(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の要件（Ａ01）〜（Ａ09）を備えたことを特徴とする欠陥検査装置、
（Ａ01）試料ステージを収容する真空室を形成する外壁、
（Ａ02）水平なＸＹ平面内で互いに垂直なＸ軸およびＹ軸方向に移動可能なＸテーブルおよびＹテーブルを有するＸＹテーブルと、前記ＸＹテーブル上に支持され且つ鉛直な回転軸周りに回転可能な回転テーブルと、前記回転テーブル上に被検査用の試料を保持する試料保持装置と、前記ＸＹテーブルのＸテーブルおよびＹテーブルを前記Ｘ軸およびＹ軸方向に移動させるＸテーブル駆動装置およびＹテーブル駆動装置を有するＸＹテーブル駆動装置と、前記回転テーブルを回転駆動する回転テーブル駆動装置とを有する前記試料ステージ、
（Ａ03）前記外壁の上部を形成する上壁部に装着された予備検査鏡筒と、前記予備検査鏡筒の上部に配置され且つ下方に電子ビームを出射する電子銃と、前記電子銃の下方に配置されて前記電子銃から出射される電子ビームを前記被検査ウエハ表面に収束させるビーム縮小レンズ系と、前記電子ビームをＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ偏向させるＸ偏向器およびＹ偏向器と、前記被検査ウエハ表面から放出される放出線を検出する放出線検出装置とを有する走査型電子顕微鏡、
（Ａ04）前記Ｘ偏向器を駆動するＸ偏向器駆動回路、および前記Ｙ偏向器を駆動するＹ偏向器駆動回路を有する偏向器駆動回路、
（Ａ05）前記被検査ウエハ表面上の前記電子ビームの照射位置を制御するために前記偏向器駆動回路の作動を制御するビーム偏向制御手段、
（Ａ06）前記電子ビームが所定の走査幅で照射する被検査ウエハ表面部分であるビーム照射部分を前記走査幅方向に垂直な方向に所定の移動速度で移動させるように前記ＸＹテーブル駆動装置または回転テーブル駆動装置を制御するテーブル制御手段、
（Ａ07）前記被検査ウエハ表面の中心位置を内部に含む所定の大きさの矩形領域であるＸＹ直進走査領域の範囲を記憶するＸＹ直進走査領域記憶手段、
（Ａ08）前記被検査ウエハ表面の中心を中心とし且つ前記矩形領域の内側に設定された内側設定円および外側に設定された外側設定円の間に形成される回転走査領域の範囲を記憶する回転走査領域記憶手段、
（Ａ09）前記被検査ウエハのＸＹ直進走査領域を前記所定の走査幅を有する複数の帯状部分に分割し、前記複数の帯状部分を前記電子ビームが順次走査するように前記ＸＹテーブル駆動装置を制御する直進走査用テーブル制御手段と、前記被検査ウエハの回転走査領域を前記所定の走査幅を有する複数のリング状部分に分割し、前記複数のリング状部分を前記電子ビームが順次走査するように前記回転テーブル駆動装置を制御する回転走査用テーブル制御手段とを有する前記テーブル制御手段。
【請求項２】
下記の要件（Ａ010）を備えたことを特徴とする請求項１記載の欠陥検査装置、
（Ａ010）前記試料ステージに支持された被検査ウエハ表面を前記電子ビームが前記Ｘ軸およびＹ軸の一方の軸に沿う所定の走査幅を繰り返し走査するように前記Ｘ偏向器駆動回路またはＹ偏向器駆動回路を制御する所定幅走査手段を有する前記ビーム偏向制御手段、
【請求項３】
下記の要件（Ａ011），（Ａ012）を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の欠陥検査装置、
（Ａ011）前記被検査ウエハ表面のビーム照射位置を前記走査幅のピッチで前記一方の軸方向に移動させる走査幅方向ビーム位置制御手段を有する前記ビーム偏向制御手段、
（Ａ012）前記走査幅をＢ、正の整数である所定数をｎとした場合に前記ＸＹテーブルを前記一方の軸方向に距離ｎＢのピッチで移動させる所定ピッチテーブル移動制御手段を有する前記直進走査用テーブル制御手段。
【請求項４】
下記の要件（Ａ011），（Ａ013）を備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか記載の欠陥検査装置、
（Ａ011）前記被検査ウエハ表面のビーム照射位置を前記走査幅のピッチで前記一方の軸方向に移動させる走査幅方向ビーム位置制御手段を有する前記ビーム偏向制御手段、
（Ａ013）前記走査幅をＢ、正の整数である所定数をｎとした場合に前記ＸＹテーブルを前記一方の軸方向に距離ｎＢのピッチで移動させる所定ピッチテーブル移動制御手段を有する前記回転走査用テーブル制御手段。
【請求項５】
下記の要件（Ｂ01）〜（Ｂ09）を備えたことを特徴とする欠陥検査装置、
（Ｂ01）試料ステージを収容する真空室を形成する外壁、
（Ｂ02）水平なＸＹ平面内で互いに垂直なＸ軸およびＹ軸方向に移動可能なＸテーブルおよびＹテーブルを有するＸＹテーブルと、前記ＸＹテーブル上に支持され且つ鉛直な回転軸周りに回転可能な回転テーブルと、前記回転テーブル上に被検査用の試料を保持する試料保持装置と、前記ＸＹテーブルのＸテーブルおよびＹテーブルを前記Ｘ軸およびＹ軸方向に移動させるＸテーブル駆動装置およびＹテーブル駆動装置を有するＸＹテーブル駆動装置と、前記回転テーブルを回転駆動する回転テーブル駆動装置とを有する前記試料ステージ、
（Ｂ03）前記外壁の上部を形成する上壁部に装着された予備検査鏡筒と、前記予備検査鏡筒の上部に配置され且つ下方に電子ビームを出射する電子銃と、前記電子銃の下方に配置されて前記電子銃から出射される電子ビームを前記被検査ウエハ表面に収束させるビーム縮小レンズ系と、前記電子ビームをＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ偏向させるＸ偏向器およびＹ偏向器と、前記被検査ウエハ表面から放出される放出線を検出する放出線検出装置とを有する走査型電子顕微鏡、
（Ｂ04）前記Ｘ偏向器を駆動するＸ偏向器駆動回路、および前記Ｙ偏向器を駆動するＹ偏向器駆動回路を有する偏向器駆動回路、
（Ｂ05）前記被検査ウエハ表面上の前記電子ビームの照射位置を制御するために前記偏向器駆動回路の作動を制御するビーム偏向制御手段、
（Ｂ06）前記電子ビームが所定の走査幅で照射する被検査ウエハ表面部分であるビーム照射部分を前記走査幅方向に垂直な方向に所定の移動速度で移動させるように前記ＸＹテーブル駆動装置または回転テーブル駆動装置を制御するテーブル制御手段、
（Ｂ07）前記被検査ウエハ表面の中心位置を内部に含む所定の大きさの矩形領域であるＸＹ直進走査領域の範囲を記憶するＸＹ直進走査領域記憶手段、
（Ｂ08）前記被検査ウエハ表面の中心を中心とし且つ前記矩形領域の内側に設定された内側設定円および外側に設定された外側設定円の間に形成される回転走査領域の範囲を記憶する回転走査領域記憶手段、
（Ｂ09）前記被検査ウエハのＸＹ直進走査領域を前記所定の走査幅を有する複数の帯状部分に分割し、前記複数の帯状部分を前記電子ビームが順次走査するように前記ＸＹテーブル駆動装置を制御する直進走査用テーブル制御手段と、前記被検査ウエハの回転走査領域を前記電子ビームにより前記所定の走査幅で走査しながら前記回転テーブルが１回転する間に前記所定走査幅だけ前記一方の軸方向に沿って前記ＸＹテーブルを移動させることにより前記電子ビームが前記回転走査領域を螺旋状に走査するように、前記ＸＹテーブル駆動装置および前記回転テーブル駆動装置を制御する回転走査用テーブル制御手段とを有する前記テーブル制御手段。
【請求項６】
下記の要件（Ｂ010）を備えたことを特徴とする請求項６記載の欠陥検査装置、
（Ｂ010）前記試料ステージに支持された被検査ウエハ表面を前記電子ビームが前記Ｘ軸およびＹ軸の一方の軸に沿う所定の走査幅を繰り返し走査するように前記Ｘ偏向器駆動回路またはＹ偏向器駆動回路を制御する所定幅走査手段を有する前記ビーム偏向制御手段。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコンウエハー、露光用マスク等の検査部品の欠陥（異物付着またはパターン欠陥等）の有無、種類等を検査する部品検査装置に関する。
前記部品検査装置により検査した検査部品の欠陥の有無は、前記検査部品を特定する情報とともに、前記欠陥情報を蓄積管理することにより、その後で検査する部品の欠陥の種類判別作業等に利用することができる。
なお、本明細書において、単に「欠陥」と記載した場合の「欠陥」は、原則として検査部品の品質を低下させる異物付着、パターン欠陥等のあらゆる欠陥を含む意味で使用される。
また、「異物」と「欠陥」を対で使用する場合の「異物」および「欠陥」は、それぞれ「異物付着による欠陥」および「異物付着以外の欠陥」の意味で使用される。また、本明細書において「パターン欠陥」は検査部品上に形成されたパターンの欠陥を意味し、異物の付着等の欠陥を含まない意味で使用される。
【０００２】
【従来の技術】
従来の欠陥検査装置として次の技術（Ｊ01）が知られている。
（Ｊ01）特開平１０−１３５２８８号公報記載の技術
この公報には、次の予備検査と詳細検査を行う技術が記載されている。
（１）予備検査
被検査ウエハ表面を、市販の光学式の部品検査装置を用いて予備検査し、検出結果を予備検査情報ファイルに記憶する。
前記予備検査情報ファイルには、製品番号、ロット、被検査ウエハＩＤ、工程、製造装置、日付、等の他に、異物や欠陥の個数、被検査ウエハ上の位置、およびサイズなどが記憶される。
前記予備検査情報ファイルに記憶された予備検査情報は、例えば、図２７に示すように表示可能である。
図２７は予備検査情報の表示例を示す図であり、図２７Ａは被検査ウエハである被検査ウエハの外形および被検査ウエハ上の異物位置または欠陥位置を示す図、図２７Ｂは異物番号または欠陥番号♯０，♯１，…とその位置、大きさ等の情報を表形式で示す図である。
【０００３】
（２）詳細検査
前記予備検査情報により、被検査ウエハの製造工程の欠陥発生状況や傾向を把握することが可能である。前記異物情報ファイルや欠陥情報ファイル等の予備検査情報ファイルに記憶された前記欠陥番号♯０，♯１，…とその位置、大きさ等の情報は、詳細検査を行う際に利用される。
すなわち、前記予備検査情報を参考にして、レビュー装置（詳細検査を行う詳細検査装置）によりレビュー（詳細検査）を行い欠陥の種類を判別して記憶する。
前記レビュー装置としては走査型電子顕微鏡を用いたレビューＳＥＭ（Scan  Electoron  Manuscript、走査電子顕微鏡）が使用される。
なお、本明細書において、「検査対象物の詳細検査を行って、欠陥（異物を含む）の具体的位置、形状、分布状況等を知り、欠陥の発生原因を解明する」ことを「レビュー（Review）する」ということにする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前記予備検査において光学式の部品検査装置を使用する場合、予備検査にかかる時間は短いが、予備検査における欠陥検出精度が低いという問題点がある。
前記予備検査における欠陥検出精度を高くするために、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用することが考えられる。すなわち、前記ＳＥＭにより被検査ウエハ表面の異物や成膜パターン異常を高倍率で予備検査する際、被検査ウエハをＸ軸方向、Ｙ軸方向に直進移動させることにより、被検査ウエハ表面を順次電子ビーム照射位置に移動させては停止させ、停止状態で撮像した被検査ウエハのＳＥＭ画像により予備検査する方法が考えられる。また、被検査ウエハを回転移動させて、被検査ウエハ表面を走査して予備検査する方法も考えられる。
【０００５】
しかしながら従来、前記ＳＥＭによる被検査ウエハの予備検査は、被検査ウエハ表面を走査するのに必要な時間が長いために実用化されていない。
また、前記予備検査において光学式の部品検査装置を使用し、詳細検査でＳＥＭを使用すると、予備検査および詳細検査における被検査ウエハのＸＹ座標位置がずれるため、座標位置の補正を行わなければならないという問題点もある。
また、従来のＳＥＭを使用した詳細検査も検査（走査）に要する時間が長いという問題点があった。
本発明は、前述の事情に鑑み、下記の記載内容（Ｏ01）を課題とする。
（Ｏ01）ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用して被検査ウエハの検査を行う際の検査に要する時間を短縮すること。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
次に、前記課題を解決した本発明を説明するが、本発明の説明において本発明の構成要素の後に付記したカッコ内の符号は、本発明の構成要素に対応する後述の実施例の構成要素の符号である。なお、本発明を後述の実施例の構成要素の符号と対応させて説明する理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明の範囲を実施例に限定するためではない。
【０００７】
（第１発明）
前記課題を解決するために、第１発明の欠陥検査装置は、下記の要件を備えたことを特徴とする、
（Ａ01）試料ステージ（Ｕ3）を収容する真空試料室（Ａ）を形成する外壁（１）、
（Ａ02）水平なＸＹ平面内で互いに垂直なＸ軸およびＹ軸方向に移動可能なＸテーブル（ＳＴx）およびＹテーブル（ＳＴy）を有するＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）と、前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）上に支持され且つ鉛直な回転軸周りに回転可能な回転テーブル（ＳＴr）と、前記回転テーブル（ＳＴr）上に被検査用の試料（Ｗ）を保持する試料保持装置（２６〜３７，Ｍ6，ＭＤ6，ＬＳ3，ＬＳ4）と、前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）のＸテーブル（ＳＴx）およびＹテーブル（ＳＴy）を前記Ｘ軸およびＹ軸方向に移動させるＸテーブル駆動装置（Ｄx＋Ｍx）およびＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｍy）を有するＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）と、前記回転テーブル（ＳＴr）を回転駆動する回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）とを有する前記試料ステージ（Ｕ3）、
（Ａ03）前記外壁（１）の上部を形成する上壁部（２）に装着された予備検査鏡筒（５６）と、前記予備検査鏡筒（５６）の上部に配置され且つ下方に電子ビームを出射する電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）と、前記電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）の下方に配置されて前記電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）から出射される電子ビームを前記被検査ウエハ（Ｗ）表面に収束させるビーム縮小レンズ系（Ｆ3＋Ｆ8）と、前記電子ビームをＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ偏向させるＸ偏向器（Ｆ6）およびＹ偏向器（Ｆ7）と、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面から放出される放出線を検出する放出線検出装置（５４）とを有する走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ１）、
（Ａ04）前記Ｘ偏向器（Ｆ6）を駆動するＸ偏向器駆動回路（Ｅ6）、および前記Ｙ偏向器（Ｆ7）を駆動するＹ偏向器駆動回路（Ｅ7）を有する偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）、
（Ａ05）前記被検査ウエハ（Ｗ）表面上の前記電子ビームの照射位置を制御するために前記偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）の作動を制御するビーム偏向制御手段（Ｃ１a）、
