(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置を該スリットから相対的に該同期検出用光学手段の光軸方向にずらす補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項２】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットまたは該スリットを含むユニットの位置を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項３】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は該偏向手段と該スリットとの間の光路内に設けられ、該レンズ部を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項４】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部を構成する少なくとも一部のレンズは該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段と一体化されていない該レンズ部の少なくとも一部のレンズ、及び該スリットを該同期検出用光学手段の光軸方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項５】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段の少なくとも一部の光学素子を該走査光学手段の光軸方向に移動させ、及び該スリットを該同期検出用光学手段の光軸方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項６】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部を構成する少なくとも一部のレンズは該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段を構成する少なくとも一部のレンズを主走査方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項７】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＭ１を持つことによって発生する該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれを補正する補正手段を備え、該ドット位置ずれ量が副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットが該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれ量に応じて副走査方向に傾斜していることを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項８】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＭ１を持つことによって発生する該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれを補正する補正手段を備え、該ドット位置ずれ量が副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットまたは該スリットを含むユニットを該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれ量に応じて同期検出用光学手段の光軸まわりに回転させる回転手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項９】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置を該同期検出素子の受光面から相対的に該同期検出用光学手段の光軸方向にずらす補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１０】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子または該同期検出素子を含むユニットの位置を前記同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１１】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は該偏向手段と該同期検出素子との間の光路内に設けられ、該レンズ部を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１２】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部を構成する少なくとも一部のレンズは該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段と一体化されていない該レンズ部の少なくとも一部のレンズを該同期検出用光学手段の光軸方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１３】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段の少なくとも一部の光学素子を該走査光学手段の光軸方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１４】
少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部を構成する少なくとも一部のレンズは該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段を構成する少なくとも一部のレンズを主走査方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１５】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ１｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置を該スリットから相対的に該同期検出用光学手段の光軸方向にずらす補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１６】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ１｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットまたは該スリットを含むユニットの位置を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１７】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ１｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は前記偏向手段と該スリットとの間の光路内に設けられ、該レンズ部を前記同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１８】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、両者のピント位置ずれ量δＭ１，δＸが差を持つことによって発生する該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれを補正する補正手段を備え、該ドット位置ずれ量が副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットが該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれ量に応じて副走査方向に傾斜していることを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項１９】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、両者のピント位置ずれ量δＭ１，δＸが差を持つことによって発生する該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれを補正する補正手段を備え、該ドット位置ずれ量が副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットまたは該スリットを含むユニットを前記被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれ量に応じて同期検出用光学手段の光軸まわりに回転させる回転手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項２０】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ２、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ２｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子に導光される光束の主走査方向のピント位置を該同期検出素子の受光面から相対的に前記同期検出用光学手段の光軸方向にずらす補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項２１】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ２、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ２｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子または該同期検出素子を含むユニットの位置を前記同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項２２】
少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ２、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ２｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は前記偏向手段と前記同期検出素子との間の光路内に設けられ、該レンズ部を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴とするマルチビーム走査光学系。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれか一項に記載のマルチビーム走査光学系と、前記被走査面に配置された感光体と、前記マルチビーム走査光学系で走査された光束によって前記感光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、前記現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とから成る画像形成装置。
