(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板に処理液を吐出する吐出ノズルと、
前記処理液を収容する収容容器と、
前記吐出ノズルと前記容器とを結ぶ供給配管と、
前記供給配管に連通するポンプ室を備えたポンプと、
前記ポンプの作動を制御するポンプ駆動機構と、
一端が前記容器から前記ポンプまでの間の前記供給配管から分岐し、他端が前記ポンプ室に連通する循環配管と、
前記供給配管途中であって前記循環配管の一端と他端の間に配設され、前記処理液を濾過して異物を除去するフィルタと、
このフィルタにより濾過され異物を含む処理液を排出するドレン配管と、
このドレン配管に配設され、前記フィルタから排出される処理液の流量を制御するバルブと、を具備する処理液供給装置であって、
前記ポンプは、前記循環配管に連通する循環口と、前記供給配管の下流側に連通する吐出口と、前記供給配管の上流側に連通する吸入口とを有し、
前記循環口及び前記吸入口は、前記吐出口よりも上方において前記ポンプ室にそれぞれ開口していることを特徴とする処理液供給装置。
【請求項２】
前記収容容器内の処理液を加圧する加圧手段と、この加圧手段による加圧タイミングで前記バルブを開栓するコントローラをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項３】
前記ポンプの下流側であって前記吐出ノズルよりも上流側に配設され、処理液中の気泡を除去する除去部をさらに具備することを特徴とする請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項４】
前記ポンプ駆動機構は、吸入タイミングで前記吐出口を塞ぎ、吐出タイミングで前記吸入口を塞ぐと共に前記循環配管に前記処理液を供給するものであることを特徴とする請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項５】
前記循環配管には、吸入タイミングで前記ポンプ内に蓄積した処理液のうち、吐出タイミングで前記吐出口から吐出する吐出量と循環配管に残りの処理液を循環させる循環量を制御する循環量制御部が設けられてなることを特徴とする請求項４に記載の処理液供給装置。
【請求項６】
前記フィルタは、処理液中の異物を捕捉する多孔性部材を有することを特徴とする請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項７】
前記フィルタは、少なくとも１つの液面を検出する液面検出部を有し、この液面検出部から検出された前記フィルタ内の液位に基づいて泡抜動作の必要の有無を判定することを特徴とする請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項８】
被処理基板に処理液を吐出する吐出ノズルと、前記処理液を収容する収容容器と、前記吐出ノズルと前記容器とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に連通するポンプ室を備え、前記供給配管の下流側に連通すると共に前記ポンプ室に開口する吐出口と、前記供給配管の上流側に連通すると共に前記吐出口よりも上方において前記ポンプ室にそれぞれ開口する吸入口及び循環口を有するポンプと、前記ポンプの作動を制御するポンプ駆動機構と、一端が前記容器から前記ポンプまでの間の前記供給配管から分岐し、他端が前記ポンプ室に連通する循環配管と、前記供給配管途中であって前記循環配管の一端と他端の間に配設され、前記処理液を濾過して異物を除去するフィルタと、このフィルタにより濾過され異物を含む処理液を排出するドレン配管と、このドレン配管に配設され、前記フィルタから排出される処理液の流量を制御するバルブとを準備する工程と、
前記収容容器から前記ポンプに前記吸入口を介して処理液を吸入する吸入工程と、
前記ポンプに吸入された処理液を前記吐出口を介して前記吐出ノズルに吐出するとともに、前記循環配管に前記循環口を介して処理液を循環させて前記フィルタで処理液中の気泡の少なくとも一部を分離する吐出工程とを有することを特徴とする処理液供給方法。
【請求項９】
請求項８に記載の処理液供給方法はさらに、前記収容容器を加圧するとともに前記処理液を前記フィルタで濾過して気泡を含む処理液を前記ドレン配管から排出する泡抜工程を有することを特徴とする処理液供給方法。
【請求項１０】
前記泡抜工程は、前記吐出工程中に行われることを特徴とする請求項９に記載の処理液供給方法。
【請求項１１】
前記吸入工程又は吐出工程中に、前記供給配管中の処理液の気泡量を検出し、気泡量が所定量を超えた場合に前記泡抜工程を行うことを特徴とする請求項９に記載の処理液供給方法。
【請求項１２】
前記泡抜工程中であって前記収容容器の加圧を開始する前のタイミングで前記バルブを開栓することを特徴とする請求項９に記載の処理液供給方法。
【請求項１３】
前記気泡量は、前記フィルタに設けられた液面センサで検出することを特徴とする請求項１１に記載の処理液供給方法。
【請求項１４】
前記ポンプ駆動機構は、吸入タイミングで前記吐出口を塞ぎ、吐出タイミングで前記吸入口を塞ぐと共に前記循環配管に前記処理液を供給するものであることを特徴とする請求項８に記載の処理液供給方法。
【請求項１５】
前記循環配管は、該配管を流れる処理液の流量を制御する流量制御部を有し、この流量制御部により、吸入タイミングで該ポンプ内に蓄積した処理液のうち、吐出タイミングで前記吐出口から吐出する吐出量と循環配管に残りの処理液を循環させる循環量を制御することを特徴とする請求項１４に記載の処理液供給方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被処理基板上に処理液を供給するための処理液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えばウェハＷ等の被処理基板にレジスト液を供給するレジスト液供給装置では、処理液を収容する収容容器からレジストノズルまでポンプにより処理液を送り、レジストノズルから所定量吐出することによりレジスト液の供給を行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このようなレジスト液供給装置では、レジスト液を収容する容器にガスを送入して容器内のレジスト液を加圧してレジスト液を供給する方法をとっているため、レジスト液の加圧により気泡が発生しやすい。このような気泡が含まれるレジスト液がウェハＷに向けて吐出されると、ウェハＷ表面にレジスト液が均一に拡がらないという問題があった。
【０００４】
そこで、この気泡発生を防止すべくレジスト液にフィルタをかけて気泡を除去する方法も考えられている。しかしながら、この方法では、既に顕在化している気泡を除去することは容易であったが、多数回の吐出工程を経て徐々に形成される気泡を除去することは非常に困難であった。
【０００５】
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、気泡を効率的に除去する処理液供給装置及び処理液供給方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明によれば、被処理基板に処理液を吐出する吐出ノズルと、前記処理液を収容する収容容器と、前記吐出ノズルと前記容器とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に連通するポンプ室を備えたポンプと、前記ポンプの作動を制御するポンプ駆動機構と、一端が前記容器から前記ポンプまでの間の前記供給配管から分岐し、他端が前記ポンプ室に連通する循環配管と、前記供給配管途中であって前記循環配管の一端と他端の間に配設され、前記処理液を濾過して異物を除去するフィルタと、このフィルタにより濾過され異物を含む処理液を排出するドレン配管と、このドレン配管に配設され、前記フィルタから排出される処理液の流量を制御するバルブと、を具備する処理液供給装置であって、前記ポンプは、前記循環配管に連通する循環口と、前記供給配管の下流側に連通する吐出口と、前記供給配管の上流側に連通する吸入口とを有し、前記循環口及び前記吸入口は、前記吐出口よりも上方において前記ポンプ室にそれぞれ開口していることを特徴とする処理液供給装置が提供される。
【０００７】
