(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させる第１の工程と、
前記第１の工程中に前記ロールブラシによってスクラビングされた後の前記基板の表面に洗浄液をかけて前記基板表面を洗う第２の工程と、
前記第２の工程の終了後に前記ロールブラシを所定の退避位置へ移動させる第３の工程と、
前記退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングする第４の工程と
を有し、前記第４の工程は、前記ロールブラシの直径よりも小さな内径を有する半円形のハンド部を有する一対の絞りアームを開いた状態で前記ロールブラシを迎え、前記ロールブラシの到着後に前記半円形ハンド部が両側からリング状に合わさるように前記一対の絞りアームを閉じて前記ロールブラシの周面に食い込ませ、前記一対の絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に移動させて前記ロールブラシに含まれている異物を洗浄水と一緒に前記ロールブラシの端部に押しやって前記ロールブラシから異物を離脱させる基板洗浄方法。
【請求項２】
前記第２の工程は、前記ロールブラシによってスクラビングされる直前の前記基板の表面に洗浄液を供給する請求項１記載の基板洗浄方法。
【請求項３】
前記第２の工程は、前記ロールブラシによってスクラビングされた直後の前記基板の表面に対して前記基板の上方から前記ロールブラシの進行方向とは逆の方向に向けて前記洗浄液を吹き付ける請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項４】
被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させる第１の工程と、
前記第１の工程中に前記ロールブラシによってスクラビングされた後の前記基板の表面に洗浄液をかけて前記基板表面を洗う第２の工程と、
前記第２の工程の終了後に前記ロールブラシを所定の退避位置へ移動させる第３の工程と、
前記退避位置で前記ロールブラシを回転させながら前記ロールブラシの側部より上の部位に洗浄液を上方から吹き付けて前記ロールブラシをクリーニングする第４の工程と、
前記退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングする第５の工程と
を有し、前記第５の工程は、前記ロールブラシの直径よりも小さな内径を有する半円形のハンド部を有する一対の絞りアームを開いた状態で前記ロールブラシを迎え、前記ロールブラシの到着後に前記半円形のハンド部が両側からリング状に合わさるように前記一対の絞りアームを閉じて前記ロールブラシの周面に食い込ませ、前記一対の絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させて前記ロールブラシに含まれている異物を洗浄水と一緒に前記ロールブラシの端部に押しやって前記ロールブラシから異物を離脱させる基板洗浄方法。
【請求項５】
前記第２の工程は、前記ロールブラシによってスクラビングされる直前の前記基板の表面に洗浄液を供給する請求項４に記載の基板洗浄方法。
【請求項６】
前記第２の工程は、前記ロールブラシによってスクラビングされた直後の前記基板の表面に対して前記基板の上方から前記ロールブラシの進行方向とは逆の方向に向けて前記洗浄液を吹き付ける請求項４に記載の基板洗浄方法。
【請求項７】
前記第４の工程は、前記ロールブラシの側部付近を擦るように前記洗浄液をブレード状の層流で吹き付ける請求項４〜６のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
【請求項８】
被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させてスクラビング洗浄を行うスクラビング洗浄手段と、
前記ロールブラシの移動と連動して前記ロールブラシによってスクラビング洗浄された後の前記基板の表面に洗浄液を吹き付けて前記基板表面を洗うスプレー洗浄手段と、
前記スクラビング洗浄の終了後に、前記ロールブラシをクリーニングするために、所定の退避位置で前記ロールブラシの側部より上の部位に上方から洗浄液を吹き付けるノズルと、
前記ロールブラシの直径よりも小さな内径を有する半円形のハンド部を有する一対の絞りアームと、前記絞りアームを前記ロールブラシの直径方向に開閉駆動するアーム駆動部と、前記ロールブラシに対して前記絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させる送り手段とを備え、前記スクラビング洗浄の終了後に、所定の退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングするブラシ絞り機構と
を有し、前記ブラシ絞り機構が、前記一対の絞りアームが開いた状態で前記ロールブラシを迎え、前記ロールブラシの到着後に前記アーム駆動部により前記半円形のハンド部を両側からリング状に合わさるように閉じて前記ロールブラシの周面に食い込ませ、前記送り手段により前記一対の絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させて、前記ロールブラシに含まれている異物を洗浄水と一緒に前記ロールブラシの端部に押しやり、前記ロールブラシから異物を離脱させる基板洗浄装置。
【請求項９】
被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させてスクラビング洗浄を行うスクラビング洗浄手段と、
前記ロールブラシの移動と連動して前記ロールブラシによってスクラビング洗浄された後の前記基板の表面に洗浄液を吹き付けて前記基板表面を洗うスプレー洗浄手段と、
前記スクラビング洗浄の終了後に、前記ロールブラシをクリーニングするために、第１の退避位置で前記ロールブラシの側部より上の部位に上方から洗浄液を吹き付けるノズルと、
前記第１の退避位置で前記ロールブラシのクリーニング中に前記ロールブラシを回転させる手段と、
前記ロールブラシの直径よりも小さな内径を有する半円形のハンド部を有する一対の絞りアームと、前記絞りアームを前記ロールブラシの直径方向に開閉駆動するアーム駆動部と、前記ロールブラシに対して前記絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させる送り手段とを備え、前記スクラビング洗浄の終了後に、第２の退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングするブラシ絞り機構と
を有し、前記ブラシ絞り機構が、前記一対の絞りアームが開いた状態で前記ロールブラシを迎え、前記ロールブラシの到着後に前記アーム駆動部により前記半円形のハンド部を両側からリング状に合わさるように閉じて前記ロールブラシの周面に食い込ませ、前記送り手段により前記一対の絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させて、前記ロールブラシに含まれている異物を洗浄水と一緒に前記ロールブラシの端部に押しやり、前記ロールブラシから異物を離脱させる基板洗浄装置。
【請求項１０】
