(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光源と、
これら複数の光源をそれぞれカップリングする複数の第１光学系と、
該第一光学系からのビームを、主走査方向に長く略線状に集光する第２光学系と、
上記略線状の集光部の近傍に偏向反射面を有し、上記第２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏向し、上記偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている偏向器と、
上記偏向された複数の偏向ビームを被走査面に向けて集光させ、被走査面を略等速的に走査する走査結像素子を含む第３光学系とを有し、
上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の外側の主走査方向における同じ側から偏向反射面に向かい、
上記第２光学系からの複数のビームのうち少なくとも２つは偏向回転面内で開き角を有し、
上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での副走査方向結像位置をS1(+)，S1(-)、上記以外の１つの光源によるビームの両最周辺像高での副走査方向結像位置をS2(+)，S2(-)とするとき、これらが条件：
（１）  (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0 
を満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項２】
複数の光源と、
これら複数の光源をそれぞれカップリングする複数の第１光学系と、
該第一光学系からのビームを、主走査方向に長く略線状に集光する第２光学系と、
上記略線状の集光部の近傍に偏向反射面を有し、上記第２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏向し、上記偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている偏向器と、
上記偏向された複数の偏向ビームを被走査面に向けて集光させ、被走査面を略等速的に走査する走査結像素子を含む第３光学系とを有し、
上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の外側の主走査方向における同じ側から偏向反射面に向かい、
上記第２光学系からの複数のビームのうち少なくとも２つは偏向回転面内で開き角を有し、
上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置をM1(+)，M1(-)、上記以外の１つの光源によるビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置をM2(+)，M2(-)とするとき、これらが条件：
（２）  (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0 
を満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項３】
複数の光源と、
これら複数の光源をそれぞれカップリングする複数の第１光学系と、
該第一光学系からのビームを、主走査方向に長く略線状に集光する第２光学系と、
上記略線状の集光部の近傍に偏向反射面を有し、上記第２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏向し、上記偏向反射面と回転軸が一定距離離れている偏向器と、
上記偏向された複数の偏向ビームを被走査面に向けて集光させ、被走査面を略等速的に走査する走査結像素子を含む第３光学系とを有し、
上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の外側の主走査方向における同じ側から偏向反射面に向かい、
上記第２光学系からの複数のビームのうち少なくとも２つは偏向回転面内で開き角を有し、
