(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
化粧品的に許容可能な媒体中に、少なくとも、
（ａ）ベンジリデンショウノウ誘導体系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタン誘導体系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はトリアジン誘導体系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤からなる、ＵＶ照射を遮蔽しうる光保護系と；
（ｂ）直鎖状又は分枝状の酒石酸ジアルキルとを含有し、２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジンを含まないことを特徴とする、ＵＶ照射から皮膚及び／又は髪を保護するための組成物。
【請求項２】
酒石酸ジアルキルが酒石酸Ｃ１−Ｃ１６ジアルキルから選ばれる請求項１記載の組成物。
【請求項３】
酒石酸ジアルキルが酒石酸Ｃ１−Ｃ４ジアルキルから選ばれる請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
酒石酸ジアルキルが酒石酸ジエチルである請求項１から３の何れか１項に記載の組成物。
【請求項５】
酒石酸ジアルキルが、次の構造：
【化１】
0003643924.tif 000024
（（Ａ）式中、Ｒは式：
【化２】
0003643924.tif 000025
の基を示し、
ｐは０又は１；
ｎは、ｐが０に等しいとき１３又は１２に等しく、
ｍ＋ｎは、ｐが１に等しいとき９又は８に等しい）
に相当する、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項６】
酒石酸ジアルキルが、組成物の全重量に対して０．１から１０重量％の範囲の濃度で用いられる、請求項１から５の何れか１項に記載の組成物。
【請求項７】
ジベンゾイルメタン誘導体が、
−  ２−メチルジベンゾイルメタン、
−  ４−メチルジベンゾイルメタン、
−  ４−イソプロピルジベンゾイルメタン、
−  ４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、
−  ２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、
−  ２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、
−  ４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
−  ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
からなる群から選ばれる、請求項１から６の何れか１項に記載の組成物。
【請求項８】
ジベンゾイルメタン誘導体が、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンである、請求項１から７の何れか１項に記載の組成物。
【請求項９】
ジベンゾイルメタン誘導体が、４−イソプロピルジベンゾイルメタンである、請求項１から７の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
ベンジリデンショウノウ誘導体が、
−  ３−ベンジリデンショウノウ、
−  ４−メチルベンジリデンショウノウ、
−  ３−（４’−トリメチルアンモノイベンジリデン）ショウノウ＝メチルスルファート、
−  ベンジリデンショウノウスルホン酸とその塩、
−  ３−（３’−スルホ−４’−メチルベンジリデン）ショウノウ、
−  ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ、
からなる群から選ばれる、請求項１から９の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
ベンジリデンショウノウ誘導体が、
−  ベンジリデンショウノウ官能基を含むジオルガノポリシロキサン、
−  ベンジリデンショウノウ官能基を含むトリオルガノシラン、
からなる群から選ばれる、請求項１から９の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
ベンジリデンショウノウ誘導体が、次の一般式（ＩＩＩ）：
【化３】
0003643924.tif 000026
［式中、Ｂは水素原子、アルカリ金属又はＮＨ（Ｒ）３＋基（ここで基Ｒは同一でも異なっていてもよく、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はヒドロキシアルキル基である）又はＭｎ＋／ｎ基（ここでＭｎ＋は、ｎが２又は３又は４に等しい多価金属カチオンを示す）］、並びにその異性体に相当する、請求項１から９の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
ベンジリデンショウノウ誘導体が、４−メチルベンジリデンショウノウである、請求項１から１０の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
トリアジン誘導体が、
−  ２，４，６−トリス（ジエチル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、
