(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写支持体と、該転写支持体上に剥離可能に形成された感光性導電性ペースト層と、該感光性導電性ペースト層上に形成された黒色顔料を含有する感光性黒色導電性ペースト層とを備え、前記感光性導電性ペースト層中の導電性粉体の含有割合が４５〜９３重量％の範囲であり、前記感光性黒色導電性ペースト層は、導電性粉体の含有割合（前記黒色顔料を除いた成分中の含有割合）が４５〜９３重量％の範囲であり、かつ、導電性粉体１００重量部に対して０．１〜５０重量部の範囲となるように前記黒色顔料が含有され、前記黒色顔料の平均粒径が０．０１〜５μｍの範囲であり、前記感光性黒色導電性ペースト層の厚みが１〜１５μｍの範囲であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シート。
【請求項２】
前記転写支持体は光透過性を有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シート。
【請求項３】
絶縁基板上に形成した透明電極上に、請求項１または請求項２に記載の電極形成用の転写シートを用いて感光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層とを転写し、次いで、所定のパターンを有するマスクを介して感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し、現像した後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項４】
絶縁基板上に形成した透明電極上に、請求項２に記載の電極形成用の転写シートの感光性黒色導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有するマスクを介して転写支持体上から感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し、次いで、転写支持体を剥離し、次に、現像した後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項５】
所定のパターンを有するマスクを介して請求項１または請求項２に記載の電極形成用の転写シートの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し、次いで、絶縁基板上に形成した透明電極上に、該転写シートの感光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層とを転写し、次に、現像した後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項６】
所定のパターンを有するマスクを介して請求項１または請求項２に記載の電極形成用の転写シートの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し現像して黒色導電層のパターンと主導電層のパターンを形成し、次いで、絶縁基板上に形成した透明電極上に、該転写シートの黒色導電層のパターンと主導電層のパターンとを転写し、その後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートと電極形成方法に係り、特に透明電極の低抵抗化を図るためのバス電極を簡便に形成するためのプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートと電極形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、プラズマディスプレイパネルの開発が進んでいる。プラズマディスプレイパネルには、直流型プラズマディスプレイパネルと交流型プラズマディスプレイパネルとがある。両表示パネルとも、前面板に形成された電極と、この電極に直交するように背面板に形成された電極との間の放電空間におけるプラズマ放電を利用するものであり、また、放電空間に所定のガスを封入し、ガス放電により発生する紫外線によって放電空間内面に塗布された蛍光体を発光させてカラー表示を行うものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従来、前面板に形成される電極（表示電極）は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の透明電極であり、この透明電極は金属導電物質に比べて電気抵抗が大きく、特に高精細のプラズマディスプレイパネルあるいは大面積のプラズマディスプレイパネルでは、透明電極の電気抵抗が大幅に増大し、表示品質に支障を来したり、高い印加電圧が必要になるという問題があった。
【０００４】
このような問題を解決するために、透明電極上に銀ペースト層を形成して表示電極の抵抗を減少させることが行われているが、銀ペーストが白っぽいため表示コントラストが低下するという問題があった。そこで、透明電極上に黒色導電層を形成して表示電極の抵抗を減少させるとともに、前面板側から表示パネルを見た場合のコントラストと色純度を高めることがなされている。しかしながら、現状では高い表示品質を維持できる程の十分な黒さを有し、かつ、電気抵抗の低い黒色導電層は得られておらず、表示品質への悪影響と電気抵抗の増大のいずれかが避けられないという問題がある。
【０００５】
本発明は、上述のような事情に鑑みてなされたものであり、高精細あるいは大面積のプラズマディスプレイパネルにおいても高い表示品質が可能な電極を形成するための転写シートと電極形成方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シート転写の第１の発明は、転写支持体と、該転写支持体上に剥離可能に形成された感光性導電性ペースト層と、該感光性導電性ペースト層上に形成された黒色顔料を含有する感光性黒色導電性ペースト層とを備え、前記感光性導電性ペースト層中の導電性粉体の含有割合が４５〜９３重量％の範囲であり、前記感光性黒色導電性ペースト層は、導電性粉体の含有割合（前記黒色顔料を除いた成分中の含有割合）が４５〜９３重量％の範囲であり、かつ、導電性粉体１００重量部に対して０．１〜５０重量部の範囲となるように前記黒色顔料が含有され、前記黒色顔料の平均粒径が０．０１〜５μｍの範囲であり、前記感光性黒色導電性ペースト層の厚みが１〜１５μｍの範囲であるような構成とした。
【０００７】
また、プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートの第２の発明は、前記転写支持体が光透過性を備えるような構成とした。
【００１２】
プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上に、上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シートを用いて感光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層とを転写し、次いで、所定のパターンを有するマスクを介して感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し、現像した後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成するような構成とした。
【００１３】
プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第２の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上に、上記第２の発明の電極形成用の転写シートの感光性黒色導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有するマスクを介して転写支持体上から感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し、次いで、転写支持体を剥離し、次に、現像した後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成するような構成とした。
【００１４】
プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第３の発明は、所定のパターンを有するマスクを介して上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シートの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し、次いで、絶縁基板上に形成した透明電極上に、該転写シートの感光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層とを転写し、次に、現像した後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成するような構成とした。
【００１５】
プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第４の発明は、所定のパターンを有するマスクを介して上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シートの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し現像して黒色導電層のパターンと主導電層のパターンを形成し、次いで、絶縁基板上に形成した透明電極上に、該転写シートの黒色導電層のパターンと主導電層のパターンとを転写し、その後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成するような構成とした。
【００２４】
このような本発明では、転写シート上に形成した感光性のペースト層を用いて透明電極上に転写形成された黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極は、主導電層により透明電極の電気抵抗が下げられ、黒色導電層により主導電層と透明電極間の接続が高められ、かつ、表示パネルのコントラストと色純度が高められる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の最良の実施形態について説明する。
第１の発明の転写シート
図１は第１の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図である。図１において、転写シート１は、転写支持体２の上に感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペースト層４をこの順に積層して備えた構造であり、感光性導電性ペースト層３は転写支持体２に対して剥離可能となっている。
【００２６】
転写シート１を構成する転写支持体２としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセチルセルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等の樹脂フィルム、ＳＵＳ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属薄板、これらの複合体等を挙げることができる。このような転写支持体２の厚みは１〜４００μｍ、好ましくは４．５〜２００μｍ程度とすることができ、形状はシート状、長尺状いずれでもよい。また、転写支持体２の感光性導電性ペースト層３を形成する面には、転写支持体２と感光性導電性ペースト層３との密着性および剥離性を調整するためのプライマー層を設けてもよい。このようなプライマー層は、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、（メタ）アクリレート系樹脂、イソシアネート硬化樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂（オイル）、フッ素樹脂、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、アクリルメラミン樹脂等を用いて形成することができ、厚みは０．１〜１０μｍ程度とすることができる。
【００２７】
転写シート１を構成する感光性導電性ペースト層３は、少なくとも導電性粉体と感光性樹脂成分を含み、電極を形成する基板との密着性を向上させる目的等により必要に応じて無機粉体を含んだ感光性導電性ペーストを転写支持体２上に塗布し乾燥して形成することができる。塗布方法としては、ブレードコート法、ロールコート法、ダイコート法、ビードコート法、グラビアコート法、ディップコート法、コンマコート法等を挙げることができる。
【００２８】
導電性粉体は、Ａｕ粉体、Ａｇ粉体、Ｃｕ粉体、Ｎｉ粉体、Ａｌ粉体、Ａｇ−Ｐｄ粉体等の１種または２種以上を使用することができる。この導電性粉体の形状は、球状、板状、塊状、円錐状、棒状等の種々の形状であってよいが、光透過性が良好で凝集がなく分散性が良好な球状の導電性粉体が好ましく、その平均粒径は０．０５〜１０μｍの範囲が好ましい。導電性粉体の平均粒径が０．０５μｍ未満であると感光性導電性ペーストの構造粘性（チクソトロピー性）が大きくなり好ましくない。一方、導電性粉体の平均粒径が１０μｍを超えると、後述する本発明の電極形成方法において感光性導電性ペースト層３に照射された光の透過性が不十分となり、感光性黒色導電性ペースト層４の露光に支障を来すことになる。このような導電性粉体は、感光性導電性ペースト層３に４５〜９３重量％の範囲で含有させることができる。
【００２９】
感光性導電性ペースト層３に必要に応じて含有される無機粉体としては、例えば、軟化温度が４００〜６５０℃であり、熱膨張係数α300 が６０×１０-7〜１００×１０-7／℃であるガラスフリットを使用することができる。ガラスフリットの軟化温度が６５０℃を超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、電極形成対象の絶縁基板の耐熱性が低い場合には焼成段階で絶縁基板に熱変形を生じることになり好ましくない。また、ガラスフリットの軟化温度が４００℃未満では、感光性導電性ペースト層３の樹脂成分が完全に分解、揮発する前にガラスフリットが融着するため、空隙を生じやすく好ましくない。さらに、ガラスフリットの熱膨張係数α300 が６０×１０-7／℃未満、あるいは、１００×１０-7／℃を超えると、電極形成対象のガラス基板の熱膨張係数との差が大きくなりすぎ、歪み等を生じることになり好ましくない。このようなガラスフリットの平均粒径は０．１〜５μｍの範囲が好ましい。
【００３０】
また、感光性導電性ペースト層３を構成する感光性樹脂成分は、少なくともアルカリ現像型バインダーポリマー、モノマーおよび開始剤を含有するものであり、焼成によって揮発、分解して、パターン中に炭化物を残存させることのないものである。
【００３１】
