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【手続補正書】
【提出日】令和3年3月29日(2021.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に裏面導電膜を備えるマスクブランク用基板であって、
前記基板と前記裏面導電膜との間に設けられた中間膜を有し、
前記中間膜は、前記基板と前記中間膜との界面での反射光と、前記中間膜と前記裏面導電膜との界面での反射光との干渉により、前記基板を透過して前記裏面導電膜によって反射される２８０ｎｍ超３２０ｎｍ以下の波長範囲の光を抑制することを特徴とするマスクブランク用基板。
【請求項２】
前記中間膜の膜厚は、２〜４０ｎｍである、請求項１に記載のマスクブランク用基板。
【請求項３】
前記中間膜は、タンタル、ホウ素及び酸素を含む材料からなる、請求項１又は２に記載のマスクブランク用基板。
【請求項４】
前記裏面導電膜が設けられた前記基板の表面に対して、反対側の前記基板の表面に形成された下地膜を備え、
前記基板の表面に配置された前記下地膜の、２８０ｎｍ超３２０ｎｍ以下の波長範囲における反射率が１０％以下である、請求項１〜３の何れか１項に記載のマスクブランク用基板。
【請求項５】
前記裏面導電膜が設けられた前記基板の表面に対して、反対側の前記基板の表面に形成された下地膜を備え、
前記基板の表面に配置された前記下地膜の、２８０ｎｍ超４００ｎｍ以下の波長範囲における反射率が１５％以下である、請求項１〜４の何れか１項に記載のマスクブランク用基板。
【請求項６】
前記下地膜の屈折率は、１．６未満である、請求項４又は５に記載のマスクブランク用基板。
【請求項７】
前記下地膜は、ケイ素化合物を含む材料からなる、請求項４〜６の何れか１項に記載のマスクブランク用基板。
【請求項８】
前記下地膜の膜厚は、６〜６５ｎｍである、請求項４〜７の何れか１項に記載のマスクブランク用基板。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか１項に記載のマスクブランク用基板の上に露光光を反射する多層反射膜を有することを特徴とする多層反射膜付き基板。
【請求項１０】
前記多層反射膜上に保護膜を有することを特徴とする請求項９に記載の多層反射膜付き基板。
【請求項１１】
請求項９に記載の多層反射膜付き基板の前記多層反射膜上、又は請求項１０に記載の多層反射膜付き基板の前記保護膜上に、吸収体膜を有することを特徴とする反射型マスクブランク。
【請求項１２】
請求項１１に記載の反射型マスクブランクの前記吸収体膜をパターニングして、前記多層反射膜上に吸収体パターンを有することを特徴とする反射型マスク。
【請求項１３】
前記吸収体パターンが形成された転写パターン領域の外側に、前記吸収体膜及び前記多層反射膜が除去された遮光帯を有することを特徴とする請求項１２に記載の反射型マスク。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の反射型マスクを用いて、露光装置を使用したリソグラフィープロセスを行い、被転写体上に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月30日(2021.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルムと、当該支持フィルム上に配置された感光層と、を備える感光性エレメントであって、
前記感光層が、バインダーポリマーと、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、
前記支持フィルムの前記感光層側の表面における最大径２μｍ以上の欠陥の数が、２ｍｍ２あたり３０個以下であると共に、前記支持フィルムの前記感光層とは反対側の表面における最大径２μｍ以上の欠陥の数よりも少ない、感光性エレメント。
【請求項２】
前記支持フィルムが、ポリエステルフィルムと、樹脂層と、滑剤層と、を有し、
前記樹脂層が、前記感光層とポリエステルフィルムとの間に配置され、
前記滑剤層が、前記ポリエステルフィルムの前記樹脂層とは反対側に配置されている、請求項１に記載の感光性エレメント。
【請求項３】
前記支持フィルムの厚さが１〜２００μｍである、請求項１又は２に記載の感光性エレメント。
【請求項４】
前記支持フィルムのヘーズ値が０．０１〜１．０％である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【請求項５】
請求項１〜４いずれか一項に記載の感光性エレメントの前記感光層を基板上に積層する積層工程と、
活性光線を前記感光層の所定部分に照射して光硬化部を形成する露光工程と、
前記感光層における前記光硬化部以外の領域を除去する現像工程と、を備える、レジストパターンの形成方法。
【請求項６】
請求項５に記載のレジストパターンの形成方法により形成されたレジストパターンを有する基板に対して、エッチング処理及びめっき処理からなる群より選ばれる少なくとも１種を施す工程を備える、プリント配線板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月15日(2021.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
＜滞留時のＹＩ値の変化度＞
樹脂組成物を成形加工等の熱履歴をかける処理をする際、トラブル対応等により長時間高温下で晒される場合がある。その際、熱履歴により黄変してしまう場合がある。
本実施形態のメタクリル系樹脂組成物によれば、短時間の熱履歴を受けた場合のＹＩと長時間保持時の熱履歴を受けた場合のＹＩとの間での変化度（ΔＹＩ）を抑制することができる。
例えば、本実施形態のメタクリル系樹脂組成物を、射出成形機（ＥＣ−１００ＳＸ、東芝機械株式会社製）により、成形温度２８０℃、金型温度６０℃の条件にて、厚さ３ｍｍ×幅２０ｍｍ×長さ２２０ｍｍの試験片を作製する際に、射出成形のサイクル時間（射出時間＋冷却時間）を通常サイクルである（ｃ）４５秒と成型機内での滞留を想定した（ｄ）２７０秒とした場合に、成形が安定してから１１ショット目から１５ショット目までの試験片を用いて、サイクル時間（ｃ）で得られた試験片、（ｄ）で得られた試験片、各５個ずつの２２０ｍｍ長光路ＹＩ値の測定を行うことで見積もることができる。
（ｃ）の５個の試験片のＹＩ値の平均値、及び（ｄ）の５個の試験片のＹＩ値の平均値を求め、下記式よりＹＩ値の変化度を算出し、評価の指標とすることができる。
ＹＩ値の変化度＝〔（ｄ）のＹＩ値の平均値−（ｃ）のＹＩ値の平均値〕／（ｃ）のＹＩ値の平均値
上記ＹＩ（２２０ｍｍ）の変化度（ΔＹＩ）は、２０以下であることが好ましく、より好ましくは１８以下、さらに好ましくは１５以下、さらにより好ましくは１３以下、よりさらに好ましくは１０以下である。
上記変化度（ΔＹＩ）を達成するための手段としては、スチレン単量体単位の含有量を所定量以下とすること、後述する一般式（１）又は（２）で表わされる化合物（Ｄ）を少量含有させること、前記（Ｄ）成分と前記主鎖に環構造を有する構造単位（Ｂ）の含有量との比を特定の範囲とすること、Ｍｗを所定程度以上にすることなどが挙げられ、これらを単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。
