(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型において、
前記の転写成形面内に、アライメントマークを有するプレス成形品を得るためのアライメントマーク転写部が設けられており、
アライメントマーク転写部における表面粗さと該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さとが異なる
ことを特徴とする成形型。
【請求項２】
母材と該母材の表面に形成されている離型膜とからなり、前記の母材が(1) ＷＣを含有している超硬素材、または、(2) ＴｉＮ，ＴｉＣもしくはＡｌ2Ｏ3 を含有しているサーメットからなり、前記の離型膜の表面が転写成 形面となっている、請求項１に記載の成形型。
【請求項３】
母材自体にアライメントマーク転写部用の成形部が形成されており、この成形部と該成形部の表面を被覆している離型膜とによってアライメントマーク転写部が形成されている、請求項２に記載の成形型。
【請求項４】
ＳｉＣまたはガラス状炭素からなる、請求項１に記載の成形型。
【請求項５】
アライメントマーク転写部が凸部からなる、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の成形型。
【請求項６】
所定形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型を製造するにあたり、
アライメントマークを有する光素子固定用部材を得るためのアライメントマーク転写部が該成形型の転写成形面内に形成されるとともに、アライメントマーク転写部における表面粗さが該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さと異なるように、この成形型の型材料にドライエッチングによって前記のアライメントマーク転写部用の成形部を形成し、この後、前記の成形部を被覆するようにして、かつ、離型膜の表面が前記の転写成形面となるようにして該離型膜を成膜して、前記の成形部と該成形部の表面を被覆している離型膜とからなるアライメントマーク転写部を有し、前記の離型膜の表面が転写成形面となっている成形型を得ることを特徴とする成形型の製造方法。
【請求項７】
所定形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型を製造するにあたり、
アライメントマークを有する光素子固定用部材を得るためのアライメントマーク転写部が該成形型の転写成形面内に位置するとともに、アライメントマーク転写部における表面粗さが該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さと異なるように、該成形型の型材料にドライエッチングによって前記のアライメントマーク転写部を形成することを特徴とする成形型の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、成形型およびその製造方法ならびに前記の成形型を用いて製造される成形品に係り、特に、光の送受信や中継を行うため等に使用されるマイクロレンズ、偏光板，回折格子，波長板，フィルター，光増幅器，光導波路，光ファイバ等の光学素子や、半導体レーザ，発光ダイオード等の発光素子、フォトダイオード等の受光素子など（以下、これらの素子を「光素子」と総称する。）が固定ないし実装される基材（以下、この基材を「光素子固定用部材」という。）をプレス成形によって得るための成形型として好適な成形型およびその製造方法ならびに前記の成形型を用いて製造される成形品（光素子固定用部材）に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光の送受信や中継を行うためには、光素子同士が光学的に接続する（以下、「光学的に接続する」ことを「光接続」という。）ように、これらを所望形状の光素子固定用部材の所定位置に高精度に固定ないし実装する必要がある。また、光素子が固定ないし実装されている光素子固定用部材同士を、それぞれの部材に固定ないし実装されている所定の光素子同士が光接続するように、高精度に位置合わせする必要がある。
【０００３】
例えば、長距離光通信に用いられる石英系シングルモード光ファイバは、外径１０μｍ程度のコア部と当該コア部を被覆する外径１２５μｍのクラッド部とによって構成されており、当該石英系シングルモード光ファイバ同士を光接続する際には、光接続部分での光軸のずれによる接続損失を小さくする（例えば０．１ｄＢ以下にする）うえから、光軸のずれ量が±１μｍ程度以内という高いアライメント精度が求められる。
【０００４】
従来より、上記の光素子固定用部材は所望の材料を機械加工やプレス成形によって所定形状に成形することにより作製されおり、当該光素子固定用部材上における光素子同士の光接続や、光素子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接続は、精密ステージを用いたアクティブアライメントによって行われている。アクティブアライメントによって例えば光ファイバ同士を光接続するにあたっては、一方の光ファイバからの出射光を他方の光ファイバに入射させ、その入射光量が最大となるように精密ステージを広範囲に亘って駆動させて、両者の位置合わせを行う。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、アクティブアライメントによって光素子同士を光接続するためには、上述のように精密ステージを広範囲に亘って駆動させなければならず、長時間を要する。また、自動化するためには装置の構造を複雑にしなければならず、所望の精度でアクティブアライメントすることが可能な装置を得ることが困難である。
【０００６】
本発明の目的は、固定ないし実装しようとする光素子同士の光接続、または、光素子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接続を短時間で行うことが可能な光素子固定用部材をプレス成形によって得ることができる成形型およびその製造方法を提供することにある。
【０００７】
上記の目的を達成する本発明の成形型は、所定形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型であり、前記の転写成形面内に、アライメントマークを有するプレス成形品を得るためのアライメントマーク転写部が設けられており、アライメントマーク転写部における表面粗さと該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さとが異なることを特徴とするものである。
【０００８】
一方、上記の目的を達成する本発明の成形型の製造方法は、所定形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型を製造するにあたり、アライメントマークを有する光素子固定用部材を得るためのアライメントマーク転写部が該成形型の転写成形面内に形成されるとともに、アライメントマーク転写部における表面粗さが該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さと異なるように、この成形型の型材料にドライエッチングによって前記のアライメントマーク転写部用の成形部を形成し、この後、前記の成形部を被覆するようにして、かつ、離型膜の表面が前記の転写成形面となるようにして該離型膜を成膜して、前記の成形部と該成形部の表面を被覆している離型膜とからなるアライメントマーク転写部を有し、前記の離型膜の表面が転写成形面となっている成形型を得ることを特徴とするものである（以下、この方法を「方法Ｉ」という。）。
【０００９】
また、上記の目的を達成する本発明の成形型の他の製造方法は、所定形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型を製造するにあたり、アライメントマークを有する光素子固定用部材を得るためのアライメントマーク転写部が該成形型の転写成形面内に位置するとともに、アライメントマーク転写部における表面粗さが該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さと異なるように、該成形型の型材料にドライエッチングによって前記のアライメントマーク転写部を形成することを特徴とするものである（以下、この方法を「方法II」という。）。
【００１０】
そして、上記本発明の成形型により得られる光素子固定用部材は、他の部材との位置関係を決めるためのアライメントマークが一体成形されているプレス成形品からなり、前記のアライメントマークにおける表面粗さと該アライメントマークの周辺の表面粗さとが異なるものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
まず本発明の成形型について説明すると、この成形型は、上述したように所定形状の転写成形面を有し、成形材料を所定形状の光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型である。
光素子固定用部材はガラス，樹脂等によって形成することができるので、上記の成形型の型材料は得ようとする光素子固定用部材の材質に応じて、換言すればプレス成形温度やプレス成形圧等に応じて、適宜変更可能である。
【００１２】
周辺環境の温度変化に対して寸法精度や形状精度の変動が小さく、かつ、固定ないし実装しようとする光素子との熱膨張差の小さい光素子固定用部材をプレス成形によって得るうえからは、当該光素子固定用部材をガラスによって形成することが好ましく、中でもＳｉＯ２  ，Ｂ２Ｏ３  およびＺｎＯをガラス成分としてい  るガラスによって形成することが好ましい。このようなガラスの具体例としては、例えば下記（１）  〜（４）  のものが挙げられる。
【００１３】
（１）  ガラス成分としてＳｉＯ２  を１〜３０ｗｔ％、Ｂ２Ｏ３  を１５〜４０ｗｔ％、Ｚ  ｎＯを４０〜６０ｗｔ％（但し４０ｗｔ％は含まない。）、ＭｇＯを０〜１５ｗｔ％、ＣａＯを０〜１０ｗｔ％、ＳｒＯを０〜１０ｗｔ％、ＢａＯを０〜１０ｗｔ％、ＰｂＯを０〜２０ｗｔ％、Ａｌ２Ｏ３  を０〜１０ｗｔ％（但し０ｗｔ％は含まない  。）含有し、ＺｎＯ，ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯおよびＰｂＯの合量が４０〜６０ｗｔ％（但し４０ｗｔ％は含まない。）であり、前記ガラス成分の合量が７５ｗｔ％以上であるガラス（以下、このガラスを「第１のガラス」という。）。
【００１４】
（２）  上記第１のガラスにＧｅＯ２  を０〜１０ｗｔ％（但しＳｉＯ２  とＧｅＯ２  との合量は３〜３０ｗｔ％）、Ｌａ２Ｏ３  を０〜２０ｗｔ％、Ｙ２Ｏ３  を０〜１０ｗｔ％、Ｇｄ２Ｏ３  を０〜１０ｗｔ％（但しＬａ２Ｏ３  ，Ｙ２Ｏ３  およびＧｄ２Ｏ３  の合量は０〜２０ｗｔ％）、Ｎｂ２Ｏ５  を０〜１０ｗｔ％、Ｔａ２Ｏ５  を０〜１０ｗｔ％（但しＮｂ２  Ｏ５  とＴａ２Ｏ５  との合量は０〜１０ｗｔ％）、ＺｒＯ２  を０〜５ｗｔ％、ＴｉＯ２    を０〜３ｗｔ％含有させたガラス（以下、このガラスを「第２のガラス」という。）。
【００１５】
（３）  上記第１のガラスまたは第２のガラスに、脱泡，着色の改善を目的として、外割りでＡｓ２Ｏ３  ，Ｓｂ２Ｏ３  ，ＳｎＯ，ＳｎＯ２  のうちの１種以上を添加したガラス（以下、このガラスを「第３のガラス」という。）。
（４）  上記第１のガラス〜第３のガラスのいずれかに、当該ガラスの特性を悪化させない範囲で、Ｆ，Ｂｉ２Ｏ３  ，Ｙｂ２Ｏ３  ，ＷＯ３  ，Ｎａ２Ｏ，Ｋ２Ｏ等を添加したガラス。
【００１６】