アルカリ現像型バインダーポリマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量体（例えば、東亜合成化学（株）製Ｍ−５６００）、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物の１種以上と、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、sec-ブチルアクリレート、sec-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、１−ビニル−２−ピロリドンの１種以上とからなるコポリマー等が挙げられる。
【００３２】
また、上記のコポリマーにグリシジル基または水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させたポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３３】
尚、上記のアルカリ現像型バインダーポリマーに非アルカリ現像型のポリマーを混合してもよい。非アルカリ現像型のポリマーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、アクリル酸エステル重合体、メタクリル酸エステル重合体、ポリスチレン、α−メチルスチレン重合体、１−ビニル−２−ピロリドン重合体、および、これらの共重合体等を挙げることができる。
【００３４】
感光性樹脂成分を構成する反応性モノマーとしては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を用いることができる。具体的には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。本発明では、上記の反応性モノマーを１種または２種以上の混合物として、あるいは、その他の化合物との混合物として使用することができる。
【００３５】
感光性樹脂成分を構成する光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組み合わせ等が挙げられる。本発明では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上使用することができる。
【００３６】
上記の感光性樹脂成分の揮発、分解温度が６００℃を超えると、感光性導電性ペースト層３の露光・現像後に樹脂成分を除去する際の焼成温度が高くなり、例えば、電極形成対象の基板の耐熱性が低い場合、基板に熱変形が生じることになり好ましくない。一方、感光性樹脂成分の揮発、分解温度の下限は特に制限はないが、揮発、分解温度が低くなるほど完全に揮発または分解する樹脂の種類が少なくなり材料選択の幅が狭くなるので、例えば、感光性樹脂成分の揮発、分解温度の下限を２００℃程度に設定することが好ましい。
【００３７】
このような感光性樹脂成分の感光性導電性ペースト層３における含有量は、５〜４０重量％が好ましい。
【００３８】
更に、感光性導電性ペースト層３は、添加剤として、増感剤、重合停止剤、連鎖移動剤、レベリング剤、分散剤、可塑剤、安定剤、消泡剤等を必要に応じて含有することができる。
【００３９】
また、感光性導電性ペーストに用いる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパネール、ｉ−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類等が挙げられる。
【００４０】
上述のような感光性導電性ペーストからなる感光性導電性ペースト層３の厚みは、２〜３０μｍ程度とすることができる。
【００４１】
転写シート１を構成する感光性黒色導電性ペースト層４は、上述の感光性導電性ペーストに黒色顔料を含有させた感光性黒色導電性ペーストを感光性導電性ペースト層３に塗布し乾燥して形成することができる。塗布方法としては、ブレードコート法、ロールコート法、ダイコート法、ビードコート法、グラビアコート法、ディップコート法、コンマコート法等を挙げることができる。
【００４２】
感光性黒色導電性ペーストに使用する黒色顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック等の導電性黒色顔料、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等を挙げることができる。このような黒色顔料は、平均粒径が０．０１〜５μｍ程度であり、感光性導電性ペーストに含有される導電性粉体１００重量部に対して０．１〜５０重量部の範囲で含有させることができる。上記の黒色顔料の平均粒径が０．０１μｍ未満であると、このような微細粒子の製造が困難であるとともに、感光性黒色導電性ペーストのチクソトロピー性が大きくなりすぎ、一方、平均粒径が５μｍを超えると色ムラを生じ易くなり好ましくない。また、黒色顔料の含有量が０．１重量部未満であると着色が不足し、５０重量部を超えると抵抗が高くなるとともに、光透過性が大幅に低下して感光性黒色導電性ペースト層４の露光箇所に硬化不良が生じることになり好ましくない。
【００４３】
上述のような感光性黒色導電性ペーストからなる感光性黒色導電性ペースト層４の厚みは、１〜１５μｍ程度とすることができる。
第２の発明の転写シート
第２の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートは、上述の第１の発明の転写シート１において、転写支持体２をポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセチルセルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等の光透過性を有する樹脂フィルムで構成したものである。このように転写支持体２に光透過性を付与させることによって、転写支持体２側から感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を露光することが可能となる。
第３の発明の転写シート
図２は第３の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図である。図２において、転写シート１１は、転写支持体１２の上に感光性黒色導電性ペースト層１４を剥離可能に備えた構造である。
【００４４】
この転写シート１１を構成する転写支持体１２は、上述の第１の発明の転写シート１を構成する転写支持体２と同様とすることができる。また、転写支持体１２の感光性黒色導電性ペースト層１４を形成する面には、転写支持体１２と感光性黒色導電性ペースト層１４との密着性および剥離性を調整するためのプライマー層を設けてもよい。
【００４５】
転写シート１１を構成する感光性黒色導電性ペースト層１４は、上述の第１の発明の転写シート１を構成する感光性黒色導電性ペースト層４と同様に、感光性導電性ペーストに黒色顔料を含有させた感光性黒色導電性ペーストを転写支持体１２に塗布し乾燥して形成したものであってよい。
第４の発明の転写シート
第４の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートは、上述の第３の発明の転写シート１１において、転写支持体１２をポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセチルセルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等の光透過性を有する樹脂フィルムで構成したものである。このように転写支持体１２に光透過性を付与させることによって、転写支持体１２側から感光性黒色導電性ペースト層１４を露光することが可能となる。
