(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を表面処理する第１の基板処理部と、
この第１の基板処理部での表面処理とは別の表面処理を基板に施す第２の基板処理部と、
前記第１の基板処理部と第２の基板処理部との間に、それぞれの基板処理部に隣接するように介設され、第１の基板処理部と第２の基板処理部との間で基板を受け渡しするインターフェイス部と、
前記第１の基板処理部及びインターフェイス部の上方空間を覆うように配設され、第１の基板処理部及びインターフェイス部に対して下向きにクリーンエアーを吹き出すエアー吹出し部とを備えた基板の表面処理装置において、
前記エアー吹出し部を分割して、前記インターフェイス部に対してクリーンエアーを吹き出すインターフェイス吹出し部を他の部分から独立させるとともに、インターフェイス部を、前記第１及び第２の各基板処理部においてそれぞれ基板の表面処理が行なわれる定常運転時の位置とメンテナンス時の退避位置との間で移動可能とし、かつ、前記インターフェイス吹出し部をインターフェイス部と一体に移動可能とする移動手段を設けたことを特徴とする基板の表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は、半導体デバイス製造プロセス、液晶表示デバイス製造プロセスなどにおいて、半導体ウエハ、ガラス基板等の基板に対して表面処理を施すのに使用される基板の表面処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板の表面処理装置、例えば、半導体ウエハの表面にフォトレジスト液を塗布してフォトレジスト膜を被着形成し、半導体ウエハの表面に形成されたフォトレジスト膜を露光し現像処理するような半導体デバイス製造装置では、処理が行なわれる周囲の環境を清浄にかつ一定の状態に保つことが要求される。このために、これらの装置は所定の条件に空調されたいわゆるクリーンルーム内に設けられるのであるが、さらに厳密に管理された環境が必要となる場合もある。このような場合は、さらに、例えば図５の（ａ）及び（ｂ）に模式平面図及び模式正面図をそれぞれ示すように、スピンコータやスピンデベロッパといった回転処理器が配設された基板処理ユニット１と、この基板処理ユニット１に隣接して配設され、基板処理ユニット１へ未処理基板を搬入し基板処理ユニット１から処理済み基板を受け取るインデクサ部２と、基板処理ユニット１と露光機４との間に基板処理ユニット１に隣接して介設され、基板処理ユニット１と露光機４との間で基板の受け渡しを行なうインターフェイス部３との全体の上方空間を覆うように、クリーンベンチ５が配設される。そして、クリーンベンチ５から基板処理ユニット１、インデクサ部２及びインターフェイス部３に対して下向きにそれぞれクリーンエアー（清浄空気）を吹き出すようにして、このダウンフローにより、基板の表面処理が行なわれ基板の移し替えや一時保管、搬送が行なわれる周囲環境を清浄にかつ一定の状態に維持するようにしている。
【０００３】
図５に示すように、スピンナが設けられた基板処理ユニット１に隣接してインターフェイス部３を設け、基板処理ユニット１と露光機４とをインライン化した構成の装置では、露光機４の露光ステージ、光源、電装部などのメンテナンスを行なう場合、基板の受け渡し面側（基板処理ユニット１との対向面側）から作業を行なうことが多く、このため、図５の（ａ）に二点鎖線で示すようにインターフェイス部３をインライン方向に対して直交する方向における前方側（或いは後方側）へ移動させることができるようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、従来の装置では、クリーンベンチ５は、基板処理ユニット１、インデクサ部２及びインターフェイス部３の全体を覆うようにそれらの上方に固定されている。このため、露光機４のメンテナンスの際にインターフェイス部３を移動させたときに、インターフェイス部３上へはクリーンベンチ５からのダウンフローが供給されず、その周囲環境が一定の清浄な状態に保たれなくなる、といった心配がある。また、露光機４のメンテナンスの際に、インターフェイス部３を移動させて退避させたとしても、クリーンベンチ５が邪魔になってメンテナンス作業の妨げとなっている、といった問題点がある。
