(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一面に形成されたフオトレジストからなるレジスト層のデータ記録領域が記録信号に基づいて露光されると共に、当該レジスト層の上記データ記録領域とは別のモニタ領域が上記記録信号と同一又は類似の信号に基づいて露光されてなるレジストマスタ板を、上記レジスト層の上記モニタ領域にレーザ光を照射して得られる回折光の光量変化に基づいて現像状態を検出しながら現像する現像装置の校正方法において、
上記レジストマスタ板に代えて、基板の一面に形成されたフオトレジストからなるレジスト層の上記モニタ領域と同じ位置に、上記記録信号と同一又は類似の信号に基づいて露光の光量分布が回転方向に異なるように所望状態の凹凸パターンが形成されてなる校正基板の上記凹凸パターンに上記レーザ光を照射し、
上記凹凸パターンから得られる上記レーザ光の回折光の光量を検出し、
上記検出結果に基づいて、上記現像装置における上記レジストマスタ板の現像状態の検出精度を校正する
ことを特徴とする現像装置の校正方法。
【請求項２】
上記校正基板の上記凹凸パターンは、上記レジスト層の所定の半径位置に設けられた
ことを特徴とする請求項１に記載の現像装置の校正方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【目次】
以下の順序で本発明を説明する。
【０００２】
発明の属する技術分野
従来の技術
発明が解決しようとする課題（図７及び図８）
課題を解決するための手段
発明の実施の形態（図１〜図６）
発明の効果
【０００３】
【発明の属する技術分野】
本発明は、現像装置の校正方法に関し、例えば光デイスク等でなるデイスク状記録媒体の成形時の金型となる光デイスク原盤（いわゆるスタンパ）の作製工程のうち現像処理工程における現像装置に適用して好適なものである。
【０００４】
【従来の技術】
従来、光デイスク及び光磁気デイスク等でなるデイスク状記録媒体の製造工程においては、記録信号に応じた所望の凹凸パターン（例えばピツト及び又はグルーブ等）が表面に形成されたスタンパを作製する工程と、当該スタンパの表面に形成された所望の凹凸パターンをデイスク基盤上に転写することによつて当該デイスク基盤をデイスク状記録媒体として製品化するまでの工程とに大別される。
このうちスタンパを作製する工程においては、まず極めて平滑に研磨されたガラス板の一面を洗浄及び乾燥した後、当該一面上に感光材料でなるフオトレジストを塗布することによりレジスト層を形成（以下、このようなガラス板をレジストマスタガラス板と呼ぶ）する。次いでこのレジスト層に所望の記録信号に基づく光ビーム（例えばレーザ光等）を露光した後、これを現像することによりガラス板の一面上にレジスト層に記録した信号に応じた凹凸パターンが形成される。
実際上、このような現像処理工程は、露光処理工程が終了したレジストマスタガラス板のレジスト層に、例えばメタケイ酸ナトリウム等のアルカリ水溶液でなる現像液を供給し、当該レジスト層の露光された部分を当該現像液によつて溶解することにより行われる。
【０００５】
続いて当該凹凸パターンの表面上にスパツタリング、蒸着又は無電解メツキ等の手法により銀又はニツケル等でなる導電化膜層を形成する。この後、電鋳によりこの導電化膜層上に所定の厚みを有するニツケル等でなるメツキ層を形成する。さらにこの後、導電化膜層及びメツキ層を一体にガラス板から引き剥がした後、これを所定形状に打ち抜く。これにより記録信号に応じた凹凸パターンが一面に形成されてなるスタンパを得ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このように光ビームを用いてレジストマスタガラス板のレジスト層に記録信号を露光記録した後、これを現像することにより当該記録信号に応じた凹凸パターンを形成する方法によれば、この凹凸パターンでなるピツト及び又はグルーブに相当する部分（以下、この部分をピツト及び又はグルーブ相当部と呼ぶ）は約１ミクロン単位での露光精度が要求され、当該要求に応じて忠実にレジスト層に現像されることが必要となる。
【０００７】
