(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
傾斜姿勢で搬送される基板の主面に処理液を供給する基板処理装置において、
基板の搬送方向と直交する面内で水平面に対して基板を傾斜させつつその主面に沿った方向に搬送する搬送手段と、
搬送手段によって搬送される基板の搬送方向に沿った上部端縁に処理液を層状に供給するスリットノズルを有する処理液供給手段と、
搬送手段によって搬送される基板の上側主面に対向するとともに基板の上部端縁側から下部端縁側にかけて延びる対向面を有し、搬送方向に沿った基板の長さ寸法よりも短い間隔で並列配置された複数の誘導部材とを備え、
前記複数の誘導部材の少なくとも一つは、前記スリットノズルの長手方向途中に位置するように配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、前記誘導部材の対向面は、前記基板の主面とほぼ平行な平面であることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、前記スリットノズルから前記上部端縁に層状に供給され前記上側主面上を流下する処理液を、前記複数の誘導部材の対向面により誘導して前記上側主面上に広げることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記処理液供給手段は、第１処理液を供給する第１スリットノズルと第１スリットノズルより基板の搬送方向の下流側に配置され第１スリットノズルにより第１処理液が供給されている基板に第１処理液とは異なる第２処理液を供給する第２スリットノズルとを有し、
第１スリットノズルは第１誘導部材より上流側の領域に第１処理液を供給するとともに、第２スリットノズルは第１誘導部材より下流側の領域に第２処理液を供給することを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板処理装置において、第２スリットノズルは第１誘導部材より下流側に配置された第２誘導部材より下流側の領域に第２処理液を供給することを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、誘導部材の対向面が非撥水性材料によって形成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、誘導部材の対向面と基板の上側主面との間隔が０．５ｍｍから３ｍｍの範囲内であることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれかに記載の基板処理装置において、搬送手段によって搬送される基板の傾斜角度が３°から４０°の範囲内であることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれかに記載の基板処理装置において、スリットノズルは鉛直方向に対して基板の外側に向けて３０°から４０°の範囲内で傾斜していることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、液晶表示器用基板等のＦＰＤ（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）用基板、フォトマスク用基板および半導体基板などの各種の基板を、傾斜姿勢で搬送させつつ基板の主面に処理液を供給する基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
