(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ファイバ中心を長手方向に延びる中実又は中空のコアと、該コアを覆うように設けられ該コアに沿って延びる多数の細孔を有するクラッドとを備えたフォトニッククリスタルファイバを、該フォトニッククリスタルファイバのモードフィールド径よりも大きいモードフィールド径を有する被接続光ファイバに接続する方法であって、
ファイバ中心をなすコアと該コアを覆うように設けられた中実のクラッドとを備え且つ上記フォトニッククリスタルファイバのモードフィールド径と上記被接続光ファイバのモードフィールド径との中間のモードフィールド径を有するバッファ光ファイバの一端に、上記フォトニッククリスタルファイバの接続端を、そのクラッドの細孔が熱によって潰れない温度での融着により接続する一方、該バッファ光ファイバの他端に上記被接続光ファイバの接続端を接続することを特徴とするフォトニッククリスタルファイバの接続方法。
【請求項２】
上記バッファ光ファイバの他端に、上記コアにドープされた屈折率調整成分を上記中実のクラッドに拡散させる加熱処理を施すことを特徴とする請求項１に記載のフォトニッククリスタルファイバの接続方法。
【請求項３】
ファイバ中心を長手方向に延びる中実又は中空のコアと、該コアを覆うように設けられ該コアに沿って延びる多数の細孔を有するクラッドとを備えたフォトニッククリスタルファイバと、
上記フォトニッククリスタルファイバのモードフィールド径よりも大きいモードフィールド径を有する被接続光ファイバと、
上記フォトニッククリスタルファイバの接続端に、そのクラッドの細孔が熱によって潰れない温度での融着により一端が接続される一方、上記被接続光ファイバの接続端に他端が接続され、ファイバ中心をなすコアと該コアを覆うように設けられた中実のクラッドとを備え且つ該フォトニッククリスタルファイバのモードフィールド径と該被接続光ファイバのモードフィールド径との中間のモードフィールド径を有するバッファ光ファイバと、
を備えたことを特徴とするフォトニッククリスタルファイバの接続構造体。
【請求項４】
上記バッファ光ファイバは、上記コアに屈折率調整成分がドープされており、該バッファ光ファイバの他端において該コアにドープされた屈折率調整成分が上記中実のクラッドに拡散していることを特徴とする請求項３に記載のフォトニッククリスタルファイバの接続構造体。
【請求項５】
ファイバ中心を長手方向に延びる中実又は中空のコアと、該コアを覆うように設けられ該コアに沿って延びる多数の細孔を有するクラッドとを備えたフォトニッククリスタルファイバと、
上記フォトニッククリスタルファイバの接続端に、そのクラッドの細孔が熱によって潰れない温度での融着により一端が接続され、ファイバ中心をなすコアと該コアを覆うように設けられた中実のクラッドとを備え且つ上記フォトニッククリスタルファイバのモードフィールド径より大きいモードフィールド径を有するバッファ光ファイバと、
からなることを特徴とするフォトニッククリスタルファイバの接続構造体の構成部材。
【請求項６】
上記バッファ光ファイバは、上記コアに屈折率調整成分がドープされており、該バッファ光ファイバの他端において該コアにドープされた屈折率調整成分が上記中実のクラッドに拡散していることを特徴とする請求項５に記載のフォトニッククリスタルファイバの接続構造体の構成部材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトニッククリスタルファイバ（以下「ＰＣ（photonic  crystal）ファイバ」と称する）の接続方法及びその接続構造体並びにその接続構造体の構成部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】