上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置をM1(+)，M1(-)、副走査方向結像位置をS1(+)，S1(-)、上記以外の１つの光源によるビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置をM2(+)，M2(-)、副走査方向結像位置をS2(+),S2(-)とするとき、これらが条件：
（１）  (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0 
（２）  (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0 
を共に満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項４】
請求項１ないし３の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、
偏向回転面内に射影した場合、少なくとも２つのビームが偏向面以後で交差することを特徴とするマルチビーム走査装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明はマルチビーム走査装置に関する。この発明は、デジタル複写装置、ファクシミリやレーザプリンタにおける光走査装置に利用できる。
【０００２】
【従来の技術】
デジタル複写装置等に関連して広く知られた光走査装置は一般に、光源を第１光学系でカップリングし、第１光学系からのビームを主走査方向（光源から被走査面における光路の屈曲を無視して、被走査面上における主走査方向と対応する方向を言う、副走査方向についても同様である）に長く略線状に集光し、この線状の集光部の近傍に偏向反射面を有する偏向器で偏向させ、偏向器による偏向ビームを第３光学系により被走査面上に集光させて被走査面の走査を行うようになっている。
近来、光走査の高速化を目して、被走査面を複数ビームで同時に走査するマルチビーム走査装置の実用化が意図されている。
マルチビーム走査装置では複数の光源が用いられるが、これら複数の光源からの複数ビームを被走査面上で近接して集光させるために、偏光を利用したビーム合成部品を用いて複数ビームを合成することが提案されている（例えば、特開平８−３０４７２２号公報）。
これに対し、偏光を利用した高価なビーム合成部品を用いることなくマルチビーム走査を可能にしたものとして、複数のビームに偏向回転面内（偏向反射面の回転軸に直交する平面）で「開き角（上記複数ビームを偏向回転面に射影したときの各ビームの射影のなす角）」を持たせる方式のマルチビーム走査装置が提案された（特開平９−１４６０２４号公報）。
しかし、この場合、「偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている偏向器」を用いると、開き角を有する複数のビームで「サグ量（各ビームの線状の集光部と偏向反射面とが、偏向反射面の回転に伴いずれる、ずれ量）」が異なるので、全てのビームについて良好な光学特性（ビームスポット径、等速性等）を得るには、ビームごとにサグ量が異なるという事実に立脚した光学設計が必要になる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
この発明は、偏光を利用した高価なビーム合成部品を用いずに複数ビームで被走査面を走査でき、なおかつ、全てのビームについて、ビームスポット径、等速性等の光学特性を良好にできる、高速化・高画質化に対応可能なマルチビーム走査装置の実現を課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
この発明のマルチビーム走査装置は、複数の光源と、複数の第１光学系と、第２光学系と、偏向器と、第３光学系とを有する。
【０００５】
「複数の光源」は、光走査用のビームをそれぞれ独立して放射する。これら光源としては半導体レーザ（ＬＤ）が好適である。
「第１光学系」は、これら複数の光源をそれぞれカップリングする。第１光学系は各光源に応じて設けられる。カップリングされたビームは「平行ビーム」となってもよいし「弱い収束ビームもしくは弱い発散ビーム」となってもよい。
「第２光学系」は、各第一光学系からのビームを主走査方向に長く略線状に集光させる光学系であり、シリンダレンズや凹シリンダミラーを好適に利用することができる。この第２光学系は、各光源からのビームごとに、即ち、光源と同数設けても良いが、複数光源に共通して配備してもよい。
