(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理容器内で基板を現像処理する現像処理装置であって，
前記処理容器内には，水平に保持された基板の外方を囲み上面及び下面が開口した内容器が設けられ，
前記処理容器の底部であって，前記内容器の内側には，前記処理容器内の雰囲気を排気する排気管が設けられ，
前記排気管の排気口は，前記底部よりも高い位置で開口しており，
前記底部には，前記処理容器内の処理液を排液する排液口が設けられ，
前記底部の上面は，傾斜しており，当該傾斜した上面の最も低い位置に前記排液口が設けられ，
前記処理容器内には，前記傾斜した底部の上面の最も高い位置に対して洗浄液を供給する供給部が設けられていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項２】
処理容器内で基板を現像処理する現像処理装置であって，
前記処理容器内には，水平に保持された基板の外方を囲み上面及び下面が開口した内容器が設けられ，
前記処理容器の底部であって，前記内容器の内側には，前記処理容器内の雰囲気を排気する排気管が設けられ，
前記排気管の排気口は，前記底部よりも高い位置で開口しており，
前記底部の上面には，前記処理容器内の処理液を排液する排液口が設けられ，
前記処理容器の底部上には，中心部が高い略円錐状の傾斜板が設けられ，
前記傾斜板は，前記内容器の下方に設けられ，
前記傾斜板には，当該傾斜板の外縁部に沿って樋が設けられており，
前記樋には，当該樋内の前記処理液を前記傾斜板外の前記底部の上面に流すための切り欠きが設けられていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項３】
前記切り欠きは，前記排液口に最も近い位置に設けられていることを特徴とする，請求項２に記載の現像処理装置。
【請求項４】
処理容器内で基板を現像処理する現像処理装置であって，
前記処理容器内には，水平に保持された基板の外方を囲み上面及び下面が開口した内容器が設けられ，
前記処理容器の底部であって，前記内容器の内側には，前記処理容器内の雰囲気を排気する排気管が設けられ，
前記排気管の排気口は，前記底部よりも高い位置で開口しており，
前記底部の上面には，前記処理容器内の処理液を排液する排液口が設けられ，
前記処理容器内には，基板に現像液を供給する現像液供給部を洗浄液によって洗浄する洗浄装置が設けられており，
前記洗浄装置には，当該洗浄装置で使用された洗浄液を前記底部の上面に排出する排出口が設けられていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項５】
前記排出口から前記排液口まで前記洗浄液を誘導する誘導路を有することを特徴とする，請求項４に記載の現像処理装置。
【請求項６】
前記傾斜板上に洗浄液を供給する供給部を有することを特徴とする，請求項２又は３のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項７】
前記処理容器の内側壁に洗浄液を供給する供給部を有することを特徴とする，請求項１〜６のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項８】
少なくとも前記底部の上面には，親水性を有する材料が用いられていることを特徴とする，請求項１〜７のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項９】
少なくとも前記底部の上面の材質は，非金属であることを特徴とする，請求項１〜８のいずれかに記載の現像処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，基板の現像処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では，ウェハ表面にレジスト液を塗布し，レジスト膜を形成するレジスト塗布処理，ウェハにパターンを露光する露光処理，露光後のウェハに対して現像を行う現像処理等が順次行われ，ウェハに所定の回路パターンを形成する。
【０００３】
上述の現像処理が行われる現像処理装置には，例えばウェハに現像液を供給する現像液供給ノズルと，ウェハを保持し回転可能なスピンチャックと，ウェハの外方を囲むカップ等が備えられている。そして，現像処理は，スピンチャックに保持されたウェハに現像液が供給され，当該ウェハが所定時間静止現像された後，ウェハが回転され，当該ウェハＷが洗浄・乾燥されることによって行われている。
【０００４】
一方，現像処理時には，ウェハから漏れたり飛散した現像液等を排液し，また，現像処理装置内に浮遊する不純物を排気する必要がある。そのため，カップの下部には，工場側のファン等に接続されたドレイン管が設けられており，従来は，前記現像液等の排液や不純物を含んだ雰囲気を当該ドレイン管から一括して排出するようにしていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，このように現像液等の排液と不純物等の排気をドレイン管によって一括して行うと，ドレイン管の吸引力を発生させている工場側のファンに圧力損失が生じ，所定の排気量を維持するためには，通常よりも多くファンを回転させる必要がある。このように，ファンを高回転で維持すると，その分電力消費量が増大し，現像処理のトータルのランニングコストが増大することになる。また，ファンに湿った排気が接触する可能性が高くなり，ファンに腐食等が生じることが懸念される。
