(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
密閉された装置本体の内部に電子銃と対陰極とを備え、前記電子銃から発射した電子を対陰極に衝突させ、その際に該対陰極の表面から発生するＸ線束を取出窓から外部へ出射するＸ線発生装置において、
前記装置本体の内部でかつ前記対陰極から発生したＸ線束の出力軌道上に、該Ｘ線束を制御するＸ線光学制御素子を設け、該Ｘ線光学制御素子により制御されたＸ線束を前記取出窓へ導くようにし、
且つ、前記電子銃と同電位の金属部材からなり、前記Ｘ線光学制御素子への反跳電子の衝突を回避するための対反跳電子防護手段を、前記装置本体内に設けたことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
請求項１記載のＸ線発生装置において、
前記取出窓を、前記Ｘ線光学制御素子の近傍位置に設けたことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項３】
請求項１または２記載のＸ線発生装置において、
前記装置本体の内部に、少なくとも反跳電子およびＸ線を遮蔽する隔壁によって前記対陰極の配設空間と仕切られた収納室を形成するとともに、前記隔壁に前記対陰極の表面で発生したＸ線束を透過するＸ線透過孔を設け、
かつ前記Ｘ線光学制御素子を前記収納室内に配設するとともに、前記取出窓を該収納室の壁面に設けたことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項４】
請求項３記載のＸ線発生装置において、
前記Ｘ線透過孔を外部からの操作によって開閉するシャッタ手段を設けたことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載のＸ線発生装置において、
前記装置本体は、少なくとも前記電子銃および対陰極を装着するＸ線発生ブロックと、少なくとも前記Ｘ線光学制御素子を装着するＸ線光学制御ブロックとを含み、
かつ前記Ｘ線光学制御ブロックが、前記Ｘ線発生ブロックに対して着脱自在なユニット構造であることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のＸ線発生装置において、
前記装置本体に、前記Ｘ線光学制御素子の取付交換窓を形成するとともに、該取付交換窓を開閉する蓋体を着脱自在に装着したことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のＸ線発生装置において、
前記対反跳電子防護手段は、前記対陰極から発生したＸ線束の出力軌道の周囲に配設したことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のＸ線発生装置において、
前記対反跳電子防護手段は、前記Ｘ線光学制御素子の周囲に設けたことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載のＸ線発生装置において、
前記Ｘ線光学制御素子を取付台に固定するとともに、該取付台に冷却手段を設けたことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載のＸ線発生装置において、
前記Ｘ線光学制御素子の入射Ｘ線束に対する位置および角度を外部からの操作によって調整可能な調整手段を設けたことを特徴とするＸ線発生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、Ｘ線回折装置におけるＸ線源等に利用されるＸ線発生装置に関し、特に電子の衝突によって対陰極の表面から発生したＸ線束を、装置本体内であらかじめ制御した後、取出窓から出射するようにしたＸ線発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のＸ線発生装置は、電子銃（陰極）から発射した電子を対陰極（ターゲット）に衝突させることで、該対陰極の表面からＸ線束を発生させ、この発生したＸ線束を装置本体の壁面に設けた取出窓から出射する構造となっている。
一般に、この種のＸ線発生装置から出射したＸ線束は、Ｘ線光学制御素子を用いて、平行ビーム，集束ビーム，分光又は分割ビーム等、利用形態に合わせたビーム特性に制御した状態で利用に供されている。
【０００３】
