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【手続補正書】
【提出日】令和3年5月17日(2021.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子を有する撮像部と、
前記撮像部の光軸に略平行な方向に離して配置された複数のマイクを含む第１のマイク群と、
前記撮像部の光軸に略垂直な方向に離して配置された複数のマイクを含む第２のマイク群とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
入力される音信号を用いて指向性処理を実施し、前記指向性処理された音信号を出力する音信号処理部を有し、
前記音信号処理部は、
集音対象の範囲が所定の画角よりも広い側である場合、前記第１のマイク群で得られる音信号を用いて前記指向性処理を実施し、
前記集音対象の範囲が所定の画角よりも狭い側である場合、前記第２のマイク群で得られる音信号を用いて前記指向性処理を実施することを特徴とする請求項１記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第１のマイク群に属する少なくとも１つのマイクが、前記第２のマイク群に属することを特徴とする請求項１又は２記載の撮像装置。
【請求項４】
前記第１のマイク群におけるマイク間の距離は、前記第２のマイク群におけるマイク間の距離よりも大きいことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記第１のマイク群におけるマイク間の距離と、前記第２のマイク群におけるマイク間の距離とが同じであることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記第２のマイク群に属するマイクは、前記撮像部の光軸に略対称に配置されていることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
第１の平面上に前記第１のマイク群に属する前記複数のマイクが配置され、前記第１の平面とは異なる第２の平面上に前記第２のマイク群に属する前記複数のマイクが配置されることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記音信号処理部は、入力される前記音信号を増幅する複数のアンプを有し、
前記第１のマイク群で得られる音信号を用いて前記指向性処理を実施する場合に前記複数のアンプに設定される増幅量の平均値は、前記第２のマイク群で得られる音信号を用いて前記指向性処理を実施する場合に前記複数のアンプに設定される増幅量の平均値より大きいことを特徴とする請求項２記載の撮像装置。
【請求項９】
前記第１のマイク群で得られる音信号を用いて前記指向性処理を実施する場合に前記複数のアンプに設定される増幅量は、音信号を得るマイクの位置が撮像装置において被写体側から遠いほど高く設定されることを特徴とする請求項８記載の撮像装置。
【請求項１０】
撮像素子を有する撮像部と、前記撮像部の光軸に略平行な方向に離して配置された複数のマイクを含む第１のマイク群と、前記撮像部の光軸に略垂直な方向に離して配置された複数のマイクを含む第２のマイク群とを有する撮像装置と、
前記撮像装置から出力された音信号を用いて指向性処理を実施し、前記指向性処理された音信号を出力する音信号処理部を有し、
前記音信号処理部は、
集音対象の範囲が所定の画角よりも広い側である場合、前記第１のマイク群で得られる音信号を用いて前記指向性処理を実施し、
前記集音対象の範囲が所定の画角よりも狭い側である場合、前記第２のマイク群で得られる音信号を用いて前記指向性処理を実施することを特徴とする撮像システム。
【請求項１１】
撮像素子を有する撮像部と、前記撮像部の光軸に略平行な方向に離して配置された複数のマイクを含む第１のマイク群と、前記撮像部の光軸に略垂直な方向に離して配置された複数のマイクを含む第２のマイク群とを有する撮像装置により得られる音信号の信号処理方法であって、
集音対象の範囲に応じて、前記第１のマイク群及び前記第２のマイク群の内から使用するマイク群を決定する決定工程と、
前記決定工程で決定されたマイク群で得られる音信号を用いて指向性処理を実施し、前記指向性処理された音信号を出力する音信号処理工程とを有し、
前記音信号処理工程では、
集音対象の範囲が所定の画角よりも広い側である場合、使用するマイク群を前記第１のマイク群に決定し、
前記集音対象の範囲が所定の画角よりも狭い側である場合、使用するマイク群を前記第２のマイク群に決定することを特徴とする信号処理方法。
【請求項１２】
撮像素子を有する撮像部と、前記撮像部の光軸に略平行な方向に離して配置された複数のマイクを含む第１のマイク群と、前記撮像部の光軸に略垂直な方向に離して配置された複数のマイクを含む第２のマイク群とを有する撮像装置により得られる音信号の信号処理をコンピュータに実行させるプログラムであって、
集音対象の範囲に応じて、前記第１のマイク群及び前記第２のマイク群の内から使用するマイク群を決定する決定ステップと、
前記決定ステップで決定されたマイク群で得られる音信号を用いて指向性処理を実施し、前記指向性処理された音信号を出力する音信号処理ステップとを有し、
前記音信号処理ステップでは、
集音対象の範囲が所定の画角よりも広い側である場合、使用するマイク群を前記第１のマイク群に決定し、
前記集音対象の範囲が所定の画角よりも狭い側である場合、使用するマイク群を前記第２のマイク群に決定することを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月12日(2021.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スキャン画像に対して画像解析処理を実行することにより原稿領域を検出し、当該検出した原稿領域に基づいて傾き補正を実行することにより傾き補正後の画像を得る傾き補正手段と、
前記傾き補正手段で得られた前記傾き補正後の画像と、レイアウト処理に用いる対象領域の位置を示す枠とを表示し、かつ、ユーザの指示に基づいて当該枠の位置を変更することが可能な画面を表示する表示手段と、
ユーザにより出力指示が為されたときに前記画面に表示されている前記枠に基づき確定される対象領域の画像を、指定された用紙サイズ内にレイアウトするように制御するレイアウト手段と、
を備え、
前記表示手段は、前記ユーザによって前記対象領域の画像の出力サイズが指定された場合、前記検出された原稿領域が拡大表示された状態で前記傾き補正後の画像を初期表示し、かつ、前記原稿領域が拡大表示された前記傾き補正後の画像上に、当該指定された出力サイズのアスペクト比と同じアスペクト比を有する状態の前記枠を初期表示することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
リピートレイアウト処理時のモードを指定するモード指定手段をさらに備え、
