(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料からの蛍光Ｘ線によって試料のマッピング像を得る蛍光Ｘ線分析装置において、
蛍光Ｘ線測定部の外部において試料を撮像する画像測定部と、
蛍光Ｘ線測定部の内部及び画像測定部の双方において試料の初期位置を定める初期化手段を備え、
画像測定部側の初期化手段は、初期位置における試料と画像測定部側の基準位置とのずれ量を求め、
蛍光Ｘ線測定部側の初期化手段は、試料と蛍光Ｘ線測定部側の基準位置とのずれ量が画像測定部側の初期化手段で求めたずれ量と同じとなる位置に試料を移動させて初期位置に位置決めし、
前記画像測定部及び蛍光Ｘ線測定部は、各初期位置において光学像及びマッピング像の画像データを得ることを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、蛍光Ｘ線分析装置に関し、特に試料の光学画像と蛍光Ｘ線によるマッピング像を求めることができる蛍光Ｘ線分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
蛍光Ｘ線分析装置は、一次Ｘ線を試料に照射し、これに応じて試料から発生する蛍光Ｘ線を絞りを通して取り出し、この蛍光Ｘ線を分光器によって各元素に対応する波長成分を持つスペクトルに分光し、分光されたＸ線をＸ線検出器で検出し、これによって定性分析や定量分析を行う。この蛍光Ｘ線分析装置において、一次Ｘ線の試料に対する照射位置を移動させながら二次元で蛍光Ｘ線を検出することによって蛍光Ｘ線の強度分布を求めることができ、さらにこの蛍光Ｘ線の強度分布をデータ処理することによって、元素の強度分布や元素の含有量分布等の分布データを求め、元素マッピング等のマッピング像を表示することができる。
【０００３】
また、蛍光Ｘ線分析装置では、分析位置の抽出や実試料とマッピング像との比較を行うために、試料の画像データを求めるＣＣＤカメラ等の撮像装置を備える場合がある。
従来、撮像装置を設ける構成として、測定部の真空室外に設ける構成、及び真空室内に設ける構成が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
撮像装置を真空室外に設ける構成では、真空室内に配置される試料を真空室に設けたガラス窓を通して撮像するため、試料に対して斜め方向から撮像することになり、鮮明な像を得ることができず、また、マッピング像と光学像との光軸がずれるという問題がある。また、通常、高い測定精度や高い出力信号を得るために、Ｘ線管と試料との間を短い距離で接近させて配置しているため、Ｘ線管によって試料面が隠れて撮像装置によって試料の全面を撮像することができないという問題がある。
【０００５】
他方、撮像装置を真空室内に設ける構成においても、Ｘ線管と試料は接近して配置されているため、試料全面を撮像可能な撮像装置の設置位置が得られないという問題がある。また、撮像装置においても、制限された空間内に配置するためにレンズ等の光学系やサイズが制約され、撮像性能が制限されたりコストが上昇するといった問題がある。
【０００６】
また、波長分散型蛍光Ｘ線装置に場合には、Ｘ線管から放出される一次Ｘ線の強度が強いため、ＣＣＤカメラ等の撮像装置が一次Ｘ線によって損傷を受けるという問題がある。
また、試料の測定位置と光学像を得る撮像位置とが異なる場合には、光学像とマッピング像との間に位置ずれが生じるという問題があり、光学像に基づいて分析位置を指定する場合には、指定位置に対して分析位置がずれるという問題がある。
【０００７】
