だけの差異がある、光学フィルタ。
【請求項１１】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記光学フィルタのスペクトルレンジは、近赤外スペクトルレンジ又は中赤外スペクトルレンジを含む、光学フィルタ。
【請求項１２】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタは光の第１波長に関連付けられ、また前記第２成分フィルタは光の第２波長に関連付けられる、光学フィルタ。
【請求項１３】
２成分構成多重スペクトルフィルタであって、
複数の層を備え、
前記複数の層は、第１屈折率に関連付けられた１組の高屈折率層のセットと、前記第１屈折率よりも小さい第２屈折率に関連付けられた１組の低屈折率層のセットと、を含み、
前記複数の層は、複数の波長の光を導く複数のチャンネルを形成し、
前記複数のチャンネルに対応する複数の成分フィルタの複数の断面積は、前記複数の成分フィルタの少なくとも２つの成分フィルタの応答バランス取りを行うよう構成されている、２成分構成多重スペクトルフィルタ。
【請求項１４】
請求項１３記載の２成分構成多重スペクトルフィルタにおいて、前記複数の断面積は前記複数のチャネルに関連付けられる応答が特定応答となる構成にするよう変化させられ、前記特定応答は、前記複数のチャンネル間で約２０％よりも小さい差異化の範囲内にバランス取りされる、２成分構成多重スペクトルフィルタ。
【請求項１５】
請求項１３記載の２成分構成多重スペクトルフィルタにおいて、前記複数の断面積は前記複数のチャネルに関連付けられる応答が特定応答となる構成にするよう変化させられ、前記特定応答は、前記複数のチャンネル間で約１０％よりも小さい差異化の範囲内にバランス取りされる、２成分構成多重スペクトルフィルタ。
【請求項１６】
請求項１３記載の２成分構成多重スペクトルフィルタにおいて、前記複数の断面積は前記複数のチャネルに関連付けられる応答が特定応答となる構成にするよう変化させられ、前記特定応答は、バランス取りされない応答である、２成分構成多重スペクトルフィルタ。
【請求項１７】
請求項１３記載の２成分構成多重スペクトルフィルタにおいて、前記複数のチャンネルにおける第２チャンネルの第２面積に対する前記複数のチャンネルにおける第１チャンネルの第１面積は、前記第２チャンネルの第２入力光束、前記第２チャンネルの第２フィルタ応答性、及び前記第２チャンネルの第２センサ応答性に対する前記第１チャンネルの第１入力光束、前記第１チャンネルの第１フィルタ応答性、及び前記第１チャンネルの第１センサ応答性の比に対応する、２成分構成多重スペクトルフィルタ。
【請求項１８】
請求項１３記載の２成分構成多重スペクトルフィルタにおいて、前記複数の成分フィルタの断面積は、それぞれに対応する入力光束、フィルタ応答性、及びセンサ応答性に少なくとも部分的に基づくよう構成されている、２成分構成多重スペクトルフィルタ。
【請求項１９】
請求項１３記載の２成分構成多重スペクトルフィルタにおいて、前記複数のチャネルは、少なくとも６４チャンネルを含む、２成分構成多重スペクトルフィルタ。
【請求項２０】
請求項１３記載の２成分構成多重スペクトルフィルタにおいて、前記複数の成分フィルタのうち２つ以上の成分フィルタは共通波長に関連付けられている、２成分構成多重スペクトルフィルタ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月24日(2020.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
寝床を含む所定箇所の距離画像を取得する距離画像取得手段と、
前記距離画像に基づいて、当該距離画像内の人物の頭部と胴体部との対を検出する検出手段と、
検出した前記頭部と前記胴体部との対が、所定の距離範囲に位置して対を維持した状態で移動している場合、前記頭部と前記胴体部との対が人物であることを判定する判定手段と、
を備えた情報処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の情報処理装置であって、
前記判定手段は、人物と判定した対となる前記頭部と前記胴体部との位置関係に応じて、人物の姿勢を判定する、
情報処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の情報処理装置であって、
前記判定手段は、人物と判定した対となる前記頭部と前記胴体部との位置関係と、当該対となる前記頭部及び前記胴体部と前記寝床との位置関係と、に応じて、人物の姿勢を検出する、
情報処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の情報処理装置であって、
前記判定手段は、人物と判定した対となる前記頭部と前記胴体部との位置関係と、当該対となる前記頭部及び前記胴体部と前記寝床の周囲との位置関係と、に応じて、人物の姿勢を検出する、
情報処理装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の情報処理装置であって、
