(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の走行方向に移動可能とされた濾布の上に被処理物を供給し、この被処理物を上記濾布を介して真空吸引して脱水濾過する真空濾過方法において、上記濾布上に上記被処理物が供給される供給域と上記被処理物が真空吸引される脱水域との境界部では、真空吸引による上記被処理物からのケーキの形成を抑制することを特徴とする真空濾過方法。
【請求項２】
上記境界部においては、上記被処理物を攪拌することによりケーキの形成を抑制することを特徴とする請求項１に記載の真空濾過方法。
【請求項３】
所定の走行方向に移動可能とされた濾布と、この濾布の上に被処理物を供給する供給装置と、この供給装置の下方にあって上記濾布の下に配置され、上記被処理物の供給域を形成する無真空トレイと、この無真空トレイの上記走行方向側の濾布下に配置され、該濾布を介して上記被処理物を真空吸引する脱水域を形成する真空トレイとを備え、上記無真空トレイによる被処理物の供給域と上記真空トレイによる脱水域との境界部に、上記真空トレイからの真空吸引による上記被処理物からのケーキの形成を抑制する抑制手段が設けられていることを特徴とする真空濾過装置。
【請求項４】
上記抑制手段は、上記境界部において被処理物を攪拌する攪拌装置を備えていることを特徴とする請求項３に記載の真空濾過装置。
【請求項５】
上記攪拌装置においては、上記濾布の上を横切るように配設された回転軸に攪拌羽根が取り付けられていることを特徴とする請求項４に記載の真空濾過装置。
【請求項６】
上記攪拌装置においては、上記濾布の上方に立設された回転軸に攪拌羽根が取り付けられていることを特徴とする請求項４に記載の真空濾過装置。
【請求項７】
上記攪拌装置においては、上記濾布の上を横切るように配設された往復移動可能な軸に攪拌羽根が取り付けられていることを特徴とする請求項４に記載の真空濾過装置。
【請求項８】
上記攪拌装置においては、上記境界部における被処理物中に圧空を供給する圧空供給手段が備えられていることを特徴とする請求項４に記載の真空濾過装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、主として有機・無機化学、食品、医薬工業の分野に使用され、混合物から固液分離した被処理物を濾過、洗浄するための真空濾過装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の真空濾過装置としては、無端状に巻回されて所定の走行方向に周回移動可能とされた濾布と、この濾布の上に被処理物を供給する供給装置と、濾布の下に配置されて脱水域を形成する真空トレイとを備え、この真空トレイの真空吸引力により被処理物を濾布を介して真空吸引して脱水濾過し、ケーキを形成する、いわゆる水平ベルト式の真空濾過装置が一般に知られている。そして、さらにこの水平ベルト式の真空濾過装置は、濾布が連続的に周回移動するとともに真空トレイが上記走行方向に往復移動可能とされたタイプのものと、濾布が間欠的に移動するとともに真空トレイが固定されたタイプのものとに大別される。
【０００３】
すなわち、前者の往復移動式真空トレイの濾過装置では、供給装置の固定された分散板により被処理物を濾布の幅方向に広げながら濾布の上に供給し、真空吸引力をかけた状態で真空トレイを濾布に同調させてその走行方向に前進させ、その間に真空トレイにより濾布を介して被処理物を真空吸引して脱水濾過する。そして、真空トレイが一定距離進んだ後に、真空吸引力を切って真空トレイのみを当初の位置に戻し、このような操作を繰り返し行うことで被処理物を連続的に真空濾過してゆく。