ガラス製の光素子固定用部材をプレス成形によって得るための成形型の型材料としては、炭化タングステン（ＷＣ）を含有している超硬素材、窒化チタン（ＴｉＮ），炭化チタン（ＴｉＣ）もしくは酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３  ）を含有  しているサーメット、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ガラス状炭素等からなるものが好ましく、前記のサーメットとしてはＴｉＮ，ＴｉＣもしくはＡｌ２Ｏ３  を概ね９  ０ｗｔ％以上含有しているものが好ましい。
【００１７】
ただし、前記の超硬素材やサーメットからなる型材料を利用してガラス製の光素子固定用部材を製造するための成形型を得ようとする場合には、プレス成形時に成形型と成形材料（ガラス）とが融着するのを防止するうえから、所望形状に加工した後の型材料（以下、この型材料を「母材」という。）の所定面を離型膜によって被覆して、当該離型膜の表面が転写成形面となるようにすることが好ましい。
【００１８】
上記の離型膜としては、母材の材質，成形材料の材質等に応じて種々の組成のものが利用されるが、ガラスからなる成形材料と成形型との融着を防止するための離型膜としては、例えば、Ｐｔ，Ａｕ，Ｉｒ，ＰｄおよびＲｈからなる群より選択された少なくとも１種の成分を含有している膜や、ｉ−カーボンからなる膜を用いることができる。ＳｉＣやガラス状炭素からなる型材料を利用してガラス製の光素子固定用部材を製造するための成形型を得ようとする場合には、前記の離型膜を設けてもよいし、設けなくてもよい。
【００１９】
本発明の成形型においては、その転写成形面内に、アライメントマークを有するプレス成形品を得るためのアライメントマーク転写部が設けられている。アライメントマーク転写部を除いた転写成形面の形状は、当該成形型を用いて得ようとする光素子固定用部材の用途等に応じて適宜選択され、例えば、１つの平面，境界部が段差となっている２つ以上の平面，平面（前記１つの平面または前記２つ以上の平面）と所定形状の凹部とが組み合わされた形状，平面（前記１つの平面または前記２つ以上の平面）と所定形状の凸部とが組み合わされた形状，平面（前記１つの平面または前記２つ以上の平面）と所定形状の凸部と所定形状の凹部とが組み合わされた形状等とすることができる。
【００２０】
一方、アライメントマーク転写部の平面視上の形状は、光素子固定用部材に形成しようとするアライメントマークの形状に応じて適宜選択される。また、一つの転写成形面内に設けられているアライメントマーク転写部の数やその形成箇所は、当該成形型を用いて得ようとする光素子固定用部材の用途や、この光素子固定用部材に固定ないし実装しようとする光素子の形状および数、あるいは、光素子固定用部材におけるアライメントマークの使途等に応じて適宜選択される。
【００２１】
アライメントマーク転写部は凸部からなっていてもよいし、凹部からなっていてもよい。ただし、光素子を高密度に固定ないし実装するための光素子固定用部材を得ようとする場合には、当該光素子固定用部材に形成されているアライメントマークについても光素子を固定ないし実装するための領域の一部として利用することが好ましいので、アライメントマークの一部または全部を覆うようにして光素子を安定かつ容易に固定ないし実装することができるよう、当該アライメントマークを凹部によって形成することが好ましい。また、光素子固定用部材に固定ないし実装した光素子を更に堅固に固定すること等を目的として当該光素子固定用部材に所望の部材を載置する場合があるが、このような場合においても、光素子固定用部材に形成されているアライメントマークが凹部によって形成されていれば、前記の部材を安定かつ容易に載置することができる。
【００２２】
したがって、光素子を高密度に固定ないし実装するための光素子固定用部材や、光素子以外の部材をもが載置される光素子固定用部材を得ようとする場合には、本発明の成形型におけるアライメントマーク転写部を凸部によって形成することが好ましい。
【００２３】
光素子固定用部材上には通常複数個の光素子が固定ないし実装され、光素子同士の機械的な位置決めのみによってこれらの光素子同士を光素子固定用部材上において光接続させるためには、少なくとも２次元方向の位置合わせが必要である。また、光素子が固定ないし実装されている光素子固定用部材同士の機械的な位置決めのみによって、それぞれの光素子固定用部材に固定ないし実装されている所定の光素子同士を光接続させる場合においても、少なくとも２次元方向の位置合わせが必要である。
【００２４】
したがって、アライメントマーク転写部の平面視上の形状はＬ字状，十文字状，三角形枠，矩形枠状等、２つ以上の直線部を有し、これらの直線部が互いに所定の角度をなしている形状であることが好ましい。当該形状を有するアライメントマーク転写部によって形成されたアライメントマークは、２つ以上の直線部を有し、これらの直線部が互いに所定の角度をなしている形状となるので、光素子同士または光素子固定用部材同士の２次元方向の位置合わせが容易な光素子固定用部材を得ることができる。
【００２５】
上記のアライメントマーク転写部は、成形型が離型膜を有しているものである場合には、離型膜によって被覆されてアライメントマーク転写部となる成形部（母材に形成されているもの。以下、この成形部を単に「成形部」という。）と当該成形部を被覆する離型膜とによって形成されているか、または、離型膜自体に形成されている。また、成形型が離型膜を有していないものである場合には、型材料自体に形成されている。
【００２６】
型材料への前記成形部の形成や型材料自体へのアライメントマーク転写部の形成は、例えば機械加工やエッチング等の方法によっても行うことができるが、機械加工では直線状の凸部同士が交差する部分にバイトの先端が入らないことから、このような交差部を有するアライメントマーク転写部もしくは成形部を精密に形成することができない。また、転写成形面内に段差（アライメントマーク転写部とその周囲との段差を除く。）を有する成形型を得ようとした場合、前記の段差によって区分された下段側の領域における前記の段差近傍へは機械加工用のバイトの先端を入れることができないので、機械加工によってアライメントマーク転写部もしくは前記の成形部を形成することができる領域が制限される。さらに、前述した超硬素材，サーメット，ＳｉＣ，ガラス状炭素等からなる型材料に精度の高いアライメントマーク転写部もしくは前記の成形部をウエットエッチングによって形成することは困難である。
【００２７】
このため、型材料に形成される前記の成形部や型材料自体に形成される前記のアライメントマーク転写部、特に、２つ以上の直線部を有し、これらの直線部が互いに所定の角度をなしている形状の成形部もしくはアライメントマーク転写部は、ドライエッチングによって形成されたものであることが特に好ましい。ドライエッチングによれば、目的とする形状の成形部もしくはアライメントマーク転写部を所望の箇所に高精度に形成することができる。
【００２８】
アライメントマークを目視や画像認識装置によって容易に識別することができる光素子固定用部材を得るうえからは、アライメントマークにおける表面粗さと当該アライメントマークの周辺における表面粗さとを異ならせることが好ましいので、成形型についても、アライメントマーク転写部における表面粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さとを異ならせることが好ましい。アライメントマーク転写部における表面最大粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面最大粗さとが概ね２００オングストローム以上異なっている成形型を用いれば、成形材料として例えば透明ガラスを用いた場合でも、目視や画像認識装置によってアライメントマークを容易に識別することが可能な光素子固定用部材をプレス成形によって得ることができる。
【００２９】
以上説明した本発明の成形型は、上述したアライメントマーク転写部を有しているので、当該本発明の成形型同士を組み合わせて、または、当該本発明の成形型と従来の成形型とを組み合わせてプレス成形に必要な一組の成形型（上型と下型からなるもの、または、上型と下型と胴型からなるもの等。下型または上型が平板であるものを含む。）を構成し、当該一組の成形型を用いて成形材料をプレス成形を行うことにより、アライメントマークを有する光素子固定用部材を得ることができる。このとき、前記一組の成形型を構成する成形型それぞれの型材料は、同じ材質であってもよいし異なっていてもよい。また、当該一組の成形型を構成する成形型のそれぞれは、離型膜を有しているものであってもよいし有していないものであってもよい。
【００３０】
光素子固定用部材の全体形状は、その用途等に応じて、平板状，１または複数の段差を有する板状等、種々異なるので、目的とする形状の光素子固定用部材が得られるように、上記一組の成形型を構成する各成形型の形状（各成形型における転写成形面の形状）を適宜選択する。
【００３１】
本発明の成形型を用いたプレス成形によって得られる光素子固定用部材には所定のアライメントマークが形成されているので、当該光素子固定用部材に複数の光素子を固定ないし実装しようとする場合には、これらの光素子の位置決めを前記のアライメントマークを利用して行うことにより、当該位置決めのみによって光素子同士を光接続することや、当該位置決めによって光素子同士をほぼ光接続することが可能になる。したがって、この後に仮にアクティブアライメントによって更に高精度の光接続を行ったとしても、光接続の作業を短時間で行うことができる。同様に、光素子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材同士の間で光素子同士を光接続する場合でも、それぞれの光素子固定用部材に形成されている前記のアライメントマークを利用してこれらの光素子固定用部材を位置決めすることにより、前記の光接続に要する時間を短縮することができる。
【００３２】
すなわち、上記の光素子固定用部材を用いることにより、固定ないし実装しようとする光素子同士の光接続、または、光素子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接続をアクティブアライメントのみによって行う場合に比べて短時間で行うことが可能になる。また、これらの光接続を自動化することも容易になる。
上述した利点を有する光素子固定用部材を得ることができる本発明の成形型は、例えば以下に述べる本発明の方法Ｉまたは方法ＩＩによって製造することができる。
【００３３】
本発明の方法Ｉは、前述したように、所定形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型を製造するにあたり、アライメントマークを有する光素子固定用部材を得るためのアライメントマーク転写部が当該成形型の転写成形面内に形成されるように、この成形型の型材料にドライエッチングによって前記のアライメントマーク転写部用の成形部を形成し、この後、前記の成形部を被覆するようにして、かつ、離型膜の表面が前記の転写成形面となるようにして当該離型膜を成膜して、前記の成形部と当該形部の表面を被覆している離型膜とからなるアライメントマーク転写部を有し、前記の離型膜の表面が転写成形面となっている成形型を得ることを特徴とするものである。
【００３４】
方法Ｉは、所望形状に加工した後の型材料（母材）の所定面を離型膜によって被覆して、当該離型膜の表面が転写成形面（この転写成形面内にはアライメントマーク転写部が形成されている。）となっている成形型を得る方法であるので、ガラス製のプレス成形品（光素子固定用部材）を得るための成形型を方法Ｉによって製造しようとする場合には、当該成形型の型材料として超硬素材やサーメット（本発明の成形型についての説明の中で既に述べたもの）からなるものを用いることが好ましい。勿論、この場合でもＳｉＣやガラス状炭素からなる型材料を用いることができる。