なお、ＹＩ値は、色差計（有限会社東京電色社製、ＴＣ−８６００Ａ、光源：１０−Ｃ）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して測定することができ、具体的には、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５１】
＜ＩＩＩ−３．ＹＩ値の変化度（ΔＹＩ）
後述する実施例及び比較例で得られたメタクリル系樹脂及び樹脂組成物を、射出成形機（ＥＣ−１００ＳＸ、東芝機械株式会社製）により、成形温度２８０℃、金型温度６０℃の条件により、厚さ３ｍｍ×幅２０ｍｍ×長さ２２０ｍｍの試験片を作製した。
射出成形のサイクル時間（射出時間＋冷却時間）は、（ｃ）４５秒、又は（ｄ）２７０秒とした。
成形が安定してから１１ショット目から１５ショット目までの試験片を用いて、サイクル時間（ｃ）（ｄ）で得られた試験片、各５個ずつの２２０ｍｍ長光路ＹＩ値の測定を行った。
そして、（ｃ）の５個の試験片のＹＩ値の平均値、及び（ｄ）の５個の試験片のＹＩ値の平均値を求め、〔（ｄ）のＹＩ値の平均値−（ｃ）のＹＩ値の平均値〕／（ｃ）のＹＩ値の平均値から、２２０ｍｍ長光路でのＹＩ値の変化度（ΔＹＩ）を算出した。
なお、ＹＩ値は、色差計（有限会社東京電色社製、ＴＣ−８６００Ａ、光源：１０−Ｃ）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して測定した。
＜長期滞留評価結果＞
上記ＹＩ値の変化度が１０以下のものを「◎」、１０を超えて１３以下のものを「○」、２０以下のものを「△」、２０を超えるものを「×」として評価した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６８】
【表１】
2021015255.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和3年4月14日(2021.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウム-イオン電気化学的電池であって、
金属酸化物カソード；
リチウム金属またはリチウム金属合金であるアノード；
アノードとカソードとの間のセパレーター；
１種以上の非水溶媒および１種以上のリチウム塩を含む非水電解質；ならびに
窒素含有物質
を含み、
非水電解質が、エチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、プロピレンカーボネート、フルオロエチレンカーボネート、１，３−ジオキソラン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、およびスルホランのうちの１種以上を含む、
前記リチウム-イオン電気化学的電池。
【請求項２】
リチウム-イオン電気化学的電池であって、
金属酸化物カソード；
リチウム金属またはリチウム金属合金であるアノード；
アノードとカソードとの間のセパレーター；
１種以上の非水溶媒および１種以上のリチウム塩を含む非水電解質；ならびに
窒素含有物質
を含み、
窒素含有物質が非水電解質に不溶性である、電気化学的電池。
【請求項３】
前記カソードが、ＬｉＣｏＯ２、ＬｉＣｏｘＮｉ（１−ｘ）Ｏ２（ｘはおおよそ０．０
５〜０．８である）、ＬｉＣｏｘＮｉｙＭｎ（１−ｘ−ｙ）Ｏ２、ＬｉＭｎ２Ｏ４、およびこれらの組合せからなる群から選択される物質を含む、請求項１または２に記載の電気化学的電池。
【請求項４】
アノードが、窒素含有物質を含む、請求項１または２に記載の電気化学的電池。
【請求項５】
窒素含有物質が、アノード上にイオン伝導性表面層を形成する、請求項１または２に記載の電気化学的電池。
【請求項６】
アノードが、リチウムホイル、および基体上に堆積したリチウムからなる群から選択される１種以上の物質を含む、請求項１または２に記載の電気化学的電池。
【請求項７】
窒素含有物質が、アノード、カソード、およびセパレーターのうちの１つ以上のものの一部を形成している、請求項１または２に記載の電気化学的電池。
【請求項８】
電解質がＮ−Ｏ添加剤をさらに含む、請求項１に記載の電気化学的電池。
【請求項９】
電解質が、３０％〜９０％の１種以上の非水溶媒、０．１％〜１０％のＮ−Ｏ添加剤、４％以下の窒素含有物質、および２０％以下のＬｉＴＦＳＩを含む、請求項８に記載の電気化学的電池。
【請求項１０】
電解質が、５０％〜８５％の１種以上の非水溶媒、０．５％〜７．５％のＮ−Ｏ添加剤、４％以下の窒素含有物質、および４％〜２０％のＬｉＴＦＳＩを含む、請求項９に記載の電気化学的電池。
【請求項１１】
金属酸化物カソードがＬｉＮｉ１／３Ｍｎ１／３Ｃｏ１／３Ｏ２を含む、請求項１または２に記載の電気化学的電池。
【請求項１２】
放電容量比率が６０サイクル後に０．８よりも大きい、請求項１に記載の電気化学的電池。
【請求項１３】
窒素含有物質がアミン官能基を含む、請求項１に記載の電気化学的電池。
【請求項１４】
金属酸化物カソードがＬｉＮｉ０．４Ｃｏ０．２Ｍｎ０．４Ｏ２を含む、請求項１に記載の電気化学的電池。
【請求項１５】
金属酸化物カソードがＬｉＮｉ０．４Ｃｏ０．２Ｏ２を含む、請求項１に記載の電気化学的電池。
【請求項１６】
非水電解質が液体またはゲルである、請求項１または２に記載の電気化学的電池。
【請求項１７】
ハウジング；
ポジティブリード線；
ネガティブリード線；および
１以上の、請求項１〜１６のいずれかに定義の電気化学的電池
を含むバッテリー。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月25日(2021.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極層、前記ゲート電極層上のゲート絶縁層、前記ゲート絶縁層上の酸化物半導体層、前記酸化物半導体層上のソース電極層及びドレイン電極層を有するトランジスタと、
前記トランジスタの前記ソース電極層及び前記ドレイン電極層上に位置し、前記酸化物半導体層の一部と接する保護絶縁層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、ＩｎとＧａとＺｎとを有し、
＋ＢＴ試験前後における前記トランジスタのしきい値の変動幅が２Ｖ以下であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ゲート電極層、前記ゲート電極層上のゲート絶縁層、前記ゲート絶縁層上の酸化物半導体層、前記酸化物半導体層上のソース電極層及びドレイン電極層を有するトランジスタと、
前記トランジスタの前記ソース電極層及び前記ドレイン電極層上に位置し、前記酸化物半導体層の一部と接する保護絶縁層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、ＩｎとＧａとＺｎとを有し、
＋ＢＴ試験前後における前記トランジスタのしきい値の変動幅が１Ｖ以下であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年3月25日(2021.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リン酸水溶液とシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤とを混合するタンクと、
