(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ可溶性フェノール樹脂と感放射線性化合物を含有してなるポジ型感放射線性樹脂組成物において、該アルカリ可溶性フェノール樹脂はｍ−クレゾールまたはｍ−クレゾールのメチロール体を必須成分とするフェノール類とアルデヒド類とを、親水性溶媒と水を反応媒質として重縮合して得られた縮合物であり、且つ該アルカリ可溶性フェノール樹脂は、パーメチル化α−シクロデキストリンを含有するシリコーン相を内面に有するキャピラリーカラムを使用した熱分解ガスクロマトグラフで、熱分解温度５９０℃で測定した場合、熱分解生成物として検出される２,３,４,６−テトラメチルフェノールのピーク面積値Ｘとｍ−クレゾールのピーク面積値Ｙとの間に、５０≧Ｘ／Ｙ≧４.０の関係があることを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ポジ型感放射線性樹脂組成物に関する。更に詳しくは、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線、分子線、γ線、シンクロトロン放射光、プロトンビーム等の放射線に感応する集積回路作製用のレジストとして好適なポジ型感放射線性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
１６Ｍビット級の集積回路の作製において、高い解像力を有し且つ良好なパターンを形成できるアルカリ可溶性フェノール樹脂と感放射線性化合物とからなるポジ型レジストが相次いで開発されている。
【０００３】
しかしながら、従来のポジ型レジストに使用されるアルカリ可溶性フェノール樹脂は、内部構造の制御（ｏ−ｏ’−オルト・オルト結合率および分岐度の制御）が十分ではなかったため、解像限界に近いところで使用されると、フォーカスがずれた際に、パターン形状の変形、現像性の悪化、設計線幅からのずれ等が著しく、十分なフォーカス許容性を備えているものではなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、フォーカス許容性の優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、特に０.３〜０.４μｍオーダーの微細パターンにおけるフォーカス許容性が優れるとともに、感度、解像度、耐熱性、現像性およびパターン形状にも優れた集積回路作製用のレジストとして好適なやポジ型感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、本発明の上記目的および利点は、アルカリ可溶性フェノール樹脂と感放射線性化合物を含有してなるポジ型感放射線性樹脂組成物において、該アルカリ可溶性フェノール樹脂はｍ−クレゾールまたはｍ−クレゾールのメチロール体を必須成分とするフェノール類とアルデヒド類とを、親水性溶媒と水を反応媒質として重縮合して得られた縮合物であり、且つ該アルカリ可溶性フェノール樹脂は、パーメチル化α−シクロデキストリンを含有するシリコーン相を内面に有するキャピラリーカラムを使用した熱分解ガスクロマトグラフで、熱分解温度５９０℃で測定した場合、熱分解生成物として検出される２,３,４,６−テトラメチルフェノールのピーク面積値Ｘとｍ−クレゾールのピーク面積値Ｙとの間に、５０≧Ｘ／Ｙ≧４.０の関係があることを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物により達成することができる。以下、本発明を具体的に説明するが、これにより本発明の目的、構成および効果が明確となるであろう。
【０００６】
本発明で特定したキャピラリーカラムは、パーメチル化α−シクロデキストリンをカラム内壁に化学結合した中極性シリコーン相に含有させたものが好ましい。
この中極性シリコーン相としては、ポリ（ジフェニル−ジメチルシロキサン）が好ましく、ジフェニルシロキサンとジメチルシロキサンの共重合体の重合比率は、ジフェニルシロキサン／ジメチルシロキサン＝２０〜４０／８０〜６０（重量比）であることが好ましい。このような中極性シリコーン相の市販品としてはスペルコ社（米国）製、ＳＰＢ−２０、ＳＰＢ−３５等が挙げられる。
また、ペーメチル化α−シクロデストリンのシリコーン相中の含有量は、重量比で１０〜３０％が好ましい。
特に好適なキャピラリーカラムの市販品としては、スペルコ社（米国）製、α−ＤＥＸ１２０が挙げられる。
【０００７】
本発明で特定した熱分解ガスクロマトグラフスペクトルの２つのピークは、いずれもフェノール環同士のメチレン結合を切断することにより生成される分解物に由来するピークである。ここで、２,３,４,６−テトラメチルフェノールは、ｍ−クレゾールの２つのオルソ位と、パラ位にメチレンが結合したものに由来する分解物である。この分解物のピークの面積値（Ｘ値）が同じにフェノール樹脂の熱分解により得られるｍ−クレゾールのピークの面積値（Ｙ値）との関係でＸ／Ｙ≧３.０を満足する場合には、アルカリ可溶性フェノール樹脂の製造方法の如何を問わず上記に述べた効果が発現する。
【０００８】
本発明に用いられるアルカリ可溶性フェノール樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という）の製造に用いられるフェノール類はｍ−クレゾールまたはｍ−クレゾールのメチロール体を必須成分とする。ｍ−クレゾールまたはｍ−クレゾールのメチロール体以外の他のフェノール類としては、フェノールまたはフェノールのメチロール体；２,３−キシレノール、３,４−キシレノール、２,３,５−トリメチルフェノール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ｎ−プロピルフェノール、ｍ−ｎ−プロピルフェノール、ｐ−ｎ−プロピルフェノール、ｏ−イソプロピルフェノール、ｍ−イソプロピルフェノール、ｐ−イソプロピルフェノール、ｏ−ｎ−ブチルフェノール、ｍ−ｎ−ブチルフェノール、ｐ−ｎ−ブチルフェノール、ｏ−ｔ−ブチルフェノール、ｍ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｎ−ペンチルフェノール、ｐ−ｔ−ペンチルフェノール、ｐ−ｎ−ヘキシルフェノール、ｐ−ｔ−ヘキシルフェノール、ｐ−ｎ−ヘプチルフェノール、ｐ−ｔ−ヘプチルフェノール、ｐ−ｎ−オクチルフェノール、ｐ−ｔ−オクチルフェノール、ｐ−ｎ−ノニルフェノール、ｐ−ｔ−ノニルフェノール、２,４−キシレノール、２,５−キシレノール、２,６−キシレノール、３,５−キシレノール、５−イソプロピル−３−メチルフェノール、２−ｎ−ブチル−５−メチルフェノール、２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール、２,５−ジ−ｎ−ブチルフェノール、２,５−ｓｅｃ−ブチルフェノール、２,５−ジ−ｔ−ブチルフェノール、３,４,５−トリメチルフェノール等のアルキルフェノール類またはそのメチロール体；
