(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平方向に直列に配置され矩型状の基板表面にそれぞれ異なる処理が施される複数の基板処理ユニットにそれぞれ順次前記基板を搬送する基板搬送装置において、
前記複数の基板処理ユニットは、基板表面に薄膜を塗布する基板処理ユニットを含み、
前記複数の基板処理ユニットにそれぞれ設けられ、前記基板を水平に保持した状態において前記基板に所定の処理を施す基板処理位置とこの基板処理位置よりも上方に位置する基板搬送保持位置との間で基板を昇降させる複数の基板昇降手段と、
前記基板を水平に保持し、前記複数の基板処理ユニットの配置方向に沿って所定間隔で設けられる待機位置と、前記待機位置に隣接する基板搬送保持位置との間で移動可能な複数の基板保持手段と、
前記基板処理ユニットの基板搬送保持位置と隣り合う他の基板処理ユニットの基板搬送保持位置との間において前記基板処理ユニットの配置方向に沿って前記複数の基板保持手段を同時かつ同一方向に移動させる基板移動手段と、
を備え、
前記基板保持手段は、
前記搬送される基板の互いに平行であり、かつ前記配置方向に平行な２辺の側面および基板裏面端に沿って伸びる１対のＬ字形状の部材であって、前記複数の基板処理ユニット内の基板搬送保持位置において基板裏面端部に当接するとともに、基板を前記２辺のそれぞれ外側から基板側面に接触させずに水平に保持し、基板表面及び基板側面に接触しない１対のシャトルハンド部と、
前記１対のシャトルハンド部が下面にそれぞれ取付けられて支持される部材であって、前記基板移動手段によって前記基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に移動されるシャトルアーム部と、
を有し、
前記基板昇降手段は、
前記基板移動手段により当該基板処理ユニットの基板搬送保持位置に前記基板が搬送されると、基板搬送保持位置まで上昇して前記基板を支持し、前記基板移動手段により前記シャトルハンド部が当該基板処理ユニットの位置から待機位置に移動されると、基板処理位置に下降することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載される基板搬送装置において、
前記シャトルハンド部の基板裏面に当接し保持する部分に設けられ、基板裏面の吸着保持が行える吸着部を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３】
請求項１に記載される基板搬送装置において、
前記基板移動手段は、
前記複数の基板処理ユニットの配置方向に沿って配置されるシャトルガイド部と、
前記シャトルガイド部にガイドされ前記配置方向に沿って移動するとともに、前記複数の基板保持手段のシャトルアーム部が個々に設けられた複数のシャトルスライダー部と、
前記複数のシャトルスライダー部の隣り合うもの同士を相互に連結する複数の連結ブラケット部と、
前記複数のシャトルスライダー部を前記配置方向に沿って移動させるシャトルスライダー駆動手段と、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項４】
請求項３に記載される基板搬送装置において、
前記シャトルスライダー駆動手段は、
前記シャトルガイド部に沿って配置され、前記シャトルスライダー部に連結された駆動用ベルトと、
前記駆動用ベルトの一端側に連接された駆動プーリーと、
前記駆動プーリーに連結され、かつ駆動プーリーに回転力を与える駆動手段と、
前記駆動用ベルトの他端側に連接される従動プーリーと、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項５】
請求項１に記載される基板搬送装置において、
前記基板昇降手段は、
