(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理を施す基板処理装置であって、
前記基板に対する所定の処理動作に際して、所定の駆動源からの駆動力によって移動する移動部と、
前記移動部に連結され、前記処理動作において使用される流体を通す変形可能な配管と、
前記配管の一部に規定された所定の案内部位に連結され、前記移動部の移動とともに変形する前記配管の一部の位置変化を案内する案内手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板処理装置であって、
前記移動部の移動方向に対してほぼ直角方向に、前記移動部から前記配管が伸びていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の基板処理装置であって、
前記流体は、前記基板の現像処理を行うための現像液であり、
前記移動部には、前記配管を介して供給される前記現像液を前記基板上に付与するための現像液付与部が結合されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
基板に処理を施す基板処理装置であって、
前記基板に対する所定の処理動作に際して、所定の駆動源からの駆動力によって移動する移動部と、
前記移動部に連結された変形可能な配線と、
前記配線の途中に規定された所定の案内部位に連結され、前記移動部の移動とともに変形する前記配線の一部の位置変化を案内する案内手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記案内手段が、
前記案内部位を直線的に案内する手段、
を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記案内手段が、
前記案内部位を２次元的に案内する手段、
を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記案内手段が、
前記案内部位の回転揺動を案内する手段、
を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記駆動源で生成される運動を前記案内手段に伝達することにより、前記案内手段による案内動作を生じさせる運動伝達機構、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記案内手段を駆動して案内動作を生じさせる案内用駆動源と、
前記移動部の移動と同期して前記案内用駆動源を制御する制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体装置製造用の半導体基板や液晶表示器等のフラットパネルディスプレイの製造に用いられるガラス基板（以下、これらを「基板」と総称する。）に処理を施す基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板に塗布、現像、洗浄等の処理を施す基板処理装置には、薬液や純水等の液体やエアー等の気体の流路となる配管が多数設けられている。また、処理内容によっては温度調節用の水を供給するための配管といったものも設けられている。
【０００３】
これらの配管の多くは基板を処理するに際して移動する移動部に接続されており、移動部に設けられたノズルから基板に向けて薬液が吐出される等することにより基板に処理が施されるようになっている。すなわち、移動部に接続されている配管は移動部の移動の影響を受けない流体の供給路としての役割を果たしている。
【０００４】
また、配管と同様に移動部には電力の供給路等としての配線も多く設けられており、移動部の移動に伴って配線が撓んだり伸びたりすることにより、移動部への安定した電力供給等が実現されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年の基板の大型化に伴って基板の処理に利用される液体等の量も増加しつつある。このような状況において従来通りの径の配管を用いて従来通りの流量の薬液等を供給したのでは薬液等の吐出に要する時間が長くなり、基板処理装置のスループットを低下させたり基板の品質を低下させてしまうという問題が生じてしまう。したがって、基板処理装置に用いられる配管の径を増大させる必要が生じてきている。
【０００６】
配管径を増大させた場合、当然に曲げに耐えうる配管の曲率は小さくなる。特に、クリーン度や耐薬性を考慮して基板処理装置では大きく曲げ変形させることが困難なフッ素樹脂性のチューブが多く使用されており、配管径が増大するとこのような配管は一層自由に曲げることができなくなる。
