(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を処理する処理室と、上記処理室内において上記被処理体を移動する移動手段と、上記移動手段を駆動する駆動手段とを具備する処理装置において、
上記駆動手段を、区画壁にて上記処理室と区画された空間内に配設し、
上記区画壁に設けたガイド穴内に、上記移動手段と駆動手段とを連結する連結部材を移動可能に形成し、
上記区画壁のガイド穴近傍に、上記連結部材側に開口する吸引孔を穿設する吸引筒体を配設し、
上記吸引筒体は、連結部材の移動方向に沿って適宜間隔をおいて複数の吸引孔を穿設すると共に、吸引筒体内に、この吸引筒体に穿設される複数の吸引孔の配列方向の一端から他端近傍位置まで仕切壁を設けて、迂回通路を形成し、この迂回通路の端部に排気手段を接続してなる、ことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
被処理体を処理する処理室と、上記処理室内において上記被処理体を移動する移動手段と、上記移動手段を駆動する駆動手段とを具備する処理装置において、
上記駆動手段を、区画壁にて上記処理室と区画された空間内に配設し、
上記区画壁に設けたガイド穴内に、上記移動手段と駆動手段とを連結する連結部材を移動可能に形成し、
上記区画壁のガイド穴近傍に、上記連結部材側に開口する吸引孔を穿設する吸引筒体を配設し、
上記吸引筒体は、連結部材の移動方向に沿って適宜間隔をおいて複数の吸引孔を穿設すると共に、吸引筒体の一端部に排気手段を接続し、
上記吸引筒体に穿設された吸引孔を、上記排気手段の接続側から他方に向かって漸次大径になるように形成してなる、ことを特徴とする処理装置。
【請求項３】
被処理体を処理する処理室と、上記処理室に設けられた開口を開閉する開閉手段と、上記開閉手段を駆動する開閉駆動手段とを具備する処理装置において、
上記開閉駆動手段と開閉手段とを連結する連結部材を移動可能に形成し、
上記開閉駆動手段と連結部材との連結部近傍に、連結部材側に開口する吸引孔を穿設した吸引筒体を配設すると共に、この吸引筒体を排気手段に接続してなる、ことを特徴とする処理装置。
【請求項４】
被処理体を処理する処理室と、上記処理室に設けられた開口を開閉する開閉手段と、上記開閉手段を駆動する開閉駆動手段とを具備する処理装置において、
上記開閉駆動手段を、筒状筐体内に収容し、
上記筒状筐体に設けたガイド穴内に、上記開閉手段と開閉駆動手段とを連結する連結部材を移動可能に形成し、
上記筒状筐体のガイド穴近傍に、上記連結部材側に開口する吸引孔を穿設する吸引筒体を配設すると共に、この吸引筒体を排気手段に接続してなる、ことを特徴とする処理装置。
【請求項５】
請求項３又は４記載の処理装置において、
上記吸引筒体は、連結部材の移動方向に沿って適宜間隔をおいて複数の吸引孔を穿設すると共に、吸引筒体の一端部に排気手段を接続してなる、ことを特徴とする処理装置。
【請求項６】
請求項５記載の処理装置において、
上記吸引筒体内に、この吸引筒体に穿設される複数の吸引孔の配列方向の一端から他端近傍位置まで仕切壁を設けて、迂回通路を形成し、この迂回通路の端部に排気手段を接続してなる、ことを特徴とする処理装置。
【請求項７】
請求項１又は６記載の処理装置において、
上記吸引筒体に穿設された吸引孔を、排気手段の接続側から他方に向かって漸次大径になるように形成した、ことを特徴とする処理装置。
【請求項８】
請求項４記載の処理装置において、
上記筒状筐体を断面略矩形状に形成すると共に、この筒状筐体における開閉手段側の反対側面にガイド穴を形成し、連結部材を、一端に上記筒状筐体内に挿入されて開閉駆動手段に連結される連結片を有し、他端に上記開閉手段の取付片を有する断面略クランク状に形成してなる、ことを特徴とする処理装置。
【請求項９】
請求項４又は８記載に処理装置において、
上記筒状筐体内に、清浄気体供給手段を配設してなる、ことを特徴とする処理装置。
【請求項１０】
請求項９記載の処理装置において、
上記清浄気体供給手段を、筒状筐体内に配設されてガイド穴近傍に向けて吐出孔を有する清浄気体供給筒体と、この清浄気体供給筒体に接続する清浄気体供給源とで形成してなる、ことを特徴とする処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は処理装置に関するもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやＬＣＤガラス基板等の被処理体を例えば洗浄処理室内にて処理する処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体製造工程においては、被処理体である半導体ウエハやＬＣＤガラス基板等を、薬品やリンス液（洗浄液）等の処理液が貯留された処理槽や乾燥部に順次搬送して洗浄や乾燥等の処理を行う処理装置が広く採用されている。
