(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査物であるウエハの副走査方向に所定の走査幅をもつ異物検査領域を有し、この異物検査領域が前記ウエハを主走査方向に移動させる開始位置において前記ウエハの先頭部分に対応する前記主走査方向の位置に配置されるように異物検査光学系を位置付け、前記ウエハを前記主走査方向に移動させて、前記ウエハに対して往きの走査をして前記異物検査領域において異物を検出し、この往きの走査の終了後に前記ウエハを１８０°回転させ、前記ウエハを前記とは逆方向に移動させて帰りの走査をして前記異物検査領域において異物を検出する異物検出方法であって、
さらに、前記帰りの走査が終了した後に前記異物検査光学系を実質的に前記走査幅分、副走査方向に移動させかつ前記ウエハを１８０°回転させて次の前記往きの走査を行って前記異物検査領域において異物を検出し、この往きの走査の終了後に前記ウエハを１８０°回転させ、前記ウエハを前記とは逆方向に移動させて帰りの走査をして前記異物検査領域において異物を検出することにより、前記往きの走査と前記帰りの走査とが複数回行われ、これらの各走査の終了ごとに前記ウエハを１８０゜回転させ、
さらに、前記ウエハの中心を通る前記主走査方向における中心線を含む前記異物検査領域の走査が前記主走査方向の往きあるいは帰りの走査で行われ、これが終了することにより前記ウエハの全面走査が完了することを特徴とする異物検査方法。
【請求項２】
被検査物であるウエハの副走査方向に所定の走査幅をもつ異物検査領域を有し、この異物検査領域が前記ウエハを主走査方向に移動させる開始位置において前記ウエハの先頭部分に対応する前記主走査方向の位置に配置されるように異物検査光学系を位置付け、前記ウエハを前記主走査方向に移動させて、前記ウエハに対して往きの走査をして前記異物検査領域において異物を検出し、この走査の終了後に前記ウエハを１８０°回転させ、前記ウエハを前記とは逆方向に移動させて帰りの走査をして前記異物検査領域において異物を検出する異物検出方法であって、
前記走査幅は、前記ウエハの直径からこの直径より前記走査幅分大きな範囲内の距離を均等に２Ｎ分割（ただしＮは２以上の整数）した幅に相当するものであり、前記異物検査光学系はＮ個設けられ、これらが前記走査幅おきに配置され、
さらに、前記ウエハの中心を通る前記主走査方向における中心線を含む前記異物検査領域の走査が前記主走査方向の往きあるいは帰りの走査で行われ、これが終了することにより前記ウエハの全面走査が完了することを特徴とする異物検査方法。
【請求項３】
被検査物であるウエハを二次元で走査をして異物を検出する異物検査装置において、
前記ウエハの副走査方向に所定の走査幅をもつ異物検査領域を有し、この異物検査領域が前記ウエハを主走査方向に移動させる開始位置において前記ウエハの先頭部分に対応する前記主走査方向の位置に配置されるように位置付けられた異物検査光学系と、
前記ウエハを載置し、前記ウエハを主走査方向に往復移動させかつ前記ウエハの実質的な中心を基準として実質的に１８０゜回転させる移動・回転機構と、
前記移動・回転機構を制御することにより前記ウエハに対して前記主走査方向に往きの走査をし、この走査の終了後に前記被検査物を１８０°回転させて前記主走査方向に帰りの走査をする制御をする制御装置とを備え、
前記往きの走査と前記帰りの走査に応じて前記異物検査領域において異物を検出する異物検査装置であって、
前記異物検査光学系は、さらに、前記副走査方向に実質的に前記走査幅分移動させる副走査移動機構を有し、前記移動・回転機構は、前記１８０゜の回転に加えてさらに１８０゜回転するものであり、前記制御装置は、さらに、前記帰りの走査が終了した後に前記副走査移動機構を制御して前記異物検査光学系を実質的に前記走査幅分、副走査方向に移動させ、かつ、前記ウエハを１８０°回転させる制御をし、かつ、前記往きの走査と前記帰りの走査とが複数回行われ、これらの各走査の終了ごとに前記ウエハを１８０゜回転させる制御をし、
