(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対的に移動する記録媒体に近接あるいは接触して配置され、該記録媒体への近接点あるいは接触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生させることにより該記録媒体を磁化する磁気ヘッドにおいて、
前記一対の磁極に挟まれた位置に、該一対の磁極どうしの対向を遮る方向に広がる軟磁性膜と該軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互に積層されてなることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
相対的に移動する記録媒体に近接あるいは接触して配置され、該記録媒体への近接点あるいは接触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生させることにより該記録媒体を磁化する磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法において、
前記一対の磁極のうちの一方の磁極が形成される薄膜上に、軟磁性膜と該軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互に積層されてなる積層膜を成膜する積層膜成膜工程と、
前記積層膜成膜工程によって成膜されてなる積層膜の表面上に、レジストパターニングにより前記所定の幅にトリミングされてなる、前記一対の磁極のうちの他方の磁極を形成する磁極形成工程と、
前記積層膜成膜工程によって成膜された積層膜および前記磁極形成工程によって形成された前記他の１つの磁極にイオンミリングを施すことにより、該磁極をマスクとして該積層膜を前記所定の幅にトリミングするトリミング工程とを有することを特徴とする磁気ヘッド製造方法。
【請求項３】
表面の各点に磁化を担持して相対的に移動する記録媒体に近接あるいは接触して配置され、該記録媒体の磁化の方向を反転させる磁気ヘッドを備え、該磁化の方向を反転させることによって該記録媒体の各点に情報を記録する情報記録装置において、
前記磁気ヘッドが、
前記記録媒体への近接点あるいは接触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生させることにより該記録媒体を磁化する磁気ヘッドであって、
前記一対の磁極に挟まれた位置に、該一対の磁極どうしの対向を遮る方向に広がる軟磁性膜と該軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互に積層されてなることを特徴とする情報記録装置。
【請求項４】
前記磁気ヘッドによって前記一対の磁極どうしの間に発生された磁界が、前記記録媒体の表面の前記軟磁性膜への近接点あるいは接触点において該記録媒体の保磁力以上の磁界となるように、前記軟磁性膜の厚さが調整されてなるものであることを特徴とする請求項３記載の情報記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁界を発生して外部の媒体を磁化する磁気ヘッド、磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法、および媒体に情報を記録する情報記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、コンピュータの普及に伴って、日常的に多量の情報が取り扱われるようになっており、このような多量の情報を記録する情報記録装置の１つとして、ハードディスク装置（ＨＤＤ：Ｈａｒｄ  Ｄｉｓｋ  Ｄｒｉｖｅ）が使用されている。ＨＤＤは、通常、情報が記録されるディスク状の媒体である磁気ディスク、およびこの磁気ディスクに情報を記録する記録ヘッドを有する。
【０００３】
磁気ディスクは、表面が強磁性材料からなる強磁性層を有し、その強磁性層の各微小領域でそれぞれ独立して磁化を保持するものであり、またＨＤＤ内部で高速に回転させられる。記録ヘッドは、微小な記録コイルと一対の磁極とを有するものであり、通常、そのように高速に回転する磁気ディスクに近接して配置される。この一対の磁極は、磁気ディスクのトラックの延びる方向に所定の間隔（ギャップ長）で互いに対向しており、トラック幅方向にそのトラック幅相当の所定の幅を有する。上記記録コイルに信号電流が流されると、この記録コイルからその信号電流に応じて磁界が発生し、その磁界は上記一対の磁極から外部に漏れ出て、上記磁気ディスクの表面の各トラックの磁化を、上記ギャップ長に応じた微小な長さ単位で適宜反転させる。このような磁化の反転によって、情報が各微小領域における磁化の方向として記録される。
【０００４】
磁気ディスクにおける各微小領域のこのように方向付けられた磁化を保持するために、磁気ディスク表面の強磁性層は、所定の大きさ以上の保磁力Ｈcを有するものである必要がある。一方、この磁気ディスクに情報を記録する記録ヘッドは、磁気ディスクの各磁化を反転させるために、その磁気ディスクに、その強磁性層中での磁界（ヘッド磁界Ｈh）が磁気ディスクの保磁力Ｈcより強くなるような磁界を印加するものでなくてはならない。
【０００５】
この記録ヘッドから発生する磁界は、通常、記録対象となっているトラックの外側にも漏れ出てしまい、このように漏れ出た磁界は、そのトラックの外側の磁化の方向および大きさに影響を及ぼす。一般に、磁化の反転が起こる下限の磁界強度は磁気ディスクの保磁力Ｈcの１／２と考えられており、上述したように記録対象となっているトラックの外側に漏れ出た磁界の強度が、保磁力Ｈcの１／２以上となる範囲では、そのトラックの外側においても磁化が反転する記録にじみが生じうる。なお、記録にじみは、この範囲のうちの片側の範囲の、トラック幅方向への広がりによって大きさが定義される。この記録にじみは、一般にトラック幅が小さくなるほどトラック幅に対して相対的に大きくなるため、磁気ディスクに情報を高記録密度で記録するための障害となる。この記録にじみを低減させるためには、上記ギャップ長を減少させる方法があり、この方法によって記録対象となるトラックの外側への磁界の漏出が抑制される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ギャップ長を減少させると、記録対象となる各トラックにおける記録ヘッドによる磁化の反転が、そのギャップ長に応じた、トラック方向の狭い範囲で行われることになる。