(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対的に盛上がった部分（28）と窪んだ部分（29）、並びにその間に横断方向に配置された遷移部分（41）を備えたレリーフパターン上に符号化された情報を有する表面（８）の非接触読取り装置であって、
前記窪んだ部分は前記横断方向に直交して縦方向に整列する底面（29）を有し、
前記レリーフパターン上の盛上がった部分（28）を含む表面（８）上および該表面の垂線に対して第１の角度で前記レリーフパターンの窪んだ部分の底面〈29〉上で延長された実質的に四角形領域（11）を照明する光の扇形ビーム（10）を投射する投光手段（２）と、
前記表面の垂線に対して第２の角度で前記投射された前記レリーフパター上の光のラインを観測し、該レリーフパターンの前記盛上がった部分（28）と窪んだ部分の底面（29）との間にある遷移部分（27）に投射された光のラインの視差変位（20）を含む該レリーフパターン上の光のラインからの反射光の像を示す信号を発生する受光手段であって、該レリーフパターン上への光エネルギの入射に応じて各々が出力を有する２次元配列（22）で配置された複数の光検出器を有する受光手段（３）と、
前記受光手段に結合され、前記像における視差変位を示す前記信号の特性を検出すると共に、この視差変位に応答する出力を有する検出手段であって、該検出手段の出力が前記レリーフパターン内の遷移部分に応答する検出手段（４）と、
前記光検出器（71）上で焦点づけられる反射像を投射する投光手段（74）と、を備え、
前記受光手段（３）が光軸を有し、
前記非接触読取り装置が、前記光軸に直角な平面に対し傾斜角度φで配置される前記２次元配列により特徴づけられ、それゆえ前記表面と前記受光手段との間の距離に独立して、前記表面の照明領域の画像点が実質上前記２次元配列上に入る、
ことを特徴とする前記レリーフパターンに符号化された情報を有する表面の非接触読取り装置。
【請求項２】
前記受光手段及び前記投光手段（３）は、前記表面に対し実質的に平行な平面に配置される請求の範囲第１項に記載の非接触読取り装置。
【請求項３】
前記検出手段に結合され、検出された視差変位のパターンをレリーフパターンに含まれる複合化された情報を示す電気的信号に変換する複合化手段（５）を更に含む請求の範囲第１項に記載の非接触読取り装置。
【請求項４】
前記複合化手段（５）がディジタイザ及びマイクロプロセッサを含む請求の範囲第１項に記載の非接触読取り装置。
【請求項５】
前記投光手段（２）は、前記表面上に延在する実質的に長方形である領域を照射する光の扇形ビームを発生する請求の範囲第１項に記載の非接触読取り装置。
【請求項６】
相対的に盛上がった部分（28）と窪んだ部分（29）、並びにその間に横断方向に配置された遷移部分（41）を備えたレリーフパターン上に符号化された情報を有する表面（８）の非接触読取り装置であって、
前記窪んだ部分は前記横断方向に直交して縦方向に整列する底面（29）を有し、
前記レリーフパターン上の盛上がった部分（28）を含む表面（８）上および該表面の垂線に対して第１の角度で前記レリーフパターンの窪んだ部分の底面〈29〉上で延長された実質的に四角形領域（11）を照明する掃引スポットビームにより形成された光の扇形ビーム（10）を投射する投光手段（２）と、
前記表面の垂線に対して第２の角度で前記投射された前記レリーフパター上の光のラインを観測し、該レリーフパターンの前記盛上がった部分（28）と窪んだ部分の底面（29）との間にある遷移部分（27）に投射された光のラインの視差変位（20）を含む該レリーフパターン上の光のラインからの反射光の像を示す信号を発生する受光手段であって、該レリーフパターン上への光エネルギの入射に応じて各々が出力を有する直線配列（25）で配置された複数の光検出器を有する受光手段（３）と、
前記受光手段（３）に結合され、前記像における視差変位を示す前記信号の特性を検出すると共に、この視差変位に応答する出力を有する検出手段であって、該検出手段の出力が前記レリーフパターン内の遷移部分に応答する検出手段（４）と、