【０００５】
この発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、２種類の基板処理部の間にインターフェイス部を介設して両基板処理部をインライン構成とした装置において、インターフェイス部を移動させて装置のメンテナンスを行なう際にも、インターフェイス部の周囲環境が清浄にかつ一定に保たれるとともに、クリーンエアーの吹出し部がメンテナンス作業の妨げとなるようなことがない基板の表面処理装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明では、エアー吹出し部を分割し、その分割されたエアー吹出し部の一部がインターフェイス部と共に移動することができる構成とした。すなわち、請求項１に係る発明は、基板を表面処理する第１の基板処理部と、この第１の基板処理部での表面処理とは別の表面処理を基板に施す第２の基板処理部と、前記第１の基板処理部と第２の基板処理部との間に、それぞれの基板処理部に隣接するように介設され、第１の基板処理部と第２の基板処理部との間で基板を受け渡しするインターフェイス部と、前記第１の基板処理部及びインターフェイス部の上方空間を覆うように配設され、第１の基板処理部及びインターフェイス部に対して下向きにクリーンエアーを吹き出すエアー吹出し部とを備えた基板表面処理装置において、前記インターフェイス部に対してクリーンエアーを吹き出すインターフェイス吹出し部を他の部分から独立させるとともに、インターフェイス部を、前記第１及び第２の各基板処理部においてそれぞれ基板の表面処理が行なわれる定常運転時の位置とメンテナンス時の退避位置との間で移動可能とし、かつ、前記インターフェイス吹出し部をインターフェイス部と一体に移動可能とする移動手段を設けたことを特徴とする。
【０００８】
【作用】
請求項１に係る発明の基板表面処理装置では、図４の（ａ）及び（ｂ）に模式平面図及び模式正面図をそれぞれ示すように、第１の基板処理部（基板処理ユニット）１及びインターフェイス部３の上方空間を覆うように配設されたエアー吹出し部（クリーンベンチ）が、第１の基板処理部１に対して下向きにクリーンエアーを吹き出す部分６とインターフェイス部３に対して下向きにクリーンエアーを吹き出すインターフェイス吹出し部７とに分割され、インターフェイス吹出し部７が他の部分の６から独立しており、第２の基板処理部（露光機）４のメンテナンスに際し、図４の（ａ）に二点鎖線で示すように、インターフェイス部３を移動手段によって退避位置へ移動させたときに、インターフェイス吹出し部７もインターフェイス部３と一体に移動する。従って、メンテナンス時においても、インターフェイス吹出し部７からインターフェイス部３に対して下向きにクリーンエアーが吹き出され、その周囲環境が清浄にかつ一定の状態に保たれる。また、インターフェイス吹出し部７はインターフェイス部３と共に退避位置へ移動するので、第２の基板処理部３のメンテナンスの際に、エアー吹出し部が作業の妨げとなることもない。
【００１０】
【実施例】
以下、この発明の好適な実施例について図面を参照しながら説明する。
【００１１】
図１ないし図３は、この発明の１実施例を示し、図１は、回転処理器が設けられた基板処理ユニットと露光機とをインライン構成とした基板の表面処理装置の概略平面図、図２は、その概略正面図であり、図３は、装置の一部（インターフェイス部）を示す正面図である。但し、図１においては、クリーンベンチを取り外した状態を示しており、また、図３においては、インターフェイス部の前扉を開けた状態を示し、かつ、インターフェイス部上方のクリーンベンチの図示を省略している。
【００１２】
