(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を、その固定面上に固定する固定台と、
基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、
研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、
上記研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移動手段と、
固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、
さらに、上記高さ測定手段による、固定面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段の移動量を制御する制御手段を備えており、
上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっていることを特徴とする基板面取装置。
【請求項２】
基板を、その固定面に固定する固定台と、
基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、
研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、
上記研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移動手段と、
固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、
さらに、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段の移動量を制御する制御手段を備えており、
上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっていることを特徴とする基板面取装置。
【請求項３】
基板を、その固定面に固定する固定台と、
基板の辺の研磨を行う複数の研磨手段とを備え、
研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、
上記複数の研磨手段のそれぞれを独立に、基板に対して垂直方向に移動させる複数の移動手段と、
固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、
さらに、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量、および、固定面の送り方向における高さの変動量の、測定結果に基づいて複数の移動手段の移動量を独立に制御する制御手段を備えており、
上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっていることを特徴とする基板面取装置。
【請求項４】
上記高さ測定手段が、研磨手段に対して送り方向前方に設けられており、
高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定と並行して、制御手段による移動手段の移動量の制御が行われることを特徴とする請求項２または３に記載の基板面取装置。
【請求項５】
上記オーバーハング量が一定で、かつ、５〜１５ｍｍであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載の基板面取装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、液晶ディスプレイ等の薄型表示機器に用いられるガラス基板等の透明基板の、各辺の面取りを行う基板面取装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ等の薄型表示機器に用いられるガラス基板等の透明基板は、例えば、適切な大きさに切断された後に、一対の透明基板をもつ液晶セル等として組み立てられる。しかし、切断後の透明基板は、その切断面が鋭いため、取扱いが危険である。さらには、該切断面により、液晶セルに備えられるバックライトが削られたり、また、透明基板上に配設された電極回路が切断されたりする危険性がある。このため、例えば、液晶セル内の電極回路と外部の駆動回路とを接続する端子部等において、透明基板の切断面における辺（角）を研磨する面取りが行われる。
【０００３】
透明基板の様々な角を面取りする工程において使用される従来の基板面取装置は、図１０および図１１に示すように、水平方向に旋回および送り可能な吸着ステージ１２０、吸着ステージ１２０上に吸着・固定される透明基板としてのガラス基板１１０ａの固定位置、または、液晶セル１１０の固定位置を確認するためのＣＣＤカメラ１３０ａ・１３０ｂ、および、ガラス基板１１０ａ、または、液晶セル１１０の上面、下面を研磨するための２個の回転する砥石１４０ａ・１４０ｂとを備えている。そして、ガラス基板１１０ａ、または、液晶セル１１０自体を吸着ステージ１２０に真空吸着により吸着・固定し、続いて、ＣＣＤカメラ１３０ａ・１３０ｂを用いて、例えば、ガラス基板１１０ａ、または、液晶セル１１０が正規の位置にくるように吸着ステージ１２０の位置を補正する。そして、ガラス基板１１０ａの各辺、または、液晶セル１１０の各辺を回転している砥石１４０ａ・１４０ｂに当てながら、該吸着ステージ１２０を辺の長さ方向に移動させることにより各辺の面取りがおこなわれる。
【０００４】
上記従来の基板面取装置においては、例えば、吸着ステージ１２０（図１０参照）の傾き、すなわち、吸着ステージ１２０の送り方向に垂直な２辺間の高さの差、があるとすると、図１２および図１３に示すように、面取り終了後のガラス基板１１０ａの上面と下面とでは、面取りラインの傾きは逆方向となる。そして、上記の傾きが２０μｍあるときに、面取り角度を３０°として３００ｍｍの辺を面取りした場合、吸着ステージ１２０の旋回によって補正しきれない傾きが、ガラス基板１１０ａの上下両面それぞれに、理論値にて３４μｍ生じる。すなわち、±３４μｍの面取り量のばらつきが生じる。
【０００５】
さらに、ガラス基板１１０ａの厚みばらつき±３０μｍに起因する面取り量のはらつきが±５１μｍ生じ、また、ガラス基板１１０ａの外形ばらつき±２０μｍや、元来加工に基づくばらつきにより、さらに±２０μｍ程度の面取り量のばらつきが生じる。すなわち、欲しい面取り量に対して、総合して±１０５μｍの面取り量のばらつきが生じる。また、上記の面取り量のばらつきは、条件設定時と加工時の両方に存在するため、実際の面取り量のばらつきは、さらに大きなものとなる。
【０００６】
