(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置の雰囲気中の特定の物質の濃度をモニタリングするためのシステムであって、
雰囲気ガスを採取するための複数の測定ポートと、
前記複数の測定ポートの中の１つを切り換えて選択するためのポート選択手段と、
前記ポート選択手段で選択された測定ポートを通して前記雰囲気ガスをサンプリングするとともに、サンプリングされた雰囲気ガス中に含まれる前記特定の物質の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記ポート選択手段と前記濃度測定手段とを制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、
前記複数の測定ポートに対して互いに異なる測定条件を各測定ポートの測定位置に応じて予めそれぞれ設定しうる測定条件設定手段と、
前記測定条件設定手段で設定された前記測定条件を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された前記測定条件に従って、前記ポート選択手段と前記濃度測定手段とを制御する制御実行手段と、を備える、気中濃度モニタリングシステム。
【請求項２】
請求項１記載の気中濃度モニタリングシステムであって、
前記測定条件設定手段は、前記複数の測定ポートの選択の順序を含む測定順序を設定する手段を備え、
前記制御実行手段は、前記測定順序に従って前記複数の測定ポートを順次選択しつつ、前記測定条件に従って一連の測定を順次実行する手段を備える、気中濃度モニタリングシステム。
【請求項３】
請求項２記載の気中濃度モニタリングシステムであって、
前記測定条件設定手段は、さらに、一時的な測定を行うための一時的測定条件を設定する手段を備え、
前記測定順序に従って測定を実行している途中において、前記測定条件設定手段を用いて前記一時的測定条件が設定された場合には、前記制御実行手段は、前記一時的測定条件に従って測定を実行する割り込み処理を行う、
気中濃度モニタリングシステム。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の気中濃度モニタリングシステムであって、
前記測定条件は、測定に用いる測定ポートを識別するためのポート番号と、前記特定の物質の濃度基準値とを含み、
前記測定順序は、複数の測定条件を選択する順序を示したものである、気中濃度モニタリングシステム。
【請求項５】
請求項４記載の気中濃度モニタリングシステムであって、
前記測定条件は、さらに、前記雰囲気ガスのサンプリング時間を含む、
気中濃度モニタリングシステム。
【請求項６】
請求項５記載の気中濃度モニタリングシステムであって、
前記測定条件は、さらに、前記サンプリングによって採取された物質を分析するための分析時間を含む、気中濃度モニタリングシステム。
【請求項７】
請求項４ないし６のいずれかに記載の気中濃度モニタリングシステムであって、さらに、
前記濃度測定手段によって測定された前記特定の物質の濃度が前記濃度基準値を超えている場合に、所定の警報を発生するための警報発生手段を備える、
気中濃度モニタリングシステム。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の気中濃度モニタリングシステムであって、
前記特定の物質はアルカリ成分である、気中濃度モニタリングシステム。
【請求項９】
基板処理装置の雰囲気中の特定の物質の濃度をモニタリングするためのシステムであって、
雰囲気ガスを採取するための測定ポートと、
前記測定ポートを通して前記雰囲気ガスをサンプリングするとともに、サンプリングされた雰囲気ガス中に含まれる前記特定の物質の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記濃度測定手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、
互いに異なる複数の測定条件を設定しうる測定条件設定手段と、
前記測定条件設定手段で設定された前記複数の測定条件を記憶する記憶手段と、
前記測定ポートを用いて、前記互いに異なる複数の測定条件に従って測定を実行する制御実行手段と、を備え、
前記制御実行手段は、１つの測定ポートに対して異なる複数の測定条件で測定を行うにあたって、測定頻度の高い測定ではサンプリング時間又は分析時間を短く設定し、測定頻度の低い測定ではサンプリング時間又は分析時間を長く設定する、