この基板表面処理装置は、スピンコータ１８、スピンデベロッパ２０、ホットプレート２２、クーリングプレート２４、搬送ロボット２５などを備えた基板処理ユニット１０、この基板処理ユニット１０の一方の側面側に隣接して配設され、基板処理ユニット１０へ未処理基板を搬入し、また、基板処理ユニット１０から処理済み基板を受け取るインデクサ部１２、基板処理ユニット１０の他方の側面側に隣接して配設されたインターフェイス部１４、並びに、基板処理ユニット１０において表面にフォトレジスト膜が被着形成された基板に対し露光・焼付け処理を施す露光機１６から構成されている。基板処理ユニット１０とインデクサ部１２とインターフェイス部１４とは相互に連続されて一体化するよう構成されており、基板処理ユニット１０のインターフェイス部１４の側に、インターフェイス部１４に近接して露光機１６が設置されていて、インターフェイス部１４を介して基板処理ユニット１０と露光機１６との間での基板の受け渡しが行なわれるようになっている。尚、ホットプレート２２及びクーリングプレート２４は、それぞれ複数が上下方向に積み重ねて設けられる。また、基板処理ユニット１０における基板の表面処理工程やインデクサ部１２及びインターフェイス部１４における基板の移し替えや一時保管などの動作については、この発明の要旨と関係しないので、これ以上の詳しい説明を省略する。
【００１３】
この装置では、基板処理ユニット１０及びインデクサ部１２の上方空間を覆うようにクリーンベンチ２６が配設されており、また、インターフェイス部１４の上方空間を覆うようにインデクサ部専用のクリーンベンチ２８が配設されている。両クリーンベンチ２６、２８は、互いに独立しており、一方のクリーンベンチ２６は、基板処理ユニット１０の上面に固着された支柱３０によって基板処理ユニット１０及びインデクサ部１２上に支持され、他方のクリーンベンチ２８は、インターフェイス部１４の上面に固着された支柱３２によってインターフェイス部１４上に支持されている。そして、一方のクリーンベンチ２６から基板処理ユニット１０及びインデクサ部１２に対して下向きにクリーンエアーが吹き出され、また、他方のクリーンベンチ２８からインターフェイス部１４に対して下向きにクリーンエアーが吹き出されて、それぞれの周囲環境が清浄にかつ一定の状態に保たれるようになっている。尚、送風ファンは、各クリーンベンチ２６、２８にそれぞれ個別に設けるようにしてもよいし、或いは、一方のクリーンベンチ２６だけに送風ファンを設けておき、その一方のクリーンベンチ２６からダクト等を通してクリーンエアーの一部を他方のクリーンベンチ２８へ導入するようにしてもよい。
【００１４】
また、インターフェイス部１４は、基板処理ユニット１０に対して前後方向に移動可能に連結している。すなわち、図３に示すように、インターフェイス部１４の下面にはキャスタ３４が取着されており、基板処理ユニット１０とインターフェイス部１４とが、基板処理ユニット１０の側に取着された複数個の溝付きコロ３６とインターフェイス部１４の側に取着され溝付きコロ３６に係合したガイド棒３８とを介し、互いに連結されている。そして、インターフェイス部１４は、図１に実線で示した定常運転時の位置から前方へ引き出して、それを同図に破線で示すようにメンテナンス時の退避位置へ移動させることができるようになっている。また、インターフェイス部１４をメンテナンス時の退避位置から後方へ押し込んで定常運転時の位置に戻したときに、インターフェイス部１４が基板処理ユニット１０に対し前後方向において正確に位置決め固定されるように、インターフェイス部１４に、基板処理ユニット１０側に設けられた係止部４２に係止するねじ込み式位置決めピン４０が取り付けられている。尚、図１及び図２に示す装置全体は、いわゆるクリーンルーム内に設置される。
【００１５】
以上のような構成を有するこの装置では、露光機１６のメンテナンスの際に、インターフェイス部１４を前方の退避位置へ引き出すと、インターフェイス部１４上に支持されたクリーンベンチ２８もインターフェイス部１４と一体に移動する。従って、クリーンベンチ２８がメンテナンス作業の邪魔になるようなことはなく、また、メンテナンス作業の間中も、クリーンベンチ２８からインターフェイス部１４に対して下向きにクリーンエアーが吹き出され、そのダウンフローによってインターフェイス部１４の周囲環境は一定の清浄な状態に維持される。尚、基板処理ユニット１０内の各機器やインターフェイス部１４は、それぞれの四方側面に側壁４４を有しており、クリーンベンチ２６、２８から各機器の内部へ送られたクリーンエアーは側壁４４に囲まれた空間を下方に向かって流れる。また、搬送ロボット２５が基板を各機器と受け渡しするため、搬送ロボット２５側の側壁４４には、基板出し入れ用のスリット状の開口（図示せず）が形成される。
