(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一様に帯電された表面電位が閾値の露光量を境として急激に減衰する電位減衰特性を示す感光体（１）に潜像を書き込むラスタ走査装置において、
少なくとも光束を発する光源（２）と、
光源（２）から発した光束が主走査方向（Ｘ）に略平行光束とされる集光部材（３）と、
前記平行光束が偏向され且つ感光体（１）に走査される偏向手段（５）と、
前記集光部材（３）と前記偏向手段（５）との間に設けられ且つ前記平行光束が形状規制される開口部を有する光束規制部材（４）とを備え、
光束規制部材（４）は、前記開口部により前記平行光束を回折し、主走査方向（Ｘ）と副走査方向（Ｙ）の中間方向に回折光束の干渉であるサイドローブを生じさせ、サイドローブ同士を重ね合わせた部分を現像可能な合成露光量にするものであることを特徴とするラスタ走査装置。
【請求項２】
請求項１記載のものにおいて、複数の光束規制部材（４）を備えたことを特徴とするラスタ走査装置。
【請求項３】
請求項１記載のものにおいて、光束規制部材（４）の形状は開口部に面する辺のうちサイドローブを生じさせる方向に対して垂直な辺を備えたことを特徴とするラスタ走査装置。
【請求項４】
請求項１記載のものにおいて、光束規制部材（４）の形状はサイドローブの生じる方向であって開口部の内部方向に向かって突出させたことを特徴とするラスタ走査装置。
【請求項５】
一様に帯電された表面電位が閾値の露光量を境として急激に減衰する電位減衰特性を示す感光体（１）に潜像を書き込むラスタ走査装置において、
少なくとも光束を発する光源（２）と、
光源（２）から発した光束が主走査方向（Ｘ）に略平行光束とされる集光部材（３）と、
前記平行光束が偏向され且つ感光体（１）に走査される偏向手段（５）と、
前記集光部材（３）と前記偏向手段（５）との間に設けられ且つ前記平行光束が形状規制される開口部を有する光束規制部材（４）とを備え、
光束規制部材（４）は、前記開口部により前記平行光束を回折し、主走査方向（Ｘ）と副走査方向（Ｙ）の中間方向に回折光束の干渉であるサイドローブを生じさせ、サイドローブの露光量の最大値（Ａ１）が現像形成がなされる閾値露光量（Ａ２）より小さく閾値露光量（Ａ２）の半値より大きくなることを特徴とするラスタ走査装置。
【請求項６】
請求項１又は５記載のラスタ走査装置と、
このラスタ走査装置にて書き込まれた感光体（１）上の潜像を現像する現像装置とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真、静電記録、ファクシミリ、伝送装置、レーザプリンタ等の画像形成装置に係わり、特に高ガンマな感光体を用いるラスタ走査装置及びこれを用いた画像形成装置の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真感光体に求められる特性には帯電性、光導電性などが求められ、これらは電子写真プロセスにおける潜像形成の支配的要因である。電子写真における像形成は、均一に帯電した感光体表面の電荷を、光照射により選択的に消失させることにより達成される。
現在主流となっているＯＰＣ（有機光導電体）は電荷輸送剤を高濃度で樹脂中に溶解した電荷輸送層と電荷発生顔料を高濃度で樹脂中に分散した電荷発生層からなる、積層型ＯＰＣである。この型のＯＰＣは、感光体の光導電性の基本機能を分割独立させたもので、材料の選択に余裕が広がり、結果として感光体性能の飛躍的向上を達成した。特に無金属フタロシアニン、銅フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、バナジルフタロシアニンなどのフタロシアニン顔料を用いた有機感光体はデジタル用に適するものとして知られている。
しかし、この積層型のＯＰＣの大きな問題点は帯電特性が負帯電であることにある。負帯電型ＯＰＣは利用するシステムからの大量のオゾン発生という問題点を抱える。
一方、正帯電単層型ＯＰＣの研究もなされ、新たな特性を持つものが提案されてきた。これらは共に感光層中に電荷輸送剤を含まない、顔料を樹脂中に分散した感光体である。従って、正帯電型であることを最大の特徴とし、従来の積層型に比べて層形成の点で低価格になる。