また、後者の固定式真空トレイの濾過装置では、供給装置の分散板が一定距離往復移動可能に設けられており、この移動する分散板により被処理物を濾布の幅方向に広げつつ上記走行方向に沿って濾布上に供給し、次いで濾布の間欠移動により被処理物を真空トレイ上に前進させ、真空吸引力をかけて被処理物を真空吸引して脱水濾過する。そして、一定時間経過後、真空吸引力を切って再び濾布を前進移動させ、このような操作を繰り返し行うことで濾布上に供給された被処理物を順次真空濾過してゆく。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、これらの真空濾過装置では、真空トレイが往復移動式であるか固定式であるかに関わらず、分散板から被処理物が供給される濾布上の供給域に対して、濾布の下に真空吸引を行わない無真空トレイが上記濾布の走行方向において真空トレイの後方側に隣接して配置されており、この供給域において被処理物中の固形物がある程度自然沈降して、略均一な厚さのケーキを形成するようになされている。ところが、その一方で、やはり真空トレイが往復移動式であるか固定式であるかに関わらず、この真空トレイによる真空吸引がなされている間は、上記真空トレイおよび無真空トレイと濾布およびその上の被処理物とは相対的に固定された位置関係にあり、従って脱水域を形成する真空トレイの真空吸引力が、隣接する無真空トレイ上の供給域に供給された被処理物にも作用することは避けられない。
【０００５】
このため、例えば被処理物中の固形物の分級が激しい場合や沈降性が激しい場合、あるいは広い粒度分布である場合など、被処理物の性状によっては、上記無真空トレイにより形成される供給域と真空トレイにより形成される脱水域との境界部において、真空トレイの真空吸引力によって供給域側の被処理物中の固形物が脱水域側に吸着されてしまい、この境界部に位置したケーキの厚さが他の部分に比べて厚くなって、濾布の走行方向におけるケーキの厚さに不均一を生じることになる。しかるに、このようなケーキ厚の不均一が生じると、ケーキの通気量にも変化が生じるため、脱水域において脱水濾過されたケーキの含水率も不均一となってしまうとともに、この脱水濾過の後にケーキに洗浄液を供給して洗浄を行う場合などにあっては、ケーキの洗浄比率が不均一となるので洗浄効果にもばらつきが生じることになる。
【０００６】
本発明は、このような事情を鑑みて為されたもので、濾布の走行方向におけるケーキの厚さを均一とすることにより、ケーキの含水率や洗浄効果の均一化を図ることが可能な真空濾過方法および真空濾過装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決して、このような目的を達成するために、本発明の真空濾過方法は、所定の走行方向に移動可能とされた濾布の上に被処理物を供給し、この被処理物を上記濾布を介して真空吸引して脱水濾過する真空濾過方法において、上記濾布上に上記被処理物が供給される供給域と上記被処理物が真空吸引される脱水域との境界部では、真空吸引による上記被処理物からのケーキの形成を抑制することを特徴とし、また本発明の真空濾過装置は、所定の走行方向に移動可能とされた濾布と、この濾布の上に被処理物を供給する供給装置と、この供給装置の下方にあって上記濾布の下に配置され、上記被処理物の供給域を形成する無真空トレイと、この無真空トレイの上記走行方向側の濾布下に配置され、該濾布を介して上記被処理物を真空吸引する脱水域を形成する真空トレイとを備え、上記無真空トレイによる被処理物の供給域と上記真空トレイによる脱水域との境界部に、上記真空トレイからの真空吸引による上記被処理物からのケーキの形成を抑制する抑制手段を設けたことを特徴とするものであり、このように被処理物の供給域と脱水域との境界部でのケーキの形成が抑制されることにより、この境界部においてケーキの厚さが他と比べて厚くなるのを抑えることができ、濾布の走行方向に沿って均一な厚さのケーキを形成することができる。
