(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に設けられた磁性層とを有する磁気記録媒体において、磁性層又は該磁性層よりも表面側に設けられた層に、隣接する炭素原子に各々ヒドロキシル基が結合した基を有し、下記〔化１〕〜〔化３〕に示す一般式（Ｉ）〜（IX）で表されるリン化合物を含有させたことを特徴とする磁気記録媒体。
【化１】
0003608586.tif 000009
【化２】
0003608586.tif 000010
【化３】
0003608586.tif 000011
（上記式（Ｉ）〜（IX）中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なる基であって、炭素数２〜４の直鎖又は分岐鎖アルキレン基を表す。ｐ及びｑは０〜３０の数を表す。また、Ｒ3及びＲ4は、同一又は異なる基であって、水素原子、炭素数１〜３０の直鎖アルキル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルキル基、炭素数２〜３０の直鎖アルケニル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルケニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、炭素数１〜３０のハロゲン化アルキル基、又は炭素数６〜３０のハロゲン化アリール基を表す。ただし、ｐが０のときＲ3は水素原子ではなく、ｑが０のときＲ4は水素原子ではない。Ｒ5は炭素数１〜３０の直鎖アルキル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルキル基、炭素数２〜３０の直鎖アルケニル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルケニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、炭素数１〜３０のハロゲン化アルキル基、又は炭素数６〜３０のハロゲン化アリール基を表す。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐久性に優れた磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
近年、磁気記録媒体に対しては、その小型化と共に記録の高密度化が要求されている。斯る要求に応えるために、種々の提案がなされているが、高密度化の要求に応えるに従い、耐久性が低下するという問題が生じている。
特に、磁気テープ等の塗布型の磁気記録媒体においては、高密度化のために、磁性粉が微粒子化されており、これに伴って耐久性が低下するという問題がある。
【０００３】
従って、本発明の目的は、高密度記録に対応し且つ耐久性にも優れた磁気記録媒体を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、特定のリン化合物を磁性層又は該磁性層よりも表面側に位置する層に含有させてなる磁気記録媒体が、上記目的を達成しうることを知見した。
【０００５】
本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、支持体と、該支持体上に設けられた磁性層とを有する磁気記録媒体において、磁性層又は該磁性層よりも表面側に設けられた層に、隣接する炭素原子に各々ヒドロキシル基が結合した基を有するリン化合物を含有させたことを特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。
【０００６】
また、本発明は、上記リン化合物が、２〜４個のヒドロキシル基を有する上記磁気記録媒体を提供するものである。
また、本発明は、上記リン化合物が、下記〔化４〕〜〔化６〕（それぞれ、上記〔化１〕〜〔化３〕と同じ）に示す一般式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表される化合物である上記磁気記録媒体を提供するものである。
【０００７】
【化４】
0003608586.tif 000002
【０００８】
【化５】
0003608586.tif 000003
【０００９】
【化６】
0003608586.tif 000004
【００１０】
（上記式（Ｉ）  〜（ＩＸ）中、Ｒ１  及びＲ２  は、同一又は異なる基であって、炭素数２〜４の直鎖又は分岐鎖アルキレン基を表す。ｐ及びｑは０〜３０の数を表す。また、Ｒ３  及びＲ４  は、同一又は異なる基であって、水素原子、炭素数１〜３０の直鎖アルキル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルキル基、炭素数２〜３０の直鎖アルケニル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルケニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、炭素数１〜３０のハロゲン化アルキル基、又は炭素数６〜３０のハロゲン化アリール基を表す。ただし、ｐが０のときＲ３  は水素原子ではなく、ｑが０のときＲ４  は水素原子ではない。Ｒ５  は炭素数１〜３０の直鎖アルキル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルキル基、炭素数２〜３０の直鎖アルケニル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルケニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、炭素数１〜３０のハロゲン化アルキル基、又は炭素数６〜３０のハロゲン化アリール基を表す。）
