Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】令和3年4月5日(2021.4.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーハウジング（１）を含むバックミラー器具であって、該ポリマーハウジング（１）は、クロムをベースとする反射被膜（２）で被覆されたポリマー基体を含み、該ポリマー基体および該クロムをベースとする反射被膜（２）は、少なくとも１個の光要素から発する光に対して少なくとも部分的に透過性があり、該反射被膜はクロムと少なくとも１種のドーパント物質との合金であり、該ドーパント物質は稠密六方晶の遷移金属から選択され、該合金は二次オメガ稠密六方晶の相と共存している一次体心立方晶の相の結晶構造を有し、
該少なくとも１個の光要素は少なくとも１個の方向指示器（３，３’）の形態であり、該方向指示器は該ポリマーハウジング内に完全に封入されており、かつ該ポリマー基体でオーバーモールドされており、その結果、該ポリマーハウジングの外側から該少なくとも１個の方向指示器（３，３’）は見えず、該少なくとも１個の光要素が作動すると、該少なくとも１つの光要素から発する光は、該ポリマーハウジングを通して光る、
前記バックミラー器具。
【請求項２】
前記少なくとも１個の光要素が前記ポリマー基体の一方側に配置されている、請求項１に記載のバックミラー器具。
【請求項３】
前記少なくとも１個の方向指示器（３，３’）がポリマー光パイプ（４）を含む請求項１に記載のバックミラー器具。
【請求項４】
前記ポリマー光パイプ（４）が透明なポリマー材料を含む、請求項３に記載のバックミラー器具。
【請求項５】
前記ポリマー光パイプ（４）が、前記ポリマー光パイプ（４）に光を当てるための少なくとも１個のＬＥＤランプ（５、５’、５ａ−ｎ）を含む、請求項３または４に記載のバックミラー器具。
【請求項６】
前記ポリマー光パイプ（４）が、前記少なくとも１個のＬＥＤランプ（５、５’、５ａ−ｎ）から光を連続的に照射するようになっている、請求項５に記載のバックミラー器具。
【請求項７】
前記少なくとも１個の方向指示器（３，３’）が複数のＬＥＤランプ（５、５’、５ａ−ｎ）および光反射体装置を含み、該複数のＬＥＤランプ（５、５’、５ａ−ｎ）が該光反射体装置に連続的に光を当てるようになっており、前記少なくとも１個の方向指示器（３，３’）から発する光が中央から外側にスイープし、進路方向を示し、光は連続的な均等照明の状態を示す、請求項１に記載のバックミラー器具。
【請求項８】
前記少なくとも１個の方向指示器（３，３’）が複数のＬＥＤランプ（５、５’、５ａ−ｎ）および光拡散要素（６）を含み、該複数のＬＥＤランプ（５、５’、５ａ−ｎ）が該光拡散要素（６）に連続的に光を当てるようになっており、前記少なくとも１個の方向指示器（３，３’）から発する光が中央から外側にスイープし、進路方向を示し、光は連続的な均等照明の状態を示す、請求項１に記載のバックミラー器具。
【請求項９】
前記バックミラー器具が、被覆したポリマー基体により実現される金属外観を有する表面を有する、請求項１に記載のバックミラー器具。
【請求項１０】
前記少なくとも１個の方向指示器（３、３’）が、前記金属外観を有する表面の下に配置されるかまたは前記金属外観を有する表面の少なくとも一部を構成する、請求項９に記載のバックミラー器具。
【請求項１１】
前記少なくとも１個の方向指示器（３、３’）の光源から発する光が、前記金属外観を有するポリマー基体の表面を通って光る、請求項１０に記載のバックミラー器具。
【請求項１２】
前記少なくとも１個の方向指示器（３、３’）の光源から発する光が、運転方向を示すために中央から外側にスイープする、請求項１１に記載のバックミラー器具。
【請求項１３】
光の先端が前記方向に動く、請求項１２に記載のバックミラー器具。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
本発明の一実施態様では、方向指示器の形態の少なくも１個の光要素は、ハウジングのポリマー材料で方向指示器をオーバーモールドすることによりポリマーハウジング中に組み込む。ここで、オーバーモールドおよびコモールドという用語は、ポリマーハウジングのポリマー材料中に方向指示器の少なくとも一部を組み入れるという意味において交換可能に使用できる。有利なことに、方向指示器はポリマーハウジング中に完全に封入することができ、その結果、ポリマーハウジングの外側から方向指示器は見えない。しかし、方向指示器が作動すると、方向指示器から発する光は、ポリマーハウジング（すなわち、ポリマー基体およびクロムをベースとする反射被膜）を通して光り、方向を変えようとする運転者の意図が分かる。ここで、「通して光る」という用語は、ポリマーハウジングの材料が少なくとも一部で光りを透過することを定義するのに使用できる。したがって、方向指示器は、材料表面の真下に配置できる。方向指示器を統合するこの方法は、空間制約および外部表面制約が観察されることが必要であるあるときに特に適している。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７９】
別の例では、少なくとも１個の方向指示器が複数のＬＥＤランプおよび光反射体装置を含み、ここで、複数のＬＥＤランプは光反射体要素に順に光を当てるようになっている。該複数のＬＥＤランプは方向指示器の全体の長さに沿って、例えば、次々と密に配列できる。反射体装置は、ＬＥＤランプから照射した光が乗物の運転方向に反射されるように配置することができる。複数のＬＥＤランプの各ＬＥＤは、各ＬＥＤ個々に駆動するのに足る出力でマイクロコントローラーにより誘発できる。このようにして、すべてのＬＥＤランプを同時点にまたはスイープ外観を作り出すように短期間に次々に切り替えて光らせることができる。あるいは、複数のＬＥＤランプは、マイクロコントローラーの単一出力により駆動されるシフト・レジスター成分により誘発もできる。マイクロコントローラーは乗物のフロントターン信号と論理的に結合されることもでき、その結果、そのフロントターン信号が運転可能でないとき、少なくとも１個の方向指示器の複数のＬＥＤランプが誘発されない。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月15日(2021.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を検出するラインセンサと、
トランスミッタが配置されている第１の実装基板と、
前記第１の実装基板に対向して設けられている、前記第１の実装基板とは別の第２の実装基板と、を備え、
前記第２の実装基板にはアンテナが配置されている、ラインセンサ装置。
【請求項２】
導電性の筐体を有し、前記第１の実装基板及び前記第２の実装基板は、前記導電性の筐体に電気的に接続されていることを特徴とする、請求項１に記載のラインセンサ装置。
【請求項３】
前記第１の実装基板は、前記トランスミッタと電気的に接続されている第１の金属配線と、前記導電性の筐体と電気的に接続されている前記第１の金属配線とは別の第２の金属配線と、を有することを特徴とする、請求項２に記載のラインセンサ装置。
【請求項４】
複数のロッドレンズが第１方向に配列されたロッドレンズアレイと、
