(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円柱形状のワークを支持する支持部材を備え、当該支持部材で支持したワークの中心軸位置を規制するワーク振れ止め装置において、
前記支持部材は、磁性材と非磁性材を組み合わせた多層構造のブロック体とすることでマグネットの吸着力により前記ワークの回転による振れを止めるＶブロックであり、当該Ｖブロックの前記ワークが接触する前記非磁性材の部分に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が直接被覆されていることを特徴とするワーク振れ止め装置。
【請求項２】
円柱形状のワークを支持する支持部材を備え、当該支持部材で支持したワークの中心軸位置を規制するワーク振れ止め装置において、
前記支持部材は、磁性材と非磁性材を組み合わせた多層構造のブロック体とすることでマグネットの吸着力により前記ワークの回転による振れを止めるＶブロックであり、前記ワークが接触する前記Ｖブロックの接触面の一部に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された金属又はセラミックスからなる基材が固定されていることを特徴とするワーク振れ止め装置。
【請求項３】
円柱形状のワークを支持する支持部材を備え、当該支持部材で支持したワークの中心軸位置を規制するワーク振れ止め装置において、
前記支持部材は、磁性材と非磁性材を組み合わせた多層構造のブロック体とすることでマグネットの吸着力により前記ワークの回転による振れを止めるＶブロックであり、前記ワークが接触する前記Ｖブロックの接触面が増大するように、前記ブロック体の側面に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された金属又はセラミックスからなる基材が固定されていることを特徴とするワーク振れ止め装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ワーク振れ止め装置に関わり、特に、長尺のワークを加工する工作機械や、ワークの寸法測定を行う測定装置などにおけるワーク回転時に、該ワークの中心軸の振れを防止することで、当該中心軸の位置を規制するワーク振れ止め装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のワーク振れ止め装置として、たとえば、図７に示すガイドブッシュ型の装置や、図８に示すアーム型の装置などがある。
図７に示すガイドブッジュ型のワーク振れ止め装置は、ベース４１に配設したポジショニングアーム４２の内側に、ワーク（被加工物）を支持するガイドブッシュ４３が設置された構造を備えている。前記ポジショニングアーム４２の上部には、ワークをガイドブッシュ４３で支持し、当該ワークを研削位置にセットした後、ガイドブッシュ４３とワークとの間にずれが生じないように両者を調整するボルト４４が設置されている。
【０００３】
また、ポジショニングアーム４２の下部には、前記ワークの中心軸の上下位置を調整するボルト４５と、クランプボルト４６とが設置されている。さらに、ポジショニングアーム４２の背後には、前記ワークの中心軸の前後位置を調整する調整ナット４７が設置されている。
そして、図８に示すアーム型のワーク振れ止め装置は、ベース１の上部に配設した上部アーム２、中央アーム３および下部アーム４により、ワーク５０を支持する構造を備えている。さらに、ベース１の上部には、上部アーム用クランプノブ５、中央アーム用クランプノブ６および下部アーム用クランプノブ７が配設されている。
【０００４】
また、ベース１の各アームが配設された反対側の面には、下部アーム４の調整を行うことにより、ワーク５０の中心軸の上下位置を調整する下部アーム用調整ねじ８と、中央アーム３の調整を行うことにより、ワーク５０の中心軸の前後位置を調整する中央アーム用調整ねじ９が設置されている。そしてまた、ベース１の最上部には、上部アーム２を調整する上部アーム用調整ねじ１０が設置されている。
【０００５】
しかしながら、前記ワーク振れ止め装置を、特開平１−２９５７１３号公報に開示されているねじ軸有効径のインプロセス測定装置を取り付けたねじ軸研削盤に使用すると、テーブルトラバース中に、インプロセス測定装置と前記振れ止め装置とが干渉するという問題がある。
ここで、前記インプロセス測定装置と振れ止め装置との干渉を避ける目的で、振れ止め装置に対して、測定ヘッドを後退させることも可能であるが、この場合には、振れ止め部分が測定できないという問題がある。そして、特に、ねじ軸外径が小さい場合には、振れ止めスパンが狭くなり、採取できるデータは、ほとんど無くなってしまう。
【０００６】
