(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一対のワークロールを持つタンデム圧延機または可逆圧延機で金属薄板またはストリップを冷間圧延して金属薄板またはストリップを製造する方法であって、そのワークロールの少なくとも一つがテキスチャー化されたワークロールであり、テキスチャー化されたワークロールの表面模様を前記薄板またはストリップの表面に転写するようになっている前記方法において、テキスチャー化されたワークロールの前記模様が電子ビームのような高エネルギービームによって得られたスポットの二次元の確定的模様で構成され、その各スポットは凹孔の形をし、凹孔を取り巻く制御可能な縁を持ち、前記縁が縁の寸法と形状に関して制御可能であり、前記スポットが縁の高さに対する幅の比が少なくとも２で構成され、隣り合う二つの凹孔間の距離が５０と５５０μｍの間に含まれ、凹孔の内側直径が２０と２５０μｍの間に含まれ、そして冷間圧延機のテキスチャー化されたワークロールの粗さが０．４と８．０μｍの間に含まれることを特徴とする方法。
【請求項２】
冷間圧延機のテキスチャー化されたワークロールの粗さが１．０−３．５μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
縁の高さに対する幅の比が少なくとも３であることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
凹孔の深さに対する凹孔の直径の比が４より大きいことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
隣り合う二つの凹孔間の距離が１３０と３２０μｍの間に含まれ、深さが５と５０μｍの間に含まれることを特徴とする請求項１−４のいずれか一に記載の方法。
【請求項６】
深さが８と３０μｍの間に含まれることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
凹孔の内側直径が５０と１８０μｍの間に含まれるが、縁の幅が４−１００μｍの範囲であり、縁の高さが２−５０μｍの範囲であることを特徴とする請求項１−６のいずれか一に記載の方法。
【請求項８】
縁の幅が１０−７５μｍの範囲であることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
縁の高さが５−３５μｍの範囲であることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
冷間圧延後の金属薄板またはストリップが少なくとも一対のワークロールで調質圧延され、そのワークロールの少なくとも一つがテキスチャー化されたワークロールであり、調質圧延機のテキスチャー化されたワークロールの表面模様を前記薄板またはストリップの表面に転写するようになっており、調質圧延機のワークロールの前記模様がスポットの二次元の確定的模様で構成され、その各スポットは凹孔の形をし、凹孔を取り巻く縁を持つことを特徴とする請求項１−９のいずれか一に記載の方法。
【請求項１１】
調質圧延機のテキスチャー化されたワークロールの粗さが０．４−８．０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
調質圧延機のテキスチャー化されたロールの粗さが１．６−６．０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
冷間圧延機および／または調質圧延機のワークロールの対の両ロールがスポットの二次元の確定的模様である表面模様のテキスチャー化を受けていることを特徴とする請求項１−１２のいずれか一に記載の方法。
【請求項１４】
冷間圧延機および／または調質圧延機のテキスチャー化されたワークロールの模様配列はスポットからなる単位セルを形成していることを特徴とする請求項１−１３のいずれか一に記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも一対のワークロールを持つ少なくともタンデムまたは可逆圧延機を含む冷間圧延機により金属薄板またはストリップを製造するための装置であって、タンデムまたは可逆圧延機の対のワークロールの少なくとも一つのロールが電子ビームのような高エネルギービームによって得られたスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持ち、その各スポットは凹孔の形をし、凹孔を取り巻く縁を持ち、前記縁が縁の寸法と形状に関して制御可能であり、前記スポットが縁の高さに対する幅の比が少なくとも２で構成され、隣り合う二つの凹孔間の距離が５０と５５０μｍの間に含まれ、凹孔の内側直径が２０と２５０μｍの間に含まれ、そして冷間圧延機のテキスチャー化されたワークロールの粗さが０．４と８．０μｍの間に含まれることを特徴とする装置。
【請求項１６】
圧延機が圧延操作の数工程を実行する唯一のワークロールスタンドを備える可逆圧延機であり、その際圧延操作の最終工程の前にワークロールの少なくとも一つがスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持つテキスチャー化されたワークロールに変換されることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
圧延機が数個のスタンドを備えるタンデム圧延機であって、その際最終スタンドのみがスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持つ少なくとも一つのテキスチャー化されたワークロールを含み、圧延操作が一連続で実行されることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１８】
少なくとも一対のワークロールを持つ調質圧延機をも含み、その際調質圧延機の対のワークロールの少なくとも一つのロールがスポットの規則的な二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持ち、その各スポットは凹孔の形をし、凹孔を取り巻く縁を持つことを特徴とする請求項１５−１７のいずれか一に記載の装置。
【請求項１９】
