(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷重を昇降させるためのモノブロック構造のハイドロリック式の制御装置であって、少なくとも２つの電磁操作式の比例方向切換弁エレメントと、１つの逆止弁と、荷重を入力エレメントとして荷重圧とは無関係に持ち上げるための１つの圧力バランサとが設けられており、これらのエレメントが少なくとも部分的に１つのケーシング内に配置されており、該ケーシングが少なくとも１つのポンプ接続部と少なくとも１つの消費器接続部とすくなくとも１つの戻し接続部とを有している形式のものにおいて
（イ）比例方向切換弁エレメント（90,120）が互いに平行に配置されており、電磁的な駆動装置（91,121）が同一の側に、特に同一高さに相並んでおり、
（ロ）圧力バランサ（70）のピストン（80）が、第１の比例方向切換弁エレメント（90）の長手方向スプール（97）の近くで同軸的に、両弁エレメント（80,97）を案内して支承する孔（41）内に配置されており、
（ハ）第１の比例方向切換弁エレメント（90）の長手方向スプール（97）がばね負荷されており、ばね（108）のプレロードを調節し、かつ該ばね（108）を制御装置（1,2,3）のケーシング（30）に支持するための少なくとも１つの構成部分（109,110）が、圧力バランスピストン（80）を通って貫通案内されている
ことを特徴とする、少なくとも２つの電磁操作式の比例方向切換弁エレメントを備えた、荷重を昇降させるためのモノブロック構造のハイドロリック式の制御装置。
【請求項２】
前記構成部分（109,110）が長手方向スプール（97）の孔（105）および圧力バランスピストン（80）の孔（77）に支承されて案内されている、請求項１記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項３】
前記構成部分（109,110）が円筒形のロッド状部分（110）を有しており、該ロッド状の部分が孔（77）内で案内されており、ディスク状部分（109）を有しており、該ディスク状部分が孔（105）内で案内されている、請求項１または２記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項４】
ばね（108）が当て付けられたディスク状部分（109）が孔（105）に対する接触領域において、球面状の外輪郭を有しており、該外輪郭が、前記構成部分（110）の仮想中心線上に位置する回転軸線を有する楕円体の一部である、請求項１から３までのいずれか１項記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項５】
前記ディスク状部分（109）が、該ディスク状部分の外輪郭の回転対称的な中心線に対して直角な横断面に、貫通部または切除部を有している、請求項３記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項６】
前記ディスク状部分（109）に、切除部として半径方向に向いた切欠き（113）が配置されている、請求項５記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項７】
孔（41）が貫通孔であり、該貫通孔の直径が、少なくとも弁エレメント（80,97）を支承して案内する領域において一定である、請求項１記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項８】
前記孔（41）の端部の、圧力バランサ（70）の近くに閉鎖エレメント（114）が配置されており、該閉鎖エレメントが雌ねじ山（116）を有しており、該雌ねじ山には、ねじ山付きピン（111）が前記構成部分（109,110）のための移動調節可能なストッパとしてねじ込まれている、請求項８記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項９】
オープンサーキット−ハイドロリック回路のために構成された制御装置（1,2）において、第２の比例方向切換弁エレメント（120）も圧力バランサ（80）も、それぞれ１つの別個のハイドロリック的に後置された接続部（52,53または51）を有している、請求項１記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項１０】
