(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部が開口しかつ底部が湾曲した内部水槽（１５）と、上部が開口した外部水槽（１４）とが、上下に重なり、前記内部水槽が前記外部水槽に遊嵌可能であることを特徴とする沈殿物含有排水分離装置（１６）。
【請求項２】
内部水槽の底部が丸底である請求項１に記載の沈殿物含有排水分離装置。
【請求項３】
外部水槽の上部に排水口（１８）が設けられ、該排水口に排水管又は排水ホース（２３）が外部水槽の外部から接続可能な請求項１又は請求項２に記載の沈殿物含有排水分離装置。
【請求項４】
沈殿物含有排水が石膏含有排水、雑ぱい含有排水である請求項１から請求項３に記載の沈殿物含有排水分離装置。
【請求項５】
上部が開口しかつ底部が湾曲した内部水槽（１５）と、上部が開口した外部水槽（１４）とが、上下に重なって遊嵌可能であり、前記外部水槽の上部に排水口（１８）が設けられ、該排水口に排水管（２３）が接続され、該排水管の下流側に、排水入口（２６）と排水出口（２７）とを有する密閉された１槽式の沈殿槽が、前記排水入口よりも高い位置にある前記排水入口において前記排水管に接続されたことを特徴とする沈殿物含有排水分離装置。
【請求項６】
上部が開口した内部水槽（２９）と、上部が開口した外部水槽（２８）とが、上下に重なって遊嵌可能であり、該外部水槽の上部に排水口（３１）が設けられ、該排水口に排水管が前記外部水槽の外部から接続可能であり、前記内部水槽の底部外側にフロート（３３）が取付けられ、前記内部水槽の周壁にスリット（３２）が縦方向に穿設されたことを特徴とする沈殿物含有排水分離装置。
【請求項７】
上部が開口しかつ底部が湾曲した円筒状容器からなる内部水槽（３４）と、上部が開口した円筒状容器からなる外部水槽（３５）とが、上下に重なって遊嵌可能であり、前記内部水槽の上部に排水孔（３６）が穿設され、かつ前記湾曲部に排出孔（３７）が穿設され、更に前記内部水槽の下部に該内部水槽と同径の円筒（３８）が同心に固着され、該円筒と前記内部水槽の湾曲部とによりエアフロート（３９）が形成され、前記外部水槽の上部に排水口（４１）が設けられ、該排水口に排水管（４２）が前記外部水槽の外部から接続可能であり、該外部水槽の下端部近傍にエアノズル（４３）が貫設され、該エアノズルの吹出口（４４）が前記エアフロートの下方に位置することを特徴とする沈殿物含有排水分離装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は例えば歯科医院や歯科技工所等で多量に排出される石膏含有排水、或は一般的な雑ぱい含有排水等の沈殿物含有排水の分離装置に開するものである。
【０００２】
【従来の技術】
歯科医院や歯科技工所等では、石膏を練和して種々の義歯製作用の作業模型を作成している。
【０００３】
石膏の練和には、ラバーボウルとスパチュラを使用するが、石膏注入後、ラバーボウルとスパチュラに付着した石膏を水道水により洗い落としている。
【０００４】
石膏を含有する排水は、石膏粒子が沈降、分離して堆積すると下流側配管の詰まりの原因となる。
【０００５】
そのため、石膏含有排水は石膏トラップに導入され、石膏粒子を沈降、分離するようにしている。
【０００６】
従来の石膏トラップを図１４に示す。
【０００７】
沈殿槽１の一端側の側板２に排水入口３が設けられ、沈殿槽１の他端側の側板４に排水出口５が設けられている。
【０００８】
前記沈殿槽１の内部に入口側仕切板６、中間仕切板７、出口側仕切板８が相互に平行に取り付けられている。該各仕切板６，７，８は前記排水入口３と排水出口５を結ぶ線に交わるように位置し、前記出口側仕切板８の高さは前記排水出口５の位置よりも高く、該出口側仕切板８の高さよりも前記中間仕切板７の高さが高く、更に該中間仕切板７の高さよりも入口側仕切板６の高さが高くなっており、前記各仕切板６，７，８の下部に通孔９，９，９が前記排水出口とほぼ同じ高さに夫々穿設されている。
【０００９】
