(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶方位（１１０）を有するシリコン単結晶基板の異方性エッチングにより圧力発生室、インク供給口、及びリザーバを形成した流路形成部材と、前記圧力発生室に一致したピッチでノズル開口が穿設されたノズルプレートとを接合するとともに、圧電振動子により前記圧力発生室の容積を膨張収縮させる振動板とを備え、
前記圧力発生室が、前記シリコン単結晶基板の表面に対して垂直な結晶方位（１１１）の面と、ノズルプレート側に拡開する結晶方位（１１１）の斜面とで区画されていて、前記斜面に覆われる領域に前記ノズルプレートのノズル開口が存在するインクジェット式記録ヘッド。
【請求項２】
前記シリコン単結晶基板の面に耐エッチング層が形成され、前記耐エッチング層の前記圧力発生室に対向する領域に厚肉部からなるアイランド部が形成されて、前記耐エッチング層及び前記アイランド部が前記振動板として機能する請求項１に記載のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項３】
前記耐エッチング層は、前記シリコン単結晶基板の一方の面に形成された金属層である請求項２のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項４】
前記耐エッチング層は、前記シリコン単結晶基板の一方の面にボロンをドープして形成されたボロンドープ層である請求項２のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項５】
前記耐エッチング層は、ボロンドープ層と樹脂層の複合層である請求項２のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項６】
前記耐エッチング層は、窒素のプラズマ化学的気相成長法により形成された窒化珪素である請求項２のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項７】
前記振動板は、前記ノズル開口が対向する前記斜面に当接する領域が、前記アイランド部と同一の厚みを有する厚肉部を有し、前記斜面よりも圧力発生室側に突出している請求項６のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項８】
前記厚肉部は、メッキ法により形成されている請求項７のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項９】
前記厚肉部は、感光性樹脂により形成されている請求項７のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項１０】
結晶方位（１１０）を有するシリコン単結晶基板を異方性エッチングして、前記シリコン単結晶基板の表面に対して垂直な結晶方位（１１１）の面と、ノズルプレート側に拡開する結晶方位（１１１）の斜面とで区画された圧力発生室を形成する工程と、
前記斜面にノズル開口が対向するようにノズルプレートを接合する工程と、
とからなるインクジェット式記録ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、シリコン単結晶基板を使用したインクジェット式記録ヘッド、及びこれの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ノズル開口が形成されたノズルプレートと振動板をスペーサを挟んで接着して圧力室を形成し、振動板を圧電振動子により変形させる形式のインクジェット式記録ヘッドは、インク滴を飛翔させるための駆動源として熱エネルギを使用しないから、熱によるインクの変質がなく、しかも高密度印字が可能なため、簡易的なカラー印刷に最適な記録ヘッドである。