【０００７】
このように、配管を自由に曲げ変形させることが困難であるにもかかわらず従来と同様の長さの配管を用いたのでは、配管の根本等である装置本体への固定部分に大きな力が加わり、パーティクルが発生したり配管が損傷してしまうこととなる。したがって、配管径を増大させるためには配管長も長く設計する必要が生じる。すなわち、基板の大型化による薬液等の使用量の増大に伴って、基板処理装置に設けられる配管の配管径および配管長を増大させる必要が生じる。
【０００８】
配管径および配管長が増大すると移動部の移動に伴う配管の運動が基板処理装置に大きな影響を与えることとなる。すなわち、配管が基板処理装置内で他の部材と干渉を起こして互いに損傷したり、他の部材と強く擦れ合うことでパーティクルが発生したりするといった問題が生じる。
【０００９】
このような問題は径の大きな１本の配管に限られず、複数の配管が太い束となっている場合や複数の配線が太い束となっている場合も同様である。特に、近年の基板処理装置の複雑化・高度化に伴ってヘッド部等の移動部に接続される配管や配線は多数存在し、束ねられた配管や配線は自由に曲げ変形することが困難であることから装置本体に固定される部分から移動部に接続される部分までの配管や配線の長さを長く設計する必要がある。したがって、配管や配線の束が装置内部で他の部材と干渉を起こして損傷したり、パーティクルが発生して基板の品質が低下してしまうという問題が生じることとなる。
【００１０】
この発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、移動部に接続された配管や配線の損傷を防止するとともにパーティクルの発生を防止することができ、これにより装置の安全な運転、および基板の品質の向上を図ることができる基板処理装置を提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、基板に処理を施す基板処理装置であって、前記基板に対する所定の処理動作に際して、所定の駆動源からの駆動力によって移動する移動部と、前記移動部に連結され、前記処理動作において使用される流体を通す変形可能な配管と、前記配管の一部に規定された所定の案内部位に連結され、前記移動部の移動とともに変形する前記配管の一部の位置変化を案内する案内手段とを備える。
【００１２】
請求項２の発明は、請求項１記載の基板処理装置であって、前記移動部の移動方向に対してほぼ直角方向に、前記移動部から前記配管が伸びている。
【００１３】
請求項３の発明は、請求項１または２記載の基板処理装置であって、前記流体は、前記基板の現像処理を行うための現像液であり、前記移動部には、前記配管を介して供給される前記現像液を前記基板上に付与するための現像液付与部が結合されている。
【００１４】
請求項４の発明は、基板に処理を施す基板処理装置であって、前記基板に対する所定の処理動作に際して、所定の駆動源からの駆動力によって移動する移動部と、前記移動部に連結された変形可能な配線と、前記配線の途中に規定された所定の案内部位に連結され、前記移動部の移動とともに変形する前記配線の一部の位置変化を案内する案内手段とを備える。
【００１５】
請求項５の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記案内手段が、前記案内部位を直線的に案内する手段を有する。
【００１６】
請求項６の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記案内手段が、前記案内部位を２次元的に案内する手段を有する。
【００１７】
請求項７の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記案内手段が、前記案内部位の回転揺動を案内する手段を有する。
【００１８】
請求項８の発明は、請求項１ないし７のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記駆動源で生成される運動を前記案内手段に伝達することにより、前記案内手段による案内動作を生じさせる運動伝達機構をさらに備える。
【００１９】
請求項９の発明は、請求項１ないし７のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記案内手段を駆動して案内動作を生じさせる案内用駆動源と、前記移動部の移動と同期して前記案内用駆動源を制御する制御手段とをさらに備える。
【００２０】
【発明の実施の形態】
＜１．  第１の実施の形態＞
