(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、記録膜と有機保護膜とを形成して成る光磁気記録媒体において、
上記有機保護膜が、ベース樹脂となるアクリル系樹脂（Ａ）と、変性シロキサン（Ｂ）と、未変性シロキサン（Ｃ）との組成物からなり、
上記アクリル系樹脂（Ａ）は、ガラス転移点が１０５〜１６０℃の範囲内であり、
上記変性シロキサン（Ｂ）は、フェニル変性又はポリエーテル変性であり、
上記未変性シロキサン（Ｃ）の動粘度が５０ｃＳｔ（センチストークス）以下であり、
上記有機保護膜が単層の有機膜により形成されている
ことを特徴とする光磁気記録媒体。
【請求項２】
上記未変性シロキサン（Ｃ）に、複数種の未変性シロキサンを混合した組成物を使用したことを特徴とする請求項１に記載の光磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光磁気記録媒体に係わり、特に有機保護膜を形成した光磁気記録媒体に係わる。
【０００２】
【従来の技術】
繰り返し記録が可能な光磁気ディスクの１種であるＭＤ（ミニディスク）では、データの書き込む際に、記録用ヘッドがディスクに直接接触する。
従って、その表面は低い摺動摩擦力を長時間保持する必要がある。
【０００３】
このような低い摺動摩擦力を長時間保持する目的で、ＭＤの表面には有機保護膜が形成される。
この有機保護膜は、外部環境から記録膜を保護すると共に、記録用ヘッド即ち磁気ヘッドとの摺動特性を良好にする働きを有する。
【０００４】
従来は、例えば有機保護膜を２層構造として、下層を保護膜として記録膜を保護し、上層を滑剤層として摺動特性を向上させるようにしていた。
そして、下層に例えば光ディスクの保護膜と同様の樹脂を塗布して、さらに上層に滑剤層を塗布するようにしていた。
【０００５】
このように２層構造で有機保護膜を形成すると、塗布工程が２回必要であるため、工程数が増えてしまう。
また、以下に挙げるような問題も生じることがある。
１）２回の塗布工程によりディスクに負担がかかり、ＭＤの場合には後で記録をおこなった場合にエラーの原因になることもあった。
２）２層構造では、表面の滑剤層にごみ・ほこりが付着しやすく、いったん付着したほこりが取れにくくなる。
３）滑剤層を塗布形成する工程で希釈用溶剤が必要となり、この希釈用溶剤が環境に悪影響を及ぼすことがある。
４）滑剤層の滑剤成分が消費されてしまうと、それ以上の摺動特性が得られなくなる。即ち摺動特性の寿命が短い。
【０００６】
尚、ＭＤは安価な汎用の記録メディアであるため、上述の問題点を回避するために高価な滑剤を使用したり、毒性が高い等安全性に問題がある滑剤を使用することが困難である。
【０００７】
従って、１層で有機保護膜を形成し、記録膜の保護と摺動特性の向上とを共に実現することが求められている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、光ディスクの保護膜と同様の樹脂をベース樹脂として、この樹脂に滑剤成分を添加して樹脂組成物を作製し、この樹脂組成物を塗布して有機保護膜を形成することが提案されている。
【０００９】
まず提案されている樹脂組成物は、アクリル系樹脂等をベース樹脂組成物として、これに滑剤成分としてシロキサンにフェニル基等の官能基を付与した変性シロキサンを添加して樹脂組成物を形成し、摺動特性の向上を図るものである。
【００１０】
また、その他に提案されている樹脂組成物は、ベース樹脂組成物に滑剤成分として変性させていないシロキサンを添加して樹脂組成物を形成し、充分低い摺動摩擦力を保持することを図ったものである。
【００１１】
しかしながら、それぞれの樹脂組成物には次のような欠点があった。
まず、変性シロキサンを添加した樹脂組成物は、滑剤成分の変性シロキサンがベース樹脂と相溶性であるため、ベース樹脂と混ざりやすく滑剤成分が表面に出てこない（ブリードアウトしにくい）ため、充分な摺動特性が得られない。