第５の発明の転写シート
図３は第５の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図である。図３において、転写シート２１は、転写支持体２２の上に感光性導電性ペースト層２３を剥離可能に備えた構造である。
【００４６】
この転写シート２１を構成する転写支持体２２は、上述の第１の発明の転写シート１を構成する転写支持体２と同様とすることができる。また、転写支持体２２の感光性導電性ペースト層２３を形成する面には、転写支持体２２と感光性導電性ペースト層２３との密着性および剥離性を調整するためのプライマー層を設けてもよい。
【００４７】
転写シート２１を構成する感光性導電性ペースト層２３は、上述の第１の発明の転写シート１を構成する感光性導電性ペースト層３と同様に、感光性導電性ペーストを転写支持体２２に塗布し乾燥して形成したものであってよい。
第６の発明の転写シート
第６の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートは、上述の第５の発明の転写シート２１において、転写支持体２２をポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセチルセルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等の光透過性を有する樹脂フィルムで構成したものである。このように転写支持体２２に光透過性を付与させることによって、転写支持体２２側から感光性導電性ペースト層２３を露光することが可能となる。
【００４８】
次に、本発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法について説明する。
電極形成方法の第１の発明
図４はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１の発明の一実施形態を示す工程図である。図４において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、上述の第１あるいは第２の発明の電極形成用の転写シート１を用いて感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペースト層４とを転写する（図４（Ａ））。このような感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペースト層４の転写形成は、転写シート１を圧着あるいは加熱圧着した後、転写支持体２を剥離することにより行うことができる。また、透明電極５２は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2 ）等の公知の透明導電性材料により形成することができる。
【００４９】
次に、所定のパターンを有するマスクＭを介して感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を露光する（図４（Ｂ））。この露光では、マスクＭを通過し感光性導電性ペースト層３に照射された光は、この感光性導電性ペースト層３を露光するとともに、感光性導電性ペースト層３を透過して感光性黒色導電性ペースト層４を露光する。このような露光は、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀ショートアークランプ、メタルハライドランプ、Ｘ線、電子ビーム等の光源を使用して行うことができる。尚、上記の露光においては、感光性導電性ペースト層３がマスクＭに対して粘着性をもたない場合には、マスクＭを感光性導電性ペースト層３に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭと感光性導電性ペースト層３との間に間隙を設けることが好ましい。
【００５０】
次いで、感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像した後、焼成して、感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペースト層４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図４（Ｃ））。
電極形成方法の第２の発明
図５はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第２の発明の一実施形態を示す工程図である。図５において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、上述の第２の発明の電極形成用の転写シート１の感光性黒色導電性ペースト層４側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転写支持体２上から感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を露光する（図５（Ａ））。この露光では、マスクＭを通過した光は、光透過性を有する転写支持体２を透過して感光性導電性ペースト層３を露光するとともに、感光性導電性ペースト層３を透過して感光性黒色導電性ペースト層４を露光する。このように転写支持体２上から露光を行うため、感光性導電性ペースト層３の粘着性に関係なく露光を行うことができる。尚、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００５１】
次いで、転写支持体２を剥離して感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を転写し、この感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像する。その後、焼成して感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペースト層４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図５（Ｂ））。
電極形成方法の第３の発明
図６はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第３の発明の一実施形態を示す工程図である。図６において、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介して上述の第１あるいは第２の発明の電極形成用の転写シート１の感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を露光する（図６（Ａ））。この露光では、マスクＭを通過した光は、感光性黒色導電性ペースト層４を露光するとともに、感光性黒色導電性ペースト層４を透過して感光性導電性ペースト層３を露光する。このような露光を行うための光源としては、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀ショートアークランプ、メタルハライドランプ、Ｘ線、電子線等を使用することが好ましい。また、上記の露光においては、感光性黒色導電性ペースト層４がマスクＭに対して粘着性をもたない場合には、マスクＭを感光性黒色導電性ペースト層４に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭと感光性黒色導電性ペースト層４との間に間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体２が光透過性を有する第２の発明の転写シート１を使用する場合、転写支持体２側からマスクＭを介して露光を行ってもよい。この場合、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００５２】