こうして沈殿槽１には第１槽１０、第２槽１１、第３槽１２及び第４槽１３が形成されている。
【００１０】
石膏含有排水が排水入口３から第１槽１０に流入すると、該第１槽１０内の水位が徐々に上昇する。この間にも石膏含有排水中の石膏粒子は沈降し始めている。前記第１槽内１０の水位が入口側仕切板６の高さを超えたとき、石膏粒子の濁度が比較的低下した石膏含有排水が前記入口側仕切板６を伝って第２槽１１に流れ込む。
【００１１】
第２槽１１内の水位が徐々に上昇する間に、石膏粒子は更に沈降し、該第２槽１１内の水位が中間仕切板７の高さを超えたとき、石膏粒子の濁度が更に低下した石膏含有排水が前記中間仕切板７を伝って第３槽に流れ込む。
【００１２】
続いて、該第３槽１２内の水位が徐々に上昇する間に、石膏粒子は更に沈降し、該第３槽内１２の水位が出口側仕切板８の高さを超えたとき、石膏粒子が僅かに含まれる排水が前記出口側仕切板８を伝って第４槽１３に流れ込む。
【００１３】
更に、該第４槽１３内の水位が徐々に上昇する間に、石膏粒子は大部分沈降し、該第４槽１３内の水位が排水出口５の高さを超えたとき、石膏粒子が減少した排水が排水管に排出される仕組みとなっており、数十分間放置されると、前記各槽１０，１１，１２，１３内の石膏粒子が殆ど沈降すると共に石膏含有排水の上澄が前記各仕切板６，７，８の各通孔９，９，９を順次経て前記排水管に流出し、前記各槽１０，１１，１２の液面は第排水出口５の高さまで低下する。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
前記ラバーボウル及びスパチュラの洗浄時に排出される石膏含有排水の量を考慮して、前記沈殿槽１の容積は十分な大きさに設計されているが、該沈殿槽１にはその他の一般排水も流入するため、第１槽１０、第２槽１１、第３槽１２における石膏含有排水の上層部分が各仕切板６，７，８を順次越えて次の槽に流れ込み、連続的な水流が常に生じている。
【００１５】
前記一般排水が大量の場合には、各槽１０，１１，１２の上層部分が大量に各仕切板６，７，８を越えて次の槽に流れ込み、沈降していた石膏粒子が舞い上げられる。舞い上げられた石膏粒子が次の槽に流出し、ついには排水出口５から排水管に流出する。
【００１６】
又、石膏の練和頻度が多くなると、前記ラバーボウル及びスパチュラの洗浄回数が多くなり、前記沈殿槽１の各槽１０，１１，１２，１３における石膏粒子の沈降が不十分のまま、次の石膏含有排水が流入するため、多量の石膏粒子が排水管に流出する。
【００１７】
従って、更に下流側の配管内で石膏粒子が沈降、堆積し、下流側の配管が詰まり、多額の配管修理費がかかる。又、配管の詰まりを防止するため、定期的にメンテナンスを行なわなければらないため、メンテナンスコストがかかる。
【００１８】
他方、分離回収した石膏を除去するため、前記石膏トラップは定期的にメンテナンスを行なわなければならない。通常の場合、前記石膏トラップはシンクの下に置かれて、排水管と接続されているため、場所が狭く、メンテナンス作業がやりにくい。更に、様々な排水が流れ込むため、悪臭を伴う場合も多く、困難な作業となっていた。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上部が開口しかつ底部が湾曲した内部水槽と、上部が開口した外部水槽とが、上下に重なり、前記内部水槽が前記外部水槽に遊嵌可能である沈殿物含有排水分離装置に係り、又内部水槽の底部が丸底である沈殿物含有排水分離装置に係り、又外部水槽の上部に排水口が設けられ、該排水口に排水管又は排水ホースが外部水槽の外部から接続可能である沈殿物含有排水分離装置に係り、又沈殿物含有排水が石膏含有排水、雑ぱい含有排水である沈殿物含有排水分離装置に係り、又上部が開口しかつ底部が湾曲した内部水槽と、上部が開口した外部水槽とが、上下に重なって遊嵌可能であり、前記外部水槽の上部に排水口が設けられ、該排水口に排水管が接続され、該排水管の下流側に、排水入口と排水出口とを有する密閉された１槽式の沈殿槽が、前記排