(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搭載した搬送ローダを所定位置へと移動させる基板搬送装置において、
前記搬送ローダに、前記基板を搭載した搬送ローダが浮上しないだけの浮力を与える浮力付与手段を具備すると共に、
前記搬送ローダを移動させる多関節ロボットを具備することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記浮力付与手段は、磁力により前記搬送ローダに浮力を与えることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記浮力付与手段は、前記基板を搭載した搬送ローダの重量に応じて、前記磁力を調整する磁力調整手段を具備することを特徴とする請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記搬送ローダは、当該搬送ローダの移動に従って移動する基板支持爪を鉛直方向に複数備えていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記多関節ロボットは、所定の軌道に沿って前記搬送ローダを移動させることで、前記搬送ローダの鉛直方向及び水平方向の移動軌道を規制することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
請求項１、２、４、５の何れか１項に記載の基板搬送装置を組み込んでなることを特徴とする真空装置。
【請求項７】
前記基板搬送装置を内部に有するロードロック室を備えると共に、
前記浮力付与手段は、前記基板搬送装置における搬送ローダ上面に固定された永久磁石と、前記ロードロック室の内壁上面に前記永久磁石と対向するように設置された電磁石とで構成され、上記永久磁石と電磁石との間に吸引力を発生させることを特徴とする請求項６に記載の真空装置。
【請求項８】
前記基板搬送装置を内部に有するロードロック室と、
前記基板搬送装置における搬送ローダと連動する基板受け渡しピンが設けられたステージを内部に有するプロセスチャンバとを備え、
前記基板搬送装置は、前記ロードロック室とプロセスチャンバ内のステージとの間で基板の受け渡しを行うことを特徴とする請求項６に記載の真空装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＣＶＤ，スパッタ等の装置において、基板中で複数の基板を同時に搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体および液晶産業において、基板表面に薄膜を形成するためのスパッタ，ＣＶＤ，ドライエッチングなどの真空処理装置が用いられている。これらの真空処理装置において、個々に独立した排気系を有する真空処理室を複数個備えたマルチチャンバ式の装置が実用化されている。
【０００３】
従来のマルチチャンバ式真空処理装置の例を図１０に示す。図１０は、装置の平面図を示している。中央に位置する搬送室１１０の周りに複数のプロセスチャンバ１０９とロードロック室１０７が配置されている。各プロセスチャンバ１０９と搬送室１１０間及び搬送室１１０とロードロック室１０７間にはゲートバルブＶ１０５、ロードロック室１０７と大気との間にはゲートバルブＡ１０６が設けられている。また、各プロセスチャンバ１０９、搬送室１１０とロードロック室１０７のそれぞれを独立して排気を行う真空ポンプを有している。
【０００４】
そして、搬送室１１０には基板１０９を搬送するための真空搬送ロボット１０８が備えられ、紙面に対し鉛直方向の回転動作と水平面内での伸縮動作により、ロードロック室１０７内の基板１０２の各プロセスチャンバ１０９への搬入と、各プロセスチャンバ１０９からロードロック室１０７への搬出を行う。真空搬送ロボット１０８は基板１０２を１枚毎に搬送する。
【０００５】
また、大気側には、大気搬送ロボット１０３が設置されており、複数の基板１０２が収納された基板カセット１０４をロードロック室１０６へ搬送する。
【０００６】
以下に、上記した装置の動作をより詳細に説明する。
【０００７】
まず、大気搬送ロボット１０３により、大気側にある複数の基板１０２の収納された基板カセット１０４が、ゲートバルブＡ１０６を介してロードロック室１０６に搬入される。
【０００８】