（Ａ06）前記電子ビームが所定の走査幅で照射する被検査ウエハ（Ｗ）表面部分であるビーム照射部分を前記走査幅方向に垂直な方向に所定の移動速度で移動させるように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）または回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御するテーブル制御手段（Ｃ１B）、
（Ａ07）前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の中心位置（Ｗ0）を内部に含む所定の大きさの矩形領域であるＸＹ直進走査領域（ＲＢ）の範囲を記憶するＸＹ直進走査領域記憶手段（Ｃ１M1）、
（Ａ08）前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の中心を中心とし且つ前記矩形領域の内側に設定された内側設定円（Ｗ2）および外側に設定された外側設定円（Ｗ1）の間に形成される回転走査領域（ＲＡ）の範囲を記憶する回転走査領域記憶手段（Ｃ１M2）、
（Ａ09）前記被検査ウエハ（Ｗ）のＸＹ直進走査領域（ＲＢ）を前記所定の走査幅を有する複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）に分割し、前記複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）を前記電子ビームが順次走査するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する直進走査用テーブル制御手段（Ｃ１M1）と、前記被検査ウエハ（Ｗ）の回転走査領域（ＲＡ）を前記所定の走査幅を有する複数のリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）に分割し、前記複数のリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）を前記電子ビームが順次走査するように前記回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御する回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）とを有する前記テーブル制御手段（Ｃ１B）。
【０００８】
前記本発明において、前記放出線検出装置（５４）としては、２次電子検出装置、反射電子検出装置、オージェ電子検出装置、Ｘ線検出装置等を使用可能である。
また、前記被検査用の試料としては、被検査ウエハ、または、露光用のマスク等を使用可能である。
【０００９】
（第１発明の作用）
前記構成を備えた第１発明の欠陥検査装置では、外壁（１）は、真空試料室（Ａ）を形成する。前記真空試料室（Ａ）は試料ステージ（Ｕ3）を収容する。
前記試料ステージ（Ｕ3）は、水平なＸＹ平面内で互いに垂直なＸ軸およびＹ軸方向に移動可能なＸテーブル（ＳＴx）およびＹテーブル（ＳＴy）を有するＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）と、前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）上に支持され且つ鉛直な回転軸周りに回転可能な回転テーブル（ＳＴr）と、前記回転テーブル（ＳＴr）上に被検査用の試料（Ｗ）を保持する試料保持装置（２６〜３７，Ｍ6，ＭＤ6，ＬＳ3，ＬＳ4）と、ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）と、回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）とを有する。
前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）は、Ｘテーブル駆動装置（Ｄx＋Ｍx）およびＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｍy）を有し、前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）のＸテーブル（ＳＴx）およびＹテーブル（ＳＴy）を前記Ｘ軸およびＹ軸方向に移動させる。前記回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）は前記回転テーブル（ＳＴr）を回転駆動する。
【００１０】
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ１）は、前記外壁（１）の上部を形成する上壁部（２）に装着された予備検査鏡筒（５６）を有する。前記予備検査鏡筒（５６）の上部に配置された電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）は電子ビームを下方に出射する。前記電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）の下方に配置されたビーム縮小レンズ系（Ｆ3＋Ｆ8）は前記電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）から出射される電子ビームを前記被検査ウエハ（Ｗ）表面に収束させる。Ｘ偏向器（Ｆ6）およびＹ偏向器（Ｆ7）は前記電子ビームをＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ偏向させる。放出線検出装置（５４）は前記被検査ウエハ（Ｗ）表面から放出される放出線を検出する。
ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面上の前記電子ビームの照射位置を制御するために前記偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）の作動を制御する。偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）はＸ偏向器駆動回路（Ｅ6）およびＹ偏向器駆動回路（Ｅ7）を有する。Ｘ偏向器駆動回路（Ｅ6）は前記Ｘ偏向器（Ｆ6）を駆動し、Ｙ偏向器駆動回路（Ｅ7）は前記Ｙ偏向器（Ｆ7）を駆動する。
【００１１】
テーブル制御手段（Ｃ１B）は、前記電子ビームが所定の走査幅で照射する被検査ウエハ（Ｗ）表面部分であるビーム照射部分を前記走査幅方向に垂直な方向に所定の移動速度で移動させるように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）または回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御する。
ＸＹ直進走査領域記憶手段（Ｃ１M1）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の中心位置（Ｗ0）を内部に含む所定の大きさの矩形領域であるＸＹ直進走査領域（ＲＢ）の範囲を記憶する。
回転走査領域記憶手段（Ｃ１M2）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の中心を中心とし且つ前記矩形領域の内側に設定された内側設定円（Ｗ2）および外側に設定された外側設定円（Ｗ1）の間に形成される回転走査領域（ＲＡ）の範囲を記憶する。
【００１２】
前記テーブル制御手段（Ｃ１B）は、直進走査用テーブル制御手段（Ｃ１M1）および回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）とを有する。前記直進走査用テーブル制御手段（Ｃ１M1）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）のＸＹ直進走査領域（ＲＢ）を前記所定の走査幅を有する複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）に分割し、前記複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）を前記電子ビームが順次走査するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する。前記回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）の回転走査領域（ＲＡ）を前記所定の走査幅を有する複数のリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）に分割し、前記複数のリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）を前記電子ビームが順次走査するように前記回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御する。
【００１３】
（第２発明）
第２発明の欠陥検査装置は、下記の要件（Ｂ01）〜（Ｂ09）を備えたことを特徴とする
（Ｂ01）試料ステージ（Ｕ3）を収容する真空試料室（Ａ）を形成する外壁（１）、
（Ｂ02）水平なＸＹ平面内で互いに垂直なＸ軸およびＹ軸方向に移動可能なＸテーブル（ＳＴx）およびＹテーブル（ＳＴy）を有するＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）と、前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）上に支持され且つ鉛直な回転軸周りに回転可能な回転テーブル（ＳＴr）と、前記回転テーブル（ＳＴr）上に被検査用の試料（Ｗ）を保持する試料保持装置（２６〜３７，Ｍ6，ＭＤ6，ＬＳ3，ＬＳ4）と、前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）のＸテーブル（ＳＴx）およびＹテーブル（ＳＴy）を前記Ｘ軸およびＹ軸方向に移動させるＸテーブル駆動装置（Ｄx＋Ｍx）およびＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｍy）を有するＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）と、前記回転テーブル（ＳＴr）を回転駆動する回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）とを有する前記試料ステージ（Ｕ3）、
（Ｂ03）前記外壁（１）の上部を形成する上壁部（２）に装着された予備検査鏡筒（５６）と、前記予備検査鏡筒（５６）の上部に配置され且つ下方に電子ビームを出射する電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）と、前記電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）の下方に配置されて前記電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）から出射される電子ビームを前記被検査ウエハ（Ｗ）表面に収束させるビーム縮小レンズ系（Ｆ3＋Ｆ8）と、前記電子ビームをＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ偏向させるＸ偏向器（Ｆ6）およびＹ偏向器（Ｆ7）と、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面から放出される放出線を検出する放出線検出装置（５４）とを有する走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ１）、
（Ｂ04）前記Ｘ偏向器（Ｆ6）を駆動するＸ偏向器駆動回路（Ｅ6）、および前記Ｙ偏向器（Ｆ7）を駆動するＹ偏向器駆動回路（Ｅ7）を有する偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）、
（Ｂ05）前記被検査ウエハ（Ｗ）表面上の前記電子ビームの照射位置を制御するために前記偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）の作動を制御するビーム偏向制御手段（Ｃ１a）、
（Ｂ06）前記電子ビームが所定の走査幅で照射する被検査ウエハ（Ｗ）表面部分であるビーム照射部分を前記走査幅方向に垂直な方向に所定の移動速度で移動させるように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）または回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御するテーブル制御手段（Ｃ１B）、
（Ｂ07）前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の中心位置（Ｗ0）を内部に含む所定の大きさの矩形領域であるＸＹ直進走査領域（ＲＢ）の範囲を記憶するＸＹ直進走査領域記憶手段（Ｃ１M1）、
（Ｂ08）前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の中心を中心とし且つ前記矩形領域の内側に設定された内側設定円（Ｗ2）および外側に設定された外側設定円（Ｗ1）の間に形成される回転走査領域（ＲＡ）の範囲を記憶する回転走査領域記憶手段（Ｃ１M2）、
（Ｂ09）前記被検査ウエハ（Ｗ）のＸＹ直進走査領域（ＲＢ）を前記所定の走査幅を有する複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）に分割し、前記複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）を前記電子ビームが順次走査するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する直進走査用テーブル制御手段（Ｃ１M1）と、前記被検査ウエハ（Ｗ）の回転走査領域（ＲＡ）を前記電子ビームにより前記所定の走査幅で走査しながら前記回転テーブル（ＳＴr）が１回転する間に前記所定走査幅だけ前記一方の軸方向に沿って前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を移動させることにより前記電子ビームが前記回転走査領域（ＲＡ）を螺旋状に走査するように、前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）および前記回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御する回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）とを有する前記テーブル制御手段（Ｃ１B）。
【００１４】
（第２発明の作用）
前記構成を備えた第２発明の欠陥検査装置では、外壁（１）は真空試料室（Ａ）を形成する。前記真空試料室（Ａ）は試料ステージ（Ｕ3）を収容する。
前記試料ステージ（Ｕ3）は、水平なＸＹ平面内で互いに垂直なＸ軸およびＹ軸方向に移動可能なＸテーブル（ＳＴx）およびＹテーブル（ＳＴy）を有するＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）と、前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）上に支持され且つ鉛直な回転軸周りに回転可能な回転テーブル（ＳＴr）と、前記回転テーブル（ＳＴr）上に被検査用の試料（Ｗ）を保持する試料保持装置（２６〜３７，Ｍ6，ＭＤ6，ＬＳ3，ＬＳ4）と、ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）と、回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）とを有する