モードフィールド径ｄl，ｄs（以下「ＭＦＤ」と称する）が大小異なる一対の光ファイバｆ1，ｆ2を接続する場合、両ファイバｆ1，ｆ2を単純に融着接続すると、図８に示すように、接続部ｃで光の放射が起こり、それによって多大の接続損失を生じてしまうこととなる。これに対して、融着接続時の加熱時間を長く設定したり、加熱温度を高く設定したり、或いは接続部ｃを追加加熱したりすることにより、図９（ａ）に示すように、接続部ｃにおける両ファイバｆ1，ｆ2の各コアにドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）をクラッド側に拡散させてそれぞれのＭＦＤを拡大し、それらの大小差を縮小して接続損失の低減を図るようにした光ファイバの接続方法がある。同様に、ＭＦＤが小さい方の光ファイバｆ2の接続端を予め加熱することにより、図９（ｂ）に示すように、コアにドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）をクラッド側に拡散させてＭＦＤを拡大し、それをＭＦＤが大きい方の光ファイバｆ1の接続端に接続するようにした光ファイバの接続方法もある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年、大きな波長分散を発現する光ファイバとして、ＰＣファイバが注目を集めつつある。このＰＣファイバは、ファイバ中心を長手方向に延びる中実又は中空のコアと、そのコアを覆うように設けられそのコアに沿って延びる多数の細孔を有するクラッドとを備えており、このクラッドが二次元的に屈折率が周期的に変動したフォトニッククリスタル構造を構成するものである。
【０００４】
そして、かかるＰＣファイバのＭＦＤが３〜５μｍ程度のものを、ＭＦＤが約１０μｍ程度の光ファイバに接続するような場合、上記に示したような接続方法によっては接続損失を低く抑えることができないという問題がある。すなわち、コアにゲルマニウム（Ｇｅ）等がドープされていないＰＣファイバは、コア及びクラッドが共に石英（ＳｉＯ2）のみで構成されることとなるものの、クラッドが多数の細孔を有するためにコアよりも等価的に屈折率が低くなり、それによって全反射現象によりコアで光を伝搬するものであると共に、クラッドのフォトニッククリスタル構造による効果によってコアで光を伝搬するものであり、従って、基本的にゲルマニウム（Ｇｅ）等を拡散させるということができず、また、ＭＦＤを拡大させるべくこのＰＣファイバの接続端を長時間加熱したり高温度加熱したりすると、クラッドの多数の細孔が封止されて接続端が石英塊となり、そこから光が散逸して却って大きな接続損失を生じてしまうこととなる。そして、コアにゲルマニウム（Ｇｅ）等がドープされたＰＣファイバでは、コアの周囲に多数の細孔を有するため、ゲルマニウム（Ｇｅ）等の拡散が円滑に営まれないこととなる。
【０００５】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、ＭＦＤが相対的に小さいＰＣファイバを、ＭＦＤが相対的に大きい被接続光ファイバに低接続損失で接続する方法及びＰＣファイバの接続構造体並びのかかる接続構造体を形成する構成部材を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ＰＣファイバのＭＦＤと被接続光ファイバのＭＦＤとの中間のＭＦＤを有するバッファ光ファイバを介設してＰＣファイバを被接続光ファイバに接続するようにしたものである。
【０００７】
具体的には、本出願の発明は、
ファイバ中心を長手方向に延びる中実又は中空のコアと、該コアを覆うように設けられ該コアに沿って延びる多数の細孔を有するクラッドとを備えたＰＣファイバと、該ＰＣファイバのＭＦＤよりも大きいＭＦＤを有する被接続光ファイバとを接続する方法であって、
ファイバ中心をなすコアと該コアを覆うように設けられた中実のクラッドとを備え且つ上記ＰＣファイバのモードフィールド径と上記被接続光ファイバのモードフィールド径との中間のモードフィールド径を有するバッファ光ファイバの一端に、上記ＰＣファイバの接続端を、そのクラッドの細孔が熱によって潰れない温度での融着により接続する一方、該バッファ光ファイバの他端に上記被接続光ファイバの接続端を接続することを特徴とする。
【０００８】
ＭＦＤが相対的に小さいＰＣファイバとＭＦＤが相対的に大きい被接続光ファイバとを直接接続した場合、それらの差が大きいと、その接続部において多大の光が放射により散逸して大きな接続損失を生じることとなるが、上記の接続方法によれば、接続部が２カ所設けられることとなるものの、上記のようにＰＣファイバと被接続光ファイバとを直接接続した場合に比べてトータルの接続損失は低く抑えられることとなる。この理由については明らかではないが、ＰＣファイバと被接続光ファイバとの間にＭＦＤがそれらのものの中間の寸法であるバッファ光ファイバを介設することにより、各接続部でファイバ間のＭＦＤの差が小さくなり、それによって光の放射による散逸が著しく抑制されるためではないかと推測される。
