(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
0003641442.tif 000007
（式中、Ａは（メタ）アクリロイル基を示し、Ｇは保護基を有さない糖残基を示し、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は水素原子、メチル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基を示し、ｎは２〜６の数を示す）
で表わされるベンゾフェノン誘導体。
【請求項２】
請求項１記載のベンゾフェノン誘導体を含有する紫外線吸収剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なベンゾフェノン誘導体及びこれを含有する紫外線吸収剤に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
近年、皮膚疾患の原因の一つとして紫外線が注目を浴びており、日焼け、老化、皮膚がん等の皮膚疾患に紫外線が深く関わっていることが明らかになりつつある。このような背景において、皮膚を紫外線から守ることが重要視され、紫外線防御物質を成分に含む日焼け止め製剤、スキンケア、ファンデーション等の化粧品が数多く上市されている。
また、紫外線吸収剤は、紫外線による高分子の劣化や、染料、色素の退色を防止するため、種々の高分子材料に添加されている。
【０００３】
紫外線は、長波長紫外線（ＵＶ−Ａ；３２０〜４００nm）、中波長紫外線（ＵＶ−Ｂ；２９０〜３２０nm）及び短波長紫外線（ＵＶ−Ｃ；〜２９０nm）に区別され、中でも地表に到達するＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂの皮膚に対する有害性が明らかにされ、これらの紫外線を防御するために多くの紫外線防御物質が開発されている。
【０００４】
例えば、ＵＶ−Ａ防御物質としては酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛等の無機化合物や、４−ｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン等の油溶性の有機化合物が知られており、微粒子化、超微粒子化、疎水化表面処理、他物質との複合化などの方法により、ＵＶ−Ａ防御効果を高めたり、目的に応じた化粧品素材として使用可能な素材にする工夫が行われている。
【０００５】
またＵＶ−Ｂ防御物質としては、パラアミノ安息香酸、サリチル酸、メトキシ桂皮酸、ベンゾフェノン等及びそれらの誘導体が知られており、化粧品素材として利用されている。
【０００６】
しかしながら、これらの紫外線防御物質は、ほとんどが不溶性の粉体や水に難溶な油溶性物質であるため、化粧水、ローション等の水性製剤に配合するのは極めて困難であった。
従って、親水性で紫外線吸収作用に優れた紫外線吸収剤が望まれていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かかる実情において、本発明者らは鋭意研究を行った結果、後記一般式（１）で表わされるベンゾフェノン誘導体が、親水性でしかも紫外線吸収作用に優れることを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明は、一般式（１）
【０００９】
【化２】
0003641442.tif 000002
【００１０】
（式中、Ａは（メタ）アクリロイル基を示し、Ｇは保護基を有さない糖残基を示し、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は水素原子、メチル基又は炭素数１〜８のアルコキシ基を示し、ｎは２〜６の数を示す）
で表わされるベンゾフェノン誘導体及びこれを含有する紫外線吸収剤を提供するものである。
【００１１】
本発明のベンゾフェノン誘導体は前記一般式（１）で表わされるものであり、式中、Ｇで示される糖残基としては、糖単位１〜１０、特に１〜５の単糖又はオリゴ糖が好ましく、例えばグルコース、マンノース、ガラクトース、グルコサミン、マンノサミン、ガラクトサミン等の六炭糖類、アラビノース、キシロース、リボース等の五炭糖類、マルトース、ラクトース、トレハロース、セロビオース、イソマルトース、ゲンチオビオース、メリビオース、ラミナリビオース、キトビオース、キシロビオース、マンノビオース、ソホロースなどの二糖類、マントトリオース、イソマルトトリオース、マルトテトラオース、マルトペンタオース、マンノトリオース、マンニノトリオースなどや、でんぷん、セルロース、キチン、キトサンなどの加水分解物（例えば、局方デキストリン、アクロデキストリン、ブリテッシュガム、セロデキストリンなど）などを挙げることができる。
【００１２】
これらのベンゾフェノン誘導体（１）は、例えば以下に示すごとく、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン誘導体（２）とハロゲン化糖（３）を反応させてベンゾフェノン誘導体（１ａ）とし、次いでこれにハロゲン化（メタ）アクリロイルを反応させることにより製造することができる。
【００１３】
【化３】
0003641442.tif 000003
【００１４】
（式中、Ａ、Ｒ1、Ｒ2、Ｇ及びｎは前記と同じ意味を示し、Ｘはハロゲン原子を示す）
【００１５】
すなわち、ベンゾフェノン誘導体（１ａ）は、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン誘導体（２）とハロゲン化糖（３）を溶媒の存在下、０〜８０℃で５〜１２時間反応させることにより得ることができる。ここで、ハロゲン化糖（３）は、その水酸基がアセチル基等の保護基で保護されているものを用いるのが好ましく、この場合、前記反応後に通常の方法により脱保護反応を行えばよい。溶媒としては、例えばジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチルエーテル、酢酸エチル等を用いることができる。２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン誘導体（２）とハロゲン化糖（３）の使用割合は、特に１．２：１であるのが好ましい。