【請求項２４】
請求項１〜２２のいずれか一項に記載のマルチビーム走査光学系と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記マルチビーム走査光学系に入力せしめるプリンタコントローラとから成る画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はマルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置に関し、特に比較的簡単な構成によって高速で高品位の印字が可能な、例えばレーザビームプリンターやデジタル複写機等の画像形成装置に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来よりレーザビームプリンターやデジタル複写機等の画像形成装置に用いられている走査光学系は光源から射出された光束を入射光学手段により偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手段により被走査面である感光ドラム面上にスポット状に結像させ、該光束で感光ドラム面上を光走査している。
【０００３】
近年、画像形成装置の高性能化、高機能化に伴い、高速化への要求が高まってきており、この要求に答えるため、複数の光源を用いることが検討されている。例えば特開平９−５４２６３号公報では光源として１個のチップから一直線上に並んだ複数本のレーザ光を放射するマルチビームレーザーチップを光源としたマルチビーム走査光学系を提案している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
（課題１）
このようなマルチビーム走査光学系においては画像の書き出し位置を正確に制御するために画像信号を書き出す直前に同期検出用光学手段（ＢＤ光学系）を設けるのが一般的である。
【０００５】
図２２は従来のマルチビーム走査光学系の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において５１は光源ユニットであり、例えば半導体レーザよりなる発光部（光源）を２つ有している。２つの発光部は主走査方向及び副走査方向に対して各々離して配置している。５２は開口絞りであり、各発光部から射出した光束を所望の最適なビーム形状に整形している。５３はコリメータレンズであり、開口絞り５２を通過した光束を略平行光束に変換している。５４はシリンドリカルレンズであり、副走査方向のみに所定の屈折力を有している。尚、開口絞り５２、コリメータレンズ５３、そしてシリンドリカルレンズ５４等の各要素は入射光学手段６２の一要素を構成している。
【０００６】
５５は偏向手段であり、例えば回転多面鏡より成り、モーター等の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転している。５６はｆθ特性を有する走査光学手段であり、第１、第２の２枚のｆθレンズを有している。走査光学手段５６は副走査断面内において光偏向器５５の偏向面５５ａ近傍と被走査面としての感光ドラム面５７近傍との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機能を有している。
【０００７】
５８は折り返しミラー（以下、「ＢＤミラー」と記す。）であり、感光ドラム面５７上の走査開始位置のタイミングを調整するための同期信号検知用の複数の光束（ＢＤ光束）を後述する同期検出素子６１側へ反射させている。５９はスリット（以下、「ＢＤスリット」と記す。）であり、感光ドラム面５７と等価な位置に配されている。６０は結像レンズ（以下、「ＢＤレンズ」と記す。）であり、ＢＤミラー５８と同期検出素子６１とを共役な関係にするためのものであり、ＢＤミラー５８の面倒れを補正している。６１は同期検出素子としての光センサー（以下、「ＢＤセンサー」と記す。）である。尚、折り返しミラー５８、ＢＤスリット５９、ＢＤレンズ６０、そしてＢＤセンサー６１等の各要素は同期検出用光学手段（ＢＤ光学系）の一要素を構成している。
【０００８】
同図においては各ＢＤ光束ごとにＢＤ検知を行ない、ＢＤセンサー６１からの出力を用いて感光ドラム面５７上への画像記録の走査開始位置のタイミングを各ＢＤ光束毎に調整している。
【０００９】
ところで発光部（光源）が複数個あるマルチビーム光走査光学系においては、様々な理由により各光源の主走査方向の間隔が走査するに従い変化すると印字される画像は劣化してしまう。また走査中において各発光部間の主走査方向の間隔が変化しなくても各発光部間で書き出し位置がずれているとやはり印字される画像は劣化してしまう。
【００１０】
上記の現象を誘発する一因としてＢＤスリット面上におけるＢＤ光束のピント位置ずれ量と被走査面上における走査用の光束のピント位置ずれ量に差があることが考えられる。
【００１１】
以下、図１６〜図２１を用いて説明していく。尚、図が見にくくなるのを防ぐため、図１７（Ａ）、図１８（Ａ）、図２０（Ａ）、図２１（Ａ）ではマージナル光線は省略している。
【００１２】
図１６（Ａ）は各光束（ここではＡ、Ｂ光線）が主走査方向に対して丁度ＢＤスリット上の一端に集光している状態を表している。図の左から右へ走査されたＡ光線は丁度ＢＤスリットの右端にきたときに初めてＢＤセンサーに入射し、このときＢＤセンサーはＡ光線が入射したことを知らせる信号を出力する。次に左から右へ走査されたＢ光線はＡ光線と同様に丁度ＢＤスリットの右端にきたときに初めてＢＤセンサーに入射し、ＢＤセンサーはＢ光線が入射したことを知らせる信号を出力する。この２つの信号のタイミングを検知することでＡ、Ｂ光線の書き出し位置のタイミングを調整している。
【００１３】
ところがＢＤ光学系を通ったＡ、Ｂ光線の主走査断面内でのピントの位置が図１７（Ａ）に示すように手前側、つまり偏向手段側にδＭだけずれると以下に記すような現象が起きＡ、Ｂ光線の書き出し位置がずれる。ピントずれがなければＢＤスリット右端で集光し、ようやくＢＤセンサーに入射し始めるタイミングのＡ光線はピントずれのため、すでにＢＤセンサー面上に入射している（図では右側の破線）。実際にＢＤセンサーに入射し始めるのは図中右側実線にＡ光線がきたときであり、上記破線と実線がずれている分だけＡ光線の書き出しタイミングは速まる。逆にＢ光線は左側破線のときにＢＤセンサーに入射し始めるべきところがピントずれのため入射できず、左側実線の位置にきて始めてＢＤセンサーに入射できるようになるため、左側破線と左側実線のずれ分だけＢ光線の書き出しタイミングは遅くなる。結果として、Ａ、Ｂ光線の書き出し位置はＢＤスリット面上における２本の破線の距離だけずれることになる。
【００１４】
またＡ、Ｂ光線の書き出し位置ずれ量δＹはピントずれ量δＭと入射角度θ［ｒａｄ  ］（ＢＤ光学系の光軸と平行な状態を０［ｒａｄ  ］）から決まり、近似的には以下のように記述できる。
【００１５】
δＹ＝δＭ×θ        ‥‥‥‥（１）
また、同様に各発光部間の書き出し位置の最大ずれ量δＹｔｏｔａｌは入射角度の最大角度差をθｍａｘ［ｒａｄ  ］とすると
δＹｔｏｔａｌ＝δＭ×θｍａｘ      ‥‥‥‥（２）
で決まる。
【００１６】
よって許容できる各走査線間の書き出し位置ずれの最大値をδＹｍａｘ、δＹｍａｘから決まる許容できるピントずれ量の最大値をδＭｍａｘとすると、ピントずれ量δＭが
｜δＭ｜≦δＭｍａｘ＝δＹｍａｘ／θｍａｘ    ‥‥‥‥（３）
を満たすようにマルチビーム走査光学系を構成する必要がある。
【００１７】
また、δＹｍａｘは副走査方向の解像度の半分程度以下であることが好ましい。これを超えるようであるならば、隣り合った横線がずれたように見え始め印字された結果は非常に見づらいものになってしまう。
【００１８】
ちなみに、δＹｍａｘ＝１０μｍ（１２００ｄｐｉの半ドット分に相当）、θｍａｘ＝０．５［ｒａｄ  ］とすると
δＭｍａｘ＝１．１５ｍｍ
となる。
【００１９】
もっとも上記の式（１）〜（３）が成り立つのはＢＤ光学系のみがピントずれを起こしている場合であり、被走査面上においてもＢＤ光学系と同量のピントずれが同一方向（図１７では偏向手段側）に発生している場合、ドットずれと呼ばれるＡ、Ｂ光線の書き出し位置ずれは殆ど発生しなくなる。ＢＤ光学系を通ったＡ、Ｂ光線の主走査断面内でのピントの位置が図１８（Ａ）の様に手前側、つまり偏向手段側にδＭだけずれているとする。このとき前述したようにＡ、Ｂ光線間でドットずれが発生するが被走査面上において一律δＭだけピント位置がずれているとすると、図１８（Ｂ）に示すようにδＭずれた箇所でドットずれが発生することになる。
【００２０】
しかしながら理想像面（被走査面）はδＭだけ奥にありＡ，Ｂ光線が理想像面（被走査面）に入射する頃には両者のＡ、Ｂ光線の距離はほとんどなくなってしまう。図１８（Ｃ）は軸上近傍における光線の位置関係を描いているが、Ａ、Ｂ光線の主光線を斜辺とし被走査面からδＭの位置における直線を底辺とする三角形と、図１８（Ａ）における破線で示す本来のＡ、Ｂ光線を斜辺としＢＤスリット面を底辺とする三角形がほぼ合同といってもよい関係にあることからもドットずれがなくなっていることが分かる。もっともこのような場合はベストスポット位置と被走査面上との位置がずれてしまうが、それでもピント位置が許容深度範囲内にあれば画質には殆ど影響を及ぼさない。
【００２１】
尚、これまではピント位置がＢＤスリットの手前にずれた場合において説明してきたが、ピント位置がＢＤスリットの奥にずれていたとしても図１９〜図２１から分かるように上記と同じことがいえる。
【００２２】
以上の説明を逆から見れば被走査面上において一律ピント位置ずれをしている場合、ＢＤ光学系におけるピント位置も同様にずれていなければ画像は劣化してしまうことが分かる。また被走査面上におけるピント位置ずれ量やＢＤ光学系におけるピント位置ずれ量をそれぞれ別個に規格化した場合、それぞれのピント位置ずれが逆方向に発生しているとドットずれは大きく発生することが予想できる。更に被走査面上において大きく像面が湾曲していると湾曲に応じて各光線の間隔が変化することも容易に予測できる。よって被走査面上における各像高のピント位置ずれ量δＸは式（３）より
｜δＸ−δＭ｜≦δＭｍａｘ＝δＹｍａｘ／θｍａｘ    （４）
を満たすようにマルチビーム走査光学系を構成する必要があることがわかる。
【００２３】
もちろん、各光束の被走査面への入射角度が全く同じ場合は各走査線間の書き出し位置のずれ方は一律同じとなり、書き出し位置が全体としてずれるのみで各発光部に対する書き出し位置のズレは生じない。
【００２４】
