(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のポケット状成形部を一側面に有する連続成形シートを送り、送りの途中部分で成形シートを真空処理室内に通し、真空処理室内にある成形シート部分の両端部を真空処理室壁部の対向する一対の縁部の間で気密に挟持した状態で、真空処理室内に前記成形シート部分を伸長させ、真空処理室内にデポジット層となる原料および反応ガスを送り込み、真空処理室内に放電を生じさせ、ＰＣＶＤ法により前記成形シート部分の表面にデポジット層を形成し、以上の工程を順次繰返して、前記成形シート部分に続く他の成形シート部分に連続的にデポジット層を形成する表面デポジット層成形方法において、
センサにより、真空処理室壁部の一対の縁部の間に連続成形シートの平坦部分があることを検出し、
センサからの検出信号に基づいて、制御器により、真空処理室内にある成形シート部分の両端部を真空処理室壁部の一対の縁部の間で気密に挟持するよう制御を行うことを特徴とする連続成形シートへの表面デポジット層成形方法。
【請求項２】
複数のポケット状成形部を一側面に有する連続成形シートの表面にデポジット層を形成する表面デポジット層形成装置において、
第１の処理室部分および第２の処理室部分からなりこれらの処理室部分の間に真空領域を形成する開閉可能の真空処理室と、
真空処理室外の一側の入口側に設けられた連続成形シートの巻出しロールと、
真空処理室外の他側に設けられた連続成形シートの巻取りロールと、
前記巻出しロールから送出される連続成形シートを、真空処理室内部を経て前記巻取りロールに巻取らせるように案内する案内手段と、
真空処理室に設けられたＰＣＶＤ装置と、
真空処理室内にある成形シート部分の両端部を第１の処理室部分の当接縁部と第２の処理室部分の当接縁部との間で気密に挟持して、該成形シート部分を真空処理室内で不動状態で伸長させるように真空処理室に設けた成形シート部分両端部保持手段と、
真空処理室外の入口近傍に設けられ、第１の処理室部分の当接縁部と第２の処理室部分の当接縁部との間に連続成形シートの平坦部分があることを検出するセンサと、
センサからの検出信号に基づいて、第１の処理室部分および／または第２の処理室部分を移動させて真空処理室内にある成形シート部分の両端部を第１の処理室部分の当接縁部と第２の処理室部分の当接縁部との間で気密に挟持するよう制御を行う制御器とを備えることを特徴とする連続成形シートへの表面デポジット層形成装置。
【請求項３】
複数のポケット状成形部を一側面に有する連続成形シートの表面にデポジット層を形成する表面デポジット層形成装置において、
入口および出口に一対の摺動可能なシャッタをそれぞれ有し開閉可能の真空処理室と、
真空処理室外の一側の入口側に設けられた連続成形シートの巻出しロールと、
真空処理室外の他側に設けられた連続成形シートの巻取りロールと、
前記巻出しロールから送出される連続成形シートを、真空処理室内部を経て前記巻取りロールに巻取らせるように案内する案内手段と、
真空処理室に設けられたＰＣＶＤ装置と、
真空処理室内にある成形シート部分の両端部を一対のシャッタの各当接縁部の間で気密に挟持して、該成形シート部分を真空処理室内で不動状態で伸長させるように真空処理室に設けた成形シート部分両端部保持手段と、
真空処理室外の入口近傍に設けられ、一対のシャッタの各当接縁部の間に連続成形シートの平坦部分があることを検出するセンサと、
センサからの検出信号に基づいて、一対のシャッタを閉じて真空処理室内にある成形シート部分の両端部を一対のシャッタの各当接縁部の間で気密に挟持するよう制御する制御器とを備えることを特徴とする連続成形シートへの表面デポジット層形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、例えば包装体、特に医薬品などのためＰＴＰ包装体のような連続成形シートに表面デポジット層を形成する方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