「偏向器」は、略線状の集光部の近傍に偏向反射面を有し、第２光学系からの複数ビームを等角速度的に偏向するが、偏向反射面とその回転軸が一定距離離れている。即ち、偏向器は、複数の光源からの各ビームに共通して用いられ、複数の光源からのビームは、共通の偏向反射面により偏向される。かかる偏向器としては、回転多面鏡や回転２面鏡を好適に用いることができるが、偏向反射面とその回転軸の離れた「回転単面鏡」を用いることもできる。
「第３光学系」は、偏向器により偏向された複数の偏向ビームを被走査面に向けて集光させ、被走査面を略等速的に走査する走査結像素子を含む。
第３光学系は、偏向ビームの光路を屈曲させる折り返しミラー等の光学素子を含むことができる。
「走査結像光学系」は１以上のレンズ、あるいは１以上の結像ミラーにより構成することができ、更には１以上のレンズと１以上の結像ミラーの複合系として構成することもできる。
上記第２光学系からの複数のビームは、走査結像素子の外側の主走査方向における同じ側から偏向反射面に向かい、第２光学系からの複数のビームのうち少なくとも２つは偏向回転面内で開き角を有する。「開き角」は、上記２つのビームを「偏向回転面内に射影した状態」において「各ビームが偏向反射面の側から第２光学系の側へ向かって開くようになす角」を言う。
【０００６】
上記の如き構成において「偏向器による複数の偏向ビームの主光線が被走査面上の走査ラインと直交するときの該各主光線を基準線とするとき、第３光学系の少なくとも１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基準線からみて、主走査方向において、偏向反射面に向かうビーム側にシフトして配備される」ことができる。「基準線」は、偏向器により偏向された任意のビームの主光線をそのまま、走査結像光学系により屈折させることなく被走査面に導いたとすれば、被走査面上で走査ライン（当該ビームにより走査される線）に直交するであろう状態における主光線を、装置空間に固定したものであって、一般には各ビームごとに異なり、偏向回転面内への射影は互いに平行である。
この場合において、第３光学系の、少なくとも１つの走査光学素子を基準線に対して、チルト（偏向回転面内で基準線に対して傾けることを言う）して配備されることができる。即ち、走査結像光学系はシフトとチルトを受けることができる。シフト・チルトはいずれも、走査結像光学系のサグによる性能劣化を回復させる有効な手段である。
請求項１記載のマルチビーム走査装置は、以下の如き特徴を有する。
即ち、上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの、両最周辺像高での副走査方向結像位置（両最周辺像高での副走査方向の像面湾曲量を言う、以下同様）を、S1(+)，S1(-)、上記以外の１つの光源によるビームの両最周辺像高での副走査方向結像位置をS2(+)，S2(-)とするとき、これらが条件：
（１）  (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0
を満足する。
請求項２記載のマルチビーム走査装置は、以下の如き特徴を有する。
即ち、上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置（両最周辺像高における主走査方向の像面湾曲量をいう。以下同様）を、M1(+)，M1(-)、上記以外の１つの光源によるビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置をM2(+)，M2(-)とするとき、これらが条件：
（２）  (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0
を満足する。
請求項３記載のマルチビーム走査装置は、以下の如き特徴を有する。
即ち、上記複数の光源によるビームのうちの１つのビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置をM1(+)，M1(-)、副走査方向結像位置をS1(+)，S1(-)、上記以外の１つの光源によるビームの両最周辺像高での主走査方向結像位置をM2(+)，M2(-)、副走査方向結像位置をS2(+),S2(-)とするとき、これらが条件：
