(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（３）
【化１】
0003696529.tif 000014
（式中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、同アルケニル基、同アルキニル基、同アリール基、同アラルキル基、同複素環基又は同シリル基を表し、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同アリール基又は同アラルキル基を表す。また、Ｒ９とＲ１０が互いに結合して隣接するＳｉ原子と一緒になって環を形成していてもよく、更に、Ｒ１１とＲ１２が互いに結合してそれぞれが隣接するＮ原子及びＣ原子と一緒になって環を形成していてもよい。Ａ−はアニオン種を示す。）で表されるカチオン性ケイ素化合物の存在下、シリルエノールエーテルとカルボニル化合物を反応させることを特徴とする、アルドール化合物の製造方法。
【請求項２】
シリルエノールエーテルが下記一般式（１）
【化２】
0003696529.tif 000015
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同アルケニル基、同アルキニル基、同アリール基、同アラルキル基、同複素環基、同アリールオキシ基又はアルコキシ基を表し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、同アリール基又は、同アラルキル基を表す。また、Ｒ１とＲ２が互いに結合して、それぞれが隣接する炭素原子と一緒になって環を形成していても、或いは、Ｒ２とＲ３が互いに結合して、隣接するＣ原子と一緒になって環を形成していてもよく、更には、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の何れか２つが互いに結合して、隣接するＳｉ原子と一緒になって環を形成していてもよい。）で表される化合物である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
カルボニル化合物が下記一般式（２）
【化３】
0003696529.tif 000016
（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同アルケニル基、同アルキニル基、同アリール基、同アラルキル基又は同複素環基を表す。また、Ｒ７とＲ８は互いに結合して、隣接するＣ原子と一緒になって環を形成していてもよい。）で表される化合物である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
下記一般式（４）
【化４】
0003696529.tif 000017
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７及びＲ８は前記と同じ。）で表されるアルドール化合物を製造する請求項１〜３の何れかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬、農薬等の合成中間体として有用なアルドール化合物の新規な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アルドール化合物の製造方法については、カルボニル化合物を酸又は塩基の触媒下に反応させる、アルドール縮合が知られている［Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔ．，２８，ｐ２０３（１９８２）］。しかし、この方法では、二種類の異なったカルボニル化合物を選択的に反応させる交差アルドール反応がしばしば困難であるため、製造されるアルドール化合物は著しく限定される。
【０００３】
一方、交差アルドール反応を高選択的に進行させる方法として、一方のカルボニル化合物をシリルエノールエーテルに変換し、これと他方のカルボニル化合物とをルイス酸触媒で反応させる方法が開発されている［Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，ｐ１０１１（１９７３）；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９６，ｐ７５０３（１９７４）］。しかし、カルボニル化合物として、ケトンやα位に水素原子を有する脂肪族アルデヒドを用いると交差アルドール化合物の収率が著しく低下するため、この方法の適用はしばしば困難である［Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，３８，ｐ１５０９（１９９０）；Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，６４，ｐ９９０（１９９１）］。また、脂肪族アルデヒドやケトンを用いた交差アルドール反応の触媒として、アルミニウム化合物を用いる方法が知られているが［Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２０，ｐ８２７１（１９９８）］、神経毒として環境に有害なアルミニウム化合物を排出するため［医事新報、７月２７日号、ｐ１２５（１９９６）；内科、５月号、ｐ９３９（１９９６）；読売新聞、４月２０日付、こちら医療情報室（１９９８）等］、工業的にアルドールを製造するための方法としては難点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の現状に鑑みなされたもので、シリルエノールエーテルと脂肪族アルデヒド又はケトンを用いた交差アルドール反応においても、アルドール化合物の収率が高く、しかも環境負荷の少ない、工業的に有用なアルドール化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、元素としての毒性をもたないケイ素を含んでなる特定のカチオン性ケイ素化合物が、これを酸触媒として交差アルドール反応を行うと、脂肪族アルデヒド又はケトンを用いた場合でも、高収率でアルドール化合物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、カチオン性ケイ素化合物の存在下、シリルエノールエーテルとカルボニル化合物を反応させることを特徴とする、アルドール化合物の製造方法の発明である。
