Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月9日(2021.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化炭素を含む原料ガスの不純物を吸着する吸着材が収容され、前記原料ガスが順次流通するように接続された複数の吸着塔を用いる二酸化炭素の製造方法であって、
前記複数の吸着塔は、第１吸着塔と第２吸着塔とを有し、
前記第２吸着塔で二酸化炭素の製造を継続しながら、前記原料ガスの導入が停止された前記第１吸着塔の使用済み吸着材を取り出す停止工程と、
未使用吸着材が充填された前記第１吸着塔に、前記第２吸着塔から導出される精製ガスの一部を供給し前記未使用吸着材を乾燥する乾燥工程と、
前記未使用吸着材を乾燥した後、前記第１吸着塔から二酸化炭素を得る運転開始工程と、を有し、
前記運転開始工程では、未使用吸着材の乾燥の終了を第１吸着塔から導出される乾燥ガスの温度又は露点で判定する、二酸化炭素の製造方法。
【請求項２】
前記乾燥工程では、前記精製ガスの一部を加熱した後に当該精製ガスを前記吸着材が充填された前記吸着塔に供給する、請求項１に記載の二酸化炭素の製造方法。
【請求項３】
前記精製ガスの大気圧下における露点を−２０℃以下に維持する、請求項１又は２に記載の二酸化炭素の製造方法。
【請求項４】
前記原料ガスの水分を低減する脱湿工程を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の二酸化炭素の製造方法。
【請求項５】
前記乾燥工程では、前記精製ガスを前記第１吸着塔の下部から上部に向かって流通させる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の二酸化炭素の製造方法。
【請求項６】
前記乾燥工程において、９９．９体積％以上の純度を有する二酸化炭素を継続して製造する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の二酸化炭素の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】二酸化炭素の製造方法
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月14日(2021.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ．抗ＧＭ−ＣＳＦＲα抗体；および
ｉｉ．イオン性賦形剤
を含む製剤であって、該抗ＧＭ−ＣＳＦＲα抗体が、ｐＨ６．０〜ｐＨ７．５の範囲のｐＩ、ならびにＣＡＭ−３００１のＶＨおよびＶＬ配列を有し、
該抗ＧＭ−ＣＳＦＲα抗体が、約５０ｍｇ／ｍｌ以上の濃度で存在し、該イオン性賦形剤が、約５０ｍＭ〜約１５０ｍＭの濃度で存在し、該製剤が５．５〜７．５のｐＨを有する、製剤。
【請求項２】
前記製剤中の前記抗体の凝集率が、イオン性賦形剤を含まない同じ製剤中の同じ抗体の凝集率と比較して低下している、請求項１に記載の製剤。
【請求項３】
前記抗ＧＭ−ＣＳＦＲα抗体が、ｐＨ６．４〜ｐＨ７．５の範囲のｐＩを有する、請求項１または２に記載の製剤。
【請求項４】
前記抗ＧＭ−ＣＳＦＲα抗体が、ＩｇＧ４モノクローナル抗体である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項５】
前記抗ＧＭ−ＣＳＦＲα抗体が、約１００ｍｇ／ｍｌ〜約２００ｍｇ／ｍｌの濃度で前記製剤中に存在する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項６】
前記モノクローナル抗体が、約１００ｍｇ／ｍｌまたは約１５０ｍｇ／ｍｌの濃度で前記製剤中に存在する、請求項５に記載の製剤。
【請求項７】
前記製剤が、約ｐＨ５．５〜約ｐＨ６．５の範囲のｐＨを有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項８】
前記製剤が、約ｐＨ５．８のｐＨを有する、請求項７に記載の製剤。
【請求項９】
前記イオン性賦形剤が塩であり、必要に応じて、該塩が、ＮａＣｌ、アルギニン塩酸塩、またはリジン塩酸塩である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１０】
前記イオン性賦形剤が、約５０ｍＭ〜約１００ｍＭの濃度で存在し、必要に応じて、前記イオン性賦形剤が、７０ｍＭの濃度で存在する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１１】
前記製剤が糖をさらに含み、必要に応じて、該糖が、トレハロースまたはスクロースであり、該糖が、約１００ｍＭ〜約１４０ｍＭの濃度で存在する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１２】
前記製剤が、１つまたは複数の緩衝剤をさらに含み、必要に応じて、該１つまたは複数の緩衝剤が、ヒスチジン、ヒスチジン塩酸塩、およびヒスチジン／ヒスチジン塩酸塩から選択される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１３】
前記製剤が界面活性剤をさらに含み、必要に応じて、該界面活性剤が、ポリソルベートまたはポリソルベート−８０であり、該界面活性剤が、約０．０２％（ｗ／ｖ）〜約０．０７％（ｗ／ｖ）の濃度で前記製剤中に存在する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項１４】
１５０ｍｇ／ｍｌの抗ＧＭ−ＣＳＦＲα抗体、５０ｍＭの酢酸ナトリウム／酢酸、１０６ｍＭのトレハロース無水物、７０ｍＭの塩化ナトリウム、および０．０５％（ｗ／ｖ）のポリソルベート８０を含み、ｐＨ５．８のｐＨを有する、請求項１に記載の製剤。
【請求項１５】
薬剤として使用するため、または疾患の処置に使用するための、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の医薬製剤。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月17日(2020.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（（Ｓ）−２，２−ジフルオロシクロプロピル）（（１Ｒ，５Ｓ）−３−（２−（（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）アミノ）ピリミジン−４−イル）−３，８−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−８−イル）メタノンの結晶形態。
【請求項２】
２θに関して、５．０、９．９、および１５．３°２θ±０．２°２θでのピークを含む粉末Ｘ線回折パターンによって特徴付けられる、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項３】
２θに関して、５．０、９．９、１５．３、および１９．７°２θ±０．２°２θでのピークを含む粉末Ｘ線回折パターンによって特徴付けられる、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項４】
２θに関して、５．０、９．９、１５．３、１６．８および１９．７°２θ±０．２°２θでのピークを含む粉末Ｘ線回折パターンによって特徴付けられる、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項５】
