(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光モジュールの主光導波路からの出力光をモニタするためのモニタ用光導波路を備えた光回路において、
平坦な基板上に形成された直線状の主光導波路と、
該主光導波路と所定角度で交差する第１の交差部を構成する直線状の第１のモニタ用光導波路と、
前記主光導波路の両側において平行で、かつ前記第１のモニタ用光導波路の両先端部で交差する第２の交差部を構成する２本の直線状の第２のモニタ用光導波路と、
前記主光導波路及び前記第１のモニタ用光導波路の前記第１の交差部と前記２本の第２のモニタ用光導波路を横切り、かつ前記主光導波路と前記第１のモニタ用光導波路間に所定の入反射角の関係をなすように設置された基板に略垂直な溝と、
該溝に形成されたフィルタ手段と、
前記第１及び第２のモニタ用光導波路の前記第２の交差部のそれぞれに配置され、前記モニタ用光導波路間に所定の入反射角の関係を満足するようなモニタ光反射膜を備えたモニタ光反射溝とからなり、
前記主光導波路と前記第１のモニタ用光導波路との前記第１の交差部における交差角が、前記第１のモニタ用光導波路と前記第２のモニタ用光導波路との前記第２の交差部における交差角であることを特徴とする光回路。
【請求項２】
請求項１に記載の光回路を複数設けて集積化させたことを特徴とする光回路。
【請求項３】
前記主光導波路及び前記第２のモニタ用光導波路を曲がり導波路としたことを特徴とする請求項２に記載の光回路。
【請求項４】
前記第２のモニタ用光導波路の端部に受光素子を設けたことを特徴とする請求項２又は３に記載の光回路。
【請求項５】
前記第２のモニタ用光導波路の端部にミラー形成溝を設けるとともに、該ミラー形成溝に反射部材を設け、該反射部材により反射された導波光を受光すべく受光素子を、前記第２のモニタ用光導波路の上部に設けたことを特徴とする請求項２，３又は４に記載の光回路。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光回路に関し、より詳細には、光通信や光情報処理の分野で用いられる種々の光回路の内で、特に主光導波路中を伝搬する光信号の一部を取り出してモニタするためのタップ光回路に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光モジュールからの出力光をモニタし、それによって光伝送系にフィードバックをかけようとした場合、伝送系の機能に影響を与えないように、５％程度の少光量をタッピングしてモニタするわけであるが、従来は専らファイバ型タップカプラが用いられていた。
【０００３】
すなわち、光モジュールとタップカプラをファイバ接続し、タップカプラの９５％出力側は、主光伝送路とファイバ接続し、５％出力側は、フォトダイオードモジュール（以下、ＰＤモジュールという）とファイバ接続してモニタとしていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来構成では以下のような問題があった。つまり、光モジュールとタップカプラ、タップカプラと主光伝送路及びモニタ用ＰＤモジュールとをファイバ接続するわけであるが、その際には接続されるべき両者のファイバには、接続作業において接続装置にファイバをセットするためや、ファイバ接続のミス対策、および装置内でのモジュールレイアウト上の必要性等から十分な余長処理を施しておかなければならなかった。
【０００５】
そのため、上述した構成では、合計６箇所ものファイバ余長処理が必要であった。さらに、３箇所のファイバ接続補強部も必要であり、これらが装置内での実装上大きな面積を占めて、光装置の小型化を阻んでいるとともに、当然のことながら、人手にたよるファイバ余長処理が必要である等価格も高いものであった。
