(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともテトラヒドロピリミジン誘導体を含有する記録層を有することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
請求項１において、テトラヒドロピリミジン誘導体の熱重量分析における主減量過程の温度に対する減量の傾きが２％／℃以上であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項３】
請求項１において、テトラヒドロピリミジン誘導体の熱重量分析における主減量過程の減量率が４０％以上であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項４】
請求項１において、テトラヒドロピリミジン誘導体の熱重量分析における主減量過程の減量開始温度が２００〜３５０℃であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項５】
請求項１において、テトラヒドロピリミジン誘導体の記録再生波長における複素屈折率の実部が１．８以上であり、かつ複素屈折率の虚部が０．０３〜０．１５の範囲にあることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項６】
透明基板上に少なくとも、下記一般式（１）または（２）で示されるテトラヒドロピリミジン誘導体を含有する記録層を有することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項７】
透明基板上に少なくとも、下記一般式（１）または（２）で示されるテトラヒドロピリミジン誘導体を含有する記録層、金属反射層、保護層の順に積層したことを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項８】
記録再生波長が４００〜５００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
金属反射層が銀を主成分とすることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１０】
保護層が紫外線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【化１】
0003636907.tif 000011
（式中、Ｒ1，Ｒ2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルカノール基、アリール基、アラルキル基、アシル基等を表す。Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基（エステルを含む）、直鎖状または分岐状のアルキル基、直鎖状または分岐状の置換基を有するアリール基、アルコキシ基、アリールアルコキシ基、置換又は未置換のスルホンアミド基、置換または未置換のアリールオキシ基、直鎖状または分岐状のアルキル置換基を有するアシル基、置換または未置換のアリルオキシ基またはナフトイルオキシ基等を表す。またＲ3は複数箇所に同一または互いに異なる置換基を有してもよい）
【化２】
0003636907.tif 000012
（式中、Ｒ1，Ｒ2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルカノール基、アリール基、アラルキル基、アシル基等を表す。Ｒ3，Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基（エステルを含む）、直鎖状または分岐状のアルキル基、直鎖状または分岐状の置換基を有するアリール基、アルコキシ基、アリールアルコキシ基、置換又は未置換のスルホンアミド基、置換または未置換のアリールオキシ基、直鎖状または分岐状のアルキル置換基を有するアシル基、置換または未置換のアリルオキシ基またはナフトイルオキシ基等を表す。またＲ3，Ｒ4は複数箇所に同一または互いに異なる置換基を有してもよい）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光情報記録媒体に関し、レーザ光により記録可能な光情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、高密度化のため、レーザ光の発振波長の短波長化が注目され、８３０ｎｍ、７８０ｎｍ、６３５ｎｍとレーザ光の短波長化が行われ、光情報記録媒体の高密度化が飛躍的に進んできた。しかし、現在は更なるレーザ光の発振波長の短波長化が研究開発されつつあり、その発振波長のレーザ光で記録再生可能な光情報記録媒体が求められることは容易に想像される。かかる状況においては、さまざまな形態の光情報記録媒体が存在するが、その中で有機材料系の光情報記録媒体は安価でプロセス上容易であるという特徴を有する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
光情報記録媒体としての記録層材料に要求される項目は、少なくとも波長４００〜５００ｎｍ近傍に大きな吸収帯を有すること、記録再生波長での光学定数、熱分解特性、スピンコートによる成膜では溶解性等が挙げられ、これらの項目を全て満足させることが必要である。しかしながら、現状では波長４００〜５００ｎｍに対応可能な有機材料は、ほとんど開示されていない。