−  ２，４，６−トリス（ジイソプロピル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、
−  ２，４，６−トリス（ジメチル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、
−  ２，４，６−トリス（エチル−α−シアノ−４−アミノシンナマート）−ｓ−トリアジン、
から選ばれる、請求項１から１３の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１５】
光保護系が、ベンジリデンショウノウ誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体又はトリアジン誘導体以外の一以上の更なる有機ＵＶ吸収遮蔽剤、及び、一以上の無機顔料及び／又は無機ナノ顔料、又はこれらの混合物を更に含む、請求項１から１４の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１６】
更なる有機ＵＶ遮蔽剤が、２−フェニル−５−ベンズイミダゾールスルホン酸とその塩、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、β，β−ジフェニルアクリレート誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導体、アントラニル酸メンチル、遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーンから、単独又は混合物として選ばれる、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
光保護系が、組成物の全重量に対して０．１重量％から３０重量％の範囲の濃度で組成物中に存在する、請求項１から１６の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１８】
光保護系が、ＵＶ照射を散乱及び／又は反射させて物理的に遮蔽しうる、被覆又は非被覆酸化金属顔料又はナノ顔料を相補的光保護剤として更に含むことを特徴とする請求項１から１７の何れかに記載の組成物。
【請求項１９】
顔料又はナノ顔料が、被覆されていても被覆されていなくてもよい、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、並びにその混合物から選ばれることを特徴とする請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
皮膚を人工的に日焼け及び／又は褐色化させる少なくとも一の薬剤を更に含有することを特徴とする請求項１から１９の何れか１項に記載の組成物。
【請求項２１】
水性連続相を含む分散液の形態であることを特徴とする請求項１から２０の何れかに記載の組成物。
【請求項２２】
クリームゲルの形態であることを特徴とする請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】
ベンジリデンショウノウ誘導体系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタン誘導体系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤からなる、ＵＶ照射を遮蔽しうる光保護系を含有するタイプの、皮膚及び／又は髪をＵＶ照射から保護するための組成物における、又は該組成物の製造における、太陽光保護ファクターを増大させるための、直鎖状又は分枝状の酒石酸ジアルキルの使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＵＶ照射、特に太陽光の照射から皮膚及び／又は髪を保護するための新規な化粧品及び／又は皮膚用組成物に関する。より詳細には、本発明は、少なくとも一のジベンゾイルメタン系ＵＶ遮蔽剤及び／又は少なくとも一のベンジリデンショウノウ誘導体系ＵＶ遮蔽剤及び／又は少なくとも一のトリアジン誘導体系ＵＶ遮蔽剤を含有して、改善された太陽保護ファクターを持ち、化粧品的及び／又は皮膚科学的に許容可能な媒体（支持）中に、少なくとも一の直鎖状もしくは分枝状酒石酸ジアルキルを含有する新規な化粧品及び／又は皮膚科学的組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持つ光線は皮膚の表皮を日焼けさせ、ＵＶ−Ｂ線として知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍの間の波長を持つ光線は、自然の日焼けに有害な皮膚熱傷と紅斑を引き起こすことが知られている。よって、このＵＶ−Ｂ線は遮蔽すべきである。
【０００３】
また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、日焼けを起こさせるＵＶ−Ａ線も皮膚に悪い変化を誘発しがちで、敏感肌又は太陽光照射に絶えずさらされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａ線は、特に、皮膚の早期老化につながる皮膚弾性の喪失と皺の出現の原因となる。ＵＶ−Ａ線は紅斑反応の惹起を促したり、ある個人にあってはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にもなりうる。従って、ＵＶ−Ａ線もまた遮蔽することが望まれる。