【０００３】
上記処理装置において、被処理体であるウエハを効率よく処理するには、複数枚例えば５０枚のウエハを搬送手段にて所定の処理室に搬送し、各処理室内において、複数枚のウエハを一括して移動手段例えばウエハボートに受け渡した後、ウエハボートによって処理槽内にウエハを移動して、ウエハを処理液｛例えば、アンモニア過水（ＮＨ4ＯＨ＋Ｈ2Ｏ2＋Ｈ2Ｏ），塩酸過水（ＨＣｌ＋Ｈ2Ｏ2＋Ｈ2Ｏ）あるいは希フッ酸（ＨＦ＋Ｈ2Ｏ）｝や純水等を用いて、ウエハ表面に付着したパーティクル，金属汚染物，有機汚染物あるいは酸化膜の除去等の処理を行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記処理装置においては、被処理体であるウエハを処理する処理室は薬液雰囲気下にあり、この薬液雰囲気がウエハの搬送手段や移動手段あるいは処理室の開口を開閉する開閉手段例えばシャッタの開閉移動手段等の駆動系に侵入すると、駆動部が腐食してしまい、ウエハの搬送や移動に支障をきたすばかりか、装置の寿命を低下させるという問題があった。
【０００５】
また逆に、搬送手段や移動手段等の駆動部で発生するパーティクルが処理室側に侵入すると、ウエハにパーティクル等が付着して製品歩留まりの低下をきたすという問題があった。
【０００６】
この発明は上記事情に鑑みなされたもので、処理室内の雰囲気が駆動手段の駆動系に侵入するのを防止すると共に、駆動系で発生するパーティクルが処理室内に侵入するのを防止するようにした処理装置を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明の第１の処理装置は、被処理体を処理する処理室と、上記処理室内において上記被処理体を移動する移動手段と、上記移動手段を駆動する駆動手段とを具備する処理装置において、  上記駆動手段を、区画壁にて上記処理室と区画された空間内に配設し、  上記区画壁に設けたガイド穴内に、上記移動手段と駆動手段とを連結する連結部材を移動可能に形成し、  上記区画壁のガイド穴近傍に、上記連結部材側に開口する吸引孔を穿設する吸引筒体を配設し、  上記吸引筒体は、連結部材の移動方向に沿って適宜間隔をおいて複数の吸引孔を穿設すると共に、吸引筒体内に、この吸引筒体に穿設される複数の吸引孔の配列方向の一端から他端近傍位置まで仕切壁を設けて、迂回通路を形成し、この迂回通路の端部に排気手段を接続してなる、ことを特徴とする（請求項１）。
【０００８】
このように構成することにより、処理室内の雰囲気が駆動手段側へ侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。また、駆動手段から発生するパーティクルが処理室側に侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。また、処理室内の例えば薬液雰囲気濃度の高い部分に、吸引筒体の排気手段への接続側を位置させることで、薬液雰囲気の駆動系への侵入を更に確実に防止することができる。また、迂回通路を設けることにより、排気手段を吸引筒体の上部側に位置させることができるので、排気手段の配設場所の自由度を増すことができる。
また、この発明の第２の処理装置は、被処理体を処理する処理室と、上記処理室内において上記被処理体を移動する移動手段と、上記移動手段を駆動する駆動手段とを具備する処理装置において、  上記駆動手段を、区画壁にて上記処理室と区画された空間内に配設し、  上記区画壁に設けたガイド穴内に、上記移動手段と駆動手段とを連結する連結部材を移動可能に形成し、  上記区画壁のガイド穴近傍に、上記連結部材側に開口する吸引孔を穿設する吸引筒体を配設し、  上記吸引筒体は、連結部材の移動方向に沿って適宜間隔をおいて複数の吸引孔を穿設すると共に、吸引筒体の一端部に排気手段を接続し、  上記吸引筒体に穿設された吸引孔を、上記排気手段の接続側から他方に向かって漸次大径になるように形成してなる、ことを特徴とする（請求項２）。
このように構成することにより、処理室内の雰囲気が駆動手段側へ侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。また、駆動手段から発生するパーティクルが処理室側に侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。また、処理室内の例えば薬液雰囲気濃度の高い部分に、吸引筒体の排気手段への接続側を位置させることで、薬液雰囲気の駆動系への侵入を更に確実に防止することができる。また、吸引筒体に穿設された吸引孔を、排気手段の接続側から他方に向かって漸次大径になるように形成することで、処理室の雰囲気を均一に排気することができる。
