(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加減速領域と定速走査領域とを有する走行路に沿って移動可能なステージと、該走行路の該加減速領域においてステージを加減速する第１の駆動機構と、該走行路の該定速走査領域において一定の走査速度に該ステージを制御する第２の駆動機構とを備え、
該第１の駆動機構による該ステージの加速と、該第２の駆動機構による該ステージの定速走行と、該第１の駆動機構による該ステージの減速とを繰り返し行うステージ装置において、
該ステージが停止している状態から、最初に該ステージを該第１の駆動機構により該走査速度まで加速する前に、該ステージを該第２の駆動機構により該走査速度まで加速を行うことを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記第１の駆動機構は、前記ステージの運動エネルギーを別の形態にして蓄え、蓄えたエネルギーを再び該ステージの運動エネルギーに変換し、該ステージの加減速を行うことを特徴とする請求項１記載のステージ装置。
【請求項３】
前記第１の駆動機構は、ステージの運動エネルギーを弾性エネルギーに変換する機構を有することを特徴とする請求項２記載のステージ装置。
【請求項４】
前記第１の駆動機構は、バネを有することを特徴とする請求項３記載のステージ装置。
【請求項５】
前記第１の駆動機構のバネの位置を調整する機構を有することを特徴とする請求項４記載のステージ装置。
【請求項６】
前記第２の駆動機構は、リニアモータであることを特徴とする請求項１〜５いずれか記載のステージ装置。
【請求項７】
前記第２の駆動機構は、前記ステージの走行中のエネルギーのロスを補完することを特徴とする請求項１〜６いずれか記載のステージ装置。
【請求項８】
前記ステージを停止させるときは、前記第２の駆動機構を用いて減速を行うことを特徴とする請求項１〜７いずれか記載のステージ装置。
【請求項９】
前記ステージを走行路に沿って移動可能に支持する第１のベースが、前記第１の駆動機構を支持する第２のベースから独立していることを特徴とする請求項１〜８いずれか記載のステージ装置。
【請求項１０】
請求項１〜９いずれか記載のステージ装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
レチクルステージとウエハステージの少なくとも一方に前記ステージ装置を用い、該ウエハステージに搭載されたウエハと該レチクルステージに搭載されたレチクルとを相対的に走査移動させて移動中に露光を行い、レチクルのパターンをウエハに転写することを特徴とする請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
露光を行わない間、前記レチクルステージを往復移動しながら待機していることを特徴とする請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】
請求項１０〜１２いずれか記載の露光装置を用意する工程と、該露光装置を用いてレチクルのパターンをウエハに転写する工程とを有することを特徴とする露光方法。
【請求項１４】
前記ウエハ上に感光材を塗布する工程と、該ウエハ上に露光された部分を現像することを特徴とする請求項１３記載の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レチクルやフォトマスク等の原版のパターンをウエハ等の感光基板に転写して半導体素子や液晶表示素子等を製造するための露光装置、特に原版と感光基板の双方を走査させて露光する走査型の露光装置に好適なステージ装置に関する。また、これを用いた露光装置やデバイス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図８に従来の走査ステージの斜視図を示す。
【０００３】
