(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも貫通孔が設けられた弁本体と、該貫通孔の一方の開口部に形成された弁座と、該弁座に離着座して前記開口部を開閉する弁体と、前記弁座又は前記弁体に取り付けられ、前記弁体が前記弁座に着座した時に前記開口部を密閉するシールリングと、前記貫通孔の延在方向と直角な方向に可動する駆動軸を有して前記弁体を前記弁座に離着座させるための駆動部とから成り、前記弁座に前記弁体が着座することにより、前記貫通孔を介して前記延在方向に相連通する２つの空間を相遮断して密封する真空バルブにおいて、
前記弁座に対する前記弁体の離着座をガイドして位置ずれを防ぐ位置決めピンが、前記弁本体および前記弁体の両端部において、前記駆動軸を挟み、かつ前記シールリングの外側となる位置に、前記弁本体および前記弁体を挿通するように設けられており、
また、前記弁座に着座する前記弁体の面は、前記駆動軸の可動方向と前記貫通孔の延在方向とを含む断面及び該断面と平行な断面において前記弁座側へ向かって凸で同一形状の円弧を呈する曲面をなしており、かつ前記曲面は前記駆動軸の可動方向と直角に交差する直交部分を有しており、
更に、前記弁座の面は着座する前記弁体の面と同一の面形状をしており、前記シールリングが前記直交部分に沿う部分を含んで前記開口部を囲うように配設されている
ことを特徴とする真空バルブ。
【請求項２】
前記駆動軸の可動方向と前記貫通孔の延在方向とを含む前記断面が鉛直面である
請求項１に記載の真空バルブ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば真空処理装置において、２つの空間を相連通又は相遮断するための真空バルブに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、真空処理装置では、成膜等の真空処理を行う真空処理室と、ウエハを真空処理室に供給したり取り出したりする仕込・取出室とは、真空バルブを介して連通されている。真空バルブの弁体は、低真空側の仕込・取出室に設けられているが、この仕込・取出室のスペースを有効に利用するために、その大きさはできるだけ小さい方が望ましい。また、例えばウエハ等の被処理物をベルトコンベヤを用いて搬送する場合には、仕込・取出室と真空処理室との受け渡しの際に被処理物がベルトコンベヤ間で落下しないように、それぞれの室に設けられているベルトコンベヤ間の距離は、ある一定値（被処理物の重心が一方のベルトコンベヤにある内に他方のベルトコンベヤに架け渡せる距離）以下にしなければならない。この場合、真空バルブは、ベルトコンベヤ間に配設されるため、仕込・取出室と真空処理室との間の貫通孔の連通方向の長さが所定値以下である真空バルブしか用いることができない。
【０００３】
そこで、従来の連通方向の長さが小さい真空バルブとして、図４及び図５に全体として１で示される真空バルブがある。この真空バルブ１は、筐体２の内部空間である仕込・取出室Ｃに配設されており、この仕込・取出室Ｃは真空槽３の内部空間である真空処理室Ｓに連通している。また、真空バルブ１は、弁本体１１と、弁本体１１に形成された弁座１２に離着座する弁体１３と、この弁体１３を可動する駆動部１４とから構成されている。なお、図の平行な２本の一点鎖線は、一点鎖線の中間部を省略したことを示している。
【０００４】
図５に示されるように、弁本体１１は、環状のゴムでなるシールリング４を介して、筐体２の開口２ａに位置するように、すなわち真空槽３の開口３ａの外周面に、図示しないボルトにより取り付けられている。弁本体１１には、図５において横方向（図において矢印Ｘで示される方向）に延びる段付貫通孔１１ａが形成されているが、この左方には、仕込・取出室Ｃ内に配設されたベルトコンベヤ９の右側端部が位置している。弁本体１１の段付貫通孔１１ａは、小径部２１と大径部２２とから成るが、小径部２１はウエハ等の薄板状の被処理物が通るための細長い形状をしており、大径部２２はその小径部２１の中央に形成されている。段付貫通孔１１ａの小径部２１の開口２１ａには、図５において右方が下向きの直線的な斜め形状の弁座１２が形成されている。他方、この段付貫通孔１１ａの大径部２２は、真空槽３の開口３ａと整合し、ここにベルトコンベヤ５及びガイドローラ６が配設されている。なお、ベルトコンベヤ５、９は、金属でなるうず巻き状の細長いベルト（スプリングコイルを長くしたような物）が、２条、エンドレスに張られたものである。