すなわち現像処理工程によつてレジスト層に形成されるピツト及び又はグルーブ相当部の深さ及び幅は、照射される光ビームのトラツク方向に垂直な断面の寸法として表されることから、光デイスクシステムにおけるレーザ光による情報検出の精度に密接に関連する。従つて、現像処理工程は、このピツト及び又はグルーブ相当部の深さ及び幅（以下、この深さ及び幅を断面寸法と呼ぶ）が所定範囲内の値となるように管理されることが必要となる。
【０００８】
このため、平坦面上の凹凸による光の回折現像を利用して、現像中にモニタ用のレーザ光をガラス板のレジスト層に照射しつつピツト及び又はグルーブ相当部によつて回折されたレーザ光成分を検出し、回折光の強度が所定値に達したとき現像処理を停止させることによつてピツト及び又はグルーブ相当部の断面寸法を制御する方法が提案されている。
【０００９】
かかる方法を具現化するにあたつて、例えば光デイスク又は光磁気（ＭＯ：Magnet Optical）デイスク等でなるデイスク状記録媒体のスタンパを作製する際に用いられる現像装置について説明する。
【００１０】
この現像装置としては、図７に示すような構成のものが提案されている。
【００１１】
現像装置１において、レジストマスタガラス板２を回転自在に保持する回転駆動部３は、ベースプレート４に固定されたスピンド８５を有し、このスピンドル５の端軸５Ａがベースプレート４の下側においてベルト６を介してサーボモータ７の出力軸７Ａと係合されている。
【００１２】
またベースプレート４の上側においてスピンドル５の端軸５Ｂには、ターンテーブル８が取り付けられ、このターンテーブル８上に載置されたレジストマスタガラス板２を吸着保持するようになされている。かくしてサーボモータ７の回転駆動に応じてベルト６、スピンドル５及びターンテーブル８が連動することにより、レジストマスタガラス板２が矢印ａで示す方向又はこれとは逆方向に回転され得る。
【００１３】
またベースプレート４の上面には、スピンドル５の周囲に所定形状でなるチヤンバ９が設けられる共に、当該チヤンバ９の隣接位置にアーム支持台１０が植立して固定されている。このアーム支持台１０の上端部にはアーム支持部１０Ａが矢印ｂで示す方向又はこれとは逆方向に回転自在に支持されており、当該アーム支持部１０Ａにはノズルアーム１１の一端及びパイプ１２の一端が互いに連通するように取り付けられている。
【００１４】
このパイプ１２の他端には電磁弁（三方向弁）１３の出力口が連結され、当該電磁弁１３の２入力口には現像液ＤＥ及び純水ＰＷが外部接続されている。さらにこの電磁弁１３は、制御部１４の制御に基づいて、出力口が開閉動作されると共に２入力口が選択的に開閉動作されるようになされている。これにより現像液ＤＥ又は純水ＰＷのいずれか一方が選択的に出力口を介してパイプ１２内に供給される。
【００１５】
一方、ノズルアーム１１の他端にはノズル１５が取り付けられ、このノズル１５の先端からはパイプ１２及びノズルアーム１１を介して供給される現像液ＤＥ又は純水ＰＷが散布されるようになされている。
【００１６】
かくしてアーム支持部１０Ａの回転駆動によつてノズル１５がレジストマスタガラス板２の上方に配置された後、パイプ１２、ノズルアーム１１及びノズル１５を介して現像液ＤＥ又は純水ＰＷがレジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａ上に散布される。この後、散布された現像液ＤＥ又は純水ＰＷはレジストマスタガラス板２上を流下した後、チヤンバ９内で回収される。
【００１７】
ところで、レジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａには、予めマスタコードカツター等によつて、所望の記録信号に応じて露光処理されたピツト及び又はグルーブ相当部の潜像に見合う領域（以下、これを記録データ領域と呼ぶ）が形成されている。さらに当該記録データ領域とは別の所定領域でなり、かつ当該記録信号と同一又は類似でなる信号に応じて露光処理されたピツト及び又はグルーブ相当部の潜像に見合う領域（以下、これを現像モニタ領域と呼ぶ）が形成されている。
【００１８】
このようにレジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａに記録データ領域のみならず、現像モニタ領域をも形成するようにしたのは、例えば再生専用光デイスク（ＣＤ）、プリフオーマツトとしての離散的情報パターン及び又はトラツキング用の案内溝（グルーブ）が予め形成された書き込み可能な光デイスク（ＭＤ）、又は１倍、２倍及び４倍密度等で書き込まれた光磁気デイスク（ＭＯ）、さらにはデイジタルビデオデイスク（ＤＶＤ）等の多種多様なデイスク状記録媒体に対応し得るようにするためである。
