(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面上に浸漬法によって薄膜を成膜する際に基板を保持するための成膜用基板保持具であって、
前記基板を支持する支持腕と、この支持腕に張設された支持糸とを有し、
この支持糸は、前記基板を前記支持腕から浮かした状態で支持するように、前記支持腕に張設されているものであり、
前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたことを特徴とする成膜用基板保持具。
【請求項２】
中心孔を有するディスク状をなした磁気記録媒体用基板の表面上に浸漬法によって薄膜を成膜する際に前記磁気記録媒体用基板を保持するための磁気記録媒体製造用治具であって、前記磁気記録媒体用基板の中心孔に挿入されて該中心孔内周壁を支持する支持腕と、この支持腕に張設された支持糸とを有し、この支持糸は、前記磁気記録媒体用基板の中心孔内周壁を前記支持腕から浮かした状態で支持するように、前記支持腕に張設されているものであり、
前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体製造用治具。
【請求項３】
基板と、この基板を支持する支持腕と該支持腕に張設されて前記基板を前記支持腕から浮かした状態で支持する支持糸とによって構成された製造用治具と、を用意する工程と、前記製造用治具の支持糸上に前記基板を載置した後、該基板を前記製造用治具とともに前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程とを有し、前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたものであることを特徴とする成膜方法。
【請求項４】
中心孔を有するディスク状基板と、前記ディスク状基板の中心孔に挿入される支持腕と該支持腕に張設された支持糸であって前記基板の中心孔内周壁を前記支持腕から浮かした状態で支持する支持糸とによって構成された製造用治具と、を用意する工程と、前記基板の中心孔内に前記製造用治具を挿入してその支持糸上に基板を載せた後、該基板を前記製造用治具とともに前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程とを有し、前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたものであることを特徴とする成膜方法。
【請求項５】
中心孔を有するディスク状をなすとともに表面に少なくとも磁性層が形成されている磁気記録媒体用基板と、前記磁気記録媒体用基板の中心孔に挿入される支持腕と該支持腕に張設された支持糸であって前記基板の中心孔内周壁を該支持腕から浮かした状態で支持する支持糸とによって構成された製造用治具と、を用意する工程と、前記基板の中心孔内に前記製造用治具を挿入してその支持糸上に基板を載せた後、該基板を前記製造用治具とともに前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程とを有し、前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたものであることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板表面に浸漬法により薄膜を成膜する際に使用される成膜用基板保持具および薄膜成膜方法に関し、具体的には、磁気ディスク装置に使用される磁気記録媒体の製造用治具および磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に基板表面に簡便で比較的均一に膜を成膜する方法として、浸漬法が知られている。浸漬法は、形成すべき膜の薬液が貯留された薬液槽内に基板を浸漬させて成膜する方法である。しかし、基板を薬液から引き上げる際に、基板を支持する支持手段（図示せず）が基板と接触する部分において、不要な薬液が溜まって、膜厚の不均一な部分が発生する。その不均一な部分は、さまざまな悪影響を及ぼす。特に、基板上に薄膜を形成する技術、特に磁気記録媒体においては、以下のような問題がある。
一般に、ハードディスク等の磁気記録媒体は、非磁性基板上に下地層、磁性層、及び保護膜（必要に応じて潤滑膜）を順次形成した構成を有しており、この磁気記録媒体の中心部を回転駆動装置にクランプするとともに、この回転駆動装置によって所定速度で回転させ、その表面上を、磁気ヘッドが搭載されたヘッドスライダーを浮上走行させて情報の記録や読み出しを行なう。
【０００３】
ところで、前述した非磁性基板の磁性層の表面に保護膜を形成するために、スパッタ法が多く用いられているが、その処理が真空容器内で行なわれることから、量産性が悪いという不具合があり、その対策として、前記非磁性基板を保護膜形成用の薬液が貯留されている薬液槽内に浸漬させて、前記磁性層の表面に前記保護膜を形成することが試みられている。
【０００４】
そして、このような浸漬法によって保護膜を形成する手段としては、図３０に示すように、磁性層が形成された非磁性基板1 の中心孔１ａに断面が４角形状の支持棒２を挿入するとともに、前記非磁性基板１の内周壁を前記支持棒２に接触させることにより、この支持棒２に前記非磁性基板１を支持させ、ついで、この非磁性基板１を、図３１に示すように、保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されている薬液層３内に前記支持棒２とともに挿入して、前記磁性層上に前記薬液Ｌを付着させ、ついで、前記非磁性基板１を引き上げて薬液Ｌを乾燥させることにより、前記保護膜を形成する。
