(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を発する光源手段と、
前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記偏光変換手段から出射された光を第１の方向に導光する第１の導光手段と、
前記第１の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第１の方向の所定の位置において変調させる第１の変調手段と、
前記第１の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第１の透過反射制御手段と、
前記第１の透過反射制御手段を透過した光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、
前記第２の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第２の方向の所定の位置において変調させる第２の変調手段と、
前記第２の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第２の透過反射制御手段と、
前記第２の透過反射制御手段を透過した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、
前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えること
を特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記第１の変調手段が、
前記第１の方向に複数配置された液晶セルからなる第１の液晶層と、
前記第１の液晶層の面であって、前記第１の導光手段が形成されている側の面とは逆側の面に形成された第１の反射手段とを備え、
前記第１の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、前記光の偏光状態を前記第１の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記第２の変調手段が、
前記第２の方向に複数配置された液晶セルからなる第２の液晶層と、
前記第２の液晶層の面であって、前記第２の導光手段が形成されている側の面とは逆側の面に形成された第２の反射手段とを備え、
前記第２の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、前記光の偏光状態を前記第２の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記第１の変調手段を構成する第１の液晶層の液晶、又は、前記第２の変調手段を構成する第２の液晶層の液晶の少なくとも一方は、
第１の配向膜と第２の配向膜とに挟まれ、第１の配向膜と第２の配向膜との捩れ角が４５°であることを特徴とする請求項３に記載の光学装置。
【請求項５】
光を発する光源手段と、
前記光源手段から出射された光を第１の方向に導光する第１の導光手段と、
前記第１の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第１の導光手段を導光している光を入射させる第１の変調手段と、
前記第１の変調手段の面であって、前記第１の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記第１の変調手段に入射した光を前記第１の導光手段側に反射する第１の反射手段と、
前記第１の導光手段から出射された光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、
前記第２の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第２の導光手段を導光している光を入射させる第２の変調手段と、
前記第２の変調手段の面であって、前記第２の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記第２の変調手段に入射した光を前記第２の導光手段側に反射する第２の反射手段と、
前記第２の導光手段を出射した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、
前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えること
を特徴とする光学装置。
【請求項６】
前記第１の変調手段が、
前記第１の方向に複数配置された液晶セルからなる第１の液晶層を備え、
前記第１の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、該液晶セルの前記屈折率を前記第１の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする請求項５に記載の光学装置。
【請求項７】
前記第２の変調手段が、
前記第２の方向に複数配置された液晶セルからなる第２の液晶層を備え、
前記第２の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、該液晶セルの前記屈折率を前記第２の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする請求項５又は６に記載の光学装置。
【請求項８】
光を発する光源手段と、
前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記偏光変換手段から出射された光を第１の方向に導光する第１の導光手段と、
前記第１の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第１の方向の所定の位置において変調させる第１の変調手段と、
前記第１の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制
御する第１の透過反射制御手段と、
前記第１の透過反射制御手段を透過した光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、
前記第２の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第２の導光手段を導光している光を入射させる第２の変調手段と、
前記第２の変調手段の面であって、前記第２の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記第２の変調手段に入射した光を前記第２の導光手段側に反射する第２の反射手段と、
前記第２の導光手段を出射した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、
前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えること
を特徴とする光学装置。
【請求項９】
光を発する光源手段と、
前記光源手段から出射された光を第１の方向に導光する第１の導光手段と、
前記第１の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第１の導光手段を導光している光を入射させる第１の変調手段と、
前記第１の変調手段の面であって、前記第１の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記第１の変調手段に入射した光を前記第１の導光手段側に反射する第１の反射手段と、
前記第１の導光手段から出射された光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、
前記光源手段から前記第２の導光手段に至る光の経路のいずれかの位置に配置された光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記第２の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第２の方向の所定の位置において変調させる第２の変調手段と、
前記第２の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第２の透過反射制御手段と、
前記第２の透過反射制御手段を透過した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、
前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えること
を特徴とする光学装置。
【請求項１０】
被測定体載置手段の第１の方向における被測定体載置部分の数と同数の、前記第１の方向に配置された光源手段と、
前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記偏光変換手段からの光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、
前記第２の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第２の方向の所定の位置において変調させる第２の変調手段と、
前記第２の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第２の透過反射制御手段と、
前記第２の透過反射制御手段を透過した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、
前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えること
を特徴とする光学装置。
【請求項１１】
前記第２の変調手段が、
前記第２の方向に複数配置された液晶セルからなる第２の液晶層と、
前記第２の液晶層の面であって、前記第２の導光手段が形成されている側の面とは逆側
の面に形成された第２の反射手段とを備え、
前記第２の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、前記光の偏光状態を前記第２の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする請求項１０に記載の光学装置。
【請求項１２】
前記第２の変調手段を構成する第２の液晶層の液晶は、
第１の配向膜と第２の配向膜とに挟まれ、第１の配向膜と第２の配向膜との捩れ角が４５°であることを特徴とする請求項１１に記載の光学装置。
【請求項１３】
被測定体載置手段の第１の方向における被測定体載置部分の数と同数の、前記第１の方向に配置された光源手段と、
前記光源手段から出射された光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、
前記第２の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第２の導光手段を導光している光を入射させる第２の変調手段と、
前記第２の変調手段の面であって、前記第２の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、入射した光を前記第２の導光手段側に反射する第２の反射手段と、
前記第２の導光手段を出射した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、
前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えること
を特徴とする光学装置。
【請求項１４】
前記第２の変調手段が、
前記第２の方向に複数配置された液晶セルからなる第２の液晶層を備え、
前記第２の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、該液晶セルの前記屈折率を前記第２の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする請求項１３に記載の光学装置。
【請求項１５】
前記被測定体載置手段の下部に、
該被測定体載置手段上の被測定体に照射される光を集光するための第１の集光手段を備えることを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項１６】
前記被測定体載置手段の上部に、
該被測定体載置手段上の被測定体から発せられた光を集光するための第２の集光手段を備えることを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項１７】
前記被測定体載置手段における前記被測定体が載置されている面とは逆側の面に、
前記被測定体に照射される光を集光するための第３の集光手段が形成されていることを特徴とする請求項１から１６のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項１８】
前記被測定体載置手段における前記被測定体が載置されている面とは逆側の面を覆うカバー部を備え、
該カバー部の材料の屈折率と前記第３の集光手段が形成されている部分の材料の屈折率とが異なることを特徴とする請求項１７に記載の光学装置。
【請求項１９】
前記被測定体載置手段と、
前記第２の導光手段及び前記第２の変調手段との少なくとも一方とに、
