(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化チタン３０〜７５重量％及び五酸化ニオブ７０〜２５重量％を含有する蒸着原料の合計量１００重量部に対して、酸化ジルコニウム及び／又は酸化イットリウム３〜４６重量部を混合して得られた蒸着原料混合物を焼結することを特徴とする蒸着組成物の製造方法。
【請求項２】
二酸化チタン３０〜７５重量％及び五酸化ニオブ７０〜２５重量％を含有する蒸着原料の合計量１００重量部に対して、酸化ジルコニウム及び／又は酸化イットリウム３〜４６重量部を混合して得られた蒸着原料混合物を焼結してなることを特徴とする蒸着組成物。
【請求項３】
二酸化チタン３０〜７５重量％及び五酸化ニオブ７０〜２５重量％を含有する蒸着原料を混合して得られた蒸着原料混合物を焼結してなる蒸着組成物を蒸発させ、発生した蒸発物を合成樹脂基板上に析出させて反射防止膜の高屈折率層を形成することを特徴とする反射防止膜の製造方法。
【請求項４】
前記蒸着原料混合物が、酸化ジルコニウム及び／又は酸化イットリウムを含有することを特徴とする請求項３に記載の反射防止膜の製造方法。
【請求項５】
前記合成樹脂基板上にハードコート層を成膜し、該ハードコート層上に前記反射防止膜を設けることを特徴とする請求項３又は４に記載の反射防止膜の製造方法。
【請求項６】
二酸化チタン３０〜７５重量％及び五酸化ニオブ７０〜２５重量％を含有する蒸着原料を混合して得られた蒸着原料混合物を焼結してなる蒸着組成物を蒸発させ、発生した蒸発物を合成樹脂基板上に析出させて反射防止膜の高屈折率層を形成することを特徴とする反射防止膜を有する光学部品の製造方法。
【請求項７】
前記蒸着原料混合物が、酸化ジルコニウム及び／又は酸化イットリウムを含有することを特徴とする請求項６に記載の反射防止膜を有する光学部品の製造方法。
【請求項８】
前記蒸着原料混合物が、五酸化タンタル又は酸化アルミニウムを含有することを特徴とする請求項６又は７に記載の反射防止膜を有する光学部品の製造方法。
【請求項９】
前記合成樹脂基板上にハードコート層を成膜し、該ハードコート層上に前記反射防止膜が設けられた請求項６〜８のいずれかに記載の反射防止膜を有する光学部品の製造方法。
【請求項１０】
前記蒸着組成物析出時の前記合成樹脂板の加熱温度が６５〜１００℃である請求項６〜９のいずれかに記載の反射防止膜を有する光学部品の製造方法。
【請求項１１】
前記反射防止膜の低屈折率層は、二酸化珪素を原料にして形成されたものである請求項６〜１０いずれかに記載の反射防止膜を有する光学部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止膜用に供する蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法に関し、特に、低温条件下で蒸着しても、高屈折率層を形成でき、耐擦傷性、耐薬品性及び耐熱性が良好で、かつ経時的な耐熱性の低下が小さい反射防止膜を得ることができる蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
合成樹脂からなる光学部品の表面反射特性を改善するために、合成樹脂の表面上に反射防止膜を設けることは良く知られている。この反射防止性能の効果を増すために、一般的に低屈折率物質と高屈折率物質の交互積層膜が用いられる。特に、合成樹脂の傷つきやすいという欠点を補うために、低屈折率物質用の蒸着組成物として膜硬度の高い二酸化珪素膜がよく用いられ、高屈折率物質用の蒸着組成物の成分として二酸化ジルコニウム、五酸化タンタル及び二酸化チタンなどが用いられる。中でも、より低反射率の反射防止膜を形成するには、高屈折率物質の膜屈折率の高いものが選ばれ、二酸化チタンが一般的である。
しかしながら、二酸化チタン粉末を焼結して得られた蒸着原料は、基板に蒸着する際、電子ビームにより加熱すると、加熱により分解し酸素ガスを放出し、ＴｉＯ(2-x) となる。蒸着原料の周囲雰囲気に存在する分解酸素ガスはＴｉＯ(2-x) 蒸気成分が基板に到達する前に、この蒸気成分を酸化し、吸収の少ない膜を得ることが出来る反面、蒸気成分の基板到達量を阻害して成膜速度を遅くする要因にもなっている。また、二酸化チタン粉末を焼結して得られた蒸着原料を電子ビームにより加熱すると、溶融した組成物が流れ出るために、ライナーを用いるのが一般的に行われている。このときＴｉＯ(2-x) 組成物は導電性が増すため、ライナー側に電子ビームの電子を逃がしてしまい、電子ビームの損失が生じ、その損失分だけ高いパワーを必要とする。また、二酸化チタンのみからなるペレッ成形品を用いた場合、成膜速度が遅く、電子ビーム照射をした場合に、ペレットの割れが生じやすいなどの問題があった。
合成樹脂からなる光学部品においては、蒸着時の加熱温度は高くできないという制約があり、二酸化チタンの膜密度が十分に得られないため、膜屈折率が十分に高くなく、耐擦傷性や耐医薬品性能が不十分である。それを補うためにイオンアシスト蒸着が一般的に用いられているが、イオン銃設備は高価であり、製品コストを高くしてしまう。
