(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気動圧により浮上したまま光磁気記録媒体上で動くスライダーに設けられて光学式に情報を再生し磁界変調を通じて情報を記録できるようになった光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドにおいて、
光が出る下面にコーティングされて形成された導電性反射膜を有し、該導電性反射膜が外部電源と電気的に接続されて、前記スライダーに設けられ、前記光磁気記録媒体に光スポットが結ばれるように入射光を集束するレンズと、
螺旋状構造で巻回された板状のコイルが少なくとも二層以上積層し各層の電気接点が互いに連結されたコイル層と、前記コイル層間に介在されて各コイル層を電気的に絶縁する絶縁層とを含み、上面に接点を有するコイル部材とを有し、
該コイル部材の上面の接点と前記レンズの導電性反射膜との間に介在する導電性を有する接合部材によって、前記レンズと前記コイル部材とが接合されると共に前記コイル層と前記外部電源とが前記導電性反射膜を介して電気的に接続された構成としたことを特徴とする光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
【請求項２】
前記接合部材は、
前記コイル部材の最上層に位置したコイル層に突設されたものであって、熱融着により前記レンズに接合されると共に外部電源に連結されるように導電性物質よりなるソルダバンプであることを特徴とする請求項１に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
【請求項３】
前記ソルダバンプは、
錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-錫(Au-Sn)合金よりなる材質の中から選択された何れか一つの材質よりなることを特徴とする請求項２に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
【請求項４】
前記コイル部材をなす少なくとも二つのコイル層の各々は同一方向の螺旋状構造で巻回されたことを特徴とする請求項１に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
【請求項５】
前記レンズは、
入射光を発散透過させる透過部と、
前記透過部に対向して配置されて入射光を発散反射する第１反射部と、
前記透過部周辺に形成されて前記第１反射部から反射され入射された光を集束する第２反射部と、
前記第２反射部で集束された光を透過させるように前記第１反射部の中央領域に所定の長さに突設された出射部とを有し、
前記導電性反射膜は、前記第１反射部の外側面に、両分された状態に形成してある構成としたことを特徴とする請求項１乃至４の中からいずれか一項に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
【請求項６】
前記出射部は、その突出の長さが前記コイル部材及び接合部材の全体の高さより相対的に長く形成されて、前記光磁気記録媒体上で前記スライダーが浮上して動く時、前記コイル部材が前記光磁気記録媒体に接触しないようになったことを特徴とする請求項５に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド。
【請求項７】
空気動圧により浮上したまま光磁気記録媒体上で動くスライダーに設けられて光学式に情報を再生し、磁界変調を通じて情報を記録できるようになった光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法において、
基板上に犠牲層を形成する段階と、
前記犠牲層上に少なくとも二つのコイル層と一層以上の絶縁層を有するコイル部材を形成する段階と、
前記犠牲層と前記コイル部材にパタニングにより中空を形成する段階と、
前記コイル部材の最上層に位置したコイル層上にメッキ用型を形成し、ソルダをメッキしてソルダバンプを形成する段階と、
前記光磁気記録媒体側に所定の長さ突出した出射部を有し、入射光を集束して前記光磁気記録媒体に光スポットが結ばれるようにするレンズを備え、前記出射部を除いた前記レンズの下面に所定形状の金属薄膜をコーティングして導電性反射膜を形成する段階と、