さらに、前記ウエハの中心を通る前記主走査方向における中心線を含む前記異物検査領域の走査が前記主走査方向の往きあるいは帰りの走査で行われ、これが終了することにより前記ウエハの全面走査が完了したことを判断する手段を備えたことを特徴とする異物検査装置。
【請求項４】
被検査物であるウエハを二次元で走査をして異物を検出する異物検査装置において、
前記ウエハの副走査方向に所定の走査幅をもつ異物検査領域を有し、この異物検査領域が前記ウエハを主走査方向に移動させる開始位置において前記ウエハの先頭部分に対応する前記主走査方向の位置に配置されるように位置付けられた異物検査光学系と、
前記ウエハを載置し、前記ウエハを主走査方向に往復移動させかつ前記ウエハの実質的な中心を基準として実質的に１８０゜回転させる移動・回転機構と、
前記移動・回転機構を制御することにより前記ウエハに対して前記主走査方向に往きの走査をし、この走査の終了後に前記ウエハを１８０°回転させて前記主走査方向に帰りの走査をする制御をする制御装置とを備え、
前記往きの走査と前記帰りの走査に応じて前記異物検査領域において異物を検出する異物検査装置であって、
前記走査幅は、前記ウエハの直径からこの直径より前記走査幅分大きな範囲内の距離を均等に２Ｎ分割（ただしＮは２以上の整数）した幅に相当するものであり、前記異物検査光学系はＮ個設けられ、これらが前記走査幅おきに配置され、
さらに、前記ウエハの中心を通る前記主走査方向における中心線を含む前記異物検査領域の走査が前記主走査方向の往きあるいは帰りの走査で行われ、これが終了することにより前記ウエハの全面走査が完了したことを判断する手段を備えたことを特徴とする異物検査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、異物検査方法および異物検査装置に関し、詳しくは、ウエハ異物検査装置において、検査テーブルの移動範囲を低減して検査テーブルを小型し、かつ、検査効率を向上させることが可能なウエハ異物検査方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ウエハ異物検査装置には、ウエハの表面にレーザビームを照射してＸ，Ｙ方向にウエハを走査するＸＹ走査方式と、ウエハを回転させてレーザビームを照射し、スパイラル状にまたは同心円にウエハを走査する回転走査方式とがある。
前者のＸＹ走査は、例えば、検査テーブルがＸ方向に移動して主走査をし、レーザビームあるいはさらに検査テーブルがＹ方向に移動することで副走査を行う。走査速度を向上させるために、そのＸ方向の主走査は通常往復走査になる。この方式は、ウエハの全面走査に時間がかかる問題があるが、個々の検出領域が一定していて、比較的小さな異物も正確な位置で検出できる利点がある。一方、後者の走査は、ウエハの外周と中心部とで周速が相違するために、個々の検査領域について周辺では走査密度が粗くなり、中心部では走査密度が高くなって検査領域重複する問題がある。しかし、ウエハ全面に亙っての走査時間が短くて済む利点がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
最近では、ＩＣの集積度の向上とともに、ウエハの検査精度の向上が要求されている。その関係で、ＸＹ走査方式を採用して異物検査をする傾向にある。しかし、半導体製造工程の中に投入されるインラインでの異物検査装置としてＸＹ走査方式を採用して異物検査を行うと、検査のスループットが低下する上に、次に説明するように、装置が大型化する欠点がある。
図５は、従来のＸＹ走査方式における異物検査装置の検査テーブルの移動範囲の説明図である。ウエハ１は、検査テーブルに載置されたウエハであって、ここではウエハ１の移動をもって検査テーブルの移動範囲を説明する。
