(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
固気反応粉末に反応ガスを吸脱させる反応容器であって，
固気反応粉末を収容し外殻を形成する容器と，容器を上下方向に複数の区画に区分すると共に上記固気反応粉末を載置し反応ガスを透過することのできる仕切り棚と，熱媒を流通させ上記固気反応粉末と熱交換を行う伝熱管と，この伝熱管に装着され固気反応粉末と熱媒との間の伝熱を促進する伝熱フィンと，
上記容器の外から内に反応ガスを導入し，又は内から外に反応ガスを排出するガス管と，容器内の反応ガスを透過させ上記ガス管と連結されている１本以上のガス透過管とを有しており，
上記伝熱管は，上記仕切り棚によって分けられた各区画内の固気反応粉末に接するよう配置されていることを特徴とする固気反応粉末の反応容器。
【請求項２】
請求項１において，前記仕切り棚は，横端部を上方に湾曲させ，容器の垂直壁面に漸次近接するよう形成されていることを特徴とする固気反応粉末の反応容器。
【請求項３】
請求項１または請求項２において，前記固気反応粉末は水素吸蔵合金であり，反応ガスは水素ガスであることを特徴とする水素吸蔵合金の反応容器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
本発明は，水素吸蔵合金等の固気反応粉末の反応容器に関する。
【０００２】
【従来技術】
水素吸蔵合金の反応容器を小形化し，水素の吸蔵と放出を効率的に行うには，水素吸蔵時の発熱を効率良く外部に取り除き，水素放出時の反応熱を外部から効率良く供給してやらなければならない。
それに加えて，水素吸蔵合金は，水素の吸蔵時に膨張し，水素放出時に収縮するから，容器は水素吸蔵合金の膨張収縮による応力に耐えなければならない。
【０００３】
そのため，例えば図１１に示すように，水素吸蔵合金の反応容器９は，円筒形の容器９０とし，内部に可撓性の熱媒細管９１を多数配置して熱交換を促進すると共に，水素透過性のフィルターからなるガス透過管９２を配置し，水素ガスを導入又は導出する。同図において，符号９１１は伝熱フィンである。
【０００４】
また，水素吸蔵合金の初期活性化，即ち水素吸蔵合金を加熱脱気と加圧吸蔵の繰り返しにより水素吸蔵可能にする過程において，一般的に水素吸蔵合金が微粉化するため，特に容器底部において発生する水素吸蔵合金の圧密化の不具合にも対応するものでなければならない。即ち，水素吸蔵合金が部分的に圧密化すると応力が一部に集中したり，水素ガスの流れを閉塞化する等の不具合を生ずるから，これを防止またはこれに対処できるようにしなければならない。
【０００５】
そして，特開平７−２８６７９４号公報では，容器の下部に断熱性の緩衝部を設ける方法が提案されている。
また，特開平７−２６９７９５号公報には，水素吸蔵合金を充填し水素吸蔵合金の膨張力を受ける内部分割容器を容器内に複数設け，この内部分割容器と外殻を構成する容器とにより反応容器を構成する方法が提案されている。そして，水素吸蔵合金の膨張力は，複数の内部分割容器が負担し，反応ガスの圧力は外殻の容器が受容する。
【０００６】
【解決しようとする課題】
しかしながら，従来の水素吸蔵合金の反応容器には，次のような問題がある。図１１に示す反応容器９は，水素吸蔵合金の活性化時に容器９０の下方に水素吸蔵合金の部分的な圧密化が生じ，水素の流れを阻害する閉塞領域等が生じやすいという問題がある。そのため，水素ガスの拡散が妨げられると共に水素吸蔵合金の体積膨張による応力がそこに集中し，また反応熱の熱交換能力も低下する。
【０００７】
また，断熱性の緩衝材を設ける方法（特開平７−２８６７９４号公報）や，複数の内部分割容器を容器の内部に設ける方法（特開平７−２６９７９５号公報）は，反応に関与しない無駄な空間が増大し，容器が大形化するという問題がある。
本発明は，かかる従来の問題点に鑑みてなされたものであり，固気反応粉末の膨張に伴う応力の集中を抑制し，反応の進行と熱交換を効率的に行うことの出来る小形で高性能の反応容器を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題の解決手段】