前記洗浄液供給手段が、前記ロールブラシの上方に位置して前記ロールブラシと一緒に移動し、前記ロールブラシによってスクラビング洗浄される直前の前記基板の表面に前記洗浄液を吹きつける第１の洗浄液吐出ノズルを含む請求項８または請求項９に記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】
前記洗浄液供給手段が、前記ロールブラシの上方に位置して前記ロールブラシと一緒に移動し、前記ロールブラシによってスクラビング洗浄された直後の前記基板の表面に対して前記ロールブラシの進行方向とは逆の方向に向けて前記洗浄液を吹きつける第２の洗浄液吐出ノズルを含む請求項８〜１０のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】
前記ロールブラシの上方に位置して前記ロールブラシと一緒に移動し、前記洗浄液吐出ノズルより吐出される前記洗浄液の上に被さるようにエアーを吐出するエアー吐出ノズルを含む請求項１１に記載の基板洗浄装置。
【請求項１３】
前記ロールブラシの周面に軸方向に延在するスパイラル状の溝を設けた請求項８〜１２のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、洗浄ブラシを用いて被処理基板を洗浄する基板洗浄方法および基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造においては、被処理基板（たとえば半導体ウエハ、ＬＣＤ基板等）の表面が清浄化された状態にあることを前提として各微細加工が行われる。したがって、各加工処理に先立ちまたは各加工処理の合間に被処理基板表面の洗浄が行われ、たとえばフォトリソグラフィー工程では、レジスト塗布に先立って被処理基板の表面がスクラバと称される洗浄装置でスクラビングまたはブラッシングされる。
【０００３】
従来より、この種の洗浄装置におけるスクラビングブラシの１形態としてロールブラシが知られている。通常、ロールブラシを使用するときは、被処理基板の方をほぼ水平に固定し、基板上でロールブラシを回転させてその円筒状のブラシ面を基板表面に擦り合わせながら所定の方向または経路で移動（走査）させてスクラビングを行う。このスクラビングに際しては、ブラシと基板との間の摩擦を低減するために、ロールブラシと基板表面の間に洗浄液を介在させるのが通例である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記のようなロールブラシによるスクラビング洗浄では、ロールブラシによって基板表面から擦り取られた異物（塵埃、破片、汚染物等）の一部はロールブラシに付着し、他の一部は基板表面に付着する。ロールブラシに付着した異物については、スクラビング洗浄後に退避位置またはホームポジションでロールブラシを洗浄槽に入れておくことで、洗浄液中に滲み出させるようにしている。また、基板表面に付着した異物については、スクラビング洗浄の終了後に、洗浄ノズル機構を用いたブロー洗浄を行って、基板上から洗い流すようにしている。
【０００５】
しかしながら、ホームポジションでロールブラシを洗浄槽に入れておくだけでは、ロールブラシに染み込んでいる異物が効果的に取り除かれなかった。このため、使用（スクラビング洗浄）を重ねる毎にロールブラシの汚れが蓄積または増大して、ブラシ洗浄力が低下するという問題があった。
【０００６】
また、上記のようにブロー洗浄でフォローするにしても、スクラビング洗浄の終了時点で基板表面に相当量の異物が付着または残存していたのでは、洗浄ノズル機構の負担（洗浄能力、洗浄時間等）が大きく、好ましくない。
【０００７】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、スクラビング洗浄の洗浄効果を向上させるとともに、スクラビング洗浄で用いるロールブラシの汚れを効果的に取り除いてスクラビング洗浄力を安定に維持する基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の第１の基板洗浄方法は、被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させる第１の工程と、前記第１の工程中に前記ロールブラシによってスクラビングされた後の前記基板の表面に洗浄液をかけて前記基板表面を洗う第２の工程と、前記第２の工程の終了後に前記ロールブラシを所定の退避位置へ移動させる第３の工程と、前記退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングする第４の工程とを有し、前記第４の工程は、前記ロールブラシの直径よりも小さな内径を有する半円形のハンド部を有する一対の絞りアームを開いた状態で前記ロールブラシを迎え、前記ロールブラシの到着後に前記半円形ハンド部が両側からリング状に合わさるように前記一対の絞りアームを閉じて前記ロールブラシの周面に食い込ませ、前記一対の絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に移動させて前記ロールブラシに含まれている異物を洗浄水と一緒に前記ロールブラシの端部に押しやって前記ロールブラシから異物を離脱させる。
【００１０】
また、本発明の第１の基板洗浄装置は、被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させてスクラビング洗浄を行うスクラビング洗浄手段と、前記ロールブラシの移動と連動して前記ロールブラシによってスクラビング洗浄された後の前記基板の表面に洗浄液を吹き付けて前記基板表面を洗うスプレー洗浄手段と、前記スクラビング洗浄の終了後に、前記ロールブラシをクリーニングするために、所定の退避位置で前記ロールブラシの側部より上の部位に上方から洗浄液を吹き付けるノズルと、前記ロールブラシの直径よりも小さな内径を有する半円形のハンド部を有する一対の絞りアームと、前記絞りアームを前記ロールブラシの直径方向に開閉駆動するアーム駆動部と、前記ロールブラシに対して前記絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させる送り手段とを備え、前記スクラビング洗浄の終了後に、所定の退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングするブラシ絞り機構とを有し、前記ブラシ絞り機構が、前記一対の絞りアームが開いた状態で前記ロールブラシを迎え、前記ロールブラシの到着後に前記アーム駆動部により前記半円形のハンド部を両側からリング状に合わさるように閉じて前記ロールブラシの周面に食い込ませ、前記送り手段により前記一対の絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させて、前記ロールブラシに含まれている異物を洗浄水と一緒に前記ロールブラシの端部に押しやり、前記ロールブラシから異物を離脱させる。
【００１１】
上記第１の基板洗浄方法および基板洗浄装置において、スクラビング洗浄中は、ロールブラシによって基板表面から擦り取られた異物（塵埃、破片、汚染物等）のうち基板表面に再付着したものは、基板上でしばらく漂遊している。そこに、洗浄水を吹き付けることで、それらの異物は迅速かつ効果的に洗い落とされる。そして、スクラビング洗浄の終了後は、所定の退避位置で回転手段がロールブラシを回転させながら、ノズルがロールブラシの側部より上の部位に洗浄液を上方から吹き付けることにより、先のスクラビング洗浄によって基板よりロールブラシに転移している異物が洗浄液の流勢または衝撃でロールブラシから取り除かれる。好ましい一態様によれば、ロールブラシの側部付近を擦るように洗浄液がブレード状の層流で吹き付けられ、それによってロールブラシから異物が削ぎ落とされるようにして除去される。
