(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に薄膜が形成され、直線状の端縁を有する基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルと、溶剤および溶解物を吸引する排気管とを備えた基板端縁洗浄装置において、
前記ガスを前記基板の表面にスポット状に吹き付けるガスノズルを複数設けるとともに、
前記溶剤を前記基板の表面にスポット状に吹き付ける溶剤ノズルを複数設け、
前記複数の溶剤ノズルを、基板の前記直線状の端縁に沿った長さが当該端縁の長さよりも短い固定部材に対して、前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定するとともに、前記複数のガスノズルを、前記複数の溶剤ノズルよりも基板の中心側の前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定し、
前記固定部材を前記直線状の端縁に対して該直線状の端縁に沿った方向に移動させる移動手段を設け、
前記溶剤ノズルの溶剤吐出部とガスノズルのガス吐出部とは前記直線状の端縁に対して直交する直線上に並んだ状態で固定部材に設けられているとともに、前記ガス吐出部の開口面積は前記溶剤吐出部の開口面積よりも大きいことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板端縁洗浄装置において、
前記固定部材内に溶剤パイプとガスパイプとが設けられ、前記複数の溶剤ノズルは前記溶剤パイプに、前記複数のガスノズルは前記ガスパイプに、それぞれ接続されていることを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板端縁洗浄装置において、
前記基板は角型基板であり、
前記溶剤ノズルとガスノズルとが固定された固定部材、及び、該固定部材を前記直線状の端縁に対して該直線状の端縁に沿った方向に相対的に移動させる移動手段を前記角型基板の各辺に対応させて設けたことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の基板端縁洗浄装置において、
前記排気管に対し、前記基板の端縁よりも基板中心側に至る所定長さの部分を設けるとともに、
前記溶剤ノズルの吐出部と前記ガスノズルの吐出部とを、前記排気管の前記所定長さの部分と前記基板との間に位置させたことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項５】
表面に薄膜が形成され、直線状の端縁を有する基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルとを備えた基板端縁洗浄装置において、
前記溶剤を前記基板の表面にスポット状に吹き付ける溶剤ノズルを複数設けるとともに、
前記ガスを前記基板の表面にスポット状に吹き付けるガスノズルを前記溶剤ノズルの数よりも多数設け、
前記複数の溶剤ノズルを、基板の前記直線状の端縁に沿った長さが当該端縁の長さよりも短い固定部材に対して、前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定するとともに、前記多数のガスノズルを、前記複数の溶剤ノズルよりも基板の中心側の前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定し、
前記固定部材を前記直線状の端縁に対して該直線状の端縁に沿った方向に移動させる移動手段を設け、
前記多数のガスノズルの配列範囲が、前記複数の溶剤ノズルの配列範囲よりも大きいことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板端縁洗浄装置において、
前記溶剤ノズルは、隣合う前記ガスノズルの間に対応する位置に設けられていることを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項７】
表面に薄膜が形成され、直線状の端縁を有する基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルとを備えた基板端縁洗浄装置において、
前記溶剤を前記基板の表面にスポット状に吹き付ける溶剤ノズルを複数設けるとともに、
前記ガスを前記基板の表面にスポット状に吹き付けるガスノズルを複数設け、