図１はこの発明に係る第１の実施の形態である基板処理装置１００を示す斜視図であり、図３および図４は図１における基板処理装置１００を（−Ｙ）方向から（＋Ｙ）方向を向いてみた場合の各構成を示している。また、各図では説明に必要な構成のみを適宜示している。
【００２１】
基板処理装置１００は基板９に現像液を塗布して現像処理を行う装置であり、現像液の塗布の際に基板９の上方へと移動するヘッド部１０、ヘッド部１０を図１中に示すＸ方向に移動させる駆動部２０（図３参照）、ヘッド部１０に供給される現像液の供給路である配管３０、および配管３０の曲げ変形に応じて配管３０の一部を案内する案内部４０、および基板９を水平姿勢にて支持しながら回転させる回転部５０を有している。
【００２２】
ヘッド部１０は基板９に向けて現像液を吐出するノズル１１、ノズル１１が固定されるとともにＸ方向に移動する移動板１２、および、移動板１２に固定されるとともにノズル１１へと現像液を送り込むヘッド用配管１３を有している。
【００２３】
ヘッド用配管１３の一端は移動板１２に固定されるとともにノズル１１に接続されており、またもう一端は移動板１２に固定されるとともに配管３０に接続されるようになっている。これにより、配管３０から供給される現像液がヘッド用配管１３を経由してノズル１１に供給されるようになっている。
【００２４】
駆動部２０は図３に示すように駆動源であるモータ２１、モータ２１の回転軸に取り付けられたプーリ２５ａともう一つのプーリ２５ｂとに掛けられたベルト２２、および、ベルト２２に取り付けられたヘッド部支持板２３を有している。
【００２５】
モータ２１の回転駆動力によるベルト２２の運動とともにヘッド部支持板２３はガイドレール２４に案内されるようにして図１中矢印２３Ｓにて示すＸ方向に移動し、これにより、ヘッド部支持板２３の上部に取り付けられたヘッド部１０もＸ方向に移動するようになっている。
【００２６】
配管３０は一端がヘッド部１０の移動板１２に固定されており、移動板１２の移動方向であるＸ方向に対してほぼ直角をなす方向に配管３０が伸びるように固定されている。また、配管３０の当該一端は移動板１２を介してヘッド用配管１３に接続されており、他端は基板処理装置１００内部の現像液供給口３４に接続されている。なお、現像液供給口３４からは基板処理装置１００内部に設けられた図示しない現像液供給源から現像液が供給されるようになっている。
【００２７】
配管３０は図２に示すように内管３１と外管３２とを有する２重構造となっており、内管３１内部の内側領域３１ａには現像液が流れるようになっており、内管３１と外管３２との間の空間である外側領域３２ａには現像液を温調するための温調水が流れるようになっている。なお、現像液と同様にヘッド部１０へと流れる温調水は図示しない別途設けられた配管によりヘッド部１０から送り返されるようになっている。
【００２８】
案内部４０はヘッド部１０の移動とともに変形する配管３０の一部の運動を案内するものであり、図１に示すようにＸ方向に伸びるガイドレール４１、ガイドレール４１に沿って矢印４２Ｓにて示すようにＸ方向に案内されるガイドプレート４２、ガイドプレート４２に形成されたＹ方向に伸びるガイド溝４２ａに沿って矢印４３Ｓにて示すようにＹ方向に直線的に案内される軸受４３（正確にはガイド溝４２ａに沿って移動するブロック上に軸受４３が取り付けられている）、および、軸受４３に取り付けられて矢印４４Ｒにて示すようにＹ方向を向く軸を中心として回動するクランプ部４４を有している。
【００２９】
以上ような案内部４０の構成により、クランプ部４４が保持する配管３０の経路途上の一部分（以下、「案内部位３３」という。）はＸ−Ｚ面に平行な面に沿って２次元的に自在に案内可能とされ、かつＹ方向を向く軸を中心として自在に回転揺動案内される状態でクランプ部４４により保持されることとなる。
【００３０】
回転部５０は基板９を保持するチャック５１、チャック５１を回転させるモータ５２を有しており、チャック５１が回転することにより基板９も水平面内にて回転するようになっている。また、回転する基板９に向けてノズル１１から現像液が吐出されることにより現像処理が行われるようになっており、吐出された現像液のうち基板９から飛散するものを受け止めるために基板９の側方周囲を覆うカップ５３も設けられている。
【００３１】
次に、基板処理装置１００における移動板１２の移動、すなわちヘッド部１０の移動に伴う配管３０の変形について図３および図４を用いて説明する。
【００３２】
図３はヘッド部１０が（−Ｘ）方向へと移動した状態を示す図であり、配管３０は全体的に比較的小さい曲率で湾曲している。また、図４はヘッド部１０が（＋Ｘ）方向へと移動した状態を示す図であり、配管３０は中央付近で大きく湾曲し、両端部付近ではほぼ直線状となる。