前記判定手段は、人物と判定した対となる前記頭部と前記胴体部との位置関係と、当該対となる前記頭部及び前記胴体部と前記寝床の高さとの位置関係と、に応じて、人物の姿勢を検出する、
情報処理装置。
【請求項６】
寝床を含む所定箇所の距離画像を取得する距離画像取得工程と、
前記距離画像に基づいて、当該距離画像内の人物の頭部と胴体部との対を検出する検出工程と、
検出した前記頭部と前記胴体部との対が、所定の距離範囲に位置して対を維持した状態で移動している場合、前記頭部と前記胴体部との対が人物であることを判定する判定工程と、
を有する情報処理方法。
【請求項７】
請求項６に記載の情報処理方法であって、
前記判定工程は、人物と判定した対となる前記頭部と前記胴体部との位置関係に応じて、人物の姿勢を判定する、
情報処理方法。
【請求項８】
情報処理装置に、
寝床を含む所定箇所の距離画像を取得する距離画像取得手段と、
前記距離画像に基づいて、当該距離画像内の人物の頭部と胴体部との対を検出する検出手段と、
検出した前記頭部と前記胴体部との対が、所定の距離範囲に位置して対を維持した状態で移動している場合、前記頭部と前記胴体部との対が人物であることを判定する判定手段と、
を実現させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月15日(2021.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
包装体等に紙およびプラスチックフィルムを使用する特許文献１，２に記載の発明には、包装体から被包装物を取り出すための手段までが開示されているとはいえない。また、特許文献３に記載の発明では、紙おむつを取り出し易くするための破断線を得ることができても、その破断線において包装袋を容易に破ることができる手段までは開示されていない。また、特許文献１，２，３に記載の包装体や袋は、少なくとも一部分にプラスチックフィルムを使用するものであるが、プラスチックフィルムの処分に関する配慮は見当たらない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
袋２では、横方向Ｘおよび前後方向Ｚにおいて接触部位３０と向き合うように対応している部分に、周方向Ｗへ延びる一条の周方向ミシン目３１が形成されている。周方向ミシン目３１は、本発明における開封手段であって、その一例は、図示の如く、前面部１３と第１，第２側面部１１，１２とに形成されていて、第４角部１９または第４角部１９の手前に第１端部３１ａを有し、第３角部１８または第３角部１８の手前に第２端部３１ｂを有する。袋２ではまた、袋２を開封するための摘持部が２つの矢印６１で示されている。矢印６１は、バイオマスインクで印刷されていて、第２角部１７に沿って、かつミシン目３１の上方と下方とに画かれている。袋２は、矢印６１の部分または矢印６１に隣接している部分である第２角部１７を摘んで矢印６１が示す方向へ引っ張ると、周方向ミシン目３１において破れて、上方部分５１と下方部分５２とに分かれる。このように作用する矢印、すなわち摘持部は、本発明における開封の補助手段である。なお、図示例の周方向ミシン目３１は袋２の周方向へ延びているが、本発明の技術的効果を奏する限りにおいて、ミシン目３１は、上下方向Ｙ、横方向Ｘ及び前後方向Ｚないしそれらの方向と交差する方向へ延びていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月17日(2021.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物の外壁に対して屋外側に配置される屋外構造物と、
前記屋外構造物の一部に設けられる第１構造物側対向部と、前記建物の一部に設けられるとともに前記第１構造物側対向部と対向する第１建物側対向部と、前記第１建物側対向部と前記第１構造物側対向部との間をシールする第１シール体とを有する第１シール構造と、を備え、
前記屋外構造物は、前記第１構造物側対向部が設けられ、ビスを用いて前記外壁に接続されない屋根体を備え、
前記第１シール体は、弾性的に撓み変形可能であり、前記第１構造物側対向部に接触するヒレ状のシール部を備え、
前記第１シール構造は、前記第１構造物側対向部が前記外壁から離間する方向に変位したとき、前記第１構造物側対向部の変位に追従して前記シール部が変形することで、前記第１シール体によるシール状態を保持可能に構成されることを特徴とする屋外構造ユニット。
【請求項２】
前記第１シール体は、前側シール部と後側シール部とを備え、
前記前側シール部の長さと前記後側シール部の長さは異なる請求項１に記載の屋外構造ユニット。
【請求項３】
前記前側シール部の長さは、前記後側シール部の長さより長くなる請求項２に記載の屋外構造ユニット。
【請求項４】
前記屋根体は、前記第１構造物側対向部が設けられる屋根枠材を備え、