また、合成樹脂からなる光学部品において、特に眼鏡レンズでは、プラスチックレンズを基板とし、耐擦傷性を向上させるために有機ハード膜が設けられ、さらに無機反射防止膜が設けられるのが一般的である。眼鏡レンズにおいては、反射防止性能に優れ、その耐磨耗強度が高く、耐熱性が良く、かつ経時的な耐熱性の低下の程度ができるだけ小さい反射防止膜を有する新たな光学部品が求められていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は前記の課題を解決するためなされたもので、本発明の第１の目的は、合成樹脂のように低温で蒸着しなければならない材料を基板とし、イオン銃装置やプラズマ装置などを用いずに、かつ短い時間で高屈折率層を形成することができ、高屈折率層が本来有する物性を損なうことなく、屈折率の高い高屈折率層を形成し、耐擦傷性、耐薬品性及び耐熱性が良好で、かつ経時的な耐熱性の低下が小さい反射防止膜を得ることができる蒸着組成物の製造方法及び蒸着組成物を提供することにある。
本発明の第２の目的は、耐擦傷性、耐薬品性及び耐熱性が良好で、かつ経時的な耐熱性の低下が小さい反射防止膜を有する合成樹脂からなる光学部品を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記の好ましい性質を有する眼鏡用プラスチックレンズを開発すべく鋭意研究を重ねた結果、蒸着原料として二酸化チタン及び五酸化ニオブの混合物を焼結した蒸着組成物を使用して反射防止膜を形成することにより、前記目的を達成することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、二酸化チタン３０〜７５重量％及び五酸化ニオブ７０〜２５重量％を含有する蒸着原料の合計量１００重量部に対して、酸化ジルコニウム及び／又は酸化イットリウム３〜４６重量部を混合して得られた蒸着原料混合物を焼結することを特徴とする蒸着組成物の製造方法、並びにその蒸着組成物を提供するものである。
また、本発明は、二酸化チタン３０〜７５重量％及び五酸化ニオブ７０〜２５重量％を含有する蒸着原料を混合して得られた蒸着原料混合物を焼結してなる蒸着組成物を蒸発させ、発生した蒸発物を基板上に析出させて反射防止膜の高屈折率層を形成することを特徴とする反射防止膜の製造方法、並びにその反射防止膜を有する光学部品の製造方法を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の蒸着組成物の製造方法は、二酸化チタン及び五酸化ニオブを含有する蒸着原料を混合して得られた蒸着原料混合物を焼結する。
本発明の蒸着組成物は、二酸化チタン及び五酸化ニオブを含有する。
本発明の光学部品の製造方法は、該蒸着組成物を蒸発させ、発生した蒸発物を基板上に析出させて反射防止膜の高屈折率層を形成する。
【０００６】
本発明において、二酸化チタン粉末と五酸化ニオブ粉末を混合し，焼結して得られる蒸着組成物を用いると、五酸化ニオブの融点が低いため先に溶融し、その後に二酸化チタンの溶融が生じ、溶融した二酸化チタンの蒸気圧が五酸化ニオブの蒸気圧より高いため、二酸化チタンの蒸気成分が高い組成比で基板に到達する。また、二酸化チタンからの分解酸素ガス分圧も低くなるため、電子ビームの低いパワーで、より速い成膜速度を得ることが可能となる。このときの二酸化チタンと五酸化ニオブの組成比は、二酸化チタン３０〜７５重量％、五酸化ニオブ７０〜２５重量％が好ましい。
五酸化ニオブの組成比が７０重量％を超えると、酸素欠損状態で基板に達する五酸化ニオブが増加し、二酸化チタンの分解酸素ガスも減少するため、得られた反射防止膜に吸収が生じやすくなる。
【０００７】
本発明の蒸着組成物を得るための蒸着原料混合物のプレス成形の加圧は、通常の方法で行われ２００ｋｇ／ｃｍ2 以上であり、かつ成形製品内部にエアーキャップが生じない速度で加圧する。また、焼結温度は、各酸化物成分の組成比で異なるが、１０００〜１４００℃とすることが適当である。焼結時間は焼結温度等により適宜選定され、通常１〜４８時間である。
【０００８】
二酸化チタン及び五酸化ニオブからなる蒸着組成物は、電子ビームにより加熱され、溶融した状態となり突沸によるスプラッシュが生じやすい。反射防止膜の作成時にスプラッシュが生じると、製品となる基板に到達し、ピンホール、膜はげ、異物不良などの原因となり、また得られた反射防止膜の耐薬品性や耐熱性などの性能低下の要因となることが考えられる。突沸を抑制しスプラッシュを押さえるため、二酸化チタン粉末及び五酸化ニオブ粉末の混合物に、酸化ジルコニウム及び／又は酸化イットリウムを添加し、焼結した蒸着組成物を用いることが好ましい。酸化ジルコニウム及び／又は酸化イットリウムの量は、二酸化チタン及び五酸化ニオブの合計量１００重量部に対して、３〜４６重量部が好ましい。