次に、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、露光の完了した感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペースト層４とを転写する（図６（Ｂ））。その後、感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像し、次いで焼成して、感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペースト層４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図６（Ｃ））。
電極形成方法の第４の発明
図７はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第４の発明の一実施形態を示す工程図である。図７において、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介して上述の第１あるいは第２の発明の電極形成用の転写シート１の感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を露光する（図７（Ａ））。この露光は、上述の第３の発明と同様とすることができる。
【００５３】
次に、感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像し、転写支持体２上に主導電層のパターン３´と黒色導電層のパターン４´を形成する（図７（Ｂ））。
【００５４】
次に、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２の所定位置に主導電層のパターン３´と黒色導電層のパターン４´を転写し、その後、焼成して、主導電層のパターン３´と黒色導電層のパターン４´を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図７（Ｃ））。
電極形成方法の第５の発明
図８はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第５の発明の一実施形態を示す工程図である。図８において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペースト層１４を転写する（図８（Ａ））。次に、この感光性黒色導電性ペースト層１４上に、上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の転写シート２１を用いて感光性導電性ペースト層２３を転写する（図８（Ｂ））。
【００５５】
次に、所定のパターンを有するマスクＭを介して感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図８（Ｃ））。この露光では、マスクＭを通過し感光性導電性ペースト層２３に照射された光は、この感光性導電性ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペースト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する。尚、上記の露光においては、感光性導電性ペースト層２３がマスクＭに対して粘着性をもたない場合には、マスクＭを感光性導電性ペースト層２３に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭと感光性導電性ペースト層２３との間に間隙を設けることが好ましい。また、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００５６】
次いで、感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像した後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図８（Ｄ））。
電極形成方法の第６の発明
図９はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第６の発明の一実施形態を示す工程図である。図９において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペースト層１４を転写する（図９（Ａ））。次に、この感光性黒色導電性ペースト層１４上に、上述の第６の発明の電極形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図９（Ｂ））。この露光では、マスクＭを通過した光は、光透過性を有する転写支持体２２を透過して感光性導電性ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペースト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する。このように転写支持体２２上から露光を行うため、感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関係なく露光を行うことができる。尚、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００５７】
次いで、転写支持体２２を剥離して感光性導電性ペースト層２３を転写し、感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像する。その後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図９（Ｄ））。
電極形成方法の第７の発明
図１０はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第７の発明の一実施形態を示す工程図である。図１０において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペースト層１４を転写し、所定のパターンを有するマスクＭを介して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図１０（Ａ））。
【００５８】
次に、この感光性黒色導電性ペースト層１４上に、上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を転写し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介して感光性導電性ペースト層２３を露光する（図１０（Ｂ））。この露光では、マスクＭ´を通過した光は、感光性導電性ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペースト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４にも照射されるが、図示のようにマスクＭ´はマスクＭの開口部に重なるような開口部を有しているので、感光性黒色導電性ペースト層１４に対して不必要な露光が行われることはない。このような露光では、感光性黒色導電性ペースト層１４がマスクＭに対して粘着性をもたず、また、感光性導電性ペースト層２３がマスクＭ´に対して粘着性をもたない場合には、マスクＭ、Ｍ´を感光性黒色導電性ペースト層１４、感光性導電性ペースト層２３に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクと各ペースト層との間に間隙を設けることが好ましい。尚、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００５９】
