【手続補正書】
【提出日】令和3年5月11日(2021.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図２Ｂは、図２ＡにおけるＩＩＢ−ＩＩＢ切断線での断面図を示す。ＯＬＥＤ表示装置１０は、ＴＦＴ基板１００と、ＴＦＴ基板１００に対向する封止基板（透明基板）２００とを含む。図２Ｂは、ＴＦＴ基板１００の断面構造を模式的に示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
各副画素の正孔供給層は、マイクロキャビティ構造のために適切な厚みを有する。図２Ｂにおいて、緑副画素のための正孔供給層２６７Ｇは、青副画素のための正孔供給層２６７Ｂよりも厚い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
正孔供給層２６７Ｂの直上、つまり、正孔供給層２６７Ｂ上に、正孔供給層２６７Ｂと接触し界面を形成するように、有機発光層２６９Ｂが積層されている。同様に、正孔供給層２６７Ｇの直上、つまり、正孔供給層２６７Ｇ上に、正孔供給層２６７Ｇに接触して界面を形成するように有機発光層２６９Ｇが積層されている。有機発光層２６９Ｂは、正孔供給層２６７Ｂの全外周端を含む全面を覆っている。同様に、有機発光層２６９Ｇは、正孔供給層２６７Ｇの全外周端を含む全面を覆っている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図２Ａに示すように、本例において、各副画素の有機発光層は、隣接する副画素の有機発光層から分離されている。例えば、図２Ｂにおいて、青有機発光層２６９Ｂの端は、緑有
機発光層２６９Ｇの端から面内方向において離れおり、それらの間にギャップが存在する
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
有機発光層２６９Ｂ、２６９Ｇ上に有機発光層２６９Ｂ、２６９Ｇに接触して、電子供給層２７１が存在する。電子供給層２７１は、全ての副画素に共通の層である。図２Ｂの例において、電子供給層２７１は、画素定義層２５３上で切断されることなく、二つの副画素２５１Ｇ、２５１Ｂ間で連続している。電子供給層２７１は、副画素の色毎に形成されてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
電子供給層２７１上に電子供給層２７１に接触して、カソード電極２７３が存在する。カソード電極２７３は、全ての副画素に共通の層である。図２Ｂの例において、カソード電極２７３は、画素定義層２５３上で切断されることなく、二つの副画素２５１Ｇ、２５１Ｂ間で連続している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
蒸着源５００の形状は、例えば長方形状である。図３Ｂに示すように、蒸着源５００の長手方向は図３ＡのＸ方向に沿う。また、図３Ｃに示すように、蒸着源５００の短手方向は図３ＡのＹ方向に沿う。蒸着源５００は、図３ＡのＹ方向に沿って動く。この動きを、図３Ｃにおいて、紙面左右方向の矢印で示す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
図４Ｂは、図４ＡにおけるＩＶＢ−ＩＶＢ切断線での断面図であり、蒸着源５００の移動しない方向であるＸ方向における、有機層４０２Ｒ、４０２Ｂのテーパ形状を示す。図４Ｃは、図４ＡにおけるＩＶＣ−ＩＶＣ切断線での断面図であり、蒸着源５００が移動する方向であるＹ方向における、有機層４０２Ｒ、４０２Ｒａのテーパ形状を示す。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
緑副画素の正孔供給層２６７Ｇは、その周囲を囲む画素定義層２５３の頂面の一部を覆うように形成されている。つまり、正孔供給層２６７Ｇは頂面の一部上のみに形成され、正孔供給層２６７Ｇの端は、画素定義層２５３の頂面上に存在している。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
緑副画素の正孔供給層２６７Ｇの端は、青副画素の正孔供給層２６７Ｂの端及び青有機発光層２６９Ｂの端と、青副画素２５１Ｂとの間にある。青副画素の正孔供給層２６７Ｂの端及び青有機発光層２６９Ｂの端は、緑副画素の正孔供給層２６７Ｇの端と緑副画素２５１Ｇとの間にある。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
青有機発光層２６９Ｂの端部は、青副画素の正孔供給層２６７Ｂの端部と緑副画素の正孔供給層２６７Ｇの端部との間に存在している。青有機発光層２６９Ｂの端部は、青副画素の正孔供給層２６７Ｂの端を完全に覆っており、緑副画素の正孔供給層２６７Ｇは、青副画素の正孔供給層２６７Ｂに接触することなく、離間している。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
［製造方法］