【００３３】
ここで、図３および図４における案内部４０を比較すると、配管３０の位置変化である変形に伴って案内部位３３での配管３０の傾きに沿ってクランプ部４４が回動するとともに案内部位３３の移動に伴ってクランプ部４４の回動の中心に位置する軸受４３がＸ−Ｚ面に平行な面に沿って移動している。
【００３４】
このように、案内部４０は配管３０の変形に伴う案内部位３３の位置や姿勢の変位に逆らうことなく案内部位３３をＸ−Ｚ面に平行な面内で案内することができるようになっている。これにより、移動板１２が（±Ｘ）方向に移動しても配管３０が（±Ｙ）方向に大きく反れたり捩れたりしながら変形するということはない。すなわち、配管３０が移動板１２の移動に伴って変形してもＸ−Ｚ面に平行な面内にて変形することとなる。その結果、配管３０が基板処理装置１００内部で他の部位と干渉して損傷することを防止することができ、また、配管３０の干渉によりパーティクルが発生したりすることを防止することができる。これにより、基板処理装置１００の安全な運転、および基板９の品質の向上を図ることができる。
【００３５】
特に本実施の形態では、配管３０として図２に示すような２重構造の配管３０を用いているとともに内管３１は現像液と化学的反応を起こしにくいフッ素樹脂により形成されており、配管３０自体は可撓性に乏しいものとなっている。そのため、配管３０の全長を長くすることが不可欠となるが、このような場合においても配管３０はＸ−Ｚ面に平行な面から反れることなく安定して案内されることとなる。
【００３６】
＜２．  第２の実施の形態＞
図５および図６はこの発明に係る第２の実施の形態である基板処理装置１０１の構成を示す図である。なお、基板処理装置１０１は第１の実施の形態である基板処理装置１００の駆動部２０に他の構成が加えられたもにであり、他の点では第１の実施の形態と共通している。また、図５および図６はそれぞれ図３、図４に対応しており、第１の実施の形態と同様の構成については同符号を付している。
【００３７】
第１の実施の形態では配管３０の変形する力を利用して案内部４０の各部材が運動するようになっているが、第２の実施の形態である基板処理装置１０１の案内部４０ではガイドプレート４２が駆動源であるモータ２１からの力が伝達されて移動するようになっている。すなわち、第１の実施の形態では案内部４０全体が配管３０の変形に従って受動的に運動するようになっているが、第２の実施の形態では案内部４０の一部が能動的に運動するようになっている。
【００３８】
駆動部２０は第１の実施の形態と同様に駆動源であるモータ２１に取り付けられたプーリ２５ａともう一つのプーリ２５ｂとにベルト２２が掛けられており、ヘッド部支持板２３はこのベルト２２に取り付けられている。したがって、モータ２１の回転に従ってヘッド部支持板２３がガイドレール２４に案内されながらＸ方向に移動するようになっている。
【００３９】
本実施の形態では、さらに別のプーリ２５ｃとモータ２１側のプーリ２５ａとの間にベルト２６が掛けられており、プーリ２５ｃの回転軸に固定されたプーリ２５ｄとプーリ２５ｄのＸ方向側方に設けられたプーリ２５ｅとの間にもベルト２７が掛けられている。そして、ベルト２７に案内部４０のガイドプレート４２が取り付けられている。また、プーリ２５ｃの径はプーリ２５ｄの径より大きな径となっており、ベルト２７にはモータ２１の回転運動が減速されて伝達されるようになっている。すなわち、４つのプーリ２５ａ、２５ｃ、２５ｄ、２５ｅ、および２つのベルト２６、２７はモータ２１の回転運動をガイドプレート４２へと機械的に伝達する運動伝達機構２０Ｔを構成している。
【００４０】
以上のように運動伝達機構２０Ｔを設けることにより、この基板処理装置１０１ではモータ２１の回転によるヘッド部支持板２３の移動、すなわちヘッド部１０の移動と同期するようにしてにガイドプレート４２もＸ方向に移動する。また、プーリ２５ｃの径がプーリ２５ｄの径より大きいので、ガイドプレート４２の移動量はヘッド部支持板２３の移動量に比べて小さくなる。その結果、案内部４０のガイドプレート４２は配管３０の変形に合わせて配管３０の案内部位３３のＸ方向の変位を能動的に案内することとなる。
【００４１】
また、このように配管３０を能動的に案内することにより配管３０の案内を確実かつ極めて滑らかに行うことができ、配管３０に生じる不必要な内部応力を低減しつつ装置内部における配管３０の損傷や配管３０の干渉によるパーティクルの発生を防止することができる。これにより、基板処理装置１０１の安全な運転、および基板９の品質の向上を図ることができる。
【００４２】
