(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
希土類元素を含む磁石本体と、
前記磁石本体の表面に形成されたニッケルメッキ膜からなる保護膜と、
前記保護膜の表面に、前記保護膜に対して反応不活性な接着剤の硬化阻害を抑制する被膜とを有する磁石であって、
前記被膜が、フッ化物を含まず、硝酸イオンが２〜３０ｇ／ｌの割合で含有してある処理液を用いたリン酸塩処理により形成された０．１μｍ未満の厚みを持つリン酸塩被膜であることを特徴とする磁石。
【請求項２】
前記処理液のｐＨが４以下であり、前記リン酸塩処理の処理温度が２０〜５０℃である請求項１に記載の磁石。
【請求項３】
前記保護膜に対して反応不活性な接着剤が、嫌気性アクリル系接着剤である請求項１または２に記載の磁石。
【請求項４】
前記磁石本体と前記保護膜との間に形成された、銅を主成分とする下地層をさらに有する請求項１〜３のいずれかに記載の磁石。
【請求項５】
前記磁石本体が、Ｒ（ただし、ＲはＹを含む希土類元素の一種以上）、ＴＭ（ただし、ＴＭはＦｅを主成分とする遷移元素）およびＢを含むＲ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁石である請求項１〜４のいずれかに記載の磁石。
【請求項６】
希土類元素を含む磁石本体の表面に、電気メッキを行い、ニッケルメッキ膜からなる保護膜を形成する工程と、
前記保護膜の表面に、フッ化物を含まず、硝酸イオンが２〜３０ｇ／ｌの割合で含有してある処理液を用いてリン酸塩処理を行い、前記保護膜に対して反応不活性な接着剤の硬化阻害を抑制するリン酸塩被膜を形成する工程とを有する磁石の製造方法。
【請求項７】
前記リン酸塩処理が、リン酸錫処理、リン酸鉄処理、リン酸マンガン処理、リン酸亜鉛処理およびリン酸亜鉛カルシウム処理、のいずれかである請求項６に記載の磁石の製造方法。
【請求項８】
前記処理液のｐＨが４以下であり、前記リン酸塩処理の処理温度が２０〜５０℃であることを特徴とする請求項６に記載の磁石の製造方法。
【請求項９】
前記保護膜を形成する前に、前記磁石本体の表面に、アルカリ溶液を用いて脱脂処理を行い、酸による化学エッチングを施し、前記磁石本体の表面を清浄化する第１前処理工程を有する請求項６に記載の磁石の製造方法。
【請求項１０】
前記リン酸塩被膜を形成する前に、前記保護膜の表面に、アルカリ溶液を用いて脱脂処理を行い、洗浄する第２前処理工程を有する請求項６に記載の磁石の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁石およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石は、磁気特性が高いこと、主要材料であるＦｅが豊富で安価であること、希土類であるＮｄがＳｍに比べて資源的に有利で安価なこと、供給が不安定で高価なＣｏを使用しないこと、などの理由から、近年では、Ｓｍ−Ｃｏ系磁石に代わり希土類磁石の主流となっている。
【０００３】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石は、このままで使用すると一般の鉄鋼材質と比較して非常に腐食し易いという欠点を有していることから、さまざまな表面処理が施されてきた。
【０００４】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石の防錆処理は、安価で耐食性に優れるニッケルメッキが広く採用されている。そして、磁石表面のニッケルメッキ上に接着剤を介して他の部材を固定して使用される。この種の接着剤には、エポキシ系接着剤や嫌気性アクリル系接着剤を使用することが多く、特に嫌気性アクリル系接着剤は作業性が良く、硬化温度が低いため熱減磁が少ないことから、好んで選定されることが多い。
【０００５】
しかしながら、嫌気性アクリル系接着剤は、鉄や銅に対しては活性が高く、その結果、迅速に反応するのに対し、被着体がニッケルである場合、反応性が乏しいという欠点がある。ニッケルを代表とする反応不活性な被着体を接着する場合、接着面に活性剤（プライマー）処理を施すが、小物形状の場合は作業性が著しく低下して嫌気性アクリル系接着剤の長所を生かせないのみならず、接着工程におけるコストアップの要因となっていた。
【０００６】
