(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の式（Ｉ）で表される繰り返し単位１０〜４０モル％及び次の式（ＩＩ）で表される繰り返し単位６０〜９０モル％からなり、還元粘度が０．３５〜０．７ｄｌ／ｇ（３０℃、ジメチルホルムアミド中、濃度１ｇ／ｄｌ）である芳香族ポリエーテルスルホン共重合体からなることを特徴とする光学材料。
【化１】
0003635503.tif 000007
【請求項２】
次の式（Ｉ）で表される繰り返し単位５〜４５モル％及び次の式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位９５〜５５モル％からなり、還元粘度が０．３０〜０．７５ｄｌ／ｇ（３０℃、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中、濃度０．５ｇ／ｄｌ）である芳香族ポリエーテルスルフィド共重合体からなることを特徴とする光学材料。
【化２】
0003635503.tif 000008
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、屈折率１．７０以上の芳香族ポリエーテルスルホン共重合体又は芳香族ポリエーテルスルフィド共重合体からなる光学材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラスチック光学材料は、無機ガラスに比べ軽量で、割れにくく、その上加工が容易であることから、近年は眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学素子として急速に普及してきている。
【０００３】
上記プラスチック光学材料として現在広く用いられているものとしては、例えば、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートをラジカル重合させたもの等がある。これらは、軽量で耐衝撃性に優れ、染色も容易で、切削、研磨等の加工性も良好である等の優れた性質を有しているが、屈折率（ｎD ）が無機ガラスの１．５２に比べて１．５０と低いため、例えば、ガラスレンズと同等の光学物性を得るには、レンズの中心厚、コバ厚及び曲率等を大きくする必要があり、このため全体に肉厚になることが避けられない欠点を有していた。
【０００４】
特開昭６１−２８５１３号公報には特殊なフマル酸ジエステルの重合物が高屈折率を有し、上記目的に適することが開示されているが、屈折率は最高で１．５３程度であり、無機ガラスを代替するものとしては必ずしも充分なものではなかった。
【０００５】
また、特開平２−１８５０１号公報には１．６０の高い屈折率を有するポリカーボネート等を使用する技術が開示されているが、耐熱性が１５０℃と低く、例えば、高出力光源のもとでは光源の熱により変形してしまう等の欠点を有していた。さらに、ポリカーボネートは耐ケトン系薬品等の耐薬品性が低く、レンズ表面に反射防止膜、ハードコート膜等を形成する際に、塗料として使用可能な有機溶剤に制限を受ける等の問題点があった。
【０００６】
選択反射膜、選択透過膜等の光学多層膜として利用するには、１．７０以上というさらに高い屈折率が要求されるが、市販されているプラスチック光学材料中最高は、ＩＣＩ社製、ポリエーテルスルホンの１．６４であり、高屈折率を有するプラスチック光学材料は乏しく、また、１．７０を超える屈折率を有していても透明性や材料の着色、脆性破壊等の問題点を有しており、実際に利用できるものは存在しなかった。従って、現在使用されている光学多層膜は無機ガラスの蒸着で作成されているが、大面積の蒸着が難しく高コストになるため、潜在的な市場要求はあるものの汎用的に利用されるには至っていない状態であり、簡便な塗工法によって塗膜を形成し得る高屈折率を有するプラスチック光学材料に対する要求が高まっていた。
【０００７】
一方、液晶表示用部材の１つである位相差フィルムは、高速応答性液晶の利用に伴い、高屈折率の素材が選ばれる方向にあるが、市販されている液晶の屈折率の範囲は最高１．７５であり、このため位相差フィルム素材用としても高屈折率の材料が望まれていた。
【０００８】
また、芳香族系含硫黄ポリマーは耐熱性や耐薬品性に優れたエンジニアリングプラスチックとして有用なものであり、硫黄や芳香族環の分子屈折の高さから、そのポリマーも高屈折率を有していると考えられている。しかしながら、ＰＰＳ（ポリフェニレンスルフィド）に代表されるスルフィド系のポリマーは、着色が激しく透明性がよくないために、光学用途として使用するには大きな問題点を持っていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記に鑑み、プラスチック光学レンズ及び位相差フィルムとして使用できる高い屈折率を有し、しかも耐熱性及び透明性に優れた光学材料を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の要旨は、光学材料を、次の式（Ｉ）で表される繰り返し単位１０〜４０モル％及び次の式（ＩＩ）で表される繰り返し単位６０〜９０モル％からなり、還元粘度が０．３５〜０．７ｄｌ／ｇ（３０℃、ジメチルホルムアミド中、濃度１ｇ／ｄｌ）である芳香族ポリエーテルスルホン共重合体から構成するところに存する。
【００１１】
【化３】
0003635503.tif 000002
【００１２】
上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位は、１０〜４０モル％である。上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位が１０モル％未満であると屈折率が低下し、４０モル％を超えると結晶性が発現して透明性を損なうので、上記範囲に限定される。
【００１３】