そこで、本発明は前記した従来の問題点を解決し、良好な光学像及びマッピング像を得ることができる蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。さらに、詳細には、真空室外で試料の鮮明な画像を撮像することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とし、真空室外において、試料やＸ線管の配置や撮像装置のサイズに制約されることなく試料全面を撮像することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とし、また、光学像とマッピング像の位置ずれを除去する補正することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、試料の撮像する撮像手段を蛍光Ｘ線測定部の外部に設け、蛍光Ｘ線測定部の外部において試料の光学像を求める構成とすることによって、真空室外で試料の鮮明な画像を撮像し、また、試料やＸ線管の配置や撮像装置のサイズに制約されることなく試料全面を撮像することができ、良好な光学像及びマッピング像を得る。また、光学像及びマッピング像の測定前に試料の初期位置を定めることによって、光学像とマッピング像の位置合わせを容易なものとする。
【０００９】
本発明の蛍光Ｘ線分析装置は、試料からの蛍光Ｘ線によって試料のマッピング像を得る蛍光Ｘ線分析装置において、蛍光Ｘ線測定部の外部において試料を撮像する画像測定部と、蛍光Ｘ線測定部の内部及び画像測定部において、各部に対して試料の初期位置を定める初期化手段とを備えた構成とする。
上記構成において、蛍光Ｘ線測定部の内部及び画像測定部において、初期化手段によって試料の初期位置を定める。この試料位置を初期化した後、光学像及びマッピング像の画像測定を行い、初期化された位置における光学像及びマッピング像の画像データを求める。これによって、光学像及びマッピング像の画像データは共に初期化された位置で求めたデータであるため、両画像データの比較を容易なものとすることができる。
【００１０】
初期化手段の一形態は、試料の一部に基準マークに設けると共に、蛍光Ｘ線測定部の内部及び画像測定部のそれぞれに基準マークを検出する検出器を設ける。試料位置の初期化は、蛍光Ｘ線測定部の内部及び画像測定部のそれぞれの配置場所において、各検出器が基準マークを検出するまで試料の配置位置を移動することによって行う。
初期化手段の他の形態は、試料の一部に基準マークに設けると共に、蛍光Ｘ線測定部の内部及び画像測定部のそれぞれに基準マークの位置を検出する位置検出器を設ける。試料位置の初期化は、画像測定部において任意に配置した試料の位置を、位置検出器で基準マークの位置を検出することによって検出しておき、次に、蛍光Ｘ線測定部の内部において、位置検出器で検出する基準マークの位置が前記検出位置となるように、試料の配置位置を移動することによって行う。
【００１１】
さらに、本発明の蛍光Ｘ線分析装置は位置補正手段を備える。位置補正手段は、蛍光Ｘ線測定部と画像測定部間の両画像データ間のずれデータを予め備えておき、このずれデータを補正データとして、蛍光Ｘ線測定部のマッピング像と画像測定部の光学像間の位置ずれを補正する。これによって、光学像に基づく分析位置の位置決めを正確なものとすることができる。
位置補正手段の一形態は、光学像とマッピング像の画像データ間の補正によって行うものであり、画像測定部の光学像の画像データを予め求めたおいた補正データを用いて補正し、蛍光Ｘ線測定部のマッピング像の画像データに対する位置ずれを補正する。位置補正手段の他の形態は、画像測定部の光学像の観察で定めた分析位置を蛍光Ｘ線測定部側の試料上で特定する場合であり、光学像の分析位置の位置データに基づいて蛍光Ｘ線測定部側の試料を駆動する際に、補正データを用いて駆動量を補正し、蛍光Ｘ線測定部側の試料上の分析位置の位置ずれを補正する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図を参照しながら詳細に説明する。
