Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月1日(2021.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、
フィルムによって形成された袋体であって、
前記フィルムの２つの端部が互いに重ねられ接合されている帯状領域を備え、
前記帯状領域が、該帯状領域の長手方向に沿って互いに平行に延び前記フィルムの２つの端部を接合している線状の第１の接合部分および第２の接合部分を含み、
前記第１の接合部分および第２の接合部分のそれぞれが、前記重ねられた２枚のフィルムが接合されている複数の細長い接合部を有し、
前記第１の接合部分および第２の接合部分において、前記複数の細長い接合部は断続的に前記帯状領域の長手方向に縦列配置され、
前記第１の接合部分および第２の接合部分内で前記帯状領域の長手方向に隣接する前記細長い接合部の間には、前記重ねられたフィルムの端部が接合されていない非接合部が形成され、
前記非接合部が前記袋体の内部と外部とを連通させる通気路の一部を構成し、
前記第１の接合部分に含まれる非接合部と前記第２の接合部分に含まれる非接合部とが、前記帯状領域の幅方向に重ならないように配置され、
下記式１から式５を満たす、
０．５ｍｍ≦Ｗ１≦１８ｍｍ・・・(式１)
０．５ｍｍ≦Ｗ２≦１８ｍｍ・・・(式２)
５ｍｍ≦Ｗ１＋Ｗ２＋Ｄ≦２０ｍｍ・・・(式３)
０．２ｍｍ≦Ｌ１≦３ｍｍ・・・(式４)
０．２ｍｍ≦Ｌ２≦３ｍｍ・・・(式５)
(Ｗ１は第１の接合部分の接合部の幅であり、Ｗ２は第２の接合部分の接合部の幅であり、Ｄは第１の接合部分と第２の接合部分の間隔であり、Ｌ１は第１の接合部分の非接合部の長さであり、Ｌ２は第２の接合部分の非接合部の長さである。)
ことを特徴とする袋体が提供される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムによって形成された袋体であって、
前記フィルムの２つの端部が互いに重ねられ接合されている帯状領域を備え、
前記帯状領域が、該帯状領域の長手方向に沿って互いに平行に延び前記フィルムの２つの端部を接合している線状の第１の接合部分および第２の接合部分を含み、
前記第１の接合部分および第２の接合部分のそれぞれが、前記重ねられた２枚のフィルムが接合されている複数の細長い接合部を有し、
前記第１の接合部分および第２の接合部分において、前記複数の細長い接合部は断続的に前記帯状領域の長手方向に縦列配置され、
前記第１の接合部分および第２の接合部分内で前記帯状領域の長手方向に隣接する前記細長い接合部の間には、前記重ねられたフィルムの端部が接合されていない非接合部が形成され、
前記非接合部が前記袋体の内部と外部とを連通させる通気路の一部を構成し、
前記第１の接合部分に含まれる非接合部と前記第２の接合部分に含まれる非接合部とが、前記帯状領域の幅方向に重ならないように配置され、
下記式１から式５を満たす、
０．５ｍｍ≦Ｗ１≦１８ｍｍ・・・(式１)
０．５ｍｍ≦Ｗ２≦１８ｍｍ・・・(式２)
５ｍｍ≦Ｗ１＋Ｗ２＋Ｄ≦２０ｍｍ・・・(式３)
０．２ｍｍ≦Ｌ１≦３ｍｍ・・・(式４)
０．２ｍｍ≦Ｌ２≦３ｍｍ・・・(式５)
(Ｗ１は第１の接合部分の接合部の幅であり、Ｗ２は第２の接合部分の接合部の幅であり、Ｄは第１の接合部分と第２の接合部分の間隔であり、Ｌ１は第１の接合部分の非接合部の長さであり、Ｌ２は第２の接合部分の非接合部の長さである。)
ことを特徴とする袋体。
【請求項２】
前記帯状領域の幅方向に隣接する前記第１の接合部分に含まれる接合部と前記第２の接合部分に含まれる接合部との前記帯状領域の幅方向で重なる部分の長さＬ３が、２０ｍｍ以上２００ｍｍ以下である、
請求項１記載の袋体。
【請求項３】
前記フィルムの厚さが、３０μｍ以上４００μｍ以下である、
請求項１または２に記載の袋体。
【請求項４】
前記接合部が超音波接合部である、
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の袋体。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の袋体を製造する袋体製造方法であって、
超音波溶着によって前記第１の接合部分および前記第２の接合部分を形成するステップを備え、
前記形成ステップが、前記第１の接合部分に対応する第１の凸部列と、該第１の凸部列から幅方向に距離Ｄだけ離間し前記第２の接合部分に対応する第２の凸部列とが形成されている円板状の超音波溶着アンビルの外周部と、円板状の超音波ホーンの外周部との間に前記フィルムの重ねられた端部を挟持し、前記超音波溶着アンビルと円板状の超音波ホーンとを前記フィルムの重ねられた端部に対して回転させ、前記フィルムの端部に前記第１の接合部分および前記第２の接合部分を連続的に形成していくステップであり、
前記第１の凸部列では、前記第１の接合部分における接合部に対応した凸部が前記第１の接合部分における非接合部に対応する間隔をおいて外周面に周方向に断続的に形成され、前記第２の凸部列では、前記第２の接合部分における接合部に対応した凸部が前記第２の接合部分における非接合部に対応する間隔をおいて外周面に周方向に断続的に形成されている、
ことを特徴とする袋体の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の袋体を製造する袋体製造方法であって、
超音波溶着によって前記第１の接合部分および前記第２の接合部分の少なくとも一方を形成するステップを備え、
前記形成ステップが、
前記第１の接合部分および前記第２の接合部分の一方における接合部に対応した凸部が前記第１の接合部分および前記第２の接合部分の一方における非接合部に対応する間隔をおいて外周面に周方向に断続的に形成されている円板状の第１の超音波溶着アンビルの外周面と、円板状の超音波ホーンの外周面との間に、前記フィルムの重ねられた端部を挟持し、前記第１の超音波溶着アンビルおよび超音波ホーンを前記フィルムの重ねられた端部に対して回転させ、前記フィルムの端部に前記第１の接合部分および前記第２の接合部分の一方を連続的に形成していくステップと、
前記第１の接合部分および前記第２の接合部分の他方における接合部に対応した凸部が前記第１の接合部分および前記第２の接合部分の他方における非接合部に対応する間隔をおいて外周面に周方向に断続的に形成されている円板状の第２の超音波溶着アンビルの外周面と、円板状の超音波ホーンの外周面との間に、前記フィルムの重ねられた端部を挟持し、前記第２の超音波溶着アンビルおよび超音波ホーンを前記フィルムの重ねられた端部に対して回転させ、前記フィルムの端部に前記第１の接合部分および前記第２の接合部分の他方を連続的に形成していくステップと、を有している、
ことを特徴とする袋体の製造方法。
【請求項７】
前記回転が、２５ｍｍ／秒以上の周速で行われる、
請求項５または６に記載の袋体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月26日(2021.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊離形態または医薬上許容される塩形態の式Ｉ：
【化１】
2021075566.tif 000001
［式中、Ｘは、−Ｎ(ＣＨ3)−であり；Ｙは、−Ｃ(Ｏ)−である］
