(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルターを有する基板と透明基板上に電極を形成した対向基板とからなる液晶表示装置において対向基板上にインキジェットを用いてパターニングされた透明層を形成せしめる工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法であって、パターニングされた透明層を形成せしめる塗液が下記（Ａ）〜（Ｅ）のうちのいずれかのポリイミドシロキサン前駆体成分および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（Ａ）アミノアルキル多価アルコキシシランあるいはアミノアリール多価アルコキシシランの加水分解物、あるいはこれらの縮合物と多価カルボン酸無水物の反応体。
（Ｂ）アミノアルキル多価アルコキシシランの加水分解物あるいはアミノアリール多価アルコキシシランの加水分解物ないしこれらの縮合物と多価カルボン酸との反応体。
（Ｃ）アミノアルキル多価アルコキシシランあるいはアミノアリール多価アルコキシシランと多価カルボン酸無水物の反応体。
（Ｄ）アミノアルキル多価アルコキシシランあるいはアミノアリール多価アルコキシシランの加水分解物ないしこれらの縮合物と多価カルボン酸の反応体。
（Ｅ）アルキルトリアルコキシシランあるいはアリールトリアルコキシシラン類を加水分解あるいは加水分解・縮合せしめて得られるアルキルあるいはアリールシルセスキオキサンオリゴマーと上記（Ａ）〜（Ｂ）で得られた反応体の混合物。
【請求項２】
パターニングされた透明層が配向膜と平坦化膜の機能を併せ持つ透明層であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
パターニングされた透明層を形成せしめる塗液の溶剤成分の３０重量％以上がアルコール成分からなることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型カラー液晶表示装置の液晶セルの構造は、カラーフィルターを有する基板と透明基板上に電極を形成した対向基板（ＴＦＴ基板）とからなっているものである。
【０００３】
このＴＦＴ基板の製造方法としては、無アルカリ基板上にクロムを用いて、フォトエッチングの手法により、ゲート電極とコモン電極をパターニングした後、これらの電極を覆う絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上に非晶質シリコン膜を形成し、この膜上にアルミニウムを用いて、ソース電極とドレイン電極を形成する。これらの電極上に窒化シリコン膜で保護膜を形成し、最上層にポリイミド系の配向膜を設けるものである。この保護膜はＴＦＴ基板の保護膜であると同時に該基板の段差平坦化、表面平滑化に機能しているものであるが、液晶表示装置の高速応答性に伴うセルギャップ短間隔化、さらには図１に示されるごとき透明基板に対して平行な向きの電界（横電界）により駆動されるカラー液晶表示装置においては、平坦化膜としての保護膜形成が期待され、さらにはこの保護膜に配向膜としての機能をも付与することが期待されている。あるいは配向膜に平坦化膜としての機能を付与することが望まれる。このような平坦化膜形成の手法として、配向膜の機能を併せ持つ樹脂オーバーコート剤をスピンコートで塗布・加熱硬化せしめる手法が考えられるが、該保護膜の形成はＴＦＴ基板全面を覆うことになるため、ガラス部との接着性不良や、セル液晶封止剤との接着不良さらにはセル外部電極との接着性不良等の液晶表示装置信頼性低下要因となる問題点を有している。これらの問題点を避ける手段として、保護膜のパターニングが考えられ、ＴＦＴ基板のセル部を形成する有効部のみを覆う保護膜形成が望まれるが、保護膜特性とコスト面から、適切なセル部を形成する塗布方法が見出されていないのが現状である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ＴＦＴ基板のパターニングされた保護膜形成に有効な塗布手段を提供し、液晶表示装置の新規な製造方法を提案するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題はインキジェット法でパターニングされた透明層（以下パターン透明層と略称する）を形成せしめる工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法によって達成される。