(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバ用母材のガラス微粉末堆積体の脱水を行う加熱炉において、漏出脱水ガス中の塩素成分を除去する塩素トラップを、加熱炉のマッフル上部に余剰ガス収納部と冷却部を介して設けることを特徴とする光ファイバ母材の加熱炉。
【請求項２】
前記余剰ガス収納部が、上下２分割された区画室からなることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ母材の加熱炉。
【請求項３】
前記塩素トラップには、ＮａＯＨ水溶液が充填されるていることを特徴とする請求項１又は２記載の光ファイバ母材の加熱炉。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、光ファイバ母材の脱水工程において、漏出脱水ガス中の塩素成分を除去する光ファイバ母材の加熱炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光ファイバ用母材のガラス微粉末堆積体の脱水・焼結を行うには、例えば図２に示した如き、加熱炉１を用いて行っている。つまり、ダミーロッド２によって吊られたガラス微粉末堆積体３を加熱炉１のマッフル４内に入れ、上方から降下させて、マッフル４の外周に設けたヒータなどの加熱部５を通過させる一方、マッフル４の下端などからは、脱水ガスを供給して行っている。
【０００３】
この脱水ガスとしては、塩素系ガス、例えばＣｌ2 ガスあるいは、これらにＮｅガス、Ｎ2 ガス、Ａｒガスなどを混入したものなどが用いられている。
このような成分として供給された脱水ガスの余剰分は、従来、加熱炉１の上部、すなわちマッフル上部の収納部に、例えばマッフル４のカバー体６の貫通穴６ａと上記ダミーロッド２との隙間から漏れる形で、集めた後、この収納部からアルミホースなどを通じて排出させ、さらに、途中に塩化ビニルパイプなどを介在させて、排ガス処理装置に送って、処理していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記脱水ガスの余剰分（漏出脱水ガス）には、微量と言えども、塩素成分が含有されているため、上記配管経路部分で漏れたりする可能性があった。例えばアルミホースなどは、この塩素成分によって浸食されることがある。このようにして、塩素成分が外部に漏れると、甚だ危険であり、その対策には、十分な注意が払われる必要がある。
【０００５】
本発明は、このような従来の実情に鑑みてなされたもので、漏出脱水ガス中の塩素成分を加熱炉の上部で処理して、配管経路部分などでの漏れなどの危険を根本的に解消した光ファイバ母材の加熱炉を提供せんとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
かゝる本発明の特徴とする点は、光ファイバ用母材のガラス微粉末堆積体の脱水を行う加熱炉において、漏出脱水ガス中の塩素成分を除去する塩素トラップを、加熱炉のマッフル上部に余剰ガス収納部と冷却部を介して設けた光ファイバ母材の加熱炉にある。また、好ましくは、この塩素トラップには、ＮａＯＨ水溶液を充填してなるものである。
【０００７】
【作用】
このように漏出脱水ガス中の塩素成分は、加熱炉の上部で除去処理されるため、当該塩素成分の配管経路部分での漏れなどの危険は、根本的に解消される。
【０００８】
【実施例】
図１は、本発明に係る光ファイバ母材の加熱炉の要部の一実施例を示したものである。図中、１１は加熱炉、１２は上下動されるダミーロッド、１３はこのダミーロッド１２によって吊られたガラス微粉末堆積体、１４は石英ガラスなどからなる筒形の上下方向に伸びるマッフル、１６はこのマッフル１４の上端開口部分に蓋された、石英ガラスなどからなるカバー体、２１はカバー体１６上に設置された、石英ガラスなどの区画室からなる余剰ガス収納部、２２はこの余剰ガス収納部２１上に付設された、石英ガラスや金属板などの区画室からなる冷却部、２３はこの冷却部２２上に設置された、石英ガラスや金属板などの容器からなる塩素トラップである。
