(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光体の表面層が、下記平均単位式（Ｉ）で示される重量平均分子量が１０００〜１０００００のフッ素変成有機ケイ素樹脂と、結着樹脂と、を含有することを特徴とする電子写真感光体:
｛Ｆ（ＣＦ2）a1−Ｑ1 −Ｒ1m1 ＳｉＯ(3-m1)/2｝x1｛Ｆ（ＣＦ2）a2−Ｑ2 −Ｒ2m2 ＳｉＯ(3-m2)/2｝x2・・・｛Ｆ（ＣＦ2）ap−Ｑp −Ｒpmp ＳｉＯ(3-mp)/2｝xp｛Ｒ'1n1ＳｉＯ(4-n1)/2｝y1｛Ｒ'2n2ＳｉＯ(4-n2)/2｝y2・・・｛Ｒ'qnqＳｉＯ(4-nq)/2｝yq（Ｉ）
（式中、Ｒ1 ，…，Ｒp ，Ｒ'1，…，Ｒ'qはアルキル基またはアリール基であり、Ｑ1 ，…，Ｑp はアルキレン基である。ｍ1 ，…，ｍp は０〜２の整数であり、ｎ1 ，…，ｎq は０〜３の整数であり、ａ1 ，…，ａp は整数であり、ｘ1 及びｙ1 は０を越える数であり、ｘ2 ，…，ｘp 、ｙ2 ，…，ｙq は０以上の数である）。
【請求項２】
前記表面層が、感光層である請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記表面層が、電荷輸送層である請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記表面層が、電荷発生層である請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記表面層が、保護層である請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項６】
Ｒ1 ，…，Ｒp ，Ｒ'1，…，Ｒ'qが炭素数１〜１２であり、Ｑ1 ，…，Ｑp が炭素数２〜６であり、（ｘ1 ＋ｘ2 ＋…＋ｘp ）：（ｙ1 ＋ｙ2 ＋…＋ｙq ）＝１：２０〜１：５である請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項７】
請求項１〜６の何れかに記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体に対し像露光を行い静電潜像を形成する像露光手段と、静電潜像の形成された前記電子写真感光体をトナーで現像する現像手段と、を有することを特徴とする電子写真装置。
【請求項８】
該帯電手段が、直接帯電部材である請求項７記載の電子写真装置。
【請求項９】
帯電手段、現像手段、及びクリーニング手段のうちの少なくとも１つを、請求項１〜６の何れかに記載の電子写真感光体とともにひとまとめに構成したことを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１０】
直接帯電部材と、請求項１〜６の何れかに記載の電子写真感光体とをひとまとめに構成したことを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複写機、プリンター及び製版システム等に広く用いる電子写真感光体、この電子写真感光体を用いた電子写真装置及びプロセスカートリッジに関する
【０００２】
【従来の技術】
従来から、電子写真感光体には、コロナ帯電及びローラー帯電等の帯電プロセス、現像プロセス、転写プロセス及びクリーニングプロセス等により電気的あるいは機械的な影響が直接に加えられるために、それらに対する耐久性が要求される。
【０００３】
具体的には、摺擦による感光体表面の摩耗や傷、あるいは電気的な劣化等に対する耐久性が要求される。特に、ローラ帯電方式等の放電現象を用いた帯電方式においては、高エネルギーのアーク放電に対する耐久性が要求される。
【０００４】
また、トナーによる現像とクリーニングの繰り返しに起因した、感光体表面へのトナーの付着という問題もあり、これに対しては感光体表面のクリーニング性の向上が求められている。
【０００５】
上記のような感光体表面に要求される様々な特性を満たすために、感光層上に種々の樹脂を主成分とする表面保護層を設ける試みがなされている。例えば、特開昭５７−３０８４３号公報には、導電性粒子として金属酸化物粒子を添加することによって抵抗を制御した保護層が提案されている。
【０００６】
また、保護層のみでなく電荷輸送層中に種々の物質を添加することで感光体表面の物性を改善することも検討されている。例えば、シリコーン樹脂の低表面エネルギーに注目した添加物としては下記のようなものが報告されている。
【０００７】
シリコーンオイル（特開昭６１−１３２９５４号公報）、
ポリジメチルシロキサン、
シリコーン樹脂粉体（特開平４−３２４４５４号公報）、
架橋シリコーン樹脂、
ポリ（カーボネートーシリコーン）ブロック共重合体、
シリコーン変成ポリウレタン、
シリコーン変成ポリエステル、
【０００８】
低表面エネルギーの代表的なポリマーとしてはフッ素系高分子があり、該フッ素系高分子として感光層に添加できるものとしては下記のものがある。
【０００９】
ポリテトラフルオロエチレン粉体、
フッ化カーボン粉末、
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、金属酸化物等を含む表面保護層はかなりの硬度を有するものが得られるが、表面エネルギーが大きくなり易いためにクリーニング性等に問題があった。シリコーン系樹脂は表面エネルギーが小さい点で優れているが他の樹脂に対して十分な相溶性を示さないため、感光体に添加した場合、凝集し易く光散乱を生じたり、ブリードして表面に析出するために、安定した特性を示さない等の問題があった。また、低表面エネルギーのポリマーであるポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）に代表されるフッ素系高分子は一般に溶媒に不溶であり、分散性も不良であることから、平滑な感光体表面を得ることが困難であり、屈折率も小さいことから光散乱が生じ易く、それによる潜像の劣化を生じる問題点があった。
【００１１】
また、ポリカーボネート、ポリアクリルエステル、ポリエステル及びポリテトラフルオロエチレン等の高分子化合物は一般に耐アーク放電性が十分でなく、放電により高分子主鎖が切断されることから容易に劣化してしまう問題点があった。
【００１２】
本発明の目的は、光散乱やブリードがなく、低表面エネルギーと優れた機械的及び電気的耐久性を達成した高解像な電子写真感光体、該感光体を有する電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の電子写真感光体は、支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光体の表面層が、下記平均単位式（Ｉ）で示される重量平均分子量が１０００〜１０００００のフッ素変成有機ケイ素樹脂と、結着樹脂と、を含有するものである。
｛Ｆ（ＣＦ2）a1−Ｑ1 −Ｒ1m1 ＳｉＯ(3-m1)/2｝x1｛Ｆ（ＣＦ2）a2−Ｑ2 −Ｒ2m2 ＳｉＯ(3-m2)/2｝x2・・・｛Ｆ（ＣＦ2）ap−Ｑp −Ｒpmp ＳｉＯ(3-mp)/2｝xp｛Ｒ'1n1ＳｉＯ(4-n1)/2｝y1｛Ｒ'2n2ＳｉＯ(4-n2)/2｝y2・・・｛Ｒ'qnqＳｉＯ(4-nq)/2｝yq （Ｉ）
（式中、Ｒ1 ，…，Ｒp ，Ｒ'1，…，Ｒ'qはアルキル基またはアリール基であり、Ｑ1 ，…，Ｑp はアルキレン基である。ｍ1 ，…，ｍp は０〜２の整数であり、ｎ1 ，…，ｎq は０〜３の整数であり、ａ1 ，…，ａp は整数であり、ｘ1 及びｙ1 は０を越える数であり、ｘ2 ，…，ｘp 、ｙ2 ，…，ｙq は０以上の数である。）
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の電子写真感光体は、支持体上に感光層を有するもので、前記感光体の表面層に下記平均単位式（Ｉ）で示される重量平均分子量が１０００〜１０００００のフッ素変成有機ケイ素樹脂と、結着樹脂と、を含有するものである。
平均単位式（Ｉ）
｛Ｆ（ＣＦ2）a1−Ｑ1 −Ｒ1m1 ＳｉＯ(3-m1)/2｝x1｛Ｆ（ＣＦ2）a2−Ｑ2 −Ｒ2m2 ＳｉＯ(3-m2)/2｝x2・・・｛Ｆ（ＣＦ2）ap−Ｑp −Ｒpmp ＳｉＯ(3-mp)/2｝xp｛Ｒ'1n1ＳｉＯ(4-n1)/2｝y1｛Ｒ'2n2ＳｉＯ(4-n2)/2｝y2・・・｛Ｒ'qnqＳｉＯ(4-nq)/2｝yq （Ｉ）
（式中、Ｒ1 ，…，Ｒp ，Ｒ'1，…，Ｒ'qはアルキル基またはアリール基であり、Ｑ1 ，…，Ｑp はアルキレン基である。ｍ1 ，…，ｍp は０〜２の整数であり、ｎ1 ，…，ｎq は０〜３の整数であり、ａ1 ，…，ａp は整数であり、ｘ1 及びｙ1 は０を越える数であり、ｘ2 ，…，ｘp 、ｙ2 ，…，ｙq は０以上の数である。）
【００１５】
本発明において、表面層とは感光層が保護層を有する場合には、保護層を意味する。保護層を有さない場合には感光層を意味する。感光層が保護層を有さず、しかも多層で構成されている場合には、感光層を構成する層のうちで、支持体から一番離れている層をいう。
【００１６】
上記式（Ｉ）中のＲ１  ，…，Ｒｐ  ，Ｒ’１，…，Ｒ’ｑは炭素数１〜１２のアルキル基またはアリール基が好ましい。
【００１７】
