(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基材であるホログラム又は多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層体において、
前記支持基材上の印刷パターンは、有色インキで印刷し、前記印刷パターンのインキ皮膜は、前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有し、前記印刷パターン支持体の印刷パターンと印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記光反射性基材上で前記印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光反射性基材上の前記印刷パターンの領域と前記印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記印刷パターンが確認できることを特徴とする光反射性基材を有する積層体。
【請求項２】
平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基材であるホログラム又は多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層体において、
前記支持基材上の印刷パターンは、無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキの少なくとも一つ以上で印刷し、前記印刷パターンのインキ皮膜は、前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有し、前記印刷パターン支持体の印刷パターンと印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記光反射性基材上で前記印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光反射性基材上の前記印刷パターンの領域と前記印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記印刷パターンが確認でき、前記積層体を裏面から観察した場合に、前記印刷パターンは無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキのため確認されることがないことを特徴とする光反射性基材を有する積層体。
【請求項３】
平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基材であるホログラム又は多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層体において、
前記支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有する第１のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、前記カモフラージュ模様を印刷した領域内に、前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２のインキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、前記印刷パターン支持体の第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光反射性基材上で第２のインキの印刷パターンの領域と、前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パターンが確認でき、前記積層体を裏面から観察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンは、前記第１のインキのカモフラージュ模様によりカモフラージュされ確認されることがないことを特徴とする光反射性基材を有する積層体。
【請求項４】
平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基材であるホログラム又は多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層体において、
前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２のインキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、前記印刷パターンを印刷した上に、前記支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有する前記第２のインキと同色の第１のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、前記印刷パターン支持体の第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光反射性基材上で第２のインキの印刷パターンの領域と、前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パターンが確認でき、前記積層体を裏面から観察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンは、前記第１のインキのカモフラージュ模様によりカモフラージュされ確認されることがないことを特徴とする光反射性基材を有する積層体。
【請求項５】
前記平滑度の低い支持基材は、平滑度がベック平滑度試験器で１２０秒以下であることを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載の光反射性基材を有する積層体。