【００１２】
本発明の第２の基板洗浄方法は、被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させる第１の工程と、前記第１の工程中に前記ロールブラシによってスクラビングされた後の前記基板の表面に洗浄液をかけて前記基板表面を洗う第２の工程と、前記第２の工程の終了後に前記ロールブラシを所定の退避位置へ移動させる第３の工程と、前記退避位置で前記ロールブラシを回転させながら前記ロールブラシの側部より上の部位に洗浄液を上方から吹き付けて前記ロールブラシをクリーニングする第４の工程と、前記退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングする第５の工程とを有し、前記第４の工程は、前記ロールブラシの直径よりも小さな内径を有する半円形のハンド部を有する一対の絞りアームを開いた状態で前記ロールブラシを迎え、前記ロールブラシの到着後に前記半円形のハンド部が両側からリング状に合わさるように前記一対の絞りアームを閉じて前記ロールブラシの周面に食い込ませ、前記一対の絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させて前記ロールブラシに含まれている異物を洗浄水と一緒に前記ロールブラシの端部に押しやって前記ロールブラシから異物を離脱させる。
【００１３】
本発明の第２の基板洗浄装置は、被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させてスクラビング洗浄を行うスクラビング洗浄手段と、前記ロールブラシの移動と連動して前記ロールブラシによってスクラビング洗浄された後の前記基板の表面に洗浄液を吹き付けて前記基板表面を洗うスプレー洗浄手段と、前記スクラビング洗浄の終了後に、前記ロールブラシをクリーニングするために、第１の退避位置で前記ロールブラシの側部より上の部位に上方から洗浄液を吹き付けるノズルと、前記第１の退避位置で前記ロールブラシのクリーニング中に前記ロールブラシを回転させる手段と、前記ロールブラシの直径よりも小さな内径を有する半円形のハンド部を有する一対の絞りアームと、前記絞りアームを前記ロールブラシの直径方向に開閉駆動するアーム駆動部と、前記ロールブラシに対して前記絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させる送り手段とを備え、前記スクラビング洗浄の終了後に、第２の退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングするブラシ絞り機構とを有し、前記ブラシ絞り機構が、前記一対の絞りアームが開いた状態で前記ロールブラシを迎え、前記ロールブラシの到着後に前記アーム駆動部により前記半円形のハンド部を両側からリング状に合わさるように閉じて前記ロールブラシの周面に食い込ませ、前記送り手段により前記一対の絞りアームを前記ロールブラシの軸方向に相対的に移動させて、前記ロールブラシに含まれている異物を洗浄水と一緒に前記ロールブラシの端部に押しやり、前記ロールブラシから異物を離脱させる。
【００１４】
上記第２の基板洗浄方法および基板洗浄装置において、スクラビング洗浄中は、ロールブラシによって基板表面から擦り取られた異物（塵埃、破片、汚染物等）のうち基板表面に再付着したものは、基板上でしばらく漂遊している。そこに、洗浄水を吹き付けることで、それらの異物は迅速かつ効果的に洗い落とされる。そして、スクラビング洗浄の終了後に、所定の退避位置でブラシ絞り機構がロールブラシを絞ることにより、先のスクラビング洗浄によって基板よりロールブラシに転移している異物が洗浄液と一緒にロールブラシから絞り出されるようにして除去される。
【００１５】
本発明の好適な一態様によれば、ブラシ絞り機構は、ロールブラシの周面を半径方向内側に向う圧力で絞る絞り手段と、ロールブラシに対して絞り手段をロールブラシの軸方向に相対的に移動させる送り手段とを含む。かかるブラシ絞り機構の構成によれば、ロールブラシに含まれている洗浄水をロールブラシの一端側に押しやり、それによって、ロールブラシに付着している異物も洗浄液と一緒にロールブラシの一端側に押しやることが可能であり、その押しやる過程ないし結果として、異物を含む洗浄液をロールブラシから効率よく離脱させることができる。
【００１６】
本発明の第３の基板洗浄方法は、被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させる第１の工程と、前記第１の工程中に前記ロールブラシによってスクラビングされた後の前記基板の表面に洗浄液をかけて前記基板表面を洗う第２の工程と、前記第２の工程の終了後に前記ロールブラシを所定の退避位置へ移動させる第３の工程と、前記退避位置で前記ロールブラシを回転させながら前記ロールブラシの側部より上の部位に洗浄液を上方から吹き付けて前記ロールブラシをクリーニングする工程と、前記退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングする工程とを有する。
【００１７】
上記第３の基板洗浄方法は、上記第１の基板洗浄方法の構成と上記第２の基板洗浄方法の構成とを併有し、それによって上記第１および第２の基板洗浄方法のそれぞれの作用効果を重畳的に奏することができる。
【００１８】
本発明の第３の基板洗浄装置は、被処理基板に対して円筒状のブラシ面を有する回転型のロールブラシを擦り合わせながら前記ロールブラシを前記基板上で所定の方向または経路で相対的に移動させてスクラビング洗浄を行うスクラビング洗浄手段と、前記ロールブラシの移動と連動して、前記ロールブラシによってスクラビング洗浄された後の前記基板の表面に洗浄液を吹き付けて前記基板表面を洗うスプレー洗浄手段と、前記スクラビング洗浄の終了後に、前記ロールブラシをクリーニングするために、第１の退避位置で前記ロールブラシの側部より上の部位に上方から洗浄液を吹き付けるノズルと、前記第１の退避位置で前記ロールブラシのクリーニング中に前記ロールブラシを回転させる手段と、前記スクラビング洗浄の終了後に、第２の退避位置で前記ロールブラシを絞って前記ロールブラシをクリーニングするブラシ絞り機構とを有する。
【００１９】
上記第３の基板洗浄装置は、上記第１の基板洗浄装置の構成と上記第２の基板洗浄装置の構成とを併有し、それによって上記第１および第２の基板洗浄装置のそれぞれの作用効果を重畳的に奏することができる。
【００２０】
本発明の基板洗浄方法において、好ましくは、ロールブラシと基板表面との間に洗浄液を介在させてよく、そのために、第１の工程中にロールブラシによってスクラビングされる直前の基板の表面に洗浄液を供給してよい。また、基板の表面に再付着している異物の洗い落としを効果的に行うために、好ましくは、上記第２の工程の中に、ロールブラシによってスクラビングされた直後の基板の表面に対して基板の上方からロールブラシの進行方向とは逆の方向に向けて洗浄液を吹き付ける工程を含んでよい。