前記複数の溶剤ノズルが前記直線状の端縁に沿った方向に固定されるとともに、前記複数のガスノズルが前記複数の溶剤ノズルよりも基板の中心側の前記端縁に沿った方向に固定され、且つ、前記溶剤ノズルと前記ガスノズルとは千鳥状に配置されている固定部材を設け、
前記複数のガスノズルの配列範囲が、前記複数の溶剤ノズルの配列範囲よりも大きいことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト塗布液や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルター用の染色剤といった薄膜が表面に形成された液晶用のガラス基板やフォトマスク用のガラス基板、半導体ウエハなどの基板に対し、その薄膜形成後の基板の端縁に溶剤を吐出して、基板の端縁に付着した不要薄膜を溶解除去するために、表面に薄膜が形成された基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルとを備えた基板端縁洗浄装置および基板端縁洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
上述のような基板端縁洗浄装置としては、従来、特公平３−７８７７７号公報に開示されているものがあった。この従来例によれば、表面に薄膜が形成された基板の周縁部の上面と下面に対向して第１の管と第２の管が設けられるとともに、第１および第２の管の間の間隙部でかつ基板端部の延長上に第３の管が設けられ、第１および第２の管から基板の周縁部の上面と下面に溶剤を供給するとともに、それらの溶剤ならびに溶解除去された不要薄膜を第３の管から吸引排出できるように構成されている。
【０００３】
ところが、上述従来例の場合、第１および第２の管の開口端と第３の管の開口端とが近接しているものの、排気時にその吸引力を十分作用させることができず、また、第３の管内において、気流の乱れを生じ、第１および第２の管から吐出された溶剤をすぐに排出しにくく、基板の端縁に近い位置で不測に残り、その残った溶剤が基板の端部に付着してフォトレジストの塗布面に侵入し、基板に塗布された膜厚の均一性を低下する欠点があった。
【０００４】
このような欠点を解消するため、本願出願人は、先に、表面に薄膜が形成された基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された基板の端縁の表裏両面に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルとを備え、溶剤ノズルとガスノズルとを一体化した状態で基板端縁と相対的に移動させ、基板の端縁を洗浄するように構成した基板端縁洗浄装置を提案した（特願平３−３５７１３１号参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述提案の基板端縁洗浄装置では、先端側をナイフ状に絞ったガスノズルからガスを帯状に吹き出すように構成しており、吹き出された空気が基板表面に当たるに伴い、圧力が低下して大きく拡がってしまい、基板表面の所望の箇所に所望の圧力でガスを当てにくく、また、ガスの圧力によって、基板表面に塗布された薄膜の膜厚の均一性を乱してしまう欠点があった。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板表面の所望の位置において溶解物を正確に吹き飛ばすことができるとともに、基板表面に塗布された薄膜の膜厚の均一性を乱すこと無く端縁を洗浄できる基板端縁洗浄装置および基板端縁洗浄方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明の基板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、表面に薄膜が形成され、直線状の端縁を有する基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルと、溶剤および溶解物を吸引する排気管とを備えた基板端縁洗浄装置において、前記ガスを前記基板の表面にスポット状に吹き付けるガスノズルを複数設けるとともに、前記溶剤を前記基板の表面にスポット状に吹き付ける溶剤ノズルを複数設け、前記複数の溶剤ノズルを、基板の前記直線状の端縁に沿った長さが当該端縁の長さよりも短い固定部材に対して、前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定するとともに、前記複数のガスノズルを、前記複数の溶剤ノズルよりも基板の中心側の前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定し、前記固定部材を前記直線状の端縁に対して該直線状の端縁に沿った方向に移動させる移動手段を設け、前記溶剤ノズルの溶剤吐出部とガスノズルのガス吐出部とは前記直線状の端縁に対して直交する直線上に並んだ状態で固定部材に設けられているとともに、前記ガス吐出部の開口面積は前記溶剤吐出部の開口面積よりも大きいことを特徴とする。
