(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）分解性化合物、（Ｂ）無機酸化物粒子を含有する非分解性成分および（Ｃ）感放射線分解剤を含有し、そして上記（Ａ）分解性化合物が、一般式（１）〜（６）および（１０）
【化１】
0003622201.tif 000035
（式（１）において、Ｒ1はアルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキルシリレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基またはアリーレン基でありそしてＲ2はアルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基であり、そして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい。）
【化２】
0003622201.tif 000036
（式（２）において、ＭはＳｉまたはＧｅであり、Ｒ3はアルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基、アルキルゲルミレン基または単結合であり、Ｒ4は酸素原子、アルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基または単結合であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基、チオアルキル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシル基、パーフロロアルコキシエステル基またはパーフロロアリール基であり、そしてｍは０から２までの整数であり、そして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい。）
【化３】
0003622201.tif 000037
（式（３）において、Ｒ9およびＲ10はそれぞれ独立に、アルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基であり、そして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい。）
【化４】
0003622201.tif 000038
（式（４）において、Ｒ11はオキシアルキレン基または単結合でありそしてＲ12は水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシエステル基、パーフロロアリール基、アルキレンアリーレンアルキレン基またはアリール基である。）
【化５】
0003622201.tif 000039
（式（５）において、Ｒ13は水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシル基、パーフロロアルコキシエステル基、パーフロロアリール基またはアリール基である。）
【化６】
0003622201.tif 000040
（式（６）において、Ｒ14は、アルキレン基、下記式（７）、（８）、または（９）で表される構造である。）
【化７】
0003622201.tif 000041
（式（７）において、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18は互いに独立に水素原子、炭素数１〜６の鎖状アルキル基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜６のハロゲン化アルコキシル基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキルチオ基、炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基、炭素数１〜６のメルカプトアルキル基、炭素数１〜６のヒドロキシアルコキシル基、炭素数１〜６のメルカプトアルキルチオ基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１１のアラルキル基である。）
【化８】
0003622201.tif 000042
（式（８）において、Ｒ19はアルキレン基である。）
【化９】
0003622201.tif 000043
（式（９）において、Ｒ20はアルキレン基である。）
【化１０】
0003622201.tif 000044
（式（１０）において、Ｒ21はアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、またはアリーレン基である。）
のそれぞれで表される構造よりなる群から選ばれる少なくとも１つの構造を有する酸分解性化合物であるか、または下記式（１１）〜（１４）
【化１１】
0003622201.tif 000045
（式（１１）において、Ｒ22はアルキレン基、アラルキレン基、またはアリーレン基であり、Ｒ23はアルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキルシリレン基、またはアルキルゲルミレン基であり、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26およびＲ27はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基またはチオアルキル基であり、ｉおよびｊはそれぞれ独立に０または１である。）
【化１２】
0003622201.tif 000046
（式（１２）において、Ｒ28はアルキレン基、アラルキレン基またはアリーレン基であり、Ｒ29はアルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基である。）
【化１３】
0003622201.tif 000047
（式（１３）において、Ｒ30およびＲ31はそれぞれ独立にアルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキルシリレン基、またはアルキルゲルミレン基である。）
【化１４】
0003622201.tif 000048
（式（１４）において、Ｒ32およびＲ33はそれぞれ独立に、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキルシリレン基、またはアルキルゲルミレン基である。）
のそれぞれで表される構造よりなる群から選ばれる、少なくとも一つの構造を含有する塩基分解性化合物であり、上記（Ｂ）無機酸化物粒子を含有する非分解性成分が無機酸化物粒子からなるかまたは無機酸化物粒子と酸または塩基に対して安定なバインダー成分からなることを特徴とする感放射線性屈折率変化性組成物。
【請求項２】
（Ｄ）安定化剤をさらに含有する請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
（Ｂ）成分の屈折率ｎBが（Ａ）成分の屈折率ｎAと下記式（１）
ｎB− ｎA≧０．０５  ・・・・・  （１）
の関係にある、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
（Ｂ）成分の屈折率ｎBが（Ａ）成分の屈折率ｎAと下記式（２）
ｎA−ｎB≧０．０５  ・・・・・  （２）
の関係にある、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項５】
請求項１または２に記載の感放射線性屈折率変化性組成物に放射線を照射することを特徴とする屈折率変化方法。
【請求項６】
請求項１または２に記載の感放射線性屈折率変化性組成物の一部に放射線を照射することを特徴とする屈折率パターン形成方法。
【請求項７】
請求項１に記載の感放射線性屈折率変化性組成物の一部に放射線を照射し、次いで（Ｄ）安定化剤で処理することを特徴とする屈折率パターンの形成方法。
【請求項８】
請求項２に記載の感放射線性屈折率変化性組成物の一部に放射線を照射し、次いで（Ｄ）安定化剤と（Ａ）分解性化合物とを反応せしめることを特徴とする屈折率パターンの形成方法。
【請求項９】
放射線照射部と放射線未照射部の屈折率の最大差が０.０２以上である、請求項６〜８のいずれかに記載の屈折率パターン形成方法。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれかに記載の方法で形成された屈折率パターン。
【請求項１１】
請求項６〜９のいずれかに記載の方法で形成された光学材料。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感放射線性屈折率変化性組成物、屈折率変化法、屈折率パターン形成法、屈折率パターンおよび光学材料に関する。さらに詳しくは、光エレクトロニクスやディスプレイ分野に応用される新規な屈折率パターンや光学材料を与える屈折率パターン形成法、屈折率変化法およびそのために好適に用いられる感放射線性屈折率変化性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
マルチメディア社会といわれる現在、異なる屈折率領域から構成される屈折率分布型光学成形体の需要は極めて大きい。そのような例として情報伝達を担う光ファイバーは勿論、周期的な屈折率変化を有する光回折格子、屈折率の異なる部位によって情報が書き込まれた光メモリ、微細な屈折率パターンを有する光集積回路等の光結合素子、光制御素子、光変調素子、光伝送素子が挙げられる。
【０００３】
なお、ここで屈折率分布型光学成形体とは、ＧＩ型光ファイバー等のような成形体中で屈折率が連続的に分布している場合（以下、ＧＲＩＮ光学成形体という）と、光回折格子、ＳＩ型光導波路等のように屈折率の分布形状が不連続的な場合の両方をいう。
【０００４】
ＧＲＩＮ光学成形体は、次世代の光学成形体として注目されている。例えば、光ファイバーのコアの中心軸から周辺部へ放物線状に屈折率を減少させたＧＩ型光ファイバーは大容量の情報伝送を可能とし、また、レンズ中で屈折率が連続的に変化したＧＲＩＮレンズは、平面でも屈折力を持つことや、球面収差を生じない等の特長を生かし、コピー機などに用いる読み取りレンズ、ファイバー同士をつなぐ球状レンズ、あるいはマイクロレンズなどに応用される。
【０００５】
上述のようなＧＲＩＮ光学成形体の製造方法としては、これまで数多くの提案がなされている。例えば低分子あるいはモノマーをポリマー中に分散させ、その濃度を連続的に分布させることによってＧＩ型光ファイバーを得る方法が特開平９−１３３８１３号公報、特開平８−３３６９１１号公報、特開平８−３３７６０９号公報、特開平３−１９２３１０号公報、特開平５−６０９３１号公報、ＷＯ９３／１９５０５国際公開特許公報およびＷＯ９４／０４９４９国際公開特許公報に開示されている。また、特開昭６２−２５７０５号は屈折率および反応比の異なる２種類以上のビニルモノマーを光で共重合させることによりＧＩ型のロッド状光学成形体あるいは光ファイバーを得るものである。さらに特開平７−５６０２６号公報は光反応性の官能基を有する重合体Ａを形成し、重合体Ａより低屈折率である化合物Ｂを重合体Ａの中に拡散させ、化合物Ｂの濃度分布を形成した後、光で重合体Ａと化合物Ｂを反応させ屈折率分布を得る方法である。
【０００６】
また無機材料についてのＧＲＩＮ光学成形体の製造方法もいくつか提案されており、例えばケイ素や鉛などを主成分とするロッド状のガラスに高屈折率のタリウムを加え、低屈折率のカリウムを含む溶融液に浸漬し、イオン交換によりカリウムの濃度分布を形成させてＧＩ型ロッドとする方法である。
【０００７】
ＧＲＩＮレンズは、上述の方法を、短いロッドつまりレンズ状の光学成形体について適用すれば同様に得ることができる。あるいは上述の方法で作成したＧＩ型ロッドを輪切りにしてもよい。
【０００８】
また前述した光回折格子、光集積回路等のような屈折率の微細なパターンを有する光学成形体の製造方法としては、光照射により成形体中に光化学反応を誘起させ、それに伴う屈折率変化を得るという技術が知られている。例えば、無機材料の場合、ゲルマニウムをドープしたガラスに光照射し、屈折率を変化させて光回折格子を作製する方法などが挙げられる。また、有機材料においては、フォトクロミック反応あるいはフォトブリーチングとして知られており、光化学反応活性な低分子をポリマー中に分散させた材料にレーザー光を照射することによって屈折率変化を誘起し、光回折格子とする技術が特開平７−９２３１３号公報などで開示されている。さらに最近では、この技術をＧＲＩＮ光学成形体の製造に応用することが特開平９−１７８９０１号公報によって提案されている。この方法は成形体に照射した光が吸収されて強度が弱くなるのを利用し、照射に対して深さ方向に連続的な屈折率分布を付与するものである。
【０００９】
しかしながら、上記した従来の材料で得られる屈折率分布は、その最大屈折率差がせいぜい０．００１〜０．０２程度であり、光学損失の防止や回路の誤作動の抑制といった目的に対して、さらに大幅な屈折率分布を持たせることを達成することは難しい。
【００１０】
また、一旦屈折率分布を形成した後、屈折率を変化させるために使用した波長付近の光が通過する条件下で使用すると、徐々に屈折率の変化を引き起こし劣化してしまう現象を防止することはできなかった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来の技術における上記した実情に鑑みてなされたものである。
【００１２】
すなわち、本発明の目的は、材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンおよび光学材料、ならびにそれを形成するための新規な方法を提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、（Ａ）分解性化合物、（Ｂ）無機酸化物粒子を含有する非分解性成分および（Ｃ）感放射線分解剤を含有することを特徴とする感放射線性屈折率変化性組成物によって達成される。
【００１５】
本発明の上記目的および利点は、第２に、本発明の上記感放射線性屈折率変化性組成物に放射線を照射することを特徴とする屈折率変化方法によって達成される。
【００１６】
本発明の上記目的および利点は、第３に、上記感放射線性屈折率変化性組成物の一部に放射線を照射することを特徴とする屈折率パターン形成方法によって達成される。
【００１７】
本発明の上記目的および利点は、第４に、上記屈折率パターン形成方法によって形成された屈折率パターンによって達成される。
【００１８】
本発明の上記目的および利点は、第５に、上記屈折率パターン形成方法によって形成された光学材料によって達成される。
【００１９】
なお、本発明において、「屈折率パターン」とは、屈折率の異なる領域から構成される屈折率分布型材料を意味する。
以下、本発明で使用される屈折率変化性組成物の各成分について詳細に説明する。
【００２０】
（Ａ）分解性化合物
本発明で使用する（Ａ）分解性化合物は、酸分解性化合物または塩基分解性化合物である。その屈折率は、好ましくは１.７以下である。また、分解性化合物（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは１００〜５００,０００、さらに好ましくは１００〜３００,０００である。
【００２１】
酸分解性化合物は、下記式（１）〜（６）および（１０）のそれぞれで表される構造よりなる群から選ばれる少なくとも一つを有する化合物である。これらの化合物は単独で、あるいは２種以上を一緒に用いることができる。
【００２２】
【化１５】
0003622201.tif 000002
【００２３】
（式（１）において、Ｒ１はアルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキルシリレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基またはアリーレン基でありそしてＲ２はアルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基であり、そして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい。）
【００２４】
【化１６】
0003622201.tif 000003
【００２５】
（式（２）において、ＭはＳｉまたはＧｅであり、Ｒ３はアルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基、アルキルゲルミレン基または単結合であり、Ｒ４は酸素原子、アルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基または単結合であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基、チオアルキル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシル基、パーフロロアルコキシエステル基またはパーフロロアリール基であり、そしてｍは０から２までの整数であり、そして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい。）
【００２６】
【化１７】
0003622201.tif 000004
【００２７】