図１は本発明の蛍光Ｘ線分析装置を説明するための概略図である。蛍光Ｘ線分析装置１は、画像測定部２、蛍光Ｘ線測定部３、及びデータ処理部４を備える。画像測定部２は大気中において試料の光学像を求め、他方、蛍光Ｘ線測定部３は真空室内において試料の蛍光Ｘ線分析によってマッピング像を求める。データ処理部４は、画像測定部２で求めた光学像の画像データ４ａ、及び蛍光Ｘ線測定部３で求めたマッピング像のマッピングデータ４ｂをデータ処理する。
【００１３】
本発明の蛍光Ｘ線分析装置１は、画像測定部２及び蛍光Ｘ線測定部３に試料Ｓの初期位置を定める初期化手段５、及び蛍光Ｘ線測定部のマッピング像と画像測定部の光学像間の位置ずれを補正する位置補正手段６を備える。初期化手段５は、画像測定部２及び蛍光Ｘ線測定部３の各部において試料の初期位置を定める手段であり、画像測定部２において初期位置を定めた後に試料の光学像を求め、蛍光Ｘ線測定部３において初期位置を定めた後に試料のマッピング像を求める。画像測定部２及び蛍光Ｘ線測定部３における各測定を、共に初期位置を定めた後に行うことによって、両測定による測定データ間に一定の関係を与え、容易な対応関係を得ることができる。
【００１４】
位置補正手段６は、蛍光Ｘ線測定部と画像測定部間の両画像データ間のずれに基づいて補正データを予め求めておく。位置補正の一形態は、画像データ４ａを補正データで補正して補正画像データ４ｃを算出して行う。比較手段７は、マッピングデータ４ｂと補正画像データ４ｃとを比較し、表示手段８に表示することができる。また、位置補正の他の形態は、蛍光Ｘ線測定部３において、補正データによって分析位置の駆動を補正する。
【００１５】
次に、図２を用いて本発明による初期化及び位置補正について説明する。試料Ｓの一部に予め基準マークＭを設け、画像測定部側に該基準マークＭを検出する検出器５ｂを、蛍光Ｘ線測定部側に該基準マークＭを検出する検出器５Ｂを設けておく。
はじめに、画像測定部側に試料Ｓを配置し（図２（ａ））、検出器５ｂが基準マークＭを検出するまで試料Ｓの位置を移動させる。図２に示す例では、試料Ｓの中心を回転中心として回転させ、基準マークＭによって回転位置を初期位置に位置決めする例を示しており、初期化によって試料Ｓは、画像測定部における基準位置に初期化される（図２（ｂ））。なお、基準位置は検出器５ｂの設置位置で定まることになる。
【００１６】
図２（ｂ）の初期化された位置において、試料Ｓを撮像することによって光学像を得る。光学像を観察することによって分析位置ｐを選出する。この分析位置ｐは極座標（ｒ、θ）で表すことができる。該極座標（ｒ、θ）は、例えば回転中心を原点とし、該原点から検出器５ｂ方向を角度θの基準（θ＝０）として設定することができる。光学像及び分析位置ｐは、画像データあるいは座標データとして格納される。
画像測定部側において、初期化とその後の撮像を行った後、試料Ｓを蛍光Ｘ線測定部側に導入する。
【００１７】
蛍光Ｘ線測定部側に試料Ｓを導入し（図２（ｃ））、検出器５Ｂが基準マークＭを検出するまで試料Ｓの位置を移動させる。図２に示す例では、画像測定部と同様に、試料Ｓの中心を回転中心として回転させ、基準マークＭによって回転位置を初期位置に位置決めする例を示している。初期化によって試料Ｓは、蛍光Ｘ線測定部における基準位置に初期化される（図２（ｄ））。なお、基準位置は検出器５Ｂの設置位置で定まることになる。
【００１８】