【０００９】
ｏ−アリルフェノール、ｍ−アリルフェノール、ｐ−アリルフェノール、ｏ−１−プロペニルフェノール、ｍ−１−プロペニルフェノール、ｐ−１−プロペニルフェノール、ｏ−２−プロペニルフェノール、ｍ−２−プロペニルフェノール、ｐ−２−プロペニルフェノール等のアルケニルフェノール類またはそのメチロール体；ｏ−シクロペンチルフェノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＺ、ｍ−シクロペンチルフェノール、ｐ−シクロペンチルフェノール、ｏ−シクロヘキシルフェノール、ｍ−シクロヘキシルフェノール、ｐ−シクロヘキシルフェノール、ｏ−フェニルフェノール、ｍ−フェニルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｏ−ベンジルフェノール、ｍ−ベンジルフェノール、ｐ−ベンジルフェノール等の環式構造を有する置換基をもつフェノール類またはそのメチロール体；
【００１０】
ｏ−メトキシフェノール、ｍ−メトキシフェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｏ−エトキシフェノール、ｍ−エトキシフェノール、ｐ−エトキシフェノール、ｏ−ｎ−プロポキシフェノール、ｍ−ｎ−プロポキシフェノール、ｐ−ｎ−プロポキシフェノール、ｏ−イソプロポキシフェノール、ｍ−イソプロポキシフェノール、ｐ−イソプロポキシフェノール、ｏ−ｎ−ブトキシフェノール、ｍ−ｎ−ブトキシフェノール、ｐ−ｎ−ブトキシフェノール、ｏ−ｔ−ブトキシフェノール、ｍ−ｔ−ブトキシフェノール、ｐ−ｔ−ブトキシフェノール、ｏ−ｎ−ペンチルオキシフェノール、ｍ−ｎ−ペンチルオキシフェノール、ｐ−ｎ−ペンチルオキシフェノール、ｏ−ｎ−ヘキシルオキシフェノール、ｍ−ｎ−ヘキシルオキシフェノール、ｐ−ｎ−ヘキシルオキシフェノール、ｏ−ｎ−ヘプチルオキシフェノール、ｍ−ｎ−ヘプチルオキシフェノール、ｐ−ｎ−ヘプチルオキシフェノール、３−メトキシ−４−メトキシフェノール、３−エトキシ−４−メトキシフェノール、３−メトキシ−４−エトキシフェノール、３−エトキシ−４−エトキシフェノール等のアルコキシフェノール類またはそのメチロール体；
【００１１】
ｏ−フェノキシフェノール、ｍ−フェノキシフェノール、ｐ−フェノキシフェノール等のアリールオキシフェノール類またはそのメチロール体；ｏ−ベンジルオキシフェノール、ｍ−ベンジルオキシフェノール、ｐ−ベンジルオキシフェノール等のアラルキルオキシフェノール類またはそのメチロール体；ｏ−アセチルフェノール、ｍ−アセチルフェノール、ｐ−アセチルフェノール、ｏ−ｎ−プロピオニルフェノール、ｍ−ｎ−プロピオニルフェノール、ｐ−ｎ−プロピオニルフェノール、ｏ−ｎ−ブチリルフェノール、ｍ−ｎ−ブチリルフェノール、ｐ−ｎ−ブチリルフェノール、ｐ−ｎ−ペンタノイルフェノール、ｐ−ｎ−ヘキサノイルフェノール等のケトン基含有フェノール類またはそのメチロール体；
【００１２】
サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、サリチル酸ｎ−プロピル、３−ヒドロキシ安息香酸メチル、３−ヒドロキシ安息香酸エチル、３−ヒドロキシ安息香酸ｎ−プロピル、４−ヒドロキシ安息香酸メチル、４−ヒドロキシ安息香酸エチル、４−ヒドロキシ安息香酸プロピル等のエステル基含有フェノール類またはそのメチロール体；カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、３−メチルカテコール、４−メチルカテコール、２−メチルレゾルシノール、４−メチルレゾルシノール、メチルハイドロキノン、３−エチルカテコール、４−エチルカテコール、２−エチルレゾルシノール、４−エチルレゾルシノール、エチルハイドロキノン、ｎ−プロピルハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、ｔ−ブチルハイドロキノン、４−ｎ−ヘキシルレゾルシノール、４−ヘキサノイルレゾルシノール、３,５−ジメチルカテコール、２,５−ジメチルレゾルシノール、２,３−ジエチルハイドロキノン、２,５−ジメチルハイドロキノン、３,５−ジエチルカテコール、２,５−ジエチルレゾルシノール、２,５−ジエチルハイドロキノン、３,５−ジイソプロピルカテコール、２,５−ジイソプロピルレゾルシノール、２,３−ジイソプロピルハイドロキノン、２,５−ジイソプロピルハイドロキノン、３,５−ジ−ｔ−ブチルカテコール、２,５−ジ−ｔ−ブチルレゾルシノール、２,３−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２,５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン等の水酸基を２個有するフェノール類またはそのメチロール体；ピロガロール、フロログルシノール、１,２,４−ベンゼントリオール等の水酸基を３個有するフェノール類またはそのメチロール体；没食子酸メチル、没食子酸エチル、没食子酸ｎ−プロピル、没食子酸ｎ−ブチル、没食子酸ｎ−ペンチル、没食子酸ｎ−ヘキシル、没食子酸ｎ−ヘプチル、没食子酸ｎ−オクチル等の（ポリ）アルコキシカルボニル置換フェノール類およびそのメチロール体等を挙げることができる。
【００１３】
これらの他のフェノール類はｍ−クレゾールとの組合せで用いることができる。
