(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
略円筒状の加工容器と、この加工容器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外より回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面とこれに対向する加工容器の内径面との間に形成されたリング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回転盤の回転運動との相乗作用により、加工容器内の粒子に転動流動を行なわせて造粒・コーティング等の粒子加工を施す装置において、
前記回転盤の中央上面に隆起部を突設して転動部を形成すると共に、隆起部と回転盤上面との間に外径側に向けて噴出口を設け、この噴出口に前記リング状隙間に導入されるガス流とは独立して流量調整可能とした導気路を連通させ、
前記導気路に、前記リング状隙間に導入されるガス流の一部を分流させ、
前記回転盤の下方に昇降部材を配置してこの昇降部材の上面と回転盤の下面との間に導気路を形成すると共に、この導気路を回転盤に設けた貫通孔を介して前記噴出口に連通させ、前記昇降部材の昇降動作により導気路の幅を変化させて当該導気路のガス分流量を調整することを特徴とする粒子加工装置。
【請求項２】
略円筒状の加工容器と、この加工容器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外より回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面とこれに対向する加工容器の内径面との間に形成されたリング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回転盤の回転運動との相乗作用により、加工容器内の粒子に転動流動を行なわせて造粒・コーティング等の粒子加工を施す装置において、
前記回転盤の中央上面に隆起部を突設して転動部を形成すると共に、隆起部と回転盤上面との間に外径側に向けて噴出口を設け、この噴出口に前記リング状隙間に導入されるガス流とは独立して流量調整可能とした導気路を連通させ、
前記導気路に、前記リング状隙間に導入されるガス流とは独立した別系統のガス供給系を接続することを特徴とする粒子加工装置。
【請求項３】
前記リング状隙間の直下部に、リング状隙間との対向部位を開口させたリング状ダクトを設け、このリング状ダクトに、接線方向で且つ前記回転盤の回転方向と同一方向に向けて導気する気流取入口を設けたことを特徴とする請求項１または２記載の粒子加工装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、医薬、農薬、食品、電子材料、化成品等の製造分野で粒子加工を目的として使用される粒子加工装置に関し、詳しくは各種原料粒子に造粒・コーティング等の粒子加工を施して粉体粒子の付加価値を向上させるための装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
原料粉体粒子に造粒、コーティング等の加工を施すための装置として、遠心転動流動式と呼ばれる粒子加工装置が従来から多数提案されている。これらの装置は、円筒状の加工容器の下部に水平回転する円形の回転盤を設けると共に、この回転盤と加工容器との間に形成されたリング状の隙間から主に垂直方向のガス流を噴出させる点を要旨とするものである。
【０００３】
具体的にこの装置の作用を説明すると、加工容器内に供給された粉体粒子は、回転盤の回転に伴う遠心力により、回転盤上を転動しながら径方向に移動する。次に粒子は、リング状の隙間を通過した上昇空気流に吹き上げられて加工容器の内径面に沿って上昇流動しつつ適当に乾燥され、やがて、加工容器内の中心付近に向かって落下する。こうして転動及び流動を規則正しく繰り返す循環流動が行なわれる。このような粒子の転動・流動中に、加工容器内の所定位置に設けたスプレーノズルからバインダー液やコーティング液を噴霧することにより、粒子の造粒・コーティング等の加工作業がなされる。
【０００４】
