(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラビング処理した有機薄膜の、凹凸のある周期成分の振幅とプレティルトとの相関関係を用いて前記プレティルトの制御を行った液晶配向膜において、
前記相関関係が０．７５以上となる前記周期成分の範囲で、前記プレティルトが制御されたことを特徴とする液晶配向膜。
【請求項２】
ラビング処理した有機薄膜の、凹凸のある周期成分の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行った液晶配向膜において、
前記液晶配向膜からの反射光の偏光パラメータΔの最大と最小の差である前記液晶配向膜の構造パラメータＤΔが実質的に０．３程度であり、前記周期成分の波長が実質的に４００ｎｍ以下であり、かつ前記プレティルトが、前記周期成分の振幅と前記プレティルトとの相関関係を用いて制御されたことを特徴とする液晶配向膜。
【請求項３】
ラビング処理した有機薄膜の、凹凸のある周期成分の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行った液晶配向膜において、
前記液晶配向膜からの反射光の偏光パラメータΔの最大と最小の差である前記液晶配向膜の構造パラメータＤΔが実質的に１．０程度であり、前記周期成分の波長が実質的に４０ｎｍ以下または２００ｎｍ以上であり、かつ前記プレティルトが、前記周期成分の振幅と前記プレティルトとの相関関係を用いて制御されたことを特徴とする液晶配向膜。
【請求項４】
ラビング処理した有機薄膜の、凹凸のある周期成分の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行った液晶配向膜において、
前記液晶配向膜からの反射光の偏光パラメータΔの最大と最小の差である前記液晶配向膜の構造パラメータＤΔが実質的に１．６程度であり、前記周期成分の波長が実質的に４０ｎｍ以下または３００ｎｍ以上であり、かつ前記プレティルトが、前記周期成分の振幅と前記プレティルトとの相関関係を用いて制御されたことを特徴とする液晶配向膜。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高品質な表示を可能とするＬＣＤの構成に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶配向膜の表面凹凸は、その下地基板（カラーフィルタ、ＴＦＴ基板等）の凹凸に影響される。ＬＣＤを構成するカラーフィルタの表面凹凸については、カラーフィルタ上に保護層を設けるもの（旭硝子（株）「カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置の製造方法」特開平１０−２３９５１６）、保護層用樹脂組成物を提供するもの（（株）日立製作所「コーティング用樹脂組成物、これを用いたＬＣＤ用保護膜兼液晶配向膜」特開平１０−０１０５３９）、保護平坦化層をアニールするもの（東芝（株）山田「カラー液晶表示器の製造方法」特開平０４−０１４０１６）、保護層上にさらにセラミック層を設けるもの（オプトレックス（株）「カラー液晶表示」特開平０９−２３０３１４）がある。一方、ＴＦＴ上の表面凹凸については、ＴＦＴ上に保護層を設けるもの（エルジー電子（株）「液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置の構造」特開平１０−０６８９７０）がある。
【０００３】
基板表面の凹凸により液晶を配向させる技術には、以下の報告がある。凸版印刷（株）の井口らは、液晶パネル基板上に「溝」と「リブ」による液晶配向を試みている（１９９９年、液晶討論会講演予稿集、Ｐ４１２）。さらに、シャープ（株）水嶋らは、Ｒａと呼ばれる表面の平均粗度が液晶のプレティルトに関与していると報告している（１９９７年、液晶討論会講演予稿集、Ｐ２４６）。また、東北大学内田らは、１９９３年、ジャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フィジックス・レター、３２巻、Ｌ１８２２ページにおいて、配向膜の凹凸周期と方位角アンカリング力の関係を報告している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前述した旭硝子（株）「カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置の製造方法」特開平１０−２３９５１６）、（株）日立製作所「コーティング用樹脂組成物、これを用いたＬＣＤ用保護膜兼液晶配向膜」特開平１０−０１０５３９、東芝（株）山田「カラー液晶表示器の製造方法」特開平０４−０１４０１６、オプトレックス（株）「カラー液晶表示」特開平０９−２３０３１４、エルジー電子（株）「液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置の構造」特開平１０−０６８９７０においては、製造方法についていくつか提案されているが、液晶配向膜の具体的な表面形態の特徴についての規定はない。
