(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを保持可能な保持部材を有し、主軸に連結されて回転可能に設けられた保持部と、表面に研磨面が形成され、回転する前記保持部に対して相対的に運動して、前記保持部材に保持されたワークの表面を研磨する定盤と、前記保持部と定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備える研磨装置の前記研磨面へワークを所定の荷重で押圧する研磨装置のワーク押圧機構において、
前記保持部が、
前記主軸に連結され、下方に向けて開放する凹状のヘッド部材と、
外側部が前記ヘッド部材を形成する外壁部に固定されると共に内側部が前記保持部材に固定され、該保持部材を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する板状の弾性部材と、
前記ヘッド部材の内部を前記保持部材および前記板状の弾性部材によって画成して設けられる圧力室と、
該圧力室に所定圧力の流体を供給する流体の供給手段と、
前記保持部材または前記外壁部の一方に設けられた複数の被係合部と、
前記保持部材または前記外壁部の他方に前記各被係合部に対応して固定され、該被係合部に所定の微小範囲内で上下方向および水平方向に相対的に移動可能に係合された係合部とを備えることを特徴とする研磨装置のワーク押圧機構。
【請求項２】
前記保持部材に設けられる被係合部または係合部が、該保持部材の外周縁近傍に設けられたことを特徴とする請求項１記載の研磨装置のワーク押圧機構。
【請求項３】
前記被係合部が凹部であり、前記係合部が凸部であって、凹部に凸部が挿入されて係合していることを特徴とする請求項１または２記載の研磨装置のワーク押圧機構。
【請求項４】
前記凸部が、保持部材のワークを保持する平面と略平行に設けられたことを特徴とする請求項３記載の研磨装置のワーク押圧機構。
【請求項５】
前記凸部が挿入される前記凹部の内壁が、樹脂材によって形成されていることを特徴とする請求項３または４記載の研磨装置のワーク押圧機構。
【請求項６】
前記凸部は、前記凹部の内壁面に摺接して回動可能なベアリングが外嵌されてなることを特徴とする請求項３、４または５記載の研磨装置のワーク押圧機構。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、研磨装置のワーク押圧機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体ウェーハは、素子の高集積化に伴い、高精度（平坦度等）を要求される。一方でコスト低減を目指し、ウェーハの直径は８インチから１２インチへと大径化の要求が一層加速している。また、液晶用ガラス薄板材等にあっても大型化の要求がある。従って、ウェーハ等のワークを鏡面研磨する作業においても、ワークの大型化に好適に対応できる技術が求められている。
研磨装置のワーク押圧機構は、例えば半導体チップ用のウェーハを鏡面研磨するウェーハの研磨装置に用いられる。ウェーハの研磨装置は、基本的な構成として、ウェーハの保持部、そのウェーハの保持部に対向する研磨面を有する定盤、ウェーハ表面を研磨面に当接させるべくウェーハの保持部と定盤とを接離動させる接離動手段、前記保持部に保持されたウェーハを研磨面に所定の押圧力で押圧する押圧手段、ウェーハが定盤に当接・押圧された状態で該ウェーハと定盤とを回転および／または往復動によって相対的に運動させる駆動手段、スラリー等を含む液状の研磨剤の供給手段を備えている。このウェーハの研磨装置によれば、前記ウェーハ以外の被研磨部材であるワーク（例えばガラス薄板材、水晶等の硬脆性材料の表面）も鏡面状に研磨することもできる。
【０００３】