（式（３）において、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、アルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基であり、そして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい。）
【００２８】
【化１８】
0003622201.tif 000005
【００２９】
（式（４）において、Ｒ１１はオキシアルキレン基または単結合でありそしてＲ１２は水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシエステル基、パーフロロアリール基、アルキレンアリーレンアルキレン基またはアリール基である。）
【００３０】
【化１９】
0003622201.tif 000006
【００３１】
（式（５）において、Ｒ１３は水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシル基、パーフロロアルコキシエステル基、パーフロロアリール基またはアリール基である。）
【００３２】
【化２０】
0003622201.tif 000007
【００３３】
（式（６）において、Ｒ１４は、アルキレン基、下記式（７）、（８）、または（９）で表される構造である。）
【００３４】
【化２１】
0003622201.tif 000008
【００３５】
（式（７）において、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１８は互いに独立に水素原子、炭素数１〜６の鎖状アルキル基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜６のハロゲン化アルコキシル基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキルチオ基、炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基、炭素数１〜６のメルカプトアルキル基、炭素数１〜６のヒドロキシアルコキシル基、炭素数１〜６のメルカプトアルキルチオ基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１１のアラルキル基である。）
【００３６】
【化２２】
0003622201.tif 000009
【００３７】
（式（８）において、Ｒ１９はアルキレン基である。）
【００３８】
【化２３】
0003622201.tif 000010
【００３９】
（式（９）において、Ｒ２０はアルキレン基である。）
【００４０】
【化２４】
0003622201.tif 000011
【００４１】
（式（１０）において、Ｒ２１はアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、またはアリーレン基である。）
【００４２】
また、塩基分解性化合物は、下記式（１１）〜（１４）のそれぞれで表される構造よりなる群から選ばれる少なくとも１つの構造を有する化合物である。これらの化合物は単独で、あるいは２種以上を一緒に用いることができる。
【００４３】
【化２５】
0003622201.tif 000012
【００４４】
（式（１１）において、Ｒ２２はアルキレン基、アラルキレン基、またはアリーレン基であり、Ｒ２３はアルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキルシリレン基、またはアルキルゲルミレン基であり、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６およびＲ２７はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基またはチオアルキル基であり、ｉおよびｊはそれぞれ独立に０または１である。）
【００４５】
【化２６】
0003622201.tif 000013
【００４６】
（式（１２）において、Ｒ２８はアルキレン基、アラルキレン基またはアリーレン基であり、Ｒ２９はアルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基である。）
【００４７】
【化２７】
0003622201.tif 000014
【００４８】
（式（１３）において、Ｒ３０およびＲ３１はそれぞれ独立にアルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキルシリレン基、またはアルキルゲルミレン基である。）
【００４９】
【化２８】
0003622201.tif 000015
【００５０】
（式（１４）において、Ｒ３２およびＲ３３はそれぞれ独立に、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アルキルシリレン基、またはアルキルゲルミレン基である。）
【００５１】
上記全てのアルキレンアリーレンアルキレン基としては、それぞれ独立に、例えば下記式（１５）または（１６）で示される構造が挙げられる。
【００５２】
【化２９】
0003622201.tif 000016
【００５３】
（（１５）式中、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６およびＲ３７は互いに独立に水素原子、炭素数１〜６の鎖状アルキル基または炭素数６〜１０のアリール基を示し、Ｒ３８、Ｒ３９、Ｒ４０およびＲ４１は互いに独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メルカプト基、アルコキシル基、チオアルキル基、アルキルエステル基、アルキルチオエステル基、アリール基、シアノ基またはニトロ基である。）
【００５４】
【化３０】
0003622201.tif 000017
【００５５】
（（１６）式中、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４およびＲ４５は互いに独立に水素原子、炭素数１〜６の鎖状アルキル基または炭素数６〜１０のアリール基を示し、Ｒ４６、Ｒ４７、Ｒ４８、Ｒ４９、Ｒ５０、Ｒ５１、Ｒ５２およびＲ５３は互いに独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メルカプト基、アルコキシル基、チオアルキル基、アルキルエステル基、アルキルチオエステル基、アリール基、シアノ基またはニトロ基を示し、Ａ１は−Ｓ−、−Ｏ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ２−または−Ｃ（Ｒ５４）２−を示しそしてＲ５４は炭素数１〜６の鎖状アルキル基である。）
【００５６】
上記全てのアリーレン基としては、それぞれ独立に、例えば下記式（１７）で示される構造が挙げられる。
【００５７】
【化３１】
0003622201.tif 000018
【００５８】
（ここで、Ｒ５５〜Ｒ６２は互いに独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、メルカプト基、アルコキシル基、チオアルキル基、アルキルエステル基、アルキルチオエステル基、アリール基、シアノ基またはニトロ基を示し、Ａ２は−Ｓ−、−Ｏ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ２−または−Ｃ（Ｒ６３）２−を示しそしてＲ６３は炭素数１〜６の鎖状アルキル基である。）
【００５９】
上記全てのアルキルシリレン基としては、互いに独立に、例えば下記式（１８）に示す構造が挙げられる。
【００６０】
【化３２】
0003622201.tif 000019
【００６１】
（ここで、Ｒ６４、Ｒ６５、Ｒ６６およびＲ６７は互いに独立に水素原子、炭素数１〜６の鎖状アルキル基または炭素数６〜１０のアリール基を示し、Ａ３は−Ｏ−、アルキレン基またはアリーレン基を示しそしてａは０か１の整数を表わす。）
【００６２】
上記全てのアルキルゲルミレン基としては、互いに独立に、例えば下記式（１９）に示す構造が挙げられる。
【００６３】
【化３３】
0003622201.tif 000020
【００６４】
（ここで、Ｒ６８、Ｒ６９、Ｒ７０およびＲ７１は互いに独立に水素原子、炭素数１〜６の鎖状アルキル基または炭素数６〜１０のアリール基を示し、Ａ４は−Ｏ−、アルキレン基またはアリーレン基を示しそしてｂは０か１の整数を表わす。）
【００６５】
上記全てのアルキレン基は、炭素数１〜１０までの直鎖、分岐、または環状のアルキレン基であることができ、これらに含まれる水素原子の一部がフッ素原子に置換されていてもよく、もしくはこれらに含まれる水素原子の一部または全部が塩素原子、臭素原子、パーフロロアルキル基、水酸基、メルカプト基、チオアルキル基、アルコキシル基、パーフロロアルコキシル基、アルキルエステル基、アルキルチオエステル基、パーフロロアルキルエステル基、シアノ基またはニトロ基に置換されたものであってもよい。
【００６６】
上記全てのアルキル基、アルコキシル基、チオアルキル基、アルキルエステル基およびアルキルチオエステル基中に含まれるアルキル基は炭素数１〜１０までの直鎖、分岐、または環状のアルキルであることができ、これらに含まれる水素原子の一部がフッ素原子に置換されていてもよくあるいはこれらに含まれる水素原子の一部または全部が塩素原子、臭素原子、パーフロロアルキル基、水酸基、メルカプト基、チオアルキル基、アルコキシル基、パーフロロアルコキシル基、アルキルエステル基、アルキルチオエステル基、パーフロロアルキルエステル基、シアノ基、ニトロ基またはアリール基に置換されたものであってもよい。
【００６７】
上記全てのパーフロロアリール基としては、パーフロロフェニル基、パーフロロナフチル基、パーフロロアントラセニル基、パーフロロビフェニル基などが挙げられ、また、これらに含まれるフッ素原子が水酸基、パーフロロアルコキシル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルキルエステル基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよい。
【００６８】
上記全てのアリール基としては、互いに独立に、例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基またはビフェニル基およびこれらの水素原子が塩素原子、臭素原子、水酸基、メルカプト基、アルコキシル基、チオアルキル基、アルキルエステル基、アルキルチオエステル基、シアノ基またはニトロ基で置換されたものを挙げることができる。
【００６９】
本発明における上記式（１）〜（６）および（１０）のそれぞれで表される構造を例えば繰り返し単位として有する酸分解性または塩基分解性化合物の製造方法は公知である。
【００７０】
上記式（１）で表わされる構造を有する化合物の製造方法は、ＰｏｌｙｍｅｒＢｕｌｌ．，１．１９９（１９７８）、特開昭６２−１３６６３８号公報、ＥＰ２２５，４５４、ＵＳ８０６，５９７、特開平４−３０３８４３号公報、特開平７−５６３５４号公報等に開示されている。
【００７１】
上記式（２）で表わされる構造を有する化合物の製造方法は、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  ２９，５５２９（１９９６）、Ｐｏｌｙｍｅｒ  １７，１０８６（１９７６）および特開昭６０−３７５４９号公報等に開示されている。
【００７２】
上記式（３）で表わされる構造を有する化合物の製造方法は、Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｓｏｌｉｄ  Ｓｔａｔｅ  Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１３３（１）１８１（１９８６）、Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｓｃｉ．，３０（２）５９（１９８６）およびＭａｃｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｒａｐｉｄ  Ｃｏｍｍｕｎ．，７，１２１（１９８６）等に開示されている。
【００７３】
上記式（４）で表わされる構造を有する化合物の製造方法は、米国特許第３，８９４，２５３号明細書、特開昭６２−１９０２１１号公報、特開平２−１４６５４４号公報、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，２３，１６（１９５７）、特開昭６３−９７９４５号公報、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ａ−１，８，２３７５（１９７０）、米国特許第４，２４７，６１１号明細書、ＥＰ４１，６５７、特開昭５７−３１６７４号公報、特開昭６４−３６４７号公報および特開昭５６−１７３４５号公報等に開示されている。
【００７４】
上記式（５）で表わされる構造を有する化合物の製造方法は、Ｐｒｅｐｒ．Ｅｕｒ．Ｄｉｓｃ  Ｍｅｅｔ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｓｔｒａｓｂｏｕｒｇ，ｐ１０６（１９７８）およびＭａｃｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１７９，１６８９（１９７８）等に開示されている。
【００７５】
上記式（６）で表わされる構造を有する化合物の製造方法は、米国特許第３，８９４，２５３号明細書、米国特許第３，９４０，５０７号明細書および特開昭６２−１９０２１１号公報等に開示されている。
【００７６】
上記式（１０）で表わされる構造を有する化合物の製造方法は、Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  ５４，  １５７９（１９３２）、Ｊ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．，  ２９，  ３４３（１９５８）、Ｊ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．，  Ｐａｒｔ  Ａ，  Ｐｏｌｙｍ．  Ｃｈｅｍ．，  ２５，  ３３７３（１９５８）、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，  ２５，  １２，  （１９９２）、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，  ２０，  ７０５，  （１９９７）、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，  ２１，  １９２５，  （１９９８）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．，  Ｒａｐｉｄ  Ｃｏｍｍｕｎ．，  １１，  ８３（１９９０）等に開示されている。
【００７７】
また、上記式（１１）〜（１４）で表される構造を例えば繰り返し単位として有する塩基分解性化合物の製造方法もまた公知である。
【００７８】
上記式（１１）で表される構造を有する化合物の製造方法は、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．，  Ｒａｐｉｄ  Ｃｏｍｍｕｎ．，  ５，  １５１  （１９８４）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．，  １８９，  ２２２９  （１９８８）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．，  １８７，  ２５２５  （１９８６）、Ｐｏｌｙｍ．  Ｊ．，  ２２，  ８０３  （１９９０）等に開示されている。
【００７９】
上記式（１２）で表される構造を有する化合物の製造方法は、Ｊ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．，  ４７，  １５２３  （１９９３）、Ｊ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．，  ３５，  ８５  （１９８５）、Ｊ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．，  Ｐｏｌｙｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｅｄ．，  ２２，  １５７９  （１９８４）、Ｊ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．，  Ｐｏｌｙｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｅｄ．，  １４，  ６５５  （１９７６）、Ｊ．  Ｐｏｌｙｍ．  Ｓｃｉ．，  Ｐｏｌｙｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｅｄ．，  １７，  ２４２９  （１９７９）等に開示されている。
【００８０】
上記式（１３）で表される構造を有する化合物の製造方法は、Ｊ．  Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｓｃｉ．  Ｃｈｅｍ．，  Ａ９，  １２６５  （１９７５）等に開示されている。
