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【手続補正書】
【提出日】令和3年5月13日(2021.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
管理対象者に関する薬別の投薬情報及び薬別の服薬情報を取得する取得部と、
複数の単位投薬期間を設定する設定部と、
前記取得された薬別の投薬情報及び薬別の服薬情報と、前記設定された単位投薬期間とに基づいて、前記単位投薬期間ごとの薬別の服薬率を算出する算出部と、
前記取得された薬別の投薬情報と前記算出された薬別の服薬率とを前記単位投薬期間ごとに関連付けて表す管理画面データを生成する生成部と、
を備え、
前記投薬情報は、薬特定情報、薬別の規定服薬量を含み、前記薬特定情報及び前記薬別の規定服薬量のうち少なくとも１つが前記単位投薬期間ごとに異なる、
投薬管理装置。
【請求項２】
前記投薬管理装置は、高血圧疾患を有する管理対象者に対する治療において投薬管理を行う、請求項１に記載の投薬管理装置。
【請求項３】
前記取得部は、前記投薬情報として、前記薬特定情報、前記薬別の規定服薬量、薬別の投薬開始日及び投薬終了日を取得する、請求項１に記載の投薬管理装置。
【請求項４】
前記取得部は、前記服薬情報として、少なくとも前記薬特定情報及び薬別の服薬日を取得する、請求項１に記載の投薬管理装置。
【請求項５】
前記取得部は、前記服薬情報に基づいて、前記管理対象者が服薬を行ったか否かを薬別に判断する、請求項４に記載の投薬管理装置。
【請求項６】
前記取得部は、更に、投薬開始日及び投薬終了日を取得し、
前記設定部は、前記投薬開始日を前記単位投薬期間の開始日として設定し、前記投薬終了日を前記単位投薬期間の終了日として設定する、請求項１に記載の投薬管理装置。
【請求項７】
前記取得部は、前記投薬開始日として第１通院日を取得し、前記投薬終了日として前記第１通院日の次の通院日である第２通院日を取得する、請求項６に記載の投薬管理装置。
【請求項８】
前記算出部は、前記薬別の前記服薬率として、前記単位投薬期間において前記薬別に規定された服薬回数に対する実際の服薬回数の割合を算出する、請求項１に記載の投薬管理装置。
【請求項９】
前記取得部は、前記服薬情報として、少なくとも薬別の服薬日及び服薬時間を取得し、  前記生成部は、前記単位投薬期間内に複数の規定服薬時間を設定し、前記取得された薬別の服薬日および服薬時間に基づいて、前記薬別の投薬情報及び前記薬別の服薬率を前記規定服薬時間ごとに関連付けて表す管理画面データを生成する、請求項１に記載の投薬管理装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の投薬管理装置が備える各部の機能をプロセッサに実行させる、投薬管理プログラム。
【請求項１１】
管理対象者に関する薬別の投薬情報及び薬別の服薬情報を取得する過程と、
複数の単位投薬期間を設定する過程と、
前記取得された薬別の投薬情報及び薬別の服薬情報と、前記設定された単位投薬期間とに基づいて、前記単位投薬期間ごとの薬別の服薬率を算出する過程と、
前記取得された薬別の投薬情報と前記算出された薬別の服薬率とを前記単位投薬期間ごとに関連付けて表す管理画面データを生成する過程と、
を備え、
前記投薬情報は、薬特定情報及び薬別の規定服薬量を含み、前記薬特定情報及び前記薬別の規定服薬量のうち少なくとも１つが前記単位投薬期間ごとに異なる、
投薬管理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
投薬管理装置１は、家庭で投薬管理が必要な疾病を有する管理対象者に対する治療における、管理者による投薬管理に用いられる。管理者は、例えば、医師である。管理対象者は、例えば、対象の疾病を有する患者である。投薬管理装置１は、診断画面生成プログラムに基づいて、診断画面生成処理を実行する。診断画面生成プログラムは、投薬管理プログラムの一例である。図１に示すように、投薬管理装置１は、取得部２と、設定部３と、算出部４と、生成部５と、出力部６と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５９】
２．５．４  服薬率表示画面を用いた診断例
図１２の一例では、投薬期間Ｔ１〜Ｔ５が設定されている。投薬期間Ｔ１〜Ｔ５のそれぞれの開始日は、投薬開始日と一致する。投薬期間Ｔ１〜Ｔ５のそれぞれの終了日は、投薬の終了日と一致する。投薬期間Ｔ５の終了日は、例えば、服薬情報の最終取得日としている。また、投薬期間Ｔ１〜Ｔ５のそれぞれでは、開始日及び終了日は、通院日と一致している。投薬期間Ｔ１〜Ｔ５の開始日及び終了日は、投薬の変更日と一致している。また、投薬期間Ｔ５の開始日も、通院日と一致している。投薬期間Ｔ１〜Ｔ５のそれぞれは、単位投薬期間の一例である。本実施形態では、投薬期間Ｔ１〜Ｔ５のそれぞれは、診断期間Ｐ１〜Ｐ５と一致している。すなわち、第１投薬期間Ｔ１は、３月４日から３月１０日までの期間である。また、第２投薬期間Ｔ２は、３月１０日から３月１７日までの期間である。第３投薬期間Ｔ３は、３月１７日から３月２４日までの期間である。第４投薬期間Ｔ４は、３月２４日から３月３１日までの期間である。第５投薬期間Ｔ５は、３月３１日から服薬情報の最終取得日である４月２日までの期間である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
また、前述の副作用管理画面と服薬率管理画面を切替えて利用することにより、管理者は、管理対象者に対して、薬の効果が充分に発揮され、かつ、副作用が少なく、かつ、アドヒアランスを低下させない投薬がどのような投薬であるのかを容易に判断することができる。なお、副作用管理画面と服薬率管理画面は、切り替え表示されるのではなく、並べて表示できるようにしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2019207537.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月20日(2021.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理装置で使用するシャワーヘッドの製造方法であって、
ａ）プレートを準備する工程と、
ｂ）前記プレートに複数の貫通孔を形成する工程であり、各貫通孔は第１部分と第２部分とを有し、前記第２部分は漏斗形状又はベル形状を有する、工程と、
ｃ）前記貫通孔の内面に対し、前記内面が約４０μｍ削れるようにケミカルポリッシュ処理を行う工程と、
を有する、シャワーヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記貫通孔の前記第２部分の側面は、前記貫通孔に沿った方向に対して３０°〜６０°の範囲内の角度の傾きを有する、請求項１に記載のシャワーヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記貫通孔の前記第２部分の側面は、前記貫通孔に沿った方向に対して４５°傾いている、請求項１に記載のシャワーヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記プレートは、シリコン、石英、シリコンカーバイト、及びそれらの組み合わせからなる群から選択された材料により形成される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシャワーヘッドの製造方法。