（１）  (S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))＜0
（２）  (M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))＜0
を共に満足する。
請求項４記載のマルチビーム走査装置は、上記請求項１ないし３の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、偏向回転面内に射影した場合、少なくとも２つのビームが偏向面以後で交差することを特徴とする。
なお、シフトやチルトを行わない場合でも、走査結像素子の屈折面や反射面を主走査方向および／または副走査方向において、光軸に関して非対称な形状とすることにより、上記の条件（１）および／または（２）を満足させるようにすることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
図１に示す実施の形態において、「複数の光源」であるＬＤ１、ＬＤ２から出射された各ビームは、それぞれ「第１光学系」をなすカップリングレンズ３，４によりカップリングされ、「第２光学系」をなすシリンダレンズ５，６により、それぞれが偏向反射面７の近傍で主走査方向に長い略線状に結像する。
２ビームとも、同一の偏向器の共通の偏向反射面７により反射されて等角速度的に偏向され、「第３光学系の走査結像光学系」をなす走査レンズ１１、１２により被走査面２０近傍にビームを結像させ、被走査面２０上に形成されるビームスポットにより被走査面２０を略等速に走査する。各ビームスポットは被走査面上において副走査方向に所定の間隔をなす。従って、該間隔で離れた２本の走査ラインが同時に走査される。このとき、第２光学系であるシリンダレンズ５，６を出射した２ビームは偏向回転面（図１の図面に平行な面）内で開き角：γを有し、偏向器の偏向反射面７とその回転軸７Ａは一定距離離れている。
【０００８】
【実施例】
上記実施の形態に関する具体的な実施例を説明する。
【０００９】
実施例１
図１に示す構成において、ＬＤ１、ＬＤ２から出射するビームをそれぞれビーム１、ビーム２とする。ビーム１と基準線Ｌ１（ビーム１の主光線が被走査面２０上の走査ラインと直交するときの線）のなす角は６０度、ビーム２と基準線Ｌ２（ビーム１の主光線が被走査面２０上の走査ラインと直交するときの線）のなす角は６４．３度に設定されている。従って、ビーム１，２の開き角：γは４．３度である。ビーム１、２ともカップリングレンズ３，４により「平行ビーム」とされている。偏向器は偏向反射面を６面有する「回転多面鏡」であり、回転軸７Ａから偏向反射面７までの距離は１８ｍｍである。
ビーム１が偏向反射面７により反射されて、その主光線が基準線Ｌ１に合致するときの「ビーム１の偏向反射面７への入射角」は３０度、ビーム２が偏向反射面７により反射されて、その主光線が基準線Ｌ２に合致するときの「ビーム２の偏向反射面７への入射角」は３２．１５度であり、勿論、基準線Ｌ１，Ｌ２は、偏向回転面（図１に示された面）への射影が互いに平行である。
【００１０】
第２光学系のシリンダレンズ５，６は同じもので、下記のデータを有する。
第１面（入射側面）副走査方向の曲率半径：Ｒ（シリンダ面）：４８ｍｍ
第２面：平面
中心肉厚：３ｍｍ
使用波長での屈折率＝１．５１１１８                          。
【００１１】
第３光学系の走査レンズ１１は両面とも「共軸非球面」であり、光軸方向の座標をＸ、頂点からの距離をｒ、近軸曲率半径をＲＮ、円錐定数をＫＮ、高次の係数をＲＮＡ４、ＲＮＡ６、ＲＮＡ８、ＲＮＡ１０、…（Ｎは、入射側面に就きＮ＝１、射出側面に就きＮ＝２）として、
Ｘ＝ｒ２／［ＲＮ＋ＲＮ・√｛１−（１＋ＫＮ）ｒ２／ＲＮ２｝］＋ＲＮＡ４・ｒ４＋ＲＮＡ６・ｒ６＋ＲＮＡ８・ｒ８＋ＲＮＡ１０・ｒ１０
で表すことができる。走査レンズ１１の材質の使用波長での屈折率をＮ、中心肉厚をＤとすると、上記非球面形状および屈折率・中心肉厚のデータは以下の通りである。
Ｒ１              −２６４．０
Ｋ１                    ２．４４９
Ｒ１Ａ４                ２．５９４Ｅ−０７
Ｒ１Ａ６                １．２５６Ｅ−１１
