【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年3月5日(2021.3.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合反応器内でオレフィンを重合して、多峯性の組成分布を有するポリオレフィンポリマーを生成する方法であって、エチレン及びコモノマーを、触媒系、及び第１の触媒化合物または第２の触媒化合物のいずれかのトリム触媒溶液と接触させることを含み、
前記触媒系が、共担持されて共通担持触媒系を形成する前記第１の触媒化合物及び前記第２の触媒化合物を含み、前記第２の触媒化合物のコモノマー／エチレン取り込み比率の値が前記第１の触媒化合物の０．８未満であり、
前記第１の触媒化合物が、次の式を含み、
（Ｃ５ＨａＲ１ｂ）（Ｃ５ＨｃＲ２ｄ）ＨｆＸ２
式中、各Ｒ１が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、各Ｒ２が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、ａ及びｃが≧３であり、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝５であり、少なくとも１つのＲ１及び少なくとも１つのＲ２が、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル基であり、隣接する基であるＲ１及びＲ２基が結合して環を形成してもよく、各Ｘが独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、もしくはヘテロ原子基から選択される脱離基、またはＲ１もしくはＲ２基に連結する二価のラジカルであり、
前記第２の触媒化合物が、次の式を含み、
【化１】
2020090678.tif 000001
式中、各Ｒ３が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、Ｒ４が、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、各Ｒ５が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、同じであるか異なっており、各Ｘが独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヘテロ原子基から選択される脱離基である、前記方法。
【請求項２】
前記第２の触媒を含む溶液を、前記第１の触媒を含むスラリーに添加することを含む、請求項１に記載の前記方法。
【請求項３】
前記ポリオレフィンポリマーから、フィルム、繊維、織布、押出品または成形品を形成することを含む、請求項１に記載の前記方法。
【請求項４】
前記ポリオレフィンポリマーの試料を測定して、生成物の初期の特性を得ることと、
プロセスパラメータを変更して、前記生成物の初期の特性に少なくとも一部基づいて、生成物の第２の特性を得ることと、を含む、請求項１に記載の前記方法。
【請求項５】
前記ポリオレフィンポリマーの試料を測定することが、以下の少なくとも１つを含む、請求項４に記載の前記方法。
（ｉ）分子量の関数としてコモノマー取り込みを測定すること
（ｉｉ）前記ポリオレフィンポリマーから形成された試料の物理的特性を決定すること
（ｉｉｉ）前記ポリオレフィンポリマーの、フローインデックス、メルトインデックス、２つのメルトインデックスの比率、密度、分子量分布、コモノマー含有量を決定すること
【請求項６】
前記プロセスパラメータを変更することが、以下の少なくとも１つを含む、請求項４に記載の前記方法。
（ｉ）前記第１の触媒成分と組み合わされる前記第２の触媒成分のモル量を調整すること
（ｉｉ）前記重合反応器内の反応器温度を調整すること
（ｉｉｉ）前記重合反応器内のエチレン分圧を調整すること
【請求項７】
前記重合反応器内で前記水素のエチレンに対する比率を調整して、前記ポリオレフィンポリマーの組成分布、分子量分布、メルトインデックス（Ｉ２）、もしくは２つのメルトインデックスの比率、またはこれらの任意の組み合わせを制御することを含む、請求項１に記載の前記方法。
【請求項８】
共担持されて共通担持触媒系を形成する第１の触媒化合物及び第２の触媒化合物、及び前記第１の触媒化合物または前記第２の触媒化合物のいずれかのトリム触媒溶液を含む、触媒組成物であって、
前記第２の触媒化合物のコモノマー／エチレン取り込み比率の値が前記第１の触媒化合物の０．８未満であり、
前記第１の触媒化合物が、次の式を含み、
（Ｃ５ＨａＲ１ｂ）（Ｃ５ＨｃＲ２ｄ）ＨｆＸ２
