(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化して、２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率が１．０×１０3〜１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2であり、複素弾性率が１．０×１０6ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であり、かつＪＩＳ  Ｋ  ２２２０に規定される１／４ちょう度が２０〜８０であるシリコーンゲルを形成する電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物。
【請求項２】
シリコーンゲル組成物がヒドロシリル化反応硬化型のものであることを特徴とする、請求項１記載の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物。
【請求項３】
ヒドロシリル化反応硬化型のシリコーンゲル組成物が、
(Ａ)分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンを少なくとも含む、２５℃における粘度が１０〜１００，０００センチポイズであるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、
(Ｂ)分子鎖両末端のみにケイ素原子結合水素原子を含有し、２５℃における粘度が１〜１０，０００センチポイズである直鎖状のオルガノポリシロキサン｛本成分の配合量は、(Ａ)成分に含まれているアルケニル基１モルに対して、本成分に含まれているケイ素原子結合水素原子が０．２〜５モルとなる量である。｝、
および
(Ｃ)触媒量のヒドロシリル化反応用触媒
からなることを特徴とする、請求項２記載の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物。
【請求項４】
ヒドロシリル化反応硬化型のシリコーンゲル組成物が、
(Ａ')２５℃における粘度が１０〜１００，０００センチポイズであるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、
(Ｂ')分子鎖両末端のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンと分子鎖側鎖のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンとからなり、２５℃における粘度が１〜１０，０００センチポイズであるオルガノポリシロキサン｛本成分の配合量は、(Ａ')成分に含まれているアルケニル基１モルに対して、本成分に含まれているケイ素原子結合水素原子が０．２〜５モルとなる量である。｝、
および
(Ｃ)触媒量のヒドロシリル化反応用触媒
からなることを特徴とする、請求項２記載の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物。
【請求項５】
電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲルにおいて、このシリコーンゲルの２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率が１．０×１０3〜１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2であり、複素弾性率が１．０×１０6ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であり、かつＪＩＳ  Ｋ  ２２２０に規定される１／４ちょう度が２０〜８０であることを特徴とするシリコーンゲル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物およびシリコーンゲルに関し、詳しくは、電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲル中の気泡や亀裂の形成が抑制された電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物、および電気・電子部品を封止もしくは充填している、気泡や亀裂の形成が抑制されたシリコーンゲルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
シリコーンゲル組成物は、硬化して、応力緩衝性、電気的特性、耐熱性、および耐候性が良好であるシリコーンゲルを形成できることから、電気・電子部品の封止剤や充填剤としてよく利用されている（特開昭５９−２０４２５９号公報、特開昭６１−４８９４５号公報、および特開昭６２−１０４１４５号公報参照）。そして、このようなシリコーンゲル組成物としては、例えば、分枝構造を有し、２５℃における粘度が１０〜１０，０００センチストークスであるビニル基含有オルガノポリシロキサン、ケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサン、およびヒドロシリル化反応用触媒からなるシリコーンゲル組成物（特開昭４８−１７８４７号公報参照）、分枝構造を有するビニル基含有オルガノポリシロキサン、ケイ素原子結合水素原子を含有するオルガノポリシロキサン、およびヒドロシリル化反応用触媒からなるシリコーンゲル組成物（特開昭５８−７４５２号公報参照）、分枝構造を有し、２５℃における粘度が２０〜１０，０００センチストークスであるビニル基含有オルガノポリシロキサン、分子鎖両末端がビニル基により封鎖された直鎖状のオルガノポリシロキサン、分子鎖両末端にのみケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサン、およびヒドロシリル化反応用触媒からなるシリコーンゲル組成物（特公平３−１９２６９号公報参照）が挙げられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、複雑な構造を有する電気・電子部品をこれらのシリコーンゲル組成物により封止もしくは充填すると、ヒートサイクルにより、この封止もしくは充填されているシリコーンゲル中に気泡や亀裂が形成され、この電気・電子部品の信頼性が低下するという問題があった。