【０００５】
凸版印刷（株）の井口ら（１９９９年、液晶討論会講演予稿集、Ｐ４１２）は、液晶パネル基板上に「溝」と「リブ」による液晶配向を試みているが、これは液晶の方位を揃えることのみを狙ったもので、液晶のプレティルトを制御することができない。シャープ（株）水嶋ら（１９９７年、液晶討論会講演予稿集、Ｐ２４６）は、Ｒａと呼ばれる表面の平均粗度が液晶のプレティルトに関与していると報告しているが、配向膜の分子状態を把握しておらず、平均粗度上昇とともにプレティルトが低下する現象が、表面凹凸のためなのか、配向膜の分子状態のためなのか、切り分けができていない。他にも、Ｒａという評価パラメーターでは、凹凸の長周期と短周期のどちらが、液晶配向に関与しているか、判断できない。また、東北大学内田らは、１９９３年、ジャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フィジックス・レター、３２巻、Ｌ１８２２において、配向膜の凹凸の周期と方位角アンカリング力の関係を報告しているが、プレティルトに関しての報告はしていない。
【０００６】
本発明は、前述した事情に鑑みてなされたもので、凹凸のある周期成分の振幅を制御することにより、液晶配向の制御を行うことが可能な液晶配向膜を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記目的を達成するため、下記（１）〜（３３）に示す液晶配向膜を提供する。
（１）ラビング処理した有機薄膜の、凹凸のある周期成分の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（２）光照射により分子配向を施した有機薄膜の、凹凸のある周期成分の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（３）延伸処理を施した有機薄膜の、凹凸のある周期成分の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
【０００８】
（４）ラビング処理した有機薄膜の、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（５）光照射により分子配向を施した有機薄膜の、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（６）延伸処理を施した有機薄膜の、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
【０００９】
（７）ラビング処理した有機薄膜の、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（８）光照射により分子配向を施した有機薄膜の、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（９）延伸処理を施した有機薄膜の、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
【００１０】
（１０）前記（１），（４），（７）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分の振幅を、ラビング条件により変化させて、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（１１）前記（１）〜（９）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分の振幅を、下地膜の凹凸により変化させて、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（１２）前記（１）〜（６），（１０），（１１）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅を０〜３（ｎｍ）まで制御することにより、プレティルトを０〜１．５度まで制御することを特徴とする液晶配向膜。
（１３）前記（１）〜（６），（１０），（１１）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅は０〜３ｎｍを有することを特徴とする液晶配向膜。
