(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加水分解性アルコキシシランおよび／またはその縮合物（ａ）と、不飽和結合を有するフッ素含有アルコール（ｂ）とを、脱アルコール反応させて得られるアルコキシシラン誘導体を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項２】
光ラジカル開始剤を配合してなる請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
熱潜在性カチオン触媒を配合してなる請求項１または２に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
光酸発生剤または光塩基発生剤を含有してなる請求項１〜３のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項５】
加水分解性アルコキシシランおよび／またはその縮合物（ｃ）を配合してなる請求項１〜４のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項６】
重合性官能基を少なくとも１つ有する化合物を配合してなる請求項１〜５のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項７】
シリカ微粒子を配合してなる請求項１〜６のいずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項８】
請求項１〜７いずれかに記載の硬化性組成物を硬化させることにより得られることを特徴とする硬化物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、分子内にフッ素原子および不飽和結合を含有するアルコキシシラン誘導体を含有する硬化性組成物に関する。本発明の硬化性組成物は、たとえば光ラジカル開始剤を配合することにより活性エネルギー線硬化性組成物として用いることができる。当該硬化塗膜は低屈折率、耐汚染性、密着性、耐傷つき性、耐溶剤性等に優れた特性を示し、反射防止フィルム、防汚フィルムコーティング等の種々の用途に供することができる。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、プラスチック材料は、透明性に加えて、軽量、耐衝撃性および加工性などの諸特性に優れるため、家電業界、電気電子業界、自動車業界等様々な分野で多量に使用されている。しかしながら、プラスチック材料からなるフィルム、シート、成形品などにおいては、太陽光線や照明光の反射によるギラツキが生じたり、周囲の景観が反射投影されることにより、当該プラスチック材料が有する本来の透視性や光透過率が低下するという問題がある。
【０００３】
そのため、従来からプラスチックの低反射化の検討が進められてきており、通常、当該プラスチック表面に反射防止膜を形成させて前記問題を解決している。反射防止膜の製造では、SiO2、ZrO2、Al2O3などの金属酸化物が利用され、真空蒸着やスパッタリングなどの方法によって単層あるいは複層の塗膜として形成されている。しかし、真空蒸着やスパッタリング法では、当該装置の機構やコスト面より、小型精密光学部品などに限定適用されるという制約があり、さらには連続製造には不適である。
【０００４】
このような事情から、屈折率の低い含フッ素物質を、有機溶剤に溶解して液状の組成物を調製し、当該組成物を基板の表面に塗布する方法が検討されている。例えば、基板の表面にフッ素化アルキルシランを塗布する方法（特許文献１参照）、特定構造を有するフッ素系重合体を塗布する方法（特許文献２参照）、紫外線硬化型の含フッ素コート剤を塗布する方法（特許文献３参照）などが提案されている。
【０００５】
【特許文献１】
特開昭６４−１５２７号公報
【特許文献２】
特開平６−１１５０２３号公報
【特許文献３】
特開平８−１００１３６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来技術のうち、フッ素系材料を塗布し熱硬化させてなる反射防止膜は、硬化速度が遅く生産性に劣るという欠点があり、また紫外線硬化型フッ素系コート剤を用いて得られる反射防止膜層は耐傷つき性が不十分であり、繰り返し擦った場合には当該層が剥がれるなどの問題を有している。更に、上記の含フッ素化合物は、概して粘度が高いため、有機溶剤で希釈した塗工液として使用されるため、溶剤由来の環境的な問題も有している。
【０００７】
本発明は、有機溶剤を使用せずとも低粘度で塗工することができ、しかも透明性、耐傷つき性、耐汚染性に優れ、低屈折率であって良好な反射防止効果を発揮できる硬化膜を連続的に形成しうる、硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者は前記課題を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、特定のアルコキシシラン誘導体を使用することにより、当該課題を悉く解決できるという知見を得、本発明を完成するに到った。
【０００９】
