(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一主面に電極を備える前面側基板と一主面に電極を備える背面側基板とを所定の距離をもって対面させ、各々の基板の縁辺を封着して得た放電空間内に放電用のガスを封入してなるプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記背面側基板は、表示領域の外側に設けられた、表裏を通じる複数の貫通孔と、
前記放電空間とは反対側の面上に気密的に固着された無底有蓋の箱形の通気導管であって、前記背面側基板の縁辺を回廊状に巡って前記貫通孔を覆い、内部の空間が始端、終端の別なくエンドレスにつながった構造の通気導管と、
前記放電用のガスの封入の際に前記放電空間を排気しまたこれにガスを導入するための、前記通気導管に設けられたチップ管とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記チップ管と前記通気導管とが一体で形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記チップ管は、前記通気導管の側壁に、前記背面側基板の主面に平行な方向に向けて設けられていることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記通気導管の排気抵抗が、前記放電空間の排気抵抗より小なることを特徴とする、請求項１乃至３の何れか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記チップ管は一つであることを特徴とする、請求項１乃至４の何れか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記一主面に電極を有する前面側基板を製造する過程と、前記一主面に電極を有し、前記表示領域となるべき領域の外側には前記複数の貫通孔を有する背面側基板を製造する過程と、前記前面側基板と背面側基板とを各々の基板の電極形成面を内側にして所定の距離をもって対面させ、各々の基板の縁辺を気密に固着する封着過程と、前記前面側基板と背面側基板との間に作られる放電空間を排気したのち放電空間内に放電用のガスを導入し、封止する封入過程とを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
予め、前記無底有蓋の箱形の通気導管と封じ切り前のチップ管とを一体に形成する過程を設け、
前記封着工程では、前面側基板と背面側基板とを各々の基板の縁辺で気密に封着すると同時に、前記予めチップ管と一体に形成した通気導管を、前記背面側基板の前記電極形成面とは反対の側の面上に、前記貫通孔を覆うようにして気密に固着し、
前記封入過程では、前記放電空間を前記チップ管を介して排気し、排気後の放電空間内に前記チップ管を介して前記放電用のガスを導入した後、前記チップ管を封じ切ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記一主面に電極を有する前面側基板を製造する過程と、前記一主面に電極を有し、前記表示領域となるべき領域の外側には前記複数の貫通孔を有する背面側基板を製造する過程と、前記前面側基板と背面側基板とを各々の基板の電極形成面を内側にして所定の距離をもって対面させ、各々の基板の縁辺を気密に封着する封着過程と、前記前面側基板と背面側基板との間に作られる放電空間を排気したのち放電空間内に放電用のガスを導入し、封止する封入過程とを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
予め、前記無底有蓋の箱形の通気導管と封じ切り前のチップ管とを一体に形成する過程と、
前記チップ管と一体に形成した通気導管を、予め、前記背面側基板の前記電極形成面とは反対の側の面上に、前記貫通孔を覆うようにして気密に固着する過程とを設け、