しかしながら上記のような状態にするには、各発光部の配置が主走査方向にずれていない状態、つまり副走査方向に一列に並んでいる場合、もしくはリレー光学系を使って各光束の主光線をポリゴンミラー面上でクロスさせた場合にしかありえない。前者に関しては通常、各発光部をこのような配置にすると特に副走査方向が拡大系に構成されている場合、各発光部間の距離は数μｍから十数μｍ程度と短くなりすぎ（通常市販されているマルチレーザの発光部間距離は１００μｍ程度）、クロストークが発生し、各発光部の光量に差が出るなど安定した発振ができなくなり、更には寿命が短くなり易い。また後者に関してはリレー光学系を用いると必要となる光学素子が増え、スペース的にもコスト的にも好ましくない。
【００２５】
またＢＤ光学系においてＢＤスリットを持たないマルチビーム走査光学系の場合、結果としてＢＤセンサーの縁の部分がＢＤスリットの役割を果たしており、ＢＤスリット右端をＢＤセンサー有効部左端、ＢＤスリット面をＢＤセンサーの受光面と置き換えて読めばよい。
【００２６】
また、これまでの説明では走査方向を図中左方向から右方向としたが、走査方向が逆になっても書き出しのタイミングを決めるＢＤスリットが右端から図には図示していない右側のＢＤスリットの左端に変わる以外、同じことが言える。
（課題２）
図２２に示すように各ＢＤ光束毎にＢＤ検知をするマルチビーム走査光学系において、レンズ製造誤差や組み立て誤差やレンズのピント誤差等の理由によりＢＤ光束のピント位置がＢＤスリット面上にない場合、（尚、幅を持った光束のままＢＤのタイミングを考えると分かりにくくなるので以下では各光束の主光線で代表して考える）ＢＤ光学系の光軸に対し平行に入射する場合を除き、各ＢＤ光束の主光線がＢＤスリットのエッジをかすめるタイミングがピントずれ前とでは異なってしまい、画像の書き出し位置がずれてしまうという問題点がある。
【００２７】
図２９（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は各々２つの発光部（光源）から射出した各々の光束の一部の光束（ＢＤ光束）の主光線の位置関係を示した要部概略図である。同図（Ａ）はＢＤ光束にピントずれがない理想的なときの各発光部の主光線の位置関係を示しており、同図（Ｂ）はＢＤ光束にピントずれが発生したときの各発光部の主光線の位置関係を示しており、同図（Ｃ）は何らかの方法でＢＤスリット面上の集光状態を改善したときの各発光部の主光線の位置関係を示している。
【００２８】
本来、同図（Ａ）に示すようにＢＤスリットの一端をかすめる光線によって被走査面上の書き出し位置のタイミングをとっていたものが、同図（Ｂ）に示すようにＢＤ光束にピントずれが発生すると、Ａ光線においては本来の光線（同図では実線で示している）はＢＤスリットによって遮蔽され、実際のＡ光線の書き出し位置は破線で示す光線によって決まる。つまり実線から破線の状態にＡ光線の状態が推移する分だけＡ光線の書き出し位置がずれることになる。同様のことはＢ光線にも言え、実線と破線のずれ分だけ書き出し位置が早くなる。よってＡ，Ｂ光線間の書き出し位置のずれはＢＤスリット面上における実線の幅分だけずれることになる。
【００２９】
またＡ，Ｂ光線の書き出し位置ずれ量δＹはピントずれ量δＭと入射角度θ
（ＢＤ光学系の光軸と平行な状態を０°）から決まり、近似的には以下のように記述できる。
【００３０】
δＹ＝δＭ・ｔａｎ（θ）                        ………（５）
また同様にトータルの書き出し位置ずれ量δＹ  ｔｏｔａｌは入射角度の最大角度差をθｍａｘとすると
δＹ  ｔｏｔａｌ＝δＭ・ｔａｎ（θｍａｘ）      ………（６）
で決まる。
【００３１】
よって許容できる各走査線間の書き出し位置ずれ量の最大値をδＹｍａｘ、δＹｍａｘから決まる許容できるピントずれ量の最大値をδＭｍａｘとすると、ピントずれ量δＭが
｜δＭ｜≦δＭｍａｘ＝δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）…（７）
を満たすようにマルチビーム走査光学系を構成する必要がある。
【００３２】
ちなみにδＹｍａｘ＝１１μｍ、θｍａｘ＝０．５°とするとδＭｍａｘ＝１．２６ｍｍとなる。
【００３３】
もちろん各光束の被走査面上への入射角度が全く同じ場合は各走査線間の書き出し位置ずれ方は一律同じとなり、書き出し位置が全体としてずれるのみで各発光部に対する書き出し位置のズレは生じない。
【００３４】
本発明は比較的簡単な構成によって高速で高品位の印字を実現できるマルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置の提供を目的とする。
【００３５】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置を該スリットから相対的に該同期検出用光学手段の光軸方向にずらす補正手段を備えたことを特徴としている。
【００３６】
請求項２の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットまたは該スリットを含むユニットの位置を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００３７】
請求項３の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は該偏向手段と該スリットとの間の光路内に設けられ、該レンズ部を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００３８】
請求項４の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部を構成する少なくとも一部のレンズは該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段と一体化されていない該レンズ部の少なくとも一部のレンズ、及び該スリットを該同期検出用光学手段の光軸方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００３９】
請求項５の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段の少なくとも一部の光学素子を該走査光学手段の光軸方向に移動させ、及び該スリットを該同期検出用光学手段の光軸方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００４０】
請求項６の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ１｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ１   ：該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部を構成する少なくとも一部のレンズは該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段を構成する少なくとも一部のレンズを主走査方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００４１】
請求項７の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＭ１を持つことによって発生する該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれを補正する補正手段を備え、該ドット位置ずれ量が副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットが該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれ量に応じて副走査方向に傾斜していることを特徴としている。
【００４２】
請求項８の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＭ１を持つことによって発生する該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれを補正する補正手段を備え、該ドット位置ずれ量が副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットまたは該スリットを含むユニットを該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれ量に応じて同期検出用光学手段の光軸まわりに回転させる回転手段を備えたことを特徴としている。
【００４３】
請求項９の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置を該同期検出素子の受光面から相対的に該同期検出用光学手段の光軸方向にずらす補正手段を備えたことを特徴としている。
【００４４】
請求項１０の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子または該同期検出素子を含むユニットの位置を前記同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００４５】
請求項１１の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は該偏向手段と該同期検出素子との間の光路内に設けられ、該レンズ部を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００４６】
請求項１２の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部を構成する少なくとも一部のレンズは該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段と一体化されていない該レンズ部の少なくとも一部のレンズを該同期検出用光学手段の光軸方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００４７】
請求項１３の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段の少なくとも一部の光学素子を該走査光学手段の光軸方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００４８】
請求項１４の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置された複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系であって、
以下の条件式を
｜δＭ２｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）
（但し、
