(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式(3)
【化１】
0003660385.tif 000009
〔式中、Ｒ2は低級アルキル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。〕
で表される4-フェニル-2-ハロゲノ-3-オキソ酪酸エステルをルテニウム−ホスフィン錯体の存在下で不斉水素化して、一般式(4)
【化２】
0003660385.tif 000010
〔式中、Ｒ2及びＸは前記と同じ意味を示す。〕
で表される4-フェニル-(2S)-ハロゲノ-(3R)-ヒドロキシ酪酸エステルとなし、ついでこれを塩基の存在下エポキシ化して、一般式(5)
【化３】
0003660385.tif 000011
〔式中、Ｒ2は前記と同じ意味を示す。〕
で表される4-フェニル-(2S,3R)-エポキシ酪酸エステルとなし、更にこれにルイス酸の存在下にトリ低級アルキルシリルアジド又は低級アルキルジアリールシリルアジドを反応せしめて、一般式(6)
【化４】
0003660385.tif 000012
〔式中、Ｒ2は前記と同じ意味を示し、Ｒ3は水素原子、トリ低級アルキルシリル基又は低級アルキルジアリールシリル基を示す。〕
で表される(3S)-アジド-4-フェニル-(2S)-酪酸エステルとなし、これを水素化分解して、一般式(7)
【化５】
0003660385.tif 000013
〔式中、Ｒ2は前記と同じ意味を示し、Ｒ3′は水素原子、トリ低級アルキルシリル基又は低級アルキルジアリールシリル基を示す。〕
で表される(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体(7)となし、更にそのアミノ基を保護し、所望により当該アミノ基の保護反応の前又は後に加水分解することを特徴とする、一般式(1)
【化６】
0003660385.tif 000014
〔式中、Ｒ1はアミノ基の保護基を示し、Ｒ2′は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ3′は前記と同じ意味を示す。〕
で表される光学活性(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、HIVプロテアーゼ阻害作用を示し、AIDS治療薬として有用な次式(2)
【０００２】
【化７】
0003660385.tif 000002
【０００３】
で表されるペプチド化合物(KNI-272)の合成原料として有用な光学活性(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体の合成法に関する。
【０００４】
【従来の技術】
前記ペプチド化合物(2)の立体配置はその活性に影響を与え、特に前記化学式(2)の破線で囲まれた部分の２個の不斉炭素原子が双方ともＳ配置であるのが好ましい。
【０００５】
かかるペプチド化合物(2)の上記構成部分は、その合成原料である一般式(1)
【０００６】
【化８】
0003660385.tif 000003
【０００７】
〔式中、Ｒ1はアミノ基の保護基を示し、Ｒ2′は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ3′は水素原子、トリ低級アルキルシリル基又は低級アルキルジアリールシリル基を示す。〕
で表される光学活性(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体の立体構造に依存する。
【０００８】
従来、(2S,3S)-アロフェニルノルスタチンを製造する方法としては、フェニルアラニンを原料とし、これから誘導したアルコールを酸化してアルデヒドとし、青酸ガスを付加し続いて水酸基の立体を反転させて２つの光学活性点を作り出す方法が知られている（J. Med. Chem., 1990年，33巻，2707頁）。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この方法では酸化反応、有害なシアン化合物を用いる工程及び立体反転の工程を有するために、工業化に当たっては問題があるとともに、中間で生成するアルデヒドは非常に不安定であり、ラセミ化しやすく、光学純度の高いものを得るのはきわめて困難であった。それ故、光学純度の高い(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体(1)を簡単な操作で、安全かつ高収率にて製造する方法が望まれていた。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