前記出射部が前記中空に差込まれた状態に前記レンズを前記ソルダバンプ上に位置させた後、加熱して前記コイル部材上に前記レンズを融着させる段階と、
前記犠牲層を除去して前記基板を前記レンズ及びコイル部材から分離する段階とを含むことを特徴とする光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【請求項８】
前記コイル部材形成段階は、
前記犠牲層上にメッキ基板層をパタニングする段階と、
前記パタニングされたメッキ基板層上に所定の高さでフォトレジストを塗布した後、前記フォトレジストの層をパタニングしてメッキ用型を形成する段階と、
前記メッキ用型間に金属をメッキして所定の厚さで一層のコイルを形成する段階と、
前記メッキ用型と前記コイル上に絶縁層を形成する段階とを含み、
前記絶縁層上にメッキ基板層形成段階、メッキ基板層パタニング段階、メッキ用型形成段階、コイル形成段階及び、絶縁層形成段階を順次に少なくとも一回以上反復して、各コイル間の平坦性が維持されたまま各層のコイルが多層で積層されるようになったことを特徴とする請求項７に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【請求項９】
前記コイル形成段階以後に前記メッキ用型を熱処理する段階をさらに含んで、メッキ用型に残っている溶剤を除去しメッキ用型を熱的に安定させることを特徴とする請求項８に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【請求項１０】
前記メッキ用型の熱処理後に、前記コイルと前記メッキ用型の上面の高さが同一乃至類似に前記メッキ用型の高さを前記コイルの厚さより相対的に高く形成することを特徴とする請求項９に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【請求項１１】
前記メッキ基板層は、
クロム-銅(Cr-Cu)合金またはチタン-銅(Ti-Cu)合金よりなることを特徴とする請求項８乃至１０の中からいずれか一項に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【請求項１２】
前記絶縁層は、
シリカ酸化物(SiO2)及びシリカ窒化物(Si3N4)よりなる誘電体材質及び、フォトレジスト及びポリイミドよりなるポリマー材質の中から選択された何れか一つの材質よりなることを特徴とする請求項８乃至１０の中からいずれか一項に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【請求項１３】
前記犠牲層は、
チタン(Ti)、フォトレジスト及びクロム(Cr)よりなる材質の中から選択された何れか一つの材質よりなることを特徴とする請求項７乃至１０の中からいずれか一項に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【請求項１４】
前記ソルダバンプは、
錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-錫(Au-Sn)合金よりなる材質の中から選択された何れか一つの材質よりなることを特徴とする請求項７乃至１０の中からいずれか一項に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【請求項１５】
前記ソルダバンプに対する前記レンズの熱融着は、
フラックスレスリフローソルダリング方式で窒素雰囲気で融剤なく熱により融着されることを特徴とする請求項７乃至１０の中からいずれか一項に記載の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁界変調用コイルの構造及び小型の対物レンズに対する設置構造が改善された光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
【０００２】
一般的に、光磁気記録再生装置は、光磁気記録媒体に対して磁界変調を通じて情報を記録し記録された情報を光学式に再生する装置である。
【０００３】
【従来の技術】