本発明は，固気反応粉末に反応ガスを吸脱させる反応容器であって，
固気反応粉末を収容し外殻を形成する容器と，容器を上下方向に複数の区画に区分すると共に上記固気反応粉末を載置し反応ガスを透過することのできる仕切り棚と，熱媒を流通させ上記固気反応粉末と熱交換を行う伝熱管と，この伝熱管に装着され固気反応粉末と熱媒との間の伝熱を促進する伝熱フィンと，
上記容器の外から内に反応ガスを導入し，又は内から外に反応ガスを排出するガス管と，容器内の反応ガスを透過させ上記ガス管と連結されている１本以上のガス透過管とを有しており，
上記伝熱管は，上記仕切り棚によって分けられた各区画内の固気反応粉末に接するよう配置されていることを特徴とする固気反応粉末の反応容器にある。
【０００９】
本発明にかかる反応容器は，仕切り棚によって容器内が上下方向に配置された複数の区画によって区分されている。
容器内を上下方向に区分けすることにより，水素吸蔵合金等の固気反応粉末が一部に偏在せず均一に分散する。そのため，例えば水素吸蔵合金の初期活性化により微粉化した場合に，粉末が一部で圧密化するような不具合が生じにくくなる。そのため，固気反応粉末の応力が一部に集中することがなく，固気反応粉末から放出または吸蔵される反応ガスはスムースに拡散する。
【００１０】
また，仕切り棚は反応ガスを透過させるから，容器内に反応ガスがムラなく満たされることになる。
そして，各区画内における固気反応粉末の膨張力は，各区画毎に吸収することになり，応力は全体に分散される。
そして，各区画は，閉じた入れ物等ではなく仕切り棚によって区分けされるだけであるから，各区画の間に無駄なスペースが生ぜず，固気反応粉末を容器内に無駄なく収容することが出来るから，容器を小形化することができる。
【００１１】
また，容器に注入または抽出される反応ガスは，ガス透過性フィルターのガス透過管とガス管とを介して行われる。
一方，伝熱管は，上記仕切り棚によって分けられた各区画毎にそれぞれの固気反応粉末に接するよう配置されているから，反応促進に必要な熱交換を効率的に行うことができ，固気反応粉末の反応を促進する。
【００１２】
上記の結果，固気反応粉末の反応は，容器内において効率的かつ均一にに進行し，容器に対する応力の集中も生じない。それ故，本発明にかかる反応容器は，相対的に小形軽量化することが可能となる。
上記のように，本発明によれば，固気反応粉末の膨張に伴う応力の集中を抑制し，反応の進行と熱交換を効率的に行うことの出来る小形で高性能の反応容器を提供することができる。
【００１３】
なお，請求項２記載のように，上記仕切り棚の形状は，横端部を上方に湾曲させ，容器の垂直壁面に漸次近接するようすることが好ましい（図１，湾曲部１５１参照）。
このように，湾曲形状とすることにより，仕切り棚は湾曲部において撓み易くなり，固気反応粉末が膨張する方向に撓むことにより膨張力を吸収することができる。
そして，本発明の反応容器は，請求項３記載のように，水素吸蔵合金の水素吸蔵，放出反応に極めて好適である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
実施形態例１
本例は，固気反応粉末としての水素吸蔵合金（ＭＨ）に反応ガスとしての水素ガスを吸脱させる反応容器である。，図１，図２に示すように，反応容器１は，水素吸蔵合金８１を収容し外殻を形成する容器１１と，容器１１を上下方向に複数の区画に区分すると共に水素吸蔵合金８１を載置し水素ガスを透過することのできる仕切り棚１５と，熱媒を流通させ水素吸蔵合金８１と熱交換を行う伝熱管２１と，伝熱管２１に装着され水素吸蔵合金８１と熱媒との間の伝熱を促進する伝熱フィン２５と，容器１１の内と外との間に反応ガスを導入又は排出させるガス管３１（図２）と，容器１１内の水素がスを透過させるガス透過性フィルターからなりガス管３１と連結されているガス透過管３５とを有している。
【００１５】
そして，伝熱管２１は，仕切り棚１５によって分けられた各区画内の水素吸蔵合金８１に接するよう配置されている。
また，仕切り棚１５は，図１に示すように，横端部を上方に湾曲させ，容器１１の垂直壁面１１１に漸次近接するよう形成されている。
