(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
〔ａ〕ポリアミック酸およびポリアミック酸を脱水閉環させて得られる構造を有するイミド化重合体から選ばれる少なくとも１種の重合体と
〔ｂ〕下記式（１）〜（２）で表されるアミック酸化合物および下記式（３）〜（４）で表されるイミド化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物と
を含有してなる液晶配向剤であって、
（ｂ１）  式（１）で表されるアミック酸化合物は、ジカルボン酸無水物とジアミン化合物とを反応させることにより得られるものであって、
（イ）当該ジカルボン酸無水物は、１，２−シクロプロパンジカルボン酸無水物、１，２−シクロブタンジカルボン酸無水物、１，２−シクロペンタンジカルボン酸無水物、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチル−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、２，３−ビシクロ［２．２．２］オクタンジカルボン酸無水物、１，３−アダマンタンジカルボン酸無水物、フタル酸無水物、４−メチル−フタル酸無水物、４−シアノ−フタル酸無水物、４−ニトロ−フタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、１，２−ナフタレンジカルボン酸無水物、１，８−ナフタレンジカルボン酸無水物、２，３−フランジカルボン酸無水物、２，３−チオフェンジカルボン酸無水物、２，３−ピロールジカルボン酸無水物、３，４−ピロールジカルボン酸無水物、２，３−ピリジンジカルボン酸無水物、３，４−ピリジンジカルボン酸無水物、２，３−キノリンジカルボン酸無水物、４，５−ピリダジンジカルボン酸無水物および２，３−ピラジンジカルボン酸無水物から選ばれたものであり、
（ロ）当該ジアミン化合物は、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニル、ｍ−キシリレンジアミン、下記式Ｂ０１〜Ｂ０５で表される化合物および下記式Ｂ０６〜Ｂ１０で表される化合物から選ばれたものであり、
（ｂ２）  式（２）で表されるアミック酸化合物は、テトラカルボン酸二無水物とモノアミン化合物とを反応させることにより得られるものであって、
（イ）当該テトラカルボン酸二無水物は、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、ビシクロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、下記式Ａ０５〜Ａ０８で表される化合物から選ばれたものであり、
（ロ）当該モノアミン化合物は、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、２−アダマンタンアミン、アニリン、４−シアノアニリン、４−ニトロアニリン、４−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−ｔｅｒｔ−ブチルアニリンから選ばれたものであり、
（ｂ３）  式（３）で表されるイミド化合物は、上記アミック酸化合物（ｂ１）を脱水閉環させることによって得られるものであり、
（ｂ４）  式（４）で表されるイミド化合物は、上記アミック酸化合物（ｂ２）を脱水閉環させることによって得られるものである
ことを特徴とする液晶配向剤。
【化１】
0003644125.tif 000016
〔式（１）および式（３）中、Ｒ1 は２価の有機基を示し、Ｒ2 およびＲ3 は、環構造を有する炭素数１４以下の２価の有機基を示し、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、同一であっても異なっていても良い。式（２）および式（４）中、Ｒ4 は４価の有機基を示し、Ｒ5 およびＲ6 は、環構造を有する炭素数１４以下の１価の有機基を示し、Ｒ5 およびＲ6 は、同一であっても異なっていても良い。〕
【化２】
0003644125.tif 000017
【化３】
0003644125.tif 000018
【化４】
0003644125.tif 000019
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶配向剤に関し、さらに詳しくは、ポリアミック酸および／またはポリアミック酸のイミド化重合体と特定のアミック酸化合物および／またはイミド化合物とを含有する液晶配向剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、液晶表示素子としては、透明導電膜が設けられている基板の当該表面（以下「電極面」ともいう。）に液晶配向膜を形成して液晶表示素子用基板とし、その２枚を対向配置して、その間隙内に正の誘電異方性を有するネマチック型液晶の層を形成してサンドイッチ構造のセルとし、当該液晶分子の長軸が一方の基板から他方の基板に向かって連続的に９０度捻れるようにした、いわゆるＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶セルを有するＴＮ型液晶表示素子が知られている。また、最近においては、ＴＮ型液晶表示素子に比してコントラストが高くて、その視角依存性の少ないＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子が開発されている。このＳＴＮ型液晶表示素子は、ネマチック型液晶に光学活性物質であるカイラル剤をブレンドしたものを液晶として用い、当該液晶分子の長軸が基板間で１８０度以上にわたって連続的に捻れる状態となることにより生じる複屈折効果を利用するものである。
【０００３】
これらの液晶表示素子における液晶分子の配向性は、通常、重合体より構成される被膜の表面にラビング処理を施すことによって形成される液晶配向膜により発現されるものである。ここに、前記被膜を構成する重合体としては、ポリアミック酸およびポリイミドが知られており、これらの重合体を溶媒に溶解してなる液晶配向剤が一般的に使用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の液晶配向剤によって基板の電極面に被膜を形成し、この被膜の表面にラビング処理を施して液晶配向膜を形成し、この液晶配向膜が形成された基板を用いて液晶表示素子を作製する場合には、下記（１）〜（３）のような問題がある。
（１）従来の液晶配向剤により形成される被膜は、擦過力に対して十分な強靱性を有するものではないため、当該被膜の表面にラビング処理を施すと、形成される液晶配向膜における部分的な基板からの剥離（以下「膜削れ」ともいう）を生じることがあり、このような液晶配向膜を搭載してなる液晶表示素子において、液晶配向膜の膜削れに起因して表示不良が発生する。
（２）ラビング処理を施すことにより液晶配向膜の表面に静電気が発生し、この静電気によって、液晶表示素子の駆動電極（透明導電膜）や駆動回路の回路部品（例えばトランジスタ）が破損することがある。
（３）作製される液晶表示素子において、画像表示時（電圧印加時）に発生するイオン性電荷が液晶配向膜に吸着され、画像消去後（印加解除後）においても液晶配向膜から脱着されにくいため、印加解除後における液晶配向膜に電圧が残留蓄積され、この残留電圧に起因して、電圧印加の解除後における表示画面に残像が生じる。そして、表示画面に残像が生じる場合には、電圧の印加時と解除時における明暗の差が小さくなり、良好なコントラストが得られない。
