(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル開口に連通する圧力発生室の一部を構成し、弾性膜とその上に形成された下電極とからなる振動板と、該振動板の表面に形成された圧電体層及び該圧電体層の表面に形成された上電極からなる圧電体能動部とからなり、少なくとも前記下電極、前記圧電体層、前記上電極が成膜及びリソグラフィ法を用いて形成された圧電振動子を備えるインクジェット式記録ヘッドにおいて、
前記振動板は、前記圧力発生室内側の少なくとも幅方向両側に長手方向に亘って凹部を有し、
当該凹部の深さは、前記弾性膜の厚さの０．５倍以上で、前記下電極の一部に到達するまでの範囲であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項２】
請求項１において、前記弾性膜が、第１の弾性膜とその上に設けられた第２の弾性膜とからなることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のインクジェット式記録ヘッドを具備したことを特徴とするインクジェット式記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、振動板の初期変形を排除して変位量を向上させ、且つ振動板の耐久性が向上したインクジェット式記録ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】
インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧電振動子により変形させて圧力発生室のインクを加圧してノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッドには、圧電振動子の軸方向に伸長、収縮する縦振動モードの圧電振動子を使用したものと、たわみ振動モードの圧電振動子を使用したものの２種類が実用化されている。
【０００３】
前者は圧電振動子の端面を振動板に当接させることにより圧力発生室の容積を変化させることができて、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反面、圧電振動子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた圧電振動子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
【０００４】
これに対して後者は、圧電材料のグリーンシートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電振動子を作り付けることができるものの、たわみ振動を利用する関係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難であるという問題がある。
【０００５】
一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消すべく、特開平５−２８６１３１号公報に見られるように、振動板の表面全体に亙って薄膜技術により均一な圧電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法により圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生室毎に独立するように圧電振動子を形成したものが提案されている。
【０００６】
これによれば圧電振動子を振動板に貼付ける作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、かつ簡便な手法で圧電振動子を作り付けることができるばかりでなく、圧電振動子の厚みを薄くできて高速駆動が可能になるという利点がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した薄膜技術およびリソグラフィ法による製造方法では、圧電振動子の駆動による変形量が小さいので、十分な吐出容量が得られがたいという問題がある。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑み、圧電振動子の駆動による変形量の向上を図ったインクジェット式記録ヘッドを提供することを課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の第１の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室の一部を構成し、弾性膜とその上に形成された下電極とからなる振動板と、該振動板の表面に形成された圧電体層及び該圧電体層の表面に形成された上電極とからなり、少なくとも前記下電極、前記圧電体層、前記上電極が成膜及びリソグラフィ法を用いて形成された圧電振動子を備えるインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記振動板は、前記圧力発生室内側の少なくとも幅方向両側に長手方向に亘って凹部を有し、当該凹部の深さは、前記弾性膜の厚さの０．５倍以上で、前記下電極の一部に到達するまでの範囲であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【００１０】
かかる第１の態様では、凹部を設けたことにより、圧電体能動部の駆動による振動板の変位量を大きく向上することができる。
【００１１】
本発明の第２の態様は、第１の態様において、前記弾性膜が、第１の弾性膜とその上に設けられた第２の弾性膜とからなることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【００１２】
かかる第２の態様では、弾性膜の耐久性が向上する。
【００１３】