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の磁気記録媒体について更に詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、磁性層又は該磁性層よりも表面側に設けられた層に、特定のリン化合物を含有させたことを特徴とする。
【００１２】
本発明に用いられる上記の特定のリン化合物は、隣接する炭素原子に各々ヒドロキシル基が結合した基を有するリン化合物であり、該リン化合物は、２〜４個のヒドロキシル基を有するのが好ましい。
上記の隣接する炭素原子に各々ヒドロキシル基が結合した基の具体例としては、２，３−ジヒドロキシプロピル基、２，３−ジヒドロキシブチル基、２，３，４−トリヒドロキシブチル基、２，３−ジヒドロキシオクチル基、３，４−ジヒドロキシブチル基等が挙げられる。
【００１３】
このようなリン化合物としては、下記〔化７〕〜〔化９〕（それぞれ、上記〔化１〕〜〔化３〕と同じ）に示す下記の一般式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものが好適なものとして例示されるが、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
【００１４】
【化７】
0003608586.tif 000005
【００１５】
【化８】
0003608586.tif 000006
【００１６】
【化９】
0003608586.tif 000007
【００１７】
（上記式（Ｉ）  〜（ＩＸ）中、Ｒ１  及びＲ２  は、同一又は異なる基であって、炭素数２〜４の直鎖又は分岐鎖アルキレン基を表す。ｐ及びｑは０〜３０の数を表す。また、Ｒ３  及びＲ４  は、同一又は異なる基であって、水素原子、炭素数１〜３０の直鎖アルキル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルキル基、炭素数２〜３０の直鎖アルケニル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルケニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、炭素数１〜３０のハロゲン化アルキル基、又は炭素数６〜３０のハロゲン化アリール基を表す。ただし、ｐが０のときＲ３  は水素原子ではなく、ｑが０のときＲ４  は水素原子ではない。Ｒ５  は炭素数１〜３０の直鎖アルキル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルキル基、炭素数２〜３０の直鎖アルケニル基、炭素数３〜３０の分岐鎖アルケニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアラルキル基、炭素数１〜３０のハロゲン化アルキル基、又は炭素数６〜３０のハロゲン化アリール基を表す。）
【００１８】
上記式（Ｉ）  〜（ＩＸ）中、Ｒ１  、Ｒ２  が示す上記の炭素数２〜４の直鎖又は分岐鎖アルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基、イソブチレン基、テトラメチレン基等が挙げられる。
【００１９】
また、上記ｐ及びｑは、これが大きくなると分子量が大きくなり、結合剤との相溶性が低下する点、及びリン濃度が低下し、上記リン化合物を添加する効果が低下する点から、０〜３０の数が好ましく、さらに好ましくは０〜２０の数であり、特に好ましくは０〜１０の数である。
【００２０】
上記式（Ｉ）  〜（ＩＸ）中、Ｒ３  、Ｒ４  及びＲ５  で示される基のうち、直鎖又は分岐鎖アルキル基、直鎖又は分岐鎖アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基及びハロゲン化アリール基の炭素数の上限は、炭素数が大きくなると極性が小さくなり、摩耗防止効果が劣る観点から通常３０以下、好ましくは２４以下であり、さらに好ましくは１８以下、最も好ましくは１２以下である。
【００２１】
炭素数１〜３０の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、テトラコシル基、オクタコシル基、トリアコンチル基等が挙げられる。
【００２２】