前記ロッドレンズアレイからの光を受光するラインセンサを有するラインセンサ基板と、
前記ラインセンサ基板を支持する一対の内側支持部材と、
前記ラインセンサにより検出された光に基づくデータを転送するトランスミッタを有するトランスミッタ基板と、
前記一対の内側支持部材と前記トランスミッタ基板とを支持する外側支持部材と、
コネクタを有し、前記トランスミッタ基板の下方において前記外側支持部材に固定されているコネクタ基板と、を備え、
前記一対の内側支持部材は、それぞれ、前記第１方向と直交する第２方向において前記ロッドレンズアレイの両側面に配置されており、
前記外側支持部材は、前記内側支持部材を介してのみ前記ラインセンサ基板を支持している
ことを特徴とするラインセンサ装置。
【請求項５】
前記一対の内側支持部材は、それらのうちの少なくとも一方の端部において、前記ロッドレンズアレイにより集光された光の光路上に前記ラインセンサ基板を固定している
ことを特徴とする請求項４に記載のラインセンサ装置。
【請求項６】
前記一対の内側支持部材は、前記端部に前記ラインセンサ基板と接する接触面を有している
ことを特徴とする請求項５に記載のラインセンサ装置。
【請求項７】
前記ラインセンサ基板と前記トランスミッタ基板とを接続する可撓性の配線部を更に備える
ことを特徴とする請求項４から請求項６の何れか１項に記載のラインセンサ装置。
【請求項８】
前記外側支持部材は、
前記第１方向および前記第２方向のいずれとも直交する第３方向に延設された一対の延設部と、
前記一対の延設部を接続する接続部と、
を含む
ことを特徴とする請求項４から請求項７の何れか１項に記載のラインセンサ装置。
【請求項９】
前記一対の内側支持部材は、前記接続部の上方において前記外側支持部材に固定されている
ことを特徴とする請求項８に記載のラインセンサ装置。
【請求項１０】
複数の発光素子が前記第１方向に配列された光源部を更に備える
ことを特徴とする請求項４から請求項９のいずれか１項に記載のラインセンサ装置。
【請求項１１】
前記光源部は、前記ロッドレンズアレイよりも上方に位置する
ことを特徴とする請求項１０に記載のラインセンサ装置。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載のラインセンサ装置を収容する収容手段と、
前記収容手段に収容された前記ラインセンサ装置によって記録媒体から読み取られた画像データを出力する出力手段と、を備える
ことを特徴とする読取装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の読取装置と、
記録媒体に対して記録を行う記録手段と、
を具備する記録システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一つの側面はラインセンサ装置にかかり、前記ラインセンサ装置は、光を検出するラインセンサと、トランスミッタが配置されている第１の実装基板と、前記第１の実装基板に対向して設けられている、前記第１の実装基板とは別の第２の実装基板と、を備え、前記第２の実装基板にはアンテナが配置されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月9日(2021.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
聴覚装置であって、
−１個以上のマイクロフォン入力信号を提供するためのセットのマイクロフォンであって、第１マイクロフォン入力信号を提供するための第１マイクロフォンを備える前記セットのマイクロフォンと；
−前記１個以上のマイクロフォン入力信号を処理し、前記１個以上のマイクロフォン入力信号に基づいて、電気出力信号を提供するためのプロセッサと；
−前記電気出力信号をオーディオ出力信号に変換するためのレシーバと；
−前記セットのマイクロフォンに動作可能に接続されているコントローラと、
を備え、
前記コントローラは、
前記１個以上のマイクロフォン入力信号に基づいて、音声明瞭度の指標となる音声明瞭度インジケータを推定するための音声明瞭度推定器を備えており、
前記音声明瞭度インジケータに基づいて、前記プロセッサを制御するように構成されており、
前記音声明瞭度推定器は、第１音源のピッチパラメータを推定するためのピッチ推定器を備えており、
前記音声明瞭度インジケータは、前記ピッチパラメータと、前記第１音源の方向と、に基づく、
聴覚装置。
【請求項２】
前記音声明瞭度推定器は、前記ピッチパラメータに基づいて、再構築された音声信号を生成するためのスピーチシンセサイザを備えており、
前記音声明瞭度インジケータは、前記再構築された音声信号に基づく、請求項１に記載の聴覚装置。
【請求項３】
前記音声明瞭度推定器は、短期客観的明瞭度推定器を備えており、
前記短期客観的明瞭度推定器は、前記再構築された音声信号と、前記１個以上のマイクロフォン入力信号に基づくベース音声信号と、を比較し、前記音声明瞭度インジケータを提供するように構成されている、請求項２に記載の聴覚装置。
【請求項４】
前記音声明瞭度推定器は、前記マイクロフォン入力信号の高調波モデルパラメータを提供するために前記ピッチ推定器に動作可能に接続されている高調波モデル推定器を備えており、
前記ピッチパラメータは、前記高調波モデルパラメータに基づく、請求項１から３のいずれか一項に記載の聴覚装置。
【請求項５】
前記セットのマイクロフォンは、第２マイクロフォン入力信号を提供するための第２マイクロフォンを備え、
前記音声明瞭度推定器は、前記第１マイクロフォン入力信号及び前記第２マイクロフォン入力信号に基づいて、前記第１音源の方向を推定するための方向推定器を備えており、
前記音声明瞭度インジケータは、前記第１音源の方向に基づく、請求項１から４のいずれか一項に記載の聴覚装置。
【請求項６】
前記音声明瞭度インジケータが第１判定基準を満たす場合に、第１処理スキームを選択し、前記第１処理スキームを前記マイクロフォン入力信号に適用するように構成されている、請求項１から５のいずれか一項に記載の聴覚装置。
【請求項７】
前記音声明瞭度インジケータが第１判定基準を満たさない場合に、既に適用されているのと同じ処理スキームを引き続き前記マイクロフォン入力信号に適用するように構成されている、請求項１から６のいずれか一項に記載の聴覚装置。
【請求項８】
前記第１判定基準が、第１明瞭度閾値に基づく、請求項６または７に記載の聴覚装置。
【請求項９】
前記音声明瞭度インジケータが前記第１明瞭度閾値より小さいときに、前記音声明瞭度インジケータが前記第１判定基準を満たす、請求項８に記載の聴覚装置。
【請求項１０】
前記音声明瞭度インジケータが第２判定基準を満たす場合に、第２処理スキームを選択し、前記第２処理スキームを前記第１マイクロフォン入力信号に適用するように構成されている、請求項１から９のいずれか一項に記載の聴覚装置。
【請求項１１】
前記第１処理スキーム及び／又は前記第２処理スキームは、ビームフォーミングスキーム、ノイズ低減スキーム、ゲイン制御スキーム、及び、圧縮スキームのうちの１個以上のスキームを備える、請求項６から１０のいずれか一項に記載の聴覚装置。
【請求項１２】
聴覚装置の動作方法であって、
−第１マイクロフォン入力信号を含む１個以上のマイクロフォン入力信号を提供するために音を変換するステップと、
