(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を形成し、陽極が設けられた陽極室と陰極が設けられた陰極室とに分離された電解槽と、
前記陽極室から排出されるフッ素ガスの中のフッ化水素を吸着する第１吸着手段と、
前記陰極室から排出される水素ガスの中のフッ化水素を吸着する第２吸着手段と、
前記電解槽、前記第１吸着手段及び前記第２吸着手段とを収容する筐体とを備えるフッ素ガス発生装置であって、
前記筐体は、前記電解槽を収容する第１区画と、前記第１吸着手段を収容する第２区画と、前記第２吸着手段を収容する第３区画とを含んでいるフッ素ガス発生装置。
【請求項２】
前記第１乃至第３区画の各々に内部空気の吸引口が設けられた請求項１記載のフッ素ガス発生装置。
【請求項３】
前記第１吸着手段を経たフッ素ガスを貯留する貯留手段と、この貯留手段からのフッ素ガスを加圧する加圧手段とが前記第２区画に収容されている請求項１または２記載のフッ素ガス発生装置。
【請求項４】
前記電解槽に加熱用の温水を供給する温水加熱装置が、前記第１区画に収容されている請求項１記載のフッ素ガス発生装置。
【請求項５】
前記電解槽は、前記第１区画内に対して出し入れ可能な運搬物体上に搭載されている請求項１記載のフッ素ガス発生装置。
【請求項６】
前記第１吸着手段は互いに切り換え可能な２基以上が設置され、その各々が前記第２区画に対して出し入れ可能な運搬物体上に設置されている請求項５記載のフッ素ガス発生装置。
【請求項７】
前記第２吸着手段は互いに切り換え可能な２基以上が設置され、その各々が前記第３区画に対して出し入れ可能な運搬物体上に設置されている請求項５記載のフッ素ガス発生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フッ素ガス発生装置に関し、特に半導体等の製造工程などに使用される不純物の極めて少ない高純度フッ素ガスを生成するフッ素ガス発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、フッ素ガスは、例えば半導体製造分野においては欠くことのできない基幹ガスである。そして、それ自体で用いられる場合もあるが、特にフッ素ガスを基にして三フッ化窒素ガス（以下、ＮＦ３ガスという。）等を合成し、これを半導体のクリーニングガスやドライエッチング用ガスとしたものは急速に需要が伸びている。また、フッ化ネオンガス（以下、ＮｅＦガスという。）、フッ化アルゴンガス（以下、ＡｒＦガスという。）、フッ化クリプトンガス（以下、ＫｒＦガスという。）等は半導体集積回路のパターニングの際に用いられるエキシマレーザ発振用ガスであり、その原料には希ガスとフッ素ガスの混合ガスが多用されている。
【０００３】
半導体等の製造に使用されるフッ素ガスやＮＦ３ガスは不純物の少ない高純度のガスが要求される。また半導体等の製造現場ではフッ素ガスを充填したガスボンベから必要量のガスを取出して使用している。このためガスボンベの保管場所、ガスの安全性確保や純度維持等の管理が大変重要である。さらにＮＦ３ガスは最近になって需要が急増しているため供給面に問題があり、ある程度の在庫を抱えなければならないという問題もある。これらを考慮すると、高圧のフッ素ガスを扱うよりも、オンデマンド、オンサイトのフッ素ガス発生装置を使用する場所に設置するのが好ましい。
【０００４】
通常、フッ素ガスは図４に示すような電解槽によって生成されている。電解槽本体２０１の材質は通常、Ｎｉ、モネル、炭素鋼等が使用されている。さらに、電解槽本体２０１の底部には発生した水素ガスとフッ素ガスが混ざるのを防止するためにポリテトラフルオロエチレン等からなる底板２１２が付設されている。電解槽本体２０１中には、フッ化カリウム−フッ化水素系（以下、ＫＦ−ＨＦ系という。）の混合溶融塩が電解浴２０２として満たされている。そして、モネル等により形成されているスカート形の隔壁２０９によって、陽極室２１０と陰極室２１１に分離されている。この陽極室２１０に収納された炭素またはニッケル（以下、Ｎｉという。）