アルキル基としては直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等が好ましい。炭素数が大きいアルキル基は表面層を形成した場合に機械的強度が減少するために好ましくない。アリール基としてはフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基及びビフェニル基等が好ましく用いられる。炭素数が大きいアリール基は表面層を形成した場合に耐アーク放電性が減少するために好ましくない。
【００１８】
Ｑ１  ，…，Ｑｐ  は炭素数２〜６のアルキレン基が好ましく、例えばエチレン基及びプロピレン基等が好ましい。ｍ１  ，…，ｍｐ  は０〜２の整数であり、ｎ１  ，…，ｎｑ  は０〜３の整数であり、ａ１  ，…，ａｐ  は整数であり、ｘ１  及びｙ１  は０を越える数であり、ｘ２  ，…，ｘｐ  、ｙ２  ，…，ｙｑ  は０以上の数である。ただし、（ｘ１  ＋ｘ２  ＋…＋ｘｐ  ）：（ｙ１  ＋ｙ２  ＋…＋ｙｑ  ）＝１：２０〜１：５の範囲が好ましい。
【００１９】
本発明におけるフッ素変成有機ケイ素樹脂は軟化点が３０℃以上であることが好ましく、３０℃以上の軟化点を有するためには、Ｒ1 ，…，Ｒp ，Ｒ'1，…，Ｒ'qがフェニル基等のアリール基であることが好ましい。また、本樹脂は、若干の残存シラノール基やアルコキシ基を含んでいてもよい。Ｒ1 ，…，Ｒp ，Ｒ'1，…，Ｒ'qに占めるアリール基の割合は２０モル％以上が好ましい。本発明で使用するフッ素変成有機ケイ素樹脂の重量平均分子量は１０００〜１０００００である。重量平均分子量が小さいと表面層の機械的強度が十分でない場合があり、逆に大きすぎると、結着樹脂との相溶性が悪くなり易く、白濁や電荷輸送能の低下を生じる場合がある。本発明において重量平均分子量はＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）で測定した値である。
【００２０】
本発明におけるフッ素変成有機ケイ素樹脂としては、下記の平均単位式で表わされるものが例示される。
【００２１】
｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝０．１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝０．９  （ＳｉＯ４／２）１．０  
｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４（ＣＨ３）ＳｉＯ２／２｝０．１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝０．９  （ＳｉＯ４／２）１．０  
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４（ＣＨ３）ＳｉＯ２／２｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝１０
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２｝１８｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝２  
｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）ＳｉＯ３／２  ｝９  
｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝９  
｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝１．２  ｛ＳｉＯ４／２｝１．０  
｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝９  
｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝９  
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４（ＣＨ３）ＳｉＯ２／２｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝８  ｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝１  
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝０．７  ｛ＳｉＯ４／２｝１．０  
｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝１０
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４（ＣＨ３）ＳｉＯ２／２｝１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝０．７  ｛ＳｉＯ４／２｝１．０  
｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝８  
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝９  
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝９  
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝５  ｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝５  
｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝６
｛（ＣＦ３）Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛Ｆ（ＣＨ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝３
｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝１３
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝５  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝６  ｛ＳｉＯ４／２｝６
｛（ＣＦ３）Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝３  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝４  ｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝４  ｛ＳｉＯ４／２｝１０
｛（ＣＦ３）Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝３  ｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（Ｃ６Ｈ５）ＳｉＯ３／２｝１０｛ＳｉＯ４／２｝４
｛（ＣＦ３）Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝３  ｛Ｆ（ＣＨ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝１０
｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝１０
｛（ＣＦ３Ｃ２Ｈ４）２ＳｉＯ２／２｝２  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝８  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝８  ｛ＳｉＯ４／２｝２
｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝８  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ３／２  ｝８  ｛ＳｉＯ４／２｝４
｛（ＣＦ３）Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝２  ｛Ｆ（ＣＦ２）４Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛Ｆ（ＣＦ２）８Ｃ２Ｈ４ＳｉＯ３／２  ｝１  ｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２｝５  ｛（Ｃ６Ｈ５）２ＳｉＯ２／２  ｝１５
【００２２】
本発明に使用するフッ素変成有機ケイ素樹脂は、一般的なオルガノポリシロキサンの製造方法により製造することができる。
【００２３】
一般的なオルガノポリシロキサンの製造方法としては、特公昭２６−２６９６号、特公昭２８−６２９７号に記載されている方法を始めとして、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ｏｆ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ，Ｃｈａｐｔｅｒ５，ｐ．１９１〜（Ｗａｌｔｅｒ  Ｎｏｌｌ，Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．１９６８）のシロキサンポリマー合成方法がある。