多数個の錠剤やカプセル剤などの医薬品を収容するために、ＰＴＰ（Press through pack）包装と呼ばれる包装体が広く知られている。ＰＴＰ包装体は、図４および図５に示すように、多数のポケット状成形部２を一面側に有し熱可塑性合成樹脂からなる成形シート１と、各ポケット状成形部２内に収容された医薬品等の内容物を外気から遮断しかつポケット成形部２の開口を閉塞するように前記成形シート１の他面側に接合した閉塞シート３とから構成されている。
【０００３】
この種ＰＴＰ包装体の成形シートを構成する熱可塑性合成樹脂材料としては、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂などが使用され、また、閉塞シートの材料としては、典型的には、ヒートシール剤をコートしたアルミ箔、またはヒートシールフィルムをラミネートしたアルミ箔が使用されている。
【０００４】
このようなＰＴＰ包装体においては、合成樹脂からなる成形シートの水蒸気、ガスの透過性が医薬品等の被包装物の安定性を左右することになる。したがって、水蒸気、ガス等の影響を受け易い被包装物のＰＴＰ包装体においては、より大きなバリア性を与えるために、成形シートにバリヤ性に優れたバリヤ層を施すことが行われる。バリア層としては、金属、セラミックス、金属酸化物の蒸着層が用いられることが多い。このようなバリア層の成形は、一般的にはＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法で行われている。
【０００５】
従来行われている金属、セラミックス、金属酸化物等の蒸着法としては連続式巻取り蒸着法が過去に数例提案されている（例えば特開平４−１５４９６８号公報参照）。この従来法を図６について説明すると、同図において、真空処理室４内に冷却ロール５が矢印方向に回転可能に設けられ、前述のようなポケット成形部２を有する連続成形シート１が、真空処理室４内の巻出しロール６ａから繰出され、ガイドロール７ａ、冷却ロール５、ガイドロール７ｂを経て真空処理室４内の巻取りロール６ｂに巻きとられるようになっている。冷却ロール５はその内部に冷却媒体が流通するようになっている。冷却ロール５の下方にはるつぼ８があり、このるつぼの中の蒸着原料Ｍ（例えば金属、セラミックス、金属酸化物）が加熱源９により加熱される。真空処理室４内の真空雰囲気中でるつぼ８から蒸発した原料Ｍは、図７に示すように冷却ロール５の下周面に接触して停止している連続成形シート１の表面に蒸着される。冷却ロール５は、蒸着時に高温になるシート１を冷却するために設けられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上の構成をもつ従来の蒸着法では、まず真空処理室４内に連続成形シート１の巻出しロール６ａを収容して、シート１を引出して冷却ロール５の周面を通って巻取りロール６ｂに巻き、次いで処理室４を減圧後、蒸着を行うが、巻出しロール６ａおよび巻取りロール６ｂの最大時の直径は１ｍ程度にもなり、そのため装置そのものが全体的に巨大になってしまう欠点がある。シート１はポケット成形部２を有するから、それを巻くと、図８に示すようにシート１の一巻き同士の間がポケット成形部２により占められるためロール６ａ，６ｂの径が大きくなるのであり、しかも２個のロール６ａ，６ｂをも収容するために真空処理室４自体も大きくなる。
【０００７】
また、ＰＶＤ法では、蒸着可能な真空度が１０-6Torrと大きいために、大きな真空処理室４がその真空度に達するのにかなりの時間がかかり、また、一巻きのシート１の蒸着完了の度にその交換のために蒸着作業を中止しなければならず、しかもロール６ａ，６ｂが大きい割に巻き長さが短いため、ロール交換が頻繁になって、コストが増大する。さらに、真空処理室４が大きいと、その内部の真空度が変動し易く不安定になりがちで、そのため蒸着が不安定になって蒸着膜の均一性が失われ、製品の品質低下を招き易い。
【０００８】