また、正帯電単層型感光体のもう一つの大きな特徴は高ガンマ特性にあり、デジタル方式による画像形成に特に有利である。
即ち、デジタル方式において、感光体にドット露光を行うスポット光の光エネルギー分布は裾長のガウス分布である。この裾長のエネルギー分布を有するドット露光を従来の低ガンマ特性の感光体上に照射して像形成を行えば、裾長のドット露光がそのまま再現され、ドット周辺にぼけを生じ、解像力の悪いドット画像が形成される。一方、高ガンマ特性の感光体に上記ドット露光を行えば、像露光初期にはほとんど電位減衰が現れず、光量を増やしてある光量になると急峻な電位減衰特性を示すことから、ドット露光が裾長のガウス分布であってもシャープなドット状の潜像が形成される（例えば、特開平１−１６９４５４号公報参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、層形成の点で低価格であり、オゾン発生量が少ない正帯電型である高ガンマ特性を持つ単層型ＯＰＣを電子写真プロセスに適用すると、従来の積層型ＯＰＣに比べ、露光したドット周縁がシャープに解像される。
即ち、従来の積層型ＯＰＣに比べ上記単層型ＯＰＣは、ドットの輪郭が鮮明に現像されるため、ドットが斜め方向に連続した場合、エッジのギザギザが強調されてしまうという技術的課題を有する。
【０００４】
そこで、本発明は、以上の技術的課題を解決するためなされたものであって、高ガンマ特性を持つ単層型ＯＰＣに特有の斜め方向に連続するドットのエッジのギザギザを緩和させ画質の向上を図るラスタ走査装置及びこれを用いた画像形成装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、図１に示すように、一様に帯電された表面電位が閾値の露光量を境として急激に減衰する電位減衰特性を示す感光体１に潜像を書き込むラスタ走査装置において、少なくとも光束を発する光源２と、光源２から発した光束が主走査方向Ｘに略平行光束とされる集光部材３と、前記平行光束が偏向され且つ感光体１に走査される偏向手段５と、前記集光部材３と前記偏向手段５との間に設けられ且つ前記平行光束が形状規制される開口部を有する光束規制部材４とを備え、光束規制部材４は、前記開口部により前記平行光束を回折し、主走査方向Ｘと副走査方向Ｙの中間方向に回折光束の干渉であるサイドローブを生じさせ、サイドローブ同士を重ね合わせた部分を現像可能な合成露光量にすることに特徴を有する。
【０００６】
以上のような課題を解決する手段にあって、感光体１としては、ある露光量を境として急激に電位減衰する電位減衰特性を備えたものであれば、インダクション効果によってスイッチング的に減衰する感度曲線を持つＨｉｇｈ−γ感光体やエネルギー障壁によってスイッチング的に減衰する感光体のいずれも適用対象であり、また、感光体１の形態についてもドラム状、ベルト状を問わない。
【０００７】
集光部材３は、一つの部材から構成してもよいし、複数の部材から構成してもよい。また、装置構成の簡略化の観点から、集光部材３は光源２と一体化させてもよい。
【０００８】
偏向手段５は、平行光束を偏向するものであればポリゴンミラー方式、ガルバノミラー方式、円筒方式、プリズムファイバ管方式、直線−円変換光ファイバ方式、回転アパーチャ方式のいずれも含まれる。
【０００９】
光束規制部材４の形状は、開口部に面する辺のうちサイドローブを生じさせる方向に対して垂直な辺を備えたものであればよく、さらに、サイドローブを生じさせやすくする観点から、上記開口部に面する辺はサイドローブの生じる方向であって開口部の内部方向に向かって突出させるほうが好ましい。
また、サイドローブを生じさせる中間方向は任意に設定しても構わないが、サイドローブ同士を重ね合わせる観点から、主走査方向に対して３０゜から６０゜の範囲にあることが望ましい。
また、光束規制部材４は、１つの部材から構成してもよいし、複数の部材から構成してもよい。
【００１０】