また、前述したインプロセス測定以外であっても、人手によって、ねじの斜径寸法を測定する際に、従来の振れ止め装置を使用すると、振れ止め部の測定は、不可能である。
そこで、従来のアーム型のワーク振れ止め装置で採用していた上部アーム、中央アーム、下部アームによる３点式振れ止めを、２点式にするＶブロックを採用することで、測定ヘッドとの干渉を無くし、また、従来、ワークを上から押さえていた１点の代わりとしてマグネットによる吸着力を利用してワークの振れを抑える振れ止め装置がある。
【０００７】
このＶブロックは、マグネットによる吸着力を得るために、図９および図１０に示すように、たとえば、炭素鋼などのような磁性材７１と、銅合金などのような非磁性材７２とを組み合わせた、磁性材７１−非磁性材７２−磁性材７１−非磁性材７２−磁性材７１のような多層構造を有している。
そして、このマグネットによる吸着力を用いて、ワーク５０をＶブロック３０に吸着させ、ワーク５０自身のそりや曲がりなどによるワーク５０の振れ回りを防止している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記Ｖブロックを採用したワーク振れ止め装置は、ワークとの接触面の硬度が低いため、ワークを回転した際に、当該ワークと接触している部分がすぐに摩耗してしまう。このため、この摩耗に伴って、前記ワークの中心軸の位置が変動してしまい、高精度で安定した測定や加工ができないという問題がある。
【０００９】
そこで、この問題を解決するため、Ｖブロックのワークと接触する部分に設けられている非磁性材として、たとえば、ダイヤモンド焼結体などのような硬度が高く、耐摩耗性に優れた部材を用いる方法がある。
しかしながら、前記ダイヤモンド焼結体などのような硬度が高く耐摩耗性に優れた部材は、加工が非常に困難であると共に、材料コストがかかるという問題がある。
【００１０】
また、ガイドブッシュ型の振れ止め装置においても同様に、ガイドブシュのワークと接触面がすぐに摩耗して、ワークの中心軸の位置が変動してしまい、高精度で安定した測定や加工ができないという問題が発生している。
そして、現時点では、ダイヤモンド以外の材料、たとえば、金属やセラミックス等で、高精度で安定した測定や加工が達成できるほど、耐摩耗性が高いものは見当たらないというのが実情である。
【００１１】
本発明は、このような従来の問題点を解決することを課題とするものであり、簡単な加工且つ低コストで、ワークと接触する部分の耐摩耗性を向上させることができ、長期間に亘って、ワークを高精度で安定良く回転させることが可能なワーク振れ止め装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために、請求項１の発明は、円柱形状のワークを支持する支持部材を備え、当該支持部材で支持したワークの中心軸位置を規制するワーク振れ止め装置において、前記支持部材は、磁性材と非磁性材を備えてマグネットによる吸着力を利用して回転する前記ワークの振れを止めるＶブロックであり、当該Ｖブロックの前記ワークが接触する前記非磁性材の部分に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が直接被覆されていることを特徴とするワーク振れ止め装置を提供するものである。
請求項２の発明は、円柱形状のワークを支持する支持部材を備え、当該支持部材で支持したワークの中心軸位置を規制するワーク振れ止め装置において、前記支持部材は、磁性材と非磁性材を組み合わせた多層構造のブロック体とすることでマグネットの吸着力により前記ワークの回転による振れを止めるＶブロックであり、前記ワークが接触する前記Ｖブロックの接触面の一部に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された金属又はセラミックスからなる基材が固定されていることを特徴とするワーク振れ止め装置である。
請求項３の発明は、円柱形状のワークを支持する支持部材を備え、当該支持部材で支持したワークの中心軸位置を規制するワーク振れ止め装置において、前記支持部材は、磁性材と非磁性材を組み合わせた多層構造のブロック体とすることでマグネットの吸着力により前記ワークの回転による振れを止めるＶブロックであり、前記ワークが接触する前記Ｖブロックの接触面が増大するように、前記ブロック体の側面に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された金属又はセラミックスからなる基材が固定されていることを特徴とするワーク振れ止め装置である。
【００１３】
【作用】
本発明によれば、回転するワークを支持する支持部材は、簡単な加工且つ低コストで、ワークの接触面の耐摩耗性が向上される。
【００１４】
