(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の面形状に成形された高配向性を有するグラファイト面状体を製造する方法であって、
１または複数枚の厚さ１〜４００μｍの高分子フィルムを４００〜２０００℃で熱処理して炭素質フィルムを得る炭素質フィルム製造工程と、
前記炭素質フィルム製造工程で得られた炭素質フィルムを少なくとも１枚以上重ねて成形型に入れる成形準備工程と、
不活性雰囲気中で前記成形型全体を２０００℃〜３２００℃に昇温しつつ０．９８ＭＰａ以上の圧力で成形する昇温工程と、
前記昇温工程後に、不活性雰囲気中で前記炭素質フィルムの少なくとも一部を加熱することで前記炭素質フィルムを２２００℃以上の温度に維持しつつ０．９８ＭＰａ以上の圧力で成形する成形工程と、
を含むグラファイト面状体の製造方法。
【請求項２】
前記昇温工程では、不活性雰囲気の高温炉中で前記成形型と炭素質フィルムとを昇温する、請求項１記載のグラファイト面状体の製造方法。
【請求項３】
前記昇温工程では、前記成形型と前記炭素質フィルムとの間に配置された加熱手段により前記成形型と炭素質フィルムとを昇温する、請求項１または２記載のグラファイト面状体の製造方法。
【請求項４】
前記昇温工程では、前記炭素質フィルムに通電することで前記成形型と炭素質フィルムとを昇温する、請求項１または２記載のグラファイト面状体の製造方法。
【請求項５】
前記成形工程では、レーザ光を前記炭素質フィルムの端面に照射して前記炭素質フィル
ムを部分的に加熱する、請求項１から４のいずれかに記載のグラファイト面状体の製造方法。
【請求項６】
前記成形工程では、前記炭素質フィルムの端面に火炎を照射して前記炭素質フィルムを部分的に加熱する、請求項１から４のいずれかに記載のグラファイト面状体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、グラファイト面状体の製造方法、特に、所定の面形状に成形された高配向性を有するグラファイト面状体を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、グラファイト結晶の製造方法は、ＣＶＤ法や高分子フィルムをグラファイト化する方法が知られている。しかしながら、曲率半径の小さな面状体を得る技術は確立されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
曲率半径が大きな面状体は、上述の製造方法で製造できる。小型で曲率半径の小さな面状体は製造できない。
【０００４】
そこで、出発原料として特定の高分子材料を用いたグラファイト面状体により小型で曲率半径が小さいトロイダルミラーを製造する方法が本発明者等により既に出願されている（特願平６−１５４６２８号）。この製造方法では、厚み１〜４００μｍの１又は複数枚の特定の高分子フィルムを４００〜２０００℃で熱処理して炭素質フィルムを得、得られた炭素質フィルムを１又は複数枚重ねてトロイダルミラー形状の分割成形型に入れ、不活性雰囲気中で高温で成形することでトロイダルミラーの分割片となる高配向性のグラファイト面状体を得ている。この成形時の温度が３０００℃以上であると配向性がより高くなり、ミラーの曲面に平行にグラファイト結晶が配向される。このため、このような高温に耐えるように成形型の材質として等方性黒鉛が使用される。
【０００５】
しかし、等方性黒鉛製の成形型を用いても、炭素質フィルムを３０００℃以上の温度で成形すると、成形型が高熱で軟化しやすい。このため、繰り返して成形型を用いるとその形状が成形時の圧力により変形して一定に維持されず、成形されたグラファイト面状体の形状にばらつきが生じて精度の良いグラファイト面状体を製造しにくい。
【０００６】
本発明の目的は、所定の面形状に成形された高配向性を有するグラファイト面状体を精度良く製造できるグラファイト面状体の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係るグラファイト面状体の製造方法は、炭素質フィルム製造工程と、成形準備工程と、昇温工程と、成形工程とを含んでいる。炭素質フィルム製造工程は、１または複数枚の厚さ１〜４００μｍの高分子フィルムを４００〜２０００℃で熱処理して炭素質フィルムを得る工程である。成形準備工程は、炭素質フィルム製造工程で得られた炭素質フィルムを少なくとも１枚以上重ねて成形型に入れる工程である。昇温工程は、不活性雰囲気中で成形型全体を２０００℃〜３２００℃に昇温しつつ０．９８ＭＰａ以上の圧力で成形する工程である。成形工程は、昇温工程後に、不活性雰囲気中で炭素質フィルムの少なくとも一部を加熱することで炭素質フィルムを２２００℃以上の温度に維持しつつ０．９８ＭＰａ以上の圧力で成形する工程である。