陽極２０３と、陰極室２１１に収納されたＮｉ陰極２０４の間に電圧を印加し、電解することによりフッ素ガスは生成されている。なお、生成されたフッ素ガスは、発生口２０８から排出され、陰極側で発生する水素ガスは、水素ガス排出口２０７から排出される。生成されるフッ素ガスと水素ガスには陽極室２１０及び陰極室２１１に滞留するフッ化水素ガス（以下、ＨＦという）が若干量混入しており、これを除去するため、それぞれの発生口の下流側に接続される図示しないＨＦ吸着管を通過させる。フッ素ガスの生成により電解浴の液面が低下してきた時は、電解槽の外部から陰極室の電解浴中まで延びるＨＦ供給口２１３から電解浴中に直接ＨＦが供給される。ＨＦの供給は図示しない電解浴の液面の高さを監視するセンサと連動してなされる。
【０００５】
【特許文献１】
特表平９−５０５８５３号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、オンデマンド、オンサイトのフッ素ガス発生装置は生産工場のように専用の安全設備が整っているとは限らず、フッ素ガス発生装置では様々なガスが使用または発生しているため、フッ素ガス発生装置の不具合などによりガスが漏れ出た際に安全にガスの処理をすることが難しい。また、どのような現場でも、メンテナンスや交換作業等が容易にできる必要があるが、それに対応できないという問題点が判明した。
【０００７】
本発明は、上記問題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、ガスが漏れ出た場合においても使用または発生するガスを可及的に混合させず、かつ外部に漏らさずに安全に処理することができ、また、メンテナンスや交換作業等も容易にできるフッ素ガス発生装置を提供することにある。
【０００９】
本発明の請求項１に記載のフッ素ガス発生装置は、フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を形成し、陽極が設けられた陽極室と陰極が設けられた陰極室とに分離された電解槽と、前記陽極室から排出されるフッ素ガスの中のフッ化水素を吸着する第１吸着手段と、前記陰極室から排出される水素ガスの中のフッ化水素を吸着する第２吸着手段と、前記電解槽、前記第１吸着手段及び前記第２吸着手段とを収容する筐体とを備えるフッ素ガス発生装置であって、前記筐体は、前記電解槽を収容する第１区画と、前記第１吸着手段を収容する第２区画と、前記第２吸着手段を収容する第３区画とを含んでいることを特徴とする。
この構成によると、電解槽に原料として供給されるガスは無水フッ化水素であり、第１吸着手段で扱う主たるガスは水素であり、第２吸着手段で扱う主たるガスはフッ素であり、それぞれ異なる。そのため、これらの機器を収容する筐体が、電解槽を収容する第1区画と、第1吸着手段を収容する第２区画と、第２吸着手段を収容する第３区画とに区分する。そうすると、それぞれの区画で漏出したガスが混じり合うことがない。そのため、それぞれの区画で単一成分のガスに対する処理が可能となり、安全性が向上する。
【００１０】
本発明の請求項２に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項１において、前記第１乃至第３区画の各々に内部空気の吸引口が設けられたことを特徴としている。
この構成によると、それぞれの区画の各々に設けたれた吸引口から内部空気を吸引すると、漏れ出たガスが外部に出ることなく、筐体外に排出され、適宜処理が施される。
【００１１】
本発明の請求項３に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項１または２において、前記第１吸着手段を経たフッ素ガスを貯留する貯留手段と、この貯留手段からのフッ素ガスを加圧する加圧手段とが前記第２区画に収容されていることを特徴とする。
この構成によると、貯留手段と加圧手段はともにフッ素ガスに対するものであり、フッ素ガスを扱う区画である第３区画に第２吸着手段とともに収容される。これにより、第２区画での単一成分のガスに対する処理が可能となり、安全性が向上する。
【００１２】