このように浸漬法によって保護膜を形成すると、その処理が開放された雰囲気内で行なわれることから、工程が簡素化されて磁気記録媒体の量産性が大幅に改善される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者等が、前述したような浸漬法による保護膜の形成実験や考察を行なった結果、以下の事実が判明した。
【０００６】
すなわち、非磁性基板１上に形成された保護膜の膜厚を測定してみたところ、図３２に示すように、その面方向において、膜厚が不均一となっており、特に、図３２に符号Ｘで示すように、非磁性基板１の内周部の２箇所に突起が形成されてしまい、磁気記録媒体の内周部をクランプして機器へ実装した際に、クランプ時の圧力によって生じる応力が前記突起Ｘに集中し、この突起Ｘから磁気記録媒体に歪みが発生し、この歪みのために磁気ヘッドと磁性層との距離が変動して、出力変動が引き起こされてしまう。
また、前述したクランプの際に、前述突起Ｘが砕けてしまうことがあり、その破片が磁気記録媒体を汚すことも知見された。
【０００７】
本発明は、前述した背景のもとになされたもので、浸漬法によって基板表面に、薄膜を均一に成膜するための成膜用基板保持具、及び薄膜の成膜方法を提供することを目的としている。また、磁気記録媒体においては、浸漬法による保護膜形成の優位性を確保しつつ、出力変動の少ない磁気記録媒体を製造し得る磁気記録媒体の製造用治具及び磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するための手段として第１の手段は、基板の表面上に浸漬法によって薄膜を成膜する際に基板を保持するための成膜用基板保持具であって、前記基板を支持する支持腕と、この支持腕に張設された支持糸とを有し、この支持糸は、前記基板を前記支持腕から浮かした状態で支持するように、前記支持腕に張設されているものであり、前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたことを特徴とする成膜用基板保持具である。
【００１０】
第２の手段は、中心孔を有するディスク状をなした磁気記録媒体用基板の表面上に浸漬法によって薄膜を成膜する際に前記磁気記録媒体用基板を保持するための磁気記録媒体製造用治具であって、前記磁気記録媒体用基板の中心孔に挿入されて該中心孔内周壁を支持する支持腕と、この支持腕に張設された支持糸とを有し、この支持糸は、前記磁気記録媒体用基板の中心孔内周壁を前記支持腕から浮かした状態で支持するように、前記支持腕に張設されているものであり、前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体製造用治具である。
【００１１】
第３の手段は、基板と、この基板を支持する支持腕と該支持腕に張設されて前記基板を前記支持腕から浮かした状態で支持する支持糸とによって構成された製造用治具と、を用意する工程と、前記製造用治具の支持糸上に前記基板を載置した後、該基板を前記製造用治具とともに前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程とを有し、前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたものであることを特徴とする成膜方法である。第４の手段は、中心孔を有するディスク状基板と、前記ディスク状基板の中心孔に挿入される支持腕と該支持腕に張設された支持糸であって前記基板の中心孔内周壁を前記支持腕から浮かした状態で支持する支持糸とによって構成された製造用治具と、を用意する工程と、前記基板の中心孔内に前記製造用治具を挿入してその支持糸上に基板を載せた後、該基板を前記製造用治具とともに前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程とを有し、前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたものであることを特徴とする成膜方法である。
【００１２】
第５の手段は、中心孔を有するディスク状をなすとともに表面に少なくとも磁性層が形成されている磁気記録媒体用基板と、前記磁気記録媒体用基板の中心孔に挿入される支持腕と該支持腕に張設された支持糸であって前記基板の中心孔内周壁を該支持腕から浮かした状態で支持する支持糸とによって構成された製造用治具と、を用意する工程と、前記基板の中心孔内に前記製造用治具を挿入してその支持糸上に基板を載せた後、該基板を前記製造用治具とともに前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程とを有し、前記支持腕が、鋸刃状に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも側壁を支持するようにしたものであることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００１３】
【作用】