前記第１シール構造は、前記屋根枠材の前記第１構造物側対向部に前記シール部が接触することで前記シール状態を保持可能である請求項１から３のいずれか１項に記載の屋外構造ユニット。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月28日(2021.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）半導体ウェーハの表面の所定位置における屈折率を求める屈折率取得工程と、
（Ｂ）前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置における厚みに相当する光路長を測定する光路長測定工程と、
（Ｃ）前記半導体ウェーハの前記厚みに相当する光路長を、前記屈折率取得工程において求めた前記屈折率で除することによって、前記所定位置での前記半導体ウェーハの厚み測定値を得る厚み測定工程と、
を含み、
前記（Ｂ）光路長測定工程は、
（ｉ）所定の帯域幅を有する赤外光を前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置に照射する第１工程と、
（ｉｉ）前記赤外光が前記半導体ウェーハの表面で反射してなる第１反射光と、前記赤外光が前記半導体ウェーハを透過して該半導体ウェーハの裏面で反射してなる第２反射光との干渉光を検出する第２工程と、
（ｉｉｉ）前記第２工程で検出した前記干渉光の分光スペクトルを得る第３工程と、
（ｉｖ）前記分光スペクトルを波形解析して、前記所定位置での前記半導体ウェーハの厚みに相当する光路長を求める第４工程と、
を含み、
前記（Ａ）屈折率取得工程、前記（Ｂ）光路長測定工程、及び前記（Ｃ）厚み測定工程を前記半導体ウェーハの面内の複数点で行うことを特徴とする半導体ウェーハの厚み測定方法。
【請求項２】
前記（Ａ）屈折率取得工程は、前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置における反射率を、反射率測定器を用いて測定する反射率測定工程と、前記反射率に基づき前記所定位置における前記屈折率を算出する屈折率算出工程と、を含む、請求項１に記載の半導体ウェーハの厚み測定方法。
【請求項３】
前記（Ａ）屈折率取得工程において、前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置における前記屈折率を、屈折率測定器を用いて測定する、請求項１に記載の半導体ウェーハの厚み測定方法。
【請求項４】
半導体ウェーハを載置する台座と、
前記半導体ウェーハの表面の所定位置における屈折率を求める屈折率取得工程を行う屈折率取得ユニットと、
所定の帯域幅を有する赤外光を前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置に照射する第１工程を行う光学ユニットと、
前記赤外光が前記半導体ウェーハの表面で反射してなる第１反射光と、前記赤外光が前記半導体ウェーハを透過して該半導体ウェーハの裏面で反射してなる第２反射光との干渉光を検出する第２工程を行う検出ユニットと、
（ａ）前記検出ユニットで検出した前記干渉光の分光スペクトルを得る第３工程と、
（ｂ）前記分光スペクトルを波形解析して、前記所定位置での前記半導体ウェーハの厚みに相当する光路長を求める第４工程と、を行う第１演算部と、
前記所定位置における前記屈折率及び前記厚みに相当する光路長を記憶するメモリと、
前記メモリに記憶された前記半導体ウェーハの厚みに相当する光路長を、前記半導体ウェーハの前記屈折率で除することによって、前記所定位置での前記半導体ウェーハの厚み測定値を得る厚み測定工程を行う第２演算部と、
前記所定位置を、前記半導体ウェーハの面内の複数点に設定可能な、前記光学ユニットと前記半導体ウェーハとの相対位置の可動機構と、
を有し、
前記屈折率取得工程、前記第１工程から前記第４工程、及び前記厚み測定工程を前記半導体ウェーハの面内の複数点で行うことを特徴とする半導体ウェーハの厚み測定システム。
【請求項５】
前記屈折率取得ユニットは、前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置における反射率を測定する反射率測定器と、前記反射率に基づき前記所定位置における前記屈折率を算出する第３演算部と、を有する、請求項４に記載の半導体ウェーハの厚み測定システム。
【請求項６】
前記屈折率取得ユニットは、前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置における前記屈折率を測定する屈折率測定器を有する、請求項４に記載の半導体ウェーハの厚み測定システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記知見に基づき完成した本発明の要旨構成は以下のとおりである。
（１）（Ａ）半導体ウェーハの表面の所定位置における屈折率を求める屈折率取得工程と、
（Ｂ）前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置における厚みに相当する光路長を測定する光路長測定工程と、
