(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
グラビアシリンダーの表面に対し加工を行う彫刻ヘッドを備え、所望の画像データに応じて前記グラビアシリンダーに対しグラビア印刷用のセルを彫刻するグラビア彫刻装置であって、
通常のグラビアシリンダーに対し、所定の彫刻条件で彫刻を施す第１の彫刻モードと、  後工程でエッチングを行うための保護層付きのグラビアシリンダーに対し、前記彫刻条件を補正して彫刻を施す第２の彫刻モードと、を備え、
前記第２の彫刻モードでは、エッチング工程でのエッチング条件に基づいて前記彫刻条件を補正することを特徴とするグラビア彫刻装置。
【請求項２】
前記第２の彫刻モードでは、前記保護層の種類または厚みの少なくとも一方に基づいて前記彫刻条件を補正するようにした請求項１に記載のグラビア彫刻装置。
【請求項３】
前記彫刻条件の補正は、前記画像データの補正により行うようにした請求項１または２に記載のグラビア彫刻装置。
【請求項４】
前記彫刻条件の補正は、前記グラビアシリンダーと彫刻ヘッドとの間の距離の可変により行うようにした請求項１ないし３の何れかに記載のグラビア彫刻装置。
【請求項５】
グラビアシリンダーの周面に当接して彫刻で生じたバリを除去するためのバリ除去手段と、
前記第２の彫刻モードにおいて前記バリ除去手段の使用を禁止する禁止手段とを備える請求項１に記載のグラビア彫刻装置。
【請求項６】
前記シリンダーの軸線方向に沿って移動可能に設けられ、前記保護層の上から前記グラビアシリンダーと保護層との間の境界面の位置を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて前記彫刻ヘッドの前記グラビアシリンダーに対する距離を調整する距離調整手段とを備える請求項１に記載のグラビア彫刻装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、グラビアシリンダーに対しグラビア印刷用のセルを彫刻するグラビア彫刻装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
各種製品のビニール包装等に使用される軟包装の分野においては、グラビアシリンダーを用いたグラビア印刷が用いられている。このグラビアシリンダーに対しグラビア印刷用のセルを形成する装置としてはグラビア彫刻装置があり、例えばダイヤモンド製の彫刻針をシリンダーに対し振動させてシリンダー表面を彫刻する機械彫刻式のグラビア彫刻装置が公知である。この機械彫刻式のグラビア彫刻装置では、画像データに応じて前記彫刻針の振動量を変化させてセルの体積を定める。そして、当該セルの体積の変化により充填されるインキ量が定まり、そのインキ量の変化によりグラビア印刷時の濃淡が再現される。
【０００３】
前記彫刻針に使用されるダイヤモンドのバイトは先端角が例えば１２０度程度であり、彫刻断面についてもバイト形状に起因してほぼ三角形状になる。従って前記ビニール包装の印刷濃度を上げるためにセル体積の大きなセル、すなわち深いセルを彫刻しようとすると、必然とセル幅も大きくしなければならなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように印刷濃度の高い彫刻をしようとする場合、従来のグラビア彫刻装置ではセル幅も大きくなるので彫刻線数が低くなり、高精細な印刷はできなかった。これを防止するためには、より深く彫刻することができる先端角の小さい鋭利なダイヤモンドのバイトを用いることが考えられるが、この場合は彫刻針が折れやすくなるという欠点があって実用的ではなかった。
【０００５】
この問題を解決するために、彫刻後のセルをエッチングにより拡大させる手法が考えられる。すなわちエッチング用の保護層を塗布したグラビアシリンダーに対し彫刻を施すと、セルの形成にともないセル上の保護層が除去される。これをエッチングすることにより彫刻されたセル部分だけを深くエッチング処理することができる。
【０００６】
