(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
正孔注入電極と電子注入電極との間に電圧を加えることで電流を流し発光を得る有機薄膜ＥＬ素子の駆動方法であって、電源の片方の極と有機薄膜ＥＬ素子の片方の極を接続するとともに、それぞれの他方の極を薄膜トランジスタを介して接続し、且つ当該トランジスタのゲート電圧保持用のメモリー容量を有し、一定の時間間隔毎に発光強度の情報または発光非発光の情報を当該メモリー容量に充放電させることにより書き込んで、発光状態を制御する駆動方法において、当該メモリー容量と並列に前記薄膜トランジスタのチャネル層と同時に同じ成膜条件で作成した層を抵抗として配置したことを特徴とする有機薄膜ＥＬ素子の駆動方法。
【請求項２】
前記メモリー容量と前記抵抗の平均値の積より求められる時定数が、少なくとも前記の一定の時間間隔より小さく、且つ当該時間間隔の１／１００の時間より大きいことを特徴とする請求項２に記載の有機薄膜ＥＬ素子の駆動方法。
【請求項３】
請求項１又は２の駆動方法により駆動される有機薄膜ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば平面型自発光表示装置をはじめ通信、照明その他の用途に供する各種光源として使用可能な自発光の素子に係る有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）素子およびその駆動方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年平面型の表示装置としてはＬＣＤパネルが幅広く用いられているが、依然として応答速度が遅い、視野角が狭い等の欠点があり、またこれらを改善した多くの新方式においても特性が十分でなかったりパネルとしてのコストが高くなるなどの課題がある。そのような中で自発光で視認性に優れ、応答速度も速く広範囲な応用が期待できる新たな発光素子としての有機ＥＬ素子に期待が集まっている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は有機物層に電極から電子、正孔を注入しその再結合によって発光を得るものであり、古くから多くの研究がなされてきたが、一般にその発光効率は低く実用的な発光素子への応用とは程遠いものであった。
【０００４】
そのような中で、１９８７年にＴａｎｇらによって提案された素子（「アプライ  フィジックス  レター」第５１巻１９８７年（Ｃ．Ｗ．Ｔａｎｇ  ａｎｄ  Ｓ．Ａ．Ｖａｎｓｌｙｋｅ：Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５１（１９８７）９１３．））は、透明基板上に透明正孔注入電極、発光機能層、電子注入電極を有する構成の素子であって、発光機能層が正孔輸送層と発光層（電子輸送層）を積層した構成であり、また電子注入電極として仕事関数が低く電子注入障壁の低い金属と比較的仕事関数が大きく安定な金属との合金としてＭｇＡｇを用いたものであった。
【０００５】
このような電子注入電極を用いる事により高効率で比較的安定して電子を注入する事が可能となり、正孔輸送層と発光層（電子輸送層）の界面近傍で高効率で発光を得る事が可能となった。Ｔａｎｇらはこのような構成で、１０Ｖ以下の低い電圧で１０００ｃｄ／ｍ2 以上の高い輝度と、１．５ｌｍ／Ｗ以上の高い効率を実現している。このＴａｎｇらの報告がきっかけとなって現在でも活発な検討が続けられている。
【０００６】
以下に現在一般に検討されている有機ＥＬ素子について概説する。
【０００７】
有機ＥＬ素子は一般に、透明基板上に正孔注入電極、発光機能層、電子注入電極の順に積層して形成し、発光機能層は正孔輸送層と発光層（電子輸送層）などのように複数の積層膜とすることが多い。このように各層に役割を機能分離させて担わせる事により各層に適切な材料選択が可能となり素子の特性も向上する。
【０００８】
透明基板としては一般にコーニング１７３７等のガラス基板が広く用いられている。板厚は０．７〜１．１ｍｍ程度が強度と重量の観点から扱いやすい。
【０００９】
正孔注入電極としてはＩＴＯのスパッタ膜、エレクトロンビーム蒸着膜、イオンプレーティング膜等の透明電極が用いられる。膜厚は必要とされるシートレジスタンス値と可視光透過率から決定されるが、有機ＥＬ素子では比較的駆動電流密度が高いため、シートレジスタンスを小さくするため１００ｎｍ以上の厚さで用いられることが多い。
【００１０】
発光機能層は種々の構成が検討されているが、トリフェニルジアミン誘導体などの正孔輸送材料を真空蒸着により数十ｎｍ膜厚に形成した正孔輸送層と、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム等の発光材料（電子輸送材料）を真空蒸着により数十ｎｍの膜厚に形成した層を積層した構成とすることが多い。
【００１１】
一般に、電子と正孔が再結合し発光する部分を発光層と呼んでいるが、この部分が正孔注入電極または電子注入電極の近傍にあると再結合によって生成したエキシトンが非発光失活し発光効率が低下する。この現象を防止するためと、下地となる基板の表面状態の影響の緩和のため、正孔注入電極側には正孔輸送層を設け、電子注入電極側には電子輸送層を設ける構成が必要である。トリス（８−キノリノラト）アルミニウムは緑色の発光性の電子輸送材料であり、発光層と電子輸送層を兼ねた層として用いられているが、その正孔輸送層側の部分が実際には発光層として機能し、電子注入電極側の部分が電子輸送層として機能しているものと考えられる。
【００１２】
電子注入電極はＴａｎｇらの提案したＭｇＡｇ合金またはＡｌＬｉ合金等、仕事関数が低く電子注入障壁の低い金属と比較的仕事関数が大きく安定な金属との合金が用いられることが多い。
【００１３】
またこのような素子をマトリクス状に配置して、線順次に走査して発光させれば単なる発光素子にとどまらず像情報の表示装置として有用である。しかしこの場合、例えば縦４８０画素×横６４０画素のマトリクスで、縦方向に順に走査して発光させる駆動を考えると、各画素の発光時間は１／４８０となり、例えばパネルの明るさとして平均輝度１００カンデラを得ようとすれば、各画素の実際の発光輝度は４８０倍で４８０００カンデラが必要となる。このように高い瞬時輝度を得ようとすれば高い駆動電圧と高い瞬時電流が必要であり、配線抵抗による損失電力増加など消費電力の増大を招くことになる。
【００１４】
そこで像情報の表示装置としては、上記のような単純マトリクス（パッシブマトリクス）駆動以外に、個々の発光素子（画素）に駆動用薄膜トランジスタと、電圧で与えられた情報を次の情報付与までの期間保持するメモリー容量を有する構成のアクティブマトリクス駆動によるものが検討されている（例えば、「プロシーディングス  オブザ  １８番  インタナショナル  ディスプレイ  リサーチコンファレンス」第２１７頁から第２２０頁（Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆｔｈｅ  １８ｔｈ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，ｐ２１７〜ｐ２２０）など）。
【００１５】
このようなアクティブマトリクス駆動では、必須の構成要素として各画素毎に有機薄膜ＥＬ素子と駆動用薄膜トランジスタとメモリー容量が必要である他、電圧で与える発光情報を順次に書き込んでいくためのスイッチング用トランジスタなどの書き込み手段が最低限必要となる。すなわち一般に最低限２つのトランジスタと１つの容量素子が有機薄膜ＥＬ素子以外に必要となる。
【００１６】
このようにアクティブマトリクス駆動においてはその像情報表示に必要な構成部材は増加するが、パッシブマトリクス駆動と異なり、各画素は順次に選択されていない期間も引き続きメモリー容量に保持された電圧に従って発光を続けることとなり、パネルの平均輝度と比較して素子自体の発光輝度が著しく高くなる現象が無く、パネルとしての消費電力が著しく低下できる特徴がある。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
このようにＴａｎｇらの提案による機能分離した積層型の素子構成を用い、また電子注入電極としてＭｇＡｇ等の仕事関数が低く電子注入障壁の低い金属と比較的仕事関数が大きく安定な金属との合金を用いる事により、数Ｖ程度の低電圧でも数百カンデラ程度の十分な輝度が得られる素子が実現できる。また、前述したトリス（８−キノリノラト）アルミニウムは緑色の発光性の電子輸送材料であり、緑色の有機薄膜ＥＬ素子を作製する場合には、発光層と電子輸送層を兼ねた層として用いることが出来て便利である。
【００１８】
しかしながら、上述のトリス（８−キノリノラト）アルミニウムまたはその誘導体で発光性の電子輸送層としての特性に優れ高効率の得られる材料を用いた場合、発光層を他の材料で構成して他の発光色を得ようとしても、トリス（８−キノリノラト）アルミニウムまたはその誘導体からの発光が混在する課題がある。
【００１９】
すなわち、発光層と電子輸送層を積層して発光層のみから発光を得ようとしても、電子輸送層が上記のような発光性の材料の場合、発光層を通過した正孔が電子輸送層にまで達し、当該領域で再結合して発光する現象を完全には避け難い課題がある。
【００２０】
例えば電子輸送層の膜厚を２０ｎｍ程度の比較的薄い膜厚にすることにより、電子輸送層内で再結合して生成したエキシトンの電極による失活割合を高め、電子輸送層からの発光を抑制することも考えられるが、このような膜厚の最適化では効率と色純度のトレードオフによりおのずと限界があり、高い効率と色純度と長寿命を同時に実現できる優れた有機薄膜ＥＬ素子を得ることは困難であった。
