(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉内壁近傍にヒータを設けたバッチ式真空炉本体の真空室に、周囲に封着材を介して重ね合わせた表面ガラス基板と背面ガラス基板とからなるプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を収納するマッフルを多段に配置して、少なくとも前記各マッフル間に、補助ヒータと冷却管を配設するとともに、前記真空室に復圧用気体供給管と第１真空排気装置を接続する一方、前記マッフルに発光ガス供給管と第２真空排気装置を接続したことを特徴とするプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉。
【請求項２】
前記発光ガス供給管に追出しガス供給管を接続するとともに、マッフルの排気管と発光ガス供給管とを、発光ガス再生機とリザーブタンクを介して接続したことを特徴とする前記請求項１に記載のプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマ・ディスプレイ・パネル、特に、排気チップ管を不要としたプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、一方のガラス基板（パネル）に設ける排気チップ管を不要としたプラズマ・ディスプレイ・パネルの製作方法として、たとえば、特開昭６３−２５００３７号公報、特開平４−２６４３２８号公報に開示された技術がある。
この方法は、真空室内に、表面ガラス基板と裏面ガラス基板とをその電極を対向、かつ、直交させるとともに、周囲に封着材を介して重ね合わせたプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を位置させ、真空室内を排気したのちＮｅ（ネオン）ガス等の発光ガスを供給して加熱することにより、両ガラス基板を封着して両ガラス基板間に発光ガスを封入するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記方法を採用して複数のプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を排気・封着処理するには、真空室内に複数のプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を配置する必要があり、真空室の内容積が大きくなる。そのため、真空室内に供給する発光ガス量も多く、しかもこの発光ガスは１封着工程が終了すれば排気されるため、発光ガスの消費量が増大し生産コストが大きくなる。
また、加熱手段は真空室の、たとえば底部に配置するが、プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を段積みすれば、各プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体間で温度差が生じて均質なプラズマ・ディスプレイ・パネルを同時に得ることができない。
さらに、大容積の真空室を高真空にするため真空排気装置も大型で高価なものを使用しなければならないという課題を有していた。
【０００４】
したがって、本発明の第１の目的は、複数のプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を排気・封着処理するにもかかわらず、発光ガスの使用量が少なく、かつ、各プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体間で温度差が生じないばかりか、真空排気装置も安価なものを使用できるプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉を提供することである。
また、第２の目的は、封着工程で封入に供されなかった発光ガスを再度使用するようにして発光ガスの消費量を極力少なくして生産コストをさらに低下させることのできるプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかるプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉は、前記目的を達成するため、炉内壁近傍にヒータを設けたバッチ式真空炉本体の真空室に、周囲に封着材を介して重ね合わせた表面ガラス基板と背面ガラス基板とからなるプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を収納するマッフルを多段に配置して、少なくとも前記各マッフル間に、補助ヒータと冷却管を配設するとともに、前記真空室に復圧用気体供給管と第１真空排気装置を接続する一方、前記マッフルに発光ガス供給管と第２真空排気装置を接続した構成としたものである。
また、前記発光ガス供給管に追出しガス供給管を接続するとともに、マッフルの排気管と発光ガス供給管とを、発光ガス再生機とリザーブタンクを介して接続した構成としたものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態を図にしたがって説明する。
図１，図２は、本発明にかかるプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉Ｔの断面図で、１は内部に真空室Ｒを有する略直方体状のバッチ式真空炉本体（以下、炉本体という）で、その一側面に設けた口字状フランジ部３に、装入・抽出扉（以下、扉という）４が真空パッキン５を介してクランプシリンダ６により圧着開放可能に取り付けられている。
【０００７】
７は横方向に偏平な有底のマッフルで、このマッフル７は前記炉本体１の前記扉４側の側壁２に開口させたもので、上下に所定間隔をもって真空室Ｒに水平に３段配設してある。
Ｈ１は前記真空室Ｒの各内面に設けた炉温制御用主ヒータ、Ｈ２は前記マッフル７間および真空室Ｒの天井側と底部側に設けた主ヒータＨ１とマッフル７間に水平に設けた補助ヒータで、両ヒータＨ１，Ｈ２はそれぞれ独立制御されるものであり、各列の補助ヒータＨ２間には冷却管Ｃが設けてある。
【０００８】
なお、前記真空室Ｒは、開閉弁Ｖ１を備えた排気管９を介して第１真空排気装置（低真空用）８に接続されるとともに、開閉弁Ｖ３を備えた復圧用気体供給管１２を介して復圧用気体供給源（図示せず）に接続されている。
また、前記炉本体１と扉４およびフランジ部３とで形成される空間１４は、前記フランジ部３から第２真空排気装置（高真空用）１０に開閉弁Ｖ２を備えた排気管１１を介して接続されている。
【０００９】
さらに、前記各マッフル７の底部側（図１の右側）は開閉弁Ｖ４を備えた発光ガス供給管１５を介して発光ガス供給タンク１６に接続されている。Ｖ３′，Ｖ４′は逃し弁である。
なお、図２の配管関係は模式的に記載したものである。
【００１０】