前述した構成の成膜用基板保持具およびこの保持具を用いた成膜方法、並びに、磁気記録媒体の製造用治具およびこの治具を用いた磁気記録媒体の製造方法によれば、支持糸を介して基板を支持することにより、基板の支持面積が極力小さく抑えられ、かつ基板を薬液層から引き上げた際に、前記基板の表面に付着している余剰の薬液が前記支持糸とによって支持腕へ向けて誘導除去される。これによって、前記基板の支持手段と接触する部分における膜厚不均一性を消去して、又、磁気記録媒体にあっては、前記磁気記録媒体の内周面における突起の発生が制御される。
【００１４】
また、支持腕を鋸刃状に形成し、その谷部において支持糸を交差させるとともに、この交差部で基板を支持させることにより、前記支持糸の傾斜によって基板からの余剰の薬液の誘導除去作用が高められる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１ないし図５に基づき本発明の磁気記録媒体の製造用治具の一実施形態  について説明する。なお、以下の説明中図３０ないし図３２と共通する部分  については同一符号を用いて説明を簡略化する。
【００１６】
図１中、符号１０は、本実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具を示し、この製造用治具１０は、非磁性基板１の中心孔１ａ内に挿入される一対の支持腕１１と、この支持腕１１に張設されて、前記非磁性基板１の中心孔１ａ内周壁が載置されることにより、前記非磁性基板１の中心孔１ａ内周壁を前記支持腕１１から浮かした状態で支持する支持糸１２とによって構成された基本構成となっている。
【００１７】
ついでこれらの詳細について説明すれば、前記支持腕１１は、図２及び図３に示すように鋸刃状に形成されており、山部１１ａが３角形状に形成され、また、谷部１１ｂが逆台形状に形成され、かつ、この谷部１１ｂの底面と支持腕１１の側面との交差角ψが、図５に示すように、略９０°に設定されている。
【００１８】
さらに、前記各山部１１ａの頂部で、支持腕１１の幅方向の略中間部には、図１に及び図３に示すように、切り欠き１３が形成され、また、前記各谷部１１ｂの下方に位置する部分には、図２に示すように、前記支持腕１１を幅方向に貫通する貫通孔１４が形成されている。
【００１９】
前記支持糸１２は、図６（ａ）に示すように、前記貫通孔１４に支持腕１１の内側（他方の支持腕１１に対向させられた側）から外側へ向けて挿通された後に、この貫通孔１４の間近の山部１１ａのつぎの山部１１ａに形成された切り欠き１３へ掛け止めされ、ついで、この山部１３の間近の谷部１１ｂのつぎの谷部１１ｂに対応して形成されている貫通孔１４に支持腕１１の外側から挿通され、さらに、一つ戻った位置にある貫通孔１４に内側から挿通されることにより、前記山部１１ａの切り欠き１３に、一つおきに掛け渡され、さらに、図６（ｂ）に示すように、前述した掛け止め操作を山部１１ａに対して１ピッチずらして行なうことにより、図６（ｃ）に示すように、支持糸１２が前記谷部１１ｂの、支持腕１１の外側寄りにおいて交差（交差部１２ａ）するように掛け渡されている。
【００２０】
この図６に示すように支持糸１２の掛け渡し形態は、一つの支持腕１１について示してあるが、他方の支持腕１１についても同様であり、図１に示すように、前記交差部１２ａが逆の位置となる点において異なる。
【００２１】
そして、前記支持糸１２は、ナイロン製釣糸、フロロカーボン製釣糸、金属製釣糸や針金等が用いられ、その太さは、０．０５〜０．５ｍｍの範囲が用いられる。特に望ましい範囲は、ナイロン製釣糸、フロロカーボン釣糸の場合、０．２〜０．３ｍｍが望ましく、金属製釣糸、針金の場合、０．０５〜０．１ｍｍが望ましい。
【００２２】
前記支持糸１２と非磁性基板１との接触部分において、図７（ａ）〜（ｄ）に示すように、この接触部分に溜まる薬液Ｌが支持糸１２によって引きつけられて、前記非磁性基板１から除去される作用が生じるが、この引きつけ作用が、支持糸１２の太さに依存し、細すぎると、図８に示すように、前記余剰の薬液の除去が不十分となるばかりでなく、糸切れを生じてしまい、また、太くなるにつれて引きつけ作用が大きく、図９に示すように、前記非磁性基板１からの余剰の薬液の除去が良好に行なわれて、乾燥後における突起Ｘの発生が制御されることから、これらを勘案して、前述の範囲で使用することが望まれる。
【００２３】
また、前記交差部１２ａの間隔は、支持する磁気記録媒体の間隔を決定するものであり、広すぎると処理枚数が少なくなって生産効率が悪くなり、狭すぎると付着した薬液の乾燥速度が遅くなって製造サイクルが長くなることから、これらを勘案して、３〜９ｍｍの範囲が好適である。
【００２４】
一方、前記支持糸１２と非磁性基板１とのなす角度θが大きくしすぎると、この支持糸１２の交差部１２ａに載せた非磁性基板１が移動し易くなり、また、小さくしすぎると、非磁性基板１が山部１１ａに接触したり、あるいは、幾何的に前記支持腕１１が非磁性基板１の中心孔１ａ内に挿入できなくなることから、前記角度θは、３０°〜８０°の範囲で、４５°〜７０°の範囲が好適である。
【００２５】
さらに、前述した薬液Ｌの前期非磁性基板１からの除去作用は、前記支持糸１２の交差部１２ａと、前記支持腕１１の谷部１１ｂの底面との距離ｄや、非磁性基板１の内周面と前記支持腕１１の谷部１１ｂの底面との距離ｅの距離（図１０および図１１参照）も影響する。