【請求項６】
前記印刷パターンは、文字、記号、数字、絵柄及び顔画像の少なくとも一つ以上の個別情報であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５又は６記載の光反射性基材を有する積層体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、銀行券、株券、有価証券、通行券、パスポート、商品券、カード等の偽造、複写を防止する必要性のある貴重印刷物に適用される、光反射性基材を有する積層体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
銀行券、株券、有価証券、通行券、商品券、カード等の貴重印刷物は、その性質上、偽造や改竄されないことが要求される。この防止策として、貴重印刷物の表面に光反射性基材を貼付して真偽判別を行っている。光反射性基材は複写防止、複製防止の観点から特に有効な偽造防止エレメントの一つであるため、多くの貴重印刷物に適用されてきている。
【０００３】
しかしながら、多くの貴重印刷物に採用されているがために、偽造、複製されやすくなってきている。近年、カラー複写機の再現性の向上、高度な微細加工技術の向上、また、インターネット等により誰でも光反射性基材の原理を知ることができるようになってきており、一見見ただけでは判別できないほどに再現性の良い光反射性基材が偽造、複製されてきている。このようなことから、更なる偽造防止効果の高いエレメントが要求されてきている。
【０００４】
また光反射性基材は、少数での生産ではコストがかかり過ぎる為、同じ被貼付物には同じ光反射性基材が使われる。そのことが偽造、複製される大きな要因となっている。
【０００５】
カード基材の隠蔽情報表示部上に透明ホログラム及び金属蒸着されたホログラムを粘着剤によって張り合わせ、前記隠蔽情報表示部を透かして見ることを可能とした隠蔽カードが開示されている（特許第２８９４４９２号公報参照）。
【０００６】
表面に光学的に変化する色彩のあるコーティングが備えられており、少なくともコーティングの部分に線型の打ち出し加工があり、見る角度によって色彩を変化させるデータキャリアが開示されている（特表平１１−５０１５９０号公報参照）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従来は、カード基材に貼付する透明の光反射性基材のその基材下に印刷した印刷部を隠蔽カードでは（特許第２８９４４９２号公報参照）、印刷物を透かして見ることができ、顕像構成が平面的で改竄されやすく、また、データキャリアの表明をコーティングし、そのコーティング部に線型を打ち出し加工を施して、色彩を変化させるものは（特表平１１−５０１５９０号公報参照）、特別な加工装置の必要と、少量多種の製造には向かなく、個別情報の付与に難点があった。
【０００８】
本発明では、これら両者の問題点を解決するためになされたもので、微細な形状を有する支持体の表面に、印刷により印刷パターンを設け、支持基材と印刷パターン表面との微細形状の差異がそのまま支持基材の印刷面に貼付した透明性のない光反射性基材の表面に型付けされ、支持基材面に印刷した印刷パターンをその上に貼付した光反射性基材の表面に浮き出させ、その積層体の表面からは微細形状（平滑度）の差異による印刷パターンが改竄できない構造を有する光反射性基材を有する積層体を提案するものである。
【０００９】
また、本発明の積層体に用いる支持基材に、光透過性のある平滑度の低い支持基材を使用した場合、無色透明インキ又は支持基材とほぼ同色のインキで印刷パターンを印刷することにより、裏面から印刷パターンを確認することができないため秘匿性が向上する。更に、本発明の支持基材を光透過性のある平滑度の低い支持基材を用い、支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有する第１のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、カモフラージュ模様の領域内の上側（後刷）又はカモフラージュ模様の領域内の下側（先刷：この場合、印刷パターンとカモフラージュ模様のインキは同色）に、支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２のインキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、印刷パターン支持体の第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体においても、裏面から観察するとカモフラージュ模様によって第２のインキの印刷パターンを確認することができないため秘匿性が向上する。
【００１０】
【発明を解決しようとする手段】
本発明は、平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基材であるホログラム又は多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層体において、前記支持基材上の印刷パターンは、有色インキで印刷し、前記印刷パターンのインキ皮膜は、前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有し、前記印刷パターン支持体の印刷パターンと印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記光反射性基材上で前記印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光反射性基材上の前記印刷パターンの領域と前記印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記印刷パターンが確認できることを特徴とする光反射性基材を有する積層体である。