一方、インクジェット式記録ヘッドを用いてより品質の高いカラー印刷を行おうとすると、一層高い解像度が要求されるため、圧電振動子や、スペーサ部材の隔壁等のサイズが必然的に小さくなって、部材の加工や、部材の組立に高い精度が要求される。
【０００３】
このため、比較的簡単な手法で微細な形状を高い精度で加工できる結晶軸（１１０）を結晶面とするシリコン単結晶基板の異方性エッチングを用いたパーツ製作技術、いわゆるマイクロマシニング技術を適用してインクジェット式記録ヘッドを構成する部材を加工することが検討され、種々な技術や手法が提案されている（例えば、特開平3-187755号公報、特開平3-187756号公報、特開平3-187757号公報、特開平4-2790号公報、特開平4-129745号公報、特開平5-62964号公報）。
【０００４】
これらの技術は、圧電振動子が理想的な機械的エネルギ、つまりインクを飛翔させるに足る程度に圧力板を変形できることを前提としていたり、またシリコン単結晶基板のエッチングによる加工特性を積極的に利用するに当たっての手法を開示しているだけで、高い高解像度でドットを安定して印刷できる記録ヘッドを大量生産するための製造プロセスの簡素化や、安定した品質が実現できる製造技術を提案するには至ってない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、その目的とするところはシリコン単結晶基板のエッチングプロセスの簡素化と、組み立ての容易さを実現することができる新規なインクジェット式記録ヘッドを提供することである。
本発明の他の目的は上記インクジェット式記録ヘッドの製造方法を提案することである。
【０００６】
【課題を解消するための手段】
このような問題を解消するために本発明においては、結晶方位（１１０）を有するシリコン単結晶基板の異方性エッチングにより圧力発生室、インク供給口、及びリザーバを形成した流路形成部材と、前記圧力発生室に一致したピッチでノズル開口が穿設されたノズルプレートとを接合するとともに、圧電振動子により前記圧力発生室の容積を膨張収縮させる振動板とを備え、前記圧力発生室が、前記シリコン単結晶基板の表面に対して垂直な結晶方位（１１１）の面と、ノズルプレート側に拡開する結晶方位（１１１）の斜面とで区画されていて、前記斜面に覆われる領域に前記ノズルプレートのノズル開口が存在するようにした。
【０００７】
【作用】
圧力発生室の断面形状が台形状になることを積極的に利用して斜面の領域にノズル開口を配置することにより、ノズル開口列間の距離を小さくし、記録ヘッド全体の傾きによるドット形成位置の狂いをなくして印字品質の向上を図る。
【０００８】
【実施例】
そこで以下に本発明の詳細を図示した実施例に基づいて説明する。
図１は、本発明の一実施例を示す組み立て斜視図であり、また図２は構造を簡素化するためにノズル開口列を２列とした場合の断面図であって、図中符号１はノズルプレートで、所定のピッチ、例えば１８０ＤＰＩとなるようにノズル開口２、２、２‥‥、３、３、３‥‥を穿設したノズル開口列４、５‥‥が対向するように形成されている。
【０００９】
６は、後述する振動板８と一体に製造されたスペーサで、構造を簡素化して示すためにノズル開口列を２列の場合に例を採って説明すると、図３に示したようにノズル開口列２、３に対応するように圧力発生室１２、１３、リザーバ１４、１５、及びこれらを接続するインク供給口１７、１８を形成する通孔２２、２２、２２‥‥、２３、２３、２３‥‥、通孔２４、２５、及び通孔２７、２７、２７‥‥、２８、２８、２８‥‥が形成されている。
【００１０】
８は前述の振動板で、スペーサ６と一体に構成されており、ノズルプレート１と対向して圧力発生室１２、１３、リザーバ１４、１５、インク供給口１７、１８を形成するもので、図４に示したように圧電振動子ユニット３１、３１、３１‥‥の圧電振動子３３、３３、３３の先端に当接してこれの変位を圧力発生室１２、１３の広い面積に伝達するように剛性を備えたアイランド部３５、３５と、その周縁領域の薄肉部３７、３７とで構成されている。
