(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子放出部が一方向において互いに均等な間隔となるように配列された複数の電子放出素子と、前記電子放出素子に駆動信号を供給する複数の配線電極とを有する電子源が設けられた第１の基板と、
前記電子放出素子に対向して配置され、対応する電子放出素子の電子放出部から放出された電子が照射される、前記一方向において互いに均等な間隔で配列された複数の発光部材と、前記電子放出部から放出された電子を加速する加速電圧が印加される加速電極とを有する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置して、前記複数の配線電極のうちの一部の配線電極上に配置されたスペーサと、
を備える表示装置において、
前記スペーサが配置された配線電極と、該スペーサが配置された配線に隣接する配線電極との前記一方向における間隔が、互いに隣接し、共に前記スペーサが配置されていない配線電極間の前記一方向における間隔よりも広くなっており、前記複数の電子放出素子の各々の電子放出部から放出される電子が、前記一方向において該各々の電子放出部の略真上に位置する発光部材の各々に照射するように構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記スペーサが配置された配線電極を第１の配線電極、該第１の配線電極と隣接する配線電極を第２の配線電極、該第２の配線電極と前記スペーサから離れる側で隣接する配線電極を第３の配線電極とし、前記一方向における前記第１の配線電極と前記第２の配線電極との間隔Ｗ１と、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第３の配線電極との間隔Ｗ２は、Ｗ１＞Ｗ２の関係を満たす、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記スペーサが配置された配線電極を第１の配線電極、該第１の配線電極に隣接する電子放出部を第１の電子放出部、前記第１の配線電極と隣接する配線電極を第２の配線電極、該第２の配線電極に前記スペーサから離れる側で隣接する電子放出部を第２の電子放出部とし、前記一方向における前記第１の配線電極と前記第１の電子放出部の中心との間の距離Ｌ１と、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第２の電子放出部の中心との間の距離Ｌ２が、Ｌ１＞Ｌ２の関係を満たす、請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記スペーサが配置された配線電極を第１の配線電極、該第１の配線電極に隣接する電子放出部を第１の電子放出部、前記第１の配線電極と隣接する配線電極を第２の配線電極、該第２の配線電極に前記スペーサから離れる側で隣接する電子放出部を第２の電子放出部とし、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第１の電子放出部の中心との間の距離Ｓ１と、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第２の電子放出部の中心との間の距離Ｌ２が、Ｓ１＞Ｌ２の関係を満たす、請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記スペーサが配置された配線電極を第１の配線電極、該第１の配線電極に隣接する電子放出部を第１の電子放出部、前記第１の配線電極と隣接する配線電極を第２の配線電極、該第２の配線電極に前記スペーサから離れる側で隣接する電子放出部を第２の電子放出部、前記第２の配線電極に前記スペーサから離れる側で隣接する配線電極を第３の配線電極とし、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第２の電子放出部の中心との間の距離Ｌ２と、前記一方向における前記第３の配線電極と前記第２の電子放出部の中心との間の距離Ｓ２が、Ｌ２＜Ｓ２の関係を満たす、請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２の配線電極の前記一方向における幅は、前記第１の配線電極の前記一方向における幅より大きい、請求項２から５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記電子放出素子は、相対する一対の素子電極と、電子放出部を有し前記素子電極間に跨って設けられた薄膜とを備える表面伝導型の電子放出素子である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記スペーサが配置された配線に、走査信号が供給されることを特徴とする、請求項７に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、文字や画像等の情報を表示する表示装置に関し、特に、真空容器内に構造補強部材としてスペーサが設けられた表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電子放出素子としては、熱電子源と冷陰極電子源の２種類が知られている。冷陰極電子源には電界放出型素子（以下、ＦＥ型素子と称する。）、金属／絶縁層／金属型素子（以下、ＭＩＭ素子と称する。）、表面伝導型の電子放出素子（以下、ＳＣＥ素子と称する。）等がある。
【０００３】
例えば、表面伝導型の電子放出素子は、冷陰極型の電子放出素子のなかでも特に構造が単純で製造も容易であることから、比較的大面積な面上に亘って多数の電子放出素子を形成できる利点がある。
【０００４】
また、表面伝導型の電子放出素子の応用については、例えば、表示装置、例えばビデオカメラ等の表示部や、荷電ビ−ム源、等が研究されている。
【０００５】
上述した表示装置は、一般に、対向して設けられたフェースプレートおよびリアプレートと、これらフェースプレートおよびリアプレートの外周部を気密に閉塞するように設けられた支持枠とを有する真空容器を備えている。また、真空容器は、リアプレートとフェースプレートの対向間に、スペーサが配置されている。
【０００６】
スペーサは、大気圧を支持するために十分な機械的強度が求められ、リアプレートとフェースプレート間を飛翔する電子の軌道に大きく影響してはならない。電子軌道に影響を与える原因としては、スペーサの帯電がある。スペーサの帯電は、電子源から放出した電子の一部あるいはフェースプレートで反射した電子がスペーサに入射して、スペーサから二次電子が放出されること、あるいは電子の衝突により電離したイオンが表面に付着することによるものと考えられる。
