(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子を含有し、表面粗さＳＲａ値が１０〜６０ｎｍであるフィラー面と、粒子と有機化合物を含有する被膜を有し、表面粗さＳＲａ値が１〜６ｎｍであるマット面を持ち、フィラー面の粒子の平均粒子径がマット面の被膜中の粒子の平均粒子径の２倍以上大きく、厚さ２〜５．５μｍのポリエステル系プラスチックフィルムの両面に、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた金属材料からなる強化膜が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体の支持体。
【請求項２】
フィラー面の粒子の平均粒子径が１００〜１０００ｎｍ、マット面の被膜中の粒子の平均粒子径が５〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の支持体。
【請求項３】
マット面の微細突起個数が３００万個〜９０００万個／ｍｍ2 であることを特徴とする請求項１又は２記載の支持体。
【請求項４】
ポリエステル系フィルムの幅方向のヤング率が８０００ＭＰａ以上である請求項１〜３の何れか１項記載の支持体。
【請求項５】
フィラー面の微細突起個数が５０００個〜２００万個／ｍｍ2 であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項記載の支持体。
【請求項６】
ポリエステル系フィルムの長手方向のヤング率が６０００ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項記載の支持体。
【請求項７】
前記強化膜が、金属、半金属及び合金から選ばれた金属材料の酸化物を含み、該強化膜中の酸素濃度が該強化膜の表面近傍で大きい請求項１〜６の何れか１項記載の支持体。
【請求項８】
前記強化膜が、金属、半金属及び合金から選ばれた金属材料の酸化物を含み、該強化膜中の酸素濃度が該強化膜の表面近傍と該強化膜と前記フィルムの界面近傍で大きい請求項１〜６の何れか１項記載の支持体。
【請求項９】
前記金属材料がコバルトを主体とする強磁性金属とその酸化物である請求項１〜８の何れか１項記載の支持体。
【請求項１０】
前記両面の強化膜が同一の金属材料からなる請求項１〜９の何れか１項記載の支持体。
【請求項１１】
前記強化膜が真空中での斜め蒸着により形成されたものである請求項１〜１０の何れか１項記載の支持体。
【請求項１２】
請求項１〜１１の何れか１項記載の支持体と、該支持体のマット面側に形成された磁性層を有する磁気記録媒体であって、該磁性層が前記支持体の強化膜自体からなるか該強化膜を含んで構成され、或いは該強化膜上に形成された少なくとも１層の強磁性金属薄膜から構成されることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１３】
磁性層が前記支持体に形成された前記強化膜からなる請求項１２記載の磁気記録媒体。
【請求項１４】
磁性層がコバルトを主体とする強磁性金属とその酸化物からなる請求項１２又は１３記載の磁気記録媒体。
【請求項１５】
磁性層の厚さが０．１〜０．３μｍである請求項１２〜１４の何れか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１６】
磁性層上に保護層が形成されている請求項１２〜１５の何れか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１７】
保護層がダイヤモンドライクカーボンからなる請求項１６記載の磁気記録媒体。
【請求項１８】
磁性層又は保護層上に潤滑層が形成されている請求項１２〜１７の何れか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１９】
潤滑層がフッ素系潤滑剤からなる請求項１８記載の磁気記録媒体。
【請求項２０】
支持体のフィラー面側にバックコート層を有し、該バックコート層が前記支持体の強化膜自体からなるか該強化膜を含んで構成され、或いは該強化膜上に形成された少なくとも１層の強磁性金属薄膜から構成される請求項１２〜１９の何れか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項２１】
バックコート層が前記支持体に形成された前記強化膜からなる請求項２０記載の磁気記録媒体。
【請求項２２】
バックコート層がコバルトを主体とする強磁性金属とその酸化物からなる請求項２０又は２１記載の磁気記録媒体。
【請求項２３】
バックコート層上に潤滑層が形成されている請求項２０〜２２の何れか１項記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気テープなどの磁気記録媒体に用いられる支持体と該支持体を用いてなる強磁性金属薄膜型の磁性層を有する磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年の磁気記録は高密度記録化の方向にあり、高周波数特性の優れた磁気記録媒体が要望されている。従来は磁性粉を適当なバインダーに分散させて支持体上に塗布したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が主流であり、高密度記録に対する要求を満たすために種々の改善がなされているが、ほぼ限界に近づいている。
【０００３】
塗布型の磁気記録媒体を超える性能を期待できる磁気記録媒体として、支持体に蒸着等により磁性金属を付着させた磁性層を有するいわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体が開発されている。金属薄膜型の磁気記録媒体は、磁性層にバインダーを含まないことから磁性材料の密度を高められるため、高密度記録に有望であるとされている。金属薄膜型の磁性層としては、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｏ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等が検討されている。金属薄膜型の磁気記録媒体を実用化する際の製造法としては、真空蒸着法が最も適しており、この方法でＣｏ−Ｎｉ−Ｏからなる磁性層を形成したＨｉ８方式ＶＴＲ用テープやＣｏ−Ｏからなる磁性層を形成したＤＶＣ（デジタルビデオカセット）用テープが既に実用化されている。
【０００４】
