(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
（L2L3M）n  （１）
式中、L3が下記構造式（２）：
【化１】
0003689815.tif 000034
式中、XおよびYはそれぞれ独立してCHまたはNを表し、IIおよびIIIはそれぞれ独立してアリールまたは置換基を有するアリールである、
で表される三座配位子であり、L2が一つの酸素原子と一つの窒素原子を配位原子として含む二座配位子であり、下記構造式（３）：
【化２】
0003689815.tif 000035
式中、Ｉは二座配位子の構成要素である、
で表される８−オキシキノリン、置換基を有する８−オキシキノリン、４−ヒドロキシ-１, ５-ナフチリジン、置換基を有する４-ヒドロキシ-１、５−ナフチリジン、５-ヒドロキシ-キノキサリン、置換基を有する５-ヒドロキシ-キノキサリン、２-（２-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾール、置換基を有する２-（２-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾール、２-（２-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾール、置換基を有する２-（２-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾール、２-（２-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾール、置換基を有する２-（２-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾール、１０-ヒドロキシベンゾキノリン、置換基を有する１０-ヒドロキシベンゾキノリン、２-カルボキシ-ピリジンおよび置換基を有する２-カルボキシ-ピリジンからなる群から選択され、
前記置換基は炭素数１〜８のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシおよびヘテロアリールからなる群から選択され、
Mはアルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム及びイリジウムからなる群から選択される三価金属を表し、
ｎは２を表す、
で表される錯体を含む発光材料。
【請求項２】
X=CH、Y=Nであり、L3が下記構造式を有する、請求項１に記載の発光材料。
【化３】
0003689815.tif 000036
【請求項３】
X=CH、Y=CHであり、L3が下記構造式を有する、請求項１に記載の発光材料。
【化４】
0003689815.tif 000037
【請求項４】
X=Y=Nであり、L3が下記構造式を有する、請求項１に記載の発光材料。
【化５】
0003689815.tif 000038
【請求項５】
一般式（１）：
（L2L3M）n  （１）
式中、L3が下記構造式（４）：
【化６】
0003689815.tif 000039
式中、XおよびYはそれぞれ独立にCHまたはNを表し、IIおよびIIIはそれぞれ独立にアリールまたは置換基を有するアリールである、
で表される三座配位子であり、L2が二つの酸素原子を配位原子として含む二座配位子であり、下記構造式（５）：
【化７】
0003689815.tif 000040
式中、Ｉは二座配位子の構成要素である、
で表されるβ -ジケトン、置換基を有するβ -ジケトン、エノール、置換基を有するエノールおよびβ -ジケトンの誘導体からなる群から選択され、
前記置換基は炭素数１〜８のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシおよびヘテロアリールからなる群から選択され、
Mはアルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム及びイリジウムからなる群から選択される三価金属を表し、
ｎは２を表す、
で表される錯体を含む発光材料。
【請求項６】
X=CH、Y=Nであり、L3が下記構造式を有する、請求項５に記載の発光材料。
【化８】
0003689815.tif 000041
【請求項７】
X=CH、Y=CHであり、L3が下記構造式を有する、請求項５に記載の発光材料。
【化９】
0003689815.tif 000042
【請求項８】
X=Y=Nであり、L3が下記構造式を有する、請求項５に記載の発光材料。
【化１０】
0003689815.tif 000043
【請求項９】
L2が８−オキシキノリンまたは置換基を有する８−オキシキノリンであり、L3がシッフ塩基三座配位子であり、三価金属Mがガリウムであり、ｎが２である、請求項１に記載の発光材料。
【請求項１０】
L2が８−オキシキノリンまたは置換基を有する８−オキシキノリンであり、L3がスチルベン三座配位子であり、三価金属Mがガリウムであり、ｎが２である、請求項１に記載の発光材料。
【請求項１１】
L2が８−オキシキノリンまたは置換基を有する８−オキシキノリンであり、L3がアゾベンゼン三座配位子であり、三価金属Mがガリウムであり、ｎが２である、請求項１に記載の発光材料。
【請求項１２】
L2がアセチルアセトンまたは置換基を有するアセチルアセトンであり、L3がシッフ塩基三座配位子であり、三価金属Mがアルミニウムであり、ｎが２である、請求項５に記載の発光材料。
【請求項１３】
L2がアセチルアセトンまたは置換基を有するアセチルアセトンであり、L3がスチルベン三座配位子であり、三価金属Mがアルミニウムであり、ｎが２である、請求項５に記載の発光材料。
【請求項１４】
L2がアセチルアセトンまたは置換基を有するアセチルアセトンであり、L3がアゾベンゼン三座配位子であり、三価金属Mがアルミニウムであり、ｎが２である、請求項５に記載の発光材料。
【請求項１５】
アノード、カソードおよび請求項1〜１４のいずれかに記載の発光材料から形成される少なくとも一層の有機機能層を含む有機EL素子。
【請求項１６】
有機機能層が発光材料からスピンコーティング法またはインクジェットプリント法によって形成されることを特徴とする、請求項１５に記載の有機EL素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は新規な有機EL材料に関し、さらに詳しくは、本発明は混合配位子を有し金属配合物から形成される有機EL材料、およびこの材料で作製した有機EL素子にも関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、有機ELディスプレー（OLED）は技術開発の面にも産業化の面にも速やかな発展を遂げた。OLEDは自己発光、低電圧直流駆動、全面固体化、広い視野、豊富な色彩及びフレキシーディスプレーの作製が可能などの優れた点があるため、その応用の将来性が非常に高い。現在、多くの人々は素子の構造設計と生産工程技術に注目しているが実際にOLED発光材料の設計は非常に肝心なものであると考えられる。材料の加工性、純度、熱に対する安定性、耐酸化安定性、色純度、輝度、電子流動率などの性能は、素子の性能に重要な影響がある。しかし、現在実際に応用されている多くの有機化合物は、ほとんど過去に開発された材料である。
【０００３】
有機金属配合物を有機EL素子に応用することはすでに報告されている。1998年1月19日に公開された特許文献１は、8-オキシキノリンを配位子としての金属配合物をOLEDに発光材料料として応用したことを紹介した。トリス(8-オキシキノリン)アルミニウム（Alq3）は性能安定、ガラス転移温度が高い、膜化性能がよい、現在OLEDに使う有機材料の中でもっとも成功したものである。種々のトリス(8-オキシキノリン)アルミニウムの誘導体が開発され有機EL素子の研究に使用される中、一部はその他の三価金属、例えばGa、In及びScを用いて中心金属原子を置換する。一部はその配位子を改良してその性能を改善する。例えば配位子8-オクシキオリンにF、Cl、CNまたはアルキル基を加えるなどである。現在の金属キレート化発光化合物に対する研究はほとんどAlq3の系列の材料に集中しているが、二種類以上の違う配位子を含む金属配合物系列に対する注目は少ない。この種類の発光材料は対称でない分子構造で無定形である。
【０００４】
我々研究グループは安定的なシッフ塩基三座配位子を導入して優れた性能を持つ有機EL金属配合物系列を開発した。熱安定性と膜化性についてレベルが大きくアップした（8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム（ＩＩＩ）（Al（Saph）-q）及びその誘導体である。文献にも報告され（例えば非特許文献１と非特許文献２参照）、2002年7月25日に発行された公報（特許文献２参照）の中に公開された。
【特許文献１】
米国特許4720432号公報
【特許文献２】
米国特許6410766号公報
【非特許文献１】
Chem.Lett.,2000,1068-1069
【非特許文献２】
Adv. Mater. Opt. Electron.、10（6）、283-286
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は多種の三座配位子と二座配位子とを含む金属化合物に基づき、中心金属原子と配位子の設計を通じて一種の新しい単核または双核の金属錯体を発明することにある。この錯体は優れた発光性、膜化性を有するため高質な有機EL素子の作製に用いることができる。
本発明のもう一つの目的は新型有機金属錯体を使ったEL素子を提供することである。この新型有機金属錯体は発光素子の中に発光材料として使うことができると同時に電子伝導材としての使用も可能であり、その他、発光層の中の主体として発光材料を加えることもできる。一部の金属錯体は非常に優れた溶解性を持っているので、スピンコーティングまたはインクジェットの方法で素子を作製することができる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は一種の新規な三座配位子金属錯体を開示する。分子構造式の設計から言えばこの錯体は混合配位子で対称でない構造を構成し、現有のAlq3と完全に異なっている。この錯体は優れた発光性と膜化性を有し、Alq3を大きく超えている。有機発光素子の低い起動電圧と高い発光効率を保障する。また本発明の錯体のほとんどはダイマーで有機発光材料に新しい体系を創設した。
本発明は発光材料に用いることができる新規な三座配位子金属錯体を提供する。
本発明の金属錯体は可視光を発することができる。
本発明の金属錯体は有機EL素子に発光材料として用いることができる。
本発明の金属錯体は有機EL素子だけでなく他の発光素子にも用いられる。例えば光電導素子、特に電子写真復写素子にも用いられる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をその好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。
現有の技術の中有機EL素子の構造式の種類は主に三種類に分けられる。図１に示したのは素子100であり、102は透明絶縁体例えばガラスまたはプラスチックで構成した基板である。104はアノード層で101はカソード層である。その間の112は有機媒質層である。112の中にはアノード上の正孔輸送層106及びその上の電子輸送層と発光層108二層がある。アノードとカソードの間にACまたはDC電流を加えれば素子が発光する。
当該EL素子は一種のダイオードと見なすことができる。アノードの電位エネルギーがカソードより高くなると正孔がアノードから正孔輸送層に注入され、電子がカソードから電子輸送層に注入され、双方向かい合った運動そして再結合でエネルギーを発散し発光を起こす。これはエレクトロルミネッセンスである。
【０００８】
図２に示したのは素子200であり、202は透明絶縁体例えばガラスまたはプラスチックで構成した基板である。204はアノード層で212はカソード層である。その間の214は有機媒質層である。214にアノード上の正孔輸送層206と発光層としての208と電子輸送層210がある。電子と正孔が発光層で結合する。
図３に示した素子300は200と比較的類似している。302は透明絶縁体、例えばガラスまたはプラスチックで構成した基板である。ただ正孔注入層306を増やした。304がアノード、314がカソードである。316が有機媒質層で正孔注入層306、正孔輸送層308、発光層310、電子輸送層312を含む。ここに各有機材が独自にそれぞれの機能を担っているため、素子性能の向上に有利である。
【０００９】
素子100、200と300の基板は共に透明絶縁材で、光は基板を通して出る。一部のEL素子は頂部から発光する。これらの基板は透明でない半導体材例えばセラミックスなどを使う場合には頂部電極には透明材料を用いる必要がある。
一般に正孔輸送層の材料として芳香族第三アミンを用いる。この錯体の中にカーボン原子のみと繋がる少なくとも一個の三価窒素原子があり、少なくとも一個のアリールがある。芳香族第三アミンとして、モノアリールアミン、ジアリールアミン、トリアリールアミン、重合アリールアミン等が挙げられる。
現在性能的に比較的優れた正孔輸送層材としては、N,N’-ジフェニル-N, N’-ビス(3-メチルフェニル)-1,1’-ビフェニル -4,4’-ジアミン（TPD）、N, N'-ビス(1-ナフチル)-N, N'-ジフェニル-1, 1' -ビフェニル-4,4'-ジアミン（NPB）、1,3,5-トリス(3-メチル-ジフェニルアミノ)ベンゼン（MTDATA）等が挙げられる。
【００１０】
電子と正孔が有機EL素子の発光層で結合しこの層の発光材料を発光させる。単層構造の素子では発光層が一種の蛍光効率の高い発光材料だけで構成する。現在広く使われたAlq3は発光性能の優れた緑蛍光材である。先に挙げた多層構造素子はその発光層がほとんど主体材（host material）と一種または多種の蛍光染料とドープしたもので発光率が比較的高い。素子の発光色は主体材にドープした発光光波の違う染料でコントロールされる。すでに文献（Tang et al. Applied Physics, Vol. 65, Pages 3610-3616, 1989）と米国特許4769292号公報はAlq3を発光層主体材としてそのなかに染料をドープして作ったEL素子を報告している。
