(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層とからなる反射防止膜であって、前記汚染防止層が下記式(1)
0003722418.tif 000010
〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基であり；R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基であり；Rfは、同一でも異なっていてもよく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエーテル基であり；Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であり；各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数であり、bは0〜2の整数であり、但し、a＋bは1〜3の整数であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整数であり、dは1〜3の整数であり、但しc＋dは1〜3の整数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但し、e＋f＋g＋h＝4であり；l，m及びnはそれぞれ1以上の数である〕
で示される含フッ素シラザン化合物の硬化物からなることを特徴とする反射防止膜。
【請求項２】
請求項１記載の反射防止膜を支持基材上に有することを特徴とする光学部材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、汚染防止能に優れた反射防止膜及びその膜を利用した光学部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】
視認装置等の表面に設けられることが一般的な反射防止膜にあっては、手垢や指紋、汗や唾液や整髪料等が付着しやすく、それらの付着で表面反射率が変化したり、付着物が白く浮き出て見えて表示内容が不鮮明になるなど、単なる透明板等の場合に比べて汚染が目立ちやすいという問題があった。そのため、かかる汚染物の付着防止性や付着汚染物の除去性に優れる反射防止膜の提供が久しい課題となっている。
【０００３】
耐汚染性の向上等を目的とした反射防止膜として、特公平6-5324号公報にはPVD(Phisical Vapor Deposition)法により形成した二酸化ケイ素を主成分とする表面層を有する単層又は多層の無機物層からなる反射防止層の上に、有機ポリシロキサン系重合物又はパーフルオロアルキル基含有重合物からなる硬化物層を設けてなる反射防止性を有する光学物品が開示されている。
【０００４】
しかしながら、この光学物品において、手垢や指紋等の人体的汚染物が付着した場合に、普通のティッシュペーパー等で拭取ることが困難で、汚染が薄膜に押し拡げられたり、強く擦ると反射防止膜が傷つくため満足できる除去を達成できない等の問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記状況に鑑み、本発明の課題は、耐汚染性、易拭取り除去性、耐擦傷性、撥水性などの性能を有し、これらの性能が長期に持続する反射防止膜を提供すること、及びこれを支持基材上に有し、同様の性能を有する光学部材を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、種々検討した結果、後述する特定の含フッ素シラザン化合物の硬化物よりなる層を反射防止膜の表面層として設けると、上記課題を達成することができるということを見出し、本発明に到達した。
【０００７】
すなわち、本発明によれば、第一に、二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層とからなる反射防止膜であって、前記汚染防止層が下記式(1)
0003722418.tif 000002
〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基であり；R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基であり；Rfは、同一でも異なっていてもよく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエーテル基であり；Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であり；各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数であり、bは0〜2の整数であり、但し、a＋bは1〜3の整数であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整数であり、dは1〜3の整数であり、但しc＋dは1〜3の整数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但し、e＋f＋g＋h＝4であり；l，m及びnはそれぞれ1以上の数である〕