第２の比例方向切換弁エレメント（120）の内側の長手方向スプール（147）がケーシング（30）内に支持されたばね（155）によって負荷されるようになっており、これにより、内側の長手方向スプール（147）が、遮断状態において、外側の長手方向スプール（140）に設けられた弁座（146）に当て付けられるようになっている、請求項１記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項１１】
ばね（155）のプレロードが、ケーシング（30）に配置された調節ねじ（150）によって調節可能である、請求項10記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項１２】
ケーシング（30）が調節ねじ（150）の領域に、調節孔（68）を有しており、該調節孔の中心線が、長手方向スプール（140,147）の中心線と斜めに交差しており、両中心線の最短距離が、調節ねじ（150）と、調節孔（68）に挿入可能な調節車との間の軸線間隔に相当する、請求項10または11記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項１３】
両比例方向切換弁エレメント（90,120）が、別個の逆止弁（170）を介して互いに接続されており、該逆止弁が沈め込み機能の場合にポイントとして接続されるようになっている、請求項１から12までのいずれか１項記載のハイドロリック式の制御装置。
【請求項１４】
第１の比例方向切換弁エレメント（90）が、一段階式の直接的に操作される弁であり、第２の比例方向切換弁エレメント（120）が、前段つまり内側の長手方向スプール（147）と、主段つまり外側の長手方向スプール（140）とを備えた弁であり、該外側の長手方向スプール（140）の外輪郭に、主弁円錐体（141）と主制御切欠き（142）とが配置されており、これらの主弁円錐体と主制御切欠き（142）とが連続的に作業流に接続されるようになっている、請求項１から13までのいずれか１項記載のハイドロリック式の制御装置。
【発明の詳細な説明】
背景技術
本発明は、荷重を昇降させるためのモノブロック構造のハイドロリック式の制御装置であって、少なくとも２つの電磁操作式の比例方向切換弁エレメントと、１つの逆止弁と、荷重を入力エレメントとして荷重圧とは無関係に持ち上げるための１つの圧力バランサとが設けられており、これらのエレメントが少なくとも部分的に１つのケーシング内に配置されており、該ケーシングが少なくとも１つのポンプ接続部と少なくとも１つの消費器接続部とすくなくとも１つの戻し接続部とを有している形式のものに関する。
一般的にモノブロック構造のハイドロリック式の制御装置の場合、駆動装置、操作エレメントおよび接続部は、モノブロックのほとんど全てのケーシング面に配置されている。駆動装置や接続部や弁ばねのための調節機構を取り付けた後、コンパクトな構造にかかわらず、大きな外寸を有する制御部分が生ぜしめられる。それというのは、特に駆動装置は多くの場合対向して位置するか、コーナ部分にわたって配置されていてケーシングから突出しているからである。さらに、この種の制御装置は大抵の場合、長く複雑に形成されたハイドロリック通路を有している。これらのハイドロリック通路は、ケーシングを通って流れる圧力媒体流を付加的に絞り、制御装置のダイナミクスを損なう。さらに、構造がコンパクトな場合、比例方向切換弁エレメントは調節しにくいか、または全く調節することができない。
発明の利点
本発明によるハイドロリック式の制御装置は、そのケーシング寸法およびモノブロックの全体的な大きさに関して小さな構造容積を可能にする。個々の弁エレメントは、密に相並んで配置されており、短い孔または通路を介して互いに接続されている。
運動可能な弁エレメントは、製造に有利に構成されて配置された孔内に設けられており、これにより重量および加工時間を節減することができる。このために、全ての弁部分は唯３つの孔内に収納される。１つの孔内には、荷重を持ち上げる、つまり上昇させるための比例方向切換弁エレメントが、圧力バランサの近くに位置している。この圧力バランサのピストンが比例方向切換弁エレメントの長手方向スプールの近くに同軸的に配置されている孔は、いかなる段をも有しない貫通孔である。ピストンと長手方向スプールとの間には、この長手方向スプールに作用する戻しばねが設けられている。戻しばねをケーシングに対して構造スペース節約的に支持可能にするために、戻しばねを支持してばねのプレロードを調節するための少なくとも１つの構成部分が圧力バランサのピストンを通って貫通案内されている。
