(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置において、
前記散乱層が、複数のインクジェットノズルを用いて形成され表面に凹凸形状を有する絶縁膜から成り、該絶縁膜の表面が熱処理による溶融により滑らかな凹凸形状に形成されていることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項２】
相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置において、
前記散乱層が、インクジェットノズルを用いて形成され、１種類の粒子又は複数種類の相互に異なる屈折率を有する粒子を含む有機系絶縁膜または無機系絶縁膜であることを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項３】
前記散乱層が、導電性粒子を有機系樹脂に分散してなる導電性有機系樹脂層であることを特徴とする請求項２に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項４】
前記散乱層が、顔料粒子を有機系樹脂に混合してなる着色有機系樹脂膜であることを特徴とする請求項２又は３に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項５】
前記散乱層が、インクジェットノズルに代えて、バブルジェットノズルによって形成されていることを特徴とする請求項１から４のうちのいずれか１項に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項６】
相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置の製造方法において、
前記散乱層を形成する工程が、
複数のインクジェットノズルを用いて表面に凹凸形状を有する絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の表面を熱処理による溶融によって滑らかな凹凸形状に形成する工程と
を含むことを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置の製造方法において、
前記散乱層を形成する工程では、
インクジェットノズルを用いて、１種類の粒子又は複数種類の相互に異なる屈折率を有する粒子を含む有機系絶縁膜または無機系絶縁膜から成る前記散乱層を形成することを特徴とする反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記散乱層が、導電性粒子を有機系樹脂に分散してなる導電性有機系樹脂層であることを特徴とする請求項７に記載の反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記散乱層が、顔料粒子を有機系樹脂に混合してなる着色有機系樹脂層であることを特徴とする請求項７又は８に記載の反射型液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記インクジェットノズルに代えて、バブルジェットノズルを用いて前記散乱層を形成することを特徴とする請求項６から９のうちのいずれか１項に記載の反射型液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型液晶表示装置およびその製造方法に関し、更に詳細には、散乱層を経済的に形成できる構成を備えた反射型液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、反射型液晶表示装置が、携帯端末機器用の表示装置として盛んに利用されている。
反射型液晶表示装置は、外部から液晶表示装置の内部に入射する光を反射板によって反射させて表示を行っている。このような反射型液晶表示装置の一例として、反射板の表面に滑らかな凹凸形状を設け、この凹凸形状によって外部から入射した光を効率的に散乱させ、これを表示光として利用するタイプの反射型液晶表示装置がある。
【０００３】
図１６を参照して、従来の反射型液晶表示装置の構造を説明する。図１６は従来の反射型液晶表示装置の構造を示す断面図である。
ガラス等の基板１上に金属層、絶縁層、半導体層等を成膜し、これらの膜に対して、フォトリソグラフィー工程およびエッチング工程を施して、所望のパターンを形成することにより、ゲート電極２、ゲート絶縁層３、半導体層４、ソース電極５、ドレイン電極６からなるスイッチング素子７が製造される。
さらに、先端の丸い凸部８１、絶縁層８２、反射板９等がスイッチング素子７上に形成されている。
【０００４】
この基板１と対向する基板１１上には、液晶に電圧を印加するために、ＩＴＯ等の透明導電性膜１２が形成されており、基板１と基板１１の間に、液晶１５が封入されている。
【０００５】
図１７を参照して、上述した従来の反射型液晶表示装置の製造工程を説明する。図１７（ａ）から（ｅ）は、従来の方法に従って反射型液晶表示装置を製造する際の工程毎の基板断面図である。