前記モード指定手段において、前記ユーザにより指定された前記出力サイズとなるように前記対象領域の画像を変倍し且つ当該変倍後の画像を前記指定された用紙サイズ内に繰り返し配置する変倍モードが指定された場合に、前記表示手段は、前記検出された原稿領域が拡大表示された状態で前記傾き補正後の画像を初期表示するとともに、前記傾き補正後の画像における前記原稿領域の中心位置が前記枠の中心位置となるようにし、さらに、前記出力サイズのアスペクト比と同じアスペクト比の矩形であって、且つ、前記傾き補正後の画像における前記原稿領域内部において最大となる矩形の位置に前記枠を初期表示する、ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記モード指定手段において前記出力サイズが指定されずに前記対象領域の画像を等倍サイズで繰り返し配置する等倍モードが指定された場合、前記表示手段は、前記拡大表示された前記傾き補正後の画像上において、前記原稿領域に対応する位置に前記枠を初期表示する、ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記表示手段は、前記モード指定手段によりモードが変更された場合、モード変更前の前記画面において表示されていた前記枠の位置と、前記傾き補正後の原稿画像と、前記モード指定手段で変更されたモードとに基づいて、当該モード変更後の画面において前記傾き補正後の画像上に表示する前記枠の位置を決定する、ことを特徴とする請求項２または３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
記対象領域の画像が前記指定された用紙サイズ内にレイアウトされることにより作成される出力画像を用いて印刷処理を実行する印刷手段を、更に備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
コンピュータを、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項７】
請求項６に記載のプログラムを格納した、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項８】
スキャン画像に対して画像解析処理を実行することにより原稿領域を検出し、当該検出した原稿領域に基づいて傾き補正を実行することにより傾き補正後の画像を得る傾き補正ステップと、
前記傾き補正後の原稿画像と、レイアウト処理に用いる対象領域の位置を示す枠とを表示し、かつ、ユーザの指示に基づいて当該枠の位置を変更することが可能な画面を表示する表示ステップと、
ユーザにより出力指示が為されたときに前記画面に表示されている前記枠に基づき確定される対象領域の画像を、指定された用紙サイズ内にレイアウトするように制御するレイアウトステップと、
を備え、
前記表示ステップでは、前記ユーザによって前記対象領域の画像の出力サイズが指定された場合、前記検出された原稿領域が拡大表示された状態で前記傾き補正後の画像を初期表示し、かつ、前記原稿領域が拡大表示された前記傾き補正後の画像上に、当該指定された出力サイズのアスペクト比と同じアスペクト比を有する状態の前記枠を初期表示することを特徴とする画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の画像処理装置は、スキャン画像に対して画像解析処理を実行することにより原稿領域を検出し、当該検出した原稿領域に基づいて傾き補正を実行することにより傾き補正後の画像を得る傾き補正手段と、前記傾き補正手段で得られた前記傾き補正後の画像と、レイアウト処理に用いる対象領域の位置を示す枠とを表示し、かつ、ユーザの指示に基づいて当該枠の位置を変更することが可能な画面を表示する表示手段と、ユーザにより出力指示が為されたときに前記画面に表示されている前記枠に基づき確定される対象領域の画像を、指定された用紙サイズ内にレイアウトするように制御するレイアウト手段と、を備え、前記表示手段は、前記ユーザによって前記対象領域の画像の出力サイズが指定された場合、前記検出された原稿領域が拡大表示された状態で前記傾き補正後の画像を初期表示し、かつ、前記原稿領域が拡大表示された前記傾き補正後の画像上に、当該指定された出力サイズのアスペクト比と同じアスペクト比を有する状態の前記枠を初期表示することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月14日(2021.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スキャン画像に対して画像解析処理を実行することにより当該スキャン画像内に含まれる原稿画像の領域を検出する解析手段と、
ユーザの指示に基づいて、リピート対象領域の画像を印刷出力する際の出力サイズを指定するサイズ指定手段と、
前記原稿画像の領域と、前記サイズ指定手段で指定された出力サイズとに基づいて、前記原稿画像の領域内に前記出力サイズと同じアスペクト比のリピート対象領域を設定する設定手段と、
前記設定手段により設定されたリピート対象領域の画像を前記出力サイズとなるように変倍して、指定された用紙サイズ内に繰り返しレイアウトするように制御するリピートレイアウト手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記解析手段は、更に、前記検出した前記原稿画像の領域に基づいて傾き補正を実行することにより傾き補正後の画像を取得し、
前記設定手段は、前記取得された傾き補正後の画像における前記原稿画像の領域と、前記サイズ指定手段で指定された出力サイズとに基づいて、前記傾き補正後の画像における前記原稿画像の領域内に前記出力サイズと同じアスペクト比のリピート対象領域を設定し、
前記リピートレイアウト手段は、前記傾き補正後の画像における前記原稿画像の領域内に設定されたリピート対象領域の画像を、前記出力サイズとなるように変倍して、前記指定された用紙サイズ内に繰り返しレイアウトするように制御する、ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記設定手段は、前記取得された傾き補正後の画像における前記原稿画像の領域と前記サイズ指定手段で指定された出力サイズとに基づいて設定されるリピート対象領域を初期状態のリピート対象領域として、前記傾き補正後の画像と、前記初期状態のリピート対象領域の位置を示す枠とを領域指定画面に表示し、かつ、当該表示された領域指定画面においてユーザの指示に基づいて当該枠の位置が変更された場合は当該変更後の枠の位置に基づいてリピート対象領域を設定する、ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記領域指定画面において、ユーザの指示に基づいて当該リピート対象領域を示す枠の位置を変更する際、当該枠のアスペクト比を前記サイズ指定手段で指定された出力サイズのアスペクト比となるようにする、ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記サイズ指定手段は、あらかじめ出力サイズが登録されたボタンを表示し、当該表示したボタンがユーザにより選択された場合は、当該選択されたボタンに対して登録されている出力サイズを用いる、ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記リピート対象領域の画像が前記出力サイズとなるように変倍されて前記指定された用紙サイズ内に繰り返しレイアウトされることにより作成される出力画像を用いて、印刷処理を実行する印刷手段を、更に備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