【０００６】
本発明で用いられるシリルエノールエーテルとしては、例えば、下記一般式（１）
【化５】
0003696529.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同アルケニル基、同アルキニル基、同アリール基、同アラルキル基、同複素環基、同アリールオキシ基又はアルコキシ基を表し、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、同アリール基又は同アラルキル基を表す。また、Ｒ１とＲ２が互いに結合して、それぞれが隣接する炭素原子と一緒になって環を形成していても、或いは、Ｒ２とＲ３が互いに結合して、隣接するＣ原子と一緒になって環を形成していてもよく、更には、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の何れか２つが互いに結合して、隣接するＳｉ原子と一緒になって環を形成していてもよい。）で表される化合物が挙げられる。
【０００７】
また、本発明で用いられるカルボニル化合物としては、例えば、下記一般式（２）
【化６】
0003696529.tif 000003
（式中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同アルケニル基、同アルキニル基、同アリール基、同アラルキル基又は同複素環基を表す。また、Ｒ７とＲ８は互いに結合して、隣接するＣ原子と一緒になって環を形成していてもよい。）で表される化合物が挙げられる。
【０００８】
更に、本発明において、触媒として用いられるカチオン性ケイ素化合物としては、例えば、下記一般式（３）
【化７】
0003696529.tif 000004
（式中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、同アルケニル基、同アルキニル基、同アリール基、同アラルキル基、同複素環基又は同シリル基を表し、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、同アリール基又は同アラルキル基を表す。また、Ｒ９とＲ１０が互いに結合して隣接するＳｉ原子と一緒になって環を形成していてもよく、更に、Ｒ１１とＲ１２が互いに結合してそれぞれが隣接するＮ原子及びＣ原子と一緒になって環を形成していてもよい。Ａ−はアニオン種を示す。）で表される化合物が挙げられる。
【０００９】
本発明の方法により得られるアルドール化合物としては、例えば、下記一般式（４）
【化８】
0003696529.tif 000005
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７及びＲ８は前記と同じ。）で表されるアルドール化合物が挙げられる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
一般式（１）、（２）及び（４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８で示される置換基を有していてもよいアルキル基のアルキル基としては、例えば、炭素数が１〜２０、好ましくは１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第二級ブチル基、第三級ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、２,６-ジメチル-５-ヘプテニル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げられる。また、置換基としては、当該反応に悪影響を及ぼさないものであればどのような置換基でも良いが、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、例えば、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子等が挙げられる。
また、置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、例えば、炭素数６〜３０、好ましくは６〜２０、より好ましくは６〜１４の単環、多環又は縮合環式の芳香族炭化水素基が挙げられ、より具体的には、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。また、置換基としては、当該反応に悪影響を及ぼさないものであればどのような置換基でも良いが、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基等が挙げられる。
更に、置換基を有していてもよいアラルキル基のアラルキル基としては、例えば、炭素数７〜３０、好ましくは７〜２０、より好ましくは７〜１５の単環、多環又は縮合環式のアラルキル基が挙げられ、より具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。また、置換基としては、当該反応に悪影響を及ぼさないものであればどのような置換基でも良いが、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基等が挙げられる。
【００１１】
一般式（１）、（２）及び（４）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７及びＲ８で示される置換基を有していてもよいアルケニル基のアルケニル基としては、例えば、前記した炭素数２〜２０のアルキル基に１個以上の二重結合などの不飽和基を有するものが挙げられ、より具体的には、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２,６-ジメチル-１,５-ヘプタジエニル基等が挙げられる。また、置換基としては、当該反応に悪影響を及ぼさないものであればどのような置換基でも良いが、例えば、フェニル基、トリル基等のアリール基等が挙げられる。