盲孔の形の第２の平行な孔内には、前記荷重を沈め込む、つまり下降させるための比例方向切換弁エレメントが配置されている。この第２の孔は、共通のケーシングの平らな１端面で、第１の孔と一緒に終わっている。このような端面には、直接的に相並んで電磁式の駆動装置が配置されている。これにより、駆動装置は機械的にも簡単な手段により制御可能である。第３の孔には、逆止弁が設けられている。この逆止弁は、消費器接続部からの圧力媒体が持ち上げのための比例方向切換弁内に戻されるのを阻止する。
大きな容積流を通流可能にするために、部分的に個々の接続部が２つ構成されている。
図面
以下に本発明の３つの実施例を図面につきさらに詳しく説明する。
第１図は、OC（オープンサーキット）−ハイドロリック系のための制御装置を、２つの電磁操作式の比例方向切換エレメントと１つの圧力バランサと１つの逆止弁とを備え、かつ引き続く経路を圧力で負荷することができない状態で示すハイドロリック回路図である。
第２図は、第１図の制御装置の断面図である。
第３図は、第１図の逆止弁の断面図である。
第４図は、第２図および第３図の制御装置の側面図である。
第５図は、引き続く経路を圧力で負荷することができる制御装置のためのハイドロリック回路図を第１図のように示したものである。
第６図は、第５図の制御装置の断面図である。
第７図は、第５図の逆止弁の断面図である。
第８図は、第６図および第７図の制御装置の側面図である。
第９図は、LS（ロードセンシング）−ハイドロリック系のための制御装置のためのハイドロリック回路図を第１図のように示したものである。
第10図は、第９図の制御装置の断面図である。
実施例の説明
第１図に示されたハイドロリック回路図は、２つの電磁操作式の比例方向切換弁エレメント90,120と、１つの圧力バランサ70と、１つの逆止弁170とを備えたOC−ハイドロリック系のためのハイドロリック式の制御装置１の基本的な構造を示している。このような制御装置１および、第５図および第９図に示した制御装置は、それぞれ例えば自走式の作業機械の構成部分である単動式のハイドロリックシリンダ７（第３図参照）を制御するために役立つ。
両比例方向切換弁エレメント90,120は、絞り作用を有する方向切換弁である。この弁の長手方向スプールは、両終端位置を除いて、無段式に任意の中間位置を取ることができる。これらの長手方向スプールはそれぞれ、一方の側で比例磁石91,121を有しており、他方の側で戻しばね108,155を有している。第１の比例方向切換弁エレメント90は３ポート２位置弁であり、第２の比例方向切換弁エレメント120は２ポート２位置弁である。３ポート２位置弁90を通ってポンプ接続部49から来た圧力媒体流は、別個の逆止弁170を介して消費器接続部50に流れる。この３ポート２位置弁は定容量形ポンプ５（第２図参照）からの圧力媒体流を消費器、つまり荷重を持ち上げるための単動式のハイドロリックシリンダ７に向かって制御する。したがって比例方向切換弁エレメント90は以下に持ち上げモジュールと呼ぶ。２ポート２位置弁120は、単動式のハイドロリックシリンダ７から荷重下で消費器接続部50を介して流れる圧力媒体流を、戻し管路16を介してタンクに制御する。これにより、この第２の比例方向切換弁エレメント120は以下に沈め込みモジュールと呼ぶ。
ポンプ接続部49と持ち上げモジュール90との間には、副分岐部10に圧力バランサ70が配置されている。この圧力バランサは、ニュートラルな循環時に開いており、必要とされない圧力媒体流を殆ど絞らないで第２の戻し管路17に導入する。この戻し管路17は戻し接続部53で終わっている。この圧力バランサ70には、調整ばね88のほかに、絞り弁11を備えた荷重報知管路12が接続されている。この荷重報知管路は、接続管路13から分岐している。
戻し横方向管路14によって、荷重報知管路12は、非作動の３ポート２位置弁90において、この弁を介して戻し管路16に接続されている。
荷重を持ち上げるために持ち上げモジュール90の比例磁石91が通電される。戻し横方向管路14は遮断され、圧力媒体は持ち上げモジュール90と接続管路13と逆止弁170とを介して消費器接続部50に導かれる。この場合、荷重報知管路12を介して、圧力バランサ70はそのばね負荷された側で負荷される。これにより、ポンプ流は、消費器接続部50に加えられた荷重圧に合わせて絞られる。
