(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体の対向する両側面の一方に被加工物の入口が形成され、他方に出口が形成され、前記入口と前記出口とを結ぶ前記被加工物の搬送路を備え、該搬送路を搬送されている被加工物に薬液を吹き付ける複数のウエットプロセス装置を、前記被加工物を搬送する前記搬送路で結んだウエットプロセスシステムにおいて、
前記ウエットプロセス装置毎に、装置本体内部の空気を装置本体外部に吸引する吸引手段と、
前記吸引手段により吸引した空気をろ過するフィルタリング手段と、
前記フィルタリング手段によりろ過された空気を前記入口、または前記出口の少なくとも一方に導くダクトと、を備えた空気浄化装置を設けたウエットプロセスシステムであって、
前記フィルタリング手段は、ウェットフィルタにより前記空気をろ過する手段であり、
前記ウェットフィルタに水を吹き付けて洗浄するとともに、該水を回収するタンクを有し、このタンクに回収した水を上記ウェットフィルタに吹き付けるフィルタ洗浄手段を備えたウエットプロセスシステム。
【請求項２】
装置本体の対向する両側面の一方に被加工物の入口が形成され、他方に出口が形成され、前記入口と前記出口とを結ぶ前記被加工物の搬送路を備え、該搬送路を搬送されている被加工物に薬液を吹き付けるウエットプロセス装置に設けられる空気浄化装置であって、
装置本体内部の空気を装置本体外部に吸引する吸引手段と、
前記吸引手段により吸引した空気をろ過するフィルタリング手段と、
前記フィルタリング手段によりろ過された空気を前記入口、または前記出口の少なくとも一方に導くダクトと、を備え、
前記フィルタリング手段は、ウェットフィルタにより前記空気をろ過する手段であり、
さらに、装置本体の動作時に、前記ウェットフィルタに水を吹き付けて洗浄するとともに、該水を回収するタンクを有し、このタンクに回収した水を上記ウェットフィルタに吹き付けるフィルタ洗浄手段を備えた空気浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、被加工物にエッチング液（薬液）を吹き付けるエッチング装置等のウエットプロセス装置に設けられる空気浄化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、被加工物をエッチングして所望の回路パターンを形成したプリント基板を製造するエッチングシステムがあった。被加工物である基板の表面には、略均一に導電性の膜が形成されており、この導電性の膜の上には、さらにホトレジスト膜が略均一に形成されている。上記被加工物を露光して前記ホトレジスト膜に回路パターンを転写する露光装置、現像してホトレジスト膜を転写された回路パターンに形成する現像装置、被加工物に対してエッチング液を吹き付け、前記導電性の膜を転写された回路パターンに形成するエッチング装置、エッチングされた被加工物を洗浄する洗浄装置等、複数の装置を並べたエッチングシステムがある。エッチングシステムを構成する複数の装置は、被加工物を搬送する搬送路で結ばれている。また、各装置は、被加工物の入口と出口とを形成したカバーで覆われており、装置内で使用される現像液やエッチング液等が外部に飛散しないように構成されている。
【０００３】
上記現像装置、エッチング装置、洗浄装置が、一般にウェットプロセス装置と呼ばれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の上記ウェットプロセス装置には、装置内の空気を排気する排気口が設けられており、この排気口と施設内に設けられている排気ダクトとを連結して、各装置内の空気を施設外に排気していた。このため、複数のウェットプロセス装置からなるエッチングシステムを設置する場合、施設内に前記排気ダクトを設けなければならず、設置にかかるコストが高いという問題があった。
【０００５】
また、各装置から排気される空気には現像液やエッチング液等のミストが含まれているため、上記排気による環境破壊という問題も指摘されている。
【０００６】
この発明の目的は、現像装置、エッチング装置、洗浄装置等のウエットプロセス装置に設けられ、装置内の空気を循環させることにより、設置時にかかるコストを低減し、さらには環境破壊も防止できる空気浄化装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この発明のウエットプロセスシステムは、上記課題を解決するために以下の構成を備えている。
【０００８】
