(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転している基板に対して、超音波振動が付与された洗浄液をノズルから吐出させ、その吐出された洗浄液の基板面内における供給位置が、少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄方法において、
洗浄液に付与する超音波の周波数、出力の少なくとも一方を、基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に変更するようにしたことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板洗浄方法において、
前記超音波の出力を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くしたことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項３】
請求項１に記載の基板洗浄方法において、
前記超音波の出力を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くしたことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項４】
請求項１に記載の基板洗浄方法において、
前記超音波の周波数を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くしたことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項５】
請求項１に記載の基板洗浄方法において、
前記超音波の周波数を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くしたことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項６】
回転支持手段上で回転している基板に対して、超音波振動が付与された洗浄液をノズルから吐出させ、その吐出された洗浄液の基板面内における供給位置が、少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄装置において、
前記超音波の出力を可変する出力可変手段と、
洗浄液に付与される超音波の出力を基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に可変するように前記出力可変手段を制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板洗浄装置において、
前記制御手段は、超音波の出力を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くするように前記出力可変手段を制御することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項８】
請求項６に記載の基板洗浄装置において、
前記制御手段は、超音波の出力を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くするように前記出力可変手段を制御することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項９】
回転支持手段上で回転している基板に対して、超音波振動が付与された洗浄液をノズルから吐出させ、その吐出された洗浄液の基板面内における供給位置が、少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄装置において、
前記超音波の周波数を可変する周波数可変手段と、
洗浄液に付与される超音波の周波数を基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に可変するように前記周波数可変手段を制御する制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の基板洗浄装置において、
前記制御手段は、超音波の周波数を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くするように前記周波数可変手段を制御することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の基板洗浄装置において、
前記制御手段は、超音波の周波数を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くするように前記周波数可変手段を制御することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１２】
