(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を真空排気可能な真空搬送室と、
前記真空搬送室の外周に隣接して配置された複数の真空処理室と、
前記各真空処理室の前記真空搬送室に面した側に形成された各開口部と、
前記真空搬送室の内部に設けられ、前記開口部を閉塞可能な可動蓋と、
前記可動蓋に回転可能に設けられ、被処理物を保持するための保持手段と、
前記可動蓋に設けられ、前記保持手段を回転駆動するための駆動源と、
前記可動蓋に設けられ、前記駆動源に接続された可動蓋側電気接点と、
前記真空処理室の前記真空搬送室に面した側に設けられ、電源に接続された処理室側電気接点と、を備え、
前記可動蓋が前記開口部を閉塞したときに、前記可動蓋側電気接点と前記処理室側電気接点とが接触し、前記電源から前記駆動源に給電できることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
前記可動蓋に設けられ、前記被処理物の回転状態を検出するための回転検出器と、
前記可動蓋に設けられ、前記回転検出器に接続された可動蓋側電気接点と、
前記真空処理室の前記真空搬送室に面した側に設けられ、前記真空処理装置の制御部に接続された処理室側電気接点と、をさらに備え、
前記可動蓋が前記開口部を閉塞したときに、前記可動蓋側電気接点と前記処理室側電気接点とが接触し、前記回転検出器から前記制御部に検出信号を伝送できることを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
【請求項３】
前記回転検出器は、前記保持手段に対して光を発するように配置されたフォトインタラプタを有し、
前記保持手段の受光部分に、光の反射状態の異なる複数の箇所を交互に形成したことを特徴とする請求項２記載の真空処理装置。
【請求項４】
前記光の反射状態の異なる複数の箇所は、前記保持手段の受光部分に交互に形成された平坦部及び凹部であることを特徴とする請求項３記載の真空処理装置。
【請求項５】
前記可動蓋側電気接点は、前記処理室側電気接点に押し付けられた際に、その押し付け方向と反対の方向に変位し得ることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の真空処理装置。
【請求項６】
前記可動蓋側電気接点は、板バネ部材によって形成されていることを特徴とする請求項５記載の真空処理装置。
【請求項７】
前記可動蓋側電気接点は、スプリングによって軸方向に付勢されたピン部材によって形成されていることを特徴とする請求項５記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被処理物の真空処理を実施するための複数の真空処理室を備えた真空処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造工程、液晶表示パネル製造工程、或いは光ディスク製造工程等の各種の工程において、シリコンウエハ等の被処理物の表面処理を行うために真空処理装置が使用されている。この真空処理装置は、真空空間内に配置された被処理物に対してスパッタリング、エッチング、ベーキング、或いはアッシング等の処理を行って、被処理物の表面に薄膜を形成したり、被処理物表面に形成された薄膜に微細加工を施したりするための装置である。
【０００３】
また、真空処理装置においては、被処理物の表面処理の面内均一性を高めるために、被処理物を回転させながら処理を行う形式が採用されている。そして、この形式の真空処理装置の場合、被処理物を回転させるための駆動源を大気側に設置し、エラストマーガスケット、磁性流体等で真空シールされた回転導入軸を介して、駆動源の駆動力を大気側から真空槽内（真空側）に伝達するようにしている。そして、真空側に伝達された駆動力によって、被処理物を保持した回転保持台を回転させ、回転保持台と共に被処理物を回転させることによって処理の面内均一性を向上させる。
【０００４】
図１２は、駆動源の駆動力を大気側から真空側に伝達するため機構の一例を示しており、図１２に示したように、真空容器の壁７０の大気側の面に磁気シール７１が設けられており、この磁気シール７１を介してモータ７２の駆動力が真空側の回転導入軸７３に伝達されるようになっている。
【０００５】
図１３は、駆動源の駆動力を大気側から真空側に伝達するための機構の他の例を示しており、図１３に示したように、真空容器の壁７０を貫通するようにして回転導入軸７４が設けられており、この回転導入軸７４の貫通部はＯリング７５によって気密にシールされている。そして、回転導入軸７４の大気側の端部はモータ（図示せず）に接続されており、この大気側のモータの駆動力が回転導入軸７４を介して真空側に伝達される。
【０００６】