【００１１】
蛍光染料を選ぶ際には、そのエネルギーレベルを考慮する必要がある。エネルギーレベルは分子の最高占有軌道と分子の最低占有軌道によって決められる。発光層でエネルギーの主体材からドープ材への転送を確実にするための重要な条件は混合材のエネルギーレベルが主体材のそれより低いことである。ブルー光材では例えばインドールのレベルが高いため主体材として染料をドープしてブルーの光を発する。ブルー光のドープ材はクマリン、1、2-ジフェニルエチレン、アントラセンの誘導体、テトラセン、ペリレンとその他の共役ベンゼンなどがある。その他の発光波長の長いドープ材はクマリン、ローダミンとその他の緑または赤光材がある。
【００１２】
本発明の素子の発光層の主体材は有機金属錯体であり、その構造は分子構造式（１）が示す発光層にドープする材料から選ぶことができる。
以上に述べた多層EL素子に使われる有機材は良好な膜化性を有している。連続層を作り、厚さが5000 Åを超えないことができる。現在の技術ではほとんどの場合真空蒸着で有機材層を作っている。この方法によれば性能の優れた連続薄膜層を作ることができる。各層の厚さが最小で50 Åまでできる。作った素子が依然良好な発光性能を持っている。現在性能が比較的優れたEL素子はその有機媒質層の総厚が少なくとも約1000 Åである。
本発明の有機EL素子はスピンコーディング法で作ることもできる。スピンコーティング工程と真空蒸着工程を併せて多層有機EL素子を作る方が効果がいい。素子のアノードとカソードの作製は通常の技術で行える。一般には透明基板の上に一層の透明導電材を塗布してアノードとし、その光をそれを通して放射させる。
【００１３】
本発明の有機金属錯体は下記一般式（１）で表され、各種の三座配位子L3および二座配位子L2で構成される。
(L2L3M）n  （1）
式中、ｎは1または２の整数を表し、Mはアルミニウム（Al）、ガリウム（Ga）、インジウム（In）、タリウム（Tl）及びイリジウム（Ir）からなる群から選択される三価金属を表し、L2は少なくとも一つの酸素原子を含む二座配位子を表す。一個の酸素原子と一個の窒素原子を含む場合には、L2の構造式は下記式（2-1）の通りである。二個の酸素原子を含む場合には、L2の構造式は下記式（2-2）の通りである。
【化１１】
0003689815.tif 000002
式中、Ｉは二座配位子の構成要素である。
【００１４】
L3は下記式（3）に示す三座配位子である。式中、XとYはそれぞれCHまたはNから選ばれ、ＩＩ及びＩＩＩはそれぞれアリール、置換基を有するアリール、ヘテロアリールまたは置換基を有するヘテロアリールを表す。前記置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、テロアリール等が挙げられる。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。
【００１５】
【化１２】
0003689815.tif 000003
X=CH, Y=Nの場合にはL3の構造式は下記式（3-1）に示す通りである。
【化１３】
0003689815.tif 000004
X=Y=CHの場合にはL3の構造式は下記式（3-2）に示す通りである。
【化１４】
0003689815.tif 000005
X=Y=Nの場合はL3の構造式は下記式（3-3）に示す通りである。
【化１５】
0003689815.tif 000006
【００１６】
以下に挙げたのは本発明において好ましい錯体の構造である。しかし、本発明はそれらだけに限定されない。
第ｉ群〜第ｉｉｉ群
L2は式（2-1）に示したように二座配位子であり、8−オキシキノリン、置換基を有する8-オキシキノリン、4-ヒドロキシ-1,5-ナフチリジン、置換基を有する4-ヒドロキシ-1、5−ナフチリジン、5-ヒドリキシ-キノキサリン、置換基を有する5-ヒドロキシ-キノキサリン、2-(2-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾール、置換基を有する2-(2-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾール、2-(2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾール、置換基を有する2-(2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾール、2-(2-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾール、置換基を有する2-(2-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾール、10-ヒドロキシベンゾキノリン、置換基を有する10-ヒドロキシベンゾキノリン、2-カルボキシ-ピリジンまたは置換基を有する2-カルボキシ-ピリジンから選ばれることができる。前記置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、テロアリール等が挙げられる。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。典型的な構造式は以下である。
【００１７】
【化１６】
0003689815.tif 000007
第ｉ群：
L3は式（3‐1）に示すように三座配位子でＩＩ及びＩＩＩはそれぞれアリール、置換基を有するアリール、ヘテロアリールまたは置換基を有するヘテロアリールを表す。前記置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、テロアリール等が挙げられる。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。ｎは1または2の整数で、Mはアルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、イリジウムから選ぶことができる三価金属である。
【００１８】
【化１７】
0003689815.tif 000008
第ｉｉ群：
L3は式（3‐2）に示すように三座配位子でＩＩ及びＩＩＩはそれぞれアリール、置換基を有するアリール、ヘテロアリールまたは置換基を有するヘテロアリールを表す。前記置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、テロアリール等が挙げられる。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。ｎは1または2の整数で、Mはアルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、イリジウムから選ぶことができる三価金属である。
【００１９】
【化１８】
0003689815.tif 000009
第ｉｉｉ群：
L3は式（3‐3）に示すように三座配位子である。ＩＩおよびＩＩＩはそれぞれアリール、置換基を有するアリール、ヘテロアリールまたは置換基を有するヘテロアリールを表す。前記置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、ヘテロアリール等が挙げられる。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。ｎは1または2の整数で、Mはアルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、イリジウムから選ぶことができる三価金属である。
【００２０】
【化１９】
0003689815.tif 000010
第ｉ群〜第ｉｉｉ群の好ましい金属錯体は表１に示す通りである。
表１：第ｉ群〜第ｉｉｉ群の好ましい金属錯体
【表１】
0003689815.tif 000011
【００２１】
【表２】
0003689815.tif 000012
【００２２】
【表３】
0003689815.tif 000013
【００２３】
【表４】
0003689815.tif 000014
【００２４】
【表５】
0003689815.tif 000015
【００２５】
【表６】
0003689815.tif 000016
【００２６】
【表７】
0003689815.tif 000017
【００２７】
表１中の幾つかの好ましい錯体の化学構造式は以下の通りである：
【化２０】
0003689815.tif 000018
【００２８】
【化２１】
0003689815.tif 000019
【００２９】
第ｉｖ群〜第ｖｉ群
その中、L2は二個の酸素原子を含む二座配位子である。構造式（2-2）に示すようにL2はβ -ジケトン、置換基を有するジケトン、エノール、置換基を有するエノール、β -ジケトンの誘導体から選ばれる。
【化２２】
0003689815.tif 000020
典型的な構造式は以下の通りである。
【化２３】
0003689815.tif 000021
【００３０】
前記置換基R1、R2、 R3、 R4、 R5、 R6、R7および R8  はそれぞれ独立して炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、ヘテロアリール等から選択される。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。
【００３１】
第ｉｖ群：
L3は式（3‐1）に示すように三座配位子でＩＩ及びＩＩＩはそれぞれアリール、置換基を有するアリール、ヘテロアリールまたは置換基を有するヘテロアリールを表す。前記置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、テロアリール等が挙げられる。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。ｎは1または2の整数で、Mはアルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、イリジウムから選ぶことができる三価金属である。
【００３２】
【化２４】
0003689815.tif 000022
【００３３】
第ｖ群：
L3は式（3‐2）に示すように三座配位子でＩＩ及びＩＩＩはそれぞれアリール、置換基を有するアリール、ヘテロアリールまたは置換基を有するヘテロアリールを表す。前記置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、ヘテロアリール等が挙げられる。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。ｎは1または2の整数で、Mはアルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、イリジウムから選ぶことができる三価金属である。
【化２５】
0003689815.tif 000023
【００３４】
第ｖｉ群：
L3は式（3‐3）に示すように三座配位子でＩＩ及びＩＩＩはそれぞれアリール、置換基を有するアリール、ヘテロアリールまたは置換基を有するヘテロアリールを表す。前記置換基としては、例えば、炭素数1〜8のアルキル、ハロゲン原子、シアン、アミノ、アミド、スルホニル、カルボニル、アリール、アルコキシ、ヘテロアリール等が挙げられる。また、前記ヘテロアリールとしては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリミジン等が挙げられる。ｎは1または2の整数で、Mはアルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、イリジウムから選ぶことができる三価金属である。
【化２６】
0003689815.tif 000024
【００３５】
第ｉｖ群〜第ｖｉ群の好ましい金属錯体は表２に示す通りである。
表２：第ｉｖ群〜第ｖｉ群の好ましい金属錯体
【表８】
0003689815.tif 000025
【００３６】
【表９】
0003689815.tif 000026
【００３７】
【表１０】
0003689815.tif 000027
【００３８】
【表１１】
0003689815.tif 000028
【００３９】
【表１２】
0003689815.tif 000029
【００４０】
【表１３】
0003689815.tif 000030
【００４１】
【表１４】
0003689815.tif 000031
【００４２】
【表１５】
0003689815.tif 000032
【００４３】
表２中の幾つかの好ましい錯体の化学構造式は以下の通りである：
【化２７】
0003689815.tif 000033
【００４４】
本発明の有機EL材料の作製には有機溶剤の中において合成する方法が用いられる。手順は二つある。一つは相応する三座配位子の合成、もう一つは目的錯体の合成である。
まず、三座配位子を合成する。式（3-1）の三座配位子の合成はシッフ塩基を配位子とする。オルトヒドロキシアリールアルデヒドとオルトヒドロキシアリールアミンを化学量比で固相直接混合して加熱反応またはアルコール溶剤に加熱還流反応させる。対応するシッフ塩基の粗製品を得られる。その後有機溶剤の中に再結晶の方法を取れば簡単に純度の高い製品を得られる。式（3-2）の三座配位子の合成はstilbene法（参考資料New Journal of chemistry, 25（5）, 2001; Bull Soc. Chim. FR. 958,1967）、式（3-3）の三座配位子の合成はWillstatter法を取った。（参考資料Anal. Chem., 35,1144）。
次は目的錯体の合成である。三価金属（例えばガリウム、アルミニウム、インジウム）の無機塩と対応する配位子を使ってアルコールと水の中に入れアルカリを加えることによって生成物をコントロールする。粗製品をトレー昇華(train sublimation)する方法でさらに純度の高い製品を得られる。
【００４５】