ここで、異物には、懸濁粒状物のみならず、レジスト液中に含まれる気泡も含まれる。
【０００８】
このような構成によれば、循環配管に処理液の一部を循環させて処理液の供給を行うため、処理液の一部は再度フィルタを通過して吐出ノズルから吐出されることとなる。従って、処理液中に存在する異物を効率的に除去することができる。
【０００９】
本発明の処理液供給装置では、循環口は、前記吐出口よりも前記ポンプの上部に開口しているので、ポンプ内の上部に集中する傾向にある気泡の循環効率が高まる。
【００１０】
好ましくは、収容容器内の処理液を加圧する加圧手段と、この加圧手段による加圧タイミングで前記バルブを開栓するコントローラを有する。これにより、気泡を多く含むレジスト液を加圧手段により押し出してドレン配管から排出することができ、気泡を多く含むレジスト液が吐出されるのを抑制できる。
【００１１】
好ましくは、ポンプの下流側であって吐出ノズルよりも上流側に配設され、処理液中の気泡を除去する除去部をさらに有する。これにより、さらなるレジスト液中の気泡の除去が可能となる。
【００１２】
好ましくは、ポンプ駆動機構は、吸入タイミングで前記吐出口を塞ぎ、吐出タイミングで前記吸入口を塞ぐと共に前記循環配管に前記処理液を供給する。これにより、通常の吐出動作において循環配管をレジスト液を循環させることができる。従って、レジスト液に含まれる気泡やレジスト液に含まれる溶存ガスを吐出動作時にフィルタに蓄積することができ、泡抜制御において効率的な泡抜が実現できる。
【００１３】
また好ましくは、前記循環配管には、吸入タイミングで前記ポンプ内に蓄積した処理液のうち、吐出タイミングで前記吐出口から吐出する吐出量と循環配管に残りの処理液を循環させる循環量を制御する循環量制御部が設けられてなる。これにより、気泡の発生量に応じて循環量を制御することができ、効率的な泡抜制御を実現することができる。
【００１４】
好ましくはフィルタは、処理液中の異物を捕捉する多孔性部材を有する。これにより、処理液中に含まれる気泡等の異物を充分に除去することができる。
【００１５】
また好ましくはフィルタは、少くとも１つの液面を検出する液面検出部を有する。これにより、泡抜が必要か否かを検出部の出力に基づいて容易に判断することが可能となる。
【００１６】
また、別の本発明によれば、被処理基板に処理液を吐出する吐出ノズルと、前記処理液を収容する収容容器と、前記吐出ノズルと前記容器とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に連通するポンプ室を備え、前記供給配管の下流側に連通すると共に前記ポンプ室に開口する吐出口と、前記供給配管の上流側に連通すると共に前記吐出口よりも上方において前記ポンプ室にそれぞれ開口する吸入口及び循環口を有するポンプと、前記ポンプの作動を制御するポンプ駆動機構と、一端が前記容器から前記ポンプまでの間の前記供給配管から分岐し、他端が前記ポンプ室に連通する循環配管と、前記供給配管途中であって前記循環配管の一端と他端の間に配設され、前記処理液を濾過して異物を除去するフィルタと、このフィルタにより濾過され異物を含む処理液を排出するドレン配管と、このドレン配管に配設され、前記フィルタから排出される処理液の流量を制御するバルブとを準備する工程と、前記収容容器から前記ポンプに前記吸入口を介して処理液を吸入する吸入工程と、前記ポンプに吸入された処理液を前記吐出口を介して前記吐出ノズルに吐出するとともに、前記循環配管に前記循環口を介して処理液を循環させて前記フィルタで処理液中の気泡の少なくとも一部を分離する吐出工程とを有することを特徴とする処理液供給方法が提供される。ここで、異物には、懸濁粒状物のみならず、レジスト液中に含まれる気泡も含まれる。
【００１７】
このような構成によれば、通常の吐出工程で処理液に含まれる気泡等の異物をフィルタに蓄積することができ、簡便な泡抜制御が実現できる。
【００１８】
好ましくは、収容容器を加圧するとともに前記処理液を前記フィルタで濾過して気泡を含む処理液を前記ドレン配管から排出する泡抜工程を有する。これにより、処理液中に含まれる気泡を押し出してドレン配管から排出することができる。
【００１９】
また、好ましくは、吸入工程又は吐出工程中に、供給配管中の処理液の気泡量を検出し、気泡量が所定量を超えた場合に泡抜工程を行う。これにより、不必要な泡抜が行われず、かつ気泡の多く含まれる処理液が供給されるのを防止できる。
【００２０】
また、好ましくは、泡抜工程中であって前記収容容器の加圧を開始する前のタイミングでバルブを開栓する。これにより、加圧により顕在化していた気泡が処理液中に溶解するのを防止できる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。
【００２２】
（第１実施形態）
（塗布現像処理システムの構成）
図１は本発明の一実施形態に係る基板処理装置が適用される塗布現像処理システムの全体構成を示す図である。
【００２３】
図１に示すように、塗布現像処理システム１は、複数個のカセットＣＲを受け入れるカセットステーション１１と、ウェハＷにレジスト液塗布及び現像のプロセス処理を行うプロセス処理部１２と、レジスト液が塗布されたウェハＷを図示しない露光装置に受け渡すインターフェース部１３とを備えている。カセットステーション１１は、半導体ウェハＷを例えば２５枚単位で収納したカセットＣＲが出し入れされる載置台１４と、カセットＣＲからウェハＷを取り出す第１のサブアーム機構１５とを備えている。
【００２４】
載置台１４はＹ軸方向に延出して設けられ、カセットＣＲは等ピッチ間隔に載置台１４の上に載置されるようになっている。カセットステーション１１には、図１に示すように、載置台１４上に例えば４つのカセット搬送機構であるスライドステージ１４ｂが配置され、各スライドステージ１４ｂ上にカセットＣＲを載置すると、３つの突起１４ａによりカセットＣＲが、ウェハ出入り口４１をプロセス処理部１２側に向けて位置決めされるようになっている。
【００２５】
第１のサブアーム機構１５は、ウェハＷをプロセス処理部１２のメインアーム機構１６に受け渡すことができ、後述するプロセス処理部１２側の第３の処理ユニット群Ｇ３の多段ユニット部に属するアライメントユニット（ＡＬＩＭ）及びエクステンションユニット（ＥＸＴ）にもアクセスできるようになっている。
【００２６】
カセットステーション１１とプロセス処理部１２間でのウェハＷの受け渡しは第３のユニット群Ｇ３を介して行われる。この第３の処理ユニット群Ｇ３は、図３に示すように複数のプロセス処理ユニットを上下多段縦型に積み上げてなるものである。すなわち、この処理ユニット群Ｇ３は、例えばウェハＷを冷却処理するクーリングユニット（ＣＯＬ）、ウェハＷに対するレジスト液の密着性を高めるための疎水化処理を行うアドヒージョンユニット（ＡＤ）、ウェハＷの位置合わせをするアライメントユニット（ＡＬＩＭ）、ウェハＷを待機させておくためのエクステンションユニット（ＥＸＴ）、露光処理前のレジスト膜を加熱する２つのプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）、現像処理後のレジスト膜の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）及び露光後の加熱処理を行うポストエクスポージャベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）を順次下から上へと積み上げて構成されている。
【００２７】
ウェハＷのメインアーム機構１６への受け渡しは、エクステンションユニット（ＥＸＴ）及びアライメントユニット（ＡＬＩＭ）を介して行われる。
【００２８】
また、図１に示すように、このメインアーム機構１６の周囲には、第３の処理ユニット群Ｇ３を含む第１〜第５の処理ユニット群Ｇ１〜Ｇ５がこのメインアーム機構１６を囲むように設けられている。前述した第３の処理ユニット群Ｇ３と同様に、他の処理ユニット群Ｇ１，Ｇ２，Ｇ４，Ｇ５も各種の処理ユニットを上下方向に積み上げ的に構成されている。
【００２９】
