(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上方に配置された窒化ガリウム系化合物半導体からなるｎ型クラッド層と、
前記ｎ型クラッド層の上面に配置された窒化ガリウム系化合物半導体からなるｎ型発光層と、
前記ｎ型発光層の上面に配置された窒化ガリウム系化合物半導体からなるｉ型発光層と、
前記ｉ型発光層の上面に配置された窒化ガリウム系化合物半導体からなるp型発光層と、
前記ｐ型発光層の上面に配置された窒化ガリウム系化合物半導体からなるｐ型クラッド層と、
を備えた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
【請求項２】
前記ｉ型発光層は、前記ｎ型発光層およびｐ型発光層よりキャリア不純物濃度が低いことを特徴とする請求項１記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
【請求項３】
前記ｎ型発光層、前記ｉ型発光層、前記ｐ型発光層は、ＩｎＧａＮで構成され、前記ｎ型クラッド層、前記ｐ型クラッド層は、ＡｌＧａＮで構成されることを特徴とする請求項１または２記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光ダイオードやレーザダイオード等の光デバイスに利用される窒化ガリウム系化合物半導体発光素子に係り、特に発光層の改良によって発光強度を高くし得た半導体発光素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
窒化ガリウム（以下ＧａＮと称する）系化合物半導体は、可視光発光デバイスや高温動作電子デバイス用の半導体材料として多用されるようになり、青色や緑色の発光ダイオードの分野での展開が進んでいる。
【０００３】
このＧａＮ系化合物半導体の製造方法は、サファイアやＳｉＣを基板とし、この基板の表面に有機金属気相成長法によってＧａＮ系半導体薄膜を成長させるというのがその基本である。図３に従来のＧａＮ系化合物半導体発光素子の例を示す縦断面図を示す。
【０００４】
図３において、サファイアを利用した基板１上にバッファ層２が形成され、このバッファ層２の上には、下から順にｎ型クラッド層３，発光層４，ｐ型クラッド層５及びｐ型コンタクト層６が有機金属気相成長法によって積層されている。また、ｐ型コンタクト層６の上にはｐ側電極７を形成し、ｐ型クラッド層５及び発光層４の一部をエッチング除去して露出したｎ型クラッド層３の表面にはｎ側電極８が形成されている。そして、発光域となる発光層４は、たとえば特開平６−２６０２８１号公報に記載のように、ＭｇまたはＺｎ等のｐ型不純物がドープされたｎ型のＩｎＧａＮ層とすることが既に知られている。
【０００５】
また、特開平８−４６２４０号公報には、ｐ型不純物であるアクセプタ不純物とｎ型不純物であるドナー不純物をドープしてｐ型とした発光層を形成する発光素子が開示されている。この公報によれば、発光層に正孔を高い濃度で持たせることができるとともに、電子を発光層の深くまで注入できる電子の注入量を増やせるので、正孔と再結合される電子の数が増加し、これによって発光輝度を向上し得るとされている。
【０００６】
これらの公報に記載の発光素子は、ｐ型またはｎ型の伝導型という面で互いに相違する構成ではある。しかしながら、ｐ−ｎ接合ではなく金属−絶縁層−ｎ型半導体層接合のいわゆるＭＩＳ構造型の発光素子に比べると、ｐ型またはｎ型の伝導型の違いに関係なく、発光強度を大幅に改善し得たことは既に知られているとおりである。そして、このような発光強度の改善により、屋外用のフルカラーディスプレイが実用化されるようになったが、視認性を高めるためにさらなる発光強度の向上が望まれている。
【０００７】