【００２４】
例えば、オルガノアルコキシシランやオルガノハロゲノシランを有機溶媒中に溶解し、酸あるいは塩基存在下で加水分解及び縮合することによって重合し、その後溶媒を除去することによって合成される。
【００２５】
以下に、フッ素変成有機ケイ素樹脂を含有する電荷輸送層を有する電子写真感光体を例に本発明を説明する。
【００２６】
電子写真感光体の支持体としては支持体自体が導電性を有するもの、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、チタン、ニッケル、マグネシウム、インジウム、金、白金、銀及び鉄等を用いることができる。その他にアルミニウム、酸化インジウム、酸化スズ及び金等を蒸着等によりプラスチック等の誘電体支持体に被膜形成し、導電層としたものや、導電性微粒子をプラスチックや紙に混合したもの等を用いることができる。これらの導電性支持体は均一な導電性が求められるとともに平滑な表面が重要である。表面の平滑性はその上層に形成される下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層の均一性に大きな影響を与えることから、その表面粗さは０．３μｍ以下が好ましい。
【００２７】
特に、導電性微粒子をポリマーバインダー中に分散して塗布することにより得られる導電層を被覆した支持体は、形成が容易であり、均質な表面を有するため好ましく使用される。このとき用いられる導電性微粒子の１次粒径は１００ｎｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以下のものが用いられる。導電性微粒子としては、導電性酸化亜鉛、導電性酸化チタン、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、カーボンブラック、ｌＴＯ、酸化スズ、酸化インジウム及びインジウム等が用いられ、またこれらを絶縁性微粒子の表面にコーティングして用いてもよい。前記導電性微粒子の含有量は導電層の体積抵抗が十分に低くなるように使用され、好ましくは１×１０１０Ωｃｍ以下の抵抗となるように添加される。より好ましくは１×１０８  Ωｃｍ以下で用いられる。
【００２８】
レーザー等のコヒーレントな光源を用いて露光する場合は干渉による画像劣化を防止するために上記導電性支持体の表面に凹凸を形成することも可能である。このときは電荷注入や残留電位のむら等の欠陥が生じにくいように使用する波長の１／２λ程度の凹凸を数μｍ以下の直径のシリカビーズ等の絶縁物を分散することに１０μｍ以下の周期で形成して用いることが可能である。
【００２９】
導電性支持体と感光層の中間に、注入阻止機能と接着機能をもつ下引き層を設けることもできる。下引き層としてはカゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、ポリビニルブチラール、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリウレタン及びゼラチン等によって形成することができる。下引き層の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましく、更に０．３〜３μｍが好ましい。
【００３０】
感光層は単一層でもかまわないが、支持体側から順に電荷発生層及び電荷輸送層を積層して構成するのが好ましい。また、支持体側から順に電荷輸送層及び電荷発生層を積層してもよい。
【００３１】
感光層が単一層の場合、感光層は電荷発生材料と、電荷輸送材料と、前述した式（Ｉ）で示されるフッ素変成有機ケイ素樹脂と、結着樹脂とを、溶媒で混合して通常のコーティング法により成膜して形成する。
【００３２】
感光層が、電荷発生層及び電荷輸送層で構成される場合、電荷発生層は少なくとも電荷発生材料と、結着樹脂とを、溶媒で混合して通常のコーティング法により成膜して形成する。電荷輸送層は少なくとも電荷輸送材料と、結着樹脂とを、溶媒で混合して通常のコーティング法により成膜して形成する。更に、本発明では支持体から遠い方の層に前述した式（Ｉ）で示されるフッ素変成有機ケイ素樹脂を含有する。
【００３３】
電荷発生材料としては、例えば、セレンーテルル、ピリリウム系染料、チオピリリウム系染料、フタロシアニン系顔料、アントアントロン系顔料、ジベンズピレンキノン系顔料、ピラントロン系顔料、トリスアゾ系顔料、ジスアゾ系顔料、アゾ系顔料、インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料及びシアニン系顔料等を用いることができる。
【００３４】
電荷輸送材料は電子輸送性化合物と正孔輸送性化合物に大別される。
【００３５】
電子輸送性化合物としては、例えば２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、クロラニル、テトラシアノキノジメタン、及びアルキル置換ジフェノキノン等の電子受容性化合物やこれらの電子受容性化合物を高分子化したものが挙げられる。正孔輸送性化合物としては、例えばピレン、及びアントラセン等の多環芳香族化合物、カルバゾール、インドール、オキサゾール、チアゾール、オキサチアゾール、ピラゾール、ピラゾリン、チアジアゾール及びトリアゾール等の複素環化合物、ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾン及びＮ，Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３−メチリデン−９−エチルカルバゾール等のヒドラゾン系化合物、α−フェニル−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベン及び５−（４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）ベンジリデン）−５Ｈ−ジベンゾ（ａ，ｄ）シクロヘプテン等のスチリル系化合物、ベンジジン系化合物及びトリアリールアミン系化合物あるいはこれらの化合物からなる基を主鎖または側鎖に有する高分子化合物（ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン等）が挙げられる。
【００３６】
各層に用いる結着樹脂としては、例えばスチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン及びトリフルオロエチレン等のビニル化合物の重合体あるいは共重合体、更にはポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、有機ケイ素樹脂及びエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００３７】
感光層が単一層の場合、フッ素変成有機ケイ素樹脂の含有量は、感光層の固形分に対して５〜７０重量％、更には１０〜５０重量％が好ましい。フッ素変成有機ケイ素樹脂の含有量が少なすぎると表面エネルギーの低減が十分でなかったり、電気的耐久性が低下する等の問題が生じる場合がある。逆に、フッ素変成有機ケイ素樹脂の含有量が多すぎると、感光層の機械的強度や電荷輸送能が低下する場合がある。電荷発生材料の含有量は、感光層の固形分に対して３〜３０重量％が好ましい。電荷輸送材料の含有量は、感光層の固形分に対して２０〜７０重量％が好ましい。
【００３８】
感光層を、電荷発生層及び電荷輸送層で構成する場合、フッ素変成有機ケイ素樹脂の含有量は、表面層の固形分に対して５〜７０重量％、更には１０〜５０重量％が好ましい。フッ素変成有機ケイ素樹脂の含有量が少なすぎると本発明の効果が十分得られず、逆にフッ素変成有機ケイ素樹脂の含有量が多すぎると表面層の機械的強度が十分に得られない場合がある。電荷発生材料の含有量は、電荷発生層の固形分に対して２０〜８０重量％、更には３０〜７０重量％が好ましい。電荷輸送材料の含有量は、電荷輸送層の固形分に対して２０〜７０重量％が好ましい。
【００３９】
感光層の厚みは、単一層の場合、３〜４０μｍが好ましい。電荷発生層の厚みは、０．０５〜１．０μｍ、更には０．１〜０．５μｍが好ましい。電荷輸送層の厚みは、１〜３０μｍ、更には３〜２０μｍが好ましい。
【００４０】
感光層上には、必要に応じて保護層を設けてもよい。感光層上に保護層を設ける場合、保護層に前記平均単位式（Ｉ）のフッ素変成有機ケイ素樹脂を含有する。この場合、フッ素変成有機ケイ素樹脂の含有量は、保護層の固形分に対して１０〜８０重量％、更には２０〜６０重量％が好ましい。フッ素変成有機ケイ素樹脂の含有量が少なすぎると本発明の効果が十分得られず、逆に多すぎると保護層の機械的強度が十分に得られない場合がある。
【００４１】
保護層は、フッ素変成有機ケイ素樹脂とポリビニルブチラール、ポリエステル、ポリカーボネート（ポリカーボネートＺ、変性ポリカーボネート等）、ナイロン、ポリイミド、ポリアリレート、ポリウレタン、スチレン−ブタジエン−コポリマー、スチレン−アクリル酸コポリマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマーなどの樹脂を適当な有機溶剤によって溶解し、感光層の上に塗布、乾燥して形成できる。保護層の膜厚は、０．０５〜２０μｍが好ましい。また、保護層中に導電性粒子や紫外線吸収剤などを含ませてもよい。導電性粒子としては、例えば酸化錫粒子等の金属酸化物が好ましい。