【００１１】
３３、３３、３３‥‥は、圧電振動子で、圧電振動材料４０、セグメント電極４２、４２、及び共通電極４４、４４とを交互にサンドイッチ状に積層して構成され、ノズル開口２、３の配列ピッチに一致させて固定板４６に固定されてユニット３１、３１、３１に纏められている。これら振動子ユニット３１は、ヘッドの基台５０の圧電振動子収容穴５２、５２に収容されて、固定板４６を介して基台５０に固着されている。セグメント電極４２、４２、４２‥‥は、フレキシブルケーブル５４、５４により回路基板５６に接続され、外部装置から印刷データに対応して信号を受けるようになっている。
【００１２】
振動子ユニット３１、３１、３１は、圧電振動子３３、３３、３３‥‥の自由端側が露出するようにユニット収容穴４３、４３、４３‥‥に収容されて、表面に振動板８とスペーサ６とが一体となった部材とノズルプレート１を位置決めして静電シールドを兼ねる枠体５８により基台５０に固定して記録ヘッド本体としてまとめ上げている。なお、図中符号６０は、プリンタのキャリッジに固定するための固定基板を、また６１は、図示しないインクタンクに連通してリザーバ１４、１５にインクを供給するインク供給口を示す。
【００１３】
これによりスペーサ６の通孔２２、２２、２２‥‥、２３、２３、２３‥‥は、その開口部がノズルプレート１と振動板８により封鎖されて圧力発生室１２、１２、１２‥‥、１３、１３、１３‥‥を、通孔２４、２５はリザーバ１４、１５を、さらに通孔２７、２７、２７‥‥、２８２８、２８‥‥は、インク供給口１７、１７、１７‥‥、１８、１８、１８‥‥を構成することになる。そして圧力発生室１２、１３は、圧電振動子３３、３３の伸縮をアイランド部３５、３５、３５で受ける振動板１０の変形により収縮され、ここに存在するインクを圧縮して、ノズル開口２、３からインク滴として吐出することになる。
【００１４】
図５は、前述したスペーサ４の一実施例を圧力発生室を構成する通孔１２、１３の近傍を拡大して示すものであって、スペーサとして必要な厚み、例えば２２０μｍを備えた結晶方位（１１０）を表面に持つシリコン単結晶基板を一方の面から異方性エッチングを行って製造されているため、ノズル開口に対向する面がシリコン単結晶基板の表面に対して開放側に拡開する結晶方位（１１１）の斜面６ｂ、６ｂとして形成され、また他の面６ｄはシリコン単結晶基板の表面に垂直な結晶方位（１１１）の面として形成されている。
【００１５】
このように圧力発生室の断面形状が台形状になることを積極的に利用すると、図７に示したようにノズルプレート１の対向するノズル開口列４、５のノズル開口２、３を斜面６ｂ、６ｂに覆われる位置に配置することにより、ノズル開口列間の距離ΔＬを可及的に小さく配置することが可能となる。このように対向するノズル開口列４、５の間隔ΔＬが小さくなるほど、記録ヘッド全体の傾きによるドット形成位置の狂いが小さくなるため、印字品質の向上を図ることができる。
【００１６】
そして、振動板８は、圧電振動子３３に当接する領域以外に、ノズル開口２、３の近傍で基台５０に支持される領域にも厚肉部３５ａを形成するとともに、これの端部３５ｂ、３５ｂが、ノズル開口列を区分しているスペーサの開口側の端部６ｃ、６ｃよりも圧力発生室１２、１３に突出するように構成することにより、振動板８の薄肉部３７、３７が不用意にスペーサ６ａの端部６ｃ、６ｃに接触して応力が集中するのを防止することができる。
【００１７】
次に、上述した圧力発生室、インク供給口、及びリザーバとなる通孔を備えたスペーサ６と、アイランド部及び薄肉部を備えた振動板８とを一体に構成するための製造方法について説明する。