【０００５】
駆動部１４は、主としてアーム部１５、ベアリング１７、駆動軸７とより構成されている。駆動軸７は、取り付けの容易さ及び所要スペースを小さくするように、弁座１３の下方で、貫通孔の延在方向（すなわち、被処理物の搬送方向）と直角になるように配設され、その下部は、軸受２０を挿通して外方まで延びている。軸受２０は、フランジ部２０ａを有した仕込・取出室Ｃへと突出する中空体で、その外周は筐体２の開口２ｂに嵌合している。すなわち、軸受２０は駆動軸７の動きをガイドするものである。更に、軸受２０のフランジ部２０ａには、複数の支柱２４を介して取付板２５が取り付けられ、取付板２５の中央に上下に伸びる突部１６ａを有したエアシリンダ１６が設けられている。エアシリンダ１６の突部１６ａは、駆動軸７の下端部を固着するため２つの部材２９ａ、２９ｂ（これらは螺着により一体化されている）からなるジョイント２９に螺着されている。なお、支柱２４の１つには、マイクロフォトセンサ２８が設けられている。なおまた、軸受２０の下面には、駆動軸７と筐体２との気密化のため、駆動軸７を囲むようにフランジ付きベローズ８が取り付けられている。
【０００６】
駆動軸７の上端部は、嵌合及びボルト止めによって平板７ａが一体的に設けられており、更にこの平板７ａ上には、図４に示すように、同一の構造を有する２つの支持部材１９がボルトＢ１によって設けられている。この支持部材１９は、上部が２つに分かれて枝部１９ａ、１９ｂとなっており、この枝部１９ａ、１９ｂの間に軸２３を介して、複数（４個）のベアリング１７が軸着されている。更に、ベアリング１７は、図５で示されるように、その外周がステンレス鋼（ＳＵＳ）で成るアーム部１５に嵌合されている。アーム部１５は、第１アーム１５ａと第２アーム１５ｂとから成り、これら第１アーム１５ａと第２アーム１５ｂとの間に空間Ｈを形成している。閉弁状態では、この空間Ｈの右部にベアリング１７が位置しており、ベアリング１７は、この空間Ｈ内を摺動する。更に、第１アーム１５ａは、軸２７により弁本体１１に軸着されている。
【０００７】
弁体１３は、軸２６を介してアーム部１５の第１アーム１５ａに取り付けられているが、これはアーム部１５の回動により、そのフラットな面１３ｆが弁座１２に離着座するものである。弁体１３の面１３ｆには、弁体１３が弁座１２に着座した際に開口２１ａを密閉する環状のゴムで成るシールリング１８が取り付けられている。
【０００８】
従来例の真空バルブは、以上のように構成されるが、これは次のように作動する。
【０００９】
図４及び図５は、弁体１３が弁本体１１に形成された開口２１ａを閉じた状態、すなわち真空バルブ１の閉弁状態を示している。この状態から開弁状態となる作用について説明する。エアシリンダ１６を駆動すると、上方に伸びていたエアシリンダ１６の突部１６ａが縮み、この突部１６ａの上面１６ａａが降下する。すると、突部１６ａとジョイント２９を介して一体的に取り付けられている駆動軸７が下方に引き下げられる。同時に、駆動軸７に取り付けられているフランジ付きベローズ８は下方へと伸びる。駆動軸７が下方に移動すると、駆動軸７の上端部に取り付けられているベアリング１７も下方に移動する。しかし、このベアリング１７は、回動のみ可能なアーム部１５に嵌合されているので、ベアリング１７は、空間Ｈを移動することになる。従って、空間Ｈ、すなわちアーム部１５が軸２３を支点とし反時計回りに回動し、アーム部１５に取り付けられた弁体１３も回動して弁座１２より離れ、図６に示されるように仕込・取出室Ｃと真空処理室Ｓとが連通される。弁体１３が更に回動すると、開口２１ａが完全に開き、ウエハ等の被処理物Ｗの受け渡しが行われる。
【００１０】
