(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを照射する光ビーム照射手段と、周面を構成する複数の反射面が等角速度運動を行うように回転する回転多面鏡と、回転多面鏡の反射面における光ビームの反射光を被走査面上に結像させて被走査面を等速度運動により所定の走査方向に走査するｆθレンズと、を備えた光走査装置において、
前記光ビーム照射手段から照射された光ビームが、単一の反射部材を介して前記ｆθレンズの前記反射光の走査方向における前記光ビーム照射手段の配置側の一端側近傍で前記反射光の走査範囲外の部分を経由して前記回転多面鏡の反射面に配光されるとともに、前記ｆθレンズの走査方向の他端側近傍を通過した前記反射光のうち前記被走査面上に結像されない反射光を単一の折り返しミラーを介して被走査面における走査タイミングを検出するタイミング検出手段に導き、
前記光ビーム照射手段から照射される光ビーム、及び、前記タイミング検出手段に入射する反射光を、前記回転多面鏡による反射光の走査平面と略同一面内に配置するとともに、前記光ビーム照射手段から照射される光ビームと前記タイミング検出手段に入射する反射光の少なくとも一方とを平面視において前記被走査面の法線方向に略平行に配置したことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
光ビームを照射する光ビーム照射手段と、周面を構成する複数の反射面が等角速度運動を行うように回転する回転多面鏡と、回転多面鏡の反射面における光ビームの反射光を被走査面上に結像させて被走査面を等速度運動により所定の走査方向に走査するｆθレンズと、を備えた光走査装置において、
前記光ビーム照射手段から照射された光ビームが、単一の反射部材を介して前記ｆθレンズの前記反射光の走査方向における前記光ビーム照射手段の配置側と反対側の一端側近傍で前記反射光の走査範囲外の部分を経由して前記回転多面鏡の反射面に配光されるとともに、前記ｆθレンズの走査方向の他端側近傍を通過した前記反射光のうち前記被走査面上に結像されない反射光を単一の折り返しミラーを介して被走査面における走査タイミングを検出するタイミング検出手段に導き、
前記光ビーム照射手段から照射される光ビーム、及び、前記タイミング検出手段に入射する反射光を、前記回転多面鏡による反射光の走査平面と略同一面内に配置するとともに、前記光ビーム照射手段から照射される光ビームと前記タイミング検出手段に入射する反射光とを平面視において略平行に配置したことを特徴とする光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、電子写真方式による画像形成を行う画像形成装置等に用いられ、光ビーム照射手段から照射した光ビームによって被走査面を走査する光走査走査に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真方式の画像形成を行う複写機等の画像形成装置では、単一極性の電荷が均一に付与された感光体表面に対して光走査装置から画像データによって変調された画像光（光ビーム）を照射し、感光体表面（被走査面）に光導電作用による静電潜像を形成する。光走査装置は、半導体レーザ等の光源を含む光ビーム照射手段を画像データに基づいて駆動し、光ビーム照射手段から照射された画像光を感光体表面に結像させた状態で、感光体表面を主走査方向に走査する。このため、光走査装置は、周面を複数の反射面によって構成した回転多面鏡、及び、光の等角速度運動を等速度運動に変換するｆθレンズを備えており、回転多面鏡を所定速度で回転させるとともに、等角速度運動する回転多面鏡の各反射面に対して光ビーム照射手段から照射された画像光を配光し、回転多面鏡の各反射面において反射した画像光を等速度運動に変換して感光体表面に照射する。
【０００３】
このような光走査装置として、特開平１１−２１８７０２号公報には、図６に示すように、光ビーム照射手段６１から照射された光ビームをｆθレンズ６２における走査方向の中央部の下側を経由して回転多面鏡６３の反射面６３ａに配光するとともに、回転多面鏡６３の反射面６３ａにおける光ビームの反射光をｆθレンズ６２における走査方向の中央部の上側を経由して被走査面６４に配光するようにした構成、及び、図７に示すように、光ビーム照射手段６１から照射された光ビームをｆθレンズ６２を経由することなく回転多面鏡６３の反射面６３ａに配光するようにした構成が開示されている。