本発明では、彫刻後にエッチング工程を併用する場合にも容易に彫刻作業が行えるグラビア彫刻装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、グラビアシリンダーの表面に対し加工を行う彫刻ヘッドを備え、所望の画像データに応じて前記グラビアシリンダーに対しグラビア印刷用のセルを彫刻するグラビア彫刻装置であって、通常のグラビアシリンダーに対し、所定の彫刻条件で彫刻を施す第１の彫刻モードと、後工程でエッチングを行うための保護層付きのグラビアシリンダーに対し、前記彫刻条件を補正して彫刻を施す第２の彫刻モードと、を備え、第２の彫刻モードでは、エッチング工程でのエッチング条件に基づいて彫刻条件を補正することを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記第２の彫刻モードでは、前記保護層の種類または厚みの少なくとも一方に基づいて前記彫刻条件を補正する。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の発明において、前記彫刻条件の補正は、前記画像データの補正により行う。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３の何れかに記載の発明において、前記彫刻条件の補正は、前記グラビアシリンダーと彫刻ヘッドとの間の距離の可変により行う。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、グラビアシリンダーの周面に当接して彫刻で生じたバリを除去するためのバリ除去手段と、第２の彫刻モードにおいてバリ除去手段の使用を禁止する禁止手段とを備える。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記シリンダーの軸線方向に沿って移動可能に設けられ、前記保護層の上から前記グラビアシリンダーと保護層との間の境界面の位置を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて前記彫刻ヘッドの前記グラビアシリンダーに対する距離を調整する距離調整手段とを備える。
【００１４】
【発明の実施の形態】
まず本発明の前提となるグラビア彫刻工程とエッチング工程とを併用したグラビア製版工程について図８を用いて説明する。なお図８は各工程でのシリンダー表面近傍での断面を示す図である。
【００１５】
まず図８（Ａ）は、一般的な銅メッキ層ａを表面に有するグラビアシリンダーに対し、さらにエッチング処理用の保護層ｂを形成した状態を表すシリンダー表面の断面図である。ここで前記保護層ｂはエッチング液に腐食されないレジスト材を塗布コーティングして形成するものであって、例えばロジン系、アクリル樹脂系、セルロース系のレジスト材を使用することができる。このレジスト材は前記銅メッキに比較して硬度はかなり低い。なお、エッチング液に腐食されず、彫刻しやすいものであれば、他の材料、例えばホットメルト系接着剤などを用いることもできる。
【００１６】
前記図８（Ａ）で示す保護層ｂ付きのグラビアシリンダーに対し機械的な彫刻を行うと、例えば図８（Ｂ）に示すような断面で彫刻がなされ、彫刻されたセルの部分からは保護層ｂが除去される。この彫刻によるセルｃの体積は、前記保護層ｂの存在を無視できる場合は、ほぼ従来のグラビア彫刻と同じとなる。すなわち前記レジスト材からなる保護層ｂは銅メッキ層よりも遙かに硬度が低いため、彫刻針の進入に対する影響がほとんど無視できるとした場合である。
【００１７】
そして図８（Ｂ）に示す彫刻済みのグラビアシリンダーをエッチング液に浸漬してエッチング処理すると図８（Ｃ）に示すように、保護層ｂの除去された部分、すなわち銅メッキ層ａに形成された開口部からエッチング処理がなされて、セル体積の大きなセルｄが増形成される。このあと図８（Ｄ）のようにレジストを剥離除去し、必要により図８（Ｅ）のようにクロムメッキ層ｆが形成されて、グラビア製版が終了する。このようにエッチング工程を併用すれば通常の彫刻工程で形成したセルｃよりもさらに大きな体積のセルｄを形成することができる。
【００１８】
以下、本実施の形態では、通常のグラビアシリンダーと保護層付きのグラビアシリンダーとの２種類のグラビアシリンダーを使用することができるグラビア彫刻装置について説明する。まず図１は本発明に係るグラビア印刷装置の一例を示す正面図、図２は同装置の上面図、図３は同装置の側断面図である。
【００１９】
図においてグラビア彫刻装置は、基台１と、グラビアシリンダーＧＣを回転可能に保持するための主軸台２および芯押し台３と、グラビアシリンダーＧＣに対し彫刻を行うための彫刻機構４とを有する。
【００２０】