−少なくとも前記第１マイクロフォン入力信号に関連する音声明瞭度の指標となる音声明瞭度インジケータを取得するステップであって、前記音声明瞭度インジケータを取得するステップは、第１音源のピッチパラメータを取得するステップを備え、前記音声明瞭度インジケータは、前記ピッチパラメータと、前記第１音源の方向とに基づく、前記音声明瞭度インジケータを取得するステップと、
−前記音声明瞭度インジケータに基づいて、前記聴覚装置を制御するステップと、
を備える、方法。
【請求項１３】
前記第１音源の前記ピッチパラメータを取得するステップは、前記ピッチパラメータを推定するステップを備え、
前記音声明瞭度インジケータを取得するステップは、前記１個以上のマイクロフォン入力信号に基づいて、前記音声明瞭度インジケータを推定するステップを備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記音声明瞭度インジケータを取得するステップは、
前記ピッチパラメータに基づいて、再構築された音声信号を生成するステップと、
前記再構築された音声信号に基づいて、前記音声明瞭度インジケータを決定するステップと、
を備える、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
プロセッサ、インターフェース及びメモリを備える付属装置と、請求項１に記載の聴覚装置と、を備える聴覚システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月1日(2021.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｒ２Ｔ１４Ｂ結晶からなる主相粒子を含むＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石であって、
Ｒは重希土類元素ＲＨを必須とする１種以上の希土類元素、ＴはＦｅまたはＦｅおよびＣｏを必須とする１種以上の遷移金属元素、Ｂはホウ素であり、
前記主相粒子の一部が逆コアシェル主相粒子であり、
前記逆コアシェル主相粒子は、コア部およびシェル部を有し、
前記コア部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＲＣ、
前記シェル部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＲＳとした場合に、
ＣＲＣ／ＣＲＳ＞１．５であり、
前記逆コアシェル主相粒子の存在比率が、磁石中央部よりも磁石表層部の方が大きいことを特徴とするＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【請求項２】
前記主相粒子の一部がコアシェル主相粒子であり、
前記コアシェル主相粒子は、コア部およびシェル部を有し、
前記コア部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＮＣ、
前記シェル部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＮＳとした場合に、
ＣＮＣ／ＣＮＳ＜１．０であることを特徴とする請求項１に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。 
【請求項３】
主に前記コアシェル主相粒子からなるコアシェル粒子層、および、主に前記逆コアシェル主相粒子からなる逆コアシェル粒子層を含む請求項２に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【請求項４】
Ｒ２Ｔ１４Ｂ結晶からなる主相粒子を含むＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石であって、
Ｒは重希土類元素ＲＨを必須とする１種以上の希土類元素、ＴはＦｅまたはＦｅおよびＣｏを必須とする１種以上の遷移金属元素、Ｂはホウ素であり、
前記主相粒子の一部が逆コアシェル主相粒子であり、
前記逆コアシェル主相粒子は、コア部およびシェル部を有し、
前記コア部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＲＣ、
前記シェル部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＲＳとした場合に、
ＣＲＣ／ＣＲＳ＞１．０であり、
前記逆コアシェル主相粒子の存在比率が、磁石中央部よりも磁石表層部の方が大きく、
前記主相粒子の一部がコアシェル主相粒子であり、
前記コアシェル主相粒子は、コア部およびシェル部を有し、
前記コア部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＮＣ、
前記シェル部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＮＳとした場合に、
ＣＮＣ／ＣＮＳ＜１．０であり、
主に前記コアシェル主相粒子からなるコアシェル粒子層、および、主に前記逆コアシェル主相粒子からなる逆コアシェル粒子層を含むことを特徴とするＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【請求項５】
磁石中央部から磁石表層部に向かって、前記コアシェル粒子層および前記逆コアシェル粒子層がこの順番に並んでいる請求項３または４に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【請求項６】
前記主相粒子の一部がコアシェル構造を有さない非コアシェル主相粒子であって、主に前記非コアシェル主相粒子からなる非コアシェル粒子層を含むＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石であって、
磁石中央部から磁石表層部に向かって、前記非コアシェル粒子層、前記コアシェル粒子層および前記逆コアシェル粒子層がこの順番に並んでいる請求項３または４に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月1日(2021.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｒ２Ｔ１４Ｂ結晶からなる主相粒子を含むＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石であって、
Ｒは重希土類元素ＲＨを必須とする１種以上の希土類元素、ＴはＦｅまたはＦｅおよびＣｏを必須とする１種以上の遷移金属元素、Ｂはホウ素であり、
前記主相粒子の一部が、その内部に複数の低ＲＨ結晶相を含み、
前記低ＲＨ結晶相は、前記Ｒ２Ｔ１４Ｂ結晶からなり、前記ＲＨの濃度が前記主相粒子全体における前記ＲＨの濃度に対して相対的に低い相であり、
前記低ＲＨ結晶相を含む前記主相粒子の一部が、その内部に、さらに非磁性Ｒリッチ相を含むことを特徴とするＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【請求項２】
前記主相粒子の一部が逆コアシェル主相粒子であり、
前記逆コアシェル主相粒子は、コア部およびシェル部を有し、
前記コア部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＲＣ、
