(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、下記一般式（Ｖ−１）または（Ｖ−２）で表されるオキソノール色素と下記一般式（Ｉ）で表される第４級ビピリジニウム塩とを含む記録層を有することを特徴とする情報記録媒体。
【化１】
0003666702.tif 000041
式中、Ｍn+は、第４級ビピリジニウムを表し、Ｘm-は陰イオンを表す。ｎは２を表す。ｍは１を表す。
【化２】
0003666702.tif 000042
式中、Ａ，Ａ′，Ｂ，Ｂ′は独立して置換基を表す。Ｙ，Ｚは、炭素環もしくは複素環を形成するのに必要な原子団を表す。Ｅ，Ｇは共役二重結合鎖を完成する原子団を表す。Ｘ，Ｘ′はそれぞれ、酸素、窒素、またはＣ（ＣＮ）2を表す。Ｌ6，Ｌ7，Ｌ8，Ｌ9，およびＬ10はそれぞれ置換されていてもよいメチン基を表し、Ｑは、水素原子またはカチオン（第４級アンモニウムを含む）を表し、ｍ，ｎはそれぞれ独立に０，１または２を表し、ｔ，ｙはそれぞれ独立に０または１を表し、ｋは整数を表す。
【請求項２】
Ｍn+が下記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で表されることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【化３】
0003666702.tif 000043
式中、Ｒ1，Ｒ2は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表す。Ｒ3，Ｒ4は、置換基（置換原子を含む）を表す。Ｒ5，Ｒ6は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表す。なお、Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4またはＲ5とＲ6が互いに連結して環を形成してもよい。ｐおよびｑは０から４の整数を表し、ｐが２以上の場合、Ｒ3は互いに同じでも異なってもよく、ｑが２以上の場合、Ｒ4は互いに同じでも異なってもよい。
【請求項３】
該記録層上に反射層が設けられた請求項１または請求項２に記載の情報記録媒体。
【請求項４】
請求項１記載のオキソノール色素と請求項１記載の一般式（Ｉ）で表される化合物とを混合することを特徴とする請求項１記載の情報記録媒体の記録層のオキソノール色素の退色防止方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機色素であるオキソノール色素の退色防止方法および高エネルギー密度のレーザ光を用いて情報の書き込み可能な情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
レーザ光により情報の記録が可能な情報記録媒体（光ディスク）は、ＣＤ−Ｒあるいは追記型ＣＤと呼ばれ、例えばコンピュータ用ディスクメモリーとして広く使用されている。ＣＤ−Ｒの基本構造は、ポリマーからなる基板上にレーザ光により情報の記録が可能な記録層が設けられたものである。その記録層としては、Ｔｅ、Ｉｎ等の金属からなる層、そしてシアニン色素等の色素からなる層が一般的である。色素記録層は、金属のように蒸着法でなく、塗布により容易に形成でき製造コストの面で有利であり、さらに金属記録層に比べて高感度であるが、一般に熱及び光に対する安定性が低いなどの問題点があり、必ずしも長期にわたって安定した満足すべき記録特性を有する記録層が開発されていないのが現状である。
【０００３】
これらの色素記録層における問題点を改良するために、一重項酸素クエンチャーを添加することが一般的に行われている。例えば、特公平１−３８６８０号および、特開平４−１４６１８９号公報等には、光に対する保存性（耐光性）と再生劣化を改良するために、シアニン系色素と一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物からなる記録層を有する光記録媒体が開示されている。また、特開平２−３００２８８号公報には、シアニン系色素とニトロソ化合物からなる記録層が設けられた光記録媒体が開示されている。
【０００４】
十分な記録特性を長期にわたり維持し得るような安定性にすぐれた色素記録層を有する光情報記録媒体として特開昭６３−２０９９９５号公報には、オキソノール色素と一重項酸素クエンチャーとして遷移金属錯体からなる記録層が基板上に設けられた記録媒体が開示されている。
【０００５】
しかし、これらの遷移金属錯体は、環境上において好ましくない化合物である。また、ニトロソ化合物は耐光性を向上させるためには大量の添加が必要であるが、この場合、光記録媒体に要求される重要な性能である反射率を著しく低下させるため、大量に添加したくてもできない大きな問題があった。
【０００６】
さらに、米国特許第４６５６１２１号には、シアニン系色素またはメロシアニン系色素とジインモニウム系化合物からなる記録層を有する化合物が開示されている。しかし、これらの化合物は、使用されるレーザ光の波長域に吸収を有するため、その使用量によっては記録媒体の反射率が低下するという問題点があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の主な目的は、光に対する安定性を改良するためのオキソノール色素の退色防止方法および十分な記録特性を長期にわたって維持し得るような安定性を有し、更に耐光性が顕著に向上した情報記録媒体を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記の目的は、以下に示す（１）〜（４）により達成される。
（１）基板上に、下記一般式（Ｖ−１）または（Ｖ−２）で表されるオキソノール色素と下記一般式（Ｉ）で表される第４級ビピリジニウム塩とを含む記録層を有することを特徴とする情報記録媒体。
【０００９】
【化３】
0003666702.tif 000002