本発明の第３の態様は、第１又は２の記載のインクジェット式記録ヘッドを具備したことを特徴とするインクジェット式記録装置にある。
【００１４】
かかる第３の態様では、ヘッドの特性が向上し、信頼性を向上させたインクジェット式記録装置を実現することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２２】
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドを示す組立斜視図であり、図２は、平面図及びその１つの圧力発生室の長手方向における断面構造を示す図である。
【００２３】
図示するように、流路形成基板１０は、本実施形態では面方位（１１０）のシリコン単結晶基板からなる。流路形成基板１０としては、通常、１５０〜３００μｍ程度の厚さのものが用いられ、望ましくは１８０〜２８０μｍ程度、より望ましくは２２０μｍ程度の厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるからである。
【００２４】
流路形成基板１０の両面には、予め熱酸化により形成した二酸化シリコンからなる、厚さ０．１〜２μｍの弾性膜５０，５１が形成されている。また、流路形成基板１０の一方の面には、弾性膜５１をパターニングした後、シリコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、ノズル開口１１、圧力発生室１２が形成されている。
【００２５】
ここで、異方性エッチングは、シリコン単結晶基板をＫＯＨ等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々に侵食されて（１１０）面に垂直な第１の（１１１）面と、この第１の（１１１）面と約７０度の角度をなし且つ上記（１１０）と約３５度の角度をなす第２の（１１１）面とが出現し、（１１０）面のエッチングレートと比較して（１１１）面のエッチングレートが約１／１８０であるという性質を利用して行われるものである。かかる異方性エッチングにより、二つの第１の（１１１）面と斜めの二つの第２の（１１１）面とで形成される平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行うことができ、圧力発生室１２を高密度に配列することができる。
【００２６】
本実施形態では、各圧力発生室１２の長辺を第１の（１１１）面で、短辺を第２の（１１１）面で形成している。この圧力発生室１２は、流路形成基板１０をほぼ貫通し、後述するが、弾性膜５０の一部までエッチングすることにより形成されている。なお、弾性膜５０は、シリコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵される量がきわめて小さい。
【００２７】
一方、各圧力発生室１２の一端に連通する各ノズル開口１１は、圧力発生室１２より幅狭で且つ浅く形成されている。すなわち、ノズル開口１１は、シリコン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング（ハーフエッチング）することにより形成されている。なお、ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行われる。
【００２８】
ここで、インク滴吐出圧力をインクに与える圧力発生室１２の大きさと、インク滴を吐出するノズル開口１１の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、１インチ当たり３６０個のインク滴を記録する場合、ノズル開口１１は数十μｍの溝幅で精度よく形成する必要がある。
【００２９】
また、各圧力発生室１２と後述する共通インク室３１とは、後述する封止板２０の各圧力発生室１２の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク供給連通口２１を介して連通されており、インクはこのインク供給連通口２１を介して共通インク室３１から供給され、各圧力発生室１２に分配される。
【００３０】
封止板２０は、前述の各圧力発生室１２に対応したインク供給連通口２１が穿設された、厚さが例えば、０．１〜１ｍｍで、線膨張係数が３００℃以下で、例えば２．５〜４．５［×１０−６／℃］であるガラスセラミックスからなる。なお、インク供給連通口２１は、各圧力発生室１２のインク供給側端部の近傍を横断する一つのスリット孔でも、あるいは複数のスリット孔であってもよい。封止板２０は、一方の面で流路形成基板１０の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外力から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板２０は、他面で共通インク室３１の一壁面を構成する。
【００３１】
共通インク室形成基板３０は、共通インク室３１の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、インク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共通インク室形成基板３０の厚さは、０．２ｍｍとしている。
【００３２】
インク室側板４０は、ステンレス基板からなり、一方の面で共通インク室３１の一壁面を構成するものである。また、インク室側板４０には、他方の面の一部にハーフエッチングにより凹部４０ａを形成することにより薄肉壁４１が形成され、さらに、外部からのインク供給を受けるインク導入口４２が打抜き形成されている。なお、薄肉壁４１は、インク滴吐出の際に発生するノズル開口１１と反対側へ向かう圧力を吸収するためのもので、他の圧力発生室１２に、共通インク室３１を経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止する。本実施形態では、インク導入口４２と外部のインク供給手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク室側板４０を０．２ｍｍとし、その一部を厚さ０．０２ｍｍの薄肉壁４１としているが、ハーフエッチングによる薄肉壁４１の形成を省略するために、インク室側板４０の厚さを初めから０．０２ｍｍとしてもよい。