図６は、Ｘ線回折装置のＸ線源にこの種のＸ線発生装置を適用する場合のシステム構成例を示している。
同図に示すように、Ｘ線回折装置はゴニオメータと称する測角器２の上に、試料台３，発散スリット４，受光スリット５，およびＸ線検出器６を搭載しており、試料台３に装着した試料Ｓに対して、Ｘ線発生装置１から出射したＸ線束を照射してＸ線の回折測定を実施する構成となっている。
【０００４】
ここで、Ｘ線発生装置１から出射したＸ線束の軌道上には、発散スリット４の手前にＸ線光学制御素子７が設けてあり、Ｘ線発生装置１から出射したＸ線束を、このＸ線光学制御素子７で集束して試料Ｓの表面へと照射している。
なお、試料ＳにＸ線束が照射されると、その表面からは結晶構造等に応じた回折角度に回折Ｘ線のピーク強度が検出される。このピーク強度をＸ線検出器６で検出するとともに、そのピーク強度の現われた回折角度（２θ）を測角器２で測定することによって、試料の結晶構造等を分析することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように従来のＸ線発生装置は、電子銃から発射した電子を対陰極に衝突させることで、対陰極の表面からＸ線束を発生させ、この発生したＸ線束を取出窓から出射するだけの機能を有するのみであり、対陰極の表面で発生したＸ線束を制御する機能を備えていない。
【０００６】
したがって、Ｘ線発生装置で発生したＸ線束を制御するためには、Ｘ線発生装置とは別体のＸ線光学制御素子を大気中に配設する必要がある。
このように、大気中に配設されたＸ線光学制御素子は、大気に含まれる湿気や塵埃などで汚染されやすく、Ｘ線束の制御に関する性能劣化がはやい。
【０００７】
また、大気中の空気分子によってＸ線束は抵抗を受けるため、Ｘ線発生装置の取出窓から照射目的地点（上記のＸ線回折装置では試料表面）に至るまでのＸ線光路長が長くなる程、Ｘ線強度は減衰していく。ところが、従来の使用形態では、Ｘ線発生装置と照射目的地点との間の大気中に、Ｘ線光学制御素子を配置する必要があるため、少なくともこのＸ線光学制御素子の配置スペースの分だけＸ線の光路長は長くなり、Ｘ線強度を無駄に減衰させてしまうことは避けられなかった。
【０００８】
そのため、この大気中での減衰量を考慮して高強度のＸ線束を対陰極から発生させなければならず、それだけ電力消費量が多く稼働コストが高価格となって不経済であるという課題を有していた。
【０００９】
この発明は、このようなＸ線発生装置とともに使用されるＸ線光学制御素子にかかわる課題に鑑みてなされたもので、Ｘ線発生装置にＸ線光学制御素子を組み込むことにより、Ｘ線光学制御素子の耐久性を向上させるとともに、Ｘ線照射目的地点までのＸ線光路長を短縮できるようにして、出射したＸ線束の空気抵抗による減衰の抑制を図り、もって消費電力の低減を実現することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上述した目的を達成するために、この発明は、密閉された装置本体の内部に電子銃と対陰極とを備え、電子銃から発射した電子を対陰極に衝突させ、その際に該対陰極の表面から発生するＸ線束を取出窓から外部へ出射するＸ線発生装置において、装置本体の内部でかつ対陰極から発生したＸ線束の出力軌道上に、該Ｘ線束を制御するＸ線光学制御素子を設け、該Ｘ線光学制御素子により制御されたＸ線束を取出窓へ導くようにした構成としてある。
【００１１】
装置本体内は密閉空間となっているので、湿気や塵埃などによるＸ線光学制御素子の劣化を抑制することができる。また、対陰極の表面で発生したＸ線束を、装置本体内に設けたＸ線光学制御素子によって制御した後、取出窓から出射する。このため、取出窓から出射されたＸ線束は、すでに平行ビーム，集束ビーム，分光又は分割ビーム等、目的とする状態に制御されているため、外部の大気中にＸ線光学制御素子を配設する必要がない。したがって、Ｘ線発生装置の取出窓から照射目的地点に至るまでのＸ線光路長を必要最小限まで短縮してＸ線強度の大気中での減衰を低減することができる。その結果、Ｘ線発生のための消費電力を抑えることができる。
【００１２】
ここで、取出窓は、Ｘ線光学制御素子の近傍位置に設けることが好ましい。このように構成することで、取出窓はＸ線光学制御素子により発散が抑えられたＸ線束を透過させるだけの小面積を確保すればよいので、装置本体内を真空状態とした場合にも、比較的薄肉で耐圧性能を保持することができる。しかも取付窓を薄肉にできる結果、取付窓を透過する際のＸ線束の吸収減衰損失を低減することができる。