で示される含フッ素シラザン化合物の硬化物からなることを特徴とする反射防止膜が提供される。
第二に、前記反射防止膜を支持基材上に有することを特徴とする光学部材が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の反射防止膜は、二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層とからなり、前記汚染防止層が式(1)で示される含フッ素シラザン化合物の硬化物からなる。ここで、まず無機系反射防止層について述べる。
【０００９】
（無機系反射防止層）
反射防止膜における無機系反射防止層は、実質的な反射防止機能を担う部分であり、単層構造又は複層構造とすることができる。
従って、例えばA.VASICEK著、「OPTICS OF THIN FILMS」P159〜283[NORTH-HOLLAND PUBLISHINGCOMPANY,AMSTERDAM(1960)]、特開昭58-46301号公報、特開昭59-49501号公報、特開昭59-50401号公報、特開平1-294709号公報及び特公平6-5324号公報等に開示されている構造の反射防止層として形成することもできる。
【００１０】
無機系反射防止層を形成する無機物としては、無機酸化物、無機ハロゲン化物及びそれらの複合物等を用いることができ、それらの無機物の具体例としては、SiO2、ZrO2、Al2O3、Y2O3、TiO2の等の無機酸化物、MgF2、BaF2、CaF2、LaF2、LiF、NaF、SrF2の等の無機ハロゲン化物及びそれらの複合物等が挙げられる。
【００１１】
無機系反射防止層が単層構造の場合には、表面硬度の高さや汚染防止層との密着性等の点より、この層を二酸化ケイ素系無機層とすることが好ましく、複層構造の場合には表面層側の層を二酸化ケイ素系無機層にすることが好ましい。
【００１２】
無機系反射防止層は、下記の形成方法等によって前記の１種又は２種以上の無機物の層として、あるいは前記無機物とバインダ用ポリマー等との混合物の層として形成される。前記無機物とバインダ用ポリマー等との混合物の層として形成されている場合、混合物中、無機物が30重量％以上含有する組成であることが硬度や面汚染性等の点で好ましい。なお前記のバインダ用ポリマーとしては、適宜なポリマーを用いることができて特に限定されないが、硬度等の点よりはポリオルガノシロキサンを形成しうる各種の有機ケイ素化合物やその加水分解物等が好ましい。
【００１３】
無機系反射防止層の形成方法は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のPVD法、あるいはスピンコート法、浸漬コート法、カーテンフローコート法、ロールコート法、スプレーコート法、流し塗り法等の流体塗布法等の適宜な薄膜形成法にて行うことができる。
【００１４】
前記したPVD法には、上記したSiO2等の無機酸化物やMgF2等の無機ハロゲン化物等が好ましく用いられ、特に表面層側となる二酸化ケイ素系無機層は、表面硬度の高さや表面層として設けられる汚染防止層との密着性等の点より、PVD法により二酸化ケイ素を主成分として含有する層に形成したものが好ましい。
【００１５】
反射防止層は、反射防止効果等の点より複層構造とすることが好ましく、中でも、表面層側となる二酸化ケイ素系無機層よりも高い屈折率の層を1層又は2層以上内在させた複層構造とすることが好ましい。その場合、各層の厚さや屈折率の設定等については、上記したA.VASICEK著、「OPTICS OF THIN FILMS」等に開示されているようにすることができる。
【００１６】
また反射防止層には、帯電によるゴミ等の付着を防止するために静電気の除去効果や電磁波のシールド効果も発揮する導電層を含ませてもよい。かかる導電層としては、例えば金や銀やアルミニウム等の金属薄膜層、酸化スズ、酸化インジウム、それらの混合物(ITO)等の無機酸化物等からなる透明導電薄膜層が挙げられる。可視領域では、光の吸収が極めて少ない無機酸化物系の透明導電薄膜層を用いることが特に好ましい。
【００１７】
（汚染防止層）