【０００９】
また、この発明の第３の処理装置は、被処理体を処理する処理室と、上記処理室に設けられた開口を開閉する開閉手段と、上記開閉手段を駆動する開閉駆動手段とを具備する処理装置において、  上記開閉駆動手段と開閉手段とを連結する連結部材を移動可能に形成し、  上記開閉駆動手段と連結部材との連結部近傍に、連結部材側に開口する吸引孔を穿設した吸引筒体を配設すると共に、この吸引筒体を排気手段に接続してなる、ことを特徴とする（請求項３）。
【００１０】
このように構成することにより、開閉駆動手段及び連結部材の移動に伴って発生するパーティクルが処理室側に侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。また、処理室内の雰囲気が開閉駆動手段側へ侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。
【００１１】
また、この発明の第４の処理装置は、被処理体を処理する処理室と、上記処理室に設けられた開口を開閉する開閉手段と、上記開閉手段を駆動する開閉駆動手段とを具備する処理装置において、  上記開閉駆動手段を、筒状筐体内に収容し、  上記筒状筐体に設けたガイド穴内に、上記開閉手段と開閉駆動手段とを連結する連結部材を移動可能に形成し、  上記筒状筐体のガイド穴近傍に、上記連結部材側に開口する吸引孔を穿設する吸引筒体を配設すると共に、この吸引筒体を排気手段に接続してなる、ことを特徴とする（請求項４）。
【００１２】
このように構成することにより、上記請求項３記載の発明と同様に、開閉駆動手段及び連結部材の移動に伴って発生するパーティクルが処理室側に侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。また、処理室内の雰囲気が開閉駆動手段側へ侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。
【００１３】
上記請求項３又は４記載の処理装置において、上記吸引筒体は、連結部材の移動方向に沿って適宜間隔をおいて複数の吸引孔を穿設すると共に、吸引筒体の一端部に排気手段を接続する方が好ましい（請求項５）。この場合、上記吸引筒体内に、この吸引筒体に穿設される複数の吸引孔の配列方向の一端から他端近傍位置まで仕切壁を設けて、迂回通路を形成し、この迂回通路の端部に排気手段を接続することも可能である（請求項６）。
【００１４】
このように構成することにより、処理室内の例えば薬液雰囲気濃度の高い部分に、吸引筒体の排気手段への接続側を位置させることで、薬液雰囲気の駆動系への侵入を更に確実に防止することができる。また、迂回通路を設けることにより、排気手段を吸引筒体の上部側に位置させることができるので、排気手段の配設場所の自由度を増すことができる（請求項６）。
【００１５】
また、上記請求項１又は６記載の処理装置において、上記吸引筒体に穿設された吸引孔を、排気手段の接続側から他方に向かって漸次大径になるように形成することで、処理室の雰囲気を均一に排気することができる点で好ましい（請求項７）。
【００１６】
また、上記請求項４記載の処理装置において、上記筒状筐体を断面略矩形状に形成すると共に、この筒状筐体における開閉手段側の反対側面にガイド穴を形成し、連結部材を、一端に上記筒状筐体内に挿入されて開閉駆動手段に連結される連結片を有し、他端に上記開閉手段の取付片を有する断面略クランク状に形成する方が好ましい（請求項８）。
【００１７】
このように構成することにより、開閉駆動手段から発生するパーティクルが処理室側に流出しにくくすることができ、パーティクルの処理室側への侵入を更に確実に防止することができる。
【００１８】
また、上記請求項４又は８記載に処理装置において、上記筒状筐体内に、清浄気体供給手段を配設する方が好ましい（請求項９）。この場合、上記清浄気体供給手段を、筒状筐体内に配設されてガイド穴近傍に向けて吐出孔を有する清浄気体供給筒体と、この清浄気体供給筒体に接続する清浄気体供給源とで形成することができる（請求項１０）。ここで、清浄気体として、例えば窒素（Ｎ２）ガス等の不活性ガスや清浄空気等を使用することができる。
【００１９】