【００１３】
また、上記装置本体の内部に、少なくとも反跳電子およびＸ線を遮蔽する隔壁によって対陰極の配設空間と仕切られた収納室を形成するとともに、上記隔壁に対陰極の表面で発生したＸ線束を透過するＸ線透過孔を設け、Ｘ線光学制御素子をこの収納室内に配設するとともに、取出窓を該収納室の壁面に設けた構成とすることもできる。
【００１４】
装置本体内、特に対陰極の電子衝突面の周辺は、電子銃から発射されて対陰極に衝突した後、その衝突面で跳ね返った反跳電子が飛散している。この反跳電子がＸ線光学制御素子や取出窓に当たると、同素子や取出窓の劣化が促進される等の悪影響がある。
そこで、上記のごとく隔壁で仕切られた収納室にＸ線光学制御素子を配設するとともに、同収納室の壁面に取出窓を設けることにより、隔壁が反跳電子を遮蔽してＸ線光学制御素子および取出窓の保護を図ることができる。
【００１５】
さらに、上記各構成のＸ線発生装置に、Ｘ線透過孔を外部からの操作によって開閉するシャッタ手段を設ければ、Ｘ線束を外部に発射しない待機動作中、このシャッタ手段でＸ線透過孔を遮蔽することにより、Ｘ線束やＸ線透過孔から僅かに漏れ出てくる反跳電子のＸ線光学制御素子への入射を無くすことができ、同素子の劣化を抑制することができる。
【００１６】
また、この発明のＸ線発生装置は、装置本体が、少なくとも電子銃および対陰極を装着するＸ線発生ブロックと、少なくともＸ線光学制御素子を装着するＸ線光学制御ブロックとを含んだ構成とし、かつＸ線光学制御ブロックを、Ｘ線発生ブロックに対して着脱自在なユニット構造にすることもできる。
【００１７】
Ｘ線光学制御ブロックをこのようなユニット構造とすることで、必要に応じてＸ線光学制御素子を装置本体内に内蔵することができ、ユーザの幅広い使用形態に対応した仕様のＸ線発生装置を提供でき、汎用性が広がる。
【００１８】
さらに、この発明のＸ線発生装置は、装置本体に、Ｘ線光学制御素子の取付交換窓を形成するとともに、該取付交換窓を開閉する蓋体を着脱自在に装着してもよい。これによりＸ線光学制御素子を簡単に取付，交換できるようになり、Ｘ線光学制御素子の保守，管理が容易となる。
【００１９】
さて、上述したように装置本体内は、電子銃から発射されて対陰極に衝突した後、その衝突面で跳ね返った反跳電子が飛散している。このような環境下にＸ線光学制御素子を配置するようにした本発明においては、反跳電子によるＸ線光学制御素子の劣化防止が重要となる。
そこで、この発明のＸ線発生装置は、Ｘ線光学制御素子への反跳電子の衝突を回避するための対反跳電子防護手段を装置本体内に設けることが好ましい。この対反跳電子防護手段は、例えば、対陰極から発生したＸ線束の出力軌道の周囲に配設した、電子銃と同電位の金属部材で構成することができる。
【００２０】
電子銃と同電位の金属部材をＸ線束の出力軌道の周囲に配設することで、Ｘ線束と同様の軌道を描いてＸ線光学制御素子に入射しようとする反跳電子と金属部材との間に反発力が生まれ、反跳電子を当該軌道から逸らせることができる。
【００２１】
また、対反跳電子防護手段は、Ｘ線光学制御素子の周囲に設けた、電子銃と同電位の金属部材で構成してもよい。このようにすれば、Ｘ線光学制御素子に向かって入射しようとする反跳電子を、金属部材との間に生じる反発力によって軌道変更させることができ、Ｘ線光学制御素子への衝突を有効に回避できる。
【００２２】
また、Ｘ線光学制御素子は、Ｘ線束の照射によって発熱する。この発明は、狭小な装置本体内にＸ線光学制御素子を配設するため、この発熱に対するＸ線光学制御素子の保護も重要となる。そこで、この発明は、Ｘ線光学制御素子を取付台に固定するとともに、該取付台に冷却手段を設けた構成とすることが好ましい。
【００２３】
さらに、Ｘ線光学制御素子を有効に機能させるため、入射Ｘ線束に対する同素子の位置および角度を外部からの操作によって調整可能とする調整手段を設けることが好ましい。
【００２４】
なお、この発明のＸ線発生装置に組み込まれるＸ線光学制御素子は、入射したＸ線束を平行ビーム，集束ビーム，分光又は分割ビーム等、目的とする状態のＸ線束に変換する各種の素子が適用できる。ただし、当該Ｘ線光学制御素子は、装置本体内に収納できる大きさであることが適用の条件となる。
【００２５】