【０００４】
皮膚の光保護（ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ）を意図した多くの化粧品組成物が今日までに提案されている。
【０００５】
これら抗日光組成物は、多くの場合、有害なＵＶ線を選択的に吸収しうる一以上の従来の親油性及び／又は親水性有機遮蔽剤を種々の濃度で含む水中油型エマルジョンの形態（すなわち、分散化させる連続水性相と分散させられた不連続油性相からなる化粧品的に許容しうる媒体）であり、これら有機遮蔽剤（及びその量）は、所望の保護ファクター（保護ファクター（ＰＦ）は、ＵＶ遮蔽剤がない場合に紅斑形成しきい値に達するまでの照射時間に対するＵＶ遮蔽剤を用いた場合に紅斑形成しきい値に達するのに必要な照射時間の比によって数学的に表される）の関数として選択される。
【０００６】
上述の光保護分野において鋭意研究した結果、本出願人は、驚くべきことにまた意外にも、ベンジリデンショウノウから誘導されるタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタンタイプのＵＶ遮蔽剤及び／又はトリアジンから誘導されるタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤からなる光保護系とＣ１２−Ｃ１５酒石酸ジアルキルを組み合わせることによって、従来より高い保護ファクターで、このような光保護系だけで得られるものよりもとにかく優れた保護ファクターを持つ抗太陽組成物を得ることができることを見いだした。
【０００７】
この特性は、従来技術、特に特許出願ＷＯ９６／４００４７では、標準的なＵＶ遮蔽剤の存在下で、α−ヒドロキシ酸エステルを含む化粧品又は製薬組成物が開示され、更に特許出願ＥＰ−Ａ−６３５２６０には、酒石酸Ｃ１２−Ｃ１３ジアルキルとケイ皮酸又はベンゾフェノン系のＵＶ遮蔽剤を用いる抗太陽リポゲルが開示されているので、なおさら意外なことである。（特にBASF社によって「UVINUL T150」の商品名で販売されている）２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジンをベースとする光保護組成物もまたよく知られており、そこでは、α，β−ジヒドロキシカルボン酸のジアルキルエステエルが上記トリアジンを溶解するためにだけ、あるいはこの特定のＵＶスクリーナーの溶解性を改善するためにだけ用いられている。
【０００８】
本出願人は、本発明のものを含まず、ケイ皮酸又はベンゾフェノン誘導体のような他の標準的なＵＶ遮蔽剤からなる従来の光保護系と組み合わせて酒石酸ジアルキルを用いても保護ファクターは改善されないことを意外にも知見した。
この発見が本発明の基礎となっている。
【０００９】
【課題を解決するための手段および発明の実施の形態】
しかして、本発明の第１の主題にあっては、化粧品的に許容可能な支持体中に、少なくとも、
（ａ）ベンジリデンショウノウから誘導されるタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタンから誘導されるタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はトリアジンから誘導されるタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤からなる、ＵＶ照射を遮蔽しうる光保護系と；
（ｂ）好ましくは１から１６の炭素原子を持つ直鎖状又は分枝状の酒石酸ジアルキルとを含有し、２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジンを含まないことを特徴とする、紫外線照射から皮膚及び／又は髪を保護することを特に意図した新規組成物が提案される。
【００１０】
本発明において、ＵＶ照射を遮蔽しうる光保護系という表現は、ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ照射の吸収及び／又は反射及び／又は散乱というそれ自体は既知のメカニズムによって、化合物が適用された表面（皮膚、髪）に上記照射線が接触するのを防ぐ、あるいは少なくとも制限することを可能にする任意の化合物又は化合物の任意の組み合わせを示すものと一般的に理解される。換言すれば、これら化合物は、ＵＶ光線を吸収する有機光保護遮蔽剤あるいはＵＶ光線を散乱及び／又は反射する無機（ナノ）顔料、並びにその混合物でありうる。
【００１１】
本発明の他の主題は、ベンジリデンショウノウ誘導体系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタン系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はトリアジンから誘導されるタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤からなる、ＵＶ照射を遮蔽しうる光保護系を含有するタイプの、皮膚及び／又は髪を紫外線照射から保護するための化粧品又は皮膚科学的組成物における、又は該組成物の製造における、太陽光保護ファクターを増大させるための、酒石酸ジアルキルの使用にある。
【００１２】