図１を参照するに、一般的な光磁気記録再生装置は、ベース１０に対して往復回転自在に設けられたスイングアーム２１と、前記スイングアーム２１に回転駆動力を提供するアクチュエータ２３と、空気動圧により光磁気記録媒体１に対して浮上したまま光磁気記録媒体１のトラックをスキャンできるように前記スイングアーム２１の端部に設けられたスライダー２５と、このスライダー２５に設けられて光学式に情報を再生できる光磁気ヘッド３０とを含んで構成される。光磁気ヘッド３０は前記光磁気記録媒体１に光スポットを形成する対物レンズ３１と、磁界変調のためのコイル(図示せず)を具備する。
【０００４】
図２及び図３を参照するに、従来の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド３０は、スライダー２５に設けられて入射されたレーザー光を光磁気記録媒体１に集束する対物レンズ３１と、この対物レンズ３１と光磁気記録媒体１との間に位置するように前記スライダー２５の一側に水平方向に設けられた一対のマグネチックポール３３、３５と、前記一対のマグネチックポール３３、３５の各々に巻かれた第１及び第２コイル３７、３９とを含む。前記マグネチックポール３３、３５は前記対物レンズ３１を通じて集束された光が通過できるように相互離隔して配置されている。従って、前記第１及び第２コイル３７、３９に印加された電流の方向に従って形成される水平磁界により光磁気記録媒体１に情報を記録する。
【０００５】
このような構造の光磁気ヘッド３０は、対物レンズ３１の下部に水平方向に設けられたマグネチックポール３３、３５に第１及び第２コイル３７、３９を巻回した構造を有する。したがって、光磁気ヘッド３０の大きさを小型化するには限界があり、記録密度の効率及び近接場記録の性能が低下する問題点がある。また、第１及び第２コイル３７、３９をマグネチックポール３３、３５に巻回することによって組立性及びコスト、収率低下などによる量産性が落ちるという短所がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は前記のような問題点を勘案して案出されたものであって、磁界変調用薄膜状マイクロコイルを半導体工程によりパタニングして形成することによって超小型化して近接場記録性能を改善すると共に、コイルの超小型化に従う組立上の難点を解決できるようになった構造の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド及びその製造方法を提供することに目的がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するために本発明は、空気動圧により浮上したまま光磁気記録媒体上で動くスライダーに設けられて光磁気方式で情報の記録及び再生ができるようになった光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドにおいて、前記スライダーに設けられ、前記光磁気記録媒体に光スポットが結ばれるように入射光を集束するレンズと、螺旋状構造で巻回された板状のコイルが少なくとも二層以上積層し各層の電気接点が互いに連結された複数のコイル層と、前記コイル層間に介在されて各コイル層を電気的に絶縁する絶縁層とを含むコイル部材と、前記光磁気記録媒体に対面する前記レンズの一面に前記コイル部材を付着させると共に前記コイル層に外部電源が連結されるように前記コイル部材と前記レンズとの間に介在された導電性を有する接合部材とを含むことを特徴とする。
【０００８】
望ましくは、前記接合部材は、前記コイル部材の最上層に位置したコイル層に対して突設されたものであって、熱融着により前記レンズに接合されると共に外部電源に連結されるようになった導電性物質のソルダバンプであって、錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-錫(Au-Sn)合金よりなる材質の中から選択された何れか一つの材質よりなる。
【０００９】