該被測定体載置手段の面方向における位置決めのための第１の位置決め手段を形成したことを特徴とする請求項１から１８のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項２０】
前記被測定体載置手段と前記第２の導光手段との間に、
該被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を形成したことを特徴とする請求項１から１９のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項２１】
前記第２の導光手段、前記第２の変調手段及び前記被測定体載置手段が、
それぞれの間に形成された固定手段により互いに固定されていることを特徴とする請求項１から１８のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項２２】
前記第２の導光手段と前記第２の変調手段との間に形成された固定手段及び前記第２の導光手段と前記被測定体載置手段との間に形成された固定手段との少なくとも一方が、
熱を加えられることにより上下の各部品の固定を解除する材料により形成されていることを特徴とする請求項２１に記載の光学装置。
【請求項２３】
前記被測定体載置手段がガラス基板であり、
前記被測定体がＤＮＡプローブであることを特徴とする請求項１から２２のいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項２４】
被測定体を載置した被測定体載置手段として機能する、上記請求項１から２３のいずれか１項に記載の光学装置に使用されることを特徴とする被測定体載置部品。
【請求項２５】
光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、
前記偏光変換手段から出射された光を所定の方向に導光する導光手段と、
前記導光手段を導光している光の偏光状態を前記所定の方向の所定の位置において変調させる変調手段と、
前記導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する透過反射制御手段とを備え、
前記変調手段が、
前記所定の方向に複数配置された液晶セルからなる液晶層と、
該液晶層の面であって、前記導光手段が形成されている側の面とは逆側の面に形成された反射手段とを備え、
前記所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、前記光の偏光状態を前記所定の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする光出射位置制御装置。
【請求項２６】
光源手段から出射された光を所定の方向に導光する導光手段と、
前記所定の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記導光手段を導光している光を入射させる変調手段と、
前記変調手段の面であって、前記導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記変調手段に入射した光を前記導光手段側に反射する反射手段とを備え、
前記変調手段が、
前記所定の方向に複数配置された液晶セルからなる液晶層を備え、
前記所定の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、該液晶セルの前記屈折率を前記所定の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする光出射位置制御装置。
【請求項２７】
上記請求項１から請求項２３のいずれか１項に記載の光学装置と、
該光学装置から出力された測定情報と比較するための比較情報を格納した格納手段と、
前記光学装置から出力された測定情報と、前記格納手段に格納されている比較情報とに基づいて被測定体の分析を行う分析装置とを備えることを特徴とする分析システム。
【請求項２８】
上記請求項２７に記載の分析システムを用いた本人照合方法であって、
前記光学装置がユーザの遺伝子情報を測定して測定情報とし、
前記格納手段には本人を示す遺伝子情報が比較情報として格納され、
前記分析装置は、前記光学装置により測定された遺伝子情報と前記格納手段に格納されている本人を示す遺伝子情報とに基づいて本人の照合を行うことを特徴とする本人照合方法。
【請求項２９】
上記請求項２７に記載の分析システムを用いたアレルギー・副作用検査方法であって、
前記光学装置がユーザの遺伝子情報を測定して測定情報とし、
前記格納手段にはアレルギー・副作用を発生するグループ情報が比較情報として格納され、
前記分析装置は、前記光学装置により測定された遺伝子情報と前記格納手段に格納されているアレルギー・副作用を発生するグループ情報とに基づいてアレルギー・副作用を検査することを特徴とするアレルギー・副作用検査方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被測定体を測定する際に適用して好適な光学装置、被測定体載置部品、光出射位置制御装置、分析システム、本人照合方法及びアレルギー・副作用検査方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、被測定体に光を照射した際に発光される信号光を検出し、該被測定体の性質を測定する装置が種々提案されてきた。
【０００３】
このような装置により測定される被測定体として例えばＤＮＡが挙げられる。ＤＮＡを測定する技術は遺伝子工学の一部をなし、この遺伝子工学は、遺伝子組み替え食品やクローン畜産などの農業畜産分野や、バイオ技術を利用した環境修復・ゴミ処理、バイオ技術を利用したＣＯ2処理システム等の環境分野や、バイオマスを利用したエネルギー生産などのエネルギー分野などにおいて利用される。もちろん、遺伝子工学は上記以外の分野においても利用される。
【０００４】
例えば、従来のＤＮＡチップの分析方法として、特開２０００−１３１２３７号公報に記載の「マイクロアレイチップの読取方法および読取装置」や、特表平９−５０４９１０号公報に記載の「分子生物学的分析および診断用の自己アドレス可能、自己組立て小型電子システムおよびデバイス」や、特表平１０−５１２７４５号公報に記載された「ＤＮＡ塩基配列決定およびＤＮＡ同定の方法および装置」などがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような従来技術の場合には、被測定体のスキャンを機械的に行っているため、スキャン用の駆動部が大きく、装置全体が大型化してしまうという問題点を有している。
【０００６】
また、従来技術では、被測定体のスキャンが機械的なスキャンであるためスキャン時間の短縮が困難であるという問題点を有している。
【０００７】
さらに、従来技術では、装置の大型化、部品点数の増大により高コストとなるという問題点を有している。
【０００８】
本発明は上記の従来技術の課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、小型化、高速化及び低コスト化を図ることが可能な光学装置、被測定体載置部品、光出射位置制御装置、分析システム、本人照合方法及びアレルギー・副作用検査方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光を第１の方向に導光する第１の導光手段と、前記第１の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第１の方向の所定の位置において変調させる第１の変調手段と、前記第１の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第１の透過反射制御手段と、前記第１の透過反射制御手段を透過した光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、前記第２の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第２の方向の所定の位置において変調させる第２の変調手段と、前記第２の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第２の透過反射制御手段と、前記第２の透過反射制御手段を透過した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係る光学装置は、前記第１の変調手段が、前記第１の方向に複数配置された液晶セルからなる第１の液晶層と、前記第１の液晶層の面であって、前記第１の導光手段が形成されている側の面とは逆側の面に形成された第１の反射手段とを備え、前記第１の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、前記光の偏光状態を前記第１の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る光学装置は、前記第２の変調手段が、前記第２の方向に複数配置された液晶セルからなる第２の液晶層と、前記第２の液晶層の面であって、前記第２の導光手段が形成されている側の面とは逆側の面に形成された第２の反射手段とを備え、前記第２の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、前記光の偏光状態を前記第２の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明に係る光学装置は、前記第１の変調手段を構成する第１の液晶層の液晶、又は、前記第２の変調手段を構成する第２の液晶層の液晶の少なくとも一方は、第１の配向膜と第２の配向膜とに挟まれ、第１の配向膜と第２の配向膜との捩れ角が４５°であることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段から出射された光を第１の方向に導光する第１の導光手段と、前記第１の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第１の導光手段を導光している光を入射させる第１の変調手段と、前記第１の変調手段の面であって、前記第１の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記第１の変調手段に入射した光を前記第１の導光手段側に反射する第１の反射手段と、前記第１の導光手段から出射された光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、前記第２の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第２の導光手段を導光している光を入射させる第２の変調手段と、前記第２の変調手段の面であって、前記第２の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記第２の変調手段に入射した光を前記第２の導光手段側に反射する第２の反射手段と、前記第２の導光手段を出射した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明に係る光学装置は、前記第１の変調手段が、前記第１の方向に複数配置された液晶セルからなる第１の液晶層を備え、前記第１の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、該液晶セルの前記屈折率を前記第１の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明に係る光学装置は、前記第２の変調手段が、前記第２の方向に複数配置された液晶セルからなる第２の液晶層を備え、前記第２の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、該液晶セルの前記屈折率を前記第２の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光を第１の方向に導光する第１の導光手段と、前記第１の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第１の方向の所定の位置において変調させる第１の変調手段と、前記第１の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第１の透過反射制御手段と、前記第１の透過反射制御手段を透過した光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、前記第２の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第２の導光手段を導光している光を入射させる第２の変調手段と、前記第２の変調手段の面であって、前記第２の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記第２の変調手段に入射した光を前記第２の導光手段側に反射する第２の反射手段と、前記第２の導光手段を出射した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明に係る光学装置は、光を発する光源手段と、前記光源手段から出射された光を第１の方向に導光する第１の導光手段と、前記第１の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第１の導光手段を導光している光を入射させる第１の変調手段と、前記第１の変調手段の