前記形態が、非吸湿性および無水である、請求項１から４のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項６】
前記形態が、実質的に純粋である、請求項１から４のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項７】
５４．６、１２９．８、および１２４．９ｐｐｍ±０．２ｐｐｍからなる群から選択される固体１３Ｃ核磁気共鳴化学シフトによって特徴付けられる、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項８】
１５７８、１６０５、および１５６６ｃｍ−１±２ｃｍ−１での一組のラマンバンドによって特徴付けられる、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項９】
２θに関して、５．０、９．９、および１５．３°２θ±０．２°２θでのピークを含む粉末Ｘ線回折パターン、ならびに５４．６および１２９ｐｐｍ±０．２ｐｐｍからなる群から選択される固体１３Ｃ核磁気共鳴化学シフトによって特徴付けられる、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項１０】
２θに関して、５．０、９．９、および１５．３°２θ±０．２°２θでのピークを含む粉末Ｘ線回折パターン、ならびに１５７８ｃｍ−１±２ｃｍ−１での一組のラマンバンドによって特徴付けられる、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項１１】
１５７８ｃｍ−１±２ｃｍ−１での一組のラマンバンド、ならびに５４．６および１２９ｐｐｍ±０．２ｐｐｍからなる群から選択される固体１３Ｃ核磁気共鳴化学シフトによって特徴付けられる、請求項１に記載の結晶形態。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の結晶形態および薬学的に許容できる担体を含む、医薬組成物。
【請求項１３】
クリーム、経皮パッチ、軟膏、点眼薬、ローションおよびゲルから選択される局所製剤を含む、請求項１２に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
局所製剤が、約０．１％〜約５．０％（ｗ／ｖ）の結晶性（（Ｓ）−２，２−ジフルオロシクロプロピル）−（（１Ｒ，５Ｓ）−３−（２−（（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）アミノ）−ピリミジン−４−イル）−３，８−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−８−イル）メタノンを含有する、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
狼瘡、リウマチ様関節炎、ＩＢＤ、潰瘍性大腸炎、クローン病、白斑、脱毛症、乾癬、乾癬性関節炎、およびアトピー性皮膚炎からなる群から選択される疾患の治療のための、治療有効量の請求項１から１１のいずれか一項に記載の結晶形態を含む、医薬組成物。
【請求項１６】
局所投与モードによって、白斑、脱毛症、乾癬およびアトピー性皮膚炎からなる群から選択される疾患を治療するための、治療有効量の請求項１から１１のいずれか一項に記載の結晶形態を含む医薬組成物。
【請求項１７】
医薬品として使用するための、請求項１から１１のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項１８】
狼瘡、リウマチ様関節炎、ＩＢＤ、潰瘍性大腸炎、クローン病、白斑、脱毛症、乾癬、乾癬性関節炎およびアトピー性皮膚炎からなる群から選択される、障害の治療に使用するための、請求項１から１１のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項１９】
狼瘡、リウマチ様関節炎、ＩＢＤ、潰瘍性大腸炎、クローン病、白斑、脱毛症、乾癬、乾癬性関節炎およびアトピー性皮膚炎からなる群から選択される障害を治療するための医薬品を調製するための、請求項１から１１のいずれか一項に記載の結晶形態の使用。
【請求項２０】
（（２，２−ジフルオロシクロプロピル）−（（１Ｒ，５Ｓ）−３−（２−（（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）アミノ）−ピリミジン−４−イル）−３，８−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−８−イル）メタノン）を適切な溶媒から再結晶化させることによって調製した、（（Ｓ）−２，２−ジフルオロシクロプロピル）（（１Ｒ，５Ｓ）−３−（２−（（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）アミノ）ピリミジン−４−イル）−３，８−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−８−イル）−メタノンの結晶形態。
【請求項２１】
その結晶形態を、経皮投与に適した賦形剤と組み合わせることによって調製した、（（Ｓ）−２，２−ジフルオロシクロプロピル）（（１Ｒ，５Ｓ）−３−（２−（（１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）アミノ）ピリミジン−４−イル）−３，８−ジアザビシクロ［３．２．１］オクタン−８−イル）メタノンの局所製剤。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記の課題を解決するために為されたものであり、その目的は、複数の印字ヘッド毎のインクミスト発生量の違いに対応してインクミストを回収できるとともに、頻繁にフィルタを清掃、交換する必要がなく、液化したインクミストを容易に排出できることである。さらに、印字ヘッドを設けた箱体内にインクミストが流れることがなく、その箱体をコンパクトにできるインクジェット印字装置を提供することである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明のインクジェット印字装置においては、前記送風用ノズルは、前記印字媒体の幅方向全域に開口する長さの送風口と、前記送風口の長さ方向に間隔をおいて設けられた複数の流入口を有し、前記吹出し風量制御手段は、前記各流入口に送風する送風風量を調整可能とし、前記回収用ノズルは、前記印字媒体の幅方向全域に開口する長さの回収口と、前記回収口の長さ方向に間隔をおいて設けた複数の流出口を有し、前記排気用ブロワは、前記流出口から空気を吸引するようにしたインクジェット印字装置とすることができる。
このインクジェット印字装置によれば、印字媒体の幅方向全域に空気を吹き付けできると共に、吹き付け風量を幅方向全域で均一とすることができる。
印字媒体の幅方向全域から空気を均一な吸引風量で吸引できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
印字部２は、箱体（ヘッドボックス）２０内に複数の印字ヘッド２１を印字媒体の搬送方向に間隔を置いて設けてある。各印字ヘッド２１により異なる色のインクを用いて印字媒体の印字面に画像を印字する。
例えば、ブラック（Ｋ）のインクを用いる第１印字ヘッド２１−１と、シアン（Ｃ）のインクを用いる第２印字ヘッド２１−２と、マゼンタ（Ｍ）のインクを用いる第３印字ヘッド２１−３と、イエロー（Ｙ）のインクを用いる第４印字ヘッド２１−４の４つの印字ヘッド２１を備えている。