【００１０】
式中、Ｍn+は、第４級ビピリジニウムを表し、Ｘm-は陰イオンを表す。ｎは２を表す。ｍは１を表す。
【化４】
0003666702.tif 000003
式中、Ａ，Ａ′，Ｂ，Ｂ′は独立して置換基を表す。Ｙ，Ｚは、炭素環もしくは複素環を形成するのに必要な原子団を表す。Ｅ，Ｇは共役二重結合鎖を完成する原子団を表す。Ｘ，Ｘ′はそれぞれ、酸素、窒素、またはＣ（ＣＮ）2を表す。Ｌ6，Ｌ7，Ｌ8，Ｌ9，およびＬ10はそれぞれ置換されていてもよいメチン基を表し、Ｑは、水素原子またはカチオン（第４級アンモニウムを含む）を表し、ｍ，ｎはそれぞれ独立に０，１または２を表し、ｔ，ｙはそれぞれ独立に０または１を表し、ｋは整数を表す。
（２）Ｍn+が下記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で表されることを特徴とする（１）に記載の情報記録媒体。
【００１１】
【化４】
0003666702.tif 000004
【００１２】
式中、Ｒ1，Ｒ2は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表す。Ｒ3，Ｒ4は、置換基（置換原子を含む）を表す。Ｒ5，Ｒ6は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表す。なお、Ｒ1とＲ2、Ｒ3とＲ4またはＲ5とＲ6が互いに連結して環を形成してもよい。ｐおよびｑは０から４の整数を表し、ｐが２以上の場合、Ｒ3は互いに同じでも異なってもよく、ｑが２以上の場合、Ｒ4は互いに同じでも異なってもよい。
（３）該記録層上に反射層が設けられた（１）または（２）に記載の情報記録媒体。
（４）  前記（１）記載のオキソノール色素と前記（１）記載の一般式（Ｉ）で表される化合物とを混合することを特徴とする前記（１）記載の情報記録媒体の記録層のオキソノール色素の退色防止方法。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の情報記録媒体は、以下に述べるような方法により製造することができる。
本発明の情報記録媒体の基板は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えば、ガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル等を挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【００１４】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善接着力の向上および、記録層の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤をあげることができる。
下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００１５】
また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形成されていることが好ましい。このグルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されることが好ましい。
またグルーブ形成を、プレグルーブ層が設けられることにより行ってもよい。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステルのうち少なくとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離することにより得ることができる。
【００１６】
プレグルーブ層の層厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。基板上に設けられるプレグルーブの深さは３００〜２０００Åの歯に範囲のものが、その半値幅は、０．２〜０．９μｍの範囲にあることが好ましい。また、プレグルーブ層の深さを１５００〜２０００Åの範囲にすることにより反射率をほとんど低下させることなく感度を向上させることができ、特に好ましい。従って、このような光ディスク（深いプレグルーブの基板にオキソノール色素の記録層および反射層が形成された光ディスク）は、高い感度を有することから、低いレーザーパワーでも記録が可能となり、これにより安価な半導体レーザの使用が可能となる、あるいは半導体レーザの使用寿命を延ばすことができる等の利点を有する。
【００１７】
基板上には、色素記録層が設けられる。本発明の色素記録層は、一般式（Ｉ）で表される第４級ビピリジニウム塩を含むことを特徴としている。
【００１８】
上記の様に、オキソノール色素に対し第４級ビピリジニウム塩を混合することで、光に対する安定性が高まることが明らかとなった。ここで、混合とは、第４級ビピリジニウム塩とオキソノール色素の両者が可溶な溶媒での溶液状態であっても、この溶液を基板上などに塗布して塗膜形成後に乾燥して得られる無溶媒の状態であってもよい。
【００１９】
第４級ビピリジニウムは２、２′−ビピリジル、４、４′−ビピリジルなどをアルキル化、アルケニル化、アルキニル化あるいはアリール化して得られる。
【００２０】
第４級ビピリジニウムは、Ｍn+で表される。
【００２１】
ｎは２を表す。
【００２２】
Ｘm-で表される陰イオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであっても良く、例えば、、ハライドイオン（Ｃｌ- 、Ｂｒ- 、Ｉ- など）、スルホナートイオン（ＣＨ3 ＳＯ3 - 、ＣＦ3 ＳＯ3 - 、ＣＦ3 （ＣＦ2 ）7 ＳＯ3 - 、ｐ−トルエンスルホナートイオン、ナフタレン−１，５−ジスルホナートイオンなど）、硫酸イオン（ＣＨ3 ＳＯ4 - など）、ＣｌＯ4 - 、ＢＦ4 - 、ＳｂＦ6 - 、およびリン酸イオン（ＰＦ6 - 、
【００２３】
【化６】