（１４）前記（１）〜（６），（１０），（１１）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅を３〜４ｎｍまで制御することにより、プレティルトを１〜３度まで制御することを特徴とする液晶配向膜。
（１５）前記（１）〜（６），（１０），（１１）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅は３〜４ｎｍを有することを特徴とする液晶配向膜。
（１６）前記（１）〜（６），（１０），（１１）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅を４〜６ｎｍまで制御することにより、プレティルトを２〜５度まで制御することを特徴とする液晶配向膜。
（１７）前記（１）〜（６），（１０），（１１）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅は４〜６ｎｍを有することを特徴とする液晶配向膜。
（１８）前記（１）〜（６），（１０），（１１）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅を６ｎｍ以上に制御することにより、プレティルトを５度以上に制御することを特徴とする液晶配向膜。
（１９）前記（１）〜（６），（１０），（１１）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（５０ｎｍ〜２５０ｎｍ）の振幅は６ｎｍ以上を有することを特徴とする液晶配向膜。
【００１１】
（２０）前記（１）〜（６），（７）〜（９）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅を１００ｎｍ以下まで制御することにより、プレティルトを２．５度以上に制御することを特徴とする液晶配向膜。
（２１）前記（１）〜（６），（７）〜（９）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅は０〜１００ｎｍを有することを特徴とする液晶配向膜。
（２２）前記（１）〜（６），（７）〜（９）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅を１００〜２００ｎｍまで制御することにより、プレティルトを２．５度〜０．５度まで制御することを特徴とする液晶配向膜。
（２３）前記（１）〜（６），（７）〜（９）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅は１００〜２００ｎｍを有することを特徴とする液晶配向膜。
（２４）前記（１）〜（６），（７）〜（９）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅を２００ｎｍ以上に制御することにより、プレティルトを０．５度以下に制御することを特徴とする液晶配向膜。
（２５）前記（１）〜（６），（７）〜（９）の液晶配向膜において、凹凸のある周期成分（４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅は２００ｎｍ以上を有することを特徴とする液晶配向膜。
【００１２】
（２６）ラビング処理した有機薄膜表面において、０〜１００ｎｍの凹凸周期の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（２７）光照射により分子配向を施した有機薄膜表面において、０〜１００ｎｍの凹凸周期の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（２８）延伸処理を施した有機薄膜表面において、０〜１００ｎｍの凹凸周期の振幅を制御することにより、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
【００１３】
（２９）前記（１）〜（３），（２６）の液晶配向膜において、薄膜の凹凸周期の振幅を、ラビング条件により変化させて、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（３０）前記（１）〜（３），（２６）〜（２８）の液晶配向膜において、薄膜の凹凸周期の振幅を、下地膜の凹凸により変化させて、プレティルトの制御を行って液晶配向の制御を行なうことを特徴とする液晶配向膜。
（３１）前記（１）〜（３），（２６）〜（３０）の液晶配向膜において、０〜１００ｎｍの凹凸周期の振幅が０〜３ｎｍであることを特徴とする液晶配向膜。