気中濃度モニタリングシステム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板処理装置の雰囲気中の特定の物質の濃度をモニタリングするための気中濃度モニタリングシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウェハや液晶パネル等を製造するための基板を処理する基板処理装置では、その雰囲気中における種々の化学物質（アルカリ成分、酸成分、有機物成分等）の濃度をなるべく低く保つ必要がある。実際に、雰囲気中の化学物質の濃度（以下、単に「気中濃度」とも呼ぶ）を低減するために、種々のフィルタが用いられている。また、気中濃度をモニタリングするためのモニタリングシステムも用いられる場合がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、１台の基板処理装置の複数の箇所において、気中濃度をモニタリングしたい場合がある。あるいは、複数台の基板処理装置の複数の箇所において気中濃度をモニタリングしたい場合もある。しかし、複数の測定個所においては、測定対象となる物質の濃度の測定範囲が異なることも多い。この場合には、各測定個所において測定条件を変更しなければならない。しかし、従来の気中濃度モニタリングシステムでは、複数の箇所において異なる測定条件で測定を実行することができなかった。
【０００４】
また、１つの測定個所において、異なる測定条件で測定を実行したい場合もある。しかし、従来の気中濃度モニタリングシステムでは、同じ測定個所において異なる測定条件で測定を行うことも困難であった。
【０００５】
この発明は、従来技術における上述の課題を解決するためになされたものであり、１つまたは複数の測定個所において、異なる測定条件で測定を実行することができる気中濃度モニタリングシステムを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】
上述の課題の少なくとも一部を解決するため、第１の発明は、基板処理装置の雰囲気中の特定の物質の濃度をモニタリングするためのシステムであって、
雰囲気ガスを採取するための複数の測定ポートと、
前記複数の測定ポートの中の１つを切り換えて選択するためのポート選択手段と、
前記ポート選択手段で選択された測定ポートを通して前記雰囲気ガスをサンプリングするとともに、サンプリングされた雰囲気ガス中に含まれる前記特定の物質の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記ポート選択手段と前記濃度測定手段とを制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、
前記複数の測定ポートに対して互いに異なる測定条件を各測定ポートの測定位置に応じて予めそれぞれ設定しうる測定条件設定手段と、
前記測定条件設定手段で設定された前記測定条件を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された前記測定条件に従って、前記ポート選択手段と前記濃度測定手段とを制御する制御実行手段と、を備える。
【０００７】
複数の測定ポートに対して異なる測定条件をそれぞれ設定することができるので、測定ポートを切り換えつつ、異なる測定条件で複数種類の測定を実行することができる。
【０００８】
上記第１の発明において、前記測定条件設定手段は、前記複数の測定ポートの選択の順序を含む測定順序を設定する手段を備え、
前記制御実行手段は、前記測定順序に従って前記複数の測定ポートを順次選択しつつ、前記測定条件に従って一連の測定を順次実行する手段を備えることが好ましい。
【０００９】
こうすれば、任意の順序で複数の測定ポートを切り換えつつ、測定を実行することができる。
【００１０】
上記第１の発明において、前記測定条件設定手段は、さらに、一時的な測定を行うための一時的測定条件を設定する手段を備え、
前記測定順序に従って測定を実行している途中において、前記測定条件設定手段を用いて前記一時的測定条件が設定された場合には、前記制御実行手段は、前記一時的測定条件に従って測定を実行する割り込み処理を行うことが好ましい。
【００１１】
こうすれば、予め設定された測定順序の途中で、任意の測定を一時的に実行することができる。
【００１２】