また、具体的なウェーハの研磨装置としては、ウェーハの平坦度を向上させるよう、メカノケミカルポリシングによる鏡面研磨を行う研磨装置（以下、ポリシング装置と称することがある。）がある。そのポリシング装置は、図７に示すように、回転する定盤５６上に軟質弾性部材からなる研磨布５８を接着して研磨面６０が形成され、その上方には回転および上下動可能な保持部４１が設けられ、その保持部４１が、下方に向けて開放する凹状のヘッド部材１１と、外側部１３ａがヘッド部材１１の内底面に固定されると共に内側部１３ｂが保持部材（以下、保持プレート１７と称することがある。）に固定され、その保持プレート１７を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する板状の弾性部材１３と、ヘッド部材１１の内部を保持プレート１７および板状の弾性部材１３によって画成して設けられる密閉空間である圧力室１９と、圧力室１９に所定圧力の流体を供給する流体の供給手段（図示せず）とを具備する。また、２７はリング状の弾性部材であり、合成ゴム等により成形されたＯ−リング状の部材からなる。このリング状の弾性部材１３は、保持プレート１７の外周面と前記外壁側部１１ａの内周面との間に配され、保持プレート１７のヘッド部材１１との相対的移動（例えば相対的回転）を吸収および規制するように作用する。
【０００４】
このポリシング装置によれば、保持プレート１７に水張り等で保持されたウェーハの表面は、板状の弾性部材１３のエアバック作用によって、研磨面６０の傾斜に素早く追随できると共に、そのようにウェーハの表面が研磨面６０の傾斜に追随した状態においても、ウェーハの表面全面を研磨面６０に均等な圧力で押圧できる。このため、ウェーハ４２の高い平行度及び平坦度を維持しつつウェーハの表面を好適に鏡面研磨できる。
【０００５】
しかしながら、研磨加工時、ヘッド部材１１と保持プレート１７を吊持する板状の弾性部材１３には、回転方向と上下方向等の複合作用力が繰り返し加えられる。また、リング状の弾性部材２７では、保持プレート１７のヘッド部材１１との相対的移動を十分を規制できず、板状の弾性部材１３にかかる上記の複合作用力を十分に緩和できない。
【０００６】
このため、板状の弾性部材に亀裂が発生し、エアーバック機能が低下するという課題があった。そして、エアーバック機能が低下することにより、ウェーハの表面は定盤の研磨面６０の微小な面振れに追随できず、ウェーハ４２の平坦度および平滑度の低下、ウェーハ４２の破損の発生等によって、その品質が低下するという課題があった。
【０００７】
本発明の目的は、定盤の研磨面の微小な面振れに追随し、ワーク全面を均等に押圧することによって、ワークを好適に鏡面研磨するエアーバック機能を有すると共に、そのエアーバック機能の低下を防止することが可能な研磨装置のワーク押圧機構を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は次の構成を備える。
すなわち、本発明は、ワークを保持可能な保持部材を有し、主軸に連結されて回転可能に設けられた保持部と、表面に研磨面が形成され、回転する前記保持部に対して相対的に運動して、前記保持部材に保持されたワークの表面を研磨する定盤と、前記保持部と定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備える研磨装置の前記研磨面へワークを所定の荷重で押圧する研磨装置のワーク押圧機構において、前記保持部が、前記主軸に連結され、下方に向けて開放する凹状のヘッド部材と、外側部が前記ヘッド部材を形成する外壁部に固定されると共に内側部が前記保持部材に固定され、該保持部材を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する板状の弾性部材と、前記ヘッド部材の内部を前記保持部材および前記板状の弾性部材によって画成して設けられる圧力室と、該圧力室に所定圧力の流体を供給する流体の供給手段と、前記保持部材または前記外壁部の一方に設けられた複数の被係合部と、前記保持部材または前記外壁部の他方に前記各被係合部に対応して固定され、該被係合部に所定の微小範囲内で上下方向および水平方向に相対的に移動可能に係合された係合部とを備えることを特徴とする。
【０００９】
また、前記保持部材に設けられる被係合部または係合部が、該保持部材の外周縁近傍に設けられたことにより、てこの原理で保持部材の移動を好適に規制することができる。
【００１０】
また、前記被係合部が凹部であり、前記係合部が凸部であって、凹部に凸部が挿入されて係合していることで、保持部材の水平方向および上下の移動を同時に好適に規制することができる。
また、前記凸部が、保持部材のワークを保持する平面と略平行に設けられていることで、保持部材の水平方向および上下の移動を、確実に規制することができる。
【００１１】
また、前記凸部が挿入される前記凹部の内壁が、樹脂材によって形成されていることで、より好適に保持部材の移動を吸収できる。
