(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体の圧力を調整するレギュレータと、このレギュレータから送出される流体を並列的に分流させて夫々異なる流体供給先へ供給する複数本の流体の流路と、前記夫々の流路のレギュレータ側に設けた流量制御用の熱量式マスフローコントローラと、前記熱量式各マスフローコントローラの流体流入側に設けたバルブと、前記各熱量式マスフローコントローラの流体出口側に設けたバルブと、前記各流体の通路を真空引きする真空ポンプとを備え、前記各熱量式マスフローコントローラを通して真空引きされた各通路へ夫々流体を供給する並列分流型の流体供給装置であって、前記複数本の流路の中のある流路の熱量式マスフローコントローラを動作させてその流路を流体の閉鎖状態から指令流量Ｑｓでの流通状態に流通制御するとき、当該熱量式マスフローコントローラが流体の流通開始のときから指令流量値に至るまでに調節可能な遅延時間Δｔを有するものとしたことを特徴とする並列分流型の流体供給装置。
【請求項２】
流体の圧力を調整するレギュレータと、このレギュレータから送出される流体を並列的に分流させて夫々異なる流体供給先へ供給する複数本の流体の流路と、前記夫々の流路のレギュレータ側に設けた流量制御用の圧力式流量制御器と、前記各圧力式制御器の流体流入側に設けたバルブと、前記各流体の通路を真空引きする真空ポンプとを備え、前記各圧力式流量制御器を通して真空引きされた各通路へ、夫々流体を供給する並列分流型の流体供給装置であって、前記圧力式流量制御器を、オリフィスと、その上流側に設けたコントロール弁と、オリフィスとコントロール弁の間に設けた圧力検出器と、オリフィス上流側圧力Ｐｕを下流側圧力Ｐｄの２倍以上に設定しながら前記圧力検出器の検出圧力Ｐｕから流量をＱｃ＝ＫＰｕ（但しＫは定数）として演算し、この演算流量Ｑｃと指令流量Ｑｓとの差を制御信号Ｑｙとしてコントロール弁の駆動部に出力する演算制御回路とから形成され、コントロール弁を開閉してオリフィス下流側流量を制御するものとすると共に、前記複数本の流路の中のある流路の圧力式流量制御器を作動させてその流路の流体を閉鎖状態から指令流量Ｑｓでの流通状態に流通制御するとき、当該圧力式流量制御器の流体入口側のバルブを高速開放させるものとしたことを特徴とする並列分流型の流体供給装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体や化学品、薬品、精密機械部材等の製造に用いるガス等の各種流体の供給装置に関し、更に詳細には、並列配置された複数の流路のうちの任意の流路が、閉から開に切換えられて流体が供給されたとき、この影響による他の流路に於ける流量変動を極減化できるようにした並列分流型の流体供給装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体製造施設や化学薬品製造施設の流体供給装置であって高精度な流量制御を必要とするものは、そのほとんどが所謂マスフローコントローラを用いている。
【０００３】
図１０は単流路型の流体供給装置の従来例を示すもので、材料ガスはレギュレータＲＧにより１次圧から２次圧へと圧力調整され、流路に供給される。１次圧は通常高圧であって圧力計Ｐ１  により、また、２次圧は供給可能な低圧であって圧力計Ｐ２  により、夫々検出される。
【０００４】
バルブＶ１  、Ｖ２  の間には流量制御用のマスフローコントローラＭＦＣが配置され、その流量を計測するために流量計であるマスフローメータＭＦＭが設けられている。材料ガスは反応室Ｃで処理された後、バルブＶＶを介して真空ポンプＶＰにより排気される。
【０００５】
この単流路型の流体供給装置では、材料ガスが定常供給されているときには外乱による流量変動がないため、反応室Ｃでは安定した処理反応が持続できる。
【０００６】
問題は、１つのレギュレータＲＧにより２本以上の流路に材料ガスを供給する場合に発生する。図１１は、２本の流路Ｓ１  、Ｓ２  へ１個のレギュレータＲＧによりガス供給する場合を示す。流路Ｓ２  には反応室Ｃを配置していないが、実際には反応室Ｃを配置して、両反応室でのガス反応を並行して制御しようとするものである。尚、各部材は図１０と同様であるから、流路毎に添字を変えて示し、説明は省略する。
