(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機高分子からなる基板の少なくとも一方の面の最表面に透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体において、基板側から順に、（Ａ１）屈折率が１．７から透明導電層の屈折率＋０．３の範囲にあり膜厚が２０〜９０ｎｍの範囲にある層（Ｈ1層）、（Ｂ１）屈折率が１．３５〜１．５の範囲にあり膜厚が３０〜１１０ｎｍの範囲にある層（Ｌ1層）、（Ｃ）膜厚が１２〜３０ｎｍの範囲にある透明導電層、が積層されており、（Ｄ）該３層の光学膜厚の和が１８０〜２３０ｎｍの範囲であり、（Ｆ）該透明導電層の積層面の波長４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率が５．５％以下であって、かつ（Ｇ）該積層体の透過光の日本工業規格Ｚ８７２９号に定めるＬ*ａ*ｂ*表色系のクロマティクネス指数ｂ*値が０〜２の範囲にあることを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項２】
Ｈ1層および／またはＬ1層が、主として金属アルコキシドを加水分解および縮合してなる層であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性積層体。
【請求項３】
Ｌ1層が主としてケイ素アルコキシドを加水分解ならびに縮合してなる層であり、Ｈ1層が主としてチタニウムアルコキシドおよび／またはジルコニウムアルコキシドを加水分解ならびに縮合してなる層であることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の透明導電性積層体。
【請求項４】
有機高分子からなる基板の片面もしくは両面に樹脂架橋層からなる保護層が積層されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電性積層体。
【請求項５】
二枚の透明電極基板が電極面を相対して配置される透明タブレットにおいて、少なくとも一方の透明電極基板として請求項１〜４に記載の透明導電性積層体を用いたことを特徴とする透明タブレット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機高分子からなる基板の少なくとも一方の面上に、基板側から光学干渉性を有する層と透明導電層がこの順に積層されてなる光の透過率の極めて高い透明導電性積層体に関するものであり、更にはこの透明導電性積層体を少なくとも一方の透明電極基板として用いた透明タブレットに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報表示用の液晶ディスプレーと情報入力用の透明タブレット（タッチスイッチ、タッチパネル、フラットスイッチとも称される）を搭載した携帯型の情報機器が広く使用され始めている。透明タブレットとして多く用いられている抵抗膜方式の透明タブレットは、透明導電層が形成された二枚の透明電極基板がおよそ１０μｍ前後の間隔で相対させて構成されており、外力を加えた部分のみで両電極が接触してスイッチとして動作するものであり、例えばディスプレー画面上のメニューの選択あるいは図形や手書き文書の入力等を行なうことができる。
【０００３】
このような透明電極基板としては、ガラスや各種の熱可塑性高分子フィルム等の基板上に、例えば酸化錫を含有するインジウム酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛等の金属酸化物による透明導電層を積層したものが広く用いられている。
【０００４】
さて、ここで透明タブレットは液晶表示装置、ＣＲＴ等の各種のディスプレー上に配置される場合が多いが、透明タブレットを光が通過する際の光の反射率や吸収率が大きいとディスプレー表示画面のコントラストや輝度の低下をもたらすので好ましくない。
【０００５】
また前記の基板上に透明導電層のみを一層積層した場合、基板と透明導電層間および透明導電層と空気間との二つの界面での反射光の光干渉や、透明導電層自体の光吸収等に起因して、透明電極基板を透過する光に着色が観られる場合が多い。例えば、現在透明タブレットの用途では透明導電層の膜厚がおよそ２０〜３０ｎｍ程度のものが広く用いられており、透過光には若干茶色がかった着色が観られる場合が多いが、こうした着色の程度が著しい場合にはディスプレー表示画面の色相の変化をもたらすので好ましくない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
前者の透明電極表面の反射率を低減する方法として透明導電層の下地に適当な光学干渉性を有する層（以下光学干渉層と記す）を積層する方法の提案が本出願人のいくつかの出願特許、例えば、特許第１８１５７５０号公報、特開平８−２１６３２７号公報、特開平１０−２４５１６号公報等において為されているが、後者の透明導電基板の透過光の着色現象については、必ずしも十分に抑制できているとは言えなかった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、光学干渉層と透明導電層とが特定の関係を満足することにより、上記問題点を解決できることを見出した。
【０００８】
すなわち本発明は、有機高分子からなる基板の少なくとも一方の面の最表面に透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体において、基板側から順に、（Ａ１）屈折率が１．７から透明導電層の屈折率＋０．３の範囲にあり膜厚が２０〜９０ｎｍの範囲にある層（Ｈ1層）、（Ｂ１）屈折率が１．３５〜１．５の範囲にあり膜厚が３０〜１１０ｎｍの範囲にある層（Ｌ1層）、（Ｃ）膜厚が１２〜３０ｎｍの範囲にある透明導電層、が積層されており、（Ｄ）該３層の光学膜厚の和が１８０〜２３０ｎｍの範囲であり、（Ｆ）該透明導電層の積層面の波長４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率が５．５％以下であって、かつ（Ｇ）該積層体の透過光の日本工業規格Ｚ８７２９号に定めるＬ*ａ*ｂ*表色系のクロマティクネス指数ｂ*値がそ０〜２の範囲にあることを特徴とする透明導電性積層体によって達成される。
【００１１】
【発明の実施の形態】