【請求項５】
板状部材と、
前記板状部材に形成された複数のガス穴とを有し、
前記複数のガス穴のそれぞれは、
前記ガス穴の開口部が漏斗形状又はベル形状に形成され、
前記開口部の端部が丸く形成されている、
上部電極アセンブリ。
【請求項６】
前記複数のガス穴のそれぞれは、ケミカルポリッシュ処理により加工されている、請求項５に記載の上部電極アセンブリ。
【請求項７】
前記複数のガス穴のそれぞれは、
前記開口部に繋がる貫通穴を有し、
前記開口部の直径は、前記貫通穴の直径の１．６倍〜２．０倍の範囲内に形成されている、請求項５又は６に記載の上部電極アセンブリ。
【請求項８】
前記複数のガス穴のそれぞれは、
前記開口部に繋がる貫通穴を有し、
前記貫通穴の側面に対する前記開口部の側面の傾きは、３０°〜６０°の範囲内の角度に形成されている、請求項５〜７のいずれか一項に記載の上部電極アセンブリ。
【請求項９】
前記貫通穴の側面に対する前記開口部の側面の傾きは、４５°の角度に形成されている、
請求項８に記載の上部電極アセンブリ。
【請求項１０】
前記上部電極アセンブリは、シリコン、石英、シリコンカーバイトのいずれかを含む、
請求項５〜９のいずれか一項に記載の上部電極アセンブリ。
【請求項１１】
処理容器と、
前記処理容器内に配置され、基板を載置する載置台と、
前記載置台に対向する上部電極アセンブリを含む上部電極と、を有し、
前記上部電極アセンブリは、
板状部材と、
前記板状部材に形成された複数のガス穴とを有し、
前記複数のガス穴のそれぞれは、
前記ガス穴の開口部が漏斗形状又はベル形状に形成され、
前記開口部の端部が丸く形成されている、
処理装置。
【請求項１２】
複数のガス穴を有する板状部材の上部電極アセンブリを製造する方法であって、
前記複数のガス穴のそれぞれを作製する工程は、
前記板状部材に漏斗形状又はベル形状の開口部を形成する工程と、
前記開口部に繋がる貫通穴を形成する工程と、
前記開口部の端部を丸く形成する工程と、
を含む上部電極アセンブリの製造方法。
【請求項１３】
前記開口部の端部を丸く形成する工程は、
前記複数のガス穴をケミカルポリッシュ処理により加工する、
請求項１２に記載の上部電極アセンブリの製造方法。
【請求項１４】
前記開口部に繋がる貫通穴を形成する工程は、前記板状部材に漏斗形状又はベル形状の開口部を形成する工程の後に行われる、
請求項１２又は１３に記載の処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】シャワーヘッドの製造方法、上部電極アセンブリ、処理装置、及び上部電極アセンブリの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本開示の一の態様によれば、プラズマ処理装置で使用するシャワーヘッドの製造方法であって、ａ）プレートを準備する工程と、ｂ）前記プレートに複数の貫通孔を形成する工程であり、各貫通孔は第１部分と第２部分とを有し、前記第２部分は漏斗形状又はベル形状を有する、工程と、ｃ）前記貫通孔の内面に対し、前記内面が約４０μｍ削れるようにケミカルポリッシュ処理を行う工程と、を有する、シャワーヘッドの製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月18日(2020.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜をエッチングする方法であって、該膜は開口を画成する側壁面及び底面を有する有機膜であって、該方法は、
前記有機膜上に前駆体の層を形成する工程と、
酸素含有ガスから形成されたプラズマからの酸素化学種により前記有機膜をエッチングする工程と、
を含み、
前記有機膜をエッチングする前記工程において、前記プラズマからの前記酸素化学種により前記層が酸化されて保護領域が形成される、方法。
【請求項２】
前記前駆体はシリコンを含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記前駆体は金属を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記金属はタングステン又はチタンである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記開口を形成する工程を更に含む、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
層を形成する前記工程と前記有機膜をエッチングする前記工程が交互に繰り返される、請求項１〜５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
層を形成する前記工程と前記有機膜をエッチングする前記工程は、単一のプラズマ処理装置のチャンバ内に連続して維持される減圧された空間内で、前記有機膜を有する基板を該チャンバから取り出さずに実行される、請求項１〜６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記プラズマ処理装置は、容量結合型プラズマ処理装置であり、
前記チャンバと、
下部電極を含み、前記チャンバ内で前記基板を支持するように構成された支持台と、
前記前駆体を含む前駆体ガス及び前記酸素含有ガスを前記チャンバ内に供給するように構成されたガス供給部と、
前記支持台の上方に設けられた上部電極と、
プラズマを生成するための第１の高周波電力を前記上部電極に供給するように構成された第１の高周波電源と、
基板にイオンを引き込むための第２の高周波電力を前記下部電極に供給するように構成された第２の高周波電源と、
を備える、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
膜をエッチングする方法であって、前記膜は開口を画成する側壁面及び底面を有しており、該方法は、
前記膜上に前駆体の層を形成する工程と、
処理ガスから形成されたプラズマからの化学種により前記膜をエッチングする工程と、
を含み、
前記膜をエッチングする前記工程において、前記プラズマからの前記化学種又は前記プラズマからの別の化学種により前記層から保護領域が形成される、方法。
【請求項１０】
前記膜は、シリコン、炭素、酸素、及び水素を含む低誘電率膜であり、
前記前駆体は、シリコンを含み、
前記膜をエッチングする前記化学種は、フッ素化学種及び窒素化学種を含み、
前記窒素化学種によって前記前駆体が窒化される、
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記膜は、シリコン、炭素、酸素、及び水素を含む低誘電率膜であり、
前記前駆体は、金属を含み、
前記膜をエッチングする前記化学種は、フッ素化学種及び窒素化学種を含み、