【０００６】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、実装密度が高く、かつ量産性の高い、より高性能な光通信網を実現するようにした光回路を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、光モジュールの主光導波路からの出力光をモニタするためのモニタ用光導波路を備えた光回路において、平坦な基板上に形成された直線状の主光導波路と、該主光導波路と所定角度で交差する第１の交差部を構成する直線状の第１のモニタ用光導波路と、前記主光導波路の両側において平行で、かつ前記第１のモニタ用光導波路の両先端部で交差する第２の交差部を構成する２本の直線状の第２のモニタ用光導波路と、前記主光導波路及び前記第１のモニタ用光導波路の前記第１の交差部と前記２本の第２のモニタ用光導波路を横切り、かつ前記主光導波路と前記第１のモニタ用光導波路間に所定の入反射角の関係をなすように設置された基板に略垂直な溝と、該溝に形成されたフィルタ手段と、前記第１及び第２のモニタ用光導波路の前記第２の交差部のそれぞれに配置され、前記モニタ用光導波路間に所定の入反射角の関係を満足するようなモニタ光反射膜を備えたモニタ光反射溝とからなり、前記主光導波路と前記第１のモニタ用光導波路との前記第１の交差部における交差角が、前記第１のモニタ用光導波路と前記第２のモニタ用光導波路との前記第２の交差部における交差角であることを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光回路を複数設けて集積化させたことを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記主光導波路及び前記第２のモニタ用光導波路を曲がり導波路としたことを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４に記載の発明は、請求項２又は３に記載の発明において、前記第２のモニタ用光導波路の端部に受光素子を設けたことを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５に記載の発明は、請求項２，３又は４に記載の発明において、前記第２のモニタ用光導波路の端部にミラー形成溝を設けるとともに、該ミラー形成溝に反射部材を設け、該反射部材により反射された導波光を受光すべく受光素子を、前記第２のモニタ用光導波路の上部に設けたことを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する。
図１（ａ），（ｂ）は、本発明の光回路の一実施例を示す図で、図１（ａ）は平面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）における直線Ａ−Ａ′で基板に垂直に切った断面図である。平坦な基板１上に、直線状の主光導波路２と、これに平行で図１（ａ）に示す上下に所定の間隔をなす第２のモニタ用光導波路４と、これらと角度２αで交差する第１のモニタ用光導波路３が形成されている。
【００１４】
主光導波路２と第１のモニタ用光導波路３の交差部には、これら２本の光導波路間で入反射角αの関係が成り立つように、基板１に垂直なフィルタ挿入溝５が設置されている。このフィルタ挿入溝５は結果的に主光導波路２に平行な第２のモニタ用光導波路４も横切っている。フィルタ挿入溝５には、主光導波路２からモニタ光をタッピングするための光フィルタ６が、その反射面が主光導波路２と第１のモニタ用光導波路３の反射面と一致するように挿入されている。
【００１５】