【０００６】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，現像処理における気液の排出を分離して行うことのできる現像処理装置を提供することをその目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば，処理容器内で基板を現像処理する現像処理装置であって，前記処理容器内には，水平に保持された基板の外方を囲み上面及び下面が開口した内容器が設けられ，前記処理容器の底部であって，前記内容器の内側には，前記処理容器内の雰囲気を排気する排気管が設けられ，前記排気管の排気口は，前記底部よりも高い位置で開口しており，前記底部には，前記処理容器内の処理液を排液する排液口が設けられ，前記底部の上面は，傾斜しており，当該傾斜した上面の最も低い位置に前記排液口が設けられ，前記処理容器内には，前記傾斜した底部の上面の最も高い位置に対して洗浄液を供給する供給部が設けられていることを特徴とする現像処理装置が提供される。
【０００８】
本発明によれば，基板の外方を囲み上面と下面が開口した前記内容器が設けられているので，基板から飛散等した現像液等の処理液は，当該内容器によって受け止められ，前記処理容器の底部に落下される。当該底部には，前記排液口が設けられており，前記底部に落下した処理液は，当該排液口から排液される。一方，現像液を供給する際等には，現像液のミスト等が発生し，基板の汚染の原因となるので，処理時には，処理容器内の雰囲気を重力に従った下方から排気することが必要になる。本発明では，処理容器の底部に排気管を設けるので，処理容器内の雰囲気を処理容器の下方から好適に排気することができる。また，排気管の排気口は，処理容器の底部よりも高い位置に開口するように設けられるので，前記底部に落下した処理液が排気口内に入り込むことが無くなり，排液と排気とを混合させずに別々に排出することができる。
【０００９】
また，処理容器の底部に落下した処理液は，前記底部の傾斜した上面に沿って流れ，最も低い位置にある排液口内に流入する。したがって，処理容器の底部上に落下した処理液は，当該底部上に留まることなく，好適に排液される。
【００１０】
別の観点による本発明によれば，処理容器内で基板を現像処理する現像処理装置であって，前記処理容器内には，水平に保持された基板の外方を囲み上面及び下面が開口した内容器が設けられ，前記処理容器の底部であって，前記内容器の内側には，前記処理容器内の雰囲気を排気する排気管が設けられ，前記排気管の排気口は，前記底部よりも高い位置で開口しており，前記底部の上面には，前記処理容器内の処理液を排液する排液口が設けられ，前記処理容器の底部上には，中心部が高い略円錐状の傾斜板が設けられ，前記傾斜板は，前記内容器の下方に設けられ，前記傾斜板には，当該傾斜板の外縁部に沿って樋が設けられており，前記樋には，当該樋内の前記処理液を前記傾斜板外の前記底部の上面に流すための切り欠きが設けられていることを特徴とする現像処理装置が提供される。内容器内には，基板の外縁部から漏れた現像液や，基板から飛散した現像液等の多くの処理液が落下する。本発明は，当該内容器の下方の前記処理容器の底部に，中央部が高い略円錐状の傾斜板を設けるので，前記落下した処理液は，当該傾斜板に沿って中央部から外方に流され，当該処理液を排液口側に誘導することができる。これによって，多量の処理液が落下しても，処理液が前記底部上に溜まることなく，好適に排液される。
【００１１】
また，前記傾斜板の外縁部に樋を取付け，当該樋の一部に切り欠きを設けることによって，傾斜板上に落下し，傾斜板に沿って流れた現像液等の処理液は，樋内に流入し，樋に沿って流れて，切り欠きから傾斜板外に流出される。これによって，傾斜板に落下した処理液を回収して誘導し，一箇所に集約して確実に排液することができる。
【００１２】
前記切り欠きは，前記排液口に最も近い位置に設けられていてもよい。このように，前記樋の切り欠きを，前記排液口に最も近い位置に設けることによって，切り欠きから流出した処理液が，より確実かつ迅速に排液口に流れ込み，処理液の排液が好適に行われる。なお前記現像処理装置は，前記傾斜板上に洗浄液を供給する供給部を有していてもよい。
【００１３】
別の観点による本発明によれば，処理容器内で基板を現像処理する現像処理装置であって，前記処理容器内には，水平に保持された基板の外方を囲み上面及び下面が開口した内容器が設けられ，前記処理容器の底部であって，前記内容器の内側には，前記処理容器内の雰囲気を排気する排気管が設けられ，前記排気管の排気口は，前記底部よりも高い位置で開口しており，前記底部の上面には，前記処理容器内の処理液を排液する排液口が設けられ，前記処理容器内には，基板に現像液を供給する現像液供給部を洗浄液によって洗浄する洗浄装置が設けられており，前記洗浄装置には，当該洗浄装置で使用された洗浄液を前記底部の上面に排出する排出口が設けられていることを特徴とする現像処理装置が提供される。このように，洗浄装置に前記洗浄液を排出する排出口を設けることによって，洗浄液を交換する際に，当該洗浄液は，排出口から処理容器の底部上に排出され，処理容器の底部上に排出された洗浄液は，上述の排液口から排出される。これによって，使用済みの洗浄液と上述した処理液とを同じ排液口から排液することができる。したがって，現像処理装置内の排液を一系統にまとめて行うことができるので，排液を他系統で行った場合に比べて，配管設計が容易となり，現像処理装置全体も簡略化される。
