(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の大きさのマザーボードとしての２枚の透明母基板の各々に複数の液晶表示素子の表示電極群をそれぞれ対向的に形成する電極形成工程と、上記各表示電極群上に配向膜を形成してラビングするラビング処理工程と、一方の透明母基板側の各表示電極群の周りにシール材を塗布した後、同シール材を介して両透明母基板を貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、その透明母基板からシール材に沿って各液晶表示素子を切り出す基板切断工程とを含む液晶表示素子の製造方法において、上記電極形成工程で複数の表示電極群Ａ，Ｂ…を形成する際、少なくとも一方の透明母基板については、表示電極群Ａと隣接する表示電極群Ｂのシール材塗布位置に、その表示電極群Ａに含まれる各表示電極の端子間を共通に接続して同電位とするダミー電極を形成し、上記基板切断工程で表示電極群Ａと表示電極群Ｂとをそれらのシール材間で切断することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
上記ダミー電極を上記表示電極とともに一体に形成する請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示素子の製造方法に関し、さらに詳しく言えば、透明母基板上で複数の液晶表示素子を作成する際、捨て板部分を極力少なくしてその透明母基板の有効使用率を向上させる液晶表示素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示素子の実際の量産工程では、まず、所定の大きさのマザーボードとしてのガラスもしくはプラスチックからなる２枚の透明母基板の各々に複数の液晶表示素子の表示電極群をそれぞれ対向的に形成する。図４には、その内の一方の透明母基板Ｍの一部分が示されており、この例のように透明母基板Ｍに複数の表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…を所定の間隔をもって形成する。
【０００３】
次に、各表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…上に、液晶分子をある一定の形態に配列させるため、ポリイミドのような高分子化合物からなる配向膜を形成し、その表面を例えば布などで一方向に擦ってラビング処理する。図示されていない相手方の透明母基板にも同様に表示電極が形成されるとともに、配向膜の形成とラビング処理が行なわれる。
【０００４】
しかる後、各表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…の周りの図示鎖線で示す位置にシール材２を塗布し、この透明母基板Ｍと相手方の透明母基板とをシール材２を介して貼り合わせ、シール材２を硬化させた後、図５に示されているように、その透明母基板から各液晶表示素子１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…を切り出す。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このようして、一度に複数の液晶表示素子を製造するようにしているが、配向膜のラビング処理時に発生する静電気障害を防止するため、従来では、各表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…の間、すなわち隣接する表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…のシール材２，２の間に余白部３を設け、同余白部３に表示電極群内の各表示電極４ａ〜４ｎの端子を共通に接続して、各表示電極４ａ〜４ｎを同電位とするダミー電極５ａ，５ｂ…を設けるようにしている。
【０００６】
しかしながら、余白部３を必要とする分、透明母基板の有効使用率が低下することは否めない。また、図５に示されているように、余白部３は基板切断工程で捨て板として切り落とされるのであるが、その切断は図４の矢印で示す２ヵ所とされるため、切断に起因する不良率の発生確率が高くなる。
【０００７】
なお、特許第２５７４７７５号には、液晶表示素子のシール部に各表示電極を同電位とするアレスタ（避雷器）構造を配置することが提案されている。すなわち、この先行例においては、各表示電極の引き出し端子のシール部にて覆われる部分に、互いに僅かなギャップをもって対向する避雷針パターンを形成し、ラビング処理時に各表示電極に蓄電された電荷を徐々に放電させるようにしている。
【０００８】
これによれば、特に余白部を必要としないものの、僅かに離された避雷針パターン間で放電させるため、各表示電極が同電位に落ち着くまでに時間がかかり、依然として静電気障害が発生するおそれがある。また、避雷針パターン自体に高精細化が要求されるとともに、その印刷にしてもずれが許されない、などより多くの設計上の制約が課せられる。
【０００９】
本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的は、余白部を必要とすることなく、表示電極を同電位とするためのダミー電極を設置可能として、透明母基板の有効使用率を高めるようにした液晶表示素子の製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、所定の大きさのマザーボードとしての２枚の透明母基板の各々に複数の液晶表示素子の表示電極群をそれぞれ対向的に形成する電極形成工程と、上記各表示電極群上に配向膜を形成してラビングするラビング処理工程と、一方の透明母基板側の各表示電極群の周りにシール材を塗布した後、同シール材を介して両透明母基板を貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、その透明母基板からシール材に沿って各液晶表示素子を切り出す基板切断工程とを含む液晶表示素子の製造方法において、上記電極形成工程で複数の表示電極群Ａ，Ｂ…を形成する際、少なくとも一方の透明母基板については、表示電極群Ａと隣接する表示電極群Ｂのシール材塗布位置に、その表示電極群Ａに含まれる各表示電極の端子間を共通に接続して同電位とするダミー電極を形成し、上記基板切断工程で表示電極群Ａと表示電極群Ｂとをそれらのシール材間で切断することを特徴としている。
【００１１】
この場合、ダミー電極は、電極形成工程において、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）により表示電極とともに一体に形成されることが好ましい。