そして、このような電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲル中の気泡や亀裂の形成は、この電気・電子部品中の電極と電極、電気素子と電気素子、電気素子とパッケージ等の隙間が狭いものや、これらの構造がこのシリコーンゲルの膨張・収縮に追随しにくい構造を有するものにおいて顕著であることがわかった。
【０００４】
本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明の目的は、電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲル中の気泡や亀裂の形成が抑制された電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物、および電気・電子部品を封止もしくは充填している、気泡や亀裂の形成が抑制されたシリコーンゲルを提供することにあり、ひいては、信頼性の優れる電気・電子部品を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物は、硬化して、２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率が１．０×１０3〜１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2であり、複素弾性率が１．０×１０6ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であり、かつＪＩＳ  Ｋ  ２２２０に規定される１／４ちょう度が２０〜８０であるシリコーンゲルを形成することを特徴とする。
また、本発明のシリコーンゲルは、電気・電子部品を封止もしくは充填しているものであり、この２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率が１．０×１０3〜１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2であり、複素弾性率が１．０×１０6ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であり、かつＪＩＳ  Ｋ  ２２２０に規定される１／４ちょう度が２０〜８０であることを特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】
はじめに、本発明の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物を詳細に説明する。
本発明の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物は、硬化して、２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率が１．０×１０3〜１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2であり、かつ、複素弾性率が１．０×１０6ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であるシリコーンゲルを形成することを特徴とし、好ましくは、この損失弾性率が３．０×１０3〜３．０×１０4ｄｙｎｅ／ｃｍ2であり、かつ、この複素弾性率が１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であるシリコーンゲルを形成することを特徴とする。本発明は、このような特定の損失弾性率および複素弾性率を有するシリコーンゲルにより封止もしくは充填されている電気・電子部品がヒートサイクルを受けても、このシリコーンゲル中の気泡や亀裂の形成が抑制されることを見いだしてなされたものである。本組成物により封止もしくは充填される電気・電子部品は限定されないが、この電気・電子部品中の電極と電極、電気素子と電気素子、電気素子とパッケージ等の隙間が狭いものや、これらの構造がこのシリコーンゲルの膨張・収縮に追随しにくい構造を有するものに効果的であり、例えば、ＩＣ、ハイブリッドＩＣ、ＬＳＩ等の半導体素子、このような半導体素子、コンデンサ、電気抵抗器等の電気素子を実装した電気回路やモジュール、すなわち、一般にシリコーンゲルにより封止もしくは充填されているような圧力センサー等の各種センサー、自動車用のイグナイターやレギュレータが挙げられる。また、本組成物の硬化機構は限定されず、例えば、アルケニル基とケイ素原子結合水素原子によるヒドロシリル化反応硬化型、シラノール基とケイ素原子結合アルコキシ基による脱アルコール縮合反応硬化型、紫外線照射によるラジカル反応硬化型が挙げられ、比較的速やかに全体が硬化することから、ヒドロシリル化反応硬化型であることが好ましい。本組成物を硬化して得られるシリコーンゲルの２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率および複素弾性率は、例えば、このシリコーンゲルを厚さ５〜６ｍｍ、直径２０ｍｍの円形プレート状に調整した後、これを動的粘弾性測定装置により測定することにより求められる。さらに、ＪＩＳ  Ｋ  ２２２０に規定される１／４ちょう度が２０〜８０であるシリコーンゲルを形成する組成物は、これにより封止もしくは充填されている電気・電子部品が繰り返しヒートサイクルを受けても、このシリコーンゲル中の気泡や亀裂の形成が著しく抑制されるので好ましい。