【００２１】
本発明の基板洗浄装置において、基板表面に再付着している塵埃または汚染物の洗い落としを効果的に行うために、好ましくは、前記スプレー洗浄手段が、ロールブラシの上方に位置してロールブラシと一緒に移動し、ロールブラシによってスクラビング洗浄された直後の基板表面に対してロールブラシの進行方向とは逆の方向に向けて洗浄液を吹きつける第１の洗浄液吐出ノズルを含む構成としてよい。
【００２２】
また、上記洗浄液吐出ノズルによる洗浄液の吹きつけに際してミストの発生を防止または抑制するために、好ましくは、スプレー洗浄手段が、ロールブラシの上方に位置してロールブラシと一緒に移動し、洗浄液吐出ノズルより吐出される洗浄液に上から被さるようにエアーを吐出するエアー吐出ノズルを含む構成としてよい。
【００２３】
本発明の基板洗浄装置において、好適な一態様によれば、ロールブラシの周面に軸方向に延在するスパイラル状の溝が設けられる。この構成においては、スクラビング洗浄に際して基板表面からロールブラシに転移した異物がロールブラシ周面のスパイラル溝に集められるとともにスパイラル溝に沿って軸方向に移動して、ブラシ端部より吐き出される。
【００２４】
【発明の好適な実施形態】
以下、添付図を参照して本発明の実施例を説明する。
【００２５】
図１に、本発明の基板洗浄方法または装置が適用可能な構成例として塗布現像処理システムを示す。この塗布現像処理システムは、クリーンルーム内に設置され、たとえばＬＣＤ基板を被処理基板とし、ＬＣＤ製造プロセスにおいてフォトリソグラフィー工程の中の洗浄、レジスト塗布、プリベーク、現像およびポストベークの各処理を行うものである。露光処理は、このシステムに隣接して設置される外部の露光装置（図示せず）で行われる。
【００２６】
この塗布現像処理システムは、大きく分けて、カセットステーション（Ｃ／Ｓ）１０と、プロセスステーション（Ｐ／Ｓ）１２と、インタフェース部（Ｉ／Ｆ）１４とで構成される。
【００２７】
システムの一端部に設置されるカセットステーション（Ｃ／Ｓ）１０は、複数の基板Ｇを収容するカセットＣを所定数たとえば４個まで載置可能なカセットステージ１６と、このステージ１２上のカセットＣについて基板Ｇの出し入れを行う搬送機構２０とを備えている。この搬送機構２０は、基板Ｇを保持できる手段たとえば搬送アームを有し、Ｘ，Ｙ，Ｚ，θの４軸で動作可能であり、後述するプロセスステーション（Ｐ／Ｓ）１２側の搬送装置３８と基板Ｇの受け渡しを行えるようになっている。
【００２８】
プロセスステーション（Ｐ／Ｓ）１２は、上記カセットステーション（Ｃ／Ｓ）１０側から順に洗浄プロセス部２２と、塗布プロセス部２４と、現像プロセス部２６とを基板中継部２３、薬液供給ユニット２５およびスペース２７を介して（挟んで）横一列に設けている。
【００２９】
洗浄プロセス部２２は、２つのスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２８と、上下２段の紫外線照射／冷却ユニット（ＵＶ／ＣＯＬ）３０と、加熱ユニット（ＨＰ）３２と、冷却ユニット（ＣＯＬ）３４とを含んでいる。
【００３０】
塗布プロセス部２４は、レジスト塗布ユニット（ＣＴ）４０と、減圧乾燥ユニット（ＶＤ）４２と、エッジリムーバ・ユニット（ＥＲ）４４と、上下２段型アドヒージョン／冷却ユニット（ＡＤ／ＣＯＬ）４６と、上下２段型加熱／冷却ユニット（ＨＰ／ＣＯＬ）４８と、加熱ユニット（ＨＰ）５０とを含んでいる。
【００３１】
現像プロセス部２６は、３つの現像ユニット（ＤＥＶ）５２と、２つの上下２段型加熱／冷却ユニット（ＨＰ／ＣＯＬ）５４と、加熱ユニット（ＨＰ）５６とを含んでいる。
【００３２】
各プロセス部２２，２４，２６の中央部には長手方向に搬送路３６，５２，５８が設けられ、主搬送装置３８，５４，６０が各搬送路に沿って移動して各プロセス部内の各ユニットにアクセスし、基板Ｇの搬入／搬出または搬送を行うようになっている。なお、このシステムでは、各プロセス部２２，２４，２６において、搬送路３６，５２，５８の一方の側にスピンナ系のユニット（ＳＣＲ，ＣＴ，ＤＥＶ等）が配置され、他方の側に熱処理系のユニット（ＨＰ，ＣＯＬ等）が配置されている。
【００３３】
システムの他端部に設置されるインタフェース部（Ｉ／Ｆ）１４は、プロセスステーション１２と隣接する側にイクステンション（基板受け渡し部）５４およびバッファステージ５６を設け、露光装置と隣接する側に搬送機構５８を設けている。
【００３４】
図２に、この塗布現像処理システムにおける処理の手順を示す。先ず、カセットステーション（Ｃ／Ｓ）１０において、搬送機構２０が、ステージ１２上の所定のカセットＣの中から１つの基板Ｇを取り出し、プロセスステーション（Ｐ／Ｓ）１２の洗浄プロセス部２２の搬送装置３８に渡す（ステップＳ1）。
【００３５】
洗浄プロセス部２２において、基板Ｇは、先ず紫外線照射／冷却ユニット（ＵＶ／ＣＯＬ）３０に順次搬入され、最初の紫外線照射ユニット（ＵＶ）では紫外線照射による乾式洗浄を施され、次の冷却ユニット（ＣＯＬ）では所定温度まで冷却される（ステップＳ2）。この紫外線洗浄では主として基板表面の有機物が除去される。
【００３６】
次に、基板Ｇはスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２８の１つでスクラビング洗浄処理を受け、基板表面から粒子状の汚れが除去される（ステップＳ3）。スクラビンク洗浄の後、基板Ｇは、加熱ユニット（ＨＰ）３２で加熱による脱水処理を受け（ステップＳ4）、次いで冷却ユニット（ＣＯＬ）３４で一定の基板温度まで冷却される（ステップＳ5）。これで洗浄プロセス部２２における前処理が終了し、基板Ｇは、主搬送装置３８により基板受け渡し部２３を介して塗布プロセス部２４へ搬送される。
【００３７】
塗布プロセス部２４において、基板Ｇは、先ずアドヒージョン／冷却ユニット（ＡＤ／ＣＯＬ）４６に順次搬入され、最初のアドヒージョンユニット（ＡＤ）では疎水化処理（ＨＭＤＳ）を受け（ステップＳ6）、次の冷却ユニット（ＣＯＬ）で一定の基板温度まで冷却される（ステップＳ7）。
【００３８】
その後、基板Ｇは、レジスト塗布ユニット（ＣＴ）４０でレジスト液を塗布され、次いで減圧乾燥ユニット（ＶＤ）４２で減圧による乾燥処理を受け、次いでエッジリムーバ・ユニット（ＥＲ）４４で基板周縁部の余分（不要）なレジストを除かれる（ステップＳ8）。
【００３９】
次に、基板Ｇは、加熱／冷却ユニット（ＨＰ／ＣＯＬ）４８に順次搬入され、最初の加熱ユニット（ＨＰ）では塗布後のベーキング（プリベーク）が行われ（ステップＳ9）、次に冷却ユニット（ＣＯＬ）で一定の基板温度まで冷却される（ステップＳ10）。なお、この塗布後のベーキングに加熱ユニット（ＨＰ）５０を用いることもできる。
【００４０】
上記塗布処理の後、基板Ｇは、塗布プロセス部２４の主搬送装置５４と現像プロセス部２６の主搬送装置６０とによってインタフェース部（Ｉ／Ｆ）５４へ搬送され、そこから露光装置に渡される（ステップＳ11）。露光装置では基板Ｇ上のレジストに所定の回路パターンを露光される。そして、パターン露光を終えた基板Ｇは、露光装置からインタフェース部（Ｉ／Ｆ）５４に戻される。インタフェース部（Ｉ／Ｆ）５４の搬送機構５８は、露光装置から受け取った基板Ｇをイクステンション５４を介してプロセスステーション（Ｐ／Ｓ）２４の現像プロセス部２６に渡す（ステップＳ11）。