すなわち前述のように透明タブレット内部の反射率を低減し、無彩色もしくはそれに近い透過光の色彩を得る目的においては、透明導電性積層体の透明導電層が積層された表面の波長４５０〜６５０ｎｍの平均反射率が５．５％以下であり、かつ透明導電性積層体の透過光の、日本工業規格（ＪＩＳ規格）のＺ８７２９に定める所のＬ*ａ*ｂ*表色系のクロマティクネス指数ｂ*値が０〜２の範囲、好ましくは０〜１．５の範囲にあることが重要である。透明導電性積層体の透過光のｂ*値が２．０を超えると透過光に黄色味を帯びた着色が著しくなって外観が悪化する傾向にあり、また０未満の負の値となる場合には積層体の全光線透過率が著しく低下する傾向にあるからである。
【００１２】
本発明においては、この透過光の色彩測定に用いる光の種類としては日本工業規格のＺ８７２０に定める標準の光Ｄ６５を用いるものとし、平均反射率に関しては視感度補正を施さない単純な平均値を用いるものとする。
【００１３】
これら色彩や透明導電層表面の反射率等は、積層体の透明性が高い場合すなわち積層体の光吸収が少ない場合において、透明導電層と光学干渉層の各層界面で発生する反射光の相互干渉の条件、すなわち各層の膜厚と屈折率および各層の積層順序等により様々に変化する。
【００１４】
具体的に前記の好ましい色彩を実現するには、透明導電性積層体の透過光の可視域の透過率が波長４５０〜５３０ｎｍの範囲内に極大点を有している事が好ましく、同時に高い透過率を得る観点から、波長４７０〜５３０ｎｍの範囲内に極大点を有している事がより好ましい。
【００１５】
そして、このような透過光のスペクトルを得るためは、透明導電層の表面の反射率が波長４３０〜５１０ｎｍであることが好ましく、４５０〜５１０ｎｍの領域内に極小点を有する事がより好ましい。本発明の透明導電性積層体は、有機高分子からなる基板上に、光学干渉層があり、さらにその上に透明導電層が形成されてなる。すなわち、少なくとも基板側から、（Ａ１）Ｈ1層： 屈折率が、１．７以上で透明導電層の屈折率より０．３大きい屈折率以下の範囲にあり、かつ膜厚が、２０〜９０ｎｍの範囲にある、（Ｂ１）Ｌ1層：屈折率が１．３５〜１．５の範囲にあり、かつ膜厚が３０〜１１０ｎｍの範囲にある、（Ｃ）透明導電層：膜厚が１２〜３０ｎｍの範囲にある、とがこの順に積層されている。Ｈ1層およびＬ1層の屈折率が前記範囲を外れた場合には、Ｌ1層上に積層されている透明導電層の表面の反射率を減じる効果が低下してしまうので好ましくない。
【００１６】
そして上記透明導電性積層体は、（Ｄ）該３層の光学膜厚の和が１８０〜２３０ｎｍである。ここで、光学膜厚とは、層の屈折率と膜厚を乗じた値であり、Ｈ１層とＬ１層と透明導電層との光学膜厚の和が１８０〜２３０ｎｍになるような組み合わせで三つの層を積層することにより、色彩が良好で反射率の低い透明導電性積層体を得ることができる。
【００１７】
またＬ１層表面の反射率は波長２６０〜３９０ｎｍの領域内に極小点を有することが好ましい。
【００１８】
本発明の透明導電性積層体における透明導電層としては、主として金属酸化物からなる層が好ましく用いられ、タブレットの消費電力の低減と回路処理上の必要等から、前記の膜厚１２〜３０ｎｍにおいて表面抵抗値が１００〜２０００Ω／□、より好ましくは１５０〜２０００Ω／□の範囲を示す透明導電層を用いることが好ましい。尚、透明導電層の膜厚が１２ｎｍ未満では抵抗値の経時安定性に劣る傾向があり、また３０ｎｍを超えると光学干渉層を積層した場合でも透明導電層の反射率が著しく大きくなるので好ましくない。
【００１９】
具体的には例えば、錫酸化物やインジウム酸化物、酸化亜鉛、酸化ガリウム等による層およびそれらを適当な割合で混合した材料による層が好ましく用いられ、これらの層に更に酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の１種または２種以上を数重量％程度の割合で添加した材料による層が好ましく用いられる。
【００２０】
これら透明導電層は、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の公知の真空製膜プロセスを用いて積層することができる。中でも幅方向、長さ方向での膜厚均一性、組成均一性の面からはスパッタリング法が好ましい。
【００２１】
上記透明導電性積層体における光学干渉層は、前記Ｈ１層とＬ１層とからなり、基板上に、前記のＨ１層とＬ１層とを順に積層してなる。Ｈ１層は、（Ａ）屈折率が１．７から透明導電層の屈折率より０．３大きい屈折率の範囲にあり膜厚が２０〜９０ｎｍであり、Ｌ１層は、（Ｂ）屈折率が１．３５〜１．５の範囲にあり膜厚が３０〜１１０ｎｍの範囲にある。かかるＨ１層とＬ１層を積層してなるものの他にも、例えばＨ１層とＬ１層の積層に加えてＨ１層に接して基板側に、屈折率が約１．５以下で膜厚が３０〜１００ｎｍの層（Ｌ’層）や、Ｈ１層と基板（光学干渉層の下地となる層）との中間の屈折率を有し、膜厚が３０〜１００ｎｍの層（Ｍ層）等の光学干渉層を設け３層構成としてもよい。
【００２２】
上記光学干渉層の下地となる有機高分子からなる基板や後述の保護層等と、光学干渉層のうちで下地に接して用いられる層とは、それらの界面の屈折率差が好ましくは０．１以上、より好ましくは０．１５以上あることが光学干渉層の高い光学干渉効果発現および透明導電層表面の低反射化のために好ましい。
【００２３】
これらの光学干渉層は、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の各種の真空製膜プロセスや、マイクログラビヤコート法、マイヤーバーコート法、ダイレクトクラビヤコート法等に代表される各種ロールコーティング法やナイフコート法、カーテンコート法、スピンコート法、スプレーコート法等の湿式コーティング法、およびそれらの併用により作成が可能である。
【００２４】
より具体的には、真空製膜プロセスを用いて作成された各種無機誘電体層、例えばＭｇＦ２、ＳｉＯ２、ＣａＦ２、ＮａＦ、Ｎａ３ＡｌＦ６、ＬｉＦ、Ａｌ２Ｏ３、ＣｅＦ４、ＬａＦ３、ＮｄＦ３、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＰｂＦ３、ＴｈＯ２、ＺｒＯ２、ＺｎＳ、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｎｄ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３等およびそれらの混合物からなる層や、湿式コーティング法を用いて作成された樹脂架橋層、例えば、ケイ素、チタニウム、ジルコニウム、錫、タンタル、インジウム等の金属アルコキシドの単体あるいはそれらの混合物を、加水分解ならびに脱水縮合してなる樹脂架橋層や、数十ｎｍ以下の粒径の各種金属酸化物の微粒子が分散された樹脂架橋層等を例示することができる。
【００２５】
