(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に所定の処理を行う処理部と、
前記処理部に流体を供給する流体供給系と、
前記流体供給系における前記流体の連続的な流量値を検出し、検出した流量値を示す信号を出力する流量検出手段と、
前記流量検出手段により検出される流量値を時間積分することにより積算流量を算出する積算流量算出手段と、
前記処理部への流体の供給を開始するための開始信号を出力する制御部とを備え、
前記積算流量算出手段は、前記制御部により出力された前記開始信号に応答して、前記積算流量をリセットすることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記積算流量算出手段は、予め前記流量検出手段により検出された流量値の時間積分と実際に計量された流体の総量値との関係に基づいて前記積算流量を校正することを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記流量検出手段は、
流体の流量に応じて移動するフロートを有する流量計と、
前記流量計にほぼ平行な光を照射する光照射手段と、
前記流量計からの透過光または反射光を受光する受光素子と、
前記受光素子の出力信号に基づいて前記流量計の前記フロートの位置を検出するフロート位置検出手段と、
前記フロート位置検出手段により検出された前記フロートの位置を流量値を示す信号に変換する変換手段とを備えたことを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記変換手段は、予め測定された前記流量計の前記フロートの位置と流量値との関係に基づいて前記フロートの位置を流量値に変換することを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記積算流量算出手段により算出される積算流量に基づいて前記流体供給系を制御する制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項６】
予め任意の流量値を設定する設定手段と、
前記流量検出手段により検出される流量値が前記設定手段により予め設定された流量値に達したか否かを判定する判定手段とをさらに備えたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記判定手段の出力信号に基づいて前記流体供給系を制御する制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記流体供給系を複数備え、
前記流量検出手段を複数備え、
前記複数の流量検出手段から出力される信号に関して信号処理を行う共通の信号処理手段をさらに備え、
前記複数の流量検出手段は、前記複数の流体供給系の複数箇所における流体の連続的な流量値をそれぞれ検出し、検出した流量値を示す信号を出力することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項９】
基板処理装置用の流体供給装置であって、
前記基板処理装置に流体を供給する流体供給系と、
前記流体供給系における前記流体の連続的な流量値を検出し、検出した流量値を示す信号を出力する流量検出手段と、
前記流量検出手段により検出される流量値を時間積分することにより積算流量を算出する積算流量算出手段と、
流体の供給を開始するための開始信号を出力する制御部とを備え、
前記積算流量算出手段は、前記制御部により出力された前記開始信号に応答して、前記積算流量をリセットすることを特徴とする基板処理装置用の流体供給装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、所定箇所に流体を供給するための流体供給系を備えた基板処理装置および基板処理装置に流体を供給するための流体供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられている。
【０００３】
このような基板処理装置には、基板に各種処理を行うための処理部や所定箇所にフォトレジスト液、現像液、純水、リンス液等の種々の処理液を供給するための処理液供給系が設けられてる。例えば、回転式塗布装置では、処理液供給系により処理液吐出ノズルに処理液が供給され、処理液吐出ノズルから処理液が基板上に吐出される。
【０００４】