本発明の請求項４に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項１または２において、前記電解槽に加熱用の温水を供給する温水加熱装置が、前記第１区画に収容されていることを特徴とする。
この構成によると、温水加熱装置は電解槽の付属装置であり、第１区画に電解槽とともに収容される。これにより、電解槽と温水加熱装置との間の配管も簡単になる。
【００１３】
本発明の請求項５に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項１において、前記電解槽は、前記第１区画内に対して出し入れ可能な運搬物体上に搭載されていることを特徴とする。
この構成によると、電解槽の交換またはメンテナンス時には、運搬物体ごと第１区画から搬出し、交換後第１区画に搬入することができる。
【００１４】
本発明の請求項６に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項５において、前記第１吸着手段は互いに切り換え可能な２基以上のＨＦ吸着手段が設置され、その各々が前記第２区画に対して出し入れ可能な運搬物体上に設置されていることを特徴とする。
この構成によると、第１吸着手段の交換またはメンテナンス時には、運搬物体ごと第２区画から搬出し、交換後第２区画に搬入することができる。
【００１５】
本発明の請求項７に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項５において、前記第２吸着手段は互いに切り換え可能な２基以上のＨＦ吸着手段が設置され、その各々が前記第３区画に対して出し入れ可能な運搬物体上に設置されていることを特徴とする。
この構成によると、第２吸着手段の交換またはメンテナンス時には、運搬物体ごと第３区画から搬出し、交換後第３区画に搬入することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明に係るフッ素ガス発生装置の実施形態の一例を説明する。
【００１７】
図１は、本実施形態例のフッ素ガス発生装置の主要部の概略図である。図１において、一点鎖線で区画されている部分１００は筐体である。図２および図３に示されるように、筐体１００は、略直方体の箱体に形成されている。この筐体１００の内部は、第１区画１０１と、第２区画１０２と、第３区画１０３とに区画されている。この区画は、上下の隔壁１０５、１０６によって行われる。この隔壁１０５、１０６の仕切り作用により、区画内の気体が互いに混じり合わなくなっている。図１において、破線で区画されている部分１０１は第１区画であり、部分１０２は第２区画であり、部分１０３は第３区画である。
【００１８】
図１の第１区画１０１には、電解槽１が収容されている。さらに第１区画１０１には、温水加熱装置１２が収容されている。電解槽１は、ＫＦ−ＨＦ系混合溶融塩２からなる電解浴を形成する。電解槽１は、陽極室３と、陰極室４とに分離される。陽極室３には、陽極５が設けられる。陰極室４には、陰極６が設けられる。陽極室３には、陽極室３から発生するフッ素ガスの発生口２２が設けられる。陰極室２３には、陰極室４から発生する水素ガスの発生口２３が設けられる。また、陰極室４には、電解槽にフッ化水素（以下、ＨＦという）を供給するＨＦ供給ライン２４が接続される。１３は電解槽１を暖める温水ジャケットである。温水加熱装置１２は温水ジャケット１３に温水を供給する。
【００１９】
第２区画１０２には、陽極室３から排出されるフッ素ガスに混入しているＨＦを除去するためのＨＦ吸着塔（第１吸着手段）１５が収容されている。さらに、第２区画１０２には、バッファタンク（貯留手段）２０と、コンプレッサー（加圧手段）２１とが収容されている。バッファタンク２０は、発生したフッ素ガスを貯留する貯留手段である。コンプレッサー２１は、バッファタンク２０の圧力を調整する加圧手段である。ＨＦ吸着塔１５は、陽極室３から排出されるＦ２とＨＦとの混合ガス中からＨＦを吸着して高純度のフッ素ガスのみを排出するようにするＮａＦ等を充填したものである。充填剤の交換のために２基以上のＨＦ吸着手段が並列に配置され、バルブでいずれか一方に切り替え可能である。