コンピュータを、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項８】
請求項７に記載のプログラムを格納した、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項９】
スキャン画像に対して画像解析処理を実行することにより当該スキャン画像内に含まれる原稿画像の領域を検出する解析ステップと、
ユーザの指示に基づいて、リピート対象領域の画像を印刷出力する際の出力サイズを指定するサイズ指定ステップと
前記原稿画像の領域と、前記サイズ指定手段で指定された出力サイズとに基づいて、前記原稿画像の領域内に前記出力サイズと同じアスペクト比のリピート対象領域を設定する設定手段と、
前記設定手段により設定されたリピート対象領域の画像を前記出力サイズとなるように変倍して、指定された用紙サイズ内に繰り返しレイアウトするように制御するリピートレイアウトステップと、
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１０】
前記解析ステップでは、更に、前記検出した前記原稿画像の領域に基づいて傾き補正を実行することにより傾き補正後の画像を取得し、
前記設定ステップでは、前記取得された傾き補正後の画像における前記原稿画像の領域と、前記サイズ指定ステップで指定された出力サイズとに基づいて、前記傾き補正後の画像における前記原稿画像の領域内に前記出力サイズと同じアスペクト比のリピート対象領域を設定し、
前記リピートレイアウトステップでは、前記傾き補正後の画像における前記原稿画像の領域内に設定されたリピート対象領域の画像を、前記出力サイズとなるように変倍して、前記指定された用紙サイズ内に繰り返しレイアウトするように制御する、ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の画像処理装置は、スキャン画像に対して画像解析処理を実行することにより当該スキャン画像内に含まれる原稿画像の領域を検出する解析手段と、ユーザの指示に基づいて、リピート対象領域の画像を印刷出力する際の出力サイズを指定するサイズ指定手段と、前記原稿画像の領域と、前記サイズ指定手段で指定された出力サイズとに基づいて、前記原稿画像の領域内に前記出力サイズと同じアスペクト比のリピート対象領域を設定する設定手段と、前記設定手段により設定されたリピート対象領域の画像を前記出力サイズとなるように変倍して、指定された用紙サイズ内に繰り返しレイアウトするように制御するリピートレイアウト手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月12日(2021.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置、電子部品及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源回路と、
電源管理回路と、
演算処理回路と、
パワースイッチと、を有し、
前記電源回路は、電源電位を生成する機能を有し、
前記パワースイッチは、前記演算処理回路への前記電源電位の供給および停止を制御できる機能を有し、
演算処理回路は、第１回路と第２回路を有し、
前記第１回路は、前記演算処理回路で生成されるデータを保持できる機能を有し、
前記第２回路は、前記第１回路で保持されているデータを退避し、保持することができる機能、および退避しているデータを前記第１回路に復帰できる機能を有し、
前記第２回路および前記電源管理回路は、チャネル形成領域に金属酸化物を有するトランジスタで構成される論理回路を有する、半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記電源管理回路は、入力回路、ＡＮＤゲート回路、およびＯＲゲート回路を有するプログラマブルロジックアレイである半導体装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記ＡＮＤゲート回路およびＯＲゲート回路は、チャネル形成領域に金属酸化物を有するトランジスタを有し、当該トランジスタはオフ状態とすることでコンフィギュレーションデータに応じた電荷を記憶する機能を有する半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一に記載の半導体装置と、
リードと、を有する電子部品。
【請求項５】
請求項１乃至３に記載の半導体装置、及び請求項４に記載の電子部品の何れか一と、
表示装置、タッチパネル、マイク、スピーカ、操作キー、及び筐体の少なくとも一と、を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月24日(2020.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板研磨装置と、
前記基板研磨装置により研磨された基板を洗浄するための基板洗浄部と、
を備える、基板処理装置であって、
前記基板洗浄部は、
基板の洗浄を実行するための洗浄モジュールと、
前記基板洗浄部において基板を搬送するための洗浄部搬送機構と、
を備え、
前記洗浄部搬送機構は、
基板を保持するためのハンドと、
前記ハンドを開閉するハンド開閉機構と、
を備え、
前記基板処理装置はさらに、前記ハンドを洗浄するためのハンド洗浄部を備え、
前記ハンド洗浄部は、
前記洗浄モジュールの前記ハンドが開閉する方向の側部に設けられており、前記ハンドを収容することが可能であるハンド洗浄槽と、
前記ハンドが前記ハンド洗浄槽に収容された場合に所定の位置に向かって洗浄液を噴射する、洗浄液噴射機構と、
を備えている、
基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、前記所定の位置には前記ハンドが収容されるべき位置が含まれる、基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置であって、
前記洗浄部搬送機構はさらに、前記ハンドを上下動するハンド上下動機構を備え、
前記ハンド洗浄槽は、前記ハンド開閉機構および前記ハンド上下動機構により前記ハンドが開かれかつ下降させられた場合に前記ハンドを収容することが可能である位置に設け
られている、
基板処理装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の基板処理装置であって、
前記ハンドはクローにより基板を保持するように構成されており、
前記所定の位置には前記クローが収容されるべき位置が含まれる、
基板処理装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の基板処理装置であって、
前記ハンド洗浄槽の底部に開口が形成されており、
前記ハンド洗浄槽の底部の形状は、前記開口に向かって低くなる形状である、
基板処理装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の基板処理装置であって、前記ハンド洗浄槽の上部は開いている、基板処理装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の基板処理装置であって、
前記基板処理装置はさらに制御部を備え、
前記制御部は、以下に記載の少なくともいずれかの場合に前記所定の位置に向けて洗浄液を噴射するように前記基板処理装置を制御する、基板処理装置：
