(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、環状塗布装置の環中を下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗布手段に円筒状基材を供給するための供給手段、前記円筒状基材を把持し段差を修正して積み重ねた状態で搬送する段差修正搬送手段、及び、塗布された後の円筒状基材を分離して取り出す分離排出手段を具備する連続塗布装置において、
前記円筒状基材の非画像部相当部分に塗布液が当接した時、前記供給手段、段差修正搬送手段及び分離排出手段が前記非画像部相当部分内で時間差作動することを特徴とする連続塗布装置。
【請求項２】
前記塗布手段がスライドホッパー型塗布装置であることを特徴とする請求項１に記載の連続塗布装置。
【請求項３】
円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、環状塗布装置の環中を下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗布手段に円筒状基材を供給するための供給手段、前記円筒状基材を把持し段差を修正して積み重ねた状態で搬送する段差修正搬送手段、及び、塗布された後の円筒状基材を分離して取り出す分離排出手段を有する塗布装置で円筒状基材を塗布する連続塗布方法において、
前記円筒状基材の非画像部相当部分に塗布液が当接した時、前記供給手段、段差修正搬送手段及び分離排出手段が前記非画像部部分内で時間差作動することを特徴とする連続塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、複数の円筒状基材外周面上に塗布液を連続的に塗布する垂直塗布装置及び方法に関し、特に、該円筒状基材を供給、搬送、位置決め、塗布、乾燥、搬出する連続塗布装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してスプレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布法等の種々の方法が検討されている。特に電子写真感光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産性の優れた塗布装置を開発すべく検討されている。しかしながら、従来のエンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材への塗布装置及び塗布方法においては、均一な塗膜が得られなかったり、生産性が悪い等の短所があった。
【０００３】
スプレー塗布法では、スプレーガンより噴出した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有する円筒状基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するために塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それにともない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したとき、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表面の平滑性の良いものがえられない。また、該連続面を有する円筒状基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロスがあったり、部分的にも不均一であるため、膜厚コントロールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引きを起こす事があるため、使用する溶媒及び樹脂に制限がある。
【０００４】
ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し、該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回転させたのち、ブレード若しくはロールを後退させるものである。しかしながらブレード若しくはロールを後退させる際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点がある。
【０００５】
浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
【０００６】
しかし、塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、塗布液物性の調整が非常に重要となる。また塗布速度も低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液量が必要である。さらに重層する場合、下層成分が溶け出し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００７】
そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に記載の如く円形量規制型塗布装置（この中にはスライドホッパー型塗布装置が含まれる）が開発された。このスライドホッパー型塗布装置はエンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、さらにこの塗布装置は環状の塗布液溜まり室と、この塗布液溜まり室内の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口と、前記塗布液溜まり室の内方に開口する塗布液分配スリットとを有し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に傾斜する塗布液スライド面上に流下させ、塗布液スライド面の下端のホッパー塗布面と円筒状基材との僅かな間隙部分にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外周面に塗布するものである。このスライドホッパー型塗布装置を用いることにより、少ない液量で塗布でき、塗布液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制御の容易な塗布が可能となった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記スライドホッパー型塗布装置を用いてもなお諸問題があり未だ満足のいくものではない。
【０００９】
本発明は従来の諸問題を解決するために提案されたものであり、その目的とするところのものは、
（イ）使用塗布液によるビード切れ発生を防止する。
【００１０】
（ロ）塗布ムラや膜厚変動等の塗膜欠陥がなく、塗布性を向上する。
【００１１】