本発明の反射防止膜において汚染防止層は、上述の無機系反射防止層の上に設けられるものである。該汚染防止層は、下記式(1)
0003722418.tif 000003
〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基であり；R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基であり；Rfは、同一でも異なっていてもよく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエーテル基であり；Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であり；各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数であり、bは0〜2の整数であり、但し、a＋bは1〜3の整数であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整数であり、dは1〜3の整数であり、但しc＋dは1〜3の整数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但し、e＋f＋g＋h＝4であり；l，m及びnはそれぞれ1以上の数である〕
で示される含フッ素シラザン化合物の硬化物からなる。
【００１８】
前記式(1)中、R1は、各々、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基であり、非置換若しくは置換の1価炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル基等のアルキル基、ビニル、アリル基等のアルケニル基、フェニル、トリル基等のアリール基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、又はこれら基の炭素原子に結合した水素原子の一部若しくは全部がハロゲン原子で置換されたハロゲン化炭化水素基等であり、好ましくは炭素原子数1〜10、より好ましくは炭素原子数1〜6のもの、例えば3,3,3-トリフルオロプロピル基、CF3CF2CF2CH2CH2基等である；R2は水素原子又はアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル基等であり、好ましくは水素原子である；Rfは、例えば、式：CiF2i+1-  (ここで、iは1〜20の整数)で表されるパーフルオロアルキル基、又は例えば、式：
【００１９】
【化１】
0003722418.tif 000004
(ここで、jは1〜50の整数)
で示されるパーフルオロアルキルエーテル基等であり；
Qは炭素原子数2〜5の2価の有機基で、例えば、式：−CH2CH2−基、−CH2CH2CH2−基等のアルキレン基、式：−CH2OCH2CH2CH2−基等の酸素置換アルキレン基、-CONHCH2CH2CH2−等のアルキルアミド基等である。
【００２０】
a〜hはそれぞれ前記の整数であり、但し、a＋b、c＋d及びe＋f＋g＋hは、それぞれ前記の整数であり、各構成単位において同一でも異なってもよい。また、l,m及びnはそれぞれ1以上の整数であるが、l＋mは好ましくは10〜500とされる。l＋mの値が上記範囲より小さすぎると、得られる硬化被膜の強度が低いものとなり、一方、l＋mの値が上記範囲より大きすぎると、硬化性の悪いものとなる。nは、通常、2〜100、より好ましくは5〜70の整数である。
【００２１】
さらに、前記式(1)で示されるシラザン化合物におけるl,mの割合は、得られる硬化物の硬化速度、硬化により得られる硬化物の層の反射防止層に対する接着性、表面特性等の点からm/(l＋m)が0.05〜0.5の範囲であることが好ましい。
【００２２】
前記含フッ素シラザン化合物の硬化物よりなる層は、撥水撥油性、防汚性、耐薬品性、潤滑性、離型性等に優れており、表面層として設けることにより、汚染防止層として作用し、また、反射防止層のうち表面側に設けられた二酸化ケイ素系無機層に強固に密着するので、その効果を長期間持続させることができる。
【００２３】
含フッ素シラザン化合物の合成：
一般式(1)に示す含フッ素シラザン化合物は、例えば、一般式(2)
(RfQ)aSi(R1)bX4-a-b  (2)：
〔ここで、R1、Rf、Q、a、b及びa＋bは前記のとおりであり；Xはハロゲン原子、例えば、塩素、臭素である〕
で示されるオルガノシランと、平均組成式(3)：
(RfQ)pSi(R1)qXrO4-p-q-r/2  (3)