【００２６】
すなわち、図１２に示すように前者の距離ｄを大きくすれば、支持糸１２と非磁性基板１との接触部に溜まった薬液Ｌが真下に引かれ、これによって、前記支持糸１２による薬液Ｌの引きつけ作用が高められて、内周部近傍の突起Ｘの発生が防止され、図１３に示すように小さい場合には、前記接触部に溜まった薬液Ｌの下方への引きつけ作用が小さくなり、前記突起Ｘの消去作用が低下するために、これらを勘案して、前記距離ｄは、０．５ｍｍ〜３．０ｍｍ、好ましくは、０．５ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲に設定することが望ましい。
【００２７】
一方、前記距離ｄを大きくすると、非磁性基板１の内周面と前記谷部１１ｂの底面との距離ｅも大きくなるが、この距離ｅが大きくなると、非磁性基板１と谷部１１ｂとの間に形成される薬液のブリッジが早期に破断して、余剰の薬液Ｌの除去が進行せず、膜厚にむらが生じ、また、前記距離ｅが短いと、前記ブリッジが切れなくなり、この部分で突起が発生することとなり好ましくなく、このブリッジを介した薬液Ｌの円滑な除去のためには、前記距離ｅを０．０２ｍｍ〜２．０ｍｍ、好ましくは、０．０３ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲に設定することが望ましい。
【００２８】
そして、前述したように、突起の発生を防止しつつ膜厚分布の悪化を制御するためには、距離ｄを確保しつつ距離ｅを前記範囲内に近づける必要がある。
このためには、図１１に示すように、前記支持腕１１の谷部１１ｂの底面と支持腕１１の側面との交差角度ψを大きくすることによって実現可能となる。
【００２９】
そして、この交差角度ψは、距離ｄと距離ｅとを前述した好適な範囲内とするために９０°〜１７０°、好ましくは１１０°〜１４０°の範囲に設定することが望ましい。
【００３０】
さらに、前記支持腕１１の谷部１１ａの形状は、前述した逆台形状の他に、丸底形状やＶ型形状等が採用される。
【００３１】
ここで、支持糸１２の交差部１２ａと支持腕１１の谷部１１ｂの底面との距離ｄの変化に対する突起Ｘの出現率の変化を図１４に示した。なお、表中においてｗは突起Ｘの、前記非磁性基板１の周方向に沿った長さを示し、ｌは、突起Ｘの、前記非磁性基板１の半径方向に沿った長さを示し、ｈは、突起Ｘの、前記非磁性基板１の面に対する垂直に沿った高さを示し、ｗが０．２ｍｍ以下で、ｌが０．１ｍｍ以下である場合に突起Ｘが消滅したとみなした。
【００３２】
この図１４からも明らかなように、距離ｄが大きい場合に突起Ｘが消滅していく傾向が確認できる。
【００３３】
また、支持糸１２の太さと突起Ｘの出現率との関係を図１５に示す。この図からも明らかなように、支持糸１２が太くなるにしたがって突起Ｘの出現率が低下していく傾向が理解できる。
【００３４】
このように構成された磁気記録媒体の製造用治具１０を用いて磁気記録媒体を製造するには、まず、前記非磁性基板１の表面を精密研磨した後に、この非磁性基板１の表面にスパッタ等によって磁性層を形成し、この非磁性基板１の中心孔１ａ内に製造用治具１０の一対の支持腕１１を挿入して、これらの支持腕１１に張設されている各支持糸１２の交差部１２ａ上に前記非磁性基板１の内周壁を載せることにより、この非磁性基板１をその内周壁を前記支持腕１１から浮かした状態で支持し、ついで、この非磁性基板1 を前記製造用治具１０とともに保護膜形成用の薬液槽３内に浸漬させて、前記磁性層の表面に保護膜形成用の薬液Ｌを付着させ、ついで、前記製造用治具１０を薬液槽３から引き上げて前記薬液Ｌを乾燥させることにより行われる。
【００３５】
ついで、本発明を以下に示す具体的な実施例に基づいて詳細に説明する。
【００３６】
【実施例１】
厚さ２ｍｍのステンレスにて各部１１ｂの形状が逆台形状で各部の形状ならびに寸法が以下の条件の製造用治具を作製した。
【００３７】
山部の間隔＝０．６３５ｍｍ
θ＝５６°
ψ＝１３５°
δ＝５０°
ｄ＝１．４ｍｍ
ｅ＝０．６ｍｍ
支持糸；直径０．０７４ｍｍのチタン・ニッケル合金製釣り糸
ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、その内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するようにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されている薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を形成した。
【００３８】
前記薬液Ｌとして、金属アルコキドであるテトラエトキシシランとコイダルシリカとイソプロピルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。
【００３９】
そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１を、オーブンで、温度が３００℃で１．５時間の焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製した。
【００４０】