ところで、ＧａＮ系化合物半導体を用いたものも含め、発光ダイオ−ドやレーザダイオード等に用いられる半導体発光素子は、一般的には、半導体のｐ型領域とｎ型領域とを結晶学的に接合させて形成したｐ−ｎ接合部を含む構成である。すなわち、ｐ型領域となる半導体のｐ型層と、ｎ型領域となる半導体のｎ型層とを積層させた構造とし、ｐ型層に正の極性、ｎ型層に負の極性で電圧を印加することにより、ｐ−ｎ接合を介してｐ型層の側からｎ型層の側へ正孔が注入され、ｎ型層の側からｐ型層の側へ電子が注入される。そして、ｐ−ｎ接合付近での電子と正孔の再結合により、ｐ−ｎ接合部の半導体のバンドギャップエネルギーに相当するエネルギーを持つ発光が得られるというものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
図３の例における発光層４を特開平６−２６０６８１号公報に記載のようにｎ型とすると、このｎ型の発光層４とその表面に積層されたｐ型クラッド層５とによって、ｐ−ｎ接合が形成されることになる。このため、発光に寄与する電子と正孔の再結合は、発光層４とｐ型クラッド層５との接合部付近で起きる。したがって、所望の発光波長を得るために選択された半導体材料からなる発光層４の発光効率を高くすることが困難となり、発光強度の向上には上限がある。
【０００９】
また、特開平８−４６２４０号公報のように、発光層４をｐ型伝導型とする場合では、発光層４に接して形成されているｎ型クラッド層３との間でｐ−ｎ接合が形成される。したがって、発光に寄与する電子と正孔の再結合が発光層４とｎ型クラッド層３との接合部付近で行われ、発光強度の向上には同様に上限がある。
【００１０】
このように、ＩｎＧａＮ等による発光層をｎ型またはｐ型のいずれかの伝導型とすると、ｐ型クラッド層またはｎ型クラッド層との間のｐ−ｎ接合が発光領域となってしまう。このため、電子と正孔の再結合を所望の発光波長を得るために材料選択された発光層内だけで有効に生じさせることができず、所望の発光波長において十分な発光効率が得られないという問題がある。
【００１１】
本発明において解決すべき課題は、発光強度を更に向上させることにより屋外用フルカラーディスプレイ等により一層好適に利用できるＧａＮ系化合物半導体発光素子を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、ＧａＮ系化合物半導体発光素子の発光強度の向上を図るため、発光層について鋭意検討を行った。その結果、従来の技術に示したように発光層をｎ型またはｐ型のいずれかの伝導型とするのではなく、発光層にｎ型層とｐ型層とを含む構成とすることによって、発光強度の大幅な改善が得られることを見出した。
【００１３】
すなわち、本発明は、基板の上に、窒化ガリウム系化合物半導体からなるｎ型クラッド層と発光層とｐ型クラッド層とをこの順に積層または逆の順に積層する窒化ガリウム系化合物半導体発光素子であって、前記発光層を、前記ｎ型クラッド層の側に設けたｎ型層と前記ｐ型クラッド層の側に設けたｐ型層との積層体としてなることを特徴とする。このような構成においては、ｐ−ｎ接合を発光層の中に形成できるので、発光効率の高い発光素子が得られる。
【００１４】
また、発光層は、前記ｎ型クラッド層に接するｎ型層と、前記ｐ型クラッド層に接するｐ型層と、これらのｎ型層とｐ型層との間に形成したｉ型層との積層体としてもよく、同様にｐ−ｎ接合を発光層の中に形成できるので、発光効率を高めることができる。
【００１５】
なお、レーザダイオードの場合では、発光層とｎ型及びｐ型のクラッド層との間には、発光層からの光をその近傍に閉じ込めて導波するとともに発光層へのキャリアの閉じ込みを助けるために光ガイド層が一般に形成される。この光ガイド層は、キャリアを発光層の中に閉じ込めるという点ではクラッド層と同様の作用を持つ。したがって、本発明は、ｐ型及びｎ型のクラッド層はその単層とするかまたはこのような光ガイド層も備えた構成のいずれでもよいことを要件として含む。