この種のＸ線光学制御素子として、例えば、集光高効率用多層膜ミラ−がある。この集光高効率用多層膜ミラ−は、表面が楕円筒内面形状のシリコン基板上に、重元素Ｗ（タングステン）等と、軽元素Ｓｉ（シリコン）等とを交互に積層してなる多層膜の楕円筒ミラ−であり、この多層膜によってＸ線束を線状に集束させることができる。
また、特表平７−５０４４９１号公報に開示されたような、束管を通してＸ線を平行ビーム，集束ビーム，分光又は分割ビームとする構造のＸ線光学制御素子も、この発明に適用することができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図１はこの発明の一実施形態に係るＸ線発生装置の外観を示す斜視図、図２は同装置の平断面図である。また、図３は同装置のＸ線光学制御ブロックを図２の左方向から見た側断面図である。
【００２７】
これらの図に示すように、本実施形態のＸ線発生装置は、装置本体１００内に電子銃（陰極）２００、回転式の対陰極（ロータリターゲット）２０１、およびＸ線光学制御素子３００を備えている。
【００２８】
装置本体１００は、Ｘ線を発生させるために必要な構成要素を装着するＸ線発生ブロック１０１と、発生したＸ線を制御するために必要な構成要素を装着するＸ線光学制御ブロック１０２とに分かれている。そして、Ｘ線光学制御ブロック１０２は、Ｘ線発生ブロック１０１に対して着脱自在なユニット構造となっており、例えばボルト等の締結具１０３を用いてＸ線発生ブロック１０１に装着することにより、一体の装置本体１００を構成する。なお、Ｘ線発生ブロック１０１とＸ線光学制御ブロック１０２との間の接続部は、パッキン等のシール部材（図示せず）を介在させて密閉構造とすることが好ましい。
【００２９】
Ｘ線発生ブロック１０１には、電子銃２００および対陰極２０１が装着してある。電子銃２００は、碍子で形成した支持台２０２の上に搭載し、Ｘ線光学制御ブロック１０２の中央部に入り込むようにして配設してある。Ｘ線発生ブロック１０１の背面部には、高電圧ケーブル２０３ａを接続する高電圧導入管２０３が設けてあり、この高電圧導入管２０３を介して電子銃２００のフィラメント２０４と対陰極２０１との間に高電圧を印加する。
なお、電子銃２００は、フィラメント２０４から発射された電子を集束して対陰極２０１に向け発射する構造となっている。
【００３０】
対陰極２０１は、図３に示すように電子銃２００と対向して設けてあり、Ｘ線発生ブロック１０１の外壁に装着した駆動モータ２０５によって高速回転する。この対陰極２０１は周面が銅箔等からなるターゲット面２０１ａとなっており、このターゲット面２０１ａに電子銃２００から発射した電子（熱電子）を衝突させることにより、同面２０１ａからＸ線が発生する。
【００３１】
一般に、対陰極２０１へ法線方向から電子を衝突させたとき、図２に示すように、対陰極２０１の接線に対してα＝６〜１０°の角度方向（二方向）にＸ線を取り出せばよいことが知られている。そこで、この実施形態では、対陰極２０１の接線に対しα＝６〜１０°の角度方向に取り出したＸ線束の出力軌道ａ上にＸ線光学制御素子３００を配置するようにしている。
【００３２】
なお、対陰極２０１は電子の衝突によって発熱するため、内部に冷却水の循環経路（図示せず）が形成してあり、図示しない冷却ポンプで循環経路に冷却水を送り対陰極２０１を冷却する構造が付加されている。
また、Ｘ線発生ブロック１０１には、装置本体１００の内部を真空雰囲気とするために、真空ポンプ２０６が設けてある。
【００３３】
Ｘ線光学制御ブロック１０２の内部は、対陰極２０１からＸ線を取り出す二方向にそれぞれＸ線光学制御素子３００の収納室１０４，１０４が形成してある。この収納室１０４は、隔壁１０５により対陰極２０１の配置空間と仕切ってある。隔壁１０５は、Ｘ線および反跳電子を遮蔽する特性を有する金属部材等で形成してある。
なお、この収容室１０４，１０４もＸ線発生ブロック１０１と同様、真空雰囲気とするために、隔壁１０５の反跳電子が最も通りにくい適宜箇所にＸ線発生ブロック１０１との連通孔（図示せず）が形成してある。
【００３４】
隔壁１０５には、対陰極２０１で発生したＸ線束の出力軌道ａを開放するようにＸ線透過孔１０５ａが形成してある。さらに、隔壁１０５にはロータリー式の開閉シャッタ１０６が組み込んであり、この開閉シャッタ１０６によりＸ線透過孔１０５ａを開閉する構成となっている。開閉シャッタ１０６の回転駆動は、ソレノイド１０７等の駆動手段によって行なう。この開閉シャッタ１０６も隔壁１０５と同様に、Ｘ線および反跳電子を遮蔽する特性を有した材料で形成してあり、Ｘ線発生装置が待機状態の場合等、対陰極２０１で発生したＸ線束を外部に出力させてはならないときに閉塞状態とされる。