【００１９】
すなわち、このような種々のデイスク状記録媒体はそれぞれ種類に応じて記録データ領域が異なることから、現像処理工程においてこれら種々のスタンパの前処理段階としての各レジストマスタガラス板に対するレーザ光の照射位置を全て同一の半径位置に設定すべく、記録データ領域とは別の領域に現像モニタ領域を形成したのである。
【００２０】
またレジストマスタガラス板２の上方の所定位置には、コヒーレント長の短い半導体レーザ（波長 685〔nm〕）でなるレーザ光源１６が設けられ、当該レーザ光源１６からレーザ光Ｌ１がレジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａに形成された現像モニタ領域に照射されるようになされている。
【００２１】
因みに、レーザ光源１６は、レジストマスタガラス板の表面の大きさ、すなわち当該レジストマスタガラス板から得られるスタンパを金型として成形してなるデイスク状記録媒体の種類にかかわらず、現像モニタ領域が常に一定の半径位置となるように固設されている。
【００２２】
一方、レジストマスタガラス板２に対するレーザ光源１６の反対側における当該レーザ光源１６から発射されたレーザ光Ｌ１の光路上及び当該光路外の所定位置には、それぞれ第１及び第２のデイテクタ１７及び１８が設けられている。
【００２３】
すなわち現像モニタ領域に未だピツト及び又はグルーブ相当部が形成されていない場合には、レーザ光源１６から発射されたレーザ光Ｌ１の一部が現像モニタ領域で回折されることなくそのまま０次回折光Ｌ１Ａとしてレジストマスタガラス板２を透過した後、第１のデイテクタ１７に入射される。
【００２４】
一方、現像モニタ領域にピツト及び又はグルーブ相当部が形成されつつある場合には、レーザ光源１６から発射されたレーザ光Ｌ１の一部が現像モニタ領域で所定方向に回折されることから、この回折されたレーザ光Ｌ１のうちの１次回折光Ｌ１Ｂが、レジストマスタガラス板２を透過した後、第２のデイテクタ１８に入射される。
【００２５】
この場合、まず第２のデイテクタ１８は、入射された１次回折光Ｌ１Ｂの光量を検出した後、当該検出結果でなる電気信号Ｓ１を比較部１９に送出する。この比較部１９には、電気信号Ｓ１と外部から所定の信号レベルでなる現像停止レベル信号Ｓ２とが入力され、当該電気信号Ｓ１の信号レベルと現像停止レベル信号Ｓ２の信号レベルとを比較することにより、当該比較結果でなる比較信号Ｓ３を制御部１４に送出する。
【００２６】
制御部１４は、比較信号Ｓ３に基づいて、電気信号Ｓ１の信号レベルが現像停止レベル信号Ｓ２の信号レベルに達したときに現像停止信号Ｓ４を電磁弁１３に送出する。このときレジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａ上には現像液ＤＥが散布されているため、電磁弁１３は現像液ＤＥの入力口が開動作されると共に純水ＰＷの入力口が閉動作された状態にある。
【００２７】
この状態において、電磁弁１３に現像停止信号Ｓ４が入力されると、当該電磁弁１３は現像液ＤＥの入力口が閉動作にされると共に純水ＰＷの入力口が開動作された状態に切り替えられる。この結果、レジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａ上には純水ＰＷが散布されることにより、当該レジスト層２Ａ上に散布された現像液ＤＥが純水ＰＷによつて洗い流され、かくして現像の進行が停止されることとなる。
【００２８】
これに対して、第１のデイテクタ１７は、入射された０次回折光Ｌ１Ａの光量を検出した後、当該検出結果でなる電気信号Ｓ５を光量制御部２０内の比較部２１に送出する。この光量制御部２０において、比較部１９には、電気信号Ｓ５と外部から所定の信号レベルでなる基準信号Ｓ６とが入力され、当該電気信号Ｓ５の信号レベルと基準信号Ｓ６の信号レベルとを比較することにより、当該比較結果でなる比較信号Ｓ７を制御部２２に送出する。
【００２９】
制御部１４は、比較信号Ｓ７に基づいて、電気信号Ｓ５の信号レベルと基準信号Ｓ６の信号レベルとの差分を解消して同一の信号レベルとなるようにレーザドライバ２３に制御信号Ｓ８を送出する。
