(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｂ：６〜10at％、
Si：10〜17at％および
Ｐ：0.02〜５at％
を含み、残部はFeおよび不可避的不純物の組成になる軟磁気特性に優れた低ボロンアモルファス合金。
【請求項２】
Ｂ：６〜10at％、
Si：10〜17at％、
Ｐ：0.02〜５at％および
Ｃ：0.1 〜２at％
を含み、残部はFeおよび不可避的不純物の組成になる軟磁気特性に優れた低ボロンアモルファス合金。
【請求項３】
請求項１または２において、鋳造ままの合金薄帯の鋳型面側表面粗さが中心線平均粗さＲa で 0.8μm 以下である軟磁気特性に優れた低ボロンアモルファス合金。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は、軟磁気特性に優れた低ボロンアモルファス合金に関し、とくに磁気特性の劣化を招くことなしに、Ｂ量の有利な低減を図ったものである。
【０００２】
【従来の技術】
軟磁気特性に優れたアモルファス合金として、種々のFe−Si−Ｂ系合金組成が知られている。例えば、ChenらやLuborskyらによる米国特許（3856513 号）には、80at％またはそれ以上のFe、10at％またはそれ以上のＢ及び約６at％以下のSiを含むアモルファス合金が開示されている。また、米国特許第235064号明細書には、77〜80at％のFe、12〜16at％のＢおよび５〜10at％のSiよりなるアモルファス合金が開示されている。
【０００３】
上述したとおり、従来知られているFe−Si−Ｂ系アモルファス合金のほとんどは、10at％以上のＢを含有している。というのは、Ｂはこの種合金の非晶質性にとって特に重要で、Ｂ含有量が高い程合金のアモルファス形成能が強く、また熱的安定性も改善されることから、優れた軟磁気特性を得るためには10at％以上のＢの含有が不可欠と考えられていたからである。
実際、従来報告されているＢ含有量が10at％以下のFe−Si−Ｂ系アモルファス合金は、鉄損および磁束密度とも、Ｂ含有量が10at％以上のものに比べると劣っている。
このため、Ｂ含有量が10at％以下のFe−Si−Ｂ系アモルファス合金に関する特許は極めて少なく、Ｃを経年変化の安定性および非晶質形成能の改善を理由に添加したもの（特開昭57−145964号公報および特開昭58-42751号公報）や、表面処理性を改善するためにMnを添加したもの（特開昭61−136660号公報）、鋳造性の改善のためにCrを添加したもの（特開昭58−210154号公報）など、数件が挙げられるのみである。しかしながら、これら既知の合金系の低ボロン域における軟磁気特性は、上述したとおり到底良好とは言い難かった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、Ｂは高価な元素であり、その使用量を低減できれば、その経済的効果は計り知れない。
この発明は、上記の目的を有利に達成するもので、従来不可避とされたＢ添加量の低減に伴う軟磁気特性の劣化を効果的に抑制して、Ｂ量の低減にもかかわらず優れた軟磁気特性を有する低ボロンアモルファス合金を提案することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
さて、発明者らは、上記の目的を達成すべく、鋭意検討を重ねた結果、Ｐの微量添加が所期した目的の達成に極めて有効であることの知見を得た。
すなわち、Ｐを少量添加すると、Ｂ：８at％程度において、リボンの表面粗さが大幅に改善され、ひいては磁気特性が格段に向上することの知見を得たのである。
この発明は、上記の知見に立脚するものである。
【０００６】
すなわち、この発明は、
Ｂ：６〜10at％、
Si：10〜17at％および
Ｐ：0.02〜５at％
を含み、残部はFeおよび不可避的不純物の組成になる軟磁気特性に優れた低ボロンアモルファス合金（第１発明）である。
【０００７】
また、この発明は、
Ｂ：６〜10at％、
Si：10〜17at％、
Ｐ：0.02〜５at％および
Ｃ：0.1 〜２at％
を含み、残部はFeおよび不可避的不純物の組成になる軟磁気特性に優れた低ボロンアモルファス合金（第２発明）である。
【０００８】
上記の第１および第２発明に従う低ボロンアモルファス合金は、単ロール法等の常法に従って薄帯化した場合、鋳造ままで、鋳型面側の表面粗さが中心線平均粗さＲa で 0.8μm 以下の平滑表面となる。
【０００９】
【作用】
この発明において、アモルファス合金の成分組成を上記の範囲に限定した理由は次のとおりである。
Ｂ：６〜10at％