また、真空処理装置として、真空槽内に複数の処理室を備え、これら複数の処理室に被処理物を順次シーケンシャルに移送して被処理物の表面処理を行うものが提案されている。このように被処理物を真空槽内で自動搬送するタイプの真空処理装置の場合には、図１３に示した伝達機構を各処理室毎に各々配置し、さらに、図１４に示した伝導継ぎ手７６、７７の一方の継ぎ手７７を回転導入軸７４の真空側の端部に接続し、また、被処理物の回転保持台には他方の継ぎ手７６を接続する。そして、被処理物を各処理室の位置に移送した後、図１４に示した伝導継ぎ手７６、７７を接続し、大気側の駆動源（モータ）の駆動力を真空側に伝達する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述したように従来の真空処理装置においては、大気側に駆動源を設置し、この駆動源の駆動力を真空シールを介して真空側に伝達するように構成されているので、真空シール部における摩擦力等によって駆動力が減衰されてしまう。このため、真空側において所定の駆動力を得るためには、摩擦力等による減衰を考慮して、駆動源において大きな駆動力を発生させる必要があり、駆動源の大型化、消費電力の増大等の不都合を招いていた。
【０００８】
また、従来の真空処理装置においては、回転部材である回転導入軸を真空シールする必要があるために、シール機構が複雑になり、しかも、シール部において真空漏れが発生しやすいという問題があり、さらに、シール用のエラストマーからガスが放出されて真空度を低下させるという問題があった。
【０００９】
さらに、複数の処理室を備えた真空処理装置の場合には、伝導継ぎ手のような複雑な機構がさらに必要となるばかりでなく、伝導継ぎ手を円滑に接続することが必ずしも容易ではなかった。
【００１０】
本発明は、上述した種々の問題点に鑑みて成されたものであり、被処理物を回転駆動するための構造を簡素化することができ、また、駆動源の消費電力の低減を図ることができる真空処理装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明による真空処理装置は、内部を真空排気可能な真空搬送室と、前記真空搬送室の外周に隣接して配置された複数の真空処理室と、前記各真空処理室の前記真空搬送室に面した側に形成された各開口部と、前記真空搬送室の内部に設けられ、前記開口部を閉塞可能な可動蓋と、前記可動蓋に回転可能に設けられ、被処理物を保持するための保持手段と、前記可動蓋に設けられ、前記保持手段を回転駆動するための駆動源と、前記可動蓋に設けられ、前記駆動源に接続された可動蓋側電気接点と、前記真空処理室の前記真空搬送室に面した側に設けられ、電源に接続された処理室側電気接点と、を備え、前記可動蓋が前記開口部を閉塞したときに、前記可動蓋側電気接点と前記処理室側電気接点とが接触し、前記電源から前記駆動源に給電できることを特徴とする。
【００１２】
請求項２記載の発明による真空処理装置は、前記可動蓋に設けられ、前記被処理物の回転状態を検出するための回転検出器と、前記可動蓋に設けられ、前記回転検出器に接続された可動蓋側電気接点と、前記真空処理室の前記真空搬送室に面した側に設けられ、前記真空処理装置の制御部に接続された処理室側電気接点と、をさらに備え、前記可動蓋が前記開口部を閉塞したときに、前記可動蓋側電気接点と前記処理室側電気接点とが接触し、前記回転検出器から前記制御部に検出信号を伝送できることを特徴とする。
【００１３】
請求項３記載の発明による真空処理装置は、前記回転検出器は、前記保持手段に対して光を発するように配置されたフォトインタラプタを有し、前記保持手段の受光部分に、光の反射状態の異なる複数の箇所を交互に形成したことを特徴とする。
【００１４】
請求項４記載の発明による真空処理装置は、前記光の反射状態の異なる複数の箇所は、前記保持手段の受光部分に交互に形成された平坦部及び凹部であることを特徴とする。
【００１５】
請求項５記載の発明による真空処理装置は、前記可動蓋側電気接点は、前記処理室側電気接点に押し付けられた際に、その押し付け方向と反対の方向に変位し得ることを特徴とする。
【００１６】
請求項６記載の発明による真空処理装置は、前記可動蓋側電気接点は、板バネ部材によって形成されていることを特徴とする。
【００１７】
請求項７記載の発明による真空処理装置は、前記可動蓋側電気接点は、スプリングによって軸方向に付勢されたピン部材によって形成されていることを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態による真空処理装置について図１乃至図１０を参照して説明する。
【００１９】