δＭ２   ：該同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部を構成する少なくとも一部のレンズは該走査光学手段と一体化され、該走査光学手段を構成する少なくとも一部のレンズを主走査方向に移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００４９】
請求項１５の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ１｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置を該スリットから相対的に該同期検出用光学手段の光軸方向にずらす補正手段を備えたことを特徴としている。
【００５０】
請求項１６の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ１｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットまたは該スリットを含むユニットの位置を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００５１】
請求項１７の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
該スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ１｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束のスリット面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は前記偏向手段と該スリットとの間の光路内に設けられ、該レンズ部を前記同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００５２】
請求項１８の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、両者のピント位置ずれ量δＭ１，δＸが差を持つことによって発生する該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれを補正する補正手段を備え、該ドット位置ずれ量が副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットが該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれ量に応じて副走査方向に傾斜していることを特徴としている。
【００５３】
請求項１９の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部によりスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記スリットから見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ１、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、両者のピント位置ずれ量δＭ１，δＸが差を持つことによって発生する該被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれを補正する補正手段を備え、該ドット位置ずれ量が副走査方向の解像度の１／２以下であり、該スリットまたは該スリットを含むユニットを前記被走査面上における各走査線毎のドット位置ずれ量に応じて同期検出用光学手段の光軸まわりに回転させる回転手段を備えたことを特徴としている。
【００５４】
請求項２０の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ２、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ２｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子に導光される光束の主走査方向のピント位置を該同期検出素子の受光面から相対的に前記同期検出用光学手段の光軸方向にずらす補正手段を備えたことを特徴としている。
【００５５】
請求項２１の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ２、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ２｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該同期検出素子または該同期検出素子を含むユニットの位置を前記同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００５６】
請求項２２の発明のマルチビーム走査光学系は、少なくとも主走査方向に対し離して配置した複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出用光学手段と、を有するマルチビーム走査光学系において、
前記同期検出素子の受光面から見た該同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ２、該被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、以下の条件式を
｜δＸ−δＭ２｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ
（但し、
δＹｍａｘ：許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量
θｍａｘ ：同期検出に用いられる各光束の受光面への入射角度の最大角度差）
満足し、該許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量δＹｍａｘは副走査方向の解像度の１／２以下であり、該レンズ部は前記偏向手段と前記同期検出素子との間の光路内に設けられ、該レンズ部を該同期検出用光学手段の光軸方向に対して移動させる補正手段を備えたことを特徴としている。
【００７７】
【発明の実施の形態】
［実施形態１］
図１は本発明の実施形態１のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
【００７８】
尚、本明細書においては走査光学手段の光軸と光偏向器により偏向された光束とが形成する面を主走査断面、走査光学手段の光軸を含み主走査断面と直交する面を副走査断面と定義する。
【００７９】
同図において１は光源ユニット（光源手段）であり、例えば半導体レーザよりなる発光部（光源）１ａ，１ｂを２つ有している。尚、発光部は３つ以上でも良い。２つの発光部１ａ，１ｂは図２に示すように主走査方向及び副走査方向に対して各々離して配置している。図２のように、発光部間の距離は副走査方向よりも主走査方向の方が長い。これは実際に必要な副走査方向の発光部間の距離に対し実際の発光部間の距離の方が長く、２つの発光部１ａ，１ｂを持つ光源ユニット１を回転することによって、副走査方向の発光部間距離を所望の値にしているためである。３は開口絞りであり、各発光部１ａ，１ｂから射出した光束を所望の最適なビーム形状に整形している。２はコリメータレンズであり、開口絞り３を通過した光束を略平行光束に変換している。４はシリンドリカルレンズであり、副走査方向のみに所定の屈折力を有している。尚、開口絞り３、コリメータレンズ２、そしてシリンドリカルレンズ４等の各要素は入射光学手段１４の一要素を構成している。
【００８０】
５は偏向手段としての光偏向器であり、例えば回転多面鏡より成り、モーター等の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転している。６はｆθ特性を有する走査光学手段であり、第１、第２の２枚の光学素子（ｆθレンズ）６ａ，６ｂを有し、光偏向器５により偏向された複数（２つ）の光束を被走査面７上にスポット状に結像させ、複数の走査線を形成している。走査光学手段６は副走査断面内において光偏向器５の偏向面５ａ近傍と感光ドラム面７近傍との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機能を有している。
【００８１】
８は同期検出用のレンズ部であり、後述する同期検出素子１０の近傍に設けたスリット９面上に同期信号検知用の複数の光束（ＢＤ光束）を結像（集光）させている。本実施形態におけるレンズ部８は走査光学手段６と一体化に構成されているが、独立に設けても良い。１２は折り返しミラー（以下、「ＢＤミラー」と記す。）であり、感光ドラム面７上の走査開始位置のタイミングを調整するための複数のＢＤ光束を後述する同期検出素子１０側へ反射させている。このＢＤミラー１２は走査光学手段６の光軸Ｌを挟んで入射光学手段１４側に位置している。９は同期検出用のスリット（以下、「ＢＤスリット」と記す。）であり、感光ドラム面７と等価な位置に配されており、画像の書き出し位置を決めている。１１は結像レンズ（以下、「ＢＤレンズ」と記す。）であり、ＢＤミラー１２と同期検出素子１０とを共役な関係にする為のものであり、ＢＤミラー１２の面倒れを補正している。１０は同期検出素子としての光センサー（以下、「ＢＤセンサー」と記す。）であり、本実施形態では該ＢＤセンサー１０からの出力信号を検知して得られた同期信号（ＢＤ信号）を用いて感光ドラム面７上への画像記録の走査開始位置のタイミングを各ＢＤ光束毎に調整している。
【００８２】
尚、レンズ部８、ＢＤミラー１２、ＢＤスリット９、ＢＤレンズ１１、そしてＢＤセンサー１０等の各要素は同期検出用光学手段（ＢＤ光学系）の一要素を構成している。
【００８３】
本実施形態において画像情報に応じて光源ユニット１から光変調され射出した２つの光束は開口絞り３によってその光束断面の大きさが制限され、コリメーターレンズ２により略平行光束に変換され、シリンドリカルレンズ４に入射する。シリンドリカルレンズ４に入射した光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で射出する。また副走査断面内においては収束して光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結像する。そして光偏向器５の偏向面５ａで反射偏向された２つの光束は走査光学手段６により感光ドラム面７上にスポット状に結像され、該光偏向器５を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム面７上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に等速度で光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面７上に画像記録を行なっている。
【００８４】