先ず、図１７（ａ）に示すように、スイッチング素子７が形成されている基板１上に感光性樹脂層８０を成膜する。
次いで、露光・現像処理を行い、図１７（ｂ）に示すように、微細な凸部８３を形成する。
次に、基板を所望の温度で焼成することにより、図１７（ｃ）に示すように、先端部分を丸めた凸部８１を形成する。
【０００６】
さらに、上部にスピン塗布等の方法により樹脂層を形成すると、図１７（ｄ）に示すように、滑らかな凹凸形状を有する絶縁膜８２が得られる。この後、図１７（ｄ）に示すように、フォトリソグラフィーによるコンタクトホール１０を形成する。
アルミニウム等の金属反射膜の成膜、画素電極のパターニングを行うことによって、図１７（ｅ）に示すように、反射板９を形成し、反射型液晶表示装置を製造する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図１７に示すような方法で反射型液晶表示装置を製造する場合、薄膜トランジスタの製造過程で反射板を形成する工程が増える。
特に、反射板を形成する場合、凸パターン形成工程、コンタクトホール形成工程、さらに画素電極パターニング工程、及びフォトリソグラフィー工程を必要とする。即ち、このような反射型液晶表示装置では、反射板形成の工程数が増加するため、それだけ、製造コストが高くなる。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、製造コストの低い構成を備えた反射型液晶表示装置及びその製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る反射型液晶表示装置は、相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置において、
前記散乱層が、インクジェット方式によって形成された凹凸面を有する散乱層であることを特徴としている。
【００１０】
インクジェット方式を用いて散乱層を形成することによって、反射板の製造において必要とされたフォトリソグラフィー工程を省くことができる。
好適には、前記散乱層が、表面に凹凸を有する有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜と、絶縁膜を覆う反射効率の高い金属材料膜との積層構造により構成され、前記有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜がインクジェット方式によって形成されている。
【００１１】
本発明の第１の実施態様では、インクジェットノズルから、絶縁性物質を基板表面に噴出することによって、絶縁膜を形成する。このとき、インクジェットノズルあるいは基板を動揺させることで、基板上の所望の位置に絶縁膜を形成することができ、絶縁性物質の噴出し量を調整することにより膜厚を変化させ、表面に凹凸形状を有する膜を形成することができる。
また、所望の位置への膜形成を行わなければ、その部分をコンタクトホールとして利用できる。これにより、絶縁層形成時にコンタクトホールを同時に形成することができ、従来のようにコンタクトホールを形成するためのフォトリソグラフィー工程を省くことができるため、製造工程数を削減することができる。
【００１２】
本発明の更に好適な第２の実施態様では、前記有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜が、有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜よりなる凸部と、凸部を覆うように形成された有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜とにより構成され、凸部と、凸部を覆う絶縁膜とが、インクジェット方式によって形成されている。
これにより、従来のような凸パターン形成のためのフォトリソグラフィー工程を省くことができる。
【００１３】
本発明の第３の実施態様では、前記有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜が、感光性膜である。本態様では、インクジェット方式を用いて形成したパターンに、フォトリソグラフィー工程を追加することによって、所望のパターンを形成できる。従って、製造工程数の削減が可能となる。
【００１４】
本発明では、散乱層の下部に高反射金属層を設けた構造でもよく、この場合、上述の第１から第３の実施態様では、散乱層が平坦でも、凹凸形状を有してもよい。
【００１５】
本発明に係る別の反射型液晶表示装置は、相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置において、
散乱層が、１種類の粒子又は複数種類の相互に異なる屈折率を有する粒子を含む有機系絶縁膜又は無機系絶縁膜であって、インクジェット方式によって形成されていることを特徴としている。