さらにまた、成形シート１は立体的形状をもつために、図７に示すように冷却ロール５に接しない部分（例えばポケット成形部２）があり、この部分は冷却を受けにくいために損傷を受けて蒸着膜が形成されないことがある。また、冷却ロール５と接しているシート１の部分には、ロール周方向の張力がかかるため、ポケット成形部２が変形したり、蒸着層にクラックが発生する可能性がある。そして、これを防ぐために張力を低くするとロールの巻取りが弛むという問題が生じ、しかも張力の低下により蒸着面に不平滑部ができて蒸着膜の質が低下する。
【０００９】
本発明は、従来技術の上述の問題点を解決するためにされたもので、その目的は、真空処理室の容積を小さくすることができるため、装置の占有スペースを小さくすることが可能となるとともに、真空処理室内の所定の真空への到達時間を短くすることができ、かつ真空度の安定を保つことが可能であり、しかも冷却ロールによる冷却が不要なために、成形シートの熱損傷の問題がなく、また成形シートに特に大きな張力をかける必要がないために、成形部の変形やシートに特に大きな張力をかける必要がなく、このため成形部の変形や形成されるバリア層すなわちデポジット層のクラックの問題がなく、結果として、形成されるデポジット層の品質が優れ、しかもデポジット膜形成作業を短時間で効率よく行うことができる連続成形シートへの表面デポジット層形成方法および装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明による連続成形シートへの表面デポジット層成形方法は、複数のポケット状成形部を一側面に有する連続成形シートを送り、送りの途中部分で成形シートを真空処理室内に通し、真空処理室内にある成形シート部分の両端部を真空処理室壁部の対向する一対の縁部の間で気密に挟持した状態で、真空処理室内に前記成形シート部分を伸長させ、真空処理室内にデポジット層となる原料および反応ガスを送り込み、真空処理室内に放電を生じさせ、ＰＣＶＤ法により前記成形シート部分の表面にデポジット層を形成し、以上の工程を順次繰返して、前記成形シート部分に続く他の成形シート部分に連続的にデポジット層を形成する表面デポジット層成形方法において、センサにより、真空処理室壁部の一対の縁部の間に連続成形シートの平坦部分があることを検出し、センサからの検出信号に基づいて、制御器により、真空処理室内にある成形シート部分の両端部を真空処理室壁部の一対の縁部の間で気密に挟持するよう制御を行うことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明による連続成形シートへの表面デポジット層形成装置は、複数のポケット状成形部を一側面に有する連続成形シートの表面にデポジット層を形成する表面デポジット層形成装置において、第１の処理室部分および第２の処理室部分からなりこれらの処理室部分の間に真空領域を形成する開閉可能の真空処理室と、真空処理室外の一側の入口側に設けられた連続成形シートの巻出しロールと、真空処理室外の他側に設けられた連続成形シートの巻取りロールと、前記巻出しロールから送出される連続成形シートを、真空処理室内部を経て前記巻取りロールに巻取らせるように案内する案内手段と、真空処理室に設けられたＰＣＶＤ装置と、真空処理室内にある成形シート部分の両端部を第１の処理室部分の当接縁部と第２の処理室部分の当接縁部との間で気密に挟持して、該成形シート部分を真空処理室内で不動状態で伸長させるように真空処理室に設けた成形シート部分両端部保持手段と、真空処理室外の入口近傍に設けられ、第１の処理室部分の当接縁部と第２の処理室部分の当接縁部との間に連続成形シートの平坦部分があることを検出するセンサと、センサからの検出信号に基づいて、第１の処理室部分および／または第２の処理室部分を移動させて真空処理室内にある成形シート部分の両端部を第１の処理室部分の当接縁部と第２の処理室部分の当接縁部との間で気密に挟持するよう制御を行う制御器とを備えることを特徴とする。
【００１２】