【０００４】
なお、光ビーム照射手段６１は、光源６１ａの光を所定の形状の光ビームに変形するため、コリメータレンズ６１ｂ、アパーチャ６１ｃ、凹レンズ６１ｄ及びシリンドリカルレンズ６１ｅ等の複数の部材を光ビームの照射方向に配列して構成されている。
【０００５】
また、光ビーム照射手段６１をｆθレンズ６２の出射方向についてｆθレンズ６２側に配置して装置を小型化すべく、光ビーム照射手段６１から照射された光ビームを折り返しミラー６５に反射させた後にｆθレンズ６２に入射させるようにしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図７に示すように、光ビーム照射手段６１から照射された光ビームをｆθレンズ６２を経由することなく回転多面鏡６３の反射面６３ａに配光することとすると、光ビーム照射手段６１とｆθレンズ６２とを含む平面内において光ビーム照射手段６１からの光ビームの照射方向に直交する方向に光ビーム照射手段６１と回転多面鏡６３とを十分に離間させておく必要があり、光走査装置の筐体６６が図中ｙ方向に長くなるとともに、その一部が図中ｘ方向に突出し、装置が大型化する問題がある。
【０００７】
一方、図６に示すように、光ビーム照射手段６１から照射された光ビームをｆθレンズ６２における走査方向の中央部の下側を経由して回転多面鏡６３の反射面６３ａに配光するとともに回転多面鏡６３の反射面６３ａにおける光ビームの反射光をｆθレンズ６２における走査方向の中央部の上側を経由して被走査面６４に配光することとした場合、図７に示す構成に比較して、図中ｙ方向の長さを短くすることはできるが、ｆθレンズ６２における光の入射方向と出射方向とのなす角度を大きくしなければならず、光ビーム照射手段６１が光ビームの照射方向に複数の部材を配列して構成されていることから、光ビーム照射手段６１とｆθレンズ６２とを含む平面内において十分なスペースが必要となり、光走査装置の筐体６６が図中ｘ方向及びｚ方向に拡大し、装置が大型化する問題がある。
【０００８】
このような光走査装置の大型化は、電子写真方式による画像形成を行うプロセス部を複数配置して構成されたカラープリンタ等において、さらに大きな問題となる。
【０００９】
また、図６に示す構成では、被走査面６４に対する走査方向について、光ビーム照射手段６１から照射された光ビームがｆθレンズ６２において被走査面を走査する光ビームの出射範囲内に入射することから、光ビーム照射手段６１から照射された光ビームのうちｆθレンズ６２の４面において反射した光が互いに重なり合った状態で被走査面６４の同一範囲に配光される。このため、例えば、感光体表面に画像データに基づく適正な静電潜像以外に画像データに対応しない所謂ゴーストの静電潜像が形成される等、被走査面に悪影響を与える問題がある。
【００１０】
このようなゴーストの発生を抑制するためには、走査方向に直交する方向において光ビーム照射手段から照射された光がｆθレンズに入射する際の角度、及び、ｆθレンズから出射した光を被反射面に配光する凹面鏡の形状等を厳格に規定しなければならず、設計が煩雑化する。特に、光ビーム照射手段から照射された光ビームのｆθレンズに対する入射方向が走査方向を含む平面となす角度を大きくすると、光ビームの照射方向に複数の部材を配列した光ビーム照射手段の走査方向を含む平面内に占めるスペースが大型化する。
【００１１】
この発明の目的は、光ビーム照射手段から照射された光ビームのｆθレンズの複数の面における反射光が被走査面上の同一の範囲に重なり合うことがないようにし、ゴーストの発生等の被走査面における悪影響を抑制することができる光走査装置を提供することにある。また、この発明の別の目的は、光ビーム照射手段をｆθレンズに近接して配置することができるようにし、装置を小型化することができる光走査装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上記の課題を解決するための手段として、以下の構成を備えている。
【００１３】