【００２１】
また固定パターン発光を印刷物並みの高解像度で得ようとする場合には、陰極または陽極のパターン化で行うには限界があり、絶縁層のパターン化による方法が期待されていたが、通常のフォトリソグラフィー工程を利用した場合には、初期から陰極の断線や、陰極陽極間短絡、発光効率の低下などの課題があり、また連続駆動時の信頼性も極めて低い課題があった。また非発光時にも発光パターンが視認可能となり、発光非発光の電気的制御で情報の表示非表示を制御できない課題があった。
【００２２】
また前述のようなマトリクス状の表示装置では、特に画素数が多い表示装置では、消費電力の大きなパッシブマトリクス駆動に代わって、消費電力を大幅に低減できるアクティブマトリクス駆動が期待されているが、一般にこのような用途に用いられる薄膜トランジスタのゲート電圧Ｖｇに対するソース−ドレイン電流特性（Ｉ−Ｖｇ特性）には素子間で大きなバラツキがあり、これが発光の不均一またはそれに起因する有効階調数の減少という形となって画像品質の低下につながる課題が指摘されている。
【００２３】
電流が流れ始めるゲート電圧Ｖｔｈのバラツキに関しては、自動的にこれをキャンセルする電圧を各画素（各駆動用薄膜トランジスタ）毎に発光情報のメモリ容量とは別の容量にメモリーして補正する技術が検討されている。（ＳＩＤ９８Ｄｉｇｅｓｔ，ｐ１１〜ｐ１４）。
【００２４】
しかしながらこのような手法の実現には各画素毎に４つのトランジスタと２つの容量が必要であり、また実際の駆動時のゲート電圧領域での電流バラツキ（Ｉ−Ｖｇ特性の傾きのバラツキに相当）が依然として大きく発光の不均一またはそれに起因する有効階調数の減少という形となって画像品質の低下につながる課題がある。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
このような状況に鑑み、筆者等は種々の物性を有する材料を用い、種々の構成で種々の特性の機能性薄膜を積層し発光効率、色純度、寿命の観点で評価を行った中から、特定の機能層を用いることにより、または特定の材料を組み合わせて用いることにより、正孔と電子の再結合域を効果的に制御できることを見出して本発明を完成させるに至った。
【００２６】
また筆者等は印刷物並みの高い解像度の固定パターン表示を高い発光効率で信頼性良く実現するために、種々の絶縁層によるパターン化発光素子を試作した中から、特定の絶縁層を用いることにより、高い発光効率を得ることが可能であること、また陰極の断線や、陰極陽極間短絡、効率低下等の抑制による信頼性向上が可能であること、また非発光時にはパターンの視認が困難であり情報の表示非表示を電気的な発光非発光で制御可能とすることが出来ることを見出して本発明を完成させるに至った。
【００２７】
また筆者等は種々の薄膜トランジスタの組み合わせによる駆動手段を検討し、チャンネルの移動度が変化した場合に、実際の発光がどのように変化するかを検討した中から、駆動手段として特定のトランジスタ、容量、抵抗の組み合わせにより、各画素の発光均一性が高く、すなわち高レベルの階調が実現できることを見出して本発明を完成させるに至った。
【００２８】
具体的には、第１の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層と電子注入輸送層を有し、前記発光層と電子注入輸送層との間に非発光性電子輸送層を有することを特徴とする。
【００２９】
また、第２の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層と電子注入輸送層を有し、前記発光層と電子注入輸送層との間に非発光性正孔阻止層を有することを特徴とする。
【００３０】
また、第３の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層と電子注入輸送層を有し、前記発光層が正孔輸送能と電子輸送能の両方を有することを特徴とする。
【００３１】
また、第４の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層と電子注入輸送層を有し、前記発光層と電子注入輸送層との間にアクセプター性有機分子からなる薄層を有することを特徴とする。
【００３２】
また、第５の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層と電子注入輸送層を有し、前記発光層が主として有機発光分子とアクセプター性有機分子からなることを特徴とする。
【００３３】
また、第６の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記アクセプター性有機分子が主として７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンよりなることを特徴とする。
【００３４】
また、第７の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記アクセプター性有機分子が主としてテトラシアノエチレンよりなることを特徴とする。
【００３５】
また、第８の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記電子注入輸送層が発光性であり、且つ当該発光波長が発光層の発光波長と異なることを特徴とする。
【００３６】
また、第９の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記電子注入輸送層が発光性であり、且つ当該発光波長より発光層の発光波長が短波長であることを特徴とする。
【００３７】
また、第１０の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記電子注入輸送層が主としてトリス（８−キノリノラト）アルミニウムまたはその誘導体よりなることを特徴とする。
【００３８】
また、第１１の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層を有し、前記発光層が、主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンからなることを特徴とする。
【００３９】
また、第１２の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層を有し、前記発光層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンからなることを特徴とする。
【００４０】
また、第１３の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層と正孔阻止層を有し、前記正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンからなることを特徴とする。
【００４１】
また、第１４の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光層と正孔阻止層を有し、前記正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとテトラフェニルエチレンからなることを特徴とする。
【００４２】
また、第１５の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記発光層が、主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンからなることを特徴とする。
【００４３】
また、第１６の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記発光層が、主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンからなることを特徴とする。
【００４４】
また、第１７の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に連続して設けられた発光層と正孔阻止層と非発光性電子輸送層を有し、前記発光層が主として、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンからなり、前記正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンからなることを特徴とする。
【００４５】
また、第１８の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に連続して設けられた発光層と正孔阻止層と非発光性電子輸送層を有し、前記発光層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンからなり、前記正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンからなることを特徴とする。
【００４６】
また、第１９の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記非発光性電子輸送層が主として７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンよりなることを特徴とする。
【００４７】
また、第２０の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記非発光性電子輸送層が主としてテトラシアノエチレンよりなることを特徴とする。
【００４８】