ところで、鉄鋼やアルミニウムの塗装下地処理として、リン酸亜鉛処理が広く採用されている。鉄鋼やアルミニウムにリン酸亜鉛処理を施した場合、その表面にリン酸塩の結晶が被膜として析出して塗装被膜の密着性が向上することが知られている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、こうした鉄鋼やアルミニウムの塗装下地処理に用いられている技術を、そのままニッケルメッキに適用した場合、ニッケルの耐食性が優れているため処理溶液中で十分に反応せず、リン酸塩の結晶が表面に析出しなかった。
【０００８】
なお、特開平６−３１８５１２号公報では、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石本体表面に形成されたニッケルメッキ膜の表面を、フッ化物を含む酸を用いて予め活性化させた後、さらにフッ化物を含むリン酸亜鉛溶液で処理して、前記ニッケルメッキ膜表面に膜厚０．１〜１０μｍのリン酸亜鉛被膜を形成し、このようなリン酸亜鉛被膜の効果により、ニッケルメッキ膜表面の接着性を改善する方法が開示してある。ここでは、フッ化物がニッケルメッキ表面を強制的に溶解し、活性化させるため、ニッケルメッキ上にリン酸亜鉛の結晶が被膜として形成されており、接着強度が改善されている。
【０００９】
しかしながら、上記公報記載の方法によると、フッ化物を含む酸による前処理（活性化処理）の状態により接着強度が大きく変化することがあり、また、リン酸亜鉛被膜の膜厚制御が困難という欠点もあり、生産レベルで安定した接着強度を得ることが困難であった。このため、生産レベルで安定した接着強度が得られ、接着作業の効率化を実現できる技術の開発が望まれていた。
【００１０】
本発明の目的は、ニッケルメッキ膜に対して反応不活性な接着剤の硬化不良を効果的に解消し、接着強度のバラツキが小さく、大きな接着強度を得ることができ、その結果、接着作業の効率化を実現できる磁石を提供することである。また本発明は、このような磁石を効率よく製造できる磁石の製造方法を提供することも目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、磁石本体表面に形成されたニッケルメッキ膜の表面を、特定組成の処理液を用いてリン酸塩処理を行うことにより、前記ニッケルメッキ膜表面に形成されるリン酸塩被膜の厚み制御が容易となり、その結果、ニッケルメッキ膜表面の接着性改善を生産レベルで安定して行うことができ、接着作業の効率化を実現できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１２】
磁石の製造方法
すなわち、本発明に係る磁石の製造方法は、希土類元素を含む磁石本体の表面に、電気メッキを行い、ニッケルメッキ膜からなる保護膜を形成する工程と、
前記保護膜の表面に、フッ化物を含まない処理液を用いてリン酸塩処理を行い、リン酸塩被膜を形成する工程とを有する。
【００１３】
好ましくは、前記処理液のｐＨが、４以下である。
【００１４】
好ましくは、前記リン酸塩処理の処理温度が、２０〜５０℃である。
【００１５】
好ましくは、前記処理液には、硝酸イオンが２〜３０ｇ／ｌの割合で含有してある。
【００１６】
好ましくは、前記保護膜を形成する前に、前記磁石本体の表面に、アルカリ溶液を用いて脱脂処理を行い、酸による化学エッチングを施し、前記磁石本体の表面を清浄化する第１前処理工程を有する。
【００１７】
好ましくは、前記リン酸塩被膜を形成する前に、前記保護膜の表面に、アルカリ溶液を用いて脱脂処理を行い、洗浄する第２前処理工程を有する。
【００１８】
アルカリの一例としてのＮａＯＨは、安価で、入手しやすく、しかも脱脂効果が高いため、これを主成分とするアルカリ溶液を用いることが好ましい。
【００１９】
好ましくは、前記リン酸塩被膜を形成した後に、磁石本体をアルコール浸漬して風乾する。
【００２０】
磁石
本発明に係る磁石は、希土類元素を含む磁石本体と、
前記磁石本体の表面に形成されたニッケルメッキ膜からなる保護膜と、
前記保護膜の表面に形成された０．１μｍ未満の厚みを持つリン酸塩被膜とを有する。
【００２１】
好ましくは、前記リン酸塩被膜が、フッ化物を含まない処理液を用いてリン酸塩処理して形成される。
【００２２】
好ましくは、前記磁石本体と保護膜との間に形成された、銅を主成分とする下地層をさらに有する。
【００２３】
共通事項
前記リン酸塩としては、リン酸錫、リン酸鉄、リン酸マンガン、リン酸亜鉛、リン酸亜鉛カルシウムなどが例示される。
【００２４】