また、前記の目的を達成するために、本発明に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法は、基板上に犠牲層を形成する段階と、前記犠牲層上に複数層のコイル層と絶縁層を有するコイル部材を形成する段階と、前記犠牲層と前記コイル部材にパタニングにより中空を形成する段階と、前記コイル部材の最上層に位置したコイル層上にメッキ用型を形成し、ソルダをメッキしてソルダバンプを形成する段階と、光磁気記録媒体側に所定の長さ突出した出射部を有し、入射光を集束して前記光磁気記録媒体に光スポットが結ばれるようにするレンズを備え、前記出射部を除いた前記レンズの下面に所定形状の金属薄膜をコーティングする段階と、前記出射部が前記中空に差込まれた状態に前記レンズを前記ソルダバンプ上に位置させた後、加熱して前記コイル部材上に前記レンズを融着させる段階と、前記犠牲層を除去して前記基板を前記レンズ及びコイル部材から分離する段階とを含むことを特徴とする。
【００１０】
ここでコイル部材形成段階は、犠牲層上にメッキ基板層をパタニングする段階と、前記パタニングされたメッキ基板層上に所定の高さでフォトレジストを塗布した後、前記フォトレジストの層をパタニングしてメッキ用型を形成する段階と、前記メッキ用型間に金属をメッキして所定の厚さで一層のコイルを形成する段階と、前記メッキ用型と前記コイル上に絶縁層を形成する段階とを含み、前記絶縁層上に前記のメッキ基板層形成段階、メッキ基板層パタニング段階、メッキ用型形成段階、コイル形成段階及び、絶縁層形成段階を順次に少なくとも一回以上反復して、各コイル間の平坦性が維持されたまま各層のコイルが多層で積層されるようになったことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図面を参照して本発明の望ましい実施例に関して詳細に説明する。
【００１２】
図４及び図５を参照するに、本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドは、空気動圧により浮上したまま光磁気記録媒体１００上で動くスライダー１１０に設けられる。この光磁気ヘッドは、前記光磁気記録媒体１００に光スポットが結ばれるように入射光を集束するレンズ１２０と、前記光磁気記録媒体１００に対面する前記レンズ１２０の一面に付着されたコイル部材１４０と、前記コイル部材１４０を前記レンズ１２０に付着させると共に前記コイル部材１４０に外部電源を連結させる接合部材１６０とを含んで構成される。
【００１３】
前記レンズ１２０は、近接場記録時にはレーザーなどの入射光を光磁気記録媒体１００に集束して光スポットを形成させる。これにより、光磁気記録媒体１００の光スポットが形成された部分がキュリー温度以上に加熱され、前記コイル部材１４０を通じて垂直磁界を発生させることによって磁気的に情報を記録する。再生時には前記レンズ１２０を通じて集束形成された光スポットがキュリー温度より低い温度を有するようにし、形成された磁気的情報の方向に従う偏光方向の変化する性質、即ち、カー効果を用いて再生する。
【００１４】
このために、前記レンズ１２０は透過部１２１、第１反射部１２３、第２反射部１２５、出射部１２７及び、導電性反射膜１２９を含んで構成される。前記透過部１２１は入射光Lを発散透過させるように凹設される。前記第１反射部１２３は、前記透過部１２１に対向して配置された平面に入射された光を前記透過部１２１の周りに位置した第２反射部１２５に反射させる。前記第２反射部１２５は、前記第１反射部１２３で反射されて入射された光を集束反射させるように前記透過部１２１の周りに凹状反射鏡構造で形成される。前記出射部１２７は、前記第１反射部１２３の中央に対して外側に所定の長さ突設されたものであって、前記第２反射部１２５で集束された光を透過させて前記光磁気記録媒体１００に結ばれるようにする。前記出射部１２７は記録/再生時前記光磁気記録媒体１００に対して所定間隔浮上したまま対向して配置される。前記導電性反射膜１２９は図６に示したように、少なくとも二部分１２９a、１２９bに分離された状態で前記第１反射部１２３の外側面に形成されている。この導電性反射膜１２９は前記接合部材１６０が融着されて、外部電源端子を通じて供給された電流を前記コイル部材１４０に伝達させる。また、前記第１反射部１２３に入射された光を前記第２反射部１２５に全反射させる。
【００１５】
前記コイル部材１４０は少なくとも二つのコイル層１４１、１５１と、前記コイル層１４１、１５１間に介在されて各コイル層１４１、１５１を電気的に絶縁する絶縁層１４３とを含む。前記コイル層１４１、１５１は後述する接点を通じて電気的に連結されている。
【００１６】