前記別の化学種は、酸素化学種を含む、
請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記金属はタングステン又はチタンである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記膜は、多結晶シリコン膜であり、
前記前駆体は、シリコン又は金属を含み、
前記膜をエッチングする前記化学種は、ハロゲン化学種を含み、
前記別の化学種は、酸素化学種を含む、
請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記金属はタングステン又はチタンである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記膜は、窒化シリコン膜であり、
前記前駆体は、シリコン又は金属を含み、
前記膜をエッチングする前記化学種は、前記処理ガス中のハイドロフルオロカーボンから形成される化学種を含み、
前記別の化学種は、酸素化学種を含む、
請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記金属はタングステン又はチタンである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
チャンバと、
前記チャンバ内で基板を支持するように構成された支持台と、
前駆体を含む前駆体ガス及び処理ガスを前記チャンバ内に供給するように構成されたガス供給部と、
前記処理ガスのプラズマを生成するよう構成されたプラズマ生成部と、
前記ガス供給部及び前記プラズマ生成部を制御するように構成された制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記支持台上に支持された基板の膜上に前記前駆体の層を形成するために、前記チャンバ内に前記前駆体ガスを供給するよう、前記ガス供給部を制御し、
前記膜をエッチングし、且つ、前記層を変質させて保護領域を形成するために、前記チャンバ内に前記処理ガスを供給し、且つ、該処理ガスのプラズマを生成するよう、前記ガス供給部及び前記プラズマ生成部を制御する、
よう構成されている、
プラズマ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月31日(2021.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基台と、
前記基台の隙間に設けられ、前記基板を透過した光を反射する反射部材と、を有し、
前記反射部材は、前記基台の上面に対して傾けて配置されていることを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
前記反射部材が設けられた隙間の間隔をＷ、前記反射部材の上面の中心と前記基台の上面との鉛直方向の距離をｄ、前記基台の上面に対する前記反射部材の傾き角をθとしたとき、
Ｗ＜ｄ×｜ｔａｎ２θ｜
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
基板を保持する基台と、
前記基台の隙間に設けられ、前記基板を透過した光を反射する反射部材と、を有し、
前記反射部材の上面は、傾斜部が連続して設けられた鋸歯形状であることを特徴とする基板保持装置。
【請求項４】
前記反射部材が設けられた隙間の間隔をＷ、前記傾斜部の上面の中心と前記基台の上面との鉛直方向の距離をｄ、前記基台の上面に対する前記傾斜部の傾き角をθとしたとき、
Ｗ＜ｄ×｜ｔａｎ２θ｜
なる条件式を満足することを特徴とする請求項３に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記反射部材は、前記基板を透過した光のうち前記暗射部材の上面において正反射する光を、前記基台の側面に反射させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記反射部材は、前記基板の各領域における受光量の差が小さくなるように設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項７】
前記基板上にはレジストが塗布されており、
前記基台によって反射されて前記基台の上部の第１レジスト領域に到達する光量と、前記反射部材によって反射されて前記反射部材の上部の第２レジスト領域に到達する光量との差が小さくなるように、前記反射部材が設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項８】
前記反射部材は、アクリル、テフロン（登録商標）、アルミニウムのうち少なくとも１つを含む材料であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項９】
前記反射部材は、前記基台の上面よりも下方に設けられていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項１０】
前記反射部材は鉛直方向に移動可能であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項１１】
前記反射部材を鉛直方向に移動させる調整機構をさらに有することを特徴とする請求項１０に記載の基板保持装置。
【請求項１２】
前記基台には貫通孔が設けられており、前記反射部材は前記貫通孔の内部に設けられていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項１３】
前記基板を鉛直方向に昇降させる昇降機構をさらに有し、
前記反射部材は、前記基台と前記昇降機構との間の隙間に設けられていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項１４】
前記基板上にはレジストが塗布されており、
前記反射部材によって反射されて前記反射部材の上部の第２レジスト領域に到達する光量と、前記昇降機構によって反射されて前記昇降機構の上部の第３レジスト領域に到達する光量との差が小さくなるように、前記反射部材が設けられていることを特徴とする請求項１３に記載の基板保持装置。
【請求項１５】
前記基台は、前記基板を保持する複数の基板保持部を含み、
前記複数の基板保持部の間の隙間に前記反射部材が設けられていることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項１６】
前記基板は、サファイア基板又はガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項１７】
露光光を用いて原版のパターンを基板に転写する露光装置であって、
露光光を透過する特性を有する透明基板を請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の基板保持装置によって保持した状態で、前記透明基板に対して前記原版のパターンを転写することを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を現像する現像工程と、を含み、