前記磁石本体としては、本発明では希土類元素を含んでいれば特に限定されないが、Ｒ（ただし、ＲはＹを含む希土類元素の一種以上）、ＴＭ（ただし、ＴＭはＦｅを主成分とする遷移元素）およびＢを含むＲ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁石である場合に、特に効果が大きい。Ｒ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁石の代表例が、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石である。
【００２５】
【作用】
本発明に係る磁石では、ニッケルメッキ膜からなる保護膜の表面にリン酸塩被膜を０．１μｍ未満と極めて薄く形成することにより、前記リン酸塩被膜にかかる内部応力を小さくできる。このため、この極薄のリン酸塩被膜の上に、たとえば嫌気性アクリル系接着剤などの各種接着剤を接着しても、前記リン酸塩被膜が破壊されるおそれは極めて少ない。一方、リン酸塩被膜の厚みが０．１μｍ未満であっても、破壊されずに、均一に被膜が形成され、安定した接着強度を得ることが期待できる。すなわち、本発明では、リン酸塩被膜の厚みを極めて薄く形成することにより、当該リン酸塩被膜の内部応力による破壊を防止して厚みの均一化を確保し、その結果、ニッケルメッキ膜に対して反応不活性な各種接着剤（たとえば嫌気性アクリル系接着剤）の硬化阻害を効果的に抑制でき、接着作業の効率化を実現できる。
【００２６】
本発明に係る磁石の製造方法では、希土類元素を含む磁石本体の表面に形成されたニッケルメッキ膜からなる保護膜の表面にリン酸塩被膜を形成するに際し、フッ化物を含まない処理液を用いてリン酸塩処理を行う。このため、リン酸塩被膜の膜厚制御が容易となり、厚みが０．１μｍ未満のリン酸塩被膜を生産レベルで安定して形成することができる。
【００２７】
本発明に係る磁石の具体的な用途は、特に限定されないが、各種産業用回転機器、民生用回転機器、光ピックアップ装置などが例示される。
【００２８】
産業用回転機器としては、自動車やオートバイなどに使用される各種モータ；工作機械の駆動系などが例示される。民生用回転機器としては、ＶＴＲ、ＣＤ、ＭＤ、ＤＶＤ、カセットステレオなどに使用される各種モータ；ＯＡ機器（コンピュータ、プリンタ、複写機など）のモータなどが例示される。
【００２９】
光ピックアップ装置は、記録媒体である光ディスクに情報を記録再生するためのものであり、一般に、対物レンズを光ディスクのトラッキング方向やフォーカス方向に移動させる対物レンズ駆動装置と、取り付け台上に光源や受光部などが設けられ、対物レンズを介して、光ディスクにレーザ光を投射し、その反射光を検出する光学系ブロックと、から構成される。本発明の磁石を光ピックアップ装置に用いる場合、当該磁石は、対物レンズ駆動装置の構成部材である磁気回路に用いられる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき詳細に説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る永久磁石を示す概略断面図、
図２は実施例１、比較例１および比較例５のそれぞれの永久磁石サンプルについて、硬化時間と接着強度との関係を示すグラフである。
【００３１】
永久磁石
図１に示すように、本実施形態に係る永久磁石２は、磁石本体４の表面に保護膜６が形成してある。保護膜６の表面には、リン酸塩被膜８が形成してある。
【００３２】
磁石本体
磁石本体４は、本実施形態では、Ｒ（ただし、ＲはＹを含む希土類元素の一種以上）、ＴＭ（ただし、ＴＭはＦｅを主成分とする遷移元素）およびＢを含むＲ−ＴＭ−Ｂ系希土類磁石である。
【００３３】
Ｒ、ＴＭおよびＢの含有量は、５．５原子％≦Ｒ≦３０原子％、４２原子％≦ＴＭ≦９０原子％、２原子％≦Ｂ≦２８原子％、であることが好ましい。
【００３４】
希土類元素Ｒとしては、Ｎｄ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｔｂのうち少なくとも１種、あるいはさらに、Ｌａ，Ｓｍ，Ｃｅ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｐｍ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｙのうち１種以上を含むものが好ましい。
【００３５】
なお、Ｒとして２種以上の元素を用いる場合、原料としてミッシュメタル等の混合物を用いることもできる。
【００３６】