また、置換基を有していてもよいアルキニル基のアルキニル基としては、例えば、前記した炭素数２以上のアルキル基に１個以上の三重結合などの不飽和基を有するものが挙げられ、より具体的には、例えば、エチニル基、プロピニル基等が挙げられる。また、置換基としては、当該反応に悪影響を及ぼさないものであればどのような置換基でも良いが、例えば、フェニル基、トリル基等のアリール基等が挙げられる。
更に、置換基を有していてもよい複素環基の複素環基としては、環中に少なくとも１個以上の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を有し、１個の環の大きさが５〜２０員、好ましくは５〜１０員、より好ましくは５〜７員であって、シクロアルキル基、シクロアルケニル基又はアリール基などの炭素環式基と縮合していてもよい飽和又は不飽和の単環、多環又は縮合環式のものが挙げられ、より具体的には、例えば、ピリジル基、チエニル基、フェニルチエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピペリジル基、ピペラジル基、ピロリル基、モルホリノ基、イミダゾリル基、インドリル基、キノリル基、ピリミジニル基等が挙げられる。また、置換基としては、当該反応に悪影響を及ぼさないものであればどのような置換基でも良いが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等のアルキル基や、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基等が挙げられる。
【００１２】
一般式（１）及び（４）において、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で示される置換基を有していてもよいアリールオキシ基のアリールオキシ基としては、例えば、炭素数６〜３０、好ましくは６〜２０、より好ましくは６〜１４の単環、多環又は縮合環式の芳香族炭化水素基を有するアリールオキシ基が挙げられ、より具体的には、例えば、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフトキシ基、メチルナフチルオキシ基、アントリルオキシ基、フェナントリルオキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。また、置換基としては、当該反応に悪影響を及ぼさないものであればどのような置換基でも良いが、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基等が挙げられる。
また、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で示されるアルコキシ基としては、例えば、炭素数が１〜２０、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜６の直鎖状又は分枝状のアルコキシ基が挙げられ、より具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、第二級ブトキシ基、第三級ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などが挙げられる。
また、Ｒ１とＲ２が互いに結合して、それぞれが隣接する炭素原子と一緒になって環を形成している場合の、環の具体例としては、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロへキセン環、シクロヘプテン環等が挙げられ、Ｒ２とＲ３が互いに結合して、隣接する炭素原子と一緒になって環を形成している場合の、環の具体例としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等が挙げられる。
【００１３】
更に、一般式（１）において、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の何れか２つが互いに結合して、隣接するＳｉ原子と一緒になって環を形成している場合の、環の具体例としては、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環等のシラシクロアルカン構造を挙げることができる。
また、一般式（２）及び（４）において、Ｒ７とＲ８が互いに結合して、隣接するＣ原子と一緒になって環を形成している場合の、環の具体例としては、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環等が挙げられる。
【００１４】
前記一般式（１）で示されるシリルエノールエーテルの具体例を挙げると、以下の通りである。
α-（トリメチルシリルオキシ）スチレン、α-（ｔ-ブチルジメチルシリルオキシ）スチレン、α-（トリフェニルシリルオキシ）スチレン、（Ｅ）−１-フェニル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｚ）-１-フェニル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、３-メチル-２-トリメチルシリルオキシ-２-ブテン、２-メチル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｅ）-３-フェニル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｚ）-３-フェニル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｅ）-１-フェニル-１-トリメチルシリルオキシ-１-ブテン、（Ｚ）-１-フェニル-１-トリメチルシリルオキシ-１-ブテン、（Ｅ）-１-フェニル-１-トリメチルシリルオキシ-１-ペンテン、（Ｚ）-１-フェニル-１-トリメチルシリルオキシ-１-ペンテン、（Ｚ）-１-フェニル-２-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｅ）-１-フェニル-２-