【０００８】
請求項２に係るグラファイト面状体の製造方法は、請求項１記載の製造方法において、昇温工程では、不活性雰囲気の高温炉中で成形型と炭素質フィルムとを昇温する。
【０００９】
請求項３に係るグラファイト面状体の製造方法は、請求項１または２記載の製造方法において、昇温工程では、成形型と炭素質フィルムとの間に配置された加熱手段により成形型と炭素質フィルムとを昇温する。
【００１０】
請求項４に係るグラファイト面状体の製造方法は、請求項１または２記載の製造方法において、昇温工程では、炭素質フィルムに通電することで成形型と炭素質フィルムとを昇温する。
【００１１】
請求項５に係るグラファイト面状体の製造方法は、請求項１から４のいずれかに記載の製造方法において、成形工程では、レーザ光を炭素質フィルムの端面に照射して炭素質フィルムを部分的に加熱する。
【００１２】
請求項６に係るグラファイト面状体の製造方法は、請求項１から４のいずれかに記載の製造方法において、成形工程では、炭素質フィルムの端面に火炎を照射して炭素質フィルムを部分的に加熱する。
【００１３】
この発明では、出発原料となる高分子フィルムとして、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリオキサジアゾールの中から選ばれた高分子からなるフィルムを用いる。上記各種ポリイミドには、ポリベンゾチアゾール、ボリベンゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾビスオキサゾール、ポリアミドイミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビスイミダゾール、ポリテレフタルアミド、ポリフェニレンビニレン、下記の一般式（１）で代表される芳香族ポリイミドがある。
【００１４】
【化１】
0003611892.tif 000002
【００１５】
【化２】
0003611892.tif 000003
【００１６】
【化３】
0003611892.tif 000004
【００１７】
上記各種ポリアミドには、下記の一般式（２）で代表される芳香族ポリアミドがある。
【００１８】
【化４】
0003611892.tif 000005
【００１９】
具体的な高分子フィルムの材料組成や配合は、用途や製造条件によって適宜選択して実施される。高分子フィルムの厚みは、４００μｍ以下、好ましくは１〜４００μｍの範囲のものが用いられる。フィルム厚が４００μｍよりも厚くなると、炭素化およびグラファイト化の過程において発生するガスのために、内部構造の乱れた炭素前駆体（すなわち難黒鉛化炭素）しかできず、その後に所定形状を有する成形型に加熱圧着して成形する、いわゆるホットプレス加工を行っても良質のグラファイトを得ることができない。フィルム厚が薄い場合には特に大きな制限はない。１μｍよりも薄くなると同じ厚さのグラファイト面状体を製造するのに、より多数枚の炭素質フィルムを製造しておく必要があるので、経済的に不利である。
【００２０】
炭素質フィルムを製造するための熱処理温度は４００〜２０００℃の範囲で実施される。２０００℃以上の温度領域で熱処理を行うこともできるが、上記温度範囲内で熱処理したものを、曲面を構成の一部に加工された等方性黒鉛型に加熱成形して、ホットプレス加工した方が、最終的に製造されるグラファイトの品質に良い結果を与える。この炭素質フィルム製造工程は、ホットプレスの前の予備的な熱処理工程であるが、この段階では高分子フィルムを重ねないで別々に熱処理したほうがよく、特に、４００μｍ以上の厚さには重ねないほうがよい。これは、高分子フィルムを重ねた状態で熱処理すると、高分子フィルムからのガス発生が抑えられ、厚いフィルムを使用したのと同じような欠点が生じるからである。
【００２１】