タンデムまたは可逆圧延機および／または調質圧延機のワークロールの対の両ロールがスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャー化を受けていることを特徴とする請求項１５−１７のいずれか一に記載の装置。
【請求項２０】
スポットの規則的な二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持ち、各スポットが隆起またはピークを取り巻くへこみの形を持ち、その際プロファイル上で測定されたパワースペクトルが８００μｍより大きな波長に対して０．２μｍ2より小さいパワー密度を持つことを特徴とする請求項１−１４のいずれか一に記載の方法または請求項１５−１９のいずれか一に記載の装置により得られた金属薄板またはストリップ。
【請求項２１】
伸びが１０％（Euronorm EN10002-1試験）より小さいことを特徴とする請求項２０に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項２２】
硬さが少なくとも８０（Rockwell B）であることを特徴とする請求項２０または２１に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項２３】
金属薄板またはストリップの粗さが０．３と２．５μｍの間に含まれることを特徴とする請求項２０−２２のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項２４】
金属薄板またはストリップの粗さが０．５と２．０μｍの間に含まれることを特徴とする請求項２３に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項２５】
薄板またはストリップ上のへこみの深さに対する幅の比が少なくとも２であることを特徴とする請求項２０−２４のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項２６】
薄板またはストリップ上のへこみの深さに対する幅の比が少なくとも３であることを特徴とする請求項２５に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項２７】
隆起高さに対する隆起直径の比が３より大きいことを特徴とする請求項２５または２６に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項２８】
隆起高さに対する隆起直径の比が４より大きいことを特徴とする請求項２５−２７のいずれかに記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項２９】
二つの隣り合う隆起またはピーク間の距離が５０と５５０μｍの間に含まれ、隆起の高さが０μｍと３０μｍの間に含まれることを特徴とする請求項２０−２８のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項３０】
二つの隣り合う隆起またはピーク間の距離が１３０と３２０μｍの間に含まれることを特徴とする請求項２９に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項３１】
へこみの内側直径が２０μｍと２５０μｍとの間に含まれるが、へこみの幅は４−１００μｍの範囲であり、へこみの深さは０−５０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項２０−３０のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項３２】
へこみの内側直径が５０μｍと１８０μｍとの間に含まれるが、へこみの幅は１０−７５μｍの範囲であり、へこみの深さは５−３０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項３１に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項３３】
表面に内部張力を持たないことを特徴とする請求項２０−３２のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項３４】
推計的粗さがスポットの二次元の確定的模様を部分的に覆っていることを特徴とする請求項２０−３２のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項３５】
単一の確定的粗さがスポットの二次元の確定的模様を部分的に覆っていることを特徴とする請求項２０−３２のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。
【請求項３６】
スポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様を持つテキスチャーの二つの母集団の混合された最終テキスチャーを持つことを特徴とする請求項２０−３２のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。
【発明の詳細な説明】
発明の目的
本発明は、圧延機で冷間圧延操作することによって、冷間圧延金属薄板またはストリップを製造するための方法と装置に関する。
本発明は、また好ましくは本発明の方法と装置を用いる冷間圧延によって得られた金属薄板またはストリップに関する。
技術状況
冷間圧延法は、本質的に熱間圧延機から出てくるストリップを冷間圧延機に引き出す工程を含む。
冷間圧延機は、金属薄板またはストリップの全厚を通常５０から９０％の間を含むある割合で減少させる目的を持つ。この操作は、数工程で少なくとも三工程で実行される。このような冷間圧延は可逆圧延機を用いて一スタンドで、また“タンデム圧延機”と呼ばれる圧延機を用いて数スタンドで実行されるが、その際数工程の操作は一連続で実施される。
冷間圧延薄板またはストリップはそれから炉中で加熱されるが、このプロセスは焼鈍プロセスとして知られている。その後、焼鈍された薄板またはストリップは、金属薄板またはストリップの機械的性質および表面品質を改良するためのわずかな冷間変形を受けさせるために、“スキンパス”または“調質圧延機”と呼ばれる第二の冷間圧延機を通過させる。
