【手続補正書】
【提出日】令和3年6月28日(2021.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクステージに保持されたマスクのパターンを投影する投影光学系と、
基板を保持して移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージに設けられた計測器であって、基板側マークが形成されたプレートと、前記マスクまたは前記マスクステージに設けられたマスク側マーク、前記投影光学系、前記基板側マークをそれぞれ透過した光を検出するセンサとを含み、前記センサで検出された光の光量を計測する計測器と、
を備え、
前記基板側マークは、前記センサの感度領域の中央に配置された中央マークと、該中央マークの周辺に配置された周辺マークとを含む、複数の計測マークを含み、前記中央マークは、前記基板ステージを前記投影光学系の光軸と平行な第１方向に駆動させることを伴う前記光量の計測に使用されるマークであり、前記周辺マークは、前記第１方向に直交する方向におけるアライメントに使用されるマークであることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記中央マークは、前記投影光学系の主光線の傾きを示すテレセントリシティを計測する処理に使用されるマークであることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記テレセントリシティを計測する処理は、前記基板ステージを前記第１方向に駆動したときに発生する、前記投影光学系により投影された前記マスク側マークの像の前記中央マークに対する前記第１方向と直交する第２方向の位置ずれ量を求める処理を含むことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記中央マークは、前記基板ステージを前記第１方向に駆動させながら前記光量を計測することにより前記第１方向におけるベストフォーカス位置を決定する処理に使用されるマークであることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記中央マークは、前記第１方向におけるそれぞれの位置に前記第１方向と直交する第２方向に駆動させながら前記光量を計測することにより、前記投影光学系により投影された前記マスク側マークの像の前記中央マークに対する前記第２方向の位置ずれ量を決定する処理に使用されるマークであることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記中央マークは、前記感度領域の表面と平行かつ前記第２方向と直交する第３方向に延びる形状を有する開口を有する第１中央マークを含み、該第１中央マークは、前記第２方向における前記感度領域の中央の位置に配置されることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記中央マークは、前記第２方向に延びる形状を有する開口を有する第２中央マークを更に含み、該第２中央マークは、前記第３方向における前記感度領域の中央の位置に配置されることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記中央マークは、前記第２方向または前記第３方向と平行な前記感度領域の中心線上で前記感度領域の中心に対して対称な位置に配置され、それぞれ開口を有する一対の第３中央マークを更に含むことを特徴とする請求項６または７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記周辺マークは、前記プレートと前記感度領域との位置合わせを行うためのアライメントマークを更に含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記アライメントマークは、開口部と目盛部を有し、
前記開口部を通して前記感度領域が合焦された状態で、前記感度領域の端面が計測され、
前記プレートの面が合焦された状態で、前記プレートと前記感度領域との間の位置ずれが前記目盛部を用いて計測されることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記感度領域のサイズをＳ、前記プレートの裏面と前記感度領域との間隔をＬ、前記プレートの厚みをＬ’、前記プレートの屈折率をｎ、計測する照明モードの開口数をＮＡとすると、前記中央マークは、前記感度領域の中心から、
S/2 - 3・(L・tan(asin(NA))+L'・tan(asin(NA/n)))
で表される半径Ｒ内の領域に配置されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記周辺マークは、開口部と遮光部の繰り返しパターンとして形成されたマークを含むことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記中央マークを用いた計測と前記周辺マークを用いた計測とでは、異なる計測結果が取得されることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記中央マークは、前記周辺マークの位置より前記感度領域の中央に近い位置に配置されていることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光した前記基板を現像する現像工程と、
を含み、前記現像工程で現像した前記基板から物品を製造する物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一側面によれば、マスクステージに保持されたマスクのパターンを投影する投影光学系と、基板を保持して移動可能な基板ステージと、前記基板ステージに設けられた計測器であって、基板側マークが形成されたプレートと、前記マスクまたは前記マスクステージに設けられたマスク側マーク、前記投影光学系、前記基板側マークをそれぞれ透過した光を検出するセンサとを含み、前記センサで検出された光の光量を計測する計測器とを備え、前記基板側マークは、前記センサの感度領域の中央に配置された中央マークと、該中央マークの周辺に配置された周辺マークとを含む、複数の計測マークを含み、前記中央マークは、前記基板ステージを前記投影光学系の光軸と平行な第１方向に駆動させることを伴う前記光量の計測に使用されるマークであり、前記周辺マークは、前記第１方向に直交する方向におけるアライメントに使用されるマークであることを特徴とする露光装置が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
基板ステージ８上に配置された計測器１５の構成を図５Ａに示す。図５Ａは、Ｙ方向からみた計測器１５の断面図である。計測器１５は、ガラスプレート５０と、ガラスプレート５０の下方に配置された光電変換部５１（センサ）とを有する。ガラスプレート５０の表面には、Ｃｒなどの遮光部３５が成膜されている。遮光部３５の中央部には複数の計測マーク３３（基板側マーク）が設けられている。複数の計測マーク３３はそれぞれ、露光光に対して遮光特性を持つ遮光部と開口部とによって形成されるが、図５Ａでは、複数の計測マーク３３は単なる開口で示されている。マスク側マーク、投影光学系３、基板側マークのそれぞれを透過した光は、光電変換部５１に到達する。光電変換部５１は、受けた光の強さに応じた電気信号を出力する。これにより光電変換部５１で検出された光の光量（または強度）を計測することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ここで、計測器１５を用いてテレセン度を計測する際の課題を説明する。図８Ａおよび図８Ｂは、テレセン度の計測誤差が発生しない条件を示しており、図９Ａおよび図９Ｂは、テレセン度の計測誤差が発生する条件を示している。図８Ａは、照明光学系１から照射された光の照明分布を計測器１５を用いて計測したときの走査信号の模式図である。照明光学系１からの照明光線２０１で、ベストフォーカス面とデフォーカス面を照明している。斜線部は、ベストフォーカス面での照明分布２０２と、デフォーカス面での照明分布２０３を示している。ベストフォーカス面における照明分布２０２では、その端の傾斜がきつい。これに対し、デフォーカス面における照明分布２０３では、その端の傾斜が緩く、分布が広がっている。照明分布２０２を計測器１５で走査計測したときの走査信号を走査信号２０４で示す。また、照明分布２０３を計測器１５で走査計測したときの走査信号を走査信号２０５で示す。