上述の基板処理装置として、例えば特開平９―３２３０６０号公報に開示されたものが知られている。この基板処理装置は、基板の搬送方向に沿って互いに平行に配列された複数の搬送ローラを備えている。これらの搬送ローラは搬送方向と直交する面内で水平面に対して例えば３°から４０°の範囲内で傾斜配置されている。そして、基板は複数の搬送ローラによって水平面に対して３°から４０°の範囲内の傾斜姿勢で支持されつつその主面に沿った方向に搬送される。また、基板処理装置には傾斜姿勢で搬送される基板の上側主面の上部端縁に層状に処理液を供給するスリットノズルが設けられている。このスリットノズルにより基板の上部端縁に供給された処理液は、基板の上側主面に沿って流下して基板の下側端縁から基板の下方に流れ落ちる。このように傾斜姿勢の基板に処理液を供給することによって、基板の主面上に処理液が滞留することなく処理効率が向上する。また、基板に供給された処理液が迅速に基板外に排出できて、いわゆる液切りが良くできるので次工程への処理液の持ち込み量を少なくできる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、ＦＰＤなどの大型化に伴い基板サイズも大型化してきている。このように大型化した基板を上述の基板処理装置により処理した際に発生する問題点を図６を用いて説明する。図６において角型の基板Ｇは、図示しない複数の搬送ローラによって水平面に対して角度θ（例えば３°から４０°の範囲内）だけ傾斜させられつつ搬送方向ＴＤに向けて搬送される。そして、スリットノズル９０により処理液ＴＬが基板の上部端縁ＵＥに層状に供給される。
【０００４】
大型化した基板Ｇを短時間で処理するために、基板Ｇの大型化に応じてスリットノズル９０の長手方向の長さ寸法を大きくする必要がある。しかしながら、長さ寸法を大きくしたスリットノズル９０により基板Ｇの上部端縁ＵＥに供給された処理液ＴＬは、下部端縁ＬＥに向けて上側主面ＵＳ上を流下するにつれて、その幅が次第に細くなる。このように基板Ｇの上部端縁ＵＥ側と下部端縁ＬＥ側とで処理液ＴＬの幅が異なると、基板Ｇの上側主面ＵＳの全面を均一に処理できないという問題が発生する。
【０００５】
本発明の目的は、上述のような点に鑑み、傾斜姿勢で搬送される基板の上部端縁に層状に処理液を供給する基板処理装置において、基板の上側主面を均一に処理できる基板処理装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するために請求項１に係る発明は、傾斜姿勢で搬送される基板の主面に処理液を供給する基板処理装置において、基板の搬送方向と直交する面内で水平面に対して基板を傾斜させつつその主面に沿った方向に搬送する搬送手段と、搬送手段によって搬送される基板の搬送方向に沿った上部端縁に処理液を層状に供給するスリットノズルを有する処理液供給手段と、搬送手段によって搬送される基板の上側主面に対向するとともに基板の上部端縁側から下部端縁側にかけて延びる対向面を有し、搬送方向に沿った基板の長さ寸法よりも短い間隔で並列配置された複数の誘導部材とを備え、前記複数の誘導部材の少なくとも一つは、前記スリットノズルの長手方向途中に位置するように配置されていることを特徴とする。さらに、請求項３に係る発明は、前記スリットノズルから前記上部端縁に層状に供給され前記上側主面上を流下する処理液を、前記複数の誘導部材の対向面により誘導して前記上側主面上に広げることを特徴とする。これらの発明によると、上部端縁に供給された処理液が複数の誘導部材の対向面に誘導されて基板の上側主面上に広がる。
【０００７】
また、請求項２に係る発明は、前記誘導部材の対向面は、前記基板の主面とほぼ平行な平面であることを特徴とする。
【０００８】
また、請求項４または請求項５に係る発明は、上記処理液供給手段は、第１処理液を供給する第１スリットノズルと第１スリットノズルより基板の搬送方向の下流側に配置され第１スリットノズルにより第1処理液が供給されている基板に第１処理液とは異なる第２処理液を供給する第２スリットノズルとを有し、第１スリットノズルは第１誘導部材より上流側の領域に第１処理液を供給するとともに、第２スリットノズルは第１誘導部材より下流側の領域に（請求項４）、または、第１誘導部材より下流側に配置された第２誘導部材より下流側の領域に（請求項５）、第２処理液を供給することを特徴とする。これらの発明によれば、基板の上側主面上で、第１処理液が第１誘導部材より下流側に広がることが抑制され、第２処理液が第１誘導部材または第２誘導部材より上流側に広がることが抑制される。
【０００９】