（ハ）円筒状基材の把持搬送性能を向上し、長期の安定塗布を可能にする。
【００１２】
（ニ）円筒状基材の把持搬送性能を安定化し、円筒状基材の変形、損傷を防止する。
【００１３】
（ホ）円筒状基材を供給、搬送、位置決め、塗布、乾燥、搬出する生産工程を連続安定生産にすることにより、生産性が向上する。
【００１４】
（ヘ）上記工程を連続且つ完全自動化することにより、ゴミやほこり等の異物混入を防止し、高品質な製品を得る。
【００１５】
（ト）円筒状基材に振動が発生しても、完成された感光体ドラム上の画像形成に影響を与えないような連続塗布装置を達成する。
【００１６】
（チ）円筒状基材に振動が発生しても、振動が同じ位置に集中しないで分散させることにより、重畳されて大きな振動となることを防止する。
【００１７】
等の効果が達成される優れた連続塗布装置及び連続塗布方法を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
（１）  本発明の目的は、円筒状基材の筒軸を合わせて積み重ね、環状塗布装置の環中を下から上へ垂直に押し上げながら前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、前記塗布手段に円筒状基材を供給するための供給手段、前記円筒状基材を把持し段差を修正して積み重ねた状態で搬送する段差修正搬送手段、及び、塗布された後の円筒状基材を分離して取り出す分離排出手段を具備する連続塗布装置において、前記円筒状基材の非画像部相当部分に塗布液が当接した時、前記供給手段、段差修正搬送手段及び分離排出手段が前記非画像部相当部分内で時間差作動することを特徴とする連続塗布装置及び連続塗布方法により達成される（請求項１，３の発明）。
【００２２】
【実施例】
以下、図面を用いて本発明の一実施例を説明する。図１は本発明による連続塗布装置の全体構成を示す斜視図である。図において、１０は円筒状基材１を塗布手段の垂直下方の所定位置に供給して上方に押し上げる供給手段、２０は供給された円筒状基材１の外周面を把持して筒軸を合わせて積み重ね下から上へ垂直に押し上げて搬送する搬送手段、３０は前記円筒状基材１を塗布装置の環状塗布部の中心に位置合わせする位置決め手段、４０は前記円筒状基材の外周面上に塗布液を連続的に塗布する塗布手段、５０は円筒状基材１上に塗布された塗布液を乾燥させる乾燥手段、６０は乾燥されて垂直搬送されてきた積み重ね状の複数の円筒状基材からを分離させて１個ずつ取り出し排出させる分離排出手段である。
【００２３】
本発明の連続塗布装置は、上記の各手段を連続して垂直中心線ＺＺ上に配置した構成であり、人手を要しない完全自動化生産が高精度で達成される。即ち、前記供給手段１０は前記円筒状基材１を載置するための複数の取り付け手段１１を備えた可動テーブル１２は、該可動テーブル１２を回転させて前記搬送手段２０へつながる垂直ラインへ送り込む駆動手段１３、前記搬送手段２０により既に上方に把持搬送されている円筒状基材１を積み重なるように上方に押し上げる昇降手段１４、該昇降手段１４の上端に設けられた円筒状基材供給用のハンド手段１５及び前記駆動手段１３による回転や昇降手段１４による押し上げのタイミングを制御する図示しない制御手段等から構成されている。なお、前記可動テーブル１２上への円筒状基材１の供給は、ロボットハンドルにより行われる。
【００２４】
前記供給手段１０の上方に設けられた搬送手段２０は、円筒状基材１の外周面に圧接離間可能で且つ垂直上下方向に移動可能な２組の把持手段２１，２２を有し、円筒状基材１を位置決めして把持し上方に搬送する機能を有する。以下、上記各手段２０，３０，４０，５０，６０の詳細は後述する。
【００２５】
図２は本発明による連続塗布装置の他の実施例を示す斜視図である。この実施例では、前記搬送手段２０の上方の垂直中心線ＺＺ上に、位置決め手段２０、塗布手段３０、乾燥手段４０から成るユニットＡ，Ｂ，Ｃを複数組縦列配置したものである。最上段には前記分離排出手段６０が配置されている。各塗布手段４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃからそれぞれ吐出された塗布液は、円筒状基材１上に多層の塗布層を逐次形成する。
【００２６】
図３は前記搬送手段２０の正面図である。互いに相対向する一組の搬送装置本体２３Ａ，２３Ｂの内側には、それぞれ垂直上下方向に支持されたボールねじ２４Ａ，２４Ｂが設けられている。該各ボールねじ２４Ａ，２４Ｂはそれぞれ駆動用モータ２５Ａ，２５Ｂにより正逆回転される。各ボールねじ２４Ａ，２４Ｂにそれぞれ螺合する昇降部材２６Ａ，２６Ｂは、ボールねじ２４Ａ，２４Ｂの正逆回転により直進昇降する。該昇降部材２６Ａ，２６Ｂにはそれぞれアーム部材２７Ａ，２７Ｂが固定され、その各先端部にはそれぞれ前記把持手段２１，２２が取り付けられた構成になっている。
【００２７】
前記搬送装置本体２３Ａ，２３Ｂの間には、前記昇降手段１４が設置され、該昇降手段１４の上端には、円筒状基材供給用のハンド手段１５が取り付けられている。該ハンド手段１５の上側には順に円筒状基材１Ｄ，１Ｃ，１Ｂ，１Ａが積載されている。最上段の円筒状基材１Ａは前記分離排出手段６０の排出用ハンド６１により分離して取り出される。
【００２８】
前記塗布手段４０は位置決め手段３０の上に固定されており、位置決め手段３０は図示省略した保持手段により保持されている。位置決め手段３０は円筒状基材１を所定の位置に正確に保持する装置であり、例えばエアーベアリング等により非接触保持される。塗布手段４０は円筒状基材１（１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ）の外周面上に塗布液を均一に塗布するものであり、円筒状基材１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄが前記搬送手段２０により把持搬送されるに従って、円筒状基材１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ上に順次塗膜が形成される。
【００２９】
図４は前記把持手段２１，２２の斜視図である。上段側の把持手段２１は、２個の可動把手２１１，２１２と、該可動把手２１１，２１２の各揺動中心穴に嵌合して揺動可能に保持する支軸２１３と、該可動把手２１１，２１２の各先端部に形成されたＶ字形状のハンド部２１４，２１５の内側にそれぞれ固定された把持子２１６とから構成されている。前記可動把手２１１，２１２を図示しないピストンシリンダー等の駆動手段により開閉することにより、前記把持子２１６は円筒状基材の外周面に接離する。図示の把持子２１６は４箇所または３箇所で円筒状基材１に圧接する。
【００３０】