本態様では、入射光の散乱を本散乱層で行うため、従来のように、凹凸を有する反射板を形成するためのフォトリソグラフィー工程を省くことができる。
【００１６】
更には、本発明の第５の実施態様では、前記散乱層が、導電性粒子を有機系樹脂に混合してなる導電性有機系樹脂膜であって、インクジェット方式によって形成されていてもよい。これによって、散乱層上部に液晶に電圧を印加するための電極製造工程数を削減することができる。
【００１７】
また、本発明の第６の実施態様では、前記散乱層が、顔料粒子を有機系樹脂に混合してなる着色有機系樹脂膜であって、インクジェット方式によって形成されていても良い。本態様では、散乱層に着色機能が付加されるため、従来、対向側基板に設けていたカラーフィルタの製造を行う必要がなくなるためカラー反射型液晶表示装置の製造工程数を大幅に削減することができる。
【００１８】
本発明に係る反射型液晶表示装置の製造方法は、相互に対向する一対の基板を有し、該一対の基板相互間に液晶が封入され、前記一対の基板の一方に、光を散乱させるための散乱層が設けられた反射型液晶表示装置の製造方法において、
前記散乱層を形成する際、インクジェット方式によって所望の位置に前記散乱層を形成する。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下に、実施形態例を挙げ、添付図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に説明する。
反射型液晶表示装置の実施形態例１
本実施形態例は、本発明の第１の実施形態の反射型液晶表示装置の実施形態例であって、図１は本実施形態例の反射型液晶表示装置の断面図である。
基板１上には、図１に示すように、スイッチング素子７、および絶縁膜８、反射板９、コンタクトホール１０等が設けてある。
スイッチング素子７は、基板１上に金属層、絶縁層、半導体層等を成膜し、これらの膜に対して、フォトリソグラフィー工程およびエッチング工程を施すことにより形成した、ゲート電極２、ゲート絶縁層３、半導体層４、ソース電極５、ドレイン電極６で構成される。
【００２０】
また、この基板と対向する基板１１上には、液晶に電圧を印加するためのＩＴＯ等の透明な導電性膜１２が形成され、基板１と基板１１の間に、液晶１５が封入されている。
反射板９の表面は、反射板の下部に形成された微細な凹凸形状を有する絶縁膜８の形状を反映している。
【００２１】
製造方法の実施形態例１
本実施形態例は、第１の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法の実施形態の一例であって、図２は第１の実施形態の反射型液晶表示装置を製造する方法を説明するための図である。
ここで、図２を参照して、実施形態例の液晶表示装置の製造方法を説明する。まず、図２に示すように、基板１上に設置されたインクジェットノズル２０より、例えばポリイミドのような電気絶縁性の物質１９を噴出し、絶縁膜８を形成する。
絶縁膜８の表面は、微細な凹凸を有している。この凹凸形状は、入射光の散乱特性に影響を及ぼし、反射型液晶表示装置の表示特性を決定するものである。
【００２２】
このような凹凸形状を形成するために、本実施形態例では、インクジェットノズル２０からの噴出されるポリイミドの供給量を調整することによって、基板１の所定の位置に噴出される絶縁性物質の量を制御する。これにより、凹凸形状の凸部分の高さを自由に調整することができる。また、基板１とインクジェットノズル２０を相対的に移動させることによって、凸部分のピッチを変えることもできる。
【００２３】
なお、絶縁膜を形成するための材料は、ポリイミド以外でも、インクジェットノズルを用いて、所望の位置に噴出することのできる物質で、粘度が、０．５ｃｐ〜３０００ｃｐの液体、あるいは固体を含んだ混合液であればよい。このような材料として、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等がある。
また、これらの液を供給するインクジェットノズルには、１ミクロン〜５０ミクロンの口径を有し、複数のノズルが配列した構造のものを用いてもよい。ノズルの口径や配列数は、パターン形成にかかる時間に影響するが、微細なパターンを形成する場合は口径の小さいノズルを用いることが望ましい。
【００２４】
製造方法の実施形態例２
本実施形態例は、本発明の第２の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法の実施形態の一例であって、図３（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、本実施形態例の方法で反射型液晶表示装置を製造する際の工程毎の基板断面図である。
本実施形態例では、実施形態例１と同様にスイッチング素子７等が形成された基板１の表面に、図３（ａ）に示すように、インクジェットノズル２０を用いて、ポリイミド等の樹脂により凸部２１を形成する。