すなわち、本発明では、支持部材を、磁性材と非磁性材を備えてマグネットによる吸着力を利用して前記ワークの回転による振れを止めるＶブロックとしているとともに、当該Ｖブロックのワークが接触する前記非磁性材の部分に気相合成法によりダイヤモンド膜を直接被覆し、或いは、前記ワークが接触する前記Ｖブロックの接触面の一部に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された金属又はセラミックスからなる基材を固定し、或いは、前記ワークが接触する前記Ｖブロックの接触面が増大するように、前記ブロック体の側面に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された金属又はセラミックスからなる基材を固定したので、ダイヤモンドを直接加工する必要がない。従って、加工に困難を伴うことなく、支持部材のワークとの接触面に、簡単にダイヤモンド膜が設けられ、この部分の耐摩耗性が向上される。
【００１５】
また、気相合成法では、ダイヤモンド膜が任意の厚さの膜厚で被覆でき、さらに、前記支持部材に、気相合成法により直接ダイヤモンド膜を被覆する場合、または、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜を被覆した基材を前記支持部材に固定する場合、のいずれも、必要な部分にのみダイヤモンド膜を設けることができる。
【００１６】
従って、ワークとの接触面の耐摩耗性を向上するために最低限必要な量のダイヤモンド膜を簡単に被覆されるため、材料コストの削減が行える。
なお、前述した気相合成法としては、たとえば、公知の熱フィラメントＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  ）法や、マイクロ波プラズマＣＶＤ法、高周波プラズマＣＶＤ法および燃焼炎法など、種々の方法が好適に使用できる。
【００１７】
【実施例】
次に、本発明に係る実施例及び本発明に類似した実施例について、図面を参照して説明する。
（実施例１）図１（１）は、本発明に類似した実施例１のアーム型ワーク振れ止め装置を示す側面図、図１（２）は、図１（１）に示すアーム型ワーク振れ止め装置の下部アーム先端を示す部分拡大図である。
【００１８】
なお、実施例１では、図８に示す従来のアーム型ワーク振れ止め装置と同じ構造を示す部分には、図８と同一の符号を付し、その説明は省略する。
図１（１）および（２）に示すアーム型ワーク振れ止め装置１０１は、従来のアーム型のワーク振れ止め装置の上部アーム２、中央アーム３および下部アーム４のワーク５０との対向面に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された超硬合金製の基材１１、基材１２および基材１３が各々固定された構造を備えている。
【００１９】
前記基材１１は、ダイヤモンド膜が被覆された面が、少なくともワーク５０との接触面を含む大きさを備えた超硬合金板に、気相合成法として、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を所望の膜厚で被覆した構造を備えている。
また、基材１２は、ダイヤモンド膜を被覆された面が、少なくともワーク５０との接触面を含む大きさを備えた超硬合金板に、気相合成法として、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を所望の膜厚で被覆した構造を備えている。
【００２０】
そしてまた、基材１３は、下部アーム４のワーク５０との接触面に対応した大きさを備えた超硬合金板に、気相合成法として、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を所望の膜厚で被覆した構造を備えている。
このように、基材１１、基材１２および基材１３とも、あらかじめワーク５０との接触面に対応する大きさに加工された超硬合金板に、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆した構造を備えているため、従来のように、ダイヤモンドを直接加工する必要がない。従って、加工に困難を伴うことなく、ダイヤモンド膜が被覆された基材１１、基材１２および基材１３を簡単に得ることができる。
【００２１】
また、前記ダイヤモンド膜は、必要最低限の膜厚および面積で被覆すればよいため、材料コストを削減することができる。
前記下部アーム４のワーク５０との接触部には、特に、図１（２）に示すように、基材１３が、ねじ２１により固定されている。
上部アーム２および中央アーム３についても、同様に、基材１１および基材１２が各々ねじ止めされている。
【００２２】
