(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）スルホン酸四級ホスホニウム塩を０．００１〜１重量％含有するポリオレフィンからなる第１のポリマー層の少なくとも１層、並びに（Ｂ）ポリエステルおよびポリフェニレンスルフィドよりなる群から選ばれる少なくとも１種のポリマーからなる第２のポリマー層の少なくとも１層、からなり、第１のポリマー層の少なくとも１層と第２のポリマー層の少なくとも１層とは隣接しており、且つ隣接する２層間の層間接着力が０．１〜２０ｇ／ｃｍの範囲にあることを特徴とする多層フイルム。
【請求項２】
第１のポリマー層を構成するポリオレフィンが炭素数２〜１０のα―オレフィンのホモポリマーまたはコポリマーである請求項１記載の多層フイルム。
【請求項３】
ポリオレフィンが低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（エチレン／プロピレン）共重合体およびポリブチレンよりなる群から選ばれる少なくとも１種のポリマーである請求項２記載の多層フイルム。
【請求項４】
第１のポリマー層が含有するスルホン酸四級ホスホニウム塩が、下記式（Ｉ）で表わされる化合物および下記式（ＩＩ）で表される化合物よりなる群からえらばれる少なくとも１種である請求項１記載の多層フイルム。
【化１】
0003611919.tif 000007
［式（Ｉ）中、Ｘ１  およびＸ２  は、同一もしくは異なり、水素原子またはエステル形成性官能基であり、Ｒ１  、Ｒ２  、Ｒ３  およびＲ４  は、同一もしくは異なり、炭素数１〜１８のアルキル基、ベンジル基または炭素数６〜１２のアリール基であり、ｎは１または２であり、そしてＡ１  は（ｎ＋２）価の炭素数２〜１８の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基である。但し、Ｘ１  とＸ２  がともに水素原子であることはない。］
【化２】
0003611919.tif 000008
［式（ＩＩ）中、Ｒ５  、Ｒ６  、Ｒ７  およびＲ８  は、同一もしくは異なり、炭素数１〜１８のアルキル基、ベンジル基または炭素数６〜１２のアリール基であり、ｍは１または２であり、そしてＡ２  はｍ価の炭素数４〜１８の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基である。］
【請求項５】
第１のポリマー層がスルホン酸四級ホスホニウム塩を０．００３〜０．５重量％含有するポリオレフィンからなる請求項１記載の多層フイルム。
【請求項６】
第２のポリマー層を構成するポリエステルが芳香族ジカルボン酸成分と炭素数２〜１０の脂肪族ジオール成分とからなる芳香族ポリエステルである請求項１記載の多層フイルム。
【請求項７】
第２のポリマー層を構成するポリフェニレンスルフィドがポリ（ｐ―フェニレンスルフィド）である請求項１記載の多層フイルム。
【請求項８】
第１のポリマー層の１層と第２のポリマー層の少なくとも１層からなり、そしてこれらの少なくとも２層がこの順番で隣接する請求項１記載の多層フイルム。
【請求項９】
第１のポリマー層の少なくとも１層と第２のポリマー層の少なくとも２層からなり、そして第２のポリマー層の２層が最外層となるように交互に隣接する少なくとも３層からなる請求項１記載の多層フイルム。
【請求項１０】
第２のポリマー層の最外層の２層のそれぞれが少なくとも２層からなる請求項９記載の多層フイルム。
【請求項１１】
隣接する第１のポリマー層と第２のポリマー層との間の層間接着力が０．１〜１０ｇ／ｃｍの範囲にある請求項１記載の多層フイルム。
【請求項１２】
第１のポリマー層の基質の溶融状態における体積固有抵抗値が第２のポリマー層を構成するポリマーの融点よりも１５℃高い温度において０．５×１０９  Ω・ｃｍ以下である請求項１記載の多層フイルム。
【請求項１３】
第２のポリマー層の基質の溶融状態における体積固有抵抗値が第２のポリマー層を構成するポリマーの融点より１５℃高い温度において０．５×１０９  Ω・ｃｍ以下である請求項１記載の多層フイルム。
【請求項１４】
少なくとも１軸方向に配向された請求項１記載の多層フイルム。
【請求項１５】
（Ａ）スルホン酸四級ホスホニウム塩を０．００１〜１重量％含有するポリオレフィンからなる第１のポリマー層の少なくとも１層並びに（Ｂ）ポリエステルおよびポリフェニレンスルフィドよりなる群から選ばれる少なくとも１種のポリマーからなる第２のポリマー層の少なくとも１層、からなり、第１のポリマー層の少なくとも１層と第２のポリマー層の少なくとも１層とは隣接する多層の溶融フイルムを回転冷却ドラム上に共押出し、次いで該溶融フイルムを回転冷却ドラムに密着させ冷却して多層フイルムを製造する方法であって、該溶融フイルムが回転冷却ドラム上に到達する近傍において、該溶融フイルムに非接触的に静電荷を印加することを特徴とする多層フイルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリオレフィン層とそれに隣接する少なくとも１層のポリエステル層またはポリフェニレンスルフィド層とを有する多層フイルムに関する。更に詳しくは、ポリオレフィン単層フイルム或いはポリエステル単層フイルムまたはポリフェニレンスルフィド単層フイルムを容易に剥離することができ、かつ高速度でキャストが可能な多層フイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
溶融製膜法によりプラスチックフイルムを製造するには、溶融ポリマーをフイルム状に押出し、次いで回転冷却ドラム（冷却ドラム）上で冷却して固体状の無延伸フイルムにキャスティングし、この無延伸フイルムを必要に応じて更に１軸方向或いは２軸方向に延伸して一軸延伸フイルム或いは二軸延伸フイルムとする方法が採られる。冷却ドラム上で冷却する際に、冷却が不均一になるとフイルムに厚さ斑が発生する等の不都合が生じるので、これを防ぐためには溶融フイルムと冷却ドラムとを均一に密着させる必要がある。溶融フイルムを冷却ドラムに密着させる方法としては、溶融フイルムに静電荷を印加しながらキャスティングする方法（特公昭３７−６１４２号公報）、ロールやベルト等の機械的な力によって密着させる方法（特公昭３７−８９７７号公報）、エアーナイフ等のエアーの力で密着させる方法（特公昭３７−８９７８号公報）、誘電率の高い成分を共重合したポリエステルを用いて静電荷を印加しながらキャスティングする方法等が知られている。
【０００３】
しかしながら、かかる方法をポリオレフィン層とそれに隣接する少なくとも１層のポリエステル層とを有する多層フイルムの製造に用いると、ポリオレフィン層とポリエステル層との層間接着力が弱いこと、或いはポリオレフィンの電気抵抗が大きいこと等のため種々の問題が生じる。
【０００４】
即ち、溶融フイルムに静電荷を印加しながらキャスティングする方法を用いると、ポリオレフィンは溶融状態でも電気抵抗が大きいため溶融フイルムへ十分な電荷を付与することができない。その結果、溶融フイルムと冷却ドラムとのクーロン力が微弱で密着力が弱くなるため、厚さ斑や層間剥離、層間のずれが生じ、製膜が著しく不安定となる等の問題が生じる。誘電率の高い成分を共重合したポリエステルを用いて静電荷を印加しながらキャスティングする方法を用いても同様の問題が生じる。
【０００５】
また、ロールやベルト等の機械的な力によって密着させる方法を用いると、冷却ドラムからのフイルムの剥離力がポリオレフィン層とポリエステル層との層間接着力を上回るため層間剥離や層間のずれが生じる等の問題がおこる。
【０００６】
また、エアーナイフ等のエアーの力で密着させる方法を用いると、空気の流れによって溶融フイルムが強く振動し、その結果著しい厚み斑が生じて所望の多層フイルムが得られ難い。
【０００７】
一方、特開昭５１―３０８６２号公報には、互いに相溶しない異なる２種以上のプラスチックを共押出してシート状物となした後、引き続いてそのシート状物を分離してそれぞれのプラスチック単一シート状物となすプラスチックシート状物の製造法が開示されている。
【０００８】
しかしながら、この公報にはポリエステルとポリオレフィンの共押出しの記載はなくまた冷却ドラム上での冷却についても開示されていない。
【０００９】
特開昭５２―３７９８２号公報には、ベースフイルム上に、厚さ２〜１０μｍの薄膜フイルムを積層した積層フイルムを延伸し、その後上記薄膜フイルムを上記ベースフイルムより剥離する薄膜フイルムの延伸方法が開示されている。