水入口よりも高い位置にある前記排水入口において前記排水管に接続された沈殿物含有排水分離装置に係り、又上部が開口した内部水槽と、上部が開口した外部水槽とが、上下に重なって遊嵌可能であり、該外部水槽の上部に排水口が設けられ、該排水口に排水管が前記外部水槽の外部から接続可能であり、前記内部水槽の底部外側にフロートが取付けられ、前記内部水槽の周壁にスリットが縦方向に穿設された沈殿物含有排水分離装置に係り、上部が開口しかつ底部が湾曲した円筒状容器からなる内部水槽と、上部が開口した円筒状容器からなる外部水槽とが、上下に重なって遊嵌可能であり、前記内部水槽の上部に排水孔が穿設され、かつ前記湾曲部に排出孔が穿設され、更に前記内部水槽の下部に該内部水槽と同径の円筒が同心に固着され、該円筒と前記内部水槽の湾曲部とによりエアフロートが形成され、前記外部水槽の上部に排水口が設けられ、該排水口に排水管が前記外部水槽の外部から接続可能であり、該外部水槽の下端部近傍にエアノズルが貫設され、該エアノズルの吹出口が前記エアフロートの下方に位置する沈殿物含有排水分離装置に係るものである。
【００２０】
内部水槽の底部が湾曲しているので、該内部水槽は外部水槽内で容易に反転可能であり、前記内部水槽内に溜められた石膏含有排水等の沈殿物含有排水を外部水槽にあけることができる。
【００２１】
前記内部水槽の底部が丸底の場合、前記外部水槽内の沈殿物含有排水をかき乱すことなく、静かに反転することができる。
【００２２】
外部水槽の上部に排水口が設けられると、前記内部水槽内に沈殿物含有排水が貯溜された重みにより、前記内部水槽が沈下する際に前記外部水槽内の沈殿物含有排水の上澄が排除され、該上澄が前記排水口から排出される。
【００２３】
排水口に排水管又は排水ホースが接続されると、前記外部水槽内の上澄が前記排水管又は排水ホースを通って排出される。
【００２４】
内部水槽に沈殿物含有排水が貯溜されると、沈殿物含有排水は垂直方向のスリットを通って徐々に外部水槽に流れ込むと共に、沈殿物の沈降、分離が始まる。更に前記内部水槽は底部のフロートの浮力により、前記外部水槽内で増加する沈殿物含有排水の液面上に浮上する。次に、前記内部水槽に新たな沈殿物含有排水が貯溜され、該内部水槽が沈下する際に、前記外部水槽内の沈殿物含有排水の上澄が前記内部水槽により排除され、前記上澄が排水口から排出される。
【００２５】
円筒状容器からなる内部水槽に沈殿物含有排水が貯溜されると、沈殿物含有排水は排水孔及び排出孔を通って徐々に外部水槽に流れ込むと共に、沈殿物の沈降、分離が始まる。更に前記内部水槽は底部外側のエアフロートの浮力により、前記外部水槽内で増加する沈殿物含有排水の液面上に浮上する。次に、前記内部水槽に新たな沈殿物含有排水が貯溜され、該内部水槽が沈下する際に、前記外部水槽内の沈殿物含有排水の上澄が前記内部水槽により排除され、前記上澄が排水口から排出される。エアノズルからエアが前記エアフロートに補給され、前記内部水槽の浮力が増強され、前記外部水槽内で増加する沈殿物含有排水の液面上に浮上する。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。
【００２７】
図１〜図６は本発明の第１の実施の形態であり、上部が開口した丸底のボール状外部水槽１４と、上部が開口した丸底のボール状内部水槽１５とから上下２槽式の沈殿物含有排水分離装置１６が構成される。
【００２８】
前記ボール状外部水槽１４は上縁部１７の直径が大径化しており、該上縁部１７の下側に排水口１８が設けられ、底部の外側にリブ状の環状台座１９が同心に突設されている。
【００２９】
前記ボール状内部水槽１５は曲率が前記ボール状外部水槽１４とほぼ同じであり、上縁部２０に取手２１が設けられ、底部の外側に不連続なリブ状の環状台座２２が同心に突設されている。
【００３０】
該ボール状内部水槽１５は前記ボール状外部水槽１４の上部から重ね合わせることができ、該ボール状外部水槽１４の内部に遊嵌可能である。
【００３１】