Ｘテーブル駆動装置（Ｄx＋Ｍx）およびＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｍy）を有するＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）は、前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）のＸテーブル（ＳＴx）およびＹテーブル（ＳＴy）を前記Ｘ軸およびＹ軸方向に移動させる。回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）は前記回転テーブル（ＳＴr）を回転駆動する。
【００１５】
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ１）は、前記外壁（１）の上部を形成する上壁部（２）に装着された予備検査鏡筒（５６）を有する。前記予備検査鏡筒（５６）の上部に配置された電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）は下方に電子ビームを出射する。前記電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）の下方に配置されたビーム縮小レンズ系（Ｆ3＋Ｆ8）は前記電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）から出射される電子ビームを前記被検査ウエハ（Ｗ）表面に収束させる。Ｘ偏向器（Ｆ6）およびＹ偏向器（Ｆ7）は前記電子ビームをＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ偏向させる。放出線検出装置（５４）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面から放出される放出線を検出する。
ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面上の前記電子ビームの照射位置を制御するために前記偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）の作動を制御する。偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）のＸ偏向器駆動回路（Ｅ6）は前記Ｘ偏向器（Ｆ6）を駆動する。Ｙ偏向器駆動回路（Ｅ7）は前記Ｙ偏向器（Ｆ7）を駆動する。
【００１６】
テーブル制御手段（Ｃ１B）は、前記電子ビームが所定の走査幅で照射する被検査ウエハ（Ｗ）表面部分であるビーム照射部分を前記走査幅方向に垂直な方向に所定の移動速度で移動させるように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）または回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御する。
ＸＹ直進走査領域記憶手段（Ｃ１M1）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の中心位置（Ｗ0）を内部に含む所定の大きさの矩形領域であるＸＹ直進走査領域（ＲＢ）の範囲を記憶する。
回転走査領域記憶手段（Ｃ１M2）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の中心を中心とし且つ前記矩形領域の内側に設定された内側設定円（Ｗ2）および外側に設定された外側設定円（Ｗ1）の間に形成される回転走査領域（ＲＡ）の範囲を記憶する。
【００１７】
前記テーブル制御手段（Ｃ１B）は直進走査用テーブル制御手段（Ｃ１M1）と回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）とを有する。
前記直進走査用テーブル制御手段（Ｃ１M1）は前記被検査ウエハ（Ｗ）のＸＹ直進走査領域（ＲＢ）を前記所定の走査幅を有する複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）に分割し、前記複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）を前記電子ビームが順次走査するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する。前記回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）は前記被検査ウエハ（Ｗ）の回転走査領域（ＲＡ）を前記電子ビームにより前記所定の走査幅で走査しながら前記回転テーブル（ＳＴr）が１回転する間に前記所定走査幅だけ前記一方の軸方向に沿って前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を移動させることにより前記電子ビームが前記回転走査領域（ＲＡ）を螺旋状に走査するように、前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）および前記回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御する。
【００１８】
【実施の形態】
（第１発明の実施の形態１）
第１発明の実施の形態１は、前記第１発明の欠陥検査装置において、下記の要件（Ａ010）を備えたことを特徴とする、
（Ａ010）前記試料ステージ（Ｕ3）に支持された被検査ウエハ（Ｗ）表面を前記電子ビームが前記Ｘ軸およびＹ軸の一方の軸に沿う所定の走査幅を繰り返し走査するように前記Ｘ偏向器駆動回路（Ｅ6）またはＹ偏向器駆動回路（Ｅ7）を制御する所定幅走査手段を有する前記ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）。
【００１９】
（第１発明の実施の形態１の作用）
前記構成を備えた第１発明の実施の形態１では、前記ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）は、所定幅走査手段を有する。前記所定幅走査手段は、前記試料ステージ（Ｕ3）に支持された被検査ウエハ（Ｗ）表面を前記電子ビームが前記Ｘ軸およびＹ軸の一方の軸に沿う所定の走査幅を繰り返し走査するように前記Ｘ偏向器駆動回路（Ｅ6）またはＹ偏向器駆動回路（Ｅ7）を制御する。
【００２０】
（第１発明の実施の形態２）
第１発明の実施の形態２は、前記第１発明または第１発明の実施の形態１の陥検査装置において、下記の要件（Ａ011），（Ａ012）を備えたことを特徴とする、
（Ａ011）前記被検査ウエハ（Ｗ）表面のビーム照射位置を前記走査幅のピッチで前記一方の軸方向に移動させる走査幅方向ビーム位置制御手段を有し、前記走査幅方向ビーム位置制御手段によるビーム照射位置の前記走査幅方向の移動により、前記複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）のうちの２以上の所定数ｍの帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）の走査を行う前記ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）。
（Ａ012）前記走査幅をＢ、正の整数である所定数をｍとした場合に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を前記一方の軸方向に距離ｍＢのピッチで移動させる所定ピッチテーブル移動制御手段を有し、前記所定数ｍの帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）の走査を行う度に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）が前記一方の軸方向に距離ｍＢだけ移動するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する前記直進走査用テーブル制御手段（Ｃ１M1）。
【００２１】
（第１発明の実施の形態２の作用）
前記構成を備えた第１発明の実施の形態２の欠陥検査装置では、前記ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面のビーム照射位置を前記走査幅のピッチで前記一方の軸方向に移動させる走査幅方向ビーム位置制御手段を有し、前記走査幅方向ビーム位置制御手段によるビーム照射位置の前記走査幅方向の移動により、前記複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）のうちの２以上の所定数ｍの帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）の走査を行う。前記直進走査用テーブル制御手段（Ｃ１M1）は、前記走査幅をＢ、正の整数である所定数をｍとした場合に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を前記一方の軸方向に距離ｍＢのピッチで移動させる所定ピッチテーブル移動制御手段を有し、前記所定数ｍの帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）の走査を行う度に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）が前記一方の軸方向に距離ｍＢだけ移動するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する。
【００２２】
（第１発明の実施の形態３）
第１発明の実施の形態３は、前記第１発明または第１発明の実施の形態１もしくは２の欠陥検査装置において、下記の要件（Ａ011），（Ａ013）を備えたことを特徴とする、
（Ａ011）前記被検査ウエハ（Ｗ）表面のビーム照射位置を前記走査幅Ｂのピッチで前記一方の軸方向に移動させる走査幅方向ビーム位置制御手段によるビーム照射位置の前記走査幅方向の移動により、前記複数のリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）のうちの２以上の所定数ｎのリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）の走査を行う前記ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）、
（Ａ013）前記走査幅をＢ、正の整数である所定数をｎとした場合に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を前記一方の軸方向に距離ｎＢのピッチで移動させる所定ピッチテーブル移動制御手段を有し、前記所定数ｎのリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）の走査を行う度に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）が前記一方の軸方向に距離ｎＢのピッチで移動するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する前記回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）。
【００２３】
（第１発明の実施の形態３の作用）
前記構成を備えた第１発明の実施の形態３では、前記ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）は、前記被検査ウエハ（Ｗ）表面のビーム照射位置を前記走査幅Ｂのピッチで前記一方の軸方向に移動させる走査幅方向ビーム位置制御手段を有し、前記走査幅方向ビーム位置制御手段によるビーム照射位置の前記走査幅方向の移動により、前記複数のリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）のうちの２以上の所定数ｎのリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）の走査を行う。
前記回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）は、前記走査幅をＢ、正の整数である所定数をｎとした場合に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を前記一方の軸方向に距離ｎＢのピッチで移動させる所定ピッチテーブル移動制御手段を有し、前記所定数ｎのリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）の走査を行う度に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）が前記一方の軸方向に距離ｎＢのピッチで移動するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する。
【００２４】
（第２発明の実施の形態１）
第２発明の実施の形態１は、前記第２発明の欠陥検査装置において、下記の要件（Ｂ010）を備えたことを特徴とする、
（Ｂ010）前記試料ステージ（Ｕ3）に支持された被検査ウエハ（Ｗ）表面を前記電子ビームが前記Ｘ軸およびＹ軸の一方の軸に沿う所定の走査幅を繰り返し走査するように前記Ｘ偏向器駆動回路（Ｅ6）またはＹ偏向器駆動回路（Ｅ7）を制御する所定幅走査手段を有する前記ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）。
【００２５】
（第２発明の実施の形態１の作用）
前記構成を備えた第２発明の実施の形態１では、前記ビーム偏向制御手段（Ｃ１a）は所定幅走査手段を有し、前記所定幅走査手段は、前記試料ステージ（Ｕ3）に支持された被検査ウエハ（Ｗ）表面を前記電子ビームが前記Ｘ軸およびＹ軸の一方の軸に沿う所定の走査幅を繰り返し走査するように前記Ｘ偏向器駆動回路（Ｅ6）またはＹ偏向器駆動回路（Ｅ7）を制御する。
このとき、前記回転走査用テーブル制御手段（Ｃ１B2）は前記回転テーブル（ＳＴr）が１回転する間に前記所定走査幅だけ前記一方の軸方向に沿って前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を移動させる。このとき、前記電子ビームは前記被検査ウエハ（Ｗ）表面の前記回転走査領域（ＲＡ）を螺旋状に走査する。
【００２６】
【実施例】
次に図面を参照しながら、本発明の欠陥検査装置の実施の形態の具体例（実施例）を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、以後の説明の理解を容易にするために、図面において、前後方向をＸ軸方向、右左方向をＹ軸方向、上下方向をＺ軸方向とし、矢印Ｘ，−Ｘ，Ｙ，−Ｙ，Ｚ，−Ｚで示す方向または示す側をそれぞれ、前方、後方、右方、左方、上方、下方、または、前側、後側、右側、左側、上側、下側とする。
また、図中、「○」の中に「・」が記載されたものは紙面の裏から表に向かう矢印を意味し、「○」の中に「×」が記載されたものは紙面の表から裏に向かう矢印を意味するものとする。
【００２７】
（実施例１）
図１は本発明の欠陥検査装置の実施例１の全体説明図である。図２は同実施例１の全体斜視図である。図３は同実施例の部分平面図である。
図１〜図３において、欠陥検査装置Ｕは、予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１および詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2を有している。前記予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１および詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2は真空試料室Ａを形成する外壁１の上壁部２に支持されている。前記真空試料室Ａ内には試料ステージＵ3が配置されており、試料ステージＵ3は外壁１の底壁３上に支持されている。