図４及び図５は二層のコイル層構造を有する場合を例として示すものであって、第１コイル層１４１及び第２コイル層１５１と前記絶縁層１４３に関する詳細な構成は図７に示した通りである。
【００１７】
図７を参照するに、第１コイル層１４１は前記レンズ１２０の出射部１２７の周りの所定範囲内に一方向、例えば反時計回り方向に巻回された螺旋状構造を有する。この第１コイル層１４１はパターンコイルの内側端部に形成された第１接点１４１aと、外側に位置した第２接点１４１bとを有し、この第１及び第２接点１４１a、１４１bは前記絶縁層１４３を貫通して前記第２コイル層１５１及び前記導電性反射膜１２９に電気的に連結される。第２コイル層１５１は前記絶縁層１４３により区分されたまま第１コイル層１４１上に積層形成されるものであって、前記第１コイル層１４１の巻回方向と反対方向に巻かれた螺旋状構造を有する。前記第２コイル層１５１は前記第１接点１４１aに連結される第３接点１５１aと、前記の接合部材１６０を通じて前記導電性反射膜１２９に連結される第４接点１５１bとを有する。また、この第２コイル層１５１の周辺には前記第２コイル層１５１とは電気的に絶縁され、前記導電性反射膜１２９を通して供給された電流が前記第１コイル層１４１に伝達されるように連結する連結用パターン１５３が形成されている。従って、前記導電性反射膜１２９の一部分１２９bは、前記連結用パターン１５３を通して前記第１コイル層１４１の第２接点１４１bに連結される。そして、前記第２コイル層１５１は第４接点１５１bを通して前記導電性反射膜１２９の他部分１２９aに連結される。従って、前記部分１２９bを通じて電流を印加する時、この印加された電流は前記第２接点１４１bを通じて前記第１コイル層１４１全体を経由した後、第１接点１４１a及び第３接点１５１aを通して第２コイル層１５１に伝達される。そして、前記第２コイル層１５１全体を経由した後前記第４接点１５１bを通して前記導電性反射膜１２９の他部分１２９aに伝達される。
【００１８】
前記絶縁層１４３は前記第１コイル層１４１と第２コイル層１５１との電気的絶縁のために備えられたものであって、前記第１接点１４１aと第３接点１５１aとの電気的連結及び第２接点１４１bと連結用パターン１５３との電気的連結のために形成された貫通孔１４３a、１４３bを有する。
【００１９】
図４及び図５を参照するに、前記光磁気記録媒体１００上で前記スライダー１１０が浮上して動く時、前記コイル部材１４０が前記光磁気記録媒体１００に接触しないように、前記レンズ１２０の出射部１２７の突出の長さは前記コイル部材１４０及び接合部材１６０の全体の高さより相対的に長く形成されることが望ましい。
【００２０】
前記接合部材１６０は前記コイル部材１４０の最上層に位置したコイル層、例えば第２コイル層１５１から突設されたものであって、熱融着により前記導電性反射膜１２９に前記コイル部材１４０を接合させると共に、前記導電性反射膜１２９に前記第１及び第２コイル層１４１、１５１を電気的に連結させる導電性物質よりなるソルダバンプ１６１であることが望ましい。ここで、前記ソルダバンプ１６１の材質は錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-錫(Au-Sn)合金より構成されることが望ましい。
【００２１】
前記ソルダバンプ１６１は、前記両分された導電性反射膜１２９a、１２９b各々に対して前記第１コイル層１４１と第２コイル層１５１が独立的に連結されるように配列される。即ち、ソルダバンプ１６１と導電性反射膜１２９との所定の接触面積確保と導電性反射膜１２９との電極分離のために、第２コイル層１５１の上部にパターンを形成した後メッキにより配列される。このように形成されたソルダバンプ１６１には自然酸化膜が存在しこれは融着を妨害する。
【００２２】
これを勘案して前記ソルダバンプ１６１に対する前記レンズ１２０の熱融着は、フラックスレスリフローソルダリング方式で高純度窒素雰囲気または真空雰囲気で融剤(フラックス)なしに熱により実行される。即ち、高純度窒素または真空雰囲気で高温によるソルダバンプ１６１の表面に酸化膜が形成されることを防止して接着力を向上させうる。
【００２３】
以下、前記のように構成された光磁気記録再生装置用光磁気ヘッドの製造方法を詳細に説明する。
【００２４】
図８及び図９は、２階薄膜積層構造のコイル部材を有する光磁気ヘッドの製造工程を概略的に示すものである。