【００１１】
また、本発明は、平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基材であるホログラム又は多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層体において、前記支持基材上の印刷パターンは、無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキの少なくとも一つ以上で印刷し、前記印刷パターンのインキ皮膜は、前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有し、前記印刷パターン支持体の印刷パターンと印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記光反射性基材上で前記印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光反射性基材上の前記印刷パターンの領域と前記印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記印刷パターンが確認でき、前記積層体を裏面から観察した場合に、前記印刷パターンは無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキのため確認されることがないことを特徴とする光反射性基材を有する積層体である。
【００１２】
また、本発明は、平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基材であるホログラム又は多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層体において、前記支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有する第１のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、前記カモフラージュ模様を印刷した領域内に、前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２のインキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、前記印刷パターン支持体の第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光反射性基材上で第２のインキの印刷パターンの領域と、
前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パターンが確認でき、前記積層体を裏面から観察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンは、前記第１のインキのカモフラージュ模様によりカモフラージュされ確認されることがないことを特徴とする光反射性基材を有する積層体である。
【００１３】
また、本発明は、平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設けた印刷パターン支持体と、裏面に接着層を有する光透過性のない光反射性基材であるホログラム又は多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルターの光学的変化素子とを、前記印刷パターンを有する面を前記光反射性基材との接着面として貼付した光反射性基材を有する積層体において、前記支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２のインキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、前記印刷パターンを印刷した上に、前記支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有する前記第２のインキと同色の第１のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、前記印刷パターン支持体の第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体であって、前記積層体を反射光で観察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、前記光反射性基材上で第２のインキの印刷パターンの領域と、前記第２のインキの印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて前記光反射性基材上で前記第２のインキの印刷パターンが確認でき、前記積層体を裏面から観察した場合に、前記第２のインキの印刷パターンは、前記第１のインキのカモフラージュ模様によりカモフラージュされ確認されることがないことを特徴とする光反射性基材を有する積層体である。
【００１５】
また、本発明の平滑度の低い支持基材は、平滑度がベック平滑度試験器で１２０秒以下であることを特徴とする光反射性基材を有する積層体である。
【００１６】
また、本発明の印刷パターンは、文字、記号、数字、絵柄及び顔画像の少なくとも一つ以上の個別情報であることを特徴とする光反射性基材を有する積層体である。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１乃至図３は本発明の基本原理を示したものである。図１乃至図３は光反射性基材に、一般的によく使われている裏面に接着層を有する光透過性のないホログラム箔を用い、図１は平滑度の高い支持基材（１’）に裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したもの、図２は平滑度の低い支持基材（１）に裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したもの、図３は平滑度の低い支持基材（１）上に印刷パターン（４）を印刷した印刷パターン支持体の印刷パターンを有する面の上に裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したものである。