【０００９】
また、このような接続損失の低減を図るためには、通常大きな接続損失を生じるＰＣファイバの接続部における接続損失の低減させることが有効であり、そのためにはＰＣファイバのＭＦＤとバッファ光ファイバのＭＦＤとを近いものとすることが好ましい。
【００１０】
さらに、バッファ光ファイバのコアにゲルマニウム（Ｇｅ）等の屈折率調整成分がドープされている場合には、被接続光ファイバとの接続端となるバッファ光ファイバの他端に、その屈折率調整成分を中実のクラッドに拡散させる加熱処理を施すことが好ましい。このようにすれば、バッファ光ファイバの他端においてコアにドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）等の屈折率調整成分が中実のクラッドに拡散することとなるので、バッファ光ファイバの他端のＭＦＤが拡大して被接続光ファイバのＭＦＤとの差が縮小し、それによって光の放射による散逸が少なくなり、それらの接続部における接続損失が低く抑えられることとなる。ここで、かかる加熱処理は、被接続光ファイバとの接続前に施してもよく、また、被接続光ファイバと接続させながら施してもよく、さらに、被接続光ファイバとの接続後に施してもよい。
【００１１】
そして、以上のような接続方法によって、ファイバ中心を長手方向に延びる中実又は中空のコアと、該コアを覆うように設けられ該コアに沿って延びる多数の細孔を有するクラッドとを備えたＰＣファイバと被接続光ファイバとの間に、ファイバ中心をなすコアとそのコアを覆うように設けられた中実のクラッドとを備え且つＰＣファイバのＭＦＤと被接続光ファイバのＭＦＤとの中間のＭＦＤを有するバッファ光ファイバが介設されたＰＣファイバ接続構造体が構成されることとなる。
【００１２】
また、かかるＰＣファイバ接続構造体を形成するためには、ファイバ中心を長手方向に延びる中実又は中空のコアと、該コアを覆うように設けられ該コアに沿って延びる多数の細孔を有するクラッドとを備えたＰＣファイバと、そのＰＣファイバの接続端に、そのクラッドの細孔が熱によって潰れない温度での融着により一端が接続され、ファイバ中心をなすコアと該コアを覆うように設けられた中実のクラッドとを備え且つ上記ＰＣファイバのモードフィールド径より大きいモードフィールド径を有するバッファ光ファイバと、からなる構成部材を用いればよい。
【００１３】
さらに、この構成部材においても、バッファ光ファイバのコアにゲルマニウム（Ｇｅ）等の屈折率調整成分がドープされている場合には、バッファ光ファイバの他端でその屈折率調整成分がクラッドに拡散している構成であることが好ましい。
【００１４】
ここで、ＰＣファイバは、ファイバ中心を長手方向に延びる中実又は中空のコアと、そのコアを覆うように設けられコアに沿って延びる多数の細孔を有するクラッドとを備えたものであれば、特に限定されるものではない。
【００１５】
ＰＣファイバと接続される被接続光ファイバ及びバッファ光ファイバは、特に限定されるものではなく、１．３μｍ零分散波長ファイバ、１．５５μｍ分散シフトファイバ、ノンゼロ分散シフトファイバ、分散補償ファイバ、希土類元素ドープファイバ、偏波面保存ファイバ等のコアとそのコアを覆うように設けられた中実のクラッドとを備えた光ファイバであればよい。
【００１６】
ＰＣファイバとバッファ光ファイバとの接続は、低温度加熱による融着により行う。また、バッファ光ファイバと被接続光ファイバとの接続は、加熱による融着により行ってもよく、また、コネクタを用いた突き合わせにより行ってもよい。
【００１７】
【発明の効果】
以上説明したように、本出願の発明によれば、ＭＦＤが相対的に小さいＰＣファイバとＭＦＤが相対的に大きい被接続光ファイバとの間にＭＦＤがそれらのものの中間の寸法であるバッファ光ファイバを介設することにより、接続部が２カ所設けられることとなるものの、ＰＣファイバと被接続光ファイバとを直接接続した場合に比べてトータルの接続損失を低く抑えることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係るＰＣファイバの接続方法を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１９】
（各ファイバの構成）