請求項６から請求項１１のいずれかに記載の基板洗浄装置において、基板面内を移動する洗浄液の供給位置を検出する位置検出手段を備え、前記制御手段は前記位置検出手段が検出した位置に基づいて制御を行うようにしたことを特徴とする基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称する）に対して、超音波振動が付与された洗浄液をノズルから吐出させて基板を洗浄する基板洗浄方法及びその装置に係り、特に、基板面内の洗浄液の供給位置が少なくとも基板中心と基板周縁との間を通るようにノズルを移動させながら洗浄処理を施す技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の基板洗浄装置として、例えば、基板を回転自在に支持する回転支持機構と、一定出力、かつ、一定周波数の超音波振動が付与された洗浄液を吐出するノズルと、基板上においてこのノズルを一定速度で移動させる移動機構とを備えているものが挙げられる。このような装置では、基板を一定速度で回転させつつ、基板面内での洗浄液の供給位置が少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するようにノズルを往復移動させることによって基板の表面全体にわたって超音波振動が付与された洗浄液を吐出させ、基板表面に付着しているパーティクルやゴミを超音波振動により離脱させて洗浄除去するようになっている。
【０００３】
なお、洗浄液に付与する超音波の周波数あるいは出力は洗浄効果に大きく影響する洗浄条件の一つであるので、パーティクルやゴミの付着度合いが異なる基板のロット毎、あるいは基板の種類や基板１枚ごとに微調整している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
【０００５】
すなわち、基板は回転している関係上、その基板の中心部においてはノズルに対する相対移動速度が遅く、周縁部に向かうにしたがって速くなっているので、相対移動速度の遅い基板の中心部では洗浄液に付与された超音波振動による衝撃を過度に受けることがある。そこで、洗浄条件の一つである超音波の出力は、基板の中心部で最も適した洗浄度合いとなるように一般的に設定されているが、このように中心部にあわせて設定すると相対移動速度が速い基板の周縁部では十分に洗浄を行うことができず、洗浄ムラが生じて後の基板処理に悪影響を与えるという問題がある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板面内を移動する洗浄液の供給位置に応じて洗浄条件を変えることによって、基板の全面にわたって均一に洗浄処理を施すことができる基板洗浄方法及びその装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の基板洗浄方法は、回転している基板に対して、超音波振動が付与された洗浄液をノズルから吐出させ、その吐出された洗浄液の基板面内における供給位置が、少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄方法において、洗浄液に付与する超音波の周波数、出力の少なくとも一方を、基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に変更するようにしたことを特徴とするものである。
【０００８】
また、請求項２に記載の基板洗浄方法は、請求項１に記載の基板洗浄方法において、前記超音波の出力を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くしたことを特徴とするものである。
【０００９】
また、請求項３に記載の基板洗浄方法は、請求項１に記載の基板洗浄方法において、前記超音波の出力を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くしたことを特徴とするものである。
【００１０】
また、請求項４に記載の基板洗浄方法は、請求項１に記載の基板洗浄方法において、前記超音波の周波数を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くしたことを特徴とするものである。
【００１１】
また、請求項５に記載の基板洗浄方法は、請求項１に記載の基板洗浄方法において、前記超音波の周波数を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くしたことを特徴とするものである。
【００１２】
また、請求項６に記載の基板洗浄装置は、回転支持手段上で回転している基板に対して、超音波振動が付与された洗浄液をノズルから吐出させ、その吐出された洗浄液の基板面内における供給位置が、少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄装置において、前記超音波の出力を可変する出力可変手段と、洗浄液に付与される超音波の出力を基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に可変するように前記出力可変手段を制御する制御手段と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１３】