【０００７】
今、流路Ｓ１  ではバルブＶ１  、Ｖ２  が開で材料ガスが定常供給され、反応室Ｃで所定の反応が進行中であるとする。一方、流路Ｓ２  ではバルブＶ３  、Ｖ４  は閉であり、閉鎖状態にある。この様な中でバルブＶ３  、Ｖ４  を開にし、所定流量に設定されたマスフローコントローラＭＦＣ２  を直ちに作動させて流路Ｓ２  にガスを供給し始めたとき、安定状態にある流路Ｓ１  にどの様な影響が現れるかを検討した。
【０００８】
図１２はこのときの各種信号のタイムチャートである。バルブＶ３  、Ｖ４  が閉から開になった瞬間、流路Ｓ２  側のＭＦＣ２  信号とＭＦＭ２  信号が高いピーク状のオーバーシュートを起し、その後一定値に収束してゆく。
この過渡状態のオーバーシュートが圧力Ｐ２  Ａ、Ｐ２  Ｂの変動を介して流路Ｓ１  のＭＦＣ１  信号とＭＦＭ１  信号に大きな変動を生起していることが分る。
【０００９】
この変動は反応室Ｃでの反応速度に影響を与え、流路Ｓ１  の定常反応が流路Ｓ２  からの外乱により阻害されることになる。例えば、半導体の製造中であれば、半導体中に格子欠陥を生起したり、エッチングプラズマの場合にはプロセスに影響を与える。また、化学反応であれば、原料ガスの過不足によって生成物質の濃度に乱れを生じ、この乱れがカオス現象を通してどの様に展開してゆくか予測を許さないものがある。但し、レギュレータＲＧの上流側圧力Ｐ１  にはほとんど過渡的影響を与えないのは、レギュレータＲＧが存在しているからである。
【００１０】
この図１２に示したような外乱を失くすためには、図１３に示すように、流路Ｓ１  、Ｓ２  の両方にレギュレータＲＧ１  、ＲＧ２  を配置することが望ましい。こうすれば、流路Ｓ２  側を突然に流通させても、レギュレータＲＧ２  の存在により圧力変動が上流側に伝達されず、流路Ｓ１  における流体の定常供給に影響を与えない。逆に、流路Ｓ１  の開閉が流路Ｓ２  側に影響を与えないことも同様である。
【００１１】
ところが、レギュレータＲＧは高圧流体を供給可能な低圧流体に圧力変換する装置であり、装置自体が相当に高価なものである。
従って、流路の本数が増えれば、それと同数だけのレギュレータＲＧが必要になり、流体供給装置全体の複雑・大形化とコストアップを招来する。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、圧力調整用の１個のレギュレータから複数本の流路を並列的に分岐し、各流路に流量調整用のマスフローコントローラを設けた場合には、１つの流路の閉から開への操作が、定常流通状態にある他の流路の流量に過度的変動を与えることになる。そして、この過渡的変動は、その流路での反応室のプロセスに影響を与えるため、各種の障害の原因となる。
【００１３】
又、この過渡的変動を防止するために、各流路にレギュレータを１個づつ配置してゆくと、装置全体の複雑・大形化とコストアップを招来することになる。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記欠点を解消するために創作されたものであり、第１発明に係る並列分流型の流体供給装置は、流体の圧力を調整するレギュレータと、このレギュレータから送出される流体を並列的に分流させて夫々異なる流体供給先へ供給する複数本の流体の流路と、前記夫々の流路のレギュレータ側に設けた流量制御用の熱量式マスフローコントローラと、前記熱量式各マスフローコントローラの流体流入側に設けたバルブと、前記各熱量式マスフローコントローラの流体出口側に設けたバルブと、前記各流体の通路を真空引きする真空ポンプとを備え、前記各熱量式マスフローコントローラを通して真空引きされた各通路へ夫々流体を供給する並列分流型の流体供給装置であって、前記複数本の流路の中のある流路の熱量式マスフローコントローラを動作させてその流路を流体の閉鎖状態から指令流量Ｑｓでの流通状態に流通制御するとき、当該熱量式マスフローコントローラが流体の流通開始のときから指令流量値に至るまでに調節可能な遅延時間Δｔを有するものとしたことを特徴とするものである。