【００４１】
現像プロセス部２６において、基板Ｇは、現像ユニット（ＤＥＶ）５２のいずれか１つで現像処理を受け（ステップＳ12）、次いで加熱／冷却ユニット（ＨＰ／ＣＯＬ）５４の１つに順次搬入され、最初の加熱ユニット（ＨＰ）ではポストベーキングが行われ（ステップＳ13）、次に冷却ユニット（ＣＯＬ）で一定の基板温度まで冷却される（ステップＳ14）。このポストベーキングに加熱ユニット（ＨＰ）５６を用いることもできる。
【００４２】
現像プロセス部２６での一連の処理が済んだ基板Ｇは、プロセスステーション（Ｐ／Ｓ）２４内の搬送装置６０，５４，３８によりカセットステーション（Ｃ／Ｓ）１０まで戻され、そこで搬送機構２０によりいずれか１つのカセットＣに収容される（ステップＳ1）。
【００４３】
この塗布現像処理システムにおいては、スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２８に本発明を適用することができる。以下、図３〜図８につき本発明をスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２８に適用した一実施形態を説明する。
【００４４】
図３に示すように、本実施形態のスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２８は、有底のハウジングまたはケーシング６０を有し、このケーシング６０の中央部にスピンナ型のスクラバ洗浄装置６２を設けている。
【００４５】
スクラバ洗浄装置６２は、基本的には、処理容器として機能するカップ６４と、このカップ６４の内側に設けられたスピンチャック機構６６と、カップ６４に出入り可能に設けられた洗浄機構１１０とで構成されている。
【００４６】
スピンチャック機構６６は、矩形の基板Ｇをほぼ水平に載せて保持できる保持手段、たとえばチャックプレート６８を有している。図３および図４に示すように、このチャックプレート６８の上面には、基板Ｇを担持するための手段たとえば多数の支持ピン７０が適当な配置パターンで離散的に固定取付されるとともに、基板Ｇの四隅を両側縁で保持するための手段たとえば保持ピン７２が固定取付されている。また、基板昇降手段たとえばリフトピン７４を昇降可能に通すための複数個たとえば４個の貫通孔７６がチャックプレート６８に形成されている。チャックプレート６８は、剛体たとえばステンレス鋼で構成されてよく、支持ピン７０および保持ピン７２の少なくとも基板Ｇと接触する部分には基板を傷つけないような部材たとえば樹脂、ゴム等を用いて良い。
【００４７】
チャックプレート６８の裏面中心部には回転支持軸８０の上端部が固着されており、この回転支持軸８０の下端部はスピンチャック機構６６の駆動部８２内に設けられている回転駆動モータ（図示せず）に作動結合されている。該回転駆動モータの回転駆動により回転支持軸８０を介してチャックプレート６８と、このチャックプレート６８上に機械的に保持される基板Ｇとが一体に設定速度で回転するようになっている。駆動部８２は、ケーシング６０の底に固定されている。
【００４８】
駆動部８２内には、リフトピン７４を昇降させるための駆動手段たとえばエアシリンダ（図示せず）も設けられている。基板Ｇの搬入／搬出時には、該エアシリンダのピストンロッドが前進（上昇）することで、図３に示すように各リフトピン７４がチャックプレート６８の上方に設定された所定の高さ位置まで上昇し、主搬送装置３８（図１）との間で基板Ｇの受け渡しを行うようになっている。定常時は、該エアシリンダのピストンロッドが原点位置に後退し、各リフトピン７４はチャックプレート６８よりも下の位置に退避している。リフトピン７４の先端部も基板Ｇを傷つけないような部材で形成してよい。
【００４９】
カップ６４は、チャックプレート６８および基板Ｇの周囲を取り囲む昇降移動可能な上部側壁部８４と、この上部側壁部８４と径方向で隙間を空けて対向する下部側壁部８６と、この下部側壁部８６と一体的に構成され、かつケーシング６０の底に直接またはスピンチャック機構６６の駆動部８２を介して固定された底板部８８とを有している。
【００５０】
カップ６４の外または内部（カップ駆動部８２内）には、カップ６４の上部側壁部８４を支持し、かつ設定された昇降範囲内で任意の高さに昇降駆動できる公知のカップ支持・昇降機構（図示せず）が設けられている。図３に示すように、基板Ｇの受け渡し時には、主搬送装置３８の搬送アーム（図示せず）をカップ内側に通すため、上部側壁部８４が最も低い設定位置に下降している。しかし、処理中は、図５に示すように、上部側壁部８４がチャックプレート６８側からの液滴や気流を受けるのに適した高さに上昇（位置）している。
【００５１】
この実施形態において、カップ６４の上部側壁部８４は、径方向内側に向って斜め上方に延在するテーパ部８４ａを有している。この上部側壁部８４のテーパ部８４ａは、洗浄処理中のカップ高さ位置（図５）で基板Ｇおよびチャックプレート６８の側面に近接し、基板Ｇおよびチャックプレート６８側から四方（周囲）に飛散する液滴を受け止めて下方に落とすように機能する。
【００５２】
カップ下部側壁部８６の内側には、周回方向に沿って廃液回収室９０が形成されている。この廃液回収室９０の底面は、周回方向において高低差があり、最も低い部位に廃液口９２が設けられている。この廃液口９２は、排液管９４を介して廃液タンク（図示せず）に通じている。
【００５３】
上記廃液回収室９０の上方の空間は廃液流路だけでなく排気流路も兼ねており、カップ底板部８８において廃液回収室９０よりも内側の部位に排気口９６が設けられている。この排気口９６は、排気管９８を介して外部排気系統たとえば排気ダクトに連通している。チャックプレート６８の下には、廃液および排気流路を構成する傘状の隔壁板１００が設けられている。
【００５４】
ケーシング６０の底面には、１箇所または複数箇所に排気またはドレイン口１０２が設けられている。各排気またはドレイン口１０２は、排気または廃液管１０６を介して外部排気または廃液系統（図示せず）に連通している。
【００５５】
このスクラバ洗浄装置６２における洗浄機構１１０は、たとえば図５に示すようなブラシスクラバ機構１１２と洗浄ノズル機構１６２とを有する。図５には説明の便宜上両機構１１２，１６２を同時に示しているが、通常はブラシスクラバ機構１１２によるブラッシング洗浄が先に行われ、その後に洗浄ノズル機構１６２によるブロー洗浄が行われるようになっており、一方の機構が作動している間、他方の機構はカップ６４の外でケーシング６０の隅部に設けられた所定のホームポジション（待機または退避位置）ＨＰで待機している。
【００５６】
本実施形態におけるブラシスクラバ機構１１２は、円筒状のブラシ面を有するロールブラシ１１６を回転させて基板表面に擦り合わせながら基板Ｇ上を走査する方式のものである。ロールブラシ１１６の軸１１６ａの両端部は、ブラシスクラバ本体１１８から垂直下方に延びる一対の支持アーム１２０に支持されるとともに、支持アーム１２０の内部に設けられているプーリ１２２および伝動ベルト１２４等を介してスクラバ本体１１８内蔵の回転駆動部たとえば電動モータ（図示せず）に作動接続されている（図６）。ブラシスクラバ本体１１８は、所定の送り機構（図示せず）によりガイド１１４に沿って所定方向たとえば基板Ｇの長辺方向に送られるとともに、所定の昇降機構（図示せず）により基板Ｇ上であるいはホームポジションＨＰにて昇降移動できるようになっている。