同タイプの装置の一例として、特公平６−１６８２７  号（特開昭６２−６８５３６  号）及び特公平６−１８７号（特開昭６２−６８５３５  号）には、環状通気部材を介して相互に所定間隔で多層に配置した回転盤を有する装置が開示されている。この装置は、環状通気部材を通して半径方向外方にガスを噴出させ、このガス流の作用と回転盤の回転による遠心転動作用との協働により、粒子を加工容器の内壁方向に押圧しながら粒子処理を行なうものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、遠心転動流動式の加工装置は、主に、粒子が回転盤上を転動する際に受ける面剪断による転動作用と、リング状隙間を通じて吹き込まれた上昇ガス流による流動作用とを利用して粒子を加工するものである。従って、当該加工装置の開発にあたっては、加工条件に合致する最適な転動作用及び流動作用を繰り返す最適転動流動状態を実現することが重要である。
【０００６】
ここで、上昇ガス流による流動作用を調整するには、上昇ガス流の流量を増減さればよい。一方、回転盤による転動作用を調整するには、回転盤上の転動部の面積、回転速度及び半径方向に噴出するガス流の流量のすべて、またはその何れかを調整すればよい。ここで重要となるのは、転動作用を付与する転動面を確保することである。
【０００７】
しかし、特公平６−１６８２７号及び特公平６−１８７号では、転動の助勢という立場を殆ど考慮せず、多層になった回転盤間の隙間から多重にガス吹き込みが行なわれている。従って、容器内が流動支配になると共に、規則正しい循環流動は行なわれ難い。また、該公報では、回転盤と容器の間を通して吹き込まれる垂直方向のガス流路と、環状通気部材を通して吹き込まれる半径方向のガス流路とが、回転盤下部に位置する同一のガス室に接続されているため、両ガス流路を流れるガス流量を独立して調整できない。このため、回転盤による転動作用と上昇ガス流による流動作用とを独自に調整することはできず、最適な転動流動状態を得るのは困難である。
【０００８】
その一方、本出願人は、粒子のクロスコンタミネーションを確実に防止すると共に、粒子の流動状態をより活発化させる目的で、リング状隙間の直下部に、リング状隙間との対向部位を開口させたリング状ダクトを設け、このリング状ダクトに接線方向で且つ回転盤の回転方向と同一方向に向けて下部ノズルを装着した粒子処理装置を開示している（特願平４−２４９３８０号）。
【０００９】
しかし、この装置では、容器をスケールアップやスケールダウンする場合に不具合が生じる。即ち、リング状隙間の幅を一定にしたまま容器の径を変更させると、回転盤の面積が容器の相当径の二乗に比例するのに対し、リング状隙間の面積は容器の相当径の一乗に比例する。このため、転動作用の変化量と流動作用の変化量に大きな差異が生じ、そのままでは最適な流動転動状態を得ることができない。このような点から、従来装置では、スケールアップ等する際に容器や回転盤の寸法決定に多大な労力を要する点が問題となっていた。
【００１０】
そこで、本発明は、ガス流による流動作用が殆どない転動作用域を確保しながら、粒子群の循環流動を粒子の加工目的に合った最適状態に調整することができる粒子加工装置の提供を目的とする。
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明では、略円筒状の加工容器と、この加工容器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外より回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面とこれに対向する加工容器の内径面との間に形成されたリング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回転盤の回転運動との相乗作用により、加工容器内の粒子に転動流動を行なわせて造粒・コーティング等の粒子加工を施す装置において、前記回転盤の中央上面に隆起部を突設して転動部を形成すると共に、隆起部と回転盤上面との間に外径側に向けて噴出口を設け、この噴出口に前記リング状隙間に導入されるガス流とは独立して流量調整可能とした導気路を連通させ、前記導気路に、前記リング状隙間に導入されるガス流の一部を分流させ、前記回転盤の下方に昇降部材を配置してこの昇降部材の上面と回転盤の下面との間に導気路を形成すると共に、この導気路を回転盤に設けた貫通孔を介して前記噴出口に連通させ、前記昇降部材の昇降動作により導気路の幅を変化させて当該導気路のガス分流量を調整することとした。
【００１２】