【００１０】
しかしながら、この公報にも、ポリエステルとポリオレフィンの積層フイルムの記載はなくまた未延伸の積層フイルムを冷却ドラム上で冷却することについても何ら開示されていない。
【００１１】
また、特開昭６３―２３９８１０号公報にはポリオレフィン又はポリエステルからなる支持体フイルムの片面又は両面に、厚さ０．２〜１．５μｍのポリフェニレンスルフィドフイルムが設けられてなる積層フイルムの該ポリフェニレンスルフィドフイルム面に金属蒸着を施し、次いで該積層フイルムから金属蒸着ポリフェニレンスルフィドフイルムを剥離しながら該剥離された金属蒸着フイルムを巻回又は積層して、ポリフェニレンスルフィドフイルムを誘電体とし、金属蒸着層を電極とするコンデンサー素子を形成する方法であって、かつ該支持体フイルムの厚さが該ポリフェニレンスルフィドフイルムの厚さの５〜１００倍の範囲にあることを特徴とするコンデンサー素子の製造方法が開示されている。
【００１２】
しかしながら、この公報にはスルホン酸四級ホスホニウム塩を含有するポリオレフィンは開示されておらず、また積層フイルムを冷却ドラム上で冷却することについても何ら開示されていない。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、新規の多層フイルムを提供することにある。
本発明の他の目的は、ポリエステルまたはポリフェニレンスルフィドの層に隣接する層としてポリオレフィン層を有する積層フイルムであるにもかかわらず、冷却ドラムの静電キャスティングを円滑に且つ高速度で実施し得る多層フイルムを提供することにある。
【００１４】
本発明のさらに他の目的は、隣接する上記２層間を容易に剥離することができ、それによって均一なフイルム厚を有する単一基質からなる薄いフイルムを与えることができる多層フイルムを提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
【００１６】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
（Ａ）スルホン酸四級ホスホニウム塩を０．００１〜１重量％含有するポリオレフィンからなる第１のポリマー層の少なくとも１層、並びに（Ｂ）ポリエステルおよびポリフェニレンスルフィドよりなる群から選ばれる少なくとも１種のポリマーからなる第２のポリマー層の少なくとも１層、からなり、第１のポリマー層の少なくとも１層と第２のポリマー層の少なくとも１層とは隣接しており、且つ隣接する２層間の層間接着力が０．１〜２０ｇ／ｃｍの範囲にあることを特徴とする多層フイルムによって達成される。
【００１７】
本発明の多層フイルムは、上記のとおり、ポリオレフィンからなる第１ポリマー層の少なくとも１層と、ポリエステルおよびポリフェニレンスルフィドよりなる群から選ばれる少なくとも１種のポリマーからなる第２ポリマー層の少なくとも一層からなる。
【００１８】
第１ポリマー層を構成するポリオレフィンはホモポリマーであってもコポリマーであってもよく、またコポリマーはランダムコポリマーであってもブロックコポリマーであってもよい。また、単一の第１ポリマー層を構成するポリオレフィンは単一ポリマーから成っていても、２種以上のポリオレフィンのブレンド物からなっていてもよい。
【００１９】
かかるポリオレフィンを形成するオレフィンとしては、炭素数２〜１０のα―オレフィンを好ましいものとして挙げることができる。炭素数２〜１０のα―オレフィンとしては、例えばエチレン、１―プロペン、１―ブテン、１―ペンテン、４―メチル―１―ペンテン、１―ヘキセン、１―オクテン、１―ノネンおよび１―デセン等を挙げることができる。
【００２０】
ポリオレフィンの具体例としては、例えば低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン或いはこれらの共重合体、ポリ（エチレン／プロピレン）共重合体等を挙げることができる。これらのポリオレフィンのうち、特に融点が１００℃〜１７０℃のポリプロピレン或いは共重合ポリプロピレンがポリエステルとの共押出性や共延伸性に優れるため好ましい。共重合ポリプロピレン（例えばポリプロピレン／エチレン）共重合体）は共重合成分の割合が１０モル％以下のものが特に好ましい。
【００２１】
本発明において、かかるポリオレフィンはスルホン酸四級ホスホニウム塩をポリオレフィンに基づき０．００１〜１重量％含有することが必要である。この割合が０．００１重量％よりも少ないと多層フイルムと冷却ドラムとの密着が不十分なものとなる。またこの割合が１重量％を超えるとポリオレフィン中のスルホン酸四級ホスホニウム塩の分散性が悪くなりフイルムにフィッシュアイが発生したり、或いは溶融製膜の際にスルホン酸四級ホスホニウム塩の熱劣化やポリオレフィンの熱劣化が顕著になりフイルムの着色が著しくなる。
【００２２】
スルホン酸四級ホスホニウム塩の含有量は好ましくは０．００３〜０．５重量％であり、より好ましくは０．００５〜０．１重量％である。
【００２３】
スルホン酸四級ホスホニウム塩としては、例えば下記式（Ｉ）
【００２４】
【化３】
0003611919.tif 000002
【００２５】
ここで、Ｘ１  およびＸ２  は、同一もしくは異なり、水素原子またはエステル形成性官能基であり、Ｒ１  、Ｒ２  、Ｒ３  およびＲ４  は、同一もしくは異なり、炭素数１〜１８のアルキル基、ベンジル基または炭素数６〜１２のアリール基であり、ｎは１または２であり、そしてＡ１  は（ｎ＋２）価の炭素数２〜１８の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基である。但し、Ｘ１  とＸ２  がともに水素原子であることはない。
【００２６】
で表わされる化合物および下記式（ＩＩ）
【００２７】
【化４】
0003611919.tif 000003
【００２８】
ここで、Ｒ５  、Ｒ６  、Ｒ７  およびＲ８  は、同一もしくは異なり、炭素数１〜１８のアルキル基、ベンジル基または炭素数６〜１２のアリール基であり、ｍは１または２であり、そしてＡ２  はｍ価の炭素数４〜１８の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基である
で表される化合物が好ましく用いられる。
【００２９】
上記式（Ｉ）中、Ｘ１  およびＸ２  は、同一もしくは異なり、水素原子またはエステル形成性官能基である。エステル形成性官能基としては、例えばカルボキシル基、アルコキシカルボニル基、水酸基等を挙げることができる。但し、Ｘ１  とＸ２  が同時に水素原子であることはない。
【００３０】
Ｒ１  、Ｒ２  、Ｒ３  およびＲ４  は、同一もしくは異なり、炭素数１〜１８のアルキル基、ベンジル基または炭素数６〜１２のアリール基である。炭素数１〜１８のアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、その具体例としてメチル、エチル、ｎ―プロピル、ｉｓｏ―プロピル、ｎ―ブチル、ｉｓｏ―ブチル、ｓｅｃ―ブチル、ｔｅｒｔ―ブチル、ｎ―ペンチル、ｎ―ヘキシル、ｎ―オクチル、ｎ―ノニル、ｎ―デシル、ｎ―ウンデシル、ｎ―ドデシル、ｎ―ペンタデシル、ｎ―オクタデシル等を挙げることができる。炭素数６〜１２のアリール基としては、例えばフェニル、トリル、キシリル、アミル、ナフチル、ビフェニル等を挙げることができる。
【００３１】
ｎは１または２である。Ａ１  は（ｎ＋２）価すなわち３価または４価の炭素数２〜１８の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基である。Ａ１  の具体例は以下に記載する式（Ｉ）の化合物の具体例から明かとなろう。
【００３２】
