(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）第１の透明性基板及び第２の基板上に配向処理を施す第１工程、（２）前記２枚の基板を、配向処理を施した面を対向させて配置した後、これらの基板間に重合性液晶組成物を介在させる第２工程、（３）光を照射することによって前記重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成する第３工程、（４）一方の基板を剥離する第４工程、及び（５）第３の透明性基板上に前記光学異方体を転写する第５工程を有し、該重合性液晶組成物が、少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物のアクリル酸又はメタクリル酸エステルである第１の単官能アクリレート又は第１の単官能メタクリレートを含有し、室温に置いて液晶相を示すことを特徴とする光学異方性を有する基板の製造方法。
【請求項２】
（１）導電層を有する第１の透明性基板と、導電性を有する第２の基板間に重合性液晶組成物を介在させる第１工程、（２）前記２枚の基板間に電圧を印加しながら、第１の透明性基板の側から光を照射することによって、前記重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成する第２工程、（３）一方の基板を剥離する第３工程、及び（４）第３の透明性基板上に前記光学異方体を転写する第４工程を有し、該重合性液晶組成物が、少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物のアクリル酸又はメタクリル酸エステルである第１の単官能アクリレート又は第１の単官能メタクリレートを含有し、室温に置いて液晶相を示すことを特徴とする光学異方性を有する基板の製造方法。
【請求項３】
第１の単官能アクリレート又は第１の単官能メタクリレートが、一般式（Ｉ）
【化１】
0003617653.tif 000014
（式中、Ｘは水素原子又はメチル基を表わし、６員環Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、
【化２】
0003617653.tif 000015
を表わし、ｎは０又は１の整数を表わし、ｍは１から４の整数を表わし、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、Ｙ3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基を表わす。）で表わされる化合物であることを特徴とする請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
一般式（Ｉ）において、６員環Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、
【化３】
0003617653.tif 000016
を表わし、ｍは１又は２の整数を表わし、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に、単結合又は−Ｃ≡Ｃ−を表わし、Ｙ3はハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基又はアルコキシ基を表わすことを特徴とする請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
重合性液晶組成物が、液晶性骨格を部分構造として有する第２の単官能アクリレート又は第２の単官能メタクリレートを含有することを特徴とする請求項３又は４記載の製造方法。
【請求項６】
第２の単官能アクリレート又は第２の単官能メタクリレートが、一般式（ＩＩ）
【化４】
0003617653.tif 000017
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わし、ｐは２〜１２の整数を表わし、Ｙ4は単結合又は−ＣＯＯ−を表わし、Ｙ5はシアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表わす。）で表わされる化合物であることを特徴とする請求項５記載の製造方法。
【請求項７】
重合性液晶組成物が、室温においてエナンチオトロピックなネマチック液晶相を示すことを特徴とする請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