目的物を搭載したステージ１０３は、ベース１０１上に固定された断面Ｕ字型のガイド１０２に沿って走査方向に往復移動自在である。ステージ１０３の両脇にはリニアモータ可動子１０７が設けられ、これに対するリニアモータ固定子１０５が走査方向に沿ってベース上に固定されている。リニアモータＥは、ステージを走査方向に沿って非接触で駆動することができる。
【０００４】
リニアモータ固定子１０５は、ガイド１０２のほぼ全長に沿って配設された長尺のループ状のヨーク１０５ａとその内側に固着された長尺の磁石１０５ｂからなる。リニアモータ可動子１０７は、銅線を巻きまわしたコイルである。リニアモータ可動子のコイル１０７の中をリニアモータ固定子１０５のヨーク１０５ａと磁石１０５ｂが通るように配置する。コイル１０７に不図示の電源から駆動電流が供給されると、磁石１０５ｂに沿って推力が発生し、これによりステージが駆動される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の構成で、ステージ１０３を駆動する際の加速および減速に消費する時間を短縮するには、リニアモータＥ１には大きな推力が要求される。そのため、リニアモータ固定子１０５は、強磁場を発生するように設計され、ヨーク１０５ａは、鉄等の飽和磁束密度の高い材質のものを用いる。しかし、ヨーク１０５ａの走査方向の両端部分１０５ｃ（図９参照）には上記の強磁場の磁束が集中するため、ヨーク１０５ａの両端部１０５ｃは、集中した磁束を飽和させないために極めて大きな断面積を必要とする。ヨーク中央部分は両端部分と同じ断面寸法であるため、ヨーク全体の重量が大きくなってしまう。また、強磁場を発生するため、リニアモータ固定子１０５の磁石１０５ｂは厚肉にするとともに、その材料を高価な希土類磁石を用いる必要がある。そのため、リニアモータの推力を上げようとすると、リニアモータの重量が増し、コストが高くなってしまう。
【０００６】
また、大きな推力でステージ１０３を駆動すると、リニアモータＥ１の駆動反力も大きくなってしまう。リニアモータＥ１の反力は、リニアモータ固定子１０５からベース１０１に伝達され、装置を振動させる。特に、ステージを位置決めするための基準の役割をするベース１０１やガイド１０２が振動すると、ステージの位置決めサーボ系の大きな外乱となり、ステージの位置決め精度を低下させるほか、ステージの位置決めの制定時間が長くなってしまう。
【０００７】
また、ステージ１０３を走査方向に沿って往復運動をする場合、往復するたびにステージの加速、減速を行うことになり、そのたびにコイル１０７に駆動電流を流しているので、多くのエネルギーを繰り返し必要とする。また、コイル１０７に電流を流すと発熱が生じ、この熱がステージの搭載物やステージ装置構成部材を熱変形させる。さらに、コイルの発熱により周辺の空気が揺らぎ、レーザ干渉計の計測光の光路周辺の温度環境が変化し、レーザ干渉計の検出値に誤差を発生させる。
【０００８】
また、このような発熱を軽減させるため、ステージの加減速に発熱を起こさないバネ等を用いた場合、ステージを最初に加速する際はバネを圧縮する装置が別途必要となるので、装置の大型化や高コスト化を招いてしまう。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するための本発明のステージ装置は、加減速領域と定速走査領域とを有する走行路に沿って移動可能なステージと、該走行路の該加減速領域においてステージを加減速する第１の駆動機構と、該走行路の該定速走査領域において一定の走査速度に該ステージを制御する第２の駆動機構とを備え、該第１の駆動機構による該ステージの加速と、該第２の駆動機構による該ステージの定速走行と、該第１の駆動機構による該ステージの減速とを繰り返し行うステージ装置において、該ステージが停止している状態から、最初に該ステージを該第１の駆動機構により該走査速度まで加速する前に、該ステージを該第２の駆動機構により該走査速度まで加速を行うことを特徴とする。
【００１０】