【００３３】
一方、流路形成基板１０の圧力発生室１２とは反対側の弾性膜５０の上には、厚さが例えば、約０．５μｍの下電極膜６０と、厚さが例えば、約１μｍの圧電体膜７０と、厚さが例えば、約０．１μｍの上電極膜８０とが、後述するプロセスで積層形成されて、圧電振動子（圧電素子）を構成している。このように、弾性膜５０の各圧力発生室１２に対向する領域には、各圧力発生室１２毎に独立して圧電振動子が設けられており、本実施形態では、下電極膜６０は圧電振動子の共通電極とし、上電極膜８０を圧電振動子の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。また、本実施形態では、圧電体膜７０を各圧力発生室１２に対応して個別に設けたが、圧電体膜を全体に設け、上電極膜８０を各圧力発生室１２に対応するように個別に設けてもよい。何れの場合においても、各圧力発生室１２毎に圧電体能動部が形成されていることになる。
【００３４】
ここで、シリコン単結晶基板からなる流路形成基板１０上に、圧電体膜７０等を形成するプロセスを図３を参照しながら説明する。
【００３５】
図３（ａ）に示すように、まず、流路形成基板１０となるシリコン単結晶基板のウェハを約１１００℃の拡散炉で熱酸化して、流路形成基板１０の両面に二酸化シリコンからなる弾性膜５０，５１を一度に形成する。
【００３６】
次に、図３（ｂ）に示すように、スパッタリングで下電極膜６０を形成する。下電極膜６０の材料としては、Ｐｔ等が好適である。これは、スパッタリングやゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜７０は、成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で６００〜１０００℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるからである。すなわち、下電極膜７０の材料は、このような高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければならず、殊に、圧電体膜７０としてＰＺＴを用いた場合には、ＰｂＯの拡散による導電性の変化が少ないことが望ましく、これらの理由からＰｔが好適である。
【００３７】
次に、図３（ｃ）に示すように、圧電体膜７０を成膜する。この圧電体膜７０の成膜にはスパッタリングを用いることもできるが、本実施形態では、金属有機物を溶媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化物からなる圧電体膜７０を得る、いわゆるゾル−ゲル法を用いている。圧電体膜７０の材料としては、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）系の材料がインクジェット式記録ヘッドに使用する場合には好適である。
【００３８】
次に、図３（ｄ）に示すように、上電極膜８０を成膜する。上電極膜８０は、導電性の高い材料であればよく、Ａｌ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｐｔ等の多くの金属や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、Ｐｔをスパッタリングにより成膜している。
【００３９】
次に、図４に示すように、下電極膜６０、圧電体膜７０及び上電極膜８０をパターニングする。
【００４０】
まず、図４（ａ）に示すように、下電極膜６０、圧電体膜７０及び上電極膜８０を一緒にエッチングして下電極膜６０の全体パターンをパターニングする。次いで、図４（ｂ）に示すように、圧電体膜７０及び上電極膜８０のみをエッチングして圧電体能動部３２０のパターニングを行う。
【００４１】
以上が膜形成プロセスである。このようにして膜形成を行った後、図５に示すように、前述したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性エッチングを行い、圧力発生室１２等を形成する。その際、本実施形態では、振動板の圧力発生室１２側の圧電体能動部の腕部に対向する位置に、後述する凹部を形成している。
【００４２】
まず、図５（ａ）に示すように、圧力発生室１２の形成位置に対応する部分の弾性膜５１をパターニングし、開口部５１ａ及び膜厚を相対的に薄くした段差部５１ｂを形成する。この開口部５１ａは、後述する凹部に対応する部分、本実施形態では、圧電体能動部に対向する部分の両側の領域に設けられ、また、段差部５１ｂは、圧力発生室１２の圧電体能動部に対応する領域に設けられる。なお、この段差部５１ａは、ハーフエッチング等により形成すればよい。
【００４３】
次いで、図５（ｂ）に示すように、前述したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性エッチングを行い、圧力発生室１２及び凹部３３０を形成する。このエッチングにより、まず開口部５１ａの領域のシリコン単結晶基板が侵されて行き、これと共に周囲の段差部５１ｂも侵されて行く。これにより、段差部５１ｂは完全に除去され、段差部５１ｂに覆われていた部分のシリコン単結晶基板が、遅れて侵されていく。その後、開口部５１ａの領域のシリコン単結晶基板が完全に除去されるが、段差部５１ｂの領域のシリコン単結晶基板が完全に除去されるまで、すなわち、圧力発生室１２が形成されるまでエッチングを続行すると、結果的に、開口部５１ａの領域の弾性膜５０が侵され、凹部３３０が形成される。