以下において、本実施形態の上記構成を有するＯＬＥＤ表示装置１を製造する方法を説明する。図９は、本実施形態の製造方法のフローチャートを示す。画素定義層２５３を形成した絶縁基板２６１に青副画素の正孔供給層を形成する（Ｓ１３１）。具体的には、青副画素のパターンに対応したメタルマスクを介した蒸着により、正孔供給層の材料を、画素定義層２５３を形成した基板に付着して、青副画素の正孔供給層を成膜する。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
各色の正孔注入層（２６６Ｒ、２６６Ｇ、２６６Ｂ）、下層の正孔輸送層（６８１Ｒ、６８１Ｇ）、青色の正孔輸送層６８１Ｂは、同一メタルマスクを使用して、分離した状態で形成されている。そして、赤副画素の有機発光層２６９Ｒ及び正孔輸送層６８２Ｒは、同一メタルマスクを使用して形成されている。緑副画素の有機発光層２６９Ｇ及び正孔輸送層６８２Ｇは、同一メタルマスクを使用して形成されている。青副画素の有機発光層２６９Ｂは、他の層とメタルマスクを共有することなく、単独で形成されている。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
以上説明したように、赤、緑の副画素については下層の正孔輸送層（６８１Ｒ、６８１Ｇ）、青画素については１層の正孔輸送層６８１Ｂを共通に形成し、さらに、赤、緑の副画素については上層の正孔輸送層（６８２Ｒ、６８２Ｇ）を形成している。この形成により、各色の正孔輸送層の膜厚を調整してマイクロキャビティ構造を実現する。カソード電極及び電子供給層２７３ａは、同一メタルマスクを使用して、分離しない状態（いわゆる共通層）で形成されている。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
赤副画素の有機発光層２６９Ｒ、正孔輸送層２６８Ｒ、及び正孔注入層２６６Ｒは、緑副画素側（図１６の右側）にアライメントずれが生じてしまい、厳しい許容条件を満たさないが緩い許容条件を満たすように位置決めができたメタルマスクを使用して形成されている。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
緑副画素の有機発光層２６９Ｇ、正孔輸送層２６８Ｇ、及び正孔注入層２６６Ｇは、厳しい許容条件を満たすように位置決めできたメタルマスクを使用して形成されている。青副画素の有機発光層２６９Ｂ、正孔輸送層２６８Ｂ、及び正孔注入層２６６Ｂは、緑副画素側（図１６の左側）にアライメントずれが生じてしい、厳しい許容条件を満たさないが緩い許容条件を満たすように位置決めがされたメタルマスクを使用して形成されている。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４１】
さらに、一点鎖線で示す符号ＢＧ１で示すように、青副画素２５１Ｂと、青副画素２５１Ｂに隣接する緑副画素２５１Ｇとの間に配置された第２の画素定義部２５３ｂの頂面２５３ｂ１の上側において、青副画素２５１Ｂの青有機発光層２６９Ｂの端部と緑副画素２５１Ｇの正孔供給層（例えば、緑副画素の正孔注入層２６６Ｇ、正孔輸送層２６８Ｇ）とが接触している。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４２】
赤副画素２５１Ｒを発光させ、青副画素２５１Ｂ（又は緑副画素２５１Ｇ）を発光させない場合、赤副画素２５１Ｒの画素回路（図示しない）は、赤副画素２５１Ｒの閾値電圧以上、青副画素２５１Ｂの閾値電圧未満の電流（以下、赤副画素の駆動電流と記す）を、アノード電極２６５Ｒからカソード電極２７３ａに流す。この電流により、赤有機発光層２６９Ｒは、発光する。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４３】
符号ＲＢ１に示すように、青有機発光層２６９Ｂの左端は、正孔注入層２６６Ｒ、正孔輸送層２６８Ｒに接触している。そのため、仮に接触面積が僅かであっても、赤副画素２５１Ｒの発光時に、赤副画素２５１Ｒの駆動電流が、青有機発光層２６９Ｂに流れ込む場合がある。しかし、赤副画素２５１Ｒの駆動電流の電圧は、青副画素２５１Ｂの閾値電圧よりも小さいので、青副画素２５１Ｂが発光することがない。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４４】
すなわち、赤副画素２５１Ｒの発光時における隣接する青副画素２５１Ｂの意図しない発光を抑制することができる。なお、青副画素２５１Ｂを発光させ、赤副画素２５１Ｒを発光させない場合を想定する。この場合には、図２で説明したように、正孔に対するエネルギ障壁が大きいことから、正孔は有機発光層から正孔供給層にはほとんど移動しない。そのため、青副画素２５１Ｂの駆動電流が、正孔注入層２６６Ｒに流れることはない。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５２】
以下、実施形態４における、画素定義層２５３を形成した後の製造工程を、図２２のフローチャートを参照して説明する。最初に、画素定義層２５３を形成した絶縁基板２６１に青副画素の正孔供給層を形成する（Ｓ１６１）。具体的には、図２０に示した青副画素のパターンに対応したメタルマスク４７を介した蒸着により、正孔供給層の材料を、画素定義層２５３を形成した基板２６１に付着して、青副画素の正孔供給層を成膜する。正孔供給層が正孔注入層と正孔輸送層とを含む複数層で構成される場合、複数層を繰り返し成膜する。正孔供給層の厚みは、マイクロキャビティ構造のために、制御されてもよい。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５３】