（３２）前記（１）〜（３），（２６）〜（３０）の液晶配向膜において、０〜１００ｎｍの凹凸周期の振幅を、０．０５〜０．１０ｎｍまで制御することにより、プレティルトを６．０〜１．０度まで制御することを特徴とする液晶配向膜。
（３３）前記（１）〜（３），（２６）〜（３０）の液晶配向膜において、０〜１００ｎｍの凹凸周期の振幅を、０．１０〜０．２０ｎｍまで制御することにより、プレティルトを３〜０度まで制御することを特徴とする液晶配向膜。
【００１４】
本発明は、液晶配向膜の表面凹凸のある周期成分（周期０ｎｍ〜１００ｎｍ、５０ｎｍ〜２５０ｎｍ又は４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅を、下地膜の凹凸、ラビング条件等により変化させて、液晶配向の制御を行なうものである。表面の凹凸の周期は、原子間力顕微鏡で得られた凹凸像のパワースペクトル関数を求め、決定する。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の実施例を図面を用いて以下に説明する。
（実施例１）
試料は以下の手順で作製した。基板には、ガラス基板（コーニング７０５９：試料Ａ）、ＩＴＯ付きのガラス基板２種類（凹凸が異なる：試料Ｂ、試料Ｃ）の計３種類を用いた。つまり、下地を変えることで凹凸の周期を変化させた。その基板上に日産化学製ポリイミドＰＩ−Ｄをスピンコートし、９０℃で１分加熱後、２３０℃で９０分加熱して試料とした。その後にラビング強度を変化させ、反射光偏光異方性測定法で配向膜表面を解析し、配向膜分子の配向状態がほぼ同一で、凹凸のみ異なる試料を作製した。
【００１６】
その後、配向膜表面をＡＦＭで測定し（図１）、２次元フーリエ変換を施した（図２）。そのパワースペクトルの像中心を中心点とする円内の振幅分布を積算した（図３、図４）。図４の矢印で示した周期約１００ｎｍの凹凸（波数ｋ＝５５）に注目し、その振幅は試料Ａ，Ｂ，Ｃでそれぞれ３．３２，２．８５，４．３０（ｎｍ）であった。また、同一条件で作製した試料を貼り合わせ、液晶５ＣＢを注入し、クリスタルローテーション法でプレティルトを測定した。試料Ａ，Ｂ，Ｃのプレティルトはそれぞれ２．１２，０．８５，３．０９であった。図４の矢印で示した周期約１００ｎｍの凹凸（波数ｋ＝５５）の振幅とプレティルトに相関が見られた（図５）。これにより、周期約１００ｎｍの凹凸（波数ｋ＝５５）の振幅を制御することによって、液晶配向パラメータであるプレティルトを制御できることが示された。
【００１７】
（実施例２）
試料は以下の手順で作製した。基板には、ガラス基板（コーニング７０５９）を用い、その基板上に日産化学製ポリイミドＰＩ−Ｄをスピンコートし、９０℃で１分加熱後、２３０℃で９０分加熱した。その後にロール回転数５０〜１０００ｒｐｍ、押込み０．０５〜０．４０ｍｍ、ラビング回数１〜５回、テーブル移動速度４３．３〜５２０ｍｍ／ｍｉｎとラビング強度を変化させることで凹凸周期を変化させた試料を作製した。
【００１８】
その後、試料表面をＡＦＭで測定し、２次元フーリエ変換を施し、そのパワースペクトルの像中心を中心点とする円内の振幅分布を積算した。次に、周期約１００ｎｍの凹凸（波数ｋ＝５５）の振幅を算出した。また、同一ラビング条件で作製した試料を貼り合わせ、液晶５ＣＢを注入し、クリスタルローテーション法でプレティルトを測定した。図６に見られるように、周期約１００ｎｍの凹凸（波数ｋ＝５５）の振幅とプレティルトに相関係数０．７８の相関が見られた。これにより、周期約１００ｎｍの凹凸（波数ｋ＝５５）の振幅を制御することによって、液晶配向パラメータであるプレティルトを制御できることが示された。
【００１９】
（実施例３）
試料は以下の手順で作製した。基板には、ガラス基板（コーニング７０５９：試料Ｄ）、ＩＴＯ付きのガラス基板２種類（凹凸が異なる：試料Ｅ、試料Ｆ）の計３種類を用いた。つまり、下地を変えることで凹凸の周期を変化させた。その基板上に日産化学製ポリイミドＰＩ−Ｄをスピンコートし、９０℃で１分加熱後、２３０℃で９０分加熱して試料とした。その後、偏光した紫外線を照射することにより、分子配向を実現した。反射光偏光異方性測定法で配向膜表面を解析し、配向膜分子の配向状態がほぼ同一で凹凸のみ異なる試料を作製した。
【００２０】
その後、配向膜表面をＡＦＭで測定し、２次元フーリエ変換を施し、パワースペクトルの像中心を中心点とする円内の振幅分布を積算した。次に、周期約１．２０μｍの凹凸（波数ｋ＝４）に注目し、その振幅は試料Ｄ，Ｅ，Ｆでそれぞれ０．８５，１．２３，２．０６（×１０２）（ｎｍ）であった。また、同一条件で作製した試料を貼り合わせ、液晶５ＣＢを注入し、クリスタルローテーション法でプレティルトを測定した。試料Ｄ，Ｅ，Ｆのプレティルトはそれぞれ３．０１，１．９５，０．７８であった。周期約１．２０μｍの凹凸（波数ｋ＝４）の振幅とプレティルトに相関が見られた（図７）。これにより、周期約１．２０μｍの凹凸（波数ｋ＝４）の振幅を制御することによって、液晶配向パラメータであるプレティルトを制御できることが示された。