一方、メインアーム機構１６は、図３に示すように、上下方向に延接された筒状のガイド１７の内側に、メインアーム１８を上下方向（Ｚ方向）に昇降自在に装備している。筒状のガイド１７はモータ（図示せず）の回転軸に接続されており、このモータの回転駆動力によって、回転軸を中心としてメインアーム１８と一体に回転し、これによりメインアーム１８はθ方向に回転自在となっている。なお、筒状のガイド１７は前記モータによって回転される別の回転軸（図示せず）に接続するように構成してもよい。上記したようにメインアーム１８を上下方向に駆動することで、ウェハＷを各処理ユニット群Ｇ１〜Ｇ５の各処理ユニットに対して任意にアクセスさせることができるようになっている。
【００３０】
カセットステーション１１から第３の処理ユニット群Ｇ３のエクステンションユニット（ＥＸＴ）を介してウェハＷを受け取ったメインアーム機構１６は、先ず、このウェハＷを第３の処理ユニット群Ｇ３のアドヒージョンユニット（ＡＤ）に搬入し、疎水化処理を行う。次いで、アドヒージョンユニット（ＡＤ）からウェハＷを搬出し、クーリングユニット（ＣＯＬ）で冷却処理する。
【００３１】
冷却処理されたウェハＷは、メインアーム機構１６によって第１の処理ユニット群Ｇ１（もしくは第２の処理ユニット群Ｇ２）のレジスト液塗布処理装置（ＣＯＴ）に対向位置決めされ、搬入される。
【００３２】
レジスト液が塗布されたウェハＷは、メインアーム機構１６によってアンロードされ、第４の処理ユニット群Ｇ４を介してインターフェース部１３に受け渡される。
【００３３】
この第４の処理ユニット群Ｇ４は、図３に示すように、例えばクーリングユニット（ＣＯＬ）、エクステンション・クーリングユニット（ＥＸＴ・ＣＯＬ）、エクステンションユニット（ＥＸＴ）、クーリングユニット（ＣＯＬ）、２つのプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）、及び２つのポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）を下から上へと順次積み上げて構成したものである。
【００３４】
レジスト液塗布ユニット（ＣＯＴ）から取り出されたウェハＷは、先ず、プリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）に挿入され、レジスト液から溶剤（シンナー）を飛ばして乾燥される。なお、この乾燥は例えば、減圧法によるものであってもよい。すなわち、ウェハＷをプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）若しくはこれとは別に設けられたチャンバ内に挿入し、ウェハＷ周辺を減圧することで溶剤を除去（レジスト液を乾燥）する方法であってもよい。
【００３５】
次に、このウェハＷはクーリングユニット（ＣＯＬ）で冷却された後、エクステンションユニット（ＥＸＴ）を介して前記インターフェース部１３に設けられた第２のサブアーム機構１９に受け渡される。
【００３６】
ウェハＷを受け取った第２のサブアーム機構１９は、受け取ったウェハＷを順次バッファカセットＢＵＣＲ内に収納する。このインターフェース部１３は、前記ウェハＷを図示しない露光装置に受け渡し、露光処理後のウェハＷを受け取る。
【００３７】
露光後のウェハＷは、周辺露光装置（ＷＥＥ）にてウェハ周辺部の不要レジスト膜が露光された後、前記とは逆の動作を経てメインアーム機構１６に受け渡され、このメインアーム機構１６は、この露光後のウェハＷをポストエクスポージャベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）に挿入して加熱処理を行った後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて所定の温度に冷却処理される。その後、現像装置（ＤＥＶ）に挿入し現像を行わせる。現像処理後のウェハＷはいずれかのポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）に搬送され加熱乾燥した後、この第３の処理ユニット群Ｇ３のエクステンションユニット（ＥＸＴ）を介してカセットステーション１１に搬送され、カセットＣＲに収納される。
【００３８】
なお、第５の処理ユニット群Ｇ５は、選択的に設けられるもので、この例では前記第４の処理ユニット群Ｇ４と同様に構成されている。また、この第５の処理ユニット群Ｇ５はレール２０によって移動可能に保持され、前記メインアーム機構１６及び第１〜第４の処理ユニット群Ｇ１〜Ｇ４に対するメンテナンス処理を容易に行い得るようになっている。
【００３９】
この発明の処理液供給装置を図１〜図３に示した塗布現像ユニットに適用した場合、各処理ユニットが上下に積み上げ式に構成されているから装置の設置面積を著しく減少させることができる。
【００４０】
（レジスト塗布ユニットの全体構成）
図４は、本実施形態に係る処理液供給装置が適用されるレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の全体構成を示す縦断面図である。図４に示すように、このレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の中央部には環状のカップＣＰが配設され、カップＣＰの内側にはスピンチャック４１が配置されている。スピンチャック４１は真空吸着によりウェハＷを固定保持した状態で駆動モータ４２により回転駆動される。
【００４１】
駆動モータ４２は、ユニット底板４３に設けられた開口４４に昇降移動可能に配置され、例えばアルミニウムからなるキャップ状のフランジ部材４５を介して例えばエアシリンダからなる昇降駆動手段４６及び昇降ガイド手段４７と結合されている。
【００４２】
ウェハＷ表面に塗布液としてのレジスト液を吐出するためのレジストノズル４８は、レジストノズルスキャンアーム４９の先端部にノズル保持体５０を介して着脱可能に取り付けられている。このレジストノズルスキャンアーム４９は、ユニット底板４３の上に一方向（Ｙ方向）に敷設されたガイドレール５１上で水平移動可能な垂直支持部材５２の上端部に取り付けられており、図示しないＹ方向駆動機構によって垂直支持部材５２と一体にＹ方向に移動可能になっている。
【００４３】
図４に示すように、レジストノズル４８は、レジスト供給管４８ａを介してレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の下方室内に配設されたレジスト液供給機構（図示せず）に接続されている。
【００４４】
図５は本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の平面図である。レジストノズルスキャンアーム４９は、レジストノズル待機部５３でレジストノズル４８を選択的に取り付けるためにＹ方向と垂直なＸ方向にも移動可能であり、図示しないＸ方向駆動機構によってＸ方向にも移動できる。
【００４５】
さらに、レジストノズル待機部５３でレジストノズル４８の吐出口が溶媒雰囲気室の口５４に挿入され、中で溶媒の雰囲気に晒されることで、レジストノズル４８の先端のレジスト液が固化又は劣化しないようになっている。レジストノズル４８はレジスト液の種類や粘度等に応じて複数設けられ、処理条件に応じて使い分けられるようになっている。
【００４６】
さらに、ガイドレール５１上には、レジストノズルスキャンアーム４９を支持する垂直支持部材５２だけでなく、リンスノズルスキャンアーム５５を支持しＹ方向に移動可能な垂直支持部材５６も設けられている。
【００４７】
Ｙ方向駆動機構（図示せず）によってリンスノズルスキャンアーム５５はカップＣＰの側方に設定され、実線により示されるリンスノズル大気位置と、スピンチャック４１に設置されている半導体ウェハＷの周縁部直上に設定され、一点鎖線で示されたリンス液吐出位置との間で並進又は直線移動するようになっている。
【００４８】
（処理液供給系統の構成）
図６は本実施形態に係る処理液供給装置の処理液供給系統を示す図である。図６（ａ）に示すように、レジスト供給装置６１は、収容容器としてのレジストタンク６２を有し、このレジストタンク６２から供給されるレジスト液の吐出経路としての供給配管６３ａ〜６３ｄに沿って、レジスト液の供給量を検出するリキッドエンドセンサ６４、レジスト液中の溶存ガス、気泡の脱泡や懸濁粒状物等の異物を分離及び除去するフィルタ６５、レジスト液の吐出及び吸入を行うポンプ６６及びレジスト液を吐出するレジストノズル６７が吐出経路の上流側から下流側に順に設けられている。
【００４９】
