(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反強磁性層と、該反強磁性層との交換異方性磁界により磁化方向が固定される固定磁性層と、該固定磁性層の上に非磁性導電層を介して形成されたフリー磁性層とからなる積層体と、前記フリー磁性層の磁化方向を前記固定磁性層の磁化方向と交差する方向に揃えるハードバイアス層と、前記フリー磁性層、非磁性導電層、固定磁性層に検出電流を与える導電層とを有し、
前記ハードバイアス層は、前記積層体のフリー磁性層の両側に形成され、前記フリー磁性層と各ハードバイアス層との間および各ハードバイアス層の下側に、ハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層が形成され、該バイアス下地層は前記フリー磁性層と前記ハードバイアス層との間の膜厚が前記ハードバイアス層の下側の膜厚よりも小さくされ、前記フリー磁性層と前記ハードバイアス層との間のバイアス下地層はピンホールを有することを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気素子。
【請求項２】
前記磁気抵抗効果型薄膜磁気素子は、前記フリー磁性層の厚さ方向の両側に、各々前記非磁性導電層と前記固定磁性層と前記反強磁性層が形成されたデュアル型構造のものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子。
【請求項３】
前記固定磁性層と前記フリー磁性層の少なくとも一方が、非磁性中間層を介して２つに分断され、分断された層どうしで磁化の向きが１８０度異なるフェリ磁性状態とされたことを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子。
【請求項４】
前記フリー磁性層とハードバイアス層との間のバイアス下地層の厚みが１ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子。
【請求項５】
前記バイアス下地層は、体心立方構造の非磁性金属膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子。
【請求項６】
前記バイアス下地層は、Ｃｒ膜から構成されていることを特徴とする請求項５記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子。
【請求項７】
前記ハードバイアス層で挟まれた積層体の側面部分の傾斜角度が３０度以上であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子。
【請求項８】
スライダに請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子が備えられてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項９】
基板上に、反強磁性層と、 この反強磁性層と接して形成 され、前記反強磁性層との交換結合磁界により磁化方向が固定される固定磁性層と、前記固定磁性層に非磁性導電層を介して形成されたフリー磁性層とを少なくとも有する積層膜を形成する工程と、
前記積層膜の上にリフトオフ用レジストを形成する工程と、
前記リフトオフ用レジストに覆われていない部分をイオンミリングにより除去し、略台形状の積層体を形成する工程と、
第１のターゲットと前記基板とが平行となる状態あるいは第１のターゲットと前記基板との角度を後工程のハードバイアス層を形成するときより傾斜が小さい状態で対向させ、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法により、前記積層体の両側の前記基板上にハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層を形成する工程と、
第２のターゲットと基板との角度を前記バイアス下地層を形成するときより傾斜させた状態で対向させ、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法により、バイアス下地層上に、前記フリー磁性層の磁化方向を前記固定磁性層の磁化方向と交差する方向に揃えるハードバイアス層を形成する工程と、
第３のターゲットと基板との角度を前記ハードバイアス層を形成するときより傾斜させた状態あるいは同じ角度で対向させ、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法により、前記ハードバイアス層上に導電層を形成する工程とを有し、
前記バイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと前記基板との角度を調整することにより、前記積層体の両側の前記基板上と前記フリー磁性層の両側の側面にバイアス下地層を形成し、前記バイアス下地層上にハードバイアス層を形成する工程において、前記積層体のフリー磁性層の両端部と各ハードバイアス層の前記積層体側の端部との間にバイアス下地層が介在されるようにハードバイアス層を形成し、
前記フリー磁性層と前記ハードバイアス層との間の膜厚が前記ハードバイアス層の下側の膜厚よりも小さくなるように前記バイアス下地層を形成し、前記フリー磁性層と前記ハードバイアス層との間に介在されているバイアス下地層の厚みが１ｎｍ以下になるように形成することを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法。
【請求項１０】
前記略台形状の積層体を形成する工程において、積層体の側面部分の傾斜角度を３０度以上とすることを特徴とする請求項９記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、固定磁性層の固定磁化の方向と外部磁界の影響を受けるフリー磁性層の磁化の方向との関係で、電気抵抗が変化する磁気抵抗効果型薄膜磁気素子及びその製造方法と、その磁気抵抗効果型薄膜磁気素子を備えた薄膜磁気ヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図２４は、薄膜磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
この薄膜磁気ヘッドは、ハードディスク装置などの磁気記録媒体に搭載される浮上式のものである。この薄膜磁気ヘッドのスライダ２５１は、図２４において符号２３５で示す側がディスク面の移動方向の上流側に向くリーディング側で、符号２３６で示す側がトレーリング側である。このスライダ２５１のディスクに対向する面では、  レール状のＡＢＳ面（エアーベアリング面：レール部の浮上面）２５１ａ、２５１ａ、２５１ｂと、エアーグルーブ２５１ｃ、２５１ｃとが形成されている。
そして、このスライダ２５１のトレーリング側の端面２５１ｄには、磁気コア部２５０が設けられている。
【０００３】
この例で示す薄膜磁気ヘッドの磁気コア部２５０は、図２５および図２６に示す構造の複合型磁気ヘッドであり、スライダ２５１のトレーリング側端面２５１ｄ上に、ＭＲヘッド（読出ヘッド）ｈ１と、  インダクティブヘッド（書込ヘッ  ド）ｈ２とが順に積層されて構成されている。
【０００４】
この例のＭＲヘッドｈ１は、スライダ２５１のトレーリング側端部に形成された磁性合金からなる下部シールド層２５３上に、下部ギャップ層２５４が設けられている。そして、下部ギャップ層２５４上には、磁気抵抗効果型薄膜磁気素子層２４５が積層されている。この磁気抵抗効果型薄膜磁気素子層２４５上には、上部ギャップ層２５６が形成され、その上に上部シールド層２５７が形成されている。この上部シールド層２５７は、その上に設けられるインダクティブヘッドｈ２の下部コア層と兼用にされている。
このＭＲヘッドｈ１は、ハードディスクのディスクなどの磁気記録媒体からの微小の漏れ磁界の有無により、磁気抵抗効果型薄膜磁気素子層２４５の抵抗を変化させ、この抵抗変化を読み取ることで記録媒体の記録内容を読み取るものである。
【０００５】
また、インダクティブヘッドｈ２は、下部コア層２５７の上に、ギャップ層２６４が形成され、その上に平面的に螺旋状となるようにパターン化されたコイル層２６６が形成されている。上記コイル層２６６は、第１の絶縁材料層２６７Ａおよび第２の絶縁材料層２６７Ｂに囲まれている。第２の絶縁材料層２６７Ｂの上に形成された上部コア層２６８は、ＡＢＳ面２５１ｂにて、その磁極端部２６８ａを下部コア層２５７に、磁気ギャップＧの厚みをあけて対向させ、図２５および図２６に示すように、その基端部２６８ｂを下部コア層２５７と磁気的に接続させて設けられている。
また、上部コア層２６８の上には、アルミナなどからなる保護層２６９が設けられている。
【０００６】
このようなインダクティブヘッドｈ２では、コイル層２６６に記録電流が与えられ、コイル層２６６からコア層に記録電流が与えられる。そして、上記インダクティブヘッドｈ２は、磁気ギャップＧの部分での下部コア層２５７と上部コア層２６８の先端部からの漏れ磁界により、ハードディスクなどの磁気記録媒体に磁気信号を記録するものである。
【０００７】
上記ＭＲヘッドｈ１に設けられている磁気抵抗効果型薄膜磁気素子層２４５には、巨大磁気抵抗効果を示すＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ  Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）素子などが備えられている。このＧＭＲ素子は、複数の材料を組み合わせて形成された多層構造のものである。巨大磁気低抗効果を生み出す構造には、いくつかの種類がある。その中で比較的構造が単純で、外部磁界に対して抵抗変化率の高いものとしてスピンバルブ方式がある。スピンバルブ方式には、シングルスピンバルブ方式とデュアルスピンバルブ方式とがある。
【０００８】
図２７は、従来のスピンバルブ型薄膜磁気素子を備えた薄膜磁気ヘッドの要部の一例を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
図２７において、符号ＭＲ２は、スピンバルブ型薄膜磁気素子を示している。このスピンバルブ型薄膜磁気素子ＭＲ２は、反強磁性層１２２、固定磁性層１５３、非磁性導電層１２４、フリー磁性層１６５が下部ギャップ層２５４側から順に一層ずつ形成された、いわゆるボトム型のシングルスピンバルブ型薄膜磁気素子である。
図２７において、符号ａ１１は積層体である。この積層体ａ１１は、Ｔａなどで形成された下地層１２１上にＰｔＭｎ合金からなる反強磁性層１２２が形成され、該反強磁性層１２２上に固定磁性層１５３が形成され、さらに固定磁性層１５３上に非磁性導電層１２４が形成され、該非磁性導電層１２４上にフリー磁性層１６５が形成され、さらにフリー磁性層１６５上に保護層１２７が形成されてなる略台形状のものである。反強磁性層１２２は、固定磁性層１５３、非磁性導電層１２４およびフリー磁性層１６５よりさらに両側の領域に延びている。
【０００９】
固定磁性層１５３は、非磁性中間層１５４と、この非磁性中間層１５４を挟む第１の固定磁性層１５５と第２の固定磁性層１５６から構成されている。第１固定磁性層１５５は、非磁性中間層１５４より反強磁性層１２２側に設けられ、第２の固定磁性層１５６は、非磁性中間層１５４より非磁性導電層１２４側に設けられている。
第１の固定磁性層１５５及び第２の固定磁性層１５６は、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＮｉＦｅ合金等より形成されている。また、非磁性中間層１５４は、Ｒｕ等の非磁性材料より形成されている。
第１の固定磁性層１５５と第２の固定磁性層１５６の厚さは、異なる厚さとすることが好ましく、図２７では、第２の固定磁性層１５６の厚さが第１の固定磁性層１５５の厚さより大とされている。
【００１０】
第１の固定磁性層１５５と反強磁性層１２２との界面では交換結合磁界（交換異方性磁界）が発生し、第１の固定磁性層１５５の磁化方向は反強磁性層１２２との交換結合磁界により図示Ｙ方向と反対方向に固定され、第２の固定磁性層１５６は第１の固定磁性層１５５と反強磁性的に結合してその磁化方向が図示Ｙ方向に固定されている。
第１、第２の固定磁性層１５５、１５６の磁化方向が互いに反平行とされているので、第１、第２の固定磁性層１５５、１５６の磁気モーメントが相互に打ち消し合う関係にあるが、第２の固定磁性層１５６の厚さが第１の固定磁性層１５５より大きく、この第２の固定磁性層１５６に由来する自発磁化が僅かに残る結果となり、固定磁性層１５３がフェリ磁性状態となっている。そしてこの小さな自発磁化により反強磁性層１２２との交換結合磁界が更に増幅され、固定磁性層１５３の磁化方向が図示Ｙ方向に固定されている。
【００１１】
フリー磁性層１６５は、ＮｉＦｅ合金等の強磁性材料からなる強磁性層１６６とＣｏ等の強磁性材料からなる拡散防止層１６７から形成されている。拡散防止層１６７は、非磁性導電層１２４側に設けられている。
フリー磁性層１６５の両側で、反強磁性層１２２の延出部上に、Ｃｒからなるバイアス下地層１７５、１７５を介してＣｏ−Ｐｔ（コバルト−白金）系合金からなるハードバイアス層１２６、１２６、すなわち永久磁石膜が形成されている。バイアス下地層１７５、１７５は、積層体ＭＲ２とこれの両側のハードバイアス層１２６、１２６間と、これらハードバイアス層１２６、１２６の下側（反強磁性層１２２の延出部とハードバイアス層１２６、１２６の間）に形成されている。
さらにハードバイアス層１２６、１２６上に、フリー磁性層１６５、非磁性導電層１２４および固定磁性層１５３に検出電流を与えるＣｒ、Ｔａ、Ａｕなどで形成された導電層１２８、１２８が積層されている。
【００１２】
上記のハードバイアス層１２６、１２６は、フリー磁性層１６５が複数の磁区を形成することによって生じるバルクハウゼンノイズを抑制し、フリー磁性層１６５を単磁区化するためのものである。ハードバイアス層１２６、１２６が、例えば、図示Ｘ１方向に磁化されている場合、ハードバイアス層１２６、１２６からの漏れ磁束によって、フリー磁性層１６５の磁化が図示Ｘ１方向に揃えられる。これにより、フリー磁性層１６５の変動磁化と固定磁性層１２３の固定磁化とが交差する関係となっている。
【００１３】
このようなバイアス下地層１７５、１７５を形成するのは、ハードバイアス層１２６、１２６を構成するＣｏ−Ｐｔ系合金の磁化容易軸を面内方向に向けることで、ハードバイアス層１２６、１２６の永久磁石膜としての保磁力や角形比などの特性が上がり、大きなバイアス磁界を発生できるようにしてフリー磁性層の磁化の方向を揃えて単磁区化し、バルクハウゼンノイズの発生を低減するためである。
【００１４】
このスピンバルブ型薄膜磁気素子ＭＲ２では、導電層１２８、１２８からフリー磁性層１６５、非磁性導電層１２４、固定磁性層１５３に検出電流（センス電流）が与えられる。ハードディスクなどの記録媒体の移動方向は、図示Ｚ方向であり、磁気記録体からの洩れ磁界により図示Ｙ方向に磁界が与えられると、フリー磁性層１６５の磁化は、図示Ｘ１方向からＹ方向に変動し、このときの非磁性導電層１２４とフリー磁性層１６５との界面、および非磁性導電層１２４と第２の固定磁性層１５６との界面でスピン依存した電導電子の散乱が起こることにより、電気抵抗が変化し、記録媒体からの漏れ磁界が検出される。
また、第１、第２の固定磁性層１５５、１５６が反強磁性的に結合して第１、第２の固定磁性層１５５、１５６の磁気モーメントが相互に打ち消し合う関係にあるが、第２の固定磁性層１５６の厚さが第１の固定磁性層１５５より大きく、この第２の固定磁性層１５６に由来する自発磁化が僅かに残る結果となり、固定磁性層１５３がフェリ磁性状態となるので、この自発磁化により反強磁性層１２２との交換結合磁界が更に増幅され、固定磁性層１５３の磁化方向が図示Ｙ方向に固定され、スピンバルブ型薄膜磁気素子ＭＲ２の安定性を向上させている。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで従来のスピンバルブ型薄膜磁気素子ＭＲ２では、フリー磁性層１６５とこれの両側のハードバイアス層１２６、１２６の間に、バイアス下地層１７５、１７５が介在されているので、フリー磁性層１６５とこれの両側のハードバイアス層１２６、１２６が磁気的に直接接続されておらず、このためフリー磁性層１６５にかかる磁界は、静磁相互作用、すなわち、ハードバイアス層１２６、１２６からかかる有効磁界（スタティックな磁界）のみであり、この磁界によりフリー層１６５を単磁化する磁区制御を行っていることとなる。
また、フリー磁性層１６５のトラック幅Ｔｗ方向の両端部は反磁界Ｂの影響で、本来フリー磁性層１６５に付与したい磁化方向と逆向きの磁化を付与する磁場をフリー磁性層１６５の両端部に作用させることになり、フリー磁性層１６５の両端部の磁化の方向が乱れて磁壁が生じるという磁化不連続現象、いわゆる、バックリング現象が生じている。上記反磁界Ｂは、フリー磁性層１６５の両端部に蓄積された磁荷による、磁化方向とは逆向きに働く磁界である。
【００１６】
ところが、近年、記録密度の向上の要望からＭＲヘッドｈ１のトラック幅Ｔｗを狭くする傾向があり、この狭トラック化が進むにつれてフリー磁性層１６５の両端部にかかる上記の反磁界が増大し、バックリング現象が顕著にでてしまいフリー磁性層１６５の磁区制御に悪影響を及ぼし、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形に異常が生じ易く、再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合が増加し、問題となっていた。
上記のようなバックリング現象を低減するために、ハードバイアス層の厚みを厚くしてフリー磁性層１６５を飽和させるための磁界（バイアス磁界）を大きくすることにより、フリー磁性層１６５の両端の磁荷による悪影響を除去する方法も考えられるが、積層体ａ１１の中央付近では、再生出力が高くなり、側部付近では再生出力が低くなる傾向があるため、ハードバイアス層の厚みを厚くすると、側部付近の再生出力が低くなる領域が広くなり、全体として再生出力が低下してしまうという問題があり、この問題は狭トラック化が進むとより顕著になってしまう。
【００１７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ハードバイアス層のバイアス磁界を不必要に高くして再生出力を低下させることなく、ハードバイアス層からのバイアス磁界が有効にフリー磁性層に印加されるようにして、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善し、フリー磁性層の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅の両端の再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）に優れた磁気抵抗効果型薄膜磁気素子を提供することを課題としている。また、上記のような優れた特性を有する磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法を提供することを課題としている。
さらに、上記のような優れた特性を有する磁気抵抗効果型薄膜磁気素子を備えた薄膜磁気ヘッドを提供することを課題としている。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子（第１の発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子）は、反強磁性層と、該反強磁性層との交換異方性磁界により磁化方向が固定される固定磁性層と、該固定磁性層の上に非磁性導電層を介して形成されたフリー磁性層とからなる積層体と、上記フリー磁性層の磁化方向を上記固定磁性層の磁化方向と交差する方向に揃えるハードバイアス層と、上記フリー磁性層、非磁性導電層、固定磁性層に検出電流を与える導電層とを有し、
上記ハードバイアス層は、上記積層体のフリー磁性層の両側に形成されており、各ハードバイアス層と上記フリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触し、各ハードバイアス層の下側にはハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層が形成されていることを特徴とするものである。
【００１９】
このような磁気抵抗効果型薄膜磁気素子では、上記各ハードバイアス層とフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触しているので、上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体となるので、フリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層に印加でき、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れる（バックリング現象が生じる）のを改善でき、フリー磁性層の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅の両端の再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上できる。それは、上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層との交換相互作用は、磁性原子のスピン間で働く相互作用で、磁化の方向を平行にしようとする非常に強い相互作用であるので、この強い相互作用により上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が有効に除去されるので、フリー磁性層の両端部に反磁界が生じない。また、各ハードバイアス層の下側には、ハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層が形成されているので、バイアス下地層上に形成されたハードバイアス層の結晶配向性が良好となり、保磁力および角形比が十分大きく、上記フリー磁性層の単磁区化に必要なバイアス磁界を十分大きくすることができ、バルクハウゼンノイズの発生を防止できる。
【００２０】
また、上述のようにフリー磁性層の両端部に反磁界が生じていないので、磁気抵抗効果型薄膜磁気素子が備えられる読出ヘッドの狭トラック化が進んでもバックリング現象が起こらないので、このバックリング現象に起因するトラック幅の両端の再生波形異常を防止でき、再生ヘッド全体としての再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合を低減できる。
また、ハードバイアス層の残留磁化と膜厚の積をある程度小さくしても、上記交換相互作用によりフリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層からのバイアス磁界を有効にフリー磁性層に印加でき、トラック幅の両端の再生波形の安定性を確保できるので、例えば、ハードバイアス層の厚みを薄くして縦バイアス磁界を小さくして、上記積層体の側部付近の再生出力が低くなる領域を狭くして、中央部付近の再生出力が高い領域を広くし、再生出力を高めることができる。
【００２１】
また、上記構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子においては、上記フリー磁性層の厚さ方向の両側に、各々上記非磁性導電層と上記固定磁性層と上記反強磁性層とが形成されたデュアル型構造とすることが好ましい。
このような磁気抵抗効果型薄膜磁気素子とすることで、フリー磁性層／非磁性導電層／固定磁性層の３層の組合わせを２組有するものとなり、フリー磁性層／非磁性導電層／固定磁性層の３層の組合わせを１組しか有していない磁気抵抗効果型薄膜磁気素子と比較して、大きなΔＲ／Ｒ（抵抗変化率）が得られ、高密度記録化に対応できるものとすることができる。
【００２２】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子においては、上記固定磁性層と上記フリー磁性層の少なくとも一方が、非磁性中間層を介して２つに分断され、分断された層どうしで磁化の向きが１８０度異なるフェリ磁性状態とされていることが好ましい。
少なくとも固定磁性層が非磁性中間層を介して２つに分断された磁気抵抗効果型薄膜磁気素子とした場合、２つに分断された固定磁性層のうち一方が他方の固定磁性層を適正な方向に固定する役割を担い、固定磁性層の状態を非常に安定した状態に保つことが可能となる。
一方、少なくともフリー磁性層が非磁性中間層を介して２つに分断された磁気抵抗効果型薄膜磁気素子とした場合、２つに分断されたフリー磁性層どうしの間に交換結合磁界が発生し、フェリ磁性状態とされ、磁気的な膜厚が減少するので外部磁界に対して感度よく反転できるものとなる。
【００２３】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記バイアス下地層は、上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層の間にまで延出していてもよい。
このような磁気抵抗効果型薄膜磁気素子では、上記バイアス下地層が上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層の間にまで延出していても、上記の各ハードバイアス層とフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触しているので、上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層とが交換相互作用により磁気的に連続体となるので、反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記フリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、また、上記バイアス下地層が上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層の間に延出していない場合と比べて各ハードバイアス層からフリー磁性層に印加できるバイアス磁界の効率が下がるものの、各ハードバイアス層からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅の両端の再生波形の安定性を向上できる。
【００２４】
また、上記の構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記フリー磁性層とハードバイアス層との間のバイアス下地層の延出部の厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｎｍ以下とされる。
上記バイアス下地層の延出部の厚みを１ｎｍ以下と薄くすることにより、このバイアス下地層にピンホールが生じ易くなるので、バイアス下地層の延出部が介在されている部分の上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層とは、バイアス下地層のピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、この磁気抵抗効果型薄膜磁気素子では、上記の各ハードバイアス層とフリー磁性層とが直接接触している部分だけでなくバイアス下地層の延出部が介在されている部分も交換相互作用により磁気的に連続体となり、また、交換相互作用が働く範囲が広くなるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記フリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善する効果が優れており、フリー磁性層の磁区制御をより一層良好に行うことができ、トラック幅の両端の再生波形の安定性をより向上できる。また、バイアス下地層が介在されている部分では、ハードバイアス層の高い保磁力が維持された状態とすることができるので好ましい。
【００２５】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記バイアス下地層は、体心立方構造の非磁性金属膜であることが好ましい。それは、ハードバイアス層を、結晶構造が面心立方構造（ｆｃｃ）と稠密六方構造（ｈｃｐ）の混相となるＣｏ−Ｐｔ系合金やＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ系合金などから構成したとき、バイアス下地層（非磁性金属膜）の結晶構造が体心立方構造（ｂｃｃ）となっていると、上記非磁性金属膜の格子定数とハードバイアス層を構成する合金のｈｃｐの格子定数は近い値となっているために、ハードバイアス層を構成する合金はｆｃｃ構造を形成しづらくｈｃｐ構造で形成されやすくなっている。このときｈｃｐのｃ軸（磁化容易軸）は、上記ハードバイアス層と上記非磁性金属膜との境界面内に優先配向される。上記ｈｃｐはｆｃｃに比べてｃ軸方向に大きな磁気異方性を生じるため、ハードバイアス層に磁界を与えたときの保磁力（Ｈｃ）は大きくなる。さらに、ｈｃｐのｃ軸はハードバイアス層と上記非磁性金属膜との境界面内で優先配向となっているため残留磁化（Ｂｒ）は増大し、残留磁化（Ｂｒ）／飽和磁束密度（Ｂｓ）で求められる角形比は大きな値になる。その結果、上記ハードバイアス層の永久磁石膜としての特性が上がり、ハードバイアス層から発生するバイアス磁界を増大させることが可能になり、フリー磁性層を単磁区化し易くなるからである。
上記体心立方構造の非磁性金属膜としては、Ｃｒ、Ｔｉ、ＭｏまたはＷ５０Ｍｏ５０のうちから選択されるいずれか１種以上を用いることが好ましい。