前記シェル部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＲＳとした場合に、
ＣＲＣ／ＣＲＳ＞１．０である請求項１に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。  
【請求項３】
前記コア部に、前記低ＲＨ結晶相を含む請求項２に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。 
【請求項４】
前記コア部に、さらに前記非磁性Ｒリッチ相を含む請求項３に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月1日(2021.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｒ２Ｔ１４Ｂ結晶からなる主相粒子を含むＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石であって、
Ｒは１種以上の希土類元素、ＴはＦｅまたはＦｅおよびＣｏを必須とする１種以上の遷移金属元素、Ｂはホウ素であり、
前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石が磁石表層部と前記磁石表層部より内側にある磁石中央部とを有し、
磁極面を持つ磁石表層部における前記主相粒子の結晶配向度が磁石中央部における前記主相粒子の結晶配向度より低く、
前記磁石中央部の結晶配向度に対し、２％以上、結晶配向度が低下している層である低結晶配向度層を有することを特徴とするＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【請求項２】
前記Ｒは重希土類元素ＲＨを必須とする１種以上の希土類元素であり、
前記磁石表層部に含まれる前記主相粒子の一部が逆コアシェル主相粒子であり、
前記逆コアシェル主相粒子は、コア部およびシェル部を有し、
前記コア部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＲＣ、
前記シェル部における全ＲＨ濃度（ａｔ％）をＣＲＳとした場合に、
ＣＲＣ／ＣＲＳ＞１．０である請求項１に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。 
【請求項３】
前記コア部に低ＲＨ結晶相を含み、
前記低ＲＨ結晶相は、前記Ｒ２Ｔ１４Ｂ結晶からなり、前記ＲＨの濃度が前記主相粒子全体における前記ＲＨの濃度に対して相対的に低い相である請求項２に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。 
【請求項４】
前記コア部に、さらに非磁性Ｒリッチ相を含む請求項３に記載のＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月21日(2021.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【図１】実施形態のプラズマ処理装置の透視斜視図である。
【図２】実施形態のプラズマ処理装置の透視平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】図２のＢ−Ｂ線断面図である。
【図５】図４のＡ部の詳細を示す拡大図である。
【図６】実施形態の処理ユニットを示す分解斜視図である。
【図７】実施形態の処理ユニットを示す透視平面図である。
【図８】プロセスガスの流路を示す模式図である。
【図９】実施形態のアンテナを示す斜視図である。
【図１０】実施形態の制御装置の構成を示すブロック図である。
【図１１】比較例及び実施例の試験結果を示すグラフである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
（電源部）
電源部６は、ターゲット４１に電力を印加する構成部である。この電源部６によってターゲット４１に電力を印加することにより、プラズマ化したスパッタガスＧ１が生じる。そして、プラズマにより生じたイオンがターゲット４１に衝突することで、ターゲットから叩き出された成膜材料をワークＷに堆積させることができる。各ターゲット４１Ａ、４１Ｂ、４１Ｃに印加する電力は、個別に変えることができる。本実施形態においては、電源部６は、例えば、高電圧を印加するＤＣ電源である。なお、高周波スパッタを行う装置の場合には、ＲＦ電源とすることもできる。また、電源部６は、成膜部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ毎に設けてもよいし、複数の成膜部４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃに対して１つだけ設けてもよい。１つだけ電源部６を設ける場合、電力の印加は、切換えて使用する。回転体３１は、接地された真空容器２０と同電位であり、ターゲット４１側に高電圧を印加することにより、電位差を発生させている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
処理ユニット５は、図３及び図４に示すように、筒部Ｈ、窓部５２、供給部５３、調節部５４（図８参照）、アンテナ５５を有する。筒部Ｈは、一端の開口Ｈоが、真空容器２０の内部の搬送経路Ｔに向かう方向に延在した筒状の構成部である。筒部Ｈは、筒状体５１、冷却部５６、分散部５７を有する。これらの筒部Ｈを構成する部材のうち、まず、筒状体５１について説明し、冷却部５６、分散部５７については後述する。筒状体５１は、水平断面が角丸長方形状の筒である。ここでいう角丸長方形状とは、陸上競技におけるトラック形状である。トラック形状とは、一対の部分円を凸側を相反する方向として離隔して対向させ、それぞれの両端を互いに平行な直線で結んだ形状である。筒状体５１は、回転体３１と同様の材質とする。筒状体５１は、開口５１ａが回転体３１側に離隔して向かうように、真空容器２０の天井２０ａに設けられた開口２１ａに挿入されている。これにより、筒状体５１の側壁の大半は、真空室２１内に収容されている。筒状体５１は、その長径方向が回転体３１の半径方向と平行となるように配置されている。なお、厳密な平行である必要はなく、多少の傾きがあってもよい。また、プラズマ処理、つまり膜処理される領域である処理領域は、筒状体５１の開口５１ａと相似形状の角丸長方形状である。つまり、処理領域の回転方向の幅は、半径方向において同じである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
ここで、回転体３１上に搭載されたワークＷの回転体３１における中心側（内周側）と外周側とを比べると、一定距離を通過する速度に差が生じる。つまり、本実施形態において筒状体５１は、長径方向が回転体３１の半径方向と平行になるように配置されている。しかも、複数の供給口５１２が形成された開口５１ａの直線部分が半径方向において互いに平行となっている。このような構成である場合、筒状体５１の下部の一定距離をワークＷが通過する時間は、回転体３１における内周側よりも外周側が短い。このため、複数の供給口５１２は、回転体３１の表面が、プラズマ処理を行う処理領域を通過する時間が異なる複数箇所に設けられている。複数の供給口５１２が並設された方向は、搬送経路Ｔに交差している。さらに、供給口５１２は、ガス空間Ｒを挟んで対向する位置に配設されている。ガス空間Ｒを挟んで対向する供給口５１２の並び方向は、搬送経路Ｔに沿っている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