前記封入過程では、前記放電空間を前記チップ管を介して排気し、排気後の放電空間内に前記チップ管を介して前記放電用のガスを導入した後、前記チップ管を封じ切ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関し、特に、前面側及び背面側の２枚の基板の間に形成される放電空間を排気し、これに放電用のガスを導入する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、基本的に、一主面に長尺状の複数の電極を備える前面側ガラスと、同じく一主面に長尺状の複数の電極を備える背面側ガラス基板の２枚のガラス基板とを、前面側ガラス基板の電極形成面と背面側ガラス基板の電極形成面とが互いに向い合せで、しかも両方のガラス基板の電極が互いに直交するようにして所定の距離を隔てて対面させ、双方のガラス基板どうしをガラス基板の縁辺で気密に封着して、２枚のガラス基板間に形成された気密性の中空空間（放電空間）内を排気した後、放電用ガスを所定の圧力まで導入し封止した構造を持っている。
【０００３】
図２に、ＰＤＰの一例の断面図を示す。図２を参照して、この図に示すＰＤＰは、マトリクス表示方式のＡＣ形３電極面放電型ＰＤＰであって、前面側ガラス基板１と背面側ガラス基板２とが、距離を隔てて対面している。上記２枚のガラス基板１，２どうしの間には、各ガラス基板の縁辺に、低融点のガラス層からなる額縁状の封止層３Ａが配置されている。前面側及び背面側の２枚のガラス基板は、それぞれのガラス基板の縁辺で上記封止層３Ａに気密に固着（封着）されて気密性の放電空間４を形成しており、この放電空間４に、例えばＡｒとＸｅとの混合ガスのような、放電用の希ガスが所定の圧力で封入されている。
【０００４】
前面側ガラス基板１の内面には、面放電を行わせるためのＸ表示電極とＹ表示電極とが、それぞれ複数本ずつ紙面左右方向に走っている（図２には、Ｘ表示電極５で代表させている）。これらＸ表示電極とＹ表示電極とは、どちらも長尺状の電極で、互いに１本おきに交互して並行に走っていて、Ｘ表示電極１本とこれに隣接するＹ表示電極１本とで一組をなして１走査線をなしている。Ｘ（Ｙ）表示電極５上には、電極を被覆する誘電体層６と、その誘電体層６を保護するＭｇＯ膜７とが設けられている。
【０００５】
一方、背面側ガラス基板２の内面には、上記Ｘ（Ｙ）表示電極５と直交する方向（紙面に垂直の方向）に、長尺状のアドレス電極８が複数本、並行して走っている。各アドレス電極８どうしの間には、高さが１００〜２００μｍ程度の長尺状の隔壁９がアドレス電極８に沿って設けられ、更に、蛍光体膜１０が、アドレス電極８の上面、隔壁９の側面及び背面側ガラス基板２の露出面を覆って設けられている。
【０００６】
上述のＰＤＰにおいて、これを前面側ガラス基板１或いは背面側ガラス基板２に垂直な方向から見たとき、Ｘ表示電極及びＹ表示電極の組とアドレス電極との交点が行及び列をなしてマトリクス状に並ぶことになり、そのマトリクス状に並んでいる交点の一つ一つがそれぞれ単位の発光領域（画素）になっている。すなわち、Ｘ，Ｙ表示電極の組とアドレス電極との交点がマトリクス状に並んでいる領域が表示領域になる。
【０００７】
ここで、上述の隔壁９は前面側ガラス基板１に接触していて、放電空間４のＸ（Ｙ）表示電極５の伸長方向を、アドレス電極単位で物理的に区切っている。この隔壁９は、隣り合うアドレスの画素間で誤放電が生じクロストークが発生するのを防ぐためのもので、良好な表示画質を得るために欠かせない。
【０００８】
上に述べたＰＤＰは、概略、下記のプロセスで製造される。先ず、前面側ガラス基板１及び背面側ガラス基板２に対し、個別に、Ｘ（Ｙ）表示電極５、誘電体層６及びＭｇＯ膜７や、アドレス電極８、隔壁９、蛍光体膜１０を形成する。その後、一方のガラス基板の電極形成面に、額縁状の封止層３Ａを形成し、更に、もう一方のガラス基板を電極形成面を内側にして重ね合せ、互いに押し当てた状態で熱処理を行う。これにより、前面側ガラス基板１の縁辺と封止層３Ａ及び、背面側ガラス基板２の縁辺と封止層３Ａとが気密的に融着され、気密性の中空の放電空間４が形成される。