【００２６】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記バイアス下地層は、Ｃｒ膜から構成されていることが好ましい。それは、ハードバイアス層を例えばＣｏ−Ｐｔ系合金やＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ系合金などで構成したとき、ハードバイアス層の結晶構造は、面心立方構造（ｆｃｃ）と稠密六方構造（ｈｃｐ）の混相となっているので、バイアス下地層が体心立方構造（ｂｃｃ）で且つ（１００）配向の結晶構造を有するＣｒ膜から構成されていると、上記Ｃｒ膜の格子定数とＣｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金のｈｃｐの格子定数は近い値となっているために、上記Ｃｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金はｆｃｃ構造を形成しづらくｈｃｐ構造で形成されやすくなっている。このときｈｃｐのｃ軸（磁化容易軸）は、上記Ｃｏ−Ｐｔ合金層またはＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金層と上記Ｃｒ膜との境界面内に優先配向される。上記ｈｃｐはｆｃｃに比べてｃ軸方向に大きな磁気異方性を生じるため、ハードバイアス層に磁界を与えたときの保磁力（Ｈｃ）は大きくなる。さらに、ｈｃｐのｃ軸はＣｏ−Ｐｔ合金層またはＣｏ−Ｐｔ−Ｃｏ合金層と上記Ｃｒ膜との境界面内で優先配向となっているため残留磁化（Ｂｒ）は増大し、残留磁化（Ｂｒ）／飽和磁束密度（Ｂｓ）で求められる角形比は大きな値になる。その結果、上記ハードバイアス層の永久磁石膜としての特性が上がり、ハードバイアス層から発生するバイアス磁界を増大させることが可能になり、フリー磁性層をより単磁区化し易くなるからである。
【００２７】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記ハードバイアス層で挟まれた積層体の側面部分の傾斜角度を３０度以上とすることがバルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、上記傾斜角度を４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、上記傾斜角度を６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
上記積層体の側面部分の傾斜角度が３０度未満であると、この積層体の両側に形成される各ハードバイアス層の積層体に近い側の端部（積層体側の端部）が先窄まり状になって厚みが薄くなり、また上記積層体側の端部が先窄まり状になるにつれて、各ハードバイアス層の積層体側の端部（先端部）に下地のバイアス下地層が形成されていない部分が多く（各ハードバイアス層の積層体側の端部の結晶配向性が乱れる部分が多く）なるので、各ハードバイアス層の積層体側の端部に保磁力の低下している部分が多くなり、各ハードバイアス層の積層体側の端部の磁化状態が変化し、バイアス磁界が崩れて、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）が大きくなり、フリー磁性層に十分なバイアス磁界を安定して与えることができず、バルクハウゼンノイズが発生し易くなってしまう。
【００２８】
上記バルクハウゼンジャンプについて以下に説明する。
図１８は、薄膜磁気ヘッドの磁気抵抗効果型薄膜磁気素子が備えられた読出ヘッド（ＭＲヘッド）に、一定の大きさ（この例の場合５ｍＡ）のセンス電流を印加しつつ、エアーベアリング面（ＡＢＳ面）と垂直方向に（素子高さ方向に）交流外部磁界（この例の場合±６０ｋＡ／ｍ（±７５０  Ｏｅ））を印加して測定したＲ−Ｈ曲線（いわゆるＱｕａｓｉ−ｓｔａｔｉｃ  ｔｒａｎｓｆｅｒ  ｃｕｒｖｅ）を示す図である。図１８において横軸は外部磁界であり、縦軸は磁気抵抗効果型薄膜磁気素子両端の電圧である。図１８中、実線▲１▼は、各ハードバイアス層からフリー磁性層に十分な大きさの縦バイアス（バイアス磁界）を安定して印加でき、バルクハウゼンノイズやヒステリシスが生じない理想状態を示すＲ−Ｈカーブである。
【００２９】
ハードバイアス層の平面部（先端部以外の部分）の保磁力は通常８０ｋＡ／ｍ（１０００Ｏｅ）以上あるので、各フリー磁性層の先端部（積層体側の端部）も含めて十分な保磁力が保たれていれば、この程度（±６０ｋＡ／ｍ程度）の交流外部磁界で縦バイアスが崩れることはないはずである。しかし、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子では、各ハードバイアス層とフリー磁性層との間にバイアス下地層が形成されていない部分、すなわち、各ハードバイアス層の積層体側の端部（先端部）に下地のバイアス下地層が形成されていない部分（各ハードバイアス層の積層体側の端部に保磁力が低下している部分）が存在する場合があるので、この各ハードバイアス層の積層体側の端部の保磁力が低下している部分の体積が多くなると、ハードバイアス層のバイアス磁界（縦バイアス）が崩れてＲ−Ｈ曲線上にバルクハウゼンノイズやヒステリシスが生じ、理想状態のＲ−Ｈカーブからそれる破線▲２▼で示されるジャンプが生じる。
【００３０】
このような理想状態のＲ−Ｈカーブ▲１▼からそれるジャンプ▲２▼が生じたときそのジャンプ分の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子両端の電圧値（Ｖｊｕｍｐ）と、理想状態のＲ−Ｈカーブの終端（交流外部磁界が最大値と最小値のとき）の磁気抵抗効果素子両端の電圧値の差（ΔＶ）との比、すなわち、Ｖｊｕｍｐ／ΔＶの値が大きいほど、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ（％）＝Ｖｊｕｍｐ／ΔＶ×１００  ・・・式Ｉ）が大きいことを示しており、フリー磁性層に十分なバイアス磁界を安定して与えることができず、バルクハウゼンノイズが発生し易くなっていることを示している。上記ΔＶは、理想状態のＲ−Ｈカーブの始端（交流外部磁界が最小値のとき）の磁気抵抗効果素子両端の電圧値と、理想状態のＲ−Ｈカーブの終端（交流外部磁界が最大値のとき）の磁気抵抗効果素子両端の電圧値の差である。
磁気記録媒体から読出ヘッドが感じる磁界は、通常、６０ｋＡ／ｍよりかなり小さいが、読出ヘッドに隣接しているインダクティブヘッド（書込ヘッド）の記録動作時の磁界は大きく、読出ヘッドに備えられている磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の縦バイアスを乱す可能性がある。従って、高磁界でのバルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）が小さいほど、縦バイアスに乱れがなく、フリー磁性層に十分なバイアス磁界を安定して与えることができ、バルクハウゼンノイズの防止効果が優れる。
【００３１】
また、上記課題を解決するために、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子（第２の発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子）は、反強磁性層と、該反強磁性層との交換異方性磁界により磁化方向が固定される固定磁性層と、該固定磁性層の上に非磁性導電層を介して形成されたフリー磁性層とからなる積層体と、上記フリー磁性層の磁化方向を上記固定磁性層の磁化方向と交差する方向に揃えるハードバイアス層と、上記フリー磁性層、非磁性導電層、固定磁性層に検出電流を与える導電層とを有し、
上記ハードバイアス層は、上記積層体のフリー磁性層の両側に形成され、上記フリー磁性層と各ハードバイアス層との間および各ハードバイアス層の下側に、ハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層が形成され、該バイアス下地層は上記フリー磁性層と上記ハードバイアス層との間の膜厚が上記ハードバイアス層の下側の膜厚よりも小さいことを特徴とする。
【００３２】
このような第２の発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子では、上記フリー磁性層と上記ハードバイアス層との間のバイアス下地層の膜厚を上記ハードバイアス層の下側のバイアス下地層の膜厚よりも薄くしたしたことにより、上記フリー磁性層と上記ハードバイアス層との間に介在されたバイアス下地層の部分にピンホールが生じるので、バイアス下地層が介在されている部分の上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層とは、バイアス下地層のピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、この磁気抵抗効果型薄膜磁気素子では、バイアス下地層が介在されている部分の上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層が交換相互作用により磁気的に連続体となるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記フリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層の磁区制御をより良好に行うことができ、トラック幅の両端の再生波形の安定性を向上できる。
【００３３】
また、上記のいずれかの構成の第２の発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記フリー磁性層の厚さ方向の両側に、各々上記非磁性導電層と上記固定磁性層と上記反強磁性層が形成されたデュアル型構造とすることが好ましい。
このような磁気抵抗効果型薄膜磁気素子とすることで、フリー磁性層／非磁性導電層／固定磁性層の３層の組合わせを２組有するものとなり、フリー磁性層／非磁性導電層／固定磁性層の３層の組合わせを１組しか有していない磁気抵抗効果型薄膜磁気素子と比較して、大きなΔＭＲ（抵抗変化率）が得られ、高密度記録化に対応できるものとすることができる。
【００３４】
また、上記のいずれかの構成の第２の発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記固定磁性層と上記フリー磁性層の少なくとも一方が、非磁性中間層を介して２つに分断され、分断された層どうしで磁化の向きが１８０度異なるフェリ磁性状態とされていることが好ましい。
少なくとも固定磁性層が非磁性中間層を介して２つに分断された磁気抵抗効果型薄膜磁気素子とした場合、２つに分断された固定磁性層のうち一方が他方の固定磁性層を適正な方向に固定する役割を担い、固定磁性層の状態を非常に安定した状態に保つことが可能となる。
一方、少なくともフリー磁性層が非磁性中間層を介して２つに分断された磁気抵抗効果型薄膜磁気素子とした場合、２つに分断されたフリー磁性層どうしの間に交換結合磁界が発生し、フェリ磁性状態とされ、磁気的な膜厚が減少するので外部磁界に対して感度よく反転できるものとなる。
【００３５】
また、上記のいずれかの構成の第２の発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記フリー磁性層とハードバイアス層との間のバイアス下地層の厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｎｍ以下とされる。
上記フリー磁性層とハードバイアス層との間のバイアス下地層の厚みを１ｎｍ以下と薄くすることにより、このバイアス下地層にピンホールがより生じ易くなるので、バイアス下地層が介在されている部分の上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層とは、バイアス下地層のピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、この磁気抵抗効果型薄膜磁気素子では、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記フリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善する効果が優れており、フリー磁性層の磁区制御をより一層良好に行うことができ、トラック幅の両端の再生波形の安定性をより向上できる。また、バイアス下地層が介在されている部分では、ハードバイアス層の高い保磁力が維持された状態とすることができるので好ましい。
【００３６】
また、上記のいずれかの構成の第２の発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記バイアス下地層は、先に述べた理由と同様の理由から体心立方構造の非磁性金属膜であることが好ましい。
また、上記構成の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記バイアス下地層は、先に述べた理由と同様の理由からＣｒ膜から構成されていることが好ましい。
また、上記のいずれかの構成の第２の発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子において、上記ハードバイアス層で挟まれた積層体の側面部分の傾斜角度を３０度以上することがバルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、上記傾斜角度を４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、上記傾斜角度を６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
【００３７】
さらにまた、上記課題は、上記の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子が備えられてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッドによって解決できる。
このような薄膜磁気へッドとすることで、フリー磁性層の磁区制御を良好に行うことができ、バルクハウゼンノイズの防止効果が優れ、トラック幅の両端の再生波形の安定性に優れた薄膜磁気へッドとすることができる。
【００３８】
さらにまた、上記課題は、基板上に、反強磁性層と、  この反強磁性層と接して形成  され、上記反強磁性層との交換結合磁界により磁化方向が固定される固定磁性層と、上記固定磁性層に非磁性導電層を介して形成されたフリー磁性層とを少なくとも有する積層膜を形成する工程と、
上記積層膜の上にリフトオフ用レジストを形成する工程と、
上記リフトオフ用レジストに覆われていない部分をイオンミリングにより除去し、略台形状の積層体を形成する工程と、
第１のターゲットと上記基板とが平行となる状態あるいは第１のターゲットと上記基板との角度を後工程のハードバイアス層を形成するときより傾斜が小さい状態で対向させ、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法により、上記積層体の両側の上記基板上にハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層を形成する工程と、
第２のターゲットと基板との角度を上記バイアス下地層を形成するときより傾斜させた状態で対向させ、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法により、バイアス下地層上に、上記フリー磁性層の磁化方向を上記固定磁性層の磁化方向と交差する方向に揃えるハードバイアス層を形成する工程と、
第３のターゲットと基板との角度を上記ハードバイアス層を形成するときより傾斜させた状態あるいは同じ角度で対向させ、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法により、上記ハードバイアス層上に導電層を形成する工程とを有することを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法（第３の発明）によって解決できる。
このような磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法によれば、上記積層体のフリー磁性層の両側で、かつこのフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触するハードバイアス層が形成され、各ハードバイアス層の下側にバイアス下地層が形成された本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子、あるいは、上記積層体のフリー磁性層の両側で、かつこのフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触するハードバイアス層が形成され、各ハードバイアス層の下側にバイアス下地層が形成され、しかもこれらバイアス下地層は上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層の間にまで延出している本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子、あるいは、上記積層体のフリー磁性層の両側で、かつこのフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触するハードバイアス層が形成され、各ハードバイアス層の下側にバイアス下地層が形成され、しかもこれらバイアス下地層は上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層の間にまで延出している本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造に好適に用いられる。
【００３９】
また、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法のバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと上記基板との角度を調整することにより、上記積層体の両側の上記基板上と上記フリー磁性層の両側の側面の一部にバイアス下地層を形成し、
上記バイアス下地層上にハードバイアス層を形成する工程において、各ハードバイアス層の積層体側の端部と上記積層体のフリー磁性層の各端部とが一部が接触するように上記バイアス下地層上にハードバイアス層を形成するようにしてもよい。
このような磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法によれば、上記積層体のフリー磁性層の両側で、かつこのフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触するハードバイアス層が形成され、各ハードバイアス層の下側にバイアス下地層が形成され、しかもこれらバイアス下地層は上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層の間にまで延出していることを特徴とする本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子を製造できる。
【００４０】
また、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法の上記バイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと上記基板との角度を調整することにより、上記積層体の両側の上記基板上と上記フリー磁性層の両側の側面にバイアス下地層を形成し、
上記バイアス下地層上にハードバイアス層を形成する工程において、上記積層体のフリー磁性層の両端部と各ハードバイアス層の上記積層体側の端部との間にバイアス下地層が介在されるようにハードバイアス層を形成するようにしてもよい。
このような磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法によれば、上記ハードバイアス層は、上記積層体のフリー磁性層の両側に形成され、上記フリー磁性層と各ハードバイアス層との間および各ハードバイアス層の下側にバイアス下地層が形成され、該バイアス下地層は上記フリー磁性層と上記ハードバイアス層との間の膜厚が上記ハードバイアス層の下側の膜厚よりも小さいことを特徴とする本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子を製造できる。
【００４１】
また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の上記略台形状の積層体を形成する工程において、積層体の側面部分の傾斜角度を３０度以上とすることが先に述べた理由と同様の理由から好ましい。
【００４２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子およびその製造方法をスピンバルブ型薄膜磁気素子およびその製造方法に適用した実施形態について、図面を参照して詳しく説明する。
［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子を模式図的に示した横断面図であり、図２は、図１に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子では、ハードディスクなどの磁気記録媒体の移動方向は、図示Ｚ方向であり、磁気記録媒体からの洩れ磁界の方向は、Ｙ方向である。
第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子は、  フリー磁性層、非磁性導電層、固定磁性層、反強磁性層の順に積層されたトップ型のシングルスピンバルブ型薄膜磁気素子の一種であり、上記固定磁性層が非磁性中間層を介して２層に分断されて形成されている。
【００４３】
すなわち、図１および図２に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子は、図示しない基板上に設けられ、下からＴａなどの非磁性材料で形成された下地層１０、ＮｉＦｅ膜２２、Ｃｏ膜２３  （ＮｉＦｅ膜２２とＣｏ膜２３を合わせてフリー磁性層２  １）、非磁性導電層２４、第２の固定磁性層２５、非磁性中間層２６、第１の固定磁性層２７、反強磁性層２８、および、Ｔａなどで形成された保護層２９の順で積層されている。
上記第１の固定磁性層２７および第２の固定磁性層２５は、例えば、Ｃｏ膜、ＮｉＦｅ合金、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金などで形成されている。
【００４４】
第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子において、反強磁性層２８は、ＰｔＭｎ合金で形成されていることが好ましい。ＰｔＭｎ合金は、従来から反強磁性層として使用されているＮｉＭｎ合金やＦｅＭｎ合金などに比べて耐食性に優れ、  しかもブロッキング温度が高く、交換結合磁界（交換異方性磁  界）も大きい。
また、上記ＰｔＭｎ合金に代えて、Ｘ−Ｍｎ（ただし、Ｘは、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓのうちから選択される１種の元素を示す。）の式で示される合金あるいはＸ’−Ｐｔ−Ｍｎ（ただし、Ｘ’は、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ａｕ、Ａｇ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒのうちから選択される１種または２種以上の元素を示す。）の式で示される合金で形成されていてもよい。
【００４５】
ところで、図１に示す第１の固定磁性層２７及び第２の固定磁性層２５に示されている矢印は、  それぞれの磁気モーメントの大きさ及びその方向を表してお  り、上記磁気モーメントの大きさは、飽和磁化（Ｍｓ）と膜厚（ｔ）とをかけた値で選定される。
【００４６】
図１および図２に示す第１の固定磁性層２７と第２の固定磁性層２５とは同じ材質で形成され、  しかも、第１の固定磁性層２７の膜厚ｔＰ１が、第２の固定磁性層２５の膜厚ｔＰ２よりも大きく形成されているために、第１の固定磁性層２  ７の方が第２の固定磁性層２５に比べ、磁気モーメントが大きくなっている。
また、第１の固定磁性層２７および第２の固定磁性層２５が異なる磁気モーメントを有することが望ましい。  したがって、第２の固定磁性層２５の膜厚ｔＰ２が第１の固定磁性層２７の膜厚ｔＰ１より厚く形成されていてもよい。
【００４７】
第１の固定磁性層２７は、図１および図２に示すように、図示Ｙ方向、すなわち記録媒体から離れる方向（ハイト方向）に磁化されており、非磁性中間層２６を介して対向する第２の固定磁性層２５の磁化は、上記第１の固定磁性層２７の磁化方向と反平行（フェリ状態）に磁化されている。
【００４８】
第１の固定磁性層２７は、反強磁性層２８に接して形成され、磁場中アニール（熱処理）を施すことにより、上記第１の固定磁性層２７と反強磁性層２８との界面にて交換結合磁界（交換異方性磁界）が発生し、例えば、図１および図２に示すように、上記第１の固定磁性層２７の磁化が、図示Ｙ方向に固定される。上記第１の固定磁性層２７の磁化が、図示Ｙ方向に固定されると、非磁性中間層２６を介して対向する第２の固定磁性層２５の磁化は、第１の固定磁性層２７の磁化と反平行の状態で固定される。
【００４９】
第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、交換結合磁界が大きいほど、第１の固定磁性層２７の磁化と第２の固定磁性層２５の磁化を安定して反平行状態に保つことが可能である。この例のスピンバルブ型薄膜磁気素子では、反強磁性層２８がＰｔＭｎ合金で形成されていることが好ましい。ＰｔＭｎ合金は、従来から反強磁性層として使用されているＮｉＭｎ合金やＦｅＭｎ合金などに比べて耐食性に優れ、しかもブロッキング温度が高く、交換結合磁界（交換異方性磁界）も大きい。
また、上記ＰｔＭｎ合金に代えて、Ｘ−Ｍｎ（ただし、Ｘは、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓのうちから選択される１種の元素を示す。）の式で示される合金あるいはＸ’−Ｐｔ−Ｍｎ（ただし、Ｘ’は、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ａｕ、Ａｇ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒのうちから選択される１種または２種以上の元素を示す。）の式で示される合金で形成されていてもよい。
【００５０】
また、上記ＰｔＭｎ合金および上記Ｘ−Ｍｎの式で示される合金において、ＰｔあるいはＸが３７〜６３原子％の範囲であることが望ましい。  より好ましく  は、４７〜５７原子％の範囲である。
さらにまた、Ｘ’−Ｐｔ−Ｍｎの式で示される合金において、Ｘ’＋Ｐｔが３７〜６３原子％の範囲であることが望ましい。より好ましくは、４７〜５７原子％の範囲である。さらに、上記Ｘ’−Ｐｔ−Ｍｎの式で示される合金としては、Ｘ’がＡｕ、Ａｇ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒのうちから選択される１種または２種以上の元素である場合は、０．２〜１０原子％の範囲であることが望ましく、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓのうちから選択される１種または２種以上の元素である場合は、０．２〜４０原子％の範囲であることが望ましい。
反強磁性層２８として、上記した適正な組成範囲の合金を使用し、これをアニール処理することで、大きな交換結合磁界を発生する反強磁性層２８を得ることができる。とくに、ＰｔＭｎ合金であれば、６４ｋＡ／ｍを越える交換結合磁界を有し、上記交換結合磁界を失うブロッキング温度が６５３Ｋ（３８０℃）と極めて高い優れた反強磁性層２８を得ることができる。
以上のように、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、第１の固定磁性層２７と第２の固定磁性層２５との膜厚比を適正な範囲内に収めることによって、交換結合磁界（Ｈｅｘ）を大きくでき、第１の固定磁性層２７と第２の固定磁性層２５の磁化を、熱的にも安定した反平行状態（フェリ状態）に保つことができ、しかも、良好なΔＲ／Ｒ（抵抗変化率）を得ることが可能である。
【００５１】
第１の固定磁性層２７と第２の固定磁性層２５との間に介在する非磁性中間層２６は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうちｌ種あるいは２種以上の合金で形成されていることが好ましい。
【００５２】
図１および図２に示すように、フリー磁性層２１の上には、Ｃｕなどで形成された非磁性導電層２４が形成され、さらに、上記非磁性導電層２４の上には、第２の固定磁性層２５が形成されている。図１および図２に示すように、フリー磁性層２１は、２層で形成されており、上記非磁性導電層２４に接する側に形成された符号２３の層は、Ｃｏ膜で形成されている。また、もう一方の層２２は、ＮｉＦｅ合金や、ＣｏＦｅ合金、あるいは、ＣｏＮｉＦｅ合金などで形成されている。なお、非磁性導電層２４に接する側にＣｏ膜の層２３を形成する理由は、Ｃｕにより形成された非磁性導電層２４との界面での金属元素等の拡散を防止でき、また、ΔＲ／Ｒ（抵抗変化率）を大きくできるからである。
【００５３】
また、図１および図２に示すように、下地層１０から保護層２９までの積層体ａ３の両側には、Ｃｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金などからなるハードバイアス層１３０、１３０と、これらの上側にＣｒ、Ｔａ、Ａｕなどからなる導電層１３１、１３１が形成されており、上記ハードバイアス層１３０、１３０が図示Ｘ１方向に磁化されていることによって、フリー磁性層２１の磁化が図示Ｘ１方向に揃えられている。また、ハードバイアス層１３０、１３０の下面（上記基板側の面）には、ハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層６、６が形成されている。
【００５４】
ハードバイアス層１３０、１３０は、フリー磁性層２１と同じ階層位置に配置され、フリー磁性層２１の膜厚方向にフリー磁性層２１の膜厚よりも大きな膜厚とされる。また、上記ハードバイアス層１３０、１３０の上面１３０Ａ、１３０Ａは、フリー磁性層２１の上面よりも基板から離れた位置に配置され、上記ハードバイアス層１３０、１３０の下面は、上記フリー磁性層２１の下面よりも基板側の位置に配置されている。ハードバイアス層１３０、１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃ、１３０Ｃは、フリー磁性層２１の側面ｂ３、ｂ３（フリー磁性層２１の両端部）と直接接触している。