【００１８】
図１は平滑度の高い支持基材（１’）に裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したものである。支持基材（１’）の平滑度が高いため、貼付されたホログラム箔（３）も平滑となる。ホログラム箔（３）は、入射光（６）が入ると乱反射が起こらないため、きれいな反射光（７）となる。
【００１９】
図２は平滑度の低い支持基材（１）に裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したものである。支持基材（１）の平滑度が低いため、貼付されたホログラム箔（３）も平滑とならない。ホログラム箔（３）は、入射光（６）が入ると乱反射（８）が起こるため、きれいな反射光（７）とならず、図１に示した平滑度の高い支持基材（１’）に、裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したものよりも全体的に白く濁ったようになる。
【００２０】
図３は平滑度の低い支持基材（１）上に印刷パターン（４）を印刷した印刷パターン支持体の印刷パターンを有する面の上に裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したものである。平滑度の低い支持基材（１）に印刷パターン（４）を印刷することで印刷部が平滑になり、印刷された部分と印刷されてない部分にホログラム箔（３）を貼付すると、ホログラム箔（３）に印刷された部分と印刷されてない部分の平滑度の違いが型付けされる。ここでの型付とは、エンボスを施すことではなく、スタンパー等で貼付を施すことで、印刷された部分と印刷されてない部分の平滑度の違いがホログラム箔の形状に影響を及ぼすことである。この積層体を反射光で確認した場合に、印刷パターン（４）では貼付面が平滑になっているため、その領域のホログラム箔（３）も平滑になり、入射光（６）が入ると乱反射（８）が起こらないため、きれいな反射光（７）となり、印刷されてない部分では貼付面が平滑になっていないため、その領域のホログラム箔（３）も平滑にならず、入射光（６）が入ると乱反射（８）が起こるため、きれいな反射光（７）とならず、白く濁ったようになる。この反射の起こり方の違いによって、ホログラム箔（３）の印刷パターン（４）の領域と印刷されてない部分の領域に輝度の差が生じてホログラム箔（３）上で印刷パターン（４）が確認できる。
【００２１】
図３の場合、印刷パターンのインキは、有色インキ、無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキを用いることができる。平滑度の低い支持基材に光透過性を有する支持基材を用い、無色透明インキ又は基材とほぼ同色のインキを用いた場合に、本発明の積層体を裏面から観察した場合に、印刷パターンを確認することができないため秘匿性が向上する。また、平滑度の低い支持基材に光透過性を有する支持基材を用い、基材と異なる色彩のインキを印刷パターンに用いた場合に、裏面にカモフラージュ模様を印刷することにより、裏面から観察した場合に、印刷パターンを確認することができなくなり秘匿性が向上する。光透過性を有する支持基材の不透明度（％）は、ハンター反射率計で９０％以下が好ましい。
【００２２】
図４は平滑度の低い支持基材（１）に支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有するインキ皮膜が生じるインキによるカモフラージュ模様（５）を印刷し、その上に支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有するインキ皮膜が生じる印刷パターン（４）を重ねて印刷し、その上に裏面に接着層（２）を有する光透過性のないホログラム箔（３）を貼付したものである。カモフラージュ模様（５）のインキが平滑度の低い支持基材（３）中に浸透していくため、印刷されていない部分との平滑度の違いにあまり差が生じない。カモフラージュ模様（５）上に浸透性の悪いインキによる印刷パターン（４）を重ねて印刷し、その上に光反射性基材を貼付すると、カモフラージュ模様（５）は、インキが支持基材中に浸透してしまい、印刷されていない部分との平滑度の変化があまり生じないが、印刷パターン（４）のインキは浸透性が悪いため平滑になり、反射光で確認した場合に、印刷パターン（４）では貼付面が平滑になっているためその領域のホログラム箔（３）も平滑となり、入射光（６）が入ると乱反射（８）が起こらないため、きれいな反射光（７）となり、カモフラージュ模様（５）及び印刷されてない部分では貼付面が平滑になっていないためその領域のホログラム箔（３）も平滑にならず、入射光（６）が入ると乱反射（８）が起こるため、きれいな反射光（７）とならず、白く濁ったようになる。この乱反射の起こり方の違いによって印刷パターン（４）を確認することが出来る。
【００２３】
図４の場合、平滑度の低い支持基材に光透過性を有する支持基材を用いた場合に、積層体を裏面から観察した場合に、印刷パターンは、カモフラージュ模様によりカモフラージュされ確認されることがないため秘匿性が向上する。また、図４の場合、カモフラージュ模様を印刷した上に印刷パターンを印刷しているが、例えば、印刷パターンを印刷した上にカモフラージュ模様を重ねて印刷しても同様な効果が得られる。この場合、印刷パターンのインキとカモフラージュ模様のインキの色彩が同色である必要がある。また、平滑度の低い支持基材に光透過性を有する支持基材を用い、印刷パターンのインキとカモフラージュ模様のインキの色彩が同色の場合、カモフラージュ模様を印刷した上に印刷パターンを印刷しなくとも、印刷パターンの周辺部にカモフラージュ模様を印刷することによって、裏面から観察した場合に、印刷パターンを確認することができなくなり秘匿性が向上する。