【００２０】
第３区画１０３には、陰極室４から排出される水素ガスから混合されたＨＦを除去するためのＨＦ吸着塔（第２吸着手段）１４が収容されている。２６は水素ガスの発生口２３に接続される水素ガスの排出ラインを減圧するバキュームジェネレーターである。ＨＦ吸着塔１４は、陰極室４から排出される水素とＨＦの混合ガス中からＨＦを吸着するソーダライム等を充填したものである。充填剤の交換のために２基以上のＨＦ吸着手段が並列に配置され、バルブでいずれか一方に切り替え可能である。
【００２１】
電解槽１は、Ｎｉ、モネル、純鉄、ステンレス鋼等の金属や合金で形成されている。電解槽１は、Ｎｉまたはモネルからなるスカート形の隔壁１６によって、電解槽１の中心部に位置する陽極室３及び陽極室３の外周をとりまく陰極室４とに分離されている。陽極室３には、陽極５が配置されている。そして、陰極室４には、陰極６が設けられている。なお、陽極５には低分極性炭素電極を使用することが好ましい。また、陰極６としては、Ｎｉ等を使用することが好ましい。電解槽１の上蓋１７には、陽極室３から発生するフッ素ガスの発生口２２と、陰極室４から発生する水素ガスの発生口２３と、電解浴２の液面高さが低下した場合にＨＦを供給するＨＦ供給ライン２４からのＨＦ導入口２５と、陽極室３及び陰極室４の液面高さをそれぞれ検知する図示しない第１液面検知手段及び第２液面検知手段と、陽極室３及び陰極室４の内部圧力をそれぞれ検知する圧力計７，８と、が設けられている。ガス発生口２２，２３は、ハステロイ等のフッ素ガスに対して耐食性を有した材料で形成された曲折した管を備えており、陽極室３及び陰極室４からの飛沫がガスライン内に侵入することを防止している。なお、ＨＦ供給ライン２４はＨＦの液化を防ぐための温度調整用ヒーター２４ａに覆われている。
【００２２】
陰極室４から排出される水素ガス中のＨＦを吸着する第２吸着手段であるＨＦ吸着塔１４は、ＨＦ吸着塔１４ａとＨＦ吸着塔１４ｂとが並列に設けられている。これらＨＦ吸着塔１４ａ及びＨＦ吸着塔１４ｂは同時に使用することも、いずれか一つを使用することもできる。このＨＦ吸着塔１４には圧力計３０ａ，３０ｂが設けられており、内部の詰まりを検知することが可能となっている。このＨＦ吸着塔１４は、フッ素ガス及びＨＦに対して耐食性を有する材料で形成されていることが好ましく、例えば、ステンレス鋼、モネル、Ｎｉ、フッ素系樹脂等で形成され、内部にソーダライムが装填されて、通過するＨＦを吸着することによって、水素ガス中のＨＦを除去している。
【００２３】
このＨＦ吸着塔１４は、圧力維持手段を構成する一つであるピエゾバルブ（以下、ＰＶと図示することがある）１０の下流側に配置されている。そして、このピエゾバルブ１０とＨＦ吸着塔１４との間にはバキュームジェネレーター２６が設けられている。このバキュームジェネレーター２６は、ガスライン２７を通過するガスによるエジェクタ効果によってガスライン２８内の圧力を減圧状態にするものであり、油分を使用することなく、ガスライン２８を減圧状態とすることができ、油分のガスライン及び電解槽１への侵入を防止することができる。なお、このガスには、不活性ガスである窒素ガスなどが用いられる。このバキュームジェネレーター２６により、電解槽１に減圧の影響が及ばないように、ピエゾバルブ１０が設けられている。このピエゾバルブ１０は、電解槽１に対する圧力維持手段を構成する。
【００２４】
陽極室３から排出されるフッ素ガス中のＨＦを除去する第１吸着手段であるＨＦ吸着塔１５は、前述のＨＦ吸着塔１４と同様に、ＨＦ吸着塔１５ａ、１５ｂとが並列に設けられている。ＨＦ吸着塔１５には、圧力計２９ａ，２９ｂが設けられており、内部の詰まりを検知することが可能となっている。そして、その内部にＮａＦが収容されており、放出されてくるフッ素ガス中に含まれるＨＦを除去する。このＨＦ吸着塔１５も、ＨＦ吸着塔１４同様に、フッ素ガス及びＨＦに対して耐食性を有する材料で形成されていることが好ましく、例えば、ステンレス鋼、モネル、Ｎｉ等が例示できる。
【００２５】