式中、各Ｒ１が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、各Ｒ２が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、ａ及びｃが≧３であり、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝５であり、少なくとも１つのＲ１及び少なくとも１つのＲ２が、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル基であり、隣接する基であるＲ１及びＲ２基が結合して環を形成してもよく、各Ｘが独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、もしくはヘテロ原子基から選択される脱離基、またはＲ１もしくはＲ２基に連結する二価のラジカルであり、
前記第２の触媒化合物が、次の式を含み、
【化２】
2020090678.tif 000002
式中、各Ｒ３が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、Ｒ４が、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、各Ｒ５が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、または、メトキシラジカルおよびジメチルアルミニウムラジカルからなるヘテロ原子基であり、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、同じであっても異なってもよく、２つのシクロペンタジエニル環を接続する原子の数が≧３である場合、Ｒ３、Ｒ４、またはＲ５基が、対向するシクロペンタジエニル構造上のＲ３基と結合して１つ以上の架橋を形成してもよく、各Ｘが独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヘテロ原子基から選択される脱離基である、前記触媒組成物。
【請求項９】
アルミノキサン化合物、有機ホウ素化合物、有機アルミニウム化合物、またはこれらの組み合わせを含む活性化剤をさらに含む、請求項８に記載の前記触媒組成物。
【請求項１０】
前記有機ホウ素化合物がＢＡｒａＲｂを含み、式中、ａ＋ｂ＝３、ａ≧２であり、Ａｒが、フッ素を含有する置換基を含むアリール基またはフッ素を含有する置換基を含むヘテロアリール基であり、Ｒが、それぞれ独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基である、請求項９に記載の前記触媒組成物。
【請求項１１】
前記有機アルミニウム化合物がＡｌＡｒａＲｂを含み、式中、ａ＋ｂ＝３、ａ≧２であり、Ａｒが、フッ素を含有する置換基を含むアリール基またはフッ素を含有する置換基を含むヘテロアリール基であり、Ｒが、それぞれ独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基である、請求項９に記載の前記触媒組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
この式において、各Ｒ３は独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、Ｒ４は、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、各Ｒ５は独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、同じであっても異なってもよく、Ｒ３、Ｒ４、またはＲ５基は、２つのシクロペンタジエニル環を接続する原子の数が≧３である場合、対向するシクロペンタジエニル構造上でＲ３、Ｒ４、またはＲ５基と結合して１つ以上の架橋を形成してもよく、各Ｘは独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヘテロ原子基から選択される脱離基である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
この式において、各Ｒ３は独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、Ｒ４は、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、各Ｒ５は独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、同じであっても異なってもよく、Ｒ３、Ｒ４、またはＲ５基は、２つのシクロペンタジエニル環を接続する原子の数が≧３である場合、対向するシクロペンタジエニル構造上でＲ３、Ｒ４、またはＲ５基と結合して１つ以上の架橋を形成してもよく、各Ｘは独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、またはヘテロ原子基から選択される脱離基である。Ｘは、Ｒ３、Ｒ４、またはＲ５置換基に連結する二価のラジカルであってもよい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０２２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０２２３】
前述は本発明の実施形態を対象とするが、本発明の他及び更なる実施形態は、その基本的な範囲から逸脱することなく考案され、その範囲は以下の特許請求の範囲によって決定