前記タンクに前記リン酸水溶液を供給するリン酸水溶液供給部と、
前記タンクの上方に供給口が設けられ、前記シリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給する添加剤供給部と、
前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液が、前記タンクから出て前記タンクに戻る循環路と、
前記循環路に設けられ、前記タンクから出て前記循環路を通り前記タンクに戻る前記リン酸水溶液に循環流を形成するポンプと、
を備え、
前記リン酸水溶液供給部から前記タンクに前記リン酸水溶液を供給して前記タンクに所定の量の前記リン酸水溶液を貯留し、前記ポンプを動作させて前記リン酸水溶液に循環流を形成し、流動性が与えられた前記リン酸水溶液に前記添加剤供給部の前記供給口から前記タンク内で流動する前記リン酸水溶液の液面上に広がるように前記添加剤を供給する
混合装置。
【請求項２】
前記循環路は、前記タンクの底部に入口が設けられ、前記タンクの上部に出口が設けられる
請求項１に記載の混合装置。
【請求項３】
前記添加剤供給部の前記供給口は、前記循環路の出口に隣接して設けられる
請求項２に記載の混合装置。
【請求項４】
送液路を介して、前記リン酸水溶液と前記添加剤とが混合した混合液を含むエッチング液に基板を浸漬してエッチング処理を行う処理槽に、前記タンクで混合した混合液を供給する
請求項１〜３のいずれか一つに記載の混合装置。
【請求項５】
前記タンクに設けられる攪拌装置
をさらに備え、
前記攪拌装置を作動させることにより、前記リン酸水溶液に流動性を与える
請求項１〜４のいずれか一つに記載の混合装置。
【請求項６】
前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液にバブリングガスを供給するバブリング装置である
請求項５に記載の混合装置。
【請求項７】
前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液を攪拌する攪拌翼である
請求項５に記載の混合装置。
【請求項８】
前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液に向けて超音波を発生する超音波発生装置である
請求項５に記載の混合装置。
【請求項９】
前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液を加温するヒータ
をさらに備える
請求項１〜８のいずれか一つに記載の混合装置。
【請求項１０】
タンクに所定の量のリン酸水溶液を貯留し、前記タンクを出て前記タンクに戻る循環路に設けられるポンプを動作させて前記リン酸水溶液に循環流を形成し、流動性が与えられた前記リン酸水溶液の液面上に広がるようにシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給して混合する混合工程と、
前記リン酸水溶液と前記添加剤とが混合した混合液を加温する加温工程と、
を含む混合方法。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか一つに記載の混合装置と、
前記混合装置で混合された前記リン酸水溶液と前記添加剤との混合液を用いて基板を処理する基板処理装置と、
を備える基板処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本開示の一態様による混合装置は、タンクと、リン酸水溶液供給部と、添加剤供給部と、循環路と、ポンプと、を備える。タンクは、リン酸水溶液とシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤とを混合する。リン酸水溶液供給部は、前記タンクに前記リン酸水溶液を供給する。添加剤供給部は、前記タンクの上方に供給口が設けられ、前記シリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給する。循環路は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液が、前記タンクから出て前記タンクに戻る。ポンプは、前記循環路に設けられ、前記タンクから出て前記循環路を通り前記タンクに戻る前記リン酸水溶液に循環流を形成する。また、前記リン酸水溶液供給部から前記タンクに前記リン酸水溶液を供給して前記タンクに所定の量の前記リン酸水溶液を貯留し、前記ポンプを動作させて前記リン酸水溶液に循環流を形成し、流動性が与えられた前記リン酸水溶液に前記添加剤供給部の前記供給口から前記タンク内で流動する前記リン酸水溶液の液面上に広がるように前記添加剤を供給する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月20日(2021.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】回路基板の製造方法、及び、プログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、回路基板の製造方法、及び、プログラムに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の課題は、フレキシブル配線基板やユニバーサル基板と同程度の配線機能を有し、安価で作成時間が短く作成の容易な回路基板を製造するための方法、及び、プログラムを提供することである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述した課題を解決するために、本発明の第１の観点に係る回路基板の製造方法は、熱膨張性層を備えるシート材の一面側に、光を熱に変換する光熱変換層をパターン形成後、前記シート材に光を照射することで、前記熱膨張性層を前記光熱変換層の形成パターンに対応させて部分的に膨張させる回路基板の製造方法であって、前記シート材は、基材層と、前記基材層の上に形成された熱膨張性層と、を備え、前記熱膨張性層は、マイクロカプセルと、絶縁性を有するバインダーと、を含み、前記マイクロカプセルは、導電性成分を含有するシェルと、前記シェルに内包され、かつ、加熱されることで膨張する熱膨張性成分と、を有し、前記熱膨張性層を部分的に膨張させるときに、前記マイクロカプセルの前記シェルを、前記熱膨張性成分の膨張に伴って変形させることで、他のカプセルと接触させて、他のカプセルとの間で導通させ、前記熱膨張性層の非膨張領域により回路の絶縁領域を形成し、前記熱膨張性層の膨張領域により回路の導電領域を形成する、ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、フレキシブル配線基板やユニバーサル基板と同程度の配線機能を有し、安価で作成時間が短く作成の容易な回路基板を製造するための方法、及び、プログラムを提供することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱膨張性層を備えるシート材の一面側に、光を熱に変換する光熱変換層をパターン形成後、前記シート材に光を照射することで、前記熱膨張性層を前記光熱変換層の形成パターンに対応させて部分的に膨張させる回路基板の製造方法であって、