【００４２】
次に、本発明の電子写真感光体を用いた電子写真装置について説明する。
【００４３】
図１において、１は本発明のドラム型感光体であり軸１ａを中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動する。感光体１はその回転過程で帯電手段２によりその周面に正または負の所定電位の均一帯電を受け、次いで露光部３にて不図示の像露光手段により光像露光Ｌ（スリット露光あるいはレーザービーム走査露光など）を受ける。これにより感光体周面に像露光に対応した静電潜像が順次形成されていく。その静電潜像は、次いで現像手段４でトナー現像され、そのトナー現像像がコロナ転写手段５により不図示の給紙部から感光体１と転写手段５との間に感光体１の回転と同期取り出されて給送された記録材９の面に順次転写されていく。像転写を受けた記録材９は感光体面から分離されて像定着手段８へ導入されて像定着を受けて複写物（コピー）として機外へプリントアウトされる。像転写後の感光体１の表面はクリーニング手段６にて転写残りトナーの除去を受けて清浄面化され、前露光手段７により除電処理がされて繰り返して像形成に使用される。感光体１の均一帯電手段２としてはコロナ帯電装置が一般に広く使用されている。
【００４４】
また、図２及び図３に示すように、帯電手段として直接帯電部材１０を用い、電圧印加された直接帯電部材１０を感光体１に接触させることにより感光体１の帯電を行ってもよい（この帯電方式を、以下直接帯電という）。図２及び３に示す装置では感光体１上のトナー像も直接帯電部材２３で記録材９に転写される。即ち、電圧印加された直接帯電部材２３を記録材９に接触させることにより感光体１上のトナー像を記録材９に転写させる。
【００４５】
また、図２に示す装置では、少なくとも感光体１、直接帯電部材１０及び現像手段４を容器２０に納めてひとつの電子写真装置ユニットとし、この装置ユニットを装置本体のレールなどの案内手段を用いて着脱自在に構成している。クリーニング手段６は容器２０内に配置してもしなくてもよい。
【００４６】
更に、図３に示す装置では、少なくとも感光体１及び直接帯電部材１０を第１の容器２１に納めて第１の電子写真装置ユニットとし、少なくとも現像手段４を容器２２に納めて第２の電子写真装置ユニットとし、これら第１の装置ユニットと、第２の装置ユニットとを着脱自在に構成している。クリーニング手段６は容器２１内に配置してもしなくてもよい。
【００４７】
一方、近年、電子写真方式を用いた画像形成装置に要求される解像度、階調性はますます上昇している。このような要求に対して検討したところ、光ビームを照射して潜像を形成するところの電子写真画像形成装置において、感光体の感光層の膜厚と照射スポット面積の積と階調再現性の間に一定の関係があることを見い出した。すなわち、スポット面積と感光体の感光層の膜厚の積が２００００μｍ３  以下とすることで４００ｄｐｉ、２５６階調を実現することができる。
【００４８】
これは、一般的に実現可能な微小光を用いる感光体の感光層の膜厚、主として電荷輸送層の膜厚は、１２μｍ以下が適していることを示している。このように感光層の膜厚は薄い方が望ましいが、同一帯電電位におけるピンホールや感度の低下等を発生することから１μｍ以上の膜厚が望まれる。より望ましくは３μｍ以上の膜厚で用いられる。
【００４９】
図４に示すように、光ビーム３０のスポット面積はピーク強度の１／ｅ２  に減少するまでの部分で表わされる。用いられる光ビームとしては半導体レーザを用いた走査光学系、及びＬＥＤや液晶シャッター等の固体スキャナー等があり、光強度分布についてもガウス分布及びローレンツ分布等があるが、それぞれのピーク強度の１／ｅ２  までの部分をスポット面積とする。光スポットは一般的には図４に示すように楕円形の形状を有している。Ｍは主走査方向のスポット径で、Ｓは副走査方向のスポット径である。
【００５０】
本発明の電子写真装置の他の例を図５及び図６を用いて説明する。
【００５１】
図５において、まず、原稿台１０上に原稿Ｇを複写すべき面を下側にしてセットする。次に、コピーボタンを押すことにより複写が開始される。原稿照射用ランプ、短焦点レンズアレイ及びＣＣＤセンサーが一体となったユニット１０９が原稿を照射しながら走査することにより、その照射走査光が、短焦点レンズアレイによって結像されてＣＣＤセンサーに入射される。ＣＣＤセンサーは受光部、転送部及び出力部より構成されている。ＣＣＤ受光部において光信号が電気信号に変換され、転送部でクロックパルスに同期して順次出力部へ転送され、出力部において電荷信号を電圧信号に変換し、増幅、低インピーダンス化して出力する。このようにして得られたアナログ信号をデジタル信号に変換し、更に画像の特性に応じて解像度、階調性を最適化するところの画像処理を行って出力するためのデジタル信号に変換してプリンター部に送られる。コンピュータ等から出力する場合には解像度、階調再現方法等を選択して望ましい画像が得られるように処理し変換してプリンター部に送られる。プリンター部においては、上記の画像信号を受けて以下のようにして静電潜像を形成する。本発明の感光ドラム１０１は、中心支軸を中心に所定の周速度で回転駆動され、その回転過程に帯電器１０３により所定の電圧の正極性または負極性の一様な帯電処理を受け、その一様帯電面に画像信号に対応してＯＮ，ＯＦＦ発光される固体レーザー素子の光を高速で回転する回転多面鏡によって走査することにより感光ドラム１０１面には、原稿画像に対応した静電潜像が順次に、形成されていく。１０２は前露光手段、１０３は帯電手段、１０４は現像手段、１０５はクリーニング手段、１０６は定着手段である。
【００５２】
図６に本発明のカラー複写機の概略図を示す。
【００５３】
図６において２０１はイメージスキャナ部であり、原稿を読み取り、デジタル信号処理を行う部分である。また、２００はプリンター部であり、イメージスキャナ２０１に読み取られた原稿画像に対応した画像を用紙にフルカラーでプリント出力する部分である。
【００５４】
イメージスキャナ部２０１において、２０２は原稿厚板であり、原稿台ガラス（以下プラテン）２０３上の原稿２０４を固定するために用いられる。原稿２０４は、ハロゲンランプ２０５の光で照射される。原稿２０４からの反射光はミラー２０６，２０７に導かれ、レンズ２０８により３本のＣＣＤラインセンサーで構成される３ラインセンサー（以下ＣＣＤという）２１０上に像を結ぶ。ＣＣＤ２１０は原稿からの光情報を色分解して、フルカラー情報のうちレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）成分として信号処理部２０９に送られる。なお、２０５，２０６は速度ｖで、２０７は１／２ｖでラインセンサーの電気的走査方向（以下、主走査方向）に対して垂直方向（以下、副走査方向）に機械的に動くことにより、原稿全面を走査する。
【００５５】
２１１は標準白色板であり、シェーディング補正時に、センサー２１０−２〜２１０−４それぞれＲ，Ｇ，Ｂの成分のラインセンサーに対応する読み取りデータの補正のためのデータを発生するために用いられる。
【００５６】
この標準白色板は可視光に対してほぼ均一の反射特性を示している。この標準白色板を用いてＲ，Ｇ，Ｂの可視センサー２１０−２〜２１０−４の出力データの補正に用いる。
【００５７】
信号処理部２０９では読み取られた信号を電気的に処理し、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、イエロー（Ｙ）、ブラック（ＢＫ）の各成分に分解し、プリンター部２００に送る。また、イメージスキャナ部２０１における一回の原稿走査（スキャン）につき、Ｍ，Ｃ，Ｙ，ＢＫの内、一つの成分が順次に、プリンター２００に送られ、計４回の原稿走査により一回のカラー画像形成が完成する。
【００５８】
イメージスキャナ部２０１より送られてくるＭ，Ｃ，Ｙ，ＢＫの画像信号は、レーザードライバ２１２に送られる。レーザードライバ２１２は画像信号に応じ、半導体レーザー２１３を変調駆動する。レーザー光はポリゴンミラー２１４、ｆ−θレンズ２１５、ミラー２１６を介し、感光体ドラム２１７上を走査する。
【００５９】
２１９〜２２２は現像器であり、マゼンタ現像器２１９、シアン現像器２２０、イエロー現像器２２１、ブラック現像器２２２より構成され、４つの現像器が交互に感光体ドラムに接し、感光体ドラム２１７上に形成されたＭ，Ｃ，Ｙ，ＢＫの静電潜像を対応するトナーで現像する。
【００６０】
２２３は転写ドラムで、用紙カセット２２４または２２５より給紙された用紙をこの転写ドラム２２３に巻付け、感光体ドラム２１７上に現像されたトナー像を用紙に転写する。このようにしてＭ，Ｃ，Ｙ，ＢＫの４色が順次転写された後に、用紙は定着ユニット２２６を通過して定着後、排紙される。
［実施例］
以下のようにしてフッ素変成有機ケイ素樹脂を合成した。
【００６１】
合成例１
フラスコに、水２４ｇ及びトルエン９０ｇの混合液を入れ、これらを撹拌しながらこの中に、式：Ｃ８  Ｆ１７Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＣｌ３  で表わされるヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン２３ｇ、ジフェニルジクロロシラン１０１ｇ及びトルエン１２０ｇの混合液を滴下した。