・基板が前記洗浄モジュールに搬送された後、
・基板を前記洗浄モジュールから搬送する前および
・前記基板洗浄部の待機時間。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の基板処理装置であって、
前記ハンドは２本からなり、
前記ハンド洗浄槽は、前記洗浄モジュールの両方の側部に設けられた１対のハンド洗浄槽であり、
前記ハンドが開いた状態で前記ハンドを下降させると、２本の前記ハンドの一方が前記ハンド洗浄槽の一方に収容され、前記ハンドの他方が前記ハンド洗浄槽の他方に収容される、基板処理装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の基板処理装置におけるハンドの洗浄方法であって、
前記ハンドを前記ハンド洗浄槽に収容する段階と、
前記洗浄液噴射機構を用いて、前記所定の位置に向かって洗浄液を噴射する段階と、
を備える、ハンドの洗浄方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月10日(2021.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上のインプリント材と型とを接触させて前記基板の上に前記インプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板に前記インプリント材を供給する供給部と、
前記基板に供給すべき前記インプリント材の位置を示す前記インプリント材の配置データに従って前記供給部を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記基板上の前記インプリント材の液滴の広がりに関する特徴量に基づいて前記配置データを決定することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記制御部は、インプリント条件と、該インプリント条件の下で前記インプリント材と前記型とを接触させた場合における前記インプリント材の液滴の広がりに関する特徴量との間の予め得られた対応関係に基づいて、前記配置データを決定することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記インプリント材と前記型とを接触させている間に、前記インプリント材の複数の液滴を撮像する撮像部を更に有し、
前記制御部は、前記撮像部による撮像によって得られた画像に基づいて前記特徴量を求めることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記特徴量は、前記撮像部による撮像によって得られた前記複数の液滴のうちの１つの液滴の画像に基づいて当該液滴を円で近似したときの、該円の径を含むことを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記特徴量は、前記撮像部による撮像によって得られた前記複数の液滴のうちの１つの滴の画像に基づいて当該液滴を楕円で近似したときの、該楕円の長径、短径、曲率半径、および傾きを含むことを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記インプリント条件は、前記型の種別、前記インプリント材と前記型とを接触させて前記インプリント材を前記型のパターンに充填させるために設定された充填時間、前記接触の際の前記インプリント材と前記型との相対的な移動速度、前記撮像部により撮像する領域の前記基板における位置、前記インプリント材の材質、基板コーティング材の材質、前記接触が行われる位置の雰囲気気体の流量のうちの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記型に形成されているパターンに応じて前記撮像部により撮像する領域を決定することを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記対応関係のデータを記憶する記憶部を有することを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記記憶部は、複数のインプリント条件のそれぞれについて前記対応関係のデータを記憶することを特徴とする請求項８に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
ユーザインタフェースを介してインプリント条件を入力する入力部を更に有し、
前記制御部は、前記対応関係のデータに基づいて、前記入力部により入力されたインプリント条件に対応する特徴量を取得し、該取得した特徴量から予測される前記液滴の広がり予測形状基づいて前記配置データを決定する
ことを特徴とする請求項９に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記入力部により入力されたインプリント条件と合致するインプリント条件が前記対応関係のデータにない場合、前記制御部は、前記対応関係のデータにおける他のインプリント条件に対応する特徴量に基づいて、前記入力部により入力されたインプリント条件に対応する特徴量を作成することを特徴とする請求項１０に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
前記制御部は、互いに隣り合う複数の広がり予測形状それぞれの重心を結んで得られる多角形の面積が所定の重なり制約の下で最小となるように調整した結果に基づいて前記配置データを決定することを特徴とする請求項１０または１１に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
前記ユーザインタフェースを表示する表示部を更に有し、
前記制御部は、前記ユーザインタフェースとして、
前記入力部として前記インプリント条件の値を受け付け可能な第１ユーザインタフェース画面と、
前記決定された配置データに従い配置される液滴の画像および該液滴の広がり予測形状の画像を表示する第２ユーザインタフェース画面と、
を前記表示部に表示させることを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記形成する工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を有し、
前記処理する工程で処理された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造法。
【請求項１５】
基板の上のレジスト材と平坦化プレートとを接触させて前記基板の上に前記レジスト材による平坦化層を形成する平坦化層形成装置であって、
前記基板に前記レジスト材を供給する供給部と、
前記基板に供給すべき前記レジスト材の位置を示す前記レジスト材の配置データに従って前記供給部を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記基板上の前記レジスト材の液滴の広がりに関する特徴量に基づいて前記配置データを決定することを特徴とする平坦化層形成装置。
【請求項１６】
基板の上のレジスト材と型とを接触させて前記基板の上に前記レジスト材のパターンを形成する装置において前記基板に供給すべき前記レジスト材の位置を示す前記レジスト材の配置データを決定する情報処理装置であって、