前記直線配列（71）上で焦点づけられるスポット像を投射する投光手段であって、これにより前記表面上の視差変位を前記直線配列に沿って焦点づけられた像の変位により表す投光手段（74）と、を備え、
前記受光手段（３）が光軸を有し、
前記非接触読取り装置が、前記光軸に直角な平面に対し傾斜角度φで配置される前記直線配列により特徴づけられ、それゆえ前記表面と前記受光手段との間の距離に独立して、前記表面の照明領域の画像点が実質上前記直線配列上に入る、ことを特徴とする前記レリーフパターンに符号化された情報を有する表面の非接触読取り装置。
【請求項７】
前記受光手段及び前記投光手段（３）は、前記表面に対し実質的に平行な平面に配置される請求の範囲第６項に記載の非接触読取り装置。
【請求項８】
前記検出手段に結合され、検出された視差変位のパターンをレリーフパターンに含まれる複合化された情報を示す電気的信号に変換する複合化手段（５）を更に含む請求の範囲第６項に記載の非接触読取り装置。
【請求項９】
前記複合化手段（５）がディジタイザ及びマイクロプロセッサを含む請求の範囲第６項に記載の非接触読取り装置。
【請求項１０】
前記投光手段（２）は、前記表面上に延在する実質的に長方形である領域を照射する光の扇形ビームを発生する請求の範囲第６項に記載の非接触読取り装置。
【発明の詳細な説明】
発明の背景
1.発明の属する技術分野
本発明は全体としてパターン認識に関し、特に製品又は部品の認識表示パターン、特に浮彫り状パターンの非接触読取り装置に関する。
2.従来の技術
部品及び製品の認識にバーコードを使用することは広く行われている。対象物にバーコードを付与する際に最も一般的に行われているのは、バーコードを印刷したラベルを対象物に添付するか、部品又は製品に直接バーコードを印刷する方法である。バーコードを適切に読取る従来のバーコードスキャナーの多くは、バーとその背景との間に非常に高いコントラストがあることが要求される。しかし、このことはある場合には、バーコードラベルの添付や、塗布を実際的でないものにしたり、或いは非常に経費のかかるものにしている。例えば、製品或いは部品の表面によっては、そこにラベルを適切に貼ることが許されなかったり、またラベルの存在がその部分の適正動作を妨げる場合もある。
こうしたバーコードラベルや塗布されたバーコードに関する制限を克服する一方法は、対象物（製品又は部品）の表面上にコードをレリーフ（浮彫り細工）状に配置することである。このことは、スタンピング加工、彫刻、エッチング加工、フライス削り加工、モールド加工、その他の加工法によって可能である。これ等の方法によれば、コードは製品又は部品の表面から浮き出した状態で（持ち上げて）形成することも出来るし、また表面から窪んだ状態で（押し下げて）形成することも可能である。しかし、こうしたレリーフバーコードが抱える根本的な問題は、現在利用し得る非接触走査技術によっては、それを読取ることが出来ないと言う点にある。その理由は、バーコードパターンの高い部分と低い部分との間のコントラストが一般的に非常に低いからである。
発明の概要
それ故、本発明の主たる目的は、非接触技術を用いてレリーフパターンを効果的に読取り、且つ復号化する改良された方法及び装置を提供することにある。
本発明のこれらの目的及びその他の目的は、相対的に盛上がった部分と窪んだ部分を備えたレリーフパターンに符号化された情報を有する表面を非接触に読取る装置によって達成される。この装置は、表面の垂線に対して第１の角度で前記レリーフパターン上に光をライン上に投射する投光装置と、表面の垂線に対して第２の角度で前記投射された光のラインを観測し、レリーフパターンからの反射光の像を示す信号を発生する受光装置と、を備える。この像には、レリーフパターンの盛上がり部分と窪んだ部分との間にある遷移部分で生ずる照明ラインの明らかな変位が含まれている。この変位は受光装置に結合するパターン検出器によって検出される。このパターン検出器の出力はデコーダに送られる。