このような実情において、本発明者らは鋭意研究を行った結果、4-フェニル-2-ハロゲノ-3-オキソ酪酸エステルを出発原料とし、新規なフェニル酪酸誘導体を経由して、光学活性な(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体を簡易・安全にかつ高収率で製造することに成功し、本発明を完成した。
【００１１】
本発明は次の反応式で表される。
【００１２】
【化９】
0003660385.tif 000004
【００１３】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2′及びＲ3′は前記と同じ意味を示し、Ｒ2は低級アルキル基を示し、Ｒ3は水素原子、トリ低級アルキルシリル基又は低級アルキルジアリールシリル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。〕
【００１４】
すなわち本発明は、4-フェニル-2-ハロゲノ-3-オキソ酪酸エステル(3)をルテニウム−ホスフィン錯体の存在下で不斉水素化して4-フェニル-(2S)-ハロゲノ-(3R)-ヒドロキシ酪酸エステル(4)となし、ついでこれを塩基の存在下エポキシ化して4-フェニル-(2S,3R)-エポキシ酪酸エステル(5)となし、更にこれにルイス酸の存在下にトリ低級アルキルシリルアジド又は低級アルキルジアリールシリルアジドを反応せしめて、(3S)-アジド-4-フェニル-(2S)-酪酸エステル(6)となし、これを水素化分解して、(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体(7)となし、更にそのアミノ基を保護し、所望により当該アミノ基の保護反応の前又は後に加水分解することを特徴とする光学活性(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体(1)の製造方法を提供するものである。
【００１５】
本発明において、低級アルキル基としては、通常炭素数１〜６のものが挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。
【００１６】
Ｒ1で示されるアミノ基の保護基としては、例えばアセチル基、ベンジル基、ベンゾイル基、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００１７】
出発原料である4-フェニル-2-ハロゲノ-3-オキソ酪酸エステル(3)は、従来公知の方法に従って4-フェニル-3-オキソ酪酸エステルをハロゲン化することにより得られる（J. Org. Chem., 1964年，29巻，1956頁)。ここで、Ｘで表されるハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００１８】
4-フェニル-(2S)-ハロゲノ-(3R)-ヒドロキシ酪酸エステル(4)は、化合物(3)をルテニウム−ホスフィン錯体を触媒として立体選択的に水素添加することにより得られるが、ここで用いられるルテニウム−ホスフィン錯体としては、例えば以下に示すものが挙げられる。
【００１９】
(a)  特開昭61-63690号公報及び特開平2-191289号公報に記載の一般式(8)及び(9)で表される錯体
Ｒu2Ｘ4(Ｒ3-BINAP)2(ＮＥt3)      (8)
[ＲuＸ(Ｙ)(Ｒ3-BINAP)]Ｘ         (9)
〔式中、Ｒ3-BINAPは一般式(10)
【００２０】
【化１０】
0003660385.tif 000005
【００２１】
（Ｒ4は水素原子、メチル基、tert-ブチル基又はメトキシ基）で表される三級ホスフィンを示し、Ｅtはエチル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙは置換基を有してもよいフェニル基を示す。〕
【００２２】
(b)  特開平4-139140号公報に記載の次の一般式(11)及び(12)で表される錯体
Ｒu2Ｘ4(Ｈ8-BINAP)2(ＮＥt3)      (11)
[ＲuＸ(Ｙ)(Ｈ8-BINAP)]Ｘ         (12)
〔式中、Ｈ8-BINAPは一般式(13)
【００２３】
【化１１】
0003660385.tif 000006
【００２４】
（Ａrはp-メトキシフェニル基、p-トリル基、m-トリル基、p-クロロフェニル基、p-フルオロフェニル基、p-トリフルオロフェニル基又は3,5-キシリル基）で表される三級ホスフィンを示し、Ｅt、Ｘ及びＹは前記と同じ意味を示す。〕
【００２５】
(c)  特開昭63-135397号公報に記載の次の一般式(14)で表される錯体
Ｒu2Ｘ4(Ｒ5-BIPHEMP)2(ＮＥt3)     (14)