そして、その範囲が狭いほど、そのように反転した磁化の反磁界が増大するため、記録ヘッドから発生する磁界の強度がこの反磁界によって弱められる。このように磁界の強度が弱められると、磁化が反転した領域の境界である磁化転移点のシフト（ハードトランジションシフト：ＨＴＳ）が生じ、実際に磁化が反転される範囲（記録磁界が媒体Ｈcを超えている範囲）が狭まるため、記録ヘッドによる磁気ディスクへの情報の記録のオーバライト特性、すなわち、この磁気ディスクに情報を上書きした場合になお残留している上書き前の情報の再生出力に対する新たに記録された情報の再生出力の大きさの比が悪化する。このように、従来の記録ヘッドでは、小さな記録にじみと優れたオーバライト特性の双方を両立させることが困難となっている。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑み、優れたオーバライト特性を有すると同時に記録にじみの小さい磁気ヘッド、そのような磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法、および優れたオーバライト特性を有すると同時に記録にじみの小さい情報記録装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の磁気ヘッドは、
相対的に移動する記録媒体に近接あるいは接触して配置され、その記録媒体への近接点あるいは接触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生させることによりその記録媒体を磁化する磁気ヘッドであって、
上記一対の磁極に挟まれた位置に、その一対の磁極どうしの対向を遮る方向に広がる軟磁性膜とその軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互に積層されてなることを特徴とする。
【０００９】
一般に、磁気ヘッドには、磁気ヘッドを構成する一対の磁極のうちのいずれか一方あるいは双方に、この一対の磁極どうしが対向する側に副磁極を有し、その一対の磁極どうしの間に発生する磁界の空間分布がその副磁極によってその副磁極の形状や大きさや材質等に応じて制御されるものがある。本発明の磁気ヘッド、後述する本発明の磁気ヘッド製造方法にいう磁気ヘッド、および同じく後述する本発明の情報記録装置にいう磁気ヘッドがこのような副磁極を有するものである場合には、本発明にいう磁極はこの副磁極のことをいう。
【００１０】
一般に、磁気ヘッドは、一対の磁極どうしの間に所定の間隔が広がるとＨＴＳが小さく抑えられてオーバライト特性が向上する。また、上記軟磁性膜は、上記一対の磁極どうしの間に発生した磁界によって磁化されて磁束を引き寄せるものであるため、その一対の磁極どうしの間の間隔が広い場合にも、この軟磁性膜によって、上記相対移動方向に垂直な、上記記録媒体に沿う方向の、すなわちいわゆるトラック幅方向の記録にじみが小さく抑えられる。このため、本発明の磁気ヘッドは、上記一対の磁極どうしの間に所定の間隔が確保されると、小さな記録にじみと優れたオーバライト特性とが両立した磁気ヘッドとなる。
【００１１】
上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟磁性膜が、上記記録媒体に垂直な方向に関し、上記一対の磁極それぞれのその垂直な方向の長さより短い長さを有するものであることが好ましい。
【００１２】
以下では、軟磁性膜や一対の磁極それぞれの、磁気ヘッドが近接あるいは接触して配置された記録媒体の面に垂直な方向の長さを高さと称する。
【００１３】
一般に、磁気ヘッドは、その磁気ヘッドに備わる一対の磁極の高さによって、その一対の磁極の間に発生する磁界の分布が調整される。しかし、この好ましい磁気ヘッドでは、磁極の高さを変えることなく、この軟磁性膜の高さを変えるだけで、上記一対の磁極の間に発生する磁界の分布が容易に調整される。
【００１４】
また、上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟磁性膜が、０．０７５μｍ以下の厚さを有するものであることが好ましい。
【００１５】
上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟磁性膜を有するものであるため、ヘッド磁界Ｈhがこの軟磁性膜直下において減少し極小値をとる。なお、ヘッド磁界Ｈhは、一般に、磁気ヘッドから発生した磁界の、記録媒体の強磁性層における厚さ方向の中央部分での強さをいう。
【００１６】
この軟磁性膜が０．０７５μｍ以下の厚さを有する磁気ヘッドでは、その軟磁性膜が存在することによるヘッド磁界Ｈhの減少が小さく、後に実施形態で述べるように、そのヘッド磁界Ｈhの軟磁性膜直下における極小値が、現在一般に使用されている磁気ディスクの保磁力Ｈcと考えられる２４０ｋＡ／ｍ以上の強さとなるため、良好なオーバライト特性が得られる。
【００１７】
また、上記本発明の磁気ヘッドは、上記一対の磁極のうち、相対的に移動する記録媒体の移動方向下流側に位置する磁極に隣接する非磁性膜が、０．２μｍ以下の膜厚を有するものであることが好ましい。
【００１８】
非磁性膜の膜厚が０．２μｍ以下になると、後に実施形態で述べるように、磁気ヘッドの記録にじみが急減する。
【００１９】
また、上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟磁性膜が、上記相対移動方向に垂直な、上記記録媒体に沿う幅方向について、上記一対の磁極のその幅方向の寸法よりも小さい寸法を有するものであることが好ましい。
【００２０】
軟磁性膜の、この幅方向の寸法が、上記一対の磁極のその幅方向の寸法より大きい場合よりも、上記一対の磁極のその幅方向の寸法よりも小さい場合の方が、一般に記録にじみが小さい。
【００２１】
また、上記本発明の磁気ヘッドは、上記軟磁性膜が、上記一対の磁極のうち、相対的に移動する記録媒体の移動方向下流側に位置する磁極の飽和磁束密度以下であり、かつその記録媒体の移動方向上流側に位置する磁極の飽和磁束密度以上である飽和磁束密度を有することが好ましい。
【００２２】