【００１４】
前記排出口から前記排液口まで前記洗浄液を誘導する誘導路を有するようにしてもよい。このように，誘導路を設けることによって，洗浄装置から処理容器の底部上に排出された洗浄液が誘導路に沿って流れ，排液口まで誘導される。したがって，洗浄液が処理容器の底部で溜まることなく，洗浄液を好適に排液することができる。
【００１５】
現像処理装置が前記処理容器の底部に洗浄液を供給する供給部を有していてもよい。このように，供給部を設け，洗浄液を処理容器の底部に供給することによって，処理容器の底部上の処理液の排出を促進させることができる。したがって，処理容器の底部上に落下等した処理液が当該底部に残留することなく，好適に排出される。
【００１６】
現像処理装置が前記内容器の内側壁に洗浄液を供給する供給部を有していてもよい。内容器の内側は，基板から飛散等した処理液が付着するので，処理が行われる度に汚染される。そして，かかる状態を放置すると，乾いた付着物が剥がれて，パーティクルの原因となる。当該発明のように，内容器の内側壁に洗浄液を供給することによって，内容器が清浄化され，パーティクルの発生を抑制することができる。
【００１７】
少なくとも前記底部の上面には，親水性を有する材料が用いられてもよい。このように処理容器の底部の表面に親水性を有する材料を使用することによって，処理液が処理容器の底部上を流れやすくなる。したがって，底部上の処理液が排液され易くなり，少量の処理液でも底部上に残存することが抑制できる。
【００１８】
少なくとも前記底部の上面の材質は，非金属にしてもよい。このように非金属にすることによって，処理容器の底部上を流れる現像液等の処理液に，金属イオンが溶解することが防止される。これによって，現像液等の処理液を再利用する際に，金属イオンを除去する必要が無くなり，処理液等の再利用し易くなる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施に形態にかかる現像処理装置を有する塗布現像処理システム１の概略を示す平面図であり，図２は，塗布現像処理システム１の正面図であり，図３は，塗布現像処理システム１の背面図である。
【００２０】
塗布現像処理システム１は，図１に示すように，例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部から塗布現像処理システム１に対して搬入出したり，カセットＣに対してウェハＷを搬入出したりするカセットステーション２と，塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステーション３と，この処理ステーション３に隣接して設けられている図示しない露光装置との間でウェハＷの受け渡しをするインターフェイス部４とを一体に接続した構成を有している。
【００２１】
カセットステーション２では，載置部となるカセット載置台５上の所定の位置に，複数のカセットＣをＲ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在となっている。そして，このカセット配列方向（Ｒ方向）とカセットＣに収容されたウェハＷのウェハ配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）に対して移送可能なウェハ搬送体７が搬送路８に沿って移動自在に設けられており，各カセットＣに対して選択的にアクセスできるようになっている。
【００２２】
ウェハ搬送体７は，ウェハＷの位置合わせを行うアライメント機能を備えている。このウェハ搬送体７は後述するように処理ステーション３側の第３の処理装置群G３に属するエクステンション装置３２に対してもアクセスできるように構成されている。
【００２３】
処理ステーション３では，その中心部に主搬送装置１３が設けられており，この主搬送装置１３の周辺には各種処理装置が多段に配置されて処理装置群を構成している。該塗布現像処理システム１においては，４つの処理装置群G1，G2，G3，G4が配置されており，第１及び第２の処理装置群G1，G2は現像処理システム１の正面側に配置され，第３の処理装置群G3は，カセットステーション２に隣接して配置され，第４の処理装置群G4は，インターフェイス部４に隣接して配置されている。さらにオプションとして破線で示した第５の処理装置群G5を背面側に別途配置可能となっている。前記主搬送装置１３は，これらの処理装置群G1，G2，G3，G4，G5に配置されている後述する各種処理装置に対して，ウェハＷを搬入出可能である。なお，処理装置群の数や配置は，ウェハＷに施される処理の種類によって異なり，処理装置群の数は，１以上であれば任意に選択できる。
【００２４】