0003666702.tif 000005
【００２４】
など
および、金属錯体イオン（例えば、
【００２５】
【化６】
0003666702.tif 000006
【００２６】
【化７】
0003666702.tif 000007
【００２７】
【化８】
0003666702.tif 000008
【００２８】
など）を挙げることができる。
【００２９】
好ましい陰イオンはＣｌ- 、Ｂｒ- 、Ｉ- 、ｐ−トルエンスルホナートイオン、ＣｌＯ4 - 、ＢＦ4 - 、ＳｂＦ6 - である。
【００３０】
Ｍn+で表される第４級ビピリジニウムで好ましいものは一般式（ＩＩ）または一般式（ＩＩＩ）で表されるものである。
【００３１】
Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ5 およびＲ6 で表されるアルキル基は、炭素数１から１８の置換または無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、シクロプロピル等が挙げられる。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ、Ｂｒ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のアルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ等）、炭素数６から１０のアリールオキシ（例、フェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のアルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ等）、炭素数６から１０のアリールチオ（例、フェニルチオ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアシル基（例、アセチル、プロピオニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルケニル基（例、ビニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルキニル基（例、エチニル等）、炭素数６から１０のアリール基（例、フェニル、ナフチル等）、炭素数７から１１のアリーロキシカルボニル基（例、ナフトキシカルボニル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８のアミノ基（例、無置換のアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、モリホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８のスルファモイル基（例、無置換のスルファモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、水酸基、ヘテロ環基（例、オキサゾール、ベンゾオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、インドレニン、ピリジン、スルホラン、フラン、チオフェン、ピラゾール、ピロール、クロマン、クマリンなど）を挙げることができる。
【００３２】
Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ5 およびＲ6 で表されるアルケニル基は、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、１，３−ブタジエニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。
アルケニル基の置換基としては、アルケニル基を除くアルキル基の置換基として挙げたものと同義である。
【００３３】
Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ5 およびＲ6 で表されるアルキニル基は、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖、または環状のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、２−プロピニル等が挙げられる。アルキニル基の置換基としては、アルキニル基を除くアルキル基の置換基として挙げたものと同義である。
【００３４】
Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ5 およびＲ6 で表されるアリール基は、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられる。
アリール基の置換基としては、アルキル基の置換基として挙げたものと同義であり、さらに置換基としてアルキル基（例、メチル、エチル等）が挙げられる。
【００３５】
Ｒ1 とＲ2 は互いに連結して環を形成してもよい。環を形成する場合、Ｒ1 とＲ2 中の炭素原子同士、炭素原子とヘテロ原子、またはヘテロ原子同士で結合するのが好ましい。より好ましくは炭素原子同士であり、特に好ましくは、メチレン基同士で結合するのが好ましい。
【００３６】
Ｒ5 とＲ6 は互いに連結して環を形成することが好ましい。形成される環は、５、６、７員環が好ましく、より好ましくは６員環である。環を形成する場合、Ｒ5 とＲ6 中の炭素原子同士、炭素原子とヘテロ原子またはヘテロ原子同士が結合することにより環が形成されるが、好ましくはＲ5 とＲ6 中の炭素原子同士の結合によるものである。より好ましくは、メチレン基の結合によって形成される環である。
【００３７】