前記基板搬送保持位置より若干上方に余分に移動可能であることを特徴とする基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基板搬送装置に関し、特に本発明は複数の基板処理ユニットに前記基板を連続的に搬送する基板搬送装置に関する。さらに、詳細には本発明は、液晶表示装置のガラス基板、プリント配線基板などの基板を複数の基板処理ユニットに連続的に搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１０は、本願出願人により先に出願した特開平７−４５５０１号公報に開示される角型基板処理装置の平面概略図である。この角型基板処理装置は液晶表示装置のガラス基板などの角型基板１にフォトレジスト薄膜を形成する装置である。角型基板処理装置にはスピンコーター２、基板端縁洗浄装置３、乾燥用オーブン４などの複数の基板処理ユニットが直列に配列される。スピンコーター２は角型基板１の表面にフォトレジスト薄膜を塗布する。基板端縁洗浄装置３は角型基板１の端面を洗浄し、端縁に付着したフォトレジストの不要薄膜を除去する。乾燥用オーブン４は塗布されたフォトレジスト薄膜のポストベークを行う。
【０００３】
前記角型基板処理装置には、スピンコーター２においてフォトレジスト薄膜が塗布された角型基板１を基板端縁洗浄装置３に搬送し、基板端縁洗浄装置３で洗浄された角型基板１を乾燥用オーブン４に搬送する基板搬送装置が備えられる。この基板搬送装置はスピンコーター２から基板端縁洗浄装置３に角型基板１を搬送する入口側アーム５、基板端縁洗浄装置３から乾燥用オーブン４に角型基板１を搬送する出口側アーム６を備える。入口側アーム５、出口側アーム６はそれぞれ支持ボックス７に支持され、これらの入口側アーム５、出口側アーム６はそれぞれアーム駆動手段９により駆動させられる。
【０００４】
前記アーム駆動手段９は、スピンコーター２の処理位置から基板端縁洗浄装置３の処理位置に、また基板端縁洗浄装置３の処理位置から乾燥用オーブン４に約９０度の回転角度においてそれぞれ入口側アーム５、出口側アーム６を支持ボックス７と一体に旋回させる。入口側アーム５は並列に配置される４本のアームで構成され、同様に出口側アーム６は並列に配置される４本のアームで構成される。この並列に配置される４本のアームは異なる大きさの角型基板１を搬送するために支持ボックス７に対してそれぞれ伸縮できるように構成されている。また、入口側アーム５の４本のアームにはそれぞれ２個づつ、合計４個の爪部（チャックチップ）５ａ−５ｄが設けられる。爪部５ａ−５ｄはアーム駆動手段９により、４本のアームおよび支持ボックスと一体的に昇降して、また爪部５ａおよび５ｂと爪部５ｃおよび５ｄとは角型基板１の保持ならびに保持の解除を行うために開閉できる。角型基板１の保持は角型基板１の対角線近傍において角型基板１の４つの端面にそれぞれ４個の爪部５ａ−５ｄが当接することにより行われる。同様に、出口側アーム６の２本のアームには合計４個の爪部６ａ−６ｄが設けられ、爪部６ａ−６ｄは昇降するとともに開閉する。
【０００５】
このような構成を有する基板搬送装置において、角型基板１の搬送は以下の手順により行われる。まず、スピンコーター２の処理位置において角型基板１の表面にフォトレジスト薄膜が塗布されると、角型基板１上に入口側アーム５が移動し、そして爪部５ａ−５ｄが下降し、この爪部５ａ−５ｄにより角型基板１が保持される。保持された角型基板１は爪部５ａ−５ｄの上昇とともに上昇し、入口側アーム５の旋回により基板端縁洗浄装置３まで搬送される。搬送された角型基板１は爪部５ａ−５ｄの下降とともに下降し、基板端縁洗浄装置３の処理位置に角型基板１が搬送されると爪部５ａ−５ｄによる角型基板１の保持が解除される。角型基板１は基板端縁洗浄装置３において端面の洗浄を行う。出口側アーム６による基板端縁洗浄装置３から乾燥用オーブン４までの間の角型基板１の搬送はほとんど同様に行われる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
前述の角型基板処理装置に搭載された基板搬送装置においては、以下のような問題があった。
【０００７】
（１）特に入口側アーム５の爪部５ａ−５ｄは角型基板１を保持するときに、スピンコーター２によりフォトレジスト薄膜が塗布された直後の角型基板１の端面に当接する。その結果、爪部５ａ−５ｄにフォトレジストが付着して、乾燥し、パーティクル発生の原因となる。このパーティクル発生を防止するため、角型基板処理装置のスピンコーター２と基板端縁洗浄装置３との間に爪部５ａ−５ｄを洗浄するアーム洗浄部８（図１０参照）が設置され、基板搬送装置の構造が複雑になる。