このＨＦ吸着塔１５の上流及び下流側には圧力維持手段を構成する一つであるピエゾバルブ９ａ，９ｂが設けられている。電解槽１及びＮａＦを充填したＨＦ吸着塔１５はコンプレッサーにつながっている。そのため、電解槽１及びＨＦ吸着塔１５は、常に減圧になるためピエゾバルブ９ａ，９ｂを上記の箇所に配置し、電解槽内にその減圧の影響が及ばないようにしている。このピエゾバルブ９ａ，９ｂは電解槽に対する圧力維持手段を構成する。
【００２６】
図２は、本実施形態例であるフッ素ガス発生装置の配置を示す正面図であり、図３はその上面図である。本実施形態例であるフッ素ガス発生装置は全体として一つの筐体１００に収められユニット化しており、その筐体内部は各々が隔壁１０５、１０６によって３区画に仕切られている。正面からみて、中心に位置するのが第１区画１０１であり、第１区画の右側が第２区画１０２、第１区画の左側が第３区画１０３である。第１区画１０１は、さらに第３区画１０３の裏側まで広がっている。
【００２７】
第１区画１０１は筐体１００の中心区画であり、天井に吸引口４１が設けられている。第１区画１０１内であって、筐体１００の中心部に電解槽１が配置されている。電解槽１は温水ジャケット１３と、フッ素ガス発生口２２と、水素発生口２３等を備えた状態で運搬物体例えば台車４５に搭載され移動可能となっている。正面からみて電解槽１の左側の奥であって、第３区画の裏側に温水ジャケット１３に接続されている温水加熱装置１２が配置されている。温水加熱装置１２も運搬物体例えば台車４６上に搭載され移動可能となっている。この第１区画１０１は、その正面が両開きドアなどにより開閉可能となっている。また、吸引口４１から、断続的または連続的に吸引が行われことにより、内部気体が外部に漏出しないようになっている。なお、第１区画１０１に隣接し、隔壁１０７で仕切られた外向き部分１０８には、電気的な接続装置が収納されている。外向き部分１０８の外壁を外すと、内部の接続装置のメンテナンスが可能となっている。
【００２８】
第２区画１０２は、正面からみて第１区画の右側に位置している。第２区画１０２の天井部には吸引口４２が設けられている。第２区画１０２には、陽極室３から排出されるフッ素ガス中のＨＦを除去する第１吸着手段であるＨＦ吸着塔１５ａ、１５ｂの２基が前後に並列に配置されている。ＨＦ吸着塔１５ａ、１５ｂのそれぞれが運搬物体例えば台車４７に搭載され移動可能となっている。ＨＦ吸着塔１５のさらに奥は上下２段に区画する棚４９が設けられており、上の段にはコンプレッサー２１が配置され、下の段にはバッファタンク２０が配置されている。この第２区画１０２は、その正面が片開きドアなどにより開閉可能となっている。また、吸引口４２から、断続的または連続的に吸引が行われることにより、内部気体が外部に漏出しないようになっている。なお、第２区画１０２内の内部隔壁１０９で区画される外向き部分１１０には、図示されない不活性ガスパージライン用のバルブスタンドが収容されている。外向き部分１１０の外壁を外すと、内部のバルブの操作が可能である。
【００２９】
第３区画１０３は、正面からみて第１区画の左側に位置している。第３区画１０３の天井部には吸引口４３が設けられている。第３区画１０３には、陰極室４から排出される水素ガス中のＨＦを除去する第２吸着手段であるＨＦ吸着塔１４ａ、１４ｂの２基が前後に並列に配置されている。ＨＦ吸着塔１４ａ、１４ｂのそれぞれは運搬物体例えば台車４８に搭載され移動可能となっている。この第２区画１０２は、その正面及びまたは背面が片開きドアなどにより開閉可能となっている。また、吸引口４３から、断続的または連続的に吸引が行われることにより、内部気体が外部に漏出しないようになっている。
【００３０】
次に、本実施形態例であるフッ素ガス発生装置の動作について説明する。通常、電解が正常に行われている状態では、陽極５からフッ素ガスが、陰極６から水素ガスが発生する。電気分解を効率よく行うために電解槽１は温水ジャケット１３で暖められる。温水ジャケット１３は電解浴の温度を監視している温度計１１と、温水ジャケット１３に供給する温水を加熱する温水加熱装置１２によって温度を調整される。発生したフッ素ガスはフッ素ガス発生口２２からラインに供給される。一連の電気分解により電解浴２が減少すると図示しない液面検知手段が作動し、これと連動してＨＦ供給ライン２４からＨＦ供給口２５を通って電解浴２にＨＦが供給される。
