(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［Ｉ］
【化１】
0003705701.tif 000024
［式中、Ｒはメチル基または−Ｓｉ（Ｒ3)3〔Ｒ3は炭素数が１〜４のアルキル基を表し、３つのＲ3は互いに同一でも異なっていてもよい。〕を表し、Ｒ1はフェニル基またはトリル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表す。また、Ｘは水素、フッ素、塩素または臭素を表し、３つのＸは互いに同一でも異なっていてもよいが、すべて同時に水素となることはない。］
で示される化合物を酸化することを特徴とする一般式［ＩＩ］
【化２】
0003705701.tif 000025
［式中、Ｒ1はフェニル基またはトリル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表す。また、Ｘは水素、フッ素、塩素または臭素を表し、３つのＸは互いに同一でも異なっていてもよいが、すべて同時に水素となることはない。］
で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、Ｒ3がメチル基か、ｔ−ブチル基であることを特徴とする、請求項１に記載の光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法。
【請求項３】
請求項１において、Ｒがメチル基または（ｔ−Ｃ4Ｈ9）（ＣＨ3）2Ｓｉ−基であることを特徴とする、請求項１に記載の光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３の何れかにおいて、酸化が酸化剤によって行われることを特徴とする、請求項１乃至請求項３の何れかに記載の光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法。
【請求項５】
請求項４において、酸化剤がメタクロロ過安息香酸であることを特徴とする、請求項４に記載の光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法。
【請求項６】
請求項４または請求項５において、酸化剤が一般式［１］で表される化合物１モルあたり、１当量以上用いられることを特徴とする、請求項４または請求項５に記載の光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般式［ＩＩ］
【０００２】
【化３】
0003705701.tif 000002
【０００３】
［式中、Ｒ1はフェニル基またはトリル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表す。また、Ｘは水素、フッ素、塩素または臭素を表し、３つのＸは互いに同一でも異なっていてもよいが、すべて同時に水素となることはない。］
で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法に関するものである。上式［ＩＩ］で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類は、医薬品、農薬あるいは各種機能材料などの製造中間体として有用な化合物である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来、一般式［Ｉ］
【０００５】
【化４】
0003705701.tif 000003
【０００６】
［式中、Ｒはメチル基または−Ｓｉ（Ｒ3)3〔Ｒ3は炭素数が１〜４のアルキル基を表し、３つのＲ3は互いに同一でも異なっていてもよい。〕を表し、Ｒ1はフェニル基またはトリル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表す。また、Ｘは水素、フッ素、塩素または臭素を表し、３つのＸは互いに同一でも異なっていてもよいが、すべて同時に水素となることはない。］
で示される化合物を酸化することによる一般式［ＩＩ］
【０００７】
【化５】
0003705701.tif 000004
【０００８】
［式中、Ｒ1はフェニル基またはトリル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表す。また、Ｘは水素、フッ素、塩素または臭素を表し、３つのＸは互いに同一でも異なっていてもよいが、すべて同時に水素となることはない。］
で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法は知られていない。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討を行なった結果、一般式［Ｉ］で示される化合物を酸化することによって一般式［ＩＩ］で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類を容易に、かつ、高い光学純度で製造することができることを見出し、本発明に到達した。
【００１０】
すなわち、本発明は、一般式［Ｉ］
【００１１】
【化６】
0003705701.tif 000005
【００１２】
［式中、Ｒはメチル基または−Ｓｉ（Ｒ3)3〔Ｒ3は炭素数が１〜４のアルキル基を表し、３つのＲ3は互いに同一でも異なっていてもよい。〕を表し、Ｒ1はフェニル基またはトリル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表す。また、Ｘは水素、フッ素、塩素または臭素を表し、３つのＸは互いに同一でも異なっていてもよいが、すべて同時に水素となることはない。］
で示される化合物を酸化することを特徴とする一般式［ＩＩ］
【００１３】
【化７】
0003705701.tif 000006
【００１４】
［式中、Ｒ1はフェニル基またはトリル基を表し、Ｒ2は水素原子またはメチル基を表す。また、Ｘは水素、フッ素、塩素または臭素を表し、３つのＸは互いに同一でも異なっていてもよいが、すべて同時に水素となることはない。］