【０００８】
（２）角型基板１はスピンコーター２の処理位置から基板端縁洗浄装置３の処理位置に搬送されさらに基板端縁洗浄装置３の処理位置から乾燥用オーブン４に搬送される。つまり、角型基板１の搬送ごとに９０度ずつ角型基板１が回転し、角型基板１の向きが変化する。このため、角型基板１の向きを表わすオリエンテーションフラット、インデックスなどの管理が大変になる。
【０００９】
（３）前述のように、角型基板１の向きが搬送されるごとに変化するので、入口側アーム５の爪部５ａ−５ｄにより角型基板１を保持する位置と出口側アーム６の爪部６ａ−６ｄにより角型基板１を保持する位置とが若干異なる。このため、保持する位置を変えた２種類の入口側アーム５および出口側アーム６が必要になり、基板搬送装置の構造が複雑になる。さらに、スピンコータ２で角型基板１を保持する向きが９０度変化すると、この向きの変化に合せて入口側アーム５の種類が変わり、洗浄部８の形状を変えなくてはならない。
【００１０】
（４）近年、液晶表示装置の大型化にともない、角型基板１のサイズも大型化の傾向にある。前記入口側アーム５、出口側アーム６はいずれも角型基板１を対角線に沿って保持するので、角型基板１のたわみ量が大きくなる。たわみ量が大きくなると角型基板１の搬送ができなくなる。
【００１１】
（５）入口側アーム５、出口側アーム６は各基板処理ユニット間においてそれぞれ独立にセットアップされている。角型基板１の搬送方向下流の出口側アーム６が旋回し、この出口側アーム６が上流側の入口側アーム５と干渉しないエリアに移動した段階で入口側アーム５の旋回が開始される。このため、入口側アーム５による角型基板１の搬送、出口側アーム６による角型基板１の搬送にはいずれも干渉を避けるための待機時間が含まれ、この待機時間は角型基板１を連続的に搬送する際のロスタイムになるので、搬送速度が遅くなる。
【００１２】
（６）前記入口側アーム５、出口側アーム６はいずれも旋回しながら角型基板１を搬送するので、角型基板１のサイズが大きくなると入口側アーム５、出口側アーム６の旋回半径が大きくなる。このため、基板搬送装置が大型化してしまう。
【００１３】
本発明は上記課題を解決するためになされたものである。従って、本発明の目的は、簡易な構造で小型化が実現でき、かつ生産性が向上できる基板搬送装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１に記載された発明は、水平方向に直列に配置され矩型状の基板表面にそれぞれ異なる処理が施される複数の基板処理ユニットにそれぞれ順次前記基板を搬送する基板搬送装置において、前記複数の基板処理ユニットは、基板表面に薄膜を塗布する基板処理ユニットを含み、前記複数の基板処理ユニットにそれぞれ設けられ、前記基板を水平に保持した状態において前記基板に所定の処理を施す基板処理位置とこの基板処理位置よりも上方に位置する基板搬送保持位置との間で基板を昇降させる複数の基板昇降手段と、前記基板を水平に保持し、前記複数の基板処理ユニットの配置方向に沿って所定間隔で設けられる待機位置と、前記待機位置に隣接する基板搬送保持位置との間で移動可能な複数の基板保持手段と、前記基板処理ユニットの基板搬送保持位置と隣り合う他の基板処理ユニットの基板搬送保持位置との間において前記基板処理ユニットの配置方向に沿って前記複数の基板保持手段を同時かつ同一方向に移動させる基板移動手段と、を備え、前記基板保持手段は、前記搬送される基板の互いに平行であり、かつ前記配置方向に平行な２辺の側面および基板裏面端に沿って伸びる１対のＬ字形状の部材であって、前記複数の基板処理ユニット内の基板搬送保持位置において基板裏面端部に当接するとともに基板を前記２辺のそれぞれ外側から基板側面に接触させずに水平に保持し、基板表面及び基板側面に接触しない１対のシャトルハンド部と、前記１対のシャトルハンド部が下面にそれぞれ取付けられて支持される部材であって、前記基板移動手段によって前記基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に移動されるシャトルアーム部と、を有し、前記基板昇降手段は、前記基板移動手段により当該基板処理ユニットの基板搬送保持位置に前記基板が搬送されると、基板搬送保持位置まで上昇して前記基板を支持し、前記基板移動手段により前記シャトルハンド部が当該基板基板処理ユニットの位置から待機位置に移動されると、基板処理位置に下降することを特徴とする。