図１は、ＰＣファイバ１０を示す。このＰＣファイバ１０は、石英（ＳｉＯ2）製であり、ファイバ中心を長手方向に延びる中実のコア１１と、そのコア１１を覆うように設けられコア１１に沿って延びる多数の細孔を有するクラッド１２と、そのクラッド１２を覆うように設けられた被覆部１３とを備えている。そして、このクラッド１２が二次元的に屈折率が周期的に変動したフォトニッククリスタル構造を構成し、信号光は、そのフォトニッククリスタル構造で囲われたコア１１に閉じこめられて伝搬されることとなる。このＰＣファイバ１０のファイバ径は１２５μｍで、ＭＦＤ（ｄ1）はコア径よりやや大きく約３μｍである。
【００２０】
図２は、被接続光ファイバ２０を示す。この被接続光ファイバ２０は、ファイバ中心を長手方向に延びるゲルマニウム（Ｇｅ）がドープされた石英（ＳｉＯ2）製のコア２１と、そのコア２１を覆うように設けられた石英（ＳｉＯ2）製のクラッド２２とを備えている。そして、信号光は、屈折率の高いコア２１に閉じこめられて伝搬されることとなる。この被接続光ファイバ２０のファイバ径は１２５μｍで、ＭＦＤ（ｄ2）はコア径よりやや大きく約１０μｍである。
【００２１】
図３は、バッファ光ファイバ３０を示す。このバッファ光ファイバ３０は、ＭＦＤ（ｄ3）が約３μｍ（但し、ＰＣファイバ１０のＭＦＤ（ｄ1）よりも大きい）である点を除いては被接続光ファイバ２０と同一構成であり、また、機能も同一である。
【００２２】
（ファイバの接続方法）
まず、図４に示すように、ＰＣファイバ１０の接続端１４にバッファ光ファイバ３０の一端３３を接続する。このとき、両ファイバ１０，３０のコア１１，３１が一致して重なるようにする。また、この接続は、ＰＣファイバ１０の多孔部１２が熱によって潰れない程度の温度でＰＣファイバ１０の接続端１４及びバッファ光ファイバ３０の一端３３を加熱溶融させて行うようにする。このＰＣファイバ１０とバッファ光ファイバ３０との接続体は、後述のＰＣファイバ１０の接続構造体を形成するための構成部材となるものである。
【００２３】
次に、図５に示すように、バッファ光ファイバ３０の他端３４に被接続光ファイバ２０の接続端２３を接続する。このとき、両ファイバ２０，３０の中心軸が一致するようにする。また、この接続は、バッファ光ファイバ３０の他端３４及び被接続光ファイバ２０の接続端２３を加熱溶融させて行うようにする。さらに、これらのファイバ２０，３０の接続部を追加加熱することにより、両ファイバ２０，３０のコア２１，３１にドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）をクラッド２２，３２に拡散させ、それによって両ファイバ２０，３０のＭＦＤをそれらがほぼ同一となるように拡大させる。
【００２４】
以上のようにして、ＰＣファイバ１０と被接続光ファイバ２０との間にＰＣファイバ１０のＭＦＤ（ｄ1）よりも大きい寸法のＭＦＤ（ｄ3）を有するバッファ光ファイバ３０が介設されたＰＣファイバ１０の接続構造体が構成されることとなる。
【００２５】
なお、バッファ光ファイバ３０は伝送損失を生じることとなるため、その長さが制限されることとなる。すなわち、バッファ光ファイバ３０を用いずにＰＣファイバ１０と被接続光ファイバ２０とを直接接続した場合の接続損失をＡ（ｄＢ）、バッファ光ファイバ３０を用いた場合の接続損失をＢ（ｄＢ）とすると、（Ａ−Ｂ）（ｄＢ）がバッファ光ファイバ３０を用いることにより低減できた接続損失となり、そして、バッファ光ファイバ３０の伝送損失をＣ（ｄＢ／ｋｍ）としたとき、バッファ光ファイバ３０の長さが（Ａ−Ｂ）／Ｃ（ｋｍ）よりも長くなると、低減した接続損失がバッファ光ファイバ３０の伝送損失によって相殺されてしまうこととなる。しかしながら、実際には、ＰＣファイバ１０及び被接続光ファイバ２０のそれぞれとの接続の作業性等を考慮してもバッファ光ファイバ３０の長さは１ｍ程度あれば十分であり、バッファ光ファイバ３０の伝送損失を概ね０．００１ｄＢ以下であると考えることができることから、バッファ光ファイバ３０の伝送損失は事実上無視できるものである。
【００２６】
（作用・効果）
上記のＰＣファイバ１０の接続方法によれば、ＭＦＤ（ｄ1）が相対的に小さいＰＣファイバ１０とＭＦＤ（ｄ2）が相対的に大きい被接続光ファイバ２０との間にＭＦＤ（ｄ2）がそれらのものの中間の寸法であるバッファ光ファイバ３０を介設することにより、接続部が２カ所設けられることとなるものの、ＰＣファイバ１０と被接続光ファイバ２０とを直接接続した場合に比べてトータルの接続損失は低く抑えられることとなる。