で示される化合物の有効量を含む、統合失調症の陰性症状の治療を必要とする統合失調症患者における統合失調症の陰性症状の治療のための医薬組成物であって、式Ｉで示される化合物の有効量が、該化合物の対応する遊離塩基形態の重量として測定して、１日あたり４０ｍｇ〜６０ｍｇである、医薬組成物。
【請求項２】
式Ｉで示される化合物が、医薬上許容される塩形態である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】
式Ｉで示される化合物が、トルエンスルホン酸付加塩形態である、請求項１または２記載の医薬組成物。
【請求項４】
式Ｉで示される化合物の有効量が、該化合物の対応する遊離塩基形態の重量として測定して、１日あたり約４０ｍｇである、請求項１〜３いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項５】
該化合物がトルエンスルホン酸付加塩形態であり、式Ｉで示される化合物の有効量が、１日１回投与される該塩形態６０ｍｇ（遊離塩基約４１.７ｍｇと等価）である、請求項１〜３いずれか記載の医薬組成物。
【請求項６】
陰性症状が、情動的引きこもり、受動的社会的引きこもり、無欲性社会的引きこもり、自発性の喪失、常同思考、および能動的社会的回避から選択される、請求項１〜５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項７】
該医薬組成物が、統合失調症の陽性症状および陰性症状を改善する、請求項１〜５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項８】
該医薬組成物が、患者の社会的統合（social integration）および社会的機能を向上させる、請求項１〜５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項９】
該患者が、治療開始時に統合失調症の顕著な陰性症状を有する、請求項１〜５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項１０】
該患者が、併存性不安、認知障害、および／または不眠症を有する、請求項１〜５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項１１】
該患者が、別の抗精神病薬による治療後も統合失調症の陰性症状に罹患している、請求項１〜５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項１２】
該患者が、以前、別の抗精神病薬での治療に対し適切に反応しなかった、請求項１〜５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項１３】
遊離形態または医薬上許容される塩形態の式Ｉ：
【化２】
2021075566.tif 000002
［式中、Ｘは、−Ｎ(ＣＨ3)−であり；Ｙは、−Ｃ(Ｏ)−である］
で示される化合物の有効量を含む、統合失調症の治療を必要とする患者における高プロラクチン血症、ＥＰＳ／アカシジア、体重増加または心血管系副作用を伴わない統合失調症の治療のための医薬組成物であって、式Ｉで示される化合物の有効量が、該化合物の対応する遊離塩基形態の重量として測定して、１日あたり４０ｍｇ〜６０ｍｇである、医薬組成物。
【請求項１４】
式Ｉで示される化合物が、医薬上許容される塩形態である、請求項１３記載の医薬組成物。
【請求項１５】
式Ｉで示される化合物が、トルエンスルホン酸付加塩形態である、請求項１３または１４記載の医薬組成物。
【請求項１６】
式Ｉで示される化合物の有効量が、該化合物の対応する遊離塩基形態の重量として測定して、１日あたり約４０ｍｇである、請求項１３〜１５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項１７】
該化合物がトルエンスルホン酸付加塩形態であり、式Ｉで示される化合物の有効量が、１日１回投与される該塩形態６０ｍｇ（遊離塩基約４１.７ｍｇと等価）である、請求項１３〜１５いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項１８】
該患者が、以前、別の抗精神病薬での治療に対し適切に反応しなかった、請求項１３〜１７いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項１９】
遊離形態または医薬上許容される塩形態の式Ｉ：
【化３】
2021075566.tif 000003
［式中、Ｘは、−Ｎ(ＣＨ3)−であり；Ｙは、−Ｃ(Ｏ)−である］
で示される化合物の有効量を含む、統合失調症の治療を必要とする患者における統合失調症の治療のための医薬組成物であって、該患者が、併存性うつ病を有しており、該患者が、治療開始時および別の抗精神病薬による治療後に統合失調症の顕著な陰性症状を有し、式Ｉで示される化合物の有効量が、該化合物の対応する遊離塩基形態の重量として測定して、１日あたり４０ｍｇ〜６０ｍｇである、医薬組成物。
【請求項２０】
式Ｉで示される化合物が、医薬上許容される塩形態である、請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２１】
式Ｉで示される化合物が、トルエンスルホン酸付加塩形態である、請求項１９または２０記載の医薬組成物。
【請求項２２】
式Ｉで示される化合物の有効量が、該化合物の対応する遊離塩基形態の重量として測定して、１日あたり約４０ｍｇである、請求項１９〜２１いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項２３】
該化合物がトルエンスルホン酸付加塩形態であり、式Ｉで示される化合物の有効量が、１日１回投与される該塩形態６０ｍｇ（遊離塩基約４１.７ｍｇと等価）である、請求項１９〜２１いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項２４】
該患者が、治療開始時に、６を超えるカルガリー統合失調症用抑うつ評価尺度（Calgary Depression Scale for Schizophrenia）（ＣＤＳＳ）スコアを有する、請求項１９〜２３いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項２５】
該医薬組成物が、該患者のうつ病の症状を有意に減少させるのに有効である、請求項１９〜２３いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項２６】
該患者が、併存性不安、認知障害、および／または不眠症を有する、請求項１９〜２３いずれか１項記載の医薬組成物。
【請求項２７】
該医薬組成物が、該患者の不安、認知障害および／または不眠症の症状を減少させるのに有効である、請求項２６記載の医薬組成物。
【請求項２８】
該患者が、以前、別の抗精神病薬での治療に対し適切に反応しなかった、請求項１９〜２３いずれか１項記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月10日(2021.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＩＶ）
【化１】
2021075570.tif 000001
［式中、各出現ごとに独立して、
Ｘは、−Ｎ（Ｒ２）−、−Ｃ（Ｒ３）（Ｒ３）−、または−Ｏ−であり、