前記レジスト材の液滴の広がりに関する特徴量に基づいて前記配置データを決定することを特徴とする情報処理装置。
【請求項１７】
基板の上のレジスト材と型とを接触させて前記基板の上に前記レジスト材のパターンを形成する装置において前記基板に供給すべき前記レジスト材の位置を示す前記レジスト材の配置データを決定する決定方法であって、
前記レジスト材の液滴の広がりに関する特徴量を取得する取得工程と、
前記取得した特徴量に基づいて前記配置データを決定する決定工程と、
を有することを特徴とする決定方法。
【請求項１８】
前記レジスト材と前記型とを接触させたときの前記レジスト材の液滴の広がりを計測する計測工程を有し、
前記取得工程において、前記計測工程において得られたデータから前記特徴量を取得することを特徴とする請求項１７に記載の決定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一側面によれば、基板の上のインプリント材と型とを接触させて前記基板の上に前記インプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、前記基板に前記インプリント材を供給する供給部と、前記基板に供給すべき前記インプリント材の位置を示す前記インプリント材の配置データに従って前記供給部を制御する制御部とを有し、前記制御部は、前記基板上の前記インプリント材の液滴の広がりに関する特徴量に基づいて前記配置データを決定することを特徴とするインプリント装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月3日(2020.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図４は本発明のツェナーダイオード３０１のＩＶ-ＩＶ'での断面図である。コア層１１０にかかるｐ型シリコン領域１１１ｂはＧｅ層１１４の直下には無く、ｎ型シリコンスラブ１１９がＧｅ層１１４の下に有る。ｐ++シリコン電極部１１２はｐ型シリコン領域１１１ｂ上にあり、ｎ++シリコン電極部１２０はｎ型シリコンスラブ１１９上にあり、ｐ++シリコン電極部１１２は、電極１１６と接続している。また、ｎ++シリコン電極部１２０は、電極１１７と接続されている。ｐ型シリコン領域１１１ｂ、ｎ型シリコンスラブ１１９の間にはインプラの無い真性シリコン領域１２５がある。この真性シリコン領域１２５の大きさ、およびｐ型シリコン領域１１１ｂ、ｎ型シリコンスラブ１１９のドーピング濃度でツェナーダイオードの動作閾値は決定される。動作閾値を調整するため、真性シリコン領域１２５を無くし、ｐ型シリコン領域１１１ｂ、ｎ型シリコンスラブ１１９を接触させても良い。この時、ｐ型シリコン領域１１１ｂはＧｅ層１１４の直下に入っても良い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図５の（１）が示すように本発明のツェナーダイオードは逆バイアス側では−７Ｖ程度から一気に電流を上げ、また順バイアス側では０．５Ｖ程度から一気に電流を上げる。更に０．５Ｖ〜−７Ｖの間で流れる電流は数ｎＡ程度であり、典型的なツェナーダイオードの動作をしている。図５の（３）にある本発明の構成の光検出器の電流電圧特性を見ると、図５の（２）のような通常のＧｅＰＤの電流電圧特性とは異なり、−７Ｖ程度から一気に電流を上げる図５の（１）のツェナーダイオードの電流電圧特性を重ね合わせたような挙動を示している。静電気放電による瞬間的な電圧の上昇が有った時には、このツェナーダイオードの急激な電流増加によってＧｅＰＤにかかる電圧を−７Ｖ程度に保持する役割を果たす。このため、ツェナーダイオードが破壊されるまではＧｅＰＤに掛かる電圧は一定であり保護されるため、静電気放電による破壊を防ぐことが出来る。本発明の光検出器は、一般的なＧｅＰＤに比べて１００Ｖ以上の耐圧の向上が見込めるため、人型モデルにおける一般的に求められる耐圧に到達し得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図４は本発明のツェナーダイオード３０１のＩＶ-ＩＶ'での断面図である。コア層１１０にかかるｐ型シリコン領域１１１ｂはＧｅ層１１４の直下には無く、ｎ型シリコンスラブ１１９がＧｅ層１１４の下に有る。ｐ++シリコン電極部１１２はｐ型シリコン領域１１１ｂ上にあり、ｎ++シリコン電極部１２０はｎ型シリコンスラブ１１９上にあり、ｐ++シリコン電極部１１２は、電極１１６と接続している。また、ｎ++シリコン電極部１２０は、電極１１７と接続している。ｐ型シリコン領域１１１ｂ、ｎ型シリコンスラブ１１９の間にはインプラの無い真性シリコン領域１２５がある。この真性シリコン領域１２５の大きさ、およびｐ型シリコン領域１１１ｂ、ｎ型シリコンスラブ１１９のドーピング濃度でツェナーダイオードの動作閾値は決定される。動作閾値を調整するため、真性シリコン領域１２５を無くし、ｐ型シリコン領域１１１ｂ、ｎ型シリコンスラブ１１９を接触させても良い。この時、ｐ型シリコン領域１１１ｂはＧｅ層１１４の直下に入っても良い。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月11日(2021.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱源となる回路部を有し、当該回路部からの熱を冷却ファンの送風によって外部に排気する電子機器であって、
前記冷却ファンによる送風を受ける熱交換部と、
前記回路部から前記熱交換部に熱を伝導する熱伝導部と、を有し、
前記電子機器の外装には前記熱交換部を通過した空気を外部に排気するための排気穴が形成されており、
前記熱交換部には放熱板が備えられ、前記放熱板は前記冷却ファンの送風方向を整流する整流面と、前記熱伝導部に当接する熱結合面と、前記整流面および前記熱結合面に交差する放熱面と、を有することを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記電子機器は各種情報を表示する表示モニターを有し、
前記外装には前記表示モニターを収納する収納部が形成されており、
前記排気穴は、前記収納部に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記表示モニターが前記収納部に収納された際、前記収納部と前記表示モニターとの間には所定の間隙が存在しており、
前記排気穴は前記間隙に対応して形成されていることを特徴とする請求項２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記整流面の延在方向と前記収納部の主面の延在方向とは交差することを特徴とする請求項２又は３に記載の電子機器。
【請求項５】
前記熱交換部は、前記熱結合面の一端を覆う熱結合部材を有し、
前記熱結合部材は前記熱結合面および前記熱伝導部に対して付勢されて前記熱結合面および前記熱伝導部に当接することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項６】
前記熱結合部材を前記熱結合面および前記熱伝導部に対して付勢する遮熱用樹脂部材を有することを特徴とする請求項５に記載の電子機器。
【請求項７】
前記遮熱用樹脂部材には、前記排気穴の方向に空気を誘導する面が形成されていることを特徴とする請求項６に記載の電子機器。