炭素数３〜３０の分岐鎖アルキル基としては、イソプロピル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、２−メチルペンチル基、２−エチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、シクロヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、２−エチルペンチル基、２−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、３，５−ジメチルヘキシル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、２，４，６−トリメチルヘプチル基、２，４，６，８−テトラメチルノニル基、２，（３’−メチルブチル）−７−メチルオクチル基、２−ペンチルノニル基、２−ヘキシルデシル基、２−ヘプチルウンデシル基、２−（１’，３’，３’−トリメチルブチル）−５，７’，７’−トリメチルオクチル基、２−（３’−メチルヘキシル）−７−メチルデシル基、２−オクチルドデシル基、２−デシルテトラデシル基、２−ドデシルヘキサデシル基等が挙げられる。
【００２３】
炭素数２〜３０の直鎖アルケニル基としては、プロペニル基、２−デセニル基、９−デセニル基、９−ウンデセニル基、１０−ウンデセニル基、２−ドデセニル基、３−ドデセニル基、２−トリデセニル基、４−テトラデセニル基、９−テトラデセニル基、９−ペンタデセニル基、９−ヘキサデセニル基、９−ヘプタデセニル基、９−オクタデセニル基、１１−ドコセニル基等が挙げられる。
【００２４】
炭素数３〜３０の分岐鎖アルケニル基としては、イソプロペニル基、３−メチル−２−ノネニル基、２，４−ジメチル−２−デセニル基、２−メチル−９−ヘプラデセニル基等が挙げられる。
【００２５】
炭素数６〜３０のアリール基としては、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、２−メチルナフチル基、４−ｔ−オクチルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル基、４−ノニルフェニル基、ジノニルフェニル基等が挙げられる。
【００２６】
炭素数７〜３０のアラルキル基としては、ベンジル基、４−メチルベンジル基、フェネチル基、ｓｅｃ−フェネチル基、３，５−ジメチルベンジル基、４−エチルベンジル基、３−フェニルプロピル基、４−イソプロピルベンジル基、４−ブチルベンジル基、４−ｔ−ブチルベンジル基、１，１−ジメチル−３−フェニルプロピル基、５−フェニルペンチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。
【００２７】
炭素数１〜３０のハロゲン化アルキル基のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子などが挙げられるが、塩素原子が好ましい。該ハロゲン化アルキル基の具体例としては、β−クロロエチル基、２，３−ジクロロプロピル基等が挙げられる。
【００２８】
炭素数６〜３０のハロゲン化アリール基のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子などが挙げられるが、塩素原子が好ましい。該ハロゲン化アリール基の具体例としては、モノクロロフェニル基、ジクロロフェニル基、モノクロロ−４−メチルフェニル基、ジクロロ−４−メチルフェニル基等が挙げられる。
【００２９】
上記一般式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるリン化合物の具体例としては、下記の化合物などが挙げられる。
上記一般式（Ｉ）で表されるリン化合物の具体例；ジ−ｎ−ブチルグリセリルフォスフェート、ジ−２−エチルヘキシルグリセリルフォスフェート、ジ−ｎ−ドデシルグリセリルフォスフェート、ジ−２−エトキシエチルグリセリルフォスフェート、ジブトキシエチルグリセリルフォスフェート、ジ−（２−ブトキシエトキシ）エチルグリセリルフォスフェート。
上記一般式（ＩＩ）で表されるリン化合物の具体例；ブチル−ジグリセリルフォスフェート、ｎ−ドデシル−ジグリセリルフォスフェート、２−エトキシエチル−ジグリセリルフォスフェート、２−エチルヘキシル−ジグリセリルフォスフェート、（２−ブトキシエトキシ）エチル−ジグリセリルフォスフェート。
上記一般式（ＩＩＩ）  で表されるリン化合物の具体例；ｎ−ブチルフォスフォン酸モノブチルモノグリセリル、ｎ−ブチルフォスフォン酸モノ−２−エトキシエチルモノグリセリル。
上記一般式（ＩＶ）で表されるリン化合物の具体例；ｎ−ブチルフォスフォン酸ジグリセリル、２−エチルヘキシルフォスフォン酸ジグリセリル。
上記一般式（Ｖ）で表されるリン化合物の具体例；２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォン酸ジ−２−エチルヘキシル、２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォン酸ジエトキシエチル、２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォン酸ジ（２−ブトキシエトキシ）エチル。
上記一般式（ＶＩ）で表されるリン化合物の具体例；２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォン酸モノ−２−エチルヘキシル−モノグリセリル、２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォン酸モノエトキシエチル−モノグリセリル、２，３−ジヒドロキシプロピルフォスフォン酸モノ−２−ブトキシエトキシエチル−モノグリセリル。