また、第２１の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた絶縁層と発光機能層を有し、前記絶縁層が像情報に対応してパターン形成されたフォトレジスト層であることを特徴とする。
【００４９】
また、第２２の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記フォトレジスト層が膜厚０．０２μｍ以上０．２μｍ以下であり、且つパターン形成された後に１５０℃以上の温度で完全硬化されていることを特徴とする。
【００５０】
また、第２３の発明の有機薄膜ＥＬ素子は、前記正孔注入電極上に前記フォトレジスト層を形成し完全硬化した後で、発光機能層を形成する前に前記正孔注入電極表面の気相クリーニングを行うことを特徴とする。
【００５１】
また、第２４の発明は、正孔注入電極と電子注入電極との間に電圧を加えることで電流を流し発光を得る有機薄膜ＥＬ素子の駆動方法であって、電源の片方の極と有機薄膜ＥＬ素子の片方の極を接続するとともに、それぞれの他方の極を薄膜トランジスタを介して接続し、且つ当該トランジスタのゲート電圧保持用のメモリー容量を有し、一定の時間間隔毎に発光強度の情報または発光非発光の情報を当該メモリー容量に充放電させることにより書き込んで、発光状態を制御する駆動方法において、当該メモリー容量と並列に前記薄膜トランジスタのチャネル層と同時に同じ成膜条件で作成した層を抵抗として配置したことを特徴とする。
【００５２】
また、第２５の発明は、前記メモリー容量と抵抗の平均値の積より求められる時定数が、少なくとも前記の一定の時間間隔より小さく、且つ当該時間間隔の１／１００の時間より大きいことを特徴とする。
【００５３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る有機薄膜ＥＬ素子について説明する。
【００５４】
本発明の有機薄膜ＥＬ素子は、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた発光機能層により構成される。ここで発光機能層とは両電極から注入された正孔と電子によって発光する過程に関与する各層を集合的に総称するものであり、一般に知られるように、実際には正孔輸送層と電子輸送性発光層との積層構造であったり、正孔輸送層と発光層と電子輸送層の積層構造であったり、さらに正孔注入層や電子注入層などの層が積層された構造であったりする。
【００５５】
前記透明基板は、有機薄膜ＥＬ素子を坦持出来るものであればよく、コーニング１７３７ガラスなどの通常のガラス基板が用いられる事が多いが、ポリエステルその他の樹脂フィルムなども用いる事が出来る。一般に電子注入電極および正孔注入電極は、そのどちらか一方が透明である必要があり、透明基板上に透明電極を設けて発光を外部に取り出すことが多いが、シリコン基板などの不透明基板上に成膜し上部電極を透明電極として発光を取出しても良い。通常、正孔注入電極に透明なＩＴＯ（インジウム錫酸化物）膜を用いる事が多く、電子注入電極はＴａｎｇらの提案したＭｇＡｇ合金またはＡｌＬｉ合金など、仕事関数が低く電子注入障壁の低い金属と比較的仕事関数が大きく安定な金属との合金が用いられることが多い。
【００５６】
また、電子注入電極は、実質的に発光機能層への電子の注入に寄与する層と電極としての電気伝導性を担う層の積層構造としてもよく、一般には数Å程度の膜厚の弗化リチウム層や酸化リチウム層とアルミニウム層の積層構造の電子注入電極などが用いられる。この場合、電子注入電極にアルミニウム層のみを用いた場合と比較して駆動電圧が低下し発光効率が向上することが知られている。
【００５７】
ＩＴＯ膜はその透明性を向上させまたは抵抗率を低下させる目的でスパッタ、エレクトロンビーム蒸着、イオンプレーティング等の成膜方法が行われており、また抵抗率や形状制御の目的で種々の後処理が行われる事も多い。また膜厚は必要とされるシートレジスタンス値と可視光透過率から決定されるが、有機ＥＬ素子では比較的駆動電流密度が高いため、シートレジスタンスを小さくするため１００ｎｍ以上の厚さで用いられることが多い。
【００５８】
正孔注入電極には、これらの通常のＩＴＯ膜を用いる事が出来る他、導電性粉体を分散した透明導電性塗料の塗布膜その他の電極を用いる事が出来る。また、電子注入電極には、上述したＭｇＡｇ、ＡｌＬｉその他の仕事関数が低く電子注入障壁の低い金属と比較的仕事関数が大きく安定な金属との合金の他、はじめに薄層のＬｉ膜を形成した後にＡｌ膜を比較的厚く形成するような積層電極や、ＬｉＦ膜やＡｌ2Ｏ3膜を薄層に形成した後にＡｌ膜を比較的厚く形成するような積層電極や、その他の種々の電極構成を用いる事が出来る。
【００５９】
第１の発明において、その要部は発光層と電子注入輸送層との間に非発光性の電子輸送層を設ける独自の構成にあり、各層を構成する材料は一般に知られている材料を広く用いることができる。
【００６０】
第２の発明において、その要部は発光層と電子注入輸送層との間に非発光性の正孔阻止層を設ける独自の構成にあり、各層を構成する材料は一般に知られている材料を広く用いることができる。
【００６１】
第３の発明において、その要部は発光層として電子と正孔の両方を輸送できるものを用いた独自の構成にあり、各層を構成する材料は一般に知られている材料を広く用いることができる。
【００６２】
第４の発明において、その要部は発光層と電子注入輸送層との間にアクセプター性の有機分子からなる薄層を設ける独自の構成にあり、各層を構成する材料は一般に知られている材料を広く用いることができる。
【００６３】
第５の発明において、その要部は発光層が有機発光分子とアクセプター性有機分子からなる独自の構成にあり、各層を構成する材料は一般に知られている材料を広く用いることができる。
【００６４】
特に電子注入輸送層として発光性のトリス（８−キノリノラト）アルミニウムまたはその誘導体などの材料を用いる場合には、これらの構成とすることで顕著な色純度の向上と寿命の向上が認められる。
【００６５】
これはこれらの独自の構成により正孔と電子の再結合領域が制御されて、発光性電子注入輸送層の発光が抑制され、効果的に発光層の中で再結合および発光が行われるためである。
【００６６】
電子注入輸送層とは、電子注入電極から電子を注入され、且つ電子を輸送する役割を担う層を言い、単層または積層膜としてこの機能を有する部分の総称として用いている。正孔阻止層は正孔の移動を妨げ、その正孔注入電極側に正孔を溜める働きを有する層であれば良いが、その正孔注入電極側に接する層と比較してそのイオン化ポテンシャルが大きく正孔の注入が困難であるか、または注入できたとしても、正孔移動度が極端に小さい層であれば、このような役目を果たすことができる。正孔輸送能と電子輸送能の両方を有するとは、両キャリアの輸送能が大きな差でないことを指す。有機発光分子とは、分子に固有の蛍光を示し、特に本発明では固体薄膜状態で電気的な励起（電子と正孔の再結合）によって蛍光を発する材料を言う。
【００６７】
第１１の発明において、その要部は発光層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンからなることにあり、正孔注入輸送層や電子注入輸送層その他の各層は通常の材料を幅広く用いることができる。この２つの材料は共蒸着または混合塗料からの塗布などにより発光層として成膜されるが、その混合割合は重量比で１：９以上９：１以下であればよい。この混合材料からなる発光層を用いることで高い発光効率が安定して得られるものである。
【００６８】
第１２の発明において、その要部は発光層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンからなることにあり、正孔注入輸送層や電子注入輸送層その他の各層は通常の材料を幅広く用いることができる。この２つの材料は、共蒸着または混合塗料からの塗布などにより発光層として成膜されるが、その混合割合は重量比で１：９以上９：１以下であればよい。この混合材料からなる発光層を用いることで、高い発光効率が安定して得られるものである。
【００６９】
第１３の発明において、その要部は発光層と接して設けられた正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンからなることにあり、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層その他の各層は通常の材料を幅広く用いることができる。１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンはそのイオン化ポテンシャルが極めて大きく、正孔の注入障壁が高い特徴があり、結果としてそれに接する発光層内での再結合確率を高める働きをするものである。
【００７０】
第１４の発明において、その要部は発光層と接して設けられた正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとテトラフェニルエチレンからなることにあり、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層その他の各層は通常の材料を幅広く用いることができる。テトラフェニルエチレンを適量混合することにより、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンの結晶化による黒点（非発光欠陥）を抑制することができるが、多量に混合すると正孔阻止層としての効果が損なわれる。１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンに対するテトラフェニルエチレンの混合割合は重量比で０．５％以上６０％以下である。