【０００９】
次いで、放電空間４内を排気し、放電用のガスを所定の圧力まで導入した後、封止する。
【００１０】
このように、ＰＤＰの製造に際しては、放電空間内を排気する過程と、排気後の放電空間内に放電用のガスを導入する過程と、放電空間を封止する過程とが欠かせない。その放電空間内の排気、放電空間内へのガス導入、封止に従来行われていた方法の一例（従来例１）が、特開平８−２５５５７３号公報に記載されている。図３に、上記公報の図２を再掲して示す。尚、以下では、説明の都合上、図中の符号及び名称に、上記公報中で用いられているものとは異なる符合及び名称を用いることがある。図３を参照して、背面側ガラス基板２には、表示領域１１の外側で封止層３Ａより内側の領域に、放電空間４の内外を通じる貫通孔１２Ａが１つ設けられている。この図に示す例の場合は、矩形状の表示領域の左手前側の隅に設けられている。そして、その貫通孔１２Ａには、放電空間４とは反対側の面に、中空のガラス管であるチップ管１３Ａが、背面側ガラス基板２に垂直に融着されている。尚、図３は、完成後のＰＤＰを示しているので、チップ管１３Ａは先端部分で封じ切られた後の形状になっているが、製造プロセスの途中段階では、チップ管は上面及び下面の両端面とも開放の円筒である。
【００１１】
この従来例１に係るＰＤＰを製造するに当って、放電空間４の排気及び放電用ガスの導入には、上述のチップ管１３Ａを用いる。すなわち、前面側ガラス基板１と背面側ガラス基板２とを融着して一体化し、放電空間４を形成した後、放電空間の排気に先立って、背面側ガラス基板に設けておいた貫通孔１２Ａに、予め、両端面開放のチップ管１３Ａを融着する。そして、このチップ管１３Ａに図示しない排気装置と放電用ガスのボンベとを切替え可能に連結し、放電空間内を排気し放電用ガスを導入した後、チップ管１３Ａを溶断して封じ切るのである。
【００１２】
ところで、放電空間４の間隙の寸法（前面側ガラス基板１と背面側ガラス基板２との間の距離：ほぼ隔壁９の高さと考えてよい）は、画面の平面寸法の大きさに関わりなく１００〜２００μｍ程度である。そこで、従来例１の場合、画面の寸法が大きくなるにつれて、排気による放電空間内部の十分な真空度確保と清浄化が困難になるという問題が生じる。特に、放電空間４をアドレス単位で仕切っている隔壁９が排気抵抗を高くしているので、貫通孔１２Ａから離れた画素空間にはどうしても不純ガスが残りやすい。排気による放電空間内部の清浄化が不十分であると、排気後にいくら所定の組成の放電用ガスを充填しても、画素内のガスの組成は目的どおりの組成にならず、放電を妨げる現象が生じ表示動作が不安定になってしまう。
【００１３】
上述のような、貫通孔１２Ａからの遠近が原因で生じる表示動作の不安定現象を改善するには、例えば図４に示すように、貫通孔１２Ａを複数個設けて排気効率を高めることが考えられる（従来例２）。図４に示すＰＤＰの場合は、矩形状の放電空間の四隅全てに貫通孔を1つずつ設け、それぞれにチップ管１３Ｂ〜１３Ｅを1つずつ融着している。
【００１４】
しかしながら、このように貫通孔の数、延いてはチップ管の数を多くすると、背面ガラス側基板へのチップ管１３Ｂ〜１３Ｅの取付け、チップ管１３Ｂ〜１３Ｅと排気装置やガスボンベとの連結、チップ管１３Ｂ〜１３Ｅの封じ切りといった一連の排気、ガス導入、封止作業がチップ管の数だけ必要になり、単に作業工数が増えるだけでなく、作業ミスやこれに伴う不良発生が増加してしまう。
【００１５】