さらに、本発明の連続成形シートへの表面デポジット層形成装置は、複数のポケット状成形部を一側面に有する連続成形シートの表面にデポジット層を形成する表面デポジット層形成装置において、入口および出口に一対の摺動可能なシャッタをそれぞれ有し開閉可能の真空処理室と、真空処理室外の一側の入口側に設けられた連続成形シートの巻出しロールと、真空処理室外の他側に設けられた連続成形シートの巻取りロールと、前記巻出しロールから送出される連続成形シートを、真空処理室内部を経て前記巻取りロールに巻取らせるように案内する案内手段と、真空処理室に設けられたＰＣＶＤ装置と、真空処理室内にある成形シート部分の両端部を一対のシャッタの各当接縁部の間で気密に挟持して、該成形シート部分を真空処理室内で不動状態で伸長させるように真空処理室に設けた成形シート部分両端部保持手段と、真空処理室外の入口近傍に設けられ、一対のシャッタの各当接縁部の間に連続成形シートの平坦部分があることを検出するセンサと、センサからの検出信号に基づいて、一対のシャッタを閉じて真空処理室内にある成形シート部分の両端部を一対のシャッタの各当接縁部の間で気密に挟持するよう制御する制御器とを備えることを特徴とする。
【００１３】
また、デポジットされる領域を生産コスト・ＰＴＰポケットの大きさ・ポケット毎のデポジット層の安定性の理由より変えたい場合は、真空処理室の大きさによって任意に変えることができる。
【００１４】
前記成形シート部分両端部保持手段は、真空処理室の両側壁部により構成することができる。このためには、真空処理室を２つの処理室部分に分割し、それらの部分が真空処理室の閉鎖のために互いに近付いて当接する時に、それらの当接縁部間で成形シート部の両端を挟んで保持するようにする。または、真空処理室の両側壁に入口および出口を設け、これらの入口および出口をそれぞれ開閉する１対のシャッタが互いに近付いて閉じる時に、それらの当接縁部間で成形シート部分両端を挾持して保持してもよい。
【００１５】
【作用】
真空処理室外一側すなわち入口側の巻出しロールから引出された連続成形シートを真空処理室の部分に通して、真空処理室外他側の巻取りロールに巻きとらせ、次いで真空処理室を閉じると、真空処理室の両側壁部で、真空処理室内にある連続成形シート部分の両端部が気密に保持され、連続成形シート部分は真空処理室内でその一側から他側にわたり伸長して張渡される。この状態で真空処理室内を排気して真空にし、かつ原料および反応ガスを真空処理室内に供給して、ＰＣＶＤ法により連続成形シート部分の表面にデポジット層を形成する。次いで、真空処理室を開き、連続成形シートを解放して先へ送った後、再び上述した工程を反復して連続成形シートの表面に順次デポジット層を形成していく。
【００１６】
また、連続成形シートが真空処理室から出た後、巻取りロールで巻取らずにシートを所定の幅に裁断する場合もある。ポケット毎のデポジット層のバラツキを改善するため真空処理室の大きさを可変にして、デポジット領域を任意に設定することができる。
【００１７】
【実施例】
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
【００１８】
本発明によれば、ポケット成形部２のような成形部をもつ連続成形シート１へのバリア層、すなわちデポジット層の形成が、従来例のようなＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法ではなく、ＰＣＶＤ（Plasma Chemical Vapor Deposition）法により行われる。ＰＣＶＤ法は、ＰＶＤ法で要求される真空度である１０-6Torrよりはるかに低い真空度１０-2Torrで、高周波グロー放電や低圧アーク放電を利用して反応ガスをイオンやラディカルに励起し、それらの化学反応によってデポジット層を形成する方法であって、化学反応に熱励起を行なわない方法である。この方法では、プラズマを発生させるために、１０-2Torr以下の真空で一般的に直流あるいは高周波電界を印加する。
【００１９】
図１は、本発明で用いるＰＣＶＤ法によるデポジット層形成装置を示す。同図において、１４は、第１の（上部）処理室部分１４ａおよび第２の（下部）処理室部分１４ｂからなる真空処理室である。これらの処理室部分１４ａ，１４ｂは、いずれか一方、または両方が互いに近付く方向へ可動になっており、図２に示すように互いに最も近付いた時に一つの室を形成できるようになっている。両処理室部分１４ａ，１４ｂが互いに当接した時には、それらの当接縁部１８ａ，１８ｂが気密に接するように、シール部１９ａ，１９ｂを設けるのが望ましい。当接縁部１８ａ，１８ｂは成形シート１の両端部保持手段を構成する。