上記一般式（ＶＩＩ）  で表されるリン化合物の具体例；２−エチルヘキシルグリセリルハイドロジェンフォスファイト、２−エトキシエチルグリセリルハイドロジェンフォスファイト。
上記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるリン化合物の具体例；ジ−２−エチルヘキシル−グリセリルフォスファイト、ジ−２−エトキシエチル−グリセリルフォスファイト。
上記一般式（ＩＸ）で表されるリン化合物の具体例；２−エチルヘキシル−ジグリセリルフォスファイト、２−エトキシエチル−ジグリセリルフォスファイト。
【００３０】
上記の一般式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるリン化合物は、市販のリン酸ジエステル、リン酸モノエステル、亜リン酸モノエステル、亜リン酸ジエステル、フォスフォン酸、フォスフォン酸モノエステル等のリン化合物とグリシドールとを反応させることによって得ることができる。
具体的には、上記のリン化合物とグリシドールとの反応は、無溶媒下若しくはテトラヒドロフラン、エタノール等の極性溶媒中で、無触媒若しくは臭化テトラアンモニウムブロマイド等の相間移動触媒等を用いて、室温以上１００℃以下、好ましくは４０〜７０℃でグリシドールを上記リン化合物に滴下するなどして行うことができる。また、生成物に対しては、必要に応じて、洗浄、吸着、蒸留などの操作により精製してもよい。
なお、本発明においては、上記リン化合物は単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。
【００３１】
本発明の磁気記録媒体において、上記リン化合物は、磁性層又は該磁性層よりも表面側に設けられた層に含有される。
ここで、上記の「磁性層より表面側に設けられた層」とは、磁性層の表面上に設けられた層を意味する。即ち、本発明おいては、塗布型の磁気記録媒体にように磁性層が最上層を形成する場合には、該磁性層に上記リン化合物が含有されるのが好ましく、薄膜型の磁気記録媒体のように、磁性層が最上層を形成しない場合には、該磁性層上に設けられて最上層を形成している層、即ち、該磁性層上に隣接する層として設けられる保護層、又は該保護層上に隣接する層として更に設けられる潤滑層等に上記リン化合物が含有されるのが好ましい。
【００３２】
上記リン化合物は、後述するように、磁気記録媒体の種類に応じてその使用量も異なるが、上記磁性層中に含有させる場合には、該磁性層全体に対して、０．１〜８重量％とするのが好ましく、０．３〜６重量％とするのが更に好ましい。また、上記リン化合物を該磁性層よりも表面側に設けられた層に含有させる場合には、該層の表面１ｍ２  当たり該リン化合物が１〜５０ｍｇ含有されていることが好ましい。該リン化合物の含有量が下限（０．１重量％又は１ｍｇ／ｍ２  ）未満では十分な潤滑性が得られない場合があり、上限（８重量％又は５０ｍｇ／ｍ２  ）を超えるとテープのはり付きやヘッドの目詰まりを起こす場合があるので、上記範囲とすることが好ましい。
【００３３】
また、本発明においては、上記リン化合物に加えて更に他の潤滑剤を、該リン化合物を含有させる層に添加するのが好ましい。
この際用いることができる潤滑剤としては、ベヘニン酸、エイコ酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リレール酸、リノレイン酸等の脂肪酸、ブチルステアレート、ミリスチルステアレート、トリデシルステアレート、２−エチルヘキシルパルミテート、イソセチルステアレート、オレイルオレート、ミリスチルベヘネート、２−ヘキシルデカニルオレート等の脂肪酸エステル等が挙げられる。
また、上記潤滑剤を用いる場合の添加量は、上記リン化合物１００重量部に対して１０〜１０００重量部とするのが好ましく、５０〜５００重量部とするのが更に好ましい。
【００３４】
以下、図面を参照して更に本発明を具体的に説明する。
ここで、図１は、磁性塗料等の塗料を支持体上に塗布して磁性層等を形成する塗布型の磁気記録媒体の一形態を示す概略断面図であり、図２は、蒸着、スパッタ等により磁性層等を形成する薄膜型の磁気記録媒体の一形態を示す概略断面図である。
【００３５】
図１に示す形態の磁気記録媒体１は、支持体２と、該支持体２上に設けられた磁性層３とを有する。また、上記支持体２の裏面側にはバックコート層４が、上記支持体２と上記磁性層３との間には中間層５が、それぞれ、必要に応じて設けられる。
【００３６】
尚、本形態の磁気記録媒体には、上記支持体、上記磁性層、上記中間層、及び上記バックコート層以外に、更に、支持体と中間層又はバックコート層との間に設けられるプライマー層や、長波長信号を使用するハードシステムに対応してサーボ信号等を記録するために設けられる信号記録層等の他の層を設けてもよい。
また、上記中間層は設けなくても良く、この場合には上記支持体上に直接上記磁性層が設けられる。
【００３７】