図１は、本実施形態による真空処理装置の平面図であり、平面形状がほぼ八角形のハウジング１０の内側には、内部を真空排気可能な真空搬送室３が形成されている。この真空搬送室３の一辺には、真空搬送室３の内部に被処理物Ｗを搬入し又は搬出するためのロードロック室１が形成され、残りの７辺には７個の真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇが等角度間隔で配置形成されている。そして、これらの真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇの内部で、被処理物Ｗに対してスパッタリング、エッチング、ベーキング、或いはアッシング等の真空処理が実施される。
【００２０】
ロードロック室１及び真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇの真空搬送室３に面する側には、被処理物Ｗを出し入れするための同形同大の開口部１ａ、２ａがそれぞれ形成されている。また、各真空処理室２には、ターボ分子ポンプ１２（図２参照）が接続されて内部を真空排気できると共に、所定の真空処理を行うための加工装置１４Ａ、１４Ｂ…１４Ｇが設置されている。
【００２１】
真空搬送室３の底部には、環状の回転テーブル１５が回転可能に配置され、この回転テーブル１５の外周には大歯車１８が形成されている。この大歯車１８には駆動小歯車１９が噛み合っている。
【００２２】
回転テーブル１５の上面には８台のバルブ機構２５が回転テーブル１５の円周方向に沿って配設されており、これらのバルブ機構２５はロードロック室１と７個の真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇに対応するように配置されている。各バルブ機構２５は、ロードロック室１及び真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇのそれぞれの開口部１ａ、２ａを閉塞可能なバルブ円板（可動蓋）２６と、このバルブ円板２６を開閉駆動するバルブ開閉機構２７とを備えている。
【００２３】
各バルブ円板２６は、ロードロック室１及び真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇの各開口部１ａ、２ａを閉塞したときにロードロック室１及び真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇの内部に面する内面２６ａを有し、この内面２６ａには、被処理物Ｗを保持するための保持手段である４個のディスクホルダ２８が回転（自転）可能に設けられている。
【００２４】
また、ロードロック室１の搬入側には、被処理物Ｗをロードロック室１内に搬入するための搬送装置２９が設けられており、この搬送装置２９によって、ロードロック室１の内部に４枚一組で被処理物Ｗが搬入され又は搬出される。
【００２５】
図２及び図３は、バルブ円板２６によって真空処理室２Ａを閉塞した状態を示した側面図及び正面図である。図２及び図３に示したように、バルブ円板２６の内面２６ａの下部には可動蓋側電気接続部３０が取り付けられている。また、真空処理室２Ａの真空搬送室３に面した側には、可動蓋側電気接続部３０に対向する位置に処理室側電気接続部３１が取り付けられている。
【００２６】
これらの可動蓋側及び処理室側電気接続部３０、３１は、被処理物Ｗの処理中に膜付着等の汚損を受けないようにリフレクター３６によって保護されている。また、処理室側電気接続部３１は、電源３２及び真空処理装置の制御部３３に電気的に接続されている。
【００２７】
そして、図２及び図３から分かるように、バルブ円板２６が真空処理室２Ａの開口部２ａを閉塞した状態においては、可動蓋側電気接続部３０と処理室側電気接続部３１とが接触して電気的に接続されている。
【００２８】
なお、図２及び図３は、真空処理室２Ａ及び１つのバルブ円板２６を例示して示したものであり、他の真空処理室２Ｂ、２Ｃ…２Ｇ及び他のバルブ円板２６、２６…２６についても同様に、可動蓋側電気接続部３０及び処理室側電気接続部３１がそれぞれ取り付けられている。
【００２９】
図４及び図５は、バルブ円板２６の側面図及び正面図を示しており、図４及び図５から分かるように、ディスクホルダ２８は、インナーマスク４０及びアウターマスク４１を備えている。また、バルブ円板２６にはディスクホルダ２８を回転駆動するための駆動源である真空モータ３４が設けられており、この真空モータ３４の回転軸３５にディスクホルダ２８が取り付けられている。そして、真空モータ３４を駆動してその回転軸３５を回転させることによって、ディスクホルダ２８を被処理物Ｗと共に回転させることができる。
【００３０】
また、図４に示したように、バルブ円板２６の内面２６ａには、真空モータ３４の回転軸３５の傍らに、反射型フォトインタラプタを極めて小さなプリント板上に実装して構成された回転検出器６０が設けられている。図６は、図４の６−６線に沿った断面図であり、図６から分かるように回転軸３５には複数の凹部５３が周方向に所定間隔で形成されている。すなわち、回転軸３５の受光部分には、凹部５３と平坦部５４とが交互に形成されている。