【００２５】
図８（Ａ）に示したように、シリコンウェーハよりなる基板２００を準備し、この基板２００上に犠牲層２１０を形成する。そして、前記犠牲層２１０上に複数層、例えば２層のコイル層と絶縁層を有するコイル部材１４０を形成した後、図４に示したようなレンズ１２０の出射部１２７が位置する中空２２０を形成する。
【００２６】
前記レンズ１２０の出射部１２７が前記コイル部材１４０の高さより長く形成されるように、前記中空２２０は前記コイル部材１４０と犠牲層２１０に貫着される。
【００２７】
前記犠牲層２１０はチタン(Ti)、クロム(Cr)またはフォトレジストなどの材質で構成される。ここで、前記犠牲層２１０をフォトレジストで構成した場合は後工程により除去しやすいという利点があり、チタン(Ti)またはクロム(Cr)で構成した場合は後述するメッキ基板層２３０の形成が容易であるという利点がある。
【００２８】
次いで、図８（Ｂ）に示したように、前記コイル部材１４０の最上層に位置したコイル層、例えば第２コイル層(図７の１５１)上にメッキ用型を形成し、ソルダをメッキしてソルダバンプ１６１を形成する。望ましくは、前記ソルダバンプ１６１は錫-鉛(Sn-Pb)合金、銀-錫-鉛(Ag-Sn-Pb)合金及び、金-錫(Au-Sn)合金より構成された材質の中から選択された何れか一つの材質よりなる。
【００２９】
そして、図９（Ａ）に示したように、光磁気記録媒体(図４の１００)側に所定の長さ突出した出射部１２７を有し、入射光を集束して前記光磁気記録媒体１００に光スポットを結ばせるレンズ１２０を備える。そして、このレンズ１２０の出射部１２７を除外した下面、即ち、第１反射部１２３の外面にコーティングにより金属薄膜よりなる導電性反射膜１２９を形成する。
【００３０】
その後、図９（Ｂ）に示したように、前記出射部１２７が中空２２０に差込まれた状態でレンズ１２０をソルダバンプ１６１上に位置させた後、コイル部材１４０上に前記レンズ１２０が融着されるように加熱する。ここで、前記ソルダバンプ１６１に対する前記レンズ１２０の熱融着はフラックスレスリフローソルダリング方式で純粋窒素雰囲気または真空雰囲気で融剤なしに熱により実行される。これにより、高純度窒素または真空雰囲気で高温によるソルダバンプ１６１の表面に酸化膜が形成されることを防止すると共に自然酸化膜の破断を容易にして接着力を向上させうる。
【００３１】
最後に、図９（Ｂ）に示した犠牲層２１０を除去して相互融着された前記レンズ１２０及びコイル部材１４０を基板２００から分離することによって図９（Ｃ）に示したような構造の光磁気ヘッドが製造される。
【００３２】
ここで、図８（Ａ）を参考にして説明されたコイル部材形成段階をより具体的に調べると次の通りである。
【００３３】
まず、図１０（Ａ）に示したように、基板２００上部に形成された犠牲層２１０上に第１メッキ基板層２３０を形成する。前記第１メッキ基板層２３０は第１コイル層(図１０（Ｄ）の１４１)のメッキのための層であって、銅などの導電性に優れた物質を真空蒸着することによって形成される。ここで、前記犠牲層２１０がフォトレジストより形成された場合は、前記第１メッキ基板層２３０の蒸着形成時接着性を考慮して前記犠牲層２１０上にクロム、チタンなどよりなる接着層２１５をまず蒸着した後、前記第１メッキ基板層２３０を蒸着することが望ましい。前記第１メッキ基板層２３０はクロム-銅(Cr-Cu)合金またはチタン-銅(Ti-Cu)合金よりなることが望ましい。
【００３４】
そして、図１０（Ｂ）に示したような形状で、メッキされる第１コイル層１４１の形状に対応するように第１メッキ基板層２３０'をパタニングする。即ち、後述する第１メッキ用型２４０に対向する部分を除去して第１絶縁用グルーブ２３１を形成する。
【００３５】
次いで、図１０（Ｃ）に示したように前記パタニングされた第１メッキ基板層２３０'上に所定の高さでフォトレジストを塗布した後、前記フォトレジストの層を第１コイル層１４１の形状に対応するネガティブ状にメッキ用型をパタニングして第１メッキ用型２４０を完成する。ここで、前記第１メッキ基板層２３０'は概略１０００Å程度の薄い膜である為、その上部に前記のメッキ用型を形成するためのフォトレジストをスピンコーティングのような方法で塗布する場合、容易にメッキ用型の上部面が平坦性を維持する。この第１メッキ用型２４０はフォトレジストなどの絶縁物質よりなる。この場合、一回の写真蝕刻でパタニングできるという利点がある。