このように構成することにより、開閉駆動手段を収納する筒状筐体内を清浄気体雰囲気下におくことができ、開閉駆動手段側に処理室内の雰囲気が侵入するのを更に確実に防止することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基いて詳細に説明する。この実施形態では、この発明の処理装置を半導体ウエハの洗浄・乾燥処理システムに適用した場合について説明する。
【００２１】
図１はこの発明の処理装置を適用した洗浄・乾燥処理システムの一例を示す概略平面図である。
【００２２】
上記洗浄・乾燥処理システムは、被処理用の基板である半導体ウエハＷ（以下にウエハという）を水平状態に収納する容器例えばキャリア１を搬入、搬出するための搬入・搬出部２と、ウエハＷを薬液、洗浄液等の液処理すると共に乾燥処理する処理部３と、搬入・搬出部２と処理部３との間に位置してウエハＷの受渡し、位置調整、姿勢変換及び間隔調整等を行うウエハの受渡し部例えばインターフェース部４とで主に構成されている。
【００２３】
上記搬入・搬出部２は、洗浄・乾燥処理システムの一側端部にはキャリア搬入部５ａとキャリア搬出部５ｂが併設されると共に、ウエハ搬出入部６が設けられている。この場合、キャリア搬入部５ａとウエハ搬出入部６との間には図示しない搬送機構が配設されており、この搬送機構によってキャリア１がキャリア搬入部５ａからウエハ搬出入部６へ搬送されるように構成されている。
【００２４】
また、キャリア搬出部５ｂとウエハ搬出入部６には、それぞれキャリアリフタ（図示せず）が配設され、このキャリアリフタによって空のキャリア１を搬入・搬出部２上方に設けられたキャリア待機部（図示せず）への受け渡し及びキャリア待機部からの受け取りを行うことができるように構成されている。
【００２５】
上記ウエハ搬出入部６は、上記インターフェース部４に開口しており、その開口部には蓋開閉装置７が配設されている。この蓋開閉装置７によってキャリア１の蓋体（図示せず）が開放あるいは閉塞されるようになっている。したがって、ウエハ搬出入部６に搬送された未処理のウエハＷを収納するキャリア１の蓋体を蓋開閉装置７によって取り外してキャリア１内のウエハＷを搬出可能にし、全てのウエハＷが搬出された後、再び蓋開閉装置７によって蓋体を閉塞することができる。また、キャリア待機部からウエハ搬出入部６に搬送された空のキャリア１の蓋体を蓋開閉装置７によって取り外してキャリア１内にウエハＷを搬入可能にし、全てのウエハＷが搬入された後、再び蓋開閉装置７によって蓋体を閉塞することができる。なお、ウエハ搬出入部６の開口部近傍には、キャリア１内に収納されたウエハＷの枚数を検出するマッピングセンサ９が配設されている。
【００２６】
上記インターフェース部４には、複数枚例えば２５枚のウエハＷを水平状態に保持すると共に、ウエハ搬出入部６のキャリア１との間で、水平状態でウエハＷを受け渡すウエハ搬送アーム８と、複数枚例えば５２枚のウエハＷを所定間隔をおいて垂直状態に保持する間隔調整手段例えばピッチチェンジャ（図示せず）と、ウエハ搬送アーム８とピッチチェンジャとの間に位置して、複数枚例えば２６枚のウエハＷを水平状態と垂直状態とに変換する姿勢変換装置１０と、垂直状態に姿勢変換されたウエハＷに設けられたノッチ（図示せず）を検出する位置検出手段例えばノッチアライナ１１が配設されている。また、インターフェース部４には、処理部３と連なる搬送路２１が設けられており、この搬送路２１に搬送手段例えばウエハ搬送チャック２０が移動自在に配設されている。
【００２７】
この場合、上記ウエハ搬送アーム８は、ウエハ搬出入部６のキャリア１から複数枚のウエハＷを取り出して搬送すると共に、キャリア１内に複数枚のウエハＷを収納する２つの保持部例えばアーム体８ａ，８ｂを併設してなる。これらアーム体８ａ，８ｂは、水平方向（Ｘ，Ｙ方向），垂直方向（Ｚ方向）及び回転方向（θ方向）に移動可能に形成されると共に、ウエハ搬出入部６に載置されたキャリア１と姿勢変換装置１０との間でウエハＷの受渡しを行うように構成されている。したがって、一方のアーム体８ａによって未処理のウエハＷを保持し、他方のアーム体８ｂによって処理済みのウエハＷを保持することができる。
【００２８】
一方、上記処理部３には、ウエハＷに付着するパーティクルや有機物汚染を除去する第１の処理ユニット３１と、ウエハＷに付着する金属汚染を除去する第２の処理ユニット３２と、ウエハＷに付着する化学酸化膜を除去すると共に乾燥処理する洗浄・乾燥処理ユニット３３及びチャック洗浄ユニット３４が直線状に配列されており、これら各ユニット３１〜３４と対向する位置に設けられた搬送路２１に、Ｘ，Ｙ方向（水平方向）、Ｚ方向（垂直方向）及びθ方向（回転方向）に移動可能なウエハ搬送チャック２０が配設されている。なお、チャック洗浄ユニット３４は、必ずしも洗浄・乾燥処理ユニット３３とインターフェース部４との間に配設する必要はなく、例えば第２の処理ユニット３２と洗浄・乾燥処理ユニット３３との間に配設してもよく、あるいは第１の処理ユニット３１に隣接して配設してもよい。