本発明の第１の目的は、膜削れのない液晶配向膜を基板の電極面に形成することができる液晶配向剤を提供することにある。本発明の第２の目的は、被膜表面に対してラビング処理を施す際に発生する静電気を、形成される液晶配向膜から迅速に減衰させることができる液晶配向剤を提供することにある。本発明の第３の目的は、形成される液晶配向膜を備えた液晶表示素子において、電圧印加の解除後における残留電圧が小さくて表示画面に残像を生じさせにくく、コントラストの高い優れた表示性能を発現させることができる液晶配向剤を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶配向剤は、〔ａ〕ポリアミック酸およびポリアミック酸を脱水閉環させて得られる構造を有するイミド化重合体から選ばれる少なくとも１種の重合体〔以下「重合体（ａ）」ともいう〕と〔ｂ〕下記式（１）〜（２）で表されるアミック酸化合物および下記式（３）〜（４）で表されるイミド化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物〔以下「化合物（ｂ）」ともいう〕とを含有してなる液晶配向剤であって、
（ｂ１）  式（１）で表されるアミック酸化合物は、特定のジカルボン酸無水物と特定のジアミン化合物とを反応させることにより得られるものであり、
（ｂ２）  式（２）で表されるアミック酸化合物は、特定のテトラカルボン酸二無水物と特定のモノアミン化合物とを反応させることにより得られるものであり、
（ｂ３）  式（３）で表されるイミド化合物は、上記アミック酸化合物（ｂ１）を脱水閉環させることによって得られるものであり、
（ｂ４）  式（４）で表されるイミド化合物は、上記アミック酸化合物（ｂ２）を脱水閉環させることによって得られるものである
ことを特徴とする。
【０００６】
【化２】
0003644125.tif 000002
【０００７】
〔式（１）および式（３）中、Ｒ1 は２価の有機基を示し、Ｒ2 およびＲ3 は、環構造を有する炭素数１４以下の２価の有機基を示し、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、同一であっても異なっていても良い。式（２）および式（４）中、Ｒ4 は４価の有機基を示し、Ｒ5 およびＲ6 は、環構造を有する炭素数１４以下の１価の有機基を示し、Ｒ5 およびＲ6 は、同一であっても異なっていても良い。〕
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
＜重合体（ａ）のうちのポリアミック酸＞
本発明の液晶配向剤を構成する重合体（ａ）のうちのポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させることにより調製することができる。
【０００９】
かかるポリアミック酸の合成反応に用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジクロロ−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボキシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物などの脂肪族または脂環式テトラカルボン酸二無水物；
【００１０】
ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，６−ヘキサンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，８−オクタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロトリメリテート）、下記式（５）のＡ０１〜Ａ０４で表される化合物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物；
【００１１】
１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−７−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、下記式（６）で表される化合物、下記式（７）で表される化合物などの芳香環を有する脂肪族テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００１２】
【化３】
0003644125.tif 000003
【００１３】
【化４】
0003644125.tif 000004
【００１４】
（式中、Ｒ7 は、芳香環を有する２価の有機基を示し、Ｒ8 は水素原子またはアルキル基を示す。）
【００１５】
【化５】
0003644125.tif 000005
【００１６】
（式中、Ｒ9 は芳香環を有する２価の有機基を示し、Ｒ10は水素原子またはアルキル基を示す。）
【００１７】
これらのうち、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、上記式（６）で表される化合物のうち下記式（８）のＡ０５〜Ａ０７で表される化合物および上記式（７）で表される化合物のうち下記式（８）のＡ０８で表される化合物が、良好な液晶配向性を発現させることができる観点から好ましく、特に好ましいものとして、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、ピロメリット酸二無水物および下記式（８）のＡ０５で表される化合物を挙げることができる。
【００１８】
【化６】
0003644125.tif 000006
【００１９】
ポリアミック酸の合成に用いられるジアミン化合物としては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４’，４ージアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，５−ジアミノ安息香酸、４，４’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、３，３−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、４，４’−ジアミノベンズアニリド、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，７−ジアミノフルオレン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニル、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ビス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフルオロビフェニルなどの芳香族ジアミン；
【００２０】
ジアミノテトラフェニルチオフェン、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、２，６−ジアミノプリン、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン、１，４−ジアミノピペラジン、３，６−ジアミノアクリジンなどの芳香環に結合された２個のアミノ基と当該アミノ基の窒素原子以外のヘテロ原子を有する芳香族ジアミン；
【００２１】
１，１−メタキシリレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，２−エチレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ［６，２，１，０2.7 ］−ウンデシレンジメチルジアミン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）などの脂肪族または脂環式ジアミン；
【００２２】
下記式（９）で表されるモノ置換フェニレンジアミン類；下記式（１０）で表されるジアミノオルガノシロキサン；
下記式（１１）のＢ０１〜Ｂ０５で表される化合物などを挙げることができる。これらのジアミン化合物は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００２３】
【化７】
0003644125.tif 000007
【００２４】
（式中、Ｒ11は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−および−ＣＯ−から選ばれる２価の有機基を示し、Ｒ12はステロイド骨格またはトリフルオロメチル基を有する１価の有機基を示す。）
【００２５】
【化８】
0003644125.tif 000008
【００２６】