【００１５】
また、第２発明に係る並列分流型の流体供給装置は、流体の圧力を調整するレギュレータと、このレギュレータから送出される流体を並列的に分流させて夫々異なる流体供給先へ供給する複数本の流体の流路と、前記夫々の流路のレギュレータ側に設けた流量制御用の圧力式流量制御器と、前記各圧力式制御器の流体流入側に設けたバルブと、前記各流体の通路を真空引きする真空ポンプとを備え、前記各圧力式流量制御器を通して真空引きされた各通路へ、夫々流体を供給する並列分流型の流体供給装置であって、前記圧力式流量制御器を、オリフィスと、その上流側に設けたコントロール弁と、オリフィスとコントロール弁の間に設けた圧力検出器と、オリフィス上流側圧力Ｐｕを下流側圧力Ｐｄの２倍以上に設定しながら前記圧力検出器の検出圧力Ｐｕから流量をＱｃ＝ＫＰｕ（但しＫは定数）として演算し、この演算流量Ｑｃと指令流量Ｑｓとの差を制御信号Ｑｙとしてコントロール弁の駆動部に出力する演算制御回路とから形成され、コントロール弁を開閉してオリフィス下流側流量を制御するものとすると共に、前記複数本の流路の中のある流路の圧力式流量制御器を作動させてその流路の流体を閉鎖状態から指令流量Ｑｓでの流通状態に流通制御するとき、当該圧力式流量制御器の流体入口側のバルブを高速開放させるものとしたことを特徴とするものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明者等は図１２からマスフローコントローラの作動特性を鋭意研究した結果、マスフローコントローラを直ちに指令流量値にまで開放制御すると、流路Ｓ２  に大量の材料ガスが一気に流入する結果、流路Ｓ１  の圧力Ｐ２  Ａが過渡的に小さくなり、信号ＭＦＣ１  と信号ＭＦＭ１  に過渡的変動を生起すると考えるに到った。
【００１７】
流路Ｓ２  の流路Ｓ１  に対する反射的な過渡的影響を極小化するためには、ガスを流路Ｓ２  内へ漸次増加する状態下で流通させることが重要になる。即ち、バルブＶ３  、Ｖ４  を開放後、マスフローコントローラＭＦＣ２  を時間をかけて“０”から指令流量値にまで増大するよう制御すればよいと云うことである。
この時間を遅延時間といい、遅延時間を長くするに従って過渡的影響は小さくなってゆく。即ち、この遅延時間を可変自在にすれば、各種の条件下で生起する過渡的変動に対応することができる。
【００１８】
前記遅延時間は指令流量値の大きさ、管径、ガス等流体の種類等に依存し、これらの与えられた諸条件の中で遅延時間を経験的に決めてゆくのがよい。
尚、上記に於いては流路２の流路１に対する影響を述べたが、逆に流路１の流路２に対する影響も同様に考えられる。流路が２本だけでなく、更に本数が増えていった場合でも同様に考えることが出来る。
即ち、流路が複数本存在する場合には、流路毎に配置されている全てのマスフローコントローラを遅延制御しておけば、どの流路を閉から開に設定した場合でも、他の流路への過渡的影響を極減化できることになる。
【００１９】
本発明者等は、マスフローコントローラには前記過渡的影響を吸収出来にくい固有の性質があると考え、マスフローコントローラを用いない他の方法をも鋭意研究した。マスフローコントローラは流体によって運ばれる熱移動量から流量を計測するため、流量変動が流速よりも高速の場合には、流量制御が流量変動に追随できにくく、そのためマスフローコントローラは過渡的影響を吸収できにくいと考えるに至った。
【００２０】
従って、流量変動に高速追随できる流量制御装置を用いれば、この問題を解決することができる。本発明者等は特開平８−３３８５４６号公報において圧力式流量制御装置を公表しており、この装置を上記問題を解決するために適用することにした。
【００２１】