次いで、感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像する。その後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図１０（Ｃ））。
電極形成方法の第８の発明
図１１はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第８の発明の一実施形態を示す工程図である。図１１において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、上述の第４の発明の電極形成用の転写シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転写支持体１２上から感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図１１（Ａ））。この露光では、マスクＭを通過した光は、光透過性を有する転写支持体１２を透過して感光性黒色導電性ペースト層４を露光する。
【００６０】
次に、転写支持体１２を剥離し、感光性黒色導電性ペースト層１４上に、上述の第６の発明の電極形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介して転写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３を露光する（図１１（Ｂ））。この露光では、マスクＭ´を通過し転写支持体２２を透過した光は、感光性導電性ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペースト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４にも照射されるが、図示のようにマスクＭ´はマスクＭの開口部に重なるような開口部を有しているので、感光性黒色導電性ペースト層１４に対して不必要な露光が行われることはない。
【００６１】
このように転写支持体１２あるいは転写支持体２２上から露光を行うため、感光性黒色導電性ペースト層１４や感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関係なく露光を行うことができる。尚、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００６２】
次いで、転写支持体２２を剥離し、感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像する。その後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図１１（Ｃ））。
電極形成方法の第９の発明
図１２はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第９の発明の一実施形態を示す工程図である。図１２において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペースト層１４を転写し、所定のパターンを有するマスクＭを介して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図１２（Ａ））。
【００６３】
次に、感光性黒色導電性ペースト層１４を現像し、透明電極５２上に黒色導電層のパターン１４´を形成する（図１２（Ｂ））。その後、透明電極５２および黒色導電層のパターン１４´を覆うように、上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を転写し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介して感光性導電性ペースト層２３を露光する（図１２（Ｃ））。このマスクＭ´は、図示のようにマスクＭの開口部に重なるような開口部を有している。
【００６４】
次に、感光性導電性ペースト層２３を現像し、黒色導電層のパターン１４´上に主導電層のパターン２３´を形成する（図１２（Ｄ））。
【００６５】
上記の露光では、感光性黒色導電性ペースト層１４がマスクＭに対して粘着性をもたず、また、感光性導電性ペースト層２３がマスクＭ´に対して粘着性をもたない場合には、マスクＭ、Ｍ´を感光性黒色導電性ペースト層１４、感光性導電性ペースト層２３に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクと各ペースト層との間に間隙を設けることが好ましい。尚、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００６６】
次に、焼成して、主導電層のパターン２３´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図１２（Ｅ））。
電極形成方法の第１０の発明
図１３はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１０の発明の一実施形態を示す工程図である。図１３において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、上述の第４の発明の電極形成用の転写シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転写支持体１２上から感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図１３（Ａ））。この露光では、マスクＭを通過した光は、光透過性を有する転写支持体１２を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する。
【００６７】
次に、転写支持体１２を剥離した後、感光性黒色導電性ペースト層１４を現像し、透明電極５２上に黒色導電層のパターン１４´を形成する（図１３（Ｂ））。
【００６８】
次いで、透明電極５２および黒色導電層のパターン１４´を覆うように、上述の第６の発明の電極形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介して転写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３を露光する（図１３（Ｃ））。このマスクＭ´は、図示のようにマスクＭの開口部に重なるような開口部を有している。
【００６９】
このように転写支持体１２あるいは転写支持体２２上から露光を行うため、感光性黒色導電性ペースト層１４や感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関係なく露光を行うことができる。尚、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００７０】
次いで、転写支持体２２を剥離し、感光性導電性ペースト層２３を現像し、黒色導電層のパターン１４´上に主導電層のパターン２３´を形成する（図１３（Ｄ））。