【００３０】
レーザドライバ２３は制御信号Ｓ８に基づいてレーザ光源１６を駆動制御することにより、当該レーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の光量を常に安定した状態に保つようになされている。この結果、レーザ光源１６からレジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａに形成された現像モニタ領域に至るまでのレーザ光Ｌ１の光路上に、浮遊する塵埃や霧状の現像液のゆらぎ等の外乱要素が存在する場合でも、１次回折光Ｌ１Ｂの光量を乱れのない安定した状態に保つことができ、かくして第２のデイテクタ１８において１次回折光Ｌ１Ｂの光量の検出精度が劣化することを防止することができる。
【００３１】
因みに、図８に示すようにレジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａには記録データ領域Ａ1 及び現像モニタ領域Ａ2 が形成されている。この結果、記録データ領域Ａ1 のピツトが所定の断面寸法になり、現像モニタ領域Ａ2 のピツトも所定の断面寸法になり、レジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａには図８に示すような干渉のパターンが現れる。
【００３２】
かくしてこのようにピツト及び又はグルーブ相当部が所望の断面寸法となるときに現像を停止させる動作を、記録データ領域Ａ1 ではなく現像モニタ領域Ａ2 で回折された１次回折光Ｌ１Ｂの光量を検出することによつて行うことにより、レジストマスタガラス板の表面の大きさにかかわらず、常に現像を停止させる動作を行うことができる。この結果、レジストマスタガラス板の表面の大きさに応じてレーザ光源１６と第１及び第２のデイテクタ１７及び１８の配置を移動させる煩雑さを回避することができる。
【００３３】
なお、このようにしてレジスト層２Ａに形成されたピツト及び又はグルーブ相当部を有するレジストマスタガラス板２の複製をニツケル等でなる導電化膜層を形成した後、電鋳によつてメツキすることによりスタンパを作製する。このスタンパを金型として用いて、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）又はＰＣ（ポリカーボネイト）等でなる透明樹脂に成形を行うことにより、ピツト及び又はグルーブが転写された透明基盤を形成する。これらピツト及び又はグルーブを含む表面には光を反射する金属膜又は光磁気膜等が設けられ、さらに保護膜が信号ピツトや反射膜を保護するために設けられ、かくしてＣＤ、ＬＤ又はＭＯ等のデイスク状記録媒体が製造される。
【００３４】
ところが、第２のデイテクタ１８の検出窓が塵や埃等で汚れている場合や、レーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力が低下した場合には、レジストマスタガラス板２のピツト又はグルーブ相当部で回折された１次回折光Ｌ１Ｂの光量が、第２のデイテクタ１８において正確に検出されないおそれがあつた。
【００３５】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、デイスク状記録媒体の種類にかかわらず、最適な形状でなるピツト及び又はグルーブをより一層精度良く形成し得る現像装置の校正方法を提案しようとするものである。
【００３６】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため本発明においては、基板の一面に形成されたフオトレジストからなるレジスト層のデータ記録領域が記録信号に基づいて露光されると共に、当該レジスト層のデータ記録領域とは別のモニタ領域が記録信号と同一又は類似の信号に基づいて露光されてなるレジストマスタ板を、レジスト層のモニタ領域にレーザ光を照射して得られる回折光の光量変化に基づいて現像状態を検出しながら現像する現像装置の校正方法において、レジストマスタ板に代えて、基板の一面に形成されたフオトレジストからなるレジスト層のモニタ領域と同じ位置に、記録信号と同一又は類似の信号に基づいて露光の光量分布が回転方向に異なるように所望状態の凹凸パターンが形成されてなる校正基板の凹凸パターンにレーザ光を照射して、当該凹凸パターンから得られるレーザ光の回折光の光量を検出した後、当該検出結果に基づいて、現像装置におけるレジストマスタ板の現像状態の検出精度を校正するようにする。