すなわち、本発明は、加水分解性アルコキシシランおよび／またはその縮合物（ａ）と、不飽和結合を有するフッ素含有アルコール（ｂ）とを、脱アルコール反応させて得られるアルコキシシラン誘導体を含有することを特徴とする硬化性組成物；および当該硬化性組成物を硬化させて得られることを特徴とする硬化物に関する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明に用いられる加水分解性アルコキシシランおよび／またはその縮合物（ａ）（以下、併せて（ａ）成分という）は、一般式（１）：Ｒ１ｍＳｉ（ＯＲ２４−ｍ）（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基を表し、ｍは０〜２の整数を表す。）で表される加水分解性アルコキシシランおよび／または当該加水分解性アルコキシシランの縮合物である。
【００１１】
（ａ）成分のうち、加水分解性アルコキシシランとしては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等のジアルコキシシラン類等といったものがあげられる。
【００１２】
（ａ）成分のうち、加水分解性アルコキシシランの縮合物とは、上記加水分解性アルコキシシランの１種または２種以上が縮合したものを表す。一般式（１）で表される加水分解性アルコキシシランの縮合物の縮合度は特に制限されないが、取り扱い性が良好なことから、加水分解性アルコキシシランの縮合物1分子あたりＳｉ原子を平均２〜８個含有する縮合物が好ましい。なお、当該縮合物の構造は特に限定されず、直鎖構造、分岐構造のいずれでもよく、分岐鎖同士間に、または分岐鎖と主鎖との間に酸素原子を介する結合が存在してもよい。一般式（１）中、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基ならばとくに制限されないが、アルコキシ基の加熱縮合反応において、低温で硬化させる場合や、硬化速度を速くしたい場合にはＲ２をメチル基とすることが好ましい。ここでいう低級アルキル基とは炭素数が１〜８のアルキル基を表す。これら（ａ）成分の中では、不飽和結合を有するフッ素含有アルコール（ｂ）との反応性に優れる点で、テトラアルコキシシラン類および／またはトリアルコキシシラン類の縮合物が好ましい。
【００１３】
不飽和結合を有するフッ素含有アルコール（ｂ）（以下、（ｂ）という）としては特に限定されず、具体例として、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート（なお、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートとは３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレートおよび／または３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレートをいい、以下（メタ）とは同様の意味である。）、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等があげられる。
【００１４】
（ａ）成分と（ｂ）成分の反応は、たとえば、前記各成分を仕込み、加熱して生成するアルコールを留去しながらエステル交換反応を行う。反応温度は５０〜１２０℃程度、好ましくは９０〜１１０℃であり、全反応時間は１〜１５時間程度である。
【００１５】
なお、脱アルコール反応を、１２０℃を超える温度で行うと、不飽和結合部が重合することにより、反応生成物が高粘度化またはゲル化する場合があるほか、反応系中で（ａ）成分の縮合に伴って、反応生成物の分子量が上がりすぎることによっても、高粘度化やゲル化の傾向が見られる場合がある。このような場合には、脱アルコール反応を反応途中で停止させるなどの方法により高粘度化、ゲル化を防止すればよい。
【００１６】
また、上記のエステル交換反応に際しては、反応促進のために従来公知のエステル交換反応触媒を使用することができる。たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コバルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、砒素、セリウム、硼素、カドミウム、マンガンのような金属や、これら酸化物、有機酸塩、ハロゲン化物、アルコキシド等があげられる。これらのなかでも、特に有機錫、有機酸錫が好ましく、具体的には、オクチル酸錫、ジブチル錫ジラウレート等が有効である。
【００１７】
また、上記反応は溶剤中で行うこともできる。溶剤としては、（ａ）成分、（ｂ）成分を溶解する有機溶剤であり、非プロトン性溶媒であれば特に制限はない。このような有機溶剤としては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン等があげられる。
【００１８】
こうして得られた、分子内にフッ素および不飽和結合を含有するアルコキシシラン誘導体（以下、本アルコキシシラン誘導体という）は、未反応の（ａ）成分を含有していてもよい。
【００１９】
上記の脱アルコール反応を行う場合、（ａ）成分と（ｂ）成分の使用割合は、通常、｛（ｂ）成分の水酸基の当量｝／｛（ａ）成分のアルコキシ基の当量｝が０．１／１〜０．７０／１の仕込み比率とするのが好ましく、０．１／１〜０．４／１とするのがより好ましい。（ａ）成分のアルコキシ基１当量に対し、（ｂ）成分の水酸基の当量が０．１当量より少なくなる場合には活性エネルギー線照射の際に十分な硬化性が得られず、また、（ａ）成分のアルコキシ基の１当量に対し、（ｂ）成分の水酸基の当量が０．７０当量より多くなる場合には密着性向上等の特性が現れないためである。
【００２０】
本アルコキシシラン誘導体は、分子中に不飽和結合及びアルコキシシリル基を有することより、活性エネルギー線、酸発生剤、塩基発生剤により架橋反応を行うことが可能となる。そのため、光ラジカル開始剤及び／または熱潜在性カチオン触媒、光ラジカル開始剤／（光酸発生剤または光塩基発生剤）を適宜に組み合わせて、本発明の硬化性組成物を調製することができる。