【００１６】
請求項２に記載される発明は、前記請求項１に記載される基板搬送装置において、前記シャトルハンド部の基板裏面に当接し保持する部分に設けられ、基板裏面の吸着保持が行える吸着部を備えたことを特徴とする。
【００１７】
請求項３に記載される発明は、前記請求項１に記載される基板搬送装置において、前記基板移動手段は、前記複数の基板処理ユニットの配置方向に沿って配置されるシャトルガイド部と、前記シャトルガイド部にガイドされ前記配置方向に沿って移動するとともに、前記複数の基板保持手段のシャトルアーム部が個々に設けられた複数のシャトルスライダー部と、前記複数のシャトルスライダー部の隣り合うもの同士を相互に連結する複数の連結ブラケット部と、前記複数のシャトルスライダー部を前記配置方向に沿って移動させるシャトルスライダー駆動手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１８】
請求項４に記載された発明は、前記請求項３に記載される基板搬送装置において、前記シャトルスライダー駆動手段は、前記シャトルガイド部に沿って配置され、前記シャトルスライダー部に連結された駆動用ベルトと、前記駆動用ベルトの一端側に連接された駆動プーリーと、前記駆動プーリーに連結され、かつ駆動プーリーに回転力を与える駆動用モーターと、前記駆動用ベルトの他端側に連接される従動プーリーと、を備えたことを特徴とする。
また、前記基板昇降手段は、前記基板搬送保持位置より若干上方に余分に移動可能であることが好ましい。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、本発明の基板搬送装置の一実施形態が矩形状の基板にフォトレジスト薄膜を塗布する基板処理装置に搭載された場合を説明する。前記矩形基板としては液晶表示装置のガラス基板、フォトマスクのガラス基板、サーマルヘッド製造用のセラミックス基板、プリント配線基板、半導体基板のいずれも使用できる。
【００２０】
図１は基板処理装置および基板搬送装置の具体的な構造を示す正面図、図２は平面図、図３は左側側面図である。図１乃至図３に示すように、基板処理装置は複数の基板処理ユニット１０Ａ−１０Ｄが左側から右側に向かって直線的に配置される。本実施形態において、基板処理ユニット１０Ａは洗浄された基板を乾燥するデバイドベーク、基板処理ユニット１０Ｂはスピンコーター、基板処理ユニット１０Ｃは基板端縁洗浄装置、基板処理ユニット１０Ｄはポストベークである。なお、基板処理ユニット１０Ａ−１０Ｄの詳細な説明は省略する。
【００２１】
基板搬送装置は基板処理ユニット１０Ａ−１０Ｄにわたって構成され、この基板搬送装置は基板処理ユニット１０Ａから基板処理ユニット１０Ｄに向かって矩形基板を連続的に搬送する。基板搬送装置には基板昇降機構、基板保持機構、基板移動機構を備える。
【００２２】
基板昇降機構は前記図１乃至図３に示すように複数の基板処理ユニット１０Ａ−１０Ｄにそれぞれ設置される（基板処理ユニット１０Ｂ−１０Ｄにおいては記載を省略してある）。基板昇降機構は昇降駆動源２１Ａおよび昇降部材２１Ｂを備える。本実施形態において昇降部材２１Ｂにはリフトピンが使用される。また、昇降部材２１Ｂには、スピンコーターなどで基板を吸着保持するバキュームチャックなどが使用できる。昇降駆動源２１Ａは各基板処理ユニット１０Ａ−１０Ｄのそれぞれにおいてほぼ中央部に設置され、かつ基板処理位置の下部に設置される。基板処理位置は矩形基板の表面にフォトレジスト薄膜の塗布処理などの処理が行われる位置である。昇降駆動源２１Ａは昇降部材２１Ｂに連結されこの昇降部材２１Ｂの上昇および下降を行う。本実施形態において昇降駆動源２１Ａにはエアーシリンダーが使用される。昇降部材２１Ｂの上側先端は昇降駆動源２１Ａの駆動により基板処理位置とこの基板処理位置よりも上方に設定された基板搬送保持位置との間において上昇および下降を行う。昇降部材２１Ｂの上側先端の上昇および下降は基板を水平に維持した状態において行われる。基板搬送保持位置は前記基板保持機構により基板を保持し水平搬送する高さ位置である。基板昇降機構は、昇降部材２１Ｂが基板の処理中に矩形基板に干渉しないために、昇降部材２１Ｂの上側先端は基板処理位置よりも若干下方に余分に昇降駆動源２１Ａにより昇降動作させる。また、昇降部材２１Ｂを基板保持機構との間でスムースに矩形基板の受け渡しおよび受け取りを行うために、昇降部材２１Ｂの上側先端は基板搬送保持位置よりも若干上方に余分に移動させる。