前記現像工程で現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決する本発明の基板保持装置は、基板を保持する基台と、前記基台の隙間に設けられ、前記基板を透過した光を反射する反射部材と、を有し、前記反射部材は、前記基台の上面に対して傾けて配置されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月13日(2021.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上に、位相シフト膜を備えたマスクブランクであって、
前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から第１層および第２層の順に積層した構造を含み、
前記第１層は、前記透光性基板の表面に接して設けられ、
前記第１層および前記第２層のＡｒＦエキシマレーザーの露光光の波長における屈折率をそれぞれｎ１、ｎ２としたとき、ｎ１＜ｎ２の関係を満たし、
前記第１層および前記第２層の前記露光光の波長における消衰係数をそれぞれｋ１、ｋ２としたとき、ｋ１＜ｋ２の関係を満たし、
前記第１層および前記第２層の膜厚をそれぞれｄ１、ｄ２としたとき、ｄ１＜ｄ２の関係を満たし、
前記第１層の膜厚ｄ１は、１０ｎｍよりも大きいことを特徴とするマスクブランク。
【請求項２】
前記第１層の屈折率ｎ１は１．８以上であり、前記第１層の消衰係数ｋ１は０．１５以下であることを特徴とする請求項１記載のマスクブランク。
【請求項３】
前記第２層の屈折率ｎ２は２．２以上であり、前記第２層の消衰係数ｋ２は０．２以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のマスクブランク。
【請求項４】
前記透光性基板の前記露光光の波長における屈折率をｎＳとしたとき、ｎＳ＜ｎ１＜ｎ２の関係を満たし、
前記透光性基板の前記露光光の波長における消衰係数をｋＳとしたとき、ｋＳ＜ｋ１＜ｋ２の関係を満たすことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項５】
前記透光性基板の屈折率ｎＳは１．６以下であり、前記透光性基板の消衰係数ｋＳは０．０１以下であることを特徴とする請求項４記載のマスクブランク。
【請求項６】
前記位相シフト膜は、前記露光光を１５％以上の透過率で透過させる機能と、前記位相シフト膜を透過した前記露光光に対して前記位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した前記露光光との間で１５０度以上２００度以下の位相差を生じさせる機能とを有することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項７】
前記第１層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる１以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、
前記第２層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる１以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成されていることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項８】
前記第２層の窒素の含有量は、前記第１層の窒素の含有量よりも多いことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項９】
前記位相シフト膜は、前記第２層の上に第３層を備え、
前記第３層の前記露光光の波長における屈折率をｎ３としたとき、ｎ３＜ｎ１＜ｎ２の関係を満たし、
前記第３層の前記露光光の波長における消衰係数をｋ３としたとき、ｋ１＜ｋ２＜ｋ３の関係を満たすことを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項１０】
前記第３層の膜厚をｄ３としたとき、ｄ３＜ｄ１＜ｄ２の関係を満たすことを特徴とする請求項９記載のマスクブランク。
【請求項１１】
前記第３層の屈折率ｎ３は１．８未満であり、前記第３層の消衰係数ｋ３は１．０以上であることを特徴とする請求項９または１０に記載のマスクブランク。
【請求項１２】
前記第３層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる１以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成されていることを特徴とする請求項９から１１のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項１３】
前記位相シフト膜は、前記第３層の上に第４層を備え、
前記第４層の前記露光光の波長における屈折率をｎ４としたとき、ｎ４＜ｎ１＜ｎ２の関係を満たし、
前記第４層の前記露光光の波長における消衰係数をｋ４としたとき、ｋ４＜ｋ１＜ｋ２の関係を満たすことを特徴とする請求項９から１２のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項１４】
前記第４層の屈折率ｎ４は１．７以下であり、前記第４層の消衰係数ｋ４は０．０２以下であることを特徴とする請求項１３記載のマスクブランク。
【請求項１５】
前記第４層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる１以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成されていることを特徴とする請求項１３または１４に記載のマスクブランク。
【請求項１６】
前記位相シフト膜は、前記第２層の上に第３Ａ層を備え、
前記第３Ａ層の前記露光光の波長における屈折率をｎ３Ａとしたとき、ｎ３Ａ＜ｎ１＜ｎ２の関係を満たし、
前記第３Ａ層の前記露光光の波長における消衰係数をｋ３Ａとしたとき、ｋ３Ａ＜ｋ１＜ｋ２の関係を満たすことを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項１７】
前記第３Ａ層の屈折率ｎ３Ａは１．７以下であり、前記第３Ａ層の消衰係数ｋ３Ａは０．０２以下であることを特徴とする請求項１６記載のマスクブランク。
【請求項１８】
前記第３Ａ層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる１以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成されていることを特徴とする請求項１６または１７に記載のマスクブランク。
【請求項１９】
請求項１から１８のいずれかに記載のマスクブランクの前記位相シフト膜に転写パターンが設けられていることを特徴とする位相シフトマスク。
【請求項２０】
請求項１９記載の位相シフトマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