（式中、Ｒ13は炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、ｐは１〜３の整数であり、ｑは１〜２０の整数である。）
【００２７】
【化９】
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【００２８】
これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニル、ｍ−キシリレンジアミン、上記式（１１）のＢ０１〜Ｂ０５で表される化合物および上記式（９）で表される化合物のうちの下記式（１２）のＢ０６〜Ｂ１０で表される化合物が好ましい。
【００２９】
【化１０】
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【００３０】
ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の使用割合は、ジアミン化合物に含まれるアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは０．３〜１．２当量となる割合である。
【００３１】
ポリアミック酸の合成反応は、有機溶媒中において、通常０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃の温度条件下で１〜４８時間にわたって行われる。この合成反応に用いられる有機溶媒としては、反応生成物であるポリアミック酸を溶解し得るものであれば特に制限はなく、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙げることができる。有機溶媒の使用量は、通常、テトラカルボン酸二無水物およびジアミン化合物の総量が、反応溶液の全量に対して０．１〜３０重量％になるような量であることが好ましい。
【００３２】
なお、この有機溶媒には、ポリアミック酸の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類または炭化水素類を、生成するポリアミック酸が析出しない程度の割合で併用することができる。かかる貧溶媒としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、エチレングリコールフェニルメチルエーテル、エチレングリコールフェニルエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブタノール、３−エチル−３−メトキシブタノール、２−メチル−２−メトキシブタノール、２−エチル−２−メトキシブタノール、３−メチル−３−エトキシブタノール、３−エチル−３−エトキシブタノール、２−メチル−２−メトキシブタノール、２−エチル−２−エトキシブタノール、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，４−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００３３】
＜重合体（ａ）のうちのイミド化重合体＞
本発明の液晶配向剤を構成する重合体（ａ）のうちのポリアミック酸のイミド化重合体は、下記方法（１）〜（３）により調製することができる。なお、該イミド化重合体は、通常、ポリイミドであるが、下記方法（２）において、比較的低温条件でイミド化反応させる場合には、通常のポリイミドと共に、もしくは単独でポリイソイミドを生成することがあり、この明細書において、重合体（ａ）として液晶配向剤に含有される「イミド化重合体」には、ポリイソイミドが包含されるものとする。
【００３４】
方法（１）：上記のポリアミック酸を加熱する方法。
この方法における加熱温度は、通常６０〜２５０℃とされ、好ましくは１００〜１７０℃とされる。加熱温度が６０℃未満では脱水閉環が十分に進行せず、加熱温度が２５０℃を超えると得られるイミド化重合体の分子量が低下することがある。
【００３５】
方法（２）：上記のポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤およびイミド化触媒を添加し必要に応じて加熱することにより、脱水閉環（イミド化反応）させる方法。
この方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸の繰り返し単位１モルに対して１．５〜２０モルとするのが好ましい。また、イミド化触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの第３級アミンを用いることができるが、これらに限定されるものではない。イミド化触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して０．５〜１０モルとするのが好ましい。なお、脱水閉環に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環の反応温度は、通常０〜１８０℃、好ましくは６０〜１５０℃とされる。上記脱水閉環の反応条件をコントロールすることによって、イミド化率を任意に調整することができる。
【００３６】
方法（３）：テトラカルボン酸二無水物とジイソシアネート化合物とを混合し、必要に応じて加熱することによって縮合させる方法。
本発明の液晶配向剤を構成するイミド化重合体を得るために使用されるジイソシアネート化合物の具体例としては、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート化合物；シクロヘキサンジイソシアネートなどの脂環式ジイソシアネート化合物；ジフェニルメタン−４，４' −ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−４，４' −ジイソシアネート、ジフェニルスルホン−４，４' −ジイソシアネート、ジフェニルスルフィド−４，４' −ジイソシアネート、１，２−ジフェニルエタン−ｐ，ｐ' −ジイソシアネート、２，２−ジフェニルプロパン−ｐ，ｐ' −ジイソシアネート、２，２−ジフェニル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−ｐ，ｐ' −ジイソシアネート、２，２−ジフェニルブタン−ｐ，ｐ' −ジイソシアネート、ジフェニルジクロロメタン−４，４' −ジイソシアネート、ジフェニルフルオロメタン−４，４' −ジイソシアネート、ベンゾフェノン−４，４' ジイソシアネート、Ｎ−フェニル安息香酸アミド−４，４' −ジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート化合物を挙げることができ、これらは、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。なお、この方法には特に触媒は必要とされず、反応温度は、通常５０〜２００℃、好ましくは１００〜１６０℃である。
【００３７】
本発明の液晶配向剤を構成するポリアミック酸およびポリアミック酸のイミド化重合体は、その対数粘度（ηｌｎ）の値が通常０．０５〜１０ｄｌ／ｇであることが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜５ｄｌ／ｇとされる。なお、この明細書における対数粘度（ηｌｎ）の値は、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを溶媒として用い、濃度が０．５ｇ／１００ミリリットルである溶液について３０℃で粘度の測定を行い、下記数式によって求められるものである。
【００３８】
【数１】
0003644125.tif 000011
【００３９】
＜化合物（ｂ）＞
本発明の液晶配向剤は、上記式（１）〜（２）で表されるアミック酸化合物および上記式（３）〜（４）で表されるイミド化合物から選ばれる化合物（ｂ）が含有されている点に特徴を有する。かかる化合物（ｂ）を含有する液晶配向剤により基板電極面に被膜を形成し、液晶配向膜を形成し、液晶表示素子を作製することにより、形成される被膜の膜削れを防止し、ラビング処理により発生する静電気の減衰の迅速化、残留電圧の低減化を図ることができる。
