(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板を貼り合わせた内面問隙に液晶層を挟持してなる液晶パネルと、
前記液晶パネルの画像出射側に設置して有効表示領域外周を遮光する遮光枠を有する透明板とを少なくとも有する液晶モジュールと、
前記液晶パネルに照明光を照射する光源装置と、
前記液晶パネルから出射する前記第２基板の内面での反射光を通過させる光学絞りと、
前記光学絞りから出射する前記反射光をスクリーン上に投射する投射光学系とを備えた投射型液晶表示装置であって、
前記透明板に設けられる遮光枠を前記液晶パネルの前記有効表示領域を囲む外周に対応して前記第１基板に対して傾斜する低反射率の遮光枠として形成し、
前記遮光枠で反射した反射光を前記光学絞りから外れる方向に指向させることを特徴とする投射型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に有効表示領域外周での反射光を低減して高品質の投射画像を得るこのができる液晶モジュールおよびこの液晶モジュールを用いた投射型液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
テレビ受像機やパソコン等の情報機器のモニター、その他の各種画像表示装置用のデバイスとして液晶パネルが広く用いられている。その中でも近年、液晶表示装置を画像生成手段とした小型でかつ大画面を表示できる投射型表示装置が普及している。
【０００３】
この種の液晶表示装置に用いる液晶パネルは、共通電極を形成した一方の基板（第１基板）と、画素選択用の給電電極もしくはスイッチング素子の給電電極となる駆動電極を形成した他方の基板（第２基板）との各電極形成面を対向させて貼り合わせた間隙に液晶層を挟持して構成されるのが一般的である。そして、直視型の液晶パネルでは上記第１と第２の基板として共にガラス等の透明板を用い、周縁および裏面に駆動回路基板およびバックライト（光源）を配置して液晶モジュールとし、その液晶パネルに形成した画像を第１基板の面上で観察する構成を採用している。
【０００４】
これに対し、投射型液晶表示装置は、小型の液晶パネルに生成した画像で透過光あるいは反射光を制御し、制御された光を投射光学系でスクリーン上に投射し、スクリーン上に投射された画像を観察する。
【０００５】
この種の投射型液晶表示装置は、その液晶パネルを構成する第１基板と第２基板を共に透明基板とした液晶モジュールを用いて、第２基板の背面から照明する形式と、第１基板を透明基板とし、第２基板として不透明のシリコン基板を用い、両者の貼り合わせ間隙に液晶層あるいは高分子分散型液晶層を挟持したものをパッケージに収納して液晶モジュールとし、第１基板側から照明光を照射する反射形式とが知られている。
【０００６】
また、上記投射型液晶表示装置では、その液晶モジュールを構成する液晶パネルへの駆動電圧等の供給をフレキシブルプリント基板を介して行うようにし、駆動回路装置、光源装置、および投射光学系等を筺体に組み込んで一体装置を構成する。
【０００７】
図１６は従来の投射型液晶表示装置の構成例を説明するための模式図であって、反射形式の液晶モジュールを用いた投射型液晶表示装置の構成例である。
【０００８】
図１６において、筺体１４内に液晶モジュール７１５、照明光源６、照明レンズ系７、反射鏡８、結像レンズ系３、光学絞り９、および投射光学系１２等を収納してなる。
【０００９】
光源装置６からの照射光は照明レンズ系７と反射鏡８により液晶モジュール７１５を構成する液晶パネル７１４の表面に入射する。液晶パネル７１４の有効表示領域には画像信号に対応して入射光を透過、または不透過にする光学像が生成されており、この光学像によって液晶パネル７１４に入射した光が変調され、反射した光が結像レンズ系３と光学絞り９、投射光学系１２を介してスクリーン１３上に拡大投射される。なお、ここでは、分かり易くするために結像レンズ系３と液晶モジュールとを分離して図示してある。
【００１０】
図１７は従来の投射型液晶表示装置の液晶モジュールでの反射光の光路を説明する模式図、図１８は図１７のＡ部分の要部拡大図である。
【００１１】
図１７において、１は遮光パネル、２は遮光層、３は結像レンズ系、７０１は第１基板、７０２は第２基板、７０３は液晶層、７０７はパッケージ、７１０は放熱シート、７１５は液晶モジュールを示す。また、図１８において、１ａは遮光パネルの表面、１ｂは同裏面、７０４はシール材、７１４は液晶パネルである。なお、図１７と図１８における図１６と同一符号は同一部分に対応する。
【００１２】