したがって、上記のような吸着ステージ１２０の傾きがある場合には、吸着ステージ１２０を水平方向に旋回させて、上面・下面それぞれの面取り量がほぼ均一となる方向に位置補正を行い、これによって、図１４および図１５に示すように、例えば、吸着ステージ１２０の取り付け精度に起因する面取り量のばらつきを回避していた。この位置補正を行うことにより、実際の面取り量のばらつきを、面取りの公差±０．２ｍｍ程度の範囲内、具体的には、約±１５０μｍの範囲内におさめることができる。
【０００７】
また、異なる大きさのガラス基板の辺を面取りする際には、各ガラス基板のサイズに応じた吸着ステージに取り替える必要がある。これは、ガラス基板の面取りが施される辺が、吸着ステージより外側に突出して配置される必要があるためであり、また、ガラス基板の面取り量のばらつきを防ぐために、該ガラス基板の突出量を、ガラス基板のサイズ毎に所定の値とする必要があるためである。吸着ステージの取り替え作業は、作業者が、加工データと吸着ステージのサイズとの照合結果に基づき行う。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
近年、薄型表示機器においては、表示部の大型化、高精度化、細密化がもとめられている。また、一方では、薄型表示機器の携帯性を重視し、該薄型表示機器の総合外形の縮小化および軽量化ももとめられている。これらの要求に応えるために、薄型表示機器に備えられた液晶セルにおいては、表示部が一段と拡大し、一方、駆動回路部分、および、液晶セルと該駆動回路等の実装部材とを接続する端子部（非表示部）の面積は一段と縮小している。
【０００９】
上記のように、非表示部の面積が小さくなるにつれて、透明基板の面取の精度も高い水準が要求されるようになり、最近では、面取り量のばらつきが、±０．１ｍｍを下回る精度が要求されるようになっている。例えば、具体的には、実装部材を取り付けるための端子部の長さが１．２ｍｍ〜２．０ｍｍ程度のものであれば、要求される面取り仕様は、１５０μｍ±６０〜８０μｍとなっている。
【００１０】
しかしながら、上記従来の基板面取装置では、吸着テーブル自体の加工精度や取り付け精度、また、切削水の温度変化等に起因する面取り量のばらつきが、±０．２ｍｍ程度と大きく、上記要求精度に応えられない。
【００１１】
また、上記従来の基板面取装置では、透明基板のサイズ毎に用意された吸着ステージの取り付け精度の悪さが、面取りの精度を悪くしてしまう。そのため、透明基板のサイズ毎に、吸着ステージを取り替えることもままならないという問題もあった。さらに、上記従来の基板面取装置では、作業者が誤って別のサイズの吸着ステージを取り付けた場合に、該吸着ステージと砥石とが衝突して吸着ステージの平面度に狂いが生じてしまったり、また、砥石や、砥石を回転させている高精度なモータを偏心させてしまう等のダメージを与えてしまい、その後の面取りの精度を維持できなくさせてしまうという問題もあった。
【００１２】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、取り扱う透明基板のサイズ、透明基板の厚みのばらつき、吸着テーブル自体の加工精度や取り付け精度等にかかわらず、該透明基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１記載の基板面取装置は、上記の課題を解決するために、基板を、その固定面上に固定する固定台と、基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、上記研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移動手段と、固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高さ測定手段による、固定面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段の移動量を制御する制御手段を備えており、上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっていることを特徴としている。
【００１４】
上記の構成によれば、高さ測定手段が、固定面の送り方向における高さの変動量を測定する。そして、制御手段が、高さ測定手段による測定結果に基づいて移動手段の移動量を制御する。すなわち研磨手段は、移動手段により、固定面の送り方向における高さの変動量に応じて、基板に対して垂直方向に移動させられる。
【００１５】
すなわち、固定面の凹凸、固定台の取り付け精度、固定台下面とその取り付け台との間への異物の入り込み等の、固定面以下の位置における要因により、面取りが施される基板の辺に、該基板に対して垂直方向の傾きが生じている場合であっても、該傾きに応じて研磨手段を移動させることができるため、精度の高い面取りを行うことができる。また、固定台の交換を行わない限りにおいては、高さ測定手段による測定は一度でよい。また、固定台交換時には、固定台の検出を行うことによって、研磨手段と固定台との接触・緩衝を無くすことができる。したがって、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することができる。
【００１６】
本本発明の請求項２記載の基板面取装置は、上記の課題を解決するために、基板を、その固定面に固定する固定台と、基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、上記研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移動手段と、固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段の移動量を制御する制御手段を備えており、上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっていることを特徴としている。
【００１７】
上記の構成によれば、高さ測定手段が、基板上面の送り方向における高さの変動量を測定する。そして、制御手段が、高さ測定手段による測定結果に基づいて移動手段の移動量を制御する。すなわち、研磨手段は、移動手段により、基板上面の送り方向における高さの変動量に応じて、該基板に対して垂直方向に移動させられる。
【００１８】