【００４０】
＜化合物（ｂ）のうちのアミック酸化合物＞
上記式（１）で表されるアミック酸化合物〔以下「アミック酸化合物（ｂ１）」ともいう）は、ジカルボン酸無水物とジアミン化合物とを反応させることにより調製することができる。
【００４１】
アミック酸化合物（ｂ１）の合成反応に用いられるジカルボン酸無水物は、下記式（１３）で表される。
【００４２】
【化１１】
0003644125.tif 000012
【００４３】
〔式中、Ｒ14は環構造を有する炭素数１４以下の２価の有機基を示す。〕
なお、上記式（１３）中のＲ14は、上記式（１）および式（３）中のＲ2 およびＲ3 に対応する。
【００４４】
式（１３）で表されるジカルボン酸無水物としては、脂環式ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボン酸無水物、複素環ジカルボン酸無水物などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。具体的には、１，２−シクロプロパンジカルボン酸無水物、１，２−シクロブタンジカルボン酸無水物、１，２−シクロペンタンジカルボン酸無水物、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチル−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、２，３−ビシクロ［２．２．２］オクタンジカルボン酸無水物、１，３−アダマンタンジカルボン酸無水物などの脂環式ジカルボン酸無水物；フタル酸無水物、４−メチル−フタル酸無水物、４−シアノ−フタル酸無水物、４−ニトロ−フタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、１，２−ナフタレンジカルボン酸無水物、１，８−ナフタレンジカルボン酸無水物などの芳香族ジカルボン酸無水物；２，３−フランジカルボン酸無水物、２，３−チオフェンジカルボン酸無水物、２，３−ピロールジカルボン酸無水物、３，４−ピロールジカルボン酸無水物、２，３−ピリジンジカルボン酸無水物、３，４−ピリジンジカルボン酸無水物、２，３−キノリンジカルボン酸無水物、４，５−ピリダジンジカルボン酸無水物、２，３−ピラジンジカルボン酸無水物などの複素環ジカルボン酸無水物などを挙げることができる。
【００４５】
これらのうち、１，２−シクロブタンジカルボン酸無水物、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチル−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、フタル酸無水物、４−メチル−フタル酸無水物、４−シアノ−フタル酸無水物、４−ニトロ−フタル酸無水物、１，２−ナフタレンジカルボン酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物を用いることが好ましい。
【００４６】
アミック酸化合物（ｂ１）の合成反応に用いられるジアミン化合物としては、重合体（ａ）であるポリアミック酸の合成反応に用いられるものとして例示した各種のジアミン化合物を挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【００４７】
アミック酸化合物（ｂ１）の合成反応に供されるジカルボン酸無水物とジアミン化合物の使用割合は、ジアミン化合物に含まれるアミノ基１当量に対して、ジカルボン酸無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは０．３〜１．２当量となる割合である。
アミック酸化合物（ｂ１）の合成反応は、有機溶媒中において、通常０〜１００℃の温度条件下で１〜４８時間にわたって行われる。この合成反応に用いられる有機溶媒としては、反応生成物であるアミック酸化合物（ｂ１）を溶解し得るものであれば特に制限はなく、例えば、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した溶媒を挙げることができる。
【００４８】
上記式（２）で表されるアミック酸化合物〔以下「アミック酸化合物（ｂ２）」ともいう）は、テトラカルボン酸二無水物とモノアミン化合物とを反応させることにより調製することができる。
アミック酸化合物（ｂ２）の合成反応に用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、重合体（ａ）であるポリアミック酸の合成反応に用いられるものとして例示した各種のテトラカルボン酸二無水物を挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
アミック酸化合物（ｂ２）の合成反応に用いられるモノアミン化合物は、下記式（１４）で表される。
【００４９】
【化１２】
0003644125.tif 000013
【００５０】
〔式中、Ｒ15は環構造を有する炭素数１４以下の１価の有機基を示す。〕
なお、上記式（１４）中のＲ15は、上記式（２）および式（４）中のＲ5 およびＲ6 に対応する。
【００５１】
式（１４）で表されるモノアミン化合物としては、脂環式モノアミン、芳香族モノアミン、複素環モノアミンなどを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。具体的には、シクロヘキシルアミン、２−アダマンタンアミン、アミノシクロブタン、アミノシクロプロパン、アミノシクロペンタン、ジシクロヘキシルアミンなどの脂環式モノアミン；アニリン、４−シアノアニリン、４−ニトロアニリン、４−メチルアニリン、４−エチルアニリン、４−プロピルアニリン、４−ペンチルアニリン、４−ヘキシルアニリン、４−ヘプチルアニリン、４−オクチルアニリン、４−メトキシアニリン、４−アミノスチレン、２’−アミノアセトフェノン、３−アミノビフェニル、４−アミノビフェニル、１−アミノナフタレン、２−アミノフルオレン、３−メチルアニリン、４−ｔｅｒｔ−ブチルアニリンなどの芳香族モノアミン；９−アミノアクリジン、１−アミノアントラキノン、３−アミノピリジン、２−アミノ−９−フルオレン、５−アミノインダンなどの複素環モノアミンなどを挙げることができる。
これらのうち、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、２−アダマンタンアミン、アニリン、４−シアノアニリン、４−ニトロアニリン、４−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−ｔｅｒｔ−ブチルアニリンを用いることが好ましい。
【００５２】
アミック酸化合物（ｂ２）の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とモノアミン化合物の使用割合は、モノアミン化合物に含まれるアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは０．３〜１．２当量となる割合である。
アミック酸化合物（ｂ２）の合成反応は、有機溶媒中において、通常０〜１００℃の温度条件下で１〜４８時間にわたって行われる。この合成反応に用いられる有機溶媒としては、反応生成物であるアミック酸化合物（ｂ２）を溶解し得るものであれば特に制限はなく、例えば、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した溶媒を挙げることができる。
【００５３】
＜化合物（ｂ）のうちのイミド化合物＞
上記式（３）で表されるイミド化合物〔以下「イミド化合物（ｂ３）」ともいう〕は、上記式（１）で表されるアミック酸化合物（ｂ１）を脱水閉環させることにより調製することができ、上記式（４）で表されるイミド化合物〔以下「イミド化合物（ｂ４）」ともいう〕は、上記式（２）で表されるアミック酸化合物（ｂ２）を脱水閉環させることにより調製することができる。ここに、アミック酸化合物（ｂ１）およびアミック酸化合物（ｂ２）の脱水閉環は、ポリアミック酸の脱水閉環と同様の方法により行なうことができる。