【０００７】
スペーサが正帯電した場合には、スペーサ近傍を飛翔する電子がスペーサに引き寄せられるため、表示された画像に、スペーサ近傍で歪みが生じてしまう。スペーサの帯電によるこのような影響は、リアプレートとフェースプレートとの間隔が大きくなることに従ってより一層顕著になる。
【０００８】
このようなスペーサの帯電を防止する対策としては、電子軌道を補正するための電極をスペーサに形成する方法や、帯電面に導電性を付与して微弱な電流を通電させることで電荷を除去することが考えられる。
【０００９】
そして、導電性を付与する方法をスペーサに応用し、スペーサの表面を酸化スズで被覆する手法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。また、スペーサの表面をＰｄＯ系ガラス材で被覆する手法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
【００１０】
また、スペーサには、フェースプレートやリアプレートとの当接部に、スペーサ電極が設けられることによって、上述した被覆材に均一に電場を印加することで、接続不良や電流の集中によるスペーサの破壊を防止することができる。また、スペーサ電極の形状によって、スペーサ近傍の電位分布を制御し、その結果、電子ビームの軌道を制御することができることが開示されている（例えば、特許文献３参照。）。
【００１１】
【特許文献１】
特開昭５７−１１８３５５号公報
【特許文献２】
特開平３−４９１３５号公報
【特許文献３】
欧州特許出願公開第８６９５２８号明細書
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来例においては、電子軌道を補正するための電極をスペーサに形成することや、スペーサの表面に高抵抗膜を形成して、正帯電を中和することにより、帯電を緩和して、スペーサ近傍を飛翔する電子がスペーサに引き寄せられるのを抑制することが可能である。
【００１３】
しかしながら、素子ピッチや駆動条件等によって帯電を完全に除去できない場合や、量産性を考慮し導電性を付与しない方が好ましい場合があり、このような状況に対応した良好な表示装置が求められていた。
【００１４】
ここで、本発明が解決しようとする課題である、スペーサ近傍における電子ビーム軌道の歪について説明する。
【００１５】
図１４に示すように、表示装置が備える真空容器１００は、フェースプレート１１１と、このフェースプレート１１１に対向する位置に設けられたリアプレート１１２と、これらフェースプレート１１１およびリアプレート１１２の外周部を気密に閉塞するように設けられた支持枠（不図示）とを備えている。また、真空容器１００には、フェースプレート１１１とリアプレート１１２の対向間に、スペーサ１１７が設けられている。
【００１６】
スペーサ１１７は、絶縁性部材１２５の表面に、帯電を防止するための高抵抗膜１２６を成膜することにより構成されている。また、スペーサ１１７には、フェースプレート１１１とリアプレート１１２に当接する当接面に、フェースプレート１１１およびリアプレート１１２に電気的に接続するためのスペーサ電極１２７ａ，１２７ｂが、高抵抗膜１２６を被覆するように成膜されてそれぞれ設けられている。
【００１７】
また、リアプレート１１２の対向面上には、スペーサ１１７のスペーサ電極１２７ａが当接された第１の配線電極１３１ａが設けられており、スペーサ１１７から離間する側に向かう順に、第２の配線電極１３１ｂ、第３の配線電極１３１ｃ、第４の配線電極１３１ｄがそれぞれ配設されている。また、リアプレート１１２には、第１の配線電極１３１ａに隣接する位置に第１の電子放出部１３３ａが設けられており、スペーサ１１７から離間する側に向かう順に、第２の電子放出部１３３ｂ、第３の電子放出部１３３ｃが、各配線電極１３１の間に位置してそれぞれ配設されている。
【００１８】
また、各矢印が電子軌道ｅ６，ｅ７，ｅ８を示し、フェースプレート１１１およびリアプレート１１２にほぼ平行な破線が等電位線ｐを示している。
【００１９】
そして、第１の配線電極１３１ａの側端と第１の電子放出部１３３ａの中心との間の距離をＬ６、第２の配線電極１３１ｂの側端と第２の電子放出部１３３ｂの中心との間の距離をＬ７、第３の配線電極１３１ｃの側端と第３の電子放出部１３３ｃの中心との間の距離をＬ８とする。また、スペーサ１１７に対して対称に、上述した各距離Ｌ６，Ｌ７，Ｌ８と等しい距離を、Ｌ６′，Ｌ７′，Ｌ８′とする。
【００２０】
なお、図１４中において、各距離Ｌ６，Ｌ７，Ｌ８および各距離Ｌ６′，Ｌ７′，Ｌ８′は大きさが全て等しい。
【００２１】
図１４に示すように、リアプレート１１２側のスペーサ電極１２７ａは、空間中の電場を変化させることによって、電子軌道ｅ６を反発させることができる。また、電子軌道ｅ６は、スペーサ１１７の帯電や、フェースプレート１１１側のスペーサ電極１２７ｂによる影響を受けることで、スペーサ１１７側に引き寄せられる。
【００２２】
また、第２の電子放出部１３３ｂから放出された電子の電子軌道ｅ７は、リアプレート１１２側のスペーサ電極１２７ａの影響が小さいが、スペーサ１１７の帯電およびフェースプレート１１２側のスペーサ電極１２７ｂによる影響を受けることで、スペーサ１１７側に引き寄せられる。スペーサに近接する電子放出素子から放出された電子の軌道が、スペーサのリアプレート側の部分でスペーサから反発され、スペーサのフェースプレート側の部分で大きく引き寄せられる現象は、上述のスペーサ電極１２７a、１２７ｂを有するスペーサの近傍に限らず、スペーサ電極を有さないスペーサの近傍でも発生する場合があることが確認されている。この現象が、スペーサ電極を有さないスペーサ近傍でも発生する理由は、スペーサの帯電状態が、スペーサのフェースプレート側の部分とスペーサのリアプレート側の部分とで異なることに起因する。そして、スペーサの帯電状態が部分的に異なる理由は、フェースプレートで生じる反射電子がスペーサに照射することに起因している。つまり、スペーサのフェースプレート寄りの部分では、たくさんの反射電子が比較的高いエネルギーでスペーサに照射するため、正の帯電量が多くなる。一方、スペーサのリアプレート近傍の部分では、反射電子がかなり低いエネルギーでスペーサに照射するため、負の帯電が発生する。この結果、スペーサのフェースプレート寄りの部分およびリアプレート近傍の部分で、電子放出素子から放出された電子の軌道に大きな変化を生じている。つまり、上述の現象は、様様な理由から、スペーサのリアプレート側で発生する電場の変化（電子ビームを反発する電場変化）に対して、フェースプレート側で発生する電場変化（電子ビームを引き寄せる電場変化）が大きいスペーサを用いることによって、生じている。