面であって、前記第１の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記第１の変調手段に入射した光を前記第１の導光手段側に反射する第１の反射手段と、前記第１の導光手段から出射された光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、前記光源手段から前記第２の導光手段に至る光の経路のいずれかの位置に配置された光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記第２の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第２の方向の所定の位置において変調させる第２の変調手段と、前記第２の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第２の透過反射制御手段と、前記第２の透過反射制御手段を透過した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明に係る光学装置は、被測定体載置手段の第１の方向における被測定体載置部分の数と同数の、前記第１の方向に配置された光源手段と、前記光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段からの光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、前記第２の導光手段を導光している光の偏光状態を、前記第２の方向の所定の位置において変調させる第２の変調手段と、前記第２の導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する第２の透過反射制御手段と、前記第２の透過反射制御手段を透過した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明に係る光学装置は、前記第２の変調手段が、前記第２の方向に複数配置された液晶セルからなる第２の液晶層と、前記第２の液晶層の面であって、前記第２の導光手段が形成されている側の面とは逆側の面に形成された第２の反射手段とを備え、前記第２の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、前記光の偏光状態を前記第２の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明に係る光学装置は、前記第２の変調手段を構成する第２の液晶層の液晶は、第１の配向膜と第２の配向膜とに挟まれ、第１の配向膜と第２の配向膜との捩れ角が４５°であることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明に係る光学装置は、被測定体載置手段の第１の方向における被測定体載置部分の数と同数の、前記第１の方向に配置された光源手段と、前記光源手段から出射された光を第２の方向に導光する第２の導光手段と、前記第２の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記第２の導光手段を導光している光を入射させる第２の変調手段と、前記第２の変調手段の面であって、前記第２の導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、入射した光を前記第２の導光手段側に反射する第２の反射手段と、前記第２の導光手段を出射した光が照射される被測定体を複数載置する被測定体載置手段と、前記被測定体載置手段上の前記複数の被測定体から発せられた光のそれぞれを独立に測定する複数のＣＣＤ（charge-coupled device）から構成される受光手段とを備えることを特徴とする。
【００２２】
また、本発明に係る光学装置は、前記第２の変調手段が、前記第２の方向に複数配置された液晶セルからなる第２の液晶層を備え、前記第２の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、該液晶セルの前記屈折率を前記第２の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする。
【００２３】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段の下部に、該被測定体載置手段上の被測定体に照射される光を集光するための第１の集光手段を備えることを特徴とする。
【００２４】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段の上部に、該被測定体載置手段上の被測定体から発せられた光を集光するための第２の集光手段を備えることを特徴とする。
【００２５】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段における前記被測定体が載置されている面とは逆側の面に、前記被測定体に照射される光を集光するための第３の集光手段が形成されていることを特徴とする。
【００２６】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段における前記被測定体が載置されている面とは逆側の面を覆うカバー部を備え、該カバー部の材料の屈折率と前記第３の集光手段が形成されている部分の材料の屈折率とが異なることを特徴とする。
【００２７】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と、前記第２の導光手段及び前記第２の変調手段との少なくとも一方とに、該被測定体載置手段の面方向における位置決めのための第１の位置決め手段を形成したことを特徴とする。
【００２８】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段と前記第２の導光手段との間に、該被測定体載置手段の面に垂直な方向における位置決めのための第２の位置決め手段を形成したことを特徴とする。
【００２９】
また、本発明に係る光学装置は、前記第２の導光手段、前記第２の変調手段及び前記被測定体載置手段とが、それぞれの間に形成された固定手段により互いに固定されていることを特徴とする。
【００３０】
また、本発明に係る光学装置は、前記第２の導光手段と前記第２の変調手段との間に形成された固定手段及び前記第２の導光手段と前記被測定体載置手段との間に形成された固定手段との少なくとも一方が、熱を加えられることにより上下の各部品の固定を解除する材料により形成されていることを特徴とする。
【００３１】
また、本発明に係る光学装置は、前記被測定体載置手段がガラス基板であり、前記被測定体がＤＮＡプローブであることを特徴とする。
【００３２】
さらに、本発明に係る被測定体載置部品は、被測定体を載置した被測定体載置手段として機能する、上記に記載の光学装置に使用されることを特徴とする。
【００３３】
さらに、本発明に係る光出射位置制御装置は、光源手段からの光の偏光状態を変換する偏光変換手段と、前記偏光変換手段から出射された光を所定の方向に導光する導光手段と、前記導光手段を導光している光の偏光状態を前記所定の方向の所定の位置において変調させる変調手段と、前記導光手段の表面に形成された、光の偏光状態に応じて光の透過及び反射を制御する透過反射制御手段とを備え、前記変調手段が、前記所定の方向に複数配置された液晶セルからなる液晶層と、該液晶層の面であって、前記導光手段が形成されている側の面とは逆側の面に形成された反射手段とを備え、前記所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、前記光の偏光状態を前記所定の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする。
【００３４】
また、本発明に係る光出射位置制御装置は、光源手段から出射された光を所定の方向に導光する導光手段と、前記所定の方向の所定の位置において屈折率を変調させることにより、前記導光手段を導光している光を入射させる変調手段と、前記変調手段の面であって、前記導光手段の形成される側とは逆側の面に形成された、前記変調手段に入射した光を前記導光手段側に反射する反射手段とを備え、前記変調手段が、前記所定の方向に複数配置された液晶セルからなる液晶層を備え、前記所定の方向の所定の位置における液晶セルに対する電圧の印加によって、該液晶セルの前記屈折率を前記所定の方向の所定の位置において変調させることを特徴とする。
【００３５】
さらに、本発明に係る分析システムは、上記に記載の光学装置と、該光学装置から出力された測定情報と比較するための比較情報を格納した格納手段と、前記光学装置から出力された測定情報と、前記格納手段に格納されている比較情報とに基づいて被測定体の分析を行う分析装置とを備えることを特徴とする。
【００３６】
さらに、本発明に係る本人照合方法は、上記の分析システムを用いた本人照合方法であって、前記光学装置がユーザの遺伝子情報を測定して測定情報とし、前記格納手段には本人を示す遺伝子情報が比較情報として格納され、前記分析装置は、前記光学装置により測定された遺伝子情報と前記格納手段に格納されている本人を示す遺伝子情報とに基づいて本人の照合を行うことを特徴とする。
【００３７】
さらに、本発明に係るアレルギー・副作用検査方法は、上記の分析システムを用いたアレルギー・副作用検査方法であって、前記光学装置がユーザの遺伝子情報を測定して測定情報とし、前記格納手段にはアレルギー・副作用を発生するグループ情報が比較情報として格納され、前記分析装置は、前記光学装置により測定された遺伝子情報と前記格納手段に格納されているアレルギー・副作用を発生するグループ情報とに基づいてアレルギー・副作用を検査することを特徴とする。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、この発明の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
【００３９】
また、以下の図面において既述の図面に記載された部品と同様の部品には同じ番号を付す。
【００４０】
（本発明に係る光学装置の実施形態及び参考形態の概要）本発明に係る光学装置の各実施形態及び参考形態の説明をする前に、本発明に係る光学装置の実施形態及び参考形態の概要について図１を参照して説明する。図１は、本発明に係る光学装置の実施形態及び参考形態の概要を説明するための概略図である。
【００４１】
図１に示されるように、本発明に係る光学装置は、入射部１０１、変調部１０２、導光部１０３、被測定体載置部１０４及び受光部１０５を主な部品として構成されている。もちろん、各実施形態及び各参考形態において、図１に示される部品以外の部品が付加されることもある。
【００４２】
また、図１に示される例では各部品が大きく離間している状態が示されているが、これは説明の便宜のためであり、本発明に係る光学装置は各部品が大きく離間している必要は無く、各部品が上下の部品にそれぞれ、完全に密着している状態又は適度な距離を保って配置されていれば良い。この点については以下に説明する各実施形態及び各参考形態において同様である。
【００４３】
入射部１０１は、導光部１０３に入射される光を発する部品であり、ＬＥＤや、方向２において光が出射される位置を選択するための変調部等により構成される。
【００４４】
変調部１０２は、導光部１０３を導光している光の方向１の出射位置を選択する部品である。
【００４５】
導光部１０３は、入射部１０１から出射された光を方向１に平行な方向に導光させる部品である。
【００４６】
被測定体載置部１０４は、導光部１０３から出射された光により照射される被測定体を載置するための部品である。
【００４７】
受光部１０５は、光が照射された被測定体から発せられた光を受光するための部品であり、例えば導光部と光検出器とを組み合わせた部品やＣＣＤ（charge-coupled device）などにより構成される。
【００４８】
また、図１においては方向１及び方向２を定義している。以下の実施形態及び参考形態では、この方向１、方向２はそれぞれ直行するｘ方向、ｙ方向に対応しているとして良いが、これらの方向は被測定体載置部１０４上の被測定体の位置を２次元的に特定するための方向であるため、この方向１、方向２は直行するｘ方向、ｙ方向に対応している場合に限定されるものではなく、互いに非平行な方向であれば良い。
【００４９】
そして、以下の実施形態及び参考形態は、上述の各部を変形したものを組み合わせた形態や、上述の各部にさらに他の部品を組み合わせた形態である。
【００５０】
例えば、以下に説明する本発明に係る光学装置の第１の参考形態は、入射部１０１及び変調部１０２に液晶層を用いて光の偏光状態を変調して、被測定体に照射される光の出射位置を制御し、本発明に係る光学装置の第２の参考形態は、入射部１０１及び変調部１０２に液晶層を用いて、導光部１０３を導光する光の反射（屈折）状態を変調して、被測定体に照射される光の出射位置を制御している。
【００５１】
しかし、本発明ではこのような第１の参考形態や第２の参考形態のような光学装置に限定されるものでなく、例えば、入射部１０１の部分では液晶により光の偏光状態を変化させて光の出射位置を制御し、変調部１０２の部分では液晶により導光部１０３を導光する光の反射（屈折）状態を変調して被測定体に照射される光の出射位置を制御する場合、あるいはその逆の場合というように、光の出射位置を制御するために、光の偏光状態の変調と、光の反射（屈折）状態の変調との双方を任意に組み合わせて用いても良い。