上記軟磁性膜は、上記上流側に位置する磁極（下部磁極）よりも大きな飽和磁束密度を持つものであることにより磁気的に飽和しにくくなるため、そのような飽和による記録にじみの増大が抑えられる。但し、この軟磁性膜は、上記下流側に位置する磁極（上部磁極）と上記トラック幅方向の寸法が同程度である場合には、この上部磁極以上に磁束が通ることはないので上部磁極の飽和磁束密度より大きい飽和磁束密度を持つ必要はない。このように、飽和磁束密度に関する上述した条件を満たす磁気ヘッドは、効率よくヘッド磁界を強め、記録にじみの広がりを抑えることができる。
【００２３】
上記目的を達成する本発明の磁気ヘッド製造方法は、
相対的に移動する記録媒体に近接あるいは接触して配置され、その記録媒体への近接点あるいは接触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生させることによりその記録媒体を磁化する磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法であって、
上記一対の磁極のうちの一方の磁極が形成される薄膜上に、軟磁性膜とその軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互に積層されてなる積層膜を成膜する積層膜成膜工程と、
上記積層膜成膜工程によって成膜されてなる積層膜の表面上に、レジストパターニングにより上記所定の幅にトリミングされてなる、上記一対の磁極のうちの他方の磁極を形成する磁極形成工程と、
上記積層膜成膜工程によって成膜された積層膜および上記磁極形成工程によって形成された上記他の１つの磁極にイオンミリングを施すことにより、その磁極をマスクとしてその積層膜を上記所定の幅にトリミングするトリミング工程とを有することを特徴とする。
【００２４】
この磁気ヘッド製造方法によって、上記本発明の磁気ヘッドに相当する磁気ヘッドが、軟磁性膜のトリミングも含めて容易に製造される。
【００２５】
上記目的を達成する本発明の情報記録装置は、
表面の各点で磁化を担持する相対的に移動する記録媒体に近接あるいは接触して配置され、その記録媒体の磁化の方向を反転させる磁気ヘッドを備え、その磁化の方向の反転によってその記録媒体の各点に情報を記録する情報記録装置であって、
上記磁気ヘッドが、
上記記録媒体への近接点あるいは接触点における相対移動方向に所定の間隔離れて対向する一対の磁極を備え、これらの磁極どうしの間に磁界を発生させることによりその記録媒体を磁化する磁気ヘッドであり、
上記一対の磁極に挟まれた位置に、その一対の磁極どうしの対向を遮る方向に広がる軟磁性膜とその軟磁性膜を支持する非磁性膜とが交互に積層されてなることを特徴とする。
【００２６】
この情報記録装置は、磁気ヘッドが上記本発明の磁気ヘッドと同じ構成を有し、同じ作用効果を奏するので、高い記録密度での記録においても、良好なオーバライト特性を示す。
【００２７】
また、この情報記録装置は、磁気ヘッドとして、上述した様々な磁気ヘッドそれぞれが採用されたものであってもよく、その場合には、この情報記録装置は、採用されたそれらの様々な磁気ヘッドそれぞれと同じ作用効果を奏し、やはり、高い記録密度での記録においても、良好なオーバライト特性を示す。
【００２８】
上記本発明の情報記録装置は、上記磁気ヘッドによって上記一対の磁極どうしの間に発生された磁界が、上記記録媒体の表面の上記軟磁性膜への近接点あるいは接触点においてその記録媒体の保磁力以上の磁界となるように、上記軟磁性膜の厚さが調整されてなるものであることが好ましい。
【００２９】
この情報記録装置の磁気ヘッドは、上記本発明の磁気薄膜ヘッドと同様に、上記軟磁性膜を有することにより、ヘッド磁界Ｈhがこの軟磁性膜直下において減少し極小値をとる。この軟磁性膜の厚さが減少するとその軟磁性膜の存在に起因するヘッド磁界Ｈhの減少が小さくなるため、後に実施形態で述べるように、軟磁性膜直下におけるヘッド磁界Ｈhの極小値が増大する。このため、軟磁性膜直下におけるヘッド磁界Ｈhが上記記録媒体の保磁力Ｈc以上となるように軟磁性膜の厚さが調整されることによって、この軟磁性膜直下における磁化反転が容易となり、この情報記録装置は良好なオーバライト特性を示すようになる。
【００３０】
【発明の実施形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００３１】
［ハードディスクドライブ］
図１は、本発明に係るハードディスクドライブの一実施形態を示す図である。
【００３２】
同図に示すハードディスクドライブ（ＨＤＤ）１００は、本発明の情報記録装置に相当するものである。同図に示すＨＤＤ１００のハウジング１０１には、回転軸１０２、回転軸１０２に装着される磁気ディスク１０３、磁気ディスク１０３に対向する浮上ヘッドスライダ１０４、アーム軸１０５、浮上ヘッドスライダ１０４を先端に固着してアーム軸１０５を中心に磁気ディスク１０３上を水平移動するキャリッジアーム１０６、およびキャリッジアーム１０６の水平移動を駆動するアクチュエータ１０７が収容される。
【００３３】
磁気ディスクへの情報の記録および磁気ディスク１０３に記憶された情報の再生にあたっては、磁気回路で構成されたアクチュエータ１０７によってキャリッジアーム１０６が駆動され、浮上ヘッドスライダ１０４が回転する磁気ディスク１０３上の所望のトラックに位置決めされる。浮上ヘッドスライダ１０４には、図１には図示しない、再生ヘッドと本発明にいう磁気ヘッドに相当する記録ヘッドとからなる複合型磁気ヘッドが設置されている。この複合型磁気ヘッドは、磁気ディスク１０３の回転によって、磁気ディスク１０３の各トラックに並ぶ各微小領域に順次近接する。情報の記録時には、このように磁気ディスク１０３に近接した複合型磁気ヘッドには電気的な記録信号が入力され、記録ヘッドにより、その記録信号に応じてそれらの各微小領域に磁界が印加されて、その記録信号に担持された情報がそれらの各微小領域の磁化の方向として記録される。また、情報の再生時には、再生ヘッドによって、それらの各微小領域の磁化の方向として記録された情報が、それらの磁化それぞれから発生する磁界に応じて生成される電気的な再生信号として取り出される。ハウジング１０１の内部空間は、図示しないカバーによって閉鎖される。
【００３４】
［磁気ヘッド］
図２は、本実施形態のＨＤＤに用いられた複合型磁気ヘッドの上面図であり、図３は、本実施形態のＨＤＤに用いられた複合型磁気ヘッドの側断面図であり、図４は、本実施形態のＨＤＤに用いられた複合型磁気ヘッドの浮上面図（正面図）である。ここで、浮上面とは、複合型磁気ヘッドの、磁気ディスクに対向する面をいう。
【００３５】