異物検査光学系２が図示する位置に設定されているとすれば、ウエハ１を全面走査するためには、Ｘ方向においてウエハ１の中心Ｏが軸Ｘ1からＸ2まで移動するように検査テーブルによりウエハ１を移動させなければならない。Ｙ方向にあっては、ウエハ１の中心Ｏが軸Ｙ1からＹ2までの距離に相当する分、移動するように検査テーブルによりウエハ１を移動させなければならない。
【０００４】
したがって、ウエハ１の直径をＤとすると、ウエハ１を載置する検査テーブルは、少なくとも縦２Ｄ，横２Ｄの２Ｄ×２Ｄの範囲を占有しなければ、ウエハの移動による全面走査はできない。そのため、異物検査テーブルの移動機構をどうしても２Ｄ×２Ｄの範囲よりも大きくする必要がである。これにより検査テーブルを含めて、装置が大型化せざるを得ない。特に、ウエハ１の外径が大きくなると、それだけ装置が大型化する問題がある。
一方、ウエハ側ではなく、異物検査光学系を移動させてウエハを走査すれば走査系の移動範囲は減少する。しかし、異物検査光学系自体の高速な移動は、光学系に多数のレンズが含まれる関係で光学系の位置ずれや振動が発生し易く、それが正確な異物検出を阻害する。また、その大きさや重量の関係からも高速移動は好ましくない。これとは別に、レーザビームを振らせてウエハを走査する方式もあるが、これは、走査光学系が大きくなり、装置の大型化が避けられない。
この発明の目的は、検査テーブルの移動範囲をほぼウエハの直径の２倍程度のエリアに半減させて装置の小型化を図るとともに検査効率を向上させることができる異物検査方法を提供することにある。
この発明の他の目的は、検査テーブルを小型化することにより装置の小型化を図るとともに検査効率を向上させることができる異物検査装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するための異物検査方法の特徴は、被検査物の副走査方向に所定の走査幅をもつ異物検査領域を有し、この異物検査領域が前記被検査物を主走査方向に移動させる開始位置において前記被検査物の先頭部分に対応する前記主走査方向の位置に配置されるように異物検査光学系を位置付け、前記被検査物を前記主走査方向に移動させて、前記被検査物に対して往きの走査をし、この走査の終了後に前記被検査物を１８０°回転させ、前記被検査物を前記とは逆方向に移動させて帰りの走査をして前記異物検査領域において異物を検出するものである。
また、この発明の異物検査装置の特徴は、被検査物の副走査方向に所定の走査幅をもつ異物検査領域を有し、この異物検査領域が前記被検査物を主走査方向に移動させる開始位置において前記被検査物の先頭部分に対応する前記主走査方向の位置に配置されるように位置付けられた異物検査光学系と、前記被検査物を載置し、前記被検査物を主走査方向に往復移動させかつ前記被検査物の実質的な中心を基準として実質的に１８０゜回転させる移動・回転機構と、前記移動・回転機構を制御することにより前記被検査物に対して前記主走査方向に往きの走査をしこの主走査の終了後に前記被検査物を１８０°回転させて前記主走査方向に帰りの走査をする制御をする制御装置とを備えていて、前記往きの走査と前記帰りの走査に応じて前記異物検査領域において異物を検出するものである。なお、ここでの異物には、いわゆる表面における欠陥も含まれるものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
このように、異物検査光学系を被検査物の主走査方向の移動開始位置における被検査物の先頭部分に対応する主走査方向の位置に配置し、被検査物側を移動させて、Ｘ方向あるいはＹ方向のみの主走査を行い、往きの主走査が終了した時点で被検査物をその中心を基準として１８０°回転させてから帰りの主走査に入る。例えば、ウエハをその中心を基準に１８０°回転させて帰りの走査に入る。これにより、帰りの走査の開始点は、往きの主走査の終了位置からウエハの中心点Ｏに関して点対称の位置になり、往きとは異なる走査領域になる。
この場合の１８０°の回転は、ウエハがほぼ円形であることから主走査方向に直交する副走査方向においてその回転前後におけるウエハ占有範囲のはみ出し、あるいはウエハ占有エリアの増加はない。