また、基板処理装置には、処理部や所定箇所に窒素ガス等の所定の気体を供給するためのガス供給系も設けられている。
【０００５】
基板処理装置に処理液を供給する処理液供給系や基板処理装置に気体を供給するガス供給系を基板処理装置とは別個に設ける場合もある。
【０００６】
以下、基板処理装置の内部に設けられる処理液供給系およびガス供給系を流体供給系と総称する。また、基板処理装置とは別個に設けられる処理液供給系およびガス供給系を流体供給装置と総称する。
【０００７】
このような、流体供給系や流体供給装置において、実際に所定流量の流体が流れているか否かを検出するために流量計が用いられている。例えば、処理液の流量が所定値になっているか否かを検出するために、透過型のフォトセンサ等のセンサを用いて流量計のフロートが予め設定された目盛り位置にあるか否かを検出している。処理液の吐出指令から一定時間（例えば２〜５秒）経過しても流量計のフロートが予め設定された目盛り位置にこない場合には警報を発生し、その警報に基づいて作業者が処理液の吐出を停止させる等の処置を行っている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の従来の方法では、センサによる流量の検出点が一点であるため、流量が所定値に達しているか否かしか検出することができず、連続的な流量値の検出を行うことができない。流量の検出点を変更する場合には、センサの位置を物理的に変更する必要がある。そのため、頻繁に検出点を変更することができない。
【０００９】
また、通常、処理液の吐出開始から流量計のフロートが所定の目盛り位置に達するまでに約２〜５秒の時間がかかる。そのため、例えば基板のエッジ洗浄のように２〜３秒間の処理液の吐出で処理が終了する場合には、流量計のフロートが所定の目盛り位置に達する前に処理液の吐出が完了してしまう。したがって、処理液の吐出流量の異常を検出することは困難である。
【００１０】
さらに、実際の流量値を知るためには、作業者が流量計の目盛りを目視しなければならないため、流量計を見やすい箇所に設ける必要がある。それにより、処理液やガスの配管のレイアウトが限定される。
【００１１】
また、従来の流量計では、処理液の粘度や温度等によりかなりの測定誤差が生じる。このような測定誤差を処理液の種類や温度等に応じて校正することは困難である。
【００１２】
本発明の目的は、流体の連続的な流量を検出する機能を有する基板処理装置および基板処理装置用の流体供給装置を提供することである。
【００２５】
第１の発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う処理部と、処理部に流体を供給する流体供給系と、流体供給系における流体の連続的な流量値を検出し、検出した流量値を示す信号を出力する流量検出手段と、流量検出手段により検出される流量値を時間積分することにより積算流量を算出する積算流量算出手段と、処理部への流体の供給を開始するための開始信号を出力する制御部とを備え、積算流量算出手段は、制御部により出力された開始信号に応答して、積算流量をリセットするものである。
【００２６】
本発明に係る基板処理装置においては、流体供給系における流体の連続的な流量値が検出され、その流量値を示す信号が出力されるので、任意の時点の流量値を容易に把握することができるとともに、センサ位置の物理的な変更を伴うことなく、流量の検出点を任意に設定することが可能となる。また、短時間で処理が終了する場合にも、流体の流量異常を検出することが可能となる。
【００２７】
さらに、検出された流量値が信号として出力されるので、流量値を知るために作業者が流量計の目盛りを目視する必要がなくなる。それにより、流体の配管のレイアウトの自由度が増し、基板処理装置のフットプリント（設置面積）を低減することが可能となる。
【００２８】
また、積算流量算出手段において、信号として出力された流量値を時間積分することにより積算流量が算出されるので、任意の時間内における流体の総量値を検出することが可能となる。
【００２９】
さらに、この基板処理装置においては、制御部により処理部への流体の供給を開始するための開始信号が出力される。制御部により出力された開始信号に応答して、積算流量算出手段の積算流量がリセットされる。
【００３０】
第２の発明に係る基板処理装置は、第１の発明に係る基板処理装置の構成において、積算流量算出手段は、予め流量検出手段により検出された流量値の時間積分と実際に計量された流体の総量値との関係に基づいて積算流量を校正するものである。