【００２８】
試料ステージＵ3は、ＹテーブルＳＴyおよびＸテーブルＳＴxを有するＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）と、回転テーブルＳＴrとを有している。前記回転テーブルＳＴr上には図１、図３に示す試料（ウエハ）Ｗが支持されている。
外壁１の右側壁部４には試料ステージ制御機構や真空ポンプ等を収容する作動部材収容室Ｂが配置されている。前記作動部材収容室Ｂの右側には欠陥検査制御装置Ｃが配置されている。欠陥検査制御装置ＣはＳＥＭ１用コントローラＣ１およびＳＥＭ2用コントローラＣ２と、前記各コントローラＣ1およびＣ２に接続されたＳＥＭ画像用のディスプレイＤ1およびＤ3と、ＳＥＭ１,ＳＥＭ2に装着された光学撮像装置用のディスプレイＤ2，Ｄ4（図１、図８参照）を有している。
【００２９】
図３において、前記真空試料室Ａの形成する外壁１の後壁部（−Ｘ側の壁部）５外側には試料交換室Ｅおよびカセット収納室Ｆが配置されている。前記真空試料室Ａ、試料交換室Ｅ、およびカセット収納室Ｆはいずれも真空ポンプ（図示せず）に接続されており、所定のタイミングで真空にされる。
前記真空試料室Ａおよび試料交換室Ｅの間には、連通口（図示せず）および前記連通口を気密に遮断する状態または連通状態にする仕切弁６（図３参照）が設けられている。前記試料交換室Ｅおよび前記カセット収納室Ｆの間には、連通口（図示せず）および前記連通口を気密に遮断または連通させる仕切弁７（図３参照）が設けられている。
【００３０】
前記カセット収納室Ｆの上壁にはウエハカセットＷＫを出入させるための外部仕切弁８が設けられている。
ウエハカセットＷＫは、外部仕切弁８の上方を通過するように配置された図示しないチェーンコンベアにより搬送されるカセット搬送部材（図示せず）の上下に伸縮可能なエアシリンダ下端に設けた真空吸着パッドにより吸着された状態で、前記外部仕切弁８から出入される。
【００３１】
カセット収納室Ｆに配置されたウエハカセットＷＫには、複数のウエハ（試料）Ｗが取出可能に収納されている。前記ウエハカセットＷＫは図１３に示すように、カセットテーブル昇降用モータＭLにより昇降するように構成されている。試料交換室Ｅに配置されたウエハ搬送部材９はウエハＷを支持する搬送アーム９aを有している。前記搬送アーム９aは、上下動、鉛直軸周りの回転、直進が可能であり、前記ウエハカセットＷＫと試料ステージＵ3との間で前記ウエハＷを搬送する。
図１３から分かるように、搬送アーム９aは、アーム回転モータＭ1により鉛直軸周りに回転し、アーム直進モータＭ2により直進し、アーム昇降モータＭ3により昇降可能に構成されている。
なお、前記搬送アーム９aを移動させる構成は従来周知である。
【００３２】
図４は真空試料室（真空作業室）内に配置されたＸＹテーブルに支持された回転テーブルの昇降ロッドの説明図で、前記図３のＩＶ−ＩＶ線断面図である。図５は前記図４の要部拡大図である。図６は前記図５の回転テーブル上に載置された試料Ｗの位置決め機構の説明図で、回転テーブルが前記図５とは異なる位置に回転したときの断面図である。
【００３３】
前記真空試料室Ａ内に配置された試料ステージＵ3は、ウエハＷを前記予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１または詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2により検査を行う位置（作業位置）に移動させるための装置である。
試料ステージＵ3の前記ＹテーブルＳＴy上には前記ＸテーブルＳＴxがＸ軸方向（前後方向）に移動可能に支持されている。前記ＸテーブルＳＴx上にはベアリング１１を介して円形の回転テーブルＳＴrが回転可能に支持されている。回転テーブルＳＴrにはガイド溝１２およびアーム収容溝１３が形成されている。また前記回転テーブルＳＴrはその外周にギヤ１４が形成されており、ギヤ１４は回転テーブル駆動モータＭ4（図１４参照）により回転するウオームギヤ１６と噛み合っている。そして回転テーブルＳＴrは、前記ウオームギヤ１６の回転にともなって回転するように構成されている。
【００３４】
図５において、回転テーブルＳＴrには、前記搬送アーム９aにより真空試料室Ａ内に搬送されたウエハＷを受け取ったり、作業済のウエハＷを搬送アーム９a上に移動させるための上下動テーブル１７が上下動可能に支持されている。上下動テーブル１７は上端に設けた円形の試料載置プレート１７aおよび下方に延びるロッド１７bを有している。前記ロッド１７b下端にはバネ受けプレート１８が固定されている。バネ受けプレート１８と前記回転テーブルＳＴr下面との間には圧縮バネ１９が配置されている。前記圧縮バネ１９により前記上下動テーブル１７は、常時下方に付勢されている。
前記上下動テーブル１７の下面には、扇形のテコ２０が水平軸２１周りに回転可能に支持されている。前記テコ２０のテーブル支持面２０aは上下動テーブル１７の下端を支持している。テコ２０の被押圧面２０bには、ナット２２先端のボール２２aが当接している。ナット２２には被ガイドバー２３が一体的に設けられており、被ガイドバー２３は前記回転テーブルＳＴrに形成された前記ガイド溝１２に係合している。
【００３５】
前記回転テーブルＳＴrの下面には上下動テーブル駆動モータＭ5（図５、図１４参照）が支持されており、上下動テーブル駆動モータＭ5により回転するボルト軸（ネジが形成された軸）２４は前記ナット２２と螺合している。
したがって、前記上下動テーブル駆動モータＭ5が回転したときにはボルト軸２４が回転し、ナット２２および被ガイドバー２３は前記ガイド溝１２に沿って移動し、そのとき前記テコ２０が前記水平軸２１周りに回動するように構成されている。そして、テコ２０の回動によりテコ２０のテーブル支持面２０aが上下し、それに連動して前記上下動テーブル１７が上下動するように構成されている。
なお、前記ナット２２および被ガイドバー２３の移動範囲の両端には、前記被ガイドバー２３との接触により作動するリミットスイッチＬＳ1，ＬＳ2が配置されており、前記ナット２２の移動範囲は制限されている。
【００３６】
図５、図６に示すように、回転テーブルＳＴr上の前記上下動テーブル１７周囲には、ウエハ支持部材としての複数の球面部材２６が設けられている。また図５から分かるように、前記複数の球面部材２６の外側にはウエハＷの位置決め用の鉛直軸回りに回転自在な基準ローラ２７，２７（１個のみ図示）、および移動ローラ２８が設けられている。
図６において、前記移動ローラ２８は、図６で紙面に垂直な方向に伸びる揺動アーム２９により鉛直軸回りに回転自在に支持されており、前記揺動アーム２９は、前記回転テーブルＳＴr上面に設けられた図６に示す前記アーム収容溝１３内で水平方向に揺動して、移動ローラ２８を図６の実線位置と２点鎖線位置との間で移動させるように構成されている。
図６に示すように、揺動アーム２９先端には下方に延びる揺動用被作動部材３１が設けられている。揺動用被作動部材３１は回転テーブルＳＴr下面に配置された引張バネ３２により常時回転テーブルＳＴrの中心側に向かって付勢されている。また、揺動用被作動部材３１にはナット３３先端のボール３３aが当接している。ナット３３には被ガイドバー３４が一体的に設けられており、被ガイドバー３４は前記回転テーブルＳＴrに支持されたブラケット３６に形成されたガイド溝３６aに係合している。
【００３７】
前記ブラケット３６にはワーク位置決めモータＭ6が支持されており、ワーク位置決めモータＭ6により回転するボルト軸（ネジが形成された軸）３７は前記ナット３３と螺合している。なお、ワーク位置決めモータＭ6はワーク位置決めモータ駆動回路ＤＭ6（図１４参照）により駆動される。
したがって、前記ワーク位置決めモータＭ6が回転したときにはボルト軸３７が回転し、ナット３３および被ガイドバー３４は前記ガイド溝３６aに沿って移動し、そのとき前記揺動用被作動部材３１および揺動アーム２９が前記鉛直軸８１周りに揺動するように構成されている。そして、揺動アーム２９の揺動により前記移動ローラ２８が移動して、ウエハＷを基準ローラ２７，２７に押し付けて位置決めするように構成されている。
なお、前記ナット３３および被ガイドバー３４の移動範囲の両端には、前記被ガイドバー３４との接触により作動するリミットスイッチＬＳ3，ＬＳ4が配置されており、前記ナット３３の移動範囲は制限されている。
前記符号２６〜３７，Ｍ6，ＭＤ6，ＬＳ3，ＬＳ4で示された要素によりウエハ保持装置（試料保持装置）（２６〜３７，Ｍ6，ＭＤ6，ＬＳ3，ＬＳ4）が構成されている。
【００３８】
図５において、前記移動ローラ２８により前記基準ローラ２７，２７に押し付けられて位置決め固定されたウエハＷは、回転テーブルＳＴr、ＸテーブルＳＴx、ＹテーブルＳＴyにより、真空試料室Ａに設けられた前記予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１または詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2（図１、図４参照）に対して所望の位置に移動し、検査が行われる。
【００３９】
図７は前記詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2の前記上壁部２への取付構造を示す図である。
詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2は、試料ステージＵ3に支持されたウエハＷに対する電子ビームの照射角度を調節できるようにするため、上壁部２に回動可能且つ回動位置を調節可能に支持されている。
すなわち、前記上壁部２には、鏡筒支持部材３８が固定されている。鏡筒支持部材３８は断面長円形の鏡筒貫通孔３８aと上面に形成された円筒状ガイド面３８bと、円筒状ガイド面３８bの円周方向に形成された小さなローラガイド溝３８cとを有している。
【００４０】
前記鏡筒貫通孔３８aには詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2の鏡筒が貫通している。詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2の外側面にはローラ支持部材３９が連結されている。ローラ支持部材３９の外端部に回転自在に支持されたローラ４１は前記円筒状ガイド面３８b上を前記ローラガイド溝３８cに沿って回動可能であり、その回動により前記詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2は左右軸（Ｙ軸）周りに傾斜可能である。
なお、前記鏡筒支持部材３８下端と前記詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2下端部との間は真空保持用のベローズ４２により連結されている。
【００４１】
前記ローラ支持部材３９の左端部には円弧状ギヤ４３が固定されている。前記円弧状ギヤ４３に噛み合うウォームギヤ４４は、前記上壁部２の上面に設けたウォームギヤ支持部材４６および鏡筒傾斜用モータユニットＭ7により回転可能に支持されている。
前記鏡筒傾斜用モータユニットＭ7の回転駆動により前記詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2の傾斜姿勢を調節可能である。
なお、本実施例では傾斜可能な詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2を設けているが、本発明の欠陥検査装置Ｕは、前記詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2を傾斜不可能に固定支持することも可能であり、また、詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2自体を省略することも可能である。
【００４２】
図８は欠陥検査制御装置Ｃに接続された予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１の構成要素のブロック線図である。
図８において予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１は、検査用鏡筒４７、電子銃カソード（電子銃）Ｆ1、電子銃引出電極Ｆ2、収束レンズＦ3、ブランキングコイルＦ4、照明用の光源Ｆ5、電子ビームをＸ軸、Ｙ軸方向にそれぞれ走査させるためのＸ偏向器Ｆ6、Ｙ偏向器Ｆ7、および電子ビームを被検査ウエハＷ上に収束させる対物レンズＦ8等を有している。前記電子銃カソード（電子銃）Ｆ1および電子銃引出電極Ｆ2により電子銃（Ｆ1＋Ｆ2）が構成されている。また、前記収束レンズＦ3および対物レンズＦ8によりビーム縮小レンズ系（Ｆ3＋Ｆ8）が構成されている。
前記Ｙ偏向器Ｆ7は第１Ｙ偏向器Ｆ7aおよび第２Ｙ偏向器Ｆ7bを有している。
【００４３】
前記符号Ｆ1〜Ｆ8で示された要素はそれぞれ、カソード用電源回路Ｅ1、電子線引出用電源回路Ｅ2、収束レンズ駆動回路Ｅ3、ブランキングコイル駆動回路Ｅ4、照明用電源回路Ｅ5、Ｘ偏向器駆動回路Ｅ6、Ｙ偏向器駆動回路Ｅ7、対物レンズ駆動回路Ｅ8により作動する。前記Ｙ偏向器駆動回路Ｅ7は、前記第１Ｙ偏向器Ｆ7aを駆動する第１Ｙ偏向器駆動回路Ｅ7aおよび前記第２Ｙ偏向器Ｆ7bを駆動する第２Ｙ偏向器駆道回路Ｅ7bを有している。前記Ｘ偏向器駆動回路Ｅ6およびＹ偏向器駆動回路Ｅ7により偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）が構成されている。
前記符号Ｅ1〜Ｅ8で示された回路は前記欠陥検査制御装置ＣのＳＥＭ１用コントローラＣ１が出力する制御信号により作動する。
前記符号Ｆ1〜Ｆ4，Ｆ6〜Ｆ8，Ｅ1〜Ｅ4，Ｅ6〜Ｅ8で示された要素により電子ビーム走査装置（Ｆ1〜Ｆ4＋Ｆ6〜Ｆ8＋Ｅ1〜Ｅ4＋Ｅ6〜Ｅ8）が構成されている。
【００４４】
図８において、前記Ｙ偏向器Ｆ7の下方にはカセグレン鏡４８が配置され、その上方にはミラー４９が配置されている。前記光源Ｆ5から出射してレンズ系５１でコリメートされた照明光は、ハーフミラー５２で反射し、前記ミラー４９およびカセグレン鏡４８を通って被検査ウエハＷを照射する。被検査ウエハＷの反射光は、前記カセグレン鏡４８、ミラー４９、ハーフミラー５２を通ってＣＣＤ等を有する光学像撮影装置５３で撮影される。撮影光学像は、ディスプレイＤ2に表示されるとともに、デジタルデータに変換されてＳＥＭ１用コントローラＣ１に入力される。
【００４５】
前記予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１下端の外周部には２次電子検出器５４aが保持されている。前記２次電子検出器５４aおよび図示しない２次電子増幅回路等から２次電子検出装置（すなわち、放出線検出装置）５４（図８等参照）が構成されている。
なお、前記２次電子検出装置の代わりに、反射電子、オージェ電子等を検出する放出線検出装置を使用することが可能である。
【００４６】
図９は欠陥検査制御装置に接続された詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2の構成要素のブロック線図である。
図９において詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2は、前記図８に示す予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１と同様の構成を備えている。すなわち、図９において詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2は、検査用鏡筒４７′、電子銃カソード（電子銃）Ｆ11、電子銃引出電極Ｆ12、収束レンズＦ13、ブランキングコイルＦ14、照明用の光源Ｆ15、電子ビームをＸ軸、Ｙ軸方向にそれぞれ走査させるためのＸ偏向器Ｆ16、Ｙ偏向器Ｆ17、および電子ビームを被検査ウエハＷ上に収束させる対物レンズＦ18等を有している。