前記シート材は、基材層と、前記基材層の上に形成された熱膨張性層と、を備え、
前記熱膨張性層は、マイクロカプセルと、絶縁性を有するバインダーと、を含み、
前記マイクロカプセルは、導電性成分を含有するシェルと、前記シェルに内包され、かつ、加熱されることで膨張する熱膨張性成分と、を有し、
前記熱膨張性層を部分的に膨張させるときに、前記マイクロカプセルの前記シェルを、前記熱膨張性成分の膨張に伴って変形させることで、他のカプセルと接触させて、他のカプセルとの間で導通させ、
前記熱膨張性層の非膨張領域により回路の絶縁領域を形成し、
前記熱膨張性層の膨張領域により回路の導電領域を形成する、ことを特徴とする回路基板の製造方法。
【請求項２】
前記熱膨張性層の一面を剥離可能に被覆する剥離層の表面に、光を熱に変換する光熱変換材料を形成することで、前記光熱変換層をパターン形成し、
前記熱膨張性層を部分的に膨張させてから、前記剥離層を前記熱膨張性層の一面から剥離することで前記光熱変換材料を除去する、ことを特徴とする請求項１に記載の回路基板の製造方法。
【請求項３】
前記回路の前記絶縁領域および前記導電領域を特定するデータに基づいて、前記光熱変換層の形成パターンを示す画像を生成し、
前記シート材の一面側に、光を熱に変換する光熱変換材料を用いて前記画像を形成する、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の回路基板の製造方法。
【請求項４】
前記画像を生成することは、前記熱膨張性層の膨張領域を、前記データにより前記導電領域に設定された抵抗値に応じた太さに設定する、ことを特徴とする請求項３に記載の回路基板の製造方法。
【請求項５】
前記画像を生成することは、前記熱膨張性層の膨張領域を、前記データにより前記導電領域に設定された抵抗値に応じた長さに設定する、ことを特徴とする請求項３または４に記載の回路基板の製造方法。
【請求項６】
前記画像を生成することは、前記熱膨張性層の膨張領域の上に形成される光を熱に変換する光熱変換材料の濃度を、前記データにより前記導電領域に設定された抵抗値に応じた濃度に設定する、ことを特徴とする請求項３から５のいずれかに記載の回路基板の製造方法。
【請求項７】
コンピュータに、
回路の絶縁領域および導電領域を特定するデータに基づいて、前記導電領域の一部又は全部に対応する画像であって、回路基板を構成するシート材に含まれる熱膨張性層の一面側に形成する光を熱に変換する光熱変換材料の形成パターンを示す前記画像を生成させる、プログラム。
【請求項８】
コンピュータに、
前記データに含まれる前記導電領域の抵抗値に応じて、前記光熱変換材料の形成パターンを示す画像に含まれる、前記導電領域に対応する線の太さを決定させる、ことを特徴とする請求項７に記載のプログラム。
【請求項９】
コンピュータに、
前記データに含まれる前記導電領域の抵抗値に応じて、前記光熱変換材料の形成パターンを示す画像に含まれる、前記導電領域に対応する線の長さを決定させる、ことを特徴とする請求項７または８に記載のプログラム。
【請求項１０】
コンピュータに、
前記データに含まれる前記導電領域の抵抗値に応じて、前記光熱変換材料の形成パターンを示す画像に含まれる、前記導電領域に対応する線の濃度を決定させる、ことを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載のプログラム。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれかに記載のプログラムを用いてコンピュータにより生成させた前記画像を、前記熱膨張性層の一面側に、前記光熱変換材料を用いて形成後、前記シート材に光を照射することで、前記熱膨張性層を前記光熱変換材料の形成パターンに対応させて部分的に膨張させる、ことを特徴とする回路基板の製造方法。
【請求項１２】
前記光熱変換材料を、前記熱膨張性層の一面を剥離可能に被覆する剥離層の表面に形成し、
前記熱膨張性層を部分的に膨張させてから、前記剥離層を前記熱膨張性層の一面から剥離することで前記光熱変換材料を除去する、ことを特徴とする請求項１１に記載の回路基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和3年7月5日(2021.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロレンズと、
前記マイクロレンズを透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、
前記光電変換部で生成された電荷に基づく信号を出力する出力部と、
前記出力部に入射する光を遮光する遮光部と、
を備え、
前記光電変換部は、前記マイクロレンズの光軸と交差する方向において、前記遮光部の間に設けられる、
撮像素子。
【請求項２】
請求項１に記載の撮像素子において、
前記遮光部は、前記マイクロレンズの光軸と交差する方向において、前記光電変換部の隣に設けられる、
撮像素子。
【請求項３】
請求項１または２に記載の撮像素子において、
前記遮光部は、前記光電変換部の周りを囲むように設けられる、
撮像素子。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記遮光部は、凹の形状を有する、
撮像素子。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記光電変換部は、前記マイクロレンズの光軸方向において、前記遮光部の一部よりも前記マイクロレンズ側に設けられる、
撮像素子。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記光電変換部の一部は、前記マイクロレンズの光軸方向において、前記遮光部よりも前記マイクロレンズ側に設けられ、
前記光電変換部の一部以外の部分は、前記マイクロレンズの光軸方向において、前記遮光部よりも前記出力部側に設けられる、
撮像素子。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記出力部は、前記光電変換部で生成された電荷を蓄積する第１蓄積部を有し、
前記遮光部は、前記蓄積部に入射する光を遮光する、
撮像素子。
【請求項８】
請求項７に記載の撮像素子において、
前記マイクロレンズの光軸方向において前記光電変換部と前記蓄積部との間に設けられ、前記光電変換部で生成された電荷を前記第１蓄積部に転送する転送部を備える撮像素子。
【請求項９】
請求項７または８に記載の撮像素子において、
前記出力部は、前記第１蓄積部に蓄積された電荷が転送される第２蓄積部を有し、
前記遮光部は、前記第１蓄積部と前記第２蓄積部とに入射する光を遮光する、
撮像素子。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記光電変換部と前記出力部とが設けられる基板を備え、
前記遮光部は、前記基板に設けられる、
撮像素子。
【請求項１１】
請求項１０に記載の撮像素子において、
前記基板は酸化層を有し、
前記遮光部は、前記酸化層に設けられる、
撮像素子。
【請求項１２】
請求項１１に記載の撮像素子において、
前記光電変換部の一部と前記遮光部とは、前記酸化層に設けられる、
撮像素子。
【請求項１３】