なお、感度、解像度、耐熱性、現像性およびパターン形状に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を得るための特に好ましいフェノール類の組合せとしては、ｐ−クレゾール、ｏ−クレゾール、２,３−キシレノール、２,５−キシレノール、３,４−キシレノール、３,５−キシレノール、２,３,５−トリメチルフェノールの中から選ばれる少なくとも１種のフェノール類とｍ−クレゾールの組合せを挙げることができる。またｍ−クレゾールの使用量は、樹脂（Ａ）製造に用いられる全フェノール類１モルに対して、好ましくは０.４〜１モル、特に好ましくは０.５〜１モルである。
【００１４】
また同様に樹脂（Ａ）の製造に用いられるアルデヒド類としては、例えばホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、α−フェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアルデビト、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンスアルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ｏ−ニトロベンズアルデヒド、ｍ−ニトロベンズアルデヒド、ｐ−ニトロベンズアルデビト、ｏ−メチルベンズアルデヒド、ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−エチルベンズアルデヒド、ｐ−ｎ−ブチルベンズアルデヒド、フルフラール等を挙げることができる。特にホルムアルデヒドが好適に用いられる。
【００１５】
ホルムアルデヒド発生源としては、ホルマリン、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、メチルヘミホルマール、エチルヘミホルマール、プロピルヘミホルマール、ブチルヘミホルマール、フェニルヘミホルマール等を挙げることができる。特にホルマリンとブチルヘミホルマールが好適に用いられる。
これらのアルデヒド類は単独でまたは２種以上組合せて用いることができる。アルデヒド類の使用量は、フェノール類１モルに対し、好ましくは０.４〜３モル、特に好ましくは０.４５〜１.８モルである。
【００１６】
フェノール類とアルデヒド類との重縮合に用いられる触媒としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ギ酸、シュウ酸、酢酸等の酸性触媒、ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、ジエチルアミン、ジメチルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の塩基性触媒を挙げることができる。これらのうち、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジン、４−メチルピリジン、水酸化リチウム、水酸化カリウム等が好ましいものとして挙げられる。
これらは単独でまたは２種以上組合せて用いることができる。但し、２種以上組み合わせて用いる場合は、酸性触媒と塩基性触媒を組み合わせることは望ましくない。これらの触媒の使用量は、通常フェノール類１モルに対し、１×１０-5〜５×１０-1モルであり、好ましくは２×１０-2〜３×１０-1である。
【００１７】
フェノール類と、アルデヒド類との重縮合においては、通常水が反応媒質として使用されるが、親水性溶媒が反応媒質として併用される。これらの親水性溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、１,２−ジメトキシエタン、１,２−ジエトキシエタン等のエーテル類、およびテトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類が挙げられる。これらの反応媒質としては樹脂（Ａ）が合成途中で析出しないものが好ましい。これらの反応媒質の使用量は、通常反応原料１重量部当り、０.２〜１０重量部である。フェノール類とアルデヒド類との重縮合温度は、反応原料の反応性に応じて適宜調節されるが、通常０〜２００℃であり、好ましくは９０〜１４０℃である。
【００１８】
フェノール類とアルデヒド類との重縮合方法としては、フェノール類、アルデヒド類、触媒等を一括して仕込み反応させる方法、フェノール類、アルデヒド類、触媒等を徐々に添加しながら反応させる方法等を採用することができる。
重縮合の終了後、一般的には、反応混合物を水中に投入して触媒を水中に溶出させ、水層と樹脂層（有機層）を分離させた後、樹脂層（有機層）を取り出し、未反応原料、反応媒質等を除去するために、樹脂層（有機層）を１３０〜２３０℃に昇温し、減圧下、例えば２０〜５０ｍｍＨｇ程度の圧力下で、発揮分を留去して、樹脂（Ａ）を回収する。
【００１９】
また、本発明において用いられる樹脂（Ａ）の標準ポリスチレン換算重量平均分子量（以下「Ｍｗ」という）は、通常３,０００〜２０,０００であり、好ましくは４,０００〜１５,０００である。Ｍｗが２０,０００を越えると、本発明の組成物を基材上に均一に塗布することが困難になる場合があり、また現像性および感度が低下する傾向がみられる。一方、Ｍｗが３,０００未満では、耐熱性が低下する傾向を示す。
【００２０】
なお、樹脂（Ａ）が特に高分子量であることが望ましい場合は、前記重縮合によって得られた樹脂（Ａ）を、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジオキサン、メタノール、酢酸エチル等の良溶媒に溶解した後、水、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、トルエン、キシレン等の貧溶媒を添加し、アルカリ可溶性フェノール樹脂を析出させる。析出させたアルカリ可溶性樹脂を回収し、分画された高分子量の樹脂（Ａ）を得ることができる。
【００２１】
樹脂（Ａ）が５０≧Ｘ／Ｙ≧４.０とするための樹脂（Ａ）の製造の手段としては、（１）用いるフェノール類の量比を適宜選択する。
（２）用いる触媒を適宜選択する。
（３）反応初期にｍ−クレゾールを多く含むフェノール類を反応させ、ｍ−クレゾール以外のフェノール類を多く含むフェノール類を徐々に添加しながら反応させる。
（４）多価メチロール体を多く含むフェノール類を用いる。
（５）樹脂（Ａ）が合成途中で析出しない反応媒質を用いる。