【００７１】
第１７の発明において、その要部は連続して設けられた発光層と正孔阻止層と非発光性電子輸送層を有し、前記発光層が、主として、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンからなり、前記正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンからなることにあり、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層その他の各層は通常の材料を幅広く用いることができる。また非発光性電子輸送層としては７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンやテトラシアノエチレンなどの材料を用いることが出来る。
【００７２】
この１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンの発光層材料は、共蒸着、または混合塗料からの塗布などにより発光層として成膜されるが、その混合割合は重量比で１：９以上９：１以下であればよい。この混合材料からなる発光層を用いることと、正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンからなることで、正孔と電子の再結合領域を発光層内に効果的に限定し、色純度が良く高い発光効率が安定して得られるものである。
【００７３】
第１７の発明において、その要部は連続して設けられた発光層と正孔阻止層と非発光性電子輸送層を有し、前記発光層が、主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンからなり、前記正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンからなることにあり、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層その他の各層は通常の材料を幅広く用いることができる。
【００７４】
また、非発光性電子輸送層としては７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンやテトラシアノエチレン等の材料を用いることが出来る。この１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンの発光層材料は、共蒸着または混合塗料からの塗布などにより発光層として成膜されるが、その混合割合は重量比で１：９以上９：１以下であればよい。この混合材料からなる発光層を用いることと、正孔阻止層が主として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンからなることで、正孔と電子の再結合領域を発光層内に効果的に限定し、色純度が良く高い発光効率が安定して得られるものである。
【００７５】
第２１の発明において、その要部はパターン形成されたフォトレジスト層を縁層として用いて発光をパターン化することにあり、発光機能層は通常のものを幅広く用いることが出来る。
【００７６】
第２２の発明において、要部は、上記に加えてフォトレジストの膜厚を０．０２μｍ以上０．２μｍ以下とすることと、１５０℃以上の温度で完全硬化させることである。フォトレジスト膜厚を０．０２μｍ以下にすると均一な膜を得ることが困難になり、ハジキなどの膜欠陥部が発光するなどの問題が顕著になる。また０．２μｍ以上では、フォトレジストの形成されている部分と非形成部分の段差が大きくなり、段差部で発光機能層の上部に形成する電極の導通が不十分となる問題が顕著になる他、段差部が目立ち、非発光時にも発光パターンが容易に視認出来てしまう問題がある。またフォトレジスト層の硬化温度が１５０℃未満で不十分であると、未硬化有機レジスト分子の発光部分への再付着によって著しく発光効率が低下する問題がある。
【００７７】
第２３の発明において、要部は、上記に加えてフォトレジスト層を完全硬化した後で、発光機能層を形成する前に、正孔注入電極表面の気相クリーニングを行うことにある。気相クリーニングの方法としては、酸素プラズマ処理やＵＶオゾン処理など一般に用いられている方法を幅広く用いることができる。このクリーニング処理により、表面に残留した微量の有機物層などを取り除き高い発光効率を安定して得ることができるものである。
【００７８】
第２４の発明において、その要部は有機薄膜ＥＬ素子の駆動用薄膜トランジスタ素子のゲート電圧をメモリーする容量と並列に、同トランジスタのチャネル層と同時に同じ成膜条件で作成した層を抵抗として配置することにある。これにより、基板条件や成膜条件等の局所的なバラツキにより、チャネル層の移動度、キャリア濃度等の特性が変化しても、それと同様に抵抗層の移動度、キャリア濃度も変化することとなる。すなわち、例えば各画素に一定の電圧が発光情報として与えられ、メモリー容量に蓄えられ、その電圧に応じて各駆動用薄膜トランジスタに電流が流れて有機薄膜ＥＬ素子が発光するわけであるが、この時移動度が大きいなどの理由により同一ゲート電圧に対する電流が大きくなる画素では、メモリー容量に並列に配置された上記抵抗を流れる電流も大きくなり、他の画素と比較して速くにゲート電圧が低下し、結果として発光時間が短くなることとなる。
【００７９】
つまり、画素の駆動用薄膜トランジスタに流れる電流の大きな画素は、発光の輝度は流れる電流に応じて高くなるが、駆動用薄膜トランジスタのチャネルと同時に同条件で作成した抵抗を流れる電流も同じ割合で大きくなるため、その分だけメモリー容量の放電が速く、発光情報の書き込みから書き込みまでの時間間隔（１フレーム時間）の中での実際の発光時間が短くなることになり、パネルとして観察される平均の輝度は互いに補償されて同等になることを意味する。
【００８０】
一方、反対に同一のゲート電圧に対して、駆動用薄膜トランジスタに流れる電流の小さな画素は、発光の輝度は流れる電流に応じて低くなるが、駆動用薄膜トランジスタのチャネルと同時に同条件で作成した抵抗を流れる電流も同じ割合で小さくなるため、その分だけメモリー容量の放電が遅く、１フレーム時間の中での実際の発光時間が長くなることになり、パネルとして観察される平均の輝度は互いに補償されて同等になることを意味する。
【００８１】
第２５の発明において、その要部は上記構成に加えて、メモリー容量と、駆動用薄膜トランジスタのチャネルと同時に同条件で作成した抵抗の各画素の平均値の積より求められる時定数が、少なくとも前記の１フレーム時間より小さく、且つ１フレーム時間の１／１００の時間より大きいことである。移動度のバラツキなどにより上述の抵抗値はばらつくことになるが、その平均値とメモリー容量の積（放電時定数）が１フレーム時間より長いと、実質的にほとんどの画素においては、１フレーム時間全体に渡って発光を続けることとなり、効果的な電流バラツキの補償が期待できない。
【００８２】
一方、同時定数が１フレーム時間の１／１００以下では、補償は効果的に機能するものの、実際に必要なピーク輝度がパネル輝度の１００倍以上となり、先に述べたパッシブマトリクス駆動と同様に消費電力が大きくなりアクティブマトリクス駆動のメリットが得られない。すなわち、本発明の駆動手段はこれらの現象に鑑み、前述の時定数の平均を１フレーム時間より小さく、且つ１フレーム時間の１／１００の時間より大きくなるようにメモリー容量および抵抗層の幅と長さを設定することによって、平均より時定数が大きい画素も小さい画素も発光時間がその輝度に反比例することによって輝度バラツキを抑制できるものである。
【００８３】
本駆動手段で設けたメモリー容量と並列に配置する抵抗層による、駆動用薄膜トランジスタの特性バラツキの補償効果は極めて顕著であり、ここで述べた抵抗層をメモリー容量と並列に設けない通常の駆動手段では、トランジスタの特性バラツキにより一桁以上の輝度バラツキとなる場合でも、目視では全く輝度バラツキを認識出来ないレベルにまで抑制することが出来る。これによりゲート電圧値自体で階調制御する場合でも、サブフィールド法を用いる場合でも、高い階調再現性が得られる。
【００８４】
一方、通常の駆動手段による方法では、メモリー容量は僅かなリーク電流で放電するのみであり、通常、走査によるデータ書き込みの僅かな時間以外は常に発光を続けているのに対して、本発明による駆動手段を用いた場合には、そのトランジスタ特性のバラツキに応じて、画素によって発光時間が短くなっており、その分だけ発光効率が低下することになるのが欠点である。しかしながら、本欠点は、表示画像として要求される均一性や階調レベルに応じて、前述の放電時定数を適切に設定することによって最小化することが出来る。
【００８５】
次に具体的な実施例に基づいてさらに詳細に説明する。
【００８６】
（実施例１）
透明基板上に正孔注入電極を形成した基板として、市販のＩＴＯ付きガラス基板（三容真空株式会社製、サイズ１００×１００ｍｍ×ｔ＝０．７ｍｍ、シート抵抗約１４Ω／□）を用い、電子注入電極との重なりにより発光面積が１０×１０ｍｍとなるようにフォトリソグラフィーによりパターン化した。フォトリソ後の基板処理は市販のレジスト剥離液（ジメチルスルホキシドとＮ−メチル−２−ピロリドンとの混合溶液）に浸漬して剥離を行った後、アセトンでリンスし、さらに発煙硝酸中に１分間浸漬して完全にレジストを除去した。
【００８７】