＜３．  第３の実施の形態＞
図７はこの発明に係る第３の実施の形態である基板処理装置２００を示す斜視図である。
【００４３】
この基板処理装置２００は基板２０９をキャリア２９１に収容された状態で載置しておくインデクサ部２８１、基板２０９に塗布処理を行うスピンコータ２８２、基板２０９の現像処理を行うスピンデベロッパ２８３、基板２０９を加熱したり冷却したりする複数の熱処理部２８４、および各種処理部や装置外部に別途設けられたインタフェースと基板２０９の受け渡しを行う搬送ロボット２００Ｒを有している。
【００４４】
インデクサ部２８１はキャリア２９１から基板２０９を出し入れする出入ロボット２８５を有しており、出入ロボット２８５から取り出された基板２０９は搬送ロボット２００Ｒに渡された後、搬送ロボット２００Ｒの搬送動作により適宜所要の処理部を経由して所定の処理が施されるようになっている。そして、処理が完了した基板２０９は出入ロボット２８５に渡されてキャリア２９１に収容される。
【００４５】
この基板処理装置２００における搬送ロボット２００Ｒは、ハンド近傍部位が図７中矢印２００Ｓにて示すようにＸ方向に大きく移動するようになっている。また、上部に設けられた２つのハンド２１１ａ、２１１ｂがスライド運動や回転運動を行って各種処理部等と基板２０９の受け渡しを行うようになっている。
【００４６】
図８はこの搬送ロボット２００Ｒの構造を示す斜視図である。搬送ロボット２００Ｒはハンド台２１２上にスライド運動を行う２つのハンド２１１ａ、２１１ｂを有しており、ハンド台２１２はモータ２１３によりＺ方向を向く軸２１０Ｃを中心として回転するようになっている。また、モータ２１３が取り付けられているブラケット２１４はモータ２１７およびボールネジ２１６による機構によりガイドレール２１５に沿ってＺ方向に昇降するようになっている。さらに、モータ２１７が固定されている移動台２２３はボールネジ２２４とナット部２２３ａにて連結されており、ボールネジ２２４が回転すると移動台２２３がＸ方向に移動するようになっている。
【００４７】
また、駆動源であるモータ２２１の回転軸およびボールネジ２２４はそれぞれプーリ２２５ａ、２２５ｂが取り付けられており、これらのプーリ２２５ａ、２２５ｂにベルト２２２を掛けることによりモータ２２１の駆動力がボールネジ２２４に伝達されるようになっている。
【００４８】
以上が搬送ロボット２００Ｒの機械的構成であるが、搬送ロボット２００Ｒのこのような複雑な機構の運動を実現するために、各種モータへの電流の供給路となるケーブルや搬送ロボット２００Ｒの動作を検出する各種センサからの信号線の束である配線２３０が移動台２２３のナット部２２３ａから伸びている。
【００４９】
この配線２３０の一部である案内部位２３３は移動台２２３の下方に設けられた案内部２４０により保持されて案内されるようになっている。すなわち、クランプ部２４４は軸受２４３によりＹ方向を向く軸を中心として矢印２４４Ｒにて示すように回転揺動できるように支持されており、軸受２４３はガイドレール２４２に沿って矢印２４３Ｓにて示すようにＸ方向に直線的にスライド運動可能とされており、ガイドレール２４２は２つのガイドレール２４１に沿って矢印２４２Ｓにて示すようにＺ方向にスライド運動可能とされている。
【００５０】
以上の案内部２４０の構成により、クランプ部２４４はＸ−Ｚ面に平行な面内を２次元的に自在に移動することができるとともに回動可能となる。したがって、移動台２２３がＸ方向に移動するとこれに従って配線２３０は位置変化、すなわち変形するが、配線２３０の案内部位２３３は不必要な力が加えられることなくＸ−Ｚ面に平行な面内を滑らかに２次元的かつ回転揺動自在に案内されることとなる。図８に示す（−Ｙ）方向から（＋Ｙ）方向を向いてみた場合のこの案内の様子を図９および図１０に示す。図９では移動台２２３のナット部２２３ａが（−Ｘ）方向に移動した際の様子を示しており、図１０ではナット部２２３ａが（＋Ｘ）方向に移動した際の様子を示している。
【００５１】
図９および図１０に示すようにこの基板処理装置２００では、搬送ロボット２００Ｒの移動する部分に接続された配線２３０の経路途上の一部である案内部位２３３が案内部２４０によりＸ−Ｚ面に平行な面に沿って案内されるので、配線２３０の湾曲部分がＸ−Ｚ面内から反れたり配線２３０が捩れたりすることはない。その結果、配線２３０が基板処理装置２００内部の他の部位と干渉を起こして損傷したり、配線２３０の干渉によりパーティクルが発生してしまうという問題は生じない。これにより、基板処理装置２００の安全な運転および基板２０９の品質の向上を図ることができる。
【００５２】
＜４．  第４の実施の形態＞