【００３５】
ドライエッチングによってアライメントマーク転写部用の成形部を型材料に形成するにあたっては、型材料の表面のうちで少なくとも前記の成形部を形成しようとする箇所を予め平面に加工し、この後、当該平面上に所望形状のレジストパターンを設け、このレジストパターンをマスクとして利用してドライエッチングを行うことが好ましい。
【００３６】
アライメントマーク転写部の平面視上の形状，数，形成箇所等は、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、当該成形型を用いて得ようとする光素子固定用部材の用途等に応じて適宜選択されるので、前記の成形部の平面視上の形状，数，形成箇所等についても、当該成形型を用いて得ようとする光素子固定用部材の用途等に応じて適宜選択される。
【００３７】
また、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部以外の部分（以下、この部分を「周辺部」という。）の形状は、当該成形型を用いて得ようとする光素子固定用部材の用途等に応じて適宜選択されるので、前記の周辺部を形成している離型膜の下地となっている箇所の型材料表面の形状についても、当該成形型を用いて得ようとする光素子固定用部材の用途等に応じて適宜選択される。
【００３８】
したがって、方法Ｉによって成形型を得るにあたっては、離型膜を成膜する前に予めアライメントマーク転写部用の前記成形部をドライエッチングによって形成しておく他に、型材料表面のうちで前記周辺部の下地となる箇所についても予め所望形状に加工して、所定形状の母材を得ておく。ドライエッチングによる前記の成形部の形成と、型材料表面のうちで前記周辺部の下地となる箇所の成形とは、同時に行ってもよいし別々に行ってもよい。型材料表面のうちで前記周辺部の下地となる箇所の成形は、その形状に応じて、ドライエッチングや機械加工等の方法により、またはドライエッチングと機械加工を併用した方法等により、行うことができる。
【００３９】
アライメントマーク転写部はできるだけ高精度に形成することが好ましく、そのためにはアライメントマーク転写部用の前記の成形部をできるだけ高精度に形成することが好ましい。そして、前記の成形部をできるだけ高精度に形成するうえからは、型材料の材質に応じてそのドライエッチング条件を適宜選択する。型材料が前述した超硬素材やサーメットからなるものである場合には、ドライエッチング用のエッチングガスとして、希ガス（Ａｒガス等），フッ化炭素系の単体ガス（ＣＦ４  ガス等）および塩素系の単体ガス（Ｃｌ２  ガス等）からなる群より選択された１種または複数種を用いることが好ましい。また、型材料がＳｉＣまたはガラス状炭素からなるものである場合には、ドライエッチング用のエッチングガスとして、上記の希ガス，上記フッ化炭素系の単体ガスまたは上記塩素系の単体ガスを用いることが好ましい。
【００４０】
上述したドライエッチングによって形成された成形部を覆うようにして、かつ、その表面が転写成形面となるようにして母材に成膜される離型膜としては、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、母材の材質，成形材料の材質等に応じて種々の組成のものが利用される。成形型とガラスからなる成形材料との融着を防止するための離型膜としては、例えば、Ｐｔ，Ａｕ，Ｉｒ，ＰｄおよびＲｈからなる群より選択された少なくとも１種の成分を含有している膜や、ｉ−カーボンからなる膜を用いることができる。これらの離型膜は、例えばスパッタリング法，イオンプレーティング法，ＣＶＤ法等の方法によって成膜することができる。
【００４１】
アライメントマークを目視や画像認識装置によって容易に識別することができる光素子固定用部材を得るうえからは、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、アライメントマーク転写部における表面粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さとを異ならせることが好ましいわけであるが、方法Ｉによって製造される成形型においては、前述したように離型膜の表面が転写成形面となっている。そして、離型膜の表面粗さは、離型膜の成膜条件，離型膜の下地となっている型材料表面における表面粗さ，離型膜の膜厚等に応じて変化する。
【００４２】
したがって、アライメントマーク転写部における表面粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面（前記の周辺部）における表面粗さとが異なる成形型を方法Ｉによって得ようとする場合には、離型膜の成膜条件，離型膜の下地となっている型材料表面における表面粗さ，離型膜の膜厚等を適宜選択する。ただし、離型膜の膜厚は最低でも概ね０．０３μｍ以上とすることが実用上好ましい。
【００４３】
以上説明した本発明の方法Ｉでは、アライメントマーク転写部用の成形部をドライエッチングによって形成するので、型材料が超硬素材，サーメット，炭化ケイ素（ＳｉＣ），ガラス状炭素等からなる場合でも、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、機械加工やウエットエッチングによる加工よりも精密でかつ精度の高い成形部（アライメントマーク転写部用の成形部）を所望箇所に形成することができる。そして、方法Ｉによって製造された成形型においては、前記の成形部を覆うようにして成膜された離型膜の表面が転写成形面となっているので、精度の高いアライメントマークを有する光素子固定用部材を得ることが可能な成形型が得られる。
【００４４】
次に、本発明の方法ＩＩについて説明する。
本発明の方法ＩＩは、前述したように、所定形状の転写成形面を有し、成形材料を光素子固定用部材にプレス成形するために使用される成形型を製造するにあたり、アライメントマークを有する光素子固定用部材を得るためのアライメントマーク転写部が当該成形型の転写成形面内に位置することになるように、当該成形型の型材料にドライエッチングによって前記のアライメントマーク転写部を形成することを特徴とするものである。
【００４５】
方法ＩＩは型材料自体にアライメントマーク転写部を形成して目的とする成形型を得る方法であるので、方法ＩＩによってガラス製のプレス成形品（光素子固定用部材）を得るための成形型を製造しようとする場合には、当該成形型の型材料としてＳｉＣやガラス状炭素からなるものを用いることが好ましい。勿論、前述した超硬素材やサーメットからなる型材料を用いることもできる。
【００４６】
ドライエッチングによる型材料自体へのアライメントマーク転写部の形成は、型材料の表面のうちで少なくともアライメントマーク転写部を形成しようとする箇所を予め平面に加工した後、当該平面上に所望形状のレジストパターンを設け、このレジストパターンをマスクとして利用してドライエッチングを行うことにより行うことができる。
【００４７】
上述したように、アライメントマーク転写部の形成は当該アライメントマーク転写部が成形型の転写成形面内に位置することになるように行えばよく、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、アライメントマーク転写部の平面視上の形状，数，形成箇所あるいはアライメントマーク転写部以外の転写成形面の形状等は、当該成形型を用いて得ようとする光素子固定用部材の用途等に応じて適宜選択される。
【００４８】
したがって、ドライエッチングによるアライメントマーク転写部の形成と当該アライメントマーク転写部以外の転写成形面の形成とは、同時に行ってもよいし別々に行ってもよい。アライメントマーク転写部以外の転写成形面の形成は、その形状に応じて、ドライエッチングや機械加工等の方法により、またはドライエッチングと機械加工を併用した方法等により、行うことができる。
アライメントマーク転写部はできるだけ高精度に形成することが好ましく、そのためには型材料の材質に応じてそのエッチング条件を適宜選択する。
【００４９】
アライメントマークを目視や画像認識装置によって容易に識別することができる光素子固定用部材を得るうえからは、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、アライメントマーク転写部における表面粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さとを異ならせることが好ましいので、このような成形型が得られるように、アライメントマーク転写部を形成する際のドライエッチング条件や型材料の材質、アライメントマーク転写部以外の転写成形面の形成方法等を勘案して、型材料の表面のうちで少なくともアライメントマーク転写部を形成しようとする箇所の表面粗さを予め調整しておくことが好ましい。
【００５０】
以上説明した本発明の方法ＩＩでは、アライメントマークをドライエッチングによって形成するので、型材料が超硬素材，サーメット，炭化ケイ素（ＳｉＣ），ガラス状炭素等からなる場合でも、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、機械加工やウエットエッチングによる加工よりも精密でかつ精度の高いアライメントマークを所望箇所に形成することができる。したがって、精度の高いアライメントマークを有する光素子固定用部材を得ることが可能な成形型が得られる。
【００５１】
次に、本発明の成形型により得られる光素子固定用部材について説明する。
本発明の成形型により得られる光素子固定用部材は、前述したように、他の部材との位置関係を決めるためのアライメントマークが一体成形されているプレス成形品からなり、前記のアライメントマークにおける表面粗さと当該アライメントマークの周辺の表面粗さとが異なるものである。
【００５２】
上記のアライメントマークの平面視上の形状は、その使途等に応じて適宜選択可能であり、当該アライメントマークの数やその形成箇所は、光素子固定用部材の用途や、この光素子固定用部材に固定ないし実装しようとする光素子の形状および数、あるいは、光素子固定用部材におけるアライメントマークの使途等に応じて適宜選択される。また、アライメントマークは凸部からなっていてもよいし凹部からなっていてもよいが、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、光素子を高密度に固定ないし実装するための光素子固定用部材や、光素子以外の部材をもが載置される光素子固定用部材を得るうえからは、凹部からなるアライメントマークが好ましい。
【００５３】
固定ないし実装しようとする光素子同士の光接続、または、光素子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接続を図るうえから、アライメントマークの平面視上の形状はＬ字状，十文字状，三角形枠，矩形枠状等、２つ以上の直線部を有し、これらの直線部が互いに所定の角度をなしている形状とすることが好ましい。
【００５４】
アライメントマークにおける表面粗さの値は特に限定されるものではないが、アライメントマークを目視や画像認識装置によって容易に識別するうえからは、アライメントマークにおける表面最大粗さと当該アライメントマークの周辺における表面最大粗さとを概ね２００オングストローム以上異ならせることが好ましい。
【００５５】