【００４４】
この凹部３３０の深さは、段差部５１ｂの厚さによって調節することができる。すなわち、段差部５１ｂを厚く残すほど、凹部３３０は深く形成されることになる。また、凹部３３０の深さは、弾性膜５０の０．５倍以上で下電極膜６０の一部に到達する範囲であることが好ましい。なお、凹部３３０の深さを、下電極膜６０の一部に到達するようにするためには、弾性膜５１を弾性膜５０よりも厚く形成する必要がある。
【００４５】
このように形成された凹部３３０と圧電体能動部３２０及び圧力発生室１２との位置関係を図６に示す。なお、図６の（ａ）は平面図、（ｂ）および（ｃ）はそれぞれ、そのＢ−Ｂ’線断面図、Ｃ−Ｃ’線断面図である。
【００４６】
図示するように、本実施形態の凹部３３０は、圧力発生室１２に対向する領域において、圧電体能動部３２０の幅方向両側の弾性膜５０に、長手方向に亘って、弾性膜５０の厚さの０．５〜１倍程度の深さで形成されている。
【００４７】
この凹部３３０の深さは、振動板の変形量を向上するが、振動板の耐久性の低下に大きく影響しないように設計する必要があり、弾性膜５０の膜厚の０．５倍以上で下電極膜６０の一部に到達するまでの範囲であるのが好ましい。また、凹部３３０の幅及び長さも、圧電体能動部の大きさ等を考慮して、振動板の耐久性に大きく影響しないように設計する必要がある。
【００４８】
このように、本実施形態では、凹部３３０を圧電体能動部の幅方向両側に形成することにより、圧電体能動部の駆動による応力を低減することができ、変位量を向上することができる。また、凹部３３０は、圧力発生室１２と同時に形成することができるため、製造工程を増やすことなく容易に形成することができる。
【００４９】
また、本実施形態では、弾性膜５０を一層の二酸化シリコン膜で形成するようにしたが、これに限定されず、さらに他の層を設け、弾性膜を複数の層で形成するようにしてもよい。
【００５０】
例えば、図７に示すように、弾性膜５０と下電極膜６０との間に、硬質材料、例えば、酸化ジルコニアからなる第２の弾性膜５２を設けるようにしてもよい。これにより、圧電体能動部３２０の形成後の流路形成基板１０にかかる残留応力を低減することができ、圧力発生室１２を形成する際の応力変化による振動板の破壊を防止することができる。
【００５１】
このように第２の弾性膜５２を設けた場合には、弾性板が変形しにくくなるため、特に、弾性膜５０に凹部３３０を形成することが必要となる。
【００５２】
以上の説明では、圧電体能動部３２０の形成後に、圧力発生室１２を形成するようにしたが、実際には、図２に示すように、各上電極膜８０の上面の少なくとも周縁、及び圧電体膜７０および下電極膜６０の側面を覆うように電気絶縁性を備えた絶縁体層９０を形成し、さらに、絶縁体層９０の各圧電体能動部３２０の一端部に対応する部分の上面を覆う部分の一部にはリード電極１００と接続するために上電極膜８０の一部を露出させるコンタクトホール９０ａを形成し、このコンタクトホール９０ａを介して各上電極膜８０に一端が接続し、また他端が接続端子部に延びるリード電極１００を形成した後に、圧力発生室１２を形成するようにしてもよい。ここで、リード電極１００は、駆動信号を上電極膜８０に確実に供給できる程度に可及的に狭い幅となるように形成するのが好ましい。
【００５３】
なお、本実施形態では、コンタクトホール９０ａは、圧力発生室１２の周壁に対向する位置に設けられているが、圧電体能動部３２０を圧力発生室１２に対向する領域内にパターニングし、圧力発生室１２に対向する位置にコンタクトホール９０ａを設けてもよい。
【００５４】
また、以上説明した一連の膜形成及び異方性エッチングは、一枚のウェハ上に多数のチップを同時に形成し、プロセス終了後、図１に示すような一つのチップサイズの流路形成基板１０毎に分割する。また、分割した流路形成基板１０を、封止板２０、共通インク室形成基板３０、及びインク室側板４０と順次接着して一体化し、インクジェット式記録ヘッドとする。
【００５５】
このように構成したインクジェットヘッドは、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導入口４２からインクを取り込み、共通インク室３１からノズル開口１１に至るまで内部をインクで満たした後、図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従い、リード電極１００を介して下電極膜６０と上電極膜８０との間に電圧を印加し、弾性膜５０、下電極膜６０及び圧電体膜７０をたわみ変形させることにより、圧力発生室１２内の圧力が高まりノズル開口１１からインク滴が吐出する。
【００５６】
（他の実施形態）
以上、本発明の各実施形態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的構成は上述したものに限定されるものではない。
【００５７】
例えば、上述した封止板２０の他、共通インク室形成板３０をガラスセラミックス製としてもよく、さらには、薄肉膜４１を別部材としてガラスセラミックス製としてもよく、材料、構造等の変更は自由である。
【００５８】
また、上述した実施形態では、ノズル開口を流路形成基板１０の端面に形成しているが、面に垂直な方向に突出するノズル開口を形成してもよい。
【００５９】
このように構成した実施形態の分解斜視図を図８、その流路の断面を図９にそれぞれ示す。この実施形態では、ノズル開口１１が圧電振動子とは反対のノズル基板１２０に穿設され、これらノズル開口１１と圧力発生室１２とを連通するノズル連通口２２が、封止板２０，共通インク室形成板３０及び薄肉板４１Ａ及びインク室側板４０Ａを貫通するように配されている。
【００６０】