【００３７】
複数のレジストマスタ板を順次現像処理する過程において、当該レジストマスタ板のレジスト層にレーザ光を照射して得られる回折光の光量の検出結果が否定的である場合でも、校正基板を用いて、当該校正基板のレジスト層に形成された凹凸パターンから得られるレーザ光の回折光の光量を検出することにより、当該検出結果に基づいてレジストマスタ板の現像状態の検出精度を校正することができる。この結果、レジストマスタ板の製造ミスを回避することができ、かくしてレジストマスタ板の歩留りを向上させることができる。さらに校正基板のレジスト層に露光の光量分布が回転方向に異なるように凹凸パターンを形成したことにより、記録光量の変化に応じた複数種類の電気信号の信号レベルを得ることができ、この結果、１枚の校正基板を用いて、複数種類のレジストマスタ板についての現像状態の検出精度を校正することができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】
以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。
【００３９】
図７との対応部分に同一符号を付して示す図１において、現像装置３０は、従来の現像装置１の構成に加えて、第２のデイテクタ１８の出力が比較部１９のみならず制御部３２にも入力されると共に、比較部１９の出力側にモニタ３１が設けられている。この現像装置３０では、現像対象となるレジストマスタガラス板２を現像処理する前段階として、ターンテーブル８上に、所定の断面寸法を有するピツト及び又はグルーブが形成されたレジストマスタガラス板（以下、これを校正基板と呼ぶ）３３が載置される。
【００４０】
この校正基板３３は、図２に示すように、レジストマスタガラス板２とほぼ同じ大きさでなり、表面のレジスト層３３Ａには、レジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａに形成された現像モニタ領域と同じ位置に、所望の記録信号と同一又は類似でなる信号に応じた所定の断面寸法を有するピツト及び又はグルーブでなる凹凸パターン（以下、これを校正用記録パターンと呼ぶ）ＡCAL が予め形成されている。
【００４１】
まず、レーザ光源１６からモニタ用のレーザ光Ｌ１を校正基板３３上に形成された校正用記録パターンＡCAL に照射すると、当該校正用記録パターンＡCAL で回折されたレーザ光Ｌ１のうち１次回折光Ｌ１Ｂが第２のデイテクタ１８に入射される。続いて第２のデイテクタ１８は、入射された１次回折光Ｌ１Ｂの光量を検出した後、当該検出結果でなる電気信号Ｓ１０を比較部１９の一入力端及び制御部３２に送出する。
【００４２】
この比較部１９の他入力端には、所定の信号レベルでなる基準信号Ｓ１１が入力され、かくして比較部１９は電気信号Ｓ１０の信号レベルと基準信号Ｓ１１の信号レベルとを比較した後、当該比較結果でなる比較信号Ｓ１２をモニタ３１及び制御部３２に送出する。
【００４３】
なお、基準信号Ｓ１１は、校正基板３３上に形成された校正用記録パターンＡCAL で回折された１次回折光Ｌ１Ｂを第２のデイテクタ１８において光電変換して得られる電気信号のうち、基準として最適な信号レベルを有するものである。すなわち基準としての校正基板３３は、第２のデイテクタ１８の検出窓が塵や埃等で汚れておらず、かつレーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力が低下していない状態で現像処理されたものである。
【００４４】
制御部３２にはメモリ（図示せず）が内蔵され、比較信号Ｓ１２に基づいて、電気信号Ｓ１０と基準信号Ｓ１１とが一致したときのみ電気信号Ｓ１０をメモリ内に格納する。このときモニタ３１には、比較信号Ｓ１２に基づく信号波形が画面表示され、オペレータがこの画面表示を目視確認することにより、比較部１９における比較結果が肯定的であるか否かを目視確認し得るようになされている。この結果、比較部１９における比較結果が否定的である場合には、オペレータは第２のデイテクタ１８の検出窓が塵や埃等で汚れているか、或いはレーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力が低下していると判断することができる。この場合、オペレータは、まず第２のデイテクタ１８の検出窓をきれいに拭く等して当該検出窓の塵や埃等を取り除いた後、再度、この校正基板３３上に形成された校正用記録パターンＡCAL から得られる１次回折光Ｌ１Ｂを第２のデイテクタ１８において検出する。
