【手続補正書】
【提出日】令和3年4月5日(2021.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１開口が形成され、前記複数の第１開口を荷電粒子ビームが通過することによりマルチビームを形成する成形アパーチャ基板と、
前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオンオフを切り替える複数のブランカが配置されたブランキングアパーチャアレイ機構と、
描画対象の基板が載置される移動可能なステージと、
前記ステージに設けられ、前記マルチビームのうち１本のビームを通過させるように第２開口が設けられた検査アパーチャと、
前記検査アパーチャの前記第２開口を通過したビームの電流量を検出する電流検出器と、
前記マルチビームを偏向し、前記マルチビームのうち１本のビームを、前記第２開口の周辺を含む領域の所定位置となるように偏向制御する偏向器と、
前記電流検出器で検出されたビーム電流よりビーム位置を求める演算部と、
を備え、
前記所定位置は、前記第２開口の縁部で前記１本のビームの第１部分が遮蔽され、該１本のビームの第２部分が該第２開口を通過する位置であり、
前記電流検出器は前記第２開口を通過した前記１本のビームの前記第２部分の電流量を検出し、
前記演算部は、前記第２部分の電流量の検出結果に基づいて前記１本のビームの振動を算出する、マルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記所定位置は、前記第２開口の縁部で前記１本のビームの第１方向の一半側が遮蔽される位置、及び前記第２開口の縁部で前記１本のビームの該第１方向と直交する第２方向の一半側が遮蔽される位置を含むことを特徴とする請求項１に記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記所定位置は、前記１本のビームの全体が前記第２開口を通過する位置、及び前記１本のビームの全体が前記検査アパーチャで遮蔽される位置を含むことを特徴とする請求項１に記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
複数の第１開口が形成され、前記複数の第１開口を荷電粒子ビームが通過することによりマルチビームを形成する成形アパーチャ基板と、
前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオンオフを切り替える複数のブランカが配置されたブランキングアパーチャアレイ機構と、
描画対象の基板が載置される移動可能なステージと、
前記ステージに設けられ、前記マルチビームのうち１本のビームを通過させるように第２開口が設けられた検査アパーチャと、
前記検査アパーチャの前記第２開口を通過したビームの電流量を検出する電流検出器と、
前記マルチビームを偏向し、前記マルチビームのうち１本のビームを、前記第２開口の周辺を含む領域の所定位置となるように偏向制御する偏向器と、
前記電流検出器で検出されたビーム電流よりビーム位置を求める演算部と、
を備え、
前記ブランキングアパーチャアレイ機構が、前記１本のビームとは異なる複数のビームを所定の周波数でオンオフを切り替え、
前記偏向器は、前記１本のビームを前記第２開口の所定位置に偏向制御し、
前記演算部は、前記電流検出器で検出された電流量より、前記所定の周波数のノイズの有無を求めることを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
荷電粒子ビームを放出する工程と、
成形アパーチャ基板に設けられた複数の第１開口を前記荷電粒子ビームが通過することによりマルチビームを形成する工程と、
複数のブランカを用いて、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオンオフを切り替える工程と、
描画対象の基板が載置されるステージに設けられ、前記マルチビームのうち１本のビームを通過させる第２開口の所定位置であって、該第２開口の縁部で前記１本のビームの第１部分が遮蔽され、該１本のビームの第２部分が該第２開口を通過する位置にビームを偏向制御する工程と、
前記第２開口を通過した前記１本のビームの前記第２部分の電流量を検出する工程と、
検出した前記第２部分の電流量に基づいて、前記１本のビームの振動を算出する工程と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置のビーム評価方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一態様によるマルチ荷電粒子ビーム描画装置は、複数の第１開口が形成され、前記複数の第１開口を荷電粒子ビームが通過することによりマルチビームを形成する成形アパーチャ基板と、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオンオフを切り替える複数のブランカが配置されたブランキングアパーチャアレイ機構と、描画対象の基板が載置される移動可能なステージと、前記ステージに設けられ、前記マルチビームのうち１本のビームを通過させるように第２開口が設けられた検査アパーチャと、前記検査アパーチャの前記第２開口を通過したビームの電流量を検出する電流検出器と、前記マルチビームを偏向し、前記マルチビームのうち１本のビームを、前記第２開口の周辺を含む領域の所定位置となるように偏向制御する偏向器と、前記電流検出器で検出されたビーム電流よりビーム位置を求める演算部と、を備え、前記所定位置は、前記第２開口の縁部で前記１本のビームの第１部分が遮蔽され、該１本のビームの第２部分が該第２開口を通過する位置であり、前記電流検出器は前記第２開口を通過した前記１本のビームの前記第２部分の電流量を検出し、前記演算部は、前記第２部分の電流量の検出結果に基づいて前記１本のビームの振動を算出するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一態様によるマルチ荷電粒子ビーム描画装置において、前記所定位置は、前記第２開口の縁部で前記１本のビームの第１方向の一半側が遮蔽される位置、及び前記第２開口の縁部で前記１本のビームの該第１方向と直交する第２方向の一半側が遮蔽される位置を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一態様によるマルチ荷電粒子ビーム描画装置において、前記所定位置は、前記１本のビームの全体が前記第２開口を通過する位置、及び前記１本のビームの全体が前記検査アパーチャで遮蔽される位置を含む。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一態様によるマルチ荷電粒子ビーム描画装置は、複数の第１開口が形成され、前記複数の第１開口を荷電粒子ビームが通過することによりマルチビームを形成する成形アパーチャ基板と、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオンオフを切り替える複数のブランカが配置されたブランキングアパーチャアレイ機構と、描画対象の基板が載置される移動可能なステージと、前記ステージに設けられ、前記マルチビームのうち１本のビームを通過させるように第２開口が設けられた検査アパーチャと、前記検査アパーチャの前記第２開口を通過したビームの電流量を検出する電流検出器と、前記マルチビームを偏向し、前記マルチビームのうち１本のビームを、前記第２開口の周辺を含む領域の所定位置となるように偏向制御する偏向器と、前記電流検出器で検出されたビーム電流よりビーム位置を求める演算部と、を備え、前記ブランキングアパーチャアレイ機構が、前記１本のビームとは異なる複数のビームを所定の周波数でオンオフを切り替え、前記偏向器は、前記１本のビームを前記第２開口の所定位置に偏向制御し、前記演算部は、前記電流検出器で検出された電流量より、前記所定の周波数のノイズの有無を求めるものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の一態様によるマルチ荷電粒子ビーム描画装置のビーム評価方法は、荷電粒子ビームを放出する工程と、成形アパーチャ基板に設けられた複数の第１開口を前記荷電粒子ビームが通過することによりマルチビームを形成する工程と、複数のブランカを用いて、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオンオフを切り替える工程と、描画対象の基板が載置されるステージに設けられ、前記マルチビームのうち１本のビームを通過させる第２開口の所定位置であって、該第２開口の縁部で前記１本のビームの第１部分が遮蔽され、該１本のビームの第２部分が該第２開口を通過する位置にビームを偏向制御する工程と、前記第２開口を通過した前記１本のビームの前記第２部分の電流量を検出する工程と、検出した前記第２部分の電流量に基づいて、前記１本のビームの振動を算出する工程と、を備えるものである。