(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する第１及び第２の端面を有するスラブ光導波路と、
該スラブ光導波路の第１の端面に接続される第１の複数の光導波路と、
上記スラブ光導波路の第２の端面に接続される第２の複数の光導波路とを備え、
上記第２の複数の光導波路の各々は、上記スラブ光導波路に接続される第１のキャビティと、該第１のキャビティに第１の反射面を介して鋭角的に接続される第２のキャビティとを含み、
該第２のキャビティは第２の反射面により終端された光デバイス。
【請求項２】
請求項１記載の光デバイスであって、
該溝の該各第１のキャビティに対応する部分には、上記第２の複数の光導波路と符号が異なり、温度変化による該第２の複数の光導波路の光路長変化を抑える温度係数を有する透明物資が充填された光デバイス。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の光デバイスであって、
上記第１のキャビティを横切る溝は１または複数の直線上に配列される光デバイス。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の光デバイスであって、
上記第１の反射面の各々は、光デバイスの形成された基板の端面に形成された反射膜によって提供される光デバイス。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載の光デバイスであって、
上記スラブ光導波路の第２の端面が円弧上に配置される光デバイス。
【請求項６】
請求項４に記載の光デバイスであって、
上記第２の複数の光導波路の各々の少なくとも上記スラブ光導波路の近傍の部分は上記円弧の中心から放射状に配置されている光デバイス。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般的に、光導波構造を有する光デバイスに関し、更に詳しくは、波長分割多重が適用されるシステムにおいて光マルチプレクサ又は光デマルチプレクサとして使用されるのに適した光デバイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、高度情報化社会の進展と共に膨大な情報の処理が必要とされ、情報を伝送する伝送網には、大容量化に適した光ファイバ通信が活用されている。光ファイバ通信おける情報の伝送速度は既に２．４Ｇｂ／ｓ或いは１０Ｇｂ／ｓにまで達しているが、これからの実用化が期待されている動画像を取り込んだ通信システムでは、伝送容量の更なる増大が必要とされる。例えば、幹線系においては１テラビット／秒（Ｔｂ／ｓ）を越える伝送容量が必要とされるであろう。
【０００３】
光ファイバ通信における伝送容量を増大するための技術の１つとして、波長分割多重（ＷＤＭ）がある。ＷＤＭが適用されるシステムにおいては、互いに異なる波長を有する複数の光キャリアが用いられる。各光キャリアを独立に変調することによって得られた複数の光信号が光マルチプレクサにより波長分割多重され、その結果得られたＷＤＭ信号光が光ファイバ伝送路に送出される。受信側では、受けたＷＤＭ信号光が光デマルチプレクサによって個々の光信号に分離され、各光信号に基づいて伝送データが再生される。従って、ＷＤＭを適用することによって、当該多重数に応じて一本の光ファイバにおける伝送容量を増大させることができる。
【０００４】
一方、ＷＤＭを実施する場合には、システムによって、数波から１００波程度の幅広い多重数が設定され、また、１ｎｍ以下から数１０ｎｍ程度の幅広い波長間隔が要求される。また、加入者システムにＷＤＭを適用する場合には、構成部品を低い価格で提供することが要求される。従って、ＷＤＭにおいては、光マルチプレクサ及び／又は光デマルチプレクサとして使用可能なＷＤＭフィルタがキーデバイスである。
【０００５】
他方、近年においては、計測の分野にあってもＷＤＭの適用が試みられており、ＷＤＭフィルタはこの分野においても重要な構成部品となる。
図１は、光マルチプレクサ及び／又は光デマルチプレクサとして使用可能な従来のＷＤＭフィルタの一例を示す平面図である。このＷＤＭフィルタは、一対のスラブ光導波路（平面導波路）２及び４と、スラブ光導波路２及び４間を接続する複数の光導波路（アレー導波路）６とを備えている。