さらに、請求項６に係る発明は誘導部材の対向面が非撥水性材料によって形成されていることを特徴とする。この発明によれば上述の処理液の誘導作用や広がり抑制作用が顕著となる。
【００１０】
また、上記誘導部材の対向面と基板の上側主面との間隔が０．５ｍｍから３ｍｍの範囲内であり（請求項７）、上記搬送手段によって搬送される基板の傾斜角度が３°から４０°の範囲内であり（請求項８）、上記スリットノズルは鉛直方向に対して基板の外側に向けて３０°から４０°の範囲内で傾斜している（請求項９）ことが好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好適な実施形態について図面を参照しながら説明する。図１はこの発明の基板処理装置が適用される基板処理装置群の一例を示す模式図である。図１において１は薬液処理部を、２は水洗部を、３は乾燥部をそれぞれ示し、こららの各部は搬送方向ＴＤに沿って直列に配置されている。水洗部２は、第１水洗部２ａと第２水洗部２ｂとから構成されている。これらの各部１，２ａ，２ｂ，３はそれぞれ略箱型の槽を備えている。なお、図１において後述する誘導部材１５などは省略されている。
【００１２】
複数の搬送ローラＲは搬送方向ＴＤに沿って互いに平行に配列され、傾斜姿勢で基板を支持しつつ搬送方向ＴＤに向けて搬送し、それぞれの槽に設けられた搬出入口を介して薬液処理部１、水洗部２および乾燥部３に基板Ｇを順次導入する。
【００１３】
薬液処理部１では、槽内に導入され搬送ローラＲによって搬送される基板Ｇの上部端縁に、アルカリ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液などの薬液（処理液）がスリットノズル１０から層状に供給される。薬液処理部１で薬液処理された基板Ｇは第１水洗部２ａ内に導入され、スリットノズル２０から基板Ｇの上部端縁に洗浄液が供給される。そして、第２水洗部２ｂでスリットノズル２１により搬送方向ＴＤに直交する基板Ｇの幅方向にわたって層状に純水を供給して、基板Ｇの上側主面に残留する洗浄液を純水で洗い流す。最後に乾燥部３でエアナイフノズル３０により上記幅方向にわたって層状にエアを供給して、基板Ｇの上側主面に残留する純水などを基板Ｇ外に吹き飛ばして液切り処理する。
【００１４】
次にこの発明の基板処理装置を薬液処理部１に適用した第１実施形態について図２および図３を用いて説明する。図２は薬液処理部（基板処理装置）１を示す斜視図である。また、図３は図２のＡ−Ａ線断面図である。なお、図２および図３において薬液処理部１の槽は省略してある。
【００１５】
搬送ローラＲは、回転軸４１の両端付近に固定された一対の外側ローラ４２と回転軸４１の中間に固定された中間ローラ４３とを備える。外側ローラ４２は図３に示すように鍔部５１と鍔部５１より径が小さい小径部５２と小径部５２のほぼ中間に固定された弾性体であるＯリング５３とから構成され、中間ローラ４３は小径部５２と同径の小径部５４とＯリング５５とから構成されている。搬送ローラＲは搬送方向ＴＤと直交する面内で水平面に対して角度θ１だけ傾斜するように配置されている。角度θ１は、３°から４０°の範囲内とすることが好ましく、この範囲内となるように搬送ローラＲの傾斜角度を調節する図示しない機構が設けられている。基板Ｇは複数の搬送ローラＲのＯリング５３，５５により下側主面の両端縁部および中間部を下方から支持されつつ、角度θ１だけ傾斜した傾斜姿勢で搬送方向ＴＤに向けて搬送される。また、基板Ｇは一対の鍔部５１によって進行方向が規正され蛇行することなく搬送される。複数の搬送ローラＲの回転軸４１は、図示しない部材にそれぞれ軸支されている。また、複数の搬送ローラＲの回転軸４１は駆動源である図示しないモータと複数のギアやベルトを介して連動連結されている。
【００１６】