【００６２】
滴下終了後、２時間混合した。次いで、これを静置して水層を分離し、得られた有機溶剤層を純水、１０重量％の重曹水、純水の順で繰り返し洗浄した。洗浄後、加熱により有機溶剤を除去して、下記の式：
｛Ｆ（ＣＦ２  ）８  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ  ｛（Ｃ６  Ｈ５  ）２  ＳｉＯ２／２  ｝ｙ  
（式中、ｘは平均１であり、ｙは平均１０である。）
で示されるフッ素変成有機ケイ素樹脂８７ｇを得た。この樹脂は７０℃の軟化点を有する白色の固体であった。重量平均分子量は８．３×１０４  であった。
【００６３】
合成例２
フラスコに、水２４ｇ及びトルエン７０ｇの混合液を入れ、これらを撹拌しながらこの中に、式：Ｃ８  Ｆ１７Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＣｌ３  で表わされるヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン２３ｇ、ジフェニルジクロロシラン７１ｇ、フェニルトリクロロシラン２５ｇ及びトルエン１２０ｇの混合液を滴下した。
【００６４】
滴下終了後、２時間混合した。次いで、これを静置して水層を分離し、得られた有機溶剤層を純水、１０重量％の重曹水、純水の順で繰り返し洗浄した。洗浄後、加熱により有機溶剤を除去して、下記の式：
｛Ｆ（ＣＦ２  ）８  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ  ｛（Ｃ６  Ｈ５  ）２  ＳｉＯ２／２  ｝ｙ  
｛（Ｃ６  Ｈ５  ）ＳｉＯ３／２  ｝ｚ  
（式中、ｘ：ｙ：ｚは平均１：７：３である。）
で示されるフッ素変成有機ケイ素樹脂８２ｇを得た。この樹脂は３０〜４０℃の軟化点を有する白色の固体であった。重量平均分子量は１．１×１０４  であった。
【００６５】
合成例３
｛Ｆ（ＣＦ２  ）４  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ  ｛（ＣＨ３  ）２  ＳｉＯ２／２  ｝ｙ１｛（Ｃ６  Ｈ５  ）ＳｉＯ３／２  ｝ｙ２
フラスコに、水１０ｇ、イソプロパノール２ｇ及びトルエン２０ｇの混合液を入れ、これらを撹拌しながらこの中に、式：Ｃ４  Ｆ９  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＣｌ３    １１．４ｇ、Ｍｅ２  ＳｉＣｌ２    ２．６ｇ、フェニルトリクロロシラン２７．５ｇ及びトルエン３０ｇの混合液を滴下した。
【００６６】
滴下終了後、２時間混合した。次いで、これを静置して水層を分離し、得られた有機溶剤層を純水、４重量％の重曹水、純水の順で繰り返し洗浄した。洗浄後、加熱により有機溶剤を除去して、下記の式：
｛Ｆ（ＣＦ２  ）４  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ  ｛（ＣＨ３  ）２  ＳｉＯ２／２  ｝ｙ１｛（Ｃ６  Ｈ５  ）ＳｉＯ３／２  ｝ｙ２
（式中、ｘは平均１であり、ｙ１  は平均１であり、ｙ２  は平均６である。）
で示されるフッ素変成有機ケイ素樹脂２１ｇを得た。この樹脂は５０〜６０℃の軟化点を有する白色の固体であった。重量平均分子量は４．９×１０４  であった。
【００６７】
合成例４
｛（ＣＦ３  ）Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ１｛Ｆ（ＣＦ２  ）８  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ２｛（ＣＨ３  ）３  ＳｉＯ１／２  ｝ｙ１｛（Ｃ６  Ｈ５  ）２  ＳｉＯ２／２  ｝ｙ２
フラスコに、水２０ｇ及びトルエン９０ｇの混合液を入れ、これらを撹拌しながらこの中に、式：（ＣＦ３  ）Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＣｌ３    ４．７ｇ、Ｃ８  Ｈ１７Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＣｌ３    １１．６ｇ、Ｍｅ３  ＳｉＣｌ  ５．６ｇ、ジフェニルジクロロシラン７５．９ｇ及びトルエン１２０ｇの混合液を滴下した。
【００６８】
滴下終了後、２時間混合した。次いで、これを静置して水層を分離し、得られた有機溶剤層を純水、４重量％の重曹水、純水の順で繰り返し洗浄した。洗浄後、加熱により有機溶剤を除去して、下記の式：
｛（ＣＦ３  ）Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ１｛Ｆ（ＣＦ２  ）８  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ２｛（ＣＨ３  ）３  ＳｉＯ１／２  ｝ｙ１｛（Ｃ６  Ｈ５  ）２  ＳｉＯ２／２  ｝ｙ２
（式中、ｘ１  は平均１であり、ｘ２  は平均１であり、ｙ１  は平均３であり、ｙ２  は平均１３である。）
で示されるフッ素変成有機ケイ素樹脂６１ｇを得た。この樹脂は６０〜７０℃の軟化点を有する白色の固体であった。重量平均分子量は８．４×１０３  であった。
【００６９】
合成例５
｛Ｆ（ＣＦ２  ）８  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ  ｛（ＣＨ３  ）３  ＳｉＯ１／２  ｝ｙ１｛（Ｃ６  Ｈ５  ）２  ＳｉＯ２／２  ｝ｙ２｛ＳｉＯ４／２  ｝ｙ３
フラスコに、３６重量％塩酸水２４ｇ及びトルエン１００ｇの混合液を入れ、これらを撹拌しながらこの中に、式：Ｃ８  Ｆ１７Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＣｌ３    １１．５ｇ、Ｍｅ３  ＳｉＣｌ  １１．０ｇ、ジフェニルジクロロシラン２５．１ｇ、Ｓｉ（ＯＣ２  Ｈ５  ）４    ２０．４ｇ及びトルエン１００ｇの混合液を滴下した。
【００７０】
滴下終了後、２時間混合した。次いで、これを静置して水層を分離し、得られた有機溶剤層を純水、４重量％の重曹水、純水の順で繰り返し洗浄した。洗浄後、加熱により有機溶剤を除去して、下記の式：
｛Ｆ（ＣＦ２  ）８  Ｃ２  Ｈ４  ＳｉＯ３／２  ｝Ｘ  ｛（ＣＨ３  ）３  ＳｉＯ１／２  ｝ｙ１｛（Ｃ６  Ｈ５  ）２  ＳｉＯ２／２  ｝ｙ２｛ＳｉＯ４／２  ｝ｙ３
（式中、ｘは平均１であり、ｙ１  は平均５であり、ｙ２  は平均５であり、ｙ３  は平均６である。）
で示されるフッ素変成有機ケイ素樹脂３７ｇを得た。この樹脂の軟化点は２００℃以上で、白色の固体であった。重量平均分子量は４．５×１０３  であった。
【００７１】
実施例１
合成例１の樹脂、４−［２−（トリエトキシシリル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を固形分としてそれぞれ２０重量％、４０重量％、４０重量％となるようにＴＨＦに溶解した。
【００７２】
これをガラス板にバーコートを用いて塗布し、１２０度で１時間乾燥した。乾燥後、１０μｍの透明で均一な膜が得られた。顕微鏡で観察したところ均一フィルムが形成されたことが判明した。
【００７３】
更に、このサンプルを分光光度計にて６００ｎｍの波長における吸収を測定したところ膜厚１μｍあたりの吸光度として０．００１が得られ透明であった。
【００７４】
また、水の接触角を測定したところ１０５ｄｅｇと低表面エネルギー化されており良好であった。
【００７５】
実施例２
合成例２の樹脂、４−［２−（トリエトキシシリル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を固形分としてそれぞれ２０重量％、４０重量％、４０重量％となるようにＴＨＦに溶解した。
【００７６】
これをガラス板にバーコートを用いて塗布し、１２０度で１時間乾燥した。乾燥後、１０μｍの透明で均一な膜が得られた。顕微鏡で観察したところ均一フィルムが形成されたことが判明した。
【００７７】
更に、このサンプルを分光光度計にて６００ｎｍの波長における吸収を測定したところ膜厚１μｍあたりの吸光度として０．００１が得られ透明であった。
【００７８】
また、水の接触角を測定したところ１０７ｄｅｇと低表面エネルギー化されており良好であった。
【００７９】
実施例３
合成例２の樹脂、４−［２−（トリエトキシシリル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を固形分としてそれぞれ２０重量％、４０重量％、４０重量％となるようにＴＨＦに溶解した。
【００８０】
これを５０μｍ厚のアルミニウム板にバーコートを用いて塗布し、１２０度で１時間乾燥した。乾燥後、２０μｍの透明で均一な膜が得られた。顕微鏡で観察したところ均一フィルムが形成されたことが判明した。
【００８１】