【００１６】
次いで、得られたベンゾフェノン誘導体（１ａ）を、ハロゲン化（メタ）アクリロイルと反応させることにより本発明のベンゾフェノン誘導体（１）を得ることができる。反応は、溶媒の存在下、−５〜５℃で４〜１５時間行えばよく、溶媒としては、例えばジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチルエーテル、酢酸エチル等を用いることができる。また、ベンゾフェノン誘導体（１ａ）とハロゲン化（メタ）アクリロイルとの使用割合は、特に１：１であるのが好ましい。
なお、この反応により、（メタ）アクリロイル基は糖の各水酸基に導入され得るが、糖の６位に（メタ）アクリロイル基が導入されたものをメインに、他の水酸基に導入されたものも若干含む混合物として得られる。
【００１７】
いずれの場合も、反応終了後には、通常の方法によって、洗浄、乾燥、シリカゲルカラム処理等を施すことにより、目的物を得ることができる。
【００１８】
このようにして得られる本発明のベンゾフェノン誘導体（１）は、優れた紫外線吸収作用を有するため、紫外線吸収剤として有用なものである。
【００１９】
本発明の紫外線吸収剤は、前記ベンゾフェノン誘導体（１）の１種又は２種以上をそのまま使用することができ、更に、ベンゾフェノン誘導体（１）の紫外線吸収作用を損わない範囲において、他の成分、例えば防腐剤、香料、着色料、界面活性剤、金属塩等を配合することもできる。
【００２０】
【発明の効果】
本発明のベンゾフェノン誘導体（１）は、親水性でしかも優れた紫外線吸収作用を有するものである。従って、これを含有する本発明の紫外線吸収剤は、化粧料をはじめ、多くの水性製剤などに容易に配合することができる。
また、本発明のベンゾフェノン誘導体は、分子中にラジカル重合可能な二重結合を含む（メタ）アクリロイル基を有することから、他のラジカル重合可能な親水性モノマーと共重合させることもできるため、例えば親水性コンタクトレンズや眼内レンズ材料に適用すれば、まぶしさを感じたり網膜に有害である紫外線を除去することができる。
【００２１】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２２】
実施例１
２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンメタクリレートの合成：
（１）２−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノンの合成
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（１７．１ｇ，８０mmol）をメタノール（１００ml）に溶解し、水酸化ナトリウム（３．２ｇ，８０mmol）を加えた。これに水（４０ml）を加え、次いで２−ブロモエタノール（６．７ml，８０mmol）を加え、一夜還流した。減圧濃縮によりメタノールを除去した後、水を加え、４規定塩酸にてpHを２に調節した。この混合物を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム上でヘキサン−酢酸エチル（３：２ｖ／ｖ）で処理し、目的物を含むフラクションを集め、減圧濃縮し、ヘキサンより目的物を針状結晶として得た。
収量；8.3ｇ（40％）
融点；88−89℃
λmax；287,326nm
logε；4.21, 4.02
元素分析値；
計算値 C,69.25; H,5.46
測定値 C,69.17; H,5.49
【００２３】
（２）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合成
ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（７．８１ｇ，２０mmol）をごく少量のジクロロメタンに溶解し、２５％臭化水素の氷酢酸溶液（４０ml）を加えた。混合物を室温に２時間放置し、クロロホルムに溶解した。この溶液を４％炭酸水素ナトリウムと水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥、減圧濃縮後ヘキサンを加えて固化した。
収量；6.05g(74％）
上記の方法によって得られたブロム化糖（１．８１ｇ，７mmol）と、（１）で得た２−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノン（２．８８ｇ，７mmol）を１，２−ジクロロエタン（２０ml）に溶解し、酸化銀（１．７１ｇ）を酸受容体に用いて室温にて一夜反応させた。銀塩を濾去した後、濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラム上でヘキサン−酢酸エチル（１：１ｖ／ｖ）で処理し、目的物を含むフラクションを集め、減圧濃縮して、目的物をフィルムとして得た。
収量；2.93ｇ（71％）
融点；92−92℃
λmax；286,323nm
logε；4.21, 4.02
元素分析値；
計算値 C,59.18; H,5.48
測定値 C,59.04; H,5.51
【００２４】
（３）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合成
（２）で得た２−ヒドロキシ−４−〔２′−（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノン（２．１２ｇ，３．６mmol）をエタノール（８０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウム（１０．８ml）を加えた。反応混合物を室温で３０分攪拌し、減圧濃縮した。残渣に水を加え、次いでＤｏｗｅｘ５０（Ｈ+型）を加えてナトリムウイオンを吸着させた。イオン交換樹脂を濾去した後、濾液を減圧濃縮し、析出した結晶を集めた。元素分析の結果、これらの結晶は一水化物であることが確認された。
収量；1.24ｇ（82％）
融点；136−137℃
λmax；286,326nm
