(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透過表示領域と反射表示領域を有する電気光学パネル用基板であって、
基板と、
前記反射表示領域において前記基板上に配置された反射層と、
前記透過表示領域において前記基板上に配置された透過用カラーフィルタ層と、
前記反射表示領域において前記反射層上に配置された反射用カラーフィルタ層と、
前記透過用カラーフィルタ層及び前記反射用カラーフィルタ層の両方を覆うオーバーコート層と、を備え、
前記オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第１の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第１の層厚よりも厚い第２の膜厚を有することを特徴とする電気光学パネル用基板。
【請求項２】
前記第１の層厚は略０．０５〜０．２μｍであることを特徴とする請求項１に記載の電気光学パネル用基板。
【請求項３】
前記第１の層厚と前記第２の層厚との差は略１．４〜２．６μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学パネル用基板。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学パネル用基板を備えることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項５】
請求項４に記載の電気光学パネルを表示部として備えることを特徴とする電子機器。
【請求項６】
透過表示領域と反射表示領域を有する電気光学パネル用基板の製造方法であって、
前記反射表示領域において基板上に反射層を形成する工程と、
前記透過表示領域において基板上に透過用カラーフィルタ層を形成する工程と、
前記反射表示領域において前記反射層上に反射用カラーフィルタ層を形成する工程と、
前記透過用カラーフィルタ層及び前記反射用カラーフィルタ層の両方を覆うようにオーバーコート層を形成する工程と、を有し、
前記オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第１の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第１の層厚よりも厚い第２の膜厚となるように形成されることを特徴とする電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項７】
前記オーバーコート層を形成する工程は、前記第１の層厚を略０．０５〜０．２μｍとすることを特徴とする請求項６に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項８】
前記オーバーコート層を形成する工程は、前記第１の層厚と前記第２の層厚との差を略１．４〜２．６μｍとすることを特徴とする請求項６又は７に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項９】
前記オーバーコート層を形成する工程は、
前記第１の層厚で第１のオーバーコート層を形成する工程と、
前記第１のオーバーコート層上に、前記第２の層厚で第２のオーバーコート層を形成する工程と、
前記透過表示領域において、前記第２のオーバーコート層を除去する工程と、
を有することを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項１０】
前記オーバーコート層を形成する工程は、
前記第２の層厚でオーバーコート層を形成する工程と、
前記透過表示領域と前記反射表示領域において露光量が異なるように前記オーバーコート層を露光する工程と、
露光された前記オーバーコート層を現像することにより、前記透過表示領域を第１の膜厚とし、前記反射表示領域を第２の膜厚とする工程と、を有することを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項６乃至１０のいずれか一項に記載の電気光学パネル用基板の製造方法を備えることを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半透過反射型液晶表示装置に関し、特に１画素内の透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層の層厚を適正な値に換えたマルチギャップタイプの液晶装置に関するものである。
【０００２】
【背景技術】
各種の液晶装置のうち、透過モード及び反射モードの双方で画像を表示可能なものは半透過反射型液晶装置と呼ばれ、携帯電話、携帯型情報端末などに広く利用されている。
【０００３】
この半透過反射型液晶装置は、表面に第１の透明電極が形成された透明な第１の基板と、第１の電極と対向する面側に第２の透明電極が形成された透明な第２の基板により、ＴＮ（ツイステッドネマティック）モードの液晶層を挟持してなる。第１の基板には第１の透明電極と第２の透明電極とが対向する画素領域内に、反射表示領域を構成する光反射層が形成され、この光反射層に設けられた開口に相当する領域が透過表示領域となっている。第１の基板及び第２の基板の各々の外側には偏光板が配置される。また、光反射層が形成されている第１の基板側には、偏光板のさらに外側にバックライト装置が配置されている。