なお、被検査物がウエハでなくても、例えば、ＬＣＤ基板のような長方形状のものでも、その中心で回転させることにより副走査方向での回転前後における占有エリアは、実質的な増加がなく、副走査方向の一辺の長さの範囲で済む。したがって、副走査方向での走査範囲は、実質的にこの一辺を端から端まで走査する場合の半分で済む。なお、長方形の場合には、回転するときの最大径は、対角線に対応することになるので、長方形の長い側辺を副走査方向に対応させれば回転による占有面積の増加が少なくて済む。
【０００７】
ウエハを載置する場合の検査テーブルの移動としては、主走査方向にウエハの直径Ｄの２倍の距離、すなわち２Ｄ分であり、副走査方向での２Ｄ分移動の必要はない。また、検査テーブルの占有エリアも主走査方向に２Ｄ分であり、副走査方向の占有エリアは実質的に直径Ｄになり、しかも、このときの副走査方向の走査量は、実質的にＤ／２になる。したがって、占有エリアの実質的な増加はない。また、異物検査光学系（その異物検査領域）が被検査物における主走査方向において被検査物の移動の開始位置の先頭部分に対応する主走査方向の位置に配置されているので、主走査において異物検査光学系が前記ウエハ占有範囲を越えるような増加、あるいは異物検査光学系が前記ウエハ占有範囲からみ出しすようなことも生じない。
この発明では、前記したように、実質的に副走査方向の走査のために行う移動量が半減するので、全面走査におけるスループットが向上する。その上、ここでは、主走査の１ラインの幅を副走査方向に大きく採っているので、トータルの走査回数が低減する。その結果、被検査物、例えば、ウエハを全面走査する時間が短縮され、かつ、ウエハ検査における検査効率が向上する。また、検査テーブルの移動範囲としてこれの占有エリアが減少し、特に、ウエハ異物検査においては、従来の大きさの半分程度で済む。
【０００８】
ところで、次に説明する実施例では、異物検査光学系がＣＣＤセンサを有する検査光学系であって、主走査方向がＹ方向になっている。実施例では、検査テーブルの主要部分がＹテーブルとして実現され、このＹ方向のウエハの移動開始位置におけるウエハの先頭部分に対応するように異物検査光学系の異物検査領域が配置されている。なお、ウエハは円形になっているので、異物検査領域は、Ｘ方向において所定の距離離れて配置されることになり、ウエハの外形から外れた外側になる。その結果、異物検査領域は、前記の先頭部分に一致してはいない。また、往きの主走査が終了した時点で１８０°ウエハを回転させるのは、Ｙテーブル上に配置されたＺθテーブルにより行われる。そして、これらテーブルの移動と回転の制御は、実施例では、マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）がウエハ走査プログラムを実行することによりテーブル駆動回路を介して行う。
【０００９】
【実施例】
図１は、この発明の異物検査装置の一実施例の検出光学系を中心とする構成図であり、図２は、その走査の処理のフローチャート、図３がその走査順序の説明図、そして、図４は、検出光学系を３個並列に設けた場合の他の実施例の走査の説明図である。
図１に示す、１０は、異物検査装置であって、異物検査光学系１１とその下側に配置された検査テーブル１２、データ処理・制御装置１３、テーブル駆動回路１４、Ａ／Ｄ変換回路（Ａ／Ｄ）１７、Ｘ移動機構１８、制御回路１９、そしてインタフェース２０とからなり、検査テーブル１２にはウエハ１が載置されている。また、制御回路１９は、インタフェース２０を介してデータ処理・制御装置１３からの信号に応じてＸ移動機構１８やＣＣＤ制御・信号読出回路１５５に対して駆動のための各種制御信号を発生する。
【００１０】