下段側の把持手段２２も、上記上段側の把持手段２１と同様の構成をなし、２２１，２２２は可動把手、２２３は支軸、２２４，２２５はハンド部、２２６は把持子である。なお、上段側の把持手段２１は、円筒状基材１Ｂ，１Ｃの接続位置の各外周面を把持した状態を示し、下段側の把持手段２２は円筒状基材１Ｃ，１Ｄの接続位置の各外周面から離間した状態を示す。
【００３１】
図５は把持手段２１の他の実施例を示す斜視図である。図５（ａ）は、Ｖ字形状のハンド部２８１，２８２の内側にそれぞれ固定された把持子２８０を有し、該ハンド部２８１，２８２をそれぞれ前進、後退させることにより、円筒状基材１を４点支持で圧接把持または離間する。図５（ｂ）は、切り欠き円筒形状のハンド部２８３，２８４の内側にそれぞれ固定された把持子２８０を有し、該ハンド部２８３，２８４を前進、後退させることにより、円筒状基材１を円筒状外周面支持で圧接把持または離間する。図５（ｃ）は、前記Ｖ字形状のハンド部２８１と平面状のハンド部２８５の内側にそれぞれ固定された把持子２８０を有し、該ハンド部２８１，２８５をそれぞれ前進、後退させることにより、円筒状基材１を３点支持で圧接把持または離間する。
【００３２】
図６は、位置決め手段３０と垂直型塗布手段４０とを示す断面図、図７は塗布手段４０の斜視図である。
【００３３】
図６に示されるように中心線Ｚ−Ｚに沿って垂直状に重ね合わせた複数の円筒状基材１Ａ，１Ｂ（以下、円筒状基材１と称す）を連続的に矢示方向に上昇移動させ、その周囲を取り囲み、円筒状基材１の外周面に対しスライドホッパー型塗布装置１０の塗布に直接係わる部分（ホッパー塗布面）４１により塗布液（感光液）Ｌが塗布される。なお、円筒状基材１としては中空ドラム例えばアルミニウムドラム、プラスチックドラムのほかシームレスベルト型の基材でも良い。前記ホッパー塗布面４１には、円筒状基材１側に開口する塗布液流出口４２を有する幅狭の塗布液分配スリット（スリットと略称する）４３が水平方向に形成されている。このスリット４３は環状の塗布液分配室（塗布液溜り室）４４に連通し、この環状の塗布液分配室４４には貯留タンク２内の塗布液Ｌを圧送ポンプ３により供給管４を介して供給するようになっている。他方、スリット４３の塗布液流出口４２の下側には、連続して下方に傾斜し、円筒状基材１の外径寸法よりやや大なる寸法で終端をなすように形成された塗布液スライド面（以下、スライド面と称す）４５が形成されている。さらに、このスライド面４５終端より下方に延びる唇状部４６が形成されている。かかる塗布手段（スライドホッパー型塗布装置）４０による塗布においては、円筒状基材１を引き上げる過程で、塗布液Ｌをスリット４３から押し出し、スライド面４５に沿って流下させると、スライド面４５の終端に至った塗布液は、そのスライド面４５の終端と円筒状基材１の外周面との間にビードを形成した後、円筒状基材１の表面に塗布される。スライド面４５の終端と円筒状基材１は、ある間隙を持って配置されているため円筒状基材１を傷つける事なく、また性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既に塗布された層を損傷することなく塗布できる。
【００３４】
一方、前記圧送ポンプ３の塗布液供給部より最も遠い位置で、前記塗布液分配室４４の一部には、塗布液分配室４４内の泡抜き用の空気抜き部材４６が設けられている。貯留タンク２内の塗布液Ｌが塗布液分配室４４に供給されて塗布液分配スリット４３から塗布液流出口４２に供給されるとき、開閉弁４７を開いて空気抜き部材４６より塗布液分配室４４内の空気を排出する。
【００３５】
前記スライドホッパー型塗布装置４０の下部には、円筒状基材の円周方向を位置決めする位置決め手段３０が固定されている。前記円筒状基材１の位置決め装置３０の本体３１には、複数の給気口３２と、複数の排気口３３が穿設されている。該複数の給気口３２は、図示しない給気ポンプに接続され、空気等の流体が圧送される。該給気口３２の一端部で円筒状基材１の外周面に対向する側には、吐出口３４が貫通している。該吐出口３４は前記円筒状基材１の外周面と所定の間隙を保って対向している。該間隙は、２０μｍ〜３ｍｍ、好ましくは３０μｍ〜２ｍｍである。この間隙が２０μｍより小さいと、円筒状基材１の僅かな振れで本体３１の内壁に接触して円筒状基材１を傷つけやすい。また、この間隙が３ｍｍより大であると、円筒状基材１の位置決め精度が低下する。前記吐出口３４は直径０．０１〜１．０ｍｍの小口径のノズルであり、好ましくは０．０５〜０．５ｍｍが良い。
【００３６】
前記本体３１の内壁下部の内周面は、入り口側が広がったテーパー面３５になっている。このテーパー面３５は、例えば軸方向の長さが５０ｍｍで、片側傾斜角が０．５ｍｍの円錐面である。このテーパー面３５を設けることにより、円筒状基材１が本体３１の内壁に進入するとき、円筒状基材１の先端部が内壁の内周面に接触することを防止している。
【００３７】
前記給気ポンプから圧送された流体は、複数の給気口32から本体３１の内部に導入されて、複数の吐出口34から吐出され、前記円筒状基材１Ａ（１Ｂ）の外周面と均一な流体膜層を形成する。吐出後の流体は複数の排気口33から装置外に排出される。
【００３８】
前記吐出口３４の開口直径は０．０１〜１ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．５ｍｍ、例えば０．２〜０．５ｍｍの円形に形成されている。排気口３３の開口直径は１．０〜１０ｍｍ、好ましくは２．０〜８．０ｍｍ、例えば３〜５ｍｍの円形に形成されている。
【００３９】
前記給給気口２３に供給される流体は、空気、不活性ガス例えば窒素ガスが良い。そして該流体は、ＪＩＳ規格でクラス１００以上の清浄な気体が良い。
【００４０】
なお、本発明の位置決め装置に接続される垂直塗布装置としては、スライドホッパー型、押し出し型、リングコーター等の各種装置が用いられる。
【００４１】
前記塗布手段４０の上方には、乾燥フード５１と乾燥器５３とから成る乾燥手段５０が設けられている。
【００４２】
図８は前記塗布手段４０と該塗布手段４０の上部に設けた乾燥フード５１の断面図である。該乾燥フード５１は環状の壁面を有し、該壁面には多数の開口５１Ａが穿設されている。前記円筒状基材１を矢示方向に上昇させ、前記塗布手段４０のホッパー塗布面（塗布ヘッド）４１で塗布液Ｌを塗布し、感光層５を形成する。円筒状基材１上に形成された感光層５は前記乾燥フード５１内を通過しながら徐々に乾燥される。この乾燥は前記多数の開口５１より塗布液Ｌに含まれている溶媒を壁面外に放出することにより行われる。前記のように、塗布手段４０により円筒状基材１上に塗布液Ｌを塗布することにより、形成された感光層５は、塗布直後において乾燥フード５１により包囲されており、開口５１からのみ溶媒が放出されるため、塗布直後における感光層５の乾燥速度は、前記開口５１の開口面積にほぼ比例する。
【００４３】