また、略円筒状の加工容器と、この加工容器内の底部近傍で水平回転する回転盤とを有し、系外より回転盤の下方に供給されたガス流を、回転盤の外径面とこれに対向する加工容器の内径面との間に形成されたリング状隙間から上方に噴出させ、この上昇ガス流と回転盤の回転運動との相乗作用により、加工容器内の粒子に転動流動を行なわせて造粒・コーティング等の粒子加工を施す装置において、前記回転盤の中央上面に隆起部を突設して転動部を形成すると共に、隆起部と回転盤上面との間に外径側に向けて噴出口を設け、この噴出口に前記リング状隙間に導入されるガス流とは独立して流量調整可能とした導気路を連通させ、前記導気路に、前記リング状隙間に導入されるガス流とは独立した別系統のガス供給系を接続することとした。
【００１５】
リング状隙間の直下部に、リング状隙間との対向部位を開口させたリング状ダクトを設け、このリング状ダクトに、接線方向で且つ前記回転盤の回転方向と同一方向に向けて導気する気流取入口を設けてもよい。
【００１６】
【作用】
回転盤中央部に適当な裾野を有する隆起部を設けることによって隆起部外周面で粒子に転動作用を与えることができる。さらに、隆起部下面と回転盤上面との間に容器半径方向にガスを噴出する噴出口を設け、この噴出口から外径側に向けてガス流を噴出することによって、隆起部で転動作用を受けた粒子に回転盤の回転運動とガス流との協働によって転動流動を及ぼすことができる。噴出口にリング状隙間に導入されるガス流（上昇ガス流）とは独立して流量調整可能とした導気路を連通させれば、最適流量に調整した径方向ガス流を噴出することができ、上昇ガス流との協働で理想的な転動流動状態を実現することが可能となる。
【００１７】
導気路にリング状隙間に導入されたガス流の一部を分流させれば、単一のガス流供給源で上昇ガス流と径方向ガス流の二種類のガス流を得ることができる。
【００１８】
回転盤の下方に昇降部材を配置してこの昇降部材の上面と回転盤の下面との間に導気路を形成すると共に、この導気路を回転盤に設けた貫通孔を介して噴出口に連通させ、昇降部材の昇降動作により導気路の幅を変化させると、その流路面積が変化する。従って、径方向ガス流の流量調整が可能となる。
【００１９】
導気路に、リング状隙間に導入されるガス流とは独立した別系統のガス供給系を接続すれば、上昇ガス流と径方向ガス流の流量をそれぞれ完全に独立して調整することができ、最適な流動転動状態を容易に実現することができる。
【００２０】
リング状隙間の直下部に、リング状隙間との対向部位を開口させたリング状ダクトを設け、このリング状ダクトに、接線方向で且つ前記回転盤の回転方向と同一方向に向けて導気する気流取入口を設ければ、サイクロン効果によってリング状ダクト内に粒子は落下することなく、またリング状隙間から容器内に入ったガス流は旋回流となって加工容器内を上昇する。
【００２１】
即ち、本発明によれば、隆起部形状、噴出口からのガス流及びリング状隙間からのガス流を、それぞれ最適値に調整することによって粒子加工に重要な、転動−転動流動−流動−転動−転動流動−…の最適循環流動が容易に実現できる。
【００２２】
【実施例】
以下、本発明装置の実施例を図１乃至図５に基づいて説明する。
【００２３】
図１は、本発明にかかる粒子加工装置の断面図である。但し、図１では、排気設備や、粒子の供給口及び排出口等の図示が省略されている。
【００２４】
加工容器（１）は、導電性の金属材料でほぼ円筒状に形成されており、その底部には、円形の回転盤（２）が水平に配置されている。この回転盤（２）は、無断可変速式の式のモータ（図示省略）に連結した垂直方向の回転軸（３）に固定されており、任意の速度で一定方向、例えば右回りに回転する。
【００２５】
回転盤（２）は、加工容器（１）の内径よりも小さい径寸法とされており、この回転盤（２）の外径面と、加工容器（１）の内径面との間には、上昇ガス流の導入路となる断面三角形型のリング状隙間（５）が形成されている。
【００２６】
回転盤（２）の中心部には、上部を切除した形状の略円錐型をなし且つ内部を中空とした隆起部材（６）が装着される。この隆起部材（６）は、回転軸（３）の上端部に螺合した締付ナット（７）によって回転軸（３）に締付け固定されている。隆起部材（６）の外周面は、粒子に転動作用を付与する転動部となる。
【００２７】
回転盤（２）上面のうち隆起部材（６）の下面直下の円周等配位置には、複数のスペーサ（９）が装着されている。このスペーサ（９）により、回転盤（２）の上面と隆起部材（６）の下面との間に、隆起部材（６）の中空部（１０）と連通する複数の噴出口（１１）が形成される。回転盤（２）の円周等配位置で且つ隆起部材（６）の下面よりも内径側には、円弧状の貫通孔（１２）が複数個形成されている。回転盤（２）の下面には、内径側及び外径側に離隔させて一対の環状突出部（１４）（１５）が装着若しくは一体成形されており、両突出部（１４）（１５）の下面は同一高さに設定されている。（１６）は、回転盤（２）の取り外し時に当該回転盤（２）を持ち上げるために取付けられた把手（１６）である。