【００５５】
また、上記ハードバイアス層１３０、１３０の上面１３０Ａ、１３０Ａと上記積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３との接合点ｃ３、ｃ３は、積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３の上端ｄ３、ｄ３より基板側の位置で、  かつ、上記ハードバイアス層１３  ０、１３０の最上位置より基板側の位置とされることが好ましい。
また、導電層１３１、１３１は、  ハードバイアス層１３０、１３０上に、積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３に接合されて形成されることが好ましい。
【００５６】
バイアス下地層６、６は、体心立方構造の非磁性金属膜であることが好ましい。上記体心立方構造の非磁性金属膜としては、Ｃｒ、Ｔｉ、ＭｏまたはＷ５０Ｍｏ５０のうちから選択されるいずれか１種以上を用いることが好ましく、この中でも特に、Ｃｒ膜を用いることが好ましい。
それは、各ハードバイアス層１３０をＣｏ−Ｐｔ系合金やＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ系合金などで構成したとき、ハードバイアス層１３０の結晶構造は、面心立方構造（ｆｃｃ）と稠密六方構造（ｈｃｐ）の混相となっているので、バイアス下地層６が体心立方構造（ｂｃｃ）で且つ（１００）配向の結晶構造を有するＣｒ膜から構成されていると、上記Ｃｒ膜の格子定数とＣｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金のｈｃｐの格子定数は近い値となっているために、上記Ｃｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金はｆｃｃ構造を形成しづらくｈｃｐ構造で形成されやすくなっている。このときｈｃｐのｃ軸（磁化容易軸）は、上記Ｃｏ−Ｐｔ合金層またはＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金層と上記Ｃｒ膜との境界面内に優先配向される。上記ｈｃｐはｆｃｃに比べてｃ軸方向に大きな磁気異方性を生じるため、ハードバイアス層１３０に磁界を与えたときの保磁力（Ｈｃ）は大きくなる。さらに、ｈｃｐのｃ軸はＣｏ−Ｐｔ合金層またはＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金層と上記Ｃｒ膜との境界面内で優先配向となっているため残留磁化（Ｂｒ）は増大し、残留磁化（Ｂｒ）／飽和磁束密度（Ｂｓ）で求められる角形比は大きな値になる。その結果、各ハードバイアス層１３０の永久磁石膜としての特性が上がり、各ハードバイアス層１３０から発生するバイアス磁界を増大させることが可能になり、フリー磁性層２１をより単磁区化し易くなるからである。
【００５７】
上記ハードバイアス層１３０、１３０で挟まれた積層体ａ３の側面部分の傾斜角度θを３０度以上とすることが図３のＢに示すようにこの積層体ａ３の両側に形成される各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃの厚みが厚くなり、また積層体ａ３側の端部１３０Ｃの厚みが厚くなるにつれて、各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部（先端部）１３０Ｃで下地のバイアス下地層６が形成されていない部分が少なくなる（各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃの結晶配向性が乱れた部分が少なくなる）ので、各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃで保磁力の低下している部分（図３の網目で示す部分）の体積が図３のＢに示すように少なくなり、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、傾斜角度θを４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、傾斜角度θを６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
【００５８】
積層体ａ３の側面部分の傾斜角度θが３０度未満であると、図３のＡに示すようにこの積層体ａ３の両側に形成される各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃが先窄まり状になって厚みが薄くなり、また積層体ａ３側の端部１３０Ｃが先窄まり状になるにつれて、各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部（先端部）１３０Ｃで下地のバイアス下地層６が形成されていない部分が多くなる（各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃの結晶配向性が乱れた分が多くなる）ので、各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃに保磁力の低下している部分（図３の網目で示す部分）の体積が多くなり、各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃの磁化状態が変化し、バイアス磁界が崩れて、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）が大きくなり、フリー磁性層に十分なバイアス磁界を安定して与えることができず、バルクハウゼンノイズが発生し易くなってしまう。
【００５９】
図１および図２におけるスピンバルブ型薄膜磁気素子では、上記導電層１３１、１３１からフリー磁性層２１、非磁性導電層２４、及び第２の固定磁性層２５にセンス電流が与えられる。記録媒体から図１および図２に示す図示Ｙ方向に磁界が与えられると、フリー磁性層２１の磁化は、図示Ｘ１方向からＹ方向に変動し、このときの非磁性導電層２４とフリー磁性層２１との界面、及び非磁性導電層２４と第２の固定磁性層２５との界面でスピンに依存した伝導電子の散乱が起こることにより、電気抵抗が変化し、記録媒体からの洩れ磁界が検出される。
【００６０】
第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子では、ハードバイアス層１３０、１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃ、１３０Ｃとフリー磁性層２１の両端部とは直接接触しているので、フリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体となるので、フリー磁性層２１の両端部に反磁界が生じず、ハードバイアス層１３０、１３０からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層２１に印加でき、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れる（バックリング現象が生じる）のを改善でき、フリー磁性層２１の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上できる。それは、フリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０との交換相互作用は、磁性原子のスピン間で働く相互作用で、磁化の方向を平行にしようとする非常に強い相互作用であるので、この強い相互作用により上記反磁界の起因となるフリー磁性層２１の両端部に蓄積された磁荷が有効に除去されるので、フリー磁性層２１の両端部に反磁界が生じない。また、ハードバイアス層１３０、１３０の下面には、ハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層６、６が形成されているので、バイアス下地層６、６上に形成されたハードバイアス層１３０、１３０の結晶配向性が良好となり、保磁力および角形比が十分大きく、フリー磁性層２１の単磁区化に必要なバイアス磁界を十分大きくすることができ、バルクハウゼンノイズの発生を防止できる。
【００６１】
また、上述のようにフリー磁性層２１の両端部に反磁界が生じていないので、このスピンバルブ型薄膜磁気素子が備えられる読出ヘッドの狭トラック化が進んでもバックリング現象が起こらないので、このバックリング現象に起因するトラック幅Ｔｗの両端の再生波形異常を防止でき、再生ヘッド全体としての再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合を低減できる。
また、ハードバイアス層１３０、１３０の残留磁化と膜厚の積をある程度小さくしても、上記交換相互作用によりフリー磁性層２１の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層１３０からのバイアス磁界を有効にフリー磁性層２１に印加でき、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を確保できるので、例えば、ハードバイアス層１３０、１３０の厚みを薄くして縦バイアス磁界を小さくして、上記積層体ａ３の側部付近の再生出力が低くなる領域を狭くして、中央部付近の再生出力が高い領域を広くし、再生出力を高めることができる。
【００６２】
なお、第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、フリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層１３０、１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃ、１３０Ｃとフリー磁性層２１の両端部とが直接接触している場合について説明したが、各ハードバイアス層１３０の端部１３０Ｃとフリー磁性層２１の端部とは、少なくとも一部が直接接触していればよいので、バイアス下地層６、６は、フリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０の間にまで延出した図２の破線で示すような延出部６ｅがあってもよい。
【００６３】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層６、６がフリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０の間にまで延出していても、各ハードバイアス層１３０とフリー磁性層２１とは少なくとも一部が直接接触しているので、フリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０とが交換相互作用により磁気的に連続体となるので、反磁界の起因となるフリー磁性層２１の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、フリー磁性層２１の両端部に反磁界が生じず、また、バイアス下地層６、６がフリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０の間に延出していない場合と比べて各ハードバイアス層１３０からフリー磁性層２１に印加できるバイアス磁界の効率が下がるものの、各ハードバイアス層１３０からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層２１に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層２１の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
【００６４】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、各バイアス下地層６の延出部６ｅの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｎｍ以下とされる。
各バイアス下地層６の延出部６ｅの厚みを１ｎｍ以下と薄くすることにより、各バイアス下地層６にピンホールが生じ易くなるので、バイアス下地層６、６の延出部６ｅ、６ｅが介在されている部分のフリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０とは、バイアス下地層６、６のピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、このスピンバルブ型薄膜磁気素子では、上記の各ハードバイアス層１３０とフリー磁性層２１とが直接接触している部分だけでなくバイアス下地層６、６の延出部６ｅ、６ｅが介在されている部分も交換相互作用により磁気的に連続体となり、また、交換相互作用が働く範囲が広くなるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層２１の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、フリー磁性層２１の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層１３０からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層２１に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善する効果が優れており、フリー磁性層２１の磁区制御をより一層良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性をより向上できる。
【００６５】
また、第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、フリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層１３０、１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃ、１３０Ｃとフリー磁性層２１の両端部とが直接接触している場合について説明したが、バイアス下地層６、６は、  図２の破線で示すようにフリー磁性層２１とハードバイアス層１３０、１３０との間にも形成されていてもよく、その場合、バイアス下地層６、６はフリー磁性層２１とハードバイアス層１３０、１３０との間の部分６ｆ、６ｆの膜厚（ここでの膜厚は、ＭＲヘッドのトラック幅方向に沿った方向の厚みである）がハードバイアス層１３０、１３０の下側の部分６ｇ、６ｇの膜厚（ここでの膜厚は、積層体ａ３の高さ方向に沿った方向の厚みである）よりも小さくされている。
【００６６】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、フリー磁性層２１とハードバイアス層１３０、１３０との間の部分６ｆ、６ｆ（バイアス下地層６、６）の膜厚を上記ハードバイアス層の下側の部分６ｇ、６ｇ（バイアス下地層６、６）の膜厚よりも薄くしたしたことにより、フリー磁性層２１とハードバイアス層１３０、１３０との間に介在されたバイアス下地層６、６の部分にピンホールが生じるので、バイアス下地層６、６が介在されている部分の上記フリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０とは、上記の部分６ｆ、６ｆに生じたピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、このスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層６、６が介在されている部分のフリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０が交換相互作用により磁気的に連続体となるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記フリー磁性層２１の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層１３０からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層２１に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層２１の磁区制御をより良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
【００６７】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、フリー磁性層２１とハードバイアス層１３０、１３０との間に介在されているバイアス下地層６、６の部分６ｆ、６ｆの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｎｍ以下とされる。
各バイアス下地層６の部分６ｆの厚みを１ｎｍ以下と薄くすることにより、この部分６ｆにピンホールがより生じ易くなるので、バイアス下地層６、６が介在されている部分のフリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０とは、各バイアス下地層６の部分６ｆに生じたピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、このスピンバルブ型薄膜磁気素子では、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、フリー磁性層２１の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層１３０からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層２１に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善する効果が優れており、フリー磁性層２１の磁区制御をより一層良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性をより向上できる。
【００６８】
次に、図４〜図８を参照して、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法を図１乃至図２に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法に適用した実施形態を詳しく説明する。
まず、図４に示すように、基板Ｋ上に、積層体ａ３とされる下地層１０、ＮｉＦｅ膜２２、Ｃｏ膜２３（これらＮｉＦｅ膜２２とＣｏ膜２３からフリー磁性層２１が形成されている。）、非磁性導電層２４、第２の固定磁性層２５、非磁性中間層２６、第１の固定磁性層２７、反強磁性層２８、保護層２９を順次成膜して積層膜Ｍを形成したのち、上記積層膜Ｍ上にリフトオフ用レジスト９を形成する。次に、上記リフトオフ用レジスト９に覆われていない部分を、イオンミリングにより除去して、図５に示すように側面ｂ３、ｂ３とされる傾斜面を形成して等脚台形状の積層体ａ３を形成する。
ここで等脚台形状の積層体ａ３を形成する際、側面ｂ３の傾斜角度θが３０度以上となるようにすることが、後工程でこの積層体ａ３の両側にハードバイアス層１３０、１３０を形成したとき、各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部（先端部）１３０Ｃの厚みを厚くすることができ、また、各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃに下地のバイアス下地層６が形成されていない部分が多くなるのを改善でき、各ハードバイアス層１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃの保磁力の低下している部分の体積が少なくなり、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、傾斜角度θを４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、傾斜角度θを６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
この製造方法において、リフトオフ用レジスト９は、二層レジスト法、イメージリバース法などによって形成されることが好ましい。
【００６９】
ついで、積層体ａ３の両側の基板Ｋ上に、バイアス下地層６、６を図６に示すように後工程で形成するハードバイアス層１３０、１３０の下面側に配置されるように形成する。このとき、バイアス下地層６、６の上面は、フリー磁性層２１の下面よりも基板Ｋ側の位置に（すなわち、図６では下側に）配置されている。
ここでのバイアス下地層６、６の形成は、スパッタ法などによって行うことができ、バイアス下地層６、６を後工程で形成されるハードバイアス層１３０、１３０の下面側に形成するために、ターゲット（第１のターゲット）と基板Ｋとが平行に近くなるように対向させるとともに、スパッタ粒子ｓ１の角度分布が狭く、直進性のよい方法により形成することが好ましい。
バイアス下地層６、６は、図６に示すように、スパッタされたスパッタ粒子のうち、リフトオフ用レジスト９によって遮られないスパッタ粒子ｓ１によって形成される。このとき、スパッタされたスパッタ粒子ｓ１の角度分布が狭く、直進性がよいと、リフトオフ用レジスト９の端部９ａ、９ａの真下よりも内側に入り込むスパッタ粒子ｓ１が少ない。
【００７０】
これにより、積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３に堆積するスパッタ粒子ｓ１が殆どなく、積層体ａ３の両側の基板Ｋの上面にスパッタ粒子ｓ１を堆積することができる。
したがって、バイアス下地層６、６の上面と、積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３との接合点ｅ３、ｅ３は、リフトオフ用レジスト９の端部９ａ、９ａの位置と、スパッタ粒子ｓ１の角度分布および直進性によって決定される。
このバイアス下地層６、６の形成は、具体的には、例えば、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法などによって好ましく行われる。
【００７１】
ついで、積層体ａ３の両側で、バイアス下地層６、６の上面にハードバイアス層１３０、１３０を、図７に示すように、フリー磁性層２１と同じ階層位置に配置されるように形成し、かつ、ハードバイアス層１３０、１３０の上面１３０Ａ、１３０Ａを、上記積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３の上端ｄ３、ｄ３より下側の位置で上記積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３と接合されるように形成する。
このとき、ハードバイアス層１３０、１３０は、フリー磁性層２１の膜厚方向にフリー磁性層２１の膜厚よりも大きな膜厚とされることが望ましい。また、上記ハードバイアス層１３０、１３０の上面１３０Ａ、１３０Ａは、上記フリー磁性層２１の上面２１Ａよりも基板Ｋから離れた位置に（すなわち、図７では上側に）配置され、ハードバイアス層１３０、１３０の下面は、上記フリー磁性層２１の下面よりも基板Ｋ側の位置に（すなわち、図７では下側に）配置されている。また、ハードバイアス層１３０、１３０の積層体ａ３側の端部１３０Ｃ、１３０Ｃは、フリー磁性層２１の側面ｂ３、ｂ３（フリー磁性層２１の両端部）と直接接触している。
また、ハードバイアス層１３０、１３０の上面１３０Ａ、１３０Ａと上記積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３との接合点ｃ３、ｃ３は、積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３の上端ｄ３、ｄ３より基板Ｋ側の位置で、  かつ、上記ハードバイアス層１３０、１３０の最上位置より基板Ｋ側の位置とされることが好ましい。
【００７２】
ここでのハードバイアス層１３０、１３０の形成は、スパッタ法などによって行うことができ、上記ハードバイアス層１３０、１３０をフリー磁性層２１とほぼ平行で、かつバイアス下地層６、６の上面側で、さらにハードバイアス層１３０、１３０の端部１３０Ｃ、１３０Ｃがフリー磁性層２１の両端に接触するように形成するために、ターゲット（第２のターゲット）と基板Ｋとの角度がバイアス下地層を形成するときより傾斜させた状態で対向させるとともに、スパッタ粒子ｓ１ａの角度分布がバイアス下地層を形成したときより広く、直進性のよい方法により形成することが好ましい。
上記ハードバイアス層１３０、１３０は、図７に示すように、スパッタされたスパッタ粒子のうち、リフトオフ用レジスト９によって遮られないスパッタ粒子ｓ１ａによって形成される。  このとき、スパッタされたスパッタ粒子ｓ１ａの角度分布がバイアス下地層を形成するときより広く、直進性がよいと、リフトオフ用レジスト９の端部９ａ、９ａの真下よりも内側に入り込むスパッタ粒子ｓ１が少なすぎることがなく、多すぎることがない。
【００７３】
これにより、ハードバイアス層１３０、１３０の上面１３０Ａ、１３０Ａと上記積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３との接合点ｃ３、ｃ３は、上記ハードバイアス層１３０、１３０の最上位置  （図７では上面１３０Ａ）より下側の位置とされる。また、上記接合点ｃ３、ｃ３は、上記積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３の上端ｄ３、ｄ３より下側の位置とされる。また、ハードバイアス層１３０、１３０の端部１３０Ｃ、１３０Ｃが積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３（特に、フリー磁性層２１の両端）に直接接触する。
したがって、上記接合点ｃ３、ｃ３の位置は、リフトオフ用レジスト９の端部９ａ、９ａの位置と、スパッタ粒子ｓ１ａの角度分布および直進性によって決定される。
また、バイアス下地層６、６は、ハードバイアス層１３０、１３０の結晶配向性を良好にすることができる先に述べたような体心立方構造の非磁性金属膜等から形成されているので、このようなハードバイアス下地層６、６上にハードバイアス層１３０、１３０を形成すると、結晶配向性が良好で、保磁力及び角形比をが十分大きいバイアス層１３０、１３０を形成できる。
このハードバイアス層１３０、１３０の形成は、具体的には、例えば、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法などによって好ましく行われる。
【００７４】
続いて、図８に示すように、ハードバイアス層６、６の上に、積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３に接合されるように導電層１３１、１３１を形成する。
導電層１３１、１３１の形成は、積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３に接するように形成するため、  例えば、ターゲット（第３のターゲット）と基板Ｋとの角度をハードバイアス層を形成するときより傾斜させた状態で対向させて、イオンビームスパッタ法、ロングスロースパッタ法、コリメーションスパッタ法のいずれかまたはそれらを組み合わせたスパッタ法などによって好ましく行われる。また、従来のスパッタ法などの角度分布の広いスパッタ法などによっても好ましく形成される。
導電層１３１、１３１は、  図８に示すように、スパッタされたスパッタ粒子のう  ち、リフトオフ用レジスト９によって遮られないスパッタ粒子ｓ２によって形成される。このとき、ターゲットと基板Ｋとの角度をハードバイアス層を形成したときよりも傾斜させた状態で対向させてスパッタすると、または、スパッタされたスパッタ粒子ｓ２の角度分布がハードバイアス層を形成したときより広いと、リフトオフ用レジスト９の端部９ａ、９ａの真下よりも内側に、多くのスパッタ粒子ｓ２が入り込む。これにより、導電層１３１、１３１は、積層体ａ３の側面ｂ３、ｂ３に接合されて形成される。
続いて、上記リフトオフ用レジスト９を除去することにより、図１及び図２に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子が得られる。
【００７５】
なお、フリー磁性層２１とこれの両側のハードバイアス層１３０、１３０の間にバイアス下地層の延出部６ｅ、６ｅが形成されたスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと上記基板Ｋとの角度を調整する（角度を大きくする）ことにより、積層体ａ３の両側の基板Ｋ上と、積層体３ａの両側の側面ｂ３、ｂ３の一部（フリー磁性層２１の両端の一部）にバイアス下地層６、６を形成する以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【００７６】
また、フリー磁性層２１と各ハードバイアス層１３０との間および各ハードバイアス層１３０の下側にバイアス下地層６が形成され、該バイアス下地層６はフリー磁性層２１とハードバイアス層１３０との間の部分６ｆの膜厚がハードバイアス層１３０の下側の部分６ｇの膜厚よりも小さいスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと基板Ｋとの角度を調整する（角度をさらに大きくする）ことにより、積層体ａ３の両側の基板Ｋ上と、積層体ａ３の両側の側面（フリー磁性層の両端）に、バイアス下地層６、６を形成すること以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【００７７】
［第２の実施形態］