(1) 光ビームを照射する光ビーム照射手段と、周面を構成する複数の反射面が等角速度運動を行うように回転する回転多面鏡と、回転多面鏡の反射面における光ビームの反射光を被走査面上に結像させて被走査面を等速度運動により所定の走査方向に走査するｆθレンズと、を備えた光走査装置において、
前記光ビーム照射手段から照射された光ビームが、単一の反射部材を介して前記ｆθレンズの前記反射光の走査方向における前記光ビーム照射手段の配置側の一端側近傍で前記反射光の走査範囲外の部分を経由して前記回転多面鏡の反射面に配光されるとともに、前記ｆθレンズの走査方向の他端側近傍を通過した前記反射光のうち前記被走査面上に結像されない反射光を単一の折り返しミラーを介して被走査面における走査タイミングを検出するタイミング検出手段に導き、
前記光ビーム照射手段から照射される光ビーム、及び、前記タイミング検出手段に入射する反射光を、前記回転多面鏡による反射光の走査平面と略同一面内に配置するとともに、前記光ビーム照射手段から照射される光ビームと前記タイミング検出手段に入射する反射光の少なくとも一方とを平面視において前記被走査面の法線方向に略平行に配置したことを特徴とする。
(2) 光ビームを照射する光ビーム照射手段と、周面を構成する複数の反射面が等角速度運動を行うように回転する回転多面鏡と、回転多面鏡の反射面における光ビームの反射光を被走査面上に結像させて被走査面を等速度運動により所定の走査方向に走査するｆθレンズと、を備えた光走査装置において、
前記光ビーム照射手段から照射された光ビームが、単一の反射部材を介して前記ｆθレンズの前記反射光の走査方向における前記光ビーム照射手段の配置側と反対側の一端側近傍で前記反射光の走査範囲外の部分を経由して前記回転多面鏡の反射面に配光されるとともに、前記ｆθレンズの走査方向の他端側近傍を通過した前記反射光のうち前記被走査面上に結像されない反射光を単一の折り返しミラーを介して被走査面における走査タイミングを検出するタイミング検出手段に導き、
前記光ビーム照射手段から照射される光ビーム、及び、前記タイミング検出手段に入射する反射光を、前記回転多面鏡による反射光の走査平面と略同一面内に配置するとともに、前記光ビーム照射手段から照射される光ビームと前記タイミング検出手段に入射する反射光とを平面視において略平行に配置したことを特徴とする。
【００１４】
この構成においては、光ビーム照射手段から照射された光ビームが、ｆθレンズの走査方向における中央部以外の部分を通過して回転多面鏡に配光される。したがって、光ビーム照射手段から回転多面鏡に至る光路中におけるｆθレンズの複数の面で反射した複数の反射光が被走査面上の同一の範囲に重なり合うことがない。ここで、ｆθレンズの各面における単一の反射光の総光量は回転多面鏡の反射面における反射光の総光量の４％程度である。また、被走査面上に結像しないｆθレンズの各面における反射光の被走査面上の配光面積は、被走査面上に結像される回転多面鏡の反射光の被走査面上の配光面積に比較して極めて広くなる。このため、ｆθレンズの各面で反射した単一の反射光の被走査面上における単位面積当たりの配光量は、回転多面鏡で反射した反射光の被走査面上における単位面積当たりの配光量に比較して十分に小さく、ｆθレンズの複数の面で反射した複数の反射光が個別に被走査面に与える影響は回転多面鏡で反射した反射光が被走査面に与える影響に比較して十分に少ない。このことから、ｆθレンズの複数の面で反射した複数の反射光が被走査面上の同一の範囲に重なり合わないようにすることにより、回転多面鏡における反射光以外の光（ｆθレンズにおける反射光）が被走査面に及ぼす悪影響が抑制される。
【００１６】
また、この構成においては、光ビーム照射手段から照射された光ビームが、ｆθレンズにおける中央部以外の部分に入射する。したがって、ｆθレンズの表面における光ビームの反射光が回転多面鏡の反射面における反射光とともに被走査面に配光されることがない。
【００１８】
さらに、この構成においては、光ビーム照射手段から照射された光ビームが反射部材に反射した後に、ｆθレンズにおける走査方向の一端側近傍に入射する。したがって、ｆθレンズからの反射光の出射方向におけるｆθレンズより回転多面鏡側において、ｆθレンズに近接した位置に光ビーム照射手段が配置され、反射光の走査平面内において光ビーム照射手段、ｆθレンズ及び回転多面鏡が占めるスペースが縮小される。