なお、基材１１、基材１２および基材１３を固定するねじは、ワーク５０の回転に支障をきたさないように、各々基材１１、基材１２および基材１３に螺合される。
このように、実施例１に係るアーム型ワーク振れ止め装置１０１は、上部アーム２のワーク５０との接触面、中央アーム３のワーク５０との接触面および下部アーム４のワーク５０との接触面に、ダイヤモンド膜が設けられた構造となるため、前記ワーク５０との接触面が、ワーク５０の回転時に摩耗することを防止できる。
【００２３】
なお、実施例１では、ダイヤモンド膜が被覆された基材１１、基材１２および基材１３が固定された３本のアーム２、３および４が、請求項１記載の支持部材に相当する。
また、実施例１では、各アーム２、３および４の所定位置に、各基材１１、１２および１３をねじ止めした構造について説明したが、これに限らず、各基材１１、１２および１３は、各アーム２、３および４の所定位置に、たとえば、接着やろう付けなどにより固定してもよい。
【００２４】
また、実施例１では、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆したが、これに限らず、ダイヤモンド膜は、熱フィラメントＣＶＤ法や、高周波プラズマＣＶＤ法および燃焼炎法など、気相合成法であれば、種々の方法により被覆することができる。
そして、実施例１では、基材１１、基材１２および基材１３の大きさを、ワーク５０との接触面に対応した大きさとしたが、これに限らず、基材１１、１２および１３の大きさは、ワーク５０との接触面を覆うことが可能であれば、任意の形状であったり、それ以上の大きさであってもよい。
【００２５】
そしてまた、実施例１では、基材を構成する部材として、超硬合金を使用したが、これに限らず、基材を構成する部材は、金属またはセラミックスであればよい。
（実施例２）
次に、本発明に類似した実施例２について、図面を参照して説明する。
【００２６】
図２は、本発明の実施例２に係るガイドブッシュ型ワーク振れ止め装置を示す斜視図である。
なお、実施例２では、図７に示す従来のガイドブッシュ型ワーク振れ止め装置と同じ構造を示す部分には、図７と同一の符号を付し、その説明は省略する。
実施例２に係るブッシュ型ワーク振れ止め装置１０２は、従来のガイドブッシュ型のワーク振れ止め装置のガイドブッシュ４３のワークとの対向面に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された超硬合金製の基材５１、基材５２および基材５３が固定された構造を備えている。
【００２７】
基材５１、基材５２および基材５３は、それぞれ、ワークとの接触面に対応する大きさを備えた超硬合金板に、気相合成法として、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆した構造を備えている。
このように、基材５１、基材５２および基材５３とも、あらかじめ、ガイドブッシュ４３のワークとの接触面に対応する大きさに加工された超硬合金板に、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆した構造を備えているため、従来のように、ダイヤモンドを直接加工する必要がない。従って、加工に困難を伴うことなく、ダイヤモンド膜が被覆された基材５１、基材５２および基材５３を簡単に得ることができる。
【００２８】
そして、この基材５１、基材５２および基材５３は、ガイドブッシュ４３の所定位置にねじ止めされている。
このように、実施例２に係るガイドブッシュ型ワーク振れ止め装置１０２は、ガイドブッシュ４３のワークとの接触面に、ダイヤモンド膜が設けられた構造となるため、この部分がワークの回転時に摩耗することを防止できる。
【００２９】
なお、実施例２では、ダイヤモンド膜が被覆された基材５１、基材５２および基材５３が固定されたガイドブッシュ４３が、請求項１記載の支持部材に相当する。
また、実施例２では、ガイドブッシュ４３の所定位置に、基材５１、基材５２および基材５３をねじ止めした構造について説明したが、これに限らず、基材５１、基材５２および基材５３は、ガイドブッシュ４３の所定位置に、たとえば、接着やろう付けなどにより固定してもよい。
【００３０】
また、実施例２では、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆したが、これに限らず、ダイヤモンド膜は、熱フィラメントＣＶＤ法や、高周波プラズマＣＶＤ法および燃焼炎法など、気相合成法であれば、種々の方法により被覆することができる。
そしてまた、実施例２では、基材を構成する部材として、超硬合金を使用したが、これに限らず、基材を構成する部材は、金属またはセラミックスであればよい。
（実施例３）
次に、本発明に係る実施例３について、図面を参照して説明する。