【００２３】
このように、駆動条件や真空容器の構成等によって、スペーサ１１７に隣接する第１の電子放出部１３３ａ、およびこの第１の電子放出部１３３ａに隣接する第２の電子放出部１３３ｂのいずれか一方の電子ビームの到達位置（発光点）に位置ずれが生じてしまうことがあった。このため、従来の表示装置は、表示された画像等に歪みが発生する問題があった。
【００２４】
そこで、本発明は、電子軌道を補正して、発光点に位置ずれが生じることを抑制することができる表示装置を提供することを目的とする。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
上述した目的を達成するため、本発明に係る表示装置は、電子放出部が一方向において互いに均等な間隔となるように配列された複数の電子放出素子と、前記電子放出素子に駆動信号を供給する複数の配線電極とを有する電子源が設けられた第１の基板と、前記電子放出素子に対向して配置され、対応する電子放出素子の電子放出部から放出された電子が照射される、前記一方向において互いに均等な間隔で配列された複数の発光部材と、前記電子放出部から放出された電子を加速する加速電圧が印加される加速電極とを有する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置して、前記複数の配線電極のうちの一部の配線電極上に配置されたスペーサと、を備えている。そして、前記スペーサが配置された配線電極と、該スペーサが配置された配線に隣接する配線電極との前記一方向における間隔が、互いに隣接し、共に前記スペーサが配置されていない配線電極間の前記一方向における間隔よりも広くなっており、前記複数の電子放出素子の各々の電子放出部から放出される電子が、前記一方向において該各々の電子放出部の略真上に位置する発光部材の各々に照射するように構成されている。
【００２６】
また、本発明に係る表示装置において、前記スペーサが配置された配線電極を第１の配線電極、該第１の配線電極と隣接する配線電極を第２の配線電極、該第２の配線電極と前記スペーサから離れる側で隣接する配線電極を第３の配線電極とし、前記一方向における前記第１の配線電極と前記第２の配線電極との間隔Ｗ１と、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第３の配線電極との間隔Ｗ２は、Ｗ１＞Ｗ２の関係を満たしていることが好ましい。
【００２７】
また、本発明に係る表示装置において、前記スペーサが配置された配線電極を第１の配線電極、該第１の配線電極に隣接する電子放出部を第１の電子放出部、前記第１の配線電極と隣接する配線電極を第２の配線電極、該第２の配線電極に前記スペーサから離れる側で隣接する電子放出部を第２の電子放出部とし、前記一方向における前記第１の配線電極と前記第１の電子放出部の中心との間の距離Ｌ１と、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第２の電子放出部の中心との間の距離Ｌ２が、Ｌ１＞Ｌ２の関係を満たしていることが好ましい。
【００２８】
また、本発明に係る表示装置において、前記スペーサが配置された配線電極を第１の配線電極、該第１の配線電極に隣接する電子放出部を第１の電子放出部、前記第１の配線電極と隣接する配線電極を第２の配線電極、該第２の配線電極に前記スペーサから離れる側で隣接する電子放出部を第２の電子放出部とし、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第１の電子放出部の中心との間の距離Ｓ１と、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第２の電子放出部の中心との間の距離Ｌ２が、Ｓ１＞Ｌ２の関係を満たしていることが好ましい。
【００２９】
また、本発明に係る表示装置において、前記スペーサが配置された配線電極を第１の配線電極、該第１の配線電極に隣接する電子放出部を第１の電子放出部、前記第１の配線電極と隣接する配線電極を第２の配線電極、該第２の配線電極に前記スペーサから離れる側で隣接する電子放出部を第２の電子放出部、前記第２の配線電極に前記スペーサから離れる側で隣接する配線電極を第３の配線電極とし、前記一方向における前記第２の配線電極と前記第２の電子放出部の中心との間の距離Ｌ２と、前記一方向における前記第３の配線電極と前記第２の電子放出部の中心との間の距離Ｓ２が、Ｌ２＜Ｓ２の関係を満たしていることが好ましい。
【００３０】
以上のように構成した本発明に係る表示装置によれば、電子放出部により近い部位で電子放出部の周辺の電位分布を制御することができる。このため、放出された電子は、スペーサ表面上での電位分布の影響を受けにくくなり、電子軌道に一定の反発方向補正がなされる。その結果、第２の電子放出部から放出された電子は、補正された電子軌道により、略直上の位置に到達することが可能になる。したがって、スペーサ近傍であっても、到達電子によって形成される発光点（ビームスポット）の位置ずれが抑制される。
【００３１】
また、本発明の技術的思想によれば、画像等を表示するために好適な表示装置に限定されるものでなく、感光性ドラムと発光ダイオード等で構成された光プリンタの発光ダイオード等の代替の発光源として、上述した構造を用いることもできる。また、このとき、ｍ本の行方向配線と、ｎ本の列方向配線とを適宜選択することで、ライン配列状の発光源だけでなく、２次元状の発光源としても応用できる。この場合、表示部材としては、後述する実施形態の表示装置に用いる蛍光体のような直接発光する物質に限定されるものではなく、電子の帯電による潜像画像が表示されるような部材を用いることもできる。
【００３２】
なお、本発明の技術的思想によれば、例えば電子顕微鏡のように、電子源からの放出電子の被照射部材が、蛍光体等の表示部材以外のものである場合についても、本発明は適用できる。したがって、本発明は、被照射部材を特定しない一般的な電子線発生装置としての形態が採られてもよい。
【００３３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施形態について、平面型の表示装置を図面を参照して説明する。