〔式中、Ｒ5-BIPHEMPは一般式(15)
【００２６】
【化１２】
0003660385.tif 000007
【００２７】
（Ｒ5は水素原子、メチル基又はメトキシ基）で表される三級ホスフィンを示し、Et及びＸは前記と同じ意味を示す。〕
【００２８】
(d)  特公平6-92427号公報に記載の次の一般式(16)及び(17)で表される錯体
Ｒu2Ｘ4(BICHEP)2(ＮＥt3)      (16)
[ＲuＸ(Ｙ)(BICHEP)]Ｘ         (17)
〔式中、BICHEPは一般式(18)
【００２９】
【化１３】
0003660385.tif 000008
【００３０】
で表される三級ホスフィンを意味し、Ｅt、Ｘ及びＹは前記と同じ意味を示す。〕
【００３１】
ほかにルテニウム−ホスフィン錯体の配位子として用いることができる光学活性ホスフィンとしては、Chem. Pharm. Bull., 1991年，39巻，1085頁に示される(4,4',6,6',-テトラメチル-5,5'-ジメチルビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4',6,6',-テトラメチル-5,5'-ジメチルビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジ-p-メトキシフェニルホスフィン)；Synlett, 1991年，827頁に示される(4,4',6,6',-テトラトリフルオロメチル-5,5'-ジメチルビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,6-ジトリフロロメチル-4',6'-ジメチル-5'-メトキシビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジフェニルホスフィン)；Tetrahedron: Asymmetry, 1992年，３巻，13頁に示される2-ジシクロヘキシル-2'-ジフェニルホスフィノ-4,4',6,6'-テトラメチル-5,5'-ジメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジフェニルホスフィン)；特公平4-15796号公報に示される(6,6'-ジメチル-2,2'-ビフェニレン)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4',6,6'-テトラメチル-2,2'-ビフェニレン)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(3,3',6,6'-テトラメチル-2,2'-ビフェニレン)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4'-ジフルオロ-6,6'-ジメチル-2,2'-ビフェニレン)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4'-ビス(ジメチルアミノ)-6,6'-ジメチル-2,2'-ビフェニレン)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(6,6'-ジメチル-2,2'-ビフェニレン)-ビス(ジ-p-トリルホスフィン)、(6,6'-ジメチル-2,2'-ビフェニレン)-ビス(ジ-o-トリルホスフィン)、(6,6'-ジメチル-2,2'-ビフェニレン)-ビス(ジ-m-フルオロフェニルホスフィン)、1,11-ビス(ジフェニルホスフィノ)-5,7-ジヒドロジベンゾ[c,e]オキセピン等；特開平3-5492号公報に示される(6,6'-ジメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(5,5',6,6'-テトラメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジフェニルホスフィン)、(6,6'-ジメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジ-p-トリルホスフィン)、(4,4',5,5',6,6'-テトラヘキサメトキシビフェニル-2,2'-ジイル)-ビス(ジフェニルホスフィン)等が挙げられる。
【００３２】
ルテニウム−ホスフィン錯体は、化合物(3)に対して0.0002〜0.02倍モル、特に0.001〜0.01倍モル用いるのが好ましい。溶媒としてはメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-メチル-2-プロパノール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、トルエン等の通常使用される有機溶媒及びそれらの混合液を用いることができる。これらの溶媒は以下の反応においても同様に使用することができる。本反応においては、溶媒は化合物(3)に対して２〜10倍量（容量）用いるのが好ましい。