この圧力式流量制御装置の特徴は次の点にある。つまり、オリフィス上流側圧力Ｐｕがオリフィス下流側圧力Ｐｄの約２倍においては、オリフィスを通過する流速は音速となり、オリフィスを通過する流量Ｑｃはオリフィス上流側圧力Ｐｕに比例するというものである。基本式はＱｃ＝ＫＰｕ（但しＫ：定数）であり、上流側圧力Ｐｕさえ計測しておけば、流量を直ちに算出することができる。マスフローコントローラでは熱移動という現象を介して流量計測したが、この圧力式流量制御装置では、流体の理論的性質を活用しており、しかも圧力計測は高速で行うことができる。
【００２２】
オリフィス上流側にコントロール弁を置き、演算流量ＱｃをＱｃ＝ＫＰｕで算出し、指令流量Ｑｓとの差がゼロになるようにコントロール弁を開閉制御すれば、演算流量Ｑｃを指令流量Ｑｓに直ちに一致させることができる。これは、オリフィス上流側圧力Ｐｕの圧力計測の高速性の結果可能となったものであり、図１２に示される程度の変動であれば、これを十分に吸収することができる。
【００２３】
【実施例】
＜実施例１：時間遅延型マスフローコントローラの場合＞
図１は本発明の第１実施例を示した構成図で、時間遅延型マスフローコントローラを用いたものである。
【００２４】
図１において、Ｐ１  は１次圧計測用の圧力計、Ｐ２  Ａ・Ｐ２  Ｂは２次圧計測用の圧力計、Ｖ１  〜Ｖ４  はバルブ、ＤＭＦＣ１  ・ＤＭＦＣ２  は流量制御用の時間遅延型マスフローコントローラ、ＭＦＭ１  ・ＭＦＭ２  は流量計測用のマスフローメータ、Ｃは反応室、ＶＶ１  ・ＶＶ２  はバルブ、ＶＰ１  ・ＶＰ２  は真空ポンプ、Ｓ１  ・Ｓ２  は流路を示す。矢印はガスの流れを示し、流路に応じて各部材の添字が変えてある。全体構成は図１１の場合と同様である。
【００２５】
図２は流路Ｓ２  における時間遅延型マスフローコントローラの構成図であり、流路Ｓ１  におけるものも同様である。ＶＣはバルブＶ３  ・Ｖ４  の閉から開を検知するバルブ検出部、ＳＴは流量設定部、ＤＴは時間遅延部、ＰＳは電源、ＤＰは表示部、ＡＭＰは増幅器、ＢＧはブリッジ回路、ＣＣは比較回路、ＶＰはバルブ部である。又、ＢＰはバイパス部、ＳＰはセンサ部、ＵＳは上流側センサ、ＤＳは下流側センサを示している。
【００２６】
次に第１実施例の作動について説明する。
今、流路Ｓ１  はバルブＶ１  ・Ｖ２  が開放されてガスが定常供給されており、反応室Ｃにて安定なガス反応が行なわれているとする。
この段階で閉鎖されていたバルブＶ３  ・Ｖ４  が開放され、ガスが時間遅延型マスフローコントローラＤＭＦＣ２  に流入してきたとする。
【００２７】
当初、バルブ部ＶＰは完全に閉鎖されている。バルブ検出部ＶＣがバルブＶ３  ・Ｖ４  の閉から開への変化を検出すると、小停止時間ｔＯ  を置いた後時間遅延部ＤＴが作動し始める。この小停止時間ｔＯ  はゼロでもよいが、バルブＶ３  ・Ｖ４  の開により生じるガス流の乱れが収まる時間として設けられている。
【００２８】
前記時間遅延部ＤＴは遅延時間Δｔを与え、この時間は流量設定部ＳＴにより設定された指令流量Ｑｓになるまでバルブ部ＶＰを次第に開放してゆく時間である。この遅延時間Δｔはバルブ部ＶＰをゆっくりと開放してゆくから、他の流路への影響を小さくする。従って、上記の小停止時間ｔＯ  と遅延時間Δｔにより外乱を押えることができ、各々の時間ｔＯ  、Δｔを可変にすることでより適切な時間を調整することが可能となる。
【００２９】
尚、本実施例に於いては、両バルブＶ３  ・Ｖ４  を同時に開放すると共に小停止時間ｔ０  を比較的長い２〜３秒に設定しているが、当該小停止時間ｔ０  を零若しくは０．５秒以下の極く短い時間に設定した場合には、両バルブＶ３  ・Ｖ４  の開（又は閉）の際の時間差によって、他方の流路Ｓ１  に与える流量変動の影響が大きく変化する。
そのため、通常、小停止時間ｔ０  が極く短い場合には、流路Ｓ２  側の開放時には先ずバルブＶ４  を開にし、その約１秒後にバルブＶ３  を開にする。また、流路Ｓ２  側の閉鎖時には先ずバルブＶ３  を閉にし、その約１秒後にバルブＶ４  を閉にする。即ち、流路Ｓ２  側のマスフローコントローラＤＭＦＣ２  に直に大きな流体圧をかけないようにするのが望ましい。
【００３０】