Ｒ3 またはＲ4 で表される置換基は、例えば、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、メトキシエチル、エトキシカルボニルエチル、シアノエチル、ジエチルアミノエチル、ヒドロキシエチル、クロロエチル、アセトキシエチル等）、炭素数７から１８、好ましくは炭素数７から１２の置換もしくは無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル、カルボキシベンジル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルケニル基（例、ビニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルキニル基（例、エチニル等）、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、４−メチルフェニル、４−メトキシフェニル、４−カルボキシフェニル、３、５−ジカルボキシフェニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換のアシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、クロロアセチル等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、炭素数７から１８、好ましくは炭素数７から１２のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニル等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−ブトキシ、メトキシエトキシ等）、炭素数６から１８、好ましくは炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリールオキシ（例えば、フェノキシ、４−メトキシフェノキシなど）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８の置換もしくは無置換のアシルオキシ（例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルキシ、ベンゾイルオキシ、クロロアセチルオキシなど）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のスルホニルオキシ（例えば、メタンスルホニルオキシ等）、炭素数２から１８、好ましくは炭素数２から８のカルバモイルオキシ基（例えば、メチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバモイルオキシ等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８の置換もしくは無置換のアミノ基（例えば、無置換のアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、モリホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、メチルスルファモイルアミノ、フェニルスルファモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、エチルチオカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイル��ミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から８の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル等）、炭素数０から１８、好ましくは炭素数０から８の置換もしくは無置換のスルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基等が挙げられる。
【００３８】
Ｒ3 、Ｒ4 で表される置換基は、水素原子、またはアルキル基であることが好ましい。特に好ましくは、水素原子である。
【００３９】
Ｒ3 とＲ4 が互いに連結して炭素環または複素環を形成してもよい。好ましくは、炭素環であり、より好ましくはＲ3 とＲ4 それぞれ結合しているピリジン環との縮合芳香環である。
【００４０】
上記一般式（Ｉ）で表される第４級ビピリジニウム塩の例を次に記載する。
【００４１】
【化９】
0003666702.tif 000009
【００４２】
【化１０】
0003666702.tif 000010
【００４３】
【化１１】
0003666702.tif 000011
【００４４】
【化１２】
0003666702.tif 000012
【００４５】
【化１３】
0003666702.tif 000013
【００４７】
本発明の光記録媒体において用いられる一般式（Ｉ）の化合物は単独で用いても、２種以上併用して用いてもよく、あるいは本発明の化合物以外の公知のクエンチャーと併用してもよい。
【００４８】
併用するクエンチャーの代表例としては、特開平３−２２４７９３号公報の一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）もしくは（Ｖ）で表される金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩や特開平２−３００２８７号公報や特開平２−３００２８８号公報で示されるニトロソ化合物などを挙げることができる。
【００４９】
上記一般式（Ｉ）の添加量（併用するクエンチャーがある場合にはそれらも含む）はオキソノール色素１００重量部に対して１〜２００重量部であり、好ましくは１〜１００重量部、より好ましくは１〜５０重量部である。
【００５０】
本発明で上記一般式（Ｉ）で表される第４級ビピリジニウム塩とともに記録層に含有することができる有機色素は、オキソノール色素であり、一般式（Ｖ−１）、（Ｖ−２）で表される。
【００５３】
【化１６】
0003666702.tif 000014
【００５４】