これら例示した各種の光学干渉層に関し、その内でも高い生産性を得る観点からは、前記の湿式コーティング法による樹脂架橋層による光学干渉層を用いることが特に好ましく、さらに、湿式コーティングによる樹脂架橋層の中でも、層の機械的強度や安定性、透明導電層や基板等との密着性等に優れているといった観点から、金属アルコキシド、特にチタニウム、ジルコニウムあるいはケイ素のアルコキシドからなる架橋層を用いることが最も好ましい。ここで、チタニウムとジルコニウムのアルコキシドの架橋層は、光学干渉層において屈折率が約１．６以上、場合によっては約１．７以上となる高屈折率層として機能するものであり、ケイ素アルコキシドの架橋層は、光学干渉層において屈折率が約１．５以下の低屈折率層として機能するものである。
【００２６】
チタニウムアルコキシドとしては、例えばチタニウムテトライソプロポキシド、テトラーｎープロピルオルトチタネート、チタニウムテトラーｎーブトキシド、テトラキス（２ーエチルヘキシルオキシ）チタネート等が例示され、また、ジルコニウムアルコキシドとしては、例えばジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラーｎーブトキシド等が例示される。
【００２７】
ケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が例示される。
【００２８】
これらのケイ素アルコキシドは必要に応じて、層の機械的強度や密着性および耐溶剤性等の観点から二種類以上を混合して用いることが好ましい場合が多く、特にケイ素アルコキシドの全組成中に重量比率０．５〜６０％の範囲で、分子内にアミノ基を有するケイ素アルコキシドが含有されていることが好ましい。
【００２９】
これらの金属アルコキシドは、モノマーで用いても、あらかじめ加水分解と脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化して用いても良いが、通常、適当な有機溶媒に溶解、希釈した塗液を基板上に塗工する。基板上に形成された塗膜は、空気中の水分等により加水分解が進行し、続いて脱水縮合により架橋が進行する。
【００３０】
一般に、架橋の促進には適当な加熱処理が必要であり、湿式コーティングのプロセスにおいて１００℃以上の温度で数分以上の熱処理を施すことが好ましい。また、場合によっては、前記の熱処理と並行して、紫外線等の活性光線を塗膜に照射する事により、架橋性をより高めることができる。
【００３１】
希釈溶剤としては、アルコール系、炭化水素系の溶剤、例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン等が好適であるが、この他にも、キシレン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチル等の極性溶媒も使用可能である。これらのものは単独あるいは二種以上の混合溶剤として用いることができる。
【００３２】
さて本発明の透明導電積層体を構成する有機高分子からなる基板については特に限定されるものではないが、該基板の透明性は高い事が好ましく、具体的に波長４５０〜６５０ｎｍの領域の透過率の平均値が少なくとも８０％以上、より好ましくは８５％以上あることが好ましい。
【００３３】
本発明の透明導電性積層体を透明タブレットを構成する一対の透明電極基板のうちの入力側の透明電極基板（可動電極基板）に用いる場合、ペン等の外部入力に対して適度に変形するようにある程度の可撓性がある基板を与える有機高分子が好ましい。この為、かかる基板としては、熱可塑性高分子からなるフィルム状の成形基板が好適に用いられる。具体的には、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルフォン、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、各種のポリオレフィン、およびこれらの変性物あるいはこれらと別種材料との共重合物等が好ましく例示される。これらフィルム状の成形基板は一般的な溶融押し出し法もしくは溶液流延法等により好適に成形されるが、必要に応じて成形したフィルム状の基板に一軸延伸もしくは二軸延伸を施して機械的強度を高めたり、光学的機能を高めたりする事も好ましく行われる。
【００３４】
このようにして得られ、可動電極基板として好適な該基板の厚みは、およそ１０〜４００μｍ、より好ましくは２０〜２００μｍの範囲にある事がタブレットの動作特性、軽薄性、軽量性の観点等から好ましい。
【００３５】
また本発明の透明導電性積層体を前記可動電極基板と相対して用いられる透明電極基板（固定電極基板）に用いる場合には、必ずしも可撓性が高い必要はなく、タブレットの使用形態によってはむしろ外力に対する変形の少ない特性（剛直性の高さ）が必要となる場合もある事から、前記の熱可塑性高分子からなるフィルム状の成形基板の他に、同様の熱可塑性高分子もしくはエポキシ系、アクリル系等の各種材料の熱硬化物およびまたは紫外線硬化物等によるシート状の成形基板も好適に用いる事ができる。尚、こうしたシート状の成形基板の成形方法としては、溶融押し出し法、溶液流延法、射出成形法、注型重合成形法等が挙げられる。
【００３６】
また場合によっては前記フィルム状の成形基板の透明電極面と反対側の面に、該基板と別種の、透明電極が形成されていないフィルム状もしくはシート状の成形基板を貼り付けて裏打ちした構成の電極基板等も好ましく用いられる。
【００３７】
このようにして得られ、固定電極基板として好適な該電極基板の厚みはおよそ１０〜２０００μｍ、より好ましくは５０〜１０００μｍ、最も好ましくは７０〜７００μｍの範囲にある事が好ましい。
【００３８】
最近ではタブレットの入力側（使用者側）の面に偏光板を積層する構成の新しいタイプの透明タブレットが開発されてきている。この構成の利点は主として前記偏光板の光学作用によって、タブレット内部における外来光の反射率を半分以下に低減できる事にある。
【００３９】
上記基板を、このようなタイプのタブレットに用いる場合には透明電極基板を偏光が通過する事から、基板としてより光学等方性に優れた特性を有するものを用いることが好ましく、具体的に基板の遅相軸方向の屈折率をｎｘ、進相軸方向の屈折率をｎｙ、基板の厚みをｄ（ｎｍ）とした場合にＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）で表される面内リタデーションＲｅが少なくとも３０ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。尚、ここで基板の面内リタデーションの値は日本分光株式会社製の多波長複屈折率測定装置（商品名「Ｍ−１５０」）を用いた波長５９０ｎｍでの測定値に代表させている。
【００４０】