【００２１】
（実施例４）
試料は以下の手順で作製した。基板には、ガラス基板（コーニング７０５９）を用い、その基板上に日産化学製ポリイミドＰＩ−Ｄをスピンコートし、９０℃で１分加熱後、２３０℃で９０分加熱した。その後にロール回転数５０〜１０００ｒｐｍ、押込み０．０５〜０．４０ｍｍ、ラビング回数１〜５回、テーブル移動速度４３．３〜５２０ｍｍ／ｍｉｎとラビング強度を変化させることで凹凸周期を変化させた試料を作製した。
【００２２】
その後、試料表面をＡＦＭで測定し、２次元フーリエ変換を施し、そのパワースペクトルの像中心を中心点とする円内の振幅分布を積算した。次に、周期約１．２０μｍの凹凸（波数ｋ＝４）の振幅を算出した。また、同一ラビング条件で作製した試料を貼り合わせ、液晶５ＣＢを注入し、クリスタルローテーション法でプレティルトを測定した。図８に見られるように、周期約１．２０μｍの凹凸（波数ｋ＝４）の振幅とプレティルトに相関係数−０．８５の相関が見られた。これにより、周期約１．２０μｍの凹凸（波数ｋ＝４）の振幅を制御することによって、液晶配向パラメータであるプレティルトを制御できることが示された。
【００２３】
（実施例５）
試料は以下の手順で作製した。基板表面のラスネスを、ガラス上に成膜条件を変えてＩＴＯ膜を堆積すること、及び、堆積後にエッチング時間を変えることにより制御した。このようにして表面のラフネスの異なる計５種類の基板を準備した。つまり、下地を変えることで凹凸の周期を変化させた。その基板上に実施例１〜４とは異なるポリイミドをスピンコートし、９０℃で１分加熱後、２３０℃で９０分加熱して試料とした。その後にラビング強度を変化させ、反射光偏光異方性測定法で配向膜表面を解析し、配向膜分子の配向状態がほぼ同一で、凹凸のみ異なる試料（Ｇ〜Ｋ）を作製した。その結果、配向膜の構造パラメータＤΔ（反射光の偏光パラメーターΔの最大と最小の差）はガラス基板上で０．３程度であった。
【００２４】
その後、配向膜表面をＡＦＭで５点測定し（図９に平均租度Ｒａを示した）、２次元フーリエ変換を施した。そのパワースペクトルの像中心を中心点とする円内の振幅分布を積算した。また、同一条件で作製した試料を貼り合わせ、液晶を注入しクリスタルローテーション法でプレティルトを測定した。図１０に凹凸周期とプレティルトの相関を示した。０〜１００ｎｍの間で相関が強くなっているのがわかる。特に相関の高い周期約４０ｎｍの凹凸に注目し、その振幅は試料Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ｊ，Ｋでそれぞれ０．０４５，０．０５３，０．０７８，０．０８２，０．０９７（ｎｍ）であった。試料Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ｊ，Ｋのプレティルトがそれぞれ３．０５，２．３２，１．０８，１．０６，０．３５であった。その相関係数は−０．９９であった（図１１）。これにより、周期約０〜１００ｎｍの凹凸の振幅を制御することにより、液晶配向パラメータであるプレティルトを制御できることが示された。
【００２５】
（実施例６）
試料は以下の手順で作製した。基板表面のラスネスを、ガラス上に成膜条件を変えてＩＴＯ膜を堆積すること、及び、堆積後にエッチング時間を変えることにより制御した。このようにして表面のラフネスの異なる計５種類の基板を準備した。つまり、下地を変えることで凹凸の周期を変化させた。その基板上に実施例１〜４とは異なるポリイミドをスピンコートし、９０℃で１分加熱後、２３０℃で９０分加熱して試料とした。その後にラビング強度を変化させ、反射光偏光異方性測定法で配向膜表面を解析し、配向膜分子の配向状態がほぼ同一で、凹凸のみ異なる試料（Ｌ〜Ｐ）を作製した。その結果、配向膜の構造パラメータＤΔ（反射光の偏光パラメーターΔの最大と最小の差）はガラス基板上で１．０程度であった。
【００２６】
その後、配向膜表面をＡＦＭで５点測定し、２次元フーリエ変換を施した。そのパワースペクトルの像中心を中心点とする円内の振幅分布を積算した。また、同一条件で作製した試料を貼り合わせ、液晶を注入しクリスタルローテーション法でプレティルトを測定した。図１２に凹凸周期とプレティルトの相関を示した。０〜１００ｎｍの間で相関が強くなっているのがわかる。特に相関の高い周期約４０ｎｍの凹凸に注目し、その振幅は試料Ｌ，Ｍ，Ｎ，Ｏ，Ｐでそれぞれ０．０５５，０．０６８，０．０７２，０．０９６，０．１５５（ｎｍ）であった。試料Ｌ，Ｍ，Ｎ，Ｏ，Ｐのプレティルトがそれぞれ３．９１，２．９８，２．５７，２．４５，１．８２であった。その相関係数は−０．９１であった（図１３）。これにより、周期約０〜１００ｎｍの凹凸の振幅を制御することにより、液晶配向パラメータであるプレティルトを制御できることが示された。