凸部２１は高さ０．３ミクロン〜４ミクロン、そのピッチは２ミクロン〜２０ミクロン程度の範囲が望ましい。さらに、場合によって熱加える、あるいは光を照射するなどして、先端部分を丸めることもできる。
【００２５】
次に、図３（ｂ）に示すように、基板１の表面に、前記凸部２１を覆うように絶縁膜２３を形成する。
このような絶縁膜２３は、下部凸部２１を反映し表面に微細な凹凸形状を有している。なお、絶縁膜２３をインクジェットノズル２０を用いて、コンタクトホール１０以外の領域に均一に形成することによって、従来のスピン塗布法によって成膜した膜にコンタクトホールを形成する場合に必要とされたフォトリソグラフィー工程を省くことができる。
【００２６】
製造方法の実施形態例３
本実施形態例は、本発明の第３の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法の実施形態例であって、図４（ａ）から（ｃ）は、それぞれ、本実施形態例の方法で反射型液晶表示装置を製造する際の工程毎の基板断面図である。
図４（ａ）に示すように、基板１上には、インクジェットノズル２０を用いて、感光性樹脂層によるパターン２４を形成する。
本パターン２４の下地膜にエッチング処理を施した後、図４（ｂ）に示すように、開口パターンを有するマスク２６を用いて、フォトリソグラフィー処理を行う。
【００２７】
これにより、パターン２４を形成した感光性樹脂から、図４（ｃ）に示すように、新たなパターン２５を形成することができる。つまり、一層の感光性樹脂層を、異なるパターン形成工程に利用することができるため、製造工程数を短縮化することができる。
【００２８】
図５は、製造方法の実施形態例１から実施形態例３で、絶縁膜の上部を覆う反射効率の高い金属層の製造工程を示す断面図である。
スイッチング素子７、微細な凹凸形状を有する絶縁膜８を形成し、更に縁膜８の上部に反射板９を形成する。
反射板９は、例えば銀等の微粒子、望ましくは粒径が０．００１ミクロン〜１ミクロンの粒子を、溶媒に混入させた混合液２７をインクジェットノズル２０によって、基板の所望の位置に噴出することによって形成することができる。
【００２９】
反射型液晶表示装置の実施形態例２
本実施形態例は、本発明の第４の実施形態の反射型液晶表示装置の実施形態例であって、図６は本実施形態例の反射型液晶表示装置の構成を示す基板断面図である。
本実施形態例の反射型液晶表示装置は、図６に示すように、相互に対向する一対の基板１と基板１１とを有し、基板１上にはスイッチング素子７、絶縁膜３１、反射板９等が形成されている。
基板１１上には、屈折率の異なる粒子が溶媒に混合された溶液を塗布して成膜した有機系絶縁膜あるいは無機系絶縁膜からなる散乱層３３、およびその上部に形成された透明電極１２を有している。
【００３０】
本散乱層３３は、図７に示すように、粒径が０．０１ミクロンから０．５ミクロン程度のガラス粒子等の透明粒子４２を含んだ有機系絶縁膜あるいは無機系絶縁膜をインクジェットノズル２０を用いて基板上に均一に噴き付けることによって形成することができる。
なお、散乱層の膜厚は、所望の散乱性能を得るために、０．５ミクロンから５ミクロンの範囲で形成することが望ましい。
【００３１】
反射型液晶表示装置の実施形態例３
本実施形態例は、本発明の第５の実施形態の反射型液晶表示装置の実施形態例であって、図８は本実施形態例の反射型液晶表示装置の構成を示す基板断面図である。
本実施形態例では、図６に示す実施形態例３の散乱層３３に、導電性を有する粒子４３が混合されており、散乱層自身が導電性を有している。そのため、実施形態例２で必要とされていた、液晶に電圧を印加するための透明電極１２を形成する必要がないため、製造工程数を省くことができる。
【００３２】
反射型液晶表示装置の実施形態例４
本実施形態例は、本発明の第６の実施形態の反射型液晶表示装置の実施形態例であって、図９は本実施形態例の反射型液晶表示装置の構成を示す基板断面図である。
本実施形態例では、実施形態例２又は実施形態例３の反射型液晶表示装置の散乱層３３に顔料等の色素４６を混合させることによって、散乱層３３を着色し、カラー表示を行うための着色機能を有する散乱層を形成している。
また、有機系絶縁膜を用いる場合、可視光の範囲で特定の波長を吸収する官能基を有する材料を用いることによって、色素を用いずに着色層を形成することも可能である。
【００３３】
【実施例】
以下に、実施例を挙げ、添付図面を参照して、本発明を具体的かつ詳細に説明する。
実施例１
図１０を参照して、反射型液晶表示装置の実施例１の製造方法を詳細に説明する。図１０（ａ）〜（ｆ）は、それぞれ、本実施例方法に従って反射型液晶表示装置を製造する際の工程毎の基板断面図である。
まず、図１０（ａ）に示すように、ガラス等の基板１に、クロム（Ｃｒ）をスパッタリングにより成膜し、この金属層にレジストを塗布し、露光・現像工程を施し、ゲート電極２を形成した。
次いで、図１０（ｂ）に示すように、ＣＶＤ法等によって、窒化シリコン層１３、およびアモルファスシリコン層１４の積層膜を成膜した。