される。
本願発明には以下の態様が含まれる。
項１．
オレフィンを重合して、多峯性の組成分布を有するポリオレフィンポリマーを生成する方法であって、エチレン及びコモノマーを触媒系と接触させることを含み、前記触媒系が、共担持されて共通担持触媒系を形成する第１の触媒化合物及び第２の触媒化合物を含み、前記第１の触媒化合物が、次の式、
（Ｃ５ＨａＲ１ｂ）（Ｃ５ＨｃＲ２ｄ）ＨｆＸ２
を含み、式中、各Ｒ１が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、各Ｒ２が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、ａ及びｃが、≧３であり、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝５であり、少なくとも１つのＲ１及び少なくとも１つのＲ２が、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル基であり、隣接する基であるＲ１及びＲ２基が結合して環を形成してもよく、各Ｘが独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、もしくはヘテロ原子基から選択される脱離基、またはＲ１もしくはＲ２基に連結する二価のラジカルであり、前記第２の触媒化合物が、次の式、
【化１】
2020090678.tif 000003
のうちの少なくとも１つを含み、
式中、各Ｒ３が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、Ｒ４が、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、各Ｒ５が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、同じであっても異なってもよく、各Ｘが独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子基から選択される脱離基、またはＲ３、Ｒ４、もしくはＲ５基に連結する二価ラジカルである、前記方法。
項２．
前記第２の触媒のコモノマー／エチレン取り込み比率の値が、前記第１の触媒のコモノマー／エチレン取り込み比率の大きさの約０．８未満である、項１に記載の前記方法。
項３．
前記第２の触媒のコモノマー／エチレン取り込み比率の値が、前記第１の触媒のコモノマー／エチレン取り込み比率の大きさの約０．２５未満である、項１に記載の前記方法。
項４．
触媒を含む溶液を、別の触媒を含むスラリーに添加することを含む、項１に記載の前記方法。
項５．
前記ポリオレフィンポリマーから生成物を形成することを含む、項１に記載の前記方法。
項６．
触媒構成成分スラリーを触媒構成成分溶液と継続的に組み合わせて、前記共通担持触媒系を形成することを含む、項１に記載の前記方法。
項７．
前記触媒構成成分スラリーが、前記第１の触媒化合物を含み、前記触媒構成成分溶液が、前記第２の触媒化合物を含む、項６に記載の前記方法。
項８．
前記ポリオレフィンポリマーの試料を測定して、生成物の初期の特性を得ることと、
プロセスパラメータを変更して、前記生成物の初期の特性に少なくとも一部基づいて、生成物の第２の特性を得ることと、を含む、項１に記載の前記方法。
項９．
前記ポリオレフィンポリマーの試料を測定することが、分子量の関数としてコモノマー取り込みを測定することを含む、項８に記載の前記方法。
項１０．
試料を測定することが、プラスチック試料の物理的特性を決定することを含む、項８に記載の前記方法。
項１１．
試料を測定することが、フローインデックス、メルトインデックス、２つのメルトインデックスの比率、密度、分子量分布、コモノマー含有量、またはこれらの任意の組み合わせを決定することを含む、項８に記載の前記方法。
項１２．
プロセスパラメータを変更することが、触媒構成成分スラリーと組み合わされる触媒構成成分のモル量を調整することを含む、項８に記載の前記方法。
項１３．
プロセスパラメータを変更することが、反応器温度を調整することを含む、項８に記載の前記方法。
項１４．
プロセスパラメータを変更することが、エチレン分圧を調整することを含む、項８に記載の前記方法。
項１５．
前記ポリオレフィンポリマーの組成分布、分子量分布、メルトインデックス（Ｉ２）、もしくは２つのメルトインデックスの比率、またはこれらの任意の組み合わせを制御するために、重合反応器内で前記コモノマーのエチレンに対する比率を調整することを含む、項１に記載の前記方法。
項１６．
前記ポリオレフィンポリマーの組成分布、分子量分布、メルトインデックス（Ｉ２）、もしくは２つのメルトインデックスの比率、またはこれらの任意の組み合わせを制御するために、重合反応器内で前記水素のエチレンに対する比率を調整することを含む、項１に記載の前記方法。
項１７．
共担持されて共通担持触媒系を形成する第１の触媒化合物及び第２の触媒化合物を含む、触媒組成物であって、前記第１の触媒化合物が、次の式、