上記第１の発明において、前記測定条件は、測定に用いる測定ポートを識別するためのポート番号と、前記特定の物質の濃度基準値とを含み、
前記測定順序は、複数の測定条件を選択する順序を示したものであることが好ましい。
【００１３】
こうすれば、同じ測定ポートに対して異なる条件で測定を行うことも可能である。また、測定された濃度が、濃度基準値を超えた場合には、警報を発する等の何らかの処理を行うことができる。
【００１４】
前記測定条件は、さらに、前記雰囲気ガスのサンプリング時間を含むことが好ましい。また、前記測定条件は、さらに、前記サンプリングによって採取された物質を分析するための分析時間を含むことが好ましい。
【００１５】
サンプリング時間や分析時間を変更すれば、測定精度や測定できる濃度域を調整することができる。
【００１６】
上記第１の発明において、前記濃度測定手段によって測定された前記特定の物質の濃度が前記濃度基準値を超えている場合に、所定の警報を発生するための警報発生手段を備えることが好ましい。
【００１７】
こうすれば、この警報に応じた何らかの処置を行うことができる。
【００１８】
なお、前記特定の物質はアルカリ成分であることが好ましい。
【００１９】
第２の発明は、基板処理装置の雰囲気中の特定の物質の濃度をモニタリングするためのシステムであって、
雰囲気ガスを採取するための測定ポートと、
前記測定ポートを通して前記雰囲気ガスをサンプリングするとともに、サンプリングされた雰囲気ガス中に含まれる前記特定の物質の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記濃度測定手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、
互いに異なる複数の測定条件を設定しうる測定条件設定手段と、
前記測定条件設定手段で設定された前記複数の測定条件を記憶する記憶手段と、
前記測定ポートを用いて、前記互いに異なる複数の測定条件に従って測定を実行する制御実行手段と、を備え、
前記制御実行手段は、１つの測定ポートに対して異なる複数の測定条件で測定を行うにあたって、測定頻度の高い測定ではサンプリング時間又は分析時間を短く設定し、測定頻度の低い測定ではサンプリング時間又は分析時間を長く設定する。
【００２０】
同じ測定ポートに対して、異なる複数の測定条件を設定できるので、これらの複数の測定条件に従って、一連の測定を実行することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を実施例に基づき説明する。図１は、本発明の一実施例としての基板処理装置１０の概略平面図であり、図２は、その概略正面図である。
【００２２】
この基板処理装置１０は、インデクサ１２と、インタフェイス部１４と、ステッパ１６と、スピンコータ１８と、スピンデベロッパ２０と、ホットプレート２２と、クーリングプレート２４と、搬送装置２５とを備えている。インデクサ１２は、複数の基板を収納したカセットを載置するステージを有しており、図示しない移載装置を用いてカセットから基板を取出したり、処理済み基板をカセット内に収納したりする機能を有する。ホットプレート２２及びクーリングプレート２４は、基板を所定の温度で加熱・冷却する処理ユニットであり、それぞれ複数のユニットが上下方向に積み重ねて設けられている。スピンコータ１８は、基板を回転しつつ、基板上にレジスト等の薬液を塗布する機能を有する。スピンデベロッパ２０は、基板を回転しつつ、基板上に現像液を塗布してレジストを現像する機能を有する。ステッパ１６は基板を露光する露光機である。インタフェイス部１４は、ステッパ１６と、他の処理ユニット１８，２０，２２，２４との間で基板を受け渡す機能を有する。
【００２３】
なお、インデクサ１２と処理ユニット１８，２０，２２，２４とで構成される部分）を、以下では「回転式基板処理部」と呼ぶ。
【００２４】
図２に示すように、この基板処理装置１０には、回転式基板処理部の上方空間を覆うようにクリーンベンチ２６が配設されている。また、インタフェイス部１４の上方にも、クリーンベンチ２８が配設されている。クリーンベンチ２６，２８からは、基板の搬送路や各処理ユニットに対して下向きにクリーンエアー（清浄空気）が吹き出され、その環境が清浄にかつ一定の状態に保たれるようになっている。
【００２５】