【０００９】
そして、また、上記余剰ガス収納部２１は、脱水ガスの余剰分（漏出脱水ガス）が一時的に貯溜される部分で、本例では、上下に２分割された区画室２１ａ，２１ｂからなる。この区画室２１ａには、漏出脱水ガスが、マッフル１４のカバー体１６の貫通穴１６ａとダミーロッド１２との隙間から漏れる形で、集められ、引き続き、この漏出脱水ガスは、上記と同様にして、仕切板２１ｃの貫通穴２１ｄとダミーロッド１２との隙間から漏れる形で、区画室２１ｂに達するようになっている。
【００１０】
上記冷却部２２は、加熱炉１の駆動時におけるマッフル１４上部の高温（約１５０℃程度）が、上記塩素トラップ２３側に伝達されないようにするためのもので、左右の配管経路系２２ａ，２２ａなどを通じて、例えば冷却水が導入されるようになっている。
【００１１】
また、上記塩素トラップ２３内には、塩素成分を除去するための材料として、例えばＮａＯＨ水溶液２４が充填されており、上記余剰ガス収納部２１の上段側の区画室２１ｂとは、塩素成分に対して大きな耐蝕性を有するガラス管などからなる配管経路系２３ａを通じて、接続され、また、この塩素トラップ２３からは、配管経路系２３ｂを通じて、塩素成分除去後のガス成分が排ガス処理装置に送られるようになっている。
【００１２】
しかして、この加熱炉１１によると、ガラス微粉末堆積体１３の脱水・焼結中（脱水のみも可）において、マッフル１４内に供給された脱水ガスの余剰分、すなわち漏出脱水ガス分は、一旦上下に２分割された区画室２１ａ，２１ｂからなる余剰ガス収納部２１に貯溜され、この部分から徐々に、塩素トラップ２３内に導かれる。
【００１３】
この塩素トラップ２３内には、ＮａＯＨ水溶液２４が充填されているため、塩素成分は、ＮａＣｌなどとして溶解し除去される。そして、この塩素成分の除去されたガス成分（Ｈｅガス、Ｎ2 ガス、Ａｒガスなど）は、排ガス処理装置側に送られる。  一方、この脱水・焼結中、上記冷却部２２には、冷却水を供給してあるため、通常、１５０℃程度までの温度上昇が見られる加熱炉１１の上部においても、室温程度の低温状態に維持されるため、上記塩素トラップ２３内における、ＮａＯＨ水溶液２４と塩素成分との反応は、通常通り行われる。
【００１４】
なお、上記実施例では、塩素トラップ２３内の塩素成分を除去するための材料として、ＮａＯＨ水溶液を用いたが、本発明は、これに限定されない。また、冷却部２２の冷媒についても同様で、冷却水に限定されない。
【００１５】
【発明の効果】
上記のように、本発明に係る光ファイバ母材の加熱炉によれば、漏出脱水ガス中の塩素成分が、加熱炉の上部で除去処理されるため、配管経路部分の途中などで、塩素成分が漏れるなどの危険は、根本的に解消される。
したがって、従来の配管経路部分のアルミホースなどが、この塩素成分によって、浸食されることもなく、極めて安全性の高い加熱炉が得られる。
漏出脱水ガス中の塩素成分が、簡単な構造の塩素トラップで除去できるため、経済性に優れ、従来のように、塩素成分の漏れを皆無にするため、細心の注意と、大きなコストを払う必要が全く不要となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光ファイバ母材の加熱炉における要部を示した部分拡大縦断面図である。
【図２】光ファイバ母材の製造用の加熱炉を示した概略説明図である。
【符号の説明】
１１                  加熱炉
１２                  ダミーロッド
１３                  ガラス微粉末堆積体
１４                  マッフル
１６                  カバー体
２１                  余剰ガス収納部
２２                  冷却部
２３                  塩素トラップ
２４                  ＮａＯＨ水溶液
【図１】
0003647917.tif 000002
【図２】
0003647917.tif 000003