Ｒの含有量は、５．５〜３０原子％であることが好ましい。Ｒの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構造がα−鉄と同一構造の立方晶組織となるため、高い保磁力（ｉＨｃ）が得られず、多すぎると、Ｒリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下する。
【００３７】
ＴＭの含有量は４２〜９０原子％であることが好ましい。ＴＭの含有量が少なすぎると、Ｂｒが低下し、多すぎると、ｉＨｃが低下する。なお、Ｆｅの一部をＣｏで置換することにより、磁気特性を損うことなく温度特性を改善することができる。この場合、Ｃｏ置換量がＦｅの５０％を超えると磁気特性が劣化するため、Ｃｏ置換量は５０％以下とすることが好ましい。
【００３８】
Ｂの含有量は、２〜２８原子％であることが好ましい。Ｂの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構造が菱面体組織となるためｉＨｃが不十分であり、多すぎると、Ｂリッチな非磁性相が多くなるため、Ｂｒが低下する。
【００３９】
また、Ｒ、ＴＭおよびＢの他、不可避的不純物として、Ｎｉ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｃａ等が全体の３原子％以下含有されていてもよい。
【００４０】
さらに、Ｂの一部を、Ｃ，Ｐ，Ｓ，Ｃｕのうちの１種以上で置換することにより、生産性の向上および低コスト化が実現できる。この場合、置換量は全体の４原子％以下であることが好ましい。また、保磁力の向上、生産性の向上、低コスト化のために、Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｂｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ｓｂ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｚｒ，Ｎｉ，Ｓｉ，Ｈｆ等の１種以上を添加してもよい。この場合、添加量は総計で１０原子％以下とすることが好ましい。
【００４１】
本実施形態における磁石本体４は、実質的に正方晶系の結晶構造の主相を有する。この主相の粒径は、１〜１００μｍ程度であることが好ましい。そして、通常、体積比で１〜５０％の非磁性相を含むものである。
【００４２】
保護膜
保護膜６は、電気メッキ法により形成されたメッキ膜で構成される。メッキ膜はニッケルを主成分として含有することが好ましい。ニッケルを主成分とすることにより、保護膜６の強度を高め、優れた防錆効果を発揮できる。
【００４３】
保護膜６としては、磁石本体４の寸法・形状に応じてラックメッキ、またはバレルメッキが適宜選択される。電気メッキ法により形成されたニッケルメッキ膜からなる保護膜６は、優れた耐食性を得るために無欠陥である必要があることから、保護膜６の厚みＴ１は、好ましくは１０〜３０μｍ、より好ましくは１０〜２０μｍ程度である。
【００４４】
なお、保護膜６を構成するニッケルメッキ膜の種類により、接着性が大幅に変化することはない。しかしながら、磁石本体４と保護膜６との界面にかかる応力の集中を低減させて、接着強度をより高めるためには、磁石本体４と保護膜６との間に下地層（図示省略）をさらに有することが好ましい。下地層は、Ｃｕを主成分として含有することが好ましい。このような下地層を設けた場合に、接着後の磁石体に荷重がかかったときに、Ｃｕが柔らかいために磁石体との界面の一カ所に応力が集中することを抑制する働きがあり、接着強度が向上する。下地層の厚みは、特に限定されないが、好ましくは５〜１０μｍ程度である。
【００４５】
リン酸塩被膜
リン酸塩被膜８は、リン酸塩処理により形成される。リン酸塩被膜８の厚みＴ２は、本実施形態では、０．１μｍ未満、好ましくは０．０１μｍ以下である。リン酸塩が厚く積層すると、リン酸塩被膜８にかかる内部応力が大きくなり、接着試験を行うと、リン酸塩被膜８が簡単に破壊される。また、接着剤の硬化条件によってはリン酸塩の結晶水が蒸発し、リン酸塩被膜８にクラックが生じることがある。被膜８の厚みＴ２を０．１μｍ未満とすることにより、リン酸塩被膜８が結晶構造として顕微鏡で観察できないレベルとなり、厚膜で生じていた不具合が払拭される。
【００４６】
なお、リン酸塩被膜８が及ぼす接着強度向上効果、特に嫌気性アクリル系接着剤に対する硬化性の向上は、保護膜６の表面にリン酸塩被膜８が存在すれば発現するため、リン酸塩被膜８の厚みＴ２の下限は、０．００１μｍ程度、好ましくは０．００５μｍ程度である。
【００４７】
永久磁石の製造方法
次に、本実施形態に係る永久磁石２の製造方法の一例を説明する。
【００４８】