印字媒体を搬送しながら第４から第１印字ヘッド２１−４〜２１−１の順番で、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）のインクで印字をする。印字ヘッド２１は、印字媒体に対向してインクを吐出するノズル面を印字媒体の幅方向（搬送方向と直角な方向）全域に亘って有するラインヘッドである。例えば、複数の印字ヘッドモジュール(図示せず)を印字媒体の搬送方向と直角な方向に千鳥状に配置したラインヘッドを印字ヘッド２１としている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年6月10日(2021.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電素子と振動板とからなる振動子と、
加圧力によって前記振動子が第１の方向に加圧接触する摺動面を有する摩擦部材と、
前記摺動面が設けられた側の前記摩擦部材の反対側に配置され、前記振動子と前記摩擦部材の相対的な移動をガイドするガイド部材と、
電圧を前記振動子に印加するフレキシブル基板と、
前記摩擦部材、前記ガイド部材及び前記フレキシブル基板を固定する固定部材と、
を備え、
前記振動子と前記摩擦部材とは、第２の方向に相対的に移動し、
前記固定部材は、前記フレキシブル基板を固定するフレキ固定部を備え、
前記フレキシブル基板は、前記圧電素子に接合される接合部と、前記第２の方向に沿って伸延する第１の伸延部と、該第１の伸延部を反転して折り返す屈曲部と、前記フレキ固定部に固定される被固定部と、を備え、
前記フレキシブル基板は、前記摩擦部材に前記振動子が加圧接触する方向と反対の方向に設けられた前記フレキ固定部の面に固定されることを特徴とする、振動波モータ。
【請求項２】
前記フレキ固定部は、前記第１の方向において前記第１の伸延部と前記被固定部の間に配置されることを特徴とする、請求項１に記載の振動波モータ。
【請求項３】
前記第１の伸延部は、前記第１の方向及び前記第２の方向に対して直交する方向に前記接合部から離間して前記第２の方向に沿って伸延し、前記屈曲部は、前記第１の伸延部を前記第２の方向に反転して折り返すことを特徴とする、請求項１又は２に記載の振動波モータ。
【請求項４】
前記フレキシブル基板は、前記屈曲部と前記被固定部との間で前記第２の方向に沿って伸延する第２の伸延部を備え、
前記フレキ固定部は、前記第１の方向に突出したフレキ位置決め突起を備え、前記フレキ位置決め突起は、前記被固定部が有する穴部に係合し、
前記固定部材を保持する第２の固定部材を更に備え、
前記フレキ固定部と対向する該第２の固定部材には第２のフレキ固定部が備えられ、
前記被固定部は、前記フレキ固定部と前記第２のフレキ固定部との間で挟持され、
前記第２のフレキ固定部は、前記第２の方向に延伸されており、前記第１の方向で前記第２の伸延部と当接するフレキ当接部を有することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の振動波モータ。
【請求項５】
前記第１の方向と前記第２の方向とに直交する方向において、前記摩擦部材の両側に複数のバネが配置されており、複数の前記バネの内側に前記接合部が配置され、複数の前記バネの外側に前記第１の伸延部、前記屈曲部、前記第２の伸延部、前記被固定部、前記フレキ固定部がそれぞれ配置されていることを特徴とする、請求項４に記載の振動波モータ。
【請求項６】
前記振動子と共に前記第２の方向に可動する可動ガイド部材と、前記摺動面の反対側に配置され、前記加圧力で前記ガイド部材と前記可動ガイド部材との間で挟持される転動ボールと、を更に備え、
前記第１の方向において、前記摺動面と前記転動ボールとの間に前記フレキ固定部が配置されていることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の振動波モータ。
【請求項７】
前記電圧の印加により振動が励振され、前記振動波モータは、超音波モータであることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の振動波モータ。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の振動波モータと、
前記振動波モータにより駆動される被駆動部材と、を有することを特徴とする駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の振動波モータは、圧電素子と振動板とからなる振動子と、加圧力によって前記振動子が第１の方向に加圧接触する摺動面を有する摩擦部材と、前記摺動面が設けられた側の前記摩擦部材の反対側に配置され、前記振動子と前記摩擦部材の相対的な移動をガイドするガイド部材と、電圧を前記振動子に印加するフレキシブル基板と、前記摩擦部材、前記ガイド部材及び前記フレキシブル基板を固定する固定部材と、を備え、前記振動子と前記摩擦部材とは、第２の方向に相対的に移動し、前記固定部材は、前記フレキシブル基板を固定するフレキ固定部を備え、前記フレキシブル基板は、前記圧電素子に接合される接合部と、前記第２の方向に沿って伸延する第１の伸延部と、該第１の伸延部を反転して折り返す屈曲部と、前記フレキ固定部に固定される被固定部と、を備え、前記フレキシブル基板は、前記摩擦部材に前記振動子が加圧接触する方向と反対の方向に設けられた前記フレキ固定部の面に固定されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月7日(2021.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動板の一方の平面側に振動装置が当接され、該振動装置から伝達された振動を前記振動板から音として放射するスピーカー装置であって、
該スピーカー装置は、前記振動板と、前記振動装置と、前記振動装置を囲むように前記振動板に設けられた枠体と、前記枠体と前記振動装置を挟んで前記振動板の前記平面側に対向して設けられた弾性体とを備えてなり、
前記枠体は、前記振動装置の外周との間に隙間を有して設けられ、
前記弾性体は、前記振動板と平行な平板シート状であり、前記枠体と前記振動装置に跨って、該枠体と該振動装置に固着されており、
前記振動装置および前記枠体における前記振動板の前記平面側の対向側の面全体が、前記弾性体に固着されており、
前記枠体と前記振動装置と前記弾性体とが一体化されていることを特徴とするスピーカー装置。
【請求項２】
前記振動装置の外周形状が、略円柱状であり、
前記枠体の前記振動装置側の内周形状が、前記振動装置の外周形状に対向する略円筒状であり、
前記振動装置の駆動軸が該振動装置の中央に設けられ、前記枠体の内周と前記振動装置の外周との間の径方向隙間が、周方向全域で一定であることを特徴とする請求項１記載のスピーカー装置。
【請求項３】
前記振動装置は、該振動装置の作動時に該振動装置の駆動軸の軸方向に付勢力が発生するように、該駆動軸の端部が前記振動板の前記平面側に当接されていることを特徴とする請求項１記載のスピーカー装置。
【請求項４】
前記スピーカー装置は、前記振動板に当接される他の振動部材を備えることを特徴とする請求項１記載のスピーカー装置。
【請求項５】
前記振動装置および前記枠体における前記振動板の前記平面側の対向側の面全体が、前記弾性体に接着固定されており、
前記振動装置の外周形状が、略円柱状であり、
前記枠体の前記振動装置側の内周形状が、前記振動装置の外周形状に対向する略円筒状であり、
前記振動装置の駆動軸が該振動装置の中央に設けられ、前記枠体の内周と前記振動装置の外周との間の径方向隙間が、周方向全域で一定であり、