図２〜図４に示す複合型磁気ヘッド３０は、上記ＨＤＤ１００内では、図２〜図４には図示しない磁気ディスク１０３に近接して位置決めされている。図２、図３では、これらの図に示される複合型磁気ヘッド３０は、同図左側に示される浮上面ｆで磁気ディスク１０３に面している。図４は複合型磁気ヘッドの浮上面図であるので、同図に示される複合型磁気ヘッド３０は、同図正面部分で磁気ディスク１０３に面している。
【００３６】
図２〜図４において示されるように、複合型磁気ヘッド３０は、大別して再生ヘッド１０と記録ヘッド２０から構成されており、再生ヘッド１０の背部に記録ヘッド２０が付加された構造となっている。
【００３７】
再生ヘッド１０は、磁気抵抗効果素子や電極などを含み磁気ディスク１０３からの磁界を受けてその磁界に応じた再生信号を生成する素子部１１と、この素子部１１の膜厚方向の両側から挟むようにように配置された、軟磁性材料からなる再生下部シールド１２および再生上部シールド２１とを有する。
【００３８】
また、記録ヘッド２０は、再生ヘッド１０の再生上部シールド２１を兼ねた下部磁極２１と、この下部磁極２１上に形成された、Ａｌ2Ｏ3（アルミナ）からなる第１の絶縁層２２と、この第１の絶縁層２２上に形成された、Ｃｕからなる記録コイル２３と、上記下部磁極２１およびこの記録コイル２３上に形成されて、この記録コイル２３を覆うレジストからなる第２の絶縁層２４と、同じく下部磁極２１上に、浮上面ｆ近傍部分において形成された、下部副磁極１、第１の非磁性膜２、軟磁性膜３、第２の非磁性膜４、上部副磁極５が順に積層された主要積層膜と、その主要積層膜上、また上記第２の絶縁層２４上、さらに図２中央付近の記録コイル２３の中心部分では上記下部磁極２１上に積層するように形成されてなる上部磁極２５とを有する。
【００３９】
なお、上記第１の絶縁層２２は、アルミナからなるものに限らず、アルミナ以外の非磁性の絶縁材料からなるものであってもよい。また、上記第２の絶縁層２４は、レジストからなるものに限らず、レジスト以外の非磁性の絶縁材料からなるものであってもよい。
【００４０】
上部磁極２５と下部磁極２１は、図３に示すように、記録コイル２３の中心部分を通って記録コイル２３の回りを１周する磁気回路を形成している。この記録コイル２３から発生した磁界は、上記上部磁極２５および上記下部磁極２１中を通り、上記磁気ディスク１０３に面した、上記下部磁極２１と上部磁極２５とが対向する部分付近、正確には後述する下部副磁極１および上部副磁極５から外部に漏れ出す。この外部に漏れ出した磁界によって、上述した磁気ディスク１０３の各微小領域の磁化が反転される。
【００４１】
次に、上記記録ヘッド２０の主要部を構成する主要積層膜について説明する。
【００４２】
図５は、図３に示す複合型磁気ヘッドにおける記録ヘッドの主要部の側断面図であり、図６は、図４に示す複合型磁気ヘッドにおける記録ヘッドの主要部の浮上面図である。
【００４３】
図５では、図３に示す記録ヘッド２０の、同図左側の点線で囲まれた主要部Ｐが拡大されて示され、また、記録ヘッド２０が、図５に示される記録ヘッド２０の浮上面ｆで磁気ディスク１０３に面する様子が示される。また、図６では、図４に示される記録ヘッド２０の、点線で囲まれた主要部Ｐが拡大されて示され、その記録ヘッド２０は、同図正面で同図には図示しない磁気ディスク１０３に面している。
【００４４】
図５、図６には、下部磁極２１と、この下部磁極２１上に積層された下部副磁極１、この下部副磁極１上に積層された第１の非磁性膜２、この第１の非磁性膜２上に積層された軟磁性膜３、この軟磁性膜３上に積層された第２の非磁性膜４、およびこの非磁性膜４上に積層された上部副磁極５からなる主要積層膜と、その主要積層膜上に積層された上部磁極２５とが示される。本実施形態では、これらの下部副磁極１および上部副磁極５それぞれが、本発明にいう磁極に相当する。
【００４５】
下部磁極２１および上部磁極２５は、Ｎｉ50Ｆｅ50（ａｔ％）からなる厚さ３μｍの磁極である。また、上記主要積層膜は、下部副磁極１が、Ｎｉ50Ｆｅ50からなる厚さ１μｍの磁極であり、第１の非磁性膜２が、アルミナからなる厚さ０．１μｍの膜であり、軟磁性膜３が、Ｎｉ50Ｆｅ50からなる厚さ０．０５μｍの膜であり、第２の非磁性膜４が、アルミナからなる厚さ０．２μｍの膜であり、上部副磁極５が、Ｎｉ50Ｆｅ50からなる厚さ２μｍの磁極である。
【００４６】
なお、これらの厚さは一例であって、下部磁極２１および上部磁極２５、並びに上記主要積層膜を構成する、各副磁極、各非磁性膜、および軟磁性膜３の、それぞれの厚さは、上述した厚さに限られるものではない。
【００４７】
また、上述した、下部磁極２１、上部磁極２５、下部副磁極１、上部副磁極５、および軟磁性膜３それぞれは、Ｎｉ50Ｆｅ50のみならず、Ｎｉ80Ｆｅ20（ａｔ％）、ＣｏＮｉＦｅ、ＦｅＺｒＮ等の軟磁性材料からなるものであってもよく、また、Ｎｉ50Ｆｅ50も含めてこれらの軟磁性材料を複数層積層してなる膜であってもよい。また、上記第１の非磁性膜２および上記第２の非磁性膜４は、アルミナのみならず、アルミナ以外の非磁性材料からなるものであってもよい。
【００４８】
この主要積層膜は、膜が長方形にトリミングされており、この記録ヘッドの浮上面ｆに近接する部分での、磁気ディスク１０３のトラック幅方向、すなわち図６の浮上面図で見てこの主要積層膜の広がる方向に０．５μｍのコア幅ｗを有し、高さ方向、すなわち図５の側断面図で見て磁気ディスク１０３の面に垂直な方向に１．５μｍの高さｄを有する。
【００４９】
なお、これらのコア幅ｗおよび高さｄそれぞれの値は一例であって、これらのコア幅ｗおよび高さｄそれぞれは、それらの値に限られるものではない。
【００５０】
なお、本実施形態の記録ヘッドは、下部副磁極１および上部副磁極５に挟まれた位置に、これらの副磁極どうしの対向を遮る方向に広がる１層の軟磁性膜３と、その軟磁性膜３を支持する２層の非磁性膜とが積層されたものであるが、本発明の磁気ヘッドは、これらの副磁極に挟まれた位置に、これらの副磁極どうしの対向を遮る方向に広がる複数の軟磁性膜と、これらの複数の軟磁性膜それぞれを支持する非磁性膜とが交互に積層されてなるものであってもよい。
【００５１】
図５に示される、記録ヘッド２０に近接した磁気ディスク１０３は、記録ヘッド２０とは相対的に矢印Ａの方向に移動している。ここで、下部副磁極１は、この磁気ディスク１０３のこの矢印Ａの方向への移動の上流側ｂに位置しており、上部副磁極５は、この磁気ディスク１０３の相対的な移動の下流側ａに位置している。
【００５２】