【００５２】
また、以下に説明する、本発明に係る光学装置の各実施形態及び参考形態の説明において、入射部１０１、又は、変調部１０２及び導光部１０３に該当する部分の説明は、本発明に係る光出射位置制御装置の各実施形態の説明を兼ねる。
【００５３】
また、以下に説明する、本発明に係る光学装置の各実施形態及び参考形態の説明において、被測定体載置部１０４に対応する部分の説明は、本発明に係る被測定体載置部品の各実施形態の説明を兼ねる。
【００５４】
（光学装置の第１の参考形態）次に、本発明に係る光学装置の第１の参考形態について図２から図５を参照して説明する。図２は、本発明に係る光学装置の第１の参考形態の全体概略図である。
【００５５】
図２に示されるように、本発明に係る光学装置の第１の参考形態は、光を発する光源２０１ａと、光源２０１ａから発せられた光の偏光状態を変換する偏光変換素子２０１ｂとを備える。
【００５６】
また、本発明に係る光学装置の第１の参考形態は、偏光変換素子２０１ｂから出射された光を導光する導光部２０１ｃと、導光部２０１ｃを導光している光の偏光状態を変調するための変調部２０１ｄとを備える。
【００５７】
また、図２に示される本発明に係る光学装置の第１の参考形態は、導光部２０３を導光している光の偏光状態を変調するための変調部２０２と、導光部２０１ｃから出射された光を導光するための導光部２０３とを備える。
【００５８】
また、図２に示される本発明に係る光学装置の第１の参考形態は、導光部２０３から出射された光が照射される被測定体を載置した被測定体載置部２０４を備える。
【００５９】
また、図２に示される本発明に係る光学装置の第１の参考形態は、被測定体から発せられた光を導光するための導光部２０５と、導光部２０５を導光された光を受光するための光検出器２０６とを備える。
【００６０】
光源２０１ａは、例えは半導体レーザ、ＬＥＤなどにより構成され、所定の光を出射する。
【００６１】
偏光変換素子２０１ｂは、光源２０１ａから出射された光の偏光状態を、例えばＰ波又はＳ波というように変換する。
【００６２】
導光部２０１ｃ及び変調部２０１ｄは、ｙ方向に向かう光のｙ方向の出射位置を制御する。この制御動作については後述する。
【００６３】
なお、導光部２０１ｃには、導光部２０１ｃ内部を導光する光に角度をつけるための、角度付与部２０１ｃ−１が形成されている。
【００６４】
光源２０１ａを出射した光はこの角度付与部２０１ｃ−１により、例えば図３に示されるような反射パターンをもって導光部２０１ｃ内部を導光する。
【００６５】
したがって、導光部２０１ｃ内部の光の反射パターンは、この角度付与部２０１ｃ−１により制御することができる。
【００６６】
もちろん、角度付与部２０１ｃ−１を形成せずに、光源２０１ａを傾けることにより導光部２０１ｃ内部の光の反射パターンを制御するとしても良い。
【００６７】
変調部２０２及び導光部２０３は、ｘ方向に向かう光のｘ方向の出射位置を制御する。この制御動作については後述する。
【００６８】
なお、導光部２０３には、導光部２０３内部を導光する光に角度をつけるための、角度付与部２０３−１が形成されている。
【００６９】
導光部２０１ｃを出射した光はこの角度付与部２０３−１により、例えば図４に示されるような反射パターンをもって導光部２０３内部を導光する。
【００７０】
したがって、導光部２０３内部の光の反射パターンは、この角度付与部２０３−１により制御することができる。
【００７１】
もちろん、角度付与部２０３−１を形成せずに、導光部２０１ｃを傾けることにより導光部２０３内部の光の反射パターンを制御するとしても良い。
【００７２】
被測定体載置部１０４は被測定体を載置する。
【００７３】
導光部２０５は、被測定体から出射した光をフォトダイオードなどにより構成される光検出器２０６へと導光する。図２に示される例では、導光部２０５は、２つのくさび型の導光部を組み合わせた導光部となっているが、導光部としてはこのようなくさび型の導光部に限定されるものではなく、例えば表面に導光するためのパターンが形成された導光部その他の適宜な導光部を用いることができる。
【００７４】
（出射位置の制御動作）次に、図３及び図４を参照して、導光部２０１ｃ及び変調部２０１ｄにおける光の出射位置の制御動作、変調部２０２及び導光部２０３における光の出射位置の制御動作のそれぞれについて説明する。
【００７５】
図３は、図２に示される部分Ａの拡大断面図であり、図４は、図２に示される部分Ｂの拡大断面図である。
【００７６】
まず、図２に示される部分Ａについて図３を参照して説明する。図３に示されるように、導光部２０１ｃ及び変調部２０１ｄからなる部分は、ミラーなどにより形成される反射板３０１、液晶層３０２、導光部３０３、導光部３０３の表面に形成されたブラッググレーティングパターン３０４とから構成される。
【００７７】
液晶層３０２は、ｙ方向の方向で分割された複数の液晶セル３０５を備え、この液晶セル３０５のＯＮ、ＯＦＦはそれぞれ独立に制御することが可能である。
【００７８】
ここで、液晶セルをＯＮ、ＯＦＦするとは、液晶セルに電圧を印加することにより、分子配列を変化させ、光の配向面を変化させることをいう。
【００７９】
また、ブラッググレーティングパターン３０４は、Ｓ波又はＰ波の偏光の一方のみを透過させ、他方を反射させるという性質を有する。本参考形態の場合には、Ｐ波を透過するブラッググレーティングパターン３０４とした。しかし、全体で整合性をとるならば、Ｓ波を透過するブラッググレーティングパターンとしても良い。
【００８０】
なお、図３に示される積層構造において、ブラッググレーティングパターン３０４が形成されている方向が、図２において導光部２０３に向かう方向である。
【００８１】
次に、光源２０１ａから出射された光が図３に示されるブラッググレーティングパターン３０４から出射されるまでの動作について図２及び図３を参照して説明する。
【００８２】
まず、光源２０１ａから光が出射される。この場合、出射された光の偏光方向は揃っていない状態である。
【００８３】
次に、偏光変換素子２０１ｂにより光源２０１ａから出射された光の偏光方向が揃えられる（ここではＳ波に揃えられたとする）。
【００８４】
次に、偏光変換素子２０１ｂを通過した光はそのまま導光部２０１ｃに入射する。
【００８５】
図３に示されるように、導光部３０３に入射した光は反射板３０１と導光部３０３の反対面に形成されたブラッググレーティングパターン３０４との間で反射を繰り返しながら導光していく。
【００８６】
具体的には、液晶セルがＯＮ状態の場合、液晶層３０２を通過しても偏光方向は変わらず、Ｓ波のままである。
【００８７】
そのため、導光部３０３を進行する光は、反射板３０１で反射されて導光部３０３に戻り、ブラッググレーティングパターン３０４に到達する。
【００８８】
一方、液晶セルがＯＦＦ状態の場合、導光部３０３から液晶セルに入射し、反射板３０１で反射され、再び導光部３０３に出射された光の偏光状態は、液晶層３０２の偏光作用によってＰ波に変換されている。
【００８９】
したがって、ブラッググレーティングパターン３０４をＳ波の場合は反射、Ｐ波の場合には透過するように形成しておけば、偏光状態がＳ波の光はそのまま反射を繰り返しながら導光するとし、所望の位置の液晶セルをＯＮ状態とすることにより、Ｐ波の光をブラッググレーティングパターン３０４のｙ方向における所望の位置から出射させることができる。
【００９０】
さらに、導光部３０３と液晶層３０２の屈折率が同じになるようにしておけば、フレネル損等を低減することも可能である。
【００９１】
ここで、上記液晶層３０２は、第１の配向膜と第２の配向膜とに挟まれ、第１の配向膜と第２の配向膜との捩れ角が４５°であることが望ましい。
【００９２】
次に、図２に示される部分Ｂについて図４を参照して説明する。図４に示されるように、変調部２０２及び導光部２０３からなる部分は、ミラーなどにより形成される反射板４０１、液晶セル４０５からなる液晶層４０２、導光部４０３、導光部４０３の表面に形成されたブラッググレーティングパターン４０４とから構成される。また、ブラッググレーティングパターン４０４上には、被測定体４０７を載置した被測定体載置部４０６が設けられている。
【００９３】
すなわち、部分Ｂの構成は、前述の図３を参照して説明した部分Ａの構成と略同様であり、その動作も略同様である。従って、以下の説明では、前述の図３の説明と異なる部分について主に説明する。
【００９４】
部分Ｂでは、前述の図３に示されるブラッググレーティングパターン３０４から出射される光がＰ波に偏光している光であるため、ブラッググレーティングパターン４０４が、Ｓ波を透過し、Ｐ波を反射するブラッググレーティングパターン４０４としている。しかし、全体で整合性をとるならば、Ｐ波を透過するブラッググレーティングパターンとしても良い。
【００９５】
そして、部分Ｂの動作も部分Ａの動作と同様に、液晶層４０２のＯＮ、ＯＦＦを切り替えることにより、ｘ方向において出射される光の位置を制御する。
【００９６】
また、上記液晶層４０２は、第１の配向膜と第２の配向膜とに挟まれ、第１の配向膜と第２の配向膜との捩れ角が４５°であることが望ましい。
【００９７】
そして、ブラッググレーティングパターン４０４から出射された光は、被測定体載置部４０６上の被測定体４０７に照射される。
【００９８】
ここで、変調部により選択される光の出射位置と、被測定体載置部上の被測定体の位置との関係について図５を参照して説明する。図５は、図２に示される光学装置において、変調部により選択される光の出射位置と、被測定体載置部上の被測定体の位置との関係の概略図である。
【００９９】
図５に示されるように、被測定体載置板部５０５は、被測定体を載置するための複数の被測定セル５０３に分割されている。この被測定セル５０３の位置は、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれの位置を指定することにより一意に特定できる。
【０１００】
また、変調部５０１及び変調部５０２はそれぞれ複数の位置に分割され、この位置に対応した位置を光の出射位置とすることができる。
【０１０１】
したがって、図３及び図４に示される構造を例に説明すると、図５に示すように（ｍ，ｎ）の位置にある被測定体に光を照射したい場合、まずｙ方向に配列された液晶層のｎ番目の液晶セル５０１ａのみをＯＦＦとする。
【０１０２】
また、ｘ方向についても同様にｍ番目の液晶セル５０２ａのみをＯＦＦとする。
【０１０３】
したがって、（ｍ，ｎ）の位置にある被測定セルにある被測定体にのみ光が照射されるように動作する。
【０１０４】
次に、照射された被測定体はその照射光を参照光として信号光を放射する。このような被測定体として例えば、ＤＮＡチップにおける蛍光分子等を挙げることができる。
【０１０５】
そして、図２に示されるうように、放射された信号光は被測定体の上部に設けられた導光部２０５の中を導光し、最終的にフォトダイオード等の光検出器２０６に到達する。
【０１０６】
このように、従来は機械的に走査を行っていたため駆動用の各部品が必要となって装置全体が大きくなってしまっていたが、本形態では走査を電気的に行うので大幅な小型化が実現できる。
【０１０７】
また、部品数減、小型化に伴いコスト低減も可能となる。
【０１０８】
さらに、機械的な走査を電気的な走査にすることで測定にかかる時間を大幅に短縮することが可能となる。
【０１０９】
（光学装置の第２の参考形態）次に、本発明に係る光学装置の第２の参考形態について図６〜図１２を参照して説明する。
【０１１０】
図６は、本発明に係る光学装置の第２の参考形態の全体概略図である。図６に示されるように、本発明に係る光学装置の第２の参考形態は、光を発する光源６０１ａを備える。なお、本参考形態では、前述の第１の参考形態のように、偏光変換素子２０１ｂは不要である。
【０１１１】
また、本発明に係る光学装置の第２の参考形態は、光源６０１ａから出射された光を導光する導光部６０１ｃと、屈折率を変調することにより導光部６０１ｃを導光している光の出射位置を制御するための変調部６０１ｂとを備える。
【０１１２】
また、図６に示される本発明に係る光学装置の第２の参考形態は、導光部２０１ｃから出射された光を導光するための導光部６０３と、屈折率を変調することにより導光部６０３を導光している光の出射位置を制御するための変調部６０２とを備える。
【０１１３】
また、図６に示される本発明に係る光学装置の第２の参考形態は、導光部６０３から出射された光が照射される被測定体を載置した被測定体載置部６０４を備える。
【０１１４】
また、図６に示される本発明に係る光学装置の第２の参考形態は、被測定体から発せられた光を導光するための導光部６０５と、導光部６０５を導光された光を受光するためのフォトダイオード等により構成される光検出器６０６とを備える。
【０１１５】
光源６０１ａは、例えは半導体レーザ、ＬＥＤなどにより構成され、所定の光を出射する。
【０１１６】
導光部６０１ｃ及び変調部６０１ｂは、ｙ方向に向かう光のｙ方向の出射位置を制御する。この制御動作については後述する。
【０１１７】
なお、導光部６０１ｃには、導光部６０１ｃ内部を導光する光に角度をつけるための、角度付与部６０１ｃ−１が形成されている。
【０１１８】
光源６０１ａを出射した光はこの角度付与部６０１ｃ−１により、例えば図７に示されるような反射パターンをもって導光部６０１ｃ内部を導光する。