（１）装置本体の対向する両側面の一方に被加工物の入口が形成され、他方に出口が形成され、前記入口と前記出口とを結ぶ前記被加工物の搬送路を備え、該搬送路を搬送されている被加工物に薬液を吹き付ける複数のウエットプロセス装置を、前記被加工物を搬送する前記搬送路で結んだウエットプロセスシステムにおいて、
前記ウエットプロセス装置毎に、装置本体内部の空気を装置本体外部に吸引する吸引手段と、
前記吸引手段により吸引した空気をろ過するフィルタリング手段と、
前記フィルタリング手段によりろ過された空気を前記入口、または前記出口の少なくとも一方に導くダクトと、を備えた空気浄化装置を設け、
前記フィルタリング手段が、ウェットフィルタにより前記空気をろ過する手段であって、前記ウェットフィルタに水を吹き付けて洗浄するとともに、該水を回収するタンクを有し、このタンクに回収した水を上記ウェットフィルタに吹き付けるフィルタ洗浄手段を備えている。
【０００９】
この構成では、ウェットプロセス装置毎に、吸引手段により本体内部から本体外部に吸引された空気がフィルタリング手段によりろ過される。ウェットプロセス装置には、例えば現像装置、エッチング装置、洗浄装置がある。さらに、ろ過された空気はダクトにより被加工物の入口近傍または／および出口近傍に導かれる。被加工物の入口、および出口では前記吸引手段により装置内部の空気が吸引されているため、負圧がかかっているので、前記ダクトにより入口近傍または／および出口近傍に導かれた空気が装置本体内部に戻る。
【００１０】
このように、ウェットプロセス装置毎に、装置本体内部の空気を循環させるようにしたので、装置内の空気を排気するための排気ダクトが不要になり、ウェットプロセス装置の設置にかかるコストを低減できる。また、ウェットプロセス装置毎に装置内部の空気を循環しているので、複数の装置間にわたるダクトを設けなくてもよいので、システム全体を小型化できるとともに、環境破壊という問題が防止できる。
【００１２】
この構成では、塩酸やアンモニア等の気化しやすい化合物を回収できる。また、フィルタ洗浄手段によりウェットフィルタに水を吹き付けるようにしたので、フィルタの目詰まりを防止することができる。さらに、フィルタに吹き付けた水を回収するタンクを設け、フィルタの洗浄に使用する水を循環させるようにしたので、フィルタの洗浄が効率的に行える。
【００１３】
また、この発明の空気浄化装置は、上記課題を解決するために以下の構成を備えている。
【００１４】
装置本体の対向する両側面の一方に被加工物の入口が形成され、他方に出口が形成され、前記入口と前記出口とを結ぶ前記被加工物の搬送路を備え、該搬送路を搬送されている被加工物に薬液を吹き付けるウエットプロセス装置に設けられる空気浄化装置であって、
装置本体内部の空気を装置本体外部に吸引する吸引手段と、
前記吸引手段により吸引した空気をろ過するフィルタリング手段と、
前記フィルタリング手段によりろ過された空気を前記入口、または前記出口の少なくとも一方に導くダクトと、を備え、
前記フィルタリング手段は、ウェットフィルタにより前記空気をろ過する手段であり、
さらに、装置本体の動作時に、前記ウェットフィルタに水を吹き付けて洗浄するとともに、該水を回収するタンクを有し、このタンクに回収した水を上記ウェットフィルタに吹き付けるフィルタ洗浄手段を備えている。
【００１５】
この構成では、装置本体の動作時にウェットフィルタにタンク内の水を吹き付けてウェットフィルタ１１を洗浄するようにしたので、ウェットフィルタの目詰まりが防止でき、装置内の空気の浄化が効率的に行える。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施形態である空気浄化装置を適用したエッチングシステムについて説明する。図１は、この実施形態のエッチングシステムを示す図である。この実施形態のエッチングシステムは、被加工物の搬送方向に現像装置１、エッチング装置２、および洗浄装置３の３つの装置をこの順に並べたシステムである。現像装置１、エッチング装置２、および洗浄装置３が、それぞれこの発明で言うウェットプロセス装置に相当する。これら３つの装置は、被加工物の搬送路５で結ばれている。各装置は、被加工物が装置本体内部に入る入口６および本体内部から出る出口７が形成されたカバー４で覆われている。
【００１７】
なお、図示していないがカバー４には内部の状態を確認するための窓や、またメンテナンス時等に作業員が本体内部に入るためのドア等が形成されている。
【００１８】
各装置の本体カバーの上部には、本体内部に通じる煙突８が設けられており、この煙突８にフィルタユニット９が取り付けられている。また、１０はフィルタユニット９を通過した空気を、装置本体の上記入口６および出口７近傍に導くダクトである。ダクト１０は、図示するように上記入口６および出口７の近傍まで延びている。