本発明の磁気記録媒体において用いられる上記支持体は、通常公知のものを特に制限されることなく用いることができるが、具体的には、高分子樹脂からなる可撓性フィルムやディスク；Ｃｕ，Ａｌ，Ｚｎ等の非磁性金属、ガラス、磁器、陶器等のセラミック等からなるフィルム、ディスク、カード等を用いることができる。
【００３８】
上記可撓性フィルムや上記ディスクを形成する上記高分子樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンビスフェノキシカルボキシレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、或いはポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテル・エーテルケトン、ポリウレタン等が挙げられ使用に際しては、単独若しくは２種以上併用して用いることができる。
【００３９】
本発明の磁気記録媒体において上記支持体上に設けられる上記磁性層は、上記支持体上若しくは上記中間層上に磁性塗料を塗布することにより形成される。
上記磁性塗料は、上記強磁性粉末と結合剤と溶剤とを主成分とする塗料が好ましく用いられる。
【００４０】
上記強磁性粉末としては、高密度記録の要請に対応するため、鉄を主体とする強磁性金属粉末、又は六方晶系フェライト粉末が用いられる。
上記強磁性金属粉末の保磁力は、１６００〜２５００Ｏｅであるのが好ましく、１７００〜２４００Ｏｅであるのが更に好ましい。また、上記六方晶系フェライト粉末の保磁力は、１３００〜２３００Ｏｅであるのが好ましい。また、上記強磁性金属粉末の飽和磁化は、１００〜１８０ｅｍｕ／ｇであるのが好ましく、１１０〜１６０ｅｍｕ／ｇであるのが更に好ましい。また、上記六方晶系フェライト粉末の飽和磁化は、３０〜７０ｅｍｕ／ｇであるのが好ましく、４５〜７０ｅｍｕ／ｇであるのが更に好ましい。
【００４１】
従って、上記強磁性金属粉末を含有する磁性層の保磁力は、好ましくは１５００〜２４００Ｏｅ、更に好ましくは１８００〜２３００Ｏｅであり、上記六方晶系フェライト粉末を含有する上記磁性層の保磁力は、好ましくは１３００〜２３００Ｏｅである。また、上記強磁性金属粉末を含有する上記磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは３０００〜４５００ガウス、更に好ましくは３２００〜４０００ガウスであり、上記六方晶系フェライト粉末を含有する上記磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは１５００〜２５００ガウス、更に好ましくは１６００〜２５００ガウスである。
【００４２】
上記強磁性金属粉末としては、金属分が５０重量％以上であり、該金属分の６０重量％以上がＦｅである強磁性金属粉末が挙げられる。該強磁性金属粉末の具体例としては、例えば、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ、Ｆｅ−Ａｌ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｚｎ等が挙げられる。
また、該強磁性金属粉末の形状は、針状であるのが好ましく、その長軸長が好ましくは０．０５〜０．２μｍである。また、好ましい針状比は、３〜２０、好ましいＸ線粒径は、１３０〜２５０Åである。
【００４３】
また、上記六方晶系フェライト粉末としては、微小平板状のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト並びにそれらのＦｅ原子の一部がＴｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｖ等の原子で置換された磁性粉末等が挙げられる。また、該六方晶系フェライト粉末の形状は、板径が０．０１〜０．０８μｍで板状比が２〜７であるのが好ましい
【００４４】
また、上記磁性粉末には、必要に応じて、稀土類元素や遷移金属元素を含有せしめることもできる。
なお、本発明においては、上記磁性粉末の分散性等を向上させるために、該磁性粉末に公知の表面処理を施してもよい。
【００４５】
また、本発明において用いられる上記結合剤としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び反応型樹脂等が挙げられ、使用に際しては単独又は混合物として用いることができる。
上記結合剤の具体例としては、塩化ビニル系の樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ニトロセルロース、エポキシ樹脂等が挙げられ、その他にも、特開昭５７−１６２１２８号公報の第２頁右上欄１９行〜第２頁右下欄１９行等に記載されている樹脂等が挙げられる。さらに、上記結合剤は、分散性等向上のために極性基を含有してもよい。
【００４６】
上記溶剤としては、ケトン系の溶剤、エステル系の溶剤、エーテル系の溶剤、芳香族炭化水素系の溶剤、及び塩素化炭化水素系の溶剤等が挙げられ、具体的には、特開昭５７−１６２１２８号公報の第３頁右下欄１７行〜第４頁左下欄１０行等に記載されている溶剤を用いることができる。
また、上記溶剤の使用量は、上記強磁性粉末１００重量部に対して、８０〜５００重量部が好ましく、１００〜３５０重量部が更に好ましい。
【００４７】