〔ここで、R1,Rf,Q及びXは前記のとおりであり、p,q及びrは、それぞれ0≦p＜3、0＜q＜3、0＜r＜3の数であって、但しp＋q＋r＜4である〕
で示されるオルガノポリシロキサンとを、アンモニア及び第１アミンから選ばれる少なくとも１種と反応させることにより製造することができる。
【００２４】
汚染防止層の形成：
汚染防止層の形成方法は、上記した反射防止層の場合に準じた方法を採り得るが、反射防止効果の均一性や反射干渉色の制御等の点により、スピンコート法、浸漬コート法、カーテンフロートコート法等の流体塗布方法や真空蒸着法等の1種又は2種以上を適用した形成方法が好ましい。また作業性等の点から、塗布液を紙や布等に含浸させて塗布流延する方法が好ましい。
【００２５】
前記塗布液は、前記含フッ素シラザン化合物を揮発性溶媒に溶解又は分散させるなどの方法で調製することができる。その場合、揮発性溶媒については、組成物の安定性や溶解性、無機系反射防止層の表面層側の層、特に二酸化ケイ素系無機層に対する濡れ性や揮発速度等を考慮して決定することが好ましく、例えば次に述べる１種又は2種以上の混合溶媒を用いることができる。
【００２６】
前記揮発性溶媒としては、例えば、パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタン等のフッ素変性脂肪族炭化水素系溶剤、ｍ−キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン等のフッ素変性エーテル系溶剤、石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤等が挙げられる。この中では、溶解性等の点でフッ素変性された溶剤が望ましく、特に、ｍ−キシレンヘキサフロライド、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフランが好ましい。
【００２７】
また、塗布液には、該含フッ素シラザン化合物の加水分解・縮合反応を促進する目的で、加水分解・縮合反応触媒を添加してもよい。その触媒の例としては、ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫等の有機錫化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート等の有機チタン化合物、酢酸、メタンスルホン酸等の有機酸、塩酸、硫酸等の無機酸等が挙げられる。中でも、酢酸、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫が望ましい。
【００２８】
汚染防止層の厚さは、適宜に決定しうるが、一般的には反射防止性や汚染防止能、表面硬度との調和性等の点より、0.001〜0.5μmが好ましく、0.01〜0.1μmがより好ましい。なお汚染防止層の形成に際しては、反射防止層の表面を清浄に処理しておくことが好ましい。その処理方法としては、例えば界面活性剤による汚れ除去、有機溶剤による脱脂、フッ素系溶剤による蒸気洗浄等の方法が挙げられる。また密着性や耐久性の向上等を目的とした前処理を施してもよく、特に活性化ガスによる処理や、酸やアルカリ等による薬品洗浄等が好ましい。
【００２９】
(反射防止膜)
本発明による反射防止膜は、反射防止効果等の点より表面層である汚染防止層の表面における全光線の反射率に基づいて、その表面反射率が3％以下であることが好ましい。従って、後述の光学部材として支持基材の表裏に反射防止膜を設けた場合には、その表裏における合計の表面反射率が6％以下であることが好ましい。なお表裏に反射防止膜を設けた無色透明の光学部材においては、100％から光学部材の全光線透過率を引いて、得られた値の半分を片面における表面反射率と定義することもできる。
【００３０】
汚染防止層表面での表面反射率が高いと、反射防止効果に乏しくて眼鏡レンズ等ではゴーストやフレア等の反射像を生じ、不快感発生の原因となりやすい。またルッキンググラスやCRT(Cathode  Ray  Tube)ディスプレイ用フィルタ等では、面状の反射光で内容物や表示内容が判然としない状態となりやすい。
【００３１】
なお汚染防止層については、TOF-SIMS(飛行時間型二次イオン質量スペクトル法)にて表面分析を行うことができる。この方法は、高真空中においた試料表面に弱いエネルギをもつイオンを照射し、表面からでた分子フラグメントを時間分解によりその質量数を検出することにより行うものである。なお、この方法における測定装置及び測定条件は次のとおりである。
0003722418.tif 000005
【００３２】