ＩＴＯ表面の洗浄は、基板の裏面表面の両面を十分に行い、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．２３８％水溶液を十分に供給しながら、ナイロンブラシによる機械的な擦り洗浄を行った。その後、純水で十分にすすぎ、スピン乾燥を行った。また有機薄膜ＥＬ素子の蒸着前には、市販のプラズマリアクター（ヤマト科学株式会社製、ＰＲ４１型）中で、酸素流量２０ｓｃｃｍ、圧力０．２Ｔｏｒｒ、高周波出力３００Ｗの条件で１分間の酸素プラズマ処理を行ってから、蒸着槽内に配置した。
【００８８】
真空蒸着装置は市販の高真空蒸着装置（日本真空技術株式会社製、ＥＢＶ−６ＤＡ型）を改造した装置を用いた。主たる排気装置は排気速度１５００リットル／ｍｉｎのターボ分子ポンプ（大阪真空株式会社製、ＴＣ１５００）であり、到達真空度は約１×１０-6Ｔｏｒｒ以下であり、全ての蒸着は２〜３×１０-6Ｔｏｒｒの範囲で行った。また全ての蒸着はタングステン製の抵抗加熱式蒸着ボートに直流電源（菊水電子株式会社製、ＰＡＫ１０−７０Ａ）を接続して行った。
【００８９】
このようにして真空層中に配置したＩＴＯ付きガラス基板上に、正孔輸送層として、Ｎ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）と、４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベンを、それぞれ０．３ｎｍ／ｓおよび０．０１ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約８０ｎｍに形成した。
【００９０】
次に、発光層として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）を０．３ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約１０ｎｍに形成した。
【００９１】
次に、非発光性電子輸送層７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（関東化学株式会社製）を０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約５ｎｍに形成した。
【００９２】
次に電子輸送層としてトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（同仁化学株式会社製）を０．３ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約２5ｎｍに形成した。
【００９３】
次に、電子注入電極として、ＡｌＬｉ合金（高純度化学株式会社製、Ａｌ／Ｌｉ重量比９９／１）から低温でＬｉのみを、約０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約１ｎｍに形成し、続いて、そのＡｌＬｉ合金をさらに昇温しＬｉが出尽くした状態から、Ａｌのみを、約１．５ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約１００ｎｍに形成し、積層型の電子注入電極とした。
【００９４】
このようにして作成した有機薄膜ＥＬ素子は、蒸着槽内を乾燥窒素でリークした後、乾燥窒素雰囲気下で、コーニング７０５９ガラス製の蓋を接着剤（アネルバ株式会社製、商品名スーパーバックシール９５３−７０００）で貼り付けてサンプルとした。
【００９５】
このようにして得た有機薄膜ＥＬ素子サンプルは、次のようにして評価を行った。ＤＣ駆動電源は直流定電流電源（アドバンテスト株式会社製、商品名マルチチャンネルカレントボルテージコントローラーＴＲ６１６３）を用い、発光波長のスペクトル測定およびＣＩＥ色度測定は瞬間マルチ測光システム（大塚電子株式会社製、MCPD5000）により測定し、輝度は輝度計（東京光学機械株式会社製、商品名トプコンルミネセンスメーターＢＭ−８）によって測定した。輝度ムラ、黒点（非発光部）等の発光画像品質は、５０倍の光学顕微鏡により観察した。
【００９６】
初期の評価は素子の蒸着後ガラス蓋を接着してから１２時間後に常温常湿の通常の実験室環境で行い、発光色度ＣＩＥ（Ｘ，Ｙ）、発光効率（ｃｄ／Ａ）、１００ｃｄ／ｍ2発光時の駆動電圧を評価した。また初期輝度が１００ｃｄ／ｍ2となる電流値で、常温常湿の通常の実験室環境で直流定電流駆動で連続発光試験を行った。この試験から色度が変化するか、輝度が半減（５０ｃｄ／ｍ2 ）に達した時間を寿命として評価した。これらの評価結果を（表１）に示す。
【００９７】
【表１】
0003656608.tif 000002
【００９８】
本実施例によれば、色純度が良く、高い発光効率を有し、低い駆動電圧で自発光で視認性に優れた発光が得られ、連続発光試験においても輝度低下が小さく、色度の変化が無い、少ない消費電力で、極めて長期間にわたって安定して使用できる有機薄膜ＥＬ素子を実現できた。
【００９９】
（実施例２）
実施例１の非発光性電子輸送層の形成において、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（関東化学株式会社製）の代わりに、テトラシアノエチレン（関東化学株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１００】
（実施例３）
実施例１の正孔輸送層と発光層との間に、新たな発光層として１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）とＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）を、それぞれ０．１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約１０ｎｍに形成した。
【０１０１】
それ以外の構成は全て実施例１と同様にして、有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１０２】
（実施例４）
実施例３の非発光性電子輸送層の形成において、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（関東化学株式会社製）の代わりに、テトラシアノエチレン（関東化学株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして、有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１０３】
（実施例５）
実施例３の発光層である１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン層と、非発光性電子輸送層である７，７，８，８−テトラシアノキノジメタンの代わりに、新たな発光層として、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）と７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（関東化学株式会社製）を、それぞれ０．１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約１０ｎｍに形成した。
【０１０４】
それ以外の構成は全て実施例３と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１０５】
（実施例６）
実施例５の新たな発光層において、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（関東化学株式会社製）の代わりに、テトラシアノエチレン（関東化学株式会社製）を用いた以外は実施例５と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１０６】
（実施例７）
実施例１の発光層の形成において、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン層の代わりに、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）とＣｏｕｍａｒｉｎ５４０（ＬａｍｂｄａＰｈｙｓｉｋ株式会社製）を、それぞれ０．１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約１０ｎｍに形成した。
【０１０７】
それ以外の構成は全て実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１０８】
（実施例８）
実施例７の非発光性電子輸送層として、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（関東化学株式会社製）の代わりに、テトラシアノエチレン（関東化学株式会社製）を用いた以外は実施例７と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１０９】
（実施例９）
実施例１の非発光性電子輸送層である７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン層の代わりに、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）と７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（関東化学株式会社製）を、それぞれ０．１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約１０ｎｍに形成した。
【０１１０】
それ以外の構成は全て実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１１１】
（実施例１０）