【００３４】
（第１の実施形態）
図１に示すように、表示装置１は、文字や画像等の各種情報を表示する表示部５を有している。また、表示装置１は、図６に示すように、表示部５を駆動制御する制御部６と、表示部５および制御部６を支持する支持フレーム（不図示）と、表示部５、制御部６および支持フレームを覆う外筐であるカバー８とを備えている。
【００３５】
表示部５は、図２に示すように、内部が真空に維持された真空容器１０と、この真空容器１０内に電圧を供給する電圧印加部（不図示）とを有している。
【００３６】
真空容器１０は、フェースプレート１１と、このフェースプレート１１に対向する位置に設けられたリアプレート１２と、これらフェースプレート１１およびリアプレート１２の外周部を気密に閉塞するように設けられた支持枠１３とを備えている。
【００３７】
フェースプレート１１には、ガラス材からなるガラス基板２１と、ガラス基板２１のリアプレート１２に対向する対向面上に設けられた蛍光膜１４と、この蛍光膜１４上に形成されたメタルバック１５とがそれぞれ設けられている。
【００３８】
リアプレート１２には、ガラス材からなるガラス基板２２と、ガラス基板２２のフェースプレート１１に対向する対向面上に規則的に配設された複数の電子放出素子２３と、これら電子放出素子２３に駆動信号を供給する複数の配線電極３７，３８とがそれぞれ設けられている。この電子放出素子２３は、例えば表面伝導型の電子放出素子を用いることができ、本実施形態においては、表面伝導型の電子放出素子を用いた。
【００３９】
そして、真空容器１０は、フェースプレート１１、リアプレート１２および支持枠１３によって包囲された空間が、１０のマイナス４乗［Ｐａ］程度の真空に維持されている。このため、真空容器１０は、表示面が比較的大面積の場合にも、外部気圧と真空容器１０内との圧力差によってフェースプレート１１およびリアプレート１２が変形することを防止するために、真空容器１０の機械的強度を補強する構造補強部材としてのスペーサ１７を備えている。このスペーサ１７は、矩形をなす略薄板状に形成されており、フェースプレート１１とリアプレート１２との間に位置して設けられている。
【００４０】
まず、フェースプレート１１の蛍光膜について図面を参照して説明する。図３に、フェースプレート１１上に設けられる蛍光膜の一例を説明するための平面図を示す。モノクロームの場合には、蛍光膜１４が蛍光体のみからなる。しかし、カラー表示の蛍光膜の場合には、例えば図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、蛍光体の配列によりいわゆるブラックストライプあるいはブラックマトリクス等と呼称される黒色導電材１８と蛍光体１９とから構成される。
【００４１】
また、蛍光膜１４の内面上には、通常、メタルバック１５が設けられる。このメタルバック１５は、蛍光体の発光のうち内面側に向かう光をフェースプレート１１側へ鏡面反射することにより、輝度を向上するためと、電子ビームの加速電圧を印加するアノード電極として作用させるための等の目的で設けられている。
【００４２】
上述した真空容器１０の封着を行う際、カラー表示の場合には、各色蛍光体と電子放出素子２３とを対応させる必要があるため、フェースプレート１１とリアプレート１２を位置基準に突き当てること等によって位置決めを十分に行う必要がある。
【００４３】
封着時の真空度は、１０のマイナス７乗〔Ｔｏｒｒ〕程度の真空度が要求される他、封止後の真空容器１０の真空度を維持するために、ゲッター処理を行う場合もある。
【００４４】
本実施形態の表示装置１が備える真空容器１０について、スペーサ１７および電子放出素子２３を、図面を参照してさらに詳細に説明する。図５に、真空容器１０の模式的な断面図を示す。
【００４５】
図５に示すように、スペーサ１７は、絶縁性部材２５の表面に、帯電を防止するための高抵抗膜２６を成膜することにより構成されている。また、スペーサ１７には、フェースプレート１１とリアプレート１２の各対向面に当接する当接面に、フェースプレート１１およびリアプレート１２に電気的に接続するためのスペーサ電極２７ａ，２７ｂが、高抵抗膜２６を被覆するように成膜されてそれぞれ設けられている。また、高抵抗膜２６は、絶縁性部材２５の表面のうち、少なくとも真空容器１０内の真空中に露出している面に成膜されている。
【００４６】
そして、真空容器１０内には、所望の個数のスペーサ１７が、所望の間隔をおいてそれぞれ配置されて、フェースプレート１１とリアプレート１２との間に固定されている。スペーサ１７は、スペーサ電極２７ａ，２７ｂを介して、フェースプレート１１のメタルバック１５およびリアプレート１２上の第１の配線電極３１ａに電気的に接続される。
【００４７】
また、図５に示すように、リアプレート１２には、スペーサ１７のスペーサ電極２７ａが当接された第１の配線電極３１ａが設けられており、スペーサ１７から離間する側に向かう順に、第２の配線電極３１ｂ、第３の配線電極３１ｃ、第４の配線電極３１ｄがそれぞれ配設されている。また、リアプレート１２には、第１の配線電極３１ａに隣接する位置に第１の電子放出部３３ａが設けられており、スペーサ１７から離間する側に向かう順に、第２の電子放出部３３ｂ、第３の電子放出部３３ｃが、各配線電極３１の間に位置してそれぞれ配設されている。各電子放出部３３ａ，３３ｂ，３３ｃから放出される電子は、各電子放出部３３ａ，３３ｂ，３３ｃに対向して略直上に位置する加速電極部分に照射される。
【００４８】
また、図５において、各矢印が電子軌道ｅ１，ｅ２，ｅ３を示し、フェースプレート１１およびリアプレート１２にほぼ平行な破線が等電位線ｐを示している。
【００４９】
そして、第１の配線電極３１ａの側端と第１の電子放出部３３ａの中心との間の距離をＬ１、第２の配線電極３１ｂの側端と第２の電子放出部３３ｂの中心との間の距離をＬ２、第３の配線電極３１ｃの側端と第３の電子放出部３３ｃの中心との間の距離をＬ３とする。また、スペーサ１７に対して対称に、上述した各距離Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３と等しい距離を、Ｌ１′，Ｌ２′，Ｌ３′とする。なお、上述した各距離Ｌは、リアプレート１２の主面に平行、かつリアプレート１２の断面上の直線距離を指す。また、素子ピッチＥは、全ての素子間隔で略等しく、配線間ピッチＷ１，Ｗ２はＷ１＞Ｗ２の関係となっている。
【００５０】
このように、第２の配線電極３１ｂが第２の電子放出部３３ｂに近接されて形成されることにより、距離Ｌ１，Ｌ２が、