図９は、本発明の第２の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子を模式図的に示した横断面図であり、図１０は、図９に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
第２の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子は、フリー磁性層を中心として、その上下に非磁性導電層、固定磁性層、及び反強磁性層が１層ずつ形成された、いわゆるデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子の一種である。
このデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子では、シングルスピンバルブ型薄膜磁気素子に比べて大きなΔＲ／Ｒを期待でき、高密度記録化に対応できるものとなっている。
【００７８】
図９および図１０に示す第２実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子は、下から下地層３０、反強磁性層（下）３１、第１の固定磁性層（下）３２、非磁性中問層（下）３３、第２の固定磁性層（下）３４、非磁性導電層３５、フリー磁性層３６（符号３７，３９はＣｏ膜、符号３８はＮｉＦｅ合金膜）、非磁性導電層４０、第２の固定磁性層（上）４１、非磁性中間層（上）４２、第１の固定磁性層（上）４３、反強磁性層（上）４４、及び保護層４５の順で積層されている。
また、図１０に示すように、下地層３０から保護層４５までの積層体ａ４は、その側面が削られて側面ｂ４、ｂ４とされている。積層体ａ４の反強磁性層（下）３１の下部とこれの下層の下地層３０は、これらの上側の第１の固定磁性層３１、非磁性中間層３２、第２の固定磁性層３３等よりもさらに両側に延びている。
上記積層体ａ４の両側の反強磁性層３１上には、ハードバイアス層６２、６２が形成され、各ハードバイアス層６２の上側には導電層６３が形成されており、各ハードバイアス層６２の下面には、ハードバイアス層６２の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層６６、６６が形成されている。各バイアス下地層６６は、第１の実施形態のバイアス下地層６を構成する材料と同様の体心立方構造の非磁性金属膜から構成されている。ここでのハードバイアス層６２、６２は、Ｃｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金などで形成されている。ハードバイアス層６２、６２が図示Ｘ１方向に磁化されていることによって、フリー磁性層３６の磁化が図示Ｘ１方向に揃えられている。
また、導電層６３、６３は、例えば、Ｃｒ、Ｔａ、Ａｕなどで形成されている。
【００７９】
この第２の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子において、上記反強磁性層３１、４４は、ＰｔＭｎ合金で形成されていることが好ましい。  ＰｔＭｎ合金  は、従来から反強磁性層として使用されているＮｉＭｎ合金やＦｅＭｎ合金などに比べて耐食性に優れ、しかもブロッキング温度が高く、交換結合磁界（交換異方性磁界）も大きい。
また、上記ＰｔＭｎ合金に代えて、Ｘ−Ｍｎ（ただし、Ｘは、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓのうちから選択される１種の元素を示す。）の式で示される合金あるいはＸ’−Ｐｔ−Ｍｎ（ただし、Ｘ’は、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ａｕ、Ａｇ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒのうちから選択される１種または２種以上の元素を示す。）の式で示される合金で形成されていてもよい。
【００８０】
また、図９および図１０に示す第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３と第２の固定磁性層、（下）３４，（上）４１との間に介在する非磁性中間層３３，４２は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうち１種あるいは２種以上の合金で形成されていることが好ましい。
【００８１】
上記ハードバイアス層６２、６２は、上記フリー磁性層３６と同じ階層位置に配置され、上記フリー磁性層３６の膜厚方向に上記フリー磁性層３６の膜厚よりも大きな膜厚とされる。また、上記ハードバイアス層６２、６２の上面６２Ａ、６２Ａは、上記フリー磁性層３６の上面よりも基板から離れた位置に配置され、上記ハードバイアス層６２、６２の下面は、上記フリー磁性層３６の下面よりも基板側の位置に配置されている。ハードバイアス層６２、６２の積層体ａ４側の端部６２Ｃ、６２Ｃは、フリー磁性層３６の側面ｂ４、ｂ４（フリー磁性層２１の両端部）と直接接触している。
【００８２】
また、上記ハードバイアス層６２、６２の上面６２Ａ、６２Ａと上記積層体ａ４の側面ｂ４、ｂ４との接合点ｃ４、ｃ４は、積層体ａ４の側面ｂ４、ｂ４の上端ｄ４、ｄ４より基板側の位置で、かつ、上記ハードバイアス層６２、６２の最上位置より基板側の位置とされることが好ましい。
また、上記導電層６３、６３は、上記ハードバイアス層６２、６２上に、上記積層体ａ４の側面ｂ４、ｂ４に接合されて形成されることが好ましい。
【００８３】
ハードバイアス層６２、６２で挟まれた積層体ａ４の側面部分の傾斜角度θを３０度以上とすることがこの積層体ａ４の両側に形成される各ハードバイアス層６２の積層体ａ４側の端部６２Ｃの厚みが厚くなり、また積層体ａ４側の端部６２Ｃの厚みが厚くなるにつれて、各ハードバイアス層６２の積層体ａ４側の端部（先端部）６２Ｃで下地のバイアス下地層６６が形成されていない部分が少なくなる（各ハードバイアス層６２の積層体ａ４側の端部６６ｃの結晶配向性が乱れた部分が少なくなる）ので、各ハードバイアス層６２の積層体ａ４側の端部６６ｃで保磁力の低下している部分の体積が少なくなり、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、傾斜角度θを４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、傾斜角度θを６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
【００８４】
図９および図１０に示すように、フリー磁性層３６よりも下側に形成された第１の固定磁性層（下）３２の膜厚ＴＰ１は、  非磁性中間層３３を介して形成された第２の固定磁性層（下）３４の膜厚ｔＰ２に比べて、薄く形成されている。一  方、フリー磁性層３６よりも上側に形成されている第１の固定磁性層（上）４３の膜厚ｔＰ１は、  非磁性中間層４２を介して形成された第２の固定磁性層４１（上）の膜厚ｔＰ２に比べ厚く形成されている。そして、第１の固定磁性層（下）  ３２，（上）４３の磁化は、共に図示Ｙ方向と反対方向に磁化されており、第２の固定磁性層（下）３４，（上）４１の磁化は、図示Ｙ方向に磁化された状態になっている。
【００８５】
図１および図２に示す本発明の第１の実施形態のシングルスピンバルブ型簿膜磁気素子の場合にあっては、  第１の固定磁性層のＭｓ・ｔＰ１と第２の固定磁性層のＭｓ・ｔＰ２が異なるように膜厚などを調節し、第１の固定磁性層の磁化の向き  は、図示Ｙ方向あるいは図示Ｙ方向と反対方向のどちらでもよい。
しかし、  図９および図１０に示すデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子にあっては、第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３の磁化が、共に同じ方向に向くようにする必要性がある。そのため、本発明では、第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３の磁気モーメントＭｓ・ｔＰ１と、第２の固定磁性層（下）３４，（  上）４１の磁気モーメントＭｓ・ｔＰ２との調整、及び熱処理中に印加する磁場  の方向及びその大きさを適正に調節することで、デュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子として満足に機能させることができる。
【００８６】
ここで、第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３の磁化を共に同じ方向に向けておくのは、上記第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３の磁化と反平行になる第２の固定磁性層（下）３４，（上）４１の磁化を、共に同じ方向に向けておくためであり、その理由について以下に説明する。
【００８７】
前述したように、スピンバルブ型薄膜磁気素子のΔＲ／Ｒは、固定磁性層の固定磁化とフリー磁性層の変動磁化との関係によって得られるものである。本発明のように、固定磁性層が第１の固定磁性層と第２の固定磁性層の２層に分断された場合にあっては、上記ΔＲ／Ｒに直接関与する固定磁性層の層は、第２の固定磁性層であり、第１の固定磁性層は、上記第２の固定磁性層の磁化を一定方向に固定しておくためのいわば補助的な役割を担っている。
【００８８】
仮に図９および図１０に示す第２の固定磁性層（下）３４，（上）４１の磁化が互いに反対方向に固定されているとすると、例えば、第２の固定磁性層（上）４１の固定磁化とフリー磁性層３６の変動磁化との関係では、抵抗が大きくなっても、第２の固定磁性層（下）３４の固定磁化とフリー磁性層３６の変動磁化との関係では、抵抗が非常に小さくなってしまい、結局、デュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子におけるΔＲ／Ｒは、図１および図２に示す本発明の第１の実施形態のシングルスピンバルブ型簿膜磁気素子のΔＲ／Ｒよりも小さくなってしまう。
【００８９】
この問題は、固定磁性層を非磁性中間層を介して２層に分断したデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子に限ったことではなく、シングルスピンバルブ型薄膜磁気素子に比ベΔＲ／Ｒを大きくでき、大きな出力を得ることができるデュアルスピンパルブ型薄膜磁気素子の特性を発揮させるには、フリー磁性層の上下に形成される固定磁性層を共に同じ方向に固定しておく必要がある。
【００９０】
ところで、本発明では、図９および図１０に示すように、フリー磁性層３６よりも下側に形成された固定磁性層は、第２の固定磁性層（下）３４のＭｓ・ｔＰ２の方が、  第１の固定磁性層（下）３２のＭｓ・ｔＰ１に比べて大きくなってお  り、Ｍｓ・ｔＰ２の大きい第２の固定磁性層（下）３４の磁化が、図示Ｙ方向に  固定されている。そして、第２の固定磁性層（下）３４のＭｓ・ｔＰ２と、第１  の固定磁性層（下）３２のＭｓ・ｔＰ１とを足し合わせた、いわゆる合成磁気モ  ーメントの方向は、Ｍｓ・ｔＰ２の大きい第２の固定磁性層（下）３４の磁気モーメン  トの方向に支配され、図示Ｙ方向に向けられている。
【００９１】
一方、フリー磁性層３６よりも上側に形成された固定磁性層は、第１の固定磁性層（上）４３のＭｓ・ｔＰ１の方が、  第２の固定磁性層（上）４１のＭｓ・ｔＰ２に比べて大きくなっており、Ｍｓ・ｔＰ１の大きい第１の固定磁性層（上）４３の磁化が、図示Ｙ方向と反対方向に固定されている。第１の固定磁性層（上）４３のＭｓ・ｔＰ１と、第２の固定磁性層（上）４１のＭｓ・ｔＰ２とを足した、いわゆる合成磁気モーメントの方向は、第１の固定磁性層（上）４３のＭｓ・ｔＰ１の方向に支配され、図示Ｙ方向と反対方向に向けられている。
【００９２】
すなわち、図９および図１０に示すデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子では、フリー磁性層３６の上下で、  第１の固定磁性層のＭｓ・ｔＰ１と第２の固定磁性層のＭｓ・ｔＰ２を足して求めることができる合成磁気モーメントの方向が、反対  方向になっているのである。このため、フリー磁性層３６よりも下側で形成される図示Ｙ方向に向けられた合成磁気モーメントと、上記フリー磁性層３６よりも上側で形成される図示Ｙ方向と反対方向に向けられた合成磁気モーメントとが、図示左周りの磁界を形成している。
従って、上記合成磁気モーメントによって形成される磁界により、第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３の磁化と第２の固定磁性層（下）３４，（上）４１の磁化とがさらに安定したフェリ状態を保つことが可能である。
【００９３】
更に、センス電流１１４は、主に比抵抗の小さい非磁性導電層３５，４０を中心にして流れ、センス電流１１４を流すことにより、右ネジの法則によってセンス電流磁界が形成されることになるが、センス電流１１４を図９の方向に流すことにより、フリー磁性層３６の下側に形成された第１の固定磁性層（下）３２／非磁性中間層（下）３３／第２の固定磁性層（下）３４の場所にセンス電流が作るセンス電流磁界の方向を、上記第１の固定磁性層（下）３２／非磁性中間層（下）３３／第２の固定磁性層（下）３４の合成磁気モーメントの方向と一致させることができ、さらに、フリー磁性層３６よりも上側に形成された第１の固定磁性層（上）４３／非磁性中間層（上）４２／第２の固定磁性層（上）４１の場所にセンス電流が作るセンス電流磁界を、上記第１の固定磁性層（上）４３／非磁性中間層（上）４２／第２の固定磁性層（上）４１の合成磁気モーメントの方向と一致させることができる。
【００９４】
センス電流磁界の方向と合成磁気モーメントの方向を一致させることのメリットに関しては、簡単に言えば、上記固定磁性層の熱的安定性を高めることができることと、大きなセンス電流を流せることができるので、再生出力を向上できるという、非常に大きいメリットがある。
センス電流磁界と合成磁気モーメントの方向に関するこれらの関係は、フリー磁性層３６の上下に形成される固定磁性層の合成磁気モーメントが、図示左周りの磁界を形成しているからである。
【００９５】
通常、ハードディスクなどの装置内の環境温度と、素子を流れるセンス電流によるジュール熱とにより、素子の温度は局所的には、最高で約２００℃（４７３Ｋ）程度まで上昇し、さらに今後、記録媒体の回転数の増大による環境温度の上昇や、センス電流の増大によるジュール熱の増大などによって、素子温度がさらに上昇する傾向にある。このように素子温度が上昇すると、交換結合磁界は低下するが、本発明によれば、合成磁気モーメントで形成される磁界と、センス電流磁界により、熱的にも安定して第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３の磁化と第２の固定磁性層（下）３４，（上）４１の磁化とをフェリ状態に保つことができる。
【００９６】
また、第２の実施の形態では、フリー磁性層３６よりも下側に形成された第１の固定磁性層（下）３２のＭｓ・ｔＰ１を、第２の固定磁性層３４のＭｓ・ｔＰ２よりも大きくし、且つ、上記フリー磁性層３６よりも上側に形成された第１の固定磁性層（上）４３のＭｓ・ｔＰ１を第２の固定磁性層（上）４１のＭｓ・ｔＰ２よりも小さくしてもよい。
この場合においても、第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３の磁化を得たい方向、すなわち図示Ｙ方向あるいは図示Ｙ方向と反対方向に４００ｋＡ／ｍ（５ｋＯｅ）以上の磁界を印加することによって、フリー磁性層３６の上下に形成された第２の固定磁性層（下）３４，（上）４１を同じ方向に向けて固定でき、しかも、図示右回りのあるいは左回りの合成磁気モーメントによる磁界を形成できる。
【００９７】
以上、第１乃至第２実施形態に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子によれば、固定磁性層を非磁性中間層を介して第１の固定磁性層と第２の固定磁性層との２層に分断し、この２層の固定磁性層間に発生する交換結合磁界（ＲＫＫＹ相互作用）によって上記２層の固定磁性層の磁化を反平行状態（フェリ状態）にすることにより、熱的にも安定した固定磁性層の磁化状態を保つことができる。
特に本実施の形態では、反強磁性層としてプロッキング温度が非常に高く、また第１の固定磁性層との界面で大きい交換結合磁界（交換異方性磁界）を発生するＰｔＭｎ合金、Ｘ−Ｍｎの式で示される合金、Ｘ’−Ｐｔ−Ｍｎの式で示される合金から選ばれる合金を使用することにより、第１の固定磁性層と第２の固定磁性層との磁化状態を、より熱的安定性に優れたものにできる。
【００９８】
さらに本実施の形態では、  第１の固定磁性層のＭｓ・ｔＰ１と第２の固定磁性層のＭｓ・ｔＰ２とを異なる値で形成し、さらに熱処理中の印加磁場の大きさ及  びその方向を適正に調節することによって、上記第１の固定磁性層（及び第２の固定磁性層）の磁化を得たい方向に磁化させることが可能である。
【００９９】
特に図９および図１０に示すデユアルスピンバルブ型薄膜磁気素子にあっては、第１の固定磁性層（下）３２，（上）４３のＭｓ・ｔＰ１と第２の固定磁性層（下）３４，（上）４１のＭｓ・ｔＰ２を適正に調節し、  さらに熱処理中の印加磁場の大きさ及びその方向を適正に調節することによって、ΔＲ／Ｒに関与するフリー磁性層３６の上下に形成された２つの第２の固定磁性層（下）３４，（上）４１の磁化を共に同じ方向に固定でき、且つフリー磁性層３６の上下に形成される合成磁気モーメントを互いに反対方向に形成できることによって、上記合成磁気モーメントによる磁界の形成、及び、上記合成磁気モーメントによる磁界とセンス電流磁界との方向関係の形成ができ、固定磁性層の磁化の熱的安定性をさらに向上させることが可能である。
【０１００】
第２の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、ハードバイアス層６２、６２の積層体ａ４側の端部６２Ｃ、６２Ｃとフリー磁性層３６の両端部とは直接接触しているので、フリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体となるので、フリー磁性層３６の両端部に反磁界が生じず、ハードバイアス層６２、６２からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層３６に印加でき、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れる（バックリング現象が生じる）のを改善でき、フリー磁性層３６の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上できる。
【０１０１】
また、上述のようにフリー磁性層３６の両端部に反磁界が生じていないので、このスピンバルブ型薄膜磁気素子が備えられる読出ヘッドの狭トラック化が進んでもバックリング現象が起こらないので、このバックリング現象に起因するトラック幅Ｔｗの両端の再生波形異常を防止でき、再生ヘッド全体としての再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合を低減できる。
また、ハードバイアス層６２、６２の残留磁化×膜厚（残留磁化と膜厚との積）をある程度小さくしても、上記交換相互作用によりフリー磁性層３６の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層６２からのバイアス磁界を有効にフリー磁性層３６に印加でき、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を確保できるので、例えば、ハードバイアス層６２、６２の厚みを薄くして縦バイアス磁界を小さくして、上記積層体ａ４の側部付近の再生出力が低くなる領域を狭くして、中央部付近の再生出力が高い領域を広くし、再生出力を高めることができる。
【０１０２】
なお、第２の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、フリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層６２、６２の積層体ａ４側の端部６２Ｃ、６２Ｃとフリー磁性層３６の両端部とが直接接触している場合について説明したが、各ハードバイアス層６２の端部６２Ｃとフリー磁性層３６の端部とは、少なくとも一部が直接接触していればよいので、バイアス下地層６６、６６は、フリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２の間にまで延出した図１０の破線で示すような延出部６６ｅがあってもよい。
【０１０３】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層６６、６６がフリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２の間にまで延出していても、各ハードバイアス層６２とフリー磁性層３６とは少なくとも一部が直接接触しているので、フリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２とが交換相互作用により磁気的に連続体となるので、反磁界の起因となるフリー磁性層３６の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、フリー磁性層３６の両端部に反磁界が生じず、また、バイアス下地層６６、６６がフリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２の間に延出していない場合と比べて各ハードバイアス層６２からフリー磁性層３６に印加できるバイアス磁界の効率が下がるものの、各ハードバイアス層６２からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層３６に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層３６の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
【０１０４】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、各バイアス下地層６６の延出部６６ｅの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｎｍ以下とされる。
【０１０５】
また、第２の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、フリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層６２、６２の積層体ａ４側の端部６２Ｃ、６２Ｃとフリー磁性層３６の両端部とが直接接触している場合について説明したが、バイアス下地層６６、６６は、  図１０の破線で示すようにフリー磁性層３６とハードバイアス層６２、６２との間にも形成されていてもよく、その場合、バイアス下地層６６、６６はフリー磁性層３６とハードバイアス層６２、６２との間の部分６６ｆ、６６ｆの膜厚（ここでの膜厚は、ＭＲヘッドのトラック幅方向に沿った方向の厚みである）がハードバイアス層６２、６２の下側の部分６６ｇ、６６ｇの膜厚（ここでの膜厚は、積層体ａ４の高さ方向に沿った方向の厚みである）よりも小さくされている。
【０１０６】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、フリー磁性層３６とハードバイアス層６２、６２との間の部分６６ｆ、６６ｆ（バイアス下地層６６、６６）の膜厚を上記ハードバイアス層の下側の部分６６ｇ、６６ｇ（バイアス下地層６６、６６）の膜厚よりも薄くしたしたことにより、フリー磁性層３６とハードバイアス層６２、６２との間に介在されたバイアス下地層６６、６６の部分にピンホールが生じるので、バイアス下地層６６、６６が介在されている部分の上記フリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２とは、上記の部分６６ｆ、６６ｆに生じたピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、このスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層６６、６６が介在されている部分のフリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２が交換相互作用により磁気的に連続体となるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記フリー磁性層３６の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層６２からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層３６に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層３６の磁区制御をより良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。また、バイアス下地層が介在している部分ではハードバイアス層の高い保磁力と角形比が維持された状態とすることができるので好ましい。
【０１０７】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、フリー磁性層３６とハードバイアス層６２、６２との間に介在されているバイアス下地層６６、６６の部分６６ｆ、６６ｆの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｎｍ以下とされる。
【０１０８】
次に、第２の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法について説明する。
まず、基板上に、下地層３０、反強磁性層（下）３１、第１の固定磁性層（下）３２、非磁性中問層（下）３３、第２の固定磁性層（下）３４、非磁性導電層３５、フリー磁性層３６（符号３７，３９はＣｏ膜、符号３８はＮｉＦｅ合金膜）、非磁性導電層４０、第２の固定磁性層（上）４１、非磁性中間層（上）４２、第１の固定磁性層（上）４３、反強磁性層（上）４４、保護層４５を順次成膜して形成した積層膜上に第１実施形態と同様のリフトオフレジストを形成したのち、上記リフトオフ用レジストに覆われていない部分を、イオンミリングにより除去して、側面ｂ４、ｂ４とされる傾斜面を形成して略等脚台形状の積層体ａ４を形成する。
ついで、積層体ａ４の両側に延びている反強磁性層３１上に、バイアス下地層６６、６６を後工程で形成するハードバイアス層６２、６２の下面側に配置されるように形成する。このとき、バイアス下地層６６、６６の上面は、フリー磁性層３６の下面よりも下側の位置に配置されている。
【０１０９】
ついで、積層体ａ４の両側で、バイアス下地層６６、６６の上面にハードバイアス層６２、６２を、フリー磁性層３６と同じ階層位置に配置されるように形成し、かつ、ハードバイアス層６２、６２の上面６２Ａ、６２Ａを、上記積層体ａ４の側面ｂ４、ｂ４の上端ｄ４、ｄ４より下側の位置で上記積層体ａ４の側面ｂ４、ｂ４と接合されるように形成する。
このとき、ハードバイアス層６２、６２は、フリー磁性層３６の膜厚方向にフリー磁性層３６の膜厚よりも大きな膜厚とされることが望ましい。また、上記ハードバイアス層６２、６２の上面６２Ａ、６２Ａは、上記フリー磁性層３６の上面よりも上側に配置され、ハードバイアス層６２、６２の下面は、上記フリー磁性層３６の下面よりも下側に配置されている。また、ハードバイアス層６２、６２の積層体ａ４側の端部６２Ｃ、６２Ｃは、フリー磁性層３６の側面ｂ４、ｂ４（フリー磁性層３６の両端部）と直接接触している。
また、ハードバイアス層６２、６２の上面６２Ａ、６２Ａと上記積層体ａ４の側面ｂ４、ｂ４との接合点ｃ４、ｃ４は、積層体ａ４の側面ｂ４、ｂ４の上端ｄ４、ｄ４より下側の位置で、  かつ、上記ハードバイアス層６２、６２の最上位置より下側の位置とされることが好ましい。
続いて、ハードバイアス層６２、６２の上に、積層体ａ４の側面ｂ４、ｂ４に接合されるように導電層６３、６３を形成する。
続いて、上記リフトオフ用レジストを除去することにより、図９乃至１０に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子が得られる。
【０１１０】
なお、フリー磁性層３６とこれの両側のハードバイアス層６２、６２の間にバイアス下地層の延出部６６ｅ、６６ｅが形成されたスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと上記基板との角度を調整する（角度を大きくする）ことにより、積層体ａ４の両側の反強磁性層３１上と、積層体ａ４の両側の側面ｂ４、ｂ４の一部（フリー磁性層３６の両端の一部）にバイアス下地層６６、６６を形成する以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０１１１】
また、フリー磁性層３６と各ハードバイアス層６２との間および各ハードバイアス層６２の下側にバイアス下地層６６が形成され、該バイアス下地層６６はフリー磁性層３６とハードバイアス層６２との間の部分６６ｆの膜厚がハードバイアス層６２の下側の部分６６ｇの膜厚よりも小さいスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと基板との角度を調整する（角度をさらに大きくする）ことにより、積層体ａ４の両側の反強磁性層３１上と、積層体ａ４の両側の側面（フリー磁性層の両端）に、バイアス下地層６６、６６を形成すること以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０１１２】
［第３の実施形態］
図１１は、本発明の第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子を模式図的に示した横断面図、図１２は、図１１に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面から見た場合の断面図である。