実施例９の７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（関東化学株式会社製）の代わりに、テトラシアノエチレン（関東化学株式会社製）を用いた以外は実施例９と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１１２】
（実施例１１）
実施例１の電子輸送層の形成において、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム(同仁化学株式会社製)の代わりに、トリス（４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム（ケミプロ化成株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１１３】
（実施例１２）
実施例２の電子輸送層の形成において、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム(同仁化学株式会社製)の代わりに、トリス（４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム（ケミプロ化成株式会社製）を用いた以外は実施例２と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１１４】
（実施例１３）
実施例３の新たな発光層の形成において、Ｎ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）の代わりに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（同仁化学株式会社製）を用いた以外は実施例３と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１１５】
（実施例１４）
実施例４の新たな発光層の形成において、Ｎ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）の代わりに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（同仁化学株式会社製）を用いた以外は実施例４と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１１６】
（実施例１５）
実施例７の非発光性電子輸送層として用いた７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン層５ｎｍの代わりに、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）を１０ｎｍの膜厚に形成した以外は実施例７と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１１７】
（実施例１６）
実施例１の発光層として設けた１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン層１０ｎｍの代わりに、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）とＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン(保土ヶ谷化学株式会社製)を、各々０．１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約１０ｎｍに形成し、さらに続けて、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）とテトラフェニルエチレン(関東化学株式会社製)を、それぞれ０．１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約１０ｎｍに形成した。
【０１１８】
それ以外は実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１１９】
（実施例１７）
実施例１５の発光層として設けた１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＣｏｕｍａｒｉｎ５４０との共蒸着層１０ｎｍの代わりに、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）とＮ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）を、それぞれ０．１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約１０ｎｍに形成した。
【０１２０】
それ以外は実施例１５と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１２１】
（実施例１８）
実施例１５の発光層として設けた１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエンとＣｏｕｍａｒｉｎ５４０との共蒸着層１０ｎｍの代わりに、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン（関東化学株式会社製）とＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（同仁化学株式会社製）を、それぞれ０．１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約１０ｎｍに形成した。
【０１２２】
それ以外は実施例１５と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１２３】
（実施例１９）
実施例３の電子輸送層の形成において、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム層の膜厚を２５ｎｍの代わりに、２０ｎｍとした以外は実施例３と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１２４】
（実施例２０）
実施例３の電子輸送層の形成において、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム層の膜厚を２５ｎｍの代わりに、３０ｎｍとした以外は実施例３と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１２５】
（実施例２１）
実施例３の正孔輸送層の形成に続いて、発光層形成の前に、Ｎ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）を０．３ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約５ｎｍに形成した以外は実施例３と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１２６】
（実施例２２）
実施例４の正孔輸送層の形成に続いて、発光層形成の前に、Ｎ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）を０．３ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約５ｎｍに形成した以外は実施例４と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１に記載のように評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１２７】
（比較例１）
実施例１において、非発光性電子輸送層（７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン層５ｎｍ）を形成せず、また電子輸送層（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム層２５ｎｍ）を膜厚１５ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１と同様に評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１２８】
（比較例２）
実施例１において、非発光性電子輸送層（７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン層５ｎｍ）を形成せず、また電子輸送層（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム層２５ｎｍ）を膜厚２０ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１と同様に評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１２９】
（比較例３）
実施例１において、非発光性電子輸送層（７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン層５ｎｍ）を形成せず、また電子輸送層（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム層２５ｎｍ）を膜厚２５ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１と同様に評価を行った。その結果を（表１）に示す。
【０１３０】
（比較例４）
