(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の露光パターンに現像処理を施す現像処理装置であって、
基板を回転可能に保持する保持部材と、
基板上に現像液を供給する現像液供給ノズルと、
基板上にリンス液を供給するリンス液供給ノズルと、
前記保持部材の下側部分を包囲するように設けられた第１アンダーカップと、
前記第１アンダーカップの外側に離間して設けられた第２アンダーカップと、
前記第２アンダーカップの外側および前記第１および第２アンダーカップの下側を包囲するシンクと、
前記保持部材に保持された基板の外側を覆い、前記第１および第２アンダーカップの間の上方位置に、昇降可能に設けられ、基板に供給された現像液を基板の外側へ流出させた際に現像液を捕捉して下方に導き、前記シンクにおける前記第１および第２アンダーカップの間の部分に回収するインナーカップと、
前記インナーカップの外側でかつ前記第２アンダーカップの外側上方位置に、昇降可能に設けられ、基板に供給されたリンス液を基板の外側へ流出させた際にリンス液を捕捉して下方に導き、前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側部分に回収するアウターカップと、
前記シンクの底部の前記アウターカップの外方部分に設けられ、前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側部分に回収されたリンス液を排出するドレイン管と、
前記シンクの底部の前記第１アンダーカップの内側に設けられ、前記アウターカップ内を排気する排気口と、
前記ドレイン管の上部開口部から上方に突出して設けられ、リング状をなす堰部材と
を具備し、
前記インナーカップおよびアウターカップは、基板に供給された現像液を振りきる際には上昇された位置に位置され、基板に供給されたリンス液を振り切る際には下降された位置に位置され、
前記堰部材の高さは、前記アウターカップが下降された位置に位置された際の下端位置の高さ以上であり、
基板に供給されたリンス液を振り切る際に基板から流出されたリンス液を、前記堰部材の存在により前記シンク内に貯留し、基板を回転させて乾燥させる際に、前記アウターカップの下端が前記シンク内のリンス液に浸漬した状態として前記アウターカップと前記シンクとの間をシールし、その状態で前記排気口を介して排気することを特徴とする現像処理装置。
【請求項２】
前記アウターカップの先端部に下側に向けて折り返されたフランジが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項３】
前記インナーカップおよびアウターカップは一体的に昇降可能であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の現像処理装置。
【請求項４】
基板を回転可能に保持する保持部材と、
基板上に現像液を供給する現像液供給ノズルと、
基板上にリンス液を供給するリンス液供給ノズルと、
前記保持部材の下側部分を包囲するように設けられた第１アンダーカップと、
前記第１アンダーカップの外側に離間して設けられた第２アンダーカップと、
前記第２アンダーカップの外側および前記第１および第２アンダーカップの下側を包囲するシンクと、
前記保持部材に保持された基板の外側を覆い、前記第１および第２アンダーカップの間の上方位置に、昇降可能に設けられ、基板に供給された現像液を基板の外側へ流出させた際に現像液を捕捉して下方に導き、前記シンクにおける前記第１および第２アンダーカップの間の部分に回収するインナーカップと、
前記インナーカップの外側でかつ前記第２アンダーカップの外側上方位置に、昇降可能に設けられ、基板に供給されたリンス液を基板の外側へ流出させた際にリンス液を捕捉して下方に導き、前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側部分に回収するアウターカップと、
前記シンクの底部の前記アウターカップの外方部分に設けられ、前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側部分に回収されたリンスを排出するドレイン管と、
前記シンクの底部の前記第１アンダーカップの内側に設けられ、前記アウターカップ内を排気する排気口と、
前記ドレイン管の上部開口部から上方に突出して設けられ、前記アウターカップが下降された際にその下端位置の高さよりも高い高さを有するリング状をなす堰部材とを具備する現像処理装置を用いて基板上の露光パターンに現像処理を施す現像処理方法であって、
前記インナーカップおよびアウターカップを上昇させた状態で、基板を回転しながら前記現像液供給ノズルから基板上に現像液を供給して基板上に現像液を塗布し、現像処理する工程と、
基板の回転により振り切られた現像液をインナーカップの内側に沿って下方に導き、前記第１および第２アンダーカップの間を介して排出させる工程と、
前記インナーカップおよびアウターカップを下降させた状態で、基板を回転しながら前記リンス液供給ノズルから基板上にリンス液を供給して基板上の現像液を洗い流す工程と、