【０００９】
本発明における反射防止膜の膜構成は、λ／４−λ／４（λ＝５００ｎｍ）の２層膜、λ／４−λ／４−λ／４又はλ／４−λ／２−λ／４の３層膜などが挙げられ、４層以上の多層膜であってもよい。なお、基板側から数えて第１層の低屈折率層は、従来から知られている２層等価膜、３層等価膜又はコンポジット層を用いることもできる。
【００１０】
本発明の光学部品に用いる基板は合成樹脂からなることが好ましく、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタンなどが挙げられる。
【００１１】
合成樹脂基板の上に反射防止膜を設ける場合には、合成樹脂基板表面に有機ケイ素重合体を含むハードコート層を、ディッピング法、スピンコート法等の塗布法により成膜して、このハードコート層上に反射防止膜を設けることが好ましい。また、合成樹脂基板と反射防止膜との密着性、耐擦傷性等を向上させるため、合成樹脂基板と反射防止膜との間、あるいは合成樹脂基板表面に成膜したハードコート層と反射防止膜との間に下地層を介在させることが好ましい。このような下地層としては、例えばケイ素酸化物等の蒸着膜を使用することができる。
【００１２】
反射防止膜は、例えば以下のようにして形成する。
反射防止膜の低屈折率層には耐擦傷性、耐熱性を向上させるのに有用である二酸化珪素を用いることが好ましく、高屈折率層は、二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）粉末及び五酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5)粉末、必要に応じて酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2)粉末及び／又は酸化イットリウム（Ｙ2 Ｏ3)粉末を混合、加圧プレスし、焼結してペレット状にしたものを用いて、例えば電子ビームにより加熱して蒸発物を基板上に析出させることにより形成させる。焼結体を用いると蒸着時間をより短縮することができるので好ましい。
尚、本発明の蒸着組成物には、上述した効果を損わない範囲でＴａ2 Ｏ5 、Ａｌ2 Ｏ3 などの金属酸化物を添加することもできる。
【００１３】
本発明の蒸着組成物の蒸着方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により、通常の条件により高屈折率層を形成することができる。すなわち、蒸着組成物から混合酸化物の蒸気を発生させ、発生した蒸発物を基板上に析出させる。
本発明の蒸着組成物を高屈折率層に用いれば、合成樹脂基板のように蒸着時の基板加熱温度を６５〜１００℃と低い温度で成膜しなければならない場合でも、耐擦傷性、耐薬品性、耐熱性が良好で、経時的に耐熱性が低下しにくい反射防止膜を得ることができる。
【００１４】
本発明の蒸着組成物は、眼鏡レンズの反射防止膜のほか、カメラ用レンズ、モニター及び自動車の窓ガラスの反射防止膜や、光学フィルターなどにも使用することが可能である。
【００１５】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１〜３及び比較例１（蒸着組成物の製造）
二酸化チタン, 五酸化ニオブ、酸化ジルコニウム及び酸化イットリウムを表１に示す組成比で混合し、加工プレス後に１２５０℃で１時間焼結し蒸着組成物であるペレットを作製した。
これらのペレットを使用し、真空蒸着により基板であるガラス平板上に高屈折率層の単層膜を１／２λ（λ＝５００ｎｍ）の膜厚で形成し、以下に示す試験方法により、（１）蒸着組成物の溶融状態、（２）微細粒子の付着状態、（３）吸収率、（４）屈折率及び（５）成膜速度を調べた。それらの結果を表１に示す。
【００１６】
（１）蒸着組成物の溶融状態
蒸着時の蒸着組成物の溶融状態（スプラッシュの発生程度）を観察し、以下の基準で評価した。
ＵＡ：スプラッシュの発生が無い
Ａ：スプラッシュの発生がすくない
Ｂ：スプラッシュが頻繁に発生する
Ｃ：スプラッシュが常時発生する
（２）微細粒子の付着状態
スプラッシュ等によるガラス平板上の微細粒子の付着状態を観察し、以下の基準で評価した。
ＵＡ：全く認められず
Ａ：１〜５箇所
Ｂ：６〜1 ０箇所
Ｃ：１1 箇所以上
（３）吸収率
１／２λ単層膜を形成した基板の分光透過率及び分光反射率を、分光光度計を使用して測定した。その測定データより視感透過率及び視感反射率を計算して、吸収率を１００％−（視感透過率＋視感反射率）の計算式で算出した。
（４）屈折率
ガラス平板上に形成した１／２λ単層膜の分光反射率を、分光光度計を使用して測定し、最適化プログラムに基板の屈折率、分散データと共に測定データを入力して算出した。
（５）成膜速度
１／２λ単層膜を形成する過程で、電子ビーム出力を以下の条件で照射して、ガラス基板上に形成された膜の厚みを分光光度計の測定結果より算出し、成膜に要した実測時間で割り成膜速度（Å／秒）を求めた。