上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形成するモノマーとしては特に限定されず、例えば、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４−ヒドロキシ−４′−フルオロ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４，４′−ジフルオロ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４−ヒドロキシ−４′−クロロ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４−ヒドロキシ−４′−ブロモ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４，４′−ジブロモ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４，４′−ジクロロ−３，３′−ジフェニルビフェニル等が挙げられる。好ましくは、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニルである。
【００１４】
上記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を形成するモノマーとしては特に限定されず、例えば、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン等が挙げられる。
【００１５】
本発明のポリエーテルスルホン共重合体には、上記モノマーに加えて、上記モノマーと共重合可能であるモノマー等を共重合することができる。
上記共重合可能であるモノマーとしては、次に挙げる（１）群モノマー、（２）群モノマー等が用いられる。
【００１６】
（１）群モノマー
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、
４，４′−ジフルオロジフェニルスルホン、
４，４′−ジクロロジフェニルスルホン、
４，４′−ジブロモジフェニルスルホン、
４−ヒドロキシ−４′−フルオロジフェニルスルホン、
４−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルスルホン、
４−ヒドロキシ−４′−ブロモジフェニルスルホン、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
４，４′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、
４，４′−ジクロロジフェニルスルホキシド、
４，４′−ジブロモジフェニルスルホキシド、
４−ヒドロキシ−４′−フルオロジフェニルスルホキシド、
【００１７】
４−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルスルホキシド、
４−ヒドロキシ−４′−ブロモジフェニルスルホキシド、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルケトン、
４，４′−ジフルオロジフェニルケトン、
４，４′−ジブロモジフェニルケトン、
４−ヒドロキシ−４′−フルオロジフェニルケトン、
４−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルケトン、
４−ヒドロキシ−４′−ブロモジフェニルケトン、
４，４′−ジフルオロジフェニルエーテル、
４，４′−ジクロロジフェニルエーテル、
４，４′−ジブロモジフェニルエーテル、
４−ヒドロキシ−４′−フルオロジフェニルエーテル、
４−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルエーテル、
４−ヒドロキシ−４′−ブロモジフェニルエーテル、
４，４′−メチレンビスフェノール、
【００１８】
４，４′−エチリデンビスフェノール、
４，４′−メチレンビス（２−メチルフェノール）、
４，４′−メチレンビス（２，６−ジメチルフェノール）、
４，４′−イソプロピリデンビスフェノール、
４，４′−イソプロピリデンビス（２−メチルフェノール）、
４，４′−（１，３−ジメチルブチリデン）ビスフェノール、
４，４′−イソプロピリデンビス（２，６′−ジメチルフェノール）、
４，４′−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール、
４，４′−イソプロピリデンビス（２−フェニルフェノール）、
４−クロロ−４′−（ｐ−ヒドロキシフェニル）ジフェニルケトン。
【００１９】
（２）群モノマー
４，４′−ジヒドロキシビフェニル
４−ヒドロキシ−４′−フルオロビフェニル、
４−ヒドロキシ−４′−クロロビフェニル、
４−ヒドロキシ−４′−ブロモビフェニル、
４，４′−ジフルオロビフェニル、
４，４′−ジクロロビフェニル、
４，４′−ジブロモビフェニル４，４′′−ジヒドロキシ−１，１′：２′，１′′−ターフェニル、
４，４′′−ジヒドロキシ−１，１′：３′，１′′−ターフェニル、
４，４′′−ジクロロ−１，１′：２′，１′′−ターフェニル、
４，４′′−ジクロロ−１，１′：３′，１′′−ターフェニル、
４，４′′−ジクロロ−１，１′：４′，１′′−ターフェニル、
４−ヒドロキシ−４′′−クロロ−１，１′：２′，１′′−ターフェニル、
４−ヒドロキシ−４′′−クロロ−１，１′：３′，１′′−ターフェニル、
４−ヒドロキシ−４′′−クロロ−１，１′：４′，１′′−ターフェニル、
４，４′′′−ジクロロ−１，１′：４′，１′′：４′′，１′′′−クォーターフェニル、
【００２０】
４−ヒドロキシ−４′′′−クロロ−１，１′：４′，１′′：４′′，１′′′−クォーターフェニル、
４，４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：２′，１′′：２′′，１′′′−クォーターフェニル、