続いて、図１０（ｃ）に示すように、この積層膜にフォトリソグラフィー（ＰＲ）工程、およびエッチング工程を施すことにより、ゲート絶縁層３、半導体層４を形成した。
【００３４】
次いで、図１０（ｄ）に示すように、Ｃｒをスパッタにより成膜し、この膜にＰＲ工程、エッチング工程を施すことにより、ソース電極５、ドレイン電極６をパターニングし、薄膜トランジスタを形成した。
この基板１に対し、複数のノズルを配置したインクジェットヘッド６２を用いて、図１０（ｅ）に示すように、熱硬化性のアクリル樹脂を表面に噴出し、凹凸パターン５０を有する絶縁膜８を形成した。
なお、絶縁層８の形成工程では、ドレイン電極６の上にアクリル樹脂層を形成せず、反射板９とドレイン電極６を導通させるコンタクトホール１０とした。
【００３５】
次いで、基板１を２００℃で３０分間、オーブンを用いて焼成することで、図１０（ｆ）に示すように、絶縁層８の表面の凹凸パターン５０の先端部分が丸く、表面が滑らかな凹凸形状５３を形成した。さらに、この上部にＡｌをスパッタすることによって得た金属層をパターニングすることで反射板９を形成した。
このようにして形成した基板１とＩＴＯ電極を有する基板１１を重ねあわせ、例えばＴＮ型液晶を封入することで反射型液晶表示装置を形成した。
【００３６】
なお、本実施例においては、ゲート電極２、ソース電極５、ドレイン電極６を形成するために、Ｃｒを、反射板を形成するために、Ａｌを用いたが、これらの電極の材料はＣｒ、あるいはＡｌに限定されることはなく、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ等の金属や、ＩＴＯ、ＳｎＯ２等の導電性膜、さらには、これらの積層膜でもよい。また、ゲート絶縁層３も窒化シリコンに限らず、酸化シリコンや、絶縁性の塗布膜でもよい。塗布膜を用いる場合、インクジェットノズルを用いて、所望の位置に形成することもできる。
【００３７】
実施例２
図１１を参照して、第２の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法を詳細に説明する。図１１（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ、本実施例方法に従って反射型液晶表示装置を製造する際の工程毎の基板断面図である。
まず、図１１（ａ）に示すように、実施例１と同様に：ガラス等の基板１上にスイッチング素子７等を形成し、その上部にインクジェットヘッド６２を用いて、アクリル樹脂による凸パターン５１を形成する。
次いで、図１１（ｂ）に示すように、基板１を２００℃で３０分間、オーブンを用いて焼成し、先端部分の丸い凸パターン５２形成した。
【００３８】
さらに、図１１（ｃ）に示すように、この上部に絶縁膜２３を塗布し、２００℃で３０分間、オーブンを用いて焼成した。
絶縁膜２３にＰＲ工程、およびエッチング工程を施し、コンタクトホール１０を形成後、Ａｌ金属層をスパッタし、ＰＲ工程、およびエッチング工程を施して、図１１（ｄ）に示すように、反射板９を形成した。
【００３９】
実施例３
図１２を参照して、第３の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法を詳細に説明する。図１２（ａ）〜（ｅ）は、それぞれ、本実施例方法に従って反射型液晶表示装置を製造する際の工程毎の基板断面図である。
まず、図１２（ａ）に示すように、基板１上にゲート電極２、ゲート絶縁層３、アモルファスシリコン層４を形成後、Ｃｒ膜をスパッタする。
次いで、感光性アクリル樹脂（日本合成ゴム製オプトマーＰＣシリーズ）を用いて、図１２（ｂ）に示すように、表面に凹凸形状を有する画素パターン７１とソース電極パターン７２を形成し、Ｃｒ膜をＣｒエッチング液（関東化学製ＣＲＯＹ）を用いてエッチングする。
この後、図１２（ｃ）に示すように、マスク２６を用いて感光性樹脂層にＰＲ工程を施し、コンタクトホール１０を形成した。次に、図１２（ｄ）に示すように、基板１を２００℃で３０分間、オーブンを用いて焼成し樹脂を硬化させる。さらに、Ａｌ金属層をスパッタし、ＰＲ工程、およびエッチング工程を施して、図１２（ｅ）に示すように、反射板９を形成した。
【００４０】
実施例４
図１３を参照して、反射板の実施例１から３以外の他の製造方法を詳細に説明する。図１３は、本実施例方法に従って反射型液晶表示装置を製造する際の工程毎の基板断面図である。
実施例１と同様にガラス等の基板１上にスイッチング素子７、絶縁膜８、コンタクトホール１０を形成後、図１３に示すように、インクジェットノズル２０を用いて、三井金属製のパストランシリーズのような、導電性で光反射機能を有する微粒子を含む液体７３を噴出し、反射板９を形成した。
【００４１】
実施例５
図１４を参照して、第４の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法を詳細に説明する。図１４（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、本実施例方法に従って反射型液晶表示装置を製造する際の工程毎の基板断面図である。