この場合、有機保護膜の表面の耐久性が低くなるため、磁気ヘッドが摺動することによりディスク表面に摺動痕が残るようになると共に、有機保護膜に欠陥を生じて記録層の金属を腐食させることがある。
また、変性シロキサンが官能基により界面活性剤の作用を有するので泡立ちやすくなる。
従って、さらに表面に滑剤を塗布する必要があり、結局２層構造の有機保護膜となるため、前述の課題を解決することができなかった。
【００１２】
一方、未変性シロキサンを添加した樹脂組成物は、滑剤成分の未変性シロキサンがベース樹脂と非相溶性であるため、滑剤成分が表面に出やすく（ブリードアウトしやすく）なり、初期摺動特性は非常に優れている。
しかし、滑剤がベース樹脂と非相溶性であるため、塗布むらが生じて凹凸が多くなり、ディスクの外観が悪くなっていた。
尚、凹凸があると、部分的に保護膜が薄くなるため、保護能力が不十分となることがある。
また、非相溶性であるため、樹脂組成物の液が分離しやすく、保存安定性がよくなかった。
【００１３】
上述した問題の解決のために、本発明においては、連続摺動によっても摺動特性を持続することが可能で、かつ外観が良好な光磁気記録媒体を提供するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板上に記録膜と有機保護膜とを形成して成り、有機保護膜が、ベース樹脂となるアクリル系樹脂（Ａ）と、変性シロキサン（Ｂ）と、未変性シロキサン（Ｃ）との組成物から成り、アクリル系樹脂（Ａ）は、ガラス転移点が１０５〜１６０℃の範囲内であり、変性シロキサン（Ｂ）は、フェニル変性又はポリエーテル変性であり、未変性シロキサン（Ｃ）の動粘度が５０ｃＳｔ（センチストークス）以下であり、有機保護膜が単層の有機膜により形成されている光磁気記録媒体である。
【００１６】
また本発明は、上記光磁気記録媒体において、未変性シロキサン（Ｃ）に、複数種の未変性シロキサンを混合した組成物を使用した構成も含む。
【００１８】
上述の本発明の光磁気記録媒体の構成によれば、有機保護膜に変性シロキサン（Ｂ）と未変性シロキサン（Ｃ）とを共に有することにより、初期摺動摩擦を低くすることができると共に、滑剤成分が断続的に補充されて（ブリードアウトして）摺動特性を長時間保持することができる。
【００１９】
また、特に未変性シロキサン（Ｃ）の動粘度を５０ｃＳｔ以下とすることにより、有機保護膜の塗布むらが低減されるため、有機保護膜の塗布外観がより良好となる。
【００２０】
また、特に未変性シロキサン（Ｃ）に複数種の未変性シロキサンを混合した組成物を使用することにより、滑剤成分のブリードアウトに時間差をもたせることができる。
さらに、例えば塗布むらを少なくする特性を有する種と摺動摩擦を小さくする特性を有する種とを混合して、両方の特性を向上させることが可能になる。
【００２１】
また、特にアクリル系樹脂（Ａ）のガラス転移点を１０５〜１６０℃の範囲内とすることにより、滑剤成分が継続的にブリードアウトするようになり、また適度な硬さの有機保護膜が形成される。
【００２２】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の具体的な実施の形態の説明に先立ち、本発明の概要について説明する。
本発明は、基板上に記録膜と有機保護膜とを形成して成る光磁気記録媒体において、その有機保護膜が、ベース樹脂となるアクリル系樹脂（Ａ）と、変性シロキサン（Ｂ）と、未変性シロキサン（Ｃ）との組成物から成るものである。
【００２３】
これにより、初期摺動摩擦を低くすることができると共に、滑剤成分が断続的に補充されて摺動特性を長時間保持することができるものである。
【００２４】
次に、本発明の具体的な実施の形態を説明する。