【００４７】
前記符号Ｆ11〜Ｆ18で示された要素はそれぞれ、カソード用電源回路Ｅ11、電子線引出用電源回路Ｅ12、収束レンズ駆動回路Ｅ13、ブランキングコイル駆動回路Ｅ14、照明用電源回路Ｅ15、Ｘ偏向器駆動回路Ｅ16、Ｙ偏向器駆動回路Ｅ17、対物レンズ駆動回路Ｅ18により作動する。
前記符号Ｅ11〜Ｅ18で示された回路は前記欠陥検査制御装置ＣのＳＥＭ2用コントローラＣ２が出力する制御信号により作動する。
前記符号Ｆ11〜Ｆ14，Ｆ16〜Ｆ18，Ｅ11〜Ｅ14，Ｅ16〜Ｅ18で示された要素により電子ビーム走査装置（Ｆ11〜Ｆ14＋Ｆ16〜Ｆ18＋Ｅ11〜Ｅ14＋Ｅ16〜Ｅ18）が構成されている。
【００４８】
また、図９において、前記Ｙ偏向器Ｆ17の下方にはカセグレン鏡４８′が配置され、その上方にはミラー４９′が配置されている。前記光源Ｆ15から出射してレンズ系５１′でコリメートされた照明光は、ハーフミラー５２′で反射し、前記ミラー４９′およびカセグレン鏡４８′を通って被検査ウエハＷを照射する。被検査ウエハＷの反射光は、前記カセグレン鏡４８′、ミラー４９′、ハーフミラー５２′を通ってＣＣＤ等を有する光学像撮影装置５３′で撮影される。撮影光学像は、ディスプレイＤ4に表示されるとともに、デジタルデータに変換されてＳＥＭ2用コントローラＣ２に入力される。
【００４９】
前記詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2下端の外周部には２次電子検出器５４a′が保持されている。前記２次電子検出器５４a′および図示しない２次電子増幅回路等から前記ＳＥＭ2の反射ビーム検出装置（すなわち、放出線検出装置）５４′（図９等参照）が構成されている。
また前記詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2下端の外周部にはＥＤＳ（Energy Dispersive X-ray Spectrometer、エネルギー分散Ｘ線分光装置）のＸ線検出器５５が装着されている。ＥＤＳは、図９に示すように、ＳＥＭ2用コントローラＣ２の制御信号により作動し、その検出信号は、ＳＥＭ2用コントローラＣ２に入力されている。
【００５０】
図１０は本発明の実施例１の被検査ウエハの検査方法の説明図であり、被検査ウエハを回転させながら検査する回転検査領域と被検査ウエハをＸ方向およびＹ方向に直進移動させながら検査するＸＹ直進走査領域とに分けて検査する方法の説明図である。図１１は同実施例１の被検査ウエハＷの検査方法の詳細説明図で、回転検査領域の検査方法の説明図である。図１２はＸＹ直進走査領域の検査方法の説明図である。
図１０において被検査ウエハＷの表面は、全検査領域を内側に含むように設定された外側設定円Ｗ1と、前記被検査ウエハＷ表面の中心Ｗ0を含むウエハ中心部に設定された内側設定円Ｗ2との間の領域であるリング状の回転走査領域ＲＡと、前記内側設定円Ｗ2に外接する矩形Ｗ3の内側の領域である矩形領域（ＸＹ直進走査領域）ＲＢとに分けて検査（走査）される。
【００５１】
（回転走査領域ＲＡ）
図１０、図１１において、外側設定円Ｗ1は直径３００ｍｍ（半径１５０ｍｍ）の被検査ウエハＷの外周円から１ｍｍ内側に設定されており、内側設定円Ｗ2は被検査ウエハの中心Ｗ0を中心とする半径３０ｍｍの円により形成されている。この場合外側設定円Ｗ1と内側設定円Ｗ2との半径の差（すなわち、リング状の回転走査領域ＲＡの半径方向の長さは、１５０ｍｍ−３０ｍｍ−１ｍｍ＝１１９ｍｍである。
この場合、回転走査領域ＲＡは、半径方向に０.１ｍｍ間隔で描かれる円により、１１９０のリング状領域に分割される。すなわち、外側から内側に向かって順次、リング状走査領域ＲＡ0，ＲＡ1，ＲＡ2，ＲＡ3，ＲＡ4，ＲＡ5，ＲＡ6，…，ＲＡn-1，ＲＡn，ＲＡn+1，…，ＲＡ1188，ＲＡ1189に分割される。そして、リング回転走査領域ＲＡ0，ＲＡ1，ＲＡ2，ＲＡ3，…は、一番外側の領域ＲＡ0から順次内側に検査（走査）される。
【００５２】
前記回転走査領域ＲＡの走査（検査）は、ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を停止した状態で回転テーブルＳＴrを連続５回転することにより行う。すなわち、図１１において、電子ビーム照射位置がＰ0（図１１参照）となる位置に試料ステージＵ3を移動させた後、回転テーブルＳＴrを時計方向にθa回転させる。その位置から回転テーブルＳＴrを半時計方向に回転させてビーム照射位置がＰ0になった時から前記第１Ｙ偏向器Ｆ7aによりリング状走査領域ＲＡ0をＹ方向に走査しながら、回転テーブルＳＴrを連続５回転させる。前記回転テーブルＳＴrが最初の１回転を行ったときに、前記第２Ｙ偏向器Ｆ7bによりビーム照射位置を−Ｙ方向に０.１ｍｍ移動（すなわち、Ｙ方向に−０.１ｍｍ移動）させてＰ1（図１１参照）に移動させるとリング状走査領域ＲＡ1の走査が連続して行われる。このようにして、前記回転テーブルＳＴrを連続５回転させながら、１回転する毎に前記第２Ｙ偏向器Ｆ7bによりビーム照射位置を−Ｙ方向に０.１ｍｍ偏向させることにより、５個のリング状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ4の走査（検査）を連続して行う。
このときの各回転走査領域ＲＡ0，ＲＡ1，ＲＡ2，ＲＡ3，ＲＡ4，…の走査順序は図１１の矢印Ｔで示すとおりである。
前述のように回転開始時に時計方向にθa回転してから、半時計方向への回転を開始するする理由は、回転開始時は回転速度が低いので回転速度が一定となってから、リング状走査領域Ｒ0の走査を行うためである。
【００５３】
前記回転走査領域ＲＡ4の走査を終了してから回転テーブルＳＴrを停止させるが、そのときの回転テーブルＳＴrの停止位置は、前記ビーム照射位置Ｐ4を通り越して回転した位置である。そのため、回転テーブルＳＴrを時計方向に回転させて、前記ビーム照射位置Ｐ4がθaだけ時計方向に回転した位置に停止させる。次に、ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）をＹ方向に０.５ｍｍ移動させ且つ前記第２Ｙ偏向器Ｆ7bによりビーム照射位置をＹ方向に０.４ｍｍ移動させて、ビーム照射位置をＰ5に移動させる。この状態でＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を停止させて回転テーブルを連続５回転させながら、前述と同様にリング状走査領域ＲＡ5〜ＲＡ9の走査（検査）を行う。
このような走査（ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）が停止した状態で回転テーブルＳＴrを連続５回転させながら行う５個のリング状回転領域の走査）を、１１９０／５＝２３８（回）実行することにより、回転走査領域ＲＡの走査（検査）を実行することができる。
なお、前記回転走査領域ＲＡの走査を行う際、リング状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189の周方向の移動速度を一定にしながら行うため、リング状走査領域が内側になるに従って、回転テーブルＳＴrの回転速度を高くする。
【００５４】
（ＸＹ直進走査領域ＲＢ）
図１２において、ＸＹ直進走査領域ＲＢを形成する矩形は被検査ウエハの中心Ｗ0を中心とする一辺の長さが６０ｍｍの正方形である。この場合、ＸＹ直進走査領域ＲＢは、幅０.１ｍｍ、長さ６０ｍｍのＸ軸方向に伸びる６００本の帯状走査領域ＲＢ0，ＲＢ1，ＲＢ2，…，ＲＢM，ＲＢM+1，…，ＲＢ299に分けて、右方から左方に順次走査される。
【００５５】
前記ＸＹ直進走査領域ＲＢの走査（検査）は、ＹテーブルＳＴyの移動を停止した状態でＸテーブルＳＴxの往復移動を連続２.５回行うこと（片道移動を連続５回行うこと）を繰り返し実行することにより行う。
すなわち、図１２において、電子ビーム照射位置がＱ0（図１２参照）となる位置に試料ステージＵ3を移動させた状態で、さらにＸテーブルＳＴxをΔＸだけＸ方向に移動させる。このとき、電子ビーム照射位置はＸＹ直進走査領域ＲＢから−Ｘ方向にΔＸだけ外側にずれた位置となる。この位置からＸテーブルを−Ｘ方向に移動させると、ビーム照射位置は徐々にＸＹ直進走査領域ＲＢに近づく。前記ビーム照射位置がＸＹ直進走査領域ＲＢに達したときから、前記第１Ｙ偏向器Ｆ7aにより帯状走査領域ＲＢ0をＹ方向に走査幅０.１ｍｍでしながら、ＸテーブルＳＴxを−Ｘ方向に６０ｍｍ移動させる。前記ＸテーブルＳＴxが−６０ｍｍ移動したときに、ビーム照射をオフにするとともに、ＸテーブルＳＴxの停止動作を開始する。このとき、ＸテーブルＳＴxは急には停止できないので、ビーム照射位置はＸＹ直進走査領域ＲＢからΔＸだけ外側にずれた位置となる。
前記ＸテーブルＳＴxを６０ｍｍ＋２ΔＸのストロークで往復移動させることにより、前記６０ｍｍ長さのＸＹ直進走査領域ＲＢを等速度移動しながら走査することができる。すなわち、ＸＹ直進走査領域ＲＢを走査する際、ウエハＷ上のビーム照射領域である走査部分の移動速度を一定にすることができる。
【００５６】
この位置からＸテーブルをＸ方向に移動させると、ビーム照射位置は徐々にＸＹ直進走査領域ＲＢに近づく。
前記ビーム照射位置がＸＹ直進走査領域ＲＢに達したときから、前記第２Ｙ偏向器Ｆ7bによりビーム照射位置を−Ｙ方向に０.１ｍｍ移動（すなわち、Ｙ方向に−０.１ｍｍ移動）させて、ビーム照射点をＱ0′（図１２参照）からＱ1′に移動させる。そして、ＸテーブルＳＴxをＸ方向に移動させながら、帯状走査領域ＲＢ1の走査が行われる。
このようにして、前記ＸテーブルＳＴxを６０ｍｍ＋２ΔＸのストロークで往復移動させながら、折り返して走査する毎に前記第２Ｙ偏向器を−Ｙ方向に０.１ｍｍ移動させることにより、ＹテーブルＳＴyを移動させることなく、５本の帯状走査領域ＲＢ0〜ＲＢ4の走査（検査）を連続して行う。
【００５７】
次に、ブランキングコイルＦ4をオンにして電子ビームが被検査ウエハＷを照射しない状態で、ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）をＹ方向に０.５ｍｍ移動させてビーム照射位置をＱ4′（図１２参照）からＱ5′に移動させる。この状態でＹテーブルＳＴyを停止させてＸテーブルＳＴxを連続２.５往復移動させながら、前述と同様に帯状走査領域ＲＢ5〜ＲＢ9の走査（検査）を行う。
このような走査（ＹテーブルＳＴyが停止した状態でＸテーブルＳＴxを連続２.５往復移動させながら行う５本の帯状走査領域の走査）を、６０（ｍｍ）／０.５（ｍｍ）＝１２０（回）実行することにより、ＸＹ直進走査領域ＲＢの走査（検査）を実行することができる。
【００５８】
図１３は本発明の欠陥検査装置の実施例１の制御部の説明図で、欠陥検査制御装置Ｃの説明図である。図１４は本発明の欠陥検査装置の実施例１の制御部の説明図で、前記図１３の続きの部分を示す図である。
図１３、図１４において、欠陥検査制御装置Ｃは、ＳＥＭ１用コントローラ（予備検査用コントローラ）Ｃ１、ＳＥＭ2用コントローラ（詳細検査用コントローラ）Ｃ２を有している。
欠陥検査制御装置Ｃにはアーム回転モータ駆動回路ＭＤ1、アーム直進モータ駆動回路ＭＤ2、アーム昇降モータ駆動回路ＭＤ3、カセットテーブル昇降用モータ駆動回路ＭＤL、Ｙテーブル駆動回路Ｄy、Ｘテーブル駆動回路Ｄx、回転テーブル駆動回路ＭＤ4、上下動テーブル駆動回路ＭＤ5、ワーク位置決めモータ駆動回路ＭＤ6、鏡筒傾斜用駆動回路ＭＤ7、等が接続されている。
【００５９】
前記カセットテーブル昇降用モータ駆動回路ＭＤLは、前記カセットテーブル昇降用モータＭL（図１４参照）を駆動する。
前記アーム回転モータ駆動回路ＭＤ1は、アーム回転モータＭ1（図１３参照）を駆動して前記搬送アーム９aを鉛直軸周りに回転させる。
前記アーム直進モータ駆動回路ＭＤ2は、アーム直進モータＭ2（図１３参照）を駆動して前記搬送アーム９aを水平方向に直進させる。
前記アーム昇降モータ駆動回路ＭＤ3は、アーム昇降モータＭ3（図１３参照）を駆動して搬送アーム９a（図２、図３参照）を昇降させる。
前記Ｙテーブル駆動回路Ｄyは、Ｙテーブル駆動モータＭyを駆動してＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）のＹテーブルＳＴyを移動させる。前記Ｙテーブル駆動回路ＤyおよびＹテーブル駆動モータＭyによりＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｍy）が構成されている。
【００６０】
前記Ｘテーブル駆動回路Ｄxは、Ｘテーブル駆動モータＭxを駆動してＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）のＸテーブルＳＴxを移動させる。前記Ｘテーブル駆動回路ＤxおよびＸテーブル駆動モータＭxによりＸテーブル駆動装置（Ｄx＋Ｍx）が構成されている。
前記回転テーブル駆動回路ＭＤ4は、回転テーブル駆動モータＭ4を駆動して試料ステージＵ3の回転テーブルＳＴrを回転させる。前記回転テーブル駆動回路ＭＤ4および回転テーブル駆動モータＭＤ4により回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）が構成されている。
前記上下動テーブル駆動回路ＭＤ5は、上下動テーブル駆動モータＭ5を駆動して試料ステージＵ3の上下動テーブル１７を上下動させる。
前記ワーク位置決めモータ駆動回路ＭＤ6は、ワーク位置決めモータＭ6（図６参照）を駆動して前記揺動アーム２９（図６において紙面に垂直な方向に伸びるアーム）を前記鉛直軸８１周りに揺動させる。
前記鏡筒傾斜用駆動回路ＭＤ7は、鏡筒傾斜用モータユニットＭ7を駆動して詳細検査用電子顕微鏡Ｕ2の鏡筒を傾斜させる。
【００６１】
図１３において、前記各コントローラＣ１，Ｃ２は、外部との信号の入出力および入出力信号レベルの調節等を行うＩ／Ｏ（入出力インターフェース）、必要な処理を行うためのプログラムおよびデータ等が記憶されたＲＯＭ（リードオンリーメモリ）、必要なデータを一時的に記憶するためのＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、前記ＲＯＭに記憶されたプログラムに応じた処理を行うＣＰＵ（中央演算処理装置）、ならびにクロック発振器等を有するコンピュータにより構成されており、前記ＲＯＭに記憶されたプログラムを実行することにより種々の機能を実現することができる。
前記ＳＥＭ１用コントローラ（予備検査用コントローラ）Ｃ１は、予備検査用電子顕微鏡Ｕ1（図８参照）の構成要素や前記試料ステージＵ3のＸＹテーブル駆動回路（Ｘテーブル駆動回路ＤＴx、Ｙテーブル駆動回路ＤＴy等）に接続されており、それらの作動を制御してＸテーブル駆動モータＭx、Ｙテーブル駆動モータＭy等を駆動し、ウエハＷの予備検査を行う。
【００６２】
前記ＳＥＭ2用コントローラ（詳細検査用コントローラ）Ｃ２は、詳細検査用電子顕微鏡Ｕ２（図９参照）の構成要素や前記試料ステージＵ3のＸＹステージ駆動回路（Ｘテーブル駆動回路ＤＴx、Ｙテーブル駆動回路ＤＴy等）に接続されており、それらの作動を制御してＸテーブル駆動モータＭx、Ｙテーブル駆動モータＭy等を駆動し、ウエハＷの詳細検査を行う。前記ウエハＷの詳細検査はＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用した従来公知の詳細検査方法により行う。したがって、ＳＥＭ2（詳細検査用電子顕微鏡Ｕ２）の制御に関する説明は省略する。
【００６３】
前記ＳＥＭ１用コントローラＣ１は次の機能を有している。
Ｃ１M1：ＸＹ直進走査領域記憶手段
ＸＹ直進走査領域記憶手段Ｃ１M1は、前記被検査ウエハＷ表面の中心位置Ｗ0を内部に含む所定の大きさの矩形領域であるＸＹ直進走査領域の範囲を記憶する。
Ｃ１M2：回転走査領域記憶手段、