【０００８】
前記固定部材内に溶剤パイプとガスパイプとが設けられ、前記複数の溶剤ノズルは前記溶剤パイプに、前記複数のガスノズルは前記ガスパイプに、それぞれ接続するようにしてもよい。
【００１０】
前記基板は角型基板であり、前記溶剤ノズルとガスノズルとが固定された固定部材、及び、該固定部材を前記直線状の端縁に対して該直線状の端縁に沿った方向に相対的に移動させる移動手段を前記角型基板の各辺に対応させて設けるようにしてもよい。
【００１１】
前記排気管に対し、前記基板の端縁よりも基板中心側に至る所定長さの部分を設けるとともに、前記溶剤ノズルの吐出部と前記ガスノズルの吐出部とを、前記排気管の前記所定長さの部分と前記基板との間に位置させるようにしてもよい。
【００１２】
請求項５に係る発明の基板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、表面に薄膜が形成され、直線状の端縁を有する基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルとを備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤を前記基板の表面にスポット状に吹き付ける溶剤ノズルを複数設けるとともに、前記ガスを前記基板の表面にスポット状に吹き付けるガスノズルを前記溶剤ノズルの数よりも多数設け、前記複数の溶剤ノズルを、基板の前記直線状の端縁に沿った長さが当該端縁の長さよりも短い固定部材に対して、前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定するとともに、前記多数のガスノズルを、前記複数の溶剤ノズルよりも基板の中心側の前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定し、前記固定部材を前記直線状の端縁に対して該直線状の端縁に沿った方向に移動させる移動手段を設け、前記多数のガスノズルの配列範囲が、前記複数の溶剤ノズルの配列範囲よりも大きいことを特徴とする。
【００１３】
前記溶剤ノズルは、隣合う前記ガスノズルの間に対応する位置に設けてもよい。
【００１４】
請求項７に係る発明の基板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、表面に薄膜が形成され、直線状の端縁を有する基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルとを備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤を前記基板の表面にスポット状に吹き付ける溶剤ノズルを複数設けるとともに、前記ガスを前記基板の表面にスポット状に吹き付けるガスノズルを複数設け、前記複数の溶剤ノズルが前記直線状の端縁に沿った方向に固定されるとともに、前記複数のガスノズルが前記複数の溶剤ノズルよりも基板の中心側の前記端縁に沿った方向に固定され、且つ、前記溶剤ノズルと前記ガスノズルとは千鳥状に配置されている固定部材を設け、前記複数のガスノズルの配列範囲が、前記複数の溶剤ノズルの配列範囲よりも大きいことを特徴とする。
【００１６】
上記構成の本発明によれば、ガスノズルからガスを基板表面にスポット状に吹き付けるから、基板表面の所望の位置に十分な圧力でガスを吹き付けることができ、基板表面に当たるに伴っての圧力低下が少なく、基板表面でのガスの拡がりを少なくでき、基板表面の所望の位置において溶解物を正確に吹き飛ばすことができるとともに、基板表面に塗布された薄膜の膜厚の均一性を乱すこと無く基板端縁を洗浄できるようになり、また基板に対してスポット状に溶剤を出す溶剤ノズルと、基板に対してスポット状にガスを出すガスノズルとを基板端縁に沿った方向に複数設けているので、一つの溶剤ノズルからの液で薄膜を溶解する都度その溶解物をスポット状のガスで強力に除去して清浄にする、という溶解と除去よりなる洗浄プロセスを複数の溶剤ノズルの数