上記のような予備的な熱処理工程を経て炭素質フィルムを製造した後、複数枚の炭素質フィルムを重ねて、昇温工程を経て加熱圧着工程である成形工程を行い、炭素質のグラファイト化を進行させて、面に平行に配向されたグラファイト結晶を有する所定の面形状に成形されたグラファイト面状体が製造される。
【００２２】
この昇温工程及び成形工程では、圧力制御と温度制御とが重要である。すなわち、この昇温工程及び成形工程では、熱処理中に炭素質フィルムに発生するシワや歪みを取り除きながら圧着することが必要である。そのような処理条件を研究した結果、昇温工程または成形工程における昇温過程において２２００℃以下の温度領域では、炭素質フィルムの割れを防止するために１．９６ＭＰａ以下の圧力であることが望ましいが、あまり小さい圧力ではシワが発生する。この圧力は０．９８ＭＰａ以上であれば有効である。また、圧力を急激に加えず徐々に加えるようにすれば、割れを防ぐ上でより有効である。昇温後２２００℃以上の温度領域では、完全な圧着を実現するために１．９６ＭＰａ以上の圧力であることが望ましいが、０．９８ＭＰａ以上であればよい。
【００２３】
上記のような製造工程を経ることによって、分厚いブロック状をなすとともにロッキング特性が著しく改良された所定のあらかじめ設計された少なくとも１個以上の所定の面形
状をグラファイト面状体を製造することができる。
【００２４】
【作用】
請求項１に係るグラファイト面状体の製造方法では、まず、厚さ１〜４００μｍの高分子フィルムを４００〜２０００℃で熱処理して炭素質フィルムを得る。続いて、得られた炭素質フィルムを少なくとも１枚以上重ねて成形型に入れ、不活性雰囲気中で成形型全体を２０００℃〜３２００℃に昇温しつつ０．９８ＭＰａ以上の圧力で成形する。そして、昇温後に、不活性雰囲気中で炭素質フィルムの少なくとも一部を加熱することで炭素質フィルムを２２００℃以上の温度に維持しつつ０．９８ＭＰａ以上の圧力を加え、グラファイト結晶の配向方向を揃えつつ所定の形状に成形する。ここでも、昇温後の成形時に炭素質フィルムのみを加熱しているので、成形型が高温になりにくく、成形型が軟化しにくい。このため、繰り返して成形型を用いても精度がよいグラファイト面状体を得られる。
【００２５】
請求項２に係るグラファイト面状体の製造方法では、不活性雰囲気の高温炉中で成形型と炭素質フィルムとを昇温しているので、比較的安価な設備で昇温できる。
【００２６】
請求項３に係るグラファイト面状体の製造方法では、成形型と炭素質フィルムとの間に配置された加熱手段により成形型と炭素質フィルムとを昇温しているので、エネルギー効率が高くなりかつ成形型がより軟化しにくい。
【００２７】
請求項４に係るグラファイト面状体の製造方法では、炭素質フィルムに通電することで成形型と炭素質フィルムとを昇温しているので、別にヒータ等の設備を設けることなく昇温できるとともに、エネルギー効率が高くなりかつ成形型がより軟化しにくい。
【００２８】
請求項５に係るグラファイト面状体の製造方法では、レーザ光を炭素質フィルムの端面に照射して炭素質フィルムを部分的に加熱しつつ成形しているので、昇温工程が不要になり、短時間に成形を行える。
【００２９】
請求項６に係るグラファイト面状体の製造方法では、炭素質フィルムの端面に火炎を照射して炭素質フィルムを部分的に加熱しつつ成形しているので、同様に昇温工程が不要になり、簡単な設備で短時間に成形を行える。
【００３０】
【実施例】
（実施例１）
図１は、本発明に係るグラファイト面状体の製造方法の一実施例の実施手順を示す図である。ここでは、グラファイト面状体の一例としてＸ線集光用のトロイダルミラーの製造手順を示している。
【００３１】
図１において、トロイダルミラーは、第１高温炉１と第２高温炉２とを用いて製造される。これらの高温炉１，２はいずれもカーボンヒータ炉である。第１高温炉１は、高分子フィルムを２５００℃まで昇温可能な炉であり、内部に平板状の黒鉛型１０，１１が配置されている。第２高温炉２は、高分子フィルムを熱処理して得られた炭素質フィルム５を３５００℃まで昇温可能な炉であり、内部に炭素質フィルム５を成形するための上下１対の成形型１２，１３が配置されている。
【００３２】
成形型１２，１３は等方性黒鉛製であり、図２に示すように、各成形型１２，１３の成形曲面２１，２２は、型の中心に曲面の重心が配置されるようになっている。これは、上下の圧力を可及的に上下以外の他の方向に分散しないようにして、成形時のグラファイト化の進行に伴い発生する炭素質フィルム５の滑りを抑えるためである。