図１は本発明の一実施の形態として、光磁気ディスクの概略構成図（断面図）を示す。
この光磁気ディスク１は、図１に示すように透明基板２上に誘電体膜３を介して磁性材料からなる記録膜４、さらに誘電体膜５を介して反射層６が形成され、さらに表面に有機保護膜７を有して成る。
【００２５】
そして、本実施の形態においては、有機保護膜７は、前述のベース樹脂となるアクリル系樹脂（Ａ）と、変性シロキサン（Ｂ）と、未変性シロキサン（Ｃ）との組成物から構成される。
【００２６】
アクリル系樹脂（Ａ）としては、公知の単官能アクリル樹脂や多官能アクリル樹脂を使用することができる。
【００２７】
変性シロキサン（Ｂ）としては、未変性シロキサンの側鎖や末端を変性したものを用いることができる。
好ましくは、変性によりメチル基の代わりに官能基を形成して、アクリル系樹脂（Ａ）との相溶性をよくしたものを用いる。
例えば未変性シロキサンをフェニル変性したものや、未変性シロキサンをポリエーテル変性したものを使用することができる。
【００２８】
未変性シロキサン（Ｃ）としては、一般的な未変性シロキサン、例えばジメチルシロキサンを用いることができる。
この未変性シロキサン（Ｃ）により、消泡剤の効果も発揮されるため、樹脂組成物が泡立ちにくくなる。
【００２９】
また、変性シロキサン（Ｂ）と未変性シロキサン（Ｃ）の両者を合わせた滑剤成分の添加量Ｘは、ベース樹脂１００重量部に対して、０．１重量部＜Ｘ＜２重量部の範囲が好ましい。
２重量部以上にすると、塗布むらが生じて外観が悪くなる。
また、０．１重量部以下では充分な摺動特性が得られない。
【００３０】
尚、未変性シロキサン（Ｃ）を過剰に添加すると、塗布むらが大きくなり、外観が変わる。
【００３１】
さらに、より好ましくは添加する滑剤成分の分子量を小さくする。特に未変性シロキサン（Ｃ）の分子量を小さくする。
このように、未変性シロキサン（Ｃ）の分子量を小さくすることにより、ベース樹脂組成物との相溶性が向上し、通常はアクリル系樹脂（Ａ）混ざりにくい未変性シロキサン（Ｃ）が混ざるようになる。
また、硬化した後の継続的なブリードアウトに有効である。
【００３２】
未変性シロキサン（Ｃ）の平均分子量が小さいほど動粘度も小さくなる。
好ましくは動粘度が５０ｃＳｔ以下の未変性シロキサン（Ｃ）を使用する。
【００３３】
尚、変性シロキサン（Ｂ）と未変性シロキサン（Ｃ）とは相溶性がある。
このため、これらを混合してからベース樹脂組成物（Ａ）に添加することもできる。
【００３４】
さらに、低分子量でありかつ分子量の異なる複数の滑剤、特に複数の未変性シロキサン（Ｃ）を組み合わせることにより、ブリードアウトに時間差をもたせることができる。
【００３５】
有機保護膜７を上述の樹脂組成物から構成することにより、変性シロキサン（Ｂ）と未変性シロキサン（Ｃ）とを合わせて添加しているので、ブリードアウトが促進されると共に充分な摺動特性が得られる。
【００３６】
そして、上述の有機保護膜７は、次のようにして形成することができる。
まず、ベース樹脂となるアクリル系樹脂（Ａ）と、変性シロキサン（Ｂ）と、未変性シロキサン（Ｃ）とを混合して樹脂組成物を形成する。
【００３７】
次に、透明基板２上に誘電体膜３を介して磁性材料からなる記録膜４、さらに誘電体膜５を介して反射層６が形成されたディスクの表面に、混合した樹脂組成物を塗布する。
【００３８】
そして、紫外線を照射してアクリル系樹脂（Ａ）を硬化させることにより、有機保護膜７を形成することができ、これにより、図１に示した構成の光磁気ディスク１を製造することができる。
【００３９】
次に、本発明の光磁気記録媒体の具体的な実施例により、これらの性質や特長を詳しく説明する。
【００４０】
（実施例１）
（ｉ）ベース樹脂組成物（Ａ）
以下の単官能或いは多官能のアクリル系樹脂を用意して、これらを混合してベース樹脂組成物（Ａ）とした。
Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ（新中村化学株式会社製）    ７０重量部
ビスコート１５０（大阪有機株式会社製）          ２０重量部
ＡＣＭＯ（興人株式会社製）                      １０重量部
生成されたベース樹脂組成物（Ａ）のガラス転移点Ｔｇは１１４℃であった。
【００４１】
（ii）滑剤成分
上記ベース樹脂組成物（Ａ）１００重量部に対して、以下に示す滑剤成分（Ｂ）及び（Ｃ）を添加して樹脂組成物を作製した。
変性シロキサン（Ｂ）として
フェニル変性シロキサン（ＫＦ５４）                  ０．２重量部
未変性シロキサン（Ｃ）として
動粘度２ｃＳｔのもの（ＫＦ９６Ｌ−２ＣＳ）          ０．２重量部
（いずれも信越化学株式会社製）
【００４２】
（実施例２）
ベース樹脂組成物（Ａ）１００重量部に対して、以下に示す滑剤成分（Ｂ）及び（Ｃ）を添加して樹脂組成物を作製した。
変性シロキサン（Ｂ）として
ポリエーテル変性シロキサン（ＫＦ９０６）              ０．２重量部
未変性シロキサン（Ｃ）として
動粘度２ｃＳｔのもの（ＫＦ９６Ｌ−２ＣＳ）            ０．２重量部
（いずれも信越化学株式会社製）
【００４３】
（実施例３〜実施例４、比較例１〜比較例２）
未変性シロキサン（Ｃ）として、それぞれ動粘度が１０ｃＳｔのもの、５０ｃＳｔのもの、１００ｃＳｔのもの、２００ｃＳｔのもの（いずれも信越化学株式会社製）を０．２重量部添加する。その他は実施例２と同様にして樹脂組成物を作製し、それぞれ実施例３、実施例４、比較例１、比較例２とした。
【００４４】
（比較例３）
ベース樹脂組成物（Ａ）に、滑材成分として未変性シロキサン（Ｃ）の動粘度が２ｃＳｔのもの（ＫＦ９６Ｌ−２ＣＳ：信越化学株式会社製）を０．２重量部添加して樹脂組成物を作製した。
【００４５】
（比較例４）
ベース樹脂組成物（Ａ）に、滑材成分として変性シロキサン（Ｂ）であるポリエーテル変性シロキサン（ＫＦ９０６：信越化学株式会社製）を０．２重量部添加して樹脂組成物を作製した。
【００４６】
（比較例５）
ベース樹脂組成物（Ａ）に、滑材成分として未変性シロキサン（Ｃ）の動粘度が２ｃＳｔのもの（ＫＦ９６Ｌ−２ＣＳ：信越化学株式会社製）及び１０ｃＳｔのもの（信越化学株式会社製）とをそれぞれ０．２重量部添加して樹脂組成物を作製した。
【００４７】
（iii ）評価試験用ディスクの作製
上述の各実施例及び各比較例について、作製した樹脂組成物をＭＤの基板に塗布して、紫外線照射を行って樹脂組成物を硬化させ、実際のＭＤと同様の有機保護膜を形成した。このように形成されたディスクは、実際のＭＤと比較すると反射膜や記録膜等が省略されている。
この基板に有機保護膜を形成したディスクを、評価試験用ディスクとして使用した。
【００４８】
（iv）評価試験
前項で作製された評価試験用ディスクを、次の評価項目（イ）及び（ロ）により評価を行った。評価の結果は表１に示す。
【００４９】
（イ）塗布外観（凹凸）の観察
有機保護膜を塗布した評価試験用ディスクの外観の凹凸を観察した。
表１中、塗膜が平滑なものを○印、塗膜がやや柚肌状のものを△印、塗膜全面が顕著な柚肌状のものを×印とする。
【００５０】
（ロ）初期摺動摩擦の測定
評価試験用ディスクのφ４６ｍｍの位置（中心から２３ｍｍ）において加重２ｇ・線速度１．４ｍ／ｓの条件で磁気ヘッドを摺動させて、１分間の摺動摩擦の平均値を測定した。
【００５１】
【表１】
0003728558.tif 000002
【００５２】
表１より、滑材成分として、変性シロキサン（Ｂ）と未変性シロキサン（Ｃ）を共に添加することにより、凹凸が少なくなり塗布外観が良好になると共に、摺動摩擦も小さくなることがわかる。
特に、未変性シロキサン（Ｃ）は、動粘度が小さいものを添加した方が塗布外観が良好になることがわかる。