この発明において、Ｂ量の上限を10at％に定めたのは、含有量が10at％を超えると、薄帯の表面粗さが大きくなってむしろ軟磁気特性の劣化を招くだけでなく、原材料である高価なフェロボロンの使用量が増大してコスト高となるからであり、また下限を６at％に定めたのは、含有量が６at％に満たないと非晶質化が困難となるからである。
なお、商業生産を想定した場合には、実験機に比べ冷却能力が劣ると考えられる工程機の能力とコストを勘案し、Ｂ含有量は 7.5〜9.5 at％程度とするのが望ましい。
【００１０】
Si：10〜17at％
Siは、磁歪の低減および熱的安定性の向上に寄与する有用元素であるが、含有量が10at％に満たないと磁歪の低減が不充分であり、一方17at％を超えると薄帯の脆化が問題となるので、10〜17at％の範囲に限定した。
【００１１】
Ｐ：0.02〜５at％
この発明において、Ｐは特に重要であり、表面粗さの改善ひいては軟磁気特性の改善に不可欠な元素である。しかしながら、含有量が0.02at％未満では表面粗度の改善効果に乏しく、一方５at％を超えると薄帯の脆化と熱的安定性の低下が問題となるので、Ｐ含有量は0.02〜５at％の範囲で含有させるものとした。
なお、脆化や熱的安定性に対して一段と厳しい管理が要求される広幅材については、Ｐ含有量は0.02〜１at％程度とするのが望ましい。
【００１２】
Ｃ：0.1 〜２at％
Ｃは、軟磁気特性の改善に有効な元素であるが、含有量が 0.1at％に満たないとその改善効果に乏しく、一方２at％を超えると薄帯の熱的安定性が低下するので、Ｃは 0.1〜２at％の範囲で含有させるものとした。
なお、このＣも、商業生産時の製品としての安定性を考慮した場合には、 0.1〜１at％の範囲で含有させることが望ましい。
【００１３】
さて、上記のような好適組成範囲に成分を調整した場合には、その非晶質化に際し、単ロール法等の通常の急冷装置を用いた場合、鋳造ままで、鋳型面側の表面粗さを中心線平均粗さＲa で 0.8μm 以下とすることができ、かくして磁気特性の向上を図ることができるのである。
ここに、より優れた磁気特性を得るためには、上記表面粗さはＲa で 0.6μm 以下とすることが好ましい。
【００１４】
図１に、Fe：78at％一定、Si：（22−ａ−ｂ）at％とし、Ｐ量（ａ％）とＢ量（ｂ％）を種々に変化させた場合の、表面粗さについて調査した結果を整理して示す。
同図より明らかなように、表面粗さはむしろＢ量を低減した方が向上し、Ｂ：６〜10at％、Ｐ：0.02〜５at％の範囲でＲa ≦ 0.8μm の良好な結果を得ることができた。
【００１５】
また、図２には、 Fe78Si9-aＢ13Ｐa （比較例：Ｂ量過多）、Fe78Si14-aＢ8 Ｐa （発明例）およびFe78Si16.5-aＢ5.5 Ｐa （比較例：Ｂ量過少）組成の各試料について、Ｐ含有量と鉄損との関係について調べた結果を示す。
同図より明らかなように、Ｂ含有量が８at％とこの発明の適正範囲を満足する場合には、Ｐ量が0.02〜５at％の範囲にわたって良好な鉄損特性を得ることができた。
【００１６】
なお、得られる薄帯の厚みについては、特に制限されることはないけれども、あまりに薄いと表面粗さが劣化して磁束密度の低下をきたし、一方厚すぎると冷却速度が不充分となって鉄損の劣化を招くので、かかるおそれのない23〜28μm 程度とするのが好ましい。
【００１７】
【実施例】
表１に示す成分組成になる種々の溶湯を、周速：27 m/sで回転する冷却ロール（ロール径：280 mm、）の表面に供給し、非晶質合金薄帯を得た。
得られた非晶質合金薄帯の鋳型面側の表面粗さ、鉄損、磁束密度および板厚について調べた結果を表１に併記する。
【００１８】
【表１】
0003644062.tif 000002
【００１９】
同表より明らかなように、この発明に従い、Ｂ量を従来よりも少ない10at％以下とし、かつＰを適正量添加した場合には、従来の高Ｂ添加材と遜色のない優れた軟磁気特性が得られた。
【００２０】
【発明の効果】
かくしてこの発明によれば、Fe−Si−Ｂ系アモルファス合金において、Ｂ量を従来よりも低減した場合においても、従来の高Ｂ添加材と同程度の軟磁気特性を有するアモルファス合金を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  Fe−Si−Ｂ系アモルファス合金における、ＢおよびＰ量と表面粗さとの関係を示したグラフである。
【図２】  Fe−Si−Ｂ系アモルファス合金において、Ｂ量が過多、適正、過少の場合における、Ｐ含有量と鉄損との関係を示したグラフである。
【図１】
0003644062.tif 000003
【図２】
0003644062.tif 000004