【０００４】
このような構成の液晶装置では、バックライト装置から出射された光のうち、透過表示領域に入射した光は、第２の基板側から液晶層に入射し、液晶層で光変調された後、第２の基板側から透過表示光として出射されて画像を表示する（透過モード）。
【０００５】
また、第２の基板側から入射した外光のうち、反射表示領域に入射した光は、液晶層を通って反射層に至り、反射層で反射されて再び液晶層を通って第２の基板側から反射表示光として出射されて画像を表示する（反射モード）。
【０００６】
ここで、第１の基板上には、反射表示領域と透過表示領域の各々に反射表示用カラーフィルタ及び透過表示用カラーフィルタが形成されているので、透過モード及び反射モードのいずれにおいてもカラー表示が可能である。
【０００７】
このように、液晶層により光変調が行われる際、液晶のツイスト角を小さく設定した場合には、偏光状態の変化が屈折率差Δｎと液晶層の層厚ｄの積（リタデーションΔｎ・ｄ）の関数になるため、この値を適正化しておけば視認性の良い表示を行うことができる。しかしながら、半透過反射型の液晶装置において、透過表示光は液晶層を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は液晶層を２度通過することになるため、透過表示光及び反射表示光の双方において同時にリタデーションΔｎ・ｄを最適化することは困難である。従って、反射モードでの表示が視認性の良いものとなるように液晶層の層厚ｄを設定すると、透過モードでの表示が犠牲となる。逆に、透過モードでの表示が視認性の良いものとなるように液晶層の層厚ｄを設定すると、反射モードでの表示が犠牲となる。
【０００８】
そこで、特開平１１−２４２２２６号公報には、反射表示領域における液晶層の層厚を透過表示領域における液晶層の層厚よりも小さくした構造の半透過反射型液晶装置が開示されている。このような液晶装置はマルチギャップタイプと呼ばれる。
【０００９】
この構造は、前述の反射表示領域、より具体的には反射表示用カラーフィルタ上に層厚調整のためのオーバーコート層を形成することにより実現できる。このとき、透過表示用カラーフィルタ上にはオーバーコート層を形成しない。こうすることにより、透過表示領域では反射表示領域と比較して、オーバーコート層の厚さ分だけ液晶層の層厚ｄが大きくなるので、透過表示光及び反射表示光の双方に対してリタデーションΔｎ・ｄを最適化することができ、透過モードと反射モードの双方において視認性の良い画像表示が可能となる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
上述のようなマルチギャップタイプの液晶装置においては、オーバーコート層は反射表示領域と透過表示領域とにおける液晶層の層厚を調整することを１つの重要な機能を有している。このオーバーコート層は保護層とも呼ばれ、本来的には、その上に形成される画素電極の密着性を確保すること、及び、その画素電極の形成工程において透過表示用カラーフィルタを保護することを目的として形成される。よって、例えばマルチギャップタイプでない液晶装置においては、上面が平坦となるようにオーバーコート層が形成され、それにより画素電極との密着性を高める役割、及び、下方の透過表示用カラーフィルタを保護する役割を果たす。
【００１１】
しかし、上述のマルチギャップタイプの液晶装置においては、透過表示領域と反射表示領域における液晶層の層厚調整のために、透過表示領域においてはオーバーコート層が省略される。即ち、透過表示領域においては、透過表示用カラーフィルタ上にオーバーコート層を介さずに画素電極が形成されることになる。このため、透過表示領域においては、オーバーコート層の本来的な役割である、画素電極との密着性の向上、及び、画素電極形成工程中における透過表示用カラーフィルタの保護が果たさない。よって、画素電極の成膜が難しく成膜精度が低下したり、密着性が不十分となる問題がある。また、画素電極形成工程において透過表示用カラーフィルタが損傷を受けるという問題もある。
【００１２】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、画素電極の密着性の低下や透過表示用カラーフィルタの損傷などを効果的に防止することが可能なマルチギャップタイプの電気光学パネル用基板及びその製造方法、電気光学パネル並びに電子機器を提供することを課題とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の１つの観点では、電気光学パネル用基板において、基板と、透過表示領域において前記基板上に配置された透過用カラーフィルタ層と、反射表示領域において前記基板上に配置された反射用カラーフィルタ層と、前記透過用カラーフィルタ層及び前記反射用カラーフィルタ層の両方を覆うオーバーコート層と、を備え、前記オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第１の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第１の層厚よりも厚い第２の膜厚を有する。