図９は乾燥フードの他の実施例を示す断面図である。この乾燥フード５２は前記図８における乾燥フード５１（Ａ部）の上部を延長してＢ部を形成したものである。このＡ部には複数個の５２Ａが、Ｂ部には複数個の５２Ｂがそれぞれ穿設されている。この乾燥フード５２を塗布手段４０の上部に設けることにより、円筒状基材１の外周面上に塗布された塗布液Ｌの溶媒蒸気濃度が制御される。従って塗膜乾燥速度が制御されることで塗膜の均一化を計ることが可能である。また前記のような乾燥フード５２を設けることで、ビード部分の溶媒蒸気濃度が高くなるため、急速な乾燥が防止され、ビード切れを防止できる。
【００４４】
図１０に本発明の乾燥器５３の断面図を示す。乾燥器５３は吸引スリット５３１、吸引チャンバー５３２、吸引ノズル５３３を有する吸引スリット部材５３４の下部に筒状部材５３５、上部に筒状部材５３６がそれぞれ同心に結合されている。
【００４５】
そして、複数設けられた吸引ノズル５３３から吸引を行ない、周方向均一な吸引チャンバー５３２、周方向均一な吸引スリット５３１により周方向の均一化がなされた吸引エアーが流れ、更に、吸引スリット部材５３４、その上下の筒状部材５３６，５３５の各内径面と塗布済みの円筒状基材１の外周面との間の空気流の乱れをバッファー空間５３７で極く僅かにおさえて、５３８に示す乾燥の為の均一吸引エアーの空気流を作り出している。
【００４６】
この乾燥ゾーンに矢印で示す方向に塗布済の円筒状基材１を搬送することにより、塗布膜の乾燥を行うものである。
【００４７】
次に、乾燥手段５０の他の実施例として図１１に示された排気乾燥装置５４について説明する。前記のように円筒状基体１Ａ、１Ｂに環状のスライドホッパー型塗布装置４０にて塗布液（感光液）Ｌが塗布されて感光層ＬＡが形成される。前記排気乾燥装置５４は塗布した直後の感光層ＬＡより蒸発する溶媒を吸引し、更に乾燥を行うもので、前記塗布装置４０の直上に設けられている。５４１は環状に形成された吸引ダクトで、該吸引ダクト５４１より前記感光層ＬＡに向けて吸引口５４２が形成されている。前記吸引ダクト５４１の一部には排気管５４３が接続され、該排気管５４３内に設けた排気ファン５４４により前記感光層ＬＡより蒸発する溶媒を吸引して、強制的に外部に排出し乾燥させる。前記のように塗布装置４０にて感光液Ｌを塗布した直後に、該感光液Ｌより発生する溶媒蒸気を排気するため円筒状基体１Ａ、１Ｂに塗布された感光液Ｌが多量に流下するのを停止させることができる。その際前記排気ファン５４４による排気風速を０．５〜５ｍ／ｓｅｃで行い、前記吸引口５４２は前記塗布ヘッド４１の位置より３００ｍｍ以下が望ましい。そして前記感光液Ｌ内の溶媒が３０％以上蒸発するまで前記円筒状基体１Ａ、１Ｂを連結状態に保ち、分離した後、感光層ＬＡを完全に乾燥させる。前記のような排気乾燥装置５４を作動させることにより、多数の円筒状基体を接続して感光液Ｌを塗布した場合でも感光層ＬＡの近傍より溶媒を急速に排出出来ると共に、感光液Ｌによる塗膜の流下を強制的に制御して感光層ＬＡに発生する前記薄膜や液溜りの発生を防止する事も出来る。尚、前記排気ファン５４４は、吸引ダクト５４１に複数箇所設けてもよい。
【００４８】
以上のようにして塗布及び塗布膜乾燥が行なわれた円筒状基体１Ａ，１Ｂ，１Ｃ・・・・を分離する方法を図１２の分離過程の各プロセスの状態図を用いて説明する。
【００４９】
分離排出手段６０は垂直移動ロボットステージ６１、エアーシリンダー６２、上チャック６３及び下チャック６４により構成される。
【００５０】
塗布済みの円筒状基体１は下方より上方へ向けて積み上げられ、上方向へ移動し図１２（ａ）に示すように分離位置に達する。この時垂直ロボットが起動し被分離円筒状基体１Ａと同軸，等速度で同架された分離ユニット全体を移動する。
【００５１】
まず、図１２（ｂ）に示す位置で下チャック６４が被分離円筒状基体１Ａに隣接する円筒状基体１Ｂを保持する。次いで図１２（ｃ）に示す位置で上チャック６３が被分離円筒状基体１Ａを保持する。
【００５２】
エアーシリンダー６２により上チャック６３は被分離円筒状基体１Ａを保持したまま上方向へ移動して図１２（ｄ）に示す位置になる。この時被分離円筒状基体１Ａと隣接する円筒状基体１Ｂにまたがる塗布膜が切り裂かれて図１２（ｄ）図に示すように１Ａ，１Ｂの分離が行なわれる。
【００５３】
分離済み円筒状基体１Ａを回収する為、図１２（ｅ）に示すように下チャック６４はアンチャック状態となり、垂直移動ロボットステージ６１が急上昇を行い、隣接する円筒状基体１Ｂの位置よりはるか上方に配置された分離ドラム回収装置に該分離済み円筒状基体１Ａを置き（上チャック６３がアンチャックになり）行程を終了する。
【００５４】
そして次なる円筒状基体１Ｂの分離動作の為、垂直移動ロボットステージ６１が下降し、また、エアーシリンダー６２が下降し、初期状態の位置図１２（ａ）に戻る。
【００５５】
その他に、被分離円筒状基体１Ａと隣接円筒状基体１Ｂの分離を行なう際に被分離円筒状基体１Ａに回転を加えながら円筒状基体１Ａを引き上げる方法も有効である。これは、分離される膜に引張り力ではなく、剪断力を加えるものであり、ウェット状態の膜では分離部近傍の塗布膜プロフィールが薄膜化する現象を低減できる。また塗布膜の切断時に発生する膜の小片の飛散が該円筒状基体１内面へ引き込まれることにより、低減する。
【００５６】
図１３は円筒状基材１の外周面と塗布手段４０内面の塗布ヘッド４１との距離を周方向に関し均一にするための位置決め手段の他の実施例を示す斜視図である。位置調整手段７０は、塗布装置４０を支承する架台７１、ＸＹ軸制御テーブル７２、連結部材７３、複数個の位置検出器７４Ａ，７４Ｂ，７４Ｃ，７４Ｄ、演算器７５、コントローラー７６とから構成されている。
【００５７】
塗布装置４０を支承する架台７１には塗布装置４０の位置調整手段７０が設けられる。この位置調整手段７０としては、公知のＸ−Ｙ軸制御テーブルをそのまま採用できる。位置調整手段７０は、塗布装置４０と連結部材７３により連結されており、位置調整手段７０のＸ軸またはＹ軸の移動が直接塗布装置４０のＸ軸またはＹ軸の移動として現れるようになっている。
【００５８】
他方、円筒状基材１の未塗布位置、この例では塗布装置４０の下方位置に、円筒状基材１の外面位置を検出するための位置検出器７４Ａ〜７４Ｄが、円筒状基材１の外面に対して離間し、かつ周方向に９０度の間隔をもって配設されている。位置検出器７４Ａ〜７４Ｄとしては、例えばレーザ変位計または渦電流式変位計が用いられる。かかる各位置検出器７４Ａ〜７４Ｄからの円筒状基材１外面との離間距離信号は、演算器７５に与えられ、円筒状基材１の中心軸が塗布装置４０の中心軸に対してどのように偏位しているかが演算され、この演算結果に基づいて前記両中心軸が一致するように、コントローラー７６を介して位置調整手段７０に位置修正信号が与えられるよう構成されている。位置演算制御手段とは、この例では、演算器７５とコントローラー７６とで構成される。また、上記のＸ軸制御テーブル７２を駆動する各サーボモータの出力信号は演算器７５に入力され、塗布装置４０の現位置信号として与えられる。