【００１６】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、基板の上に、窒化ガリウム系化合物半導体からなるｎ型クラッド層と発光層とｐ型クラッド層とをこの順に積層または逆の順に積層する窒化ガリウム系化合物半導体発光素子であって、前記発光層を、前記ｎ型クラッド層の側に設けたｎ型層と前記ｐ型クラッド層の側に設けたｐ型層との積層体としてなるものであり、ｐ−ｎ接合を発光層の中に形成できるので、発光層の中への電子と正孔の注入が促され、発光層での電子と正孔の再結合もより一層効率的に実現されるという作用を有する。
【００１７】
請求項２に記載の発明は、基板の上に、窒化ガリウム系化合物半導体からなるｎ型クラッド層と発光層とｐ型クラッド層とをこの順にまたは逆の順に積層する窒化ガリウム系化合物半導体発光素子であって、前記発光層を、前記ｎ型クラッド層の側に設けたｎ型層と、前記ｐ型クラッド層の側に設けたｐ型層と、これらのｎ型層とｐ型層との間に形成したｉ型層との積層体としてなるものであり、ｐ−ｎ接合を発光層の中に形成できるので、発光層の中への電子と正孔の注入が促され、発光層での電子と正孔の再結合もより一層効率的に実現されるという作用を有する。
【００１８】
以下に、本発明の実施の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
図１は本発明の一実施の形態に係るＧａＮ系化合物半導体発光素子の構造を示す縦断面図である。なお、サファイアを利用した基板上に成膜するＧａＮ化合物半導体の層は、発光層を除いて図３の従来の技術のものと同様であり、同じ部材については共通の符号で指示し、その詳細な説明は省略する。
【００１９】
図１において、サファイアからなる基板１の上には、バッファ層２，ｎ型クラッド層３，発光層４，ｐ型クラッド層５及びｐ型コンタクト層６が積層されている。そして、ｐ型コンタクト層６の上にはｐ側電極７を形成し、ｐ型クラッド層５及び活性層４の一部をエッチング除去して露出したｎ型層３の表面にはｎ側電極８が形成されている。なお、ｎ側電極８の材料としては、アルミニウム（Ａｌ）やチタン（Ｔｉ）等の金属を用いることができ、ｐ側及びｎ側の電極７，８のそれぞれはいずれも金属の蒸着法によって得られる。発光層４はｎ型クラッド層３及びｐ型クラッド層５よりもバンドギャップエネルギーの小さいＩｎＧａＮやＩｎＧａＡｌＮ等のＧａＮ系化合物半導体であることが好ましい。特に、所望の発光波長が得られるようなバンドギャップエネルギーを有するように、インジウムの組成比を適宜調整したＩｎＧａＮとすることが望ましい。
【００２０】
本発明においては、発光層４は、ｎ型クラッド層３に接触する側をｎ型層４１とし、このｎ型層４１の上に積層されるとともにその上面をｐ型クラッド層５に接触させたｐ型層４２との二重の積層体として形成されたものである。
【００２１】
ｎ型層４１は、先に述べたＩｎＧａＮやＩｎＧａＡｌＮ等のＧａＮ系化合物半導体の気相成長過程において、ＳｉやＧｅ等のｎ型不純物をドープするか、あるいはｎ型不純物をドープせず、アンドープとしてｎ型伝導型としたものである。なお、ＧａＮ系化合物半導体は、ＳｉやＧｅ等のｎ型不純物をドープしなくてもｎ型の伝導型とすることができ、ｎ型不純物を積極的にドープすることで発光層４への電子の注入効率の向上を図ることも可能である。
【００２２】
ｐ型層４２は、同様にＩｎＧａＮやＩｎＧａＡｌＮ等のＧａＮ系化合物半導体の気相成長過程において、Ｍｇをドープさせてｐ型伝導型としたものである。ｐ型ドーパントとしては、Ｍｇの他にもＺｎやＣｄ，Ｂｅ，Ｃａ，Ｃ等の不純物が利用できる。この場合、発光層４の中で深い準位を形成しにくいＭｇを用いると、発光層４のバンド間遷移を利用した発光が得やすくなり、発光効率を高くすることができるので、発光輝度の向上の面からはＭｇをドーパントとすることが好ましい。
【００２３】
また、発光層４の下側に位置してその表面にｎ型層４１を積層するｎ型クラッド層３は、発光層４よりも大きいバンドギャップエネルギーを持つＧａＮ系化合物半導体であればよい。たとえば、ＧａＮやＩｎＧａＮ，ＩｎＧａＡｌＮ等が用いられる。
【００２４】