高密度記録を達成する別の方法として、磁気記録媒体の支持体を薄膜化することが考えれられる。通常、磁気記録媒体の支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系プラスチックをはじめとする非磁性支持体が用いられ、その厚さは例えばＶＨＳ型のビデオテープでは１６μｍ程度、８ｍｍビデオテープでは９μｍ程度であるが、高密度記録（小型・長時間）を達成するために、より一層支持体の薄膜化を進める必要がある。薄膜化されたテープを用いる場合には、今までの厚いテープとの互換性（ヘッドの当たりや走行性など）を得ることが望まれ、この観点から、支持体として剛性の高いポリアミドフィルムが用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ポリアミドフィルムは現在市販されている量が従来のポリエステルフィルムと比べて格段に少なく、ポリアミドフィルムによる金属薄膜型磁気記録媒体の量的拡大には制約が多い。また、ＰＥＴやＰＥＮをそのまま用いると、剛性が低いので、ヘッドタッチが悪くなり、走行不良や大幅な出力の低下を招くなどの点から、薄膜化には限界があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題点に鑑み、磁気記録媒体の薄膜化に適した支持体を得るために鋭意研究した結果、特定の構造を有するポリエステル系プラスチックフィルムを用い、更に該フィルムの両面に金属系の強化膜を設けたものを支持体とすることにより、ポリアミドフィルムを用いた場合と同等の剛性を有し、且つ表面性が良好となり出力特性に優れた磁気記録媒体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち本発明は、粒子を含有し、表面粗さＳＲａ値が１０〜６０ｎｍであるフィラー面と、粒子と有機化合物を含有する被膜を有し、表面粗さＳＲａ値が１〜６ｎｍであるマット面を持ち、フィラー面の粒子の平均粒子径がマット面の被膜中の粒子の平均粒子径の２倍以上大きく、厚さ２〜５．５μｍのポリエステル系プラスチックフィルムの両面に、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた金属材料からなる強化膜が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体の支持体を提供するものである。
【０００８】
また、本発明は、かかる本発明の支持体と、該支持体のマット面側に形成された磁性層を有する磁気記録媒体であって、該磁性層が前記支持体の強化膜自体からなるか該強化膜を含んで構成され、或いは該強化膜上に形成された少なくとも１層の強磁性金属薄膜から構成されることを特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。
【０００９】
＜支持体＞
本発明の支持体は、ポリエステル系プラスチックからなるフィルムと該フィルムの両面に設けられた金属系の強化膜からなる。
【００１０】
ここで、ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタリンジカルボキシレート、ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエートなどが挙げられる。特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が好ましい。また、これらのポリエステルはホモポリエステルであってもコポリエステルであってもよい。
【００１１】
また、本発明の支持体に用いられるポリエステル系フィルムは、厚さが２〜５．５μｍ、好ましくは３．５〜５．５μｍである。本発明の支持体は特定のマット面とフィラー面を有するポリエステル系フィルムに金属系の強化膜を形成するものである。フィルムの曲げ剛性は、フィルムのヤング率、フィルムの厚さにより算出可能であり、更にフィルムの両面に何らかの層を形成する場合は、フィルムの曲げ剛性と形成する層の厚さとヤング率並びにフィルムの厚さから得られるパラメーターとを加味して算出される。このとき、最も外側に剛性の高い層を形成すること、更にはフィルムの両側の最も外側に剛性の高い層を形成することにより、高い曲げ剛性が得られる。曲げ応力がフィルムに加わるとフィルムの一面側は縮み他面側は伸びることになり、フィルムの伸び縮みを阻止することが曲げ剛性の向上につながる。よって、本発明の支持体としてフィルムの両面に硬い膜を形成させる意味がある。一般に金属は酸化物の方が硬度が高くなるので、強化膜の表面部を酸化することにより、本発明の効果は更に向上する。更に、厚さ２〜５．５μｍの薄いポリエステル系フィルムを用いる場合でも、フィルムの両側に剛性の高い金属系の強化膜を形成し、その際、強化膜の厚さやヤング率を調節することにより、ポリアミドフィルムに匹敵する曲げ剛性の支持体を得ることができる。本発明のこのような知見によるものであるが、ポリエステル系フィルムの厚さが５．５μｍを超えると、強化膜による曲げ剛性の向上効果は少なくなる。これは、一般にフィルムの曲げ剛性は厚さの３乗に比例することから、フィルムの厚さが増えるとフィルムの剛性そのものが向上し、強化膜による剛性の向上率が相対的に減少するからである。また、厚さが２μｍ未満のポリエステル系フィルムは、基本的にフィルム自体の曲げ剛性が低すぎるため、強化膜による剛性の向上が加味されても十分な剛性が発現するには至らない。本発明における強化膜による剛性の向上効果は厚さ３．５〜５．５μｍのフィルムにおいて特に顕著である。
【００１２】
また、本発明の支持体に用いられるポリエステル系フィルムは、マット面とフィラー面とを有する。ここで、マット面とは、粒子と有機化合物を含有する被膜が形成された面を言い、通常、該被膜上には微細突起が形成されている。また、フィラー面とは、フィルムに内在する粒子により表面突起が形成される面を言う。
【００１３】
本発明に用いられるポリエステル系フィルムは、単層でも使用可能であるが、２層以上の積層フィルムを用いるのが好ましい。
【００１４】
マット面の被膜に用いられる粒子の平均粒子径はフィラー面の粒子の平均粒子径の1/2 以下であり、好ましくは５〜５０ｎｍ、より好ましくは８〜３０ｎｍであり、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、ポリアクリル酸球、ポリスチレン球等が用いられるが、これらに限定されない。被膜中には該粒子は好ましくは０．５〜１２．０重量％、より好ましくは０．６〜１０．０重量％含まれる。また、有機化合物としては、有機高分子が好ましく、例えばポリビニルアルコール、トラガントゴム、カゼイン、ゼラチン、セルロース誘導体、水溶性ポリエステル、ポリウレタン等の有機高分子又はこれらのブレンド体が使用できるが、これらに限定されない。
【００１５】