第３の透明性基板がガラス基板、プラスチックフィルム又は偏光フィルムであることを特徴とする請求項４又は７記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、光学異方性を有する基板、更に詳しくは光制御機能を有し、光エレクトロニクス、液晶表示装置等の分野で好適に用いられる、高度に配向した状態が固定化された光学異方性を有する基板の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶ディスプレイ素子の表示品位の向上と軽量化の両立に対する要求から、補償板として内部の分子の配向構造が制御された高分子フィルムが求められている。これに応える技術として、液晶性高分子を用いる方法（特開平３−２８８２２号公報、特開平４−３０２２号公報、特開平４−５５８１３号公報、特開平５−２７２３５号公報、特開平５−６１０３９号公報）や、２官能液晶性アクリレート化合物又は組成物を用いる方法（特開平３−１４０２９号公報）が知られている。しかしながら、これらの技術はフィルム内部の分子の配向構造の均一性や、フィルムの耐熱性に問題があった。この問題を解決するために本発明者等は、室温において液晶性を有する重合性液晶組成物とその組成物を光重合して得られる内部の配向構造が制御された光学異方体や、光学異方性を有する基板を先に提案した。この光学異方性を有する基板は、重合性液晶組成物を光重合して成る光学異方体が透明性基板上に担持されたものである。
【０００３】
該透明性基板は光学異方体の支持体の役割と同時に、重合性液晶組成物を光重合して光学異方体を得る際に、重合性液晶組成物を配向させる役割をも兼ねていた。従って、このような光学異方体を担持する該透明性基板には、補償板としての使用目的から、優れた透明性及び光学的等方性が要求される他に、重合性液晶組成物を重合させる際には、重合性液晶組成物を配向させるための配向能、及び優れた平坦性も要求される。
【０００４】
以上の様に該透明性基板に対する要求は多岐にわたっているため、これらの要求特性を同時に満足する基板は非常に限られており、その結果光学異方性を有する基板を製造する上で材料が非常に制限されるだけではなく、これが補償板としての特性の制限や、ひいては製造コストの増大を招いていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、光学異方性を有する基板を構成する透明性基板に対する多岐にわたる要求を緩和し、製造コストの低減を図ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記課題を解決する手段について鋭意検討した結果、かかる課題が、▲１▼重合性液晶組成物を配向させるために必要な基板、▲２▼得られた光学異方体を担持するために必要な基板を使い分けることによって解決できることを見い出し、本発明を提供するに至った。
【０００７】
即ち、本発明は第１の発明として、（１）第１の透明性基板及び第２の基板上に配向処理を施す第１工程、
（２）前記２枚の基板を、配向処理を施した面を対向させて配置した後、これらの基板間に重合性液晶組成物を介在させる第２工程、
（３）光を照射することによって前記重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成する第３工程、
（４）一方の基板を剥離する第４工程、及び
（５）第３の透明性基板上に前記光学異方体を転写する第５工程
を有することを特徴とする光学異方性を有する基板の製造方法を提供する。
【０００８】
また、本発明は第２の発明として、
（１）導電層を有する第１の透明性基板と、導電性を有する第２の基板間に重合性液晶組成物を介在させる第１工程、
（２）前記２枚の基板間に電圧を印加しながら、第１の透明性基板の側から光を照射することによって、前記重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成する第２工程、
（３）一方の基板を剥離する第３工程、及び
（４）第３の透明性基板上に前記光学異方体を転写する第４工程
を有することを特徴とする光学異方性を有する基板の製造方法を提供する。
【０００９】
以下、第１の発明及び第２の発明を更に詳細に説明する。