また、請求項７に記載の基板洗浄装置は、請求項６に記載の基板洗浄装置において、前記制御手段は、超音波の出力を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くするように前記出力可変手段を制御することを特徴とするものである。
【００１４】
また、請求項８に記載の基板洗浄装置は、請求項６に記載の基板洗浄装置において、前記制御手段は、超音波の出力を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くするように前記出力可変手段を制御することを特徴とするものである。
【００１５】
また、請求項９に記載の基板洗浄装置は、回転支持手段上で回転している基板に対して、超音波振動が付与された洗浄液をノズルから吐出させ、その吐出された洗浄液の基板面内における供給位置が、少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄装置において、前記超音波の周波数を可変する周波数可変手段と、洗浄液に付与される超音波の周波数を基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に可変するように前記周波数可変手段を制御する制御手段と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１６】
また、請求項１０に記載の基板洗浄装置は、請求項９に記載の基板洗浄装置において、前記制御手段は、超音波の周波数を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くするように前記周波数可変手段を制御することを特徴とするものである。
【００１７】
また、請求項１１に記載の基板洗浄装置は、請求項９に記載の基板洗浄装置において、前記制御手段は、超音波の周波数を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くするように前記周波数可変手段を制御することを特徴とするものである。
【００１８】
また、請求項１２に記載の基板洗浄装置は、請求項６から請求項１１のいずれかに記載の基板洗浄装置において、基板面内を移動する洗浄液の供給位置を検出する位置検出手段を備え、前記制御手段は前記位置検出手段が検出した位置に基づいて制御を行うようにしたことを特徴とするものである。
【００１９】
【作用】
請求項１に記載の発明の作用は次のとおりである。
洗浄度合いに係わる超音波の周波数、出力の少なくとも一方の洗浄条件を、基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に変えることにより、回転支持手段上で回転している基板の全面にわたって洗浄度合いを一定にすることができる。
【００２０】
また、請求項２に記載の発明によれば、超音波の出力を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くすることによって、基板の中心部側と周縁部側との洗浄度合いを一定にすることができる。
【００２１】
また、請求項３に記載の発明によれば、一定出力で洗浄すると中心部側ほど洗浄度合いが低下するような場合に、超音波の出力を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くすることによって、基板の中心部側と周縁部側との洗浄度合いを一定にすることができる。
【００２２】
また、請求項４に記載の発明によれば、超音波の周波数を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くすることによって、洗浄度合いを基板の全面にわたってほぼ一定化できる。
【００２３】
また、請求項５に記載の発明のように、超音波の周波数を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くしてもよい。
【００２４】
また、請求項６に記載の発明によれば、洗浄液に付与される超音波の出力を可変する出力可変手段を、基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に変えるように制御する。これによって回転支持手段上で回転している基板の全面にわたって洗浄度合いを一定にすることができる。
【００２５】
また、請求項７に記載の発明によれば、超音波の出力を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くするように制御することによって、基板の中心部側と周縁部側との洗浄度合いを一定にすることができる。
【００２６】
また、請求項８に記載の発明のよれば、一定出力で洗浄すると中心部側ほど洗浄度合いが低下するような場合に、超音波の出力を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くするように制御することによって、基板の中心部側と周縁部側との洗浄度合いを一定にすることができる。
【００２７】
また、請求項９に記載の発明によれば、洗浄液に付与される超音波の周波数を可変する周波数可変手段を、基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に変えるように制御する。これによって回転支持手段上で回転する基板の全面にわたって洗浄度合いを一定にすることができる。