【０００７】
このようなヒドロシリル化反応硬化型の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物としては、
(Ａ)分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンを少なくとも含む、２５℃における粘度が１０〜１００，０００センチポイズであるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、
(Ｂ)分子鎖両末端のみにケイ素原子結合水素原子を含有し、２５℃における粘度が１〜１０，０００センチポイズである直鎖状のオルガノポリシロキサン｛本成分の配合量は、(Ａ)成分に含まれているアルケニル基１モルに対して、本成分に含まれているケイ素原子結合水素原子が０．２〜５モルとなる量である。｝、
および
(Ｃ)触媒量のヒドロシリル化反応用触媒
からなるものが好ましい。
【０００８】
(Ａ)成分のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンは上記組成物の主剤であり、分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンを少なくとも含み、２５℃における粘度が１０〜１００，０００センチポイズの範囲内であることを特徴とする。これは、この粘度がこの範囲未満であると、得られるシリコーンゲルの物理的特性が低下する傾向があるからであり、一方、この範囲をこえると、得られるシリコーンゲル組成物の取扱作業性が低下する傾向があるからである。この分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとは、分子構造が分枝鎖状ないしは一部分枝を有する直鎖状であるオルガノポリシロキサンのことであり、具体的には、分子構造中にＲＳｉＯ3/2単位（Ｒは一価炭化水素基である。）および／またはＳｉＯ4/2単位を有するオルガノポリシロキサンのことである。このような(Ａ)成分は、分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンのみからなっていてもよく、また、このオルガノポリシロキサンと直鎖状のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとの混合物からなっていてもよい。本組成物においては、この(Ａ)成分は、分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンと直鎖状のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとの混合物であることが好ましい。
【０００９】
この分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとしては、特に、Ｒ2ＳｉＯ2/2単位、ＲＳｉＯ3/2単位、およびＲ3ＳｉＯ1/2単位から重合体であることが好ましい。これらの単位中のＲとしては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基；フェニル基、トリル基等のアリール基；３，３，３−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の一価炭化水素基が例示され、極少量の水酸基、さらにはメトキシ基等のアルコキシ基を有していてもよいが、この重合体中の少なくとも１個のＲはアルケニル基であることが必要である。また、これらの単位の比率は限定されないが、この重合体において、Ｒ2ＳｉＯ2/2単位が８０．００〜９９．６５モル％の範囲内の量であり、ＲＳｉＯ3/2単位が０．１０〜１０．００モル％の範囲内の量であり、および残りのモル％がＲ3ＳｉＯ1/2単位であることが好ましい。
【００１０】
また、この直鎖状のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとしては、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、これらの重合体のメチル基の一部がエチル基、プロピル基等のメチル基以外のアルキル基や３，３，３−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基で置換された重合体、これらの重合体のビニル基がアリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のビニル基以外のアルケニル基で置換された重合体、およびこれらの重合体の２種以上の混合物が例示され、特に、分子鎖両末端にアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンであることが好ましい。
【００１１】