冷間圧延操作時にロールに適用される圧力は１０ＫＮ／ｍｍより高く、二つの圧延工程間の張力は約２００Ｐａであるが、一方調質圧延操作時には法線圧力（normal pressure）は５ＫＮ／ｍｍより小さく、二つの圧延工程間の張力は約２５ＭＰａである。
圧延機の圧延操作後の金属薄板の物理的性質はスキンパスまたは調質圧延操作後の物質の性質に比べて完全に異なっている。
以下に要約したのは金属薄板またはストリップの主な性質である：
0003708118.tif 000002
冷間圧延装置において、好ましくは冷間圧延機の圧延操作の最終工程用のまたは調質圧延機の唯一のスタンド用のワークロールにある種の粗さを与えることは普通に行われている。
冷間可逆圧延機の場合は圧延ワークロールは圧延操作の最終工程の前にテキスチャー化された（textured）ワークロールに交換され、タンデム圧延機の場合は最終スタンドのみがテキスチャー化されたワークロールを含む。
ワークロールにこのような粗さを与えるために、数種のテキスチャー化（texturing）技術が知られており、“Stahl und Eisen，１１０巻（１９９０），３月１４日，３号，デュッセルドルフ，ドイツ”に要約されている。
1°）ショットブラストテキスチャー化（ＳＢＴ）
特定の粒度を持つ鉄粒体（grit）がワークロールの表面に噴射される。粒体の運動エネルギーは表面を塑性的に変形するのに充分である。ワークロールの粗さは鉄粒体（角状性、質量、寸法）、ワークロールの回転速度、ロール材料の硬さ、ロールの通過回数およびロールの回転速さの関数である。
ＳＢＴ技術により、１．５μｍと６．０μｍの間を含むワークロール上の粗さ値（Ｒａ）が得られる。
粗さの形状はピークと谷のランダム分布を示す。規則正しい模様は識別できない。
ＳＢＴは高生産性を有するが、この技術は次の主要な欠点を持つ：−ワークロールの粗さの再現が困難である。従って、テキスチャー化の後にロール上に得られたＲａ値は大きな散布帯域を示す。
−非常に高い粗さ値（Ｒａ＞５μｍ）は、比較的軟らかいロール（硬さ９０ショアーＣより低い）でのみ得られる。このようなロールはほんの短命の作動時間を持つにすぎない。
−粗さの鋭い縁は急速に破壊されるので、圧延運転中のワークロールの摩耗は常に重要問題である。
−粗さの指標は互いに独立的に選ぶことはできない。従って、粗さ値（Ｒａ）と薄板上で測定されたピーク数／ｃｍ値（Ｐｃ）の間には関係がある。
現在迄のところ、冷間圧延機のためのテキスチャー化ロールの大部分はこの技術でテキスチャー化されている。
2°）電気放電テキスチャー化（ＥＤＴ）
誘電体媒体により銅電極（陰極）から隔てられた陽極は電気放電を起こし、これはロール表面に凹孔またはくぼみを作ることができる。
実際には、各陽極に対し数個の陰極が組合わされ、陰極は互いに独立してスパークするので、単一電極からのスパークによる凹孔形態は隣接する電極からの多重放電の重複により急速に破壊される。これは実質的にランダムな表面粗さを導く。ランダム性は通過回数が増やされるとより著しくなる。
ロール粗さは、電圧周波数（より高い周波数はより高いピーク数を導く）、電極に印加される電圧（正電圧は負電圧よりより粗い表面を与える）およびエレクトロニクスのキャパシタンスの水準の関数である。
ショットブラストシステムに比べて、ＥＤＴはワークロールの硬さには顕著に依存しない。低粗面テキスチャーはより高いピーク数／ｃｍを作り、再現性はより良い。
ＥＤＴシステムもまたいくつかの重要な欠点を持つ：
−高ロール粗さを作るためには高電流密度が必要である。これはロール材料の大規模加熱を引起こし、ロール材料の構造的変化の原因となる。
−低ロール粗さを作るためには当初の凹孔を破壊するために電極マニホルドの高通過回数が必要である。従って、Ｒａが減少するに従ってテキスチャー化時間は増加する。
−鋭い切削縁を持つ粗さが作られ、これは薄板表面を微細切削し、希望しない摩耗破片の発生を導く。
−粗さ値（Ｒａ）とｃｍ当りのピーク数値（Ｐｃ）は互いに独立的に選ぶことはできない。ＳＢＴと同様にＥＤＴのＲａとＰｃ間に指数関係がある。しかし、ＳＢＴに比べてＥＤＴのＰｃ値は３０から５０％高い。
−ロール表面の初期うねりが起こりうる。うねりの谷においてはロールと電極間の隙間がより大きいので、スパークは谷中では不完全で、うねりの形状における頂上では充分である。テキスチャーは表面の初期高さに依存するので、初期うねりはまたロール上にモアレ縞を導く。
このテキスチャー化技術は、冷間圧延機用のロールテキスチャー化としてはそのような場合のロールの重要な摩耗のため頻繁には用いられない。
3°）レーザテキスチャー化（ＬＴ）
レーザビームは、ロール材料を溶融し補助ガス（Ｏ2，ＣＯ2またはＡｒ）で凹孔から材料を吹き飛ばす目的で、ロール表面に打ち当てられる。最終ロールテキスチャーはワークロール円周上のらせん経路に沿った凹孔の均一な分布と対応する。軸方向の凹孔距離はロールの縦方向の移動の速度によって制御される。接線方向では凹孔距離はロールの速度と機械的チョッパの速度の両者によって決まる。凹孔の深さはレーザ強度によって決まる。レーザビームはショット中にビームスポットがロール上を動くようには偏向させられていないという事実から、凹孔の形はショット時間が増すに従って益々長円形となる傾向がある。
レーザ技術は一方向にいわゆる確定的な粗さを導入した。しかしながら、それはそれ自体重要な欠点を持つ：
−ビームの機械的チョッパーのために、テキスチャー化能力に厳しい束縛を与え、テキスチャーにわずかな限定された改変のみが可能である。
−凹孔の縁は部分的に酸化物質で構成され、縁の脆性がそれを圧延中に破壊し、ロール粗さの急速な減少を引き起こす。
−テキスチャーはらせん経路の方向にのみ確定的で、現時点では全面確定的模様を得ることは不可能である（機械的チョッパーでの各凹孔の位置のため）。
−側方ガスの使用とロール表面の前および後加熱が不可能であるという事実により、縁の不規則性が存在する。
ワークロールの重要な摩耗（縁の酸化）のためまた冷間圧延機の場合に特に起こるモアレ問題のために、レーザ技術は冷間圧延機用のテキスチャー化ロールとして実際に用いられていないということは注目されるべきである。
4°）電子ビームテキスチャー化（ＥＢＴ）
ロールをテキスチャー化するための特別の電子ビーム技術の利用は、当初輪転グラビア印刷胴の彫刻のためにLinotype Hell（ＷＯ−Ａ−９２０５８９１，ＷＯ−Ａ−９２０５９１１，ＷＯ−Ａ−９２１０３２７参照）によって開発された。
