(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量率でＣｒ：０．０５〜１．０％、Ｚｒ：０．０５〜０．２５％を含み、更にＺｎ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｐ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｂ、Ｃｏ及びＳｉのうち１種又は２種以上、総量で０．０１〜１．０％含有すると共に、残部がＣｕ及び不可避的不純物から成る成分組成からなり、かつ粒径２μｍ以上の介在物の中に含有されるＺｎ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｐ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｂ、Ｃｏ及びＳｉが総量で５％以下であることを特徴とする易加工高力高導電性銅合金。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は易加工高力高導電性銅合金に関するものであり、さらに詳しく述べるならば、各種端子、コネクター、リレーまたはスイッチ等に使用される導電性ばね材に関する。
【０００２】
【従来の技術】
各種端子、コネクター、リレーまたはスイッチ等に使用される導電性ばね材には、次のような材料特性が求められている。
（ａ）薄い板厚においても高い接触圧を生じるための十分な強度を有すること。
（ｂ）応力緩和率が低く、高温下で長期間使用しても接触圧が低下しないこと。
（ｃ）導電率が高く、通電時にジュール熱の発生しにくいこと、また、発生する熱を放散しやすいこと。
（ｄ）厳しい曲げ加工を行っても曲げ部に割れや肌あれを生じないこと。
（ｅ）高いばね応力まで使用できるようにばね限界値が高いこと。
【０００３】
そして、各種端子、コネクター、リレーまたはスイッチ等に使用される導電性ばね材として、従来、りん青銅が使用されてきた。ところが、近年、電子機器類およびその部品には小型化、薄肉化が要求されている。このような要求に応えるためにＣｕ−Ｃｒ系銅合金あるいはＣｕ−Ｃｒ−Ｚｒ系銅合金が種々開発されている。
【特許文献１】
特開平９−０８７８１４号公報
【特許文献２】
特開平７−２５８８０４号公報
【特許文献３】
特開平７−２５８８０６号公報
【特許文献４】
特開平７−２５８８０７号公報
【特許文献５】
特開平７−２６８５７３号公報
【特許文献６】
特許２６８２５７７号公報
【０００４】
Ｃｕ−Ｃｒ系銅合金あるいはＣｕ−Ｃｒ−Ｚｒ系銅合金においては、溶体化処理後に時効させることにより銅母相中にＣｒ、ＺｒあるいはＣｕ−Ｚｒを析出させて強度の向上を図っている。しかしながら、溶解工程で溶けきれないため、あるいは、鋳造工程で晶出あるいは析出するため、合金中にＣｒ、Ｃｕ−Ｚｒ、あるいはＺｒ−Ｓを基とした介在物が生じるが、介在物の寸法が大きすぎると強度やエッチング性が劣化し好ましくない。
【０００５】
Ｚｎ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｐ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｂ、Ｃｏ、及びＳｉの添加元素群（以下、「第３元素」という。）は、強度向上、半田濡れ性向上のために、Ｃｕ−Ｃｒ系銅合金あるいはＣｕ−Ｃｒ−Ｚｒ系銅合金に対し添加することが知られている。
【０００６】
そして、Ｃｕ−Ｃｒ系銅合金あるいはＣｕ−Ｃｒ−Ｚｒ系銅合金は、一般的に、原料配合、溶解、鋳造、均質化焼鈍、熱間圧延、（冷間圧延）、溶体化処理、冷間圧延、時効処理（冷間圧延）の工程を順次行って製造される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、発明者は、Ｃｕ−Ｃｒ系銅合金あるいはＣｕ−Ｃｒ−Ｚｒ系銅合金中の介在物について研究し、所定寸法以上の粗大介在物にいわゆる第３元素が取り込まれると母相への固溶強化や析出強化が著しく低下することを見出した。そこで、本発明の目的は、いわゆる第３元素の作用を損なうことのない易加工高力高導電性銅合金を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、発明者は鋭意研究を行い、本発明に至ったものであるが、本発明は、請求項１に記載のように、質量率でＣｒ：０．０５〜１．０％、Ｚｒ：０．０５〜０．２５％を含み、更にＺｎ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｐ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｂ、Ｃｏ及びＳｉのうち１種又は２種以上、総量で０．０１〜１．０％含有すると共に、残部がＣｕ及び不可避的不純物から成る成分組成からなり、かつ粒径２μｍ以上の介在物の中に含有されるＺｎ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｐ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｂ、Ｃｏ及びＳｉが総量で５％以下であることを特徴とする易加工高力高導電性銅合金である。
【０００９】
【作用】
Ｃｒ、Ｚｒ：
合金を溶体化処理後、時効させることにより、Ｃｒ、Ｚｒは銅母相中に析出して強度向上に寄与する。Ｃｒは含有量が０．０５％未満ではその作用による寄与が得られず、１．０％を超える添加で更なる強度の向上は得られない。Ｚｒは含有量が０．０５％未満ではその作用による寄与が得られず、０．２５％を超える添加で更なる強度上昇は得られない。
【００１０】
Ｚｎ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｐ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｂｅ、Ａｌ、Ｂ、Ｃｏ及びＳｉ（第３元素）