【００７１】
次に、焼成して、主導電層のパターン２３´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図１３（Ｅ））。
電極形成方法の第１１の発明
図１４はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１１の発明の一実施形態を示す工程図である。図１４において、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介して上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図１４（Ａ））。この露光では、感光性黒色導電性ペースト層１４がマスクＭに対して粘着性をもたない場合には、マスクＭを感光性黒色導電性ペースト層１４に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭと感光性黒色導電性ペースト層１４との間に間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体１２が光透過性を有する第４の発明の転写シート１１を使用する場合、転写支持体１２側からマスクＭを介して露光を行ってもよい。また、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００７２】
次に、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆うように、露光の完了した感光性黒色導電性ペースト層１４を転写する（図１４（Ｂ））。
【００７３】
一方、所定のパターンを有するマスクＭ´を介して上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を露光する（図１４（Ｃ））。この露光では、感光性導電性ペースト層２３がマスクＭ´に対して粘着性をもたない場合には、マスクＭ´を感光性導電性ペースト層２３に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭ´と感光性導電性ペースト層２３との間に間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体２２が光透過性を有する第６の発明の転写シート２１を使用する場合、転写支持体２２側からマスクＭ´を介して露光を行ってもよい。また、使用できる光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００７４】
次に、感光性黒色導電性ペースト層１４上に、露光の完了した感光性導電性ペースト層２３を転写する（図１４（Ｄ））。
【００７５】
次いで、感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像する。その後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図１４（Ｅ））。
電極形成方法の第１２の発明
図１５はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１２の発明の一実施形態を示す工程図である。図１５において、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介して上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図１５（Ａ））。この露光は、上述の第１１の発明の電極形成方法と同様に行うことができる。
【００７６】
次に、感光性黒色導電性ペースト層１４を現像し、転写支持体１２上に黒色導電層のパターン１４´を形成する（図１５（Ｂ））。次いで、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２の所定位置に黒色導電層のパターン１４´を転写する（図１５（Ｃ））。
【００７７】
一方、所定のパターンを有するマスクＭ´を介して上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を露光する（図１５（Ｄ））。この露光は、上述の第１１の発明の電極形成方法と同様に行うことができる。
【００７８】
次に、感光性導電性ペースト層２３を現像し、転写支持体２２上に主導電層のパターン２３´を形成し、これを黒色導電層のパターン１４´上に転写する（図１５（Ｅ））。
【００７９】
次いで、焼成して、主導電層のパターン２３´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図１５（Ｆ））。
【００８０】
上述の電極形成方法における感光性導電性ペースト層および感光性黒色導電性ペースト層の露光後の現像は、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、モノエタノールアミン等の有機アルカリ等を用いて行うことができる。
【００８１】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
（実施例１）
まず、下記の組成の感光性導電性ペーストを調製した。
【００８２】
0003644775.tif 000002
また、上記の感光性導電性ペースト１００重量部にチタンブラック（平均粒径１．３μｍ）５重量部を添加して感光性黒色導電性ペーストを調製した。
【００８３】
次に、転写支持体としてのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  ルミラーＴ、厚み２５μｍ）にグラビアコート法により上記の感光性導電性ペーストを塗布し乾燥して感光性導電性ペースト層（厚み１２μｍ）を形成した。次いで、この上にグラビアコート法により上記の感光性黒色導電性ペーストを塗布し乾燥して感光性黒色導電性ペースト層（厚み８μｍ）を積層し、転写シート（図１に示される構造を有する）を作製した。
【００８４】
次に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる透明電極をパターニング（線幅１５０μｍ）したガラス基板上に、上記の転写シートを用いて感光性導電性ペースト層と感光性黒色導電性ペースト層を転写した（図４（Ａ）に相当）。この転写は、転写シートを１００℃でガラス基板に圧着して行った。
【００８５】
次いで、線幅８０μｍの開口部を有するマスクを介して紫外線を照射し、感光性導電性ペースト層と感光性黒色導電性ペースト層を一括して露光した（図４（Ｂ）に相当）。
【００８６】
次に、１％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液を使用して現像を行い、ピーク温度５７０℃にて焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極（線幅７０μｍ、厚み８μｍ）をＩＴＯ透明電極上に形成した（図４（Ｃ）に相当）。
【００８７】
上記のようにＩＴＯ透明電極上に２層構造の電極を形成したガラス基板を使用してプラズマディスプレイパネルを作製した結果、表示コントラストと色純度が高く表示品質に優れたプラズマディスプレイパネルが得られた。
（実施例２）
まず、転写支持体としてのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  ルミラーＴ、厚み１２μｍ）にロールコート法により実施例１の感光性黒色導電性ペーストを塗布し乾燥して感光性黒色導電性ペースト層（厚み１０μｍ）を形成して転写シートＡ（図２に示される構造を有する）を作製した。