【００４５】
このときの検出結果としての電気信号Ｓ１０が基準信号Ｓ１１に対して一致することなく比較部１９における比較結果が否定的である場合には、オペレータはレーザ光源１６を調整することにより、当該レーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力を高くする。このようにして比較部１９における比較結果が肯定的となるまで、オペレータは、第２のデイテクタ１８の検出窓の拭き取りや、レーザ光源１６の出力の調整を行う。
【００４６】
次に図３に示すように、現像装置３０において、校正基板３３に代えてターンテーブル８上に現像対象としてのレジストマスタガラス板２を載置する。
【００４７】
このレジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａ上に現像液ＤＥを散布しながら、レーザ光源１６からモニタ用のレーザ光Ｌ１をレジストマスタガラス板２上に形成された現像モニタ領域Ａ2 に照射すると、当該現像モニタ領域Ａ2 で回折されたレーザ光Ｌ１のうち１次回折光Ｌ１Ｂが第２のデイテクタ１８に入射される。続いて第２のデイテクタ１８は、入射された１次回折光Ｌ１Ｂの光量を検出した後、当該検出結果でなる電気信号Ｓ１を比較部１９の一入力端及び制御部３２に送出する。
【００４８】
ここで制御部３２は、メモリから読み出した電気信号Ｓ１０を現像停止レベル信号Ｓ２０に変換した後、これを比較部１９の他入力端に送出する。
【００４９】
この場合、制御部３２は、電気信号Ｓ１が比較部１９の一入力端に入力されるタイミングよりも所定時間遅延して現像停止レベル信号Ｓ２０を比較部１９の他入力端に入力させるようにする。この遅延分の時間は、実際の現像停止時間を考慮したものである。
【００５０】
比較部１９は、電気信号Ｓ１の信号レベルと現像停止レベル信号Ｓ２０の信号レベルとを比較した後、当該比較結果でなる比較信号Ｓ２１を制御部３２及びモニタ３１に送出する。制御部３２は、比較信号Ｓ２１に基づいて、電気信号Ｓ１の信号レベルが現像停止レベル信号Ｓ２１の信号レベルに達したときに現像停止信号Ｓ２２を電磁弁１３に送出する。
【００５１】
このときレジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａ上には現像液ＤＥが散布されているため、電磁弁１３は現像液ＤＥの入力口が開動作されると共に純水ＰＷの入力口が閉動作された状態にある。この状態において、電磁弁１３に現像停止信号Ｓ２２が入力されると、当該電磁弁１３は現像液ＤＥの入力口が閉動作にされると共に純水ＰＷの入力口が開動作された状態に切り替えられる。この結果、レジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａ上には純水ＰＷが散布されることにより、当該レジスト層２Ａ上に散布された現像液ＤＥが純水ＰＷによつて洗い流され、かくして現像の進行が停止される。
【００５２】
以上の構成において、校正基板３３のレジスト層３３Ａに、レジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａに形成された現像モニタ領域Ａ2 と同じ位置に校正用記録パターンＡCAL を予め形成しておく。
【００５３】
現像対象となるレジストマスタガラス板２を現像処理する前段階として、この校正基板３３を現像装置３０のターンテーブル８に載置して回転させながら、レーザ光源１６からレーザ光Ｌ１を校正基板３３上に形成された校正用記録パターンＡCAL に照射する。
【００５４】
このとき、校正基板３２上に形成された校正用記録パターンＡCAL から得られる１次回折光Ｌ１Ｂに基づく電気信号Ｓ１０を基準信号Ｓ１１と比較して、当該比較結果をモニタ３１に画面表示することにより、オペレータはこの画面表示を目視確認して第２のデイテクタ１８の検出窓が塵や埃等で汚れているか、或いはレーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力が低下しているか否かを判断する。この判断結果が否定的であれば、オペレータは第２のデイテクタ１８の検出窓の拭き取りや、レーザ光源１６の出力の調整を行う。