まず、第１の発明において使用する基板としては、有機材料、無機材料を問わずに用いることができ、また特に光学的等方性を有する必要はない。具体的な例を挙げると有機材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン、また無機材料としては例えば、シリコン、ガラス等を挙げることができる。２枚の基板がそれぞれ異なった材料を用いてもよいが、少なくとも一方の基板には、光重合を行うため適当な透明性が与えられていなければならない。
【００１０】
第１の発明においては、基板表面に配向処理を施す必要があるが、この方法としては、基板を布等でラビングする方法、あるいは従来の液晶ディスプレイの技術分野で確立された低分子液晶の配向方法（例えば、培風館刊行、液晶・応用編、第２章に記載）を、特に制限なく、そのまま適用することができる。
【００１１】
例えば、重合性液晶組成物を基板に対して水平に配向させる方法としては、ポリビニルアルコールやポリイミド等の有機薄膜を基板上に形成する方法がある。またこのような有機薄膜を形成しなくても、液晶組成物を水平配向させる基板は知られており、この場合は有機薄膜を基板上に形成しなくてもよい。
【００１２】
更に、重合性液晶組成物を基板に対して水平に一軸配向させる方法としては、基板をそのままラビングする方法、又は基板上に形成したポリビニルアルコールやポリイミド等の有機薄膜をラビングする方法が挙げられる。またＳｉＯ２を基板上に斜方蒸着する方法も適用することができる。
【００１３】
また、重合性液晶組成物を基板に対して垂直に配向させる方法としては、オクタデシルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤、レシチン、クロム錯体等の垂直配向剤層を基板上に形成する方法が挙げられる。
【００１４】
カイラルネマチック配向又はコレステリック配向は、例えば水平配向が得られる２枚の基板を一定の間隔をもって対向させ、この間に螺旋ピッチ（Ｐ）を調整した重合性液晶組成物を挟持させることによって得ることができる。また水平配向が得られる１枚の基板上に螺旋ピッチ（Ｐ）を調整した重合性液晶組成物を一定の厚さで担持させることによっても得ることができる。
【００１５】
ホメオトロピック配向は、例えば垂直配向が得られる２枚の基板を一定の間隔をもって対向させ、この間に重合性液晶組成物を挟持させることによって得ることができる。
【００１６】
ホモジニアス配向は、例えばラビング処理された２枚の基板を、それぞれのラビング方向が０又は１８０度の角度をなすように一定の間隔をもって対向させて配置し、この間に重合性液晶組成物を挟持させることによって得ることができる。
【００１７】
重合性液晶組成物層の厚さ方向に垂直配向から水平配向まで連続的に変化するハイブリッド配向は、例えばラビング処理された基板と垂直配向が得られる基板を一定の間隔をもって対向させ、この間に重合性液晶組成物を挟持させることによって得ることができる。
【００１８】
また、配向処理を施された基板は、光学異方体を第３の透明性基板へ転写する工程を考慮に入れ、光学異方体に対して適当な剥離性を有することが好ましく、このような基板としては、例えば、ラビングしたポリテトラフルオロエチレン等のフッ素化ポリマー基板や、ポリビニルアルコールと１，８−オクタンジオール等のジオール化合物との混合物を基板表面に塗布、乾燥した後にラビングした基板等を挙げることができる。
【００１９】
本発明の第２の発明において使用する第１の透明性基板としては、例えば、導電層を有するガラスあるいはプラスチック基板が好ましく、具体的には、ＩＴＯ付きガラス基板、ＩＴＯ付きプラスチック基板を挙げることができる。これらの基板は導電性を有していないガラスあるいはプラスチック基板上に、蒸着、メッキ、印刷等の手段を用いることによって容易に得ることができるが、市販のＩＴＯ付き基板を用いることもできる。
【００２０】
第２の基板としては、それ自体が導電性を有する基板であれば、透明性を有するものであっても、不透明なものであってもよく、また有機材料、無機材料を問わずに使用することができる。具体的には、無機材料としては、例えば、銅、金、銀、錫、鉛、鉄、ニッケル、アルミニウム、ＩＴＯ（インジウムチンオキサイド）等の金属又は金属酸化物等を挙げることができ、有機材料としては導電性ゴム、導電性プラスチック等を挙げることができる。
【００２１】
第２の発明において、第１及び第２の基板上あるいは電極層上に配向処理を施した基板もできるが、この場合には、電極層の上に配向膜を形成した後、ラビング処理することが好ましい。