また、前記凸部は、前記凹部の内壁面に摺接して回動可能なベアリングが外嵌されてなることで、凹部が凹部の内壁面に当接して水平方向または上下方向のうちの一方向の移動が規制された際にも他方向の移動を許容し、保持部材の移動をより好適に吸収できる。
【００１２】
【作用】
本発明によれば、保持部材が、板状の弾性部材によってヘッド部材の内部に吊持されている。これによって、定盤の研磨面の微小な面振れに追随し、ワーク全面を均等に押圧してワークを好適に鏡面研磨するためのエアーバック機能が得られる。
そして、前記保持部材またはヘッド部材の外壁部の一方に設けられた複数の被係合部と、前記保持部材または前記外壁部の他方に前記各被係合部に対応して固定され、該被係合部に所定の微小範囲内で上下方向および水平方向に相対的に移動可能に係合された係合部とを備えていることで、前記保持部材の移動を規制できる。従って、板状の弾性部材に作用する繰り返し加重を緩和できる。これにより、板状の弾性部材が損傷することを防止でき、結果的にエアーバッグ機能の低下を防止できる。
【００１３】
【実施例】
以下、本発明を、ウェーハの研磨装置に適用した場合の好適な実施例について、添付図面に基づいて詳細に説明する。
（第１実施例）
図１は第１実施例の要部側断面図であり、図２は図１のＡ−Ａ断面図（一部Ｂ−Ｂ断面を含む）である。また、図３は第１実施例を用いたウェーハの研磨装置の全体図を示す側断面図である。
１０はヘッド部材であり、ワークであるウェーハを保持する保持部の外形部を構成する。このヘッド部材１０は、下方へ開放する凹状に形成されている。
１２は保持プレートであり、ウェーハを保持する保持部材の一態様である。この保持プレート１２は、表面１２ａにウェーハを水等の液体の表面張力によって保持できる。
【００１４】
１４は板状の弾性部材であり、例えば硬質のゴム板材（本実施例では布入りニトリルゴム）によって円形の平板状に形成され、外側部１４ａがヘッド部材１０を形成する外壁側部１０ａに固定されると共に内側部１４ｂが保持プレート１２に固定され、保持プレート１２を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持している。具体的な板状の弾性部材１４の固定例を図１に基づいて説明する。板状の弾性部材１４の外側部１４ａは、ボルト１５を締めつけることで、ヘッド部材１０の外壁側部１０ａと側壁リング１６に挟まれて外壁側部１０ａに固定されている。また、板状の弾性部材１４の外側部１４ａよりも内側の内側部１４ｂは、ベースリング１８と押さえリング２０とに挟まれて保持プレート１２に固定されている。なお、ベースリング１８は、断面台形状のリング状に形成されており、保持プレート１２の外周縁部上面に載置されている。このベースリング１８上に板状の弾性部材１４が載置され、その上にリング状に押さえリング２０が載置され、ボルト２２（図２参照）によって各々が同時に保持プレート１２へ固定されている。なお、本実施例では、ベースリング１８を採用しているが、リング状の弾性部材２６が、保持プレート１２の外周面に適切に当接できれば、そのベースリング１８を設けなくても良い。
【００１５】
２４は圧力室であり、ヘッド部材１０の内部を保持プレート１２および板状の弾性部材１４によって画成して設けられている。この圧力室２４内に所定圧力の流体が、流体の供給手段（図示せず）によって供給される。
２６はリング状の弾性部材であり、例えばゴム等により成形されたＯ−リング状の部材からなる。このリング状の弾性部材２６は、保持プレート１２の外周面と外壁リング１６の内周面の双方に当接するように配設され、保持プレート１２の水平方向の移動を微小範囲内で許容している。これにより、ウェーハが研磨される際に発生する水平方向（特に径方向）への作用力を吸収することができる。しかしながら、保持プレート１２のヘッド部材１０に対する回転方向および上下方向への移動については、摩擦力が作用するが、十分に規制することができない。
【００１６】
２８は凹部であり、ヘッド部材１０に穿設された貫通穴を、内部空間を有するカバー部材３０が覆うようにボルト３２によって固定されて設けられている。この凹部２８はヘッド部材１０の外周縁近傍に周方向に所定の間隔をおいて複数が設けられている。なお、凹部を少なくとも２個以上設けることによって、安定的に作用させることができる。３４はＯ−リングであり、カバー部材３０とヘッド部材１０との間をシールし、圧力室２４の圧縮空気が漏れないように作用する。また、３６はガイドリングであり、樹脂材によって形成されており、凹部２８の中途部に内嵌・固定されている。