なお、この状態から閉弁状態とするには、エアシリンダ１６を駆動させ、エアシリンダ１６の突部１６ａを伸ばす。すると、駆動軸７は突部１６ａによって、ジョイント２９を介して上昇し、フランジ付きベローズ８は上方へと縮む。駆動軸７の上昇に伴って、その先端に取り付けられているベアリング１７も上昇する。ベアリング１７が上昇しようとすると、アーム部１５は図６において時計回りに回動させられ、弁体１３が弁座１２に着座して、開口２１ａが閉じられる。
【００１１】
従来例の真空バルブ１は、以上のような作用を行うのであるが、次のような欠点を有するものである。
【００１２】
従来例の真空バルブ１では、駆動軸の可動する方向と、仕込・取出室Ｃと真空処理室Ｓとを連通する弁本体１１の貫通孔１１ａの延在方向とが直交しているため、開口２１ａを開弁する際には、駆動軸７の直線方向の動きを、回転方向の動きに変えている。この直線運動を回転運動に変えるために、駆動軸７の先端に設けられたベアリング１７が、金属でなるアーム部１５を摺動しながら移動する。すなわちベアリング１７は、アーム部１５と摩擦を生じながら移動するため、この摩擦により微細な金属粉が塵として発生する。この塵は、真空バルブ１を通過する被処理物、例えばシリコンウエハ等に付着し、生産上の歩留まりの低下を起こす。
【００１３】
なお、従来の真空バルブでは、可動軸７の直線運動を回転運動に変換するために、ベアリング１７が摺動可能に嵌合する空間Ｈをアーム部１５に形成し、かつこのアーム部１５を弁本体１１に軸着させている。従って、その構造が複雑となっている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述の問題に鑑みてなされ、簡単な構成で、２つの空間を連通する方向の長さを大きくせずに、塵となる金属粉などのパーティクルの発生を抑えることのできる真空バルブを提供することを課題とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
以上の課題は、請求項１の構成によって解決されるが、その解決手段を説明すれば、少なくとも貫通孔が設けられた弁本体と、該貫通孔の一方の開口部に形成された弁座と、該弁座に離着座して前記開口部を開閉する弁体と、前記弁座又は前記弁体に取り付けられ、前記弁体が前記弁座に着座したときに前記開口部を密閉するシールリングと、前記貫通孔の延在方向と直角な方向に可動する駆動軸を有して前記弁体を前記弁座に離着座させるための駆動部とから成り、前記弁座に前記弁体が着座することにより、前記貫通孔を介して前記延在方向に相連通する２つの空間を相遮断して密封する真空バルブにおいて、
前記弁座に対する前記弁体の離着座をガイドして位置ずれを防ぐ位置決めピンが、前記弁本体および前記弁体の両端部において、前記駆動軸を挟み、かつ前記シールリングの外側となる位置に、前記弁本体および前記弁体を挿通するように設けられており、
また、前記弁座に着座する前記弁体の面は、前記駆動軸の可動方向と前記貫通孔の延在方向とを含む断面及び該断面と平行な断面において前記弁座側へ向かって凸で同一形状の円弧を呈する曲面をなしており、かつ前記曲面は前記駆動軸の可動方向と直角に交差する直交部分を有しており、
更に、前記弁座の面は着座する前記弁体の面と同一の面形状をしており、前記シールリングが前記直交部分に沿う部分を含んで前記開口部を囲うように配設されている、ことを特徴とする真空バルブによって解決される。
【００１６】
このような構成にすることによって、弁体が固着された駆動軸の直線運動だけで、貫通孔を介して相連通する２つの空間のうちの一方を、他方より隔離して密封することができる。また、駆動軸の直線運動を回転運動に変換する構成がないので、この構成に起因して金属粉が塵として発生することはなく、よって被処理物の歩留まりを向上させることができる。更に、その構成も簡単となり、部品点数も少なくなって、組立誤差が少なくなるので、確実に両空間を密閉することができる。また、従来例の駆動軸より上方の部分と弁本体とを組み変えるだけで本発明が得られるので、従来例の真空バルブを用いていた装置に、本発明の真空バルブを付け替えることが容易にできる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