本発明の材料は優れた発光性と膜化性を有している。本発明により作製した有機EL素子は高輝度、高効率の性能を発揮できる。この材料は緑、黄色、赤色の光を出し、且つこれらの緑、黄色、赤色の光は一部が珍しいものである。実験の検証により、本発明の材料を単独に発光層としても染料をドープして主体材としても作製した有機EL素子は高い輝度と発光効率を有している。本発明の材料を主体材にして赤光の染料、例えば4,4-ジシアノメチレン-2-メチル-6-(p-ジメチルアミノスチリル)-4H-ピラン（DCM）系及びその誘導体、をドープした場合飽和の赤色光の放射が得られる。
【００４６】
分子設計の側面から言えば、金属錯体構造式に三座配位子を導入することは、有機EL材料に斬新な領域を開いた。中心金属原子と配位子の変換を通じて一種の単分子または双分子の有機金属錯体を得られる。これらの材料は高い発光効率と良好な膜化性を有している。特に先に述べた第ｉｖ組〜第ｖｉ組の材料は配位子にジケトンを導入した場合、Alq3と同様な発光性能を有するだけでなく、優れた膜化性能をも表した。
【００４７】
以下、具体的な例を挙げて本発明を説明する。
【実施例】
実施例1
ビス[（8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム（ＩＩＩ）]（錯体ｉ-１）の調製。
配位子サリチリデン-o-ヒドロキシアニリンの合成：
サリチリデン1.22g（0.01モル）、およびo-ヒドロキシアニリン1.09g（0.01モル）を反応瓶に加えて直接加熱し、赤い物質を生成する。反応終了後エタノールを用いて再結晶させ針状の生成物を得る。これはサリチリデン−o-ヒドロキシアニリンである。収率は85%である。
攪拌装置をつけた三口フラスコに無水三塩化ガリウム（GaCl3）0.88g（0.005モル）のアルコール溶液20mLを入れる。8-オキシキノリン0.73g（0.005モル）をエタノール20mLとピペリジン0.43g（0.005モル）の混合液に入れてそれを攪拌しながらゆっくりと前記溶液に注入する。注入後にも5分間攪拌し続ける。o-ヒドロキシアニリン1.065g（0.005モル）を完全に100ｍLエタノールと0.85g（0.01モル）のピペリジンの混合液に溶解し、前記反応溶液に攪拌しながらゆっくりと注入する。注入後も1時間攪拌し続ける。その後暗いところに置く。最後にこの溶液に同体積の脱イオン水を加え、すぐに綿状の沈澱物を発生せしめる。それを冷蔵庫に10時間入れ固体物を濾過して取り出す。赤外線ランプの下で乾燥して粗製品を得る。収率は85％である。再度昇華して純化しオレンジ色の固体を得る。即ち（ビス[（8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム（ＩＩＩ）]の純製品である。マススペクトル分析：ｍ/e、850,425。元素分析の結果はC：62.28％、H：3.52％、N： 6.52％、O：11.53％で、理論値のC：62.13％、H：3.51％、N：6.52％、O：11.53％とほぼ一致する。
【００４８】
実施例2
ビス[（8-オキシキノリン）（2-ヒドロキシ-1-ナフトアルデヒド-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム（ＩＩＩ）]（錯体ｉ-2）の調製。
2-ヒドロキシ-1-ナフトアルデヒドによって2-ヒドロキシ-サリチリデンを替えた以外は、実施例１の錯体ｉ-１と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.71gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、950,475。元素分析：実験測定値はC：65.60％、H：3.49％、N：5.80％であり、理論値はC：65.68％、H：3.58％、N：5.89%である。
【００４９】
実施例3
ビス[（8-オキシキノリン）（サリチリデン-2-ナフチルアミン）ガリウム（ＩＩＩ）]（錯体ｉ-４）の調製。
2-ヒドロキシ-1-ナフチルアミンによって2-ヒドロキシアニリンを替えた以外は、錯体ｉ-１と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.63gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、954,477；元素分析：実験測定値はC：65.77％、H：3.65％、N：6.25％であり、理論値はC：65.72％、H：3.61％、N：6.30％である。
【００５０】
実施例4
ビス[（4-メチル-8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉ-5）の調製。
4-メチル-8-オキシキノリンによって8-オキシキノリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉ-１と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.42gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、793。元素分析：実験測定値はC：69.46％、H：4.31％、N：6.92％であり、理論値はC：69.56％、H：4.32％、N：6.98％である。
【００５１】
実施例5
ビス[（5-フルオロ-8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉ-6）の調製。
5-フルオロ-8-オキシキノリンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.32gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、886。元素分析：実験測定値はC：59.52％、H：4.32％、N：6.30％であり、理論値はC：59.59％、H：4.29％、N：6.32％である。
【００５２】
実施例6
ビス[（2-(2-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾール）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉ-7）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.83gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、982。元素分析：実験測定値はC：63.39％、H：3.40％、N：5.62％であり、理論値はC：63.41％、H：3.46％、N：5.69％である。
【００５３】
実施例7
ビス[（4-ヒドロキシ-1,5-ナフチリジン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉ-9）の調製。
4-ヒドロキシ-1,5-ナフチリジンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.24gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、852,426。元素分析：実験測定値はC：59.10％、H：3.20％、N：9.81％であり、理論値はC：59.15％、H：3.29％、N：9.86％である。
【００５４】
実施例8
（4-ヒドロキシ-1,5-ナフチリジン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム（錯体ｉ-10）の調製。
4-ヒドロキシ-1,5-ナフチリジンによって8-オキシキノリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.87gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、766。元素分析：実験測定値はC：65.89％、H：3.56％、N：11.09％であり、理論値はC：65.80％、H：3.66％、N：10.97％である。
【００５５】
実施例9
ビス[（5-ヒドロキシ-キノキサリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉ-12）の調製。
5-ヒドロキシ-キノキサリンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.32gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、852,426。元素分析：実験測定値はC：59.10％、H：3.20％、N：9.81％であり、理論値はC：59.15％、H：3.29％、N：9.86％である。
【００５６】
実施例10
（5-ヒドロキシ-キノキサリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム（錯体ｉ-13）の調製。
5-ヒドロキシ-キノキサリンによって8-オキシキノリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.87gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、766。元素分析：実験測定値はC：65.89％、H：3.56％、N：11.09％であり、理論値はC：65.80％、H：3.66％、N：10.97％である。
【００５７】
実施例11
ビス[（5-ヒドロキシ-キノキサリン）（2-ヒドロキシ-1-ナフトアルデヒド-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム（ＩＩＩ）]（錯体ｉ-14）の調製。
5-ヒドロキシ-キノキサリンによって8-オキシキノリンを替え、2-ヒドロキシ-1-ナフトアルデヒドによって2-ヒドロキシ-サリチリデンを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.71gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、952。元素分析：実験測定値はC：63.00％、H：3.33％、N：8.75％であり、理論値はC：63.03％、H：3.36％、N：8.82％である。
【００５８】
実施例12
ビス[（2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾール）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉ-15）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.72gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、980,490。元素分析：実験測定値はC：63.65％、H：3.65％、N：8.52％であり、理論値はC：63.67％、H：3.67％、N：8.57％である。
【００５９】
実施例13
（2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾール）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム（錯体ｉ-16）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾールによって8-オキシキノリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.76gで収率は79%である。マススペクトル分析：ｍ/e、447。元素分析：実験測定値はC：69.75％、H：3.90％、N：9.25％であり、理論値はC：69.80％、H：4.03％、N：9.40％である。
【００６０】
実施例14
ビス[（2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾール）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉ-19）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉ-１と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.80gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、1014。元素分析：実験測定値はC：61.50％、H：3.36％、N：5.50％であり、理論値はC：61.54％、H：3.35％、N：5.52％である。
【００６１】
実施例15
ビス[（2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾール）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉ-20）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾールによって8-オキシキノリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.38gで収率は74%である。マススペクトル分析：ｍ/e、928。元素分析：実験測定値はC：67.35％、H：3.49％、N：5.88％であり、理論値はC：67.24％、H：3.66％、N：6.03％である。
【００６２】
実施例16
（10-ヒドロキシ-ベンゾキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム（錯体ｉ-21）の調製。
10-ヒドロキシ-ベンゾキノリンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.85gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、475。元素分析：実験測定値はC：65.67％、H：3.55％、N：5.87％であり、理論値はC：65.68％、H：3.58％、N：5.89％である。
【００６３】
実施例17