すなわち、基板厚のムラ、基板上面の凹凸、基板下面の凹凸、固定面と基板の下面との間への異物の入り込み、固定面の凹凸、固定台の取り付け精度、固定台下面とその取り付け台との間への異物の入り込み等の、基板上面以下の位置における要因により、面取りが施される基板の辺に、該基板に対して垂直方向の傾きが生じている場合であっても、該傾きに応じて研磨手段を移動させることができる。また、面取りが行われる基板ごとに、高さ測定手段による測定を行うため、各基板ごとの上面の傾きに応じた、精度の高い面取りを行うことができる。さらに、必要に応じて、面取りが行われる基板上面の辺ごとに、該辺の近傍の送り方向における高さの変動量を測定することもできる。また、固定台交換時には、固定台の検出を行うことによって、研磨手段と固定台との接触・緩衝を無くすことができる。したがって、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することができる。
【００１９】
本発明の請求項３記載の基板面取装置は、上記の課題を解決するために、基板を、その固定面に固定する固定台と、基板の辺の研磨を行う複数の研磨手段とを備え、研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、上記複数の研磨手段のそれぞれを独立に、基板に対して垂直方向に移動させる複数の移動手段と、固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量、および、固定面の送り方向における高さの変動量の、測定結果に基づいて複数の移動手段の移動量を独立に制御する制御手段を備えており、上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっていることを特徴としている。
【００２０】
例えば、基板上面の辺の面取りと下面の辺の面取りとを同時進行で行う場合、基板上面の辺と下面の辺とは、必ずしも上下方向に同じ傾きを持っているわけではないので、どちらかの辺の傾きを基準として面取りを行うと、基準とされない側の辺の面取りの精度が低下してしまうおそれがある。
【００２１】
しかしながら、上記の構成によれば、高さ測定手段が、固定面の送り方向における高さの変動量を測定し、さらに、基板上面の送り方向における高さの変動量を測定する。そして、制御手段が、固定面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、ある移動手段の移動量を制御する。また同時に、制御手段が、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、他の移動手段の移動量を制御する。
【００２２】
すなわち、研磨手段のあるものは、ある移動手段により、固定面の送り方向における高さの変動量に応じて、基板に対して垂直方向に移動させられ、また、研磨手段の他のものは、他の移動手段により、基板上面の送り方向における高さの変動量に応じて、該基板に対して垂直方向に移動させられる。また、固定台交換時には、固定台の検出を行うことによって、研磨手段と固定台との接触・緩衝を無くすことができる。したがって、面取りが施される辺ごとに応じて、研磨手段の位置補正を細かく行うことができ、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することができる。
【００２３】
例えば、固定面と当接している基板下面の辺の面取りを、固定面の送り方向における高さの変動量に応じて移動させられる研磨手段によって行い、一方、基板の上面の辺の面取りを、基板上面の送り方向における高さの変動量に応じて移動させられる研磨手段によって行うこととすれば、各辺の傾きに応じた精度の高い面取りを実現することができる。
【００２４】
また、液晶セルをなす一対の基板の、上側基板上面の一辺の面取りと、下側基板下面の一辺の面取りとを同時に行う場合には、例えば、上側基板と下側基板との間に存在するシール材層の厚さムラなどが原因となって、面取りが行われる２辺間の傾きが大きく異なる場合もある。しかしながら、上記のように、下側基板下面の一辺の面取りを、固定面の送り方向における高さの変動量に応じて移動させられる研磨手段によって行い、一方、上側基板の上面の一辺の面取りを、基板上面の送り方向における高さの変動量に応じて移動させられる研磨手段によって行うこととすれば、各辺の傾きに応じた精度の高い面取りを実現することができる。
【００２５】
本発明の請求項４記載の基板面取装置は、上記の課題を解決するために、請求項２または３に記載の構成において、上記高さ測定手段が、研磨手段に対して送り方向前方に設けられており、高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定と並行して、制御手段による移動手段の移動量の制御が行われることを特徴としている。
【００２６】
上記の構成によれば、高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定と、制御手段による移動手段の移動量の制御とを同時進行で行うことができる。したがって、面取り動作にかかる時間を短縮することができるため、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することができる。
【００２７】
本発明の請求項５記載の基板面取装置は、上記の課題を解決するために、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の構成において、上記オーバーハング量が一定で、かつ、５〜１５ｍｍであることを特徴としている。
【００２８】
上記の構成によれば、面取りの精度を高めることができるという効果を奏する。
【００２９】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の一形態について図１ないし図９に基づいて説明すれば、以下の通りである。尚、これによって、本発明が限定されるものではない。本発明の実施の形態に係る基板面取装置は、図１に示すように、面取りが施される一対のガラス基板（基板）１１ａ・１１ｂを有する液晶セル１１を、その固定面１２ｃに吸着・固定するための吸着ステージ（固定台）１２、吸着ステージ１２を、面取りが行われる方向（送り方向）に送るための送り軸１２ａ、吸着ステージ１２を水平方向に旋回するための旋回軸１２ｂを備えている。また、吸着ステージ１２上方には、該吸着ステージ１２に吸着・固定される液晶セル１１の位置を確認するための一対のＣＣＤカメラ１３ａ・１３ｂが備えられている。
【００３０】
一方、吸着ステージ１２の斜め上方においては、固定板２３ａ上に、上面用砥石１４ａを備えた研磨器（研磨手段）１４が設けられており、また、固定板２３ｂ上に、下面用砥石１４ｂを備えた研磨器（研磨手段）１４が設けられている。上記固定板２３ａ上にはさらに、面取りが施されるガラス基板１１ａの上面の高さ、および／または、固定面１２ｃの高さを測定する高さ検出器（高さ測定手段）１５が、固定面１２ｃと対向して設けられている。