基板の回転により振り切られたリンス液を前記アウターカップの内側かつ前記インナーカップの外側に沿って下方に導き、前記第２アンダーカップの外側を介して前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側へ回収する工程と、
前記回収されたリンス液を前記堰部材の存在によりシンクに貯留し、前記アウターカップの下端が前記シンク内のリンス液に浸漬した状態として前記アウターカップと前記シンクとの間をシールする工程と、
前記回収されたリンス液を前記ドレイン管から排出させる工程と、
前記シールした状態で前記排気口から排気しつつ前記基板を回転させて乾燥させる工程と
を有することを特徴とする現像処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）基板等の基板の上の露光パターンに現像処理を施す現像処理装置および現像処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造においては、ガラス製の矩形のＬＣＤ基板にフォトレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、回路パターンに対応してレジスト膜を露光し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターンが形成される。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィー技術においては、基板に対して、必要に応じて紫外線照射により表面改質・洗浄処理が行われた後、洗浄ユニットによりブラシ洗浄および超音波水洗浄が施され、その後、レジストの定着性を高めるために、アドヒージョン処理ユニットにて疎水化処理（ＨＭＤＳ処理）され、引き続き、レジスト塗布が行われ、プリベーク後、露光装置にて所定のパターンが露光され、さらに現像処理ユニットで現像処理され、ポストベーク処理されて所定の回路パターンが形成される。
【０００４】
このような一連の工程において、現像処理を施すに際しては、図５に示すような構造の現像ユニットが用いられる。この現像ユニットにおいては、基板Ｇを吸着保持するスピンチャック１０１が駆動機構１０２により回転されるように設けられ、このスピンチャック１０１の下側には、駆動機構１０２を包囲するカバー１０３が配置され、このカバー１０３の外周囲には、２つのアンダーカップ１０４，１０５が設けられている。この２つのアンダーカップ１０４，１０５の間には、主として現像液を下方に流すためのインナーカップ１０６が昇降自在に設けられ、アンダーカップ１０５の外側には、主としてリンス液を下方に流すためのアウターカップ１０７がインナーカップ１０６と共に昇降自在に設けられている。さらに、これら現像処理ユニット全体を包囲するためのシンク１０８が設けられ、このシンク１０８には、スピンドライ時に排気するための排気口１０９、現像液のためのドレイン１１０ａ、およびリンス液のためのドレイン１１０ｂが設けられている。
【０００５】
このような現像処理ユニットによりＬＣＤ基板を現像する際には、矩形の基板Ｇがスピンチャック１０１に装着され、現像液供給ノズル（図示略）から現像液が供給されて、基板Ｇの全面に塗布され、所定時間静止されて自然対流により現像処理が進行する。その後、基板Ｇがスピンチャック１０１により比較的低回転数で回転されて現像液が振り切られる。この際、インナーカップ１０６およびアウターカップ１０７は、図５の左側に示すように、上昇された位置にあり、基板Ｇから振り切られた現像液は、インナーカップ１０６の内側に沿って下方に流され、２つのアンダーカップ１０４，１０５の間を介して、現像液用のドレイン１１０ａから排出されて回収される。
【０００６】
次いで、リンス液供給ノズル（図示略）から純水等のリンス液が吐出されて基板Ｇ上に残存する現像液が洗い流され、回転する基板Ｇからリンス液および現像液が振り切られる。この際、インナーカップ１０６およびアウターカップ１０７は、図５の右側に示すように、降下された位置にあり、基板Ｇから振り切られたリンス液等は、アウターカップ１０７の内側でインナーカップ１０６の外側に沿って下方に流され、アンダーカップ１０５の外方に流されて、リンス液用のドレイン１１０ｂから排出されて回収される。
【０００７】
その後、スピンチャック１０１が高速で回転されてスピンドライされ、基板Ｇ上に残存するリンス液が振り切られて基板Ｇが乾燥される。このスピンドライの開始から終了後所定時間までの間、排気口１０９を介して処理室内が排気され、処理室内のミストが排出される。これにより、一連の現像処理が終了する。
【０００８】
【発明を解決しようとする課題】
しかしながら、リンス液を吹き飛ばして乾燥するスピンドライの際、降下したアウターカップ１０７の下端と、アンダーカップ１０５の下部外側との間に、隙間が存在し、この隙間を介して排気されるため、排気口１０９における排気損失が大きく、基板Ｇの周囲に飛散するリンス液のミストを排気口１０９に導くような流れを十分に形成することができず、ミストの回収を十分に行うことができないという問題点がある。