式（Ｉ）中のホスホニウムカチオンの具体例としては、例えばテトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブチルメチルホスホニウム、トリブチルエチルホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウム、トリメチルブチルホスホニウム、トリメチルオクチルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウム、トリメチルステアリルホスホニウム、トリエチルオクチルスホニウム、トリブチルオクチルホスホニウム等の脂肪族ホスホニウム；トリフェニルメチルホスホニウム、トリフェニルエチルホスホニウム、トリエチルベンジルホニウム、トリブチルベンジルホスホニウム等の芳香族ホスホニウム等を挙げることができる。更に、テトラメチロールホスホニウム、トリ（２―シアノエチル）メチルホスホニウム、トリ（２―シアノエチル）エチルホスホニウム、トリ（２―シアノエチル）ベンジルホスホニウム、トリ（３―ヒドロキシプロピル）メチルホスホニウム、トリ（３―ヒドロキシプロピル）ベンジルホスホニウム、トリメチル（２―ヒドロキシエチル）ホスホニウム、トリブチル（２―ヒドロキシエチル）ホスホニウム等の置換基を有するホスホニウムも使用できる。
【００３３】
式（Ｉ）で示されるスルホン酸四級ホスホニウム塩としては、例えば、３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸ベンジルトリブチルホスホニウム塩、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸ブチルトリフェニルホスホニウム塩、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸ベンジルトリフェニルホスホニウム塩、３，５―ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３，５―ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウム塩、３，５―ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸ベンジルトリブチルホスホニウム塩、３，５―ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、３，５―ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、３，５―ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、３，５―ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸ブチルトリフェニルホスホニウム塩、３，５―ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸ベンジルトリフェニルホスホニウム塩、３―カルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３―カルボキシベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、３―カルボメトキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３―カルボメトキシベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、３，５―ジ（β―ヒドロキシエトキシカルボニル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３，５―ジ（β―ヒドロキシエトキシカルボニル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、３―（β―ヒドロキシエトキシカルボニル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３―（β―ヒドロキシエトキシカルボニル）ベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、４―ヒドロキシエトキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ビスフェノールＡ―３，３´―ジ（スルホン酸テトラブチルホスホニウム塩）、２，６―ジカルボキシナフタレン―４―スルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、α―テトラブチルホスホニウムスルホコハク酸等を挙げることができる。
【００３４】
また上記式（ＩＩ）中、Ｒ５  、Ｒ６  、Ｒ７  およびＲ８  は、同一もしくは異なり、炭素数１〜１８のアルキル基、ベンジル基または炭素数６〜１２のアリール基である。炭素数１〜１８のアルキル基及び炭素数６〜１２のアリール基としては、式（Ｉ）について前述したものと同じものを具体例としてあげることができる。
ｍは１または２である。
【００３５】
Ａ２  、ｍ価すなわち１価または２価の炭素数４〜１８の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基である。Ａ２  の具体例は以下に記載する式（ＩＩ）の化合物の具体例から明かになろう。
【００３６】
式（ＩＩ）中のホスホニウムカチオンの具体例としては、式（Ｉ）について前述したものと同じものを挙げることができる。
【００３７】
式（ＩＩ）で表わされるスルホン酸四級ホスホニウム塩のうち、ｍ＝１の化合物としては、例えばブチルスルホネート、オクチルスルホネート、ラウリルスルホネート、ミリスチルスルホネート、ヘキサデシルスルホネート、２―エチルヘキシルスルホネート、等の脂肪族スルホネート類及びこれらの混合物、ｐ―トシレート、ブチルフェニルスルホネート、ドデシルフェニルスルホネート、オクタデシルフェニルスルホネート、ジブチルフェニルスルホネート等の置換フェニルスルホネート類、ナフチルスルホネート、ジイソプロピルナフチルスルホネート、ジブチルナフチルスルホネート等の置換或いは非置換ナフチルスルホネート類等を挙げることができる。ｍ＝２の化合物としては、例えば１，１―エタンジスルホン酸、１，２―エタンジスルホン酸、フェノール―２，４―ジスルホン酸、フェノール―２，５―ジスルホン酸、１，２―ジオキシベンゼン―３，５―ジスルホン酸、ヒドロキシ―２，５―ジスルホン酸、１，４―ベンゼンジスルホン酸、２，５―ジメチル―１，３―ベンゼンジスルホン酸、４―メチル―１，３―ベンゼンジスルホン酸、５―メチル―１，３―ベンゼンジスルホン酸、５―メチルオキシカルボニル―１，３―ベンゼンジスルホン酸、１，８―ジヒドロキシアントラキノン―２，７―ジスルホン酸、１，５―ジヒドロキシアントラキノン―２，６―ジスルホン酸、１，５―ジメトキシアントラキノン―２，６―ジスルホン酸等を挙げることができる。
【００３８】
かかるスルホン酸４級ホスホニウム塩のうち、前記式（Ｉ）で示されるスルホン酸四級ホスホニウム塩を用いると多層フイルムと冷却ドラムの密着性がより良好となるため好ましく、特に下記式（ＩＩＩ）に示した３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム塩が好ましい。尚、スルホン酸４級ホスホニウム塩は一種のみを単独で用いても二種以上併用してもよい。
【００３９】
【化５】
0003611919.tif 000004
【００４０】
また、第１のポリマー層の基質の溶融状態における体積固有抵抗値は第２のポリマー層を構成するポリマーの融点よりも１５℃高い温度において０．５×１０９  Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。体積固有抵抗値がこの範囲にあるとキャスティングの際に多層フイルムへの静電印加が強くなり冷却ドラムと多層フイルムとの密着が良好なものとなる。
【００４１】
第２ポリマー層はポリエステルまたはポリフェニレンスルフィドからなる。
【００４２】
ポリエステルとしては例えば芳香族ジカルボン酸成分と炭素数２〜１０の脂肪族ジオール成分とからなる芳香族ポリエステルを好ましく挙げることができる。
【００４３】
このジカルボン酸成分としては、例えばテレフタル酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸等を挙げることができ、特にテレフタル酸、イソフタル酸或いは２，６―ナフタレンジカルボン酸が好ましい。
【００４４】