そして、ゲートバルブＡ１０６が閉とされ、ロードロック室１０６内が真空ポンプによって真空引きされる。ロードロック室１０６内が所定の真空度になるとゲートバルブＶ１０５が開とされ、搬送室１１０内の真空搬送ロボット１０８が基板カセット１０４から基板１０２を１枚取り出し、プロセスチャンバ１０９内に搬送する。また、プロセスチャンバ１０９で処理の済んだ基板１０２は真空搬送ロボット１０８により、基板カセット１０４に戻される。
【０００９】
これを繰り返し、基板カセット１０４内のすべてが処理済の基板１０２で一杯になると、ゲートバルブＶ１０５が閉じられ、ロードロック室１０６内が大気に解放され、ゲートバルブＡ１０６が開られて基板カセット１０４がロードロック室１０６から取り出される。
【００１０】
ところで、近年、半導体および液晶産業においては生産性向上が強く要求されており、そのため、プロセスチャンバでの処理時間は短縮することが望ましい。しかしながら、近年の基板サイズの大型化等に伴う真空搬送系の搬送時間および搬送機構の拡大等により、従来の搬送装置では処理が終了した基板を直ちに搬出することが困難であるという問題が発生する。
【００１１】
これらの問題を解決し、スループットを上げることが可能な装置として、１つのプロセスチャンバ内に複数のプロセスボックスを設け、同時に多数の基板に処理を行うバッチ式の真空処理装置がある。
【００１２】
図１１，１２にバッチ式の真空処理装置の概略を示す。図１１，１２はそれぞれ真空処理装置の平面図と側面図を示している。なお、ここで図１０と略同一の部分には同一符号を付し説明を省略する。
【００１３】
搬送室１２０の周りにプロセスチャンバ１２１とロードロック室１２３があり、搬送室１２０には複数の基板１０２を同時に搬送する真空搬送ロボット１２４が設置されている。プロセスチャンバ１２１内にはプロセスボックス１２２が複数設置されている。また、プロセスボックス１２２は、内部に載置された複数の基板１０２に対して一括した処理ができるようになっている。
【００１４】
この真空処理装置では、大気側から大気搬送ロボット１０３により、基板カセット１０４からロードロック室１２３に基板１０２が搬入される。
【００１５】
そして、真空搬送ロボット１２４により、ロードロック室１２３内の複数の基板１０２が同時に取り出されプロセスチャンバ１２１へ搬入される。また、処理の終わった複数の基板１０２がプロセスチャンバ１２１から同時に取り出され、ロードロック室１２３に戻される。
【００１６】
上記したように、この装置では、搬送室１２０内において同時に多数の基板をバッチ搬送するため、搬送する基板の重量と真空搬送ロボットの基板を支持するラック部の重量により、その関節部には大きな負荷がかかり、関節部のベアリング等の寿命が短くなる。故障、パーティクル発生の原因となる。特に、真空中での搬送において、搬送速度が上がり、搬送物の重量が大きくなると、この現象が顕著に表れる。
【００１７】
真空中での成膜において、パーティクルの発生は問題であり、その問題を解決する方法として磁気浮上搬送がある。磁気浮上搬送は、摺動部をなくし、パーティクルを発生させない搬送方法である。図１３の説明図を用いてこの磁気浮上搬送について説明する。
【００１８】
磁気浮上搬送装置は、隔壁１３１によって形成され内部が真空状態に保持された真空トンネル１３５と、真空トンネル１３５内に配置された搬送台１３３とを備えている。真空トンネル１３５の上部には左右に搬送台１３３を非接触状態にて浮上支持する浮上用電磁石１３４が配置されている。
【００１９】
一方、真空トンネル１３５の下部には搬送台１３３を走行移動させるリニアモータ１３６と変位センサ１３８が配置されている。それぞれは紙面に垂直な方向に等間隔に設置されている。
【００２０】
変位センサ１３８は搬送台１３３までの垂直距離を測定し、電磁石１３４の吸引力を調整し、搬送台１３３の位置、姿勢を制御する。そして、リニアモータ１３６により搬送台１３３を進行方向に走行させる。
【００２１】
搬送台１３３は完全に浮上しているため、摺動部がなく、搬送系でパーティクルは発生しない。