【００２４】
上記記載では光反射性基材にホログラム箔を用いているが、本発明はこれに限定されず、光を反射する基材であればよく、ホログラム、多重回折格子若しくは薄膜干渉フィルター等の光学的変化素子又は金属薄膜の光反射性素材を用いることが出来る。
【００２５】
本発明に用いる平滑度の低い支持基材は、紙葉類、フィルム、プラスチック、金属等を用いることができる。また、本発明に用いる平滑度の低い支持基材は、平滑度がベック平滑度試験器（ＪＩＳ  Ｐ  ８１３０）での測定値で１２０秒以下が望ましい。更に好ましくは１００秒以下が好ましい。これよりも平滑度が高いと、印刷を行っても印刷面と被印刷面との平滑度に差が生じなくなってしまい、印刷パターンが確認できない。
【００２６】
また、本発明の印刷パターンに用いるインキは、有色インキ、無色透明インキ又は支持基材とほぼ同色のインキを用いることができる。また、印刷パターンに用いるインキ皮膜は、支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する必要がある。本発明の支持基材を光透過性のある平滑度の低い支持基材を用い、有色インキで印刷パターンを印刷した場合に、裏面から印刷パターンを確認することができる。本発明の支持基材を光透過性のある平滑度の低い支持基材を用い、無色透明インキ又は支持基材とほぼ同色のインキで印刷パターンを印刷した場合に、裏面から印刷パターンを確認することができないため秘匿性が向上する。更に、本発明の支持基材を光透過性のある平滑度の低い支持基材を用い、支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有するインキ皮膜の第２のインキで印刷パターンを設け、印刷パターンの周辺領域に、支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有するインキ皮膜の第１のインキでカモフラージュ模様を設けた場合に、光反射性基材上でカモフラージュ模様は確認することはできないが、印刷パターンが確認でき、裏面から観察した場合に、カモフラージュ模様によって印刷パターンを確認することができないため秘匿性が向上する。
【００２７】
また、本発明の印刷パターンは、文字、記号、数字、絵柄及び顔画像等の少なくとも一つ以上の個別情報を用いることができる。
【００２８】
本発明の印刷パターン及びカモフラージュ模様の印刷方法は特に限定されるものではない。
【００２９】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明するが、本発明の内容は、これらの実施例の範囲に限定されるものではない。
【００３０】
（実施例１）
ホログラムパターン（Ａ）を設けた裏面に接着層を有する反射型ホログラム箔（３）を図５に示す。平滑度３６秒の用紙（１）に印刷パターン（４）をレーザプリンタによって印刷した印刷パターン支持体を図６に示す。このときの印刷パターン（４）のインキ皮膜は、平滑度５２秒である。図７に示すように、印刷パターン（４）を印刷した用紙（１）に、裏面に接着層（２）を有する反射型ホログラム箔（３）を貼付（印刷パターン上と印刷パターンを施していない領域）し、実施例１の積層体（９）を作製した。反射型ホログラム箔（３）を用紙（１）に貼付することによって、反射型ホログラム箔（３）に用紙（１）と印刷パターン（４）の平滑度の違いが型付けされる。
【００３１】
図８に示すように  積層体（９）を反射光で観察した場合、反射型ホログラム箔（３）上で印刷パターン（４）の領域は平滑度が高いため乱反射することなく、反射型ホログラム箔（３）上で印刷パターン（４）以外の領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、反射型ホログラム箔（３）上の印刷パターン（４）の領域と印刷パターン（４）以外の領域に輝度の差が生じて反射型ホログラム箔（３）上で印刷パターン（４）が確認できた。また、反射型ホログラム箔（３）に設けたホログラムパターン（Ａ）も確認できた。
【００３２】
（実施例２）
実施例１と同様のデザインで、光透過性を有する平滑度３６秒の用紙に印刷パターンを透明インキによって熱転写プリンタした印刷パターン支持体を作製した。このときの印刷パターン（４）のインキ皮膜は、平滑度５２秒である。印刷パターンを印刷した用紙に、裏面に接着層を有する反射型ホログラム箔を貼付（印刷パターン上と印刷パターンを施していない領域）し、実施例２の積層体を作製した。この実施例２の積層体を反射光で観察した場合に、透明インキにも係わらず、実施例１と同様に印刷パターンが確認できた。また、反射型ホログラム箔に設けたホログラムパターンも確認できた。用紙に、光透過性を有する平滑度３６秒の用紙を用いているため、通常の有色インキでは、用紙の裏面から印刷パターンが確認できるが、透明インキで印刷しているため用紙の裏面からは印刷パターンを確認することができなかった。
【００３３】
（実施例３）
平滑度２１秒の用紙（１）に図９のカモフラージュ模様（５）を浸透性の良いインキとしてインクジェットプリンタによって印刷し、その上に浸透性の悪いインキとしてレーザプリンタによって印刷パターンを印刷し、その上にホログラム箔を貼付し、実施例３の積層体を作製した。実施例３の積層体を反射光で観察した場合に、カモフラージュ模様は確認することができなく、ホログラムパターン（Ａ）とレーザプリンタによって印刷した印刷パターンのみを確認することが出来た。しかし用紙の裏面から観察すると、図６のレーザプリンタによって印刷した印刷パターンはインクジェットプリンタによって印刷したカモフラージュ模様によってカモフラージュされ確認することが出来なかった。