【００３１】
図３は、本発明の実施例３に係るワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
図３に示すＶブロック３０は、磁性材として炭素鋼３１を、非磁性材としてタングステン３２を使用し、これらを組み合わせたブロック本体３０Ａのワークとの接触面に、気相合成法として、熱フィラメントＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜３７を直接被覆した構造を備えている。
【００３２】
ここで、前記熱フィラメントＣＶＤ法では、タングステン３２上にはダイヤモンド膜３７が形成されるが、炭素鋼３１上には供給炭素が拡散してしまうため、ダイヤモンド膜３７は形成されない。
また、タングステン３２の領域（面積）を調整することで、ダイヤモンド膜３７の被覆領域を決定することができる。
【００３３】
このように、実施例３では、ブロック本体３０Ａに、熱フィラメントＣＶＤ法により直接ダイヤモンド膜３７を被覆するため、該ダイヤモンド膜３７は、ダイヤモンドを直接加工することなく、ブロック本体３０Ａのワークとの接触面に設けられる。このため、Ｖブロック３０のワークとの接触面が、ワークの回転時に摩耗することを防止できる。
【００３４】
また、ダイヤモンド膜３７は、必要最低限の膜厚および面積で被覆すればよいため、材料コストを削減することができる。
なお、実施例３では、ダイヤモンド膜が被覆されたＶブロック３０が、請求項１記載の支持部材に相当する。
また、実施例３では、熱フィラメントＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆したが、これに限らず、ダイヤモンド膜は、マイクロ波プラズマＣＶＤ法や、高周波プラズマＣＶＤ法および燃焼炎法など、気相合成法であれば、種々の方法により被覆することができる。
【００３５】
そして、実施例３では、ブロック本体３０Ａのタングステン３２からなる部分を２か所としたが、これに限らず、タングステン３２からなる部分の配設箇所数は、所望により決定してよい。
また、実施例３では、磁性材として炭素鋼３１を使用したが、これに限らず、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば他の磁性材を使用してもよい。
【００３６】
そしてまた、実施例３では、非磁性材としてタングステン３２を使用したが、これに限らず、気相合成法によるダイヤモンド膜３７の形成が可能であって、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば他の非磁性材を使用してもよい。
（実施例４）
次に、本発明に係る実施例４について、図面を参照して説明する。
【００３７】
図４は、本発明の実施例４に係るワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
図４に示すＶブロック３０は、磁性材として炭素鋼３１を、非磁性材として銅合金３４を使用し、これらを組み合わせたブロック本体３０Ａのワークとの接触面に、２つの切欠き（凹部）６５Ａおよび切欠き６５Ｂを設け、この切欠き６５Ａおよび切欠き６５Ｂ内に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された超硬合金製の基材３３および基材３８を埋設し、固定した構造を備えている。
【００３８】
基材３３および基材３８は、少なくともダイヤモンド膜を被覆された面が、ワークとの接触面を含む大きさを備えた超硬合金板に、気相合成法として、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆した構造を備えている。
このように、基材３３および基材３８とも、あらかじめ、切欠き６５Ａおよび切欠き６５Ｂに対応した大きさに加工された超硬合金板に、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆した構造を備えているため、従来のように、ダイヤモンドを直接加工する必要がない。従って、加工に困難を伴うことなく、ダイヤモンド膜が被覆された基材３３および基材３８を簡単に得ることができる。
【００３９】
そして、切欠き６５Ａ内に埋設された基材３３、および切欠き６５Ｂ内に埋設された基材３８は、ブロック本体３０Ａに、ねじ３５によりそれぞれ固定されている。
なお、基材３３および基材３８は、ワークとの接触が可能であって且つワークの回転に支障をきたさないように、切欠き６５Ａおよび切欠き６５Ｂ内にそれぞれ埋設される。
【００４０】
このように、実施例４に係るＶブロック３０は、ワークとの接触面に、ダイヤモンド膜が設けられた構造となるため、この部分がワークの回転時に摩耗することを防止できる。
