(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に犠牲層を形成後、該犠牲層上に、保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエータ層を形成し、更に該アクチュエータ層上にスライダ本体部をめっきにて形成し、その後、前記犠牲層を除去することにより、前記基板から分離して得られる、前記保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエータ層から成るアクチュエータ部とスライダ本体部とからなり、且つ前記保護膜層が記憶媒体側に対向する媒体対向面を規定する磁気ヘッドスライダにおいて、
前記ヘッド素子層の一部が、前記媒体対向面から媒体側に突出した少なくとも１つの突起を形成し、前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲部分が、前記媒体対向面より媒体側に突出して、前記突起の一部を形成し、且つ前記浮上面層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲部分が、前記媒体対向面の側に突出することにより、前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲部分が、前記媒体対向面より媒体側に突出していることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面より媒体側に突出した、複数個の突起を形成することを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面より媒体側に突出した少なくとも１つの前記突起（第１の突起）を有すると共に、ヘッド素子層を含まない、前記媒体対向面より媒体側に突出する、１個又は複数個の第２の突起を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
前記突起はダイアモンド・ライク・カーボン（ＤＬＣ）により構成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面側に突出する少なくとも１本のレール部の一部を形成していることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
前記ヘッド素子層が複数あって、前記媒体対向面側に突出する複数個のレール部の一部を形成していることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
前記ヘッド素子層を含む前記レール部（第１のレール部）を具備すると共に、前記ヘッド素子層を含まない１本又は複数本の第２のレール部を有することを特徴とする請求項５又は６に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】
前記突起はダイアモンド・ライク・カーボン（ＤＬＣ）により構成されていることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】
前記ヘッド素子層が、媒体対向面に露出しないように膜で覆われていることを特徴とする請求項１〜８に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１０】
基板上に犠牲層を形成後、該犠牲層上に、保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエータ層を形成し、更に該アクチュエータ層上にスライダ本体部をめっきにて形成し、その後、前記犠牲層を除去することにより、前記基板から分離して得られる、前記保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層、アクチュエータ層及びスライダ本体部からなり、且つ前記保護膜層が記憶媒体側に対向する媒体対向面を規定する磁気ヘッドスライダの製造方法において、
前記基板又は犠牲層に窪みを設けておき、該窪みを含む基板又は犠牲層の上に磁気ヘッドスライダを形成する際、前記窪み部分にて、前記ヘッド素子層の一部が、前記媒体対向面から媒体側に突出する少なくとも１つの突起を形成することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項１１】
前記窪みは、化学的エッチングにより形成されることを特徴とする請求項１０に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
【請求項１２】