【請求項８】
前記熱交換部には複数の前記放熱板が備えられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の電子機器。
【請求項９】
前記放熱板のうちの少なくとも１つには、前記放熱面に対して所定の角度を有する整流形状部が備えられていることを特徴とする請求項８に記載の電子機器。
【請求項１０】
前記熱伝導部は前記回路部に当接する第１の部位と前記熱結合面に当接する第２の部位とを有し、前記第１の部位と前記第２の部位とはその高さが異なることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の電子機器。
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月21日(2020.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１遊技状態と、第１遊技状態よりも有利な第２遊技状態と、第３遊技状態と、を含む何れかの遊技状態に制御可能な遊技状態制御手段と、
前記第２遊技状態への移行に関する特定抽選を実行可能な特定抽選手段と、
第１ベット数と、第２ベット数と、を含む複数のベット数のうちから、何れかのベット数を設定可能な設定手段と、
前記設定手段により所定のベット数が設定された後に、遊技開始条件が成立した場合、役の抽選を実行可能な抽選手段と、
前記抽選手段による抽選結果に応じた態様で、変動表示している識別情報を停止表示することが可能な表示手段と、
前記変動表示している識別情報が特定態様で停止表示された場合、遊技者に所定の遊技価値を付与可能な付与手段と、
所定の情報を報知可能な報知手段と、
を備え、
前記抽選手段は、
前記第１遊技状態において、前記設定手段により前記第１ベット数が設定されたことに基づく抽選結果として、第１特別抽選結果を導出可能であり、
前記第１遊技状態において、前記設定手段により前記第２ベット数が設定されたことに基づく抽選結果として、第２特別抽選結果を導出可能であり、
前記表示手段は、
前記抽選手段により前記第１特別抽選結果が導出された場合、第１特別態様で識別情報を停止表示可能であり、
前記抽選手段により前記第２特別抽選結果が導出された場合、第２特別態様で識別情報を停止表示可能であり、
前記遊技状態制御手段は、
前記第１遊技状態において、前記特定抽選手段による抽選結果が前記第２遊技状態への移行を示す場合、前記第２遊技状態に遊技状態を制御することが可能であり、
前記表示手段において識別情報が前記第１特別態様で停止表示された場合、前記第３遊技状態としての特定第３遊技状態に遊技状態を制御することが可能であり、
前記表示手段において識別情報が前記第２特別態様で停止表示された場合、前記第３遊技状態としての特別第３遊技状態に遊技状態を制御することが可能であり、
前記特定抽選手段は、
前記特別第３遊技状態において、前記特定抽選を実行せず、
前記報知手段は、
前記特別第３遊技状態において、前記第１遊技状態への復帰待ち状態に関する待情報を報知可能である
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記特定抽選手段は、前記第１遊技状態において、
前記設定手段により前記第１ベット数が設定された場合には、前記特定抽選を実行可能であり、
前記設定手段により前記第２ベット数が設定された場合には、前記特定抽選を実行しない
ことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記第１遊技状態は、非ＡＴ遊技状態であり、
前記第２遊技状態は、ＡＴ遊技状態であり、
前記第３遊技状態は、ボーナス遊技状態である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明の遊技機は、第１遊技状態と、第１遊技状態よりも有利な第２遊技状態と、第３遊技状態と、を含む何れかの遊技状態に制御可能な遊技状態制御手段と、前記第２遊技状態への移行に関する特定抽選を実行可能な特定抽選手段と、第１ベット数と、第２ベット数と、を含む複数のベット数のうちから、何れかのベット数を設定可能な設定手段と、前記設定手段により所定のベット数が設定された後に、遊技開始条件が成立した場合、役の抽選を実行可能な抽選手段と、前記抽選手段による抽選結果に応じた態様で、変動表示している識別情報を停止表示することが可能な表示手段と、前記変動表示している識別情報が特定態様で停止表示された場合、遊技者に所定の遊技価値を付与可能な付与手段と、所定の情報を報知可能な報知手段と、を備え、前記抽選手段は、前記第１遊技状態において、前記設定手段により前記第１ベット数が設定されたことに基づく抽選結果として、第１特別抽選結果を導出可能であり、前記第１遊技状態において、前記設定手段により前記第２ベット数が設定されたことに基づく抽選結果として、第２特別抽選結果を導出可能であり、前記表示手段は、前記抽選手段により前記第１特別抽選結果が導出された場合、第１特別態様で識別情報を停止表示可能であり、前記抽選手段により前記第２特別抽選結果が導出された場合、第２特別態様で識別情報を停止表示可能であり、前記遊技状態制御手段は、前記第１遊技状態において、前記特定抽選手段による抽選結果が前記第２遊技状態への移行を示す場合、前記第２遊技状態に遊技状態を制御することが可能であり、前記表示手段において識別情報が前記第１特別態様で停止表示された場合、前記第３遊技状態としての特定第３遊技状態に遊技状態を制御することが可能であり、前記表示手段において識別情報が前記第２特別態様で停止表示された場合、前記第３遊技状態としての特別第３遊技状態に遊技状態を制御することが可能であり、前記特定抽選手段は、前記特別第３遊技状態において、前記特定抽選を実行せず、前記報知手段は、前記特別第３遊技状態において、前記第１遊技状態への復帰待ち状態に関する待情報を報知可能である構成とした。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月8日(2021.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示画面を有する表示手段と、
演出を制御可能な演出制御手段と、を備える遊技機において、
前記演出制御手段は、
所定の特定演出を実行する前の演出区間で、当該特定演出の実行を予告する特定予告演出を実行可能であり、
前記特定演出を実行する場合には、前記演出区間で実行する前記特定予告演出として、第１特定予告演出又は第２特定予告演出の一方を実行し、前記第１特定予告演出及び前記第２特定予告演出の両方を実行することがなく、
前記第１特定予告演出は、前記表示画面で表示されていた背景画像を止めて実行される一方、
前記第２特定予告演出は、前記表示画面で表示されていた背景画像に重ねて実行されることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の遊技機は、
表示画面を有する表示手段と、
演出を制御可能な演出制御手段と、を備える遊技機において、
前記演出制御手段は、
所定の特定演出を実行する前の演出区間で、当該特定演出の実行を予告する特定予告演出を実行可能であり、
前記特定演出を実行する場合には、前記演出区間で実行する前記特定予告演出として、第１特定予告演出又は第２特定予告演出の一方を実行し、前記第１特定予告演出及び前記第２特定予告演出の両方を実行することがなく、