【００２７】
（実施例７）
試料は以下の手順で作製した。基板表面のラスネスを、ガラス上に成膜条件を変えてＩＴＯ膜を堆積すること、及び、堆積後にエッチング時間を変えることにより制御した。このようにして表面のラフネスの異なる計５種類の基板を準備した。つまり、下地を変えることで凹凸の周期を変化させた。その基板上に実施例１〜４とは異なるポリイミドをスピンコートし、９０℃で１分加熱後、２３０℃で９０分加熱して試料とした。その後にラビング強度を変化させ、反射光偏光異方性測定法で配向膜表面を解析し、配向膜分子の配向状態がほぼ同一で、凹凸のみ異なる試料（Ｑ〜Ｕ）を作製した。その結果、配向膜の構造パラメータＤΔ（反射光の偏光パラメーターΔの最大と最小の差）はガラス基板上で１．６程度であった。
【００２８】
その後、配向膜表面をＡＦＭで５点測定し、２次元フーリエ変換を施した。そのパワースペクトルの像中心を中心点とする円内の振幅分布を積算した。また、同一条件で作製した試料を貼り合わせ、液晶を注入しクリスタルローテーション法でプレティルトを測定した。図１４に凹凸周期とプレティルトの相関を示した。０〜１００ｎｍの間で相関が強くなっているのがわかる。特に相関の高い周期約４０ｎｍの凹凸に注目し、その振幅は試料Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔ，Ｕでそれぞれ０．０７５，０．０９５，０．０９６，０．０９９，０．１２５（ｎｍ）であった。試料Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔ，Ｕのプレティルトがそれぞれ４．１３，３．５２，３．０５，２．０２，１．６５であった。その相関係数は−０．９２であった（図１５）。これにより、周期約０〜１００ｎｍの凹凸の振幅を制御することによって、液晶配向パラメータであるプレティルトを制御できることが示された。
【００２９】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、凹凸のある周期成分の振幅を制御することにより、液晶配向の制御を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ＡＦＭの観察像（凹凸像）を示す図である。２μｍ四方で、明るい部分が高い部分である。
【図２】図１の凹凸像を２次元フーリエ変換したものを示す図である。面内が波数空間、明るい部分が振幅の大きい部分である。
【図３】図１の凹凸像に２次元フーリエ変換を施し、そのパワースペクトルの像（矢印、点線以外は図２と同様であり、簡易化して表わした）中心を中心点とする円内の振幅分布を積算する図である。図中の点線の振幅分布を矢印方向に積算していく。
【図４】波数−振幅分布図である。図中のＡ，Ｂ，Ｃはそれぞれ試料Ａ、Ｂ，Ｃに対応する。図３で積算した結果である。
【図５】下地の凹凸を変化させた場合の振幅−プレティルトの相関図である。図中のＡ，Ｂ，Ｃはそれぞれ試料Ａ、Ｂ，Ｃに対応する。
【図６】ラビング条件を変化させた場合の振幅−プレティルトの相関図である。図中点線はｇｕｉｄｅ  ｔｏ  ｅｙｅｓである。
【図７】下地の凹凸を変化させた場合の振幅−プレティルトの相関図である。図中のＤ，Ｅ，Ｆはそれぞれ試料Ｄ，Ｅ，Ｆに対応する。
【図８】ラビング条件を変化させた場合の振幅−プレティルトの相関図である。図中点線はｇｕｉｄｅ  ｔｏ  ｅｙｅｓである。
【図９】各試料における平均粗度（Ｒａ）を示す図である。図中のＧ，Ｈ，Ｉ，Ｊ，Ｋはそれぞれ試料Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ｊ，Ｋに対応する。
【図１０】凹凸周期とプレティルトの相関図である（ＤΔ≒０．３０）。
【図１１】振幅−プレティルトの相関である（ＤΔ≒０．３０）。
【図１２】凹凸周期とプレティルトの相関図である（ＤΔ≒１．０）。
【図１３】振幅−プレティルトの相関図である（ＤΔ≒１．０）。
【図１４】凹凸周期とプレティルトの相関図である（ＤΔ≒１．６）。
【図１５】振幅−プレティルトの相関図である（ＤΔ≒１．６）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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