光源装置６から出射した照明光は照明レンズ系７と平面鏡８を介して液晶モジュール７１５を構成する液晶パネル７１４の第１基板７０１（表示面）に入射する。液晶パネル７１４から反射した変調光１０は結像レンズ系と光学絞り９を通って図示しない投射光学系に入射し、スクリーン上に拡大投射される。
【００１３】
液晶パネルに入射した光の一部は液晶パネルの周辺も照明し、この周辺で反射した光が不要光１１としてスクリーンに到達し、コントラストを低下させて画質を劣化させる。
【００１４】
この不要光を除去するため、従来は液晶パネル７１４の有効表示領域外周に反射率の低い遮光層２を持つ遮光パネル１を設けている。なお、この遮光層２は、液晶パネル７１４の周辺に駆動回路等を設けた場合に、この部分に強い光が照射されるのを防止するという目的もある。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の遮光層を反射のないものとすることは困難であり、ある程度の反射を持っている。このため、遮光層からの反射光１１が有効表示領域からの反射光（変調光）１０と共に光学絞り９を通過してスクリーンに達する。
【００１６】
そのため、スクリーンの画像表示部分の周辺部のコントラストが低下し、所謂額縁状の明領域が形成されるという問題があった。
【００１７】
さらに、遮光層からの反射光のスペクトラムをフラットにすることが困難で、上記額縁状の明領域に薄く色がつくという問題があった。すなわち、スクリーン上の画像表示領域の外周である液晶パネルからの反射光がない部分との間に、上側と下側の幅が同じでない等の不特定な幅で枠状の薄暗い色つき図形が形成され、画像の美観を著しく損なう現象が観察される。
【００１９】
また、本発明の目的は、上記従来技術の諸問題を解消し、高品質の画像表示を得ることのできる投射型液晶表示装置を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
上記第１の目的を達成するために、本発明は、下記に記載の構成としたことに特徴がある。
【００２８】
（１）第１基板と第２基板を貼り合わせた内面間隙に液晶層を挟持してなる液晶パネルと、前記液晶パネルの画像出射側に設置して有効表示領域外周を遮光する遮光パネルとを少なくとも有する液晶モジュールと、前記液晶パネルに照明光を照射する光源装置と、前記液晶パネルから出射する前記第２基板の内面での反射光を通過させる光学絞りと、前記光学絞りから出射する前記反射光をスクリーン上に投射する投射光学系とを備えた投射型液晶表示装置の前記液晶パネルの前記有効表示領域を囲む外周に前記第１基板に対して傾斜する傾斜面を形成し、前記傾斜面に照射する照射光の反射光を前記光学絞りから外れる方向に指向させることを特徴とする。
【００２９】
（２）（１）の傾斜面とは反対側の面に低反射層を形成したことを特徴とする。
【００３７】
また、本明細書における「遮光パネル」は、液晶パネルの有効表示領域外からの不要光が光学絞りの開口を抜けないようにする作用を持つ部材の意味で用いる。
【００３８】
さらに、上記した各構成は反射型の液晶パネルに本発明を適用したものであるが、これに限るものではなく、本発明は透過型の液晶パネルにも適用できる。この場合は、液晶パネルの有効表示領域の外周を透過した光の光路が、有効表示領域を透過した光とは異なる角度で光学絞りを外れて出射するように遮光パネルの外周に上記した傾斜角を形成すればよい。
【００３９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態につき、実施例を参照して詳細に説明する。
【００４０】
図１は本発明による液晶モジュールの第１実施例の構成と作用を説明する前記図１７と同様の模式図、図２は図１のＡ部分の前記図１８と同様の拡大断面図である。
【００４１】
図１と図２において、１は遮光パネル、２は遮光層、３は結像レンズ系、６は光源装置、７は照明レンズ系、８は平面鏡、９は光学絞り、１０は有効表示領域から出射する変調光、１１は有効表示領域外周からの反射光、７０１は液晶パネルを構成する第１基板（透明基板）、７０２は同第２基板（シリコン基板）、７０３は液晶層（高分子分散型液晶層）、７０４はシール材、７０７はパッケージ、７１０は放熱シート、７１４は液晶パネル、７１５は液晶モジュールである。
【００４２】
液晶パネル７１４は変調光１０の出射側（表面）に位置する第１の基板７０１と裏面に位置する第２基板７０２の間に高分子分散型液晶層７０３を挟持し、シール材７０４で封止してある。第１基板７０１の内面には共通電極やカラーフィルタ等が形成され、第２基板７０２の内面にはＴＦＴなどの画素選択用スイッチング素子や、これを駆動する各種の電極、および反射電極（画素電極）が形成されている。