【００８８】
また、転写支持体としてのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  ルミラーＴ、厚み２５μｍ）にコンマコート法により実施例１の感光性導電性ペーストを塗布し乾燥して感光性導電性ペースト層（厚み１５μｍ）を形成して転写シートＢ（図３に示される構造を有する）を作製した。
【００８９】
次に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる透明電極をパターニング（線幅１５０μｍ）したガラス基板上に、上記の転写シートＡの感光性黒色導電性ペースト層側を圧着し、線幅５０μｍの開口部を有するマスクを介して紫外線を照射し、感光性黒色導電性ペースト層を露光した（図１１（Ａ）に相当）。その後、転写支持体を剥離して感光性黒色導電性ペースト層を転写した。
【００９０】
次に、上記の感光性黒色導電性ペースト層上に、転写シートＢの感光性導電性ペースト層側を圧着し、線幅５０μｍの開口部を有するマスクを介して紫外線を照射し、感光性導電性ペースト層を露光した（図１１（Ｂ）に相当）。その後、転写支持体を剥離して感光性導電性ペースト層を転写した。尚、使用したマスクは、上記の感光性黒色導電性ペースト層の露光に使用したマスクの開口部と重なるような開口部を有するものとした。
【００９１】
次に、１％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液を使用して現像を行い、ピーク温度５７０℃にて焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極（線幅４０μｍ、厚み１２μｍ）をＩＴＯ透明電極上に形成した（図１１（Ｃ）に相当）。
【００９２】
上記のようにＩＴＯ透明電極上に２層構造の電極を形成したガラス基板を使用してプラズマディスプレイパネルを作製した結果、表示コントラストと色純度が高く表示品質に優れたプラズマディスプレイパネルが得られた。
【００９３】
尚、上述の実施例１は第１の発明の転写シートを使用し、第１の発明の電極形成方法にしたがったものであり、また、実施例２は第４および第６の発明の転写シートを使用し、第８の発明の電極形成方法にしたがったものであるが、本発明の他の転写シートを使用し、本発明の他の電極形成方法にしたがっても、同様にＩＴＯ透明電極の大幅な電気抵抗の減少と、表示コントラストと色純度が高く表示品質に優れたプラズマディスプレイパネルが得られることは勿論である。
【００９４】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば転写支持体上に黒色顔料を含有した感光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層を備えた転写シート、あるいは、転写支持体上に黒色顔料を含有した感光性黒色導電性ペースト層を備えた転写シートと転写支持体上に感光性導電性ペースト層を備えた転写シートとを用いて、絶縁基板の透明電極上に黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極（バス電極）を形成するものであり、この２層構造の電極の主導電層により透明電極の電気抵抗が下げられ、黒色導電層により主導電層と透明電極間の接続がなされるとともに、表示パネルのコントラストと色純度が高められ、このようにして電極を形成することにより、高精細あるいは大面積のプラズマディスプレイパネルにおいても高い表示品質が可能となり、さらに、本発明は、フォトレジストを使用する必要がなく工程が簡便であるとともに、印刷法に比べて電極の形成精度が高いという効果も奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートの第１の発明の一実施形態を示す概略断面図である。
【図２】プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートの第３の発明の一実施形態を示す概略断面図である。
【図３】プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートの第５の発明の一実施形態を示す概略断面図である。
【図４】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第２の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図６】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第３の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図７】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第４の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図８】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第５の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図９】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第６の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１０】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第７の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１１】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第８の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１２】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第９の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１３】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１０の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１４】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１１の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１５】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第１２の発明の一実施形態を示す工程図である。
１，１１，２１…転写シート
２，１２，２２…転写支持体
３，２３…感光性導電性ペースト層
４，１４…感光性黒色導電性ペースト層
３´，２３´…主導電層のパターン
４´，１４´…黒色導電層のパターン
５１…絶縁基板
５２…透明電極
５３…主導電層
５４…黒色導電層
５５…電極
Ｍ，Ｍ´…マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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