前記ボール状内部水槽１５は、図示しないラバーボウル及びスパチュラの洗浄排水を一回分貯溜し得る容積があればよく、前記ボール状外部水槽１４は前記ボール状内部水槽１５よりも大きな容積となっている。
【００３２】
前記排水口１８に排水ホースの１端側が接続されている。
【００３３】
沈殿物含有排水分離装置１６は水道の蛇口が届く範囲であってシンク内のコーナー部に設置されている。
【００３４】
石膏の練和、注入後、ラバーボウル及びスパチュラが水道水により洗浄される。水道の蛇口が沈殿物含有排水分離装置１６の上方に移動され、図７（イ）に示すようにボール状内部水槽１５内に石膏含有排水が貯溜される。
【００３５】
前記洗浄終了後、取手２１を手で持ち、前記ボール状内部水槽１５を反転させることにより、図７（ロ）に示すように前記石膏含有排水がボール状外部水槽１４内にあけられ、前記ボール状内部水槽１５が前記ボール状外部水槽１４内の前記石膏含有排水上に浮かべられる。
【００３６】
次の石膏の練和まで、前記沈殿物含有排水分離装置１６は水道の蛇口が遠ざけられると共に、前記ボール状外部水槽１４に一般排水が流入しないようにして、数十分間放置される。図７（ハ）に示すように、前記石膏含有排水内の石膏粒子が大部分沈降し、底部に堆積される。
【００３７】
次の石膏の練和、注入後、ラバーボウル及びスパチュラが再び水道水により洗浄される。水道の蛇口は前記沈殿物含有排水分離装置１６の上方に再び移動されており、浮かんでいる前記ボール状内部水槽１５内に石膏含有排水が貯溜される。
【００３８】
該石膏含有排水の貯溜量が増加すると、前記ボール状内部水槽１５が沈みはじめ、前記ボール状外部水槽１４内上部の上澄が前記ボール状内部水槽１５の沈下に比例して排除され、図７（ニ）に示すように石膏粒子が殆ど含まれない上澄の液面が上昇し、排水口１８から流出する。
【００３９】
前記洗浄後、前述と同様の操作によって、前記ボール状内部水槽１５を反転させることにより、前記石膏含有排水がボール状外部水槽１４内にあけられ、前記ボール状内部水槽１５が前記ボール状外部水槽１４内の前記石膏含有排水上に浮かべられる。
【００４０】
以上の操作が繰り返され、石膏含有排水が処理される。前記ボール状外部水槽１４に多量の石膏が堆積した場合でも、該ボール状外部水槽１４から石膏が容易に剥離、除去される。特にボール状の場合、より簡単に石膏の除去が行なえる。
【００４１】
前記排水口１８から流出した排水は、排水ホース２３により図示しないシンクの排水口に導かれる。前記排水中には石膏粒子が僅かしか含まれないので、石膏トラップの負荷が軽減され、石膏トラップのメンテナンス頻度が減少すると共に、下流側配管の詰まりを生じさせることが防止される。
【００４２】
図８〜図９は本発明の第２の実施の形態を示すもので、上部が開口しかつ下すぼまりの円筒状外部水槽２８と上部が開口しかつ下すぼまりの円筒状内部水槽２９とが上下に重なって遊嵌可能となっている。
【００４３】
前記円筒状外部水槽２８の周壁上端縁近傍に排水出口３１が設けられている。
【００４４】
前記円筒状内部水槽２９の周壁に細長のスリット３２が軸線方向に穿設されている。該スリット３２の幅及び数は石膏含有二次排水の流量を考慮して、１〜８ｍｍの幅で、１〜１０本の範囲とする。
【００４５】
前記円筒状内部水槽２９の底部にフロート３３が取付けられている。該フロート３３の材質及び大きさは、空の状態の前記円筒状内部水槽２９が水面上にほぼ完全に浮かび上がるように選択する。エアバッグ、発泡スチロール等の耐水性の材質のものを使用する。
【００４６】
石膏の練和、注入後、ラバーボウル及びスパチュラが水道水により洗浄される。沈殿物含有排水分離装置は円筒状外部水槽２８に円筒状内部水槽２９が重ねられた状態にあり、図１１（イ）に示すように円筒状内部水槽２９内に石膏含有排水が貯溜される。
【００４７】
前記洗浄終了後、次の石膏の練和まで、前記沈殿物含有排水分離装置に一般排水が流入しないように、静置される。
【００４８】