すなわち本発明者等は液晶表示装置の製造においてＴＦＴ基板へのパターン状の保護膜の形成について各種印刷法を初めとして種々の塗布方法を検討した結果、特に選択設計された塗布溶液を用いた塗布をインキジェットを用いて実施することで、従来の問題点を回避できることを見出し、本発明に到達したものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本発明において実施されるインキジェット塗布方式としては、連続噴射方式
（Ｒ．Ｇ．Ｓｗｅｅｔ，Ｒｅｖ．Ｓｃｉ．Ｉｎｓｔｒｕｍ．，３６（１９６５）、Ｒ．Ｇ．Ｓｗｅｅｔ  ｅｔ  ａｌ．，Ｕ．Ｓ．Ｐａｔ．３，３７３，４３７（１９６８）、山田剛裕等，信学技報，ＩＥ，８３，６２（１９８２）、Ｃ．Ｈ．Ｈｅｒｚ  ｅｔ  ａｌ．，Ｕ．Ｓ．Ｐａｔ．３，４１６，１５３（１９６８）、間欠噴射方式（Ｓ．Ｓｕｇｉｈａｒａ  ｅｔ  ａｌ．，ＳＩＤ  Ｊａｐａｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ（１９８３）、およびオンデマンド型（Ｅ．Ｌ．Ｋｙｓｅｒ，特公昭５３−１２１３８（１９７８）、Ｓ．Ｉ．Ｚｏｌｔａｎ  ｅｔ  ａｌ．，Ｕ．Ｓ．Ｐａｔ．３，６８３，２１２（１９７２）等、のいずれが適用されても良い。また、例えば塗布溶液の構成との関係からオンデマンド型が好ましく使用される場合があり、ＴＦＴ基板へのパターン透明層形成に適用できる。例えば、特に基板に平行な向きに電界をかける構成を持つ電極が薄膜トランジスタにより駆動される液晶表示装置のＴＦＴ基板の製造において、有効に適用されるものである。    本発明において実施されるインキジェット塗布方式に使用される塗液として、着色膜上への保護膜あるいは平坦化膜形成にはポリイミドシロキサン前駆体成分および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物が好ましく使用されるが、アクリル樹脂および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物も使用することができる。  基板に平行な向きに電界をかける構成を持つ電極が薄膜トランジスタにより駆動される液晶表示装置のＴＦＴ基板製造におけるパターン透明層形成には透明層への液晶配向性付与の見地から、ポリイミドシロキサン前駆体成分および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物が最も好ましく使用され、ポリイミドおよび／あるいはポリイミド前駆体成分および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物、ポリイミドシロキサン前駆体成分、ポリイミドおよび／あるいはポリイミド前駆体成分および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物、アクリル樹脂、ポリイミドおよび／あるいはポリイミド前駆体成分および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物、アクリル樹脂、ポリイミドシロキサン前駆体成分および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物が好ましく使用され、アクリル樹脂および溶剤成分を含有してなる樹脂溶液組成物も使用することができる。
【０００７】
本発明のインキジェット塗布方式に好ましく使用される塗液の樹脂成分であるポリイミドシロキサン前駆体成分は特に限定されるものでは無いが下記のごとくに調製されるものが好ましく使用される。
【０００８】
（Ａ）アミノアルキル多価アルコキシシランあるいはアミノアリール多価アルコキシシランの加水分解物、あるいはこれらの縮合物と多価カルボン酸無水物の反応体。
【０００９】
（Ｂ）アミノアルキル多価アルコキシシランの加水分解物あるいはアミノアリール多価アルコキシシランの加水分解物ないしこれらの縮合物と多価カルボン酸との反応体。
【００１０】