また、磁気記録媒体の磁性層の耐久性を更に増すために、必要に応じて、マット面を形成する被膜下のポリエステル系フィルム層内には平均粒子径が３０〜１５０ｎｍ、好ましくは４０〜１００ｎｍの粒子を０．０１〜１．０重量％、好ましくは０．０２〜０．８重量％含ませマット面上に更に表面突起を持たせても良い。ここで使用される粒子は炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、ポリスチレン等が例示されるがこれらに限定されない。
【００１６】
フィラー面に用いられる粒子は炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、ポリスチレン等が例示されるがこれらに限定されない。この粒子の平均粒子径は好ましくは１００〜１０００ｎｍであり、より好ましくは１５０〜９００ｎｍのものが用いられる。粒子の添加量は、好ましくは、フィラー面を構成するポリエステル層の０．０５〜１．０重量％であり、より好ましくは０．０８〜０．８重量％である。
【００１７】
上記平均粒子径は下記の方法により測定されたものである。
即ち、電顕試験台上に粒子粉体を、この粒子ができるだけ重ならないように散在せしめ、電子顕微鏡（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観測し、少なくとも１００個の粒子の面積円相当径を求め、この数平均値をもって平均粒子径とする。
【００１８】
なお、この平均粒子径をフィルムから求める場合下記の手法等により求められる。
【００１９】
ａ）フィルムマット面に金スパッター装置により金薄膜蒸着層を２０〜３０ｎｍ（Ａｎｍ）設け、電子顕微鏡（好ましくは走査型電子顕微鏡）により倍率１０万倍程度で観測し、少なくとも１００個の粒子の面積円相当径を求め、この数平均値より２Ａｎｍ減じた値をもって平均粒子径とする。
【００２０】
ｂ）フィルムフィラー面をイオンエッチングしフィラー面の微粒子をフィルム表面から暴露し電子顕微鏡（好ましくは走査型電子顕微鏡）により倍率１万倍程度で観測し、少なくとも１００個の粒子の面積円相当径を求め、この数平均値をもって平均粒子径とする。
【００２１】
ポリエステル系フィルムの幅方向（磁気テープとしたときの長手方向に直交する方向）のヤング率は８０００ＭＰａ以上が好ましく、更に好ましくは８０００〜１１８００ＭＰａである。幅方向のヤング率が８０００ＭＰａ未満であると、本ポリエステル系フィルムから作成された支持体より作成された磁気記録媒体のビデオテープレコーダー、データーストリーマー装置内での記録、再生時、ヘッドの走行、テープ走行規制ガイドとの接触等によるテープエッジダメージが発生する場合がある。
【００２２】
本支持体に用いられるポリエステル系フィルムの長手方向（磁気テープとしたときの長手方向）のヤング率は、６０００ＭＰａ以下が好ましく、更に好ましくは３９００〜５５００ＭＰａである。長手方向のヤング率が６０００ＭＰａを越えると、本ポリエステル系フィルムから作成された支持体の長手方向の剛性が高くなることがあり、本支持体より作成した磁気記録媒体の従来の磁気記録媒体との互換性がとれなくなる場合がないとは言えないので、長手方向のヤング率は６０００ＭＰａ以下が好ましい。
【００２３】
上記ポリエステル系フィルムのヤング率は、引張試験測定により得られる応力−ひずみ曲線におけるスタート点の立ち上がり勾配からＡＳＴＭ  Ｄ−８８２−６７に準じて測定され、単位はＭＰａで表す。このときのサンプル幅、実効長さは１０ｍｍ、１００ｍｍとし、引張速度は１００ｍｍ／ｍｉｎとした。
【００２４】
本発明で用いるポリエステル系フィルムのマット面の微細突起個数は好ましくは３００万個〜９０００万個／ｍｍ2 、より好ましくは５００万個〜８０００万個／ｍｍ2 であり、フィラー面の微細突起個数は好ましくは５０００個〜２００万個／ｍｍ2 、より好ましくは１万個〜２００万個／ｍｍ2 である。
【００２５】
本発明においては、微細突起個数は顕微鏡観察で測定される。マット面の微細突起は１万倍以上（例えば３万倍）の倍率の電子顕微鏡で観察し、被膜の上に突起状に見えるものであり、その突起個数は電子顕微鏡（好ましくは走査型電子顕微鏡）で１０視野以上観察して１ｍｍ2 あたりに換算して求める。また、フィラー面の微細突起は、１０００倍程度の倍率の光学顕微鏡（好ましくは微分干渉顕微鏡）観察により突起状に見えるものであり、その突起個数は光学顕微鏡で１視野以上観察して１ｍｍ2 あたりに換算して求める。
【００２６】
図７に本発明の支持体のマット面の構造を示す走査型電子顕微鏡写真（倍率３万倍）を、また図８に本発明の支持体のフィラー面の構造を示す微分干渉顕微鏡写真（倍率１０００倍）をそれぞれ示した。
【００２７】
このようなマット面とフィラー面とを有するポリエステル系フィルムは、以下の方法で得ることができる。
【００２８】
溶融、成形、二軸延伸、熱固定からなる通常のプラスチックフィルム製造工程において、共押出し技術の使用により含有粒子を可能な限り除いたマット面用のポリエステル原料（Ａ）と、平均粒子径１００〜１０００ｎｍの粒子を０．０５〜１．０重量％含有させたフィラー面用のポリエステル原料（Ｂ）を用いたＡ／Ｂ積層フィルムを押出し、縦方向に９０〜１５０℃で２．５〜７．０倍延伸した後、Ａ層表面に平均粒子径が５〜５０ｎｍ、好ましくは８〜３０ｎｍの微細粒子を０．５〜１２．０重量％、好ましくは０．６〜１０．０重量％含む有機化合物からなる塗液を塗布する。次に横方向に９０〜１５０℃で３．０〜７．０倍延伸した後、１５０〜２２０℃の温度で熱固定を行いつつ１．１倍以上、横に延伸する。このようにして原料Ａ側表面にマット面、Ｂ層表面にフィラー面を形成させることができる。原料Ａには磁気テープ磁性面の磁気ヘッドによる耐久性を更に増すために、微細粒子を含ませても良い。
【００２９】
Ａ層、Ｂ層の間に更に層を設け、３層以上の積層構造を有するポリエステル系フィルムを用いてもよい。
【００３０】
また、かかるフィルムは、本発明に用いるポリエステル系フィルムのマット面の表面粗さＳＲａ値は１〜６ｎｍであるのが好ましく、より好ましくは２〜５ｎｍである。一方フィラー面の表面粗さＳＲａ値は１０〜６０ｎｍであるのが好ましく、より好ましくは１５〜５０ｎｍである。
【００３１】
マット面のＳＲａ値は表面Ａ上に形成させた被膜内の微粒子種類、添加量、ポリエステルＡ層内部の微細粒子の調整により調整することができる。フィラー面のＳＲａ値は層Ｂ内の粒子種類、添加量の調整により調整することができる。
【００３２】
なお、この表面粗さＳＲａ値はＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で規定する中心線平均粗さ（Ｒａ）に相当する中心線面平均粗さであり、次の方法により測定されたものである。