【００２０】
加えて、この構成においては、ｆθレンズにおける走査方向の一端側近傍に光ビーム照射手段から照射された光ビームが入射し、他端側近傍から出射した回転多面鏡の反射光がタイミング検出手段によって検出される。したがって、光ビーム照射手段から照射された光ビームが直接又はｆθレンズで反射した後にタイミング検出手段によって検出されることがなく、被走査面における走査タイミングが正確に検出される。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施形態を電子写真方式の画像形成を行うプリンタに適用される光走査装置を例に挙げて説明する。
【００２２】
図１は、この発明の第１の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。この実施形態に係る光走査装置１０は、光ビーム照射手段１、ｆθレンズ２、回転多面鏡３、反射鏡４、シリンドリカルミラー５、折曲げミラー６、折り返しミラー７及び検出センサ８を備え、被走査面である感光体ドラム１１の表面を露光走査する。
【００２３】
光ビーム照射手段１は、半導体レーザ１ａ、コリメートレンズ１ｂ、アパーチャ１ｃ、凹状レンズ１ｄ及びシリンドリカルレンズ１ｅを、光ビームの照射方向に配列して構成されている。半導体レーザ１ａは、感光体ドラム１１を介して再現すべき画像データに基づいて駆動され、画像データによって変調されたレーザ光を画像光として照射する。コリメートレンズ１ｂは、半導体レーザ１ａから照射されたレーザ光を平行光に偏光する。アパーチャ１ｃは、回転多面鏡３の複数の反射面において反射した光ビームによって被走査面を走査するオーバフィル設計において生じる光量分布の不均一を補正する。凹状レンズ１ｄは、光ビームを走査方向に拡大する。シリンドリカルレンズ１ｅは、光ビームを走査面に直交する方向に絞る。
【００２４】
反射鏡４は、光ビーム照射手段１から照射された光ビームを反射し、ｆθレンズ２を経由して回転多面鏡３の反射面に配光する。即ち、光ビーム照射手段１は、複数の部材の配列方向である光ビームの照射方向が走査面においてｆθレンズ２及び回転多面鏡３の配列方向と略平行になるように配置されており、かつ、回転多面鏡３における光ビームの反射方向についてｆθレンズ２よりも回転多面鏡３側に位置している。このため、光ビーム照射手段１から照射された光ビームの反射鏡４における反射光をｆθレンズ２を介して回転多面鏡３に配光するようにしている。
【００２５】
ｆθレンズ２は、回転多面鏡３における光の反射方向に配列された２個のレンズ２ａ，２ｂによって構成されており、等角速度回転する回転多面鏡３における反射光を感光体ドラム１１の表面における等線速度運動に変換する。これによって、感光体ドラム１１の表面に対する回転多面鏡３における反射角が変化することによる走査方向の画像の歪みを防止する。
【００２６】
回転多面鏡３は、周面に複数の反射面３ａを配置した多角形の板状体であり、一例として矢印Ａ方向に一定の速度で回転する。これによって、回転多面鏡３は光ビーム照射手段１から照射された光ビームを各反射面３ａにおいて順に反射する。各反射面３ａにおける光ビームの反射方向は、回転多面鏡３の回転にともなって矢印Ｂ方向（走査方向）に変位し、回転多面体３における反射光が矢印Ｂ方向の終端に達すると、回転多面鏡３において光ビームを反射する反射面３ａが隣接する反射面３ａに切り換わる。したがって、回転多面鏡３において反射した光ビームは、所定の角度範囲の扇型の走査面内において矢印Ｂ方向の変位を繰り返し、感光体ドラム１１の表面を順次走査する。
【００２７】
シリンドリカルミラー５及び折曲げミラー６は、ｆθレンズ２から出射された回転多面鏡３の反射光を反射して感光体ドラム１１の表面に配光する。感光体ドラム１１の表面は、光導電作用を生じる感光層が形成されており、光走査装置１０による露光に先立って、単一極性の電荷が均一に付与されている。したがって、シリンドリカルミラー５及び折曲げミラー６において反射した画像光による露光によって、感光体ドラム１１の表面には光導電作用によって静電潜像が形成される。感光体ドラム１１の表面には図外の現像装置から現像剤が供給され、この現像剤によって静電潜像が現像剤画像に顕像化された後、用紙等の記録媒体の表面に転写される。
