(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する光重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びセルロース誘導体を含有する感光性組成物において、前記セルロース誘導体がヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート及びヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするサンドブラスト用感光性組成物。
【請求項２】
セルロース誘導体がヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート及びヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１記載のサンドブラスト用感光性組成物。
【請求項３】
可撓性フィルム上に請求項１記載のサンドブラスト用感光性組成物層が設けられ、さらにその上に離型フィルムが積層したことを特徴とするサンドブラスト用感光性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なサンドブラスト用感光性組成物、さらに詳しくは弾性、柔軟性が高く、アルカリ現像性に優れ、基板への密着性に優れているとともに、感度及び耐サンドブラスト性にも優れたサンドブラスト用感光性組成物及び該サンドブラスト用感光性組成物層を有するサンドブラスト用感光性フィルムに関する。
【０００２】
【従来技術】
従来、ガラス、石材、プラスチック、セラミックス、皮革、木質材等の基板の表面に図柄を形成する加工方法の１つとしてサンドブラスト加工法が知られている。前記加工法にあっては基板の表面に、ゴム板、紙等を貼り付け、カッター等で切り抜き、パターニングしたのち研磨材等を吹き付けて選択的に研磨するサンドブラストする方法や基板の表面にサンドブラスト用感光性組成物層を設け、ホトリソグラフィーによりマスクパターンを形成させたのち、研磨材等を吹き付けて選択的に研磨するサンドブラスト方法等が用いられている。ところが、前記ゴム板、紙等を貼り付け、カッター等で切り抜き、パターニングしたのち研磨材等を吹き付けて選択的に研磨するサンドブラスト方法は、作業が煩雑で作業能率が上がらない欠点がある。これに対し、基板の表面にサンドブラスト用感光性樹脂組成物層を設け、ホトリソグラフィーによりマスクパターンを形成するサンドブラスト方法は、作業効率が高い上に微細加工ができ、例えば金属パターンと絶縁パターンが混在する回路基板、特にプラズマディスプレイの金属配線パターンやセラミック、蛍光体等の絶縁パターンの形成に有効である。前記サンドブラスト方法の感光性組成物として、例えば末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーと単官能エチレン不飽和化合物及び重合開始剤を含有する、スクリーン印刷可能なサンドブラスト用感光性樹脂組成物（特開昭６０ー１０２４２号公報）、不飽和ポリエステル、不飽和モノマー及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物（特開昭５５−１０３５５４号公報）、ポリビニルアルコールとジアゾ樹脂からなる感光性樹脂組成物（特開平２−６９７５４号公報）などが提案されている。しかしながら、前記感光性樹脂組成物は液状で取扱が難しい上に膜厚制御が困難であるなどの欠点があった。こうした欠点のないサンドブラスト用感光性組成物として、出願人は既に末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーを主成分とし、これにセルロース誘導体及び重合開始剤を含有するサンドブラスト用感光性組成物を提案した（特開平６−１６１０９８号公報）。該サンドブラスト用感光性組成物は、弾性、柔軟性が高く、アルカリ現像性に優れている上に、感度、基板との密着性及び耐サンドブラスト性において従来のサンドブラスト用感光性組成物より優れているが未だ十分な感度、基板との密着性及び耐サンドブラスト性を有せず、より優れた特性を有するサンドブラスト用感光性組成物の出現が望まれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
こうした現状に鑑み、本発明者等が研究を続けた結果、上記特開平６−１６１０９８号公報記載のサンドブラスト用感光性樹脂組成物は取扱が容易である上に、感度、基板との密着性及び耐サンドブラスト性においても従来のサンドブラスト用感光性樹脂組成物に比べて優れているところから、このサンドブラスト用感光性樹脂組成物を改質するのがよいとの考えに達し、この考えに基づいてさらに研究を重ねた結果、セルロース誘導体を特定のセルロース化合物とすることで、感度、基板との密着性及び耐サンドブラスト性が一段と向上することを見出して本発明を完成したものである。
【０００４】
すなわち、本発明は、弾性、柔軟性が高く、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、基板との密着性及び耐サンドブラスト性に優れたサンドブラスト用感光性組成物を提供することを目的とする。
【０００５】
また、本発明は、上記サンドブラスト用感光性組成物を積層してなるサンドブラスト用感光性フィルムを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明は、少なくとも２個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する光重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びセルロース誘導体を含有する感光性組成物において、前記セルロース誘導体がヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート及びヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするサンドブラスト用感光性組成物及びサンドブラスト用感光性フィルムに係る。
【０００７】