【００２２】
また、本発明の第１及び第２の発明で使用する第３の透明性基板としては、透明性と光学的等方性を同時に有する基板が好ましいが、配向能を有する必要はない。このような透明性基板としては、ガラス基板や、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アモルファスポリオレフィン、セルロース等のプラスチック基板等を挙げることができる。また別の透明性基板としては偏光フィルムを挙げることができる。このような光学異方性を有する基板を用いると、液晶ディスプレイの製造の際、光学異方体と、偏光フィルムを別々に貼り付ける手間が省けるため非常に有用である。
【００２３】
本発明で使用する重合性液晶組成物としては、液晶状態での光重合の際の意図しない熱重合の誘起を避け、均一な配向状態を固定するために、少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格を部分構造として有する環状アルコール又はフェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物のアクリル酸又はメタクリル酸エステルである第１の単官能アクリレート又は第１の単官能メタクリレートを含有し、液晶相を示すことを特徴とする重合性液晶組成物を用いることが好ましい。このような単官能アクリレート又は単官能メタクリレートとしては、例えば、一般式（Ｉ）
【００２４】
【化５】
0003617653.tif 000002
【００２５】
（式中、Ｘは水素原子又はメチル基を表わし、６員環Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、
【００２６】
【化６】
0003617653.tif 000003
【００２７】
を表わし、ｎは０又は１の整数を表わし、ｍは１から４の整数を表わし、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−又は−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、Ｙ３は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基を表わす。）で表わされる化合物を挙げることができる。その中でも特に、上記一般式（Ｉ）において、６員環Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、
【００２８】
【化７】
0003617653.tif 000004
【００２９】
を表わし、ｍは１又は２の整数を表わし、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立的に、単結合又は−Ｃ≡Ｃ−を表わし、Ｙ３はハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基又はアルコキシ基を表わす化合物が好ましい。
【００３０】
このような化合物の代表的なものの例と、その相転移温度を示すが、本発明で使用することができる単官能アクリレート又は単官能メタクリレート化合物は、これらの化合物に限定されるものではない。
【００３１】
【化８】
0003617653.tif 000005
【００３２】
【化９】
0003617653.tif 000006
【００３３】
（上記中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表わし、また相転移温度スキームのＣは結晶相、Ｎはネマチック相、Ｓはスメクチック相、Ｉは等方性液体相を表わし、数字は相転移温度を表わす。）
また、本発明で使用する重合性液晶組成物には、これまでに知られている液晶性骨格を部分構造として有する第２の単官能アクリレート又は、第２の単官能メタクリレート化合物を添加してもよい。このとき、得られる重合性液晶組成物は、室温においてエナンチオトロピックなネマチック液晶相を示すことが望ましい。ここで用いることができる単官能アクリレート又は単官能メタクリレートとしては、例えば一般式（ＩＩ）
【００３４】
【化１０】
0003617653.tif 000007
【００３５】