小坂研究所製の光触針式（臨界角焦点エラー検出方式）の３次元粗さ計（ＥＴ−３０ＨＫ）を使用して測定した。ＳＲａ値の測定は試料表面にＡｌ蒸着を施し光の反射率を増大させて行った。測定方向は幅方向とし、カットオフ値は０．０８ｍｍ、測定長は０．１〜０．２５ｍｍ、送りピッチは０．２μｍ、測定スピードは２０μｍ／ｓ、測定本数は１００本とした。単位はｎｍとした。
【００３３】
通常、本発明の支持体では、当該フィルムのマット面側に磁性層が形成され、フィラー面側にはバックコート層が形成される。
【００３４】
また、フィルムの両面に形成される強化膜は、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた金属材料からなる。具体的には、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎなどの金属、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、Ｓｂなどの半金属が挙げられる。これらの金属及び半金属の合金としては、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ等が挙げられる。また、これらの金属、半金属及び合金の酸化物は、例えば蒸着時に酸素ガスを導入することで容易に得られる。また、これらの金属、半金属及び合金の複合物としては、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｓｉ−Ｎ、Ｃｕ−Ａｌ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ−Ｏなどが挙げられる。
【００３５】
強化膜の形成方法は問わないが、真空蒸着法が一般的であり、その他にもスパッタ法やイオンプレーティング法などを用いることができる。特に強化膜となる金属材料としては、コバルトを主体とする強磁性金属とその酸化物が好適であり、この場合、真空中の斜め蒸着により、強化膜を形成することが好ましい。
【００３６】
強化膜の厚さは、２０〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜３００ｎｍである。
【００３７】
本発明では、特に、強化膜が、金属、半金属及び合金から選ばれた金属材料の酸化物を含み、該強化膜中の酸素濃度の分布が該強化膜の表面近傍で大きいことが好ましく、更に、強化膜中の酸素濃度の分布が該強化膜の表面近傍と該強化膜と前記フィルムの界面近傍で大きいことが、フィルムの剛性の面で好ましい。このような酸素分布を有する強化膜は、成膜時又は成膜後、表面を酸化性ガスで強制的に酸化処理することにより作製することができる。また、強化膜中の酸素濃度分布の測定は、オージェ電子分光分析の深さ方向の分析により行うことができる。ただし、強化膜の表面やフィルムとの界面付近は異物の混入などの影響により、オージェプロファイルの形状を正確に求めることは困難であり、本発明においてこれらの部分の酸素濃度の変化は排除される。
【００３８】
ここで、「酸素濃度が大きい」とは、相対的にその他の部分よりも酸素濃度が大きいことであり、特に濃度の変動が１０原子％以上ある場合を含む。
【００３９】
本発明において、強化膜はポリエステル系フィルムの両面に形成されるが、両面とも同一の金属材料で形成することが生産性の面から望ましく、特に本発明では両面の強化膜をＣｏとその酸化物から形成することが好ましい。
【００４０】
＜磁気記録媒体＞
本発明の磁気記録媒体は、上記の本発明の支持体のマット面側に少なくとも一層の強磁性金属薄膜からなる磁性層を有する。磁性層は、本発明の支持体の強化膜自体からなるか該強化膜を含んで構成され、或いは該強化膜上に形成された少なくとも１層の強磁性金属薄膜から構成される。
【００４１】
本発明において、金属薄膜型の磁性層を形成する磁性材料としては、通常の金属薄膜型の磁気記録媒体の製造に用いられる強磁性金属材料が挙げられ、例えばＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ等の強磁性金属、また、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ等の強磁性合金が挙げられる。また、これら金属もしくは金属合金の窒化物、炭化物、酸化物も好ましい。
【００４２】
高密度記録のためには磁気記録媒体の磁性層は、斜め蒸着又はスパッタなどにより基材上に形成される。斜め蒸着やスパッタの方法は特に限定されず、従来公知の方法に準ずる。蒸着の際の真空度は１０-4〜１０-7Ｔｏｒｒ程度である。
【００４３】
特に、支持体の強化膜がＣｏ等の強磁性金属から形成されている場合は、当該強化膜を磁性層としてもよく、特に本発明では、真空中での斜め蒸着により、支持体の一面にコバルトを主体とする強磁性金属を付着させて形成した強化膜を磁性層とすることが好ましい。この場合、蒸着中に酸素ガスを導入してコバルトを主体とする強磁性金属の酸化物が含まれるようにすることが一層望ましい。
【００４４】
更に、支持体上にバックコート層を形成することができる。バックコート層は、カーボンブラックやバインダーを主成分とする厚さ０．２〜１．０μｍ程度の塗布型のバックコート層でもよいし、蒸着法、直流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法などの乾式メッキ手段により、真空中で金属又は半金属を支持体に付着させて形成された金属薄膜型のバックコート層でもよい。後者の場合、バックコート層として付着する金属としては、いろいろ考えられるが、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｏなど及びこれらの合金が用いられ、Ａｌ、ＣｏやＣｕ−Ａｌ合金が好適である。また、バックコート層を形成する半金属としては、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、Ｓｂなどが用いられ、Ｓｉが好適である。更に蒸着時に前記金属又は半金属に酸化反応、炭化反応等をさせた酸化膜、炭化膜などのようにセラミックス化したものも好適である。また、更に添加物をドープし、導電率を向上させることは好ましい。金属薄膜型のバックコート層の厚さは、０．０５〜１．０μｍ程度である。バックコート層は金属薄膜型が好ましく、かかるバックコート層は、本発明の支持体の強化膜自体からなるか該強化膜を含んで構成され、或いは該強化膜上に形成された少なくとも１層の強磁性金属薄膜から構成されることが好ましい。特に支持体の強化膜をバックコート層とすることが好ましい。
【００４５】