logε；4.21, 4.02
元素分析値；
計算値 C,57.53; H,5.98
測定値 C,57.45; H,6.01
【００２５】
（４）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンメタクリレートの合成
（３）で得た２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノン（１．１６ｇ，２．８mmol）をジクロロメタン（１０ml）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ml）の混合溶液に溶解し、ピリジン（０．９１ml，１１．２mmol）を加えた。この溶液を氷冷下、攪拌しながら塩化メタクリロイル（０．５５ml，５．６mmol）のジクロロメタン溶液を徐々に滴下した。反応混合物を氷冷下で２時間攪拌した後、冷蔵庫に一夜放置し、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、１規定塩酸、４％炭酸水素ナトリウム、水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧濃縮した。次いで、残渣をシリカゲルカラム上でヘキサン−酢酸エチル（ヘキサン含量が５０−０％のグラジュエント）で処理し、目的物を含むフラクションを集めて減圧濃縮し、油状物を得た。得られた化合物は、グルコース６−位にメタクリレートが導入されたものを主成分とする、モノメタクリレートの混合物であることが確認された。
収量；0.62ｇ（45％）
λmax；284,324nm
logε；4.21, 4.02
元素分析値；
計算値 C,61.47; H,5.78
測定値 C,61.28; H,5.88
【００２６】
（５）（３）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノン及び（４）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンメタクリレートを、それぞれ１０ppm 水溶液にし、分光特性を測定したところ、図１及び図２に示すように、特に４００nm以下で良好な紫外線吸収効果を示した。
【００２７】
実施例２
（１）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（ヘプタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合成：
オクタ−Ｏ−アセチルセロビオース（３．０９ｇ，５mmol）をジクロロメタン（５０ml）と酢酸エチル（６ml）の混合溶媒に溶解し、四臭化チタン（２．９４ｇ，８mmol）を加えた。混合物を室温にて４８時間攪拌した後、氷冷し、氷水にて二回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮後ヘキサンより固化した。
収量；2.66ｇ（76％）
上記の方法によって得られたブロム化糖（２．６６ｇ，３．８mmol）と、実施例１（１）で得た２−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノン（１．２９ｇ，５mmol）を１，２−ジクロロエタン（２０ml）に溶解し、酸化銀（１．２２ｇ）を酸受容体に用いて室温にて一夜反応させた。実施例１（２）と同様の方法により精製し、目的物を油状物として得た。
収量；1.83g （62％）
【００２８】
（２）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合成：
（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノン（１．４８ｇ，１．８mmol）をメタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウム（８．６ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作により、目的物をアモルファスソリッドとして得た。
１０ppm 水溶液の分光特性を図３に示す。
収量；0.70g （67％）
融点；96−98℃
λmax；285,324nm
logε；4.18, 3.99
元素分析値；
計算値 C,55.66; H,5.88
測定値 C,55.54; H,5.91
【００２９】
実施例３
（１）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（ヘプタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合成：
オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−マルトース（３．０９ｇ，５mmol）を実施例２（１）と同様に処理し、ヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−マンノシルブロミドの無色のシロップを得た。このものを１，２−ジクロロエタン（２０ml）に溶解し、実施例１（１）で得た２−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノン（１．２９ｇ，５mmol）と酸化銀（１．２２ｇ）を加え、室温にて一夜攪拌した。実施例２（１）と同様な精製を行い、目的物を淡黄色のフイルムとして得た。
収量；2.04g （オクタ−Ｏ−アセチル−α−マルトースより50％）
【００３０】
（２）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合成：
（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノン（１．８２ｇ，２．２mmol）をメタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウム（１２ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作により、目的物をアモルファスソリッドとして得た。