以下，それぞれについて説明を補足する。
【００１６】
反応容器１は，図１，図２に示すように，断面形状が正方形に近い方形で奥行き方向に長い箱形の形状を有する。そして，容器１１は，５枚の仕切り棚１５により上下方向に６つの区画に区分けされている。また，伝熱管２１は，各区画内において前後方向に等間隔で配置され，それぞれの区画における伝熱管２１の右端部は他の区画の端部と接続され，左端部下方３区画の伝熱管２１の端部は熱媒の流入口２１１（図２）と接続され，上方３区画の伝熱管２１の端部は熱媒の流出口２１２（図２）に接続されている。
また，ガス透過管３５は，上部中央と中心部とに奥行き方向に延設されており，それぞれの端部はガス管３１に接続されている。
【００１７】
反応容器１を構成する各部材１１，２１，２５，３１は，ガス透過管３５及び仕切り棚１５を除きアルミニウム合金からなる。そして，容器１１と伝熱管２１とは，アルミ押出し成形により一体構造となっている。
水素吸蔵合金８１は，伝熱管２１及び伝熱フィン２５の周りに充填されている。なお，水素吸蔵合金８１は，容器１１の前後の端面または側面に設けた充填口（図示略）から充填される。
また，ガス透過管３５及び仕切り棚１５は，ステンレス焼結体により形成されている。
【００１８】
ガス透過管３５を構成するガス透過性フィルターは，１μｍ透過フィルターであり，水素透過性の仕切り棚１５は空隙径１０μｍで厚さ０．４〜０．５ｍｍのシートである。上記透過指数の決定は，使用する水素吸蔵合金の活性化処理後の粒径分布に基づいて決定したが，後述する実験に使用した水素吸蔵合金８１においては，１〜３０μｍの範囲においてほぼ同様の結果が得られている。
ガス透過管３５は，本例では２本とし水素吸蔵合金８１の充填容積の減少を抑制したが，１本以上であればよい。
【００１９】
伝熱フィン２５は，肉厚０．２５ｍｍのアルミニウムシートを容器の長手方向に積層したものであり，伝熱管２１にロウづけされている。
そして，水素吸蔵合金８１は，各区画に均一に充填され，水素吸蔵合金の充填量は，粉体工学で一般的に採用されているタップ密度を基準とした。
なお，水素吸蔵合金のタップ密度は，水素吸蔵合金の活性化前と活性化後とで変化するが，容器に収容する水素吸蔵合金８１の充填率（充填密度／真密度）は，活性化前のタップ密度と活性化後のタップ密度の間で選択することが好ましい。
【００２０】
本例の反応容器１では，活性化後の水素吸蔵合金のタップ密度の１１０％程度に充填率（充填密度／真密度）を大きくしても，反応容器１に過大な応力の発生は，認められず，また容器内部での水素ガスの透過性も良好な結果が得られている。しかしながら，水素吸蔵合金８１の充填率を，活性化前のタップ密度まで上昇させた場合には，本例の反応容器１が破損することは無かったが，内部における水素ガスの透過性が低下する傾向が見られた。
そのため，水素吸蔵合金の充填率（充填密度／真密度）は，活性化前のタップ密度以下に設定することが好ましいと思われる。
【００２１】
反応容器１に収容された水素吸蔵合金８１は，始めに活性化（水素化）処理が行われる。即ち，加熱脱気と水素加圧とを繰り返し，水素吸蔵合金が水素ガスを吸蔵できるようにし，この過程で水素吸蔵合金は水素ガスの進入により微粉化する。前記のように，内部が区画に分けられていない従来の反応容器では，この過程において微粉化した水素吸蔵合金が容器の下方に偏在し，活性化初期に発生する大きな膨張力により水素吸蔵合金が圧密化し，その結果過大な応力の集中が生じていた。
【００２２】
しかしながら，本例では，仕切り棚１５により内部空間が６つの区画に区分けされているから，水素吸蔵合金８１は下方に集まることなく分散配置され，水素吸蔵合金の圧密化は回避される。そして，水素ガスの拡散はスムースに行われるようになる。
次に，水素吸蔵合金を活性化した後における本例の反応容器１における応力発生状況と水素ガスの流入流出速度の結果を，従来の反応容器と比較して示す。
なお，従来の反応容器の場合には，応力の集中が予測されるため，比較に用いた反応容器は，安全が高くより強度の大きい円筒形の容器（図１１）を採用し，それぞれの反応容器１，９の内容積はぼ同一とした。