【００２３】
前記基板保持機構は複数の基板処理ユニット１０Ａ−１０Ｄの配置方向において隣り合う２つの基板処理ユニットに対して１個の割合で設置される。この基板保持機構はシャトルハンド部１１およびシャトルアーム部１２を備える。図４は前記シャトルハンド部１１の具体的な構造を示す側面図、図５は正面図、図６は前記図５は平面図である。シャトルハンド部１１は図４乃至図６に示すように矩形基板３０の対向する２辺に沿ってそれぞれ設けられた２個の（一対の）ハンド部１１ａおよび１１ｂを備える。ハンド部１１ａ、１１ｂは図４に示すようにそれぞれ基板３０の側面に沿ってこの側面に接触させずに上側から下側に伸びさらに基板３０の裏面端部に折れ曲がるＬ字形状で構成される（シャトルアーム部１２に取り付ける部分を含めるとコの字形状に見える）。図４乃至図６に示すように、ハンド部１１ａ、１１ｂはそれぞれ２個ずつの吸着部１１ｃが設けられる。すなわち、本実施形態のシャトルハンド部１１には合計４個の吸着部１１ｃが設けられる。それぞれの吸着部１１ｃは連結パイプ１１ｄを通して図示しない真空装置に接続され、この真空装置により吸着部１１ｃは基板３０の裏面を吸着でき、基板３０の保持ならびに搬送が確実かつ安定して行える。
【００２４】
また、前記シャトルハンド部１１のハンド部１１ａ、１１ｂにはそれぞれ少なくとも２本のスライドピン（本実施形態においてはボルトナットが使用される）１１ｅが設けられる。スライドピン１１ｅはシャトルアーム部１２に設けられたガイド用長穴１２ｆに沿ってスライドでき、基板３０のサイズ変更に応じてハンド部１１ａ、１１ｂ間の寸法が調節できる。さらに、ハンド部１１ａ、１１ｂにはそれぞれ目盛針（本実施形態においては目盛針に相当するものとしてスライドピン１１ｅを使用している）が設けられる。シャトルアーム部１２には目盛板１２ｅが取り付けられており、前記スライドピン（目盛針）１１ｅはガイド用長穴１２ｆに沿ったハンド部１１ａまたは１１ｂのスライド量に応じて移動する。つまり、スライドピン（目盛針）１１ｅが指し示す目盛板１２ｅの目盛を参考にハンド部１１ａと１１ｂとの間の寸法を調整することにより、寸法の調整が容易に行える。
【００２５】
図７は前記シャトルアーム部１２の具体的な構造を示す側面図、図８は平面図である。シャトルアーム部１２は並列に配置される２本のアーム部１２ａおよびこの２本のアーム部１２ａを連結する複数のブラケット１２ｂ−１２ｄを備える。２本のアーム部１２ａは複数の基準面Ｓ１−Ｓ４を基準として複数のブラケット１２ｂ−１２ｄにより組み立てられる。ブラケット１２ｄの下面と基準面Ｓ３およびＳ４とが一致した面において前記シャトルハンド部１１のそれぞれのハンド部１１ａ、１１ｂがスライドできる。さらに、シャトルアーム部１２にはアームカバー１２ｈ、１２ｉおよび１２ｊが設けられ、アームカバー１２ｈ、１２ｉおよび１２ｊは外観の装飾効果が高められるとともに特に基板３０の搬送方向における機械的強度が高められる。
【００２６】
前記基板移動機構は、前記図１乃至図３に示すように、シャトルガイド部１４、シャトルスライダー部１３、連結ブラケット１６およびシャトルスライダー駆動機構を備える。
【００２７】