【００２８】
また、請求項１０に記載の発明によれば、超音波の周波数を基板の中心部側で低くし、基板の周縁部側で高くするように制御することによって、洗浄度合いを基板の全面にわたってほぼ一定化できる。
【００２９】
また、請求項１１に記載の発明のように、超音波の周波数を基板の中心部側で高くし、基板の周縁部側で低くするように制御してもよい。
【００３０】
また、請求項１２に記載の発明によれば、位置検出手段が検出した基板面内の洗浄液の供給位置に基づいて制御手段が制御することにより、正確に検出された位置に応じて洗浄条件を調節することができ、洗浄度合いをより一定化することができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図１は、実施例に係る基板洗浄装置の概略構成を示すブロック図であり、図２はその平面図である。
【００３２】
円筒状に形成されてなる６個の支持ピン１ａが立設された円板状のスピンチャック１は、底面に連結された回転軸３を介して電動モータ５で回転駆動されるようになっている。この回転駆動により、支持ピン１ａで周縁部を当接支持された基板Ｗが回転中心Ｐａ周りに水平面内で回転される。上記のスピンチャック１の周囲には、超音波式のノズル７から吐出された洗浄液Ｓが飛散することを防止するための飛散防止カップ９が配備されている。この飛散防止カップ９は、未洗浄の基板Ｗをスピンチャック１に載置したり、図示していない搬送手段が洗浄済の基板Ｗをスピンチャック１から受け取る際に図中に矢印で示すようにスピンチャック１に対して昇降するように構成されている。なお、上記のスピンチャック１と、回転軸３と、電動モータ５とが本発明における回転支持手段に相当する。
【００３３】
ノズル７は、超音波振動を付与された洗浄液Ｓをその吐出孔７ａから基板Ｗの表面に供給するように構成されているとともに、昇降／移動機構１１によってその供給位置が回転中心Ｐａを通って揺動するように構成されている。その胴部７ｂには支持アーム８が取り付けられており、これを介して回転モータ１１ａの回転軸１１ｂに連結されている。この回転モータ１１ａは回転中心Ｐｂ周りにノズル７を基板Ｗ上で揺動するためのものであり、その回転量がエンコーダ１１ｃによって検出されて後述するコントローラ２９にフィードバックされるようになっている。
【００３４】
なお、これらの回転モータ１１ａと、回転軸１１ｂと、エンコーダ１１ｃとは基板Ｗ上で、ノズル７を移動させるものであり、本発明の移動手段に相当する。また、エンコーダ１１ｃは、本発明の位置検出手段に相当するものであり、直接的にはノズル７の位置を検出することにより、基板面内を移動する洗浄液の供給位置を検出している。
【００３５】
回転モータ１１ａとエンコーダ１１ｃを搭載している昇降ベース１１ｄは、立設されたガイド軸１１ｅに摺動自在に嵌め付けられているとともに、ガイド軸１１ｅに並設されているボールネジ１１ｆに螺合されている。このボールネジ１１ｆは、昇降モータ１１ｇの回転軸に連動連結されており、その昇降量は回転量としてエンコーダ１１ｈによって検出されて後述するコントローラ２９にフィードバックされる。なお、上述した昇降／移動機構１１によりノズル７が昇降および揺動移動されるが、基板Ｗに洗浄液Ｓを吐出していない状態では、図２中に点線で示す待機位置に移動され、飛散防止カップ９に隣接して配備された待機ポット１３内にて待機するように構成されている。
【００３６】
ノズル７に連通接続された配管１５には、圧縮空気の圧力を、コントローラ２９から入力された電気信号に対応する圧力に変換する電空変換弁１７と、この電空変換弁１７からの圧力に応じて洗浄液供給源からの洗浄液の圧力を調節する圧力調節弁１９と、流通する洗浄液の流量をコントローラ２９の指示に応じて調節する流量調節弁２１と、洗浄液の圧力Ｐを検出する圧力センサ２３と、洗浄液の流量Ｑを検出する流量センサ２５と、コントローラ２９からの指示に応じて流路の開放／閉止を切り換えてノズル７からの洗浄液の吐出／停止を切り換える開閉弁２７とを介して洗浄液供給源からの洗浄液が供給される。
【００３７】
電空変換弁１７には、本発明の制御手段に相当するコントローラ２９から電気信号が入力され、この電気信号に応じた圧力に空気圧が調整されるが、調整された圧力は圧力調節弁１９に配備された圧力センサによって検出されてコントローラ２９にフィードバックされる。また、圧力センサ２３と流量センサ２５の検出信号Ｐ，Ｑもコントローラ２９にフィードバックされ、その信号に応じて電空変換弁１７と流量調節弁２１とが制御される。
【００３８】
超音波振動を付与した洗浄液を吐出するためのノズル７は、例えば、図３および図４に示すように構成されている。なお、図３はノズル７の一部破断縦断面図であり、図４は図３のＡ−Ａ矢視断面図である。
【００３９】