（Ｃ）前記半導体ウェーハの前記厚みに相当する光路長を、前記屈折率取得工程において求めた前記屈折率で除することによって、前記所定位置での前記半導体ウェーハの厚み測定値を得る厚み測定工程と、
を含み、
前記（Ｂ）光路長測定工程は、
（ｉ）所定の帯域幅を有する赤外光を前記半導体ウェーハの表面の前記所定位置に照射する第１工程と、
（ｉｉ）前記赤外光が前記半導体ウェーハの表面で反射してなる第１反射光と、前記赤外光が前記半導体ウェーハを透過して該半導体ウェーハの裏面で反射してなる第２反射光との干渉光を検出する第２工程と、
（ｉｉｉ）前記第２工程で検出した前記干渉光の分光スペクトルを得る第３工程と、
（ｉｖ）前記分光スペクトルを波形解析して、前記所定位置での前記半導体ウェーハの厚みに相当する光路長を求める第４工程と、
を含み、
前記（Ａ）屈折率取得工程、前記（Ｂ）光路長測定工程、及び前記（Ｃ）厚み測定工程を前記半導体ウェーハの面内の複数点で行うことを特徴とする半導体ウェーハの厚み測定方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月25日(2021.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の内装において外部からの光に照らされる被照射部の受光面に、断面が、互いに対面した二つの平坦な反射面で構成された溝部を有し、
前記反射面の平面角が、６５度以下である、
ことを特徴とする車両用内装材。
【請求項２】
前記受光面と平行で、かつ、前記反射面の交点を通る面に対するそれぞれの前記反射面の角度が異なる、
ことを特徴とする請求項１に記載された車両用内装材。
【請求項３】
前記受光面の垂線上に、前記溝部の開口部と前記反射面の交点とが配置され、
前記垂線に対して、前記反射面が、互いに相反する向きに傾斜した、
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載された車両用内装材。
【請求項４】
少なくとも一方の前記反射面が、前記溝部の深さ方向において前記受光面に近い側である浅面部と、この浅面部から前記溝部の深さ方向に伸びた深面部とを有し、
前記浅面部よりも前記深面部の平面角が小さい、
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載された車両用内装材。
【請求項５】
前記受光面における反射率が、２．０パーセント以下である、
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載された車両用内装材。
【請求項６】
前記平面角が、３２から６５度である、
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載された車両用内装材。
【請求項７】
前記受光面のうち、前記車両において上方に向けられた上面部では、前記反射面が、前記車両の全長方向と交差する方向に向けられ、
前記受光面のうち、前記車両における内側面部では、前記反射面が、前記車両の全長方向と交差する方向に向けられた、
ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載された車両用内装材。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載された車両用内装材における前記溝部の深さ方向を、射出成形において金型が開閉する方向に向けた、
ことを特徴とする車両用内装材の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月29日(2021.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
六方晶の結晶構造を備え、複屈折を有し、第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面と側面とを含む六方晶化合物半導体の基板を準備する工程と、
前記第１主面に前記基板を透過する光を照射し、前記基板中の＜０００１＞方向に沿って前記基板に前記光を透過させ、前記複屈折により生じる第１の位相差および第１の主振動方位角を算出する工程と、
予め決定されている成長条件に基づき、前記第１主面上に化合物半導体層をホモエピタキシャル成長させる工程と、
前記化合物半導体層の表面に前記光を照射し、前記化合物半導体層中および前記基板中の＜０００１＞方向に沿って前記化合物半導体層および前記基板に前記光を透過させ、前記複屈折により生じる第２の位相差および第２の主振動方位角を算出する工程と、を備え、
前記六方晶化合物半導体は炭化珪素単結晶である、六方晶化合物半導体の製造方法。
【請求項２】
前記第１の位相差および前記第１の主振動方位角から第１の残留歪と、前記第２の位相差および前記第２の主振動方位角から第２の残留歪とを算出する工程と、
前記第１の残留歪と前記第２の残留歪から前記基板の面内における歪の分布状況を評価する工程を含む、請求項１に記載の六方晶化合物半導体の製造方法。