したがって本発明の目的は、波長４００〜５００ｎｍで記録再生が可能な有機材料薄膜からなる記録層を有する光情報記録媒体を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、波長４００〜５００ｎｍの短波長記録に好適な光情報記録媒体を鋭意検討した結果、特定の化合物を記録層として含有させることにより、波長４００〜５００ｎｍの短波長記録に好適な光情報記録媒体が得られることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明の要旨は波長４００〜５００ｎｍの短波長記録に好適な光情報記録媒体を提供するために、透明基板上に少なくとも、一般式（１）、（２）で示される化合物を含有する記録層を有する光情報記録媒体を用いるものである。具体的には、請求項１では少なくともテトラヒドロピリミジン誘導体を含有する記録層を有することを特徴とする光情報記録媒体、および請求項２では、請求項１において、テトラヒドロピリミジン誘導体の熱重量分析における主減量過程の温度に対する減量の傾きが２％／℃以上であることを特徴とする光情報記録媒体、および請求項３では、請求項１において、テトラヒドロピリミジン誘導体の熱重量分析における主減量過程の減量率が４０％以上であることを特徴とする光情報記録媒体、および請求項４では、請求項１において、テトラヒドロピリミジン誘導体の熱重量分析における主減量過程の減量開始温度が２００〜３５０℃であることを特徴とする光情報記録媒体、および請求項５では、請求項１において、テトラヒビロピリミジン誘導体の記録再生波長における複素屈折率の実部が１．８以上であり、かつ複素屈折率の虚部が０．０３〜０．１５の範囲にあることを特徴とする光情報記録媒体、および請求項６では、透明基板上に少なくとも、下記一般式（１）または（２）で示されるテトラヒドロピリミジン誘導体を含有する記録層を有することを特徴とする光情報記録媒体、および請求項７では、透明基板上に少なくとも、下記一般式（１）または（２）で示されるテトラヒドロピリミジン誘導体を含有する記録層、金属反射層、保護層の順に積層したことを特徴とする光情報記録媒体、および請求項８では、記録再生波長が４００〜５００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体、および請求項９では金属反射層が銀を主成分とすることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体、および請求項１０では、保護層が紫外線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体を提供する。
【０００５】
【化３】
0003636907.tif 000002
【０００６】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルカノール基、アリール基、アラルキル基、アシル基等を表す。Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基（エステルを含む）、直鎖状または分岐状のアルキル基、直鎖状または分岐状の置換基を有するアリール基、アルコキシ基、アリールアルコキシ基、置換または未置換のスルホンアミド基、置換または未置換のアリールオキシ基、直鎖状または分岐状のアルキル置換基を有するアシル基、置換または未置換のアリルオキシ基またはナフトイルオキシ基等を表す。またＲ3は複数箇所に同一または互いに異なる置換基を有してもよい）
【０００７】
【化４】
0003636907.tif 000003
【０００８】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルカノール基、アリール基、アラルキル基、アシル基等を表す。Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基（エステルを含む）、直鎖状または分岐状のアルキル基、直鎖状または分岐状の置換基を有するアリール基、アルコキシ基、アリールアルコキシ基、置換または未置換のスルホンアミド基、置換または未置換のアリールオキシ基、直鎖状または分岐状のアルキル置換基を有するアシル基、置換または未置換のアリルオキシ基またはナフトイルオキシ基等を表す。またＲ3、Ｒ4は複数箇所に同一または互いに異なる置換基を有してもよい）
【０００９】
【発明の実施の形態】
光情報記録媒体に用いられる有機材料としては、従来からフタロシアニン系色素、シアニン系色素、含金属アゾ系色素等や、ジベンゾフラノン系、含金属インドアニリン等が提案されているが、記録層を構成する有機材料に最低限必要な項目は、光学特性と熱的特性である。
【００１０】
光学特性に必要な条件は、記録再生波長である４００〜５００ｎｍに対して短波長側に大きな吸収帯を有し、かつ記録再生波長が該吸収帯の長波長端近傍にあることが必要である。
【００１１】
これは、記録再生波長である４００〜５００ｎｍで大きな複素屈折率の実部を有し、かつ適度な複素屈折率の虚部を有することを意味するものである。具体的には、記録再生波長近傍の波長域光に対する記録層単層の複素屈折率実部が１．８以上であり、複素屈折率の虚部が０．０３〜０．１５程度の範囲にあることが好ましい。複素屈折率の実部が１．８以下であると、十分な光学的変化が得られにくくなり、記録変調度が低くなるので好ましくない。
【００１２】