【００８１】
上記式（１４）で表される構造を有する化合物の製造方法はＰｏｌｙｍ．  Ｂｕｌｌ．，  １４，  ８５  （１９８５）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．，  １８９，  １３２３  （１９８８）等に開示されている。
【００８２】
分解性化合物（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは１００〜５００，０００、さらに好ましくは１００〜３００，０００である。
【００８３】
分解性化合物（Ａ）を便宜的に屈折率により分類すると、屈折率１．５以下の化合物としては、下記構造（ｉ）〜（ｖｉｉ）のうち少なくとも一つを有する化合物が好ましい。
【００８４】
（ｉ）式（１）において、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立にアルキレン基、パーフロロアルキレン基またはアルキルシリレン基でありそして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい構造。
【００８５】
（ｉｉ）式（２）において、ＭはＳｉまたはＧｅであり、Ｒ３はアルキレン基またはパーフロロアルキレン基であり、Ｒ４はアルキレン基、パーフロロアルキレン基、アルキルシリレン基または単結合であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシル基、パーフロロアルコキシエステル基またはパーフロロアリール基であり、ｍは０から２までの整数でありそして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい構造。
【００８６】
（ｉｉｉ）式（３）において、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、アルキレン基またはパーフロロアルキレン基でありそして上記アルキレン基またはパーフロロアルキレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯＯ−結合を含んでいてもよい構造。
【００８７】
（ｉｖ）式（４）において、Ｒ１１はオキシアルキレン基または単結合でありそしてＲ１２は水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシエステル基またはパーフロロアリール基である構造。
【００８８】
（ｖ）式（５）において、Ｒ１３は水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アルコキシエステル基、パーフロロアルキル基、パーフロロアルコキシル基、パーフロロアルコキシエステル基またはパーフロロアリール基である構造。
（ｖｉ）式（６）で表わされる構造。
（ｖｉｉ）式（１０）において、Ｒ２１がアルキレン基である構造。
【００８９】
また、屈折率１．５を超える化合物としては下記構造（ｖｉｉｉ）〜（ｘｉｖ）のうち一つを有する化合物が好ましい。
【００９０】
（ｖｉｉｉ）式（１）において、Ｒ１はアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基またはアリーレン基でありそしてＲ２はアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基である構造。
（ｉｘ）式（２）において、ＭはＳｉまたはＧｅであり、Ｒ３はアルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基であり、Ｒ４は酸素原子、アルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基または単結合であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基またはチオアルキル基であり、そしてｍは０から２までの整数である構造。
（ｘ）式（３）において、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、アルキレン基、アルキレンアリーレンアルキレン基、アリーレン基、アルキルシリレン基またはアルキルゲルミレン基である構造。
（ｘｉ）式（４）において、Ｒ１１はオキシアルキレン基または単結合でありそしてＲ１２は水素原子、アルキル基、アルキレンアリーレンアルキレン基またはアリール基である構造。
（ｘｉｉ）式（５）において、Ｒ１３は水素原子、アルキル基またはアリール基である構造。
（ｘｉｉｉ）式（１０）で表わされる構造。
（ｘｉｖ）式（１１）〜（１４）で表わされる各構造。
【００９１】
無機酸化物粒子を含有する非分解性成分（Ｂ）
非分解性成分（Ｂ）は上記の如き酸化物粒子からなるかあるいは酸化物粒子とバインダー成分からなる。酸化物粒子としては無機酸化物粒子全般が使用できる。好ましくは後述の（Ｃ）感放射線分解剤から発せられる酸または塩基に対して安定であり、使用する波長領域の光が粒子を通過する際に吸収が起こらず光学的に透明性が高いものである。酸化物粒子の屈折率は、その用途により好ましい値のものを任意に選択して使用することができる。
【００９２】
このような酸化物粒子としては、例えば、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物が好適に用いられ、さらに好ましい具体例としては例えば、ＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｃｅ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｔｂ２Ｏ３、Ｄｙ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３、Ｌｕ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ３、ＷＯ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＴｅＯ２等の酸化物およびこれらを含む複合酸化物、例えばＡｌ２Ｏ３−ＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２、ＺｎＯ−Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２−Ｃｅ２Ｏ３、ＺｒＯ２−ＴｉＯ２−ＳｎＯ２、ＴｅＯ２−ＢａＯ−ＺｎＯ、ＴｅＯ２−  ＷＯ３−Ｔａ２Ｏ５、ＴｅＯ２−ＷＯ３−Ｂｉ２Ｏ３、ＴｅＯ２−ＢａＯ−ＰｂＯ、ＣａＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ−Ａｌ２Ｏ３−ＢａＯ、ＣａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ、ＣａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ、ＣａＯ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２、ＰｂＯ−  Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ、ＰｂＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ、ＰｂＯ−Ｂｉ２Ｏ３、ＰｂＯ−  Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ−ＺｎＯ、ＰｂＯ−  Ｂｉ２Ｏ３−ＣｄＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＰｂＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＧｅＯ２、ＰｂＯ−  Ｂｉ２Ｏ３−ＧｅＯ２−Ｔｌ２Ｏ、ＢａＯ−ＰｂＯ−Ｂｉ２Ｏ３、ＢａＯ−ＰｂＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＺｎＯ、Ｂｉ２Ｏ３−Ｇａ２Ｏ３−ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３−Ｇａ２Ｏ３−ＣｄＯ、Ｂｉ２Ｏ３−Ｇａ２Ｏ３−（Ｐｂ，Ｃｄ）Ｏ等が挙げられる。
【００９３】
酸化物粒子の粒子径は、本発明の屈折率変化性組成物を使用する光の波長よりも小さいものが好ましく、例えば２μｍ以下とすることができ、０．２μｍ以下であることがさらに好ましく、０．１μｍ以下であることが特に好ましい。粒子径が２μｍを越えると、得られる屈折率変化性組成物の透明性が低下したり、膜としたときの表面状態に問題が生じる場合がある。
【００９４】
酸化物粒子の形状は特に制限されないが、略球形であるものが、入射光の散乱性が少ない点から好ましく使用される。
【００９５】
上記の酸化物粒子は、シランカップリング剤、界面活性剤、または酸化物を構成する金属原子への配位能を持つ配位性化合物等と接触させることにより、粒子表面を改質した後に使用することもできる。
【００９６】
バインダー成分は非分解性化合物であり、酸または塩基に対して安定でありそして好ましくは光学的に透明性の高い材料である。
【００９７】
非分解性化合物としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ノルボルネン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、シリコン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリシロキサン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ビニルエステル系樹脂などが挙げられる。使用する（Ａ）分解性化合物の屈折率に依存して、用いられる好ましい非分解性化合物を任意に選択することができる。特に（Ａ）分解性化合物との屈折率差を大きくする目的において、芳香族類、ハロゲン原子、硫黄原子などを含む非分解性化合物が好適に用いられる場合がある。
【００９８】
非分解性化合物のさらなる具体例としては、下記化合物を挙げることができる。なお、カッコ内の数字はｄ線による屈折率の値である。
【００９９】
例えば、ポリビニリデンフルオライド（１．４２）、ポリジメチルシロキサン（１．４３）、ポリトリフルオロエチルメタクリレート（１．４４）、ポリオキシプロピレン（１．４５）、ポリビニルイソブチルエーテル（１．４５）、ポリビニルエチルエーテル（１．４５）、ポリオキシエチレン（１．４６）、ポリビニルブチルエーテル（１．４６）、ポリビニルペンチルエーテル（１．４６）、ポリビニルヘキシルエーテル（１．４６）、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）（１．４６〜１．４７）、セルロースアセテートブチレート（１．４６〜１．４９）、ポリ（４−フルオロ−２−トリフルオロメチルスチレン）（１．４６）、ポリビニルオクチルエーテル（１．４６）、ポリ（ビニル２−エチルヘキシルエーテル）（１．４６）、ポリビニルデシルエーテル（１．４６）、ポリ（２−メトキシエチルアクリレート）（１．４６）、ポリブチルアクリレート（１．４６）、ポリブチルアクリレート（１．４７）、ポリ（ｔ−ブチルメタクリレート）（１．４６）、ポリビニルドデシルエーテル（１．４６）、ポリ（３−エトキシプロピルアクリレート）（１．４７）、ポリオキシカルボニルテトラメチレン（１．４７）、ポリビニルプロピオネート（１．４７）、ポリビニルアセテート（１．４７）、ポリビニルメチルエーテル（１．４７）、ポリエチルアクリレート（１．４７）、エチレン−ビニルアセテート共重合体（１．４７〜１．５０）、（８０％〜２０％ビニルアセテート）セルロースプロピオネート（１．４７〜１．４９）、セルロースアセテートプロピオネート（１．４７）、ベンジルセルロース（１．４７〜１．５８）、フェノール−フォルムアルデヒド樹脂（１．４７〜１．７０）、セルローストリアセテート（１．４７〜１．４８）、ポリビニルメチルエーテル（アイソタクティック）（１．４７）、ポリ（３−メトキシプロピルアクリレート）（１．４７）、ポリ（２−エトキシエチルアクリレート）（１．４７）、ポリメチルアクリレート（１．４７〜１．４８）、ポリイソプロピルメタクリレート（１．４７）、ポリ（１−デセン）（１．４７）、ポリプロピレン（アタクティック，密度０．８５７５ｇ／ｃｍ３）（１．４７）、ポリ（ビニルｓｅｃ−ブチルエーテル）（アイソタクティック）（１．４７）、ポリドデシルメタクリレート（１．４７）、ポリオキシエチレンオキシスクシノイル（１．４７）、（ポリエチレンスクシネート）ポリテトラデシルメタクリレート（１．４７）、エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰＲ−ゴム）（１．４７〜１．４８）、
【０１００】
ポリヘキサデシルメタクリレート（１．４８）、ポリビニルフォルメート（１．４８）、ポリ（２−フルオロエチルメタクリレート）（１．４８）、ポリイソブチルメタクリレート（１．４８）、エチルセルロース（１．４８）、ポリビニルアセタール（１．４８〜１．５０）、セルロースアセテート（１．４８〜１．５０）、セルローストリプロピオネート（１．４８〜１．４９）、ポリオキシメチレン（１．４８）、ポリビニルブチラール（１．４８〜１．４９）、ポリ（ｎ−ヘキシルメタクリレート）（１．４８）、ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート）（１．４８）、ポリエチリデンジメタクリレート（１．４８）、ポリ（２−エトキシエチルメタクリレート）（１．４８）、ポリオキシエチレンオキシマレオイル（１．４８）、（ポリエチレンマレート）ポリ（ｎ−プロピルメタクリレート）（１．４８）、ポリ（３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート）（１．４９）、ポリエチルメタクリレート（１．４９）、ポリ（２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート）（１．４９）、ポリトリエチルカルビニルメタクリレート（１．４９）、ポリ（１，１−ジエチルプロピルメタクリレート）（１．４９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリ（２−デシル−１，３−ブタジエン）（１．４９）、ポリビニルアルコール（１．４９〜１．５３）、ポリエチルグリコレートメタクリレート（１．４９）、ポリ（３−メチルシクロヘキシルメタクリレート）（１．４９）、ポリ（シクロヘキシルα−エトキシアクリレート）（１．５０）、メチルセルロース（低粘度）（１．５０）、ポリ（４−メチルシクロヘキシルメタクリレート）（１．５０）、ポリデカメチレングリコールジメタクリレート（１．５０）、ポリウレタン（１．５０〜１．６０）、ポリ（１，２−ブタジエン）（１．５０）、ポリビニルフォルマール（１．５０）、ポリ（２−ブロモ−４−トリフルオロメチルスチレン）（１．５０）、セルロースニトレート（１．５０〜１．５１）、ポリ（ｓｅｃ−ブチルα−クロロアクリレート）（１．５０）、ポリ（２−ヘプチル−１，３−ブタジエン）（１．５０）、ポリ（エチルα−クロロアクリレート）（１．５０）、ポリ（２−イソプロピル−１，３ブタジエン（１．５０）、ポリ（２−メチルシクロヘキシルメタクリレート）（１．５０）、ポリプロピレン（密度０．９０７５ｇ／ｃｍ３）（１．５０）、ポリイソブテン（１．５１）、ポリボルニルメタクリレート（１．５１）、ポリ（２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン）（１．５１）、ポリエチレングリコールジメタクリレート（１．５１）、ポリシクロヘキシルメタクリレート（１．５１）、ポリ（シクロヘキサンジオール−１，４−ジメタクリレート）（１．５１）、ブチルゴム（未加硫）（１．５１）、ポリテトラハイドロフルフリルメタクリレート）（１．５１）、グッタペルカ（β）（１．５１）、ポリエチレンアイオノマー（１．５１）、ポリオキシエチレン（高分子量）（１．５１〜１．５４）、ポリエチレン（密度０．９１４ｇ／ｃｍ３）（１．５１）、（密度０．９４〜０．９４５ｇ／ｃｍ３）（１．５２〜１．５３）、（密度０．９６５ｇ／ｃｍ３）（１．５５）、ポリ（１−メチルシクロヘキシル���タクリレート）（１．５１）、ポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）（１．５１）、ポリビニルクロロアセテート（１．５１）、ポリブテン（アイソタクティック）（１．５１）、ポリビニルメタクリレート（１．５１）、ポリ（Ｎ−ブチル−メタクリルアミド）（１．５１）、グッタペルカ（α）（１．５１）、テルペン樹脂（１．５２）、ポリ（１，３−ブタジエン）（１．５２）、セラック（１．５１〜１．５３）、ポリ（メチルα−クロロアクリレート）（１．５２）、ポリ（２−クロロエチルメタクリレート）（１．５２）、ポリ（２−ジエチルアミノエチルメタクリレート）（１．５２）、ポリ（２−クロロシクロヘキシルメタクリレート）（１．５２）、ポリ（１，３−ブタジエン）（３５％シス；５６％トランス  １．５１８０；７％１，２−含有量）、天然ゴム（１．