【００１２】
この製造方法によれば、ダミー電極は隣接する液晶表示素子のシール部に形成されるため、液晶表示素子の間に余白部を設ける必要がなく、したがって透明母基板の有効使用率が高められる。
【００１３】
また、各表示電極の端子がダミー電極に直接的に接続されるため、各表示電極が確実に同電位とされ、静電気障害が発生するおそれもない。さらには、隣接する液晶表示素子との間における切断箇所も１ヵ所でよく、不良発生の機会が少なくなる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の技術的思想をよりよく理解する上で、図１および図２を参照とながら、その実施の形態について説明する。なお、この実施例において、先に説明した従来例と同一もしくは同一と見なされる部分にはそれと同じ参照符号が付されている。
【００１５】
図１には、液晶表示素子の量産工程で用いられる２枚の透明母基板（マザーボード）の内の一方の透明母基板Ｍの一部分が示されている。まず、この透明母基板Ｍに液晶表示素子１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…の各表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…を形成するのであるが、この場合、ダミー電極５を隣接する液晶表示素子のシール材塗布位置に形成する。
【００１６】
すなわち、液晶表示素子１Ａについて言えば、そのダミー電極５ａは隣接する液晶表示素子１Ｂのシール材塗布位置に形成する。また、液晶表示素子１Ｂのダミー電極５ｂは隣接する液晶表示素子１Ｃのシール材塗布位置に形成する。以下、同様に各液晶表示素子のダミー電極を順次隣接する液晶表示素子のシール材塗布位置に形成する。
【００１７】
そして、このダミー電極５ａ，５ｂ…に各表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…に含まれる表示電極４ａ〜４ｎの端子６ａ〜６ｎを接続する。なお実際には、各表示電極４ａ〜４ｎ、その各端子６ａ〜６ｎおよびダミー電極５ａ，５ｂ…はＩＴＯよりなり、電極形成工程において一体に形成される。
【００１８】
そして、各表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…上に、液晶分子をある一定の形態に配列させるため、例えばポリイミド樹脂にて配向膜を形成し、その表面を例えば布などで一方向に擦ってラビング処理する。このとき、各表示電極４ａ〜４ｎはダミー電極５により同電位とされているため、静電気障害は発生しない。
【００１９】
次に、各表示電極群Ａ，Ｂ，Ｃ…の周りの図示鎖線で示す位置にシール材２を塗布する。これにより、各ダミー電極５ａ，５ｂ…はシール材２にて覆われることになる。なお、各ダミー電極５ａ，５ｂ…は表示電極４ａ〜４ｎのパターンと接触せずシール材２の幅内に納められるような線幅とされる。
【００２０】
図示しない相手方の透明母基板も同様して表示電極群および配向膜が形成され、その相手方の透明母基板とこの透明母基板Ｍとをシール材２を介して貼り合わせる。シール材２を硬化させた後、隣接するシール材２，２の間の図１の矢印位置で透明母基板Ｍを切断して、図２に示されているように、各液晶表示素子１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…を切り出す。
【００２１】
これにより、表示電極群Ａとそのダミー電極５ａとが切り離され、各表示電極４ａ〜４ｎは独立した電極になる。一方、ダミー電極５ａは隣接の液晶表示素子１Ｂのシール材２の部分に残されることになるが、同シール材２にて覆われているため、表示電極群Ｂに対してなんら電気的に作用することはない。同様にして、液晶表示素子１Ｂ，１Ｃ…についても、そのダミー電極５が切り離される。
【００２２】
参考までに、図３（ａ）に従来の透明母基板上での液晶表示素子の面取り状況を示し、同図（ｂ）に本発明の透明母基板上での液晶表示素子の面取り状況を示す。これから明らかなように、本発明によればダミー電極形成のための余白部を必要としないため、その分、透明母基板の有効使用率が高められる。
【００２３】
なお、図示されていないが、各液晶表示素子１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…を透明母基板から切り出す際、液晶注入口出しが行なわれ、その液晶注入口より各液晶表示素子１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…内に液晶を注入し、封口することにより製品として仕上げられる。
【００２４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ダミー電極は隣接する液晶表示素子のシール部に形成されるため、液晶表示素子の間に余白部を設ける必要がなく、したがって透明母基板の有効使用率を高めることができる。
【００２５】
また、各表示電極の端子がダミー電極に直接的に接続されるため、各表示電極が確実に同電位とされ、静電気障害が発生するおそれもない。さらには、隣接する液晶表示素子との間における切断箇所も１ヵ所でよく、不良発生の機会が少なくなる。
【００２６】
加えて、表示電極の端子長さを短くすることができるため、相対的に有効表示面積比が大きくなり、そのため同一表示面積に対する基板面積が小さくなるので、軽量化が達成される。また、このダミー電極には避雷針パターンのようなファインパターンが要求されないため、設計上の負担が軽減される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法を説明するための一方の透明母基板を示した模式的平面図。
【図２】上記透明母基板から各液晶表示素子を切り出した状態を示した模式的平面図。
【図３】本発明と従来例の透明母基板上での各液晶表示素子の面取り状態を比較して示した模式図。
【図４】従来例を示した図１と同様の模式的平面図。
【図５】図４の透明母基板から各液晶表示素子を切り出した状態を示した図２と同様の模式的平面図。
【符号の説明】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ  液晶表示素子
２  シール材
４ａ〜４ｎ  表示電極
５ａ，５ｂ  ダミー電極
６ａ〜６ｎ  端子
Ａ，Ｂ，Ｃ  表示電極群
Ｍ  透明母基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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