請求項１０から１２のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記出力部から出力された信号を伝送するための配線層を備え、
前記基板は、前記マイクロレンズと前記配線層との間に設けられる、
撮像素子。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の撮像素子と、
前記出力部から出力された信号に基づいて画像データを生成する生成部と、
を備える撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像素子および撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、撮像素子および撮像装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の第１の態様による撮像素子は、マイクロレンズと、前記マイクロレンズを透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷に基づく信号を出力する出力部と、前記出力部に入射する光を遮光する遮光部と、を備え、前記光電変換部は、前記マイクロレンズの光軸と交差する方向において、前記遮光部の間に設けられる。
本発明の第２の態様による撮像装置は、上記に記載の撮像素子と、前記出力部から出力された信号に基づいて画像データを生成する生成部と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月17日(2021.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロレンズを透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、
前記光電変換部で生成された電荷を保持する保持部と、
前記マイクロレンズの光軸方向に沿って、前記光電変換部の周囲に設けられ、前記保持部に入射する光を遮光する遮光部と、を備える撮像素子。
【請求項２】
請求項１に記載の撮像素子において、
前記遮光部は、前記光電変換部のうち前記マイクロレンズの光軸方向に沿った側面の周囲に設けられる撮像素子。
【請求項３】
請求項１または２に記載の撮像素子において、
前記遮光部は、前記マイクロレンズの光軸方向および前記マイクロレンズの光軸方向と交差する方向において、前記光電変換部の周囲に設けられる撮像素子。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記遮光部は、前記マイクロレンズの光軸方向に延びて設けられる撮像素子。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記遮光部は、前記光電変換部の受光面から前記マイクロレンズの光軸方向に延びる第１部と、前記光電変換部の受光面から前記マイクロレンズの光軸方向と交差する第２部とを有する撮像素子。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記遮光部は、凹型の構造を有する撮像素子。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記光電変換部は、半導体層の酸化膜に埋め込んで設けられ、
前記遮光部は、前記光電変換部の周囲の酸化膜に光が入射しないよう遮光する撮像素子。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記光電変換部は、前記マイクロレンズの光軸方向に沿った第１面と第２面と有し、
前記遮光部は、前記光電変換部の前記第１面側と前記第２面側に複数設けられる撮像素子。
【請求項９】
請求項８に記載の撮像素子において、
前記光電変換部は、前記マイクロレンズの光軸方向と交差する方向において、複数の前記遮光部の間に設けられる撮像素子。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の撮像素子において、
前記光電変換部の前記第１面と前記第２面とは、前記光電変換部に光を入射させる導波路である撮像素子。
【請求項１１】
請求項８から１０のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記保持部は、前記光電変換部の前記第１面側の半導体層に設けられる撮像素子。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記光電変換部と前記保持部と前記遮光部が設けられる半導体層と、
前記保持部に保持された電荷に基づく信号が出力される信号線が設けられる配線層と、を備え、
前記マイクロレンズと前記半導体層と前記配線層とは、前記マイクロレンズの光軸方向に沿って、前記マイクロレンズ、前記半導体層、前記配線層の順に設けられる撮像素子。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか一項に記載の撮像素子において、
前記光電変換部から前記保持部に電荷を転送する第１転送部と、
前記保持部に保持された電荷を蓄積する蓄積部と、
前記保持部から前記蓄積部に電荷を転送する第２転送部と、を備える撮像素子。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の撮像素子と、
前記撮像素子から出力された信号に基づいて画像データを生成する生成部と、を備える撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の第１の態様による撮像素子は、マイクロレンズを透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷を保持する保持部と、前記マイクロレンズの光軸方向に沿って、前記光電変換部の周囲に設けられ、前記保持部に入射する光を遮光する遮光部と、を備える。
本発明の第２の態様による撮像装置は、上記の撮像素子と、前記撮像素子から出力された信号に基づいて画像データを生成する生成部と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月5日(2021.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極（５４１）と第２電極（５４２）を備える複数の第１スイッチ（５２１，５２２）と、前記第１電極同士を接続する第１内部バスバ（５３１）と、前記第２電極同士を接続する第２内部バスバ（５３２）と、複数の前記第１スイッチ、前記第１内部バスバ、および、前記第２内部バスバを被覆する第１樹脂部材（６１０ａ）と、を備える第１モジュール（６２０）と、
第３電極（５４３）と第４電極（５４４）を備える複数の第２スイッチ（５２３、５２４）と、前記第３電極同士を接続する第３内部バスバ（５３３）と、前記第４電極同士を接続する第４内部バスバ（５３４）と、複数の前記第２スイッチ、前記第３内部バスバ、および、前記第４内部バスバを被覆する第２樹脂部材（６１０ｂ）と、を備える前記第１モジュールと並ぶ第２モジュール（６３０）と、
前記第１内部バスバにおける前記第１樹脂部材から露出された部位に接続される第１給電バスバ（３０１）と、
前記第４内部バスバにおける前記第２樹脂部材から露出された部位に接続される第２給電バスバ（３０２）と、