【０００６】
光導波路６は互いに異なる光路長を有している。具体的には、光導波路６は、特定波長の光に対して隣同士相互に２πの整数倍の位相差が与えられるように形成されている。
【０００７】
光デマルチプレクサの機能を得るために、スラブ光導波路２の光導波路６との接続部の反対側には少なくとも１つの入力光導波路８が接続され、スラブ光導波路４の光導波路６との接続部と反対の側には複数の出力光導波路１０が接続されている。光導波路６を含む回折格子における回折作用の結果、入力光導波路８と出力光導波路１０の各々とは、特定の波長によって結合される。従って、入力光導波路８にＷＤＭ信号光が供給されると、各波長チャネルの光信号は各光導波路１０から出力される。
【０００８】
このＷＤＭフィルタが光マルチプレクサとして使用される場合には、各波長チャネルの光信号が各光導波路１０に供給される。そして、各光信号を波長分割多重した結果得られたＷＤＭ光信号が光導波路８から出力される。
【０００９】
図２は、光マルチプレクサ及び／又は光デマルチプレクサとして使用可能な従来のＷＤＭフィルタの他の例を示す平面図である。このＷＤＭフィルタは、端面１２Ａ及び１２Ｂを有するスラブ光導波路１２と、スラブ光導波路１２の端面１２Ａに光学的に接続される第１の複数の光導波路１４と、スラブ光導波路１２の端面１２Ｂに光学的に接続される第２の複数の光導波路１６とを備えている。
【００１０】
光導波路１６の各々の一方の端部はスラブ光導波路１２の端面１２Ｂに光学的に接続され、他方の端部には反射素子１８が直接接続されている。光導波路１６は実質的に均等な幅を有している。光導波路１６及び反射素子１８が実質的に回折格子として機能するために、光導波路１６は互いに異なる光路長を有している。具体的には、光導波路１６を反射往復する特定波長の光に対して隣同士相互に２πの整数倍の位相差が与えられるように形成されている。このＷＤＭフィルタでは、スラブ光導波路１２が１つで足りるので、図１のＷＤＭフィルタと比較して小型化が可能である。
【００１１】
このＷＤＭフィルタが光デマルチプレクサとして使用される場合には、光導波路１４のうちの１つが入力ポートとなり、他の複数が出力ポートとなる。一方、このＷＤＭフィルタが光マルチプレクサとして使用される場合には、光導波路１４のうちの１つが出力ポートとなり、他の複数が入力ポートとなる。
【００１２】
図３は、光マルチプレクサ及び／又は光デマルチプレクサとして使用可能な従来のＷＤＭフィルタの更に他の例を示す平面図である。ここでは、図１のＷＤＭフィルタのサイズを概略半分にするために、各光導波路６の長さが丁度半分になるように基板２０を切断し、その切断面２０Ａ上に反射膜２２が形成されている。
【００１３】
このＷＤＭフィルタが光デマルチプレクサとして使用される場合には、光導波路１０のうちの１つが入力ポートとなり、他の複数が出力ポートとなる。一方、このＷＤＭフィルタが光マルチプレクサとして使用される場合には、光導波路１０のうちの１つが出力ポートとなり、他の複数が入力ポートとなる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
図１に示されるＷＤＭフィルタは大型化しがちである。このように大型化するのは、光導波路６を含む回折格子において要求される光路長差を発生させるために光導波路６を長く形成する必要があることと、２つのスラブ光導波路２及び４が必要であることとに起因している。
【００１５】
図２に示されるＷＤＭフィルタは、反射素子１８の製造プロセスが複雑であることに起因して、製造が容易でないという問題を有している。例えば、回折格子により各反射素子１８を提供しようとする場合、回折格子を得るための複数回の露光を含む複雑な製造プロセスが必要である。
【００１６】
簡単なプロセスで反射素子を得るために、各光導波路１６の端面をその光路に対して垂直に形成し、その端面に直接反射膜を形成することが試みられるかも知れない。そのような垂直な端面はエッチングにより得ることができるが、エッチングは端面上における特に縁部の垂直性を本質的に劣化させる。このような垂直性の劣化は、例えば各光導波路１６の材質として適当な石英ガラスのエッチング速度が小さいことに部分的に起因している。
【００１７】
