(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複合酸化物高誘電体膜を用いたコンデンサを含む薄膜多層回路基板であって、
該コンデンサを構成する複合酸化物高誘電体膜と、貴金属層からなる上部電極との間に、該上部電極の面積より小さく、複数の領域に分散して形成された金属接着層が挿入された構造を有することを特徴とする薄膜多層回路基板。
【請求項２】
複合酸化物高誘電体膜を用いたコンデンサを含む薄膜多層回路基板の製造方法において、
基板上に該コンデンサを構成する複合酸化物高誘電体膜を形成する工程と、
該複合酸化物高誘電体膜上に金属接着層を形成する工程と、
該金属接着層を挟んで、該複合酸化物高誘電体膜上に貴金属層からなる上部電極を形成する工程とを含み、
前記金属接着層の面積は前記上部電極の面積より小さく、且つ前記金属接着層は複数の領域に分散して形成することを特徴とする薄膜多層回路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子機器に用いられる多層回路基板に関する。
近年、マルチチップモジュール（ＭＣＭ）用の薄膜多層回路基板において、セラミックス、金属等の支持基板上に銅／ポリイミド薄膜多層回路を形成したＭＣＭ−Ｄ基板が主流となっている。
【０００２】
【従来の技術】
ＭＣＭにおける電源電圧変動の防止対策として、現在、デカップリングコンデンサとしてチップコンデンサをＬＳＩチップの近くに実装を行っている。
【０００３】
しかし、チップコンデンサの場合、ＬＳＩチップとコンデンサ間のリードインダクタンスの存在によって、電源電圧変動の防止効果が薄れてくる。
また、一つのモジュール上のＬＳＩチップ数が増加すると、チップコンデンサの占める実装面積が増えて、ＭＣＭの小型化の妨げになる等の問題がある。
【０００４】
そこで、ＭＣＭ基板に大容量の薄膜コンデンサ（１００ｎＦ以上／ｃｍ2 ）を内蔵することが可能となれば、以上の問題点が解消される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
この薄膜コンデンサを内蔵した薄膜多層ＭＣＭ基板において、内蔵されるべき薄膜コンデンサ部は、一般に下部電極、誘電体層、上部電極の三層から構成されている。大容量薄膜コンデンサを実現するための誘電体層としては、例えば、  ＳｒＴｉＯ3 のような複合酸化物高誘電体膜が用いられる。
【０００６】
これらの複合酸化物高誘電体膜の作製にあたっては、高い結晶性を達成するために高温の基板加熱を必要とする。また、下部電極としては、白金（Ｐｔ）が用いられる。Ｐｔを用いるのは、酸化、界面反応等による低誘電率層の形成を防止するため、結晶性をより高めるためである。また、上部電極としてはＰｔ、Ａｕを用いる。これらの貴金属を用いるのは、誘電体セラミックスとの界面反応による低誘電率層の形成を防止するためである。
【０００７】
しかしながら、ＳｒＴｉＯ3 等の複合酸化物高誘電体膜と、上部電極である貴金属層は一般に密着性に乏しい。薄膜コンデンサ部には、後工程である絶縁層および薄膜配線層形成時に熱ストレスが加わる。このとき、複合酸化物高誘電体膜と上部電極との間で剥離が発生し、薄膜コンデンサとしての性能が著しく低下してしまう。
【０００８】
本発明は、複合酸化物高誘電体膜上に貴金属層を密着性良く形成する方法を得ることを目的として提供される。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
図１は本発明の原理説明図であり、コンデンサ特性評価用試料の構成を示す。
図において、１は複合酸化物高誘電体膜、２は貴金属層、３は金属接着層である。
【００１０】
本発明では、図１に示すように、コンデンサを構成する誘電体としての複合酸化物高誘電体膜１と上部電極である貴金属層２との間に、それぞれとの密着性に優れた金属接着層３を挿入することにより、複合酸化物高誘電体膜１より上部電極の剥離を防止する。複合酸化物高誘電体膜１と上部電極との剥離を防止する金属接着層３としては、Ｔｉ、Ｃｒ等の密着性に優れた金属を用いる。
【００１１】
このとき、複合酸化物高誘電体膜１と貴金属層２の接している面全域に渡って金属接着層３を設けることは、金属接着層３の酸化による低誘電率層の生成によって、実効誘電率の著しい低下を招くため好ましくない。そこで、複合酸化物高誘電体膜１と貴金属層２の接している面に部分的に金属接着層３を挟む。
【００１２】
以上の構成により、本発明の金属接着層は、実効誘電率の低下を最少限に抑えつつ、複合酸化物高誘電体膜と貴金属層との間の剥離を防止する接着剤として作用する。
【００１３】