このとき感光ドラム面７上を光走査する前に該感光ドラム面７上の走査開始位置のタイミングを調整する為に、光偏向器５で反射偏向された２つの光束の一部をレンズ部８によりＢＤミラー１２を介してＢＤスリット９面上に集光させた後、ＢＤレンズ１１を介してＢＤセンサー１０に導光している。そしてＢＤセンサー１０からの出力信号を検知して得られた同期信号（ＢＤ信号）を用いて感光ドラム面７上への画像記録の走査開始位置のタイミングを各ＢＤ光束毎に調整している。
【００８５】
このとき前述の如く様々な理由によりＢＤスリット９面上におけるＢＤ光束のピント位置と被走査面７上における走査用の光束のピント位置がずれていると前述した如くＡ，Ｂ光線の書き出し位置がずれたり、走査中のＡ，Ｂ光線の主走査方向の間隔が変化したりして印字画像が劣化するという問題点が発生する。
【００８６】
そこで本実施形態では以下に示す条件式（Ａ）を満足するように各要素を設定している。即ち、ＢＤスリット９から見たＢＤセンサー１０に導光されるＢＤ光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ、被走査面７上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、
｜δＸ−δＭ｜≦δＹｍａｘ／θｍａｘ      ‥‥‥（Ａ）
（但し、
δＹｍａｘ：許容できるドットずれ量
θｍａｘ  ：各発光部に対応するＢＤ光束がＢＤセンサーに入射し始めるときのＢＤスリットに対する該ＢＤ光束の入射角度の最大角度差［ｒａｄ  ］）
なる条件を満足させている。
【００８７】
具体的な数値としては副走査方向の解像度を１２００ｄｐｉとし、δＹｍａｘ＝１０μｍ，θｍａｘ＝０．５［ｒａｄ  ］として｜δＸ−δＭ｜の最大値を１．１５ｍｍとしている。これにより本実施形態では高速で高品位な印字を実現している。尚、本実施形態では許容できるドットずれ量（各走査線間の書き出し位置ずれ量）δＹｍａｘを副走査方向の解像度の１／２以下となるように設定している。
【００８８】
また本実施形態においてはコリメーターレンズ２によって光源ユニット１から射出した各光束を略平行光束に変換しているが、これに限らず、例えば収束光束もしくは発散光束に変換しても同様な効果を得ることができる。
【００８９】
次に、許容できる各走査線毎のドット位置ずれ量は副走査方向の解像度の１／２以下が好ましい理由を以下に説明する。
仮に光源の数を２つとし、ドットずれ量が１ドット分あると仮定した場合、本来の印字箇所おいて、１ドット分前もしくは後の画像が印字され、本来印字されなくても良い箇所で印字されたり、逆に印字されるべき箇所で印字されないと言うことが起こり、非常に見づらい印字状態になってしまう。
【００９０】
上記のような現象を考えるとドットずれ量は０であることが望ましいのであるが、実際に行うには非常に困難である。また、１／２ドット（１２００ｄｐｉでは１０μｍ程度）以下と少量であるならば、実際に印字された画像を見ても見づらさを感じることはない。逆に、１／２ドットを超えるほどのドットずれが発生すると実際に印字される画像にもよるが目で見ても次第に認識できるようになり印字状態として良い状態とはいえなくなる。
【００９１】
以上の説明は話をあまり複雑にしないために光源の数を２つに限定したが、このような現象は光源の数に限らず発生するため、ドットずれ量の最大値を１／２ドット以下にする必要がある。
【００９２】
また、本実施形態では、Ａ光線がＢＤセンサー１０に入射し、ＢＤセンサー１０から出力信号が発生してから感光ドラム７に印字を開始するまでの時間間隔とＢ光線がＢＤセンサー１０に入射し、ＢＤセンサー１０から出力信号が発生してから感光ドラム７に印字を開始するまでの時間間隔は等しいものとしている。
【００９３】
また、２本のレーザービームを用いる場合について説明したが、レーザービームの数は、３本以上のレーザービームでも良い。
次に、本発明に適用される画像形成装置の説明を行う。
【００９４】
図３１は、本発明の画像形成装置の実施形態を示す副走査方向の要部断面図である。図３１において、符号１０４は画像形成装置を示す。この画像形成装置１０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータＤｃが入力する。このコードデータＤｃは、装置内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドットデータ）Ｄｉに変換される。この画像データＤｉは、実施形態１に示した構成を有する光走査ユニット１００に入力される。そして、この光走査ユニット１００からは、画像データＤｉに応じて変調された光ビーム１０３が出射され、この光ビーム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方向に走査される。
【００９５】
静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方には、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラム１０１の表面に、前記光走査ユニット１００によって走査される光ビーム１０３が照射されるようになっている。
【００９６】
先に説明したように、光ビーム１０３は、画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビーム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するように配設された現像器１０７によってトナー像として現像される。
【００９７】
現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対向するように配設された転写ローラ１０８によって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１１２は感光ドラム１０１の前方（図３１において右側）の用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
【００９８】
以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙１１２はさらに感光ドラム１０１後方（図３１において左側）の定着器へと搬送される。定着器は内部に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３とこの定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とで構成されており、転写部から搬送されてきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１１２上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ローラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されており、定着された用紙１１２を画像形成装置の外に排出せしめる。
【００９９】
図３１においては図示していないが、プリントコントローラ１１１は、先に説明したデータの変換だけでなく、モータ１１５を始め画像形成装置内の各部や、後述する光走査ユニット内のポリゴンモータなどの制御を行う。
【０１００】
［実施形態２］
図３は本発明の実施形態２のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１０１】
本実施形態においては前述の実施形態１と異なる点はＢＤセンサー１０に導光されるＢＤ光束の主走査断面内でのピント位置をＢＤスリット９から相対的にＢＤ光学系の光軸方向にずらして構成することによって条件式（Ａ）を満足させたことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１０２】
即ち、走査光学手段６の像面湾曲の程度が製品毎にかなり安定し、かつピント位置にＢＤスリット９を配置すると条件式（Ａ）の差分値｜δＸ−δＭ｜が無視できない値を持つような場合は、図３に示すように始めからＢＤスリット９を調整手段（図３０）によってピント位置からＢＤ光学系の光軸方向にずらすことによって、条件式（Ａ）を満足させている。これにより高速で高品位の印字を実現している。
【０１０３】
次に、本発明に適用されるドットずれ調整手段の説明を行う。
【０１０４】
ＢＤスリット９は、本発明のマルチビーム走査光学系を構成する調整手段２２０によりＢＤレンズ１１の光軸方向へ移動調整が可能である。即ち、図３０に示すように、ＢＤスリット９は、支持体２２１に接着等により固定されている。支持体２２１はガイド２２２に嵌装されて光軸方向へ移動可能となっている。保持体２２３は画像形成装置内に固定されている。
【０１０５】
ガイド２２２は装置の不動部材に固定された「コ字形状」の保持体２２３に固定されている。保持体２２３と支持体２２１との間には、圧縮性のバネ２２４が介在し、支持体２２１に図の左方へ向かう弾性力を作用させている。保持体２２３に螺装された調整螺子２２５は、その先端部を調整手段２２０に右側から当接させて上記バネ２２４の弾性力による支持体の移動を留める。従って、調整螺子２２５を送れば支持体２２１を図の右側へ、また調整螺子２２５を弛めれば支持体２２１を左側へ変位させることができ、測定された被走査面上のＡ，Ｂ光線の書き出し位置ずれ量δＹに基づいて、条件式（Ａ）を満たすように、ＢＤスリット９の位置を光軸方向において移動調整する。
【０１０６】
［実施形態３］
図４は本発明の実施形態３のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１０７】
本実施形態において前述の実施形態１と異なる点はＢＤスリット９を含むユニット１３をＢＤ光学系の光軸方向に移動させることによって条件式（Ａ）を満足させたことと、光偏向器の回転方向を逆方向（図中矢印Ｃ方向）に回転させて構成したことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１０８】
即ち、本実施形態においては光偏向器５をモーター等の駆動手段（不図示）により実施形態１の回転方向とは逆方向の図中矢印Ｃ方向に一定速度で回転させている。これはスペースの問題で走査光学手段６と入射光学手段１４との間に同期検出用光学手段（ＢＤ光学系）を配置することができなくなった為の処置である。
【０１０９】
このとき実施形態１と同様にＢＤスリット９面上における各ＢＤ光束のピントの位置と被走査面７上における走査用の光束のピントの位置がずれていると、前述した如くＡ，Ｂ光線の書き出し位置がずれたり、走査中のＡ，Ｂ光線の主走査方向の間隔が変化したりして印字画像が劣化するという問題点が発生する。
【０１１０】
特に本実施形態においては高画質化を達成するためδＹ  ｍａｘ＝６μｍ、θｍａｘ＝０．５［ｒａｄ  ］としているため、条件式（Ａ）の差分値｜δＸ−δＭ｜は０．６９ｍｍ以下に設定する必要があり、調整無しでこれだけの光学性能を有するマルチビーム走査光学系を安定して構成するのは非常に難しい。
【０１１１】