上記のアライメントマークを有している本発明の成形型により得られる光素子固定用部材は、ガラス，樹脂等、プレス成形が可能な無機材料もしくは有機材料からなっている。周辺環境の温度変化に対して寸法精度や形状精度の変動が小さく、かつ、固定ないし実装しようとする光素子との熱膨張差の小さい光素子固定用部材を得るうえからは、本発明の成形型についての説明の中で既に述べたように、当該光素子固定用部材をガラスによって形成することが好ましい。また、本発明の成形型により得られる光素子固定用部材を透明体とした場合には、当該光素子固定用部材に形成されているアライメントマークを種々の方向から識別することが可能になることから、不透明体あるいは半透明体とした場合に比べて例えば下記(A) 〜(B) の利点が得られる。
【００５６】
（Ａ）  光素子固定用部材の側面や背面（光素子を固定ないし実装しようとする面とは反対側の面を意味する。以下同じ。）等からアライメントマークを識別しつつ当該アライメントマークを覆うようにして不透明の光素子を固定ないし実装すること、換言すれば、不透明の光素子を固定ないし実装するための領域の一部としてアライメントマークを利用することが可能になるので、光素子を高密度に固定ないし実装することが容易になる。
【００５７】
（Ｂ）  光素子や当該光素子を更に堅固に固定するための部材等を固定ないし実装した後の光素子固定用部材においてもその側面や背面等からアライメントマークを識別することができるので、光素子や前記の部材等が不透明体であったとしても、当該光素子固定用部材と他の光素子固定用部材（光素子を固定ないし実装した後のもの）との間で所望の光素子同士を光接続する際に、各光素子固定用部材に形成されているアライメントマークを利用することが可能になる。
【００５８】
以上説明した本発明の成形型により得られる光素子固定用部材は上述のアライメントマークを有しているので、この光素子固定用部材に複数の光素子を固定ないし実装しようとする場合には、これらの光素子の位置決めを前記のアライメントマークを利用して行うことにより、当該位置決めのみによって光素子同士を光接続することや、当該位置決めによって光素子同士をほぼ光接続することが可能になる。したがって、この後に仮にアクティブアライメントによって更に高精度の光接続を行ったとしても、光接続の作業を短時間で行うことができる。同様に、光素子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材同士の間で光素子同士を光接続する場合でも、それぞれの光素子固定用部材に形成されている前記のアライメントマークを利用してこれらの光素子固定用部材を位置決めすることにより、前記の光接続に要する時間を短縮することができる。
【００５９】
すなわち、本発明の成形型により得られる光素子固定用部材を用いることにより、固定ないし実装しようとする光素子同士の光接続、または、光素子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接続を、これらの光接続をアクティブアライメントのみによって行う場合に比べて短時間で行うことが可能になる。また、これらの光接続を自動化することも容易になる。さらに、本発明の成形型により得られる光素子固定用部材は後述するプレス成形によって得ることができるので、大量に、かつ、安価に製造することができる。
【００６０】
なお、本発明の成形型により得られる光素子固定用部材の全体形状は、その用途等に応じて、平板状，１または複数の段差（アライメントマークとその周囲との段差を除く。）を有する板状等、適宜選択可能である。
【００６１】
上述した利点を有している本発明の成形型により得られる光素子固定用部材は、前述した本発明の成形型の中で好ましいものの１つとして例示した成形型、すなわち、アライメントマーク転写部における表面粗さと当該アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面粗さとが異なる成形型と、他の成形型（本発明の成形型または従来の成形型）とを組み合わせて一組の成形型（上型と下型からなるもの、または、上型と下型と胴型からなるもの等。下型または上型が平板であるものを含む。）を構成し、当該一組の成形型を用いたプレス成形によって製造することができる。
【００６２】
プレス成形にあたっては、平面視上の形状を目的とする光素子固定用部材の平面視上の形状に近似させた成形材料（プリフォーム）を用いることが好ましい。成形材料としては、ガラス，樹脂等、プレス成形が可能な所望の無機材料もしくは有機材料からなるものを用いる。周辺環境の温度変化に対して寸法精度や形状精度の変動が小さく、かつ、固定ないし実装しようとする光素子との熱膨張差の小さい光素子固定用部材を得るうえからは、前述したように成形材料としてガラスを用いることが好ましい。プレス成形品を得ることが可能で、かつ、上記の特性を有する光素子固定用部材を得ることができるガラスとしては、本発明の成形型についての説明の中で例示したものが挙げられる。
【００６３】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。
実施例１
（１）方法Ｉによる第１の成形型の作製
まず、ＷＣを含有している超硬素材からなる型材料を用意した。当該型材料は縦２０．０ｍｍ，横１０．０ｍｍ，厚さ２．０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングストロームの平板状を呈する。次に、この型材料の片面にスピンコート法によってポジ型フォトレジスト（ヘキスト社製のＡＺ１３５０）を塗布して、図１（ａ）に示すように、当該型材料１の片面に膜厚２．０μｍのレジスト膜２を形成した。
【００６４】
次いで、このレジスト膜２上に所定形状のフォトマスク、すなわち、平面視上の形状が２０×１０ｍｍの矩形である紫外線透過性基板の四隅に線幅３．０μｍのＣｒ膜からなる十文字形の遮光部（全長１０μｍ，全幅１０μｍ）が設けられているフォトマスクを前記の遮光部がレジスト膜２側に位置するようにして密着させた。そして、上記のフォトマスク側から前記のレジスト膜２へ紫外線を照射（照射量は２５ｍＷ／ｃｍ２  ）することによって当該レジスト膜２を露光し、露光後のレジスト膜２を所定の現像液（ヘキスト社製のＡＺデベロッパー液）に９０秒間浸漬することによって現像した。
【００６５】
上記の現像によりレジスト膜２のうちで露光された部分が溶解除去され、図１（ｂ）に示すように、露光されなかった部分（フォトマスクに形成されている遮光部によって紫外線が遮られた部分）からなる十文字状のレジストパターン３が型材料１の片面の四隅それぞれに形成された。レジストパターン３それぞれの平面視上の形状は、全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状であり、その膜厚は２．０μｍである。
【００６６】
各レジストパターン３を１２０℃で６０分間ポストベークした後、これらのレジストパターン３をマスクとして利用して、型材料１の片面を１分間ドライエッチングした。このドライエッチングは誘導放電型リアクティブエッチング装置を用いて行い、エッチングガスとしてはＣｌ２  ガスを用いた。また、エッチング条件はコイルバイアス６００Ｗ，基板バイアス３００Ｗ，エッチングガス（Ｃｌ２  ガス）流量２０．０ｓｃｃｍ，圧力５．０ｍＴｏｒｒとした。
【００６７】
上記条件のドライエッチングにより、各レジストパターン３は０．１４μｍ／分のエッチング速度でエッチングされ、その膜厚は１．８６μｍまで減少した（以下、ドライエッチングされた後のレジストパターン３を「レジストパターン４」という。図１（ｃ）参照）。また、レジストパターン３を設けた側の型材料１の表面は、レジストパターン３（レジストパターン４）によって保護されている部分を除いて０．０３μｍ／分のエッチング速度でエッチングされた。その結果として、図１（ｃ）に示すように、ドライエッチングされた後の型材料１（以下、このものを「母材５」という。）の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状で高さが０．０３μｍの凸部６が形成された。これらの凸部６は、後述するアライメントマーク転写部用の成形部として利用されるものであるので、以下、「アライメントマーク転写部用の成形部６」という。
【００６８】
この後、所定の剥離液を用いて上記のレジストパターン４を剥離して、目的とする第１の成形型用の母材５を得た。図２（ａ），図２（ｂ）に示すように、この母材５の片面の四隅それぞれにはアライメントマーク転写部用の成形部６が形成されており、各成形部６の上面（図２中での上面。以下の実施例においても同様。）６ａにおける表面最大粗さは１００オングストロームである。また、これらの成形部６が形成されている側の母材５の表面（成形部６の形成箇所を除く）５ａは実質的に平面となっており、当該表面５ａにおける表面最大粗さは１０００オングストロームである。
【００６９】
次に、上記の母材５においてアライメントマーク転写部用の成形部６が形成されている側の外表面全体に、ＲＦスパッタリング装置を用いてＡｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングストローム（母材５の表面５ａまたは成形部６の上面６ａでの膜厚）の離型膜を成膜した。このとき、雰囲気ガス（Ａｒガス）流量を２０．０ｓｃｃｍとし、雰囲気圧を１．０Ｐａ、ＲＦバイアスを３００Ｗとしてスパッタリングを行った。
【００７０】
上記の離型膜まで成膜することにより、目的とする第１の成形型が得られた。図３（ａ），（ｂ）に示すように、上記第１の成形型１０は、前述した母材５と、この母材５においてアライメントマーク転写部用の成形部６が形成されている側の外表面全体に形成された上記の離型膜７とを具備しており、当該第１の成形型１０においては、前記の離型膜７の表面が転写成形面１０ａとなっている。そして、この転写成形面１０ａ内には、アライメントマーク転写部用の成形部６と離型膜７のうちで当該成形部６の外表面を覆っている部分とによって構成された４つのアライメントマーク転写部８が形成されている。
【００７１】
各アライメントマーク転写部８の上面（図３（ｂ）中での上面。以下の実施例においても同様。）８ａにおける表面最大粗さは１００オングストロームである。また、転写成形面１０ａのうちでアライメントマーク転写部８の形成箇所を除いた部分（周辺部）は実質的に平面となっており、当該部分（周辺部）における表面最大粗さは１０００オングストロームである。
【００７２】
（２）第２の成形型の作製
まず、第２の成形型用の母材として、ＷＣを含有している超硬素材からなる縦２０ｍｍ，横１０ｍｍ，厚さ２．０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングストロームの平板状物を用意した。次に、この母材の片面に、上記第１の成形型を得る場合と同条件のスパッタリング法によってＡｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングストロームの離型膜を成膜した。この離型膜を成膜することにより、目的とする第２の成形型が得られた。
上記第２の成形型においては、母材の片面に設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせることにより、これら２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を得ることができる。
【００７３】
（３）第３の成形型の作製