で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法である。
【００１５】
また本発明は、上記発明において、Ｒ3がメチル基か、ｔ−ブチル基であることを特徴とする、上記の光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法である。
【００１６】
また本発明は、上記発明において、Ｒがメチル基または（ｔ−Ｃ4Ｈ9）（ＣＨ3）2Ｓｉ−基であることを特徴とする、上記の光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法である。
【００１７】
以下、本発明の光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類の製造方法について詳細に説明する。本発明においては、上記の一般式［Ｉ］で示される光学活性化合物が出発原料として使用される。この化合物は、例えば、本発明者らが開発した以下の方法により容易に、かつ、高い光学純度で製造することができる。すなわち、一般式［ＩＩＩ］
【００１８】
【化８】
0003705701.tif 000007
【００１９】
［式中、ＸおよびＸ’はいっしょになって次の基
【００２０】
【化９】
0003705701.tif 000008
【００２１】
を表すか、あるいは、それぞれハロゲン原子、ＯＴｆ、Ｎ（Ｔｆ）2またはＣ（Ｔｆ）3〔Ｔｆは−ＳＯ2Ｒｆ（Ｒｆはフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を表す。）〕を表し、ＹおよびＹ’はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ＣＮ、Ｓｉ（Ｒ5）3（Ｒ5は低級アルキル基を表す。）、ＳＯ2Ｒ6（Ｒ6は低級アルキル基または置換もしくは非置換のフェニル基を表す。）または
【００２２】
【化１０】
0003705701.tif 000009
【００２３】
〔Ｒ7は水素原子、低級アルキル基、置換もしくは非置換のフェニル基、Ｓｉ（Ｒ8）3（Ｒ8は低級アルキル基を表す。）〕を表す。］
で示される光学活性ビナフトール−チタン錯体の存在下、一般式［ＩＶ］
【００２４】
【化１１】
0003705701.tif 000010
【００２５】
［式中、Ｒは低級アルキル基または−Ｓｉ（Ｒ3)3〔Ｒ3は低級アルキル基を表し、３つのＲ3は互いに同一でも異なっていてもよい。〕を表し、Ｒ1は低級アルキル基または置換もしくは非置換のフェニル基を表し、Ｒ2は水素原子または低級アルキル基を表す。］
で示される化合物と一般式［Ｖ］
【００２６】
【化１２】
0003705701.tif 000011
【００２７】
［式中、Ｘは水素、フッ素、塩素または臭素を表し、３つのＸは互いに同一でも異なっていてもよいが、すべて同時に水素となることはない。］
で示されるハロゲン化アセトアルデヒドとを反応させることにより製造することができる。
【００２８】
上記の一般式［Ｉ］で示される光学活性化合物の製造方法においては、上式［ＩＩＩ］で示される光学活性ビナフトール−チタン錯体が触媒として使用される。この光学活性ビナフトール−チタン錯体にはＳ体およびＲ体の２種類が存在し、これらは目的とする生成物の絶対配置に応じて適宜使い分ければよく、それにより一般式［Ｉ］で示される光学活性化合物を高い光学純度で製造することができる。
【００２９】
本発明においては、上述のようにして得られる一般式［Ｉ］で示される光学活性化合物を出発原料とし、これを酸化することにより一般式［ＩＩ］で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類を容易に、かつ、効率よく製造することができる。
【００３０】
本発明における酸化反応は、通常の方法にしたがって行えばよく、例えば、酸化剤を使用することにより行えばよい。使用される酸化剤としては、例えば、メタクロロ過安息香酸（ｍ−ＣＰＢＡ）、過酢酸、過酸化水素、過酸化水素−酢酸、ｔ−ブチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、過安息香酸ｔ−ブチル、過酢酸ｔ−ブチル、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（ＴＢＨＰ）、トリフェニルメチルハイドロパーオキサイド、過マンガン酸カリウム、クロム酸、クロム酸カリウム、クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）、酸化オスミウム、酸化ルテニウム、酸化モリブデンなどを挙げることができる。また、酸素やオゾンにより酸化反応を行うこともできる。
【００３１】
本発明の酸化反応において使用される酸化剤は、通常、一般式［Ｉ］で示される化合物に対して、１当量以上使用すればよく、好ましくは１当量〜３当量、さらに好ましくは１当量〜２当量使用するのがよい。
【００３２】
本発明の酸化反応においては、通常、溶媒が使用される。使用される溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類、アセトンなどのケトン類などを挙げることができる。
【００３３】
また、本発明の酸化反応における反応温度は、通常、室温付近とすればよく、充分な反応速度で反応が進行する。当然のことながら、加熱下においても効率よく反応が進行するが、冷却下、例えば０℃付近においても充分な反応速度で反応が進行する。
【００３４】
本発明の酸化反応においては、反応終了後、通常の後処理を行うことにより粗生成物を得ることができる。得られた粗生成物は、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの精製操作を行い、目的の一般式［ＩＩ］で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類を高収率、かつ、高い光学純度で得ることができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により、本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３６】