胴部７ｂ内には、逆Ｌの字状に流路７ｃが形成されており、これに連通するように胴部７ｂの側面に配管１５が取り付けられている。また、胴部７ｂの下端部には、外観先細り形状を呈し、その下面に吐出孔７ａを形成されてなる先端部７ｄが固着されている。上記の流路７ｃの上部内側面には、洗浄液に超音波振動を付与するための発振体７ｅが配管１５に対向するように３個（発振体７ｅ1 ，７ｅ2 ，７ｅ3 ）配設されている。これら３個の発振体７ｅ1 ，７ｅ2 ，７ｅ3 は、例えば、それぞれ１．５ＭＨｚ，１．７ＭＨｚ，１．９ＭＨｚの共振周波数を有するものであり、それぞれの共振周波数が異なるように選定されている。各発振体７ｅ1 ，７ｅ2 ，７ｅ3 には、高周波電圧を印加するためのケーブル７ｆが接続されており、胴部７ｂの上部から導出されている。これらのケーブル７ｆは、後述する発振体切換器３５に接続されており、いずれか１つのケーブル７ｆのみに高周波電圧が印加される。
【００４０】
なお、上記の発振体７ｅは、圧電効果や電気ひずみ効果を有する材料を、所望の機械共振周波数（上記の１．５ＭＨｚ，１．７ＭＨｚ，１．９ＭＨｚなどの超音波と呼ばれる周波数）を得られるような形状に成形したもので、例えば、圧電効果の大きな結晶や、電気ひずみ効果の大きなチタン酸ジルコン酸鉛磁器などのセラミックスなどで構成されている。
【００４１】
上記の各発振体７ｅ1 ，７ｅ2 ，７ｅ3 には、コントローラ２９によって制御される発振器３１と増幅器３３を介して一定の周波数ｆ（上述した３種類の共振周波数の中のいずれか）の高周波電圧が出力ｐｗ（または振幅）で印加されるようになっている。上述したように各発振体７ｅ1 ，７ｅ2 ，７ｅ3 のそれぞれは共振周波数が異なるものであるので、周波数ｆに合わせてコントローラ２９が発振体切換器３５を切り換え、周波数ｆとほぼ同一の共振周波数を有する発振体７ｅにのみ高周波電圧が印加されるように制御する。
【００４２】
上記の発振器３１は、コントローラ２９からの入力信号に応じた任意の周波数で発振するように構成されており、また上記の増幅器３３は発振器３１からの高周波小信号をコントローラ２９からの入力信号に応じた振幅に増幅するように構成されている。つまり、コントローラ２９からの指示に基づき、超音波の周波数と出力が調整可能に構成されている。
【００４３】
なお、上記の発振器３１が本発明の周波数可変手段に相当し、上記の増幅器３３が本発明の出力可変手段に相当する。
【００４４】
また、コントローラ２９には、洗浄液Ｓに付与される超音波振動の出力ｐｗを含む洗浄条件を所望するように指示して洗浄処理プログラム（レシピーとも呼ばれる）を作成したり、作成した複数の洗浄処理プログラムの中から所望のものを選択指示するため等に用いられる指示部３７がさらに接続されている。また、作成された洗浄処理プログラムを格納するためのメモリ３９もコントローラ２９に接続されている。
【００４５】
上記の洗浄処理プログラムは、基板の種類ごとなどに作成されており、例えば、図５の模式図に示すように、洗浄処理中における基板Ｗの『回転数』、洗浄処理中におけるノズル７の『移動速度』、基板Ｗ上で揺動移動させるノズル７の『移動範囲』、３個の発振体７ｅ1 ，７ｅ2 ，７ｅ3 のうちのいずれを使用するかを示し、洗浄液に付与する超音波振動の『周波数』と、洗浄液に付与する超音波振動の出力ｐｗを示し、基板Ｗ面内の洗浄液の供給位置に応じた出力ｐｗである『出力データ』を含むものである。
【００４６】
出力データは、例えば、図６に示すように設定されている。
このデータでは、基板Ｗとノズル７との相対移動速度が遅い基板Ｗの中心部側では出力ｐｗをｐｗ１に低く設定しておき、次いでｐｗ２に上げ、基板Ｗの周縁部側ではｐｗ３に上げ、相対移動速度が速い周縁部側に向かうにしたがって段階的に出力ｐｗを高くしてゆくように設定されている。
【００４７】
したがって、洗浄のためにノズル７を揺動移動した際、エンコーダ１１ｃでノズル７の位置を通じて検出される基板Ｗ面内における洗浄液供給位置と、上記出力データとに基づいてコントローラ２９が増幅器３３の出力を、周波数ｆを一定に保持したまま調整することにより、基板Ｗに吐出される洗浄液の出力が図６に示した出力データのように調節される。その結果、相対移動速度が遅い基板Ｗの中心部側と、相対移動速度が速い基板Ｗの周縁部側とにおいて、基板Ｗの表面が受ける洗浄度合いを基板の全面にわたってほぼ一定にすることができる。このように超音波振動の出力ｐｗを調節するだけで洗浄度合いをほぼ一定にできるので、比較的容易に基板の全面にわたって均一に洗浄を行うことができる。
【００４８】
また、予め作成されてメモリ３９に格納されている洗浄処理プログラムと洗浄液の出力データとが上述したように関連付けられているので、指示部３７から洗浄処理プログラムを指示するだけで基板に適切な超音波振動の出力による洗浄処理を施すことができるとともに、基板の全面にわたってほぼ均一に洗浄を行うことができる。
【００４９】
なお、上記の説明では、基板Ｗ面内の洗浄液供給位置に応じて『段階的』に超音波振動の出力ｐｗを変えるようにしたが、図７中に実線で示すように基板Ｗ面内の洗浄液供給位置に応じて『直線的』に出力ｐｗを可変するようにしてもよい。
【００５０】