Ｒ１Ａ８              −２．４１６Ｅ−１３
Ｒ１Ａ１０              ４．９１０Ｅ−１７
Ｄ                    ２３．３
Ｎ                      １．５２４４１
Ｒ２                −６１．３
Ｋ２                  −０．０２１３
Ｒ２Ａ４                ５．９４９Ｅ−０７
Ｒ２Ａ６                １．１２０Ｅ−１２
Ｒ２Ａ８                ２．４５２Ｅ−１４
Ｒ２Ａ１０            −３．９６９Ｅ−１７
上の表記において、例えば「Ｅ−１７」は、１０￣１７を意味し、この数値が、直前の数値にかかるのである。以下、同様である。
【００１２】
第３光学系の走査レンズ１２は、両面とも主走査方向に「非円弧形状」である。該非円弧形状は、光軸方向の座標をＸ、主走査方向の座標をＹ、近軸曲率半径をＲｍｎ、円錐定数をＫｍｎ、高次の係数をａｎ、ｂｎ、ｃｎ、ｄｎ、…（ｎは、入射側面につきｎ＝１、射出側面につきｎ＝２）として以下のように表現できる。
Ｘ＝Ｙ２／［Ｒｍｎ＋Ｒｍｎ・√｛１−（１＋Ｋｍｎ）Ｙ２／Ｒｍｎ２｝］＋ａｎ・Ｙ４＋ｂｎ・Ｙ６＋ｃｎ・Ｙ８＋ｄｎ・Ｙ１０
走査レンズ１２の材質の使用波長での屈折率をＮ、中心肉厚をＤとすると、上記非球面形状および屈折率・中心肉厚のデータは以下の通りである。
Ｒｍ１        −３４０．０
Ｋｍ１            −６２．０３
ａ１                −１．０４７Ｅ−０８
ｂ１                −９．３０２Ｅ−１２
ｃ１                −１．２７１Ｅ−１５
ｄ１                  １．８６３Ｅ−１９
Ｄ                    ３．５
Ｎ                    １．５２４４１
Ｒｍ２          −６８０．０
Ｋｍ２              １９．１２
ａ２                −１．３１４Ｅ−０７
ｂ２                −２．２５６Ｅ−１２
ｃ２                  １．００４Ｅ−１６
ｄ２                −２．５２２Ｅ−２０                              。
【００１３】
走査レンズ１２の、副走査曲率半径（副走査方向に平行な断面内の曲率半径）：ｒｎｓ（Ｙ）（ｎは、入射側面に就きｎ＝１、射出側面につきｎ＝２）は、主走査方向の座標：Ｙに応じて、
ｒｎｓ（Ｙ）＝ＲｎＳ＋ｅｎ・Ｙ２＋ｆｎ・Ｙ４＋ｇｎ・Ｙ６＋ｈｎ・Ｙ８＋ｉｎ・Ｙ１０＋ｊｎ・Ｙ１２
（ＲｎＳはＹ＝０での曲率半径）で表すことができ、以下のデータで特定される。
【００１４】
Ｒ１Ｓ＝−３２．０１
ｅ１＝１．３８５Ｅ−０３，ｆ１＝−４．３５４Ｅ−０７，ｇ１＝２．３２４Ｅ−１１，ｈ１＝３．２５０Ｅ−１５，ｉ１＝−２．０２３Ｅ−１９，    ｊ１＝−６．２０３Ｅ−２３
Ｒ２Ｓ＝−１６．９７
ｅ２＝ｆ２＝ｇ２＝・・・＝０                                    。
【００１５】
基準線Ｌ１の偏向反射面での反射点と走査レンズ１１の第１面との距離：４４．４ｍｍ、走査レンズ１１の第２面と走査レンズ１２第１面との距離：５０．４ｍｍ、走査レンズ１２の第２面と被走査面との距離：１０７．１ｍｍである。
また、偏向器による反射ビームの主光線が基準線（Ｌ１、Ｌ２）と一致するときのビーム１のシリンダレンズから偏向反射面までの距離：９１．９２ｍｍ、ビーム２のシリンダレンズから偏向反射面までの距離：９１．６６ｍｍである。
ビーム１が基準線Ｌ１と一致するときの、偏向反射面上での２ビームの距離は０．６２ｍｍであり、偏向回転面に２ビームを射影すると偏向反射面以後においてビーム１，２が交差する。これにより、被走査面上で２ビームが走査できる範囲の重なり部分を大きくでき、偏向反射面が小さくても広い範囲の走査が可能になる（請求項４）。
【００１６】
図１に示すように、基準線Ｌ１から走査レンズ１１の第１面頂点までの距離をΔ１、基準線Ｌ２から走査レンズ１１の第１面頂点までの距離をΔ２、基準線Ｌ１から走査レンズ１２の第１面頂点までの距離をΔ１’、基準線Ｌ２から走査レンズ１２の第１面頂点までの距離をΔ２’（全て、偏向器への入射ビーム側，即ち、図１の上方をプラス方向とする）とすると、Δ１＝１．００ｍｍ，Δ２＝０．４５ｍｍ，Δ１’＝０．９０ｍｍ，Δ２’＝０．３５ｍｍとなり、請求項１における「シフトの条件」を満足している。チルト量：α、βは共に０であり、走査レンズ１１、１２の光軸は互いに平行である。