Ｒ２は、水素であるか、または置換もしくは非置換の、アルキル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アシル、アミノ、アミド、アミノアルキル、およびアルコキシルからなる群より選択される基であり、
Ｒ３は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、スルフヒドリル、ニトロ、シアノであるか、または置換もしくは非置換の、アルキル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、カルボキシル、アシル、アシルオキシ、アミノ、アミド、アジド、アミノアルキル、およびアルコキシルからなる群より選択される基であり、
Ｒ５は、水素、アルキル、およびハロアルキルからなる群より選択され、
Ｘが−Ｎ（Ｒ２）−の場合、Ｒ１は、置換もしくは非置換の、アルキル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アシル、アミノ、アミド、アミノアルキル、およびアルコキシルからなる群より選択される基であるか、またはＲ１とＲ２は、それらが結合している窒素と一緒に置換もしくは非置換の３〜１０員の複素環を形成してよく、ここで、前記環は単環式、二環式、三環式、またはスピロ環式であり、
Ｘが−Ｃ（Ｒ３）（Ｒ３）−の場合、Ｒ１は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、スルフヒドリル、ニトロ、シアノであるか、または置換もしくは非置換の、アルキル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、カルボキシル、アシル、アシルオキシ、アミノ、アミド、アジド、アミノアルキル、およびアルコキシルからなる群より選択される基であるか、または２つのＲ３は、それらが結合している炭素と一緒に置換もしくは非置換の３〜１０員の脂環もしくは複素環を形成してよく、ここで、前記環は単環式、二環式、三環式、またはスピロ環式であり、かつ
Ｘが−Ｏ−の場合、Ｒ１は、置換もしくは非置換の、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アシル、アミノ、アミド、およびアミノアルキルからなる群より選択される基である。］
で表される化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項２】
前記−ＸＲ１は、
【化２】
2021075570.tif 000002
［式中、各出現ごとに独立して、
Ｒａは、水素であるか、または置換もしくは非置換の、アルキル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アシル、アミノ、アミド、アミノアルキル、およびアルコキシルからなる群より選択される基であり、
Ｒｂは、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、スルフヒドリル、ニトロ、シアノであるか、または置換もしくは非置換の、アルキル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、カルボキシル、アシル、アシルオキシ、アミノ、アミド、アジド、アミノアルキル、およびアルコキシルからなる群より選択される基であり、
Ｒｃは、水素であるか、または置換もしくは非置換の、アルキル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アシル、アミノ、アミド、およびアミノアルキルからなる群より選択される基であり、かつ
Ｒｄは、水素であるか、または置換もしくは非置換の、アルキル、シクロアルキル、（シクロアルキル）アルキル、ヘテロシクリル、（ヘテロシクリル）アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アシル、アミノ、アミド、アミノアルキル、およびアルコキシルからなる群より選択される基であるか、または−ＸＲ１が、
【化３】
2021075570.tif 000003
の場合、ＲａとＲｄは、それらが結合している窒素と一緒に置換もしくは非置換の３〜１０員の複素環を形成してよく、ここで、前記環は単環式、二環式、三環式、またはスピロ環式である。］
からなる群より選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記−ＸＲ１は、
【化４】
2021075570.tif 000004
からなる群より選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
前記−ＸＲ１は、
【化５】
2021075570.tif 000005
からなる群より選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
前記−ＸＲ１は、
【化６】
2021075570.tif 000006
からなる群より選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
前記−ＸＲ１は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、プロペニル、
【化７】
2021075570.tif 000007
からなる群より選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
前記Ｘは−Ｏ−であり、かつＲ１は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、プロペニル、
【化８】
2021075570.tif 000008
からなる群より選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
前記Ｒ２は水素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
前記Ｒ５は水素、アルキルまたはハロアルキルである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の化合物、および薬学的に許容される担体を含む、真菌感染症を治療するための医薬組成物。
【請求項１１】
静脈内投与剤形または経口投与剤形である、請求項１０に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月25日(2021.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不飽和脂肪酸エステルから不飽和脂肪鎖のマロン酸エステル誘導体を生成する方法であって、以下：
（ａ）不飽和脂肪酸エステルを還元して不飽和アルコールを生成する工程；
（ｂ）該不飽和アルコールとスルホン酸誘導体とを反応させて不飽和アルコールのスルホン酸エステル誘導体を生成する工程；および
（ｃ）該不飽和アルコールのスルホン酸エステル誘導体とマロン酸エステル類とを反応させて不飽和脂肪鎖のマロン酸エステル誘導体を生成する工程
を包含する方法。
【請求項２】
不飽和脂肪酸エステルにおける不飽和脂肪酸の炭素鎖を炭素数２個分延長する方法であって、以下：
（ａ）不飽和脂肪酸エステルを還元して不飽和アルコールを生成する工程；