図９は、図１に示す基板搬送装置の要部を示す正面図である。図７および図９に示すように、前記シャトルガイド部１４は複数の基板処理ユニット１０Ａ−１０Ｄの配置方向に沿って上下に並列に設置された２本のガイドレールで構成される。シャトルガイド部１４は基板処理ユニットの配置方向に沿って設置されたベースプレート１９に取り付けられる。ベースプレート１９は各基板処理ユニット１０Ａ−１０Ｄのそれぞれに支持される。また、ベースプレート１９は基板処理ユニットの配置方向において複数に分割されており、この分割された複数のベースプレート１９はブラケット２０により相互に連結される。前記シャトルガイド部１４にはシャトルスライダー部１３が取り付けられる。シャトルスライダー部１３はベアリングユニット１３ａおよび１３ｂによりシャトルガイド部１４に取り付けられ、シャトルスライダー部１３はシャトルガイド部１４にガイドされ基板処理ユニットの配置方向に沿って移動する。本実施形態において、シャトルスライダー部１３はシャトルアーム部１２と同一個数の３個備える。図９中、中央部分に設置されたシャトルスライダー部１３と隣り合う右側のシャトルスライダー部１３との間は連結ブラケット１６により機械的に連結される。同様に、シャトルスライダー部１３と隣り合う左側のシャトルスライダー部１３との間は連結ブラケット１６により機械的に連結される。つまり、中央部分のシャトルスライダー部１３がシャトルガイド部１４に沿って移動した場合には、このシャトルスライダー部１３と同一移動方向でかつ同一移動量において他の２個のシャトルスライダー部１３が移動する。シャトルスライダー部１３は基板３０の搬送ピッチにオーバーランなどの余裕寸法を加えた距離だけ移動する（往復移動する）。
【００２８】
前記シャトルスライダー駆動機構は図１および図９に示すように駆動用モーター１５Ａ、駆動プーリー１５Ｂ、従動プーリー１５Ｃおよび駆動用ベルト（タイミングベルト）１５Ｄを備える駆動用ベルト１５Ｄはシャトルガイド部１４に沿って配置される。駆動用ベルト１５Ｄの図中右側は駆動プーリー１５Ｂに連接され（巻き掛けられ）、図中左側は従動プーリー１５Ｃが連接される。駆動プーリー１５Ｂの回転軸は駆動用モーター１５Ａの回転軸に連結され、駆動用モーター１５Ａの回転駆動力が駆動プーリー１５Ｂを通して駆動用ベルト１５Ｄに伝達される。図７に示すように、駆動用ベルト１５Ｄはシャトルスライダー部１３のベアリングユニット１３ａと１３ｂとの間を走行し、駆動用ベルト１５Ｄの一部分が取付け部材１３ｃにより中央部分のシャトルスライダー部１３に連結される。つまり、駆動用ベルト１５Ｄの走行により中央部分のシャトルスライダー部１３が移動して、このシャトルスライダー部１３の移動に伴い連結ブラケット１６より他のシャトルスライダー部１３が移動する。
【００２９】
次に、前述の基板搬送装置の基板搬送動作について説明する。
【００３０】
基板処理ユニット１０Ｂの基板処理位置においてフォトレジスト薄膜が塗布された基板３０は、昇降駆動源２１Ａにより昇降部材２１Ｂで上方に押し上げられ、基板搬送保持位置に送られる。基板処理ユニット１０Ａ以外の他の基板処理ユニット１０Ｂ−１０Ｄにおいても同様に昇降駆動源２１Ａおよび昇降部材２１Ｂにより基板処理位置から基板搬送保持位置に基板３０が送られる。
【００３１】
一方、シャトルアーム部１２のシャトルハンド部１１は待機位置（図１の実線で示す位置であり、本実施形態においては基板搬送ピッチの中央部分）から基板搬送保持位置に移動する。この移動は、シャトルスライダー駆動機構の駆動用モーター１５Ａの回転力が駆動プーリー１５Ｂを介して駆動用ベルト１５Ｄに伝達され、この駆動用ベルト１５Ｄに与えられた駆動力でシャトルスライダー部１３の移動が行われる。シャトルスライダー部１３はシャトルガイド部１４に沿って移動する。複数のシャトルスライダー部１３は相互に連結ブラケット１６において連結されているので、複数のシャトルスライダー部１３は同一方向で同一の移動量において移動できる。
【００３２】
そして、基板搬送保持位置において基板３０はシャトルハンド部１１に保持される（基板３０の受け渡しが行われる）。基板３０は裏面に当接した吸着部１１ｃで吸着され、基板３０は確実かつ安定してシャトルハンド部１１に保持される。
【００３３】
次に、シャトルアーム部１２は次段の基板処理ユニット１０Ｂに移動し、基板３０が基板処理ユニット１０Ｂに搬送される。基板３０の搬送は隣り合う基板処理ユニットのそれぞれの基板搬送保持位置とほぼ同一の高さにおいて行われる。特に本実施形態においては基板３０の高さならびに水平度が維持された状態において、基板３０が搬送される。この基板３０の搬送は隣り合う基板処理ユニット間、他の基板処理ユニット間のそれぞれにおいて同時に行われる。
【００３４】