【０００９】
本発明はかる事情に鑑みてなされたものであって、現像処理後、基板からリンス液を流出させる際に、排気損失を極力少なくして、リンス液ミストの回収効率を向上させることができる現像処理装置および現像処理方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明によれば、基板上の露光パターンに現像処理を施す現像処理装置であって、
基板を回転可能に保持する保持部材と、
基板上に現像液を供給する現像液供給ノズルと、
基板上にリンス液を供給するリンス液供給ノズルと、
前記保持部材の下側部分を包囲するように設けられた第１アンダーカップと、
前記第１アンダーカップの外側に離間して設けられた第２アンダーカップと、
前記第２アンダーカップの外側および前記第１および第２アンダーカップの下側を包囲するシンクと、
前記保持部材に保持された基板の外側を覆い、前記第１および第２アンダーカップの間の上方位置に、昇降可能に設けられ、基板に供給された現像液を基板の外側へ流出させた際に現像液を捕捉して下方に導き、前記シンクにおける前記第１および第２アンダーカップの間の部分に回収するインナーカップと、
前記インナーカップの外側でかつ前記第２アンダーカップの外側上方位置に、昇降可能に設けられ、基板に供給されたリンス液を基板の外側へ流出させた際にリンス液を捕捉して下方に導き、前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側部分に回収するアウターカップと、
前記シンクの底部の前記アウターカップの外方部分に設けられ、前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側部分に回収されたリンス液を排出するドレイン管と、
前記シンクの底部の前記第１アンダーカップの内側に設けられ、前記アウターカップ内を排気する排気口と、
前記ドレイン管の上部開口部から上方に突出して設けられ、リング状をなす堰部材と
を具備し、
前記インナーカップおよびアウターカップは、基板に供給された現像液を振りきる際には上昇された位置に位置され、基板に供給されたリンス液を振り切る際には下降された位置に位置され、
前記堰部材の高さは、前記アウターカップが下降された位置に位置された際の下端位置の高さ以上であり、
基板に供給されたリンス液を振り切る際に基板から流出されたリンス液を、前記堰部材の存在により前記シンク内に貯留し、基板を回転させて乾燥させる際に、前記アウターカップの下端が前記シンク内のリンス液に浸漬した状態として前記アウターカップと前記シンクとの間をシールし、その状態で前記排気口を介して排気することを特徴とする現像処理装置が提供される。
【００１１】
また、本発明によれば、基板を回転可能に保持する保持部材と、
基板上に現像液を供給する現像液供給ノズルと、
基板上にリンス液を供給するリンス液供給ノズルと、
前記保持部材の下側部分を包囲するように設けられた第１アンダーカップと、
前記第１アンダーカップの外側に離間して設けられた第２アンダーカップと、
前記第２アンダーカップの外側および前記第１および第２アンダーカップの下側を包囲するシンクと、
前記保持部材に保持された基板の外側を覆い、前記第１および第２アンダーカップの間の上方位置に、昇降可能に設けられ、基板に供給された現像液を基板の外側へ流出させた際に現像液を捕捉して下方に導き、前記シンクにおける前記第１および第２アンダーカップの間の部分に回収するインナーカップと、
前記インナーカップの外側でかつ前記第２アンダーカップの外側上方位置に、昇降可能に設けられ、基板に供給されたリンス液を基板の外側へ流出させた際にリンス液を捕捉して下方に導き、前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側部分に回収するアウターカップと、
前記シンクの底部の前記アウターカップの外方部分に設けられ、前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側部分に回収されたリンスを排出するドレイン管と、
前記シンクの底部の前記第１アンダーカップの内側に設けられ、前記アウターカップ内を排気する排気口と、
前記ドレイン管の上部開口部から上方に突出して設けられ、前記アウターカップが下降された際にその下端位置の高さよりも高い高さを有するリング状をなす堰部材とを具備する現像処理装置を用いて基板上の露光パターンに現像処理を施す現像処理方法であって、
前記インナーカップおよびアウターカップを上昇させた状態で、基板を回転しながら前記現像液供給ノズルから基板上に現像液を供給して基板上に現像液を塗布し、現像処理する工程と、
基板の回転により振り切られた現像液をインナーカップの内側に沿って下方に導き、前記第１および第２アンダーカップの間を介して排出させる工程と、