【００４３】
液晶パネル７１４の表面には周辺に遮光層２を形成した遮光パネル１が設置され、第２基板の裏面に放熱シート７１０等を介してパッケージ７０７に収納されて液晶モジュールを構成する。
【００４４】
光源装置６から出射した照明光は液晶モジュール７１５の液晶パネル７１４に入射する。液晶パネル７１４には画像信号に応じた光学像が形成されており、この光学像により上記入射光が変調される。変調光１０は結像レンズ系３を通して光学絞り９の開口を通過し、スクリーン（図１６参照）に投射される。
【００４５】
液晶パネル７１４に入射した光の大部分は当該液晶パネルの有効表示領域に入射して、その反射光である変調光が光学絞り９を抜けてスクリーンに達するが、光源からの照明光の一部は液晶パネル７１４の有効表示領域の外周をも照明する。
【００４６】
液晶パネル７１４の上面に設置されたガラス等の透明板からなる遮光パネル１の有効表示領域１a外周の前面は液晶パネルの第１基板７０１の平面に対して傾斜した傾斜面１cとされており、さらに遮光パネル１の裏面１bの上記傾斜面１cと対応する裏面に低反射層からなる遮光層２が形成されているため、有効表示領域の外周に入射した光の大部分は遮光層（低反射層）２で吸収され、吸収されずに反射した反射光１１は上記傾斜面１cによってその光路が上記光学絞り９の開口から外れる方向に指向される(図1参照)。
【００４７】
すなわち、光学絞り９の開口は、液晶パネル７１４の有効表示領域からの変調光１０の方向からの光路角の光のみを通過させるように構成されているため、反射光１１は光学絞り９で遮断される。したがって、スクリーン上には有効表示領域からの変調光１０のみが投射される。
【００４８】
図３と図４は液晶パネル７１４の有効表示領域外周に傾斜面を形成して当該有効表示領域外周からの反射光を光学絞りで遮断する原理の説明図である。
【００４９】
図３において、Ｆ値が１の光源系とＦ値が２の光学絞り（出射絞り９）を持つ反射型光学系では、入射系と出射系が２θの角度で離軸（オフアクシス）しているものとして考える（同軸（オンアクシス）ならθ＝０とすればよい）。
【００５０】
なお、これは、実際の光学系で存在するレンズ反射体の奥行き等を内包したものとする。
【００５１】
反射面上の点Ｃに入射する光の角度は、Ｃ点が反射面Ｆ上にあり、その理想的な反射面に水平であるとすると、反射に寄与する光はＣ点上における反射面の法線Ｐからの角度で、θ−φからθ＋φまでであり、Ｃ点が理想的に平坦な反射面であるとすれば、これは反射面Ｆの法線に関して反対方向に各々θ−φからθ＋φまでの角度で反射する。
【００５２】
便宜上、図の時計周り方向を角度の正方向にとると、−θ−φ＜Θ＜−θ＋φのΘ方向に光が反射される。
【００５３】
光学絞り９を通してスクリーン方向に出射する光は、
│φ│＞│ψ│ならば、−θ−ψ＜Θ＜−θ＋ψのΘ方向の光であり、
│ψ│＞│φ│ならぱ、−θ−φ＜Θ＜−θ＋φのΘ方向の光である。
【００５４】
この反射面Ｆを実質的に傾けて図４に示した反射面ＤまたはＥとすると、入射した光が反射面で反射した光が光学絞り９から全く出射しない条件を作ることができる。
【００５５】
上記の反射面Ｄ、Ｅの接線が反射面Ｆとなす角υ、ωは、
｜υ｜，｜ω｜＝｜φ｜＋｜ψ｜      但し、υ、ω＜π／２である。
【００５６】
これにより、スクリーンの画像表示部分の周辺部のコントラストが低下せず、表示画像の周辺に額縁状の明領域に薄く色がつくという問題が解消され、画像の美観を損なうことがない。
【００５７】
図５は本発明による液晶モジュールの第２実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【００５８】
この実施例では、液晶パネルの上面に設置する遮光パネル１の有効表示領域外周に対応する部分に第１実施例と同様の傾斜面１ｃを形成すると共に、この傾斜面１ｃに高反射層５を設けたものである。光源装置から有効表示領域外周に入射した光は、傾斜面１ｃに設けた高反射層５で液晶パネルの外方に反射する。これにより、有効表示領域外周に入射した光の反射光１１はスクリーンに達することがない。
【００５９】
図６は本発明による液晶モジュールの第３実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【００６０】