【００３１】
上記固定板２３ａには、該固定板２３ａを上下方向に送るための制御軸（移動手段）１６ａと、該固定板２３ａを左右方向（後述する幅方向）に送るための制御軸１６ｂとが備えられている。また、固定板２３ｂには、該固定板２３ｂを上下方向に送るための制御軸（移動手段）１７ａと、該固定板２３ｂを左右方向に送るための制御軸１７ｂとが備えられている。
【００３２】
また、本実施の一形態に係る基板面取装置は、ＣＣＤカメラ１３ａ・１３ｂの撮像した画像を処理し、この処理に基づいて上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステージ１２との相対的な位置補正のための信号を出力するアライメント画像処理部１８、高さ検出器１５の測定結果に基づいて、上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステージ１２との相対的な位置の補正のために、所定の演算を行う演算機１９、アライメント画像処理部１８からの出力、および、演算機１９からの出力に基づき、送り軸・旋回軸モータコントローラ２１、砥石位置モータコントローラ２２、それぞれに制御信号を出力する主制御部２０とを備えている。尚、送り軸・旋回軸モータコントローラ２１は、吸着ステージ１２に備えられた送り軸１２ａ・旋回軸１２ｂの動作を制御するものであり、砥石位置モータコントローラ２２は、制御軸１６ａ・１６ｂを通じて上面用砥石１４ａの位置を、制御軸１７ａ・１７ｂを通じて下面用砥石１４ｂの位置を、制御するものである。尚、場合によっては、演算機１９を省略することもできる。
【００３３】
次に、該基板面取装置の要部および面取りが施される液晶セル１１について、さらに具体的に説明する。上記吸着ステージ１２は平坦な固定面１２ｃの一部に吸着孔２４を有しており、該吸着孔２４の内部空間を真空にすることで液晶セル１１を吸着し、固定面１２ｃに固定する。尚、液晶セル１１の固定面１２ｃへの固定方法は、これに限られるものではない。吸着ステージ１２の固定面１２ｃは、その幅寸法、および、長さ寸法の両方が、液晶セル１１より小さく設計されている。また、吸着ステージ１２は、旋回軸１２ｂの動作により水平方向に３６０°自由に回転することが可能に設置されており、さらに、送り軸１２ａの動作により送り方向へ移動可能に設置されている。尚、以下に説明するが、吸着ステージ１２のサイズは特に限定されるものではなく、面取りが施されるガラス基板のサイズに応じて変更することが好ましい。
【００３４】
一対の研磨器１４・１４はそれぞれ、制御軸１６ａ・１７ａの動作により上下方向（すなわち、基板に対して垂直方向）に移動可能に設置されており、さらに、制御軸１６ｂ・１７ｂの動作により左右方向（後述する幅方向）に移動可能に設置されている。また、研磨器１４・１４の先端にはそれぞれ、軸支された上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂが設けられ、所定の速度で回転し、液晶セル１１の所定位置に面取りを施す。下面用砥石１４ｂは、上面用砥石１４ａに対し送り方向前方になるように配置されているが、配置関係は特に限定されない。上面用砥石１４ａおよび下面用砥石１４ｂの材質は、その研磨面が、面取りの対象とされるガラス基板１１ａ・１１ｂの硬度と同等か、それ以上の硬度をもつものであれば特に限定されるものではなく、例えば、その研磨面にダイヤモンド粒を配したものを挙げることができる。また、研磨器１４・１４それぞれの、固定板２３ａ・２３ｂに対する取り付け角度は、施される面取りの角度に応じて自由に変更することができるようになっている。尚、上記の研磨器１４は、特に、一対に設けられる必要はなく、少なくとも一つ設けられていればよい。また、その配置は特に限定されるものではなく、例えば、液晶セル１１を挟んで対向するように配置されてもよい。
【００３５】
高さ検出器１５は、図２に示すように、触針１５ａを有しており、触針１５ａで測定すべき対象（図２においては、吸着ステージ１２）の上面に当接して、該上面の水平度やうねり、凹凸の高さや形状等に代表される高さの変動（変動量）を連続的または、不連続に測定し、その状態を電気量に変換するものである。具体的には、例えば、触針１５ａと吸着ステージ１２とを一定速度で相対運動させ、これによって、触針１５ａを、固定面１２ｃ上の凹凸に倣って上下に運動させる。そして、触針１５ａの上下運動が、図示しないレバーを介して変位−電気変換器に伝えられる。この変位−電気変換は、例えば、ａ）ムービングコイル型やムービングマグネット型に代表される速度型、ｂ）差動変圧器等を用いた変位型、等の変位−電気変換器によって行うことができる。
【００３６】
高さ検出器１５は、特に固定板２３に固定される必要はなく、上下・左右方向に移動可能なように、他の固定板に固定されていてもよい。また、高さ検出器１５を、送り方向に移動可能なように取り付けてもよい。また、測定対象（吸着ステージ１２）の表面に触針１５ａによるキズを付けないように測定力（針圧）を小さくしておくことが望ましい。さらに、測定対象表面のうねりや傾斜に対して高さ検出器１５本体を倣い運動させるためにスキッドを設けてもよい。
【００３７】
面取りを施されるべき液晶セル１１として、例えば、１）液晶注入孔を出すためにガラス基板１１ａ・１１ｂの分断が行われたもの、２）図示しない電極部分を出すためにガラス基板１１ａ・１１ｂの分断が行われたもの、３）多面取りの基板から分断されてできた個々の液晶セル１１、等のように、面取りが施されるべき辺を有するガラス基板１１ａ・１１ｂを持つものであれば特に限定されるものではない。液晶セル１１をなす下側のガラス基板１１ｂの幅方向（すなわち、固定面１２ｃと平行で、かつ、送り方向と垂直な方向）両端には、上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステージ１２との相対的な位置補正に用いられるアライメント用マーク２２ａ・２２ｂが設けられている。アライメント用マークの形状、配置数、および、配置位置は、特に限定されるものではなく、例えば、ガラス基板１１ａ・１１ｂの貼り合わせの為の位置合わせマーク等があれば、これを代用することも可能である。尚、特にことわらない限りにおいて、該液晶セル１１の「基板下面」とは、固定面１２ｃと当接している、ガラス基板１１ｂの下面のことを指し、「基板上面」とは、ガラス基板１１ａの上面のことを指すものとする。
【００３８】