１０ppm 水溶液の分光特性を図４に示す。
収量；0.87g （68％）
融点；74−73℃
λmax；287,318nm
logε；4.21, 4.06
元素分析値；
計算値 C,55.66; H,5.88
測定値 C,55.56; H,5.93
【００３１】
実施例４
（１）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（ヘプタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合成：
オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−ラクトース（３．０９ｇ，５mmol）を実施例２（１）と同様に処理し、ヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−ラクトシルブロミドの無色のシロップを得た。このものを１，２−ジクロロエタン（２０ml）に溶解し、実施例１（１）で得た２−ヒドロキシ−４−（２′−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフェノン（１．２９ｇ，５mmol）と酸化銀（１．２２ｇ）を加え、室温にて一夜攪拌した。実施例２（１）と同様な精製を行い、目的物を淡黄色のフイルムとして得た。
収量；2.07g （オクタ−Ｏ−アセチル−Ｄ−ラクトースより51％）
【００３２】
（２）２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの合成：
（１）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノン（１．９３ｇ，２．４mmol）をメタノール（２０ml）に懸濁し、２規定水酸化ナトリウム（１２ml）を加え、実施例１（３）と同様の操作により、目的物をアモルファスソリッドとして得た。
１０ppm 水溶液の分光特性を図５に示す。
収量；0.84g （60％）
融点；216−220℃
λmax；289,318nm
logε；4.10, 3.94
元素分析値；
計算値 C,55.66; H,5.88
測定値 C,55.61; H,5.91
【００３３】
実施例５
４−（Ｄ−グルコシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの合成：
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（１．４７ｇ，６．８mmol）をメタノール（２０ml）に溶解し、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液（１．３１ｇ）を徐々に滴下した。無水炭酸ナトリウム（１．８０ｇ，１７mmol）を加えた後、実施例１（２）と同様にして調製したテトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グルコピラノシルブロミド（２．３５ｇ，５．７mmol）を加え、８０℃で一夜攪拌した。反応液を放冷し、不溶物を濾去後減圧濃縮した。残渣に水を加え、次いで４規定塩酸でpH４に調節した。酢酸エチルで二度抽出し、酢酸エチル層を併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた。減圧濃縮後、ヘキサンより目的物を結晶化させた。
１０ppm 水溶液の分光特性を図６に示す。
収量；0.53g （25％）
融点；166−168℃
λmax；282,327nm
logε；4.20, 3.91
元素分析値；
計算値 C,60.63; H,5.36
測定値 C,60.56; H,5.39
【００３４】
実施例６
４−（Ｄ−セロビオシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの合成：
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（４．２８ｇ，２０mmol）をメタノール（５０ml）に溶解し、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液（２．９０ｇ）を滴下した。無水炭酸ナトリウム（５．６２ｇ）を加えた後、実施例２（１）と同様に調製したヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−セロビオシルブロミド（５．５２ｇ，７．９mmol）を加え、８０℃にて一夜攪拌した。不溶物を濾去後、濃塩酸を加えてpHを４に調節し、減圧濃縮した。残渣に再び少量のメタノールを加え、不溶物を濾去し、濾液を再び減圧濃縮した。残渣をごく少量のメタノールに溶解した後、シリカゲルカラムにアプライし、クロロホルム−メタノール（５：１ｖ／ｖ）を用いてフラッシュカラムクロマトグラフィーを行った。目的物を含むフラクションを集め、減圧濃縮し、目的物をアモルファスソリッドとして得た。
１０ppm 水溶液の分光特性を図７に示す。
収量；1.18g （28％）
融点；184−189℃（分解）
λmax；281,324nm
logε；4.10, 3.81
元素分析値；
計算値 C,55.76; H,5.62
測定値 C,55.67; H,5.67
【００３５】
実施例７
４−（Ｄ−マルトシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの合成：
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（２．１４ｇ，１０mmol）、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液（１．９５ｇ）、無水炭酸ナトリウム（２．８１ｇ）、実施例３（１）と同様に調製したヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−マルトシルブロミド（２．４５ｇ，３．５mmol）を実施例６と同様の方法で処理し、目的物を吸湿性のアモルファスソリッドとして得た。
１０ppm 水溶液の分光特性を図８に示す。