また、本発明の磁気記録媒体においては、磁性層上に厚さが１〜５０ｎｍの保護膜が設けられるのが好ましい。保護層を構成する材料として、Ａｌ等の金属の酸化物、窒化物、あるいは炭化物などの他、ＳｉＣ等、及びそれを含む化合物などが考えられる。また、特に、炭素膜、中でもダイヤモンドライクカーボンが好ましい。ダイヤモンドライクカーボンよりなる保護層はフィジカルベーパーデポジション（ＰＶＤ）法又はケミカルベーパーデポジション（ＣＶＤ）法により形成される。特に、ＥＣＲプラズマＣＶＤ装置により形成される。即ち、真空槽内に配設された支持体上の磁性層に対してＥＣＲプラズマＣＶＤ装置を作動させ、磁性層に炭化水素系ガスのプラズマを吹き付ける。これにより、磁性層表面に保護層（ダイヤモンドライクカーボン層）が形成される。
【００４６】
更に、本発明の磁気記録媒体においては、磁性層又は保護層上に適当な潤滑剤からなる潤滑剤層を形成することが好ましい。特にパーフルオロポリエーテル等のフッ素系の潤滑剤が好ましく、潤滑剤層の厚さは０．５〜１０ｎｍ程度である。潤滑剤としては、例えば-[C(R)F-CF2-O]p-(但し、RはF,CF3, CH3などの基) 、特にHOOC-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2COOH，F-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2COOH 等のカルボキシル基変性パーフルオロポリエーテル、HOCH2-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2-CH2OH, HO-(C2H4O)m-CH2-(OC2F4)p(OCF2)q-OCH2-(OCH2CH2)n-OH, F-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2CH2OH等のアルコール変性パーフルオロポリエーテルが挙げられる。分子量は５００〜５００００のものが好ましい。具体的には、モンテカチーニ社の商品名「ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｚ  ＤＩＡＣ」や「ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｚ  ＤＯＬ」、ダイキン工業社の商品名「デムナムＳＡ」等がある。特に耐久性の面ではフッ素系アルキル基とアルキル基の両方を持つ潤滑剤の使用が好ましい。また、これらの潤滑剤を混合して使用することも好ましい。
【００４７】
なお、本発明においては、バックコート層上にも上記のような潤滑剤層を形成することが走行性の面から好ましい。
【００４８】
本発明において、各磁性層の厚さは、２層の場合、下層の磁性層の厚さが１０〜２００ｎｍ、上層の磁性層の厚さが５〜１００ｎｍが好ましく、３層の場合、下層の磁性層の厚さが１０〜２００ｎｍ、中間の磁性層の厚さが１０〜１００ｎｍ、上層の磁性層の厚さが５〜１００ｎｍが好ましい。また磁性層の数は高周波記録媒体程多い方が良いが、実用的な範囲としては２〜５層、特に２〜３層が適当と考えられる。多層の磁性層は、一層ずつ形成しても、二以上の装置を用いて連続的に成膜してもよい。
【００４９】
また、本発明の磁気記録媒体の保磁力は、磁性層全体の保磁力として１２００（Ｏｅ）（９５ＫＡ／ｍ）以上であるのが好ましく、特に１３００（Ｏｅ）（１０３ＫＡ／ｍ）以上が好ましい。
【００５０】
【発明の実施の形態】
以下実施例にて本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例１７、１８、２０は比較例であるが、便宜的に実施例として示したものである。
【００５１】
実施例１
（１）支持体の製造
下記の方法で、マット面とフィラー面を有する厚さ４．９μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを得た。
【００５２】
実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートに平均粒子径６０ｎｍのシリカを０．０３重量％含有させた原料Ａと、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートに平均粒子径３００ｎｍの炭酸カルシウムを０．２０重量％含有させた原料Ｂとを厚み比５：１の割合で共押出しし、ロール延伸法で１１０℃で３．０倍に縦延伸した。
【００５３】
縦延伸の後の工程で、片側表面Ａの外側に下記水溶液を塗布した。
0003691941.tif 000002
その後、ステンターにて横方向に１０５℃で３．３倍に延伸し、更に２１５℃で１．５６倍に横延伸しながら熱処理し、中間スプールに巻き、スリッターで小幅にスリットし、円筒コアーにロール状に巻取り、マット面Ａ（原料Ａに水溶液を塗布し被膜を形成した面）とフィラー面Ｂ（原料Ｂよりなる面）を有する厚さ４．９μｍのロール状ポリエステルフィルムを得た。
【００５４】
本ポリエステルフィルムはマット面の微細突起個数が１８００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が３ｎｍであった。フィラー面の微細突起個数は２５万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が２０ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４２００ＭＰａ／９０００ＭＰａであった。
【００５５】
次いで、このＰＥＴフィルムの両面に、図１の装置を用いて、それぞれ厚さ１２０ｎｍのＣｏ強化膜を成膜し、強化膜が形成された支持体を製造した。この時の蒸着条件は、最大入射角６０°、フィルム走行速度１．５ｍ／分、電子銃パワー１６ｋＷ、ノズル１４ａからの酸素ガス流量１０ＳＣＣＭ、ノズル１４ｃからの酸素ガス流量６０ＳＣＣＭであった。なお、図１は真空蒸着装置の概略図であり、図１において、１は支持体、１０は冷却キャンロール、１１はルツボ、１２はＣｏ、１３は防着板、１４ａ、１４ｂ、１４ｃは酸素ガスノズル、１５は電子銃、１６は真空チャンバである。本例では酸素ガスノズル１４ｂは使用しなかった。
【００５６】
得られた支持体のマット面側の強化膜の元素分布をオージェ電子分光法により分析した結果を図３に示す。ここで、オージェ電子分光法は、電子銃条件として電子銃加速電圧１０ｋＶ、エミッション電流１０ｎＡ、倍率２０００倍であり、エッチング条件として、エッチングガスがアルゴンガスで、加速電圧３ｋＶ、イオン電流３００ｎＡであり、この条件下で２５秒間毎にエッチングして行った（以下同じ）。図３から、この支持体のマット面側の強化膜は、その表面近傍と、強化膜とＰＥＴフィルムの界面近傍で酸素濃度が高いことがわかる。
【００５７】
（２）磁気テープの製造