回転走査領域記憶手段Ｃ１M2は、前記被検査ウエハ表面の中心を中心とし且つ前記矩形領域の内側に設定された内側設定円および外側に設定された外側設定円の間に形成される回転走査領域の範囲を記憶する。
【００６４】
Ｃ１A：ビーム偏向制御手段
ビーム偏向制御手段Ｃ１Aは、被検査ウエハＷ表面上の電子ビームの照射位置を制御するために前記偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7）の作動を制御する。
ビーム偏向制御手段Ｃ１Aは、所定幅走査手段Ｃ１A1および走査幅方向ビーム位置制御手段Ｃ１A2を有している。
Ｃ１A：所定幅走査手段
所定幅走査手段Ｃ１A1は、試料ステージに支持された被検査ウエハ表面を前記電子ビームが前記Ｘ軸およびＹ軸の一方の軸に沿う所定の走査幅を繰り返し走査するように前記Ｘ偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7またはＹ偏向器駆動回路（Ｅ6＋Ｅ7を制御する。
Ｃ１A2：走査幅方向ビーム位置制御手段
走査幅方向ビーム位置制御手段Ｃ１A2は、前記被検査ウエハ表面のビーム照射位置を前記走査幅のピッチで前記一方の軸方向に移動させる。
【００６５】
Ｃ１B：テーブル制御手段
テーブル制御手段Ｃ１Bは、前記電子ビームが所定の走査幅で照射する被検査ウエハ表面部分であるビーム照射部分が前記走査幅に垂直な方向に所定の移動速度で移動させるように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）または回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御する。
テーブル制御手段Ｃ１Bは、直進走査用テーブル制御手段Ｃ１B1および回転走査用テーブル制御手段Ｃ１B2を有しており、前記直進走査用テーブル制御手段Ｃ１B1はおよび回転走査用テーブル制御手段Ｃ１B2は所定ピッチテーブル移動制御手段Ｃ１B1aおよびＣ１B2aを有している。
【００６６】
Ｃ１B1：直進走査用テーブル制御手段
直進走査用テーブル制御手段Ｃ１B1は、前記被検査ウエハＷのＸＹ直進走査領域を前記所定の走査幅を有する複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）に分割し、前記複数の帯状部分（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）を前記電子ビームが順次走査するように前記ＸＹテーブル駆動装置（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）を制御する。
Ｃ１B1a：所定ピッチテーブル移動制御手段
直進走査用テーブル制御手段Ｃ１B1の所定ピッチテーブル移動制御手段Ｃ１B1aは、直進走査領域を走査する時に、前記走査幅をＢ、正の整数である所定数をｎとした場合に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を前記一方の軸方向に距離ｎＢのピッチで移動させる。
【００６７】
Ｃ１B2：回転走査用テーブル制御手段
回転走査用テーブル制御手段Ｃ１B2は、所定ピッチテーブル移動制御手段Ｃ１Ｂ2aおよびリング状走査領域周速度定速制御手段Ｃ１B2bを有し、前記被検査ウエハＷの前記所定の走査幅を有する複数のリング状部分（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）に分割された前記各リング状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189を、前記電子ビームが所定周速度で順次走査するように前記回転テーブル駆動装置（ＭＤ4＋Ｍ4）を制御する。
Ｃ１B2a：所定ピッチテーブル移動制御手段
回転走査用テーブル制御手段Ｃ１B2の所定ピッチテーブル移動制御手段Ｃ１Ｂ2aは、回転走査領域を走査する際に、前記走査幅をＢ、正の整数である所定数をｎとした場合に前記ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を前記一方の軸方向に距離ｎＢのピッチで移動させる。
本実施例１ではＢ＝０.１ｍｍ、ｎ＝５であるので、ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）の移動ピッチはＹ方向に０.５ｍｍである。
【００６８】
Ｃ１B2b：リング状走査領域周速度定速制御手段
リング状走査領域周速度定速制御手段Ｃ１B2bは、前記各リング状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189を電子ビームが走査する際、走査時における各リング状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189の周速度が同一の所定速度となるように、前記回転テーブルＳＴrの回転速度を制御する。
本実施例１では、図１１において、リング状走査領域ＲＡ0を走査するときのＰ0（図１１参照）を通過する被検査ウエハＷの周速度Ｖ0sと、リング状走査領域ＲＡN（N＝１〜１１８９）を走査するときのＰN（図１１参照）を通過するときの被検査ウエハＷの周速度ＶNsとを同一の速度（所定速度）となるように制御する。具体的には次のような制御を行う。
【００６９】
前記図１１において前記被検査ウエハＷの中心Ｗ0からの、点Ｐ0までの距離ｒ0、および、点ＰNまでの距離ｒNはそれぞれ次式（１），（２）で表せる。
0003652912.tif 000002
すなわち、前記Ｐ0の周速度がＶ0sの場合の被検査ウエハＷの回転速度（すなわち、回転テーブルＳＴrの回転速度）をＶ0（ｒｐｍ）とし、前記ＰNの周速度がＶNsの場合の被検査ウエハＷの回転速度（すなわち、回転テーブルＳＴrの回転速度）をＶN（ｒｐｍ）とすると、次式（３），（４）が成立する。
0003652912.tif 000003
【００７０】
前記Ｖ0s＝ＶNsとするためには、前記式（３），（４）にから、次式（５）が成り立つ。
Ｖ0×２πｒ0／６０（ｍｍ／ｓｅｃ）
＝ＶN×２πｒN／６０（ｍｍ／ｓｅｃ）……………………………………（５）
前記式（５）から次式（６）が得られる。
ＶN＝Ｖ0（ｒ0／ｒN）…………………………………………………………（６）
前記式（６）中、ｒ0は前記式（１）により定まり、ｒNはＮが定まれば前記式（２）より定まる。したがって、回転走査領域ＲＡN（Ｎ＝０〜１１８９）を走査するときに、前記式（６）を満たすように被検査ウエハＷの回転速度（すなわち、回転テーブルＳＴrの回転速度）ＶN（ｒｐｍ）を制御することにより、各回転走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189（図１１参照）の走査部分（検査部分）の周速度（走査部分の移動速度）を同一速度に制御することができる。
【００７１】
Ｃ１C：２次電子強度検出記憶手段
２次電子強度検出記憶手段Ｃ１Cは、検出２次電子の強度を検出し、ウエハ表面の位置情報に対応して２次電子強度を記憶する。
例えば、被検査ウエハＷがベアウエハ（表面が未処理のシリコンウエハ）の場合、前記被検査ウエハＷ表面に欠陥（異物等）が無ければ、被検査ウエハＷ表面から放出される２次電子は全てシリコンの結晶から放出されるので、２次電子の検出強度はほぼ一定であるが、異物や傷等の欠陥（凹凸）が有る場合には２次電子の検出強度が異なる。したがって、２次電子の検出強度の正常な範囲を定める閾値を設定して閾値の範囲以外の被検査ウエハ表面を欠陥候補とする。
【００７２】
また、例えば、被検査ウエハＷが、その表面の全面に電極膜または絶縁膜等の同一材料の膜が形成されている場合には、前記ベアウエハと同様に欠陥候補を定めることができる。
また、表面に所定パターン（ホールパターン、電極膜パターン等）が形成された被検査ウエハＷ表面を検査する場合には、欠陥の無いモデルウエハ表面の２次電子強度をマップピングしたパターンデータを予め記憶しておき、被検査ウエハの２次電位検出強度をモデルウエハ表面のパターンデータと比較することにより欠陥候補点を定めることができる。
前述の欠陥候補点は記憶され、詳細検査（レビュー）が行われる。
前述の欠陥候補点の定め方および詳細検査等は従来公知の種々の方法を採用可能である。
【００７３】
（実施例１の作用）
図１５は本発明の欠陥検査制御装置ＣのＳＥＭ１用コントローラＣ１のフローチャートの説明図である。図１６は前記図１５のＳＴ3でイエス（Ｙ）の場合の処理を示すフローチャートである。図１７は表示画面の説明図で、図１７ＡはＳＴ1で表示される画面、図１７ＢはＳＴ21で表示される画面である。
図１５のフローチャートの各ＳＴ（ステップ）の処理は、前記ＳＥＭ１用コントローラＣ１のＲＯＭに記憶されたプログラムに従って行われる。
図１５のフローチャートは、ＳＥＭ１用コントローラＣ１の電源オン時にスタートする。
図１５のＳＴ1において、ディスプレイＤ1に初期画面すなわち、第１選択画面（図１７Ａ参照）が表示される。
次にＳＴ2において「（８）終了」（図１７Ａ参照）が選択されたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合は電源がオフとなって処理が終了する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ3に移る。
ＳＴ3において「（７）その他の動作」（図１７Ａ参照）が選択されたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合は図１６のＳＴ21に移り、ノー（Ｎ）の場合はＳＴ4に移る。
【００７４】
ＳＴ4において「（６）ウエハカセット搬出」が選択されたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ5に移る。
ＳＴ5においてカセット搬出動作を行う。この動作は前記仕切弁７（図３参照）を閉塞して前記外部仕切弁８を開放した状態で、図示しないチェーンコンベアにより搬送されるカセット搬送部材の上下に伸縮可能なエアシリンダ下端に設けた真空吸着パッドにより吸着されて搬出される。
次にＳＴ6において第１選択画面（図１７Ａ参照）の動作状態表示欄に「カセット搬出終了」を表示する処理を行ってから前記ＳＴ1に戻る。
このとき、ＳＴ1においては前記図１７Ａの初期画面の動作状態表示欄に「カセット搬出終了」が表示される。
【００７５】
前記ＳＴ4においてノー（Ｎ）の場合はＳＴ7に移る。
ＳＴ7において「（５）ウエハカセット搬入」（図１７Ａ参照）が選択されたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ8に移る。
ＳＴ8においてカセット搬入動作を行う。この動作は前記仕切弁７（図３参照）を閉塞して前記外部仕切弁８を開放した状態で、図示しないチェーンコンベアにより搬送されるカセット搬送部材（図示せず）の上下に伸縮可能なエアシリンダ（図示せず）下端に設けた真空吸着パッドにより吸着されて搬入される。
次にＳＴ9において第１選択画面（図１７Ａ参照）の動作状態表示欄に「カセット搬入終了」を表示する処理を行ってから前記ＳＴ1に戻る。
このとき、ＳＴ1においては前記図１７Ａの初期画面の動作状態表示欄に「カセット搬入終了」が表示される。
【００７６】
前記ＳＴ7においてノー（Ｎ）の場合はＳＴ10に移る。
ＳＴ10において「（４）ウエハをステージから退避」（図１７Ａ参照）が選択されたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ11に移る。
ＳＴ11において試料ステージＵ3からのウエハＷの退避動作を行う。この動作は前記外部仕切弁８（図３参照）を閉塞して前記仕切弁６，７を開放した状態で、前記搬送アーム９aにより、ウエハＷを試料ステージＵ3からカセットＷＫに搬送することにより行う。
次にＳＴ12において第１選択画面（図１７Ａ参照）の動作状態表示欄に「ウエハ退避終了」を表示する処理を行ってから前記ＳＴ1に戻る。
このとき、ＳＴ1においては前記図１７Ａの初期画面の動作状態表示欄に「ウエハ退避終了」が表示される。
【００７７】
前記ＳＴ10においてノー（Ｎ）の場合はＳＴ13に移る。
ＳＴ13において「（３）ウエハをステージにセット」（図１７Ａ参照）が選択されたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ14に移る。
ＳＴ14において試料ステージＵ3にウエハＷをセットする動作を行う。この動作は前記外部仕切弁８（図３参照）を閉塞して前記仕切弁６，７を開放した状態で、前記搬送アーム９aにより、ウエハＷをカセットＷＫから試料ステージＵ3に搬送することにより行う。
次にＳＴ15において第１選択画面（図１７Ａ参照）の動作状態表示欄に「ウエハセット終了」を表示する処理を行ってから前記ＳＴ1に戻る。
このとき、ＳＴ1においては前記図１７Ａの初期画面の動作状態表示欄に「ウエハセット終了」が表示される。
前記ＳＴ13においてノー（Ｎ）の場合はＳＴ16に移る。
【００７８】
ＳＴ16において「（２）詳細検査」が選択されたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ17に移る。
ＳＴ17において詳細検査を行う。この詳細検査は詳細検査用電子顕微鏡Ｕ2を使用し、従来公知の方法により行う。
前記ＳＴ16においてノー（Ｎ）の場合はＳＴ18に移る。
ＳＴ18において「（１）予備検査」（図１７Ａ参照）が選択されたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合は図１８のＳＴ31に移る。
【００７９】
図１６は前記図１５のＳＴ3でイエス（Ｙ）の場合の処理を示すフローチャートである。
前記ＳＴ3でイエス（Ｙ）の場合は、図１６のＳＴ21において、第２選択画面（図１７Ｂ参照）を表示する。
次にＳＴ22において「（１１）第２選択画面終了」（図１７Ｂ参照）が選択されたか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ23に移る。
ＳＴ23において図１７Ｂに示す（１２），（１３），（１４），…のいずれかの中の選択された動作を実行する。
次にＳＴ24において、動作が終了したことの表示（例えば「（１２）真空試料室Ａの真空引き動作」が終了した場合には、「真空試料室Ａの真空引き動作終了」を第２選択画面（図１７Ｂ参照）の動作状態表示欄に表示する処理を行う。次にＳＴ21に移る。このときＳＴ21において、第２選択画面（図１７Ｂ参照）の動作状態表示欄に「真空試料室Ａの真空引き動作終了」表示される。
【００８０】
前記ＳＴ22においてイエス（Ｙ）の場合（すなわち、「（１１）第２選択画面終了」が選択された場合はＳＴ25に移る。
ＳＴ25において第２選択画面の動作状態表示欄に表示されている内容を初期画面（第１選択画面）の動作状態表示欄に表示する処理を行う。次に前記ＳＴ1に戻る。このときＳＴ1において、前記第２選択画面の動作状態表示欄の表示内容が第１選択画面の動作状態表示欄に表示される。
【００８１】
図１８は前記ＳＴ16においてイエス（Ｙ）の場合の処理、すなわち、前記第１選択画面において「（１）検査動作」が選択された場合の処理を示すフローチャートである。図１９はＳＴ33で表示される画面である。
図１８のＳＴ31においてウエハＷが試料ステージＵ3にセットされているか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ32において、前記第１選択画面の動作状態表示欄に「ウエハがセットされていません。」を表示する処理を行う。次に前記ＳＴ1に戻る。このとき、ＳＴ1において第１選択画面の動作状態表示欄に「ウエハがセットされていません。」と表示される。
前記ＳＴ31においてイエス（Ｙ）の場合はＳＴ33に移る。
ＳＴ33においてウエハ情報および検査パターン番号入力画面（図１９参照）を表示する。
【００８２】
ＳＴ34において入力が有ったか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ34を繰り返し実行する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ35に移る。