図８において符号１００は、結晶方位（１１０）を表面に有し、圧力発生室の厚みを確保するに必要な厚み、例えば２２０μｍのシリコン単結晶基板で、少なくとも異方性エッチングを行う側の面全体には、水蒸気を含む酸素雰囲気下で、1000℃で４時間程度加熱する、いわゆる熱酸化法などにより二酸化珪素膜（ＳiＯ2）１０２が、後述するエッチング工程における保護膜として機能する程度の厚み、例えば１μｍで形成されている（図８（ａ））。振動板が形成される面とは反対の面にフォトレジスト膜を形成するとともに、これに圧力発生室等の流路に対応したパターンを露光、現像してレジスト層１０４を形成する（図８（ｂ））。
【００１８】
この基板を酸化シリコンエッチング液、例えば緩衝フッ酸溶液によりエッチング処理してレジスト層１０４以外の領域の二酸化珪素膜１０２を除去する。これにより基板１００の一方の面には流路を規定する領域のパターンに一致した二酸化珪素膜１０６が残り、異方性エッチング用、例えば幅１００μｍの窓１０８が形成される（図８（ｃ））。なお、二酸化珪素膜１０６の形成後は、フォトレジスト層１０４が不要となるからこれを除去しておく。
【００１９】
異方性エッチング用の窓１０８が形成されている面と反対の面には、ニッケル、クロム等の異方性エッチング液に耐久性を持つ金属材料を蒸着や、スパッタリング、イオンプレーテンク等の膜形成手段によりインクジェット式記録ヘッドの振動板の薄肉部として機能できる程度の厚み、例えば２μｍの金属層１１０を形成する。密着強度、及び耐インク性の観点から先ずクロムの層を形成し、ついでニッケルの層を形成するのが望ましい。この金属層１１０は、エッチング時には異方性エッチングに対する保護膜として機能し、また記録ヘッドとして組み立てられたときには振動板８の薄肉部３７として機能する（図８（ｄ））。
【００２０】
金属層１１０の表面全体に前述したのと同様のフォレジスト層１１２を形成して（図８（e））、アイランド部３５やその他肉厚が必要な領域に対応する、例えば幅３０μｍの窓１１４を区画するレジスト層１１６を設ける（図９（ａ））。金属層１１０を一方のマイナス極としてニッケル等のメッキを、アイランド部として必要な厚み、例えば２０μｍに成長するまで実行、いわゆる電鋳を行うと、アイランド部３５となる厚肉部１１８が形成されることになる（図９（ｂ））。アイランド部形成後、フォトレジスト膜１１６は不要となるから除去しておく。
【００２１】
ついで、基板全体を濃度２５ｗｔ％程度で温度８０℃に維持されたＫＯＨの水溶液に浸漬する。これにより二酸化珪素膜１０６で形成された窓１０８から異方性エッチングが開始される。いうまでもなく金属層１１０は、ＫＯＨの水溶液に対しては耐久性を有しているので、窓１０８が形成されている一方の面からだけエッチングが進行する（図９（ｃ））。
このようにしてエッチングが金属層１１０まで進行した時点で、シリコン単結晶基板をエッチング液から引き上げ、二酸化珪素膜１０６を緩衝フッ酸溶液により除去すると、圧力発生室等のノズルプレートと振動板との間に形成すべき空間に対応する例えば幅１００μｍ、深さ２２０μｍの通孔１２０、１２０と、これら通孔１２０、１２０との間に例えば４１μｍ厚の壁を備えたスペーサと振動板との一体物が完成する（図９（ｄ））。
【００２２】
このようにして製作されたスペーサと振動板との一体物の開口側、つまりスペーサの表面に接着剤を塗布してノズルプレート１を接合することにより、流路構成部材が完成する。この発明においては、スペーサと振動板とは接着剤を用いることなく一体に構成されていて、ただノズルプレートとの接合に接着剤を使用するだけであるから、圧力発生室やインク供給口への接着剤の流れ込みを可及的に少なくすることができて、信頼性の向上と組み立て工程の簡素化を図ることができる。
【００２３】
ところで、異方性エッチングにより製造されたスペーサだけを単独で見ると、ノズル開口側でシリコン単結晶基板１００の本体と一体に接続されているものの、リザーバ１４、２４、２５側が切り離された、例えば厚さ４１μｍ、長さ２ｍｍの細長い、いわゆる片持梁状の多数のシリコン片１９、１９‥‥として形成されることになるが（図３、図６）、振動板の一部として機能する金属層１１０と一体となってエッチングが行われているため、ノズルプレート１を接合する際に片持ち梁状のシリコン片１９、１９が曲がる等の変形に起因する位置ずれを起こすことなく、エッチングパターン通りの正確な位置でもってノズルプレート１に接合されることになる。