主軸台２は前記基台１上に固設されており、グラビアシリンダーＧＣの取付孔に嵌合するように先端が円錐台形状になった支持部５を回転可能に支持している。そして前記支持部５はモータおよびベルト等からなる駆動機構６により回転駆動される。
【００２１】
一方、芯押し台３にも、グラビアシリンダーＧＣの取付孔に嵌合するように先端が円錐形状になった支持部７が回転可能に支持されている。さらに芯押し台３は前記主軸台２に対し近接または離間するため前記基台１上に施設されたレール８上に移動可能に載置されており、モータ９およびボールネジ１０等からなる駆動機構によって前記主軸台２に対し接近または離間する方向に移動するように構成されている。
【００２２】
このグラビア彫刻装置では、グラビアシリンダーＧＣは図１の２点鎖線で示されるように主軸台２側の支持部５と芯押し台３側の支持部７との間に挟持され、駆動機構６による支持部５の回転に従って回転駆動される。
【００２３】
彫刻機構４は、前記グラビアシリンダーＧＣの軸線方向に沿って移動可能な副走査テーブル１１と、この副走査テーブル１１上に設置されたサブテーブル１２と、このサブテーブル１２上に設置された彫刻ヘッド１３ならびに彫刻後のバリを除去するためのバリ除去手段１４とからなる。
【００２４】
副走査テーブル１１は、前記基台１上に施設されたレール１５に沿ってグラビアシリンダーＧＣの軸線と並行な方向に移動可能な平台状の部材であって、モータ１６よびボールネジ１７によって移動駆動される。この副走査テーブル１１上にはグラビアシリンダーＧＣに対し接離する方向にレール１８が施設されており、このレール１８上にサブテーブル１２が移動可能に載置されている。そしてサブテーブル１２は、モータ１９およびボールネジ２０でシリンダー表面に対し接離する方向に移動される。
【００２５】
次にサブテーブル１２上に設置された彫刻ヘッド１３およびバリ除去手段１４を、図４および図５を用いて説明する。なお図４は彫刻ヘッド１３の側面図、図５は同正面図である。
【００２６】
図において、彫刻ヘッド１３は、サブテーブル１２上に固設された支持台２１と、この支持台２１に対し軸２２を中心にして回動可能に支持されたヘッド本体２３とからなる。ヘッド本体２１は内部に格納空間を有する筐体フレームであって、その中には彫刻針２４を振動させる振動機構２５（図６に図示）と、当該彫刻針２４とシリンダー表面との間の距離を検出するための静電容量式センサー２６とを内蔵している。ここで彫刻針２４はヘッド本体２１からシリンダー表面に向かって突出するように配置されており、静電容量式センサー２６は彫刻針２４に近接した位置で、シリンダー表面までの距離を検出できるように配置されている。なお静電容量式センサー２６の代わりに他の非接触式距離センサーを用いても良い。
【００２７】
一方、ヘッド本体２３の底部は、前記支持台２１上に固設されたピエゾ駆動手段２７上に常置されている。このピエゾ駆動手段２７は複数のピエゾ素子を積層したアクチュエータであって、所定の電圧を印加することで図４および図５における上下方向に微小量の伸縮を可能としている。この構成では、ピエゾ駆動手段２７の伸縮によって、ヘッド本体２３を前記軸２２を中心に回動させることができるので、前記彫刻針２４をグラビアシリンダーＧＣに対し微小量接離させることがリアルタイムに行える。なおピエゾ駆動手段２７に代えて、電磁アクチュエータや高速なモータとボールネジの組み合わせ等を用いても良い。
【００２８】
バリ除去手段１４は、図５に示すように前記ヘッド本体２３の側面および上面の一部を囲うように門型に配置されたアーム部材２８と、このアーム部材２８の前記彫刻針２４の上方位置に設けられたカッター部材２９とからなる。なお本実施の形態では、カッター部材２９は彫刻針２４と同じくダイヤモンド製のバイトからなり、グラビアシリンダーＧＣの回転方向から見て前記彫刻針２４の下流側に位置することになる。
【００２９】
前記アーム部材２８の下端は、図４に示すように側方から見て略Ｌ字型構造をするように短腕部２８ａが形成されており、Ｌ字の交差部近傍が前記支持台２１に対し軸３０を中心として回動自在に支持されている。そしてアーム部材２８の短腕部２８ａとサブテーブル１２との間にはバネ３１が嵌装されており、前記カッター部材２９をシリンダー表面に当接するように付勢している。
【００３０】