本発明の他の主題は、本発明に係る組成物の有効量を皮膚及び／又は髪に適用することから本質的になる、紫外線照射、特に太陽光照射から皮膚及び／又は髪を保護するための美容処理方法にある。
【００１３】
本発明の他の特徴、観点及び利点は、以下の詳細な記載を読めば明らかになるであろう。
【００１４】
挙げられる酒石酸ジアルキルは、アルキル基がＣ１−Ｃ４である直鎖状化合物、例えば酒石酸ジメチル、ジエチル又はジプロピルである。酒石酸ジエチルが好適に使用できる。
【００１５】
特に好ましい本発明に係る酒石酸ジアルキルは、次の構造：
【化７】
0003643924.tif 000002
（（Ａ）式中、Ｒは式：
【化８】
0003643924.tif 000003
の基を示し、
ｐは０又は１；
ｎは、ｐが０に等しいとき１３又は１２に等しく、
ｍ＋ｎは、ｐが１に等しいとき９又は８に等しい）
に相当する。
【００１６】
Enichem Augusta Industriale社によってCosmacol ETIという名称で販売されているもののような、直鎖状の酒石酸Ｃ１２−Ｃ１３ジアルキル、並びに同社によってCosmacol ETLという名称で販売されているような、直鎖状の酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルが特に用いられる。
【００１７】
本発明に係る組成物において用いられる酒石酸ジアルキルは、組成物の全重量に対して好ましくは０．１から１０重量％の範囲の濃度、更に好ましくは０．２から５重量％の濃度で用いられる。
【００１８】
本発明に係るジベンゾイル誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に文献ＦＲ−Ａ−２３２６４０５，ＦＲ−Ａ−２４４０９３３及びＥＰ−Ａ−０１１４６０７に記載されている。これら文献の教示は、これら生成物の実際の定義に触れるものについて、全体が本明細書の一部として取り込まれているものとする。
【００１９】
本発明が更に特定的に関連しているジベンゾイル誘導体は、限定するものではないが、
−  ２−メチルジベンゾイルメタン、
−  ４−メチルジベンゾイルメタン、
−  ４−イソプロピルジベンゾイルメタン、
−  ４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、
−  ２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、
−  ２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、
−  ４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
−  ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
を特に挙げることができる。
【００２０】
上述のジベンゾイルメタン誘導体のなかで、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、特にGivaudan社によって「Parsol 1789」という取引名で販売されているものを用いるのが本発明においては特に好ましい。この遮蔽剤は、次の構造式（Ｉ）：
【化９】
0003643924.tif 000004
に対応する。
【００２１】
本発明において好ましい他のジベンゾイルメタン誘導体は、４−イソプロピルジベンゾイルメタンであり、この遮蔽剤は、Merck社によって「Eusolex 8020」の名称で販売されており、次の構造式（ＩＩ）：
【化１０】
0003643924.tif 000005
に対応する。
【００２２】
本発明が関係しているベンジリデンショウノウ誘導体は、それ自体既によく知られている生成物である。例えば、次の化合物：
−  ３−ベンジリデンショウノウ、
−  ４−メチルベンジリデンショウノウ、
−  ３−（４’−トリメチルアンモノイベンジリデン）ショウノウ＝メチルスルファート、
−  ベンジリデンショウノウスルホン酸とその塩、
−  ３−（３’−スルホ−４’−メチルベンジリデン）ショウノウ、
−  ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ、
を挙げることができる。
【００２３】
ベンジリデンショウノウ官能基を含むジオルガノポリシロキサン、例えば特許ＥＰ−Ｂ−０３５５７７７に記載されているもの、並びに短い直鎖又は環状鎖を含むジオルガノシロキサン、又はベンジリデンショウノウ基を含むトリオルガノシラン、例えば特許ＥＰ−Ｂ−０７１２８５５に記載されているものを挙げることができる。これら文献の教示は、これら生成物の実際の定義に触れるものについて、全体が本明細書の一部として取り込まれているものとする。
【００２４】
例として挙げることができるものは、特許出願ＦＲ−Ａ−２５２８４２０及びＦＲ−Ａ−２６３９３４７に特に記載されているベンゼン−１，４−ビス（３−メチリデン−１０−ショウノウスルホン酸）とその種々の塩であり、これら化合物は、２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の紫外線を実際に吸収することができ、最大吸収帯が３２０ｎｍと４００ｎｍの間、特に３４５ｎｍ付近であるそれ自体既によく知られている遮蔽剤（いわゆる広帯域遮蔽剤）である。これら遮蔽剤は、次の一般式（ＩＩＩ）：
【化１１】