前記円筒状内部水槽２９内の石膏含有排水中の石膏粒子は沈降し始めると共に、前記石膏含有排水はスリット３２（図１０参照）を通過して円筒状外部水槽２８に流出し始める。時間の経過と共に前記円筒状外部水槽２８内の石膏含有排水の量が多くなり、前記円筒状内部水槽２９内の石膏含有排水が少なくなる。前記円筒状内部水槽２９はフロート３３の浮力により円筒状外部水槽２８内の石膏含有排水に浮上する（図１１（ロ）参照）。
【００４９】
数十分間放置されると図１１（ハ）に示すように、前記石膏含有排水内の石膏粒子が大部分沈降し、前記円筒状外部水槽２８の底部及び前記円筒状内部水槽２９の底部に堆積される。
【００５０】
次の石膏の練和、注入後、ラバーボウル及びスパチュラは、前記円筒状内部水槽２９内の上澄により大まかに洗浄され、次いで少しの水道水によりすすぎ洗浄される。石膏含有排水は、浮かんでいる前記円筒状内部水槽２９内に貯溜される。
【００５１】
該石膏含有排水の貯溜量が増加すると、前記円筒状内部水槽２９が沈みはじめ、前記円筒状外部水槽２８内上部の上澄が前記円筒状内部水槽２９の沈下に比例して排除され、図１１（ニ）に示すように石膏粒子が殆ど含まれない上澄の液面が上昇し、排水出口３１から流出する。
【００５２】
前記洗浄後、前述と同様に、前記円筒状内部水槽２９内の石膏含有排水中の石膏粒子が沈降し始めると共に、前記石膏含有排水はスリット３２を通過して円筒状外部水槽２８に流出し始める。時間の経過と共に前記円筒状外部水槽２８内の石膏含有排水の量が多くなり、前記円筒状内部水槽２９内の石膏含有排水が少なくなり、図１１（ホ）に示すように、フロート３３の浮力により前記円筒状内部水槽２９が浮上する。
【００５３】
数十分間放置されると図１１（ヘ）に示すように、前記石膏含有排水内の石膏粒子が大部分沈降し、前記円筒状外部水槽２８の底部及び前記円筒状内部水槽２９の底部に堆積される。
【００５４】
以上の操作が繰り返され、石膏含有排水が処理される。
【００５５】
本第２の実施の形態の場合も、前述の実施の形態と同様に、石膏トラップの負荷が軽減され、石膏トラップのメンテナンス頻度が減少し、下流側配管の詰まりを生じさせることが防止される。特に、前記円筒状内部水槽２９内の上澄により、前記ラバーボウルと前記スパチュラの一次洗浄を行えるので、洗浄操作に使用する水量を大幅に節減できる。
【００５６】
図１２及び図１３は本発明の第４の実施の形態であり、上部が開口した丸底の円筒状容器からなる内部水槽３４と、上部が開口した平底の円筒状容器からなる外部水槽３５とが、上下に重なって遊嵌可能となっている。
【００５７】
前記内部水槽３４の周壁上部に排水孔３６が穿設され、かつ前記丸底部に排出孔３７が穿設され、前記内部水槽３４の下部に該内部水槽３４と同径の円筒３８が同心に固着され、該円筒３８と前記内部水槽３４の丸底部とによりエアフロート３９が形成されるようになっている。
【００５８】
前記外部水槽３５の上部に排水口４１が設けられ、該排水口４１に排水管４２が前記外部水槽３５の外部から接続されている。該外部水槽３５の下端部近傍にエアノズル４３が貫設され、前記外部水槽３５内部側に突出された前記エアノズル４３の先端部が鉛直方向に立ち上がり、該先端部に吹出口４４を有し、該吹出口４４は前記エアフロート３９の下方に位置している。
【００５９】
前記エアノズル４３は図示しない簡易エアコンプレッサ等のエア供給装置に給気／排気切り替えバルブを介在して接続されている。
【００６０】
沈殿物含有排水分離装置は外部水槽３５に内部水槽３４が重ねられた状態で、水道の蛇口の可動範囲内に設置されている。石膏の練和、注入後、ラバーボウル及びスパチュラが水道水により洗浄され、内部水槽３４内に石膏含有排水が貯溜される。
【００６１】
前記沈殿物含有排水分離装置は一般排水が流入しないように、水道の蛇口が遠ざけられ、前記洗浄終了後、次の石膏の練和まで、静置される。
【００６２】
前記円筒状内部水槽２９内の石膏含有排水中の石膏粒子は沈降し始めると共に、前記石膏含有排水は排水孔３６を通過して外部水槽３５に流出し始める。時間の経過と共に前記内部水槽３４内の石膏含有排水は少なくなり、前記外部水槽３５内の石膏含有排水の量が多くなり、該外部水槽３５内の液面が上昇する。