【００５５】
この後、レジストマスタガラス板２を現像装置３０のターンテーブル８に載置して回転させながらノズル１５から純水ＰＷを散布してレジスト層２Ａを水洗した後、ノズルアーム１１を回転させてノズル１５をレジスト層２Ａ上の所定位置に停止させると共に、レーザ光源１６からレーザ光Ｌ１をレジスト層２Ａに形成された現像モニタ領域に照射する。
【００５６】
続いてターンテーブル８の回転に応じてレジストマスタガラス板２を回転させながら、ノズル１５から現像液ＤＥをレジスト層２Ａ上に散布する。この状態において、現像モニタ領域Ａ2 に形成された潜像でなるピツト及び又はグルーブ相当部が所望の断面寸法となる（実際には、現像停止時間を考慮して所望の断面寸法よりも若干大きくなる）と、これと同時に第２のデイテクタ１８から出力される電気信号Ｓ１の信号レベルが現像停止レベル信号Ｓ２０の信号レベルに達することとなる。このとき電磁弁１３が制御部３２によつて切替え制御され、現像液ＤＥに代わつてノズル１５からは純水ＰＷがレジスト層２Ａ上に散布されることにより、現像液ＤＥを洗い流して現像を停止させる。
【００５７】
かくして複数のレジストマスタガラス板２を順次現像処理する過程において、当該レジストマスタガラス板２のレジスト層２Ａにレーザ光を照射して得られる回折光の光量の検出結果が否定的である場合（すなわち第２のデイテクタ１８の検出窓が塵や埃等で汚れた場合や、レーザ光源１６から発射されるレーザ光Ｌ１の出力が低下した場合）でも、校正基板３３を用いて、当該校正基板３３のレジスト層３３Ａに形成された校正用記録パターンＡCAL から得られるレーザ光の回折光Ｌ１Ｂの光量を検出することにより、当該検出結果に基づいてレジストマスタ板２の現像状態の検出精度を校正することができる。この結果、レジストマスタ板２の製造ミスを回避することができ、かくしてレジストマスタ板２の歩留りを向上させることができる。
【００５８】
以上の構成によれば、レジスト層２Ａに記録データ領域Ａ1 のみならず、当該記録データ領域Ａ1 とは別の所定領域に現像モニタ領域Ａ2 も形成されたレジストマスタガラス板２を現像処理する前段階において、レジスト層３３Ａに現像モニタ領域Ａ2 と同じ位置関係を有する校正用記録パターンＡCAL が形成された校正基板３３を用いて、レジストマスタガラス板２の現像状態の検出精度を校正するようにしたことにより、レジストマスタガラス板２の歩留りを向上させることができ、かくしてレジストマスタガラス板２に基づいて得られるデイスク状記録媒体の種類にかかわらず、最適な形状でなるピツト及び又はグルーブをより一層精度良く形成することができる。
【００５９】
なお上述の実施例においては、校正基板３３には、マスタコードカツタ等によつて予めレジスト層３３Ａに所望の記録信号と同一又は類似でなる信号に応じて露光処理及び現像処理されたピツト及び又はグルーブを校正用記録パターンＡCAL として形成するようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、校正用記録パターンＡCAL を形成するための露光処理工程において、所望の記録信号と同一又は類似でなる信号に基づく露光の光量（以下、これを記録光量と呼ぶ）を変化させるようにしても良い。
【００６０】
すなわち図４の図表に示すように、露光処理工程において校正用記録パターンＡCAL の記録光量をそれぞれ中心から90〔°〕毎に 1.0〔mJ/m〕、 1.2〔mJ/m〕、 1.5〔mJ/m〕及び 1.8〔mJ/m〕と変化させて露光する。
【００６１】
この場合、第２のデイテクタ１８から得られる電気信号Ｓ１０の信号レベルは、各記録光量の大きさに比例して増加する傾向にある。この図表によれば、現像時間を30秒とした場合、校正用記録パターンＡCAL の記録光量が 1.0〔mJ/m〕、 1.2〔mJ/m〕、 1.5〔mJ/m〕及び 1.8〔mJ/m〕のとき、これらに対応する電気信号Ｓ１０の信号レベルＶ1 、Ｖ2 、Ｖ3 及びＶ4 は、それぞれ 2.4〔Ｖ〕、 4.2〔Ｖ〕、 6.2〔Ｖ〕及び 6.8〔Ｖ〕となることが読み取れる。これにより校正用記録パターンＡCAL の各記録光量における電気信号Ｓ１０の信号レベルが露光時間に依存していることがわかる。