この第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においても、ハードディスクなどの磁気記録媒体の移動方向は、図示Ｚ方向であり、磁気記録媒体からの洩れ磁界の方向は、Ｙ方向である。
この第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子は、固定磁性層のみならず、フリー磁性層も非磁性中間層を介して第１のフリー磁性層と第２のフリー磁性層の２層に分断されている。
【０１１３】
第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子は、図１１および図１２に示すように、図示しない基板上に、下から、下地層７０、第２のフリー磁性層７１、非磁性中間層７２、第１のフリー磁性層７３、非磁性導電層７６、第２の固定磁性層７７、非磁性中間層７８、第１の固定磁性層７９、反強磁性層８０、及び保護層８１の順で積層されている。
【０１１４】
第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子において、下地層７０及び保護層８１は、例えば、Ｔａなどで形成されている。
また、反強磁性層８０は、上述の第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子と同様に、ＰｔＭｎ合金で形成されていることが好ましい。また、上記ＰｔＭｎ合金に代えて、Ｘ−Ｍｎ（ただし、Ｘは、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓのうちから選択される１種の元素を示す。）の式で示される合金あるいはＸ’−Ｐｔ−Ｍｎ（ただし、Ｘ’は、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ａｕ、Ａｇ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒのうちから選択される１種または２種以上の元素を示す。）の式で示される合金で形成されていてもよい。
第１の固定磁性層７９及び第２の固定磁性層７７は、Ｃｏ膜、ＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、あるいはＣｏＮｉＦｅ合金などで形成されている。
また、非磁性中問層７８は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうち１種あるいは２種以上の合金で形成されていることが好ましい。
さらに、非磁性導電層７６はＣｕなどで形成されている。
【０１１５】
上記第１の固定磁性層７９の磁化と第２の固定磁性層７７の磁化は、互いに反平行に磁化されたフェリ状態となっており、例えば、第１の固定磁性層７９の磁化は、図示Ｙ方向に、第２の固定磁性層７７の磁化は、図示Ｙ方向と反対方向に固定されている。このフェリ状態の安定性を保つためには、大きい交換結合磁界が必要である。本実施の形態では、より大きな交換結合磁界を得るために、以下に示す種々の、適正化を行っている。
【０１１６】
図１１および図１２に示す第２のフリー磁性層７１の上には、非磁性中間層７２が形成されている。上記第２のフリー磁性層７１は、例えば、ＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、あるいはＣｏＮｉＦｅ合金などで形成されている。
また、上記非磁性中間層７２の上には、第１のフリー磁性層７３が形成されている。さらに、上記第１のフリー磁性層７３の上には、非磁性導電層７６が形成されている。
図１１および図１２に示すように、上記第１のフリー磁性層７３は、ＮｉＦｅ合金膜７４とＣｏ膜７５の２層で形成されており、非磁性導電層７６に接する側にＣｏ膜７５が形成されている。非磁性導電層７６に接する側にＣｏ膜７５を形成するのは、第１にΔＲ／Ｒを大きくできるため、第２に上記非磁性導電層７６との拡散を防止するためである。
【０１１７】
図１１および図１２に示す下地層７０から保護層８１までの積層体ａ５は、台形状に形成されている。上記積層体ａ５の両側には、ハードバイアス層８２，８２が形成され、各ハードバイアス層８２の上に導電層８３が形成され、また、
各ハードバイアス層８２の下面には、ハードバイアス層８２の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層８６、８６が形成されている。ハードバイアス層８２、８２は、Ｃｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金などで形成されている。ハードバイアス層８２、８２が図示Ｘ１方向に磁化されていることによって、第１のフリー磁性層７３の磁化が図示Ｘ１方向に揃えられている。
また、上記導電層８３、８３は、例えば、Ｃｒ、Ｔａ、Ａｕなどで形成されている。
また、バイアス下地層８６は、第１の実施形態のバイアス下地層６を構成する材料と同様の体心立方構造の非磁性金属膜が用いられる。
【０１１８】
ハードバイアス層８２、８２は、第１のフリー磁性層７３と同じ階層位置に配置され、第１のフリー磁性層７３の膜厚よりも大きな膜厚とされる。また、上記ハードバイアス層８２、８２の上面８２Ａ、８２Ａは、上記第１のフリー磁性層７３の上面よりも上記基板から離れた位置に配置され、上記ハードバイアス層８２、８２の下面は、上記の第１のフリー磁性層７３下面よりも基板側の位置に配置されている。また、ハードバイアス層８２、８２の積層体ａ５側の端部８２Ｃ、８２Ｃは、積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５（第１及び第２のフリー磁性層７３、７１及び非磁性中間層７２の両端部）と直接接触している。
また、上記ハードバイアス層８２、８２の上面８２Ａ、８２Ａと上記積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５との接合点ｃ５、ｃ５は、積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５の上端ｄ５、ｄ５より基板側の位置で、かつ、上記ハードバイアス層８２、８２の最上位置より基板側の位置とされることが好ましい。
また、上記導電層８３、８３は、上記ハードバイアス層８２、８２上に、上記積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５に接合されて形成されることが好ましい。
【０１１９】
ハードバイアス層８２、８２で挟まれた積層体ａ５の側面部分の傾斜角度θを３０度以上とすることが、各ハードバイアス層８２の積層体ａ５側の端部（先端部）８２Ｃで下地のバイアス下地層８６が形成されていない部分が少なくなる（各ハードバイアス層８２の積層体ａ５側の端部８２Ｃの結晶配向性が乱れた部分が少なくなる）ので、各ハードバイアス層８６の積層体ａ５側の端部８２ｃで保磁力の低下している部分の体積が少なくなり、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、傾斜角度θを４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、傾斜角度θを６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
【０１２０】
図１１および図１２に示す第１のフリー磁性層７３と第２のフリー磁性層７１の間には、非磁性中間層７２が介在し、上記第１のフリー磁性層７３と第２のフリー磁性層７１間に発生する交換結合磁界（ＲＫＫＹ相互作用）によって、上記第１のフリー磁性層７３の磁化と第２のフリー磁性層７１の磁化は、反平行状態（フェリ状態）となっている。
【０１２１】
図１１および図１２に示す第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子では、例えば、第１のフリー磁性層７３の膜厚ｔＦ１は、第２のフリー磁性層７１の膜厚ｔＦ２より大きく形成されている。
そして、上記第１のフリー磁性層７３のＭｓ・ｔＦ１は、  第２のフリー磁性層７１のＭｓ・ｔＦ２よりも大きくなるように設定されており、ハードバイアス層  ８２から図示Ｘ１方向にバイアス磁界が与えられると、Ｍｓ・ｔＦ１の大きい第  １のフリー磁性層７３の磁化が、上記バイアス磁界の影響を受けて図示Ｘ１方向に揃えられ、  上記第１のフリー磁性層７３との交換結合磁界（ＲＫＫＹ相互作  用）によって、Ｍｓ・ｔＦ２の小さい第２のフリー磁性層７１の磁化は、図示Ｘ  １方向と反対方向に揃えられる。なお本発明では、第１のフリー磁性層７３の膜厚ｔＦ１が、第２のフリー磁性層７１の膜厚ｔＦ２よりも小さく形成され、上記第１のフリ一磁性層７３のＭＳ・ｔＦ１が第２のフリー磁性層７１のＭＳ・ｔＦ２よりも小さく設定されていてもよい。
【０１２２】
図示Ｙ方向から外部磁界が侵入してくると、上記第１のフリー磁性層７３と第２のフリー磁性層７１の磁化はフェリ状態を保ちながら、上記外部磁界の影響を受けて回転する。そして、△Ｒ／Ｒに奇与する第１のフリー磁性層７３の磁化方向と、第２の固定磁性層７７の固定磁化との関係によって電気抵抗が変化し、外部磁界の信号が検出される。
また、本発明では、第１のフリー磁性層７３と第２のフリー磁性層７１との間に介在する非磁性中間層７２は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうち１種あるいは２種以上の合金で形成されていることが好ましい。
また、第１のフリー磁性層７３のＭｓ・ｔＦ１が第２のフリー磁性層７２のＭｓ・ｔＦ２よりも大きい場合には、両側のバイアス下地層８６、８６の厚みを厚くするか、あるいは底上げ層などを用いてハードバイアス層８２，８２の下面８２Ｂ，８２Ｂは、破線８２Ｂ’のように第１のフリー磁性層７３の上面から下面までの間と同じ階層位置で積層体ａ５の側面と接合されている。これにより、積層体ａ５の側面でハードバイアス層８２と直接接するのは第１のフリー磁性層７３のみとなり、第２のフリー磁性層７１はハードバイアス層８２と直接接しない構造とすることができる。第２のフリー磁性層７１の磁化方向はハードバイアス層８２の磁化方向と反対であるため、第２のフリー磁性層７１がハードバイアス層８２と直接接していると第２のフリー磁性層７１の磁化が両端部で乱れ、それに起因して第１のフリー磁性層７３の両端部の磁化の方向が乱れてしまう。
ハードバイアス層８２の下面を破線８２Ｂ’で示す位置まで底上げすることにより、第１のフリー磁性層７３の磁化を揃えることができ、フリー磁性層７３が単磁区化され易くなるため、フリー磁性層７３の磁区制御を一層良好に行うことができ、また、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形に異常が生じるのを防止でき、再生波形の安定性を向上できる。
さらに好ましくはハードバイアス層８２，８２の下面８２Ｂ，８２Ｂは、破線８２Ｂ’のように第１のフリー磁性層７３の膜厚の半分の厚みの位置までの間と同じ階層位置で積層体ａ５の側面と接合されていることである。
これにより、上記のような第２のフリー磁性層７１の磁化方向とハードバイアス層８２の磁化方向のフラストレーションに起因してフリー磁性層７３の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善できるうえ、第１のフリー磁性層７３に対して強いバイアス磁界を与え易くなり、第１のフリー磁性層７３をより単磁区化し易くなり、また、再生波形の安定性もより向上させることができる。
【０１２３】
第１のフリー磁性層７３と第２のフリー磁性層７１との合成磁気モーメントの絶対値を、第１の固定磁性層７９と第２の固定磁性層７７との合成磁気モーメントの絶対値よりも大きくすることにより、第１のフリー磁性層７３と、第２のフリー磁性層７７の磁化が、第１の固定磁性層７９と第２の固定磁性層７７との合成磁気モーメントの影響を受けて波形の非対称性が悪化しにくくなり、第１のフリー磁性層７３及び第２のフリー磁性層７１の磁化が外部磁界に対して感度良く、回転し、出力を向上させることが可能になる。
【０１２４】
第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、ハードバイアス層８２、８２の積層体ａ５側の端部８２Ｃ、８２Ｃと第１のフリー磁性層７３の両端部とは直接接触しているので、第１のフリー磁性層７３とこれの両側のハードバイアス層８２、８２とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体となるので、第１のフリー磁性層７３の両端部に反磁界が生じず、ハードバイアス層８２、８２からの強いバイアス磁界を有効に第１のフリー磁性層７３に印加でき、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れる（バックリング現象が生じる）のを改善でき、第１、第２のフリー磁性層７３、７１の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上できる。
【０１２５】
また、上述のように第１、第２のフリー磁性層７３、７１の両端部に反磁界が生じていないので、このスピンバルブ型薄膜磁気素子が備えられる読出ヘッドの狭トラック化が進んでもバックリング現象が起こらないので、このバックリング現象に起因するトラック幅Ｔｗの両端の再生波形異常を防止でき、再生ヘッド全体としての再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合を低減できる。
また、ハードバイアス層８２、８２の残留磁化と膜厚との積をある程度小さくしても、上記交換相互作用により第１、第２のフリー磁性層７３、７１の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層８２からのバイアス磁界を有効に第１のフリー磁性層７３に印加でき、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を確保できるので、例えば、ハードバイアス層８２、８２の厚みを薄くして縦バイアス磁界を小さくして、上記積層体ａ５の側部付近の再生出力が低くなる領域を狭くして、中央部付近の再生出力が高い領域を広くし、再生出力を高めることができる。
【０１２６】
なお、第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、第１、第２のフリー磁性層７３、７１とこれの両側のハードバイアス層８２、８２の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層８２、８２の積層体ａ５側の端部８２Ｃ、８２Ｃと第１、第２のフリー磁性層７３、７１の両端部とが直接接触している場合について説明したが、各ハードバイアス層８２の端部８２Ｃと第１のフリー磁性層７３の端部とは、少なくとも一部が直接接触していればよいので、バイアス下地層８６、８６は、第２のフリー磁性層７１とこれの両側のハードバイアス層８２、８２の間にまで延出した図１２の破線で示すような延出部８６ｅがあってもよい。
【０１２７】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層８６、８６が第２のフリー磁性層７１とこれの両側のハードバイアス層８２、８２の間にまで延出していても、各ハードバイアス層８２と第１のフリー磁性層７３とは少なくとも一部が直接接触しているので、第１のフリー磁性層７３とこれの両側のハードバイアス層８２、８２とが交換相互作用により磁気的に連続体となるので、反磁界の起因となる第１のフリー磁性層７３の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、第１、第２のフリー磁性層７３、７１の両端部に反磁界が生じず、また、各ハードバイアス層８２からの強いバイアス磁界を良好に第１のフリー磁性層７３に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、第１のフリー磁性層７３の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、各バイアス下地層８６の延出部８６ｅの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｎｍ以下とされる。
【０１２８】
また、第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、第１、第２のフリー磁性層７３、７１とこれの両側のハードバイアス層８２、８２の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層８２、８２の積層体ａ５側の端部８２Ｃ、８２Ｃと第１、第２のフリー磁性層７３、７１の両端部とが直接接触している場合について説明したが、バイアス下地層８６、８６は、  図１２の破線で示すように第１、第２のフリー磁性層７３、７１とハードバイアス層８２、８２との間にも形成されていてもよく、その場合、バイアス下地層８６、８６は第１、第２のフリー磁性層７３、７１とハードバイアス層８２、８２との間の部分８６ｆ、８６ｆの膜厚（ここでの膜厚は、ＭＲヘッドのトラック幅方向に沿った方向の厚みである）がハードバイアス層８２、８２の下側の部分８６ｇ、８６ｇの膜厚（ここでの膜厚は、積層体ａ５の高さ方向に沿った方向の厚みである）よりも小さくされている。
【０１２９】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、第１、第２のフリー磁性層７３、７１とハードバイアス層８２、８２との間の部分８６ｆ、８６ｆ（バイアス下地層８６、８６）の膜厚を上記ハードバイアス層の下側の部分８６ｇ、８６ｇ（バイアス下地層８６、８６）の膜厚よりも薄くしたしたことにより、第１のフリー磁性層７３とハードバイアス層８２、８２との間に介在されたバイアス下地層８６、８６の部分にピンホールが生じるので、バイアス下地層８６、８６が介在されている部分の上記第１のフリー磁性層７３とこれの両側のハードバイアス層８２、８２とは、上記の部分８６ｆ、８６ｆに生じたピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、このスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層８６、８６が介在されている部分の第１のフリー磁性層７３とこれの両側のハードバイアス層８２、８２が交換相互作用により磁気的に連続体となるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記第１、第２のフリー磁性層７３、７１の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層８２からの強いバイアス磁界を良好に第１のフリー磁性層７３に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、第１、第２のフリー磁性層７３、７１の磁区制御をより良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
【０１３０】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、第１、第２のフリー磁性層７３、７１とハードバイアス層８２、８２との間に介在されているバイアス下地層８６、８６の部分８６ｆ、８６ｆの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｎｍ以下とされる。
【０１３１】
次に、第３の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法について説明する。
まず、基板上に、下地層７０、第２のフリー磁性層７１、非磁性中間層７２、、第１のフリー磁性層７３（符号７４はＮｉＦｅ合金膜、符号７５はＣｏ膜）、非磁性導電層７６、第２の固定磁性層７７、非磁性中間層７８、第１の固定磁性層７９、反強磁性層８０、保護層８１を順次成膜して形成した積層膜上に第１実施形態と同様のリフトオフレジストを形成したのち、上記リフトオフ用レジストに覆われていない部分を、イオンミリングにより除去して、側面ｂ５、ｂ５とされる傾斜面を形成して等脚台形状の積層体ａ５を形成する。
ついで、積層体ａ５の両側の上記基板上に、バイアス下地層８６、８６を後工程で形成するハードバイアス層８２、８２の下面側に配置されるように形成する。このとき、バイアス下地層８６、８６の上面は、第２のフリー磁性層７１の下面よりも下側の位置に配置されている。
【０１３２】
ついで、積層体ａ５の両側で、バイアス下地層８６、８６の上面にハードバイアス層８２、８２を、第１、第２のフリー磁性層７３、７１と同じ階層位置に配置されるように形成し、かつ、ハードバイアス層８２、８２の上面８２Ａ、８２Ａを、上記積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５の上端ｄ５、ｄ５より下側の位置で上記積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５と接合されるように形成する。
このとき、ハードバイアス層８２、８２は、第１、第２のフリー磁性層７３、７１の膜厚方向に第１、第２のフリー磁性層７３、７１の膜厚よりも大きな膜厚とされることが望ましい。また、ハードバイアス層８２、８２の上面８２Ａ、８２Ａは、第１、第２のフリー磁性層７３、７１の上面よりも上側に配置され、ハードバイアス層８２、８２の下面は、上記第１、第２のフリー磁性層７３、７１の下面よりも下側に配置されている。また、ハードバイアス層８２、８２の積層体ａ５側の端部８２Ｃ、８２Ｃは、第１、第２のフリー磁性層７３、７１の側面ｂ５、ｂ５（第１、第２のフリー磁性層７３、７１の両端部）と直接接触している。
また、ハードバイアス層８２、８２の上面８２Ａ、８２Ａと上記積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５との接合点ｃ５、ｃ５は、積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５の上端ｄ５、ｄ５より下側の位置で、  かつ、上記ハードバイアス層８２、８２の最上位置より下側の位置とされることが好ましい。
続いて、ハードバイアス層８２、８２の上に、積層体ａ５の側面ｂ５、ｂ５に接合されるように導電層８３、８３を形成する。
続いて、上記リフトオフ用レジストを除去することにより、図１１乃至１２に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子が得られる。
【０１３３】
なお、第１、第２のフリー磁性層７３、７１とこれの両側のハードバイアス層８２、８２の間にバイアス下地層の延出部８６ｅ、８６ｅが形成されたスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと上記基板との角度を調整する（角度を大きくする）ことにより、積層体ａ５の両側の基板上と、積層体ａ５の両側の側面ｂ５、ｂ５の一部（第２のフリー磁性層７１の両端の一部）にバイアス下地層８６、８６を形成する以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０１３４】
また、第１、第２のフリー磁性層７３、７１と各ハードバイアス層８２との間および各ハードバイアス層８２の下側にバイアス下地層８６が形成され、該バイアス下地層８６は第１、第２のフリー磁性層７３、７１とハードバイアス層８２との間の部分８６ｆの膜厚がハードバイアス層８２の下側の部分８６ｇの膜厚よりも小さいスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと基板との角度を調整する（角度をさらに大きくする）ことにより、積層体ａ５の両側の基板上と、積層体ａ５の両側の側面（フリー磁性層の両端）に、バイアス下地層８６、８６を形成すること以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０１３５】
［第４の実施形態］
図１３は、本発明の第４の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子の構造を表す横断面図であり、図１４は、図１３に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子を、記録媒体との対向面側から見た断面図である。
第４の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子は、フリー磁性層を中心にしてその上下に非磁性導電層、固定磁性層、及び反強磁性層が積層されたデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子の一種であり、上記フリー磁性層、及び固定磁性層が、非磁性中間層を介して２層に分断されて形成されている。
【０１３６】
図１３および図１４に示す最も下側に形成されている層は、図示しない基板上に形成されている下地層９１であり、この下地層９１の上に反強磁性層（下）９２、第１の固定磁性層（下）９３、非磁性中間層９４（下）、第２の固定磁性層（下）９５、非磁性導電層９６、第２のフリー磁性層９７、非磁性中間層１００、第１のフリー磁性層１０１、非磁性導電層１０４、第２の固定磁性層（上）１０５、非磁性中間層（上）１０６、  第１の固定磁性層（上）１０７、反強磁性層（上）１０８、及び保護層１０９が形成されている。
【０１３７】
まず、各層の材質について説明する。
反強磁性層９２，１０８は、上述の第２の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子と同様に、ＰｔＭｎ合金で形成されていることが好ましい。また、上記ＰｔＭｎ合金に代えて、Ｘ−Ｍｎ（ただし、Ｘは、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓのうちから選択される１種の元素を示す。）の式で示される合金あるいはＸ’−Ｐｔ−Ｍｎ  （ただし、Ｘ’は、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ａｕ、Ａｇ、Ｎ  ｅ、  Ａｒ、  Ｘｅ、  Ｋｒのうちから選択される１種または２種以上の元素を示  す。）の式で示される合金で形成されていてもよい。
【０１３８】
第１の固定磁性層（下）９３，（上）１０７、及び第２の固定磁性層（下）９５，（上）１０５は、Ｃｏ膜、ＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、あるいは、ＣｏＮｉＦｅ合金などで形成されている。
また、第１の固定磁性層（下）９３，（上）１０７と第２の固定磁性層（下）９５，（上）１０５問に形成されている非磁性中間層（下）９４，（上）１０６及び第１のフリー磁性層１０１と第２のフリー磁性層９７間に形成されている非磁性中間層１００は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうち１種あるいは２種以上の合金で形成されていることが好ましい。
さらに、非磁性導電層９６，１０４はＣｕなどで形成されている。
【０１３９】
図１３および図１４に示すように、第１のフリー磁性層１０１及び第２のフリー磁性層９７は、２層で形成されている。非磁性導電層９６，１０４に接する側に形成された第１のフリー磁性層１０１の層１０３及び第２のフリー磁性層９７の層９８は、Ｃｏ膜で形成されている。また、非磁性中間層１００を介して形成されている第１のフリー磁性層１０１の層１０２及び第２のフリー磁性層９７の層９９は、例えば、ＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、あるいはＣｏＮｉＦｅ合金などで形成されている。非磁性導電層９６，１０４側に接する層９８，１０３をＣｏ膜で形成することにより、ΔＲ／Ｒを大きくでき、しかも非磁性導電層９６，１０４との拡散を防止することができる。
【０１４０】
図１３および図１４に示す下地層９１から保護層１０９までの積層体ａ６は、その側面が削られて側面ｂ６、ｂ６とされ、台形状に形成されている。積層体ａ６の反強磁性層９１の下部とこれの下層の下地層９１は、これらの上側の第１の固定磁性層９３、非磁性中間層９４、第２の固定磁性層９５等よりもさらに両側に延びている。上記積層体ａ６の両側の反強磁性層９２上には、例えば、Ｃｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金などからなるハードバイアス層１１０、１１０が形成され、各ハードバイアス層１１０の上側には、例えば、Ｃｒ、Ｔａ、Ａｕなどからなる導電層１１１が形成されており、各ハードバイアス層１１０の下面には、ハードバイアス層１１０の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層１１６、１１６が形成されている。各バイアス下地層１１６は、第１の実施形態のバイアス下地層６を構成する材料と同様の体心立方構造の非磁性金属膜から構成されている。
ハードバイアス層１１０、１１０が図示Ｘ１方向と反対方向に磁化されていることによって、第１のフリー磁性層１０１の磁化が図示Ｘ１方向と反対方向に揃えられている。
【０１４１】
ハードバイアス層１１０、１１０は、第１のフリー磁性層１０１と同じ階層位置に配置され、  第１のフリー磁性層１０１の膜厚よりも大きな膜厚とされる。また、上記ハードバイアス層１１０、１１０の上面１１０Ａ、１１０Ａは、上記第１のフリー磁性層１０１の上面よりも基板から離れた位置に配置され、上記ハードバイアス層１１０、１１０の下面は、上記の第１のフリー磁性層１０１下面よりも基板側の位置に配置されている。また、ハードバイアス層１１０、１１０の積層体ａ６側の端部１１０Ｃ、１１０Ｃは、積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６（第１及び第２のフリー磁性層１０１、９７及び非磁性中間層１００の両端部）と直接接触している。また、ハードバイアス層１１０、１１０の上面または下面は、第１のフリー磁性層１０１と第２のフリー磁性層９７のうち磁気モーメント（Ｍｓ×膜厚ｔ）が大きい方のフリー磁性層の上面から下面の間と同じ階層位置で積層体ａ６の側面と接合された方が好ましい。より好ましくは磁気モーメントの大きい方のフリー磁性層の半分の厚みの位置で積層体ａ６の側面と接合されていることが好ましい。