次に、第１のレジストパターン５ａをマスクとし、ＣＦ４ガスを用いたドライエッチングを行い、ハードマスク膜４に第１のパターン（ハードマスクパターン４ａ）を形成した（図５（ｂ）参照）。このとき、ハードマスク膜４には、パターン形成領域外において、バーコードやアライメントマークに対応する形状のパターンも併せて形成した。その後、第１のレジストパターン５ａを除去した。
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月21日(2021.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１端部を有する電気光学パネルと、
第２端部と、当該第２端部とは反対側の第３端部とを有し、当該第２端部が前記第１端部に接続された、可撓性を有する第１接続部材と、
前記第１接続部材上の補強材と
を備え、
前記第１接続部材は、前記電気光学パネルと接続される第１の面と、当該第１の面とは反対側の第２の面とを有し、
前記補強材は、前記第１の面上に位置し、前記電気光学パネルの前記第１端部側の端面から前記第３端部側へ延在し、
前記第１接続部材は、前記第２端部と前記第３端部とを接続する第１及び第２側縁部の少なくとも一方に内側に凹む第１切り欠きを有する、電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置であって、
前記第１切り欠きは
前記第２端部側の端と、
前記第３端部側の端と
を有し、
前記第３端部側の端は、前記補強材の前記第２端部側の端よりも前記第３端部側に位置する、電気光学装置。
【請求項３】
請求項１及び請求項２のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記第１切り欠きの形状は、半円あるいは多角形である、電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記第３端部に接続された回路基板をさらに備え、
前記回路基板が前記電気光学パネルと対面するように前記第１接続部材が曲げられ、
前記第１切り欠きは、前記第１接続部材の曲がる部分に位置する、電気光学装置。
【請求項５】
請求項４に記載の電気光学装置であって、
前記第１切り欠きは、前記第１接続部材が曲げられることによって前記第１及び第２側縁部に形成される角部に位置する、電気光学装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記第１接続部材は、前記第１及び第２側縁部のそれぞれに前記第１切り欠きを有する、電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記第１接続部材は、前記第１側縁部に、前記第１切り欠きよりも前記第３端部側に位置する第２切り欠きを有する、電気光学装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記第１端部に接続された、前記第１接続部材を含む複数の第２接続部材を備え、
前記第１接続部材は、前記複数の第２接続部材において最も端に位置し、
前記第１切り欠きは、前記第１及び第２側縁部のうち、少なくとも、外側の側縁部に位置する、電気光学装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記第１切り欠きの前記第２端部側の端は、前記補強材の前記第３端部側の端よりも前記第３端部側に位置する、電気光学装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項８のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記第１切り欠きの前記第２端部側の端は、前記補強材の前記第３端部側の端と一致するように位置する、電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１から請求項８のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記補強材の前記第３端部側の端は、前記第１切り欠きの前記第２端部側の端よりも前記第３端部側に位置し、前記第１切り欠きの前記第３端部側の端よりも前記第２端部側に位置する、電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれか一つに記載の電気光学装置であって、
前記電気光学パネルは、画像を表示する、電気光学装置。
【手続補正書】
【提出日】令和2年11月11日(2020.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カメラボディに対して着脱可能なアクセサリであって、
光軸を中心とする円環状であり、ボディ側マウントと接触するアクセサリ側マウントと、
前記アクセサリ側マウントの内周縁部から前記光軸方向に延びた円筒部と、
前記円筒部の内側に配置され、前記カメラボディに装着時にボディ側端子と接触する複数のアクセサリ側端子からなるアクセサリ側端子群と、
前記円筒部から外周方向に向けて突出し、前記光軸を中心とした円周方向に延在する第１突出部と、
前記円筒部から外周方向に向けて突出し、前記光軸を中心とした円周方向に延在する第２突出部と、
前記円筒部から外周方向に向けて突出し、前記光軸を中心とした円周方向に延在する第３突出部と、
前記円筒部から外周方向に向けて突出し、前記光軸を中心とした円周方向に延在する第４突出部と、
を備え、
前記アクセサリ側端子群の中心および前記円筒部の中心を結ぶ第１直線と前記円筒部の中心において略４５度で交差する第３直線上に前記第１突出部と前記第３突出部とが配置され、前記第３直線と前記円筒部の中心で直交する第４直線上に前記第２突出部と前記第４突出部が配置されるアクセサリ。
【請求項２】
前記第１突出部と前記第２突出部と前記第３突出部と前記第４突出部とは、前記円筒部の中心を中心とした円周方向に延在する請求項１に記載のアクセサリ。
【請求項３】
前記第１突出部の前記円周方向の中心と前記第３突出部の前記円周方向の中心との少なくとも一方は前記第３直線と異なる位置に配置される請求項２に記載のアクセサリ。
【請求項４】
前記第２突出部の前記円周方向の中心と前記第４突出部の前記円周方向の中心との少なくとも一方は前記第４直線と異なる位置に配置される請求項２または３に記載のアクセサリ。
【請求項５】
前記第１直線と前記円筒部の中心において直交する第２直線とで分割される４つの領域に前記第１突出部と前記第２突出部と前記第３突出部と前記第４突出部がそれぞれ配置される請求項２から４のいずれか一項に記載のアクセサリ。
【請求項６】