上記で得られた支持体フィルムを再度図１の装置にセットし、支持体のマット面側のＣｏ強化膜上に、厚さ９０ｎｍのＣｏ磁性層を形成した。この時の蒸着条件は、フィルム走行速度１．３ｍ／分、電子銃パワー１５ｋＷ、ノズル１４ｃからの酸素ガス流量５０ＳＣＣＭであった（ノズル１４ａ、１４ｂは使用せず）。
【００５８】
次いで、該Ｃｏ磁性層上にＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボンからなる厚さ１０ｎｍの保護層を形成した。更に該保護層上とフィラー面側のＣｏ強化膜上に、フッ素系潤滑剤〔商品名：ＡＭ２００１（ダイキン工業社製）〕をそれぞれ厚さが２ｎｍとなるように付着して潤滑剤層を形成した。
【００５９】
上記により得られた、Ｃｏ強化膜、Ｃｏ磁性層、ダイヤモンドライクカーボン保護層及びフッ素系潤滑層が形成されたフィルムを８ｍｍ巾に裁断し、カセットケースにローディングし、８ｍｍビデオテープを得た。
【００６０】
（３）性能評価
上記で得られた８ｍｍビデオテープについて、出力、走行性（ジッタ）及びヘッドタッチの指標としてエンベロープを以下の方法で評価した。走行性は走行に伴う電磁変換特性の変化を表すジッタを指標とした。その結果を表１に示す。
【００６１】
▲１▼出力
８ｍｍＶＴＲを改造したデッキを用いて、表１の周波数での出力を測定し、本実施例１を基準（０ｄＢ）とする相対評価とした。
【００６２】
▲２▼ジッタ
ジッタは、市販の８ｍｍＶＴＲを改造し、これにジッタメーターを接続して測定した。
【００６３】
▲３▼エンベロープ
エンベロープは、アドバンテスト社のＴＲ４１７１型スペクトラアナライザを用い、ＲＢＷ＝１０ｋＨｚ、ＶＢＷ＝３０ｋＨｚ、周波数スパン＝０ＭＨｚ、スイープタイム＝４０ｍｓ、アベレージ＝１６回の条件で得られた出力波形（エンベロープ）をオシロスコープで測定し、図２に示すように、出力波形の最大値Ｂと最小値Ａから欠け量として下記のように算出した。
欠け量（dB）＝２０ｌｏｇ（Ａ／Ｂ）
欠け量の小さいもの程ヘッドタッチが良好である。
【００６４】
実施例２
実施例１において、マット面の微細突起個数が８０００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が２ｎｍである以外は、同様の厚さ４．９μｍ、ヤング率は長手方向／幅方向で４２００ＭＰａ／９０００ＭＰａのＰＥＴフィルムを用いて実施例１と同様に８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ａから平均粒子径６０ｎｍのシリカを除き、片面表面Ａの外側に塗布される水溶液に含まれる極微細シリカの平均粒子径を１０ｎｍとした以外は実施例１と同様にして製造されたものである。
【００６５】
実施例３
実施例１において、フィラー面の微細突起個数が１００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が４０ｎｍである以外は、同様の厚さ４．９μｍ、ヤング率は長手方向／幅方向で４２００ＭＰａ／９０００ＭＰａのＰＥＴフィルムを用いて実施例１と同様に８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ｂに含まれる炭酸カルシウムの含有量を０．６０重量％とした以外は実施例１と同様にして製造されたものである。
【００６６】
実施例４
実施例１において、ＰＥＴフィルムに代えて厚さ４．２μｍポリエチレンナフタナフタレート（ＰＥＮ）フィルムを用いた以外は実施例１と同様にして８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、ここで用いたＰＥＮフィルムは、マット面の微細突起個数が６００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が２ｎｍであった。フィラー面の突起個数は７万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は１７ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で５５００ＭＰａ／１１０００ＭＰａであった。また、このＰＥＮフィルムは実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料をポリエチレンテレフタレートからポリエチレン−２，６−ナフタレートと変更し、縦延伸温度、倍率を１３５℃で５．０倍とし、横延伸温度、倍率を１３５℃、６．０倍とし、更に１６０℃で１．２倍に横に延伸し、２００℃で熱処理と変更した以外は実施例１と同様にして製造されたものである。
【００６７】
実施例５
実施例１において、蒸着装置の酸素ガスノズル１４ａからの酸素ガスの導入をせずに両面の強化膜を形成し、その他は実施例１と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、得られた支持体のマット面側の強化膜の元素分布をオージェ電子分光法により分析した結果を図４に示す。図４から、この支持体のマット面側の強化膜は、その表面近傍で酸素濃度が高いことがわかる。
【００６８】
実施例６
実施例１において、支持体に強化膜を形成する際に全く酸素ガスを導入をせず、その他は実施例１と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、得られた支持体のマット面側の強化膜の元素分布をオージェ電子分光法により分析した結果を図５に示す。図５から、この支持体のマット面側の強化膜は、酸素濃度がほぼ一定であることがわかる（表面近傍がわずかに酸素濃度が高いのは自然酸化によるものである）。
【００６９】
実施例７
(1) 支持体の製造
実施例１の製造法において、共押出しフィルムの厚さを０．８倍、押出し速度を１．２倍とし、他は同様にして、マット面とフィラー面を有する厚さ３．５μｍのＰＥＴフィルムを得た。
本ポリエステルフィルムのマット面の微細突起個数が１８００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が３ｎｍであった。フィラー面の突起個数は２５万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は２０ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９２００ＭＰａであった。
【００７０】
次いで、このＰＥＴフィルムの両面に、図１の装置を用いて、マット面に厚さ１００ｎｍのＳｉＯx 強化膜を成膜し、フィラー面に厚さ１５０ｎｍのＳｉＯx 強化膜を成膜し、強化膜が形成された支持体を製造した。この時の蒸着条件は、最大入射角４０°、電子銃パワー１８ｋＷ、ノズル１４ａからの酸素ガス流量２０ＳＣＣＭ、ノズル１４ｃからの酸素ガス流量３０ＳＣＣＭであり、フィルム走行速度はマット面で３ｍ／分、フィラー面で４．５ｍ／分であった。