５２）、ポリアリルメタクリレート（１．５２）、ポリビニルクロライド＋４０％ジオクチルフタテート（１．５２）、ポリアクリロニトリル（１．５２）、ポリメタクリロニトリル（１．５２）、ポリ（１，３−ブタジエン）（シス型リッチ）（１．５２）、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体（１．５２）、ポリメチルイソプロペニルケトン（１．５２）、ポリイソプレン（１．５２）、ポリエステル樹脂リジッド（約５０％スチレン）（１．５２〜１．５４）、ポリ（Ｎ−（２−メトキシエチル）メタクリルアミド）（１．５２）、ポリ（２，３−ジメチルブタジエン）（メチルゴム）（１．５３）、ビニルクロライド−ビニルアセテート共重合体（９５／５〜９０／１０）（１．５３〜１．５４）、ポリアクリックアシド（１．５３）、ポリ（１，３−ジクロロプロピルメタクリレート）（１．５３）、ポリ（２−クロロ−１−（クロロメチル）エチルメタクリレート）（１．５３）、ポリアクロレイン（１．５３）、ポリ（１−ビニル−２−ピロリドン）（１．５３）、塩酸化ゴム（１．５３〜１．５５）、ナイロン６；ナイロン６，６；ナイロン６，１０（成型体）（１．５３）、ブタジエン−スチレン共重合体（約３０％スチレン）（１．５３）、ブロック共重合体ポリ（シクロヘキシルα−クロロアクリレート）（１．５３）、ポリ（２−クロロエチルα−クロロアクリレート）（１．５３）、ブタジエン−スチレン共重合体（約７５／２５）（１．５４）、ポリ（２−アミノエチルメタクリレート）（１．５４）、ポリフルフリルメタクリレート（１．５４）、ポリブチルメルカプチルメタクリレート（１．５４）、ポリ（１−フェニル−ｎ−アミルメタクリレート）（１．５４）、ポリ（Ｎ−メチル−メタクリルアミド）（１．５４）、セルロース（１．５４）、ポリビニルクロライド（１．５４〜１．５５）、ウレアホルムアルデヒド樹脂（１．５４〜１．５６）、ポリ（ｓｅｃ−ブチルα−ブロモアクリレート）（１．５４）、ポリ（シクロヘキシルα−ブロモアクリレート）（１．５４）、ポリ（２−ブロモエチルメタクリレート）（１．５４）、ポリジヒドロアビエチン酸（１．５４）、ポリアビエチン酸（１．５４６）、ポリエチルメルカプチルメタクリレート（１．５５）、ポリ（Ｎ−アリルメタクリルアミド）（１．５５）、ポリ（１−フェニルエチルメタクリレート）（１．５５）、ポリビニルフ��ン（１．５５）、ポリ（２−ビニルテトラヒドロフラン）（１．５５）、ポリ（ビニルクロライド）＋４０％トリクレジルフォスフェート（１．５５）、ポリ（ｐ−メトキシベンジルメタクリレート）（１．５５）、ポリイソプロピルメタクリレート（１．５５）、ポリ（ｐ−イソプロピルスチレン）（１．５５）、ポリクロロプレン（１．５５〜１．５６）、ポリ（オキシエチレン−α−ベンゾエート−ω−メタクリレート）（１．５６）、ポリ（ｐ，ｐ’−キシリレニルジメタクリレート）（１．５６）、ポリ（１−フェニルアリルメタクリレート）（１．５６）、ポリ（ｐ−シクロヘキシルフェニルメタクリレート）（１．５６）、ポリ（２−フェニルエチルメタクリレート）（１．５６）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−１−プロピル（１．５６）、ポリ（１−（ｏ−クロロフェニル）エチルメタクリレート）（１．５６）、スチレン−無水マレイン酸共重合体（１．５６）、ポリ（１−フェニルシクロヘキシルメタクリレート）（１．５６）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−１，３−ジメチル−ブチリデン−１，４−フェニレン）（１．５７）、ポリ（メチルα−ブロモアクリレート）（１．５７）、ポリベンジルメタクリレート（１．５７）、ポリ（２−（フェニルスルフォニル）エチルメタクリレート）（１．５７）、ポリ（ｍ−クレジルメタクリレート）（１．５７）、スチレン−アクリロニトリル共重合体（約７５／２５）（１．５７）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンイソブチリデン−１，４−フェニレン）（１．５７）、ポリ（ｏ−メトキシフェニルメタクリレート）（１．５７）、ポリフェニルメタクリレート（１．５７）、ポリ（ｏ−クレジルメタクリレート）（１．５７）、ポリジアリルフタレート（１．５７）、ポリ（２，３−ジブロモプロピルメタクリレート）（１．５７）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−１−メチル−ブチリデン−１，４−フェニレン）（１．５７）、ポリ（オキシ−２，６−ジメチルフェニレン）（１．５８）、ポリオキシエチレンオキシテレフタロイル（アモルファス）（１．５８）、ポリエチレンテレフタレート（１．５１〜１．６４）、ポリビニルベンゾエート（１．５８）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンブチリデン−１，４−フェニレン）（１．５８）、ポリ（１，２−ジフェニルエチルメタクリレート）（１．５８）、ポリ（ｏ−クロロベンジルメタクリレート）（１．５８）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−ｓｅｃ−ブチリデン−１，４−フェニレン）（１．５８）、ポリオキシペンタエリスリトロキシフタロイル）（１．５８）、ポリ（ｍ−ニトロベンジルメタクリレート）（１．５８）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンイソプロピリデン−１，４−フェニレン）（１．５９）、ポリ（Ｎ−（２−フェニルエチル）メタクリルアミド）（１．５９）、ポリ（４−メトキシ−２−メチルスチレン）（１．５９）、ポリ（ｏ−メチルスチレン）（１．５９）、ポリスチレン（１．５９）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンシクロヘキシリデン−１，４−フェニレン）（１．５９）、ポリ（ｏ−メト��シスチレン）（１．５９）、ポリジフェニルメチルメタクリレート（１．５９）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンエチリデン−１，４−フェニレン）（１．５９）、ポリ（ｐ−ブロモフェニルメタクリレート）（１．６０）、ポリ（Ｎ−ベンジルメタクリルアミド）（１．６０）、ポリ（ｐ−メトキシスチレン）（１．６０）、ポリビニリデンクロライド（１．６０〜１．６３）、ポリスルフィド（“Ｔｈｉｏｋｏｌ”）（１．６〜１．７）、ポリ（ｏ−クロロジフェニルメチルメタクリレート）（１．６０）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−（２，６−ジクロロ）フェニレン−イソプロピリデン−１，４−（２，６−ジクロロ）フェニレン）（１．６１）、ポリ（オキシカルボニロキシビス（１，４−（３，５−ジクロロフェニレン）））ポリペンタクロロフェニルメタクリレート（１．６１）、ポリ（ｏ−クロロスチレン）（１．６１）、ポリ（フェニルα−ブロモアクリレート）（１．６１）、ポリ（ｐ−ジビニルベンゼン）（１．６２）、ポリ（Ｎ−ビニルフタルイミド）（１．６２）、ポリ（２，６−ジクロロスチレン）（１．６２）、ポリ（β−ナフチルメタクリレート）（１．６３）、ポリ（α−ナフチルカルビニルメタクリレート）（１．６３）、ポリサルホン（１．６３）、ポリ（２−ビニルチオフェン）（１．６４）、ポリ（α−ナフチルメタクリレート）（１．６４）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンジフェニル−メチレン−１，４−フェニレン）（１．６５）、ポリビニルフェニルスルフィド（１．６６）、ブチルフェノールフォルムアルデヒド樹脂（１．６６）、ウレア−チオウレア−フォルムアルデヒド樹脂（１．６６）、ポリビニルナフタレン（１．６８）、ポリビニルカルバゾール（１．６８）、ナフタレン−フォルムアルデヒド樹脂（１．７０）、フェノール−フォルムアルデヒド樹脂（１．７０）、ポリペンタブロモフェニルメタクリレート（１．７１）等が挙げられる。
【０１０１】
非分解性化合物は、上記各化合物を構成する単量体２種以上からなる共重合体であってもよい。
非分解性化合物の重量平均分子量は、好ましくは１００〜５００，０００であり、より好ましくは１００〜２００，０００である。
非分解性化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
非分解性化合物は、無機酸化物粒子１００重量部に対し、好ましくは３００重量部以下、より好ましくは１５０重量部以下で用いられる。
【０１０２】
（Ｂ）成分の屈折率ｎＢは（Ａ）成分の分解性化合物の屈折率ｎＡと下記式（１）または（２）のいずれかの関係にあるのが特に好ましい。
ｎＢ−ｎＡ≧０．０５    ．．．（１）
ｎＡ−ｎＢ≧０．０５    ．．．（２）
また、（Ｂ）成分は（Ａ）成分との合計が１００重量部になるようにしたとき、１０重量部から９０重量部であることが好ましく、２０重量部から７０重量部であることがさらに好ましい。（Ｂ）成分が１０重量部未満の場合、屈折率変化材料が脆くなりやすく、９０重量部を超える場合は得られる屈折率差が小さくなりやすい。
【０１０３】
（Ｃ）感放射線分解剤
本発明に用いる（Ｃ）感放射線分解剤は、感放射線酸発生剤または感放射線塩基発生剤であることができる。
上記感放射線酸発生剤としては、例えばトリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、第四アンモニウム塩類、スルホン酸エステル類等を用いることができる。
【０１０４】
上記トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類としては、例えば２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４，５−トリメトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、等が挙げられる。
【０１０５】
上記ジアリールヨードニウム塩類としては、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０１０６】
上記トリアリールスルホニウム塩類としては、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニルジメチルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０１０７】
上記第四アンモニウム塩類としては、例えばテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、テトラメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、テトラメチルアンモニウムトリフルオロアセテート、テトラメチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、テトラブチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、テトラブチルアンモニウムトリフルオロアセテート、テトラブチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、テトラブチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラブチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラブチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、ベンジルトリメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジルトリメチルアンモニウムトリフルオロアセテート、ベンジルトリメチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ベンジルトリメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムテトラフルオロボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムトリフルオロアセテート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムトリフルオロアセテート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、Ｎーシンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０１０８】
上記スルホン酸エステル類としては、例えばα−ヒドロキシメチルベンゾイン−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、α−ヒドロキシメチルベンゾイン−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、α−ヒドロキシメチルベンゾイン−メタンスルホン酸エステル、ピロガロール−トリ（ｐ−トルエンスルホン酸）エステル、ピロガロール−トリ（トリフルオロメタンスルホン酸）エステル、ピロガロール−トリメタンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、４−ニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、４−ニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、４−ニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、４−ニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−メタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド−メタンスルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル等が挙げられる。
【０１０９】
これらの化合物のうち、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類としては、２−（３−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンまたは２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン；
ジアリールヨードニウム塩類としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナートまたは４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート；
トリアリールスルホニウム塩類としては、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナートまたは４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート；
【０１１０】
第四アンモニウム塩類としては、テトラメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート；
スルホン酸エステル類としては、２，６−ジニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステルをそれぞれ好ましいものとして挙げることができる。
【０１１１】
上記感放射線塩基発生剤としては、特開平４−３３０４４４号公報、「高分子」ｐ２４２−２４８、４６巻６号（１９９７年）、米国特許第５，６２７，０１０号公報等に記載されているものが好適に用いられる。しかしながら、機能として放射線の照射により塩基が発生すればこれらに限定されない。
【０１１２】
本発明における好ましい感放射線塩基発生剤としては、例えばトリフェニルメタノール、ベンジルカルバメートおよびベンゾインカルバメート等の光活性なカルバメート；Ｏ−カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ−カルバモイルオキシム、アロマティックスルホンアミド、アルファーラクタムおよびＮ−（２−アリルエチニル）アミド等のアミドならびにその他のアミド；オキシムエステル、α−アミノアセトフェノン、コバルト錯体等を挙げることができる。
【０１１３】
感放射線塩基発生剤の例としては、例えば下記一般式（２０）〜（３０）で表される化合物が挙げられる。
【０１１４】
【化３４】
0003622201.tif 000021
【０１１５】
（ここでＲ７２は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペリジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基、炭素数６〜２０のアリール基、フッ素原子、塩素原子または臭素原子であり、ｋは０〜３の整数であり、Ｒ７３は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ７４およびＲ７５はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基もしくはベンジル基であり、またはＲ７４とＲ７５とで炭素数５〜６の環状構造を形成しても良い。）