（Ｃ５ＨａＲ１ｂ）（Ｃ５ＨｃＲ２ｄ）ＨｆＸ２
を含み、式中、各Ｒ１が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、各Ｒ２が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、ａ及びｃが、≧３であり、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝５であり、少なくとも１つのＲ１及び少なくとも１つのＲ２が、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル基であり、隣接する基であるＲ１及びＲ２基が結合して環を形成してもよく、各Ｘが独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、もしくはヘテロ原子基から選択される脱離基、またはＲ１もしくはＲ２基に連結する二価のラジカルであり、前記第２の触媒化合物が、次の式、
【化２】
2020090678.tif 000004
のうちの少なくとも１つを含み、
式中、各Ｒ３が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、Ｒ４が、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、各Ｒ５が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、同じであっても異なってもよく、２つのシクロペンタジエニル環を接続する原子の数が≧３である場合、Ｒ３、Ｒ４、またはＲ５基が、対向するシクロペンタジエニル構造上のＲ３、Ｒ４、またはＲ５基と結合して１つ以上の架橋を形成してもよく、各Ｘが独立して、不安定なヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子基から選択される脱離基、またはＲ３、Ｒ４、もしくはＲ５置換基に連結する二価ラジカルである、前記触媒組成物。
項１８．
前記第２の触媒化合物が、次の式、
【化３】
2020090678.tif 000005
を有する少なくとも１つの化合物を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項１９．
前記第２の触媒化合物が、次の式、
【化４】
2020090678.tif 000006
を有する少なくとも１つの化合物を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２０．
前記第２の触媒化合物が、次の式、
【化５】
2020090678.tif 000007
を有する少なくとも１つの化合物を含み、
式中、各Ｒ４が独立して、メチル、エチル、プロピル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、フェネチル、または他のヒドロカルビルである、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２１．
前記第２の触媒化合物が、次の式、
【化６】
2020090678.tif 000008
を有する少なくとも１つの化合物を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２２．
前記第２の触媒化合物が、次の式、
【化７】
2020090678.tif 000009
を有する少なくとも１つの化合物を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２３．
前記第２の触媒化合物が、次の式、
【化８】
2020090678.tif 000010
を有する少なくとも１つの化合物を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２４．
前記第１の触媒化合物が、次の式、
【化９】
2020090678.tif 000011
を有する、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２５．
前記第１の触媒化合物が、次の式、
【化１０】
2020090678.tif 000012
を有する、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２６．
前記第１の触媒化合物の前記第２の触媒化合物に対する比率が、約１０：１〜１：１０である、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２７．
前記第１の触媒化合物の前記第２の触媒化合物に対する比率が、約３：１〜１：３である、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２８．
弱配位アニオンに由来する酸を含む活性化剤を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項２９．