前記インナーカップおよびアウターカップを下降させた状態で、基板を回転しながら前記リンス液供給ノズルから基板上にリンス液を供給して基板上の現像液を洗い流す工程と、
基板の回転により振り切られたリンス液を前記アウターカップの内側かつ前記インナーカップの外側に沿って下方に導き、前記第２アンダーカップの外側を介して前記シンクにおける前記第２アンダーカップの外側へ回収する工程と、
前記回収されたリンス液を前記堰部材の存在によりシンクに貯留し、前記アウターカップの下端が前記シンク内のリンス液に浸漬した状態として前記アウターカップと前記シンクとの間をシールする工程と、
前記回収されたリンス液を前記ドレイン管から排出させる工程と、
前記シールした状態で前記排気口から排気しつつ前記基板を回転させて乾燥させる工程と
を有することを特徴とする現像処理方法が提供される。
【００１２】
このように、ドレイン管の上部開口部から上方に突出してリング状をなす堰部材を設け、基板から流出されたリンス液を堰部材の存在によりシンク内に貯留し、これによりアウターカップとシンクとの間をシールするので、現像処理後にリンスを行ってリンス液を流出させる際に、アウターカップの下端における隙間を無くすことができる。そのため、その後の基板の振り切り乾燥において、排気口を介して排気する際の排気損失を極力小さくすることができるので、基板の周囲に飛散するリンス液のミストを排気口に確実に導くような流れを形成することができ、リンス液ミストの回収を十分に行うことができる。
【００１３】
また、前記アウターカップの先端部に下側に向けて折り返されたフランジが設けられていることが好ましい。このように、フランジを設けることにより、リンス液を流出させる際に、このフランジにより基板の周囲に飛散したリンス液のミストを下側に跳ね返すことができ、ミストの回収を効率よく行うことができる。
【００１４】
さらに、前記インナーカップおよびアウターカップは一体的に昇降可能であることが好ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明が適用されるＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理システムを示す平面図である。
【００１８】
この塗布・現像処理システムは、複数の基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部２と、露光装置（図示せず）との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェイス部３とを備えており、処理部２の両端にそれぞれカセットステーション１およびインターフェイス部３が配置されている。
【００１９】
カセットステーション１は、カセットＣと処理部２との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション１においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１０ａ上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００２０】
処理部２は、前段部２ａと中段部２ｂと後段部２ｃとに分かれており、それぞれ中央に搬送路１２、１３、１４を有し、これら搬送路の両側に各処理ユニットが配設されている。そして、これらの間には中継部１５、１６が設けられている。
【００２１】
前段部２ａは、搬送路１２に沿って移動可能な主搬送装置１７を備えており、搬送路１２の一方側には、２つの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ、２１ｂが配置されており、搬送路１２の他方側には紫外線照射装置（ＵＶ）および冷却装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる紫外線照射／冷却ユニット２５、２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加熱処理ユニット２６、および２つの冷却装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる冷却ユニット２７が配置されている。
【００２２】
また、中段部２ｂは、搬送路１３に沿って移動可能な主搬送装置１８を備えており、搬送路１３の一方側には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２および基板Ｇの周縁部のレジストを除去する周縁レジスト除去ユニット（ＥＲ）２３が一体的に設けられており、搬送路１３の他方側には、２つの加熱装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加熱処理ユニット２８、加熱処理装置（ＨＰ）と冷却処理装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる加熱処理／冷却ユニット２９、およびアドヒージョン処理装置（ＡＤ）と冷却装置（ＣＯＬ）とが上下に積層されてなるアドヒージョン処理／冷却ユニット３０が配置されている。