【００３３】
反応温度は０〜50℃、好ましくは10〜30℃で、水素圧は10〜150atm、好ましくは30〜100atmで、反応時間は10〜30時間が好ましい。精製は、例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィー等により行うことが出来るが、反応終了後、そのまま次の反応に使用することもできる。
【００３４】
4-フェニル-(2S,3R)-エポキシ酪酸エステル(5)は、化合物(4)に塩基を反応させてエポキシ化することにより得られる。エポキシ化反応は、例えば−20〜30℃、好ましくは−５〜５℃で、１〜３時間反応させることにより行われる。塩基としては、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムプロピラート、ナトリウムイソプロピラート、ナトリウムブチラート、ナトリウムtert-ブチラート、カリウムメチラート、カリウムエチラート、カリウムプロピラート、カリウムイソプロピラート、カリウムブチラート、カリウムtert-ブチラート等のアルカリアルコキシドが挙げられる。溶媒は化合物(4)の１〜３倍（容量）用いるのが好ましい。精製は、例えば、反応後にリン酸緩衝液（pH7.0）を加え、溶媒を留去した後、トルエン、酢酸エチル、エーテル、塩化メチレン、クロロホルム等の溶媒で抽出し、溶媒を留去した後、蒸留することにより行われる。
【００３５】
(3S)-アジド-4-フェニル-(2S)-酪酸エステル(6)は、化合物(5)とトリ低級アルキルシリルアジド又は低級アルキルジアリールアジドとを、ルイス酸の存在下で反応させることにより得られる。トリ低級アルキルシリルアジドとしては、トリメチルシリルアジド、トリエチルシリルアジド、トリプロピルシリルアジド、トリイソプロピルシリルアジド、トリブチルシリルアジド、トリイソブチルシリルアジド、トリsec-ブチルシリルアジド、トリtert-ブチルシリルアジド、tert-ブチルジメチルシリルアジド、ジメチルテキシルシリルアジド等が挙げられ、低級アルキルジアリールアジドとしては、tert-ブチルジフェニルシリルアジド等が挙げられる。ルイス酸としては、塩化亜鉛、臭化亜鉛、四塩化チタン、四臭化チタン、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、テトライソプロポキシチタン、トリイソプロポキシアルミニウム、二塩化スズ、四塩化スズ等が挙げられる。トリ低級アルキルシリルアジド又は低級アルキルジアリールアジドは、化合物(4)に対して１〜1.2倍モル、ルイス酸は化合物(4)に対し５〜20モル％用いるのが好ましい。反応温度は50〜100℃が好ましく、反応は無溶媒もしくはベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、THF、ジメトキシエタン、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン等の溶媒を用いて行うことができる。精製は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等により行うことができる。
【００３６】
光学活性(2S,3S)-アロフェニルノルスタチン誘導体(7)は、化合物(6)に対し１〜10重量％の５〜10％パラジウム−炭素等の触媒を用いて水素化分解することにより得られる。反応温度は0〜100℃、好ましくは20〜50℃、水素圧は１〜50atm、好ましくは10〜30atm、反応時間10〜40時間で行うのがよい。溶媒量は、特に限定されないが、化合物(6)の３〜５倍量（容量）用いるのが好ましい。ここで、溶媒としてメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール等のアルコールを用いた場合は、２位のトリ低級アルキルシロキシ基はヒドロキシル基に変わるが、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸メチル等を用いた場合には変化しない。精製は、反応後触媒を除去し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等により行うことができる。
【００３７】