前記第１突出部の前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記第１突出部の前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす第１中心角度と、前記第２突出部の前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記第２突出部の前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす第２中心角度と、前記第３突出部の前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記第３突出部の前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす第３中心角度と、前記第４突出部の前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記第４突出部の前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす第４中心角度とは、少なくとも一つの中心角度が他の中心角度とは異なる請求項２から５のいずれか一項に記載のアクセサリ。
【請求項７】
前記第３突出部の前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記第３突出部の前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす第３中心角度は、前記第１突出部の前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記第１突出部の前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす第１中心角度より大きく、
前記第１中心角度は、前記第４突出部の前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記第４突出部の前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす第４中心角度より大きく、
前記第４中心角度は、前記第２突出部の前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記第２突出部の前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす第２中心角度より大きい請求項２から５のいずれか一項に記載のアクセサリ。
【請求項８】
前記カメラボディ側に設けられている第１ボディ側突出部、第２ボディ側突出部、第３ボディ側突出部、および第４ボディ側突出部に対し、前記アクセサリは、光軸上の所定位置で、前記第１突出部から前記第４突出部が対応する各ボディ側突出部の間に挿入される挿入位置から、前記第１突出部から前記第４突出部がそれぞれ対応する各ボディ側突出部に対向する装着位置まで、前記円筒部の中心軸上の所定位置で前記円筒部の中心軸に略直交する面内において第１方向に第１角度回転させることにより前記カメラボディに装着される請求項２から７のいずれか一項に記載のアクセサリ。
【請求項９】
前記挿入位置とは光軸上の位置が異なる誤挿入位置において、前記第１突出部と前記第２突出部と前記第３突出部と前記第４突出部のうちの少なくとも２つは、前記第１ボディ側突出部と前記第２ボディ側突出部と前記第３ボディ側突出部と前記第４ボディ側突出部のうちの少なくとも２つと対向する請求項８に記載のアクセサリ。
【請求項１０】
前記挿入位置とは前記円筒部の中心軸上の位置が異なる誤挿入位置において、前記第１突出部と前記第２突出部と前記第３突出部と前記第４突出部のうちのいずれか１つは、ボディ側端子群の上部に位置する前記第１ボディ側突出部と対向する請求項８または９に記載のアクセサリ。
【請求項１１】
前記挿入位置とは前記円筒部の中心軸上の位置が異なる誤挿入位置において、前記アクセサリ側端子群の中心に最も近い前記第１突出部は、前記第１ボディ側突出部と前記第２ボディ側突出部と前記第３ボディ側突出部と前記第４ボディ側突出部のうちの少なくとも１つと対向する請求項８から１０のいずれか一項に記載のアクセサリ。
【請求項１２】
前記第１突出部と前記第２突出部と前記第３突出部と前記第４突出部との少なくとも一つは、前記円周方向の一端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線と前記円周方向の他端と前記円筒部の中心とを結ぶ直線とのなす中心角度が、前記第１角度より小さい請求項８から１１のいずれか一項に記載のアクセサリ。
【請求項１３】
前記アクセサリは、交換レンズである請求項１から１０のいずれか一項に記載のアクセサリ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
発明の第１の態様によるアクセサリは、カメラボディに対して着脱可能なアクセサリであって、光軸を中心とする円環状であり、ボディ側マウントと接触するアクセサリ側マウントと、前記アクセサリ側マウントの内周縁部から前記光軸方向に延びた円筒部と、前記円筒部の内側に配置され、前記カメラボディに装着時にボディ側端子と接触する複数のアクセサリ側端子からなるアクセサリ側端子群と、前記円筒部から外周方向に向けて突出し、前記光軸を中心とした円周方向に延在する第１突出部と、前記円筒部から外周方向に向けて突出し、前記光軸を中心とした円周方向に延在する第２突出部と、前記円筒部から外周方向に向けて突出し、前記光軸を中心とした円周方向に延在する第３突出部と、前記円筒部から外周方向に向けて突出し、前記光軸を中心とした円周方向に延在する第４突出部と、を備え、前記アクセサリ側端子群の中心および前記円筒部の中心を結ぶ第１直線と前記円筒部の中心において略４５度で交差する第３直線上に前記第１突出部と前記第３突出部とが配置され、前記第３直線と前記円筒部の中心で直交する第４直線上に前記第２突出部と前記第４突出部が配置される。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月14日(2021.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両に搭載され、前記車両の車速を検出する車速センサと、前記車両の操舵角を検出する舵角センサとに接続された情報処理装置であって、
前記車両の周囲に存在する物体を検出するセンサからの情報に基づき、前記物体をそれぞれ表す複数の点に関する点群データを取得する点群データ取得部と、
前記車両の移動量を推定する移動量推定部と、
前記車両の走行経路上の地点を第１基準位置として、該第１基準位置に対する前記複数の点の相対位置を、緯度及び経度を含む位置情報と対応付けて記録された点群地図として格納する記憶部と、
前記点群地図、前記点群データおよび前記移動量に基づき、前記車両の位置を推定する位置推定部と、
前記点群データおよび前記移動量に基づき前記点群地図を生成する点群地図生成部と、
前記点群地図生成部が生成する前記点群地図の成立性に関して前記点群データを検証する点群データ検証部と、
を備え、
前記位置推定部は、
前記点群データおよび前記移動量に基づき、前記第１基準位置の地点と異なる前記車両の走行経路上の地点を第２基準位置とする局所周辺情報を生成し、
前記点群地図および前記局所周辺情報に基づき、前記第１基準位置と前記第２基準位置の関係を表す関係式を算出し、
前記関係式を用いて前記車両の位置を推定し、
前記記憶部には、前記点群地図生成部により生成された前記点群地図が格納され、