また、ジオール成分としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４―ブタンジオール、１，５―ペンタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，８―オクタメチレングリコール、１，１０―デカメチレングリコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール等を挙げることができる。特にエチレングリコール、１，４―ブタンジオールが好ましい。
【００４５】
かかるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート、或いはポリブチレンテレフタレートが多層フイルムから剥離したポリエステルのみからなるフイルムの機械的特性や熱的特性等が優れるたものとなるため好ましい。
【００４６】
このポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート或いはポリブチレンテレフタレートには、ジカルボン酸成分或いはジオール成分の一部、例えば各成分の１０モル％以下が他の共重合成分で置換された共重合体ポリエステルあるいは、三官能以上の多価化合物がポリエステルが実質的に線状となる範囲（例えば５モル％以下）で少量共重合されたポリエステルも包含される。
【００４７】
前記他の共重合成分としては、ポリエチレンテレフタレートの場合には、酸成分としてイソフタル酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸等を好ましいものとして挙げることができ、ジオール成分としてプロピレングリコール、１，４―ブタンジオール、１，５―ペンタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール等を好ましいものとして挙げることができる。
【００４８】
ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分としては、酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸等を好ましいものとして挙げることができ、ジオール成分として、プロピレングリコール、１，４―ブタンジオール、１，５―ペンタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール等を好ましいものとして挙げることができる。
【００４９】
ポリブチレンテレフタレートの共重合成分としては、酸成分としてイソフタル酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸等を好ましいものとして挙げることができ、ジオール成分として、エチレングリコール、１，６―ヘキサンジオール、プロピレングリコール、１，５―ペンタンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール等を好ましいものとして挙げることができる。
【００５０】
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート及びポリブチレンテレフタレートの共重合成分としては、上記の成分の他に、例えばヘキサヒドロテレフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等のジカルボン酸成分、１，３―プロパンジオール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ビスフェノールＡ等のグリコール成分を挙げることができる。
【００５１】
上記のポリエステルには、単独重合体或いは共重合体を用いることができ、これらのポリエステルをブレンドしたものを用いることもできる。
【００５２】
また、ポリフェニレンスルフィドとしては、例えばポリ（ｐ―フェニレンスルフィド）が好ましく用いられる。このポリ（ｐ―フェニレンスルフィド）には、全繰返し単位の７０モル％以上、より好ましくは８５モル％以上が下記式
【００５３】
【化６】
0003611919.tif 000005
【００５４】
で表される繰返し単位からなるホモポリマーおよびコポリマーが包含される。全繰返し単位の３０モル％以下、好ましくは１５モル％以下は共重合可能なスルフィド結合を有する繰返し単位からなることができる。共重合成分の割合があまり多くなると、ポリマーの結晶性や熱転移温度が低下し、フイルムの耐熱性、寸法安定性あるいは機械的特性も低下するようになる。
【００５５】
なお、共重合可能なスルフィド結合を有する繰返し単位としては、例えば下記式で表される如き繰返し単位を挙げることができる。
【００５６】
【化７】
0003611919.tif 000006
【００５７】
第２のポリマー層の基質の溶融状態における体積固有抵抗値は第２のポリマー層を構成するポリマー、すなわちポリエステルまたはポリ（ｐ―フェニレンスルフィド）の融点より１５℃高い温度において０．５×１０９  Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。体積固有抵抗値がこの範囲にあるとキャスティングの際に多層フイルムへの静電印加が強くなり冷却ドラムと多層フイルムとの密着が良好なものとなる。
【００５８】
かかる固有抵抗値を有するポリマーは、ポリマーに例えばアルカリ金属塩化合物を配合あるいは共重合することにより得ることができる。ポリエステルの場合、ポリエステルにスルホン酸四級ホスホニウム塩を配合あるいは共重合することにより、上記固有抵抗値を有するポリマーを容易に得ることができる。かかるスルホン酸四級ホスホニウム塩としては上記式（Ｉ）または（ＩＩ）で表される化合物が好ましく用いられる。
【００５９】
本発明の多層フイルムは、第１のポリマーの少なくとも１層と第２のポリマーの少なくとも１層からなりそして隣接する第１ポリマー層と第２ポリマー層を有する。隣接する第１ポリマー層と第２ポリマー層との間の層間接着力は０．１〜２０ｇ／ｃｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜１０ｇ／ｃｍの範囲にある。層間接着力が０．１ｇ／ｃｍよりも小さいと多層フイルムをロール状に巻いて保管する際や搬送する際に層間剥離や層間のずれが起こり、皺や、破れなどのトラブルが発生することがある。また、層間接着力が２０ｇ／ｃｍを超えると第１ポリマー層或いは第２ポリマー層を多層フイルムから剥離する際にフイルムが破れたり、ピンホールが生じたりするため好ましくない。
【００６０】
溶解度パラメータ（ＳＰ値）の差が１以上、特に２以上である第１ポリマーと第２ポリマーとを組合わせて用いると、多層フイルムからの第１ポリマー層或いは第２ポリマー層の剥離が容易で、厚み斑の少ない単層フイルムが得られるため好ましい。
【００６１】
また、第１ポリマー層と第２ポリマー層の間の層間接着力を上記範囲とするために、隣接する２層の第１ポリマーおよび第２ポリマーの少くとも一方に、潤滑剤を配合することができる。
【００６２】
この潤滑剤は、常温で液体であっても固体であってもよく、融点あるいは軟化点が２００℃以下のものであることが好ましい。潤滑剤の具体例として、下記のものを挙げることができ、これらの二種類以上を用いてもよい。
【００６３】
脂肪族炭化水素：流動パラフィン、マイクロクリスタリンワックス、天然パラフィン、合成パラフィン、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等、
高級脂肪酸またはその金属塩：ステアリン酸、ステアリン酸カルシウム、ヒドロキシステアリン酸、硬化油、モンタン酸ナトリウム等、
脂肪族アミド：ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ベヘンアミド、メチレンビスステアラミド等、
脂肪酸エステル：ｎ−ブチルステアレート、メチルヒドロキシステアレート、ミリシルセロチネート、高アルコール脂肪酸エステル、エステル系ワックス等、
脂肪酸ケトン：ケトンワックス等、
脂肪アルコール：ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール等、
脂肪酸と多価アルコールの部分エステル：グリセリン脂肪酸エステル、ヒドロキシステアリン酸トリグリセリド、ソルビタン脂肪酸エステル等、
非イオン系界面活性剤：ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル等、
シリコン油：直鎖状メチルシリコン油、メチルフェニルシリコン油、変成シリコン油等、