（Ｃ）アミノアルキル多価アルコキシシランあるいはアミノアリール多価アルコキシシランと多価カルボン酸無水物の反応体。
【００１１】
（Ｄ）アミノアルキル多価アルコキシシランあるいはアミノアリール多価アルコキシシランの加水分解物ないしこれらの縮合物と多価カルボン酸の反応体。
【００１２】
（Ｅ）アルキルトリアルコキシシランあるいはアリールトリアルコキシシラン類を加水分解あるいは加水分解・縮合せしめて得られるアルキルあるいはアリールシルセスキオキサンオリゴマーと上記（Ａ）〜（Ｂ）で得られた反応体の混合物。  これらのポリイミドシロキサン前駆体成分は加熱処理によりポリイミドシロキサン膜を形成するものである。
【００１３】
同様に、インキジェット塗布方式に使用される塗液樹脂成分のポリイミドおよび／あるいはその前駆体成分としては公知のポリイミドおよび／あるいはその前駆体であるポリアミック酸を広く使用することができ、下記の一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポリアミック酸および／あるいはこのアミック酸をイミド閉環せしめたポリイミドを使用することができる。
【００１４】
【化１】
0003663759.tif 000002
ここで一般式（１）のｎは１〜２である。Ｒ1 は少なくとも２個の炭素原子を有する３価または４価の有機基である。Ｒ1 は環状炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有することが好ましく、かつ炭素数６から３０の３価または４価の基が好ましい。Ｒ1 の例として、フェニル残基、ビフェニル残基、ターフェニル残基、ナフタレン残基、ペリレン残基、ジフェニルエーテル残基、ジフェニルスルフォン残基、ジフェニルプロパン残基、ベンゾフェノン残基、ビフェニルトリフルオロプロパン残基、シクロブチル残基、シクロペンチル残基などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。またＲ2 は少なくとも２個の炭素原子を有する２価の有機基である。耐熱性の面から、Ｒ2 は環状炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、かつ炭素数６から３０の２価の基が好ましい。Ｒ2 の例として、フェニル残基、ビフェニル残基、ターフェニル残基、ナフタレン残基、ペリレン残基、ジフェニルエーテル残基、ジフェニルスルフォン残基、ジフェニルプロパン残基、ベンゾフェノン残基、ビフェニルトリフルオロプロパン残基、ジフェニルメタン残基、シクロヘキシルメタン残基などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。一般式（１）で表わされる構造単位を主成分とするポリマはＲ1 、Ｒ2 がこれらの内各々１個から構成されていても良いし、各々２種以上から構成される共重合体であっても良い。接着力を向上させるため耐熱性を低下させない範囲でジアミン成分として、シロキサン構造を有するビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサンなどを共重合させても良い。またアミン末端の封止剤として無水マレイン酸などの無水物をポリアミック酸の重合終了後に末端濃度に応じて加え、反応させても良い。ポリアミック酸を閉環して得られるポリイミド膜の力学的特性は、分子量が大きいほど良好である。このため、ポリアミック酸の分子量も大きい事が望まれる。これらのポリアミック酸において、特に酸無水物成分の少なくとも１部として３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸とジアミン成分を反応せしめて得られるポリアミック酸が好ましく使用される。また本発明においてはあらかじめ閉環されたポリイミド樹脂溶液組成物が使用されても良く、このような樹脂溶液組成物成分としては例えば２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸無水物のような脂環族テトラカルボン酸無水物とジアミン成分を反応せしめて得られる溶媒可溶型のポリイミド成分が好ましく使用できる。
【００１５】