すなわち、本発明の目的は、図１に示すように、複合酸化物高誘電体膜１を用いたコンデンサを含む薄膜多層回路基板において、コンデンサを構成する複合酸化物高誘電体膜１と、貴金属層２からなる上部電極との間に、上部電極の面積より小さく、複数の領域に分散して形成された金属接着層３が挿入された構造を有することにより、
そのため、複合酸化物高誘電体膜１を用いたコンデンサを含む薄膜多層回路基板の製造方法において、基板上にコンデンサを構成する複合酸化物高誘電体膜１を形成する工程と、複合酸化物高誘電体膜１上に金属接着層３を形成する工程と、金属接着層３を挟んで、複合酸化物高誘電体膜１上に貴金属層２からなる上部電極を形成する工程とを含み、前記金属接着層の面積は前記上部電極の面積より小さく、且つ前記金属接着層は複数の領域に分散して形成することにより達成される。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図２〜図３は本発明の一実施例の薄膜多層回路基板の断面図である。
図において、４は窒化アルミニウム（ＡｌＮ）基板、５はクロム（Ｃｒ）膜、６はチタン（Ｔｉ）膜、７は白金（Ｐｔ）膜、８は接地層、９はＳｒＴｉＯ3 高誘電体膜、10はＴｉ膜、11は金（Ａｕ）膜、12はクロム膜、13は電源層、14はポリイミド膜、15は銅（Ｃｕ）プラグ、16は配線導体層、17は表面パッドである。
【００１５】
本発明による薄膜多層回路基板の一実施例を図２により説明する。
図２に示すように、誘電体としてＳｒＴｉＯ3 高誘電体膜を用いたコンデンサを内蔵する薄膜多層回路基板の製造方法は次の通りである。
【００１６】
先ず、図２（ａ）に示すように、ＡｌＮ基板４上にスパッタ法によりＣｒ膜５を５００Åの厚さに、Ｔｉ膜６を６００Åの厚さに、Ｐｔ膜７を２，０００Åの厚さに積層して成膜し、接地層８を得る。
【００１７】
次に、図２（ｂ）に示すように、スパッタ法によりＳｒＴｉＯ3 高誘電体膜９を５，０００Åの厚さに形成する。形成時には６００℃の加熱を要する。そして、フォトリソグラフィ法で誘電体膜のパターンを得る。
【００１８】
続いて、図２（ｃ）に示すように、本発明の金属接着層としてＴｉ膜10を５００Åの厚さにスパッタ法で形成した後、フォトリソグラフィ法でパターンを形成する。
【００１９】
図３（ｄ）に示すように、その上にＡｕ膜11を２０００Å、Ｃｒ膜12を５００Åの厚さに形成した後、フォトリソグラフィ法で電源層13のパターンを形成する。コンデンサ構成で上部電極となる電源層13と下部電極となる接地層８を構成する金属層をまとめて、図３（ｅ）に示す。
【００２０】
この後、図３（ｆ）に示すように、光硬化性のポリイミド樹脂溶液をスピンコート法により２μｍの厚さに成膜し、８０℃で２時間のプリキュアを行い、マスクを通した露光、現像と４００℃で３０分のキュアによって、ビアホールの開いたポリイミド膜14の層間絶縁層を得る。そしてビアホール内へはＣｕを電解または無電解めっきによって埋め込み、Ｃｕプラグ15を形成する。
【００２１】
更に、接地層８と同じ構成の配線導体層16と層間絶縁層となるポリイミド膜14を二層重ね、その上に接地層８を形成する。続いて、その上に層間絶縁層14と表面パッド17を形成して薄膜多層回路基板を得る。
【００２２】
尚、実施例において、ＡｌＮ基板４はアルミナやガラス、金属ベース絶縁基板などでも良く、ＳｒＴｉＯ3 高誘電体膜９も他の複合酸化物のＢａＴｉＯ3 や、（Ｂａ、Ｓｒ）ＴｉＯ3 、Ｐｂ（Ｚｒ、Ｔｉ）Ｏ3 などでも良く、更に、ポリイミド膜14の代わりに弗素樹脂やオレフィン樹脂を用いることが可能である。
【００２３】
また、ＳｒＴｉＯ3 高誘電体膜９の成膜方法としては、ＣＶＤ法、ゾル−ゲル法、ＭＯＤ法、レーザ・アブレーション法などでもよい。
【００２４】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明の薄膜多層回路基板は、内蔵する薄膜コンデンサの誘電体層と上部電極との密着不良による剥離を防止することができ、信頼性の高い薄膜多層回路基板を作製することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の原理説明図
【図２】  本発明の一実施例の工程順模式断面図（その１）
【図３】  本発明の一実施例の工程順模式断面図（その２）
【符号の説明】
図において
１  複合酸化物高誘電体膜
２  貴金属層
３  金属接着層
４  ＡｌＮ基板
５  Ｃｒ膜
６  Ｔｉ膜
７  Ｐｔ膜
８  接地層
９  ＳｒＴｉＯ3 高誘電体膜
10  Ｔｉ膜
11  Ａｕ膜
12  Ｃｒ膜
13  電源層
14  ポリイミド膜
15  Ｃｕプラグ
16  配線導体層
17  表面パッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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