そこで本実施形態では調整手段（図３０）によりＢＤスリット９を含むユニット１３を図４に示す矢印Ｄの如くＢＤ光学系の光軸方向に移動させることによって、ＢＤスリット９面上におけるＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整し、例えば図１７（Ｂ）に示す状態から図１８（Ｂ）に示す状態に改善している。これにより上記の仕様、即ち条件式（Ａ）を満足させ、高速で高品位の印字を実現している。
【０１１２】
［実施形態４］
図５は本発明の実施形態４のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図４に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１１３】
本実施形態において前述の実施形態３と異なる点はＢＤスリット９及び該ＢＤスリット９を含むユニット１３を固定とし、走査光学手段６を構成する第１、第２の光学素子（ｆθレンズ）６ａ，６ｂの主走査方向の形状を短くするため、レンズ部８を走査光学手段６と一体化せずに独立に設け、該レンズ部８をＢＤ光学系の光軸方向に移動させることによって条件式（Ａ）を満足させたことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態３と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１１４】
即ち、本実施形態ではＢＤスリット９及び該ＢＤスリット９を含むユニット１３を固定しており、単一のレンズを有するレンズ部８を走査光学手段６とは一体化せずに別個に構成している。このとき実施形態１と同様にＢＤスリット９面上における各ＢＤ光束のピントの位置と被走査面７上における走査用の光束のピントの位置がずれていると、前述した如くＡ，Ｂ光線の書き出し位置がずれたり、走査中のＡ，Ｂ光線の主走査方向の間隔が変化したりして印字画像が劣化するという問題点が発生する
そこで本実施形態では調整手段（図３０）によりレンズ部８を図中矢印Ｆに示す如くＢＤ光学系の光軸方向に移動させることによって、ＢＤスリット９面上におけるＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整し、これにより上記の条件式（Ａ）を満足させ、高品位の印字を実現している。
【０１１５】
尚、本実施形態においては走査光学手段６の像面湾曲の程度が製品毎にかなり安定し、かつピント位置にＢＤスリット９を配置すると条件式（Ａ）の差分値｜δＸ−δＭ｜が無視できない値を持つ場合は、予めレンズ部８の位置を光軸上ずらすことによって主走査断面内でのピントの位置を変えておき、これにより条件式（Ａ）を満たすようにしても良い。
【０１１６】
［実施形態５］
図６は本発明の実施形態５のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１１７】
本実施形態においてはＢＤスリット９から見たＢＤセンサー１０に導光されるＢＤ光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＭと、被走査面７上における各像高のピント位置ずれ量δＸとの両者のピント位置ずれ量δＭ，δＸが差を持つことによって発生するドットずれを、図７に示す補正手段としての角度調整手段１５により、ＢＤスリット９または該ＢＤスリット９を含むユニット１６をＢＤ光学系の光軸周りに回転調整することによって補正している。
【０１１８】
即ち、本実施形態における光源ユニット１は前記図２に示すように副走査方向においても各発光部１ａ，１ｂが離れて配置されており、副走査方向に対して光線の通過する箇所が各発光部１ａ，１ｂに対応するＡ，Ｂ光線で異なっている。
【０１１９】
そこで本実施形態では角度調整手段１５により図８（Ａ），（Ｂ）及び図９（Ａ），（Ｂ）に示すようにＢＤスリット９を回転させることにより、Ａ光線に対してＢ光線がＢＤセンサー１０に入射し始めるタイミングを変えている。尚、図８はＢＤスリット９の傾斜と各光線の印字位置（調整前）を示す説明図、図９はＢＤスリット９の傾斜と各光線の印字位置（調整後）を示す説明図である。
【０１２０】
このように本実施形態では上述の如くＢＤセンサー１０に導光される各ＢＤ光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＭと、被走査面７上における各像高のピント位置ずれ量δＸとの両者のピント位置ずれ量δＭ，δＸが差があることによって、本来なら発生するはずのドットずれを角度調整手段１５を用いてＢＤスリット９を回転調整することにより補正（キャンセル）している。これにより高速で高品位な印字を実現している。
【０１２１】
尚、本実施形態においてマルチビーム走査光学系を用いて画像形成を行なう光学的作用は前述の実施形態１と略同様である。
【０１２２】
［実施形態６］
図１０は本発明の実施形態６のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）、図１１は図１０のＢＤスリット９の要部斜視図である。図１０，図１１において図６に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１２３】
本実施形態においては前述の実施形態５と異なる点は角度調整手段を持たず、始めからＢＤスリット９または該ＢＤスリット９を含むユニット１６を副走査方向に傾斜させることによってドットずれを補正（キャンセル）したことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態５と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１２４】
即ち、走査光学手段６の像面湾曲の程度が製品毎にかなり安定し、かつピント位置にＢＤスリット９を配置すると条件式（Ａ）の差分値｜δＸ−δＭ｜が無視できない値を持つような場合は、図１０及び図１１に示すように始めからＢＤスリット９を副走査方向に傾斜させることによって、ドットずれを補正（キャンセル）している。これにより高速で高品位な印字を実現している。
【０１２５】
［実施形態７，８，９，１０］
図１２，図１３，図１４，図１５は各々順に本発明の実施形態７，８，９，１０のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。図１２，図１３，図１４，図１５において図１，図３，図４，図５に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１２６】
尚、実施形態７は実施形態１と対応しており、実施形態８は実施形態２と対応しており、実施形態９は実施形態３と対応しており、実施形態１０は実施形態４と対応しており、これら各実施形態７，８，９，１０において前述の実施形態１，２，３，４と共通して異なる点は装置全体の簡素化及び低コスト化を図るためにＢＤスリット９及びＢＤレンズ１１を用いずに構成したことである。その他の構成及び光学的作用は対応する実施形態１，２，３，４と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１２７】
即ち、各実施形態７，８，９，１０においてＢＤセンサー１０の有効端が前述の対応する各実施形態１，２，３，４におけるＢＤスリット９に相当する作用をする。よって各実施形態７，８，９，１０においては対応する各実施形態１，２，３，４で行った内容をＢＤスリット９面をＢＤセンサー１０の受光面と置き換えて実施している。これにより前述の対応する実施形態と同様な効果を得ている。
【０１２８】
このように各実施形態７，８，９，１０においてはＢＤスリット及びＢＤレンズを用いずに構成することにより、装置全体の簡素化及び低コスト化を図りつつ比較的簡単な構成によって高速で高品位の印字を実現している。
【０１２９】
［実施形態１１］
図１１は本発明の実施形態１１のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
【０１３０】
このとき前述の如く組み立て誤差やレンズのピント誤差等の理由により、各ＢＤ光束のピント位置がずれていてＢＤスリット９面上にない場合、特に本実施形態においては図２に示すように各発光部１ａ，１ｂが主走査方向にも離れているため、各ＢＤ光束の主光線がＢＤスリット９のエッジをかすめるタイミングがピントずれ前とでは異なってしまい、各発光部１ａ，１ｂに対する画像の書き出し位置がずれてしまう。
【０１３１】
そこで本実施形態では以下に示す条件式（Ｂ）を、
｜δＭ｜≦δＹｍａｘ／ｔａｎ（θｍａｘ）    …（Ｂ）
（但し、
δＭ      ：ＢＤスリット面上から同期検出に用いられるＢＤ光束の主走査断面内での集光点までのＢＤ光学系の光軸方向の距離
δＹｍａｘ：許容できる各走査線間の書き出し位置ずれ量（ドットずれ量）θｍａｘ  ：同期検出に用いられる各ＢＤ光束のＢＤスリット面への入射角度の最大角度差）
満たすように各要素を構成している。
【０１３２】
具体的な数値としてはδＹｍａｘ＝１１μｍ，θｍａｘ＝０．５°として｜δＭ｜＝δＭｍａｘ＝１．２６ｍｍとしている。これにより本実施形態では高速で高品位の印字を実現している。
【０１３３】
尚、本実施形態では、許容できるドットずれ量δＹｍａｘを副走査方向の解像度の１／２以下となるように設定している。
【０１３４】
尚、本実施形態においてはコリメーターレンズ２によって光源ユニット１から射出した各光束を略平行光束に変換しているが、これに限らず、例えば収束光束もしくは発散光束に変換しても同様な効果を得ることができる。
【０１３５】
［実施形態１２］
図２３は本発明の実施形態１２のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１３６】
本実施形態においては光偏向器５をモーター等の駆動手段（不図示）により前述の実施形態１の回転方向とは逆方向の図中矢印Ｃ方向に一定速度で回転させている。これはスペースの問題で走査光学手段６と入射光学手段１４との間に同期検出用光学手段（ＢＤ光学系）を配置することができなくなった為の処置である。
【０１３７】
このとき実施形態１１で説明したように各ＢＤ光束のピント位置がずれていてＢＤスリット９面上にない場合、特に本実施形態においても図２に示すように各発光部１ａ，１ｂが主走査方向にも離れているため、各ＢＤ光束の主光線がＢＤスリット９のエッジをかすめるタイミングがピントずれ前とでは異なってしまい、各発光部１ａ，１ｂに対する画像の書き出し位置がずれてしまう。本実施形態ではさらなる高画質化を求めており、その為上記の書き出し位置ずれは問題となる。
【０１３８】
そこで本実施形態においてはＢＤスリット９を調整手段（図３０）により図２３に示す矢印Ｄの如くＢＤ光学系の光軸方向に移動させることによって、該ＢＤスリット９面上における各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整し、これにより図２９（Ｂ）に示す状態から図２９（Ｃ）に示す状態に改善することにより、高速で高品位の印字を実現している。