レジストタンク６２とリキッドエンドセンサ６４は供給配管６３ａにより連通され、リキッドエンドセンサ６４とフィルタ６５は供給配管６３ｂにより連通され、フィルタ６５とポンプ６６は供給配管６３ｃにより連通され、ポンプ６６とレジストノズル６７は供給配管６３ｄにより連通されている。
【００５０】
また、レジストタンク６２には、レジスト液の吐出経路への円滑な供給を行うために、タンク内のレジスト液を加圧するＮ2ガス供給機構６８がガス供給管６８ａを介して接続されている。また、ガス供給管６８ａには切換エアオペレーティドバルブ６８ｂが取り付けられている。エアオペレーティドバルブ６８ｂの詳細な構成を図６（ｂ）及び（ｃ）に示す。バルブ６８ｂは第１流路６８ｄ及び第２流路６８ｅを有し、切り換え動作により、各流路６８ｄ，６８ｅを交互に切換可能である。図６（ｂ）はＮ2加圧開放用の第１流路６８ｄがＮ2ガス供給機構６８からガス供給管６８ａへのガス流路側にシフトしている。この第１流路６８ｄはガス供給機構６８からガス供給管６８ａへのガス流路を塞ぐとともに、ガス供給管６８ｃにＮ2ガスが導入される。ガス供給管６８ｃに導かれたＮ2ガスはレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）外あるいはクリーンルーム外に放出される。図６（ｃ）はＮ2加圧用の第２流路６８ｅがＮ2ガス供給機構６８からガス供給管６８ａへのガス流路側にシフトしている。この第２流路６８ｅはガス供給機構６８からガス供給管６８ａへのガス流路を連通させるとともに、ガス供給管６８ｃの供給口を塞ぐ。これにより、Ｎ2ガスはタンク６２内に供給され、タンク６２内のレジスト液を加圧することができる。
【００５１】
（ポンプ、循環系の構成）
ポンプ６６は、底壁、側周壁及び天井壁により周囲を規定されている。ポンプ６６は吸入されるレジスト液を受け入れる吸入口６６ａと、レジスト液を吐出してレジストノズル６７に供給する吐出口６６ｂを有し、この吸入口６６ａから吐出口６６ｂへのレジスト液の流路によりレジスト液の吐出経路が規定される。さらに、ポンプ６６はポンプからのレジスト液を放出させてレジスト液を循環させるための循環口６６ｃが設けられている。この循環口６６ｃには循環配管６８の一端が連通している。この循環配管６８の他端は供給配管６３ｂに連通しており、フィルタ６５を経由するレジスト液の吐出経路とは異なる経路であって、かつフィルタ６５を経由せずにレジスト液を吐出経路に再び戻す循環経路を規定している。
【００５２】
（逆止弁の構成）
レジスト液の吐出経路を規定する供給配管６３ａ、６３ｂ、６３ｃ、６３ｄには、逆止弁６９ａ，６９ｂ，６９ｃ，６９ｄがそれぞれに対応して設けられており、吐出経路をレジスト液が逆流するのを防止する。また、循環配管６８には逆止弁７０が設けられており、レジスト液が循環経路をレジスト液が逆流するのを防止する。
【００５３】
（ポンプの詳細な構成）
図７はポンプ６６の詳細な構成を示す図である。ポンプ６６はポンプ室８１の内圧を変動させて液の吸入及び吐出を繰り返すチューブフラムポンプである。ポンプ室８１は略円柱状をなし、その内部にＰＴＦＥ樹脂からなる弾性隔膜８２を有する。ベローズ部８３の全部とポンプ室８１の一部には圧力伝達媒体８４である油状物が封入されている。この圧力伝達媒体８４はベローズ部８３の伸縮により生じるポンプ駆動力をポンプ室８１の弾性隔膜８２に伝達するための媒体である。ベローズ部８３はステッピングモータ８５によって高精度に伸縮駆動され、コントローラ７３によってその伸縮動作タイミングや伸縮速度、すなわちレジスト液の吸入・吐出タイミングや吸入・吐出速度が設定条件に従って制御されるようになっている。また、ステッピングモータ８５にはエンコーダ８６が取り付けられている。
【００５４】
可動支持部８８ａの近傍には光透過型のセンサ８７が取り付けられている。このセンサ８７の光軸を横切ることが可能なようにシャッタ部材８８ｄが可動支持部８８ａに取り付けられ、ベローズ部８３の変位が検出されるようになっている。図７に示すように、ベローズ部８３が伸びきったところ、すなわち液吸入工程の終点ではシャッタ部材８８ｄがセンサ８７の光軸を遮るので、センサ８７の受光部は光を検出しない。
【００５５】
一方、図８に示すようにベローズ部８３が伸びきったところ、すなわち液吐出工程の終点では、シャッタ部材８８ｄはセンサ８７の光軸を遮らないので、センサ８７の受光部は光を検出する。この検出信号がコントローラ７３に入力されると、コントローラ７３はモータ８５の電源８９に司令を出し、ベルト機構９０ａ〜９０ｃ及びボールスクリュー８８をそれぞれ駆動させ、ベローズ部８３を伸長させる。
【００５６】
（ポンプ室の詳細な構成）
ポンプ室８１の詳細な構成を以下説明する。
【００５７】
図９は図７に示すポンプ室８１の詳細な構成を示す断面図、図１０は図８に示すポンプ室８１の詳細な構成を示す断面図である。
【００５８】
ポンプ室８１は側周壁９１ａと底壁９１ｂと天井壁９１ｃとで周囲を規定されている。ポンプ室８１は隔膜８２で内外に仕切られ、隔膜８２の内側領域にはレジスト液が供給され、隔膜８２の外側領域には圧力伝達媒体８４が封入されている。天井壁９１ｃの中央に凹所９１ｄが形成され、この凹所９１ｄに逆流防止弁９２を介して供給配管６３ｃが連通している。逆流防止弁９２は、ボール９２ａと、入口９２ｂと、ボール収納室９２ｃと、ストッパ９２ｄと、出口９２ｅとを備えている。
【００５９】
吸入工程では、ボール９２ａがストッパ９２ｄに嵌まり込み、レジスト液は入口９２ｂ及び出口９２ｅを通過してポンプ室８１内に流れ込む。吐出工程ではボール９２ａが入口９２ｂを塞ぎ、レジスト液はポンプ室８１内に流れ込まない。ポンプ室８１の径は６０〜７０ｍｍ、高さは６０〜７０ｍｍ程度である。
【００６０】
チューブフラム９３は側周壁９１ａの開口によりポンプ室８１に連通し、ベローズ部８３からのポンプ駆動力を圧力伝達媒体８４を介して隔膜８２に伝達するようになっている。隔膜８２はポンプ室８１の中心を軸として同心円状に設けられている。隔膜８２は例えばテトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）のような弾性に富む樹脂材料により構成される。また、天井壁９１ｃの周縁部には循環配管６８の循環口６６ｃが開口している。天井壁９１ｃの周縁部は中央部より高く、ここに泡集合部９１ｅが形成されている。レジスト液の吸入工程においては気泡９５は泡集合部９１ｅに集合し、さらに吐出工程では気泡９５は泡集合部９１ｅから循環配管６８を介してポンプ室８１内から排出されるようになっている。なお、泡集合部９１ｅの水平面に対する傾斜角度θは５〜１０°の範囲にすることが望ましい。
【００６１】
底壁９１ｂの中央部には逆流防止弁９４を介して供給配管６３ｄが開口している。この吐出側の逆流防止弁９４は吸入側の逆流防止弁９２と実質的に同じである。
【００６２】
図７に示すようにベローズ部８３を伸長させると、図９に示すようにポンプ室８１内にレジスト液が吸入される。一方、図８に示すようにベローズ部８３を収縮させると、図１０に示すようにポンプ室８１からレジスト液が吐出される。供給配管６３ｃ，６３ｄはともに大気圧下に開放されているので、ベローズ部８３からのポンプ圧力が減少又は増加し、これによりレジスト液がポンプ室８１に吸入され、あるいはポンプ室８１から吐出される。
【００６３】
なお、チューブフラム９３に封入される圧力伝達媒体８４としては、テフロンオイルやその他のオイルか、又は純水等の液体を用いることが好ましい。圧力伝達媒体８４に液体を採用することにより、チューブフラム９３内の経年的な容量変化を抑制でき、ポンプ室８１の周囲の壁９１ａ〜９１ｃの変位特定の長期安定化を図ることができる。
【００６４】
さらに、ポンプ室８１の天井壁９１ｃには気泡９５排出用の循環配管６８が開口している。この循環配管６８の開口（循環口６６ｃ）と供給配管６３ｃの間には高低差ｈを設けてある。この高低差ｈにより、気泡９５は供給配管６３ｃに侵入しなくなる。なお、循環配管６８はバルブ（図示せず）を介して大気圧雰囲気に連通している。定期的に例えばレジストタンク６２を交換する度等、このバルブを開けてポンプ室８１内の上部に溜まった気泡９５を排出する。
【００６５】