また、剛性を有するシリコン単結晶基板上に直接、薄肉部と厚肉部を持つ振動板を形成するため、振動板を単独で形成する場合に比較して破れや、反り等を激減せることができて、極めて品質の高い振動板を形成することができる。
【００２４】
なお、上述の実施例においてはアイランド部となる厚肉部１１８を形成してからシリコン単結晶基板１００を異方性エッチングするようにしているが、前述の図８（ａ）乃至（ｅ）、図９（a）の工程が終了した段階で（図１０（ａ））、異方性エッチングを実行して圧力発生室等を区画する通孔１２２を形成し、それから厚肉部を形成することもできる。
【００２５】
すなわち、異方性エッチングにより金属層１１０が露出した段階で（図１０（ｂ））、これの表面に前述したのと同様にアイランド部やその他肉厚が必要な領域に対応する窓１２６を区画するレジスト層１２８を設ける（図１０（ｃ））。金属層１１０を一方のマイナス極としてニッケル等のメッキを、アイランド部として必要な厚みに成長するまで実行してアイランド部となる厚肉部１３０を形成すればよい（図１０（ｄ））。
【００２６】
図１１は本発明の第２の製造方法を示すものであって、図において符号１００は、結晶方位（１１０）有し、圧力発生室の厚みを確保するに必要な厚み、例えば２２０μｍのシリコン単結晶基板で、少なくとも異方性エッチングを行う側の面全体には、水蒸気を含む酸素雰囲気下で、1000℃で４時間程度加熱する、いわゆる熱酸化法などにより二酸化珪素膜１３２が、後述するエッチング工程における保護膜として機能する程度の厚み、例えば１μｍで形成されている（図１１（ａ））。
【００２７】
ドープを行わない側の二酸化珪素膜１３２上に保護膜を形成して緩衝フッ酸溶液によりエッチングを実行し、その後保護膜を除去する（図１１（ｂ））。このエッチングにより露出した結晶面に酸化ボロンと有機バインダからなるボロンドープ剤１３６を所定の厚さコーテングする。コーテングが終了した段階で、６００℃の酸素雰囲気中で１時間程度焼成して有機バインダを酸化して除去する。ついで温度１１００℃の窒素等の不活性ガス雰囲気中で４時間程度焼成してボロンをシリコン単結晶基板１００に拡散させる。（図１１（ｃ））。
【００２８】
これにより振動板として機能できる程度の厚みまでボロンが拡散する（図１１（ｄ））。ついでボロン拡散による後始末、つまり二酸化珪素膜の表面に再びレジストコート層を形成して除去剤で表面に残っている酸化ボロン層１４０を除去し、また不要となったレジストコート層を除去すると、一方の面にボロン拡散層１３８とホウ化シリコン層１３９が、また他方に二酸化珪素膜１３２を有する基板ができあがる（図１１（ｅ））。
【００２９】
この基板を温度６００℃の水蒸気を含む酸素雰囲気中で１時間程度焼成してホウ化シリコン層１３９を酸化してボロン拡散層１３８の表面に二酸化珪素と酸化ボロンの膜１４２を形成する（図１２（ａ））。次に二酸化珪素膜１３２の表面に前述したのと同様に流路を形成する通孔をエッチングするための窓１４４を区画するフォトレジスト層１４６を形成する（図１２（ｂ））。そして二酸化珪素エッチング液によりエッチングを実行すると、流路となる通孔を形成するための窓１４８を区画する二酸化珪素膜１５０のパターンが形成され、また同時に他面のボロン拡散層１３８の表面の二酸化珪素と酸化ボロンの膜１４２が除去される（図１２（ｃ））。そして不要となったレジストコート膜１４６を除去する。ボロン拡散層１３８の表面に電極となるニッケルやクロム等の金属層１５２を蒸着やスパッタリング、イオンプレーテイング等の膜形成手段により厚さ１００ｎｍで形成する（図１２（ｄ））。
【００３０】