前記第１特定予告演出は、前記表示画面で表示されていた背景画像を止めて実行される一方、
前記第２特定予告演出は、前記表示画面で表示されていた背景画像に重ねて実行されることを特徴とする遊技機である。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月27日(2021.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技が可能な遊技機であって、
枠体と、
前記枠体に対して開閉可能な扉体と、
解消するのに前記扉体を開放することを要する特定異常を報知する特定異常報知手段と、
を備え、
前記扉体に設けられた鍵穴に鍵を挿入し、挿入した鍵を第１位置に回転させる第１操作と、挿入した鍵を第２位置に回転させる第２操作と、を行うことが可能であり、
前記第１操作は、前記枠体と前記扉体との係止を解除して前記扉体を開放可能な状態とする操作であり、
前記第２操作は、前記特定異常報知手段による報知を終了させる操作であり、
前記扉体が開放されているときに前記第２操作が規制され、
前記遊技機は、前記第２操作を検出する検出手段への接触を阻害する接触阻害手段をさらに備える、遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１の遊技機は、
遊技が可能な遊技機であって、
枠体と、
前記枠体に対して開閉可能な扉体と、
解消するのに前記扉体を開放することを要する特定異常を報知する特定異常報知手段と、
を備え、
前記扉体に設けられた鍵穴に鍵を挿入し、挿入した鍵を第１位置に回転させる第１操作と、挿入した鍵を第２位置に回転させる第２操作と、を行うことが可能であり、
前記第１操作は、前記枠体と前記扉体との係止を解除して前記扉体を開放可能な状態とする操作であり、
前記第２操作は、前記特定異常報知手段による報知を終了させる操作であり、
前記扉体が開放されているときに前記第２操作が規制され、
前記遊技機は、前記第２操作を検出する検出手段への接触を阻害する接触阻害手段をさらに備える
ことを特徴としている。
手段１の遊技機は、
遊技が可能な遊技機（例えば、スロットマシン１）であって、
枠体（例えば、筐体１ａ）と、
前記枠体に対して開閉可能な扉体（例えば、前面扉１ｂ）と、
解消するのに前記扉体を開放することを要する特定異常（例えば、ホッパーエラー、ホッパーエンプティエラー、セレクタエラー等）を報知する特定異常報知手段（例えば、エラーコードの表示、エラー画面の表示、エラー報知音の出力）と、
を備え、
前記扉体に設けられた鍵穴に鍵を挿入し、挿入した鍵を第１位置に回転させる第１操作と、挿入した鍵を第２位置に回転させる第２操作と、を行うことが可能であり（例えば、キー穴２０２に挿入した扉キー２０１を、扉キー２０１が縦向きとなる基準位置から第１位置まで第１方向（正面視右方向）に回転させる第１操作（右回転操作）が可能であるとともに、基準位置から第２位置まで第２方向（正面視左方向）に回転させる第２操作（左回転操作）が可能である。）、
前記第１操作は、前記枠体と前記扉体との係止を解除して前記扉体を開放可能な状態とする操作であり（例えば、第１操作を行うことにより、係止部２０６Ａ，２０６Ｂの被係止部２０７Ａ，２０７Ｂに対する係止状態が解除（解錠）され、前面扉１ｂが開放可能な状態となる。）、
前記第２操作は、前記特定異常報知手段による報知を終了させる操作であり（例えば、第２操作を行うことにより、被検出部２１７がリセットスイッチ２３により検出され、エラー状態が解除され、これに伴う報知も終了する。）、
前記扉体が開放されているときに前記第２操作が規制され（例えば、前面扉１ｂが開放されているときは、第１位置まで回転させた扉キー２０１を第２方向（左方向）に向けて回転させる第２操作が規制部材２０８により規制される。）、
前記第２操作を検出する検出手段が接触困難となるように被覆部により被覆されている（例えば、リセットスイッチ２３は、外部から接触困難となるように被覆部材２１０により被覆されている。）
ことを特徴としている。
この特徴によれば、扉体が開放されているときに特定異常報知手段による報知を終了させる第２操作が規制されるので、解消するのに扉体を開放することを要する特定異常が生じた場合に、特定異常を解消した後、扉体が閉じた状態となることで特定異常報知手段による報知を終了させることが可能であり、扉体が開いたまま特定異常報知手段による報知だけが終了してしまうことを防止できる。また、第２操作を検出する検出手段が接触困難となるように被覆部により被覆されているため、扉体を開放させた状態のまま鍵を用いずに特定異常報知手段による報知を終了させることを防止できる。
尚、手段１において枠体とは、底が塞がれないフレームのみの構造でも良いし、有底の箱状の構造でも良い。また、枠体は、内部に遊技機を構成する部品が設置されるものでも良いし、内部に部品が設置されず、単に遊技島等の設備に取り付けるためたけのものでも良い。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月12日(2021.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室内に設けられる部材の駆動方法であって、
前記部材を透過する波長を有する測定光を前記部材に照射する工程と、
前記部材の表面からの反射光と前記部材の裏面からの反射光とに基づき反射光の強度分布を検出する工程と、
前記強度分布を示すスペクトルをフーリエ変換して光路差を算出する工程と、
前記光路差に基づいて前記部材の駆動量を決定する工程と、
決定した前記駆動量に基づいて前記部材を駆動する工程と、
を有する部材の駆動方法。
【請求項２】
前記部材は消耗部材である、
請求項１に記載の部材の駆動方法。
【請求項３】
前記消耗部材は、エッジリング、前記エッジリングを囲むように配置されるカバーリング、前記カバーリングの下に配置されるインシュレータリング及び載置台に対向する上部電極の周囲に配置されるトップシールドリングの少なくともいずれかである、
請求項２に記載の部材の駆動方法。
【請求項４】
前記消耗部材は、前記エッジリングであり、
前記エッジリングは、複数に分割され、
前記部材を駆動する工程は、決定した前記駆動量に基づいて複数に分割された前記エッジリングの少なくともいずれかを駆動する、
請求項３に記載の部材の駆動方法。
【請求項５】
前記照射する工程は、前記処理室内に設けられる部材の複数個所に前記測定光を照射し、
前記強度分布を検出する工程は、前記部材の各箇所の表面からの反射光と前記部材の各箇所の裏面からの反射光とに基づき反射光の各箇所の強度分布を検出し、
前記光路差を算出する工程は、検出した各箇所の前記強度分布を示すスペクトルをフーリエ変換して各箇所の光路差を求め、
前記部材の駆動量を決定する工程は、各箇所の前記光路差に基づいて各箇所に応じた前記部材の駆動量を決定する、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の部材の駆動方法。
【請求項６】
前記部材に当接する複数のリフターピンを有し、
前記部材の駆動量を決定する工程は、前記各箇所の光路差に基づいて各箇所に応じた前記部材の駆動量を決定し、
前記部材を駆動する工程は、決定した各箇所に応じた前記部材の駆動量に基づいて各箇所に応じた前記複数のリフターピンの少なくともいずれかを独立して駆動する、