【００２１】
前記光ラジカル開始剤としては、何ら限定なく各種公知のものが使用でき、たとえば２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステル、ｐ−ジメチルアセトフェノン、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、アシルフォスフィンオキサイド、カンファーキノン等が挙げられる。これらの光ラジカル開始剤は単独あるいは２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。
【００２２】
熱潜在性カチオン触媒としては、何ら限定なく各種公知のものが使用できる。例えば、五塩化アンチモン−塩化アセチル錯体、ジアリールヨードニウム塩−ジベンジルオキシ銅、ハロゲン化ホウ素−三級アミン付加物、各種ベンジルスルホニウム塩系化合物等をあげることができる。
【００２３】
光酸発生剤としては、トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェート、Ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジスルフェニルジスルフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオルアンチモネート、ビス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロフォスフェート、ビス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］スルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル)［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等をあげることができる。
【００２４】
光塩基発生剤としては、何ら制限なく各種公知のものが使用できる。例えば、［（Ｏ−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルシクロヘキシルアミン等のニトロベンジルカルバメート化合物類（ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカルソサイエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．），Ｖｏｌ．１１３，Ｎｏ．１１，４３０５，１９９１参照）、Ｎ−［［１−（３，５−ジメトキシフェニル）−１−メチル−エトキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミンＮ−［［１−（３，５−ジメトキシフェニル）−１−メチル−エトキシ］カルボニル］ピリジン等の光官能性ウレタン化合物類（ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリィ（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．），Ｖｏｌ．５５，Ｎｏ．２３，５９１９，１９９０参照）等を使用することができる。
【００２５】
前記光ラジカル開始剤の使用量は、硬化性樹脂組成物中で１０重量％以下、好ましくは２〜５重量％とされる。なお、本発明の硬化性樹脂組成物を、電子線で硬化させる場合には不要とされる。また、熱潜在性カチオン触媒、光酸発生剤または光塩基発生剤の使用量は硬化性樹脂組成物中で１０重量％以下、好ましくは２〜５重量％である。
【００２６】
前記アルコキシシラン誘導体を含有する硬化性組成物には、さらに、一般的にゾル−ゲル法に用いられる加水分解性アルコキシシランおよび／またはその縮合物（ｃ）（以下、併せて（ｃ）成分という）を配合することができる。たとえば、一般式（２）：Ｒ３ｎＳｉ（ＯＲ４）４−ｎ（式中、ｎは０〜２の整数を示し、Ｒ３は炭素原子に直結した官能基を持っていてもよい低級アルキル基、アリール基、不飽和脂肪族残基を表し、同一でも異なっていてもよい。Ｒ４は水素原子または低級アルキル基を示す。）で表されるものがあげられる。（ｃ）成分のうち、加水分解性アルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等のジアルコキシシラン類等といったものがあげられる。（ｃ）成分のうち、加水分解性アルコキシシランの縮合物としては、特に限定はされないが、作業性の点から、一般式（２）で表される加水分解性アルコキシシランの縮合物１分子あたりＳｉ原子を平均２〜８個有する直鎖状の縮合物が好ましい。
【００２７】
かかる（ｃ）成分の使用量は、本アルコキシシラン誘導体１重量部に対して、５０重量部程度以下である。本アルコキシシラン誘導体に対する（ｃ）成分の当該使用量が５０重量部を超えると、硬化時にフッ素特有の特性、特に耐汚染性が低下する傾向があるためである。
【００２８】
なお、本アルコキシシラン縮合物が、未反応の（ａ）成分を含む場合や、（ｃ）成分を配合した硬化性組成物の場合には、さらに加水分解、重縮合によりシリカとすることができ、加水分解、重縮合を促進するため、当該組成物の使用にあたって少量の水を含有させることもできる。
【００２９】