前記第１給電バスバと前記第２給電バスバそれぞれに接続される電極を備えるコンデンサ（３１０）と、を有し、
前記第１給電バスバは前記第１モジュールと前記第２モジュールの並ぶ並び方向に直交する直交方向に貫通する第１開口部（３４１，３４２，３４３）と、前記第１樹脂部材から露出された前記第１内部バスバの一部に接続される第１給電部（３２２）と、を有し、
前記第２給電バスバは前記直交方向に貫通する第２開口部（３４４，３４５，３４６）と、前記第２樹脂部材から露出された前記第４内部バスバの一部に接続される第２給電部（３３２）と、を有し、
前記第２内部バスバの一部が前記直交方向に延びる態様で前記第１樹脂部材から露出され、
前記第３内部バスバの一部が前記直交方向に延びる態様で前記第２樹脂部材から露出され、
前記第２内部バスバと前記第３内部バスバのうちの少なくとも一方が、前記第２内部バスバと前記第３内部バスバのうちの他方に向かって延びることで前記第２内部バスバと前記第３内部バスバとが直接接合され、
前記第２内部バスバの一部と前記第３内部バスバの一部とが前記第１給電部と前記第２給電部よりも前記並び方向と前記直交方向それぞれに直交する横方向で前記コンデンサ側に位置し、
前記第２内部バスバの一部と前記第３内部バスバの一部とが前記第１開口部と前記第２開口部それぞれに通されている電力変換装置。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
開示の１つは、
第１電極（５４１）と第２電極（５４２）を備える複数の第１スイッチ（５２１，５２２）と、第１電極同士を接続する第１内部バスバ（５３１）と、第２電極同士を接続する第２内部バスバ（５３２）と、複数の第１スイッチ、第１内部バスバ、および、第２内部バスバを被覆する第１樹脂部材（６１０ａ）と、を備える第１モジュール（６２０）と、
第３電極（５４３）と第４電極（５４４）を備える複数の第２スイッチ（５２３、５２４）と、第３電極同士を接続する第３内部バスバ（５３３）と、第４電極同士を接続する第４内部バスバ（５３４）と、複数の第２スイッチ、第３内部バスバ、および、第４内部バスバを被覆する第２樹脂部材（６１０ｂ）と、を備える第１モジュールと並ぶ第２モジュール（６３０）と、
第１内部バスバにおける第１樹脂部材から露出された部位に接続される第１給電バスバ（３０１）と、
第４内部バスバにおける第２樹脂部材から露出された部位に接続される第２給電バスバ（３０２）と、
第１給電バスバと第２給電バスバそれぞれに接続される電極を備えるコンデンサ（３１０）と、を有し、
第１給電バスバは第１モジュールと第２モジュールの並ぶ並び方向に直交する直交方向に貫通する第１開口部（３４１，３４２，３４３）と、第１樹脂部材から露出された第１内部バスバの一部に接続される第１給電部（３２２）と、を有し、
第２給電バスバは直交方向に貫通する第２開口部（３４４，３４５，３４６）と、第２樹脂部材から露出された第４内部バスバの一部に接続される第２給電部（３３２）と、を有し、
第２内部バスバの一部が直交方向に延びる態様で第１樹脂部材から露出され、
第３内部バスバの一部が直交方向に延びる態様で第２樹脂部材から露出され、
第２内部バスバと第３内部バスバのうちの少なくとも一方が、第２内部バスバと第３内部バスバのうちの他方に向かって延びることで第２内部バスバと第３内部バスバとが直接接合され、
第２内部バスバの一部と第３内部バスバの一部とが第１給電部と第２給電部よりも並び方向と直交方向それぞれに直交する横方向でコンデンサ側に位置し、
第２内部バスバの一部と第３内部バスバの一部とが第１開口部と第２開口部それぞれに通されている電力変換装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月17日(2021.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極（５４１ａ）と第２電極（５４２ａ）を備える第１スイッチ（５２１）と、第３電極（５４３ａ）と第４電極（５４４ａ）を備える第２スイッチ（５２３）と、前記第１電極に接続される第１内部バスバ（５３１ａ）と、前記第２電極と前記第３電極を接続する第２内部バスバ（５３２ａ）と、前記第４電極に接続される第３内部バスバ（５３３ａ）と、これらを被覆する第１樹脂部材（６１０ａ）と、を備え、前記第１内部バスバ、前記第２内部バスバ、および、前記第３内部バスバそれぞれの一部が前記第１樹脂部材から露出された第１モジュール（６２０）と、
第５電極（５４１ｂ）と第６電極（５４２ｂ）を備える第３スイッチ（５２２）と、第７電極（５４３ｂ）と第８電極（５４４ｂ）を備える第４スイッチ（５２４）と、前記第５電極に接続されるとともに前記第１内部バスバに接続される第４内部バスバ（５３１ｂ）と、前記第６電極と前記第７電極に接続されるとともに前記第２内部バスバに接続される第５内部バスバ（５３２ｂ）と、前記第８電極に接続されるとともに前記第３内部バスバに接続される第６内部バスバ（５３３ｂ）と、これらを被覆する第２樹脂部材（６１０ｂ）と、を備え、前記第４内部バスバ、前記第５内部バスバ、および、前記第６内部バスバそれぞれの一部が前記第２樹脂部材から露出された第２モジュール（６３０）と、
前記第１内部バスバおよび前記第４内部バスバに電気的に接続される第１給電部（３２２）を備えるとともに、前記第３内部バスバにおける前記第１樹脂部材から露出された第５端子（６２２）、および、前記第６内部バスバにおける前記第２樹脂部材から露出された第６端子（６３２）を通すための貫通孔（３４４、３４５、３４６）を備える第１給電バスバ（３０１）と、
前記第３内部バスバおよび前記第６内部バスバに電気的に接続される第２給電部（３３２）を備えるとともに、前記第５端子および前記第６端子を通すための貫通孔（３４７、３４８、３４９）を備える第２給電バスバ（３０２）と、を有し、
前記第２内部バスバにおける前記第１樹脂部材から露出された第１端子（６２３）と前記第５内部バスバにおける前記第２樹脂部材から露出された第２端子（６３３）の少なくとも一方が、前記第２内部バスバと前記第５内部バスバのうちの他方に向かって延びることで前記第２内部バスバと前記第５内部バスバとが直接接合され、
前記第１内部バスバにおける前記第１樹脂部材から露出された第３端子（６２１）と前記第４内部バスバにおける前記第２樹脂部材から露出された第４端子（６３１）の少なくとも一方が、前記第１内部バスバと前記第４内部バスバのうちの他方に向かって延びることで前記第１内部バスバと前記第４内部バスバとが直接接合され、
前記第３内部バスバにおける前記第１樹脂部材から露出された第５端子（６２２）と前記第６内部バスバにおける前記第２樹脂部材から露出された第６端子（６３２）の少なくとも一方が、前記第３内部バスバと前記第６内部バスバのうちの他方に向かって延びることで前記第３内部バスバと前記第６内部バスバとが直接接合され、
前記第５端子と前記第６端子が、前記第１給電バスバにおける前記第５端子および前記第６端子を通すための前記貫通孔と、前記第２給電バスバにおける前記第５端子および前記第６端子を通すための前記貫通孔それぞれに通されている電力変換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
開示の１つは、