但し、コンデンサ５５２部分では導体５５１ａ、５５１ｂ、５５１ｃ、５５１ｄの連続性が断たれて、プラズマ密度が低下する。このため、窓部５２に対向する導体５５１ａ、５５１ｂ、５５１ｃ、５５１ｄの端部は、互いに平面方向に重なりを生じさせて、コンデンサ５５２を上下方向から挟むように構成されている。より具体的には、コンデンサ５５２に対する導体５５１ａ、５５１ｂ、５５１ｃ、５５１ｄの接続端は、図９に示すように、断面が逆Ｌ字形となるように屈曲されている。隣接する導体５５１ａ、５５１ｂの端部の水平面は、コンデンサ５５２を上下方向から挟持する間隙が設けられている。同様に、導体５５１ｂ、５５１ｃの端部の水平面、導体５５１ｃ、５５１ｄの端部の水平面には、それぞれコンデンサ５５２を上下方向から挟持する間隙が設けられている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
［作用効果］
（１）本実施形態は、内部を真空とすることが可能な真空容器２０と、真空容器２０内に設けられ、ワークＷを搭載して回転する回転体３１を有し、回転体３１を回転させることによりワークＷを円周の搬送経路Ｔで循環搬送させる搬送部３０と、一端の開口Ｈｏが真空容器２０の内部の搬送経路Ｔに向かう方向に延在した筒部Ｈと、筒部Ｈに設けられ、筒部Ｈの内部と回転体３１との間のプロセスガスＧ２が導入されるガス空間Ｒとガス空間Ｒの外部との間を仕切る窓部５２と、ガス空間Ｒに、プロセスガスＧ２を供給する供給部５３と、ガス空間Ｒの外部であって窓部５２の近傍に配置され、電力が印加されることにより、ガス空間ＲのプロセスガスＧ２に、搬送経路Ｔを通過するワークＷをプラズマ処理するための誘導結合プラズマを発生させるアンテナ５５とを有する。そして、供給部５３は、回転体３１の表面が、プラズマ処理を行う処理領域を通過する時間が異なる複数箇所から、プロセスガスＧ２を供給し、供給部５３の複数箇所の単位時間当たりのプロセスガスＧ２の供給量を、処理領域を通過する時間に応じて個別に調節する調節部５４を有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１１】
（７）供給口５１２は、ガス空間Ｒを挟んで対向する位置であって、搬送経路Ｔに沿う方向に配設されている。このため、ガス空間Ｒ内に、短時間にプロセスガスＧ２を行き渡らせることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月27日(2021.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
カバー５ｄは、円筒状である。カバー５ｄは、可動ボス本体５ｃの外周面を覆うように配置されている。詳細には、可動ボス本体５ｃにはＯリング５ｆが設けられ、このＯリング５ｆを介してカバー５ｄの内周面は、可動ボス本体５ｃの外周面と接触している。可動ボス本体５ｃとカバー５ｄとは、少なくとも軸方向において互いに固定されている。このようにカバー５ｄが可動ボス本体５ｃの外周面を覆っているため、カム溝５ｅは、密閉されている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月27日(2021.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、流体圧を利用してより確実に管路を閉止することを可能にする弁部材およびその弁部材を用いた管継手などの流体管路装置に関し、特に、使用による劣化を少なくするためにゴムや樹脂などの材料を用いずに管路の確実な閉止を可能とするのに適した弁部材及び流体管路装置に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
管継手１０
管継手部材１２、１４
管部材１６
第１管エレメント１６a
第２管エレメント１６ｂ
管路１８
周壁面１８ａ
密封面部（弁座面部）１８ｂ
弁部材２０
付勢部材２１
弁部材本体２２
密封部２４
基端部分２４ａ
先端部分２４ｂ
外周面２４ｅ
内周面２４ｉ
雄ネジ２６ａ
雌ネジ２６ｂ
環状角部２８
環状傾斜面３０
弁部材支持部３２（係止部）
連通用開口３４
弁部材支持孔３６
連通孔４０
支持ガイド部４２
筒状部材４４
ロック機構５０
ロックエレメント５２
基部ブロック５４
内側面５４ａ
挿通孔５６
締付ボルト５８
ネジ部５８ａ
係合ブロック６０
筒状ベース部材６２
ロック解除リング６４
ロック用環状突起６６
環状係止部６８
【手続補正書】
【提出日】令和2年12月9日(2020.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁口が設けられた弁室及び圧縮機の吸入室に連通するＰｓ入出口を有し、前記弁口より上流側に圧縮機の吐出室に連通するＰｄ導入口が設けられるとともに、前記弁口より下流側に前記圧縮機のクランク室に連通するＰｃ入出口が設けられた弁本体と、
前記弁口を開閉するための弁体と、
該弁体を弁口開閉方向に移動させるための電磁式アクチュエータと、
前記圧縮機から吸入圧力Ｐｓが前記Ｐｓ入出口を介して導入される感圧室と、
該感圧室の圧力に応じて前記弁体を弁口開閉方向に付勢する感圧応動部材と、を備え、
前記弁本体に設けられた案内孔に前記弁体における摺動部が摺動自在に嵌挿されており、
前記摺動部は、その軸線方向両端部にそれぞれ、直径がＤｘで軸線方向長さが所定値以上の小クリアランス部が設けられるとともに、前記両端部の小クリアランス部の間に、直径が前記Ｄｘより小さいＤｙで軸線方向長さが１ｍｍ以上の大クリアランス部が１個もしくは複数個設けられ、
前記弁本体の前記案内孔と前記弁体の前記大クリアランス部との間に形成される空間は、前記圧縮機の前記吸入室、前記吐出室、前記クランク室のいずれとも、前記弁本体の前記案内孔と前記弁体の前記摺動部の前記両端部の小クリアランス部との間に形成される間隙を介してのみ、流体の漏れを生じる程度に連通していることを特徴とする可変容量型圧縮機用制御弁。
【請求項２】
前記両端部の小クリアランス部の間に前記大クリアランス部が複数個に分かれて設けられている場合において、各大クリアランス部間に直径が前記Ｄｘで軸線方向長さが所定値以上の中間小クリアランス部が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の可変容量型圧縮機用制御弁。
【請求項３】
前記両端部の小クリアランス部のうち、低圧側の小クリアランス部の軸線方向長さは、高圧側の小クリアランス部の軸線方向長さより短いことを特徴とする請求項１又は２に記載の可変容量型圧縮機用制御弁。
【請求項４】
前記１個もしくは複数個の大クリアランス部の軸線方向長さの合計値は、前記摺動部の全長の１／３以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の可変容量型圧縮機用制御弁。
【請求項５】