４，４′′′−ジクロロ−１，１′：２′、１′′：２′′，１′′′−クォーターフェニル、
４−ヒドロキシ−４′′′−クロロ−１，１′：２′，１′′：２′′，１′′′−クォーターフェニル、
４，４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：３′，１′′：３′′，１′′′−クォーターフェニル、
４，４′′′−ジクロロ−１，１′：３′，１′′：３′′，１′′′−クォーターフェニル、
４−ヒドロキシ−４′′′−クロロ−１，１′：３′，１′′：３′′，１′′′−クォーターフェニル、
４，４′−ジメルカプトジフェニルスルフィド、
４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド。
上記（１）群モノマー又は上記（２）群モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
本発明では、上記（１）群モノマー及び上記（２）群モノマーのほか、上記ポリエーテルスルホン共重合体と共重合可能であるジヒドロキシ化合物モノマー、ジハロゲン化合物モノマー等を用いてもよい。
【００２２】
上記ジヒドロキシ化合物モノマー、ジハロゲン化合物モノマーとしては特に限定されず、例えば、ｐ−クレゾール、４，４′−ジヒドロキシジフェニル、４，４′′−ジヒドロキシ−ｐ−ターフェニル、４，４′′′−ジヒドロキシ−ｐ−クォーターフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、４，４′−ジヒドロキシベンゾフェノン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、１，４−ビス−（４−ジヒドロキシジフェニル）−エーテル、１，４−ビス−（４−ジヒドロキシベンゾイル）−ベンゼン、４−ヒドロキシ−４′−（ｐ−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン、４−クロロ−４′−（ｐ−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン、４，４′−ジクロロジフェニルケトン等が挙げられる。
【００２３】
上記ジヒドロキシ化合物モノマー、ジハロゲン化合物モノマーは、生成する共重合体の３０モル％以下であることが好ましい。３０モル％を超えると、屈折率の低下が起こる。
【００２４】
上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体の還元粘度は、０．３５〜０．７ｄｌ／ｇ（３０℃、ジメチルホルムアミド中、濃度１．０ｇ／ｄｌ）である。還元粘度が０．３５ｄｌ／ｇ未満であると、成形体が脆性破壊を起こし、０．７ｄｌ／ｇを超えると、成形性が低下して残留複屈折を示すので、上記範囲に限定される。
【００２５】
上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体を製造する方法は特に限定されず、例えば、アルカリ金属塩の存在下極性溶媒中で加熱重合する求核置換重縮合法等を用いることができる。
【００２６】
上記アルカリ金属塩としては特に限定されず、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、シュウ酸カリウム、重炭酸カリウム等が好ましく、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムは特に好ましい。
【００２７】
上記極性溶媒としては特に限定されず、例えば、スルホラン、ジフェニルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン等のスルホン系溶媒；ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリン等のアミド系溶媒；Ｎ−エチルカプロラクタム、Ｎ−ｎ−プロピルカプロラクタム等のカプロラクタム系溶媒等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、水を除去するために、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の水と共沸する溶媒を用いてもよい。
【００２８】
上記加熱重合において、重合温度は、通常１００〜４００℃の範囲がよく、特に１５０〜２８０℃が好ましい。
【００２９】
上記加熱重合を行う方法としては特に限定されず、例えば、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形成するモノマー、及び、上記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を形成するモノマーを一括して重合槽に投入する方法、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形成するモノマー、及び、上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を形成するモノマーの一部を重合後期に投入する分子構造制御が可能な方法等が挙げられる。
上記加熱重合を促進するために、上記加熱重合を行う前に、上記水と共沸する溶媒を用いて還流脱水を行ってもよい。
【００３０】
上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体の回収方法、精製方法としては特に限定されず、例えば、上記加熱重合の終了後、上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体に対する良溶媒を用いて反応混合物を希釈した後、上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体に対する貧溶媒を加えて上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体を析出させ、適切な洗浄液で洗浄する再沈法、抽出溶媒を用いて上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体から不純物を部分的に取り除き、適切な洗浄液で洗浄した後に回収する抽出法等の公知の方法が挙げられる。