【００３５】
各収納室１０４内には、Ｘ線光学制御素子３００の取付台３０１が配設してある。
図４はこの取付台３０１の構造を示す断面図である。同図に示すように、取付台３０１は、基板３０２、旋回テーブル３０３、Ｙ移動テーブル３０４、Ｘ移動テーブル３０５、煽りテーブル３０６、および素子ホルダ３０７の各部を備えており、素子ホルダに装着されるＸ線光学制御素子３００の位置および角度を調整する調整手段が組み込まれた構成となっている。
【００３６】
すなわち、旋回テーブル３０３は、コロベアリング３０８を介して基板３０２に対して回動自在となっており、モータ３０９の回転駆動力をウオーム機構３１０を介して伝達され、軸中心に回動する。Ｙ移動テーブル３０４は、横方向（Ｙ方向）に延在するＹスライダ３１１を介して旋回テーブル３０３上に搭載してあり、モータ３１２の回転駆動力をボールねじ機構３１３を介して伝達され、Ｙスライダ３１１に沿って移動する。
【００３７】
Ｘ移動テーブル３０５は、縦方向（Ｘ方向）に延在するＸスライダ３１４を介してＹ移動テーブル３０４上に搭載してあり、モータ３１５の回転駆動力をボールねじ機構３１６を介して伝達され、Ｘスライダ３１４に沿って移動する。煽りテーブル３０６は、Ｘ移動テーブル３０５上に搭載してあり、モータ３１７の回転駆動力をウオーム機構３１８を介して素子ホルダ３０７に伝え、同ホルダ３０７を縦方向に首振り（煽り）動作させる。
【００３８】
Ｘ線光学制御素子３００は、素子ホルダ３０７の正面に装着され、これら各テーブルの動作によって、回転，Ｘ−Ｙ移動，および縦方向に首振り（煽り）動作をし、対陰極２０１から入射するＸ線束に対する位置および角度を調整される。各モータ３０９，３１２，３１５，３１７は、外部のコントローラ（図示せず）によって制御されており、したがってＸ線光学制御素子３００の調整操作は装置の外部において行なうことができる。
【００３９】
また、素子ホルダ３０７には、冷却水の循環通路（冷却手段）３０１ａが形成してあり、図示しない循環ポンプによってこの循環通路３０１ａ内に冷却水を送り込み、素子ホルダ３０７に装着したＸ線光学制御素子３００を冷却する構造を備えている。これにより、Ｘ線束の入射によって発熱するＸ線光学制御素子３００を効果的に冷却でき、同素子３００の劣化を抑制することができる。
【００４０】
ところで、Ｘ線光学制御ブロック１０２の正面には、図１に示すように取付台３０１と対向する位置にＸ線光学制御素子３００の取付交換窓１０８が形成してあり、この取付交換窓１０８を介して素子ホルダ３０７へのＸ線光学制御素子３００の取付や、同素子３００の交換を行なえるようになっている。取付交換窓１０８には、ねじ等の締結具を用いて蓋体１０９が装着でき、通常はこの蓋体１０９により閉塞されている。
【００４１】
さらに、Ｘ線光学制御ブロック１０２の正面には、電子銃２００と対向する位置にフィラメント２０４の取付交換窓１１０が形成してあり、この取付交換窓１１０を介して電子銃２００へのフィラメント２０４の取付や、交換を行なえるようになっている。この取付交換窓１１０も、通常は蓋体１１１により閉塞されている。
【００４２】
また、Ｘ線光学制御ブロック１０２の収納室１０４を形成する壁面には、Ｘ線束の取出窓１１２が設けてある。この取出窓１１２は、Ｘ線光学制御素子３００の近傍に位置しており、Ｘ線光学制御素子３００で制御されたＸ線束を外部に出射する。この取出窓１１２を通過するＸ線束は、すでにＸ線光学制御素子３００によって発散が抑えられている。したがって、比較的小さな面積に形成しても充分にＸ線束を通過させることができる。しかも、小さな面積に対応して薄肉としても、充分な強度を確保することができる。なお、取出窓１１２は、Ｘ線の吸収が少ないベリリウム等の材料によって構成する。
【００４３】
一方、対陰極２０１で発生したＸ線束の出力軌道ａには、図２に示すように一部でその周囲に対反跳電子防護板１１３が配設してある。この対反跳電子防護板１１３は金属板で形成してあり、電子銃２００と電気的に接続することで電子銃２００と同電位としてある。なお、この対反跳電子防護板１１３は、電子銃２００と一体に形成してもよい。