【００５３】
ところで、本発明の光磁気記録媒体において、さらに好ましくは摺動の際に傷が発生することを抑制する目的で、アクリル系樹脂からなるベース樹脂組成物（Ａ）のガラス転移点Ｔｇの範囲を選定する。
【００５４】
ガラス転移点Ｔｇが高すぎると、樹脂組成物中の滑剤成分が硬化の際にブリードアウトしにくくなる。しかも、硬化した後の継続的なブリードアウトがないため、連続摺動を行っていくと傷が発生する。
【００５５】
一方、ガラス転移点Ｔｇが低すぎると、ブリードアウトは促進されるが、保護膜が柔らかくなるため摺動により傷がつきやすくなる。
【００５６】
そこで、具体的に様々なガラス転移点Ｔｇのベース樹脂組成物（Ａ）を配合し、その特性を調べた。
【００５７】
（配合例１〜配合例８）
（ｉ）ベース樹脂組成物（Ａ）
それぞれ単官能或いは多官能のアクリル系樹脂として、
Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ（新中村化学株式会社製）  ６０〜８０重量部
ビスコート１５０（大阪有機株式会社製）          ０〜３０重量部
ＡＣＭＯ（興人株式会社製）                      ０〜２０重量部
の３種類のアクリル樹脂を組み合わせて合計１００重量部として、表２に示すようなガラス転移点Ｔｇを有するベース樹脂組成物（Ａ）即ち配合例１〜配合例８を配合した。
【００５８】
（ii）滑剤成分
各配合例について、ベース樹脂組成物（Ａ）に、未変性シロキサン（Ｃ）として動粘度１ｃＳｔのジメチルシロキサン（信越化学株式会社製）０．２重量部、変性シロキサン（Ｂ）としてフェニル変性ジメチルシロキサン（信越化学株式会社製）０．２重量部をそれぞれ添加して樹脂組成物を作製した。
配合例８については、さらに未変性シロキサン（Ｃ）として動粘度０．６５ｃＳｔのジメチルシロキサン（信越化学株式会社製）０．０５重量部を添加して樹脂組成物を作製した。
【００５９】
（iii ）評価試験用ディスクの作製
各配合例について、前述の実施例及び比較例と同様に、作製した樹脂組成物をＭＤの基板に塗布して、実際のＭＤと同様の有機保護膜を形成し、評価試験用ディスクを作製した。
【００６０】
（iv）評価試験
前項で作製された評価試験用ディスクを、次の評価項目（イ）、（ロ）及び（ハ）により評価を行った。評価の結果は表２に示す。
【００６１】
（イ）初期摺動摩擦の測定
評価試験用ディスクのφ４６ｍｍの位置（中心から２３ｍｍ）において加重２ｇ・線速度１．４ｍ／ｓの条件で磁気ヘッドを摺動させて、１分間の摺動摩擦の平均値を測定した。
【００６２】
（ロ）摺動による傷の発生
評価試験用ディスクのφ４６ｍｍの位置（中心から２３ｍｍ）において加重２ｇ・線速度１．４ｍ／ｓの条件で磁気ヘッドを長時間連続して摺動させて、摺動による傷の発生状況を観察した。
表２中、３日間の連続摺動で傷が発生しなかったものをＡ、２日間の連続摺動で傷が発生せず３日目で傷が発生したものをＢ、２日間の連続摺動で傷が発生したものをＣとする。
【００６３】
（ハ）摩擦上昇
評価試験用ディスクのφ４６ｍｍの位置（中心から２３ｍｍ）において加重２ｇ・線速度１．４ｍ／ｓの条件で磁気ヘッドを３日間連続して摺動させて、初期摺動摩擦と比較して、その間の摩擦力の上昇を調べた。
表２中、摩擦力の上昇が０．１ｇｆ未満のものをＡ、摩擦力の上昇が０．１〜０．３ｇｆのものをＢ、摩擦力の上昇が０．３ｇｆを越えるものをＣとする。
【００６４】
【表２】
0003728558.tif 000003
【００６５】
表２より、ガラス転移点Ｔｇが１０５〜１６０℃、望ましくは１１４〜１５５℃として、傷が付きにくく摩擦の上昇の少ない樹脂組成物を形成することができることがわかる。
また、配合例８より、低粘度即ち低分子量の未変性シロキサン（Ｃ）をさらに添加することにより、添加しない場合と比較して傷がつきにくく摩擦の上昇が少なくなることがわかる。