【０１１６】
【化３５】
0003622201.tif 000022
【０１１７】
（ここでＲ７６は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペリジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ７７は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ７８およびＲ７９はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基もしくはベンジル基でありまたはＲ７８とＲ７９とで炭素数５〜６の環状構造を形成しても良い。）
【０１１８】
【化３６】
0003622201.tif 000023
【０１１９】
（ここでＲ８０は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ８１およびＲ８２はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基もしくはベンジル基でありまたはＲ８１とＲ８２とで炭素数５〜６の環状構造を形成していても良い。）
【０１２０】
【化３７】
0003622201.tif 000024
【０１２１】
（ここでＲ８３およびＲ８４はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基である。）
【０１２２】
【化３８】
0003622201.tif 000025
【０１２３】
（ここでＲ８５、Ｒ８６およびＲ８７は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基である。）
【０１２４】
【化３９】
0003622201.tif 000026
【０１２５】
（ここでＲ８８は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペリジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ８９は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ９０、Ｒ９１およびＲ９２はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基またはベンジル基である。）
【０１２６】
【化４０】
0003622201.tif 000027
【０１２７】
（ここでＲ９３は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペリジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ９４およびＲ９５はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、メルカプト基、シアノ基、フェノキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ９６およびＲ９７はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基もしくはベンジル基でありまたはＲ９６とＲ９７とで炭素数５〜６の環状構造を形成していても良い。）
【０１２８】
【化４１】
0003622201.tif 000028
【０１２９】
（ここでＲ９８およびＲ９９はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペリジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ１００〜Ｒ１０３はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、メルカプト基、シアノ基、フェノキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ａ５はモノアルキルアミン、ピペラジン、芳香族ジアミンまたは脂肪族ジアミンの１個または２個の窒素原子に結合する２個の水素原子を除いて生ずる二価の原子団である。）
【０１３０】
【化４２】
0003622201.tif 000029
【０１３１】
（ここでＲ１０４およびＲ１０５はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のジアルキルアミノ基、ピペリジル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ１０６およびＲ１０７はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、メルカプト基、シアノ基、フェノキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ１０８〜Ｒ１１１はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基もしくはベンジル基でありまたはＲ１０８とＲ１０９もしくはＲ１１０とＲ１１１とで炭素数５〜６の環状構造を形成していても良く、Ａ６は炭素数１〜６のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基または単結合である。）
【０１３２】
【化４３】
0003622201.tif 000030
【０１３３】
（ここでＲ１１２〜Ｒ１１４はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルケニル基、炭素数１〜６のアルキニル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基である。）
【０１３４】
【化４４】
0003622201.tif 000031
【０１３５】
（ここでＬは、アンモニア、ピリジン、イミダゾール、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、ジエチレントリアミンから選ばれる少なくとも一種の配位子であり、ｎは２〜６の整数であり、Ｒ１１５は、炭素数２〜６のアルケニル基もしくはアルキニル基または炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｒ１１６は炭素数１〜１８のアルキル基である。）
【０１３６】
上記式（２０）〜（３０）の全てにおいて、アルキル基とは直鎖状、分岐鎖状、環状であることができる。またアルケニル基とは、ビニル基、プロピレニル基などを；アルキニル基としてはアセチレニル基などをそれぞれ例示することができる。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などを例示することができる。またこれらの基に含まれる水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基、ジアルキルアミノ基、アルコキシル基またはチオアルキル基に置換されたものも含むものとする。
【０１３７】
これらの感放射線塩基発生剤のうち、２−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、ｏ−カルバモイルヒドロキシルアミド、ｏ−カルバモイルオキシム、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６−ジアミン、４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタン、（４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン、Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等が好ましいものとして挙げられる。
【０１３８】
上記（Ｃ）感放射線分解剤は、（Ａ）分解性化合物と（Ｂ）無機酸化物粒子を含有する非分解性成分の合計が１００重量部当り、０．０１重量部以上用いることが好ましく、０．０５重量部以上用いることがさらに好ましい。（Ｃ）成分が０．０１重量部未満の場合、照射光に対する感度が不足する場合がある。上限値は好ましくは３０重量部、より好ましくは２０重量部である。
【０１３９】
（Ｄ）安定化剤
本発明の屈折率変化性組成物は、上記（Ａ），（Ｂ）および（Ｃ）成分の他に、任意成分として（Ｄ）安定化剤を含有することができる。
【０１４０】
本発明で使用される（Ｄ）安定化剤は、放射線照射後の屈折率変化材料に残存する（Ａ）分解性化合物を安定化し、酸または塩基に対する安定性を付与する機能を有する。この安定化処理により、本発明の方法により形成された屈折率パターンは、屈折率を変化させるために使用した波長付近の光が通過する条件下で使用しても、屈折率の変化が引き起こされることがなく、劣化することがない。
【０１４１】
上記（Ｄ）安定化剤としては、例えばアミノ化合物、エポキシ化合物、チイラン化合物、オキセタン化合物、アルコキシメチル化メラミン化合物、アルコキシメチル化グリコールウリル化合物、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン化合物、アルコキシメチル化尿素化合物、イソシアネート化合物、シアネート化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物およびシリル化合物（ハロゲン化シリル化合物、その他のシリル化合物）等を挙げることができる。
【０１４２】
上記アミノ化合物としては、例えばトリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、アニリン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオンタン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，１１−ジアミノウンデカン、１，１２−ジアミノドデカン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，３−シクロヘキサンビス（メチルアミン）、２，２’，２”−トリアミノトリエチルアミン、１，４−ジアミノ−２，２，３，３−テトラフロロペンタン、１，５−ジアミノ−２，２，３，３，４，４−ヘキサフロロペンタン、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン、アクリログアナミン、パラミン、アミドール、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｐ，ｐ’  −ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、１，８−ジアミノナフタレン、３，５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール、２−クロロ−４，６−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、２、６−ジアミノピリジン、３，３’−ジアミノベンジジン、ビス（４−アミノフェニル）エーテル、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、１，２，４，５−ベンゼンテトラミン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラアミノベンゾフェノン、トリアミノベンゼン、４，４’−チオジアニリン、２，３，５，６−テトラブロモ−ｐ−キシリレンジアミン、２，３，５，６−テトラクロロ−ｐ−キシリレンジアミン、４，５−メチレンジオキシ−１，２−フェニレンジアミン、２，２’−ビス（５−アミノピリジル）サルファイド等を挙げることができる。
【０１４３】
上記エポキシ化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、脂肪族ポリグリシジルエーテル等を挙げることができる。
【０１４４】
これらの市販品として、以下のものを例示することができる。ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等を、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピコート８０７（油化シェルエポキシ（株）製）等を、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピコート１５２、同１５４（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）等を、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポキシ（株）製）等を、環式脂肪族エポキシ樹脂としては、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ  Ａ．Ｇ製）、ＥＲＬ−４２３４、ＥＲＬ−４２９９、ＥＲＬ−４２２１、ＥＲＬ−４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−１９２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ  Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ工業（株）製）、エピコート８７１、同８７２（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等を、脂肪族ポリグリシジルエーテルとしては、エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等を挙げることができる。
【０１４５】
上記以外にもフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、３，３，３−トリフロロメチルプロピレンオキシド、スチレンオキシド、ヘキサフロロプロピレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、Ｎ−グリシジルフタルイミド、（ノナフロロ−Ｎ−ブチル）エポキシド、パーフロロエチルグリシジルエーテル、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、３−［２−（パーフロロヘキシル）エトキシ］−１，２−エポキシプロパン等がエポキシ化合物として好適に使用できる。
【０１４６】
上記チイラン化合物としては、上記エポキシ化合物のエポキシ基を、例えばＪ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，  ２８，  ２２９  （１９６３）に示されるようにしてエチレンスルフィド基に置換したものを使用することができる。
【０１４７】
上記オキセタン化合物としては、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン（商品名「ＸＤＯ」、東亞合成（株）製）、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕メタン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕エーテル、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕プロパン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕スルホン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕ケトン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕ヘキサフロロプロパン、トリ〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン、テトラ〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン等を挙げることができる。
【０１４８】
上記アルコキシメチル化メラミン化合物、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン化合物、アルコキシメチル化グリコールウリル化合物およびアルコキシメチル化尿素化合物は、それぞれメチロール化メラミン化合物、メチロール化ベンゾグアナミン化合物、メチロール化グリコールウリル化合物およびメチロール化尿素化合物のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等とすることができる。
【０１４９】