第１電極（５４１ａ）と第２電極（５４２ａ）を備える第１スイッチ（５２１）と、第３電極（５４３ａ）と第４電極（５４４ａ）を備える第２スイッチ（５２３）と、第１電極に接続される第１内部バスバ（５３１ａ）と、第２電極と第３電極を接続する第２内部バスバ（５３２ａ）と、第４電極に接続される第３内部バスバ（５３３ａ）と、これらを被覆する第１樹脂部材（６１０ａ）と、を備え、第１内部バスバ、第２内部バスバ、および、第３内部バスバそれぞれの一部が第１樹脂部材から露出された第１モジュール（６２０）と、
第５電極（５４１ｂ）と第６電極（５４２ｂ）を備える第３スイッチ（５２２）と、第７電極（５４３ｂ）と第８電極（５４４ｂ）を備える第４スイッチ（５２４）と、第５電極に接続されるとともに第１内部バスバに接続される第４内部バスバ（５３１ｂ）と、第６電極と第７電極に接続されるとともに第２内部バスバに接続される第５内部バスバ（５３２ｂ）と、第８電極に接続されるとともに第３内部バスバに接続される第６内部バスバ（５３３ｂ）と、これらを被覆する第２樹脂部材（６１０ｂ）と、を備え、第４内部バスバ、第５内部バスバ、および、第６内部バスバそれぞれの一部が第２樹脂部材から露出された第２モジュール（６３０）と、
第１内部バスバおよび第４内部バスバに電気的に接続される第１給電部（３２２）を備えるとともに、第３内部バスバにおける第１樹脂部材から露出された第５端子（６２２）、および、第６内部バスバにおける第２樹脂部材から露出された第６端子（６３２）を通すための貫通孔（３４４、３４５、３４６）を備える第１給電バスバ（３０１）と、
第３内部バスバおよび第６内部バスバに電気的に接続される第２給電部（３３２）を備えるとともに、第５端子および第６端子を通すための貫通孔（３４７、３４８、３４９）を備える第２給電バスバ（３０２）と、を有し、
第２内部バスバにおける第１樹脂部材から露出された第１端子（６２３）と第５内部バスバにおける第２樹脂部材から露出された第２端子（６３３）の少なくとも一方が、第２内部バスバと第５内部バスバのうちの他方に向かって延びることで第２内部バスバと第５内部バスバとが直接接合され、
第１内部バスバにおける第１樹脂部材から露出された第３端子（６２１）と第４内部バスバにおける第２樹脂部材から露出された第４端子（６３１）の少なくとも一方が、第１内部バスバと第４内部バスバのうちの他方に向かって延びることで第１内部バスバと第４内部バスバとが直接接合され、
第３内部バスバにおける第１樹脂部材から露出された第５端子（６２２）と第６内部バスバにおける第２樹脂部材から露出された第６端子（６３２）の少なくとも一方が、第３内部バスバと第６内部バスバのうちの他方に向かって延びることで第３内部バスバと第６内部バスバとが直接接合され、
第５端子と第６端子が、第１給電バスバにおける第５端子および第６端子を通すための貫通孔と、第２給電バスバにおける第５端子および第６端子を通すための貫通孔それぞれに通されている。
【手続補正書】
【提出日】令和3年2月12日(2021.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像復号装置であって、
逆変換により予測残差信号を生成するように構成されている逆変換部を備え、
前記逆変換部は、符号化ブロックのサイズにより、前記符号化ブロックの二次変換インデックスの復号方法を制御するように構成されていることを特徴とする画像復号装置。
【請求項２】
前記逆変換部は、前記符号化ブロックの幅又は高さの少なくともいずれかが予め定めた閾値より大きい場合、前記符号化ブロックの二次変換インデックスを復号しないように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の画像復号装置。
【請求項３】
前記閾値は、変換ブロックの幅及び高さの最大値であることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像復号装置。
【請求項４】
画像復号装置であって、
逆変換により予測残差信号を生成するように構成されている逆変換部を備え、
前記逆変換部は、対象ブロック内の非ゼロ係数の発生の有無を示すフラグにより、前記対象ブロックの二次変換インデックスの復号方法を制御するように構成されていることを特徴とする画像復号装置。
【請求項５】
逆変換により予測残差信号を生成する工程を有し、
前記工程において、符号化ブロックのサイズにより、前記符号化ブロックの二次変換インデックスの復号方法を制御することを特徴とする画像復号方法。
【請求項６】
コンピュータを、画像復号装置として機能させるプログラムであって、
前記画像復号装置は、逆変換により予測残差信号を生成するように構成されている逆変換部を備え、
前記逆変換部は、符号化ブロックのサイズにより、前記符号化ブロックの二次変換インデックスの復号方法を制御するように構成されていることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和3年5月25日(2021.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、複数のデジタル映像信号を入力可能な表示装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明は上記のような実情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、複数の映像信号のサーチ実行時に各映像信号の有無を判定する時間を適切に設定することが可能な表示装置を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の一態様は、デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給が有った場合、ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態、又はＨＤＣＰの認証処理の途中の状態の何れかに応じたデジタル映像信号のサーチ時間で、上記デジタル映像信号端子の接続サーチを行なう制御部を備える。
本発明の他態様は、デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給が有った場合、ＨＤＣＰの認証処理の途中の状態、又はＴＭＤＳデータの伝送中の状態の何れかに応じたデジタル映像信号のサーチ時間で、上記デジタル映像信号端子の接続サーチを行なう制御部を備える。
本発明の他態様は、デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給が有った場合、ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態、ＴＭＤＳデータの伝送中の状態の何れかに応じたデジタル映像信号のサーチ時間で、上記デジタル映像信号端子の接続サーチを行なう制御部を備える。
本発明の他態様は、デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給が有った場合、ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態、ＨＤＣＰの認証処理の途中の状態、ＴＭＤＳデータの伝送中の状態、の何れかに応じたデジタル映像信号のサーチ時間で、上記デジタル映像信号端子の接続サーチを行なう制御部を備える。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給が有った場合、ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態、又はＨＤＣＰの認証処理の途中の状態の何れかに応じたデジタル映像信号のサーチ時間で、上記デジタル映像信号端子の接続サーチを行なう制御部を備える表示装置。