ガスの本体流はバイパス部ＢＰとセンサ部ＳＰに分流され、センサ部ＳＰでは上流側センサＵＳによって生じた熱が下流側センサＤＳにより検知されて瞬間流量Ｑがブリッジ回路ＢＧにより算出される。増幅器ＡＭＰを通した後、瞬間流量Ｑは比較回路ＣＣにより指令流量Ｑｓと比較され、前記遅延時間Δｔだけかかってバルブ部ＶＰを開放してゆく。そして指令流量Ｑｓに到達するとその状態で維持される。
【００３１】
図３〜図６は遅延時間Δｔを変化させた場合の各種信号のタイムチャートを示す。これらの測定例では、遅延時間Δｔを８０％到達時間として定義している。即ち、瞬間流量Ｑが指令流量Ｑｓの８０％に到達した時間を遅延時間Δｔとする。この他にも各種の定義が採用できるが、これらの定義の全ては本発明の遅延的時間に包含されるものである。
【００３２】
図３はΔｔ＝０．５秒、図４はΔｔ＝１．８秒、図５はΔｔ＝４秒、図６はΔｔ＝７．５秒の場合を示している。小停止時間ｔＯ  は自由に設定でき、図３〜図６では３〜５秒に設定している。小停止時間ｔＯ  は更に小さくしてもよい。
【００３３】
図３から図６において測定されている信号は図１２における信号と同様であり、その中でマスフローコントローラＭＦＣ１  ・ＭＦＣ２  が時間遅延型マスフローコントローラＤＭＦＣ１  ・ＤＭＦＣ２  に変更されているだけである。これらの図を比較すると、遅延時間Δｔを長くする程各種信号の過渡的変動が急減していることが分る。特に流路Ｓ１  における信号Ｐ２  Ａ、ＤＭＦＣ１  、ＭＦＭ１  の過渡的変動の極減化は、流路Ｓ２  の開による流路Ｓ１  への影響を抑制するという本発明の目的が十分に達成されていることを示している。
【００３４】
＜実施例２：圧力式流量制御器の場合＞
図７は本発明の第２実施例を示した構成図で、圧力式流量制御器を用いたものである。図１の時間遅延型マスフローコントローラＤＭＦＣ１  ・ＤＭＦＣ２  を圧力式流量制御器ＦＣＳ１  ・ＦＣＳ２  に変更しただけであり、他の部材は図１と同様であるから、その説明を省略する。
【００３５】
図８は流路Ｓ１  における圧力式流量制御器ＦＣＳ１  の構成図であり、流路Ｓ２  におけるものも同様である。図中、ＯＲはオリフィス、Ｐｕは上流側圧力計、ＡＰ１  は増幅器、Ａ／ＤはＡＤ変換器、Ｍは温度補正部、ＳＳは流量設定部、ＣＣは比較回路、ＡＰ２  は増幅器、ＤＶは駆動部、ＣＶはコントロール弁である。またＳＳ、ＣＣ、Ｍ、ＡＰ２  を全体として演算制御回路ＣＣＣという。
【００３６】
次に上記第２実施例の作動について説明する。今、流路Ｓ２  が突然に閉から開になり、その圧力変動が流路Ｓ１  に逆流したとする。圧力式流量制御器ＦＣＳ１  では、オリフィス上流側圧力Ｐｕがオリフィス下流側圧力Ｐｄの約２倍以上に設定されておれば、オリフィスを通過する瞬間流量ＱはＱ＝Ｋ・Ｐｕ（但し、Ｋは定数）で与えられることが理論的に保証されている。
【００３７】
上流側圧力計Ｐｕにより測定された上流側圧力は、増幅器ＡＰ１  を介した後Ａ／Ｄ変換される。この後、温度補正部Ｍにより温度補正されて演算流量Ｑｃとなる。この演算流量Ｑｃは前述の瞬間流量Ｑであるから、Ｑｃ＝ＫＰｕが成立している。
【００３８】
流量設定部ＳＳからは指令流量Ｑｓが入力されており、前述の演算流量Ｑｃとの差が比較回路ＣＣにより制御信号Ｑｙ（Ｑｙ＝Ｑｓ−Ｑｃ）として算出される。この制御信号Ｑｙをゼロにするように駆動部ＤＶがコントロール弁ＣＶを開閉制御する。
【００３９】
オリフィス上流側圧力Ｐｕは瞬間的に測定できるものであるから、コントロール弁ＣＶの開閉制御は電子的速度で制御可能である。換言すれば機械的な意味でのコントロール弁の限界的開閉速度にまで高速制御可能である。
【００４０】
従って、流路Ｓ２  のガス流通によって流路Ｓ１  の圧力Ｐ１  Ａが過渡的変動をしても、コントロール弁ＣＶが高速に応答して、オリフィス通過流量は指令流量Ｑｓに高速に復帰制御される。つまり、圧力式流量制御器を用いる場合には、流路間の過渡的な相互変動は直ちに高速補正され、定常流を保持できるのである。
【００４１】