この実施例では、液晶パネルの第１基板７０１側の有効表示領域外周に傾斜面１ｃを形成したもので、有効表示領域外周に対応する部分に入射した光は第１基板７０１側に抜け、傾斜面１ｃと空気の界面、空気と第１基板７０１の界面での反射光は、それぞれ光学絞りから外れた方向の光路、遮光パネル１の外側に指向される。これにより、有効表示領域外周に入射した光の反射光１１はスクリーンに達することがない。
【００６１】
図７は本発明による液晶モジュールの第４実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【００６２】
この実施例では、液晶パネルの第１基板７０１側の有効表示領域外周に傾斜面１cを形成すると共に、この傾斜面に低反射率層からなる遮光層２を設けたものである。
【００６３】
有効表示領域外周に対応する部分に入射した光は傾斜面１ｃに形成した遮光層（低反射層）２で反射されても、その反射光１１の光路は光学絞りから外れた方向に指向される。これにより、有効表示領域外周に入射した光はスクリーンに達することがない。
【００６４】
図８は本発明による液晶モジュールの第５実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【００６５】
この実施例では、液晶パネルの第１基板７０１側の有効表示領域外周に傾斜面１ｃを形成すると共に、この傾斜面に高反射率層からなる遮光層２を設けたものである。
【００６６】
有効表示領域外周に対応する部分に入射した光は傾斜面１ｃに形成した遮光層（高反射層）２で反射され、その反射光１１の光路は光学絞りから外れた方向に指向される。これにより、有効表示領域外周に入射した光はスクリーンに達することがない。
【００６７】
図９は本発明による液晶モジュールの第６実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの説明図であって、（ａ）は要部断面図、（ｂ）は遮光パネルの全体上面図である。
【００６８】
この実施例では、液晶パネルの有効表示領域にガラス等の透明板１ｄを設置し、この透明板１ｄを囲む外周に液晶パネルの第１基板７０１の平面に対して傾斜する低反射率の遮光枠２ａを設置し、当該遮光枠２ａからの反射光１１を有効表示領域の外側に指向させる。なお、この遮光枠２ａを高反射率層としてもよい。
これにより、有効表示領域外周に入射した光はスクリーンに達することがない。
【００６９】
なお、本発明は、以上説明した第２〜第６実施例の構成に限定されるものではなく、これらの構成を組合せることもでき、また特許請求の範囲に記載の技術思想から逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。
【００７０】
次に、本発明に使用される液晶モジュールとその製造方法の一例について説明する。
【００７１】
図１０は本発明による液晶モジュールの全体構成例の説明図であって、（ａ）は一部破断した平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿った断面である。
【００７２】
図１０に示したように、この種の液晶モジュールは、第１基板７０１と第２基板７０２の間に高分子分散型液晶層７０３を挟持し、両基板をシール材７０４で接着してなる液晶パネルを、樹脂を好適とするパッケージ７０７のキャビティ内に収納し、その一端縁に信号および電力を給電するためのフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）７０９の一端を接続すると共に、遮光パネル１で封止して上記キャビティを密閉して構成される。
【００７３】
パッケージ７０７の背面には金属製の放熱板７１１が、その周辺を当該パッケージ本体７０７の下部４辺に埋設した状態で設置され、液晶パネルは放熱板７１１との間に比較的弾性を有する放熱シート７１０を介して収納される。したがって、液晶パネルの背面は放熱シート７１０により放熱板７１１に密着し、放熱効果が十分に得られる構造となっている。
【００７４】
パッケージ７０７のキャビティ内部に収納した液晶パネルは、その第１基板７０１の裏側で接着材７０６により当該パッケージ７０７の底部内周に形成された段部７１６（図１１）に固定され、また、遮光パネル７１３を接着材でパッケージ７０７とＦＰＣ７０９を固定するためのスペーサ７１２に固定される。なお、スペーサ７１２はＦＰＣ７０９に図示しない接着材で固定されている。
【００７５】
図１１は図１０に示した本発明による液晶モジュールの構造を説明する展開斜視図である。
【００７６】
図１１において、液晶パネル７１４は、樹脂製のパッケージ７０７と、このパッケージ７０７の裏面に周縁を埋設した金属板からなる放熱板７１１、および遮光パネル７１３とで構成されるキャビティ内に収納される。遮光パネル７１３の内面には図１で説明した遮光層２（図中点線で示す）が形成されている。