これに対して、図３のＷＤＭフィルタの製造は比較的容易である。何故ならば、図２のＷＤＭフィルタにあっては、反射素子１８が直線上にないことにより基板の切断面によって各反射素子１８を提供することができないのに対して、図３のＷＤＭフィルタにあっては、基板２０の切断面２０Ａが直線的であり且つその垂直性が良好であるからである。しかし、図３のＷＤＭフィルタにあっては、図１のＷＤＭフィルタに対比してサイズが半分で済むものの、図２のＷＤＭフィルタと比較するとまだ小型化が十分でないという問題がある。
【００１８】
よって、本発明の目的は、小型化に適し且つ製造が容易なＷＤＭフィルタを得るのに適した光デバイスを提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、互いに対向する第１及び第２の端面を有するスラブ光導波路と、該スラブ光導波路の第１の端面に接続される第１の複数の光導波路と、上記スラブ光導波路の第２の端面に接続される第２の複数の光導波路とを備え、上記第２の複数の光導波路の各々は、上記スラブ光導波路に接続される第１のキャビティと、該第１のキャビティに第１の反射面を介して鋭角的に接続される第２のキャビティとを含み、該第２のキャビティは第２の反射面により終端された光デバイスが提供される。
【００２０】
この構成によると、各第１のキャビティに対して各第２のキャビティが折り返された配置を得ることができるので、第２の複数の光導波路に同じ光路長差を設定する場合に図３のＷＤＭフィルタと比較して小型化が可能になる。また、第１の反射面は同一直線上に配列することができ、第２の反射面も他の同一直線上に配列することができるので、例えば各直線をダイシングソーにより得る場合に垂直性を得るのが容易であり、光デバイスの製造性が良好になる。このように各反射面を光路に対して垂直に形成することによって、反射面での損失を小さく抑えることができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の望ましい実施の形態を詳細に説明する。
図４は本発明によるＷＤＭ（波長分割多重）フィルタの第１実施形態を示す平面図、図５は図４におけるＶ−Ｖ線の断面図、図６の（Ａ）は図４のＷＤＭフィルタの要部拡大図である。
【００２２】
このＷＤＭフィルタは、導波路基板２３及び導波路基板２３内に設けられる光導波構造によって提供される。導波路基板２３は、図５によく示されるように、Ｓｉからなる基板２４と、基板２４上に積層されるバッファ層２６及びオーバークラッド２８を含む。バッファ層２６及びオーバークラッド２８の各々は、ＳｉＯ2 にフッ素をドープすることにより得られ、比較的低い屈折率を有している。光導波構造はバッファ層２６及びオーバークラッド２８間に介在し、比較的高い屈折率を有している。比較的高い屈折率は、例えば、ドーパントを含まないＳｉＯ2 （石英ガラス）によって得られる。
【００２３】
この光導波構造は、具体的には、図４に示されるように、互いに対向する端面３０Ａ及び３０Ｂを有するスラブ光導波路（平面光導波路）３０と、スラブ光導波路３０の端面３０Ａに光学的に接続される第１の複数の光導波路３２と、スラブ光導波路３０の端面３０Ｂに光学的に接続される第２の複数の光導波路３４とを含む。
【００２４】
第２の複数の光導波路３４の各々は、スラブ光導波路３０の端面３０Ｂに接続される第１のキャビティ３６と、第１のキャビティ３６に鋭角的に接続される第２のキャビティ３８とからなる。スラブ光導波路３０の端面３０Ａ及び３０Ｂは、スラブ光導波路３０とオーバークラッド２８との境界面によって定義される。
【００２５】
図６の（Ａ）は、各光導波路３４の近傍を拡大して示している。第１のキャビティ３６と第２のキャビティ３８とは、反射器４０により光学的に結合されており、第２のキャビティ３８は反射器４２により終端されている。ここでは、反射器４０の反射面は、導波路基板２３の端面２３Ａ上に形成された反射膜によって得られており、反射器４２の反射面は、導波路基板２３上に形成された溝４４内に形成された反射膜によって得られている。
【００２６】
図４から把握されるように、光導波路３４及び反射器４２が反射型の回折格子として機能するために、光導波路３４は互いに異なる光路長を有している。具体的には、隣り合う光導波路３４の光路長差は、特定波長の反射光に対して２πの整数倍だけ位相差がつくように設定されている。