【００５９】
このように構成された連続塗布装置においては、位置検出器７４Ａおよび７４Ｃにより与えられる円筒状基材１外周面に対する離間信号差からＸ軸方向の、位置検出器７４Ｂおよび７４Ｄにより与えられる円筒状基材１外周面に対する離間信号差からＹ軸方向の偏位がそれぞれ検出され、Ｘ軸制御テーブル７２を駆動する各サーボモータの出力信号による塗布装置４０の現位置とを比較して、塗布装置４０の位置を修正する。
【００６０】
この場合、円筒状基材１の中心軸と塗布装置４０の塗布ヘッド４１の中心軸とが一致するよう塗布装置４０の位置を調整すると、周方向に関し、円筒状基材１と塗布装置４０内面との離間距離が均一化され、塗布膜厚が均一となる。
【００６１】
図１４は位置調整手段の他の実施例を示し、図１４（ａ）は位置調整手段８０の平面図、図１４（ｂ）は位置調整手段８０の正面図である。
【００６２】
図示のように、架台８１に支点枢軸８２を設け、この枢軸８２に第１アーム８３を連結し、その一端を塗布装置４０の鍔部４０ａに枢着し、他方、架台８１にＸ軸制御テーブル８４をＸ軸およびＹ軸方向に移動自在に配置し、このテーブル８４に第２アーム８５および第３アーム８６を枢着し、かつ第３アーム８６は第１アーム８３と枢着しておく。
【００６３】
この例による位置調整手段によれば、Ｘ軸制御テーブル８４のＸ軸またはＹ軸の移動に伴って、塗布装置４０を移動させることが可能となる。
【００６４】
［実施例］
次に、具体的な実施例により本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６５】
先ず、請求項１〜７の発明に関する実施例を説明する。
【００６６】
実施例１
導電性支持体（円筒状基材）１としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体を用いた。また、塗布液Ｌとしては下記記載の▲１▼ＵＣＬ−１塗布液組成物を用いた。
【００６７】
▲１▼ＵＣＬ−１塗布液組成物（３．０  Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００  東レ社製）                  ３ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）        １０００ｍｌ
図１により円筒状基材１の連続塗布工程を説明する。円筒状基材１は図示されていない供給ロボットにより円筒状基材１（アルミニウムドラム）収納室より可動テーブル１２上にある円筒状基材１の１Ａの位置に置かれる。円筒状基材１は可動テーブル１１の矢印方向の回転により１Ｂの位置に達する。この時、昇降手段１４の供給アームが下方より上方へ円筒状基材１を押し上げ、ハンド手段１５の位置まで供給される。好ましくは供給アームによる押し上げが完了すると同時に緩衝機構が作用し、先行の円筒状基材１の下端と後続の円筒状基材上端との接合時のショックを無くすのが良い。このようにして円筒状基材１Ａ，１５が搬送手段２０のところまで運び込まれる。
【００６８】
円筒状基材１は可動把手２１，２２により把持されかつ上方に搬送される。把持される場所は円筒状基材１に悪影響が無ければどの場所でもよいが、円筒状基材１Ａ，１Ｂとの繋ぎ部を把持する事によりドラム間の段差修正がある程度まで行われ好ましいし、上に積み重ねられた円筒状基材１の全重量に抗して強い力で把持するのだからキズや故障の発生を防ぐため、繋ぎ部の非画像部を把持するのが良い。
【００６９】
搬送手段２０については、図３〜５の説明の項を参照されたい。
【００７０】
このようにして図１の搬送手段２０により円筒状基材１が上方向へ移行され、位置決め手段３０へ至る。位置決め手段３０は、特開平３−２８００６３号公報に記載されている位置決め手段の他、図６に示した環状の位置決め手段が好ましく用いられる。
【００７１】
このようにして正確に位置決めされた円筒状基材１は図７，図８に示した塗布手段４０へ移行され塗布される。４０は垂直型塗布装置であり、スライドホッパー型、押し出し型、リングコーター型、スプレーコーター型等、円筒状基材１を積み重ねて上方又は下方に相対的に移動する事により塗布するものであれば種類を問わないが、信頼性の高い連続安定塗布が得られる事によりスライドホッパー型コーターが好ましい。この塗布手段は特開昭５８−１８９０６１号公報に詳しい。また泡ぬき口やスペーサーを用いるのが良い。また、塗布手段４０の位置の微調整の為、公知のＸ−Ｙ軸可動制御テーブル上に塗布手段を設置するのが良い。また特開平３−２１３７１号公報の如く制御手段を設けても良い。このようにして塗布組成物▲１▼ＵＣＬ−１が円筒状基材１上に塗布される。
【００７２】
塗布された円筒状基材１は乾燥手段５０に移行される。５０は乾燥手段であり、図８、図９の如くの乾燥フード５１（５２）と、吸引式乾燥器５３とを重ねて用いても良いし、塗布液Ｌの溶媒や液膜厚に応じて乾燥フード５１（５２）のみでも良いし、吸引式乾燥器５３のみでも良い。
【００７３】
円筒状基材１は乾燥処理の後、分離排出手段６０へ移行される。分離排出手段６０としては特願平５−１２４２７０号明細書に詳しく述べられているものが良い。別のものとしては特開昭６１−１２０６６２号、同６１−１２０６６４号公報等も良い。
【００７４】
分離された円筒状基材１は排出ロボットにより収納室、乾燥室あるいは次の工程に移行される。
【００７５】
以上のように本発明の各手段１０，２０，３０，４０，５０，６０を設置することにより、塗布ムラ、膜厚ムラ、キズ、ゴミ、ドラム損傷等の塗膜欠陥がなく、塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。しかも長時間、多数本の安定な連続塗布や完全自動化ができるため、ホコリ、ゴミ等が混入せず高品質の製品が可能となった。
【００７６】
実施例２
図２の逐次連続塗布装置を用い、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物▲１▼ＵＣＬ−１（３．０Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）、▲２▼ＣＧＬ−１、▲３▼ＣＴＬ−１を調整し、第一のスライドホッパー型塗布装置４０Ａ（▲１▼ＵＣＬ−１用）、第二の塗布装置４０Ｂ（▲２▼ＣＧＬ−１用）、第三の塗布装置４０Ｃ（▲３▼ＣＴＬ−１用）にて実施例１と同様にして３層の逐次重層塗布を行った。ＣＴＬ塗布後は分離後乾燥室にて９５℃、１時間の本乾燥を行った。このようにして感光体を作成した。
【００７７】
▲１▼ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００  東レ社製）                  ３ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）        １０００ｍｌ