【００２８】
折り返しミラー７は、回転多面鏡３で反射した光のうち、ｆθレンズ２において光ビーム照射手段１から照射された光ビームの入射側とは反対側で最も端部よりの部分を通過した光であって、１ライン毎の走査開始タイミングを表す光を反射して検出センサ８の受光面に配光する。
【００２９】
検出センサ８は、折り返しミラー７における反射光を受光した際に受光信号を出力する。図外の制御部は、検出センサ８から受光信号が出力された時に１ライン分の画像データを光ビーム照射手段１に供給する。これによって、感光体ドラム１の表面に形成すべき１ライン分の静電潜像に対応した画像データによって変調された光ビームが、光ビーム照射手段から適正なタイミングで照射される。
【００３０】
図２は、上記光走査装置のｆθレンズにおける光ビームの入射状態及び反射状態を示す平面図である。また、図３は、同じく側面図である。図２において、シリンドリカルミラー５、折曲げミラー６及び感光体ドラム１１は、ｆθレンズ２における反射光の進行方向に位置していることのみを表すものであり、互いの位置関係、及び、ｆθレンズ２からの距離は実際と異なる。この実施形態に係る光走査装置１０では、光ビーム照射手段１から照射された光ビーム（画像光）Ｌ１が、レンズ２ａ及び２ｂによって構成されたｆθレンズ２において、走査方向（紙面方向）の一端側近傍に入射する。即ち、光ビーム照射手段１から照射された光ビームＬ１は、ｆθレンズ２の走査方向における中央部以外の部分である一端側の範囲に入射する。
【００３１】
ｆθレンズ２に入射した光ビームＬ１は、ｆθレンズ２を構成するレンズ２ａ及び２ｂをこの順に通過して回転多面鏡３の周面に達するが、この時、光ビームＬ１は、レンズ２ａの表面２ａａ及び裏面２ａｂ、並びに、レンズ２ｂの表面２ｂａ及び裏面２ｂｂのそれぞれにおいて反射し、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂを生じる。図３に示すように、これらの反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂは、回転多面鏡３における反射光（走査光）の光路方向と同様に、ｆθレンズ２からシリンドリカルミラー５及び折曲げミラー６を経由して感光体ドラム１１の表面に配光される。
【００３２】
しかし、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれの総光量は、回転多面鏡３における反射光の総光量の略４％程度である。また、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれは、感光体ドラム１１の表面に結像することはないため、回転多面鏡３における反射光のに比較して感光体ドラム１１の表面における極めて広い範囲に配光される。したがって、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれが感光体ドラム１１の表面に与える影響は回転多面鏡３における反射光に比較して十分に少なく、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれが感光体ドラム１１の表面に個別に配光された場合には、画像に明確なゴーストを生じることはない。
【００３３】
これに対して、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれが感光体ドラム１１の表面の同一の位置に重ね合わさって配光されると、その位置に及ぼす影響が大きくなり、再現画像に明確なゴーストを生じる。このように、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれが感光体ドラム１１の表面における同一の位置に重なり合う現象は、レーザ光Ｌ１がｆθレンズ２の走査方向における中央部を通過して回転多面鏡３に配光される場合に生じる。
【００３４】