0003643924.tif 000006
［式中、Ｂは水素原子、アルカリ金属又はＮＨ（Ｒ）３＋基（ここで基Ｒは同一でも異なっていてもよく、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はヒドロキシアルキルである）又はＭｎ＋／ｎ基（ここでＭｎ＋は、ｎが２又は３又は４に等しい多価金属カチオンであり、好ましくは、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｂａ２＋、Ａｌ３＋及びＺｒ４＋から選ばれる金属カチオンを示す）］に相当する。式（ＩＩＩ）の化合物は、一以上の二重結合のまわりに「シス−トランス」異性体を生じ、これら異性体の全ても本発明の範囲内に入ることは明らかである。
【００２５】
４−メチルベンジリデンショウノウが最も好ましく、この化合物は、それ自体既知の油溶性遮蔽剤であり、ＵＶ−Ｂ範囲を吸収し、Merck社によって「Eusolex 6300」の商品名で、あるいはGivaudan社により「Parsol 5000」の名称で特に販売されている。この生成物は以下の式（ＩＶ）に相当する。
【化１２】
0003643924.tif 000007
【００２６】
２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジンがトリアジン誘導体としては特に使用される。この遮蔽剤は、それ自体知られており、ＵＶ−Ｂ範囲で活性があって固形形態で、特にBASF社によって「Uvinul T150」の取引名で販売されている。この生成物は以下の式（Ｖ）：
【化１３】
0003643924.tif 000008
（式中、Ｒは２−エチルヘキシル基を示す）に相当する。
【００２７】
また用いることができるトリアジン誘導体は、以下の式（ＶＩ）：
【化１４】
0003643924.tif 000009
［式中、
−  Ｒ１、Ｒ１’及びＲ１”は、同一でも異なっていてもよく、次の式（１）又は式（２）：
【化１５】
0003643924.tif 000010
【化１６】
0003643924.tif 000011
（式中、
−  Ｒ２とＲ２’は、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状Ｃ１−Ｃ３アルキル基を示す、
−  Ｒ３は水素原子、直鎖状又は分枝状Ｃ１−Ｃ４アルキル基又はＣ１−Ｃ４アルコキシ基を示す、
−  Ｒ４は直鎖状又は分枝状Ｃ１−Ｃ１２アルキル基を示す、
−  Ｘ１は、水素原子、又は水素原子もしくはＣ１−Ｃ４アルキル基もしくはＣ１−Ｃ４アルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を示す）の一価の基から選ばれる］に相当する、特許出願ＦＲ−Ａ−２７４４７２に記載されているものである。
【００２８】
式（ＶＩ）の化合物の中でも特に次の化合物：
−  ２，４，６−トリス（ジエチル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、
−  ２，４，６−トリス（ジイソプロピル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、
−  ２，４，６−トリス（ジメチル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、
−  ２，４，６−トリス（エチル−α−シアノ−４−アミノシンナマート）−ｓ−トリアジン、
を挙げることができる。
【００２９】
本発明に係る光保護系は、ベンジリデンショウノウ誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体又はトリアジン誘導体以外の一以上の更なる有機ＵＶ吸収遮蔽剤、あるいは一以上の無機顔料及び／又はナノ顔料、又はこれらの混合物を更に含むことができる。
【００３０】
本発明に係る抗日光組成物において使用することができる更なる有機ＵＶ遮蔽剤は、ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ範囲で活性のある標準的な親水性又は親油性遮蔽剤である。例として、これら遮蔽剤は、２−フェニル−５−ベンズイミダゾールスルホン酸とその塩、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、β，β−ジフェニルアクリレート誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導体、アントラニン酸メンチル、及び特許出願ＷＯ９３／０４６６５に記載されているような遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーンから選ぶことができる。有機遮蔽剤の他の例は特許出願ＥＰ−Ａ−０４８７４０４に記載されている。
【００３１】
本発明に係る光保護系は、組成物の全重量に対して０．１重量％から３０重量％、好ましくは０．５重量％から１５重量％の範囲の濃度で一般的に組成物中に存在する。
【００３２】