【００３１】
この場合、予め検出された流量値の時間積分と実測された流体の総量値との関係に基づいて積算流量が校正されるので、流体の吐出開始時および吐出終了時における流量計のフロートの動きの遅れが補正される。したがって、正確な積算流量を測定することが可能となる。
【００３２】
第３の発明に係る基板処理装置は、第１または第２の発明に係る基板処理装置の構成において、流量検出手段は、流体の流量に応じて移動するフロートを有する流量計と、流量計にほぼ平行な光を照射する光照射手段と、流量計からの透過光または反射光を受光する受光素子と、受光素子の出力信号に基づいて流量計のフロートの位置を検出するフロート位置検出手段と、フロート位置検出手段により検出されたフロートの位置を流量値を示す信号に変換する変換手段とを備えたものである。
【００３３】
この流量検出手段においては、流量計にほぼ平行な光が照射され、その透過光または反射光が受光素子により受光され、その受光素子の出力信号に基づいて流量計のフロートの位置が検出される。そして、検出されたフロートの位置が流量値に変換される。このように、流量計のフロートの位置が光学的に検出され、検出されたフロートの位置が流量値に変換されるので、微小な流量範囲においても連続的な流量値を高精度に検出することが可能になるとともに、測定可能な流体の粘度の範囲も広くなる。また、流体の汚染や気泡の発生も生じない。
【００３４】
第４の発明に係る基板処理装置は、第３の発明に係る基板処理装置の構成において、変換手段は、予め測定された流量計のフロートの位置と流量値との関係に基づいてフロートの位置を流量値に変換するものである。
【００３５】
この場合、予め実測された流量計のフロートの位置と流量値との関係に基づいて流量値が校正されるので、流体の種類や温度等の違いによる測定誤差が生じない。
【００３６】
第５の発明に係る基板処理装置は、第１または第２の発明に係る基板処理装置の構成において、積算流量算出手段により算出される積算流量に基づいて流体供給系を制御する制御手段をさらに備えたものである。
【００３７】
この場合、積算流量に基づいて流体供給系が制御されるので、流量異常時の処理を自動的に行うことが可能となる。
【００３８】
第６の発明に係る基板処理装置は、第１〜第５のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成において、予め任意の流量値を設定する設定手段と、流量検出手段により検出される流量値が設定手段により予め設定された流量値に達したか否かを判定する判定手段とをさらに備えたものである。
【００３９】
この場合、センサ位置の物理的な変更を伴うことなく流体の流量値が予め設定された任意の値に達したか否かを判定することが可能となる。
【００４０】
第７の発明に係る基板処理装置は、第６の発明に係る基板処理装置の構成において、判定手段の出力信号に基づいて流体供給系を制御する制御手段をさらに備えたものである。
【００４１】
この場合、流体の流量値が予め設定された流量値に達した場合の処理を自動的に行うことが可能となる。
【００４２】
第８の発明に係る基板処理装置は、第１〜第７のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成において、流体供給系を複数備え、流量検出手段を複数備え、複数の流量検出手段から出力される信号に関して信号処理を行う共通の信号処理手段をさらに備え、複数の流量検出手段は、複数の流体供給系の複数箇所における流体の連続的な流量値をそれぞれ検出し、検出した流量値を示す信号を出力するものである。
【００４３】
この場合、共通の信号処理手段により複数の流量検出手段から得られた信号の処理が行われるので、低コスト化が図られる。
【００５４】
第９の発明に係る流体供給装置は、基板処理装置用の流体供給装置であって、基板処理装置に流体を供給する流体供給系と、流体供給系における流体の連続的な流量値を検出し、検出した流量値を示す信号を出力する流量検出手段と、流量検出手段により検出される流量値を時間積分することにより積算流量を算出する積算流量算出手段と、流体の供給を開始するための開始信号を出力する制御部とを備え、積算流量算出手段は、制御部により出力された開始信号に応答して、積算流量をリセットするものである。
【００５５】