ビス[（２-カルボキシ-ピリジン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉ-22）の調製。
２-カルボキシ-ピリジンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.02gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、806。元素分析：実験測定値はC：56.69％、H：3.16％、N：6.79％であり、理論値はC：56.58％、H：3.23％、N：6.95％である。
【００６４】
実施例18
ビス[（8-ヒドロキシキノリン）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-1）の調製。
8-ヒドロキシキノリン、（2, 2’-ジオールスチルベン）と三塩化ガリウムとをアルコール溶液の中において反応させて錯体ｉｉ-1を調製する。まず、0.05モルの8-ヒドロキシキノリンを完全にピペリジン0.05モルが入ったアルコール溶液100ｍLに溶解し、この溶液を攪拌しながらゆっくりと三塩化ガリウム0.5モルが入ったアルコール溶液に注入する。0.01モル（2, 2’-ジオールスチルベン）と0.02モルピペリジンを500mLアルコール溶液に完全溶解し、これを攪拌しながら前記溶液にゆっくりと注入する。約1時間この混合液を攪拌し続けた後冷却し、室温になったら暗いところに約1時間放置する。そしてこの溶液に同様体積の脱イオン水を加え、すぐ大量の赤い綿状の沈澱物を発生せしめる。それを濾過してアルコールで洗浄し赤外線ランプの下で乾燥する。得られた粉末生成物は紫外線ランプの下で良好な赤い蛍光効率を示した。トレー昇華、純化を経て錯体ｉｉ-1の純生成物が得られる。
純化して得られた生成物は3.30ｇ、収率78%、マススペクトル分析：ｍ/ｅ、848。元素分析：実験測定値はＣ：65.16％、Ｈ：3.85%、Ｎ：3.25%であり、理論値はＣ：65.14%、Ｈ：3.80％、Ｎ：3.30%である。
【００６５】
実施例19
ビス[（4-メチル-8-ヒドロキシキノリン）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-4）の調製。
4-メチル-8-ヒドロキシキノリンによって8-ヒドロキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-１と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.37gで収率は77%である。マススペクトル分析：ｍ/e、876。元素分析：実験測定値はC：65.81％、H：4.16％、N：3.15％であり、理論値はC：65.79％、H：4.14％、N：3.20％である。
【００６６】
実施例20
ビス[（5-フルオロ-8-ヒドロキシキノリン）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-6）の調製。
5-フルオロ-8-ヒドロキシキノリンによって8-ヒドロキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-１と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.31gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、884。元素分析：実験測定値はC：62.53％、H：3.46％、N：3.14％であり、理論値はC：62.49％、H：3.42％、N：3.17％である。
【００６７】
実施例21
ビス[（２-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾール）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-8）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾールによって8-ヒドロキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.72gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、980。元素分析：実験測定値はC：66.24％、H：3.58％、N：2.87％であり、理論値はC：66.16％、H：3.70％、N：2.85％である。
【００６８】
実施例22
ビス[（4-ヒドロキシ-1，5-ナフチリジン）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-10）の調製。
4-ヒドロキシ-1、5-ナフチリジンによって8-ヒドロキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.23gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、850。元素分析：実験測定値はC：62.28％、H：3.41％、N：6.64％であり、理論値はC：62.16％、H：3.55％、N：6.58％である。
【００６９】
実施例23
ビス[（5-ヒドロキシ-キノキサリン）（2, 2’-ジオールスチルベン）インジウム]（錯体ｉｉ-11）の調製。
5-ヒドロキシ-キノキサリンによって8-ヒドロキシキノリンを替え、三塩化インジウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.31gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、940。元素分析：実験測定値はC：59.11％、H：3.23％、N：6.31％であり、理論値はC：59.04％、H：3.31％、N：6.27％である。
【００７０】
実施例24
ビス[（２-（2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾール）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-13）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.81gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、978。元素分析：実験測定値はC：66.26％、H：3.86％、N：5.85％であり、理論値はC：66.29％、H：3.91％、N：5.73％である。
【００７１】
実施例25
ビス[（２-（o-ヒドロキシフェニル）-N-フェニル-ベンゾイミダゾール）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-15）の調製。
2-（o-ヒドロキシフェニル）-N-フェニル-ベンゾイミダゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は4.29gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、1131。元素分析：実験測定値はC：70.10％、H：3.85％、N：4.89％であり、理論値はC：70.12％、H：4.10％、N：4.96％である。
【００７２】
実施例26
ビス[（２-（o-ヒドロキシフェニル）-ベンゾチアゾール）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-16）の調製。
2-（o-ヒドロキシフェニル）-ベンゾチアゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.78gで収率は74%である。マススペクトル分析：ｍ/e、1023。元素分析：実験測定値はC：64.10％、H：3.49％、N：2.85％であり、理論値はC：64.06％、H：3.58％、N：2.77％である。
【００７３】
実施例27
（10-ヒドロキシベンゾキノリン）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム（錯体ｉｉ-17）の調製。
10-ヒドロキシベンゾキノリンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.89gで収率は80%である。マススペクトル分析：ｍ/e、474。元素分析：実験測定値はC：68.45％、H：3.78％、N：2.89％であり、理論値はC：68.39％、H：3.83％、N：2.95％である。
【００７４】
実施例28
ビス[（2-カルボキシ-ピリジン）（2, 2’-ジオールスチルベン）ガリウム]（錯体ｉｉ-18）の調製。
カルボキシによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.05gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、804。元素分析：実験測定値はC：59.72％、H：3.46％、N：3.51％であり、理論値はC：59.75％、H：3.51％、N：3.48％である。
【００７５】
実施例29
ビス[（8-オキシキノリン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-1）の調製。
2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼンによってサリチリデン-o-ヒドロキシアニリンを替えた以外は、錯体ｉｉ-１と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.19gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、852。元素分析：実験測定値はC：59.10％、H：3.36％、N：9.91％であり、理論値はC：59.20％、H：3.31％、N：9.86％である。
【００７６】
実施例30
ビス[（4-メチル-8-オキシキノリン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｉｉｉ-3）の調製。
4-メチル-8-オキシキノリンによって8-オキシキノリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.43gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、795。元素分析：実験測定値はC：62.84％、H：3.63％、N：10.15％であり、理論値はC：63.12％、H：3.73％、N：10.01％である。
【００７７】
実施例31
ビス[（5-フルオロ-8-オキシキノリン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-5）の調製。
5-フルオロ-8-オキシキノリンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.42gで収率は77%である。マススペクトル分析：ｍ/e、888。元素分析：実験測定値はC：56.96％、H：2.85％、N：9.47％であり、理論値はC：56.80％、H：2.95％、N：9.46％である。
【００７８】
実施例32
ビス[（2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾール）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-6）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾオキサゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.64gで収率は74%である。マススペクトル分析：ｍ/e、984。元素分析：実験測定値はC：60.89％、H：3.25％、N：8.65％であり、理論値はC：61.01％、H：3.28％、N：8.54％である。
【００７９】
実施例33
ビス[（4-ヒドロキシ-1,5-ナフチリジン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-9）の調製。
4-ヒドロキシ-1,5-ナフチリジンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.24gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、854。元素分析：実験測定値はC：56.26％、H：2.98％、N：13.25％であり、理論値はC：56.25％、H：3.07％、N：13.12％である。
【００８０】
実施例34
ビス[（5-ヒドロキシ-キノキサリン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-10）の調製。
5-ヒドロキシ-キノキサリンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.28gで収率は77%である。マススペクトル分析：ｍ/e、854。元素分析：実験測定値はC：56.26％、H：2.98％、N：13.25Ｂ％であり、理論値はC：56.25％、H：3.07％、N：13.12％である。
【００８１】
実施例35
ビス[（2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾール）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-12）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンズイミダゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.82gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、982。元素分析：実験測定値はC：60.89％、H：3.56％、N：11.45％であり、理論値はC：61.14％、H：3.49％、N：11.41％である。