だけ複数回繰り返して実行することができ、一回一回の洗浄で単にレジストを溶解するだけでなく溶解物の除去まで行い、しかもそれを繰り返すことで、短時間に強力に清浄に洗浄することができ、しかもそれらノズルが一つの固定部材に設けられているので、固定部材の１回の移動で実質的に複数回洗浄することができ、時間的にも洗浄効率が高く、かつそれら複数の溶剤ノズルおよび複数のガスノズルは総計すると極めて多数となるが、溶剤の吐出位置とガスの吐出位置との相対的な位置精度が高く、基板に対するそれら多数の溶剤ノズルおよびガスノズルの位置調整がきわめて容易に行なえ、また固定部材は基板の端縁の長さよりも小さくしているので、固定部材自体が小型であるだけでなく、固定部材を移動させる移動手段も小型のものですみ、装置全体の小型化にも貢献できる。
【００１７】
なお、使用する溶剤としては、フォトレジスト塗布液を溶解する場合には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエステル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類や、四塩化炭素、トリクロルエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロルエタン、モノクロルベンゼン、クロルナフタリンなどのハロゲン化炭化水素類や、テトラヒドロブラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエーテル類や、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキサイドなどを用いることができる。また、染色剤を溶解する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノール、エタノール、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトンなどを用いることができ、そして、これらの液体中に基板との濡れを良くするために界面活性剤を添加しても良い。
【００１８】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の第１実施形態に係る基板端縁洗浄装置の一部切欠全体概略側面図、図２は全体概略平面図であり、回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板１を載置して真空吸着により保持する基板保持手段２の周囲４箇所それぞれに、角型基板１の表面の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する４本の溶剤ノズル３ａ…と、溶剤および溶解した不要薄膜を角型基板１の端縁の外方に吹き飛ばす４本のガスノズル４ａ…と、角型基板１の裏面の端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する１本の溶剤ノズル３ｂと、溶剤および溶解した不要薄膜を角型基板１の端縁の外方に吹き飛ばす１本のガスノズル４ｂ…と、それらの溶剤および溶解した不要薄膜を吸引する排気管５…とが備えられて、基板端縁洗浄装置６が構成されている。
【００１９】
排気管５に、接続チューブ７とドレンタンク８とを介して真空吸引源９が接続されるとともに、図３の拡大断面図に示すように、排気管５の開口端５ａに近接させて針状の吐出部Ｓ１を有する上下の溶剤ノズル３ａ…，３ｂが取り付けられている。
【００２０】
また、溶剤ノズル３ａ…，３ｂそれぞれに近接したそれよりも角型基板１の中心側に針状の吐出部Ｓ２を有する上側のガスノズル４ａ…とピストル状のガスノズル４ｂとが取り付けられ、図４の平面図に示すように、角型基板１の表面側でその端縁に溶剤ノズル３ａ…からスポット状に溶剤を供給するとともに、ガスノズル４ａ…からもスポット状にガスを供給し、溶剤ならびに溶剤によって溶解された溶解物をガスによって角型基板１の端縁の外方に吹き飛ばすように構成されている。
【００２１】
前記ガスノズル４ａ…の針状の吐出部Ｓ２の開口面積は、溶剤ノズル３ａ…の針状の吐出部Ｓ１の開口面積の約２倍程度であり、そして、溶剤ノズル３ａ…とガスノズル４ａ…とが角型基板１の端縁に直交する方向の同一直線上に位置するように並設されている。
【００２２】
前記溶剤ノズル３ａ…，３ｂ、ガスノズル４ａ…，４ｂおよび排気管５がノズルブロック１０に一体的に取り付けられ、そのノズルブロック１０を取り付けた支持アーム１１が、固定フレーム１２に付設した上下一対のガイド１３，１３を介して、角型基板１の端縁に沿って移動可能に設けられている。