本発明に係る流体供給装置においては、基板処理装置に流体を供給する流体供給系における流体の連続的な流量値が検出され、その流量値を示す信号が出力されるので、任意の時点の流量値を容易に把握することができるとともに、センサ位置の物理的な変更を伴うことなく、流量の検出点を任意に設定することが可能となる。また、短時間で処理が終了する場合にも、流体の流量異常を検出することが可能となる。
【００５６】
さらに、流量値が信号として出力されるので、流量値を知るために作業者が流量計を目視する必要がなくなる。それにより、流体の配管のレイアウトの自由度が増す。
【００５７】
また、積算流量算出手段において、信号として出力された流量値を時間積分することにより積算流量が算出されるので、任意の時間内における流体の総量値を検出することが可能となる。
【００５８】
さらに、この基板処理装置においては、制御部により流体の供給を開始するための開始信号が出力される。制御部により出力された開始信号に応答して、積算流量算出手段の積算流量がリセットされる。
【００５９】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の一実施例における基板処理装置の構成を示すブロック図である。図１の基板処理装置は回転式塗布装置である。
【００６０】
基板処理装置１００は、基板Ｗにフォトレジスト等の処理液の塗布処理を行う処理部１０を備える。処理部１０では、鉛直方向の軸の周りで回転駆動される回転保持部１１上に基板Ｗが水平姿勢で保持されている。回転保持部１１に保持された基板Ｗの周囲は、処理液の飛散防止用のカップ１２で取り囲まれている。
【００６１】
基板Ｗの上方には、基板Ｗ上に処理液を吐出する処理液吐出ノズル１３が設けられている。処理液吐出ノズル１３には、処理液供給系２０により処理液が供給される。この処理液供給系２０には、後述する流量検出装置３０が介挿されている。
【００６２】
処理液供給系２０の処理液タンク２１には、フォトレジスト液等の処理液が貯留されている。この処理液タンク２１には、窒素ガス供給系（図示せず）から加圧用の窒素ガス（Ｎ2)が加圧用弁２２を介して供給される。処理液タンク２１内の処理液は、供給元弁２３、流量検出装置３０、配管２４、吐出制御弁２５および配管２６を介して処理液吐出ノズル１３に供給される。
【００６３】
流量検出装置３０は、光源３１、レンズ３２、テーパ管型流量計３３、吐出量調整用ニードル弁３４およびラインセンサ（１次元イメージセンサ）３５を含む。光源３１からの光はレンズ３２により平行光に変換され、テーパ管型流量計３３に照射される。
【００６４】
このテーパ管型流量計３３は、透明のテーパ管３３ａ内に収納されたフロート３３ｂを有する。フロート３３ｂは、テーパ管３３ａ内に流れる流体の流量に応じてテーパ管３３ａ内を移動する。テーパ管型流量計３３の透過光はラインセンサ３５により受光される。ラインセンサ３５としては、例えばＣＣＤ（電荷結合素子）型ラインセンサ、ＭＯＳ（金属酸化物半導体）型ラインセンサ等が用いられる。
【００６５】
さらに、流量検出装置３０は、データ処理部３６、フロート位置検出器３７および流量値変換器３８を含む。データ処理部３６は、ラインセンサ３５の出力信号を明部および暗部を表す２値信号に変換する２値化処理を行う。フロート位置検出器３７は、データ処理部３６により得られた明部および暗部の領域の長さに基づいてテーパ管型流量計３３のフロート３３ｂの位置を検出する。
【００６６】
流量値変換器３８は、フロート位置検出器３７により得られたフロート３３ｂの位置を流量値（ｍｌ／分）に変換し、流量値を示す信号を出力する。一般に、テーパ管型流量計３３では、フロート３３ｂの位置と実際の流量値との関係は非直線的である。そのため、校正時に、テーパ管型流量計３３の個体ごとにフロート３３ｂの位置と流量値との関係を測定し、フロート３３ｂの位置と流量値との関係を示す校正データＣＬ１を表または式として流量値変換器３８に予め入力しておく。流量値変換器３８は、校正データＣＬ１に基づいて流量計３３のフロート３３ｂの位置を流量値に換算する。
【００６７】
流量値送信器４１は、流量値変換器３８の出力信号をＲＳ４８５等規格に従う通信線Ｌを通して流量値受信器４２に送信する。この流量値送信器４１には、流量検出装置３０と同様の構成を有する１または複数の他の流量検出装置３０Ａが接続される。他の流量検出装置３０Ａは、基板処理装置１００の種々の部分での流体の流量値を検出するために設けられている。