但し、Ａ，Ａ′，Ｂ，Ｂ′は独立して置換基を表す。Ｙ，Ｚは、炭素環もしくは複素環を形成するのに必要な原子団を表す。Ｅ，Ｇは共役二重結合鎖を完成する原子団を表す。Ｘ，Ｘ′はそれぞれ、酸素、窒素、またはＣ（ＣＮ）２を表す。Ｌ６，Ｌ７，Ｌ８，Ｌ９，およびＬ１０はそれぞれ置換されていてもよいメチン基を表し、Ｑは、水素原子またはカチオン（第４級アンモニウムを含む）を表し、ｍ，ｎはそれぞれ独立に０，１または２を表し、ｔ，ｙはそれぞれ独立に０または１を表す。
【００８０】
次に本発明に用いられる一般式（Ｖ−１）および一般式（Ｖ−２）で表されるオキソノール色素について詳しく説明する。
【００８１】
Ａ，Ａ′，Ｂ，Ｂ′で表される置換基としては、例えば、炭素数１から８の置換もしくは無置換のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、メトキシエチル、エトキシエチル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルエチル、シアノエチル、ジエチルアミノエチル、ヒドロキシエチル、クロロエチル、アセトキシエチル、トリフルオロメチル等）、炭素数７から１２の置換もしくは無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル、２−カルボキシベンジル等）、炭素数６から１８の置換もしくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、４−メチルフェニル、４−メトキシフェニル、４−クロロフェニル等）、炭素数２から６の置換もしくは無置換のアシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、クロロアセチル等）、炭素数２から６のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、炭素数７から１２のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェノキシカルボニル等）、炭素数１から８の置換もしくは無置換のアルキオチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ等）、炭素数６から１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ等）、炭素数１から４の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−ブトキシ、メトキシエトキシ等）、炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ等）、炭素数２から８の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、ベンゾイルオキシ、クロロアセチルオキシ等）、炭素数２から８のカルバモイルオキシ基（例えば、メチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバモイルオキシ等）、炭素数０から１８の置換もしくは無置換のアミノ基（例えば、無置換のアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、フェニルアミノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、モルホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、メチルスルファモイルアミノ、エチルスルファモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、メチルチオカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ等）、炭素数１から８の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル等）、炭素数０から８の置換もしくは無置換のスルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなど）、炭素数１から８の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等）、炭素数６から１０の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基（ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等）、炭素数１から８のスルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素）、スルホ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、ヘテロ環基（例えば、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、５−カルボキシベンゾオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環等）等が挙げられる。
【００８２】
ＡまたはＡ′で表される置換基として好ましいのは，ハメットの置換基定数σp 値が０．２以上のものである。ハメットの置換基定数は例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）に記載されている。特に好ましい置換基としては例えば、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基である。
【００８３】
ＢまたはＢ′で表される置換基として好ましいのは、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基である。
【００８４】