これら光学等方性に優れた特性を示す有機高分子としては、例えば、ポリカーボネートや非晶性ポリアリレート、ポリエーテルスルフォン、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、非晶性ポリオレフィンおよびこれらの変性物もしくは別種材料との共重合物等、エポキシ系、アクリル系等の有機材料の熱硬化成形物や紫外線硬化成形物等が好ましいが、成形性や製造コスト、熱的安定性等の観点から、ポリカーボネート、非晶性ポリアリレート、非晶性ポリオレフィンおよびこれらの変性物もしくは別種材料との共重合物等が最も好ましく挙げられる。
【００４１】
より具体的には、ポリカーボネートとしては例えば、ビスフェノールＡ、３，３，５−１，１−ジ（４−フェノール）シクロヘキシリデンおよびまたは３，３，５−トリメチル−１，１−ジ（４−フェノール）シクロヘキシリデン、フルオレン−９，９−ジ（４−フェノール）、フルオレン−９，９−ジ（３−メチル−４−フェノール）等のビスフェノール成分の単独もしくは共重合からなる平均分子量がおよそ３００００〜１０００００の範囲のポリカーボネート（商品としては帝人化成製「パンライト」やバイエル製「Ａｐｅｃ  ＨＴ」等が例示される）が好ましく例示される。
【００４２】
また非晶性ポリアリレートとしては、商品として鐘淵化学製「エルメック」、ユニチカ製「Ｕポリマー」、イソノバ製「イサリル」等が例示される。
【００４３】
また非晶性ポリオレフィンとしては、商品として日本ゼオン製「ゼオネックス」や日本合成ゴム製「アートン」等が例示される。
【００４４】
またこれらの有機高分子材料からなる基板の成形方法としては、溶融押し出し法や溶液流延法、射出成型法等の方法が例示されるが、優れた光学等方性を得る観点からは、特に溶液流延法を用いて成形を行なうことが好ましい。
【００４５】
偏光が通過するタイプのタブレットの用途においては、上記基板の面内リタデーションの値が非常に重要であるが、これに加えて上記基板の三次元屈折率特性、すなわち基板の膜厚方向の屈折率をｎｚとした時にＫ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表されるＫ値が少なくとも−２５０〜＋１５０ｎｍ、より好ましくは−２００〜＋１００ｎｍの範囲にある事がタブレットの視認性の高い視野角特性を得る上で好ましい。
【００４６】
ところで上記有機高分子からなる基板の耐溶剤性およびまたはハードコート性が使用用途で要求される性能に対して不十分である場合には、基板の片面もしくは両面に前記特性を向上させる機能を有するような保護層を積層する事が好ましい。ここで保護層上に光学干渉層と透明導電層が積層される場合には、前述のように保護層の屈折率は光学干渉層の接する界面の屈折率差が少なくとも０．１以上ある事が低反射性を得る観点から好ましい。
【００４７】
ここで耐溶剤性については主にタブレットの作成工程において必要である事から、その作成の方法によって必要となる特性の基準も若干異なるが、おおよそ以下のような耐溶剤性が必要になる。すなわち前述のように基板上に保護層を積層する場合には基板上でこのような耐溶剤性を発現する保護層を積層する事が好ましい。
【００４８】
耐有機溶剤性：タブレット作成時に透明導電層上に印刷が行われる銀ペーストの溶剤として代表されるトルエン（和光純薬工業社製、特級）をサンプル面に数滴滴下し、２５℃で３分間放置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化を目視にて観察し、変化が確認されない場合に耐有機溶剤性を有すると判定する。
【００４９】
耐アルカリ性水溶液性：透明導電層のパターニング時のレジスト溶解に用いる３．５ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液をサンプル面に数滴滴下し、２５℃で３分間放置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化を目視にて観察し、変化が確認されない場合に耐アルカリ性水溶液性を有すると判定する。
【００５０】
耐酸性水溶液性：透明導電層のパターニングに用いるエッチング液（３５ｗｔ％塩化第２鉄水溶液、３５ｗｔ％塩酸、水を１：１：１０の割合で混合したもの）をサンプル面に数滴滴下し、２５℃で３分間放置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化を目視にて観察し、変化が確認されない場合に耐酸性水溶液性を有すると判定する。
【００５１】
尚、透明タブレットの用途においてはハードコート性は必須の特性項目ではないが、タブレットへの繰り返し入力に対する耐久性を高める目的、特に透明導電層の抵抗値やリニアリティの変化、タブレットの安定入力荷重値（ＯＮ荷重値）の増加、およびペン等によるタブレットへの入力に対する基板表面の傷付き、変形等を抑制する目的において、ハードコート性が高い事が好ましい場合が多い。
【００５２】
これら耐久性を高める観点からハードコート性としては、日本工業規格Ｋ５４００に定める所の鉛筆硬度が少なくとも２Ｂ以上、より好ましくはＦ以上、最も好ましくは２Ｈ以上である事が好ましい。すなわち前述のように基板上に保護層を積層する場合には基板上でこのようなハードコート性を発現する保護層を積層する事が好ましい。
【００５３】
このような特性を有する保護層としては樹脂架橋層、例えば、アクリル系樹脂の放射線架橋層やフェノキシ系樹脂の熱架橋層、エポキシ系樹脂の熱架橋層およびケイ素アルコキシドの熱架橋層等の各種樹脂架橋層が挙げられる。これらの中でも、アクリル系樹脂の放射線架橋層は、放射線の照射により比較的短時間に架橋度の高い層が得られる事から、製造プロセスへの負荷が少ない特徴があり、最も好ましく用いられる。
【００５４】
放射線架橋型樹脂は、紫外線や電子線等の放射線を照射する事によって架橋が進行する樹脂を指し、単位構造内に２個以上のアクリロイル基を有する多官能アクリレート成分を樹脂組成中に含有するアクリル系樹脂が挙げられる。例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート等の各種アクリレートモノマーや、ポリエステル変性もしくはウレタン変性、エポキシ変性の多官能アクリレートオリゴマー等が本用途に好ましく用いられる。これらの樹脂は単独の組成で用いても、数種の混合組成で用いても良く、また場合によっては、各種ケイ素アルコキシドの加水分解物を組成中に適量添加することも好ましく行われる。
【００５５】