発光層４の上側に位置してｐ型層４２の表面に積層されるｐ型クラッド層５も、同様に発光層よりも大きいバンドギャップエネルギーを持つＧａＮ系化合物半導体であればよい。たとえば、ＧａＮやＩｎＧａＮ，ＡｌＧａＮ，ＩｎＧａＡｌＮ等を用いることができる。
【００２５】
このように、発光層４をｎ型層４１とｐ型層４２との二重の層とすることによって、発光層４自身の中にｎ型層４１とｐ型層４２とによるｐ−ｎ接合が確実に形成される。したがって、発光層４の中への電子と正孔の注入が促されるとともに、電子と正孔の再結合が発光層４の中で行われやすくなるので、発光効率が高くなり、発光強度の向上が可能となる。
【００２６】
また、発光層４をｐ型層４２とｎ型層４１の二重層とするのに加えて、発光層４のｎ型層４１はｎ型クラッド層３に接し、発光層４のｐ型層４２はｐ型クラッド層５に接触している。このような積層構造では、ｐ−ｎ接合を発光層４の中に確実に形成できるとともに、ｎ型クラッド層３から電子が効率的に発光層の中へ注入され、かつｐ型クラッド層５から正孔が効率的に発光層４の中へ注入される。したがって、発光層４の中での電子と正孔の再結合がさらに一層行われやすくなり、発光効率もより一層高められる。
【００２７】
図２は請求項２の発明のＧａＮ系化合物半導体発光素子の縦断面図である。なお、図１の例と同じ部材については共通の符号で指示し、詳細な説明は省略する。
【００２８】
この例では、発光層４はｎ型層４１とｐ型層４２とに加えてこれらの層４１，４２の間にｉ型層４３を形成した３層構造であり、この点だけが図１の構成と相違する。
【００２９】
本発明において、ｉ型層４３とは、抵抗率が高くてキャリア濃度が非常に低いｐ型層あるいはｎ型層のいずれかの層のことである。すなわち、ｉ型層４３は、ＳｉやＧｅ等のｎ型不純物とＭｇ等のｐ型不純物とを同時にドープさせて、あるいはｎ型不純物をドープせずにＭｇ等のｐ型不純物を少量ドープさせてキャリアの補償を生じさせ、キャリア濃度を非常に低くした層として用いることができる。ｎ型不純物とｐ型不純物の同時ドープは、発光層４の結晶成長中に、ｎ型不純物及びｐ型不純物の原料ガスを同時に流して供給することで可能である。また、これに代えて、ｎ型不純物をドープするかあるいはｎ型不純物をドープせずにアンドープとしてｎ型層４１を形成した後、ｐ型不純物をドープしたｐ型層４２やｐ型クラッド層５を形成する際に、これらｐ型の層からのｐ型不純物の拡散によりｎ型層の一部にｐ型不純物をドープさせて、ｎ型不純物とｐ型不純物をドープ、あるいはｐ型不純物のみを低濃度にドープさせた領域を層状に形成してこの層をｉ型層とすることもできる。
【００３０】
このように、発光層４をｎ型層４１とｉ型層４３とｐ型層４２との３層構造とすると、キャリア濃度の非常に低いｉ型層４３を挟んでｎ型層４１とｐ型層４２が形成されるので、発光層４の中にｐ−ｎ接合が確実に形成される。このため、電子と正孔の再結合が発光層４の中で促され発光強度を高めることができる。
【００３１】
なお、図１及び図２の例では、基板１の上にバッファ層２を介してｎ型クラッド層３と発光層４とｐ型クラッド層５との順に積層した場合を示したが、ｎ型クラッド層３とｐ型クラッド層５とを入れ換えた構成とすることもできる。すなわち、基板１側からｐ型クラッド層５と発光層４とｎ型クラッド層３とを順に積層し、発光層４はそのｐ型層４２をｐ型クラッド層５の側に及びｎ型層４１をｎ型層３の側にそれぞれ設ける関係としてもよい。また、図２の例におけるｉ型層４３を含むものについても同様の構成とすればよい。
【００３２】
【実施例】
以下、本発明の半導体発光素子をその具体的な製造方法に基づいて説明する。本実施例は、有機金属気相成長法を用いたＧａＮ系化合物半導体の成長方法を示すものであり、実施例１は図１に示した構成のものであり、実施例２は図２に示した構成のものに対応する。
【００３３】
（実施例１）