【００５７】
このブラシスクラバ機構１１２においては、ロールブラシ１１６のほぼ真上の位置に、下向き洗浄ノズルまたは吐出口１２６ａ，１２８ａ，１３０ａをロールブラシ１１６の軸方向に多数配列してなる３本の洗浄スプレー管１２６，１２８，１３０が垂直アーム１２０の中間部に支持された状態または構造でほぼ水平に架設されている。各洗浄スプレー管１２６，１２８，１３０は、垂直方向に延びる洗浄液供給管１３２，１３４，１３６を介してスクラバ本体１１８内蔵の洗浄液供給部（図示せず）に連通している。
【００５８】
３本の洗浄スプレー管１２６，１２８，１３０のうち、一端側の洗浄スプレー管１２６は、図７に示すように、スクラビング洗浄中に基板Ｇ上で洗浄ノズル１２６ａより所定の洗浄液ＣＷ（たとえば超純水）をロールブラシ１１６の進行方向（矢印Ａの方向）手前の基板表面に吹き付けるようになっている。
【００５９】
他端側の洗浄スプレー管１３０は、図７に示すように、スクラビング洗浄中にロールブラシ１１６によってスクラビング洗浄された直後の基板表面に対してロールブラシ１１６の進行方向とは逆の方向に向けて洗浄ノズル１３０ａより所定の洗浄液ＣＷ（たとえば超純水）を吹き付けるようになっている。
【００６０】
中央部の洗浄スプレー管１２８は、図８に示すように、スクラビング洗浄後にホームポジションＨＰで洗浄ノズル１２８ａより所定の洗浄液（たとえば超純水）ＣＷを真下のロールブラシ１１６に吹き付けるようになっている。
【００６１】
ブラシスクラバ機構１１２のホームボジションＨＰには、図６に示すように、ロールブラシ１１６を絞って汚れをとるためのブラシ絞り機構１４０と、所定の洗浄液（たとえば純水）ＣＷを所定の水面レベルで貯水しておくトレー形の洗浄槽１６０が設けられている。
【００６２】
このブラシ絞り機構１４０は、ロールブラシ１１６の周面（ブラシ面）を把持して半径方向内側に絞る上下一対の絞りアーム１４２と、これらの絞りアーム１４２を開閉（加圧／開放）駆動するアーム駆動部１４４と、絞りアーム１４２およびアーム駆動部１４４を搭載するキャリッジ１４６と、このキャリッジ１４６をロールブラシ１１６の軸１１６ａと平行な方向（矢印Ｅ，Ｅ’の方向）に水平移動させるキャリッジ送り部１４８とから構成されている。
【００６３】
各絞りアーム１４２はロールブラシ１１６の直径よりも幾らか小さな内径を有する半円形のハンド部を有しており、アーム基端部はたとえば電動モータまたはロータリアクチエータからなるアーム駆動部１４４の駆動軸に結合されている。
【００６４】
キャリッジ送り部１４８は、所定の間隔をおいて配設された駆動プーリ１５０と従動プーリ１５２との間に掛け渡された駆動ベルト１５４をキャリッジ１４６に固着し、駆動プーリ１５０に結合された電動モータ１５６の回転駆動力を駆動ベルト１５４の直線駆動力に変換して、キャリッジ１４６を水平ガイド棒１５８に沿って矢印Ｅ，Ｅ’の方向に送るようにしている。
【００６５】
再び図５において、洗浄ノズル機構１６２は、たとえば、基板Ｇの表面に向けて真上から洗浄液を吐出する複数本のノズル１６４と、これらのノズル１６４に洗浄液を供給する洗浄液供給部（図示せず）と、ノズル１６４をガイド１６６に沿って基板Ｇの長辺方向に送るノズル送り機構（図示せず）とを有している。なお、洗浄ノズル機構１６２によるブロー洗浄に際しては、スピンチャック機構６６も作動し、基板Ｇが回転するようになっている。
【００６６】
次に、この実施形態におけるスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２８の作用を説明する。
【００６７】
洗浄プロセス部２２の主搬送装置３８が基板Ｇをユニット（ＳＣＲ）２８に搬送してくると、このタイミングに合わせて図３に示すようにリフトピン７４が所定の高さ位置まで上昇し、主搬送装置３８より基板Ｇを受け取る。この時、カップ６４の上部側壁部８４は図３に示す最下位の高さ位置に下降しており、主搬送装置３８の搬送アームはカップ６４の中に入ることができる。
【００６８】
次いで、主搬送装置３８の搬送アームがカップ６４の外に退避した後に、リフトピン７４が基板Ｇを水平に担持したまま下降して、チャックプレート６８に基板Ｇを載せる。チャックプレート６８上で基板Ｇは支持ピン７０に担持され、保持ピン７２によって保持される。次いで、カップ上部側壁部８４は図５の高さ位置まで上昇する。
【００６９】
上記のようにして基盤Ｇの搬入が完了した後、ブラシスクラバ機構１１２によるスクラビングまたはブラッシング洗浄が開始される（図５）。このスクラビング洗浄では、固定（静止）状態に置かれたチャックプレート６８上の基板Ｇに対してロールブラシ１１６を一定の圧力で接触させながら回転させて擦り合わせ、かつ基板Ｇ上を端から端まで移動または走査する。
【００７０】
このブラッシング洗浄に際しては、図７に示すように、ロールブラシ１１６の上方に位置し、かつロールブラシ１１６と一緒に移動する前部の洗浄スプレー管１２６のノズル１２６ａよりロールブラシ１１６の進行方向手前の基板表面に洗浄液ＣＷが吹き付けられる。ここで、洗浄スプレー管１２６のノズル１２６ａからの洗浄液ＣＷの吹き出し方向は、スプレー管１２６の長さ方向と直交する面内の適当な角度範囲θfで可変としてもよい。このように、スクラビングされる直前の基板表面が洗浄スプレー管１２６からの洗浄液ＣＷで濡らされるため（プレウエット）、スクラビングに際してロールブラシ１１６と基板Ｇの双方の磨耗を低減し、各々のダメージを少なくすることができる。また、事前に基板表面の除去すべき異物にも事前に洗浄液が浸透するので、基板Ｇの汚れが除去されやすくなる。
【００７１】
さらに、本実施形態では、図７に示すように、ロールブラシ１１６の上方に位置し、かつロールブラシ１１６と一緒に移動する後部の洗浄スプレー管１３０のノズル１３０ａよりロールブラシ１１６の通過直後の基板表面に対してロールブラシ１１６の進行方向（矢印Ａの方向）とは逆の方向に向けて洗浄液ＣＷが吹き付けられる。ここで、洗浄スプレー管１３０のノズル１３０ａからの洗浄液ＣＷの吹き出し方向は、スプレー管１３０の長さ方向と直交する面内の適当な角度範囲θr内で可変としてもよい。このように、スクラビングされた直後の基板表面に洗浄液ＣＷが吹き付けられることにより、基板表面から擦り取られて基板上で漂遊している異物が洗浄液ＣＷで迅速、簡便かつ効果的に洗い流される。しかも、ロールブラシ１１６の進行方向とは逆の方向に向けて洗い流されるため、ロールブラシ１１６に異物が転移するおそれはない。
【００７２】
なお、図７に示すように、ロールブラシ１１６の回転方向は、基板表面から擦り取られた異物がロールブラシ１１６の進行方向とは逆の方向に送られるような向き（図７の矢印Ｂの向き）に設定されるのが普通である。
【００７３】
上記のようなスクラビング洗浄では、基板Ｇから四方に洗浄液が飛散する。とりわけ、ロールブラシ１１６から見て基板Ｇの後方端から外へ洗浄液が多く飛散または落下し、その飛散または落下した洗浄液に混じって異物も基板Ｇの外へ飛散または落下する。飛散または落下した洗浄液および／または異物は、カップ６４の上部側壁部８４の内壁に当たってから、あるいは直接落下して、カップ底部の排液回収室９０に集められ、廃液口９０よりカップ６４の外へ排出される。
【００７４】