基板処理ユニット１０Ｂの基板搬送保持位置に搬送された基板３０は吸着部１１ｃによる吸着が停止されシャトルハンド部１１の保持が解除される。そして、基板搬保持位置まで上昇してきた昇降部材２１Ｂに支持され、シャトルハンド部１１は基板搬送保持位置から待機位置に向かって移動する。シャトルハンド部１１が基板３０に干渉しない範囲まで移動すると昇降部材２１Ｂが下降し、基板３０が基板処理位置に送られる。
【００３５】
この一連の搬送動作は基板処理ユニット１０Ｂと１０Ｃとの間、基板処理ユニット１０Ｃと１０Ｄとの間でも同様に行われる。しかも、各基板処理ユニット間のシャトルハンド部１１は同一方向に移動しかつ同一移動量において基板３０を搬送できる。
【００３６】
変形例
上述の実施形態において、以下に示す変形が行える。
【００３７】
（１）前記シャトルハンド部１１において、吸着部１１ｃ、連結パイプ１１ｄおよび真空装置を無くし、Ｌ字形状のハンド部１１ａおよび１１ｂ上に単に基板３０を載せ、この基板３０を搬送してもよい。この場合基板３０は摩擦力によりハンド１１ａおよび１１ｂ上において保持される。
【００３８】
（２）前記シャトルハンド部１１において、２個のハンド部１１ａおよび１１ｂが互いに連動してスライドが行える構造にしてもよい。つまり、一方のハンド部１１ａを広げる方向にスライドさせると他方のハンド部１１ｂが連動して広がる方向にスライドする。この連動機構は機械式のものでもモーターなどを使用した電気式のものでもよい。
【００３９】
（３）前記シャトルアーム部１２は片持ち支持構造に限定されず、両端支持構造にしてもよい。
【００４０】
（４）前記シャトルスライダー部１３の間の連結には連結ブラケット１６に限らず、リンク機構、ロングパルスのタイミングベルトなどで連結を行うことができる。また、駆動用ベルト１５Ｄに代えてボールねじを使用し、１個のシャトルスライダー部１３に限らずすべてのシャトルスライダー部１３に駆動力を伝達してもよい。
【００４１】
（５）前記基板昇降機構の昇降駆動源２１Ａにおいて、ボールねじ、リニアモーター、油圧シリンダー、ラック＆ピニオン機構、ワイヤー、スチールベルトなどの駆動方式が使用してもよい。シャトルスライダー駆動装置についても同様である。
【００４２】
（６）シャトルスライダー部１３において、特定のシャトルスライダー部１３に変速機を設置し、基板処理ユニットごとに基板搬送ピッチを変えてもよい。
【００４３】
【発明の効果】
請求項１に記載された発明においては、基板搬送装置において、以下の効果が得られる。
【００４４】
（１）前記基板保持手段が基板裏面に当接し基板が保持され、各種の処理が施される基板表面および基板側面に基板保持手段が接触しない。従って、基板保持手段にパーティクルの発生原因となる各種の処理剤が付着しなくなるので、製造上の歩留りが向上できる基板搬送装置が実現できる。
【００４５】
（２）前記基板保持手段に各種の処理剤が付着しなくなるので、基板保持手段の洗浄機構が無くせる。従って、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。
【００４６】
（３）前記基板保持手段で保持された基板は前記基板移動手段により隣り合う基板処理ユニットの基板搬送保持位置の間を基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に搬送できる。従って、基板処理ユニットごとに基板の向きを回転させながら搬送する回転搬送機構が基板搬送装置から無くせるので、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。また、基板の向きがそれぞれの基板処理ユニットごとに変更されないので、オリエンテーションフラット、インデックスなどに基づく基板の向きの管理が簡易に実現できる。
【００４７】
（４）さらに、基板の向きを回転せずに基板が基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に搬送されるので、前記複数の基板保持手段の構造が同一構造にできる。従って、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。
【００４８】