▲２▼ＣＧＬ−１塗布液組成物
フルオレノン型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）                      ２５ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）            １０ｇ
メチルエチルケトン                                      １４３０ｍｌ
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−１：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００７８】
▲３▼ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１                                                  ５００ｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）            ５６０ｇ
１，２−ジクロロエタン                                  ２８００ｍｌ
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定
【００７９】
【化１】
0003707099.tif 000002
【００８０】
【化２】
0003707099.tif 000003
【００８１】
得られた感光体をコニカ社製Ｕ−ＢＩＸ  ３０３５複写機で実写したところ１０本目と１００００本目も差が無く濃淡ムラ、カブリムラや画像欠陥（黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ、キズ）等がなく良好であった。
【００８２】
次に、請求項８〜１３の発明に関する実施例を説明する。
【００８３】
実施例３
導電性支持体（円筒状基材）１としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体を用いた。また、塗布液としては下記記載のＣＧＬ−２塗布液組成物を用いた。
【００８４】
ＣＧＬ−２塗布液組成物
ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）                                  ５００ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）          ５００ｇ
メチルエチルケトン                                    ２４０００ｍｌ
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００８５】
【化３】
0003707099.tif 000004
【００８６】
図１において、供給手段１０の昇降手段１４により押し上げられた円筒状基材１Ｂの上端が、搬送手段２０の把持手段２１，２２により把持された円筒状基材１Ｃの下端に接合する位置をＨ０とする。このＨ０の位置で円筒状基材１Ｂと１Ｃとが接合されると、この位置Ｈ０で把持手段２２により把持されるとともに位置Ｈ１で円筒状基材１Ｃと１Ｄとを把持していた把持手段２１が解放される。当然Ｈ１−Ｈ０＝Ｄ（円筒状基材長）である。
【００８７】
このようにして図１の把持手段２２により円筒状基材１Ｄが上方向へ移行される。精度を上げるため位置決め手段３０を設けるのがよい。この位置決め手段３０は、特開平３−２８００６３号公報に記載されている位置決め手段の他、リング状位置決め装置が好ましく用いられる。
【００８８】
このようにして正確に位置決めされた円筒状基材１は垂直型塗布装置４０へ移行され塗布される。円筒状基材１に塗布される位置をＨ２とするとＨ２−Ｈ１＝ｎ１×Ｄ（ｎ１はｎ１≧１の整数）の関係がある。本実施例では下記記載のスライドホッパー型塗布装置４０でｎ１＝３を採用した。
【００８９】
分離排出手段６０により分離が開始される位置をＨ３とすると、Ｈ３−Ｈ２＝ｎ２×Ｄ（ｎ２はｎ２≧３の整数）の関係がある。本実施例の場合ｎ２＝１０を採用した。分離された円筒状基材１は排出ロボットにより収納室、乾燥室あるいは次の工程に移行される。
【００９０】
以上のように本発明の各手段（１０〜６０）を、各々作動する位置Ｈ０，Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３（各々円筒状基材長Ｄの整数倍）に設置することにより、主として接合、把持、塗布、分離の際に生ずる振動、衝撃による塗布ムラ、膜厚ムラ、キズ、ゴミ、ドラム損傷等の塗膜欠陥がなく、塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。しかも長時間、多数本の安定な連続塗布や完全自動化ができるため、ホコリ、ゴミ等が混入せず高品質の製品が可能となった。
【００９１】
実施例４
図２の逐次連続塗布装置を用い、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物▲１▼ＵＣＬ−１（３．０Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）、▲２▼ＣＧＬ−２、▲３▼ＣＴＬ−１を調整し、スライドホッパー型塗布装置４０Ａ（▲１▼ＵＣＬ−１用）、塗布装置４０Ｂ（▲２▼ＣＧＬ−２用）、塗布装置４０Ｃ（▲３▼ＣＴＬ−１用）にて実施例３と同様にして３層の逐次重層塗布を行った。ＣＴＬ塗布後は分離後乾燥室にて９５℃、１時間の本乾燥を行った。このようにして感光体を作成した。
【００９２】
▲１▼ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００  東レ社製）                  ３ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）        １０００ｍｌ
▲２▼ＣＧＬ−２塗布液組成物
ペリレン顔料（ＣＧＭ−２）（前記化３と同じ）                ５００ｇ
ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−Ｌ  積水化学社製）          ５００ｇ
メチルエチルケトン                                    ２４０００ｍｌ
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−２：ＢＸ−Ｌ＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散したもの。