また、前記第１の駆動機構は、前記ステージの運動エネルギーを別の形態にして蓄え、蓄えたエネルギーを再び該ステージの運動エネルギーに変換し、該ステージの加減速を行うことが望ましく、ステージの運動エネルギーを弾性エネルギーに変換する機構を有することがよい。より具体的には、前記第１の駆動機構は、バネを有することが望ましい。
【００１１】
また、前記第２の駆動機構は、リニアモータであることが望ましい。
【００１２】
また、前記第２の駆動機構は、前記ステージの走行中のエネルギーのロスを補完することが望ましい。また、前記ステージを停止させるときは、前記第２の駆動機構を用いて減速を行うことが望ましい。
【００１３】
また、前記ステージを走行路に沿って移動可能に支持する第１のベースが、前記第１の駆動機構を支持する第２のベースから独立していることが望ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
＜実施形態１＞
図１は本発明の第１の実施形態によるステージ装置を示す斜視図である。
【００１５】
１は防振ベースであり、不図示の除振装置により床等からの振動が除振されている。２は推力支持ベースであり、防振ベース１と振動的に独立している。
【００１６】
目的物を搭載した走査ステージ２３は、除振ベース上に固定された一対の案内レール２２ａ、２２ｂを有するガイド２２に案内されて走査方向（所定方向）に往復移動自在である。走査ステージ２３は、ガイド２２に沿って所定方向に往復走行自在である。第１の駆動機構である一対のバネによる推力発生装置Ｃ１，Ｃ２が、推力支持ベース２上に固定され、走査ステージ２３の走行路の両端に位置している。また、走査ステージ２３の走行路に沿った両側に、第２の駆動機構である小形のサブリニアモータＢ１、Ｂ２を設ける。走査ステージ２３は、不図示の静圧軸受パッド等によって防振ベース１およびガイド２２から非接触で支持されている。
【００１７】
推力発生装置Ｃ１、Ｃ２は、それぞれコイルバネ２４、２５と、バネベース２４ａ、２５ａと、バネベースガイド２６ｂ、２７ｂと、モータ２６ｄ、２７ｄを有している。コイルバネ２４、２５のそれぞれ一端は、走査ステージ２３の両端面２３ｃ、２３ｄのそれぞれに当接可能であり、他端はバネベース２４ａ、２５ａに保持されている。バネベースガイド２６ｂ、２７ｂは、案内面２６ａ、２７ａを有し、案内面２６ａ、２７ａに沿った任意の位置にバネベース２４ａ、２５ａを固定することが自在なクランプ（不図示）を内蔵している。モータ２６ｄ、２７ｄは、ねじ２６ｃ、２７ｃを回転させ、バネベースガイド２６ｂ、２７ｂの案内面２６ａ、２７ａに沿ってバネベース２４ａ、２５ａを移動させる。このモータ２６ｄ、２７ｄの動作により、コイルバネ２４、２５の位置を調整することができ、走査ステージ２３の走査範囲が狭いときはバネを中央に移動させ、逆に走査ステージ２３の走査範囲が広いときはバネを外側に移動させ、バネが往復運動する地点、すなわち走査ステージ２３の加減速開始位置を変えることができる。バネが走査ステージ２３に与える力は、走査ステージ２３が走行路の中心部へ向かって走行するときは加速させ、これと逆向きに走行するときは減速させる働きをする。推力発生装置は推力支持ベースに支持されているため、バネによって走査ステージ２３を加減速する際に生じる反力や振動が、走査ステージ２３を支持する防振ベース１に伝達しない構成になっている。
【００１８】
サブリニアモータの部分拡大図を図２に示す。
【００１９】
サブリニアモータＢ１、Ｂ２は、小形のループ状のサブヨーク８ａとその内側に固着されたサブ磁石８ｂを有するサブリニアモータ固定子８と、サブリニアモータ固定子のループの内側に一部が位置するコイルを有するサブリニアモータ可動子９により構成される。サブリニアモータ固定子８は、防振ベース１に固定され、サブリニアモータ可動子９、走査ステージ２３の側面に固着される。サブリニアモータＢ１、Ｂ２は、ステージの走査範囲の中央部において走査ステージ２３に推力を与えることができる。サブリニアモータＢ１、Ｂ２は、主に推力発生装置Ｃ１、Ｃ２によって所定の速度まで加速された走査ステージ２３を一定の速度に保つような動作を行うので、推力発生装置Ｃ１、Ｃ２のように大きな推力を発生させる必要がない。従って、サブリニアモータＢ１、Ｂ２は小形かつ軽量のもので良い。