【００８２】
実施例36
ビス[（2-（o-ヒドロキシフェニル）-N-フェニル-ベンゾイミダゾール）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-14）の調製。
2-（o-ヒドロキシフェニル）-N-フェニル-ベンゾイミダゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は4.37gで収率は77%である。マススペクトル分析：ｍ/e、1135。元素分析：実験測定値はC：65.71％、H：3.64％、N：9.95％であり、理論値はC：65.64％、H：3.73％、N：9.88％である。
【００８３】
実施例37
ビス[（2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾール）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-15）の調製。
2-（2-ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾールによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.86gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、1016。元素分析：実験測定値はC：58.89％、H：3.26％、N：8.33％であり、理論値はC：59.08％、H：3.17％、N：8.29％である。
【００８４】
実施例38
（10-ヒドロキシベンゾキノリン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム（錯体ｉｉｉ-16）の調製。
10-ヒドロキシベンゾキノリンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.88gで収率は79%である。マススペクトル分析：ｍ/e、476。元素分析：実験測定値はC：62.89％、H：3.45％、N：8.79％であり、理論値はC：63.06％、H：3.39％、N：8.83％である。
【００８５】
実施例39
ビス[（2-カルボキシ-ピリジン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｉｉｉ-17）の調製。
2-カルボキシ-ピリジンによって8-オキシキノリンを替えた以外は、錯体ｉｉｉ-2と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.99gで収率は74%である。マススペクトル分析：ｍ/e、808。元素分析：実験測定値はC：53.45％、H：2.84％、N：10.62％であり、理論値はC：53.51％、H：2.99％、N：10.40％である。
【００８６】
実施例40
ビス[（アセチルアセトン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉｖ-1）の調製。
アセチルアセトンによって8-オキシキノリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.43gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、676。元素分析：実験測定値はC：64.05％、H：5.12％、N：4.15％であり、理論値はC：63.90％、H：5.06％、N：4.14％である。
【００８７】
実施例41
ビス[（アセチルアセトン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（[Ga(saph)acac]2、錯体ｉｖ-2）の調製。
三塩化ガリウムによって塩化アルミニウムを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.74gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、762。元素分析：実験測定値はC：56.73％、H：4.496％、N：3.67％であり、理論値はC：56.12％、H：4.166％、N：3.28％である。
【００８８】
実施例42
ビス[（アセチルアセトン）（サリチルオルトソナフチルアミンフェノル）ガリウム]（錯体ｉｖ-3）の調製。
サリチリデン-2-ヒドロキシ-1-ナフチルアミンによってサリチリデン-o-ヒドロキシアニリンを替えた以外は、錯体ｉｖ-2と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.78gで収率は73%である。マススペクトル分析：ｍ/e、762。元素分析：実験測定値はC：56.82％、H：4.34％、N：3.72％であり、理論値はC：56.732％、H：4.49％、N：3.67％である。
【００８９】
実施例43
ビス[（2,2−ジメチル-3,5-ヘキサンジオン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉｖ-5）の調製。
2,2−ジメチル-3,5-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.89gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、760。元素分析：実験測定値はC：66.41％、H：5.89％、N：3.67％であり、理論値はC：66.30％、H：6.09％、N：3.68％である。
【００９０】
実施例44
ビス[（2−メチル-3,5-ヘキサンジオン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉｖ-6）の調製。
2−ジメチル-3,5-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.74gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、732。元素分析：実験測定値はC：65.64％、H：5.62％、N：3.91％であり、理論値はC：65.56％、H：5.77％、N：3.82％である。
【００９１】
実施例45
ビス[（2,2,6,6−テトラメチル-3,5-ヘキサンジオン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウ]（錯体ｉｖ-8）の調製。
2,2,6,6−テトラメチル-3,5-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.12gで収率は74%である。マススペクトル分析：ｍ/e、844。元素分析：実験測定値はC：68.34％、H：6.85％、N：3.27％であり、理論値はC：68.23％、H：6.91％、N：3.31％である。
【００９２】
実施例46
ビス[（1,1,1-トリフルオロ-5,5-ジメチル-2,4-ヘキサンジオン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉｖ-9）の調製。
1,1,1-トリフルオロ-4-フェニル-5,5-ジメチル-2,4-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.38gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、953。元素分析：実験測定値はC：52.89％、H：4.15％、N：2.85％であり、理論値はC：52.73％、H：4.27％、N：2.91％である。
【００９３】
実施例47
ビス[（1,1,1-トリフルオロ-4-フェニル-2,4-ブタンジオン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉｖ-11）の調製。
1,1,1-トリフルオロ-4-フェニル-2,4-ブタンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.32gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、924。元素分析：実験測定値はC：72.85％、H：4.46％、N：2.89％であり、理論値はC：72.72％、H：4.57％、N：3.02％である。
【００９４】
実施例48
ビス[（ジベンゾイルメタン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉｖ-12）の調製。
ジベンゾイルメタンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.51gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、924。元素分析：実験測定値はC：72.72％、H：4.57％、N：3.02％であり、理論値はC：71.95％、H：4.21％、N：2.93％である。
【００９５】
実施例49
ビス[（テノイルトリフルオロアセトン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉｖ-14）の調製。
テノイルトリフルオロアセトンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.22gで収率は70%である。マススペクトル分析：ｍ/e、920。元素分析：実験測定値はC：54.85％、H：2.87％、N：3.12％であり、理論値はC：54.78％、H：3.06％、N：3.04％である。
【００９６】
実施例50
ビス[（4,4,4-トリフルオロ-1-（2-フリル）-1,３-ブタンジオン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（錯体ｉｖ-16）の調製。
4,4,4-トリフルオロ-1-（2-フリル）-1,３-ブタンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.33gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、973。元素分析：実験測定値はC：51.72％、H：2.81％、N：2.91％であり、理論値はC：51.56％、H：2.95％、N：2.86％である。
【００９７】
実施例51
（3-（9-アントリル）-ペンタン-2,4-ジオン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム（錯体ｉｖ-21）の調製。
3-（9-アントリル）-ペンタン-2,4-ジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.93gで収率は73%である。マススペクトル分析：ｍ/e、528。元素分析：実験測定値はC：75.05％、H：5.06％、N：2.59％であり、理論値はC：74.98％、H：5.14％、N：2.64％である。
【００９８】
実施例52
（1-フェニル-3-メチル-4-アセチル-5-ピラゾロン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム（錯体ｉｖ-22）の調製。
1-フェニル-3-メチル-4-アセチル-5-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.68gで収率は74%である。マススペクトル分析：ｍ/e、454。元素分析：実験測定値はC：66.12％、H：4.58％、N：9.36％であり、理論値はC：66.07％、H：4.65％、N：9.24％である。
【００９９】
実施例53
（1-フェニル-3-メチル-4-フェニルアセチル-5-ピラゾロン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム（錯体ｉｖ-23）の調製。
1-フェニル-3-メチル-4-フェニルアセチル-5-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.01gで収率は78%である。マススペクトル分析：ｍ/e、516。元素分析：実験測定値はC：69.85％、H：4.36％、N：8.13％であり、理論値はC：69.76％、H：4.48％、N：8.13％である。
【０１００】
実施例54
（1-フェニル-3-メチル-4-トリフルオロメチルアセチル-5-ピラゾロン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム（錯体ｉｖ-24）の調製。
1-フェニル-3-メチル-4-トリフルオロメチルアセチル-5-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.91gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、509。元素分析：実験測定値はC：59.02％、H：3.68％、N：8.27％であり、理論値はC：58.94％、H：3.75％、N：8.24％である。
【０１０１】
実施例55
ビス[（2-ヒドロキシ-5-トリフルオロメトキシ-ベンザルデヒド）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（錯体ｉｖ-26）の調製。
2-ヒドロキシ-5-トリフルオロメトキシ-ベンザルデヒドによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｉｖ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.83gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、746。元素分析：実験測定値はC：67.69％、H：4.25％、N：3.76％であり、理論値はC：67.56％、H：4.31％、N：3.75％である。
【０１０２】
実施例56
ビス[（アセチルアセトン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-1）の調製。