【００６２】
このように露光記録された校正基板４０のレジスト層４０Ａには、図５に示すような校正用記録パターンＡCAL （ＡCAL1、ＡCAL2、ＡCAL3及びＡCAL4）が回転方向に沿つて４分割されて形成される。この結果、校正用記録パターンＡCAL の記録光量を変化させることにより、当該記録光量の変化に応じて電気信号Ｓ１０の信号レベルを変化させることができる。
【００６３】
なお図６に、オシロスコープにおいてグラフ表示される電気信号Ｓ１０の信号波形を示す。このグラフによれば、校正基板４０をターンテーブル８（図１）上に載置して回転（１回転にかかる時間：時点ｔ0 〜時点ｔ4 ）させながらレーザ光Ｌ１を照射すると、校正用記録パターンＡCAL の記録光量はＶ1 （時点ｔ0 〜時点ｔ1 ）、Ｖ2 （時点ｔ1 〜時点ｔ2 ）、Ｖ3 （時点ｔ2 〜時点ｔ3 ）及びＶ4 （時点ｔ3 〜時点ｔ4 ）と順次変化を繰り返すことがわかる。
【００６４】
かくして１枚の校正基板４０から４種類の電気信号Ｓ１０の信号レベルが得られることにより、１枚の校正基板４０を用いて、４種類のレジストマスタ基板についての現像状態の検出精度を校正することができる。
【００６５】
なお、校正基板のレジスト層に形成する校正用記録パターンＡCAL は、回転方向に沿つて４分割以外にも、２分割及び３分割さらには５分割以上にしても良い。
【００６６】
さらに上述の実施例においては、現像対象となるレジストマスタガラス板から得られるデイスク状記録媒体を特に限定することなく、通常の記録密度でなるＣＤ等のデイスク状記録媒体に対応するレジストマスタガラス板に現像装置３０を適用した場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば２倍密度又は４倍密度で記録されたＭＯやＤＶＤ等の高密度記録されたデイスク状記録媒体に対応するレジストマスタガラス板に現像装置３０を適用するようにしても良い。
【００６７】
【発明の効果】
上述のように本発明によれば、基板の一面に形成されたフオトレジストからなるレジスト層のモニタ領域と同じ位置に、記録信号と同一又は類似の信号に基づいて所望状態の凹凸パターンが形成されてなる校正基板の凹凸パターンにレーザ光を照射して、当該凹凸パターンから得られるレーザ光の回折光の光量を検出した後、当該検出結果に基づいて、現像装置におけるレジストマスタ板の現像状態の検出精度を校正するようにしたことにより、レジストマスタ板に基づいて得られるデイスク状記録媒体の種類にかかわらず、最適な形状でなるピツト及び又はグルーブをより一層精度良く形成することができる。さらに校正基板のレジスト層に露光の光量分布が回転方向に異なるように凹凸パターンを形成したことにより、記録光量の変化に応じた複数種類の電気信号の信号レベルを得ることができ、この結果、１枚の校正基板を用いて、複数種類のレジストマスタ板についての現像状態の検出精度を校正することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における現像装置の全体構成の一実施例を示す部分的略線図である。
【図２】校正基板における校正用記録パターンの形成状態を示す略線図である。
【図３】本発明における現像装置の全体構成の一実施例を示す部分的略線図である。
【図４】校正用記録パターンの記録光量と第２のデイテクタの出力との関係を示す図表である。
【図５】他の実施例による校正基板の形成状態を示す平面図である。
【図６】校正用記録パターンの記録光量の特性を示すグラフである。
【図７】従来の現像装置の全体構成を示す部分的略線図である。
【図８】レジストマスタガラス板における現像モニタ領域の形成状態を示す略線図である。
【符号の説明】
１、３０……現像装置、２……レジストマスタガラス板、２Ａ……レジスト層、１４、３２……制御部、１６……レーザ光源、１８……第２のデイテクタ、１９……比較部、３１……モニタ、３３、４０……校正基板、３３Ａ、４０Ａ……レジスト層、Ａ1 ……記録データ領域、Ａ2 ……現像モニタ領域、ＡCAL ……校正用記録パターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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