ＳＴ35において入力データを記憶し、画面に表示する。
次にＳＴ36において登録（図１９参照）が選択されたか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はキャンセル（図１９参照）が選択されたか否か判断する。ＳＴ37においてノー（Ｎ）の場合は前記ＳＴ34に戻る。イエス（Ｙ）の場合は前記ＳＴ1に戻る。
前記ＳＴ36においてイエス（Ｙ）の場合はＳＴ38に移る。
ＳＴ38において入力データは正しいか否か（例えば、検査パターン番号が登録されている番号（前記検査表面対応検出２次電子情報記憶手段ＳＴ１M0に（図１３参照）に記憶されている番号）であるか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ39に移る。
ＳＴ39において図１９に示すウエハ情報および検査パターン番号入力画面のメッセージ表示欄に「検査パターン番号が登録されていません。データを正しく入力して下さい」を表示する処理を行う。そして前記ＳＴ33に戻る。このときＳＴ33において、図１９の画面を表示するとともに、そのメッセージ欄に「検査パターン番号が登録されていません。データを正しく入力して下さい」を表示する。
【００８３】
前記ＳＴ38においてイエス（Ｙ）の場合はＳＴ40に移る。
ＳＴ40において次の処理を行う。
（１）入力データをハードディスク等の不揮発性のウエハ情報記憶装置に記憶する。
次にＳＴ41において、予備検査用電子顕微鏡（予備検査装置）Ｕ1の電子ビームのウエハＷ上の照射位置がＰ0（図１１参照）となる位置に、試料ステージＵ3を移動する。
次にＳＴ42において回転テーブルＳＴrを設定した所定の角度θaだけ時計方向（時計方向が−、半時計方向が＋）に回転させる。すなわち、回転テーブルＳＴrを−θaだけ回転させる。
次にＳＴ43において次の処理を実行する。
（１）予備検査装置Ｕ1の電子ビームが被検査ウエハＷ表面を照射しないように、ブランキングコイルＦ4をオンとする。
（２）電子銃をオンにする。
【００８４】
図２０は前記図１８のＳＴ43の続きのフローチャートである。
図２０のＳＴ44において、Ｎ＝０、ｎ＝０、Ｍ＝０、ｍ＝０とする。なお、Ｎ，ｎ，Ｍ，ｍの意味は次のとおりである。
Ｎ：前記０.１ｍｍ幅のリング状走査領域ＲＡ1〜ＲＡ1189の走査回数をカウントする走査回数カウンタのカウント値である。初期値はＮ＝０である。
ｎ：初期値が０の前記Ｎと同様のカウンタのカウント値であるが、ｎ＝５になると、リセットされて初期値ｎ＝０になる。
Ｍ：前記０.１ｍｍ幅の帯状走査領域ＲＢ0〜ＲＢ299の走査回数をカウントする走査回数カウンタのカウント値である。初期値はＭ＝０である。
ｍ：初期値が０の前記Ｍと同様のカウンタのカウント値であるが、ｍ＝５になると、リセットされて初期値ｍ＝０になる。
【００８５】
ＳＴ45において回転走査領域ＲＡ（図１０、図１１参照）の走査（検査）を行う。このＳＴ45のサブルーチンは図２１に示されている。
前記ＳＴ45のサブルーチンが終了すると、被検査ウエハＷ上の電子ビームの照射位置はＰ1190（図１０、図１１参照）になっている。これについては図２１の説明（後述）により明らかになる。
次にＳＴ46においてＸテーブルＳＴxを＋３０ｍｍ移動させる。この移動により被検査ウエハＷ上のビーム照射位置は図１０、図１１のＰ1190からＱ0に移動する。
【００８６】
次にＳＴ47においてＸＹ直進走査領域ＲＢ（図１０、図１２参照）の走査（検査）を行う。このＳＴ47のサブルーチンは図２２に示されている。
前記ＳＴ47のサブルーチンが終了すると、被検査ウエハＷの全走査（全表面の検査）が終了する。
次にＳＴ48において電子銃をオフとする。
次にＳＴ49において検査を終了したウエハＷのウエハＩＤと前記ウエハＷを検査したパターン番号とをウエハ情報記憶装置に記憶する。
次に、ＳＴ50において第１選択画面の動作状態表示欄に「ウエハＩＤ＝………のウエハの検査パターン番号………の検査終了」を表示する処理を行う。
次に前記ＳＴ1（図１５参照）に戻る。このとき、ＳＴ1において第１選択画面が表示され且つその動作状態表示欄に「ウエハＩＤ＝……のウエハの検査パターン番号……の検査終了」が表示される。
【００８７】
図２１は前記図２０のＳＴ45のサブルーチンである。
図２１のＳＴ51において回転テーブルＳＴrを目標回転速度ＶNで半時計方向に回転開始。
ＳＴ52において回転走査領域ＲNの走査開始位置に到達したか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ52を繰り返し実行する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ53に移る。
【００８８】
ＳＴ53において次の処理を行う。
（１）回転テーブルＳＴrの回転速度ＶN（ｒｐｍ）をＶN＝Ｖ0（ｒ0／ｒN）とする。
（２）第２Ｙ偏向器Ｆ7bの印加電圧Ｖ2Y＝Ｖ2Y0＋ｎＶ2Yaとする。前記Ｖ2Yはｎの値によって異なり、次のようになる。
ｎ＝０のときはＶ2Y＝Ｖ2Y0、
ｎ＝１のときはＶ2Y＝Ｖ2Y0＋Ｖ2Ya
ｎ＝２のときはＶ2Y＝Ｖ2Y0＋２Ｖ2Ya
ｎ＝３のときはＶ2Y＝Ｖ2Y0＋３Ｖ2Ya
ｎ＝４のときはＶ2Y＝Ｖ2Y0＋４Ｖ2Ya
（３）ブランキングコイルＦ4をオフにして第１偏向器Ｆ7aによりウエハ表面を照射する電子ビームをＹ軸方向に走査幅０.１ｍｍで往復走査する。
【００８９】
ＳＴ54においてリング状走査領域ＲＡN（図１０、図１１参照）の走査が終了したか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ54を繰り返し実行する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ55に移る。
ＳＴ55において次の処理を行う。
（１）Ｎ＝Ｎ＋１とする。
（２）ｎ＝ｎ＋１とする。
次にＳＴ56においてｎ＝５か否か判断する。ノー（Ｎ）の場合は前記ＳＴ53に戻る。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ57に移る。
【００９０】
ＳＴ57において次の処理を実行する。
（１）ブランキングコイルＦ4をオンにして電子ビームの被検査ウエハＷの照射を遮断する。
（２）回転テーブルＳＴrの回転の停止動作を開始する。（急停止はできないので所定角度回転したから停止する。）
次にＳＴ58において回転テーブルＳＴrが停止したか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ58を繰り返し実行する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ59に移る。
ＳＴ59において回転テーブルＳＴrは急停止できないのでｎ（＝５）回転以上回転して停止するため、前記停止するまでに５回転を越えて回転した回転量θ0に所定の回転各θaを加算した角度（θ0＋θa）だけ逆回転させる。
【００９１】
次にＳＴ60において次の処理を実行する。
（１）ＹテーブルＳＴyを＋０.５ｍｍ移動させる。このとき、電子ビームの照射位置は被検査ウエハＷ上で０.５ｍｍ移動する。
（２）ｎ＝０とする。
次にＳＴ61においてＮ＝１１９０か否か判断する。ノー（Ｎ）の場合は前記ＳＴ51に戻る。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ62に移る。
ＳＴ62においてＮ＝０とする。
次に前記図２０のメインルーチンのＳＴ46に移る。
【００９２】
図２２は前記図２０のＳＴ47のサブルーチンである。
図２２のＳＴ71においてＸテーブルＳＴxを＋ΔＸ移動する。このとき、ビーム照射位置は前記領域ＲＢから−ΔＸ外側にずれた位置となる。
次にＳＴ72において、第２Ｙ偏向器Ｆ7bの印加電圧Ｖ2Y＝Ｖ2Y0＋ｍＶ2Yaとする。前記Ｖ2Yはｍの値によって異なる。ｍの初期値（ＳＴ44参照）は０である。
次にＳＴ73においてｍは奇数か否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ74に移り、イエス（Ｙ）の場合はＳＴ75に移る。
ＳＴ74においてＸテーブルＳＴxを移動速度Ｖx＝−Ｖ0（２πｒ0／６０）（ｍｍ／ｓｅｃで移動する。このＶxの値はＥ移転テーブルＳＴrが回転速度Ｖ0で回転するときの点Ｐ0（図１１参照）の周速度と同一である。
ＳＴ75においてＸテーブルＳＴxを移動速度Ｖx＝＋Ｖ0（２πｒ0／６０）（ｍｍ／ｓｅｃで移動する。
【００９３】
ＳＴ74またはＳＴ75の次にＳＴ76においてビーム照射位置が領域ＲＢ内に進入したか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ76を繰り返し実行する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ77に移る。
ＳＴ77において次の処理を実行する。
（１）ブランキングコイルＦ4をオフにしてビームオンとする。
（２）第１偏向器Ｆ7aによりウエハ表面を照射する電子ビームをＹ軸方向に走査幅０.１ｍｍで往復走査する。
【００９４】
次にＳＴ78においてＸテーブルＳＴxが６０ｍｍ移動して帯状走査領域ＲＢM（Ｍ＝１，２，…，または，５９９）の走査が終了したか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ78を繰り返し実行する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ79に移る。
ＳＴ79において次の処理を行う。
（１）Ｍ＝Ｍ＋１とする。ｍ＝ｍ＋１とする。
（２）ブランキングコイルＦ4をオンにして電子ビームの被検査ウエハＷの照射を遮断する。
（３）ＸテーブルＳＴxの停止動作を開始する。ＸテーブルＳＴxは停止動作を開始しても瞬間的に停止することは不可能であり、一定時間経過後に停止する。
（４）タイマＴＭにＴＭ＝ＴＭ0をセットする。前記ＴＭ0はＸテーブルＳＴxが停止動作を開始してから完全に停止するまでに要する時間である。
【００９５】
次にＳＴ80においてタイマＴＭがタイムアップしたか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ80を繰り返し実行する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ81に移る。
次にＳＴ81においてｍ＝５か否か判断する。ノー（Ｎ）の場合は前記ＳＴ71に戻る。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ82に移る。
ＳＴ82においてＭ＝３００か否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ83に移る。
ＳＴ83において次の処理を実行する。
（１）ＹテーブルＳＴyを＋０.５ｍｍ移動させる。このとき、電子ビームの照射位置は被検査ウエハＷ上で０.５ｍｍ移動する。
（２）ｍ＝０とする。
ＳＴ83の次に前記ＳＴ72に戻る。
前記ＳＴ82においてイエス（Ｙ）の場合は前記図２０のメインルーチンのＳＴ48に移る。
【００９６】
前記実施例１によれば、予備検査装置（予備検査用電子顕微鏡）Ｕ1および詳細検査装置（詳細検査用電子顕微鏡）Ｕ2は、同一の外壁１により形成された真空試料室Ａ内の試料ステージＵ3上に保持されたウエハＷに対して予備検査および詳細検査を行うことができるため、予備検査装置Ｕ1で検出された欠陥に対して、詳細検査装置Ｕ2による詳細検査を迅速に実行することができる。
前記詳細検査装置Ｕ2は、試料ステージＵ3を静止した状態で被検査ウエハ表面を走査する静止型のＳＥＭで構成したり、前記予備検査装置Ｕ1と同様に回転走査を行うＳＥＭにより構成したりすることが可能である。詳細検査装置Ｕ2を回転走査を行うＳＥＭにより構成する場合には電子ビームの被検査ウエハ上のスポット径を小さくしたり、走査部分（ビーム照射部分）の移動速度を遅くしたりして、分解能を上げて走査（検査）すれば良い。
【００９７】
（実施例２）
図２３は本発明の実施例２の被検査ウエハの検査方法の説明図であり、被検査ウエハを回転させながら検査する回転検査領域と被検査ウエハをＸ方向およびＹ方向に直進移動させながら検査するＸＹ直進走査領域とに分けて検査する方法の説明図である。図２４は同実施例２の被検査ウエハＷの検査方法の詳細説明図で、回転検査領域の検査方法の説明図である。
図２３において被検査ウエハＷの表面は、全検査領域を内側に含むように設定された外側設定円Ｗ1と、前記被検査ウエハＷ表面の中心Ｗ0を含むウエハ中心部に設定された内側設定円Ｗ2との間の螺旋状の回転走査領域ＲＡと、前記内側設定円Ｗ2に外接する矩形Ｗ3の内側の領域である矩形領域（ＸＹ直進走査領域）ＲＢとに分けて検査（走査）される。
【００９８】
（回転走査領域ＲＡ）
図２３、図２４において、外側設定円Ｗ1は直径３００ｍｍ（半径１５０ｍｍ）の被検査ウエハＷの外周円から１ｍｍ内側に設定されており、内側設定円Ｗ2は被検査ウエハの中心Ｗ0を中心とする半径３０ｍｍの円により形成されている。この場合外側設定円Ｗ1と内側設定円Ｗ2との間の螺旋状の回転走査領域ＲＡは、被検査ウエハＷが１回転する毎に走査される単位螺旋領域ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡN-1，ＲＡN，ＲＡN+1，…，ＲＡ1188，ＲＡ1189に分けて、連続して走査される。
【００９９】
前記螺旋状の回転走査領域ＲＡの走査（検査）は、ＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）を右方（Ｙ方向）に一定速度で移動しながら回転テーブルＳＴrを連続回転することにより行う。
すなわち、図２４において、電子ビーム照射位置がＰ0（図２４参照）となる位置に試料ステージＵ3を移動させた状態で、前記第１Ｙ偏向器Ｆ7aによりリング状走査領域ＲＡ0をＹ方向に走査しながら、回転テーブルＳＴrを１回転させる間にＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）をＹ方向に０.１ｍｍ移動させる。そして、被検査ウエハＷが１回転する度にビーム照射位置をＰ0，Ｐ1，Ｐ2，…と移動させながら、順次ＲＡ0，ＲＡ1，ＲＡ2，ＲＡ3，…，ＲＡ1189を連続して走査（検査する）。
なお、前記回転走査領域ＲＡの走査を行う際、螺旋状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189の周方向の移動速度（周速度）を一定にしながら行うため、螺旋状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189が内側になるに従って、回転テーブルＳＴrの回転速度を高くする。
【０１００】
前記螺旋状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189が内側になるに従って、回転テーブルＳＴrの回転速度を高くして、走査する位置の周速度（走査部分の移動速度）が一定となる条件は次のようになる。
図２４に示す螺旋状走査領域ＲＡNの走査時には、回転テーブルＳＴrが１回転する間にビーム照射位置がＰNからＰN+1に移動する。前記ビーム照射位置がＰNのときの回転テーブルＳＴrの回転角度をθ＝０、前記θ＝０の状態から回転テーブルＳＴrが１回転して前記ビーム照射位置がＰN+1になったときの回転テーブルＳＴrの回転角度をθ＝２πとし、θ＝０の時の回転速度をＶNh（ｒｐｍ）、θ＝２πの時の回転速度をＶ(N+1)h（ｒｐｍ）とした場合、前記式（１）〜（６）の説明から分かるように、ＰNおよびＰN+1の周速度が、前記回転速度Ｖ0で回転するＰ0の周速度と等しくなるための条件は次式（７），（８），（２），（９）で示される。
【０１０１】
図２４において、θ＝０の場合すなわち、ＰNの回転速度ＶNh（ｒｐｍ）は次式（７）で表せる。