電子ビーム照射条件
使用電子銃：ＪＥＯＬ製  ＪＳＴ−３Ｃ
加速電圧  ：６ｋＶ
フィラメント電流値：１９０ｍＡ
開始真空度：２．０×１０-5Ｔｏｒｒ
【００１７】
【表１】
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【００１８】
表１に示したように、溶融状態、微細粒子の付着状態、屈折率及び成膜速度は、実施例１〜３の方が比較例１より優れている。また、屈折率及び成膜速度において、実施例２及び実施例３が特に優れている。
【００１９】
実施例４（反射防止膜を有する光学部品の製造）
反射防止膜を設ける合成樹脂として、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート９９．７重量％を主成分とし、紫外線吸収剤として２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン０．０３重量％を含有する、屈折率が１．４９９のプラスチックレンズ（ＣＲ−３９：基板Ａ）を用いた。
このプラスチックレンズを、８０モル％のコロイダルシリカと２０モル％のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを含有するコーティング液に浸漬硬化してハードコート層（屈折率１．５０）を設けた。
このハードコート層を有するプラスチックレンズを６５℃に加熱し、ハードコート層の上に真空蒸着法（真空度２×１０-5Ｔｏｒｒ）により基板側から第１層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．５λ（λ＝５００ｎｍ））を形成した。次に第２層として実施例１で作製したペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．０５０２λ）を形成し、その上に第３層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．０７６４λ）を形成した。その上に第４層として実施例１で作製したペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．４９５２λ）を形成し、その上に第５層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．２３７２λ）を形成して反射防止膜を形成した。さらにこの反射防止膜を形成したプラスチックレンズの裏面にも同様にして反射防止膜を形成し、両面に５層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
【００２０】
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、以下に示す試験方法により、（６）耐擦傷性、（７）密着性、（８）視感反射率、（９）視感透過率、（１０）吸収率、（１１）耐熱性及び（１２）経時的な耐熱性を調べた。それらの結果を表２に示す。
（６）耐擦傷性
♯００００のスチールウールによりプラスチックレンズ表面を往復２０回擦った後の状態を観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：傷がつかない
Ｂ：わずかに傷がつく
Ｃ：多く傷がつく
Ｄ：膜の剥れが生じる
（７）密着性
ＪＩＳ−Ｚ−１５２２に従い反射防止膜を有するプラスチックレンズ上に碁盤目を１０×１０個作り、セロファン粘着テープを用い剥離試験を３回行い、１００個中の残った碁盤目を数えた。
（８）視感反射率
日立製作所製Ｕ３４１０型自記分光光度計を用い、視感反射率を求めた。
（９）視感透過率
日立製作所製Ｕ３４１０型自記分光光度計を用い、視感透過率を求めた。
（１０）吸収率
（８）で求めた視感透過率及び（９）で求めた視感反射率を計算して、吸収率を１００％−（視感透過率＋視感反射率）の計算式で算出した。
（１１）耐熱性
反射防止膜を蒸着直後のプラスチックレンズをオーブンに１時間入れて加熱し、クラックの発生の有無を調べた。加熱温度は５０℃より始め、５℃づつ上げて、クラックが発生する温度を調べた。
（１２）経時的な耐熱性
反射防止膜を蒸着直後のプラスチックレンズを、２ケ月間屋外暴露を行った後、オーブンに１時間入れて加熱し、クラックの発生の有無を調べた。加熱温度は５０℃より始め、５℃づつ上げて、クラックが発生する温度を調べた。
【００２１】
実施例５（反射防止膜を有する光学部品の製造）
実施例４において、第２層及び第４層として実施例１で作製したペレットを蒸着する代わりに、実施例３で作製したペレットを蒸着したこと以外は同様にして両面に５層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、上記（６）〜（１２）の試験を行った。それらの結果を表２に示す。
比較例２（反射防止膜を有する光学部品の製造）