【００２２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、磁気浮上搬送装置は、本来、真空中での長距離の搬送を行う場合に適したものであり、真空装置内で基板の受け渡しを行うような場合の搬送には適していない。それは、プロセスチャンバへの基板の搬入出時には基板の位置精度が重要であり、通常の磁気浮上搬送装置ではその位置精度を維持することが困難であるからである。実際に上記位置精度を維持した範囲内で搬送を行うためには、浮上用の電磁石や駆動用のリニアモータとして高精度の大きな装置を使用する必要があり、また、搬送台の位置の検出も精度のよく行う必要（高精度の位置検出器が必要）があり、事実上実現不可能である。
【００２３】
以上のような課題に鑑み、本発明は真空中で、複数の基板を同時に搬送する基板搬送装置において、重量の大きな搬送にもかかわらず、故障率が低く、パーティクルの発生も少ない基板搬送装置を提供することを目的とする。
【００２４】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の基板搬送装置は、基板を搭載した搬送ローダを所定位置へと移動させる基板搬送装置において、前記搬送ローダに、前記基板を搭載した搬送ローダが浮上しないだけの浮力を与える浮力付与手段を具備すると共に、前記搬送ローダを移動させる多関節ロボットを具備するものである。
【００２５】
請求項２に記載の基板搬送装置は、請求項１に記載の基板搬送装置において、浮力付与手段が、磁力により前記搬送ローダに浮力を与えるものである。
【００２６】
請求項３に記載の基板搬送装置は、請求項２に記載の基板搬送装置において、浮力付与手段が、基板を搭載した搬送ローダの重量に応じて、磁力を調整する磁力調整手段を具備するものである。
【００２７】
請求項４に記載の基板搬送装置は、請求項１に記載の基板搬送装置において、当該搬送ローダの移動に従って移動する基板支持爪を鉛直方向に複数備えているものである。
【００２８】
請求項５に記載の基板搬送装置は、請求項１に記載の基板搬送装置において、前記多関節ロボットは、所定の軌道に沿って前記搬送ローダを移動させることで、前記搬送ローダの鉛直方向及び水平方向の移動軌道を規制するものである。
【００２９】
請求項６に記載の真空装置は、請求項１、２、４、５の何れか１項に記載の基板搬送装置を組み込んでなるものである。
【００３０】
請求項７に記載の真空装置は、請求項６に記載の真空装置において、前記基板搬送装置を内部に有するロードロック室を備えると共に、前記浮力付与手段は、前記基板搬送装置における搬送ローダ上面に固定された永久磁石と、前記ロードロック室の内壁上面に前記永久磁石と対向するように設置された電磁石とで構成され、上記永久磁石と電磁石との間に吸引力を発生させるものである。
【００３１】
請求項８に記載の真空装置は、請求項６に記載の真空装置において、前記基板搬送装置を内部に有するロードロック室と、前記基板搬送装置における搬送ローダと連動する基板受け渡しピンが設けられたステージを内部に有するプロセスチャンバとを備え、前記基板搬送装置は、前記ロードロック室とプロセスチャンバ内のステージとの間で基板の受け渡しを行うものである。
【００３２】
以下、本発明の作用を説明する。
【００３３】
本発明の基板搬送装置は、基板を搭載した搬送ローダを所定位置へと移動させる基板搬送装置において、前記搬送ローダに、前記基板を搭載した搬送ローダが浮上しないだけの浮力を与える浮力付与手段を具備するものである。本発明では、搬送ローダにそれを浮上させないだけの浮力を与えるため、搬送ローダの見かけ上の重量を低減できるため、故障率を低く抑えることが可能であり、また、搬送ローダの鉛直方向（重力方向）における位置を正確に制御できる。
【００３４】
また、前記基板搬送装置において、前記浮力付与手段は、磁力により前記搬送ローダに浮力を与えるものであってもよい。磁力により浮力を印加することで、パーティクルの発生のないクリーンな搬送を実現できる。
【００３５】
さらに、前記浮力付与手段は、基板を搭載した搬送ローダの重量に応じて、磁力を調整する磁力調整手段を具備するものであってもよい。さらに、搬送ローダの基板を含めた総重量に基づいて、印加する磁力を調整するため、使用状況に合わせて適切な浮力を印加できる。
【００３６】
また、前記基板搬送装置は、前記搬送ローダの移動軌道を規制する規制手段を具備するものであってもよい。搬送ローダの移動軌道を規制する手段を設けているため、より確実な搬送ローダの位置規制を実現できる。
【００３７】