上記少なくとも２個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する光重合可能なウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、ジオール化合物とジイソシアネート化合物とが反応した末端イソシアネート基（−ＮＣＯ基）を有する化合物と、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化合物との反応生成物（以下ウレタン（メタ）アクリレート化合物という）をいう。中でもウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、分子内にウレタン結合を４個有するウレタン（メタ）アクリレート化合物が好ましい。ウレタン結合が４個未満の場合には、耐サンドブラスト性が極度に低下して好ましくない。前記ウレタン（メタ）アクリレート化合物を形成するジオール化合物としては、末端に水酸基を有するポリエステル類、ポリエーテル類等が挙げられるが、ポリエステル類としては、ラクトン類が開環重合したポリエステル類、ポリカーボネート類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のアルキレングリコールと、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸等のジカルボン酸との縮合反応で得られたポリエステル類等が挙げられる。前記ラクトン類としては、具体的にδ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、α−メチル−βプロピオラクトン、β−メチル−βプロピオラクトン、α−メチル−βプロピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラクトン、α，α−ジメチル−β−プロピオラクトン、β，β−ジメチル−β−プロピオラクトン等が挙げられる。また、ポリカーボネート類としては、具体例的にビスフェノールＡ、ヒドロキノン、ジヒドロキシシクロヘキサン等のジオールと、ジフェニルカーボネート、ホスゲン、無水コハク酸等のカルボニル化合物との反応生成物が挙げられる。ポリエーテル類としては、具体的にポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリペンタメチレングリコール等を挙げることができる。前記ポリエステル及びポリエーテル中に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）プロピオン酸の残基、特に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸の残基を有するとアルカリ溶液に対する溶解性に優れたウレタン化合物が合成でき好適である。前記ポリエステル類又はポリエーテル類は単独でも又２種以上の混合物でも使用できる。また、ジオール化合物と反応するジイソシアネート化合物としては、具体的にジメチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、２，２−ジメチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、２，５−ジメチルヘキサン−１，６−ジイソシアネート、２，２，４−トリメチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式のジイソシア��ート化合物を挙げることができ、その化合物の単独又は２種以上の混合物が使用できる。
【０００８】
さらに、末端イソシアネート基と反応するヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート化合物としては、具体的にヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールモノアクリレート、エチレングリコールモノメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレート等を挙げることができ、その単独又は２種以上が混合して使用できる。
【０００９】
上記ウレタン（メタ）アクリレート化合物は、その平均分子量が１０００〜３００００の範囲が好ましい。平均分子量が１０００未満では硬化後の被膜の結合力が大きくなり硬度が増し、耐サンドブラスト性が低下する。また平均分子量が３００００を超えると粘度が上昇し塗膜性が悪くなり、作業性が悪化する上に、電気絶縁抵抗値も上昇し好ましくない。
【００１０】
本発明のサンドブラスト用感光性組成物は上記ウレタン（メタ）アクリレート化合物に加えてヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート及びヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレートから選ばれる少なくとも１種のセルロース誘導体（以下セルロース化合物という）を含有する。特にセルロース化合物の酸価が５０〜２５０ｍｇ／ＫＯＨ、好ましくは８０〜２００ｍｇ／ＫＯＨの範囲にあるのがよい。酸価が５０ｍｇ／ＫＯＨ未満では現像不良をおこすことがあり、また、２５０ｍｇ／ＫＯＨを超えると、柔軟性がなくなるとともに耐水性に劣ることになる。前記酸価はセルロース化合物とともにアクリル酸又はメタクリル酸共重合体を配合することで達成してもよい。前記アクリル酸又はメタクリル酸共重合体の共重合成分としては、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、ケイ皮酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、メタクリル酸イソブチル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル、ソルビン酸、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールモノアクリレート、エチレングリコールモノメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレート、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、メタクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等を挙げることができる。特にアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、メタクリル酸イソブチルが好ましい。このようにセルロース化合物を選択することで、本発明の感光性組成物層の感度、密着性、耐サンドブラスト性は一段と向上し、好適なサンドブラスト加工を実施することができる。前記セルロース化合物の含有量はウレタン（メタ）アクリレート化合物１００重量部に対して１０〜１００重量部の範囲がよい。