【請求項３】
前記第１の残留歪と前記第２の残留歪は、前記基板の厚みで規格化された値である、請求項１または請求項２に記載の六方晶化合物半導体の製造方法。
【請求項４】
六方晶の結晶構造を備え、複屈折を有し、第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面と側面とを含む六方晶化合物半導体の基板を準備する工程と、
前記第１主面の複数個所に前記基板を透過する光を照射し、前記基板中の＜０００１＞方向に沿って前記基板に前記光を透過させ、前記複屈折により生じる第１の位相差を算出する工程と、
前記第１主面上に化合物半導体層をホモエピタキシャル成長させる工程と、
前記化合物半導体層の表面の複数箇所に前記光を照射し、前記化合物半導体層中および前記基板中の＜０００１＞方向に沿って前記化合物半導体層および前記基板に前記光を透過させ、前記複屈折により生じる第２の位相差を算出する工程と、
前記第１の位相差と前記第２の位相差に基づき前記基板の面内における歪の分布状況を判断し、前記ホモエピタキシャル成長の条件の変更を判断する工程とを備える、六方晶化合物半導体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月6日(2021.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
昇降路内を移動するカゴと、
前記カゴの外側に設けられ、電源と前記カゴに設けられた負荷とを電気的に接続する電路に設けられた継電器を備えた基板と、
コンセントプラグの挿入を受け付けるプラグソケットと、
前記カゴの内側に取り付けられ、前記コンセントプラグを介して前記プラグソケットに着脱可能に接続されて給電を受け、画像を出力する電気機器と、を備え、
前記プラグソケットは、前記継電器が設けられた前記電路における当該継電器よりも負荷側に接続されていることを特徴とするエレベーター。
【請求項２】
前記電気機器は、音声を取得するマイクロフォンおよび音声を出力するスピーカーの少なくともいずれかを備えたことを特徴とする請求項１に記載のエレベーター。
【請求項３】
昇降路内を移動するカゴと、
前記カゴの外側に設けられ、電源と前記カゴに設けられた負荷とを電気的に接続する電路に設けられた継電器を備えた基板と、
コンセントプラグの挿入を受け付けるプラグソケットと、
前記カゴの内側に取り付けられ、前記コンセントプラグを介して前記プラグソケットに着脱可能に接続されて給電を受け、当該カゴ内の印象を変える照明装置と、を備え、
前記プラグソケットは、前記継電器が設けられた前記電路における当該継電器よりも負荷側に接続されていることを特徴とするエレベーター。
【請求項４】
昇降路内を移動するカゴと、前記カゴの外側に設けられ、電源と前記カゴに設けられた負荷とを電気的に接続する電路に設けられた継電器を備えた基板と、前記継電器が設けられた前記電路における当該継電器よりも負荷側に接続され、コンセントプラグの挿入を受け付けるプラグソケットと、を備えたエレベーターにおける給電方法であって、
前記カゴの内側に設置された、画像を出力する電気機器が、前記コンセントプラグを介して前記プラグソケットに着脱可能に接続され、給電を受けることを特徴とする給電方法。
【請求項５】
昇降路内を移動するカゴと、前記カゴの外側に設けられ、電源と前記カゴに設けられた負荷とを電気的に接続する電路に設けられた継電器を備えた基板と、前記継電器が設けられた前記電路における当該継電器よりも負荷側に接続され、コンセントプラグの挿入を受け付けるプラグソケットと、を備えたエレベーターにおける給電方法であって、
前記カゴの内側に設置された、当該カゴ内の印象を変える照明装置が、前記コンセントプラグを介して前記プラグソケットに着脱可能に接続され、給電を受けることを特徴とする給電方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】エレベーターおよび給電方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、設置後に、給電を要する電気機器をカゴ内に取り付けることができるエレベーターおよび給電方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月7日(2021.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸線を中心として下部を回動自在に支持され、シートをガイドするガイド部材と、揺動中心を中心として、前記ガイド部材に揺動自在に設けられた揺動部材と、を含み、閉じ位置から開き位置とに移動可能な開閉手段であって、前記閉じ位置と前記開き位置の間を移動する場合に前記ガイド部材が前記軸線を中心として回動する開閉手段と、
第１搬送ローラと、
シートを前記第１搬送ローラと共に挟持して搬送する第２搬送ローラと、を有し、シートに画像を形成する画像形成装置であって、
前記開閉手段は、
前記第２搬送ローラの軸を保持する保持部材と、
