(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔｉ窒化物もしくは炭窒化物からなる層とＴｉＡｌの窒化物もしくは、炭窒化物からなる層を少なくとも２層以上被覆した多層被覆硬質工具において、Ｘ線回折における（１１１）面の強度をＩ（１１１）、（２００）面の強度をＩ（２００）としたとき、Ｔｉの窒化物もしくは炭窒化物層のＩ（２００）／Ｉ（１１１）の値が１以下であり、Ｔｉ、Ａｌの窒化物もしくは炭窒化物層のＩ（２００）／Ｉ（１１１）の値が１以上であり、多層被覆する各層の中間にＴｉの窒化物、炭窒化物層とＴｉ、Ａｌの窒化物、炭窒化物層双方よりなる５ｎｍから５００ｎｍの厚さの中間層を介在させたことを特徴とする多層被覆硬質工具。
【請求項２】
請求項１記載の多層被覆硬質工具において、基体が超硬合金インサートであることを特徴とする多層被覆硬質工具。
【請求項３】
請求項１記載の多層被覆硬質工具において、基体が高速度鋼エンドミルであることを特徴とする多層被覆硬質工具。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、優れた耐摩耗性を有する多層被覆硬質工具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来一般的であったＴｉＮやＴｉＣＮコーティングに対し、近年Ａｌを含有させ、耐摩耗性、耐酸化性を向上させる研究がなされ、特公平４−５３６４２号、特公平５−６７７０５号に代表されるように、Ａｌの添加効果を認める事例も種々存在する。また、人工格子（超格子）を形成して、皮膜の特性を改善した事例も認められる（例として、特開平７−９７６７９号）。これらの発明により、従来一般的であったＴｉＮやＴｉＣＮ皮膜がＡｌを含有する皮膜へと改良がなされつつある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、最近の切削加工においては、高能率を得るため切削速度が更に速くなる傾向にあり、また、金型加工においても、従来は熱処理前の軟らかい鋼を切削していた場合が多いが、熱処理後の高硬度材を直接加工する事例が増えつつあるのが現状である。
【０００４】
このような高速切削、並びに高硬度材料の切削においては、Ａｌの添加は皮膜の耐酸化性を向上させ、ＴｉＮやＴｉＣＮ皮膜よりは耐摩耗性を向上せしめるものの、今だ十分に満足のいくものではない。その理由は、一般的にイオンプレーティングにより形成された皮膜は、圧縮残留応力を有し、この圧縮残留応力は、皮膜の膜厚が厚くなるに伴い増加する。皮膜は圧縮残留応力の増加に伴い、その密着性は劣化し、従って現状では、使用に耐え得る皮膜の厚さは、せいぜい５μｍが限界である。その為イオンプレーティングにより被覆された工具は、化学蒸着法（ＣＶＤ）により蒸着された１０〜１５μｍの膜厚を有する被覆工具に比べ、耐摩耗性が劣ることは否定できない事実であった。また、人工格子の形成により、皮膜の硬さが向上することは事実であり、耐摩耗性の向上は認められるものの、このような硬い皮膜はヤング率とも高く、皮膜が非常に高い圧縮残留応力を有し、せいぜい３〜５μｍを形成するのが限界である。また、このような人工格子皮膜は、高い圧縮残留応力を有するために密着性に大きな課題を有するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、イオンプレーティング皮膜において、残留圧縮応力を低減し、厚膜化を実現し、その結果耐摩耗性を向上せしめる研究を行った結果、配向性の異なる２種の皮膜を多層被覆することにより、残留圧縮応力は増加することなく、厚膜化が実現できるという知見を得るに至った。
【０００６】
一般に、イオンプレーティングにおいては皮膜は結晶成長において優先成長方位を有し、その結果、柱状の結晶構造を持つ皮膜が形成される。１つの柱状の結晶粒子を取り出してみれば、一定方向に強い結晶成長が認められる単結晶であり、内部欠陥は極めて少ない。このような結晶が連続して成膜することが、皮膜の厚さの増加に伴い残留圧縮応力が増加する原因である。
【０００７】
本発明者等は、優先成長方位のそれぞれ異なる２種の皮膜を多層被覆することにより、皮膜と皮膜の界面に多くの格子欠陥を導入する技術を開発するに至った。つまり、（１１１）面に配向するＴｉの窒化物、炭窒化物と（２００）面に配向するＴｉ、Ａｌの窒化物、炭窒化物を多層被覆することにおいて界面は不連続となり、エピタキシャル成長が抑制され、多くの格子欠陥が導入される。この多くの格子欠陥は、皮膜の残留圧縮応力を緩和するように成長中に再配列し、結果、皮膜の残留応力を抑制し、厚膜化を可能にするものである。
【０００８】
例えば、（２００）に配向するＴｉＡｌＮを０．５μｍ形成すると残留応力は、１．２ＧＰａであり、この皮膜を連続して１０μｍ形成すると残留圧縮応力は、８ＧＰａを越え著しく密着性が劣化する。一方（２００）に配向するＴｉＡｌＮを０．５μｍ、（１１１）に配向するＴｉＮを０．５μｍ形成し、この多層被覆において１０μｍの皮膜を形成した場合は、驚くべき事にその残留圧縮応力は、せいぜい２ＧＰａである。
【０００９】