図１１はこの発明に係る第４の実施の形態である基板処理装置において基板の搬送に用いられる搬送ロボット３００Ｒを示す斜視図である。搬送ロボット３００Ｒは第３の実施の形態における搬送ロボット２００Ｒと同様に基板処理装置内の各処理部との間において基板の受け渡しを行うものである。
【００５３】
この搬送ロボット３００Ｒは基板を保持する２つのハンド３１１ａ、３１１ｂを有しており、これらのハンドは矢印３１１Ｓにて示すように水平方向にスライド運動するようになっている。ハンド３１１ａ、３１１ｂを支持するハンド台３１２は移動台３２３に対して矢印３１２Ｓにて示すように昇降するようになっており、この昇降運動はモータ３１３ａにより駆動されるボールネジ３１３ｂに取り付けられたナット部３１３ｃの移動がパンタグラフ機構３１３ｄにより昇降運動に変換されることにより実現されている。
【００５４】
移動台３２３はナット部３２３ａにてボールネジ３２４と接続されており、ボールネジ３２４が基台３５２に取り付けられたモータ３２１により回転することで移動台３２３がガイドロッド３２２に沿って矢印３２３Ｓにて示すように昇降するようになっている。
【００５５】
さらに搬送ロボット３００Ｒではモータ３２１やガイドロッド３２２が取り付けられた基台３５２がモータ３５１の作用を受けて矢印３５２Ｆ、３５２Ｂにて示すようにＺ方向を向く軸を中心として回動するようになっている。
【００５６】
以上のような構成により、この搬送ロボット３００Ｒは基板を昇降搬送するとともに任意の水平方向にスライド搬送することができるようになっている。
【００５７】
既述のように搬送ロボット３００Ｒでは移動台３２３の上方に複雑な機構が設けられており、この複雑な機構の運動を実現するために様々な駆動源へ電力の供給路となるケーブルやセンサからの信号線が束ねられて配線３３０となっている。すなわち、配線３３０は様々な役割を果たす電流の通路となっている。また、配線３３０は移動台３２３から移動台３２３の昇降運動方向に対してほぼ直角をなすように伸びている。
【００５８】
移動台３２３は既述のように矢印３２３Ｓに示すように昇降し、矢印３５２Ｆ、３５２Ｂにて示すように回動するようになっている。したがって、移動台３２３から伸びる配線３３０は移動台３２３の運動に伴って変形することとなるが、この搬送ロボット３００Ｒでは配線３３０の変形を案内するための案内部３４０が設けられている。これにより、移動台３２３の昇降運動や回動運動により配線３３０がボールネジ３２４に巻き込まれて損傷してしまうことが防止されており、また、配線３３０が弛んで他の部位と干渉を起こしてパーティクルが発生してしまうことも防止されている。
【００５９】
図１２および図１３は配線３３０を案内することにより配線３３０の位置変化である変形状態を一定範囲内に保つ案内部３４０の動作を示す図である。なお、これらの図は図１１において（−Ｙ）方向から（＋Ｙ）方向を向いてみた場合を示しており、また、説明に必要な構成の概略のみを示している。
【００６０】
案内部３４０は、図１２に示すように配線３３０の一部である案内部位３３３を保持するクランプ部３４４、クランプ部３４４を矢印３４４Ｒにて示すようにＹ方向を向く軸を中心として回転揺動自在に支持する軸受３４３、軸受３４３およびクランプ部３４４を矢印３４３Ｓにて示すＺ方向にスライド運動させるガイドレール３４２を有しており、軸受３４３およびクランプ部３４４はモータ３４１により回転するボールネジ（図示省略）の作用により強制的に昇降運動するようになっている。なお、ガイドレール３４２は図１１に示す基台３５２上に固定された支持板３５３に固定されるようにして設けられている。
【００６１】
図１２に示すように移動台３２３を昇降させるモータ３２１内部のエンコータからの信号は案内制御手段３６０に入力されるようになっており、この案内制御手段３６０が案内部３４０のモータ３４１の回転を制御するようになっている。すなわち、クランプ部３４４の昇降運動は移動台３２３の昇降運動と同期するように制御され、案内部位３３３が確実かつ滑らかに案内されることとなる。
【００６２】
以上のような案内部３４０の構成により配線３３０の案内部位３３３は、無理な力が作用することなく滑らかに直線的かつ回転揺動自在に案内されることとなる。その結果、移動台３２３の運動による配線３３０の変形に起因する疲労破断、他の部位との干渉による配線３３０の損傷、配線３３０の他の部位との干渉によるパーティクルの発生等を効果的に防止することができる。これにより、基板処理装置の安全な運転、および基板の品質の向上を図ることができる。
【００６３】