前記活性化剤が、アルミノキサン化合物、有機ホウ素化合物、有機アルミニウム化合物、またはこれらの組み合わせを含む、項２８に記載の前記触媒組成物。
項３０．
前記活性化剤が、メチルアルミノキサンまたは修飾されたメチルアルミノキサンを含む、項２８に記載の前記触媒組成物。
項３１．
前記有機ホウ素化合物がＢＡｒａＲｂを含み、式中、ａ＋ｂ＝３、ａ≧２であり、Ａｒが、フッ素を含有する置換基を含むアリール基またはフッ素を含有する置換基を含むヘテロアリール基であり、各Ｒが独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基である、項２９に記載の前記触媒組成物。
項３１．
前記有機アルミニウム化合物がＡｌＡｒａＲｂを含み、式中、ａ＋ｂ＝３、ａ≧２であり、Ａｒが、フッ素を含有する置換基を含むアリール基またはフッ素を含有する置換基を含むヘテロアリール基であり、各Ｒが独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基である、項２９に記載の前記触媒組成物。
項３２．
Ａｒが、Ｃ６Ｆ５、Ｃ１０Ｆ７、またはＣ６Ｈ３（ＣＦ３）２である、項３１に記載の前記触媒組成物。
項３３．
前記弱配位アニオンが、ＢＡｒｃＲｄ−もしくはＡｌＡｒｃＲｄ−またはその両方を含み、式中、ｃ＋ｄ＝４、ｃ≧２であり、Ａｒが、フッ素を含有する置換基を含むアリール基またはフッ素を含有する置換基を含むヘテロアリール基であり、各Ｒが独立して、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基である、項２８に記載の前記触媒組成物。
項３４．
Ａｒが、Ｃ６Ｆ５、Ｃ１０Ｆ７、またはＣ６Ｈ３（ＣＦ３）２である、項３３に記載の前記触媒組成物。
項３５．
鉱物、粘土、金属酸化物、半金属酸化物、混合金属酸化物、混合半金属酸化物、混合金属−半金属酸化物、ポリマー、またはこれらの任意の組み合わせを含む担体を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項３６．
前記担体が、ポリオレフィンまたはポリオレフィン誘導体である、項３５に記載の前記触媒組成物。
項３７．
前記担体が、酸、有機シラン、有機アルミニウム、フッ素化物剤（ｆｌｕｏｒｉｄｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）、またはこれらの任意の組み合わせで熱処理及び／または化学処理されている、項３５に記載の前記触媒組成物。
項３８．
前記担体が、熱処理されている、項３５に記載の前記触媒組成物。
項３９．
前記担体が、シリカ、アルミナ、アルミノシリケート、チタン酸シリカ（ｔｉｔａｎａｔｅｄ  ｓｉｌｉｃａ）もしくはチタン酸アルミナ（ｔｉｔａｎａｔｅｄ  ａｌｕｍｉｎａ）、またはこれらの任意の組み合わせを含む、項３５に記載の前記触媒組成物。
項４０．
シリカ担体及びメチルアルミノキサン活性化剤を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項４１．
次の式、ＥＲ６ｎＲ７Ｖ−ｎの化合物を含む有機金属剤（ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  ａｇｅｎｔ）を含み、式中、Ｅが、Ａｌ、Ｂ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆであり、各Ｒ６が独立して、Ｈまたはヒドロカルビルであり、各Ｒ７が独立して、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２０炭化水素基、または最大２０個の炭素原子、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、もしくはリンを有するヘテロ原子含有基であり、Ｖが、Ｅの原子価であり、ｎが、１−Ｖである、項１７に記載の前記触媒組成物。
項４２．
ＥＲ６ｎＲ７Ｖ−ｎが、構造においてオリゴマーまたはポリマーである、項４１に記載の前記触媒組成物。
項４３．
ランタニド、アクチニド、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、もしくはＰｄの無機または有機金属錯体を含む第３の触媒化合物を含む、項１７に記載の前記触媒組成物。
項４４．