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、３,３-ジメチル-２-トリメチルシリルオキシ-１-ブテン、２-トリメチルシリルオキシ-１-ヘキセン、２-メチル-３-トリメチルシリルオキシ-２-ペンテン、１-（トリメチルシリルオキシ）シクロヘキセン、２-メチル-１-（トリメチルシリルオキシ）シクロヘキセン、６-メチル-１-（トリメチルシリルオキシ）シクロヘキセン、１-（トリメチルシリルオキシ）シクロペンテン、２-トリメチルシリルオキシ-１,３-ブタジエン、１-トリメチルシリルオキシ-１,３-ブタジエン、４-フェニル-２-トリメチルシリルオキシ-１-ブテン-３-イン、１-（２-チエニル）-１-（トリメチルシリルオキシ）エテン、（トリメチルシリルオキシメチレン）シクロヘキサン、１-メチル-１-（１-フェニルエテニルオキシ）シラシクロヘキサン、１-メトキシ-２-メチル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｅ）-１-エトキシ-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｚ）-１-エトキシ-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｅ）-１-メトキシ-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、（Ｚ）-１-メトキシ-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、１-イソプロピルオキシ-２-メチル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、２-メチル-１-フェニルオキシ-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン、１-エトキシ-１-（ｔ-ブチルジメチルシリルオキシ）エテン、１-（ｔ-ブチルオキシ）-２-メチル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン等。
【００１５】
本発明において出発原料として用いられる前記一般式（１）で示されるシリルエノールエーテルは、α−ヒドロカルボニル化合物とハロシランとから、公知の方法によって容易に製造することができる［例えば、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９７９，ｐ７３６；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３４，ｐ２３２４（１９６９）；Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，４６，ｐ７３（１９７２）等］。
【００１６】
また、他方の原料である前記一般式（２）で示されるカルボニル化合物の具体例を挙げると、以下の通りである。
シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アセトフェノン、４'-メチルアセトフェノン、３'-メチルアセトフェノン、２'-メチルアセトフェノン、４'-メトキシアセトフェノン、３'-メトキシアセトフェノン、２'-メトキシアセトフェノン、プロピオフェノン、ブチロフェノン、イソバレロフェノン、１'-アセトナフトン、２'-アセトナフトン、２-ブタノン、３-メチル-２-ブタノン、３,３-ジメチル-２-ブタノン、１,３-ジフェニルアセトン、４-メチル-２-ペンタノン、ベンゾフェノン、２-メチルシクロブタノン、シクロヘプタノン、１-フェニル-１-ペンタノン、α-テトラロン、β-テトラロン、１-デカロン、２-デカロン、２-ペンタノン、３-ペンタノン、２-ヘキサノン、３-ヘキサノン、２-ヘプタノン、３-ヘプタノン、４-ヘプタノン、２-オクタノン、３-オクタノン、４-オクタノン、２-アセチルチオフェン、３-アセチルチオフェン、Ｎ-メチル-２-アセチルピロール、Ｎ-メチル-３-アセチルピロール、２-アセチルチアゾール、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、２-メチルブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、イソバレルアルデヒド、３-フェニルプロピオンアルデヒド、２-フェニルプロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、シクロヘキサンカルバアルデヒド、イソブチルアルデヒド、フェニルプロパギルアルデヒド、けい皮アルデヒド、ｏ-トルアルデヒド、ｍ-トルアルデヒド、ｐ-トルアルデヒド、２-フルアルデヒド、２-チオフェンカルバアルデヒド、クロトンアルデヒド、シトラール、シトロネラール等。
これらのカルボニル化合物は大部分のものが工業的に入手容易又は可能である。
【００１７】
本発明において触媒として用いられる、前記一般式（３）で示されるカチオン性ケイ素化合物は、Ｎ−（シリルメチル）アミドとアルカリ金属塩を反応させる方法により容易に製造することが出来る（特願２００１-０６３３４６号明細書、後述する参考例参照）。
【００１８】
一般式（３）において、Ｒ９及びＲ１０で示される置換基を有していてもよいアルキル基、同アルケニル基、同アルキニル基、同アリール基、同アラルキル基及び同複素環基としては、上記一般式（１）、（２）及び（４）で挙げたものと同じものが挙げられる。
また、置換シリル基としては、シリル基の水素原子の１〜３個がアルキル基、アリール基等に置き換わったものが挙げられ、中でもトリ置換体が好ましく、より具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。
更に、Ｒ９とＲ１０が互いに結合して隣接するＳｉ原子と一緒になって環を形成している場合の、環の具体例としては、シラシクロヘキサン環、シラシクロペンタン環等が挙げられる。
【００１９】
一般式（３）において、Ｒ１１及びＲ１２で示される置換基を有していてもよいアルキル基、同アリール基及び同アラルキル基としては、上記一般式（１）、（２）及び（４）で挙げたものと同じものが挙げられる。