前記振動装置は、該振動装置の作動時に該振動装置の駆動軸の軸方向に付勢力が発生するように、該駆動軸の端部が前記振動板の前記平面側に当接されていることを特徴とする請求項１記載のスピーカー装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月14日(2021.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】充電装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、充電装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、ユーザがバッテリを誤った姿勢として挿入しても装置側充電コネクタが損傷することを回避することが可能な充電装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
以下、本発明に係る充電装置につき、好適な実施の形態としてマガジン式充電装置を挙げ、添付の図面を参照して詳細に説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
充電を必要とするバッテリが収容位置で収容される充電装置であって、
バッテリが載置される充電台と、
前記充電台に設けられ、前記バッテリのバッテリ側充電コネクタに係合される装置側充電コネクタと、
を備え、
前記充電台は、前記装置側充電コネクタが通されるコネクタ孔が形成された充電用トレイと、
前記装置側充電コネクタを上下方向に変位させる昇降機構と、
を有し、
前記昇降機構は、指令信号を受けて前記装置側充電コネクタを上昇させる駆動部を有し、
前記駆動部は、前記コネクタ孔の位置が前記装置側充電コネクタの位置と対応するときに、前記指令信号に基づいて前記装置側充電コネクタを上昇させて該装置側充電コネクタを前記コネクタ孔に通す充電装置。
【請求項２】
請求項１記載の充電装置において、前記昇降機構は、前記駆動部の駆動力を前記装置側充電コネクタに伝達するリンク部を有する充電装置。
【請求項３】
請求項２記載の充電装置において、前記リンク部は、前記装置側充電コネクタに連結され、且つ前記駆動部の駆動力によって回動する回動部材を有し、
前記回動部材が回動することで前記装置側充電コネクタが昇降する充電装置。
【請求項４】
請求項３記載の充電装置において、該充電装置は、前記駆動部の駆動に伴って前後方向に変位する変位部材を有し、
前記変位部材が変位することで前記回動部材が回動する充電装置。
【請求項５】
請求項４記載の充電装置において、前記駆動部がウォームを有し、且つ前記変位部材が歯部を有し、
前記昇降機構は、前記ウォームに噛合する第１ギヤと、前記歯部に噛合する第２ギヤと、前記第１ギヤと前記第２ギヤとを連結する伝達軸とを有し、
前記ウォームが回転することに伴って前記第２ギヤが回転することで、前記変位部材が前後方向に変位する充電装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の充電装置において、前記駆動部が前記充電用トレイの下方に配置されている充電装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の充電装置において、前記装置側充電コネクタは、孔が形成された被案内部を有し、且つ前記昇降機構は、前記孔に通された案内部を有する充電装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の充電装置において、前記充電台は、前記充電用トレイを前後方向にスライドさせるスライド機構を備え、
前記充電用トレイがスライドして前記コネクタ孔の位置が前記装置側充電コネクタの位置に対応した後、前記指令信号に基づいて前記装置側充電コネクタを上昇させて該装置側充電コネクタを前記コネクタ孔に通す充電装置。
る充電装置。
【請求項９】
請求項８記載の充電装置において、前記充電用トレイがスライドして前記コネクタ孔の位置が前記装置側充電コネクタの位置に対応したことを検出する検出器を有する充電装置。
【請求項１０】
請求項９記載の充電装置において、前記充電台は、前記バッテリの一側面に沿って延在する背板を有し、
前記背板に判定用突起が設けられ、前記バッテリは、該バッテリの上面よりも高い位置に前記判定用突起が進入可能な進入口を備え、
前記判定用突起が前記進入口に進入したとき、前記検出器が、前記コネクタ孔の位置が前記装置側充電コネクタの位置に対応したことを検出する充電装置。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の充電装置において、前記バッテリは、該バッテリの前記上面に対して離間し、且つ該上面の略中央に設けられて直線状に延在する取っ手部と、
前記取っ手部の一端部に設けられて該取っ手部の延在方向に対して略直交する方向に延在するとともに、前記進入口が形成される進入口形成部と、
をさらに備える充電装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の充電装置において、前記バッテリは、前記上面から突出して前記取っ手部の他端部に連なり、上端の前記上面からの距離が少なくとも前記進入口の下端の前記上面からの距離よりも大きく、前記上面との間が閉塞部である突出部をさらに備える充電装置。
【請求項１３】
請求項８〜１２のいずれか１項に記載の充電装置において、前記充電用トレイを位置決め固定するロック機構を備え、
前記ロック機構は、前記充電用トレイがスライドして前記コネクタ孔の位置が前記装置側充電コネクタの位置と対応したときに前記充電用トレイを位置決め固定する一方、前記装置側充電コネクタが下降することに連動して前記充電用トレイの位置決め固定を解除する充電装置。
【請求項１４】
請求項１３記載の充電装置において、前記充電台は、前記位置決め固定が解除された際に前記充電用トレイを前方に向けて弾発付勢する弾性部材を有する充電装置。
【請求項１５】
請求項１３又は１４記載の充電装置において、前記ロック機構は、案内部材に沿って変位可能なカム部材を有し、前記駆動部の駆動力が伝達された前記カム部材が前記案内部材に沿って変位することで、前記充電用トレイを位置決め固定するか、又は前記充電用トレイの位置決め固定を解除する充電装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の充電装置において、前記充電台を複数個備え、且つ前記装置側充電コネクタ及び前記昇降機構が前記複数個の充電台の各々に設けられた充電装置。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の充電装置において、前記バッテリが可搬式である充電装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月26日(2021.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の平板と、
第２の平板と、
前記第１の平板に対して、前記第２の平板を回動自在に連結する軸部材と、
前記第１の平板に配設される第１の駆動部及び第２の駆動部と、
前記第２の平板に配設される第３の駆動部及び第４の駆動部と、
前記第１乃至第４の駆動部にそれぞれ接続される車輪と、
前記第１の平板に、高さ方向に所定間隔をあけて固定される第３の平板と、を備えた
全方向移動台車。
【請求項２】
前記軸部材は、前記車輪のいずれかの接地面に高さ方向の変動が発生した場合、前記第１の平板に対する前記第２の平板の軸部材周りの回転により、前記第３の平板の上に置かれた搭載物の平衡状態を保ちながら、直進安定性を維持する