第１の処理装置群G1では，例えば図２に示すように，ウェハＷにレジスト液を供給し，レジスト膜を形成するレジスト塗布装置１７と，本実施の形態にかかる現像処理装置１８とが下から順に２段に配置されている。処理装置群G2の場合も同様に，レジスト塗布装置１９と，現像処理装置２０とが下から順に２段に積み重ねられている。
【００２５】
第３の処理装置群G3では，例えば図３に示すように，ウェハＷを冷却処理するクーリング装置３０，レジスト液とウェハＷとの定着性を高めるためのアドヒージョン装置３１，ウェハＷを待機させるエクステンション装置３２，レジスト液中の溶剤を乾燥させるプリベーキング装置３３，３４及び現像処理後の加熱処理を施すポストベーキング装置３５，３６等が下から順に例えば７段に積み重ねられている。
【００２６】
第４の処理装置群G4では，例えばクーリング装置４０，載置したウェハＷを自然冷却させるエクステンション・クーリング装置４１，エクステンション装置４２，クーリング装置４３，露光後の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキング装置４４，４５，ポストベーキング装置４６，４７等が下から順に例えば８段に積み重ねられている。
【００２７】
インターフェイス部４の中央部にはウェハ搬送体５０が設けられている。このウェハ搬送体５０はＲ方向（図１中の上下方向），Ｚ方向（垂直方向）の移動とθ方向（Ｚ軸を中心とする回転方向）の回転が自在にできるように構成されており，第４の処理装置群G4に属するエクステンション・クーリング装置４１，エクステンション装置４２，周辺露光装置５１及び図示しない露光装置に対してアクセスして，各々に対してウェハＷを搬送できるように構成されている。
【００２８】
次に，上述した現像処理装置１８の構成について詳しく説明する。図４は，現像処理装置１８の概略を示す縦断面の説明図であり，図５は，現像処理装置１８の横断面の説明図である。
【００２９】
現像処理装置１８は，図４に示すようにケーシング１８ａ内に上面が開口した略箱状の処理容器としてのカップ収容部６０を有している。カップ収容部６０の底には，底部としての底板６１が設けられている。底板６１のカップ収容部６０の側壁近郊には，カップ収容部６０内で使用された現像液，洗浄液等の処理液を排液するための排液口６２が設けられている。底板６１の上面は，当該排液口６２の設けられている位置が最も低くなるように傾斜しており，底板６１に落下した処理液は，傾斜した底板６１を伝って排液口６２内に流入し，排液口６２から排液される。底板６１の材質には，非金属である例えばポリプロピレンが使用されている。
【００３０】
カップ収容部６０の中央部には，ウェハＷを保持するスピンチャック６３が設けられている。スピンチャック６３は，水平かつ円形状に形成された上面部６３ａを有し，ウェハＷを水平に保持することができる。上面部６３ａには，例えば図示しない吸引口が設けられており，ウェハＷが上面部６３ａでずれたり，上面部６３ａから落下しないようになっている。
【００３１】
スピンチャック６３の下部には，スピンチャック６３を回転させる駆動機構６４が設けられている。駆動機構６４は，図示しないモータ等を備えた駆動部，駆動部に電力を供給する電源及び電源を制御する制御部とを有している。当該駆動機構６４によって，スピンチャック６３に保持されたウェハＷを所定の回転速度で回転させることができる。スピンチャック６３の下部は，モータ等から発生するパーティクルを遮断するためのブラケット６５によって覆われている。
【００３２】
スピンチャック６３には，上面部６３ａ上でウェハＷを昇降させるための複数，例えば３本の昇降ピン６６が設けられている。昇降ピン６６は，上面部６３ａの周辺部を貫通し，上面部６３ａ上に突出自在に設けられている。昇降ピン６６は，昇降機構６６ａによって所定の高さに昇降できるようになっている。
【００３３】
スピンチャック６３の外方には，水平に保持されたウェハＷの外方を囲む内容器としてのカップ６７が設けられている。カップ６７は，上面と下面が開口した略筒状の形態を有している。ウェハＷが回転された際に飛散した現像液等は，このカップ６７によって受け止められ，底板６１上に落下する。カップ６７の上部は，内側に傾斜しており，現像液の飛散を効果的に防止する。カップ６７は，当該カップ６７を昇降させる，例えばシリンダ等の駆動部を備えた昇降駆動機構６８を有しており，カップ６７を適宜所定の高さに昇降させることができる。これによって，カップ６７の下端部と底板６１との間に隙間Ｄを設けることが可能となる。
【００３４】
カップ６７の内側であって，底板６１上には，カップ６７の内側で落下した現像液等を受け止めるための傾斜した傾斜板７０が設けられている。傾斜板７０は，図６に示すようにリング状の形態を有し，ブラケット６５を囲むようにして設けられている。傾斜板７０は，中心から外側に行くにつれて低くなるような略円錐状に形成されている。傾斜板７０の外縁部には，図７に示すように傾斜板７０を伝って流れた現像液等の処理液を受け止め，回収すための樋７１が設けられている。樋７１の排液口６２に最も近い位置には，図６に示すように切り欠き７１ａが設けられており，樋７１内を流れた処理液は，当該切り欠き７１ａから底板６１上に流され，排液口６２から排液される。
【００３５】