スクラビング洗浄が終了すると、基板Ｇ上で今度は洗浄ノズル機構１６２によるブロー洗浄が行われる。このブロー洗浄では、ノズル１６４が超音波振動の高圧洗浄液を基板Ｇに向けて噴射しながら、基板上を水平方向に往復移動する。一方、スピンチャック機構６６も作動して、基板Ｇをチャックプレート６８と一体に所定の回転速度で回転させる。これにより、基板Ｇの表面全体が漏れなくブロー洗浄され、先のスクラビング洗浄によっても除去しきれなかった汚れが洗い落とされる。
【００７５】
本実施形態のスクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２８では、先のブラシスクラバ機構１１２によるスクラビング洗浄において、ロールブラシ１１６の通過直後の基板表面に漂遊している異物が洗浄スプレー管１３０によるスプレー洗浄によって迅速かつ効果的に基板Ｇ上から除去されているので、次工程または後処理であるブロー洗浄の負担が従来よりも大幅に軽減されている。このため、洗浄ノズル機構１６２の簡易化ないし小型化やブロー洗浄時間の短縮化等を実現できる。あるいは、洗浄ノズル機構１６２を省く、つまりブロー洗浄を省くことも可能である。
【００７６】
上記のような洗浄機構１１０による基板Ｇの洗浄が終了すると、洗浄機構１１０をカップ６４の外へ退避させた状態でスピン乾燥が行われる。このスピン乾燥では、スピンチャック機構６６が基板Ｇをブロー洗浄時よりも大きな回転速度で一定時間回転させる。この高速回転により、基板Ｇの表面ないし裏面に付着していた洗浄液が遠心力によって周囲に振り切られ、短時間で基板Ｇは乾燥した状態になる。
【００７７】
スピン乾燥が終了すると、図３に示すように、リフトピン７４が上昇して基板Ｇをスピンプレート６８から所定の高さ位置まで持ち上げ、カップ上部側壁部８４が最も低い設定位置まで下降する。そこに、主搬送装置３８の搬送アームが入ってきて、リフトピン７４から基板Ｇを受け取って、ユニット（ＳＣＲ）２８の外へ搬出する。搬出された基板Ｇの表面は、上記のようなスクラビング洗浄を施されており、異物が殆ど付着していないので、清浄度の高い面になっている。したがって、次工程のレジスト塗布処理や現像処理においてもコンタミネーションやパーティクルの少ない処理結果が得られ、ひいては歩留まりの高いＬＣＤが得られる。
【００７８】
ところで、スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２８においては、上記のようなスクラビング洗浄が終了すると、ブラシスクラバ機構１１２のスクラバ本体１１８ないしロールブラシ１１６等の基板洗浄部は、カップ６４の外のホームポジションＨＰへ戻る。ホームポジションＨＰでは、早速、図６に示すように、ブラシ絞り機構１４０が作動して、スクラビング洗浄を終えた直後のロールブラシ１１６をクリーニングする。
【００７９】
ブラシ絞り機構１４０において、より詳細には、両絞りアーム１４２が一点鎖線で示すように開いた状態（１４２’）でロールブラシ１１６を迎え、ロールブラシ１１６の到着後にアーム駆動部１４４の駆動により両側からリング状に合わさるように閉じてロールブラシ１１６の周面（ブラシ面）に適当な深さで食い込む。次に、キャリッジ送り部１４８が起動して、電動モータ１５６が一方向たとえば時計回りに回転することにより、プーリ１５０，１５２および駆動ベルト１５４を介してキャリッジ１４６が一方向たとえば矢印Ｅ’の方向に水平移動する。このキャリッジ１４６の水平移動に伴って、両絞りアーム１４２がロールブラシ１１６のブラシ面を絞りながら同方向（矢印Ｅ’の方向）に水平移動してロールブラシ１１６を擦り、ロールブラシ１１６に含まれている洗浄水をロールブラシ１１６の一端側に押しやる。その際、ロールブラシ１１６に付着している異物も洗浄液と一緒にロールブラシ１１６の一端側に押しやられる。このように、ロールブラシ１１６の一端側に押しやられる過程で、または押しやられた結果として、異物を含む洗浄液がロールブラシ１１６から離脱し、下の洗浄槽１６０に回収される。
【００８０】
両絞りアーム１４２がロールブラシ１１６の一端部に達すると、そこでいったん電動モータ１５６の回転駆動が停止し、キャリッジ１４６の移動が停止する。次に、電動モータ１５６が逆方向（反時計回り）に回転し、キャリッジ１４６が上記とは反対の方向（矢印Ｅの方向）に水平移動する。このキャリッジ１４６の水平移動においても、両絞りアーム１４２が上記と同様にロールブラシ１１６を擦することにより、ロールブラシ１１６中の異物を洗浄水と一緒に他端側に押しやって、ロールブラシ１１６から離脱させる。
【００８１】
上記のようなキャリッジ１４６ないし絞りアーム１４２の往復移動動作は所定回数繰り返される。こうして、先のスクラビング洗浄で基板Ｇからロールブラシ１１６に転移または付着した異物は、ホームポジションＨＰで洗浄液と一緒にロールブラシ１１６から絞り出されるようにして除去される。
【００８２】
上記のようなブラシ絞り機構１４０によるロールブラシ１１６のクリーニングが終了すると、アーム駆動部１４４の駆動で両絞りアーム１４２が開いて、ロールブラシ１１６を開放する。次に、ブラシスクラバ本体１１８が下降して、図８に示すようにロールブラシ１１６を洗浄槽１６０内の洗浄液ＣＷに部分的に（下端部ないし中間部まで）浸す。
【００８３】
本実施形態のブラシスクラバ機構１１２では、上記のようなブラシ絞り機構１４０から独立して、あるいはそれと併用可能に、ロールブラシ１１６をクリーニングする手段が中央部洗浄スプレー管１２８の形態でスクラバ本体１１８に取り付けられている。
【００８４】
この洗浄スプレー管１２８によるブラシクリーニングは、図８に示すようにロールブラシ１１６が洗浄槽１６０に入っている状態で実施されてよい。この場合、スクラバ本体１１８内蔵のブラシ回転駆動部が作動してロールブラシ１１６を所定の速度で回転させながら、真上の洗浄スプレー管１２８のノズル１２８ａがロールブラシ１１６に向けて、好ましくは矢印Ｆおよび／またはＧで示すようにロールブラシ１１６の側部より少し上方の部位に向けて少し斜めに、洗浄液ＣＷを勢いよく、好ましくは矢印Ｆおよび／またはＧで示すようにブレード状の層流で吐出する。
【００８５】
このように、真上のノズル１２８ａより吐出されたブレード状の洗浄液が勢いよくロールブラシ１１６の側部付近を擦るように当たり、その水勢または衝撃でロールブラシ１１６に残存している異物が削ぎ落とされる。
【００８６】
なお、ロールブラシ１１６が洗浄槽１６０内の洗浄液ＣＷに部分的に浸された状態で回転するため、液面上でもロールブラシ１１６のブラシ面は洗浄液ＣＷで浸されており、これによってロールブラシ１１６から異物を除去しやすくなっている。しかし、必要に応じて、ロールブラシ１１６を洗浄槽１６０の洗浄液ＣＷに浸さずに、上記洗浄スプレー管１２８によるブラシクリーニングを行うことも可能である。
【００８７】
上記洗浄スプレー管１２８によるブラシクリーニングは、上記ブラシ絞り機構１４０によるブラシクリーニングに先立って行うことも可能である。また、これら両ブラシクリーニングにおいて別々の洗浄槽１６０を用いたり、洗浄槽１６０内の洗浄液を適宜交換または補充することも可能である。
【００８８】
上記のように、本実施形態のブラシスクラバ機構１１２においては、スクラビング洗浄によって基板Ｇからの異物を吸い込んでいるロールブラシ１１６をホームポジションＨＰでブラシ絞り機構１４０および／または洗浄スプレー機構（１２８，１１８）により迅速、簡便かつ効果的にクリーニングして汚れを除去するようにしたので、常時安定したスクラビング洗浄力を保証できる。さらには、ロールブラシ１１６の寿命または交換サイクルを長くしてメンテナンスコストを下げることもできる。