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わし、ｐは２〜１２の整数を表わし、Ｙ４は単結合又は−ＣＯＯ−を表わし、Ｙ５はシアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表わす。）で表わされる化合物を挙げることができ、具体的には以下の化合物を挙げることができる。
【００３６】
【化１１】
0003617653.tif 000008
【００３７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立的に、水素原子又はメチル基を表わし、ｊ、ｋ及びｌはそれぞれ独立的に、２〜１２の整数を表わし、Ｒ４は炭素原子数１〜６のアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表わす。）
このように、本発明で使用する重合性液晶組成物は、第１の単官能（メタ）アクリレートのみを含有しても良く、あるいは第２の単官能（メタ）アクリレートのみを含有しても良く、第１及び第２の単官能（メタ）アクリレートを併用しても良い。
【００３８】
重合性液晶組成物として第１及び第２の単官能（メタ）アクリレートを併用する場合は、第２の単官能（メタ）アクリレートの含有量は、第１の単官能（メタ）アクリレートに対して５０重量％以下であることが好ましい。これは第２の単官能（メタ）アクリレートの含有量が増えるに従って、得られる光学異方体の機械的強度及び耐熱性が劣る傾向があるからである。
【００３９】
また本発明で用いる重合性液晶組成物には重合性官能基を有していない液晶化合物を、重合性液晶組成物中の総量が１０重量％を超えない範囲で添加してもよい。重合性官能基を有していない液晶化合物としてはネマチック液晶化合物、スメクチック液晶化合物、コレステリック液晶化合物等の通常この技術分野で液晶と認識されるものであれば特に制限なく用いることができる。しかしながらその添加量が増えるに従い、得られる光学異方体の機械的強度が低下する傾向にあるので、添加量を適宜調整する必要がある。
【００４０】
また、重合性官能基を有しているが、液晶性を示さない化合物も添加することができる。このような化合物としては、通常この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識されるものであればよいが、アクリレート化合物が特に好ましい。
【００４１】
これらの液晶化合物又は重合性化合物は適宜選択して組み合わせて添加してもよいが、少なくとも得られる重合性液晶組成物の液晶性が失われないように、各成分の添加量を調整することが必要である。
【００４２】
また、本発明で使用する重合性液晶組成物には、その重合反応性を向上させることを目的として、光重合開始剤や増感剤を添加してもよい。ここで、使用することができる光重合開始剤としては、例えば、公知のベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類等を挙げることができる。その添加量は、重合性液晶組成物に対して１０重量％以下が好ましく、５重量％以下が特に好ましい。
【００４３】
更に、本発明で使用する重合性液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加してもよい。ここで使用することができる安定剤としては公知のヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール等を挙げることができる。その安定剤の添加量は０．０５重量％以下が好ましい。
【００４４】
更に、本発明で用いる重合性液晶組成物には、光学異方体中にねじれネマチック配向、又はコレステリック配向等の螺旋構造を導入する目的で、光学活性化合物を添加してもよい。ここで使用することができる光学活性化合物は、それ自体が液晶性を示す必要はなく、また重合性官能基を有していても、有していなくてもよい。またそのねじれの向きは使用する目的によって適宜選択することができる。そのような光学活性化合物としては、例えば、光学活性基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、光学活性基として２−メチルブチル基を有する「ＣＢ−１５」、「Ｃ−１５」（以上ＢＤＨ社製）、「Ｓ１０８２」（メルク社製）、「ＣＭ−１９」、「ＣＭ−２０」、「ＣＭ」（以上チッソ社製）、光学活性基として１−メチルヘプチル基を有する「Ｓ−８１１」（メルク社製）、「ＣＭ−２１」、「ＣＭ−２２」（以上チッソ社製）を挙げることができる。