図３は、複数の測定ポートを含む気中濃度モニタリングシステムの構成を示す概念図である。図３においては、クリーンベンチ２６の近傍に設けられた３つの測定ポート５１〜５３を示している。測定ポート５１〜５３は、雰囲気ガスを吸引するためのノズルである。気中濃度モニタリングシステムは、これらの測定ポート５１〜５３を含む複数の測定ポートと、測定ポート選択部６０と、測定制御部７０とを備えている。
【００２６】
図３に示すように、クリーンベンチ２６は、支柱３０の上に設けられた空洞のチェンバー部３２を有している。チェンバー部３２の内部には、クリーンエアーを下方に吹き出すためのファン３４が設けられており、ファン３４の下流側にあるエアー吹出口には２次フィルタ３６が設置されている。また、クリーンベンチ２６の上部側面にあるエアー吸込口には１次フィルタ３８が設置されている。ファン３４が回転すると、外部のエアーが１次フィルタ３８を通ってチェンバー部３２内に取り入れられ、さらに、２次フィルタ３６を通過して下方の回転式基板処理部に供給される。
【００２７】
２次フィルタ３６の下流側の位置には、第１の測定ポート５１が設けられている。また、１次フィルタ３８と２次フィルタ３６の間の位置に第２の測定ポート５２が設けられている。さらに、１次フィルタ３８の入口の手前に第３の測定ポート５３が設けられている。なお、「雰囲気ガス」は、通常は空気である。
【００２８】
ところで、測定対象の化学物質としては、アンモニアなどのアルカリ成分や、酸成分、有機成分等の種々のものを選択することができる。特に、回転式基板処理部において化学増幅型レジストを用いる場合には、アンモニアの濃度を測定し、一定の許容値以下に管理することが重要である。「化学増幅型レジスト」とは、露光されると特定の酸が発生し、この酸が触媒となり、露光部分の反応（分解又は重合）を増幅させ、効率よくパターン形成が可能なレジストを言う。このような化学増幅型レジストを用いる場合には、雰囲気中にアンモニア等のアルカリ成分が含まれていると酸が中和されてしまうので、レジストの品質が低下するという問題がある。従って、雰囲気中のアルカリ成分を一定値以下に抑制することが望まれている。そこで、２つのフィルタ３６，３８の少なくとも一方には、アルカリ成分（特にアンモニア）を除去するためのフィルタが使用される。
【００２９】
図３に示す３つの測定ポート５１〜５３は、いずれも同一の化学物質（例えばアンモニア）の濃度を測定するために使用されるが、その濃度の測定域は異なる。すなわち、第１の測定ポート５１の測定域が最も低く、第３の測定ポート５３の測定域が最も高く、第２の測定ポート５２の測定域はそれらの中間である。後述するように、この実施例では、各測定ポートでの濃度の測定域に適した測定条件をそれぞれ設定することが可能である。
【００３０】
複数の測定ポートを配置する位置としては、図３の例以外にも、例えば次のような位置が考えられる（図１，図２参照）。ステッパ１６からスピンデベロッパ２０に基板を搬送する際の搬送経路Ｐ１；インタフェイス部１４上の位置Ｐ２、基板処理装置１０の外側位置Ｐ３；クリーンベンチ２６のフィルタの直下の位置Ｐ４；インデクサ１２上の位置Ｐ５。上述したように、化学増幅型レジストを用いる場合には、ステッパ１６における露光によって生成された酸が、アンモニア等のアルカリ成分と反応しないようにすることが望ましいので、上記の第１の位置Ｐ１（ステッパ１６からスピンデベロッパ２０に基板を搬送する際の搬送経路）及び第２の位置Ｐ２（インタフェイス部１４上）におけるアルカリ成分の濃度の管理が特に重要である。
【００３１】
図３に示す測定ポート選択部６０は、複数の電動弁６１，６２，６３…を備えている。この中の３つの電動弁６１〜６３は、３つの測定ポート５１〜５３にそれぞれ接続されている。なお、複数の電動弁の下流側（測定制御部７０側）の配管は、多分岐管（マニフォールド）によって１本にまとめられている。測定時には、複数の電動弁の１つだけが開放され、他の電動弁は閉鎖される。そして、開放された電動弁に接続された測定ポートから雰囲気ガスが測定制御部７０内に吸引される。
【００３２】
測定制御部７０は、濃度測定部７１と、メモリ７２と、制御演算部７３と、入力部７４と、出力部７５とを備えるコンピュータシステムである。濃度測定部７１は、測定ポート選択部６０を介して吸引された雰囲気ガス中の化学物質の濃度を測定する機能を有する。濃度測定部７１の構成と動作については後述する。入力部７２は、例えばキーボードやタッチパネル等で実現される。出力部７５は、ＣＲＴ等の表示手段やプリンタ等で実現される。メモリ７２には、制御演算部７３に種々の制御演算動作を行わせるためのコンピュータプログラムが格納されている。また、後述するように、測定条件や測定順序等の種々のデータもこのメモリ７２内に記憶される。