この金属層１５２の表面にアイランド部等厚肉部を形成するためのパターンを備えたフォトレジスト層１５４を形成する（図１３（ａ））。金属層１５２をマイナス極としてニッケル等のメッキを、アイランド部として必要な厚みに成長するまで実行すると、アイランド部となる厚肉部１５６が形成されることになる（図１３（ｂ））。
【００３１】
ついで、全体を濃度２５ｗｔ％程度で温度８０℃に維持されたＫＯＨの水溶液に浸漬する。これにより二酸化珪素膜１５０で区画された窓１５８からシリコン単結晶基板１００が異方性エッチングを受ける。ボロンが拡散された層は、ＫＯＨの水溶液に対しては耐久性を有しているので、窓１５８が形成されている一方の面からだけエッチングが進行する（図１３（ｃ））。
【００３２】
このようにしてエッチングがボロン拡散層１３８の境界領域まで進行した時点で、エッチング液から引き上げ、二酸化珪素膜１５０を緩衝フッ酸溶液により除去すると、ボロン拡散層１３８と金属層１５２により構成された薄肉部、及び電鋳により形成された厚肉部１５６を有する振動板と、流路を構成する通孔１６０が形成されたスペーサとの一体物が完成する（図１３（ｄ））。
この実施例によればスペーサと同一の材料で振動板の薄肉部が形成されているため、密着力不足や熱膨張率の差に起因するスペーサと振動板との剥離等がなく、耐久性の高いインクジェット式記録ヘッドを実現することができる。
【００３３】
なお、上述の実施例においてはボロン拡散層１３８を実質的に振動板の薄肉部として使用しているが、ボロン拡散層を薄くする場合には、補強のために樹脂層を形成するようにしてもよい。すなわち、前述の工程（図１２（ｃ））により所定厚、例えば０．１乃至０．５μｍ程度のボロン拡散層１６２の形成が終了した段階で、化学的気相成長法やコーテング法により、厚さ３μｍ程度の樹脂膜、例えばポリイミド膜１６４を形成する（図１４（ａ））。
【００３４】
この樹脂膜１６４の表面に金属層１６６を形成し、また流路となる通孔の窓１５８を区画する二酸化珪素膜１５０を形成する（図１４（ｂ））。そして金属層１６６の表面にアイランド部等厚肉部を形成するためのパターンをフォトレジスト層１６７により形成する（図１４（ｃ））。金属層１６６を一方のマイナス極としてニッケル等のメッキを、アイランド部として必要な厚みに成長するまで実行すると、アイランド部となる厚肉部１６８が形成される。そして二酸化珪素のパターン１５０を用いて異方性エッチングを実行し、エッチングがボロン拡散層１６２まで進行した時点で、エッチング液から引き上げ、二酸化珪素膜１５０を緩衝フッ酸溶液により除去すると、ボロン拡散層１６２、樹脂膜１６４と金属層１６６により構成された薄肉部と厚肉部１６８を有する振動板と、流路を構成する通孔１６０が形成されたスペーサとの一体物が完成する（図１４（ｄ））。
【００３５】
この実施例によれば、振動板の薄肉部をスペーサと同一の材料に加えて樹脂を複合化しているため、振動板としての柔軟性を向上できる一方、ボロン拡散シリコン層により樹脂が吸液して膨潤するのを防止することができる。
【００３６】
なお、上述の実施例では厚肉部を形成するための電極として機能する金属層１５２、１６６をも振動板として機能させるようにしているが、必要に応じてこの膜だけをエッチングにより選択的に除去してもよい。これら金属層１５２、１６６は厚さ１００ｎｍと極めて薄いため、これを除去するためのエッチングを実施してもアイランド部等他の金属部のサイズは実質的に変化することがない。
【００３７】
また、上述の実施例においてはアイランド部を形成してからシリコン単結晶基板の異方性エッチングを実行するようにしていたが、異方性エッチングによりシリコン単結晶基板に通孔を形成してからアイランド部を形成するようにしてもよい。また、ボロン拡散シリコン層に代えて、熱酸化による二酸化珪素膜と樹脂との２層の複合振動板、または薄いボロン拡散層や二酸化珪素膜を最終的にエッチング除去した樹脂材だけの振動板とすることも可能である。
【００３８】