【００２８】
回転盤の下方には、上面を開放させ且つ内壁面を滑らかな連続曲面上に形成したリング状ダクト（１９）が配置される。このリング状ダクト（１９）は、環状の隙間構成部材（２０）及び取付け部材（２１）を介して加工容器（１）の底部に固定されており、その外径側の内壁面は、回転盤（２）の外周面の略直下に位置している。リング状ダクト（１９）の内径面は、その内径側に配した昇降部材（２２：後述する）の外径面に対して摺動自在であり、両部材（１９）（２２）の摺動面は、Ｏリング（２５）で気密にシールされている。
【００２９】
リング状ダクト（１９）には、その接線方向に向けて且つ回転盤（２）の回転方向と同方向に向けて、一つ若しくは複数個の気流取入口（図示省略）が設けられる。この気流取入口から導入されたガス流（例えば、空気流）は、リング状ダクト（１９）内を回転盤（２）と同方向に旋回し、リング状隙間（５）及び導気路（３０：後述する）にそれぞれ分流する。リング状隙間（５）に流入したガス流は、旋回流となって加工容器（１）内を上昇し、粒子の流動運動を活発化させる。
【００３０】
流動中にリング状隙間（５）を通ってリング状ダクト（１９）内に落下した粒子は、気流取入口から導入された旋回ガス流にのってダクト（１９）内で旋回し、次いで、リング状隙間（５）を通って加工容器（１）内に戻される。このように、リング状隙間（５）から落下した粒子がリング状ダクト（１９）内で停留することなく速やかに加工容器（１）内に戻されるので、処理する粒子を異種粒子に交換した場合も、残留粒子が異種粒子中に混入するいわゆるクロスコンタミネーションを招くことはなく、ＧＭＰ（Ｇｏｏｄ  Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  Ｐｒａｃｔｉｃｅ  ）的に優れた特性を有するものとなる。
【００３１】
昇降部材（２２）は、上面を平面とする中空状をなし、回転軸（３）の周囲にドーナツ状に形成されている。この昇降部材（２２）は、モータやシリンダ等からなる昇降駆動源（図示省略）に駆動されて昇降する。昇降部材（２２）の内径面には、舌片状のシール部材（２３）が装着されており、このシール部材（２３）は、回転盤（２）の内径部に装着され且つ回転軸（３）に嵌合させた基部（２４）の外径面に接触して昇降時には当該基部（２４）の外径面と気密に摺接する。昇降部材（２２）の外径面には、外径側に屈曲させた段部（２６）を有する係止部材（２７）が装着される。この係止部材（２７）の内径面と昇降部材（２２）の外径面との間には、下部を開口させた袋状の収容部（２８）が環状に形成されており、この収容部（２８）には、リング状ダクト（１９）の内径側の壁面上部に設けた係合部（２９）が収容されている。昇降部材（２２）を降下させると、係合部（２９）の上端部がこれに対向する係止部材（２７）の内壁面と当接し、これにより、昇降部材（２２）のそれ以上の降下動作が規制される（図１に示す）。一方、昇降部材（２２）を上昇させると、その上面が回転盤（２）の下面に設けた両突出部（１４）（１５）と当接し、これにより昇降部材（２２）の上昇動作が規制される。
【００３２】
回転盤（２）の下面と昇降部材（２２）の上面との間には、リング状ダクト（１９）と連通し且つ貫通孔（１２）を介して隆起部材（６）の中空部（１０）と連通するリング状の導気路（３０）が形成される。リング状ダクト（１９）から導気路（３０）内に分流したガス流は、貫通孔（１２）及び隆起部材（６）内の中空部（１０）を経て隆起部材（６）の裾に設けられた噴出口（１１）から半径方向に噴出し、回転盤（２）上を転動する粒子を外径方向に吹き飛ばす。
【００３３】
この導気路（３０）を流れるガス流の流量調整は、昇降部材（２２）を昇降させて昇降部材（２２）の上面と、外径側の突出部（１４）下面との間の距離を変更することによって行なわれる。具体的には、昇降部材（２２）を降下させ、突出部（１４）と昇降部材（２２）の上面との間の隙間を大きくすれば、流路断面積が増大するため、ガス流量を増加させることができ、その逆に、昇降部材（２２）を上昇させて当該隙間を小さくすれば、ガス流量を減少させることができる。そして、昇降部材（２２）の上面を突出部（１４）の下面に当接させれば、ガス流量を殆ど無くすることができる。
【００３４】