【００２９】
また、上記第１ないし第３の処理ユニット３１〜３３には、所定の薬液、純水等の処理液を貯留する処理槽３５と、処理槽３５内にウエハＷを移動（搬入・搬出）する移動手段例えばウエハボート４０が配設されている。また、第１及び第２の処理ユニット３１，３２内に配設される処理槽３５における薬液を貯留する処理槽３５と純水を貯留する処理槽３５との間には、処理槽３５を収容する処理室３６に設けられた開口を開閉する開閉手段例えばシャッタ６０が配設されている。
【００３０】
上記のように構成される処理装置において、処理室３６内の薬液雰囲気がウエハボート４０の駆動部やシャッタ６０の駆動部へ侵入すると、ウエハボート４０の駆動部やシャッタ６０の駆動部が腐食してウエハＷの移動や処理等に支障をきたす恐れがある。また、ウエハボート４０の駆動部やシャッタ６０の駆動部に発生したパーティクルが処理室３６内に侵入すると、ウエハＷに付着してウエハＷの処理に支障をきたすと共に、製品歩留まりの低下を招く恐れがある。斯かる問題を解決するために、この発明は、以下のようにして、処理室３６内の雰囲気の駆動部側への侵入防止と、駆動部で発生するパーティクルの処理室３６側への侵入を防止している。
【００３１】
◎第一実施形態
図２は、この発明の処理装置の第一実施形態におけるウエハボート及び駆動手段の要部を示す断面図、図３は、ウエハボート及び駆動手段の側断面図である。
【００３２】
上記ウエハボート４０は、複数枚例えば５２枚のウエハＷの下端部を保持する１本の下部保持部材４０ａと、ウエハＷの側部両側を保持する一対の側部保持部材４０ｂとを支持部材４１にて片持ち状に支持した構造となっている。このように構成されるウエハボート４０は、連結部材４２を介して駆動手段５０に連結されており、駆動手段５０の駆動によって昇降（Ｚ方向に移動）し得るように構成されている。したがって、上記ウエハ搬送チャック２０により搬送された複数枚例えば５２枚のウエハＷを、ウエハボート４０が受け取った後、駆動手段５０の駆動によりウエハボート４０が下降して、ウエハＷを処理槽３５内に貯留された処理液に浸漬して洗浄処理を行うことができる。また、処理後、ウエハボート４０が上昇して処理槽３５からウエハＷを取り出し、再びウエハ搬送チャック２０に受け渡して以後の処理が行われる。
【００３３】
上記駆動手段５０は、図２及び図３に示すように、駆動源であるステッピングモータ５１からの動力をタイミングベルト５２を介して回転されるネジ軸５３と、このネジ軸５３に摺動可能にネジ結合する可動子５４とからなるボールネジ機構にて形成されている。このように構成される駆動手段すなわちボールネジ機構５０の可動子５４に上記連結部材４２が連結されている。また、ボールネジ機構５０は、区画壁３７によって処理室３６と区画された空間３９内に配設されている。この場合、区画壁３７には、連結部材４２を移動（昇降）可能に案内するガイド穴３８が設けられている。そして、区画壁３７におけるガイド穴３８の両側近傍には、連結部材４２側に開口する複数の吸引孔７１を適宜間隔をおいて穿設する一対の吸引筒体７０が配設されている。この吸引筒体７０の上下端の開口部には、それぞれ上部キャップ７０ａ及び下部キャップ７０ｂが閉塞されており、この吸引筒体７０の下端部に、バルブ８１を介して排気手段例えば吸引ポンプ８０が接続されている（図３及び図４（ａ）参照）。
【００３４】
したがって、吸引ポンプ８０の駆動によって、処理室３６内の例えば薬液の雰囲気がガイド穴３８を介してボールネジ機構５０側に侵入するのを吸引により防止することができると共に、ボールネジ機構５０の駆動により発生するパーティクルがガイド穴３８を介して処理室３６内に侵入するのを吸引により防止することができる。
【００３５】
また、ボールネジ機構５０は、連結部材４２側が開口する筐体５５内に収容されており、筐体５５の開口部５５ａに、連結部材４２の移動用開口５６を有するカバー５７を被着することで、ボールネジ機構５０に発生するパーティクルの外部すなわち空間３９内への飛散を防止している。更に、連結部材４２の可動子５４との連結部にはネジ軸５３を包囲する二又部４３が形成されており、この二又部４３の内方側におけるネジ軸５３と上記移動用開口５６との間に、遮蔽板５８が配設されて、外部から移動用開口５６を介してネジ軸５３が見えるのを目隠しして美観の向上を図っている。なお、二又部４３の両外側と筐体５５との間にも遮蔽板５８ａ，５８ｂを配設することにより、更に、ボールネジ機構５０から発生するパーティクルの外部（空間３９内）への飛散を防止することができる。