前記反射防止膜は、例えばLCD(Liqiud  Crystal  Display)、CRTディスプレイ及びプラズマディスプレイ等の表示装置ないし視認装置等の内側の面や前面、偏光板等の光学素子、眼鏡用、カメラ用、双眼鏡用等のレンズ、防眩ミラー等の鏡、重量計等の計器類等の表示板等、従来に準じた適宜な物品に適用することができる。すなわち、反射防止膜は、前記物品等の被処理体に直接設けることができる。
【００３３】
（光学部材）
上記反射防止膜を支持基材上に設けて光学部材とする。すなわち、前記反射防止膜は、ガラス板、プラスチック板、あるいは偏光板や拡散板等の光学素子等の適宜な支持基材に設けて光学部材として適用することもできる。前記反射防止膜は、支持基材の片面又は両面に設けることができる。その支持基材としては適宜なものを用いてよく、特に限定されない。液状コーティング法等で反射防止膜を形成させる場合には、ガラスやプラスチックからなる支持基材が好ましく用いられる。
【００３４】
支持基材がガラス基材の場合には、反射防止層にMgF2やCaF2の如き低屈折率を示すものを含ませることが、高い反射効果が得られる点で好ましい。また支持基材がプラスチック基材の場合には、反射防止層にSiO2の如き屈折率が比較的低くて硬度の高いものを含ませることが耐久性などの点で好ましい。
【００３５】
支持基材がプラスチック基材の場合、プラスチックの例としては、ポリメチルメタクリレートやメチルメタクリレート共重合体等のアクリル系樹脂、ポリカーボネートやジエチレングリコールビスアリルカーボネート(CR-39)等のポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレートや不飽和ポリエステル等のポリエステル系樹脂、トリアセチルセルース等のアセテート系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。
【００３６】
支持基材の形態は、フイルム、シート、板などの適宜な形態であってよく、その厚さは任意である。また支持基材には、ハードーコート層が設けられていてもよく、この場合、ハードコート層は反射防止膜と支持基材の間に設けられる。
【００３７】
さらに支持基材は、例えば反射防止膜の密着性、硬度、耐薬品性、耐久性や染色性等の向上を目的として、適宜なコート層が設けられていたり、表面処理されたものなどであってもよい。
【００３８】
硬度の向上には、特公昭50-28092号公報、特公昭50-28446号公報、特公昭50-39449号公報、特公昭51-24368号公報、特公昭57-2735号公報及び特開昭52-112698号公報等に開示された高硬度化用の材料を用いることができる。またチタンやアルミニウムやスズ等の金属又はケイ素からなる酸化物をコーティングしたり、(メタ)アクリル酸のペンタエリスリトール等による架橋体等からなるアクリル系架橋体の層を設けてもよい。
【００３９】
前記ハードーコート層も通常の方法で形成することができる。ハードーコート層としては、有機ケイ素化合物、特に一般式：R4xR5ySi(OR6)4-x-yで表される有機ケイ素化合物やその加水分解物等の硬化物からなるハードーコート層が好ましい。なお式中のR4、R5は炭素原子数が１〜６のアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基、シアノ基等を有する炭化水素基等であり、R6は炭素原子数が1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、又はアリール基等である。またｘ、ｙは0又は1であり、従ってｘ＋ｙは、0、1又は2である。
【００４０】
ハードーコート層には、例えばゾル−ゲル法などにより得られる平均粒径が0.5〜5μmのシリカや金属酸化物等からなる微粒子を含有させてもよい。
さらにまた支持基材には、バフやコロナ放電やイオンエッチング等の方法で中心線平均粗さが0.01〜0.5μmのエッチング表面とする方式などにより、きらめき防止機能を有する層を付設してもよい。
【００４１】
本発明の反射防止膜及び光学部材は、汚れにくく、汚れが目立ちにくくて、その汚れをとりやすく、表面の滑り性が良好で傷付きにくく、それらの性能を長期に持続するなどの特長を有している。したがって、例えばLCD等の各種の視認装置類、偏光板等の各種の光学素子類、眼鏡用等の各種のレンズ類、防眩ミラー等の各種の鏡類、重量計等の各種の計器類の表示板等の種々の物品における表面や、内部に配置するフィルタなどとして好ましく用いることができる。
【００４２】
【実施例】
以下実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
合成例１