請求項１に記載の全方向移動台車。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月30日(2021.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周部及び内周部を有する本体部と、
前記本体部の内部に設けられ、少なくとも前記本体部の上方から下方に向かう気流を発
生させるための揚力発生部と、
前記本体部の側面の下端部に、前記側面の法線方向に変位可能に設けられ、着陸状態において前記本体部を支持するフラップ部と、
前記フラップ部を変位させて前記気流の向きを変える制御を行う制御部と、を備える
飛行体。
【請求項２】
請求項１に記載の飛行体であって、
前記本体部の少なくとも上部又は下部には、全天球カメラが設けられている、
飛行体。
【請求項３】
請求項２に記載の飛行体であって、
前記全天球カメラは、前記本体部の前記上部の中央又は略中央及び前記下部の中央又は略中央に設けられている、
飛行体。
【請求項４】
外周部及び内周部を有する円筒形状の本体部と、
前記本体部の内部に設けられる複数の反転プロペラと、
前記本体部の下部に変位可能に設けられたフラップ部と、
前記フラップ部を変位させて前記複数の反転プロペラにより発生した気流の向きを変える制御を行う制御部と、を備え、
前記本体部の前記外周部には、長手方向が周方向に沿うディスプレイ部が設けられる、
飛行体。
【請求項５】
請求項４に記載の飛行体であって、
前記ディスプレイ部は、前記外周部の略全面に設けられている有機ＥＬディスプレイである、
飛行体。
【請求項６】
請求項４又は請求項５に記載の飛行体であって、
画像取得部を更に備えており、
前記制御部は、特定のジェスチャと特定の動作とを関連付けて管理しており、一のジェスチャに関する情報を前記ディスプレイ部に表示するとともに、前記画像取得部によって取得したユーザの行動が前記一のジェスチャと同一と判断した場合、前記特定の動作を行うように前記飛行体を制御する、
飛行体。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の飛行体であって、
前記外周部には、一以上の深度センサが設けられている、
飛行体。
【請求項８】
請求項７に記載の飛行体であって、
前記深度センサは、前記外周部を上方から見た場合に１２０度間隔で設けられている、
飛行体。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の飛行体であって、
前記本体部の上面及び下面はメッシュ状に形成されている、
飛行体。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月26日(2021.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
多数独立の蒸着通孔（９）からなる蒸着パターンを備えるマスク本体（２）と、マスク本体（２）が配置されるマスク開口（５）を有する補強用の枠体（３）とを備える蒸着マスクであって、
枠体（３）は、相対的に引張強度が高く変形し難い難変形部と、相対的に引張強度が低く変形し易い易変形部とを含み、
枠体（３）の少なくとも難変形部に、引張強度を低下させるための強度低下部（１４）が形成されていることを特徴とする蒸着マスク。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月28日(2021.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜対象物およびターゲットが配置されるチャンバと、
前記チャンバ内の、前記ターゲットを介して前記成膜対象物と対向する位置に配置される磁場発生手段と、
を備えた成膜装置であって、
前記ターゲットの長手方向に並んで配置された複数の導電部材と、
前記複数の導電部材のうちの少なくとも２つの導電部材の電位が異なるように、前記複数の導電部材の少なくとも１つに電位を印加する電位印加手段と、
を有することを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記複数の導電部材は、前記ターゲットの長手方向に並んで配置された少なくとも３つの導電部材を含むことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記電位印加手段は、前記複数の導電部材のうち、前記ターゲットの中央部に対応する前記導電部材の電位が、前記ターゲットの両端に対応する前記導電部材の電位よりも高くなるように、電位を印加することを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。
【請求項４】
成膜対象物およびターゲットが配置されるチャンバと、
前記チャンバ内の、前記ターゲットを介して前記成膜対象物と対向する位置に配置される磁場発生手段と、
を備えた成膜装置であって、
前記ターゲットの表面の長手方向における一部の領域にのみ前記ターゲットと対向する導電部材と、
前記導電部材に電位を印加する電位印加手段と、
を有することを特徴とする成膜装置。
【請求項５】
前記一部の領域は、前記ターゲットの表面の長手方向の両端部から外れた部分であることを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記一部の領域は、前記ターゲットの表面の長手方向の中央部であることを特徴とする請求項５に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記一部の領域は、前記ターゲットの表面の長手方向の両端部の少なくとも一方であることを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記ターゲットの表面形状を計測する表面形状計測手段と、
前記表面形状計測手段によって計測された前記ターゲットの表面形状に応じて、前記電位印加手段によって印加する電位を制御する制御部と、を有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記表面形状計測手段は、前記ターゲットの前記成膜対象物と対向していない部分の表面形状を計測することを特徴とする請求項８に記載の成膜装置。
【請求項１０】
前記成膜対象物に成膜される膜の膜厚分布を測定する膜厚分布測定手段と、
前記膜厚分布測定手段によって測定された前記膜の膜厚分布に応じて、前記電位印加手段によって印加する電位を制御する制御部と、
を有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１１】
前記導電部材は、防着部材を構成することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１２】
前記ターゲットは円筒形であり、前記ターゲットを回転させる回転手段をさらに有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１３】
前記磁場発生手段と前記ターゲットとを有し、前記磁場発生手段が、前記ターゲットの内部に配置されるカソードユニットを、前記チャンバ内に複数有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１４】
成膜対象物をチャンバ内に配置し、前記成膜対象物と対向して配置されたターゲットから飛翔するスパッタ粒子を堆積させて成膜するスパッタ成膜工程を含む電子デバイスの製造方法であって、
前記スパッタ成膜工程は、前記ターゲットの長手方向に垂直な断面における前記ターゲットの周囲の空間電位分布を前記ターゲットの中央部と端部とで異ならせた状態で成膜する工程である
ことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項１５】
前記スパッタ成膜工程は、前記ターゲットの周囲に配置された導電部材に電位を印加することによって、前記ターゲットの長手方向に垂直な断面における前記ターゲットの周囲の空間電位分布を前記ターゲットの中央部と端部とで異ならせた状態で成膜する工程である
ことを特徴とする請求項１４に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項１６】
前記導電部材は、前記ターゲットの長手方向に沿って複数配置されており、
前記スパッタ成膜工程において複数の前記導電部材の少なくとも２つの導電部材の電位が異なるように、複数の前記導電部材の少なくとも１つに電位が印加される
ことを特徴とする請求項１５に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項１７】
前記導電部材は、前記ターゲットの長手方向の中央部に配置されている
ことを特徴とする請求項１５に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項１８】
前記導電部材は、前記ターゲットの長手方向の両端部にそれぞれ配置されている
ことを特徴とする請求項１６に記載の電子デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面としての成膜装置は、成膜対象物およびターゲットが配置されるチャンバと、前記チャンバ内の、前記ターゲットを介して前記成膜対象物と対向する位置に配置される磁場発生手段と、備えた成膜装置であって、前記ターゲットの長手方向に並んで配置された複数の導電部材と、前記複数の導電部材のうちの少なくとも２つの導電部材の電位が異なるように、前記複数の導電部材の少なくとも１つに電位を印加する電位印加手段と、有することを特徴とする。
また、本発明の別の一側面としての成膜装置は、成膜対象物およびターゲットが配置されるチャンバと、前記チャンバ内の、前記ターゲットを介して前記成膜対象物と対向する位置に配置される磁場発生手段と、を備えた成膜装置であって、前記ターゲットの表面の長手方向における一部の領域にのみ前記ターゲットと対向する導電部材と、前記導電部材に電位を印加する電位印加手段と、を有することを特徴とする。
また、本発明の別の一側面としての電子デバイスの製造方法は、成膜対象物をチャンバ内に配置し、前記成膜対象物と対向して配置されたターゲットから飛翔するスパッタ粒子を堆積させて成膜するスパッタ成膜工程を含む電子デバイスの製造方法であって、前記スパッタ成膜工程は、前記ターゲットの長手方向に垂直な断面における前記ターゲットの周囲の空間電位分布を前記ターゲットの中央部と端部とで異ならせた状態で成膜する工程であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月28日(2021.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜対象物および円筒形のターゲットが内部に配置されるチャンバと、
前記ターゲットの内部に設けられ、前記ターゲットの外周面から漏洩する漏洩磁場を生成する磁場発生手段と、
前記ターゲットを回転駆動するターゲット駆動手段と、を備え、前記ターゲットと対向して配置される前記成膜対象物に成膜を行う成膜装置であって、
前記磁場発生手段は、前記ターゲットの外表面の前記ターゲットの前記成膜対象物と対向する第１の領域から漏洩する第１の漏洩磁場と、前記ターゲットの外表面の前記ターゲットの前記成膜対象物と対向しない第２の領域から漏洩する第２の漏洩磁場と、を発生させる手段であり、
前記第２の漏洩磁場の強度が、前記第１の漏洩磁場の強度よりも低いことを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記第２の領域は、前記ターゲットの回転軸を挟んで前記第１の領域の反対側にあることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記磁場発生手段は、前記第１の漏洩磁場を発生させる第１の磁石ユニットと、前記第２の漏洩磁場を発生させる第２の磁石ユニットと、を有することを特徴とする請求項１または２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記第２の磁石ユニットと前記ターゲットとの間には、磁性板が配置されることを特徴とする請求項３に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記磁性板は、前記ターゲットの長手方向と直交する断面形状が円弧状の磁性板であることを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記第２の磁石ユニットは、前記第１の磁石ユニットよりも磁力の弱い磁石ユニットであることを特徴とする請求項３から５のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記第１の領域におけるスパッタと、前記第２の領域におけるスパッタと、を同時に行
うモードを有する請求項１から６のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記チャンバの内部を、前記第１の領域に面した第１の空間と前記第２の領域に面した第２の空間とに仕切る仕切り部材をさらに有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記チャンバの内部にスパッタガスを供給するためのガス供給手段を備え、
前記ガス供給手段によるガス供給口の位置は、前記成膜対象物の成膜対象面の法線に垂直で、かつ、前記ターゲットの回転軸を含む平面の近傍であることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１０】
前記磁場発生手段を有し、前記ターゲットが、前記磁場発生手段がその内部に配置されるようにそれぞれ配置されるカソードユニットを、前記チャンバ内に複数有することを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の成膜装置。
【請求項１１】
成膜対象物および円筒形のターゲットが内部に配置されるチャンバと、
前記ターゲットの内部に設けられ、前記ターゲットの外周面から漏洩する漏洩磁場を生成する磁場発生手段と、
前記ターゲットを回転駆動するターゲット駆動手段と、を備え、前記ターゲットと対向して配置される前記成膜対象物に成膜を行う成膜装置であって、
前記ターゲットの長手方向に垂直な断面において、前記ターゲットの外周上の点であって前記成膜対象物と対向して配置されたときに前記成膜対象物との距離が最も短くなる点である第１の点とし、前記第１の点と前記ターゲットの回転軸上の点とを結ぶ直線を第１の直線、前記ターゲットの回転軸上の点を通り前記第１の直線に垂直な直線を第２の直線として、
前記ターゲットを、前記第２の直線を含み、前記ターゲットの長手方向に平行な平面で分割したときに、前記第１の点を含む部分を第１の部分とし、他方を第２の部分とすると、
前記磁場発生手段は、前記ターゲットの前記第１の部分の外表面から漏洩する第１の漏洩磁場と、前記ターゲットの前記第２の部分の外表面から漏洩する第２の漏洩磁場と、を発生させる手段であり、
前記第２の漏洩磁場の強度が、前記第１の漏洩磁場の強度よりも低いことを特徴とする成膜装置。
【請求項１２】
成膜対象物および円筒形のターゲットが内部に配置されるチャンバと、