【００２０】
次に、走査ステージの駆動方法について説明する。
【００２１】
推力発生装置Ｃ１、Ｃ２が走査ステージを加速するためには、バネの弾性力を要するため、バネに初期ひずみを与える必要がある。しかし、本発明の構成には、バネに初期ひずみを与える機構は設けていない。そこで、推力発生装置Ｃ１、Ｃ２のバネに初期ひずみを与えるために、サブリニアモータＢ１、Ｂ２を用いて最初に走査ステージ２３を必要とされる速度まで加速する。前述の通り、サブリニアモータＢ１、Ｂ２が発生する推力は小さいので、走査ステージ２３の加速は小さいが、サブリニアモータＢ１、Ｂ２は走査ステージ２３の走査範囲のほぼ全体にわたって推力を与えることができるように設計されているので、その長いストロークを利用して走査ステージを所定の速度まで到達させる。サブリニアモータＢ１、Ｂ２による最初の走査ステージの加速は、所定の速度に到達するまで時間を多く必要とするが、露光動作が開始される前までに、必要とする速度に達すれば良い。
【００２２】
サブリニアモータＢ１，Ｂ２により所定の速度に達した状態で、走査ステージ２３は推力発生装置のコイルバネに接触する。バネが圧縮され、走査ステージ２３は減速し、やがて停止する。次に圧縮されたバネは圧縮前の寸法の自然長に戻ろうと反発し、走査ステージ２３は移動方向を転換し、蓄えられた弾性エネルギーにより加速を始める。そして、バネが前の寸法に戻った時、走査ステージ２３の速度は、前述のコイルバネに接触する前の所定の速度に加速されている。推力発生装置により走査ステージ２３が所定速度まで加速された後、サブリニアモータＢ１、Ｂ２が走査ステージ２３の走査速度制御を行う。走査速度制御を終えた後、走査ステージ２３は、所定の速度で上述の推力発生装置と反対側の推力発生装置のコイルバネに接触する。バネが圧縮され、走査ステージ２３は減速し、やがて停止し、先ほどと同様の動作を繰り返す。これ以降は、推力発生装置の２つのコイルバネ２４、２５の間を走査ステージ２３が往復運動する。
【００２３】
そして、ステージを停止させるときは、再びサブリニアモータＢ１、Ｂ２を利用する。減速の方法は、停止している走査ステージ２３を初めて所定速度まで加速したときと逆の方法で、長いストロークを利用してサブリニアモータＢ１、Ｂ２を用いて走査ステージ２３を減速させて、停止させる。
【００２４】
また、走査ステージ２３の加速は、サブリニアモータＢ１、Ｂ２の作動可能領域を用いて加速しているが、ストロークが狭い場合、必要とされる所定の速度に達する前にコイルバネに接触することが考えられる。この場合は、接触した推力発生手段のコイルバネにより、走査ステージ２３を減速、方向転換、加速して、コイルバネに接触する直前の速度に戻し、サブリニアモータＢ１、Ｂ２による走査ステージの加速を再開し、所定の速度まで到達させれば良い。所定の速度に到達するまでの走査ステージ２３の往復運動の回数は、サブリニアモータＢ１、Ｂ２の推力とストロークと到達速度で決まる。サブリニアモータＢ１、Ｂ２の推力が極端に小さいと、走査ステージ２３が所定の速度に到達するまでの往復運動の回数が増え、所望の走査運動を始めるまで時間がかかるので、装置を設計する際は、このことを考慮する必要がある。また、走行中の走査ステージ２３を停止させる場合も、逆の動作により、往復運動する走査ステージ２３をサブリニアモータＢ１、Ｂ２により繰り返して減速させ続ければ良い。
【００２５】
また、推力発生装置のコイルバネは理想系ではないので、現実には、コイルバネに接触する直前の走査ステージ２３の速度と、コイルバネから離れるときの走査ステージ２３の速度は、厳密には一致しない。しかし、走査ステージ２３の往復運動で発生する摩擦等による運動エネルギーのロスは、サブリニアモータＢ１、Ｂ２により補完することができ、走査ステージ２３を所定の速度に戻すことができる。