（１）まず、磁石本体を製造する。磁石本体４の製造には、粉末冶金法を用いることが好ましい。粉末冶金法による磁石本体４の製造は、以下のようにして行われる。
【００４９】
まず、所望の組成の合金を、鋳造法やストリップキャスト法などの各種合金製造プロセスを用いて作製する。次いで、得られた合金を、ジョークラッシャー、ブラウンミル、スタンプミルなどの粗粉砕機を用いて１０〜１００μｍ程度の粒径に粗粉砕した後、ジェットミル、アトライターなどの微粉砕機により０．５〜５μｍ程度の粒径に微粉砕する。次いで、得られた粉末を、好ましくは磁場中にて成型する。成型時の磁場強度は、好ましくは６００ｋＡ／ｍ以上である。成型圧力は、好ましくは０．５〜５ｔｏｎ／ｃｍ２  程度である。次いで、得られた成型体を、１０００〜１２００℃で０．５〜１０時間、焼結し、急冷する。焼結時の雰囲気は、Ａｒガス等の不活性ガスであることが好ましい。この後、好ましくは不活性ガス雰囲気中で５００〜９００℃にて１〜５時間、熱処理（時効処理）を行う。
【００５０】
製造された磁石本体４は、たとえばＲがＮｄである場合に、特に磁気特性に優れるが、Ｃ軸と垂直な方向に負の膨張係数を有することが知られている。
【００５１】
（２）次に、得られた磁石本体４の表面を脱脂処理した後、酸による化学エッチングを施し、前記磁石本体４の表面を清浄化する（第１前処理）。この第１前処理は、本発明では任意の処理であるが、脱脂処理を行うことにより磁石本体４の表面の汚れを除去でき、確実に保護膜６を形成できるメリットがある。なお、脱脂処理前に、磁石本体４の表面のバリなどを取り除くため、バレル研磨を行ってもよい。
【００５２】
脱脂処理で用いる脱脂液は、通常の鉄鋼用に使用されているものであれば特に限定されない。一般にＮａＯＨを主成分として、その他添加剤は特定するものでない。
【００５３】
化学エッチングで使用する酸としては、硝酸を用いることが好ましい。一般の鋼材にメッキ処理を施す場合、塩酸、硫酸等の非酸化性の酸が用いられることが多い。しかし、本実施形態での磁石本体４のように、磁石本体が希土類元素を含む場合には、これらの酸を用いて処理を行うと、酸により発生する水素が磁石本体の表面に吸蔵され、吸蔵部位が脆化して多量の粉状未溶解物が発生する。この粉状未溶解物は、表面処理後の面粗れ、欠陥および密着不良を引き起こすため、上述した非酸化性の酸を化学エッチング処理液に含有させないことが好ましい。したがって、水素の発生が少ない酸化性の酸である硝酸を用いることが好ましく、さらにアルドン酸またはその塩が同時に含有されているのが表面に目視で確認不可なレベルの凹凸が形成され、塗膜の密着力が向上するのでより一層好ましい。なお、このような密着性の向上は、アルドン酸またはその塩によって選択的に実現し、他の有機酸、例えばクエン酸、酒石酸等では実現しない。
【００５４】
このような前処理による磁石本体４の表面の溶解量は、表面から平均厚みで５μｍ以上、好ましくは１０〜１５μｍとするのが好適である。溶解量が少なすぎると、磁石本体の表面の加工による変質層や酸化層を完全に除去できないために、後述する保護膜６が正常に磁石本体４の表面に形成されず、耐食性を悪化させてしまう。
【００５５】
前処理に用いられる処理液の硝酸濃度は、好ましくは１規定以下、特に好ましくは０．５規定以下である。硝酸濃度が高すぎると、磁石本体４の溶解速度が極めて速く、溶解量の制御が困難となり、特にバレル処理のような大量処理ではバラツキが大きくなり、製品の寸法精度が維持できない。また、硝酸濃度が低すぎると、溶解量の不足となる。このため、硝酸濃度は１規定以下、特に０．５〜０．０５規定以下とするのが望ましい。また、処理終了時のＦｅの溶解量は、１〜１０ｇ／ｌ程度とする。
【００５６】
前処理を行った磁石本体４の表面から少量の未溶解物、残留酸成分を完全に除去するため、超音波を使用した洗浄を実施することが好ましい。この超音波洗浄は、磁石本体４の表面に錆を発生させる塩素イオンが極めて少ないイオン交換水の中で行うのが好ましい。また、前記超音波洗浄の前後、および前記前処理の各過程で必要に応じて同様な水洗を行ってもよい。
【００５７】
（３）次に、前処理が施された磁石本体４の表面に、電気メッキ法により保護膜６を形成する。電気メッキ法を用いて保護膜６を形成することで、高性能耐食膜である保護膜６を低コストで形成できる。Ｎｉの電気メッキに用いるメッキ浴としては、塩化ニッケルを含有しないワット浴（すなわち、硫酸ニッケルおよびほう酸を主成分とする）、スルファミン酸浴、ほうフッ化浴、臭化ニッケル浴などが挙げられる。ただし、この場合、陽極の溶解が少なくなるため、ニッケルイオンを浴に補充することが好ましい。ニッケルイオンは、硫酸ニッケルあるいは臭化ニッケルの溶液として補充するのが好ましい。