その他、本発明のポリイミドおよび／あるいはその前駆体成分として Jpn.J. Appl.Phys.Lett.,50,18(1987) 、Mol.Cryst.Liq.Cryst.,163,157(1988)、Japan Display,1992 Digest,819(1992) 、電子材料、３０（１１），３８（１９９１）に記載されるようなポリマ成分を好ましく使用できる。
【００１６】
本発明において好ましく使用される塗液の溶剤成分としてはポリアミック酸、ポリイミドあるいはポリイミドシロキサン前駆体溶液調製に使用されるＮ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ´−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の極性溶剤が使用できるが、特に本発明で使用される塗液組成物においてポリイミドシロキサン前駆体を使用された場合、多量のアルコール成分を使用することができる特徴を有している。従来、実用されているポリイミド系液晶配向膜形成用樹脂溶液組成物において、アルコール溶剤を使用した例は無く、またポリマー成分の析出を避けるために溶剤成分として２０重量％以上のアルコール成分を使用することができなかったものであるが、本発明の液晶配向性付与の透明層形成の樹脂溶液組成物においては溶剤成分の３０重量％以上、さらには５０重量％以上のアルコール成分を使用することもでき、このような溶剤組成は例えば塗布ラインの耐溶剤性レベルを緩和することができ、インキジェット塗布を可能ならしめるものである。アルコール成分は通常Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ´−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトンあるいは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の極性溶剤とともにポリイミドシロキサン前駆体溶液調製に使用され、好ましくは、別途調製されたポリイミドおよび／あるいはその前駆体溶液と混合され、本発明のインキジェット塗布の塗液用樹脂溶液組成物の溶剤成分を構成するものであるが、混合調製後に添加することも可能である。本発明において使用される塗液中のアルコール成分としては特に限定されるものでは無いが、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、３−メトキシ−３−メチルブタノールのごときエーテル結合を有するアルコール類が好ましく使用され、特に３−メトキシ−３−メチルブタノールが適している。本発明のインキジェット塗布に使用される塗液用樹脂溶液組成物の固形部濃度は２〜１５重量％、好ましくは３〜１０重量％である。
【００１７】
本発明のインキジェット塗布に使用される塗液用樹脂溶液組成物はＴＦＴ基板上の所望のパターン状にインキジェット塗布されるものであり、画面構成部の有効領域上に透明層があり、該透明層の境界がカラーフィルター画素を囲む額縁上に相当する位置にある構成とすることが好ましい。
【００１８】
また本発明のインキジェット塗布は、特にカラーフィルターの画素上に透明導電層を持たないところの透明基板に対して平行な向きの電界（横電界）により駆動されるカラー液晶表示装置のＴＦＴ基板に好ましく適用され、このＴＦＴ基板では本発明の透明層は保護膜と配向膜の機能を兼ね備える。
【００１９】
以下、実施例でより詳細に説明する。
【００２０】
【実施例】
参考例１
メチルトリメトキシシラン１３６ｇ（１．０モル）、フェニルトリメトキシシラン１９８ｇ（１．０モル）、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物３２．２ｇ（０．１モル）をγ−ブチロラクトン１４０ｇ、３−メチル−３−メトキシブタノ−ル４２１ｇに溶解し、３０℃で撹拌しながら、１１８ｇの蒸留水を加え、１時間撹拌し、加水分解・縮合を行なった。
【００２１】
この溶液を、バス温１０５℃で３時間加熱・攪拌し生成したアルコ−ルと水１４０ｇを留去させた後、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン３８．３ｇ（０．２モル）をγ−ブチロラクトン１３３ｇ、３−メチル−３−メトキシブタノ−ル３５５．０ｇに溶解した混合液を添加して、同温で１時間加熱、攪拌した後、徐々に加熱、攪拌下に昇温して１時間後にバス温１３５℃として２時間、加熱攪拌し、反応温度を１２５℃まで上げて生成したアルコ−ルと水７５ｇを留去させた。