【実施例】
調製例１
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ（３６８ｍｇ、１．２８７ｍｍｏｌ）、ＴｉＣｌ2(Ｏ−ｉ−Ｐｒ）2(３０５ｍｇ、１．２８７ｍｍｏｌ）およびＭＳ４Ａ（６．４３ｇ）を塩化メチレン（１２．９ｍｌ）に加え、アルゴン雰囲気下、室温で１時間撹拌した。撹拌終了後、トルエン（２０ｍｌ）を加え、遠心分離にかけ、セライトろ過した。ろ液を減圧下、乾燥し、（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ−Ｔｉ触媒を得た。
【００３７】
参考例１
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ−Ｔｉ触媒（１９．７ｍｇ、０．０４９ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ）と下記式
【００３８】
【化１３】
0003705701.tif 000012
【００３９】
で示されるビニルエーテル（３９．９ｍｇ、０．２４６ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ、Ｅ／Ｚ＝１／１）を塩化メチレン（１．４８ｍｌ）に加え、アルゴン雰囲気下、氷冷下で過剰量のフルオラールを吹き込み、同温度で３０分間撹拌した。撹拌終了後、水を加え、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮することによって粗体を得た。粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：ヘキサン＝３：２）に付し、下記式
【００４０】
【化１４】
0003705701.tif 000013
【００４１】
で示されるフリーデル−クラフト反応生成物を得た（収率：６４％、Ｅ／Ｚ＝５／１、Ｅ体の不斉収率：８５％ｅ．ｅ．（Ｒ体））。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3）
Ｅ体：７．２（４Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），４．９（１Ｈ，ｑ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），３．８（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），３．３（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3Ｏ），２．４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3−ａｒｏｍａｔｉｃ），１．７（３Ｈ，ｓ，ｖｉｎｙｌｉｃ−ＣＨ3）
Ｚ体：７．２（４Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），４．４（１Ｈ，ｑ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），３．３（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3Ｏ），２．４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3−ａｒｏｍａｔｉｃ），２．０（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），１．９（３Ｈ，ｓ，ｖｉｎｙｌｉｃ−ＣＨ3）
また、Ｅ体の不斉収率は、酸加水分解物をキラルＨＰＬＣにより測定した。
キラルＨＰＬＣ条件
Ｄａｉｃｅｌ、ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＳ、ヘキサン：イソプロパノール＝９８：２、０．８ｍｌ／ｍｉｎ、２５４ｎｍ、保持時間；スレオ／Ｓ：１１ｍｉｎ，Ｒ：３８ｍｉｎ，エリスロ／Ｒ：１４ｍｉｎ，Ｓ：２５ｍｉｎ
実施例１
下記式
【００４２】
【化１５】
0003705701.tif 000014
【００４３】
で示される化合物（２４．３ｍｇ、０．０９３ｍｍｏｌ、１ｅｑ）とｍ−ＣＰＢＡ（純度８０％、４０．４ｍｇ、０．１８７ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ）をメタノール（２ｍｌ）に加え、室温で２時間撹拌した。撹拌終了後、減圧下、溶媒を留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。濃縮後、メタノール、水および過剰のｐ−トルエンスルホン酸を加え、還流下、３０分間撹拌した。撹拌終了後、冷却して塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、下記式
【００４４】
【化１６】
0003705701.tif 000015
【００４５】
で示される化合物の粗体を得た（収率：６０％）。ジアステレオ選択性を1Ｈ−ＮＭＲと19Ｆ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣにより検討したところ、他のジアステレオマーは確認できなかった（ｄ．ｅ．：９５％以上）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3)
スレオ体：７．９（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ），７．３（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ），４．６（１Ｈ，ｄｑ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），４．５（１Ｈ，ｓ，ＣＭｅＯＨ），３．２（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），２．４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3−ａｒｏｍａｔｉｃ），１．７（３Ｈ，ｑ，ＣＭｅＯＨ）