請求項５に記載の部材の駆動方法。
【請求項７】
前記部材に照射する工程は、前記処理室の前記部材とは異なる他の部材へ前記測定光を照射し、
前記部材を駆動する工程は、決定した前記他の部材の駆動量に基づいて前記部材を駆動する、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の部材の駆動方法。
【請求項８】
前記部材に照射する工程は、前記部材の上部又は下部から測定光を照射する、
請求項１〜７のいずれか一項に記載の部材の駆動方法。
【請求項９】
前記駆動方法は、前記処理室内にて行われる異なるプラズマ処理工程の間に行われる、
請求項１〜８のいずれか一項に記載の部材の駆動方法。
【請求項１０】
前記処理室内で基板をプラズマ処理する工程と、
前記基板を前記処理室に搬入する前に、請求項１〜９のいずれか一項に記載の駆動方法を実行する工程と、
を有する、プラズマ処理方法。
【請求項１１】
処理室内に設けられる部材と、前記部材を駆動する駆動部と、制御部と、を有する処理装置であって、
前記制御部は、
前記部材を透過する波長を有する測定光を前記部材に照射する工程と、
前記部材の表面からの反射光と前記部材の裏面からの反射光とに基づき反射光の強度分布を検出する工程と、
前記強度分布を示すスペクトルをフーリエ変換して光路差を算出する工程と、
前記光路差に基づいて前記部材の駆動量を決定する工程と、
決定した前記駆動量に基づいて前記部材を駆動する工程と、
を制御する処理装置。
【請求項１２】
処理容器と、
前記処理容器内に配置される測定対象と、
前記測定対象を上下方向に移動させるように構成されたアクチュエータと、
測定光を前記測定対象に照射するように構成された照射部と、
前記測定対象の表面からの反射光と前記測定対象の裏面からの反射光とに基づき反射光の強度分布を検出するように構成された検出部と、
前記測定対象の表面からの反射光と前記測定対象の裏面からの反射光との光路差に基づいて前記測定対象の駆動量を決定するように構成された分析装置と、
決定した前記駆動量に基づいて前記アクチュエータを制御するように構成された制御部と、
を有するプラズマ処理装置。
【請求項１３】
前記分析装置は、前記強度分布を示すスペクトルをフーリエ変換することにより前記光路差を算出する、
請求項１２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１４】
前記測定対象は、エッジリング、前記エッジリングを囲むように配置されるカバーリング、前記カバーリングの下に配置されるインシュレータリング及び載置台に対向する上部電極の周囲に配置されるトップシールドリングの少なくともいずれかである、
請求項１２又は１３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１５】
前記処理容器内に配置される載置台をさらに備え、
前記測定対象は、前記載置台の上に配置される、
請求項１２〜１４のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１６】
前記測定対象は、複数に分割されており、
前記アクチュエータは、決定した前記駆動量に基づいて前記複数に分割された測定対象の少なくともいずれかを駆動する、
請求項１２〜１５のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】駆動方法、プラズマ処理方法、処理装置及びプラズマ処理装置
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月10日(2021.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に処理空間を有する処理容器と、
前記処理容器に配置される部材と、
前記部材の内部に形成される流路と、を有し、
前記流路は、前記部材の処理空間側の面に対して複数段に設けられる、
処理装置。
【請求項２】
前記流路を流れる熱媒体は、前記部材の処理空間側の面に近い側の第１流路から流入し、前記部材の処理空間側の面に遠い側の第２流路から流出する、
請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記第１流路は、渦巻状又はリング状に形成される、
請求項２記載の処理装置。
【請求項４】
前記第２流路は、中空に形成される、
請求項２又は３に記載の処理装置。
【請求項５】
前記第２流路に設けられる熱媒体の入口と出口とは、該第２流路の中心軸に対して点対称の位置であって該流路の外縁又はその近傍に設けられる、
請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】
前記第２流路の内部に熱媒体の流れを偏向させる部材を設ける、
請求項２〜５のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項７】
前記熱媒体の流れを偏向させる部材は、１以上の弁体又は棒状部材である、
請求項６に記載の処理装置。
【請求項８】
前記熱媒体の流れを偏向させる部材は、回転軸を中心に回転可能な1以上の弁体である、
請求項６又は７に記載の処理装置。
【請求項９】
前記熱媒体の流れを偏向させる部材は、前記第２流路に設けられる熱媒体の入口と出口とを結ぶ線の間に配置される、
請求項６〜８のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記処理装置は、
前記部材の処理空間側の面と反対側の面に接触するＯリングを有する、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の処理装置。
【請求項１１】
処理容器の処理空間に向けて配置される部材であって、
前記部材は、内部に形成される流路を有し、
前記流路は、前記部材の処理空間側の面に対して複数段に設けられる、
部材。
【請求項１２】
各段の前記流路のうち前記部材の処理空間側の面に近い側の第１流路に熱媒体が流入する入口が設けられ、前記部材の処理空間側の面に遠い側の第２流路に前記熱媒体が流出する出口が設けられた、
請求項１１に記載の部材。
【請求項１３】
前記処理容器の処理空間に向けて配置される部材は、載置台及び／又はシャワーヘッドである、
請求項１１又は１２に記載の部材。
【請求項１４】
内部に処理空間を有する処理容器と、
前記処理容器に配置される部材と、
前記部材の内部に形成される流路と、
前記部材の処理空間側の面と反対側の面に接触するＯリングと、
を有する処理装置の温度制御方法であって、
前記流路は、前記部材の処理空間側の面に対して複数段に設けられ、
第１の温度の熱媒体を前記部材の処理空間側の面に近い側の第１流路から流入させ、前記部材の処理空間側の面に遠い側の第２流路から流出させる第１の工程と、
前記第１の温度と異なる温度の第２の温度の熱媒体を、前記第１流路から流入させ、前記第２流路から流出させる第２の工程と、
を有する温度制御方法。
【請求項１５】
前記第１の温度の熱媒体を前記部材の処理空間側の面に近い側の第１流路から流入させ、前記部材の処理空間側の面に遠い側の第２流路から流出させるとともに、前記第１の温度と異なる温度の第２の温度の熱媒体を、前記第１流路から流入させ、前記第２流路から流出させる、第３工程をさらに有する、
請求項１４に記載の温度制御方法。