図２（ｄ）の初期化された位置において、試料Ｓに対して一次Ｘ線を照射して蛍光Ｘ線分析を行い、得られた蛍光Ｘ線の強度によって元素分布等のマッピング像を得る。光学像とマッピング像の対応は、光学像の画像データとマッピング像のデータとを対比することによって行うことができる。本発明では、光学像とマッピング像は、同一の基準マークＭによって初期化を行っているため、データ間の対比は容易に行うことができる。
【００１９】
画像測定部の光学像と蛍光Ｘ線測定部のマッピング像の各測定データの間に誤差が存在する場合には、そのずれ量を予め求めておき、画像測定部で測定した画像データを該ずれ量に基づいて位置補正（オフセット補正）を行い、これによって、光学像とマッピング像との対応関係を補正する。試料Ｓ上の位置を極座標表示する場合には、補正量は例えばオフセット量（Δｒ，Δθ）で表すことができる。光学像上の分析位置ｐ（ｒ，θ）をこのオフセット量（Δｒ，Δθ）で位置補正すると、マッピング像上の分析位置Ｐ（Ｒ（＝ｒ＋Δｒ），Θ（＝θ＋Δθ））を得ることができる。
【００２０】
次に、本発明の初期化及び位置補正の他の例について説明する。
図３は本発明の初期化の他の例を説明するための概略図である。この初期化例は、画像測定部で求めたる試料位置に基づいて、蛍光Ｘ線測定部において試料位置を定める例である。
本例では、試料Ｓの一部に前記例と同様に予め基準マークＭを設ける一方、画像測定部側には該基準マークＭの位置を検出する位置検出器５ｃを、蛍光Ｘ線測定部側には該基準マークＭの位置検出する位置検出器５Ｃを設けておく。なお、ここでは、試料Ｓを回転させて位置決めするため、位置検出器５ｃ及び位置検出器５Ｃは角度検出器で構成することができる。
【００２１】
はじめに、画像測定部側に試料Ｓを配置し（図３（ａ））、位置検出器５ｃによって基準マークＭの位置を検出する。図３に示す例では、試料Ｓの中心を回転中心として回転させ、基準マークＭによって回転位置を初期位置に位置決めする例を示しており、位置検出器５ｃは例えば初期角度βを測定し、初期角度βによって初期化が行われる（図３（ｂ））。なお、基準位置（基準角度）は位置検出器５ｃの設置位置で定まることになる。
【００２２】
図３（ｂ）の初期化された位置において、前記例と同様に、試料Ｓを撮像して光学像を得、該光学像を観察することによって分析位置ｐを選出することができ、光学像及び分析位置ｐは、画像データあるいは座標データとして格納される。この分析位置ｐは極座標（ｒ、θ）で表すことができ、該極座標（ｒ、θ）の基準は前記例と同様とすることもあるいは初期角度βを基準とすることもできる。なお、初期角度βは画像測定部と蛍光Ｘ線測定部と間の初期化に要する値であり、初期角度βは分析位置ｐの座標を定める基準とは分離して用いることができる。
【００２３】
画像測定部側において、初期化とその後の撮像を行った後、試料Ｓを蛍光Ｘ線測定部側に導入する。
蛍光Ｘ線測定部側に試料Ｓを導入し（図３（ｃ））、位置検出器５Ｃによる基準マークＭの検出位置が初期角度βとなるまで試料Ｓの位置を移動させる。図３に示す例では、画像測定部と同様に、試料Ｓの中心を回転中心として回転させ、基準マークＭによって回転位置を初期角度βに位置決めする例を示している。初期化によって試料Ｓは、蛍光Ｘ線測定部における基準位置に初期化される（図３（ｄ））。なお、基準位置は位置検出器５Ｃの設置位置で定まることになる。
図３（ｄ）の初期化された位置において、試料Ｓに対して一次Ｘ線を照射して蛍光Ｘ線分析を行い、得られた蛍光Ｘ線の強度によって元素分布等のマッピング像を得る（図３（ｅ））。光学像とマッピング像の対応は、光学像の画像データとマッピング像のデータとを対比することによって行うことができる。本例においても前記例と同様に、光学像とマッピング像は同一の基準マークＭによる初期角度βで初期化を行っているため、データ間の対比は容易に行うことができる。