【００７７】
すなわち、液晶パネル７１４は、その底面を弾性を有する放熱シート７１０を介して放熱板７１１に接するようにその第１基板７０１の周縁下面をパッケージ７０７のキャビティ内周に形成された段部７１６に接着材で固定され、ＦＰＣ７０９を接続した後、スペーサ７１２を取り付け、遮光パネル７１３をシール材で接着してキャビティ内を気密状態に保つ。
【００７８】
図１２は高分子分散型液晶を用いた液晶表示装置の表示動作を説明する模式図であって、（ａ）は非表示状態を、（ｂ）は表示状態を示す。
【００７９】
図中、７０３は高分子マトリクス中に液晶分子７３９を分散した高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）で、印加電圧に応じて光を散乱する状態から透過する状態に変化する。
【００８０】
第２基板７０２にはスイッチング素子であるＴＦＴ７４０と反射画素電極７３８が、一方の基板７０１には共通電極である透明電極７３０が形成されていて、（ａ）に示すように、第１基板７０１の透明電極７３０と第２基板７０２の反射画素電極７３８の間に電圧を印加してない状態では、液晶分子７３９はそれぞれ不規則な方向に配列している。この状態では高分子マトリクスと液晶分子７３９とに屈折率の差が生じ、入射光７４１は液晶層７０３で散乱する。７４２は散乱光を示す。
【００８１】
一方、同図（ｂ）に示すように、第１基板７０１の透明電極７３０と第２基板７０２の反射画素電極７３８の間にＴＦＴ７４０の選択で電圧を印加した状態では、液晶分子７３９が一定方向に配向する。この液晶分子７３９が一定方向に配向したときの屈折率と高分子マトリクスの屈折率を合わせておくと、入射光７４１は散乱せずに液晶層７０３を透過して反射画素電極７３８に到達し、この反射画素電極７３８で正反射して第１基板７０１からこの反射光が出射する。７４３にこの反射光を示す。
【００８２】
この動作原理を用い、反射画素電極７３８をスイッチング素子であるＴＦＴ７４０で選択することにより、画像を表示する。
【００８３】
次に、本発明による液晶表示装置に用いる液晶パネルの第２基板（駆動基板）の製造方法の一例を説明する。
【００８４】
図１３、図１４、図１５は本発明による液晶パネルの第２基板（シリコン基板：スイッチング側基板）の製造方法の一例を説明する工程図である。
【００８５】
工程（図１３の（ａ））：半導体素子と同様に、シリコンウエハ基板５００に洗浄等の前処理を行う。
【００８６】
工程（図１３のｂ）：このシリコンウエハ基板５００に、例えばイオン打ち込み法を用いて不純物をドープしてＮウエル層５０１とＰウエル層５０２を設ける。
【００８７】
工程（図１３の（ｃ））：Ｎウエル層５０１、Ｐウエル層５０２の両端に、例えばイオン打ち込み法を用いて、それぞれＮＭＯＳのチャンネルストッパ５０３とＰＭＯＳのチャンネルストッパ５０４を形成し、その上を酸化してＬＯＣＯＳ５０５を設ける。
【００８８】
工程（図１３の（ｄ））：基板の表面を酸化し、その上に例えばディポジション法を用いてポリシリコン層５０６を形成し、そのポリシリコン表面をリン処理する。その上に例えばフォトレジスト膜を塗布、感光、除去し、ドライエッチングを行い、Ｎウエル層、Ｐウエル層上の各々にゲート電極５０７を形成する。
【００８９】
工程（図１４のａ）：高耐圧ＮＭＯＳ、ＰＭＯＳに各々、例えばイオン打ち込み法を用いて拡散層オフセット５０８を設け、低耐圧ＮＭＯＳにＮ＋拡散層５０９、ＰＭＯＳにＰ＋拡散層５１０を設ける。
【００９０】
工程（図１４の（ｂ））：基板の表面に、例えばディポジション法を用いて酸化シリコン層を形成し第１の絶縁膜５１１とし、その上に例えばフォトレジスト膜を塗布、感光、除去し、エッチングを行い、第１のコンタクトホール５１２を形成する。
【００９１】
工程（図１４の（ｃ））：第１のコンタクトホール５１２を設けた第１の絶縁膜５１１をマスクとして用い、例えばイオン打ち込み法を用いてコンタクト部５１３を形成する。
【００９２】
工程（図１４の（ｄ））：第１のコンタクトホール５１２の形成部分を含んで絶縁膜の全域に、例えばスパッタ法で金属膜を形成し、その上に例えばフォトレジスト膜を塗布、感光、除去し、ドライエッチングを行い、第１層目の配線５１４及び第１層目の電極５１５を形成する。
【００９３】
