(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には有機膜が形成され、該有機膜上にはパターン形成された複数の反射膜が形成されてなる液晶表示体において、
前記有機膜の表面には第１の凹凸が形成されているとともに、前記有機膜と前記反射膜との熱膨張率の違いによって生じたシワが形成され、前記複数の反射膜の各々の表面には、前記第１の凹凸を反映した凹凸と、前記シワによって発生した前記第１の凹凸より微細な第２の凹凸とが形成されていることを特徴とする液晶表示体。
【請求項２】
基板上に有機膜が形成され、該有機膜上には複数の反射膜がパターン形成されてなる液晶表示体用拡散板において、
前記有機膜の表面には第１の凹凸が形成されているとともに、前記有機膜と前記反射膜との熱膨張率の違いによって生じたシワが形成され、前記複数の反射膜の各々の表面には、前記第１の凹凸を反映した凹凸と、前記シワによって発生した前記第１の凹凸より微細な第２の凹凸とが形成されていることを特徴とする液晶表示体用拡散板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は液晶表示体及び液晶表示体用拡散板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の液晶表示体用拡散反射板は、フィルム状の物（反射板のみの物や、反射板と偏光板とが一体となった物）で表示体の液晶パネル（偏光板を含む）の下部に配置していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前述した従来の構成においては反射型表示体の明るさが不足であるという課題を有していた。
【０００４】
すなわち、反射型液晶表示体の入射光は、液晶パネル（偏光板ーガラス基板ー透明電極層ー配向膜層ー液晶層ー配向膜層ー透明電極層ーガラス基板ー偏光板）を通過し反射板に到達する。反射板により反射された反射光は、液晶パネルを通過し液晶表示体外部へと到達する。すなわち、光は液晶パネルを２回通過することになり、よって反射型液晶表示体の入射光に対して反射光の光量は液晶表示体の液晶パネル（偏光板を含む）の光損失を考慮するとその３分の１以下に落ちて暗くなってしまうという問題点があった。
【０００５】
そこで本発明は、このような従来技術における問題点を克服し、明るい表示を可能とする液晶表示体及び液晶表示体用拡散板を得ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置は、一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には有機膜が形成され、該有機膜上にはパターン形成された複数の反射膜が形成されてなる液晶表示体において、前記有機膜の表面には第１の凹凸が形成されているとともに、前記有機膜と前記反射膜との熱膨張率の違いによって生じたシワが形成され、前記複数の反射膜の各々の表面には、前記第１の凹凸を反映した凹凸と、前記シワによって発生した前記第１の凹凸より微細な第２の凹凸とが形成されていることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の液晶表示体用拡散板は、基板上に有機膜が形成され、該有機膜上には複数の反射膜がパターン形成されてなる液晶表示体用拡散板において、前記有機膜の表面には第１の凹凸が形成されているとともに、前記有機膜と前記反射膜との熱膨張率の違いによって生じたシワが形成され、前記複数の反射膜の各々の表面には、前記第１の凹凸を反映した凹凸と、前記シワによって発生した前記第１の凹凸より微細な第２の凹凸とが形成されていることを特徴とする。
【０００８】
【実施例】
（実施例１）
図１（ａ）及び（ｂ）は、本発明の実施例を説明するものであって、液晶表示体用拡散反射板の概略平面図及びＡ−Ａ’線に沿った概略断面図である。
【０００９】
この液晶表示体用拡散反射板は、平面基板１の上に有機薄膜層２を持ち、その上にパターン形成された反射電極３を設けた構造である。前記有機薄膜２はレジストであり、前記反射電極３はスパッタ法もしくは蒸着法により堆積され、エッチングによってパターン形成されている。
【００１０】
図２（ａ）〜（ｄ）は、前述した液晶表示体用拡散反射板の製造方法を参考例として説明するものであって、重要な製造工程終了後のガラス基板の概略断面図である。図２に基づき液晶表示体用拡散反射板の製造工程を説明する。
【００１１】
まず、平面基板１の表面を有機洗浄したのち、さらにプラズマもしくはＵＶ＋Ｏ3により完全に基板表面の有機物及び異物の除去を行なう（図２（ａ））。次に、平面基板１の表面に、レジストをスピンコート法により１〜１０μｍの厚みに塗布し、それを１００〜２００℃でベーキングして有機薄膜層２を形成する（同図（ｂ））。次に、有機薄膜層２の表面全体に、スパッタ法もしくは蒸着法によりＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜よりなる反射薄膜層４を堆積する（同図（ｃ））。このとき、有機薄膜層２を含む平面基板１を１００〜２５０℃に加熱することによって、拡散反射に必要な微細な凹凸が同時に形成される。これは有機薄膜層２と反射薄膜層４との熱膨張率の違いにより有機薄膜層２にシワが発生し、また、スパッタ時あるいは蒸着時にＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜自身がグレーン成長するためである。次に、反射薄膜層４をエッチングによってパターン形成し反射電極３を形成する（同図（ｄ））。