このように、ポンプ６６に設けられた吸入口６６ａ及び循環口６６ｃは、ポンプ室８１の天井壁９１ｃにそれぞれ開口しており、吐出口６６ｂはポンプ室８１の底壁９１ｂに開口している。吐出口６６ｂがポンプ室８１の底壁９１ｂに設けられるのは、ポンプ室８１内のレジスト液に気泡９５が混入した場合に、この気泡９５はポンプ室８１上部の泡集合部９１ｅに集まるため、比較的気泡９５の少ないポンプ室８１の底壁９１ｂからのレジスト液吐出部分の気泡９５を少なくするためである。
【００６６】
循環口６６ｃをポンプ６６の天井壁９１ｃに設けたのは、吐出口６６ｂをポンプ６６の底壁９１ｂに設けたのと逆の理由によるためである。すなわち、ポンプ６６上部に集まる気泡９５の比較的多いレジスト液を吐出経路に再び戻すことにより効率的に気泡９５を取り除くためである。
【００６７】
（フィルタの構成）
フィルタ６５内には、供給配管６３ｂから供給配管６３ｃへの吐出経路を塞ぐ多孔性部材６５ａが設けられている。この多孔性部材６５ａにより、レジスト液のみを孔に通過させ、レジスト液中に混入する懸濁粒状物や気泡をレジスト液と分離することができる。多孔性部材６５ａは、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＦＥ）や高分子ポリエチレンからなる多孔質又は繊維状の円筒成形体である。多孔性部材６５ａの平均孔径は例えば０．０５μｍ以下であることが望ましい。また、フィルタ６５に連通する供給配管６３ｂ及び６３ｃにより規定される吐出経路から分岐するように、ドレン配管７１の一端がフィルタ６５に連通している。このドレン配管７１の他端はドレンタンク（図示せず）に連通しており、フィルタ６５内の多孔性部材６５ａにより分離された懸濁粒状物や気泡等の異物を含むレジスト液をドレンタンクに導く。このドレン配管７１にはエアオペレーティドバルブ７１ａが取り付けられており、ドレン配管７１を開閉する。
【００６８】
このように、レジスト供給装置６１では、吐出経路にフィルタ６５を有するため、レジスト液はフィルタ６５を通過した後にレジストノズル６７から吐出されるようになっている。
【００６９】
（リキッドエンドセンサの構成）
リキッドエンドセンサ６４は、センサ（図示せず）を有する。このセンサはセンサ６４内の気泡の割合を測定する。気泡はセンサ内の上部に集まるため、このようにセンサを設けることにより、気泡がどれだけ溜まっているかを検出することができる。また、リキッドエンドセンサ６４の上部にはさらにドレン配管７２の一端が連通しており、その他端はドレンタンク（図示せず）に連通し、気泡あるいは気泡を含むレジスト液をドレンタンクに導く。このドレン配管７２にはドレンバルブ７２ａが取り付けられており、ドレン配管７２を開閉する。
【００７０】
（コントローラの構成）
ポンプ６６はコントローラ７３に接続されており、レジスト液吐出動作及び循環動作を制御する。また、リキッドエンドセンサ６４及び切換エアオペレーティドバルブ６８ｂはコントローラ７３に接続されている。このセンサ６４から得られる気泡量はコントローラ７３に出力され、切換エアオペレーティドバルブ６８ｂの流路をガス供給管６８ｃ側からガス供給管６８ｂ側に切換、Ｎ2加圧による泡抜操作が行われる。さらに、バルブ６７ａ，７０ａ，７１ａ，７２ａはコントローラ７３に接続され、吐出動作あるいは泡抜動作時に各配管の開閉制御を行う。
【００７１】
（循環系の構成）
このように、レジストタンク６２から供給配管６３ｂを介して供給されるレジスト液は、フィルタ６５、供給配管６３ｃ、ポンプ６６、循環配管６８を経由して再び供給配管６３ｂに戻る循環経路が設けられている。この循環経路を流れるレジスト液と、ポンプ６６の吐出口６６ｂから吐出されるレジスト液との比率は適宜コントローラ７３により設定可能である。なお、この比率は循環口６６ｃ近傍に循環配管６８を部分的に塞ぐ閉塞板（図示せず）を設け、この閉塞板をスライドさせて循環口６６ｃを塞ぐ面積を変えることにより設定可能である。もちろん、バルブ７０ａによりこの比率を制御することも可能である。
【００７２】
例えば吐出動作を行っている際にレジストタンク６２から供給されるレジスト液が４ｍｌ／ｍｉｎである場合、循環配管６８を１ｍｌ／ｍｉｎのレジスト液が循環する構成をとることができる。この場合、レジストノズル６７から吐出されるレジスト液は３ｍｌ／ｍｉｎとなる。また、気泡が多い場合には、循環するレジスト液の比率を高めることにより、気泡を効率的に除去することができる。このようなレジスト液の供給速度は、内蔵するステッピングモータ８５で調節可能である。
【００７３】
（コントローラの機能）
コントローラ７３は、吐出制御と泡抜制御の２つの制御を選択的に行うことができる。吐出制御は、通常のレジスト液吐出動作に関する制御である。すなわち、ポンプ６６を制御し、レジスト液を吐出経路に沿ってレジストノズル６７から吐出させる制御と、供給配管６３ａ，６３ｂ及び６３ｃを通過してポンプ６６に吸入口６６ａから吸入されたレジスト液の一部をポンプ６６に溜まった気泡や溶存ガスとともに循環配管６８を経由させる制御である。
【００７４】
泡抜制御は、レジスト液内の気泡や溶存ガスの除去に関する制御である。すなわち、ポンプ６６の吐出口６３ｃを塞いでレジスト液を吐出経路で滞留させるとともに、Ｎ2ガスがガス供給管６８ａからレジストタンク６２内に送入されるように切換エアオペレーティドバルブ６８ｂを切り換え、レジストタンク６２内のレジスト液を加圧してフィルタ６５により気泡あるいは溶存ガスを除去する制御である。
【００７５】
（レジスト供給プロセス）
次に、本実施形態に係る処理液供給装置の動作を図１１に示すフローチャートに基づいて説明する。
【００７６】
まず、レジスト供給装置６１の起動と同時に切換エアオペレーティドバルブ６８ｂを切り換えてガス供給管６８ａをレジストタンク６２に連通させ、この状態でレジストタンク６２内のレジスト液を加圧する（ｓ１）。
【００７７】
そして、この加圧状態を保持しながらポンプ６６を作動し（ｓ２）、レジスト液を吐出経路に沿って流し込む（ｓ３）。
【００７８】
このレジスト液の流入に伴い、供給配管６３ａ〜６３ｄやフィルタ６５内の空気が順次押し出され、これら配管６３ａ〜６３ｄ等には最初空気が流れ、やがて泡を大量に含むレジスト液が流れる。さらにレジスト液が流入すると、泡の量は徐々に減少していき、最終的には泡をほとんど含まないレジスト液が配管６３ａ〜６３ｄを流れ出す。このレジスト液の初期供給動作は、レジスト液がレジストノズル６７まで達するのを目視により確認し、あるいはリキッドエンドセンサ６４のセンサ出力によりセンサ６４内にレジストが所定量以上備蓄されたのを確認することにより終了が確認できる。
【００７９】
レジストが所定量備蓄されたのを確認した後（ｓ４）、レジストの吐出制御を開始する（ｓ５）。レジストの吐出制御は、上記レジスト液の流入動作とほぼ同じであるが、吐出制御ではコントローラ７３によりポンプ６６にステップ状の入力を与えてポンプ６６を脈動させ、かつ１回のポンプの駆動により供給配管６３ｄを介してノズル６７から吐出されるレジスト量を例えば４ｃｃというように制御する。この場合、リキッドエンドセンサ６４から供給されるレジスト量を５ｃｃとすると、残りの１ｃｃのレジスト液は循環配管６８を循環して吐出経路に戻る。５００回の吐出動作を行ったことを確認した後、レジスト液の泡抜制御を行う（ｓ７）。そして、すべての吐出動作が終了したことを確認して（ｓ８）レジスト供給が終了する。
【００８０】
（吐出制御プロセス）
吐出制御のより詳細なプロセスを図１２のフローチャートを用いて説明する。
【００８１】
吐出制御では吐出動作と吸入動作の２つに分けられる。吸入動作の際には（ｓ２１）、フィルタ６５を通過したレジスト液が供給配管６３ｃを介して大量にポンプ室８１内に流れ込むとともに、気泡９５も流れ込む（ｓ２３）。供給配管６３ｃを介してポンプ室８１に流れ込むレジスト量は例えば５ｃｃである。この際、循環配管６８のエアオペレーティドバルブ７０ａは閉じておく（ｓ２２）。このエアオペレーティドバルブ７０ａの働きにより循環配管６８の進路は塞がれ、バルブ７０ａよりも下流側までレジスト液が流れ込むことはない。また、供給配管６３ｄはボールにより塞がれ、レジスト液が供給配管６３ｄに流れ込むことはない（ｓ２４）。レジスト液中の気泡９５は、レジスト液との比重の差によりポンプ室８１の上方に集中する。
【００８２】