このようにリング状隙間（５）に上昇ガス流を導入すると共に、回転盤（２）上に外径方向に向けて径方向ガス流を導入することにより、粒子は、加工容器（１）を旋回しながら上下に流動し、全体として見れば加工容器（１）の底部で縄をよじったような流動層が形成される。この流動層中にスプレーノズル（３２）からバインダー液やコーティング液等の加工液を噴霧することにより、造粒やコーティング等の所定の粒子加工がなされる。加工容器（１）の中心部では、粒子がガス流の影響を殆ど受けずに隆起部材（６）の外周面を転動するので、流動作用の殆ど作用しない転動作用域が確保される。
【００３５】
本発明では、隆起部材（６）下面と回転盤（２）上面との間に外径側に向けて噴出口（１１）を設けると共に、この噴出口（１１）に、リング状隙間（５）に導入されるガス流とは独立して流量調整可能とした導気路（３０）を連通させているので、最適流量に調整した径方向ガス流を噴出することができる。従って、容器や回転盤の寸法とは無関係に、理想的な転動流動状態を実現することが可能となる。また、上述のように、導気路（３０）に、リング状ダクト（１９）に導入されたガス流の一部を分流させれば、単一のガス流供給源で二方向のガス流を得ることができ、構造の簡素化が図れるようになる。
【００３６】
図２は、本発明の他の実施例であり、導気路（３０）に、前記リング状隙間（５）に導入されるガス流とは独立した別系統のガス供給系（３５）を接続したことを特徴とするものである。具体的に説明すると、回転盤（２）の下方に、前記昇降部材（２２）と同形状であり且つ上面の複数箇所に開口部（３６）を設けたリング状の導気ダクト（３７）を配置し、この導気ダクト（３７）を、その上面を回転盤（２）の突出部（１４）（１５）に接触させて図示しない静止部材に固定する。導気ダクト（３７）には、経路途中に流量制御弁等の流量制御手段を設けた供給管（図示省略）を接続する。
【００３７】
このような構成により、流量制御手段を制御すれば、導気路（３０）に導入されるガス流を独立して最適量に調整することができ、図１に示す装置と同様に、上昇ガス流との協働で最適な転動流動状態を実現することができる。図１に示す装置では、昇降部材（２２）を昇降させてガス流の分流量調整を行なうと、これに連動して上昇ガス流の流量も変化するため、きめ細かな流量調整を行なうことが困難であるが、図２に示す装置では、上昇ガス流と径方向ガス流のガス流量を完全に独立して制御できるので、このような不具合は生じず、容易に最適な転動流動状態を実現することができる。
【００３８】
図５（ａ）（ｂ）は、噴出口（１１）の形状の他の実施例である。このうち、（ａ）図は、隆起部材（６）の下端部を水平方向に延設して環状の延在部（３８）を形成すると共に、貫通孔（１２）よりも内径側にスペーサ（９）を介在させて噴出口（１１）をリング状に形成したものである。一方、（ｂ）図は、延在部（３８）に上方外径側に向けて斜めに丸穴若しくは楕円穴等を穿設して第２の噴出口（３９）を形成したもので、特に大型の装置に有効な構成である。この構成によれば、経方向のガス流に加えて第２の噴出口（３９）から上方外径側に向けてガス流が供給されるので、加工容器（１）内の流動状態をより一層多様化させることが可能となる。
【００３９】
加工容器（１）の側面底部には、粒子の加工状況を検出する検出器（４０）が組み込まれる。この検出器（４０）は、図３に示すように、加工容器（１）の側面壁に嵌め込まれたゴム等の弾性を有し且つ絶縁性を有する基体（４１）と、両端部を突出させて基体（４１）に水平に挿通した棒状の受圧体（４２）と、加工容器（１）外に配置され、一端部を静止部材（４３）に連結すると共に、他端部を受圧体（４２）の外径側端部に連結した弾性部材（４４）（バネ）とで構成される。受圧体（４２）は、導電性及び耐蝕性に優れた材料、例えばステンレスで形成され、その内径側端部は、粒子の流動域内に突出するよう加工容器（１）の内部で且つ回転盤（２）よりも僅かに上方に配置されている。受圧体（４２）と加工容器（１）との間には、抵抗計が電気的に接続され、また、加工容器（１）外には、受圧体（４２）の外径側端部の位置変位を検知する変位検出手段（例えば距離センサ）が配置されている（前記抵抗計及び変位検出手段の図示は省略する）。
【００４０】
この検出器（４０）は、粒子表面の湿潤度を検出する湿潤度検出器として、また、団粒の発生や回転盤（２）上への粒子の付着といったトラブルを検出する検出器として機能する。以下、それぞれの場合について、この検出器（４０）の作用を説明する。
【００４１】