前記窪みは、イオンミリングにより形成されることを特徴とする請求項１０に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドスライダ及びそれの製造方法に関する。
近年、磁気ディスク装置の小型化、高性能化、低価格化に伴い、高性能かつ低価格の薄膜磁気ヘッドの開発が望まれている。この要求を満たす方式として、薄膜パターン成膜面を、浮上面と平行としたホリゾンタルヘッド（プレーナヘッド）が提案されている。その理由は、ホリゾンタルヘッドは、特定の形状を有する浮上レールの形成が容易であるために安定して低浮上のヘッドを実現しやすいこと、機械加工部を減らしやすいために低価格を実現しやすいこと等による。
【０００２】
また、磁気記録の高密度化への要求や、ヘッド素子及び磁気ヘッドスライダの小型化への要望が強まるのに伴い、機械加工や取扱いが問題となっている。
【０００３】
【従来の技術】
上記の理由から、機械加工がほとんど不要な磁気ヘッドスライダが、提案されている（特開平９−８１９２４号公報：薄膜磁気ヘッドスライダ及び静電アクチュエータ）。
以下、この従来技術の内容について説明する。
【０００４】
図１（ａ）〜（ｃ）はこの従来技術に係る薄膜磁気ヘッドスライダを示す。図１（ａ）はヘッドサスペンション３０に装着されたスライダ１０を浮上面側から見た斜視図であり、図１（ｂ）はヘッドサスペンション３０に装着する前のスライダ１０自体を背面側（浮上面とは反対側）から見た斜視図であり、図１（ｃ）は図１（ｂ）の線Ｂ−Ｂ′における断面を示す図である。
【０００５】
記録媒体（図示せず）に対向する、スライダ１０の浮上面の側は、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等から成る浮上面層１１の一部が媒体側に突出しており、矢印Ａ方向に移動する媒体に対する流入端１３から流出端１４まで延びた２つの浮上レール１５を形成している。また、これらの２つの浮上レール１５の間の流入端１３側に中心レール１７が形成されている。浮上面層１１の背面に形成されているスライダ１０の本体１２及び端子パッド部１８（図１（ｂ））はＮｉ等の金属をめっきして形成してある。
【０００６】
素子部駆動機構部２０（トラッキング機構）は、２つの浮上レール１５の間の位置で、且つ端子パッド部１８と流出端１４との間の位置に、浮上面層１１の一部に形成されている。即ち、トラッキング機構部２０の部分は、スライダ１０の本体部１２のめっき（Ｎｉ等の金属）が形成されていない。
トラッキング機構部２０は、図１（ｃ）の断面図に示すように、静電吸引力を利用したものであって、可動子は固定部から延びた２本の平行ばね２１（１本のみ示す）とそれらの先端側に支持された素子搭載部２２から成る。可動子の平行ばね２１と、それと対向する固定子２３側はＮｉ，Ｃｕ等の金属から成る。或いは、可動子及び固定子はそれぞれ対向する部分に金属電極を有しており、固定子電極２３と可動子電極２１との間に電圧を印加して吸引力を発生させることによってトラッキングを行うものである。
【０００７】
なお、可動子は、ヘッド素子２４あるいは素子の磁極先端２４ａのみを媒体（図示せず）側に突出させ、駆動電極部２１，２３は媒体より離れるように設置してある。これは、駆動部がスライダ１０の浮上力に影響を及ぼさないため、電極２１，２３間の電圧によりヘッド素子２４のまわりに塵埃を引きつけさせないためである。
【０００８】
図２に上記従来例における静電アクチュエータの他の例を示す。外枠部分はＮｉめっきで形成された固定部３１本体で、図示しない基板上に固定されている。固定部３１本体の内壁には、内周に向かって、一定間隔の互いに平行な歯３１ａを、固定部３１本体と同時にＮｉめっきで設ける。これらの歯３１ａは基板上に固定されていてもよいし、基板との間に隙間（図示せず）を持って設けても良い。固定部３１の枠の内側にある中央の部分は固定部３１本体と同時にＮｉめっきで形成された可動部３２本体で、基板との間に隙間（図示せず）を持って、固定部３１に対して相対運動可能に設けられている。また、可動部３２本体には、固定部３１に設けられた互いに隣合う歯３１ａの中心からずれた位置に、それと平行するように複数の歯３２ａが設けられている。図中、可動部３２の上方および下方には基板に固定された支柱３３が形成され、支柱３３と可動部３２本体の間には、可動部３２を図中の上下方向のみに運動可能とする支持ばね３４が設けられている。固定部３１の右下および、下側の支柱からは、図示しない端子に接続するための導線３５，３６をＮｉめっきで形成する。
【０００９】
二つの導線３５，３６の間に電圧を印加すると、固定部３１の歯３１ａと可動部３２の歯３２ａの間に働く静電吸引力により、可動部３２が上方へ吸引され、支持ばね３４の復元力と釣り合う位置まで移動する。吸引力は電位差の二乗に比例するので極性とは関係なく同じ方向に移動する。