一方、前記短腕部２８ａの上方には、電磁ソレノイド３２が備えられており、この電磁ソレノイド３２に所定の電圧が印加されると短腕部２８ａを押し下げて、前記カッター部材２９をシリンダー表面から選択的に待避させることができる。
【００３１】
なお図４において、３３は前記彫刻針２４をシリンダー面に対し前進または後退させるための手動調整用のマイクロメータであって振動機構２５の位置を微動調整させるものである。
【００３２】
次に前記彫刻針２４の振動機構２５の構造について図６を用いて説明する。ここで図６は一般的な振動機構２５の斜視図である。図において、振動機構２５は、ねじり弾性を有し台座３５に対し一端が固設されたねじりシャフト３６と、ねじりシャフト３６の自由端側に固設され彫刻針２４を一端に備えたスタイラス３７と、ねじりシャフトの中間部に固設された略菱形柱状の磁性材料からなるロータ部３８と、ロータ部３８に対し巻回された巻線３９と、ロータ部３８を両側から近接して挟み込むように配置された磁性材料からなるステータ部４０と、ステータ部４０に磁力を与える永久磁石４１とからなる。
【００３３】
この振動機構では、巻線３９に画像データに基づく彫刻信号を印加するとロータ部３８内に磁束が生じるので、ロータ部３８がステータ部４０の磁界に作用して回転する。このロータ部３８の回転力によりねじりシャフト３６とスタイラス３７とを介して彫刻針２４が駆動される。なお前記彫刻信号は、正弦波状のキャリー信号と画像の濃淡を表す濃度信号とが重畳されており、前記キャリー信号の振幅に応じた周期で濃度信号に応じた振動量だけ彫刻針２４が振動するように構成されている。
【００３４】
本実施の形態におけるグラビア彫刻装置では、まずグラビアシリンダーＧＣが主軸台２と芯押し台３とにより挟持される。そして予め求められたシリンダー径に従って前記サブテーブル１２がシリンダー表面に対し位置決めされる。そしてグラビアシリンダーＧＣが回転されるとともに副走査テーブル１１がグラビアシリンダーの軸線方向に移動される。これにともない画像データに基づく彫刻信号を前記彫刻ヘッド１３に与え、前記彫刻針２４を振動させて彫刻を行う。これによりグラビアシリンダーＧＣの表面にはスパイラル状に画像が形成される。なお、サブテーブル１２の移動を間欠的に行い、シリンダー表面に対し輪切り状に画像を形成してもよい。
【００３５】
なお一般的なグラビアシリンダーＧＣの彫刻の場合は、彫刻により生じたバリは前記バリ除去手段１４により除去することができる。一方、前記保護層付きのグラビアシリンダーＧＣを彫刻する場合は、前記保護層に傷を付けないように前記電磁ソレノイド３２によってバリ除去手段１４をシリンダー表面から待避させておく。
【００３６】
一方、一般的なグラビアシリンダーＧＣでは鉄芯などの基材に対し銅メッキがなされたものが使用され高精度に作成されるが、メッキ厚のバラツキや基材自体の歪みなどにより当該直径は例えば数十μｍ程度の誤差を有する。従って、一般的なグラビア彫刻装置ではシリンダー表面と彫刻ヘッド１３との間の距離を一定に保つための当接部材（シュー）を彫刻ヘッド１３に備えていた。
【００３７】
ところが本実施の形態のグラビア彫刻装置では、保護層付きのグラビアシリンダーＧＣを使用する場合があるため、接触式のシューでは前記バリ除去手段１４と同じく保護層を痛めてしまう可能性がある。従って本実施の形態では、静電容量式センサー２６によって非接触でシリンダー表面までの距離を検出し、この検出結果に応じて前記ピエゾ駆動手段２７を駆動して彫刻針２４とシリンダー表面との間の距離を一定に調整するようにしている。
【００３８】
他方、保護層付きのグラビアシリンダーＧＣにおいても、保護層ｂの厚みが均一ではない可能性がある。このように保護層ｂの厚みが均一でない場合、彫刻ヘッド１３と銅メッキ層ａの表面との間の距離を一定にしなければエッチング処理されるセルの開口部が一定にならない。よって本実施の形態では、図８（Ａ）で示されるグラビアシリンダーにおける銅メッキ層ａと保護層ｂとの間の境界面ｅの位置を検出するようにしている。すなわち静電容量式センサー２６であれば、非誘電体である保護層の厚みを検出できるので、保護層ｂがあっても前記境界面ｅの位置を把握することができる。従って本実施の形態では、保護層付きのグラビアシリンダーＧＣを使用する場合は、前記境界面ｅを検出することで彫刻ヘッドの位置を制御する。
【００３９】