式：C8F17CH2CH2SiCl3で示される含フッ素クロロシラン92.4重量％と式：
【００４３】
【化２】
0003722418.tif 000006
で示されるジメチルポリシロキサン7.6重量％との混合物60g、及びm−キシレンヘキサフロライド200mlを反応容器に仕込んだ。これを5℃に冷却した後、液温を20℃以下に保つようにしながらこれにアンモニアガスを吹込み、4時間反応させた。そののち、30分間加熱還流させて液中に溶解していた過剰のアンモニアを除去し、冷却後副生した塩化アンモニウムを濾別したところ、無色透明な含フッ素ポリシラザン溶液が得られた。
【００４４】
合成例２
式：
【００４５】
【化３】
0003722418.tif 000007
で示される含フッ素トリクロロシラン93.2重量％と実施例１で使用したものと同じジメチルポリシロキサン6.8重量％との混合物60g、及びm−キシレンヘキサフロライド200mlを反応容器に仕込み、実施例１と同様に処理したところ、無色透明な含フッ素ポリシラザン溶液が得られた。
【００４６】
合成例３
式：
【００４７】
【化４】
0003722418.tif 000008
で示される含フッ素トリクロロシラン92.4重量％と実施例１で使用したものと同じジメチルポリシロキサン7.6重量％との混合物60g、及びm−キシレンヘキサフロライド200mlを反応容器に仕込み、実施例１と同様に処理したところ、無色透明な含フッ素ポリシラザン溶液が得られた。
【００４８】
合成例４
式：C8F17CH2CH2SiCl3で示される含フッ素クロロシラン60g及びm−キシレンヘキサフロライド200mlを反応容器に仕込み、実施例１と同様に処理したところ、無色透明な含フッ素ポリシラザン溶液が得られた。
【００４９】
実施例１〜３
ポリエステルフィルム上に設けられた紫外線硬化性のアクリル樹脂からなるハードコート層の上にスパッタリング方式で、SiO2層、Ti02層、Si02層、Ti02層、Si02層の5層をそれぞれ光学膜厚λ／4（λは540nm）で順次積層して反射防止層を形成させた。
次に、合成例１〜３で得られた含フッ素ポリシラザン溶液をノナフロロブチルエチルエーテル(商品名HFE-7200：3M社製)で0.3重量％濃度となるように希釈してコーティング溶液とし、この溶液に前記ハードコート層及び反射防止層を設けたフィルムを浸漬し、20cm/minの速度で引上げてコーティング処理し、室温下に一昼夜放置してコーティング層を硬化させて汚染防止層を形成させ、反射防止膜を有する光学部材を得た。
【００５０】
比較例１
汚染防止層を設けない以外は実施例と同様にして光学部材を得た。
比較例２
合成例４で合成した含フッ素ポリシラザン溶液を用いてコーティング溶液を調製した以外は、実施例と同様にして光学部材を得た。
【００５１】
実施例、比較例で得た光学部材について、下記評価方法でその特性を調べた。
・反射防止性
波長500nmの光を15度の入射角で入射させ、分光光度計(島津製作所製、MPS-2000)にて絶対鏡面反射率を測定した。
・耐汚染性
額に指を2分間押当てて、その指を汚染防止層の表面に5秒間押当てることにより指紋を付着させ、目視にて指紋の付き具合を評価し、かつ付着した指紋をティッシュペーパーにて拭取り、その除去性を評価した。なお評価基準は下記による。
○：指紋が目立たず、かつ容易に拭取れた場合
△：指紋が目立ち、かつ拭取りにくい場合
×：指紋が著しく目立ち、かつ拭取れない場合
【００５２】
・オレイン酸に対する静止接触角
直径1.5mmの液滴を針先に形成させ、それを汚染防止層の表面に接触させて汚染防止層上に液滴を移し、液滴と面の静止接触角を接触計(協和界面科学社製、CA-D型)にて測定した。
・耐久性
イソプロピルアルコールを含浸させたセルロース製不織布で汚染防止層の表面を20回擦った後、前期と同様にオレイン酸に対する静止接触角を測定した。
これらの結果を次表に示した。
【００５３】
【表１】
0003722418.tif 000009
表より、実施例では、指紋などの汚れが付着しにくく、付着した汚染を容易に拭取ることができ、その効果を長期に持続して撥水撥油性にも優れていることがわかる。
【００５４】
【発明の効果】
本発明の反射防止膜は、汚染しにくく、かつ汚染した場合にもその汚染が目立ちにくいとともに、手垢や指紋などの人体的汚染も含めて付着した汚染物をティッシュペーパーなどで容易に拭取り除去することができる。また、その拭取り操作で傷付きにくくて、水滴などの付着物を容易に振り落とすことができる。さらにかかる耐汚染性、易拭取り除去性、耐擦傷性、撥水性などの性能が長期に持続する。また、この反射防止膜を支持基材上に有する光学部材は同様な性能を有する。