なお、過大な電圧入力があった場合に固定部３１の歯３１ａと可動部３２の歯３２ａが接触して短絡するのを防ぐために、支柱３３の一部に、可動部３２との空隙を短くした部分を設け、ストッパ３７としている。
【００１０】
次に、図３〜図５を参照して上記の従来例（特開平９−８１９２４号公報）における磁気ヘッドスライダの製造方法について説明する。図３は従来の別の形式の磁気ヘッドスライダを示すが、レールの形状及び配置が図１（ａ）のものと異なるのみで製造方法は同じである。図４は図３のＣ−Ｃ1 断面、図５（ａ）〜図５（ｄ）は製造工程を示す。
【００１１】
図３において、この磁気ヘッドスライダはホリゾンタルヘッド素子を搭載した、静電アクチュエータ部４０ａ（図４の保護膜層４１からアクチュエータ層４４まで）が、トラッキング方向（図３のＸ方向）に駆動して、媒体（図示せず）上のトラックに追随し、読み書きするものである。トラックに追随するので、トラックピッチを詰められ、記録密度を上げられる。
【００１２】
また、静電アクチュエータ部は上下方向（図３のＺ方向）にも動き、ヘッド素子をロード・アンロードさせる。即ち、読み書きの際にはヘッド素子４３を媒体に近づけて浮上させるか又は媒体に接触させる。それ以外の時は、ヘッド素子４３を媒体から離しておく。ヘッド素子４３のみを近づけるので、スライダ４０自体の浮上量を確保して、スライダ４０を安定的に浮上させつつ、記録密度を上げられる。
【００１３】
この磁気ヘッドスライダ４０のアクチュエータ部の製造方法を以下に説明する。
▲１▼  基板５０上に、犠牲層５１（例えば、Ａｌ膜）を形成し、その上に保護膜層４１（例えば、ＤＬＣ膜）、浮上面層４２（例えば、ＳｉＯ2 膜）を形成する（図５（ａ））。
【００１４】
▲２▼  浮上面層４２及び保護膜層４１を貫通し、犠牲層５１でとまる孔５２をあける。この孔５２を形成するには、例えばイオンミリングや反応性エッチング等を用いる。（図５（ｂ））。
▲３▼  この孔部５２にヘッド素子４３の先端部が来るように、ヘッド素子４３を形成する（図５（ｃ））。
【００１５】
▲４▼  ヘッド素子層４３上に、めっきベースを介して、アクチュエータ層４４、スライダ本体部４５をめっき（例えば、Ｎｉめっき）にて形成する。これにより基板５０上に、アクチュエータ付き磁気ヘッドスライダ４０を形成する（図５（ｄ））。
▲５▼  犠牲層５１をエッチングにより（例えば、ＫＯＨ水溶液で）除去することで磁気ヘッドスライダ４０を基板５０から分離して、磁気ヘッドスライダ４０が完成される。（図４）。
【００１６】
このときのスライダ４０の媒体対向面では、ヘッド素子４３の先端部は保護膜層４１と同一平面まで、突出している。
なお、図４及び図５におけるアクチュエータ層４４は、図１（ｃ）のヘッド搭載部２２あるいは図２の可動部３２に相当し、ヘッド素子をトラッキング方向（図３のＸ方向）にも上下方向（ロード・アンロード方向で図３のＺ方向）にも移動可能に支持していることは前述のとおりである。
【００１７】
他の従来技術として、特開平８−２０３０５３号公報があるが、媒体である磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触力を制御可能とし、両者の接触状態を安定に保つために、主スライダと副スライダとの間にエアギャップを形成しエアギャップ内に設けた電極に与える電圧を制御することで磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの接触力を調整している。
【００１８】
また、特開平９−２２５１９号公報では、トラック密度の高い磁気ディスクに対応するため、記録素子と再生素子の相対的な運動が可能となる微動機構を設けている。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
上記の特開平９−８１９２４号公報に記載された磁気ヘッドスライダにおいて、静電アクチュエータ部４０ａをロード・アンロードさせて、ヘッド素子４３を媒体に近づけるか接触させる。接触時には媒体と静電アクチュエータ部４０ａの全体とが接触し、ヘッド素子４３で読み書きする。ヘッド素子４３を媒体に近づけたときも、衝突がおこり、その際にも、接触時と同様のことが起こる。この接触時に、静電アクチュエータ部４０ａをトラッキング方向に駆動しようとすると、それに抗しようとする摩擦力が生ずる。
【００２０】
一方、静電アクチュエータ部４０ａは、トラッキング方向に駆動して、ヘッド素子４３を媒体上のトラックに追随させ、読み書きするため、負荷ないし抵抗はできるだけ少ない方が良い。しかし、上記の摩擦力は静電アクチュエータ部４０ａの駆動力に充分抵抗し、その変位量を少なくするため、ヘッド素子４３はトラックに充分追随できないという課題があった。