【００４４】
対陰極２０１に衝突後、周囲に飛散した反跳電子は、上述した隔壁１０５によって収納室１０４への侵入は防止されるが、Ｘ線束の出力軌道ａに沿って隔壁１０５のＸ線透過孔１０５ａに飛び込んでいく反跳電子は隔壁１０５でも遮蔽できない。そこで、電子銃２００と同電位の対反跳電子防護板１１３をＸ線束の出力軌道ａの周囲に設けることで、反跳電子が同軌道ａから外れるようにした。
【００４５】
上述した構成のＸ線発生装置は、電子銃２００から発射した電子が対陰極２０１に衝突したとき、該対陰極２０１のターゲット面からＸ線束が発生する。このＸ線束は、隔壁１０５のＸ線透過孔１０５ａを通過して収納室１０４内に入り、収納室１０４に配置したＸ線光学制御素子３００に入射し、平行ビーム，集束ビーム，分光又は分割ビーム等、目的に応じた状態のＸ線束に制御され、取出窓１１２から外部に出射する。このように、Ｘ線束は、装置内で目的に応じた状態に制御されているので、大気中にＸ線光学制御素子３００を配置する必要がない。したがって、Ｘ線発生装置の取出窓１１２から照射目的地点に至るまでのＸ線光路長を必要最小限まで短縮して、Ｘ線強度の大気中での減衰を低減することができる。その結果、Ｘ線発生のための消費電力を抑えることができる。
【００４６】
図５はＸ線回折装置にこの発明のＸ線発生装置を適用したシステム例を示している。同図に示すように、この発明のＸ線発生装置１とＸ線束の照射目的地点である試料Ｓとの間に、Ｘ線光学制御素子を配置する必要がないため、Ｘ線発生装置１を試料Ｓに近づけて配置することができ、大気中の空気抵抗によるＸ線束の強度損失を低減することができる。
【００４７】
なお、この上述した実施形態に限定されるものではなく、各構成要素の具体的形状，仕様材料，構造等は、適宜設計変更し得ることは勿論である。
また、必要に応じてＸ線光学制御素子３００の周囲に、電子銃２００と同電位の金属部材からなる対反跳電子防護手段を配設し、同金属部材と反跳電子との間に生ずる反発力により、Ｘ線光学制御素子３００への反跳電子の入射を抑制してもよい。例えば、上述した実施形態の素子ホルダ３０７を金属部材で形成し、電子銃２００と電気的に接続することにより、対反跳電子防護手段としての機能をもたせることができる。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明のＸ線発生装置はＸ線光学制御素子を内部に組み込んであるので、目的の状態に制御されたＸ線束を出射でき、したがって外部にＸ線光学制御素子を配置する必要がなく、Ｘ線照射目的地点までのＸ線光路長を短縮して、出射したＸ線束の空気抵抗による減衰の抑制を図ることができる。また、装置本体内にＸ線光学制御素子を収納してある結果、同素子の劣化を抑制して耐久性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態に係るＸ線発生装置の外観を示す斜視図である。
【図２】同装置の平断面図である。
【図３】同装置のＸ線光学制御ブロックを図２の左方向から見た側断面図である。
【図４】同装置に組み込まれる取付台の構造を示す断面図である。
【図５】Ｘ線回折装置にこの発明のＸ線発生装置を適用したシステム例を示す模式図である。
【図６】従来のＸ線発生装置を用いたＸ線回折装置のシステム例を示す模式図である。
【符号の説明】
１００：装置本体
１０１：Ｘ線発生ブロック
１０２：Ｘ線光学制御ブロック    １０４：収納室
１０５：隔壁                  １０５ａ：Ｘ線透過孔
１０６：開閉シャッタ            １０７：ソレノイド
１０８：取付交換窓              １０９：蓋体
１１０：取付交換窓              １１１：蓋体
１１２：取出窓
１１３：対反跳電子防護板        ２００：電子銃
２０１：対陰極
２０４：フィラメント            ２０５：駆動モータ
２０６：真空ポンプ
３００：Ｘ線光学制御素子    ３０１：取付台
【図１】
0003717239.tif 000002
【図２】
0003717239.tif 000003
【図３】
0003717239.tif 000004
【図４】
0003717239.tif 000005
【図５】
0003717239.tif 000006
【図６】
0003717239.tif 000007