実施例１において、非発光性電子輸送層（７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン層５ｎｍ）を形成せず、また電子輸送層（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム層２５ｎｍ）を膜厚３０ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例１と同様に評価を行った。その結果を（表１）に示す。（表１）において各実施例および比較例の素子構成は略号によって略記されており、
「ＴＰＴ」は、Ｎ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン、
「ＴＰＤ」は、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、
「ＰＳ」は、４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベン、
「ＴＰＢ」は、１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン、
「ＴＰＥ」は、テトラフェニルエチレン、
「Ｃ５４０」は、Ｃｏｕｍａｒｉｎ５４０
「ＴＣＮＱ」は、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、
「ＴＣＮＥ」は、テトラシアノエチレン、
「Ａｌｑ3」は、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム、
「Ａｌｍｑ3」は、トリス（４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム、
を表し、左から積層構成を表す記号として／で区切ってＩＴＯ電極側から順に記載した。（）内の数字は膜厚をｎｍで示し、＋は共蒸着を示す。
【０１３１】
（実施例２３）
透明基板上に正孔注入電極を形成した基板として、市販のＩＴＯ付きガラス基板（三容真空株式会社製、サイズ１００×１００ｍｍ×ｔ＝０．７ｍｍ、シート抵抗約１４Ω／□）を用い、電子注入電極との重なりにより発光可能面積が７０×７０ｍｍとなるようにフォトリソグラフィーによりパターン化した。フォトリソ後の基板処理は市販のレジスト剥離液（ジメチルスルホキシドとｎメチル２ピロリドンとの混合溶液）に浸漬して剥離を行った後、アセトンでリンスし、さらに発煙硝酸中に１分間浸漬して完全にレジストを除去した。ＩＴＯ表面の洗浄は、基板の裏面表面の両面を十分に行い、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．２３８％水溶液を十分に供給しながら、ナイロンブラシによる機械的な擦り洗浄を行った。その後、純水で十分にすすぎ、スピン乾燥を行った。
【０１３２】
このようにして作製した正孔注入電極の上に、絶縁層を次のように形成した。ポジ型フォトレジスト（東京応化工業株式会社製ＯＦＰＲ５０００）を専用シンナーで希釈してスピナーで塗布した。露光前のプリベークとして１３０℃１５分間のオーブン加熱を行った後、発光パターンに対応したマスクを用いて露光し、現像して発光パターンに対応したレジスト膜を得た。さらに１８０℃３０分間のオーブン加熱を行って、膜厚約０．１μｍのパターン化されたフォトレジスト層（絶縁層）を得た。
【０１３３】
発光パターンに対応したマスクは、市販のプリンター（アルプス電機株式会社製ＭＤ２０００）でＯＨＰシートに６００ｄｐｉの解像度で黒色プリントしたものを用いた。
【０１３４】
次に、再度基板の裏面表面の両面を、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．２３８％水溶液を十分に供給しながら、ナイロンブラシによる機械的な擦り洗浄を行った。その後、純水で十分にすすぎ、スピン乾燥を行った。
【０１３５】
また発光機能層の蒸着前には、市販のプラズマリアクター（ヤマト科学株式会社製、ＰＲ４１型）中で、酸素流量２０ｓｃｃｍ、圧力０．２Ｔｏｒｒ、高周波出力３００Ｗの条件で１分間の酸素プラズマ処理を行ってから、蒸着槽内に配置した。
【０１３６】
真空蒸着装置は市販の高真空蒸着装置（日本真空技術株式会社製、ＥＢＶ−６ＤＡ型）を改造した装置を用いた。主たる排気装置は排気速度１５００リットル／ｍｉｎのターボ分子ポンプ（大阪真空株式会社製、ＴＣ１５００）であり、到達真空度は約１×１０-6Ｔｏｒｒ以下であり、全ての蒸着は２〜３×１０-6Ｔｏｒｒの範囲で行った。また全ての蒸着はタングステン製の抵抗加熱式蒸着ボートに直流電源（菊水電子株式会社製、ＰＡＫ１０−７０Ａ）を接続して行った。
【０１３７】
このようにして真空層中に配置したＩＴＯ付きガラス基板上に、正孔輸送層として、Ｎ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）と、４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベンを、それぞれ０．３ｎｍ／ｓおよび０．０１ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約８０ｎｍに形成した。
【０１３８】
次に、発光層（発光性電子輸送層）としてトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（同仁化学株式会社製）を０．３ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約４０ｎｍに形成した。
【０１３９】
次に、電子注入電極として、ＡｌＬｉ合金（高純度化学株式会社製、Ａｌ／Ｌｉ重量比９９／１）から低温でＬｉのみを、約０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約１ｎｍに形成し、続いて、そのＡｌＬｉ合金をさらに昇温しＬｉが出尽くした状態から、Ａｌのみを、約１．５ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約１００ｎｍに形成し、積層型の電子注入電極とした。
【０１４０】
このようにして作成した有機薄膜ＥＬ素子は、蒸着槽内を乾燥窒素でリークした後、乾燥窒素雰囲気下で、コーニング７０５９ガラス製の蓋を接着剤（アネルバ株式会社製、商品名スーパーバックシール９５３−７０００）で貼り付けてサンプルとした。
【０１４１】
このようにして得た有機薄膜ＥＬ素子サンプルは、市販の小型ボタン電池（３Ｖ×２個）で駆動し、明るく視認性に優れ、低消費電力で長寿命なだけでなく、用いた６００ｄｐｉのマスクパターンに極めて忠実な、通常の印刷物に匹敵する優れた解像度のパターン発光を得ることができた。発光輝度は６Ｖで３００ｃｄ／ｍ2、輝度半減寿命は５０００時間以上であった。
【０１４２】
また発光パターン情報は非発光時にはほとんど見えず、判読は極めて困難であり、通電の有無のみで情報の表示・非表示を切りかえれるものであった。
【０１４３】
このように本実施例によれば、高い発光効率で、低い駆動電圧で自発光で視認性に優れた発光が得られ、また極めて高解像度で忠実な発光パターンが再現性良く得られ、且つ連続発光試験においても輝度低下が小さく、少ない消費電力で、極めて長期間にわたって安定して使用できる有機薄膜ＥＬ素子を実現できるものである。
【０１４４】
（比較例５）
実施例２３において、パターン化絶縁層(フォトレジスト)の現像後、１８０℃３０分間の硬化を行わず、代わりに通常のポストベークとして１３５℃３０分の乾燥を行った以外は実施例２３と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例２３と同様に発光させた。
【０１４５】
このようにして得た有機薄膜ＥＬ素子サンプルは、同じ電池による駆動ではほとんど発光せず、通常の直流電源による駆動でも発光効率が低く、発光を得るのに極めて高い電圧が必要であった。発光輝度は、１２Ｖで１００ｃｄ／ｍ2 であった。
【０１４６】
また発光パターン情報は実施例２３と同様に、非発光時にはほとんど見えず、判読は極めて困難であり、通電の有無のみで情報の表示・非表示を切りかえれるものであった。
【０１４７】
（比較例６）
実施例２３において、パターン化絶縁層（フォトレジスト）の膜厚０．１μｍの代わりに、膜厚０．３μｍに形成を行った以外は実施例２３と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例２３と同様に発光させた。
【０１４８】
このようにして得た有機薄膜ＥＬ素子サンプルは、初期においては実施例２３と同様の優れた発光状態が得られるものもあったが、発光を続けていると部分的に陰極が劣化し非発光となる部分が増加し、数時間で相当の部分が非発光となった。またサンプルによっては初期から非発光部分のあるものや、正負電極の短絡により全く発光しないものも多かった。
【０１４９】
また本素子が非発光の時もパターンが容易に判読することが出来る状態であり、通電の有無のみで情報の表示・非表示を切り替えることが出来なかった。
【０１５０】
（比較例７）
実施例２３において、パターン化絶縁層（フォトレジスト）の膜厚０．１μｍの代わりに、膜厚０．０１μｍに形成を行った以外は実施例２３と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例２３と同様に発光させた。
【０１５１】
このようにして得た有機薄膜ＥＬ素子サンプルは、パターンとしては非発光であるべきところの多くが発光し、極めて表示品質が低下した判読しにくいものであった。発光の輝度および寿命においては実施例２３と同様に良好であった。
【０１５２】