【００２０】
第１処理室部分１４ａはその上壁内側にマグネットＭｇが取付けられており、このマグネットＭｇは、外部の電源２０（例えば高周波電源）に接続されている。また、第１処理室部分１４ａにはその上壁部等に原料・反応ガス導入管２１が設けられている。原料は原料タンク２２に貯えられていて、蒸発装置２３を通って蒸発させられ、原料ガスとして導入管２１へ送り込まれる。また、反応ガスは、反応ガスボンベ２４に貯えられていて、流量調節装置２５により流量を調節されて導入管２１へ送り込まれる。原料ガスと反応ガスの混合割合は、流量調節装置２５の制御により変えられる。このようにして、原料ガスと反応ガスの混合物は導入管２１を経て真空処理室１４内に供給されるようになっている。また、第２処理室部分１４ｂには、処理室１４内を真空にする際に用いる真空ポンプ２７をもつ吸引管２８が接続されている。
【００２１】
真空処理室１４の外側の一側の入口側には、巻出しロール１６ａが、また他側の出口側には巻取りロール１６ｂが設けられており、巻出しロール１６ａから送り出されたポケット成形部２をもつ連続成形シート１は、ガイドロール１７ａを経て図１に示すように１対の処理室部分１４ａ，１４ｂの間の空間を通され、次いでガイドロール１７ｂを経て巻取りロール１６ｂに巻取られるようになっている。
【００２２】
真空処理室１４の当接縁部１４ａまたは１４ｂの近傍には、連続成形シート１の各ポケット成形部２を検出するためのセンサ２６が設けられている。このセンサ２６は接触式センサでもよいが、非接触式センサが好ましい。例えば、ポケット成形部２を光電的に検出するセンサとすることができる。ポケット成形部２の位置では、それがない平坦なシート部分よりも、センサ２６の発光部から出て連続成形シート１で反射して受光部へ戻る光量が乱反射等のために少なくなるので、センサ２６がそれを検出して信号を発するようにすることができる。この場合には、センサ２６が成形部２を検出する位置で成形シート１の平坦部が当接縁部１８ａ，１８ｂに対向するようにセンサの位置設定をしておけばよい。センサ２６からの検出信号は、巻取りロール１６ｂを巻取りのために回転駆動するモータＭｔの制御器３０へ入力する。
【００２３】
次に、以上に述べたデポジット層成形装置の作用を説明する。
【００２４】
本発明の方法で用いるデポジット層の材質は、金属、セラミックス、金属酸化物であるが、ＰＣＶＤ法により成膜できるものであれば、どの材料でもよい。しかし、透明セラミックスが好ましく、特に酸化ケイ素ＳｉＯｘ（ｘ＝１〜２）がよい。これは、成膜特性の点、およびＰＴＰとして中味が良く見える点から考えられることである。
【００２５】
まず、図４、図５のように予め成形された連続成形シート１を図８に示す形態で巻取りロール１６ａに巻きとっておく。この時、成形部２が潰れないように巻き張力を調整する。そして、図１のように真空処理室１４が開放されている状態で、シート１をガイドロール１７ａ，１７ｂ間に通したうえ、巻取りロール１６ｂをモ−タＭｔで矢印方向に回転駆動する。そして、隣接する成形部２，２の間の平坦なシート面が当接縁部１８ａ，１８ｂに対向する位置に来た時に、成形部２が当接縁部１８ａ，１８ｂに対向していないことをセンサ２６が検出して信号を出力し、それが制御器３０に入力されて、モータＭｔが瞬時にて停止させられる。これによって、成形シート１の送りが停止する。
【００２６】
一方、制御器３０はそれへの入力に応じて真空処理室１４の開閉用駆動機構２９へ信号を送り、これにより、真空処理室１４が閉鎖させられる。この閉鎖は、前述のように第１、第２の処理室部分１４ａ，１４ｂの双方または一方が移動することにより行われる。真空処理室１４の閉鎖によって、その当接縁部１８ａ，１８ｂは図２に示すように閉鎖して、それらの間に成形シート１の平坦部分を挟んで保持する。これによって、真空処理室１４内にある成形シート部分１ａは図２のように両側の当接縁部間に直線状に張渡されるようになる。そして、真空処理室１４は外部に対してシールされる。