【００３３】
第２高温炉２の内部には、カーボンヒータ１４が配置されている。カーボンヒータ１４は、スイッチ１５を介して電源１６に接続されている。第２高温炉２の一壁には例えば、石英ガラス製の光学窓１７が設けられている。光学窓１７に面してレーザ照射装置１８が設けられている。レーザ照射装置１８は、ＣＯ2 レーザ光を出射するレーザ源２０と、光学窓１７に面して配置された集光レンズ１９とを有している。集光レンズ１９は、レーザ源２０から照射されたレーザ光を成形された炭素質フィルム５の端面でたとえば５ｍｍ径のスポット光に集光する。また、第２高温炉２にはアルゴンガス発生源２３が連結されており、そこからアルゴンガスが供給される。
【００３４】
このように構成された２つの高温炉１，２を用いて以下の手順でグラファイト面状体が製造される。
【００３５】
まず前述した高分子フィルムを１又は複数枚用意し、それを第１高温炉１内の黒鉛型１０，１１で上下に挟んで、アルゴン気流中で４００〜２０００℃の温度で熱処理して炭素質フィルム５を得る（図１（ａ））。続いて、得られた炭素質フィルム５を１または複数枚重ねて第２高温炉２内の成形型１２，１３に入れる（図１（ｂ））。成形型１２，１３に炭素質フィルム５を入れると、第２高温炉２内にアルゴンガスを充填して成形型１２，１３にたとえば０．９８ＭＰａの圧力を徐々に加えつつ、スイッチ１５を閉じてカーボンヒータ１４により成形型１２，１３全体をたとえば、３０００℃まで昇温する（図１（ｃ））。３０００℃まで全体が昇温すると、圧力を１．９６ＭＰａにしてレーザ源２０を点灯して成形されている炭素質フィルム５の端面にレーザ光を照射して、炭素質フィルム５のみを加熱する。
【００３６】
グラファイト化が進行すると、結晶面の配向方向（ａｂ面方向）で熱伝導率が高くなるので、炭素質フィルム５は端面に照射されたレーザ光によって３２００℃以上に加熱される。このとき、結晶面の配向方向と交差する方向の熱伝導率は低いので、成形型１２，１３にはレーザ光による熱が伝わりにくい。このため、炭素質フィルム５を３０００℃以上に加熱しても成形型１２，１３が高温に加熱されず、成形型１２，１３が軟化しにくくなり、繰り返して成形型を用いても精度がよいグラファイト面状体が得られる。
【００３７】
図３に示すように、８枚のグラファイト面状体６でトロイダルミラー７を構成する場合、得られたグラファイト面状体６の形を整えて太鼓筒状の８分割の保持型８に内壁にそれぞれ貼り付ける。このとき、厚みが厚いグラファイト面状体６が得られた場合には、それを厚み方向に分割して０．５ｍｍ程度の厚みにしてもよい。そして、グラファイト面状体６が張りつけられた８つの保持型８を組み立てる。なお、保持型８には、図示しない係合手段がそれぞれ設けられており、組み立て時に、内壁がトロイダル曲線となるようになっている。
【００３８】
（実施例２）
上述の実施例ではレーザ照射装置で炭素質フィルム５を部分的に加熱したが、ガスバーナによって昇温加熱してもよい。
【００３９】
図４において、第２高温炉２には、アルゴンガス発生源２３に加えて、排気装置２４が連結されている。また、第２高温炉２には、成形中の炭素質フィルム５の端面を加熱するためのガスバーナ２５の先端が突出している。ガスバーナ２５には、酸素ガスと燃料ガス（アセチレンガス等）との混合ガスが供給されている。排気装置２４は、燃焼後のガスを排気して第２高温炉２中をアルゴンガス雰囲気に保つためのものである。
【００４０】
このような製造装置でグラファイト面状体を製造する場合、まず前述した高分子フィル
ムを１又は複数枚用意し、それを第１高温炉１内の黒鉛型１０，１１で上下に挟んで、アルゴン気流中で４００〜２０００℃の温度で熱処理して炭素質フィルム５を得る（図４（ａ））。続いて、得られた炭素質フィルム１を１または複数枚重ねて第２高温炉２内の成形型１２，１３に入れる（図４（ｂ））。成形型１２，１３に炭素質フィルム５を入れると、成形型１２，１３にたとえば０．９８ＭＰａの圧力を徐々に加えつつ、スイッチ１５を閉じてカーボンヒータ１４により成形型１２，１３全体をたとえば、３０００℃まで昇温する（図４（ｃ））。３０００℃まで全体が昇温すると、圧力を１．９６ＭＰａにしてガスバーナ２５を点火して成形されている炭素質フィルム５の端面に火炎を照射して、炭素質フィルム５のみを加熱する。
【００４１】