【０１３９】
更に本実施形態では前述の条件式（Ｂ）を満足するように各要素を設定しており、その具体的な数値としてはδＹｍａｘ＝７μｍ，θｍａｘ＝０．５°として｜δＭ｜＝δＭｍａｘ＝０．８０ｍｍである。
【０１４０】
尚、本実施形態においてマルチビーム走査光学系を用いて画像形成を行なう光学的作用は前述の実施形態１１と略同様である。
【０１４１】
次に、本発明に適用されるドットずれ調整手段の説明を行う。
【０１４２】
ＢＤスリット９は、本発明のマルチビーム走査光学系を構成する調整手段２２０によりＢＤレンズ１１の光軸方向へ移動調整が可能である。即ち、図３０に示すように、ＢＤスリット９は、支持体２２１に接着等により固定されている。支持体２２１はガイド２２２に嵌装されて光軸方向へ移動可能となっている。保持体２２３は画像形成装置内に固定されている。
【０１４３】
ガイド２２２は装置の不動部材に固定された「コ字形状」の保持体２２３に固定されている。保持体２２３と支持体２２１との間には、圧縮性のバネ２２４が介在し、支持体２２１に図の左方へ向かう弾性力を作用させている。保持体２２３に螺装された調整螺子２２５は、その先端部を調整手段２２０に右側から当接させて上記バネ２２４の弾性力による支持体の移動を留める。従って、調整螺子２２５を送れば支持体２２１を図の右側へ、また調整螺子２２５を弛めれば支持体２２１を左側へ変位させることができ、測定された被走査面上のＡ、Ｂ光線の書き出し位置ずれ量δＹに基づいて、条件式（Ｂ）を満たすように、ＢＤスリット９の位置を光軸方向において移動調整する。
【０１４４】
［実施形態１３］
図２４は本発明の実施形態１３のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１４５】
本実施形態において前述の実施形態１２と異なる点はＢＤスリット９、該ＢＤスリット９とＢＤセンサー１０の間に配した光学素子（ＢＤレンズ）１１、そしてＢＤセンサー１０を同一の保持部材１３で保持し、該保持部材１３を調整手段によりＢＤ光学系の光軸方向に移動させることにより、該ＢＤスリット９面上での各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整可能としたことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態１２と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１４６】
即ち、本実施形態では前述の実施形態１１でも述べようにＢＤレンズ１１がＢＤスリット９の後方に配置され、ＢＤミラー１２の反射面近傍とＢＤセンサー１０の近傍との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機能を担っている。しかしながら上記の倒れ補正機能を得るには特にＢＤレンズ１１とＢＤセンサー１０の距離を精度よく得ることが重要になる。なぜならば、仮にＢＤミラー１２とＢＤレンズ１１との距離をＳ、ＢＤレンズ１１とＢＤセンサー１０との距離をＴとするとＢＤミラー１２からＢＤセンサー１０までの距離ＫはＫ＝Ｓ＋Ｔとなる。
【０１４７】
これに対しＢＤスリット９面上におけるＢＤ光束の集光状態を調整するためＢＤレンズ１１をＢＤセンサー１０側へδＳだけ保持部材１３を移動させたとするとＢＤミラー１２からＢＤセンサー１０までの距離Ｋ´は
Ｋ´＝Ｓ＋Ｔ＋（１−ｆ２  ／（Ｓ−ｆ）２）＊δＳ
となる。但し、ｆはＢＤレンズ１１の焦点距離とする。
【０１４８】
一般にＢＤミラー１２とＢＤレンズ１１との距離Ｓに対しＢＤレンズ１１の焦点距離ｆは非常に小さいので距離Ｋ´は
Ｋ´≒Ｓ＋Ｔ＋δＳ
となり、ＢＤレンズ１１とＢＤセンサー１０との距離Ｔはほとんど変わらないことになる。よって倒れ補正機能を得るには本来の距離を常に保ち続けることが必要になる。またＢＤスリット９そのものの位置がずれていて走査線の書き出し位置がずれると、これまでに述べてきたような現象が生じるため良くない。しかもＢＤスリット９からＢＤセンサー１０までの距離は実際にはほとんど無いためＢＤスリット９，ＢＤレンズ１１、そしてＢＤセンサー１０は同じ１つの保持部材１３に組み込んだ方が位置関係の精度を出すには有利になる。
【０１４９】
そこで本実施形態では上述の如くＢＤスリット９、ＢＤレンズ１１、そしてＢＤセンサー１０を同じ保持部材１３で保持し、かつ該保持部材１３を調整手段（不図示）により図２４に示す矢印Ｅの如くＢＤ光学系の光軸方向に移動させることによって、ＢＤスリット９面上における各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整している。これにより高速で高品位の印字を実現している。
【０１５０】
［実施形態１４］
図２５は本発明の実施形態１４のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図２３に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１５１】
本実施形態において前述の実施形態１２と異なる点はレンズ部８を走査光学手段６と一体化せずに独立に設けている点と、ＢＤスリット９を固定とし、該レンズ部８を調整手段によりＢＤ光学系の光軸方向に移動させることにより、ＢＤスリット９面上での各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整可能したことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態１２と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１５２】
即ち、本実施形態においては単一のレンズを有するレンズ部８を走査光学手段６とは一体化せずに別個に配置し、該レンズ部８を調整手段（図３０）により図５に示す矢印Ｆの如くＢＤ光学系の光軸方向に移動させることによって、ＢＤスリット９面上における各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整している。これにより図２９（Ｂ）に示す状態から図２９（Ａ）に示す状態に改善している。
【０１５３】
［実施形態１５］
図２６は本発明の実施形態１５のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図２３に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１５４】
本実施形態において前述の実施形態１２と異なる点はレンズ部８を構成する少なくとも一部のレンズを走査光学手段６と一体化し、該走査光学手段６と一体化されていない該レンズ部８の少なくとも一部のレンズ８ａ、及びＢＤスリット９を調整手段によりＢＤ光学系の光軸方向に移動させることにより、該ＢＤスリット９面上での各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整可能としたことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態１２と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１５５】
即ち、本実施形態ではレンズ部８を構成する少なくとも一部のレンズを走査光学手段６と一体化し、該走査光学手段６と一体化されていない該レンズ部８の一部のレンズ８ａ、及びＢＤスリット９を調整手段（図３０）によりＢＤ光学系の光軸方向に移動させることによって、該ＢＤスリット９面上における各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整している。これにより図２９（Ｂ）に示す状態から図２９（Ｃ）に示す状態に改善している。
【０１５６】
尚、本実施形態ではレンズ部８のレンズ８ａとＢＤスリット９の双方を移動させたが、どちらか一方のみでも本発明は前述の実施形態５と同様に適用することができる。
【０１５７】
［実施形態１６］
図２７は本発明の実施形態１６のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図２３に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１５８】
本実施形態において前述の実施形態１２と異なる点はレンズ部８と一体化された走査光学手段６の少なくとも一部の光学素子（ｆθレンズ）を調整手段により該走査光学手段６の光軸方向に移動させ、及びＢＤスリット９をＢＤ光学系の光軸方向に移動させることにより、該ＢＤスリット９面上での各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整可能としたことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態１２と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１５９】
即ち、本実施形態では被走査面７上のスポットの形状が余り変わらない範囲で、走査光学手段６を構成する第１の光学素子（ｆθレンズ）６ａを調整手段（図３０）により図中矢印Ｇ方向（走査光学手段６の光軸方向）に移動させ、及びＢＤスリット９を図中矢印Ｄ方向（ＢＤ光学系の光軸方向）に移動させることによって、ＢＤスリット９面上における各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整している。これにより図２９（Ｂ）に示す状態から図２９（Ｃ）に示す状態に改善している。
【０１６０】
尚、本実施形態では第１の光学素子６ａを移動させたが、第２の光学素子（ｆθレンズ）６ｂを移動させても良く、もしくは第１、第２の光学素子６ａ，６ｂの双方を移動させても良い。
【０１６１】
また本実施形態では第１の光学素子６ａとＢＤスリット９の双方を移動させたが、どちらか一方のみでも本発明は前述の実施形態６と同様に適用することができる。
【０１６２】
［実施形態１７］
図２８は本発明の実施形態１７のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１６３】
本実施形態において前述の実施形態１２と異なる点はＢＤスリット９を固定とし、レンズ部８と一体化された走査光学手段６を構成する少なくとも一部の光学素子（ｆθレンズ）を主走査方向に移動させることにより、ＢＤスリット９面上での各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整可能としたことと、光偏向器の回転方向を逆方向（図中矢印Ａ方向）に構成したことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態１２と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１６４】