【００２６】
本実施形態によれば、バネを用いてステージの加減速を繰り返し行っているので、加減速時にほとんど発熱せず、また、装置の軽量化やコストダウンを図ることができる。
【００２７】
さらに、サブリニアモータは、主に加速された走査ステージを走査速度に制御する程度の推力やエネルギーのロス分を補完する程度の推力を発生できれば良いので、サブリニアモータ全体を小型に設計することができる。その結果、装置の小型化や軽量化を促進するとともに、リニアモータに高価な希土類磁石を用いる場合には材料費を大幅に削減できる。
【００２８】
また、走査ステージの加減速を繰り返し行う推力発生装置が、ステージやガイドを支持する防振ベースとは振動的に独立した推力支持ベース上に設けられているので、ステージの加減速時に発生する反力が防振ベースに伝達されず、防振ベースの振動や変形が発生しないので、高精度なステージの制御を実現できる。また、本実施形態ではサブリニアモータの固定子を防振ベースに設けていたが、これに限るものではなく、推力支持ベースに設けても良い。
【００２９】
また、サブリニアモータにより最初に必要なバネの初期ひずみを起こしているので、バネを圧縮するための特別な機構を設ける必要がないので、装置の簡略化、小型化、コストダウンを図ることができる。
【００３０】
また、本実施形態ではコイルバネを用いてステージの加減速を行っているが、これに限るものではなく、板バネや空気バネ等のようなものでも良い。また、バネのように弾性エネルギーを蓄えるものに限るものではなく、位置エネルギーを蓄えるようなものでも良い。
【００３１】
＜実施形態２＞
図３に本発明の第２の実施形態として前述の走査ステージ装置を用いた走査型の露光装置の概略図を示す。
【００３２】
走査ステージ５３が防振ベース５１上を走査方向に移動可能に支持されている。走査ステージ５３を駆動するための推力発生装置およびサブリニアモータは不図示であるが、前述の実施形態とほぼ同様の構成である。
【００３３】
露光動作開始前にステージが停止しているときは、前述の実施形態で述べたように走査ステージを所定の走査速度まで駆動し、走行路の中央部分で走査ステージ５３が走査速度で走行している間に、光源からの帯状の露光光が走査ステージ５３に支持されたレチクルＬ２に照射され、レチクル上に形成された回路パターンが等倍結像光学系により走査ステージに支持されたウエハＷ２に結像し、走査露光される。ウエハとレチクルの双方を走査させることで、ウエハ上の所定のショットにレチクルパターン全体を転写する。走査ステージが往復運動し、繰り返し走査露光を行うことで、ウエハ上の各ショットの露光を行う。ウエハの露光を終了した後、ウエハを交換するときは、前述の実施形態で述べたように走査ステージを停止させ、ウエハの交換を行う。ウエハの交換や装置の自動補正のために所定の位置までステージを移動させる必要があるときは、サブリニアモータを用いると良い。ウエハの交換後、再び露光を開始するときは、上述の動作を再開する。
【００３４】
走査ステージ５３にミラー５３ａを一体に設け、その反射光を受光するレーザ干渉系５４によって走査ステージ５３の位置を計測できるようになっている。
【００３５】
本実施形態によれば、ステージの加減速時に発熱がほとんどないため、レチクルやウエハまたは露光装置の構成部材が熱変形等を起こさないので、高精度な露光を行うことができる。また、発熱による空気の揺らぎがほとんどないので、レーザ干渉系による位置計測を精密に行うことができる。
【００３６】
また、ステージを駆動する推力発生装置やサブリニアモータの小型化にともない露光装置の小型化・軽量化・低コスト化を図ることができる。
【００３７】
また、走査ステージの加減速を行う推力発生装置が、防振ベースから独立した推力支持ベース上に設けられているので、走査ステージの加減速に伴う反力が防振ベースやガイドに伝達されず、高精度な露光を行うことができる。また、結像光学系も推力発生装置を支持する推力支持ベースと独立していることが望ましい。