【００２１】
従って、本発明の課題は、ヘッドスライダ４０の静電アクチュエータ部４０ａをロード・アンロードさせて、ヘッド素子４３を媒体に近付けるか接触させた際に生ずる、静電アクチュエータ部４０ａ全体と媒体との間の摩擦力を低減させる磁気ヘッドスライダ４０及びその製造方法を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、基板上に犠牲層を形成後、該犠牲層上に、保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエータ層を形成し、更に該アクチュエータ層上にスライダ本体部をめっきにて形成し、その後、前記犠牲層を除去することにより、前記基板から分離して得られる、前記保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエータ層から成るアクチュエータ部とスライダ本体部とからなり、且つ前記保護膜層が記録媒体側に対向する媒体対向面を規定する磁気ヘッドスライダにおいて、前記ヘッド素子層の一部が、前記媒体対向面から媒体側に突出した少なくとも１つの突起を形成し、前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲部分が、前記媒体対向面より媒体側に突出して、前記突起の一部を形成し、更に前記浮上面層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲部分が、前記媒体対向面の側に突出することにより、前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲部分が、前記媒体対向面より媒体側に突出していることを特徴とする磁気ヘッドスライダが提供される。本発明によれば、ヘッド素子層の一部が媒体側に突出した少なくとも１つの突起を形成しているので、アクチュエータ部が媒体に接近又は接触した時の摩擦力を低減してヘッド素子の媒体トラックへの追随性を良好なものとする。
【００２４】
前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面より媒体側に突出した、複数個の突起を形成することを特徴とする。或いはまた、前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面より媒体側に突出した少なくとも１つの前記突起（第１の突起）を有すると共に、ヘッド素子層を含まない、前記媒体対向面より媒体側に突出する、１個又は複数個の第２の突起を有することを特徴とする。
【００２５】
前記突起はダイアモンド・ライク・カーボン（ＤＬＣ）により構成されていることを特徴とする。
前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面側に突出する少なくとも１本のレール部の一部を形成していることを特徴とする。
前記ヘッド素子層が複数あって、前記媒体対向面側に突出する複数個のレール部の一部を形成していることを特徴とする。
【００２６】
前記ヘッド素子層を含む前記レール部（第１のレール部）を具備すると共に、前記ヘッド素子層を含まない１本又は複数本の第２のレール部を有することを特徴とする。
前記ヘッド素子層が、媒体対向面に露出しないように膜で覆われていることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明によると、基板上に犠牲層を形成後、該犠牲層上に、保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエータ層を形成し、更に該アクチュエータ層上にスライダ本体部をめっきにて形成し、その後、前記犠牲層を除去することにより、前記基板から分離して得られる、前記保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層、アクチュエータ層及びスライダ本体部からなり、且つ前記保護膜層が記憶媒体側に対向する媒体対向面を規定する磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記基板又は犠牲層に窪みを設けておき、該窪みを含む基板又は犠牲層の上に磁気ヘッドスライダを形成する際、前記窪み部分にて、前記ヘッド素子層の一部が、前記媒体対向面から媒体側に突出する少なくとも１つの突起を形成することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法が提供される。この場合において、前記窪みは、化学的エッチング又はイオンミリングにより形成される。