ＷＣを含有している超硬素材からなるブロックを所定の大きさの筒状物に切削・研磨加工して母材を得た後、この母材の内側表面に、上記第１の成形型を得る場合と同条件のスパッタリング法によってＡｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングストロームの離型膜を成膜して、目的とする第３の成形型を得た。当該第３の成形型は、上記第１の成形型および第２の成形型を所定のクリアランスの下に挿入することができるだけの内寸を有しており、この成形型においては、母材の内側表面に設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型および第２の成形型と上述した第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。
【００７４】
（４）プレス成形
まず、前記（１）で作製した第１の成形型と上記（２）で作製した第２の成形型とによって一組の成形型を構成し、第１の成形型をその転写成形面が下面となるようにしてプレス成形機の上型ホルダーに、また、第２の成形型をその転写成形面が上面となるようにしてプレス成形機の下型ホルダーにそれぞれ固定した。そして、下型（第２の成形型）上に２０．０×１０．０×２．０ｍｍの青板ガラスからなるプリフォームを置き、真空中において上型（第１の成形型）温度６６０℃，下型（第２の成形型）温度６３０℃，プレス圧力１７０ｋｇ／ｃｍ２  ，プレス時間１２０秒の条件でプレス成形を行って、平面視上の形状が２０．５×１０．３ｍｍの矩形である板状の光素子固定用部材を得た。
【００７５】
図４に示すように、上記の光素子固定用部材１５の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状で深さが０．０３μｍの凹部からなるアライメントマーク１６が形成されており、各アライメントマーク１６の底面１６ａにおける表面最大粗さは８０オングストロームである。また、これらのアライメントマーク１６が形成されている側の光素子固定用部材１５の表面（アライメントマーク１６を除く。）１５ａは実質的に平面となっており、当該表面１５ａにおける表面最大粗さは８００オングストロームである。
各アライメントマーク１６の底面１６ａにおける表面最大粗さと、これらのアライメントマーク１６の周辺における表面最大粗さとが異なることから、前記のアライメントマーク１６は容易に視認することができた。
【００７６】
また、前記（１）で作製した第１の成形型と前記（２）で作製した第２の成形型と上記（３）で作製した第３の成形型とによって一組の成形型を構成し、第１の成形型をその転写成形面が下面となるようにしてプレス成形機の上型ホルダーに、また、第２の成形型をその転写成形面が上面となるようにしてプレス成形機の下型ホルダーにそれぞれ固定し、かつ、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同様にしてプレス成形を行ったところ、図４に示した光素子固定用部材１５と同様の光素子固定用部材を得ることができた。
【００７７】
実施例２
（１）方法Ｉによる第１の成形型の作製
まず、ＷＣを含有している超硬素材からなる型材料を用意した。この型材料は縦３０．０ｍｍ，横２０．０ｍｍ，厚さ１．０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングストロームの平板状を呈する。次に、実施例１（１）におけるのと全く同じ要領で、前記の型材料の片面の四隅それぞれに平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状で、膜厚が２．０μｍであるレジストパターンを形成した。
【００７８】
各レジストパターン３を１２０℃で６０分間ポストベークした後、これらのレジストパターン３をマスクとして利用して、型材料の片面を１０分間ドライエッチングした。このドライエッチングは誘導放電型リアクティブエッチング装置を用いて行い、エッチングガスとしてはＡｒガスとＣＦ４  ガスとを用いた。また、エッチング条件はコイルバイアス６００Ｗ，基板バイアス６００Ｗ，Ａｒガス流量２０．０ｓｃｃｍ，ＣＦ４  ガス流量１０．０ｓｃｃｍ，圧力５．０ｍＴｏｒｒとした。
【００７９】
上記条件のドライエッチングにより各レジストパターンは０．０８μｍ／分のエッチング速度でエッチングされ、その膜厚は１．２μｍまで減少した。また、レジストパターンを設けた側の型材料の表面は、レジストパターンによって保護されている部分を除いて０．０３μｍ／分のエッチング速度でエッチングされた。その結果として、ドライエッチングされた後の型材料（以下、このものを「母材」という。）の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状で高さが０．３μｍの凸部が形成された。これらの凸部はアライメントマーク転写部用の成形部として利用されるので、以下、「アライメントマーク転写部用の成形部」という。
【００８０】
この後、所定の剥離液を用いて上記のレジストパターンを剥離して、目的とする第１の成形型用の母材を得た。
次に、上記の母材において前記アライメントマーク転写部用の成形部が形成されている側の外表面全体に、実施例１（１）におけるのと全く同じ要領でＡｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングストロームの離型膜を成膜した。
【００８１】
上記の離型膜まで成膜することにより、目的とする第１の成形型が得られた。当該第１の成形型は、前述した母材と、この母材においてアライメントマーク転写部用の成形部が形成されている側の外表面全体に形成された上記の離型膜とを具備しており、当該第１の成形型においては、前記の離型膜の表面が転写成形面となっている。そして、この転写成形面内には、前記アライメントマーク転写部用の成形部と離型膜のうちで当該成形部の外表面を覆っている部分とによって構成された４つのアライメントマーク転写部が形成されている。
【００８２】
各アライメントマーク転写部の上面における表面最大粗さは１００オングストロームである。また、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部の形成箇所を除いた部分（周辺部）は実質的に平面となっており、当該部分における表面最大粗さは３００オングストロームである。
【００８３】
（２）第２の成形型の作製
第２の成形型用の母材として、ＷＣを含有している超硬素材からなる縦３０ｍｍ，横２０ｍｍ，厚さ１．０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングストロームの平板状物を用いた以外は実施例１（２）におけるのと全く同じ要領で、第２の成形型を得た。当該第２の成形型においても、母材の片面に設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせることにより、これら２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を得ることができる。
【００８４】
（３）第３の成形型の作製
実施例１（３）におけるのと同様にして第３の成形型を得た。当該第３の成形型においても、母材の内側表面に設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型および第２の成形型と上述した第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。
【００８５】
（４）プレス成形
上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形型を構成し、かつ、成形材料として２０．０×１０．０×３．０ｍｍの無アルカリガラス板を用いた以外は実施例１（４）におけるのと全く同じ要領でプレス成形を行って、平面視上の形状が２０．０×１０．０ｍｍの矩形である光素子固定用部材を得た。
【００８６】
上記の光素子固定用部材の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状で深さが０．３μｍの凹部からなるアライメントマークが形成されており、各アライメントマークの底面における表面最大粗さは８０オングストロームである。また、これらのアライメントマークが形成されている側の光素子固定用部材の表面（アライメントマークを除く。）は実質的に平面となっており、当該表面における表面最大粗さは８００オングストロームである。
各アライメントマークの底面における表面最大粗さと、これらのアライメントマークの周辺における表面最大粗さとが異なることから、前記のアライメントマークは容易に視認することができた。
【００８７】
また、上記第１の成形型，第２の成形型および第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマークを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることができた。
【００８８】
実施例３
（１）方法ＩＩによる第１の成形型の作製
まず、ガラス状炭素からなる型材料を用意した。この型材料は縦２０．０ｍｍ，横１０．０ｍｍ，厚さ３．０ｍｍ，表面最大粗さ２００オングストロームの平板状を呈する。次に、この型材料の片面にスピンコート法によってネガ型電子線レジスト（日本ゼオン社製のＺＥＰ７０００）を塗布して、当該型材料の片面に膜厚１．５μｍの樹脂層を形成した。
【００８９】
次いで、電子ビーム（照射量は５５μＣ／ｃｍ２  ）によって前記の樹脂層の平面視上の四隅それぞれに一辺の長さが５０μｍの正三角（各辺の線幅は５．０μｍ）を描画し、電子ビーム描画した後の樹脂層を所定の現像液（日本ゼオン社製のＺＥＰ５００）に９０秒間浸漬することによって現像した。
【００９０】
上記の現像により樹脂層のうちで電子ビーム描画されなかった部分が溶解除去され、電子ビーム描画された部分からなるレジストパターンが型材料の四隅それぞれに形成された。レジストパターンそれぞれの平面視上の形状は、一辺の長さが５０μｍ，線幅が５．０μｍの正三角形枠状であり、その膜厚は１．５μｍである。
【００９１】
各レジストパターンを２００℃で３０分間ポストベークした後、これらのレジストパターンをマスクとして利用して型材料の片面を１０分間ドライエッチングした。このドライエッチングは誘導放電型リアクティブエッチング装置を用いて行い、エッチングガスとしてはＡｒガスを用いた。また、エッチング条件はコイルバイアス６００Ｗ，基板バイアス３００Ｗ，エッチングガス（Ａｒガス）流量２０．０ｓｃｃｍ，圧力５．０ｍＴｏｒｒとした。
【００９２】
上記条件のドライエッチングにより各レジストパターンは０．１１μｍ／分のエッチング速度でエッチングされ、その膜厚は０．４μｍまで減少した。また、レジストパターンを設けた側の型材料の表面は、レジストパターンによって保護されている部分を除いて０．０９μｍ／分のエッチング速度でエッチングされた。その結果として、ドライエッチングされた後の型材料の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が一辺５０μｍ，線幅５．０μｍの正三角形枠状で高さが０．９μｍの凸部からなるアライメントマーク転写部が形成された。
【００９３】
この後、所定の剥離液を用いて上記の樹脂層を剥離して、目的とする第１の成形型を得た。当該第１の成形型は平面視上の形状が２０．０×１０．０ｍｍの矩形である平板状のガラス状炭素からなり、前記のアライメントマーク転写部が形成されている側の外表面全体が転写成形面となっている。
【００９４】
各アライメントマーク転写部の上面における表面最大粗さは２００オングストロームである。また、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部の形成箇所を除いた部分（周辺部）は実質的に平面となっており、当該部分における表面最大粗さは５００オングストロームである。
【００９５】
（２）第２の成形型の作製