本発明の一つの形態によれば、受光装置と投光装置は実質的に表面に平行な平面内で離間されて配置される。
本発明のもう一つの形態によれば、デコーダとパターン検出器はディジタイザと、適当なプログラムを内蔵したマイクロプロセッサとによって実現される。
受光装置は二次元に配列され、入射光のエネルギーに応答する出力を有する複数の光センサとして実現することが可能であり、センサ上に反射光の焦点を合わせた像を投射する光学手段を含む。
その他に二次元配列の光センサは、直線配列に配置でき、投光装置はレリーフパターン上に実質的長方形を定めるようにレリーフパターンを横切って光のスポットを掃引するよう構成することも可能である。この場合、望ましい解像度を達成するために、光スポットの断面寸法はレリーフパターンの最小部分の幅より小さくする。表面上の照明ラインの明らかな変位は、直線配列に沿って焦点を合わせた像の変位によって表される。
【図面の簡単な説明】
本発明のこれら及びその他の目的のより良い理解のために、本発明の詳細な説明を以下の図面と関連させて記述した。
第１図は、本発明によるレリーフパターン読取り装置のブロック図を示し、
第２図は、平坦な表面を照射する光の掃引コラムビームを示し、
第３図は、平坦な表面を照射する光の扇形ビームを示し、
第４図は、レリーフパターンを備えた表面を照射する掃引式又は扇形照明を示し、
第５図は、照明ラインの視差変位を明瞭に示すために拡大したレリーフパターンを有する表面の拡大斜視図であり、
第5a図は、第５図の5a−5a線に沿って取った拡大部分斜視図であり、
第６図は、第５図に示す表面上照明ラインの受光装置における二次元配列の光検出器上への写像を示す図である。
第７図は、第５図に示す表面を横切って光ビームを掃引することによって生じた照明ラインの直線配列の光検出器上への写像を示し、そして
第８図は、第６図及び第７図に図示の光検出器の配列上に写像するための他の光学装置を概略的に示す。
好適実施例の詳細な説明
添付図面、特に第１図には、レリーフパターンを含む対象表面８の近傍に位置した本発明の好適実施例によるレリーフパターン読取り装置１のブロック図が示されている。レリーフパターン読取り装置１は投光裝置２、受光装置３、パターン検出器４、及びデコーダ５を含んでいる。本発明による好適実施例は上記構成要素２、３、４、５が単一ユニットとして実施されても良く、また構成要素２、３、４、５の何れか、又は全てが分離された状態で実施されても良い。
投光装置２は、レリーフパターンを含む対象表面８を照射する光ビーム６を放射する。投光装置２から放射された光ビーム６は、掃引又は走査されるスポットビーム、或いは固定ビーム（stationary beam）の何れでも良い。何れの場合も、平坦面に投射されたビームは光のラインとして現れる。表面を照射する他の方法を第２図及び第３図に示す。これらの図では、光ビームは投光装置２の光源から発するものとして図示されている。投光装置の構造の詳細は、図を分かり易くするために省略してある。
第２図には、平坦面12上に投射された時に、光のライン11が形成されるように掃引又は走査される光のスポットビーム10が図示されている。スポットビームが平坦面を横切って移動する際の代表的なビーム10の位置は、一連の点線によって第２図に示されている。
第３図には、平坦面15上に投射された際に光のライン14を形成する光の扇形ビーム13が示されている。
再び第１図に立ち戻る。図中、受光装置３は、その視野７が表面８上に光ビーム６によって生ずる照明ラインの投影像を含むように配置される。受光装置３は、その視野に入った像をパターン検出器４によって処理可能な電気信号に変換する。パターン検出器４は、像の電気的表示から符号化されたパターンを抽出し、それを復号化処理のためにデコーダ５に送出する。この表示は復号化技術で知られているディジタル信号、又は良く知られているその他のフォーマットのデジタル信号であればよい。デコーダ５は符号化されたパターンを復号し、レリーフパターンにコード化された文字列又はその他の情報を抽出する。デコーダ５は良く知られたコード化パターンの復号化技術を利用しているが、このことは本発明の主題ではないのでここでの説明を省略する。デコーダ５は復号化した文字列又は情報を通信ポート９を介して表示装置又は同種の従来技術による装置に出力する。この通信ポート９には種々の形態があるが、これも本発明の主題ではないのでここでの説明を省略する。