また、上記ハードバイアス層１１０、１１０の上面１１０Ａ、１１０Ａと上記積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６との接合点ｃ６、ｃ６は、積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６の上端ｄ６、ｄ６より基板側の位置で、  かつ、上記ハードバイアス層１１  ０、１１０の最上位置より基板側の位置とされることが好ましい。
また、上記導電層１１１、１１１は、上記ハードバイアス層１１０、１１０上に、上記積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６に接合されて形成されることが好ましい。
【０１４２】
ハードバイアス層１１０、１１０で挟まれた積層体ａ６の側面部分の傾斜角度θを３０度以上とすることが、各ハードバイアス層１１０の積層体ａ６側の端部（先端部）１１０Ｃで下地のバイアス下地層１１６が形成されていない部分が少なくなる（各ハードバイアス層１１０の積層体ａ６側の端部１１０ｃの結晶配向性が乱れた部分が少なくなる）ので、各ハードバイアス層１１０の積層体ａ６側の端部１１０Ｃで保磁力の低下している部分の体積が少なくなり、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、傾斜角度θを４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、傾斜角度θを６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
【０１４３】
ところで、第４の実施の形態では、前述したように、反強磁性層９２，１０８として、第１の固定磁性層（下）９３，（上）１０７との界面で、交換結合磁界（交換異方性磁界）を発生させるために、アニールを施す反強磁性材料を使用している。
しかし、フリー磁性層よりも下側に形成されている反強磁性層９２と第１の固定磁性層（下）９３との界面では、金属元素の拡散などが発生しやすく、熱拡散層や飽和磁化が小さい初期成長層が形成されやすくなっているために、上記第１の固定磁性層（下）９３として機能する磁気的な膜厚は、  実際の膜厚ｔＰ１よりも薄くなっている。
【０１４４】
従って、フリー磁性層よりも上側の積層膜で発生する交換結合磁界と、下側の積層膜から発生する交換結合磁界をほぼ等しくするには、フリー磁性層よりも下側に形成されている第１の固定磁性層（下）９３の膜厚ｔＰ１が、フリー磁性層よりも上側に形成されている第１の固定磁性層（上）１０７の膜厚ｔＰ１よりも大きい方が好ましい。フリー磁性層よりも上側の積層膜から  発生する交換結合磁界と、下側の積層膜から発生する交換結合磁界とを等しくすることにより、上記交換結合磁界の製造プロセス劣化が少なく、磁気へッドの信頼性を向上させることができる。
【０１４５】
ところで、図１３および図１４に示すデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、  フリ一磁性層の上下に形成されている第２の固定磁性層（下）９５，（  上）１０５の磁化を互いに反対方向に向けておく必要がある。これは、フリー磁性層が第１のフリー磁性層１０１と第２のフリー磁性層９７の２層に分断されて形成されており、上記第１のフリー磁性層１０１の磁化と第２のフリー磁性層９７の磁化とが反平行になっているからである。
【０１４６】
例えば、図１３および図１４に示すように、第１のフリー磁性層１０１の磁化が、図示Ｘ１方向と反対方向に磁化されているとすると、上記第１のフリー磁性層１０１との交換結合磁界（ＲＫＫＹ相互作用）によって、第２のフリー磁性層９７の磁化は、図示Ｘ１方向に磁化された状態とされる。上記第１のフリー磁性層１０１及び第２のフリー磁性層９７の磁化は、フェリ状態を保ちながら、外部磁界の影響を受けて回転するようになっている。
【０１４７】
図１３および図１４に示すデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子にあっては、第１のフリー磁性層１０１の磁化及び第２のフリー磁性層９７の磁化は、共にΔＲ／Ｒに関与する層となっており、上記第１のフリー磁性層１０１及び第２のフリー磁性層９７の変動磁化と、第２の固定磁性層（下）９５，（上）１０５の固定磁化との関係で電気抵抗が変化する。シングルスピンバルブ型薄膜磁気素子に比べ大きいΔＲ／Ｒを期待できるデユアルスピンバルブ型薄膜磁気素子としての機能を発揮させるには、第１のフリー磁性層１０１と第２の固定磁性層（上）１０５との抵抗変化及び、第２のフリー磁性層９７と第２の固定磁性層（下）９５との抵抗変化が、共に同じ変動を見せるように、上記第２の固定磁性層（下）９５，（上）１０５の磁化方向を制御する必要性がある。すなわち、第１のフリー磁性層１０１と第２の固定磁性層（上）１０５との抵抗変化が最大になるとき、第２のフリー磁性層９７と第２の固定磁性層（下）９５との抵抗変化も最大になるようにし、第１のフリー磁性層１０１と第２の固定磁性層（上）１０５との抵抗変化が最小になるとき、第２のフリー磁性層９７と第２の固定磁性層（下）９５との抵抗変化も最小になるようにすればよいのである。
【０１４８】
よって、図１３および図１４に示すデュアルスピンバルブ型薄膜磁気素子では、第１のフリー磁性層１０１と第２のフリー磁性層９７の磁化が反平行に磁化されているため、第２の固定磁性層（上）１０５の磁化と第２の固定磁性層（下）９５の磁化を互いに反対方向に磁化する必要性がある。
以上のようにして、フリー磁性層の上下に形成された第２の固定磁性層（下）９５，（上）１０５を反対方向に磁化することで、目的とするΔＲ／Ｒを得ることができる。
【０１４９】
第４の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、ハードバイアス層１１０、１１０の積層体ａ６側の端部１１０Ｃ、１１０Ｃと第１のフリー磁性層１０１の両端部とは直接接触しているので、第１のフリー磁性層１０１とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体となるので、フリー磁性層１０１、９７の両端部に反磁界が生じず、ハードバイアス層１１０、１１０からの強いバイアス磁界を有効に第１のフリー磁性層１０１に印加でき、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れる（バックリング現象が生じる）のを改善でき、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上できる。
【０１５０】
また、上述のように第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の両端部に反磁界が生じていないので、このスピンバルブ型薄膜磁気素子が備えられる読出ヘッドの狭トラック化が進んでもバックリング現象が起こらないので、このバックリング現象に起因するトラック幅Ｔｗの両端の再生波形異常を防止でき、再生ヘッド全体としての再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合を低減できる。
また、ハードバイアス層１１０、１１０の残留磁化×膜厚（残留磁化と膜厚との積）をある程度小さくしても、上記交換相互作用により第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層１１０からのバイアス磁界を有効に第１のフリー磁性層１０１に印加でき、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を確保できるので、例えば、ハードバイアス層１１０、１１０の厚みを薄くして縦バイアス磁界を小さくして、上記積層体ａ６の側部付近の再生出力が低くなる領域を狭くして、中央部付近の再生出力が高い領域を広くし、再生出力を高めることができる。
【０１５１】
なお、第４の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層１１０、１１０の積層体ａ６側の端部１１０Ｃ、１１０Ｃと第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の両端部とが直接接触している場合について説明したが、各ハードバイアス層１１０の端部１１０Ｃと第１のフリー磁性層１０１の端部とは、少なくとも一部が直接接触していればよいので、バイアス下地層１１６、１１６は、第２のフリー磁性層９７とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０の間にまで延出した図１４の破線で示すような延出部１１６ｅがあってもよい。
【０１５２】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層１１６、１１６が第２のフリー磁性層７１とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０の間にまで延出していても、各ハードバイアス層１１０と第１のフリー磁性層７３とは少なくとも一部が直接接触しているので、第１のフリー磁性層７３とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０とが交換相互作用により磁気的に連続体となるので、反磁界の起因となる第１のフリー磁性層１０１の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、第１のフリー磁性層１０１の両端部に反磁界が生じず、また、各ハードバイアス層１１０からの強いバイアス磁界を良好に第１のフリー磁性層１０１に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、第１のフリー磁性層１０１の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、各バイアス下地層１１６の延出部１１６ｅの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｎｍ以下とされる。
【０１５３】
また、第４の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層１１０、１１０の積層体ａ６側の端部１１０Ｃ、１１０Ｃと第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の両端部とが直接接触している場合について説明したが、バイアス下地層１１６、１１６は、  図１４の破線で示すように第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とハードバイアス層１１０、１１０との間にも形成されていてもよく、その場合、バイアス下地層１１６、１１６は第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とハードバイアス層１１０、１１０との間の部分１１６ｆ、１１６ｆの膜厚（ここでの膜厚は、ＭＲヘッドのトラック幅Ｔｗ方向に沿った方向の厚みである）がハードバイアス層１１０、１１０の下側の部分１１６ｇ、１１６ｇの膜厚（ここでの膜厚は、積層体ａ６の高さ方向に沿った方向の厚みである）よりも小さくされている。
【０１５４】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とハードバイアス層１１０、１１０との間の部分１１６ｆ、１１６ｆ（バイアス下地層１１６、１１６）の膜厚を上記ハードバイアス層の下側の部分１１６ｇ、１１６ｇ（バイアス下地層１１６、１１６）の膜厚よりも薄くしたしたことにより、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とハードバイアス層１１０、１１０との間に介在されたバイアス下地層１１６、１１６の部分にピンホールが生じるので、バイアス下地層１１６、１１６が介在されている部分の上記第１のフリー磁性層１０１とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０とは、上記の部分１１６ｆ、１１６ｆに生じたピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、このスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層１１６、１１６が介在されている部分の第１のフリー磁性層１０１とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０が交換相互作用により磁気的に連続体となるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層１１０からの強いバイアス磁界を良好に第１のフリー磁性層１０１に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の磁区制御をより良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
またい、バイアス下地層１１６が介在されている部分では、ハードバイアス層１１０の高い保磁力と角形比が維持された状態とすることができるので好ましい。
【０１５５】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とハードバイアス層１１０、１１０との間に介在されているバイアス下地層１１６、１１６の部分１１６ｆ、１１６ｆの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｎｍ以下とされる。
【０１５６】
次に、第４の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法について説明する。
まず、基板上に、下地層９１、反強磁性層（下）９２、第１の固定磁性層（下）９３、非磁性中間層９４（下）、第２の固定磁性層（下）９５、非磁性導電層９６、第２のフリー磁性層９７、非磁性中間層１００、第１のフリー磁性層１０１、非磁性導電層１０４、第２の固定磁性層（上）１０５、非磁性中間層（上）１０６、  第１の固定磁性層（上）１０７、反強磁性層（上）１０８、保護層１０９を順次成膜して形成した積層膜上に第１実施形態と同様のリフトオフレジストを形成したのち、上記リフトオフ用レジストに覆われていない部分を、イオンミリングにより除去して、側面ｂ６、ｂ６とされる傾斜面を形成して略等脚台形状の積層体ｂ６を形成する。
ついで、積層体ａ６の両側の上記反強磁性層９２上に、バイアス下地層１１６、１１６を後工程で形成するハードバイアス層１１０、１１０の下面側に配置されるように形成する。このとき、バイアス下地層１１６、１１６の上面は、第２のフリー磁性層９７の下面よりも下側の位置に配置されている。
【０１５７】
ついで、積層体ａ６の両側で、バイアス下地層１１６、１１６の上面にハードバイアス層１１０、１１０を、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７と同じ階層位置に配置されるように形成し、かつ、ハードバイアス層１１０、１１０の上面１１０Ａ、１１０Ａを、上記積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６の上端ｄ６、ｄ６より下側の位置で上記積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６と接合されるように形成する。このとき、ハードバイアス層１１０、１１０は、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の膜厚方向に第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の膜厚よりも大きな膜厚とされることが望ましい。また、ハードバイアス層１１０、１１０の上面１１０Ａ、１１０Ａは、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の上面よりも上側に配置され、ハードバイアス層１１０、１１０の下面は、上記第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の下面よりも下側に配置されている。また、ハードバイアス層１１０、１１０の積層体ａ６側の端部１１０Ｃ、１１０Ｃは、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の側面ｂ６、ｂ６（第１、第２のフリー磁性層１０１、９７の両端部）と直接接触している。
また、ハードバイアス層１１０、１１０の上面１１０Ａ、１１０Ａと上記積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６との接合点ｃ６、ｃ６は、積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６の上端ｄ６、ｄ６より下側の位置で、  かつ、上記ハードバイアス層１１０、１１０の最上位置より下側の位置とされることが好ましい。
続いて、ハードバイアス層１１０、１１０の上に、積層体ａ６の側面ｂ６、ｂ６に接合されるように導電層１１１、１１１を形成する。
続いて、上記リフトオフ用レジストを除去することにより、図１３乃至１４に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子が得られる。
【０１５８】
なお、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とこれの両側のハードバイアス層１１０、１１０の間にバイアス下地層の延出部１１６ｅ、１１６ｅが形成されたスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと上記基板との角度を調整する（角度を大きくする）ことにより、積層体ａ６の両側の基板上と、積層体ａ６の両側の側面ｂ６、ｂ６の一部（第２のフリー磁性層９７の両端の一部）にバイアス下地層１１６、１１６を形成する以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０１５９】
また、第１、第２のフリー磁性層１０１、９７と各ハードバイアス層１１０との間および各ハードバイアス層１１０の下側にバイアス下地層１１６が形成され、該バイアス下地層１１６は第１、第２のフリー磁性層１０１、９７とハードバイアス層１１０との間の部分１１６ｆの膜厚がハードバイアス層１１０の下側の部分１１６ｇの膜厚よりも小さいスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと基板との角度を調整する（角度をさらに大きくする）ことにより、積層体ａ６の両側の基板上と、積層体ａ６の両側の側面（フリー磁性層の両端）に、バイアス下地層１１６、１１６を形成すること以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０１６０】
以上、図１１から図１４に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子では、固定磁性層のみならず、フリー磁性層も、非磁性中間層を介して第１のフリー磁性層と第２のフリー磁性層の２層に分断し、この２層のフリー磁性層の間に発生する交換結合磁界（ＲＫＫＹ相互作用）によって、上記２層のフリー磁性層の磁化を反平行状態（フェリ状態）にすることにより、上記第１のフリー磁性層と第２のフリー磁性層の磁化を、外部磁界に対して感度良く反転できるようにしている。
また、本発明では、第１のフリー磁性層と第２のフリー磁性層との膜厚比や、上記第１のフリー磁性層と第２のフリー磁性層との間に介在する非磁性中間層の膜厚、あるいは第１の固定磁性層と第２の固定磁性層との膜厚比や、上記第１の固定磁性層と第２の固定磁性層との間に介在する非磁性中間層の膜厚、及び反強磁性層の膜厚などを適正な範囲内で形成することによって、交換結合磁界を大きくすることができ、第１の固定磁性層と第２の固定磁性層との磁化状態を固定磁化として、第１のフリー磁性層と第２のフリー磁性層との磁化状態を変動磁化として、熱的にも安定したフェリ状態に保つことが可能であり、目的とするΔＲ／Ｒを得ることが可能となっている。
本発明では、さらにセンス電流の方向を調節することで、第１の固定磁性層の磁化と第２の固定磁性層の磁化との反平行状態（フェリ状態）を、より熱的にも安定した状態に保つことが可能となっている。
【０１６１】
スピンバルブ型薄膜磁気素子では、反強磁性層、固定磁性層、非磁性導電層、及びフリー磁性層から成る積層膜の両側に導電層が形成されており、この導電層からセンス電流が流される。  上記センス電流は、比抵抗の小さい上記非磁性導電層  と、上記非磁性導電層と固定磁性層との界面、及び非磁性導電層とフリー磁性層との界面に主に流れる。本発明では、上記固定磁性層は第１の固定磁性層と第２の固定磁性層とに分断されており、上記センス電流は、主に第２の固定磁性層と非磁性導電層との界面に流れている。
上記センス電流を流すと、右ネジの法則によって、センス電流磁界が形成される。本発明では、上記センス電流磁界を第１の固定磁性層の磁気モーメントと第２の固定磁性層の磁気モーメントを足し合わせて求めることができる合成磁気モーメントの方向と同じ方向になるように、上記センス電流の流す方向を調節している。
【０１６２】
［第５の実施形態］
図１５は、本発明の第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
本発明の第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子は、反強磁性層、２層の固定磁性層、非磁性導電層、フリー磁性層が形成されたボトム型（Ｂｏｔｔｏｍ  ｔｙｐｅ  ）とされ、さらに、固定磁性層が、第１の固定磁性層と、上記第１の固定磁性層に非磁性中間層を介して形成され、上記第１の固定磁性層の磁化方向と反平行に磁化方向が揃えられた第２の固定磁性層と、を有し、固定磁性層が合成フェリ磁性状態とされてなる手段、いわゆる、シンセティックフェリピンド型（ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ−ｆｅｒｒｉ−ｐｉｎｎｅｄ  ｔｙｐｅ  ）とされるシングルスピンバルブ型薄膜磁気素子の一種である。
【０１６３】
図１５において、符号３１１は、図示しない基板上にＴａなどの非磁性材料からなる下地層３１０を介して設けられた反強磁性層である。この反強磁性層３１１の上には、固定磁性層３１２が形成されている。この固定磁性層３１２は、第１の固定磁性層３１２Ａと、第１の固定磁性層３１２Ａの上に非磁性中間層３１２Ｂを介して形成され、第１の固定磁性層３１２Ａの磁化方向と反平行に磁化方向が揃えられた第２の固定磁性層３１２Ｃとからなる。
この第２の固定磁性層３１２Ｃの上には、Ｃｕ（銅）等からなる非磁性導電層３１３が形成され、さらに、非磁性導電層３１３の上には、フリー磁性層３１４が形成されている。フリー磁性層３１４の上には、Ｔａなどで形成された保護層３１５が形成されている。なお、フリー磁性層３１４と保護層３１５の間には、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕなどからなるバックド層（図示略）が介在されていてもよい。図１５に示すように、上記反強磁性層３１１の一部から保護層３１５までの各層により、略台形状の断面形状を有する積層体ａ７が構成されている。積層体ａ７の反強磁性層３１１の下部とこれの下層の下地層３１０は、これらの上側の固定磁性層３１２、非磁性中間層３１３、フリー磁性層３１４等よりもさらに両側に延びている。
【０１６４】
上記積層体ａ７の両側の反強磁性層３１０上には、ハードバイアス層３１７、３１７が形成され、各ハードバイアス層３１７の上側にはＴａまたはＣｒからなる中間層３１９を介して導電層３１８が形成されており、各ハードバイアス層３１７の下面には、ハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層３１６、３１６が形成されている。各バイアス下地層３１６は、第１の実施形態のバイアス下地層６を構成する材料と同様の体心立方構造の非磁性金属膜から構成されている。また、各バイアス下地層３１６は、緩衝層としても機能する。ここでのハードバイアス層３１７、３１７は、Ｃｏ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金やＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ（コバルト−クロム−タンタル）合金などで形成されている。バイアス下地層３１６および中間層３１９により、後工程のインダクティブヘッド（書込ヘッド）の製造プロセスでおこなう絶縁レジストの硬化工程（ＵＶキュアまたはハードベーク）等で高温に曝される場合に、拡散バリアーとして機能し、ハードバイアス層３１７，３１７と周辺層の間で熱拡散がおこり、ハードバイアス層３１７，３１７の磁気特性が劣化することを防止することができる。
また、導電層３１８、３１８は、例えば、Ｃｒ、Ａｕ、Ｔａ、Ｗから選択される１種またはそれ以上からなる単層膜もしくはその多層膜から形成されている。
【０１６５】
ここで、反強磁性層が下側に位置するボトムタイプ（Ｂｏｔｔｏｍ  ｔｙｐｅ  ）の反強磁性層が上側に位置するトップタイプ（ｔｏｐ  ｔｙｐｅ）に対する利点としては、磁気的トラック幅を決めるフリー磁性層の幅がリフトオフレジストの幅に応じて制御し易く、狭いトラック幅のヘッドに向いていることである。
【０１６６】
さらに詳細に説明すると、本発明の第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子では、反強磁性層３１１は、積層体ａ７中央部分において、８〜１１ｎｍ（８０〜１１０Å）程度の厚さとされ、第１の実施形態の反強磁性層２と同様にＰｔＭｎ合金で形成されることが好ましい。
また、第１の実施形態の反強磁性層２と同様に、上記ＰｔＭｎ合金に代えて、Ｘ−Ｍｎ（ただし、Ｘは、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓのうちから選択される１種の元素を示す。）の式で示される合金、あるいは、Ｘ’−Ｐｔ−Ｍｎ（ただし、Ｘ’は、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｒ、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｋｒのうちから選択される１種または２種以上の元素を示す。）の式で示される合金で形成されていてもよい。
【０１６７】
第１および第２の固定磁性層３１２Ａ，３１２Ｃは、強磁性体の薄膜からなり、例えば、Ｃｏ、ＮｉＦｅ合金、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、ＣｏＮｉ合金などで形成され、合計で４ｎｍ（４０Å）程度の厚さとされることが好ましく、第１の固定磁性層３１２Ａは、例えばＣｏからなりその膜厚が１．３〜１．５ｎｍ（１３〜１５Å）に設定され。第２の固定磁性層３１２Ｃ、例えばＣｏからなりその膜厚が２〜２．５ｎｍ（２０〜２５Å）に設定される。
また、非磁性中間層３１２Ｂは、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうち１種あるいは２種以上の合金で形成されていることが好ましく、通常、０．８ｎｍ（８Å）程度の厚さに形成されている。
【０１６８】
この第１の固定磁性層３１２Ａは、反強磁性層３１１に接して形成され、磁場中アニール（熱処理）を施すことにより、第１の固定磁性層３１２Ａと反強磁性層３１１との界面にて交換結合磁界（交換異方性磁界）が発生し、例えば図１５に示すように、第１の固定磁性層３１２Ａの磁化が、図示Ｙ方向と逆方向に固定される。第１の固定磁性層３１２Ａの磁化が、図示Ｙ方向の逆方向に固定されると、非磁性中間層３１２Ｂを介して対向する第２の固定磁性層３１２Ｃの磁化は、第１の固定磁性層３１２Ａの磁化と反平行の状態、つまり、図示Ｙ方向に固定される。
【０１６９】
交換結合磁界が大きいほど、第１の固定磁性層３１２Ａの磁化と第２の固定磁性層３１２Ｃの磁化を安定して反平行状態に保つことが可能であり、特に、反強磁性層３１１としてブロッキング温度が高く、しかも第１の固定磁性層３１２Ａとの界面で大きい交換結合磁界（交換異方性磁界）を発生させるＰｔＭｎ合金を使用することで、第１の固定磁性層３１２Ａおよび第２の固定磁性層３１２Ｃの磁化状態を熱的にも安定して保つことができる。
【０１７０】
本実施形態では、第１の固定磁性層３１２Ａと第２の固定磁性層３１２Ｃとの膜厚比を適正な範囲内に収めることによって、交換結合磁界（Ｈｅｘ）を大きくでき、第１の固定磁性層３１２Ａと第２の固定磁性層３１２Ｃとの磁化を、熱的にも安定した反平行状態（フェリ状態）に保つことができ、しかも、△Ｒ／Ｒ（抵抗変化率）を良好に確保することが可能である。さらに熱処理中の磁場の大きさおよびその方向を適正に制御することによって、第１の固定磁性層３１２Ａおよび第２の固定磁性層３１２Ｃの磁化方向を、所望の方向に制御することが可能になる。
【０１７１】
非磁性導電層３１３は、Ｃｕ（銅）等からなり、その膜厚は、２〜２．５ｎｍ（２０〜２５Å）に設定される。
フリー磁性層３１４は、通常、２０〜５０Å程度の厚さとされ、第１、第２の固定磁性層３１２Ａ、３１２Ｃと同様の材質などで形成されることが好ましい。
【０１７２】
また、ハードバイアス層３１７，３１７が、図示Ｘ１方向に磁化されていることで、フリー磁性層３１４の磁化が、図示Ｘ１方向に揃えられている。これにより、フリー磁性層３１４の変動磁化と第２の固定磁性層３１２Ｃの固定磁化とが９０度で交差する関係となっている。
これらハードバイアス層３１７，３１７は、フリー磁性層３１４と同じ階層位置に配置され、フリー磁性層３１４の膜厚方向にフリー磁性層３１４の膜厚よりも大きな膜厚とされることが好ましい。また、ハードバイアス層３１７，３１７の下面は、フリー磁性層３１４の下面よりも基板３１０側の位置に（すなわち、図１５では下側に）配置されている。ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃは、フリー磁性層３１４の側面ｂ７、ｂ７（フリー磁性層３１４の両端部）と直接接触している。