また、本発明は、透過表示領域と反射表示領域を有する電気光学パネル用基板であって、基板と、前記反射表示領域において前記基板上に配置された反射層と、前記透過表示領域において前記基板上に配置された透過用カラーフィルタ層と、前記反射表示領域において前記反射層上に配置された反射用カラーフィルタ層と、前記透過用カラーフィルタ層及び前記反射用カラーフィルタ層の両方を覆うオーバーコート層と、を備え、前記オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第１の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第１の層厚よりも厚い第２の膜厚を有することを特徴とする。
【００１４】
上記の電気光学パネル用基板では、ガラスなどの透光性基板上において、透過表示領域に透過用カラーフィルタ層が設けられ、反射表示領域に反射用カラーフィルタ層が形成される。透過用カラーフィルタ層及び反射用カラーフィルタ層の上には、それら全体を覆うようにオーバーコート層が形成される。また、オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第１の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第１の層厚よりも厚い第２の膜厚を有するように構成される。この構造はマルチギャップ構造とも呼ばれ、透過表示領域における液晶層の層厚と反射表示領域における液晶層の層厚とを調整することにより、透過表示光及び反射表示光の双方に対してリタデーションΔｎ・ｄ（偏光状態の変化が屈折率差Δｎと液晶層の層厚ｄの積）を最適化し、透過モードと反射モードの双方において視認性の良い画像表示を可能とする。
【００１５】
また、オーバーコート層上には透明電極が設けられるが、オーバーコート層は透明電極を密着性よく、安定的に形成する役割、及び、透明電極の形成工程中のエッチ液や洗浄液によるカラーフィルタ層の損傷を防止するための保護層としての役割を合わせ持つ。ここで、一般的なマルチギャップタイプの液晶装置では透過用カラーフィルタ上のオーバーコート層を省略して透過表示領域と反射表示領域の液晶層の層厚に差をつけていたが、上記の液晶パネル用基板では、透過表示領域においてもオーバーコート層を設けているので、透明電極の密着性を高めるとともに、透過用カラーフィルタ層を保護することができる。
【００１６】
上記の電気光学パネル用基板では、オーバーコート層の保護膜として機能、即ち、透明電極形成工程におけるエッチ液や洗浄液に対する耐性を考慮し、前記第１の層厚は略０．０５〜０．２μｍとすることが好ましい。
【００１７】
また、マルチギャップ構造において透過表示領域と反射表示領域における液晶層の層厚調整を適正に行うために、前記第１の層厚と前記第２の層厚との差は略１．４〜２．６μｍとすることが好ましい。
【００１８】
上記の電気光学パネル用基板を利用して電気光学パネルを構成することができ、さらに、その電気光学パネルを表示部として備える電子機器を構成することができる。
【００１９】
本発明の他の観点では、電気光学パネル用基板の製造方法において、透過表示領域において基板上に透過用カラーフィルタ層を形成する工程と、反射表示領域において前記基板上に反射用カラーフィルタ層を形成する工程と、前記透過用カラーフィルタ層及び前記反射用カラーフィルタ層の両方を覆うようにオーバーコート層を形成する工程と、を有し、前記オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第１の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第１の層厚よりも厚い第２の膜厚となるように形成される。
また、本発明は、透過表示領域と反射表示領域を有する電気光学パネル用基板の製造方法であって、前記反射表示領域において基板上に反射層を形成する工程と、前記透過表示領域において基板上に透過用カラーフィルタ層を形成する工程と、前記反射表示領域において前記反射層上に反射用カラーフィルタ層を形成する工程と、前記透過用カラーフィルタ層及び前記反射用カラーフィルタ層の両方を覆うようにオーバーコート層を形成する工程と、を有し、前記オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第１の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第１の層厚よりも厚い第２の膜厚となるように形成されることを特徴とする。
【００２０】
上記の電気光学パネル用基板の製造方法によれば、基板上に形成された透過用カラーフィルタ層及び反射用カラーフィルタ層の上に、それら全体を覆うようにオーバーコート層が形成される。また、オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第１の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第１の層厚よりも厚い第２の膜厚を有するように構成される。この構造はマルチギャップ構造とも呼ばれ、透過モードと反射モードの双方において視認性の良い画像表示を可能とする。
【００２１】