【００７１】
（２）磁気テープの製造および性能評価
上記で得られた支持体フィルムを再度図１の装置にセットし、支持体のマット面側のＳｉＯx 強化膜上に、厚さ１５０ｎｍのＣｏ磁性層を形成した。この時の蒸着条件は、最大入射角６０°、フィルム走行速度１．０ｍ／分、電子銃パワー１６ｋＷ、ノズル１４ｃからの酸素ガス流量７０ＳＣＣＭであった（ノズル１４ａ、１４ｂは使用せず）。
【００７２】
次いで、実施例１と同様にダイヤモンドライクカーボンからなる保護層、フッ素系潤滑剤を形成し、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
【００７３】
実施例８
実施例７において、ＳｉＯx 強化膜の形成の際に蒸着装置の酸素ガスノズル１４ｂのみから酸素ガスを導入（流量５０ＳＣＣＭ）して両面の強化膜を形成し、その他は実施例７と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、得られた支持体のマット面側の強化膜の元素分布をオージェ電子分光法により分析した結果を図６に示す。図６に示されるように、この支持体のマット面側の強化膜中の酸素濃度は、その表面近傍は自然酸化によりやや高くなり、深さ方向に向かうにつれて一旦酸素濃度が減少するが徐々に増加し、再度ゆるやかに減少している。
【００７４】
実施例９
実施例７において、支持体のマット面に形成するＳｉＯx 強化膜をＮｉ−Ｏ強化膜に代えた以外は実施例７と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。なお、Ｎｉ−Ｏ強化膜を形成する際の蒸着条件は、最大入射角５０°、電子銃パワー１２ｋＷ、フィルム走行速度１．２ｍ／分、ノズル１４ａからの酸素ガス流量２０ＳＣＣＭ、ノズル１４ｃからの酸素ガス流量４０ＳＣＣＭであった。
【００７５】
実施例１０
実施例７において、ＰＥＴフィルムに代えて厚さ２．５μｍのＰＥＮフィルムを用いた以外は実施例７と同様にして８ｍｍビデオテープを製造し、実施例７同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＮフィルムは、マット面の微細突起個数が６００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が２ｎｍであった。フィラー面の突起個数は７万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は１７ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で６０００ＭＰａ／１１０００ＭＰａであった。また、このＰＥＮフィルムは実施例４のＰＥＮフィルム製造において、共押出しフィルムの厚さを０．７倍、押出し速度を１．２倍とし、他は同様にして得た。
【００７６】
実施例１１
実施例７において、厚さ５．５μｍのＰＥＴフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、マット面の微細突起個数が１６００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が３ｎｍであった。フィラー面の突起個数は１５万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は１８ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００ＭＰａであった。また、ここで用いられたＰＥＴフィルムは実施例１のＰＥＴフィルム製造において、共押出しフィルムの厚さを１．２倍とし、他は同様にして得た。
【００７７】
実施例１２
実施例９において、マット面側のＮｉ−Ｏ強化膜とフィラー面側のＳｉＯx 強化膜の厚さをそれぞれ２倍にした（フィルム走行速度を半分にした）以外は実施例１と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
【００７８】
実施例１３
実施例９において、マット面側のＮｉ−Ｏ強化膜とフィラー面側のＳｉＯx 強化膜の厚さをそれぞれ半分にした（フィルム走行速度を２倍にした）以外は実施例１と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
【００７９】
実施例１４
図１の装置を用いて、実施例１で得られたポリエステルフィルムのマット面に厚さ１４０ｎｍのＣｏ強化膜を成膜し、一方フィラー面には厚さ１４０ｎｍのＣｏ強化膜を成膜した。その後、実施例１と同様にマット面の強化膜上に保護層を形成し、更に該保護層上とフィラー面のＣｏ強化膜上に潤滑剤層を形成した。その後実施例１と同様に８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
【００８０】
実施例１５
実施例１のＰＥＴフィルム製造において、２１５℃での横延伸倍率を１．２４倍と変更した以外は実施例１と同様にして得た厚さ４．９μｍのＰＥＴフィルムを用い、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、マット面の微細突起個数が２０００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が３ｎｍであった。フィラー面の突起個数は３２万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は２５ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／７５００ＭＰａであった。
【００８１】
実施例１６
実施例４のＰＥＮフィルム製造において、縦延伸倍率を５．８倍と変更した以外は実施例４と同様にして厚さ４．２μｍのＰＥＮフィルムを用い、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＮフィルムは、マット面の微細突起個数が７００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が２ｎｍであった。フィラー面の突起個数は６万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は１６ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で６５００ＭＰａ／１１０００ＭＰａであった。
【００８２】
実施例１７