（５）前記基板保持手段による基板の保持が基板の対向する２辺のそれぞれの近傍の基板裏面において行われるので、基板対角線に沿って基板を保持する場合に比べて基板の保持スパンが短くなる。従って、基板の搬送に必要なスペースが減少できるので、基板搬送装置の小型化が実現できる。さらに、基板の搬送の際に基板のたわみ量が減少できるので、基板表面の歪が減少でき、基板表面に施される各種処理の品質が良好な状態で維持できる。従って、製造上の歩留りが向上できる基板搬送装置が実現できる。
【００４９】
（６）前記複数の基板保持手段は基板移動手段によりそれぞれの基板搬送保持位置の間を同時に移動でき、基板処理ユニットの基板搬送保持位置から次段の基板処理ユニットの基板搬送処理位置まで連続的に搬送されるすべての基板が同時に搬送できる。従って、隣り合う基板搬送保持位置間と次段の隣り合う基板搬送保持位置間との間において、相互に搬送される基板が重なりあい干渉し合うことがなくなるので、基板の搬送に際して次段の基板の搬送に影響を与えないための搬送待機時間（待ち時間）が無くせる。従って、基板搬送効率が向上でき、基板搬送時間が短縮できる基板搬送装置が実現できる。
【００５０】
（７）前記基板は前記基板移動手段により基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に搬送できる（回転搬送が無くなる）ので、搬送経路が短縮され、基板搬送効率が向上でき、基板搬送時間が短縮できる基板搬送装置が実現できる。さらに、複雑なメカニズムの回転搬送機構が無くなり、単純なメカニズムの直線搬送機構が採用されるので、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。さらに、単純なメカニズムの直線搬送機構の採用により、故障が減少でき、メンテナンスが簡素化できるので、信頼性および安定性に優れた基板搬送装置が実現できる。
【００５１】
従って、簡易な構造で小型化が実現でき、かつ生産性が向上できる基板搬送装置が提供できる。
【００５２】
前記請求項３に記載された発明においては、前記基板処理ユニットの基板搬送保持位置と次段の基板処理ユニットの基板搬送保持位置との間で前記吸着部が基板裏面に当接し、この吸着部を通して真空装置により基板裏面が吸着できる。従って、シャトルハンド部に基板が確実かつ安定に保持できるので、基板の搬送上、信頼性の高い基板搬送装置が実現できる。
【００５３】
前記請求項４に記載された発明においては、前記シャトルスライダー駆動手段により特定のシャトルスライダー部が駆動されると、このシャトルスライダー部に連結ブラケットを介して連結される他のシャトルスライダー部が連動して駆動できる。従って、他のシャトルスライダー部を直接駆動するシャトルスライダー駆動手段が無せるので、シャトルスライダー駆動手段の個数が減少でき、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施形態に係る基板処理装置および基板搬送装置の正面図である。
【図２】  基板処理装置および基板搬送装置の平面図である。
【図３】  基板処理装置および基板搬送装置の側面図である。
【図４】  基板搬送装置のシャトルハンド部の側面図である。
【図５】  シャトルハンド部の正面図である。
【図６】  シャトルハンド部の平面図である。
【図７】  前記基板搬送装置のシャトルアーム部の正面図である。
【図８】  前記シャトルアーム部の平面図である。
【図９】  前記基板搬送装置の要部の正面図である。
【図１０】  従来の角型基板処理装置の平面図である。
【符号の説明】
１０Ａ−１０Ｄ  基板処理ユニット、１１  シャトルハンド部、１１ａ，１１ｂ  ハンド部、１１ｃ  吸着部、１１ｄ  連結パイプ、１２  シャトルアーム部、１３  シャトルスライダー部、１４  シャトルガイド部、１５Ａ  駆動用モーター、１５Ｂ  駆動プーリー、１５Ｃ  従動プーリー、１５Ｄ  駆動用ベルト、１９  ベースプレート、２１Ａ  昇降駆動源、２１Ｂ  昇降部材。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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