この方法は表面ロールに電子ビームを衝撃させることからなる。単一ショットの間は、ロール材料を予熱するようにレンズはビーム焦点を合わせ、それから凹孔を創るために第一のショットで表面を衝撃するように焦点を合わせ、そして凹孔を取巻く縁を後加熱するように焦点を合わせる。このサイクルはより深い凹孔を創るために同じスポット上に２から３回行われる。ショットサイクル中は、ロール表面の連続移動を補償するためにビームは偏向させられる（シフトと回転）。この方式により完全に円い凹孔縁が得られる。
ビームの非常に速い電子脈動が二次元模様を創るために各凹孔の位置を制御する。模様のいくつかの例が文献
0003708118.tif 000003
に示されている。
レンズもまたビームの直径とショット時間の正確な制御を可能とする。これらの二つのパラメータが直接ロール表面の凹孔の直径と深さに連結している。凹孔距離における直径を変化させることにより、確定的（半ランダムまたは擬似ランダムを含む）テキスチャーが得られる。
この技術は、現在のところ“スキンパス”または“調質装置”のためのワークロールテキスチャー化のためにのみ用いられている。この文献
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に述べられている二つの主要な利益は調質圧延後に得られた金属薄板上の塗装外観並びにその改善された絞り加工性である。
発明の目的
本発明の主要な目的は、より良好な性質を持つ金属薄板またはストリップの製造のための改良された方法と装置を提案することである。
発明の主要な特徴
本発明は、少なくとも一対のワークロールを持つ冷間圧延により金属薄板またはストリップを製造するための方法に関し、そのワークロールの少なくとも一つがテキスチャー化されたワークロールであって、そのテキスチャー化されたワークロールの表面模様を前記薄板またはストリップの表面に転写するためのものにおいて、前記テキスチャー化されたワークロールの模様がスポットの二次元の確定的模様で構成されており、その各スポットがその回りに縁を持つ凹孔の形状を持つことを特徴とする。好ましくは、前記スポットは電子ビームのような高エネルギービームによって得られる。
冷間圧延機のテキスチャー化されたワークロールの粗さは、０．４と８．０μｍの間、好ましくは１．０と３．５μｍの間に含まれるが、本発明による方法で得られる薄板の粗さは０．３−２．５μｍの範囲、好ましくは０．５−２．０μｍの範囲にある。
特に、縁の高さに対する幅の比は少なくとも２、好ましくは少なくとも３であり、凹孔の深さに対する凹孔の直径の比は４より大きい。
二つの隣接凹孔間の距離は５０と５５０μｍの間、好ましくは１３０と３２０μｍの間に含まれ、深さは５と５０μｍの間、好ましくは８と３０μｍの間に含まれる。
凹孔の内側直径は２０と２５０μｍの間、好ましくは５０と１８０μｍの間に含まれるが、縁の幅は４−１００μｍの範囲、好ましくは１０−７５μｍの範囲であり、縁の高さは２−５０μｍの範囲、好ましくは５−３５μｍの範囲である。
本発明の方法の好ましい実施態様によれば、上記した冷間圧延操作の後の金属薄板またはストリップは、少なくとも一対のワークロールで調質圧延され、その際少なくともその一つがテキスチャー化されたワークロールであって、そのテキスチャー化されたワークロールの表面模様を前記薄板またはストリップの表面に転写するためのものであり、調質圧延機のテキスチャー化されたワークロールの前記模様がスポットの二次元の確定的模様からなり、その各スポットがその周りに縁を持つ凹孔の形状を持っている。好ましくは前記スポットは電子ビームのような高エネルギービームで得られる。
調質圧延機のテキスチャー化されたワークロールの粗さは、０．４と８．０μｍの間、好ましくは１．６と６．０μｍの間に含まれるが、本発明のこの最終実施態様で得られる薄板の粗さは０．５−６．０μｍの範囲、好ましくは０．８−４．０μｍの範囲にある。
好ましくは、冷間圧延機で一側面がテキスチャー化された金属薄板またはストリップは調質圧延機のテキスチャー化されたワークロールによって同じ面がテキスチャー化されるべきである。
もし、冷間圧延と調質圧延相間で金属薄板またはストリップが逆転されないなら、これは調質圧延機の一対のワークロールの上および／または下ワークロールが冷間圧延機の一対のワークロールのテキスチャー化された上および／または下ワークロールに対応させるべきことを意味する。
本発明の方法の他の好ましい実施態様によれば、冷間圧延機および／または調質圧延機の一対のワークロールの両ロールがスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持つ。
好ましくは、冷間圧延または調質圧延機のテキスチャー化されたロールは減圧下の電子ビームによる“ＥＢＴ法”で彫刻される。この技術により、数平方ミクロンを越えて、電子ビームはロール表面を溶融温度にもたらし、プラズマ圧力下に、溶融金属は追出され、凹孔の周りに基金属内に一体化された、制御可能でかつ明確な縁を形成する。縁の形状と寸法は電子ビーム照射の前および後加熱期間により制御される。
ワークロールのテキスチャーは、冷間圧延機または調質圧延機による圧延プロセス間に金属薄板またはストリップ上に再現される。
好ましくは、模様形状は正有心六角形（regular centred hexagon）のような単位セルを形成する。
本発明はまた少なくとも一対のワークロールを持つ少なくとも冷間圧延機を含む金属薄板またはストリップを製造するための装置であって、一対のワークロールの少なくとも一つのロールがスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持ち、その各スポットがその周りに縁を持つ凹孔の形状を持つことを特徴とする装置に関する。
好ましい実施態様によれば、冷間圧延機は、圧延操作の数工程を実行するワークロールの単一スタンドのみを含む可逆圧延機である。このような場合において、ワークロールは圧延操作の最終工程の前に、スポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持つテキスチャー化されたワークロールに変換される。