一例として、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれの感光体ドラム１１の表面に対する影響度Ｄを光ビームの１階調分の光量に対する各反射光の単位面積当たりの照射光強度と定義し、実機における各反射光の光量の測定結果に基づいて、
反射光の影響度Ｄ＝照射光強度比×２５６
によって求めた結果を表１に示す。
【００３５】
【表１】
0003720692.tif 000002
【００３６】
但し、総光量比Ａ＝反射光の総光量／光ビームの総光量
照射面積比Ｂ＝反射光の照射面積／光ビームのスポットの照射面積
照射光強度比Ｃ＝総光量比／照射面積比
である。なお、反射光には感光体ドラム１１の表面を照射しないもの（Ｌ２ｂａ）や一部が感光体ドラム１１の表面を照射するもの（Ｌ２ａａ）が存在するため、反射光の照射面積は感光体表面の位置における計算値を用いた。
【００３７】
この結果、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれが感光体ドラム１１の表面の同一の位置に重ね合わさって配光されると、反射光の影響度Ｄは４％を超え、感光体ドラム１１の表面にゴーストを生じるレベルとなる。なお、ゴーストの発生には感光体ドラム１１の感度も影響を与えるため、実機の設計に当たっては、反射光の影響度のみならず感光体ドラム１１の感度をも考慮すべきである。
【００３８】
そこで、この実施形態に係る光走査装置では、レーザ光Ｌ１がｆθレンズ２の走査方向における中央部以外の部分を通過して回転多面鏡３に配光されるようにしている。これによって、図２に示すように、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれは、感光体ドラム１１の表面の互いに異なる位置に配光され、互いに重ね合わされることがないため、反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂが感光体ドラム１１の特定の位置に大きな影響を与えることがなく、再現画像におけるゴーストの発生を抑制することができる。
【００３９】
なお、ｆθレンズ２の走査方向における光ビームＬ１の入射位置を、ｆθレンズ２の走査方向における端部に近づけるにしたがって、感光体ドラム１１の表面における反射光Ｌ２ａａ，Ｌ２ａｂ，Ｌ２ｂａ，Ｌ２ｂｂのそれぞれの配光位置をより確実に分離することができる。
【００４０】
また、光ビームＬ１のｆθレンズ２への入射角は回転多面鏡３及びｆθレンズ２の配列方向に対する光ビーム照射手段１の複数の部材の配列方向の傾斜角に等しく、この傾斜角が大きくなるにしたがって光走査装置１０の走査平面に直交する側面における高さが高くなる。このため、走査平面に直交する側面における光走査装置１の高さを低くして光走査装置１０を小型化するためには、ｆθレンズ２に対する光ビームＬ１の入射角をできるだけ小さくする必要がある。
【００４１】
しかしながら、この実施形態に係る光走査装置１０では、光ビーム照射手段１から照射された光ビームを反射する反射鏡４は、回転多面鏡３の反射光の走査範囲内に配置しており、ｆθレンズ２から出射した後の回転多面鏡３の反射光の光路を遮らないようにする必要がある。そこで、光走査装置１０では、回転多面鏡３の反射光の走査光路の下方に反射鏡４を配置し、反射鏡４が走査光路に干渉しないようにしている。
【００４２】
このように、光走査装置１０では、光ビーム照射手段１から照射された光ビームＬ１を反射鏡４を介してｆθレンズ２の一端側近傍を経由して回転多面鏡３の反射面３ａに配光するようにしているため、回転多面鏡３の反射光の光路においてｆθレンズ２よりも回転多面鏡３側で、かつ、ｆθレンズ２及び回転多面鏡３に接近させて光ビーム照射手段１を配置することができる。これによって、光ビーム照射手段１、ｆθレンズ２及び回転多面鏡３を備えた光走査装置１０を小型化することができる。
【００４３】
即ち、図４に示すように、この実施形態に係る光走査装置１０の筐体９は、図中ｘ方向、ｙ方向及びｚ方向の全てにおいて、図６及び図７に示した従来の光走査装置の筐体６６よりも小さく構成することができ、装置を小型化することができる。
【００４４】