異物検査光学系１１は、その内部を図示するように、検出光学系１５と投光光学系１６とからなり、投光光学系１６が副走査方向に所定の幅を持つ、ウエハ１上の検査領域３（異物検出領域）にレーザビームを照射する。そして、その上方散乱光を検査テーブル１２の鉛直方向で上部に設けられた検出光学系１５で受光して検出する。異物検査光学系１１は、Ｘ方向移動機構１８に固定されていて、Ｘ方向にシフトする。なお、検査領域３のＸ方向の長さが主走査方向の１ラインの幅になっている。したがって、副走査方向（Ｘ方向）の移動ピッチはこの幅に対応している。
投光光学系１６は、半導体レーザ光源１６１と、集光レンズ系１６２，１６３，１６４、そして反射ミラー１６５とからなり、レーザビームを検査領域３に対応する長円形の形に集束させてほぼウエハ１からみた仰角が３０°でウエハ１の検査領域３に照射する。
【００１１】
検出光学系１５は、ウエハ１の検査領域３に対峙する対物レンズ１５１とその後ろに配置された空間フィルタ１５２、その後方に配置された集光レンズ系１５３、集光レンズ系１５３により結像された検査領域３の映像全体を受けるＣＣＤセンサ１５４、そしてＣＣＤセンサ１５４からの検出信号を読み出す、ＣＣＤ制御・信号読出回路１５５とからなる。
ＣＣＤ制御・信号読出回路１５５は、データ処理・制御装置１３からインタフェース２０，制御回路１９を介して制御され、受光強度に応じて検出された検出信号をシリアルに読出してこれをＡ／Ｄ１７送出し、これによりデジタル値に変換してインタフェース２０を介してデータ処理・制御装置１３に検出信号（デジタル値）として送出する。
【００１２】
ここで、検出光学系１５は、主走査方向（Ｙ方向）において、ウエハ１の移動開始位置における先頭部分に対応するＹ方向の位置に検査領域３が対応するように配置されている。なお、検査領域３は、ウエハ１が円形であり、検査領域３の一部がウエハ１の外形から外れるので、これを図示して説明する都合上、図ではＸ方向において少し内側に入ったところで、かつ、先頭位置より少し内側に入ったところに検査領域３を描いている。
データ処理・制御装置１３は、通常、ＭＰＵ１３１とメモリ１３２等により構成され、前記のＡ／Ｄ１７からの信号をインタフェース２０，バス１３３を介して受けてメモり１３２に記憶する。そして、メモリ１３２には、異物検出プログラム１３４，ウエハ走査プログラム１３５，焦点合わせプログラム１３６等をはじめとして各種のプログラムが格納されている。
テーブル駆動回路１４は、ＭＰＵ１３１によるウエハ走査プログラム１３５の実行に応じて、検査テーブル１２をＹ方向に往復移動させる駆動回路である。さらに、Ｙ方向にウエハ１の直径Ｄ＋α分（αは、走査余裕分）の移動が終了した時点で、Ｚθテーブル１２２を１８０°回転させて、Ｙ方向に直径Ｄ＋α分の帰りの移動をさせる駆動を行う。すなわち、これは、Ｙ方向の往復走査と回転とを行うための駆動回路である。
【００１３】
検査テーブル１２は、Ｙテーブル１２１とＺθテーブル１２２と、このＺθテーブル１２２に設けられた中心位置決め機構１２３とからなる。中心位置決め機構１２３は、ウエハ１の周囲外側に円形に配置された複数のローラ１２４，１２４，…からなる絞り機構である。いわゆるシャッタの絞りと同様にローラ１２４，１２４，…が外側から内側に連動して回動することで、検査テーブル１２の中心にこれに載置されたウエハ１の中心を位置決めする。
Ｙテーブル１２１は、ベース板１２５と、これに設けられたレール１２６，１２６上をＹ方向にスライドするテーブル１２７とから構成されている。
Ｚθテーブル１２２は、テーブル１２７に載置されたテーブルであって、そのＺ方向の移動は、内部に設けられテーブル１２７上に固定された昇降機構に行われる。この昇降機構は、主として焦点合わせのためにウエハ１を上下方向に移動させて、ウエハの上下方向の位置設定を行うためのものである。
【００１４】