【００９３】
▲３▼ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１  （前記化２と同じ）                                ５ｋｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）          ５．６ｋｇ
１，２−ジクロロエタン                                        ２８ｌ
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定得られた感光体をコニカ社製U-BIX  3035複写機で実写したところ１０本目と１００００本目も差が無く濃淡ムラ、カブリムラや画像欠陥（黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ、キズ）等がなく良好であった。
【００９４】
次に、請求項１４〜１６の発明に関する実施例を説明する。
【００９５】
実施例５
導電性支持体（円筒状基材）１としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体を用いた。又塗布液としては下記記載の▲３▼ＣＴＬ−１塗布液組成物を用いた。
【００９６】
▲３▼ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１  （前記化２と同じ）                              ５００ｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）            ５６０ｇ
１，２−ジクロロエタン                                  ２８００ｍｌ
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定図１の連続塗布装置を用いた。円筒状基材１Ｂと円筒状基材１Ｃとの接合する時刻をＴ０とする。このようにして円筒状基材１Ｂが搬送手段２０のところまで運び込まれる。円筒状基材１Ｃは把持手段２２により把持されかつ上方に搬送される。ある時刻Ｔ０で円筒状基材１Ｂと円筒状基材１Ｃとが接合されると、時刻Ｔ１で円筒状基材１Ｃと円筒状基材１Ｄとを把持してい把持手段２２が解放される。
【００９７】
このようにして正確に位置決めされた円筒状基材１は垂直型塗布装置４０へ移行され塗布される。円筒状基材１に塗布される時刻をＴ２とする。
【００９８】
この後、分離排出手段６０へ移行される。分離が開始される時刻をＴ３とする。分離された円筒状基材１は排出ロボットにより収納室、乾燥室あるいは次の工程に移行される。
【００９９】
本発明では時刻Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３を同一時刻にした。時刻の許容範囲は塗布速度、円筒状基材長によって異なるが１秒以内、更に好ましくは０．５秒以内に入るようにするのが良い。
【０１００】
以上のように本発明の各手段１０〜６０が同時に作動するよう（Ｔ０＝Ｔ１＝Ｔ２＝Ｔ３）設置することにより、主として接合、把持、塗布、分離の際に生ずる振動、衝撃による塗布ムラ、膜厚ムラ、キズ、ゴミ、ドラム損傷等の塗膜欠陥がなく、塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。しかも長時間、多数本の安定な連続塗布や完全自動化ができるため、ホコリ、ゴミ等が混入せず高品質の製品が可能となった。
【０１０１】
実施例６
図２の逐次連続塗布装置を用い、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物▲１▼ＵＣＬ−１（３．０Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）、▲２▼ＣＧＬ−４、▲３▼ＣＴＬ−１を調整し、スライドホッパー型塗布装置４０Ａ（▲１▼ＵＣＬ−１用）、塗布装置４０Ｂ（▲２▼ＣＧＬ−４用）、塗布装置４０Ｃ（▲３▼ＣＴＬ−１用）にて実施例５と同様にして３層の逐次重層塗布を行った。ＣＴＬ塗布後は分離後乾燥室にて９５℃、１時間の本乾燥を行った。このようにして感光体を作成した。
【０１０２】
▲１▼ＵＣＬ−１塗布液組成物
共重合ナイロン樹脂（ＣＭ−８０００  東レ社製）                  ２ｇ
メタノール／ｎ−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）        １０００ｍｌ
▲２▼ＣＧＬ−４塗布液組成物
臭素化アンスアンスロン顔料（ＣＧＭ−４）                    ２００ｇ
ポリカーボネート（パンライトＬ−１２５０  帝人化成社製）    １００ｇ
１，２−ジクロロエタン                                １８０００ｍｌ
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−４：Ｌ−１２５０＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２５時間分散したもの。
【０１０３】
▲３▼ＣＴＬ−１塗布液組成物
ＣＴＭ−１  （前記化２と同じ）                                ５ｋｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）          ５．６ｋｇ
１，２−ジクロロエタン                                        ２８ｌ
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定
【０１０４】
【化４】
0003707099.tif 000005
【０１０５】
得られた感光体をコニカ社製U-BIX  3035複写機で実写したところ１０本目と１００００本目も差が無く濃淡ムラ、カブリムラや画像欠陥（黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ、キズ）等がなく良好であった。
【０１０６】
次に、請求項１７〜１９の発明に関する実施例を説明する。
【０１０７】
実施例７
導電性支持体（円筒状基材）１としては鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体を用いた。又塗布液としては下記記載の▲１▼ＯＣＬ−１塗布液組成物を用いた。
【０１０８】
▲１▼ＯＣＬ−１塗布液組成物（１０Ｗ／Ｖ％）
シリコーン系微粒子（トスパール１０３東芝シリコーン社製）