【００２７】
次いで、、真空ポンプ２７を運転して室１４内を、１０-1から１０-4Torrの成膜可能な真空度、好ましくは１０-2Torrまで減圧する。原料は、モノシラン（ＳｉＨ４）ガス、またはテトラメチルジシロキサン、またはヘキサメチルジシロキサンを用いることができる。また、反応ガスとしては、酸素、窒素、アルゴン等を用いることができる。そして、電源２０を接続して真空処理室１４内でグロー放電やＥＣＲ放電を生起させると、ＰＣＶＤ法により、ＳｉＯｘ等のデポジット層が成形シート１の面に形成される。勿論、成形部２にもデポジット層が形成される。図２中、Ｐはプラズマプロセスが行われていることを示している。デポジット層の膜厚は、１０〜３０００オングストロームであり、好ましくは１００〜４００オングストロームである。
【００２８】
デポジット層の形成後、図１に示すように真空処理室１４を開放し、モータＭｔによって巻取りロール１６ｂを駆動し、成形シート１を先へ送り、デポジット層の形成されていない成形シート部分を真空処理室１４の領域に搬送し、前述したと同じプロセスを反復して行う。これによって、成形シート１の全域にわたりデポジット層が順次形成されたシートのロールが巻取りロール１６ｂ上に得られる。
【００２９】
図３は、本発明によるデポジット層形成装置の他の実施例を示す。この実施例が図１および図２の実施例と異なる点は、真空処理室１４Ａが第１および第２の処理室部分に分割されておらず不動の１個の処理室からなり、処理室１４Ａの開閉を行うためと成形シート１を通すために、入口３２ａおよび出口３２ｂが両側に設けられ、これらの入口および出口を開閉するように各１対のシャッタ３３ａ、３３ｂが設けられていることである。入口側および出口側の一対のシャッタ３３ａ、３３ａ、３３ｂ、３３ｂは、それぞれ、専用の駆動源（例えば電磁ソレノイド）３４ａ、３４ｂに連結されており、入口３２ａ、出口３２ｂに沿って図３で上下方向に摺動可能である。この摺動のために、真空処理室１４Ａの側壁に適当な摺動ガイド（図示しない）を設けることができる。駆動源３４ａ、３４ｂは真空処理室１４Ａの外壁に支持することができる。真空処理室１４Ａのシールのために、対をなすシャッタ３３ａ、３３ａおよび３３ｂ、３３ｂの対向縁部に図１の場合と同様にシール部を設けることができる。シャッタ３３ａ、３３ｂの対向する当接縁部は成形シート端部の保持手段を構成する。以上に説明しなかった部分には、図１および図２と同じ符号を付して説明を省略する。これらは、図１および図２のものと均等の部分である。
【００３０】
この実施例では、真空処理室１４Ａ内での成膜の際には、対をなすシャッタ３３３ａ、３３ａ、３３ｂ、３３ｂを互いに近付けて当接させることにより、真空処理室を閉鎖しかつ対をなすシャッタの対向縁部で成形シート１の平担部を挾んで保持する。また、対をなすシャッタ３３ａ、３３ｂを互いに離れる方向に摺動させると、入口３２ａおよび出口３２ｂが開放されて、成形シート１を先へ送ることができる。この実施例では、真空処理室１４Ａの本体を開閉のたびに移動させる必要がないので、動作が安定する。なお、駆動源３４ａ、３４ｂは制御器３０からの信号により作動する。
【００３１】
図９は、もう一つの実施例を示す。この実施例が図１、図２および図３の実施例と異なる点は、連続成形シートをデポジット後にロール状に巻き取らずに所定の幅に裁断する点である。
【００３２】
デポジットされた連続成形シートはシート送りロール３５によって送られる。この送りロール３５の断面は、図１０（ａ），（ｂ）に示すように外周面が３８で示すように凹状になっており、ポケット成形部２が潰れないようになっている。図１０（ａ）のように、凹部３８を１つ持った構造でも良いし、図１０（ｂ）ような凹部３８を複数個持った構造でも良い。また、ロール３５の表面はゴムからなり、連続成形シートは滑らずに送られる。送りロール３５はモーターＭｔによって回転し、所定の位置に送られたことをセンサ２６が検出して信号を出力すると、それが制御器３０に入力されて、モーターＭｔは瞬時に停止させられる。これによって、成形シート１の送りが停止する。