加工容器（１）内では、湿潤粒子が流動しているため、導電材料で形成された加工容器（１）及び受圧体（４２）間はある程度の電流が流れ得る状態になっている。この場合において、粒子表面の湿潤度Ａと加工容器（１）及び受圧体間の抵抗値Ｒとの間には、図４に示すように双曲線的関係が成り立ち、また、表面水分量の僅かな相違によっても抵抗値が大きく変化する。従って、抵抗計の指す抵抗値から粒子表面の相対的な湿潤度を正確に特定することが可能となる。検知した湿潤度に過不足がある場合は、作業者の手作業で上昇ガス流や径方向ガス流の流量、さらにはスプレーノズル（３２）からの液体噴霧量等を調節して粒子の湿潤度をコントロールし、粉体飛散、団粒の発生や粒子の器壁付着といったトラブルを未然に回避する。さらには、抵抗計の検出データを制御装置にフィードバックさせ、当該制御装置で湿潤度が一定値になるよう径方向ガス流や上昇ガス流、若しくは加工液供給量等をシーケンス制御すれば作業者の経験や勘に頼ることなく製品の湿潤度を上記トラブルの生じない最適値に自動的に維持することが可能となる。
【００４２】
加工容器（１）内に団粒が発生したり、回転盤（２）上に多量の粒子が付着すると、受圧体（４２）に団粒や付着粒子が衝突する。受圧体（４２）は、図３に示すように、衝突時の衝撃力に応じて水平面上で傾動し、団粒等の通過後にバネ（４４）の弾性力で初期位置に弾性復帰する。受圧体（４２）が傾動すると、その外径側端部に位置変位が生じるので、この変位量を変位検出手段で計測し、当該計測値が設定値よりも大きければ団粒の発生とみて検知信号を発し、作業者に警告する。これにより作業者は、装置内に手を入れたり、サンプリングすることなく団粒の発生等を認識することができ、作業者に過度の負担を強いることなく迅速にトラブルに対処することが可能となる。
【００４３】
この他、受圧体（４２）に歪みゲージを貼着し、この歪みゲージで団粒衝突に伴う受圧体（４２）の撓み量を測定しても同様の作用効果を得ることができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、回転盤の中央上面に隆起部を突設して転動部を形成すると共に、この隆起部下面と回転盤上面との間に外径側に向けて噴出口を設け、この噴出口に前記リング状隙間に導入されるガス流とは独立して流量調整可能とした導気路を連通させているので、最適流量に調整した径方向ガス流を噴出することができ、加工容器や回転盤の寸法とは無関係に簡単に理想的な転動流動状態を実現できる。従って、加工容器や回転盤の寸法決定作業を簡略化することができ、装置のスケールアップやスケールダウンにも容易に対応可能となる。また、隆起部の外周面が流動作用の殆ど作用しない転動作用域となるので、粒子群の最適循環流動を実現することができる。
【００４５】
導気路にリング状隙間に導入されたガス流の一部を分流させれば、単一のガス流供給源で上昇ガス流と径方向ガス流の二種類のガス流を得ることができ、構造の簡素化が図れる。
【００４６】
導気路に、リング状隙間に導入されるガス流とは独立した別系統のガス供給系を接続すれば、上昇ガス流と径方向ガス流の流量をそれぞれ完全に独立して調整することができ、最適な流動転動状態を容易に実現することができる。この場合には、径方向ガス流の流量調整によって上昇ガス流の流量が影響を受けることもないので、よりきめ細やかな流量調整が行なえる。
【００４７】
リング状隙間の直下部に、リング状隙間との対向部位を開口させたリング状ダクトを設け、このリング状ダクトに、接線方向で且つ前記回転盤の回転方向と同一方向に向けて導気する気流取入口を設ければ、単に垂直方向のガス流のみを作用させる場合に比べて粒子の流動運動を活発化させることができ、径方向ガス流との相乗作用によってより活発な流動運動を実現することが可能となる。また、クロスコンタミネーションも確実に防止することができ、ＧＭＰ的にも優れたものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明装置の垂直断面図である。
【図２】本発明装置の他の実施例を示す垂直断面図である。
【図３】検出器の水平断面図である。
【図４】水分量と抵抗値の関係を示すグラフである。
【図５】噴出口の他の実施例を示す垂直断面図である。
【符号の説明】
１    加工容器
２    回転盤
５    リング状隙間
６    隆起部材
１１    噴出口
１２    貫通孔
２２    昇降部材
３０    導気路
【図１】
0003633958.tif 000002
【図２】
0003633958.tif 000003
【図３】
0003633958.tif 000004
【図４】
0003633958.tif 000005
【図５】
0003633958.tif 000006