次に、青副画素の有機発光層を形成する（Ｓ１６２）。具体的には、図２１に示した青副画素のパターンに対応したメタルマスク４９を介した蒸着により、青有機発光層の材料を、青副画素の正孔供給層上に付着して、青有機発光層を成膜する。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の面上に配列された、複数の副画素と、
前記複数の副画素それぞれの発光領域を囲む画素定義層と、を含み、
前記複数の副画素のそれぞれは、
上部電極と、
下部電極と、
前記上部電極と前記下部電極との間において前記上部電極及び前記下部電極と積層された有機発光層と、
前記下部電極と前記有機発光層との間において前記下部電極及び前記有機発光層と積層された下部キャリア供給層と、を含み、
前記下部キャリア供給層は、
前記下部電極及び前記有機発光層それぞれと接触し、
前記下部電極から前記有機発光層へキャリアを供給し、
前記下部電極の前記画素定義層の開口内の全面を覆い、
前記下部電極を囲む前記画素定義層の頂面に端を有し、
前記有機発光層は、前記下部キャリア供給層の前記端を含む前記下部キャリア供給層の全面を覆う、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
前記下部キャリア供給層の前記端を含む第１端部は、前記画素定義層の前記頂面において、隣接する異なる色の副画素の下部キャリア供給層の第２端部と重なり、
前記有機発光層の一部は、前記第１端部が前記第２端部から離間するように、前記第１端部と前記第２端部との間に積層されている、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
前記下部キャリア供給層の前記端は、隣接する異なる色の副画素の下部キャリア供給層から前記基板の面内方向において離間しており、
前記有機発光層の端部は、前記画素定義層の前記頂面において、前記下部キャリア供給層の前記端と前記隣接する異なる色の副画素の下部キャリア供給層との間に形成されている、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
少なくとも３つの副画素は、それぞれ異なる第１色〜第３色を発光する副画素であり、
前記第１色の副画素の有機発光層は、前記第１色の副画素の下部キャリア供給層の前記端を含む全面を覆い、
前記第１色の副画素と、前記第１色の副画素に隣接する第２色の副画素との間に配置された第１の画素定義部の頂面の上側において、前記第１色の副画素の有機発光層の端部と前記第２色の副画素の下部キャリア供給層とが接触し、
前記第１色の副画素の発光閾値電圧は、前記第２色の副画素の発光閾値電圧よりも高い、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
前記第１色の副画素と、前記第１色の副画素に隣接する第３色の副画素との間に配置された第２の画素定義部の頂面の上側において、前記第１色の副画素の有機発光層の端部と前記第３色の副画素の下部キャリア供給層とが接触し、
前記第１色の副画素の発光閾値電圧は、前記第３色の副画素の発光閾値電圧よりも高い、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
前記複数の副画素は、行列状に配置され、
前記第２色の副画素は、行列方向において第１色の副画素に隣接し、
前記第３色の副画素は、行列方向において第１色の副画素に隣接する、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項７】
請求項３に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
前記複数の副画素の有機発光層と前記複数の副画素の上部電極との間において、前記有機発光層及び前記上部電極と接触して積層された、前記複数の副画素に共通の上部キャリア供給層をさらに含み、
前記複数の副画素それぞれの前記上部電極は、一つの共通の上部電極層の一部であり、
前記複数の副画素のそれぞれの前記有機発光層の前記端部は、前記画素定義層の前記頂面において、前記上部キャリア供給層と前記下部キャリア供給層の前記端との間に形成されている、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項８】
請求項１に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
前記複数の副画素の有機発光層と前記複数の副画素の上部電極との間において、前記有機発光層及び前記上部電極と接触して積層された、前記複数の副画素に共通の上部キャリア供給層をさらに含み、
前記複数の副画素それぞれの前記上部電極はカソード電極であって、一つの共通のカソード電極層の一部であり、
前記上部キャリア供給層は電子供給層であり、
前記下部電極はアノード電極であり、
前記下部キャリア供給層は正孔供給層である、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項９】