また、複素屈折率の虚部が０．０３未満では、記録感度が悪化し、０．１５以上では高反射率を得ることが困難になる。熱的特性に必要な条件は、熱重量分析における主減量過程での重量減量が、温度に対して急崚であることが必要である。
なぜならば、主減量過程により有機材料膜は分解し、膜厚の減少と光学定数の変化を起こし、光学的な意味での記録部が形成されるからである。
【００１３】
したがって、主減量過程の重量減量が温度に対して緩やかな場合、これは広い温度範囲にわたって重量減量が起こることを意味し、記録層の膜厚変化と光学定数変化領域が広い範囲にわたって形成されてしまうため、高密度の記録部を形成させる場合は極めて不利となる。同様な理由で重量減量の過程が複数存在する材料を用いた場合も高密度対応には不利である。
【００１４】
本発明ではいくつかの重量減量過程のうちで減量率が最大のものを主減量過程と呼ぶ。本発明において重量減量の傾きは下記のように求める。
質量ＭＯの有機材料を窒素雰囲気下中で、１０℃／ｍｉｎで昇温させる。
【００１５】
この昇温に従って、質量は微量ずつ減少し、図１に示すように、ほぼ直線ａ−ｂの重量減量線を示し、ある温度に達すると、急激な重量減少を起こし、ほぼ直線ｃ−ｄに沿って重量減量を起こす。更に温度を上げ続けると質量の急激な減量が終了し、ほぼ直線ｅ−ｆに沿った重量減少を起こす。今直線ａ−ｂと直線ｃ−ｄとの交点における温度をＴ１（℃）、初期質量Ｍ０に対する残存重量をｍ１（％）、直線ｃ−ｄと直線ｅ−ｆとの交点における温度をＴ２（℃）、初期質量Ｍ０に対する残存重量をｍ２（％）とする。
【００１６】
減量開始温度はＴ１、減量終了温度はＴ２となり、重量減量の傾きは
（ｍ１−ｍ２）（％）／（Ｔ２−Ｔ１）（℃）
で示される値で、初期重量に対する重量減量率は
（ｍ１−ｍ２）（％）
で示される。
【００１７】
上記定義に基づくと、光情報記録媒体に用いる記録層材料としては、主減量過程における重量減量の傾きが２％／℃以上であることが好ましい。
この重量減量の傾きが２％／℃未満である記録材料を用いると、記録部の広がりが大きくなり、また短い記録部を形成することが困難となるため、高容量化を目的とする短波長光情報記録媒体には不向きである。
【００１８】
また、主減量過程における重量減量率は、４０％以上であることが好ましい。
４０％未満であると、良好な記録変調度、記録感度が得られない可能性がある。
さらに熱的特性に必要な条件は、減量開始温度Ｔ１がある温度範囲にあることが必要である。
【００１９】
具体的には、減量開始温度が２００〜３５０℃の範囲にあることが好ましい。
減量開始温度が２００℃以下であると、再生劣化を起こすなど、記録安定性が悪化し、３５０℃以上であると、記録レーザ光のパワーが高くなり、実用的な範囲でなくなる。
【００２０】
以上のように光情報記録媒体として、必要な諸条件に対し、本発明で主として記録層に用いられる一般式（１）、（２）の化合物は、記録再生波長４００〜５００ｎｍに対応し、かつ主減量過程における、減量開始温度が適度な温度範囲にあり、さらには重量減量が、温度に対して急峻であることを見出したものである。
【００２１】
一般式（１）、（２）において、置換基Ｒ1〜Ｒ4としては、Ｒ1、Ｒ2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルカノール基、アリール基、アラルキル基、アシル基等を表す。Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基（エステルを含む）、直鎖状または分岐状のアルキル基、直鎖状または分岐状の置換基を有するアリール基、アルコキシ基、アリールアルコキシ基、置換または未置換のスルホンアミド基、置換または未置換のアリールオキシ基、直鎖状または分岐状のアルキル置換基を有するアシル基、置換または未置換のアリルオキシ基またはナフトイルオキシ基等を表す。またＲ3、Ｒ4は複数箇所に同一または互いに異なる置換基を有してもよい。
【００２２】
アルキル基（アルコキシ基、アルキルアルコキシ基中のアルキル部分を含む）の具体例としては、例えば、次のものが挙げられる。なお、これらのアルキル基は、ハロゲン原子等の置換基で置換されていてもよい。メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、イソアミル基、２−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルへキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２−エチルペンチル基、３−エチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルへブチル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基等の一級アルキル基；イソプロビル基、ｓｅｃ−ブチル基、１−エチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１−メチルヘプチル基、１−エチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、１−メチルヘキシル基、１−エチルへブチル基、１−プロピルブチル基、１−イソプロピルー２−メチルプロビル基、１−エチル−２−メチルブチル基、１−プロピル−２−メチルプロピル基、１−