この光学活性化合物の好ましい添加量は、光学異方性を有する基板の用途による。カイラルネマチック配向又はコレステリック配向の螺旋構造を導入し、例えば液晶表示素子の視角補償板として用いる場合には、コレステリック構造に由来する選択反射光の波長が可視光領域からはずれるように、螺旋構造のピッチ（Ｐ）を０．２５ミクロン以下もしくは０．５ミクロン以上になるように調整するのが好ましく、例えば特定波長の反射板として用いる場合には、選択反射光の波長が可視光領域にあるように螺旋構造のピッチ（Ｐ）を０．２５〜０．５ミクロンになるように調整するのが好ましい。また特にスーパー・ツイステッド・ネマチック（ＳＴＮ）型液晶表示素子やツイステッド・ネマチック型液晶表示素子の光学補償に用いる場合には、得られる光学異方体の厚み（ｄ）を光学異方体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で除した値（ｄ／Ｐ）が０．２５〜０．７５の範囲になるように添加量を調整することが特に好ましい。
【００４５】
次に、本発明の光学異方性を有する基板の製造方法を以下に説明する。
本発明の光学異方性を有する基板の製造方法は、第１の発明においては、前述のような基板の配向処理を施された面を対向させて配置し、第２の発明においては、２枚の基板を電圧印加可能なように配置し、この２枚の基板間に前述の重合性液晶組成物を介在させる。このとき、２枚の基板間の距離は、製造する光学異方体の用途によって適宜調整されるが、０．１〜１００ミクロンの範囲が好ましく、特に０．５〜５０ミクロンの範囲が好ましい。
【００４６】
このとき、第１の発明に係わる技術として、配向処理を施された１枚の基板上に重合性液晶組成物を担持させてもよく、この時の重合性液晶組成物の厚さも上記と同様の範囲が好ましい。
【００４７】
次いで、第１の発明においては、光を照射して重合性液晶組成物を重合させ、第２の発明においては、２枚の基板間に電圧を印加しながら、第１の透明性基板の側から光を照射して、同様に重合させる。基板間に電圧を印加する手段としては、通常の液晶表示素子に使用される駆動手段が使用でき、好ましい印加電圧は重合性液晶組成物の誘電率異方性や基板間の距離によって適宜調整されるが、０．５Ｖ以上の交流電圧が好ましい。
【００４８】
第１及び第２の発明における光重合は紫外線又は電子線等のエネルギー線を、前述の２枚の基板間に担持された重合性液晶組成物に照射することによって行うのが好ましく、従って少なくとも照射面側の基板は、適当な透明性が与えられていなければならない。重合の際の温度は、重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度でなければならないが、意図しない熱重合の誘起を避ける意味から、できるだけ室温に近い温度で重合させることが好ましい。
【００４９】
重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成した後、第１及び第２の発明において、どちらか一方の基板を剥離しなければならない。このとき剥離した側の光学異方体の表面を保護する目的で、熱硬化性もしくは光硬化性の樹脂を用いて表面に保護層を形成してもよい。
【００５０】
更に、このようにして得られた基板上に担持された光学異方体を第３の透明性基板に転写する方法を以下に述べる。
本発明における光学異方体の転写とは、第１又は第２の基板上に担持された光学異方体の面に、第３の透明性基板を接着剤又は粘着剤を用いて貼り付けた後、第１又は第２の基板のみを剥離することにより、本発明の第３の透明性基板上に光学異方体のみが担持された光学異方性を有する基板を製造することを意味する。
【００５１】
光学異方体と透明性基板を貼り付ける接着剤又は粘着剤は光学グレードのものであれば特に制限はないが、アクリル系、エポキシ系、ゴム系、エチレン−酢酸ビニル共重合系等を用いることができる。
【００５２】
【実施例】
以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
式（ａ）
【００５３】
【化１２】
0003617653.tif 000009
【００５４】
の化合物５０重量部及び式（ｄ）
【００５５】
【化１３】
0003617653.tif 000010
【００５６】