なお、紫外線照射によって樹脂層の架橋を行う場合には公知の光反応開始剤が適量添加される。光反応開始剤としては、例えばジエトキシアセトフェノン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸等のベンゾフェノン系化合物；チオキサンソン、２、４−ジクロロチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物等が挙げられる。
【００５６】
また、フェノキシ系樹脂の熱架橋層としては、下記式（１）で示されるフェノキシ樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂を多官能イソシアネート化合物で熱的に架橋させた層が挙げられる。
【００５７】
【化１】
0003626624.tif 000002
【００５８】
ここでＲ１〜Ｒ６は、同一または異なる水素または炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ７は炭素数２〜５のアルキレン基、Ｘはエーテル基、エステル基、ｍは０〜３の整数、ｎは２０〜３００の整数をそれぞれ意味する。そうした中でも特にＲ１、Ｒ２はメチル基、Ｒ３〜Ｒ６は水素、Ｒ７はペンチレン基のものが、合成が容易で生産性の面から好ましい。
【００５９】
また、多官能イソシアネート化合物としては、一分子中にイソシアネート基を二つ以上含有する化合物であれば良く、以下のものが例示される。２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロールプロパンアダクト体、ｔ−シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネ−ト、水添ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン、ビシクロヘプタントリイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシアネートおよびそれらの混合物あるいは多価アルコール付加体等。この中でも特に汎用性、反応性の観点から２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートが好ましい。
【００６０】
この他、反応促進剤として、公知のトリエチレンジアミン等の第三アミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機錫化合物を適量添加する事で架橋速度を向上することが可能である。
【００６１】
また、エポキシ系樹脂の熱架橋層としては、各種のものが使用できるが、その中でも、下記式（２）で示されるノボラック型のエポキシ樹脂を熱的に架橋させた層が好ましい。
【００６２】
【化２】
0003626624.tif 000003
【００６３】
ここで、Ｒ８は水素またはメチル基、Ｒ９は水素またはグリシジルフェニルエーテル基を示す。また、ｑは１〜５０までの整数を示すが、実際の所、ｑの値は一般的に分布を持っていて特定しにくいが、平均の数として大きい方が好ましく、３以上さらには５以上が好ましい。
【００６４】
このようなエポキシ樹脂を架橋させる硬化剤としては、公知のものが適用される。例えば、アミン系ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾール、メルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤が用いられる。これらの中でも、酸無水物および脂環族アミン類が好ましく用いられ、さらに好ましくは酸無水物である。酸無水物としては、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの脂環族酸無水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、ドデセニル無水フタル酸等の脂肪族酸無水物が挙げられるが、特にメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。尚、脂環族アミンとしては、ビス（４−アミノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタン、ジアミノシクロヘキシルメタン、イソホロンジアミン等が挙げられ、特にビス（４−アミノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタンが好ましい。
【００６５】
ここで、硬化剤として酸無水物を用いた場合、エポキシと酸無水物との硬化反応を促進する反応促進剤を添加しても良い。反応促進剤としては、ベンジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−１等の公知の第二、第三アミン類やイミダゾール類等の硬化触媒が挙げられる。
【００６６】
また、ケイ素アルコキシドの熱架橋層としては、２〜４官能性、さらに好ましくは３〜４官能性ののケイ素アルコキシドを二種以上混合して用いることが好ましく、これらをあらかじめ溶液中で適度に加水分解ならびに脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化させたものも好ましく用いられる。
【００６７】
使用可能なケイ素アルコキシドの例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が例示される。
【００６８】
これらのケイ素アルコキシドによる層は、熱的に架橋が進行するが、必要に応じて紫外線等の活性光線を塗膜に照射する事によって、架橋度をより高めることができる。
【００６９】
尚、これらの保護層は有機高分子からなる基板上に直接、もしくは適当な中間層を介して積層が為される。こうした中間層としては例えば、保護層と基板との密着性を向上させる機能を有する層や、後述するＫ値が負の三次元屈折率特性を有する層等の各種の位相補償層、基板に加わる応力（垂直応力、水平応力）を緩和する粘弾性特性を有する層、例えば室温付近での貯蔵弾性率がおよそ１ｋｇ／ｍｍ２以下であるような層や、水分や空気の透過を防止する機能もしくは水分や空気を吸収する機能を有する層、紫外線や赤外線を吸収する機能を有する層、基板の帯電性を低下させる機能を有する層等が好ましく挙げられる。
【００７０】
これら保護層の基板への実際のコーティング方法としては、前記の樹脂架橋物の前駆体組成物ならびにフィラー等を各種有機溶剤に溶解して、濃度や粘度を調節した塗液を用いて、被体上に塗工後、放射線の照射や加熱処理等により層を架橋させる。塗工方式としては例えば、マイクログラビヤコート法、マイヤーバーコート法、ダイレクトグラビヤコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、コンマコート法、ダイコート法、ナイフコート法、スピンコート法等の各種塗工方法が用いられる。