【００１７】
３８はピン状部材であり、保持プレート１２の外周部に所定の間隔をおいて複数が立設され、前記凹部２８へ挿入されて係合する凸部の一態様である。このピン状部材３８は、保持プレート１２に対して、ベースリング１８および押さえリング２０を介して固定されている。すなわち、押さえリング２０に設けられた雌ネジにピン状部材３８の下端に設けられた雄ネジが螺合し、ピン状部材３８が保持プレート１２に立設されている。
３８ａはピン頭部であり、ピン状部材３８の上端部に形成されている。このピン頭部３８ａにより、ピン状部材３８が凹部２８から抜け出ることを防止など、ピン状部材３８の上下方向の移動が好適に規制される。
このピン状部材３８は、凹部２８に対して所定の微小範囲内で相対的に移動可能に遊嵌された状態で係合する係合部として作用する。
このように凹部２８にピン状部材３８が係合しているため、ヘッド部材１０と保持プレート１２とは所定の微小範囲内で相対的に移動できる。具体的にはガイドリング３６内にピン状部材３８が遊挿されており、その遊び分について水平方向への相対的な移動が許容される。また、上下方向については、ピン頭部３８ａが、凹部２８の上底面とガイドリング３６の上面で移動できる範囲で、相対的な移動が許容される。
このようにヘッド部材１０と保持プレート１２との微小範囲の相対的移動を許容することで、板状の弾性部材１４に作用する複合力を緩和することができる。これにより、平坦度の高いウェーハの鏡面研磨ができる。
なお、本実施例では、保持プレート１２（保持部材）側にピン状部材３８（係合部）が設けられ、ヘッド部材１０側に凹部２８（被係合部）が設けられているが、逆に、保持部材に被係合部を設け、ヘッド部材１０側に係合部が設けられてもよい。
【００１８】
図３はウェーハの保持部４０を有するウェーハの研磨装置の研磨機構の側面図（一部断面図）である。
５６は定盤であり、通常、上面に研磨布５８が貼着されており、これによってシリコンウェーハ４２の表面を研磨する研磨面６０が形成されている。
この研磨面６０には、スラリー等を含む液状研磨剤が供給され、保持プレート１２の下面に保持されたウェーハ４２の表面がその研磨面６０に所定の荷重を与えられつつ当接・押圧されると共に、ウェーハ４２と定盤５６とを相対的に運動させることでウェーハ４２の表面を鏡面研磨することができる。
また、定盤５６の回転方向は、ウェーハ４２を下面に保持する保持プレート１２の回転と同方向に回転可能に設けられており、回転軸のズレと相互の回転数の違い、および相対的な往復運動によってウェーハ４２表面と研磨面とが相対的に運動されることによって、ウェーハ４２の表面が鏡面研磨される。
【００１９】
また、６２は主軸であり、筒状に形成されており、その筒内に高圧流体源である圧縮空気源（図示せず）に連通する管６４が挿入されている。この管６４は前記圧力室２４に連通しており、ウェーハ４２の表面を定盤５６の研磨面６０に当接させた際に、この圧力室２４内に圧縮空気が導入されると、エアバック機能が作用し、保持プレート１２の上面の略全面に均一な圧力が負荷される。これにより、所望の圧力によってウェーハ４２の表面をその全面に均等な荷重を負荷しつつ、定盤５６の研磨面６０に押圧することができる。このとき、圧力室２４に充填された圧縮空気は流体（本実施例では空気）であるため、保持プレート１２の全面を均等に押圧し、ウェーハ４２の表面を定盤５６の研磨面６０の傾斜に素早く追随させることができる。なお、４３はテンプレートであり、保持プレート１２の下面に装着され、ウェーハ４２を囲うリング状に形成されており、ウェーハ４２の横滑りを防止する。
【００２０】
６６はベース部材であり、保持プレート１２によって保持されるウェーハ４２を定盤５６の研磨面６０上へ供給すると共にその研磨面６０上から排出するべく移動可能に設けられている。また、主軸６２の先端に固定されたウェーハの保持部４０を主軸６２等を介して回転可能に支持している。