【００２３】
さらに、後段部２ｃは、搬送路１４に沿って移動可能な主搬送装置１９を備えており、搬送路１４の一方側には、３つの現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ、２４ｂ、２４ｃが配置されており、搬送路１４の他方側には２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加熱処理ユニット３１、および加熱処理装置（ＨＰ）と冷却装置（ＣＯＬ）が上下に積層されてなる２つの加熱処理／冷却ユニット３２、３３が配置されている。
【００２４】
上記主搬送装置１７，１８，１９は、それぞれ水平面内の２方向のＸ軸駆動機構、Ｙ軸駆動機構、および垂直方向のＺ軸駆動機構を備えており、さらにＺ軸を中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞれ基板Ｇを支持するアーム１７ａ，１８ａ，１９ａを有している。
【００２５】
なお、処理部２は、搬送路を挟んで一方の側に洗浄処理ユニット２１ａ、レジスト処理ユニット２２、現像処理ユニット２４ａのようなスピナー系ユニットのみを配置しており、他方の側に加熱処理ユニットや冷却処理ユニット等の熱系処理ユニットのみを配置する構造となっている。
【００２６】
また、中継部１５、１６のスピナー系ユニット配置側の部分には、薬液供給ユニット３４が配置されており、さらにメンテナンスが可能なスペース３５が設けられている。
【００２７】
インターフェイス部３は、処理部２との間で基板を受け渡しする際に一時的に基板を保持するエクステンション３６と、さらにその両側に設けられた、バッファーカセットを配置する２つのバッファーステージ３７と、これらと露光装置（図示せず）との間の基板Ｇの搬入出を行う搬送機構３８とを備えている。搬送機構３８はエクステンション３６およびバッファステージ３７の配列方向に沿って設けられた搬送路３８ａ上を移動可能な搬送アーム３９を備え、この搬送アーム３９により処理部２と露光装置との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００２８】
このように各処理ユニットを集約して一体化することにより、省スペース化および処理の効率化を図ることができる。
【００２９】
このように構成される塗布・現像処理システムにおいては、カセットＣ内の基板Ｇが、処理部２に搬送され、処理部２では、まず、前段部２ａの紫外線照射／冷却ユニット２５の紫外線照射装置（ＵＶ）で表面改質・洗浄処理が行われ、その後そのユニットの冷却装置（ＣＯＬ）で冷却された後、洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ，２１ｂでスクラバー洗浄が施され、前段部２ａに配置された加熱処理装置（ＨＰ）の一つで加熱乾燥された後、冷却ユニット２７のいずれかの冷却装置（ＣＯＬ）で冷却される。
【００３０】
その後、基板Ｇは中段部２ｂに搬送され、レジストの定着性を高めるために、ユニット３０の上段のアドヒージョン処理装置（ＡＤ）にて疎水化処理（ＨＭＤＳ処理）され、下段の冷却装置（ＣＯＬ）で冷却後、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２でレジストが塗布され、周縁レジスト除去ユニット（ＥＲ）２３で基板Ｇの周縁の余分なレジストが除去される。その後、基板Ｇは、中段部２ｂに配置された加熱処理装置（ＨＰ）の一つでプリベーク処理され、ユニット２９または３０の下段の冷却装置（ＣＯＬ）で冷却される。
【００３１】
その後、基板Ｇは中継部１６から主搬送装置１９にてインターフェイス部３を介して露光装置に搬送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、基板Ｇは再びインターフェイス部３を介して搬入され、必要に応じて後段部２ｃのいずれかの加熱処理装置（ＨＰ）でポストエクスポージャーベーク処理を行った後、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれかで現像処理され、所定の回路パターンが形成される。現像処理された基板Ｇは、後段部２ｃのいずれかの加熱処理装置（ＨＰ）にてポストベーク処理が施された後、冷却装置（ＣＯＬ）にて冷却され、主搬送装置１９，１８，１７および搬送機構１０によってカセットステーション１上の所定のカセットに収容される。
【００３２】
次に、図２ないし図４を参照しつつ、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃについて説明する。図２は現像処理ユニット（ＤＥＶ）の断面図であり、図３は現像処理ユニット（ＤＥＶ）の平面図であり、図４は現像処理ユニット（ＤＥＶ）のドレイン管設置部分を拡大して示す断面図である。
【００３３】