つぎに、前記構成からなるプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉Ｔを使用してプラズマ・ディスプレイ・パネルの製作方法を説明する。
まず、開閉弁Ｖ１〜Ｖ４を閉とし、第１，第２真空排気装置８，１０を停止した状態でクランプシリンダ６を操作して扉４を開とし、各マッフル７内にプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗを適宜方法にて位置させたのち、扉４とフランジ部３とをクランプシリンダ６により圧着する。
【００１１】
そして、前記主ヒータＨ１と補助ヒータＨ２とにより真空室Ｒ内を約３５０℃まで昇温して、この温度を所定時間保持するとともに、真空室Ｒ内を前記第１真空排気装置８により約１Ｔｏｒｒ、また、各マッフル７内を第２真空排気装置１０により約１０−５Ｔｏｒｒに真空排気する。
真空室Ｒの温度を一定時間保持している間に、プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗの脱ガスが行なわれる。脱ガス完了後、第１，第２真空排気装置８，１０を停止して開閉弁Ｖ４を開として各マッフル７内に発光ガスタンク１６内の発光ガスを供給してプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗ内に発光ガスを充填するとともに、開閉弁Ｖ３を開、開閉弁Ｖ１を閉として真空室Ｒ内に復圧用気体（たとえば空気）を供給して真空室Ｒ内を復圧する。その後、前記主ヒータＨ１と補助ヒータＨ２とにより真空室Ｒ内の温度を、たとえば、４３０℃まで昇温して、その温度を所定時間保持する。この間にマッフル７内のプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗの周囲に配置した封着材は軟化して、両ガラス基板を封着することによりプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗ内に発光ガスが封入される。
【００１２】
なお、マッフル７内の圧力（Ｐ１）は温度とともに発光ガスの膨張、収縮により変圧するため、たとえば、下式に基づいて開閉弁Ｖ４と逃し弁Ｖ４′を操作することによりコントロールする。
【数１】
Ｐ１＝｛（２７３＋Ｔ℃）／（２７３＋２０℃）｝×Ｐ０
Ｐ１＝マッフル内圧力
Ｐ０＝必要マッフル内圧力（２０℃）
Ｔ＝マッフル内温度℃
また、真空室Ｒ内の圧力は、マッフル７の変形を避けるため、マッフル７内の圧力Ｐ１と略同じになるよう開閉弁Ｖ３と逃し弁Ｖ３′を操作することによりコントロールする。
【００１３】
前記のようにして、封着処理が完了すると、前記主ヒータＨ１および補助ヒータＨ２を制御するとともに前記冷却管Ｃに冷媒（空気）を供給して、真空室Ｒ内を冷却してマッフル７内を降温し、所定温度以下となったところで、扉４を開として各マッフル７からプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を取り出すものである。
【００１４】
前記説明では、発光ガスは各マッフル７に供給され、その一部がプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体内に封入され、残りはパネル取出し時、放散されるため、発光ガスの使用量が増大することになる。
したがって、図２に仮想線で示すように、発光ガス供給タンク１６をリザーブタンク１６′とし、このリザーブタンク１６′と前記第２真空排気装置１０の開閉弁Ｖ２より上流側の排気管１１との間に開閉弁Ｖ５を有する配管１８を設け、発光ガス再生機１７を前記開閉弁Ｖ５とリザーブタンク１６′との間に設けるとともに、リザーブタンク１６′からの発光ガス供給管１５の開閉弁Ｖ４より下流側に開閉弁Ｖ６を有するＮ２ガス等の追出しガス供給管１９を設ける。
そして、前記封着完了後、真空室Ｒ内温度が約３５０℃以下となった時点で、開閉弁Ｖ５，Ｖ６を開として各マッフル７内に追出しガスを供給してマッフル７内の残留発光ガスを発光ガス再生機１７に戻入し、再生したのちリザーブタンク１６′に貯留し、その後、扉４を開いてプラズマ・ディスプレイ・パネルを取り出すようにしてもよい。このようにすれば、高価な発光ガスを無駄にすることがなくそれだけコスト低減を行なうことができる。
【００１５】
前記説明では、マッフルは有底マッフルを使用したが直管状のものとして、その両端を炉本体１の両側壁２，２に支持させるものであってもよく、また、両ガラス基板を封着材より高温で融解する支持材片、たとえば混合物組成を若干変化させた低融点ガラス等で支持し、封着工程で支持材片を溶融させて両ガラス基板を封着させるようにしてもよい。
さらに、前記補助ヒータＨ２と冷却管Ｃは少なくともマッフル７間に配設すればよい。
【００１６】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、請求項１に記載の発明のよれば、プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体は内容積の小さいマッフル内に装入され、発光ガスはこのマッフル内のみに供給するため発光ガスの使用量は従来方法に比べて著しく少なく経済的である。
また、プラズマ・ディスプレイ・パネルを収納するマッフルは炉本体内に多段に配置されるが、各マッフル間に補助ヒータと冷却管を配設するため、各マッフルを均一に昇温、降温でき均一なプラズマ・ディスプレイ・パネルを得ることができる。さらに、マッフル内容積は処理に必要な最小限とすることができるため、それだけ高価な高真空用第２真空排気装置も小型で安価なものを適用することができる。
請求項２に記載の発明によれば、請求項１の発明において、発光ガス供給管に追出しガス供給管を接続し、追出しガスをマッフル内に供給して、マッフル内の残留発光ガスを発光ガス再生機に戻入して、再生したのちリザーブタンクに貯留するようにしたため、発光ガスの無駄がなく、それだけ生産コストを低減し、安価なプラズマ・ディスプレイ・パネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかるプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉の断面図。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線断面図と配管系統図。
【符号の説明】
１…真空炉本体、４…装入・抽出扉、７…マッフル、８…第１真空排気装置、１０…第２真空排気装置、１２…復圧用気体供給管、１５…発光ガス供給管、１６…発光ガス供給タンク、１６′…リザーブタンク、１７…発光ガス再生機、１９…追出しガス供給管、Ｃ…冷却管、Ｈ１…主ヒータ、Ｈ２…補助ヒータ、Ｒ…真空室、Ｔ…真空炉本体、Ｖ１〜Ｖ６…開閉弁、Ｗ…プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体。
【図１】
0003615335.tif 000002
【図２】
0003615335.tif 000003