【００３６】
なお、上記説明では、吸引筒体７０に穿設される吸引孔７１の孔径が同じ場合について説明したが、吸引孔７１の孔径を下端の吸引ポンプ８０接続側から他方に向かって漸次大径になるようにしてもよい。つまり、図４（ｂ）に示すように、吸引ポンプ８０の接続側に最も近い吸引孔を７１｛１｝とし、この吸引孔７１｛１｝に隣接する吸引孔を７１｛２｝とし、順次吸引ポンプ８０の接続側から離れる吸引孔を７１｛３｝，７１｛４｝…７１{n-1}，７１{n}とした場合、７１｛１｝＜７１｛２｝＜７１｛３｝＜７１｛４｝…７１{n-1}＜７１{n}となるように吸引孔の孔径を変えるようにしてもよい。このように形成することにより、吸引ポンプ８０から遠い吸引孔の吸引力を高めて、吸引孔の全体の吸引力を均一にすることができ、処理室３６内の雰囲気及びボールネジ機構５０に発生するパーティクルの吸引排気を効率よく行うことができる。
【００３７】
また、上記説明では、吸引筒体７０の下端側に吸引ポンプ８０を接続する場合について説明したが、下方側に吸引ポンプ８０やバルブ８１等の配置スペースが十分取れない場合には、吸引筒体７０の上部側に吸引ポンプ８０やバルブ８１等を配設しなければならない。この場合、図５に示すように、吸引筒体７０内に、この吸引筒体７０の長手方向の一端すなわち上端から他端すなわち下端近傍位置まで仕切壁７２を設けて、迂回通路７３を形成し、この迂回通路７３の端部すなわち吸引筒体７０の上部キャップ７０ａに、バルブ８１を介して吸引ポンプ８０を接続すればよい。このように構成することにより、吸引筒体７０の下部側に十分なスペースがない場合の吸引ポンプ８０やバルブ８１等の排気系の配管を容易にすることができる。また、迂回通路７３を上方から下方を経由して再び上方に形成することにより、処理室３６内に収容された処理槽３５に近い下部側の吸引を強力にして薬液雰囲気の排気を積極的に行うことができる。
【００３８】
なお、上記説明では、駆動手段がボールネジ機構にて形成される場合について説明したが、駆動手段は必ずしもボールネジ機構である必要はなく、例えばシリンダにて形成してもよい。
【００３９】
◎第二実施形態
図６は、この発明の第二実施形態におけるシャッタを示す概略側面図、図７は、シャッタの駆動部を示す概略断面図、図８は、シャッタの駆動部の拡大断面図である。
【００４０】
上記シャッタ６０は、処理室３６の側壁に設けられた矩形状の開口３６ａを開閉すべく矩形状に形成されており、側方に配設された開閉駆動手段例えばロッドレスシリンダ９０（以下にシリンダ９０という）の摺動子９１に連結部材４２Ａを介して連結されている。
【００４１】
上記シリンダ９０は、垂直方向（Ｚ方向）に配設される筒状筐体９２内に収容されており、この筒状筐体９２の長手方向に沿ってに設けられたガイド穴３８Ａ内を連結部材４２Ａが移動可能に形成されている。この場合、筒状筐体９２は、図８に示すように、断面略矩形状に形成されると共に、シャッタ６０側の反対側の側面にガイド穴３８Ａを形成してなる。また、連結部材４２Ａは、一端に上記筒状筐体９２内に挿入されて、ピース状の連結ブロック４６を介してシリンダ９０の摺動子９１に連結される連結片４４を有し、他端にシャッタ６０の取付片４５を有する断面略クランク状に形成されている。
【００４２】
このように構成することにより、シリンダ９０から発生するパーティクルが処理室３６側に流出しにくくすることができるので、パーティクルの処理室３６側への侵入を確実に防止することができる。
【００４３】
また、筒状筐体９２のガイド穴３８Ａの外側近傍には、連結部材４２Ａ側に開口する複数の吸引孔７１Ａを適宜間隔をおいて穿設する吸引筒体７０Ａが垂直方向（Ｚ方向）に配設されると共に、この吸引筒体７０Ａの下端部にバルブ８１Ａを介して排気手段例えば吸引ポンプ８０Ａが接続されている。この場合、吸引孔７１Ａを、ガイド穴３８Ａのシャッタ側開口の縁部近傍に位置させる方が好ましい。その理由は、シリンダ９０から発生するパーティクルが処理室３６側へ流れる量を可及的に少なくすることができるからである。
【００４４】
上記のように構成することにより、吸引ポンプ８０Ａの駆動によって、シリンダ９０の駆動により発生するパーティクルがガイド穴３８Ａを介して処理室３６側に侵入するのを吸引により防止することができると共に、処理室３６内の例えば薬液の雰囲気がガイド穴３８Ａを介してシリンダ９０側に侵入するのを吸引により防止することができる。
【００４５】