ガラス状炭素のブロックを縦２０ｍｍ，横１０ｍｍ，厚さ３．０ｍｍ，表面最大粗さ２００オングストロームの平板状物に切削・研磨して、目的とする第２の成形型を得た。当該第２の成形型においては、一方の主表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせることにより、これら２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を得ることができる。
【００９６】
（３）第３の成形型の作製
ガラス状炭素からなるブロックを所定の大きさの筒状物に切削・研磨加工して、目的とする第３の成形型を得た。当該第３の成形型は、上記第１の成形型および第２の成形型を所定のクリアランスの下に挿入することができるだけの内寸を有しており、この成形型においては内側表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型および第２の成形型と上述した第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。
【００９７】
（４）プレス成形
上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形型を構成し、かつ、プリフォームとして１５．０×１０．０×３．０ｍｍの青板ガラスを用いた以外は実施例１（４）におけるのと全く同じ要領でプレス成形を行って、平面視上の形状が１５．０×１０．０ｍｍの矩形である板状の光素子固定用部材を得た。
【００９８】
上記の光素子固定用部材の片面の四隅それぞれには、平面視上の形状が一辺５０μｍ，線幅５．０μｍの正三角形枠状で深さが０．９μｍの凹部からなるアライメントマークが形成されており、各アライメントマークの底面における表面最大粗さは１８０オングストロームである。また、これらのアライメントマークの周辺が形成されている側の光素子固定用部材の表面（アライメントマークを除く。）は実質的に平面となっており、当該表面における表面最大粗さは４５０オングストロームである。
各アライメントマークの底面における表面最大粗さと、これらのアライメントマークの周辺における表面最大粗さとが異なることから、前記のアライメントマークは容易に視認することができた。
【００９９】
また、上記第１の成形型，第２の成形型および第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマークを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることができた。
【０１００】
実施例４
（１）方法Ｉによる第１の成形型の作製
まず、実施例１で用いた超硬素材と同じ組成の超硬素材からなる型材料を用意した。この型材料は縦２０．０ｍｍ，横１０．０ｍｍ，厚さ２．０ｍｍの平板状を呈する。次に、この型材料の片面における長手方向の一方の縁部を所定の幅および厚みに亘って切削除去して平面を形成した（以下、この平面について後述の研磨を行った後の研磨面を「第１の転写部形成用平面」という。）。また、この型材料の前記の片面における短手方向の両方の縁部（ただし、第１の転写部形成用平面となる平面を除く。）を所定の幅および厚みに亘ってそれぞれ切削除去して平面を形成し（以下、これらの平面について後述の研磨を行った後の研磨面を「第２の転写部形成用平面」と総称する。）、これらの平面を先に切削加工を行って得た平面と共にその表面最大粗さが１００オングストロームとなるように研磨した。第１の転写部形成用平面と第２の転写部形成用平面とは、実質的に１つの平面上に位置している。
【０１０１】
次いで、アライメントマーク転写部用の成形部の数を２とし、かつ、これらの成形部の形成位置が前記第１の転写部形成用平面における２つの隅（これらの隅は、上記２つの転写部形成用平面まで形成した後の型材料の長手方向の一方の端部に位置している。）それぞれの近傍となるようにした以外は実施例１（１）におけるのと全く同じ要領で型材料（上記２つの転写部形成用平面まで形成した後のもの）をドライエッチングして、当該型材料にアライメントマーク転写部用の成形部を形成した。
【０１０２】
次に、上記の型材料において第１の転写部形成用平面（上記の成形部まで形成した後のもの）と第２の転写部形成用平面とによって平面視上囲まれている部分（以下、この部分を「Ｖ溝用凸部形成領域」という。）を研削加工して、当該Ｖ溝用凸部形成領域に短手方向の垂直断面形状が二等辺三角形の凸部を２条形成した。
【０１０３】
上記の凸部は、上記アライメントマーク転写部用の成形部と所定の位置関係になるようにして、かつ、長手方向の一方の端部が型材料における長手方向の一方の端部に達するようにして形成されている。また、これらの凸部は、最終的に得られた第１の成形型を利用して光素子固定用部材を得たときに、当該光素子固定用部材に光ファイバを固定するための深さ１２０μｍのＶ溝（短手方向の垂直断面形状がＶ字状を呈する溝を意味する。以下同じ。）が２本形成されるように設計されている（以下、これらの凸部を「Ｖ溝用凸部」という。）。そして、これら２つのＶ溝用凸部の周辺は平面となっており、当該平面は前記第１の転写部形成用平面および第２の転写部形成用平面とほぼ同じ平面上に位置している。
【０１０４】
前記アライメントマーク転写部用の成形部と上記のＶ溝用凸部とを型材料に形成することにより、目的とする第１の成形型用の母材が得られた。
この後、上記の母材においてアライメントマーク転写部用の成形部およびＶ溝用凸部が形成されている側の外表面全体に、実施例１（１）におけるのと全く同じ要領でＡｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングストロームの離型膜を成膜して、目的とする第１の成形型を得た。
【０１０５】
このようにして得た第１の成形型は、母材と、この母材においてアライメントマーク転写部用の成形部およびＶ溝用凸部が形成されている側の外表面全体に形成された上記の離型膜とを具備しており、当該第１の成形型においては、前記の離型膜の表面が転写成形面となっている。そして、この転写成形面内には、（１）  アライメントマーク転写部用の成形部と、離型膜のうちで当該成形部の外表面を覆っている部分とによって構成された２つのアライメントマーク転写部、および、（２）  Ｖ溝用凸部と、離型膜のうちで当該Ｖ溝用凸部の外表面を覆っている部分とによって構成された２つのＶ溝用転写部が形成されている。
【０１０６】
各アライメントマーク転写部の上面における表面最大粗さは１００オングストロームである。また、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部それぞれの形成箇所を除いた部分は実質的に平面となっており、アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面最大粗さは１０００オングストロームである。
【０１０７】
（２）第２の成形型の作製
実施例１（２）におけるのと全く同じ要領で、第２の成形型を得た。
前述した第１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせることにより、これら２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を得ることができる。
【０１０８】
（３）第３の成形型の作製
実施例１（３）におけるのと同様にして第３の成形型を得た。当該第３の成形型においても、母材の内側表面に設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型および第２の成形型と上述した第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。
【０１０９】
（４）プレス成形
上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形型を構成した以外は実施例１（４）におけるのと全く同じ要領でプレス成形を行って、平面視上の形状が矩形である光素子固定用部材を得た。
【０１１０】
図５に示すように、上記の光素子固定用部材２０の片面には、その長手方向の一方の端部における２つの隅それぞれの近傍にアライメントマーク２１ａ，２１ｂが形成されており、これらのアライメントマーク２１ａ，２１ｂは、第１の成形型に形成されているアライメントマーク転写部によって形成された凹部からなっている。また、当該光素子固定用部材２０における前記の片面には、第１の成形型に形成されているＶ溝用転写部によって形成され２本のＶ溝２２ａ，２２ｂも形成されている。これらのＶ溝２２ａ，２２ｂは、当該光素子固定用部材２０に光ファイバを固定するためのものである。そして、アライメントマーク２１ａ，２１ｂおよびＶ溝２２ａ，２２ｂが形成されている側の光素子固定用部材２０の表面は、各アライメントマーク２１ａ，２１ｂおよび各Ｖ溝２２ａ，２２ｂそれぞれの形成箇所を除いて実質的に平面となっている。
【０１１１】
アライメントマーク２１ａとＶ溝２２ａとは、アライメントマーク２３ａを有している所定の光素子２３（フォトダイオードやレーザダイオード等；図５参照）を当該光素子２３に形成されている前記のアライメントマーク２３ａと光素子固定用部材２０に形成されているアライメントマーク２１ａとを利用して光素子固定用部材２０上に固定し、かつ、Ｖ溝２２ａに光ファイバを固定したときに、光素子２３と前記の光ファイバとが光接続するように形成されている。
【０１１２】
また、アライメントマーク２１ｂとＶ溝２２ｂとは、アライメントマーク２４ａを有している所定の光素子２４（フォトダイオードやレーザダイオード等；図５参照）を当該光素子２４に形成されている前記のアライメントマーク２４ａと光素子固定用部材２０に形成されているアライメントマーク２１ｂとを利用して光素子固定用部材２０上に固定し、かつ、Ｖ溝２２ｂに光ファイバを固定したときに、光素子２４と前記の光ファイバとが光接続するように形成されている。
【０１１３】
そして、各アライメントマーク２１ａ，２１ｂの底面における表面最大粗さが８０オングストロームで、これらのアライメントマーク２１ａ，２１ｂの周辺における表面最大粗さが８００オングストロームであることから、前記の各アライメントマーク２１ａ，２１ｂは容易に視認することができた。
【０１１４】
また、上記第１の成形型，第２の成形型および第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマークを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることができた。
【０１１５】
実施例５
（１）方法Ｉによる第１の成形型の作製
まず、ＳｉＣからなる型材料を用意した。この型材料は直径５０．０ｍｍ，厚さ３．０ｍｍの円板状を呈する。次いで、この型材料の片面の所定箇所にＶ溝用凸部形成領域を設定し、当該Ｖ溝用凸部形成領域以外の部分を所定の厚みに亘って切削除去して平面を形成した後、この平面をその表面最大粗さが１００オングストロームとなるように研磨した（以下、研磨後の面を「転写部形成用平面」という。）。なお、上記のＶ溝用凸部形成領域の大きさは、実施例４（１）におけるＶ溝用凸部形成領域と同じ大きさである。
【０１１６】
次に、上記の転写部形成用平面にスピンコート法によってネガ型電子線レジスト（日本ゼオン社製のＺＥＰ７０００）を塗布して、当該型材料の片面に膜厚１．５μｍの樹脂層を形成した。そして、電子ビーム（照射量は５５μＣ／ｃｍ２  ）によって前記の樹脂層の所定位置（計２箇所）に所定の大きさの十文字を描画し、電子ビーム描画した後の樹脂層を所定の現像液（日本ゼオン社製のＺＥＰ５００）に９０秒間浸漬することによって現像した。