これらの市販品としては、例えばサイメル３００、同３０１、同３０３、同３７０、同３２５、同３２７、同７０１、同２６６、同２６７、同２３８、同１１４１、同２７２、同２０２、同１１５６、同１１５８、同１１２３、同１１７０、同１１７４、同ＵＦＲ６５、同３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭｘ−７５０、同Ｍｘ−０３２、同Ｍｘ−７０６、同Ｍｘ−７０８、同Ｍｘ−４０、同Ｍｘ−３１、同Ｍｓ−１１、同Ｍｗ−３０（以上、三和ケミカル（株）製）等を挙げることができる。
【０１５０】
上記イソシアネート化合物としては、例えばフェニレン−１，３−ジイソシアネート、フェニレン−１，４−ジイソシアネート、１−メトキシフェニレン−２，４−ジイソシアネート、１−メチルフェニレン−２，４−ジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、ビフェニレン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメトキシビフェニレン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニレン−４，４’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−２，４’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメトキシジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメチルジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、シクロブチレン−１，３−ジイソシアネート、シクロペンチレン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，４−ジイソシアネート、１−メチルシクロヘキシレン−２，４−ジイソシアネート、１−メチルシクロヘキシレン−２，６−ジイソシアネート、１−イソシアネート−３，３，５−トリメチル−５−イソシアネートメチルシクロヘキサン、シクロヘキサン−１，３−ビス（メチルイソシアネート）、シクロヘキサン−１，４−ビス（メチルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−２，４’−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、テトラメチレン−１，４−ジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート、ドデカメチレン−１，１２−ジイソシアネート、リジンジイソシアネートメチルエステル等や、これらの有機ジイソシアネートの化学量論的過剰量と２官能性活性水素含有化合物との反応により得られる両末端イソシアネートプレポリマー等を挙げることができる。
【０１５１】
また、場合により上記ジイソシアネートとともに、例えばフェニル−１，３，５−トリイソシアネート、ジフェニルメタン−２，４，４’−トリイソシアネート、ジフェニルメタン−２，５，４’−トリイソシアネート、トリフェニルメタン−２，４’，４”−トリイソシアネート、トリフェニルメタン−４，４’，４”−トリイソシアネート、ジフェニルメタン−２，４，２’，４’−テトライソシアネート、ジフェニルメタン−２，５，２’，５’−テトライソシアネート、シクロヘキサン−１，３，５−トリイソシアネート、シクロヘキサン−１，３，５−トリス（メチルイソシアネート）、３，５−ジメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリス（メチルイソシアネート）、１，３，５−トリメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリス（メチルイソシアネート）、ジシクロヘキシルメタン−２，４，２’−トリイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−２，４，４’−トリイソシアネート等の３官能以上の有機ポリイソシアネートや、これらの３官能以上の有機ポリイソシアネートの化学量論的過剰量と２官能以上の多官能性活性水素含有化合物との反応により得られる末端イソシアネートプレポリマー等を併用してもよい。
【０１５２】
上記シアネート化合物としては、１，３−ジシアナートベンゼン、１，４−ジシアナートベンゼン、１，３，５−トリシアナートベンゼン、１，３−、１，４−、１，６−、１，８−、２，６−、または２，７−ジシアナートナフタレン、１，３，６−トリシアナートナフタレン、２，２’−または４，４’−ジシアナートビフェニル、ビス（４−シアナートフェニル）メタン、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３，５−ジクロロ−４−シアナートフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）エタン、ビス（４−シアナートフェニル）エーテル、ビス（４−シアナートフェニル）チオエーテル、ビス（４−シアナートフェニル）スルホン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン、トリス（４−シアナートフェニル）ホスファイト、トリス（４−シアナートフェニル）ホスフェート、およびフェノール樹脂とハロゲン化シアンの反応より得られるベンゼン多核体のポリイソシアネート化合物（例えば、特公昭４５−１１７１２号および５５−９４３３号公報）などを挙げることができる。入手が容易でありかつ、成形性および最終硬化物に良好な性質を与えるという点から、２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパンのようなビスフェノールから誘導された２価のシアン酸エステル化合物は、特に良好に使用される。また、フェノールとホルムアルデヒドとの初期縮合物にハロゲン化シアンを反応させて得られるポリシアナートも有用である。
【０１５３】
上記オキサゾリン化合物としては、２，２’−ビス（２−オキサゾリン）、４−フラン−２−イルメチレン−２−フェニル−４Ｈ−オキサゾール−５−オン、１，４−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサゾリル）ベンゼン、１，３−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサゾリル）ベンゼン、２，３−ビス（４−イソプロペニル−２−オキサゾリン−２−イル）ブタン、２，２’−ビス−４−ベンジル−２−オキサゾリン、２，６−ビス（イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル）ピリジン、２，２’−イソプロピリデンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン）、２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）、２，２’−メチレンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン）、２，２’−メチレンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）等が挙げられる。
【０１５４】
上記オキサジン化合物としては、２，２’−ビス（２−オキサジン）、４−フラン−２−イルメチレン−２−フェニル−４Ｈ−オキサジル−５−オン、１，４−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサジル）ベンゼン、１，３−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサジル）ベンゼン、２，３−ビス（４−イソプロペニル−２−オキサジン−２−イル）ブタン、２，２’−ビス−４−ベンジル−２−オキサジン、２，６−ビス（イソプロピル−２−オキサジン−２−イル）ピリジン、２，２’−イソプロピリデンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサジン）、２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサジン）、２，２’−メチレンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサジン）、２，２’−メチレンビス（４−フェニル−２−オキサジン）等が挙げられる。
【０１５５】
上記ハロゲン化シリル化合物としては、テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラヨードシラン、トリクロロブロモシラン、ジクロロジブロモシラン等のテトラハロゲノシラン類、メチルトリクロロシラン、メチルジクロロブロモシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン等のモノアルキルトリハロゲノシラン類、フェニルトリクロロシラン、ナフチルトリクロロシラン、４−クロロフェニルトリクロロシラン、フェニルジクロロブロモシラン等のモノアリールトリハロゲノシラン類、フェノキシトリクロロシラン、フェノキシジクロロブロモシラン等のモノアリールオキシトリハロゲノシラン類、メトキシトリクロロシラン、エトキシトリクロロシラン等のモノアルコキシトリハロゲノシラン類、ジメチルジクロロシラン、メチル（エチル）ジクロロシラン、メチル（シクロヘキシル）ジクロロシラン等のジアルキルジハロゲノシラン類、メチル（フェニル）ジクロロシラン等のモノアルキルモノアリールジハロゲノシラン類、ジフェニルジクロロシラン等のジアリールジハロゲノシラン類、ジフェノキシジクロロシラン等のジアリールオキシジハロゲノシラン類、メチル（フェノキシ）ジクロロシラン等のモノアルキルモノアリールオキシジハロゲノシラン類、フェニル（フェノキシ）ジクロロシラン等のモノアリールモノアリールオキシジハロゲノシラン類、ジエトキシジクロロシラン等のジアルコキシジハロゲノシラン類、メチル（エトキシ）ジクロロシラン等のモノアルキルモノアルコキシジクロロシラン類、フェニル（エトキシ）ジクロロシラン等のモノアリールモノエトキシジクロロシラン類、トリメチルクロロシラン、ジメチル（エチル）クロロシラン、ジメチル（シクロヘキシル）クロロシラン等のトリアルキルモノハロゲノシラン類、ジメチル（フェニル）クロロシラン等のジアルキルモノアリールモノハロゲノシラン類、メチル（ジフェニル）クロロシラン等のモノアルキルジアリールモノハロゲノシラン類、トリフェノキシクロロシラン等のトリアリールオキシモノハロゲノシラン類、メチル（ジフェノキシ）クロロシラン等のモノアルキルジアリールオキシモノハロゲノシラン類、フェニル（ジフェノキシ）クロロシラン等のモノアリールジアリールオキシモノハロゲノシラン類、ジメチル（フェノキシ）クロロシラン等のジアルキルモノアリールオキシモノハロゲノシラン類、ジフェニル（フェノキシ）クロロシラン等のジアリールモノアリールオキシモノハロゲノシラン類、メチル（フェニル）（フェノキシ）クロロシラン等のモノアルキルモノアリールモノアリールオキシモノハロゲノシラン類、トリエトキシクロロシラン等のトリエトキシモノハロゲノシラン類、およびテトラクロロシランの２〜５量体等の上記化合物のオリゴマー等が挙げられる。
【０１５６】
上記その他のシリル化合物としては、ヘキサメチルジシラザン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、トリメチルシラノール、ヘキサメチルジシロキサン、クロルメチルジメチルエトキシシラン、アセチルトリフェニルシラン、エトキシトリフェニルシラン、トリフェニルシラノール、トリエチルシラノール、トリプロピルシラノール、トリブチルシラノール、ヘキサエチルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシラン、アセトキシエチルジメチルクロロシラン、１，３−ビス（ヒドロキシブチル）テトラメチルジシロキサン、１，３−ビス（ヒドロキシプロピル）テトラメチルジシロキサン、γ−アミノプロピルメトキシシラン、γ−アミノプロピルエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−ジブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、Ｎ−トリメチルシリルイミダゾール、ビス（トリメチルシリル）ウレア、トリメチルシリルアセトアミド、ビストリメチルシリルアセトアミド、トリメチルシリルイソシアネート、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン、ｔ−ブチルジフェニルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、ジメチルシリルジイソシアネート、メチルシリルトリイソシアネート、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、およびフェニルシリルトリイソシアネート等が挙げられる。
【０１５７】
本発明に用いられる（Ｄ）安定化剤としては、上記のうち、アミノ化合物、エポキシ化合物、チイラン化合物、オキセタン化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、シリル化合物、イソシアネート化合物およびシアネート化合物が好ましく、その中でもアミノ化合物、エポキシ化合物、チイラン化合物、オキセタン化合物、オキサゾリン化合物およびオキサジン化合物がさらに好ましく用いられる。そのうちでも特に、エチレンジアミン、フェニルグリシジルエーテル、３−フェノキシプロピレンスルフィド、３，３，３，−トリフロロプロピレンオキシド、ヘキサメチルジシラザン、γ−アミノプロピルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルシリルトリイソシアネート等が好ましく用いられる。
【０１５８】
これらの（Ｄ）安定化剤は、単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。また（Ｄ）成分の使用割合は、（Ａ）分解性化合物の残存部が十分に反応するように過剰に用いることができるが、通常（Ａ）成分１００重量部に対して１０重量部以上、好ましくは３０重量部以上を使用することができる。（Ｄ）成分の量が１０重量部未満であると、反応が不十分となり、屈折率変化材料の安定性が不足することがある。
【０１５９】
また（Ｄ）安定化剤とともに触媒を使用することができる。触媒の使用により、（Ｄ）成分と（Ａ）分解性化合物の残存部との反応が促進される。
このような触媒としては、例えば酸触媒、塩基触媒、第四オニウム塩類などが挙げられる。
【０１６０】
上記酸触媒としては、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸や、塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸が、上記塩基触媒としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムまたは炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類；酢酸ナトリウムのようなアルカリ金属酢酸塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウムまたは水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドまたはリチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリウムまたはエチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）または１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機アミン類；メチルリチウム、エチルリチウムまたはブチルリチウムのようなアルキルリチウム類；リチウムジイソプロピルアミドまたはリチウムジシクロヘキシルアミドのようなリチウムアルキルアミド類などが、さらに上記第四オニウム塩類としては、例えばテトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨード、テトラブチルアンモニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロミド、セチルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、その他を挙げることができる。また、１８−クラウン−６−エーテルと、塩化カリウム、臭化カリウム、沃化カリウム、塩化セシウム、カリウムフェノキシド、ナトリウムフェノキシド、安息香酸カリウムなどの塩類とを組み合わせて触媒として用いることもできる。
【０１６１】
これらの中で好ましい触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸、水酸化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシド、トリエチルアミン、ＤＢＵ、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムブロミド、１８−クラウン−６−エーテル／カリウムフェノキシドを挙げることができる。