更に、このサンプルに導電性ゴムローラを当接させてアルミニウム板をアースとして導電性ゴムローラに−６００Ｖを印加して、更に、ピーク間１５００Ｖ、１５００Ｈｚの交流を重畳させることにより帯電による劣化試験を１時間行った。劣化試験により導電性ゴムローラが前記サンプルに当接している部分の近傍に放電による凹みが生じ、その凹みの深さを耐放電性の評価として測定した。その結果本実施例のシートにおける凹みは０．３μｍときわめて小さいものであった。
【００８２】
実施例４
鏡面加工により作成した外径６０ｍｍのアルミニウムシリンダーに陽極酸化によりアルマイトを形成したものを導電性支持体として用いた。
【００８３】
次に、電荷発生層として下記のビスアゾ顔料５部（重量部、以下同様）をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２０時間分散した。
【００８４】
この分散液を前記導電性支持体の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【００８５】
【化１】
0003618962.tif 000002
【００８６】
次いで、下記の構造式を有するトリアリールアミン化合物５部と合成例１の樹脂２．５部及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５部をテトラハイドロフラン７０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後１２μｍの膜厚に塗工した。
【００８７】
【化２】
0003618962.tif 000003
【００８８】
−７００Ｖに帯電して波長６８０ｎｍで電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２  （−３５０Ｖまで帯電電位が減少する露光量）＝１．２μＪ／ｃｍ２  、残留電位４８Ｖと良好であった。
【００８９】
本電子写真感光体をキヤノン製デジタル複写機ＧＰ５５（ローラー帯電方式）を前述の照射スポット径となるように改造した評価機にて初期帯電−４００Ｖにて画像評価を行ったところ、初期及び５０００枚耐久試験後も、均一性の優れた画像出力が得られ、階調再現性も４００ｄｐｉにて２５６階調ときわめて良好であり、感光体の摩耗量も１０００枚の耐久試験あたり０．４μｍと少なかった。
【００９０】
また、感光体の表面の水の接触角を測定すると初期が１０４ｄｅｇに対して５０００枚耐久試験後も９８ｄｅｇと良好であった。
【００９１】
実施例５
合成例１の樹脂、４−［２−（トリエトキシシリル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を固形分としてそれぞれ２０重量％、４０重量％、４０重量％となるようにＴＨＦに溶解した。
【００９２】
これを５０μｍ厚のアルミニウム板にバーコートを用いて塗布し、１２０度で１時間乾燥した。乾燥後、２０μｍの透明で均一な膜が得られた。顕微鏡で観察したところ均一フィルムが形成されたことが判明した。
【００９３】
更に、このサンプルに導電性ゴムローラを当接させてアルミニウム板をアースとして導電性ゴムローラに−６００Ｖを印加して、更に、ピーク間１５００Ｖ、１５００Ｈｚの交流を重畳させることにより帯電による劣化試験を１時間行った。劣化試験により導電性ゴムローラが前記シートに当接している部分の近傍に放電による凹みが生じ、その凹みの深さを耐放電性の評価として測定した。その結果本実施例のシートにおける凹みは０．１μｍときわめて小さいものであった。
【００９４】
実施例６
鏡面加工により作成した外径８０ｍｍのアルミニウムシリンダーに陽極酸化によりアルマイトを形成したものを用いて電荷発生層及び電荷輸送層は実施例４と同じ条件で感光体を作成した。
【００９５】
本電子写真感光体をキヤノン製デジタルカラー複写機ＣＬＣ５００（コロナ帯電方式）を前述の照射スポット径となるように改造した評価機にて初期帯電−４００Ｖにて画像評価を行ったところ、初期及び５０００枚耐久試験後も、均一性の優れた画像出力が得られ、階調再現性も４００ｄｐｉにて２５６階調ときわめて良好であり、感光体の摩耗量も１０００枚の耐久試験あたり０．２μｍと少なかった。
【００９６】
また、感光体の表面の水の接触角を測定すると初期が１０４ｄｅｇに対して５０００枚耐久試験後も９４ｄｅｇと良好であった。
【００９７】
実施例７
引き抜き加工により得られた外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いて導電層としてフェノール樹脂（商品名  プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部及び平均粒径２μｍのシリコーン樹脂粒子３部を分散したものを浸漬コーティング法により、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように塗工した。
【００９８】
下引き層としてアルコール可溶性共重合ナイロン（商品名  アミランＣＭ−８０００、東レ（株）製）５部をメタノール９５部に溶解した溶液を浸漬コーティング法により塗工した。８０℃で１０分間乾燥して、膜厚が１μｍの下引き層を形成した。
【００９９】
次に、電荷発生層としてＩ型オキシチタニウムフタロシアニン顔料５部をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２時間分散した。
【０１００】
この分散液を先に形成した下引き層の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【０１０１】
次いで、合成例２で用いたフッ素変成有機ケイ素樹脂２７．５部と実施例４で用いたトリアリールアミン化合物５５部とポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５５部をテトラハイドロフラン７０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後１０μｍの膜厚に塗工した。
【０１０２】
水の接触角は１０５度であった。
【０１０３】
−７００Ｖに帯電して波長６８０ｎｍで電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２  （−３５０Ｖまで帯電電位が減少する露光量）＝０．１μＪ／ｃｍ２  、残留電位４５Ｖと良好であった。
【０１０４】
本電子写真感光体をキヤノン製レーザービームプリンタＰ２７０の改造機（前述の照射スポット条件に改造、ＡＣローラー帯電器使用）にて初期帯電−５００Ｖにて画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後の感光体の摩耗量は２μｍ以下ときわめて少なく、耐久後の水の接触角も１００度と良好で、画像の劣化もなく、６００ｄｐｉ相当の入力信号においてのハイライト部の１画素再現性も十分であった。
【０１０５】
実施例８
実施例７と同様に引き抜き加工により得られた外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いて導電層としてフェノール樹脂（商品名  プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部を分散したものを浸漬コーティング法により、乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗工した。この導電性支持体に実施例６と同様に１μｍの下引き層、０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１０６】
次に、実施例４において用いたトリアリールアミン化合物５部とポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５部をクロロベンゼン７０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後８μｍの膜厚に塗工した。
【０１０７】
前記電荷輸送層の上に実施例２で作成した樹脂溶液をスプレーコーティング法により乾燥後４μｍとなるように塗布した。
【０１０８】
１１０℃にて２時間乾燥、熱硬化して本発明の感光体を作成した。
【０１０９】
水の接触角は１０９度であった。
【０１１０】
−７００Ｖに帯電して波長６８０ｎｍで電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２  （−３５０Ｖまで帯電電位が減少する露光量）＝０．１４μＪ／ｃｍ２  、残留電位３９Ｖと良好であった。
【０１１１】
本電子写真感光体をキヤノン製レーザービームプリンタＰ２７０の改造機（７８０ｎｍ、１００ｍＷの半導体レーザーを用いてレーザースポット径６０×２０μｍ２  に光学系を変更）にて初期帯電−５００Ｖにて画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後の感光体の摩耗量は２．５μｍときわめて少なく、水の接触角は９８度と良好で黒ポチ等の電荷注入及び干渉縞による画像の劣化もなく、６００ｄｐｉ相当の入力信号においてのハイライト部の１画素再現性も十分であった。
【０１１２】
実施例９
引き抜き加工により得られた外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いて導電層としてフェノール樹脂（商品名  プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部及び平均粒径２μｍのシリコーン樹脂粒子３部を分散したものを浸漬コーティング法により、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように塗工した。