また、前記基板搬送装置において、前記規制手段は、搬送ローダと基板の搬送経路に設けた、Ｖ字型車輪及びそれと嵌合するＶ字型レールを具備するものであってもよい。Ｖ字型車輪及びそれと嵌合するＶ字型レールで規制すれば、水平方向の移動を確実に規制できる。
【００３８】
さらに、前記規制手段は、搬送ローダと基板の搬送経路に設けた、平車輪及び平レールを具備するものであってもよい。さらに、平車輪及び平レールで規制すれば、搬送ローダの移動方向を軸とした回転方向の移動を確実に規制できる。
【００３９】
また、前記基板搬送装置において、前記規制手段は、磁力により搬送ローダの移動軌道を規制するものであってもよい。搬送ローダの水平方向の移動を磁力により規制すれば、水平方向の移動規制を移動状況に合わせて調整できる。
【００４０】
また、搬送ローダの移動を多関節ロボットにより行えば、摺動部分を無くすことができ、パーティクルの発生を抑制できる。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００４２】
（実施の形態１）
以下、図１〜図５を用いて本発明の実施の形態１の基板搬送装置について説明する。
【００４３】
図１は、本発明の基板搬送装置を組み込んだ真空装置の概略平面図であり、図２，３は、それぞれロードロック室とプロセスチャンバ部の構成を示す側面図と正面図である。図４，５は、基板を受け渡す機構を説明する説明図である。
【００４４】
図１において、６はプロセスチャンバであり、５のロードロック室とともに、１つの大気搬送ロボット２１に対して放射状に配置している。大気搬送ロボット２１は真空中ではなく、大気中に配置している。各ロードロツク室５の大気搬送ロボット２１側にはゲートバルブＡ８が設けてあり、各ロードロツク室５のプロセスチャンバ６側にはゲートバルブＶ９が設けてある。ロードロツク室５はゲートバルブＡ８を介して大気部分と接触する。ロードロック室５の内部には、プロセスチャンバ６への一方向のみ移動可能な真空搬送車１を配置する。
【００４５】
大気搬送ロボット２１は、ロードロック室５内部の真空搬送車１と連動しており、真空吸着等により基板２を高速搬送する。さらに、大気搬送ロボット２１は、基板２を直接基板カセット２０に出し入れする。
【００４６】
以下に、この真空処理装置の動作を説明する。
【００４７】
(1)図１において、まず、大気搬送ロボット２１によって、大気中に置かれた基板カセット２０から基板２を取出す。次に、ロードロック室５のゲートバルブＡ８を開き、ロードロック室５の中へ搬送する。ロードロック室５では、大気搬送ロボット２１及び真空搬送車１と連動して、基板２を真空搬送車１に受け渡す。
【００４８】
(2)次に、ゲートバルブＡ８を閉じて、ロードロック室５を真空引きする。
【００４９】
(3)その後、ゲートバルブＶ９を開き、真空搬送車１により基板２をプロセスチャンバ６内へ搬送する。
【００５０】
(4)続いて、ゲートバルブＶ９を閉じ、プロセスチャンバ６で基板２に対する処理を実行する。
【００５１】
(5)処理後、プロセスチャンバ６から基板２を取り出し、(1)〜(3)の逆の動作で基板２を基板カセット２０に収納する。このような手順で処理が完了する。
【００５２】
図２，３にそれぞれ示すように、ロードロック室５とプロセスチャンバ６は隔壁１１により大気と遮断されている。ロードロック室５内には搬送車１があり、基板２のプロセスチャンバ６への搬入または搬出を行う。搬送車１は、ロードロック室５の床面に設けられたレール１３上を往復可能に形成されている。搬送車１の駆動は、ボールネジ（図示せず）からの動力や、棒状部材からの押圧力等により行うことができる。
【００５３】
搬送車１の支柱１ａには複数の基板支持爪１０が設けられ、その上に基板２が搭載される。プロセスチャンバ６には、複数の基板２を同時に処理できるように、複数のプロセスボックス７が設置されている。
【００５４】
図３に示すように、搬送車１の車輪１２は一方にＶ字型の車輪１２ａに、他方に平車輪１２ｂを用いる。それに合わせてロードロック室５にＶ字型のレール１３ａと平レール１３ｂを設置する。そして、Ｖ字型の車輪１２ａとＶ字型のレール１３ａにより、搬送車１の軌道を規制し、平車輪１２ｂと平レール１３ｂで搬送車１の紙面に対し垂直な軸まわりの回転を止める。
【００５５】