第１図に図示の構成要素をレリーフパターンの読取りに活用するために、投光装置２は受光装置３から或る距離を置いて離間する必要がある。第４図に示すように、投光装置２が発生した掃引スポット照明或いは扇形照明16はレリーフパターン８を投光装置２の視点から見たときに一直線となるように照射する。受光装置３はその視野方向が第４図の17に示さた方向になるように配置される。
第５図は、受光装置３の視点から見たときのレリーフパターンの表面８の像を示している。投光装置２と受光装置３は離れているため、パターンの盛上がった部分の照明されている表面部分18は、パターンの窪んだ部分の照明されている部分19からの視差変位20を示す。パターン検出器４によって検出されるのがこの視差変位20である。
レリーフパターンに沿って生ずるこの明らかな照明ラインの変位を更に良く理解するために第5a図を参照する。この図が示す通り、その全体を参照番号40で示されている照明ラインは、レリーフパターンの相対的に盛上がった領域28を横切る線分18と、この盛上がり領域28と相対的に窪んだ領域29との間にある遷移領域を示す実質的に垂直な線分41とを有している。ライン40は線分19と同様に窪んだ領域29に沿って水平に連続する。第１図の受光装置３のように角度的に変位した視点に立つ観察者はライン42に沿った方向からレリーフパターンを見ることになる。こうした観察者は、観察者の光軸45からの（第5a図に点線で示すような）線分18と線分19'の角度変位αが同じ時、これら線分は同一直線上にあるものと認識するだろう。勿論、線分19'は実際には照明ラインの一部を構成するものではない。この観察者は、視差変位と称する現象のために、実照明ラインである線分19は線分18から距離20だけ変位していると認識する。視差変位の度合は、線分19の角度変位βと線分18の角度変位αとの差の関数であることは明らかである。この角度差はレリーフパターンと観察者との間の距離、並びに二つの領域28、29の高さの相対的差を示す寸法27によって影響を受ける。
上記の説明では、実質的に垂直な照明ビームと角度変位した観察者を想定したが、投光装置と受光装置とを入れ替えることもできる。この場合、ほぼ同じ大きさではあるが方向が反対の角度変位が生ずる。構成要素は垂直型である必要はない。
受光装置３は光検出器を直線配列して構成しても良く、また光検出器を正方形に、或いは長方形に二次元配列して構成しても良い。CCD配列のような従来からある光検出器配列が適している。第６図に於いて、図の鎖線で囲われた受光装置３は結像レンズ21と二次元配列した光検出器22を含んで構成されている。結像レンズ21は表面８の照明部分から来る光を集光し、二次元配列した光検出器22上に像を形成するようにその光の焦点を合わせる。視差変位20は集光レンズ21によって二次元配列の光検出器22上で矢印23方向の変位に変換される。この変位を含んだ像は二次元配列の光検出器22によって像を示す電気信号に変換されてからパターン検出器に送られ、そこで更に処理を受ける。この受光装置の構成では、投光装置２から送られる掃引スポットビーム、或いは固定扇形ビームの何れかを扱うことが出来る。
第７図は本発明による受光装置の他の実施例を示している。この好適実施例では、受光装置73はシリンダー状のレンズであるレンズ装置24と、直線配列の光検出器25を含む構成を採っている。この実施例の投光装置２は掃引スポットビームを発生させるものであることが必要である。レンズ装置24は、直線配列した光検出器25の各要素又はセルが照明ビームの像方向にほぼ平行な表面領域からの光を集めるようにして、レリーフ表面から来る光を直線配列25上にその焦点を合わせる。それ故、視差変位20はレンズ装置24によって直線配列の光検出器25上に於ける矢印26方向の変位に変換される。スポットビームの掃引方向に沿う如何なる点に於いても、最も高い光強度を示す光検出セルはスポットビームが入射した表面の位置に対応する。受光装置73はスポットの現在位置を示す電気的表示を発生し、この電気表示は掃引スポット全体をサンプリングしたとき、各サンプリング点に於けるレリーフの相対高さを直接示す。この情報はパターン検出器４に送られ、そこで更に処理を受ける。