第１のモニタ用光導波路３と第２のモニタ用光導波路４の交差部には、図１（ｂ）に示すように、基板１まで達する深さのモニタ光反射溝８が掘られており、かつこの溝８を構成する基板１に垂直な壁面の一つは、上述した交差部にて両光導波路３，４間で入反射角αの関係を満足するような反射面となっており、この壁面にはモニタ光反射膜７がコーティングされている。
【００１６】
このような構成において、図１（ａ）に示す右方から主光導波路２を伝搬してきた導波光は、その一部がタッピング光として光フィルタ６によって反射されて、第１のモニタ用光導波路３の右側へ伝搬していく。このままでもタッピング光が取り出せたわけであり、タッピング機能は実現できるわけである。しかし、その伝搬経路である第１のモニタ用光導波路３は主光導波路２と２αの角度がついており、主光導波路２と平行にするには曲がり導波路が必要となること、さらに、主伝搬光とは逆方向にモニタ光が取り出される等、回路レイアウト上の制約が多い。
【００１７】
本発明では、このような制約を取り除くため、第１のモニタ用光導波路３の先にモニタ光反射膜７を設置してある。するとタッピング光は、モニタ光反射膜７で反射して主光導波路２と平行な第２のモニタ用光導波路４に入射して主伝搬光の向きと同じ左方へ伝搬していく。但し、途中で光フィルタ６を通過することになり、図中の点線で示すように、ここで光フィルタ６の反射率分だけ導波路外へ放出され、モニタ光強度は減少することになる。この損失をα２で表すと、通常、タップ率αは微小な値を用いるので、この損失α２は、無視出来る程小さくなる。
【００１８】
例えば、タップ率αとしての代表的な値として、光フィルタ６の反射率を５％と仮定する。すると主光導波路２の伝搬光強度からみれば、導波路外へ放出されて損失となる光量は、タップされた光量５％の内、その５％、すなわち０．２５％（−２６ｄＢ）にすぎず、この値はモジュール化する際のファイバと光導波路の接続損失やコネクタ間損失に比較すればひと桁小さくなり無視できる。
【００１９】
従って、上述した主信号をフィルタによって分岐し、分岐した光を反射させて、更にフィルタを通過させることによって、その伝搬方向を主信号と同一の方向とする構成は、タップ用途の場合特に有効である。
【００２０】
以上のように、図１（ａ）において、主光導波路２を右方から進入してきた伝搬光について述べたが、左方から進入してきた伝搬光については、タッピング光は同様の過程で左方に設けられたモニタ光反射膜７で反射して上方の第２のモニタ用光導波路４を右方へ伝搬していくことになる。
【００２１】
このように、タッピングポイントの近傍に反射膜７を設置すれば、曲がり導波路を使用するよりも短い伝搬距離でタッピング光の伝搬方向を変えて主光導波路２中の伝搬光と同一方向に取り出すことができる。また、反射機能を得るためのモニタ光反射溝８に要する面積も高々導波路膜厚の数倍程度でよく、従って小型な光回路が実現できる。
【００２２】
なお、主光導波路２と第１のモニタ用光導波路３の交差角と、第１のモニタ用光導波路３と第２のモニタ用光導波路４の交差角は必ずしも同一とする必要はない。この場合、第１のモニタ用光導波路３に若干の曲げて加えることにより、主信号出力端において、主光導波路２と第１のモニタ用光導波路３を平行に揃えることが出来る。
【００２３】
［第１実施例］
まず、本発明を適用した光導波路について説明する。まず、適用導波光の波長は光通信における代表的波長である１．５５μｍとした。基板としてＳｉ基板１を用い、これにＳｉＯ２を主成分とするガラスから成る石英系光導波回路を火炎直接堆積法、及びドライエッチング法にて作製した。コアークラッド間の比屈折率差は０．５％、下部クラッドの厚みは２０μｍ、導波路コアは７μｍ角、上下両クラッドを含む全厚みは５０μｍである。
【００２４】
この光導波路を用いて、図１（ａ）に示すような間隔Ｄ＝１２５．１μｍの３本の平行な直線光導波路とこれを角度２０度（すなわちα＝１０度）で横切る１本の直線導波路から成る光回路を作製した。