【００６８】
流量値受信器４２は、受信した信号を流量異常検出器４４、流量値積分器４５および流量表示部４８に与える。
【００６９】
一方、吐出弁制御部４３には、吐出制御弁２５のオンオフパターンを表すユーザプログラムＰＲが入力される。吐出弁制御部４３は、ユーザプログラムＰＲに従って吐出制御弁２５の開閉動作を制御するとともに、流量異常検出器４４および流量値積分器４５に吐出開始信号を与える。
【００７０】
流量異常検出器４４は、吐出弁制御部４３から与えられる吐出開始信号に応答して流量異常の監視を開始し、流量値受信器４２から与えられる流量値が予め設定された監視値または警報値から外れた場合に警報信号ＡＬを発生する。この場合、流量値受信器４２から与えられる流量値が所定の時間以上監視値または警報値よりも低い状態または高い状態が続いた場合に警報信号ＡＬが出力される。この流量異常検出器４４には任意の監視値または警報値を設定することができる。
【００７１】
また、流量値積分器４５は、流量値受信器４２から与えられる流量値を時間積分することにより積算流量（吐出総量値）を算出し、算出された積算流量を積算流量比較器４６および流量表示部４８に与える。この流量値積分器４５による流量値の積分は、吐出弁制御部４３から与えられる吐出開始信号によりリセットされる。
【００７２】
なお、吐出開始時および吐出終了時には、流量計３３のフロート３３ｂの動きに数百ｍ秒程度の遅れが発生する。そのため、校正時に、所定時間内の積算流量を流量値積分器４５により算出するとともに、実際に吐出された処理液の総量値をメスシリンダ等により計測し、流量値積分器４５で算出される積算流量と実際の吐出総量値との関係を示す校正データＣＬ２を表または式として予め入力しておく。流量値積分器４５は、校正データＣＬ２に基づいて積算流量を校正する。これにより、より正確な積算流量を測定することが可能となる。
【００７３】
なお、流量値積分器４５によれば、過去の特定の時間内の処理液の消費量を検出することも可能となる。
【００７４】
積算流量比較器４６は、ある範囲内の積算流量が予め定められた時間の経過後に得られない場合、または積算流量が予め定められた時間よりも早く所定値に達した場合に警報信号ＡＬ２を発生する。
【００７５】
また、積算流量比較器４６は、積算流量が所定値に達したときに吐出弁制御部４３に吐出停止信号ＳＴを与える。これにより、処理液吐出ノズル１３からの吐出総量を制御することができる。
【００７６】
流量異常時処理制御部４７は、流量異常検出器４４から与えられる警報信号ＡＬ１または積算流量比較器４６から与えられる警報信号ＡＬ２に応答して次の異常時処理を行う。第１の異常時処理としては、警報としてブザーを鳴らし、作業者の注意を促す。第２の異常時処理としては、配管の外れや漏液の可能性があるので、加圧用弁２２または供給元弁２３を閉じる。第３の異常時処理としては、処理液供給系２０において異常が発生している旨を表示する。
【００７７】
流量表示部４８は、流量値受信器４２から与えられる流量値および流量値積分器４５から与えられる積算流量を表示する。また、流量表示部４８は、流量値受信器４２から与えられる流量値および流量値積分器４５から与えられる積算流量を自動化のためのホストコンピュータ（図示せず）または他のコンピュータ（図示せず）に送信する。
【００７８】
これにより、ホストコンピュータまたは他のコンピュータにおいて、流量値および積算流量に基づいて処理液の使用状況を集計し、その集計結果を在庫管理に利用したり、流量値と処理された基板の品質との関係を統計的に分析することが可能となる。なお、流量値および積算流量を基板処理装置１００自体が有する制御用のコンピュータに送信することも可能である。
【００７９】
本実施例では、処理液供給系２０が流体供給系に相当し、流量検出装置３０，３０Ａが流量検出手段に相当する。また、テーパ管型流量計３３が流量計に相当し、光源３１が光照射手段に相当し、ラインセンサ３５が受光素子に相当する。さらに、データ処理部３６およびフロート位置検出器３７がフロート位置検出手段に相当し、流量値変換器３８が変換手段に相当する。
【００８０】
また、流量値積分器４５が積算流量算出手段に相当し、吐出弁制御部４３、流量異常検出器４４、積算流量比較器４６および流量異常時処理制御部４７が制御手段を構成する。さらに、流量異常検出器４４が設定手段および判定手段を構成し、流量異常検出器４４、流量値積分器４５、積算流量比較器４６、流量異常時処理制御部４７および流量表示部４８が信号処理手段を構成する。