Ｙに結合する−Ｃ−（Ｅ）t −Ｃ（＝Ｘ）−と、Ｚに結合する−Ｃ＝（Ｇ）y ＝Ｃ（−Ｘ′Ｑ）−とはそれぞれ共役状態にあるため、Ｙとこれに結合する−Ｃ−（Ｅ）t −Ｃ（＝Ｘ）−で表される炭素環もしくは複素環とＺとこれに結合する−Ｃ＝（Ｇ）y ＝Ｃ（−Ｘ′Ｑ）−で表される炭素環もしくは複素環はそれぞれ共鳴構造の１つとして考えられる。したがって以下、便宜的にＹおよびＺとこれに結合する−Ｃ−〔（Ｅ）t および（Ｇ）y 〕−Ｃ（＝ＸおよびＸ′）−で表される炭素環もしくは複素環について述べる。ＹおよびＺとこれに結合する−Ｃ−〔（Ｅ）t および（Ｇ）y 〕−Ｃ（＝ＸおよびＸ′）−で表される炭素環もしくは複素環としては４、５、６、７員環が好ましく、特に好ましくは、５、６員環である。これらの環はさらに他の４、５、６、７員環と縮合環を形成していてもよく、これらは置換基を有していてもよい。置換基としてはＡ，Ａ′，Ｂ，Ｂ′で表される置換基として示したものが挙げられる。複素環を形成するヘテロ原子として好ましいものは、Ｂ，Ｎ，Ｏ，Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅである。特に好ましくは、Ｎ，Ｏ，Ｓである。ｔおよびｙは、それぞれ独立に０または１を表すが、好ましくは０である。
【００８５】
Ｘ、Ｘ′は、酸素、窒素、Ｃ（ＣＮ）2 のいずれかを表すが、好ましくは、酸素である。
【００８６】
ＹおよびＺとこれに結合する−Ｃ−〔（Ｅ）t および（Ｇ）y 〕−Ｃ（＝ＸおよびＸ′）−で形成される炭素環としては例えば以下のものが挙げられる。
【００８７】
【化２１】
0003666702.tif 000015
【００８８】
好ましい炭素環は、化Ａ−１、化Ａ−４である。
【００８９】
ＹおよびＺとこれに結合する−Ｃ−〔（Ｅ）t および（Ｇ）y 〕−Ｃ（＝ＸおよびＸ′）−で形成される複素環としては、例えば、以下のものが挙げられる。
【００９０】
【化２２】
0003666702.tif 000016
【００９１】
【化２３】
0003666702.tif 000017
【００９２】
【化２４】
0003666702.tif 000018
【００９３】
【化２５】
0003666702.tif 000019
【００９４】
【化２６】
0003666702.tif 000020
【００９５】
好ましい複素環は、化Ａ−５、化Ａ−６、及び化Ａ−７である。Ｒa ，Ｒb ，Ｒc は独立して、水素原子または置換基を表す。
【００９６】
Ｒa 、Ｒb 、またはＲc で表される置換基は、Ａ，Ａ′，Ｂ，Ｂ′で表される置換基と同義である。
【００９７】
Ｌ6 ，Ｌ7 ，Ｌ8 ，Ｌ9 ，Ｌ10で表されるメチン基は、同一でも異なっていてもよく、無置換または置換基を有していてもよいメチン基であり、その置換基としては、Ａ，Ａ′，Ｂ，Ｂ′で表される置換基と同義である。好ましい置換基としてはアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、カルバモイル基、ヘテロ環基である。又置換基同志が連結して５、６または７員環（例えば、シクロペンテン環、１−ジメチルアミノシクロペンテン環、１−ジフェニルアミノシクロペンテン環、シクロヘキセン環、１−クロロシクロヘキセン環、イソホロン環、１−モルホリノシクロペンテン環、シクロヘプテン環など）を形成していてもよい。
【００９８】
Ｑは水素原子または１価のカチオンを表す。カチオンとしては、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオンなどのアルカリ金属イオン、無置換のアンモニウムイオン、トリアルキルアンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオンなどの有機イオンが挙げられる。
【００９９】
なお、一般式（Ｖ−１）および一般式（Ｖ−２）で表される色素化合物は、一般に該当する活性メチレン化合物（ピラゾロン、（チオ）バルビツール酸、インダンジオン、ヒドロキシフェナレンオン等）とメチン染料にメチン基またはポリメチン基を導入するためのメチン源との縮合反応によって合成することができる。この種の化合物についての詳細は、特公昭３９−２２０６９号、同４３−３５０４号、同５２−３８０５６号、同５４−３８１２９号、同５５−１００５９号、同５８−３５５４４号、特開昭４９−９９６２０号、同５２−９２７１６号、同５９−１６８３４号、同６３−３１６８５３号、同６４−４０８２７号、英国特許第１１３３９８６号、米国特許第３，２４７，１２７号、同４，０４２，３９７号、同４，１８１，２２５号、同５，２１３，９５６号、同５，２６０，１７９号等を参照することができる。
具体的には、モノメチン基の導入には、オルトギ酸エチル、オルト酢酸エチルなどのオルトエステル類、または、Ｎ，Ｎ−ジフェニルホルムアミジン塩酸塩等を使用でき、トリメチン鎖の導入には、トリメトキシプロペン、１，１，３，３−テトラメトキシプロパン、または、マロンアルデヒドジアニル塩酸塩（あるいはこれらの誘導体）等を使用でき、ペンタメチン鎖の導入には、グルタコンアルデヒドジアニル塩酸塩または１−（２，４−ジニトロフェニル）−ピリジニウムクロリド（あるいはこれらの誘導体）等を使用できる。
【０１００】
以下に一般式（Ｖ−１）および一般式（Ｖ−２）で表される色素化合物をアニオン部とカチオン部に分けて具体的に示す。
【０１０１】
【化２７】
0003666702.tif 000021
【０１０２】
【化２８】
0003666702.tif 000022
【０１０３】
【化２９】
0003666702.tif 000023
【０１０４】
【化３０】
0003666702.tif 000024
【０１０５】
【化３１】
0003666702.tif 000025
【０１０６】
【化３２】
0003666702.tif 000026
【０１０７】
【化３３】
0003666702.tif 000027