ＣｐＡ（Ａ）ＣｐＢＭ’Ｘ’ｎ、ＣｐＡ（Ａ）ＱＭ’Ｘ’ｎまたはＣｐＡＭ’ＱｑＸ’ｎの式を含む第３の触媒化合物を含み、式中、ＣｐＡ及びＣｐＢが各々独立して、シクロペンタジエニル配位子またはシクロペンタジエニルにイソローバルな配位子であってもよく、ＣｐＡ及びＣｐＢのいずれかまたは両方が、ヘテロ原子を含有してよく、ＣｐＡ及びＣｐＢのいずれかまたは両方が、１つ以上のＲ８基によって置換されてよく、Ｍ’が、第３〜１２族原子及びランタン族原子からなる群から選択され、Ｘ’が、アニオン性離脱基であり、ｎが、０または１〜４の整数であり、Ａが、二価のアルキル、二価の低級アルキル、二価の置換アルキル、二価のヘテロアルキル、二価のアルケニル、二価の低級アルケニル、二価の置換アルケニル、二価のヘテロアルケニル、二価のアルキニル、二価の低級アルキニル、二価の置換アルキニル、二価のヘテロアルキニル、二価のアルコキシ、二価の低級アルコキシ、二価のアリールオキシ、二価のアルキルチオ、二価の低級アルキルチオ、二価のアリールチオ、二価のアリール、二価の置換アリール、二価のヘテロアリール、二価のアラルキル、二価のアラルキレン、二価のアルカリル（ａｌｋａｒｙｌｓ）、二価のアルカリレン、二価のハロアルキル、二価のハロアルケニル、二価のハロアルキニル、二価のヘテロアルキル、二価の複素環、二価のヘテロアリール、二価のヘテロ原子含有基、二価のヒドロカルビル、二価の低級ヒドロカルビル、二価の置換ヒドロカルビル、二価のヘテロヒドロカルビル、二価のシリル、二価のボリル、二価のホスフィノ、二価のホスフィン、二価のアミノ、二価のアミン、二価のエーテル、二価のチオエーテルからなる群から選択され、Ｒ８基が、アルキル、低級アルキル、置換アルキル、ヘテロアルキル、アルケニル、低級アルケニル、置換アルケニル、ヘテロアルケニル、アルキニル、低級アルキニル、置換アルキニル、ヘテロアルキニル、アルコキシ、低級アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、低級アルキルチオ、アリールチオ、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、アラルキレン、アルカリル、アルカリレン、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、複素環、ヘテロアリール、ヘテロ原子含有基、ヒドロカルビル、低級ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビル、シリル、ボリル、ホスフィノ、ホスフィン、アミノ、アミン、エーテル、チオエーテルからなる群から選択され、Ｑが、ヘテロ原子含有配位子、ＲＯＯ−、ＲＯ−、Ｒ（Ｏ）−、−ＮＲ−、−ＣＲ２−、−Ｓ−、−ＮＲ２、−ＣＲ３、−ＳＲ、−ＳｉＲ３、−ＰＲ２、−Ｈ、ならびに置換及び非置換アリール基からなる群から選択され、ｑが、０〜３から選択される、項１７に記載の前記触媒組成物。
項４５．
次の式、
【化１１】
2020090678.tif 000013
の触媒化合物を含み、式中、Ｍが、Ｔｉ、Ｚｒ、またはＨｆであり、
Ｒ９が、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、各Ｒ９が、一緒に結合して環を形成してもよく、各Ｒ１０が独立して、Ｈ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基である、項１７に記載の前記触媒組成物。
項４６．
次の式、
【化１２】
2020090678.tif 000014
によって表される少なくとも１つの第１５族含有触媒化合物を含み、
式中、Ｍが、第４、５、または６族の金属であり、
ｙが、０または１であり、ｙが０であるとき、基Ｌ’が不在であり、
ｎが、酸化状態のＭであり、
ｍが、ＹＺＬ及びＹＺＬ’によって表される配位子の形式電荷であり、
Ｌ、Ｌ’、Ｙ、及びＺが各々、第１５族元素であり、
各Ｒ１１及びＲ１２が独立して、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、
各Ｒ１３が、不在であるか、またはＨ、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、もしくはヘテロ原子基であり、
各Ｒ１４及びＲ１５が独立して、ヒドロカルビル基、アリール基、置換アリール基、環状アルキル基、置換環状アルキル基、環状アリールアルキル基、置換環状アリールアルキル基、または多環系であり、
各Ｒ１６及びＲ１７が独立して、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、
各Ｒ＊が、不在であるか、または水素、第１４族原子含有基、ハロゲン、もしくはヘテロ原子含有基である、項１７に記載の触媒組成物。
項４７．
次の式、
【化１３】
2020090678.tif 000015
を有する少なくとも１つの触媒化合物を含み、
式中、各Ｒ１８が独立して、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、またはヘテロ原子基であり、各Ｒ１９が独立して、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、ヘテロ原子基、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、アラルキレン、アルカリル、アルカリレン、ハロゲン化物、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、複素環、ヘテロアリール、ヘテロ原子含有基、シリル、ボリル、ホスフィノ、ホスフィン、アミノ、またはアミンである、項１７に記載の前記触媒組成物。