この分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンと直鎖状のオルガノポリシロキサンとの比率は限定されないが、(Ａ)成分中に、この分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンが５〜９５重量％の範囲内の量であることが好ましく、さらに、これが１０〜９０重量％の範囲内の量であることが好ましく、特に、これが２０〜８０重量％の範囲内の量であることが好ましい。これは、(Ａ)成分中の分枝構造を有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサンの含有量がこの範囲外の量であると、得られるシリコーンゲルの２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率が１．０×１０3〜１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2の範囲内で、かつ、複素弾性率が１．０×１０6ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であるという条件を満たすことが困難となり、電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲル中に気泡や亀裂が形成しやすくなるという傾向があるからである。
【００１２】
(Ｂ)成分の直鎖状のオルガノポリシロキサンは上記組成物の架橋剤であり、分子鎖両末端のみにケイ素原子結合水素原子を含有し、２５℃における粘度が１〜１０，０００センチポイズの範囲内であることを特徴とする。この(Ｂ)成分中のケイ素原子に結合する有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基等のアリール基；３，３，３−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等のアルケニル基を除く一価炭化水素基が例示される。また、(Ｂ)成分の２５℃における粘度は１〜１０，０００センチポイズの範囲内であるが、これは、この粘度がこの範囲未満であると、得られるシリコーンゲルの物理的特性が低下する傾向があり、一方、この範囲をこえると、得られるシリコーンゲル組成物の取扱作業性が低下する傾向があるからである。
【００１３】
上記組成物において、(Ｂ)成分の配合量は、(Ａ)成分に含まれているアルケニル基１モルに対して、(Ｂ)成分に含まれているケイ素原子結合水素原子が０．２〜５モルの範囲内となる量であり、特に、これが０．８〜１．２モルの範囲内となる量であることが好ましい。これは、(Ａ)成分に含まれているアルケニル基１モルに対して、(Ｂ)成分に含まれているケイ素原子結合水素原子がこの範囲未満のモル数であると、得られるシリコーンゲル組成物が十分に硬化しなくなる傾向があり、一方、この範囲をこえるモル数であると、得られるシリコーンゲルの物理的特性が低下する傾向があるからである。
【００１４】
(Ｃ)成分のヒドロシリル化反応用触媒は上記組成物の硬化を促進するための触媒である。このような(Ｃ)成分としては、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金とオレフィンの錯体、白金と１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの錯体、白金を担持した粉体等の白金系触媒；テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、パラジウム黒、トリフェニルフォスフィンとの混合物等のパラジウム系触媒；さらに、ロジウム系触媒が挙げられ、特に、白金系触媒であることが好ましい。
【００１５】
上記組成物において、(Ｃ)成分の配合量は触媒量であり、(Ｃ)成分として白金系触媒を用いた場合には、上記組成物中に、この触媒の白金金属が重量単位で０．０１〜１０００ｐｐｍの範囲内となる量であることが実用上好ましく、特に、０．１〜５００ｐｐｍの範囲内となる量であることが好ましい。
【００１６】
また、上記組成物には、その他任意成分として、例えば、アセチレン化合物、有機リン化合物、ビニル基含有シロキサン化合物等のヒドロシリル化反応調節剤；ヒュームドシリカ、湿式シリカ、粉砕石英、酸化チタン、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、ケイ藻土、カーボンブラック等の無機充填剤、これらの無機質充填剤の表面を有機ケイ素化合物により疎水処理してなる無機充填剤；その他、難燃性添加剤、耐熱性添加剤、顔料、染料を配合することができる。
【００１７】
また、ヒドロシリル化反応硬化型の他の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物としては、
(Ａ')２５℃における粘度が１０〜１００，０００センチポイズであるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、
(Ｂ')分子鎖両末端のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンと分子鎖側鎖のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンとからなり、２５℃における粘度が１〜１０，０００センチポイズであるオルガノポリシロキサン｛本成分の配合量は、(Ａ')成分に含まれているアルケニル基１モルに対して、本成分に含まれているケイ素原子結合水素原子が０．２〜５モルとなる量である。｝、
および
(Ｃ)触媒量のヒドロシリル化反応用触媒
からなるものが好ましい。
【００１８】