スリットノズル１０は、先細り形状の先端にスリット状の吐出口１２が形成されたノズル本体１１を備えている。ノズル本体１１は吐出口１２の長手方向が搬送方向ＴＤに沿うとともに、複数の搬送ローラＲにより傾斜姿勢で搬送される基板Ｇの上部端縁ＵＥに対向するように図示しない取付部材により固定されている。ノズル本体１１の取付角度θ２は、鉛直方向に対して基板Ｇの外側方向に３０°から４５°の範囲内に設定することが好ましく、取付角度を調整可能にする図示しない機構が設けられている。この機構によりノズル本体１１の取付角度を調整して吐出口１２から吐出される薬液（処理液）ＴＬの吐出方向を調整する。ノズル本体１１には図示しない薬液（処理液）供給源に一方端が流路接続された供給配管１４の他方端がフィッティング１３によって連結されている。供給配管１４はノズル本体１１の内部に形成された供給管路６１（図３）と流路接続されている。供給管路６１はノズル本体１１の長手方向に沿って形成され吐出口１２と連通路６２を介して流路接続されている。
【００１７】
複数の搬送ローラＲにより傾斜姿勢で支持された基板Ｇの上方には、複数の誘導部材１５が搬送方向ＴＤに沿って互いに平行に、かつ、その長手方向が搬送方向ＴＤと直交する方向と平行になるように配置されている。誘導部材１５は図４に示すように直方体であって、長手方向の長さ寸法は搬送方向ＴＤと直交する方向に沿った基板Ｇの幅寸法より若干小さい（図３）。誘導部材１５の基板Ｇの上側主面ＵＳと対向する下面（対向面）ＬＳは、基板Ｇの上部端縁ＵＥ側から下部端縁ＬＥ側にかけて延びている。下面ＬＳは、非撥水性材料により形成することが好ましい。具体的には、誘導部材１５全体または下面ＬＳを例えばＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）で形成したり、親水性フィルムを付着させた樹脂や金属などで形成する。
【００１８】
複数の誘導部材１５は連結部材１６により中央部でそれぞれ連結されている。連結部材１６は一対の吊下げ部材１７によって吊り下げられている。吊下げ部材１７は図示しない槽の内壁面に固定されている。図３に示す基板Ｇの上側主面ＵＳと誘導部材１５の下面ＬＳとの間隔ｄは、０．５ｍｍから３ｍｍの範囲内とすることが好ましい。
【００１９】
上述のように複数の搬送ローラＲによって傾斜姿勢で搬送される基板Ｇの上部端縁ＵＥにスリットノズル１０の吐出口１２から層状に薬液ＴＬが供給される。上部端縁ＵＥに供給された薬液ＴＬは下部端縁ＬＥに向けて上側主面ＵＳ上を流下する。上側主面ＵＳ上を流下する薬液ＴＬは複数の誘導部材１５の下面ＬＳに誘導されて上側主面ＵＳ上に広がり、従来（図６）のように下部端縁ＬＥ側で薬液ＴＬの幅が狭まることがない。下部端縁ＬＥから流れ落ちた薬液ＴＬは図示しない槽の底面で受け止められた後、排液口から槽外に排出される。排出された薬液は廃液されるか、または、清浄化処理が施された後、スリットノズル１０などに循環供給される。
【００２０】
次にこの発明の第２実施形態について図５を用いて説明する。図５は第２実施形態を示す斜視図であって、第１実施形態と同じ機能を有する部材には同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。第２実施形態では、２つのスリットノズル１０ａ，１０ｂが搬送方向ＴＤに沿って並設されている。第１スリットノズル１０ａは基板Ｇの上部端縁ＵＥに向けて第１薬液ＴＬａを吐出し、第２スリットノズル１０ｂは上部端縁ＵＥに向けて第１薬液ＴＬａとは種類の異なる第２薬液ＴＬｂを吐出する。
【００２１】
第１スリットノズル１０ａと第２スリットノズル１０ｂとは、基板Ｇの搬送方向Ｇに沿った幅寸法よりも小さい間隔を隔ててそれぞれ配置されており、それぞれの取付角度は第１実施形態の取付角度θ２と同様である。第１スリットノズル１０ａは上側主面の、搬送方向ＴＤの上流側から数えて２番目の誘導部材（第１誘導部材）１５ａよりも上流側の領域Ａに第１薬液ＴＬａを供給する。第２スリットノズル１０ｂは領域Ａに第１薬液ＴＬａが供給されている基板Ｇの上側主面ＵＳの、誘導部材１５ａの一つ下流側の誘導部材（第２誘導部材）１５ｂよりも下流側の領域Ｂに第２薬液ＴＬｂを供給する。
【００２２】