次に図７のフロー図を用いて、本実施の形態におけるグラビア彫刻装置の動作について説明する。図において、まずステップＳ１では装置各部の初期設定や原点復帰などが行われる。次のステップＳ２ではオペレータにより彫刻モードの選択が行われる。すなわち通常のグラビアシリンダーＧＣを用いる場合は、第１の彫刻モードが選択されてステップＳ３に進む。この第１の彫刻モードでは通常の彫刻処理がなされるが、これについての説明は省略する。
【００４０】
これに対し、保護層付きのグラビアシリンダーＧＣが使用される場合は、ステップＳ２で第２の彫刻モードが選択されてステップＳ４以下に進む。この第２の彫刻モードとは、保護層付きのグラビアシリンダーを彫刻処理する場合のモードである。
【００４１】
この第２の彫刻モードでは、第１の彫刻モードに比較して次の２つの特徴がある。まず１つはステップＳ４におけるグラビア彫刻装置の設定変更であり、具体的には前述したとおりバリ除去手段１４を待避することと、静電容量式センサー２６による彫刻ヘッドの制御位置を変更することである。すなわち第２の彫刻モードを選択すると、前記電磁ソレノイド３２が作用してカッター部材２９はシリンダー表面に対し当接を禁止された状態になる。一方、彫刻ヘッドは前記境界面ｅに合わせて位置決めされる。
【００４２】
もう１つは、ステップＳ５における画像データの補正である。このステップＳ５では、後工程のエッチング条件に応じて画像データを予め補正しておき、形成されるセルの体積を所望の値に制御するためのものである。例えば、同じ彫刻条件でセルを彫刻しても、エッチング処理の条件（例えばエッチング時間、エッチング液の種類や活性度など）が異なれば、エッチング後のセルの体積は変動する。従って予め後工程で使用される予定のエッチング処理装置に合わせて画像データを修正する。
【００４３】
本実施の形態の装置では、予め試験的にエッチング条件毎のセル体積の増加比率を求めておき、その増加比率に応じて画像データを補正するようにしている。例えば、簡単なモデルケースとして以下を考える。なお、このモデルケースは理解を容易にするためのものであって、数値は実際のものではない。この例ではエッチングによるセル体積の増加比率が５０％だとすると、彫刻時のセル体積が６０のセルは、エッチング後にセル体積９０となる。ここでオペレータがエッチングによる濃度アップを多少低く押さえ目に設定して、例えばセル体積５０のセルをセル体積８０程度に収めたい場合は、予め彫刻時のセル体積が４０になるように画像データが補正される。
【００４４】
上記の例は単純化したモデルケースであり、実際はセルの開口部面積によりセル体積の増加比率は変化し、開口部の小さいセルは、大きいセルに比べてセル体積の増加比率が小さくなる。従って上記補正はセルの大きさ毎に行うのが好ましい。上記のようにエッチング条件に応じて予め画像データを補正することにより、エッチング後のセルの寸法を所望の値に設定することができる。
【００４５】
一方、エッチング条件によってはセルの幅方向にエッチングが進む、所謂サイドエッチングという現象が生じる場合もある。これは保護層下の銅メッキ部分がエッチングにより浸食され、銅メッキ層に形成されたセルの開口部よりもセル幅が大きくなってしまう場合である。このような場合は、セル間の隙間、所謂一般的に土手と呼ばれる部分の幅が不当に小さくなってしまい印刷時に悪影響を及ぼす場合がある。従って、ステップＳ５における画像データの補正では、このようなサイドエッチングによるセル幅の増加を見込んで、予め彫刻時のセル幅を小さくしておくように画像データを補正することもある。
【００４６】
本実施の形態では、上記ステップＳ５に示すように予め画像データを補正しておいて、エッチング後のセルの寸法を所望の値にすることができる。これはエッチング処理装置側の条件を変更してエッチングの進行度を可変するよりも遙かに容易である。
【００４７】
図７に戻って、ステップＳ６では、彫刻が行われる。この彫刻動作自体はステップＳ３における通常の彫刻動作と同じであるため以下の説明は省略する。そしてステップＳ７で次の彫刻作業があるかどうかが判断されて、次の彫刻作業がある場合はステップＳ１に戻り、次の彫刻作業がなければ全ての作業が終了する。
【００４８】
［その他の実施の形態］
【００４９】
（１）シリンダー表面を観察する手段を有し、通常のグラビアシリンダーか保護層付きのグラビアシリンダーかを自動的に判断する手段を有しても良い。例えばシリンダー表面の色や反射率などを検出し、予め得ている基準値と比較する手段を備えていれば達成する事ができる。