【０００８】
ここで、上記真空濾過方法では、上記境界部において、上記被処理物を攪拌することにより、また上記真空濾過装置においては、上記抑制手段に、上記境界部において被処理物を攪拌する攪拌装置を備えることにより、確実かつ効率的にこの境界部におけるケーキの形成を抑制することができる。
また、上記真空濾過装置において、上記抑制手段の攪拌装置としては、上記濾布の上を横切るように配設された回転軸に攪拌羽根が取り付けられたものや、上記濾布の上方に立設された回転軸に攪拌羽根が取り付けられたもの、または上記濾布の上を横切るように配設された往復移動可能な軸に攪拌羽根が取り付けられたものなど、攪拌羽根によって被処理物を直接的に攪拌するものや、あるいは上記境界部における被処理物中に圧空を供給する圧空供給手段を備えて、この圧空による泡立ち効果により被処理物を攪拌するものなどを用いることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
図１ないし図４は、本発明の第１の実施形態を示すものである。
これらの図において符号１で示すのは、複数のリターンロール２…に順次巻き掛けられた無端ベルト状の濾布であり、この濾布１の上側部分は水平方向に延びるように配置されるとともに、この濾布１の水平部分１Ａの一端側（図１において左側）が巻き掛けられるロール２Ａは図示しない駆動装置に連結されており、この駆動装置によって濾布１は図中反時計回り方向に連続的に周回駆動され、これに伴い濾布１の上記水平部分１Ａも図中に符号Ｆで示す走行方向に連続的に走行させられる。なお、濾布１を駆動する上記ロール２Ａの外周側には、濾布１上に供給された被処理物Ｐから最終的に脱水されて形成されるケーキＱを濾布１から掻き落として排出するためのナイフ３が、上記ロール２Ａとの間で濾布１を挟むように設けられている。さらに、上記ロール２Ａの下側には、このナイフ３によってケーキＱが掻き落とされた後の濾布１の表面を洗浄する洗浄装置４が設けられている。
【００１０】
一方、濾布１の上記水平部分１Ａの下には、この水平部分１Ａの上記他端側から濾布１の上記走行方向Ｆ側に向かって順に、被処理物Ｐの供給域Ａを形成する無真空トレイ５と、第１の脱水域Ｂを形成する２つの真空トレイ６，６と、ケーキ洗浄域Ｃを形成する２つの真空トレイ７，７と、第２の脱水域Ｄを形成する２つの真空トレイ８，８とが配列されている。
ここで、上記無真空トレイ５は他のトレイ６，７，８と上面が面一とされた板状をなしており、これら無真空トレイ５および真空トレイ６，７，８は、互いに隣り合うもの同士が連結されて、上記水平部分１Ａの下に上記走行方向Ｆに沿って敷設されたレール９上に車輪１０…により一体的に走行可能に載置されている。さらに、上記無真空トレイ５には上記走行方向Ｆに平行に出没する駆動シリンダー１１が連結されており、この駆動シリンダー１１により全てのトレイ５，６，７，８は、上記トレイ６，７，８の１つ分の上記走行方向Ｆのスパンと等しいストロークで走行方向Ｆに沿って往復移動可能とされている。
【００１１】
また、上記各真空トレイ６，７，８には、その上面に図示されない多数の開口部が形成されるとともに、真空遮断弁１２Ａおよび真空解除弁１２Ｂを備えて真空源１２Ｃに連結される吸引管１２…がそれぞれ接続され、上記開口部から濾布１を介して濾液が真空吸引される。なお、これらの吸引管１２…は、真空トレイ６，７，８の往復移動に支障を来さないようフレキシブル管とされている。