【００２７】
この反射型回折格子における回折作用の結果、光導波路３２のうちの１つと他の１つ又は複数とは、特定の波長によって結合される。従って、このＷＤＭフィルタを用いてＷＤＭ信号光についてマルチプレクシング及びデマルチプレクシングを行うことができる。
【００２８】
このＷＤＭフィルタが光マルチプレクサとして使用される場合には、光導波路３２のうちの１つがＷＤＭ信号光を出力するための出力ポートとなり、他の複数が個々の波長チャネルの光信号の入力ポートとなる。一方、このＷＤＭフィルタが光デマルチプレクサとして使用される場合には、光導波路３２のうちの１つがＷＤＭ信号光を受ける入力ポートとなり、他の複数が個々の波長チャネルの光信号のための出力ポートとなる。
【００２９】
反射器４０及び４２の各々が反射膜により提供される場合、その光路に対する垂直性が反射効率に影響を与えることは前述した通りである。この実施形態では、反射器４０は導波路基板２３の端面２３Ａによって得られる第１の直線上に配列することができ、反射器４２は導波路基板２３の溝４４によって得られる第２の直線上に配列することができるので、垂直性を確保するのが容易である。
【００３０】
即ち、導波路基板に対するカッティングソーによる切断技術及び溝形成技術は確立されているので、カッティングソーによる切断により端面２３Ａを提供することによって、反射器４０の反射面の光路に対する垂直性を十分に確保することができ、また、カッティングソーにより溝４４を直線的に形成することによって、反射器４２の反射面の光路に対する垂直性を十分に確保することができるのである。
【００３１】
この実施形態では、第２の直線（溝４４）が第１の直線（端面２３Ａ）に対して傾斜しており、それにより光導波路３４の前述したような光路長差が設定されている。このように、第２の直線が第１の直線に対して傾斜するようにしておくことによって、容易に光導波路３４の光路長差を設定することができる。第２の直線を第１の直線に対して傾斜させずに、パターニングにより光導波路３４の光路長差を設定してもよい。
【００３２】
反射器４０及び４２の各々としては、銅、銅合金又は誘電体多層膜からなる反射膜を用いることができる。銅又は銅合金からなる反射膜では、波長１．５５μｍ帯（１．５０μｍ乃至１．６０μｍ）における反射損失を十分小さくすることができ、誘電体多層膜からなる反射膜では、反射損失が小さくなる波長帯をその積層構成等により容易に設計することができる。
【００３３】
この実施形態では、スラブ光導波路３０の端面３０Ｂは円弧上に配置されている。この場合、光導波路３４の各々の少なくともスラブ光導波路３０の近傍の部分は上記円弧の中心から放射状に配置される。
【００３４】
具体的には、スラブ光導波路３０の端面３０Ａ及び３０Ｂの各々は、ローランド（Ｈ．Ａ．Ｒｏｗｌａｎｄ）の円をなしている。それにより、光導波路３２のうちの１つと他の１つとの特定波長による結合における結合効率を高めることができる。
【００３５】
各反射器４０の光路に対する前述した垂直性は、図６の（Ａ）の紙面に垂直な平面内におけるものである。同紙面に平行な面内においては、各キャビティ３６及び各キャビティ３８が反射器４０により反射結合されるために、各キャビティ３６と反射器４０とのなす角は、実質的に各キャビティ３８と反射器４０がなす角に等しく設定される。
【００３６】
尚、各キャビティ３６と各キャビティ３８とがなす角は、小さ過ぎると反射結合効率が小さくなり、大き過ぎると小型化の効果が小さくなるので、２°乃至２０°の範囲にあることが望ましい。
【００３７】
各反射器４２における反射効率を高くするために、図６の（Ａ）の紙面に平行及び垂直な面内において各キャビティ３８は各反射器４２に垂直に接続される。
この実施形態では、光導波路３２は１０乃至２０本あり、光導波路３４は約８０本ある。光導波路３２及び３４の各々の幅及び高さは約６μｍであり、隣り合う光導波路３４の光路長差は約１００μｍである。
【００３８】
この実施形態では、各光導波路３４が導波路基板２３の端面２３Ａで折り返された構成を有しているので、小型なＷＤＭフィルタの提供が可能になる。また、反射器４０及び４２をそれぞれ直線上に配置することができるので、例えばダイシングソーによる切断及び溝形成を行うことによって、ＷＤＭフィルタの製造性が改善される。