従って、本発明によれば容易に厚膜化が可能であり、その結果被覆工具に非常に高い耐摩耗性を付与することが可能である。
【００１０】
更に、切削中に皮膜表面に発生したクラックは、結晶成長方向の異なる皮膜の界面において、その伝播が抑制される傾向にある。つまり、クラック先端に発生する応力集中を界面の多数の格子欠陥が緩和し、クラックの伝播に対し高い抵抗を示す。同時にクラックは、更に進展する場合、界面に沿って伝播し基体への伝播、強いては刃先の欠損を大巾に抑制するものである。
【００１１】
しかしながら、この界面に沿ってクラックが伝播する傾向が著しいと皮膜が順次剥離し、結果、耐摩耗性を劣化させる場合も存在する。本発明者らは、このような現象を抑制し、多層被覆された皮膜と皮膜との界面に沿うクラック伝播をある程度抑制するために、界面にＴｉの窒化物、もしくは炭窒化物、Ｔｉ、Ａｌの窒化物、もしくは炭窒化物を同時にコーティングし、中間的組成を有する中間層を介在させることより、皮膜と皮膜の界面に沿うクラック伝播を抑制する事実を見出した。従って、本発明による多層被覆硬質工具は、厚膜化により高い耐摩耗性を有すると共に、クラックが伝播し難いため、同時に高い靭性を有するものである。従って、皮膜が厚い時のみならず、比較的薄い場合においても工具寿命を向上させることは言うまでもない。
【００１２】
以下に数値を限定した理由について述べる。
【００１３】
Ｔｉ、Ａｌの窒化物、炭窒化物のＩ（２００）／Ｉ（１１１）の値を１以上とした理由は、この皮膜が（１１１）面に強く配向すればするほど高い圧縮応力を有するようになるため、好ましくなく、（２００）面に配向した方が、この皮膜自体の残留圧縮応力が低いため、（２００）面に配向すべく１以上とした。
【００１４】
Ｔｉの窒化物、炭窒化物は前述のように、（２００）面に配向したＴｉ、Ａｌの窒化物、炭窒化物層との多層被覆において、界面に格子欠陥を導入するため、前記Ｔｉ、Ａｌの窒化物、炭窒化物と反対に（１１１）面に配向させなければならず、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値は１以下とした。
【００１５】
また、中間層の厚さは、５ｎｍ以下であると上記界面に沿うクラック伝播に対し効果が認められず、５００ｎｍを越えるとＴｉの窒化物、もしくは炭窒化物とＴｉ、Ａｌの窒化物、もしくは炭窒化物がエピタキシャルに成長し易くなり、それぞれのＩ（２００）／Ｉ（１１１）の値を制御することが困難になるため、５ｎｍ以上５００ｎｍ以下とした。
【００１６】
【実施例】
以下、実施例に基づき本発明を説明する。
【００１７】
実施例１
ＪＩＳ  Ｐ４０相当の超硬合金インサート、及びφ１２、４枚刃の市販高速度鋼ラフィングエンドミルにアークイオンプレーティング法により、Ｔｉターゲット、ＴｉＡｌターゲット（Ｔｉ／Ａｌ＝５０／５０）を用い、表１に示す皮膜を形成した。比較工具として同じアークイオンプレーティング法により、ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ皮膜を形成した。
【００１８】
【表１】
0003705381.tif 000002
超硬合金インサートにおいては、切削条件１に基づきフライス切削を行い、逃げ面摩耗値が０．３ｍｍに達するまでの切削長さを求め、それを寿命とした。ＴｉＮのコーティングにおいては、Ｔｉターゲットに電流を流し、ＴｉＡｌＮコーティングにおいては、ＴｉＡｌターゲットに電流を流しコーティングを行った。また、中間層の形成においては、Ｔｉターゲット、ＴｉＡｌターゲット双方に電流を流し、コーティングを行った。
【００１９】
また、高速度鋼エンドミルにおいては、切削条件２に基づき切削を行い、逃げ面摩耗値が０．２ｍｍに達するまでの切削長を求め、それを寿命とした。その結果も表１に併記する。
【００２０】
切削条件１は、インサート（ＳＥＥ４２−ＴＮ）を用い、被削材ＤＡＣ（ＨＲＣ４０）、切削速度１００（ｍ／ｍｉｎ）、送り０．１（ｍｍ／刃）、切り込み（２ｍｍ）である。
【００２１】
切削条件−２は、高速度鋼エンドミルを用い、被削材ＤＡＣ（ＨＲＣ１０）、切削速度５０（ｍ／ｍｉｎ）、送り０．０７（ｍｍ／刃）、軸方向切り込み量１８ｍｍ、径方向切り込み量６ｍｍ、切削油なし、ダウンカット（Ｄｏｗｎ  Ｃｕｔ）である。
【００２２】
表１から明らかなように、本発明による多層被覆工具は、１０μｍ以上の厚膜化においても残留応力が制御されるため、皮膜の剥離や刃先のチッピングは認められず、安定した長時間の切削が可能である。
【００２３】
実施例２
実施例１と同一の方法により、表２に示す種々中間層を有する工具を作成し、同様の切削評価を行った。その結果を表２に併記する。
【００２４】
【表２】
0003705381.tif 000003
表２より明らかなように、１０ｎｍから４００ｎｍの厚みの範囲の中間層を介在させることにより、ほぼ同程度の長寿命化が認められる。
【００２５】
【発明の効果】
本発明により、イオンプレーティング法での厚膜化が容易に可能となり、また膜厚化にさいし、結晶成長方向を特定することによりクラックが伝播し難く、高い靭性を有する多層皮膜を得ることが出来、また比較的薄い場合においても工具寿命を向上させることが出来る。