(Ａ')成分のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンは上記組成物の主剤であり、２５℃における粘度が１０〜１００，０００センチポイズの範囲内であることを特徴とする。これは、この粘度がこの範囲未満であると、得られるシリコーンゲルの物理的特性が低下する傾向があるからであり、一方、この範囲をこえると、得られるシリコーンゲル組成物の取扱作業性が低下する傾向があるからである。(Ａ')成分のケイ素原子に結合しているアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキキセニル基が例示され、好ましくは、ビニル基である。また、(Ａ')成分のケイ素原子に結合しているアルケニル基以外の基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基等のアリール基；３，３，３−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の置換もしくは非置換の一価炭化水素基が例示され、極少量の水酸基、さらにはメトキシ基等のアルコキシ基を有していてもよい。このような(Ａ')成分の分子構造は限定されず、例えば、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状が挙げられ、好ましくは、直鎖状である。この直鎖状のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとしては、前記と同様のオルガノポリシロキサンが例示される。
【００１９】
(Ｂ')成分のオルガノポリシロキサンは上記組成物の架橋剤であり、分子鎖両末端のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンと分子鎖側鎖のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンからなり、２５℃における粘度が１〜１０，０００センチポイズであることを特徴とする。これは、この粘度がこの範囲未満であると、得られるシリコーンゲルの物理的特性が低下する傾向があるからであり、一方、この範囲をこえると、得られるシリコーンゲル組成物の取扱作業性が低下する傾向があるからである。この分子鎖両末端のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンとしては、前記と同様のオルガノポリシロキサンが例示される。また、分子鎖側鎖のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、これらの重合体中のメチル基の一部がエチル基、プロピル基等のメチル基以外のアルキル基、フェニル基、３，３，３−トリフロロプロピル基で置換された重合体、これらの重合体の２種以上の混合物が例示される。
【００２０】
(Ｂ')成分において、分子鎖両末端にのみケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンと分子鎖側鎖のみにケイ素原子結合水素原子を含有する直鎖状のオルガノポリシロキサンとの比率は限定されないが、前者のオルガノポリシロキサンの重量に対する後者のオルガノポリシロキサンの重量が０．１〜２０％となる範囲内の重量比率であることが好ましく、さらに、これが１〜１０％となる範囲内の重量比率であることが好ましく、特に、これが１〜５％となる範囲内の重量比率であることが好ましい。これは、この重量比率がこの範囲未満であると、得られるシリコーンゲル組成物が十分に硬化しなくなる傾向があるからであり、一方、この範囲をこえると、得られるシリコーンゲルの２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率が１．０×１０3〜１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2の範囲内で、かつ、複素弾性率が１．０×１０6ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であるという条件を満たしにくくなり、電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲル中に気泡や亀裂が形成しやすくなる傾向があるからである。
【００２１】
上記組成物において、(Ｂ')成分の配合量は、(Ａ')成分に含まれているアルケニル基１モルに対して、(Ｂ')成分に含まれているケイ素原子結合水素原子が０．２〜５モルの範囲内となる量であり、特に、これが０．８〜１．２モルの範囲内となる量であることが好ましい。これは、(Ａ')成分に含まれているアルケニル基１モルに対して、(Ｂ')成分に含まれているケイ素原子結合水素原子がこの範囲未満のモル数であると、得られるシリコーンゲル組成物が十分に硬化しなくなる傾向があり、一方、この範囲をこえるモル数であると、得られるシリコーンゲルの物理的特性が低下する傾向があるからである。
【００２２】
(Ｃ)成分のヒドロシリル化反応用触媒は上記組成物の硬化を促進するための触媒である。このような(Ｃ)成分としては、前記の通りである。上記組成物において、(Ｃ)成分の配合量は触媒量であり、(Ｃ)成分として白金系触媒を用いた場合には、上記組成物中に、この触媒の白金金属が重量単位で０．０１〜１０００ｐｐｍの範囲内となる量であることが実用上好ましく、特に、０．１〜５００ｐｐｍの範囲内となる量であることが好ましい。
【００２３】