【００２８】
【発明の実施の形態】
図６に本発明の磁気ヘッドスライダ全体の斜視図を示し、図７に静電アクチュエータ部を断面図で示す。構成は以下のようである。
基板５０上に、犠牲層５１、保護膜層４１、浮上面層４２、ヘッド素子層４３、アクチュエータ層４４、スライダ本体部４５の順番で磁気ヘッドスライダ４０を成膜する構成にしたものである。ヘッド素子層４３の先端部４３ａが突起４６の一部を形成し、媒体対向面側に突出している。
【００２９】
磁気ヘッドスライダ４０は０８Ｔ以下の大きさを仮定している。０８Ｔ磁気ヘッドスライダ４０の浮上面形状は８００μｍ×６００μｍ程度である。また、厚さは数十〜百数十μｍ程度である。図６の静電アクチュエータ部４０ａの外形は１００μｍ角程度である。
以下に、図８を参照し、静電アクチュエータ部４０ａを中心に本発明の磁気ヘッドスライダの製造工程例を示す。
【００３０】
▲１▼  ガラス基板５０上に、全面に犠牲層５１（Ａｌ等、〜１μｍ厚）を成膜する。これは後にエッチングにより、基板５０とスライダ４０とを分離するためのものである（図８（ａ））。
▲２▼  この犠牲層５１に、後に突起４６となる窪み５３を、イオンミリングや化学エッチング等で形成する（図８（ｂ））。この窪み５３は破線で示すように基板５０にまで貫通していてもよい。
【００３１】
ここで、突起部４６（突起高さは数〜数十nm程度、直径は数〜数十μｍ程度）は、保護膜層４１、浮上面層４２、ヘッド素子層４３からなる。
▲３▼  この窪み５３も含めたアクチュエータ部を含む全面に、保護膜層４１と浮上面層４２をスパッタやＣＶＤ等により形成する（図８（ｃ））。このとき、窪み５３に対応する窪み５３′が浮上面層４２に形成される。ここで、保護膜層４１としてはスパッタカーボン膜（ダイヤモンドライクカーボン：ＤＬＣ，１０nm厚）やプラズマＣＶＤによるカーボン膜等があり、媒体との接近又は接触時に耐磨耗性を持つものである。浮上面層４２としてはＳｉＯ2 膜（数μｍ厚）があり、スライダ４０表面を形成するとともに、このなかにはヘッド素子４３やアクチュエータ層４４へ電気を送る配線が通っている（図示せず）。
【００３２】
▲４▼  孔部５２を形成するために保護膜層４１と浮上面層４２の一部をイオンミリング等で除去する（図８（ｄ））。なお、この孔部５２は窪み５３よりも径が小さいものであって、保護膜層４１まで貫通し、犠牲層５１でとまっている。
▲５▼  孔部５２にヘッド素子４３の先端部が来るように、ヘッド素子４３を形成する（図８（ｅ））。
【００３３】
ヘッド素子層４３としては、ホリゾンタルヘッド、ＭＲヘッド等があり、媒体と信号のやりとりをして、情報を読み書きするものである。
▲６▼  これ以降は従来例と同じである。すなわち、めっきベースを介して、アクチュエータ層４４、スライダ本体部４５をめっき（例えば、Ｎｉめっき）して、基板５０上に、アクチュエータ付き磁気ヘッドスライダ４０を形成する。
【００３４】
ここで、アクチュエータ層４４及びスライダ本体部４５はＮｉめっきからなる。アクチュエータ層４４（めっき厚数μｍ程度）は、ヘッド素子４３を搭載して、トラッキング方向に動き、媒体のトラックに追随すると同時に、上下方向にも駆動し、ヘッド素子４３をロード・アンロードさせるものである。スライダ本体部４５（めっき厚１００μｍ程度）はアクチュエータ層４４やヘッド素子層４３等を搭載して、媒体上を浮上（０．１〜０．２μｍ程度）するものである。
【００３５】
ここまでで、保護膜層４１からスライダ本体部４５までが磁気ヘッドスライダ４０の構成部分となる。
▲７▼  犠牲層５１をエッチングにより（例えば、ＫＯＨ水溶液で）除去することで磁気ヘッドスライダ４０を基板５０から分離して、図７に示すような本発明の磁気ヘッドスライダ４０（静電アクチュエータ部４０ａ）が完成する。
【００３６】
次に、本発明の磁気ヘッドスライダの作用を説明する。図７に示すように、突起４６内のヘッド素子４３は保護膜層４１、浮上面層４２とともに、その周囲より媒体対向面側に突出している。
このような構成の磁気ヘッドスライダ４０で、静電アクチュエータ部４０ａをロード・アンロードさせて、ヘッド素子４３を媒体に近づけるか接触させる。接触時には媒体と静電アクチュエータ部４０ａ全体とは接触せず、媒体と突起４６のみが接触し、ヘッド素子４３で読み書きする。ヘッド素子４３を媒体に近づけたときも、接触時と同様のことが起こる。この接触時に、静電アクチュエータ部４０ａをトラッキング方向に駆動しようとすると、それに抗しようとする摩擦力が生ずる。しかし、上記の媒体と突起４６との接触面積は狭く、摩擦力は静電アクチュエータ部４０ａの駆動力を妨げる程ではなく、ヘッド素子４３はトラックに充分追随できるようになる。