また、オーバーコート層上には透明電極が設けられるが、オーバーコート層は透明電極を密着性よく、安定的に形成する役割、及び、透明電極の形成工程中のエッチ液や洗浄液によるカラーフィルタ層の損傷を防止するための保護層としての役割を合わせ持つ。上記の液晶パネル用基板では、透過表示領域においてもオーバーコート層を設けているので、透明電極の密着性を高めるとともに、透過用カラーフィルタ層を保護することができる。
【００２２】
ここで、オーバーコート層の保護膜として機能、即ち、透明電極形成工程におけるエッチ液や洗浄液に対する耐性を考慮し、前記第１の層厚は略０．０５〜０．２μｍとすることが好ましい。また、マルチギャップ構造において透過表示領域と反射表示領域における液晶層の層厚調整を適正に行うために、前記第１の層厚と前記第２の層厚との差は略１．４〜２．６μｍとすることが好ましい。
【００２３】
また、上記の電気光学パネル用基板の製造方法の一態様では、前記オーバーコート層を形成する工程は、前記第１の層厚で第１のオーバーコート層を形成する工程と、前記第１のオーバーコート層上に、前記第２の層厚で第２のオーバーコート層を形成する工程と、前記透過表示領域において、前記第２のオーバーコート層を除去する工程と、を有する。
【００２４】
この態様によれば、まず透過表示領域上に形成すべき第１の層厚で、透過表示領域及び反射表示領域にオーバーコート層を形成する。次に、その上に第２反射表示領域上に形成すべき第２の層厚でオーバーコート層を形成し、透過表示領域におけるオーバーコート層を除去することにより、マルチギャップ構造を形成する。
【００２５】
上記の電気光学パネル用基板の製造方法の他の一態様では、前記オーバーコート層を形成する工程は、前記第２の層厚でオーバーコート層を形成する工程と、前記透過表示領域と前記反射表示領域において露光量が異なるように前記オーバーコート層を露光する工程と、露光された前記オーバーコート層を現像することにより、前記透過表示領域を第１の膜厚とし、前記反射表示領域を第２の膜厚とする工程と、を有する。
【００２６】
この態様によれば、まず反射表示領域上に形成すべき第２の層厚で透過表示領域及び反射表示領域にオーバーコート層を形成する。次に、透過表示領域と反射表示領域における露光量を変えてオーバーコート層を露光して透過表示領域におけるオーバーコート層を除去することにより、一工程でマルチギャップ構造を形成する。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００２８】
［液晶表示パネル］
まず、本発明を適用した液晶表示パネルの実施形態について説明する。図１に、本発明の実施形態である半透過反射型液晶表示パネルの断面図を示す。
【００２９】
図１において、液晶表示パネル１００は、ガラスやプラスチックなどからなる基板１０１と基板１０２とがシール材１０３を介して貼り合わせられ、内部に液晶１０４が封入されてなる。また、基板１０２の外面上には位相差板１０５及び偏光板１０６が順に配置され、基板１０１の外面上には位相差板１０７及び偏光板１０８が順に配置される。なお、偏光板１０８の下方には、透過型表示を行う際に照明光を発するバックライト１０９が配置される。
【００３０】
基板１０１は、カラーフィルタ基板１０を構成する。なお、図１においては説明の便宜上、カラーフィルタ基板１０を部分的に図示しており、その一部分１３０の拡大図を図３に示す。また、カラーフィルタ基板１０のカラーフィルタ層の平面図を図２に示す。
【００３１】
主として図３を参照すると、カラーフィルタ基板１０としては、基板１０１の上に例えばアクリル樹脂などにより透明な樹脂散乱層１１３が形成される。樹脂散乱層１１３は、ガラスやプラスチックなどの基板表面上に例えばアクリル樹脂などにより透光性の樹脂層を形成し、その表面に多数の微細な凹凸構造を形成することにより製作することができる。
【００３２】
また、樹脂散乱層１１３の上には、部分的にアルミニウム合金又は銀合金などの反射層１１１が形成される。反射層１１１が形成される領域は、反射型表示に利用される領域（以下、「反射表示領域」とも呼ぶ。）である。これにより、反射層１１１の表面は、樹脂散乱１１３層の凹凸構造を反映した凹凸形状となる。よって、外光を利用して反射型表示を行う場合は、外光が上記の凹凸形状により適度に散乱した状態で反射されるため、反射光を均一化し、広い視野角を確保することが可能となる。
【００３３】
反射層１１１には所定間隔で開口１１７が形成されている。即ち、開口１１７の部分は反射層１１１が形成されておらず、この開口１１７の領域が透過表示領域となる。そして、反射層１１１が形成されている領域、即ち、開口１１７以外の領域が反射表示領域となる。
【００３４】
反射表示領域においては反射層１１１の上に各色の反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒが形成される。一方、透過表示領域においては、樹脂散乱層１１３の上に各色の透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔが形成される。反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒと透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを別々に形成する理由は、透過表示時と反射表示時における表示色を個別に調整可能とするためである。