また、上記磁性塗料には、分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤、及び硬化剤等の通常磁気記録媒体に用いられている添加剤を、必要に応じて添加することができる。上記添加剤としては、具体的には、特開昭５７−１６２１２８号公報の第２頁左上欄６行〜第２頁右上欄１０行及び第３頁左上欄６行〜第３頁右上欄１８行等に記載されている種々の添加剤を挙げることができる。
【００４８】
上記磁性塗料を調製するには、例えば、上記強磁性粉末及び上記結合剤を溶剤の一部と共にナウターミキサー等に投入し予備混合して混合物を得、得られた混合物を連続式二軸押出し装置等により混練し、次いで、溶剤の一部で希釈し、サンドミル等を用いて分散処理した後、潤滑剤等の添加剤を混合して、濾過し、更にポリイソシアネート等の硬化剤や残りの溶剤を混合する方法等を挙げることができる。
【００４９】
上記の磁性層の厚みは、０．０５〜１．０μｍであるのが好ましく、０．０５〜０．８μｍであるのが更に好ましく、０．０５〜０．５μｍであるのが最も好ましい。０．０５μｍ未満であると、均一塗布が困難となり、耐久性も低下する場合があり、１．０μｍを超えると、厚み損失が大きくなり高域出力が低下したり、オーバーライト特性が著しく不良となる場合があるので、上記範囲内とするのが好ましい。
【００５０】
本発明において、上記支持体の裏面側に必要に応じて設けられる上記バックコート層は、通常公知のバックコート塗料を上記支持体上に塗布して形成される層である。
また、本発明において上記支持体と上記磁性層との間に必要に応じて設けられる上記中間層としては、中間非磁性層、中間磁性層が挙げられる。
【００５１】
上記中間非磁性層は、上記支持体上に通常公知の非磁性塗料を塗布して形成される層であり、上記中間磁性層は、上記支持体上に通常公知の中間磁性塗料を塗布して形成される層であり、該中間磁性塗料としては、強磁性粉末、結合剤及び溶剤を主成分とする塗料を好ましく用いることができる。
【００５２】
尚、上記中間層は、１層だけでなくても良く、上記中間非磁性層及び上記中間磁性層を、それぞれ任意の構成で組み合わせる等して形成した２層以上の多層構造とすることもできる。
【００５３】
而して、本形態の磁気記録媒体においては、上記磁性塗料に上記リン化合物が添加されており、従って、上記磁性層に上記リン化合物が含有されている。
この際、上記リン化合物の使用量は、上記強磁性粉末１００重量部に対して、０．２〜１０重量部、更に好ましくは０．４〜８重量部とするのが好ましい。
また、上記磁性層には、上記リン化合物に加えて更に、上記の脂肪酸等の潤滑剤を添加することもできる。
【００５４】
本形態の塗布型の磁気記録媒体としては、８ｍｍビデオテープやＤＡＴテープ等の磁気テープとして好適であるが、フロッピーディスク等の他の磁気記録媒体としても適用することができる。
【００５５】
本形態の磁気記録媒体は、通常公知の製造方法に従って、容易に製造することができる。
【００５６】
次いで、図２に示す薄膜型の磁気記録媒体について説明する。
図２に示す形態の磁気記録媒体１０は、支持体上に蒸着、スパッタ等により各層を形成してなる磁気記録媒体であり、支持体１１と、該支持体１１上に設けられた磁性層１２とを有し、更に、該支持体１１上に設けられた下地層１３と、該磁性層１２上に設けられた保護層１４と、該保護層１４上に設けられた潤滑剤層１５とをする。
【００５７】
ここで、上記支持体としては、公知の非磁性支持体を特に制限なく用いることができる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリアミド等の公知の樹脂；アルミニウムや銅等の金属；紙等を使用することができる。形態は、フィルム、テープ、シート、ディスク、ドラム等の何れでもよい。上記支持体には、磁性層を設ける前に、大気中及び／又は真空中においてその表面に予めコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、ボンバード処理などを行うこともできる。上記支持体の好ましい厚さは、１〜３００μｍである。
【００５８】
また、上記磁性層は、例えば、物理的気相成長法（ＰＶＤ）により形成された金属薄膜型磁性層を挙げることができる。かかる金属薄膜型磁性層について説明すると、該磁性層を形成する金属としては、例えばＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いられる。また、Ｆｅ−Ｎ、Ｆｅ−Ｎ−Ｏ、Ｆｅ−Ｃ、Ｆｅ−Ｃ−Ｏなども用いられる。なお、上記金属薄膜の形成時に酸化性ガスを供給して、上記金属薄膜の表面に、酸化膜からなる保護層を形成することが好ましい。上記磁性層１２の厚さは５０〜５００ｎｍであることが好ましく、上記保護層１４の厚さは５〜５０ｎｍであることが好ましい。
【００５９】
また、上記下地層及び上記保護層は、通常公知のものが特に制限なく用いられる。
【００６０】
而して、本形態の磁気記録媒体においては、上記潤滑剤層は、上記リン化合物を上記保護層上に塗布することにより、形成されている。
上記潤滑剤層の膜厚は、１〜５０ｎｍとするのが好ましい。
そして、上記リン化合物の使用量は、潤滑剤層表面１ｍ２  当たり１〜５０ｍｇとするのが好ましい。即ち、表面面積１ｍ２  の潤滑剤層は、上記リン化合物を１〜５０ｍｇ使用して形成されているのが好ましい。