前記ターゲットの内部に設けられ、前記ターゲットの外周面から漏洩する漏洩磁場を生成する磁場発生手段と、
前記ターゲットを回転駆動するターゲット駆動手段と、を備え、前記ターゲットと対向して配置される前記成膜対象物に成膜を行う成膜装置であって、
前記チャンバの内部に、前記成膜対象物に成膜するためのスパッタを行う第１の空間と、前記ターゲットの外表面をクリーニングするためのスパッタを行う第２の空間と、が設けられており、
前記磁場発生手段は、前記ターゲットの前記第１の空間側の外表面から漏洩する第１の漏洩磁場と、前記ターゲットの前記第２の空間側の外表面から漏洩する第２の漏洩磁場と、を発生させる手段であり、
前記第２の漏洩磁場の強度が、前記第１の漏洩磁場の強度よりも低いことを特徴とする成膜装置。
【請求項１３】
成膜対象物をチャンバ内に配置し、前記成膜対象物と対向して配置された円筒形のターゲットから飛翔するスパッタ粒子を堆積させて成膜するスパッタ成膜工程を含む電子デバ
イスの製造方法であって、
前記ターゲットの内部に配置された磁場発生手段によって、前記ターゲットから前記成膜対象物に向かう第１の方向と、前記成膜対象物から離れる方向の第２の方向と、の両方に前記ターゲットの外表面から漏洩する漏洩磁場を発生させ、
前記第２の方向における漏洩磁場の強度は、前記第１の方向における漏洩磁場の強度よりも低く、
前記第１の方向における漏洩磁場によってプラズマを集中させてスパッタを行う本スパッタ工程と、
前記第２の方向における漏洩磁場によってプラズマを集中させてスパッタを行うプリスパッタ工程と、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項１４】
前記プリスパッタ工程は、前記ターゲットの外表面を清浄にする工程であることを特徴とする請求項１３に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項１５】
前記本スパッタ工程と前記プリスパッタ工程とを同時に行うことを特徴とする請求項１４に記載の電子デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月27日(2021.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解質ポリマーの重合溶液を、前記重合溶液の溶媒よりも前記電解質ポリマーの溶解性が低く、かつ前記重合溶液の溶媒と混和可能な貧溶媒中にストランド状に押し出す押出工程と、押し出されたストランド状電解質ポリマーを機械的に切断してチョップドストランド状電解質ポリマーとする切断工程を、インラインで連続的に実施することを含む、精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項２】
前記切断工程の後に、前記チョップドストランド状電解質ポリマーを前記貧溶媒中で保持したまま、前記チョップドストランド状電解質ポリマーに含まれる前記重合溶液の溶媒と前記貧溶媒との溶媒交換を促進する溶媒交換工程を有する、請求項１に記載の精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項３】
さらに、前記チョップドストランド状電解質ポリマーと前記貧溶媒とを固液分離する固液分離工程を有する、請求項１または２に記載の精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項４】
前記押出工程の開始から前記切断工程における切断までの時間が２秒以上である、請求項１〜３のいずれかに記載の精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項５】
前記断工程後のチョップドストランド状電解質のアスペクト比が５以上６０以下である、請求項１〜４のいずれかに記載の精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項６】
前記切断工程における切断時のストランド状電解質ポリマーの破断応力が８０００Ｎ／ｍ２以上、６００００Ｎ／ｍ２以下である、請求項１〜５のいずれかに記載の精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項７】
前記貧溶媒に、電解質ポリマーの重合溶液に含まれる不純物を溶解可能な精製助剤が含まれる、請求項１〜６のいずれかに記載の精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項８】
前記電解質ポリマーが炭化水素系電解質ポリマーである、請求項１〜７のいずれかに記載の精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項９】
前記電解質ポリマーの分子量が５万以上である、請求項１〜８のいずれかに記載の精製電解質ポリマーの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の精製電解質ポリマーの製造方法により得られた精製電解質ポリマーを該電解質ポリマーの良溶媒に溶解した高分子電解質組成物を製膜する、高分子電解質膜の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月27日(2021.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクジェットプリンタと、
クリーニングユニットと、
を含み、
前記インクジェットプリンタは、
インクヘッドと、
前記インクヘッドと対向するように設けられ、被印刷物が載置されるテーブルと、
を備え、
前記クリーニングユニットは、
前記テーブルに着脱可能に構成された取付部と、
前記テーブルに前記取付部が装着された際に前記インクヘッドに対向するように配置されたクリーニング部材と、
を備えている、
インクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【請求項２】
前記インクジェットプリンタは、
前記インクヘッドと前記テーブルとを相対的に移動させる移動装置と、
前記移動装置を制御して前記クリーニング部材と前記インクヘッドとを接触させるクリーニング制御部を備えた制御装置と、
を有し、
前記テーブルは、前記被印刷物が載置される載置面を備え、
前記移動装置は、
前記テーブルを前記載置面に平行な第１方向に移動させる第１移動機構と、
前記インクヘッドを前記載置面に平行かつ前記第１方向に直交する第２方向に移動させる第２移動機構と、
前記テーブルを前記載置面に直交する第３方向に移動させる第３移動機構と、
を備えている、
請求項１に記載のインクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【請求項３】
前記テーブルは、前記クリーニングユニットが装着される位置を決める第１位置決め機構を備え、
前記クリーニングユニットは、前記第１位置決め機構に対応する第２位置決め機構を備えている、
請求項１または２に記載のインクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【請求項４】
前記クリーニング部材は、インクを吸収する吸収部材を備えている、
請求項１〜３のいずれか一つに記載のインクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【請求項５】
前記クリーニングユニットは、前記吸収部材を着脱可能に保持する保持部を備えている、
請求項４に記載のインクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【請求項６】