フッ素系界面活性剤：フルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルカルボン酸、モノパーフルオロアルキルエチルリン酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸塩等。
【００６４】
潤滑剤は、第１ポリマーあるいは第２ポリマーに基づいて、ぞれぞれに例えば０．００１〜１重量％、更に好ましくは０．００５〜０．５重量％配合することができる。
【００６５】
また、第１ポリマーおよび第２ポリマーの少なくとも一方には、その他、隣接する２層を分離し、巻き取る場合の巻き取り性を向上させるために、滑剤を含有させることができる。かかる滑剤としては、例えば乾式法で製造されたシリカ、湿式法で製造されたシリカ、ゼオライト、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、カオリン、カオリナイト、クレイ、タルク、酸化チタン、アルミナ、ジルコニア、水酸化アルミニウム、酸化カルシウム、グラファイト、カーボンブラック、酸化亜鉛、炭化珪素、酸化錫等の無機微粒子；架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等の有機微粒子を好ましく挙げることができる。
【００６６】
滑剤としては平均粒径が０．００１μｍから５．０μｍの微粒子が好ましい。これらは例えば０．０１〜０．５重量％の配合割合で含有させることができる。
【００６７】
また、前記の潤滑剤以外にも酸化防止剤、帯電防止剤、着色剤、顔料、蛍光増白剤、可塑剤、架橋剤、紫外線吸収剤、他の樹脂等を必要に応じて添加することができる。
【００６８】
本発明の多層フイルムは、第１ポリマーの少なくとも１層と第２ポリマーの少なくとも１層からなる。
【００６９】
第１ポリマーの１層と第２ポリマーの１層からなる２層フイルムは最も簡単な構成の多層フイルムである。
【００７０】
第１ポリマーの１層と第２ポリマーの２層からなる３層フイルムでは、第１ポリマーの１層を中間層として第２ポリマーの２層がいずれも最外層を形成するかあるいは第２ポリマーの１層を中間層として第１ポリマーの１層と第２ポリマーのもう１層が最外層を形成することができる。
【００７１】
第１ポリマーの２層と第２ポリマーの１層からなる３層フイルムの２つの態様も、上記３層フイルムの２つの態様から容易に理解されよう。
【００７２】
上記具体的態様から理解されるように、本発明の多層フイルムは、第１ポリマー層の１層と第２ポリマー層の少なくとも１層からなり、そしてこれらの少なくとも２層がこの順番で隣接する多層フイルム、あるいは第１のポリマー層の少なくとも１層と第２のポリマー層の少なくとも２層からなり、そして第２のポリマー層の２層が最外層となるように交互に隣接する少なくとも３層からなる多層フイルムを包含する。
【００７３】
また、本発明の多層フイルムは、上記と逆の構成として、第２ポリマー層の１層と第１ポリマー層の少なくとも１層からなり、そしてこれらの少なくとも２層がこの順番で隣接する多層フイルム、あるいは第２のポリマー層の少なくとも１層と第１ポリマー層の少なくとも２層からなり、そして第１のポリマー層の２層が最外層となるように交互に隣接する少なくとも３層からなる多層フイルムを包含する。
【００７４】
上記態様において、最外層を形成するポリマー層は、第１ポリマー層の複数層からなるかあるいは第２ポリマー層の複数層からなることができる。
【００７５】
本発明の多層フイルムは、未延伸フイルム、一軸延伸フイルム、二軸延伸フイルムのいずれでもよいが、特に二軸延伸フイルムが機械的特性に優れるため好ましい。多層フイルムの厚みは特に限定されないが、例えば二軸延伸フイルムの場合では、多層フイルムの総厚みが５μｍから１００μｍ、特に５μｍから５０μｍ、第２ポリマー層の１層あたりの厚みが０．０１μｍから５０μｍ、特に０．１μｍから２０μｍ、第１ポリマー層の１層あたりの厚みが０．５μｍから５０μｍ、特に１μｍから３０μｍのものが好ましい。また、多層フイルムの総厚みに占める第２ポリマー層の総厚みの割合は、２〜５０％、特に５〜２０％であることが好ましい。
【００７６】
本発明における未延伸多層フイルムは、第１ポリマー層と、それに隣接する少なくとも１層の第２ポリマー層とを有する多層溶融フイルムを回転冷却ドラム上に共押出し、次いで該フイルムを回転する冷却ドラムに密着させ冷却することによって製造される。このとき、第１ポリマー層を構成するポリオレフィンがスルホン酸四級ホスホニウム塩を０．００１〜１重量％含有するので、該多層溶融フイルムが回転冷却ドラム上に到達する近傍において、該フイルムの溶融面に非接触的に電荷を容易に印加することができ、それによってフイルムを回転する冷却ドラムに密着させることができる。
【００７７】
例えば、第２ポリマーと第１ポリマーとを別々の押出機に供給し、各々のポリマーの融点以上３５０℃迄の温度となるよう溶融し、各溶融ポリマーを導管内或いは成形用口金（ダイス）内部で合流させて多層状態とし、これを口金から吐出させ、該吐出フイルムに静電荷を印加させながら冷却ドラムにて冷却固化させることにより、未延伸多層フイルムを製造することができる。この未延伸多層フイルムは第１ポリマー層と、それに隣接する少なくとも１層の第２ポリマー層とを有する２層以上の多層フイルムであれば、いかなる層数であってもよい。
【００７８】
多層フイルムの製造には、スルホン酸四級ホスホニウム塩（例えば３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム）を０．００１〜１重量％、好ましくは０．００３〜０．５重量％、より好ましくは０．００５〜０．１重量％含有したポリオレフィンを用いる。かかるポリオレフィンを用いるとポリオレフィンの溶融時の電気抵抗が低減するので、多層フイルムを構成する各層の静電荷印加が十分なものとなり多層フイルムと冷却ドラムとの密着性が良好となる。また、得られる多層フイルムがピンホール等の欠陥がなく色相が良好なものとなる。更に、第２ポリマーにもスルホン酸四級ホスホニウム塩を配合すると、多層フイルムと冷却ドラムとの密着性が更に向上するので好ましい。
【００７９】
尚、ポリエステル原料は押出機に供給する前に乾燥することが好ましい。一方、ポリオレフィン原料は必ずしも乾燥する必要はないが、１００℃以上、ポリオレフィンのＴｍ（融点）未満の温度で乾燥したものを用いることもできる。
【００８０】
前記の未延伸多層フイルムは必要に応じて更に１軸方向或いは２軸方向に延伸して一軸延伸多層フイルム或いは二軸延伸多層フイルムとすることができる。かかる一軸延伸多層フイルム或いは二軸延伸多層フイルムを得るには、上記の未延伸多層フイルムを延伸可能な温度（例えば第２ポリマーのＴｇ（ガラス転移温度）以上、Ｔｇ＋８０℃以下の温度）に加熱し、少なくとも１軸方向に延伸する。また、延伸倍率は一軸延伸多層フイルムでは１軸方向に２〜１２倍とすることが好ましく、二軸延伸多層フイルムでは延伸面積倍率で５〜５０倍とすることが好ましい。
【００８１】
上記の二軸延伸多層フイルムは、例えば未延伸多層フイルムを縦方向に延伸し、次いで横方向に延伸するいわゆる縦−横逐次延伸法、縦方向と横方向とを同時に延伸する同時二軸延伸法により製造することができる。この二軸延伸多層フイルムは、更に縦方向或いは横方向の１軸方向に、或いは縦方向及び横方向の２軸方向に再延伸して２軸再延伸多層フイルムとすることもできる。
【００８２】
上記の一軸延伸多層フイルム或いは二軸延伸多層フイルムは、第２ポリマーのＴｍ（融点）未満の温度で更に熱処理し、室温まで冷却することにより一軸延伸（熱処理）多層フイルム或いは二軸延伸（熱処理）多層フイルムとすることができる。
【００８３】
かくして得られた一軸延伸多層フイルム或いは二軸延伸多層フイルムはその表面に、例えば特公昭５６−１８３８１号公報や特公昭５７−３０８５４号公報等で知られるような表面活性化処理（例えばプラズマ処理、アミン処理、コロナ処理等）を施しても良い。
【００８４】
本発明の多層フイルムから第２ポリマー層或いは第１ポリマー層を剥離分離して得られる第２ポリマーのみからなるフイルム或いは第１ポリマー層のみからなるフイルムは種々の用途に用いることができる。
【００８５】