また、筒状筐体９２内には、この筒状筐体９２内を清浄気体例えば窒素（Ｎ２）ガス等の不活性ガスや清浄空気等の気体の雰囲気にする清浄気体供給手段例えばＮ２ガス供給手段９３が配設されている。この場合、Ｎ２ガス供給手段９３は、筒状筐体９２内に配設されて、ガイド穴３８Ａ近傍に向けて吐出孔９４を有する清浄気体供給管例えばＮ２ガス供給管９５と、このＮ２ガス供給管９５に接続する清浄気体供給源例えばＮ２ガス供給タンク９６とで構成されている。なおこの場合、Ｎ２ガス供給タンク９６は、Ｎ２ガス供給管９５の中間部、上端あるいは下端部の１箇所に接続されていてもよく、あるいは、Ｎ２ガス供給管９５内を複数に区画して、各区画部にそれぞれＮ２ガス供給管９５を接続してもよい。
【００４６】
上記のように、Ｎ２ガス供給源からＮ２ガス供給管９５及び吐出孔９４を介して筒状筐体９２内に清浄気体例えばＮ２ガスを噴射して筒状筐体９２内をＮ２ガス雰囲気にすることで、処理室３６内の雰囲気がシリンダ９０側に侵入するのを防止することができる。したがって、吸引筒体７０Ａによる吸引排気と、筒状筐体９２内のＮ２ガスパージとが相俟って処理室３６内の雰囲気がシリンダ９０側に侵入するのを確実に防止することができる。
【００４７】
なお、上記説明では、開閉駆動手段がロッドレスシリンダにて形成される場合について説明したが、ロッドレスシリンダに代えて通常のシリンダを用いてもよく、あるいは、ボールネジ機構を用いてもよい。
【００４８】
また、第二実施形態においても、上記吸引筒体７０Ａに穿設される吸引孔７１を、上記第一実施形態における吸引筒体７０に穿設された吸引孔７１と同様に吸引ポンプ８０Ａの接続側から反対側に向かって漸次孔径を大きくするようにしてもよい。
【００４９】
なお、上記シャッタ６０を配設する際には、処理槽３５の横にシャッタ６０を配設するスペースを確保するため、処理槽３５の固設は図１０のような構成となる。そこで、図１０に示すように、処理槽３５を載置するプレート１００をセットするアジャストブロック１０１を、洗浄・乾燥処理ユニットの手前側から奥行き側に向かって延在させて固定し、メンテナンス用窓１０２からボルト止めすることで、シャッタ６０に干渉せずに処理槽３５を所定位置に設置することができる。この場合、アジャストブロック１０１を断面略逆Ｌ字状にすると共に、このアジャストブロック１０１の水平片１０３に長手方向に延びる長孔１０４を設けることによって、ボルト１０５を長孔１０４を介してプレート１００にネジ止めすることができるので、処理槽３５の奥行き方向の位置調整を容易にすることができる（図１１及び図１２参照）。
【００５０】
また、図１３に示すように、処理室３６の側壁に固定される断面略逆Ｌ字状のピースブロック１０６を用いてプレート１００及び処理槽３５を設置することができる。なお、この場合もピースブロック１０６の水平片１０７に奥行き方向に延びる長孔１０４を設けることにより、処理槽３５の奥行き方向の位置調整を容易にすることができる。
【００５１】
なお、上記実施形態は、この発明の処理装置が半導体ウエハの洗浄・乾燥処理システムに適用される場合について説明したが、ＬＣＤガラス基板の洗浄・乾燥処理システムにも適用することができる。また、洗浄・乾燥処理システム以外の処理装置、例えばレジスト塗布装置や現像装置等にも適用できることは勿論である。
【００５２】
また、上記実施形態では、駆動手段例えばボールネジ機構５０や開閉駆動手段例えばシリンダ９０が、垂直方向（Ｚ方向）に移動する場合について説明したが、これら駆動手段、開閉駆動手段は必ずしも垂直方向のみに移動するものに限定されるものではなく、例えば水平方向あるいは傾斜方向に移動するものにおいてもこの発明の処理装置を適用することができる。
【００５３】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば上記のように構成されるので、以下のような優れた効果が得られる。
【００５４】
（１）請求項１、２記載の発明によれば、処理室内の雰囲気が駆動手段側へ侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができると共に、駆動手段から発生するパーティクルが処理室側に侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。したがって、駆動部の腐食を防止することができると共に、被処理体へのパーティクルの付着を防止することができるので、装置の寿命の増大が図れると共に、製品歩留まりの向上を図ることができる。
また、処理室内の例えば薬液雰囲気濃度の高い部分に、吸引筒体の排気手段への接続側を位置させることで、薬液雰囲気の駆動系への侵入を更に確実に防止することができる。
また、請求項１記載の発明によれば、迂回通路を設けることにより、排気手段を吸引筒体の上部側に位置させることができるので、排気手段の配設場所の自由度を増すことができる。
