【手続補正書】
【提出日】令和3年8月27日(2021.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハを載置するウエハ載置面と、
第１係合部を有する第１リングと、前記第１係合部の下面に至る貫通孔を有し前記第１係合部に係合する第２係合部を有する第２リングと、を載置し、前記貫通孔に対応する位置に孔を有し、前記ウエハ載置面の外周側に設けられるリング載置面と、
前記貫通孔に嵌合する第１保持部と、当該第１保持部の軸方向に連接され前記第１保持部の外周から突出する突出部を有する第２保持部と、を有し、前記第１保持部を前記リング載置面側にしてリング載置面の孔内に収容されるリフタピンと、
前記リフタピンを昇降可能に駆動する駆動機構と、
を備えるプラズマ処理装置の載置台。  
【請求項２】
前記第１保持部および前記第２保持部は、同軸かつ断面同心円形状の棒状部材であり、前記第１保持部の径は、前記第２保持部の径よりも小さい、請求項１に記載の載置台。
【請求項３】
前記第１リングは前記第２リングよりも前記ウエハ載置面の中心側に配置され、前記第２係合部は前記第１係合部よりもリング載置面側に配置される、請求項１または２に記載の載置台。
【請求項４】
前記第１リングは導電材料で形成され、
前記第２リングは絶縁材料で形成される、
請求項３に記載の載置台。
【請求項５】
前記第２リングは前記第１リングよりも前記ウエハ載置面の中心側に配置され、前記第２係合部は前記第１係合部よりもリング載置面側に配置される、請求項１または２に記載の載置台。
【請求項６】
前記第１リングおよび前記第２リングの少なくとも一方を前記リング載置面に吸着するリング用静電チャックと、
前記第１リングおよび前記第２リングの前記少なくとも一方の下面と前記リング載置面との間に伝熱ガスを供給するガス供給機構と、
をさらに備える請求項１から５のいずれか１項に記載の載置台。
【請求項７】
前記駆動機構は、
前記第１リングの搬送時、前記第１保持部の頂部が所定の高さに到達するまで前記リフタピンを上昇させ、
前記第２リングの搬送時、前記第２保持部の頂部が前記所定の高さに到達するまで前記リフタピンを上昇させる、請求項１から６のいずれか１項に記載の載置台。
【請求項８】
前記第１保持部の軸方向長さは、前記第２リングの軸方向の厚みよりも長い、請求項１から７のいずれか１項に記載の載置台。
【請求項９】
ウエハを載置するウエハ載置面と、
第１係合部を有する第１リングと、
前記第１係合部の下面に至る貫通孔を有し前記第１係合部に係合する第２係合部を有する第２リングと、
前記ウエハ載置面の外周側に設けられ、前記貫通孔に対応する位置に孔を有し、前記第１リングおよび前記第２リングを載置するリング載置面と、
前記貫通孔に嵌合する第１保持部と、当該第１保持部の軸方向に連接され前記第１保持部の外周から突出する突出部を有する第２保持部と、を有し、前記第１保持部を前記リング載置面側にしてリング載置面の孔内に収容されるリフタピンと、
前記リフタピンを昇降可能に駆動する駆動機構と、
を備えるプラズマ処理装置。
【請求項１０】
プラズマ処理容器と、
前記プラズマ処理容器内に設けられ、孔を有するサセプタと、
前記サセプタ上に設けられた静電チャックであって、基板載置面と、前記基板載置面の周囲に設けられるリング載置面と、を有する静電チャックと、
前記リング載置面に載置される内周部を有する第１リングと、
前記第１リングの外周部を支持する上面を有する第２リングであって、前記第２リングは、前記第１リング下面に至る貫通孔を有する内周部を有し、前記貫通孔は、前記サセプタの前記孔に対応する位置に形成される、第２リングと、
前記貫通孔に嵌合する第１保持部と、当該第１保持部の軸方向に設けられた前記第１保持部の外周から突出する突出部を有する第２保持部と、を有し、前記第１保持部を前記リング載置面側にして前記孔内に収容されるリフタピンと、
前記リフタピンを昇降する駆動機構と、
を備える、プラズマ処理装置。
【請求項１１】
プラズマ処理容器と、
前記プラズマ処理容器内に配置され、基板を載置する基板載置面と、前記基板載置面の外周側に設けられ、リングを載置するリング載置面と、前記リング載置面に通じる３個以上の孔と、を有する静電チャックと、
内周部と外周部とを有する第１リングであり、前記第１リングの前記内周部が前記リング載置面に載置される、該第１リングと、
内周部と外周部とを有する第２リングであり、前記第２リングの内周部上面は前記第１リングの外周部下面に覆われ、前記第２リングの内周部は、前記３個以上の孔に対応する位置に３個以上の貫通孔を有する、該第２リングと、
３本以上のリフタピンであり、各リフタピンは、前記孔内に収容され、前記第２リングの前記貫通孔を通りぬけて前記第１リングを下面から支持するよう構成される第１保持部と、当該第１保持部の外周から突出する突出部を有し、前記第２リングを下面から支持するよう構成される第２保持部と、を有する、該３本以上のリフタピンと、
前記３本以上のリフタピンを昇降する駆動機構と、
を備える、プラズマ処理装置。
【請求項１２】
前記リング載置面は内周部と外周部とを有し、前記第１リングの前記内周部は前記リング載置面の前記内周部に載置される、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１３】
前記第２リングの外周部を支持するように前記静電チャックを取り囲む絶縁部材をさらに備える、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１４】
前記静電チャックの上面は、第１の高さを有する前記基板載置面と、第２の高さを有する前記リング載置面と、第３の高さを有する前記絶縁部材を載置する絶縁部材載置面を有する、請求項１３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１５】
前記第１リングを前記リング載置面に吸着するリング用静電チャックをさらに備える、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１６】
前記第１リングはシリコンまたはシリコンカーバイドで形成され、
前記第２リングは石英で形成される、
請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１７】
前記第１リングの前記外周部下面に凹部を有し、前記第２リングの前記内周部上面に凸部を有し、前記凸部は前記凹部と係合する、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１８】
前記第１リングは、内周部品および外周部品の二つの部品で構成される、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１９】
前記第２リングの前記貫通孔の下側開口部は下方にむけて開口が広がる形状を有する、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項２０】
前記リフタピンの前記第１保持部は、前記第２リングの内周部に形成された前記貫通孔との間に所定のクリアランスを空けて前記貫通孔内に挿入される、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項２１】
前記リフタピンの前記第２保持部は、前記第２リングの内周部に形成された前記貫通孔に入らない形状を有し、留め具として機能する、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項２２】
前記リフタピンは、前記第１保持部と前記第２保持部との間に傾斜部を有し、前記傾斜部は、前記第１保持部から前記第２保持部に向けて徐々に断面積が大きくなる形状である、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項２３】
前記リフタピンは、前記第１保持部と前記第２保持部との間に設けられ、前記第２保持部の直径より大きな直径を持つフランジを有する、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。