また、Ｒ１１とＲ１２が互いに結合してそれぞれが隣接するＮ原子及びＣ原子と一緒になって環を形成している場合の、環の具体例としては、２,３,４,５−テトラヒドロピリジニウム環、３,４−ジヒドロ-２Ｈ-ピロリウム環等が挙げられる。
【００２０】
一般式（３）において、Ａ−で示されるアニオン種の具体例としては、例えば、テトラフェニルホウ酸アニオン、テトラキス（４-フルオロフェニル）ホウ酸アニオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸アニオン、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸アニオン、１-カルバドデカボラン酸アニオン、過塩素酸アニオン等を例示することができる。
【００２１】
一般式（３）で示されるカチオン性ケイ素化合物の具体例を挙げると、以下の通りである。
テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム、１-カルバドデカボラン酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム、テトラフェニルホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス（４-フルオロフェニル）ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム、過塩素酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ジフェニル-５-シラオキサゾリニウム、１-カルバドデカボラン酸  ２,３-ジメチル-５,５-ジフェニル-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３,５-トリメチル-５-フェニル-５-シラオキサゾリニウム、テトラフェニルホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ペンタメチレン-５-シラオキサゾリニウム、テトラフェニルホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-テトラメチレン-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ジベンジル-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ジ（２-チエニル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ジ（フェニルエチニル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ジエテニル-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、１-カルバドデカボラン酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス（４-フルオロフェニル）ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、過塩素酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-トリメチレン-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-テトラメチレン-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２-メチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２-フェニル-３-メチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-ジフェニル-５,５-ビストリメチルシリル-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリフルオロメチル）-５-シラオ��サゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,５,５-トリス（トリフルオロメチル）-３-メチル-５-シラオキサゾリニウム、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２-トリフルオロメチル-３,５,５-トリメチル-５-シラオキサゾリニウム等。
【００２２】
本発明の製造方法におけるカチオン性ケイ素化合物（３）の使用量は、いわゆる触媒量であり、シリルエノールエーテル（１）に対して０．１〜２００ｍｏｌ％、好ましくは０．５〜１００ｍｏｌ％、より好ましくは５〜１０ｍｏｌ％である。一方、カチオン性ケイ素化合物（３）は、上記２００ｍｏｌ％を超えて大量に使用しても差し支えないが、反応速度は実質的に改善されないため経済的な利点はない。
【００２３】
反応は溶媒中で行うことが反応効率の点から好ましい。本発明で用いることができる溶媒としては例えば、ジクロロメタン、１,２-ジクロロエタン、テトラクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、デカン等の脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。反応温度は、通常-５０〜２００℃の範囲で行うことができるが、操作の簡便な室温〜１００℃位が望ましい。反応時間は通常１０分〜２０時間程度である。反応後の生成物の分離は、加水分解の後、カラムクロマトグラフィー等の通常の精製単離法によって容易に実施される。
【００２４】
【実施例】
以下、参考例及び実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【００２５】
参考例１  カチオン性ケイ素化合物［テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム］の合成
【化９】
0003696529.tif 000006