【０１０８】
【化３４】
0003666702.tif 000028
【０１０９】
【化３５】
0003666702.tif 000029
【０１１０】
【化３６】
0003666702.tif 000030
【０１１１】
【化３７】
0003666702.tif 000031
【０１１２】
【化３８】
0003666702.tif 000032
【０１１３】
【化３９】
0003666702.tif 000033
【０１１４】
【化４０】
0003666702.tif 000034
【０１１５】
【化４１】
0003666702.tif 000035
【０１１６】
以下に化合物の具体例を示すが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
【０１１７】
【化４２】
0003666702.tif 000036
【０１１８】
【表１０】
0003666702.tif 000037
【０１１９】
本発明の一般式（Ｖ−１）および一般式（Ｖ−２）で表される化合物は目的に応じて２種以上併用することができる。さらに、従来より情報記録媒体の記録材料として知られている任意の色素を併用してもよい。例えば、本発明に使用される色素以外のシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクアリリウム系色素、Ｎｉ，Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素等を挙げることができる。
【０１２０】
記録層の形成は、上記第４級アンモニウム塩、色素および、更に所望により結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことができる。
色素層塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１、２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２、２、３、３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノエチルエーテル、プロピレンングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮して単独または二種以上併用して適宜用いることができる。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑財などの各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１２１】
結合剤を使用する場合に結合剤の例としては、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布量の濃度は一般に０．０１〜１０％（重量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜５％（重量比）の範囲にある。
【０１２２】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。
記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみならず両面に設けられていてもよい。
【０１２３】
本発明の情報記録媒体は、上記記録層の上に、情報の再生時における反射率の向上の目的で、反射層が設けられる。
反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ，Ｓｅ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｔｅ，Ｐｂ，Ｐｏ，Ｓｎ，Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ，Ｎｉ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ａｌおよびステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組み合わせで、または合金として用いてもよい。  反射層は、例えば上記反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は一般には１０〜３００ｎｍにあり、好ましくは５０〜２００ｎｍである。
【０１２４】
また、反射層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられてもよい。この保護層は、基盤の記録層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ，ＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 ，ＳｎＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 などの無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着層を反射層上および／または基板上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらの適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。
【０１２５】
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する二枚の基板を記録層が内側となるように向かい合わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼り合わせタイプの記録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の円盤状基板のうち少なくとも一方に上記構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側スペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイッチタイプの記録媒体を製造することができる。