なお、本実施形態は、その他、薄肉板４１Ａとインク室側板４０Ａとを別部材とし、インク室側板４０に開口４０ｂを形成した以外は、基本的に上述した実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付して重複する説明は省略する。
【００６１】
ここで、この実施形態においても、上述した実施形態と同様に、圧力発生室内側の振動板に凹部を設けることにより、圧電体能動部の駆動による応力が抑えられ、変位量を向上することができる。
【００６２】
また、勿論、共通インク室を流路形成基板内に形成したタイプのインクジェット式記録ヘッドにも同様に応用できる。
【００６３】
また、以上説明した各実施形態は、成膜及びリソグラフィプロセスを応用することにより製造できる薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、勿論これに限定されるものではなく、例えば、基板を積層して圧力発生室を形成するもの、あるいはグリーンシートを貼付もしくはスクリーン印刷等により圧電体膜を形成するもの、又は結晶成長により圧電体膜を形成するもの等、各種の構造のインクジェット式記録ヘッドに本発明を採用することができる。
【００６４】
さらに、上述した実施形態では、振動板として下電極膜とは別に弾性膜を設けたが、下電極膜が弾性膜を兼ねるようにしてもよい。
【００６５】
また、圧電振動子とリード電極との間に絶縁体層を設けた例を説明したが、これに限定されず、例えば、絶縁体層を設けないで、各上電極に異方性導電膜を熱溶着し、この異方性導電膜をリード電極と接続したり、その他、ワイヤボンディング等の各種ボンディング技術を用いて接続したりする構成としてもよい。
【００６６】
このように、本発明は、その趣旨に反しない限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応用することができる。また、これら各実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図１０は、そのインクジェット式記録の一例を示す概略図である。
【００６７】
図１０に示すように、インクジェット式記録ヘッドを有する記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、インク供給手段を構成するカートリッジ２Ａ及び２Ｂが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３は、装置本体４に取り付けられたキャリッジ軸５に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、例えば、それぞれブラックインク組成物を吐出するものとしている。
【００６８】
そして、駆動モータ６の駆動力が図示しない複数の歯車及びタイミングベルト７を介してキャリッジ３に伝達されることで、記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３はキャリッジ軸５に沿って移動される。一方、装置本体４にはキャリッジ３に沿ってプラテン８が設けられている。このプラテン８は図示しない紙送りモータの駆動力により回転できるようになっており、給紙ローラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートＳがプラテン８に巻き掛けられて搬送されるようになっている。
【００６９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、圧力発生室内側の振動板に凹部を形成するようにしたので、圧電体能動部の駆動による応力が抑えられ、変位量を向上することができる。また、凹部は、圧力発生室と同時に形成することができるため、製造工程を増加することなく、容易に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図である。
【図２】本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドを示す図であり、図１の平面図及び断面図である。
【図３】本発明の実施形態１の薄膜製造工程を示す図である。
【図４】本発明の実施形態１の薄膜製造工程を示す図である。
【図５】本発明の実施形態１の圧力発生室及び凹部の製造工程を示す図である。
【図６】本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドの要部を示す平面図及び断面図である。
【図７】振動板の変形を示す断面図である。
【図８】本発明の他の実施形態に係るインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図である。
【図９】本発明の他の実施形態に係るインクジェット式記録ヘッドを示す断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係るインクジェット式記録装置の概略図である。
【符号の説明】
１０  流路形成基板
１１  ノズル開口
１２  圧力発生室
５０，５１  弾性膜
５２  第２弾性膜
６０  下電極膜
７０  圧電体膜
８０  上電極膜
９０  絶縁体層
１００  リード電極
３２０  圧電体能動部
３３０  凹部
【図１】
0003610811.tif 000002
【図２】
0003610811.tif 000003
【図３】
0003610811.tif 000004
【図４】
0003610811.tif 000005
【図５】
0003610811.tif 000006
【図６】
0003610811.tif 000007
【図７】
0003610811.tif 000008
【図８】
0003610811.tif 000009
【図９】
0003610811.tif 000010
【図１０】
0003610811.tif 000011