【００３８】
＜実施形態３＞
図４に本発明の第３の実施形態として別の形態の走査型の露光装置の概略図を示す。
【００３９】
前述の走査型の露光装置は、同一の走査ステージにレチクルとウエハを保持させ、等倍結像光学系を用いて走査露光を行ったが、本実施形態では、レチクルとウエハを別の走査ステージに保持させていることが異なる。
【００４０】
第１の防振ベース６１ａに支持された走査ステージであるところのウエハステージ６１にウエハＷ３を保持させ、第２の防振ベース６２ａに支持された走査ステージであるところのレチクルステージ６２にレチクルＲ３を保持させて、ウエハステージ６１とレチクルステージ６２を個別に駆動できる。ウエハステージ６１は、不図示の第１の推力発生手段と第１のサブリニアモータを有しており、レチクルステージ６２は、不図示の第２の推力発生手段と第２のサブリニアモータを有しており、前述の実施形態の走査ステージとほぼ同様の駆動方法で、それぞれ任意の走査速度で走行する。
【００４１】
レチクルＲ３とウエハＷ３との間に、露光手段である縮小結像光学系６３が配設される。光源から発せられた露光光は、パターン回路が形成されたレチクルＲ３を透過し、縮小結像光学系によって所定の縮小倍率Ｎに縮小され、ウエハＷ３に照射される。
【００４２】
前述の走査型の露光装置と同様に、ウエハステージ６１とレチクルステージ６２が走行路の中央部分を走行する時にウエハＷ３の露光が行われるが、本実施形態では縮小結像光学系を用いて縮小露光を行うため、レチクルステージ６２の走査速度Ｖ１とウエハステージ６１の走査速度Ｖ２は、
Ｖ２／Ｖ１＝Ｎ
の関係が成立するように、それぞれの走査速度が制御される。
【００４３】
それぞれのステージにミラーを一体に設け、その反射光を受光するレーザ干渉系によって、それぞれのステージの位置を計測できるようになっている。
【００４４】
図５は、本実施形態の走査型の露光装置における全体構成の概略図を示している。
【００４５】
レチクルステージ７３を支持する第２の防振ベースであるところのレチクルステージベース７１ａは、ウエハステージ９３を支持するウエハステージベース９２に立設されたフレーム９４と一体であり、レチクルステージ７３の加減速を行う第２の推力発生装置７５を支持する推力支持ベース７１ｂは、ウエハステージベース９２と別に、床面Ｆに直接固定された支持枠９０に支持される。
【００４６】
また、不図示のレチクルに露光光は、破線で示された光源装置９５から照射される。
【００４７】
レチクルステージ７３を加減速する推力発生装置７５がレチクルステージベース７１ａから分離独立して支持されているので、レチクルステージ７３を加減速する時に生じる推力発生装置の駆動力（推力）の反力は、推力支持ベース７１ｂから支持枠９０を介して床面Ｆに伝達されるので、露光装置のフレーム９４やレチクルステージベース７１ａ等に振動を発生させることはない。また、ステージの位置を計測するレーザ干渉計９７、９８がフレームやレチクルステージベースに設けられているので、ステージの駆動反力による振動の影響による位置計測誤差はほとんどない。これにより、レチクルとウエハの走査開始位置を正確に同期させるとともに、定速走査領域の走査速度を高精度で制御することができる。また、駆動反力の影響を軽減することで、次回の露光サイクルを開始するまでの待機時間や、走査速度に整定するまでの時間を短縮し、露光装置のスループットを向上させることができる。
【００４８】
また、レチクルステージ７３の走査速度制御を行うサブリニアモータが不図示であるが、前述したように、サブリニアモータが発生する推力はわずかであり、振動や発熱の影響はほとんどない。そのため、レチクルステージベース７１ａにサブリニアモータの固定子を設けてもよい。なお、レチクルステージ７３に作用する配線や配管の抵抗等による外乱が大きいときや、サブリニアモータの必要駆動量が比較的大きくなるときは、サブリニアモータの固定子はレチクルステージベース７１ａに固定せず推力支持ベース７１ｂに固定し、レチクルステージベースがサブリニアモータから発生する外乱や反力を受けないように構成することが望ましい。