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）
１，２−ジクロロエタン
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比Ｚ−２００：トスパール＝１００：１に固定）をサンドミルにて３時間分散したもの。
【０１０９】
円筒状基材１Ｂと円筒状基材１Ｃとの接合する時刻をＴ０とする。ある時刻Ｔ０で円筒状基材１Ｂと円筒状基材１Ｃとが接合されると、時刻Ｔ１で円筒状基材１Ｃと円筒状基材１Ｄとを把持していた搬送ハンドが解放される。円筒状基材１に塗布される時刻をＴ２とする。分離が開始される時刻をＴ３とする。
【０１１０】
本発明では塗布速度によって非画像部にかかる時刻幅Ｗが異なるが、時刻Ｔ０，Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３を全く同一時刻にせず、時刻幅Ｗ内に収めることにより振動の振幅が合成加算されて増大されるのが防げる。本発明では非画像部長は円筒状基材の片側で２９ｍｍなので、塗布速度１５ｍｍ／ｓｅｃの時はＷは１．９３ｓｅｃ×２＝３．８７ｓｅｃとなる。
【０１１１】
以上のように本発明の各手段（１０〜６０）が非画像部部分内で同一ではなく、時刻幅Ｗ内で時間差作動するよう設置することで、主として接合、把持、解放、塗布、分離の際に生ずる振動、衝撃等による塗布ムラ、膜厚ムラを防げる。このように塗布性の良好な塗布ドラムが得られた。しかも長時間、多数本の安定な連続塗布や完全自動化ができるため、ホコリ、ゴミ等が混入せず高品質の製品が可能となった。
【０１１２】
実施例８
図２の逐次連続塗布装置を用い、鏡面加工を施した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍ、２８３ｇのアルミニウムドラム支持体上に、下記の如く各々塗布液組成物▲１▼ＵＣＬ−３（３．０Ｗ／Ｖ％ポリマー濃度）、▲２▼ＣＧＬ−３、▲３▼ＣＴＬ−２を調整し、スライドホッパー型塗布装置７（▲１▼ＵＣＬ−３用）、７−１（▲２▼ＣＧＬ−３用）、７−２（▲３▼ＣＴＬ−２用）にて実施例１と同様な作動方法により３層の逐次重層塗布を行った。ＣＴＬ塗布後は分離後乾燥室にて９５℃、１時間の本乾燥を行った。このようにして感光体を作成した。
【０１１３】
▲１▼ＵＣＬ−３塗布液組成物
エチレン−酢酸ビニル系共重合体（エルバックス４２６０  三井デュポンケミカル社製）
トルエン／ｎ−ブタノール＝５／１（Ｖｏｌ比）
▲２▼ＣＧＬ−３塗布液組成物
Ｙ−型チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−３）                  １００ｇ
シリコーン樹脂（ＫＲ−５２４０  信越化学社製）              １００ｇ
ｔ−酢酸ブチル                                        １００００ｍｌ
上記塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−３：ＫＲ−５２４０＝２：１に固定）をサンドミルを用いて１７時間分散したもの。
【０１１４】
▲３▼ＣＴＬ−２塗布液組成物
ＣＴＭ−２                                                    ５ｋｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）          ５．６ｋｇ
１，２−ジクロロエタン                                        ２８ｌ
固形分については固形分重量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定。
【０１１５】
【化５】
0003707099.tif 000006
【０１１６】
【化６】
0003707099.tif 000007
【０１１７】
得られた感光体をコニカ社製U-BIX  3035複写機で実写したところ１０本目と１００００本目も差が無く濃淡ムラ、カブリムラがなく、しかも画像欠陥（黒ポチ、白ポチ、ゴミ、スジ、キズ）等が見られず良好であった。
【０１１８】
【発明の効果】
本発明の連続塗布装置及び連続塗布方法によるときは、円筒状基材の供給、把持搬送、位置決め、塗布、乾燥、分離排出の各手段を連続配置して、円筒状基材の非画像領域に塗布液が当接したとき、前記供給手段、搬送手段、分離排出手段が前記非画像領域内で時間差作動するように設定したものであるから、（１）円筒状基材上に形成された塗膜が均一であり、塗布ムラや塗膜欠陥がなく塗布性が良好である、（２）円筒状基材の把持搬送性能を高く、長期安定塗布ができる、（３）円筒状基材の非画像形成領域に各手段を設定することにより連続塗布装置に振動が発生しても、画像形成に影響を与えない、（４）前記振動が同じ位置に集中せずに分散するため、振動が重畳されて大きな振幅とはならない等の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による連続塗布装置の全体構成を示す斜視図。
【図２】本発明による連続塗布装置の他の実施例を示す斜視図。
【図３】搬送手段の正面図。
【図４】上記搬送手段の把持手段の斜視図。
【図５】上記搬送手段の把持手段の他の実施例を示す斜視図。
【図６】位置決め手段と塗布手段とを示す断面図。
【図７】上記塗布手段の斜視図。
【図８】上記塗布手段と乾燥フードとを示す断面図。
【図９】乾燥フードの他の実施例を示す断面図。
【図１０】乾燥器の断面図。
【図１１】乾燥手段の他の実施例としての排気乾燥装置の断面図。
【図１２】分離排出手段による分離過程を示す状態図。
【図１３】位置調整手段の斜視図。
【図１４】位置調整手段の他の実施例を示す平面図及び正面図。
【符号の説明】
１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ  円筒状基材（円筒状ドラム、導電性支持体）
１０  供給手段
２０  搬送手段
２１，２２  把持手段
３０  位置決め手段
３２  給気口
３３  排気口
４０，４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃ  垂直型塗布装置（スライドホッパー型塗布装置）
４１  塗布ヘッド（コーター、ホッパー塗布面）
５０  乾燥手段
５１，５２  乾燥フード
５３  乾燥器
５４  排気乾燥装置
６０  分離排出手段（分離器）
７０，８０  位置調整手段
Ｌ  塗布液（感光液）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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