例えば、厚みが３μｍ以下のポリエステル単層フイルム、特に１μｍ以下の極薄の単層フイルムは、延伸工程での破断や巻取り工程での巻き不良等が生じ易いため単層フイルムでは製造が容易ではないが、本発明の多層フイルムから剥離分離することによれば容易に得ることができる。
【００８６】
かかるポリエステル単層の極薄フイルムは、コンデンサー用フイルム（例えば肉厚３μｍ以下のフイルム）、プリンターリボン用フイルム（例えば肉厚５μｍ程度のフイルム）感熱孔版印刷用フイルム、磁気記録用フイルム（例えばＱＩＣテープ用：コンピューター記録用１／４インチテープ）等に有用である。本発明の多層フイルムを積層コンデンサー用途に用いる場合は、多層フイルムの表面に金属膜を蒸着した後スリットし、金属膜を蒸着した表面層を剥離分離することにより効率的に得ることができる。
【００８７】
また、ポリオレフィンやポリフェニレンスルフィドの単層フイルムは、コンデンサー用フイルム（例えば肉厚３μｍ以下のフイルム）、ノングレアフイルム（例えば肉厚５０μｍ以下のフイルム）等に有用である。
【００８８】
更に、多層フイルムの構成を第２ポリマー層／第１ポリマー層／第２ポリマー層の如きサンドイッチ構造とし、使用する直前に中間層の第１ポリマー層から両外層の第２ポリマー層を剥離分離することにより、表面の酸化膜が極めて少なく、また異物の表面付着等の少ない超クリーンな第１ポリマー層単層フイルムを得ることができる。
【００８９】
或いは多層フイルムの構成を第２ポリマー層／第１ポリマー層／第２ポリマー層／第１ポリマー層／第２ポリマー層の如きサンドイッチ構造とし、中間層の第２ポリマー層を剥離分離することにより、表面の酸化膜が極めて少なく、また異物の表面付着等の少ない超クリーンな第２ポリマー層単層フイルムを得ることができる。
【００９０】
かかる多層フイルムの中間層から得られる単層フイルムは、高透明フイルム（特に滑剤を含まない高透明フイルム）、内部光拡散フイルム（ノングレアムフイルム）、超クリーンフイルム（医療機器や精密機器の保護フイルム）等に有用である。
【００９１】
また、本発明の二軸延伸した多層フイルムからは、各層を各々剥離分離することにより、二軸延伸した単層フイルムを同時に２枚以上の複数枚数、高効率かつ低コスト得ることができる。
【００９２】
上記の剥離分離は、可能な限り最終工程にて行うことが、フイルムの取り扱いやフイルムの皺や擦り傷などの発生防止に効果があり、例えばコンデンサー素子を作製する直前に剥離分離したフイルムを用いると絶縁欠陥が大幅に減少し、コンデンサーの不良率が小さくなる等の効果がある。
【００９３】
尚、本発明の多層フイルムは各種の離型フイルムとしても用いることができる。
【００９４】
【実施例】
以下、実施例をあげて本発明を更に詳細に説明する。尚、各特性値は下記の方法で測定した。
【００９５】
１．単層フイルムの層厚み
１μｍより薄い、極薄フイルムの厚みは、ハロゲンランプ又はキセノンラノプを光源とした可視光波長発光ランプを用いた透過光型光干渉厚み測定器を用いて、隣り合った干渉縞間隔から下記の（１）式によって算出した。
【００９６】
【数１】
ｄ＝（λ１  ×λ２  ）／［２×ｎ×（λ１  −λ２  ）］……（１）
但し、（１）式中のｄは厚み（ｎｍ）、λ１  及びλ２  は干渉縞のピーク波長（ｎｍ）を表し（λ１  ＞λ２  ）、ｎは第２ポリマーフイルム或いは第１ポリマーフイルムの縦方向及び横方向の平均の屈折率である。
【００９７】
上記方法を適用できない厚み範囲（厚物）のフイルムは電子マイクロメーターによりその厚みを測定した。
【００９８】
２．溶融樹脂の体積固有抵抗値（インピーダンス）
融点以上（２７０℃）に加熱した溶融樹脂に電極を挿入し５０Ｈｚの交流電圧を加え、電極間に流れる電流値によってその溶融樹脂の体積固有抵抗値を測定した。
【００９９】
３．接着力
多層フイルムを幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍの大きさに切り出し、第２ポリマー層を第１ポリマー層から剥離角度１８０度で連続的に２ｍ／分の速度で剥離したときにかかる張力（ｇ）を測定した。この張力（ｇ）の平均値とサンプル幅（１０ｍｍ）から得られた幅１ｃｍ当たり張力を接着力Ｔ（ｇ／ｃｍ）とした。
【０１００】
４．融点
ＤＳＣ（デュポン社製・Ｖ４．０Ｂ２０００型機）を用いて２０℃／分の昇温速度でサンプル（１０ｍｇ）を昇温させた際の、融解に伴う吸熱ピークの頂上部に相当する温度を融点（Ｔｍ）とした。
【０１０１】
５．ガラス転移温度
ＤＳＣ（デュポン社製・Ｖ４．０Ｂ２０００型）を用いて２０℃／分の昇温速度でサンプル（１０ｍｇ）を昇温させてガラス転移温度（Ｔｇ）を測定した。
【０１０２】
６．誘電正接（ｔａｎδ）
ＪＩＳ  Ｃ  ５１０２の測定法により測定した。
【０１０３】
７．ポリエステルの固有粘度
オルソクロロフェノール中の溶液として３５℃で測定した。
【０１０４】
［実施例１］
ポリエステル原料として、酢酸カリウムをジカルボン酸成分に対し１２ｍｍｏｌ％、平均粒子径０．１２μｍのＳｉＯ２  粒子をポリエステルに対し０．３重量％配合した固有粘度が０．６０のポリエチレンテレフタレート（Ｔｍ：２５６℃、Ｔｇ：６８℃）のペレットを用い、これを１７０℃で３時間乾燥した後、押出機に供給し、２８０℃で溶融押出した。一方、ポリオレフィン原料として、３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムを０．０５重量％含有したポリプロピレン（Ｔｍ：１６８℃、メルトフローレイト：２５）のペレットを用い、これを１００℃で２時間乾燥した後、別の押出機に供給し、ポリエチレンテレフタレートと同様２８０℃で溶融押出した。各々の溶融ポリマーをダイス内部で合流させ、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン／ポリエチレンテレフタレートの３層多層構造とした後、口金から吐出させ、次いで２０℃に保たれた冷却ドラムに静電荷を印加しながら巻き付けることにより冷却固化させて３層の未延伸多層フイルムとした。静電荷の印加電圧は５ｋＶ、その際に流れた電流値は０．２ｍＡであり、得られたフイルムは厚みが均一で層間剥離ならびに層間のずれ等のない良好なフイルムであった。また、両外層のポリエチレンテレフタレート層は２０μｍ、内層のポリプロピレン層は１５０μｍであった。
【０１０５】
この未延伸多層フイルムを構成する各層をサンプリングし、２７０℃の溶融状態で５０Ｈｚの交流電圧の条件で測定した体積電気抵抗は、内層のポリプロピレンが０．１×１０９  Ω・ｃｍ、外層のポリエチレンテレフタレートが０．１×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１０６】
上記の未延伸多層フイルムを加熱ロールに接触させて１００℃に加熱した後、長手方向に３．６倍延伸し、直ちに２０℃まで冷却した。続いて横方向にテンター式横延伸装置を用いて１００℃で３．９倍延伸した後、２１０℃で熱処理を施し、室温まで冷却した後巻取った。加熱、延伸、熱処理及び冷却の各工程は安定したものであり、得られた３層の二軸延伸多層フイルムは各層の厚み斑が小さい良好なものであった。
【０１０７】
得られた二軸延伸多層フイルムは、外側のポリエチレンテレフタレート層の厚みが１．４μｍ、内層のポリプロピレン層の厚みが１１μｍであり、ポリエチレンテレフタレート層とポリプロピレン層の接着力は０．８ｇ／ｃｍであった。
【０１０８】
次にこの二軸延伸多層フイルムを真空蒸着機の中へ入れ、真空度１０〜５ｍｍＨｇ、蒸着速度３０ｍ／分の条件で両側のポリエチレンテレフタレート層の表面に厚さ０．０８μｍのアルミニウムを蒸着した。この蒸着多層フイルムからアルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレート層を剥離したところ皺の発生がなく、かつ剥離の際にフイルムの破れや切断も起こらず、きれいな状態で極薄蒸着ポリエチレンテレフタレートフイルムが得られた。尚、ポリエチレンテレフタレート層とポリプロピレン層との層間接着力は０．６ｇ／ｃｍであった。
【０１０９】
この蒸着多層フイルムを１ｃｍ幅にスリットし、蒸着多層フイルムから蒸着したポリエチレンテレフタレート層を剥離しながら、アルミニウム端面が交互に外側になるように巻回し、メタリコンを施してコンデンサー素子を作製した。得られたコンデンサのｔａｎδは０．００３７（２３℃、６０％ＲＨの雰囲気下）で良好な特性を示した。
【０１１０】
［実施例２］