【００３５】
なお、図３においては、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒとして示しているが、実際には図２に示すように、反射表示用カラーフィルタ層１２０ＲはＲＧＢ３色の着色層により構成されている。即ち、反射用カラーフィルタ層１２０Ｒは、青色（Ｂ）着色層１２０ＲＢ、赤色（Ｒ）着色層１２０ＲＲ、緑色（Ｇ）着色層１２０ＲＧを順に配列することにより構成される。また、図２及び図３に示すように、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔは、赤色（Ｒ）着色層１２０ＴＲ、緑色（Ｇ）着色層１２０ＴＧ、青色（Ｂ）着色層１２０ＴＢを順に配列することにより構成される。図１、３、５においては、説明の便宜上、赤色着色層の部分の断面を示しているものとする。以下、各色の着色層を問わず言及する時には、単に反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒ、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔと記述することとする。
【００３６】
反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの各着色層１２０ＴＲ、１２０ＴＧ及び１２０ＴＢ、並びに透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの各着色層１２０ＲＲ、１２０ＲＧ及び１２０ＲＢの境界には、ブラックマトリクス１２０Ｂが形成される。ブラックマトリクス１２０Ｂは、図３に示すように、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを構成するＲＧＢ３色の着色層を重ね合わせることにより形成される。なお、反射用カラーフィルタ層ではなく、透過用カラーフィルタ層の各色着色層を使用する理由は、一般に反射用カラーフィルタ層より透過用カラーフィルタ層の方が色濃度が高く設計されているため、３色の重ね合わせにより、より濃度が高く遮光性の良好なブラックマトリクスが形成できるからである。
【００３７】
そして、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒ及び透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを覆うようにオーバーコート層１２７が形成される。このオーバーコート層１２７は、液晶表示パネルの製造工程中にカラーフィルタ層１２０Ｒ及び１２０Ｔを薬剤などによる腐食や汚染から保護するための保護層として機能するものである。
【００３８】
なお、図１の液晶表示パネル１００は、いわゆるマルチギャップ構造を採用している。マルチギャップ構造とは、透過表示領域と反射表示領域において形成するオーバーコート層１２７の厚さを異ならせてセル厚を最適化することにより、透過表示モードの際にも反射表示モードの際にも表示性能を向上させる手法である。
【００３９】
さらに、カラーフィルタ基板１０のオーバーコート層１２７の表面上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などの透明導電体からなる透明電極１１４が形成される。この透明電極１１４は本実施形態においては複数並列したストライプ状に形成されている。また、この透明電極１１４は、図１に示す基板１０２上に同様にストライプ状に形成された透明電極１２１に対して直交する方向に延び、透明電極１１４と透明電極１２１との交差領域内に含まれる液晶表示パネル１００の構成部分（反射層１１１、カラーフィルタ層１２０、透明電極１１４、液晶１０４及び透明電極１２１における上記交差領域内の部分）が画素を構成するようになっている。
【００４０】
ここで、本発明においては、図３（ａ）に最もよく図示されるように、オーバーコート層１２７が透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔ（１２０ＴＲ、１２０ＴＧ及び１２０ＴＢ）の上にも形成されることを特徴とする。このように、透過用カラーフィルタ層上にもオーバーコート層１２７を形成することにより、オーバーコート層１２７と透明電極１１４との密着性が高まり、透明電極１１４が安定的に形成できるようになる。また、オーバーコート層１２７が透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを切れ目無く覆うので、オーバーコート層１２７上に透明電極１１４を形成する工程中のエッチングに使用するエッチ液が透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔに損傷を与えることが防止される。
【００４１】
図３（ｂ）に、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔ上にオーバーコート層１２７が形成されない比較例を示す。比較例の場合、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの上に直接に透明電極１１４が形成されることになる。よって、透明電極の形成精度が不十分となったり、透明電極の形成工程中に使用するエッチ液や洗浄液などにより透過用カラーフィルタ層が損傷を受けたりする可能性がある。