アセチルアセトンによって8-オキシノリンを替え、2，2’-ジオールスチルベンによってサリチリデン-ｏ-ヒドロキシアニリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.78gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、774。元素分析：実験測定値はC：67.80％、H：5.26％であり、理論値はC：67.65%、H:5.37％である。
【０１０３】
実施例57
ビス[（2,2-ジメチル-3,5-ヘキサンジオン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-4）の調製。
2,2-ジメチル-3,5-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.69gで収率は71%である。マススペクトル分析：ｍ/e、758。元素分析：実験測定値はC：69.85％、H：6.26％であり、理論値はC：69.24％、H：6.37％である。
【０１０４】
実施例58
ビス[（2-メチル-3,5-ヘキサンジオン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-5）の調製。
2-メチル-3,5-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.73gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、730。元素分析：実験測定値はC：69.89％、H：6.10％であり、理論値はC：69.03％、H：6.06％である。
【０１０５】
実施例59
ビス[（2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘキサンジオン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-7）の調製。
2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.03gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、842。元素分析：実験測定値はC：71.36％、H：1.15％であり、理論値はC：71.24％、H：7.17％である。
【０１０６】
実施例60
ビス[（1,1,1-トリフルオロ-5,5-ジメチル-2,4-ヘキサンジオン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-8）の調製。
1,1,1-トリフルオロ-5,5-ジメチル-2,4-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.20gで収率は74%である。マススペクトル分析：ｍ/e、866。元素分析：実験測定値はC：61.16％、H：4.69％であり、理論値はC：60.97％、H：4.88％である。
【０１０７】
実施例61
ビス[（1,1,1-トリフルオロ-4-フェニル-2,4-ブタンジオン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-10）の調製。
1,1,1-トリフルオロ-4-フェニル-2,4-ブタンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.44gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、991。元素分析：実験測定値はC：57.93％、H：3.28％であり、理論値はC：57.85％、H：3.32％である。
【０１０８】
実施例62
ビス[（ジベンゾイルメタン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-11）の調製。
ジベンゾイルメタンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.45gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、922。元素分析：実験測定値はC：75.56％、H：4.69％であり、理論値はC：75.48％、H：4.80％である。
【０１０９】
実施例63
ビス[（テノイルトリフルオロアセトン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-14）の調製。
テノイルトリフルオロアセトンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.93gで収率は71%である。マススペクトル分析：ｍ/e、1108。元素分析：実験測定値はC：75.83％、H：5.19％、N：2.46％であり、理論値はC：75.79％、H：5.27％、N：2.52％である。
【０１１０】
実施例64
ビス[（4,4,4-トリフルオロ-1-（2-フリル）-1,3-ブタンジオン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-15）の調製。
4,4,4-トリフルオロ-1-（2-フリル）-1,3-ブタンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.18gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、886。元素分析：実験測定値はC：59.72％、H：3.32％であり、理論値はC：59.60％、H：3.41％である。
【０１１１】
実施例65
[3-（（9-アントリル）-ペンタン-2,4-ジオン）（2, 2’-ジオールスチルベン）]アルミニウム（錯体v-19）の調製。
3-（9-アントリル）-ペンタン-2,4-ジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.97gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、527。元素分析：実験測定値はC：77.52％、H：5.26％であり、理論値はC：77.40％、H：5.34％である。
【０１１２】
実施例66
（1-フェニル-3-メチル-4-アセチル-5-ピラゾロン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム（錯体v-21）の調製。
1-フェニル-3-メチル-4-アセチル-5-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.63gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、453。元素分析：実験測定値はC：68.87％、H：4.72％、N：6.23％であり、理論値はC：68.86％、H：4.88％、N：6.17％である。
【０１１３】
実施例67
（1-フェニル-3-メチル-4-フェニルアセチル-5-ピラゾロン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム（錯体v-22）の調製。
1-フェニル-3-メチル-4-フェニルアセチル-5-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.95gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、515。元素分析：実験測定値はC：72.38％、H：4.51％であり、理論値はC：72.22％、H：4.69％である。
【０１１４】
実施例68
（1-フェニル-3-メチル-4-トリフルオロメチルアセチル-5-ピラゾロン）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム（錯体v-23）の調製。
1-フェニル-3-メチル-4-トリフルオロメチルアセチル-5-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.83gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、508。元素分析：実験測定値はC：61.50％、H：3.79％、N：5.54％であり、理論値はC：61.42％、H：3.96％、N：5.51％である。
【０１１５】
実施例69
ビス[（2-ヒドロキシ-5-（トリフルオロメトキシ）ベンザルデヒド）（2, 2’-ジオールスチルベン）アルミニウム]（錯体v-25）の調製。
2-ヒドロキシ-5-トリフルオロメトキシベンズアルデヒトによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体v-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.21gで収率は73%である。マススペクトル分析：ｍ/e、880。元素分析：実験測定値はC：62.77％、H：3.52％であり、理論値はC：62.73％、H：3.66％である。
【０１１６】
実施例70
ビス[（アセチルアセトン）（2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-1）の調製。
アセチルアセトンによって8-オキシキノリンを替え、2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼンによってサリチリデン-o-ヒドロキシアニリンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.54gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、678。元素分析：実験測定値はC：60.12％、H：4.62％、N：8.29％であり、理論値はC：60.17％、H：4.75％、N：8.25％である。
【０１１７】
実施例71
ビス[（2,2-ジメチル-3,5-ヘキサンジオン）（2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-4）の調製。
2,2-ジメチル-3,5-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.70gで収率は71%である。マススペクトル分析：ｍ/e、762。元素分析：実験測定値はC：63.09％、H：5.74％、N：7.38％であり、理論値はC：62.98％、H：5.81％、N：7.34％である。
【０１１８】
実施例72
ビス[（2-メチル-3,5-ヘキサンジオン）（2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-5）の調製。
2-メチル-3,5-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は2.64gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、734。元素分析：実験測定値はC：62.28％、H：5.35％、N：7.69％であり、理論値はC：62.12％、H：5.48％、N：7.62％である。
【０１１９】
実施例73
ビス[（2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオン）（2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-7）の調製。
2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.21gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、846。元素分析：実験測定値はC：65.38％、H：6.54％、N：6.74％であり、理論値はC：65.23％、H：6.66％、N：6.61である。
【０１２０】
実施例74
ビス[（1,1,1-トリフルオロ-5,5-ジメチル-2,4-ヘキサンジオン）（2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム]（錯体ｖｉ-8）の調製。
1,1,1-トリフルオロ-5,5-ジメチル-2,4-ヘキサンジオンによってアセチルアセトンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.08gで収率は71%である。マススペクトル分析：ｍ/e、955。元素分析：実験測定値はC：50.23％、H：3.91％、N：5.79％であり、理論値はC：50.19％、H：4.07％、N：5.85％である。
【０１２１】
実施例75
ビス[（1,1,1-トリフルオロ-4-フェニル-2,4-ブタンジオン）（2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-10）の調製。
1,1,1-トリフルオロ-4-フェニル-2,4-ブタンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.32gで収率は73%である。マススペクトル分析：ｍ/e、910。元素分析：実験測定値はC：58.10％、H：3.28％、N：6.18％であり、理論値はC：58.03％、H：3.32％、N：6.15％である。
【０１２２】
実施例76
ビス[（ジベンゾイルメタン）（2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-11）の調製。
ジベンゾイルメタンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.42gで収率は74%である。マススペクトル分析：ｍ/e、926。元素分析：実験測定値はC：70.02％、H：4.32％、N：6.10％であり、理論値はC：69.97％、H：4.35％、N：6.04％である。
【０１２３】
実施例77
ビス[（テノイルトリフルオルアセトン）（2, 2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-13）の調製。
テノイルトリフルオルアセトンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.45gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、922。元素分析：実験測定値はC：52.14％、H：2.76％、N：6.03％であり、理論値はC：52.06％、H：2.84％、N：6.07％である。
【０１２４】
実施例78
ビス[（4,4,4―トリフルオロ-1-（2-フリル）-1,3-ブタンジオン）（2，2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-14）の調製。
4,4,4トリフルオロ-1-（2-フリル）-1,3-ブタンジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.16gで収率は71%である。マススペクトル分析：ｍ/e、890。元素分析：実験測定値はC：53.86％、H：2.85％、N：6.24％であり、理論値はC：53.94％、H：2.94％、N：6.29％である。
【０１２５】
実施例79
（3-（9-アントリル）-ペンタン-2,4-ジオン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム（錯体ｖｉ-18）の調製。
3-（9-アントリル）-ペンタン-2,4-ジオンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.85gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、516。元素分析：実験測定値はC：63.25％、H：4.68％、N：12.18％であり、理論値はC：63.16％、H：4.64％、N：12.27％である。
【０１２６】
実施例80
（1-フェニル-３-メチル-４-アセチル-５-ピラゾロン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム（錯体ｖｉ-19）の調製。
1-フェニル-３-メチル-４-アセチル-５-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.73gで収率は76%である。マススペクトル分析：ｍ/e、455。元素分析：実験測定値はC：63.15％、H：4.56％、N：12.36％であり、理論値はC：63.29％、H：4.43％、N：12.30％である。
【０１２７】
実施例81
（1-フェニル-３-メチル-４-フェニルアセチル-５-ピラゾロン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）ガリウム（錯体ｖｉ-20）の調製。
1-フェニル-３-メチル-４-フェニルアセチル-５-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替え、塩化アルミニウムによって三塩化ガリウムを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.83gで収率は71%である。マススペクトル分析：ｍ/e、560。元素分析：実験測定値はC：62.23％、H：3.93％、N：9.43％であり、理論値はC：62.15％、H：4.02％、N：9.49％である。
【０１２８】
実施例82
（1-フェニル-３-メチル-４-トリフルオロメチルアセチル-５-ピラゾロン）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム（錯体ｖｉ-21）の調製。
1-フェニル-３-メチル-４-トリフルオロメチルアセチル-５-ピラゾロンによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は1.93gで収率は75%である。マススペクトル分析：ｍ/e、510。元素分析：実験測定値はC：56.58％、H：3.65％、N：10.87％であり、理論値はC：56.47％、H：3.55％、N：10.97％である。
【０１２９】
実施例83
ビス[（2-ヒドロキシ-5-（トリフルオロメトキシ）ベンザルデヒド）（2,2’-ジヒドロキシアゾベンゼン）アルミニウム]（錯体ｖｉ-23）の調製。
2-ヒドロキシ-5-（トリフルオロメトキシ）ベンザルデヒドによってアセチルアセトンを替えた以外は、錯体ｖｉ-1と同様にして調製する。純化して得られた生成物は3.18gで収率は72%である。マススペクトル分析：ｍ/e、884。元素分析：実験測定値はC：56.89％、H：3.24％、N：6.25％であり、理論値はC：57.02％、H：3.19％、N：6.33％である。
【０１３０】
［蒸着法によってEL素子を作製する実施例］
実施例84
有機発光媒質層は二層の有機材料層を含む。一つは正孔輸送層で他の一つは同時に電子輸送層として用いる発光層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）前記基板を真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室に入れ、ITOに400オングストロームの正孔輸送材N, N'-ビス-(1-ナフチル)-N, N'-ジフェニル-1, 1' -ビフェニル-4,4'-ジアミン（NPB）を蒸着する。蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｃ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で前記基板の正孔輸送層に実施例１で作製したビス[（8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（Ga2（saph）2q2）を400オングストローム蒸着して電子輸送層と発光層材料とする。蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｄ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の発光層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
作製されたEL素子は20mA/cm2の電流での輝度が220cd/m2で、25Vの電圧での最大発光輝度が4400 cd/m2、発光の波長が578nmである。
【０１３１】
実施例85
有機発光媒質層は二層の有機材料層を含む。一つは正孔輸送層で他の一つはドープ発光層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）前記基板を真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室に入れ、ITOに400オングストロームの正孔輸送材NPBを蒸着する。蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｃ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で前記基板の正孔輸送層に双源蒸着で4-(ジシアノメチレン)-2-(ｔ-ブチル)-6-(1,1,7,7-テトラマルチユロリジン-9-ビニル)-4H-ピラン（DCJTB）をドープしたビス[（8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム]（Ga2（saph）2q2）を600オングストローム作製し発光層材料とする。ドープ濃度は0.5％〜10%で蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｄ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の発光層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
DCJTBの（Ga2（saph）2q2）中でのドープ濃度が2.5％であった場合に、作製された素子は20mA/cm2の電流での輝度が103cd/m2で、24Vの電圧での最大発光輝度が2980cd/m2、発光の波長が644nmであった。発光の色は赤で1931 CIE色座標系体での座標はX=0.673，Y=0.325であった。
【０１３２】
実施例86
有機発光媒質層は三層の有機材料層を含む。一つは正孔輸送層で他の一つはドープ発光層、あと一つは電子輸送層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）前記基板を真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室に入れ、ITOに40オングストロームの正孔輸送材NPBを蒸着する。蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｃ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で前記基板の正孔輸送層に双源蒸着で4-(ジシアノメチレン)-2-(ｔ-ブチル)-6-(1,1,7,7-テトラマルチユロリジン-9-ビニル)-4H-ピラン（DCJTB）を600オングストロームドープしたビス[（8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム] （Ga2（saph）2q2）を作製し発光層材料とする。ドープ濃度は0.5％〜10%で蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｄ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で基板の発光層に蒸着して200オングストロームの電子輸送層材Alq3を作製する。蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｅ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の電子輸送層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
DCJTBの（Ga2（saph）2q2）中でのドープ濃度が2.0％であった場合、作製された素子は20mA/cm2の電流での輝度が298cd/m2で、発光の波長が652nmであった。発光の色は赤で1931 CIE色座標系体での座標はX=0.655，Y=0.343であった。
【０１３３】
実施例87
有機発光媒質層は三層の有機材料層を含む。一つは正孔輸送層でもう一つはドープ発光層、他の一つは電子輸送層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）前記基板を真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室に入れ、ITOに400オングストロームの正孔輸送材NPBを蒸着する。蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｃ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で前記基板の正孔輸送層に双源蒸着で4,4-ジシアンメチレン-2-第三級ブチル-6-（1,1,7,7-テトラメチル-ジュロリジン-9-エニル）-4H-ピラン（DCJTB）をドープしたビス[（8-オキシキノリン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）ガリウム] （Ga2（saph）2q2）を600オングストローム作製し発光層材料とする。ドープ濃度は0.5％〜10%で蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｄ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で基板の発光層に蒸着して200オングストロームの電子輸送層材Ga2（saph）2q2を作製する。蒸着速度は0.1〜0.2ｎｍ/秒である。
ｅ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の電子輸送層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
DCJTBの（Ga2（saph）2q2）中でのドープ濃度が1.0％であった場合、素子は20mA/cm2の電流での輝度が438cd/m2で、20Vの電圧での最大発光輝度が7027cd/m2、発光の波長が628nmであった。発光の色は赤で1931 CIE色座標系体での座標はX=0.633，Y=0.364であった。
DCJTBの（Ga2（saph）2q2）中でのドープ濃度が2.0％であった場合、素子は20mA/cm2の電流での輝度が421cd/m2で、20Vの電圧での最大発光輝度が7260cd/m2、発光の波長が640nmであった。発光の色は赤で1931 CIE色座標系体での座標はX=0.675，Y=0.322であった。
【０１３４】
［スピンコーティング法またはインクジェット法によって有機材料層を作製する実施例］
実施例88
有機発光媒質層は二層の有機材料層を含む。一つは正孔輸送と注入層で他の一つは電子輸送と発光層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）Bayer社から購入した導電的なポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）/ポリスチレンスルホンナート（１：１）（PEDOT/PSS）を入れた溶液を正孔注入輸送層材として基板のITO層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｃ）本発明の錯体ｉｖ-1であるビス[（2,2,6,6−テトラメチル-3,5-ヘキサンジオン）（サリチリデン-o-ヒドロキシアニリン）アルミニウム]（[Al（saph）DPM]2）をクロロホルムに溶解する。濃度は1-10mg/mlである。再び基板のPEDOT/PSSにスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｄ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の発光層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を、乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