【００２７】
また、バッファ光ファイバ３０と被接続光ファイバ２０との接続後に、その接続部を追加加熱する処理が施されているので、両ファイバ２０，３０のコア２１，３１にドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）がクラッド２２，３２に拡散され、バッファ光ファイバ３０の他端３４及び被接続光ファイバ２０の接続端２３のそれぞれのＭＦＤがそれらがほぼ同一となるように拡大し、それによって光の放射による散逸が少なくなり、それらの接続部における接続損失が低く抑えられることとなる。
【００２８】
（その他の実施形態）
上記実施形態では、中実コアのＰＣファイバ１０としたが、特にこれに限定されるものではなく、中空コアのものであってもよい。
【００２９】
また、上記実施形態では、ＰＣファイバ１０のコア１１を石英（ＳｉＯ2）製としたが、特にこれに限定されるものではなく、ゲルマニウム（Ｇｅ）等がドープされた石英（ＳｉＯ2）製としてもよい。
【００３０】
また、上記実施形態では、バッファ光ファイバ３０と被接続光ファイバ２０とを加熱による融着により接続したが、特にこれに限定されるものではなく、コネクタを用いた突き合わせにより接続してもよい。
【００３１】
また、上記実施形態では、バッファ光ファイバ３０及び被接続光ファイバ２０のコア２１，３１にドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）をクラッド２２，３２に拡散させるために、両ファイバ２０，３０の接続後にその接続部を追加加熱する処理を行ったが、特にこれに限定されるものではなく、融着による接続時に加熱温度を高く設定したり、加熱時間を長く設定するようにしてもよい。
【００３２】
また、上記実施形態では、バッファ光ファイバ３０及び被接続光ファイバ２０双方のコア２１，３１にドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）をクラッド２２，３２に拡散させたが、特にこれに限定されるものではなく、接続前のバッファ光ファイバ３０の他端３４のみを加熱してコア３１にドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）をクラッド３２に拡散させ、図６に示すように、それを融着やコネクタによる突き合わせにより被接続光ファイバ２０の接続端２３に接続するようにしてもよい。
【００３３】
【実施例】
ファイバ外径１００μｍ、クラッドの細孔の直径１．２８μｍ、細孔が形成する三角格子のピッチ２．１６μｍ、ＭＦＤ（ｄ1）約３μｍであるＰＣファイバ１０と、ＭＦＤ（ｄ2）１０．８μｍであるシングルモードの被接続光ファイバ２０（１．３μｍ零分散波長シングルモードファイバ）と、を以下に示す３つの接続例の方法で接続し、被接続光ファイバ２０側から波長１．５５μｍの光を入射して各接続例の接続損失を計測した。なお、接続部が２カ所生じるもの（接続例２及び３）については、それぞれの接続部での接続損失を計測し、それらの和を総接続損失とした。
【００３４】
（接続例）
−接続例１−
ＰＣファイバ１０の接続端１４及び被接続光ファイバ２０の接続端２３を加熱溶融させ、図７（ａ）に示すように、それらを中心軸が一致するように突き合わせて接続したものを接続例１とした。このとき、ＰＣファイバ１０の接続端１４が溶融して細孔が潰れることがないように加熱温度を低く設定した。
【００３５】
−接続例２−
ＭＦＤ（ｄ3）４．９μｍである長さ１ｍの分散補償ファイバをバッファ光ファイバ３０として準備した。そして、図７（ｂ）に示すように、ＰＣファイバ１０の接続端１４及びバッファ光ファイバ３０の一端３３を加熱溶融させ、それらを中心軸が一致するように突き合わせて接続すると共に、そのバッファ光ファイバ３０の他端３４及び被接続光ファイバ２０の接続端２３を加熱溶融させ、それらを中心軸が一致するように突き合わせて接続したものを接続例２とした。このとき、ＰＣファイバ１０のバッファ光ファイバ３０への接続条件は接続例１と同一とした。
【００３６】
−接続例３−
