(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明絶縁性基板の上に少なくとも複数の行電極及び該複数の行電極と交差するように絶縁膜を介して配設された複数の列電極を有する第１の基板と、透明絶縁性基板の上に少なくとも透明導電膜を有する第２基板と、第２の基板に電圧を印加するために第１の基板上に形成された金属膜からなる端子部とを有し、第１の基板と第２の基板とで液晶を挟んでなる液晶表示パネルにおいて、
第２の基板に電圧を印加するために第１の基板上に形成された金属膜からなる端子部及びその上に形成された絶縁膜に少なくとも１個の孔が形成され、シール材を適用する部分の表面に凹凸構造を有すること
を特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、第１の基板（ＴＦＴ基板）に形成された第２の基板（対向基板）への端子部の構造に特徴を有する液晶表示パネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図３は、従来の液晶表示パネルの構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ′断面図、（Ｃ）はＹ−Ｙ′断面図である。
この図において、２１は第１の基板、２２は端子、２３は保護膜、２４，２８はＩＴＯ膜、２５は導電性スペーサ、２６はシール材、２７は第２の基板、２９は液晶である。
【０００３】
従来の端子構造を有する液晶表示パネルにおいては、ガラス等の透明絶縁性基板からなる第１の基板（ＴＦＴ基板）２１の上に金属膜からなる端子２２が形成され、その上に、この端子２２の、第２の基板２７のＩＴＯ膜２８への接続領域の上に開口を有する保護膜２３が形成され、その上に、この開口中で端子２２と接触するＩＴＯ膜２４が形成され、このＩＴＯ膜２４の上に導電性スペーサ２５を載置した状態でＩＴＯ膜２８を有する第２の基板（対向基板）２７が重ねられ、その周辺部が有機接着剤からなるシール材２６によってシールされ、第１の基板２１と第２の基板２７の間の間隙に液晶２８が注入されている。
【０００４】
すなわち、第１の基板２１の上に配設される第２の基板２７のＩＴＯ膜２８に電圧を印加するための端子部は、シール材２６を塗布する部分を横切る構造になっており、しかも、比較的広い面積にわたってシール材２６を塗布する部分と重なっている。
また、この場合、第２の基板２７のＩＴＯ膜２８に電圧を印加するための端子部の構造は、そのほぼ全域で第１の基板２１の上の端子２２、ＩＴＯ膜２４となっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従来の構造の端子部を有する液晶表示パネルにおいては、前述のように、第２の基板２７のＩＴＯ膜２８に対する端子構造が、ガラス基板等の第１の基板２１上の端子２２の上に形成されたＩＴＯ膜２４であるため、その上に適用されるシール材との接着性が弱く、ＩＴＯ膜２４からシール材２６が剥がれ、そこから液晶２９が漏出するという障害が発生していた。
【０００６】
図４は、従来の液晶表示パネルに発生するシール劣化状態の説明図である。
この図において、２１は第１の基板、２２は端子、２３は保護膜、２４，２８はＩＴＯ膜、２５は導電性スペーサ、２６はシール材、２７は第２の基板、２９は液晶である。
【０００７】
従来の構造の端子部を有する液晶表示パネルにおいては、前述のように、第１の基板２１の上に金属膜からなる端子２２が形成され、その上に、この端子２２の、第２の基板２７のＩＴＯ膜２８への接続領域の上に開口を有する保護膜２３が形成され、その上に、この開口を通して端子２２に接続されるＩＴＯ膜２４が形成され、また、第２の基板２７の上にＩＴＯ膜２８が形成され、第１の基板２１のＩＴＯ膜２４と第２の基板２７のＩＴＯ膜２８の間に、導電性スペーサ２５を挟んだ状態で、その周辺をシール材２６によってシールされ、第１の基板２１と第２の基板２７の間の間隙に液晶２９が注入されているが、ＩＴＯ膜２４とシール材２６の間の接着性が弱いため、この部分で剥離し、注入されていた液晶２８が漏出することがあった。
【０００８】
本発明は、端子部における第１の基板２１と第２の基板２７の間のシール材２６の接着性を改善する手段を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に依る液晶表示パネルにおいては、透明絶縁性基板の上に少なくとも複数の行電極及び該複数の行電極と交差するように絶縁膜を介して配設された複数の列電極を有する第１の基板と、透明絶縁性基板の上に少なくとも透明導電膜を有する第２基板と、第２の基板に電圧を印加するために第１の基板上に形成された金属膜からなる端子部とを有し、第１の基板と第２の基板とで液晶を挟んでなる液晶表示パネルにおいて、第２の基板に電圧を印加するために第１の基板上に形成された金属膜からなる端子部及びその上に形成された絶縁膜に少なくとも１個の孔が形成され、シール材を適用する部分の表面に凹凸構造を有することを特徴とする。
【００１２】
【作用】
前記手段を採ることに依り、シール材を適用する部分の表面には凹凸構造が生成されるのでシール材の接着性を改善され、しかも、シール材を施した場合、絶縁膜及び端子部である金属膜に形成された孔を介して第１の基板にシール材が直接接着されるので、接着性は更に向上する。