【００２５】
次に、第１及び第２のモニタ用光導波路３，４の交差部に、図１（ｂ）に示すように、Ｓｉ基板１まで達する深さ５０μｍで一辺が６０μｍの平行四辺形状のモニタ光反射溝７をホトリソグラフィ工程とドライエッチング法で形成した後、反射面となる壁面に斜め蒸着法により、反射率９８％の金を１５００Å（オングストローム）の厚みに付着せしめてモニタ光反射膜７とした。
【００２６】
次に、刃厚１５μｍのダイヤモンドブレードを備えたダイシングソーを用いて、主光導波路２と第１のモニタ用光導波路３の交差部、及び第２のモニタ用光導波路４を横切るように、幅２０μｍ、深さ１５０μｍのＳｉ基板１に垂直なフィルタ挿入溝５を形成した。その際に、図１（ａ）において、フィルタ挿入溝５の右側壁面を主光導波路２と第１のモニタ用光導波路３に対する反射面と一致するようにした。
【００２７】
最後に、フィルタ挿入溝５に反射率５％（波長１．５５μｍ）、厚み１７μｍの誘電体多層膜フィルタを、反射面が右側になるように（すなわち、主光導波路２と第１のモニタ用光導波路３に対する反射面と一致するように）挿入し、エポキシ樹脂を流し込んで硬化固定した。
【００２８】
この光回路の波長１．５５μｍでの特性を調べたところ、主光導波路２の交差点通過後の挿入損失は、導波路自身の伝搬損失も含めて０．５ｄＢと原理損失（９５％、０．２ｄＢ）に比較して０．３ｄＢの過剰損失に抑えられていた。また、タッピング光については、主光導波路２を右方から入射した伝搬光のタッピング光の挿入損失は１４．０ｄＢ、左方からのそれは１４．５ｄＢであり、原理損失（５％、１３ｄＢ）に比較してその損失増は十分実用的な範囲内に抑えられていた。
【００２９】
［第２実施例］
次に、本発明の光回路と他の光回路とを一体集積化した例について説明する。図２は、本発明の光回路をアレイ化してその入力側にＡＷＧ９（ARRAYED WAVEGUIDE GRATING）を一体化した例である。第１実施例で述べた図１に示す構成の光回路にて、左方にモニタ光を取り出す部分を８アレイ化し、曲がり導波路アレイを介して８ｃｈＡＷＧ９の２５４μｍ間隔８出力と一体化したものである。
【００３０】
すなわち、光回路の右側より導入される波長多重光はＡＷＧ９で分波され左側端面から出力されるとともに、モニタ光も同じ左側端面から出力される。一体化した光回路の出力端には、主光導波路２と第２のモニタ用光導波路４が１２７μｍ間隔で交互に並んでいる。作製工程は第１実施例と全く同様であり、導波回路作製、ドライエッチング法によるモニタ光反射溝８の形成、斜め蒸着法によるモニタ光反射膜７の形成、ダイシングソーによるフィルタ挿入溝５の形成、及び光フィルタ６の挿入固定の順でプロセスを実施した。
【００３１】
作製光回路の特性について、本回路が付属していない８ｃｈＡＷＧ９の特性と比較した結果、１〜８ｃｈで主光導波路２からの出力の損失増は０．３〜０．５ｄＢ、第２のモニタ用光導波路４からの出力は主光導波路２からの出力より１４．２〜１５．０ｄＢの低下となっており、ｃｈ間の特性のバラツキは０．８ｄＢであった。
【００３２】
なお、図２に示すように、曲がり導波路アレイを用いることにより、主光導波路２と第２のモニタ用光導波路４とを平行に揃えることができるとともに、これら二つの導波路間隔を狭くすることができ、小型化することができた。この効果は、図２に示したように、アレイ化したことによりさらに小型化することが可能となった。
【００３３】
［第３実施例］
次に、上述した第２実施例とは逆に、本発明の光回路の出力側（すなわち、モニタ光出力側）にホトダイオード（以下、ＰＤという）を集積一体化した例について説明する。
【００３４】