【００１２】
図３（ａ）〜（ｄ）は、本発明の液晶表示体用拡散反射板の製造方法を説明するものであって、重要な製造工程終了後のガラス基板の概略断面図である。図３に基づき液晶表示体用拡散反射板の製造工程を説明する。
【００１３】
まず、平面基板１の表面を有機洗浄したのち、さらにプラズマもしくはＵＶ＋Ｏ3により完全に基板表面の有機物及び異物の除去を行なう（図３（ａ））。次に、平面基板１の表面に、レジストを印刷法により１〜５μｍの厚みに塗布し、それを１００〜２００℃でベーキングして凹凸の有する有機薄膜層２を形成する。次に、有機薄膜層２の表面全体に、スパッタ法もしくは蒸着法によりＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜よりなる反射薄膜層４を堆積する（同図（ｃ））。このとき、有機薄膜層２を含む平面基板１を１００〜２５０℃に加熱することによって、拡散反射に必要な凹凸が同時に形成される（この凹凸は、前述した印刷法によって形成された凹凸より更に微細な凹凸であり、印刷法により形成された凹凸の上に形成される）。これは有機薄膜層２と反射薄膜層４との熱膨張率の違いにより有機薄膜層２にシワが発生し、また、、スパッタ時あるいは蒸着時にＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜自身がグレーン成長するためである。次に、反射薄膜層４をエッチングによってパターン形成し反射電極３を形成する（同図（ｄ））。
【００１４】
（実施例２）
図４は、本発明の液晶表示体用拡散反射板を用て作成した反射型液晶パネルの概略断面図であり、図５は、従来の反射型液晶パネルの概略断面図である。従来の反射型液晶パネルにおいて、入射光１０は、偏光板９−対向平面基板８−透明電極７−配向膜５−液晶層６−配向膜５−透明電極７−平面基板１−偏光板９を通過し反射フィルム１２に達し反射する。反射板により反射された反射光１１は、その逆を通過して液晶パネル外部へと到達するため、入射光に対し反射光は３分の１以下となる。しかし、本発明の液晶表示体用拡散反射板を用いた反射型液晶パネルでは、入射光１０は、偏光板９−対向平面基板８−透明電極７−配向膜５−液晶層６−配向膜５を通過し反射電極３に達し反射する。反射板により反射された反射光１１は、その逆を通過して液晶パネルの外部に達するので、従来の反射型液晶パネルより光の損失が少なく明るさも従来より２倍以上明るくなった。また、反射電極３は、金属薄膜で反射板と電極とを兼ねるので、従来の透明電極による配線抵抗より低抵抗になるため、液晶パネル駆動時のクロストークを無くし表示品質も向上した。以上、単純マトリクスを例に述べたが、アクティブマトリクスにおいては、アクティブ素子の形成されていない対向基板上に本発明の液晶表示体用拡散反射板を形成することにより応用が可能である。
【００１５】
以上実施例を述べたが、本発明は以上の実施例における平面基板上に形成される液晶表示体用拡散反射板のみに限定されるものではなく、各種の反射板等に応用が可能である。
【００１６】
【発明の効果】
以上述べてきたように、本発明の液晶表示体及び液晶表示体用拡散板は、基板上には有機膜が形成され、有機膜上には反射膜が形成され、有機膜は反射膜側に凹凸を有しており、その凹凸にはその凹凸より微細な凹凸が形成されている。そしてその微細な凹凸により良好な散乱面が得られ、それにより明るい液晶表示体が実現する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  （ａ）は実施例１における液晶表示体用拡散反射板の概略平面図であり、
（ｂ）はＡ−Ａ’線に沿った概略断面図である。
【図２】  （ａ）〜（ｄ）は参考例として液晶表示体用拡散反射板の製造プロセスを説明するものであって、重要な製造工程終了後の基板の概略断面図である。
【図３】  （ａ）〜（ｄ）は実施例１における液晶表示体用拡散反射板のもう一つの製造プロセスを説明するものであって、重要な製造工程終了後の基板の概略断面図である。
【図４】  実施例２における本発明の液晶表示体用拡散反射板を用いた反射型液晶パネルの概略断面図。
【図５】  従来の反射型液晶パネルの概略断面図。
【符号の説明】
１  平面基板
２  有機薄膜層
３  反射電極
４  反射薄膜層
５  配向膜
６  液晶層
７  透明電極
８  対向平面基板
９  偏光板
１０  入射光
１１  反射光
１２  反射フィルム
１３  シール剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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