【００３３】
なお、測定ポート選択部６０は、本発明のポート選択手段に相当する。また、濃度測定部７１が本発明の濃度測定手段に相当し、入力部７４が測定条件設定手段に、メモリ７２が記憶手段に、制御演算部７３が制御実行手段にそれぞれ相当する。但し、厳密に言えば、本発明の各手段は、図３の各部の機能と、メモリ７２に格納されたコンピュータプログラムを制御演算部７３が実行することによって実現される機能との組み合わせによって達成される場合もある。
【００３４】
これらの各手段の機能を実現するコンピュータプログラムは、フロッピディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の携帯型の記録媒体からコンピュータシステムのメインメモリまたは外部記憶装置に転送される。あるいは、通信経路を介してプログラム供給装置からコンピュータシステムに供給するようにしてもよい。
【００３５】
なお、この明細書において、「記録媒体」とは、上述した携帯型の記録媒体に限らず、各種のＲＡＭやＲＯＭ等のコンピュータ内の内部記憶装置や、ハードディスク等のコンピュータに固定されている外部記憶装置も含んでいる。すなわち、この発明の「記録媒体」は、コンピュータが読取り可能な媒体であって、コンピュータプログラムを記録した種々の媒体を含んでいる。
【００３６】
図４は、濃度測定部７１の内部構成を示す配管系統図である。濃度測定部７１は、拡散スクラバ８０と、純水供給ユニット８６と、エアポンプ８８と、電動切換弁９２と、イオンクロマトグラフ分析器９４とを備えている。拡散スクラバ８０は、多孔質チューブ８２の外側にガラス管８４が設けられている二重管構造を有している。多孔質チューブ８２とガラス管８４との間は、濃度測定を行なわない状態の時には、純水供給ユニット８６から供給される純水が循環して流され、濃度測定を行う際には、純水供給ユニット８６から供給される純水が一時的に溜め込まれる。なお、純水供給ユニット８６は、循環中に純水にとけ込んだアルカリ成分や酸成分等を除去するイオン交換樹脂を内部に備え、循環する純水を常に清浄な状態に保って供給できるものである。そして、純水が多孔質チューブ８２とガラス管８４との間に溜め込まれた状態で、エアポンプ８８が稼働すると、測定ポートから吸引された雰囲気ガスが多孔質チューブ８２の中を通過する。このとき、多孔質チューブ８２に形成されている多数の孔を通って、アルカリ成分や酸成分等の特定の種類の化学物質が、雰囲気ガスから純水の中に拡散して溶解する。この後、電動切換弁９２を開き、化学物質が溶解した水溶液をイオンクロマトグラフ分析器９４に導いて、濃度の測定を実行する。なお、濃度測定部７１としては、例えば横河分析システムズ社製のＩＣ７０００システムを使用することができる。
【００３７】
図５は、複数の測定ポートを用いた濃度分析処理の手順を示すフローチャートである。ステップＳ１では、制御演算部７３が測定ポート選択部６０の電動弁を制御して、測定に用いる測定ポートを１つ選択する。この結果、選択された１つの測定ポートのみが濃度測定部７１に連通された状態となる。ステップＳ２では、雰囲気ガスで所定の時間だけ測定用配管内（すなわち、測定ポートから多孔質チューブ８２までの配管内）をパージする。このステップＳ２は、雰囲気ガスの配管の内部を、ステップＳ１で選択された測定ポートの測定に適した初期状態に調整するために行われている。パージが終了すると、ステップＳ３において、純水供給ユニット８６から供給される純水を拡散スクラバ８０内に溜め込む。ステップＳ４では、この状態においてエアポンプ８８を稼働させて、予め設定されたサンプリング時間の間だけ雰囲気ガスを拡散スクラバ８０中に通す。この後、ステップＳ５において、拡散スクラバ８０内の水溶液をイオンクロマトグラフ分析器９４で分析し、特定の化学物質の濃度を測定する。
【００３８】