等が挙げられ、必要に応じてこれらを組み合わせる。これらの手段によってアルカリ可溶性フェノール樹脂中のｍ−クレゾール成分の水酸基からみて２つのオルソ位とパラ位にメチレンが結合した重縮合体を多く含む樹脂（Ａ）が得られ、５０≧Ｘ／Ｙ≧４.０とすることができる。本発明においては、特に上記（１）〜（５）を組み合わせることによって、５０≧Ｘ／Ｙ≧４.０の樹脂（Ａ）を得ることが好ましい。
【００２２】
樹脂（Ａ）の熱分解ガスクロマトグラフにおけるピーク面積値Ｘとピーク面積値Ｙとの関係は、５０≧Ｘ／Ｙ≧４.０であり、この関係を保つ限りにおいて、樹脂（Ａ）は、単独または２種以上を混合して使用することができる。Ｘ／Ｙが４.０未満ではフォーカス許容性が十分でない。本発明に用いられる感放射線性化合物としては、フェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル（以下「スルホン酸エステル（Ｂ）」という）、例えばベンゼン環数２〜５程度のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを挙げることができる。
【００２３】
このようなスルホン酸エステル（Ｂ）としては、例えば２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２,４,６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２,３,４,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２,２’,３,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、３’−メトキシ−２,３,４,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２,２’,４,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２,２’,３,４,４'−ペンタテトラヒドロキシベンゾフェノン、２,２’,３,４,６’−ペンタテトラヒドロキシベンゾフェノン、２,３,３’,４,４'５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、２,３’,４,４'５’,６−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等の（ポリ）ヒドロキシフェニルアリールケトンの１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル類；１,２,４−トリメチル−２’,４’,７−トリヒドロキシ−２−フェニルフラバン、２,４,４’−トリメチル２’,４’,５’,６,７−ペンタヒドロキシ−２−フェニルフラバン等のポリヒドロキシフェニルフラバンの１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル類を挙げることができる。
【００２４】
さらに、スルホン酸エステル（Ｂ）としては、下記式（１）〜（８）で表されるフェノール化合物の１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル類を挙げることができる。
【００２５】
【化１】
0003665997.tif 000002
【００２６】
［式（１）において、Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ1が複数存在する場合は相互に同一であっても異なっていてもよく、Ｒ2は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基または炭素数７〜１８のアラルキル基を示し、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ０〜３の整数である、但しｐとｑとが同時に０となることはなく、ｐ＋ｘ≦５、ｑ＋ｙ≦５およびｒ＋ｚ≦５を満たす。］
【００２７】
【化２】
0003665997.tif 000003
【００２８】
［式（２）において、Ｒ3は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ3が複数存在する場合は相互に同一であっても異なっていてもよく、Ｒ4およびＲ5は相互に同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基または炭素数７〜１８のアラルキル基を示し、ｐ、ｑ、ｘおよびｙはそれぞれ０〜３の整数である、但しｐとｑとが同時に０となることはなく、ｐ＋ｘ≦５、ｑ＋ｙ≦５を満たす。］
【００２９】
【化３】
0003665997.tif 000004
【００３０】
［式（３）において、Ｒ6は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ6が複数存在する場合は相互に同一であっても異なっていてもよく、ｐ、ｑ、ｘおよびｙはそれぞれ０〜３の整数である、但しｐとｑとが同時に０となることはなく、ｐ＋ｘ≦５、ｑ＋ｙ≦５を満たす。］
【００３１】
【化４】
0003665997.tif 000005
【００３２】
［式（４）において、Ｒ7は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ7が複数存在する場合は相互に同一であっても異なっていてもよく、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ０〜３の整数である、但しｐ、ｑおよびｒが同時に０となることはなく、ｐ＋ｘ≦５、ｑ＋ｙ≦５およびｒ＋ｚ≦５を満たす。］
【００３３】
【化５】
0003665997.tif 000006
【００３４】
［式（５）において、Ｒ8は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ8が複数存在する場合は相互に同一であっても異なっていてもよく、Ｒ10およびＲ13は相互に同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基または炭素数７〜１８のアラルキル基を示し、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ０〜３の整数である、但しｐ、ｑおよびｒが同時に０となることはなく、ｐ＋ｘ≦５、ｑ＋ｙ≦５およびｒ＋ｚ≦５を満たす。］