傾斜板７０の斜面には，カップ収容部６０内の雰囲気を排気する排気管７２が複数箇所設けられている。排気管７２は，傾斜板７０の斜面にしたから突出するように設けられており，排気管７２の排気口７３は，傾斜板７０の斜面よりも高い位置で開口している。それ故，傾斜板７０上を伝って流れる処理液が排気管７２内に流入することが防止される。なお，排気管７２は，図示しない工場側のダクトに接続されており，当該ダクトに設けられたファンによってカップ収容部６０内が吸引される。
【００３６】
カップ６７の外周外方には，図４に示すようにカップ６７とカップ収容部６０との間に流れ込む処理液を遮断し，回収する平板形状の回収板７４が設けられている。回収板７４には，図５に示すように多数の通気孔７５が設けられている。回収板７４は，カップ６７側が低くなるように斜めに設けられている。回収板７４に回収された処理液は，傾斜に沿って流れ，例えば回収板７４とカップ６７との隙間から底板６１上に落下する。また，カップ６７とカップ収容部６０との間に流れ込んだ気流は，通気孔７５を通過し，カップ６７の下端部の隙間Ｄを通って排気口７３から排気される。
【００３７】
例えば，カップ収容部６０のＸ方向正方向側の側壁Ｒには，Ｙ方向に伸びるレール８０が設けられている。レール８０は，側壁Ｒの一端部から他端部まで設けられている。レール８０上には，現像液供給部としての現像液供給ノズル８１を保持するアーム部８２が設けられている。アーム部８２には，アーム部８２をレール８０に沿って移動させる図示しない移動機構が設けられており，アーム部８２の移動は，当該移動機構によって制御される。これによって，アーム部８２は，レール８０上の任意の位置に移動することができ，現像液供給ノズル８１を，Ｙ方向正方向側に位置する待機位置Ｔ（図５に示す）からウェハＷのＹ方向負方向側の外方まで移動させることができる。アーム部８２には，アーム部８２を上下方向に移動させる図示しないシリンダ等を備えた駆動部が設けられており，現像液供給ノズル８１とウェハＷとの距離を調節できるようになっている。
【００３８】
アーム部８２は，アーム部８２がＹ方向に移動した際に，現像液供給ノズル８１がウェハＷ上を通過するように現像液供給ノズル８１を保持している。現像液供給ノズル８１は，Ｘ方向に長い細長形状を有しており，その長さは，少なくともウェハＷの直径よりも長く形成されている。図８に示すように現像液供給ノズル８１の上部には，図示しない現像液供給源からの現像液を現像液供給ノズル８１内に流入させる供給管８３が接続されている。現像液供給ノズル８１の下部には，同じ径を有する複数の現像液吐出口８４が長手方向に一列に設けられている。供給管８３から現像液供給ノズル８１内に供給された現像液は，現像液吐出口８４から同時に同流量で吐出される。
【００３９】
かかる構成によって，現像液供給ノズル８１は，Ｙ方向に所定速度で移動しながら所定流量の現像液を吐出して，ウェハＷ表面全面に現像液を供給し，ウェハＷ上に現像液の所定膜厚の液膜を形成することができる。
【００４０】
カップ収容部６０内のＹ方向正方向側の側壁近くには，図９に示すように現像液供給ノズル８１を洗浄するための洗浄装置８５が設けられている。洗浄装置８５は，現像液供給ノズル８１を洗浄するための洗浄液，例えば純水を貯留する洗浄槽８６と，洗浄槽８６を支持する支柱８７と，支柱８７の下端を固定し洗浄装置８５を底板６１に固定する固定部材８８とを有している。洗浄槽８６は，上面が開口した容器形状を有しており，その中に洗浄液を貯留できるようになっている。洗浄槽８６は，図５に示すように現像液供給ノズル８１の待機位置Ｔに位置し，現像液供給ノズル８１は，待機位置Ｔに戻された時に洗浄槽８６内に受容され，洗浄される。
【００４１】
図１０に示すように洗浄槽８６には，図示しない洗浄液供給源から洗浄槽８６内に洗浄液を供給する供給管８６ａが設けられている。一方，洗浄槽８６の底には，洗浄液を排出するための管路８７ａが設けられている。管路８７ａは，洗浄槽８６の底部から支柱８７内を通って，固定部材８８まで伸びており，固定部材８８に設けられた排出口８９から洗浄液が底板６１上に排出されるようになっている。したがって，洗浄槽８６から管路８７ａを通じて洗浄液を排出し，供給管８６ａから洗浄槽８６内に新しい洗浄液を供給することによって，洗浄液を交換することができる。また，図９に示すように排出口８９から底板６１の排液口６２まで，排出口８９から排出された洗浄液が誘導される誘導路としての溝９０が設けられている。
【００４２】
カップ収容部６０のＹ方向負方向側の外方には，図５に示すようにＸ方向に伸びるレール９１が設けられている。当該レール９１上には，アーム９２が移動自在に設けられている。アーム９２には，アーム９２をレール９１に沿って移動させる図示しない駆動機構が設けられている。アーム９２の先端には，ウェハＷに洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル９３が設けられている。洗浄液供給ノズル９３は，アーム９２がウェハＷの直径上に移動した際に，洗浄液供給ノズル９３がウェハＷの中心上方に位置するように取り付けられている。洗浄液供給ノズル９３は，所定時にアーム９２の移動に伴ってウェハＷ中心に移動され，ウェハＷに洗浄液を供給することができる。なお，アーム９２には，アーム９２を上下方向に移動可能とする図示しない移動機構が設けられており，必要に応じてウェハＷとの距離を調節できる。