Ｎ-（クロロジメチルシリル）メチル-Ｎ-メチルアセトアミド（４４ｍｇ,０.２５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（３ｍｌ）に、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸ナトリウム（２７３ｍｇ,０.３１ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１時間撹拌した。生成した沈殿をロ過により除去し、ロ液を減圧下で濃縮した後、得られた固体をトルエン-ヘキサン混合溶媒から再結晶したところ、テトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム（２３５ｍｇ，０.２３ｍｍｏｌ，収率：９５％）を無色結晶として得た。
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）：δ ０．６３（ｓ，６Ｈ），２．３４（ｓ，３Ｈ），３．１２（ｓ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），７．７１（ｓ，４Ｈ），７．７８（ｓ，８Ｈ）；２９Ｓｉ ＮＭＲ（５９．６ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）：δ −１６．７３；ＩＲ（ＫＢｒ）：２９６２，１６３７，１６１０，１３５６，１２８２ｃｍ−１。
【００２６】
参考例２  カチオン性ケイ素化合物［１-カルバドデカボラン酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム］の合成
【化１０】
0003696529.tif 000007
２-（アセチルメチルアミノ）メチル-２-クロロヘキサメチルトリシラン（８９ｍｇ,０.２２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（３ｍｌ）に、１-カルバドデカボラン酸セシウム（６１ｍｇ,０.２２ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１時間撹拌した。生成した沈殿をロ過により除去し、ロ液を減圧下で濃縮した後、得られた固体をトルエン-ヘキサン混合溶媒から再結晶したところ、１-カルバドデカボラン酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム（７３ｍｇ，０.１８ｍｍｏｌ，収率：８３％）を無色結晶として得た。
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）：δ ０．２６（ｓ，１８Ｈ），０．５−２．２（ｍ，１２Ｈ），２．６９（ｓ，３Ｈ），３．３８（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｓ，２Ｈ）；２９Ｓｉ ＮＭＲ（５９．６ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）：δ−１３．１９，２７．２６。
【００２７】
実施例１  １-（２-オキソ-２-フェニルエチル）シクロヘキサノールの合成
【化１１】
0003696529.tif 000008
ジクロロメタン２.５ｍｌに、参考例１に従って調製したテトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム（４５ｍｇ,０.０４５ｍｍｏｌ）を溶解させた後、室温で攪拌した。この溶液にシクロヘキサノン（８８ｍｇ,０.９０ｍｍｏｌ）を加えた後、α-（トリメチルシリルオキシ）スチレン（１９１ｍｇ,０.９９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。次いで、塩化アンモニウム飽和水溶液５ｍｌを加え、有機層を分離後、水層を５ｍｌのエーテルで３回抽出した。得られた溶液を水洗（１０ｍｌ×３回）し、硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、１-（２-オキソ-２-フェニルエチル）シクロヘキサノールを収率９８％（１９２ｍｇ，０.８８ｍｍｏｌ）で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ １．２２−１．６９（ｍ，１０Ｈ），３．０６（ｓ，２Ｈ），３．９４（ｓ，１Ｈ），７．３９−７．５３（ｍ，３Ｈ），７．８９−７．９０（ｍ，２Ｈ）。
【００２８】
実施例２  ３-ヒドロキシ-１,３-ジフェニルブタン-１-オンの合成
【化１２】
0003696529.tif 000009
ジクロロメタン３.０ｍｌに、参考例１に従って調製したテトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム（６３ｍｇ,０.０６３ｍｍｏｌ）を溶解させた後、室温で攪拌した。この溶液にアセトフェノン（１５２ｍｇ,１．２７ｍｍｏｌ）を加えた後、α-（トリメチルシリルオキシ）スチレン（２６９ｍｇ,１.４０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。次いで、塩化アンモニウム飽和水溶液５ｍｌを加え、有機層を分離後、水層を５ｍｌのエーテルで３回抽出した。得られた溶液を水洗（１０ｍｌ×３回）し、硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、３-ヒドロキシ-１,３-ジフェニルブタン-１-オンを収率８２％（２５０ｍｇ，１.０４ｍｍｏｌ）で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ １．６６（ｓ，３Ｈ），３．３３（ｄ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ，１Ｈ），３．７８（ｄ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ，１Ｈ），４．８９（ｓ，１Ｈ），７．１９−７．５６（ｍ，８Ｈ），７．８８−７．９０（ｍ，２Ｈ）。
【００２９】