【００２３】
始めに，応力の発生状況の測定結果を示す。
応力の発生状況の測定は，水素吸蔵合金から水素を全量放出させ，その後約２５０リットル／ｍｉｎの速度で水素ガスを吸蔵させ，その時の容器１１の表面の歪みの大きさを測定した。
図３は，水素吸蔵合金に対する吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）の増加に対して，容器にかかる最大応力と水素ガスのガス圧による応力との比Ｒ１がどのように変化したかを示すものである。
【００２４】
最大応力とガス圧応力の比Ｒ１が１であることは，水素吸蔵合金の膨張による応力が容器１１に発生していないことを示す。
また，図３の曲線６１は，本例の反応装置１を用い水素吸蔵合金８１の充填率を５０％とした場合を示し，曲線９５１，９５２は図１１に示す反応容器９において水素吸蔵合金の充填率を４０％とした場合と充填率を４８％とした場合を示している。
【００２５】
同図から分かるように，本例の反応容器１の場合（曲線６１）には，吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）の増加に対して最大応力とガス圧応力の比Ｒ１は大きく変化せず上記比Ｒ１が１前後であるのに対して，従来装置を用いて水素吸蔵合金の充填率をほぼ同じ４８％とした場合（曲線９６２）には，上記比Ｒ１が大幅に上昇し８倍を越えてしまう（なお，Ｈ／Ｍが０．８以下でデータ採取を完了したのは，後述する図４に示すように，容器の耐力限界に近づいて来たためである）。
また，曲線９５１が示すように，従来装置において水素吸蔵合金の充填率を本例の容器より２割落として４０％とした場合にも，吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）が多くなると上記比Ｒ１が約３倍に上昇し，本例の反応容器１の２倍以上となる。
【００２６】
一方，図４は，水素吸蔵合金に対する吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）の増加に対して，容器にかかる最大応力と容器材料（アルミ合金）の０．２％耐力との比Ｒ２がどのように変化したかを示すものである。そして，図４の曲線６２は，本例の反応装置１を用い水素吸蔵合金８１の充填率を５０％とした場合を示し，曲線９６１，９６２は図１１に示す反応容器９において水素吸蔵合金の充填率を４０％とした場合と充填率を４８％とした場合を示している。
【００２７】
曲線６２から分かるように，本例の反応容器１の場合には，０．２％耐力との比Ｒ２は，吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）が多い領域で若干の増加が見られるだけであり，この増加は，水素吸蔵合金の平衡圧力が上昇する領域に相当し内部の水素ガス圧の上昇によるものである。
一方，曲線９６２が示すように，従来装置を用いて水素吸蔵合金の充填率を本例の容器とほぼ同じ４８％とした場合には，上記比Ｒ２が大幅に上昇しＨ／Ｍ比０．７以上で０．２％耐力を越える結果が得られている。
【００２８】
また，曲線９６１が示すように，従来装置において水素吸蔵合金の充填率を本例の容器より２割落として４０％とした場合にも，吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）が多くなると上記比Ｒ２が大幅に上昇する。
上記結果は，本例の反応容器１を用いることにより，大幅に小形にして同じ量の水素吸蔵合金の反応を処理可能なことを示している。
【００２９】
次に，反応容器１，９の水素透過性能の評価結果を示す。水素透過性能の評価は，反応容器に流入流出する水素流量を指標とした（伝熱フィンのフィンピッチは両容器とも２ｍｍで同一）。
図５は水素吸蔵時における水素流量（水素吸蔵合金の単位重量当たりの水素流量リットル／ｍｉｎ）を示し，図６は水素放出時における水素流量（水素吸蔵合金の単位重量当たりの水素流量リットル／ｍｉｎ）を示すものである。