【００３５】
【化６】
0003665997.tif 000007
【００３６】
［式（６）において、Ｒ14は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ14が複数存在する場合は相互に同一であっても異なっていてもよく、Ｒ15およびＲ19は相互に同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基または炭素数７〜１８のアラルキル基を示し、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ０〜３の整数である、但しｐ、ｑおよびｒが同時に０となることはなく、ｐ＋ｘ≦５、ｑ＋ｙ≦５およびｒ＋ｚ≦５を満たす。］
【００３７】
【化７】
0003665997.tif 000008
【００３８】
［式（７）において、Ｒ20〜Ｒ22は相互に同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基または炭素数７〜１８のアラルキル基を示し、各Ｒ20〜Ｒ22が複数存在する場合は更に相互に同一であっても異なっていてもよく、Ｒ23およびＲ26は相互に同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基または炭素数７〜１８のアラルキル基を示し、Ｒ27〜Ｒ29は相互に同一であっても異なっていてもよく、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示し、ａ、ｂおよびｃはそれぞれ１〜３の整数、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ０〜３の整数であり、ａ＋ｘ≦５、ｂ＋ｙ≦５およびｃ＋ｚ≦５をを満たす。］
【００３９】
【化８】
0003665997.tif 000009
【００４０】
［式（８）において、Ｒ30〜Ｒ39は相互に同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基または水酸基を示し、且つＲ30〜Ｒ34およびＲ35〜Ｒ39のそれぞれの組合せにおいて、少なくとも１つは水酸基であるものとし、Ｒ40は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１４のアリール基を示す。］
【００４１】
これらのうち、好ましいスルホン酸エステル（Ｂ）としては、１,２,４−トリメチル−２’,４’,７−トリヒドロキシ−２−フェニルフラバン、２,４,４’−トリメチル−２’,４’,５’,６,７−ペンタヒドロキシ−２−フェニルフラバン等のポリヒドロキシフェニルフラバンおよび前記式（１）、（５）または（７）で表されるフェノール化合物の１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等を挙げることができる。これらのスルホン酸エステル（Ｂ）は単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明の組成物において、スルホン酸エステル（Ｂ）の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常３〜１００重量部、好ましくは５〜５０重量部である。また、組成物中のキノンジアジドスルホニル基の総量は、組成物の固形分中に、通常５〜３５重量％、好ましくは１０〜３０重量％である。
【００４２】
本発明の組成物には、更に必要に応じて、溶解促進剤、増感剤、界面活性剤等の各種配合剤を配合することができる。
前記溶解促進剤は、樹脂（Ａ）のアルカリ溶解性を促進する等の目的で使用される化合物である。その好ましい例としては、ベンゼン環数２〜６程度のフェノール化合物を挙げることができる。具体的には、前記式（２）〜（８）で表される低分子量のフェノール化合物を挙げることができる。
溶解促進剤配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部当り、通常５０重量部以下、好ましくは５〜３０重量部である。
【００４３】
また、前記増感剤は、本発明の組成物の放射線に対する感度を向上させる作用を有するものである。その例としては、２Ｈ−ピリド−（３,２−ｂ）−１,４−オキサジン−３（４Ｈ）−オン類、１０Ｈ−ピリド−（３,２−ｂ）−（１,４）−ベンゾチアジン類、ウラゾール類、ヒダントイン類、バルビツール酸類、グリシン無水物類、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール類、アロキサン類、マレイミド類等を挙げることができる。これらの増感剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部に当り、通常５０重量部以下である。
【００４４】
更に、前記界面活性剤は、本発明の組成物の塗布性、現像性等を改良する作用を有するものである。その例としては市販のノニオン系界面活性剤が挙げられる。
これらの界面活性剤の配合量は、組成物の固形分１００重量部当り、通常２重量部以下である。
【００４５】
更に本発明の組成物には、染料や顔料を配合することにより、放射線照射部の潜像を可視化させ、放射線照射時のハレーションの影響を少なくすることができる。また、本発明の組成物には、接着助剤、保存安定剤、消泡剤等の他の添加剤を配合することもできる。
【００４６】
本発明の組成物は、樹脂（Ａ）、スルホン酸エステル（Ｂ）および必要に応じ各種配合剤とともに、例えば固形分濃度が２０〜４０重量％となるように溶剤に溶解し、例えば孔径０.２μｍ程度のフィルターで濾過して組成物溶液として調製される。
【００４７】
組成物溶液の調製に用いられる溶剤としては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロプルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等を挙げることができる。こられの溶剤は、単独または２種以上混合して使用することができる。
【００４８】
