【手続補正書】
【提出日】令和3年4月2日(2021.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部から筐体内へ基板が搬入されてから、当該基板が外部に搬出される準備が整うまでまたは基板が外部に搬出されるまでの１サイクルの間に、基板に対して処理を行うために当該基板に光を照射する基板処理装置において、
前記筐体内に設けられた基板の載置部と、
前記載置部に載置された基板に光を照射し、温度により発光状態が変わる光源部と、
前記光源部を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、予め決められた前記１サイクルの時間をサイクル時間、基板に対して処理を行うために当該基板に光を照射する時間帯を処理時間帯と呼ぶとすると、前記１サイクルのうち前記処理時間帯以外の時間帯にて前記光源部をダミー発光させ、前記処理時間帯における照射領域の照度に応じてダミー発光時における照射領域の照度を調整することにより、前記基板処理装置によって処理される互に異なる基板間における前記１サイクル内の照射領域の平均照度が一定となるように、制御信号を出力するように構成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記１サイクルが終了した後、次の基板が筐体内に搬入され、次の１サイクルが開始されるまでの時間帯を待機時間帯と呼ぶとすると、前記待機時間帯における照射領域の照度を予め設定しておき、
前記ダミー発光時における照射領域の照度は、前記１サイクルにおける照射領域の平均照度と前記待機時間帯における照射領域の平均照度とが揃うように調整されることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記待機時間帯における照射領域の照度、前記サイクル時間、前記処理時間帯の時間、当該処理時間帯における照射領域の照度、及び前記ダミー発光を行う時間に基づいて前記ダミー発光時における照射領域の照度を求める機能を備えていることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記待機時間帯における照射領域の照度、前記処理時間帯の時間、及び前記ダミー発光を行う時間は予め決められた値であり、
前記制御部は、前記予め決められた値と変数である前記処理時間帯における照射領域の照度とに基づいて、前記ダミー発光時における照射領域の照度を求めるように構成されていることを特徴とする請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記待機時間帯における照射領域の照度は、環境温度の変動に応じて調整されるように構成されていることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記ダミー発光を行う時間は、前記処理時間帯の時間よりも長く設定されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
外部から筐体内へ基板が搬入されてから、当該基板が外部に搬出される準備が整うまでまたは基板が外部に搬出されるまでの１サイクルの間に、基板に対して処理を行うために、温度により発光状態が変わる光源部から当該基板に光を照射する基板処理方法において、
予め決められた前記１サイクルの時間をサイクル時間、基板に対して処理を行うために当該基板に光を照射する時間帯を処理時間帯と呼ぶとすると、前記１サイクルのうち前記処理時間帯以外の時間帯にて前記光源部をダミー発光させ、基板間における前記１サイクル内の照射領域の平均照度が一定となるように、前記処理時間帯における照射領域の照度に応じてダミー発光時における照射領域の照度を調整することを特徴とする基板処理方法。
【請求項８】
前記１サイクルが終了した後、次の基板が筐体内に搬入され、次の１サイクルが開始されるまでの時間帯を待機時間帯と呼ぶとすると、前記待機時間帯における照射領域の照度は、環境温度の変動に応じて調整されることを特徴とする請求項７に記載の基板処理方法。
【請求項９】
外部から筐体内へ基板が搬入されてから、当該基板が外部に搬出される準備が整うまでまたは基板が外部に搬出されるまでの１サイクルの間に、基板に対して処理を行うために当該基板に光を照射する基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項７または８に記載された基板処理方法を実行するように命令が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１０】
前記ダミー発光は、前記基板に光を照射するための前記光源部から、基板に光が当たらない状態にて前記調整された照度で発光することであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記制御部は、次式
Ｉｄ＝（Ｔｐ／Ｔｄ）・Ｉｗ−（Ｔｓ／Ｔｄ）・Ｉｓ
[ただしＩｄはダミー発光時の照射領域の照度、Ｔｐは１サイクルの時間、Ｔｄはダミー発光の時間帯の時間、Ｉｗは待機時間帯の平均照度、Ｔｓは処理時間、Ｉｓは処理時間帯の照射領域の照度である]
に基づいてダミー発光時の照射領域の照度を決定することを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記１サイクルが終了した後、次の基板が筐体内に搬入され、次の１サイクルが開始されるまでの時間帯を待機時間帯と呼ぶとすると、ダミー発光時の照射領域の照度は、次式
Ｉｄ＝（Ｔｐ／Ｔｄ）・Ｉｗ−（Ｔｓ／Ｔｄ）・Ｉｓ
[ただしＩｄはダミー発光時の照射領域の照度、Ｔｐは１サイクルの時間、Ｔｄはダミー発光の時間帯の時間、Ｉｗは待機時間帯の平均照度、Ｔｓは処理時間、Ｉｓは処理時間帯の照射領域の照度である]
に基づいて決定されることを特徴とする請求項７記載の基板処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、外部から筐体内へ基板が搬入されてから、当該基板が外部に搬出される準備が整うまでまたは基板が外部に搬出されるまでの１サイクルの間に、基板に対して処理を行うために当該基板に光を照射する基板処理装置において、
前記筐体内に設けられた基板の載置部と、
前記載置部に載置された基板に光を照射し、温度により発光状態が変わる光源部と、
前記光源部を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、予め決められた前記１サイクルの時間をサイクル時間、基板に対して処理を行うために当該基板に光を照射する時間帯を処理時間帯と呼ぶとすると、前記１サイクルのうち前記処理時間帯以外の時間帯にて前記光源部をダミー発光させ、前記処理時間帯における照射領域の照度に応じてダミー発光時における照射領域の照度を調整することにより、前記基板処理装置によって処理される互に異なる基板間における前記１サイクル内の照射領域の平均照度が一定となるように、制御信号を出力するように構成されていることを特徴とする。
他の発明は、外部から筐体内へ基板が搬入されてから、当該基板が外部に搬出される準備が整うまでまたは基板が外部に搬出されるまでの１サイクルの間に、基板に対して処理を行うために、温度により発光状態が変わる光源部から当該基板に光を照射する基板処理方法において、
予め決められた前記１サイクルの時間をサイクル時間、基板に対して処理を行うために当該基板に光を照射する時間帯を処理時間帯と呼ぶとすると、前記１サイクルのうち前記処理時間帯以外の時間帯にて前記光源部をダミー発光させ、基板間における前記１サイクル内の照射領域の平均照度が一定となるように、前記処理時間帯における照射領域の照度に応じてダミー発光時における照射領域の照度を調整することを特徴とする。
更に他の発明は、外部から筐体内へ基板が搬入されてから、当該基板が外部に搬出される準備が整うまでまたは基板が外部に搬出されるまでの１サイクルの間に、基板に対して処理を行うために当該基板に光を照射する基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、本発明の基板処理方法を実行するように命令が組まれていることを特徴とする。