【００４２】
本実施形態に示すようなマルチギャップタイプの液晶装置は、マルチギャップ構造を採用することにより透過表示領域と反射表示領域とで液晶層の層厚を調整して高画質化を図っている。従って、本発明を適用する場合においても、透過表示領域と反射表示領域との層厚が適切な関係を維持するようにオーバーコート層１２７を形成することが必要となる。一般的には、図３に示すように、透過表示領域における透明電極１１４の上面と反射表示領域（ブラックマトリクス部分以外の領域）における透明電極１１４の高さの差Ｄとして２μｍ程度が適当である。よって、この関係を維持するようにオーバーコート層１２７を形成する必要がある。
【００４３】
一方、透過表示領域において透過用カラーフィルタ上に形成されるオーバーコート層１２７の層厚は、オーバーコート層１２７の保護層としての保護機能が十分に確保される程度の層厚が要求される。具体的には、透明電極形成工程において使用するエッチ液やその後の洗浄工程において使用される洗浄液の性質にもよるが、０．１μｍ程度を１つの目安と考えることができる。
【００４４】
なお、基板１０１上の透明電極１１４上、及び、基板１０２上の透明電極１２１上には、配向膜などが必要に応じて形成されることになる。
【００４５】
この液晶表示パネル１００においては、反射型表示がなされる場合には、反射層１１１が形成されている領域に入射した外光は、図１に示す経路Ｒに沿って進行し、反射層１１１により反射されて観察者Ｅにより視認される。一方、透過型表示がなされる場合には、バックライト１０９から出射した照明光が図１に示す経路Ｔに従って進行し、観察者Ｅにより視認される。
【００４６】
なお、本発明ではカラーフィルタの各着色層の配列は図２に示す配列には限られない。即ち、ストライプ配列、デルタ配列、ダイヤゴナル配列などの各種の配列に構成することが可能である。また、上記の実施形態では透過用カラーフィルタと反射用カラーフィルタとを別個の材料により独立に形成しているが、同一の材料により単一のカラーフィルタとして形成することも可能である。また、その場合に、透過表示領域と反射表示領域とでカラーフィルタの厚さを変化させたタイプのカラーフィルタにも適用可能である。
【００４７】
［製造方法］
次に、上述の液晶表示パネル１００の製造方法について説明する。本発明の液晶表示パネルは透過用カラーフィルタ上にも薄いオーバーコート層が形成されることを特徴とするが、そのオーバーコート層は以下の２つの方法のいずれかにより形成することができる。
【００４８】
（第１の製造方法）
まず、図１に示すカラーフィルタ基板１０の第１の製造方法について図４（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。
【００４９】
まず、図４（ａ）に示すように、基板１０１の表面上に樹脂散乱層１１３を形成する。樹脂散乱層１１３の形成方法としては、前述のようにガラスやプラスチックなどの基板１０１の表面上に例えばアクリル樹脂などにより透光性の樹脂層を形成し、その表面に多数の微細な凹凸構造を形成することにより製作することができる。なお、樹脂散乱層１１３の形成方法としては、これ以外の方法を採用することももちろん可能である。
【００５０】
次に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金などの金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜し、これをフォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることによって反射層１１１を形成する。この際、反射層１１１は、反射表示領域のみに形成される。
【００５１】
次に、図４（ｂ）に示すように、所定の色相を呈する顔料や染料などを分散させてなる着色された感光性樹脂（感光性レジスト）を塗布し、所定パターンにて露光、現像を行ってパターニングを行うことにより、カラーフィルタ層を形成する。即ち、透過表示領域においては透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔ（即ち、着色層１２０ＴＲ、１２０ＴＧ、１２０ＴＢ）を形成し、反射表示領域においては反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒ（即ち、着色層１２０ＲＲ、１２０ＲＧ、１２０ＲＢ）を形成する。
【００５２】
次に、透過用カラーフィルタ層１２０Ｒ上にブラックマトリクス１２０Ｂを形成する。なお、ブラックマトリクス１２０Ｂは透過用カラーフィルタ層１２０Ｔの各色着色層と同一の材料により形成することができる。その場合には、上述の透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを形成する工程において同時に各色着色層（１２０ＴＲ、１２０ＴＧ、１２０ＴＢ）を順に重ねて形成することによりブラックマトリクス１２０Ｂを形成することもできる。
【００５３】