また、上記の説明では、ノズル７と基板Ｗ面との相対移動速度だけに着目し、超音波振動の出力が一定であれば基板の周縁部ほど洗浄度合いが低下するとしている。しかしながら、パーティクルの種類や基板の表面状態によっては、一定出力で洗浄すると中心部側ほど洗浄度合いが低下する事態も考えられる。このような場合には、図７中に点線で示すように、基板Ｗの周縁部に向かうにしたがって洗浄液の出力ｐｗを低下させるようにすればよい。
【００５１】
さらに洗浄度合いを調節可能な洗浄条件としては、超音波振動の周波数ｆがある。この場合には、発振器３１および発振体切換器３５を制御して、図８に示すように基板Ｗ面内の洗浄液供給位置に応じて洗浄液に付与する超音波振動の周波数ｆを、出力ｐｗを一定に保持したままで調節する。具体例を挙げると、図中に実線で示すように中心部側から周縁部側に向かって段階的に周波数ｆを高めてゆく。つまり、発振体切換器３５を制御して増幅器３３から出力されている高周波電圧が印加される発振体７ｅを発振体７ｅ1 ，７ｅ2 ，７ｅ3 の順に切り換えてゆくとともに、発振体７ｅのそれぞれに固有の共振周波数に合わせて周波数ｆを切り換えてゆく。このように周波数を切り換えてゆくことによっても洗浄度合いを基板Ｗの全面にわたってほぼ一定化できる。
【００５２】
なお、上記の説明では、洗浄条件である超音波振動の出力ｐｗ，周波数ｆを個々に変える構成を例に採って説明したが、本発明は少なくとも一方の洗浄条件を基板Ｗ上のノズル７の位置、すなわち基板Ｗ面内の洗浄液供給位置に応じて変えれば良く、例えば、出力ｐｗと周波数ｆ組み合わせて変えるようにしてもよい。
【００５３】
なお、上記の実施例では、基板面内における洗浄液供給位置を位置検出手段であるエンコーダ１１ｃによって検出し、これに基づいて出力ｐｗなどの洗浄条件を変えるようにしたが、本発明の位置検出手段はこのような構成に限定されるものではなく種々の変形実施が可能である。例えば、位置検出手段としてＣＣＤカメラを使い、ノズル７から基板面内における実際の洗浄液の供給位置を検出し、これに基づいて超音波振動の出力パワーや、周波数を変えるようにしてもよい。また、例えば、基板面内における洗浄液供給位置の移動速度と移動範囲が判れば移動開始時点からの経過時間を測定することにより基板面内での洗浄液供給位置を知ることができるので、これに基づいて吐出圧などの洗浄条件を調節するような構成としてもよい。
【００５４】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、洗浄度合いに係わる超音波の周波数、出力のうち少なくとも一方の洗浄条件を基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に変えることによって、洗浄度合いを一定にすることができる。したがって、基板の全面にわたって均一に洗浄を行うことができる。
【００５５】
また、請求項６に記載の発明によれば、超音波の出力を基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に可変することで洗浄度合いを一定にすることができ、比較的容易に基板の全面にわたって均一に洗浄を行うことができる。
【００５６】
また、請求項９に記載の発明によれば、超音波の周波数を基板の中心部側と周縁部側とで段階的に、または直線的に可変することで浄度合いを一定にすることができ、基板の全面にわたって均一に洗浄を行うことができる。
【００５７】
また、請求項１２に記載の発明によれば、正確に洗浄液供給位置を検出することができるので、基板面内のそれぞれの洗浄液供給位置に応じて正確に洗浄条件を可変することができて洗浄度合いを一定化できる。したがって、基板の全面にわたってより均一に洗浄を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施例に係る基板洗浄装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】  基板洗浄装置の平面図である。
【図３】  ノズルの一部破断縦断面図である。
【図４】  図３に示したノズルのＡ−Ａ矢視断面図である。
【図５】  メモリに格納された洗浄処理プログラムを示す模式図である。
【図６】  出力データを示す模式図である。
【図７】  出力データの他の例を示す模式図である。
【図８】  周波数データを示す模式図である。
【符号の説明】
Ｗ  …  基板
Ｓ  …  洗浄液
１  …  スピンチャック（回転支持手段）
１ａ  …  支持ピン
５  …  電動モータ（回転支持手段）
７  …  ノズル
７ａ  …  吐出孔
９  …  飛散防止カップ
１１  …  昇降／移動機構
１１ｃ  …  エンコーダ（位置検出手段）
１３  …  待機ポット
２９  …  コントローラ（制御手段）
３１  …  発振器（周波数可変手段）
３３  …  増幅器（出力可変手段）
３５  …  発振体切換器
【図１】
0003644806.tif 000002
【図２】
0003644806.tif 000003
【図３】
0003644806.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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