（ｂ）該不飽和アルコールとスルホン酸誘導体とを反応させて不飽和アルコールのスルホン酸エステル誘導体を生成する工程；
（ｃ）該不飽和アルコールのスルホン酸エステル誘導体とマロン酸エステル類とを反応させて不飽和脂肪鎖のマロン酸エステル誘導体を生成する工程；および
（ｄ）該不飽和脂肪鎖のマロン酸エステル誘導体と、低級脂肪酸とを反応させて、該不飽和脂肪酸の炭素鎖を炭素数２個分延長した不飽和脂肪酸のエステルを得る工程
を包含する方法。
【請求項３】
工程（ａ）における不飽和脂肪酸エステルの不飽和脂肪酸が、炭素数が１６〜２４の不飽和脂肪酸である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記不飽和脂肪酸が、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、ステアリドン酸、イコサテトラエン酸、イコサペンタエン酸、ドコサペンタエン酸、および、ドコサヘキサエン酸からなる群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記マロン酸エステル誘導体が、マロン酸ジエチル誘導体、マロン酸ジメチル誘導体、マロン酸ジイソプロピル誘導体、および、マロン酸ジブチル誘導体からなる群から選択される誘導体である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
前記スルホン酸誘導体が、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタンあるいは炭素数がそれ以上のアルキル鎖あるいはアルキル鎖に不飽和結合を含むものにスルホン酸基が結合した酸のエステル、ならびに、ベンゼンおよびトルエンからなる群から選択される芳香環にスルホン酸基が結合した酸のエステルから選択される誘導体である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項７】
前記スルホン酸誘導体が、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、および、ベンゼンスルホン酸からなる群から選択される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項８】
前記マロン酸エステル類が、マロン酸ジエチル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジイソプロピル、および、マロン酸ジブチルからなる群から選択される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項９】
前記低級脂肪酸が、炭素数が２〜７の脂肪酸である、請求項２に記載の方法。
【請求項１０】
前記低級脂肪酸が、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、ピバル酸、ヒドロアンゲリカ酸、および、イソ吉草酸からなる群から選択される酸である、請求項２に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１または２に記載の方法であって、窒素雰囲気下で加熱還流することによって行われる、方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月11日(2021.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学構造式中にチオール基を持つ化合物を有効成分として含有する血中のフリー体ＡＩＭ増加用の組成物。
【請求項２】
化学構造式中にチオール基を持つ化合物が、１−プロパンチオール、２−メチル−１−プロパンチオール、シクロペンタンチオール、２−ヒドロキシベンゼンチオール、ジヒドロリポ酸、Ｌ−シスチン、還元型グルタチオン、Ｌ−システイン、コエンザイムＡ、γ−グルタミルシステインからなる群から選択される１又は２以上の化合物である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
化学構造式中にチオール基を持つ化合物を有効成分として含有する血中のフリー体ＡＩＭ増加剤。
【請求項４】
化学構造式中にチオール基を持つ化合物が、１−プロパンチオール、２−メチル−１−プロパンチオール、シクロペンタンチオール、２−ヒドロキシベンゼンチオール、ジヒドロリポ酸、Ｌ−シスチン、還元型グルタチオン、Ｌ−システイン、コエンザイムＡ、γ−グルタミルシステインからなる群から選択される１又は２以上の化合物である請求項３に記載の血中のフリー体ＡＩＭ増加剤。
【請求項５】
化学構造式中にチオール基を持つ化合物を有効成分として含有する血中のフリー体ＡＩＭ増加による、フリー体ＡＩＭが関与する疾患の予防改善剤。
【請求項６】
化学構造式中にチオール基を持つ化合物が、１−プロパンチオール、２−メチル−１−プロパンチオール、シクロペンタンチオール、２−ヒドロキシベンゼンチオール、ジヒドロリポ酸、Ｌ−シスチン、還元型グルタチオン、Ｌ−システイン、コエンザイムＡ、γ−グルタミルシステインからなる群から選択される１又は２以上の化合物である請求項５に記載の血中のフリー体ＡＩＭ増加による、フリー体ＡＩＭが関与する疾患の予防改善剤。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月1日(2021.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
時間軸上の複数の単位ステップの各々において、
音の特徴を表すデータを含む第１データをニューラルネットワークにより処理することで、相異なる周波数に対応する複数の成分値を含む第２データを生成し、
前記第２データを時間領域の音響信号における複数のサンプルに変換する
コンピュータにより実現される音響信号生成方法。
【請求項２】
前記複数の単位ステップの間隔は、前記音響信号の前記複数のサンプルに相当する
請求項１の音響信号生成方法。
【請求項３】
前記複数の成分値は、前記複数のサンプルと同数の修正離散コサイン変換の係数である
請求項２の音響信号生成方法。
【請求項４】
前記複数の成分値は、離散フーリエ変換、離散コサイン変換、離散サイン変換、ウェーブレット変換、および定Ｑ変換の何れかに対応する各周波数基底の係数である
請求項１または請求項２の音響信号生成方法。
【請求項５】
前記複数の成分値は、修正離散コサイン変換に対応する実数系列である
請求項１または請求項２の音響信号生成方法。
【請求項６】
前記複数の成分値は、通過周波数帯域が相違する複数のフィルタを含むフィルタバンクの出力値である
請求項１または請求項２の音響信号生成方法。
【請求項７】
前記フィルタバンクは、直交ミラーフィルタバンク、疑似直交ミラーフィルタバンク、および共役直交フィルタバンクの何れかである
請求項６の音響信号生成方法。
【請求項８】
前記ニューラルネットワークは、第１ニューラルネットワークと１以上の第２ニューラルネットワークとを含み、
前記第２データの生成は、
前記第１データから当該第１データの代替表現を表す中間データを前記第１ニューラルネットワークにより生成する第１処理と、
前記１以上の第２ニューラルネットワークにより前記中間データから前記第２データを生成する第２処理とを含む
請求項１から請求項７の何れかの音響信号生成方法。
【請求項９】
前記第２処理は、前記複数の成分値をそれぞれ生成する複数の単位処理を含み、