続いて、図１、および、図３ないし図９に基づいて、本発明の実施の一形態に係る基板面取装置の動作について具体的に説明する。
【００３９】
図１に示すように、薄型表示機器の代表である液晶ディスプレイの製造の途中段階にある液晶セル１１は、外部より、吸着ステージ１２の固定面１２ｃ上に搬送された後に、吸着孔２４において吸着され、該固定面１２ｃ上に固定される。
【００４０】
続いて、吸着ステージ１２上方に備えられた、一対のＣＣＤカメラ１３ａ・１３ｂにより、液晶セル１１上のアライメント用マーク２２ａ・２２ｂの撮像が行われる。ＣＣＤカメラ１３ａ・１３ｂの撮像した画像は、アライメント画像処理部１８に送られた後に、ここで処理され、この処理に基づいて上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステージ１２との相対的な位置補正のための信号が主制御部２０に出力される。主制御部２０は、該信号に基づき、送り軸・旋回軸モータコントローラ２１に制御信号を出力し、該制御信号に基づいた送り軸１２ａおよび旋回軸１２ｂの動作によって液晶セル１１の位置を、正規の位置に補正する。尚、改めて後述するが、液晶セル１１の幅方向への位置補正は、研磨器１４・１４の幅方向への移動により相対的に行われる。
【００４１】
次に、液晶セル１１上面の面取りが行われる付近、すなわち、ガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる一辺の、水平度やうねり、凹凸の高さや形状等に代表される高さの変動量の測定が行われる。この測定は、高さ検出器１５に関する上記説明のように、触針１５ａがガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる一辺に当接した状態で、吸着ステージ１２を一定速度で送り、これによって、触針１５ａを、該一辺上の凹凸に倣って上下に運動させる。そして、触針１５ａの上下運動が、図示しないレバーを介して変位−電気変換器に伝えられる。そして、電気変換された測定結果は、演算機１９に入力されて所定の演算が行われた後に、高さ情報として図示しないメモリに保存される。図３に示すのは、このようにして得られた高さ情報の一例であり、該高さ情報は、ガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる一辺が、送り方向に対して上向きの傾斜を持っていることを示している。
【００４２】
ガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる一辺に高さの変動が生じる原因として、例えば、具体的には、固定面１２ｃ上の凹凸、液晶セル１１のセル厚の不均一性（ガラス基板１１ａ・１１ｂのガラス厚のムラ、図示しないシール材層の厚さムラ等）、ガラス基板１１ａ上面の凹凸、ガラス基板１１ｂ下面の凹凸、固定面１２ｃと液晶セル１１の下面との間への異物の入り込み、吸着ステージ１２下面とその取り付け台との間への異物の入り込み、等をあげることができる。
【００４３】
研磨器１４・１４はそれぞれ、面取り動作に先立って、予め登録されている液晶セル１１の外形、液晶セル１１の厚み、および、施される面取りの量等に応じて所定の位置に移動される。すなわち、液晶セル１１の外形、液晶セル１１の厚み、および、施される面取りの量等に応じて、主制御部２０が、砥石位置モータコントローラ２２に制御信号を出力し、該制御信号に基づいた制御軸１６ａ・１６ｂの動作、および、制御軸１７ａ・１７ｂの動作によって研磨器１４・１４が、それぞれの所定の位置へと移動される。尚、液晶セル１１の幅方向への位置補正が必要な場合には、アライメント画像処理部１８より出力された信号に基づき、主制御部２０が、砥石位置モータコントローラ２２に制御信号を出力する。そして、該制御信号に基づいた制御軸１６ｂの動作、および、制御軸１７ｂの動作によって研磨器１４・１４がそれぞれ、所定の位置への移動とあわせて移動される。この時点では、研磨器１４・１４は、吸着ステージ１２に対し、その送り方向前方に離れて位置している。
【００４４】
続いて、液晶セル１１を真空吸着した吸着ステージ１２は、所定の送り速度（５０ｍｍ／ｓｅｃ〜２００ｍｍ／ｓｅｃ）で、所定の速度で回転する上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂに向かって進行し、液晶セル１１のエッジの研磨（面取り）が行われる。本実施の形態において、面取りが行われるべき液晶セル１１のエッジとは、上面用砥石１４ａと当接するガラス基板１１ａ上面の辺、および、下面用砥石１４ｂと当接するガラス基板１１ｂ下面の辺、の２辺をさす。このときの上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂの回転速度は、３０００ｒｐｍ〜２００００ｒｐｍである。尚、上記の送り速度、回転速度は特に限定されるものではない。
【００４５】
面取り動作時には、研磨器１４・１４の高さはそれぞれ、図示しないメモリに保存された上記高さ情報に応じて小刻みに補正される。すなわち、主制御部２０は、図示しないメモリから読み出された高さ情報に応じて、砥石位置モータコントローラ２２に制御信号を出力する。そして、該制御信号に基づいて制御軸１６ａの移動量、および、制御軸１７ａの移動量の制御が行われることにより、研磨器１４・１４がそれぞれ上下に移動され、一定の面取り量で面取りを行うことができる。これにより、例えば、図３に示すような、送り方向に傾斜を持つ辺に対しても、該辺が水平であるかのように面取りを行うことができる。
【００４６】
一方、図４に示すように、例えば、液晶セル１１の各部位におけるセル厚の不均一性により面取りが施されるべき上側の辺が複雑な傾斜を持つ場合には、該辺が水平であるとして面取り動作を行うと、図５に示すように、その面取り量は一定とはならず、すなわち、該辺の水平精度に応じた面取り加工しかできない。
【００４７】
しかしながら、高さ検出器１５を用いて、液晶セル１１上面の面取りが行われる付近、すなわち、ガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる一辺の、水平度やうねり、凹凸の高さや形状等の測定を行った後に、得られた高さ情報に基づいて、図６に示すように、研磨器１４・１４（上面用砥石１４ａ、および、下面用砥石１４ｂ）の高さを補正しながら面取り動作が行われれば、一定の面取り量で面取りを行うことができる。これにより、例えば、図４に示すような、送り方向に数段階の複雑な傾斜を持つ辺に対しても、図７に示すように、該辺が水平であるかのように精度の高い面取りを行うことができる。