【０１１３】
下引き層としてアルコール可溶性共重合ナイロン（商品名  アミランＣＭ−８０００、東レ（株）製）５部をメタノール９５部に溶解した溶液を浸漬コーティング法により塗工した。８０℃で１０分間乾燥して、膜厚が１μｍの下引き層を形成した。
【０１１４】
次に、電荷発生層としてＩ型オキシチタニウムフタロシアニン顔料５部をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２時間分散した。
【０１１５】
この分散液を先に形成した下引き層の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【０１１６】
次いで、合成例２で用いたフッ素変成有機ケイ素樹脂２７．５部と実施例４で用いたトリアリールアミン化合物５５部とポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５５部をテトラハイドロフラン７０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後２０μｍの膜厚に塗工した。
【０１１７】
水の接触角は１０５度であった。
【０１１８】
−７００Ｖに帯電して波長６８０ｎｍで電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２  （−３５０Ｖまで帯電電位が減少する露光量）＝０．１１μＪ／ｃｍ２  、残留電位５１Ｖと良好であった。
【０１１９】
本電子写真感光体をキヤノン製レーザービームプリンタＰ２７０の改造機（前述の照射スポット条件に改造、ＡＣローラー帯電器使用）にて初期帯電−５００Ｖにて画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後の感光体の摩耗量は２μｍ以下ときわめて少なく、耐久後の水の接触角も１００度と良好で、画像の劣化もなかったが６００ｄｐｉ相当の入力信号においてのハイライト部の１画素再現性がやや不十分であった。
【０１２０】
実施例１０
引き抜き加工により得られた外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いて導電層としてフェノール樹脂（商品名  プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部及び平均粒径２μｍのシリコーン樹脂粒子３部を分散したものを浸漬コーティング法により、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように塗工した。
【０１２１】
下引き層としてアルコール可溶性共重合ナイロン（商品名  アミランＣＭ−８０００、東レ（株）製）５部をメタノール９５部に溶解した溶液を浸漬コーティング法により塗工した。８０℃で１０分間乾燥して、膜厚が１μｍの下引き層を形成した。
【０１２２】
次に、電荷発生層としてＩ型オキシチタニウムフタロシアニン顔料５部をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２時間分散した。
【０１２３】
この分散液を先に形成した下引き層の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【０１２４】
次いで、合成例３で用いたフッ素変成有機ケイ素樹脂４７．０部と実施例４で用いたトリアリールアミン化合物５５部とポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５５部をテトラハイドロフラン１５０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後１２μｍの膜厚に塗工した。
【０１２５】
水の接触角は１０２度であった。
【０１２６】
−５５０Ｖに帯電して波長６８０ｎｍで電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２  （−２７５Ｖまで帯電電位が減少する露光量）＝０．１６μＪ／ｃｍ２  、残留電位３０Ｖと良好であった。
【０１２７】
本電子写真感光体をキヤノン製レーザービームプリンタＰ２７０の改造機（前述の照射スポット条件に改造、ＡＣローラー帯電器使用）にて初期帯電−５００Ｖにて画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後の感光体の摩耗量は２μｍ以下ときわめて少なく、耐久後の水の接触角も９０度と良好で、画像の劣化もなかった。
【０１２８】
実施例１１
引き抜き加工により得られた外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いて導電層としてフェノール樹脂（商品名  プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部及び平均粒径２μｍのシリコーン樹脂粒子３部を分散したものを浸漬コーティング法により、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように塗工した。
【０１２９】
下引き層としてアルコール可溶性共重合ナイロン（商品名  アミランＣＭ−８０００、東レ（株）製）５部をメタノール９５部に溶解した溶液を浸漬コーティング法により塗工した。８０℃で１０分間乾燥して、膜厚が１μｍの下引き層を形成した。
【０１３０】
次に、電荷発生層としてＩ型オキシチタニウムフタロシアニン顔料５部をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２時間分散した。
【０１３１】
この分散液を先に形成した下引き層の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【０１３２】
次いで、合成例４で用いたフッ素変成有機ケイ素樹脂７０部と実施例４で用いたトリアリールアミン化合物５５部とポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５５部をテトラハイドロフラン１５０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後１５μｍの膜厚に塗工した。
【０１３３】
水の接触角は１１２度であった。
【０１３４】
−７００Ｖに帯電して波長６８０ｎｍで電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２  （−３５０Ｖまで帯電電位が減少する露光量）＝０．２０μＪ／ｃｍ２  、残留電位４０Ｖと良好であった。
【０１３５】
本電子写真感光体をキヤノン製レーザービームプリンタＰ２７０の改造機（前述の照射スポット条件に改造、ＡＣローラー帯電器使用）にて初期帯電−５００Ｖにて画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後の感光体の摩耗量は３μｍ以下ときわめて少なく、耐久後の水の接触角も１００度と良好で、画像の劣化もなかった。
【０１３６】
実施例１２
引き抜き加工により得られた外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いて導電層としてフェノール樹脂（商品名  プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部及び平均粒径２μｍのシリコーン樹脂粒子３部を分散したものを浸漬コーティング法により、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように塗工した。
【０１３７】
下引き層としてアルコール可溶性共重合ナイロン（商品名  アミランＣＭ−８０００、東レ（株）製）５部をメタノール９５部に溶解した溶液を浸漬コーティング法により塗工した。８０℃で１０分間乾燥して、膜厚が１μｍの下引き層を形成した。
【０１３８】
次に、電荷発生層としてＩ型オキシチタニウムフタロシアニン顔料５部をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２時間分散した。
【０１３９】
この分散液を先に形成した下引き層の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【０１４０】
次いで、合成例５で用いたフッ素変成有機ケイ素樹脂２０部と実施例４で用いたトリアリールアミン化合物５５部とポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５５部をテトラハイドロフラン１５０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後１２μｍの膜厚に塗工した。
【０１４１】
水の接触角は１０８度であった。
【０１４２】
−５５０Ｖに帯電して波長６８０ｎｍで電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２  （−２７５Ｖまで帯電電位が減少する露光量）＝０．１９μＪ／ｃｍ２  、残留電位２８Ｖと良好であった。