図２は、ウエハ走査プログラム１３５による走査のフローチャートであって、Ｙテーブルを駆動してＹ方向の往きの走査を開始し（ステップ１０１）、Ｙ方向のウエハ１の直径Ｄ＋α分の走査終了か否かの判定を行い（ステップ１０２）、終了していないときには、ＮＯとなり、ＹテーブルをＹ方向へさらに移動し（ステップ１０３）、再びステップ１０２の前記の判定を行う。この循環ループにおいて、Ｙ方向の往きの１主走査が終了したときには、ＹＥＳとなって、Ｚθテーブルを１８０°回転させ（ステップ１０４）、Ｙテーブルを先とは逆方向に駆動してＹ方向の帰り走査を開始し（ステップ１０５）、Ｙ方向のウエハ１の直径Ｄ＋α分の走査終了か否かの判定を行い（ステップ１０６）、終了していないときには、ＮＯとなり、ＹテーブルをＹ方向へさらに移動し（ステップ１０７）、再びステップ１０６の前記の判定を行う。この循環ループにおいて、Ｙ方向の帰りの１走査が終了したときには、ステップ１０６の判定でＹＥＳとなって、ＭＰＵ１３１が副走査の終了か否かの判定を異物検査光学系１１が位置決めされたＸ方向の位置により行う（ステップ１０８）。
【００１５】
ここで、副走査方向の移動が終了していないときには、検査領域３に対応する副走査分だけＸ移動機構１８をウエハ１の内側に向かって移動させる駆動をして異物検査光学系１１を副走査方向に１ピッチ分（実質的に検査領域３の幅に対応する分）移動させる（ステップ１０９）。そして、Ｚθテーブルを１８０°反転回転させて元に戻し（ステップ１１０）、ステップ１０１へと帰り、前記の処理を開始し、これを副走査が終了するまで繰り返し実行する。
なお、ステップ１０８の判定で副走査側の走査が終了しているときには、この処理が終了する。副走査側の走査の終了は、ウエハ１の内側に移動してウエハの中心を通る中心線を含む領域の走査が往きあるいは帰りの走査で行われ、これが終了することによりウエハ１の全面走査が完了するとき、Ｘ方向におけるその位置に異物検査光学系１１が位置付けられたことをもって行う。
ところで、前記のステップ１１０のＺθテーブルの１８０°の回転は、往きと帰りの主走査においてステップ１０４における回転方向と同じにすることができる。また、この往きと帰りの各主走査の間、ＭＰＵ１３１は、異物検出プログラム１３４を実行してＡ／Ｄ１７から受けた検出信号（デジタル値）に基づいてＣＣＤセンサ１５４の受光位置（受光画素の位置）との関係において検査領域３のどの位置に異物があるのか、あるいは検査領域３には異物がないのかの判定を行い、異物検出をする。なお、この場合のＣＣＤセンサ１５４としては、例えば、副走査方向に５，０００画素程度の１ラインセンサを使用するとよい。
【００１６】
図３は、前記の処理における往きと帰りの走査の順序を数字▲１▼，▲２▼，▲３▼，…，で示すものである。（ａ）は、最初の往きの走査状態を、（ｂ）は最初の帰りの走査状態を、そして（ｃ）は、その次の往きの走査を示すものであって、（ｃ）に示すように、結果としてのウエハ１の走査領域は、▲１▼，▲２▼，▲３▼の順序となる。なお、（ａ）〜（ｃ）において示す矢印は、それぞれの主走査終了後における１８０゜のウエハ回転方向である。したがって、この例では、最初の主走査が終了した時点で反時計方向に１８０゜回転させ、その帰りの主走査が終了した時点で時計方向に１８０゜回転させて元に戻す。１８０゜の回転は往き，帰りの各主走査ごとに正転，反転の繰り返しになる。
この例では、テーブルの移動方向が往復の主走査であるが、往きと帰りとの間でテーブルが交互に１８０°正転、反転回転する。しかし、往きと帰りとの間でテーブルが同じ回転方向に１８０°回転するものでもよい。いずれにおいても、ウエハ１に対する走査の方向は、往きの走査も帰りの走査も同じ方向になる。図中、点線で示す矢印は、すでに済んだ走査についての走査方向を示している。
図４は、異物検査光学系１１を副走査方向に複数個配列して副走査方向（Ｘ方向）の異物検査光学系１１の移動をなくした実施例である。
【００１７】
この場合の副走査幅は、実質的にウエハ１の直径Ｄを均等に２Ｎ分割（この例ではＮ＝３で６分割）した幅に対応している。異物検出光学系１１が２Ｎ分割された幅（走査幅）おきにＮ（＝３）個配置されている。なお、ここでの副走査幅は実質的に検査領域の長さに対応している。