同図には、下部副磁極１と上部副磁極５との間に漏れ出る磁界Ｈが模式的に示されている。その磁界Ｈによって磁気ディスク１０３の各微小領域の磁化の方向が適宜反転され、下流側ａから上流側ｂへ順次、情報が記録される。
【００５３】
この記録ヘッド２０による磁気ディスク１０３への情報の記録のオーバライト特性を良好なものとするには、図５に示すギャップ長（下部副磁極１と上部副磁極の間の間隔）ｇを所定の大きさ以上に設定して、以下に説明するＨＴＳを小さく抑える必要がある。
【００５４】
図７は、ＨＴＳの説明図である。
【００５５】
同図には、図５と同様に記録ヘッド２０が示され、磁気ディスク１０３が示される。但し、磁気ディスク１０３は、記録対象となっているトラックの磁化がわかりやすくなるように拡大されて模式的に表されている。
【００５６】
磁気ディスク１０３上に示される複数の白抜きの矢印は、そのトラック上のその矢印が描かれた位置での磁化の方向を示す。同図では、磁気ディスク１０３上の、上流側ｂから下流側ａに向かう方向の磁化に対し、その方向とは逆方向の、同図において２つの湾曲した矢印で表される磁界Ｈが記録ヘッド２０の磁極から印加されており、磁気ディスク１０３の、その磁界Ｈが印加された領域で磁化が反転している。
【００５７】
この磁化の反転は、理想的には、上記磁界Ｈの磁気ディスクの強磁性層中での強さを表すヘッド磁界Ｈhがこの磁気ディスクの保磁力Ｈcより大きい領域ｒ１で起きる。しかし、このように磁化が反転されると、点線で描かれた楕円の領域ｓ１で磁化の一方の極が向かい合い、同じく点線で描かれた楕円の領域ｓ２でその極と反対の極が向かい合って、点線の矢印で示される、上記磁界Ｈとは逆方向を向く反磁界Ｈ’が生じ、この反磁界Ｈ’によって上記ヘッド磁界Ｈhが弱められる。ヘッド磁界Ｈhが弱められると、磁化が反転させられた領域の境界である磁化転移点の、実線の矢印で示されるシフト（ＨＴＳ）が生じ、磁化が実際に反転させられた領域が上記領域ｒ１から領域ｒ２へと狭められる。このように磁化が反転する領域が狭められると、この記録ヘッド２０による磁気ディスク１０３に対するオーバライト特性は悪化する。
【００５８】
このＨＴＳを引き起こす反磁界の強さは、上記領域ｒ２のトラック方向の長さ（実効ギャップ長）が短くなるほど強くなるので、このＨＴＳを抑制するには、上記ギャップ長ｇを大きくとって実効ギャップ長を長くすればよく、このようにギャップ長ｇを大きくとることによってオーバライト特性が向上する。
【００５９】
しかし、従来の記録ヘッドでは、以下に示す記録にじみのため、このようにギャップ長ｇを大きくとることが困難である。
【００６０】
図８は、従来の記録ヘッドから漏れ出る磁界の様子を示す、従来の記録ヘッドの主要部の浮上面図である。
【００６１】
図８（Ａ）、図８（Ｂ）のいずれも、図６に示す本実施形態の記録ヘッド２０から軟磁性膜３が取り去られて第１の非磁性膜２および第２の非磁性膜４が一つの非磁性膜２ａに置き換えられた従来の記録ヘッドを示す。
【００６２】
図８（Ａ）に示す記録ヘッドと図８（Ｂ）に示す記録ヘッドとの違いは、ギャップ長ｇの大きさにあり、図８（Ａ）に示す記録ヘッドの方が、図８（Ｂ）に示す記録ヘッドより、ギャップ長ｇが大きなものとなっている。
【００６３】
図８（Ａ）に示す記録ヘッドでは、ギャップ長ｇで規定されるギャップ部分に上部副磁極５から下部副磁極１に向かう矢印で表される磁界が生じており、この磁界は、コア幅の外に大きく広がった状態にある。このように磁界が広がった状態にあると、情報を記録する対象となっているトラックの内部だけでなくそのトラックの外側にも磁界が漏れ出て印加されることになりそのトラックの外側において記録にじみが生ずる。上記ギャップ部分での磁界の広がりが大きいほど、この記録にじみは大きくなる。
【００６４】
図８（Ｂ）に示す記録ヘッドにおいても、ギャップ長ｇで規定されるギャップ部分に上部副磁極５から下部副磁極１に向かう矢印で表される磁界が生じており、この磁界もコア幅の外に広がった状態にあるが、その広がりの度合いは小さい。このように、ギャップ長ｇが小さい場合には、磁界の広がりは小さく、記録にじみも小さい。
【００６５】
以上のように、従来の記録ヘッドでは、記録にじみを小さくするためには、ギャップ長ｇを減少させる必要があり、一方オーバライト特性を向上させるためにはギャップ長ｇを増大させる必要があるので、記録にじみの減少と優れたオーバライト特性とを両立させることが困難である。しかし、本実施形態の記録ヘッド２０では状況が異なる。
【００６６】
図９は、本実施形態の記録ヘッドから漏れ出る磁界の様子を示す、本実施形態の記録ヘッドの主要部の浮上面図である。
【００６７】
同図には、図６にも示す記録ヘッド２０の主要部と、その主要部付近の磁界の様子とが示される。この記録ヘッド２０は、図８（Ａ）に示す従来の記録ヘッドと同じく大きなギャップ長ｇを有するものである。しかし、この記録ヘッド２０は、上記ギャップ長ｇで規定される、上部副磁極５と下部副磁極１との間のギャップ部分に軟磁性膜３を有する点において従来の記録ヘッドと異なっている。この軟磁性膜３は、このギャップ部分に漏れ出る磁界によって磁化されて、図９にそのギャップ部分の矢印で示されるように磁束を集めるものであるため、この記録ヘッド２０では、このギャップ部分に漏れ出る磁界の、コア幅外への広がりが小さく抑えられ、記録にじみも小さく抑えられる。
【００６８】
本実施形態の記録ヘッド２０は、このような軟磁性膜３を有するものであるため、所定の大きさのギャップ長ｇを確保することで、優れたオーバライト特性と小さな記録にじみとが両立した記録ヘッドとなっている。
【００６９】
次に、記録ヘッドから漏れ出る磁界の強度および記録にじみのシミュレーション結果について詳しく説明する。以下の図１０〜図１２に示すヘッド磁界および記録にじみの結果は、軟磁性膜３の厚さやギャップ長等のように特別に指定する場合を除いて、上記記録ヘッド２０の大きさ、形状、材料（その材料の透磁率μおよび飽和磁束密度Ｂs）を設定した上で、電磁界強度計算用のソフトウェア：ＥＬＦ  ｍａｇｉｃを用いて数値計算されたものである。なお、以下でいう従来の記録ヘッドは、上記記録ヘッド２０の２つの副磁極の間にアルミナからなる非磁性膜のみが形成されてなるものであるとする。
【００７０】
図１０は、ヘッド磁界の分布を示すグラフである。
【００７１】