【０１４３】
本電子写真感光体をキヤノン製レーザービームプリンタＰ２７０の改造機（前述の照射スポット条件に改造、ＡＣローラー帯電器使用）にて初期帯電−５００Ｖにて画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後の感光体の摩耗量は３μｍ以下ときわめて少なく、耐久後の水の接触角も９３度と良好で、画像の劣化もなかった。
【０１４４】
比較例１
テフロン微粒子（タイキン工業（株）製、ルブロンＬＤ−１、粒子径  約０．２μｍ）、４−［２−（トリエトキシシリル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を固形分としてそれぞれ５重量％、４７．５重量％、４７．５重量％となるようにＴＨＦに溶解した。
【０１４５】
これをガラス板にバーコートを用いて塗布し、１２０度で１時間乾燥したところ、乾燥後、１０μｍの白濁した膜が得られた。顕微鏡で観察したところ凝集したテフロン粒子が観測された。
【０１４６】
更に、このサンプルを分光光度計にて６００ｎｍの波長における吸収を測定したところ膜厚１μｍあたりの吸光度として０．０２２が得られ、かなりの光が散乱していることが確認された。
【０１４７】
また、水の接触角を測定したところ８６ｄｅｇと低表面エネルギー化は不十分であった。
【０１４８】
比較例２
メチルポリシロキサン樹脂を主成分とする樹脂溶液の調整
メチルシロキサン単位８０モル％、ジメチルシロキサン単位２０モル％からなる１重量％のシラノール基を含むシリコーン樹脂１０ｇをトルエン１０ｇに溶解し、均一な溶液にした。
【０１４９】
電荷輸送層への相溶性試験
上記メチルポリシロキサン樹脂溶液、４−［２−（トリエトキシシリル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を固形分としてそれぞれ５重量％、４７．５重量％、４７．５重量％となるようにＴＨＦに溶解した。
【０１５０】
これをガラス板にバーコートを用いて塗布し、１２０度で１時間乾燥したところ、乾燥後、１０μｍの白濁した凹凸のある膜が得られた。顕微鏡で観察したところ凝集した不均一な部分が観測された。
【０１５１】
更に、このサンプルを分光光度計にて６００ｎｍの波長における吸収を測定したところ膜厚１μｍあたりの吸光度として０．０５が得られ、かなりの光が散乱していることが確認された。
【０１５２】
また、水の接触角を測定したところ１０３ｄｅｇと低表面エネルギー化されており良好であった。
【０１５３】
比較例３
フェニルポリシロキサン樹脂を主成分とする樹脂溶液の調製
フェニルシロキサン単位４０モル％、ジフェニルシロキサン単位２０モル％、メチルシロキサン単位２０モル％、ジメチルシロキサン単位２０％からなる１重量％のシラノール基を含むシロキサン樹脂１２ｇをトルエン１０ｇに溶解し、均一な溶液にした。
【０１５４】
電荷輸送層への相溶性試験
上記メチルポリフェニルシロキ樹脂溶液、４−［２−（トリエトキシシリル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を固形分としてそれぞれ２０重量％、４０重量％、４０重量％となるようにＴＨＦに溶解した。
【０１５５】
これをガラス板にバーコートを用いて塗布し、１２０度で１時間乾燥したところ、乾燥後、１０μｍの白濁した膜が得られた。
【０１５６】
更に、このサンプルを分光光度計にて６００ｎｍの波長における吸収を測定したところ膜厚１μｍあたりの吸光度として０．０１２が得られ、かなりの光が散乱していることが確認された。
【０１５７】
また、水の接触角を測定したところ８８ｄｅｇと低表面エネルギー化は十分ではなかった。
【０１５８】
比較例４
４−［２−（トリエトキシシリル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を固形分としてそれぞれ５０重量％、５０重量％となるようにＴＨＦに溶解した。
【０１５９】
これを５０μｍ厚のアルミニウム板にバーコートを用いて塗布し、１２０度で１時間乾燥したところ、乾燥後、２０μｍの透明で均一な膜が得られた。顕微鏡で観察したところ均一フィルムが形成されたことが判明した。
【０１６０】
更に、このサンプルに導電性ゴムローラを当接させてアルミニウム板をアースとして導電性ゴムローラに−６００Ｖを印加して、更に、ピーク間１５００Ｖ、１５００Ｈｚの交流を重畳させることにより帯電による劣化試験を１時間行った。劣化試験により導電性ゴムローラが前記シートに当接している部分の近傍に放電による凹みが生じ、その凹みの深さを耐放電性の評価として測定した。
【０１６１】
その結果上記のシートにおける凹みは１μｍとかなり大きいものであった。
【０１６２】
比較例５
実施例４において用いたトリアリールアミン化合物５部とポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５部をクロロベンゼン７０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記電荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後１２μｍの膜厚に塗工して実施例４と同じキヤノン製レーザービームプリンタにて画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後は干渉縞及び黒ポチが認められ、摩耗量が５μｍと大きく、水の接触角も７２度と小さいために不良であり、６００ｄｐｉでのハイライト部の１画素再現も不十分でムラがあった。
【０１６３】
比較例６
引き抜き加工により得られた外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用いて導電層としてフェノール樹脂（商品名  プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部及び平均粒径２μｍのシリコーン樹脂粒子３部を分散したものを浸漬コーティング法により、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように塗工した。
【０１６４】
下引き層としてアルコール可溶性共重合ナイロン（商品名  アミランＣＭ−８０００、東レ（株）製）５部をメタノール９５部に溶解した溶液を浸漬コーティング法により塗工した。８０℃で１０分間乾燥して、膜厚が１μｍの下引き層を形成した。
【０１６５】
次に、電荷発生層としてＩ型オキシチタニウムフタロシアニン顔料５部をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２時間分散した。この分散液を先に形成した下引き層の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【０１６６】
前記電荷発生層の上に実施例４において用いたトリアリールアミン化合物５部とポリカーボネート樹脂（商品名  Ｚ−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５部及びテフロン微粒子０．５部をクロロベンゼン７０部に分散、溶解した電荷輸送層用の液を浸漬コーティング法により乾燥後１２μｍの膜厚に塗工して実施例４と同じキヤノン製レーザービームプリンタにて画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後は摩耗量が４μｍ程度であり、水の接触角も８９度とやや低表面エネルギーであったが、６００ｄｐｉでのハイライト部の１画素再現は耐久初期から不十分でムラがあった。
【０１６７】
【発明の効果】
本発明の電子写真感光体は、特定のフッ素変性有機ケイ素樹脂を表面層に用いているため、耐摩耗性に優れ、かつ表面エネルギーが小さいことから汚染が少なく、クリーニング性に優れる。しかも残留電位等の電気特性に優れる。更に、該電子写真感光体は光散乱も少ないことからこれを用いた電子写真画像形成装置は耐久性が優れているのみでなく、耐久後も良好な画像を提供する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電子写真装置の一例を示す正面図である。
【図２】本発明の電子写真装置の他の例を示す正面図である。
【図３】本発明の電子写真装置の他の例を示す正面図である。
【図４】照射光ビームの強度分布とスポット面積の関係を示す図である。
【図５】本発明の電子写真装置の他の例を示す正面図である。
【図６】本発明の電子写真装置の他の例を示す正面図である。
【符号の説明】
１  電子写真感光体
２  帯電手段
４  現像手段
５  転写手段
６  クリーニング手段
７  前露光手段
９  記録材
１０  直接帯電部材
【図１】
0003618962.tif 000004
【図２】
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【図３】
0003618962.tif 000006
【図４】
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【図５】
0003618962.tif 000008
【図６】
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