搬送車１下部には車輪１２（１２ａ，１２ｂ）の間に、永久磁石３が固定されており、ロードロック室５の床面には搬送車１に設けられた永久磁石３に対向して電磁石４が配設されている。この電磁石４は、搬送車１の移動方向に延びて形成されており、搬送車１が移動しても常に永久磁石３に対向する位置に電磁石４が存在するようになっている。
【００５６】
電磁石４に電流が印加されると、永久磁石３と電磁石４との間に反発力が生じて、搬送車１に浮力が働く。ここで、電磁石４に供給する電力を調整することで、上記浮力を搬送車１がレールから浮かない程度のものとする。なお、ここで、浮力が搬送車１の重心位置付近にかかるように、永久磁石３、電磁石４の位置調整を行えば、搬送車１の安定なレール上の移動を実現できる。
【００５７】
上記のような浮力を発生させるために電磁石４に供給する電力は、予め定められた一定値としておいても良いし、また、図３のように調整可能なものとしても良い。図３では、基板枚数（あるいは重量）に応じた信号を出力する浮力調整器１４を具備しており、使用者からの基板枚数（あるいは重量）の入力に応じて、電磁石ドライバ１５に指令値を出力する。電磁石ドライバ１５は上記指令値に従って、基板枚数（あるいは重量）に応じた電流を電磁石４に供給する。
【００５８】
なお、電磁石４への電力の供給は電磁石４全体に印加しても良いし、また、搬送車１の移動に伴って移動方向に順に供給しても良い。
【００５９】
本実施の形態の基板搬送装置では、このように搬送車１が浮かない程度の磁力を与えて搬送車１を移動させるため、搬送車１の重力が見かけ上減少し、搬送車１の駆動系にかかる負担を軽減できるとともに、鉛直方向（重力のかかる方向）に対する位置決めをすることが可能となる。また、搬送車１の軌道をレールによって規制することができ、水平方向に対しても確実に位置決めをすることが可能となる。また、レールにかかる荷重が軽減されるため、車輪とレールの摺動によるパーティクルの発生を抑制することができる。なお、ここでは、水平方向の位置決めのためにＶ字型の車輪１２ａとＶ字型のレール１３ａを使用しているが、これに限るものではない。
【００６０】
なお、電磁石４へ電流を流すのは搬送車１が移動するときのみであり、搬送車１に取り付けた永久磁石及び電磁石の発生する磁力がプロセスチャンバ内で行われるプロセスに影響を与えることはない。
【００６１】
次に、真空装置内での基板の受け渡し方法について、図４及び図５を用いて説明する。
【００６２】
図４は、大気搬送ロボット２１，ロードロック室５内の真空搬送車１とプロセスチャンバ６内にある複数のプロセスボックス７内のステージ２４の位置関係を示す斜視図である。
【００６３】
ロードロック室５及びプロセスチャンバ６では、大気搬送ロボット２１と真空搬送車１とプロセスボックス７内の基板受け渡しピン２５が連動して、基板２の受け渡しを行う（この動作については後述する）。図４に示すように、大気搬送ロボット２１はロードロック室５内の真空搬送車１と、真空搬送車１はプロセスボックス７内のステージ２４と基板２の受け渡しを行う。
【００６４】
基板受け渡しのプロセスの一例を図５を用いて説明する。
【００６５】
図５（ａ）に示すように、基板２が大気搬送ロボット２１のＵ字型のアーム２２に設けられた真空吸着器２３により固定された状態で、アーム２２の動きとともに、ロードロック室５内の真空搬送車１の基板支持爪１０に近づく。
【００６６】
図５（ｂ）に示すように、大気搬送ロボット２１のアーム２２は、ロードロック室５の真空搬送車１の基板支持爪１０の間へ入り込む。基板支持爪１０は搬送車１の動きに従って前後に移動する。
【００６７】
次に、図５（ｃ）に示すように、大気搬送ロボット２１のアーム２２が徐々に降下して、真空搬送車１の基板支持爪１０に基板２が乗るような形で受け渡しされる。
【００６８】
続いて、図５（ｄ）に示すように、大気搬送ロボット２１のアーム２２をロードロック室５から離す。一方、真空搬送車１の基板支持爪１０は搬送車１の移動に従い、その動きとともに、基板支持爪１０の上の基板２は、プロセスチャンバ６へ移動する。
【００６９】
そして、図５（ｅ）に示すように、プロセスチャンバ６内のステージ２４に設けられたピン２５が突出し、基板２を支持する。
【００７０】
最後に、図５（ｆ）に示すように、基板支持爪１０が搬送車１と共に、ロードロック室５に戻る。プロセスチャンバ６内では、ピン２５が降下し基板２の設定が完了する。その後、基板２は所定の処理がされる。
【００７１】
所定の処理がされた基板２は図５（ｆ）から図５（ａ）へ逆の動作で基板２が搬送される。