なお、実施例４では、ダイヤモンド膜が被覆された基材３３および基材３８が固定されたＶブロック３０が、請求項１記載の支持部材に相当する。
【００４１】
また、実施例４では、ブロック本体３０Ａの所定位置に、基材３３および基材３８をねじ止めした構造について説明したが、これに限らず、基材３３および基材３８は、ブロック本体３０Ａの所定位置に、たとえば、接着剤などを使用して固定してもよい。
また、実施例４では、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆したが、これに限らず、ダイヤモンド膜は、熱フィラメントＣＶＤ法や、高周波プラズマＣＶＤ法および燃焼炎法など、気相合成法であれば、種々の方法により被覆することができる。
【００４２】
そして、実施例４では、ブロック本体３０Ａに、２つの基材３３および基材３８を固定した構造としたが、これに限らず、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば基材の固定数は、所望により決定してよい。
そしてまた、実施例４では、ブロック本体３０Ａの銅合金３４からなる部分を２か所としたが、これに限らず、銅合金３４からなる部分の配設箇所数は、所望により決定してよい。
【００４３】
また、実施例４では、磁性材として炭素鋼３１を使用したが、これに限らず、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば他の磁性材を使用してもよい。
そしてまた、実施例４では、非磁性材として銅合金を使用したが、これに限らず、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば他の非磁性材を使用してもよい。
【００４４】
さらにまた、実施例４では、基材を構成する部材として、超硬合金を使用したが、これに限らず、基材を構成する部材は、金属またはセラミックスであればよい。
（実施例５）
次に、本発明に係る実施例５について、図面を参照して説明する。
【００４５】
図５は、本発明の実施例５に係るワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
図５に示すＶブロック３０は、磁性材として炭素鋼３１を、非磁性材として銅合金３４を使用し、これらを組み合わせたブロック本体３０Ａのワークと接触する部分に形成した３つの切欠き６４Ａ、切欠き６４Ｂおよび切欠き６４Ｃに、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された超硬合金製の基材６１、基材６２および基材６３をそれぞれ埋設し、この切欠き６４Ａ、切欠き６４Ｂおよび切欠き６４Ｃに、基材６１、基材６２および基材６３をそれぞれ、接着剤を用いて接着した構造を備えている。
【００４６】
基材６１、基材６２および基材６３は、少なくともダイヤモンド膜を被覆された面が、ワークとの接触面を含む大きさを備えた超硬合金板に、気相合成法として、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆した構造を備えている。
このように、基材６１、基材６２および基材６３とも、あらかじめ、切欠き６４Ａ、切欠き６４Ｂおよび切欠き６４Ｂに対応した大きさに加工された超硬合金板に、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆した構造を備えているため、従来のように、ダイヤモンドを直接加工する必要がない。従って、加工に困難を伴うことなく、ダイヤモンド膜が被覆された基材６１、基材６２および基材６３を簡単に得ることができる。
【００４７】
また、前記ダイヤモンド膜は、必要最低限の膜厚および面積で被覆すればよいため、材料コストを削減することができる。
そして、切欠き６４Ａ内に埋設された基材６１、切欠き６４Ｂ内に埋設された基材６２および切欠き６４Ｃ内に埋設された基材６３は、ブロック本体３０Ａに接着剤によりそれぞれ固定されている。
【００４８】
なお、基材６１、基材６２および基材６３は、ワークとの接触が可能であって且つワークの回転に支障をきたさないように、切欠き６４Ａ、６４Ｂおよび６４Ｃ内に、それぞれ埋設される。
このように、実施例５に係るＶブロック３０は、ワークとの接触面に、ダイヤモンド膜が設けられた構造となるため、ワークとの接触面が、ワークの回転時に摩耗することを防止できる。
【００４９】
なお、実施例５では、ダイヤモンド膜が被覆された基材６１、基材６２および基材６３が固定されたＶブロックが、請求項１記載の支持部材に相当する。