前記複数の単位処理のうち第１周波数に対応する第１成分値を生成する第１単位処理においては、前記第１単位処理とは相違する第２単位処理により前記第１周波数以外の第２周波数について生成された第２成分値または当該第２単位処理の過程で生成される中間値が、前記中間データとともに前記第２ニューラルネットワークに入力される、
請求項８の音響信号生成方法。
【請求項１０】
時間軸上の複数の単位ステップの各々において、音の特徴を表すデータを含む第１データをニューラルネットワークにより処理することで、相異なる周波数に対応する複数の成分値を含む第２データを生成する情報処理部と
前記複数の単位ステップの各々において、前記第２データを時間領域の音響信号における複数のサンプルに変換する波形生成部と
を具備する音響信号生成装置。
【請求項１１】
時間軸上の複数の単位ステップの各々において、音の特徴を表すデータを含む第１データをニューラルネットワークにより処理することで、相異なる周波数に対応する複数の成分値を含む第２データを生成する情報処理部、および、
前記複数の単位ステップの各々において、前記第２データを時間領域の音響信号における複数のサンプルに変換する波形生成部
としてコンピュータを機能させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】音響信号生成方法、音響信号生成装置およびプログラム
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月2日(2021.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ入力装置において、
ディスプレイパネルと、
前記ディスプレイパネルの外部または内部に位置して、第１駆動信号が印加される駆動電極とタッチ位置を検出するための情報が含まれている受信信号を出力する受信電極を含むタッチセンサと、
前記ディスプレイパネルの下部に配置され、前記第１駆動信号と他の第２駆動信号が印加されるパターンと、
前記パターンを光から遮蔽するための遮光層と、
を含むタッチ入力装置。
【請求項２】
前記ディスプレイパネルは、第１基板層と、前記第１基板層の下部に配置される第２基板層と、前記第１基板層と前記第２基板層との間に配置される液晶層又は有機物層とを含み、
前記遮光層は、前記第２基板層の下に配置され、
前記パターンは、前記第２基板層と、前記遮光層との間に配置された、請求項１に記載のタッチ入力装置。
【請求項３】
前記ディスプレイパネルは、第１基板層と、前記第１基板層の下部に配置される第２基板層と、前記第１基板層と前記第２基板層との間に配置される液晶層又は有機物層とを含み、
前記遮光層は、前記第２基板層の下面に配置され、
前記パターンは、前記遮光層の下面に配置された、  請求項１に記載のタッチ入力装置。
【請求項４】
前記ディスプレイパネルは、第１基板層と、前記第１基板層の下部に配置される第２基板層と、前記第１基板層と前記第２基板層との間に配置される液晶層又は有機物層と、前記第２基板層の下部に配置される第３基板層とを含み、
前記遮光層は、前記第３基板層の下に配置され、
前記パターンは、前記第３基板層と、前記遮光層との間に配置された、請求項１に記載のタッチ入力装置。
【請求項５】
前記ディスプレイパネルは、第１基板層と、前記第１基板層の下部に配置される第２基板層と、前記第１基板層と前記第２基板層との間に配置される液晶層又は有機物層と、前記第２基板層の下部に配置される第３基板層とを含み、
前記遮光層は、前記第３基板層の下面に配置され、
前記パターンは、前記遮光層の下面に配置された、請求項１に記載のタッチ入力装置。
【請求項６】
前記ディスプレイパネルは、第１基板層と、前記第１基板層の下部に配置される第２基板層と、前記第１基板層と前記第２基板層との間に配置される液晶層又は有機物層と、前記第２基板層の下部に配置される第３基板層とを含み、
前記パターンは、前記第３基板層の下面に配置され、
前記遮光層は、前記第２基板層と前記第３基板層の間に配置された、請求項１に記載のタッチ入力装置。
【請求項７】
前記遮光層は、黒色インク、黒色フィルム、黒色の両面接着テープ（ＤＡＴ：Ｄｏｕｂｌｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ  Ｔａｐｅ）又は前記タッチ入力装置に対する衝撃を吸収する黒色の弾性物質を含む、請求項１ないし６の何れか１項に記載のタッチ入力装置。
【請求項８】
前記黒色は、光の反射がない第１の黒色及び所定の臨界値の範囲内で前記黒色と明度又は彩度のうちの少なくとも一つが相違した第２の黒色を含む、請求項７に記載のタッチ入力装置。
【請求項９】
前記第３基板層は、前記第１基板層、前記液晶層又は有機物層、及び前記第２基板層より相対的によく撓まない、請求項４ないし６の何れか１項に記載のタッチ入力装置。
【請求項１０】
前記第３基板層は、遮光機能を有した、請求項４ないし６の何れか１項に記載のタッチ入力装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月20日(2021.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
［実施の形態１］
図１は、実施の形態１に係る浸水報知システムが適用される船舶を模式的に示す図である。以下では、船舶に関して、船首と船尾とを結ぶ方向を「長さ方向」、右舷と左舷とを結ぶ方向を「幅方向」、長さ方向および幅方向の両方に直交する方向を「高さ方向」とも称する。高さ方向は、船舶の使用時において重力方向と概ね一致する。また、以下では、図１に示す船舶１００に浸水報知システムが適用される例について主に説明するが、浸水報知システムが適用される船舶の種類は任意であり、貨物船であってもよいし、旅客船（たとえば、クルーズ船またはフェリー）であってもよい。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月8日(2021.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のオペレーティングシステム（１３）が動作する制御部（１０）と、
書き換え回数の制限がある不揮発性の第１の記憶部（１１）と、
書き換え回数の制限がない第２の記憶部（１２）と、
車両用装置（１）の電源状態の変化を通知する通知部（２３）と、
複数のオペレーティングシステムにそれぞれ設けられ、前記第２の記憶部に一時的に記憶されたデータを前記第１の記憶部にバックアップするバックアップ部（２４）と、を備え、
前記バックアップ部は、前記通知部によって電源状態の変化が通知されたタイミングでデータを前記記憶部にバックアップする際、自身が動作するオペレーティングシステム側においてバックアップの対象となるデータまたは当該データを特定可能な情報を、他のオペレーティングシステム側の前記バックアップ部に受け渡し、
他のオペレーティングシステム側の前記バックアップ部は、データまたは当該データを特定可能な情報を受け渡された場合において送信元のオペレーティングシステムに不具合が生じた場合、当該不具合が生じたオペレーティングシステム側のデータまたは当該データを特定可能な情報をバックアップする車両用装置。
【請求項２】
複数のオペレーティングシステム（１３）が動作する制御部（１０）と、
書き換え回数の制限がある不揮発性の第１の記憶部（１１）と、