ポンプ室８１内に充分な量のレジスト液が流入されると、吸入動作を終了して（ｓ２５）次に吐出動作に入る（ｓ２６）。吐出動作の際には、供給配管６３ｄが開放されてレジスト液がレジストノズル６７に達する（ｓ２８）。供給配管６３ｄに吐出されるレジスト量は例えば４ｃｃである。この吐出タイミングと同時にエアオペレーティドバルブ７０ａを開栓しておく（ｓ２７）。これにより、循環配管６８にもレジスト液が大量の気泡９５と共に流れ込む（ｓ２９）。ポンプ室８１に吸入されたレジスト量が５ｃｃ、吐出されるレジスト量が４ｃｃであるため、循環配管６８に流れ込むレジスト量は１ｃｃである。この吐出タイミングではポンプ６６の供給配管６３ｃはボール９２ａにより塞がれてレジスト液が流れ込むことはない（ｓ３０）。
【００８３】
循環配管６８に流れ込むレジスト液は、吐出ノズル６７に達することができず、ポンプ室８１内に戻ったものが多く、比較的液圧は低くなっている。この液圧の低くなったレジスト液は、フィルタ６５周辺の供給配管６３ｂ、６３ｃに供給される。このように、液圧の低くなったレジスト液では、もともと顕在化していた気泡９５のみならず、液圧の高い場合には溶存ガスとしてレジスト液中に溶解していた気泡９５が顕在化する。これら顕在化した気泡９５は、再びフィルタ６５を通過する。これにより、気泡９５の一部を分離することができる。（ｓ３１）。その後再びエアオペレーティドバルブ７０ａを閉栓して（ｓ３２）吐出動作が終了すると（ｓ３３）、再び吸入動作が開始される（ｓ２１）。
【００８４】
上記吸入及び吐出動作におけるＮ2ガスによるレジストタンク６２内のレジスト液の加圧は、ポンプ６６の吐出動作と同じタイミングで設定してもよく、吐出動作以外のタイミングでは加圧してもしなくてもよい。
【００８５】
但し、常にレジスト液を加圧していると、レジスト液中の液圧が高くなる。従って、レジスト液内の溶存ガスを増加させることとなるため、例えばレジスト液の吸入動作と同じタイミング、あるいはそのタイミングの一部で加圧を解除する。このタイミングで切換エアオペレーティドバルブ６８ｂを切り換えてＮ2ガスをガス供給管６８ｃを介して大気中に放出する。図１３は本実施形態のレジスト吐出制御中のＮ2ガスによる加圧タイミングを示すタイミングチャートである。（ａ）は吸入タイミング、（ｂ）は吐出タイミング、（ｃ）は加圧タイミングを示す。横軸は時間、縦軸は（ａ）、（ｂ）に関してはレジスト量を、（ｃ）に関しては加圧量を示す。図１３に示すように、ｔ１からｔ３、ｔ４からｔ７までのタイミングでポンプ６６による吸入動作を行い、ｔ２からｔ５、ｔ６からｔ８までのタイミングで吐出動作を行う。この吐出タイミングのうち、吐出開始時ｔ２、ｔ６よりもわずかに遅れたｔ２ａ、ｔ６ａで加圧を開始し、吐出動作が終了する前のｔ５ａ，ｔ８ａで加圧を終了する。
【００８６】
また、この吸入及び吐出動作におけるＮ2ガス加圧は全く行わなくてもよい。この場合、レジスト液の初期供給動作終了を確認（ｓ４）した後に、バルブ６８ｂを切り換えて加圧を解除すればよい。
【００８７】
また、この吐出制御を行っている限り、すべての気泡９５をレジスト液を循環経路を経由させてフィルタ６５で除去するのは困難である。そこで、例えば上記吐出動作を５００回行った後に（ｓ６）、泡抜制御を行う（ｓ７）。
【００８８】
泡抜制御のフローチャートを図１４に示す。
【００８９】
泡抜制御では、例えばポンプ６６を停止して供給配管６３ｃからポンプ６６にレジスト液が流れ込まない状態する（ｓ４１）。この状態では、上記吐出動作で充分に低圧となったレジスト液が供給配管６３ｂに流れ込んでいる。次に、エアオペレーティドバルブ７１ａを開栓するとともに、バルブ７０ａを閉栓する（ｓ４２）。その後、切換エアオペレーティドバルブ６８ｂをガス供給管６８ｂ側に切り換えてレジストタンク６２内のレジスト液を加圧する（ｓ４３）。これにより、レジスト液中に顕在化した気泡をフィルタ６５により分離し、気泡を多く含むレジスト液をドレン配管７１からドレンタンク（図示せず）に放出する（ｓ４４）。なお、一部のレジスト液は供給配管６３ｄから吐出される。もちろん、供給配管６３ｄに流れ込むレジスト液はフィルタ６５を通過した後であるため、気泡９５はほとんど除去されている。このレジスト液の放出の際、レジスト液には充分な気泡が存在するため、レジスト液の無駄な廃棄をほとんどなくすことができる。かつ、この泡抜動作は多数回レジスト吐出制御を行った後に行うため、レジスト液をドレンタンクに廃棄するレジスト量を極力低減することができる。なお、１回の泡抜制御で気泡９５が充分に除去されなかった場合には、再度泡抜動作を行っても良い（ｓ４５）。この場合、例えばフィルタ６５に設けたセンサ（図示せず）により監視することにより気泡量を確認し、泡抜動作が再度必要か否か判定することができる。この判定をコントローラ７３を用いて自動制御で行っても良いことはもちろんである。
【００９０】
また、フィルタ６５をポンプ６６の吐出経路上流側に設置しているため、気泡を含んだレジスト液が再循環するのを極力防止することができる。
【００９１】
すべての吐出制御が終了したことを確認した後、レジスト供給は終了する。なお、すべての吐出制御が終了していない場合には再び吐出制御を開始する。
【００９２】
なお、本実施形態では泡抜制御と吐出制御を別個に行う場合を示したが、必ずしも泡抜制御を吐出制御と別個独立に行う必要はない。吐出制御のみでも、レジストの再循環及びフィルタリングにより、吐出動作の度にレジスト液の気泡の顕在化を行うことができる。吐出制御のみで泡抜を行う場合のフローチャートを図１５に示す。図１５に示すように、吐出制御のみで泡抜を行う場合には、ポンプ６６の吐出タイミングにエアオペレーティドバルブ７１ａを開栓し、その都度泡抜を行っても良い。この場合、吐出タイミングのすべての時間でエアオペレーティドバルブ７１ａを行う必要はなく、例えば吐出タイミングに入ってからＮ2ガスによるレジスト液の加圧タイミングを経た後にエアオペレーティドバルブ７１ａを開栓するようにしてもよい。
【００９３】
なお、この泡抜制御は、例えばフィルタ６５等にセンサ（図示せず）を設け、このセンサ出力から気泡量を算出してその算出値が所定量を超えた場合に行うものでもよい。この場合のレジスト供給動作は図１６に示すフローチャートで示される。
【００９４】
（第２実施形態）
図１７は本発明の第２実施形態に係る基板処理装置を説明するための図である。なお、この第２実施形態が上記第１実施形態と共通する部分についての詳細な説明は省略し、同一の構成には同一符号を付す。第１実施形態ではフィルタを気泡及び溶存ガスの除去用に用いたが、本実施形態は、トラップタンクをレジスト液の循環経路に設けてレジスト液中の気泡及び溶存ガスを除去する。
【００９５】
（処理液供給装置の構成）
図１７に示すように、レジスト（処理液）供給装置８０は、収容容器としてのレジストタンク６２を有し、このレジストタンク６２から供給されるレジスト液の吐出経路としての供給配管６３ａ，１１２，１１３，１１４，１１５に沿って、リキッドエンドセンサ６４、レジスト液中に気泡の分離及び除去を行うトラップタンク１１１、レジスト液の吐出及び吸入を行うポンプ６６、気泡の脱泡や懸濁粒状物等の異物を分離及び除去するフィルタ６５、及びレジスト液を吐出するレジストノズル６７が吐出経路の上流側から下流側に順に設けられている。
【００９６】
レジストタンク６２とリキッドエンドセンサ６４は供給配管６３ａにより連通され、リキッドエンドセンサ６４とトラップタンク１１１は供給配管１１２により連通され、トラップタンク１１１とポンプ６６は供給配管１１３により連通され、ポンプ６６とフィルタ６５は供給配管１１４により連通され、フィルタ６５とレジストノズル６７は供給配管１１５により連通されている。
【００９７】
また、レジストタンク６２には、レジスト液中の気泡の発生を防止すべく、タンク６２内のレジスト液を加圧するためのＮ2ガス供給機構６８がガス供給管６８ａを介して接続されている。また、ガス供給管６８ａには切換エアオペレーティドバルブ６８ｂが取り付けられており、切換操作によりタンク６２内に供給する経路とは異なる経路にガス供給管６８ｃを介してＮ2ガスを導くことができるようになっている。ガス供給管６８ｃに導かれたＮ2ガスはレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）外あるいはクリーンルーム外に放出される。なお、エアオペレーティドバルブ６８ｂの詳細な切換動作は図６（ｂ）及び（ｃ）と同様である。