【００３７】
図９は本発明の他の実施形態を示すものである。上述の実施形態では、１つの突起４６でヘッド素子４３のリード部、ライト部を覆っていた。即ち、突起４６は１つのみである。しかし、素子部４３以外にも１つのまたは複数の別の突起４７を配する構成もある（図９（ａ））。
ロード時に、読み書き用の突起４６が媒体と接触した際に、媒体６０が回転していることにより、流出端方向への摩擦力が生じる。この力により、アクチュエータ部４０ａが傾斜し過ぎて、媒体と衝突し、破壊されるところを、別の突起４７が媒体６０にあたることで、防いでいる（図９（ｂ））。従って、ロード時のアクチュエータ部４０ａの浮上または接触の安定性が得られる。
【００３８】
図１０は本発明の更に他の実施形態を示すものである。ヘッド素子４３のリード部、ライト部が離れている構成の場合には、１つの突起４６でリード部、もう１つの突起４７でライト部を覆う構成もできる（図１０（ａ））。
さらに、前述の実施形態では突起４６のみを考えてきたが、レール４８状であっても良い（図１０（ｂ），（ｃ），（ｄ））。トラッキング方向への負荷が問題ない状況下であれば、レール４８にすることで、接触面積が広い分、耐磨耗性が増加する。
【００３９】
レール４８を図１０（ｂ），（ｃ），（ｄ）のように配した効果はそれぞれ、突起４６にした場合と同じである。
また、前述の実施形態の突起４６内の先端部ではヘッド素子４３が表面に露出していたが、露出しないように、保護膜で覆うことも考えられる。ヘッド素子部４３を環境下から保護するとともに、耐磨耗性を向上できるからである。この保護膜は前述の保護膜４１と同時に形成しても良いし、スライダ分離後に形成しても良い。
【００４０】
ここでは、突起４６やレール４８の形状や数を限定するものではなく、上記の実施形態以外にも、様々な形状が考えられる。また、前述の突起４６やレール４８形状を組み合わせた形状もありうる。
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の磁気ヘッドスライダの構成によれば、静電アクチュエータ部４０ａの突起４６内のヘッド素子４３はその周囲より媒体対向面に突出しているために、静電アクチュエータ部４０ａのロード時には媒体と突起４６のみが接触するので、トラッキング方向に駆動する際に生じる摩擦力が小さくなり、ヘッド素子４３はトラックに充分追随できるようになる効果がある。
【００４２】
また、ロード時に突起４６が媒体と接触した際に、媒体が回転していることにより、流出端方向への摩擦力が生じる。この力により、アクチュエータ部４０ａが傾斜し過ぎて、破壊されるところを、別の突起４７が媒体にあたることで、防ぐという、浮上または接触安定性を向上させる効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の磁気ヘッドスライダであって、（ａ）は浮上面側から見た傾斜図、（ｂ）は背面側から見た傾斜図、（ｃ）はＢ−Ｂ′断面を示す。
【図２】従来の磁気ヘッドスライダにおける静電アクチュエータの平面図である。
【図３】従来の別の形式の磁気ヘッドスライダを浮上面側から見た傾斜図である。
【図４】図３に示した従来例の磁気ヘッドスライダにおけるアクチュエータ部の断面図である。
【図５】従来の磁気ヘッドスライダにおけるアクチュエータ部の製造工程を示す。
【図６】本発明の磁気ヘッドスライダを浮上面側から見た傾斜図である。
【図７】図６に示した本発明の磁気ヘッドスライダにおけるアクチュエータ部の断面図である。
【図８】本発明の磁気ヘッドスライダにおけるアクチュエータ部の製造工程を示す。
【図９】複数のパッドを有するヘッドスライダの実施形態を示すもので、（ａ）は平面図、（ｂ）ロード時の断面図である。
【図１０】複数のレール（パッド）を有するヘッドスライダの各種の実施形態を平面図で示す。
【符号の説明】
４０…磁気ヘッドスライダ
４０ａ…アクチュエータ部
４１…保護膜層
４２…浮上面層
４３…ヘッド素子層
４４…アクチュエータ層
４５…スライダ本体部
４６…突起
４７…別の突起
４８…レール
５０…基板
５１…犠牲層
【図１】
0003649573.tif 000002
【図２】
0003649573.tif 000003
【図３】
0003649573.tif 000004
【図４】
0003649573.tif 000005
【図５】
0003649573.tif 000006
【図６】
0003649573.tif 000007
【図７】
0003649573.tif 000008
【図８】
0003649573.tif 000009
【図９】
0003649573.tif 000010
【図１０】
0003649573.tif 000011