化合物(1)は、化合物(7)のアミノ基を保護することにより得られる。本反応には、tert-ブトキシカルボニル（以下Bocと略記する）無水物、ベンジルハライド、アセチルハライド、ベンゾイルハライド、カルボベンゾキシハライド等のアミノ基の保護基を形成するのに一般的に用いられる化合物が使用できる。これらの化合物は、化合物(7)に対し等モルを、３〜５倍量（容量）のテトラヒドロフラン（以下、THFと略記する）、ジオキサン等の有機溶媒に溶かして、０〜10℃の温度で加える。室温で５〜20時間反応させた後、減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等の有機溶媒で抽出し、溶媒を留去すれば、化合物(1)が得られる。精製は、例えば酢酸エチルを溶媒として５〜20倍量（容量）用い再結晶することにより行うことができる。
【００３８】
一般式(1)において、Ｒ2′及び／又はＲ3′が水素原子である化合物を得ようとする場合は、当該アミノ基の保護反応の前又は後に加水分解すればよい。加水分解反応は、化合物(7)又は化合物(1)（ここで、Ｒ2′及びのうち少なくとも一方は水素原子ではない。）を、その２〜５倍量（容量）の１〜５規定の苛性ソーダ水溶液に溶かし、反応温度0〜20℃の温度で、一晩反応させることにより行われる。ここで、化合物(7)を加水分解した場合においては、生成物を単離することなく、次の化合物(1)の合成に使用するのが好ましい。なお、当該加水分解反応において、化合物(7)のエステル結合も加水分解を受けることがある。
【００３９】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４０】
なお、実施例中の測定は、特に限定しない限り、次の分析機器を用いて行った。
〈測定装置〉
1H-NMR：                      Bruker社製  AM-400
旋光度：                      日本分光社製  DIP-4
融点：                        Yanako社製  micro melting apparatus
高速液体クロマトグラフィー：  島津製作所社製  SPD10A，LC10AT
ガスクロマトグラフィー：      Hewlett Packard社製  5890II
【００４１】
実施例１
(1)  4-フェニル-3-オキソブタン酸メチルの合成：
メラドラム酸 36.03g（0.25モル）を塩化メチレン 70mlに溶かし、ピリジン 38.17g（0.48モル）を塩基として用い、氷浴下、フェニル酢酸クロリド 42.52g（0.275モル）を滴下し撹拌した。反応後、氷水及び希塩酸を加え洗浄した。塩化メチレンを留去後、メタノールを加えて還流し、溶媒を留去して4-フェニル-3-オキソブタン酸メチル 44gを得た。収率 91.7％。
【００４２】
(2)  4-フェニル-2-クロロ-3-オキソブタン酸メチル〔化合物(3)〕の合成
(1)で得られた4-フェニル-3-オキソブタン酸メチル 44g（0.229モル）を氷浴下冷却し（無溶媒）、塩化スルフリル 30.93g（0.229モル）を滴下し、一晩撹拌した。過剰の塩化スルフリルを減圧下留去し、トルエンに溶かし重曹水で洗浄した。溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、標記化合物(3) 45.68gを得た。収率 88.0％。
(3)  (2S,3R)-2-クロロ-3-ヒドロキシ-4-フェニルブタン酸メチル〔化合物(4)〕の合成
500mlの枝付きフラスコにＲu2Ｃl4((Ｒ)-tol-BINAP)2(ＮＥt3) 0.36g（0.4mmol）を取り、窒素置換した後、4-フェニル-2-クロロ-3-オキソブタン酸メチル〔化合物(3)〕56.7g（0.2 mmol）及びメタノール 280mlを加えて溶かした。この溶液を500mlのオートクレーブに仕込み、水素圧 80atm、室温にて20時間かき混ぜた。反応溶液を濃縮して、標記化合物(4) 57.2g（95％）を得た。
HPLC（Inertsil SIL，ヘキサン：THF＝95：５）で分析したところ、ジアステレオマー比は、63：37（syn：anti）であった。
また、HPLC（CHIRALCEL OD-H，ヘキサン：2-プロパノール＝99：１）で分析したところ、74％ee（syn）、70％ee（anti）であった。
1H-NMR（CDCl3）δppm：
syn ： 2.47(brs,1H), 2.86(d,d,J=14.0,6.3Hz,1H),
3.12(d,d,J=13.9,10.1Hz,1H), 3.80(s,3H), 4.18(d,J=7.3Hz),
4.27(brs,1H), 7.26-7.33(m,5H)
anti： 2.62(brs,1H), 2.90(d,d,13.0,3.9Hz,1H),
2.99(d,d,J=13.0,9.8Hz,1H), 3.78(s,3H), 4.27(d,J=3.1Hz,1H),