同図には、図５に示すようにして、本実施形態の記録ヘッド２０によって磁気ディスク１０３に印加されたヘッド磁界Ｈh、および従来の記録ヘッドによって磁気ディスクに印加されたヘッド磁界Ｈhの、記録対象となっているトラックに沿った方向の位置依存性を表す磁界分布が示される。横軸は、そのトラックに沿った位置を表し、正の方向が図５に示す下流側ｂの方向に相当する。縦軸は、それらの各位置におけるヘッド磁界Ｈhを表す。同図では、実線によって、０．２μｍのギャップ長ｇを有する従来の記録ヘッドによるヘッド磁界分布が示され、２点鎖線によって、ギャップ部分に、軟磁性膜３とこの軟磁性膜３を挟む２つの非磁性膜を有する本実施形態の記録ヘッド２０によるヘッド磁界分布が示される。また、磁界２４０ｋＡ／ｍの位置に引かれた横線は、現状の一般的な磁気ディスクの保磁力Ｈcの強度を示している。
【００７２】
実線で表される従来の記録ヘッドの磁界分布は、ヘッド磁界Ｈhが最高値で５００ｋＡ／ｍを超える１つのピークを有し、そのピーク位置の周りの０．２５μｍ程度の範囲で磁気ディスク１０３の保磁力Ｈcを超えるものとなっている。
【００７３】
２点鎖線で表される本実施形態の記録ヘッド２０の磁界分布は、記録ヘッド２０の第１の非磁性膜の直下付近でヘッド磁界Ｈhが４４０ｋＡ／ｍとなる第１のピークｐ１と、記録ヘッド２０の第２の非磁性膜の直下付近でヘッド磁界Ｈhが４８０ｋＡ／ｍとなる第２のピークｐ２との２つのピークを有し、それらのピーク位置の間の軟磁性膜３の直下付近でヘッド磁界Ｈhが３００ｋＡ／ｍの極小値をとる極小点ｑを有する。この２つのピークを持つ磁界分布では、これらの２つのピークおよび極小値をとる位置を含む０．４μｍ程度の範囲において、磁気ディスク１０３の保磁力Ｈcを超えるものとなっている。
【００７４】
図１１は、本実施形態の記録ヘッドの、軟磁性膜の膜厚に対するヘッド磁界強度の依存性を示すグラフである。
【００７５】
同図の横軸は、軟磁性膜３の厚さを表し、縦軸はヘッド磁界Ｈhの強さを表す。同図では、複数の黒菱形およびそれらの黒菱形を結ぶ実線によって、図１０に示される第２のピークｐ２が表すヘッド磁界の強度の、軟磁性膜３の厚さに対する依存性が示される。この第２のピークｐ２が表すヘッド磁界の強度は、その厚さが０．０５μｍから０．２μｍまで変化しても、一定の４８０ｋＡ／ｍの値をとる。また、同図では、複数の黒四角およびそれらの黒四角を結ぶ実線によって図１０の極小点ｑが表すヘッド磁界の強度の、軟磁性膜３の厚さに対する依存性が示される。この極小点ｑにおけるヘッド磁界強度は、その厚さが０．０５μｍと薄い場合には、３００ｋＡ／ｍの大きな値となるが、その厚さが減少するにつれて単調に減少し、その厚さが０．２μｍまで増大すると、そのヘッド磁界強度は、８０ｋＡ／ｍとなる。この極小点ｑにおけるヘッド磁界強度は、同図に点線で示すように、軟磁性膜３の厚さが０．０７５μｍ以下の場合にヘッド磁界が磁気ディスク１０３の保磁力Ｈc以上の強さとなる。
【００７６】
この結果からわかるように、軟磁性膜直下におけるヘッド磁界Ｈhが磁気ディスク１０３の保磁力Ｈc以上となるように、軟磁性膜３の厚さが０．０７５μｍ以下に調整されることによって、この軟磁性膜３の直下における磁化反転が容易になるため、この記録ヘッド２０による磁気ディスク１０３への情報の記録のオーバライト特性は良好なものとなる。
【００７７】
図１２は、ヘッド磁界強度および記録にじみのギャップ長に対する依存性を示すグラフである。
【００７８】
同図の横軸は、従来の記録ヘッドのギャップ長を表し、縦軸はその記録ヘッドのヘッド磁界Ｈhと記録にじみの大きさとを表す。同図では、複数の黒四角およびそれらの黒四角を結ぶ実線によって、従来の記録ヘッドによる磁界の記録にじみの、ギャップ長に対する依存性が示され、複数の黒菱形およびそれらの黒菱形を結ぶ実線によって、従来の記録ヘッドによるヘッド磁界の磁界分布のピーク値の、ギャップ長に対する依存性が示される。
【００７９】
なお、本実施形態の記録ヘッド２０は、２つの副磁極に挟まれるギャップ部分付近の磁界の状況から見ると、従来の記録ヘッドを結合させて２つのギャップを持つようにしたものと同等なものである見なすことができる。ここでいう２つのギャップは、上記第１の非磁性膜２および上記第２の非磁性膜４をいい、これらの非磁性膜の厚さが各ギャップのギャップ長に相当する。この同等性からわかるように、同図の複数の黒四角およびそれらの黒四角を結ぶ実線は、また、それらのギャップそれぞれにおける、記録ヘッド２０による磁界の記録にじみの大きさの、それらの各ギャップの長さに対する依存性をも示し、また、同図の複数の黒菱形およびそれらの黒菱形を結ぶ実線は、それらのギャップそれぞれにおける、記録ヘッド２０によるヘッド磁界の磁界分布のピーク値の、それらの各ギャップの長さに対する依存性をも示す。
【００８０】
同図に示されるように、この記録にじみは、ギャップ長が０．４μｍの場合に０．７μｍと大きいが、ギャップ長が減少するにつれて単調に減少し、ギャップ長が０．２μｍで０．６μｍとなる。ギャップ長が０．２μｍより狭められると記録にじみの広がりは急減し、ギャップ長が０．０５μｍで０．２μｍ以下にまで減少する。この結果から、記録にじみを小さく抑えるには、ギャップ長が０．２μｍ以下であることが好ましいとわかる。本実施形態の記録ヘッド２０では、２つのギャップのうちの、少なくとも第２の非磁性膜４の膜厚で規定されるギャップのギャップ長が０．２μｍ以下であることが好ましい。
【００８１】
また、同図に示されるように、ヘッド磁界Ｈhのピーク値は、ギャップ長が０．１５μｍ付近で５００ｋＡ／ｍを超える最高値をとり、ギャップ長が０．１５μｍから増大するにつれゆるやかに減少して０．４μｍのギャップ長で４７０ｋＡ／ｍとなる。また、このヘッド磁界Ｈhのピーク値は、ギャップ長が０．１５μｍから減少するにつれ減少して０．０５μｍのギャップ長で３９０ｋＡ／ｍまで低減される。この結果から、強いヘッド磁界Ｈhを得るには、ギャップ長が０．１５μｍ前後で有ることが好ましいとわかる。記録時にほぼ完全な磁化反転を保証する、磁気ディスクの保磁力Ｈcの２倍の大きさである４８０ｋＡ／ｍ以上のヘッド磁界Ｈhを得るには、ギャップ長が０．０８μｍ以上かつ０．３５μｍ以下の範囲にあることが好ましい。
【００８２】
以上のように、２つの副磁極から漏れ出る磁界の強度および記録にじみの大きさは、それらの副磁極間の軟磁性膜３の厚さやギャップとしての非磁性膜の厚さによって調整される。なお、この磁界の強度や記録にじみの大きさは、このような軟磁性膜３や非磁性膜の厚さ以外に副磁極それぞれの形状および大きさによっても変わる。さらに本実施形態の記録ヘッド２０のように軟磁性膜３がそれらの副磁極の間に存在する場合には、これらの副磁極間を通る磁束の様相がこの軟磁性膜３の形状および大きさによって左右されるので、この磁界の強度や記録にじみは、この軟磁性膜３の形状および大きさによっても変わる。
