【手続補正書】
【提出日】令和2年12月25日(2020.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
− 少なくとも１種のラジカル光開始剤Ａと；
− ケイ素原子に結合した少なくとも１個の水素原子を含む化合物から選択される少なくとも１種の共開始剤Ｂと；
− 少なくとも１個の（メタ）アクリレート基を含む少なくとも１種のオルガノポリシロキサンＤと
を含む、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長の放射線への暴露によって架橋可能であるシリコーン組成物Ｃであって、
前記ラジカル光開始剤Ａが、ジ置換ベンゾフェノン（各芳香環上に１つの置換）および下式（ＩＶ）：
2020111574.tif 000001
の化合物
（式中、Ｒは、
−  Ｈ；
−  Ｓｉ（Ｒ１）３基［同一であるかもしくは異なる、Ｒ１基は、（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル基である］；および
−  基ＯＲ２［式中、Ｒ２は、下式（Ｖ）：
2020111574.tif 000002
に相当する］
で任意選択的に置換された、（Ｃ１〜Ｃ２０）アルキル基；
−  −Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３基［式中、ラジカルＲ３は、線状もしくは分岐（Ｃ１〜Ｃ２０）アルキル基である］；
−  −Ａ−ＣＨ＝ＣＨ２基［式中、ラジカルＡは、
○  共有結合、
○  −Ｃ（＝Ｏ）−基、または
○  下式（ＶＩ）：
2020111574.tif 000003
（ここで、ｉは、０または１であり、Ａ１は、好ましくは線状の、（Ｃ１〜Ｃ２０）アルキレンラジカルを表す）の基
から選択される］）
の中から選択され、
前記共開始剤Ｂが、共開始剤Ｂの１００ｇ当たり少なくとも０．０５モルのＳｉ−Ｈ官能基を含む
ことを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項２】
請求項１に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、前記ラジカル光開始剤Ａが、ジ置換ベンゾフェノン（各芳香環上に１つの置換）および下式（ＩＶ）：
2020111574.tif 000004
の化合物
（式中、Ｒは、
−  Ｈ；
−  Ｓｉ（Ｒ１）３基［同一であるかもしくは異なる、Ｒ１基は、（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル基である］；および
−  基ＯＲ２［式中、Ｒ２は、下式（Ｖ）：
2020111574.tif 000005
に相当する］
で任意選択的に置換された、（Ｃ１〜Ｃ２０）アルキル基；
−  −Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３基［式中、ラジカルＲ３は、線状もしくは分岐（Ｃ１〜Ｃ２０）アルキル基である］；
−  −Ａ−ＣＨ＝ＣＨ２基［式中、ラジカルＡは、
○  共有結合、
○  −Ｃ（＝Ｏ）−基、または
○  下式（ＶＩ）：
2020111574.tif 000006
（ここで、ｉは、０または１であり、Ａ１は、好ましくは線状の、（Ｃ１〜Ｃ２０）アルキレンラジカルを表す）の基
から選択される］）
の中から選択されることを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項３】
請求項２に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、前記ラジカル光開始剤Ａが、次式の化合物（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（７ａ）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１５）、（１６）および（１７）：
2020111574.tif 000007
2020111574.tif 000008
から選択されることを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、前記共開始剤Ｂが、少なくとも１つのシロキサン結合と、ケイ素原子に結合した少なくとも１個の水素原子とを含むことを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、前記共開始剤Ｂが、オルガノ水素ポリシロキサンから選択されることを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、前記共開始剤Ｂが、共開始剤Ｂの１００ｇ当たり少なくとも０．０８モルのＳｉ−Ｈ官能基を含むことを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、前記オルガノポリシロキサンＤが、
ａ１）下式（Ｉ）：
ＲａＺｂＳｉＯ（４−ａ−ｂ）／２    （Ｉ）
［式中：