【００３３】
図１，２の実施例の場合と同様の方法で成形シート１の表面にデポジット処理がなされ、真空処理室１４から出て図９のようになった状態で、成形シート１はカッタ３６により所定幅に裁断される。裁断された成形シートは取り除かれ、真空処理室１４が開かれ連続成形シートはまた送りロール３５によって所定の位置まで送られる。
【００３４】
次に、本発明の具体的実施例を述べる。
【００３５】
実施例
２００μｍのＰＥＴ原反シートをプラグアシスト圧空成形方式により、包装用連続成形シートに成形した。これを、ロールに巻き取り、図１、図２のデポジット層形成装置によりＳｉＯｘ膜を３００オングストローム厚さで成膜した。原料は、テトラメチルジシロキサンを用い、反応ガスとして酸素、窒素、アルゴンを用いた成膜後ＳＥＭにより表面を観察し、均一にＳｉＯｘ膜が成膜されていることを確認した。また、クラックは全く無かった。ポケットの潰れ、熱ダメージも全く無かった。
【００３６】
評価には、１ポケット当たりの透湿度を測定した。測定方法は、ＪＩＳ−Ｚ−０２０８に基づく。
【００３７】
比較例として、同一のＰＴＰ原反シートを通常の連続巻取り蒸着機によりＳｉＯｘ膜を成膜した。
【００３８】
0003652726.tif 000002
【００３９】
【発明の効果】
本発明による連続成形シートへの表面デポジット層形成方法および装置によれば、巻出しロールおよび巻取りロールが真空処理室外にあるので、真空処理室の容積が小さくなり、占有スペースが少なくてすみ、装置全体が小型になるとともに、真空処理室内の所定の真空への到達時間が短くかつ真空度の安定が保たれる。また、本発明では、ＰＣＶＤ法を用いることにより冷却ロール等による成形シートの冷却が不要で、成形シートの熱損傷の問題がなくなり、さらに冷却ロールが不要のため、成形シートに格別の張力を掛ける必要がなく、成形部の変形やデポジット層のクラックの発生がない。また、真空処理室の一部が、真空処理室内にある成形シート部分の両端を保持するので、成形シートが一定の位置に保持され、優れた品質のデポジット層が形成される。また、ロールの着脱を真空処理中に行うこともでき、作業能率が向上する。デポジット層の形成後に成形シートを所定幅に裁断すれば、成形シートは直ちに包装工程へ回すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の開放状態での縦断面略図。
【図２】図１の実施例の閉鎖状態での縦断面略図。
【図３】本発明の他の実施例の閉鎖状態での縦断面略図。
【図４】成形シートの一例の平面図。
【図５】図４の正面図。
【図６】従来の連続成形シートデポジット層形成装置の縦断面図。
【図７】図６の冷却ロール部の拡大図。
【図８】図６のロール部の拡大図。
【図９】本発明の他の実施例の閉鎖状態での縦断面略図。
【図１０】図９の送りロールの変形例を示す図。
【符号の説明】
１  連続成形シート
１ａ  成形シート部分
２  ポケット成形部
３  閉塞シート
１４，１４Ａ  真空処理室
１４ａ  第１の処理室部分
１４ｂ  第２の処理室部分
１６ａ  巻出しロール
１６ａ  巻取りロール
１８ａ，１８ｂ  当接縁部
１９ａ，１９ｂ  シール部
Ｍｇ  マグネット
２０  電源
２１  原料・反応ガス導入管
２２  原料タンク
２３  蒸発装置
２４  反応ガスボンベ
２５  流量調節装置
２６  センサ
２７  真空ポンプ
２８  吸引管
２９  真空処理室開閉用駆動機構
Ｍｔ  モータ
３０  制御器
Ｐ    プラズマプロセス
３２ａ  入口
３２ｂ  出口
３３，３３ｂ  シャッター
３４ａ，３４ｂ  駆動源
３５  送りロール
３６  カッター
【図１】
0003652726.tif 000003
【図２】
0003652726.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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