【０１７３】
また、ハードバイアス層３１７，３１７の上面３１７Ａ，３１７Ａと積層体ａ７の側面との接合点ｃ７、ｃ７は、積層体ａ７の側面の上端ｄ７，ｄ７より基板３１０側の位置（すなわち、図１５では下側）で、かつ、積層体ａ７から離間した位置におけるハードバイアス層３１７，３１７の最上位置より下側の位置とされることが好ましい。これにより、ハードバイアス層３１７，３１７からフリー磁性層３１４に作用する磁界におけるフラックスコントロール、つまり、ハードバイアス層３１７，３１７からの漏れ磁束が、積層体ａ７上部に位置する上部シールド層等に吸収されることによってフリー磁性層３１４に加わる有効磁界が減少することが起こりにくくなり、フリー磁性層３１４が単磁区化されやすくなるため、フリー磁性層３１４の磁区制御を良好に行うことができる。
【０１７４】
導電層３１８，３１８が、上記単層膜もしくはその多層膜で形成されたことにより、抵抗値を低減することができる。ここでは、導電層３１８，３１８としてＣｒが選択されて、Ｔａからなる中間層３１９上に成長することにより形成されることにより電気抵抗値を低減することができる。
また、導電層３１８，３１８は、上記ハードバイアス層３１７、３１７上に中間層３１９、３１９を介して形成され、上記積層体ａ７の側面ｂ７、ｂ７に接合されて形成されることが好ましい。
【０１７５】
ハードバイアス層３１７、３１７で挟まれた積層体ａ７の側面部分の傾斜角度θを３０度以上とすることがこの積層体ａ７の両側に形成される各ハードバイアス層３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃの厚みが厚くなり、また積層体ａ７側の端部３１７Ｃの厚みが厚くなるにつれて、各ハードバイアス層３１７の積層体ａ７側の端部（先端部）３１７Ｃで下地のバイアス下地層３１６が形成されていない部分が少なくなる（各ハードバイアス層３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃの結晶配向性が乱れた部分が少なくなる）ので、各ハードバイアス層３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃで保磁力の低下している部分の体積が少なくなり、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、傾斜角度θを４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、傾斜角度θを６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
【０１７６】
図１５に示す構造のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、導電層３１８，３１８から積層体ａ７にセンス電流が与えられる。磁気記録媒体から図１５に示す図示Ｙ方向に磁界が与えられると、フリー磁性層３１４の磁化は、図示Ｘ１方向からＹ方向に変動する。このときの非磁性導電層３１３とフリー磁性層３１４との界面および非磁性導電層３１３と第２の固定磁性層３１２Ｃとの界面で、いわゆるＧＭＲ効果によってスピンに依存した伝導電子の散乱が起こることにより、電気抵抗が変化し、記録媒体からの洩れ磁界が検出される。
【０１７７】
第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃとフリー磁性層３１４の両端部とは直接接触しているので、フリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体となるので、フリー磁性層３１４の両端部に反磁界が生じず、ハードバイアス層３１７、３１７からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層３１４に印加でき、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れる（バックリング現象が生じる）のを改善でき、フリー磁性層３１４の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上できる。
【０１７８】
また、上述のようにフリー磁性層３１４の両端部に反磁界が生じていないので、このスピンバルブ型薄膜磁気素子が備えられる読出ヘッドの狭トラック化が進んでもバックリング現象が起こらないので、このバックリング現象に起因するトラック幅Ｔｗの両端の再生波形異常を防止でき、再生ヘッド全体として再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合を低減できる。
また、ハードバイアス層３１７、３１７の残留磁化と膜厚の積をある程度小さくしても、上記交換相互作用によりフリー磁性層３１４の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層３１７からのバイアス磁界を有効にフリー磁性層３１４に印加でき、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を確保できるので、例えば、ハードバイアス層３１７、３１７の厚みを薄くして縦バイアス磁界を小さくして、上記積層体ａ７の側部付近の再生出力が低くなる領域を狭くして、中央部付近の再生出力が高い領域を広くし、再生出力を高めることができる。
【０１７９】
なお、第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、フリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃとフリー磁性層３１４の両端部とが直接接触している場合について説明したが、各ハードバイアス層３１７の端部３１７Ｃとフリー磁性層３１４の端部とは、少なくとも一部が直接接触していればよいので、バイアス下地層３１６、３１６は、フリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にまで延出した図１５の破線で示すような延出部３１６ｅがあってもよい。
【０１８０】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層３１６、３１６がフリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にまで延出していても、各ハードバイアス層３１７とフリー磁性層３１４とは少なくとも一部が直接接触しているので、フリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７とが交換相互作用により磁気的に連続体となるので、反磁界の起因となるフリー磁性層３１４の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、フリー磁性層３１４の両端部に反磁界が生じず、また、バイアス下地層３１６、３１６がフリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間に延出していない場合と比べて各ハードバイアス層３１７からフリー磁性層３１４に印加できるバイアス磁界の効率が下がるものの、各ハードバイアス層３１７からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層３１４に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層３１４の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
【０１８１】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、各バイアス下地層３１６の延出部３１６ｅの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｎｍ以下とされる。
【０１８２】
また、第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、フリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃとフリー磁性層３１４の両端部とが直接接触している場合について説明したが、バイアス下地層３１６、３１６は、  図１５の破線で示すようにフリー磁性層３１４とハードバイアス層３１７、３１７との間にも形成されていてもよく、その場合、バイアス下地層３１６、３１６はフリー磁性層３１４とハードバイアス層３１７、３１７との間の部分３１６ｆ、３１６ｆの膜厚（ここでの膜厚は、ＭＲヘッドのトラック幅方向に沿った方向の厚みである）がハードバイアス層３１７、３１７の下側の部分３１６ｇ、３１６ｇの膜厚（ここでの膜厚は、積層体ａ７の高さ方向に沿った方向の厚みである）よりも小さくされている。
【０１８３】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、フリー磁性層３１４とハードバイアス層３１７、３１７との間の部分３１６ｆ、３１６ｆ（バイアス下地層３１６、３１６）の膜厚を上記ハードバイアス層の下側の部分３１６ｇ、３１６ｇ（バイアス下地層３１６、３１６）の膜厚よりも薄くしたしたことにより、フリー磁性層３１４とハードバイアス層３１７、３１７との間に介在されたバイアス下地層３１６、３１６の部分にピンホールが生じるので、バイアス下地層３１６、３１６が介在されている部分の上記フリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７とは、上記のバイアス下地層の部分３１６ｆ、３１６ｆに生じたピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、このスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層３１６、３１６が介在されている部分のフリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７が交換相互作用により磁気的に連続体となるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記フリー磁性層３１４の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層３１７からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層３１４に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層３１４の磁区制御をより良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
また、バイアス下地層３１６が介在されている部分では、ハードバイアス層３１７の高い保磁力と角形比が維持された状態とすることができるので好ましい。
【０１８４】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、フリー磁性層３１４とハードバイアス層３１７、３１７との間に介在されているバイアス下地層３１６、３１６の部分３１６ｆ、３１６ｆの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｎｍ以下とされる。
【０１８５】
次に、第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法について説明する。
まず、基板上に、下地層３１０、反強磁性層３１１、第１の固定磁性層３１２Ａ、非磁性中間層３１２Ｂ、第２の固定磁性層３１２Ｃと、非磁性導電層３１３、フリー磁性層３１４、保護層３１５を順次成膜して形成した積層膜上に第１実施形態と同様のリフトオフレジストを形成したのち、上記リフトオフ用レジストに覆われていない部分を、イオンミリングにより除去して、側面ｂ７、ｂ７とされる傾斜面を形成して略等脚台形状の積層体ａ７を形成する。
ついで、積層体ａ７の両側に延びている反強磁性層３１１上に、バイアス下地層３１６、３１６を後工程で形成するハードバイアス層３１７、３１７の下面側に配置されるように形成する。このとき、バイアス下地層３１６、３１６の上面は、フリー磁性層３１４の下面よりも下側の位置に配置されている。
【０１８６】
ついで、積層体ａ７の両側で、バイアス下地層３１６、３１６の上面にハードバイアス層３１７、３１７を、フリー磁性層３１４と同じ階層位置に配置されるように形成し、かつ、ハードバイアス層３１７、３１７の上面３１７Ａ、３１７Ａを、上記積層体ａ７の側面ｂ７、ｂ７の上端ｄ７、ｄ７より下側の位置で上記積層体ａ７の側面ｂ７、ｂ７と接合されるように形成する。
このとき、ハードバイアス層３１７、３１７は、フリー磁性層３１４の膜厚方向にフリー磁性層３１４の膜厚よりも大きな膜厚とされることが望ましい。また、上記ハードバイアス層３１７、３１７の上面３１７Ａ、３１７Ａは、上記フリー磁性層３１４の上面よりも上側に配置され、ハードバイアス層３１７、３１７の下面は、上記フリー磁性層３１４の下面よりも下側に配置されている。また、ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃは、フリー磁性層３１４の側面ｂ７、ｂ７（フリー磁性層３１４の両端部）と直接接触している。
また、ハードバイアス層３１７、３１７の上面３１７Ａ、３１７Ａと上記積層体ａ７の側面ｂ７、ｂ７との接合点ｃ７、ｃ７は、積層体ａ７の側面ｂ７、ｂ７の上端ｄ７、ｄ７より下側の位置で、  かつ、上記ハードバイアス層３１７、３１７の最上位置より下側の位置とされることが好ましい。
ついで、積層体ａ７の両側で、ハードバイアス層３１７、３１７の上面に中間層３１９、３１９を形成する。
続いて、中間層層３１９、３１９の上に、積層体ａ７の側面ｂ７、ｂ７に接合されるように導電層３１８、３１８を形成する。
続いて、上記リフトオフ用レジストを除去することにより、図１５に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子が得られる。
【０１８７】
なお、フリー磁性層３１４とこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にバイアス下地層の延出部３１６ｅ、３１６ｅが形成されたスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと上記基板との角度を調整する（角度を大きくする）ことにより、積層体ａ７の両側の反強磁性層３１１上と、積層体ａ７の両側の側面ｂ７、ｂ７の一部（フリー磁性層３１４の両端の一部）にバイアス下地層３１６、３１６を形成する以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０１８８】
また、フリー磁性層３１４と各ハードバイアス層３１７との間および各ハードバイアス層３１７の下側にバイアス下地層３１６が形成され、該バイアス下地層３１６はフリー磁性層３１４とハードバイアス層３１７との間の部分３１６ｆの膜厚がハードバイアス層３１７の下側の部分３１６ｇの膜厚よりも小さいスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと基板との角度を調整する（角度をさらに大きくする）ことにより、積層体ａ７の両側の反強磁性層３１１上と、積層体ａ７の両側の側面（フリー磁性層の両端）に、バイアス下地層３１６、３１６を形成すること以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０１８９】
［第６の実施形態］
図１６は、本発明の第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。図１７は、このスピンバルブ型薄膜磁気素子をトラック幅方向から見た断面図を示す。
本実施形態においても、ボトム型（Ｂｏｔｔｏｍ  ｔｙｐｅ  ）のシンセティックフェリピンド型（ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ−ｆｅｒｒｉ−ｐｉｎｎｅｄ  ｓｐｉｎ−ｖａｌｖｅｓ）とされ、図１５に示した第５実施形態と異なるところは、フリー磁性層がシンセティックフェリフリー型（ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ−ｆｅｒｒｉ−ｆｒｅｅ  ｓｐｉｎ−ｖａｌｖｅｓ）とされた点である。
【０１９０】
図１６において、符号３１１は、図示しない基板上にＴａなどの非磁性材料からなる下地層３１０上に設けられた反強磁性層である。この反強磁性層３１１の上には、固定磁性層３１２が形成されている。
この固定磁性層３１２は、第１の固定磁性層３１２Ａと、第１の固定磁性層３１２Ａの上に非磁性中間層３１２Ｂを介して形成され、第１の固定磁性層３１２Ａの磁化方向と反平行に磁化方向が揃えられた第２の固定磁性層３１２Ｃとからなる。
この第２の固定磁性層３１２Ｃの上には、Ｃｕ（銅）等からなる非磁性導電層３１３が形成され、さらに、非磁性導電層３１３の上には、シンセティックフェリフリー型のフリー磁性層４４４が形成されている。
フリー磁性層４４４は、第１、第２のフリー磁性層４４４Ａ，４４４Ｃが非磁性中間層４４４Ｂを介して２つに分断されており、分断された層４４４Ａ，４４４Ｃどうしで磁化の向きが１８０゜異なるフェリ磁性状態に形成されている。第１のフリー磁性層４４４Ａは、保護層３１５側に設けられ、第２のフリー磁性層４４４Ｃは非磁性導電層３１３側に設けられている。
【０１９１】
第１，第２のフリー磁性層４４４Ａ，４４４Ｃは、第５の実施形態のフリー磁性層３１４と同様の材質からなり、非磁性中間層４４４Ｂは、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｒｅ、Ｃｕのうち１種あるいは２種以上の合金で形成されていることが好ましい。
また、第１のフリー磁性層４４４Ａおよび第２のフリー磁性層４４４Ｃは、例えば、ＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金、あるいはＣｏＮｉＦｅ合金などで形成されることができる。ここで、第１のフリー磁性層４４４Ａと第２のフリー磁性層４４４Ｃの厚さは異なって形成されている。
また、これら第１のフリー磁性層４４４Ａおよび第２のフリー磁性層４４４Ｃはそれぞれ２層で形成されることもできる。
第２のフリー磁性層４４４Ｃと第２の固定磁性層３１２Ｃの非磁性導電層３１３と接する側には、Ｃｏ層を有することが好ましい。
【０１９２】
フリー磁性層４４４の上には、Ｔａなどで形成された保護層３１５が形成されている。
図１６に示すように、上記反強磁性層３１１の一部から保護層３１５までの各層により、略台形状の断面形状を有する積層体ａ８が構成されている。積層体ａ８の反強磁性層３１１の下部とこれの下層の下地層３１０は、これらの上側の固定磁性層３１２、非磁性中間層３１３、フリー磁性層４４４等よりもさらに両側に延びている。
【０１９３】
上記積層体ａ８の両側の反強磁性層３１０上には、ハードバイアス層３１７、３１７が形成され、各ハードバイアス層３１７の上側にはＴａまたはＣｒからなる中間層３１９を介して導電層３１８が形成されており、各ハードバイアス層３１７の下面には、ハードバイアス層の結晶配向性を制御するためのバイアス下地層３１６、３１６が形成されている。各バイアス下地層３１６は、第１の実施形態のバイアス下地層６を構成する材料と同様の体心立方構造の非磁性金属膜から構成されている。また、各バイアス下地層３１６は、緩衝層としても機能する。
【０１９４】
ハードバイアス層３１７，３１７の上面３１７Ａ，３１７Ａは、第２のフリー磁性層４４４Ｃの上面から下面までの間と同じ階層位置で第２のフリー磁性層の側面ｂ８、ｂ８（第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部）と直接接触されている。これによりハードバイアス３１７，３１７からの漏れ磁界を第２のフリー磁性層４４４Ｃのみにかけることができる。
また、ハードバイアス層３１７，３１７の上面３１７Ａ，３１７Ａは、第２のフリー磁性層４４４Ｃの上面から第２のフリー磁性層４４４Ｃの膜厚の半分の厚みの位置までの間と同じ階層位置で積層体ａ８の側面と接合されていることが好ましい。これによりハードバイアス層３１７，３１７から強いバイアス磁界が第２のフリー磁性層４４４ｃに対してかけられる。ハードバイアス層３１７、３１７が図示Ｘ１方向に磁化されていることによって、第２のフリー磁性層４４４Ｃの磁化が図示Ｘ１方向に揃えられている。
【０１９５】
そして、第１のフリー磁性層４４４Ａは、交換結合磁界（ＲＫＫＹ相互作用）によって第２のフリー磁性層４４４Ｃと磁気的に結合されて、図示Ｘ１方向の反対方向に磁化された状態となっている。第１のフリー磁性層４４４Ａおよび第２のフリー磁性層４４４Ｂの磁化は、フェリ状態を保ちながら、外部磁界の影響を受けて回転自在とされてる。即ち、第２のフリー磁性層４４４Ｃの磁化方向がハードバイアス層３１７，３１７により図示Ｘ１方向に揃えられると、第１のフリー磁性層４４４Ａの磁化方向が図示Ｘ１方向の反対方向に揃えられる。
【０１９６】
また、第２のフリー磁性層４４４Ｃの厚さｔ２は、第１のフリー磁性層４４４Ａの厚さｔ１よりも厚く形成されている。
また、第１のフリー磁性層４４４Ａ及び第２のフリー磁性層４４４Ｃの飽和磁化をそれぞれＭ１、Ｍ２としたとき、第１のフリー磁性層４４４Ａ及び第２のフリー磁性層４４４Ｃの磁気的膜厚はそれぞれＭ１・ｔ１、Ｍ２・ｔ２となる。
そしてフリー磁性層４４４は、第１のフリー磁性層４４４Ａと第２のフリー磁性層４４４Ｃとの磁気的膜厚の関係を、Ｍ２・ｔ２＞Ｍ１・ｔ１とするように構成されている。第１、第２のフリー磁性層４４４Ａ，４４４Ｃの磁気的膜厚の関係がＭ２・ｔ２＞Ｍ１・ｔ１とされていることから、第２のフリー磁性層４４４Ｃの磁化が残存した状態となり、フリー磁性層４４４全体の磁化方向が図示Ｘ１方向に揃えられる。このときのフリー磁性層４４４の実効膜厚は、（Ｍ２・ｔ２−Ｍ１・ｔ１）となる。
【０１９７】
また、第１のフリー磁性層４４４Ａと第２のフリー磁性層４４４Ｃは、それぞれの磁化方向が反平行方向となるように反強磁性的に結合され、かつ磁気的膜厚の関係がＭ２・ｔ２＞Ｍ１・ｔ１とされていることから、人工的なフェリ磁性状態とされている。
またこれにより、フリー磁性層４４４の磁化方向と固定磁性層３１２の磁化方向とが交差する関係となっている。
本実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子では、第２のフリー磁性層４４４Ｃの磁気的膜厚を、第１のフリー磁性層４４４Ａの磁気的膜厚よりも大きくすることにより、これら第１、第２のフリー磁性層の磁気的膜厚の差分がフリー磁性層の磁気的な実効膜厚となる。従って、第１、第２のフリー磁性層４４４Ａ，４４４Ｃの膜厚を適宜調整してフリー磁性層４４４の実効膜厚を薄くすることにより、フリー磁性層４４４の磁化方向を僅かな大きさの外部磁界により変動させることができ、スピンバルブ型薄膜磁気素子（磁気抵抗効果型薄膜磁気素子）の感度を高くすることが可能となる。また、フリー磁性層４４４全体の厚さをある程度厚くできるので、抵抗変化率が極端に小さくなることがなく、スピンバルブ型薄膜磁気素子の感度を高くすることが可能となる。
【０１９８】
ハードバイアス層３１７、３１７で挟まれた積層体ａ８の側面部分の傾斜角度θを３０度以上とすることがこの積層体ａ７の両側に形成される各ハードバイアス層３１７の積層体ａ８側の端部３１７Ｃの厚みが厚くなり、また積層体ａ８側の端部３１７Ｃの厚みが厚くなるにつれて、各ハードバイアス層３１７の積層体ａ８側の端部（先端部）３１７Ｃで下地のバイアス下地層３１６が形成されていない部分が少なくなる（各ハードバイアス層３１７の積層体ａ８側の端部３１７Ｃの結晶配向性が乱れた部分が少なくなる）ので、各ハードバイアス層３１７の積層体ａ７側の端部３１７Ｃで保磁力の低下している部分の体積が少なくなり、バルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）を１５％以下とできる点で好ましく、また、傾斜角度θを４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、傾斜角度θを６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下とできる点でさらに好ましい。
【０１９９】
第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ８側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃと第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部とは直接接触しているので、第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体となるので、第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部に反磁界が生じず、ハードバイアス層３１７、３１７からの強いバイアス磁界を有効に第２のフリー磁性層４４４Ｃに印加でき、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れる（バックリング現象が生じる）のを改善でき、フリー磁性層４４４の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上できる。
【０２００】
また、上述のように第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部に反磁界が生じていないので、このスピンバルブ型薄膜磁気素子が備えられる読出ヘッドの狭トラック化が進んでもバックリング現象が起こらないので、このバックリング現象に起因するトラック幅Ｔｗの両端の再生波形異常を防止でき、再生ヘッド全体としての再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合を低減できる。
また、ハードバイアス層３１７、３１７の残留磁化と膜厚との積をある程度小さくしても、上記交換相互作用により第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層３１７からのバイアス磁界を有効に第２のフリー磁性層４４４Ｃに印加でき、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を確保できるので、例えば、ハードバイアス層３１７、３１７の厚みを薄くして縦バイアス磁界を小さくして、上記積層体ａ８の側部付近の再生出力が低くなる領域を狭くして、中央部付近の再生出力が高い領域を広くし、再生出力を高めることができる。
【０２０１】
なお、第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ８側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃと第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部とが直接接触している場合について説明したが、各ハードバイアス層３１７の端部３１７Ｃと第２のフリー磁性層４４４Ｃの端部とは、少なくとも一部が直接接触していればよいので、バイアス下地層３１６、３１６は、第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にまで延出した図１６の破線で示すような延出部３１６ｅがあってもよい。
【０２０２】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層３１６、３１６が第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にまで延出していても、各ハードバイアス層３１７と第２のフリー磁性層４４４Ｃとは少なくとも一部が直接接触しているので、第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７とが交換相互作用により磁気的に連続体となるので、反磁界の起因となる第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部に反磁界が生じず、また、バイアス下地層３１６、３１６が第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間に延出していない場合と比べて各ハードバイアス層３１７から第２のフリー磁性層４４４Ｃに印加できるバイアス磁界の効率が下がるものの、各ハードバイアス層３１７からの強いバイアス磁界を良好に第２のフリー磁性層４４４Ｃに印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層４４４の磁区制御を良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
【０２０３】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、各バイアス下地層３１６の延出部３１６ｅの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｎｍ以下とされる。
【０２０４】
また、第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にバイアス下地層が介在されていない、すなわち、ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ８側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃと第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部とが直接接触している場合について説明したが、バイアス下地層３１６、３１６は、  図１６の破線で示すように第２のフリー磁性層４４４Ｃとハードバイアス層３１７、３１７との間にも形成されていてもよく、その場合、バイアス下地層３１６、３１６は第２のフリー磁性層４４４Ｃとハードバイアス層３１７、３１７との間の部分３１６ｆ、３１６ｆの膜厚（ここでの膜厚は、ＭＲヘッドのトラック幅方向に沿った方向の厚みである）がハードバイアス層３１７、３１７の下側の部分３１６ｇ、３１６ｇの膜厚（ここでの膜厚は、積層体ａ７の高さ方向に沿った方向の厚みである）よりも小さくされている。