図３（ａ），（ｂ）は、第２のモニタ用光導波路の端に端面入射型ＰＤを集積化した４ｃｈモニタＰＤ付光タップ回路を示す図で、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は断面図である。端面入射型ＰＤ１０にはＩｎＰ−ＩｎＧａＡｓのＰＤを用いた。受光感度は波長１．５５μｍで０．９Ａ／Ｗである。端面入射型ＰＤ１０は、図３（ａ）に示すように、端面光吸収部直上の表面にｐ電極１１、及びその左方表面に絶縁層を介して設置された２本の位置合わせ用マーカを兼ねた金蒸着膜からなる固定パッド１２を備えている。
【００３５】
端面入射型ＰＤ１０の大きさは、３００μｍ角で１５０μｍの厚みである。この端面入射型ＰＤ１０を本発明の光回路と一体集積化すべく、図３（ａ）の平面図、及び図３（ｂ）の断面図に示すように、第２のモニタ用光導波路４の端部計４箇所に導波路を掘り込んだＰＤ装着部１３を設けたＰＬＣを作製した。
【００３６】
まず、２５０μｍ間隔でアレイ化した本発明の光回路の導波路部を作製した。その際、ＰＤ装着部１３では端面入射型ＰＤ１０の幅（３００μｍ）が主光導波路２の間隔（２５０μｍ）より大きいため、主光導波路２は装着部を迂回する構成となっている。次に、ドライエッチング法により、深さ３０μｍのＰＤ装着部１３とモニタ光反射溝８を形成した。ＰＤ装着部１３の大きさは５５０μｍ角である。
【００３７】
次に、厚み１μｍのＣｒ／Ａｕ膜を蒸着、パターン化することで、ＰＤ装着部１３底面とＰＬＣ表面上にｐ電極配線１４、及び共通ｎ電極配線１５を形成した。次に、厚み２μｍのＡｕ／Ｓｎ膜を蒸着、パターン化することで導波回路側マーカを兼ねたＡｕ／Ｓｎ半田膜パターン１６を形成した。次に、斜め蒸着法により、厚み１５００ÅのＡｕ膜を蒸着、パターン化することでモニタ光反射溝８の反射側面にモニタ光反射膜７を形成した。
【００３８】
次に、ダイシングソーでフィルタ挿入溝５を形成した。次に、パッシブアラインメント法により、端面入射型ＰＤ１０の表面を下向きにして、端面入射型ＰＤ１０側の固定パッド１２とＰＤ装着部１３のＡｕ／Ｓｎ半田膜パターン１６を位置合わせして仮止めした後、２８０℃でリフローして４個の端面入射型ＰＤ１０をＰＬＣ上に半田固定した。次に、上述した第１及び第２の実施例と同様の工程、材料を用いて、光フィルタ６をフィルタ挿入溝５に挿入してエポキシ樹脂で固定した。最後に、ＰＤ装着部１３の段差を接続するためのｐ電極側ワイヤボンディング１７と、端面入射型ＰＤ１０の裏面であるｎ側と共通ｎ電極配線１５間を接続するｎ電極側ワイヤボンディング１７ａを実施して完成した。
【００３９】
このようにして作製した４ｃｈモニタＰＤ付きタップモジュールの波長１．５５μｍでの１〜４ｃｈの特性は、主光導波路２の挿入損失０．５〜０．８ｄＢ、主光導波路２への入射光強度に対するタップ光の受光感度は０．０３２〜０．０３６Ａ／Ｗであった。
【００４０】
受光素子の一つであるＰＤを光回路と一体集積化したことにより、さらなる小型化が可能となるとともに、受光素子と光回路との物理的な距離が短くなることにより、応答速度の高速化を実現することができた。
【００４１】
［第４実施例］
本発明の光回路の出力側（すなわち、モニタ光出力側）にホトダイオード（以下、ＰＤという）を集積一体化した第２の例として、表面入射型ＰＤ１８を集積化した例について説明する。受光感度は波長１．５５μｍで０．９Ａ／Ｗである。ところで、表面入射型ＰＤ１８を光導波回路に集積するには、導波光を垂直に取り出すための４５°ミラーが必要となる。このミラーは、例えば、特開平０９−３１８８５０号公報「光導波回路及びその製造方法」によって形成することができる。
【００４２】