更に、前記溶剤には、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤を１種以上添加することもできる。
【００４９】
組成物溶液として調製された本発明の組成物は、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法により、例えばシリコンウェハー、アルミニウムで被覆されたウェハー等の基板上に塗布されて感放射線性樹脂層を形成し、所定のマスクパターンを介して放射線照射を受け、現像液で現像されることによって、レジストパターンを形成する。この際に使用される放射線としては、ｉ線等の紫外線が好ましく用いられるが、組成物の特性等に応じて、各種放射線を選択して用いることができる。
【００５０】
本発明の組成物は、組成物を基板上に塗布し、予備焼成および放射線照射を行った後、７０〜１４０℃で加熱処理する操作（以下「露光後焼成」という）を行い、その後に現像することによって、本発明の効果を更に向上させることができる。
【００５１】
本発明の組成物の現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン、１,５−ジアザビシクロ［４.３.０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物を、濃度が通常１〜１０重量％、好ましくは２〜５重量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が使用される。
【００５２】
また、前記現像液には、水溶性有機溶媒例えばメタノール、エタノール等のアルコール類や界面活性剤を適量添加することもできる。
このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用して現像した場合は、一般に、現像後、水で洗浄する。
【００５３】
【実施例】
以下、実施例および比較例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、これらの実施例になんら制約されるものではない。
ここで、Ｍｗの測定、熱分解ガスクロマトグラフ分析および各レジストの評価は、以下の方法により行った。
【００５４】
Ｍｗ：
東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００ＨXL  ２本、Ｇ３０００ＨXL  １本、Ｇ４０００ＨXL  １本）を用い、流量１.０ｍｌ／分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフ法により測定した。
【００５５】
熱分解ガスクロマトグラフ分析：
日本分析工業社製キュリーポイント型パイロライザーＪＨＰ−３Ｓ型を熱分解装置として用い、熱分解温度５９０℃、熱分解時間５秒、サンプル量０.５±０.０５ｍｇの条件で樹脂を熱分解させ、スペルコ社（米国）製α−ＤＥＸ１２０（内径０.２５ｍｍ×長さ３０ｍ、膜厚０.２５μｍ、パーメチル化α−シクロデキストリンをカラム内壁に化学結合した中極性シリコーン相［ＳＰＢ−３５、ポリ（３５％ジフェニル−６５％ジメチルシロキサン）］に２０重量％含有させたキャピラリーカラム）を分離カラムに用い、ヘリウム流量１.０ｍｌ／分、カラム温度１３０℃〜２４０℃（３℃／分で昇温）の分析条件（ガスクロマトグラフ：ヒューレットパッカード社製、ＨＰ−５８９０型、検出器：水素炎イオン検出器）で樹脂の分解生成物中の２,３,４,６−テトラメチルフェノールおよびｍ−クレゾールを測定した。
【００５６】
感度：
（株）ニコン製  ＮＳＲ−２００５ｉ９Ｃ  縮小投影露光機（レンズの開口数；０.５７）を用い、露光時間を変化させて、波長３６５ｎｍのｉ線により露光した後、２.４重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により２５℃で６０秒間現像し、水洗し、乾燥してウェハー上にポジ型レジストパターンを形成した。その際、線幅０.３５μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を１対１の幅に形成する露光時間（以下、「最適露光時間」という）を感度とした。
【００５７】
解像度：
最適露光時間で露光した時に現像されている最小のレジストパターンの寸法を解像度とした。
【００５８】
フォーカス許容性：
線幅０.３５μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を走査型電子顕微鏡を用いて観察し、解像されるパターン寸法がマスクの設計寸法の±１０％以内であり、且つレジストパターンの現像前の膜の厚さに対する現像後の厚さの割合（以下、「残膜率」という）が９０％以上であるレジストパターンを形成しうるフォーカスの振れ幅（μｍ：フォーカスレンジ）によって、フォーカス許容性を評価した。フォーカスレンジが大きいほど、フォーカス許容性が良好であることを示している。
【００５９】
現像性：
スカムや残像残りの程度を、走査型電子顕微鏡を用いて調べた。
【００６０】
パターン形状：
線幅０.３５μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）の方形状断面の下辺の寸法Ｌaと上辺の寸法Ｌbとを走査型電子顕微鏡を用いて測定し、０.８５≦Ｌb／Ｌa≦１である場合を、パターン形状が良好であるとした。但し、０.８５≦Ｌb／Ｌa≦１であっても、パターン形状が裾を引いていたり、逆テーパー状となっている場合は、良好とはみなさなかった。
【００６１】
耐熱性：
レジストパターンを形成したウェハーをクリーンオーブン中に置き、１３０℃で２分間加熱して、パターン形状が崩れない場合を、耐熱性が良好と判断した。
【００６２】
樹脂（Ａ）の製造
合成例１
攪拌機、冷却管および温度計を装着したフラスコに、
ｍ−クレゾール                  １０８.１ｇ（１.００モル）
硫酸                              １.９６ｇ（０.０２モル）
３７重量％ホルムアルデヒド水溶液  ５６.７ｇ（ホルムアルデヒド０.７モル）
ジオキサン                         １１５ｇ