【００７１】
さて本発明においては必要に応じて、有機高分子からなる基板の表面もしくは基板上にコーティングされる各種のコーティング層の表面が適度に凹凸化させる事も好ましく行われる。
【００７２】
この一つの目的として、基板もしくは前記各種のコーティング層および透明導電層が積層された積層基板の滑り性を向上させ、基板面と基板面もしくは平板等に密着して動かなくなる現象、いわゆるブロッキング現象を防止する事が挙げられ、電極の焼き付き現象の防止、ロールｔｏロールのプロセスにおける基板の巻き出し性、巻き取り性の向上、もしくは枚葉プロセスにおける加工台（平板）上の取り扱い性等を高める事ができる。
【００７３】
又、もう一つの目的として、透明導電層の表面で反射する光を適度に散乱させる事が挙げられる。すなわち透明導電層の表面の平坦性が高い場合には、透明タブレットとして相対配置される一対の透明電極基板の透明導電層表面の反射光が相互干渉することに起因する光干渉縞（ニュートンリング）が肉眼で観察され、タブレットの視認性が低下してしまう場合があるが、透明導電層の表面が適度に凹凸を有している場合には光干渉縞が不明瞭となり、視認性の低下が抑制できる。
【００７４】
尚、本発明のように光学干渉層が積層される事によって透明導電層表面の反射率の低下が為された場合には、比較的弱い凹凸の程度であっても光干渉縞が効果的に抑制される特長がある。
【００７５】
ここで本発明の透明導電性積層体の場合においては、前記要件に好適な透明導電層表面の表面粗さは、中心線表面粗さＳＲａ値でおよそ０．０２〜０．０５μｍの範囲が好適である。ＳＲａ値が０．０２μｍに満たない場合には、前記の光干渉縞を不明瞭化する効果が不十分になりやすく、逆に０．０５μｍを超える場合には、透明導電層表面での光散乱性が著しく増加し、表示画像のぼやけや積層体透過率の低下等の不利を生じ易い。
【００７６】
更にもう一つの目的として、ペン等による入力が行われる側の基板表面で反射する外来光（太陽光、室内照明光など）を適度に散乱させる事により防眩性を付与する事が挙げられる。すなわちこの入力が為される側の基板表面が平坦である高い場合には、該表面で外来光が正反射するのでいわゆる映り込み現象が発生しやすく、タブレットの視認性が低下してしまう場合が多い。これに対し、該表面が適度に凹凸を有している場合には外来光が該表面で適度に散乱反射され、前記映り込み現象の抑制すなわち防眩性の発現が為される。
【００７７】
尚、この入力が為される側の基板表面に、主に波長４５０〜６５０ｎｍの領域の反射率を減じる機能を有する光学干渉層を積層する事によっても前記の映り込み現象の低減が実現できるので、場合によってはこうした光学干渉層を該表面に積層することも好ましく行われる。この場合には該表面がある程度平坦であっても構わないが、より好ましくは該表面が比較的弱い凹凸を有している事が好ましい。こうした光学干渉層を形成する材料、形成法としては、前述の透明導電層の下地として積層する光学干渉層と同様の材料、形成法が好ましく用いられる。
【００７８】
このように有機高分子からなる基板の表面もしくは基板上にコーティングする保護層や光学干渉層の表面が適度に凹凸化する方法としては各種のものがあるが、例えば凹凸が刻まれた鋳型を用いて前記基板や各種コーティング層を成形および賦形する方法や、エンボス加工やサンドブラスト加工等の機械的加工を加える方法、前記基板や各種コーティング層内に適量の微粒子（フィラー）を分散状態で混合させる方法等が挙げられる。
【００７９】
特に基板上にコーティングされる保護層もしくは光学干渉層内に適量の微粒子を分散状態で混合させる方法が、工程の簡便性、安定性等の観点から最も好適である。
【００８０】
この場合、微粒子の分散による塗膜強度の低下や光散乱性の上昇、塗膜外観の悪化等を最小限に抑える必要があるが、この目的において、微粒子の平均粒径が塗膜の膜厚の約１．０〜２．０倍、より好ましくは約１．０〜１．５倍、最も好ましくは１．１〜１．３倍の範囲にある微粒子を用いる方法や、微粒子として平均粒径が０．３μｍ以下のものを用い、塗膜内で微粒子がおよそ５μｍ以下、より好ましくは３μｍ以下の凝集径で凝集するような樹脂成分と微粒子の組み合わせを用いる方法等が挙げられる。
【００８１】
微粒子の混合量については、前者の方法では重量比率でおよそ０．０５〜５．０％、より好ましくは０．１〜３．０％の範囲にあることが好ましい。混合量が０．０５％に満たない場合には充分な滑り性が得られない場合が多く、５．０％を越えると光散乱性が著しく増加して、タブレットの視認性を低下させる場合が多いので好ましくない。
【００８２】
また後者の方法では微粒子の混合割合は重量比率でおよそ０．５〜３０％、より好ましくは０．５〜２０％の範囲にある事が好ましい。混合量が０．５％に満たない場合には十分な滑り性で得られない場合が多く、３０％を超えると光散乱性が著しく増加する場合が多く、塗膜のクラック等を生じる場合があるので好ましくない。
【００８３】
微粒子の種類としては、塗工液中で微粒子の沈降が起こりにくいものを用いることが好ましく、具体的には市販の有機シリコン微粒子や架橋アクリル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子等が好ましく用いられる。
【００８４】
本発明によれば、上記透明導電性積層体を少なくとも一方の電極基板として用いることにより、反射及び着色が少なく、透明性が良好なタブレットを提供するものである。ここで本発明の透明導電性積層体をタブレットの一対の電極基板すなわち可動電極基板と固定電極基板の両方に用いた場合に本発明の意図する効果が特に著しくなるので最も好ましいが、可動電極基板と固定電極基板の一方のみに用いても効果を得ることができる。例えば可動電極基板に本発明の透明導電性積層体を用い、固定電極基板に従来の硝子板に透明電極を形成した硝子電極基板を用いたタブレットの構成等においても良好な視認性を得ることができる。
【００９８】
以下、本発明の実施例を示す。尚、以下の実施例と比較例における各種特性の評価は次の要領にて行った。
【００９９】
全光線透過率およびヘイズ値：日本電色工業社製の測定器（商品名「ＣＯＨ−３００Ａ」）を用いて測定を行った。
【０１００】