【００９８】
（ポンプ、循環系の構成）
ポンプ６６は、底壁、側周壁及び天井壁により周囲を規定されている。ポンプ６６は吸入されるレジスト液を受け入れる吸入口６６ａと、レジスト液を吐出してレジストノズル６７に供給する吐出口６６ｂを有し、この吸入口６６ａから吐出口６６ｂへのレジスト液の流路によりレジスト液の吐出経路が設定される。さらに、ポンプ６６はポンプ６６内からレジスト液を放出させてレジスト液を循環させるための循環口６６ｃが設けられている。この循環口６６ｃには循環配管６８の一端が連通している。この循環配管６８の他端はトラップタンク１１１の天井壁に連通している。この循環配管６８により、吐出経路とは異なる経路である循環経路を規定している。なお、ポンプ６６に設けられた吸入口６６ａ、吐出口６６ｂ、循環口６６ｃの上下方向の位置関係やポンプ６６の詳細な構成、及びポンプ室８１内の詳細な構成は第１実施形態と同様に規定されている。
【００９９】
（逆止弁の構成）
レジスト液の吐出経路を規定する供給配管６３ａ、１１２、１１３、１１４、１１５には、逆止弁６９ａ、１１６、１１７、１１８、１１９がそれぞれの配管に対応して設けられており、吐出経路におけるレジスト液の逆流を防止する。また、循環配管６８には逆止弁７０が設けられており、レジスト液が循環方向とは逆方向に流れ込むのを防止する。
【０１００】
（フィルタの構成）
フィルタ６５内には、供給配管６３ｂから供給配管６３ｃへの吐出経路を塞ぐ多孔性部材６５ａが設けられている。この多孔性部材６５ａにより、レジスト液のみを孔に通過させ、レジスト液中に混入する懸濁粒状物や気泡をレジスト液と分離することができる。また、フィルタ６５に連通する供給配管１１４及び１１５で規定される吐出経路から分岐するように、ドレン配管７１の一端がフィルタ６５に連通している。このドレン配管７１の他端はドレンタンク（図示せず）に連通しており、フィルタ６５内の多孔性部材６５ａにより分離された懸濁粒状物や気泡を含むレジスト液をドレンタンクに導く。このドレン配管７１にはドレンバルブ７１ｂが取り付けられており、ドレン配管７１を開閉する。
【０１０１】
（リキッドエンドセンサの構成）
リキッドエンドセンサ６４は、センサ（図示せず）を有する。このセンサはセンサ６４内の気泡の割合を測定する。気泡はセンサ内の上部に集まるため、このようにセンサを設けることにより、気泡がどれだけ溜まっているかを検出することができる。また、リキッドエンドセンサ６４の上部にはさらにドレン配管７２の一端が連通しており、その他端はドレンタンク（図示せず）に連通し、気泡あるいは気泡を含むレジスト液をドレンタンクに導く。このドレン配管７２にはドレンバルブ７２ａが取り付けられており、ドレン配管７２を開閉する。
【０１０２】
（トラップタンクの構成）
トラップタンク１１１は、天井壁、側周壁及び底壁により周囲を規定されるタンク本体１１１ａ、タンク本体１１１ａ内に設けられ、本体１１１ａ内のレジスト液の液面を検出する上部センサ１１１ｂ及び下部センサ１１１ｃを有する。これらセンサ１１１ｂ，１１１ｃはそれぞれタンク本体１１１ａ内の上部及び下部の気泡の割合を測定する。気泡はタンク本体１１１ａ内の上部に集まるため、このようにセンサをタンク本体１１１ａの上下方向に２つ設けることにより、気泡がどれだけ溜まっているかを３段階で検出することができる。また、タンク本体１１１ａの天井壁にはさらにドレン配管１２０の一端が連通しており、その他端はドレンタンク（図示せず）に連通し、気泡あるいは気泡を含むレジスト液をドレンタンクに導く。このドレン配管１２０にはドレンバルブ１２０ａが取り付けられており、ドレン配管７２を開閉する。
【０１０３】
また、タンク本体１１１ａ内には、フィルタ６５内と同様に、供給配管１１２から供給配管１１３への吐出経路を塞ぐように多孔性部材（図示せず）が設けられている。この多孔性部材により、レジスト液のみを孔に通過させ、レジスト液中に混入する懸濁粒状物や気泡をレジスト液と分離することができる。また、吐出経路から分岐するように、ドレン配管１２０の一端がタンク本体１１１ａに連通している。このドレン配管１２０の他端はドレンタンク（図示せず）に連通しており、多孔性部材により分離された懸濁粒状物や気泡を含むレジスト液をドレンタンクに導く。このドレン配管１２０にはエアオペレーティドバルブ８２ａが取り付けられており、ドレン配管１２０を開閉する。
【０１０４】
（コントローラの構成）
ポンプ６６はコントローラ７３に接続されており、レジスト液吐出動作及び循環動作を制御する。また、上部センサ１１１ｂ、下部センサ１１１ｃ及び切換エアオペレーティドバルブ６８ｂはコントローラ７３に接続されている。これらセンサ１１１ｂ，１１１ｃから得られる気泡量はコントローラ７３に出力され、切換エアオペレーティドバルブ６８ｂの流路をガス供給管６８ｃ側からガス供給管６８ｂ側に切換、Ｎ2加圧による泡抜操作が行われる。さらに、バルブ６７ａ，７０ａ，７１ｂ，７２ａ、１２０ａはコントローラ７３に接続され、吐出動作あるいは泡抜動作時に各配管の開閉制御を行う。なお、特に言及されない限り他のコントローラ７３の機能は第１実施形態と共通するので省略する。
【０１０５】
（循環系の構成）
このように、レジストタンク６２から供給配管６３ｂを介して供給されるレジスト液は、トラップタンク１１１、供給配管１１３、ポンプ６６、循環配管６８を経由して再びトラップタンク１１１に戻る循環経路が設けられている。この循環経路を流れるレジスト液と、ポンプ６６の吐出口６６ｂから吐出されるレジスト液との比率は適宜コントローラ７３により設定可能である。例えば吐出動作を行っている際にレジストタンク６２から供給されるレジスト液が４ｍｌ／ｍｉｎである場合、循環配管６８を１ｍｌ／ｍｉｎのレジスト液が循環する構成をとることができる。また、気泡が多い場合には、循環するレジスト液の比率を高めることにより、気泡を効率的に除去することができる。このようなレジスト液の供給速度は、内蔵するステッピングモータ８５で調節可能である。
【０１０６】
（レジスト供給プロセス）
次に、本実施形態に係るレジスト供給フローを図１８に沿って説明する。なお、レジスト供給プロセスの概略的フローは図１１と共通するので説明は省略する。
【０１０７】
図１８は本実施形態に係るレジスト液の吐出制御８に関するフローチャートを示す図である。この吐出制御は吐出動作と吸入動作の２つに分けられる。
【０１０８】
吸入動作の際には（ｓ８１）、トラップタンク１１１を通過したレジスト液が供給配管１１３を介して大量にポンプ室８１内に流れ込む（ｓ８３）。供給配管１１３を介してポンプ室８１に流れ込むレジスト量は例えば５ｃｃである。この際、循環配管６８のエアオペレーティドバルブ７０ａは閉じておく（ｓ８２）。また、供給配管１１４はボールにより塞がれ、レジスト液が供給配管１１４に流れ込むことはない（ｓ８４）。レジスト液中の気泡９５は、レジスト液との比重の差によりポンプ室８１の上方に集中する。
【０１０９】
ポンプ室８１内に充分な量のレジスト液が流入されると、吸入動作を終了して（ｓ８５）吐出動作に入る（ｓ８６）。吐出動作の際には、供給配管１１４が開放されてレジスト液がレジストノズル６７に達する（ｓ８８）。供給配管１１４に吐出されるレジスト量は例えば４ｃｃである。この吐出タイミングと同時にエアオペレーティドバルブ７０ａを開栓しておく（ｓ８７）。
【０１１０】
また、この吐出タイミングでは、そのタイミングに合わせて適宜バルブ７１ｂを開栓して気泡や懸濁粒状物を除去する（ｓ８９）。このステップｓ８９は、例えばフィルタ６５に気泡量等を検出するセンサ（図示せず）を設け、このセンサ出力に基づいて必要になった際に行っても、または目視により確認して必要か否かを確認して適宜行えばよい。また、このフィルタ６５でのレジスト液の排出は、泡抜制御時に同時に行うものでもよい。このような工程を経て循環配管６８にレジスト液が大量の気泡９５とともに流れ込む（ｓ９０）。ポンプ室８１に吸入されたレジスト量が５ｃｃ、吐出されるレジスト量が４ｃｃであるため、循環配管６８に流れ込むレジスト量は１ｃｃである。
【０１１１】
この吐出タイミングではポンプ６６の供給配管１１４はボール９２ａにより塞がれてレジスト液が流れ込むことはない（ｓ９１）。循環配管６８流れ込むレジスト液の気泡９５の一部はトラップタンク１１１により捕捉される。これにより、気泡９５の一部を分離することができる（ｓ９２）。その後再びエアオペレーティドバルブ７０ａを閉栓して（ｓ９３）吐出動作が終了すると（ｓ９４）、再び吸入動作が開始される（ｓ８１）。