本アルコキシシラン誘導体を含む硬化性組成物には、当該硬化性組成物の特性を損なわない範囲で重合性官能基を少なくとも１つ有する化合物を配合することができる。たとえばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のビニル基含有ラクタム、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂環式構造含有（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン等が挙げられる。さらに、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル等の１官能モノマー、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体のジオールのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体のジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジビニルエーテル等多官能モノマーがあげられる。
【００３０】
前記モノマーの使用量は硬化性組成物中の３０重量％以下とするのが好ましい。３０重量％を超えて配合すると、目標とする低屈折率が得られないことがある。
【００３１】
硬化性組成物を硬化させて得られる硬化膜の耐傷つき性をさらに良くするために、シリカ微粒子を加えることができる。シリカ微粒子としては、特に制限されず、具体例として、コロイダルシリカでは、メタノールシリカゾル、ＩＰＡ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ（以上、日産化学工業（株）製）等が挙げられる。また、粉体シリカとしては、ＡＥＲＯＳＩＬ１３０、ＡＥＲＯＳＩＬ３００、ＡＥＲＯＳＩＬ３８０、ＡＥＲＯＳＩＬ６００（以上、日本アエロジル（株）製）等があげられる。
【００３２】
前記シリカ微粒子の使用量は、硬化性樹脂組成物中で１０〜５０重量％とするのが好ましく、２０〜４０重量％とするのがより好ましい。シリカ微粒子が硬化性樹脂組成物中で１０重量％以下であると、耐傷つき性の向上はあまり見られない。また、５０重量％を超えて配合すると、硬化が不十分になり、目標性能が得られないことがある。
【００３３】
また、本アルコキシシラン誘導体を含む硬化性組成物は、無溶剤での使用のほか、環境問題が生じない程度に少量であれば、溶剤を添加して濃度、粘度調整しても差し支えない。溶剤としては、本アルコキシシラン誘導体の製造に用いたものと同様のものを使用できる。その他、前記硬化性組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、充填剤、離型剤、表面処理剤、難燃剤、粘度調節剤、可塑剤、抗菌剤、防黴剤、レベリング剤、消泡剤、着色剤、安定剤、カップリング剤等を配合してもよい。
【００３４】
本アルコキシシラン誘導体を含む硬化性組成物を各種用途へ適用するにあたっては、当該用途に応じて各種樹脂を併用できる。併用する樹脂としては活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、例えばウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートポリエーテルアクリレート、不飽和ポリエステルなどがあげられる。
【００３５】
【発明の効果】
本発明の硬化性組成物は、（ｃ）成分などの添加によっても白濁等の問題は生じず、透明性に優れるほか、低粘度であるため塗工時に有機溶剤を実質的に使用する必要がない。本発明の硬化性組成物から得られる硬化膜は、各種プラスチック基材に対する密着性に優れるほか、低屈折率であり、防汚性、耐傷つき性などにも優れる。そのため、本発明の硬化性組成物を用いることにより、良好な反射防止効果を発揮できる硬化膜を連続的に形成しうる。
【００３６】
【実施例】
以下、実施例および比較例をあげて本発明を具体的に説明する。なお、各例中、部、％は特記ない限り重量基準である。
【００３７】
実施例１
攪拌機、分水器、温度計、空気吹込み管、窒素吹き込み口を備えた反応装置に、テトラメトキシシラン縮合物（多摩化学（株）製、商品名「ＭＳ−５１」：縮合物１分子あたりＳｉ原子を平均４個含有する縮合物）４７．６部、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート（ダイキン化成品販売（株）製、商品名「Ｒ−１４３３」）５２．４部、および重合禁止剤としてメトキノン０．１部を仕込み、反応液中に空気を吹込み、窒素気流下、攪拌しながら、８０℃に昇温後、触媒としてオクチル酸錫０．０５部を加え、９０〜１００℃で反応させた。反応中、メタノールを反応系内から分水器を使って留去し、その量が、約４．８部に達した時点で、冷却した。昇温後冷却までに要した時間は４時間であった。５０℃に冷却後、空気吹込み管、窒素吹き込み栓と分水器を取り去り、減圧ラインを繋いで、７ｋＰａで約３０分間、系内に残存するメタノールを減圧によって除去した。その後、フラスコを室温まで冷却し、９０．７部の反応生成物を得た。粘度は、４７．７ｍＰａ・s／２５℃であった。なお、仕込み時の（ｂ）／（ａ）（当量比）は０．１５／１である。
【００３８】
実施例２