【０１６２】
これらの触媒の使用量は、（Ｄ）成分としてアミノ化合物、アルコキシメチル化メラミン化合物、アルコキシメチル化グリコールウリル化合物、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン化合物、アルコキシメチル化尿素化合物、およびハロゲン化シリル化合物を用いるときは、（Ｄ）成分１当量に対して、２モル以下の使用量が好ましく用いられる。
【０１６３】
また、（Ｄ）成分としてエポキシ化合物、チイラン化合物、オキセタン化合物、イソシアネート化合物、シアネート化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、その他のシリル化合物を用いるときは、（Ｄ）成分１当量に対して、０．２モル以下の使用量が好ましく用いられる。
【０１６４】
なおここで（Ｄ）成分の使用当量数は、（Ｄ）成分の使用量（モル）に当該（Ｄ）成分中に含まれる反応性基の数を乗じて得られる値であり、反応性基の数とは、（Ｄ）成分の種類により下記のように定義される。
【０１６５】
アミノ化合物の場合；窒素原子の数
エポキシ化合物の場合；エポキシ基の数
チイラン化合物の場合；エチレンスルフィド基の数
オキセタン化合物の場合；オキセタニル基の数
アルコキシメチル化メラミン化合物、アルコキシメチル化グリコールウリル化合物、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン化合物およびアルコキシメチル化尿素化合物の場合；アルコキシメチル基の数
イソシアネート化合物の場合；イソシアネート基の数
シアネート化合物の場合；シアネート基の数
オキサゾリン化合物の場合；オキサゾリル基の数
オキサジン化合物の場合；オキサジル基の数
ハロゲン化シリル化合物；ケイ素原子に結合しているハロゲン原子の数
その他のシリル化合物；ケイ素原子の数
【０１６６】
＜その他の成分＞
本発明の屈折率変化性組成物には、本発明の目的を損なわない限りにおいて、その他の添加剤が含有されていてもよい。このような添加剤としては、紫外線吸収剤、増感剤、界面活性剤、耐熱性改良剤、接着助剤等が挙げられる。
【０１６７】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾ−ル類、サリシレ−ト類、ベンゾフェノン類、置換アクリロニトリル類、キサンテン類、クマリン類、フラボン類、カルコン類化合物等の紫外線吸収剤が挙げられる。具体的にはチバ・スペシャルティ−・ケミカルズ社製のチヌビン２３４（２−（２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ−ル）、チヌビン５７１（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾ−ル誘導体）、チヌビン１１３０（メチル−３−（３−ｔ−ブチル−５−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ−ル−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ−ト−ポリエチレングリコ−ル（分子量３００）との縮合物）、１，７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，６−ヘプタジエン−３，５−ジオン、ジベンジリデンアセトンなどがある。
【０１６８】
紫外線吸収剤を添加することにより、本発明の屈折率変化材料における放射線照射部の表面からの深さが深くなるにつれ（Ｃ）成分からの酸または塩基発生量を徐々に減少させることができ、ＧＲＩＮ形成手段として有用である。これらの紫外線吸収剤の使用割合は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００重量部に対して、好ましくは３０重量部以下、より好ましくは２０重量部以下である。
【０１６９】
上記増感剤としては、例えば３−位および／または７−位に置換基を有するクマリン類、フラボン類、ジベンザルアセトン類、ジベンザルシクロヘキサン類、カルコン類、キサンテン類、チオキサンテン類、ポルフィリン類、フタロシアニン類、アクリジン類、アントラセン類等を用いることができる。
【０１７０】
増感剤の使用割合は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００重量部に対して、好ましくは３０重量部以下、より好ましくは２０重量部以下である。
また、上記界面活性剤は、塗布性の改善例えばストリエーションの防止や、現像性の改良を行うために添加することができる。
【０１７１】
界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジアルキルエステル類の如きノニオン系界面活性剤；エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成（株）製）、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３（以上、大日本インキ工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０２、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０５、ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）等の商品名で市販されている弗素系界面活性剤；オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、アクリル酸系またはメタクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．５７、９５（共栄社化学（株）製）等の商品名で市販されているその他の界面活性剤を用いることができる。
【０１７２】
これらの界面活性剤の使用割合は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００重量部に対して、好ましくは２重量部以下、より好ましくは１重量部以下である。また、上記接着助剤は、基板との密着性を改良するために添加することができ、シランカップリング剤等が好ましく用いられる。
上記耐熱性改良剤としては、多価アクリレート等の不飽和化合物などを添加することができる。
【０１７３】
さらに、本発明で使用する屈折率変化性組成物においては、必要に応じて、帯電防止剤、保存安定剤、ハレーション防止剤、消泡剤、顔料、熱酸発生剤等を添加することもできる。
【０１７４】
＜屈折率パターンの形成＞
本発明において、上記の屈折率変化性組成物を用いることにより、例えば次のようにして屈折率パターンを形成することができる。
【０１７５】
先ず、屈折率変化性組成物を、例えばその固形分の濃度が５〜７０重量％となるよう溶剤に溶解または分散し、組成物溶液を調製する。必要に応じて孔径０．１〜１０μｍ程度のフィルターで濾過した後に使用してもよい。
【０１７６】
その後、この組成物溶液をシリコンウェハー等の基板の表面に塗布し、プレベークを行うことにより溶剤を除去して屈折率変化材料の塗膜を形成する。次いで、形成された塗膜に、例えばパターンマスクを介して、その一部に対して放射線照射処理を行い、放射線照射後ベーク処理（ＰＥＢ処理）を行うことにより屈折率変化材料の放射線照射部と放射線未照射部での屈折率差が形成される。
【０１７７】
放射線の照射により（Ｃ）成分の感放射線性分解剤から酸または塩基が生成され、この酸または塩基が（Ａ）成分に作用して（Ａ）成分を分解し、この分解物は主に放射線照射後ベーク時に逃散する。その結果、放射線照射部と放射線未照射部との間に屈折率の差が生じることになる。
【０１７８】
本発明に使用される屈折率変化性組成物を含有する溶液を調製するための溶媒としては、上記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および任意に添加される（Ｄ）成分やその他の添加剤の各成分を均一に溶解または分散し、各成分と反応しないものが用いられる。
【０１７９】
具体的には、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；
【０１８０】
および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル、などのエステル類；
【０１８１】
トリフルオロメチルベンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、ヘキサフルオロシクロヘキサン、ペルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、オクタフルオロデカリン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタンなどのフッ素原子含有溶媒が挙げられる。
【０１８２】
これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との反応性および塗膜の形成のしやすさから、アルコール類、グリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル類およびジエチレングリコール類が好ましく用いられる。
【０１８３】
さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。
【０１８４】
本発明で使用される屈折率変化性組成物は、放射線を照射するにあたり、用途を考慮した上で各種形状に成形される。例えばロッド状、ファイバー状、長板状、球状、フィルム状、レンズ状などが挙げられるがこれに限定されるものではない。その成形方法についても通常用いられる方法を用いることができる。例えば射出成形、圧縮成形、ブロー成形、押し出し、箱枠内重合法、削り出し法、引き延ばし法、加熱冷却法、ＣＶＤ蒸着法、焼結法、スキャン法などが挙げられる。また光学成形体の用途によってはスピンコート法、スリット法、バーコート法、溶媒キャスト法、ＬＢ法、スプレー法、ロールコート法、凸版印刷法、スクリーン印刷法等も用いることができる。
【０１８５】
この成形処理において加熱処理（以下、「プレベーク」という。）を行なうのが好ましい。その加熱条件は、本発明の材料の配合組成、各添加剤の種類等により変わるが、好ましくは３０〜２００℃、より好ましくは４０〜１５０℃であり、ホットプレートやオーブン、赤外線などを使用して加熱することができる。
【０１８６】
放射線照射処理に使用される放射線としては、波長３６５ｎｍのｉ線、４０４ｎｍのｈ線、４３６ｎｍのｇ線、キセノンランプ等の広域波長光源等の紫外線、波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線あるいは電子線等の荷電粒子線、可視光およびこれらの混合線等が挙げられる。これらのうち、紫外光および可視光が好ましい。照度としては照射波長などにもよるが、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１００ｍＷ／ｃｍ２とすることが最も反応効率が良く好ましい。これらの放射線は、パターンマスクを介して照射することで、感放射線性屈折率変化材料をパターニングすることが可能である。パターニング精度としては、使用する光源などにも影響を受けるが、０．２μｍ程度の解像性をもつ屈折率変化分布の光学部品の製造が可能である。
【０１８７】
本発明においては、露光後に加熱処理（放射線照射後ベーク）を行なうのが好ましい。その加熱には、上記プレベークと同様な装置が使用でき、その条件は任意に設定することができる。好ましい加熱温度は３０〜１５０℃であり、より好ましくは３０〜１３０℃である。
【０１８８】
本発明の屈折率変化性組成物が任意成分である（Ｄ）成分を含有していないときには、次に（Ｄ）安定化剤による安定化処理を行うのが好ましい。
【０１８９】
本発明で使用される（Ｄ）安定化剤は、放射線照射後の屈折率変化性組成物に残存する（Ａ）分解性化合物を安定化し、酸または塩基に対する安定性を付与する機能を有する。この安定化処理により、本発明の方法により形成された屈折率パターンは、屈折率を変化させるために使用した波長付近の光が通過する条件下で使用しても、屈折率の変化が引き起こされることがなく、劣化することがない。
【０１９０】
上記（Ｄ）安定化剤としては、例えばアミノ化合物、エポキシ化合物、チイラン化合物、オキセタン化合物、アルコキシメチル化メラミン化合物、アルコキシメチル化グリコールウリル化合物、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン化合物、アルコキシメチル化尿素化合物、イソシアネート化合物、シアネート化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、ハロゲン化シリル化合物、その他のシリル化合物等を挙げることができる。
【０１９１】
これらの化合物の具体例としては、安定化剤（Ｄ）として前記したと同じ化合物を挙げることができる。ただし、アミノ化合物としては前記した具体例の他に、アンモニアやトリメチルアミンの如き低沸点化合物を使用することもできる。
【０１９２】
これらの（Ｄ）安定化剤は、単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。また（Ｄ）成分の使用割合は、（Ａ）分解性化合物の残存部が十分に反応するように過剰に用いることができるが、通常（Ａ）成分１００重量部に対して１０重量部以上、好ましくは１５重量部以上を使用することができる。（Ｄ）成分の量が１０重量部未満であると、反応が不十分となり、屈折率変化材料の安定性が不足することがある。
【０１９３】
また（Ｄ）安定化剤とともに触媒を使用することができる。触媒の使用により、（Ｄ）成分と（Ａ）分解性化合物の残存部との反応が促進される。
このような触媒としては、既に（Ｄ）安定化剤に関して記載した触媒と同じものを使用することができる。
【０１９４】
安定化処理における放射線照射後の屈折率変化性組成物と（Ｄ）安定化剤との接触には、適宜の方法を採用できるが、例えば（Ｄ）成分および場合により触媒を適当な溶媒に溶解して溶液状態で屈折率変化性組成物と接触することができ、あるいは、（Ｄ）成分が接触条件下で液体または気体の場合には（Ｄ）成分１００％の状態でそのまま接触させることもできる。
【０１９５】
上記（Ｄ）安定化剤と（Ａ）成分との反応において溶媒を使用する場合の溶媒は、（Ｄ）成分および任意に添加される触媒を溶解し、（Ａ）成分を溶解しないものが好ましい。このような溶媒を選択すれば、得られる屈折率パターンの表面に荒れが生ずることがない。
【０１９６】
このような溶媒としては、例えば水；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールなどのアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタンなどの脂肪族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類、トリフルオロメチルベンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、ヘキサフルオロシクロヘキサン、ペルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、オクタフルオロデカリン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタンなどのフッ素原子含有溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンの如き非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
【０１９７】
これらの溶剤の中で、水、アルコール類、グリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、およびフッ素原子含有溶媒が好ましく用いられる。
【０１９８】
（Ｄ）安定化剤と（Ａ）分解性化合物の残存部との反応を行う際の反応温度は通常０〜１３０℃とすることができ、反応時間は通常１０秒〜１時間とすることができる。
【０１９９】
また、本発明の屈折率変化性組成物が任意成分である（Ｄ）安定化剤を含有する場合には、放射線照射後ベークと連続してあるいは別個に、残存する（Ａ）成分と（Ｄ）成分とを反応させる安定化のための加熱処理を行うのが好ましい。安定化のための加熱処理は３５〜２００℃が好ましく、より好ましくはＰＥＢの温度より１０℃以上高い温度であり、さらに好ましくはＰＥＢの温度より２０℃以上高い温度である。
【０２００】
さらに、放射線未照射部に残存する（Ｃ）成分などを分解し、材料の安定性をさらに高めるために再露光処理を行うことができる。
【０２０１】
再露光処理は、例えば、屈折率を変化させる工程で用いた放射線と同様の波長の放射線を、同様の露光量にて例えばパターン全面に照射することで実施できる。
【０２０２】
所望によりさらに加熱処理を行うことにより材料の安定性をさらに高めることができる。このときの加熱には材料成形時のプレベ−クと同様な装置が使用でき、その条件は任意に設定することができる。
【０２０３】