上述したように、本発明の真空バルブは、弁座に対する弁体の離着座をガイドして位置ずれを防ぐ位置決めピンが、弁本体および弁体の両端部において、駆動軸を挟み、かつシールリングの外側となる位置に、弁本体および弁体を挿通するように設けられており、また、弁座に着座する弁体の面は、駆動軸の可動方向と貫通孔の延在方向とを含む断面及び該断面と平行な断面において弁座側へ向かって凸で同一形状の円弧を呈する曲面をなしており、かつ該曲面は駆動軸の可動方向と直角に交差する直交部分を有しており、更に、弁座の面は着座する弁体の面と同一の面形状をしており、シールリングが直交部分に沿う部分を含んで開口部を囲うように配設されている。
従って、弁座への着座時に弁体は位置決めピンによって位置ずれせず、かつシールリングを介して弁座にかかる弁体の押圧力のうち、曲面の上記各断面において呈する円弧の法線方向の成分が弁座の面に直角に作用してシールがなされ、駆動軸の可動方向と直交する曲面の直交部分においては、弁体の押圧力はシールリングを介してそのまま弁座面に直角に作用してシールがなされると共に、弁座に対する弁体の滑りを抑制してシールを確実なものとする。
【００１８】
弁本体に形成されている弁座の面、及び弁座に着座する弁体の面を、上記の各断面において、弁座側に凸なる円弧とすれば、貫通孔を有しているために弁体より形成の難しい弁本体の形成を容易とすることができる。また、弁座の面の上記円弧、及び弁座に着座する弁体の面の上記円弧における曲率半径は、２つの空間を連通する貫通孔の高さに応じて定めるとよい。すなわち貫通孔の高さに対して、曲率半径を大きくすると、貫通孔を覆うためには弁本体の貫通孔の延在方向の長さを大きくする必要があり、また曲率半径を小さくすると、弁体に設けられたシールリングが圧接する弁座の部分の曲線の接線又は弁座に設けられたシールリングが圧接する弁体の部分の曲線の接線が、駆動軸の可動方向に対して直角でなくなる（というより駆動軸の可動方向に対してほぼ平行となる）ので、押圧力の法線方向の成分が小さくなりシール性が低下する。
【００１９】
弁体と駆動軸とを固定するためのサポートアームと弁体との連結箇所及び／又はサポートアームと駆動軸との連結箇所に、ゴムでなるクッションを設ければ、連結させる際の締付けシロを常に一定とすることができる。すなわち、従来の真空バルブから本発明の真空バルブに変える場合に、締付けシロを一定とすることができるためシールリングによるシール性を均一にすることができる。また、弁体が上記断面と垂直な方向に細長く延びる場合には、弁体を取り付けるサポートアームの面も、弁体と同様に細長く形成して弁体を取り付ければ、弁体を弁座に均一に押し付けることができる。
【００２０】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、図１乃至図３を参照して説明する。ただし、上記従来例に相当する同一の部分については、同符号を付し、その説明は省略する。
【００２１】
図１は本発明の実施例による真空バルブの正面図であり、図２は図１における［２］−［２］線方向の同真空バルブの側断面図であるが、これは全体として１０で示されている。真空バルブ１０は、弁本体３１、弁体３３及び弁体３３を可動させる駆動部３４から構成されている。駆動部３４は、駆動軸７を有しているが、駆動軸７から下の構造は上記従来例と全く同一である。駆動軸７の平板７ａの上面には、図１に示されるように、サポートアーム３５が、固定用の六角ボルトＢ２と位置決め用のボルトＢ３及びナットＮ３とによって固定される。このサポートアーム３５は、例えばアルミニウムでなり、図において横方向に延びる上部３５ｂと、これから下方に垂直に延びる複数（図においては２本）のアーム部３５ａとを有した形状をしている。更に、サポートアーム３５の上部３５ｂには、弁体３３を取り付けるための貫通ねじ部３５ｂａが複数（図においては均等な間隔を開けて３個）設けられ、ここに螺合したステンレス鋼でなるカラー４３が螺着されている。また、図２に示すように、サポートアーム３５の上面には浅い溝３５ｂが形成されている。この浅い溝３５ｂには、貫通ねじ部３５ｂａを塞がないような形状のゴムでなるクッション３６が載置されている。