なお、図３では、位置検出器は一部の角度範囲を検出する構成としているが、所定角度毎に複数の位置検出器を設ける構成とすることも、あるいは、全角度範囲を検出する位置検出器を設ける構成とすることもできる。
【００２４】
また、全角度範囲を検出する位置検出器する場合には、画像測定部で測定した初期角度βを蛍光Ｘ線測定部で再現することによる初期化の他、画像測定部及び蛍光Ｘ線測定部においてそれぞれ独立して初期角度を測定し、該両初期角度の関係に基づいて画像データと分布データ間の関係を定めることによって、初期化を行うこともできる。
【００２５】
図４は本発明の位置補正の他の例を説明するための概略図である。この位置補正例は、画像測定部の光学像の観察で定めた分析位置を蛍光Ｘ線測定部側の試料上で特定する例である。
本例では、図２に示す前記例と同様に、画像測定部側で初期化を行って画像データを求めた後（図４（ｂ））、試料Ｓを蛍光Ｘ線測定部内に導入し（図４（ｃ））、蛍光Ｘ線測定部側で初期化を行う（図４（ｄ））。ここで、画像測定部の光学像の観察で定めた分析位置ｐ（ｒ，θ）を蛍光Ｘ線測定部側の試料上において分布位置Ｐ（ｒ，θ）で特定する。この蛍光Ｘ線測定部側において分析位置を特定する際、試料Ｓを駆動する駆動量を予め求めておいた補正データに基づいて補正し、この補正駆動量によって試料Ｓを駆動する。
【００２６】
次に、本発明の蛍光Ｘ線分析装置の一構成例について説明する。図５は、本発明の蛍光Ｘ線分析装置の構成例を説明するための概略図である。
本発明の蛍光Ｘ線分析装置１は、画像測定部２、蛍光Ｘ線測定部３、データ処理部４、初期化手段５を備える。画像測定部２は、例えばＣＣＤカメラ等の撮像手段２ａを備え、蛍光Ｘ線測定部３の真空室の外側の大気中に配置され、試料導入位置Ｔにおいて試料Ｓの光学像を測定する。なお、撮像手段２ａはＣＣＤカメラに限らず任意の画像データを得る手段を用いることができる。
【００２７】
蛍光Ｘ線測定部３は、真空室内に配置され、図示しないＸ線発生装置で駆動されるＸ線管３ａから一次Ｘ線を試料Ｓに照射し、これに応じて試料Ｓから発生する蛍光Ｘ線を図示しない絞りやソーラースリット３ｂを通して平行ビームとして取り出し、この蛍光Ｘ線を分光結晶３ｃによって各元素に対応する波長成分をもつスペクトルに分光し、分光された蛍光Ｘ線をソーラースリット３ｄを通して検出器３ｅで検出する。
検出器３ｅで検出したスペクトルの強度信号は、リニアアンプ、パルスハイトアナライザー、スケーラ等を含む測定部９を経てデータ処理部４に送る。データ処理部４は、定性分析や定量分析等の分析処理の他、蛍光Ｘ線のＸ線強度分布データや、元素の強度分布データや元素の含有量分布データを求めるデータ処理を行う。また、本発明の初期化や位置補正は、データ処理内あるいは外部に備えるいはマイクロコンピュータ等の制御手段によって行う。
【００２８】
初期化手段５は、画像測定部２側に設ける初期化機構５ａと蛍光Ｘ線測定部３側に設ける初期化機構５Ａを備える。初期化機構５ａは画像測定部２側の初期化位置Ｕにおいて試料Ｓを初期化し、初期化した後に試料導入位置Ｔにおいて試料の光学像を得る。また、初期化機構５Ａは蛍光Ｘ線測定部３側の初期化位置Ｖにおいて試料Ｓを初期化し、初期化した後に測定位置Ｗにおいて試料を分析しマッピング像を得る。
画像測定部２側の初期化機構５ａは、試料Ｓに設けた基準マークＭを検出する検出器５ｂ（あるいは位置検出を行う位置検出器５ｃ）、及び試料Ｓを回転移動及び直線移動する駆動機構を備え、回転移動によって検出器５ｂ（あるいは位置検出器５ｃ）に対して試料Ｓを移動し、また、直線移動によって試料導入位置Ｔと初期化位置Ｕとの間において試料Ｓを移動する。