ＯＬＥＤ表示装置を製造する方法であって、
基板上に副画素の下部電極を形成する、第１ステップと、
前記下部電極を形成した基板上に、前記下部電極がそれぞれ露出する開口を含む画素定義層を形成する、第２ステップと、
第１色の副画素の第１下部電極及び前記画素定義層の上に、第１下部キャリア供給層を形成し、前記第１下部キャリア供給層のそれぞれは、前記開口において前記第１下部電極と接触して前記第１下部電極の全面を覆い、前記第１下部電極を囲む前記画素定義層の頂面に端を有する、第３ステップと、
第２色の副画素の第２下部電極及び前記画素定義層の上に、第２下部キャリア供給層を形成し、前記第２下部キャリア供給層のそれぞれは、前記開口において前記第２下部電極と接触して前記第２下部電極の全面を覆い、前記第２下部電極を囲む前記画素定義層の頂面に端を有する、第４ステップと、
第３色の副画素の第３下部電極及び前記画素定義層の上に、第３下部キャリア供給層を形成し、前記第３下部キャリア供給層のそれぞれは、前記開口において前記第３下部電極と接触しての前記第３下部電極の全面を覆い、前記第３下部電極を囲む前記画素定義層の頂面に端を有する、第５ステップと、
前記第１下部キャリア供給層に接触し、前記第１下部キャリア供給層の前記端を含む前記第１下部キャリア供給層の全面を覆う、前記第１色の副画素それぞれの第１有機発光層を形成する、第６ステップと、
前記第２下部キャリア供給層に接触し、前記第２下部キャリア供給層の端を含む前記第２下部キャリア供給層の全面を覆う、第２有機発光層を形成する、第７ステップと、
前記第３下部キャリア供給層に接触し、前記第３下部キャリア供給層の端を含む前記第３下部キャリア供給層の全面を覆う、第３有機発光層を形成する、第８ステップと、
を含む方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法であって、
前記第３ステップの後に前記第６ステップを実行し、
前記第６ステップの後に前記第４ステップを実行し、
前記第４ステップの後に前記第７ステップを実行し、
前記第７ステップの後に前記第５ステップを実行し、
前記第５ステップの後に前記第８ステップを実行する、
方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の方法であって、
前記第３ステップ、前記第４ステップ及び前記第５ステップの後に、前記第６ステップ、前記第７ステップ及び前記第８ステップを実行する、
方法。
【請求項１２】
請求項９に記載の方法であって、
前記第３ステップ、前記第４ステップ及び前記第５ステップを、一つのメタルマスクを使用した蒸着により、同時に実行する、
方法。
【請求項１３】
請求項９に記載の方法であって、
前記第３ステップを、第１メタルマスクを使用した蒸着により実行し、
前記第６ステップを、前記第１メタルマスクよりも大きい開口を有する第２メタルマスクを使用した蒸着により実行し、
前記第４ステップを、第３メタルマスクを使用した蒸着により実行し、
前記第７ステップを、前記第３メタルマスクよりも大きい開口を有する第４メタルマスクを使用した蒸着により実行し、
前記第５ステップを、第５メタルマスクを使用した蒸着により実行し、
前記第８ステップを、前記第５メタルマスクよりも大きい開口を有する第６メタルマスクを使用した蒸着により実行する、
方法。
【請求項１４】
請求項９に記載の方法であって、
少なくとも３つの副画素は、それぞれ異なる第１色〜第３色を発光する副画素であり、
前記第１色の副画素の有機発光層は、前記第１色の副画素の下部キャリア供給層の前記端を含む全面を覆い、
前記第１色の副画素と、前記第１色の副画素に隣接する第２色の副画素との間に配置された第１の画素定義部の頂面の上側において、前記第１色の副画素の有機発光層の端部と前記第２色の副画素の下部キャリア供給層とが接触し、
前記第１色の副画素の発光閾値電圧は、前記第２色の副画素の発光閾値電圧よりも高い、
方法。
【請求項１５】
請求項１に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
前記有機発光層と前記下部キャリア供給層とは、前記画素定義層の頂面上で、テーパ形状を有する、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
異なる色の副画素が配列されている方向における前記テーパ形状のテーパ角は、同一色の副画素が配列されている方向における前記テーパ形状のテーパ角よりも急峻である、
ＯＬＥＤ表示装置。
【請求項１７】
請求項１に記載のＯＬＥＤ表示装置であって、
異なる色の副画素の前記下部キャリア供給層は、異なる厚みを有する、
ＯＬＥＤ表示装置。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３Ａ】
2019067747.tif 000001
【手続補正２５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４Ｂ】
2019067747.tif 000002
【手続補正２６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2019067747.tif 000003