本発明の他の好ましい実施態様によれば、冷間圧延機が数スタンドを含むタンデム圧延機であり、その際最終スタンドのみがスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持つ少なくとも一つのテキスチャー化されたワークロールを含む圧延機である。圧延操作は一連続で実行される。
本発明の他の好ましい実施態様によれば、装置はまた少なくとも一対のワークロールを持つ調質圧延機を含み、その際調質圧延機における一対のワークロールの少なくとも一つのロールがスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持ち、その各スポットがその周りに縁を持つ凹孔の形状を持つものである。
本発明の装置の他の好ましい実施態様によれば、冷間圧延機および／または調質圧延機における一対のワークロールの両ワークロールがスポットの二次元の確定的模様である表面模様のテキスチャーを持つ。
本発明はまたスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持つ金属薄板またはストリップに関し、その際各スポットが隆起またはピークを取り巻くへこみの形状を持ち、かつ高波長（うねり）はパワースペクトルには実際上存在しない。
これは、４０ｍｍのプロファイル（profile）上で測定されたパワースペクトルにおいて、８００μｍより大きな波長の主要パワー密度は０．２μｍ2より小さく、好ましくは０．１μｍ2より小さいことを意味している。
好ましくは、金属薄板またはストリップは１０％より小さな伸び（５０ｍｍにおける）を示す（Euronorm EN10002-1）。
金属またはストリップが鋼の場合、薄板またはストリップの硬さは８０より大きい（ロックウェル）。
既に述べたように、金属薄板またはストリップの粗さは、０．３と２．５μｍの間、好ましくは０．５と２．０μｍの間に含まれる。
特に、薄板またはストリップ上のへこみの深さに対する幅の比は少なくとも２、好ましくは少なくとも３であり、隆起の高さに対する隆起の直径の比は３、より好ましくは４より大きい。
二つの隣接する隆起またはピーク間の距離は５０μｍと５５０μｍの間に、好ましくは１３０と３２０μｍの間に含まれ、その隆起の高さは０μｍと３０μｍの間に含まれる。
へこみの内側直径は２０μｍと２５０μｍとの間に、好ましくは５０μｍと１８０μｍとの間に含まれるが、へこみの幅は４−１００μｍの範囲、好ましくは１０−７５μｍの範囲であり、へこみの深さは０−５０μｍの範囲、好ましくは５−３０μｍの範囲にある。
第一の実施態様によれば、金属薄板またはストリップの表面テキスチャーはテキスチャー化されたロール上に存在する縁の圧痕（へこみ）を示す。この場合において、テキスチャー化されたロールの凹孔中に金属薄板またはストリップの材料が押し出されたための隆起またはピークの存在は、厚さの減少に依存して起こり（隆起の高さが０に等しくない）、または起こらない（隆起の高さが０に近い）。
他の実施態様によれば、金属薄板またはストリップの表面テキスチャーは、テキスチャー化されたロール上に存在する縁の殆どの圧痕（へこみ）なしに隆起またはピークのみを示す。この場合には、へこみの深さは０μｍに近く、非常に大きな幅を持つ。
好ましくは、模様形状は正有心六角形のような単位セルを形成する。
上述の特徴は、中間製品であり、まだ焼鈍工程と多分それに続く調質圧延操作を受けていない金属薄板またはストリップに関係している。
本発明はまた、ＥＢＴロールを持つ冷間圧延機で圧延された。焼鈍工程と多分それに続く調質圧延操作を受けた最終製品に関する。
もし、上述した金属薄板またはストリップが調質圧延操作なしに焼鈍工程を受けたとすれば、表面に如何なる内部張力も持たないであろう。
この最後の性質は、次の技術の一つを用いて調べることができる：Ｘ−線回折、超音波測定、表面層のエッチング時の微小変形、微小硬度の測定。
もし、調質圧延がＳＢＴまたはＥＤＴでテキスチャー化されたロールで実行されるなら、推計的粗さが金属薄板またはストリップ上のスポットの二次元の確定的模様を部分的に覆っているであろう。
もし、調質圧延操作がレーザでテキスチャー化されたロールで実行されたなら、単一の確定的粗さが金属薄板上のスポットの二次元の確定的模様を部分的に覆っているであろう。
もし、調質圧延操作がＥＢＴでテキスチャー化されたロールで実行されたなら、金属薄板またはストリップはスポットの二次元の確定的模様から構成されるテキスチャー表面模様の二つの母集団の最終テキスチャーを持つ。
かかる金属薄板またはストリップは鋼、ステンレス鋼、アルミニウムまたはアルミニウム合金から作ることができる。
かかる金属薄板またはストリップはまた、金属または有機物層で被覆することができる、例えば、ペイント、亜鉛メッキ、アルミメッキ等・・・。
【図面の簡単な説明】
−図１は鋼薄板製造工程を表わす。
−図２は金属薄板の表面形状の粗さおよびうねりの分解の略図を表わす。
−図３および４は低度の粗さの場合（図３）および高度の粗さの場合（図４）におけるランダムテキスチャー化法（ＳＢＴ）の粗さとうねりとの間の関係を表わす。
−図５はロールのＥＤＴ時の粗さとうねりの変化を表わす。
−図６および７は冷間圧延（図６）時のうねりの移転および調質圧延機（図７）における追加的粗さの転写を表わす。
−図８および９はＳＢＴロールでの冷間圧延後の、それに引続いてＥＢＴロールでの調質圧延後の薄板表面を表わす。
−図１０は金属薄板のうねりとペイント後の写像性との間の関係を表わす。
−図１１は調質圧延法がＬＴまたはＳＢＴである時の薄板の塗装写像性への影響を表わす。
−図１２は本発明の方法および装置で用いられるテキスチャー冷間圧延ロールに適したＥＢＴ機の略図である。
−図１３は図１２の機械の電子ビーム銃の略図である。
−図１４，１５および１６は確定的ＥＢＴテキスチャー（二次元凹孔模様）の三つの例の略図を表わす。
−図１７はＥＢＴにより得られた円形凹孔形状の一例の略図を表わす。
−図１８および１９はタンデム圧延後および調質圧延後に得られた金属薄板の図を表わす。
−図２０および２１は本発明によるタンデム圧延機のテキスチャー化されたワークロールおよびタンデム圧延されたストリップの三次元測定を表わす。
−図２２は単一圧延スケデュール時のタンデム圧延機のＥＢＴテキスチャー化ロールのＲａ変化を表わす図表である。
−図２３はＥＢＴテキスチャー化ロール上の鉄細片の拾い上げ挙動を表わす。