【００１５】
【実施例】
以下、本発明における実験例と実施例について説明する。
（実験例）
図１は本発明の液晶表示パネルを実現する研究を行った際の実験で用いた液晶表示パネルを表す構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ′断面図、（Ｃ）はＹ−Ｙ′断面図である。
図において、１は第１の基板、２は端子、２1 はスリット状の孔、３は保護膜、４，８はＩＴＯ膜、５は導電性スペーサ、６はシール材、７は第２の基板、９は液晶である。
【００１６】
この実験例の端子構造を有する液晶表示パネルにおいては、ガラス等の透明絶縁性基板からなる第１の基板１の上に金属膜２が形成され、その金属膜２はパターニングされて複数のスリット状の孔２1 を有する端子２となり、それを覆う保護膜３が形成され、保護膜３には、第２の基板７上のＩＴＯ膜８への接続領域に開口が形成され、それ等を覆うＩＴＯ膜４が形成され、ＩＴＯ膜４は、外部から電圧を供給する部分（図１（Ａ）の左上）及び第２の基板７に形成されたＩＴＯ膜８への接続領域（図１（Ａ）の左下）のみを残して他は除去され、このＩＴＯ膜４の上に導電性スペーサ５を載置した状態で、第１の基板１とＩＴＯ膜８をもつ第２の基板７とが周辺で有機接着材からなるシール材６によってシールされ、第１の基板及び第２の基板間の間隙に液晶９が注入されている。
【００１７】
この実験例によると、複数のスリット状の孔２1 を有する端子２の上に形成された保護膜３の表面には凹凸構造が生成されているので、シール材６に対する接着性が改善され、シール剥がれによる障害は起きにくくなったのであるが、この接着性の改善効果を十分なものとするには、次に説明する本発明の実施例に依らなければならない。
【００１８】
（実施例）
図２は、液晶表示パネルの構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）の    Ｘ−Ｘ′断面図、（Ｃ）はＹ−Ｙ′断面図である。
この図において、１１は第１の基板、１２は端子、１２1 、１３1 はスリット状の孔、１３は保護膜、１４、１８はＩＴＯ膜、１５は導電性スペーサ、１６はシール材、１７は第２の基板、１９は液晶である。
【００１９】
この実施例の端子構造を有する液晶表示パネルにおいては、ガラス等の透明絶縁性基板からなる第１の基板１１の上に金属膜１２が形成され、この金属膜１２をパターニングして複数のスリット状の孔１２１  を有する端子１２が形成され、その上に、保護膜１３が形成され、この保護膜１３の第２の基板１７のＩＴＯ膜１８への接続領域の上に開口と、金属膜１２の複数のスリット状の孔１２１  内にスリット状の孔１３１  が形成され、その上に、ＩＴＯ膜１４が形成され、このＩＴＯ膜１４の、外部から電圧を供給する部分（図２（Ａ）の左上）と、第２基板１７のＩＴＯ膜１８への接続領域（図２（Ａ）の左下）のみを残して他の領域のＩＴＯ膜１８が除去され、このＩＴＯ膜１４の上に導電性スペーサ１５が載置された状態で、ＩＴＯ膜１８を有する第２の基板１７がその周辺で有機接着材からなるシール材１６によってシールされ、第１の基板１１と第２の基板１７の間の間隙に液晶９が注入されている。
【００２０】
この実施例によると、端子１２の複数のスリット状の孔１２１  内により深い保護膜１３のスリット状の孔１３１  が形成されて、シール材１６の接着性がさらに改善され、また、シール材１６が直接第１の基板１１に達して接着性が改善されるため、シール剥がれによる障害が起きにくくなる。
【００２１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の対向基板への端子構造を有する液晶表示パネルによれば、第１の基板と第２の基板の間のシール材の接着性を改善することができ、その結果、シール剥がれによる障害を抑えることができ、製造歩留りの向上、信頼性の向上に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】実験例の液晶表示パネルを表す構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ′断面図、（Ｃ）はＹ−Ｙ′断面図である。
【図２】実施例の液晶表示パネルを表す構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ′断面図、（Ｃ）はＹ−Ｙ′断面図である。
【図３】従来の液晶表示パネルを表す構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ′断面図、（Ｃ）はＹ−Ｙ′断面図である。
【図４】従来の液晶表示パネルに発生するシール劣化状態の説明図である。
【符号の説明】
１  第１の基板
２  端子
２1   スリット状の孔
３  保護膜
４、８  ＩＴＯ膜
５  導電性スペーサ
６  シール材
７  第２の基板
９  液晶
１１  第１の基板
１２  端子
１２1 、１３1   スリット状の孔
１３  保護膜
１４、１８  ＩＴＯ膜
１５  導電性スペーサ
１６  シール材
１７  第２の基板
１９  液晶
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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