また上記方法以外に、イミド化合物（ｂ３）はジカルボン酸無水物とジイソシアネート化合物とを縮合反応させることにより、イミド化合物（ｂ４）はテトラカルボン酸二無水物とモノイソシアネート化合物とを縮合反応させることにより合成することもできる。
【００５４】
＜液晶配向剤＞
本発明の液晶配向剤は、ポリアミック酸および／またはポリアミック酸のイミド化重合体からなる重合体（ａ）とアミック酸化合物およびイミド化合物から選ばれる化合物（ｂ）とが有機溶媒中に溶解含有されて構成される。
【００５５】
本発明の液晶配向剤における重合体（ａ）の含有割合（重合体濃度）は、粘性、揮発性などを考慮して選択されるが、好ましくは０．１〜２０重量％の範囲、更に好ましくは０．５〜１０重量％とされる。この濃度が０．１重量％未満である場合には、塗膜（被膜）の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得ることができにくく、一方、この濃度が２０重量％を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得難く、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる場合がある。
【００５６】
本発明の液晶配向剤における重合体（ａ）は、末端修飾型のものであってもよい。この末端修飾型のポリアミック酸およびポリアミック酸のイミド化重合体は、その分子量が好適な範囲に調節され、液晶配向剤に含有させることにより、本発明の効果が損われることなく液晶配向剤の塗布特性などを改善することができる。このような末端修飾型のものは、ポリアミック酸またはポリアミック酸のイミド化重合体を合成する際に、ジカルボン酸無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物などを反応系に添加することにより合成することができる。
【００５７】
ここで、ジカルボン酸無水物としては、アミック酸化合物（ｂ１）の合成反応に用いられるものとして例示した各種のジカルボン酸無水物および脂肪族ジカルボン酸無水物を挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。脂肪族ジカルボン酸としては、例えばシュウ酸無水物、無水マロン酸無水物、コハク酸無水物、イタコン酸無水物、フマル酸無水物、ムコン酸無水物、マレイン酸無水物、ｎ−デシルサクシニック酸無水物、ｎ−ドデシルサクシニック酸無水物、ｎ−テトラデシルサクシニック酸無水物、ｎ−ヘキサデシルサクシニック酸無水物、ｎ−オクタデシルサクシニック酸無水物などを挙げることができる。
【００５８】
また、モノアミン化合物としては、アミック酸化合物（ｂ２）の合成反応に用いられるものとして例示した各種のモノアミン化合物および脂肪族モノアミン化合物を挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。脂肪族モノアミン化合物としては、例えばｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−エイコシルアミン、４−アミノアセトニトリルなどを挙げることができる。
【００５９】
また、モノイソシアネート化合物としては、例えばフェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどを挙げることができる。
【００６０】
本発明の液晶配向剤における化合物（ｂ）の含有割合としては、重合体（ａ）１００重量部に対する化合物（ｂ）の割合が、通常１〜３０重量部とされ、好ましくは１〜２０重量部とされる。化合物（ｂ）の含有割合が１重量部未満であると、被膜の膜削れの防止、静電気減衰の迅速化、残留電圧の低減化を十分に達成することができない場合があり、一方、化合物（ｂ）の割合が３０重量部を超えると、得られる液晶配向剤によって形成される被膜の表面が粗面状態となる場合がある。
なお、重合体（ａ）および化合物（ｂ）を溶解させる有機溶媒としては、これらを溶解できるものであれば特に制限されるものではなく、例えばポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した溶媒を挙げることができる。また、ポリアミック酸の合成反応の際に併用することができるものとして例示した貧溶媒も適宜選択して併用することができる。
【００６１】
本発明の液晶配向剤には、基板に対する密着性をさらに向上させることを目的として官能性シラン含有化合物が含有されていてもよい。かかる官能性シラン含有化合物としては、例えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシイシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。
【００６２】
＜液晶表示素子＞
本発明の液晶配向剤を用いて得られる液晶表示素子は、例えば次の方法によって製造することができる。
【００６３】
（１）パターニングされた透明導電膜が設けられている基板の一面に、本発明の液晶配向剤を例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法などの方法によって塗布し、次いで、塗布面を加熱することにより被膜を形成する。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネートなどのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。また、基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ2 ）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）からなるＩＴＯ膜などを用いることができ、これらの透明導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法や予めマスクを用いる方法が用いられる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板表面および透明導電膜と液晶配向剤の被膜との接着性をさらに良好にするために、基板の該表面に、官能性シラン含有化合物、官能性チタン含有化合物などを予め塗布することもできる。また加熱温度は８０〜２５０℃とされ、好ましくは１２０〜２００℃とされる。形成される被膜の膜厚は、通常０．００１〜１μｍであり、好ましくは０．００５〜０．５μｍである。なお、ポリアミック酸を含有する本発明の液晶配向剤は、塗布後に有機溶媒を除去することによって液晶配向膜となる被膜を形成するが、さらに加熱することによって脱水閉環を進行させ、イミド化された被膜とすることもできる。
【００６４】
（２）液晶配向剤によって形成された被膜面を、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理を行う。これにより、液晶分子の配向能が被膜に付与されて液晶配向膜となる。また、ラビング処理による方法以外に、被膜表面に偏光紫外線を照射して配向能を付与する方法や、一軸延伸法、ラングミュア・ブロジェット法などで被膜を得る方法などにより、液晶配向膜を形成することもできる。なお、ラビング処理時に発生する微粉体（異物）を除去して表面を清浄な状態とするために、形成された液晶配向膜をイソプロピルアルコールなどによって洗浄することが好ましい。また、形成された液晶配向膜の表面に紫外線を部分的に照射することにより、プレチルト角を変化させる処理（例えば特開平６−２２２３６６号公報、特開平６−２８１９３７号公報参照）、形成された液晶配向膜の表面にレジスト膜を部分的に形成し、先行のラビング処理とは異なる方向にラビング処理を行った後、前記レジスト膜を除去して、液晶配向膜の配向能を変化させるような処理（例えば特開平５−１０７５４４号公報参照）を行うことによって、作製される液晶表示素子の視野角特性を改善することもできる。
【００６５】