一端が前記保持部材に接触し、他端が前記揺動部材に接触するバネと、
前記開閉手段が前記開き位置にあるときに、前記揺動中心を中心とした第１回動方向への前記揺動部材の前記ガイド部材に対する回動を前記揺動部材に当接することよって規制するストッパと、を有し、
前記画像形成装置は、前記開閉手段が前記閉じ位置にあるときに、前記揺動部材の一部が当接する当接部であって、前記開閉手段が前記開き位置にあるときに、前記揺動部材と離間する当接部を有し、
前記開き位置から前記閉じ位置に向けて前記開閉手段を閉じる動作の過程において、前記揺動部材の一部が前記当接部に接した前記揺動部材は、前記ガイド部材に対して前記揺動中心を中心として前記第１回動方向とは反対の、前記揺動部材が前記バネを圧縮させる方向である第２回動方向に回動し、
前記開閉手段が前記閉じ位置にあるときには、前記バネが圧縮されており、前記バネが前記保持部材を押すことによって、前記第２搬送ローラは前記第１搬送ローラに圧接すると共に、前記揺動部材は前記当接部に圧接し、
前記開閉手段が前記閉じ位置に位置した状態において、前記バネの一端から前記バネの他端の方向に前記バネを視たときに、前記バネと前記第２搬送ローラの軸とが重なるように、前記バネは前記開閉手段に設けられている、
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記閉じ位置において、前記開閉手段の開閉をロックするロック手段を備える、ことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
トナー像をシートに転写する転写部と、前記転写部によってシートに転写された前記トナー像をシートに定着する定着部とを備え、
前記定着部によって定着されたシートは、前記第１搬送ローラおよび前記第２搬送ローラによって搬送する、ことを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記第２搬送ローラと前記保持部材とは一体的に前記開閉手段においてスライド可能に前記開閉手段に設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記開閉手段が前記閉じ位置にあるとき、前記保持部材における前記バネの一端が接触している箇所と前記揺動部材における前記バネの他端に接触する箇所とを結んだ線に沿って前記第２搬送ローラと前記保持部材とが一体的に前記開閉手段においてスライドできるように、前記第２搬送ローラと前記保持部材が前記開閉手段に設けられている、ことを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記バネの中心線に沿って前記第２搬送ローラと前記保持部材とが一体的に前記ガイド部材においてスライドできるように、前記第２搬送ローラと前記保持部材が前記開閉手段に設けられている、ことを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記揺動中心に垂直な方向における、前記揺動中心から、前記揺動部材における前記当接部に接している箇所までの距離は、前記揺動中心に垂直な方向における、前記揺動中心から、前記揺動部材における前記バネの他端に接する箇所までの距離よりも長い、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記開閉手段が前記閉じ位置に位置したとき、前記揺動中心よりも上方に前記第１搬送ローラが位置する、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記当接部は、水平に対して傾斜した傾斜部を含んでいる、ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一態様は、軸線を中心として下部を回動自在に支持され、シートをガイドするガイド部材と、揺動中心を中心として、前記ガイド部材に揺動自在に設けられた揺動部材と、を含み、閉じ位置から開き位置とに移動可能な開閉手段であって、前記閉じ位置と前記開き位置の間を移動する場合に前記ガイド部材が前記軸線を中心として回動する開閉手段と、第１搬送ローラと、シートを前記第１搬送ローラと共に挟持して搬送する第２搬送ローラと、を有し、シートに画像を形成する画像形成装置であって、前記開閉手段は、前記第２搬送ローラの軸を保持する保持部材と、一端が前記保持部材に接触し、他端が前記揺動部材に接触するバネと、前記開閉手段が前記開き位置にあるときに、前記揺動中心を中心とした第１回動方向への前記揺動部材の前記ガイド部材に対する回動を前記揺動部材に当接することよって規制するストッパと、を有し、前記画像形成装置は、前記開閉手段が前記閉じ位置にあるときに、前記揺動部材の一部が当接する当接部であって、前記開閉手段が前記開き位置にあるときに、前記揺動部材と離間する当接部を有し、前記開き位置から前記閉じ位置に向けて前記開閉手段を閉じる動作の過程において、前記揺動部材の一部が前記当接部に接した前記揺動部材は、前記ガイド部材に対して前記揺動中心を中心として前記第１回動方向とは反対の、前記揺動部材が前記バネを圧縮させる方向である第２回動方向に回動し、前記開閉手段が前記閉じ位置にあるときには、前記バネが圧縮されており、前記バネが前記保持部材を押すことによって、前記第２搬送ローラは前記第１搬送ローラに圧接すると共に、前記揺動部材は前記当接部に圧接し、前記開閉手段が前記閉じ位置に位置した状態において、前記バネの一端から前記バネの他端の方向に前記バネを視たときに、前記バネと前記第２搬送ローラの軸とが重なるように、前記バネは前記開閉手段に設けられている、ことを特徴とする画像形成装置である。