【００３１】
図７は、回転検出器６０の具体的構成を示しており、図７に示したように、回転検出器６０は、プリント板６１に反射型フォトインタラプタ６２を実装して構成されている。また、図８はフォトインタラプタ６２の回路図を示している。図８から分かるようにこのフォトインタラプタ６２は、発光ダイオード６５及び受光素子（フォトトランジスタ）６６を備えており、発光ダイオード６５からの光を物体（回転軸３５）に反射させ、この反射した光を受光素子６６で受けるようにしたものである。
【００３２】
図５に示したように可動蓋側電気接続部３０は３つの可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃを備えており、これらの可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃは真空モータ３４、回転検出器６０に電線を介して接続されている。なお、接続用の電線と可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃとの間は、圧着端子をねじ止めして接続されている。なお、圧着端子に代えてコネクタで連結することもできる。
【００３３】
図９は、接触状態にある可動蓋側電気接続部３０及び処理室側電気接続部３１を示しており、図９から分かるように、可動蓋側電気接続部３０の可動蓋側電気接点３０ａ（３０ｂ、３０ｃ）は板バネ部材で形成されている。この板バネ部材は、その全体を金属材料で形成することもできるし、或いは、表面に導電性材料をコーティングした弾性材料で形成することもできる。
【００３４】
各可動蓋側電気接点３０ａ（３０ｂ、３０ｃ）には各電線３８ａ（３８ｂ、３８ｃ）がそれぞれ接続されており、これらの電線３８ａ（３８ｂ、３８ｃ）は真空モータ３４及び回転検出器６０（図４参照）に接続されている。
【００３５】
図１０は処理室側電気接続部３１の正面図であり、図１０に示したように処理室側電気接続部３１は、プリント板（絶縁板）３７の表面に金メッキを施して３つの処理室側電気接点（平板電極）３１ａ、３１ｂ、３１ｃを形成することによって構成されている。そして、図９に示した接触状態においては、可動蓋側電気接続部３０の３つの可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃと処理室側電気接続部３１の３つの処理室側電気接点３１ａ、３１ｂ、３１ｃとがそれぞれ接触状態となる。
【００３６】
図９に示したように、各処理室側電気接点３１ａ（３１ｂ、３１ｃ）には各電線３９ａ（３９ｂ、３９ｃ）がそれぞれ接続されており、これらの電線３９ａ（３９ｂ、３９ｃ）は電源３２及び制御部３３（図２参照）に接続されている。
【００３７】
次に、本実施形態による真空処理装置の作用について説明する。
【００３８】
まず、搬送装置２９によってロードロック室１内に４枚一組で被処理物Ｗを搬入し、ロードロック室１の内部を真空排気した後、ロードロック室１の開口部１ａを閉塞しているバルブ円板２６の各ディスクホルダ２８に各被処理物Ｗを受け渡す。
【００３９】
次に、バルブ円板２６をバルブ開閉機構２７によって開方向に駆動し、しかる後、駆動小歯車１９を駆動して回転テーブル１５を所定量だけ回転させ、４枚の被処理物Ｗを保持したバルブ円板２６を例えば真空処理室２Ａの位置まで移送する。
【００４０】
次に、バルブ円板２６をバルブ開閉機構２７によって閉方向に駆動し、真空処理室２Ａの開口部２ａをバルブ円板２６によって閉塞する。すると、図９及び図１０に示したように、可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃと処理室側電気接点３１ａ、３１ｂ、３１ｃとが接触して電気的に接続される。このとき、可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃはバネ部材で形成されているので、処理室側電気接続部３１に押し付けられた際に、その押し付け方向と反対の方向に変位することができ、これによって無理なく確実に良好な接触状態が達成される。
【００４１】
上記の如く、被処理物Ｗが真空処理室２Ａ内に搬入されると同時に、可動蓋側電気接続部３０と処理室側電気接続部３１とが接続され、両電気接点３０、３１を介して電源３２（図２参照）から真空モータ３４に電力が供給される。すると、真空モータ３４が駆動されて回転軸３５が回転し、ディスクホルダ２８と共に被処理物Ｗが回転する。
【００４２】
ここで、処理室側電気接続部３１に対する電源３２からの電力の供給は、可動蓋側電気接続部３０と処理室側電気接続部３１との接続が行われた後に制御部３３から信号を出して給電を開始することもできるし、或いは、処理室側電気接続部３１に常時給電しておいて、両電気接点３０、３１の接続と同時に真空モータ３４に電力が供給されるようにすることもできる。