（３）上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚作製し、それぞれの液晶配向膜における配向処理方向、すなわちラビング方向が直交または逆平行となるように、２枚の基板を、間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成する。そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セルを構成するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビング方向と一致または直交するように貼り合わせることにより、液晶表示素子が得られる。
ここに、シール剤としては、例えば硬化剤およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。
液晶としては、ネマティック型液晶およびスメクティック型液晶を挙げることができ、その中でもネマティック型液晶が好ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック型液晶や商品名「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メルク社製）として販売されているようなカイラル剤などを添加して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強誘電性液晶も使用することができる。
また、液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはＨ膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。
【００６６】
【実施例】
以下、本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。なお、以下の実施例および比較例において調製された液晶配向剤の評価項目および評価方法を下記に示す。
〔液晶の配向性〕
液晶表示素子に電圧を印加し解除したときの液晶セル中における配向不良（異常ドメイン）の有無を偏光顕微鏡で観察し、異常ドメインのない場合を「良好」と判定した。
〔残留電圧の測定〕
液晶表示素子に、６０℃の温度条件下で１０Ｖの直流電圧を２時間印加し、電圧の印加を解除した後、当該液晶表示素子に残留する電圧を測定した。
〔液晶配向膜の膜削れ〕
ＩＴＯ膜からなるストライプ電極（間隔：１ｍｍ，ＩＴＯ膜厚：２０００Å）を設けた透明電極基板の電極面に、液晶配向剤を塗布し、塗膜を乾燥して乾燥膜厚０．０５μｍの被膜を形成し、当該被膜の表面にラビング処理（処理条件：毛足押し込み長０．６ｍｍ，ロールの回転数５００ｒｐｍ，ステージの移動速度１ｃｍ／秒）を施すことにより得られた液晶配向膜について、ラビング処理による膜削れの有無を観察した。
〔液晶配向膜の帯電減衰特性〕
ラビング処理終了直後、形成された液晶配向膜の表面における静電気による帯電圧を経時的に測定して当該帯電圧の半減期を求めた。なお、帯電圧の測定は「オネストメータ」〔春日電機（株）製〕により行った。
【００６７】
〔合成例１〕
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物４４．８ｇとｐ−フェニレンジアミン２１．０ｇと３，５−ジアミノ安息香酸コレステリル３．１ｇとをＮ−メチル−２−ピロリドン６２０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメチルアルコールに注いで反応生成物を沈澱させた。その後、固形物を分離してメチルアルコールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させることにより、対数粘度（ηｌｎ）が１．２１ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これを「ポリアミック酸（Ａ−１）」とする。〕６６．０ｇを得た。
〔合成例２〕
合成例１で得られたポリアミック酸（Ａ−１）３０．０ｇをγ−ブチロラクトン５７０ｇのに溶解させ、ピリジン３４．４ｇと無水酢酸２６．６ｇとを添加して１１０℃で３時間脱水閉環させた。次いで、合成例１と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘度（ηｌｎ）が１．３０ｄｌ／ｇであるイミド化重合体〔これを「イミド化重合体（Ｂ−１）」とする。〕２７．０ｇを得た。
【００６８】
〔合成例３〕
ｐ−フェニレンジアミンに代えて４，４’−ジアミノジフェニルメタン３８．４ｇを用いたこと以外は、合成例１と同様にして対数粘度（ηｌｎ）が１．１８ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これを「ポリアミック酸（Ａ−２）」とする。〕７９．４ｇを得た。その後、ポリアミック酸（Ａ−１）に代えてポリアミック酸（Ａ−２）３０．０ｇを用いたこと以外は合成例２と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）が１．２４ｄｌ／ｇであるイミド化重合体〔これを「イミド化重合体（Ｂ−２）」とする。〕２６．２ｇを得た。
〔合成例４〕
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物３９．２ｇと２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン８２．１ｇとをＮ−メチル−２−ピロリドン６２０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘度（ηｌｎ）が１．４６ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これを「ポリアミック酸（Ａ−３）」とする。〕１１５．５ｇを得た。
【００６９】
〔合成例５〕
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物に代えて１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン６０．０ｇを用いたこと以外は、合成例１と同様にして対数粘度（ηｌｎ）が１．０５ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これを「ポリアミック酸（Ａ−４）」とする。〕７６．５ｇを得た。その後、ポリアミック酸（Ａ−１）に代えてポリアミック酸（Ａ−４）３０．０ｇを用いたこと以外は合成例２と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）が１．１６ｄｌ／ｇであるイミド化重合体〔これを「イミド化重合体（Ｂ−４）」とする。〕２６．２ｇを得た。
〔合成例６〕
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物に代えてピロメリット酸二無水物４３．６ｇを用いたこと以外は、合成例１と同様にして対数粘度（ηｌｎ）が１．６６ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これを「ポリアミック酸（Ａ−５）」とする。〕６４．５ｇを得た。
【００７０】
〔合成例７〕
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物４４．８ｇとｐ−フェニレンジアミン２０．２ｇとｎ−ドデシルアミン４．９ｇとをＮ−メチル−２−ピロリドン６２０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対数粘度（ηｌｎ）が０．８５ｄｌ／ｇであるポリアミック酸〔これを「ポリアミック酸（Ａ−６）」とする。〕６３．６ｇを得た。その後、ポリアミック酸（Ａ−１）に代えてポリアミック酸（Ａ−６）３０．０ｇを用いたこと以外は合成例２と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）が０．９２ｄｌ／ｇであるイミド化重合体〔これを「イミド化重合体（Ｂ−６）」とする。〕２５．２ｇを得た。
〔合成例８〕