この磁気記録媒体を観察したところ、内周部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝０．１６ｍｍ、ｌ＝０．０８ｍｍであり、発生しないといってもよいレベルに抑えられている。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の測定結果を図１６及び図１７に示す。これらの図において、半径ｒ＝１４ｍｍの内周部において膜厚がほぼ一定となっており、良好な膜厚分布を有する磁気記録媒体が得られたことが解る。
【００４１】
【実施例２】
厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの形状が逆台形状で、各部の形状ならびに寸法が以下の条件の製造用治具を作製した。
【００４２】
山部の間隔＝０．６３５ｍｍ
θ＝５６°
ψ＝１３５°
δ＝５０°
ｄ＝１．４ｍｍ
ｅ＝０．６ｍｍ
支持糸；直径０．２８５ｍｍのフロロカーボン製釣り糸
ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、その内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するようにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されている薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を形成した。
【００４３】
前記薬液Ｌとして、金属アルコキドであるテトラエトキシシランとコイダルシリカとイソプロピルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。
【００４４】
そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１をオーブンで、温度が３００℃で１．５時間の焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製した。
【００４５】
この磁気記録媒体を観察したところ、内周部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝０．１４ｍｍ、ｌ＝０．０７ｍｍであり、発生しないといってもよいレベルに抑えられている。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の測定結果を図１８及び図１９に示す。これらの図において、半径ｒ＝１４ｍｍの内周部において、３０°〜６０°、および、３００°〜３３０°の方向がやや厚いものの、良好な膜厚分布の磁気記録媒体が得られたことが解る。
【００４６】
また、この磁気記録媒体の半径１６ｍｍにおけるデビエーションエンベロープを図２０に示し、比較のために、突起Ｘの発生した磁気記録媒体のデビエーションエンベロープを図２１に示す。これらの比較からも明らかなように、本実施例の磁気記録媒体では出力変動が極めて少ない。
【００４７】
【実施例３】
厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの形状がＶ型形状で、各部の形状ならびに寸法が以下の条件の製造用治具を作製した。
【００４８】
山部の間隔＝０．６３５ｍｍ
θ＝５６°
ψ＝９０°
δ＝８０°
ｄ＝１．５ｍｍ
ｅ＝１．３ｍｍ
支持糸；直径０．１０４ｍｍのナイロン製釣り糸
ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、その内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するようにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されている薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を形成した。
【００４９】
前記薬液Ｌとして、金属アルコキドであるテトラエトキシシランとコイダルシリカとイソプロピルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。
そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１を、オーブンで、温度３００℃で１．５時間の焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製した。
【００５０】
この磁気記録媒体を観察したところ、内周部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝１．２ｍｍ、ｌ＝０．８ｍｍ、ｈ＝０．４μｍであり、支持糸１２を張らない支持腕１１を用いて作製した磁気記録媒体に比して小さく抑えられた。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の測定結果を図２２及び図２３に示す。これらの図において、半径ｒ＝１４ｍｍの内周部において、６０°および３００°方向がやや厚いものの、ほぼ良好な膜厚分布の磁気記録媒体が得られたことが解る。
【００５１】
【実施例４】
厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの形状がＶ型形状で、各部の形状ならびに寸法が以下の条件の製造用治具を作製した。