Ｌ１＞Ｌ２    ・・・・（式１）
式１を満たしている。また、Ｌ３＝Ｌ１を満たしている。なお、他の電子放出部３３の中心と配線電極３１との間の距離Ｌは、スペーサ１７近傍以外で距離Ｌ１と等しい。
【００５１】
これは、第２の電子放出部３３ｂに対して第２の配線電極３１ｂを近づけて配置することにより、電子軌道ｅ２を反発方向にするためである。この結果、第２の電子放出部３１ｂから放出された電子は、電子軌道ｅ２により、略直上の位置の加速電極部分に到達することが可能になる。したがって、スペーサ１７近傍であっても、到達電子によって形成される発光点（ビームスポット）の位置ずれが抑制される。
【００５２】
なお、距離Ｌ２は、素子電極３５，３６のピッチ、スペーサ１７の特性、駆動条件、配線電極３１の厚み、フェースプレート１１とリアプレート１２の対向間隔等の各種条件に関係するため、一義的に決定することができないが、おおむね距離Ｌ１の９８％〜５０％に設定され、特に９５％〜７５％が好ましい。また、本実施形態においては、第２の配線電極３１ｂと第１の電子放出部３３ａの中心との間の距離をＳ１、第２の配線電極３１ｂと第２の電子放出部３３ｂの中心との間の距離をＬ２として、Ｓ１＞Ｌ２の関係も、同時に満たしている。更に、第２の配線電極３１ｂと第２の電子放出部３３ｂの中心との間の距離Ｌ２、第３の配線電極３１ｃと第２の電子放出部３３ｃの中心との間の距離Ｓ２について、Ｌ２＜Ｓ２の関係をも満たしている。本実施形態は、上記の条件全てを同時に満たす、特に好ましい形態であるが、これら条件の一部を満たす形態でも十分に効果が得られる。一部の条件を満たす形態としては、例えば、スペーサの片側にのみ電子放出素子を配置する場合であり、この場合は、特定の条件のみを満たすように配線間隔を決めればよい。
【００５３】
また、スペーサ１７は、リアプレート１２上の配線電極３１ａとフェースプレート１１のメタルバック１５との間に印加される高電圧に耐え得るだけの絶縁性を有するとともに、スペーサ１７の表面への帯電を防止する程度の導電性を有する必要がある。
【００５４】
スペーサ１７の絶縁性部材２５としては、例えば、石英ガラス、Ｎａ等の不純物含有量を減少もしくは除去したガラス、ソーダライムガラス、アルミナ等のセラミックス部材などが挙げられる。なお、絶縁性部材２５は、熱膨張率が、真空容器１０およびリアプレート１２を形成する材料の熱膨張率に近い材料が好ましい。
【００５５】
スペーサ１７を構成する高抵抗膜２６には、高電位側のフェースプレート１１に印加される加速電圧Ｖａを、帯電防止膜である高抵抗膜２６の抵抗値Ｒｓで除した電流が流される。そこで、スペーサ１７の抵抗値Ｒｓは、帯電防止および消費電力を考慮して、その望ましい範囲に設定されている。帯電防止の観点から、表面抵抗Ｒ／□は、１０の１４乗〔Ω／□〕以下であることが好ましい。また、表面抵抗Ｒ／□は、十分な帯電防止効果を得るために、１０の１３乗〔Ω／□〕以下がより好ましい。表面抵抗Ｒ／□の下限は、スペーサ１７の形状とスペーサ電極２７ａ，２７ｂ間に印加される電圧とによって左右されるが、１０の７乗〔Ω／□〕以上であることが好ましい。
【００５６】
また、絶縁性部材２５上には、図示しないが帯電防止膜が形成されている。この帯電防止膜の膜厚ｔは、１０〔ｎｍ〕〜５０〔μｍ〕の範囲内が望ましい。材料の表面エネルギー、絶縁性部材２５との密着性、および絶縁性部材２５の温度によっても異なるが、一般的に膜厚ｔが１０〔ｎｍ〕以下の場合、高抵抗膜は、略島状に形成されてしまうため、抵抗が不安定で再現性に乏しい。膜厚ｔが５０〔μｍ〕以上の場合には、高抵抗膜の形成過程において、絶縁性部材２５を変形させてしまう可能性が高くなる。
【００５７】
表面抵抗Ｒ／□は、高抵抗膜の比抵抗ρとして、ρ／ｔであるため、上述した表面抵抗Ｒ／□と膜厚ｔの好ましい範囲から、高抵抗膜の比抵抗ρは、１０［Ωｃｍ］〜２の１０乗［Ωｃｍ］の範囲内が好ましい。さらに、表面抵抗と膜厚のより好ましい範囲を実現するためには、比抵抗ρは、１０の４乗〜１０の８乗[Ωｃｍ]の範囲内にすると良い。
【００５８】
帯電防止特性を有する高抵抗膜２６の材料としては、例えば金属酸化物を用いることができる。金属酸化物の中でも、例えばクロム、ニッケル、銅の酸化物が好ましい材料である。その理由は、これらの酸化物は、二次電子の放出効率が比較的小さく、電子放出部３３から放出された電子がスペーサ１７に当たった場合であっても、帯電し難いためである。金属酸化物以外の材料としても、炭素は、二次電子の放出効率が小さいので好ましい。特に、非晶質カーボンは、高抵抗であるため、スペーサの抵抗を所望の値に制御し易く、好ましい。
【００５９】
帯電防止特性を有する高抵抗膜２６の他の材料として、アルミニウムと遷移金属合金の窒化物は、遷移金属の組成を調整することにより、良伝導体から絶縁体まで広い範囲に抵抗値を制御することができるので好適である。さらに、このような窒化物は、後述する表示装置の作製工程における抵抗値の変化が比較的少なく、安定した材料である。かつ、窒化物は、抵抗温度係数が（−）１％より大であり、実用的に使い易い材料である。遷移金属元素としては、例えば、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｔａ等が挙げられる。
【００６０】
図４に、マトリクス状に配設された複数の電子放出素子を有するリアプレート１２の平面図を示す。図４に示すように、リアプレート１２には、ガラス基板２２上に、素子電極３５、３６と、互いに交差されたＸ方向配線３７およびＹ方向配線３８と、表面伝導型の電子放出素子膜（導電性膜）３９がそれぞれ設けられており、電子放出部３３が形成されている。
【００６１】
Ｘ方向配線３７は、行方向に配列されており、Ｙ方向配線３８は、列方向に配列されている。
【００６２】
また、本実施形態においては、距離Ｌ３を１７０〔μｍ〕、距離Ｌ２を１５０〔μｍ〕、距離Ｌ１を１７０〔μｍ〕に形成し、フェースプレート１１とリアプレート１２との間のギャップは１．６〔ｍｍ〕程度に形成している。
【００６３】
真空容器１０は、リアプレート１２上に配線電極３１を形成する位置を変えることにより、距離Ｌ１，Ｌ２がＬ１＞Ｌ２を満たしており、電子軌道を補正して、発光点のずれを抑制することができる。このため、表示装置１は、高品位な画像の表示を得ることができる。
【００６４】
以上のように構成されたスペーサ１７を用いた表示装置について、真空容器１０の製造方法を簡単に説明する。
【００６５】