次に、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔ及び反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの上に、アクリル樹脂などによりオーバーコート層１２７を形成する。この際、第１の製造方法では、オーバーコート層１２７を２つの工程で形成する。即ち、図４（ｃ）に示すように、まず透過用カラーフィルタ層１２０及び反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの上全域にオーバーコート層１２７ａを所定の厚さ（前述の検討によれば、０．１μｍ以上）で形成する。
【００５４】
続いて、さらにその上に、同一のアクリル樹脂などにより、オーバーコート層を形成することにより、オーバーコート層１２７を完成させる。即ち、感光性アクリル樹脂などを均一の厚さに塗布した後、所定のパターンに露光及び現像してパターニングし、図４（ｄ）に示すようなマルチギャップ構造の凹凸を有するオーバーコート層１２７を形成する。こうして、カラーフィルタ基板１０が製造される。
【００５５】
（第２の製造方法）
次に、本発明のカラーフィルタ基板１０の第２の製造方法について、図５（ａ）〜（ｄ）を参照して説明する。図４（ａ）〜（ｅ）に示した第１の製造方法は、オーバーコート層を２つの工程で形成した。これに対し、第２の製造方法では、塗布したオーバーコート層をパターニングする際の露光量を調整することにより、オーバーコート層１２７を１つの工程で形成する。
【００５６】
第２の製造方法は、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、基板１０１上に樹脂散乱層１１３、反射層１１１、透過用カラーフィルタ層１２０Ｔ、反射用カラーフィルタ層１２０Ｒ、ブラックマトリクス１２０Ｂを形成するまでは第１の製造方法と同じである。
【００５７】
次に、基板１０１の全領域に感光性アクリル樹脂などの透光性樹脂を塗布し、これを所定のパターンに露光し、さらに現像することによりパターニングしてマルチギャップ構造の凹凸を形成する。その際、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの領域に比べて、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの領域の露光量を増やすことにより、アクリル樹脂が除去される量が増える。その結果、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔ上のオーバーコート層１２７の厚さは、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒ上のオーバーコート層１２７の厚さより薄くなる。こうして、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔ上に薄いオーバーコート層１２７を有するマルチギャップ構造を形成することができる。なお、露光量の調整は、露光のための紫外線の照射量を一定にして時間を調整してもよいし、照射時間を一定にして照射量を部分的に調整してもよい。
【００５８】
（液晶表示パネルの製造方法）
次に、こうして得られたカラーフィルタ基板１０を用いて、図１に示す液晶表示パネル１００を製造する方法について図６を参照して説明する。図６は、表示パネル１００の製造工程を示す流れ図である。
【００５９】
まず、上記の方法により、透過用カラーフィルタ上にも薄いオーバーコート層を有するカラーフィルタ基板１０が形成された基板１０１が製造され（工程Ｓ１）、さらにオーバーコート層１２７上に透明導電体をスパッタリング法により被着し、フォトリソグラフィー法によってパターニングすることにより、透明電極１１４を形成する（工程Ｓ２）。その後、透明電極１１４上にポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ３）。
【００６０】
一方、反対側の基板１０２を製作し（工程Ｓ４）、同様の方法で透明電極１２１を形成し（工程Ｓ５）、さらに透明電極１２１上に配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ６）。
【００６１】
そして、シール材１０３を介して上記の基板１０１と基板１０２とを貼り合わせてパネル構造を構成する（工程Ｓ７）。基板１０１と基板１０２とは、基板間に分散配置された図示しないスペーサなどによってほぼ規定の基板間隔となるように貼り合わせられる。
【００６２】
その後、シール材１０３の図示しない開口部から液晶１０４を注入し、シール材１０３の開口部を紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する（工程Ｓ８）。こうして主要なパネル構造が完成した後に、上述の位相差板や偏光板などを必要に応じてパネル構造の外面上に貼着などの方法によって取り付け（工程Ｓ９）、図１に示す液晶表示パネル１００が完成する。
【００６３】
［電子機器］