【００１９】
フィルタユニット９は内部にポリプロピレンやポリエチレン等を原料とするメッシュを積層したウェットフィルタ１１を備えている（図２参照）。また、フィルタユニットとダクト１０との接合部には、ファン１２が設けられている。このファン１２は、装置本体内部の空気をフィルタユニット９に吸引する方向に回転する。
【００２０】
なお、図２はファン１２をダクト１０内部に配置した例を示しているが、ファン１２はフィルタユニット９内部に配置した構成であってもよい。また、フィルタユニット９とファン１２とは、これらを一体化したフィルタ装置に置き換えてもよい。
【００２１】
また、ダクト１０は樹脂製のホースで構成してもよいし、また金属性の配管で構成してもよい。
【００２２】
フィルタユニット９、ダクト１０、ウェットフィルタ１１、およびファン１２がこの発明で言う空気浄化装置を構成する。
【００２３】
各装置の入口６および出口７は、図３に示すラッパ形状に形成されている。ダクト１０は、フィルタユニット９から入口６、および出口７の近傍まで延びている。
【００２４】
なお、図３は各装置における出口近傍の拡大図である。入口６および出口７は、略同じ形状である。
【００２５】
次に、この実施形態のエッチングシステムの動作について説明する。
【００２６】
被加工物は、搬送路５により現像装置１、エッチング装置２、洗浄装置３をこの順に通過する。被加工物２０は、基台２１の表面に略均一な厚さの導電性膜２２を形成し、さらに前記導電性膜２２の上に略均一な厚さのホトレジスト膜２３を形成したものである（図４（Ａ）参照）。
【００２７】
搬送路５により現像装置１に入る被加工物２０は、その前工程においてホトレジスト膜２３に回路パターンが転写（露光）されている。現像装置１は、搬送路を搬送されている被加工物２０に対して現像液を吹き付け、ホトレジスト膜２３を転写されている回路パターンに形成する（図４（Ｂ）参照）。周知のように、ポジ型のフォトレジスト膜２３は現像装置１により露光された部分が取り除かれ、ネガ型のフォトレジスト膜２３は現像装置１により露光されていない部分が取り除かれる。現像装置１で使用される現像液はアルカリ性の水溶液である。
【００２８】
現像装置１において、被加工物２０に現像液を吹き付ける構成については周知であるので、ここでは説明を省略する。
【００２９】
現像装置１を通過した被加工物２０（図４（Ｂ）に示す被加工物２０）は、エッチング装置２に送られる。エッチング装置２は、搬送路５を搬送されている被加工物２０に対してエッチング液を吹き付け、先の現像工程においてフォトレジスト膜２３が取り除かれた部分の導電性膜２２を取り除く（図４（Ｃ）参照）。これにより、導電性膜２２が転写された回路パターンに形成される。エッチング装置２において使用されるエッチング液は、酸性の水溶液である。
【００３０】
なお、エッチング装置２において、被加工物２０にエッチング液を吹き付ける構成については周知であるので、ここでは説明を省略する。
【００３１】
エッチング装置２を通過した被加工物２０（図４（Ｃ）に示す被加工物２０）は、洗浄装置３に送られる。洗浄装置３は、搬送路５を搬送されている被加工物に対して純度の高い水を吹き付け洗浄する。洗浄装置３を通過した被加工物２０は、残存しているフォトレジスト膜２３を除去する後工程に送られる。
【００３２】
なお、洗浄装置３において、被加工物２０に上記水を吹き付ける構成については周知であるので、ここでは説明を省略する。
【００３３】
このように、エッチングシステムでは各装置で異なる性質の水溶液が使用されている。具体的には、現像装置１でアルカリ性の水溶液が使用され、エッチング装置２で酸性の水溶液が使用され、洗浄装置３で純度の高い水が使用されている。
【００３４】
このエッチングシステムの動作時、各装置（現像装置１、エッチング装置２、および洗浄装置３）に設けられているファン１２は回転しており、装置本体内部の空気を煙突８を介してフィルタユニット９に吸引している。装置本体内部の空気には、装置内部で使用されている水溶液のミストが含まれている。フィルタ１１に、このミストが付着する。また、フィルタ１１はウェットフィルタであるので、塩酸やアンモニア等の気化しやすい加工物も回収できる。したがって、フィルタ１１を通過した空気はミストを取り除いた綺麗な空気となって、ダクト１０を通って装置の入口６または出口７近傍に導かれる。
【００３５】