【００１７】
図２に示すように、偏向反射面７とその回転軸７Ａが一致していない場合、周辺に向かうビームの反射点は中心に向かうビームの反射点：Ｃに対して、入射ビーム側（図の上方）にずれる。従って、第３光学系の走査レンズの少なくとも１つは全ての基準線に対して入射ビーム側にシフトしないと光学特性が劣化する。  実施例１の２ビームに関する主・副走査方向の像面湾曲及び等速性（理想像高からのずれ量×１００／理想像向（％））を図３に示す。これらは全て良好に補正されている。
実施例１において、S1(+)=0.01，S1(-)=0.11，S2(+)=0.57，S2(-)=-0.37で、
(S1(+)-S1(-))×(S2(+)-S2(-))=-0.094 ＜ 0
となり、条件式(１)を満足する（請求項１）。
また、M1(+)=0.16，M1(-)=0.06，M2(+)=-0.14，M2(-)=0.11で、
(M1(+)-M1(-))×(M2(+)-M2(-))=-0.025 ＜ 0
となり、条件式(２)を満足する（請求項２）。
即ち、実施例１では、条件式(１)，(２)ともに満足され、主・副走査方向とも良好な結像性能が得られる（請求項３）。
ビーム１，２が「開き角」を持って偏向器に入射しているため、ビーム１とビーム２とでサグ量が異なり、結像性能が異なる。従って、条件式（１），（２）を満足しないと、一方のビームに対して良好な結像性能を持たせることができても、他方のビームに対しては良好な結像性能を持たせることができない。条件式(１)，(２)を満足することにより、バランスのとれた設計が可能となる。
【００１８】
比較例１
実施例１に対する比較例として、実施例１に対し下記の変更を行う。
【００１９】
Δ１＝０．００ｍｍ，Δ２＝−０．５５ｍｍ，Δ１’＝０．００ｍｍ，Δ２’＝−０．５５ｍｍ
このとき、走査レンズ１１は基準線Ｌ１に対してシフトがないため、請求項１における「第３光学系の少なくとも１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基準線からみて、偏向反射面に向かうビーム側にシフトして配備される」との条件を満足しない。このときのビーム１，２に関する像面湾曲および等速性は、図４に示すごとくであり、ビーム１，２とも特に副走査の像面湾曲が劣化している。
また、Ｓ１（＋）＝０．９２，Ｓ１（−）＝−０．７３，Ｓ２（＋）＝１．３７，Ｓ２（−）＝−１．２１であって、
（Ｓ１（＋）−Ｓ１（−））×（Ｓ２（＋）−Ｓ２（−））＝４．２５７  ＞  ０  、
Ｍ１（＋）＝−０．２６，Ｍ１（−）＝０．２１，Ｍ２（＋）＝−０．７９，Ｍ２（−）＝０．１９であって、
（Ｍ１（＋）−Ｍ１（−））×（Ｍ２（＋）−Ｍ２（−））＝０．４６１  ＞０
となり、条件式（１），（２）のいずれも満足されない。
【００２０】
実施例２
実施例１に対し下記の変更を行った。
【００２１】
Δ１＝０．８０ｍｍ，Δ２＝０．２５ｍｍ，Δ１’＝０．８０ｍｍ，Δ２’＝０．２５ｍｍ。即ち、請求項１に於けるシフトの条件は満たされている。
基準線Ｌ１、Ｌ２に対する走査レンズ１１のチルト量をα、基準線Ｌ１、Ｌ２に対する走査レンズ１２のチルト量をα’（反時計まわりを正）とすると、
α＝−０．０７度  ，α’＝０．４０度
即ち、走査レンズ１１，１２とも基準線Ｌ１，Ｌ２に対しチルトされている。シフトとともにチルトを与えることにより、設計の自由度が増し、条件式（１），（２）の条件を満たすことができ、良好な光学特性が得られる。
【００２２】
実施例２の２ビームの主走査、副走査の像面湾曲及び等速性を図５に示す。何れも良好に補正されている。
また、Ｓ１（＋）＝−０．０６，Ｓ１（−）＝０．２６，Ｓ２（＋）＝０．４０，Ｓ２（−）＝−０．２２であって、
（Ｓ１（＋）−Ｓ１（−））×（Ｓ２（＋）−Ｓ２（−））＝−０．２０  ＜  ０
Ｍ１（＋）＝０．１２，Ｍ１（−）＝０．０９，Ｍ２（＋）＝−０．２０，Ｍ２（−）＝０．１４であって、
（Ｍ１（＋）−Ｍ１（−））×（Ｍ２（＋）−Ｍ２（−））＝−０．０１  ＜  ０