本実施形態においては、ガラス基板２１，２２として、アルカリ成分が比較的少ない２．８〔ｍｍ〕厚のガラス基板（旭硝子（株）社製：ＰＤ−２００）を用い、更にこのガラス基板上にナトリウムブロック層としてＳｉＯ2膜１００〔ｎｍ〕を塗付焼成したものを用いた。
【００６６】
さらに、素子電極３５，３６は、ガラス基板２２上に、スパッタ法によってまず下引き層としてチタニウム（Ｔｉ）層を膜厚５〔ｎｍ〕で成膜するとともに、このチタニウム層上に白金（Ｐｔ）層を膜厚４０〔ｎｍ〕で成膜した。このように積層された薄膜が成膜された後に、フォトレジスト処理を塗布して、露光、現像、エッチング処理という一連のフォトリソグラフィー法によって所望のパターンを形成した。
【００６７】
本実施形態では、素子電極の間隔Ｌ＝１０〔μｍ〕、対応する長さＷ＝１００〔μｍ〕とした。Ｘ方向配線３７とＹ方向配線３８の配線材料に関しては、多数の表面伝導型の電子放出素子２３にほぼ均等な電圧がそれぞれ供給されるように低抵抗であることが望まれ、材料、膜厚、配線幅等が適宜設定される。
【００６８】
共通配線としてのＹ方向配線３８は、素子電極の一方に接して、かつそれらを連結するようにライン状のパターンで形成した。材料には銀Ａｇフォトペーストインキを用い、スクリーン印刷した後、乾燥させてから、所定のパターンに露光し現像した。この後、４８０〔℃〕前後の温度で焼成して配線を形成した。
【００６９】
Ｙ方向配線３８は、厚さ約１０〔μｍ〕、幅幅５０〔μｍ〕に形成した。
【００７０】
Ｘ方向配線３７およびＹ方向配線３８を絶縁するために、層間絶縁層（図示せず）を配置する。Ｘ方向配線３７の下に、先に形成したＹ方向配線２４との交差部を覆うように、かつＸ方向配線３７と素子電極の他方との電気的接続が可能なように、接続部にコンタクトホール（不図示）をあけて形成した。
【００７１】
工程は、ＰｂＯを主成分とする感光性のガラスペーストをスクリーン印刷した後、露光、現像を行った。これを４回繰り返し、最後に４８０〔℃〕前後の温度で焼成した。この層間絶縁層の厚みは、全体で約３０〔μｍ〕であり、幅は１５０〔μｍ〕である。
【００７２】
Ｘ方向配線３７は、先に形成した絶縁膜の上に、Ａｇペーストインキをスクリーン印刷した後乾燥させ、この上に再度同様なことを行い２度塗りしてから、４８０〔℃〕前後の温度で焼成した。上記絶縁膜を挟んでＹ方向配線３８と交差しており、絶縁膜のコンタクトホール部分で素子電極の他方とも接続されている。
【００７３】
このＸ方向配線３７によって他方の素子電極は連結されており、パネル化した後に走査電極として作用する。このＸ方向配線３７は、厚さ２０〔μｍ〕程度に形成した。
【００７４】
本実施形態においては、Ｙ方向配線３８を形成するマスクのピッチ、を変更することにより、Ｌ１＞Ｌ２を満たしている。
【００７５】
以上のようにして、ガラス基板２２上にＸＹマトリクス配線が形成される。
【００７６】
そして、マトリックス配線が形成されたガラス基板２２を十分にクリーニングした後、素子電極３５，３６間にインクジェット塗布方法により、電子放出素子膜３９を形成した。
【００７７】
図７（ａ）、図７（ｂ）および図７（ｃ）に、電子放出素子膜３９の形成工程の模式図を示す。
【００７８】
本実施形態では、電子放出素子膜３９としてパラジウム膜を得る目的で、まず、水８５：イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１５からなる水溶液に、パラジウム−プロリン錯体０．１５〔重量％〕を溶解して、有機パラジウム含有溶液を得る。その他若干の添加剤を加えた。
【００７９】
この溶液の液滴を、液滴付与手段４８として、ピエゾ素子を用いたインクジェット噴射装置を用いて、ドット径が６０〔μｍ〕となるように調整して電極間に付与した。その後、この基板を空気中にて、３５０〔℃〕で１０分間の加熱焼成処理をして、酸化パラジウム（ＰｄＯ）とした。ドットの直径が６０〔μｍ〕程度、厚みが最大で１０〔ｎｍ〕の膜が得られた。以上の工程により、素子部分に酸化パラジウムＰｄＯ膜が形成された。
【００８０】
つぎに、フォーミング処理について図面を参照して説明する。
【００８１】
フォーミング処理工程において、電子放出素子膜３９を通電処理して内部に亀裂を生じさせ、電子放出部３３を形成する。
【００８２】
フォーミング処理に用いた電圧波形について簡単に説明する。図８に、フォーミング処理における電圧の波形を示す。
【００８３】
フォーミング処理には、パルス波形の電圧を印加した。電圧としてパルス波形を用いるときには、パルス波の波高値が定電圧のパルスを印加する場合（図８（ａ）参照）と、パルス波の波高値を増加させながら印加する場合（図８（ｂ）参照）とがある。
【００８４】
図８（ａ）において、電圧波形のパルス幅Ｔ１を１〔μｓｅｃ〕〜１０〔ｍｓｅｃ〕とし、パルス間隔Ｔ２を１０〔μｓｅｃ〕〜１００〔ｍｓｅｃ〕とし、三角波の波高値（フォーミング時のピーク電圧）は適宜選択する。
【００８５】
図８（ｂ）において、パルス幅Ｔ１およびパルス間隔Ｔ２の各大きさを上述した場合と同様にして、三角波の波高値（フォーミング時のピーク電圧）を、例えば０．１〔Ｖ〕ステップ程度ずつ増加させる。
【００８６】
なお、フォーミング処理の終了は、フォーミング用パルスの間に、電子放出素子膜３９を局所的に破壊、変形しない程度の電圧、例えば０．１〔Ｖ〕程度のパルス電圧を挿入して素子電流を測定し、抵抗値を求め、例えばフォーミング処理前の抵抗に対して１０００倍以上の抵抗を示した時点で、フォーミング処理を終了した。
【００８７】
次に、活性化処理について図面を参照して説明する。
【００８８】
図９に示すように、この活性化処理は、有機化合物が存在する適当な真空度のもとで、Ｘ方向配線３７およびＹ方向配線３８を通じてパルス電圧を素子電極に繰り返し印加することによって炭素化合物を、亀裂近傍にカーボン膜として堆積させる工程である。
【００８９】
図９（ａ）および図９（ｂ）に、活性化工程で用いられる電圧印加の好ましい一例を示した。印加する最大電圧値は、１０〜２０〔Ｖ〕の範囲で適宜選択される。図９（ａ）中で、Ｔ１は、電圧波形の正と負のパルス幅、Ｔ２はパルス間隔であり、電圧値は正負の絶対値が等しく設定されている。また、図９（ｂ）中で、Ｔ１およびＴ１′はそれぞれ、電圧波形の正と負のパルス幅、Ｔ２はパルス間隔であり、Ｔ１＞Ｔ１′、電圧値は正負の絶対値が等しく設定されている。
【００９０】
上述した構成と製造方法によって作製された電子放出素子２３の基本特性について図１０、図１１を用いて説明する。図１０に、上述したように構成された電子放出素子２３の電子放出特性を測定するための測定評価装置５１の模式図を示す。図１１に、素子電圧Ｖｆと、素子電流Ｉｆおよび放電電流Ｉｅとの関係を示す。