上記組成物においても、その他任意成分として、例えば、アセチレン化合物、有機リン化合物、ビニル基含有シロキサン化合物等のヒドロシリル化反応調節剤；ヒュームドシリカ、湿式シリカ、粉砕石英、酸化チタン、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、ケイ藻土、カーボンブラック等の無機充填剤、これらの無機質充填剤の表面を有機ケイ素化合物により疎水処理してなる無機充填剤；その他、難燃性添加剤、耐熱性添加剤、顔料、染料を配合することができる。
【００２４】
本発明の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物により電気・電子部品を封止もしくは充填する方法は限定されず、例えば、電気・電子部品を、この組成物により封止もしくは充填した後、これを加熱したり、室温で放置したり、紫外線を照射することにより、この組成物を硬化させる方法が挙げられ、特に、比較的速やかに全体を硬化させることができることから、ヒドロシリル化反応硬化型のシリコーンゲル組成物を封止もしくは充填した後、これを加熱して硬化させる方法が好ましい。この際、加熱温度が高くなると、封止もしくは充填しているシリコーンゲル中の気泡や亀裂の形成が促進されるので、５０〜２５０℃の範囲内に加熱することが好ましく、特に、７０〜１３０℃の範囲内に加熱することが好ましい。
【００２５】
次に、本発明のシリコーンゲルを詳細に説明する。本発明のシリコーンゲルは電気・電子部品を封止もしくは充填しているものであり、この２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率が１．０×１０3〜１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2であり、かつ、複素弾性率が１．０×１０6ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であることを特徴とし、好ましくは、この損失弾性率が３．０×１０3〜３．０×１０4ｄｙｎｅ／ｃｍ2であり、かつ、この複素弾性率が１．０×１０5ｄｙｎｅ／ｃｍ2以下であるシリコーンゲルであることを特徴とする。これは、このような特定の損失弾性率および複素弾性率を有するシリコーンゲルは、これにより封止もしくは充填された電気・電子部品がヒートサイクルを受けても、このシリコーンゲル中の気泡や亀裂の形成が抑制されているので、この電気・電子部品の絶縁破壊強さ等の電気特性を低下させることがなく、むしろその信頼性を向上させることができるという効果がある。本発明のシリコーンゲルにより封止もしくは充填される電気・電子部品は限定されないが、この電気・電子部品中の電極と電極、電気素子と電気素子、電気素子とパッケージ等の隙間が狭いものや、これらの構造がこのシリコーンゲルの膨張・収縮に追随しにくい構造を有するものに対して有効であり、例えば、ＩＣ、ハイブリッドＩＣ、ＬＳＩ等の半導体素子、このような半導体素子、コンデンサ、電気抵抗器等の電気素子を実装した電気回路やモジュール、すなわち、一般にシリコーンゲルにより封止もしくは充填されているような圧力センサー等の各種センサー、自動車用のイグナイターやレギュレーターが挙げられる。
【００２６】
【実施例】
本発明の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物およびシリコーンゲルを実施例により詳細に説明する。なお、実施例中の特性は２５℃において測定した値であり、シリコーンゲルの特性は次のようにして測定した。
［シリコーンゲルの損失弾性率および複素弾性率］
電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物を１２５℃で１時間加熱することにより、厚さ５〜６ｍｍ、直径２０ｍｍの円形プレート状のシリコーンゲルを作成した。このシリコーンゲルの２５℃、せん断周波数０．１Ｈｚにおける損失弾性率および複素弾性率をレオメトリック社製の動的粘弾性測定装置（商品名：ダイナミックアナライザーＡＲＥＳ）により測定した。
［シリコーンゲルの１／４ちょう度］
５０ｍｌのガラスビーカーに電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物を静かに注いだ後、１２５℃で１時間加熱することによりシリコーンゲルを作成した。このシリコーンゲルの１／４ちょう度をＪＩＳ  Ｋ  ２２２０に規定の方法により測定した。
【００２７】
［実施例１〜５・比較例１〜６］
下記の成分を表１に示す組成（重量部）で混合して、無色透明な電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物を調製した。なお、表１中のＳｉＨ／ＳｉＣＨ＝ＣＨ2は、この組成物中のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンに含まれるアルケニル基１モルに対する、ケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサンに含まれるケイ素原子結合水素原子のモル比を示している。
成分ａ−１：
粘度が８００センチポイズであり、(ＣＨ3)2ＳｉＯ2/2単位９３．５０モル％、ＣＨ3ＳｉＯ3/2単位３．３０モル％、(ＣＨ3)3ＳｉＯ1/2単位２．６０モル％、および(ＣＨ3)2(ＣＨ2＝ＣＨ)ＳｉＯ1/2単位０．６０モル％からなるオルガノポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０．２２重量％）
成分ａ−２：
粘度が８７０センチポイズであり、(ＣＨ3)2ＳｉＯ2/2単位９３．５０モル％、ＣＨ3ＳｉＯ3/2単位３．３０モル％、(ＣＨ3)3ＳｉＯ1/2単位１．６０モル％、および(ＣＨ3)2(ＣＨ2＝ＣＨ)ＳｉＯ1/2単位１．６０モル％からなるオルガノポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０．５８重量％）