【００７２】
なお、図５では１枚の基板を受け渡す機構例を示したが、これを縦方向に複数設置することにより、複数枚の基板を同時に処理できる。
【００７３】
以上のように、本実施の形態の基板搬送装置によれば、真空中で複数の基板を同時に搬送する場合においても、浮力を供給することで見かけ上の重量を低減できるため、故障率を低く抑えることが可能であり、かつ、パーティクルの発生も抑制できる。
【００７４】
（実施の形態２）
図６は、実施の形態２の基板搬送装置を示す正面断面図である。本実施の形態は、搬送車１の水平方向の軌道の規制と浮力付与の方法について実施の形態１と相違するものであり、他の部分は同一である。このため、ここでは図１から図５と略同一のものには同一符号を付し説明を省略する。
【００７５】
本実施の形態では、図６に示すように、搬送車１の下部の両側にＬ字型の永久磁石７２を固定し、その永久磁石７２に対向するようにロードロック室５の床面にＬ字型の電磁石７３を設置している。また、搬送車１の車輪７０は全て平車輪であり、ロードロック室５には平レール７１が形成されている。
【００７６】
以下に、本実施の形態の基板搬送装置の動作を説明する。
【００７７】
図６の構成において、電磁石７３に電流を流すと、永久磁石７２と電磁石７３の間に反発力が発生する。永久磁石と電磁石７３はそれぞれＬ字型に形成されているため、上記反発力は鉛直方向と水平方向の両方向きに発生する。そして、鉛直方向に発生する反発力で搬送車１に浮力を与え、水平方向に発生する反発力で、搬送車１の軌道を規制する。
【００７８】
このような基板搬送装置では、実施の形態１と同様に、鉛直方向に対しては、搬送車１に与える浮力を基板を搭載した搬送車１を浮かさない程度の力に設定することで、搬送車１の位置決めを確実に行うことができる。
【００７９】
また、水平方向に対しては、実施の形態１のように規制のためのレールを用いておらず、磁力によって位置規制をしているため、搬送車１の水平方向への移動をセンサー等を用いて検出し、その検出結果に基づき、電磁石７３に供給する電力を可変することが望ましい。
【００８０】
以上のような本実施の形態によれば、搬送車１に浮力を供給することで見かけ上の重量を低減できるため、故障率を低く抑えることが可能であり、かつ、パーティクルの発生も抑制できる。
【００８１】
（実施の形態３）
図７は、実施の形態３の基板搬送装置を示す正面断面図である。本実施の形態は実施の形態１，２とは搬送車１の水平方向の軌道の規制方法が異なっているものであり、他の部分は同様である。このため、図１から図６と略同一のものには同一符号を付し説明を省略する。
【００８２】
図７に示すように、搬送車１の両側面に永久磁石７５を固定している。また、その永久磁石７５に対向するようにロードロック室５の内壁側面に電磁石７６を設置している。
【００８３】
ここで、電磁石７６に電流をその大きさを制御して供給することにより、永久磁石７５と電磁石７６の間に反発力を発生させて、搬送車１の軌道を規制することができる。
【００８４】
このような基板搬送装置では、実施の形態１，２と同様に、鉛直方向に対しては、搬送車１に与える浮力を基板を搭載した搬送車１を浮かさない程度の力に設定することで、搬送車１の位置決めを確実に行うことができる。
【００８５】
また、水平方向に対しては、実施の形態１のように規制のためのレールを用いておらず、磁力によって位置規制をしているため、搬送車１の水平方向への移動をセンサー等を用いて検出し、その検出結果に基づき、電磁石７６に供給する電力を可変することが望ましい。
【００８６】
以上のように、本実施の形態によっても、浮力を供給することで見かけ上の重量を低減できるため、故障率を低く抑えることが可能であり、かつ、パーティクルの発生も抑制できる。
【００８７】
（実施の形態４）
図８は、実施の形態４の基板搬送装置の構成を示す正面断面図である。本実施の形態は、実施の形態３と搬送車１への浮力付与の方法が異なっているものであり、他の部分は同一である。このため、図１から図７と略同一のものには同一符号を付し説明を省略する。
【００８８】
図８に示すように、搬送車１の上面に永久磁石８０を固定している。また、その永久磁石８０に対向するようにロードロック室５の内壁上面に電磁石８１を設置している。
【００８９】