さらに、無真空トレイ５および真空トレイ６，７，８の上面の両側縁部１３，１３は、図４に示すように上方に向かうに従い両側方に広がるように傾斜した樋状に形成されており、これに合わせて濾布１の両側縁部も上方に向けて傾斜して、供給された被処理物Ｐを保持するようになされている。
【００１２】
さらにまた、本実施形態では、上記真空トレイ７，７により形成されるケーキ洗浄域Ｃにおいて、これらの真空トレイ７，７の上方にケーキ洗浄装置１４が設けられており、上記第１の脱水域Ｂにおいて被処理物Ｐから形成されたケーキＱにこのケーキ洗浄装置１４から洗浄液を供給することにより、ケーキＱに付着している不純物を除去することができる。そして、このように洗浄されたケーキＱを、その後の第２の脱水域Ｄにおいてさらに脱水濾過することにより、被処理物Ｐに対して効果的な洗浄脱水濾過の操作を図ることが可能となる。
【００１３】
一方、供給域Ａを形成する上記無真空トレイ５の上方には、被処理物Ｐの供給装置１５が固定して設けられている。この供給装置１５は、供給管から連続的に供給される被処理物Ｐを、分散板１６により濾布１の幅方向に分散させて該濾布１上に流し込んむものであり、この供給装置１５による被処理物Ｐの濾布１上への供給位置は、濾布１の水平部分１Ａの他端側が巻回されるロール２Ｂよりも僅かに濾布１の走行方向Ｆ側とされている。
そして、この供給位置よりもさらに上記走行方向Ｆ側の供給域Ａと第１の脱水域Ｂとの境界部Ｅ、すなわち上記無真空トレイ５と真空トレイ６との連結部分の直上には、本第１実施形態における抑制手段としての攪拌装置１７が、往復移動する無真空トレイ５および真空トレイ６の上記連結部に取り付けられて、これらと一体に往復移動可能に設けられている。
【００１４】
この第１実施形態における攪拌装置１７においては、図３および図４に示すように上記無真空トレイ５と真空トレイ６との連結部の両側縁部１３，１３に取り付けられた軸受１８に、濾布１の走行方向Ｆに直交する水平方向に濾布１上を横切るように回転軸１９が回転自在に設けられ、この回転軸１９の一端部には真空トレイ６の側部にブラケット２０を介して取り付けられたモータ２１等の駆動装置が連結される一方、回転軸１９の中央部には回転羽根２２が取り付けられている。さらに、本第１実施形態ではこの回転羽根２２は、上記回転軸１９の外周に、この回転軸１９の軸線方向から見て回転軸１９を中心に十字状に延びる攪拌軸２３…が、上記軸線方向に間隔をおいて多数配設されるとともに、この軸線方向に列をなす攪拌軸２３…の先端にはそれぞれ攪拌棒２４が上記軸線に平行に取り付けられて構成されている。
【００１５】
このように構成された真空濾過装置では、上記供給域Ａにおいて供給装置１５から供給される被処理物Ｐは、供給装置１５の分散板１６により濾布１の幅方向に広げられるとともに、ロール２Ａによる濾布１の連続移動に伴い供給域Ａ上に送り出される濾布１上に連続的に流し込まれ、供給域Ａにおける無真空トレイ５の上の濾布１上に全面的に敷き詰められる。そして、無真空トレイ５および真空トレイ６，７，８が、その上記走行方向Ｆへの移動のストロークエンドに達して駆動シリンダー１１によって急速に引き戻されることにより、上記供給域Ａにあった被処理物Ｐは真空トレイ６上の第１の脱水域Ｂに配置されて真空吸引され、ケーキＱの形成がなされるとともに、濾布１の上記水平部分１Ａの他端側に引き戻された無真空トレイ５上には、連続的に送り出される濾布１の上に再び上記供給装置１５から被処理物Ｐが供給される。
【００１６】