【０１１９】
したがって、導光部６０１ｃ内部の光の反射パターンは、この角度付与部６０１ｃ−１により制御することができる。
【０１２０】
もちろん、角度付与部６０１ｃ−１を形成せずに、光源６０１ａを傾けることにより導光部６０１ｃ内部の光の反射パターンを制御するとしても良い。
【０１２１】
変調部６０２及び導光部６０３は、ｘ方向に向かう光のｘ方向の出射位置を制御する。この制御動作については後述する。
【０１２２】
なお、導光部６０３には、導光部６０３内部を導光する光に角度をつけるための、角度付与部６０３−１が形成されている。
【０１２３】
導光部６０１ｃを出射した光はこの角度付与部６０３−１により、例えば図９に示されるような反射パターンをもって導光部６０３内部を導光する。
【０１２４】
したがって、導光部６０３内部の光の反射パターンは、この角度付与部６０３−１により制御することができる。
【０１２５】
もちろん、角度付与部６０３−１を形成せずに、導光部６０１ｃを傾けることにより導光部６０３内部の光の反射パターンを制御するとしても良い。
【０１２６】
被測定体載置部６０４は被測定体を載置する。
【０１２７】
導光部６０５は、被測定体から出射した光を光検出器６０６へと導光する。図６に示される例では、導光部６０５は、２つのくさび型の導光部を組み合わせた導光部となっているが、本参考形態に適用される導光部としてはこのようなくさび型の導光部に限定されるものではなく、その他の適宜な導光部を用いることができる。
【０１２８】
（出射位置の制御動作）次に、図７、図８及び図９を参照して、変調部６０１ｂ及び導光部６０１ｃにおける光の出射位置の制御動作、変調部６０２及び導光部６０３における光の出射位置の制御動作のそれぞれについて説明する。
【０１２９】
図７は、図６に示される部分Ｃの拡大断面図であり、図８は、本参考形態の液晶層に利用される液晶分子の複屈折率構造の概略図であり、図９は、図６に示される部分Ｄの拡大断面図である。
【０１３０】
まず、図６に示される部分Ｃについて図７を参照して説明する。図７に示されるように、変調部６０１ｂ及び導光部６０１ｃからなる部分は、ミラーなどにより形成される反射膜７０１、液晶層７０２、導光部７０３とから構成される。
【０１３１】
液晶層７０２は、ｙ方向に向かって分割された複数の液晶セル７０５を備え、この液晶セル７０５のＯＮ、ＯＦＦはそれぞれ独立に制御することが可能である。
【０１３２】
ここで、液晶セルのＯＮ、ＯＦＦについては前述の本発明に係る光学装置の第１の参考形態の場合の説明と同様である。
【０１３３】
なお、図７に示される積層構造において、導光部７０３が形成されている方向が、図６において導光部６０３に向かう方向である。
【０１３４】
次に、光源６０１ａから出射された光が図７に示される導光部７０３から出射されるまでの動作について図６及び図７を参照して説明する。
【０１３５】
まず、光源６０１ａから光が出射される。この場合、出射された光の偏光方向は揃っていない状態である。光源６０１ａ光はそのまま導光部６０１ｃに入射する。
【０１３６】
図７に示されるように、導光部７０３に入射した光は液晶層７０２の表面と導光部７０３の導光部６０３側の面との間で反射を繰り返しながら導光していく。
【０１３７】
一方、液晶層７０２を構成する液晶分子は複屈折率構造を有しており、液晶をＯＮにすることによってその部分の液晶セル７０５の屈折率はＯＦＦの場合に比べて大きくすることができる。
【０１３８】
図８に示されるように、例えば液晶分子の屈折率にｎｅとｎｏとがあるとして、Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ≒０．１３となる場合がある。もちろん、Δｎは一例でありその他の値をとることもできる。
【０１３９】
したがって、屈折率の変化によって導光部７０３と液晶層７０２の境界で光が反射から透過になるように、導光部７０３の屈折率と導光する光の入射角度を決定しておけば、液晶セルをＯＮにした部分でのみ光が透過して液晶層７０２に入射する。
【０１４０】
液晶層７０２に入射した光は液晶層７０２の基板に形成された反射膜７０１に入射する。
【０１４１】
この反射膜７０１には、凹凸パターンが形成されている。
【０１４２】
次に、反射膜７０１で反射された光は導光部７０３に再び入射されるが、導光部７０３の導光部６０３側の面で反射されずに透過する。
【０１４３】
これは、上記反射膜７０１の凹凸パターンにより、反射されないように光の導光部７０３の導光部６０３側の面への入射角を制限するためである。
【０１４４】
したがって、液晶層７０２の所望の液晶セル７０５のＯＮ、ＯＦＦを制御することにより、ｙ方向における光の出射位置を制御することができる。
【０１４５】
次に、図６に示される部分Ｄについて図９を参照して説明する。図９に示されるように、液晶層７０２及び導光部７０３からなる部分は、反射膜９０１と、液晶セル９０５からなる液晶層９０２と、導光部９０３とから構成される。また、導光部９０３上には、被測定体９０６を載置した被測定体載置部９０４が設けられている。
【０１４６】
すなわち、部分Ｄの構成は、前述の図７を参照して説明した部分Ｃの構成と略同様であり、その動作も略同様である。
【０１４７】
また、部分Ｄの動作も部分Ｃの動作と同様に、液晶層９０２のＯＮ、ＯＦＦを切り替えることにより、ｘ方向において出射される光の位置を制御する。
【０１４８】
そして、導光部９０３から出射された光は、被測定体載置部９０４上の被測定体９０６に照射される。
【０１４９】
そして、被測定体から発せられた光は、図６に示されるように、導光部６０５を導光し、その後、光検出器６０６により検出される。
【０１５０】
したがって、本実施形態においても、前述の本発明に係る光学装置の第１の参考形態のように、被測定体載置部上の（ｍ，ｎ）にある被測定体に容易に光を照射させ、その検出を行うことができる。
【０１５１】
次に、図７や図９に示される反射膜７０１又は反射膜９０１の凹凸形状の製造方法について図１０から図１２を参照して説明する。
【０１５２】
図７や図９に示される反射膜７０１又は反射膜９０１は、反射板上の膜として形成されるため、以下では反射板の製造方法について説明する。
【０１５３】
反射板の凹凸形状はスタンパと呼ばれる金型によって、大量に複製することができる。その製造方法である２Ｐ法を図１０及び図１１を用いて説明する。図１０及び図１１は、本発明に係る光学装置の第２の参考形態に用いられる反射膜を備える反射板の凹凸形状の２Ｐ法による製造方法の工程図である。
【０１５４】
反射板を製造する場合、図１０に示されるように、（ａ）基板１００１を用意し、その上に電子ビームのレジスト１００２を塗布する。
【０１５５】
次に、（ｂ）凸型の形状にするため、電子ビームによってレジスト１００２を徹細加工し、凹凸形状の原盤１００３を作製する。
【０１５６】
次に、（ｃ）電鋳法によってニッケル等のスタンパ材料を原盤１００３の上に推積し、スタンパ１００４を作製する。
【０１５７】
次に、（ｄ）スタンパ１００４と原盤１００３とを分離する。スタンパ１００４は凸型の形状に対応して凹型の形状となり、凹凸形状の金型となる。
【０１５８】
次に、図１１の（ｅ）に示されるように、反射板の模型である原盤１００３を作成した後、電鋳法によりスタンパ１００４が作製され、該スタンパ１００４には反射板表面形状の反転パターン１００４ａが形成されている。
【０１５９】
そして、ガラス基板や透明樹脂フィルム等の透明な基板１００１（ただし、スタンパが紫外線を透過する場合には、基板１００１は透明である必要はない。）の上に紫外線硬化樹脂１００５を滴下した後、紫外線硬化樹脂１００５の上から基板１００１上にスタンパ１００４を降下させ、基板１００１とスタンパ１００４との間に紫外線硬化樹脂１００５を押し広げて基板１００１とスタンパ１００４との間に紫外線硬化樹脂１００５を充填させる。
【０１６０】
ついで、（ｆ）に示すように、基板１００１側から紫外線硬化樹脂１００５に紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂１００５を光硬化反応により硬化させる。紫外線硬化樹脂１００５が硬化したら、紫外線硬化樹脂１００５からスタンパ１００４を剥離させると、（ｇ）のように紫外線硬化樹脂１００５の表面にはスタンパ１００４の反転パターン１００４ａが反転してパターン１００５ａとして転写される。
【０１６１】
この後、紫外線硬化樹脂１００５のパターン１００５ａ上にＡｇ、Ａｌなどの金属薄膜をスパッタ形成などにより推積させ、（ｈ）に示すように反射膜１００６を形成し、これによって反射板１００８が完成される。
【０１６２】
次に、上記反射板の他の製造方法としてエンボス法による製造方法について図１２を参照して説明する。図１２は、本発明に係る光学装置の第２の参考形態に用いられる反射膜を備える反射板の凹凸形状のエンボス法による製造方法の工程図である。
【０１６３】
図１０の（ｄ）の説明のように、反射板の模型である原盤１００３を作成した後、電鋳法によりスタンパ１００４が作製され、該スタンパ１００４には反射板表面形状の反転パターン１００４ａが形成されている
【０１６４】
そして、図１２の（ｉ）に示される、基板１００１の上にアクリルなどの樹脂１００９をスピンコートした後、（ｊ）に記載するように、該樹脂１００９の上からスタンパ１００４を降下させ、樹脂１００９を押圧させる。
【０１６５】
この押圧により、（ｋ）のように樹脂１００９の表面にはスタンパ１００４の反転パターン１００４ａが反転してパターン１００９ａとして転写される。
【０１６６】
この後、樹脂１００９のパターン１００９ａ上にＡｇ、Ａｌなどの金属薄膜をスパッタ形成により堆積させ、（ｌ）に示すように反射膜１００６を形成し、これによって反射板１００８が完成される。
【０１６７】
以上が、本発明に係る光学装置の第２の参考形態における反射膜の製造方法の説明である。ただし、本発明に係る光学装置の反射膜は、上述のような製造方法により製造される場合に限定されるものではなく、その他の適宜な方法によって製造することができる。
【０１６８】
このように、本発明に係る光学装置の第２の参考形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１の参考形態と同様の効果を得ることができると共に、光の偏光方向は不問であるため、変更変換素子やブラッググレーティングといった光学素子が不要となり、さらに低コスト化が可能となる。
【０１６９】
ここで、前述のように、本発明に係る光学装置では、第１の参考形態で用いた光の偏光状態の変調を利用して出射位置を制御する方法と、第２の参考形態で用いた光の反射（屈折）状態の変調を利用して出射位置を制御する方法とを、ｘ方向、ｙ方向のいずれかにそれぞれ組み合わせて実施することも可能である。
【０１７０】
例えば光の反射（屈折）状態の変調を利用した出射位置の制御をｙ方向の出射位置の制御に用い、光の偏光状態の変調を利用した出射位置の制御をｘ方向の出射位置の制御に用いた場合、偏光変換素子は、例えば図６の場合、光源６０１ａから導光部６０３に至る光の経路のいずれかの位置に配置されることとなる。
【０１７１】
この場合であっても、前述の本発明に係る光学装置の第１の参考形態及び第２の参考形態の効果を得ることができる。
【０１７２】
（光学装置の第３の参考形態）次に、本発明に係る光学装置の第３の参考形態について図１３を参照して説明する。図１３は、本発明に係る光学装置の第３の参考形態の全体概略図である。
【０１７３】
本参考形態は、前述の第１の参考形態の構造の光学装置において、光源２０１ａ、偏光変換素子２０１ｂ、導光部２０１ｃ及び変調部２０１ｄの代わりに、複数の発光素子１３０１−１、１３０１−２、・・、１３０１−ｎを設け、導光部１３０３の光入射面と平行な方向に複数の発光素子を配置したことを特徴とする。
【０１７４】
発光素子の数は、図１３に示される例では１０個であるが、発光素子の数は１０個に限定されるものではなく、ｙ方向における被測定体載置部１３０４のセルの分割数に応じて発光素子の数が定まる。
【０１７５】
次に、本参考形態の構成について説明する。本参考形態は、図１３に示されるように、複数の発光素子１３０１−１、１３０１−２、・・、１３０１−ｎと、これらの発光素子から発せられた光の偏光状態を変換する偏光変換素子１３０１ｂとを備える。この偏光変換素子１３０１ｂは、前述の第１の参考形態における偏光変換素子２０１ｂと同様の機能を果たす。
【０１７６】
また、本参考形態の光学装置は、変調部１３０２と、導光部１３０３と、被測定体載置部１３０４と、導光部１３０５と、光検出器１３０６とを備える。
【０１７７】
ここで、変調部１３０２、導光部１３０３、被測定体載置部１３０４、導光部１３０５及び光検出器１３０６の構造及び動作は、それぞれ前述の第１の参考形態で説明した、変調部２０２、導光部２０３、被測定体載置部２０４、導光部２０５及び光検出器２０６の構造及び動作と同じであるためその詳細な説明を省略する。
【０１７８】
本参考形態の光学装置では、被測定体載置部１３０４のｙ方向の部分に対応したそれぞれの発光素子１３０１−１、１３０１−２、・・、１３０１−ｎから発せられた光が偏光変換素子１３０１ｂに入射する。
【０１７９】
偏光変換素子１３０１ｂは、入射した光をＳ波又はＰ波のいずれかの偏光に変換し、導光部１３０３に出射する。
【０１８０】