水素吸蔵時の測定は，初期の吸蔵水素量Ｈ／Ｍを０．３とし，伝熱管２１に流入させる熱媒の温度を３５℃一定とし，水素ガスの圧力は３５℃の水素吸蔵合金の平衡圧力に対して０．３ＭＰａ高い一定の値とした。
【００３０】
図５の曲線９７は，従来の反応容器９における水素吸蔵合金の単位重量当たりの水素流量を示し，曲線６３は本例の水素流量を示す。
同図から分かるように，本例の反応容器１は従来容器に比べて極めて良好な水素吸蔵特性を示す。これは，従来装置では，容器内部における水素拡散が不十分であり，ガス透過管３５の近傍の水素吸蔵合金では良好な水素吸蔵が行われるがガス透過管３５から遠い場所の水素吸蔵合金では水素ガスが到達せず，吸蔵が少ないことを示すものである。その結果，流入する水素ガス流量は，大幅に少なくなる。
【００３１】
一方，本例では，容器内部を区分けし，水素吸蔵合金の分布を均一化しているため，全域での水素ガスの透過拡散性が良好となる。また，前記のように，水素吸蔵合金の圧密化が生じないため，圧密化による水素ガスの拡散阻害も生じない。
なお，時間の経過とともに両曲線６３，９７の流量の差は小さくなるが，それは吸蔵可能水素量が同一量であるためである。
【００３２】
一方，図６に示す水素ガス放出時の測定条件は，初期の吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）を０．７に設定し，伝熱管２１に流入させる熱媒の温度を１０℃一定とし，水素ガスは，大気圧中に放出させた。
図６の曲線９８は，従来装置における水素吸蔵合金の単位重量当たりの水素流量を示し，曲線６４は本例の水素流量を示す。
【００３３】
水素放出の場合には，開始直後にには容器内部の圧力に対応して容器の内部に存在する水素ガスが放出されるため，両曲線６４，９８間に大きな差がないが，時間の経過と共に新たに水素吸蔵合金から放出される水素が主体となり，両装置における水素透過性の差が流出ガス流量の差として徐々に表れてくる。
なお，水素吸蔵時よりも両者の差が少ないのは，水素放出時には水素吸蔵合金が収縮するため従来装置の場合にも水素ガスの拡散は比較的容易となるためと思われる。
【００３４】
上記のように，本例の反応容器１によれば，水素ガスの透過性が良好であり，水素ガスの流入流出速度を大きくすることができるから，反応容器１から得られる熱出力を大きくすることができる。
また，容器内部における水素透過性が良好であることから，内部での反応がほぼ均一かつ連続的にに進行するため，モデル化による数値解析が容易となり，例えば伝熱管や伝熱フィンの最適化設計が容易となる。何故ならば，従来装置のように，水素吸蔵合金に圧密化が生じ，例えばガス流通路に閉塞部等が形成されると，数値解析が困難となり，また使用したモデルとの乖離が大きくなるからである。
【００３５】
また，反応容器の強度設計の場合にも，応力の集中，偏在がないことから，内部のガス圧に対する強度を中心にした設計が可能となり，設計が容易であると共に，容器の強度を低く設定することが可能となる。即ち，応力の集中を考慮しなければならない場合には，その予測が困難であることから，経験等に基づき安全サイドに強度を設定することになるからである。
【００３６】
更に，本例の仕切り棚１５は，図１に示すように，横端部を上方に湾曲させた湾曲部１５１を設けてあり，湾曲部１５１が撓むことにより水素吸蔵合金の膨張による応力を分担することができる。また，湾曲による水素透過面積の増加により水素ガスの透過を容易にすることができる。
上記のように，本例の反応容器１によれば，小形にして同様の性能を得ることができ，同様の大きさではより優れた性能を発揮することができる。
【００３７】
実施形態例２
本例は，図７に示すように，実施形態例１において，容器１１の内壁の全周に沿ってガス透過性のシート１６を配置したもう一つの実施形態例である。
本例によれば，上記シート１６がクッションとなり，容器１１に加えられる水素吸蔵合金８１の膨張力を低減することができ，また，本シート１６は仕切り棚１５とは異なり水素吸蔵合金を保持する機能が必要ないことから，空隙径の大きなものを使用でき，シート１６内を水素ガスが容易に流通可能なため水素ガスの拡散を促進する効果がある。