まず、図４（ａ），（ｂ）に従ってミラー形成法について説明する。光回路の面内のミラーを形成しようとする箇所に図４（ａ）に示すようなコの字状の基板Ｓｉ１まで達する深さ５０μｍのミラー形成溝１９をドライエッチングによって形成する。図中のＷは、ミラー幅となるべき長さであり、１９０μｍ、また導波路端と対向壁面との距離ｄは７０μｍとした。このミラー形成溝１９には、樹脂供給溝２０がつながっており、その幅は３０μｍである。さて、このようなミラー形成溝１９と樹脂供給溝２０を形成しておいて、これに以下の表面処理を施す。
【００４３】
まず、図４（ａ）に示す座標軸に示した太線矢印、すなわち、ｘｙ軸と４５度（ｘ＝４５度）をなし、かつ上方３５．３度の角度（φ＝３５．３度）からＴｉを０．１μｍの厚みに斜め蒸着する。すると図４の網点の部分は影となって、ここにはＴｉはつかない。次に、光回路を回転させながら、影ができないようにして全面にＣｒを０．１μｍの厚みに蒸着する。
【００４４】
次に、希フッサン液に浸漬してＴｉでＣｒをリフトオフすると、図４の網点の部分、すなわちＴｉ斜め蒸着の時に影になった部分にＣｒが残る。次に、全面にグリース溶液を塗布して、後に使用する液状硬化樹脂２１に対する接触角を４５度以上の角度にする。次に、Ｃｒエッチング液で表面処理膜をリフトオフすると、図４の網点の領域は、液状硬化樹脂２１に対してヌレが良く、一方それ以外の領域は接触角が４５度以上となって液状硬化樹脂２１に対してヌレが悪くなる。
【００４５】
このようなヌレ性を呈するコの字状のミラー形成溝１９に樹脂供給溝２０を伝って表面張力で形成される液面形状が平面となる圧力で液状硬化樹脂２１を供給し、しかる後に硬化させると図４（ｂ）に示すように導波路端（ここでは第２のモニタ用光導波路４）と対向する部位に４５度の平面斜面が形成される。斜面角度が４５度となるのは、上述した蒸着角度の関係から図４の座標軸に示した角度φが４５度となるからである。この斜面上にミラー膜２２として金を付着せしめれば、導波路端から出射した導波光は回路面に垂直に出射する。ここでは液状硬化樹脂２１としてエポキシ樹脂を用いた。
【００４６】
図５（ａ），（ｂ）は、以上のようにして形成されるミラーを用いた表面入射型ＰＤと本発明の光回路の集積化例を示す図で、図５（ａ）は平面図、図５（ｂ）は断面図で、４ｃｈモニタＰＤ付光タップ回路を示している。表面入射型ＰＤ１８にはＩｎＰ−ＩｎＧａＡｓのＰＤを用いた。ＰＤは、図５の（ａ）に示すように、表面に直径８０μｍφの受光部とそれにつながるｐ電極１１、及びその左方表面に２個の位置合わせ用マーカとｎ電極を兼ねた金蒸着膜からなる固定パッド１２を備えている。
【００４７】
ＰＤチップの大きさは、５００μｍ角で１５０μｍの厚みである。このＰＤ１８を本発明の光回路と一体集積化すべく、第２のモニタ用光導波路４の端部に４５°ミラーを設けたＰＬＣを作製した。まず、２５０μｍ間隔でアレイ化した本発明の光回路の導波路部を作製した。次に、ドライエッチング法により、Ｓｉ基板１まで達する深さ５０μｍのミラー形成溝１９とそれにつながる樹脂供給溝２０、及びモニタ光反射溝８を形成した。
【００４８】
次に、上述したように、図５（ａ）の左斜め上方３５．３°角度からの斜め蒸着を含む一連の表面処理工程を行った後、樹脂供給溝２０の左端から液状硬化樹脂２１としてエポキシ樹脂を滴下供給して硬化させ、４５°斜面を形成した。次に、溶剤にて表面処理剤を除去洗浄した後、厚み１μｍのＣｒ／Ａｕ膜を蒸着、パターン化することで、オーバークラッド表面にｐ電極配線１４と共通ｎ電極配線１５、及び４５°斜面上にミラー膜２２を形成した。
【００４９】
次に、厚み２μｍのＡｕ／Ｓｎ膜を蒸着、パターン化することで導波回路側マーカを兼ねたＡｕ／Ｓｎ半田膜パターン１６を形成した。次に、斜め蒸着法により、厚み１５０ÅのＡｕ膜を蒸着、パターン化することでモニタ光反射溝８の反射側面にモニタ光反射膜７を形成した。次に、ダイシングソーでフィルタ挿入溝５を形成した。
【００５０】