メチルヘプチル基、１−エチルヘキシル基、１−プロピルペンチル基、１−イソプロピルぺンチル基、１−イソプロピル−２−メチルブチル基、１−イソプロピル−３−メチルブチル基、１−メチルオクチル基、１−エチルへプチル基、１−プロピルヘキシル基、１−イソブチル−３−メチルブチル基等の二級アルキル基；ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｔｅｒｔ−オクチル基等の三級アルキル基；シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、４−（２−エチルヘキシル）シクロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニル基、アダマンタン基等のシクロアルキル基等。
【００２３】
また、置換若しくは未置換のアリール基（アリールオキシ基のアリール部分を含む）の具体例としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ブチルフェニル基、ノニルフェニル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、メチルピリジル基等が挙げられる。なお、これらのアリール基は、ハロゲン原子等の置換基で置換されていてもよい。
【００２４】
置換基としては、膜の結晶化を防止するため、さらに有機溶剤への溶解性を高めるために、なるべくかさだかい置換基を導入することが好ましい。
具体的な化合物は例えば化学式（３）〜（２６）が挙げられる。
【００２５】
【化５】
0003636907.tif 000004
【００２６】
【化６】
0003636907.tif 000005
【００２７】
【化７】
0003636907.tif 000006
【００２８】
【化８】
0003636907.tif 000007
【００２９】
【化９】
0003636907.tif 000008
【００３０】
【化１０】
0003636907.tif 000009
【００３１】
基板材料としては、例えばガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。
なお、これらの材料はフィルム状として、または剛性のある基板として使うことができる。
【００３２】
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録層の防止の目的で、下引層が設けられてもよい。
【００３３】
下引層の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。
【００３４】
下引層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
下引層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００３５】
また、基板（または下引層）上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（グループ）が形成されていることが好ましい。
このグルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されることが好ましい。またグルーブ形成を、プレグルーブ層を設けることにより行ってもよい。
【００３６】
基板上には、記録層が設けられる。本発明の記録層には主として一般式（１）、（２）の有機化合物が含有されるが、他の色素材料等を混合して用いてもよい。
【００３７】
色素材料としては、例えば、オキソノール系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物などを挙げることができる。
【００３８】
記録層の形成は、本発明の一般式（１）、（２）の化合物、さらには前記混合色素、所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾操することにより行なうことができる。
【００３９】
色素層塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロへキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。
【００４０】
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種以上併用して適宜用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
結合剤を使用する場合に結合剤の例としては、たとえばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、プチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。
【００４１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。
【００４２】
記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。
また、記録層は基板の片面のみならず両面に設けられていてもよい。
本発明の光情報記録媒体は、上記記録層の上に、情報の再生時における反射率の向上の目的で、反射層が設けられる。
【００４３】