デコーダ５及びパターン検出器４は公知のものであり、それらは本発明の一部を構成するものではないので、ここで更に論ずることは避ける。
第８図は、第６図及び第７図に示した構成のものに代わる実施例を示している。レンズ74によって示されているレンズ装置は光軸72を有している。レンズ装置は単一要素であっても良く、また与えられた応用例に適した結合体であっても良い。像平面71'は光軸72に実質的に直交する平面として定義される。この装置によって走査される個々の表面はその上にバーコード化された記号を備えており、その可能な位置はライン75a〜75cによって示されている。バーコード記号が設けられている表面の残りの部分は図を分かり易くするために省略してある。三つの異なる表面からの三つのバーコード記号位置が示されているが、一度には一つの表面だけが走査されることが理解できる。バーコード記号は第６図及び第７図に示したものと同じ記号であって良い。点線76により二次元投射で示される光の扇形ビームは、好ましくはレーザによって投射され、表面及びバーコード記号を照射する。一般に、走査されるバーコード記号は光軸72上にはないので、点75a〜75cを照射する光線は光源から等距離では伝達されない。走査面から反射された光はレンズ74によって集光される。主光線は点線79、79、81、81、及び実線83、83で示され、次いで全体が直線或いは二次元配列の光検出器71に向けて投射される。一般に、個々に走査された表面の位置変化によって、光軸に対して一定の半分の角度で横たわる表面上の点から像平面71'に延びる光路はその長さを変化する。走査される表面に於ける位置的変化のもう一つの結果は、光軸72に直交し、且つ走査される種々のバーコードを通過し、点75a〜75cとして示される平面が、レンズ74とは異なる（寸法“a",“b"および“c"でそれぞれ示される）距離で横たわることである。従って、像平面71'は点75a、75b、75cのそれぞれの像76a、76b、76c全てを含むことはなく、せいぜいそれらの中の一つ、ここでは点76bを含むことが出来る。光検出器配列71は光軸72への垂線に対し傾斜角度φで傾斜しているので、点76a〜76cはほぼ全てが配列71上に来る。傾斜角度φはレンズ74の式を用いて、配列71の実際の位置から点76a〜76cまでの距離を最小にするように容易に計算される。また傾斜角度を経験的に決めることも可能である。図を分かり易くするために、単一の点線76として表示したが、レーザ光線は実際には扇形ビームであって、点75a〜75cを含む三次元表面は図を分かり易くするために省略してある。像表面71'に対し配列71を傾けて配置することによって、システム分野は実質的にその機能を増加する。点75aと点75cとの中間に横たわる他の三次元表面（図示せず）上の点が配列71上の何処かに在る画素上に焦点が合わせられることは明らかである。
ここに開示した構成について本発明を説明してきたが、本発明はここに詳述したものに限られるものではなく、本願は以下に述べる請求の範囲内で行われる如何なる修正及び改変をも包括するものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図５ａ】
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【図６】
0003616096.tif 000008
【図７】
0003616096.tif 000009
【図８】
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