また、上記潤滑剤層には、上記リン化合物に加えて、更に、通常、薄膜型の磁気記録媒体の潤滑剤層に用いられているフッ素系化合物等の他の潤滑剤を添加することもできる。
この際、該他の潤滑剤の使用量は、上記リン化合物１００重量部に対して１０〜５０００重量部とするのが好ましい。
【００６１】
本形態の磁気記録媒体を製造するには、例えば、真空蒸着、スパッタリング及びイオンプレーディング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ）のような薄膜形成手段によって、上記下地層、上記磁性層及びＣＶＤ法等により上記保護層を形成し、更に上記潤滑剤層を上記リン化合物を上記保護層上に塗布する等して容易に製造できる。
【００６２】
本形態の磁気記録媒体は、例えば、磁気ドラム、磁気テープ、磁気カード及び磁気ディスク等として有用である。
【００６３】
上述の通り、本発明の磁気記録媒体は、支持体上に少なくとも磁性層を有してなるものである。該磁性層としては、例えば、磁性粉及びバインダーを含有する磁性塗料を上記支持体上に塗布して形成された塗布型磁性層や、スパッタリング、真空蒸着又はイオンプレーティング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）により形成された金属薄膜型磁性層を用いることができる。これらの磁性層のうち、塗布型磁性層を用いることが特に好ましい。
【００６４】
【実施例】
次に、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６５】
〔実施例１〕
下記配合の磁性塗料Ａと下記配合のバックコート塗料Ａとを用い、下記〔磁気記録媒体の製造方法〕に準じて磁気テープの製造を行って、磁性塗料Ａにより最上層としての磁性層が形成されてなる磁気記録媒体としての磁気テープを得た。尚、磁性塗料Ａを用いて形成した磁性層の保磁力及び飽和磁束密度を後述の〔測定法〕に準じて測定したところ、保磁力は、１８９０Ｏｅであり、飽和磁束密度は、３５４０ガウスであった。
【００６６】
磁性塗料Ａ
・鉄を主体とする針状の強磁性金属粉末                      １００重量部
Ｆｅ：Ａｌ：Ｂａ：Ｓｉ：Ｎｉ：Ｃｏ（重量比）＝８８：２：１：１：３：５
保磁力；１８４０Ｏｅ、
飽和磁化；１３４ｅｍｕ／ｇ
平均長軸長；０．１２μｍ、比表面積；５８ｍ２  ／ｇ
Ｘ線粒径；１５０Å
・「ＡＫＰ−５０」                                            ６重量部
〔商品名、住友化学工業（株）製のアルミナ粉末〕
・「ＨＩＴ−８０」                                            ２重量部
（商品名；住友化学工業（株）製、アルミナ粉末）
・「フラックパールズ３５００」                            ０．５重量部
（商品名；Ｃａｂｏｔ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．  製のカーボンブラック）
・「ラーベン１０６０」                                    １．５重量部
（商品名；Ｃｏｌｕｍｂｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｄａｌｓ  Ｃｏｍｐａｎｙ  製のカーボンブラック）
・「ＭＲ−１０４」                                          １２重量部
〔商品名、日本ゼオン（株）製、スルホン酸基含有塩化ビニル系重合体〕
・「バイロンＵＲ−８２００」                                ２４重量部
〔商品名、東洋紡績（株）製、スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂〕
・２−エチルヘキシルパルミテート                          １．５重量部
・ステアリン酸                                                ２重量部
・「コロネートＨＸ」                                          ４重量部
〔商品名、日本ポリウレタン工業（株）製、ポリイソシアネート化合物〕
・ジ−ｎ−ブチルグリセリルフォスフェート                  ０．５重量部
・メチルエチルケトン                                      １２０重量部
・トルエン                                                  ８０重量部
・シクロヘキサノン                                            ４０重量部
【００６７】
（バックコート塗料Ａの配合）
カーボンブラック（平均一次粒径０．０２８μｍ）              ３２重量部
カーボンブラック（平均一次粒径０．０６２μｍ）                ８重量部