成分ａ−３：
粘度が２８０センチポイズであり、(ＣＨ3)2ＳｉＯ2/2単位９３．５０モル％、ＣＨ3ＳｉＯ3/2単位０．８０モル％、(ＣＨ3)3ＳｉＯ1/2単位４．１０モル％、および(ＣＨ3)2(ＣＨ2＝ＣＨ)ＳｉＯ1/2単位１．６０モル％からなるオルガノポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０．５８重量％）
成分ａ−４：
粘度が２５５センチポイズであり、(ＣＨ3)2ＳｉＯ2/2単位９３．５０モル％、ＣＨ3ＳｉＯ3/2単位０．８０モル％、(ＣＨ3)3ＳｉＯ1/2単位５．１０モル％、および(ＣＨ3)2(ＣＨ2＝ＣＨ)ＳｉＯ1/2単位０．６０モル％からなるオルガノポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０．２２重量％）
成分ａ−５：
粘度が２，０００センチポイズである分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０．２３重量％）
成分ａ−６：
粘度が３６０センチポイズである分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０．４８重量％）
成分ａ−７：
粘度が９３０センチポイズである分子鎖末端の一部がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０．１１重量％）
成分ｂ−１：
粘度が１６センチポイズである分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ケイ素原子結合水素原子の含有量＝０．１３重量％）
成分ｂ−２：
粘度が４センチポイズである分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体（ケイ素原子結合水素原子の含有量＝０．７８重量％）
成分ｃ：
白金濃度が０．５重量％である白金と１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの錯体（ビニル基の含有量＝２．４８重量％）
【００２８】
この電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物を用いて図１に示されるような評価用の電気・電子部品を作成した。すなわち、直径８０ｍｍ×高さ１２ｍｍのガラス製シャーレ(１)に直径２ｍｍ×長さ４５ｍｍの電極(２、２')を、その隙間が１ｍｍとなるように静置し、さらに、これらの電極上に５０ｍｍ×５０ｍｍ×１ｍｍのガラス板(３)を載せた電気・電子部品に、表１で示される組成で調製した電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物３０ｇを静かに注ぎ込んだ。その後、このガラス製シャーレごと、室温、５ｍｍＨｇ以下の条件で１０分間減圧脱泡した後、これを１２５℃のオーブン中で１時間加熱することにより電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物を硬化させてシリコーンゲル(４)を形成した。この電気・電子部品を２５℃で１週間放置した後、５０℃で２４時間静置した後、２５℃で２４時間静置することを１サイクルとするヒートサイクル試験を行った。そして、この電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲル(４)中の気泡や亀裂(５)の有無およびその程度を観察した。また、この電気・電子部品の電極(２、２')間に電圧を昇圧速度１ｋＶ／秒で印荷して、その絶縁破壊強さを測定した。また、このヒートサイクル試験を５サイクル行った後の電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲル(４)中の気泡や亀裂(５)の有無およびその程度を観察した。これらの結果を表１に示した。なお、表中の気泡・亀裂の有無および程度において、記号は次のことを意味している。
◎：気泡や亀裂が全く形成されていない。
○：気泡や亀裂が形成されており、その大きさが１０ｍｍ未満である。
△：気泡や亀裂が形成されており、その大きさが１０ｍｍ以上、３０ｍｍ未満である。
×：気泡や亀裂が形成されており、その大きさが３０ｍｍ以上である。
【００２９】
【表１】
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【００３０】
【発明の効果】
本発明の電気・電子部品封止・充填用シリコーンゲル組成物は、電気・電子部品を封止もしくは充填しているシリコーンゲル中の気泡や亀裂の形成が抑制されているという特徴があり、また、本発明のシリコーンゲルは、電気・電子部品を封止もしくは充填しており、気泡や亀裂の形成が抑制されているという特徴がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、本発明の実施例で評価した電気・電子部品の断面図である。
【図２】  図２は、本発明の実施例で評価した電気・電子部品のうち、シリコーンゲル中に気泡や亀裂が形成された電気・電子部品の上面図である。
【符号の説明】
１  ガラス製シャーレ
２、２’  電極
３  ガラス板
４  シリコーンゲル
５  気泡や亀裂
【図１】
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【図２】
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