また、請求項２記載の発明によれば、吸引筒体に穿設された吸引孔を、排気手段の接続側から他方に向かって漸次大径になるように形成することで、処理室の雰囲気を均一に排気することができる。
【００５５】
（２）請求項３、４記載の発明によれば、開閉駆動手段及び連結部材の移動に伴って発生するパーティクルが処理室側に侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができると共に、処理室内の雰囲気が開閉駆動手段側へ侵入するのを吸引孔及び吸引筒体を介して排気することができる。したがって、開閉駆動部の腐食を防止することができると共に、被処理体へのパーティクルの付着を防止することができるので、装置の寿命の増大が図れると共に、製品歩留まりの向上を図ることができる。
【００５６】
（３）請求項５記載の発明によれば、吸引筒体は、連結部材の移動方向に沿って適宜間隔をおいて複数の吸引孔を穿設すると共に、吸引筒体の一端部に排気手段を接続するので、処理室内の例えば薬液雰囲気濃度の高い部分に、吸引筒体の排気手段への接続側を位置させることで、薬液雰囲気の駆動系への侵入を更に確実に防止することができる。この場合、吸引筒体内に、この吸引筒体に穿設される複数の吸引孔の配列方向の一端から他端近傍位置まで仕切壁を設けて、迂回通路を形成し、この迂回通路の端部に排気手段を接続することにより、排気手段の配設場所の自由度を増すことができると共に、上記と同様に薬液雰囲気の駆動系への侵入を更に確実に防止することができる（請求項６）。また、吸引筒体に穿設された吸引孔を、排気手段の接続側から他方に向かって漸次大径になるように形成することにより、処理室の雰囲気を均一に排気することができる（請求項７）。
【００５７】
（４）請求項８記載の発明によれば、筒状筐体を断面略矩形状に形成すると共に、この筒状筐体における開閉手段側の反対側面にガイド穴を形成し、連結部材を、一端に上記筒状筐体内に挿入されて開閉駆動手段に連結される連結片を有し、他端に開閉手段の取付片を有する断面略クランク状に形成することにより、開閉駆動手段から発生するパーティクルが処理室側に流出しにくくすることができるので、パーティクルの処理室側への侵入を更に確実に防止することができる。
【００５８】
（５）請求項９、１０記載の発明によれば、筒状筐体内に、清浄気体供給手段を配設するので、開閉駆動手段を収納する筒状筐体内を清浄気体雰囲気下におくことができ、開閉駆動手段側に処理室内の雰囲気が侵入するのを更に確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の処理装置を適用した半導体ウエハの洗浄・乾燥処理システムの概略平面図である。
【図２】この発明の処理装置の第一実施形態におけるウエハボート及び駆動手段の要部を示す断面図である。
【図３】上記ウエハボート及び駆動手段の側断面図である。
【図４】第一実施形態における吸引筒体を示す断面図（ａ）及び吸引筒体に穿設される吸引孔の変形例を示す概略側面図（ｂ）である。
【図５】上記吸引筒体の変形例を示す断面図である。
【図６】この発明の処理装置の第二実施形態におけるシャッタを示す概略側面図である。
【図７】上記シャッタの駆動部を示す概略断面図である。
【図８】上記シャッタの駆動部の拡大断面図である。
【図９】第二実施形態におけるシャッタの駆動部と吸引筒体を示す断面斜視図である。
【図１０】この発明の処理装置における処理槽の取付状態を示す概略斜視図である。
【図１１】上記処理槽の取付状態を示す側面図である。
【図１２】処理槽の取付に使用されるアジャストブロックを示す断面斜視図である。
【図１３】上記処理槽の別の取付状態を示す分解斜視図である。
【符号の説明】
Ｗ  半導体ウエハ（被処理体）
３６  処理室
３７  区画壁
３８，３８Ａ  ガイド穴
３９  空間
４０  ウエハボート（移動手段）
４２，４２Ａ  連結部材
５０  ボールネジ機構（駆動手段）
５５  筐体
５５ａ  開口
５６  移動用開口
５７  カバー
５８，５８ａ，５８ｂ  遮蔽板
６０  シャッタ（開閉手段）
７０  吸引筒体
７１，７１｛１｝〜７１｛ｎ｝  吸引孔
７２  仕切壁
７３  迂回通路
８０  吸引ポンプ（排気手段）
９０  ロッドレスシリンダ（開閉駆動手段）
９２  筒状筐体
９３  Ｎ２ガス供給手段（清浄気体供給手段）
９６  Ｎ２ガス供給タンク（清浄空気供給源）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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