また、本発明の他の態様としては、一様に帯電された表面電位が閾値の露光量を境として急激に減衰する電位減衰特性を示す感光体１に潜像を書き込むラスタ走査装置において、少なくとも光束を発する光源２と、光源２から発した光束が主走査方向Ｘに略平行光束とされる集光部材３と、前記平行光束が偏向され且つ感光体１に走査される偏向手段５と、前記集光部材３と前記偏向手段５との間に設けられ且つ前記平行光束が形状規制される開口部を有する光束規制部材４とを備え、光束規制部材４は、前記開口部により前記平行光束を回折し、主走査方向Ｘと副走査方向Ｙの中間方向に回折光束の干渉であるサイドローブを生じさせ、サイドローブの露光量の最大値Ａ１が現像形成がなされる閾値露光量Ａ２より小さく閾値露光量Ａ２の半値より大きくなる態様が挙げられる。
【００１１】
さらに、本発明は、高画質な画像を得る観点から、上述したラスタ走査装置と、このラスタ走査装置にて書き込まれた感光体１上の潜像を現像する現像装置とを備えた画像形成装置とすることが好ましい。
【００１２】
以下、図１に基づき本発明の作用について説明する。
光源２から発した拡散光束は集光部材３により平行光束とされ、光束規制部材４に進入する。
このとき、光束規制部材４の開口部は平行光束を所定の形状に規制すると共に、主走査方向Ｘと副走査方向Ｙの中間方向に回折させサイドローブを生じさせる。
偏向手段５は、主走査方向Ｘに規制された光束とサイドローブを偏向させ、感光体１の回転により副走査方向Ｙに規制光束とサイドローブを走査させる。
このとき、サイドローブとサイドローブの重複する部分は、現像形成がされる閾値露光量Ａ２より大きくなり、例えばドットとドットが斜め方向に配置する場合の中間部分を覆うように現像される。一方、サイドローブ単独で露光される部分は、露光量の最大値Ａ１が閾値露光量Ａ２より小さいため現像されない。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳細に説明する。
◎実施の形態１
図２は、本発明を画像形成装置に適用した実施の形態１を示すものである。
同図において、符号２１はある光量を境にして急激に電位減衰する特性（Ｈｉｇｈ−γ特性）を持つ単層型有機感光体、２２は感光体２１を正帯電するコロトロンなどの帯電装置、５０は帯電された感光体２１上に光照射して静電潜像（本実施の形態では画像部露光のネガ潜像）を形成するラスタ走査装置が用いられる。
また、符号２３は感光体２１上に形成された静電潜像を感光体２１の帯電極性と同じ極性電荷を持つトナーで可視像化する現像装置、２４は感光体２１上のトナー像を記録紙Ｐに転写させるコロトロン等の転写装置、２５は記録紙Ｐ上の未定着トナー像を定着する定着装置、２６は感光体２１上の残留トナー等の残留物を除去するクリーナ装置、２７は記録紙Ｐを感光体２１上へ搬送する用紙搬送路、２８は転写装置２４によりトナー像が転写された記録紙Ｐを定着装置２５に搬送する搬送装置である。
【００１４】
本実施の形態において感光体２１としては、例えば、Ｘ型無金属フタロシアニンを樹脂に分散させた単層有機感光体を使用する。
具体的には、Ｘ型無金属フタロシアニン（大日本インキ株式会社製）、ファーストゲンブルー（Ｆａｓｔｇｅｎ  Ｂｌｕｅ）を感材とした正帯電単層型感光体を用いた（例えば、特開平３−２８７１７１号公報参照）。
また、本実施の形態の感光体２１形状は、アルミドラムに基づいて製作したドラム状である。
【００１５】
次に前記感光体２１の高ガンマ特性について説明する。
高ガンマ特性とは、感光体の電位減衰曲線中の直線的電位減衰部分の傾きが大きいことを表すものである。
単層型ＯＰＣ（有機感光体）に高ガンマ特性が出現する現象は以前よりインダクション効果として知られている。このインダクション効果については従来より低減化が要求されており、単層型感光体は逆にこの現象を積極的に利用したものである。即ち、感光体を帯電、露光したときの表面電位の減衰過程が露光量増加に対して始めは緩やかに減衰するが次第に露光量を増加させていくと急激な電位減衰を示し、この結果高いガンマ値を示すことになる。
【００１６】
インダクション効果とは、図３に示すように、感光体への光照射後、電位減衰までに時間遅れを生じる現象（暗減衰特性）であり、樹脂分散型感光体固有の特性である。