【００２２】
更に、サポートアーム３５の上方には、例えばアルミニウムで成る弁体３３が、カラー４３に挿通する埋め込みボルトＭ１とナットＮ１との螺着によって固設されている。更に、図２で示すように、弁体３３の上面には、断面が底辺の大きい台形形状をした溝３３ａが設けられ、この溝３３ａにゴムでなるシールリング３８が取り付けられている。溝３３ａは、弁体３３が弁座３２に着座した時に、後述する弁本体３１の開口４１ａを、シールリング３８が密閉するように、開口４１ａの周囲となる位置に設けられている。更に、弁座３２に着座する弁体３３の面３３ｆは、Ｘの矢印で示される貫通孔３１ａの延在方向とＹで示される駆動軸７の可動する方向を含むＸ−Ｙ断面において、曲率半径が６０ｍｍの弁座側に凸なる円弧を呈している。なお、本実施例では、このＸ−Ｙ断面に平行な断面は、すべて同じ形状をしているので、弁体３３は半径が６０ｍｍの円柱体の一部を切り取った形状をしている。そして図２を参照して、シールリング３８が弁座３２の曲面に圧接される箇所におけるＸ−Ｙ断面内の接線Ｌ1 と接線Ｌ2 のうち、弁
体３３の面３３ｆが駆動軸７の可動方向と直交している直交部分Ｑにおける接線Ｌ1は当然のことながら駆動軸７の可動方向と直交する。
【００２３】
そのほか、図１と後述の図３に示すように、弁本体３１と弁体３３との相対位置を定めるための位置決めピン３９を弁本体の上方から挿通するために、弁本体３１の両端部には挿通孔３１ｂが設けられ、弁体３３の両端部には、弁本体３１の挿通孔３１ｂと整合する位置に、挿通孔３３ｂが設けられている。そして図１には、位置決めピン３９が弁本体３１の挿通孔３１ｂ、弁体３３の挿通孔３３ｂを挿通されて下端がサポートアーム３５の上面に達しており、その状態において、位置決めピン３９には弁本体３１の上面と位置決めピン３９の頭部との間に弁体３３の厚さと同等長さの遊びがあることが示されている。すなわち、図１の状態から弁体３３が弁体３３の厚さと同程度の距離を下降されても、弁体３３は位置決めピン３９によって弁本体３１との相対的な位置関係が保持されることを示している。そして図２に示すように、弁体３３によって開閉される開口４１ａの高さは、 弁体３３の厚さより充分に小であり、弁体３３が厚さ分だけ上下されると、開口４１ａは充分に開閉されるようになっている。
【００２４】
弁本体３１は、アルミニウムで成り、従来例の弁本体１１と同様に、真空槽３の開口３ａの外周面に設けられている。弁本体３１は、図２において横方向に延びる段付の貫通孔３１ａを有している。図３には、本発明の真空バルブ１０の分解斜視図が示されているが、弁本体３１の貫通孔３１ａは、従来例と同様に、その大径部４２が真空槽３の開口３ａと整合された大きさを有しており、従来例の弁本体１１が本実施例の弁本体３１に、従来例の貫通孔１１ａの小径部２１が本実施例の貫通孔３１ａの小径部４１に、従来例の弁座１２に着座する弁体１３の面１３ｆが本実施例の弁座３２に着座する弁体３３の面３３ｆに対応する。なお、本実施例では、図３に示されているように、その小径部４１は長さｅが２００ｍｍ、高さｈが７ｍｍの大きさを有している。図３において弁本体３１の裏面側となる小径部４１の開口４１ａの周囲には、弁座３２が形成されているが、この弁座３２の面は、弁体３３の面３３ｆと同一の形状をしており、図２に示される断面において曲率半径Ｒが６０ｍｍの円弧となっている。
【００２５】
次に、この真空バルブ１０の作用について説明する。
【００２６】
図１、図２は、閉弁状態を示しているが、この状態から開弁状態になるまでの作用を説明する。従来例と同様に、エアシリンダ１６の突部１６ａが縮み、駆動軸７が下方に移動する。この駆動軸７の動きに追動して、駆動軸７に固着されている弁体３３も位置決めピン３９に導かれて弁本体３１と位置ズレすることなく下方に移動し、弁座３２から離れて開弁する。従って、弁本体３１の開口４１ａは開かれ、仕込・取出室Ｃと真空処理室Ｓとが連通する。なお、開弁状態から閉弁状態にするには、エアシリンダ１６を作動させて駆動軸７を上方に移動させる。すると、駆動軸７の上端部に取り付けられた弁体３３が位置決めピン３９に導かれて弁本体３１と位置ズレすることなく上方に移動し、弁体３３の面３３ｆが弁座３２に着座する。 そのため、弁体３３に設けられたシールリング３８によって、真空処理室Ｓが仕込・取出室Ｃより隔離され密閉される。