グラファイト化が進行すると、結晶面の配向方向（ａｂ面方向）で熱伝導率が高くなるので、炭素質フィルム５は端面に照射された火炎によって３２００℃以上に加熱される。このとき、結晶面の配向方向と交差する方向の熱伝導率は低いので、成形型１２，１３には火炎による熱が伝わりにくい。このため、炭素質フィルム５を３０００℃以上に加熱しても成形型１２，１３が高温に加熱されず、成形型１２，１３が軟化しにくくなり、繰り返して成形型を用いても精度がよいグラファイト面状体が得られる。
【００４２】
（実施例３）
上述の実施例では、レーザ光や火炎により炭素質フィルム５を部分的に加熱したが、ヒータにより部分的に加熱してもよい。
【００４３】
図５において、成形型１２，１３の成形面にはヒータ３０，３１がそれぞれ配置されている。また、第２高温炉２には、成形中の炭素質フィルム５の端面を加熱するためのガスバーナ２５の先端が突出している。ヒータ３０，３１は、高配向性グラファイト製であり、配向方向は成形面に沿った方向である。ヒータ３０，３１にはスイッチ３２を介して電源３３が接続されている。
【００４４】
このような製造装置でグラファイト面状体を製造する場合、まず前述した高分子フィルムを１又は複数枚用意し、それを第１高温炉１内の黒鉛型１０，１１で上下に挟んで、アルゴン気流中で４００〜２０００℃の温度で熱処理して炭素質フィルム５を得る（図５（ａ））。続いて、得られた炭素質フィルム５を１または複数枚重ねて第２高温炉２内の成形型１２，１３に入れる（図５（ｂ））。成形型１２，１３に炭素質フィルム５を入れると、成形型１２，１３にたとえば０．９８ＭＰａの圧力を徐々に加えつつ、スイッチ１５を閉じてカーボンヒータ１４により成形型１２，１３全体をたとえば、３０００℃まで昇温する（図５（ｃ））。このとき、図６（ｃ）に示すように、スイッチ３２も閉じカーボンヒータ１４とヒータ３０，３１とで昇温してもよい。３０００℃まで全体が昇温すると、圧力を１．９６ＭＰａにしてスイッチ１５を開き、スイッチ３２を閉じて炭素質フィルム５のみをヒータ３０，３１によって加熱する。なお、昇温工程でスイッチ３２を閉じている場合には、スイッチ１５を開くだけでよい。
【００４５】
ここでは、炭素質フィルム５を３０００℃以上に加熱しても成形型１２，１３が高温に加熱されず、成形型１２，１３が軟化しにくくなり、繰り返して成形型を用いても精度がよいグラファイト面状体が得られる。
【００４６】
（実施例４）
実施例３では、ヒータを設けて炭素質フィルム５を部分的に加熱したが、グラファイトの特性を利用して、炭素質フィルム５に直接通電して炭素質フィルム５を部分的に加熱してもよい。
【００４７】
図７において、成形型１２，１３に挟まれた、炭素質フィルム５には成形時に電源３３がスイッチ３２を介して接続されている。なお、この接続位置は、炭素質フィルム５の端面であればどこでもよい。
【００４８】
このような製造装置でグラファイト面状体を製造する場合、まず前述した高分子フィルムを１又は複数枚用意し、それを第１高温炉１内の黒鉛型１０，１１で上下に挟んで、アルゴン気流中で４００〜２０００℃の温度で熱処理して炭素質フィルム５を得る（図７（ａ））。続いて、得られた炭素質フィルム５を１または複数枚重ねて第２高温炉２内の成形型１２，１３に入れる（図７（ｂ））。成形型１２，１３に炭素質フィルム５を入れると、炭素質フィルム５を電源３３に接続し、成形型１２，１３にたとえば０．９８ＭＰａの圧力を徐々に加えつつ、スイッチ１５を閉じてカーボンヒータ１４により成形型１２，１３全体をたとえば、３０００℃まで昇温する（図７（ｃ））。このとき、図８（ｃ）に示すように、スイッチ３２も閉じカーボンヒータ１４で昇温するとともに、自身を加熱してもよい。３０００℃まで全体が昇温すると、圧力を１．９６ＭＰａにしてスイッチ１５を開き、スイッチ３２を閉じて炭素質フィルム５のみを加熱する。なお、昇温工程でスイッチ３２を閉じている場合には、スイッチ１５を開くだけでよい。
【００４９】
ここでは、炭素質フィルム５を３０００℃以上に加熱しても成形型１２，１３が高温に加熱されず、成形型１２，１３が軟化しにくくなり、繰り返して成形型を用いても精度がよいグラファイト面状体が得られる。
【００５０】
（実験例）