実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ｂ内の炭酸カルシウムの平均粒子径を８ｎｍとした。その他は実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのポリエステルフィルムを得た以外は実施例１と同様にして８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、マット面の微細突起個数が１８００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が３ｎｍであった。フィラー面の突起個数は３００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は８ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００ＭＰａであった。
【００８３】
実施例１８
実施例１のＰＥＴフィルム製造において、原料Ｂ内の炭酸カルシウムの平均粒子径を１２００ｎｍとした。その他は実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのポリエステルフィルムを得た以外は実施例１と同様にして８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、マット面の微細突起個数が１８００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が３ｎｍであった。フィラー面の突起個数は４０００個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は７０ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００ＭＰａであった。
【００８４】
実施例１９
実施例１のＰＥＴフィルム製造において、片側表面Ａの外側に塗布される水溶液に含まれる極微細シリカの平均粒子径を４ｎｍとした以外は実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのＰＥＴフィルムを用い、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、マット面の微細突起個数が１．１億個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が２ｎｍであった。フィラー面の突起個数は２５万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は２０ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００ＭＰａであった。
【００８５】
実施例２０
実施例１のＰＥＴフィルム製造において、片側表面Ａの外側に塗布される水溶液に含まれるシリカの平均粒子径を６０ｎｍとした以外は実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのＰＥＴフィルムを用い、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、マット面の微細突起個数が２００万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値が８ｎｍであった。フィラー面の突起個数は２５万個／ｍｍ2 で、ＳＲａ値は２０ｎｍであった。ヤング率は長手方向／幅方向で４３００ＭＰａ／９１００ＭＰａであった。
【００８６】
比較例１
実施例１において、マット面とフィラー面が形成されていないＰＥＴフィルムを用い、このＰＥＴフィルムに実施例１と同様にして強化膜を形成し、支持体とした。その他は実施例１と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
【００８７】
比較例２
実施例１において、支持体のフィラー面にＣｏ強化膜を形成せず、代わりに公知のカーボンブラックとバインダーとからなる塗料を塗布して厚さ０．５μｍ（乾燥厚）の塗布型のバックコート層を形成した。その他は実施例１と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
【００８８】
比較例３
実施例７において、支持体のフィラー面にＳｉＯx 強化膜を形成せず、代わりに公知のカーボンブラックとバインダーとからなる塗料を塗布して厚さ０．５μｍ（乾燥厚）の塗布型のバックコート層を形成した。その他は実施例１と同様にして、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
【００８９】
比較例４
実施例１のＰＥＴフィルム製造において、片側表面Ａの外側に塗布される水溶液に含まれるシリカの平均粒子径を５５ｎｍとし、原料Ｂ内の炭酸カルシウムの平均粒子径を８０ｎｍとした以外は実施例１と同様にして厚さ４．９μｍのＰＥＴフィルムを用い、８ｍｍビデオテープを製造し、実施例１同様の性能評価を行った。その結果を表１に示す。
なお、ここで用いたＰＥＴフィルムは、マット面の微細突起個数が６０万個／ｍｍ2 で、フィラー面の突起個数は８００万個／ｍｍ2 であった。
【００９０】
【表１】
0003691941.tif 000003
【００９１】
【発明の効果】
以上の如く本発明によれば、優れた剛性を有する薄膜化された支持体が提供される。この支持体を用いて得られる磁気記録媒体は走行性やヘッドの当たりが良好であり、優れた出力特性を示すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の磁性層を形成するための装置の例を示す略図
【図２】実施例におけるエンベロープ欠け量を算出するためのモデル図
【図３】実施例１の支持体のマット面側の強化膜のオージェ分光分析のチャート
【図４】実施例５の支持体のマット面側の強化膜のオージェ分光分析のチャート
【図５】実施例６の支持体のマット面側の強化膜のオージェ分光分析のチャート
【図６】実施例８の支持体のマット面側の強化膜のオージェ分光分析のチャート
【図７】本発明の支持体のマット面の構造を示す走査型電子顕微鏡写真（倍率３万倍）
【図８】本発明の支持体のフィラー面の構造を示す微分干渉顕微鏡写真（倍率１０００倍）
【符号の説明】
１…支持体
１０…冷却キャンロール
１１…ルツボ
１２…Ｃｏ
１５…電子銃
１６…真空チャンバ
【図１】
0003691941.tif 000004
【図２】
0003691941.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0003691941.tif 000011