【００３６】
以後、図１０（Ｄ）に示したように、パタニングにより形成された第１メッキ用型２４０間に金属をメッキして所定線幅の螺旋状構造を有する第１コイル層１４１を所定の厚さに形成する。ここで、第１コイル層１４１は多くの電流を流す用途として使われるもので、比較的厚い金属膜である為メッキにより形成することが望ましい。ここで、メッキ方法は電気メッキ法と無電解メッキ法の両方とも利用できる。
【００３７】
次いで、図１１（Ａ）に示したように、前記第１メッキ用型２４０を熱処理する。これは前記第１メッキ用型２４０に残っている溶剤を完全に除去して、熱処理された第１メッキ用型２４０が熱的に変形されることを最小化するためである。ここで、熱処理段階を経る場合、第１メッキ用型２４０'の高さが低くなる。これを勘案して、図１０（Ｄ）に示したように前記第１メッキ用型２４０の高さを前記第１コイル層１４１の厚さより相対的に高く形成することが望ましい。例えば、熱処理後の第１メッキ用型２４０'の高さが熱処理前の高さに比べて７０%程度で低くなる場合には、前記第１メッキ用型２４０の高さを前記第１コイル層１４１の厚さに対して概略１４０%の高さで形成すれば、熱処理段階後の前記第１メッキ用型２４０'と前記第１コイル層１４１の上面の高さを図１１（Ａ）に示したように、類似か同一に合せることができる。
【００３８】
前記熱処理はオーブン、板加熱装置、紫外線硬化装置、電子ビーム熱処理装置などを通じて可能である。
【００３９】
次に、図１１（Ｂ）に示したように第１メッキ用型２４０'と第１コイル層１４１の上面に、前記第１コイル層１４１と後述する第２コイル層(図１２（Ｂ）の１５１)との電気的絶縁のための絶縁層１４３を形成する。このように絶縁層１４３を形成する場合、絶縁層１４３の上面が平坦性を維持する。ここで、前記絶縁層１４３には、前記第１コイル層１４１の第１及び第２接点を第２コイル層１５１及び導電性反射膜１２９と電気的に導通させるために形成された貫通溝１４３a、１４３bを有する。ここで、前記絶縁層１４３は、シリカ酸化物(SiO2)及びシリカ窒化物(Si3N4)より構成された誘電体材質及び、フォトレジスト及びポリイミドより構成されたポリマー材質の中から選択された何れか一つの材質よりなることが望ましい。
【００４０】
以後、図１１（Ｃ）に示したように、前記絶縁層１４３上に第２メッキ基板層２５０を形成する。前記第２メッキ基板層２５０は第２コイル層１５１のメッキのための層であって、銅などの導電性に優れた物質を真空蒸着することによって形成される。ここで、前記第２メッキ基板層２５０をなす物質の一部は、前記貫通溝１４３a、１４３bに充填されて前記第１コイル層１４１と第２コイル層１５１の接点を電気的に導通させる。
【００４１】
次に、図１１（Ｄ）に示したようにメッキされる第２コイル層１５１の形状に対応して第２メッキ基板層２５０をパタニングする。即ち、後述する第２メッキ用型 (図１２（Ａ）の２６０)に対向する部分を除去して第２絶縁用グルーブ２５１を形成する。前記第２メッキ基板層２５０の材質は前述された第１メッキ基板層２３０'の材質のようにクロム-銅(Cr-Cu)合金またはチタン-銅(Ti-Cu)合金より構成される。
【００４２】
次いで、図１２（Ａ）に示したように前記パタニングされた第２メッキ基板層２５０'上に所定の高さでフォトレジストを塗布した後、前記フォトレジストの層を第２コイル層１５１の形状に対応するネガティブ形状にメッキ用型をパタニングして第２メッキ用型２６０を完成する。
【００４３】
以後、図１２（Ｂ）に示したように、パタニングにより形成された第２メッキ用型２６０間に金属をメッキして所定線幅の螺旋状構造を有する第２コイル層１５１を所定の厚さで形成する。ここで、第２コイル層１５１は多くの電流を流す用途で使われるので、比較的厚い金属膜であるためメッキにより形成することが望ましい。この場合にも、メッキ法では電気メッキ法と無電解メッキ法の両方を利用できる。
【００４４】