荷重を沈め込むためには、通常通電されない比例磁石91において、比例磁石121が沈め込みモジュール120を作動する。圧力媒体は、消費器接続部50から沈め込みモジュール120と戻し管路16とを介して戻し接続部52に流れる。
第２図には、実際の制御装置１が断面で示されている。この制御装置は、上面31および下面33としてほぼ正方形の平らな２つの面を備えたほぼ直方体のケーシング30を有している（第４図参照）。精密加工された下面33には、戻し通路65と戻し孔66（第２図参照）とが開口している。さらに、上面31および下面33は２つの固定用孔69,69′を有している（第６図参照）。これらの固定用孔は断面に対して直角に、ケーシング30を貫通している。上面31には、このケーシングはほぼ真ん中にケーシング拡大部32（第４図参照）を有している。
断面に対して直角に向いた側面34,35,38,39はそれぞれ１つの方形の輪郭を有している。前面34および背面35は精密加工されたＴ字形の面である。前面34には、両比例磁石91,121がフランジ結合されている。第１の比例磁石91に対向して、背面35には閉鎖ねじ114が設けられている（第２図参照）。この閉鎖ねじ114の斜め上方には、消費器接続部50が位置している（第３図参照）。
他の両側面38,39は凸部を有している。これらの凸部は固定用孔69,69′を取り囲むように形成されている（第６図）。さらに、第２図の下側に位置する側面は、ポンプ接続部49を収容するための管片を有している。
雌ねじ山を備えたポンプ接続部49は、ケーシング30内で、流入環状通路93に移行している。この流入環状通路93は円筒形の貫通孔41を貫通している。この貫通孔は前面34から背面35にまで延びている。貫通孔41の左側の領域には持ち上げモジュール90の長手方向スプール97が設けられている。この場所には貫通孔41には別の２つの通路94,95が当接している。左側の通路94は戻し環状通路である。この戻し環状通路は、沈め込みモジュール120に通じる戻し横方向孔59に接続されている。この戻し環状通路94の右側には接続環状通路95が位置している。この接続環状通路からは、接続通路56がほぼ接線方向に断面から分岐している。
持ち上げモジュール90の長手方向スプール97は、重なり状態がゼロの場合の非作動状態においては、接続環状通路95を戻し環状通路94に接続するか、または、作動状態においては流入環状通路93に接続する。このために、長手方向スプール97の円筒状の外輪郭は環状溝99を有している。この環状溝はその右側の軸鍔の領域において、微調整切欠き103に移行している。この微調整切欠きは、圧力バランサ70と一緒に、測定絞りの機能を有している。微調整切欠き103の開口横断面は、流入環状通路93の方向に減じられている。しかしながらこの開口横断面は比例磁石91の非通電時にはこの流入環状通路には達しない。微調整切欠き103はここでは例えば円形の切欠きである。
長手方向スプール97の外輪郭の左側の縁部には、比例磁石91とケーシング30との間のシールリングの領域に切欠きが位置している。このような切欠きの下方に、長手方向スプール97は円筒形の凹部104を有している。この凹部の基部には、比例磁石91の可動子プランジャ92が当て付けられている。切欠きと環状溝99との間には、外輪郭に複数の短絡溝が位置している。
長手方向スプール97には右側の端面98から段付けされた状態で孔が設けられている。この段付き孔105の右側の領域は、戻しばね108の案内に役立つ。左側の領域は、小さめの直径を有しており、斜めに延びる補償孔106を介して段付き孔105と凹部104とを接続している。段付け孔105の右側から左側の領域への移行部を、戻しばね108が支持された平らのケーシング鍔が形成している。
戻しばね108の他方の端部は段付けされたばね皿109に当て付けられている。ばね皿109は横断面において、貫通孔の仮想中心線に対して直角に星形に形成されている。これにより、圧力補償のために、長手方向スプール97において圧力媒体を絞らずに通過させることができる。このために、この長手方向スプールは周面に分配された例えば複数の切欠き113を有している。この横断面は、少なくとも１つの放圧孔が配置された円形の面を有していてもよい。ばね皿109はロッド110に設けられている。このロッドの中心線は貫通孔41の中心線と合致する。ばね皿109はロッド110の一部であるか、または、ロッドに真ん中で例えば横方向プレス嵌めによってセンタリングされて装着されている。このロッド110は、長手方向スプール97の近くの右側に配置されたポット状の圧力バランスピストン80内に突入していることにより、この場所でねじ山付きピン111に当接する。ロッド110は圧力バランスピストン80の端面81に設けられた孔77内で密に摺動するように案内されている。長手方向で定置のばね皿109はロッド110と一緒に、長手方向運動可能な２つの弁部分97,80に支承されているので、ばね皿109の外側の包絡輪郭は球面状に形成されている。このようにして、特に戻しばね108が傾いて位置した場合に、長手方向スプール97とばね皿109との相互の傾動が回避される。