書き換え回数の制限がない第２の記憶部（１２）と、
車両用装置（１）の電源状態の変化を通知する通知部（２３）と、
複数のオペレーティングシステムにそれぞれ設けられ、前記第２の記憶部に一時的に記憶されたデータを前記第１の記憶部にバックアップするバックアップ部（２４）と、を備え、
前記バックアップ部は、前記通知部によって電源状態の変化が通知されたタイミングでデータを前記記憶部にバックアップするものであり、
複数のオペレーティングシステムは、相対的に安定性が高い第１のオペレーティングシステム（１３Ａ）と、相対的に安定性が低い第２のオペレーティングシステム（１３Ｂ）と、を含み、
前記第１のオペレーティングシステムに設けられている前記バックアップ部（２４Ａ）は、前記第２のオペレーティングシステムの不具合を監視するとともに、前記第２のオペレーティングシステムに不具合が生じた際、前記第２のオペレーティングシステム側のデータまたは当該データを特定可能な情報をバックアップする車両用装置。
【請求項３】
前記バックアップ部は、他のオペレーティングシステム側の不具合が解消された場合、バックアップしたデータまたは当該データを特定可能な情報を、不具合が解消された他のオペレーティングシステムに受け渡す請求項１または２記載の車両用装置。
【請求項４】
前記バックアップ部は、バックアップの対象となるデータを絞り込んで、または、バックアップの対象となるデータに優先順位を設定して、他のオペレーティングシステムに設けられている前記バックアップ部に受け渡す請求項１から３のいずれか一項記載の車両用装置。
【請求項５】
前記バックアップ部は、データをバックアップする際、他の機能部によるデータの書き換えを停止させる請求項１から４のいずれか一項記載の車両用装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年11月15日(2021.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴射液をたくわえる噴射液容器と、起動信号を受け付けた後に、予め定めた第１の設定時間、前記噴射液を吸いだし、加熱器に送り込むポンプと、前記噴射液を加熱し霧状にしてノズルから噴射させる加熱器とを備えた霧噴射装置において、
前記噴射液容器と前記ポンプ間に気体取込部を設け、
第１の設定時間終了後に予め定めた第２の設定時間、前記気体取込部から気体を前記ポンプにより前記加熱器に送り込むことを特徴とする霧噴射装置。
【請求項２】
前記気体取込部に２方弁を備えた請求項１に記載の霧噴射装置。
【請求項３】
前記気体取込部に３方弁を備えた請求項１に記載の霧噴射装置。
【請求項４】
噴射液をたくわえる噴射液容器と、起動信号を受け付けた後に、予め定めた第１の設定時間、前記噴射液を吸いだし、加熱器に送り込むポンプと、前記噴射液を加熱し霧状にしてノズルから噴射させる加熱器とを備えた霧噴射装置において、
前記ポンプと前記加熱器間に、２方弁または３方弁と圧縮ボンベとを備えた気体取込部を設け、
第１の設定時間終了後に予め定めた第３の設定時間、前記気体取込部から前記圧縮ボンベ内の気体を前記圧縮ボンベの圧力により前記加熱器に送り込むことを特徴とする霧噴射装置。
【請求項５】
前記加熱器は、上下方向に伸びる螺旋状のパイプを備え、
噴射液が、前記螺旋状のパイプの下部に送られ、前記螺旋状パイプの上部から前記ノズルに送られる請求項１〜４のいずれか１項に記載の霧噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の霧噴射装置は、噴射液をたくわえる噴射液容器と、起動信号を受け付けた後に、予め定めた第１の設定時間、前記噴射液を吸いだし、加熱器に送り込むポンプと、前記噴射液を加熱し霧状にしてノズルから噴射させる加熱器とを備え、前記噴射液容器と前記ポンプ間に気体取込部を設け、第１の設定時間終了後に予め定めた第２の設定時間、前記気体取込部から気体を前記ポンプにより前記加熱器に送り込む。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月3日(2020.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から像側に向かって、
ａ）第１光軸、第１レンズ幅Ｗ１、および５０より大きいアッベ数を有する、正の第１レンズ要素Ｌ１と、
ｂ）光屈曲要素と、
ｃ）共通の第２光軸を有する、３０より小さいアッベ数を有する負の第２レンズ要素Ｌ２、および複数の追加レンズ要素Ｌ３−ＬＮと、
ｄ）ＢＦＬ／ＴＴＬ＞０．２を満たす、後方焦点距離（ＢＦＬ）および総トラック長（ＴＴＬ）と、
ｅ）センサ対角線長（ＳＤＬ）を有するイメージセンサと、を備え、
前記光屈曲要素は、前記第１光軸から前記第２光軸に、光を屈曲させるように構成されており、前記屈曲レンズは、光学高さＯＨを有しており、ＳＤＬ／ＯＨ＞０．７であり、ＯＨ／Ｗ１＜１．１である、屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２】
ＳＤＬ／ＯＨ＞１である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項３】
ＯＨ／Ｗ１＜０．９５である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項４】
ＢＦＬ／ＴＴＬ＞０．３５である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項５】
前記第１レンズ要素は、長さＡ１を有しており、ＯＨ／Ａ１＜１．４である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項６】
前記第１レンズ要素は、長さＡ１を有しており、ＯＨ／Ａ１＜１．１である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項７】
前記レンズアセンブリは、レンズ要素間に、ＳＴＤ＜０．０２０の条件を満たす、少なくとも２つのエアギャップを含んでおり、ここで、ＳＴＤは、正規化されたギャップの標準偏差であり、ｒｎｏｒｍは、隣接する表面ＬｉＳ２とＬｉ＋１Ｓ１との間のギャップの半分の最小値である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項８】
前記レンズアセンブリは、レンズ要素間に、ＳＴＤ＜０．０１０の条件を満たす、少なくとも２つのエアギャップを含んでおり、ここで、ＳＴＤは、正規化されたギャップの標準偏差であり、ｒｎｏｒｍは、隣接する表面ＬｉＳ２とＬｉ＋１Ｓ１との間のギャップの半分の最小値である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項９】
前記レンズアセンブリは、レンズ要素間に、ＳＴＤ＜０．０３５の条件を満たす、少なくとも３つのエアギャップを含んでおり、ここで、ＳＴＤは、正規化されたギャップの標準偏差であり、ｒｎｏｒｍは、隣接する表面ＬｉＳ２とＬｉ＋１Ｓ１との間のギャップの半分の最小値である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１０】