【００１１】
本発明のサンドブラスト用感光性組成物が含有する光重合開始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モリフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−イソアミル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート等を挙げることができる。前記光重合開始剤は単独でも又２種以上を混合して用いることもできる。光重合開始剤の含有量は感光性組成物固形分１００重量部中に、０．１〜２０重量部の範囲で含有することができる。
【００１２】
本発明のサンドブラスト用感光性組成物は、さらに感度を向上させ、現像時の膜減りや膨潤を防ぐため必要に応じて光重合性単量体を含有することができる。前記光重合性単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレート等の単官能モノマー、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラメタクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート等の多官能モノマーを挙げることができる。これらの化合物の単独又は２種以上を混合して使用できる。
【００１３】
上記光重合性単量体は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物１００重量部に対し、２０重量部を超えない範囲で配合するのが良い。配合量が２０重量部を超えるとドライフィルム状としたときにコールドフローが起こり易くなるとともに、紫外線照射硬化後の感光性樹脂組成物の弾性が少なくなり耐サンドブラスト性が低下する。
【００１４】
本発明のサンドブラスト用感光性組成物の使用に当っては、溶剤に溶解して使用することができる。前記溶剤としては具体的にエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、２−メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキシブチルアセテートを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００１５】
上記に加えて、染料、重合禁止剤、電気絶縁抵抗値調整のためのカーボンや金属粒子などの導電性物質、カチオン系、アニオン系または両性界面活性剤等も任意に添加することができる。
【００１６】
本発明のサンドブラスト用感光性組成物は用途に応じて、液状のまま基板の上に塗布するか、基板の上にスクリーン印刷する方法等が適用できるが、電子部品の製造等精密加工を必要とする技術分野では前記サンドブラスト用感光性組成物を可撓性フィルム上に塗布、乾燥して形成した感光性フィルムを用いるのがよい。前記感光性フィルムの使用により精密な位置合わせが容易となり精度の高い切削が実現できる。
【００１７】
上記感光性フィルムの例を図１に示す。図１において、１は可撓性フィルムであり、２は本発明のサンドブラスト用感光性組成物層、３は離型フィルムである。
【００１８】
上記可撓性フィルム１は本発明のサンドブラスト用感光性組成物層を支持する層であるところから、膜厚１５〜１２５μｍのフィルムがよい。前記フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル等の合成樹脂フィルムを挙げることができる。特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが可撓性、こしの点から好ましい。また、サンドブラスト用感光性組成物層２は、溶剤に溶解したサンドブラスト用感光性樹脂組成物溶液をアプリケーター、バーコーター、ロールコーター、カーテンフローコーター等を用いて乾燥膜厚１０〜１００μｍとなるように塗布して形成するのがよい。また、離型フィルム３は、未使用時に感光性組成物層２を安定に保護する層であり、使用時には容易に剥ぎ取れるが、未使用時には剥がれない適度の離型性を有するフィルムが使用される。前記離型フィルムとしては、シリコーンをコーティングまたは焼き付けした厚さ１５〜１２５μｍ程度のＰＥＴフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等が好適である。
【００１９】
上記感光性フィルムにおいて、酸素減感作用を防ぐとともに、露光時に密着されるマスクパターンの粘着防止のため、可撓性フィルムと感光性樹脂組成物層との間に水溶性樹脂層を設けることができる。前記水溶性樹脂層としては、ポリビニルアルコール又は部分けん化ポリ酢酸ビニルの水溶性ポリマーの５〜２０重量％水溶液を乾燥膜厚１〜１０μｍに塗布乾燥した層がよい。前記水溶性樹脂層を形成する水溶性ポリマー溶液にさらにエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等を添加すると、水溶性樹脂層の可撓性が増すとともに、離型性が向上するので好適である。また、前記水溶性ポリマー溶液の調製において、メタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、アセトン、水性消泡剤を添加し液の粘度、消泡性等を改善することもできる。
【００２０】
次に、本発明の感光性フィルムの好適な使用方法の１例を図２の（ａ）〜（ｅ）に示す。図１の離型フィルム３を図２（ａ）に示すように剥し、露出した感光性組成物層を基板４上に密着する。前記密着に際しては基板４を予め加熱しておき、この上にドライフィルムを置いて押圧する、いわゆる熱圧着方式を採るのがよい。前記押圧したのち可撓性フィルム１を剥し、図２（ｂ）に示すように露出した感光性組成物層２の上に所定のマスクパターンを備えたマスク７を密着させ、そのマスクパターンの上から低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、アーク灯、キセノンランプ等を用いて露光する。前記露光光線としては紫外線の他にエキシマレーザ、Ｘ線、電子線等も使用できる。露光後、マスクパターン７を取り去り、現像を行う。