【００２２】
この様にして得られた溶液を冷却して室温とした後、シリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３０２（ビック・ケミー社）０．５ｇの３−メチル−３−メトキシブタノ−ル６０．０ｇ溶液で稀釈して、ポリイミドシロキサン前駆体溶液を得た。
【００２３】
このようにして得られた溶液の固形分濃度を３００℃、３０分加熱の溶剤除去法で測定すると１８．３重量％であり、粘度は１７．５センチポイズ（２５℃）であった。
【００２４】
参考例２
３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物１６１．１１ｇ（０．５０モル）およびピロメリット酸二無水物９７．２０ｇ（０．４９モル）をγブチロラクトン２６７７．７ｇとともに仕込み、これを攪拌しながら４，４´−ジアミノジフェニルエーテル１５０．２０ｇ（０．７５モル）、３，３´−ジアミノジフェニルスルフォン４９．６４ｇ（０．２モル）およびビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１２．４２ｇ（０．０２０モル）を添加し、６０℃で２時間反応させた後、無水マレイン酸１．９７ｇ（０．０２０モル）を加えてさらに６０℃で２時間反応させ、粘度９．２ポイズのポリアミック酸溶液を得た。
【００２５】
参考例３
メチルトリメトキシシラン１３．６ｇ（０．１モル）とフェニルトリメトキシシラン１９．８ｇ（０．１モル）およびγアミノプロピルメチルジエトキシシラン９６．０ｇ（０．５モル）を３−メチル−３−メトキシブタノ−ル４２８．０ｇおよびγブチロラクトン３３３．３ｇの混合液に加えて、３０℃攪拌下に蒸留水２８．８ｇ（１．８モル）を添加した。この溶液を６０℃で２時間攪拌した後、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物８０．６ｇ（０．２５モル）を加えて、そのまま２時間攪拌を続けアミック酸含有のシロキサン溶液を得た。本溶液の粘度をＥ型粘度計で測定すると２２．５センチポイズ（２５℃）であった。
【００２６】
参考例４
３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物３２．２３ｇ（０．１０モル）を３−メチル−３−メトキシブタノ−ル１００．０ｇおよびγブチロラクトン１００．０ｇの混合液に加え、溶解させた後、γアミノプロピルメチルジエトキシシラン３８．４０ｇ（０．２モル）を３−メチル−３−メトキシブタノ−ル６８．１ｇに溶解した液を約１０分間で滴下して、４０℃で１時間反応させた。本溶液の粘度をＥ型粘度計で測定すると１７．５センチポイズ（２５℃）であった。
【００２７】
参考例５
メチルトリメトキシシラン１３６ｇ（１．０モル）、フェニルトリメトキシシラン１９８ｇ（１．０モル）、無水ナジック酸１６４．０ｇ（１．０モル）をγ−ブチロラクトン２００ｇ、３−メチル−３−メトキシブタノ−ル６００ｇに溶解し、３０℃で撹拌しながら、１４４ｇの蒸留水を加え、１時間撹拌し、加水分解・縮合を行なった。
【００２８】
この溶液を、バス温７０℃で２時間加熱・攪拌した後、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン１９１．５ｇ（１．０モル）をγ−ブチロラクトン１４１ｇ、３−メチル−３−メトキシブタノ−ル１９５．６ｇに溶解した混合液を添加して、同温で１時間加熱、攪拌した後、徐々に加熱、攪拌下に昇温して２時間後にバス温１２５℃として２時間、加熱攪拌し、反応温度を１１５℃まで上げて生成したアルコ−ルと水１９２ｇを留去させた。
【００２９】
この様にして得られた溶液を冷却、γ−ブチロラクトン１９２ｇで稀釈して、ポリナジックイミドシロキサン前駆体溶液を得た。
【００３０】
このようにして得られた溶液の固形分濃度を３００℃、３０分加熱の溶剤除去法で測定すると２０．３重量％であり、粘度は１２．５センチポイズ（２５℃）であった。
【００３１】
参考例６