即ち、本実施形態ではＢＤスリット９を固定とし、レンズ部８と一体化に形成された走査光学手段６を構成する複数のレンズのうち、特に周辺において主走査方向の局所的な曲率が急激に変化している第１の光学素子６ａを被走査面７上のスポットの形状が余り変わらない範囲で調整手段（図３０）により図中矢印Ｈに示す如く主走査方向に移動させることによって、各ＢＤ光束の主走査方向における縦倍率を変化させ、ＢＤスリット９面上における各ＢＤ光束の主走査断面内での集光状態を調整している。これにより図２９（Ｂ）に示す状態から図２９（Ａ）に示す状態に改善している。
【０１６５】
尚、本実施形態では第１の光学素子６ａを主走査方向に移動させたが、第２の光学素子（ｆθレンズ）６ｂを移動させても良く、もしくは第１、第２の光学素子６ａ，６ｂの双方を移動させても良い。
【０１６６】
［実施形態１８］
本実施形態１８においてはＢＤスリット９から見たＢＤセンサー１０に導光されるＢＤ光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＸを持つことによって発生する被走査面上のドットずれを、図７に示す補正手段としての角度調整手段１５により、ＢＤスリット９または該ＢＤスリット９を含むユニット１６をＢＤ光学系の光軸周りに回転調整することによって補正している。
【０１６７】
即ち、本実施形態における光源ユニット１は前記図２に示すように副走査方向においても各発光部１ａ，１ｂが離れて配置されており、副走査方向に対して光線の通過する箇所が各発光部１ａ，１ｂに対応するＡ，Ｂ光線で異なっている。
【０１６８】
そこで本実施形態では角度調整手段１５により図８（Ａ），（Ｂ）及び図９（Ａ），（Ｂ）に示すようにＢＤスリット９を回転させることにより、Ａ光線に対してＢ光線がＢＤセンサー１０に入射し始めるタイミングを変えている。尚、図８はＢＤスリット９の傾斜と各光線の印字位置（調整前）を示す説明図、図９はＢＤスリット９の傾斜と各光線の印字位置（調整後）を示す説明図である。
【０１６９】
このように本実施形態では上述の如くＢＤセンサー１０に導光される各ＢＤ光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＸがあることによって、本来なら発生するはずの被走査面上のドットずれを角度調整手段１５を用いてＢＤスリット９を回転調整することにより補正（キャンセル）している。これにより高速で高品位な印字を実現している。
【０１７０】
尚、本実施形態においてマルチビーム走査光学系を用いて画像形成を行なう光学的作用は前述の実施形態１１と略同様である。
【０１７１】
［実施形態１９］
図１０は本発明の実施形態１９のマルチビーム走査光学系をレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に適用したときの主走査方向の要部断面図（主走査断面図）、図１１は図１０のＢＤスリット９の要部斜視図である。図１０，図１１において図６に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【０１７２】
本実施形態においては前述の実施形態１８と異なる点は角度調整手段を持たず、始めからＢＤスリット９または該ＢＤスリット９を含むユニット１６を副走査方向に傾斜させることによって被走査面上のドットずれを補正（キャンセル）したことである。その他の構成及び光学的作用は実施形態１８と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１７３】
即ち、走査光学手段６の像面湾曲の程度が製品毎にかなり安定し、かつピント位置にＢＤスリット９を配置すると条件式（Ｂ）の差分値｜δＸ｜が無視できない値を持つような場合は、図１０及び図１１に示すように始めからＢＤスリット９を副走査方向に傾斜させることによって、被走査面上のドットずれを補正（キャンセル）している。これにより高速で高品位な印字を実現している。
【０１７４】
［実施形態２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６］
尚、実施形態２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６は夫々各実施形態１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７と対応しており、これら各実施形態２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６において前述の実施形態１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７と共通して異なる点は装置全体の簡素化及び低コスト化を図るためにＢＤスリット９及びＢＤレンズ１１を用いずに構成したことである。その他の構成及び光学的作用は対応する実施形態１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【０１７５】
即ち、各実施形態２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６においてＢＤセンサー１０の有効端が前述の対応する各実施形態１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７におけるＢＤスリット９に相当する作用をする。よって各実施形態２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６においては対応する各実施形態１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７で行った内容をＢＤスリット９面をＢＤセンサー１０の受光面と置き換えて実施している。これにより前述の対応する実施形態と同様な効果を得ている。
【０１７６】
このように各実施形態２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６においてはＢＤスリット及びＢＤレンズを用いずに構成することにより、装置全体の簡素化及び低コスト化を図りつつ比較的簡単な構成によって高速で高品位の印字を実現している。
【０１７７】
【発明の効果】
本発明によれば前述の如くＢＤスリット（尚、ＢＤスリットを持たない場合は同期検出素子の受光面）から見た同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量をδＭ、被走査面上における各像高のピント位置ずれ量をδＸとしたとき、該ピント位置ずれ量δＸが条件式（Ａ）を満足するように各要素を設定することにより、比較的簡単な構成によって高速で高品位の印字を実現することができるマルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を達成することができる。
【０１７８】
更に本発明によれば前述の如くＢＤスリットから見た同期検出素子に導光される光束の主走査断面内でのピント位置ずれ量δＭと、被走査面７上における各像高のピント位置ずれ量δＸとの両者のピント位置ずれ量δＭ，δＸが差を持つことによって発生するドットずれを補正手段により補正することにより、比較的簡単な構成によって高速で高品位の印字を実現することができるマルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を達成することができる。
【０１７９】
本発明によれば前述の如く複数の発光部を有する光源手段から射出した複数の光束を偏向手段に入射させる入射光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させ、複数の走査線を形成する走査光学手段と、該偏向手段により偏向された複数の光束の一部をレンズ部により折り返しミラーを介してスリット面上に集光させた後、同期検出素子に導光し、該同期検出素子からの信号を用いて該被走査面上の走査開始位置のタイミングを該複数の光束毎に制御する同期検出用光学手段とを有するマルチビーム走査光学系において、条件式（Ｂ）を満足させるように各要素を設定することにより、またはスリット面上で複数の光束の主走査断面内での集光状態を調整手段により調整可能にすることにより、比較的簡単な構成によって高速で高品位の印字を実現することができるマルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態１の主走査断面図
【図２】各発光部の配置を示す説明図
【図３】本発明の実施形態２の主走査断面図
【図４】本発明の実施形態３の主走査断面図
【図５】本発明の実施形態４の主走査断面図
【図６】本発明の実施形態５の主走査断面図
【図７】本発明の実施形態５の角度調整手段
【図８】本発明の実施形態５のスリットの傾斜と各光線の印字位置（調整前）を示す説明図
【図９】本発明の実施形態５のスリットの傾斜と各光線の印字位置（調整後）を示す説明図
【図１０】本発明の実施形態６の主走査断面図
【図１１】本発明の実施形態６のスリットの要部斜視図
【図１２】本発明の実施形態７の主走査断面図
【図１３】本発明の実施形態８の主走査断面図
【図１４】本発明の実施形態９の主走査断面図
【図１５】本発明の実施形態１０の主走査断面図
【図１６】ピントが手前（偏向手段）側にずれたときの各光線の位置関係を示した説明図
【図１７】ピントが手前（偏向手段）側にずれたときの各光線の位置関係を示した説明図
【図１８】ピントが手前（偏向手段）側にずれたときの各光線の位置関係を示した説明図
【図１９】ピントが奥（反偏向手段）側にずれたときの各光線の位置関係を示した説明図
【図２０】ピントが奥（反偏向手段）側にずれたときの各光線の位置関係を示した説明図
【図２１】ピントが奥（反偏向手段）側にずれたときの各光線の位置関係を示した説明図
【図２２】従来のマルチビーム走査光学系の主走査断面図
【図２３】本発明の実施形態１２の主走査断面図
【図２４】本発明の実施形態１３の主走査断面図
【図２５】本発明の実施形態１４の主走査断面図
【図２６】本発明の実施形態１５の主走査断面図
【図２７】本発明の実施形態１６の主走査断面図
【図２８】本発明の実施形態１７の主走査断面図
【図２９】ピントずれと各主光線との関係を示した説明図
【図３０】本発明に係わる調整手段の説明図
【図３１】本発明の画像形成装置の概略図
【符号の説明】
１ａ，１ｂ発光部（半導体レーザ）
１    光源ユニット
２    コリメーターレンズ
３    開口絞り
４    シリンドリカルレンズ
５    偏向手段（光偏向器）
５ａ    偏向面
６    走査光学手段
６ａ    第１の光学素子
６ｂ    第２の光学素子
７    被走査面（感光ドラム面）
８    レンズ部
９    スリット
１０    同期検出素子
１１    結像レンズ
１２    折り返しミラー
１３        ユニット
１４        入射光学手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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