【００５２】
山部の間隔＝０．６３５ｍｍ
θ＝５６°
ψ＝９０°
δ＝８０°
ｄ＝１．５ｍｍ
ｅ＝１．３ｍｍ
支持糸；直径０．２０５ｍｍのナイロン製釣り糸
ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、その内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するようにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されている薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を形成した。
【００５３】
前記薬液Ｌとして、金属アルコキドであるテトラエトキシシランとコロイダルシリカとイソプロピルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。
そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１を、オーブンで、温度が３００℃で１．５時間の焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製した。
【００５４】
この磁気記録媒体を観察したところ、内周部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝１．３ｍｍ、ｌ＝０．９ｍｍ、ｈ＝０．４μｍであり、支持糸１２を張らない支持腕１１を用いて作製した磁気記録媒体に比して小さく抑えられていた。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の測定結果を図２４及び図２５に示す。前記第３実施例とほぼ同様に、半径ｒ＝１４ｍｍの内周部において、６０°および３００°方向がやや厚いものの、ほぼ良好な膜厚分布の磁気記録媒体が得られたことが解る。
【００５５】
【実施例５】
厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの形状が逆台形状で谷底が平らで、各部の形状ならびに寸法が以下の条件の製造用治具を作製した。
【００５６】
山部の間隔＝０．６３５ｍｍ
θ＝５６°
ψ＝９０°
δ＝５０°
ｄ＝１．５ｍｍ
ｅ＝１．３ｍｍ
支持糸；直径０．２０５ｍｍのナイロン製釣り糸
ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、その内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するようにして載置した後、これらの非磁性基板１を製造用治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されている薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を形成した。
【００５７】
前記薬液Ｌとして、金属アルコキドであるテトラエトキシシランとコロイダルシリカとイソプロピルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１を、オーブンで、温度３００℃で１．５時間の焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製した。
【００５８】
この磁気記録媒体を観察したところ、内周部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝０．１６ｍｍ、ｌ＝０．０８μｍであり、突起Ｘが消滅したに等しい磁気記録媒体が得られた。
本実施例と、前記実施例４と比較した場合、支持腕１１の谷部１１ｂの形状が異なるだけであるから、Ｖ字型から逆台形状に代えたことによる変化、すなわち、支持糸１２と支持腕１１との間に形成される隙間を大きくすることにより、突起Ｘの除去効果が飛躍的に改善されることが解る。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の測定結果を図２６及び図２７に示す。この実施例においても、ほぼ良好な膜厚分布の磁気記録媒体が得られたことが解る。
【００５８】
【実施例６】
厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの形状が逆台形状で谷底が平らで、各部の形状ならびに寸法が以下の条件の製造用治具を作製した。
【００５９】
山部の間隔＝０．６３５ｍｍ
θ＝５６°
ψ＝１３５°
δ＝５０°
ｄ＝１．５ｍｍ
ｅ＝０．２ｍｍ
支持糸；直径０．２０５ｍｍのナイロン製釣り糸
ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、その内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するようにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されている薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を形成した。
【００６０】