【００８３】
この軟磁性膜３の形状および大きさのうち、この磁界の強度や記録にじみの大きさに大きな影響を与える要素として、この軟磁性膜の高さｄ’や幅ｗ’がある。
【００８４】
図１３は、図５に示す記録ヘッドとは軟磁性膜の高さの異なる記録ヘッドの例を示す図である。
【００８５】
同図には、図５に示す記録ヘッド２０とは、軟磁性膜３の高さが異なり、２つの副磁極それぞれの高さ（ここでは高さｄ）より小さな高さｄ’の軟磁性膜３を有する記録ヘッド２０の主要部が示される。
【００８６】
記録ヘッド２０は、このように２つの副磁極それぞれの高さより小さい高さｄ’の軟磁性膜３を有する場合、この軟磁性膜３に磁束が集中しやすくなる。このため、この軟磁性膜３の高さｄ’がこれらの副磁極から磁気ディスク１０３へ漏れ出る磁界の強さを決定する有効な要素となるので、この高さｄ’を変更するだけでその漏れ出る磁界の強さが容易に調整される。このように、記録ヘッド２０の軟磁性膜３は、下部副磁極１および上部副磁極５のいずれの副磁極の高さよりも小さい高さを有するものであると、磁界の強さの調整が容易となり好ましい。
【００８７】
図１４は、図６に示す記録ヘッドとは軟磁性膜の幅が異なる記録ヘッドの例を示す図である。
【００８８】
同図には、図６に示す記録ヘッド２０とは、軟磁性膜３の幅が異なり、２つの副磁極それぞれの幅（ここでは幅ｗ）より小さな幅ｗ’の軟磁性膜３を有する記録ヘッド２０の主要部が示される。
【００８９】
軟磁性膜３は、このように上記２つの副磁極のうちのいずれの副磁極の幅よりも小さい幅ｗ’を有するものであることが好ましく、軟磁性膜３がそのように小さい幅ｗ’を有すると、通常その軟磁性膜３に磁束が集まりやすく、上記幅ｗ以上の幅を有する場合よりも一般に記録にじみの広がりが減少する。
【００９０】
また、２つの副磁極から漏れ出る磁界の強度や記録にじみの大きさは、それらの副磁極やそれらの副磁極間の軟磁性膜３を構成する材料の飽和磁束密度Ｂsによって変わるため、これらの材料を適切に選択する必要がある。
【００９１】
まず、本実施形態の磁気ヘッド２０は、上部副磁極５付近で磁気ディスク１０３の磁化反転を行って情報を記録するものであり、この上部副磁極５付近で強い磁界が要求されるので、上部副磁極５は下部副磁極１およびそれらの副磁極の間に位置する軟磁性膜それぞれの飽和磁束密度Ｂsと同じかそれらの各飽和磁束密度Ｂs以上の飽和磁束密度Ｂsを有する材料からなるものであることが好ましい。
【００９２】
また、上記軟磁性膜３は、下部副磁極５よりも大きな飽和磁束密度Ｂsを持つことにより磁気的な飽和が起こりにくくなり、そのような磁気的な飽和による記録にじみの拡大が抑えられる。但し、この軟磁性膜３は、上記上部副磁極５と幅が同程度の寸法である場合には、この上部副磁極５以上に磁束が通ることはないので上部副磁極５の飽和磁束密度Ｂsより大きい飽和磁束密度Ｂsを持つ必要はない。
【００９３】
飽和磁束密度Ｂsに関するこれらの事情からわかるように、本実施形態の記録ヘッドは、上記軟磁性膜３が、上部副磁極５の飽和磁束密度Ｂs以下の飽和磁束密度Ｂsを有し、かつ下部副磁極１の飽和磁束密度Ｂs以上の飽和磁束密度Ｂsを有するものであることが好ましく、このような条件を満たす記録ヘッドは、効率よくヘッド磁界を強め、記録にじみの広がりを抑えることができる。
【００９４】
［磁気ヘッド製造方法］
以下に、記録ヘッド２０の製造方法について図１５〜図２２を用いて説明する。以下の図１５〜図２２では、それぞれ左側に示す（Ａ）の図が、いずれも図６の浮上面図と同じ方向から見た記録ヘッド１０の製造工程を示す図であり、また、それぞれ右側に示す（Ｂ）の図が、いずれも図５の側断面図と同じ断面で見た記録ヘッドの製造工程を示す図である。
【００９５】
図１５は、記録ヘッド製造の第１の工程を示す図である。
【００９６】
第１の工程では、例えばＮｉ50Ｆｅ50からなる厚さ４μｍの下部磁極ベタ膜１’が、スパッタ等により図示しない再生ヘッドの、上部シールド層と共有するものとして形成される。この下部磁極ベタ膜１’は、この記録ヘッド製造の工程の最後には下部磁極２１および下部副磁極１となるものである。
【００９７】
図１６は、記録ヘッド製造の第２の工程を示す図である。
【００９８】
この第２の工程は、本発明にいう積層膜成膜工程に相当する。この第２の工程では、上記下部磁極ベタ膜１’上に、軟磁性ベタ膜とその軟磁性ベタ膜を支持する非磁性ベタ膜とが交互に積層されてなる積層膜が成膜される。例えば、同図に示すように、スパッタ等により、この下部磁極ベタ膜１’上に、アルミナからなる厚さ０．１μｍの第１の非磁性ベタ膜２’が形成され、この第１の非磁性ベタ膜２’上に、Ｎｉ50Ｆｅ50からなる厚さ０．０５μｍの軟磁性ベタ膜３’が形成され、さらにこの軟磁性ベタ膜３’上に、アルミナからなる厚さ０．２μｍの第２の非磁性ベタ膜４’が形成される。あるいは、上記下部磁極ベタ膜１’上に、複数の軟磁性ベタ膜と複数の非磁性ベタ膜が交互に積層された積層膜が成膜されてもよく、この場合、この積層膜の最上膜と最下膜は、いずれも非磁性ベタ膜となる。
【００９９】
図１７は、記録ヘッド製造の第３の工程を示す図である。
【０１００】
この第３の工程は、本発明にいう磁極形成工程に相当する。この第３の工程では、第２の工程で成膜されてなる積層膜最上膜である第２の非磁性ベタ膜４’上に、例えば、まず、パターニングされたレジスト６’を形成し、さらにそのレジスト６’上にＮｉ50Ｆｅ50のメッキを行うことによって、Ｎｉ50Ｆｅ50からなる２μｍを越える厚さを有する上部磁極層５’が、上記パターニングに応じた０．５μｍのコア幅ｗ、１．５μｍの高さｄで形成される。この上部磁極層５’は、この記録ヘッド製造の工程の最後には上部副磁極５となるものである。
【０１０１】
図１８は、記録ヘッド製造の第４の工程を示す図である。
【０１０２】