ポリエステルとして、平均粒子径０．１２μｍのＳｉＯ２  粒子をポリエステルに対し０．３重量％配合し、３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムをジカルボン酸成分に対し２ｍｍｏｌ％共重合した固有粘度が０．６０のポリエチレンテレフタレート（Ｔｍ：２５６℃、Ｔｇ：６８℃）を用いた以外は実施例１と同様にしてポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン／ポリエチレンテレフタレートからなる３層の未延伸多層フイルムを得た。キャスティングの際に流れた電流値は０．４ｍＡであり、この未延伸多層フイルムは層間剥離ならびに層間のずれ等のない極めて良好なものであった。また、両外側のポリエチレンテレフタレート層は７μｍ、内層のポリプロピレン層は１５０μｍであった。
【０１１１】
この未延伸多層フイルムを構成する各層をサンプリングし、２７０℃の溶融状態で５０Ｈｚの交流電圧の条件で測定した体積電気抵抗は、内層のポリプロピレンが０．１×１０９  Ω・ｃｍ、外層のポリエチレンテレフタレートが０．０４×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１１２】
このようにして得られた未延伸多層フイルムを実施例１と同様の加熱、延伸、熱処理及び冷却操作によって二軸延伸多層フイルムを得た。加熱、延伸、熱処理及び冷却の各工程は極めて安定したものであり、得られた３層の二軸延伸多層フイルムは各層の厚み斑が小さい良好なものであった。この二軸延伸多層フイルムは、外側のポリエチレンテレフタレート層の厚みが０．５μｍ、内層のポリプロピレン層の厚みが１１μｍであり、ポリエチレンテレフタレート層とポリプロピレン層との接着力が０．９ｇ／ｃｍであった。
【０１１３】
［比較例１］
ポリオレフィン原料として、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムを含有しないポリプロピレン（Ｔｍ：１６０℃、メルトフローレイト：２５）のペレットを用いた以外は実施例１と同様にして３層の未延伸多層フイルムおよび二軸延伸多層フイルムを得た。キャスティングの際に流れた電流値は０．０１ｍＡであり、得られた未延伸多層フイルムは局所的に厚さ斑があり、また横延伸工程で切断が多発し、更に得られた二軸延伸多層フイルムは厚み斑が非常に大きいものであった。
【０１１４】
この多層フイルムを構成する各層をサンプリングし、２７０℃の溶融状態で５０Ｈｚの交流電圧の条件で測定した体積電気抵抗は、内層のポリプロピレンが１．５×１０９  Ω・ｃｍ、外層のポリエチレンテレフタレートが０．１×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１１５】
［比較例２］
ポリエステルとして、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムを２ｍｍｏｌ％共重合したポリエチレンテレフタレート（Ｔｍ：２５０℃、Ｔｇ：６８℃）を用いた以外は比較例１と同様にして３層の未延伸多層フイルムおよび二軸延伸多層フイルムを得た。キャスティングの際に流れた電流値は０．０３ｍＡであり、得られた未延伸多層フイルムは局所的に厚さ斑があり、また横延伸工程で切断が多発し、更に得られた二軸延伸多層フイルムは厚み斑が非常に大きいものであった。
【０１１６】
この多層フイルムを構成する各層をサンプリングし、２７０℃の溶融状態で５０Ｈｚの交流電圧の条件で測定した体積電気抵抗は、内層のポリプロピレンが１．５×１０９  Ω・ｃｍ、外層のポリエチレンテレフタレートが０．０４×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１１７】
［実施例３］
ポリエステル原料として、酢酸カリウムをジカルボン酸成分に対し１２ｍｍｏｌ％、平均粒子径０．９μｍのカオリンを０．３ｗｔ％添加した固有粘度が０．６０のポリエチレンテレフタレートのペレットを用い、一方、ポリオレフィン原料として、３．５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムを０．０５ｗｔ％含有させたポリプロピレン（Ｔｍ：１６８℃、メルトフローレイト：７、エチレンランダム共重合体）のペレットを用いた。実施例１と同様の条件で乾燥、溶融し共押出し、実施例１と同様の条件で冷却固化および静電密着させ、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン／ポリエチレンテレフタレートの３層多層構造の未延伸多層フイルムとした。このときの静電密着性は良好で厚み斑、表面欠点は問題のないレベルであった。このときの体積固有抵抗値は、内層が０．１×１０９  Ω・ｃｍ、外層のポリエチレンテレフタレートの体積固有抵抗値は同じくが０．１×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１１８】
かくして得られた未延伸多層フイルムを実施例１と同様の条件で二軸延伸した。得られた二軸延伸多層フイルムは、外側のポリエチレンテレフタレート層の厚みが５μｍ、内層のポリプロピレン層の厚みが６μｍであり、ポリエチレンテレフタレート層とポリプロピレン層の接着力は０．６ｇ／ｃｍであった。尚、８時間の二軸延伸多層フイルム製膜中に破断はなく良好であり、更にこの多層フイルムを剥離して巻き取ったところ巻き姿は良好で、またインスペクションにて表面欠点をみたところ、静電密着の不足による欠点は見られず感熱転写プリンターリボン用ベースとして十分良好なレベルであった。
【０１１９】
［実施例４］
ポリエステル原料として、酢酸カリウムをジカルボン酸成分に対し１２ｍｍｏｌ％、平均粒子径０．９μｍのカオリンを０．３ｗｔ％添加した固有粘度が０．６０のポリエチレンテレフタレートのペレットを用い、一方、ポリオレフィン原料として、３．５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムを０．０５ｗｔ％含有させたポリプロピレン（Ｔｍ：１６８℃、メルトフローレイト：７、エチレンランダム共重合体）のペレットを用いた。実施例１と同様の条件で乾燥、溶融し共押出し、実施例１と同様の条件で冷却固化および静電密着させ、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレンの２層未延伸多層フイルムとした。このときの静電密着性は良好で厚み斑、表面欠点は問題のないレベルであった。このときの体積固有抵抗値は、内層が０．１×１０９  Ω・ｃｍ、ポリエチレンテレフタレートの体積固有抵抗値は同じくが０．１×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１２０】
かくして得られた未延伸多層フイルムを実施例１と同様の条件で二軸延伸した。得られた二軸延伸多層フイルムは、外側のポリエチレンテレフタレート層の厚みが５μｍ、内層のポリプロピレン層の厚みが６μｍであり、ポリエチレンテレフタレート層とポリプロピレン層の接着力は０．６ｇ／ｃｍであった。尚、８時間の二軸延伸多層フイルム製膜中に破断はなく良好であり、更にこの多層フイルムを剥離して巻き取ったところ巻き姿は良好で、またインスペクションにて表面欠点をみたところ、静電密着の不足による欠点は見られず感熱転写プリンターリボン用ベースとして十分良好なレベルであった。
【０１２１】
［実施例５］
ポリエステル原料として３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムをジカルボン酸に対し３ｍｍｏｌ％、平均粒径０．１２μｍのＳｉＯ２  粒子をポリエステルに対し０．３％、炭酸カルシウムを０．０３％配合した固有粘度が０．６０のポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート（Ｔｍ：２６３℃、Ｔｇ：１１３℃）のペレットを用いた。これを１７０℃で６時間乾燥した後、押出機に供給し、３００℃で溶融押出した。一方、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムを０．０５ｗｔ％含有した実施例１、２と同様のポリプロピレンのペレットを用い、両者を実施例１、２と同様の方法で共押出し、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート／ポリプロピレン／ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの３層多層構造の未延伸多層フイルムとした。このときの静電密着性は良好で厚み斑、表面欠点は問題のないレベルであった。このときの体積固有抵抗値は、内層が０．１×１０９  Ω・ｃｍ、外層の体積固有抵抗値は同じくが０．１×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１２２】