また発光パターン情報は実施例２３と同様に、非発光時にはほとんど見えず、判読は極めて困難であったが、前述のように発光時も本来非発光であるべき部分の発光により判読が困難であった。
【０１５３】
（実施例２４）
透明基板として、ガラス基板（コーニング１７３７）を用い、通常の低温ポリシリコンＴＦＴの作製プロセスを用いて、駆動手段を次のように作製した。
【０１５４】
画素数は縦４８０、横６４０のＶＧＡとし、各画素毎に透明電極としてＩＴＯ膜を形成した。ＩＴＯ電極と正電極ライン間には駆動用薄膜トランジスタとしてＷ＝３０μｍ、Ｌ＝３μｍのｐ型低温ポリシリコン薄膜トランジスタを形成して接続した。また、このゲート電極と正電極ライン間には０．２ｐＦのメモリー容量を設けた。
【０１５５】
また、このメモリー容量と並列に前記の駆動用薄膜トランジスタのｐ型チャネル層形成と同時に、同条件で抵抗層を形成した。抵抗層の抵抗値は厚さ、幅、長さが一定であっても移動度の差などの成膜バラツキにより異なるが、全画素の平均値で１０ＧΩとなるように形成した。
【０１５６】
また、各画素の発光情報を一定の時間毎にメモリー容量を充放電させることにより書き込むため、各画素毎に順次情報書き込み用薄膜トランジスタとしてＷ＝３μｍ、Ｌ＝３μｍのｐ型低温ポリシリコン薄膜トランジスタを形成して、同トランジスタのゲートを走査電極に、ソースをデータ（ソース）電極に、ドレインを前記駆動用薄膜トランジスタのゲートに接続した。
【０１５７】
このようにして作製した駆動手段の上に、前記のＩＴＯ電極部のみを開口部として残して絶縁膜を形成した。
【０１５８】
次に、この基板を洗浄した後、市販のプラズマリアクター（ヤマト科学株式会社製、ＰＲ４１型）中で、酸素流量２０ｓｃｃｍ、圧力０．２Ｔｏｒｒ、高周波出力３００Ｗの条件で１分間の酸素プラズマ処理を行ってから、蒸着槽内に配置した。
【０１５９】
真空蒸着装置は市販の高真空蒸着装置（日本真空技術株式会社製、ＥＢＶ−６ＤＡ型）を改造した装置を用いた。主たる排気装置は排気速度１５００リットル／ｍｉｎのターボ分子ポンプ（大阪真空株式会社製、ＴＣ１５００）であり、到達真空度は約１×１０-6Ｔｏｒｒ以下であり、全ての蒸着は２〜３×１０-6Ｔｏｒｒの範囲で行った。また全ての蒸着はタングステン製の抵抗加熱式蒸着ボートに直流電源（菊水電子株式会社製、ＰＡＫ１０−７０Ａ）を接続して行った。
【０１６０】
このようにして真空層中に配置した駆動手段形成後のガラス基板上に、正孔輸送層として、Ｎ，Ｎ’−ビス（４’−ジフェニルアミノ−４−ビフェニリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（保土ヶ谷化学株式会社製）と、４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベンを、それぞれ０．３ｎｍ／ｓおよび０．０１ｎｍ／ｓの蒸着速度で共蒸着して膜厚約８０ｎｍに形成した。
【０１６１】
次に、発光層（発光性電子輸送層）としてトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（同仁化学株式会社製）を０．３ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約４０ｎｍに形成した。
【０１６２】
次に、電子注入電極として、ＡｌＬｉ合金（高純度化学株式会社製、Ａｌ／Ｌｉ重量比９９／１）から低温でＬｉのみを、約０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約１ｎｍに形成し、続いて、そのＡｌＬｉ合金をさらに昇温しＬｉが出尽くした状態から、Ａｌのみを、約１．５ｎｍ／ｓの蒸着速度で膜厚約１００ｎｍに形成し、積層型の電子注入電極とした。
【０１６３】
このようにして作成した有機薄膜ＥＬ素子は、蒸着槽内を乾燥窒素でリークした後、乾燥窒素雰囲気下で、コーニング７０５９ガラス製の蓋を接着剤（アネルバ株式会社製、商品名スーパーバックシール９５３−７０００）で貼り付けてサンプルとした。
【０１６４】
このようにして得た有機薄膜ＥＬ素子サンプルは、電子注入電極を接地し、正電極ラインに７Ｖの直流電圧を印加し、走査電極を順に走査して、データ（ソース）電極に各画素の発光情報に対応した電圧を与えて発光させた。走査は横一行毎に順に縦方向に４８０行の走査を行った。走査の繰り返し周波数（フレームレート）は１００Ｈｚとし、データ（ソース）電極に与える各画素の発光情報に対応した電圧値は発光の階調情報に対応した２５６段階の直流電圧を与えた。
【０１６５】
このようにして発光させたＶＧＡサイズの有機薄膜ＥＬ素子は、全画素に同一のデータを与えた場合には、輝度ムラや発光の不均一が無く、２５６段階の階調信号を与えた場合には、信号に忠実な発光が得られた。また全画素最大輝度で点灯時のパネルの輝度は３００ｃｄ／ｍ2 であり、直流７Ｖの駆動で高い発光輝度が得られた。また連続点灯時の寿命は５０００時間以上であった。
【０１６６】
このように本実施例によれば、表示が多くの画素から構成される場合であっても、高い発光効率で、低い駆動電圧で自発光で視認性に優れた発光が得られ、またムラなどの不均一の無い極めて一様性に優れた発光が得られ、また２５６階調の高い階調再現性が得られた。また連続発光試験においても輝度低下が小さく、少ない消費電力で、極めて長期間にわたって安定して使用できる有機薄膜ＥＬ素子を実現できるものである。
【０１６７】
（比較例８）
実施例２４において、メモリー容量と並列に抵抗層を形成しない以外は全て実施例２４と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例２４と同様に発光させた。
【０１６８】
このようにして発光させたＶＧＡサイズの有機薄膜ＥＬ素子は、全画素に同一データを与えた場合にもは、輝度ムラや発光の不均一が認められ、２５６段階の階調信号を与えた場合にも、階調の再現性が悪く、極めて低品質な表示画像しか得られなかった。また全画素最大輝度で点灯時のパネルの輝度は高い部分では５００ｃｄ／ｍ2を超える一方、低い部分は５０ｃｄ／ｍ2以下であった。
【０１６９】
（実施例２５）
実施例２４と駆動手段および有機薄膜ＥＬ素子は同様に作製し、駆動方法も実施例２４と同様に正電極ラインに７Ｖの直流電圧を印加し、走査電極を順に走査して、データ（ソース）電極に各画素の発光情報に対応した電圧を与えて発光させた。階調の表現方法のみ、実施例２４の方法の代わりに、データ（ソース）電極には常に発光または非発光に対応する電圧を与えることとし、走査速度を速くしてサブフィールド法により階調制御を行った。
【０１７０】
このようにして発光させたＶＧＡサイズの有機薄膜ＥＬ素子は、全画素が同じ明るさとなるように駆動した場合には、輝度ムラや発光の不均一が無く、２５６段階の階調をサブフィールド法で与えた場合には信号に忠実な発光が得られた。また全画素最大輝度で点灯時のパネルの輝度は２５０ｃｄ／ｍ2 であり、直流７Ｖの駆動で高い発光輝度が得られた。また連続点灯時の寿命は５０００時間以上であった。
【０１７１】
（比較例９）
実施例２５において、メモリー容量と並列に抵抗層を形成しない以外は全て実施例２５と同様にして有機薄膜ＥＬ素子サンプルを作成し、実施例２５と同様に発光させた。
【０１７２】
このようにして発光させたＶＧＡサイズの有機薄膜ＥＬ素子は、全画素に同一の条件で駆動した場合にも、輝度ムラや発光の不均一が認められ、２５６段階の階調をサブフィールド法で与えた場合にも、階調の再現性が悪く、極めて低品質な表示画像しか得られなかった。また全画素をフルフィールドで点灯時のパネルの輝度は高い部分では４００ｃｄ／ｍ2を超える一方、低い部分は５０ｃｄ／ｍ2以下であった。
【０１７３】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、色純度が良く、高い発光効率を有し、低い駆動電圧で自発光で視認性に優れた発光が得られ、連続発光試験においても輝度低下が小さく、色度の変化が無い、少ない消費電力で、極めて長期間にわたって安定して使用できる有機薄膜ＥＬ素子を実現できるものである。
【０１７４】
また、透明基板上に正孔注入電極と電子注入電極と、少なくとも前記正孔注入電極と電子注入電極との間に設けられた絶縁層と発光機能層を有し、前記絶縁層が像情報に対応してパターン形成されたフォトレジスト層としたことによって、高い発光効率で、低い駆動電圧で自発光で視認性に優れた発光が得られ、また極めて高解像度で忠実な発光パターンが再現性良く得られ、且つ連続発光試験においても輝度低下が小さく、少ない消費電力で、極めて長期間にわたって安定して使用できる有機薄膜ＥＬ素子を実現できるものである。
【０１７５】
また、正孔注入電極と電子注入電極との間に電圧を加えることで電流を流し、発光を得る有機薄膜ＥＬ素子の駆動方法であって、電源の片方の極と有機薄膜ＥＬ素子の片方の極を接続するとともに、それぞれの他方の極を薄膜トランジスタを介して接続し、且つ当該トランジスタのゲート電圧保持用のメモリー容量を有し、一定の時間間隔毎に発光強度の情報または発光非発光の情報を当該メモリー容量に充放電させることにより書き込んで、発光状態を制御する駆動方法において、当該メモリー容量と並列に前記薄膜トランジスタのチャネル層と同時に同じ成膜条件で作成した層を抵抗として配置したことによって、表示が多くの画素から構成される場合であっても、高い発光効率で、低い駆動電圧で自発光で視認性に優れた発光が得られ、またムラなどの不均一の無い極めて一様性に優れた発光が得られ、また２５６階調の高い階調再現性が得られた。また連続発光試験においても輝度低下が小さく、少ない消費電力で、極めて長期間にわたって安定して使用できる有機薄膜ＥＬ素子を実現できるものである。