【００３１】
本発明２の光学材料は、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位５〜４５モル％及び次の式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位９５〜５５モル％からなり、還元粘度が０．３０〜０．７５ｄｌ／ｇ（３０℃、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中、濃度０．５ｇ／ｄｌ）である芳香族ポリエーテルスルフィド共重合体から構成される。
【００３２】
【化４】
0003635503.tif 000003
【００３３】
上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位は、５〜４５モル％である。上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位が、５モル％未満であると、耐熱性が低下し、４５モル％を超えると、結晶化が発現して透明性を損なうので、上記範囲に限定される。
【００３４】
上記芳香族ポリエーテルスルフィド共重合体の還元粘度は、０．３０〜０．７５ｄｌ／ｇ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン中、３０℃、０．５ｇ／ｄｌ）である。上記還元粘度が０．３０ｄｌ／ｇ未満であると、成形時に脆性破壊を起こし、０．７５ｄｌ／ｇを超えると、成形時の応力歪みが成形体に残存して複屈折等が発生するので、上記範囲に限定される。
【００３５】
上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を形成するモノマーとしては特に限定されず、例えば、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４−ヒドロキシ−４′−フルオロジフェニルスルフィド、４−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルスルフィド、４−ヒドロキシ−４′−ブロモジフェニルスルフィド、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド、４，４′−ジフルオロフェニルスルフィド等が挙げられる。好ましくは、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルスルフィド、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００３６】
本発明２では、上記モノマーのほか、上記モノマーと共重合可能である上記（１）群モノマー、上記（２）群モノマーを用いてもよい。
上記（１）群モノマーの総添加量は、全モノマー量に対して５０モル％以下が好ましい。５０モル％を超えると、屈折率が１．７０未満に低下する。
上記（２）群モノマーの総添加量は、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形成するモノマーとの合計量が、全モノマー量に対して４５モル％以下となる範囲が好ましい。４５モル％を超えると、結晶化度が高まり透明性が低下する。
【００３７】
上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形成するモノマー、上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を形成するモノマー、上記（１）群モノマー、及び、上記（２）群モノマーに含まれるハロゲンの数は、水酸基の数の０．９５〜１．０５倍が好ましい。この範囲を逸脱すると重合反応が阻害され、上記芳香族ポリエーテルスルフィド共重合体の還元粘度は、０．３ｄｌ／ｇ未満になる。
【００３８】
上記アルカリ金属塩としては、アルカリ金属水酸化物を用いてもよい。上記アルカリ金属水酸化物としては特に限定されず、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化ルビジウム等が挙げられる。
【００３９】
上記加熱重合での重合温度は、１２０〜３５０℃が好ましい。１２０℃未満であると、反応が進まないので還元粘度が０．３０ｄｌ／ｇ未満になり、３５０℃を超えると、副反応によりポリマーが着色する。好ましくは、１５０〜３２０℃である。
【００４０】
【実施例】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
実施例１
攪拌機、ガス導入管、温度計及び先端に受器を付した凝縮器を備えた反応容器に、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル６８．０重量部、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン１４３．５重量部、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン７５．０重量部、無水炭酸カリウム１５．２重量部、Ｎ−メチル−２−ピロリドン５００重量部、トルエン２００重量部を仕込み、窒素置換を行った。次に窒素雰囲気下、攪拌及び昇温を開始し、１７０℃にてトルエンを留出することにより系中の水分を除去した。さらに温度を上昇させ２３０℃にて重合反応を２時間実施した。得られた重合溶液を冷却し、アセトン、メタノール混合溶媒中に注いでポリマーのみを析出させた。さらに水洗いすることにより塩化カリウムを除去し、真空乾燥器にて１２０℃、２４時間乾燥し白色のポリマー粉体を得た。