測定制御部７０のメモリ７２（図３）には、複数の測定ポートを用いた濃度測定の種々の条件を規定する測定レシピが登録されている。図６は、測定レシピの一例を示す説明図である。測定レシピは、測定順序ＭＯＲと、複数の単一測定レシピＲＰ１〜ＲＰ４とを含んでいる。各単一測定レシピは、１つの測定ポートを用いた１回の濃度測定の測定条件を示している。各単一測定レシピは、レシピ番号と、測定ポート番号と、濃度基準値と、サンプリング時間と、分析時間と、警報出力の要否と、を含んでいる。測定ポート番号は、複数の測定ポートの１つを識別するための番号である。濃度基準値は、所定の警報を発生する際の基準値として使用される。サンプリング時間は、図５のステップＳ４において、雰囲気ガスを拡散スクラバ８０内に通す時間である。分析時間は、ステップＳ５において、イオンクロマトグラフ分析器９４で分析を行うための時間である。なお、一般に、サンプリング時間と分析時間を長くするほど、測定精度を高めることができる。
【００３９】
測定順序ＭＯＲは、単一測定レシピのレシピ番号が配列されたものであり、単一測定レシピの実行の順序を示している。従って、図５に示す濃度分析処理は、図６に示す測定順序に従って、各単一測定レシピで規定されている条件の下でそれぞれ実行される。
【００４０】
なお、１つの測定ポートに１つの測定条件のみが設定されている場合には、測定順序ＭＯＲとして、レシピ番号の代わりに測定ポート番号の順序を登録したものを使用することも可能である。すなわち、測定順序ＭＯＲは、少なくとも測定ポート番号の選択の順序を実質的に含むものであればよい。
【００４１】
この明細書では、測定順序ＭＯＲと複数の単一測定レシピＲＰ１〜ＲＰ４とを含む測定レシピを、「広義の測定条件」と呼ぶ。また、１つの単一測定レシピを「狭義の測定条件」と呼ぶ。狭義の測定条件の中には、ステップＳ２（図５）におけるパージ時間等の他の条件を設定することも可能である。また、広義の測定条件の中には、各単一測定レシピの１日当たりの測定回数や、各単一測定レシピの測定時刻、各測定の間の時間間隔等の種々の条件を設定することも可能である。
【００４２】
測定順序ＭＯＲと複数の単一測定レシピＲＰ１〜ＲＰ４は、作業者が入力部７４を用いて設定する。図６に示すように、この実施例では、各測定ポートに異なる測定条件を設定可能なので、それぞれの濃度の測定域に応じた測定を実行することができる。例えば、図３の第１の測定ポート５１は、アンモニア濃度を可能な限り低減することが要求される領域であるフィルタ３６，３８の下流側に設けられているので、濃度測定をできるだけ精度良く行う必要がある。そこで、第１の測定ポート５１を用いて濃度測定を行う場合には、サンプリング時間や分析時間を長く設定して、比較的低い濃度値を精度良く測定する。一方、第３の測定ポート５３は、特段にアンモニア濃度について環境管理される領域ではないフィルタ３６，３８の上流側に設けられているので、アンモニアの濃度が比較的高い。そこで、第３の測定ポート５３を用いて濃度測定を行う場合には、サンプリング時間や分析時間を短く設定して、比較的高い濃度値を粗い精度で測定すればよい。
【００４３】
単一測定レシピにおいて、警報出力が必要である旨が設定されている場合には、測定された濃度が濃度基準値に達すると警報が出力さえる。例えば、第１の測定ポート５１において測定された濃度が濃度基準値に達すると、その旨の警報が発生され、これに応じて作業者がフィルタを交換する。警報の出力手段としては、ブザー音や、表示装置への警報表示などがある。また、警報の種類としては、作業者に何らかの作業（たとえばフィルタ交換）を要求する警報や、単に注意を喚起するための警報（例えばフィルタの交換時期が近いことを通知する）等が考えられる。
【００４４】
ところで、この実施例では、図６の測定順序ＭＯＲに従って順次濃度測定を実行している途中においても、作業者が一時的な濃度測定を割り込み処理として実行させることができる。この時、まず、作業者は、入力部７４に一時的な測定を実行する旨を入力し、一時的測定レシピＴＲＰ（図６）の測定条件を設定する。一時的測定レシピＴＲＰは、レシピ番号を含まない他は、単一測定レシピと同じものである。作業者は、一時的測定レシピＴＲＰを設定した後に、一時的測定の開始を指示する。制御演算部７３は、この指示に応じて、現在実行中の濃度測定の終了後に一時的測定を実行する。図６の例では、測定順序ＭＯＲの中の１番目の測定を実行中なので、この完了後に一時的測定が実行される。このように、この実施例では、予め設定された測定順序ＭＯＲに応じた定期的な測定を実行している途中において、任意の測定ポートを用いて任意の測定条件で一時的測定を割り込み処理として実行できる。従って、作業者の要望に応じた所望の濃度測定をいつでも実行することが可能である。例えば、１月に１回程度測定を行いたい場合や、実験的に測定を行いたいような場合には、この一時的測定を利用して容易にその測定を実行することができる。なお、一時的測定レシピＴＲＰとして、予めメモリ７２に記憶されている単一測定レシピのいずれかをそのまま用いることももちろん可能である。