収量；0.24g （13％）
λmax；280,326nm
logε；4.06, 3.78
元素分析値；
計算値 C,55.76; H,5.62
測定値 C,55.64; H,5.69
【００３６】
実施例８
４−（Ｄ−ラクトシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの合成：
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（２．１４ｇ，１０mmol）、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液（１．９５ｇ）、無水炭酸ナトリウム（２．８１ｇ）、実施例４（１）と同様に調製したヘプタ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−ラクトシルブロミド（２．４５ｇ，３．５mmol）を実施例６と同様の方法で処理し、目的物を結晶として得た。
１０ppm 水溶液の分光特性を図９に示す。
収量；0.40g （21％）
融点；171−175℃
λmax；282,324nm
logε；4.11, 3.83
元素分析値；
計算値 C,55.76; H,5.62
測定値 C,55.71; H,5.62
【００３７】
試験例１
実施例で製造した以下の化合物１〜６、及び従来紫外線吸収剤として使用されている化合物７〜８について、それぞれの親水性を調べた。
すなわち、各化合物について、１０重量％水溶液ができるものを○、できないものを×、加熱すればできるものを△として評価した。この結果を表１に示す。
【００３８】
【化４】
0003641442.tif 000004
【００３９】
【化５】
0003641442.tif 000005
【００４０】
【表１】
0003641442.tif 000006
【００４１】
参考例１
２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）５ｇに対し、重合開始剤アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を０．１重量％、及び実施例１で得た２−ヒドロキシ−４−（２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ）ベンゾフェノンメタクリレートを０〜５重量％添加したものを、厚さ０．５mmのスペーサーの入ったスライドグラスの間に入れ、これを更に試験管に入れ、窒素置換・脱気後、５０℃７２時間、７０℃４８時間重合した。
得られた試料の分光特性を図１０に示す。
この試料は、紫外線を有効に除去するため、眼内レンズ材料として使用することができる。
【００４２】
参考例２
ＨＥＭＡ１当量に対し、２−グルコシルエチルメタクリレート（ＧＥＭＡ）の５０％水溶液を０．５当量混合した混合モノマー５ｇに、ＡＩＢＮ０．１重量％、及び実施例１で得た２−ヒドロキシ−４−（２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ）ベンゾフェノンメタクリレートを０〜５重量％添加し、参考例１と同様にして重合した。
得られた試料の分光特性を図１１に示す。
この試料は、紫外線を有効に除去するため、眼内レンズ材料として使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１（３）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図２】実施例１（４）で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−グルコピラノシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンメタクリレートの分光特性を示す図である。
【図３】実施例２で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−セロビオシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図４】実施例３で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−マルトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図５】実施例４で得られた２−ヒドロキシ−４−〔２′−（β−Ｄ−ラクトシロキシ）エトキシ〕ベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図６】実施例５で得られた４−（Ｄ−グルコシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図７】実施例６で得られた４−（Ｄ−セロビオシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図８】実施例７で得られた４−（Ｄ−マルトシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図９】実施例８で得られた４−（Ｄ−ラクトシロキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの分光特性を示す図である。
【図１０】参考例１で得た試料の分光特性を示す図である。
【図１１】参考例２で得た試料の分光特性を示す図である。
【図１】
0003641442.tif 000008
【図２】
0003641442.tif 000009
【図３】
0003641442.tif 000010
【図４】
0003641442.tif 000011
【図５】
0003641442.tif 000012
【図６】
0003641442.tif 000013
【図７】
0003641442.tif 000014
【図８】
0003641442.tif 000015
【図９】
0003641442.tif 000016
【図１０】
0003641442.tif 000017
【図１１】
0003641442.tif 000018