【００４８】
また、上記説明のように得られた高さ情報に基づいて、研磨器１４・１４（上面用砥石１４ａ、および、下面用砥石１４ｂ）の高さを補正しながら面取り動作が行われても、図８に示すように、液晶セル１１の面取りラインが、ガラス基板１１ａ、および、ガラス基板１１ｂの双方において同一の方向に傾く場合がある。このような傾きは、液晶セル１１の設置位置の水平方向のずれに由来するものである。従って、このような場合には、主制御部２０から送り軸・旋回軸モータコントローラ２１に出力された制御信号に基づき旋回軸１２ｂを動作させて、吸着ステージ１２を水平方向に所望の角度旋回して位置補正を行い、さらに、この補正を新たに登録することで一定の面取り量で精度の良い面取りを行うことができる。または、上面用砥石１４ａ、および、下面用砥石１４ｂの位置補正を行うことによっても上記問題に対応することができる。
【００４９】
ところで上記のように、液晶セル１１の上下両面、すなわち、ガラス基板１１ａ上面の辺、および、ガラス基板１１ｂ下面の辺、を同時に面取りする場合には、上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステージ１２との接触・緩衝を無くすために、ガラス基板１１ａ・１１ｂの面取りが施される辺が、吸着ステージ１２より外側に突出（オーバーハング）して配置される必要がある。また、面取りの精度を高めるためには、ガラス基板１１ａ・１１ｂの吸着ステージ１２からのオーバーハング量を一定にする必要がある。従って、面取りを施すべき液晶セル１１のサイズ（ガラス基板１１ａ・１１ｂのサイズ）を変更すれば、使用される吸着ステージ１２のサイズも変更する必要がある。尚、適切なオーバーハング量は、面取りが施されるガラス基板１１ａ・１１ｂの設計や、サイズ等に応じて異なるが、おおよそ、５〜１５ｍｍ程度である。
【００５０】
使用される吸着ステージ１２のサイズの変更作業、すなわち、使用される吸着ステージ１２の交換作業には、高い取り付け再現性が要求されるが、近年の要求精度に対し、取り付け再現性の精度を満たすことが厳しくなってきている。この原因の一つとして、例えば、吸着ステージ１２の交換時に、吸着ステージ取り付け面と吸着ステージ１２との間にゴミ等の異物を挟み込んでしまい、吸着ステージ１２の傾きが発生してしまうということ等が挙げられる。図９に示すように、吸着ステージ取り付け面と吸着ステージ１２との間にゴミ等の異物を挟み込んだために、面取りが施されるべき上側の辺が複雑な傾斜を持つ場合には、該辺が水平であるとして面取り動作を行うと、その面取り量は一定とはならない。すなわち、面取りラインが、ガラス基板１１ａ、および、ガラス基板１１ｂにおいて互いに逆方向に傾き、該辺の水平精度に応じた面取り加工しかできない。
【００５１】
しかしながら、本発明の実施の一形態にかかる基板面取装置を用いれば、吸着ステージ１２交換後に、新しい吸着ステージ上に吸着・固定された異なるサイズの液晶セルの上側の辺の高さを、高さ検出器１５で測定し、得られた高さ情報に基づいて（すなわち、測定結果をフィードバックしながら）面取りを実施することにより、精度の高い面取りを実施することができる。また、吸着ステージ１２交換後の調整も簡単となるため、吸着ステージ１２の取り換え時間の短縮を実現することが可能となる。
【００５２】
また、上記の吸着ステージ１２の交換作業は、作業者が直接行うものであるために、誤って、不適切なサイズの吸着ステージに交換されるおそれがある。不適切なサイズの吸着ステージに交換されると、上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステージとの接触・緩衝により、例えば、上面用砥石１４ａ、および、下面用砥石１４ｂのそれぞれを回転させている図示しない高精度なモータや、吸着ステージそのものに大きなダメージを与えてしまうこととなる。また、適切なオーバーハング量を確保できないため、面取りの精度を低下させることにもなる。
【００５３】
上記の問題を防止するために、新たに取り付けられた吸着ステージの外周より数ｍｍ外側の位置、例えば、必要とされるオーバーハング量分外側の位置、の高さを、上記高さ検出器１５を用いて計測することによって、該吸着ステージのサイズの適否をチェックすることができる。すなわち、高さ検出器１５は、新たに取り付けられた吸着ステージの外周より数ｍｍ外側と想定される位置に移動された後に、高さの検出動作を行う。ここで、新たに取り付けられた吸着ステージが想定されたサイズ以下であれば、高さ検出器１５に備えられた触針１５ａは、該吸着ステージと当接することがない。したがって、高さ検出器１５は、吸着ステージの高さ付近では、高さを検出することがない。また、新たに取り付けられた吸着ステージが想定されたサイズを超えるが、その超過量が該オーバーハング量未満であれば、高さ検出器１５はやはり、吸着ステージの高さ付近では、高さを検出することがない。一方、新たに取り付けられた吸着ステージが、想定されたサイズを該オーバーハング量以上超えるものであれば、触針１５ａは、該吸着ステージと当接する。したがって、高さ検出器１５は、吸着ステージの高さ付近で、高さを検出する。そして、高さ検出器１５が、吸着ステージの高さ付近で高さを検出する場合には、上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステージとの接触・緩衝が生じることとなる。
【００５４】
このようなサイズの適否のチェックを吸着ステージ１２交換時に、常に実施することにより、本実施の形態にかかる基板面取装置においては、不適切なサイズの吸着ステージに交換されることに起因する上記問題を簡単に回避することができる。尚、吸着ステージの外周より数ｍｍ外側の位置、とは、必ずしも、吸着ステージの外周よりオーバーハング量分外側の位置、を意味するものではなく、固定面と平行で、かつ、該吸着ステージの送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、さらに、該吸着ステージの外周より外側の位置であればよい。
【００５５】
吸着ステージのサイズの適否のチェック方法は、特に上記の方法に限られるものではない。例えば、具体的には、高さ検出器１５により、固定面の幅方向の高さの変化量の測定を行うことで該固定面の幅方向両端部の位置を検出し、続いて、その検出結果に基づいて、該固定面の幅寸法を決定し、新たに取り付けられた吸着ステージのサイズの適否を決定するようにしてもよい。即ち、高さ検出器１５は、高さ測定手段としての機能に加えて、長さ測定手段としての機能も有する。
【００５６】