なお、導光部１３０３には、前述の第１の参考形態と同様に角度付与部１３０３−１が設けられている。そして、この角度付与部１３０３−１の機能は、前述の第１の参考形態において説明した角度付与部２０３−１と同様の機能を果たすためその詳細な説明を省略する。
【０１８１】
変調部１３０２及び導光部１３０３は、入射した光のうち、前述の第１の参考形態に説明した動作によって、ｘ方向及びｙ方向の所定の位置から光を被測定体載置部１３０４に出射する。
【０１８２】
被測定体載置部１３０４上の被測定体は、導光部１３０３から出射された光が照射されることにより信号光を発する。
【０１８３】
この信号光は、導光部１３０５に入射し、導光部１３０５内を導光し、光検出器１３０６に入射する。
【０１８４】
なお、本参考形態において、発光素子１３０１−１、１３０１−２、・・、１３０１−ｎは、それぞれ同時に発光しても良いし、バラバラに発光しても良いし、何らかの規則に従って順次発光するとしても良い。
【０１８５】
このように、本参考形態によれば、前述の第１の参考形態と同様の効果を得ることができると共に、ｙ方向における導光部と変調部が不要となり、コストを低下させ、導光と変調でのロスとノイズを低減することができる。
【０１８６】
（光学装置の第４の参考形態）次に、本発明に係る光学装置の第４の参考形態について図１４を参照して説明する。図１４は、本発明に係る光学装置の第４の参考形態の全体概略図である。
【０１８７】
本参考形態は、前述の第２の参考形態の構造の光学装置において、光源６０１ａ、導光部６０１ｃ及び変調部６０１ｂの代わりに、複数の発光素子１４０１−１、１４０１−２、・・、１４０１−ｎを設け、導光部１４０３の光入射面と平行な方向に複数の発光素子を配置したことを特徴とする。
【０１８８】
発光素子の数は、図１４に示される例では１０個であるが、発光素子の数は１０個に限定されるものではなく、ｙ方向における被測定体載置部１４０４のセルの分割数に応じて発光素子の数が定まる。
【０１８９】
次に、本参考形態の構成について説明する。本参考形態は、図１４に示されるように、複数の発光素子１４０１−１、１４０１−２、・・、１４０１−ｎを備える。
【０１９０】
また、本参考形態の光学装置は、変調部１４０２と、導光部１４０３と、被測定体載置部１４０４と、導光部１４０５と、光検出器１４０６とを備える。
【０１９１】
ここで、変調部１４０２、導光部１４０３、被測定体載置部１４０４、導光部１４０５及び光検出器１４０６の構造及び動作は、それぞれ前述の第２の参考形態で説明した、変調部６０２、導光部６０３、被測定体載置部６０４、導光部６０５及び光検出器６０６の構造及び動作と同じであるためその詳細な説明を省略する。
【０１９２】
本参考形態の光学装置では、被測定体載置部１４０４のｙ方向の部分に対応したそれぞれの発光素子１４０１−１、１４０１−２、・・、１４０１−ｎから発せられた光が導光部１４０３の角度付与部１４０３−１に入射する。
【０１９３】
導光部１４０３には、前述の第２の参考形態と同様に角度付与部１４０３−１が設けられている。そして、この角度付与部１４０３−１の機能は、前述の第２の参考形態において説明した角度付与部６０３−１と同様の機能を果たすためその詳細な説明を省略する。
【０１９４】
変調部１４０２及び導光部１４０３は、入射した光のうち、前述の第２の参考形態に説明した動作によって、ｘ方向及びｙ方向の所定の位置から光を被測定体載置部１４０４に出射する。
【０１９５】
被測定体載置部１４０４上の被測定体は、導光部１４０３から出射された光が照射されることにより信号光を発する。
【０１９６】
この信号光は、導光部１４０５に入射し、導光部１４０５内を導光し、光検出器１４０６に入射する。
【０１９７】
なお、本参考形態において、発光素子１４０１−１、１４０１−２、・・、１４０１−ｎは、それぞれ同時に発光しても良いし、バラバラに発光しても良いし、何らかの規則に従って順次発光するとしても良い。
【０１９８】
このように、本参考形態によれば、前述の第２の参考形態と同様の効果を得ることができると共に、ｙ方向の方向における導光部と変調部が不要となり、コストを低下させ、導光と変調でのロスとノイズを低減することができる。
【０１９９】
（光学装置の第１の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第１の実施形態について図１５を参照して説明する。図１５は、本発明に係る光学装置の第１の実施形態の全体概略図である。
【０２００】
本実施形態は、前述の第４の参考形態において、図１４に示される導光部１４０５の代わりに、ＣＣＤ（charge-coupled device）１５０５を受光部として用いた実施形態である。
【０２０１】
すなわち、本実施形態の構成は図１４に示される導光部１４０５の代わりに、ＣＣＤ１５０５を受光部として用いた点以外は前述の第４の参考形態と同様である。
【０２０２】
本実施形態では、変調部１４０２及び導光部１４０３は、発光素子１４０１−１、１４０１−２、・・、１４０１−ｎからの光をそれぞれ独立にｘ方向の所定の位置で選択し、被測定体載置部１４０４に出射する。
【０２０３】
この場合、発光素子１４０１−１、１４０１−２、・・、１４０１−ｎは全てが同時に発光するとしても良いし、１つ又は同時に複数の発光素子が発光するとしても良い。
【０２０４】
例えば、被測定体載置部１４０４上の複数の被測定体に同時に光が照射された場合、それぞれの被測定体から同時に信号光が発せられるが、これらの信号光は、ＣＣＤ１５０５により測定される。
【０２０５】
ＣＣＤ１５０５は、被測定体載置部１４０４上のそれぞれの被測定体に一対一に対応した独立の光測定部を備え、入射した光を測定することが可能である。
【０２０６】
このように、本発明に係る光学装置の第１の実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第４の参考形態と同様の効果を得ることができると共に、同時に複数の被測定体からの信号光の読み取りが可能となり、測定時間を短縮することができる。
【０２０７】
ここで、上記第１の実施形態では、第４の参考形態の構造において受光部にＣＣＤを用いた場合を例に挙げたが、図１３に示される前述の第３の参考形態の構造において、導光部１３０５及び光検出器１３０６に代えてＣＣＤを用いるとしても良い。
【０２０８】
この場合であっても、前述の第３の参考形態と同様の効果を得ることができると共に、測定時間を短縮することができる。
【０２０９】
また、図２に示される前述の第１の参考形態の構造において、導光部２０５及び光検出器２０６に代えてＣＣＤを用いる、又は、図６に示される前述の第２の参考形態の構造において、導光部６０５及び光検出器６０６に代えてＣＣＤを用いるとしても良い。
【０２１０】
（光学装置の第２の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第２の実施形態について図１６を参照して説明する。図１６は、（ａ）が従来の光学装置の一部断面図及び（ｂ）が本発明に係る光学装置の第２の実施形態の一部断面図である。
【０２１１】
本実施形態は、被測定体載置部の上下の少なくともいずれか一方にマイクロレンズアレイを配置した実施形態である。本実施形態は、マイクロレンズアレイを配置した点以外は前述の第１の参考形態から第４の参考形態及び第１の実施形態のいずれかとその構造は同様であるため、その同様の部分の詳細な説明は省略する。
【０２１２】
本実施形態は、光学装置の検出制度を向上させるための実施形態である。
【０２１３】
すなわち、図１６の（ａ）に示されるように、マイクロレンズアレイ無しの場合、被測定体１６０２に照射される参照光１６０５は広がりが大きく、狙いのセル以外の部分に光が当たったりして、参照光のロス１６０６になって効率が下がったり、ノイズの発生原因となる可能性がある。
【０２１４】
また、被測定体１６０２から放射される信号光１６０６もさまざまな方向成分を持っているため、その一部は導光部からはずれたりして信号光のロス１６０７となり効率低下の原因となる。
【０２１５】
そこで、本実施形態では、図１６の（ｂ）に示されるように、被測定体載置部１６０１の下部にマイクロレンズアレイ１６０８を設け、さらに、被測定体載置部１６０１の上部にマイクロレンズアレイ１６０９を設けた。
【０２１６】
したがって、本実施形態では、図１６の（ｂ）に示されるように、被測定体１６０２に入射する光はマイクロレンズアレイ１６０８によって集光作用を受け、狙いのセルの被測定体１６０２に照射される光の強度が増加する。
【０２１７】
また、被測定体１６０２から放射する光もマイクロレンズアレイ１６０９を通過することで、散乱成分が低減されることにより、光検出部まで導光する信号光強度が増加する。
【０２１８】
よって、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１の参考形態から第４の参考形態及び第１の実施形態のいずれかと同様の効果を得ることができると共に、被測定体１６０２に照射される光強度が増加することで、被測定体から放射される信号光強度も増加して、検出感度が向上する。
【０２１９】
また、本実施形態では、不要な部分への照射も抑えることができるので、ノイズを低減することが可能となり、検出感度が上がる。
【０２２０】
さらに、本実施形態では、被測定体１６０２から放射される信号光もマイクロレンズアレイ１６０９によって制御されるので、結果として光検出部での信号光強度が増加して、検出感度が向上する。
【０２２１】
なお、本実施形態では、図１６の（ｂ）に示されるように、被測定体載置部１６０１の上下の双方にマイクロレンズアレイを設けているが、被測定体載置部１６０１の上下のいずれか一方にマイクロレンズアレイを設けるとしても良い。
【０２２２】
（光学装置の第３の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第３の実施形態について図１７を参照して説明する。図１７は、本発明に係る光学装置の第３の実施形態の一部断面図であり、図１７の（ａ）は、本発明に係る光学装置の第３の実施形態の第１例の一部断面図、図１７の（ｂ）は、本発明に係る光学装置の第３の実施形態の第２例の一部断面図である。
【０２２３】
本実施形態は、前述の第１から第４の参考形態及び第１から第２の実施形態のいずれかにおいて、被測定体載置部の下部、又は被測定体載置部の内部にレンズ部を形成した実施形態である。
【０２２４】
本実施形態は、被測定体載置部の下部、又は被測定体載置部の内部にレンズ部を形成した点以外は前述の第１から第４の参考形態及び第１から第２の実施形態のいずれかとその構造は同様であるため、その同様の部分の詳細な説明は省略する。
【０２２５】
本実施形態は、前述の第２の実施形態と同様、光学装置の検出制度を向上させるための実施形態である。
【０２２６】
すなわち、前述の第２の実施形態では、光の強度を向上させるためにマイクロレンズアレイを用いたが、本実施形態では、光の強度を向上させるために、被測定体載置部にレンズ部を設けた。
【０２２７】
すなわち、例えば図１７の（ａ）に示されるように、被測定体載置部１７０１上には被測定体１７０２が載置されている。
【０２２８】
そして、本実施形態では、被測定体載置部１７０１の下部、すなわち、被測定体１７０２を照射するための参照光が入射する面側の部分に、それぞれの被測定体の載置部分に対応したレンズ部１７０３を形成する。
【０２２９】
そのため、本実施形態では、被測定体１７０２に照射される参照光の強度を向上させることができる。
【０２３０】
なお、図１７の（ｂ）に示されるように、被測定体載置部１７０１の構造として、レンズ部１７０３を有する部分と、この部分を覆う部分１７０４とに分け、それぞれの部分を屈折率の異なる部分として形成しても良い。
【０２３１】
図１７の（ｂ）に示される実施形態は、図１７の（ａ）に示される実施形態に、レンズ部１７０３を有する部分とは異なる屈折率の材料で覆ったものと同様の構造となっている。
【０２３２】
これら屈折率の異なる部分の少なくとも一方が樹脂で形成されるとしても良い。この図１７の（ｂ）に示されるようにしても、図１７の（ａ）に示される被測定体載置部１７０１と同様の効果を得ることができる。
【０２３３】
したがって、本実施形態では、被測定体１７０２に入射する光はレンズ部１７０３によって集光作用を受け、狙いのセルの被測定体１７０２に照射される光の強度が増加する。
【０２３４】
よって、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１から第４の参考形態及び第１から第２の実施形態のいずれかと同様の効果を得ることができると共に、被測定体１７０２に照射される光強度が増加することで、被測定体から放射される信号光強度も増加して、さらに検出感度が向上する。
【０２３５】
また、本実施形態では、不要な部分への照射も抑えることができるので、ノイズを低減することが可能となり、検出感度が上がる。
【０２３６】
（レンズ部の構造）ここで、前述の第２の実施形態及び第３の実施形態において用いられたレンズ部の構造について図１８を参照して説明する。図１８は、第２の実施形態及び第３の実施形態において用いられるレンズ部の構造の一部拡大図である。
【０２３７】
本発明に係る光学装置の実施形態に用いられるレンズ部は、図１８の（ａ）に示されるようなレンズ形状だけではなく、図１８の（ｂ）に示されるようなプリズム形状であってもよい。
【０２３８】
また、本発明に係る光学装置の実施形態に用いられるレンズ部は、凸でも凹でもよい。また、レンズ部の屈折率は基板の材料などにより適宜選択することが可能である。