実施例１と同様の反応装置に、テトラメトキシシラン縮合物（多摩化学（株）製、商品名「ＭＳ−５１」：縮合物１分子あたりＳｉ原子を平均４個含有する縮合物）４１．４部、２−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート（ダイキン化成品販売（株）製、商品名「Ｒ−１６３３」）５８．７部、および重合禁止剤としてメトキノン０．１部を仕込み、窒素気流下、攪拌しながら、８０℃に昇温後、触媒としてジブチル錫ジラウレート０．０５部を加え、８０〜１００℃で反応させた。反応中、メタノールを反応系内から分水器を使って留去し、その量が、約４．２部に達した時点で、冷却した。昇温後冷却までに要した時間は５時間であった。５０℃に冷却後、空気吹込み管、窒素吹き込み栓と分水器を取り去り、減圧ラインを繋いで、７ｋＰａで約３０分間、系内に残存するメタノールを減圧によって除去した。その後、フラスコを室温まで冷却し、９３．３部の反応生成物を得た。粘度は、１９．４ｍＰａ・s／２５℃であった。なお、仕込み時の（ｂ）／（ａ）（当量比）は０．１５／１である。
【００３９】
実施例３
実施例１と同様の反応装置に、テトラメトキシシラン縮合物（前記商品名「ＭＳ−５１」）２６．１部、２−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート（前記商品名「Ｒ−１６３３」）７３．９部、および重合禁止剤としてメトキノン０．１部を仕込み、反応液中に空気を吹込み、窒素気流下、攪拌しながら、８０℃に昇温後、触媒としてジブチル錫ジラウレート０．０５部を加え、８０〜１００℃で反応させた。反応中、メタノールを反応系内から分水器を使って留去し、その量が、約５．３部に達した時点で、冷却した。昇温後冷却までに要した時間は５時間であった。５０℃に冷却後、空気吹込み管、窒素吹き込み栓と分水器を取り去り、減圧ラインを繋いで、７ｋＰａで約３０分間、系内に残存するメタノールを減圧によって除去した。その後、フラスコを室温まで冷却し、９１．１部の反応生成物を得た。粘度は、５３５ｍＰａ・s／２５℃であった。なお、仕込み時の（ｂ）／（ａ）（当量比）は０．３／１である。
【００４０】
比較例１
実施例１と同様の反応装置に、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート（ダイキン化成品販売（株）製、商品名「Ｒ−１４３３」）６４．９部、イソホロンジイソシアネート（ダイセル・ヒュルス（株）製、商品名「ＩＰＤＩ」）４１．４部を仕込み、窒素気流下、攪拌しながら、触媒としてオクチル酸錫を０．０４部加え、８０℃で２時間反応させた。これにペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業（株）製、商品名「ビスコート３００」）８５．０部を加え、さらに同温度で２時間反応させた。生成物中の残存イソシアネートを分析したところ０．１％以下であり、反応がほぼ定量的に終了したことを示した。粘度は４７０，０００ｍＰａ・s／２５℃であったが、高粘度のため、酢酸エチルにて５０％濃度に希釈したものを調製した。当該溶液の粘度は５．８ｍＰａ・s／２５℃であった。
【００４１】
比較例２
実施例１と同様の反応装置に、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート（前記商品名「Ｒ−１４３３」）４０．６部、２−イソシアネートエチル−２，６−ジイソシアネートカプロエート（協和発酵工業（株）製、商品名「ＬＴＩ」）９．４部、酢酸エチル５０．０部を仕込み、窒素気流下、攪拌しながら、触媒としてオクチル酸錫０．０４部を加え、８０℃で２時間反応させた。生成物中の残存イソシアネートを分析したところ０．１％以下であり、反応がほぼ定量的に終了したことを示した。粘度は、９．７ｍＰａ・s／２５℃であった。
【００４２】
試験例１〜３および比較試験例１〜２
実施例１〜３および比較例１〜２で得られた反応生成物（アルコキシシラン誘導体など）および添加物を表１に示した割合で配合し、当該配合物を硬化させ、硬化膜の性能を評価した。性能評価結果を表２に示す。
【００４３】
【表１】
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【００４４】
なお、表１中、ＰＥＴ３Ａはペンタエリスリトールトリアクリレート、１，９−ＮＤＡは１，９−ノナンジオールジアクリレート、光ラジカル開始剤は１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバスペシャルティケミカル社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）、熱潜在性カチオン触媒は６フッ化アンチモン系芳香族スルホニウム塩、光酸発生剤はトリフェニルスルホニウムホスフェートである。
【００４５】
（性能評価）
アルコキシシラン誘導体および添加物を表１に示したとおり配合し、当該配合物をバーコーター＃６にて基材上に塗布し、これに高圧水銀灯（１２０W／ｃｍ×１０ｃｍ（Ｈ）×１灯×１０ｍ／分×３パス）を照射して硬化させ、更に１２０℃で３０分間加熱して硬化塗膜とした。この硬化塗膜を用いて、各種試験を行った。
屈折率：非接触光学式薄膜測定装置（松下インターテクノ（株）製、商品名「ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ」）を使用して測定した。
耐傷つき性：硬化膜を爪で引っかき、傷が付くかどうかを目視観察した。
密着性：各種基材に塗布し、上記の条件で硬化させ、当該硬化膜につきＪＩＳ Ｋ ５４００に記載された方法で碁盤目セロハンテープ剥離試験を行った。
耐汚染性：硬化膜表面に黒の油性マジックインキで線幅２ｍｍの線を引き、メタノールを含ませたガーゼで表面をふき取り、マジックインキの残っている状態を目視観察した。
【００４６】
【表２】
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