前記両端部の小クリアランス部のうち、低圧側の小クリアランス部に、前記大クリアランス部に溜まる異物を低圧側に追い出すための排出溝が設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の可変容量型圧縮機用制御弁。
【請求項６】
前記排出溝は、一本もしくは複数本の縦溝又は螺旋溝で構成されていることを特徴とする請求項５に記載の可変容量型圧縮機用制御弁。
【請求項７】
前記両端部の小クリアランス部のうち、高圧側の小クリアランス部に、溝幅が０．５ｍｍ以下の異物捕捉用の環状溝が設けられていることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の可変容量型圧縮機用制御弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
前記の目的を達成すべく、本発明に係る可変容量型圧縮機用制御弁は、基本的に、弁口が設けられた弁室及び圧縮機の吸入室に連通するＰｓ入出口を有し、前記弁口より上流側に圧縮機の吐出室に連通するＰｄ導入口が設けられるとともに、前記弁口より下流側に前記圧縮機のクランク室に連通するＰｃ入出口が設けられた弁本体と、前記弁口を開閉するための弁体と、該弁体を弁口開閉方向に移動させるための電磁式アクチュエータと、前記圧縮機から吸入圧力Ｐｓが前記Ｐｓ入出口を介して導入される感圧室と、該感圧室の圧力に応じて前記弁体を弁口開閉方向に付勢する感圧応動部材と、を備え、前記弁本体に設けられた案内孔に前記弁体における摺動部が摺動自在に嵌挿されており、前記摺動部は、その軸線方向両端部にそれぞれ、直径がＤｘで軸線方向長さが所定値以上の小クリアランス部が設けられるとともに、前記両端部の小クリアランス部の間に、直径が前記Ｄｘより小さいＤｙで軸線方向長さが１ｍｍ以上の大クリアランス部が１個もしくは複数個設けられ、前記弁本体の前記案内孔と前記弁体の前記大クリアランス部との間に形成される空間は、前記圧縮機の前記吸入室、前記吐出室、前記クランク室のいずれとも、前記弁本体の前記案内孔と前記弁体の前記摺動部の前記両端部の小クリアランス部との間に形成される間隙を介してのみ、流体の漏れを生じる程度に連通していることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月20日(2021.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
また、本実施の形態の第１潤滑経路７０Ｃでは、第１の実施の形態の変形例の第１潤滑経路７０とは異なり、吸込側軸受室５０の一次室５０ａ内の液体は第１潤滑経路７０の下流側に位置する第１の吸込側軸受６をこれから潤滑するものである。したがって、吸込側軸受室５０の一次室５０ａから第１の吸込側軸孔５２ａを介したボア４５内への液体の漏洩を防止することが好ましい。本実施の形態においては、雌雄両ロータ２、３の吸込側シャフト部２２、３２とその吸込側シャフト部２２、３２が挿通されている第１及び第２の吸込側軸孔５２ａ、５２ｂとの隙間にそれぞれ軸封部材１５、１６を配置しているので、第１の吸込側軸受６及び第２の吸込側軸受１１を潤滑する液体が第１の吸込側軸孔５２ａ及び第２の吸込側軸孔５２ｂを介してボア４５内へ漏洩することを防止することが可能である。したがって、軸封部材１５、１６により、第１潤滑経路７０Ｃへ供給する液体の流量及び第１潤滑経路７０Ｃを介してボア４５内に回収される液体の流量を更に低減することが可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
本実施の形態においては、外部給液系統１００（図２参照）からの液体の一部が、主ケーシング４１の第２給液路７１Ｄを介して第１の吸込側軸受室５０の二次室５０ｂ及び吸込側カバー４３のシール室４３ｂに流入し、シール部材９を潤滑する。第１の吸込側軸受室５０の二次室５０ｂ及び吸込側カバー４３のシール室４３ｂ内の液体は、第１の吸込側軸受６を通過しつつ潤滑し、第１の吸込側軸受室５０の一次室５０ａへ流出する。第１の吸込側軸受室５０の一次室５０ａ内の液体は、連通路７３Ｃを介して第２の吸込側軸受室５１の一次室５１ａへ流入する。第２の吸込側軸受室５１の一次室５１ａ内の液体は、第２の吸込側軸受１１を通過しつつ潤滑し、第２の吸込側軸受室５１の二次室５１ｂへ流出する。第２の吸込側軸受室５１の二次室５１ｂ内の液体は、第１回収液路７２Ｄを介してボア４５内における作動室Ｃの吸込過程の領域に回収される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
雌ロータ３Ｅの吸込側及び吐出側はそれぞれ、第３の吸込側軸受１１Ｅ及び第３の吐出側軸受１２Ｅ、１３Ｅにより回転可能に支持されている。第３の吸込側軸受１１Ｅ及び第３の吐出側軸受１２Ｅ、１３Ｅは、ケーシング４Ｅに格納されている。ケーシング４Ｅの内部には、雄ロータ２の歯部２１、雌ロータ３の歯部３１、雌ロータ３Ｅの歯部３１を格納する格納室としてのボア４５Ｅが形成されている。ケーシング４Ｅには、第１の吸込側軸受室５０及び第２の吸込側軸受室５１に加えて、第３の吸込側軸受１１Ｅを配置する第３の吸込側軸受室５１Ｅが設けられている。第１の吸込側軸受室５０と第３の吸込側軸受室５１Ｅは、軸受室隔壁５３Ｅによって区画されている。第３の吸込側軸受室５１Ｅは、第３の吸込側軸受１１Ｅを挟んでボア４５Ｅに近い一次室５１ｃと、一次室５１ｃよりもボア４５Ｅから遠い二次室５１ｄとに分割されている。第１乃至第３の吸込側軸受室５０、５１、５１Ｅは、吸込側隔壁５２Ｅによってボア４５Ｅと隔てられている。吸込側隔壁５２Ｅには、第１の吸込側軸孔５２ａ及び第２の吸込側軸孔５２ｂに加えて、雌ロータ３Ｅの吸込側シャフト部３２が挿通される第３の吸込側軸孔５２ｃが設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
スクリュー圧縮機１Ｅは、第１の吸込側軸受６、第２の吸込側軸受１１、第３の吸込側軸受１１Ｅを潤滑する液体が流通する第１潤滑経路７０Ｅをケーシング４Ｅの内部に備えている。第１潤滑経路７０Ｅは、第１の吸込側軸受６を潤滑する経路、第２の吸込側軸受１１を潤滑する経路、第３の吸込側軸受１１Ｅを潤滑する経路が直列に接続されていると共に、最下流がボア４５Ｅに接続されている。すなわち、第１潤滑経路７０Ｅは、スクリュー圧縮機１の外部（外部給液系統１００）から供給された液体が第２の吸込側軸受１１、第１の吸込側軸受６、第３の吸込側軸受１１Ｅをこの順に潤滑してボア４５Ｅ内に回収されるように構成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