【００４３】
被処理物Ｗの回転状態は回転検出器６０（図４参照）によって検出され、その検出信号は両電気接点３０、３１を介して制御部３３（図２参照）に伝送される。制御部３３は、被処理物Ｗの回転状態が所望の値で安定したことを確認した後、加工装置１４Ａに起動信号を送って所定の真空処理を開始させる。
【００４４】
ここで、回転検出器６０による回転状態の検出は以下のようにして行われる。すなわち、図６に示したように真空モータ３４の回転軸３５には複数の凹部５３が周方向に所定間隔で形成されているので、回転検出器６０の反射型フォトインタラプタ６２（図８参照）によって検出される信号は回転軸３５の回転に応じて変化する。具体的には、凹部５３と回転検出器６０との相対的な位置関係が図６に示した（ａ）の位置にある場合と（ｂ）の位置にある場合とで回転検出器６０の検出信号が変化する。したがって、回転検出器６０によって連続的に電気信号を取り出すことによって、この回転検出器６０の検出信号の変化から被処理物Ｗの回転状態を検出することができる。
【００４５】
また、被処理物Ｗの処理中において回転検出器６０からの信号が回転異常を示した場合には、制御部３３は回転異常を起こした被処理物Ｗを特定して記憶する。そして、回転異常を起こした不良の被処理物Ｗは、真空処理装置での処理を終えてロードロック室１から搬出された後に取り除かれる。このようにすれば、不良の被処理物Ｗに対して、真空処理装置での処理の後に行われる一連の処理を実施せずに済むので、最終製品における歩留まりを向上させることができるばかりでなく、無駄な処理を省略して全体の処理効率を向上させることができる。
【００４６】
上記の如く、最初の真空処理室２Ａにおいて所定の真空処理を実施した後、バルブ開閉機構２７を駆動してバルブ円板２６を開放する。このバルブ円板２６の開放と同時に、可動蓋側電気接続部３０と処理室側電気接続部３１との接触状態が解除される。
【００４７】
ここで、処理室側電気接続部３１に対する電源３２からの電力の供給は、バルブ円板２６が開放される前に制御部３３から信号を出して給電を停止することもできるし、或いは、処理室側電気接続部３１に常時給電しておいて、両電気接点３０、３１の開放と同時に真空モータ３４への給電を遮断するようにすることもできる。
【００４８】
バルブ円板２６を開放したら、回転テーブル１５を回転させて次の真空処理室２Ｂに被処理物Ｗを移送して、上記と同様の手順によって所定の処理を行い、以後、同様にして他の真空処理室２Ｃ、２Ｄ…２Ｇにおいて順次所定の処理を実施する。なお、被処理物Ｗは、必ずしも真空処理室２Ａから２Ｇまで順次搬送して処理を行う必要はなく、また、必ずしも複数の真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇの全てにおいて処理を行う必要もない。要するに、所望の処理を実施できるような処理シーケンスを選択して所定の処理を実施すればよい。
【００４９】
上述したように、複数の真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇ間での被処理物Ｗの移送は、被処理物Ｗをバルブ円板２６に保持させた状態で回転テーブル１５を回転させることによって行うことができるので、真空処理室２Ａ、２Ｂ…２Ｇ内、或いは真空搬送室３内において被処理物Ｗの受け渡し動作を行う必要がない。したがって、被処理物Ｗの受け渡しの失敗が無くなると共に、被処理物Ｗの移送に要する時間が大幅に短縮される。
【００５０】
上記の手順によって被処理物Ｗに一連の真空処理を実施した後、回転テーブル１５を駆動して、処理済の被処理物Ｗを保持したバルブ円板２６をロードロック室１の前まで移動させる。次に、バルブ開閉機構２７によってバルブ円板２６を閉方向に駆動し、被処理物Ｗをロードロック室１内に搬入し、搬送装置２９を駆動して被処理物Ｗをロードロック室１から搬出する。
【００５１】
以上述べたように本実施形態による真空処理装置によれば、被処理物Ｗの搬送機構を兼ねているバルブ円板（可動蓋）２６に真空モータ（駆動源）３４を設け、可動蓋側電気接続部３０と処理室側電気接続部３１とを真空領域中で接続することによって真空モータ３４に給電するようにしたので、従来の真空処理装置のように駆動力を伝達するための複雑な機構を設ける必要がなく、構造の簡素化を図ることができ、また、駆動源（真空モータ）の小型化、消費電力の低減を図ることができ、さらに、駆動力を伝達するためのシール部がないので真空漏れを起こすこともない。
【００５２】
なお、上記の如く駆動源の消費電力を低減させることによって駆動源からの発熱量が小さくなるので、本実施形態のように駆動源を真空中に配置した場合であっても駆動源の過熱の問題は生じない。また、消費電力が小さいので可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃ及び処理室側電気接点３１ａ、３１ｂ、３１ｃとして小容量且つ小型のものを使用することができる。