【０２０５】
このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子では、第２のフリー磁性層４４４Ｃとハードバイアス層３１７、３１７との間の部分３１６ｆ、３１６ｆ（バイアス下地層３１６、３１６）の膜厚を上記ハードバイアス層の下側の部分３１６ｇ、３１６ｇ（バイアス下地層３１６、３１６）の膜厚よりも薄くしたしたことにより、第２のフリー磁性層４４４Ｃとハードバイアス層３１７、３１７との間に介在されたバイアス下地層３１６、３１６の部分３１６ｆ、３１６ｆにピンホールが生じるので、バイアス下地層３１６、３１６が介在されている部分の上記第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７とは、上記のバイアス下地層の部分３１６ｆ、３１６ｆに生じたピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。従って、このスピンバルブ型薄膜磁気素子では、バイアス下地層３１６、３１６が介在されている部分の第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７が交換相互作用により磁気的に連続体となるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層３１７からの強いバイアス磁界を良好に第２のフリー磁性層４４４Ｃに印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層４４４の磁区制御をより良好に行うことができ、トラック幅Ｔｗの両端の再生波形の安定性を向上できる。
また、バイアス下地層３１６が介在されている部分では、ハードバイアス層３１７の高い保磁力と角形比が維持された状態とすることができるので好ましい。
【０２０６】
また、このようなスピンバルブ型薄膜磁気素子において、第２のフリー磁性層４４４Ｃとハードバイアス層３１７、３１７との間に介在されているバイアス下地層３１６、３１６の部分３１６ｆ、３１６ｆの厚みが１ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、０．５ｎｍ以下とされる。
【０２０７】
さらに、第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子によれば、シンセティックフェリフリー型（ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ−ｆｅｒｒｉ−ｆｒｅｅ  ｓｐｉｎ−ｖａｌｖｅｓ）とされているため、第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子よりも大きな再生感度（ΔＲ／ΔＨ）を得ることが可能になる。
【０２０８】
次に、第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法について説明する。
まず、基板上に、下地層３１０、反強磁性層３１１、第１の固定磁性層３１２Ａ、非磁性中間層３１２Ｂ、第２の固定磁性層３１２Ｃと、非磁性導電層３１３、第２のフリー磁性層４４４Ｃ、非磁性中間層４４４Ｂ、第１のフリー磁性層４４４Ａ、保護層３１５を順次成膜して形成した積層膜上に第１実施形態と同様のリフトオフレジストを形成したのち、上記リフトオフ用レジストに覆われていない部分を、イオンミリングにより除去して、側面ｂ８、ｂ８とされる傾斜面を形成して略等脚台形状の積層体ａ８を形成する。
ついで、積層体ａ８の両側に延びている反強磁性層３１１上に、バイアス下地層３１６、３１６を後工程で形成するハードバイアス層３１７、３１７の下面側に配置されるように形成する。このとき、バイアス下地層３１６、３１６の上面は、フリー磁性層４４４の下面よりも下側の位置に配置されている。
【０２０９】
ついで、積層体ａ８の両側で、バイアス下地層３１６、３１６の上面にハードバイアス層３１７、３１７を、フリー磁性層４４４と同じ階層位置に配置されるように形成し、かつ、ハードバイアス層３１７、３１７の上面３１７Ａ、３１７Ａを、上記積層体ａ８の側面ｂ８、ｂ８の上端ｄ８、ｄ８より下側の位置で上記積層体ａ８の側面ｂ８、ｂ８と接合されるように形成する。
このとき、ハードバイアス層３１７、３１７は、フリー磁性層４４４の膜厚方向にフリー磁性層４４４の膜厚よりも大きな膜厚とされることが望ましい。また、上記ハードバイアス層３１７、３１７の上面３１７Ａ、３１７Ａは、上記フリー磁性層４４４の上面よりも上側に配置され、ハードバイアス層３１７、３１７の下面は、上記フリー磁性層４４４の下面よりも下側に配置されている。また、ハードバイアス層３１７、３１７の積層体ａ８側の端部３１７Ｃ、３１７Ｃは、第２のフリー磁性層４４４Ｃの側面ｂ８、ｂ８（第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端部）と直接接触している。
また、ハードバイアス層３１７、３１７の上面３１７Ａ、３１７Ａと上記積層体ａ８の側面ｂ８、ｂ８との接合点ｃ８、ｃ８は、積層体ａ８の側面ｂ８、ｂ８の上端ｄ８、ｄ８より下側の位置で、  かつ、上記ハードバイアス層３１７、３１７の最上位置より下側の位置とされることが好ましい。
ついで、積層体ａ８の両側で、ハードバイアス層３１７、３１７の上面に中間層３１９、３１９を形成する。
続いて、中間層３１９、３１９の上に、積層体ａ８の側面ｂ８、ｂ８に接合されるように導電層３１８、３１８を形成する。
続いて、上記リフトオフ用レジストを除去することにより、図１６に示すスピンバルブ型薄膜磁気素子が得られる。
【０２１０】
なお、第２のフリー磁性層４４４Ｃとこれの両側のハードバイアス層３１７、３１７の間にバイアス下地層の延出部３１６ｅ、３１６ｅが形成されたスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと上記基板との角度を調整する（角度を大きくする）ことにより、積層体ａ８の両側の反強磁性層３１１上と、積層体ａ８の両側の側面ｂ８、ｂ８の一部（第２のフリー磁性層４４４Ｃの両端の一部）にバイアス下地層３１６、３１６を形成する以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
【０２１１】
また、第２のフリー磁性層４４４Ｃと各ハードバイアス層３１７との間および各ハードバイアス層３１７の下側にバイアス下地層３１６が形成され、該バイアス下地層３１６は第２のフリー磁性層４４４Ｃとハードバイアス層３１７との間の部分３１６ｆの膜厚がハードバイアス層３１７の下側の部分３１６ｇの膜厚よりも小さいスピンバルブ型薄膜磁気素子を製造する場合には、先に述べたバイアス下地層を形成する工程において、第１のターゲットと基板との角度を調整する（角度をさらに大きくする）ことにより、積層体ａ８の両側の反強磁性層３１１上と、積層体ａ８の両側の側面（フリー磁性層の両端）に、バイアス下地層３１６、３１６を形成すること以外は、上記の方法と同様にして製造することができる。
なお、第１乃至第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、
固定磁性層が非磁性中間層を介して２つに分断された場合について説明したが、非磁性中間層で２つに分断されていないタイプのものであってもよく、その場合の固定磁性層は、１層以上の強磁性層から構成してもよい。
【０２１２】
次に、本発明の薄膜磁気へッドについて詳しく説明する。
図２６は、本発明の薄膜磁気ヘッドの一例を示した図である。
本発明の薄膜磁気へッドが従来の薄膜磁気ヘッドと異なるところは、磁気抵抗効果型薄膜磁気素子層２４５に、上述した本発明の第１乃至第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子のいずれかが備えられてなる薄膜磁気へッドであるところである。
上記スピンバルブ型薄膜磁気素子は、薄膜磁気へッド（再生用ヘッド）を構成する最も重要な箇所である。
【０２１３】
本発明の薄膜磁気へッドを製造するには、まず、図２５および図２６に示す磁性材料製の下部シールド層２５３上に下部ギャップ層２５４を形成した後、磁気抵抗効果型薄膜素子層２４５を形成する上述した第１乃至第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子のいずれかを成膜する。その後、成膜したスピンバルブ型薄膜磁気素子の上に上部ギャップ層２５６を介して上部シールド層２５７を形成すると、ＭＲヘッド（読出ヘッド）ｈ１が完成する。
続いて、上記ＭＲヘッドｈ１の上部シールド層２５７と兼用である下部コア層２５７の上に、ギャップ層２６４を形成し、  その上に螺旋状のコイル層２６６を、第１の絶縁材料層２６７Ａおよび第２の絶縁材料層２６７Ｂで囲むように形成する。さらに、第２絶縁材料層２６７Ｂの上に上部コア層２６８を形成し、上部コア層２６８の上に、保護層２６９を設けることによって薄膜磁気へッドとされる。
【０２１４】
このような薄膜磁気へッドは、上述した本発明の第１乃至第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子のいずれかが備えられてなる薄膜磁気へッドであるので、フリー磁性層の磁区制御を良好に行うことができ、バルクハウゼンノイズの防止効果に優れ、トラック幅の両端の再生波形の安定性に優れる。
なお、薄膜磁気ヘッドのスライダ部分の構成およびインダクティブヘッドの構成は、図１５〜図１７に示すものに限定されず、その他の種々の構造のスライダおよびインダクティブヘッドを採用することができるのは勿論である。
【０２１５】
（実験例１）
ボトムタイプのシンセティックフェリピンド型スピンバルブ型薄膜磁気素子において、バイアス下地層を各ハードバイアス層の下面側のみに配置し、かつ各ハードバイアス層とフリー磁性層とを直接接触させ、上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体としたことによるフリー磁性層の両端部の磁化の方向の乱れの改善の関係についてマイクロマグネティックシュミレーションおよび実際のヘッドのＲ−Ｈ曲線（Ｑｕａｓｉ−ｓｔａｔｉｃ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｃｕｒｖｅ）の計測により調べた。実験に使用したスピンバルブ型薄膜磁気素子は、図１５に示す第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子と同様の素子（実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子）である。その結果を図１９に示す。図１９は、実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子のフリー磁性層の磁化の分布を示す図であり、
【０２１６】
また、ここでの実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子のトラック幅寸法は０．３μｍ、素子高さを０．２５μｍとしたものである。
また、実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子の積層体における各層の膜厚は、下からＴａ３．０／ＰｔＭｎ１５．０／Ｃｏ２．０／Ｒｕ０．８／Ｃｏ２．５／Ｃｕ２．７／Ｃｏ０．５とＮｉＦｅ４．０／Ｔａ２．０（各数字はそれぞれの膜厚のｎｍ単位に対応する）に設定されている。フリー磁性層の磁気的膜厚は、４．５２（Ｔ・ｎｍ）とした。また、上記積層体の側面部分の傾斜角度θは、６０度とした。
また、この積層体の両側のＣｏＰｔからなるハードバイアス層の厚みは、約１０ｎｍ（１００）、各ハードバイアス層上に設けられたＣｒからなる導電層の厚みは、１００ｎｍ（１０００Å）、ハードバイアス層の下側に設けられたＣｒからなるバイアス下地層の厚みは、３ｎｍ（３０Å）とした。また、ハードバイアス層の磁気的膜厚は９．４（Ｔ・ｎｍ）とした。また、ハードバイアス層の上面の積層体の側面との接合点は、積層体の側面の上端より基板側の位置（下側の位置）で、かつ、積層体から離間した位置におけるハードバイアス層の最上位置より下側の位置で、各ハードバイアス層の積層体側の端部とフリー磁性層が直接接触する位置とした。また、各ハードバイアス層とこれの下側の反強磁性層との間に介在されたバイアス下地層の厚みは、３ｎｍ（３０Å）とした。また、ハードバイアス磁界の方向は、図１５と同様にＸ１方向とした。
本実施例では、図１９に示すようにフリー磁性層両端においても磁化分布が均一にＸ１方向に揃っていることがわかる。また、図２１は、本実施例の磁気ヘッドのＡＢＳ面と垂直方向に±２０ｋＡ／ｍ（２５０  Ｏｅ）の交流磁界を印可して測定したＲ−Ｈ曲線（Ｑｕａｓｉ−ｓｔａｔｉｃ−Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｃｕｒｖｅ）であるが、バルクハウゼンジャンプやヒステリシスがなく、なめらかな曲線を示している。
【０２１７】
それに対し厚さ５ｎｍのバイアス下地層を各ハードバイアス層の下面側と、フリー磁性層と各ハードバイアス層の間に配置した（各ハードバイアス層とフリー磁性層とは直接接触していない）以外は上記実施例の薄膜磁気素子と同様の構成にした比較例のスピンバルブ型薄膜磁気素子において、フリー磁性層の両端部の磁化の方向の乱れについてマイクロマグネティックシュミレーションおよび実際のジッドのＲ−Ｈ曲線の計測により調べた。その結果を、図２０に示す。図２０は、比較例のスピンバルブ型薄膜磁気素子のフリー磁性層の磁化の分布を示す図である。また、図２２は、比較例の磁気ヘッドのＡＢＳ面と垂直方向に±２０ｋＡ／ｍ（２５０  Ｏｅ）の交流磁界を印可して測定したＲ−Ｈ曲線（Ｑｕａｓｉ−ｓｔａｔｉｃ−Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｃｕｒｖｅ）を示す図である。
【０２１８】
図２０に示した結果から５ｎｍのバイアス下地層を各ハードバイアス層の下面側と、フリー磁性層と各ハードバイアス層の間に配置した比較例のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、図２０に示すようにフリー磁性層の両端の磁化方向が乱れ、Ｘ１方向に揃っていないことがわかる。これに起因して比較例のスピンバルブ型薄膜磁気素子では、図２２に示すように、そのＲ−Ｈ曲線には、バルクハウゼンノイズやヒステリシスが見られ、再生波形が不安定となっている。この曲線におけるバルクハウゼンジャンプは１５．３％と予測される。
図１９および図２１に示した結果からバイアス下地層を各ハードバイアス層の下面側のみに配置し、かつ各ハードバイアス層とフリー磁性層とを直接接触させた実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子においては、比較例のものに比べて、フリー磁性層の両端の磁化方向の乱れが軽減されており、これにより実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子では、トラック幅の両端の再生波形の安定性を向上できることがわかる。
【０２１９】
（実験例２）
実験例１で作製した実施例の積層体の側面部分の傾斜角度θが異なる以外は、実験例１で作製した実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子と同様のスピンバルブ型薄膜磁気素子を作製し、これの積層体の側面部分の傾斜角度を１５度〜６０度の範囲で変更したときのバルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）の積層体の側面部分の傾斜角度依存性について調べた。
ここでのＢＨＪは、作製したスピンバルブ型薄膜磁気素子が備えられた読出ヘッド（ＭＲヘッド）に、５ｍＡのセンス電流を印加しつつ、エアーベアリング面（ＡＢＳ面）と垂直方向に（素子高さ方向に）±６０ｋＡ／ｍ（±７５０  Ｏｅ）の交流外部磁界を印加してＲ−Ｈ曲線を測定したとき、バルクハウゼンノイズやヒステリシスが生じない理想状態のＲ−Ｈカーブからそれるジャンプが生じたときそのジャンプ分の薄膜磁気素子両端の電圧値（Ｖｊｕｍｐ）と、理想状態のＲ−Ｈカーブの終端（交流外部磁界が最大値と最小値のとき）のスピンバルブ型薄膜磁気素子両端の電圧値の差（ΔＶ）を測定し、このΔＶとＶｊｕｍｐとの比、すなわち、ＢＨＪ（％）＝Ｖｊｕｍｐ／ΔＶ×１００（ΔＶは、理想状態のＲ−Ｈカーブの始端（交流外部磁界が最小値のとき）の磁気抵抗効果素子両端の電圧値と、理想状態のＲ−Ｈカーブの終端（交流外部磁界が最大値のとき）の磁気抵抗効果素子両端の電圧値の差）から求めたものである。その結果を図２３および表１に示す。
【０２２０】
【表１】
0003607850.tif 000002
【０２２１】
図２３および表１に示した結果からスピンバルブ型薄膜磁気素子の積層体の側面部分のθが２５度ではＢＨＪが１９％、θが１５度ではＢＨＪが３２％となっており、θが３０度より小さくなるとバルクハウゼンジャンプ（ＢＨＪ）が急激に大きくなっていることがわかる。これに対して、スピンバルブ型薄膜磁気素子の積層体の側面の傾斜角度θが３０度ではＢＨＪが１４．５％であり、また、θが大きくなるにつれてＢＨＪが小さくなっていることがわかる。
それは、スピンバルブ型薄膜磁気素子の積層体の傾斜角度θが３０度より大きくなると、積層体の両側に形成される各ハードバイアス層の積層体側の端部の厚みが厚くなり、また積層体側の端部の厚みが厚くなるにつれて、各ハードバイアス層の積層体側の端部で下地のバイアス下地層が形成されていない部分が少なくなる（各ハードバイアス層の積層体側の端部の結晶配向性が乱れた部分が少なくなる）ので、各ハードバイアス層の積層体側の端部で保磁力の低下している部分の体積が少なくなり、ＢＨＪを低減できると考えられる。
以上のことからスピンバルブ型薄膜磁気素子の積層体の側面の傾斜角度を３０度以上とすることがバルクハウゼンジャンプを１５％以下とできる点で好ましく、また、上記傾斜角度を４５度以上とすることがＢＨＪを１０％以下とできる点でより好ましく、また、上記傾斜角度を６０度以上とすることがＢＨＪを５％以下できる点でさらに好ましいとした。
【０２２２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子（第１の発明）では、上記各ハードバイアス層とフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触しているので、上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層とが交換結合（交換相互作用）により磁気的に連続体となるので、フリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層からの強いバイアス磁界を有効にフリー磁性層に印加でき、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れる（バックリング現象が生じる）のを改善でき、フリー磁性層の磁区制御を良好に行うことができ、再生波形の安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上できる。
また、上述のようにフリー磁性層の両端部に反磁界が生じていないので、磁気抵抗効果型薄膜磁気素子が備えられる読出ヘッドの狭トラック化が進んでもバックリング現象が起こらないので、このバックリング現象に起因するトラック幅の両端の再生波形異常を防止でき、再生ヘッド全体としての再生波形の不安定性（Ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ）の発生割合を低減できる。
また、ハードバイアス層の残留磁化と膜厚との積をある程度小さくしても、上記交換相互作用によりフリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層からのバイアス磁界を有効にフリー磁性層に印加でき、トラック幅の両端の再生波形の安定性を確保できるので、例えば、ハードバイアス層の厚みを薄くして縦バイアス磁界を小さくして、上記積層体の側部付近の再生出力が低くなる領域を狭くして、中央部付近の再生出力が高い領域を広くし、再生出力を高めることができる。
【０２２３】
また、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子（第２の発明）では、上記フリー磁性層と上記ハードバイアス層との間のバイアス下地層の膜厚を上記ハードバイアス層の下側のバイアス下地層の膜厚よりも薄くしたしたことにより、上記フリー磁性層と上記ハードバイアス層との間に介在されたバイアス下地層の部分にピンホールが生じるので、バイアス下地層が介在されている部分の上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層とは、バイアス下地層のピンホールを通して交換相互作用により磁気的に連続体となる。
従って、この磁気抵抗効果型薄膜磁気素子では、バイアス下地層が介在されている部分の上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層が交換相互作用により磁気的に連続体となるので、上記反磁界の起因となるフリー磁性層の両端部に蓄積された磁荷が上記交換相互作用により有効に除去されるので、上記フリー磁性層の両端部に反磁界が生じず、各ハードバイアス層からの強いバイアス磁界を良好にフリー磁性層に印加できるので、フリー磁性層の両端部にかかる反磁界に起因してフリー磁性層の両端部の磁化の方向が乱れるのを改善でき、フリー磁性層の磁区制御をより良好に行うことができ、再生波形の安定性を向上できる。
【０２２４】
また、本発明の薄膜磁気へッドでは、上記のいずれかの構成の本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子が備えられたことにより、フリー磁性層の磁区制御を良好に行うことができ、バルクハウゼンノイズの防止効果が優れ、再生波形の安定性に優れた薄膜磁気へッドとすることができる。
【０２２５】
また、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造方法によれば、上記積層体のフリー磁性層の両側で、かつこのフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触するハードバイアス層が形成され、各ハードバイアス層の下側にバイアス下地層が形成された本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子、あるいは、上記積層体のフリー磁性層の両側で、かつこのフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触するハードバイアス層が形成され、各ハードバイアス層の下側にバイアス下地層が形成され、しかもこれらバイアス下地層は上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層の間にまで延出している本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子、あるいは、上記積層体のフリー磁性層の両側で、かつこのフリー磁性層とは少なくとも一部が直接接触するハードバイアス層が形成され、各ハードバイアス層の下側にバイアス下地層が形成され、しかもこれらバイアス下地層は上記フリー磁性層とこれの両側のハードバイアス層の間にまで延出している本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気素子の製造に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における第１の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子を模式図的に示した横断面図である。
【図２】図１に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
【図３】本発明の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子におけるハードバイアス層で挟まれた積層体の側面部分の傾斜角度θとハードバイアス層の先端部の形状との関係を説明するための概略図である。
【図４】図１に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法を説明するための図であって、基板上に積層体を形成し、その上にリフトオフ用のレジストを形成した状況を示した図である。
【図５】図１に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法を説明するための図であって、積層体を台形状に形成した状況を示した図である。
【図６】図１に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法を説明するための図であって、バイアス下地層を形成した状況を示した図である。
【図７】図１に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法を説明するための図であって、ハードバイアス層を形成した状況を示した図である。
【図８】図１に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子の製造方法を説明するための図であって、導電層を形成した状況を示した図である。
【図９】本発明における第２の実施形態のスピンパルブ型薄膜磁気素子を模式図的に示した横断面図である。
【図１０】図９に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
【図１１】本発明における第３の実施形態のスピンパルブ型薄膜磁気素子を模式図的に示した横断面図である。
【図１２】図１１に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
【図１３】本発明における第４の実施形態のスピンパルブ型薄膜磁気素子を模式図的に示した横断面図である。
【図１４】図１３に示したスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
【図１５】本発明の第５の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
【図１６】本発明の第６の実施形態のスピンバルブ型薄膜磁気素子を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
【図１７】図１６のスピンバルブ型薄膜磁気素子をトラック幅方向から見た断面図である。
【図１８】磁気抵抗効果型薄膜磁気素子が備えられた読出ヘッドに、センス電流を印加しつつ交流外部磁界を印加して測定したときのＲ−Ｈ曲線を示す図である。
【図１９】実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子のフリー磁性層の磁化の分布を示す図である。
【図２０】比較例のスピンバルブ型薄膜磁気素子のフリー磁性層の磁化の分布を示す図である。
【図２１】実施例のスピンバルブ型薄膜磁気素子のＲ−Ｈ曲線を示す図である。
【図２２】比較例のスピンバルブ型薄膜磁気素子のＲ−Ｈ曲線を示す図である。
【図２３】スピンバルブ型薄膜磁気素子の積層体の側面部分の傾斜角度を１５度〜６０度の範囲で変更したときのバルクハウゼンジャンプの積層体の側面部分の傾斜角度依存性を示す図である。
【図２４】薄膜磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図２５】図２４に示した薄膜磁気ヘッドの磁気コア部を示した断面図である。
【図２６】図２５に示した薄膜磁気ヘッドを示した概略斜視図である。
【図２７】従来のその他の例のスピンバルブ型薄膜磁気素子を備えた薄膜磁気ヘッドの要部の一例を記録媒体との対向面側から見た場合の構造を示した断面図である。
【符号の説明】
９…リフトオフ用レジスト、２８、３１、４４、８０、９２、１０８、１２２、３１１…反強磁性層、３１２…固定磁性層、２７、７９、３１２Ａ…第１の固定磁性層、２６、３３、４２、７２、７８、９４、１００、１０６、３１２Ｂ、４４４Ｂ…非磁性中間層、２５、７７、３１２Ｃ…第２の固定磁性層、２４、３５、４０、７６、９６、１０４、１２４、３１３…非磁性導電層、２１、３６、３１４、４４４…フリー磁性層、２９、４５、８１、１０９、１２７、２６９、３１５…保護層、３２、９３…第ｌの固定磁性層（下）、３４、９５…第２の固定磁性層（下）、４１、１０５…第２の固定磁性層（上）、４３、１０７…第１の固定磁性層（上）、７３、１０１、４４４Ａ…第１のフリー磁性層、７１、９７、４４４Ｃ…第２のフリー磁性層、６２、８２、１１０、１３０、３１７…ハードバイアス層、６３、８３、１１１、１２８、１３１、３１８…導電層、６、６６、８６、１１６、３１６…バイアス下地層、６ｅ、６６ｅ、８６ｅ、１１６ｅ、３１６ｅ…延出部、６ｆ、６６ｆ、８６ｆ、１１６ｆ、３１６ｆ…部分、６ｇ、６６ｇ、８６ｇ、１１６ｇ、３１６ｇ…部分、ａ３、ａ４、ａ５、ａ６、ａ７、ａ８…積層体、ｂ３、ｂ４、ｂ５、ｂ６、ｂ７、ｂ８…側面、ｃ３、ｃ４、ｃ５、ｃ６、ｃ７、ｃ８…接合点、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６、ｄ７、ｄ８…接合点、ｅ３、ｅ４、ｅ５、ｅ６、ｅ７、ｅ８…接合点、ｈ１…ＭＲヘッド（読出ヘッド）、Ｋ…基板、Ｍ…積層膜、θ…傾斜角度、Ｔｗ…トラック幅。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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