【００８１】
本実施例の基板処理装置においては、ラインセンサ３５を用いて流量計３３のフロート３３ｂの位置を検出することにより連続的（アナログ的）な流量値が検出されるので、物理的なセンサ移動を伴わずに流量の監視点または警報点を任意に設定することができる。また、処理部１０における処理レシピ（処理手順および処理条件）に応じて流量の監視点または警報点を設定することも可能となる。
【００８２】
さらに、一定のサンプリング間隔で連続的な流量値を検出することができるので、流量値積分器４５により積算流量（吐出総量値）を算出することができる。それにより、積算流量の管理を行うことが可能となる。
【００８３】
また、流量検出装置３０，３０Ａにより検出された流量値が流量値送信器４１から通信線Ｌを介して流量値受信器４２に送信されるので、基板処理装置１００から離れた場所でも流量値を確認することが可能となる。それにより、流量計３３を目視できる箇所に設置する必要がなくなるため、処理液の配管レイアウトの自由度が向上する。その結果、基板処理装置１００の小型化およびフットプリントの低減が可能となる。
【００８４】
また、流量値変換器３８において校正データＣＬ１に基づく校正が行われるので、処理液の粘度、温度等による測定誤差が生じない。また、流量値積分器４５においても、校正データＣＬ２に基づく積算流量の校正が行われるので、正確な積算流量（吐出総量値）を得ることができる。
【００８５】
さらに、流量異常検出器４４および積算流量比較器４６において多数の監視点または警報点を設定することができる。これにより、吐出制御弁２５の閉時のリークを検出することも可能となる。
【００８６】
加えて、流量値および積算流量をホストコンピュータや他のコンピュータに送信することができるので、流量値および積算流量のデータの収集が容易になる。したがって、流量の日間変動、週間変動等を集計することにより、基板処理装置１００における流量異常の予防保全等に利用することが可能となる。
【００８７】
本実施例では、流量値送信器４１よりも後段の流量値受信器４２、吐出弁制御部４３、流量異常検出器４４、流量値積分器４５、積算流量比較器４６、流量異常時処理制御部４７および流量表示部４８を、複数の流量検出装置３０，３０Ａで共用している。これにより、低コスト化が図られる。
【００８８】
なお、上記実施例では、流量検出装置３０において流量計３３からの透過光を用いてフロート３３ｂの位置を検出しているが、流量計３３からの反射光を用いてフロート３３ｂの位置を検出してもよい。
【００８９】
また、上記実施例における各ブロック３６〜３８，４１〜４８はハードウエアにより構成することも可能であり、あるいはソフトウエアで実現することも可能である。
【００９０】
上記実施例では、テーパ管型流量計を用いた場合について説明したが、超音波式等の他の流量計を用いた場合でも同様の効果を奏する。また、本発明を基板処理装置１００の処理部１０にフォトレジスト液等の処理液を供給する処理液供給系２０に適用した場合について説明したが、本発明は、フォトレジスト液、ＳＯＧ（スピンオングラス）液等の処理液に限らず、レジストシンナー、アセトン等の溶剤、アルコール、純水、現像液、過酸化水素水、弗酸等の種々の処理液を供給する処理液供給系、窒素ガスやガス化したＨＭＤＳ（エキサメチルジシラザン）等の気体を供給するガス供給系にも同様に適用することができる。また、本発明は、基板処理装置内に設けられる流体供給系に限らず基板処理装置とは別個に設けられる流体供給装置にも同様に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例における基板処理装置の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
１０  処理部
１３  処理液吐出ノズル
２０  処理液供給系
２１  処理液タンク
２５  吐出制御弁
３０，３０Ａ  流量検出装置
３１  光源
３２  レンズ
３３  テーパ管型流量計
３３ａ  テーパ管
３３ｂ  フロート
３５  ラインセンサ
３６  データ処理部
３７  フロート位置検出器
３８  流量値変換器
４３  吐出弁制御部
４４  流量異常検出器
４５  流量値積分器
４６  積算流量比較器
４７  流量異常時処理制御部
４８  流量表示部
【図１】
0003636267.tif 000002