なお、図１２および図１３では移動台３２３の昇降運動とのみ案内部３４０の案内運動を同期させているが、図１１に示す基台３５２の回動運動は移動台３２３の回動運動でもあることから、案内部３４０の案内運動をモータ３５１の回転にも同期させるようにしてもよい。
【００６４】
＜５．  変形例＞
以上、この発明に係る実施の形態について説明してきたが、この発明は上記実施の形態に限定されるものではなく設計上の様々な変更が可能である。
【００６５】
例えば、上記実施の形態では基板処理装置において移動する部分に接続された可撓性を有するラインである配管や配線の一部を案内する場合について説明したが、配管は気体、液体、流動体等の通路となるものであればどのようなものでもよく、エアーや処理ガス等の通路となっているものでもよい。また、配線は電力や信号の通路、すなわち電流の通路に限定されるものではなく、光信号等の通路である光ファイバであってもよい。特に、光ファイバは大きな曲率で変形すると光信号の伝達効率が低下してしまうので全長を長くせざるを得ず、この発明を有効に利用することができる。
【００６６】
また、上記実施の形態では配管や配線の案内部位を直線的、２次元的あるいは回転揺動自在に案内するものとなっているが、曲線的、曲面的な案内であってもよく、任意方向に揺動自在なヒンジによって案内されるようになっていてもよい。
【００６７】
また、上記実施の形態ではガイドレールとレール上をスライド移動する部材との組合せである直動案内機構を示したが、これらの詳細な構造はどのようなものでもよく、例えば、ガイドレールとの間にボールを介挿することにより滑らかにスライド運動を行うガイド機構、ガイドレール上にローラを配置したアキュライド機構、リニアボールブッシュを利用したガイド機構等が挙げられる。
【００６８】
また、案内部に能動的に案内動作させるための機構は、ガイドと駆動系とを組み合わせたものに限定されず、ロッドレスシリンダにようにガイドと駆動系とが一体となったものでもよい。
【００６９】
【発明の効果】
請求項１ないし９記載の発明では、移動部に接続された配管や配線を案内部位にて案内するので、配管や配線が基板処理装置の他の部位と干渉して損傷したり、干渉によるパーティクルが発生したりすることを防止することができる。これにより、基板処理装置の安全な運転、および基板の品質の向上を図ることができる。
【００７０】
請求項８および９記載の発明では、移動部の移動と案内手段の案内動作とを同期させることができるので、案内部位の案内を確実かつ滑らかに行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る第１の実施の形態である基板処理装置を示す斜視図である。
【図２】配管の断面を示す断面図である。
【図３】図１に示す基板処理装置の内部を示す側面図である。
【図４】図１に示す基板処理装置の内部を示す側面図である。
【図５】この発明に係る第２の実施の形態である基板処理装置の内部を示す側面図である。
【図６】この発明に係る第２の実施の形態である基板処理装置の内部を示す側面図である。
【図７】この発明に係る第３の実施の形態である基板処理装置を示す斜視図である。
【図８】図７に示す基板処理装置が有する搬送ロボットの構成を示す斜視図である。
【図９】図８に示す搬送ロボットが有する配線の案内の様子を示す図である。
【図１０】図８に示す搬送ロボットが有する配線の案内の様子を示す図である。
【図１１】この発明に係る第３の実施の形態である基板処理装置が有する搬送ロボットの構成を示す斜視図である。
【図１２】図１１に示す搬送ロボットが有する配線の案内の様子を示す図である。
【図１３】図１１に示す搬送ロボットが有する配線の案内の様子を示す図である。
【符号の説明】
９、２０９  基板
１０  ヘッド部
１１  ノズル
１２  移動板
２１、２２１、３２１  モータ
２０Ｔ  運動伝達機構
３０  配管
３３、２３３、３３３  案内部位
４０、２４０、３４０  案内部
４１、２４１、２４２、３４２  ガイドレール
４２  ガイドプレート
４３、２４３、３４２  軸受
４４、２４４、３４４  クランプ部
１００、１０１、２００  基板処理装置
２２３、３２３  移動台
２３０、３３０  配線
３４１  モータ
３６０  案内制御手段
【図１】
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【図２】
0003662400.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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