図２に示すように、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃにおいては、基板Ｇを機械的に保持するスピンチャック４１が回転駆動機構４２により回転されるように設けられ、このスピンチャック４１の下側には、回転駆動機構４２を包囲するカバー４３が配置され、このカバー４３の外周囲には、２つのアンダーカップ４４，４５が離間して設けられている。
【００３４】
この２つのアンダーカップ４４，４５の間の上方には、主として現像液を下方に流すためのインナーカップ４６が昇降自在に設けられ、アンダーカップ４５の外側には、主としてリンス液を下方に流すためのアウターカップ４７がインナーカップ４６と一体的に昇降自在に設けられている。アウターカップ４７は円筒状の下部材４７ａと、下部材４７ａの上方に連続して設けられ上方内側へ向かって傾斜して延びる上部材４７ｂとを有している。また、インナーカップ４６も円筒状の下部材４６ａと、下部材４６ａの上方に連続して設けられ上方内側へ向かって傾斜して延びる上部材４６ｂとを有している。図２において、左側には、現像液の排出時に、インナーカップ４６およびアウターカップ４７が上昇される位置が示され、右側には、リンス液の排出時に、これらが降下される位置が示されている。
【００３５】
さらに、これら現像処理ユニット全体を包囲するためのシンク４８が設けられ、このシンク４８には、回転乾燥時にユニット内を排気するための排気口４９、現像液のためのドレイン管５０ａ、およびリンス液のためのドレイン管５０ｂが設けられている。
【００３６】
図３に示すように、アウターカップ４７の一方側には、現像液用のノズルアーム５１が設けられ、このノズルアーム５１内には、並列された複数個の現像液供給ノズル５２が収納されている。このノズルアーム５１は、ガイドレール５３に沿って、ベルト駆動等の駆動機構（図示せず）により、上下に移動および基板Ｇを横切って移動するように構成され、これにより、現像液の塗布時には、ノズルアーム５１は、現像液供給ノズル（図示略）から現像液を吐出しながら、静止した基板Ｇ上をスキャンするようになっている。
【００３７】
アウターカップ４７の他方側には、純水等のリンス液用のノズルアーム５４が設けられ、このノズルアーム５４の先端部分にはリンス液供給ノズル５６が収納されている。このノズルアーム５４は、駆動機構（図示略）により、上下に移動および枢軸５５を中心として回動するように構成されている。これにより、リンス液の吐出時には、ノズルアーム５４は、リンス液供給ノズルからリンス液を吐出しながら、基板Ｇ上をスキャンするようになっている。
【００３８】
図４にも拡大して示すように、リンス液用のドレイン管５０ｂの上部開口部には、そこから上方に突出してその周囲を囲むリング状の堰部材５７が設けられている。これにより、この堰部材５７は、その周囲にアウターカップ４７の内側をつたって落下したリンス液を貯留し、このリンス液により降下したアウターカップ４７の下端とシンク４８との間をシールし、後述するように、排気口４９の排気損失を低減する。この堰部材５７の高さは、このようなシール効果を確実にするために、アウターカップ４７が降下した時のアウターカップ４７の下端位置以上の高さに適宜設定することが好ましい。
【００３９】
さらに、図２に示すように、アウターカップ４７の上部材４７ｂの上端には、下側に向けて折り返されたフランジ５８が設けられている。これにより、後述するように、基板Ｇの周囲に飛散するリンス液のミストが下側に跳ね返される。
【００４０】
次に、以上のように構成された現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃにおける現像処理動作について説明する。
まず、図１に示すように、露光処理された基板Ｇが主搬送装置１９により、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれかに搬入され、図２に示すように、搬入された基板Ｇがスピンチャック４１に吸着保持される。次いで、現像液用のノズルアーム５１が駆動機構（図示略）によってガイドレール５３に沿って静止した基板Ｇ上を移動しながら、ノズルアーム５１に取り付けられた現像液用供給ノズル５２から現像液が供給され、基板Ｇの全面に塗布される。この状態で所定時間静止されて自然対流により現像処理が進行し、その後、基板Ｇがスピンチャック４１により回転されて現像液が振り切られる。この際、インナーカップ４６およびアウターカップ４７は、図２の左側に示すように、上昇された位置にあり、基板Ｇから振り切られた現像液は、インナーカップ４６の内側に沿って下方に流され、２つのアンダーカップ４４，４５の間を介して、現像液用のドレイン管５０ａから排出されて回収される。
【００４１】
次いで、リンス液用のノズルアーム５４が駆動機構（図示略）により枢軸５５を中心に回動されて、回転する基板Ｇ上を移動しながら、リンス液供給ノズル５６から純水等のリンス液が吐出されて基板Ｇ上に残存する現像液が洗い流され、回転する基板Ｇからリンス液および現像液が振り切られる。この際、インナーカップ４６およびアウターカップ４７は、図２の右側に示すように、降下された位置にあり、基板Ｇから振り切られたリンス液等は、アウターカップ４７の内側でインナーカップ４６の外側に沿って下方に流され、アンダーカップ４５の外方に流されて、リンス液用のドレイン管５０ｂから排出されて回収される。