【００１６】
上記した構成の装置では、露光機１６のメンテナンスのために、インターフェイス部１４を移動可能とし、そのインターフェイス部１４と一体にクリーンベンチ２８が移動するようにしているが、基板処理ユニットのメンテナンス等のために、インデクサ部も移動可能とするとともに、そのインデクサ部にクリーンエアーを供給するクリーンベンチを他の部分から独立させ、かつ、そのクリーンベンチがインデクサ部と一体に移動するような構成としてもよい。
【００１７】
尚、インターフェイス部を基板処理ユニットに対して移動可能に連結する機構としては、上記実施例のように複数個の溝付きコロとガイド棒とを組み合わせたものに限らず、種々の機構のものを採用し得る。また、クリーンベンチをインターフェイス部と一体に移動させることができるようにする構成としては、上記実施例のようにインターフェイス部上に支柱を介してクリーンベンチを支持する構成に限らず、例えば、クリーンベンチをインターフェイス部と分離させ、キャスタ付きの支柱によりクリーンベンチを、インターフェイス部の上方空間を覆うように床上に支持し、メンテナンスに際してインターフェイス部を移動させたときに、その一部がクリーンベンチの支柱に係合して、クリーンベンチがインターフェイス部と一緒に移動するような構成としてもよい。
【００１８】
また、上記した実施例では、基板の表面処理装置として、スピンコータ及びスピンデベロッパを備えた基板処理ユニットと露光機とをインライン化したものを例示したが、基板の表面処理の種類としては、フォトレジスト塗布や露光、現像といった処理に限らず、例えば基板の熱処理炉のようなものでもよく、この発明は、種々の処理を行なう基板の表面処理装置について適用し得るものである。
【００１９】
【発明の効果】
請求項１に係る発明によれば、２種類の基板処理部の間にインターフェイス部を介設して両基板処理部をインライン構成とした装置において、基板処理部のメンテナンスに際し、インターフェイス部を退避位置へ移動させても、クリーンエアーの吹出しによってインターフェイス部の周囲環境が清浄にかつ一定に保たれるとともに、クリーンエアーの吹出し部がメンテナンス作業の妨げとなるようなことがない基板の表面処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】請求項１に係る発明の１実施例を示し、スピンナが設けられた基板処理ユニットと露光機とをインライン構成とした基板表面処理装置の、クリーンベンチを取り外した状態を示す概略平面図である。
【図２】図１に示した装置の概略正面図である。
【図３】図３は、図１に示した装置の一部（インターフェイス部）を示す拡大正面図である。
【図４】請求項１に係る発明の作用を説明するための図であって、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は模式正面図である。
【図５】従来の基板の表面処理装置の構成の１例を示し、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は模式正面図である。
【符号の説明】
１、１０  基板処理ユニット
２、１２  インデクサ部
３、１４  インターフェイス部
４、１６  露光機
６、２６  基板処理ユニット及びインデクサ部に対してクリーンエアーを吹き出すクリーンベンチ
７、２８  インターフェイス部に対してクリーンエアーを吹き出すクリーンベンチ
３０、３２  支柱
３４  キャスタ
３６  溝付きコロ
３８  ガイド棒
４０  ねじ込み式位置決めピン
【図１】
0003686115.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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