接続例２の接続損失を計測した後、バッファ光ファイバ３０と被接続光ファイバ２０との接続部を追加加熱し、それぞれのコア２１，３１にドープされたゲルマニウム（Ｇｅ）をクラッド２２，３２に拡散させて、図７（ｃ）に示すように、両者のＭＦＤ径がほぼ同一となるようにしたものを接続例３とした。
【００３７】
（計測結果）
【００３８】
【表１】
0003701875.tif 000002
【００３９】
計測結果を表１に示す。
【００４０】
同表によれば、接続例２及び３は、接続例１よりも接続損失が非常に低いことが分かる。また、ＰＣファイバ１０と被接続光ファイバ２０との接続部の接続損失が５．４７ｄＢ（接続例１）であるのに対し、ＰＣファイバ１０のＭＦＤ（ｄ1）に近い寸法のＭＦＤ（ｄ3）を有するバッファ光ファイバ３０と被接続光ファイバ２０との接続部における接続損失が１．２２ｄＢ（接続例２）であることから、接続損失はＰＣファイバ１０の接続部において大きくなることが分かる。さらに、接続例１の接続損失が５．４７ｄＢであるのに対し、ＰＣファイバ１０とバッファ光ファイバ３０との接続部の接続損失が２．０１ｄＢ（接続例２及び３）であることから、特にこのＰＣファイバ１０とバッファ光ファイバ３０との接続部において接続損失の低減が図られていることが分かる。接続例１では、ＰＣファイバ１０のＭＦＤ（ｄ1）と被接続光ファイバ２０のＭＦＤ（ｄ2）との差が非常に大きいために、接続部において多大の光が放射により散逸して大きな接続損失を生じたものであると考えられる。これに対し、接続例２及び３では、接続部が２カ所設けられることとなるものの、ＰＣファイバ１０と被接続光ファイバ２０との間にＭＦＤ（ｄ3）がそれらのものの中間の寸法であるバッファ光ファイバ３０が介設されていることにより、各接続部でファイバ間のＭＦＤの差が小さくなり、それによって光の放射による散逸が著しく抑制され（特にＰＣファイバ１０とバッファ光ファイバ３０との接続部において）、接続例１に比べてトータルの接続損失は低く抑えられたものであると考えられる。
【００４１】
また、接続例３は、接続例２よりも接続損失が低いことが分かる。接続例２では、バッファ光ファイバ３０と被接続光ファイバ２０との接続部でＭＦＤの差が大きいために、光が放射により散逸して相対的に大きな接続損失を生じたものであると考えられる。これに対し、接続例３では、接続部におけるバッファ光ファイバ３０のＭＦＤと被接続光ファイバ２０のＭＦＤとの差が小さくなっているために、光の放射による散逸が抑止されて接続損失が低くなったものであると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施形態におけるフォトニッククリスタルファイバの斜視図である。
【図２】  本発明の実施形態における光ファイバの斜視図である。
【図３】  本発明の実施形態におけるバッファ光ファイバの斜視図である。
【図４】  本発明の実施形態におけるフォトニッククリスタルファイバの接続構造体を形成するための構成部材の側面図である。
【図５】  本発明の実施形態におけるフォトニッククリスタルファイバの接続構造体の側面図である。
【図６】  本発明の他の実施形態におけるフォトニッククリスタルファイバの接続構造体の側面図である。
【図７】  実施例におけるフォトニッククリスタルファイバの接続構造体の側面図である。
【図８】  従来例におけるフォトニッククリスタルファイバの接続構造体の側面図である。
【図９】  光ファイバの接続構造体の側面図である。
【符号の説明】
１０  フォトニッククリスタルファイバ
１１，２１，３１  コア
１２，２２，３２  クラッド
１３  被覆部
１４  フォトニッククリスタルファイバ接続端
２０  被接続光ファイバ
２３  被接続光ファイバ接続端
３０  バッファ光ファイバ
３３  バッファ光ファイバ一端
３４  バッファ光ファイバ他端
ｃ    接続部
ｄl，ｄs，ｄ1〜ｄ3  モードフィールド径
ｆ1，ｆ2  光ファイバ
【図１】
0003701875.tif 000003
【図２】
0003701875.tif 000004
【図３】
0003701875.tif 000005
【図４】
0003701875.tif 000006
【図５】
0003701875.tif 000007
【図６】
0003701875.tif 000008
【図７】
0003701875.tif 000009
【図８】
0003701875.tif 000010
【図９】
0003701875.tif 000011