また、スレオ体の不斉収率は、キラルＨＰＬＣにより測定した。酸化反応により光学純度が損なわれることはなかった。
キラルＨＰＬＣ条件
Ｄａｉｃｅｌ、ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＳ、ヘキサン：イソプロパノール＝９５：５、０．８ｍｌ／ｍｉｎ、２５４ｎｍ、保持時間；Ｒ−Ｒ：１５ｍｉｎ，Ｓ−Ｓ：２３ｍｉｎ
参考例２
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ−Ｔｉ触媒（２５．３ｍｇ、０．０６３ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ）と下記式
【００４６】
【化１７】
0003705701.tif 000016
【００４７】
で示されるシリルエノールエーテル（８２．９ｍｇ、０．３１６ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を塩化メチレン（１．９０ｍｌ）に加え、アルゴン雰囲気下、氷冷下で過剰量のフルオラールを吹き込み、同温度で３０分間撹拌した。撹拌終了後、水を加え、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮することによって粗体を得た。粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：ヘキサン＝３：２）に付し、下記式
【００４８】
【化１８】
0003705701.tif 000017
【００４９】
で示されるフリーデル−クラフト反応生成物を得た（収率：７７％、Ｚ／Ｅ＝６／１、Ｚ体の不斉収率：９４％ｅ．ｅ．（Ｒ体）、Ｅ体の不斉収率：６６％ｅ．ｅ．（Ｒ体））。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3）
Ｚ体：７．２（４Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），４．６（１Ｈ，ｑ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），２．４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3−ａｒｏｍａｔｉｃ），２．０（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），１．８（３Ｈ，ｓ，ｖｉｎｙｌｉｃ−ＣＨ3），０．９（９Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2），−０．１６（３Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2），−０．２４（３Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2）
Ｅ体：７．２（４Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．３（１Ｈ，ｑ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），２．７（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），２．４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3−ａｒｏｍａｔｉｃ），１．６（３Ｈ，ｓ，ｖｉｎｙｌｉｃ−ＣＨ3），０．９（９Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2），−０．２（６Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2）
また、Ｚ体およびＥ体の不斉収率は、酸加水分解物をキラルＨＰＬＣにより測定した。
キラルＨＰＬＣ条件
Ｄａｉｃｅｌ、ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＳ、ヘキサン：イソプロパノール＝９８：２、０．８ｍｌ／ｍｉｎ、２５４ｎｍ、保持時間；スレオ／Ｓ：１１ｍｉｎ，Ｒ：３８ｍｉｎ，エリスロ／Ｒ：１４ｍｉｎ，Ｓ：２５ｍｉｎ
実施例２
下記式
【００５０】
【化１９】
0003705701.tif 000018
【００５１】
で示される化合物（１２．１ｍｇ、０．０３４ｍｍｏｌ、１ｅｑ）とｍ−ＣＰＢＡ（純度８０％、１４．５ｍｇ、０．０６７ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ）をメタノール（２ｍｌ）に加え、室温で２時間撹拌した。撹拌終了後、減圧下、溶媒を留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、下記式
【００５２】
【化２０】
0003705701.tif 000019
【００５３】
で示される化合物の粗体を得た（収率：６０％）。ジアステレオ選択性を1Ｈ−ＮＭＲと19Ｆ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣにより検討したところ、他のジアステレオマーは確認できなかった（ｄ．ｅ．：９５％以上）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3）
スレオ体：７．９（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ），７．３（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ），４．６（１Ｈ，ｄｑ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），４．５（１Ｈ，ｓ，ＣＭｅＯＨ），３．２（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），２．４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ3−ａｒｏｍａｔｉｃ），１．７（３Ｈ，ｑ，ＣＭｅＯＨ）