実施例４において、第２層及び第４層として実施例１で作製したペレットを蒸着する代わりに、比較例１で作製したペレットを蒸着したこと以外は同様にして両面に５層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、上記（６）〜（１２）の試験を行った。それらの結果を表２に示す。
【００２２】
実施例６（反射防止膜を有する光学部品の製造）
ガラス製容器に、有機ケイ素化合物のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１４２重量部を加え、撹拌しながら、０．０１Ｎ塩酸１．４重量部、水３２重量部を滴下した。滴下終了後、２４時間撹拌を行いγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解溶液を得た。この溶液に、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル（メタノール分散、全金属酸化物３１．５重量％、平均粒子径１０〜１５ミリミクロン）４６０重量部、エチルセロソルブ３００重量部、滑剤としてシリコーン系界面活性剤０．７重量部、硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート８重量部を加え、充分に撹拌した後、濾過を行ってコーティング液を得た。
アルカリ水溶液で前処理したプラスチックレンズ基板［ＨＯＹＡ（株）製、眼鏡用プラスチックレンズ（商品名：ＥＹＡＳ）、屈折率１．６０］を、前記コーティング液の中に浸漬させ、浸漬終了後、引き上げ速度２０ｃｍ／分で引き上げたプラスチックレンズを１２０℃で２時間加熱してハ−ドコ−ト層を形成した。
【００２３】
このハードコート層を有するプラスチックレンズを８０℃に加熱し、ハードコート層の上に真空蒸着法（真空度２×１０-5Ｔｏｒｒ）により基板側から第１層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．４７λ（λ＝５００ｎｍ））を形成した。次に第２層に実施例１で作製したペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．０６２９λ）を形成し、その上に第３層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．０５２８λ）を形成した。その上に第４層として実施例１で作製したペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．４４３２λ）を形成し、その上に第５層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．２３７０λ）を形成して反射防止膜を形成した。さらにこの反射防止膜を形成したプラスチックレンズの裏面にも同様にして反射防止膜を形成し、両面に５層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、上記（６）〜（１２）の試験を行った。それらの結果を表３に示す。
【００２４】
実施例７（反射防止膜を有する光学部品の製造）
実施例６において、第２層及び第４層として実施例１で作製したペレットを蒸着する代わりに、実施例３で作製したペレットを蒸着したこと以外は同様にして両面に５層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、上記（６）〜（１２）の試験を行った。それらの結果を表３に示す。
比較例３（反射防止膜を有する光学部品の製造）
実施例６において、第２層及び第４層として実施例１で作製したペレットを蒸着する代わりに、比較例１で作製したペレットを蒸着したこと以外は同様にして両面に５層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、上記（６）〜（１２）の試験を行った。それらの結果を表３に示す。
【００２５】
実施例８（反射防止膜を有する光学部品の製造）
ガラス製容器に、有機ケイ素化合物のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１００重量部を加え、撹拌しながら、０．０１規定塩酸１．４重量部、水２３重量部を滴下した。その後、２４時間撹拌を行いγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解溶液を得た。次に、微粒子状無機物として酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化ケイ素を主体とする複合体微粒子ゾル（メタノール分散、全固形分２０重量％、平均粒子径５〜１５ミリミクロン、核微粒子の原子比Ｔｉ／Ｓｉ＝１０、被覆部分の核部分に対する重量比０．２５）２００重量部を、エチルセロソルブ１００重量部、滑剤としてシリコーン系界面活性剤０．５重量部、硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート３．０重量部と混合した後、前記γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解溶液を加えて充分に撹拌した後で濾過を行ってコーティング液を得た。