【００６３】
前記液面の上昇により、丸底部と円筒３８により空気が閉じこめられてエアフロート３９が形成される。更に、前記内部水槽３４に比重の大きい石膏が堆積し、該内部水槽が重くなり、十分な浮力が得られなくなった場合は、図示しないエア供給装置により空気がエアノズル４３に送られ、前記空気が吹出口４４からエアフロート３９に供給される。該エアフロート３９の浮力により、前記内部水槽３４は徐々に浮上する。
【００６４】
該内部水槽３４の上昇により、該内部水槽３４内底部付近の石膏含有排水が排出孔３７を通って前記外部水槽３５に流出し、更に該外部水槽３５の液面が上昇する。前記内部水槽３４は該内部水槽３４及び石膏含有排水の重量と前記エアフロート３９の浮力とが平衡するところで停止する。
【００６５】
数十分間放置されると、前記石膏含有排水内の石膏粒子が大部分沈降し、前記外部水槽３５の底部及び前記内部水槽３４の底部に堆積される。
【００７６】
次の石膏の練和、注入後、ラバーボウル及びスパチュラは、前記内部水槽３４内の上澄みにより大まかに洗浄され、次いで少しの水道水によりすすぎ洗浄される。水道の蛇口は前記沈殿物含有排水分離装置の上方に再び移動されており、浮かんでいる前記内部水槽３４内に石膏含有排水が貯溜される。
【００６７】
該石膏含有排水の貯溜量が増加すると、前記内部水槽３４が沈下しはじめ、前記外部水槽３５内上部の上澄が前記内部水槽３４の沈下に比例して排除され、石膏粒子が殆ど含まれない排水の水位が上昇し、排水口４１から流出する。
【００６８】
前記洗浄後、前述と同様に、前記内部水槽３４内の石膏含有排水中の石膏粒子は沈降し始めると共に、前記石膏含有排水は排水孔３６を通過して前記外部水槽３５に流出し始める。
【００６９】
前述と同様に、図示しないエア供給装置により空気がエアノズル４３に送られ、前記空気が吹出口４４からエアフロート３９に供給される。或は、前記エアフロート３９の浮力が大きすぎて、前記内部水槽３４の上昇速度が速すぎることが予測される場合には、前記図示しない給気／排気切り替えバルブの切り替えにより、前記エアフロート３９内のエアをエアノズル４３から排出することにより、浮力が調整される。
【００７０】
時間の経過と共に前記外部水槽３５内の石膏含有排水の量が多くなり、前記内部水槽３４内の石膏含有排水が少なくなり、前記内部水槽３４が再び徐々に浮上する。
【００７１】
数十分間放置されると、前記石膏含有排水内の石膏粒子が大部分沈降し、前記外部水槽３５の底部及び前記内部水槽３４の底部に石膏粒子が堆積される。
【００７２】
以上の操作が繰り返される際、必要な浮力を得る程度に、図示しないエア供給装置により空気がエアノズル４３に送られ、前記空気が吹出口からエアフロート３９に供給されて、石膏含有排水が処理される。
【００７３】
本第３の実施の形態の場合も、前記実施の形態と同様に、石膏トラップの負荷が軽減され、石膏トラップのメンテナンス頻度が減少し、下流側配管の詰まりを生じさせることが防止される。前記内部水槽３４内の上澄により、前記ラバーボウルと前記スパチュラの洗浄を行えるので、洗浄に使用する水量を大幅に節減できる。特に、エアノズル４３から空気を供給又は排出することにより、前記エアフロート３９の浮力を調整し、前記内部水槽３４の上昇速度を必要に応じて速く又は遅くして適正化することができ、石膏含有排水の処理を最短時間で行うことができる。大きな浮力が容易に得られるので、沈殿物含有排水分離装置の大きさを使用条件に合わせて自由に設計することができる。
【００７４】
尚、本発明の沈殿物含有排水分離装置は上述の実施の形態に限定されるものではなく、石膏含有排水、雑ぱい含有排水以外の、沈殿可能な粒子が懸濁した沈殿物含有排水にも適用できること、外部水槽は丸底でなくてもよく、内部水槽の底部は湾曲面で構成されていればよく、湾曲面の形状はボール状に限らず、半球状、扁平半球状でもよい。又、エアノズルをフレキシブルなホース状とし、吹出口をエアフロート上端付近に固定しておくことにより、前記エアフロート内のエアをいつでも抜くことが可能になり、エアフロート内のエアを抜くことにより外部水槽に貯留した上澄を内部水槽に戻すことも可能である。