この構成の基板搬送装置では、電磁石８１に電流を流すことにより永久磁石８０と電磁石８１の間に吸引力を発生させ、搬送車１に浮力を与える。なお、ここでの吸引力は搬送車１を浮上させないだけの力に設定しておく。これにより、実施の形態１と同様に、鉛直方向に対しては、搬送車１の位置決めを確実に行うことができる。
【００９０】
また、水平方向に対しては、実施の形態１のように規制のためのレールを用いておらず、磁力によって位置規制をしているため、搬送車１の水平方向への移動をセンサー等を用いて検出し、その検出結果に基づき、電磁石７６に供給する電力を可変することが望ましい。
【００９１】
以上のように、本実施の形態によれば、真空中で、複数の基板を同時に搬送する基板搬送装置において、重量の大きな搬送にもかかわらず、故障率が低く、パーティクルの発生も少ない基板搬送装置が実現できる。
【００９２】
（実施の形態５）
図９は、実施の形態５の真空搬送装置の構成を示す正面断面図である。本実施の形態は、軌道の規制方法において上述の実施の形態１〜４と異なっている。このため、図１から図８と略同一のものには同一符号を付し説明を省略する。
【００９３】
図９に示すように、ここでは、搬送車１の移動を多関節ロボット９０を用いて行う。この多関節ロボット９０は、所定の軌道に沿って搬送車１を移動させる。このため、搬送車１の移動軌道は、鉛直方向及び水平方向に確実に規制される。
【００９４】
また、本実施の形態では、永久磁石８０と電磁石８１に吸引力を発生させ、多関節ロボット９０にかかる搬送車１の重力を低減しているため、多関節ロボットの各関節に働くモーメントが小さくなり、関節部の寿命が伸び、信頼性が高くなる。
【００９５】
なお、実施の形態１〜５では、パーティクル抑制等の顕著な効果が得られる真空雰囲気内での搬送について説明したが、本発明の基板搬送装置が大気中においても使用できることは言うまでもない。
【００９６】
また、浮力を与える手段としては、磁力以外に圧空による空気力を使用しても良い。
【００９７】
【発明の効果】
本発明によれば、搬送車の軌道を規制しながら、搬送車にそれを軌道から浮かせないような浮力を与えるため、位置制御の困難さなしに搬送車を支持する部分に働く重力による負担を減らすことができる。したがって、搬送装置のベアリング等の摺動部品への重力による負担が減り、パーティクルの発生が抑えられ、かつ長寿命化し、基板搬送装置の故障率が低くなる。特に、真空雰囲気中では、問題となるパーティクルの発生を抑制できるため有効である。
【００９８】
また、浮力付与手段により重力の影響を低減できるため、複数の搬送物が搭載しても問題ない。さらに、磁力により搬送対象物に浮力を容易に与えることができ、搬送物の重量に応じて浮力の切り替えも容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１の基板搬送装置の構成を示す平面図である。
【図２】実施の形態１の基板搬送装置の構成を示す側面図である。
【図３】本発明の実施の形態１の搬送車の構成を示す正面断面図である。
【図４】実施の形態１の基板受け渡し機構を示す斜視図である。
【図５】実施の形態１の基板受け渡し動作を説明する図である。
【図６】実施の形態２の搬送車の構成を示す正面断面図である。
【図７】実施の形態３の搬送車の構成を示す正面断面図である。
【図８】実施の形態４の搬送車の構成を示す正面断面図である。
【図９】実施の形態５の搬送車の構成を示す正面断面図である。
【図１０】従来の基板搬送装置の構成を示す平面図である。
【図１１】従来の基板搬送装置の構成を示す平面図である。
【図１２】従来の基板搬送装置の構成を示す側面図である。
【図１３】従来の基板搬送装置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１  搬送車
２  基板
３，７２，７５，８０  永久磁石
４，７３，７６，８１  電磁石
５  ロードロック室
６  プロセスチャンバ
７  プロセスボックス
１２，７０  車輪
１３，７１  レール
１４  浮力調整器
１５  電磁石ドライバ
２０  基板カセット
２１  大気搬送ロボット
９０  多関節ロボット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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