【００２７】
本実施例では、駆動軸７の可動方向と貫通孔３１ａの延在方向とを含むＸ−Ｙ断面において、弁座３２の面、及び弁体３３の弁座３２に着座する面が円弧を呈しており、その円弧のシールリング３８が圧接する弁座３２の部分における接線Ｌ1 が駆動軸７の可動方向Ｙと直角であるようにしたので、駆動軸７の直線方向の動きに追動する弁体３３により、弁本体３１の開口４１ａを塞いでも、弁体３３と弁座３２との間に滑りが生ぜず、真空処理室Ｓを密閉することができる。また本発明では、駆動軸７の直線移動の動きを回転方向に変換する構造を有しないので、真空バルブの開閉時に発生していた金属粉が発生することはない。
【００２８】
表１及び表２に、図４乃至図６で示した従来の真空バルブ１又は本発明の真空バルブ１０を大気中で１回作動させたときに、発生したパーティクルの数を示す。このパーティクルの数は、測定する箇所にホースの吸込口を当てて、ホースが吸い込んだパーティクルを、大きさ毎にカウントすることで得られたものである。なお、測定した箇所は、Ｃ室左、Ｃ室右、Ｓ室左、Ｓ室中央、及びＳ室右の５か所である。Ｃ室左、Ｃ室右は、従来例の真空バルブ１を示す図４及び図５並びに本発明の真空バルブ１０を示す図１及び図２において、それぞれ、ＦとＧで示されている。すなわち、Ｃ室左は、図２及び図５において左側から見た（すなわち図１及び図４における）左側のアーム部１５の近辺であり、Ｃ室右は、図１及び図４における右側のアーム部１５の近辺である。また、Ｓ室左、Ｓ室中央、Ｓ室右をそれぞれＩ、Ｊ、Ｋで示すが、従来例の真空バルブ１を示す図５及び本発明の真空バルブ１０を示す図２において、図５の右側からみた弁本体１１の大径部２２の左方、中央、右方、又は図２の右側から見た弁本体３１の大径部４２の左方、中央、右方に位置する。すなわち、本発明の真空バルブ１０を示す図２について言えば、弁本体３１の大径部４２の最も手前の位置がＳ室左であり、最も奥に位置しているのがＳ室右である。なお、仕込室と示している表１は、ウエハ等の被処理物Ｗを真空処理室Ｓへと送り込む専用の室において、真空バルブ１、１０を作動させた場合であり、取出室と示している表２は、被処理物Ｗが真空処理室Ｓから取り出される専用の室において、真空バルブ１、１０を作動させた場合である。
【００２９】
【表１】
0003638754.tif 000002
【００３０】
【表２】
0003638754.tif 000003
【００３１】
表１及び表２から明らかなように、本発明では、従来例に比べてはるかにパーティクルが減少したことがわかる。特に、微細なパーティクルの発生が極めて抑制できることがわかる。従って、本発明では、パーティクルの発生を抑えることができるので、本発明の真空バルブを用いた装置では、被処理物である半導体ウエハなどの生産性の歩留まりを向上させることができる。
【００３２】
また、駆動軸７の直線運動を回転運動に変換する構造が不要であるので、真空バルブの構造を簡単にすることができる。更に、従来では、駆動軸７の上下方向の運動を回転方向の運動に変換していたため、弁体１３が、貫通孔１１ａの開口を完全に開くまでには、駆動軸７を開口の高さより大きく引き下げねば成らなかったが、本発明では、開口４１ａの高さと同程度引き下げれば充分であり、従って駆動軸７を大きく可動させる必要がないので、駆動軸７の駆動力を小さくすることもできる。また、本発明は、従来例の弁本体１１と、駆動軸７よりも上方の部分を取り替えるだけで得られるので、従来の真空バルブを用いた既製品の装置にも、本発明を適用することが可能である。
【００３３】
以上、本発明の実施例について説明したが、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００３４】