上記の構成により本実施の形態の第１潤滑経路７０Ｅは、第２給液路７１、第２の吸込側軸受室５１の一次室５１ａから二次室５１ｂへ液体が流通して第２の吸込側軸受１１を潤滑する経路（第２の吸込側軸受１１のボア４５Ｅ側の端面から他方側の端面を通過する経路）、連通路７３、吸込側カバー４３のシール室４３ｂ及び第１の吸込側軸受室５０の二次室５０ｂから一次室５０ａへ液体が流通して第１の吸込側軸受６を潤滑する経路（第１の吸込側軸受６のボア４５Ｅ側とは反対の端面からボア４５Ｅ側の端面を通過する経路）、連通路７３Ｅ、第３の吸込側軸受室５１Ｅの一次室５１ｃから二次室５１ｄへ流通して第３の吸込側軸受１１Ｅを潤滑する経路（第３の吸込側軸受１１Ｅのボア４５Ｅ側の端面から他方側の端面を通過する経路）、第１回収液路７２Ｅがこの順序で直列に接続されている。第１潤滑経路７０Ｅでは、第１の吸込側軸受６、第２の吸込側軸受１１、及び第３の吸込側軸受１１Ｅの必要供給流量のうち最も多い流量を供給する必要があり、第１乃至第３の吸込側軸受６、１１、１１Ｅの必要供給流量のうち最も多い流量がボア４５Ｅ内に回収される。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月25日(2021.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像領域を複数の撮像装置によりそれぞれ異なる方向から撮像することで得られる画像に基づく仮想視点画像を生成する画像処理装置であって、
前記仮想視点画像に対応する仮想視点からの視線方向と、前記複数の撮像装置に含まれる撮像装置の撮影方向との関係を特定する特定手段と、
特定された前記関係と、前記複数の撮像装置に含まれる撮像装置による撮像に関する解像度とに基づいて、前記複数の撮像装置のうち１以上の撮像装置を選択する選択手段と、
選択された前記１以上の撮像装置による撮像に基づいて得られる画像を用いて、前記仮想視点画像の画素値を決定する画素値決定手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
特定された前記関係は、前記仮想視点からの視線方向と前記撮像装置の撮影方向との角度差を示すことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記選択手段は、前記仮想視点画像の画素ごとに１以上の撮像装置を選択する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記選択手段は、前記仮想視点画像の画素に対応付けられる１以上の撮像装置を、特定された前記関係と、前記複数の撮像装置に含まれる撮像装置による前記画素に対応する位置の撮像に係る解像度とに基づいて選択する
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
選択された前記１以上の撮像装置それぞれに対して重みを決定する重み決定手段を有し、
前記仮想視点画像の画素値は、選択された前記１以上の撮像装置による撮像に基づいて得られる１以上の画像と決定された前記重みとに基づいて決定される
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
撮像装置に対する前記重みは、特定された前記関係と前記解像度とに基づいて決定されることを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
撮像装置の第１評価値を、前記仮想視点からの視線方向と当該撮像装置の撮影方向との角度差に基づいて決定する第１評価値決定手段と、
撮像装置の第２評価値を、当該撮像装置による撮像に課する解像度と当該撮像装置の第１評価値とに基づいて決定する第２評価値決定手段と、
を有し、
撮像装置に対する前記重みは、当該撮像装置の前記第１評価値と前記第２評価値とに基づいて決定されることを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記重み決定手段は、前記第２評価値が高い順に選択された撮像装置の前記重みを加算し、前記重みの総和が所定の値を超えた段階で未選択の撮像装置に対する重みを０に決定することを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記第１評価値と前記第２評価値がともに高い撮像装置ほど前記重みが大きくなるように、前記重みが決定されることを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記角度差が小さい撮像装置ほど前記第１評価値が高くなるように、前記第１評価値が決定されることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記撮像領域内のオブジェクトの位置が撮像装置の視野の中心部に近いほど当該撮像装置の第３評価値が高くなるように、前記撮像領域内のオブジェクトの位置に基づき、撮像装置の第３評価値を決定する第３評価値決定手段をさらに有する
ことを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
撮像装置の前記第３評価値と前記角度差とに基づいて、当該撮像装置の第１評価値が決定されることを特徴とする請求項１１に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記第３評価値が高く且つ前記角度差が小さい撮像装置ほど前記第１評価値が高くなるように、前記第１評価値が決定されることを特徴とする請求項１１または１２に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
前記解像度が高い撮像装置ほど前記第２評価値が高くなるように、前記第２評価値が決定されることを特徴とする請求項７乃至１３のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１５】
撮像装置の前記解像度と前記第１評価値との積もしくは和に基づいて、当該撮像装置の前記第２評価値が決定されることを特徴とする請求項７乃至１４のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１６】
撮像領域を複数の撮像装置によりそれぞれ異なる方向から撮像することで得られる画像に基づく仮想視点画像を生成する画像処理方法であって、
前記仮想視点画像に対応する仮想視点からの視線方向と、前記複数の撮像装置に含まれる撮像装置の撮影方向との関係を特定する特定工程と、
特定された前記関係と、前記複数の撮像装置に含まれる撮像装置による撮像に関する解像度とに基づいて、前記複数の撮像装置のうち１以上の撮像装置を選択する選択工程と、
選択された前記１以上の撮像装置による撮像に基づいて得られる画像を用いて、前記仮想視点画像の画素値を決定する画素値決定工程と
を含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項１７】
コンピュータを請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の画像処理装置として機能させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施形態において、撮像領域を複数の撮像装置によりそれぞれ異なる方向から撮像することで得られる画像に基づく仮想視点画像を生成する画像処理装置であって、前記仮想視点画像に対応する仮想視点からの視線方向と、前記複数の撮像装置に含まれる撮像装置の撮影方向との関係を特定する特定手段と、特定された前記関係と、前記複数の撮像装置に含まれる撮像装置による撮像に関する解像度とに基づいて、前記複数の撮像装置のうち１以上の撮像装置を選択する選択手段と、選択された前記１以上の撮像装置による撮像に基づいて得られる画像を用いて、前記仮想視点画像の画素値を決定する画素値決定手段とを有する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月30日(2021.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージに固定された第１カメラと、