また、実施例５では、切欠き６４Ａ内に基材６１を、切欠き６４Ｂ内に基材６２を、および切欠き６４Ｃ内に基材６３を、埋設・接着した構造について説明したが、これに限らず、各基材６１、６２および６３は、各切欠き６４Ａ、６４Ｂおよび６４Ｃ内に、それぞれ埋設した後、たとえば、ねじなどを使用して固定してもよい。
【００５０】
また、実施例５では、マイクロ波プラズマＣＶＤ法により、ダイヤモンド膜を被覆したが、これに限らず、ダイヤモンド膜は、熱フィラメントＣＶＤ法や、高周波プラズマＣＶＤ法および燃焼炎法など、気相合成法であれば、種々の方法により被覆することができる。
そして、実施例５では、基材６１、基材６２および基材６３の大きさを、ワークとの接触面に対応した大きさとしたが、これに限らず、基材６１、基材６２および基材６３の大きさは、ワークとの接触面を覆うことが可能であれば、任意の形状であったり、それ以上の大きさであってもよい。
【００５１】
そしてまた、実施例５では、ブロック本体３０Ａに、３つの基材６１、基材６２および基材６３を固定した構造としたが、これに限らず、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば基材の固定数は、所望により決定してよい。
そしてまた、実施例５では、ブロック本体３０Ａの銅合金３４からなる部分を２か所としたが、これに限らず、銅合金３４からなる部分の配設箇所数は、所望により決定してよい。
【００５２】
また、実施例５では、磁性材として炭素鋼３１を使用したが、これに限らず、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば他の磁性材を使用してもよい。
そしてまた、実施例５では、非磁性材として銅合金を使用したが、これに限らず、基材との接着性、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば他の非磁性材を使用してもよい。
【００５３】
さらにまた、実施例５では、基材を構成する部材として、超硬合金を使用したが、これに限らず、基材を構成する部材は、金属またはセラミックスであればよい。
（実施例６）
次に、本発明に係る実施例６について、図面を参照して説明する。
【００５４】
図６は、本発明の実施例６に係るワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
なお、実施例６は、Ｖブロックと周辺部品との干渉がない条件の場合に適用する。
図６に示すＶブロック３０は、磁性材として炭素鋼３１を、非磁性材として銅合金３４を使用し、これらを組み合わせたブロック本体３０ＡのＶ字部分の側面に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆されたモリブデン製の基材６６、基材６７、基材６８および基材６９を、各々ねじ８１により固定した構造を備えている。
【００５５】
基材６６、基材６７、基材６８および基材６９は、ブロック本体３０ＡのＶ字部分の側面にそれぞれ固定した際に、この基材６６、基材６７、基材６８および基材６９のそれぞれのダイヤモンド膜が被覆された面が、ワークとの接触面となるように設計されている。
基材６６、基材６７、基材６８および基材６９は、あらかじめ所定の大きさに加工されているモリブデン部材に、燃焼炎法によりダイヤモンド膜を被覆して得られるため、ダイヤモンドを直接加工する必要がない。従って、加工に困難を伴うことなく、ダイヤモンド膜が被覆された基材６６、基材６７、基材６８および基材６９を簡単に得ることができる。
【００５６】
また、前記ダイヤモンド膜は、必要最低限の膜厚および面積で被覆すればよいため、材料コストを削減することができる。
このように、実施例６に係るＶブロック３０は、ワークとの接触面に、ダイヤモンド膜が設けられた構造となるため、ワークとの接触面が、ワークの回転時に摩耗することを防止できる。
【００５７】
また、実施例６に係るＶブロック３０は、ブロック本体３０Ａに、切欠きを形成せずに、基材６６、基材６７、基材６８および基材６９を固定することができるため、加工がさらを簡略化できる。
なお、実施例６では、ダイヤモンド膜が被覆された基材６６、基材６７、基材６８および基材６９が固定されたＶブロック３０が、請求項１記載の支持部材に相当する。
【００５８】
また、実施例６では、ブロック本体３０Ａの側面に、基材６６、基材６７、基材６８および基材６９を、それぞれねじ止めした構造について説明したが、これに限らず、基材６６、基材６７、基材６８および基材６９は、たとえば、接着剤などを使用してブロック本体３０の所定位置に接着してもよい。
また、実施例６では、燃焼炎法により、ダイヤモンド膜を被覆したが、これに限らず、ダイヤモンド膜は、マイクロ波プラズマＣＶＤ法や、熱フィラメントＣＶＤ法および高周波プラズマＣＶＤ法など、気相合成法であれば、種々の方法により被覆することができる。