を仕込んだ後、フラスコを油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下、３時間重縮合を行った。次いで油浴の温度を１８０℃まで２時間かけて昇温し、重縮合反応を行った。その後にフラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇまで減圧して揮発分を除去し、溶融している樹脂（Ａ）を室温まで冷却して回収した。この樹脂を、酢酸エチルに樹脂成分が３０重量％となるように溶解した後、この溶液の重量の１.１５倍量のメタノールと０.７５倍量の水を加えて、攪拌後放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃縮し、乾燥して樹脂（Ａ）を回収した。この樹脂（Ｍｗ＝８,５００）を樹脂（Ａ１）とする。樹脂（Ａ１）の熱分解ガスクロマトグラフ分析の結果を表１に示した。
【００６３】
合成例２
0003665997.tif 000010
を用いた以外は、合成例１と同様な操作を行って、樹脂（Ａ）を回収した。この樹脂（Ｍｗ＝８,８００）を樹脂（Ａ２）とする。樹脂（Ａ２）の熱分解ガスクロマトグラフ分析の結果を表１に示した。
【００６４】
合成例３
攪拌機、冷却管および温度計を装着したフラスコに、
0003665997.tif 000011
を仕込んだ後、フラスコを油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下、４時間重縮合を行った。次いで油浴の温度を１８０℃まで３時間かけて昇温し、その後にフラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇまで減圧して揮発分を除去し、溶融している樹脂（Ａ）を室温まで冷却して回収した。この樹脂を、酢酸エチルに樹脂成分が３５重量％となるように溶解し、シュウ酸を１.８８ｇ（０.０１５モル）添加した後、水層が中性になるまで水洗を繰り返した。その後、樹脂成分が３０重量％になるように酢酸エチルで希釈した後、この溶液の重量の１.０５倍量のメタノールと０.７５倍量の水を加えて、攪拌後放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃縮し、乾燥して樹脂（Ａ）を回収した。この樹脂（Ｍｗ＝８,８００）を樹脂（Ａ３）とする。樹脂（Ａ３）の熱分解ガスクロマトグラフ分析の結果を表１に示した。
【００６５】
合成例４
攪拌機、冷却管および温度計を装置したフラスコに、
ｍ−クレゾール                    ８１.１ｇ（０.７５モル）
ｐ−クレゾール                    ２７.０ｇ（０.２５モル）
硫酸                              １.９６ｇ（０.０２モル）
ジオキサン                         １７３ｇ
１,３−ジオキソラン               ５９.３ｇ（ホルムアルデヒド０.８モル）
水                                   ４３ｇ
を仕込んだ後、フラスコを油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下、２.５時間重縮合を行った。その後は合成例３と同様な操作を行って、樹脂（Ａ）を回収した。この樹脂（Ｍｗ＝８,２００）を樹脂（Ａ４）とする。樹脂（Ａ４）の熱分解ガスクロマトグラフ分析の結果を表１に示した。
【００６６】
合成例５
攪拌機、冷却管および温度計を装置したフラスコに、
0003665997.tif 000012
を仕込んだ後、フラスコを油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下、４.５時間重縮合を行った。その後は合成例３と同様な操作を行って、樹脂（Ａ）を回収した。この樹脂（Ｍｗ＝８,５００）を樹脂（Ａ５）とする。樹脂（Ａ５）の熱分解ガスクロマトグラフ分析の結果を表１に示した。
【００６７】
比較合成例１
攪拌機、冷却管および温度計を装着したフラスコに、
0003665997.tif 000013
を仕込んだ後、フラスコを油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下、３時間重縮合を行った。この樹脂溶液をを、酢酸エチルに樹脂成分が３０重量％となるように加えた後、この溶液の重量の０.４５倍量のメタノールと０.４５倍量の水を加えて、攪拌後放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃縮し、乾燥して樹脂（ａ）を回収した。この樹脂（Ｍｗ＝５,０００）を樹脂（ａ１）とする。樹脂（ａ１）の熱分解ガスクロマトグラフ分析の結果を表１に示した。
【００６８】
比較合成例２
ｍ−クレゾール                    １０.８ｇ（０.１０モル）
３,５−キシレノール               ４２.８ｇ（０.３５モル）
ｐ−クレゾール                    ５９.５ｇ（０.５５モル）
３７重量％ホルムアルデヒド水溶液  ５６.７ｇ（ホルムアルデヒド０.７モル）
ジオキサン                         １１５ｇ
硫酸                              ２.９４ｇ（０.０３モル）
を用いた以外は、比較合成例１と同様や操作を行って、樹脂（ａ）を回収した。この樹脂（Ｍｗ＝８,７００）を樹脂（ａ２）とする。樹脂（ａ２）の熱分解ガスクロマトグラフ分析の結果を表１に示した。
【００６９】
比較合成例３
攪拌機、冷却管および温度計を装着したフラスコに、
ｍ−クレゾール                    ２７.０ｇ（０.２５モル）
２,３,５−トリメチルフェノール  １０２.０ｇ（０.７５モル）
水酸化ナトリウム                  １.２０ｇ（０.０３モル）
３７重量％ホルムアルデヒド水溶液  ８０.１ｇ（ホルムアルデヒド１.０モル）
ジオキサン                         １１５ｇ