−図２４は亜鉛メッキ物体の絞り加工時の被膜の重量損失（ＷＬ）を表わす。
−図２５は被膜厚さ（ＣＴ）の変化における冷間圧延テキスチャー化法（ＳＢＴおよびＥＢＴ）の影響を表わす。
−図２６および２７は連続的にタンデムと調質圧延された後に得られた金属薄板またはストリップの最終テキスチャーを表わし、そこには浅い円形谷と深い円形谷の制御された混合物があらい粗さ（図２６）と微細な粗さ（図２７）として現れる。
−図２８および２９は微細な（図２８）およびあらい（図２９）確定的ＥＢＴテキスチャーを持つ調質圧延ストリップの三次元的テキスチャー測定の二つの図を表わす。
−図３０および３１はショットブラスト（図３０）とＥＢＴ（図３１）テキスチャーをそれぞれ用いた場合の連続的にタンデムおよび調質圧延された薄板またはストリップの波長スペクトルを表わす。
−図３２は冷間圧延（ＥＢＴ，ＬＴ）時に推計的粗さが用いられる薄板とＥＢＴが用いられる薄板との塗装外観を表わす。
本発明により解決されるべき課題
冷間圧延機の圧延操作の最終段階において使用されるワークロールの粗さは三つの主要な結果をもたらす：
1°）バッチ焼鈍中のらせんコイルの冷間溶着（密着）を避ける。バッチ焼鈍中に、コイルの外方らせんは内方より早く加熱される。温度勾配はらせん間の熱的圧力の原因となる。圧力が大きくなるとらせんは一緒に溶着する。このような溶着は“密着”と呼ばれる。調質圧延の前にコイルをほどくとき、密着は壊れるが薄板表面上に痕跡を残す。この欠陥は“密着痕”と呼ばれる。表面粗さはバッチ焼鈍中の密着を形成する傾向を減らす。
2°）鋼基板上の被膜の付着を確実とする（熱ディープガルバナイジングおよびガルバニーリング）。熱どぶ漬けラインにおいて、完全硬化材料（タンデム圧延後に得られた鋼薄板）はまず連続焼鈍ラインで焼鈍され、それから４７０℃の亜鉛浴中に浸漬される。薄板の粗さは亜鉛をピックアップするために重要である。０．８μｍと１．２μｍ間に含まれる最低粗さが亜鉛厚の仕様に応じて必要である。
3°）冷間圧延機粗さとそれに続く調質圧延機粗さ間の混合であるところの調質圧延後の最終粗さを引上げる。浴槽の如き、ある用途では、金属薄板の極端に高度の粗さが必要である（Ｒａ＞３．５μｍ）。かかる高度値は調質圧延のみでは得られない。従って、冷間圧延後の高度の表面粗さもまた要求される。
更に、冷間圧延機の圧延操作および圧延操作の最終段階中の５から１０％の厚さ減少によって得られた鋼またはステンレス鋼薄板またはストリップの場合における金属薄板またはストリップの高硬度は、調質圧延機の場合においては知られていない特別の問題を引き起こす。
ＳＢＴまたはＥＤＴの如きランダムテキスチャー化法をワークロールテキスチャー化に用いると、長波長波動、いわゆる“うねり”の存在が観察される（図２参照）。
前記テキスチャー化法中に作られるうねりは次による：
−ＳＢＴ技術の場合におけるロール硬度のランダム変化、ショットブラスト粒子のエネルギーの変化；
−ＥＤＴ技術の場合における侵食スパークの電気エネルギーの変化、ロールの電気伝導度の変化。
同じ粗さ値においては、ＳＢＴまたはＥＤＴテキスチャー化ロールのうねりは顕著には異ならない。異なる研摩工程での試験は、冷間圧延後のストリップのうねりはＥＤＴに先立つ被研摩ロールの粗さを低下させることによっては減少しないことを示した。
ＳＢＴ法のコンピュータシミュレーションは、ロールの粗さを増やすための如何なる試みもうねりを増加するであろうことを示す（図３および４参照）。
粗さ（Ｒａ）とうねり（Ｗａ）との間の同様な関係がＥＤＴロール上でも見出された。図５はＥＤＴロールのＲａおよびＷａ値をテキスチャー化時間またはテキスチャー化度の関数として示す。テキスチャー化度が増加するとＲａとＷａの両者が増加する。
これらの結果は、うねりはテキスチャー化中にロールをより粗くしようとする努力の直接の結果として導入されることを示す。ＳＢＴとＥＤＴ法の固有の変化性は、得られるテキスチャーのランダム性およびロール表面上の地形学的波長範囲の変動幅の導入に関連する。
ロール表面のうねりは冷間圧延操作中の方が調質圧延中よりより容易に薄板粗さに転写される。圧力が高いほど（より硬い薄板およびより大きな厚さ減少により）そして薄板とロール間の接触が長いほど（より大きな厚さ減少による）、ロール中の長波長波動さえも薄板表面に複写されることになる。
しかし、バッチ焼鈍後の密着痕を避けるために、冷間圧延機の粗さのＲａ値は高いことが必要である。従って、高Ｒａ値（５から６μｍ）と不幸にも高Ｗａを持つショットブラストまたはＥＤＴロールが用いられる。これは冷間圧延後のうねりをもたらす。調質圧延の厚さ減少は小さい（０．５から１．０％）ので、冷間圧延のうねりはならされず、最終粗さ中に（図６および７参照）残存する。
もし、調質圧延中にＥＢＴまたはＬＴテキスチャー化ロールが用いられるとしても、最終表面は冷間圧延ロールのうねりを含む（図８および９参照）。
図１０および１１に示される如く、うねりは塗装部の外観にとって確定的である。
本発明の他の問題は、冷間圧延機で用いられる、通常の方法で得られたテキスチャー化されたロールの重要な摩耗である。摩耗は薄板またはストリップの大きな厚さ減少と鋼薄板の場合における材料の高硬度の結果として起こる冷間圧延中の高剪断力による。これは、微細で鋭利な縁により、ＥＤＴロールの場合に明確な事実である。
本発明の他の問題は、鉄細片の拾い上げを減らすべきであることであり、特に低度の粗さのＳＢＴおよびＥＤＴロールが作られるときにそうである。冷間圧延機の乳剤中に存在する鉄細片はロール粗さのピークが鋭いときはワークロール上に粘着するであろう。ワークロールおよびバックアップロールはそのとき損傷し、圧延工程は停止されねばならぬ。
この理由から、現在の傾向はバッチ焼鈍と被膜付着を危くしない低度のタンデム粗さを作ることが試みられている。古典的な粗化技術によっては、しかしながらこの努力は適用される粗さの不規則性（うねり）により限定される。
本発明の詳細な説明
図１２は本発明の方法および装置で用いられる冷間圧延ロール上に特別のテキスチャーを作るのに適したＥＢＴ機を描写する。
一般に、ＥＢＴ機は高エネルギーＴＶセットに比較することができ、その際スクリーンはテキスチャー化されるロール表面によって置き換えられる。このことから、主要な利点は：
−融通性
−再現性
−予知性
−生産性
−信頼性