上記のようにして形成された本発明の屈折率パターンは、放射線照射部の屈折率の方が放射線未照射部の屈折率より大きくなる。この差は、本発明に用いる屈折率変化材料中の（Ａ）成分と（Ｂ）成分の種類と含有量を調整することにより、任意に調整でき、例えば屈折率差の最大値を０．０２より大きい値とすることができる。
【０２０４】
また、本発明の屈折率パターンは、前述のように屈折率を変化させるために使用した波長付近の光が通過する条件下で使用しても、屈折率の変化が引き起こされることがなく、劣化することがないため、光エレクトロニクスやディスプレイ分野に使用される光学材料として極めて有用である。
【０２０５】
【実施例】
以下、本発明を以下の実施例によって説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２０６】
また、以下において、各化合物のポリスチレン換算重量平均分子量は、昭和電工（株）製のＧＰＣクロマトグラフＳＹＳＴＥＭ−２１を用いて測定した。
【０２０７】
〔（Ａ）成分の合成例〕
（Ａ）成分の合成例１
窒素置換した１Ｌのフラスコに３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフロロペンタンアルデヒド６３．６２ｇおよびテトラヒドロフラン５００ｇを仕込み、−７８℃に冷却した。これに、三フッ化ホウ素エーテル錯体０．６４ｇを加え、窒素雰囲気下において−７８℃で４８時間撹拌した。
得られた反応溶液に無水酢酸０．８ｇとピリジン０．６ｇを冷却した状態で加え、引き続き−７８℃で２時間攪拌を行った。反応液を減圧下、６０℃の加熱により全量を１００ｍｌに濃縮後、５Ｌのイオン交換水に１０分間で連続的に投入した。析出物をテトラヒドロフラン５０重量部で再溶解させ、５Ｌのイオン交換水で再沈精製し、５０℃にて真空乾燥を行い４３．３１ｇの化合物（Ａ−１）を得た。得られた化合物の重量平均分子量は２，７００であった。
【０２０８】
（Ａ）成分の合成例２
アルゴン雰囲気下で１Ｌの三つ口フラスコに、ヘキサフロログルタール酸ジクロリド８３．０８ｇを４００ｍｌのクロロホルムに溶解させた溶液を仕込み、そこにエチレングリコール１８．６２ｇと水酸化カリウム３３．６６ｇを２００ｍｌのイオン交換水に溶解させた溶液を加えて攪拌し界面重縮合を行った。反応を６時間行ったあと、テトラヒドロフラン−メタノールで２度再沈精製を行った。析出した重合体をろ別後、５０℃にて真空乾燥を行い５９．８７ｇの化合物（Ａ−２）を得た。得られた化合物の重量平均分子量は１６，７００であった。
【０２０９】
（Ａ）成分の合成例３
１Ｌのフラスコに単量体としてｏ−フタルアルデヒド５０重量部とテトラヒドロフラン５００重量部を、窒素置換した反応容器に仕込み、−７８℃に冷却した。これに、ｎ−ブチルリチウム（１．５モル／Ｌ）のｎ−ヘキサン溶液１．０重量部を加え、窒素雰囲気下において−７８℃で４８時間冷却下で撹拌した。
得られた反応溶液に無水酢酸０．８重量部とピリジン０．６重量部を冷却した状態で加え、引き続き−７８℃で２時間攪拌を行った。反応液を減圧下、６０℃の加熱により１００ｍｌに濃縮後、５Ｌのイオン交換水に１０分間で投入した。析出物をテトラヒドロフラン５０重量部で再溶解させ、５Ｌのイオン交換水で再沈精製し、５０℃にて真空乾燥を行い４５重量部の化合物（Ａ−３）を得た。得られた化合物の重量平均分子量は２６，０００であった。
【０２１０】
（Ａ）成分の合成例４
アルゴン雰囲気下で５００ｍｌの三つ口フラスコにテレフタル酸クロリド６１．５１ｇを１５０ｍｌのクロロホルムに溶解させ、そこに１，４−ベンゼンチオール３３．０５ｇと水酸化カリウム３３．６６ｇを１５０ｍｌのイオン交換水に溶解させたものを加えて攪拌し界面重縮合を行った。反応を６時間行ったあと、テトラヒドロフラン−メタノールで２度再沈精製を行った。
析出した化合物をろ別後、５０℃にて真空乾燥を行い７５．９８ｇの化合物（Ａ−４）を得た。得られた化合物の重量平均分子量は３３，６００であった。
【０２１１】
〔（Ｂ）成分の合成例〕
（Ｂ）成分の合成例１
１Ｌの三つ口フラスコ中で、フェニルトリメトキシシラン３９．６６ｇ、およびジフェニルジメトキシラン２４．４４ｇをエチレングリコールエチルメチルエーテル１００ｇに溶解させ、得られた溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら７０℃に加温した。これに、イオン交換水５．２０ｇを溶液に１時間かけて連続的に添加した。その後、７０℃で４時間反応させた後、得られた反応液を室温まで冷却した。その後、反応副生成物であるメタノール９．２０ｇを反応液から減圧留去した。この際の重合体（Ｂ−１）の重量平均分子量は１，６００であった。ここにメチルエチルケトン溶媒ジルコニアゾル（平均粒径０．０１〜０．０５μｍ、ジルコニア濃度３０％）を５４．９０ｇ加えた。得られた無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−１）の固形分濃度は３１．３％であった。
【０２１２】
（Ｂ）成分の合成例２
合成例１で得られた（Ｂ−１）に、メチルエチルケトン溶媒酸化チタンゾル（平均粒径０．０１〜０．０５μｍ、酸化チタンの濃度３０％）を５４．９０ｇ加えた。得られた無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−２）の固形分濃度は３１．３％であった。
【０２１３】
（Ｂ）成分の合成例３
合成例１で得られた（Ｂ−１）に、メチルエチルケトン溶媒酸化スズゾル（平均粒径０．０１〜０．０５μｍ、五酸化アンチモンの濃度３０％）を５４．９０ｇ加えた。得られた無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−３）の固形分濃度は３１．３％であった。
【０２１４】
（Ｂ）成分の合成例４
合成例１で得られた（Ｂ−１）に、メタノール分散アルミナゾル（平均粒子径０．００１５μｍ〜０．００３μｍ、固形分３０％、水分５．６％）を５４．９０ｇ加えた。得られた無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−４）の固形分濃度は３１．３％であった。
【０２１５】
（Ｂ）成分の合成例５
１Ｌの三つ口フラスコにテトラメトキシシラン１５．２２ｇ、メチルトリメトキシラン２７．２４ｇをとり、エチレングリコールエチルメチルエーテル１００ｇを加えて溶解させ、得られた混合溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら６０℃に加温した。これに、イオン交換水５．２０ｇを１時間かけて連続的に添加した。そして、６０℃で４時間反応させた後、得られた反応液を室温まで冷却した。その後、反応副生成物であるメタノール９．２０ｇを反応液から減圧留去した。この際の化合物（Ｂ−２）の重量平均分子量は１，６００であった。ここにメチルエチルケトン溶媒シリカゾル（平均粒径０．０１〜０．０５μｍ、シリカ濃度３０％）を５４．９０ｇ加えた。得られた無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−５）の固形分濃度は３１．３％であった。
【０２１６】
実施例１
（Ａ）成分として化合物（Ａ−１）を５０重量部、（Ｂ）成分として無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−１）の固形分で５０重量部、および（Ｃ）成分として２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４，６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン１重量部を、全体の固形分濃度が２０％になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解、分解させた後、孔径０．２μｍのメンブランフィルターで濾過し、屈折率変化性組成物を調製した。
【０２１７】
▲１▼塗膜の形成
シリコン基板上にスピンナーを用いて、上記の組成物を塗布した後、９０℃で２分間ホットプレート上でプリベークして膜厚１．０μｍの塗膜を形成した。
▲２▼屈折率パターンの形成
上記のようにして得られた塗膜に、ＮＳＲ１５０５ｉ６Ａ縮小投影放射線照射機（（株）ニコン製、ＮＡ＝０．４５，λ＝３６５ｎｍ）により最適焦点深度にて、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２でパターンマスクを介して放射線照射処理を行った。次いで、１３０℃にて２分間の露光後ベーク処理を行うことにより、放射線照射部と放射線未照射部で屈折率差を有する屈折率パターンを形成した。以下、ここで形成された屈折率パターンについて、放射線照射部を「屈折率変化部」、放射線未照射部を「屈折率未変化部」という。
▲３▼屈折率の測定
上記で形成した屈折率パターンの屈折率未変化部、屈折率変化部のそれぞれの屈折率を、Ａｕｔｏ  ＥＬ  ＩＶ  ＮＩＲ  ＩＩＩ（ルドルフリサーチ社製）エリプソメーターを用いて６３３ｎｍで測定した。結果を表１に示す。
【０２１８】
▲４▼透明性の評価
シリコン基板の代わりにガラス基板「コーニング１７３７（コーニング社製）」を用いた以外は上記▲１▼および▲２▼と同様にしてガラス基板上に屈折率パターンを形成した。以下、ここで形成されたガラス基板上の屈折率パターンについても、放射線照射部を「屈折率変化部」、放射線未照射部を「屈折率未変化部」という。
次いで、この屈折率パターンを有するガラス基板につき、屈折率変化部、屈折率未変化部のそれぞれの透過率を分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（日立製作所製）」を用いて４００〜８００ｎｍの波長で測定した。このとき最低透過率が９５％を超える場合、透過率は良好であり、それ以下の場合は不良といえる。結果を表１に示す。
【０２１９】
▲５▼安定化処理
（Ｄ）成分として２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフロロブチルオキシラン（１０ｍｏｌ％テトラブチルアンモニウムブロミド添加）の２０％ジメチルホルムアミド溶液を１００℃に加熱して、ここに上記のようにして形成したシリコン基板上、およびガラス基板上の屈折率パターンを１００℃にて２分間、浸漬した後、超純水で１分間洗浄した。
ついで、Ｃａｎｏｎ  ＰＬＡ−５０１Ｆでフィルターを用いずパターン全面に対して４．５ｍＷ／ｃｍ２にて１分間の再露光処理を行い、さらにオーブンにて２００℃で１０分間加熱し、屈折率パターンの安定化処理を行った。
【０２２０】
▲６▼屈折率、および透明性の評価
上記で安定化処理を行ったシリコン基板上の屈折率パターンについて、上記▲３▼と同様にして、屈折率変化部および屈折率未変化部の屈折率の測定を行った。結果を表２に示す。
また、安定化処理を行ったガラス基板上の屈折率パターンについて、上記▲４▼と同様にして、屈折率変化部および屈折率未変化部の透明性の測定を行った。結果を表２に示す。
【０２２１】
▲７▼屈折率パターンの安定性評価
上記で安定化処理を行ったシリコン基板上の屈折率パターン、およびガラス基板上の屈折率パターンについて、Ｃａｎｏｎ  ＰＬＡ−５０１Ｆでフィルターを用いずパターン全面に対して４．５ｍＷ／ｃｍ２にて３０分間の露光処理を行い、放射線照射の加速処理を実施した。
この処理を行ったシリコン基板上の屈折率パターンについて、上記▲３▼と同様にして、屈折率変化部および屈折率未変化部の屈折率の測定を行った。結果を表２に示す。
また、安定化処理を行ったガラス基板上の屈折率パターンについて、上記▲４▼と同様にして、屈折率変化部および屈折率未変化部の透明性の測定を行った。結果を表２に示す。
【０２２２】
実施例２
（Ｂ）成分として無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−２）の固形分で５０重量部を用い、工程▲２▼（屈折率パターンの形成）における露光後ベークの温度を表１に記載の通りとし、工程▲５▼（安定化処理）における（Ｄ）成分の種類および安定化処理温度を表２に記載の通りとした以外は実施例１と同様にして評価を行った。結果については表１および表２にまとめた。
【０２２３】
実施例３
（Ａ）成分として、化合物（Ａ−２）を５０重量部、（Ｂ）成分として無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−３）の固形分で５０重量部、（Ｃ）成分として、Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジンを５重量部を用い、工程▲２▼（屈折率パターンの形成）における露光後ベークの温度を表１に記載の通りとし、工程▲５▼（安定化処理）における（Ｄ）成分の種類および安定化処理温度を表２に記載の通りとした以外は実施例１と同様にして評価を行った。結果については表１および表２にまとめた。
【０２２４】
実施例４
（Ａ）成分として、化合物（Ａ−２）を５０重量部、（Ｂ）成分として無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−４）の固形分で５０重量部、（Ｃ）成分として、Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジンを５重量部を用い、工程▲２▼（屈折率パターンの形成）における露光後ベークの温度を表１に記載の通りとし、工程▲５▼（安定化処理）における（Ｄ）成分の種類および安定化処理温度を表２に記載の通りとした以外は実施例１と同様にして評価を行った。結果については表１および表２にまとめた。
【０２２５】
実施例５
（Ａ）成分として、化合物（Ａ−３）を５０重量部、（Ｂ）成分として無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−５）の固形分で５０重量部を用い、工程▲２▼（屈折率パターンの形成）における放射線照射量を表１に記載の通りとし、工程▲５▼（安定化処理）における（Ｄ）成分の種類を表２に記載の通りとした以外は実施例１と同様にして評価を行った。結果については表１および表２にまとめた。
【０２２６】
実施例６
（Ａ）成分として、化合物（Ａ−４）を５０重量部、（Ｂ）成分として無機酸化物粒子混合液（Ｂｍｉｘ−５）の固形分で５０重量部、（Ｃ）成分として、Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジンを５重量部を用い、工程▲２▼（屈折率パターンの形成）における放射線照射量を表１に記載の通りとし、工程▲５▼（安定化処理）における（Ｄ）成分の種類を表２に記載の通りとした以外は実施例１と同様にして評価を行った。結果については表１および表２にまとめた。
【０２２７】
【表１】
0003622201.tif 000032
【０２２８】
【表２】
0003622201.tif 000033
【０２２９】
ただし、表２において、（Ｄ）成分の記号は、それぞれ以下のものを表す。
Ｄ−１；２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフロロブチルオキシラン（１０ｍｏｌ％テトラブチルアンモニウムブロミド添加）の２０％ジメチルホルムアミド溶液
Ｄ−２；エチレンジアミンの１％水溶液
Ｄ−３；ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（１０ｍｏｌ％テトラブチルアンモニウムブロミド添加）の２０％ジメチルホルムアミド溶液
【０２３０】
実施例７
実施例１において、さらに（Ｄ）グリセロールジグリシジルエーテルを１５重量部添加した他は実施例１と同様にして屈折率変化性組成物を調製した。
【０２３１】
上記組成物を用いて、実施例１における工程▲１▼と同様に塗膜を形成し、次に工程▲２▼前段と同様にして放射線照射処理を行った。次いで、１１０℃で２分間の露光後ベークを行い、引き続いて１３０℃で１０分の安定化処理を行った。ここで形成された屈折率パターンについても、放射線照射部を「屈折率変化部」、放射線未照射部を「屈折率未変化部」という。
【０２３２】
上記のように形成した屈折率パターンについて、実施例１における工程▲３▼および工程▲４▼と同様にして屈折率、透明性を評価した。結果を表３に示す。
さらに、実施例１の工程▲７▼と同様にして上記で形成した屈折率パターンの安定性評価を実施した。結果を表３に示す。
【０２３３】
【表３】
0003622201.tif 000034
【０２３４】
【発明の効果】
本発明の方法により形成された屈折率パターンは、充分に大きな屈折率差を有し、しかも形成された屈折率差は光、熱に対して安定であることから、光エレクトロニクスやディスプレイ分野に使用される光学材料として極めて有用である。本発明の屈折率パターンは、その他フォトアレイ、レンズ各種、フォトカプラ、フォトインタラプタ、偏光ビームスプリッタ、ホログラム、シングルモード／マルチモード等光ファイバ、バンドルファイバ、ライトガイド各種、単芯／多芯／光電気結合等光コネクタ、光アイソレータ、偏光子、フォトダイオード／フォトトランジスタ／フォトＩＣ／ＣＣＤイメージセンサ／ＣＭＯＳイメージセンサ／光ファイバセンサ、光ファイバジャイロ等光センサ各種、ＣＤ／ＬＤ／ＰＤ／ＤＶＤ等光ディスク各種、光スイッチ各種、導波路、光学式タッチパネル、回折格子、導光板、光拡散板、反射防止板、光学封止材等の光学材料に用いられる。