ＶNh＝Ｖ0（ｒ0／ｒN）…………………………………………………………（７）
θ＝２πの場合すなわち、ＰNの回転速度Ｖ(N+1)h（ｒｐｍ）は次式（８）で表せる。
Ｖ(N+1)h＝Ｖ0（ｒ0／ｒ(N+1)）………………………………………………（８）
但し、
0003652912.tif 000004
【０１０２】
前記式（７），（８），（２），（９）から、回転速度ＶNh（Ｎ＝0〜1189）（ｒｐｍ）は次のようになる。
Ｎ＝０のとき、Ｖ0h＝Ｖ0（１４９／１４９）＝Ｖ0（ｒｐｍ）
Ｎ＝１のとき、Ｖ1h＝Ｖ0（１４９／１４８.９）（ｒｐｍ）
Ｎ＝２のとき、Ｖ2h＝Ｖ0（１４９／１４８.８）（ｒｐｍ）
Ｎ＝３のとき、Ｖ3h＝Ｖ0（１４９／１４８.７）（ｒｐｍ）
…
Ｎ＝1189のとき、Ｖ1189h＝Ｖ0（１４９／３０）（ｒｐｍ）
したがって、電子ビームを照射して走査する部分の周速度を一定とするためには、Ｎの値が増加するに従って前記回転速度ＶNh（Ｎ＝0〜1189）（ｒｐｍ）を高くする必要がある。
【０１０３】
前記図２４に示す螺旋状走査領域（回転テーブルＳＴrが１回転するときの走査領域）ＲＡNの走査時における０≦θ＜２πのときの回転テーブルＳＴrの回転速度をＶN（ＶNはθの関数）（ｒｐｍ）としたとき、ＶNの値は、θ＝０のときは前記式（７）のＶNhの値となり、θ＝２πのときは前記式（８）のＶ(N+1)hの値となる。したがって、０≦θ＜２πの範囲で回転速度ＶN（ｒｐｍ）がθに比例して増速するとみなせば、ＶN（ＶNはθの関数）は次式で表せる。
ＶN＝ＶNh＋｛Ｖ(N+1)h−ＶNh｝×（θ／２π）…………………………（１０）
前記式（７），（８）を用いると、前記式（１０）は次式（１１）で表せる。ＶN
＝Ｖ0（ｒ0／ｒN）〔１＋｛（ｒN／ｒ(N+1)）−１｝（θ／２π）〕…（１１）
したがって、回転テーブルＳＴrを前記式（１１）を満たすように回転駆動することにより、螺旋状走査領域ＲＡN（Ｎ＝０〜１１８９）の走査部分の周速度（走査部分の移動速度）をほぼ一定の状態として走査（検査）することができる。
【０１０４】
前述の場合（前記式（１０）および（１１）の回転速度ＶN（ｒｐｍ）で回転テーブルを回転する場合）、ＶN（ｒｐｍ）の平均値ＶNaはθ＝πの時のＶNの値である。θ＝πの時のＶNの値ＶNa（ｒｐｍ）は次式（１２）で表せる。
0003652912.tif 000005
この場合、回転テーブルＳＴrが１回転するのに要する時間ｔ（ｓｅc）は次式（１３）で表せる。
ｔ＝（６０／ＶNa）（ｓｅc）………………………………………………（１３）
【０１０５】
前記時間ｔ（ｓｅc）の間にＹテーブルＳＴyをＹ方向に０.１ｍｍ移動させる必要がある。したがって、ＹテーブルＳＴyの移動速度Ｖy（ｍｍ／ｓｅc）は次式（１４）で表せる。
0003652912.tif 000006
前記式（１３）および（１４）より、Ｖy（ｍｍ／ｓｅc）は次式で表せる。
Ｖy＝０.１ＶNa／６０（ｍｍ／ｓｅc）
0003652912.tif 000007
なお、前記式（１５）のｒN，ｒ(N+1)は前記式（２），（９）により定まる。
【０１０６】
本実施例２では、前記式（１１）の回転速度ＶN（ｒｐｍ）で回転テーブルＳＴrを回転駆動しながら、且つ前記式（１５）の移動速度でＹテーブルＳＴyを移動させることにより、螺旋領域ＲＡ0〜ＲＡ1189（図２３、図２４参照）を含む回転走査領域ＲＡを連続走査（連続検査）することができる。
なお、ＸＹ直進走査領域ＲＢ（図２３、図２４参照）の走査方法は前記図１２で説明した前記実施例１と同様である。
【０１０７】
本発明の欠陥検査装置の実施例２の制御部は前記実施例１の図１３に示す制御部と同様の構成を備えているがその説明は前記実施例１と重複するので省略する。図２５は本発明の欠陥検査装置の実施例２の制御部の説明図で、前記図１３の続きの部分を示す図であり、前記実施例１の図１４に対応する図である。
図２５において、本実施例２のテーブル回転走査用制御手段Ｃ１B2は、螺旋状領域周速度定速制御手段Ｃ１B2cを有しており、前記実施例１の所定ピッチテーブル移動制御手段Ｃ１B2aおよびリング状領域周速度定速制御手段Ｃ１B2bが省略されている。
本実施例２のその他の構成は前記実施例１と同様である。
【０１０８】
Ｃ１B2c：螺旋状領域周速度定速制御手段
螺旋状領域周速度定速制御手段Ｃ１B2cは、電子ビームが被検査ウエハＷ表面の螺旋走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189を順次周速度が一定となるように回転テーブルＳＴrを回転駆動するとともに、前記回転テーブルＳＴrが１回転する度にＹテーブルＳＴrがＹ方向に一定速度（０.１ｍｍ）移動するようにＹテーブルＳＴyを移動させる。
【０１０９】
（実施例２の作用）
実施例２のフローチャートは、前記実施例１の図１５〜図２２に示すフローチャートに対して、図２０のＳＴ44が異なり、且つ図２１のフローチャートに対して図２６に示すフローチャートを有する。この実施例２のその他のフローチャートは前記実施例１と同様である。
すなわち、本実施例２では、前記０.１ｍｍ幅のリング状走査領域ＲＡ1〜ＲＡ1189の走査回数をカウントする走査回数カウンタのカウント値ｎで、且つｎ＝５になると、リセットされて初期値ｎ＝０になるカウンタのカウント値は使用しないので、図２０のＳＴ44ではｎ＝０とする処理は行わない。
【０１１０】
図２６は前記図２０のＳＴ45のサブルーチンである。
図２６のＳＴ51、ＳＴ52の処理は前記図２１と同様である。
次にＳＴ53′において次の処理を行う。
（１）回転テーブルＳＴrの回転速度ＶN（ｒｐｍ）を前記式（１１）に示す値ＶNとして回転テーブルＳＴｒを回転させる。
0003652912.tif 000008
（２）ＹテーブルＳＴyの移動速度Ｖy（ｍｍ／ｓｅｃ）を前記式（１５）に示す値ＶyとしてＹテーブルＳＴyを移動させる。
0003652912.tif 000009
（３）回転テーブルＳＴrの回転角度θを計測する。
（４）ブランキングコイルＦ4をオフにして第１偏向器Ｆ7aによりウエハ表面を照射する電子ビームをＹ軸方向に走査幅０.１ｍｍで往復走査する。
【０１１１】
ＳＴ54′においてθ＝２πか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合は前記ＳＴ53′に戻る。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ55′に移る。
ＳＴ55′において次の処理を行う。
（１）Ｎ＝Ｎ＋１とする。
（２）θ＝０とする。
次にＳＴ56′においてＮ＝１１９０か否か判断する。ノー（Ｎ）の場合は前記ＳＴ53′に戻る。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ57′に移る。
【０１１２】
ＳＴ57′において次の処理を実行する。
（１）ブランキングコイルＦ4をオンにして電子ビームの被検査ウエハＷへの照射を遮断する。
（２）回転テーブルＳＴrおよびＹテーブルＳＴy停止動作開始。
次にＳＴ60′において回転テーブルＳＴrおよびＹテーブルＳＴyが停止したか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はＳＴ60′を繰り返し実行する。イエス（Ｙ）の場合はＳＴ61′に移る。
ＳＴ61′において次の処理を実行する。
（１）回転テーブルＳＴrは急停止できないので図２４の点Ｐ1190を通過して停止するため、前記停止するまでにＰ1190を越えて回転した回転量だけ回転テーブルＳＴrを逆回転。
（２）ＹテーブルＳＴyの停止までに点Ｐ1190（図２３、図２４参照）がビーム照射位置を越えて移動した分だけＹテーブルＳＴyを逆移動。
（３）Ｎ＝０とする。
次に前記図２０のメインルーチンのＳＴ46に移る。
【０１１３】
この実施例２によれば、前記螺旋状走査領域ＲＡ0〜ＲＡ1189を有する回転走査領域ＲＡの全領域を、回転テーブルＳＴrおよびＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）の停止をすることなく連続移動させながら走査することができる。
前記回転テーブルＳＴrおよびＸＹテーブル（ＳＴx＋ＳＴy）の移動、停止の繰り返しが行われないので走査を高速に行うことができる。
【０１１４】
（変更例）
以上、本発明の実施例を詳述したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内で、種々の変更を行うことが可能である。
（Ｈ01）前記各実施例１、２においては、ＸＹ直進走査領域ＲＢおよび回転走査領域ＲＡを走査（検査）する際、ウエハ上のビーム照射領域である走査部分の移動速度を一定にしているが、例えば、回転走査領域ＲＡを走査する際には、前記回転走査領域ＲＡを所定の半径の外側部分（半径の大きい走査部分）と内側部分（半径の小さい走査部分とに２分して、半径の小さい走査部分を走査する際には半径の大きい走査部分を走査する場合に比較して、走査部分の移動速度を１／２に設定して走査（検査）を行うことが可能である。その場合には、２次電子検出量を速度に走査速度応じて補正すれば良い。
また、回転走査領域ＲＡの走査を一定回転速度で行うことが可能である。その場合、前記走査部分の回転中心Ｗ0からの半径の大きさによって、走査部分（ビーム照射部分）の前記移動速度（周速度）が異なるので、各走査部分の２次電子検出量を前記移動速度（周速度）に応じて補正すれば良い。
【０１１５】
（Ｈ02）前記各実施例１，２では、ウエハＷ上の電子ビーム（照射ビーム）を所定の走査幅で往復走査しながら、前記走査幅方向に垂直な方向にウエハＷを一定速度で移動させることによりウエハＷ表面の走査（検査）を行っているが、前記走査幅方向の往復走査を行うことなく、大きな径の電子ビームでウエハ表面部分（走査部分）を照射しながら前記走査部分を一定速度で移動させて、ウエハＷ表面の走査（検査）を行うことが可能である。
【０１１６】
（Ｈ03）試料ステージＵ3上に保持されたウエハＷ表面のＸＹ座標位置に対応した高さ（ウエハ表面高さ）を検出し、２次電子検出量を前記ウエハ表面高さに対応して補正することができる。その場合、２次電子検出量の検出誤差を補正することができるので、検査精度を向上させることが可能である。
（Ｈ04）前記各実施例１，２において、反射ビーム検出装置の代わりに、反射電子検出装置、オージェ電子検出装置、Ｘ線検出装置等を使用することが可能である。
（Ｈ05）前記ウエハ保持装置としては静電チャックを使用可能である。
【０１１７】
【発明の効果】
前述の本発明の欠陥検査装置は、下記の効果を奏することができる。
（Ｅ01）被検査ウエハ上の回転走査領域は回転しながら走査（検査）されるので、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用して被検査ウエハの検査を行う際の検査に要する時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は本発明の欠陥検査装置の実施例１の全体説明図である。
【図２】  図２は同実施例１の全体斜視図である。
【図３】  図３は同実施例の部分平面図である。
【図４】  図４は真空試料室（真空作業室）内に配置されたＸＹテーブルに支持された回転テーブルの昇降ロッドの説明図で、前記図３のＩＶ−ＩＶ線断面図である。
【図５】  図５は前記図４の要部拡大図である。
【図６】  図６は前記図５の回転テーブル上に載置された試料Ｗの位置決め機構の説明図で、回転テーブルが前記図５とは異なる位置に回転したときの断面図である。
【図７】  図７は前記詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2の前記上壁部２への取付構造を示す図である。
【図８】  図８は欠陥検査制御装置Ｃに接続された予備検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ１の構成要素のブロック線図である。
【図９】  図９は欠陥検査制御装置に接続された詳細検査用走査型電子顕微鏡ＳＥＭ2の構成要素のブロック線図である。
【図１０】  図１０は本発明の実施例１の被検査ウエハの検査方法の説明図であり、被検査ウエハを回転させながら検査する回転検査領域と被検査ウエハをＸ方向およびＹ方向に直進移動させながら検査するＸＹ直進走査領域とに分けて検査する方法の説明図である。
【図１１】  図１１は同実施例１の被検査ウエハＷの検査方法の詳細説明図で、回転検査領域の検査方法の説明図である。
【図１２】  図１２はＸＹ直進走査領域の検査方法の説明図である。
【図１３】  図１３は本発明の欠陥検査装置の実施例１の制御部の説明図で、欠陥検査制御装置Ｃの説明図である。
【図１４】  図１４は本発明の欠陥検査装置の実施例１の制御部の説明図で、前記図１３の続きの部分を示す図である。
【図１５】  図１５は本発明の欠陥検査制御装置ＣのＳＥＭ１用コントローラＣ１のフローチャートの説明図である。
【図１６】  図１６は前記図１５のＳＴ3でイエス（Ｙ）の場合の処理を示すフローチャートである。
【図１７】  図１７は表示画面の説明図で、図１７ＡはＳＴ1で表示される画面、図１７ＢはＳＴ21で表示される画面である。
【図１８】  図１８は前記ＳＴ16においてイエス（Ｙ）の場合の処理、すなわち、前記第１選択画面において「（１）検査動作」が選択された場合の処理を示すフローチャートである。
【図１９】  図１９はＳＴ33で表示される画面である。
【図２０】  図２０は前記図１８のＳＴ43の続きのフローチャートである。
【図２１】  図２１は前記図２０のＳＴ45のサブルーチンである。
【図２２】  図２２は前記図２０のＳＴ47のサブルーチンである。
【図２３】  図２３は本発明の実施例２の被検査ウエハの検査方法の説明図であり、被検査ウエハを回転させながら検査する回転検査領域と被検査ウエハをＸ方向およびＹ方向に直進移動させながら検査するＸＹ直進走査領域とに分けて検査する方法の説明図である。
【図２４】  図２４は同実施例２の被検査ウエハＷの検査方法の詳細説明図で、回転検査領域の検査方法の説明図である。
【図２５】  図２５は本発明の欠陥検査装置の実施例２の制御部の説明図で、前記図１３の続きの部分を示す図であり、前記実施例１の図１４に対応する図である。
【図２６】  図２６は前記図２０のＳＴ45のサブルーチンである。
【図２７】  図２７は予備検査情報の表示例を示す図であり、図２７Ａは被検査ウエハである被検査ウエハの外形および被検査ウエハ上の異物位置または欠陥位置を示す図、図２７Ｂは異物番号または欠陥番号♯０，♯１，…とその位置、大きさ等の情報を表形式で示す図である。
【符号の説明】
Ａ…真空試料室、Ｃ１a…ビーム偏向制御手段、Ｃ１B…テーブル制御手段、Ｃ１B2…回転走査用テーブル制御手段、Ｃ１M1…ＸＹ直進走査領域記憶手段、Ｃ１M2…回転走査領域記憶手段、Ｅ6…Ｘ偏向器駆動回路、Ｅ7…Ｙ偏向器駆動回路、Ｆ6…Ｘ偏向器、Ｆ7…Ｙ偏向器、ＲＡ…回転走査領域、ＲＢ…ＸＹ直進走査領域、ＳＥＭ１…走査型電子顕微鏡、ＳＴx…Ｘテーブル、ＳＴy…Ｙテーブル、ＳＴr…回転テーブル、Ｕ3…試料ステージ、Ｗ…被検査ウエハ、Ｗ1…外側設定円、Ｗ2…内側設定円、
１…外壁、２…上壁部、５６…予備検査鏡筒、
５４…放出線検出装置（２次電子検出装置）、
（Ｄx＋Ｍx）…Ｘテーブル駆動装置、
（Ｄy＋Ｍy）…Ｙテーブル駆動装置、
（Ｄy＋Ｄx＋Ｍx＋Ｍy）…ＸＹテーブル駆動装置、
（Ｅ6＋Ｅ7）…偏向器駆動回路、
（Ｆ1＋Ｆ2）…電子銃、
（Ｆ3＋Ｆ8）…ビーム縮小レンズ系、
（ＭＤ4＋Ｍ4）…回転テーブル駆動装置、
（ＲＡ0，ＲＡ1，…，ＲＡ1189）…複数のリング状部分、
（ＲＢ0，ＲＢ1，…，ＲＢ599）…複数の帯状部分、
（ＳＴx＋ＳＴy）…ＸＹテーブル、
（２６〜３７，Ｍ6，ＭＤ6，ＬＳ3，ＬＳ4）…ウエハ保持装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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