【００６６】
尚、上述の各実施例及び配合例の樹脂組成物を、４０℃で６カ月保存したが、樹脂組成物の液に相分離等の変化は生じなかった。また、この６カ月保存した液を塗布してもディスクの表面に塗布むらが発生しなかった。
【００６７】
また、上述の各実施例及び配合例の樹脂組成物について、滑剤成分を添加しないベース樹脂組成物のみの樹脂組成物と比較をしても、硬化物の透湿度、金属やプラスチックへの密着性及び耐腐食性を損なうことはなかった。
【００６８】
上述の本実施の形態の光磁気ディスク１によれば、滑剤成分として未変性シロキサン（Ｃ）を有するので、滑剤成分のブリードアウトを促進して、初期摺動摩擦を充分に低くすることができる。また、表層の滑剤がいったん消失しても、内部から継続的に滑剤成分が補完されるため、摺動特性を長時間保持することができる。
【００６９】
また、変性シロキサン（Ｂ）とアクリル系樹脂（Ａ）、変性シロキサン（Ｂ）と未変性シロキサン（Ｃ）がそれぞれ相溶性であるため、全体として相溶性となり、塗布性が良好となるので塗布むらがなく平滑な外観が得られる。しかも、液の状態で長期保存することが可能になる。
特に、未変性シロキサン（Ｃ）を低分子量即ち低粘度のものとした場合には、アクリル系樹脂（Ａ）との相溶性が向上するため、より塗布性や長期保存性が向上する利点を有する。
【００７０】
そして、１層で有機保護膜７が形成されるため、光磁気ディスク１の製造において製造工程数を削減して製造コスト削減を図ることができる。また、塗布工程が１工程のみとなりディスクにかかる負担が軽減されるので光磁気ディスク１の信頼性が高くなる。
さらに、表層がベース樹脂層であり滑剤層でないことから、光磁気ディスク１表面にごみが付着しにくく、また付着したごみも除去しやすくなる利点を有する。
【００７１】
また、特にアクリル系樹脂（Ａ）のガラス転移点Ｔｇを１０５〜１６０℃の範囲内とすることにより、滑剤成分が継続的にブリードアウトするようになり、また適度な硬さの有機保護膜７が形成される。
【００７２】
本発明は、上述の実施の形態、実施例及び配合例等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【００７３】
【発明の効果】
上述の本発明によれば、滑剤成分として未変性シロキサンを有することにより、滑剤成分のブリードアウトを促進させることができ、初期摺動摩擦を充分に低くすることができると共に、内部から継続的に滑剤成分を補完して摺動特性を長時間保持することができる。また、未変性シロキサンの消泡性により液が泡立ちにくくなる。
【００７４】
また、変性シロキサンとアクリル系樹脂、変性シロキサンと未変性シロキサンがそれぞれ相溶性であるため、全体として相溶性となり、塗布性が良好となるので平滑な外観が得られる。しかも、液の状態で長期保存することが可能になる。
特に未変性シロキサンを低分子量即ち低粘度のものとすると、アクリル系樹脂との相溶性が向上するため、より塗布性や長期保存性が向上する。
【００７５】
また、１層で有機保護膜が形成されるため、光磁気記録媒体の製造において製造工程数を削減して製造コスト削減を図ることができると共に、光磁気記録媒体の信頼性が高くなる。さらに、ごみが付着しにくく、付着したごみも除去しやすくなる。
【００７６】
また、特にアクリル系樹脂のガラス転移点を１０５〜１６０℃の範囲内とすることにより、滑剤成分が継続的にブリードアウトするようになり、また適度な硬さの有機保護膜が形成される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態の光磁気ディスクの概略構成図（断面図）である。
【符号の説明】
１  光磁気ディスク、２  透明基板、３，５  誘電体膜、４  記録膜、６  反射膜、７  有機保護膜
【図１】
0003728558.tif 000004