【００４３】
カップ収容部６０の上方には，図４に示すようにカップ収容部６０内にエア等の気体を供給するエア供給機構９５が設けられている。エア供給機構９５には，ケーシング１８ａ外の図示しないエア供給源からエア供給機構９５にエアを供給するエア供給管９６が接続されている。エア供給機構９５は，エア内に含まれる不純物を除去するフィルタ９７と，エアをカップ収容部６０内に一様に供給するために気流を整流する整流板９８とを有している。エア供給機構９５から供給されたエアは，下方の排気管７２から排気され，カップ収容部６０内には下降気流が形成される。このとき，カップ収容部６０内が所定雰囲気に置換され，現像処理において発生した不純物等が除去される。
【００４４】
次に，以上のように構成されている現像処理装置１８の作用について，塗布現像処理システム１で行われるフォトリソグラフィー工程のプロセスと共に説明する。
【００４５】
先ず，ウェハ搬送体７がカセットＣから未処理のウェハＷを１枚取りだし，第３の処理装置群G3に属するアドヒージョン装置３１に搬入する。このアドヒージョン装置３１において，レジスト液との密着性を向上させるHMDSなどの密着強化剤を塗布されたウェハＷは，主搬送装置１３によって，クーリング装置３０に搬送され，所定の温度に冷却される。その後，ウェハＷは，レジスト塗布装置１７又は１９，プリベーキング装置３３又は３４に順次搬送され，所定の処理が施される。その後，ウェハＷは，エクステンション・クーリング装置４１に搬送される。
【００４６】
次いで，ウェハＷはエクステンション・クーリング装置４１からウェハ搬送体５０によって取り出され，その後，周辺露光装置５１を経て露光装置（図示せず）に搬送される。露光処理の終了したウェハＷは，ウェハ搬送体５０によりエクステンション装置４２に搬送された後，主搬送装置１３に保持される。次いで，このウェハＷはポストエクスポージャベーキング装置４４又は４５，クーリング装置４３に順次搬送され，これらの各装置にて所定の処理が施された後，現像処理装置１８又は２０に搬送される。
【００４７】
そして現像処理の終了したウェハＷは，再び主搬送装置１３によってポストベーキング装置３５，３６，４６又は４７，クーリング装置３０に順次搬送され，各装置において所定の処理が施される。その後，ウェハＷは，エクステンション装置３２を介して，ウェハ搬送体７によってカセットＣに戻され，一連の所定の塗布現像処理が終了する。
【００４８】
次に，上述した現像処理装置１８の作用について詳しく説明する。先ず，現像処理が開始される前（ウェハＷ受け入れ前）に，エア供給機構９５からカップ収容部６０内に所定の温湿度に調節されたエアが供給され始め，カップ収容部６０内に一様な下降気流が形成される。また，カップ収容部６０内の雰囲気は，排気管７２から常時一定流量で排気され，カップ収容部６０内がパージされる。
【００４９】
そして，現像処理が開始されると，先ず，昇降機構６６ａによって昇降ピン６６がカップ６７の上端面より高い位置に上昇される。次いで，主搬送装置１３がケーシング１８ａ内に進入し，ウェハＷが昇降ピン６６上に受け渡される。次に，昇降駆動機構６８によってカップ６７が下降され，カップ６７の位置を下げると共に，昇降ピン６６も下降され，ウェハＷがカップ６７の上端面よりもわずかに高い位置，例えばカップ６７よりも１ｍｍ程度高い位置に置かれる。
【００５０】
次に，洗浄槽８６に待機されていた現像液供給ノズル８１が，図５に示すように洗浄槽８６からカップ６７の内側であって，ウェハＷの外方の位置Ｓに移動される。この位置Ｓにおいて，現像液供給ノズル８１からの現像液の吐出が開始され，その吐出状態が安定するまで試し出しされる。このとき，試し出しされた現像液は，主に傾斜板７０上に落下する。傾斜板７０に落下した現像液は，図６に示すように傾斜によって傾斜板７０の樋７１に回収される。樋７１に回収された現像液は，樋７１を伝って切り欠き７１ａから底板６１上に排出される。そして，底板６１上に排出された現像液は，傾斜によって排液口６２まで誘導され，排液口６２から現像処理装置１８外の例えば図示しない処理液タンクに排出される。一方，回収板７４に落下した現像液も最終的には，底板６１上に落下し，底板６１の傾斜によって排液口６２まで誘導され，排液される。
【００５１】
現像液の吐出状態が安定すると，現像液供給ノズル８１が，現像液を吐出しながらウェハＷ上をＹ方向負方向側に移動する。このときウェハＷ全面に現像液が供給され，ウェハＷ上に現像液の液膜が形成される。このとき，ウェハＷや現像液供給ノズル８１から傾斜板７０上に現像液が落下するが，かかる落下した現像液は，上述した試し出し時と同様に傾斜板７０の切り欠き７１ａから底板６１上に排出され，排液口６２から排液される。その後，現像液供給ノズル８１は，ウェハＷのＹ方向負方向側の外方で停止し，現像液の供給を停止して，待機位置Ｔに戻される。
【００５２】
ウェハＷ上に現像液の液膜が形成されると，静止現像が開始される。このときカップ６７は上昇され，カップ６７の上端面がウェハＷの位置より高くなるようにする。こうすることにより，静止現像中は，カップ側部６７の上昇によって隙間Ｄが広くなるので，上方から供給されているエアは，主にカップ６７の外方を流れ，回収板７４の通気孔７５を通って，隙間Ｄからカップ６７内に流入し，排気管７２から排気される。これによって，ウェハＷ周辺部の気流が弱まり，ウェハＷ温度が維持される。