アルカリ水溶液で前処理したプラスチックレンズ基材［ＨＯＹＡ（株）製、眼鏡用プラスチックレンズ（商品名：テスラリッド）、屈折率１．７１］を、前記コーティング液の中に浸漬させ、浸漬終了後、引き上げ速度２０ｃｍ／分で引き上げたプラスチックレンズを１２０℃で２時間加熱してハードコート膜を形成した。
【００２６】
このハードコート層を有するプラスチックレンズを８０℃に加熱し、ハードコート層の上に真空蒸着法（真空度２×１０-5Ｔｏｒｒ）により基板側から第１層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．０６９λ（λ＝５００ｎｍ））を形成した。次に第２層に実施例１で作製したペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．０３５９λ）を形成し、その上に第３層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．４９８７λ）を形成した。その上に第４層として実施例１で作製したペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．０５２９λ）を形成し、その上に第５層として、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．０５５３λ）を形成し、その上に第６層として実施例１で作製したペレットを電子銃出力電流１８０〜１９０ｍＡにて加熱、蒸着して高屈折率層（膜厚０．４５６０λ）を形成し、その上に第７層としてＳｉＯ2 からなる低屈折率層（屈折率１．４６、膜厚０．２４２２λ）を形成した。さらにこの反射防止膜を形成したプラスチックレンズの裏面にも同様にして反射防止膜を形成し、両面に７層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、上記（６）〜（１２）の試験を行った。それらの結果を表４に示す。
【００２７】
実施例９（反射防止膜を有する光学部品の製造）
実施例８において、第２層、第４層及び第６層として実施例１で作製したペレットを蒸着する代わりに、実施例３で作製したペレットを蒸着したこと以外は同様にして両面に７層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、上記（６）〜（１２）の試験を行った。それらの結果を表４に示す。
【００２８】
比較例４（反射防止膜を有する光学部品の製造）
実施例８において、第２層、第４層及び第６層として実施例１で作製したペレットを蒸着する代わりに、比較例１で作製したペレットを蒸着したこと以外は同様にして両面に７層構成よりなる反射防止膜を有するプラスチックレンズを得た。
得られた反射防止膜を有するプラスチックレンズについて、上記（６）〜（１２）の試験を行った。それらの結果を表４に示す。
【００２９】
【表２】
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【００３０】
【表３】
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【００３１】
【表４】
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【００３２】
表２〜４に示したように、実施例１又は３のペレットを使用した実施例４〜９の反射防止膜を有するプラスチックレンズは、比較例１のペレットを使用した比較例２〜４の反射防止膜を有するプラスチックレンズに比べて、耐擦傷性及び耐熱性に優れ、経時的な耐熱性の低下も少ない。また、実施例３のペレットを使用した実施例５、７及び９の反射防止膜を有するプラスチックレンズより、五酸化ニオブの組成比率を増加すると、反射率が低く、吸収の少ない反射防止膜を有するプラスチックレンズが得られる。
【００３３】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明の製造方法により得られた蒸着組成物を使用すれば、合成樹脂のように低温で蒸着しなければならない材料を基板としても、イオン銃装置やプラズマ装置などを用いずに、かつ短い時間で高屈折率層を形成することができ、高屈折率層が本来有する物性を損なうことなく、耐擦傷性、耐薬品性及び耐熱性が良好で、かつ経時的な耐熱性の低下が小さい反射防止膜を得ることができる。
また、本発明の製造方法により得られた反射防止膜を有する光学部品は、耐擦傷性、耐薬品性及び耐熱性が良好で、かつ経時的な耐熱性の低下が小さく、二酸化チタンの紫外線吸収効果を維持した反射防止膜を有し、眼鏡用のプラスチックレンズとして適している。