ここで、各装置の入口６および出口７近傍では、ファン１２により装置本体内部の空気がフィルタユニット９側に吸引されているため負圧がかかっており、また入口６、および出口７は上記のようにラッパ形状に形成したので、ダクト１０から吹出された空気を略確実に装置本体内部に引き込むことができる。
【００３６】
これにより、装置本体内部の空気を循環させることができるので、装置本体内部の空気の排気が抑えられ、環境破壊を防止できる。また、この実施形態のエッチングシステムでは、従来のように装置本体内部の空気を外部（施設外）に排気するための設備が不要となり、エッチングシステムの設置にかかるコストが低減できる。
【００３７】
また、装置毎に装置本体内部の空気を循環させているので、複数の装置間にわたるダクトを設けなくてもよいので、システム全体を小型化できる。
【００３８】
さらに、装置毎にフィルタユニット９を設けたので、フィルタ１１に付着するミストは、それぞれ取り付けられている装置で使用されている水溶液である。具体的には、現像装置１ではフィルタ１１に現像液のミストが付着し、エッチング装置２ではフィルタ１１にエッチング液のミストが付着し、洗浄装置３ではフィルタ１１に水のミストが付着する。このため、各装置のフィルタ１１を水で洗浄したときにでる廃液は、その装置で使用されている成分の水溶液である。したがって、現像装置１に取り付けられているフィルタ１１を洗浄した時にでた廃液は、そのまま現像液として再利用できる。またエッチング装置２に取り付けられているフィルタ１１を洗浄した時にでた廃液は、そのままエッチング液として再利用できる。このように、フィルタ１１を洗浄した廃液を簡単に再利用できるので、ランニングコストを低減できるとともに、この廃液を排水しないので環境破壊という問題もおきない。
【００３９】
また、図５に示すようにウェットフィルタ１１に水を吹き付けるポンプ１５、および該水を回収するタンク１６を設け、装置本体の動作時にウェットフィルタ１１にタンク１６内の水を吹き付けてウェットフィルタ１１を洗浄するようにしてもよい。このようにすれば、ウェットフィルタ１１の目詰まりが防止でき、装置内の空気の浄化が効率的に行える。
【００４０】
さらに、タンク１６の水は取り付けられている装置内部で使用されている水溶液の成分に応じてその濃度が徐々に上昇するので、ある程度まで上昇したら交換すればよい。このとき、タンク１６から取り出される水は廃液として処理されるのではなく、上記したように取り付けられている装置で再利用すればよい。
【００４１】
なお、上記実施形態では現像装置１、エッチング装置２、洗浄装置３からなるエッチングシステムを例にしたが、本願発明は現像装置１の手前に回路パターンを被加工物２０に転写する露光装置や、該露光装置の手前に被加工物２０の表面にホトレジスト膜を塗布する装置等、上記以外の装置を設けたエッチングシステムにも適用できる。さらに、前記洗浄装置の後ろに被加工物２０の表面に残っているホトレジスト膜を除去する剥離装置にも適用できる。
【００４２】
【発明の効果】
以上のように、この発明のウエットプロセスシステムによれば、ウェットプロセス装置毎に本体内部の空気を排気するのではなく循環させるので、装置内の空気を排気するための排気ダクトが不要になり、設置にかかるコストを低減できる。また、ウェットプロセス装置毎に装置内部の空気を循環しているので、複数の装置間にわたるダクトを設けなくてもよいので、システム全体を小型化できるとともに、環境破壊という問題が防止できる。
また、この発明の空気浄化装置によれば、装置本体の動作時にウェットフィルタにタンク内の水を吹き付けてウェットフィルタ１１を洗浄するようにしたので、ウェットフィルタの目詰まりが防止でき、装置内の空気の浄化が効率的に行える。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施形態であるエッチングシステムを示す図である。
【図２】フィルタユニットを示す図である。
【図３】エッチングシステムを構成する装置における被加工物の出口を示す図である。
【図４】各装置における被加工物の加工を説明する図である。
【図５】別の実施形態にかかるフィルタユニットを示す図である。
【符号の説明】
１−現像装置
２−エッチング装置
３−洗浄装置
５−搬送路
６−入口
７−出口
８−煙突
９−フィルタユニット
１０−ダクト
１１−フィルタ
１２−ファン
１５−ポンプ
１６−タンク
２０−被加工物
【図１】
0003665006.tif 000002
【図２】
0003665006.tif 000003
【図３】
0003665006.tif 000004
【図４】
0003665006.tif 000005
【図５】
0003665006.tif 000006