となり条件式（１），（２）とも満足する。
【００２３】
実施例３
実施例１に対し下記の変更を行った。
偏向反射面７による反射ビームの主光線が基準線Ｌ１、Ｌ２と一致するときのビーム１のシリンダレンズ３から偏向反射面７までの距離：９１．９２ｍｍ、ビーム２のシリンダレンズ４から偏向反射面７までの距離：９１．８８ｍｍ。
ビーム１が基準線Ｌ１と一致するとき、偏向反射面７上での２ビームの距離は０．０ｍｍで、偏向回転面に２ビームを射影すると偏向反射面上で交差する。
Δ１＝０．８０ｍｍ，Δ２＝０．７５ｍｍ，Δ１’＝０．８０ｍｍ，Δ２’＝０．７５ｍｍで、請求項１における「第３光学系の少なくとも１つの走査光学素子の光軸が上記全ての基準線からみて、偏向反射面に向かうビーム側にシフトして配備される」との条件を満足する。
【００２４】
チルト量：α＝−０．０６１度，α’＝０．３５度である。
実施例３の２ビーム１，２に関する主・副走査方向の像面湾曲及び等速性を図６に示す。これらは何れも良好に補正されている。また、
Ｓ１（＋）＝−０．０２，Ｓ１（−）＝０．２２，Ｓ２（＋）＝０．５６，Ｓ２（−）＝−０．１２であり、
（Ｓ１（＋）−Ｓ１（−））×（Ｓ２（＋）−Ｓ２（−））＝−０．１６  ＜  ０
Ｍ１（＋）＝０．１１，Ｍ１（−）＝０．１０，Ｍ２（＋）＝０．０３，Ｍ２（−）＝０．０４であり、
（Ｍ１（＋）−Ｍ１（−））×（Ｍ２（＋）−Ｍ２（−））＝−０．００１  ＜  ０
となり条件式（１），（２）とも満足する。
上には光源としてＬＤ１，ＬＤ２の２つを用い、２ビームによる同時走査の実施の形態を説明したが、３以上の光源を用いることができることは言うまでもない。３以上の光源を用いる場合、各光源からのビームを偏向回転面に射影した状態で、２以上のビームの主光線が互いに重なりあうようにすることができる。
【００２５】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば新規なマルチビーム走査装置を実現できる。
【００２６】
この発明のマルチビーム走査装置は、偏光ビームスプリッタ等の高価なビーム合成手段を必要とせず、少ない部品点数で安価に実現でき、各光源からのビームに対して、像面湾曲や等速性等の特性を良好にすることができる。
【００２７】
請求項１〜３記載の発明によれば、条件（１）および／または（２）を満足させることにより、低コストに少ない部品点数で、複数のビームについて、副走査方向および／または主走査方向の良好な像面湾曲特性（小径で安定した副走査ビームスポット径）が得られる。
また、請求項４記載の発明によれば、光源側からの複数ビームの偏向回転面内への射影で、少なくとも２つのビームが偏向面以後で交差することにより、被走査面上で２ビームが走査できる範囲の重なり部分を大きくでき、偏向反射面が小さくても広い範囲の走査が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明のマルチビーム走査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【図２】第３光学系の走査結像素子のシフトの意義を説明するための図である。
【図３】実施例１のビーム１および２に関する像面湾曲と等速性を示す図である。
【図４】比較例１のビーム１および２に関する像面湾曲と等速性を示す図である。
【図５】実施例２のビーム１および２に関する像面湾曲と等速性を示す図である。
【図６】実施例３のビーム１および２に関する像面湾曲と等速性を示す図である。
【符号の説明】
１，２      光源であるＬＤ（半導体レーザ）
３，４      第１光学系であるカップリングレンズ
５，６      第２光学系であるシリンダレンズ
７        偏向反射面
７Ａ      偏向器の回転軸
１１，１２      第３光学系の走査結像素子をなす走査レンズ
Ｌ１，Ｌ２      基準線
Δ１，Δ２，Δ１’，Δ２’      シフト量
【図１】
0003619672.tif 000002
【図２】
0003619672.tif 000003
【図３】
0003619672.tif 000004
【図４】
0003619672.tif 000005
【図５】
0003619672.tif 000006
【図６】
0003619672.tif 000007