１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物３０．８４ｇ（０．２０モル）と４，４’−ジアミノジフェニルメタン１９．８３ｇ（０．１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。得られた反応溶液を大過剰の純水に注いで反応生成物を沈澱させた。その後、固形物を分離して純水で洗浄し、減圧下２０℃で１５時間乾燥させることにより、アミック酸化合物（ｂ１）〔これを「アミック酸化合物（ｂ１−１）」とする。〕４５．２２ｇを得た。
【００７１】
〔合成例９〕
フタル酸無水物２９．６２ｇ（０．２０モル）と４，４’−ジアミノジフェニルメタン１９．８３ｇ（０．１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例８と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、アミック酸化合物（ｂ１）〔これを「アミック酸化合物（ｂ１−２）」とする。〕４４．５１ｇを得た。
〔合成例１０〕
１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物３０．８４ｇ（０．２０モル）と１，４−シクロヘキサンジアミン１１．４２ｇ（０．１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例８と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、アミック酸化合物（ｂ１）〔これを「アミック酸化合物（ｂ１−３）」とする。〕３８．０２ｇを得た。
【００７２】
〔合成例１１〕
フタル酸無水物２９．６２ｇ（０．２０モル）と１，４−シクロヘキサンジアミン１１．４２ｇ（０．１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例８と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、アミック酸化合物（ｂ１）〔これを「アミック酸化合物（ｂ１−４）」とする。〕３６．０２ｇを得た。
〔合成例１２〕
ピロメリット酸二無水物２１．８１ｇ（０．１０モル）と、アニリン１８．６３ｇ（０．２０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例８と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、アミック酸化合物（ｂ２）〔これを「アミック酸化合物（ｂ２−１）」とする。〕３６．５２ｇを得た。
【００７３】
〔合成例１３〕
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物１９．６１ｇ（０．１０モル）とアニリン１８．６３ｇ（０．２０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例８と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、アミック酸化合物（ｂ２）〔これを「アミック酸化合物（ｂ２−２）」とする。〕３４．６９ｇを得た。
〔合成例１４〕
ピロメリット酸二無水物２１．８１ｇ（０．１０モル）とシクロヘキシルアミン１９．８４ｇ（０．２０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例８と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、アミック酸化合物（ｂ２）〔これを「アミック酸化合物（ｂ２−３）」とする。〕３６．２２ｇを得た。
【００７４】
〔合成例１５〕
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物１９．６１ｇ（０．１０モル）とシクロヘキシルアミン１９．８４ｇ（０．２０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例８と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、アミック酸化合物（ｂ２）〔これを「アミック酸化合物（ｂ２−４）」とする。〕３４．６９ｇを得た。
〔合成例１６〕
１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物３０．８４ｇ（０．２０モル）と３，４’−ジアミノジフェニルメタン１９．８３ｇ（０．１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応（アミック酸化合物の合成反応）させた。得られた反応溶液にピリジン４７．４ｇと無水酢酸６１．２ｇとを加え、８０℃で３時間反応（アミック酸化合物の脱水閉環）させた。得られた反応溶液を大過剰の純水に注いで反応生成物を沈澱させた。その後、固形物を分離して純水で洗浄し、減圧下６０℃で１５時間乾燥させることにより、イミド化合物（ｂ３）〔これを「イミド化合物（ｂ３−１）」とする。〕４４．２２ｇを得た。
【００７５】
〔合成例１７〕
４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物４０．８６ｇ（０．２０モル）と３，４’−ジアミノジフェニルメタン１９．８３ｇ（０．１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１６と同様にして、アミック酸化合物の脱水閉環・沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、イミド化合物（ｂ３）〔これを「イミド化合物（ｂ３−２）」とする。〕５４．５１ｇを得た。
〔合成例１８〕
１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物３０．８４ｇ（０．２０モル）と１，３−ジアミノシクロヘキサン１１．４２ｇ（０．１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１６と同様にして、アミック酸化合物の脱水閉環・沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、イミド化合物（ｂ３）〔これを「イミド化合物（ｂ３−３）」とする。〕３７．０２ｇを得た。
【００７６】
〔合成例１９〕
４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物４０．８６ｇ（０．２０モル）と１，３−ジアミノシクロヘキサン１１．４２ｇ（０．１０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１６と同様にして、アミック酸化合物の脱水閉環・沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、イミド化合物（ｂ３）〔これを「イミド化合物（ｂ３−４）」とする。〕４７．０５ｇを得た。
〔合成例２０〕
３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物３２．２２ｇ（０．１０モル）と４−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン２９．８５ｇ（０．２０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１６と同様にして、アミック酸化合物の脱水閉環・沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、イミド化合物（ｂ４）〔これを「イミド化合物（ｂ４−１）」とする。〕５５．８６ｇを得た。
【００７７】
〔合成例２１〕
１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物２２．４１ｇ（０．１０モル）と４−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン２９．８５ｇ（０．２０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１６と同様にして、アミック酸化合物の脱水閉環・沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、イミド化合物（ｂ４）〔これを「イミド化合物（ｂ４−２）」とする。〕４７．０３ｇを得た。