【０１１７】
上記の現像により樹脂層のうちで電子ビーム描画されなかった部分が溶解除去され、電子ビーム描画された部分からなるレジストパターンが所定の２箇所にそれぞれ形成された。レジストパターンそれぞれの平面視上の形状は、全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状であり、その膜厚は１．５μｍである。
【０１１８】
各レジストパターンを２００℃で３０分間ポストベークした後、これらのレジストパターンをマスクとして利用して、型材料の片面を１０分間ドライエッチングした。このドライエッチングは誘導放電型リアクティブエッチング装置を用いて行い、エッチングガスとしてはＣＦ４  ガスを用いた。また、エッチング条件は、コイルバイアス３００Ｗ，基板バイアス３００Ｗ，エッチングガス（ＣＦ４  ガス）流量３０．０ｓｃｃｍ，圧力１０．０ｍＴｏｒｒとした。
【０１１９】
上記条件のドライエッチングにより、各レジストパターンは０．０７μｍ／分のエッチング速度でエッチングされた。また、レジストパターンを設けた側の型材料の表面は、レジストパターンによって保護されている部分を除いて０．０７μｍ／分のエッチング速度でエッチングされた。その結果として、ドライエッチングされた後の型材料の片面の所定箇所（計２箇所）には、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍの十文字状で高さが０．７μｍの凸部からなるアライメントマーク転写部用の成形部がそれぞれ形成された。
【０１２０】
この後、実施例４（１）におけるのと同じ要領でＶ溝用凸部形成領域を研削加工して２条のＶ溝用凸部を形成し、これによって目的とする第１の成形型用の母材を得た。そして、この母材の片面（アライメントマーク転写部用の成形部およびＶ溝用凸部が形成されている側の面）に実施例４（１）におけるのと同じ要領でＡｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングストロームの離型膜を成膜して、目的とする第１の成形型を得た。
【０１２１】
このようにして得た第１の成形型は、実施例４（１）で得た第１の成形型と同様に、母材と、この母材においてアライメントマーク転写部用の成形部およびＶ溝用凸部が形成されている側の外表面全体に形成された上記の離型膜とを具備しており、当該第１の成形型においては、前記の離型膜の表面が転写成形面となっている。そして、この転写成形面内には、（１）  アライメントマーク転写部用の成形部と離型膜のうちで当該成形部の外表面を覆っている部分とによって構成された２つのアライメントマーク転写部、および、（２）  Ｖ溝用凸部と離型膜のうちで当該Ｖ溝用凸部の外表面を覆っている部分とによって構成された２つのＶ溝用転写部が形成されている。
【０１２２】
各アライメントマーク転写部と各Ｖ溝用転写部とは実施例４（１）で得た第１の成形型におけるのと全く同じ位置関係で形成されており、各アライメントマーク転写部の上面における表面最大粗さは１００オングストロームである。また、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部それぞれの形成箇所を除いた部分は実質的に平面となっており、アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面最大粗さは１０００オングストロームである。
【０１２３】
（２）第２の成形型の作製
第２の成形型用の母材としてＳｉＣからなる直径５０．０ｍｍ，厚さ３．０ｍｍ，表面最大粗さ１００オングストロームの円板状物を用いた以外は実施例４（２）におけるのと全く同じ要領で、第２の成形型を得た。
前述した第１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせることにより、これら２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を得ることができる。
【０１２４】
（３）第３の成形型の作製
ＳｉＣからなるブロックを用いた以外は実施例１（３）におけるのと同様にして第３の成形型を得た。当該第３の成形型においても、母材の内側表面に設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型および第２の成形型と上述した第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。
【０１２５】
（４）プレス成形
上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形型を構成した以外は実施例４（４）におけるのと全く同じ要領でプレス成形を行って、実施例４（４）で得た光素子固定用部材と同じ形状および大きさを有する光素子固定用部材を得た。なお、プレス成形にあたっては、目的とする形状の光素子固定用部材が得られるようにしてプリフォームを配置した。
【０１２６】
このようにして得られた光素子固定用部材においては、各アライメントマークの底面における表面最大粗さが８０オングストロームで、アライメントマークの周辺における表面最大粗さが８００オングストロームであることから、前記の各アライメントマークを容易に視認することができた。
【０１２７】
また、上記第１の成形型，第２の成形型および第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマークを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることができた。
【０１２８】
実施例６
（１）方法Ｉによる第１の成形型の作製
まず、アライメントマーク転写部の平面視上の形状および形成位置を変えた以外は実施例２（１）におけるのと全く同じ要領で、成形型を得た。この成形型には、平面視上の形状が全長１０μｍ，全幅１０μｍ，線幅３．０μｍのＬ字状である計８つのアライメントマーク転写部が形成されている。これら８つのアライメントマーク転写部のうちの４つは、所定の大きさを有している第１の矩形の４つの角部のいずれかに重なるように形成されており、当該４つのアライメントマーク転写部は第１のアライメントマーク転写部群を形成している。また、残りの４つのアライメントマーク転写部は、前記第１の矩形と同じ大きさで当該第１の矩形から所定の間隔をあけて成形型の幅方向に整列している第２の矩形の４つの角部のいずれかに重なるように形成されており、当該４つのアライメントマーク転写部は第２のアライメントマーク転写部群を形成している。
【０１２９】
第１のアライメントマーク転写部群および第２のアライメントマーク転写部群を構成している各アライメントマーク転写部の上面における表面最大粗さは１００オングストロームである。また、上記の成形型における転写成形面のうちで前記のアライメントマーク転写部それぞれの形成箇所を除いた部分（周辺部）は実質的に平面となっており、当該部分（周辺部）における表面最大粗さは１０００オングストロームである。この成形型は、次に説明する成形型と一体化されて第１の成形型を形成するものであるので、以下、「第１ａの成形型」という。
【０１３０】
上記第１ａの成形型の型材料と同じ組成の超硬素材からなり、平面視上の形状が矩形である平板状物を型材料として用い、この型材料の片面における短手方向の両方の縁部を所定の幅および厚みに亘ってそれぞれ切削除去して平面（計２つ）を形成した後、これらの平面をその表面最大粗さが１００オングストロームとなるように研磨した（以下、研磨後のこれらの面を「転写部形成用平面」と総称する。）。
【０１３１】
次いで、アライメントマーク転写部用の成形部の数を２とし、かつ、これらの成形部の形成位置が上記の転写部形成用平面における所定箇所となるようにした以外は実施例１（１）におけるのと全く同じ要領で型材料（転写部形成用平面まで形成した後のもの）をドライエッチングして、当該型材料にアライメントマーク転写部用の成形部を形成した。
【０１３２】
次に、型材料において上記２つの転写部形成用平面によって平面視上挟まれている部分を実施例４（１）におけるのと同様にして研削加工して、当該部分にＶ溝用凸部を２条形成し、これにより目的とする成形型（以下、「第１ｂの成形型」という。）用の母材を得た。上記のＶ溝用凸部は、この母材に形成されている前記アライメントマーク転写部用の成形部と所定の位置関係になるようにして、かつ、母材の長手方向の一方の端部から他方の端部に達するようにして形成されている。また、これらのＶ溝用凸部は、最終的に得られた第１の成形型を利用して光素子固定用部材を得たときに、当該光素子固定用部材に光ファイバを固定するための深さ１２０μｍのＶ溝が２本形成されるように設計されている。
【０１３３】
次いで、上記の母材においてアライメントマーク転写部用の成形部およびＶ溝用凸部が形成されている側の外表面全体に、実施例１（１）におけるのと全く同じ要領でＡｕ，Ｐｔ，ＰｄおよびＲｈからなる膜厚１５００オングストロームの離型膜を成膜して、目的とする第１ｂの成形型を得た。当該第１ｂの成形型の転写成形面内には、アライメントマーク転写部とＶ溝用転写部とが形成されており、各アライメントマーク転写部の上面における表面最大粗さは１００オングストロームである。また、第１ｂの成形型における転写成形面のうちで前記のアライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部それぞれの形成箇所を除いた部分は実質的に平面となっており、アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面最大粗さは１０００オングストロームである。
【０１３４】
この後、前述した第１ａの成形型と上述した第１ｂの成形型とを、それぞれの成形型に形成されている転写成形面が同一方向を向くようにして固定枠によって一体化して、目的とする第１の成形型を得た。当該第１の成形型においては、第１ａの成形型における転写成形面（ただし、アライメントマーク転写部を除く。）の方が第１ｂの成形型における転写成形面（ただし、アライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部を除く。）よりも突出しており、かつ、第１ｂの成形型に形成されているアライメントマーク転写部は当該第１の成形型の長手方向の一方の端部側に位置している。第１の成形型は、平面視上、矩形を呈する。
【０１３５】
（２）第２の成形型の作製
ＷＣを含有している超硬素材からなり、平面視上の形状が所定の大きさの矩形である平板状物を第２の成形型用の母材として用いて、実施例１（２）におけるのと全く同じ要領で第２の成形型を得た。
前述した第１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせることにより、これら２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を得ることができる。
【０１３６】
（３）第３の成形型の作製
実施例１（３）におけるのと同様にして第３の成形型を得た。当該第３の成形型においても、母材の内側表面に設けられている離型膜の表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型および第２の成形型と上述した第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。
【０１３７】
（４）プレス成形
上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形型を構成し、かつ、平面視上の形状が所定の大きさの矩形である無アルカリガラス板をプリフォームとして用いた以外は実施例１（４）におけるのと全く同じ要領でプレス成形を行って、平面視上の形状が矩形である光素子固定用部材を得た。