かくして得られた未延伸多層フイルムを赤外線ヒーターによる加熱で１３０℃に加熱した後に長手方向に４．５倍延伸し直ちに２０℃まで冷却した。続いて、横方向にテンター横方向延伸装置を用いて、１５０℃で５．０倍延伸した後、２１０で熱処理を施し、室温まで冷却した後巻き取った。また、外側のポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート層の厚みが５μｍ、内層のポリプロピレン層の厚みが６μｍであり、ポリエチレン２，６―ナフタレンジカルボキシレート層とポリプロピレン層の接着力は０．６ｇ／ｃｍであった。尚、８時間の二軸延伸多層フイルム製膜中に破断はなく良好であり、更にこの多層フイルムを剥離して巻き取ったところ巻き姿は良好で、また目視および偏光検査にて表面欠点を検査したところ、静電密着の不良による欠点は見られず磁気記録用特にＱＩＣ用ベースフイルムとして十分良好なレベルであった。
【０１２３】
［実施例６］
ポリエステル原料として３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムをジカルボン酸に対し３ｍｍｏｌ％、平均粒径０．１２μｍのＳｉＯ２  粒子をポリエステルに対し０．３％、炭酸カルシウムを０．０３％配合した固有粘度が０．６０のポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート（Ｔｍ：２６３℃、Ｔｇ：１１３℃）のペレットを用いた。これを１７０℃で６時間乾燥した後、押出機に供給し、３００℃で溶融押出した。一方、３，５―ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ―ｎ―ブチルホスホニウムを０．０５ｗｔ％含有した実施例１、２と同様のポリプロピレンのペレットを用い、両者を実施例１、２と同様の方法で共押出し、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート／ポリプロピレン／ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート／ポリプロピレン／ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの５層多層構造の未延伸多層フイルムとした。このときの静電密着性は良好で厚み斑、表面欠点は問題のないレベルであった。このときの各ポリプロピレン層の体積固有抵抗値は、０．１×１０９  Ω・ｃｍ、各ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート層の体積固有抵抗値は同じくが０．１×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１２４】
かくして得られた未延伸多層フイルムを赤外線ヒーターによる加熱で１３０℃に加熱した後に長手方向に４．５倍延伸し直ちに２０℃まで冷却した。続いて、横方向にテンター横方向延伸装置を用いて、１５０℃で５．０倍延伸した後、２１０で熱処理を施し、室温まで冷却した後巻き取った。また、最外側および内層のポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート層の厚みが５μｍ、ポリプロピレン層の厚みが６μｍであり、ポリエチレン２，６―ナフタレンジカルボキシレート層とポリプロピレン層の接着力は各層界面で０．６ｇ／ｃｍであった。尚、８時間の二軸延伸多層フイルム製膜中に破断はなく良好であり、更にこの多層フイルムを５枚に剥離分離して巻き取ったところ巻き姿は良好で、また目視および偏光検査にて表面欠点を検査したところ、静電密着の不良による欠点は見られず磁気記録用特にＱＩＣ用ベースフイルムとして十分良好なレベルであった。
【０１２５】
［実施例７］
硫化ナトリウムと１，４ジクロベンゼンからなる溶融粘度２５００ポイズのポリ・Ｐ・フェニレンスルフィド（ＰＰＳ：溶融２８５℃）で平均粒径０．７μｍのシリカ微粉０．０３重量％含有のペレットを押出機に供給し、３０５℃で溶融押出した。一方、ポリオレフィン原料として、３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムを０．０５重量％含有したポリプロピレン（Ｔｍ：１６８℃、メルトフローレイト：２５）のペレットを用い、これを１００℃で２時間乾燥した後、別の押出機に供給し、ＰＰＳと同様３０５℃で溶融押出した。各々の溶融ポリマーをダイス内部で合流させ、ＰＰＳ／ポリプロピレン／ＰＰＳの３層多層構造とした後、口金から吐出させ、次いで２０℃に保たれた冷却ドラムに静電荷を印加しながら巻き付けることにより冷却固化させて３層の未延伸多層フイルムとした。
【０１２６】
このときの静電荷の印加電圧は５ｋＶ、その際に流れた電流値は０．２ｍＡであり、得られたフイルムは厚みが均一で層間剥離ならびに層間のずれ等のない良好なフイルムであった。また、両外層のＰＰＳ層は２０μｍ、内層のポリプロピレン層は１５０μｍであった。
【０１２７】
この未延伸多層フイルムを構成する各層をサンプリングし、３００℃の溶融状態で５０Ｈｚの交流電圧の条件で測定した体積電気抵抗は、内層のポリプロピレンが０．１×１０９  Ω・ｃｍ、外層のＰＰＳが０．１×１０９  Ω・ｃｍであった。
【０１２８】
上記の未延伸多層フイルムを加熱ロールに接触させて１００℃に加熱した後、長手方向に４．０倍延伸し、続いて横方向にテンター式横延伸装置を用いて１００℃で３．５倍延伸した後、２１０℃で熱処理を施し、室温まで冷却した後巻取った。加熱、延伸、熱処理及び冷却の各工程は安定したものであり、得られた３層の二軸延伸多層フイルムは各層の厚み斑が小さい良好なものであった。
【０１２９】
得られた二軸延伸多層フイルムは、外側のＰＰＳ層の厚みが１．４μｍ、内層のポリプロピレン層の厚みが１１μｍであった。
【０１３０】
次にこの二軸延伸多層フイルムを真空蒸着機の中へ入れ、真空度１０〜５ｍｍＨｇ、蒸着速度３０ｍ／分の条件で両側のＰＰＳ層の表面に厚さ０．０８μｍのアルミニウムを蒸着した。この蒸着多層フイルムからアルミニウムを蒸着したＰＰＳ層を剥離したところ皺の発生がなく、かつ剥離の際にフイルムの破れや切断も起こらず、きれいな状態で極薄蒸着ＰＰＳフイルムが得られた。尚、ＰＰＳ層とポリプロピレン層との層間接着力は０．５ｇ／ｃｍであった。
【０１３１】
この蒸着多層フイルムを１ｃｍ幅にスリットし、蒸着多層フイルムから蒸着したＰＰＳ層を剥離しながら、アルミニウム端面が交互に外側になるように巻回し、メタリコンを施してコンデンサー素子を作製した。このとき、製造工程でのシワ、たるみ、ピンホール等がなく得られたコンデンサの特性も良好であった。
【０１３２】
【発明の効果】
本発明の多層フイルムは、平面性が良好で、かつ厚みが均一なものであり、保管や運搬の際にも層間剥離が生じ難い。また、本発明の多層フイルムからは肉厚の薄いポリエステル単層フイルム、ポリフェニレンスルフィド単層フイルム或いはポリオレフィン単層フイルムを剥離分離して得ることができ、特にポリエステル単層フイルムは、例えばコンデンサー用フイルム、プリンターリボン用フイルム、セラミックライナー用フイルム等に有用である。更に、３層以上の多層フイルムは両外面にカバーフイルムが積層されているので、中間層のフイルムから表面に酸化膜が少なく異物等の表面付着の無いクリーンなフイルムを得ることができる。
【０１３３】
本発明の多層フイルムの製造方法によれば、層間の接着力が弱いため層間剥離が生じ易い多層フイルムであっても、高速で、しかも安定してキャストすることができる。また、本発明の製造方法によれば、様々な分野に有用な３μｍ以下、特に１μｍ以下の極薄フイルムを安定して得ることができる。更に複数枚のフイルムを同時に製膜することができるので、低コストのフイルムを製造することができる。