この現象は、露光初期において、発生したキャリアがトラップに捕獲されるため電位減衰にあまり寄与しないが、その後発生キャリア数が多くなるに従ってトラップが埋め尽くされ、キャリアの輸送が急激に起こり大きな電位減衰が生じるためと推察される。時間遅れの結果、ガンマが高い特性となる。
インダクション効果が発現する樹脂分散型感光体の明減衰特性は、図４に示すように、変曲点を持ち減衰する。即ち、帯電した後、光照射した際、表面電位の露光量による光減衰過程は始めは徐々に緩やかな減衰を示し、更に光量を増加すると緩やかな減衰間に続いて急激に表面電位が減衰する履歴を示す。
従来の積層感光体と本発明例に用いた樹脂分散型単層感光体の明減衰特性と比較すると（尚、表面電位は積層感光体は負帯電に帯電され、単層感光体は正帯電に帯電されるため、絶対値としての電位である）、図４に示されるように、従来のＯＰＣ感光体の感度特性は照射光に対して感度領域は比較的全領域反応するのに対し、インダクション効果を示す単層感光体では、ある照射光量までは露光しても表面電位が緩やかに減衰し、ある照射光量を境にして光量が増加すると表面電位が急激に減衰する状態になっている。また、明減衰もインダクション効果を示す単層感光体では、時間遅れを起こして減衰する。
以上より、樹脂分散型単層感光体は、前記のような明減衰カーブ及び暗減衰カーブが逆Ｓ字カーブ状に変曲点を持ってオンオフ的に変化する感度を持つという特徴がある。
このような特徴を持つ感光体としては酸化亜鉛を樹脂分散させた単層感光体や、フタロシアニンを樹脂分散させた有機感光体でも報告されているが、露光時の感光体表面電位が減衰を始める緩和時間が長いことや、帯電に必要な電荷が多く必要であったり、繰り返し使用時の電位保持性能や感度の変化が大きく、実用には適さない。
【００１７】
次に、ラスタ走査装置５０について図５に基づいて説明する。
同図において、光束の進行方向に符号５１は例えば半導体レーザーを利用した光源、５２は光源５１から発せられる拡散光束を集光し平行光束とする例えばコリメータレンズを用いた集光材、５３は平行光束を副走査方向にポリゴンレンズに結像させるように曲率を備えたシリンドリカルレンズ、５４は平行光束を所定の形状に規制する光束規制部材、５５は前記規制光束を所定の方向に折返す折返しミラーである。
また、符号５６は所定の方向に規制光束を偏向する、例えばポリゴンミラーを用いた偏光器、５７は偏光器５６により等角速度とされた偏向光束を感光体面２１１上で等速度とするｆ−θレンズ、５８は偏向光束を反射する反射ミラーである。
なお、符号６１は感光体面２１１上の走査開始位置を同期する同期ミラー、６２はシリンドリカルレンズ、６３は同期ミラー６１から反射される光束を検知するセンサである。
【００１８】
ここで、本実施の形態における光束規制部材５４の形状は、図６に示すように、例えば、正方形の基材５４１に対し菱形の開口部５４２を設け、菱形の開口部５４２の中心と光束の中心５４３を一致させ、さらに菱形の開口部５４２の各頂点が主走査方向Ｘに対して０゜、９０゜、１８０゜、２７０゜の方向に向かうようにし、菱形の開口部５４２の対向する辺がそれぞれ主走査方向に対して４５゜、１３５゜方向に向かうようにしたものである。
【００１９】
以下、図５〜９に基づき本実施の形態の動作について説明する。
帯電装置２２により帯電された感光体２１上の被走査面２１１は、ラスタ走査装置５０に対向する位置に回動される。
そして、光源５１より発した拡散光束は集光材５２により平行光束とされ、シリンドリカルレンズ５３を通過し、光束規制部材５４に進入する。
このとき、平行光束は図６に示すような菱形の開口形状に規制される。一方、菱形の辺部は、図７に示すように、主走査方向Ｘに対して４５゜、１３５゜、２２５゜、３１５゜の方向に平行光束を回折させ、サイドローブ７０ａ、７０ｂ、７０ｃ、７０ｄを生じさせる。
ここで、サイドローブの露光量は、図８に示すように、露光工程による潜像形成若しくは現像工程による現像形成可能なレベルである閾値露光量Ａ２より小さく、Ａ２の半値より大きくなるよう設定する。