図５は、この発明の第２の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。この実施形態に係る光走査装置１０′は、光ビーム照射手段１から照射された光ビームを、ｆθレンズ２の走査方向における光ビーム照射手段１の配置側と反対側の一端側近傍を経由して回転多面鏡３の反射面３ａに配光する。また、回転多面鏡３の反射面３ａにおける反射光のうち、ｆθレンズ２の走査方向における光ビーム照射手段１の配置側の他端近傍から出射した光を折り返しミラー７を介して検出センサ８に配光する。光走査装置１０′におけるその他の構成は、図１に示した第１の実施形態に係る光走査装置１０と共通している。但し、ｆθレンズ２から出射した回転多面鏡３の反射光は、シリンドリカルミラー５のみを介して感光体ドラム１１の表面に配光される。
【００４５】
この構成により、光ビーム照射手段１における半導体レーザ１ａ、コリメータレンズ１ｂ、アパーチャ１ｃ、凹状レンズ１ｄ及びシリンドリカルレンズ１ｅは、回転多面鏡３、レンズ２ｂ及びレンズ２ａの配列方向に対して所定の角度をなして配列される。このため、光ビーム照射手段１の配置スペースは、回転多面鏡３、レンズ２ｂ及びレンズ２ａの配列方向に直交する方向については大きくなるものの、当該配置方向については小さくなる。したがって、光走査装置１０′は、画像形成装置の内部において感光体ドラム１１の半径方向に十分な空間がない場合に適している。
【００４６】
【発明の効果】
この発明は、以下の効果を奏することができる。
【００４７】
(1) 光ビーム照射手段から照射された光ビームを、ｆθレンズの走査方向における中央部以外の部分を通過して回転多面鏡に配光することにより、光ビーム照射手段から回転多面鏡に至る光路中におけるｆθレンズの複数の面で反射した複数の反射光が被走査面上の同一の範囲に重なり合うことがないようにし、回転多面鏡における反射光以外の光が被走査面に及ぼすゴーストの発生等の悪影響を十分に抑制することができる。
【００４８】
(2) 光ビーム照射手段から照射された光ビームを、ｆθレンズにおける中央部以外の部分に入射させることにより、ｆθレンズの表面における光ビームの反射光が回転多面鏡の反射面における反射光とともに被走査面に配光されることを防止することができる。
【００４９】
(3) 光ビーム照射手段から照射された光ビームを、反射部材に反射した後にｆθレンズにおける走査方向の一端側近傍に入射させることにより、ｆθレンズからの反射光の出射方向におけるｆθレンズより回転多面鏡側において、ｆθレンズに近接した位置に光ビーム照射手段を配置することができ、反射光の走査平面内において光ビーム照射手段、ｆθレンズ及び回転多面鏡が占めるスペースを縮小して装置を小型化することができる。
【００５０】
(4) ｆθレンズにおける走査方向の一端側近傍に光ビーム照射手段から照射された光ビームを入射させ、他端側近傍から出射した回転多面鏡の反射光をタイミング検出手段によって検出することにより、光ビーム照射手段から照射された光ビームが直接又はｆθレンズで反射した後にタイミング検出手段によって検出されるないようにすることができ、被走査面における走査タイミングを正確に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。
【図２】上記光走査装置のｆθレンズにおける光ビームの入射状態及び反射状態を示す平面図である。
【図３】上記光走査装置のｆθレンズにおける光ビームの入射状態及び反射状態を示す平面図である。
【図４】上記光走査装置の筐体を示す図である。
【図５】この発明の第２の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。
【図６】従来の光走査装置の構成を示す図である。
【図７】状来の光走査装置の他の構成を示す図である。
【符号の説明】
１−光ビーム照射手段
２−ｆθレンズ
３−回転多面鏡
３ａ−反射面
４−反射鏡（反射部材）
５−シリンドリカルミラー
６−折曲げミラー
７−折り返しミラー
８−検出センサ
１０−光走査装置
１１−感光体ドラム（被走査面）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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