を仕込んだ後、フラスコを油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下、９０分間重縮合を行った。次いで油浴の温度を１８０℃まで２時間かけて上げ、同時にフラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇまで減圧して揮発分を除去し、溶融している樹脂を回収した。この樹脂を、酢酸エチルに樹脂成分が３０重量％になるように溶解し、シュウ酸を１.８８ｇ（０.０１５モル）添加した後、この溶液の重量の０.９５倍量のメタノールと０.７５倍量の水を加えて、攪拌後放置した。次いで２層に分解した下層を取り出し、濃縮し、乾燥して樹脂（ａ）を回収した。この樹脂（Ｍｗ＝８,５００）を樹脂（ａ３）とする。樹脂（ａ３）の熱分解ガスクロマトグラフ分析の結果を表１に示した。
【００７０】
【表１】
0003665997.tif 000014
【００７１】
実施例１〜５、比較例１〜３
前記合成例で合成された樹脂（Ａ）または（ａ）ならびにスルホン酸エステル（Ｂ）、溶解促進剤および溶剤を混合して、均一溶液とした後、孔径０.２μｍのメンブランフィルターで濾過し、表２に示す組成物溶液を調製した。ここで、部は重量に基づく。
【００７２】
【表２】
0003665997.tif 000015
【００７３】
表２中、使用した樹脂（Ａ）または（ａ）、スルホン酸エステル（Ｂ）、溶解促進剤および溶剤の種類は、下記のとおりである。
【００７４】
スルホン酸エステル（Ｂ）
（Ｂ１）；式（２−１）で表される化合物と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド２モルの縮合物
【００７５】
【化９】
0003665997.tif 000016
【００７６】
（Ｂ２）；式（５−１）で表される化合物と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド３モルの縮合物
【００７７】
【化１０】
0003665997.tif 000017
【００７８】
（Ｂ３）；式（６−１）で表される化合物と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド２.５モルの縮合物
【００７９】
【化１１】
0003665997.tif 000018
【００８０】
（Ｂ４）；式（７−１）で表される化合物と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド２.５モルの縮合物
【００８１】
【化１２】
0003665997.tif 000019
【００８２】
溶解促進剤
（Ｃ１）；式（２−２）で表される化合物
【００８３】
【化１３】
0003665997.tif 000020
【００８４】
（Ｃ２）；式（８−１）で表される化合物
【００８５】
【化１４】
0003665997.tif 000021
【００８６】
溶剤
α；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル
β；３−エトキシプロピオン酸エチル
【００８７】
各組成物溶液を、シリコンウェハー上にスピナーを用いて塗布した後、１００℃に保持したホットプレート上で、２分間予備焼成を行って、厚さ１.１μｍのレジスト膜を形成した。このレジスト膜に、マスクパターンを介し、前述したようにして波長３６５ｎｍのｉ線により露光した後、１１０℃で保持したホットプレート上で、１分間露光後焼成を行った。次いで、前述したようにして現像し、洗浄し、乾燥して、レジストパターンを形成し、得られたレジストパターンを基にして、各レジストの性能評価を行った。表３に結果を示した。
【００８８】
【表３】
0003665997.tif 000022
【００８９】
表１に示すように、合成例１〜４の樹脂（Ａ）はＸ／Ｙ≧３.０を満たし、また表３に示すように、合成例１〜４の樹脂（Ａ）を使用した実施例１〜４では特にフォーカス許容性に優れるとともに、感度および解像度にも優れ、且つ現像性、パターン形状、耐熱性等も良好であった。
なお、実施例１〜４において、いずれも残膜率は９６％以上で、現像性、パターン形状および耐熱性も良好であった。
【００９０】
本発明の好適な実施態様を記載すれば以下のとおりである。
１.アルカリ可溶性フェノール樹脂と感放射線性化合物を含有してなるポジ型感放射線性樹脂組成物であって、該アルカリ可溶性フェノール樹脂はｍ−クレゾールまたはｍ−クレゾールのメチロール体を必須成分とするフェノール類とアルデヒド類とを、親水性溶媒と水を反応媒質として重縮合して得られた縮合物であり、且つ該アルカリ可溶性フェノール樹脂はパーメチル化α−シクロデキストリンをシリコーン相に含有させたキャピラリーカラムを使用した熱分解ガスクロマトグラフで、熱分解温度５９０℃で測定した場合、熱分解生物として検出される２,３,４,６−テトラメチルフェノールのピーク面積値をＸ、ｍ−クレゾールのピーク面積値をＹとした際に、５０≧Ｘ／Ｙ≧４.０の割合を有するポジ型感放射線性樹脂組成物。
【００９１】
２.アルカリ可溶性フェノール樹脂がｐ−クレゾール、ｏ−クレゾール、２,３−キシレノール、２,５−キシレノール、３,４−キシレノール、３,５−キシレノールおよび２,３,５−トリメチルフェノールよりなる群から選ばれる少なくとも１種のフェノール類とｍ−クレゾールの組合せとアルデヒド類との縮合物である上記１に記載の組成物。
【００９２】
３.アルカリ可溶性フェノール樹脂が３００〜２０,０００の標準ポリスチレン換算重量平均分子量を有する上記１に記載の組成物。
【００９３】
４.アルカリ可溶性フェノール樹脂が式５０≧Ｘ／Ｙ≧４.０を満足する上記１に記載の組成物。
【００９４】
５.感放射線性化合物がベンゼン環数２〜５個のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルである上記１に記載の組成物。
【００９５】
６.アルカリ可溶性樹脂１００重量部当り、感放射線性化合物３〜１００重量部を含有する上記１に記載の組成物。
【００９６】
【発明の効果】
本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物は、特にフォーカス許容性およびドライエッチング耐性に優れるとともに、感度、解像度、耐熱性およびパターン形状にも優れたものである。従って、本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物は、特に、今後更に高集積化が進と考えられる集積回路製造用ポジ型レジストとして極めて有用である。