ここでの３個の異物検出光学系は、異物検出光学系１１ａ，１１ｂ，１１ｃであって、それぞれが図１の異物検出光学系１１に対応している。したがって、図（ａ）に示すように、Ｙ方向の主走査が完了した時点で矢印で示す方向（反時計方向）に１８０°回転させて、図（ｂ）に示すように、帰りの主走査をするだけで、ウエハ１の全体の走査は完了する。
なお、この実施例では、異物検出光学系が１１ａ，１１ｂ，１１ｃからのそれぞれの検出信号は、それぞれに対応して設けられた３個のＡ／Ｄ（Ａ／Ｄ１７に対応して３個のＡ／Ｄ，図示せず）によりデジタル置に変換されてインタフェース２０を介してパラレルにデータ処理・制御装置１３に入力される。
【００１８】
ところで、この実施例の走査幅は、実質的に前記ウエハの直径を均等に２Ｎ分割した幅に対応しているが、最初の走査と次の走査あるいは最後の走査幅は、必ずしも、走査領域がウエハの外形に一致していなくてもよい。そこで、実質的に２Ｎ分割する前記の距離は、ウエハの直径Ｄよりも大きくてよい。その距離は、最大でウエハの直径＋１走査幅までである。したがって、ウエハの直径Ｄからこの直径Ｄより走査幅分大きな範囲内の距離を均等に２Ｎ分割することができる。また、実施例では、副走査方向の移動の後に１８０゜ウエハを回転させているが、これは、同時に行われても、前記の実施例とは逆の順序で行われていもよい。
以上、実施例では、ウエハを中心に説明しているが、この発明は、ウエハのような円形の形状のものでなくても適用可能である。
【００１９】
【発明の効果】
以上の説明のとおり、この発明にあっては、異物検出光学系の異物検査領域を被検査物の相対的な主走査方向の移動の先頭部分に対応させて配置し、被検査物側を移動させて、Ｘ方向あるいはＹ方向のみの主走査を行い、往きの主走査が終了した時点で被検査物を１８０°回転させて帰りの走査をする。これにより、帰りの走査点については、往きの主走査の終了位置から被検査物の中心点Ｏに関して点対称となる位置からの主走査になる。この回転により主走査方向に直交する副走査方向でのはみ出し、あるいはエリアの拡大はない。しかも、副走査方向の走査のために行う移動量が実質的に半減する。
その結果、検査テーブルの移動範囲の占有エリアが減少し、例えば、ウエハでは従来の大きさの半分程度で済む。また、実質的に副走査方向の走査のために行う移動量が半減するので、全面走査におけるスループットが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、この発明の異物検査装置の一実施例の検出光学系を中心とする構成図である。
【図２】  図２は、その走査処理のフローチャートである。
【図３】  図３は、その走査の仕方の説明図であって、（ａ）は、往きの走査の説明図、（ｂ）は、帰りの走査の説明図、（ｃ）は、さらにその次の走査の順序の説明図である。
【図４】  図４は、検出光学系を３個並列に設けた場合の他の実施例の走査の仕方の説明図であって、（ａ）は往きの走査の説明図、（ｂ）は帰りの走査の説明図である。
【図５】  図５は、従来のＸＹ走査方式の異物検査装置の検査テーブル移動範囲の説明図である。
【符号の説明】
１…ウエハ、２，１１…異物検査光学系、
３…検査領域、１０…異物検査装置、１２…検査テーブル、
１３…データ処理・制御装置、１４…テーブル駆動回路、
１５…検出光学系、１６…投光学系、
１７…Ａ／Ｄ変換回路（Ａ／Ｄ）、
１８…Ｘ方向移動機構、
１３１…ＭＰＵ、１３２…メモリ、
１３３…バス、１３４…異物検出プログラム、
１３５…ウエハ走査プログラム、
１３６…焦点合わせプログラム、
１５１…対物レンズ、１５２…空間フィルタ、
１５３…集光レンズ系、１５４…ＣＣＤセンサ、
１５５…ＣＣＤ制御・信号読出回路、
１６１…半導体レーザ光源、１６２，１６３，１６４…集光レンズ系、
１６５…反射ミラー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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