本発明の情報記録媒体は上記のような方法で製造することができる
このようにして得られる、反射率が極めて高くかつ記録再生特性にも優れた光ディスクで、耐光性においても向上している。すなわち、本発明の情報記録媒体は反射率が８０％前後と高いため、市販のＣＤプレーヤで再生することができる。従って、高反射率を有しかつ耐光性に優れた光ディスクも得ることができる。
【０１２６】
上記本発明の光情報記録方法は、上記情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。
まず、情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場合は１．２〜１４ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層と反射層との界面に空洞を形成（空洞の形成は、記録層または反射層の変形、あるいは両層の変形を伴って形成される）するか、基板が肉盛り変形する、あるいは記録層に変色、会合状態の変化等により屈折率が変化することにより情報が記録されると考えられる。記録光としては５００ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが用いられる。このレーザービームの波長は、好ましくは５００ｎｍ以上８００ｎｍ以下であり、特に好ましくは、ＣＤ−Ｒに適した７７０〜７９０ｎｍ、またはＤＶＤ−Ｒに適した６３０〜６８０ｎｍの範囲である。  上記のように記録された情報の再生は、情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【０１２７】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を記載する。ただし、これらの各例は本発明を制限するものではない。
【０１２９】
（実施例２）
前記オキソノール色素（Ｄ−１）３ｇおよび表１２に示す第４級ビピリジニウム塩０．３ｇを、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００ｍｌに溶解し、記録層形成用塗布液を得た。この塗布液を、表面にスパイラルグルーブ（グルーブピッチ：１．７μｍ、グルーブ幅：０．４μｍ、グルーブ深さ：０．１６μｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ）のそのグルーブ面に、スピンコートにより塗布し、記録層を形成した。記録層の厚さは、グルーブ内で約２００ｎｍであった。
記録層上に、Ａｕをスパッタして、約１００ｎｍの金属反射層を形成した。さらに反射層上にＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化剤ＳＤ−２２０、大日本インキ社製）を塗布し、紫外線を照射して層厚７μｍの保護層形成した。これにより情報記録媒体を得た。
【０１３１】
（比較例２）
実施例２において、第４級ビピリジニウム塩を除いた以外は、実施例２と同様にして情報記録媒体を得た。
【０１３３】
【化４３】
0003666702.tif 000038
【０１３４】
（比較例４）
実施例２において、前記第４級ビピリジニウム塩の代わりにニトロソ化合物ａを同量使用した以外は、実施例２と同様にして情報記録媒体を得た。
【０１３５】
（情報記録媒体の評価）
１）変調度
情報記録媒体に、波長７８０ｎｍの半導体レーザ光を照射し、グルーブをトラッキングしながら、定線速度１．４ｍ／秒で、記録レーザパワーを４〜９ｍＷの範囲で種々変えて、３Ｔと１１ＴのＥＦＭ信号を記録した。レーザパワー０．５ｍＷで再生し、最適記録パワーにおける３Ｔと１１Ｔの変調度を求めた。
２）反射率
１）の再生時の最適記録パワーにおけるグルーブ（非記録領域）の反射率を求めた。
３）耐光性
１）で記録された情報記録媒体にＸｅランプ（１４万ルックス）を８時間照射し、照射後の変調度及び反射率を上記１）及び２）と同様に測定した。また照射後の情報記録媒体の色の有無を以下の観点で目視で調べた。
○：退色していない
△：退色しているが色は残っている
×：ほとんど色が残っていない
【０１３６】
得られた結果を表１２に示す。
【０１３８】
【表１２】
0003666702.tif 000039
【０１３９】
以上の結果より、高い変調度及び反射率を維持しながら、更に耐光性が顕著に向上した情報記録媒体が得られることがわかった。
【０１４１】
（実施例４）
前記オキソノール色素（Ｄ−１）の２×１０-5Ｍ溶液と表１４に示す第４級ビピリジニウム塩の２×１０-6Ｍ溶液を同量混合し、これらのサンプルをＸｅランプ（１４万ルクス）で３時間照射した。その後、オキソノール色素の残存量を紫外可視分光器にて測定し、その結果を表１４に示した。
【０１４３】
（比較例６）
前記オキソノール色素（Ｄ−１）の１×１０-5Ｍ溶液をＸｅランプ（１４万ルクス）で３時間照射した。その後、オキソノール色素の残存量を紫外可視分光器にて測定し、その結果を表１４に示した。
【０１４５】
【表１４】
0003666702.tif 000040
【０１４６】
以上の結果より、オキソノール色素と第４級ビピリジニウムを混合することにより、オキソノール色素の光に対する安定性が増し耐光性が向上することが分かった。
【０１４７】
【発明の効果】
本発明は、前記特定の第４級ビピリジニウム塩をオキソノール色素を混合することにより光に対するオキソノール色素の安定性が向上し、また前記特定の第４級ビピリジニウム塩をオキソノール色素とともに記録層に用いているため、高い変調度及び反射率を維持しながら、更に耐光性が顕著に向上した情報記録媒体を得ることが可能になった。