しかるに、本第１実施形態の真空濾過装置においては、被処理物Ｐ中の固形分の分級や沈降性が激しい場合や粒度分布が広い場合などに、脱水域Ｂにおける真空トレイ６からの真空吸引力によって供給域Ａ側の被処理物Ｐの固形物が脱水域Ｂ側に吸着されようとしても、この供給域Ａを形成する無真空トレイ５と第１の脱水域Ｂを形成する真空トレイ６との連結部、つまり供給域Ａと脱水域Ｂとの境界部Ｅに攪拌装置１７が設けられており、この攪拌装置１７によって上記境界部ＥにおけるケーキＱの形成を抑制することにより、該境界部Ｅにおいて他の部分よりもケーキＱの厚さが厚くなるのを防いでケーキＱの厚さの均一化を図ることができる。従って、上記脱水域Ｂにおいては、ケーキＱの通気量を全面的に均一として満遍なく脱水濾過することが可能となるので、ケーキＱの含水率に不均一が生じるような事態を防ぎ、均質なケーキＱを形成することができる。
【００１７】
また、本実施形態では、このように厚さが均一化されたケーキＱは、上述のように第１の脱水域Ｂで真空吸引されて脱水濾過された後、濾布１の移動および各トレイの往復移動によりケーキ洗浄域Ｃに送られ、ケーキ洗浄装置１４から被処理物Ｐに対してケーキ洗浄液が供給されるとともに真空トレイ７，７により真空吸引されてケーキＱに付着している不純物が除去され、洗浄される。さらに、こうして洗浄されたケーキＱは、続いて第２の脱水域Ｄにおいて再び真空吸引されて脱水濾過され、濾布１の上記水平部分１Ａの一端側から上記ナイフ３により掻き落とされて排出される。しかるに、本実施形態によれば、上記攪拌装置１７によって境界部ＥにおけるケーキＱの形成が抑制されて、ケーキＱの厚さの均一化が図られることにより、上記ケーキ洗浄装置１４において供給された洗浄液によるケーキＱの洗浄比率も均一とすることができるので、かかる洗浄液による洗浄効果にばらつきが生じることをも防ぐことができ、より均質なケーキＱの形成を図ることが可能となる。
【００１８】
一方、本第１実施形態では、上記攪拌装置１７が無真空トレイ５と真空トレイ６との連結部に取り付けられてこれらのトレイ５，６と一体に往復移動可能とされており、従って上記境界部ＥにおけるケーキＱの形成をより確実に抑制することが可能である。また、この第１の実施形態では、上記攪拌装置１７が、濾布１の上を横切るように配設された回転軸１９に、攪拌軸２３…および攪拌棒２４よりなる攪拌羽根２２が取り付けられた構成とされており、図４に示すようにこの攪拌羽根２２を濾布１の略全幅に渡るように設けることにより、境界部Ｅにおいて脱水域Ｂ側に吸着されようとする被処理物Ｐの固形物を満遍なく攪拌して、この境界部ＥにおけるケーキＱの形成をさらに確実に抑制することが可能である。なお、上記攪拌羽根２２としては、上述のような構成のものの他に、例えば攪拌軸２２だけのものや、各攪拌軸２２の先端や外周に各種の攪拌部材が取り付けられたもの、あるいは回転軸１９の外周に取り付けられたスクリュー状のものなどを採用することもできる。
【００１９】
また、上記第１の実施形態では、上述のように濾布１の上を横切るように配設された回転軸１９に攪拌羽根２２が取り付けられた攪拌装置１７を用いているが、このような攪拌装置１７に代えて、図５ないし図１０に示す第２〜４の実施形態のような攪拌装置２５〜２７を用いることもできる。ただし、これらの図に示す実施形態において、上記第１の実施形態と共通する部分には、同一の符号を配して説明を省略する。
【００２０】
すなわち、図５および図６に示す第２の実施形態の攪拌装置２５では、上記無真空トレイ５と真空トレイ６との連結部の両側面部１３，１３に門型のフレーム２８が濾布１の幅方向に渡って取り付けられており、このフレーム２８には、モータ２９等の回転駆動装置に装着された複数の回転軸３０…が垂下して取り付けられて濾布１の上方に立設されており、これらの回転軸３０…の下端には、Ｔ字状の攪拌軸３１の両端に四角形の攪拌部材３２，３２が設けられた攪拌羽根３３が取り付けられている。