６８は係止部であり、主軸６２の上部に設けられ、下側よりも小径に形成されている。この係止部６８は、シリンダ装置７０のロッド７２に固定されたアーム部７４に、回転及びスラスト方向の両方向に軸受けする軸受部７６、７６を介して係止されている。また、ウェーハの保持部４０と一体に設けられた主軸６２は、ベース部材６６に対して回転軸受７８、７８を介して回転可能に設けられた回転伝達部材８０内に挿入されている。回転軸受７８、７８はベース部材６６に一体に固定された立設筒部８２内に装着されている。この回転伝達部材８０と主軸６２とは、主軸６２側に固定されたキー８４が、回転伝達部材８０側に設けられたキー溝８１内に臨むことで連繋されている。このため、回転伝達部材８０と主軸６２とは一体的に回転動する。また、キー溝８１が長手方向である軸線方向に長く設けられているため、主軸６２は、シリンダ装置７０によって所定の範囲内でベース部材６６に対して上下方向に移動できる。なお、図３では、ウェーハの保持部４０はシリンダ装置７０によって上方に移動した状態にある。
【００２１】
８６は駆動モータであり、ピニオンギア８８及び従動ギア９０を介して、その従動ギア９０がキー９１によって連結された回転伝達部材８０を回転させる。なお、この回転伝達部材８０は、ベース部材６６との間に配設された回転軸受７８、７８によって、ベース部材６６に対して回転可能に設けられている。
以上の構成からなる駆動機構を備えるウェーハの研磨装置によれば、ウェーハの保持部４０にウェーハ４２を保持し、定盤５６の研磨面６０にウェーハ表面を当接させ、そのウェーハ４２に所定の荷重を与えつつ、ウェーハ４２と定盤５６とを相対的に運動させてウェーハ表面を鏡面研磨することができる。
【００２２】
９２はディストリビュータ部であり、圧縮空気源と連通するための連結ポート部である。このディストリビュータ部９２に内嵌した主軸６２の先端部６２ａを、その先端部６２ａが回転できるように受けている。９４は連通路であり、管６４に連通している。また、９６はシール部材であり、このシール部材９６、９６にシールされて全周のリング状の空間９７が形成されており、そのリング状の空間９７に連通して高圧源連結ポート９８が設けられている。このため、先端部６２ａが回転しても、圧縮空気源は、高圧源連結ポート９８、リング状の空間９７、連通路９４、管６４を通して常に圧力室２４に連通できる。
【００２３】
１００はエンコーダ装置であり、主軸６２の回転位置を検知する。ここで検知したデータに基づいて、ウェーハの保持部４０を所定の位置で停止させる定位置停止装置の検知装置として作用する。
【００２４】
次に以上の構成からなるウェーハの研磨装置に関して、その作動状態について説明する。
先ず、所定の位置に載置されたウェーハ４２の上方からウェーハの保持部４０をシリンダ装置７０によって下降させ、保持プレート１２の表面に水の表面張力によって吸着させる。
次に、ベース部材６６を移動させることによりウェーハ４２を定盤５６の上方まで搬送し、さらに、シリンダ装置７０によって、ウェーハの保持部４０を下方に下げることにより、シリコンウェーハ４２の表面を定盤５６の研磨面６０に当接させる。
【００２５】
次に、所定の圧力の圧縮空気を圧力室２４に導入することによって、ウェーハ４２の表面を研磨面６０に所望の圧力で押圧することができる。このとき、圧縮空気は流体であるから保持プレート１２の全面を均等に押圧して、シリコンウェーハ４２の表面を研磨面６０の傾斜に素早く追随させることができる。
また、圧縮空気によって保持プレート１２の上面全面に均等な圧力を負荷することができる。このため、シリコンウェーハ４２の表面が研磨面６０の傾斜に追随した状態においても、シリコンウェーハ４２の表面全面を研磨面６０に均等な圧力で押圧することができる。
そして、上記の如く好適にシリコンウェーハ４２に荷重が負荷された状態で、定盤５６の研磨面６０上にスラリーを供給しつつ、定盤５６が回転すると共に駆動モータ８６の動力によりウェーハの保持部４０が回転されて、ウェーハ４２が鏡面研磨される。
このとき、ウェーハ４２を研磨する際に生ずる研磨面６０の傾斜等による上下動の変位に対しては、圧力室２４に充填された圧縮空気と主に板状の弾性部材４０とが作用して好適に追随することができる。
また、ヘッド部材１０に設けられた複数の凹部２８と、各凹部２８に対応して固定され、その凹部２８に所定の微小範囲内で相対的に移動可能に係合されたピン状部材３８とを備えていることで、保持プレート１２の移動を規制できる。従って、板状の弾性部材１４に作用する繰り返し加重を緩和できる。これにより、板状の弾性部材１４が損傷することを防止でき、結果的にエアーバッグ機能の低下を防止できる。