の化合物５０重量部からなる重合性液晶組成物（Ａ）を調製した。得られた組成物は室温でネマチック相を示し、ネマチック相から等方性液体相への相転移温度は４７℃であった。また、２５℃におけるｎｅ（異常光屈折率）は１．６５であり、ｎｏ（常光屈折率）は１．５２であった。重合性液晶組成物（Ａ）１００重量部、光重合開始剤「ＩＲＧ−６５１」（チバガイギー社製）２重量部及び右巻きの螺旋構造を誘起するカイラル化合物「Ｒ−８１１」（メルク社製）０．４９重量部からなり、螺旋ピッチが１５．０ミクロンの重合性液晶組成物（Ｂ）を得た。次にレーヨン布でラビング処理を施したポリカーボネート基板とポリテトラフルオロエチレン基板を、ラビング方向が右巻きに２４０度の角度をなすように１０ミクロンの間隔をもって対向させ、この間に重合性液晶組成物（Ｂ）を挟持させた。このポリカーボネート基板と、ポリテトラフルオロエチレン基板の間に挟持された重合性液晶組成物に、室温において紫外線ランプ（ＵＶＰ社製、ＵＶＧＬ−２５）を用いて２００ｍＪ／ｃｍ２の光量の紫外線をポリカーボネート基板側から照射して重合性液晶組成物を光重合させて、内部に右巻きで２４０度の回転した螺旋構造を有する光学異方体を得た。得られた光学異方体からポリテトラフルオロエチレン基板を剥離して、ラビング処理されたポリカーボネート基板に担持された光学異方体を得た。この光学異方体の表面に薄く紫外線硬化性接着剤「３０５２Ｂ」（スリーボンド社製）を塗布した後、塗布した面を下にして、ガラス基板上に静かに置いた。次に紫外線ランプ（ＵＶＰ社製、ＵＶＧＬ−２５）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２の光量の紫外線をガラス基板側から照射して、紫外線硬化型接着剤を硬化させ、光学異方体とガラス基板を接着した。これを１５０℃の温度に５分間保った後に、室温において冷却した。室温まで冷却後、ポリカーボネート基板を剥離し、ガラス基板上に光学異方体が転写された光学異方性を有する基板を製造した。得られた光学異方性を有する基板のリタデーションは０．８５ミクロンであった。
（実施例２）
式（ａ）
【００５７】
【化１４】
0003617653.tif 000011
【００５８】
の化合物４７．５重量部及び式（ｄ）
【００５９】
【化１５】
0003617653.tif 000012
【００６０】
の化合物４７．５重量部及び式（ｇ）
【００６１】
【化１６】
0003617653.tif 000013
【００６２】
の化合物５重量部からなる重合性液晶組成物（Ｃ）を調整した。得られた組成物は室温（２５℃）でエナンチオトロピックなネマチック相をしめし、ネマチック相から等方性液体相への転移温度は５２℃であった。また２５℃におけるｎｅ（異常光屈折率）は１．６７、ｎｏ（常光屈折率）は１．５１、誘電率異方性は＋０．７であった。この重合性液晶組成物（Ａ）９９重量部及び光重合開始剤「ＩＲＧ−６５１」（チバガイギー社製）１重量部からなる重合性液晶組成物（Ｄ）を得た。次に２枚のＩＴＯ透明電極付きガラス基板を、１０ミクロンの間隔をもってＩＴＯ面が内側になるように対向させて、この基板間に重合性液晶組成物（Ｂ）を挟持させた。この２枚のＩＴＯ透明電極付きガラス基板間に挟持された重合性液晶組成物を偏光顕微鏡で観察したところ、配向状態は均一ではなく、ランダム配向であった。このランダム配向状態の重合性液晶組成物を挟持している２枚のＩＴＯ電極間に電圧が５０Ｖｒｍｓの周波数１ＫＨｚの正弦波を印加したところ、重合性液晶組成物は垂直配向するのがコノスコープ像の観察により確認できた。電圧印加により重合性液晶組成物が垂直配向した状態のまま、室温において紫外線ランプ（ＵＶＰ社製、ＵＶＧＬ−２５）を用いて１６０ｍＪ／ｃｍ２の光量の紫外線を照射して、重合性液晶組成物を光重合し硬化させた。このようにして得られた２枚のＩＴＯ透明電極付きガラス基板間に挟持された光学異方体をコノスコープで観察したところ、重合前の垂直配向がそのまま固定化されていた。またこの光学異方体を２枚の直交する偏光板の間に置いて観察したところ、均一に暗視野になっており、均一な垂直配向が得られていることを確認した。
【００６３】
得られた光学異方体から一方のガラス基板を剥離した後は実施例１と同様にして、ガラス基板に光学異方体が転写された光学異方性を有する基板を製造した。（実施例３）