上述の第２実施形態によれば、第１スリットノズル１０ａから領域Ａに供給された第１薬液ＴＬａは、誘導部材１５ａにより上側主面ＵＳ上で搬送方向ＴＤの下流側に誘導されるが、誘導部材１５ａより下流側（領域Ｃ側）には大きく広がらない。同様に第２スリットノズル１０ｂから領域Ｂに供給された第２薬液ＴＬｂは、誘導部材１５ｂにより上側主面ＵＳ上で搬送方向ＴＤの上流側に誘導されるが、誘導部材１５ｂより上流側（領域Ｃ側）には大きく広がらない。したがって、誘導部材１５ａと誘導部材１５ｂとの間の上側主面ＵＳ上の領域Ｃにおいて、第１薬液ＴＬａと第２薬液ＴＬｂとが混ざり合うことが抑制され、第１薬液ＴＬａと第２薬液ＴＬｂとを分離回収する際に効果的である。上述のように上側主面ＵＳ上で第１薬液ＴＬａと第２薬液ＴＬｂとが混ざり合うことが抑制できれば、図示しない槽の底部を２つの空間に仕切る仕切板を設けて、下部端縁ＬＥから流れ落ちる第１薬液ＴＬａと第２薬液ＴＬｂとをそれぞれの空間に回収すれば分離回収できる。
【００２３】
上述の第２実施形態では領域Ａ，Ｂを２本の誘導部材１５ａ，１５ｂによって形成したが、これに代えて１本の誘導部材、例えば誘導部材１５ａで領域Ａ，Ｂを形成しても良い。この場合は領域Ｃは存在しないが、誘導部材１５ａにより第１薬液ＴＬａが領域Ｂ側に広がること、および、第２薬液ＴＬｂが領域Ａ側に広がることがそれぞれ抑制できる。
【００２４】
上述の各実施形態において基板Ｇの搬送速度、基板Ｇの表面状態および処理液の種類などに応じて、基板Ｇの傾斜角度θ１は３°から４０°の範囲内で、スリットノズル１０，１０ａ，１０ｂの取付角度θ２は３０°から４５°の範囲で設定すれば良い。
【００２５】
上述の各実施形態はこの発明を薬液処理部１に適用した例であるが、同様のスリットノズル２０を備えた第１水洗部２ａにもこの発明は適用できる。
【００２６】
また、複数の誘導部材１５（１５ａ，１５ｂ）は、搬送方向ＴＤと直交する方向に沿ってそれぞれ配置されているが、配置方向はこれに限定されず、例えば互いの間隔が下部端縁ＬＥに向かうに従い広がって平面視ハの字状になるように配置しても良い。
【００２７】
【発明の効果】
以上詳細に説明した如く、請求項１または請求項３に係る発明によれば、上部端縁に供給された処理液が複数の誘導部材の対向面に誘導されて基板の上側主面上に広がるので上側主面を均一に処理できる。
【００２８】
また、請求項４または請求項５に係る発明によれば、上記の効果に加え、基板の上側主面上で、第１処理液が第１誘導部材より搬送方向の下流側に広がることが抑制され、第２処理液が第１誘導部材または第２誘導部材より搬送方向の上流側に広がることが抑制されるので、第１処理液と第２処理液とが上側主面上で混ざり合うことを抑制できて、処理液の分離回収に効果的である。
【００２９】
さらに、請求項６に係る発明よれば上述の処理液の誘導作用や広がり抑制作用が顕著となりより効果的である。また、請求項７から請求項９のいずれかに係る発明によれば上述の効果を確実に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明が適用される基板処理装置を含む基板処理装置群の一例を模式図である。
【図２】この発明の第１実施形態を示す斜視図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】誘導部材を示す斜視図である。
【図５】この発明の第２実施形態を示す斜視図である。
【図６】従来技術の問題点を説明するための模式図である。
【符号の説明】
１  薬液処理部（基板処理装置）
２ａ  第１水洗部（基板処理装置）
１０  スリットノズル
１０ａ  第１スリットノズル
１０ｂ  第２スリットノズル
１５  誘導部材
１５ａ  誘導部材（第１誘導部材）
１５ｂ  誘導部材（第２誘導部材）
Ｇ  基板
Ｒ  搬送ローラ
ＵＳ  上側主面１０
ＵＥ  上部端縁
ＬＥ  下部端縁
ＬＳ  誘導部材の下面（対向面）
ｄ  上側主面と下面（対向面）との間隔寸法
θ１  基板の傾斜角度
θ２  スリットノズルの取付角度
【図１】
0003626640.tif 000002
【図２】
0003626640.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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