次に、パッシブアラインメント法により、ＰＤ１８の表面を下側に向けた状態で、ＰＤ側の固定パッド１２とＰＤ装着部のＡｕ／Ｓｎ半田膜パターン１６を位置合わせして仮止めした後、２８０℃でリフローしてＰＤをＰＬＣ上に半田固定した。最後に光フィルタ６をフィルタ挿入溝５に挿入してエポキシ樹脂で固定した。
【００５１】
このようにして作製した４ｃｈモニタＰＤ付タップモジュールの波長１．５５μｍでの１〜４ｃｈの特性は、主光導波路２の挿入損失０．５〜０．８ｄＢ、主光導波路２への入射光強度に対するタップ光の受光感度は０．０３２〜０．０３６Ａ／Ｗであり、上述した第３実施例と同様の特性であった。
【００５２】
光回路の直上に受光素子の一つであるＰＤを、ミラーを介して光接続して集積化したことにより、さらなる小型化が可能となった。また、受光素子と光回路との物理的な距離が短くなることにより、応答速度の高速化を実現することができた。
【００５３】
なお、上述した第１〜４実施例では、モニタ光反射膜７として金を用いたが同様に近赤外域で高い反射率をもつアルミニウムも適用できる。
【００５４】
また、図６は、主光導波路と第１のモニタ用光導波路と第２のモニタ用光導波路を各々直線状とした例を示す図である。作製方法は図２と同じである。直線状としたことで、挿入損失が下がり、かつ、図２と同様な効果があった。
【００５５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、主光導波路に〜１００μｍ程度に近接した平行導波路である第２のモニタ用光導波路に主伝搬光と同一伝搬方向のモニタ光を取り出せるとともにモニタ光反射溝に要する面積も１００μｍ角以下でよいため、光ファイバアレイの間隔でアレイ化した光機能回路と集積化することが可能である。従って、本発明の光回路を用いれば実施例に示したように、大面積を占めるモニタ用ファイバカプラが不要となり、光装置内デバイス実装が従来に比較して飛躍的に簡素化、小型化され、光通信用装置の経済化に資することは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光回路の一実施例を示す図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は、（ａ）における直線Ａ−Ａ′で基板に垂直に切った断面図である。
【図２】本発明の光回路をＡＷＧに付属せしめた形態を示す平面図である。
【図３】本発明の光回路に端面入射型ＰＤを一体集積化した形態を示す図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。
【図４】（ａ），（ｂ）は４５°ミラーの構造を示す図である。
【図５】本発明の光回路に４５°ミラーを用いて表面入射型ＰＤを一体集積化した形態を示す図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。
【図６】図６は、主光導波路と第１のモニタ用光導波路と第２のモニタ用光導波路を直線状とした例を示す図である。
【符号の説明】
１  基板
２  主光導波路
３  第１のモニタ用光導波路
４  第２のモニタ用光導波路
５  フィルタ挿入溝
６  光フィルタ
７  モニタ光反射膜
８  モニタ光反射溝
９  ＡＷＧ
１０  端面入射型ＰＤ
１１  Ｐ電極
１２  固定パッド
１３  ＰＤ装着部
１４  Ｐ電極配線
１５  共通ｎ電極配線
１６  Ａｕ／Ｓｎ半田膜パターン
１７  ｐ電極側ワイヤボンディング
１７ａ  ｎ電極側ワイヤボンディング
１８  表面入射型ＰＤ
１９  ミラー形成溝
２０  樹脂供給溝
２１  液状硬化樹脂
２２  ミラー膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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