【請求項２】
ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態に応じたサーチ時間は、ＨＤＣＰの認証処理の途中の状態に応じたサーチ時間よりも長いことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
【請求項３】
デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給が有った場合、ＨＤＣＰの認証処理の途中の状態、又はＴＭＤＳデータの伝送中の状態の何れかに応じたデジタル映像信号のサーチ時間で、上記デジタル映像信号端子の接続サーチを行なう制御部を備える表示装置。
【請求項４】
ＨＤＣＰの認証処理の途中の状態に応じたサーチ時間は、ＴＭＤＳデータの伝送中の状態に応じたサーチ時間よりも長いことを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給が有った場合、ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態、ＴＭＤＳデータの伝送中の状態の何れかに応じたデジタル映像信号のサーチ時間で、上記デジタル映像信号端子の接続サーチを行なう制御部を備える表示装置。
【請求項６】
ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態に応じたサーチ時間は、ＴＭＤＳデータの伝送中の状態に応じたサーチ時間よりも長いことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給が有った場合、ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態、ＨＤＣＰの認証処理の途中の状態、ＴＭＤＳデータの伝送中の状態、の何れかに応じたデジタル映像信号のサーチ時間で、上記デジタル映像信号端子の接続サーチを行なう制御部を備える表示装置。
【請求項８】
前記サーチ時間は、ＨＤＣＰの認証処理の開始前の状態、ＨＤＣＰの認証処理の途中の状態、ＴＭＤＳデータの伝送中の状態、の順に長いことを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記デジタル映像信号端子を含む複数の映像信号端子を有する入力部と、
上記入力部から入力した入力信号を表示する表示部と、
を備え、
前記制御部は、上記デジタル映像信号端子の給電端子に対する電源供給の有無と、当該電源供給が有った場合の前記状態と、に応じて上記デジタル映像信号のサーチ時間を設定することを特徴とする請求項１乃至８の何れかに記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】令和3年8月30日(2021.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の格子点を含むプレビュー画像を制御装置が表示することと、
前記プレビュー画像の拡大操作を受け付けることと、
前記拡大操作に応じて拡大されるプレビュー画像に含まれる前記第１の格子点を選択する選択操作を受け付けることと、
前記選択操作に応じて選択される前記第１の格子点の位置を変更する変更操作を受け付けることと、
前記変更操作に応じて生成された第１の画像をプロジェクターが投射することと、
を含む投射方法。
【請求項２】
前記変更操作に応じて、第１補正データを更新することで第２補正データを生成し、
前記第１の画像は、前記第２補正データに基づき第２の画像を補正することで生成され、
前記プレビュー画像を示すプレビュー画像データは、第１の位置に備わる前記第１の格子点を含む基準画像を示す基準画像データについて、前記第１補正データに基づき前記第１の格子点の位置を前記第１の位置から第２の位置に移動させることで生成したものであること、
を特徴とする請求項１に記載の投射方法。
【請求項３】
前記第１補正データは、補正無しの前記第１の格子点の位置を示し、
前記第１の位置と前記第２の位置は同じであること、
を特徴とする請求項２に記載の投射方法。
【請求項４】
前記第１補正データは、前記プロジェクターが前記第２の画像を投射する投射面の形状に合わせて予め定められた前記第１の格子点の位置を示し、
前記第１の位置と前記第２の位置は異なること、
を特徴とする請求項２に記載の投射方法。
【請求項５】
前記選択操作を受け付けた場合、前記第１の格子点を強調する処理を施した前記プレビュー画像を前記制御装置が表示すること、
を特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の投射方法。
【請求項６】
前記第１の格子点を強調する処理は、前記プレビュー画像に、前記第１の格子点を囲う枠を重畳すること
を特徴とする請求項５に記載の投射方法。
【請求項７】
前記プレビュー画像は、第２の格子点を含み、
前記第１の格子点を強調する処理は、前記プレビュー画像において、前記第１の格子点の色を、前記第２の格子点の色と異ならせること、
を特徴とする請求項５に記載の投射方法。
【請求項８】
前記第１の格子点は、第１の領域において頂点に位置し、
前記基準画像データに、前記第１の領域において前記第１の領域を識別する識別子を配置する処理を施した前記プレビュー画像を前記制御装置が表示すること、
を特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載の投射方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】投射方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、投射方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】令和3年9月6日(2021.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の画面を表示する表示用端末と、端末動画を撮影する撮影用端末と、がネットワークを介して接続されるサーバ装置であって、
互いに異なる複数の動画を、各動画を識別するための動画識別情報と関連付けて記憶する動画記憶手段と、
前記端末動画、及び当該端末動画に関連付けられるべき前記動画識別情報を特定するための特定情報を前記撮影用端末から取得する動画取得手段と、
前記動画取得手段の取得結果に基づいて、前記複数の動画のうち前記特定情報により特定される前記動画識別情報に相応する動画を対象動画として判別する動画判別手段と、
前記動画判別手段の判別結果に基づいて、前記表示用端末に対して前記端末動画及び前記対象動画を提供する動画提供手段と、
を備え、
前記動画取得手段は、制限条件に基づいて、当該制限条件を満たす各端末動画が取得されないように、前記複数の端末動画の少なくとも一部の取得を制限する、サーバ装置。