【００３９】
各光導波路３４のキャビティ３６は導波路基板２３の溝４４によって寸断されるので、この寸断部分における損失を小さく抑えるために、溝４４の幅はキャビティ３６の幅にほぼ等しいことが望ましい。具体的には、溝４４の幅は、小さ過ぎると反射器４２の形成が困難になり、大き過ぎるとキャビティ３６における損失が増大するので、３乃至１０μｍの範囲にあることが望ましい。
【００４０】
製造技術上等の要請から、溝４４の幅を大きめに設定せざるを得ない場合には、図６の（Ｂ）に示されるように、キャビティ３６の溝４４による寸断部分に透明な即ちキャビティ３６の屈折率と実質的に同等の屈折率を有する充填物４６を充填するのがよい。これにより、溝４４内におけるビーム広がりを小さくして、キャビティ３６の損失を小さく抑えることができる。
【００４１】
充填物４６をポリイミド及びシロキサン（シリコーン）等の高分子樹脂から形成することによって、充填物４６の溝４４への充填を容易に行うことができる。
また、光導波構造を構成している石英ガラスの屈折率の温度係数が通常正の値を取るのに対して、多くの高分子樹脂では、屈折率の温度係数が負の値を取るので、各光導波路３４の途中位置に相当する溝４４内に光導波構造の屈折率の温度係数の符号と異なる符号の屈折率の温度係数を有する充填物４６を充填することによって、温度変化に起因する各光導波路３４の光路長の変化を小さく抑えることができ、使用可能温度範囲の広いＷＤＭフィルタの提供が可能になる。
【００４２】
例えば、ポリイミドの屈折率の温度係数の絶対値は石英ガラスの屈折率の温度係数の絶対値に比べて２桁程度大きいので、充填物４６内の光路長が光導波路３４の光路長の１００分の１程度の場合であっても、温度変化により光路長変化を小さく抑える効果は大きい。
【００４３】
図７の（Ａ）〜（Ｄ）は第１実施形態のＷＤＭフィルタの製造プロセスの説明図である。
まず、図７の（Ａ）に示されるように、Ｓｉからなる基板２４上にフッ素をドープしたＳｉＯ2 からなる低屈折率のバッファ層２６（図５参照）をプラズマＣＶＤ法により形成し、バッファ層２６上にフッ素をドープしていない高屈折率なＳｉＯ2 層を同じくプラズマＣＶＤ法により形成し、ドライエッチングによりそのＳｉＯ2 層を部分的に除去することによって、それぞれキャビティ３６及び３８になるべきコア３６０及び３８０並びにスラブ光導波路３０を得る。ここでは、これらと共に光導波路３２も形成されるが、その図示は省略されている。コア３６０及び３８０は概略Ｖ字型をしている。
【００４４】
次いで、図７の（Ｂ）に示されるように、図７の（Ａ）で得られたものの上に、フッ素がドープされたＳｉＯ2 からなる低屈折率なオーバークラッド２８をプラズマＣＶＤ法により形成する。これにより導波路基板２３が得られる。
【００４５】
続いて、図７の（Ｃ）に示されるように、コア３６０及び３８０によるＶ字の先端部分が除去されるように、導波路基板２３をカッティングソーにより切断することによって、導波路基板２３の端面２３Ａを得ると共に、コア３８０の先端部分に掛かるように導波路基板２３上に溝４４を同じくカッティングソーにより形成する。このとき、図７の（Ｃ）の紙面に垂直な面内における端面２３Ａの光路に対する垂直性は十分に確保され、コア３８０の溝４４の壁面に対する同紙面に垂直及び平行な面内における垂直性も十分に確保されている。
【００４６】
その後、図７の（Ｄ）に示されるように、導波路基板２３の端面２３Ａにおけるコア３６０及び３８０の露出面上に反射器４０を形成すると共に、コア３８０の溝４４内の露出面上に反射器４２を形成し、必要に応じてコア３６０の溝４４による寸断部分に前述したような充填物４６を充填する。これにより、スラブ光導波路３０に接続されるキャビティ３６と、キャビティ３６に反射器４０を介して鋭角的に接続されるキャビティ３８とが得られ、キャビティ３８は反射器４２により終端されることとなる。
【００４７】
反射器４０及び４２の各々は、前述したような金属或いは誘電体多層膜からなる反射膜を蒸着或いはスパッタリングにより形成することにより得ることができる。
【００４８】
この実施形態のように、光導波路構造を主として石英ガラス（ＳｉＯ2 ）により提供する場合、所要の屈折率の値及び形状を得るのが容易であり、また、ＷＤＭフィルタにおける偏光依存性を排除することができる。