そこで、前述の特開平８−２５５５７３号公報は、背面側ガラス基板に設ける貫通孔の数は複数個にしながらチップ管は１つにする工夫をして、チップ管と排気装置との連結作業は簡単で、しかもチップ管からの遠近の違いによる放電空間内の排気状態の違いを小さくしている（従来例３）。図５に、上記公報の図１を再掲して示す。図５を参照して、背面側ガラス基板２には、表示領域の外側に、２つの貫通孔１２Ｌ、１２Ｒが左右に分けて設けられている。背面側ガラス基板２の放電空間とは反対の面側には、更に、もう１枚のガラス基板（ガス溜め用ガラス基板）１４が配置されていて、このガス溜め用ガラス基板１４に、貫通孔１２Ｂが１つ設けられている。
【００１６】
上記ガス溜め用ガラス基板１４と背面側ガラス基板２とは、それぞれの基板の縁辺に配置された低融点ガラス製の額縁状の封止層３Ｂに気密に融着されて、気密性のガス溜め空間１５Ａを形成している。このガス溜め空間１５Ａと放電空間４とは、背面側ガラス基板２に設けられている上記２つの貫通孔１２Ｌ，１２Ｒによって連通している。
【００１７】
この従来例３に係るＰＤＰにおいては、放電空間４の排気過程までの間の適当な段階で、ガス溜め用ガラス基板の貫通孔１２Ｂにチップ管１３Ｆを融着し、そのチップ管１３Ｆとガス溜め空間１５Ａとを介して放電空間４を排気し、また放電用ガスを導入する。従って、チップ管と排気装置やガスボンベとの連結は１箇所だけで済む。しかも、放電空間４内は背面側ガラス基板２の適当な位置に設けられた複数の貫通孔１２Ｌ，１２Ｒによって排気されるので、チップ管１３Ｆからの遠近による放電空間内の排気状態の差は、従来例２（図４参照）におけると同様に、小さくできる。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、従来例３の技術によれば、チップ管と排気装置との連結作業は簡単で、しかも、チップ管からの遠近による放電空間内の排気状態の差を小さくできる。
【００１９】
しかし、従来例３に係るＰＤＰにおいては、ガス溜め用ガラス基板１４は背面側ガラス基板２と同程度の大きさを有していることから、ＰＤＰ全体の重量が増してしまう。また、ガス溜め空間１５Ａの間隙（背面側ガラス基板２とガス溜め用ガラス基板１４との間の距離）の分、ＰＤＰ全体の厚みも増えてしまう。更には、ガス溜め用ガラス基板１４の内面に、背面側ガラス基板２とガス溜め用ガラス基板１４との間の間隔を規定するためのスペーサ１６を点在配置しなければならず、ただでさえそのための製造工程が増えて製造コストが上昇するのに、パネルが大型化すれば、それに伴ってガス溜め用ガラス基板１４も大きくなり撓みも大きくなるので、スペーサ１６を広い範囲に精度よく配置しなければならなくなり、その制御のために製造工程が複雑になる。
【００２０】
結局、パネル全体の重量も厚さも増し、そのうえ製造コストも上昇する。このことは、大型の壁掛けＴＶの有望な候補とされるＰＤＰにとって、非常に重要な問題である。
【００２１】
従って、本発明は、放電空間を排気するときのチップ管と排気装置との連結作業が簡単で、放電空間内でのチップ管からの遠近に起因する排気状態のむらがなく、従来例３に係るＰＤＰに比べパネル全体の重量増加も厚さ増加も少なく、しかも製造が容易なＰＤＰとこれを製造する方法を提供することを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、一主面に電極を備える前面側基板と一主面に電極を備える背面側基板とを所定の距離をもって対面させ、各々の基板の縁辺を封着して得た放電空間内に放電用のガスを封入してなるプラズマディスプレイパネルにおいて、前記背面側基板は、表示領域の外側に設けられた、表裏を通じる複数の貫通孔と、前記放電空間とは反対側の面上に気密的に固着された無底有蓋の箱形の通気導管であって、前記背面側基板の縁辺を回廊状に巡って前記貫通孔を覆い、内部の空間が始端、終端の別なくエンドレスにつながった構造の通気導管と、前記放電用のガスの封入の際に前記放電空間を排気しまたこれにガスを導入するための、前記通気導管に設けられたチップ管とを有することを特徴とする。