−全自動性である。
ＥＢＴ機は本質的に次の部品から構成される：
−テキスチャー化室（１）；
−電子銃（８）；
−減圧ポンプ（１３）；
−閉鎖回路熱交換器（表示なし）
−電気制御キャビネット（表示なし）。
テキスチャー化室（１）は鋳鋼の基台とアルミニウムのおおいから構成され、気密装置に組立てられる。おおいは、ロール（２）を装填しまた取りはずすことができるように、その頂部に移動可能な蓋がある。テキスチャー化中、室（１）の減圧は１０-1ｍｂａｒの一定に保たれる。ロールは連続可変速駆動モータ（６）の手段（３，４，５）により０および１０００ｒｐｍの間で回転させられるが、移動機構（７）が電子銃（８）の固定位置の前面でロール（２）を移動させる。テキスチャーが選ばれ、ロール（２）がテキスチャー化室（１）に導入された瞬間から、機械は始動し、テキスチャー化プロセスは自動的に実行される。ＥＢＴ機は、互いにそして中央制御ＰＣに希望しないノイズを避けるためにファイバーオプティクスで組立てられたＬＡＮ（ローカルエリアネットワーク）システムを経て連結されている５個のマイクロプロセッサーにより制御される。
ＥＢＴ機の主要部は電子銃（８）で、これはテキスチャー化室（１）の裏面に固定されている。図１２に示されるように、電子ビーム銃（８）は三部品から構成されている：
−陰極（９）を持つ加速装置（１０）
−ズームレンズ装置（１１）
−焦点調節装置（１１）
電子銃は古典的な三極管として説明されているが、独特の高速パルス発生およびズームレンズオプティクスを備えている。凹孔および縁形成プロセスは図１３に略図的に示されている。銃は１０-3から１０-4ｍｂａｒの減圧下に操作され、最大電流７５ｍＡで加速電圧２００ＫＶを使用する。直熱陰極は電子を生起する。銃のパルス周波数は連続的に可変で、最大２００ＫＨｚである。単一または二重ショットで実行される単一凹孔の形成のためのショットサイクルは次のように表わされる：
0003708118.tif 000005
凹孔当りの全ショットサイクル時間（第一および可能な第二ショット）は２から１５μｓｅｃの範囲にある。
電子ビームは凹孔形成時のロールの移動および回転に追従するために偏向させられる。この方法で、全ロール表面は完全に円形の凹孔でテキスチャー化される。移動速度は０．０３から０．３６ｍ／ｍｉｎに連続的に可変である。移動速度はデコーダによって監視されるロールの移動および回転速度によって制御され、一方それは電子ビームの衝撃のタイミングを制御する。
ロールテキスチャーは、高エネルギービーム（すなわち電子ビーム）によって生起される凹孔の二次元の確定的模様によって形成され、各凹孔は凹孔縁によって取り巻かれている。
二次元の模様は一定の構造を持ち、三つの指標：ｄＬ，ｄＡおよびｎによって定義される。
−ｄＬはロールの円周方向に測定された二つの凹孔間の距離である
−ｄＡは軸方向の二つの円周間の距離である
−ｎは凹孔がロール上に同一の円周位置を持つ迄のロール上の巻き回数であり、ｎは整数または実数（それは二つの整数の分数に等しくない）でありうる。
単位セルのいくつかの例が図１４，１５および１６に示されている。
図１４の模様は長方形単位セルを持ち、凹孔はらせんの各巻き回数毎に同じ位置をとる。
図１５の模様は六方形単位セルを持ち、凹孔はらせんの二回巻き後に軸的に同じ位置をとる。
図１６の模様では、三巻き後に凹孔は同じ円周位置をとる。
距離ｄＬとｄＡは８０と５５０μｍの間の広い範囲で選ばれる。数ｎは１に等しいかそれより大きな整数（最大値は制限なし）である。各素数または実数に対し、異なる模様が表われる。ｎが分数またはロール上の巻き回数（典型的には約２００００）より大きな整数のときは、模様には軸方向の周期性が殆どない。この方法は凹孔の軸方向の擬似ランダム排列を創り出すことを可能とする。
凹孔の形状はビーム直径ｄ、ショット時間ｔｓおよびショット中のビームの偏向の関数である。ショット中のビームがロール表面を追従するときは、ショット時間ｔｓに比例する凹孔深さＫを持つ完全円形の凹孔が創られる（図１７参照）。
偏向がないか負の偏向（偏向がロール表面の反対方向である）のときは、より大きいまたはより小さい長円形の凹孔が得られる。
凹孔縁の形状は前および後加熱により、ビーム半径上のエネルギー分布、凹孔直径と凹孔模様間の位置および関係により影響を受ける。滑らかな端部を持つ丸味のある円形縁は凹孔直径が二つの凹孔間の距離に比べて小さいときそして後加熱が長いときに生起される。
予熱を増やし、後加熱を減らすことにより、より不規則な縁が形成される。
ロール材料の数個の山によって構成される不連続縁は凹孔直径が二つの凹孔間距離のほぼ８０％であるときに現われる。山の形状および凹孔当りの山の数は指標ｄＬ，ｄＡおよびｎの関数である。
テキスチャー化されたワークロールから薄板への粗さの転写は調質圧延機に比べて冷間圧延機では全く異なる。調質圧延機においては、薄板粗さは縁の痕跡として薄板に創り出される（図１８参照）。
冷間圧延機においては、高剪断力により、薄板の表面は縁の痕跡のみならず材料が凹孔の深さ中に押出されたピークまたは隆起を含む。そのため凹孔の深さは直接冷間圧延工程後の粗さに影響する（図１９参照）。
確定的ＥＢＴ粗さを持つ冷間圧延後の、またＥＢＴ粗さを持つ調質圧延後の薄板粗さの例が図２０および２１に示される。
しかし、ロールの凹孔に対応して押出された材料による高い隆起またはピークの存在は、薄板またはストリップの厚さ減少に従って現われたり現われなかったりする。
冷間圧延中のテキスチャー化ワークロールの摩耗の解決
冷間圧延中のロール摩耗はロール上の縁または不連続ピークの形状によって強く影響を受ける。ロール上の縁の山の高さに対する幅の比は少なくとも３であるべきである。そうでなければ、剪断力によって山に生起される応力が大き過ぎピークは破壊する。
丸味のある円錐形の縁（丸みのある先端を持つ）にとっては、この条件は次の照射パラメータによって実現される：
−ロール表面下のビーム焦点
−凹孔深さに対する凹孔直径の比が４より大きい。
図２２は、このような縁形状を持つ冷間圧延運転中のＲａの変化を示す。
運転の最初の部分でＲａの小さな低下がある。２０ｋｍ後はロール粗さは安定で実質上摩耗はない。
摩耗の更なる減少は縁形状を変えることにより得られる。ロール表面より下の代わりにロール表面より上のビームの焦点を用いることにより、縁形状は丸味のある先端を持つ円錐形からより台形形状に変化する。台形状縁の高さに対する幅の比は、摩耗を最小にするために少なくとも２であるべきである。