前記薬液Ｌとして、金属アルコキドであるテトラエトキシシランとコロイダルシリカとイソプロピルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。
【００６１】
そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１を、オーブンで、温度が３００℃で１．５時間の焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製した。
【００６２】
この磁気記録媒体を観察したところ、内周部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝０．１６ｍｍ、ｌ＝０．０７μｍであり、突起Ｘが消滅したに等しい磁気記録媒体が得られた。この磁気記録媒体の膜厚分布の測定結果を図２８及び図２９に示す。これらの図から明らかなように、本実施例においては、前記実施例５と比較して、さらに良好な膜厚分布の磁気記録媒体が得られたことが解る。
【００６３】
そして、本実施例と、前記実施例５と比較した場合、支持腕１１の谷部１１ｂの谷底が大きく傾斜させられた点が異なるだけであるから、谷底の傾斜角度ψを大きくしたことによる変化、すなわち、非磁性基板１の内周面と支  持腕１１の谷部１１ｂの底面（谷底）との距離ｅを小さくすることにより、膜厚分布が大幅に改善されることが解る。
【００６４】
上述の実施例では、支持腕をディスク状基板の中心孔内に挿入させ、基板を支持したが、これに限らず、支持腕をデイスク用基板の外周に載置し、ディスク用基板の外周側壁を支持してもよい。
【００６５】
また、上述の実施例で使用した薬液は、磁気記録媒体の保護膜形成用に限って挙げたが、これに限らず、潤滑膜形成用の薬液（例えば、パーフルオロポリエーテル系液体潤滑剤、等）や、浸漬法によって基板表面に形成されるさまざまな薬液についても使用できる。また、支持糸が薬液に対して耐久性を有するものであれば、基板をある液に浸漬させて特定の処理を施す（例えば、ガラス基板の化学強化処理、洗浄等）用途にも使用できる。
【００６５】
さらに、上述の実施例の成膜用基板保持具は、磁気記録媒体用に限って説明した（磁気記録媒体用製造用治具）が、これに限らず、光ディスク、半導体ウエハ、フォトマスクや液晶用に使用される電子デバイス用基板等に、薄膜を形成するための成膜用基板保持具としても使用できる。その際、支持腕は、基板の外周側壁近傍に配置し、張設された支持糸によって外周側壁を支持する。
【００６６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る成膜用基板保持具およびこの保持具を用いた成膜方法、並びに、磁気記録媒体の製造用治具およびこの治具を用いた磁気記録媒体の製造方法によれば、浸漬法によって基板の表面上に薄膜を成膜する際に、支持腕に張設した支持糸によって該支持腕から浮かした状態で基板を支持するようにしたことにより、前記非磁性基板を支持腕から浮かした状態で支持し、この状態で基板を薬液槽内に浸漬させて薄膜形成用の薬液を付着させるようにしたもので、これにより、基板の支持面積が極力小さく抑えられ、かつ基板を薬液層から引き上げた際に、基板の表面に付着している余剰の薬液が支持糸とによって支持腕へ向けて誘導除去される。これによって、基板の支持手段と接触する部分における膜厚不均一性の発生を防止して膜厚の均一な薄膜の形成を可能にしているものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具の一部を示す平面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具の側面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具の縦断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具の要部を示す拡大側面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具の縦断面図である。
【図６】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における支持糸の張設手順を示す平面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における薬液の排出メカニズムを模擬的に示した要部の拡大縦断面図である。
【図８】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における薬液の排出メカニズムを模擬的に示した支持糸と非磁性基板との接触部を示す拡大縦断面図である。
【図９】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における薬液の排出メカニズムを模擬的に示した支持糸と非磁性基板との接触部を示す拡大縦断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における支持糸ならびに支持腕と非磁性基板との位置関係を示す拡大縦断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における支持糸ならびに支持腕と非磁性基板との位置関係の変形例を示す拡大縦断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における支持糸と支持腕との位置関係が異なる場合における残存薬液の状態を示す拡大縦断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における支持糸と支持腕との位置関係が異なる場合における残存薬液の状態を示す拡大縦断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における支持糸と支持腕の谷部との距離と、突起の出現率との関係を示す図である。