【０２３９】
（光学装置の第４の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第４の実施形態について図１９を参照して説明する。図１９は、本発明に係る光学装置の第４の実施形態の全体概略図である。
【０２４０】
本実施形態は、前述の本発明に係る光学装置の第１から第４の参考形態及び第１から第３の実施形態のいずれかにおいて、被測定体の測定位置の位置決めのための機能を付加した実施形態である。
【０２４１】
すなわち、本実施形態では、入射部１９０１から光が入射される導光部１９０３及び変調部１９０２の少なくとも一方と、被測定体載置部１９０４とに、被測定体載置部１９０４のｘ，ｙ方向の位置決めのためのアライメントマーク１９０５を形成する。
【０２４２】
ここで、本実施形態において入射部１９０１は、図２に示される第１の参考形態では光源２０１ａ、偏光変換素子２０１ｂ、導光部２０１ｃ、変調部２０１ｄに対応する。
【０２４３】
また、変調部１９０２は図１に示される変調部１０２に対応し、導光部１９０３は図１に示される導光部１０３に対応し、被測定体載置部１９０４は図１に示される被測定体載置部１０４に対応する。
【０２４４】
さらに、本実施形態では、導光部１９０３と被測定体載置部１９０４との間に、被測定体載置部１９０４のｚ方向の位置決めのためのスペーサ１９０６を設けている。
【０２４５】
なお、本実施形態において、被測定体載置部１９０４は交換可能な構造となっていても良い。例えば、被測定体載置部としてのＤＮＡチップ等は使い捨てが現在のところ基本である。
【０２４６】
本実施形態では、測定前に、本発明に係る光学装置を用いた分析装置に被測定体を設置する必要があるので、導光部や変調部にアライメントマークを形成しておき、被測定体にもそれに対応するようなマークをあらかじめ形成しておくことで設置時にそのマークを使用してｘ、ｙ方向の設置アライメントを行う。
【０２４７】
そして、本実施形態においては、上記アライメントマーク使い、画像処理によってアライメントを行うような構成でも良いし、マーク自体を対応する凹凸パターンにしておいて物理的にアライメントを行うような構成でも良い。
【０２４８】
さらに、導光部１９０３と被測定体載置部１９０４との間に、被測定体載置部１９０４のｚ方向の位置決めのためのスペーサ１９０６を配置することで、ｚ方向にも任意の距離に高さ制御することができる。
【０２４９】
なお、本実施形態では、アライメントマークを用いたｘ，ｙ方向の位置決めと、スペーサを用いたｚ方向の位置決めとの双方を同時に実施した実施形態としたが、アライメントマークを用いたｘ，ｙ方向の位置決めと、スペーサを用いたｚ方向の位置決めとのいずれか一方を実施した実施形態であっても良い。
【０２５０】
このように、本実施形態によれば、前述の本発明に係る光学装置の第１から第４の参考形態及び第１から第３の実施形態のいずれかの効果を得ることができると共に、被測定体の分析の精度を確保するためには、狙いの被測定体のセルに正確に光を照射することが必要となるが、アライメントマーク１９０５とスペーサ１９０６を設けることによって被測定体設置時の位置ズレによるノイズ、ロスが低減して分析の精度を向上させることができる。
【０２５１】
（光学装置の第５の実施形態）次に、本発明に係る光学装置の第５の実施形態について図２０を参照して説明する。図２０は、本発明に係る光学装置の第５の実施形態の概略構成図である。
【０２５２】
本実施形態は、前述の本発明に係る光学装置の第１から第４の参考形態及び第１から第３の実施形態のいずれかの構造に加えて、図１に示される構造の光学装置において、変調部１０２、導光部１０３及び被測定体載置部１０４が一体となって互いに位置的に固定されていることを特徴とする。
【０２５３】
すなわち、本発明に係る光学装置の第５の実施形態は、変調部２００２と導光部２００３との間に樹脂２０１０が挿入され、さらに、導光部２００３と被測定体載置部２００４との間に樹脂２０１１が挿入されている構成となっている。
【０２５４】
ここで、変調部２００２は、図１に示される変調部１０２に対応し、導光部２００３は、図１に示される導光部１０３に対応し、被測定体載置部２００４は、図１に示される被測定体載置部１０４に対応する。
【０２５５】
本実施形態では、変調部２００２と導光部２００３との間に樹脂２０１０が挿入され、導光部２００３と被測定体載置部２００４との間の樹脂２０１１が挿入されているため、変調部２００２、導光部２００３及び被測定体載置部２００４が互いに位置的に固定され一体となっている。
【０２５６】
ここで、樹脂２０１０及び樹脂２０１１は、熱等のエネルギーをかけられることで上下の部品間の固定を解除するようにしておくことが好ましい。
【０２５７】
このように、本実施形態では、前述の本発明に係る光学装置の第１から第４の参考形態及び第１から第３の実施形態のいずれかの効果を得ることができると共に、あらかじめ、変調部２００２と導光部２００３、導光部２００３と被測定体載置部２００４とを一体化し、互いに位置的に固定しておくことで、解析の際の位置合わせが不要となり、装置の簡便化に伴う低価格化、解析の高精度化、高速化が可能となる。
【０２５８】
また、変調部２００２と導光部２００３、導光部２００３と被測定体載置部２００４との一体化、互いの位置的な固定は分離することが可能であるようにしておくことで、被測定体載置部２００４だけを使い捨てにして、変調部２００２と導光部２００３は簡単にリサイクルすることができる。それによって低コスト化、廃棄物の低減の効果が得られる。
【０２５９】
ただし、本実施形態において、変調部２００２と導光部２００３との間、導光部２００３と被測定体載置部２００４との間に挿入され、それぞれの上下の部品間を固定するものは樹脂に限定されるものではない。
【０２６０】
すなわち、本実施形態において、変調部２００２と導光部２００３との間、導光部２００３と被測定体載置部２００４との間に挿入され、それぞれの上下の部品間を固定するものは、上下の部品間を固定するのに適したものであれば良く、さらに前述の低コスト化、廃棄物の低減の効果を得る場合には、熱エネルギー等により上下の部品間の固定を解除することが容易なものであれば良い。
【０２６１】
（被測定体載置部及び被測定体の例）ここで、上記本発明に係る光学装置の各実施形態に用いられる被測定体載置部及び被測定体の例について説明する。
【０２６２】
被測定体載置部及び被測定体としては種々のものが考えられるが、例えば第１例として、ＤＮＡチップを挙げることができる。
【０２６３】
ＤＮＡチップは、多数の異なったＤＮＡプローブをガラス基板上に高密度に固定し、そのＤＮＡプローブをハイブリダイズさせ、その蛍光等の信号を検出してコンピューターで大量解析するためのものである。
【０２６４】
したがって、ＤＮＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０２６５】
また、被測定体載置部及び被測定体の第２例として、ＤＮＡマイクロアレイを挙げることができる。
【０２６６】
ＤＮＡマイクロアレイとは、ＤＮＡチップと構成・機能は同じであるが、作製方法がＤＮＡチップは半導体工程を利用するのに対し、ＤＮＡマイクロアレイはスポッターと呼ばれるものでプローブを滴下して作製する。ＤＮＡチップの方が高密度にＤＮＡプローブが配列されている。
【０２６７】
したがって、ＤＮＡマイクロアレイにおいては、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０２６８】
また、被測定体載置部及び被測定体の第３例として、ＥＣＡチップを挙げることができる。
【０２６９】
ＥＣＡチップは、ＤＮＡチップと構成・機能は同じであるが、検出に電気を用いるものである。電気と光の両方を用いる場合もある。
【０２７０】
したがって、ＥＣＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０２７１】
また、被測定体載置部及び被測定体の第４例として、プロテインチップを挙げることができる。
【０２７２】
プロテインチップは、ＤＮＡチップが遺伝子を解析するのに対し、プロテインチップはたんぱく質を解析するのに用いられる。
【０２７３】
したがって、ＥＣＡチップでは、ガラス基板が被測定体載置部を構成し、ＤＮＡプローブが被測定体を構成する。
【０２７４】
ただし、本発明に係る光学装置の実施形態に用いられる被測定体載置部及び被測定体としては上記の例に限定されるものではなく、その他種々のものを用いることができる。
【０２７５】
（分析システムの実施形態）次に、本発明に係る分析システムについて図２１、図２２及び図２３を参照して説明する。図２１は、本発明に係る分析システムの一実施形態の全体構成図、図２２は、図２１に示される分析装置の内部ブロック図、図２３は、図２１に示される分析システムの一実施形態の動作のフローチャートである。
【０２７６】
図２１に示されるように、本発明に係る分析システムは、光学装置２１０１と、分析装置２１０２と、情報データベース２１０３とから構成される。
【０２７７】
光学装置２１０１は、前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態から第５の実施形態のうちのいずれかを用いる。
【０２７８】
分析装置２１０２は、光学装置２１０１及び情報データベース２１０３から入力した情報に基づいて比較、判定を行う装置である。
【０２７９】
情報データベース２１０３は、分析装置２１０２により分析を行う際に必要となる基準データが格納されている。この情報データベース２１０３は、例えばハードディスク等を有するサーバにより構成される。後述するようにこの情報データベース２１０３は、例えばカード等の情報を格納した記録媒体に変える又はこのようなカードと共に用いられることができる。
【０２８０】
光学装置２１０１と、分析装置２１０２と、情報データベース２１０３とはそれぞれネットワークにより接続されるとしても良いし、各装置が１つの装置（筐体）に収納されていても良いし、分析装置２１０２内部に光学装置２１０１及び情報データベース２１０３の一方が格納されているとしても良い。
【０２８１】
次に、図２１に示される分析装置２１０２の内部構成について図２２を参照して説明する。
【０２８２】
図２１に示される分析装置２１０２は、制御部２２０１と、送受信部２２０２と、比較判定部２２０３と、記憶部２２０４とを備え、それぞれはバス２２０５により接続されている。
【０２８３】
制御部２２０１は、それぞれの部の動作を制御する。送受信部２２０２は、外部との情報のやりとりを行う。比較判定部２２０３は、入力した情報に基づいて比較、判定を行う。
【０２８４】
記憶部２２０４は、処理に必要なプログラムを記録したり、比較判定結果や入力した情報などを記憶する。
【０２８５】
図２２に示される各部の機能は、分析装置が備えるＣＰＵが、単体で、その他の部材と共に又は主記憶装置や補助記憶装置に記憶されているプログラムと協働することにより実現される。
【０２８６】
また、記憶部２２０４は、例えば、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスク等により構成される。
【０２８７】
次に、図２１に示される分析システムの動作について図２３参照して説明する。
【０２８８】
まず、光学装置２１０１が測定を行い（ステップ２３０１）、この測定情報が分析装置２１０２に送信される。
【０２８９】
このステップ２３０１における光学装置の測定動作は前述の本発明に係る光学装置の第１の実施形態から第５の実施形態における測定動作と同様である。
【０２９０】
測定情報が送信された分析装置２１０２は、情報データベース２１０３から比較情報を受信し、測定情報と比較情報との比較を行う（ステップ２３０２）。
【０２９１】
そして、分析装置２１０２は比較結果に基づいて判定を行う（ステップ２３０３）。この判定は、例えば比較した結果、測定情報と比較情報とが一致した、あるいは一致しなかったなどがある。
【０２９２】
次に、分析装置２１０２は判定結果を出力し（ステップ２３０４）、動作を終える。
【０２９３】
以上のように、本発明に係る分析システムの一実施形態では、分析装置２１０２の分析により光学装置２１０１が測定した結果に基づいて判定結果を出力することが可能となる。
【０２９４】
ここで、上記実施形態では、分析装置２１０２が利用する情報として情報データベース２１０３に格納されている比較情報を用いるとしているが、分析装置２１０２が利用する情報としてカード等の記録媒体に格納される比較情報であるとしても良い。
【０２９５】
この場合、カード等の記録媒体内部の情報は、例えば分析装置に接続されたカードリーダ等の読み取り装置により読み取られて分析装置に送信されるとして良い。
【０２９６】
（分析システムを用いた本人照合方法）次に、上記本発明に係る分析システムの一実施形態を本人照合方法に適用した場合について図２４を参照して説明する。この本人照合方法は本発明に係る本人照合方法の一実施形態となる。図２４は、本発明に係る本人照合方法の一実施形態のフローチャートである。
【０２９７】
本発明に係る本人照合方法の一実施形態は、前述の本発明に係る分析システムの一実施形態を用いて本人照合を行う方法である。
【０２９８】
そして、本発明に係る本人照合方法の一実施形態を用いることにより、例えば、ある部屋に入室を許可するかしないかを照合結果に基づいて判定することによるセキュリティシステムを構築したり、クレジットカード等のカードの不正利用を防止する。