【００５３】
所定時間の静止現像が終了すると，昇降ピン６６が下降され，ウェハＷがスピンチャック６３上に吸着保持される。この際，カップ６７も下降され，ウェハＷが側方から見てカップ６７の中央部付近に位置される。このとき，カップ６７が下降されるので，隙間Ｄが狭められて，上方から供給されるエアは主にカップ６７内に直接流入され，カップ６７内に強い下降気流が形成される。
【００５４】
次いで，洗浄液供給ノズル９３が，アーム９２の図示しない駆動機構によってレール９１に沿ってウェハＷ中心の上方まで移動される。そして，ウェハＷが，スピンチャック６３によって所定の回転速度，例えば２０００ｒｐｍで回転される。ウェハＷの回転が開始されると，洗浄液供給ノズル９３からウェハＷの中心に洗浄液，例えば純水が供給される。これによって，ウェハＷ全面に純水が拡散されると共に，ウェハＷ上の現像液が遠心力によって振り切られる。このとき，遠心力で振り切られた現像液と純水との処理液は，カップ６７に受け止められ，カップ６７から傾斜板７０上に落下する。そして，傾斜板７０上に落下した処理液は，上述した現像液供給時の現像液と同様に，樋７１に回収され，切り欠き７１ａから底板６１上に排出され，底板６１の排液口６２から排液される。一方，カップ６７内の雰囲気は，当該振り切りによって現像液等から発生したミストを含んでいる。当該雰囲気は，カップ６７内の下降気流によって下降され，排気管７２から工場側に排気される。
【００５５】
所定時間経過後，純水の吐出が停止され，ウェハＷの回転速度が，例えば４０００ｒｐｍに加速される。これによって，ウェハＷ上の純水が振り切られ，ウェハＷが乾燥される。当該乾燥が所定時間行われた後，ウェハＷの回転が停止され，乾燥処理が終了する。なお，当該乾燥処理時に飛散した純水は，上述した現像液等の振り切り時と同様に，傾斜板７０，底板６１を伝って排液口６２から排液される。
【００５６】
乾燥処理が終了すると，ウェハＷは昇降ピン６６によって再びカップ６７上端部の上方まで上昇される。次いで，ウェハＷは搬入時と同様にして主搬送装置１３に受け渡され，ケーシング１８ａ外に搬出されて，一連の現像処理が終了する。
【００５７】
次に，洗浄液交換時の洗浄装置８５の作用について説明すると，例えば現像液供給ノズル８１が，ウェハＷに現像液を供給するために洗浄槽８６から位置Ｓに移動した後に，洗浄槽８６内の洗浄液が管路８７ａを通って排出口８９から底板６１上に排出される。底板６１に排出された洗浄液は，溝９０に沿って流れ，排液口６２から排出される。次いで，供給管６８ａから洗浄槽８６内に新しい洗浄液が供給され，貯留される。そして，現像液の吐出が終了した現像液供給ノズル８１が待機位置Ｔに戻され，洗浄槽８６に受容されて，汚れた現像液供給ノズル８１が洗浄される。なお，洗浄液の交換は，ウェハＷが一枚処理される度に行われてもよいし，一のロットが終了する度に行われてもよい。
【００５８】
以上の実施の形態では，排気管７２の排気口７３を傾斜板７０よりも高い位置に設けたので，現像処理時に使用される処理液が，排気口７３内に流入することが防止され，処理液とカップ６７内の雰囲気とを分離して排出することができる。
【００５９】
カップ収容部６０に底板６１を設け，底板６１を排液口６２が最低となるように傾斜させたので，底板６１に落下した処理液等が排液口６２に誘導され，当該処理液が，底板６１上に溜まることなく排液される。
【００６０】
底板６１上であって，カップ６７の内側に対向する位置に傾斜板７０を設け，傾斜板７０の外縁部に樋７１を設け，さらに樋７１に切り欠き７１ａを設けたので，カップ６７内の処理液が傾斜板７０上に落下し，当該落下した処理液が樋７１に回収され，樋７１の切り欠き７１ａから排液口６２に排出される。それ故，傾斜板７０に落下する多量の処理液を好適に排液することができる。
【００６１】
また，切り欠き７１ａを排液口６２側に設けたので，切り欠き７１ａから排出された処理液は，迅速に排液口６２に流入し，排液される。
【００６２】
洗浄装置８５の固定部材８８に排出口８９を設けて，洗浄槽８６の洗浄液を底板６１に排出できるようにしたので，当該洗浄液を他の処理液と共に一括して排液口６２から排液することができる。また，排出口８９から排液口６２間に溝９０を設けたので，排出口８９から排出された洗浄液が適切かつ確実に排液口６２から排液される。
【００６３】
底板６１の材質に非金属のポリプロピレンを用いたので，底板６１上を流れる処理液に金属イオンが溶解することが無くなり，当該処理液を再利用する際に金属イオンを除去する作業が省略できる。なお，底板６１の材質には，例えばセラミックス，ステンレス鋼，アルミニウム等の親水性を有するものを用いてもよい。このように，親水性を有するものを使用することによって，落下した処理液が底板６１上を流れやすくなり，底板６１上に残留することが防止される。
【００６４】