【００８９】
図９に、本実施態様のブラシスクラバ機構１１２で使用可能なロールブラシの一変形例を示す。この変形例におけるロールブラシ１７０は、周面（ブラシ面）に軸方向に延在するスパイラル（螺旋）状の溝１７２を設けてなるものである。ロールブラシ１７０のブラシ部の材質としては、可撓性を有する多孔質の部材たとえばスポンジ材等が好適である。ロールブラシ１７０の長さは、両端部が基板Ｇおよびチャックプレート６８から外に少しはみ出る寸法に選ばれてよい。
【００９０】
かかる構成のロールブラシ１７０によって上記のようなスクラビング洗浄が行われると、基板表面からロールブラシ１７０に転移した異物がロールブラシ１７０と基板Ｇ間の擦り合いの中でスパイラル溝１７２に集められるとともに、スパイラル溝１７２に沿ってブラシ軸方向に移動して、終いにはブラシ端部より洗浄液と一緒に吐き出される。ロールブラシ１７０の両端部は基板Ｇおよびチャックプレート６８の外にはみ出ているので、ブラシ端部より吐き出された異物は基板Ｇやチャックプレート６８に付着することなく落下し、カップ６４底部の廃液回収室９０に回収される。
【００９１】
上記のようなスパイラル溝１７２による異物回収効果は、上記ブラシ絞り機構１４０におけるブラシクリーニングに際しても奏される。
【００９２】
なお、図９の変形例ではロールブラシ１７０に１本のスパイラル溝１７２を設ける構成であったが、複数本のスパイラル溝、たとえばブラシ中央から左右対象に外側に延びる２本のスパイラル溝を設ける構成も可能である。また、一般のロールブラシ構造、つまり円柱状または円筒状の基体に繊維または樹脂等を多数植毛してなる構造でも、上記と同様のスパイラル溝を設けることが可能である。
【００９３】
図１０に、本実施態様のブラシスクラバ機構１１２における洗浄スプレー管１３０による洗浄液の吹き付けに際してミストの発生を効果的に防止または抑制するための一構成例を示す。この構成例では、後部洗浄スプレー管１３０の隣に下向きのノズルまたは吐出口１７４ａを多数配列してなるエアースプレー管１７４をほぼ水平に配設している（支持アーム１２０に取付してよい）。そして、基板Ｇに向けて洗浄スプレー管１３０のノズル１３０ａより洗浄液ＣＷを吹き付ける時は、それと一緒にエアースプレー管１７４のノズル１７４ａよりカーテン状の層流でエアーＡＲを吐出する。ここで、エアー吐出ノズル１７４ａより吐出されるエアーＡＲの向きを、洗浄液吐出ノズル１３０ａより吐出された洗浄液ＣＷの上に被さる（覆う）ように設定する。これにより、基板Ｇに対して洗浄スプレー管１３０より洗浄水ＣＷを強く吹き付けてもミストの発生を効果的に防止ないし抑制できる。
【００９４】
上記した実施態様のブラシ絞り機構１４０では、ロールブラシ１１６の周面を機械的な絞りアーム１４２の加圧力で絞ったが、エアーの加圧力を利用するブラシ絞り手段の構成も可能である。たとえば、絞りアーム１４２と同様の形状を有するアームの内側面（ロールブラシと対向する面）に所定のピッチで多数のエアー吐出口を設け、それらのエアー吐出口より吐出されるエアーの加圧力によって半径方向内側に向う圧力（絞り力）をロールブラシに与えることができる。
【００９５】
上記実施態様のブラシスクラバ機構１１２では３本の洗浄スプレー管１２６，１２８，１３０を横一列に配置したが、これら洗浄スプレー管の配置構成は種々変形可能であり、たとえばブラシクリーニング用の洗浄スプレー管１２８を最下位にして縦一列に配置してもよい。また、各洗浄スプレー管１２６，１２８，１３０自体の構成も種々の変形が可能であるのはもちろんである。また、ブラシクリーニング用の洗浄スプレー管１２８を、ロールブラシ１１６と一体に移動させる代わりに、ホームポジションＨＰ付近の所定位置に設けることも可能である。上記実施態様におけるスピンチャック機構６６やカップ６４等の構成も一例であり、種々の変形・変更・選択が可能である。
【００９６】
本発明の基板洗浄方法または装置は、塗布現像処理に限定されるものではなく、スクラビング方式の洗浄を行う任意のアプリケーションに適用可能である。本発明における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、半導体ウエハ、ＣＤ基板、ガラス基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。
【００９７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、スクラビング洗浄の洗浄効果を向上させることができる。また、スクラビング洗浄で用いるロールブラシの汚れを効果的に取り除いてスクラビング洗浄力を安定に維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の基板処理装置が適用可能な塗布現像処理システムの構成を示す平面図である。
【図２】一実施形態の塗布現像処理システムにおける処理の手順を示すフローチャートである。
【図３】実施形態のスクラバ洗浄ユニット内の構成（基板の搬入出時）を示す略断面図である。
【図４】実施形態のスクラバ洗浄ユニットにおけるチャックプレートの上面の構成を示す平面図である。
【図５】実施形態のスクラバ洗浄ユニット内の構成（洗浄時）を示す略断面図である。
【図６】実施形態のスクラバ洗浄装置のホームポジョンにおける構成を示す斜視図である。
【図７】実施形態のスクラバ洗浄装置におけるスクラビング洗浄部の構成および作用を模式的に示す図である。
【図８】実施形態のスクラバ洗浄装置におけるブラシクリーニング部の構成および作用を模式的に示す図である。
【図９】一変形例によるロールブラシの構成を示す斜視図である。
【図１０】一変形例によるスクラビング洗浄部の構成と作用を模式的に示す図である。
【符号の説明】
２８    スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）
６０    ケーシング
６２    スクラバ洗浄装置
６４    カップ（処理容器）
６６    スピンチャック機構
６８    チャックプレート
１１０    洗浄機構
１１２    ブラシスクラバ機構
１１６    ロールブラシ
１１８    ブラシスクラバ本体
１２６    （前方洗浄用）洗浄スプレー管
１２８    （ブラシクリーニング用）洗浄スプレー管
１３０    （後方洗浄用）洗浄スプレー管
１４０    ブラシ絞り機構
１６０    洗浄槽
１７０    ロールブラシ
１７２    スパイラル溝
【図１】
0003707026.tif 000002
【図２】
0003707026.tif 000003
【図３】
0003707026.tif 000004
【図４】
0003707026.tif 000005
【図５】
0003707026.tif 000006
【図６】
0003707026.tif 000007
【図７】
0003707026.tif 000008
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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