【０２９９】
本実施形態の本人照合方法では、図２１に示される分析装置２１０２が、光学装置２１０１から得られる情報（ステップ２４０１）と、データベースやカードに格納された情報などの既知の情報（ステップ２４０２）に基づいて、本人の同一性を判断する（ステップ２４０３）。
【０３００】
これらステップ２４０１からステップ２４０３までの動作は、前述の図２３に示されるフローチャートのステップ２３０１からステップ２３０３までの動作に対応する。
【０３０１】
そして、分析装置により同一性が判断された後、その判断結果に基づいて、分析装置は、入室許可やカードの使用許可をしたり（ステップ２４０４）、入室の不許可やカードの使用の不許可を行う（ステップ２４０５）。
【０３０２】
したがって、本発明に係る本人照合方法の一実施形態を、遺伝子情報を用いたセキュリティシステムに適用した場合は以下のような動作となる。
【０３０３】
（１）部屋の入り口等に上記実施形態の分析システムを設置しておき、本発明に係る分析システムの実施形態は、入室しようとする人物の遺伝子情報を読み取る。
【０３０４】
（２）あらかじめ、入室を許可する人物の遺伝子情報をシステムにデータベースとして保存しておき、本発明に係る分析システムの一実施形態は、入室しようとする人物が許可されているかどうかをこのデータベースに格納された情報に基づいて比較判断する。
【０３０５】
（３）本発明に係る分析システムの一実施形態は、入室許可の人物であれば扉を開錠し、入室を許可していない人物の場合は開錠しない。
【０３０６】
また、本発明に係る本人照合方法の一実施形態を、遺伝子情報を用いたカード使用の許可方法に適用した場合は以下のような動作となる。
【０３０７】
（１）クレジットカード等に正規利用者の遺伝子情報を記録しておく。
【０３０８】
（２）本発明に係る分析システムの一実施形態は、クレジットカードを使用する際に、利用者の遺伝子情報を分析する。
【０３０９】
（３）本発明に係る分析システムの一実施形態は、カードの保存情報と解析結果を照合して、正規の利用者かどうかを判定する。
【０３１０】
（４）本発明に係る分析システムの一実施形態は、正規利用者の場合はカードの使用を許可し、正規利用者でない場合はカードの使用を認めない。
【０３１１】
以上のような本発明に係る本人照合方法の一実施形態により、指紋照合、顔認識などに比べて、より確度の高い本人照合方法とすることができる。
【０３１２】
（アレルギー・副作用検査方法）次に、本発明に係る分析システムの一実施形態を用いたアレルギー・副作用検査方法について図２５を参照して説明する。この本発明に係る分析システムの一実施形態を用いたアレルギー・副作用検査方法は、本発明に係るアレルギー・副作用検査方法の一実施形態となる。よって、図２５は、本発明に係るアレルギー・副作用検査方法の一実施形態のフローチャートである。
【０３１３】
本実施形態のアレルギー・副作用検査方法では、図２１に示される分析装置が、光学装置から得られる情報（ステップ２５０１）と、データベースに格納された、アレルギー・副作用などを発生するグループ情報（ステップ２５０２）とに基づいて、利用者の遺伝子の属性を判断する（ステップ２５０３）。
【０３１４】
これらステップ２５０１からステップ２５０３までの動作は、前述の図２３に示されるフローチャートのステップ２３０１からステップ２３０３までの動作に対応する。
【０３１５】
そして、分析装置により属性が判断された後、その判断結果に基づいて分析装置は、食品、薬の使用の停止を指示したり（ステップ２５０４）、食品、薬の使用の許可を行う（ステップ２５０５）。
【０３１６】
このように、本発明に係る分析システムの一実施形態を用いた、本実施形態のアレルギー・副作用検査方法では例えば遺伝子情報を用いて判断する場合、以下のような動作となる。
【０３１７】
（１）開示された食品、薬を提供する際にアレルギー、副作用を発生するグループの遺伝子情報をデータベースに格納する。
【０３１８】
（２）本発明に係る分析システムの一実施形態は、利用者がその食品や薬等を利用する前に利用者自身の遺伝子情報を解析する。
【０３１９】
（３）本発明に係る分析システムの一実施形態は、利用者の遺伝子が提供されたグループ情報に属するか否かを判定する。この判定は、その食品、薬を利用してもアレルギー、副作用が発生しないかどうかを判定する。
【０３２０】
（４）本発明に係る分析システムの一実施形態は、グループに属さない場合は食品、薬の使用を許可し、属する場合はアレルギー等が発生する可能性があるので使用しないように指示する。
【０３２１】
したがって、本実施形態によるアレルギー・副作用検査方法では、従来アレルギーや副作用は摂取するまで分からない場合が多かったが、本システムを利用することで、あらかじめその判断をすることができ、危険性を回避することができる。
【０３２２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、光の偏光状態又は反射（屈折）状態を変調することにより光の出射位置を制御して被測定体の測定を行っているため、小型化、高速化及び低コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光学装置の実施形態の概要を説明するための概略図である。
【図２】本発明に係る光学装置の第１の参考形態の全体概略図である。
【図３】図２に示される部分Ａの拡大断面図である。
【図４】図２に示される部分Ｂの拡大断面図である。
【図５】図２に示される光学装置において、変調部により選択される光の出射位置と、被測定体載置部上の被測定体の位置との関係の概略図である。
【図６】本発明に係る光学装置の第２の参考形態の全体概略図である。
【図７】図６に示される部分Ｃの拡大断面図である。
【図８】本発明に係る光学装置の第２の参考形態の液晶層に利用される液晶分子の複屈折率構造の概略図である。
【図９】図６に示される部分Ｄの拡大断面図である。
【図１０】本発明に係る光学装置の第２の参考形態に用いられる反射膜を備える反射板の凹凸形状の２Ｐ法による製造方法の工程図である。
【図１１】本発明に係る光学装置の第２の参考形態に用いられる反射膜を備える反射板の凹凸形状の２Ｐ法による製造方法の工程図である。
【図１２】本発明に係る光学装置の第２の参考形態に用いられる反射膜を備える反射板の凹凸形状のエンボス法による製造方法の工程図である。
【図１３】本発明に係る光学装置の第３の参考形態の全体概略図である。
【図１４】本発明に係る光学装置の第４の参考形態の全体概略図である。
【図１５】本発明に係る光学装置の第１の実施形態の全体概略図である。
【図１６】（ａ）が従来の光学装置の一部断面図及び（ｂ）が本発明に係る光学装置の第２の実施形態の一部断面図である。
【図１７】本発明に係る光学装置の第３の実施形態の一部断面図である。
【図１８】第２の実施形態及び第３の実施形態において用いられるレンズ部の構造の一部拡大図である。
【図１９】本発明に係る光学装置の第４の実施形態の全体概略図である。
【図２０】本発明に係る光学装置の第５の実施形態の概略構成図である。
【図２１】本発明に係る分析システムの一実施形態の全体構成図である。
【図２２】図２１に示される分析装置の内部ブロック図である。
【図２３】図２１に示される分析システムの一実施形態の動作のフローチャートである。
【図２４】本発明に係る本人照合方法の一実施形態のフローチャートである。
【図２５】本発明に係るアレルギー・副作用検査方法の一実施形態のフローチャートである。
【符号の説明】
１０１    入射部
１０２    変調部
１０３    導光部
１０４    被測定体載置部
１０５    受光部
２０１ａ    光源（光源手段）
２０１ｂ    偏光変換素子（偏光変換手段）
２０１ｃ    導光部（第１の導光手段）
２０１ｃ−１    角度付与部
２０１ｄ    変調部（第１の変調手段）
２０２    変調部（第２の変調手段）
２０３    導光部（第２の導光手段）
２０３−１    角度付与部
２０４    被測定体載置部（被測定体載置手段）
２０５    導光部
２０６    光検出器（受光手段、光検出手段）
３０１    反射板（第１の反射手段）
３０２    液晶層（第１の液晶層）
３０３    導光部
３０４    ブラッググレーティングパターン（第１の透過反射制御手段）
３０５    液晶セル
４０１    反射板（第２の反射手段）
４０２    液晶層（第２の液晶層）
４０３    導光部
４０４    ブラッググレーティングパターン（第２の透過反射制御手段）
４０５    液晶セル
４０６    被測定体載置部
４０７    被測定体
５０１    変調部
５０１ａ    液晶セル
５０２    変調部
５０２ａ    液晶セル
５０３    被測定セル
５０４    被測定体
５０５    被測定体載置板部
６０１ａ    光源（光源手段）
６０１ｂ    変調部（第１の変調手段）
６０１ｃ    導光部（第１の導光手段）
６０１ｃ−１    角度付与部
６０２    変調部（第２の変調手段）
６０３    導光部（第２の導光手段）
６０３−１    角度付与部
６０４    被測定体載置部（被測定体載置手段）
６０５    導光部
６０６    光検出器（受光手段、光検出手段）
７０１    反射膜（第１の反射手段）
７０２    液晶層（第１の液晶層）
７０３    導光部
７０５    液晶セル
９０１    反射膜（第２の反射手段）
９０２    液晶層（第２の液晶層）
９０３    導光部
９０４    被測定体載置部
９０５    液晶セル
９０６    被測定体
１００１    基板
１００２    レジスト
１００３    原盤
１００４    スタンパ
１００４ａ    反転パターン
１００５    紫外線硬化樹脂
１００５ａ    パターン
１００６    反射膜
１００８    反射板
１００９    樹脂
１００９ａ    パターン
１３０１−１，１３０１−２，１３０１−ｎ    発光素子（光源手段）
１３０１ｂ    偏光変換素子（偏光変換手段）
１３０２    変調部（第２の変調手段）
１３０３    導光部（第２の導光手段）
１３０３−１    角度付与部
１３０４    被測定体載置部（被測定体載置手段）
１３０５    導光部
１３０６    光検出器（受光手段、光検出手段）
１４０１−１，１４０１−２，１４０１−ｎ    発光素子（光源手段）
１４０２    変調部（第２の変調手段）
１４０３    導光部（第２の導光手段）
１４０３−１    角度付与部
１４０４    被測定体載置部（被測定体載置手段）
１４０５    導光部
１４０６    光検出器（受光手段、光検出手段）
１５０５    ＣＣＤ
１６０１    被測定体載置部
１６０２    被測定体
１６０５    参照光
１６０６    参照光のロス
１６０６    信号光
１６０７    信号光のロス
１６０８    マイクロレンズアレイ（第１の集光手段）
１６０９    マイクロレンズアレイ（第２の集光手段）
１７０１    被測定体載置部
１７０２    被測定体
１７０３    レンズ部（第３の集光手段）
１７０４    覆う部分（カバー部）
１９０１    入射部
１９０２    変調部
１９０３    導光部
１９０４    被測定体載置部
１９０５    アライメントマーク（第１の位置決め手段）
１９０６    スペーサ（第２の位置決め手段）
２００２    変調部
２００３    導光部
２００４    被測定体載置部
２０１０，２０１１    樹脂（固定手段）
２１０１    光学装置
２１０２    分析装置
２１０３    情報データベース（格納手段）
２２０１    制御部
２２０２    送受信部
２２０３    比較判定部
２２０４    記憶部
２２０５    バス
【図１】
0003726772.tif 000002
【図２】
0003726772.tif 000003
【図３】
0003726772.tif 000004
【図４】
0003726772.tif 000005
【図５】
0003726772.tif 000006
【図６】
0003726772.tif 000007
【図７】
0003726772.tif 000008
【図８】
0003726772.tif 000009
【図９】
0003726772.tif 000010
【図１０】
0003726772.tif 000011
【図１１】
0003726772.tif 000012
【図１２】
0003726772.tif 000013
【図１３】
0003726772.tif 000014
【図１４】
0003726772.tif 000015
【図１５】
0003726772.tif 000016
【図１６】
0003726772.tif 000017
【図１７】
0003726772.tif 000018
【図１８】
0003726772.tif 000019
【図１９】
0003726772.tif 000020
【図２０】
0003726772.tif 000021
【図２１】
0003726772.tif 000022
【図２２】
0003726772.tif 000023
【図２３】
0003726772.tif 000024
【図２４】
0003726772.tif 000025
【図２５】
0003726772.tif 000026