【００２３】
上記のプラズマディスプレイパネルは、前記一主面に電極を有する前面側基板を製造する過程と、前記一主面に電極を有し、前記表示領域となるべき領域の外側には前記複数の貫通孔を有する背面側基板を製造する過程と、前記前面側基板と背面側基板とを各々の基板の電極形成面を内側にして所定の距離をもって対面させ、各々の基板の縁辺を気密に封着する封着過程と、前記前面側基板と背面側基板との間に作られる放電空間を排気したのち放電空間内に放電用のガスを導入し、封止する封入過程とを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法において、予め、前記無底有蓋の箱形の通気導管と封じ切り前のチップ管とを一体に形成する過程と、前記チップ管と一体に形成した通気導管を、予め、前記背面側基板の前記電極形成面とは反対の側の面上に、前記貫通孔を覆うようにして気密に固着する過程とを設け、前記封入過程では、前記放電空間を前記チップ管を介して排気し、排気後の放電空間内に前記チップ管を介して前記放電用のガスを導入した後、前記チップ管を封じ切ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法によって製造できる。
【００２４】
または、予め、前記無底有蓋の箱形の通気導管と封じ切り前のチップ管とを一体に形成する過程を設け、前記封着工程では、前面側基板と背面側基板とを各々の基板の縁辺で気密に封着すると同時に、前記予めチップ管と一体に形成した通気導管を、前記背面側基板の前記電極形成面とは反対の側の面上に、前記貫通孔を覆うようにして気密に固着し、前記封入過程では、前記放電空間を前記チップ管を介して排気し、排気後の放電空間内に前記チップ管を介して前記放電用のガスを導入した後、前記チップ管を封じ切ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法によって製造できる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。図１は、本発明の一実施例に係るＰＤＰの全体を示す斜視図及び、Ａ−ａ切断線における断面図である。図１を参照して、この実施例に係るＰＤＰはマトリクス表示方式のＡＣ形３電極面放電型のＰＤＰであって、放電空間４の内部の構造は、図２に示した一般的なＰＤＰと同じである。
【００２６】
本実施例に係るＰＤＰは、外見から言えば、従来例１、従来例２及び従来例３に対し、背面側ガラス基板２の放電空間とは反対側の面上に通気導管１７を備えている点と、その通気導管１７の側壁に、チップ管１３Ｇが１つ、背面側ガラス基板２と平行な方向に向けて設けられている点が異なっている。また、その外見上の特徴を実現するための製造方法も異なっている。そこで、以下では、上述の相違点を中心にして説明する。
【００２７】
本実施例に係るＰＤＰにおける背面側ガラス基板２は、表示領域の外側で封止層３Ａより内側の領域に、２つの貫通孔１２Ｌ，１２Ｒを備えている。これら２つの貫通孔は、矩形状の表示領域の向い合う短辺の中央近傍に、一つずつ配置されている。
【００２８】
背面側ガラス基板２には、また、放電空間４の反対側の面上に通気導管１７が設けられている。この通気導管１７はガラス成形品で、無底有蓋の箱の構造をしていて、背面側ガラス基板２の縁辺を回廊状に取り囲んで２つの貫通孔１２Ｌ，１２Ｒを覆っている。回廊の初めと終りとはつながっていて、従って、通気導管の内部の空間はエンドレスに連通している。この通気導管１７は、背面側ガラス基板２との間にできるエンドレスの中空空間（ガス溜め空間１５Ｂ）の排気抵抗が放電空間４の排気抵抗より小さくなるような、最小の大きさにしてある。
【００２９】