前記レンズアセンブリは、レンズ要素間に、ＳＴＤ＜０．０１５の条件を満たす、少なくとも３つのエアギャップを含んでおり、ここで、ＳＴＤは、正規化されたギャップの標準偏差であり、ｒｎｏｒｍは、隣接する表面ＬｉＳ２とＬｉ＋１Ｓ１との間のギャップの半分の最小値である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１１】
前記レンズアセンブリは、レンズ要素間に、ＳＴＤ＜０．０５０の条件を満たす、少なくとも４つのエアギャップを含んでおり、ここで、ＳＴＤは、正規化されたギャップの標準偏差であり、ｒｎｏｒｍは、隣接する表面ＬｉＳ２とＬｉ＋１Ｓ１との間のギャップの半分の最小値である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１２】
前記レンズアセンブリは、レンズ要素間に、ＳＴＤ＜０．０２５の条件を満たす、少なくとも４つのエアギャップを含んでおり、ここで、ＳＴＤは、正規化されたギャップの標準偏差であり、ｒｎｏｒｍは、隣接する表面ＬｉＳ２とＬｉ＋１Ｓ１との間のギャップの半分の最小値である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１３】
前記レンズアセンブリは、前記物体側から前記像側に向けて、以下の能力符号配列：ＰＮＰＰＮ；ＰＮＮＰＮ；ＰＮＮＮＰ；ＰＮＰＮＮ；およびＰＮＰＮＰのうちのいずれか１つを有する、５つのレンズ要素を含む、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１４】
前記レンズアセンブリは、レンズ要素間に、ＳＴＤ＜０．０１およびＯＡ＿Ｇａｐ／ＴＴＬ＜１／８０の条件を満たす、少なくとも１つのエアギャップを含み、ここで、ＳＴＤは、正規化されたギャップの標準偏差であり、ＯＡ＿Ｇａｐは、軸上ギャップである、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１５】
前記レンズアセンブリは、レンズ要素間に、ＳＴＤ＜０．０１およびＯＡ＿Ｇａｐ／ＴＴＬ＜１／６５の条件を満たす、少なくとも１つのエアギャップを含み、ここで、ＳＴＤは、正規化されたギャップの標準偏差であり、ＯＡ＿Ｇａｐは、軸上ギャップである、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１６】
前記レンズアセンブリは、５０より大きいアッベ数を有する第３レンズ要素を備える、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１７】
組み合わされた前記第２レンズ要素および第３レンズ要素の、有効焦点距離は負である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１８】
前記レンズアセンブリは、有効焦点距離ＥＦＬを有しており、前記第１レンズ要素は、焦点距離ｆ１を有しており、ｆ１／ＥＦＬ＜０．７である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項１９】
前記レンズアセンブリは、有効焦点距離ＥＦＬを有しており、前記第１レンズ要素は、焦点距離ｆ１を有しており、ｆ１／ＥＦＬ＜０．６である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２０】
前記レンズアセンブリは、有効焦点距離ＥＦＬを有しており、前記第２レンズ要素は、焦点距離ｆ２を有しており、｜ｆ２／ｆ１｜＜１である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２１】
前記レンズアセンブリは、有効焦点距離ＥＦＬを有しており、前記第２レンズ要素は、焦点距離ｆ２を有しており、｜ｆ２／ｆ１｜＜０．７である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２２】
Ｌ２〜ＬＮが、円形絞りを有している、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２３】
前記レンズアセンブリは、有効焦点距離（ＥＦＬ）および総トラック長（ＴＴＬ）を有しており、ＴＴＬ／ＥＦＬ＜１．１である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２４】
前記第１レンズ要素は、前記第２光軸に垂直な切断面を有するように切り取られている、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２５】
前記レンズアセンブリは、有効焦点距離ＥＦＬおよび総レンズ要素長（ＴＬＬ）を有しており、ＴＬＬ／ＥＦＬ＜１である、請求項１に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２６】
前記第１レンズ要素は、ガラスで作製され、前記第２レンズ要素および前記複数のレンズ要素は、プラスチックで作製される、請求項１〜２５のいずれか１項に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【請求項２７】
全ての前記レンズ要素がプラスチックで作製されている、請求項１〜２５のいずれか１項に記載の屈曲レンズアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月1日(2020.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
以上の課題を解決するために、本発明に係る第１の態様のホイール部材は、光を透過又は反射し、回転状態で使用されるホイール板を備え、前記ホイール板が、当該ホイール板における表裏面の平面内に外周形状が長円状である重心調整部を有し、前記重心調整部は、前記ホイール板の外周の他の部分よりも回転中心からの距離が離れている外周部からなることで形成されている、ことを特徴とする。
また、本発明に係る第２の態様のホイール部材は、光を透過又は反射し、回転状態で使用される外周形状が真円のホイール板を備え、前記ホイール板が、当該ホイール板における表裏面の平面内に重心調整部を有し、前記重心調整部は、前記ホイール板の外周に設けられ、前記外周の他の部分よりも密度の高い材質で形成した部位からなる、ことを特徴とする。
また、本発明に係る第３の態様のホイール部材は、光を透過又は反射し、回転状態で使用されるホイール板と、前記ホイール板に重ねて配置される円板と、を備え、前記円板が、当該円板における表裏面の平面内に重心調整部を有し、前記重心調整部は、前記円板の外周に設けられ、前記外周の他の部分よりも密度の高い材質で形成した部位からなる、ことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を透過又は反射し、回転状態で使用されるホイール板を備え、
前記ホイール板が、当該ホイール板における表裏面の平面内に外周形状が長円状である重心調整部を有し、
前記重心調整部は、前記ホイール板の外周の他の部分よりも回転中心からの距離が離れている外周部からなることで形成されている、
ことを特徴とするホイール部材。
【請求項２】
光を透過又は反射し、回転状態で使用される外周形状が真円のホイール板を備え、
前記ホイール板が、当該ホイール板における表裏面の平面内に重心調整部を有し、
前記重心調整部は、前記ホイール板の外周に設けられ、前記外周の他の部分よりも密度の高い材質で形成した部位からなる、
ことを特徴とするホイール部材。
【請求項３】
光を透過又は反射し、回転状態で使用されるホイール板と、