【００４９】
後述するように、第１及び第２の直線の少なくとも一方を複数にしてもよい。これにより、光導波路間に光路長差を有効に設定することができ、単位面積当たりの光導波路の本数を多くすることができる。
【００５０】
図８は本発明によるＷＤＭフィルタの第２実施形態を示す平面図である。スラブ光導波路３０及び光導波路３２は第１実施形態におけるのと同等である。
この実施形態では、導波路基板２３′上に２本の溝４４（＃１及び＃２）が形成されており、これに伴い反射型回折格子を提供する複数の光導波路３４′の配置形態が変更されている。符号２３Ａ′は導波路基板２３′の切断により得られた端面を示している。
【００５１】
光導波路３４′はスラブ光導波路３０の端面３０Ｂに接続される。溝４４（＃１）は端面２３Ａ′に対して傾斜しており、溝４４（＃２）は溝４４（＃１）に対して同じ向きに傾斜している。
【００５２】
複数の光導波路３４′において、図示された下から順に、第１及び第２の光導波路の各々は、溝４４（＃１）により反射結合されると共に溝４４（＃２）により反射終端され、第３の光導波路は、端面２３Ａ′で反射終端され、第４及び第５の光導波路の各々は、端面２３Ａ′で反射結合されると共に溝４４（＃１）で反射終端され、第６の光導波路は端面２３Ａ′で反射結合されると共に溝４４（＃２）で反射終端され、他の光導波路の図示は省略されている。
【００５３】
このように、光導波路３４′について複数の直線上で反射結合及び反射終端を行うことによって、導波路基板２３′の単位面積当たりの光導波路の形成本数を多くすることができるので、ＷＤＭフィルタの分解能が高まり或いは小型化が可能になる。
【００５４】
尚、このＷＤＭフィルタの製造方法並びに反射結合及び反射終端の形態については、第１実施形態に準じて容易に理解することができるので、その説明を省略する。
【００５５】
以上説明した実施形態では、反射結合及び反射終端を反射膜からなる反射器により行っているが、各反射器をグレーティングにより得てもよい。グレーティングは、例えば、基板に対する熱拡散、イオン交換、イオン注入或いは紫外線照射により光導波路或いはその近傍に屈折率の分布を持たせることにより作製することができる。光導波路の一部をエッチングしてグレーティングを得てもよい。
【００５６】
図８の実施形態では、２本の溝４４（＃１及び＃２）が示されているが、３つ以上の溝を導波路基板上に形成してもよい。溝を複数形成することによって、各光導波路について反射結合を複数回行うこともできる。
【００５７】
図６の（Ａ）では、各光導波路３４に対して１つの反射器４０が形成されているが、複数の光導波路３４に対して共通の１つの反射器を端面２３Ａ上に形成してもよい。
【００５８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によると、小型化に適し且つ製造が容易なＷＤＭフィルタを得るのに適した光デバイスの提供が可能になるという効果が生じる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のＷＤＭフィルタの一例を示す平面図である。
【図２】従来のＷＤＭフィルタの他の例を示す平面図である。
【図３】従来のＷＤＭフィルタの更に他の例を示す平面図である。
【図４】本発明によるＷＤＭフィルタの第１実施形態を示す平面図である。
【図５】図４におけるＶ−Ｖ線の断面図である。
【図６】図４のＷＤＭフィルタの要部拡大図である。
【図７】図４のＷＤＭフィルタの製造プロセスの説明図である。
【図８】本発明によるＷＤＭフィルタの第２実施形態を示す平面図である。
【符号の説明】
２３，２３′  導波路基板
３０  スラブ光導波路
３２  第１の複数の光導波路
３４，３４′  第２の複数の光導波路
３６  第１のキャビティ
３８  第２のキャビティ
４０，４２  反射器
４４，４４（＃１及び＃２）  溝
【図１】
0003682746.tif 000002
【図２】
0003682746.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0003682746.tif 000008
【図８】
0003682746.tif 000009