これらの元素は何れも導電率を大きく低下させずに銅母相中に固溶、析出し、主として強度向上に寄与する。添加量が０．０５％以下ではその寄与は小さく、１．０％以上では導電率を低下させることから０．０５％以上１．０％以下とした。
【００１１】
導電率と強度のバランスから、第3元素は少量の添加で大きな強度上昇を得ることが好ましいが、添加量の一部は粗大介在物に取りこまれることによって強度向上に寄与していない。第３添加元素が含まれた粗大介在物はインゴット内の偏析に起因することを発明者は見出した。本発明では、均質化焼鈍、熱間圧延の条件を制御することにより第3元素が含まれた粗大介在物を減少させることに成功した。よって、少量の第３添加元素添加で大きな強度向上を得ることができる。
【００１２】
本発明が問題にする第３元素を含む介在物は粗大介在物である。その介在物寸法が２μｍ未満の場合、介在物に含まれる第3元素の割合は、熱間圧延以後の熱処理（溶体化処理、時効処理等）の影響を受けやすいが、２μｍ以上の介在物は熱間圧延後の熱処理によっても安定に存在する。また、溶体化処理により、介在物に含まれる第３元素の割合を低減させると、結晶粒が粗大化するため強度、加工性の観点から好ましくない。一方で均質化焼鈍、熱間圧延の条件を制御することにより、２μｍ以上の介在物のみならず、２μｍ未満の介在物についても介在物中に含まれる添加元素の質量率を低下させることができるため介在物寸法を２μｍ以上とした。
【００１３】
２μｍ以上の介在物に含まれる添加元素の総量が２μｍ以上の介在物の総量に対して５％より多量に存在するとき、第３元素添加による強度上昇の寄与を小さくするため、介在物中に含まれる第３元素の重量含有量は５％以下とした。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る易加工高力高導電性銅合金の実施形態について、詳細に説明する。
【００１５】
電気銅あるいは無酸素銅を主原料とし、成分組成を所定の割合で配合し、溶解炉にて溶解した後に、インゴットを不活性雰囲気または真空中にて鋳造した。次に、インゴットを９００℃以上の温度で３００ｍｉｎ以上の均質化焼鈍した後に、圧延加工度５０％以上、熱間圧延終了時の材料温度が６００℃以上になるような熱間圧延を実施する。熱間圧延以降については冷間圧延、溶体化処理、時効処理、冷間圧延、歪取焼鈍の従来の製造工程、従来の製造条件で実施した。
【００１６】
すなわち、本発明の実施形態の製造方法は、従来方法とは異なり、均質化焼鈍、熱間圧延を次の条件で行うことを特徴とする。
１）均質化焼鈍が９００℃以上の温度で３００ｍｉｎより長時間行われること。
２）熱間圧延の加工率が５０％以上であること。
３）熱間圧延終了時に材料温度が６００℃以上であること。
【００１７】
実施例及び比較例について表１に示す化学組成でインゴットを溶製した。なお、実施例の番号と比較例の番号が同じもの（例えば実施例１と比較例１、実施例２と比較例２など）は、同じような化学組成になるように調整をした。インゴット溶製後、均質化焼鈍、熱間圧延、冷間圧延、溶体化処理、時効処理、冷間圧延、歪取焼鈍の製造工程を順次経て板厚０．１５ｍｍの製品を作製した。
【表１】
0003699701.tif 000002
均質化焼鈍工程及び熱間圧延工程については、実施例及び比較例について、表２に示すような均質化焼鈍の温度、熱間圧延の加工度および熱間圧延終了時の材料温度を設定し、実施した。熱間圧延以降の工程については従来の条件で実施した。
【表２】
0003699701.tif 000003
実施例については００１６欄に上述した１）、２）、３）の製造方法上の特徴をすべて満たしているが、比較例については００１６欄に上述した１）、２）、３）の製造方法上の特徴のいずれかを満たしていない。
【００１８】
以上のようにして得た実施例及び比較例の銅合金について、析出物寸法及び組成同定のために、例えば歪取焼鈍後の板材を機械研磨後、電解研磨を行い、析出物をSEM等で観察、ＡＥＳで同定することにより行った。また、得た銅合金の特性評価のために、引張試験、Ｗ曲げ試験（圧延直角方向、Ｒ／ｔ=１（Ｒ=０．１５、ｔ＝０．１５）、その他の条件は日本伸銅協会技術標準に定められた方法に従う）、４端子法による導電率測定を行った。なお、Ｗ曲げ試験において日本伸銅協会技術標準に定められたＡ、Ｂ、Ｃランクのものを「良」とし、Ｄ、Ｅランクのものを「悪」とした。
【００１９】
本発明合金の実施態様と比較例についての特性を表３に示す。
【表３】
0003699701.tif 000004
【００２０】
実施例と比較例の番号が同じもの（例えば実施例１と比較例１、実施例２と比較例２など）を比較すると、化学組成はほぼ同一ではあるが、製造条件が異なっている。表２に示したように、実施例はいずれも、均質化焼鈍の温度、熱間圧延の加工度および熱間圧延終了時の材料温度について、００１６欄に上述した１）、２）、３）の条件を満足しており、２μｍ以上の介在物に含まれる第３元素の含有量が５％以下である。比較例は、比較例１、２、３、１１、１２は均質化焼鈍の温度、比較例４、５、６、１３、１４、１５は熱間圧延の加工度、比較例７、８、９、１０、１６、１７は熱間圧延終了時の材料温度について、００１６欄に上述した１）、２）、３）の条件から外れている。それゆえ、比較例ではいずれも２μｍ以上の介在物に含まれる第３元素の含有量が５％を超えている。
従って、同じ番号の実施例の引張強さと比較例の引張強さを比べると実施例のほうが高くなっている。また、曲げ性についても比較例はＷ曲げ試験で「悪」となるものがあるのに対し実施例はすべて「良」であり、実施例の曲げ性が良好であることがわかる。なお、導電率について、実施例と比較例との大きな差はなく、比較例つまり従来品とは同等である。
【００２１】
【発明の効果】
本発明に係る易加工高力高導電性銅合金によれば、導電性、強度、曲げ性の良好で特性のバランスが良い銅合金を得ることが可能となり、電子機器類の小型化や性能向上に大きく寄与し得るなど、産業上きわめて有効な効果がもたらされる。