また，シート１６は，容器の内外間の断熱層としての効果がある。
その他については実施形態例１と同様である。
【００３８】
実施形態例３
本例は，図８に示すように，実施形態例１において，伝熱管２１の周囲の伝熱フィン２６をスパイラル状としたもう一つの実施形態例である。
即ち，伝熱フィン２６は，図９に示すように，伝熱管２１の周囲にスパイラル状に形成されている。その結果，水素吸蔵合金が伝熱フィン２６に沿って長手方向に，重力あるいは振動を加えることで移動可能であるから，水素吸蔵合金を充填するのが容易となる。
【００３９】
伝熱フィン２６は，実施形態例１の伝熱フィン２５よりも放熱面積が小さいことから，熱交換性能は劣るが水素吸蔵合金８１をより多く充填することが可能である。
その他については実施形態例１と同様である。
【００４０】
実施形態例４
本例は，実施形態例１から実施形態例３において，仕切り棚１５におけるガス透過用の細孔の大きさを場所毎に変化させるようにしたもう一つの実施形態例である。
即ち，下の段の仕切り棚１５ほど細孔の径を大きく且つ粗くし，上の仕切り棚１５ほど細孔の径を小さく且つ密にする。
【００４１】
その結果，容器１１の下方の仕切り棚１５の水素透過性が良好となり，ガス透過管３５との距離の差による水素ガスの回収または浸透の差がなくなり，容器１１内の場所によらず均一に水素吸蔵合金の反応を促進することができる。
その他，については，実施形態例１〜実施形態例３と同様である。
【００４２】
実施形態例５
本例は，図１０に示すように，実施形態例１において，水素吸蔵合金８１を収容する区画のうちガス透過管３５の存在する最上段の区画４１の上下幅Ｌ１を他の区画の上下幅Ｌ２よりも大きくしたもう一つの実施形態例である。
本例によれば，各区画の水素吸蔵合金８１は，自重により区画の下の方に集まり易いから，ガス透過管３５の存在する区画４１（最上段）の上部に水素ガス流通路が形成される。そのため，ガス透過管３５に加えて上記水素ガス流通路によって容器全体に水素ガスの拡散が可能であるから，全体の水素ガスの拡散性が向上する。
その他については実施形態例１と同様である。
【００４３】
【発明の効果】
上記のように，本発明によれば，固気反応粉末の膨張に伴う応力の集中を抑制し，反応の進行と熱交換を効率的に行うことの出来る小形で高性能の反応容器を得ることができる。
【００４４】
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態例１の水素吸蔵合金の反応容器の正面断面図。
【図２】図１のＡ−Ａ矢視線断面図。
【図３】実施形態例１の反応容器における吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）と，容器にかかる最大応力のガス圧力に対する比Ｒ１との関係を従来装置と比較して示した図。
【図４】実施形態例１の反応容器における吸蔵水素量（Ｈ／Ｍ）と，容器にかかる最大応力の容器の０．２％耐力に対する比Ｒ２との関係を従来装置と比較して示した図。
【図５】実施形態例１の反応容器における水素吸蔵合金の単位重量当たりの吸蔵水素流量の時間変化を従来装置と比較して示した図。
【図６】実施形態例１の反応容器における水素吸蔵合金の単位重量当たりの放出水素流量の時間変化を従来装置と比較して示した図。
【図７】実施形態例２の水素吸蔵合金の反応容器の正面断面図。
【図８】実施形態例３の水素吸蔵合金の反応容器の正面断面図。
【図９】実施形態例３の伝熱フィンを伝熱管に装着した状態を示す部分拡大図。
【図１０】実施形態例５の水素吸蔵合金の反応容器の正面断面図。
【図１１】従来の水素吸蔵合金の反応容器の正面断面図。
【符号の説明】
１．．．反応容器，
１１．．．容器，
１５．．．仕切り棚，
２１．．．伝熱管，
２５，２６．．．伝熱フィン，
３５．．．ガス透過管，
８１．．．水素吸蔵合金（固気反応粉末），
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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