前記ホイール板に重ねて配置される円板と、
を備え、
前記円板が、当該円板における表裏面の平面内に重心調整部を有し、
前記重心調整部は、前記円板の外周に設けられ、前記外周の他の部分よりも密度の高い材質で形成した部位からなる、
ことを特徴とするホイール部材。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月10日(2021.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の回路を有し、
前記回路は、第１のチャネル形成領域を有する第１のトランジスタと、第２のチャネル形成領域を有する第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のチャネル形成領域は、シリコンを有し、
前記第２のチャネル形成領域は、酸化物半導体を有し、
前記第１のトランジスタは、前記第１のチャネル形成領域の上方に第１のゲート電極を有し、
前記第２のトランジスタは、前記第２のチャネル形成領域の下方に第２のゲート電極を有し、
前記第２のトランジスタのソース及びドレインの上方に絶縁層を有し、
前記絶縁層の上方に、第１の導電層と、第２の導電層と、を有する半導体装置であって、
前記第１のゲート電極は、前記第１の導電層を介して、前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第２の導電層と電気的に接続され、
平面視において、前記絶縁層は、前記第１のゲート電極と重なる第１の開口部と、前記第２のトランジスタのソースまたはドレインと重なる第２の開口部と、を有し、
平面視において、前記第１の導電層は、前記第１の開口部と重なる領域と、前記第２の開口部と重なる領域と、を有し、
平面視において、前記第１の開口部と前記第２の開口部は、第１の方向に沿うように並んで配置され、
平面視において、前記第２の導電層は、前記第１の方向に延在して配置され、
前記第１の方向は、前記第１のトランジスタのチャネル幅方向である、半導体装置。
【請求項２】
複数の回路を有し、
前記回路は、第１のチャネル形成領域を有する第１のトランジスタと、第２のチャネル形成領域を有する第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のチャネル形成領域は、シリコンを有し、
前記第２のチャネル形成領域は、酸化物半導体を有し、
前記第１のトランジスタは、前記第１のチャネル形成領域の上方に第１のゲート電極を有し、
前記第２のトランジスタは、前記第２のチャネル形成領域の下方に第２のゲート電極を有し、
前記第２のトランジスタのソース及びドレインの上方に絶縁層を有し、
前記絶縁層の上方に、第１の導電層と、第２の導電層と、を有する半導体装置であって、
前記第１のゲート電極は、前記第１の導電層を介して、前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第２の導電層と電気的に接続され、
平面視において、前記絶縁層は、前記第１のゲート電極と重なる第１の開口部と、前記第２のトランジスタのソースまたはドレインと重なる第２の開口部と、を有し、
平面視において、前記第１の開口部は、前記第１のチャネル形成領域と重なりを有さず、
平面視において、前記第１の導電層は、前記第１の開口部と重なる領域と、前記第２の開口部と重なる領域と、を有し、
平面視において、前記第１の開口部と前記第２の開口部は、第１の方向に沿うように並んで配置され、
平面視において、前記第２の導電層は、前記第１の方向に延在して配置され、
前記第１の方向は、前記第１のトランジスタのチャネル幅方向である、半導体装置。
【請求項３】
複数の回路を有し、
前記回路は、第１のチャネル形成領域を有する第１のトランジスタと、第２のチャネル形成領域を有する第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のチャネル形成領域は、シリコンを有し、
前記第２のチャネル形成領域は、酸化物半導体を有し、
前記第１のトランジスタは、前記第１のチャネル形成領域の上方に第１のゲート電極を有し、
前記第２のトランジスタは、前記第２のチャネル形成領域の下方に第２のゲート電極を有し、
前記第２のトランジスタのソース及びドレインの上方に絶縁層を有し、
前記絶縁層の上方に、第１の導電層と、第２の導電層と、を有する半導体装置であって、
前記第１のゲート電極は、前記第１の導電層を介して、前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第２の導電層と電気的に接続され、
平面視において、前記絶縁層は、前記第１のゲート電極と重なる第１の開口部と、前記第２のトランジスタのソースまたはドレインと重なる第２の開口部と、を有し、
平面視において、前記第１のゲート電極は、前記第２のゲート電極と重なりを有さず、
平面視において、前記第１の導電層は、前記第１の開口部と重なる領域と、前記第２の開口部と重なる領域と、を有し、
平面視において、前記第１の開口部と前記第２の開口部は、第１の方向に沿うように並んで配置され、
平面視において、前記第２の導電層は、前記第１の方向に延在して配置され、
前記第１の方向は、前記第１のトランジスタのチャネル幅方向である、半導体装置。
【請求項４】
複数の回路を有し、
前記回路は、第１のチャネル形成領域を有する第１のトランジスタと、第２のチャネル形成領域を有する第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のチャネル形成領域は、シリコンを有し、
前記第２のチャネル形成領域は、酸化物半導体を有し、
前記第１のトランジスタは、前記第１のチャネル形成領域の上方に第１のゲート電極を有し、
前記第２のトランジスタは、前記第２のチャネル形成領域の下方に第２のゲート電極を有し、
前記第２のトランジスタのソース及びドレインの上方に絶縁層を有し、
前記絶縁層の上方に、第１の導電層と、第２の導電層と、を有する半導体装置であって、
前記第１のゲート電極は、前記第１の導電層を介して、前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第２の導電層と電気的に接続され、
平面視において、前記絶縁層は、前記第１のゲート電極と重なる第１の開口部と、前記第２のトランジスタのソースまたはドレインと重なる第２の開口部と、を有し、
平面視において、前記第１の開口部は、前記第１のチャネル形成領域と重なりを有さず、
平面視において、前記第１のゲート電極は、前記第２のゲート電極と重なりを有さず、
平面視において、前記第１の導電層は、前記第１の開口部と重なる領域と、前記第２の開口部と重なる領域と、を有し、
平面視において、前記第１の開口部と前記第２の開口部は、第１の方向に沿うように並んで配置され、
平面視において、前記第２の導電層は、前記第１の方向に延在して配置され、
前記第１の方向は、前記第１のトランジスタのチャネル幅方向である、半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１のチャネル形成領域は、半導体層に形成される、半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１のチャネル形成領域は、単結晶半導体基板に形成される、半導体装置。