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月28日(2020.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処置代替単独療法においてＨＩＶ−１感染対象を処置するための組成物であって、ＨＩＶ−１感染対象が、
ＰＲＯ１４０を投与すること；および４週間を超える期間にわたってウイルス学的応答の欠如を防止すること、
を含む処置代替単独療法の開始前に、抗レトロウイルス併用療法において安定である、前記組成物。
【請求項２】
ＰＲＯ１４０が、静脈内または皮下のいずれかに投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ＰＲＯ１４０が、３５０ｍｇの量で皮下に投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
ＰＲＯ１４０が、１７５ｍｇ／ｍＬの濃度で皮下に投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
１週間に１回、２週間に１回、および１ヶ月に１回のうちの１つで、ＰＲＯ１４０を投与することを含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
ＨＩＶ−１感染対象が、１ヶ月、２ヶ月、３ヶ月、４ヶ月、５ヶ月、６ヶ月、７ヶ月、８ヶ月、９ヶ月、１０ヶ月、１１ヶ月および１年のうちの１つの期間、ＰＲＯ１４０を受ける、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
ＨＩＶ−１感染対象が、少なくとも１年間ＰＲＯ１４０を受ける、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
ＨＩＶ−１感染対象が、ＰＲＯ１４０単独療法の後に抗レトロウイルス併用療法に戻る、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
ＨＩＶ−１感染対象に、ウイルス学的応答の欠如の防止を少なくとも約６０％の見込みで、４週間を超える期間にわたって提供することをさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
処置代替単独療法をＨＩＶ−１感染対象に提供することによって、薬物レジームの遵守を改善するための組成物であって、
ＨＩＶ−１感染対象が、
ＰＲＯ１４０を投与すること；および４週間を超える期間にわたってウイルス学的応答の欠如を防止すること、
を含む処置代替単独療法の開始前に、抗レトロウイルス併用療法において安定である、前記組成物。
【請求項１１】
１週間に１回、２週間に１回、および１ヶ月に１回のうちの１つで、ＰＲＯ１４０を投与することを含む、請求項１０に記載の薬物レジームの遵守を改善するための組成物。
【請求項１２】
ＨＩＶ−１感染対象が、１ヶ月、２ヶ月、３ヶ月、４ヶ月、５ヶ月、６ヶ月、７ヶ月、８ヶ月、９ヶ月、１０ヶ月、１１ヶ月および１年のうちの１つの期間、ＰＲＯ１４０を受ける、請求項１０に記載の薬物レジームの遵守を改善するための組成物。
【請求項１３】
ＰＲＯ１４０が、３５０ｍｇの量で皮下に自己投与される、請求項１０に記載の薬物レジームの遵守を改善するための組成物。
【請求項１４】
処置代替単独療法においてＨＩＶ−１感染対象を処置するための組成物であって、ＨＩＶ−１感染対象が、
自己投与可能な投与形態で、ＰＲＯ１４０を提供すること；
処置代替単独療法としてＰＲＯ１４０を投与すること；および
４週間を超える期間にわたってウイルス学的応答の欠如を防止すること、
を含む処置を伴う処置代替単独療法の開始前に、抗レトロウイルス併用療法において安定である、前記組成物。
【請求項１５】
ウイルス学的応答の欠如についてＨＩＶ−１感染対象を試験すること、およびウイルス学的応答の欠如の場合に他の抗ＨＩＶ薬物による処置を再開すること
をさらに含む、請求項１、１０および１４のいずれか一項に記載のＨＩＶ−１感染対象を処置するための組成物。
【請求項１６】
対象の体重に対して約５ｍｇ／ｋｇ〜約１０ｍｇ／ｋｇの間の用量をさらに含む、請求項１、１０および１４のいずれか一項に記載のＨＩＶ−１感染対象を処置するための組成物。
【請求項１７】
対象の体重に対して約１０ｍｇ／ｋｇの用量をさらに含む、請求項１、１０および１４のいずれか一項に記載のＨＩＶ−１感染対象を処置するための組成物。