【００９１】
図１０に示すように、測定評価装置５１は、素子電極３５，３６に素子電圧Ｖｆを印加するための電源５２と、素子電極３５，３６間の電子放出部３３を含む導電性薄膜３９を流れる素子電流Ｉｆを測定するための電流計５３と、素子電極３５，３６の電子放出部３３から放出される放出電流Ｉｅを捕捉するためのアノード電極５４と、アノード電極５４に電圧を印加するための高圧電源５５と、素子電極３５，３６の電子放出部３３から放出される放出電流Ｉｅを測定するための電流計５６とを有している。
【００９２】
この測定評価装置５１は、電子放出素子２３の素子電極３５，３６間を流れる素子電流Ｉｆ、およびアノード電極５４への放出電流Ｉｅを測定する際に、素子電極３５，３６に電源５２と電流計５３とを電気的に接続して、アノード電極５４と高圧電源５５と電流計５６とを電気的に接続される。
【００９３】
また、電子放出素子２３およびアノード電極５４は、真空室５８内に設置されている。その真空室５８は、不図示の排気ポンプおよび真空計等の真空装置に必要な機器を備えている。そして、この測定評価装置５１は、所望の真空下で電子放出素子２３の測定評価を行うように構成されている。なお、アノード電極５４の電圧は、１〔ｋＶ〕〜１０〔ｋＶ〕とし、アノード電極５４と電子放出素子との距離Ｈを２〔ｍｍ〕〜８〔ｍｍ〕の範囲内で測定した。
【００９４】
図１０に示した測定評価装置５１により測定された放出電流Ｉｅおよび素子電流Ｉｆと、素子電圧Ｖｆとの関係の典型的な一例を図１１に示す。なお、放出電流Ｉｅと素子電流Ｉｆの各大きさは、著しく異なっているが、図１１中では放電電流Ｉｆ、素子電流Ｉｅの変化を定性的に比較検討するために、リニアスケールで縦軸を任意の単位で表記した。
【００９５】
以下、表示装置１が備える具体的な制御部６について図面を参照して説明する。図６に、単純マトリクス配置の電子源を用いて構成された表示部に対応されて、ＮＴＳＣ（National Television System Committee）方式のテレビ信号に基づいたテレビジョン表示用の制御部のブロック図を示す。
【００９６】
図６に示すように、制御部６は、表示部５のリアプレート１２側に電気的に接続された走査回路４１と、この走査回路４１を制御する制御回路４２と、シフトレジスタ４３と、ラインメモリ４４と、情報信号発生器４５と、同期信号分離回路４６と、表示部５に電圧を供給するための直流電圧源Ｖａとを有している。
【００９７】
電子放出素子２３を用いた表示部５のＸ方向配線３７には、走査線信号を印加するＸ方向ドライバ（不図示）が電気的に接続されており、Ｙ方向配線３８には、情報信号が供給されるＹ方向ドライバ（不図示）の情報信号発生器４５が電気的に接続されている。
【００９８】
電圧変調方式を実施する場合には、情報信号発生器４５として、一定の長さの電圧パルスを発生するが入力されるデータに応じて、適宜パルスの波高値を変調するような回路を用いる。また、パルス幅変調方式を実施する場合には、情報信号発生器４５としては、一定の波高値の電圧パルスを発生するが入力されるデータに応じて、適宜電圧パルスの幅を変調するような回路を用いる。
【００９９】
制御回路４２は、同期信号分離回路４６から送出される同期信号Ｔsyncに基づいて、各部に対して各制御信号Ｔscan，Ｔsft，Ｔmryをそれぞれ発生する。
【０１００】
同期信号分離回路４６は、外部から入力されるＮＴＳＣ方式のテレビ信号から、同期信号成分と輝度信号成分とを分離するための回路である。この輝度信号成分は、同期信号に同期してシフトレジスタ４３に入力される。
【０１０１】
シフトレジスタ４３は、時系列的にシリアルに入力される輝度信号を、例えば画像の１ライン毎にシリアル／パラレル変換して、制御回路４２から送出されるシフトクロックに基づいて動作する。シリアル／パラレル変換された画像１ライン分のデータ（電子放出素子がｎ素子分の駆動データに相当）は、ｎ個の並列信号としてシフトレジスタ４３から出力される。
【０１０２】
ラインメモリ４４は、画像１ライン分のデータを必要時間の間だけ記憶するための記憶装置であり、記憶された内容は、情報信号発生器４５に入力される。
【０１０３】
情報信号発生器４５は、各々の輝度信号に応じて、電子放出素子２３の各々を適切に駆動するための信号源であり、その出力信号はＹ方向配線３８を通じて表示部５の真空容器１０内に入り、Ｘ方向配線３７によって選択中の走査ラインとの交点にある各々の電子放出素子２３に印加される。
【０１０４】
Ｘ方向配線３７を順次走査することによって、リアプレート１１全面の電子放出素子２３を駆動することが可能になる。
【０１０５】
以上のように構成された表示装置１によれば、各電子放出素子２３に、表示部５内のＸ方向配線３７およびＹ方向配線３８を通じて、電圧を印加することによって、電子を放出させて、高圧端子Ｈｖを通じ、アノード電極であるメタルバック１５に高圧を印加し、発生した電子ビームを加速し、蛍光膜１４に衝突させることによって、画像等の各種の情報を表示する。
【０１０６】
なお、上述した表示装置１の構成は、本発明に係る電子線発生装置が適用された表示装置の一例であり、本発明の技術的思想に基づいて、種々の変形がなされてもよいことは勿論である。入力信号として、ＮＴＳＣ方式を一例に挙げたが、入力信号は、この方式に限定されるものではなく、例えば、ＰＡＬ（Phase Alternation by Line）方式、ＨＤＴＶ（High-Definition TeleVision）方式等の他の方式が採用された場合も同様である。
【０１０７】
（第２の実施形態）
第２の実施形態に係るリアプレートについて図面を参照して簡単に説明する。なお、第２の実施形態のリアプレートにおいて、上述した第１の実施形態のリアプレートの各部材と同一部材には、便宜上、同一符号を付しており、その説明を省略する。
【０１０８】
本実施形態の表示装置は、リアプレートを除いて、第１の実施形態と同様に構成されている。図１２に示すように、本実施形態において、Ｙ方向配線３８は、厚さ１２〔μｍ〕、幅５０〔μｍ〕程度に形成した。層間絶縁層は、厚さ３０〔μｍ〕、幅１５０〔μｍ〕程度に形成した。Ｘ方向配線３７は、厚さ２０〔μｍ〕、幅２６０〔μｍ〕程度に形成した。また、複数の電子放出素子は、素子間のピッチが、どの素子間も等しくなるように形成し、Ｘ方向配線３７は、以下の関係となるように配線間ピッチを部分的に異ならせて形成した。これによって、各電子放出部からの放出電子が、放出部直上のフェースプレート部に照射するようにした。