【００３４】
（実施例４）
実施例１のホログラム箔の代わりに▲１▼多重回折格子、▲２▼薄膜干渉フィルター▲３▼金属薄膜を用いて実施例１と同様の構成で三つのサンプルを作製した。三つのサンプルにおいても実施例１の印刷物と同様な効果が得られた。
【００３５】
（実施例５）
用紙の平滑度、印刷パターンの平滑度をベック平滑度試験器（ＪＩＳ  Ｐ  ８１３０）により測定し、適性値を把握した。印刷パターンの確認度の関係は、印刷パターンがはっきりと確認できるものを○、印刷パターンがはっきりとではないが確認できるものを△、全く確認できないものを×という三段階で評価した。評価結果については表１に示す。
【００３６】
【表１】
0003619896.tif 000002
【００３７】
表１に示すように用紙の平滑度が１２０秒以下で、且つ、用紙の平滑度と印刷パターンの平滑度に差が生じると印刷パターンを確認することができることがわかる。
【００３８】
以上、本発明の実施例に基づいて説明したが、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲記載における技術的思想の範囲内であれば、その他のいろいろな実施の形態が考えられる。
【００３９】
【発明の効果】
本発明の積層体を反射光で観察した場合に、光反射性基材上で印刷パターンの領域は平滑度が高いため乱反射することなく、光反射性基材上で印刷パターンを施していない領域は平滑度が低いため乱反射が起こるため、光反射性基材上の印刷パターンの領域と印刷パターンを施していない領域に輝度の差が生じて光反射性基材上で印刷パターンが確認でき、光反射性基材に画像等の情報を設けたホログラム等を用いることにより、本発明の積層体を反射光で観察した場合に、印刷パターンとホログラムに設けた画像等の情報が確認できるため、誰でも容易に真偽判別することが可能であり、銀行券、株券、有価証券、通行券、パスポート、カード等の偽造、複写を防止する必要性のある貴重印刷物に適用することができる。
【００４０】
本発明の支持基材を光透過性のある平滑度の低い支持基材を用い、無色透明インキ又は支持基材とほぼ同色のインキで印刷パターンを印刷した場合に、裏面から印刷パターンを確認することができないため秘匿性が向上する。更に、本発明の支持基材を光透過性のある平滑度の低い支持基材を用い、支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有する第１のインキのインキ皮膜でカモフラージュ模様を設け、カモフラージュ模様の領域内の上側（後刷）又はカモフラージュ模様の領域内の下側（先刷：この場合、印刷パターンとカモフラージュ模様のインキは同色）に、支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有する第２のインキのインキ皮膜で印刷パターンを設け、第２のインキの印刷パターンと第２のインキの印刷パターンを施していない領域との平滑度の違いが前記光反射性基材の平滑度の違いとなって型付される光反射性基材を有する積層体においても、裏面から観察するとカモフラージュ模様によって印刷パターンを確認することができないため秘匿性が向上する。
【００４１】
また、光反射性基材にホログラムを用い、印刷パターンを個別情報にすることにより、個別情報を有するホログラムのような擬似的なホログラムを作製することができる。このことから個別情報を付与するためのホログラム原版を作製する必要がなく、コストを低減することができる。更に、光反射性基材上に印刷パターンを設けた場合に、印刷パターンを改竄される恐れが生じるが、本発明は平滑度の低い支持基材上に印刷パターンを設け、その上に光反射性基材を貼付しているため、印刷パターンを改竄することが困難となる。
【００４２】
【図面の簡単な説明】
【図１】平滑度の高い支持基材に裏面に接着層を有する光透過性のないホログラム箔を貼付した断面図である。
【図２】平滑度の低い支持基材に裏面に接着層を有する光透過性のないホログラム箔を貼付した断面図である。
【図３】平滑度の低い支持基材上に、印刷パターンを印刷した印刷パターン支持体の印刷パターンを有する面の上に、裏面に接着層を有する光透過性のないホログラム箔を貼付した断面図である。
【図４】平滑度の低い支持基材に支持基材の平滑度とほぼ同等の平滑度を有するインキ皮膜が生じるインキによるカモフラージュ模様を印刷し、その上に支持基材の平滑度よりも高い平滑度を有するインキ皮膜が生じる印刷パターンを重ねて印刷し、その上に裏面に接着層を有する光透過性のないホログラム箔を貼付した断面図及び平面図である。
【図５】本発明における、ホログラムパターンを設けた裏面に接着層を有する反射型ホログラム箔を示す図である。
【図６】本発明における、用紙に印刷パターンを印刷した印刷パターン支持体を示す図である。
【図７】本発明の積層体の断面図を示す図である。
【図８】本発明の積層体を反射光で観察した場合の図である。
【図９】浸透性の良いインキで印刷したカモフラージュ模様を示す図である。
【符号の説明】
１        平滑度の低い支持基材
１’      平滑度の高い支持基材
２        接着層
３        光透過性のないホログラム箔
４        印刷パターン
５        カモフラージュ模様
６        入射光
７        反射光
８        乱反射光
９        積層体
Ａ        ホログラムパターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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