上記通気導管１７の側壁には、これもガラス成形品のチップ管１３Ｇが１つ、背面側ガラス基板２と平行な方向に向けて設けられている。尚、図１（ａ）は完成後のＰＤＰを表しているので、チップ管１３Ｇは封じ切られた状態になっているが、このチップ管１３Ｇは放電空間内の排気、放電用ガスの導入が終るまでの間は、両端開放の円筒である。
【００３０】
本実施例において、背面側ガラス基板２と上記通気導管１７とで作られるガス溜め空間１５Ｂと、前面側ガラス基板１と背面側ガラス基板２との間の放電空間４とは、背面側ガラス基板２に設けた２つの貫通孔１２Ｌ，１２Ｒで連通している。そこで、ＰＤＰの製造プロセスの中で、放電空間４を排気し、放電用ガスを導入する際は、上記チップ管１３Ｇに排気装置及び放電ガスのガスボンベを切替え可能に連結して、チップ管１３Ｇを介して放電空間内を排気し、また排気後の放電空間にガスを導入する。排気の際、ガス溜め空間１５Ｂの排気抵抗の方が隔壁９で仕切られた放電空間４の排気抵抗より小さいので、放電空間４は、従来例２におけるように、複数（この場合は、２つ）の貫通孔１２Ｌ，１２Ｒのそれぞれに個別に排気装置を連結して、同時に排気するのと同じような状態になる。従って、従来例１におけるように１つの貫通孔だけで排気するのとは違って、貫通孔とそれから最も遠い部分との間の距離が短くなり、チップ管はただ1つであるにも拘らず、放電空間４の排気は効率的にむらなく行われる。しかも、排気装置とチップ管との連結はただ一箇所で済むので、作業を迅速に行うことができる。
【００３１】
本実施例に係るＰＤＰは、以下のようにして製造する。先ず、従来公知の方法で、前面側ガラス基板１及び背面側ガラス基板２のそれぞれに、個別に各構成部材を設ける。すなわち、前面側ガラス基板１に、Ｘ（Ｙ）表示電極５、誘電体層６及びＭｇＯ膜７を順次形成する。また、背面側ガラス基板２に、アドレス電極８、隔壁９及び蛍光体膜１０を順次形成する。尚、背面側ガラス基板２には、表示領域の外側に、貫通穴１２Ｌ，１２Ｒを予め設けておく。
【００３２】
一方、上述の前面側及び背面側ガラス基板の準備とは別に、チップ管１３Ｇ付きの、無底有蓋、箱形の通気導管１７を準備する。それには、チップ管１３Ｇと箱形通気導管１７とが一体になった構造のカーボン型を用い、ガラス成形によりチップ管１３Ｇと通気導管１７とを一体的に成形する。
【００３３】
そして、前面側ガラス基板１または背面側ガラス基板２の電極形成側の面の縁辺に、幅２〜４ｍｍ程度の低融点ガラス製の額縁状封止層３Ａを配設する。又、背面側ガラス基板２の放電空間４とは反対側の面上の、通気導管１７が固着されるべき位置にも、低融点ガラスの層１８を配設する。
【００３４】
そうしておいて、前面側ガラス基板１と背面側ガラス基板２とを重ね合せ、更にチップ管１３Ｇ付きの通気導管１７を背面側ガラス基板２の所定の位置に載置し、互いに押し当てた状態で加熱する。これにより、ガラス基板１，２と、封止層３Ａと、チップ管付き通気導管１７が気密に融着される。
【００３５】
その後、従来公知の方法で、チップ管１３Ｇに排気装置と放電用ガスのガスボンベとを切替え可能に連結する。そして、放電空間４を、チップ管１３Ｇ、通気導管１７、２つの貫通孔１２Ｌ，１２Ｒを介して排気し、放電用ガスを所定の圧力まで導入し、チップ管１３Ｇを封じ切って本実施例に係るＰＤＰを完成する。
【００３６】
本実施例は、従来例３とは違って、ガス溜め空間１５Ａ（図５参照）を形成するための、背面側ガラス基板２と同じ大きさのガス溜め用ガラス基板１４（同）は必要としない。従って、ＰＤＰ全体の重量増加は、小さい。
【００３７】
また、従来例３において必要であったガス溜め用ガラス基板１４の撓み防止のためのスペーサ１６（同）は不要である。従って、スペーサ配設のための作業が不要で、製造工程が簡単である。まして、従来例３の場合は、ＰＤＰの大型化に伴ってスペーサ１６を精度よく配設しなければならなくなっていって、作業が高度化、複雑化してくるのに対し、本実施例においては、スペーサ配設作業そのものがないのであるから、ＰＤＰの大小にかかわらず同じ作業のままで済む。