基板１１上にインクジェット方式によって、図１４（ａ）に示すように、平均粒径が０．２ミクロンのガラス粒子４４を含んだポリイミドを均一に形成した。このときの膜厚は２ミクロンとした。
さらに、図１４（ｂ）に示すように、その上部に液晶に電圧を印加するためのＩＴＯ電極を形成した。
次いで、本基板１１と、スイッチング素子７、絶縁膜３１、反射板９等が形成された基板１と重ね合わせることによって、図１４（ｃ）に示すように、反射型液晶表示装置を形成した。
【００４２】
実施例６
図１５を参照して、第５の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法を詳細に説明する。図１５は、本実施例方法に従って反射型液晶表示装置を製造する際の基板断面図である。
実施例５における、図１４（ａ）と同様の方法で形成する散乱層にＩＴＯ粒子４５を混合させ、スイッチング素子７、絶縁膜３１、反射板９等が形成された基板１と重ね合わせることによって本反射型液晶表示装置は得られた。
【００４３】
実施例７
実施例５における反射型液晶表示装置の製造方法において、前記ポリイミド中に金属の酸化物、塩化物、硫化物等からなる無機顔料を含有させ、ＲＧＢ３種類の色を有する散乱層を、図１４（ａ）と同様の方法でそれぞれ所望の位置に均一に形成した。
【００４４】
実施例８
実施例１から６におけるインクジェットノズルが、気泡の圧力によって、溶液を噴出するバブルジェット方式であってもよい。
【００４５】
【発明の効果】
本発明方法によると、反射板の下部に形成する凹凸形状を有する絶縁層、反射板、あるいは散乱層をインクジェットノズルを用いて形成することによって、フォトリソ工程、エッチング工程を省くことができるため、反射型液晶表示装置を低コストで製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態を示す反射型液晶表示装置の断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図４】本発明の第３の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図５】本発明における反射板の製造方法を示す断面図である。
【図６】本発明の第４の実施形態の反射型液晶表示装置の断面図である。
【図７】本発明の第４の実施形態の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図８】本発明の第５の実施形態を示す反射型液晶表示装置の断面図である。
【図９】本発明の第６の実施形態を示す反射型液晶表示装置の断面図である。
【図１０】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１１】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１２】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１３】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１４】本発明の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１５】本発明の反射型液晶表示装置を示す断面図である。
【図１６】従来の反射型液晶表示装置の断面図である。
【図１７】従来の反射型液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【符号の説明】
１  基板
２  ゲート電極
３  ゲート絶縁層
４  半導体層
５  ソース電極
６  ドレイン電極
７  スイッチング素子
８  凹凸形状を有する絶縁膜
９  反射板
１０  コンタクトホール
１１  基板
１２  透明電極
１３  窒化シリコン層
１４  アモルファスシリコン層
１５  液晶
１９  絶縁性物質
２０  インクジェットノズル
２１  凸部
２３  絶縁膜
２４  感光性樹脂層によるパターン
２５  ＰＲ工程によって形成されたパターン
２６  マスク
３１  絶縁膜
３３  散乱層
４２  透明粒子
４３  導電性粒子
４４  ガラス粒子
４５  ＩＴＯ粒子
４６  顔料粒子
５０  表面凹凸形状
５１  凸部
５２  先端の丸い凸パターン
５３  滑らかな凹凸形状
６２  インクジェットヘッド
７１  画素パターン
７２  ソース電極パターン
７３  Ａｇ粒子を含んだ液体
８０  感光性樹脂層
８１  先端を丸めた凸部
８２  絶縁膜
８３  感光性膜にＰＲを施し形成した凸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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