次に、偏光器５６によって偏向された規制光束はｆ−θレンズ５７によって感光体２１上の被走査面２１１を略等速度で走査するように収束する。
このとき、図９に示すように、４５゜方向に連続するドット７０とドット７１の中間部である画素８１、８２同士の接点又はその周辺でサイドローブ７０ｄ、７１ｂは重複し、この合成露光量は閾値露光量Ａ２を超える。
以上のようにラスタ走査装置５０により形成された潜像は現像装置２３により現像される。
このとき、ドット露光部７０、７１、並びにサイドローブ７０ｄ、７１ｂの重複部分は現像され、ドット７０、７１同士の中間部に現像域が形成される。
この後、転写以下の処理が行われる。
以上より、本実施の形態によれば、斜線や斜め方向にエッジを持つ文字のエッジのギザギザが緩和される。
【００２０】
次に、本実施の形態に係わる画像形成装置を用いたシミュレーションについて説明する。
図１０（ａ）、１１（ａ）はドット露光を斜め方向に２ドット、３ドット連続させた場合の現像結果をシミュレーションしたものである。
サイドローブは本実施の形態と同様、主走査方向Ｘに対して、４５゜、１３５゜、２２５゜、３１５゜の方向に計４箇所生じさせた。
２ドット連続させた場合、感光体にあたった光束のスポット半径（ピークの１／ｅ2）は主走査方向Ｘと副走査方向Ｙを夫々２０、４５μｍであり、光源強度が０．７５ｍＷのとき、感光体上の露光強度分布は図１２（ａ）に示すように、主ビームの最大強度が５３００００Ｗ／ｍ2に対してサイドローブは１１００００Ｗ／ｍ2とした。
また、３ドット連続させた場合、感光体にあたった光束のスポット半径（ピークの１／ｅ2）は主走査方向Ｘと副走査方向Ｙを夫々２０、４０μｍ、光源強度が０．７０ｍＷのとき、光強度分布は図１２（ｂ）に示すように、主ビームの最大強度が５６００００Ｗ／ｍ2に対してサイドローブは１３００００Ｗ／ｍ2とした。
なお、解像度は４００ｓｐｉとした。
これによれば、２ドット、３ドット連続させたいずれのシミュレーション結果でも、ドットとドットの中間部にサイドローブの重複による現像域が生じ、エッジのギザギザが緩和されることが理解される。
一方、図１０（ｂ）、図１１（ｂ）は、サイドローブを生じさせない条件で現像した比較の形態に係わるシミュレーション結果である。これによれば、ドットの現像はシャープであり、エッジのギザギザがはっきりすることが理解される。
【００２１】
一方、図１３は変形の形態に係わるシミュレーション結果を示すものである。
これは、斜め方向に３ドット連続させ、主走査方向Ｘに対して３０゜、１５０゜、２１０゜、３３０゜の位置にサイドローブを生じさせ、その他の条件は、図１１（ａ）に示す本実施の形態と同様とした。
これによれば、サイドローブは主走査方向Ｘに３０゜程度でもエッジのギザギザが緩和されることが理解される。
【００２２】
◎実施の形態２
本実施の形態は、実施の形態１と略同様の構成であるが、光束規制部材５４の形状を図１４に示すように、主走査方向Ｘと副走査方向Ｙを起点にサイドローブの生じる方向であって開口部５４２の内部方向に突出させた点に特徴を有する。これによれば、回折光がサイドローブを生じさせる方向に集まり、露光光量が増大することから、サイドローブを生じさせやすくすると共に、光源強度を多少減少させてもサイドローブを生じさせ、光源の電力節約になる。
また、この変形例としては、図１５に示すように、正方形の開口形状に対して各頂点からサイドローブの生じる方向であって開口部５４２の内部方向に突出させたものである。これによっても、同様な効果が得られる。
【００２３】
◎実施の形態３
本実施の形態は、実施の形態１と略同様の構成であるが、２つの光束規制部材５４ａ、５４ｂを用いた点に特徴を有する。
第一の光束規制部材５４ａは、図１６（ａ）に示すように、正方形の基材５４１ａに長方形の開口部５４２ａを設け、この長方形の開口部５４２ａの長辺５４３ａが主走査方向に対して４５゜の方向に向かうように配置し、さらに相対する長辺５４３ａは光束の中心点５４４ａから等距離となるようした。
一方、第二の光束規制部材５４ｂは、図１６（ｂ）に示すように、第一の光束規制部材５４ａと略同様な形状であるが、長方形の開口部５４２ｂの長辺５４３ｂが主走査方向Ｘに対して１３５゜の方向に向かうように配置した。