−  同一であるかもしくは異なる、記号Ｒは、好ましくはハロゲン原子で、任意選択的に置換された、線状もしくは分岐Ｃ１〜Ｃ１８アルキル基、Ｃ６〜Ｃ１２アリールもしくはアラルキル基、またはアルコキシ−ＯＲ４ラジカル（ここで、Ｒ４は、水素原子もしくは１〜１０個の炭素原子を含む炭化水素ラジカルである）をそれぞれ表し；
−  記号Ｚは、式−ｙ−（Ｙ’）ｎ（ここで：
○  ｙは、ヒドロキシルラジカルで任意選択的に置換された二価のＣ１〜Ｃ４オキシアルキレンもしくはポリオキシアルキレンラジカルで任意選択的に延長させられた線状もしくは分岐Ｃ１〜Ｃ１８アルキレン多価ラジカルを表し、
○  Ｙ’は、一価のアルケニルカルボニルオキシラジカルを表し、
○  ｎは、１、２または３である）
の一価ラジカルであり、
−  ａは、０、１または２に等しい整数であり、ｂは、１または２に等しい整数であり、合計ａ＋ｂ＝１、２または３である］
の少なくとも１つの単位と；
ａ２）任意選択的に、次式（ＩＩ）：
ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２    （ＩＩ）
［式中：
−  同一であるかもしくは異なる、記号Ｒは、好ましくはハロゲン原子で、任意選択的に置換された、線状もしくは分岐Ｃ１〜Ｃ１８アルキル基、Ｃ６〜Ｃ１２アリールもしくはアラルキル基をそれぞれ表し、
−  ａは、０、１、２または３に等しい整数である］
の単位と
を含むことを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、ラジカル光開始剤Ａのモル数と共開始剤ＢのＳｉ−Ｈ官能基のモル数との間の比が、０．５以上、好ましくは０．５〜２０、さらにより好ましくは１〜１０であることを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、Ｓｉ−Ｈ官能基の濃度が、組成物Ｃの１００ｇ当たり０．０１モル以下、好ましくは組成物Ｃの１００ｇ当たり０．０００２〜０．０１モルであることを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃにおいて、ラジカル光開始剤Ａの濃度が、組成物Ｃの１００ｇ当たり０．０００３〜０．０１５モルであることを特徴とするシリコーン組成物Ｃ。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃの使用であって、ノンスティック特性のシリコーンフィルムの製造のためであることを特徴とする使用。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃの架橋によって得られるシリコーンエラストマー。
【請求項１３】
ノンスティック特性のシリコーンフィルムの製造方法であって、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃの架橋工程を備えることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法において、前記架橋工程が、空気下でまたは不活性雰囲気下で実施されることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の方法において、前記架橋工程が、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長の放射線への暴露によって実施されることを特徴とする方法。
【請求項１６】
基材上のコーティングの製造方法において、以下の工程：
−  請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシリコーン組成物Ｃの基材への塗布と、
−  ２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長の放射線への暴露による前記組成物の架橋と
を備えることを特徴とする方法。
【請求項１７】
次式：
2020111574.tif 000009
であることを特徴とする化合物（２）、（４）、（５）、（６）、（７）、（７ａ）、（９）、（１５）、（１６）および（１７）。
【請求項１８】
請求項１７に記載の化合物の使用において、ラジカル光開始剤としてのものであることを特徴とする使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
式（ＩＶ）の化合物の中に、次の化合物（３）〜（１３）および（１５）〜（１７）：
2020111574.tif 000010
2020111574.tif 000011
が挙げられてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
本発明の別の目的は、次の化合物（２）、（４）、（５）、（６）、（７）、（７ａ）、（９）、（１５）、（１６）および（１７）：
2020111574.tif 000012
に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
以下の実施例では、様々な光開始剤、共開始剤およびアクリルシリコーンを本発明に従って使用したが、それらの構造を下の表に示す。
2020111574.tif 000013
2020111574.tif 000014