【００７５】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、内部水槽と外部水槽とを上下に重ねて遊嵌可能としたので、石膏含有排水等の沈殿物含有排水を一般排水から隔離して処理することができ、石膏粒子等の沈殿物の流出を大幅に減少することができる。
【００７６】
従って、石膏含有排水の処理の場合、石膏トラップの負荷が軽減され、石膏トラップのメンテナンス頻度が減少し、狭い場所で悪臭に耐えながら行う作業の回数が削減される。下流側配管の詰まりを生じさせることが防止されるので、下流側配管の修理費用及びメンテナンスコストが大幅に節約される。
【００７７】
沈殿物含有二次排水分離装置によれば、石膏含有二次排水中等の沈殿物含有排水中の沈殿物を殆ど分離回収することができ、石膏トラップの負荷が更に軽減されると共に、廃棄及び交換が容易である。
【００７８】
フロート又はエアフロートを備えた場合には、内部水槽内の沈殿含有排水の上澄により、ラバーボウル、スパチュラ等の洗浄が行えるので、洗浄に使用する水量を大幅に減少できる。
【００７９】
又、エアノズルから空気を供給することにより、前記エアフロートの浮力を調整することができ、沈殿物含有排水の処理を最短時間で行うことができ、沈殿物含有排水分離装置の大きさを使用条件に合わせて自由に設計することができる、等種々の優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の断面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の正面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態の平面図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態におけるボール状外部水槽の平面図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態におけるボール状内部水槽の正面図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態におけるボール状内部水槽の平面図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態の作動説明図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態の断面図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態における円筒状外部水槽の正面図である。
【図１０】本発明の第２の実施の形態における円筒状内部水槽の正面図である。
【図１１】本発明の第２の実施の形態の使用状態の説明図である。
【図１２】本発明の第３の実施の形態の断面図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態の平面図である。
【図１４】従来の石膏トラップの原理を示す断面図である。
【符号の説明】
１沈殿槽
１４ボール状外部水槽
１５ボール状内部水槽
１６沈殿物含有排水分離装置
２１取手
２８円筒状外部水槽
２９円筒状内部水槽
３１排水出口
３２スリット
３３フロート
３４内部水槽
３５外部水槽
３６排水孔
３７排出孔
３８円筒
３９エアフロート
４１排水口
４２排水管
４３エアノズル
４４吹出口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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