これによれば、平行光束は第一の光束規制部材５４ａ、第二の光束規制部材５４ｂの開口部５４２ａ、５４２ｂを通過することにより、図１６（ｃ）に示すような、菱形に規制され、主走査方向Ｘに対して、４５゜、１３５゜、２２５゜、３１５゜の方向にサイドローブを生じさせるようになり、実施の形態１と同様の効果が得られる。
さらに、１つの光束規制部材では２方向同時に位置合わせする必要があるのに対して、２つの光束規制部材の組合せることにより、それぞれの光束規制部材５４ａ、５４ｂは一方向のみ位置合わせを行えばよく、光学系の位置合わせが容易となる。また、それぞれの光束規制部材５４ａ、５４ｂは一方向のみの精度で足り、その作成も容易である。
【００２４】
【発明の効果】
（１）以上説明したように、本発明によれば、主走査方向Ｘと副走査方向Ｙの中間方向にサイドローブを積極的に発生させ、斜め方向のドットとドットの中間部でサイドローブ同士を重ね合わせた部分が合成露光量により現像するようにしたので、斜線や斜め方向にエッジを持つ文字のエッジのギザギザが緩和される。
（２）本発明において、複数の光束規制部材を備えたことにより、前記と同様の効果が得られる上に、さらに、それぞれの光束規制部材について１方向ずつ光学調整するようにすれば、光学系の位置合わせが容易になると共に光束規制部材の作成も容易となる。
（３）本発明において、光束規制部材の開口形状はサイドローブの生じる方向であって開口部の内部方向に向かって突出させ、回折光束がサイドローブの生じる方向に集められるようにすれば、サイドローブの発生が容易になると共に、光源の電力が節約される。
（４）本発明によれば、主走査方向Ｘと副走査方向Ｙの中間方向にサイドローブを発生させ、サイドローブの露光量の最大値Ａ１が現像形成がなされる閾値露光量Ａ２より小さく閾値露光量Ａ２の半値より大きくしたので、ドットとドットの中間部以外でサイドローブは現像されず、画質の維持が図れる。
（５）本発明に係るラスタ走査装置を少なくとも現像装置を備えた画像形成装置に適用することにより、高画質な画像が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の概念図を示す説明図である。
【図２】  本発明を画像形成装置に適用した実施の形態１を示す説明図である。
【図３】  Ｈｉｇｈ−γ感光体の表面電位の時間減衰を示す説明図である。
【図４】  Ｈｉｇｈ−γ感光体の表面電位の光感度特性を示す説明図である。
【図５】  図２に係わるラスタ走査装置を拡大した説明図である。
【図６】  図２に係わる光束規制部材を拡大した説明図である。
【図７】  図２に係わるサイドローブを示す説明図である。
【図８】  図２に係わる閾値露光量の決定法を示す説明図である。
【図９】  図２に係わるサイドローブの現像範囲を示す説明図である。
【図１０】  （ａ）（ｂ）はドットが２つ連続するシミュレーションを示す説明図である。
【図１１】  （ａ）（ｂ）はドットが３つ連続するシミュレーションを示す説明図である。
【図１２】  （ａ）（ｂ）は図１０、１１に係わる露光量強度分布を示す説明図である。
【図１３】  変形の形態のシミュレーションを示す説明図である。
【図１４】  本発明を適用した実施の形態２を示す説明図である。
【図１５】  図１４に係わる変形例を示す説明図である。
【図１６】  （ａ）〜（ｃ）は本発明を適用した実施の形態３を示す説明図である。
【符号の説明】
１…感光体，２…光源，３…集光部材，４…光束規制部材，５…偏向手段
【図１】
0003644470.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
0003644470.tif 000012
【図１２】
0003644470.tif 000013
【図１３】
0003644470.tif 000014
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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