この第４の工程は、本発明にいうトリミング工程に相当する。この第４の工程では、第２の工程で成膜された積層膜および第３の工程で形成された上部磁極層５’に同図の矢印で表されるようにイオンミリングを施すことにより、その上部磁極層５’をマスクとしてその積層膜のうちのマスクされていない部分の除去を行う。この除去によって、積層膜は、上部磁極層５’と同じコア幅ｗ、同じ高さｄになるようトリミングされ、上述した記録ヘッド２０を構成する、第１の非磁性膜２、軟磁性膜３、および第２の非磁性膜４の形成が完了する。また、上記下部磁極ベタ膜１’も下部磁極ベタ膜１’のうちのマスクされていない部分が１μｍ程度除去されることにより、相対的に突出した、上述した記録ヘッド２０を構成する厚さ１μｍの下部副磁極１が形成される。この下部磁極ベタ膜１’のうち、イオンミリングによって除去されずに残った部分のうちの、下部副磁極１以外の部分が、下部磁極２１である。
【０１０３】
このように第２〜第４の工程によって、所定のコア幅および所定の高さを持った軟磁性膜３が容易に形成される。
【０１０４】
図１９は、記録ヘッド製造の第５の工程を示す図である。
【０１０５】
この第５の工程では、第４の工程でイオンミリングによって除去されずに残った下部磁極２１、および上記上部磁極層５’上にスパッタにより例えばアルミナからなる非磁性層２２’を所定の厚さ積層する。
【０１０６】
図２０は、記録ヘッド製造の第６の工程を示す図である。
【０１０７】
この第６の工程では、第５の工程で積層された非磁性層２２’および上記上部磁極層５’を、上部磁極層の膜厚が２μｍとなるように研磨する。上記第５の工程における非磁性層２２’の厚さを調整することによりこの膜厚の制御は容易に行われる。このように研磨されることにより、上記記録ヘッド２０を構成する上部副磁極５および非磁性層２２の形成が完了する。
【０１０８】
図２１は、記録ヘッド製造の第７の工程を示す図である。
【０１０９】
この第７の工程では、第６の工程で形成された非磁性層２２上に、例えばＣｕからなる記録コイル２３、およびその記録コイル２３を包囲する、例えばレジストからなる第２の絶縁層２４を形成する。
【０１１０】
図２２は、記録ヘッド製造の第８の工程を示す図である。
【０１１１】
この第８の工程では、第６の工程で形成された上部副磁極５および第７の工程で形成された第２の絶縁層２４上に、メッキによって、レジスト２６によりパターニングされた状態で上部磁極２５が形成され、記録ヘッド２０の製造が完了する。
【０１１２】
なお、軟磁性膜３が上記一対の副磁極の高さｄおよびコア幅ｗそれぞれと異なる高さｄ’および幅ｗ’それぞれを有する記録ヘッド２０を製造する場合には、上記第２の工程において、第１の非磁性ベタ膜２’上に軟磁性ベタ膜３’と第２の非磁性ベタ膜４’とを形成するのではなく、まず、第１の非磁性ベタ膜２’上に、リフトオフ法などによって、上記高さｄ’および幅ｗ’に応じて長方形にトリミングされた軟磁性膜３を形成する。そして、この軟磁性膜３上にアルミナなどからなる非磁性ベタ膜を積層した後にその積層した非磁性ベタ膜を研磨するなどして平坦化するとともにその非磁性ベタ膜の軟磁性膜３上の部分を除去することにより、軟磁性膜３と非磁性膜との複合膜を形成し、その複合膜上に上記第２の非磁性ベタ膜４’を形成する。この工程以後の各工程は、この複合膜が上記軟磁性ベタ膜３’の代わりに形成されていることを除いて、上述した、軟磁性膜３が２つの副磁極高さｄおよび幅ｗを有する記録ヘッドを製造する場合の上記第３の工程から上記第８の工程までの各工程と同様に進められる。
【０１１３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、優れたオーバライト特性を有すると同時に記録にじみの小さい磁気ヘッド、そのような磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法、および優れたオーバライト特性を有すると同時に記録にじみの小さい情報記録装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るハードディスクドライブの一実施形態を示す図である。
【図２】本実施形態のＨＤＤに用いられた複合型磁気ヘッドの上面図である。
【図３】本実施形態のＨＤＤに用いられた複合型磁気ヘッドの側断面図である。
【図４】本実施形態のＨＤＤに用いられた複合型磁気ヘッドの浮上面図である。
【図５】図３に示す複合型磁気ヘッドにおける記録ヘッドの主要部の側断面図である。
【図６】図４に示す複合型磁気ヘッドにおける記録ヘッドの主要部の浮上面図である。
【図７】ＨＴＳの説明図である。
【図８】従来の記録ヘッドから漏れ出る磁界の様子を示す、従来の記録ヘッドの主要部の浮上面図である。
【図９】本実施形態の記録ヘッドから漏れ出る磁界の様子を示す、本実施形態の記録ヘッドの主要部の浮上面図である。
【図１０】ヘッド磁界の分布を示すグラフである。
【図１１】本実施形態の記録ヘッドの、軟磁性膜の膜厚に対するヘッド磁界強度の依存性を示すグラフである。
【図１２】ヘッド磁界強度および記録にじみのギャップ長に対する依存性を示すグラフである。
【図１３】図５に示す記録ヘッドとは軟磁性膜の高さの異なる記録ヘッドの例を示す図である。
【図１４】図６に示す記録ヘッドとは軟磁性膜の幅が異なる記録ヘッドの例を示す図である。
【図１５】記録ヘッド製造の第１の工程を示す図である。
【図１６】記録ヘッド製造の第２の工程を示す図である。
【図１７】記録ヘッド製造の第３の工程を示す図である。
【図１８】記録ヘッド製造の第４の工程を示す図である。
【図１９】記録ヘッド製造の第５の工程を示す図である。
【図２０】記録ヘッド製造の第６の工程を示す図である。
【図２１】記録ヘッド製造の第７の工程を示す図である。
【図２２】記録ヘッド製造の第８の工程を示す図である。
【符号の説明】
１  下部副磁極
１’  下部磁極ベタ膜
２  第１の非磁性膜
２’  第１の非磁性ベタ膜
３  軟磁性膜
３’  軟磁性ベタ膜
４  第２の非磁性膜
４’  第２の非磁性ベタ膜
５  上部副磁極
５’  上部磁極層
６’  レジスト
１０  再生ヘッド
１１  素子部
１２  再生下部シールド
２０  記録ヘッド
２１  再生上部シールド、下部磁極
２２  第１の絶縁層
２２’  非磁性層
２３  記録コイル
２４  第２の絶縁層
２５  上部磁極
２６  レジスト
３０  複合型磁気ヘッド
１００  ＨＤＤ
１０１  ハウジング
１０２  回転軸
１０３  磁気ディスク
１０４  浮上ヘッドスライダ
１０５  アーム軸
１０６  キャリッジアーム
１０７  アクチュエータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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