【０１０９】
本実施形態において、各距離Ｌ１，Ｌ２は、リアプレート１２上に第２の配線電極３１ｂを形成する位置を変更することによって、Ｌ１＞Ｌ２を満たしている。そして、第２の配線電極３１ｂと第１の電子放出部３３ａの中心との間の距離をＳ１、第２の配線電極３１ｂと第２の電子放出部３３ｂの中心との間の距離をＬ２として、Ｓ１＞Ｌ２を満たす位置に第２の配線電極３１ｂが配置されている。また、第１の実施形態と同様に、第２の配線電極３１ｂと第２の電子放出部３３ｂの中心との間の距離Ｌ２、第３の配線電極３１ｃと第２の電子放出部３３ｃの中心との間の距離Ｓ２について、Ｌ２＜Ｓ２の関係をも満たす位置に第２の電子放出部３３ｂが配置されている。
【０１１０】
なお、本実施形態においては、距離Ｌ４を１３０〔μｍ〕、距離Ｌ３を１１５〔μｍ〕、距離Ｌ２を１００〔μｍ〕、距離Ｌ１を１３０〔μｍ〕に形成し、フェースプレート１１とリアプレート１２との間の対向間隔を１．４〔ｍｍ〕程度に形成した。
【０１１１】
上述した本実施形態のリアプレートを備える表示装置によれば、上述した表示装置１と同様に電子軌道が補正をして、発光点のずれが抑制されるため、高品位な画像等の情報を表示することができる。
【０１１２】
（第３の実施形態）
第３の実施形態に係るリアプレートについて図面を参照して簡単に説明する。なお、この第３の実施形態のリアプレートにおいて、上述したリアプレートの各部材と同一部材には、便宜上、同一符号を付して説明を省略する。
【０１１３】
本実施形態の表示装置は、リアプレートを除いて、第１の実施形態と同様に構成されている。図１３に示すように、本実施形態において、Ｙ方向配線３８は、厚さ８〔μｍ〕、幅７０〔μｍ〕程度に形成した。層間絶縁層は、厚さ３５〔μｍ〕程度、幅１５０〔μｍ〕に形成した。Ｘ方向配線３７は、Ｘ方向配線３７ｂ，３７ｂ′以外を、厚さ２０〔μｍ〕、幅３００〔μｍ〕程度に形成し、Ｘ方向配線３７ｂおよび３７ｂ′を、幅３４０〔μｍ〕程度に形成した。また、複数の電子放出素子は、素子間のピッチが、どの素子間も等しくなるように形成し、Ｘ方向配線３７は、以下の関係となるように配線間ピッチを部分的に異ならせて形成した。これによって、各電子放出部からの放出電子が、各電子放出部の略直上のフェースプレート部に照射するようにした。本実施形態においては、スペーサ１７が当接されるＸ方向配線３７aに近接するX方向配線３７ｂの幅を変更することにより、Ｌ１＞Ｌ２を満たしている。
【０１１４】
なお、本実施形態においては、距離Ｌ３を１７０〔μｍ〕、距離Ｌ２を１５０〔μｍ〕、距離Ｌ１を１７０〔μｍ〕に形成し、フェースプレート１１とリアプレート１２との間の対向間隔は、１．５〔ｍｍ〕程度に形成した。
【０１１５】
上述した本実施形態のリアプレートを備える表示装置によれば、上述した表示装置１と同様に電子軌道を補正して、発光点のずれが抑制されるため、高品位な画像等の情報を表示することができる。
【０１１６】
なお、本発明は、例えば、レーザプリンタ等の画像形成装置や、電子顕微鏡等に用いる電子線発生装置に適用されて好適である。
【０１１７】
【発明の効果】
上述したように、本発明に係る表示装置は、複数の電子放出素子の各々の電子放出部から放出される電子が、該各々の電子放出部の略直上の加速電極部分に照射するように、複数の配線電極の間隔を部分的に異ならせることによって、発光点の位置ずれが生じることを抑制することができる。したがって、この表示装置によれば、高品位な表示を得ることや、高画質の画像を表示することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る表示装置を示す斜視図である。
【図２】真空容器を切り欠いて示す斜視図である。
【図３】フェースプレート上に設けられる蛍光膜を示す平面図である。
【図４】リアプレート上の配線パターンの一例を示す平面図である。
【図５】スペーサ近傍の配線電極と電子放出部を説明するために示す断面図である。
【図６】駆動制御部を説明するために示すブロック図である。
【図７】素子膜の形成方法を説明するために示す模式図である。
【図８】フォーミング処理方法を説明するために示す図である。
【図９】活性化処理を説明するために示す図である。
【図１０】電子放出特性を測定するための測定評価装置を示す模式図である。
【図１１】電子放出素子の特性を示す図である。
【図１２】本発明に係る第２の実施形態のリアプレート上の配線パターンを示す平面図である。
【図１３】本発明に係る第３の実施形態のリアプレート上の配線パターンを示す平面図である。
【図１４】従来の表示装置のスペーサ近傍部を説明するために示す断面図である。
【符号の説明】
１  表示装置
５  表示部
６  制御部
８  カバー
１１  フェースプレート
１２  リアプレート
１３  支持枠
１４  蛍光膜
１５  メタルバック
１７  スペーサ
２１，２２  ガラス基板
２３  電子放出素子
３１  配線電極
３３  電子放出部
３５，３６  素子電極
３７  Ｘ方向配線
３８  Ｙ方向配線
３９  電子放出素子膜
４１  走査回路
４２  制御回路
４３  シフトレジスタ
４４  ラインメモリ
４５  情報信号発生器
４６  同期信号分離回路
５１  測定評価装置
５２，５５  電源
５３，５６  電流計
５４  アノード電極
５８  真空室
１１１  フェースプレート
１１２  リアプレート
１２６  高抵抗膜
１２７ａ，１２７ｂ  スペーサ電極
１３１  配線電極
１３３  電子放出部
ｐ，ｐ′  等電位線
ｅ１，ｅ２，ｅ３，ｅ６，ｅ７，ｅ８  電子軌道
【図１】
0003647439.tif 000002
【図２】
0003647439.tif 000003
【図３】
0003647439.tif 000004
【図４】
0003647439.tif 000005
【図５】
0003647439.tif 000006
【図６】
0003647439.tif 000007
【図７】
0003647439.tif 000008
【図８】
0003647439.tif 000009
【図９】
0003647439.tif 000010
【図１０】
0003647439.tif 000011
【図１１】
0003647439.tif 000012
【図１２】
0003647439.tif 000013
【図１３】
0003647439.tif 000014
【図１４】
0003647439.tif 000015