素子は20mA/cm2の電流での輝度が45cd/m2で、起動電圧は７Vで14Vの電圧での発光輝度が220cd/m2、発光の色は緑で波長が540nmである。
【０１３５】
実施例89
有機発光媒質層は二層の有機材料層を含む。一つは正孔輸送と注入層で他の一つはドープ材を持った発光層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）Bayer社から購入した導電的なポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）/ポリスチレンスルホンナート（１：１）（PEDOT/PSS）を入れた溶液を正孔注入輸送層材として基板のITO層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｃ）5,6,11,12-テトラフェニルナフタセン（ルブレン）をドープした[Al（saph）DPM]2をクロロホルムに溶解する。ドープ濃度は0.5％〜10％（重量）で溶液濃度は1〜10mg/mlである。再び基板のPEDOT/PSSにスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｄ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の発光層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
ドープ濃度が１％であった場合、作製された素子は20mA/cm2の電流での輝度が60cd/m2で、起動電圧は5Vで、17Vの電圧での発光輝度が515cd/m2、発光の色は黄色で波長が550〜560nmである。
【０１３６】
実施例90
有機発光媒質層は三層の有機材料層を含む。一つは正孔注入層で他の一つは正孔輸送層であと一つは電子輸送と発光層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）Bayer社から購入した導電的なポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）/ポリスチレンスルホンナート（１：１）（PEDOT/PSS）を入れた溶液を正孔注入輸送層材として基板のITO層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｃ）1，3，5−三[4- (p-ジメトキシフェニル-アミノ-フェニル)]ベンゼン（TDAPB）のテトラヒドロピラン溶液を正孔注入輸送層材として基板のPEDOT/PSS 層にスピンコーテイング法で作製する。溶液濃度は0.5%〜5重量%である。
ｄ）発光材料[Al（saph）DPM]2をメタノールに溶解する。溶液濃度は5mg/mlである。再び基板の（PEDOT/PSS）/TDAPB層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｅ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の発光層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
素子は20mA/cm2の電流での輝度が60cd/m2で、起動電圧は5Vで、14Vの電圧での最大発光輝度が760cd/m2、発光の色は緑で波長が540nmである。
【０１３７】
実施例91
有機発光媒質層は三層の有機材料層を含む。一つは正孔注入層で他の一つは正孔輸送層であと一つはドープ材を持った発光層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）Bayer社から購入した導電的なポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）/ポリスチレンスルホンナート（１：１）（PEDOT/PSS）を入れた溶液を正孔注入輸送層材として基板のITO層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｃ）TDAPBのテトラヒドロピラン溶液を正孔注入輸送層材として基板のPEDOT/PSS 層にスピンコーテイング法で作製する。溶液濃度は0.5%〜5重量%である。
ｄ）ルブレンをドープした発光材料[Al（saph）DPM]2をメタノールに溶解する。溶液濃度は0.5%〜10重量%である。再び基板の（PEDOT/PSS）/TDAPB層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｅ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の発光層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
ルブレンの[Al（saph）DPM]2によるドープ濃度が2%であった場合、作製された素子は20mA/cm2の電流での輝度が123cd/m2で、起動電圧は5Vで、14Vの電圧での最大発光輝度が1025cd/m2、発光の色は黄色いで波長が550〜560nmである。
【０１３８】
実施例92
有機発光媒質層は三層の有機材料層を含む。一つは正孔注入層で他の一つは正孔輸送層であと一つはドープ材を持った発光層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間置く。
ｂ）Bayer社から購入した導電的なポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）/ポリスチレンスルホンナート（１：１）（PEDOT/PSS）を入れた溶液を正孔注入輸送層材として基板のITO層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｃ）TDAPBのテトラヒドロピラン溶液を正孔注入輸送層材として基板のPEDOT/PSS 層にスピンコーテイング法で作製する。溶液濃度は0.5%〜5重量%である。
ｄ）DCJTBをドープした発光材料[Al（saph）DPM]2をメタノールに溶解する。溶液濃度は0.5%〜10重量%である。再び基板の（PEDOT/PSS）/TDAPB層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｅ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の発光層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
DCJTBの[Al（saph）DPM]2によるドープ濃度が2%であった場合、作製された素子は20mA/cm2の電流での輝度が78cd/m2で、起動電圧は5Vで、14Vの電圧での最大発光輝度が759cd/m2、発光の色は赤で波長が628nmである。
【０１３９】
実施例93
有機発光媒質層は三層の有機材料層を含む。一つは正孔注入層で他の一つは正孔輸送層であと一つはドープ材を持った発光層である。EL素子は以下の方法で作製する。
ａ）ITOアノードによって被覆したガラス基板を市販の洗浄剤で超音波洗浄し、脱イオン水中においてリンスし、トルエン蒸気の中に脱脂してから紫外線ランプとオゾンの中にある程度の時間を置くことになる。
ｂ）Bayer社から購入した導電的なポリ（3,4-エチレンジオキシチオフェン）/ポリスチレンスルホンナート（１：１）（PEDOT/PSS）を入れた溶液を正孔注入輸送層材として基板のITO層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｃ）TDAPBのテトラヒドロピラン溶液を正孔注入輸送層材として基板のPEDOT/PSS 層にスピンコーテイング法で作製する。溶液濃度は0.5%〜5重量%である。
ｄ）キナクリドン（QA）をドープした発光材料[Al（saph）DPM]2をメタノールに溶解する。溶液濃度は0.5%〜10重量%である。再び基板の（PEDOT/PSS）/TDAPB層にスピンコーテイング法で作製する。厚さは500〜1000オングストロームである。
ｅ）真空度1×10−5〜1×10−4Paの真空室の中で引き続き基板の発光層に蒸着して2000オングストロームのカソード層を作製する。このカソード層は蒸着速度比が10：１であるマグネシウム(Mg)と銀(Ag)で構成される。
以上各手順で作製完成したEL素子を乾燥したグローブボックスに密閉包装する。
QAの[Al（saph）DPM]2によるドープ濃度が2%であった場合、作製された素子は20mA/cm2の電流での輝度が79cd/m2で、起動電圧は5Vで14Vの電圧での最大発光輝度が846cd/m2、発光の色は緑で波長が540nmである。
【０１４０】
実施例94
ITOによって被覆したポリエチレンテレフタレート（PET）基板によって、ITOによって被覆したガラス基板を替えた以外は、実施例84と同様にしてEL素子を作製する。
素子は20mA/cm2の電流での輝度が40cd/m2で、起動電圧は7Vで、14Vの電圧での最大発光輝度が250cd/m2、発光の色は緑で波長が540nmである。
【０１４１】
実施例95
ITOによって被覆したPET基板によって、ITOによって被覆したガラス基板を替えた以外は、実施例8５と同様にして素子を作製する。
DCJTBの[Al（saph）DPM]2によるドープ濃度が1%であった場合、作製された素子は20mA/cm2の電流での輝度が78cd/m2で、起動電圧は5Vで、14Vの電圧での最大発光輝度が565cd/m2、発光の色は黄色で波長が550〜560nmである。
【０１４２】
実施例96
ITOによって被覆したPET基板によって、ITOによって被覆したガラス基板を替えた以外は、実施例９２と同様にして素子を作製する。
DCJTBの[Al（saph）DPM]2によるドープ濃度が2%であった場合、作製されたEL素子は35mA/cm2の電流での輝度が78cd/m2で、起動電圧は5Vで、14Vの電圧での最大発光輝度が659cd/m2、発光の色は赤で波長が628nmである。
【０１４３】
実施例97
ITOによって被覆したPET基板によって、ITOによって被覆したガラス基板を替えた以外は、実施例93と同様にして素子を作製する。
QAの[Al（saph）DPM]2によるドープ濃度が2%であった場合、作製されたEL素子は20mA/cm2の電流での輝度が75cd/m2で、起動電圧は5Vで、14Vの電圧での最大発光輝度が764cd/m2、発光の色は緑で波長が540nmである。
【０１４４】
実施例98
ITOによって被覆したPET基板によって、ITOによって被覆したガラス基板を替えた以外は、実施例91と同様にして素子を作製する。
ルブレンの[Al（saph）DPM]2によるドープ濃度が2%であった場合、作製されたEL素子は46mA/cm2の電流での輝度は123cd/m2で、起動電圧は5Vで、14Vの電圧での最大発光輝度が925cd/m2、発光の色は黄色いで波長が550〜560nmである。
【０１４５】
【発明の効果】
本発明によれば、優れた発光性、膜化性を有するため高質な有機EL素子の作製に用いることができる、多種の三座配位子と二座配位子とを含む金属化合物に基づき、中心金属原子と配位子の設計を通じて一種の新しい単核または双核の金属錯体が提供される。したがって、本発明は関連産業の発展に寄与するところ大である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  従来技術による有機EL素子の多層構造図である。
【図２】  従来技術による有機EL素子の多層構造図である。
【図３】  従来技術による有機EL素子の多層構造図である。
【図４Ａ】  用いる材料がGa2（saph）2q2で、層構成がITO/NPB （30nm）/ Ga2（saph）2q2：DCJTB（2%; 40nm）/ Ga2（saph）2q2（ 15nm）/Mg：Ag（10：1）である有機EL素子の発光スベクトル及び色座標図である。
【図４Ｂ】  用いる材料がGa2（saph）2q2で、層構成がITO/NPB （30nm）/ Ga2（saph）2q2：DCJTB（2%; 40nm）/ Ga2（saph）2q2（ 15nm）/Mg：Ag（10：1）である有機EL素子の発光スベクトル及び色座標図である。
【図５】  用いる材料がGa2（saph）2q2で、層構成がITO/NPB （30nm）/ Ga2（saph）2q2：DCJTB（2%; 40nm）/ Ga2（saph）2q2（ 15nm）/Mg：Ag（10：1）である有機EL素子の電流-輝度-電圧グラフである。
【図６】  層構成がITO/PEDOT： PSS/（Al（saph）DPM）2：ルブレン（1%）/Mg：Agである有機EL素子の輝度-電圧グラフである。
【図７】  層構成がITO/PEDOT： PSS/（Al（saph）DPM）2：ルブレン（1%）/ Ca：Agでである有機EL素子の輝度-電圧グラフである。
【符号の説明】
100  素子
302  透明
101  カソード層
102  透明絶縁体
104  アノード層
106  アノード上の正孔輸送層
108  電子輸送層と発光層
110  電子輸送層
112  有機媒質層
200  素子
202  透明絶縁体
204  アノード層
206  アノード上の正孔輸送層
208  電子輸送層と発光層
210  電子輸送層
212  カソード層
214  有機媒質層
300  素子
302  透明絶縁体
304  アノード層
306  正孔注入層
308  正孔輸送層
310  発光層
312  電子輸送層
314  カソード層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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