【００４１】
このポリマー粉体の還元粘度は、ウベローデ粘度計を用いて、ジメチルホルムアミド中、１．０ｇ／ｄｌの濃度で、３０℃において測定した。次にこのポリマー粉体をジメチルホルムアミド中に溶解し、キャスト法にてフィルムを作成し、以下のように、耐熱性、屈折率及び透明性を測定し、結果を表１に示した。
【００４２】
耐熱性は、ガラス転移温度により判断した。ガラス転移温度の測定は、セイコー電子社製ＤＳＣを用い、昇温速度２０℃／分の条件下、ペネトレーション法で行った。
屈折率は、アッベ屈折計（アタゴ社製、４Ｔ型）でジヨードメタンを接触液として測定した。
透明性は、ポリマー粉体をプレス成形にて０．５ｍｍの板に成形し、全光線透過率が８０％以上のものを○、８０％未満のものを不透明と判断した。
【００４３】
表１中、Ａは４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニルを、Ｂは４，４′−ジクロロジフェニルスルホンを、Ｃは４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを表す。〔１〕は、式（Ｉ）のモル分率を表し、〔２〕は、式（ＩＩ）のモル分率を表す。
【００４４】
実施例２及び３、比較例１及び２
４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン及び４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを表１に示した量とした以外は、実施例１と同様にポリマー粉体を得、フィルムを作成して測定し、結果を表１に示した。
【００４５】
比較例３
ポリエーテルスルホン（ＩＣＩ社製、ＶＩＣＴＲＥＸ  ＰＥＳ）を上記ポリマー粉体の代わりに用いて、実施例１と同様の方法にて評価し、結果を表１に示した。
【００４６】
比較例４
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート１００重量部、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート３重量部を加え、５０×５０×１０５ｍｍの型の中に流し込み、窒素雰囲気下４０℃のオーブン中に２４時間保持した。その後、８０℃で４時間、さらに１２０℃で２時間保持し、硬化を完了させた。評価は実施例１と同様の方法にて行い、結果を表１に示した。
【００４７】
実施例４
攪拌機、ガス導入管、温度計及びデーンシュターク管を付した凝縮器を備えた反応器に、４，４′−ジビドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル８１．２０重量部（４０モル％、以下全モノマーの中に占める該モノマーのモル分率）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド１３．０９重量部（１０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を仕込み窒素置換を行った。次に窒素雰囲気下でＮ−メチル−２−ピロリドン（以下「ＮＭＰ」という）５００重量部、トルエン２００重量部を仕込み、攪拌しながら昇温を開始した。１８０℃に達したところで昇温を停止して、その状態で５時間、トルエンと水を共沸させて還流脱水を行った。次に１９０℃に昇温し、そのまま５時間重合反応を行った。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、ＮＭＰを２０００重量部注ぎ、次に大量のメタノール−アセトン混合溶媒中に溶液を注ぎ、ホモジナイザーで攪拌しながら析出させた。そして、メタノール、水と順次洗浄することにより溶媒と塩化カリウムを除去した。
【００４８】
この得られたポリマーの還元粘度は、０．４０ｄｌ／ｇ（３０℃、ＮＭＰ中０．５ｇ／ｄｌ）であった。次にこのポリマーを１軸型押出機でペレット化した。更に射出成形機で温度３００℃の条件にて０．５×５０×１０５ｍｍの平板を作成した。同試験片を用いて還元粘度、透明性、屈折率（ｎ）の試験を行った。
還元粘度は、ＮＭＰ中、３０℃において０．５ｇ／ｄｌの濃度で測定した。０．３ｄｌ／ｇ以上になると脆性破壊を起こさずに成形できる。
透明性は、全光線透過率が７５％以上のものを○、７５％未満のものを不透明とした。
屈折率は、溝尻光学社製ＤＶＡ−３６Ｌ型自動エリプソメータを用い、波長６３２．８ｎｍで測定した。結果を表３に示した。
【００４９】
実施例５
モノマーとして４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド３９．２９重量部（３０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５０】
実施例６
モノマーとして４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル２０．３０重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド５２．３８重量部（４０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５１】
実施例７
モノマーとして４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン１５．０２重量部（１０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン１５．０２重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド２６．１８重量部（２０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド６１．２５重量部（４０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５２】