まず、表面を鏡面に仕上げられたサファイアの基板１を反応管内の基板ホルダーに載置した後、基板１の表面温度を１１００℃に１０分間保ち、水素ガスを流しながら基板１を加熱することにより、基板１の表面に付着している有機物等の汚れや水分を取り除くためのクリーニングを行う。
【００３４】
次に、基板１の表面温度を６００℃にまで降下させ、主キャリアガスとしての窒素ガスを１０リットル／分、アンモニアを５リットル／分、トリメチルアルミニウム（以下、「ＴＭＡ」と記す）を含むＴＭＡ用のキャリアガスを２０ｃｃ／分で流しながら、ＡｌＮからなるバッファ層２を２５ｎｍの厚さで成長させる。
【００３５】
次に、ＴＭＡのキャリアガスのみを止めて１０５０℃まで昇温させた後、主キャリアガスとして、窒素ガスを９リットル／分、水素ガスを０．９５リットル／分で流しながら、新たにトリメチルガリウム（以下、「ＴＭＧ」と記す）用のキャリアガスを４ｃｃ／分、Ｓｉ源である１０ｐｐｍのＳｉＨ4（モノシラン）ガスを１０ｃｃ／分で流しながら６０分間成長させて、ＳｉをドープしたＧａＮからなるｎ型クラッド層３を２μｍの厚さで成長させる。
【００３６】
ｎ型クラッド層３を成長形成した後、ＴＭＧ用のキャリアガスとＳｉＨ4ガスを止め、基板１の表面温度を７５０℃まで降下させ、新たに主キャリアガスとして窒素ガスを１０リットル／分、ＴＭＧ用のキャリアガスを２ｃｃ／分、トリメチルインジウム（以下、「ＴＭＩ」と記す）用のキャリアガスを２００ｃｃ／分で流しながら６０秒間成長させて、ＩｎＧａＮからなるアンドープでｎ型の発光層４を６ｎｍの厚さで成長させる。
【００３７】
発光層４を成膜後、ＴＭＩ用のキャリアガスとＴＭＧ用のキャリアガスを止め、基板１の表面温度を１０５０℃まで上昇させ、新たに主キャリアガスとして窒素ガスを９リットル／分、水素ガスを０．９０リットル／分、ＴＭＧ用のキャリアガスを４ｃｃ／分、ＴＭＡ用のキャリアガスを６ｃｃ／分、Ｍｇ源であるビスシクロペンタジエニルマグネシウム（以下、「Ｃｐ2Ｍｇ」と記す）用のキャリアガスを６０ｃｃ／分で流しながら４分間成長させて、ＭｇをドープしたＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層５を０．１μｍの厚さで成長させる。
【００３８】
ｐ型クラッド層５を成長形成した後、ＴＭＡ用のキャリアガスと、ＴＭＧ用のキャリアガスと、Ｃｐ2Ｍｇ用のキャリアガスとを止め、基板１の温度を１０５０℃に８分間保持して、ｐ型クラッド層５にドープされたＭｇを発光層４に拡散させ、発光層４のｐ型クラッド層５に接する側を約３ｎｍの厚さでｐ型層４２とし、発光層４のｎ型クラッド層３に接する側を約３ｎｍの厚さでｎ型層４１とする。このようにして、発光層４をｎ型層４１とｐ型４２との積層体として形成する。
【００３９】
引き続き、１０５０℃にて、新たに主キャリアガスとして窒素ガスを９リットル／分、水素ガスを０．９０リットル／分と、ＴＭＧ用のキャリアガスを４ｃｃ／分、Ｃｐ2Ｍｇ用のキャリアガス１００ｃｃ／分で流しながら３分間成長させ、ＭｇをドープしたＧａＮからなるｐ型コンタクト層６を０．１μｍの厚さで成長させる。
【００４０】
成長後、原料ガスであるＴＭＧ用のキャリアガスとＣｐ2Ｍｇ用のキャリアガスとアンモニアを止め、窒素ガスと水素ガスをそのままの流量で流しながら室温まで冷却した後、ウェハーを反応管から取り出す。
【００４１】
このようにして形成したｐ−ｎ接合を含むＧａＮ系化合物半導体からなる積層構造に対して、その表面上にＣＶＤ法によりＳｉＯ2膜を堆積させた後、フォトリソグラフィーにより所定の形状にパターンニングしてエッチング用のマスクを形成する。そして、反応性イオンエッチング法により、ｐ型コンタクト層６とｐ型クラッド層５と活性層４の一部を約０．２５μｍの深さで除去して、ｎ型層３の表面上を露出させ、このｎ型層３の露出表面の上にＡｌからなるｎ側電極８を蒸着形成する。さらに、同様にしてｐ型コンタクト層６の表面上にＮｉとＡｕからなるｐ側電極７を形成する。
【００４２】
この後、サファイアの基板１の裏面を研磨して１００μｍ程度にまで薄くし、スクライブによりチップ状に分離する。このようにして、図１に示すような発光素子が得られる。