【図１５】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製造用治具における支持糸の直径と、突起の出現率との関係を示す図である。
【図１６】本発明の実施例１における膜厚分布を示すもので、中心からの距離をパラメータとしたグラフである。
【図１７】本発明の実施例１における膜厚分布を示すもので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。
【図１８】本発明の実施例２における膜厚分布を示すもので、中心からの距離をパラメータとしたグラフである。
【図１９】本発明の実施例２における膜厚分布を示すもので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。
【図２０】本発明の実施例２における出力特性図である。
【図２１】一従来例における出力特性図である。
【図２２】本発明の実施例３における膜厚分布を示すもので、中心からの距離をパラメータとしたグラフである。
【図２３】本発明の実施例３における膜厚分布を示すもので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。
【図２４】本発明の実施例４における膜厚分布を示すもので、中心からの距離をパラメータとしたグラフである。
【図２５】本発明の実施例４における膜厚分布を示すもので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。
【図２６】本発明の実施例５における膜厚分布を示すもので、中心からの距離をパラメータとしたグラフである。
【図２７】本発明の実施例５における膜厚分布を示すもので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。
【図２８】本発明の実施例６における膜厚分布を示すもので、中心からの距離をパラメータとしたグラフである。
【図２９】本発明の実施例６における膜厚分布を示すもので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。
【図３０】従来の浸漬法による保護膜の形成装置における非磁性基板の支持形態を示す正面図である。
【図３１】従来の浸漬法による保護膜の形成装置を示す縦断面図である。
【図３２】従来の浸漬法によって保護膜を形成した際における保護膜の膜厚分布を示す概略図である。
【符号の説明】
１  非磁性基板
１ａ  中心孔
３  薬液槽
１０  （磁気記録媒体の）製造用治具
１１  支持腕
１１ａ  山部
１１ｂ  谷部
１２  支持糸
１２ａ  交差部
１３  切り欠き
１４  貫通孔
Ｌ  薬液
【図１】
0003679893.tif 000002
【図２】
0003679893.tif 000003
【図３】
0003679893.tif 000004
【図４】
0003679893.tif 000005
【図５】
0003679893.tif 000006
【図６】
0003679893.tif 000007
【図７】
0003679893.tif 000008
【図８】
0003679893.tif 000009
【図９】
0003679893.tif 000010
【図１０】
0003679893.tif 000011
【図１１】
0003679893.tif 000012
【図１２】
0003679893.tif 000013
【図１３】
0003679893.tif 000014
【図１４】
0003679893.tif 000015
【図１５】
0003679893.tif 000016
【図１６】
0003679893.tif 000017
【図１７】
0003679893.tif 000018
【図１８】
0003679893.tif 000019
【図１９】
0003679893.tif 000020
【図２０】
0003679893.tif 000021
【図２１】
0003679893.tif 000022
【図２２】
0003679893.tif 000023
【図２３】
0003679893.tif 000024
【図２４】
0003679893.tif 000025
【図２５】
0003679893.tif 000026
【図２６】
0003679893.tif 000027
【図２７】
0003679893.tif 000028
【図２８】
0003679893.tif 000029
【図２９】
0003679893.tif 000030
【図３０】
0003679893.tif 000031
【図３１】
0003679893.tif 000032
【図３２】
0003679893.tif 000033