【０１１２】
なお、レジストタンク６２のＮ2加圧タイミングは、第１実施形態と同様である。
【０１１３】
次に、上記吐出制御を５００回行った後に、トラップタンク１１１に捕捉された気泡９５を分離及び除去する泡抜制御を行う。本実施形態における泡抜制御は第１実施形態と同様に、レジストタンク６２内のレジスト液をＮ2加圧してトラップタンク１１１から気泡９５を含むレジスト液を押し出す。この泡抜制御は第１実施形態の図１４に示したステップに沿って行われる。なお、本実施形態の場合、トラップタンク１１１にはセンサ１１１ｂ，１１１ｃが設けられているため、泡抜が充分に行われたか否かを容易に確認することができる。例えば、センサ１１１ｃで気泡量が大量に蓄積されたことを確認した場合に、少なくともセンサ１１１ｂで気泡量が少ないと確認できる程度まで泡抜を行う。
【０１１４】
このように本実施形態によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する上、フィルタ６５によりさらに泡抜が行える。従って、第１実施形態よりも気泡量を低減できる。また、トラップタンク１１１により気泡量を確認しながら泡抜が行えるため、確実な泡抜制御が可能となり、大量の気泡を含むレジスト液が供給される危険性がなくなる。
【０１１５】
本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態ではレジスト液の吐出動作及び循環動作を制御するポンプ６６に設けられる吸入口６６ａ、循環口６６ｃをポンプ６６の天井壁に、吐出口６６ｃを底壁に配設する場合を示したが、これに限定されるものではないことはもちろんである。
【０１１６】
吸入口６６ａに対して吐出口６６ｃがポンプ６６の下側に配設される場合であれば、例えば両者ともポンプ６６の側周壁に配設されてもよい。また、ポンプ６６は底壁、側周壁及び天井壁で周囲を規定されるものに限らず、他の構成でもよいことはもちろんである。この場合、吸入口６６ａに対して吐出口６６ｃがポンプ６６の下側に配設され、かつ循環口６６ｂが吐出口６６ｃよりもポンプ６６上側に配設される構成であれば、気泡の除去効率を高く保持することができる。
【０１１７】
例えば、循環配管６８の開口がポンプ室８１のなかで最も高いところに位置するようにポンプ室８１を水平面に対して１〜２０°傾斜させるようにしてもよい。この場合、気泡９５は循環配管６８を介してさらに速やかにポンプ室８１から排出されるようになる。さらには、図７〜図１０に示されるポンプ室８１を水平面に対して９０°傾斜させるようにしても良い。
【０１１８】
また、ポンプ６６としてはチューブフラム方式のポンプの他にベローズがポンプに直結されたベローズ方式のポンプを用いて同様の制御を行っても良いことはもちろんである。
【０１１９】
また、各ドレン配管はドレンタンクに通じ、気泡等を含むレジスト液を廃棄する場合を示したが、各ドレン配管をレジストタンクに戻してリサイクルすることも可能である。この場合、レジストの廃棄量がさらに低減され、さらなるレジストの有効利用が可能となる。
【０１２０】
また、第１実施形態のフィルタ６５あるいは第２実施形態のトラップタンク１１１のドレン配管に設けられたバルブ７１ａ，８２ａはドレン配管の開閉を制御するものを示したが、これに限定されるものではなく、開閉のみならず吐出・吸入及び泡抜の各タイミングでの流量を制御するものであってもよい。
【０１２１】
さらに、本実施形態のフローチャートでは説明の便宜のため、ポンプの吸入動作が終了してから吐出動作が開始され、吐出動作が終了してから吸入動作が開始される流れで示したが、これに限定されるものではない。例えば、吸入動作が終了する前に吐出動作を開始し、あるいは吐出動作が終了する前に吸入動作を開始してもよい。
【０１２２】
さらに、上記実施形態ではレジスト液供給装置に本発明を適用する場合を示したが、例えば、現像液供給装置や、反射防止膜溶液（ＡＲＣ液）塗布装置等、低粘度の液を用いることにより気泡の発生が問題となるすべての液処理系ユニットに適用可能である。
【０１２３】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、処理液中に含まれる気泡を効率的に除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す図。
【図２】同実施形態に係る基板処理装置の正面図。
【図３】同実施形態に係る基板処理装置の背面図。
【図４】同実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の全体構成を示す縦断面図。
【図５】同実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の全体構成を示す平面図。
【図６】同実施形態に係るレジスト供給装置の処理液供給系統を示す模式図。
【図７】同実施形態に係るポンプの吸入動作時の詳細な構成を示す図。
【図８】同実施形態に係るポンプの吐出動作時の詳細な構成を示す図。
【図９】同実施形態に係るポンプ室内の吸入動作時の詳細な構成を示す図。
【図１０】同実施形態に係るポンプ室内の吐出動作時の詳細な構成を示す図。
【図１１】同実施形態に係るレジスト供給動作のフローチャートを示す図。
【図１２】同実施形態に係る吐出制御のフローチャートを示す図。
【図１３】同実施形態に係る吐出制御におけるタイミングチャートを示す図。
【図１４】同実施形態に係る泡抜制御のフローチャートを示す図。
【図１５】同実施形態の変形例に係るレジスト供給動作のフローチャートを示す図。
【図１６】同実施形態の変形例に係るレジスト供給動作のフローチャートを示す図。
【図１７】本発明の第２実施形態に係るレジスト供給装置の処理液供給系統を示す模式図。
【図１８】同実施形態に係るレジスト供給動作のフローチャートを示す図。
【符号の説明】
１…塗布現像処理システム、１１…カセットステーション、１２…プロセス処理部、１３…インターフェース部、１４…載置台、１４ａ…突起、１４ｂ…スライドステージ、１５…第１のサブアーム機構、１５ａ…アーム、１６…メインアーム機構、１７…ガイド、１８…メインアーム、１９…第２のサブアーム機構、４１…スピンチャック、４２…駆動モータ、４３…ユニット底板、４４…開口、４５…フランジ部材、４６…昇降移動手段、４７…昇降ガイド手段、４８…レジストノズル、４８ａ…レジスト供給管、４９…レジストノズルスキャンアーム、５０…ノズル保持体、５１…ガイドレール、５２…垂直支持部材、５３…レジストノズル待機部、５４…溶媒雰囲気室の口、５５…リンスノズルスキャンアーム、５６…垂直支持部材、６１…レジスト供給装置、６２…レジストタンク、６３ａ〜６３ｄ…供給配管、６４…リキッドエンドセンサ（Ｌ／Ｅ）、６４ａ…上部センサ、６４ｂ…下部センサ、６５…フィルタ、６６…ポンプ、６６ａ…吸入口、６６ｂ…吐出口、６６ｃ…循環口、６７…レジストノズル、６８…循環配管、６８ａ…ガス供給管、６８ｂ…切換エアオペレーティドバルブ、６８ｃ…ガス供給管、６８ｄ…第１流路、６８ｅ…第２流路、６９ａ〜６９ｄ，７０…逆止弁、７１，７２…ドレン配管、７１ａ…エアオペレーティドバルブ、７２ａ…ドレンバルブ、７３…コントローラ、８１…ポンプ室、８２…弾性隔膜、８３…ベローズ部、８４…圧力伝達媒体、８５…ステッピングモータ、８６…エンコーダ、８７…センサ、８８…ボールスクリュー、８８ａ…可動支持部、８８ｂ、スクリュー部材、８８ｃ…支持部材、８８ｄ…シャッタ部材、８９…電源、９０ａ〜９０ｃ…ベルト機構、９１ａ…側周壁、９１ｂ…底壁、９１ｃ…天井壁、９１ｄ…凹所、９１ｅ…泡集合部、９２…逆流防止弁、９２ａ…ボール、９２ｂ…入口、９２ｃ…ボール収納室、９２ｄ…ストッパ、９２ｅ…出口、９３…チューブフラム、９４…逆流防止弁、９５…気泡、１１１…トラップタンク、１１１ａ…タンク本体、１１１ｂ…上部センサ、１１１ｃ…下部センサ、１１２，１１３，１１４，１１５…供給配管、１１６，１１７，１１８，１１９…逆止弁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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