本発明に係る組成物において用いることができる更なる光保護剤の第２範疇は、顔料の範疇である。好ましくは、全てそれ自体よく知られている光保護剤で、ＵＶ照射を物理的に遮蔽（反射及び／又は散乱）させて作用する、被覆又は非被覆酸化金属の無機ナノ顔料（平均一次粒径：一般に５ｎｍと１００ｎｍの間、好ましくは１０ｎｍと５０ｎｍの間）、例えば酸化チタン（アモルファスもしくはルチル型及び／又はアナターゼ型の結晶化物）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムが挙げられる。更に、標準的な被覆剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウム又はシリコーン類である。このような被覆又は非被覆酸化金属ナノ顔料は、特に特許出願ＥＰ−Ａ−０５１８７７２及びＥＰ−Ａ−０５１８７７３に記載されている。
【００３３】
無機（ナノ）顔料は、組成物の全重量に対して０．１重量％と３０重量％の間、好ましくは０．５重量％と１０重量％の間の含有量で本発明の組成物中に存在しうる。
【００３４】
本発明に係る組成物の処方の一部を形成しうる他の成分、特に油類、ワックス化合物及び化粧品及び／又は皮膚用活性剤は、化粧品及び／又は皮膚科学分野において通常用いられているものである。
【００３５】
油という用語は、室温で液体である化合物を示すものと理解される。ワックスという用語は室温で固体か、多少なりとも固体であって、その融点が一般に３５℃より高い化合物を指すものと理解される。
【００３６】
油類としては、鉱油（ペトロリウムジェリー）；植物油（スイートアルモンド油、マカダミア油、グレープシード油、ホホバ油）；合成油、例えばペルヒドロスクアレン、脂肪アルコール、酸又はエステル（パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプロピル、カプリン酸／カプリル酸のものを含むトリグリセリド）、オキシエチレン化又はオキシプロピレン化脂肪エーテル及びエステル；シリコーン油（シクロメチコーン、ポリジメチルシロキサンつまりＰＤＭＳ）又はフルオロ油、及びポリアルキレン類を挙げることができる。
【００３７】
ワックス化合物としては、パラフィン、カルナウバワックス、ビーズワックス及び硬化ひまし油を挙げることができる。
本発明に係る組成物は、抗フリーラジカル剤、抗酸化剤、ビタミンＥ及びＣのようなビタミン類、及びα−ヒドロキシ酸を含有することもできる。
【００３８】
本発明に係る組成物は、皮膚を人工的に日焼け及び／又は褐色化させる薬剤（自己日焼け剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）を含むこともまたできる。
本発明に係る組成物は、化粧品、皮膚科学、皮膚用医薬の分野で従来から用いられている種々の成分、例えば、染料、溶媒（水、アルコール類等々）、保存料、香料、保湿剤、粉末（pulverulent）剤、殺菌剤及び/又は匂い吸収剤を含むこともできる。
【００３９】
言うまでもないが、当業者であれば、本発明に係る組み合わせ（光保護系＋酒石酸Ｃ１２−Ｃ１５アルキル）に本質的に関連する有利な特性が添加によって悪影響を受けないか、実質的に受けないように、上述の追加の相補的化合物及び／又はその量を選択するように留意するであろう。
本発明に係る組成物は、当業者によく知られている方法、特に水中油型のエマルジョン、ゲル及びクリームゲルのような水性連続相を含む分散液の調製のための技術を用いて調製することができる。
【００４０】
この組成物は、特に単純又は複合エマルジョン（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、例えばクリーム又はミルクの形態、あるいはゲル又はクリームゲル、パウダー又は固体チューブの形態とすることができ、必要に応じて、エアロゾルとしてパッケージしたり、ムース又はスプレー品の形態とすることができる。
【００４１】
水中油型エマルジョンとクリームゲルのような水性連続相を含む分散型の媒体を持つ本発明に係る抗太陽処方剤に対し、目安として、水性相（特に親水性遮蔽剤を含む水性相）は、一般に、全処方剤に対して５０から９５重量％、好ましくは７０から９０重量％を占め、油性相（特に親油性遮蔽剤を含む油性相）は、一般に、全処方剤に対して５から５０重量％、好ましくは１０から３０重量％を占める。
好ましくは、本発明に係る組成物はクリームゲルの形態である。
【００４２】
【実施例】
次に、本発明を例証する実施例を挙げるが、これは本発明を限定するものではない。
以下の全ての実施例において、量は組成物の全重量に対する重量％で表されている。
【００４３】
実施例１：
水中油型エマルジョンの形態で、次の相を含む、本発明に係る抗太陽組成物Ａを調製した。
0003643924.tif 000012
【００４４】
処方Ａと同じ媒体であるが、酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを含んでいない比較抗日光組成物Ａ’（本願発明ではない）を次に調製した。
ついで、組成物Ａ及びＡ’の各々について、日光保護ファクター（ＳＰＦ）を関連するＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ照射範囲内で決定した。これは、皮膚レベルに配置された６本の光ファイバとXenon Multiport WG320ランプが装着された太陽シミュレータによって５人の個人にインビボ法を用いて決定した。エネルギーフローは３D-600モデルＵＶメータを用いて各照射で調節した。
【００４５】
各抗日光エマルジョンは、２ｍｇ／ｃｍ２の割合、すなわち４８ｃｍ２の面積に０．０９６ｇで、各人の背中に指アプリケータで均一に適用した。