ねじ山付きピン111はロッド110の延長上に延びており、閉鎖ねじ114で終わっている。このねじ山突きピン111を長手方向に調節可能にするために、閉鎖ねじ114は雌ねじ山116を有している。この雌ねじ山に閉鎖ねじがねじ込まれて装着されている。制御装置１の全長を短く形成するために、閉鎖ねじ114のヘッドは円筒形の凹部を有している。この凹部は止めナット112を収容するために役立つ。ねじ山付きピン111を調節し対応させるために、このねじ山付きピンはその外側の自由端部に六角穴117を有している。
貫通孔41の右側の端部は閉鎖ねじ孔42に移行している。閉鎖ねじ孔42の雌ねじ山には、閉鎖ねじ114が固定されている。ヘッドとねじ山との間の領域に装着されたシールリング118は閉鎖ねじ孔42を外方に向かってシールしている。
貫通孔41には、閉鎖ねじ114と長手方向スプール97との間で密に摺動可能に、ポット状の圧力バランスピストン80が位置している。この圧力バランスピストン80は円筒形の外輪郭を有している。この外輪郭はその右側の端部で半円形の切欠き84を有している。この切欠きにはばねリング89が挿入されている。ばねリング89は例えば制御装置が通電されていない場合に、ストッパとして役立つ内側のケーシング鍔に当て付けられている。このケーシング鍔は、貫通孔41と、より大きな直径を有する閉鎖ねじ孔42との間に形成されている。圧力バランスピストン80のための右側のストッパを調節ねじ114が形成している。圧力バランスピストン80の外輪郭の左側の縁部には、周面に分配された複数の微調整切欠き83が位置している。これらの微調整切欠きは圧力バランスピストン80内に左側の端面から、加工成形されている。
半円形の切欠き84の後方では、圧力バランスピストン80は面取りされている。ばねリング89の手前の領域には、このばねリングは短絡溝の列を支持している。
圧力バランスピストン80には右側の端面から、調整ばね88を収容するためのガイド孔87が加工成形されている。このガイド孔87の基底部は縮径されている。これにより調整ばね88を半径方向に位置固定することができる。比較可能な輪郭を備えた孔115は調節ねじ114の左側の端面にも位置している。
圧力バランサ70の領域には、ケーシング30に２つの環状通路71,74が位置している。流入環状通路93に隣り合って、戻し環状通路71が位置している。この戻し環状通路71は例えば荷重を持ち上げる時に、持ち上げ流がポンプ流に等しい場合には圧力バランスピストン80によって完全に閉じられているのに対して、ニュートラルな循環時には開かれている。
戻し環状通路71と調節ねじ114との間には、荷重報知通路74が配置されている。この荷重報知通路74は接続孔56に、貫通孔41に対して平行な荷重報知管路12を介して接続されている。この荷重報知管路12には、絞り個所11が配置されている。
沈め込みモジュール120は、前面34から、ケーシング30内に進入する盲孔45を有している。この盲孔は、持ち上げモジュールの貫通孔41に対して平行に向けられている。この盲孔45は、持ち上げモジュール90におけるのと同様に、左側で比例磁石121によって圧力媒体密に閉鎖されている。
盲孔45の右側の領域には、互いに内外に嵌め込まれた２つの長手方向スプール140,147を収容する弁ブシュ130が装着されている。弁ブシュ130は盲孔45内で、孔端部と、内側に貫通六角穴を有する、左側に配置されたねじ付きリング156との間に、軸方向に位置固定されている。盲孔45の左側の領域は、このために、雌ねじ山128を備えている。
弁ブシュ130は、消費器環状通路125によって取り囲まれている。この消費器環状通路は、第３図に示した消費器接続部50にハイドロリック的に接続されている。このために、消費器環状通路125からは、沈め込みモジュール120と持ち上げモジュール90との間の領域において、接線方向に消費器孔54が離反する方向に延びている。この消費器孔54は、第２図に比べて高い位置に位置する逆止弁170に開口している（第３図参照）。