【００５３】
また、本実施形態による真空処理装置によれば、バルブ円板２６に回転検出器６０を設けて処理中の被処理物Ｗの回転状態を検出し、その検出信号を可動蓋側電気接続部３０及び処理室側電気接続部３１を介して制御部３３に伝送するようにしたので、回転異常による不良の被処理物Ｗを特定して取り除くことができ、これによって歩留まり及び処理効率を向上させることができる。
【００５４】
また、可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃは板バネ部材で形成されているので、可動蓋側電気接続部３０と処理室側電気接続部３１とを接続する際には、無理なく確実に良好な接触状態が達成される。
【００５５】
なお、本実施形態においては、可動蓋側電気接続部３０及び処理室側電気接続部３１には各３つの電気接点が設けられているが、この設置数は４個以上とすることもできるし、３個未満とすることもできる。
【００５６】
変形例
次に、本実施形態の一変形例について図１１を参照して説明する。本変形例は、可動蓋側電気接続部３０の３つの可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃの構造を変更したものである。
【００５７】
図１１に示したように本変形例においては、可動蓋側電気接続部３０の可動蓋側電気接点３０ａ（３０ｂ、３０ｃ）は、板バネ部材に代えて、スプリング４２によって軸方向に付勢されたピン部材４１によって構成されている。このピン部材４１は、その全体を金属材料で形成することもできるし、或いは、表面に導電性材料をコーティングした各種部材で形成することもできる。
【００５８】
このように、可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃを、スプリング４２で付勢されたピン部材４１によって形成すれば、可動蓋側電気接続部３０と処理室側電気接続部３１とを接続する際に無理なく確実に良好な接触状態が達成されるばかりでなく、可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃによって占有される面積が小さくなるので、可動蓋側電気接続部３０を小さくすることができ、さらに、可動蓋側電気接点３０ａ、３０ｂ、３０ｃの設置数を容易に増やすことができる。
【００５９】
【発明の効果】
以上述べたように本発明による真空処理装置によれば、被処理物の保持手段とこの保持手段を回転させる駆動源とを可動蓋に設け、可動蓋側電気接点と処理室側電気接点とを接続することによって駆動源に給電できるようにしたので、従来の真空処理装置のように駆動力を伝達するための複雑な機構を設ける必要がなく、構造の簡素化を図ることができ、また、駆動源の小型化及び消費電力の低減を図ることができ、さらに、駆動力を伝達するためのシール部がないので真空漏れの問題を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態による真空処理装置の概略構成を示した平面図。
【図２】バルブ円板によって真空処理室を閉塞した状態を示した側面図。
【図３】バルブ円板によって真空処理室を閉塞した状態を示した正面図。
【図４】バルブ円板の側面図。
【図５】バルブ円板の正面図。
【図６】図４の６−６線に沿った断面図。
【図７】回転検出器の平面図。
【図８】フォトインタラプタの回路図。
【図９】接触状態にある可動蓋側電気接続部及び処理室側電気接続部を示した側面図。
【図１０】処理室側電気接続部３１の正面図。
【図１１】本発明の実施形態の一変形例の主要部を示した側面図。
【図１２】従来の真空処理装置における駆動力伝達機構の一例を示した図。
【図１３】従来の真空処理装置における駆動力伝達機構の他の例を示した図。
【図１４】従来の真空処理装置における駆動力伝達機構の伝導継ぎ手の一例を示した図。
【符号の説明】
１  ロードロック室
１ａ  ロードロック室の開口部
２Ａ、２Ｂ…２Ｇ  真空処理室
２ａ  真空処理室の開口部
３  真空搬送室
１４  加工装置
２６  バルブ円板（可動蓋）
２７  バルブ開閉機構
２８  ディスクホルダ（保持手段）
３０  可動蓋側電気接続部
３０ａ、３０ｂ、３０ｃ  可動蓋側電気接点
３１  処理室側電気接続部
３１ａ、３１ｂ、３１ｃ  処理室側電気接点
３２  電源
３３  制御部
３４  真空モータ（駆動源）
６０  回転検出器
６２  反射型フォトインタラプタ
Ｗ  被処理物
【図１】
0003615898.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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