【００３１】
フッ素ガス発生口２２から供給されるフッ素ガスは、もともと電解槽内に存在するＨＦと混入している状態にある。そのため発生したフッ素ガスをＨＦ吸着塔１５に通過させて混入したＨＦを除去し、高純度のフッ素ガスを生成する。ＨＦ吸着塔１５は２基以上が並列に接続されており、ＨＦ吸着塔の上流側及び下流側に配置された弁によってＨＦ吸着塔１５の両方もしくはどちらか一方を選択して使用することができる。ＨＦを除去した高純度のフッ素ガスは、ＨＦ吸着塔１５の上流側でラインを分岐させて配置しているバッファタンク２０により必要な時に必要なだけ安定してフッ素ガスを供給する。バッファタンク２０の圧力は、コンプレッサー２１により調整される。
【００３２】
水素ガス発生口２３から供給される水素ガスは、もともと電解槽内に存在するＨＦと混入した状態にある。そのため発生した水素ガスをＨＦ吸着管１４に通過させて腐食性のあるＨＦを除去する。ＨＦ吸着塔１４も２本（２基）並列に接続されており、ＨＦ吸着塔の上流側及び下流側に配置された弁によってＨＦ吸着塔１４の両方もしくはどちらか一方を選択して使用することができる。
【００３３】
次に、フッ素ガス発生装置からガスの漏出があった場合に、図示しない各区画に設けられたガス検出器がガス漏れを検知する。その検知信号により装置が緊急停止するように構成されている。第１区画、第２区画、第３区画各々の天井に設けられている吸引口４１，４２，４３から漏れ出たガスを吸引して処理を行う。また、第１区画におけるガスはＨＦであり、第２区画で主に扱うガスはフッ素ガスであり、第３区画で主に扱うガスは水素ガスであるので区画によってガスの種類が限定されており、複数のガスが混合されることが少なくなる。
【００３４】
次に電解槽１をメンテナンスあるいは交換するには電解槽１を運搬物体ごと引き出して行う。温水加熱装置１２をメンテナンスあるいは交換する際には電解槽１を運搬物体ごと搬出した後に温水加熱装置１２のメンテナンスを行う。
【００３５】
またＨＦ吸着塔１４，１５もメンテナンスあるいは交換するには、ＨＦ吸着塔１４，１５を運搬物体ごと引き出して行う。この際ＨＦ吸着塔１４，１５は各々について並列に２基接続されているので弁の開閉により１基だけ分離して引き出すこともできる。
【００３６】
なお、筐体１００の区画は、電解槽１を収容する第１区画１０１と、その他の区画の２分割であってもよい。
【００３７】
【発明の効果】
本発明は以上のように構成され、フッ素ガス発生装置において、ガスが漏出した場合においても使用または発生するガスを可及的に混合させず、かつ万一にもガスが外部に漏出しても安全に処理することができる。また、装置部品等の部分的なメンテナンスや交換作業等も容易にできるフッ素ガス発生装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のフッ素ガス発生装置の主要部の模式概略図である。
【図２】本発明のフッ素ガス発生装置の正面図である。
【図３】本発明のフッ素ガス発生装置の上面図である。
【図４】従来使用していたフッ素ガス発生装置の模式図である。
【符号の説明】
１  電解槽
２  電解浴
３  陽極室
４  陰極室
５  陽極
６  陰極
１２  温水加熱装置
１３  温水ジャケット
１４  ＨＦ吸着塔（第２吸着手段）
１４ａ，１４ｂ  各々のＨＦ吸着塔
１５  ＨＦ吸着塔（第１吸着手段）
１５ａ，１５ｂ  各々のＨＦ吸着塔
２０  バッファタンク（貯留手段）
２１  コンプレッサー（加圧手段）
２２  フッ素ガス発生口
２３  水素ガス発生口
２４  ＨＦ供給ライン
２５  ＨＦ導入口
４５  運搬物体
４６  運搬物体
４７  運搬物体
１００  筐体
１０１  第１区画
１０２  第２区画
１０３  第３区画
【図１】
0003617835.tif 000002
【図２】
0003617835.tif 000003
【図３】
0003617835.tif 000004
【図４】
0003617835.tif 000005