透過スペクトル、反射スペクトル、反射率の測定、ならびに色彩（ｂ＊値）の計算：日立製分光光度計Ｕ３５００の積分球測定モードおよび計算プログラムを用いて各スペクトルの測定ならびに色彩の計算を行った。尚、測定光のサンプルへの入射角度は透過モードでは０度、反射モードでは１０度とし、反射モードでの測定においてはサンプルの裏面側を市販の黒色スプレーを用いて遮光層を形成し、サンプルの裏面反射や裏面側からの光の入射がほとんどない状態で測定を行った。また反射色彩の計算においては光源として日本工業規格Ｚ８７２０に規定される標準の光Ｄ６５を採用し、２度視野の条件で測定を行った。
【０１０１】
耐溶剤性の評価：明細書内の前記記載の方法にて行った。
【０１０２】
ハードコート性の評価：日本工業規格Ｋ５４００に準拠し、１ｋｇの荷重にて鉛筆硬度を測定した。
【０１０３】
各層の屈折率と膜厚：光学干渉層および透明導電層については、これらの層と屈折率が相違する適当な熱可塑性フィルム基板上に同様のコーティング条件で単層で積層し、該積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を用いて、光学シミュレーションにより算出した。また保護層の屈折率はアッベ屈折率計を用いて測定し、保護層の厚みは前記の光学干渉層と同様の光干渉法を用いた計算により求めた。
【０１０４】
［実施例１］
厚みが約７５μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人製ＨＳＬ−７５、面内屈折率約１．６４、鉛筆硬度Ｆ）の片面に二層からなる光学干渉層を積層した。
【０１０５】
すなわちまずテトラブトキシチタネート（日本曹達社製の商品名「Ｂ−４」）をリグロイン（和光純薬工業社製の等級が一級品）とブタノール（和光純薬工業社製の等級が特級品）の混合溶媒で希釈した塗液を用いてロールコーティングし、１３０℃で２分間熱処理して、膜厚約４１ｎｍ、屈折率約１．８２の層を形成した。
【０１０６】
次に該層上に下記組成からなる塗液を用いてロールコーティングし、１３０℃で５分間熱処理して、膜厚約５１ｎｍ、屈折率約１．４７の層を形成した。すなわち水７２０重量部と２−プロパノール１０８０重量部と酢酸４６重量部を混合した後に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製の商品名「ＫＢＭ４０３」）４８０重量部とメチルトリメトキシシラン（信越化学社製の商品名「ＫＢＭ１３」）２４０重量部とＮ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製の商品名「ＫＢＭ６０３」）１２０重量部を順次混合し、３時間攪拌して前記アルコキシシラン混合液の加水分解、部分縮合を行い、さらにイソプロピルアルコールと１メトキシ２プロパノールの重量比率１：１の混合溶媒で希釈して該層形成用の塗液とした。
尚、この光学干渉層が積層されたフィルムの表面の耐溶剤性は良好であった。
【０１０７】
次に、前記光学干渉層が積層されたフィルム表面に透明導電層を積層して透明導電性フィルムを作製した。透明導電層としてはインジウム−錫の酸化物（ＩＴＯ）を用い、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚が約２２ｎｍとなるように層を形成した。すなわちターゲットとして酸化インジウムと酸化錫が重量比９５：５の組成で充填密度が９８％のＩＴＯターゲットを用い、スパッタ装置内に前記フィルムをセットした後、１．３ｍＰａの圧力まで排気を行い、ついでＡｒとＯ２の体積比９８．５：１．５の混合ガスを導入し、雰囲気圧力を０．２７Ｐａにした。そしてフィルム温度を５０℃、投入電力密度が１Ｗ／ｃｍ２の条件でスパッタリングを行い、前記光学干渉層上にＩＴＯによる透明導電層を積層した。この透明導電層の表面抵抗は約２３０Ω／□であり、屈折率はおよそ２．０であった。
表１にこの透明導電性フィルムの光学特性について記す。
【０１０８】
［実施例２］
厚みが約１８８μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人製ＯＦＷ−１８８、面内屈折率１．６５前後、鉛筆硬度Ｆ）の両面に以下のように保護層を積層した以外は全く実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作成した。
【０１０９】
すなわち光学干渉層および透明導電層を積層する側のフィルム面には、ポリエステルアクリレート（東亜合成化学製Ｍ８５６０）５０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬製ＤＰＨＡ）５０重量部、光開始剤（チバガイギー製イルガキュア１８４）７重量部、レベリング剤としてシリコンオイル（東レ・ダウケミカル製ＳＨ２８ＰＡ）０．０３重量部、希釈溶剤として１メトキシ２プロパノール２００重量部からなる塗液を用いてロールコーティングを行い、６０℃で１分間溶剤を乾燥させた後にランプ強度が１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量約６００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線の照射を行ってコーティング層を硬化させ、膜厚が約４．３μｍの表面が平滑な保護層を積層した。
【０１１０】
また前記と反対側のフィルム面には、前記塗液組成に更にフィラーとして平均粒径が約４．５μｍのシリコーン架橋微粒子（東芝シリコーン製トスパール１４５）を２．０重量部添加してなる塗液を用いて、前記と同様にコーティングを行い、膜厚が約４．１μｍで表面に一様に微細な凹凸が形成された保護層を積層した。
【０１１１】
これらの保護層の屈折率はアッベ屈折率計によればおよそ１．５３前後であり、フィルム上での鉛筆硬度はともに２Ｈで、耐溶剤性も良好であった。また前記微細な凹凸が形成された保護層の表面は良好な防眩性を有していた。
【０１１２】
更に前記の表面平滑な保護層上に実施例１と全く同様に光学干渉層および透明導電層を積層して透明導電性フィルムを作成した。表１に本フィルムの光学特性について記す。
【０１１３】
［実施例３］
厚みが約７５μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人製ＯＦＷ−７５、屈折率１．６４、鉛筆硬度Ｆ）の両面に以下のように保護層を積層した以外は全く実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作成した。
【０１１４】