工程（図１５の（ａ））：基板の表面に例えばディポジション法を用いて、酸化シリコン層を形成し第２の絶縁膜５１６とし、その上に例えばフォトレジスト膜を塗布、感光、除去し、エッチングを行い、第２のコンタクトホール５１７を形成する。さらに、第２のコンタクトホール５１７の形成部分を含んで絶縁膜の全域に、例えばスパッタ法で金属膜を形成し、その上に例えばフォトレジスト膜を塗布、感光、除去し、ドライエッチングを行い、第２層目の配線５１８及び遮光膜５１９を形成する。
【００９４】
工程（図１５の（ｂ））：基板の表面に、例えばディポジション法を用いて有機ＳＯＧ層を形成して第３の絶縁膜５２０とし、ＣＭＰ法を用いて研磨し平坦化する
工程（図１５の（ｃ））：平坦化した有機ＳＯＧの第３の絶縁膜５２０上に、例えばフォトレジスト膜を塗布、感光、除去し、エッチングを行い、第３のコンタクトホール５２１を形成し、その上に例えばスパッタ法でアルミ膜を形成し、その上にフォトレジスト膜を塗布、感光、除去し、ドライエッチングを行い、反射画素電極５２２を形成する。
【００９５】
工程（図１５の（ｄ））：反射画素電極５２２を形成した上に、例えばディポジション法で保護膜５２３を形成する。
【００９６】
このようにして第２の基板３が製造され、高分子分散型液晶層を塗布した第１基板と貼り合わせられて液晶パネルが製作される。
【００９７】
液晶パネルは前記図１０で説明した液晶モジュールに組み立てられ、反射型の液晶モジュールが完成する。
【００９８】
なお、上記の例では、高分子分散型液晶層を用いた反射型液晶パネルについて説明したが、本発明は、通常の液晶層を第１基板と第２基板に挟持させたもの、あるいは透過型液晶パネルを用いた液晶モジュールにも同様に適用できる。
【００９９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、スクリーンの周辺のコントラストを低下させ、表示画像の外周に色つけが生じることがなく、高品質の画像表示が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による液晶モジュールの第１実施例の構成と作用を説明する模式図である。
【図２】図１のＡ部分の拡大断面図である。
【図３】液晶パネルの有効表示領域外周に傾斜面を形成して当該有効表示領域外周からの反射光を光学絞りで遮断する原理の説明図である。
【図４】液晶パネルの有効表示領域外周に傾斜面を形成して当該有効表示領域外周からの反射光を光学絞りで遮断する原理の図３に続く説明図である。
【図５】本発明による液晶モジュールの第２実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【図６】本発明による液晶モジュールの第３実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【図７】本発明による液晶モジュールの第４実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【図８】本発明による液晶モジュールの第５実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【図９】本発明による液晶モジュールの第６実施例の構成と作用を説明する遮光パネルの要部断面図である。
【図１０】本発明による液晶モジュールの全体構成例の説明図である。
【図１１】図１０に示した本発明による液晶モジュールの構造を説明する展開斜視図である。
【図１２】高分子分散型液晶を用いた液晶表示装置の表示動作を説明する模式図である。
【図１３】本発明による液晶パネルの第２基板の製造方法の一例を説明する工程図である。
【図１４】本発明による液晶パネルの第２基板の製造方法の一例を説明する図１３に続く工程図である。
【図１５】本発明による液晶パネルの第２基板の製造方法の一例を説明する図１４に続く工程図である。
【図１６】従来の投射型液晶表示装置の構成例を説明するための模式図である。
【図１７】従来の投射型液晶表示装置の液晶モジュールでの反射光も光路を説明する模式図である。
【図１８】図１７のＡ部分の要部拡大図である。
【符号の説明】
１  遮光パネル
２  遮光層
３  結像レンズ系
６  光源装置
７  照明レンズ系
８  平面鏡
９  光学絞り
１０  有効表示領域から出射する変調光
１１  有効表示領域外周からの反射光
７０１  液晶パネルを構成する第１基板
７０２  同第２基板
７０３  液晶層
７０４  シール材
７０７  パッケージ
７１０  放熱シート
７１４  液晶パネル
７１５  液晶モジュール。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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