圧延中の鉄細片の拾い上げ問題の解決
ＥＢＴテキスチャー化ロール上の鉄細片の拾い上げは、縁側面が険しいときに起こる。そんな場合には鉄細片は縁を越えて押圧され、圧延操作後の弾性スプリングバックにより、鉄細片はロール表面に粘着する（図２３）。
縁の側面がそんなに険しくないとき、ロールの弾性スプリングバック後の鉄細片とロール間の摩擦力は小さいので鉄細片はロールに粘着しない。
丸味のある円錐形縁に対しては、高さに対する幅の比は鉄細片の拾い上げを避けるために少なくとも３であるべきである。この条件は次のビームパラメータにより実現される：
−ロール表面下のビーム焦点
−凹孔深さに対する凹孔直径の比が４より大きい。
バッチ焼鈍中の密着痕問題の解決
バッチ焼鈍中のコイル巻き間の圧力は、タンデムＥＢＴ粗さの多くの微細なピーク上に分配される。一つのピーク上の接触圧力は大きく、ピークの頂上で溶着が形成されることは非常に起こりそうなことである。
ピークの頂上での溶着の直径は小さく（例えば＜４０μｍ）、溶着を破壊するためには非常に小さな力しか必要でない。これは材料の冷却中の熱応力が消失する時に起こる。このコイル巻きの弾性弛緩は溶着を破壊し、材料の巻き戻し中に密着痕は形成されない。
この機構はＥＢＴ冷間圧延粗さのピークが存在するかぎり、非常に低いＲａ値に対しても真実である。タンデム粗さ０．５μｍの薄板に対しても密着痕は観察されなかった。薄板上で一旦Ｒａが０．５μｍに減ると、もはやピークは実質的に存在せず、密着痕は形成されないであろう。
ガルバニールド被膜鋼の付着に対する解決
薄板の液体亜鉛中への熱浸漬後の焼鈍処理中に鉄と亜鉛が反応するときガルバニールド層が形成される。表面積はこの反応で非常に重要な役割を演ずる：
１．粗さが大きい程、鉄と亜鉛間の比接触面積は大きい。反応の反応性は増加する。非常に速い反応が液体亜鉛からＦｅＺｎ化合物のいわゆる突出（outburst）を導くことは知られている。かかる層は不均一であり、深絞り中の被膜の大量の重量損失を導く。
２．うねりが大きい程、焼鈍前の液体亜鉛層の厚さの差が大きい。うねりは重要な差の原因となる：全平均厚１０μｍに対して平均亜鉛厚は部分的に５と１５μｍの間で変化する。液体亜鉛が最も薄いところで何故ＦｅＺｎ反応が開始するのかについて二つの理由がある：
1.液体亜鉛中のアルミニウムが反応前の鉄と液体亜鉛間に層を形成する。この層はＦｅＺｎ反応の抑制剤であり、反応を制御する助けとなる。液体亜鉛厚が大きい谷間にアルミニウムは優先的に沈着することが見出された。
2.亜鉛の厚さが大きいときは、ＦｅＺｎ界面の温度が反応開始に必要な値に達する迄により長時間かかるであろう。
反応速度論におけるこれらの差は、薄板のうねりに従って、深絞り中の不均一なビルドアップ（build up）や重量損失の原因ともなる。
確定的冷間圧延粗さの使用によりＦｅＺｎ化合物の均一なビルドアップが可能となる。これはカップ絞り中の被膜の重量損失を古典的ショットブラスト粗さにより得られる値の３０％に減少させる（図２４参照）。
ＥＢＴ冷間圧延粗さの積極的効果は、
１．同じＲａ値に対してより小さな比接触面積
２．うねりがない、故に反応性における局部的差異が存在しない
３．鋼薄板上の円形空洞間の不接触平坦薄板表面の量の多さに由来する。従って、ロール上の凹孔距離対凹孔内径の比は０．５より小であるべきである。
ＥＢＴ冷間圧延粗さはまた被膜厚さの変動も減少する。図２５に、ショットブラスト粗さでの材料厚さの平均厚と変動幅がＥＢＴテキスチャーでの材料と比較されている。同じ全体被膜重量に対して、より規則的なＥＢＴテキスチャーは変動幅をショットブラスト値の３分の１に減少する。
冷間圧延機用のＥＢＴテキスチャーを調質圧延用のＥＢＴテキスチャーと組合わせる問題の解決
ＥＢＴ冷間圧延粗さは調質圧延機でのＥＢＴテキスチャー化ロールと組合わせることができる。
調質圧延中に、同じ高さ（５から１５μｍ）のピークを持つ均一模様は完全にならされる。しかし、冷間圧延粗さの打痕された大略円形状の谷またはへこみは調質圧延後のテキスチャー中に残る。上述のように、調質圧延工程中はロールの縁の打痕のみが形成され、ピークは調質圧延中の低接触圧のために作られない。
調質圧延機の谷をより深くすることは容易である。調質圧延中の低剪断力は圧延中の破壊の危険なしに高い縁を持つロールの使用を可能とする。得られたテキスチャーは図２６および２７に示される如く浅いそして深い円形谷の制御された混合体から構成される。
この現象から三つの独特な予想されない利益が生ずる：
１．薄板の最終混合テキスチャーは完全に予想可能で再現性がある。それは完全に確定的なロールのみが用いられた最初の薄板テキスチャーである。
２．冷間圧延機粗さの最終薄板粗さへの寄与は制限される：ピークはならされ浅い縁の痕跡のみが残るので、冷間圧延機の最終粗さへの寄与は０．２μｍＲａに制限される。この低寄与性は小さな変動幅を持つ最終低粗さ値の生成を容易にする。
３．谷の二つの母集団（冷間圧延機の母集団と調質圧延機の母集団）の混合は深絞りに対する特別の利益の原因となる。潤滑油が用いられる時は徐々に放出される。浅い谷は含有油を容易に放出する（例えば小絞り比で）が、一方深い谷は油をより長く保持し高絞り比に好都合である。
４．２．５μｍの高Ｒａ値においても、最終テキスチャーにうねりは存在しない。これは高および低調質圧延機粗さ模様の図２８および２９における三次元テキスチャー測定に示される。図３０および３１は、この新しい薄板テキスチャーのパワースペクトルを推計的にテキスチャー化されたロールを冷間圧延機または調質圧延機に用いた場合のテキスチャーと比較して示す。長波長（＞０．６ｍｍ）が推計的ロールが用いられたとき常に強力に現われ、新しい薄板テキスチャーには実質的に存在しない。
長波長の不存在は塗装外観の顕著な増強の原因となり（図３２参照）、より重要なことであるが、この増強は薄板のＲａ値と無関係である。本発明により、２．５μｍまでのＲａを持つ絞り性に好都合な優れた塗装外観を持つ薄板が製造できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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