【００３８】
また、本実施例においては、箱形通気導管１７とチップ管１３Ｇとを予め一体に成形するので、排気工程に先立ってチップ管を通気導管に取り付ける工程が不要で、製造工程が簡単である。
【００３９】
更には、通気導管１７は箱形で側壁を持っているので、チップ管１３Ｇをその側壁に取り付けることによって、背面側ガラス基板２に平行な方向に向けることができる。従って、従来例３のようにチップ管１３Ｆ（図５参照）をガス溜め用ガラス基板１４に垂直な方向にしか取り付けられず、その分ＰＤＰの厚さが厚くなってしまうのとは違って、ＰＤＰの厚さ増加も小さくて済む。
【００４０】
尚、実施例においては、通気導管１７とチップ管１３Ｇとを予め一体に成形しておいて、その一体化通気導管１７と、前面側ガラス基板１と、背面側ガラス基板２とを一度の熱処理で融着させる例について述べたが、製造工程順は必ずしもこれに限られるものではない。すなわち、チップ管１３Ｇ付きの一体化通気導管１７を予め背面側ガラス基板２に融着させておいて、その後、その通気導管１７付きの背面側ガラス２と前面側ガラス基板１とを融着させてもよい。或いは、先に前面側ガラス基板１と背面側ガラス基板２とを融着しておいて、その後に一体化通気導管１７を背面側ガラス基板に融着させてもよい。
【００４１】
更には、通気導管１７とチップ管１３Ｇとを別々に用意しておいて、後からチップ管１３Ｇを通気導管１７に取り付けるようにしても、チップ管１３Ｇを背面側ガラス基板２に平行な方向に取り付けることができる。本発明において、通気導管１７は無底有蓋の箱形であって側壁を持っているので、その側壁に貫通孔を設けておいて、その側壁の貫通孔に別に用意しておいたチップ管１３Ｇを従来公知の方法で融着すればよいからである。このような、チップ管１３Ｇを後から通気導管１７に取り付ける製造方法の場合でも、チップ管１３Ｇと、通気導管１７と、前面側ガラス基板１と、背面側ガラス基板２の融着順は、どのようにでもできる。但し、背面側ガラス基板２には蛍光体膜１０が設けられ、その蛍光体膜１０には熱によって劣化するものもあることを考慮すると、背面側ガラス基板２の熱履歴が一番少なくなるような製造工程順にすることが望ましい。
【００４２】
尚、実施例においては、背面側ガラス基板１００に２つの貫通孔１２Ｌ，１２Ｒを設けた例について述べたが、勿論、貫通孔は３つ以上であってもよい。数や開口面積は、背面側ガラス基板２の機械的強度に差し支えない程度に多いほうがよいであろう。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、放電空間を排気するときのチップ管と排気装置との接続作業が簡単で、放電空間内でのチップ管からの遠近に起因する排気状態のむらがなく、パネル全体の重量増加も厚さ増加も少なく、しかも製造が容易なＰＤＰとこれを製造する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に係るＰＤＰの斜視図及び断面図である。
【図２】ＰＤＰの基本的な構造を示す断面図である。
【図３】従来例１に係るＰＤＰの斜視図である。
【図４】従来例２に係るＰＤＰの斜視図である。
【図５】従来例３に係るＰＤＰの断面図である。
【符号の説明】
１    前面側ガラス基板
２    背面側ガラス基板
３Ａ    封止層
４    放電空間
５    表示電極
６    誘電体層
７    ＭｇＯ膜
８    アドレス電極
９    隔壁
１０  蛍光体膜
１１    表示領域
１２Ｌ，１２Ｒ    貫通孔
１３Ｇ    チップ管
１５Ｂ    ガス溜め空間
１７    通気導管
１８    低融点ガラス層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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