しかるに、このような第２の実施形態の攪拌装置２５によれば、上記攪拌装置１７と略同様の効果を得られる他、回転軸３０が濾布１に対して立設されて、攪拌羽根３３が常に被処理物Ｐ中に埋没した状態となっているので、第１実施形態の攪拌装置１７に比べて攪拌羽根３３が被処理物ＰやケーキＱを掻き上げる作用が少なく、このため上記境界部Ｅにおける攪拌によって脱水域ＢにおけるケーキＱの形成までもが影響を受けるのを抑えることができる。
【００２１】
また、図７および図８に示す第３の実施形態における攪拌装置２６では、上記無真空トレイ５と真空トレイ６との連結部の両側縁部１３，１３に門型のフレーム３４が設けられ、このフレーム３４に軸３５が上記走行方向Ｆに直交する水平方向に摺動可能に渡されており、この軸３５の一端には上記フレーム３４に支持された駆動シリンダー３６が連結されていて該軸３５は上記水平方向に往復移動可能とされている。そして、この軸３５には濾布１に向けて垂下するように複数の攪拌軸３７…が設けられており、その下端には平板状の攪拌羽根３８がそれぞれ取り付けられている。なお、これらの攪拌羽根３８…は、濾布１に対向する平面視において上記走行方向Ｆに斜交する方向に配置されている。
しかるに、このように構成された第３の実施形態の攪拌装置２６によれば、上記第２の実施形態の攪拌装置２５よりもさらに掻き上げ作用が少なく、境界部ＥにおけるケーキＱの形成を確実に抑制しつつも、脱水域Ｂへの影響をより小さく抑えることができるとともに、攪拌羽根３８が濾布１の走行方向Ｆに対して斜交する方向に配置されているので、無真空トレイ５および真空トレイ６とともに攪拌装置２６が元の位置に戻る際に、攪拌羽根３８が被処理物Ｐから受ける抵抗が少ないという利点も得ることができる。
【００２２】
さらに、図９および図１０に示す第４の実施形態の攪拌装置２７では、無真空トレイ５と真空トレイ６との連結部の側縁部１３，１３に設けられた取付部材３９，３９に、これら無真空トレイ５および真空トレイ６の上面形状に合わせて曲折された複数の攪拌パイプ４０…が圧空供給手段として取り付けられ、これらの攪拌パイプ４０…の一端は封止されるとともに、他端にはバルブ４１を介して圧空供給管（図示略）が連結され、さらに攪拌パイプ４０の下面には多数の噴射口４２…が形成されている。また、これらの攪拌パイプ４０に対する濾布１の上記走行方向Ｆの後方側には、この走行方向Ｆ後方側に向かうに従い先細りとなるナイフ部材４３が設けられている。
しかるに、このような攪拌装置２７によれば、上記圧空供給管から供給される圧空が攪拌パイプ４０の噴射口４２…から被処理物Ｐ中に噴出されることにより、この圧空の泡立ち効果によって境界部Ｅの被処理物Ｐが攪拌され、ケーキＱの形成が抑制される。また、上記第１〜３の実施形態の攪拌装置１７，２５，２６のように機械的可動部分がないため構造が簡単であり、しかも上記走行方向Ｆ後方側にナイフ部材４３が設けられていることとも相俟って、元の位置に戻る際の被処理物Ｐからの抵抗をさらに少なく抑えることができる。
【００２３】
なお、上記第１〜４の実施形態では、いずれも濾布１が走行方向Ｆに連続して移動するとともに、無真空トレイ５および真空トレイ６，７，８が駆動シリンダー１１により往復移動し、さらに被処理物Ｐの供給装置１５が固定されている場合について説明したが、本発明は、図１１に示す第５の実施形態のように、無真空トレイ５および真空トレイ６が固定されているとともに供給装置１５が濾布１の走行方向Ｆに沿って往復移動可能であり、さらに濾布１が走行方向Ｆに間欠的に移動する真空濾過装置、およびかかる真空濾過装置を用いた真空濾過方法にも適用可能である。