逆止弁170は盲孔の形の弁孔47を有している。この弁孔は、孔の半分の深さにおいて消費器孔54によって接線方向に交差されている。この弁孔47は左側の端部では錐面状の弁座171として形成されており、右側の端部の領域においては、雌ねじ山を備えた消費器接続部50として形成されている。真ん中の円筒状の領域には、ばね負荷された逆止スプール173が位置している。この逆止スプールは、管状の軸部174を有している。この軸部の左側の端部には円錐台状の弁皿175が位置している。軸部にはコイルばね176が配置されている。このコイルばねは逆止スプール173を弁座171に圧着する。このために、コイルばね176は左側で、シールディスクとベースディスクとを介して弁皿175の背面１に当て付けられている。このコイルばね176は右側で星形ディスク177に支持されている。この星形ディスクは、少なくとも１つのスペーサディスクを介して、弁孔47に装着された固定リング178に当て付けられている。星形ディスク177は、左側に向かって突出した真ん中のピンを有している。このピンに、逆止スプール173の管状の軸部174が案内されている。
第２図にはねじリング156の近くの左側に調節ねじ150が示されている。この調節ねじ150は雌ねじ山128に装着されている。この雌ねじ山は調節ねじ150とねじリング156との間で戻し環状通路126によって遮断されている。この戻し環状通路126は、ケーシング30の下面33に、戻し孔66を介して接続されており、持ち上げモジュール90の戻し環状通路94に戻し横方向孔59を介して接続されている。この戻し横方向孔59は、沈め込みモジュール120を仕切る側面39から、閉鎖栓61によって圧力媒体密に閉鎖されている。
主として調節ねじ150と、両長手方向スプール140,147を備えた弁ブシュ130とを有する沈め込みモジュール120は、調節ねじ150に配置された歯列151を除いて、ドイツ連邦共和国特許出願公開第4140604号明細書に基づき公知である。したがって以下には、沈め込みモジュール120の構造を、専らその作用形式に関して説明する。
沈め込みモジュール120は第２図においては遮断位置で示されている。消費器接続部50に、ひいては消費器孔54を介して消費器環状通路125に加えられる圧力媒体は、戻し環状通路126には流入することはできない。弁ブシュ130に直接的に支承された長手方向スプール、つまり主制御スプール140は、主弁円錐体141で弁ブシュ130の主弁座132に作用する。長手方向スプールの左側の端部に配置された主制御切欠き142はシリンダ座部133に覆われて環状室134の近くに位置している。主制御スプール140を主弁座132に保持するために、この主弁座の右側の端面に圧力室135内で圧力媒体が荷重圧下で作用する。この圧力室へは、圧力媒体は消費器環状通路125から弁ブシュ130の半径方向孔131を介して、主制御スプール140内で絞り孔144とこれに続いて設けられた長手方向孔145とを介して達する。この長手方向孔145の孔基底部は制御溝143を貫通している。圧着力は、消費器圧力室136内に加えられる圧力に基づく、逆作用力によって減じられる。消費器圧力室136は、主弁円錐体141と短絡溝との間の、主制御スプール140の外輪郭の領域内に位置している。沈め込みモジュール120の閉鎖時には、両圧力室135,136は、消費器接続部50に加えられる荷重圧下にある。
この沈め込みモジュール120は、比例磁石121が通電されることにより開く。この沈め込みモジュールの可動子プランジャ122は内側の長手方向スプール、つまり前制御スプール147を僅かに右側に向かってシフトする。これにより、前制御切欠き149は主制御スプール140の制御溝143の下方に達する。同時に、この主制御スプールのさらに左側に配置された弁円錐体148は、主制御スプール140に対応する弁座146から持ち上がる。圧力室135は今や、長手方向孔145と制御溝143と前制御切欠き149と弁座146と戻し環状通路126とを介して戻し孔66に接続されている。前制御切欠き149の開放横断面に応じて、圧力室135内の圧力が低下する。この場所の圧力は、絞り孔144の横断面と前制御切欠き149の開放横断面との比に応じて生ぜしめられる。