尚、長さ測定手段の種類は、吸着ステージの幅方向の長さを直接的、または、間接的に測定できるものであれば特に限定されるものではない。例えば、従来公知のイメージセンサ、フォトセンサ等であってもよい。
【００５７】
また、液晶セル１１の幅方向にのびるいずれかの辺に対して面取りを施す場合には、吸着ステージ１２を水平方向に９０°旋回させるとよい。この旋回により、該辺を送り方向に平行とすることができる。
【００５８】
上記実施の形態では、面取りが行われるべき液晶セル１１のエッジとは、上面用砥石１４ａと当接するガラス基板１１ａ上面の辺、および、下面用砥石１４ｂと当接するガラス基板１１ｂ下面の辺、をさすものとしたが、特にこれらの辺に限定されるものではない。例えば、具体的には、液晶セル１１をなすガラス基板１１ａ上下面の辺であってもよく、また、ガラス基板１１ｂ上下面の辺であってもよい。また、場合によっては、液晶セル１１として組み立てられる以前の、ガラス基板１１ａ上下面の辺、または、ガラス基板１１ｂ上下面の辺の面取りを行うものであってもよい。尚、ガラス基板１１ａまたはガラス基板１１ｂのような一枚のガラス基板を扱う場合、該ガラス基板の下面は、真空吸着により固定台１２の固定面１２ｃとなじみ、該固定面１２ｃと同じ傾きとなっているので、ガラス基板の厚みのばらつきが少ない限りにおいては、固定面１２ｃの長さ方向の高さの変化量の測定結果にもとづいて、該ガラス基板の上下両面の辺の面取りを精度よく行うことが可能である。
【００５９】
また、上記実施の形態では、一つの高さ情報、すなわち、面取りが施されるガラス基板１１ａ上面の一辺の近傍の高さの変動を測定することにより得られた高さ情報、に基づいて、一対の研磨器１４・１４（上面用砥石１４ａ、および、下面用砥石１４ｂ）の高さを同様に補正する構成であったが、特にこれに限定されるものではなく、場合によっては、固定面１２ｃの高さの変動に基づいて、一対の研磨器１４・１４の高さを同様に補正する構成としてもよい。該構成とすれば、吸着ステージ１２の交換を行わない限りにおいて、同一の高さ情報に基づき一対の研磨器１４・１４の高さを補正することができるので、例えば、液晶セル１１の面取りを効率的に行うことができる。
【００６０】
また、例えば、面取りが施されるガラス基板１１ａ上面の一辺の高さの変動に基づいて上面用砥石１４ａの高さを補正し、一方、固定面１２ｃの高さの変動に基づいて下面用砥石１４ｂの高さを補正を行う構成とすることもできる。このような構成とすれば、上面用砥石１４ａによって面取りが施されるガラス基板１１ａ上面の一辺と、下面用砥石１４ｂによって面取りが施されるガラス基板１１ｂ下面の一辺とが平行でない場合であっても、精度の高い面取りを行うことができる。尚、該構成とする場合には、必要に応じて、高さ検出器１５を複数設けてもよい。さらに、固定面１２ｃの高さ情報を、吸着・固定されるガラス基板１１ｂ下面の形状に応じて変換する変換手段を設けてもよい。
【００６１】
さらにまた、上記実施の形態では、高さ検出器１５と研磨器１４とが、同一の固定板２３ａ上に固定された構成であったが、特にこれに限定されるものではない。例えば、具体的には、高さ検出器１５を、固定板２３ｂに対して送り方向前方に配された別の固定板上に独立に設置する構成とすることもできる。該構成によれば、高さ検出器１５が先行してガラス基板１１ａ上面の高さの変動を検出し、その結果導かれた高さ情報に基づいて研磨器１４・１４を動かすことができる。すなわち、高さの変動の検出と面取り動作とを同時進行で行うことができる。
【００６２】
【発明の効果】
本発明の請求項１記載の基板面取装置は、以上のように、基板を、その固定面上に固定する固定台と、基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、上記研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移動手段と、固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高さ測定手段による、固定面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段の移動量を制御する制御手段を備えており、上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっている構成である。
【００６３】
上記の構成によれば、固定面の凹凸、固定台の取り付け精度、固定台下面とその取り付け台との間への異物の入り込み等の、固定面以下の位置における要因により、面取りが施される基板の辺に、該基板に対して垂直方向の傾きが生じている場合であっても、該傾きに応じて研磨手段を移動させることができるため、精度の高い面取りを行うことができる。また、固定台の交換を行わない限りにおいては、高さ測定手段による測定は一度でよい。また、固定台交換時には、固定台の検出を行うことによって、研磨手段と固定台との接触・緩衝を無くすことができる。したがって、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することができるという効果を奏する。
【００６４】
本発明の請求項２記載の基板面取装置は、以上のように、基板を、その固定面に固定する固定台と、基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、上記研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移動手段と、固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段の移動量を制御する制御手段を備えており、上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっている構成である。
【００６５】
上記の構成によれば、基板厚のムラ、基板上面の凹凸、基板下面の凹凸、固定面と基板の下面との間への異物の入り込み、固定面の凹凸、固定台の取り付け精度、固定台下面とその取り付け台との間への異物の入り込み等の、基板上面以下の位置における要因により、面取りが施される基板の辺に、該基板に対して垂直方向の傾きが生じている場合であっても、該傾きに応じて研磨手段を移動させることができる。また、面取りが行われる基板ごとに、高さ測定手段による測定を行うため、各基板ごとの上面の傾きに応じた、精度の高い面取りを行うことができる。さらに、必要に応じて、面取りが行われる基板上面の辺ごとに、該辺の近傍の送り方向における高さの変動量を測定することもできる。また、固定台交換時には、固定台の検出を行うことによって、研磨手段と固定台との接触・緩衝を無くすことができる。したがって、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することができるという効果を奏する。