次に、上記液晶表示パネルを含む液晶装置を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。図７は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示パネル１００と同様の液晶表示パネル２００と、これを制御する制御手段１２００とを有する。ここでは、液晶表示パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体ＩＣなどで構成される駆動回路２００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０と、を有する。
【００６４】
表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されている。
【００６５】
表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫとともに駆動回路２００Ｂへ供給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００６６】
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の具体例について図８を参照して説明する。
【００６７】
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図８（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ４１は、キーボード４１１を備えた本体部４１２と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部４１３とを備えている。
【００６８】
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図８（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機４２は、複数の操作ボタン４２１のほか、受話口４２２、送話口４２３とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部４２４を備える。
【００６９】
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図８（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図８（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【００７０】
［変形例］
なお、上述のカラーフィルタ基板及び液晶表示パネルなどは、上述の例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変更が可能であることは勿論である。
【００７１】
例えば、図２に示したカラーフィルタは反射表示領域内の開口として透過表示領域を規定する構造であるが、この構造は単なる一例であり、カラーフィルタを、例えば矩形の反射用カラーフィルタ部と透過用カラーフィルタ部を交互に隣接させて形成するような構造とすることも可能である。
【００７２】
また、以上説明した各実施形態においては、いずれもパッシブマトリクス型の液晶表示パネルを例示してきたが、本発明の電気光学装置としては、アクティブマトリクス型の液晶表示パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル）にも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、フィールド・エミッション・ディスプレイ（電界放出表示装置）などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの構造を示す断面図である。
【図２】図１に示す液晶表示パネルのカラーフィルタ層の構造を示す平面図である。
【図３】図１に示す液晶表示パネルの一部の拡大断面図、及び、比較例として透過表示領域にオーバーコート層が形成されていない液晶表示パネルの構造を示す断面図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ基板の第１の製造方法を示す断面図である。
【図５】本発明のカラーフィルタ基板の第２の製造方法を示す断面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法の工程図である。
【図７】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図８】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルを適用した電子機器の例を示す図である。
【符号の説明】
１０  カラーフィルタ
１００  液晶表示パネル
１０１、１０２  基板
１０３  シール材
１０９  バックライト
１１１  反射層
１１３  樹脂散乱層
１１４  透明電極
１１５  セル厚調整層
１２０Ｔ、１２０Ｒ  カラーフィルタ層
１２０Ｂ  ブラックマトリクス
１２７  オーバーコート層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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