実施例２において、一方のＩＴＯ透明電極付きガラス基板に代えて、厚さ１ｍｍのアルミニウム板を用いた以外は、実施例２と同様にして、重合性液晶組成物を光重合し硬化させた。次にアルミニウム板を剥離して、ＩＴＯ透明電極付きガラス基板上に担持された、光学異方性を有する基板を得た。このようにして得られた光学異方性を有する基板をコノスコープ観察したところ、重合前の垂直配向がそのまま固定化されていた。またこの光学異方性を有する基板を２枚の直交する偏光板の間において観察したところ、均一に暗視野になっており、均一な垂直配向が得られてることを確認した。
【００６４】
次に、実施例１と同様にして、ガラス基板に光学異方体が転写された光学異方性を有する基板を製造した。
（実施例４）
液晶組成物「ＺＬＩ−１１３２」（メルク社製）１００重量部及び左巻きの螺旋構造を誘起するカイラル化合物として、ペラルゴン酸コレステロール１重量部からなり、螺旋ピッチが１１．１ミクロンの非重合性液晶組成物（Ｅ）を得た。これをラビング処理を施したポリイミド配向膜を有する２枚の透明電極付きガラス基板からなり、セルギャップが６．２ミクロン、ツイスト角が左巻きに２４０度のＳＴＮセルに注入し、ＳＴＮ液晶セルを作製した。
【００６５】
次に、実施例１と全く同様にして、ラビング処理されたポリカーボネート基板に担持された光学異方体を製造した。この光学異方体の表面に薄く紫外線硬化性接着剤「３０５２Ｂ」（スリーボンド社製）を塗布し、塗布した面を下にして、前述のＳＴＮ液晶セルのガラス基板上に静かに置いた。このときポリカーボネート基板のラビング方向と、ＳＴＮ液晶セルの紫外線硬化性接着剤と接触していない側のガラス基板のラビング方向が直角をなすように設置した。次に紫外線ランプ（ＵＶＰ社製、ＵＶＧＬ−２５）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２の光量の紫外線をポリカーボネート基板側から照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させ、光学異方体とＳＴＮ液晶セルのガラス基板を接着した。これを１５０℃の温度に５分間保った後に、室温において冷却した。室温まで冷却後、ポリカーボネート基板を剥離し、ＳＴＮ液晶セルの一方のガラス基板上に光学異方体が転写された、光学異方性を有する基板を担持する液晶セルを製造した。この液晶セルを２枚の直交する偏光板の間にはさみこんで液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置の透明電極間に電圧を印加したところ、広い範囲に渡って均一な白黒表示が得られた。また視角特性も良好であった。
（実施例５）
実施例１と全く同様にして、ラビング処理されたポリカーボネート基板に担持された光学異方体を製造した。この光学異方体の表面に薄く紫外線硬化性接着剤「３０５２Ｂ」（スリーボンド社製）を塗布し、塗布した面を下にして、偏光フィルム基板上に静かに置いた。このとき、ポリカーボネート基板のラビング方向と偏光フィルム基板の透過軸が３０度の角度をなすように設置した。次に紫外線ランプ（ＵＶＰ社製、ＵＶＧＬ−２５）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２の光量の紫外線をポリカーボネート基板側から照射して、紫外線硬化型接着剤を硬化させ、光学異方体と偏光フィルム基板を接着した。これを１００℃の温度に３０分間保った後に、室温において冷却した。室温まで冷却後、ポリカーボネート基板を剥離し、偏光フィルム基板上に担持された光学異方体を得た。得られた光学異方体は均一な楕円偏光フィルムとして機能した。
【００６６】
実施例４で使用したものと同様のＳＴＮ液晶セルを、偏光フィルム及び上記で得られた楕円偏光フィルムの間にはさみこんで液晶表示装置を作製した。このとき、偏光フィルムの透過軸、ＳＴＮ液晶セルのガラス基板のラビング方向及び光学異方体中のらせん構造が互いになす角度及び配置は、実施例４の液晶表示装置と同様にした。この液晶表示装置の透明電極間に電圧を印加したところ、広い範囲に渡って均一な白黒表示が得られた。また視角特性も良好であった。
【００６７】
【発明の効果】
本発明の光学異方性を有する基板の製造方法により、光学異方性を有する基板を構成する透明性基板に対する多岐にわたる要求を緩和でき、光学的に等方性ではないポリカーボネート基板や、透明でないポリテトラフルオロエチレン基板を用いることができ、基板選択の幅が広がり、更に製造コストの低減を図れる。またこの製造方法により、液晶セルのガラス基板の上に直接光学異方体を簡便に転写することができるため、各種液晶ディスプレイの高性能化、軽量化、薄型化及び低コスト化に極めて有用であり、工業的な価値が高い。