【００６６】
本発明の請求項３記載の基板面取装置は、以上のように、基板を、その固定面に固定する固定台と、基板の辺の研磨を行う複数の研磨手段とを備え、研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、上記複数の研磨手段のそれぞれを独立に、基板に対して垂直方向に移動させる複数の移動手段と、固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量、および、固定面の送り方向における高さの変動量の、測定結果に基づいて複数の移動手段の移動量を独立に制御する制御手段を備えており、上記高さ測定手段が、上記固定面と平行でかつ送り方向と垂直な方向に移動可能に設けられており、固定台交換時に、新たに取り付けられた固定台の固定面と平行でかつ該固定台の送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、該固定台の外周よりオーバーハング量分外側の位置の高さを計測し、該位置における固定台の検出の有無から上記基板に対する固定台のサイズの適否をチェックするようになっている構成である。
【００６７】
上記の構成によれば、高さ測定手段が、固定面の送り方向における高さの変動量を測定し、さらに、基板上面の送り方向における高さの変動量を測定する。そして、制御手段が、固定面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、ある移動手段の移動量を制御する。また同時に、制御手段が、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、他の移動手段の移動量を制御する。
【００６８】
すなわち、研磨手段のあるものは、ある移動手段により、固定面の送り方向における高さの変動量に応じて、基板に対して垂直方向に移動させられ、また、研磨手段の他のものは、他の移動手段により、基板上面の送り方向における高さの変動量に応じて、該基板に対して垂直方向に移動させられる。また、固定台交換時には、固定台の検出を行うことによって、研磨手段と固定台との接触・緩衝を無くすことができる。したがって、面取りが施される辺ごとに応じて、研磨手段の位置補正を細かく行うことができ、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することができるという効果を奏する。
【００６９】
本発明の請求項４記載の基板面取装置は、以上のように、請求項２または３に記載の構成において、上記高さ測定手段が、研磨手段に対して送り方向前方に設けられており、高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定と並行して、制御手段による移動手段の移動量の制御が行われる構成である。
【００７０】
上記の構成によれば、高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定と、制御手段による移動手段の移動量の制御とを同時進行で行うことができる。したがって、面取り動作にかかる時間を短縮することができるため、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供することができるという効果を、請求項２または請求項３に記載の構成による効果に加えて奏する。
【００７１】
本発明の請求項５記載の基板面取装置は、以上のように、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の構成において、上記オーバーハング量が一定で、かつ、５〜１５ｍｍである構成である。
【００７２】
上記の構成によれば、面取りの精度を高めることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態にかかる基板面取装置の構成を示す概略の斜視図である。
【図２】図１に示す基板面取装置に備えられた高さ検出器の構成を示す概略の側面図である。
【図３】液晶セル上面の面取りが行われる付近の、送り方向に沿った高さ情報、すなわち、高さの測定位置と該測定位置における液晶セル上面の相対的な高さとの、送り方向における連続的な関係、の一例を示すグラフである。
【図４】液晶セル上面の面取りが行われる付近の、送り方向に沿った高さ情報の他の例を示すグラフである。
【図５】図４に示す高さ情報を有する液晶セルの、上面上の一辺の面取りと下面上の一辺の面取りとを、該高さ情報に基づいた補正を行わずに実施した場合の、面取りラインを示す概略の平面図である。
【図６】図４に示す高さ情報に基づいて砥石位置の補正を行った場合の、砥石高さと面取り加工位置との、送り方向における連続的な関係を示すグラフである。
【図７】図４に示す高さ情報を有する液晶セルにおいて、図６に示す補正を行った場合の、面取りラインを示す概略の平面図である。
【図８】液晶セルの上面と下面とで、面取りラインが同一の方向に傾く一例を示す概略の平面図である。
【図９】液晶セル上面の面取りが行われる付近の、送り方向に沿った高さ情報のさらに他の例を示すグラフである。
【図１０】従来の基板面取装置の構成を示す概略の斜視図である。
【図１１】従来の基板面取装置の面取り動作を説明するための説明図である。
【図１２】図１０に示す従来の基板面取装置を用いて、ガラス基板の、上面上の一辺の面取りと下面上の一辺の面取りとを実施した場合の、面取りラインの一例を示す概略の斜視図である。
【図１３】図１２に示すガラス基板の概略の平面図である。
【図１４】水平方向に旋回させることで、図１２に示すガラス基板の位置補正を行った後に、図１０に示す従来の基板面取装置を用いて、該ガラス基板の、上面上の一辺の面取りと下面上の一辺の面取りとを実施した場合の、面取りラインの一例を示す概略の斜視図である。
【図１５】図１４に示すガラス基板の概略の平面図である。
【符号の説明】
１１ａ ガラス基板（基板）
１１ｂ ガラス基板（基板）
１２ 吸着ステージ（固定台）
１２ｃ 固定面
１４ 研磨器（研磨手段）
１５ 高さ検出器（高さ測定手段、長さ測定手段）
１６ａ 制御軸（移動手段）
１７ａ 制御軸（移動手段）
２０ 主制御部（制御手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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