【００２３】
基板保持手段２に保持された角型基板１のひとつの角部に対応する箇所に、正逆転可能な駆動機構としての電動モータ１４を設けたモータブラケット１５が立設されるとともに、電動モータ１４の駆動軸に駆動プーリー１６が連動連結されている。
【００２４】
基板保持手段２に保持された角型基板１のひとつの角部に対応する箇所に１個の遊転プーリー１７が、そして、他の３箇所の角部に対応する箇所に２個づつの遊転プーリー１７，１７がそれぞれ設けられ、駆動プーリー１６と遊転プーリー１７…とにわたって一対のワイヤー１８，１８が巻回され、そのワイヤー１８，１８の所定の四箇所それぞれに支持アーム１１が連結され、電動モータ１４の正逆転により、四個のノズルブロック１０…それぞれを角型基板１の各辺に沿わせて往復移動し、角型基板１の端縁を洗浄できるように構成されている。
【００２５】
以上の構成により、角型基板１の端縁を洗浄するときには、先ず、ガスノズル４ａ…，４ｂからのガスの吐出と排気管５からの排気とを開始してからノズルブロック１０…の移動を開始し、ノズルブロック１０が角型基板１の端部にきたことをセンサ（図示せず）で検出するに伴って溶剤ノズル３ａ…，３ｂから溶剤を供給する。しかる後、ノズルブロック１０を設定回数往復移動させて、溶剤およびガスの供給により角型基板１の端縁に対する洗浄を行い、その洗浄処理が終了して、ノズルブロック１０が角型基板１の端部から外れたことをセンサ（図示せず）で検出するに伴って溶剤ノズル３ａ…，３ｂからの溶剤の供給を停止し、そして、ノズルブロック１０が原点位置に復帰したときにガスノズル４ａ…，４ｂからのガスの吐出と排気管５からの排気とを停止し、角型基板１の四辺の端縁に対する洗浄処理を一挙に行うことができるようになっている。
【００２６】
図５の（ａ）は、本発明に係る基板端縁洗浄装置の第２実施形態を示す要部の側面図であり、第１実施形態と異なるところは次の通りである。すなわち、排気管５の開口端５ａに近い所定長さの部分が、角型基板１の面に平行で、かつ、基板面に直交する方向での長さが等しくなるように構成されている。他の構成は第１実施形態と同じであり、同一図番を付すことにより、その説明は省略する。
【００２７】
図５の（ｂ）は、本発明に係る基板端縁洗浄装置の第３実施形態を示す要部の側面図であり、第２実施形態と異なるところは次の通りである。排気管５の開口端５ａに近い箇所に、角型基板１の表面側にのみ溶剤を吐出する溶剤ノズル３ａ…が差し込まれ、角型基板１の表面の端縁に溶剤を吐出して洗浄処理できるように構成されている。他の構成は第２実施形態と同じであり、同一図番を付すことにより、その説明は省略する。
【００２８】
図５の（ｃ）は、本発明に係る基板端縁洗浄装置の第４実施形態を示す要部の側面図であり、第３実施形態と異なるところは次の通りである。排気管５の開口端５ａに近い箇所に、溶剤ノズル３ａ…よりも開口端側に位置させてガスノズル４ａ…が設けられている。他の構成は第３実施形態と同じであり、同一図番を付すことにより、その説明は省略する。
【００２９】
図６の（ａ）は、本発明に係る基板端縁洗浄装置の第５実施形態を示す要部の平面図であり、第１実施形態と異なるところは次の通りである。角型基板１の表面に溶剤を供給する溶剤ノズル３ａ…が四本であるのに対して、ガスを供給するガスノズル４ａ…が倍の八本設けられている。また、ガスノズル４ａ…の針状の吐出部Ｓ２の開口面積が、溶剤ノズル３ａ…の針状の吐出部Ｓ１の開口面積と等しい小径に構成されている。他の構成は第１実施形態と同じであり、同一図番を付すことにより、その説明は省略する。
【００３０】
図６の（ｂ）は、本発明に係る基板端縁洗浄装置の第６実施形態を示す要部の平面図であり、第１実施形態と異なるところは次の通りである。角型基板１の表面に溶剤を供給する溶剤ノズル３ａ…が四本であるのに対して、ガスを供給するガスノズル４ａ…が五本設けられ、そして、隣合うガスノズル４ａ，４ａ…間それぞれに対応する位置に溶剤ノズル３ａ…が設けられている。また、ガスノズル４ａ…の針状の吐出部Ｓ２の開口面積が、溶剤ノズル３ａ…の針状の吐出部Ｓ１の開口面積と等しい小径に構成されている。他の構成は第１実施形態と同じであり、同一図番を付すことにより、その説明は省略する。
【００３１】