実施例３  ３-ヒドロキシ-１,５-ジフェニルペンタン-１-オンの合成
【化１３】
0003696529.tif 000010
ジクロロメタン２.５ｍｌに、参考例１に従って調製したテトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム（３４ｍｇ,０.０３４ｍｍｏｌ）を溶解させた後、室温で攪拌した。この溶液に３-フェニルプロピオンアルデヒド（９１ｍｇ,０.６８ｍｍｏｌ）を加えた後、α-（トリメチルシリルオキシ）スチレン（２５９ｍｇ,１.３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。次いで、塩化アンモニウム飽和水溶液５ｍｌを加え、有機層を分離後、水層を５ｍｌのエーテルで３回抽出した。得られた溶液を水洗（１０ｍｌ×３回）し、硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、３-ヒドロキシ-１,５-ジフェニルペンタン-１-オンを収率９６％（１６５ｍｇ，０.６５ｍｍｏｌ）で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ １．８１−１．８８（ｍ，１Ｈ），１．９４−２．０１（ｍ，１Ｈ），２．７５−２．８１（ｍ，１Ｈ），２．９０−２．９６（ｍ，１Ｈ），３．０９−３．１３（ｍ，２Ｈ），３．５１（ｓ，１Ｈ），４．２６−４．３１（ｍ，１Ｈ），７．２０−７．３３（ｍ，５Ｈ），７．３４−７．５９（ｍ，３Ｈ），７．９４−７．９６（ｍ，２Ｈ）。
【００３０】
実施例４  ３-ヒドロキシ-１,５-ジフェニルペンタン-１-オンの合成
【化１４】
0003696529.tif 000011
ジクロロメタン２.０ｍｌに、参考例２に従って調製した１-カルバドデカボラン酸  ２,３-ジメチル-５,５-ビス（トリメチルシリル）-５-シラオキサゾリニウム（１３ｍｇ,０.０３１ｍｍｏｌ）を溶解させた後、室温で攪拌した。この溶液に３-フェニルプロピオンアルデヒド（８４ｍｇ,０.６２ｍｍｏｌ）を加えた後、α-（トリメチルシリルオキシ）スチレン（１３２ｍｇ,０.６９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。次いで、塩化アンモニウム飽和水溶液５ｍｌを加え、有機層を分離後、水層を５ｍｌのエーテルで３回抽出した。得られた溶液を水洗（１０ｍｌ×３回）し、硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、３-ヒドロキシ-１,５-ジフェニルペンタン-１-オンを収率７０％（１１２ｍｇ，０.４４ｍｍｏｌ）で得た。生成物のスペクトルは実施例３で得られたものと一致した。
【００３１】
実施例５  ３-ヒドロキシ-４-メチル-１,４-ジフェニルブタン-１-オンの合成
【化１５】
0003696529.tif 000012
ジクロロメタン３.０ｍｌに、参考例１に従って調製したテトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム（２１ｍｇ,０.０２１ｍｍｏｌ）を溶解させた後、室温で攪拌した。この溶液に２-フェニルプロピオンアルデヒド（５６ｍｇ,０.４２ｍｍｏｌ）を加えた後、α-（トリメチルシリルオキシ）スチレン（１６１ｍｇ,０.８４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。次いで、塩化アンモニウム飽和水溶液５ｍｌを加え、有機層を分離後、水層を５ｍｌのエーテルで３回抽出した。得られた溶液を水洗（１０ｍｌ×３回）し、硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、３-ヒドロキシ-４-メチル-１,４-ジフェニルブタン-１-オンを収率８１％（８６ｍｇ，０.３４ｍｍｏｌ）で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ １．４０−１．４６（ｍ，３Ｈ），２．８６−２．９２（ｍ，１Ｈ），２．９６（ｍ，２Ｈ），４．２９−４．８５（ｍ，１Ｈ），７．２０−７．５９（ｍ，８Ｈ），７．８０−７．９２（ｍ，２Ｈ）。
【００３２】
実施例６  ３-ヒドロキシ-４-メチル-１,４-ジフェニルブタン-１-オンの合成
【化１６】
0003696529.tif 000013
ジクロロメタン３.０ｍｌに、参考例１に従って調製したテトラキス［３,５-ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸  ２,３,５,５-テトラメチル-５-シラオキサゾリニウム（４５ｍｇ,０.０４５ｍｍｏｌ）を溶解させた後、室温で攪拌した。この溶液に３-フェニルプロピオンアルデヒド（１２１ｍｇ,０.９０ｍｍｏｌ）を加えた後、１-メトキシ-２-メチル-１-トリメチルシリルオキシ-１-プロペン（１７３ｍｇ,０.９９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。次いで、塩化アンモニウム飽和水溶液５ｍｌを加え、有機層を分離後、水層を５ｍｌのエーテルで３回抽出した。得られた溶液を水洗（１０ｍｌ×３回）し、硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製し、３-ヒドロキシ-２,２-ジメチル-５-フェニルペンタン酸メチルを収率８４％（１７８ｍｇ，０.７６ｍｍｏｌ）で得た。
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ １．１６（ｓ，３Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．５０−１．８８（ｍ，２Ｈ），２．４０（ｔ，Ｊ＝７．４  Ｈｚ，１Ｈ），２．５４−２．７４（ｍ，２Ｈ），２．８６−３．０４（ｍ，１Ｈ），３．５７（ｓ，３Ｈ），７．１０−７．４０（ｍ，  ５Ｈ）。
【００３３】
【発明の効果】
本発明は、工業的に有用なアルドール化合物の製造方法を提供するものであり、本発明の製造方法は、広範なカルボニル化合物に適用可能であって、且つ目的物の収率が高く、しかも環境負荷が少ない点に顕著な効果を有する。