各エマルジョンが適用された後１５分で、照射が実施された。ＵＶの照射は一定時間行われ、照射時間は、各試験遮蔽剤に対しての推定保護ファクターと個々の紅斑形成しきい値の関数として選ばれた。
【００４６】
平均保護ファクター（ＰＦ）が各遮蔽組成物Ａ又はＡ’について決定され、この保護ファクターは、遮蔽組成物がない場合に紅斑形成しきい値に達するまでの照射時間に対する、組成物を用いた場合に紅斑しきい値に達するまでの照射時間の比によって数学的に表される。
【００４７】
次の表（Ｉ）に結果を示す。
【表１】
0003643924.tif 000013
これらの結果から、ジベゾイルメタンから誘導されたタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤とベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤を含有する光保護系に酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを加えると、その光保護力を著しく増大させることができることが明らかに分かる。
【００４８】
実施例２：
水中油型エマルジョンの形態で、次の相を含む、本発明に係る抗太陽組成物Ｂを調製した。
0003643924.tif 000014
0003643924.tif 000015
【００４９】
処方Ｂと同じ媒体であるが、酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを含んでいない比較抗日光組成物Ｂ’をついで調製した。
ついで、組成物Ｂ及びＢ’の各々について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。
これは、J. Soc. Cosmet. Chem. 40−127−133 (1989)においてB.L.Diffeyらによって記載されたインビトロ法を用いて決定された；この方法は、２９０から４００ｎｍの範囲の波長に対して５ｎｍ毎に単色保護ファクターを決定し、これらのファクターから、与えられた数式に従って太陽保護ファクターを算定するものである。
【００５０】
結果（５回のテストの平均値）を以下の表（ＩＩ）に示す。
【表２】
0003643924.tif 000016
【００５１】
これらの結果は、ジベゾイルメタンから誘導されたタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤とベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤を含有する光保護系に酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを加えると、その光保護力を著しく増大させることができることを明白に示している。
【００５２】
実施例３：
水中油型エマルジョンの形態で、次の相を含む、本発明に係る抗太陽組成物Ｃを調製した。
0003643924.tif 000017
【００５３】
処方Ｃと同じ媒体であるが、酒石酸Ｃ１２−Ｃ１３ジアルキルを含んでいない比較抗日光組成物Ｃ’を次に調製した。
そして、組成物Ｃ及びＣ’の各々について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例２に記載した方法を用いて決定した。
【００５４】
結果（５回のテストの平均値）を以下の表（ＩＩＩ）に示す。
【表３】
0003643924.tif 000018
【００５５】
これらの結果は、ジベゾイルメタンから誘導されたタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤を含有する光保護系に酒石酸Ｃ１２−Ｃ１３ジアルキルを加えると、その光保護力を著しく増大させることができることを明白に示している。等価な結果が、製品Cosmacol ETLの代わりに酒石酸ジエチル（Ｃ２）あるいは酒石酸Ｃ１２−Ｃ１３ジアルキル、例えば製品Cosmacol ETIを用いて得られる。
【００５６】
実施例４：
実施例３と同じ組成を有するが、ジベンゾイルメタンから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤の代わりに、Merck社の６重量％の４−メチルベンジリデンショウノウ「Eusolex 6300」と酒石酸ジアルキルとしてＣ１４−Ｃ１５の製品であるCosmacol ETLを含む本発明に係る抗太陽組成物Ｄを調製した。
【００５７】
組成物Ｄと同じ媒体を持つが酒石酸ジアルキルを含んでいない比較抗太陽組成物Ｄ’を次に調製した。
組成物Ｄ及びＤ’の各々について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例２に記載した方法を用いて決定した。
【００５８】
結果（５回のテストの平均値）を以下の表（ＩＶ）に示す。
【表４】
0003643924.tif 000019
【００５９】
これらの結果は、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤からなる光保護系に酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを加えると、その光保護力を著しく増大させることができることを明白に示している。等価な結果が、製品Cosmacol ETLの代わりに、酒石酸ジエチル（Ｃ２）あるいは酒石酸Ｃ１２−Ｃ１３ジアルキル、例えば製品Cosmacol ETIを用いて得られた。