【００５０】
（２）上記実施の形態では前記保護層の硬度や厚みを無視しているが、この保護層の種類や厚みに応じて彫刻条件を補正してもよい。例えば予め保護層の種類や厚み毎にテスト彫刻を行って当該保護層の存在によるセル寸法の変化を予め測定しておく。この結果に基づいて、保護層の種類や厚みに応じて予め最適な彫刻針のシリンダー面に対する距離や画像データの補正量を設定するようにしてもよい。
【００５１】
（３）第１の彫刻モードと第２の彫刻モードとで、その他の彫刻条件を変化させても良い。例えば、第２の彫刻モードでは後工程のエッチングによりセル体積の増加が見込めるので、第１の彫刻モードよりも高い彫刻線数に設定したり、先端角の広い彫刻針を使用するようにしてもよい。
【００５２】
（４）上記実施の形態では、全ての画像データを補正してから彫刻作業を行うようにしているが、彫刻作業中に順次必要な画像データまたは彫刻信号を補正しながら彫刻作業を行うようにしてもよい。
【００５３】
（５）上記実施の形態では、画像データを補正することによりエッチング後のセル寸法を所望の値にするようにしているが、彫刻針とシリンダー表面との間の距離を可変することにより達成するようにしてもよい。
【００５４】
（６）上記実施の形態では、機械式のグラビア彫刻装置を使用しているが、ビームエネルギーにより穿孔加工を行ってセルを形成するレーザグラビア彫刻装置を使用することもできる。
【００５５】
【発明の効果】
請求項１に記載された発明では、通常のグラビアシリンダーと保護層付きのグラビアシリンダーとを選択して使用することができ、保護層付きのグラビアシリンダーに彫刻を施す場合は、後工程のエッチング処理によって彫刻したセルの体積を増加させることができる。また、エッチング条件に応じて彫刻条件を補正するため、エッチング後のセルの寸法を所望の値にすることができる。
【００５６】
請求項２に記載の発明では、保護層の種類や厚み等に応じて彫刻条件を補正するため、より正確な彫刻を行うことができる。
【００５７】
請求項３に記載の発明では、画像データの補正によりエッチング後のセルの寸法を所望の値にすることができる。
【００５８】
請求項４に記載の発明では、彫刻ヘッドとシリンダー表面との間の距離の可変によりエッチング後のセルの寸法を所望の値にすることができる。
【００５９】
請求項５に記載の発明では、バリ除去手段が保護層付きのグラビアシリンダーの彫刻時には働かないので、保護層の破損を防止することができる。
【００６１】
請求項６に記載の発明では、保護層とシリンダー表面（銅メッキ表面）との間の境界を検出して、彫刻ヘッドとグラビアシリンダーとの間の距離を調整するようにしているので、保護層の厚みが均一でない場合でも正確な彫刻が行える。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施の形態に係るグラビア彫刻装置の正面図。
【図２】同グラビア彫刻装置の上面図。
【図３】同グラビア彫刻装置の側断面図。
【図４】同グラビア彫刻装置の彫刻ヘッドの側面図。
【図５】同彫刻ヘッドの正面図。
【図６】彫刻針の振動機構を示す斜視図。
【図７】同グラビア彫刻装置の動作手順を示すフローチャート。
【図８】彫刻工程後にエッチング工程を行う場合のセルの状態を示す説明図
【符号の説明】
１      基台
２      主軸台
３      芯押し台
４      彫刻機構
１３    彫刻ヘッド
１４    バリ除去手段
２４    彫刻針
２５    振動機構
２６    静電容量式センサー
２７    ピエゾ駆動手段
２８    アーム部材
２９    カッター部材
３２    電磁ソレノイド
ａ    銅メッキ層
ｂ    保護層
ｃ    彫刻後のセル
ｄ    エッチング後のセル
ｅ    境界面
ｆ    クロムメッキ層
ＧＣ    グラビアシリンダー
【図１】
0003678067.tif 000002
【図２】
0003678067.tif 000003
【図３】
0003678067.tif 000004
【図４】
0003678067.tif 000005
【図５】
0003678067.tif 000006
【図６】
0003678067.tif 000007
【図７】
0003678067.tif 000008
【図８】
0003678067.tif 000009