メチルトリメトキシシラン２７２．０ｇ（２．０モル）、フェニルトリメトキシシラン３９６．０ｇ（２．０モル）、酢酸０．３４ｇを３−メチル−３−メトキシブタノ−ル７８５．６ｇに溶解し、３０℃で撹拌しながら、２１６ｇの蒸留水を加え、１時間加熱撹拌し、加水分解・縮合を行なった。
【００３２】
この溶液を、徐々に加熱、攪拌下に昇温して２時間後にバス温１３０℃として２時間、加熱攪拌し、生成したアルコ−ルと水４４９．１ｇを留去させた後、この溶液を８０℃まで冷却して、３−メチル−３−メトキシブタノ−ル８５．７ｇを添加して、オルガノシルセスキオキサンオリゴマー溶液を得た。このように得られた溶液の固形分濃度を３００℃、３０分加熱の溶剤除去法で測定すると３１．５重量％であり、粘度は５１センチポイズ（２５℃）であった
参考例７
参考例３で得られた溶液１００ｇ，参考例６で得られた溶液２００ｇおよび参考例２で得られた溶液１００ｇを混合して本発明のインキジェット用塗液原液を得た。
【００３３】
参考例８
参考例５で得られた溶液１００ｇ，参考例６で得られた溶液２００ｇおよび参考例２で得られた溶液１００ｇを混合して本発明のインキジェット用塗液原液を得た。
【００３４】
参考例９
参考例４で得られた溶液１００ｇに参考例１で得られた溶液２０ｇを添加混合して本発明のインキジェット用塗液原液を得た。
【００３５】
参考例１０
参考例５で得られた溶液１００ｇに参考例２で得られた溶液２０ｇを添加混合して本発明のインキジェット用塗液原液を得た。
【００３６】
実施例１
ポリアミック酸中に黒色顔料を分散してなる黒色ペーストを無アルカリガラス上にスピンコートし、５０℃で１０分間、９０℃で１０分間、１１０℃で２０分間オーブンを用いて空気中で加熱乾燥して、膜厚１．６μｍのポリイミド前駆体着色膜を得た。この膜上にポジ型フォトレジスト（東京応化社製ＯＦＰＲ−８００）を塗布し８０℃で２０分加熱乾燥して膜厚１μｍのレジスト膜を得た。キャノン社製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、クロム製のフォトマスクを介して、波長３６５ｎｍでの強度が５０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの２．３８ｗｔ％の水溶液からなる現像液に浸漬し、フォトレジストおよびポリイミド前駆体の現像を同時に行った。エッチング後、不要となったフォトレジスト層をメチルセロソルブアセテートで剥離した。さらにこのようにして得られたポリイミド前駆体着色被膜を窒素雰囲気中で３００℃で３０分間熱処理し、膜厚１．２μｍのポリイミド着色被膜によりブラックマトリクスパターンを得た。
【００３７】
さらにポリアミック酸中に顔料分散してなる青、赤、緑の各色のカラーペーストについて、順次同様のプロセスによりパターン化されたポリイミド着色被膜を作製した。該着色被膜上に、参考例１で得られたポリイミドシロキサン前駆体溶液をプロピレングリコールモノエチルエーテルで６重量％に稀釈して参考したインキジェット用塗液をプログラム制御されたオンデマンド型インキジェット塗布装置でカラーフィルターの有効領域上に塗布した。
【００３８】
これを１００℃熱風オーブン中で１０分間予備乾燥した後、２８０℃で０．５時間熱処理し１．１μｍ厚みの塗膜を形成しカラーフィルターを得た。
【００３９】
こうして得られたカラーフィルターの塗膜を直接ラビング処理機にてラビング処理した。
【００４０】
ついで薄膜トランジスタ素子を備えた対向基板を次の手順で作製した。
【００４１】
まず、無アルカリガラス上にクロムを用いてフォトエッチングの手法によりゲート電極とコモン電極をパターニングした後、これらの電極を覆うように窒化シリコン（ＳｉＮ）膜からなる絶縁膜を形成した。ゲート絶縁膜上に非晶質シリコン（ａ―Ｓｉ）膜を形成し、この膜上にアルミニウムを用いて、ソース電極とドレイン電極を形成した。その際、コモン電極とドレイン電極の間に基板に平行な向きに電界がかかるよう電極をパターニングした。これらの電極上に、参考例１で得られたポリイミドシロキサン前駆体溶液をプロピレングリコールモノエチルエーテルで６重量％に稀釈して調製したインキジェット用塗液をプログラム制御されたオンデマンド型インキジェット塗布装置でＴＦＴ基板の有効領域上に塗布した。これを１００℃熱風オーブン中で１０分間予備乾燥した後、２８０℃で０．５時間熱処理し１．１μｍ厚みの塗膜を形成しＴＦＴ基板を得た。