例えば、上記実施例では、弁座３２の面、及び弁座３２に着座する弁体３３の面３３ｆを、貫通孔の延在方向をＸ軸、駆動軸の可動方向をＹ軸とするＸ−Ｙ断面と、これに平行な断面において、弁座３２側に凸の同一形状の円弧を呈する弁体３３を示したが、同一形状でなくともよく、例えば、球面形状の一部であるような形状の弁体としてもよい。なお、弁座、及び弁座に着座する弁体の面を球面形状の一部とした場合には、加工が複雑となる恐れはあるが、３次元的にもすべりが生じないので、より確実にシール性を得ることができる。
【００３５】
また、上記実施例では、弁体３３と駆動軸７とを固定するサポートアーム３５は、複数のアーム部３５ａを有する形状としたが、サポートアーム３５の形状はこれに限定される必要はない。また、弁座に弁体をきちんと整合でき、弁体を駆動軸に設けられる構造であれば、サポートアーム３５を設けずに、例えば駆動軸７の平板７ａに、下からボルトを通して、平板７ａの直上方に直接、弁体３３を固定させるようにしてもよい。なお、上記実施例では、シールリングは弁体側に設けたが、弁座側に設けてもよい。
【００３６】
更に、上記実施例では、駆動軸７はエアシリンダ１６により駆動させたが、他の駆動方法により、例えば、回転力を直線力に変える機構を有し、モータによって駆動軸に直線運動を与えるような方法によって駆動させてもよい。また、上記実施例では、駆動軸７の可動する方向を上下方向とし、駆動軸７の可動方向と貫通孔３１ａの延在方向とを含むＸ−Ｙ断面が鉛直面である場合を説明したが、駆動軸は上下方向に駆動せずともよく、例えば、上記のＸ−Ｙ断面が水平面であるような場合にも、本発明は適用可能である。
【００３７】
【発明の効果】
以上、述べたように、本発明の真空バルブによれば、弁体を弁座に離着座させる駆動軸の直線方向の可動のみによって、駆動軸と直角な方向に延在する貫通孔の一方の開口に設けられた弁座に弁体を離着座させるので、構造が簡単である。また、駆動軸の直線方向を回転方向に変換しないため、この変換する機構で発生していた金属粉の発生を抑えることができる。従って、塵の発生が抑えられ、被処理物の歩留まりを向上させることができる。また、閉弁時には、位置決めピンによって弁体が弁座に対して位置ずれすることなく着座され、かつ弁体に取り付けられたシールリングが圧接する弁座のＸ−Ｙ断面による円弧の接線、又は弁座に取り付けられたシールリングが圧接する弁体のＸ−Ｙ断面による円弧の接線が、駆動軸の可動方向と直交する曲面の直交部分では、駆動軸の可動方向と直角に交わるように弁座の面及び弁座に着座する弁体の面が形成されているので、閉弁時に、シールリングは弁体又は弁座をしっかりと押圧することができ、確実に、相連通する２つの空間を相遮断して密封することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本実施例における真空バルブの正面図である。
【図２】  図１における［２］−［２］線方向の断面側面図である。
【図３】  本実施例における真空バルブの斜視図である。
【図４】  従来例における真空バルブの部分破断正面図である。
【図５】 図４における［５］−［５］線方向の縦断面図である。
【図６】  従来における真空バルブの開弁時の部分破断側面図である。
【図７】  図６における［７］−［７］線方向の断面側面図である。
【図８】  従来における真空バルブの開弁時の断面側面図である。
【符号の説明】
７      駆動軸
１０      真空バルブ
１６      エアシリンダ
３１      弁本体
３１ａ    貫通孔
３１ｂ 位置決めピン用挿通孔
３２      弁座
３３      弁体
３３ｂ 位置決めピン用挿通孔
３３ｆ    弁体の面
３４      駆動部
３５      サポートアーム
３８      シールリング
３９ 位置決めピン
４１ａ    開口
Ｃ        仕込・取出室
Ｓ        真空処理室
Ｌ1       接線
Ｌ2       接線
Ｑ        直交部分
Ｘ        延在方向
Ｙ        可動方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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