【００４２】
この時、図４に示すように、リンス液用のドレイン管５０ｂの上部開口部には、そこから上方に突出してその周囲を囲むリング状の堰部材５７が設けられているため、排出されるリンス液Ｒは、このリング状の堰部材５７の周囲に貯留され、降下したアウターカップ４７の下端をシールする役割を果たす。そして、この堰部材５７から溢れたリンス液がドレイン管５０ｂを介して排出される。
【００４３】
その後、スピンチャック４１が高速で回転されてスピンドライされ、基板Ｇ上に残存するリンス液が吹き飛ばされて基板Ｇが乾燥される。このスピンドライの開始から終了後所定時間までの間、排気口４９を介して処理室内が排気され、処理室内のミストが排出される。
【００４４】
このスピンドライの際に、上述したように、堰部材５７の外周囲に貯留されたリンス液Ｒにより、降下したアウターカップ４７の下端とシンク４８との間がシールされているため、アウターカップ４７の下端における隙間を無くすことができ、排気口４９の排気損失を極力小さくすることができる。したがって、基板Ｇの周囲に飛散したリンス液のミストを排気口４９に確実に導くような流れを形成することができ、ミストの回収を十分に行うことができる。
【００４５】
また、このスピンドライの際、下側に向けて折り返されたフランジ５８がアウターカップ４７の上部材４７ｂに設けられているため、このフランジ５８により、基板Ｇの周囲に飛散したリンス液のミストを下側に跳ね返すことができ、ミストの回収を効率よく行うことができる。実際に実験を行った結果、フランジ５８の長さが５０ｍｍの時に、０．１４μｍ以上のパーティクルを半減することができた。なお、フランジ５８の長さは、その際の条件に応じて適宜設定すればよい。
【００４６】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、ＬＣＤ基板用のレジスト塗布・現像処理システムに本発明を適用した場合について説明したが、現像装置単独の場合であっても適用可能であることはいうまでもない。また、基板としてはＬＣＤ基板に限らず、ＬＣＤ用のカラーフィルター基板や半導体ウエハ等他の基板にも適用することができる。さらに、上記実施形態では本発明を現像処理に適用した場合について示したが、他の液処理に適用可能であることはいうまでもない。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ドレイン管の上部開口部から上方に突出してリング状をなす堰部材を設け、基板から流出されたリンス液を堰部材の存在により容器内に貯留し、これによりアウターカップとシンクとの間をシールするので、現像処理後にリンスを行ってリンス液を流出させる際に、アウターカップの下端における隙間を無くすことができる。そのため、その後の基板の振り切り乾燥において、排気口を介して排気する際の排気損失を極力小さくすることができるので、基板の周囲に飛散するリンス液のミストを排気口に確実に導くような流れを形成することができ、リンス液ミストの回収を十分に行うことができる。
【００４８】
また、アウターカップの先端部に下側に向けて折り返されたフランジを設けることにより、リンス液を振り切る際に、このフランジにより基板の周囲に飛散したリンス液のミストを下側に跳ね返すことができ、ミストの回収を効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用されるＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理システムを示す平面図。
【図２】図１のシステムに搭載された現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す断面図。
【図３】図１のシステムに搭載された現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す平面図。
【図４】現像処理ユニット（ＤＥＶ）のドレイン管設置部分を拡大して示す断面図。
【図５】従来の現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す断面図。
【符号の説明】
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ；現像処理ユニット
４１；スピンチャック
４２；駆動機構
４４，４５；アンダーカバー
４６；インナーカップ
４７；アウターカップ
４８；シンク
４９；排気口
５０ａ；現像液用のドレイン管
５０ｂ；リンス液用のドレイン管
５２；現像液用ノズル
５６；リンス液用ノズル
５７；堰部材
５８；フランジ
Ｇ；ＬＣＤ基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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