前制御スプール147が適宜の大きさで右側にシフトされたときに圧力室135内の圧力が降下して、主制御スプール140に作用する圧力媒体により、半径方向孔131の下方の領域において右側に向かって働く力が優勢になると、主制御スプール140はやはり右側に向かってシフトされる。主弁円錐体141は主弁座132から持ち上がり、主制御切欠き142は環状室134の領域内に達する。圧力媒体は、消費器から来て、弁ブシュ130と主制御スプール140との間で戻し環状通路126の方向に流れる。主制御スプール140はその開放運動により前制御スプール147に追従する。これにより、前制御切欠き149における開放横断面はより小さくなる。これにより、圧力室135内には、絞り孔144を介してより高い圧力が形成される。従って、主制御スプール140の開放運動は釣り合い状態が生ぜしめられるまで制動される。
可動子プランジャ122が左側に向かって運動すると、この可動子プランジャに追従して、戻しばね155が調節ねじ150内に組み込まれていることにより、前制御スプール147が運動する。この戻しばね155は前制御スプール147と調節ねじ150とに支持されている。前制御スプール147が運動すると、前制御切欠き149が閉じられる。圧力室135内の圧力が上昇する。主弁円錐体141が主弁座132に当て付けられる。沈め込みモジュール120は遮断される。沈め込みモジュール120はこれにより一種のシーケンス制御に基づき作業する。
制御装置の組み付け時に戻しばね155のプレロードを調節可能にするために、調節ねじ150は、その外輪郭の中央の領域において、斜歯列を有している。この斜歯列には、少なくとも一時的に調節ウォーム152の歯列が噛み合う。このために、調節ウォームは調節孔68内に装着されている。この調節孔は、背面35から盲孔45内にまで延びており、戻し横方向孔59ならびに戻し環状通路126とに接している。調節ウォーム152は、ケーシング30から突出した自由端部を有する調節スピンドル、または一時的に調節ウォーム152に端面で連結可能な特別な工具により、回転させることができる。調節スピンドルもしくは調節ウォーム152の回転方向に応じて、調節ねじ150は雌ねじ山128に右側または左側に向かって螺合する。調節領域の長さは、調節ねじ150の歯列151の幅にほぼ相当する。
荷重の持ち上げ時に比例磁石91が通電されると、圧力媒体は、ポンプ接続部49と流入環状通路93と長手方向スプール97と接続孔56とを介して、第３図に示した逆止弁170の逆止スプール173の前で、弁孔47内に流入する。長手方向スプール97の開放は微調整切欠き103を介して行われる。これらの微調整切欠きは、圧力バランサ70に関連して測定絞りを形成する。圧力媒体は、逆止弁170に達する途中に、荷重報知管路12と荷重報知通路74とを介して圧力バランスピストン80の背面に向かって流れる。圧力バランサ70のこのような接続により、微調整切欠き103の前後では常に一定の圧力勾配が存在する。この圧力勾配の大きさは調整ばね88のばね力によって規定されている。加えられたポンプ圧に基づき弁皿175の前面における力が、ばね力と、荷重圧力と背面側の弁皿面積との積とからの和を超えると、逆止弁170が開き、荷重が持ち上がり始めるか、もしくは、ピストン８が走出し始める。長手方向スプール97と圧力バランスピストン80とが、消費器接続部50への容積流の、荷重とは無関係な制御を可能にする。
荷重の持ち上げを終了させるには、比例磁石91が遮断される。長手方向スプール97と逆止スプール173とは第２図に示したように、その閉鎖位置に移動する。
第５図は、制御装置１と比較可能な制御装置２のためのハイドロリック回路図を示している。しかしながら第５図に示した圧力バランサ70は引き続く経路を圧力で負荷することができる（weiterlaufbelastbar）。この場合、従来の戻し接続部53は、引き続く経路を圧力で負荷することが可能な第２の消費器接続部51になる。さらに、３ポート２位置弁90から逆止弁170に導かれる圧力媒体流は、圧力バランサ70の圧力バランスピストン80を介して制御可能に案内される。
この圧力バランサ70が引き続く経路を圧力で負荷することができることは制御装置１においていくつかの変化をもたらす。これらの変化は第６図〜第８図では制御装置２において実現される。