前記現像を行うための現像液としては汎用のアルカリ現像液を用いることができるが、該現像液に用いるアルカリ成分としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、ブチルアミン等の第１級アミン、ジメチルアミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミン等の第２級アミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の第３級アミン、モルホリン、ピペラジン、ピリジン等の環状アミン、エチレンジアミン、ヘキサンメチルジアミン等のポリアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキシド等のスルホニウムヒドロキシド類、その他コリン、ケイ酸塩含有緩衝液等が挙げられる。前記現像によって、図２（ｃ）に示すように感光性組成物層２で紫外線に未露光部は除去され、露光部の組成物層９のみが残留する。現像処理した基板をサンドブラスト加工で図２（ｄ）に示すように研磨しパターンに忠実な図柄を形成する。前記サンドブラスト加工で使用するブラスト材としては２〜５００μｍのガラスビーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ2  、Ａｌ2Ｏ3  、ＺｒＯ等の無機微粒子等が好適に用いられる。
【００２１】
上記サンドブラスト加工された基板から残留する組成物層９をアルカリ水溶液で溶解し図２（ｅ）に示すように基板表面に図柄を形成する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
次に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。
【００２３】
実施例１
末端にアクリル基を有するカルボキシル基含有ウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ−９５３２ＥＡ」；重量平均分子量２．４万、酸価２７、溶剤として酢酸エチル３０％含有）２０重量部、カルボキシル基含有ウレタンアクリレート（ダイセル化学工業社製、商品名「ＳＲ−６１３８ＡＥ」；重量平均分子量１万、溶剤として酢酸エチル２０％含有）３０重量部に、ヒドロキシプロピルセルロースアセテートフタレートのメチルエチルケトン２５重量％溶液（信越化学工業社製、商品名「ＨＰＭＣＡＰ」）６０重量部を混合し、次いで２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩０．００５重量部  マラカイトグリーン（保土谷化学社製）０．１重量部及びメチルエチルケトン２０重量部を加えて攪拌し、サンドブラスト用感光性組成物を調製した。
【００２４】
上記サンドブラスト用感光性組成物を乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように、２０μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にアプリケーターを用いて塗布、乾燥させて感光性組成物層を形成した。前記感光性組成物層の上に２０μｍのポリエチレンフィルムを気泡が残らないようにゴムローラーで被着して感光性フィルムを作成した。得られた感光性フィルムのポリエチレンフィルムを剥がし、表出した感光性組成物層を８０℃に暖めたガラス面にゴムローラーを用いてラミネートしたのち、ＰＥＴフィルムを剥がして、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５及び１０μｍの線幅を有する試験用パターンマスクを密着させ、超高圧水銀灯により２００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線露光を行った。続いて液気温３０℃の０．２％炭酸ナトリウム水溶液で１．５ｋｇ／ｃｍ2の噴射圧で、３０秒間スプレー現像を行いパターンを形成した。
【００２５】
得られたパターンについて密着性を評価したところ、残ったパターンの最小線幅は３０μｍであった。
【００２６】
また、ストファ２１段ステップタブレットによる感度測定をしたところ、６段であった。次に耐サンドブラスト性を評価するため、感光性フィルムのポリエチレンフィルムを剥がし、表出した感光性組成物層を８０℃に暖めたガラス面にゴムローラーを用いてラミネートしたのちＰＥＴフィルムを剥がして感光性組成物層を露出させ、２００ｍＪ／ｃｍで全面露光し、これを研磨剤としてガラスビーズ＃８００（不二製作所社製、商品名Ｓ４＃８００）を使用し、ノズル距離８０ｍｍ、ブラスト圧２ｋｇ／ｃｍ2でサンドブラストして感光性組成物層が摩耗して消失するまでの時間を測定したところ、１００秒であった。
【００２７】
実施例２
実施例１で使用したヒドロキシプロピルセルロースアセテートフタレートのメチルエチルケトン２５重量％溶液を、ヒドロキシプロピルセルロースアセテートフタレートのメチルエチルケトン２５重量％溶液（信越化学工業社製、商品名「ＨＰＭＣＰ」）に代えた以外は、実施例１と同様の操作により、密着性、感度及び耐サンドブラスト性を調べたところ、それぞれ３０μｍ、５．５段および１００秒であった。
【００２８】
比較例１
実施例１で使用したヒドロキシプロピルセルロースアセテートフタレートのメチルエチルケトン２５重量％溶液を、セルロースフタレートアセテートのメチルエチルケトン２５重量％溶液（和光純薬社製、商品名「ＫＣ−７１」）に代えた以外は、実施例１と同様の操作により、密着性、感度及び耐サンドブラスト性を調べたところ、それぞれ４５μｍ、４段および７０秒であった。
【００２９】
【発明の効果】
本発明のサンドブラスト用感光性組成物は、弾性、柔軟性が高く、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、基板との密着性及び耐サンドブラスト性に優れた感光性組成物である。また、本発明のサンドブラスト用感光性組成物を積層した感光性フィルムは、位置合わせが容易で電子部品等の微細加工に好適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の感光性フィルムの断面拡大図である。
【図２】本発明のサンドブラスト用感光性組成物を用いたプラズマディスプレパネルの表面食刻方法の手順を示す説明図である。
【符号の説明】
１  可撓性フィルム
２  サンドブラスト用感光性組成物層
３  離型フィルム
４  絶縁層
５  導体パターン
６  基板
【図１】
0003641116.tif 000002
【図２】
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