【００５８】
なお、前処理後の磁石本体４の表面に保護膜６を形成する前に、たとえばＣｕを主成分として含有する下地層（図示省略）を形成する場合には、磁石本体４の表面に対してＣｕの置換析出を防止するため、ｐＨ７〜１０の弱アルカリ浴中で処理することが好ましい。Ｃｕを主成分として含有する下地層を形成する場合において、上述したニッケルメッキ浴は、上述した例示に限定されるものでなく、塩化ニッケルを含有した浴でニッケルメッキ膜からなる保護膜６を形成しても耐食性を損なうものではない。すなわちこの場合、塩化ニッケルを含有する浴を用いて保護膜６を形成してもよい。
【００５９】
（４）次に、保護膜６の表面を脱脂処理した後、純水で十分に表面を清浄化する（第２前処理）。この第２前処理も本発明では任意の処理であるが、脱脂処理を行うことにより保護膜６の表面に付着した汚れ（光沢剤などの有機物）を除去でき、確実にリン酸塩被膜８を形成できるメリットがある。
【００６０】
脱脂処理で用いる脱脂液は、有機物を除去できるものであれば特に限定されないが、アルカリ溶液を使用することが最も効果が高く好ましい。アルカリ溶液は、ＮａＯＨを主成分とした、通常の鉄鋼用に使用されているものであればよく、その他添加剤は特定するものでない。
【００６１】
（５）次に、保護膜６の表面にリン酸塩処理を行い、リン酸塩被膜８を形成する。具体的には、所定の濃度および温度に調整されたリン酸塩浴に、保護膜６が形成された磁石本体４を浸漬し、保護膜６の表面にリン酸塩被膜８を形成する。
【００６２】
リン酸塩処理に用いる処理液としては、リン酸錫処理液、リン酸鉄処理液、リン酸マンガン処理液、リン酸亜鉛処理液、リン酸亜鉛カルシウム処理液などが例示される。これらの処理溶液のいずれかを使用すれば、ニッケルメッキ膜からなる保護膜６に接着効果が付与される。これらの中の一例としてのリン酸亜鉛処理液の成分としては、特に限定されないが、亜鉛イオン、リン酸イオン、硝酸イオンなどが例示される。これら各イオンの好ましい濃度は、亜鉛イオン：０．４〜３．０ｇ／ｌ、特に０．５〜２．０ｇ／ｌ、リン酸イオン：５〜４０ｇ／ｌ、特に７〜３０ｇ／ｌ、硝酸イオン：２〜３０ｇ／ｌ、特に２〜１０ｇ／ｌ、である。
【００６３】
亜鉛イオン濃度が低すぎると、保護膜６の表面に均一なリン酸塩被膜８を形成できない傾向がある。一方、亜鉛イオン濃度が高すぎると、リン酸塩被膜８の厚みＴ２が厚くなりすぎ、接着強度が不十分となる傾向がある。
【００６４】
リン酸イオン濃度が低すぎると、均一なリン酸塩被膜８を形成できない傾向がある。一方、リン酸イオン濃度が高すぎると、リン酸塩被膜８の形成効果の向上が期待できない。
【００６５】
硝酸イオンは、ニッケルメッキ膜からなる保護膜６上へのリン酸塩被膜８の形成促進剤として添加される。硝酸イオン濃度が低すぎると、ほとんどニッケルメッキ膜からなる保護膜６の溶解が起こらないため、保護膜６の表面にリン酸塩被膜８を形成できない傾向がある。一方、硝酸イオン濃度が高すぎると、それ以上の被膜形成効果が期待できないのみならず、ニッケルの不動態化を促進し、リン酸塩被膜８の形成を阻害する傾向がある。
【００６６】
その他のリン酸塩処理溶液、即ちリン酸マンガン、リン酸鉄、リン酸亜鉛カルシウム等においても、リン酸亜鉛と同じ要領で処理を行うことが可能である。
【００６７】
また、アルミニウムのリン酸亜鉛処理の場合、被膜形成促進剤としてペルオキシドおよびフッ化物が使用されているが、Ｎｉ表面を粗し過ぎて接着強度を低下させることがある。このため、反応が比較的緩やかに進行する硝酸イオンを用いるのが好ましい。
【００６８】
処理液のｐＨは、４以下であることが好ましい。処理液のｐＨが高すぎると、処理液中にリン酸亜鉛が溶解できず、リン酸塩の形態が変化し、スラッジ化して溶液中に沈殿するため、ニッケルメッキ膜からなる保護膜６の表面にリン酸塩被膜が形成されない傾向があるからである。なお、処理液のｐＨが低すぎると、リン酸塩被膜８の形成を妨げ、ニッケルメッキ膜からなる保護膜６を侵し耐湿性を損なうおそれがあるので、その下限は好ましくは２である。
【００６９】
上記範囲の浴組成における処理温度は、通常の鉄鋼で行われる条件でも得られる接着性に何ら問題を生じないので特に限定されない。しかしながら、処理温度が低すぎると、処理液中での反応が乏しく処理性が低下する傾向がある。一方、処理温度が高すぎると、シミなどが発生して美観を損なうおそれがあるので、処理温度は、好ましくは２０〜５０℃、より好ましくは３０〜５０℃である。