【００４５】
上記実施例では、複数の単一測定レシピを組み合わせて、所定の順序で一連の測定を順次実行できるので、測定対象とする測定ポートを切り換えつつ、１つの濃度測定部７１を用いて濃度測定を連続的に実行していくことができるという利点がある。また、図６の１番目の単一測定レシピＲＰ１と、４番目の単一測定レシピＲＰ４の例のように、同じ測定ポート５１に対して、異なる測定条件を設定することもできるので、融通性の高い測定を行うことが可能である。す
【００４６】
さらに、この実施例の気中濃度モニタリングシステムでは、１つの測定ポートのみを使用して、異なる測定条件で測定を行うことも可能である。図７は、このような場合の測定レシピの一例を示す説明図である。この例では、同じ測定ポート５１に対して、複数の単一測定レシピＲＰ１１，ＲＰ１２が設定されている。そして、測定順序ＭＯＲには、１番目の単一測定レシピＲＰ１１を３回実行した後に、２番目の単一測定レシピＲＰ１２を１回実行することが登録されている。例えば、頻度の高い測定（１番目の測定レシピＲＰ１１）では、サンプリング時間や分析時間を短くして粗い精度の測定を行い、頻度の低い測定（２番目の測定レシピＲＰ１２）では、サンプリング時間や分析時間を長くし高い精度の測定を行うようにすることができる。このように、１つの測定ポート５１に対して異なる測定条件で測定を実行することができるので、測定の頻度や要求精度に応じた所望の測定を実行することができる。なお、１つの測定ポートのみを使用する場合には、図３に示す測定ポート選択部６０を省略することも可能である。この場合には、単一測定レシピの測定ポート番号も不要である。
【００４７】
なお、この発明は上記の実施例や実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。
【００４８】
（１）上記実施例では、１つの基板処理装置内に複数の測定ポートが設けられている例について説明したが、複数の基板処理装置に渡って複数の測定ポートが設けられている場合にも、本発明を適用することが可能である。
【００４９】
（２）上記実施例では、特定の１つの物質の濃度を測定する場合について説明したが、図３および図４に示す気中濃度モニタリングシステムでは、１回の測定で複数の物質の濃度を同時に測定することも可能である。複数の物質の気中濃度を同時に測定する場合には、単一測定レシピにおいて、複数の物質の基準濃度値が設定される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例としての基板処理装置の概略平面図。
【図２】図１の基板処理装置の概略正面図。
【図３】複数の測定ポートを含む気中濃度モニタリングシステムの構成を示す概念図。
【図４】濃度測定部７１の内部構成を示す配管系統図。
【図５】複数の測定ポートを用いた濃濃度分析処理の手順を示すフローチャート。
【図６】測定レシピの一例を示す説明図。
【図７】１つの測定ポートのみを使用して異なる測定条件で測定を行う場合の測定レシピの一例を示す説明図。
【符号の説明】
１０…基板処理装置
１２…インデクサ
１４…インタフェイス部
１６…ステッパ
１８…スピンコータ
２０…スピンデベロッパ
２２…ホットプレート
２４…クーリングプレート
２５…搬送装置
２６…クリーンベンチ
２８…クリーンベンチ
３０…支柱
３２…チェンバー部
３４…ファン
３６，３８…フィルタ
５１〜５３…測定ポート
６０…測定ポート選択部
６１〜６３…電動弁
７０…測定制御部
７１…濃度測定部
７２…メモリ
７２…入力部
７３…制御演算部
７４…入力部
７５…出力部
８０…拡散スクラバ
８２…多孔質チューブ
８４…ガラス管
８６…純水供給ユニット
８８…エアポンプ
９２…電動切換弁
９４…イオンクロマトグラフ分析器
【図１】
0003708644.tif 000002
【図２】
0003708644.tif 000003
【図３】
0003708644.tif 000004
【図４】
0003708644.tif 000005
【図５】
0003708644.tif 000006
【図６】
0003708644.tif 000007
【図７】
0003708644.tif 000008