ＰＯＤフィルム（厚み４，２５，１００，４５０μｍ）を１００℃で熱処理して炭素質フィルムを製造した後、それぞれの厚みのフィルムを１０枚ずつ重ねて昇温工程を行う。昇温工程で、２２００℃までは０．９８ＭＰａの圧力を加え、２２００℃以上になると１．９６ＭＰａの圧力を印加し、続いて、炭素質フィルム５に部分的に熱を加え、３２００℃で一定時間処理を行ってグラファイト面状体を得た。この工程を繰り返して、８個のグラファイト面状体を得て、それにより図３に示すトロイダルミラー７を製作した。
【００５１】
この実験例において、グラファイト化の程度を評価するために、ロッキング特性を測定しており、これらの物性の測定条件は下記のとおりである。
【００５２】
理学電機社製ロータフレックスＲＵ−２００Ｂ型Ｘ線回析装置を用い、グラファイト（０００２）線のピーク位置におけるロッキング特性とした。そのロッキング特性は、０．６°（４μｍ）、０．８°（２５μｍ）、１．５°（１００μｍ）、１．８°（４５０μｍ）となり、ロッキング特性の著しい向上が認められた。
【００５３】
また、同じ成形型を繰り返して用いても成形後の寸法のばらつきが少なく、得られたトロイダルミラー７は、所望の性能を発揮した。
【００５４】
（他の実施例）
（ａ）  本発明方法は、グラファイト面状体としてのトロイダルミラーの製造に限定されるものではなく、他の曲面，平面形状のミラーや放熱板、反射板等のグラファイト面状体の製造にも適用できる。
（ｂ）  第１高温炉１と第２高温炉２とを共用してもよい。
（ｃ）  本発明のフィルムの熱処理は導電性が得られるまで加熱処理し、その後通電により炭素質フィルムを得てもよい。
【００５５】
【発明の効果】
請求項１に係るグラファイト面状体の製造方法では、昇温後の成形時に炭素質フィルムのみを加熱しているので、成形型が高温になりにくく、成形型が軟化しにくい。このため、繰り返して成形型を用いても精度がよいグラファイト面状体を得られる。
【００５６】
請求項２に係るグラファイト面状体の製造方法では、不活性雰囲気の高温炉中で成形型と炭素質フィルムとを昇温しているので、比較的安価な設備で昇温できる。
【００５７】
請求項３に係るグラファイト面状体の製造方法では、成形型と炭素質フィルムとの間に配置された加熱手段により成形型と炭素質フィルムとを昇温しているので、エネルギー効率が高くなりかつ成形型がより軟化しにくい。
【００５８】
請求項４に係るグラファイト面状体の製造方法では、炭素質フィルムに通電することで成形型と炭素質フィルムとを昇温しているので、別にヒータ等の設備を設けることなく昇温できるとともに、エネルギー効率が高くなりかつ成形型がより軟化しにくい。
【００５９】
請求項５に係るグラファイト面状体の製造方法では、レーザ光を炭素質フィルムの端面に照射して炭素質フィルムを部分的に加熱しつつ成形しているので、昇温工程が不要になり、短時間に成形を行える。
【００６０】
請求項６に係るグラファイト面状体の製造方法では、炭素質フィルムの端面に火炎を照射して炭素質フィルムを部分的に加熱しつつ成形しているので、同様に昇温工程が不要になり、簡単な設備で短時間に成形を行える。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明方法の一実施例の実施手順を示す模式図
【図２】成形型の形状を示す側面および正面図
【図３】トロイダルミラーの斜視図
【図４】  実施例２の実施手順を示す模式図
【図５】  実施例３の実施手順を示す模式図
【図６】  実施例３の変形例の実施手順を示す模式図
【図７】  実施例４の実施手順を示す模式図
【図８】  実施例４の変形例の実施手順を示す模式図
【符号の説明】
１  第１高温炉
２  第２高温炉
５  炭素質フィルム
６  グラファイト面状体
１２，１３  成形型
１４  カーボンヒータ
１８  レーザ照射装置
２３  アルゴンガス発生源
２５  ガスバーナ
３０，３１  ヒータ
【図１】
0003611892.tif 000006
【図２】
0003611892.tif 000007
【図３】
0003611892.tif 000008
【図４】
0003611892.tif 000009
【図５】
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【図６】
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【図７】
0003611892.tif 000012
【図８】
0003611892.tif 000013