【００７０】
上記範囲の浴組成における処理時間は、好ましくは３〜３０分、より好ましくは５〜１５分である。処理時間が短すぎると、保護膜６の表面に処理液が十分に接触せず、反応不十分となり均一なリン酸塩被膜８を形成できない傾向がある。一方、処理時間が長すぎると、リン酸塩被膜８の厚みＴ２が０．１μｍ以上となり、接着強度が低下する傾向がある。すなわち処理時間を特定範囲にすることで、０．１μｍ未満の厚みを持つリン酸塩被膜８を生産レベルで安定的に成膜できる。
【００７１】
（６）次に、純水で洗浄を行い、乾燥する。このとき、通常は８０〜１５０℃で乾燥を行い表面の水分を除去するが、工程簡略化のためアルコール浸漬して風乾することも好ましい。保護膜６の表面に形成されたリン酸塩被膜８は、顕微鏡で観察できないレベルの被膜であるため、水分がある程度除去されていれば、厚膜のような乾燥時の水分蒸発（結晶水含む）による被膜クラック等がほとんど生じない。
【００７２】
（７）以上の工程を経ることにより、図１に示す本実施形態に係る永久磁石２が製造される。
【００７３】
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明はこうした実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな範囲内において種々なる態様で実施し得ることは勿論である。
【００７４】
【実施例】
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
【００７５】
実施例１
粉末冶金法によって作成した、１４．７Ｎｄ―７９．２Ｆｅ―６．１Ｂ（数字は原子比）の組成からなる鋳塊を、粗粉砕し、さらに不活性ガスによるジェットミル粉砕で平均粒径が約３．５μｍの微粉末を得た。得られた微粉末を、磁場成型し、焼結、熱処理を経て焼結体を得た。得られた焼結体を、１０ｍｍ×２０ｍｍ×厚さ５ｍｍの大きさに切り出し加工し、さらにバレル研磨処理により面取りを行って、永久磁石本体を得た。
【００７６】
次いで、この永久磁石本体のサンプルを、アルカリ性脱脂液で洗浄後、エッチングの工程を経て、電気ニッケルメッキを行い、永久磁石本体の表面に、電気ニッケルメッキ膜からなる保護膜を形成した。電気ニッケルメッキ膜からなる保護膜の膜厚は１５μｍであった。
【００７７】
次いで、保護膜が形成された永久磁石本体を、アルカリ溶液（メルテックス（株）製、エンドックスＱ−５７６Ｓ）で脱脂した後、純水洗浄を行った。
【００７８】
次いで、下記に示す組成のフッ化物を含まない処理液を用いてリン酸塩（リン酸亜鉛）処理を行った。
亜鉛イオン    ：  １．０ｇ／ｌ、
リン酸イオン  ：１５．０ｇ／ｌ、
硝酸イオン    ：  ３．２ｇ／ｌ、
処理温度      ：５０℃、
浸漬時間      ：５分。
【００７９】
浸漬後、純水で洗浄を行い１００℃、１０分の条件で乾燥を行い、永久磁石サンプルを得た。リン酸亜鉛被膜の膜厚を、ＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）で観察したところ、０．１μｍ未満であった。
【００８０】
実施例２
リン酸塩処理における処理液への浸漬時間を３０分とした以外は、実施例１と同様にして、永久磁石サンプルを得た。リン酸亜鉛被膜の膜厚を、ＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様に０．１μｍ未満であった。
【００８１】
実施例３
下記に示す処理液を用いてリン酸塩（リン酸マンガン）処理を行った以外は、実施例１と同様にして、永久磁石サンプルを得た。リン酸マンガン被膜の膜厚を、ＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様に０．１μｍ未満であった。
【００８２】
マンガンイオン：  １．２ｇ／ｌ、
鉄イオン      ：  ０．３ｇ／ｌ、
リン酸イオン  ：１６．０ｇ／ｌ、
硝酸イオン    ：  ４．０ｇ／ｌ。
【００８３】
実施例４
下記に示す処理液を用いてリン酸塩（リン酸亜鉛カルシウム）処理を行った以外は、実施例１と同様にして、永久磁石サンプルを得た。リン酸亜鉛カルシウム被膜の膜厚を、ＳＥＭで観察したところ、実施例１と同様に０．１μｍ未満であった。
【００８４】
亜鉛イオン      ：  １．０ｇ／ｌ、
カルシウムイオン：  ０．３ｇ／ｌ、
リン酸イオン    ：１４．０ｇ／ｌ、
硝酸イオン      ：  ３．０ｇ／ｌ。