前記点群データ検証部は、前記車両の走行軌跡上の検証区間で取得した前記点群データを前記車両の位置推定に利用するか否かを、局所的成立性および自律航法性の少なくともいずれかで検証するものであって、
前記局所的成立性は、前記点群データが所定以上の密度であり、かつ、新たな分布パターンである場合に満たされると判断され、
前記自律航法性は、前記車両が自律航法で走行可能な距離に応じて判断され、
前記車両が自律航法で走行可能な距離は、前記車速センサ及び前記舵角センサの少なくともいずれかの誤差に基づく前記車両の位置推定誤差と、前記車両の制御に対する位置の許容精度と、に基づいて算出される、
情報処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の情報処理装置において、
前記点群データ検証部による前記点群データの検証結果をユーザに提示する検証結果提示部をさらに備える情報処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の情報処理装置において、
前記点群データ検証部は、前記点群データにおける前記複数の点の分布状態と、前記移動量推定部による前記移動量の推定誤差と、前記車両の制御に対する許容精度と、の少なくとも一つに基づき、前記点群地図の成立性に関する前記点群データの検証を行う情報処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の情報処理装置において、
前記点群データ検証部は、前記自律航法による前記位置推定誤差が所定以内の場合、前記局所的成立性が成立しない前記検証区間の前記点群データを前記位置推定に利用する情報処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の情報処理装置において、
前記位置推定部による前記車両の位置推定結果に基づき、前記物体と前記車両の位置関係を示した画像を表示装置に表示させる表示制御部をさらに備え、
前記記憶部には、前記点群地図の成立性に関する成立性情報が前記点群地図の部分ごとにさらに格納され、
前記表示制御部は、前記成立性情報に基づき前記点群地図の成立性に応じて前記画像の表示形態を変化させる情報処理装置。
【請求項６】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の情報処理装置において、
前記位置推定部が推定した前記車両の位置に基づき前記車両を移動させる車両制御部をさらに備え、
前記記憶部には、前記点群地図の成立性に関する成立性情報が前記点群地図の部分ごとにさらに格納され、
前記車両制御部は、前記成立性情報に基づき前記車両の移動範囲を制限する情報処理装置。
【請求項７】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の情報処理装置において、
前記位置推定部が推定した前記車両の位置に基づき、駐車場内の所定の駐車位置に前記車両を移動させる車両制御部をさらに備え、
前記点群地図における前記複数の点は、前記駐車場の構成物をそれぞれ表しており、
前記車両制御部は、前記駐車場の緯度および経度と前記車両の位置との差が所定の第１距離未満であり、かつ、前記点群地図における前記駐車位置と前記位置推定部が推定した前記車両の位置との差が所定の第２距離未満である場合に、前記駐車位置に前記車両を移動させる情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月4日(2021.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象者の位置特定システムであって、
前記対象者が所有する端末の位置情報を基に、前記飛行体を当該位置情報が示す位置に向かわせるステップと、
前記位置に到着した飛行体により測位を行い、当該測位に基づく位置情報をデータベースに登録するステップと、
当該データベースに登録された位置情報を元に、対象の位置を特定するステップと、を実行する、
位置特定システム。
【請求項２】
前記測位は、ビーコンにより行われる、請求項１に記載の位置特定システム。
【請求項３】
さらに、前記特定された対象の位置をＡＲで提供する、請求項１または２に記載の位置特定システム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月17日(2021.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレンズ群を有し、ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するズームレンズであって、
前記複数のレンズ群は、負の屈折力の第１レンズ群と、該第１レンズ群の像側に配置され、１以上のレンズ群を有し、全体として正の屈折力の後群からなり、
前記第１レンズ群は、物体側から像側へ順に配置された、第１負レンズ、第２負レンズ、正レンズからなり、
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、前記第２負レンズの焦点距離をｆＧ２、前記第１負レンズの比重をＳＧ１するとき、
２．００＜ＳＧ１＜３．６０
２．１＜ｆＧ２／ｆ１＜２０
なる条件式を満たすことを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第１負レンズの材料の屈折率をｎｄ１とするとき、
１．４０＜ｎｄ１＜１．６５
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記第１負レンズの材料のアッベ数をνｄ１とするとき、
４５＜νｄ１＜９９
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
前記第２負レンズの比重をＳＧ２とするとき、
０．５＜ＳＧ２＜２．０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項５】
前記第１負レンズの像側の面と前記第２負レンズの物体側の面との光軸上の距離をｄ１、広角端における前記ズームレンズのレンズ全長をＴＬとするとき、
０．０００１＜ｄ１／ＴＬ＜０．２０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項６】
前記第１負レンズの物体側の面および像側の面は球面であり、
前記第１負レンズの物体側の面の曲率半径をＲ１、前記第１負レンズの像側の面の曲率半径をＲ２とするとき、
−３．０＜（Ｒ２＋Ｒ１）／（Ｒ２−Ｒ１）＜−０．０１
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項７】
前記正レンズの材料のアッベ数は前記第１負レンズの材料のアッベ数よりも小さく、
前記正レンズの材料のアッベ数をνｄｐとするとき、
１０＜νｄｐ＜３５
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記正レンズの材料の屈折率をｎｄｐとするとき、
１．６０＜ｎｄｐ＜２．１０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項９】