すなわち、図１１に示す実施形態においては、供給装置１５の分散板１６に駆動シリンダー４４が連結されており、濾布１がその間欠移動において停止している間に分散板１６が移動しながら、供給域Ａ上に配置された濾布１上に被処理物Ｐを供給する。次いで、濾布１が走行方向Ｆに移動することにより、上記被処理物Ｐは脱水域Ｂの真空トレイ６上に位置して真空吸引されるとともに、分散板１６は元の位置に復帰して供給域Ａ上に送り出された新たな濾布１に被処理物Ｐを供給する。
【００２４】
しかるに、本第５実施形態においても、これら供給域Ａを形成する無真空トレイ５と脱水域Ｂを形成する真空トレイ６との連結部に、上記第１〜４実施形態と同様の攪拌装置１７，２５，２６，２７を適宜配設することにより、この供給域Ａと脱水域Ｂとの境界部ＥにおけるケーキＱの形成を抑制し、従ってケーキＱの厚さの均一化を図って均質なケーキＱの形成を促すことが可能となる。
なお、濾布１を間欠移動させるには、図１に示す真空濾過装置においてロール２Ａを間欠的に回転させるようにすればよいが、これ以外にも、例えばこの濾布１の走行方向Ｆ側の一端が巻回されるロール２Ａを駆動シリンダー等に連結して該走行方向Ｆ側に進退可能とし、ロール２Ａが前進する際には濾布１を該ロール２Ａに係止して一体に前進させ、後退する際には係止を解いて濾布１を順次送り出すようにしても良い。
【００２５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の真空濾過方法および真空濾過装置によれば、被処理物の供給域と脱水域との境界部においてケーキの形成を抑制することにより、脱水域における真空吸引力によって供給域の被処理物中の固形物が吸着されて境界部においてケーキ厚が厚くなるのを防ぐことができ、ケーキ厚の均一化を図ることができる。従って、たとえ被処理物中の固形分の分級や沈降性が激しく、また粒度分布が広い場合であっても、ケーキの通気量が部分的に変化して脱水されたケーキの含水率が不均一となったり、あるいはケーキを洗浄する際に洗浄比率に変化が生じて洗浄効果がばらついたりするような事態を防止することができ、これにより均質なケーキの形成を促すことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の真空濾過装置の第１の実施形態を示す概略図である。
【図２】  図１における供給域Ａと脱水域Ｂとの境界部Ｅの拡大図である。
【図３】  第１の実施形態の攪拌装置１７を示す側面図である。
【図４】  図３におけるＷＷ断面図である。
【図５】  本発明の真空濾過装置の第２の実施形態の攪拌装置２５を示す側面図である。
【図６】  図５におけるＸＸ断面図である。
【図７】  本発明の真空濾過装置の第３の実施形態の攪拌装置２６を示す側面図である。
【図８】  図７におけるＹＹ断面図である。
【図９】  本発明の真空濾過装置の第４の実施形態の攪拌装置２７を示す側面図である。
【図１０】  図９におけるＺＺ断面図である。
【図１１】  本発明の真空濾過装置の第５の実施形態を示す境界部Ｅの拡大図である。
【符号の説明】
１  濾布
５  無真空トレイ
６，７，８  真空トレイ
１１，４４  駆動シリンダー
１４  ケーキ洗浄装置
１５  供給装置
１６  分散板
１７，２５，２６，２７  攪拌装置（抑制手段）
１９，３０  回転軸
２２，３３，３８  攪拌羽根
３５  軸
４０  攪拌パイプ（圧空供給手段）
４３  ナイフ部材
Ｐ  被処理物
Ｑ  ケーキ
Ａ  被処理物Ｐの供給域
Ｂ  第１の脱水域
Ｃ  ケーキ洗浄域
Ｄ  第２の脱水域
Ｅ  供給域Ａと脱水域Ｂとの境界部
Ｆ  濾布１の走行方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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