【０１３８】
図６に示すように、上記の光素子固定用部材３０は、第１ａの成形型によって形成された台座部３１と、第１ｂの成形型によって形成された光ファイバ係合部３２とを有している。台座部３１は光ファイバ係合部より一段低くなっている。当該台座部３１の上面における平面視上のほぼ中央には、第１ａの成形型に形成されている第１のアライメントマーク転写部群によって形成された凹部からなる４つのアライメントマーク３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄと、第１ａの成形型に形成されている第２のアライメントマーク転写部群によって形成された凹部からなる４つのアライメントマーク３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄとが形成されており、これらのアライメントマークの周辺は実質的に平面となっている。
【０１３９】
一方、光ファイバ係合部３２には、第１ｂの成形型に形成されているＶ溝用転写部によって形成された２本のＶ溝３４ａ，３４ｂと、第１ｂの成形型に形成されているアライメントマーク転写部によって形成され凹部からなる２つのアライメントマーク３５ａ，３５ｂとが形成されている。前記のＶ溝３４ａ，３４ｂはそれぞれ光ファイバを固定するためのものであり、各Ｖ溝３４ａ，３４ｂの深さは１２０μｍである。また、各アライメントマーク３５ａ，３５ｂは光素子固定用部材３０の長手方向における一方の端部に形成されている。そして、Ｖ溝３４ａ，３４ｂおよびアライメントマーク３５ａ，３５ｂが形成されている側の光ファイバ係合部３２の表面は、各Ｖ溝３４ａ，３４ｂおよび各アライメントマーク３５ａ，３５ｂを除いて実質的に平面となっている。
【０１４０】
アライメントマーク３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄ（以下、これらのアライメントマークを「第１のアライメントマーク群」ということがある。）とＶ溝３４ａとは、平面視上の形状が所定の大きさの矩形である光素子３６（フォトダイオードやレーザダイオード等；図６参照）の位置決めを前記第１のアライメントマーク群を利用して行って当該光学素子３６を光素子固定用部材３０上に固定し、かつ、Ｖ溝３４ａに光ファイバを固定したときに、光素子３６と前記の光ファイバとが光接続するように形成されている。
【０１４１】
また、アライメントマーク３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ（以下、これらのアライメントマークを「第２のアライメントマーク群」ということがある。）とＶ溝３４ｂとは、平面視上の形状が所定の大きさの矩形である光素子３７（フォトダイオードやレーザダイオード等；図６参照）の位置決めを前記第２のアライメントマーク群を利用して行って当該光学素子３６を光素子固定用部材３０上に固定し、かつ、Ｖ溝３４ｂに光ファイバを固定したときに、光素子３７と前記の光ファイバとが光接続するように形成されている。
【０１４２】
そして、第１のアライメントマーク群を構成している各アライメントマーク３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの底面における表面最大粗さが８０オングストロームで、第２のアライメントマーク群を構成している各アライメントマーク３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄの底面における表面最大粗さも８０オングストロームで、かつ、これらのアライメントマークの周辺部（ただし、台座部３１の表面。）における表面最大粗さが８００オングストロームであることから、各アライメントマーク３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄ，３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄは容易に視認することができた。同様に、アライメントマーク３５ａ，３５ｂの底面における表面最大粗さが８０オングストロームで、これらのアライメントマークの周辺（ただし、光ファイバ係合部３２の表面。）における表面最大粗さが８００オングストロームであることから、これらのアライメントマーク３５ａ，３５ｂも容易に視認することができた。
【０１４３】
また、上記第１の成形型，第２の成形型および第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマークを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることができた。
【０１４４】
実施例７
（１）方法ＩＩによる第１の成形型の作製
まず、縦２０．０ｍｍ，横１０．０ｍｍ，厚さ３．０ｍｍ，表面最大粗さ２００オングストロームのガラス状炭素からなる平板状物を型材料として用い、この型材料の片面に実施例４（１）におけるのと全く同じ要領で第１の転写部形成用平面および第２の転写部形成用平面を形成した。
【０１４５】
次に、アライメントマーク転写部の数を２とすると共にその平面視上の形状を十文字状とし、かつ、これらのアライメントマーク転写部の形成位置が前記第１の転写部形成用平面における２つの隅（これらの隅は、上記２つの転写部形成用平面まで形成した後の型材料の長手方向の一方の端部に位置している。）それぞれの近傍となるようにした以外は実施例３（１）におけるのと全く同じ要領で型材料（上記２つの転写部形成用平面まで形成した後のもの）をドライエッチングして、当該型材料にアライメントマーク転写部を形成した。
【０１４６】
また、上記第２の転写部形成用平面を実施例４（１）と同じ要領で研削加工して、短手方向の垂直断面形状が二等辺三角形の凸部からなるＶ溝用転写部を２条形成した。
上記のアライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部を形成することにより、目的とする第１の成形型が得られた。
【０１４７】
当該第１の成形型は平面視上の形状が２０．０×１０．０ｍｍの矩形である平板状のガラス状炭素からなり、前記のアライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部が形成されている側の外表面全体が転写成形面となっている。上記のＶ溝用転写部は、上記のアライメントマーク転写部と所定の位置関係になるようにして、かつ、長手方向の一方の端部が第１の成形型における長手方向の一方の端部に達するようにして形成されている。また、これらのＶ溝用転写部は、成形型を利用して光素子固定用部材を得たときに当該光素子固定用部材に光ファイバを固定するための深さ１２０μｍのＶ溝が２本形成されるように設計されている。
【０１４８】
各アライメントマーク転写部の上面における表面最大粗さは１００オングストロームである。また、転写成形面のうちでアライメントマーク転写部およびＶ溝用転写部それぞれの形成箇所を除いた部分は実質的に平面となっており、アライメントマーク転写部の周辺の転写成形面における表面最大粗さは１０００オングストロームである。
【０１４９】
（２）第２の成形型の作製
実施例３（２）におけるのと同じ要領で第２の成形型を得た。
前述した第１の成形型と上述した第２の成形型とを組み合わせることにより、これら２つの成形型からなるサイドフリー型の成形型を得ることができる。
【０１５０】
（３）第３の成形型の作製
実施例３（３）におけるのと同様にして第３の成形型を得た。当該第３の成形型においては内側表面が転写成形面として機能する。
前述した第１の成形型および第２の成形型と上述した第３の成形型とを組み合わせることにより、上型（第１の成形型または第２の成形型），下型（第２の成形型または第１の成形型）および胴型（第３の成形型）の３つの成形型からなる一組の成形型を得ることができる。
【０１５１】
（４）プレス成形
上記第１の成形型と第２の成形型とによって一組の成形型を構成した以外は実施例３（４）におけるのと同じ要領でプレス成形を行って、実施例４（４）で得た光素子固定用部材とほぼ同じ形状を有する光素子固定用部材を得た。
このようにして得られた光素子固定用部材においては、各アライメントマークの底面における表面最大粗さが８０オングストロームで、これらのアライメントマークの周辺における表面最大粗さが８００オングストロームであることから、前記の各アライメントマークを容易に視認することができた。
【０１５２】
また、上記第１の成形型，第２の成形型および第３の成形型によって一組の成形型を構成し、第１の成形型を上型として用い、第２の成形型を下型として用い、第３の成形型を胴型として用いた以外は上記と同様にしてプレス成形を行ったところ、アライメントマークを有する上記と同様の光素子固定用部材を得ることができた。
【０１５３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の成形型を用いれば所望箇所にアライメントマークを有する光素子固定用部材をプレス成形によって得ることができる。
したがって、本発明によれば固定ないし実装しようとする光素子同士の光接続、または、光素子を固定ないし実装した後の光素子固定用部材間での光素子同士の光接続を短時間で行うことができる光素子固定用部材を大量に、かつ、安価に提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は実施例１において第１の成形型用の型材料にアライメントマーク転写部用の成形部を形成する過程の概略を示す断面図であり、図１（ａ）はドライエッチング用のレジストパターンの材料となるレジスト膜を形成した後の型材料の概略を示す断面図、図１（ｂ）はレジストパターンを形成した後の型材料の概略を示す断面図、図１（ｃ）はアライメントマーク転写部用の成形部を形成した後の型材料の概略を示す断面図である。
【図２】図２（ａ）は実施例１で作製した第１の成形型用の母材を当該母材においてアライメントマーク転写部用の成形部が形成されている側からみたときの概略を示す平面図であり、図２（ｂ）は前記の母材の概略を示す断面図である。
【図３】図３（ａ）は実施例１で作製した第１の成形型を当該第１の成形型においてアライメントマーク転写部が形成されている側からみたときの概略を示す平面図であり、図２（ｂ）は前記第１の成形型の概略を示す断面図である。
【図４】図４は実施例１で作製した光素子固定用部材を当該光素子固定用部材においてアライメントマークが形成されている側からみたときの概略を示す平面図である。
【図５】図５は実施例４で作製した光素子固定用部材を当該光素子固定用部材においてアライメントマークが形成されている側からみたときの概略を示す平面図である。
【図６】図６は実施例６で作製した光素子固定用部材の概略を示す斜視図である。
【符号の説明】
１…型材料、  ５…母材、  ６…アライメントマーク転写部用の成形部、  ７…離型膜、  ８…アライメントマーク転写部、  １０ａ…転写成形面、  １０…第１の成形型、  １５，２０，３０…光素子固定用部材、  １６，２１ａ，２１ｂ，３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄ，３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ，３５ａ，３５ｂ…アライメントマーク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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