【００２６】
（第２実施例）
次に第２実施例について図４および５にもとづいて説明する。図４は第２実施例の要部側断面図であり、図５は図４のＣ−Ｃ断面図である。なお、第１実施例と同一の作用を奏する部材については第１実施例と同一の符号を附し、説明は省略する。
１１０は凹部であり、ヘッド部材１０の外壁側部１０ａに内側へ開口するように設けられている。１１２はガイド部材であり、樹脂材によって形成され、外壁側部１０ａに固定されている。
【００２７】
１１４はピン状部材であり、外方へ向かって保持プレート１２のウェーハを保持する平面と略平行に押さえリング２０に固定されている。１１６はベアリングであり、凹部１１０の内壁面に摺接して回動可能にピン状部材１１４の先端部に外嵌・装着されている。このように形成されたピン状部材１１４の先端が、凹部に遊嵌状態に且つ滑り可能に係合している。
このようにピン状部材１１４がウェーハを保持する平面と略平行に設けられていることで、保持プレート２０の水平方向および上下の移動を、ヘッド部材１０との相対的移動の発生する近傍で規制することができる。（保持プレート１２の移動を規制することによって発生する移動を防止する）確実に規制することができる。
また、ベアリング１１６の作用によって、保持プレート１２の水平方向または上下方向のうちの一方向の移動が規制された際にも他方向の移動を許容し、保持部材の移動をより好適に吸収できる。
【００２８】
次に第２実施例の変形例について図６に基づいて説明する。
図６に明らかなように、ピン状部材１１４の先端に鋼球１２０が回転可能に装着されている。これにより、ピン状部材１１４の先端がガイド部材１１２の内面に当接した場合でも滑ることが可能であり、保持プレート１２の移動を好適に許容できる。これにより、板状の弾性部材１４に作用する複合力を、好適に緩和できる。
【００２９】
以上に説明してきた実施例では、圧縮空気によって保持プレート１２を介してウェーハ４２を研磨面に押圧する場合を説明したが、他の流体圧例えば油圧を利用することもできる。
以上、本発明の好適な実施例について種々述べてきたが、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発明の精神を逸脱しない範囲内でさらに多くの改変を施し得るのは勿論のことである。
【００３０】
【発明の効果】
本発明によれば、保持部材が、板状の弾性部材によってヘッド部材の内部に吊持されている。これによって、定盤の研磨面の微小な面振れに追随し、ワーク全面を均等に押圧してワークを好適に鏡面研磨するためのエアーバック機能が得られる。
そして、前記保持部材またはヘッド部材の外壁部の一方に設けられた複数の被係合部と、前記保持部材または前記外壁部の他方に前記各被係合部に対応して固定され、該被係合部に所定の微小範囲内で上下方向および水平方向に相対的に移動可能に係合された係合部とを備えていることで、前記保持部材の移動を好適に規制できる。従って、板状の弾性部材に作用する繰り返し加重を緩和できる。これにより、板状の弾性部材が損傷することを防止でき、結果的にエアーバッグ機能の低下を防止できるという著効を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる第１実施例を示す要部側断面図。
【図２】図１のＡ−Ａ断面とＢ−Ｂ断面を示す説明図。
【図３】第１実施例を備えるウェーハの研磨装置を示す側断面図。
【図４】本発明にかかる第２実施例を示す要部側断面図。
【図５】図３のＣ−Ｃ断面図。
【図６】第２実施例の変形例を示す要部側断面図。
【図７】従来の技術を示す断面図。
【符号の説明】
１０  ヘッド部材
１２  保持プレート
１４  板状の弾性部材
１４ａ  外側部
１４ｂ  内側部
１６  側壁リング
２４  圧力室
２８  凹部
３６  ガイドリング
３８  ピン状部材
４０  保持部
４２  ウェーハ
５６  定盤
１１６  ベアリング
【図１】
0003704175.tif 000002
【図２】
0003704175.tif 000003
【図３】
0003704175.tif 000004
【図４】
0003704175.tif 000005
【図５】
0003704175.tif 000006
【図６】
0003704175.tif 000007
【図７】
0003704175.tif 000008