また、スレオ体の不斉収率は、キラルＨＰＬＣにより測定した。酸化反応により光学純度が損なわれることはなかった。
キラルＨＰＬＣ条件
Ｄａｉｃｅｌ、ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＳ、ヘキサン：イソプロパノール＝９５：５、０．８ｍｌ／ｍｉｎ、２５４ｎｍ、保持時間；Ｒ−Ｒ：１５ｍｉｎ，Ｓ−Ｓ：２３ｍｉｎ
参考例３
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ−Ｔｉ触媒（１２．９ｍｇ、０．０３２ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ）と下記式
【００５４】
【化２１】
0003705701.tif 000020
【００５５】
で示されるシリルエノールエーテル（７５．５ｍｇ、０．３２３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ）を塩化メチレン（１．９４ｍｌ）に加え、アルゴン雰囲気下、氷冷下で過剰量のフルオラールを吹き込み、同温度で３０分間撹拌した。撹拌終了後、水を加え、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮することによって粗体を得た。粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：ヘキサン＝３：２）に付し、下記式
【００５６】
【化２２】
0003705701.tif 000021
【００５７】
で示されるフリーデル−クラフト反応生成物を得た（収率：３４％、Ｅ／Ｚ＝４／１、Ｅ体の不斉収率：９８％ｅ．ｅ．（Ｒ体）、Ｚ体の不斉収率：８０％ｅ．ｅ．（Ｒ体））。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3）
Ｅ体：７．３〜７．５（５Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．１（１Ｈ，ｄ，ｖｉｎｙｌｉｃ−ＣＨ），４．５（１Ｈ，ｄ−ｑｕｉｎ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），２．０（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），０．９（９Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2），０．１（３Ｈ＊２，ｓ＊２，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2）
Ｚ体：７．３〜７．５（５Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．２（１Ｈ，ｄ，ｖｉｎｙｌｉｃ−ＣＨ），５．０（１Ｈ，ｄ−ｑｕｉｎ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），２．２（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），１．０（９Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2），０．０（３Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2），−０．１（３Ｈ，ｓ，Ｓｉｔ−ＢｕＭｅ2）
また、Ｅ体およびＺ体の不斉収率は、酸加水分解物をキラルＨＰＬＣにより測定した。
キラルＨＰＬＣ条件
Ｄａｉｃｅｌ、ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＯＤ−Ｈ、ヘキサン：イソプロパノール＝９５：５、０．８ｍｌ／ｍｉｎ、２５４ｎｍ、保持時間；Ｓ：１２ｍｉｎ，  Ｒ：１４ｍｉｎ
実施例３
下記式
【００５８】
【化２３】
0003705701.tif 000022
【００５９】
で示される化合物（Ｅ／Ｚ＝４／１、６．９ｍｇ、０．０２１ｍｍｏｌ、１ｅｑ）とｍ−ＣＰＢＡ（純度８０％、９．０ｍｇ、０．０４２ｍｍｏｌ、２．０ｅｑ）をメタノール（２ｍｌ）に加え、室温で２時間撹拌した。撹拌終了後、減圧下、溶媒を留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。濃縮後、メタノール、水および過剰のｐ−トルエンスルホン酸を加え、還流下、３０分間撹拌した。撹拌終了後、冷却して塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、下記式
【００６０】
【化２４】
0003705701.tif 000023
【００６１】
で示される化合物の粗体を得た（収率：６５％）。ジアステレオ選択性を1Ｈ−ＮＭＲと19Ｆ−ＮＭＲおよびＨＰＬＣにより検討したところ、他のジアステレオマーは確認できなかった（ｄ．ｅ．：９５％以上）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＴＭＳ、ｐｐｍ、ＣＤＣｌ3）
スレオ体：７．９（２Ｈ，ｄ，ａｒｏｍａｔｉｃ），７．７（１Ｈ，ｔ，ａｒ            ｏｍａｔｉｃ），７．６（２Ｈ，ｔ，ａｒｏｍａｔｉｃ），５．４（１Ｈ，ｄ，ＣＨＯＨ），４．３（１Ｈ，ｄｑ，ＣＦ3ＣＨＯＨ），４．３（１Ｈ，ｄ，ＣＨＯＨ），３．１（１Ｈ，ｄ，ＣＦ3ＣＨＯＨ）
【００６２】
【発明の効果】
本発明の製造方法により、医薬品、農薬あるいは各種機能材料などの製造中間体として有用な化合物である一般式［ＩＩ］で示される光学活性−α，β−ジヒドロキシケトン類を非常に容易に、かつ、効率よく製造することができる。