【００４２】
こうして得られたＴＦＴ基板の塗膜を直接ラビング処理機にてラビング処理して、薄膜トランジスタを備えた電極付き対向基板を得た。
【００４３】
電極付き対向基板とカラーフィルターとを貼り合わせ、液晶表示装置を作製し問題なく動作することを確認した。
【００４４】
実施例２
参考例７で得られた溶液１０ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル２０ｇおよびγブチロラクトン２０ｇの混合液で稀釈した後、ＩＴＯからなる透明導電層を有するガラス基板上に、オンデマンド型インキジェット塗布装置で噴霧塗布し２９０℃で１時間熱処理し、０．１５μｍ厚みの塗膜を形成した。この膜をナイロン製フェルトを巻き付けたロールを有するラビング装置により、ロール回転数８００ｒｐｍ、ステージ移動速度５０ｍｍ／秒で５回ラビング処理を行なった。ラビングによる塗膜の損傷はまったく認められ無かった。このようにして得られた配向膜を有する基板一対をラビング方向が逆平行になるように対向させて配置し、１ｍｍのスペーサー膜を使用して、基板側面にエポキシシール剤（三井東圧化学（株）製“ストラクトボンド”ＥＳ−４５００）を塗布し、１２０℃で３０分間硬化させて封止した。この素子の内部に液晶（メルク製ＺＬＩ−２２９３）を真空下で注入し、注入口をエポキシシール剤でふさぎ、１２０℃で３０分間加熱して封止樹脂の硬化および液晶のアイソトロピック処理を行なった。このようにして作製された試験用液晶セルを偏光顕微鏡のクロスニコル間で回転し観察したところ、明瞭な明暗が見られ、液晶はラビング方向に配向していることが認められた。またこの液晶セルについて磁場容量法によりプレチルト角を測定したところ３°であった。
【００４５】
実施例３
無アルカリガラス基板上に形成された着色被膜上に、実施例２と同様の塗液・装置を使用して高密度噴霧塗布し、２８０℃で２時間熱処理し、１．５μｍの塗膜を形成した。別途無アルカリガラス基板上に、１０００オングストロームの配向膜（日本合成ゴム製  オプトマーＡＬ１０５１）をスピンコートにて形成した。  上記１．５μｍの塗膜並びに配向膜をラビングマシンにてラビング処理した。ラビング処理された配向膜上に，スクリーン印刷機を用いて熱硬化性エポキシ樹脂をガラス基板の縁に沿って、液晶注入口部分を除いて線状に印刷し、ラビング処理された１μｍ塗膜を形成したガラス基板と、配向膜とが向かい合い、かつラビング処理方向が互いに直交するようにように張り合わせ、１２０℃で１５分間、１５０℃で１時間加熱処理してエポキシ樹脂を硬化させた。貼り合わせたガラスセル中に、液晶注入口を通じてツイストネマチック型の液晶（メルク社製  ＺＬＩ４７９２）を注入した後、注入口に紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線を照射、硬化させて注入口を封じた。
【００４６】
このようにして得られたガラスセルを偏光顕微鏡にて観察したところ、液晶部分がパラレルニコル下で消光し、クロスニコル下で光を透過した。これによりラビング処理した１．５μｍ塗膜が配向膜として働く事を確認した。
【００４７】
実施例４〜７
実施例３において参考例７で得られた硬化性組成物の溶液の代わりに参考例８〜１０で得られた硬化性組成物を使用して、同様の結果を得ることができた。
【００４８】
【発明の効果】
ガラス基板上にＴＦＴが形成されてなる基板において、該基板上にインキジェット法により保護膜を形成せしめる手法により、ＴＦＴ基板の有効領域のみに，平坦化膜と配向膜の機能を併せ持つ保護膜が形成されたＴＦＴ基板を容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の応用例１における液晶表示装置の断面図である。
【符号の説明】
１    透明基板
２    遮光層
３    着色膜
４    保護膜
５    配向膜
６    保護膜
７    絶縁膜
８    ゲート電極
９    ドレイン電極
１０  ソース電極（画素電極）
１１  コモン電極
１２  薄膜電極
１３  液晶層
【図１】
0003663759.tif 000003