図１５は、本発明の第３の実施例を示すものであって、図において符号１００は、結晶方位（１１０）有し、圧力発生室の厚みを確保するに必要な厚み、例えば２２０μｍのシリコン単結晶基板で、少なくとも異方性エッチングを行う側の面全体には、水蒸気を含む酸素雰囲気下で、1000℃で４時間程度加熱する、いわゆる熱酸化法などによりシリコンの酸化膜（ＳiＯ2）１７０が、後述するシリコンエッチング工程における保護膜として機能する程度の厚み、例えば１μｍに形成されている（図１５（ａ））。
【００３９】
窒素の化学的気相成長法により窒化を行わない側に二酸化珪素１７２により異方性エッチングの保護パターンを形成する（図１５（ｂ））。
この基板を窒素雰囲気によりプラズマ化学的気相成長法により振動板の薄肉部として機能できる程度の厚みを備えた窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ2）の層１７４を形成する（図１５（ｃ））。ついで前述したのと同様の工程により異方性エッチングを実行すると、異方性エッチングは窒化珪素層１７４で停止するので、流路となる通孔１７６が形成される（図１５（ｄ））。
【００４０】
異方性エッチングが終了した段階で、窒化珪素層１７４の表面に、アイランド部として機能する程度の厚み、例えば２０μｍの感光性樹脂１７８を塗布して（図１６（ａ））、アイランド部等厚肉部とすべき領域に一致するパターンを露光する。これにより、露光を受けた領域、つまり厚肉部１７８となる領域の感光性樹脂が硬化（図１６（ｂ））する。これを現像処理することにより未露光領域が除去され、アイランド部１８０が形成される（図１６（ｃ））。なお、必要に応じて硬化処理を行う。
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、圧力発生室の斜面の領域にノズル開口を配置することにより、ノズル開口列間の距離を小さくし、記録ヘッド全体の傾きによるドット形成位置の狂いをなくして印字品質の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用されるインクジェット式記録ヘッドの一実施例を示す組み立て分解図である。
【図２】同上装置における対向するノズル開口列近傍の構造を示す断面図である。
【図３】同上装置におけるスペーサの構造をノズル開口列が２列の場合に例を採って示す上面図である。
【図４】同上装置のおける振動板の構造をノズル開口列が２列の場合に例を採って示す斜視図である。
【図５】圧力室を形成するスペーサの通孔の構造を示す図である。
【図６】ノズルプレートの一部を除去して流路の構成を示す図である。
【図７】ノズル開口列を２列対向させて配置した場合のノズル開口近傍の構造を示す断面図である。
【図８】上述した振動板とスペーサの一体物の製造方法の第１実施例の前半の工程を示す説明図である。
【図９】第１実施例の後半の工程を示す説明図である。
【図１０】本発明の製造方法の第１実施例の工程を入れ替えた変形例を示す説明図である。
【図１１】上述した振動板とスペーサの一体物の製造方法の第２実施例の前半の工程を示す説明図である。
【図１２】第２実施例の中盤の工程を示す説明図である。
【図１３】第２実施例の後半の工程を示す説明図である。
【図１４】第２実施例の工程を変えた変形例を示す図である。
【図１５】第３実施例の前半の工程を示す図である。
【図１６】第３実施例の後半の工程を示す図である。
【符号の説明】
１  ノズルプレート
２、３  ノズル開口
４、５  ノズル開口列
６  スペーサ
８  振動板
１２、１３  圧力発生室
１７、１８  インク供給口
３１  圧電振動子ユニット
３３  圧電振動子
５０  基台
【図１】
0003657284.tif 000002
【図２】
0003657284.tif 000003
【図３】
0003657284.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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