実施例８
モノマーとして４，４′−イソプロピリデンビスフェノール（ビスフェノールＡ）１３．７０重量部（１０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン１５．０２重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド２６．１８重量部（２０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド６１．２５重量部（４０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５３】
実施例９
モノマーとして４−クロロ−４′−（ｐ−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン４１．３８重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド２６．１８重量部（２０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド６１．２５重量部（４０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５４】
実施例１０
モノマーとして４，４′−ジヒドロキシビフェニル２２．２４重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド１３．０９重量部（１０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５５】
実施例１１
モノマーとして４，４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：４′，１′′：４′′，１′′′−クォーターフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド１３．０９重量部（１０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５６】
実施例１２
モノマーとして４，４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：３′，１′′：３′′，１′′′−クォーターフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド１３．０９重量部（１０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５７】
実施例１３
モノマーとして４，４′′−ジヒドロキシ−１，１′：４′，１′′−ターフェニル３１．４８重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド１３．０９重量部（１０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５８】
比較例５
帝人化成社製のポリカーボネート樹脂パンライトを実施例４と同様に成形し、物性測定を行った。結果を表３に示した。
比較例６及び７
４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィドを表２に示したモル分率にしたこと以外は、実施例４と同様にして重合、評価を行った。結果を表３に示した。
【００５９】
表２中、Ｄは、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニルを表し、Ｅは、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン（（１）群モノマー）を表し、Ｆは、４，４′−イソプロピリデンビスフェノール（（１）群モノマー）を表し、Ｇは、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン（（１）群モノマー）を表し、Ｈは、４−クロロ−４′−（ｐ−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホン（（１）群モノマー）を表し、Ｉは、４，４′−ジヒドロキシビフェニル（（２）群モノマー）を表し、Ｊは、４，４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：４′，１′′：４′′，１′′′−クォーターフェニル（（２）群モノマー）を表し、Ｋは、４，４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：３′，１′′：３′′，１′′′−クォーターフェニル（（２）群モノマー）を表し、Ｌは、４，４′′−ジヒドロキシ−１，１′：４′，１′′−ターフェニル（（２）群モノマー）を表し、Ｍは、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルフィドを表し、Ｎは、４，４′−ジクロロジフェニルスルフィドを表す。〔３〕は、式（Ｉ）のモル分率を表し、〔４〕は、式（ＩＩＩ）のモル分率を表し、〔５〕は、（１）群モノマーモノマー由来のエーテル構造のモル分率を表し、〔６〕は、（２）群モノマーモノマー由来のエーテル構造のモル分率及び式（Ｉ）のモル分率を表す。
【００６０】
【表１】
0003635503.tif 000004
【００６１】
【表２】
0003635503.tif 000005
【００６２】
【表３】
0003635503.tif 000006
【００６３】
【発明の効果】
本発明の光学材料は、上述の構成からなる芳香族ポリエーテルスルホン共重合体を使用するので、１．７０以上の高屈折率を有し、着色が少なく透明性、耐熱性等に優れており、光学レンズ、位相差補償板、光学多層膜等の各種光学材料に好適に利用できる。