前記ステージに固定された雲台装置の支持台の上に光軸の方向を調整可能な状態で配され、前記第１カメラよりも画角が狭い第２カメラと、
前記第１カメラが撮影する画像中の位置座標と、前記光軸を前記位置座標のそれぞれの位置に対応する方向に向けるための前記支持台の角度と、の相関関係が予め記憶された記憶部と、
制御部と、を備えるカメラシステムであって、
前記制御部は、
前記相関関係に基づいて、前記第１カメラが撮影した画像から検出された被写体の位置座標に対応する位置に前記光軸が向くように、前記支持台の角度を制御し、
前記第１カメラが撮影した画像と、前記第２カメラが撮影した画像と、前記支持台の角度と、に基づいて、前記カメラシステムから前記被写体までの距離を取得することを特徴とするカメラシステム。
【請求項２】
前記制御部が、前記第１カメラが撮影した画像から検出された前記被写体の位置座標と、前記第２カメラが撮影した画像における前記被写体と画像の中心とのずれ量と、前記支持台の角度と、に基づいて、前記カメラシステムから前記被写体までの距離を取得することを特徴とする請求項１に記載のカメラシステム。
【請求項３】
前記制御部が、
前記第１カメラが撮影した画像から検出された前記被写体の位置座標に対応する角度に前記光軸を移動させた後に、前記第２カメラが撮影する画像の中心に前記被写体が配されるように前記雲台装置をさらに制御し、
前記第１カメラが撮影した画像から検出された前記被写体の位置座標と、前記第２カメラが撮影する画像の中心に前記被写体が配されたときの前記支持台の角度と、に基づいて、前記カメラシステムから前記被写体までの距離を取得することを特徴とする請求項１または２に記載のカメラシステム。
【請求項４】
前記相関関係が、
前記カメラシステムから既知の距離にある複数の特徴点を前記第１カメラで撮影した画像中の前記複数の特徴点に対応するそれぞれの位置座標と、
前記第２カメラが撮影した画像の中心に前記複数の特徴点のそれぞれが配されたときの前記支持台の角度と、
の関係に応じて取得されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載のカメラシステム。
【請求項５】
ステージに固定された第１カメラと、
前記ステージに固定された雲台装置の支持台の上に光軸の方向を調整可能な状態で配され、前記第１カメラよりも画角が狭い第２カメラと、
前記第１カメラが撮影する画像中の位置座標と、前記光軸を前記位置座標のそれぞれの位置に対応する方向に向けるための前記支持台の角度と、の相関関係が予め記憶された記憶部と、
制御部と、を備えるカメラシステムであって、
前記制御部は、前記相関関係に基づいて、前記第１カメラが撮影した画像から検出された被写体の位置座標に対応する位置に前記光軸が向くように、前記支持台の角度を制御し、
前記相関関係が、
前記カメラシステムから既知の距離にある複数の特徴点を前記第１カメラで撮影した画像中の前記複数の特徴点に対応するそれぞれの位置座標と、
前記第２カメラが撮影した画像の中心に前記複数の特徴点のそれぞれが配されたときの前記支持台の角度と、
の関係に応じて取得されることを特徴とするカメラシステム。
【請求項６】
前記相関関係が、複数種類の距離に配された前記複数の特徴点から取得され、
前記制御部は、
前記被写体が既知の対象物の場合、前記第１カメラで撮影した画像における前記被写体の大きさに応じて、前記被写体までの概算距離を取得し、
前記概算距離に応じた前記相関関係に基づいて、前記支持台の角度を制御することを特徴とする請求項４または５に記載のカメラシステム。
【請求項７】
前記相関関係が、前記第１カメラおよび前記第２カメラでそれぞれ撮影した前記カメラシステムから既知の距離に配された格子状のチャートパターンの画像に基づくことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載のカメラシステム。
【請求項８】
前記第２カメラが、単焦点レンズを備えることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載のカメラシステム。
【請求項９】
ステージに固定された第１カメラと、
前記ステージに固定された雲台装置の支持台の上にパン方向およびチルト方向に光軸の方向を調整可能な状態で配され、前記第１カメラよりも画角が狭い第２カメラと、
前記第１カメラが撮影する画像中の位置座標と、前記光軸を前記位置座標のそれぞれの位置に対応する方向に向けるための前記支持台の角度と、の相関関係が予め記憶された記憶部と、を備えるカメラシステムの制御方法であって、
前記第１カメラが撮影した画像から被写体を検出する工程と、
前記相関関係に基づいて、前記第１カメラが撮影した画像から検出された被写体の位置座標に対応する位置に前記光軸が向くように、前記支持台の角度を制御する工程と、
前記第１カメラが撮影した画像と、前記第２カメラが撮影した画像と、前記支持台の角度と、に基づいて、前記カメラシステムから前記被写体までの距離を取得する工程と、
を含むことを特徴とする制御方法。
【請求項１０】
ステージに固定された第１カメラと、
前記ステージに固定された雲台装置の支持台の上にパン方向およびチルト方向に光軸の方向を調整可能な状態で配され、前記第１カメラよりも画角が狭い第２カメラと、
前記第１カメラが撮影する画像中の位置座標と、前記光軸を前記位置座標のそれぞれの位置に対応する方向に向けるための前記支持台の角度と、の相関関係が予め記憶された記憶部と、を備えるカメラシステムの制御方法であって、
前記第１カメラが撮影した画像から被写体を検出する工程と、
前記相関関係に基づいて、前記第１カメラが撮影した画像から検出された被写体の位置座標に対応する位置に前記光軸が向くように、前記支持台の角度を制御する工程と、
を含み、
前記相関関係が、
前記カメラシステムから既知の距離にある複数の特徴点を前記第１カメラで撮影した画像中の前記複数の特徴点に対応するそれぞれの位置座標と、
前記第２カメラが撮影した画像の中心に前記複数の特徴点のそれぞれが配されたときの前記支持台の角度と、
の関係に応じて取得されることを特徴とする制御方法。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係るカメラシステムは、ステージに固定された第１カメラと、前記ステージに固定された雲台装置の支持台の上に光軸の方向を調整可能な状態で配され、前記第１カメラよりも画角が狭い第２カメラと、前記第１カメラが撮影する画像中の位置座標と、前記光軸を前記位置座標のそれぞれの位置に対応する方向に向けるための前記支持台の角度と、の相関関係が予め記憶された記憶部と、制御部と、を備えるカメラシステムであって、前記制御部は、前記相関関係に基づいて、前記第１カメラが撮影した画像から検出された被写体の位置座標に対応する位置に前記光軸が向くように、前記支持台の角度を制御し、前記第１カメラが撮影した画像と、前記第２カメラが撮影した画像と、前記支持台の角度と、に基づいて、前記カメラシステムから前記被写体までの距離を取得することを特徴とする。