すなわち光学干渉層および透明導電層を積層する側のフィルム面には、ポリエステルアクリレート（東亜合成化学製Ｍ８５６０）５０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬製ＤＰＨＡ）５０重量部、フィラーとして平均粒径が約３．０μｍのシリコーン架橋微粒子（東芝シリコーン製トスパール１３０）を１．０重量部、光開始剤（チバガイギー製イルガキュア１８４）７重量部、レベリング剤としてシリコンオイル（東レ・ダウケミカル製ＳＨ２８ＰＡ）０．０３重量部、希釈溶剤として１メトキシ２プロパノール２００重量部からなる塗液を用いてロールコーティングを行い、６０℃で１分間溶剤を乾燥させた後にランプ強度が１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量約６００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線の照射を行ってコーティング層を硬化させ、膜厚が約２．７μｍで表面に一様に微細な凹凸が形成された保護層を積層した。
【０１１５】
また前記と反対側のフィルム面には、前記塗液組成のシリコーン架橋微粒子を混合していない組成の塗液を用いて、前記と同様にコーティングを行い、膜厚が約２．７μｍの表面の平滑な保護層を積層した。
【０１１６】
これらの保護層のフィルム上での鉛筆硬度はともにＨないしは２Ｈであり、耐溶剤性も良好であった。
【０１１７】
更に、前記の表面に一様に凹凸が形成された保護層上に実施例１と全く同様に光学干渉層および透明導電層を積層して透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１１８】
この透明導電性フィルムを可動電極基板として用い、固定電極基板として厚みが１．１ｍｍで片面にＩＴＯによる透明導電層が積層された硝子板を用いて、公知の方法で作成した透明タブレットを市販の三波長蛍光ランプ下で観察したところ、光干渉縞（ニュートンリング）の発生は観られず、非常に視認性に優れていた。
【０１１９】
［実施例４］
実施例３において積層したチタンアルコキシドの硬化層の膜厚を４７ｎｍとし、珪素アルコキシドの硬化層の膜厚を５７ｎｍとした以外は全く実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１２０】
［実施例５］
実施例３において積層したチタンアルコキシドの硬化層の膜厚を７４ｎｍとし、珪素アルコキシドの硬化層の膜厚を３０ｎｍとした以外は全く実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１２１】
［実施例６］
実施例３において積層したチタンアルコキシドの硬化層の膜厚を３８ｎｍとし、珪素アルコキシドの硬化層の膜厚を４７ｎｍとした以外は全く実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１２２】
［実施例７］
実施例３において積層したチタンアルコキシドの硬化層の膜厚を５３ｎｍとし、珪素アルコキシドの硬化層の膜厚を６５ｎｍとし、透明導電層の膜厚を１５ｎｍとした以外は全く実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１２３】
［実施例８］
実施例３において表面に一様に凹凸が形成された保護層上に、ＲＦマグネトロンスパッタリング法により膜厚が約３４ｎｍ、屈折率が約２．２の酸化ジルコニウム層を形成した。すなわちターゲットとして充填密度９０％の酸化チタンのターゲットを用い、スパッタ装置内に前記フィルムをセットした後、１ｍＰａの圧力まで排気を行い、ついでＡｒとＯ２の体積比９８：２の混合ガスを導入し、雰囲気圧力を０．２７Ｐａにした。そしてフィルム温度を５０℃、投入電力密度が１Ｗ／ｃｍ２の条件でスパッタリングを行い、酸化ジルコニウム層を積層した。
【０１２４】
次にＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚が５１ｎｍ、屈折率が約１．４６の酸化珪素層を形成した。すなわちターゲットとして珪素のターゲットを用い、スパッタ装置内に前記フィルムをセットした後、１ｍＰａの圧力まで排気を行い、ついでＡｒとＯ２の体積比７０：３０の混合ガスを導入し、雰囲気圧力を０．２７Ｐａにした。そしてフィルム温度を５０℃、投入電力密度が１Ｗ／ｃｍ２の条件でスパッタリングを行い、酸化珪素層を積層した。
【０１２５】
その後実施例１と全く同様に酸化インジウムによる膜厚２２ｎｍ、屈折率２．０の透明導電層を積層して透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１２６】
［実施例９］
基板として厚みが約１００μｍのポリカーボネートフィルム（帝人製ピュアエース、屈折率１．５８６、鉛筆硬度６Ｂ以下、面内リタデーション１０ｎｍ以下）の両面に実施例３と全く同様に保護層を積層し、更に実施例３と全く同様に片面の保護層上に光学干渉層と透明導電層を積層して透明導電性フィルムを作成した。
これらの保護層のフィルム上での鉛筆硬度はともにＢであり、耐溶剤性も良好であった。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１２７】
［比較例１］
実施例３においてチタンアルコキシドの硬化層および珪素アルコキシドの硬化層を積層せず、ＰＥＴフィルム上に直接透明導電層を積層した以外は全く実施例３と同様にして透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１２８】
［比較例２］
実施例３において積層したチタンアルコキシドの硬化層の膜厚を５５ｎｍとし、珪素アルコキシドの硬化層の膜厚を６６ｎｍとした以外は全く実施例３と同様にして透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１２９】
［比較例３］
実施例３において積層したチタンアルコキシドの硬化層の膜厚を３４ｎｍとし、珪素アルコキシドの硬化層の膜厚を４２ｎｍとした以外は全く実施例３と同様にして透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１３０】
［比較例４］
比較例１と同様に、チタンアルコキシドの硬化層および珪素アルコキシドの硬化層を積層せず、ＰＥＴフィルム上に直接透明導電層を積層し、透明導電層の膜厚を１５ｎｍにした以外は全く比較例１と同様にして透明導電性フィルムを作成した。本フィルムの光学特性を表１に記す。
【０１３３】
【表１】
0003626624.tif 000004
【０１３４】
注）反射率の測定値は迷光やサンプルの裏面反射等の影響により、実際の値より若干大きい値を示す傾向にある。（測定誤差はおよそ０．３％以内）
【０１３５】
【発明の効果】
本発明の透明導電性積層体は、透明導電層表面の反射率が低く、かつ積層体の透過光の着色が少ないという特長を有し、この透明導電性積層体を用いて作成した透明タブレットでは非常に優れた視認性を得ることができる。