【００６０】
実施例５：
実施例４と同じ組成を有するが、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤の代わりに、５重量％の２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジン（BASF社の「Uvinul T150」）を含む本発明に係る抗太陽組成物Ｅを調製した。
【００６１】
組成物Ｅと同じ媒体を持つが酒石酸ジアルキルを含んでいない比較抗太陽組成物Ｅ’を次に調製した。
組成物Ｅ及びＥ’の各々について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例２に記載した方法を用いて決定した。
【００６２】
結果（５回のテストの平均値）を以下の表（Ｖ）に示す。
【表５】
0003643924.tif 000020
【００６３】
これらの結果は、トリアジンから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤からなる光保護系に酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを加えると、その光保護力を著しく増大させることができることを明白に示している。等価な結果が、製品Cosmacol ETLの代わりに、酒石酸ジエチル（Ｃ２）あるいは酒石酸Ｃ１２−Ｃ１３ジアルキル、例えば製品Cosmacol ETIを用いて得られる。
【００６４】
比較例１：
実施例４と同じ組成を有するが、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤の代わりに、９重量％の２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナマート（Givaudan社の「Parsol MCX」）を含む水中油型エマルジョンの形態の抗日光組成物Ｆ（本発明を構成しないもの）を調製した。
【００６５】
組成物Ｆと同じ媒体を持つが酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを含んでいない比較抗太陽組成物Ｆ’を次に調製した。
組成物Ｆ及びＦ’の各々について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例１に記載した方法を用いて決定した。
【００６６】
結果（５回のテストの平均値）を以下の表（ＶＩ）に示す。
【表６】
0003643924.tif 000021
【００６７】
これらの結果は、ケイ皮酸から誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤からなる光保護系に酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを加えても、その光保護力を有意には増大させることができないことを明白に示している。
【００６８】
比較例２：
実施例４と同じ組成を有するが、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤の代わりに、６重量％の３−ベンゾフェノン（BASF社の「Uvinul M40」）を含む水中油型エマルジョンの形態の抗日光組成物Ｇ（本発明を構成しないもの）を調製した。
【００６９】
組成物Ｇと同じ媒体を持つが酒石酸Ｃ１４−Ｃ１５ジアルキルを含んでいない比較抗太陽組成物Ｇ’を次に調製した。
組成物Ｇ及びＧ’の各々について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例２に記載した方法を用いて決定した。
【００７０】
結果（５回のテストの平均値）を以下の表（ＶＩＩ）に示す。
【表７】
0003643924.tif 000022
【００７１】
これらの結果は、ベンゾフェノン系のＵＶ遮蔽剤からなる光保護系に酒石酸Ｃ１２−Ｃ１５ジアルキルを加えても、その光保護力を有意には増大させることができないことを明白に示している。
【００７２】
比較例３：
実施例４と同じ組成を有するが、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤の代わりに、９重量％の２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナマート（Givaudan社の「Parsol MCX」）とCosmacol ETLの代わりに１重量％の酒石酸ジエチルを含む水中油型エマルジョンの形態の抗日光組成物Ｈ（本発明を構成しないもの）を調製した。
【００７３】
組成物Ｈと同じ媒体を持つが酒石酸ジエチルを含んでいない比較抗太陽組成物Ｈ’を次に調製した。
組成物Ｈ及びＨ’の各々について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例２に記載した方法を用いて決定した。
【００７４】
結果（５回のテストの平均値）を以下の表（ＶＩＩＩ）に示す。
【表８】
0003643924.tif 000023
【００７５】
これらの結果は、ケイ皮酸系のＵＶ遮蔽剤からなる光保護系に酒石酸ジエチルを加えても、その光保護力を有意には増大させることができないことを明白に示している。