【００４９】
また、ウエハステージの駆動を行う第１の推力発生装置と第１のサブリニアモータは不図示であるが、レチクルステージの場合と同様に、ウエハステージベース９２に推力発生装置とサブリニアモータが駆動力の反力の影響を受けないように構成すれば良い。
【００５０】
ウエハステージ９３とレチクルステージ７３の第１および第２のサブリニアモータ（不図示）の推力が極端に小さいと、ステージが停止した状態から走査速度に達するまでの時間が遅れ、露光装置の生産性を落としてしまうので、サブリニアモータは、ウエハのアライメントが完了してから第１ショットの露光が始まる間に完了する程度の加速力（推力）を必要とする。
【００５１】
本実施形態によれば、前述の実施形態とほぼ同様の効果を得ることができる。
【００５２】
また、同一のレチクルを用いて複数枚のウエハに露光を行うためウエハを交換する際は、レチクルステージは往復運動を継続したまま、ウエハステージのみを前述の実施形態に従って停止させれば良い。このようにすれば、サブリニアモータを用いたレチクルステージの加減速動作をウエハ交換時に行わずに済むため、発熱の軽減やスループットの向上を図ることができる。
【００５３】
【発明の効果】
本発明の請求項１記載のステージ装置によれば、第１の駆動機構がステージを加速することができる状態まで第２の駆動機構がステージを加速するので、装置の簡略化、省スペース化、低コスト化を図ることができる。
【００５４】
また、請求項２記載のステージ装置によれば、第１の駆動機構がエネルギーを保存するため、ステージの加減速時の発熱を軽減することができる。また、請求項４記載のステージ装置によれば、バネの弾性力を利用してステージの加減速を行うので、ステージの加減速時の発熱を軽減することができる。
【００５５】
また、請求項７記載のステージ装置によれば、ステージの往復運動中の摩擦等によるエネルギーのロスを第２の駆動機構で補完することにより、ステージの走査速度を所定の速度に戻すことができる。
【００５６】
また、請求項８記載のステージ装置によれば、ステージの停止動作を第２の駆動機構を用いて行うことで、装置の簡略化、省スペース化、低コスト化を図ることができる。
【００５７】
また、請求項９記載のステージ装置によれば、ステージの駆動反力による振動や構成部材の変形が軽減されるため、高速高精度なステージの制御を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態の走査ステージを示す斜視図
【図２】図１の円Ｔで囲んだ部分の部分拡大斜視図
【図３】第２実施形態の走査型露光装置を示す概略図
【図４】第３実施形態の走査型露光装置を示す概略図
【図５】第３実施形態の走査露光装置を示す全体該略図
【図６】半導体デバイスの生産フロー図
【図７】ウエハプロセスのフロー図
【図８】従来の走査ステージを示す斜視図
【図９】図８の走査ステージ装置に用いられるリニアモータの固定子の磁場の説明図
【符号の説明】
１  防振ベース
２  推力支持ベース
２２  ガイド
２３  走査ステージ
２４、２５  コイルバネ
Ｂ１、Ｂ２  サブリニアモータ
Ｃ１、Ｃ２  推力発生装置
【図１】
0003720593.tif 000002
【図２】
0003720593.tif 000003
【図３】
0003720593.tif 000004
【図４】
0003720593.tif 000005
【図５】
0003720593.tif 000006
【図６】
0003720593.tif 000007
【図７】
0003720593.tif 000008
【図８】
0003720593.tif 000009
【図９】
0003720593.tif 000010