「ニッポラン２３０１」                                      ５０重量部
〔商品名，日本ポリウレタン工業（株）製のポリウレタン〕
ニトロセルロース（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ  Ｐｏｗｄｅｒ  Ｃｏ．製の粘度表示
１／２秒のもの）                                            ２０重量部
ポリイソシアネート                                            ４重量部
〔武田薬品工業（株）製、商品名「Ｄ−２５０Ｎ」〕
銅フタロシアニン                                              ５重量部
ステアリン酸                                                  １重量部
メチルエチルケトン                                        １４０重量部
トルエン                                                  １４０重量部
シクロヘキサノン                                          １４０重量部
【００６８】
〔磁気記録媒体の製造〕
厚さ４．５μｍのアラミドフィルム（支持体）の表面上に、上記磁性塗料Ａの乾燥厚みが１．５μｍとなるようにライン速度１００ｍ／分で磁性塗料Ａを塗布し、磁性の塗膜を形成した。次いで、塗膜が湿潤状態のうちに５０００Ｏｅのソレノイド中を通過させて磁場配向処理を行い、温度９０℃の熱風が風速１５ｍ／ｓｅｃで供給される乾燥炉中にて３０秒間乾燥した。次いで、ロール表面温度９０℃、ロール線圧３５０ｋｇ／ｃｍの条件でカレンダー処理を行い磁性層を形成した後巻き取った。次いで支持体の裏面上にバックコート塗料を乾燥厚さが０．５μｍになるよう塗布し、９０℃にて乾燥した後、巻き取った。この後、３．８１ｍｍ幅、１２４ｍに裁断し、磁気テープを得、得られた磁気テープをＤＤＳ−２用のカセットケースに装填してＤＤＳ−２用カセットを作製した。尚、上記塗布及びカレンダー処理は、同一ライン（インライン方式）で行った。
【００６９】
得られた磁気テープ（カセット）について、下記の如く、走行耐久性を評価した。その結果を〔表１〕に示す。
【００７０】
〔測定法〕
◎保磁力及び飽和磁束密度
上記非磁性支持体及び中間層上に塗工された上記磁性層について、該磁性層を所定寸法形状に打抜き、振動式磁力計を使用して、印加磁場１０ｋＯｅにて、保磁力及び飽和磁束密度をそれぞれ測定した。
【００７１】
◎走行耐久性
ＤＤＳ−２用のテープデッキ（「Ｏｔｈｅｌｌｏ」、商品名、ＨＥＷＬＥＴＴＰＡＣＫＡＲＤ製）を用い、まず得られた磁気テープの初期のブロックエラーレート（１ｓｔ−ＢＥＲ）を測定（ＢＯＴ：Ｂｅｇｉｎｎｉｎｇ  及びＥＯＴ：Ｅｎｄ  ｏｆ  Ｔａｐｅ  の５分間を除く全長の平均値）し、次いで全長にわたる記録及び再生を５回行なった。そして、５回目のブロックエラーレート（５ｔｈ−ＢＥＲ）を測定（全長の平均値）し、得られた測定値を初期ブロックエラーレートと比較した。尚、上昇の少ない方（５ｔｈ−ＢＥＲ／１ｓｔ−ＢＥＲ）が走行耐久性の良好なものである。
【００７２】
〔実施例２〜６〕
リン化合物として、〔表１〕に示す化合物を、〔表１〕に示す配合量で用い、２−エチルヘキシルパルミテート及びステアリン酸の配合量を〔表１〕に示す量とした（尚、実施例３においては２−エチルヘキシルパルミテートを、実施例４においては２−エチルヘキシルパルミテート及びステアリン酸を用いていない）以外は、実施例１と同様にして磁気テープを得、得られた磁気テープについて実施例１と同様に評価した。その結果を〔表１〕に示す。
【００７３】
〔比較例１〕
リン化合物を用いず、２−エチルヘキシルパルミテート及びステアリン酸の配合量を〔表１〕に示す量とした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを得、得られた磁気テープについて実施例１と同様に評価した。その結果を〔表１〕に示す。
【００７４】
〔比較例２及び３〕
リン化合物として、〔表１〕に示す化合物を、〔表１〕に示す配合量で用い、２−エチルヘキシルパルミテート及びステアリン酸の配合量を〔表１〕に示す量とした以外は、実施例１と同様にして磁気テープを得、得られた磁気テープについて実施例１と同様に評価した。その結果を〔表１〕に示す。
【００７５】
【表１】
0003608586.tif 000008
【００７６】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体は、高密度記録に対応し且つ耐久性にも優れたものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、磁性塗料等の塗料を支持体上に塗布して磁性層等を形成する塗布型の磁気記録媒体の一形態を示す概略断面図である。
【図２】図２は、蒸着、スパッタ等により磁性層等を形成する薄膜型の磁気記録媒体の一形態を示す概略断面図である。
【図１】
0003608586.tif 000012
【図２】
0003608586.tif 000013