【００５９】
そして、実施例６では、基材６６、基材６７、基材６８および基材６９の大きさは、ワークと接触可能であって、周辺部品との干渉がない範囲内であれば、任意に決定してよい。
そしてまた、実施例５では、ブロック本体３０Ａの銅合金３４からなる部分を２か所としたが、これに限らず、銅合金３４からなる部分の配設箇所数は、所望により決定してよい。
【００６０】
また、実施例６では、磁性材として炭素鋼３１を使用したが、これに限らず、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば他の磁性材を使用してもよい。
そしてまた、実施例６では、非磁性材として銅合金３４を使用したが、これに限らず、ワークの回転精度など、ワーク振れ止め装置としての適正に支障を来さない範囲であれば他の非磁性材を使用してもよい。
【００６１】
さらにまた、実施例６では、基材を構成する部材として、モリブデンを使用したが、これに限らず、基材を構成する部材は、金属またはセラミックスであればよい。
【００６２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係るワーク振れ止め装置は、支持部材を、磁性材と非磁性材を備えてマグネットによる吸着力を利用して前記ワークの回転による振れを止めるＶブロックとしているとともに、当該Ｖブロックのワークが接触する前記非磁性材の部分に気相合成法によりダイヤモンド膜を直接被覆し、或いは、前記ワークが接触する前記Ｖブロックの接触面の一部に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された金属又はセラミックスからなる基材を固定し、或いは、前記ワークが接触する前記Ｖブロックの接触面が増大するように、前記ブロック体の側面に、気相合成法により形成されるダイヤモンド膜が被覆された金属又はセラミックスからなる基材を固定したため、簡単な加工且つ低コストで、ワークとの接触面の耐摩耗性を向上することができる。
【００６３】
この結果、長期間に亘って、ワークを高精度で安定良く回転させることが可能なワーク振れ止め装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（１）は、本発明に類似した実施例１のアーム型ワーク振れ止め装置を示す側面図である。
（２）は、図１（１）に示すアーム型ワーク振れ止め装置の下部アーム先端を示す部分拡大図である。
【図２】本発明に類似した実施例２のアームブッシュ型ワーク振れ止め装置を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施例３に係るワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
【図４】本発明の実施例４に係るワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
【図５】本発明の実施例５に係るワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
【図６】本発明の実施例６に係るワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
【図７】従来のガイドブッシュ型のワーク振れ止め装置を示す斜視図である。
【図８】従来のアーム型のワーク振れ止め装置を示す斜視図である。
【図９】従来のワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す斜視図である。
【図１０】（１）従来のワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す平面図である。
（２）従来のワーク振れ止め装置において、ワークを支持する支持部材として使用するＶブロックを示す側面図である。
【符号の説明】
１  ベース
２  上部アーム
３  中央アーム
４  下部アーム
１１  基材
１２  基材
１３  基材
３０  Ｖブロック
３０Ａ  ブロック本体
３１  炭素鋼
３２  タングステン
３３  基材
３４  銅合金
３７  ダイヤモンド膜
３８  基材
５１  基材
５２  基材
５３  基材
６１  基材
６２  基材
６３  基材
６６  基材
６７  基材
６８  基材
６９  基材
１０１  アーム型ワーク振れ止め装置
１０２  ガイドブッシュ型ワーク振れ止め装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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