前記クリーニング部材は、前記吸収部材よりも前記テーブル側に配置され、柔軟性を有する材料で形成された密着部材を備えている、
請求項４または５に記載のインクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【請求項７】
前記クリーニングユニットは、平板状のベースを備え、
前記クリーニング部材は、前記ベースの一方側の面に設けられ、
前記取付部は、前記ベースの他方側の面に設けられるとともに前記インクジェットプリンタの前記テーブルに設置される脚部を備えている、
請求項１〜６のいずれか一つに記載のインクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【請求項８】
前記脚部は、複数の脚を備え、
前記複数の脚のうちの少なくとも１つの脚は、前記ベースにおける位置を移動可能に構成されている、
請求項７に記載のインクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【請求項９】
前記脚部は、複数の脚を備え、
前記テーブルは、前記クリーニングユニットが設置されるユニット設置部を備え、
前記ユニット設置部は、前記複数の脚のうちの少なくとも２つがそれぞれ挿入される装着孔を備えている、
請求項７または８に記載のインクジェットプリンタのクリーニングシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月30日(2020.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
皮膜形成性高分子成分と、界面活性剤または界面活性剤および水溶性の塩からなる白色化剤を含む白色皮膜であって、
前記皮膜は白色顔料を含まず、
前記界面活性剤が、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリプロピレングリコール、ポリアルキレンオキサイド誘導体、およびアルキル硫酸エステル塩及びサポニンから選択されることを特徴とする、前記皮膜。
【請求項２】
皮膜形成性高分子成分がセルロース誘導体、ゼラチン又はプルランから選択される１種を含む請求項１に記載の皮膜。
【請求項３】
多価アルコールの脂肪酸エステルが、ショ糖脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシソルビタン脂肪酸エステルであり、ポリアルキレンオキサイド誘導体がポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、サポニンがトリテルペノイドサポニン又はステロイドサポニンである請求項１又は２に記載の皮膜。
【請求項４】
界面活性剤が、ポリオキシエチレン（１０５）ポリオキシプロピレン（５）グリコール、ポリオキシエチレン（１６０）ポリオキシプロピレン（３０）グリコール、ショ糖モノラウリン酸エステル、ショ糖パルミチン酸エステル、ソルビタンモノラウリン酸エステル、ポリソルベート８０及びラウリル硫酸ナトリウム、キラヤサポニン、人参サポニン、大豆サポニン、エンジュサポニン、茶種子サポニン、ビートサポニン、ユッカサポニン、グリチルリチンからなる群から選択される請求項１〜３のいずれか１項に記載の皮膜。
【請求項５】
乾燥重量として合計１００重量部の皮膜形成性高分子成分に対し、界面活性剤の合計が０．５〜３０重量部の範囲で、白色度が調節された請求項１〜４のいずれか１項に記載の皮膜。
【請求項６】
乾燥重量として合計１００重量部の皮膜形成性高分子成分に対し、界面活性剤の合計が０．７〜３０重量部の範囲で、白色度が調節された請求項１〜５のいずれか１項に記載の
皮膜。
【請求項７】
乾燥重量として合計１００重量部の皮膜形成性高分子成分に対し、界面活性剤の合計が１．０〜３０重量部の範囲で、白色度が調節された請求項１〜５のいずれか１項に記載の皮膜。
【請求項８】
乾燥重量として合計１００重量部の皮膜形成性高分子成分に対し、界面活性剤の合計が０．５〜１５重量部の範囲で、白色度が調節された請求項１〜５のいずれか１項に記載の皮膜。
【請求項９】
添加する水溶性の塩類がナトリウム塩及び／又はカリウム塩及び／又はアンモニウム塩である請求項１〜８のいずれか１項に記載の皮膜。
【請求項１０】
乾燥重量として合計１００重量部の皮膜形成性高分子成分に対し、添加する水溶性の塩類がリンゴ酸ナトリウム、コハク酸ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸二水素カリウム、ピロリン酸ナトリウムから選択される塩の１種又はそれ以上であり、その合計が０．５〜３０重量部の範囲で白色度を変更し得る請求項１〜９のいずれか１項に記載の皮膜。
【請求項１１】
染料或いは顔料を加えて白以外に着色した請求項１〜１０のいずれか１項に記載の皮膜。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の皮膜からなる経口送達に適したカプセル。
【請求項１３】
医薬、化粧品または健康食品を充填するものである請求項１２に記載のカプセル。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載のカプセルであって、
前記皮膜形成性高分子成分と界面活性剤の組み合わせが、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）とショ糖モノラウリン酸エステル、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）とポリオキシエチレン(１０５)ポリオキシプロピレン(５)グリコール、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）とポリオキシエチレン(１６０)ポリオキシプロピレン(３０)グリコール、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）とショ糖パルミチン酸エステル、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）とポリソルベート８０、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）とサポニン（キラヤサポニン、人参サポニン、大豆サポニン、エンジュサポニン、茶種子サポニン、ビートサポニン、ユッカサポニン、グリチルリチン等）、ゼラチンとショ糖モノラウリン酸エステル、ゼラチンとポリオキシエチレン(１０５)ポリオキシプロピレン(５)グリコール、ゼラチンとサポニン（キラヤサポニン、人参サポニン、大豆サポニン、エンジュサポニン、茶種子サポニン、ビートサポニン、ユッカサポニン、グリチルリチン等）、又はプルランとポリオキシエチレン(１０５)ポリオキシプロピレン(５)グリコールである、カプセル。
【請求項１５】
水に溶解した皮膜形成性高分子成分と、界面活性剤または界面活性剤および水溶性の塩からなる白色化剤を含む請求項１〜１１のいずれか1項に記載の皮膜を形成する皮膜形成性組成物。
【請求項１６】
皮膜形成性高分子成分を用いる白色皮膜又は経口送達に適した白色カプセルの製造において、白色顔料を使用せず、白色化剤として界面活性剤または界面活性剤および水溶性の塩を使用する方法であって、
前記界面活性剤が、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリプロピレングリコール、ポリ
アルキレンオキサイド誘導体、およびアルキル硫酸エステル塩およびサポニンから選択されることを特徴とする、前記方法。