4.21-4.30(brs,1H), 7.26-7.33(m,5H)
【００４３】
(4)  (2S,3R)-2,3-エポキシ-4-フェニルブタン酸メチル〔化合物(5)〕の合成
28％ナトリウムメチラートメタノール溶液 59.4g（0.275mol）とメタノール 60mlを反応容器に入れ、氷浴下冷却し、(2S,3R)-2-クロロ-3-ヒドロキシ-4-フェニルブタン酸メチル〔化合物(4)〕57.2g（0.25mol）のメタノール（120ml）溶液を滴下した。そのままの温度で２時間攪拌した。0.1Ｍリン酸緩衝液（pH＝７）280mlを氷浴下冷却し、反応溶液をゆっくり注いだ。メタノールを減圧下留去し、残査を酢酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄した。溶媒を留去後、残査を単蒸留したところ、標記化合物(5) 31.5g（75％）を得た。bp.105℃（0.3Torr）
GLC（Neutrabond-1，100℃〜250℃，５℃/min）で分析したところ、trans：cis＝ ＞99：１であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：
2.96(d,J=5.3Hz,2H), 3.28(d,J=1.8Hz,1H), 3.40-3.42(m,1H),
3.76(s,3H), 7.23-7.32(m,5H)
【００４４】
(5)  (2S,3S)-2-トリメチルシロキシ-3-アジド-4-フェニルブタン酸メチル〔化合物(6)〕の合成
(2S,3R)-2,3-エポキシ-4-フェニルブタン酸メチル〔化合物(5)〕31.5 g（0.164mol）、アジドトリメチルシラン 23.1g（0.18mol）及び塩化亜鉛 2.24g（16mmol）を反応器に仕込み、70℃で20時間攪拌した。HPLC分析で反応が完結していない場合は、塩化亜鉛を追加する。トルエン 100ml及びシリカゲル 50g中に反応液を注いで１時間攪拌した。ろ過し、トルエンで洗浄後ろ液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（500g，ヘキサン：酢酸エチル＝95：５）で精製し、39.8g（79.1％）の標記化合物(6)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δppm：
0.19(s,9H), 2.90-2.95(m,2H), 3.70(s,3H), 3.76-3.79(m,1H),
4.34(d,J=4.1Hz), 7.23-7.30(m,5H)
【００４５】
(6)  (2S,3S)-2-ヒドロキシ-3-tert-ブトキシカルボニルアミノ-4-フェニルブタン酸（Boc-AHPBA-OH）〔化合物(1)〕の合成
(2S,3S)-2-トリメチルシロキシ-3-アジド-4-フェニルブタン酸メチル〔化合物(6)〕41.7g(0.136mol)、５％パラジウム炭素 ２g及び THF 200mlを 500mlのオートクレーブに仕込み、水素圧 20atm、50℃で20時間攪拌した。セライトを用いて触媒をろ別し、減圧下に溶媒を留去した。残渣 36.2gを氷浴下冷却し、１Ｎ 水酸化ナトリウム 200ml（1.5eq）を加え、室温で終夜攪拌した。反応溶液に Boc無水物 32.6g（0.146mol）、THF 135mlを氷浴下滴下し、室温で終夜攪拌した。減圧下、有機溶媒を留去し、残った水層をトルエン 100mlで洗浄した。水層に酢酸エチル 100mlを加え、氷冷下攪拌しながら、20％のリン酸を用いて、pH４〜５に中和し、酢酸エチル層を取り出し、溶媒を減圧下留去すると、34g（85％）の目的物が得られた。15倍量の酢酸エチルを用いて再結晶を行い、17g（50％）純品の目的物が得られた。
mp.：147-148℃
[α]D24 0.20°(c 1.00, CH3OH)
1H-NMR(CDCl3)δppm(化合物(7),Ｒ3′=TMS)：
0.28(s,9H), 2.61(d,d,J=13.6,4.1Hz,1H), 3.03(d,d,J=13.6,9.3Hz,1H),
3.85(s,3H), 4.25(d,J=5.0Hz,1H), 7.31-7.42(m,5H)
1H-NMR(CD3OD)δppm(化合物(1),Ｒ1=Boc)：
1.31(s,9H), 2.69-2.81(m,2H), 4.11-4.16(m,1H), 4.18-4.20(m,1H),
7.12-7.25(m,5H)
【００４６】
【発明の効果】
本発明方法は、安全に収率よく光学純度の高い光学活性アロフェニルノルスタチン誘導体を製造することのできる工業的に有利な方法である。