【００８５】
比較例１
リン酸亜鉛処理を行わなかった以外は、実施例１と同様にして、永久磁石サンプルを得た。
【００８６】
比較例２
フッ化物を含む酸（日本マグダーミッド（株）製、メテックスアシッドソルトＭ−６２９、１２０ｇ／ｌ）からなる処理液を用いてリン酸亜鉛処理を行った以外は、実施例１と同様にして、永久磁石サンプルを得た。リン酸亜鉛被膜の膜厚を、電子顕微鏡を用いて断面観察を行って算出したところ、３μｍであった。
【００８７】
比較例３
下記に示す処理液を用いてリン酸亜鉛処理を行った以外は、実施例１と同様にして、永久磁石サンプルを得た。リン酸亜鉛被膜の膜厚を、比較例２と同様にして算出したところ、８μｍであった。
【００８８】
亜鉛イオン    ：  １．０ｇ／ｌ、
リン酸イオン  ：１５．０ｇ／ｌ、
硝酸イオン    ：  ３．２ｇ／ｌ、
珪フッ化水素酸：  ２．０ｇ／ｌ。
【００８９】
比較例４
下記に示す処理液を用いてリン酸亜鉛処理を行った以外は、実施例１と同様にして、永久磁石サンプルを得た。リン酸亜鉛被膜の膜厚を、比較例２と同様にして算出したところ、１２μｍであった。
【００９０】
亜鉛イオン    ：  １．０ｇ／ｌ、
リン酸イオン  ：１５．０ｇ／ｌ、
硝酸イオン    ：  ３．２ｇ／ｌ、
珪フッ化水素酸：  ５．０ｇ／ｌ。
【００９１】
比較例５
ニッケルメッキ膜からなる保護膜をアルカリ脱脂した後、２０ｇ／ｌの無水クロム酸溶液に４０℃、１０分浸漬することにより、保護膜の表面にクロメート被膜を形成した以外は、実施例１と同様にして、永久磁石サンプルを得た。クロメート被膜の膜厚を、比較例２と同様にして算出したところ、０．８μｍであった。
【００９２】
評価方法
リン酸亜鉛被膜と接着強度との比較を行うために、以下の試験を行った。実施例１〜４および比較例１〜５により得られた、それぞれの永久磁石サンプルのリン酸亜鉛被膜の表面に、嫌気性アクリル系接着剤（ロックタイト６３８ＵＶ）を０．００８〜０．０１０ｇ程度塗布し、表面が洗浄された鉄板に圧着した後、１００℃に昇温した乾燥機に３０分投入後、圧縮せん断試験を行った。サンプル数を各１０個とし、その平均値を接着強度とした。圧縮せん断試験は室温で５ｍｍ／分の速度で行った。結果を表１に示す。
【００９３】
硬化時間と接着強度との比較を行うために、以下のような試験を行った。実施例１および比較例１、５により得られた、それぞれの永久磁石サンプルのリン酸亜鉛被膜の表面に、嫌気性アクリル系接着剤（ロックタイト６３８ＵＶ）を０．００２〜０．００３ｇ程度塗布し、表面が洗浄された鉄板に圧着した後、予め１００℃に昇温した乾燥機に、３分、５分、１０分、１５分投入し、取り出し後１分以内に、圧縮せん断試験を行った。なお、この試験では、サンプル形状を１０ｍｍ×５ｍｍ×厚さ５ｍｍとし、ハンドプレスで強度測定を行った。結果を表２および図２に示す。
【００９４】
【表１】
0003698308.tif 000002
【００９５】
【表２】
0003698308.tif 000003
【００９６】
考察
表１に示すように、リン酸亜鉛被膜の膜厚が０．１μｍ未満である実施例１〜４の磁石サンプルでは、比較例１〜５の磁石サンプルと比較して、接着強度が格段に優れてており、しかもそのバラツキが少ないことも確認できた。
【００９７】
表２および図２に示すように、実施例１の磁石サンプルでは、比較例１および５の磁石サンプルと比較して、極めて短時間で所定の接着強度が得られることが確認できた。
【００９８】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、ニッケルメッキ膜に対して反応不活性な接着剤の硬化不良を効果的に解消し、接着強度のバラツキが小さく、大きな接着強度を得ることができ、その結果、接着作業の効率化を実現できる磁石を提供できる。
また本発明によれば、このような磁石を効率よく製造できる磁石の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は本発明の一実施形態に係る永久磁石を示す概略断面図である。
【図２】  図２は実施例１、比較例１および比較例５のそれぞれの永久磁石サンプルについて、硬化時間と接着強度との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
２…  永久磁石
４…  磁石本体
６…  ニッケルメッキ膜からなる保護膜
８…  リン酸塩被膜
【図１】
0003698308.tif 000004
【図２】
0003698308.tif 000005