図９は第２実施例における各種信号のタイムチャートである。バルブＶ３  ・Ｖ４  を開にして圧力式流量制御器ＦＣＳ２  を作動させると、ＦＣＳ２  信号もＭＦＭ２  信号も瞬間的にゼロから定常値に到達する。しかも流路Ｓ１  のＦＣＳ１  信号およびＭＦＭ１  信号はほとんど変動することなく定常値を保持し続ける。
尚、圧力式流量制御器ＦＣＳ２  ・ＦＣＳ１  を用いる場合には、前記バルブＶ３  ・Ｖ４  を開放した後の小停止時間ｔＯ  は不要であり、ｔＯ  ＝０としている。
【００４２】
以上の結果から、圧力式流量制御器を用いると、流路間の開閉による干渉的相互作用は高速に補正でき、流体の定常供給状態を保持することができる。
【００４３】
本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲における種々の変形例、設計変更等をその技術的範囲内に包含するものである。
【００４４】
【発明の効果】
請求項１によれば、ある流路を閉から開にして流体を供給する場合に、その流路のマスフローコントローラの動作に時間遅延作用を施こしたから、他の流路に対する過渡的変動を極減化することができる。従って、他の流路の定常流を安定に保持でき、１個のレギュレータによって複数の流路の定常制御を実現できる。
【００４５】
請求項２によれば、マスフローコントローラの遅延時間を任意に可変設定できるから、最も有効な定常制御を実現できる。
【００４６】
請求項３によれば、流量制御器として圧力式流量制御器を導入したので、各流路の流量制御の高速化を実現でき、流路間の干渉的な過渡的変動をその高速性により吸収でき、各流路の定常制御を高速且つ確実に実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例である時間遅延型マスフローコントローラを用いた並列分流型の流体供給装置の構成図である。
【図２】図１の時間遅延型マスフローコントローラの具体的な構成図である。
【図３】遅延時間が０．５秒の時の図１の装置における各種信号のタイムチャート図である。
【図４】遅延時間が１秒の時の図１の装置における各種信号のタイムチャート図である。
【図５】遅延時間が４秒の時の図１の装置における各種信号のタイムチャート図である。
【図６】遅延時間が７．５秒の時の図１の装置における各種信号のタイムチャート図である。
【図７】本発明の第２実施例である圧力式流量制御器を用いた並列分流型の流体供給装置の構成図である。
【図８】図７の圧力式流量制御器の具体的構成図である。
【図９】図７の装置の各種信号のタイムチャート図である。
【図１０】単流路型の従来型流体供給装置の構成図である。
【図１１】双流路型の第１従来型流体供給装置の構成図である。
【図１２】図１１の装置における各種信号のタイムチャート図である。
【図１３】双流路型の第２従来型流体供給装置の構成図である。
【符号の説明】
ＡＭＰ・ＡＰ１  ・ＡＰ２  は増幅器、Ａ／ＤはＡＤ変換器、ＢＧはブリッジ回路、ＢＰはバイパス回路、Ｃは反応室、ＣＣは比較回路、ＣＶはコントロール弁、ＣＣＣは演算制御回路、ＤＭＦＣ１  ・ＤＭＦＣ２  は時間遅延型マスフローコントローラ、ＤＰは表示部、ＤＴは時間遅延部、ＤＳは下流側センサ、ＤＶは駆動部、ＦＣＳ１  ・ＦＣＳ２  は圧力式流量制御器、Ｍは温度補正部、ＭＦＣ・ＭＦＣ１  ・ＭＦＣ２  はマスフローコントローラ、ＭＦＭ・ＭＦＭ１  ・ＭＦＭ２  はマスフローメータ、ＯＲはオリフィス、Ｐ１  ・Ｐ２  Ａ・Ｐ２  Ｂは圧力計、Ｐｕはオリフィス上流側圧力、Ｐｄはオリフィス下流側圧力、Ｐｓは電源、Ｑｃは演算流量、Ｑｓは指令流量、ＲＧ・ＲＧ１  ・ＲＧ２  はレギュレータ、Ｓ１  ・Ｓ２  は流路、ＳＰはセンサ部、ＳＳ・ＳＴは流量設定部、ｔＯ  は小停止時間、Δｔは遅延時間、ＵＳは上流側センサ、ＶＰはバルブ部、Ｖ１  〜Ｖ４  ・ＶＶ・ＶＶ１  ・ＶＶ２  はバルブ、ＶＰ１  ・ＶＰ２  は真空ポンプ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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