【００２９】
他方、蛍光Ｘ線測定部３の初期化機構５Ａは、試料Ｓに設けた基準マークＭを検出する検出器５Ｂ（あるいは位置検出を行う位置検出器５Ｃ）、及び試料Ｓを回転移動及び直線移動する駆動機構を備え、回転移動によって検出器５Ｂ（あるいは位置検出器５Ｃ）に対して試料Ｓを移動し、また、直線移動によって初期化位置Ｖと測定位置Ｗとの間において試料Ｓを移動する。
【００３０】
次に、上記構成の蛍光Ｘ線分析装置による動作例を図６のフローチャートを用いて説明する。
はじめに、試料Ｓを画像測定部２側の試料導入位置Ｔに配置し（ステップＳ１）、初期化機構の直線移動によって試料Ｓを下降した初期化位置Ｕに移動する（ステップＳ２）。初期化位置Ｕにおいて、初期化機構の回転移動によって試料Ｓを回転させ、検出器５ｂによって試料Ｓに設けた基準マークＭを検出する（あるいは、位置検出器５ｃによって試料Ｓに設けた基準マークＭの位置検出を行う）ことによって、試料Ｓの画像測定部２に対する位置を定めて初期化を行う（ステップＳ３）。初期化の後、初期化機構の直線移動によって試料Ｓを上昇させて初期化位置Ｕから試料導入位置Ｔに戻す（ステップＳ４）。試料導入位置Ｔにおいて、撮像手段２ａによって試料Ｓを撮像して光学像を求め（ステップＳ５）、画像データを格納する（ステップＳ６）。
【００３１】
次に、試料を蛍光Ｘ線測定部３の真空室内の初期化位置Ｖに導入する（ステップＳ７）。試料Ｓを真空室内に導入した後、真空室内を真空排気する（ステップＳ８）。蛍光Ｘ線測定部３側の初期化機構５Ａは、初期化位置Ｖにおいて、初期化機構の回転移動によって試料Ｓを回転させ、検出器５Ｂによって試料Ｓに設けた基準マークＭを検出する（あるいは、位置検出器５Ｃによって試料Ｓに設けた基準マークＭの位置検出を行う）ことによって、試料Ｓの蛍光Ｘ線測定部３に対する位置を定めて初期化を行う（ステップＳ９）。初期化の後、初期化機構の直線移動によって試料Ｓを上昇させて初期化位置Ｖから測定位置Ｗに移動する（ステップＳ１０）。
【００３２】
次に、画像データに対するデータ補正を行うか、あるいは分析位置への駆動における位置補正を行うか判定する（ステップＳ１１）。画像データに対するデータ補正を行う場合には、測定位置Ｗにおいて蛍光Ｘ線分析を行って（ステップＳ１２）、試料のマッピング像の分布データを求めて格納する（ステップＳ１３）。予め求めておいた補正データ（オフセット量）を読み出し、画像データを該補正データで補正し補正画像データを求める（ステップＳ１４）。補正画像データとマッピング像の分布データを対比し比較する（ステップＳ１５）。
【００３３】
また、蛍光Ｘ線測定部３において分析位置に再現する場合には、光学像を観察して分析位置を選定して画像データから該分析位置に位置データを求め（ステップＳ１６）。次に、予め求めておいた補正データ（オフセット量）を読み出し、位置データを該補正データで補正し補正位置データを求める（ステップＳ１７）。補正位置データを用いて試料Ｓを駆動して分析位置を位置決めする（ステップＳ８）。分析位置において蛍光Ｘ線分析を行い（ステップＳ１９）、試料の分析データを求めて格納する（ステップＳ２０）。
さらに他の分析位置において分析を行う場合には（ステップＳ２１）、ステップＳ１６〜ステップＳ２０を繰り返す。
【００３４】
補正データは、試料の中心位置や回転方向等の位置ずれが評価しやすい標準試料を予め用意し、該標準試料を用いて実測することによって求めることができる。図７は補正データを求める手順を説明するためのフローチャートである。