〔合成例２２〕
３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物３２．２２ｇ（０．１０モル）とシクロヘキシルアミン１９．８４ｇ（０．２０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１６と同様にして、アミック酸化合物の脱水閉環・沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、イミド化合物（ｂ４）〔これを「イミド化合物（ｂ４−３）」とする。〕４６．８６ｇを得た。
〔合成例２３〕
１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物２２．４１ｇ（０．１０モル）とシクロヘキシルアミン１９．８４ｇ（０．２０モル）とをＮ−メチル−２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、この溶液を室温で６時間反応させた。次いで、合成例１６と同様にして、アミック酸化合物の脱水閉環・沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、イミド化合物（ｂ４）〔これを「イミド化合物（ｂ４−４）」とする。〕３８．０３ｇを得た。
【００７８】
＜実施例１＞
（１）液晶配向剤の調製：
合成例１で得られたポリアミック酸（Ａ−１）５．０ｇと、合成例８で得られたアミック酸化合物（ｂ１−１）０．５ｇとをＮ−メチル−２−ピロリドンに溶解させて固形分濃度が４．０重量％の溶液を得、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過することにより、本発明の液晶配向剤を調製した。
（２）液晶表示素子の作製：
▲１▼  厚さ１ｍｍのガラス基板の一面に設けられたＩＴＯ膜からなる透明導電膜上に、上記のようにして調製された液晶配向剤を塗布用印刷機を用いて塗布し、２００℃で１時間乾燥することにより乾燥膜厚０．０５μｍの被膜を形成した。
▲２▼  形成された被膜の表面を、レーヨン製の布を巻き付けたロールを備えたラビングマシーンを用いてラビング処理を施すことにより液晶配向膜を形成した。ここに、ラビング処理条件は、毛足押し込み長０．４ｍｍ、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの移動速度１ｃｍ／秒とした。ラビング処理後、形成された液晶配向膜をイソプロピルアルコールによって洗浄した。
▲３▼  上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚作製し、それぞれの基板の外縁部に、直径１７μｍの酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂系接着剤をスクリーン印刷法により塗布した後、それぞれの液晶配向膜におけるラビング方向が直交するように２枚の基板を間隙を介して対向配置し、外縁部同士を圧着して接着剤を硬化させた。その後、当該２枚の基板の表面および外縁部の接着剤により区画されたセルギャップ内に、ネマティック型液晶「ＭＬＣ−６４１９」（メルク社製）を注入充填し、次いで、注入孔をエポキシ系接着剤で封止して液晶セルを構成した。その後、液晶セルの外表面に、偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビング方向と一致するように偏光板を貼り合わせることにより液晶表示素子を作製した。
▲４▼  上記のようにして作製された液晶表示素子は、異常ドメインは認められず、液晶の配向性は良好であった。また、この液晶表示素子の残留電圧は０．１８Ｖときわめて小さいものであった。さらに、前記ストライプ電極を設けた透明電極基板の電極面に上記▲１▼と同様にして被膜を形成し、毛足押し込み長０．６ｍｍとしたこと以外は上記▲２▼と同様にしてラビング処理を行い、形成された液晶配向膜を観察したところ、膜削れの発生は認められず、この実施例の液晶配向剤により形成された液晶配向膜（被膜）は、擦過力に対する強靱性に優れていることが確認された。さらに、形成された液晶配向膜表面における帯電圧の半減期は０．５秒であり、ラビング処理によって発生した静電気の減衰が迅速化に行われていることが確認された。これらの結果を表１に示す。
【００７９】
＜実施例２〜３２＞
表１〜２に示す処方に従って、上記合成例２〜７で得られた重合体（ａ）の各々と、上記合成例８〜３２で得られた化合物（ｂ）の各々とをＮ−メチル−２−ピロリドンに溶解させて固形分濃度が４．０重量％の溶液を得、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過することにより、本発明の液晶配向剤を調製した。このようにして調製された液晶配向剤の各々を用い、実施例１と同様にして、基板表面上に被膜を形成し、当該被膜にラビング処理を施して液晶配向膜を形成し、当該液晶配向膜が形成された基板を用いて液晶表示素子を作製した。作製された液晶表示素子の各々について、実施例１と同様にして、液晶の配向性の評価および残留電圧の測定を行い、さらに、実施例１と同様にして、透明電極基板の電極面に液晶配向膜を形成し、当該液晶配向膜の膜削れの有無を観察し、さらに当該液晶配向膜の表面における帯電圧を測定して半減期を求めた。結果を表１〜２に示す。
【００８０】
＜比較例１＞
合成例６で得られたポリアミック酸（Ａ−５）をＮ−メチル−２−ピロリドンに溶解させて固形分濃度が４．０重量％の溶液を得、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過することにより、比較用の液晶配向剤を調製した。このようにして調製された液晶配向剤を用い、実施例１と同様にして、基板表面上に被膜を形成し、当該被膜にラビング処理を施して液晶配向膜を形成し、当該液晶配向膜が形成された基板を用いて液晶表示素子を作製した。作製された液晶表示素子について、実施例１と同様にして、液晶の配向性の評価および残留電圧の測定を行い、さらに、実施例１と同様にして、透明電極基板の電極面に液晶配向膜を形成し、当該液晶配向膜の膜削れの有無を観察し、さらに当該液晶配向膜の表面における帯電圧を測定して半減期を求めた。結果を表２に示す。
【００８１】
【表１】
0003644125.tif 000014
【００８２】
【表２】
0003644125.tif 000015
【００８３】
【発明の効果】
本発明の液晶配向剤によれば、ラビング処理を施しても膜削れを発生させない強靱性に優れた被膜を透明電極基板の電極面に形成することができる。また、当該被膜の表面にラビング処理を施すことによって形成される液晶配向膜は、その表面に存在する静電気を迅速に放電減衰することができる。さらに、当該液晶配向膜が形成された基板を用いて作製される液晶表示素子において、残留電圧の低いことによる優れた表示性能、すなわち、残像が生じにくく、コントラストの高い表示性能を発現させることができる。
【００８４】
本発明の液晶配向剤により形成される液晶配向膜は、ＴＮ型液晶表示素子およびＳＴＮ型液晶表示素子のみならずＳＨ（Ｓｕｐｅｒ  Ｈｏｍｅｏｔｒｏｐｉｃ）型液晶表示素子、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶表示素子、強誘電性液晶表示素子、反強誘電性液晶表示素子など種々の液晶表示素子を構成するために好適に使用することができる。また、当該液晶配向膜を備えた液晶表示素子は、液晶の配向性および信頼性にも優れ、種々の装置に有効に使用することができ、例えば卓上計算機、腕時計、置時計、計数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、液晶テレビなどの表示装置として好適に用いることができる。