制御装置２のケーシング30においては、逆止弁170の位置が変化している（第７図および第８図参照）。逆止弁170の中心線はここでは、持ち上げモジュール90および沈め込みモジュール120の両中心線から形成された平面に対してなおも平行に延びてはいるものの、これらの中心線自体に対してはなおも平行には延びておらず、直角に延びている。従って、消費器接続部50は、ここではＴ字形に形成された側面39に位置している。
第６図によれば、持ち上げモジュール90においては、接続環状通路95からはケーシング通路64が少なくとも部分的に貫通孔41に対して平行に、荷重報知環状通路75内に通じている。この荷重方向環状通路は、閉鎖ねじ114と圧力バランスピストン80との間に位置している。
圧力バランサ70の領域においては、戻し環状通路71の近くに、消費器環状通路72と荷重報知環状通路75とが配置されている。戻し環状通路71には、このような実施例の場合別の消費器を接続することができる（第５図参照、消費器接続部51）。消費器環状通路72は、偏平通路62を介して逆止弁170の弁孔47に延びている。
第１の実施例とは異なる、圧力バランスピストン80の外輪郭は、その左縁部で面取りされている。右縁部においてはこの外輪郭は狭窄部を有している。この狭窄部は右端面に向かってストッパフランジ85に移行している。短絡溝を備えた区域において圧力バランスピストンの直径を超える直径を有するストッパフランジ85は多数の貫通孔86を有している。これらの貫通孔86を介して圧力媒体は、ストッパフランジが荷重報知環状通路75の左側の壁に当て付けられている限り狭窄部の領域に達し、狭窄部に続いて設けられた面取りされた制御縁部と、消費器環状通路72とを介して偏平通路62内に達する。このために、制御縁部は、消費器環状通路72にほぼ真ん中に位置している。外輪郭の左縁部に設けられた、やはり制御縁部を形成する面取り部は戻し環状通路71の直ぐ手前で終わっている。
これにより制御装置２においては、第１の消費器接続50への容積流の、荷重圧力とは無関係な制御が、引き続く経路が第２の消費器接続部51を介して圧力負荷される場合にも可能である。それというのは圧力バランスピストン80が付加的な制御縁部を有しているからである。
ハイドロリック式の制御装置の第３の実施例は第９図および第10図から明らかである。ここで図示した制御装置３はLS（ロードセンシング）−ハイドロリック系に適している。このためには、圧力バランサ70は前記両実施例とは異なり（第１図および第５図参照）、もはや副分岐部10にではなく３ポート２位置弁90に直接的に前置されている。荷重報知系を含む残りの回路は、第１図に示した回路に相当する。付加的に、制御装置３に圧力媒体を供給する可変容量形ポンプ６（第10図参照）を制御するために、制御管路19が絞り個所11と圧力バランサ70との間で荷重報知管路12から分岐されている。これにより、ポンプ接続部49と接続管路19との間には、LSハイドロリック系の調整圧力勾配が形成される。
第10図は第３の制御装置３を断面図で示している。この制御装置３は、持ち上げモジュール90および圧力バランサ70の領域において、構造的に制御装置１とは異なっている。
ポンプ接続部49は中間環状通路73に通じている。この中間環状通路は貫通孔41を圧力バランスピストン80の中央領域で貫通している。圧力バランスピストンの第10図に示した位置において、中間環状通路73の真ん中で、外輪郭に配置された制御溝82が始まってその右側の壁が形成されている。制御溝82が左側に向かって、流入環状通路93内に延びている。この場所で、制御溝82は微調整切欠き83に移行している。微調整切欠き83は圧力バランスピストン80の端面81の前で終わっている。
持ち上げモジュール90の開放により、圧力媒体はスタンバイ圧力下で、可変容量形ポンプ６から来て接続環状通路95内に流入し、この場所から、荷重報知管路12と荷重報知環状通路75と制御管路19とを介してポンプ制御部に流れる。ポンプ圧が、加えられた荷重に対応して上昇する。圧力媒体が消費器に流れるやいなや、長手方向スプール97における圧力勾配と、微調整切欠き103の開放横断面とが容積流を規定する。圧力バランサ70は圧力勾配を常に一定に保つ。このことは複数の消費器を並列に操作する場合にも当てはまる。
【図１】
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【図５】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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