上記標準試料について、前記ステップＳ１〜ステップＳ１０，ステップＳ１２，１３と同様の手順によって、初期化した後、光学像及びマッピング像を求める（ステップＪ１〜ステップＪ１２）。求めた光学像とマッピング像を比較し、中心位置の位置ずれ、及び回転方向等の位置ずれを求め、該位置ずれから補正データを求める（ステップＪ１３）。
【００３５】
なお、補正データの測定は、標準試料を用いる他に、測定対象の試料について初回の測定時に行うこともできる。
なお、試料導入位置Ｔと初期化位置Ｕとの間、及び初期化位置Ｖと測定位置Ｗとの間の移動は、直線移動に限らず回転移動あるいはこれらの組み合わせとすることもできる。
また、前記した各例では、光学像及びマッピング像上に位置を極座標で表し、該極座標に基づいて径方向及び周方向に移動させる駆動機構を備えた構成としているが、光学像及びマッピング像上に位置をＸ，Ｙ座標で表し、該Ｘ，Ｙ座標に基づいて平面上の２方向に移動させる駆動機構を備えた構成とすることもできる。また、蛍光Ｘ線分析は、例示した平行法の他に集中法によることもできる。
【００３６】
本発明の実施の形態によれば、ＣＣＤカメラ等の撮像手段を大気中に設置した状態で試料の光学像を得ることができ、真空室内に配置される試料をガラス板などを通して撮像する場合と比較して鮮明な画像を得ることができる。また、撮像方向と蛍光Ｘ線の分析方向とを合わせることもできる。
また、試料と撮像手段との距離を任意に定めることができるため、試料全面を撮像することができ、撮像手段のレンズやサイズによる制約が少なく、コストや性能面で従来と比較して有利である。
また、撮像手段を大気中に設置することによって、一次Ｘ線による損傷を防ぐことができる。
また、本発明の実施の形態によれば光学像とマッピング像のずれを実測データを基に補正することができる。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の蛍光Ｘ線分析装置によれば、良好な光学像及びマッピング像を得ることができる。さらに、詳細には、真空室外で試料の鮮明な画像を撮像することができ、真空室外において試料やＸ線管の配置や撮像装置のサイズに制約されることなく試料全面を撮像することができ、また、光学像とマッピング像の位置ずれを除去する補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の蛍光Ｘ線分析装置を説明するための概略図である。
【図２】本発明による初期化及び位置補正を説明するための図である。
【図３】本発明の初期化の他の例を説明するための概略図である。
【図４】本発明の位置補正の他の例を説明するための概略図である。
【図５】本発明の蛍光Ｘ線分析装置の構成例を説明するための概略図である。
【図６】本発明の蛍光Ｘ線分析装置による動作を説明するためのフローチャートである。
【図７】本発明の蛍光Ｘ線分析装置において補正データを求める手順を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
１…蛍光Ｘ線分析装置、２…画像測定部、２ａ…撮像手段、３…蛍光Ｘ線測定部、３ａ…Ｘ線管、３ｂ，３ｄ…ソーラースリット、３ｃ…分光結晶、３ｅ…検出器、４…データ処理部、４ａ…画像データ、４ｂ…マッピングデータ、４ｃ…補正画像データ、５…初期化手段、５ａ，５Ａ…初期化機構、５ｂ，５Ｂ…検出器、５ｃ，５Ｃ…位置検出器、６…位置補正手段、７…比較手段、８…表示手段、Ｍ…基準マーク、ｐ，Ｐ…分析位置、Ｓ…試料  Ｔ…試料導入位置、Ｕ，Ｖ…初期化位置、Ｗ…分析位置、β…初期角度。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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