前記第２負レンズは樹脂材料よりなることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第２負レンズの物体側および像側の面の少なくとも一方は非球面形状であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１１】
前記後群は、正の屈折力の第２レンズ群からなることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１２】
前記後群は、物体側より像側へ順に配置された、正の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群からなることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１３】
前記後群は、物体側より像側へ順に配置された、正の屈折力の第２レンズ群、負の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群からなることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１４】
前記後群は、物体側より像側へ順に配置された、正の屈折力の第２レンズ群、負の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群、負の屈折力の第５レンズ群からなることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のズームレンズと、該ズームレンズによって形成される像を受光する撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１６】
広角端における有効像円径が、望遠端における有効像円径よりも小さいことを特徴とする請求項１５に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施例に係るズームレンズは、複数のレンズ群を有し、ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するズームレンズであって、前記複数のレンズ群は、負の屈折力の第１レンズ群と、該第１レンズ群の像側に配置され、１以上のレンズ群を有し、かつ全体として正の屈折力の後群からなり、前記第１レンズ群は、物体側から像側へ順に配置された、第１負レンズ、第２負レンズ、正レンズからなり、前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、前記第２負レンズの焦点距離をｆＧ２、前記第１負レンズの比重をＳＧ１するとき、
２．００＜ＳＧ１＜３．６０
２．１＜ｆＧ２／ｆ１＜２０
なる条件式を満たすことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月3日(2021.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飛行体による観測方法であって、
地上から自動追尾のビデオカメラにて飛行体を撮影するステップと、
前記地上から前記飛行体の位置をリアルタイムに計測するステップと、
前記飛行体のセンサに基づく位置情報を取得するステップと、
両位置情報の間に差異が発生した場合は警告するステップと、
を備える、観測方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年10月22日(2021.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の住所およびライフラインの供給の有無情報が対応付けられて記録されたデータベースを記憶する記憶部と、
１つの住所が空き家か否かの判定要求を端末装置から受信する受付部と、
前記受け付けた前記判定要求に含まれる前記住所が空き家か否かを、前記記憶部に記憶されたデータベースを参照して判定する判定部と、
前記判定部が判定した判定結果を前記端末装置に送信する送信部と、
前記記憶部は、前記ライフラインの供給の履歴情報を前記データベースに更に記憶しており、
前記判定部は、直近の前記ライフラインの使用状況を参照して、前記判定部が判定した判定結果の妥当性を判定する
を含むことを特徴とする空き家判定システム。
【請求項２】
前記記憶部に記憶される前記データベースは、前記ライフラインが供給されている住所のみ、または、前記ライフラインが供給されていない住所のリストのいずれかを記憶している
ことを特徴とする請求項１に記載の空き家判定システム。
【請求項３】
前記判定部は、前記受け付けた前記判定要求に含まれる前記住所が空き家であると判定した場合に、前記直近の前記ライフラインの使用量が所定量以上である場合は、前記受け付けた前記判定要求に含まれる前記住所が空き家である旨の判定が妥当ではないと判定する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の空き家判定システム。
【請求項４】
前記判定部は、前記受け付けた前記判定要求に含まれる前記住所が空き家ではないと判定した場合に、前記直近の前記ライフラインの使用量が所定量未満である場合は、前記受け付けた前記判定要求に含まれる前記住所が空き家ではない旨の判定が妥当ではないと判定する
ことを特徴とする請求項３に記載の空き家判定システム。
【請求項５】
前記ライフラインの供給の有無情報は、前記複数の住所と前記ライフライン供給者との契約が存在するか否かの情報を含む
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の空き家判定システム。
【請求項６】
複数の住所およびライフラインの供給の有無情報が対応付けられて記録されたデータベースを記憶する記憶ステップと、
１つの住所が空き家か否かの判定要求を端末装置から受信する受付ステップと、
前記受け付けた前記判定要求に含まれる前記住所が空き家か否かを、前記データベースを参照して判定する判定ステップと、
前記判定ステップが判定した判定結果を前記端末装置に送信する送信ステップと、
前記記憶ステップは、前記ライフラインの供給の履歴情報を前記データベースに更に記憶しており、
前記判定ステップは、直近の前記ライフラインの使用状況を参照して、前記判定部が判定した判定結果の妥当性を判定すること
を含むことを特徴とする空き家判定方法。
【請求項７】
コンピュータに、
複数の住所およびライフラインの供給の有無情報が対応付けられて記録されたデータベースを記憶する記憶機能と、
１つの住所が空き家か否かの判定要求を端末装置から受信する機能と、
前記受け付けた前記判定要求に含まれる前記住所が空き家か否かを、前記データベースを参照して判定する機能と、
前記判定機能において判定された判定結果を前記端末装置に送信する機能と、
前記記憶機能は、前記ライフラインの供給の履歴情報を前記データベースに更に記憶しており、
前記判定機能は、直近の前記ライフラインの使用状況を参照して、前記判定部が判定した判定結果の妥当性を判定すること
を実現させることを特徴とする空き家判定プログラム。