次いで、図１２（Ｃ）に示したように、前記第２メッキ用型２６０を熱処理する。これは前記第２メッキ用型２６０に残っている溶剤を完全に除去して、第２メッキ用型２６０'が熱的に変形されることを最小化するためである。ここで、熱処理段階を経る場合、第２メッキ用型２６０'の高さが低くなる点を考慮して、図１２（Ｂ）に示したように前記第２メッキ用型２６０の高さを前記第２コイル層１５１の厚さより相対的に高く形成して、熱処理段階後の前記第２メッキ用型２６０'と前記第２コイル層１５１の上面の高さを図１２（Ｃ）に示したように、類似かまたは同一に合せることができる。以後、レンズ(図９（Ｂ）の１２０)の出射部が位置する部分Aを除去して中空を備えることで、コイル部材１４０の形成が完了する。
【００４５】
【発明の効果】
前記のように構成された本発明に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドはソルダバンプを通じてレンズの一面に薄膜状マイクロコイルを接着することによって、接着及び接着維持が容易で、別の配線が不要なので組立工数を低減できる。
【００４６】
また、薄膜状マイクロコイルを使用することによって小型化できて光磁気ヘッドの小型化が可能で、半導体工程を用いた薄膜及びメッキ工程で収率を高められコストを低減できる。
【００４７】
また、光磁気ヘッド用コイル部材を前記のような製造方法に従って製造することによって、マイクロコイルは一層のコイルの製造工程が完了した後にも製作されたコイルの上部面が平坦性を維持する。したがって、次の層のコイル製作時にもメッキ基板層の形成工程時、露光用光学系の焦点深度を維持させることによってパターンの解像度を維持できる。また、第２メッキ基板層をなす金属が切れる問題点を根本的に防止できる。従って、一層コイル上に形成された他層のコイルの線幅と、コイル間の間隔を希望の範囲内で維持できて多層の薄膜積層型マイクロコイルの製造を容易にすることができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  一般の光磁気記録再生装置を示す概略的な平面図である。
【図２】  従来の光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドを示す正面図である。
【図３】  図２のIII-III線から見た底面図である。
【図４】  本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドがスライダーに搭載された様子を概略的に示す正面図である。
【図５】  本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドを概略的に示す部分断面図である。
【図６】  図５のレンズ底面を概略的に示す底面図である。
【図７】  本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドのコイル部材を概略的に示す分離斜視図である。
【図８】  （Ａ）、（Ｂ）は、本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッド製造方法を説明するための図である。
【図９】  （Ａ）乃至（Ｃ）は、図８に関連し光磁気ヘッド製造方法を説明するための図である。
【図１０】  （Ａ）乃至（Ｄ）は、本発明の実施例に係る光磁気記録再生装置の光磁気ヘッドのコイル部材製造方法を説明するための図である。
【図１１】  （Ａ）乃至（Ｄ）は、図１０に続く図である。
【図１２】  （Ａ）乃至（Ｃ）は、図１１に続く図である。
【符号の説明】
１００  光磁気記録媒体
１１０  スライダー
１２０  レンズ
１２１  透過部
１２３  第１反射部
１２５  第２反射部
１２７  出射部
１２９  導電性反射膜
１４０  コイル部材
１４１  第１コイル層
１４３  絶縁層
１５１  第２コイル層
１５３  連結用パターン
１６０  接合部材
１６１  ソルダバンプ
２００  基板
２１０  犠牲層
２１５  接着層
２２０  中空
２３０、２３０’  第１メッキ基板層
２３１  第１絶縁用グルーブ
２４０、２４０’  第１メッキ用型
２５０、２５０’  第２メッキ基板層
２５１  第２絶縁用グルーブ
２６０、２６０’  第２メッキ用型
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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