【００４３】
以上の製造方法によって得られたＧａＮ系化合物半導体発光素子をその電極形成面側を上向きにしてステムに接着した後、チップのｎ側電極８とｐ側電極７をそれぞれステム上の電極にワイヤで結線し、その後樹脂モールドして発光ダイオードを作製した。そして、この発光ダイオードを２０ｍＡの順方向電流で駆動したところ、波長４５５ｎｍの青色に発光し、スペクトル半値幅は１８ｎｍであり、発光出力は１０５０μＷであった。
【００４４】
（実施例２）
実施例１と同様にして、基板１の上にバッファ層２とｎ型クラッド層３とを形成した後、７５０℃にて新たに主キャリアガスとして窒素ガスを１０リットル／分、ＴＭＧ用のキャリアガスを２ｃｃ／分、ＴＭＩ用のキャリアガスを２００ｃｃ／分で流し、同時にＳｉＨ4ガスを１０ｃｃ／分から０．１ｃｃ／分までリニアに減少させながら流しながら７０秒間成長させて、ＩｎＧａＮからなる発光層４の一部を７０ｎｍの厚さで成長させる。引き続き、ＳｉＨ4ガスを止めＴＭＧ用のキャリアガスとＴＭＩ用のキャリアガスをそのままの流量で流しながら１３０秒間成長させて、発光層４の残りを１３０ｎｍの厚さで成長させる。
【００４５】
この後、ＴＭＩ用のキャリアガスとＴＭＧ用のキャリアガスを止め、基板１の表面温度を１０５０℃まで上昇させ、新たに主キャリアガスとして窒素ガスを９リットル／分、水素ガスを０．９０リットル／分、ＴＭＧ用のキャリアガスを４ｃｃ／分、ＴＭＡ用のキャリアガスを６ｃｃ／分、Ｃｐ2Ｍｇ用のキャリアガスを６０ｃｃ／分で流しながら４分間成長させて、ＭｇをドープしたＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層５を０．１μｍの厚さで成長させる。
【００４６】
ｐ型クラッド層５を成長形成した後、ＴＭＡ用のキャリアガスと、ＴＭＧ用のキャリアガスとＣｐ2Ｍｇ用のキャリアガスとを止め、基板１の温度を１０５０℃に１５分間保持して、ｐ型クラッド層５にドープされたＭｇを発光層４に拡散させ、発光層４のｐ型クラッド層５に接する側を約７ｎｍの厚さでｐ型層４２とし、発光層４のｎ型クラッド層３に接する側を約７ｎｍの厚さでｎ型層４１とし、ｎ型層４１とｐ型層４２の間の層状の領域を約６ｎｍの厚さでｉ型層４３とする。このようにして、発光層４をｎ型層４１とｉ型層４３とｐ型層４２との積層体として形成する。
【００４７】
この後、実施例１と同様にして電極形成及びチップ分離等を行い、図２に示すような発光素子が得られる。さらに、実施例１と同様にして、発光ダイオードを作製し、２０ｍＡの順方向電流で駆動したところ、波長４４５ｎｍの青色に発光し、スペクトル半値幅は１７ｎｍであり、発光出力は１１５０μＷであった。
【００４８】
【発明の効果】
請求項１及び２の発明では、ＧａＮ系半導体化合物の発光層の中に、ｎ型層とｐ型層との積層体またはｉ型層を含めた積層体を形成するので、発光層の中への電子及び正孔の注入をより一層効率的に促すことができ、発光強度が大幅に改善された青色発光の発光素子が得られる。したがって、屋外設備用のフルカラーディスプレイ等ににも支障なく使用することができ、その用途範囲の拡大が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係るＧａＮ系化合物半導体発光素子の構造を示す縦断面図
【図２】発光層をｎ型層とｉ型層とｐ型層の３層構造とした例のＧａＮ系化合物半導体発光素子の構造を示す縦断面図
【図３】従来のＧａＮ系化合物半導体発光素子の例を示す縦断面図
【符号の説明】
１  基板
２  バッファ層
３  ｎ型クラッド層
４  発光層
５  ｐ型クラッド層
６  ｐ型コンタクト層
７  ｐ側電極
８  ｎ側電極
４１  ｎ型層
４２  ｐ型層
４３  ｉ型層
【図１】
0003684841.tif 000002
【図２】
0003684841.tif 000003
【図３】
0003684841.tif 000004