以上の実施の形態で記載した現像処理装置１８に，底板６１上に洗浄液，例えば純水を供給する供給装置を設けてもよい。図１１は，供給部としての供給ノズル１００を設けた場合の一例を示すものであり，供給ノズル１００は，底板６１上であって，カップ収容部６０のＸ方向正方向側の側壁Ｒ付近に設けられる。供給ノズル１００は，排液口６２の反対側であって底板６１上で最も高くなっているＸ方向正方向側の端部付近に洗浄液を供給するように配置される。そして，例えば現像処理工程において，ウェハＷが回転され，洗浄液供給ノズル９３から純水が供給され始めると同時に，供給ノズル１００から底板６１上に洗浄液が供給される。底板６１上の高い位置に供給された洗浄液は，傾斜に沿って排液口６２側に流れ，途中落下してくる現像液や純水を巻き込んで，当該現像液等と共に排液口６２から排液される。このように，底板６１上に現像液が供給されると，底板６１上に落下した現像液等が排液口６２に流され，底板６１上面が洗浄される。したがって，底板６１上に現像液等が残留し底板６１が汚れた状態になることが抑制され，底板６１を清潔に維持できる。なお，供給ノズル１００から洗浄液を供給するタイミングは，任意であり，現像液の試し出しを開始するときに供給を開始してもよいし，常時供給していてもよい。
【００６５】
また，供給ノズル１００は，図１２に示すように傾斜板７０上に洗浄液を供給するように設けてもよい。このように，傾斜板７０上に洗浄液をすることによって，カップ６７内で傾斜板７０上に落下した現像液等が洗浄液によって流され，現像液等の排液が促進される。したがって，傾斜板７０の樋７１等に現像液が残留することが抑制され，傾斜板７０を洗浄することができる。
【００６６】
さらに，図１３に示すように，供給ノズル１００は，洗浄液をカップ６７の内壁に供給できるように設けてもよい。当該供給ノズル１００によって，カップ６７の内壁に洗浄液を供給することによって，ウェハＷから飛散し，カップ６７の内壁に付着した現像液等を洗浄することができる。したがって，カップ６７の内壁に付着した現像液等が剥がれ，パーティクルとなることを抑制できる。なお，供給ノズル１００は，複数箇所に設けてもよく，上述のカップ収容部６０の側壁Ｒ付近，傾斜板７０上及びカップ６７の内壁の全てに設けてもよい。
【００６７】
以上で説明した実施の形態は，本発明を半導体ウェハデバイス製造プロセスのフォトリソグラフィー工程におけるウェハの現像処理装置に適用した例であったが，本発明は半導体ウェハ以外の基板，例えばＬＣＤ基板の現像処理装置にも応用できる。
【００６８】
【発明の効果】
本発明は，排液と排気とを混合させずに別々に除去することができるので，排気を行う工場側のファンの圧力損失を抑制し，余分な電力消費を抑えることができる。したがって，現像処理装置のランニングコストの削減が図られる。
【００６９】
特に，請求項２〜請求項１１によれば，処理容器内の処理液が好適に排液され，処理容器内の汚染が抑制されるので，メンテナンスの時間や回数が低減され，その分スループットの向上が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態にかかる現像処理装置を有する塗布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図２】図１の塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１の塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】実施の形態にかかる現像処理装置の縦断面の説明図である。
【図５】図４の現像処理装置の横断面の説明図である。
【図６】現像処理装置のカップ及びスピンチャックを取り除いたカップ収容部内部の斜視図である。
【図７】傾斜板の縦断面図である。
【図８】現像液供給ノズルの斜視図である。
【図９】カップ及びスピンチャックを取り除いたカップ収容部内部の斜視図である。
【図１０】洗浄装置の構成の概略を示す斜視図である。
【図１１】供給ノズルを設けた場合のカップ及びスピンチャックを取り除いたカップ収容部内部の斜視図である。
【図１２】図１１の他の構成例を示すカップ収容部内部の斜視図である。
【図１３】カップ内に供給ノズルを設けた場合のカップ内の構成を示す縦断面の説明図である。
【符号の説明】
１    塗布現像処理システム
１８    現像処理装置
６０    カップ収容部
６１    底板
６２    排液口
６３    スピンチャック
６７    カップ
７０    底板
７２    排気管
７３    排気口
８１    現像液供給ノズル
９５    エア供給機構
Ｔ    待機位置
Ｗ    ウェハ
【図１】
0003713447.tif 000002
【図２】
0003713447.tif 000003
【図３】
0003713447.tif 000004
【図４】
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【図５】
0003713447.tif 000006
【図６】
0003713447.tif 000007
【図７】
0003713447.tif 000008
【図８】
0003713447.tif 000009
【図９】
0003713447.tif 000010
【図１０】
0003713447.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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