反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼、さらには誘電体多層膜を用いることができるが、プロセス上の容易さから金属反射層が好ましい。
【００４４】
金属反射層は、記録層を透過したレーザ光を効率良く反射させるのが主作用であり、ＲＯＭとの互換性を持たせるために、高反射率が要求される。
４００〜５００ｎｍのレーザ光に対して高反射率が確保できる金属反射膜として、金を主成分とした金属反射層や銀を主成分とした金属反射層が挙げられるが、高反射率化の点で銀を主成分とする金属反射層が好ましい。
また対侯性向上のために、銀にロジウム、パラジウム、白金、チタン、モリブデン、ジルコニウム、タンタル、タングステン、バナジウム等を添加しても良い。
【００４５】
金属反射層の膜厚は、高反射率の点から１００ｎｍ程度以上で、記録層の変形を阻害したり、記録感度の悪化を招かない程度の膜厚にする必要がある。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。
また、反射層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられてもよい。
【００４６】
この保護層は、基板の記録層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
【００４７】
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着層を反射層上および／または基板上にラミネートすることにより形成することができる。
あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。
【００４８】
ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。
【００４９】
本発明において、光情報記録媒体は上述した構成からなる単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼り合せタイプの記録媒体を製造することもできる。
あるいはまた、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイッチタイプの記録媒体を製造することができる。
【００５０】
【実施例】
芳香族炭化水素、または脂肪族炭化水素を溶媒として、オキシ塩化リンを触媒とし、１，３置換バルビツル酸、および各該当置換基を有するホルムアニリド誘導体の反応により、化合物（化学式１９〜２６）を得た。
上記で得られた化合物の主減量過程における減量開始温度、重量減量の傾き、重量減量率をセイコー電子工業製の示差熱天秤ＴＧ−ＤＴＡ−３２０を用いて測定した。
【００５１】
その結果は表１に示すとおりである。
さらに、上記で得られた化合物をクロロホルムに溶解させ、スピンコート法によってガラス基板上に薄膜を形成させ、この時の最大吸収波長を測定した。
その結果は図３〜図１０に示すとおりである。
【００５２】
表１、および図３〜図１０の結果からこれらの化合物が、主減量過程における減量開始温度、重量減量の傾き、重量減量率が良好であり、また４００〜５００ｎｍの記録再生波長に対応できることがわかる。
上記で作成されたガラス基板上の薄膜サンプルのうちＳａｍｐｌｅ−４に対し、記録による反射スペクトルの変化を調べた。
【００５３】
記録マーク生成の確認、および記録マーク生成に伴う記録材料の反射スペクトルの測定には、図２で示すようにサンプル１０に対して、ＳＨＧレーザ１１、パルスジェネレータ１２、音響光学変調器（ＡＯＭ）１３、光学顕微鏡１４、顕微分光光度計１５よりなる評価システムにより行った。
なお、ＳＨＧレーザは日立金属社製の全固体ＳＨＧレーザＩＣＤ４２０を用い、このレーザの波長は４２０ｎｍであり、レーザの出力は１０ｍｗである。
このレーザ照射による記録に伴って、薄膜サンプルの反射率が初期反射率に対し、約５２％となり、４２０ｎｍの波長のレーザ光によって記録が可能であることが確認できた。
【００５４】
【表１】
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【００５５】
【発明の効果】
本発明の有機材料を記録層として用いることで、波長４００〜５００ｎｍで記録再生が可能な、短波長記録に好適な光情報記録媒体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】有機材料の主減量過程、重量減量の傾き、重量減量率を求める方法を説明するための図。
【図２】光情報記録媒体に対して記録再生を行うための記録再生装置の構成例を示す模式図。
【図３】化合物（１９）の最大吸収波長の測定結果を示す。
【図４】化合物（２０）の最大吸収波長の測定結果を示す。
【図５】化合物（２１）の最大吸収波長の測定結果を示す。
【図６】化合物（２２）の最大吸収波長の測定結果を示す。
【図７】化合物（２３）の最大吸収波長の測定結果を示す。
【図８】化合物（２４）の最大吸収波長の測定結果を示す。
【図９】化合物（２５）の最大吸収波長の測定結果を示す。
【図１０】化合物（２６）の最大吸収波長の測定結果を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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