図７は、本発明に係る基板端縁洗浄装置の第７実施形態を示す要部の側面図、図８は、図７のＡ−Ａ線矢視図、図９は要部の拡大図であり、第１実施形態と異なるところは次の通りである。ケーシング本体１９内に溶剤パイプ２０とガスパイプ２１とが水平姿勢で取り付けられている。溶剤パイプ２０には、角型基板１の表面に溶剤を供給する８本の溶剤ノズル３ａ…と溶剤供給管２２とが接続され、一方、ガスパイプ２１には、角型基板１の表面にガスを供給する８本のガスノズル４ａ…とガス供給管２３とが接続されている。
【００３２】
ノズルブロック１０に取り付けられた排気管５に前記ケーシング本体１９が着脱可能に取り付けられるとともに、排気管５に、角型基板１の裏面に溶剤を供給する８本の溶剤ノズル３ｂ…が取り付けられている。
【００３３】
また、ノズルブロック１０に中継ブロック２４が取り付けられ、その中継ブロック２４と、溶剤供給管２２、ガス供給管２３、排気管５に接続された吸気管２５、および、裏面側の溶剤ノズル３ｂ…に対する溶剤供給管２６それぞれとがチューブ２７を介して接続されている。他の構成は第１実施形態と同じであり、同一図番を付すことにより、その説明は省略する。
【００３４】
この第７実施形態の構成によれば、溶剤ノズル３ａ…とガスノズル４ａ…とがケーシング本体１９に一体的に取り付けられているため、それぞれを個別に取り付ける場合に比べ、溶剤の吐出位置とガスの吐出位置との相対的な位置精度を高くできる利点を有している。
【００３５】
上述実施形態では、基板端縁洗浄装置をフォトレジスト塗布液などによる薄膜形成のための回転塗布装置とは別に専用に構成し、スループットを向上できるように構成しているが、本発明としては、回転塗布装置内に組み込み、回転塗布装置の基板保持手段を基板端縁洗浄装置の基板保持手段２に兼用構成するものでも良い。
【００３６】
また、上記実施形態では、基板保持手段２に保持された角型基板１の四辺それぞれに対応して溶剤ノズル３ａ…，３ｂとガスノズル４ａ…，４ｂと排気管５とを設けているが、本発明としては、一辺あるいは二辺にのみ対応させて設け、角型基板１を保持して回転させる構成と組合わせ、角型基板１を90°あるいは 180°づつ回転させながらその端縁の洗浄を行うように構成するものでも良い。
【００３７】
また、上記実施形態では、溶剤ノズル３ａ…，３ｂとガスノズル４ａ…，４ｂとを角型基板１の表裏両面の端縁に対して洗浄するように設けているが、本発明としては、表裏両面のいずれか一方の端縁に対して洗浄するように設けるように構成するものでも良い。また、裏面側のガスノズル４ｂの吐出部を針状に構成しても良い。
【００３８】
また、本発明は角型基板１に限らず、円形の基板を洗浄処理する基板端縁洗浄装置にも適用できる。
【００３９】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、溶剤ノズルから吐出された溶剤によって溶解した不要薄膜ならびに溶剤を基板の端縁の外方に吹き飛ばすのに、ガスノズルからガスを基板表面にスポット状に吹き付けるから、基板表面の所望の位置に十分な圧力でガスを吹き付けることができ、基板表面に当たるに伴っての圧力低下が少なく、基板表面でのガスの拡がりを少なくでき、基板表面の所望の位置において溶解物を正確に吹き飛ばすことができるとともに、基板表面に塗布された薄膜の膜厚の均一性を乱すこと無く基板端縁を洗浄できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板端縁洗浄装置の一部切欠全体概略側面図である。
【図２】全体概略平面図である。
【図３】要部の拡大側面図である。
【図４】要部の平面図である。
【図５】（ａ）は、本発明の第２実施形態に係る基板端縁洗浄装置の要部の側面図、（ｂ）は、本発明の第３実施形態に係る基板端縁洗浄装置の要部の側面図、（ｃ）は、本発明の第４実施形態に係る基板端縁洗浄装置の要部の側面図である。
【図６】（ａ）は、本発明の第５実施形態に係る基板端縁洗浄装置の要部の平面図、（ｂ）は、本発明の第６実施形態に係る基板端縁洗浄装置の要部の平面図である。
【図７】本発明の第７実施形態に係る基板端縁洗浄装置の要部の側面図である。
【図８】図７のＡ−Ａ線矢視図である。
【図９】要部の拡大図である。
【符号の税明】
１・・・角型基板
２・・・基板保持手段
３ａ，３ｂ・・・溶剤ノズル
４ａ，４ｂ・・・排気管
Ｓ２・・・ガスノズルの吐出部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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