(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、
前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、
前記処理液吐出ノズルを前記基板保持手段に保持された基板の上方の吐出位置と前記基板の上方から外れた待機位置とに移動させる移動手段と、
前記吐出位置にある前記処理液吐出ノズルを移動させることにより前記吐出位置を調整する調整手段と、
前記回転駆動手段による前記基板保持手段の回転動作、前記移動手段による前記処理液吐出ノズルの移動動作、前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作および前記調整手段による前記吐出位置の調整動作を制御する制御手段と、
前記回転駆動手段による前記基板保持手段の回転動作、前記移動手段による前記処理液吐出ノズルの移動動作、および前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作を前記制御手段に指令するとともに、前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作中に前記調整手段による前記吐出位置の調整動作を前記制御手段に指令するための操作パネルとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記操作パネルは、
前記基板保持手段の回転動作を指令するための回転操作部と、
前記処理液吐出ノズルの移動動作を指令するための移動操作部と、
前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作を指令するための吐出操作部と、
前記吐出位置の調整動作を指令するための吐出位置操作部とを備えたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記回転操作部、前記移動操作部、前記吐出操作部および前記吐出位置操作部は画面上に表示されることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記処理液吐出ノズルは、複数のノズルを含み、
前記操作パネルは、前記複数のノズルのいずれかを選択する選択操作部を備え、
前記制御手段は、前記選択操作部により選択されたノズルの移動動作、処理液の吐出動作および前記吐出位置の調整動作を制御することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理液を吐出する処理液吐出ノズルを備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板に処理液を供給して所定の処理を行うために基板処理装置が用いられている。基板処理装置には、基板表面にレジスト液等の塗布液を供給して回転塗布する回転式塗布装置、基板表面に現像液を供給して現像処理を行う回転式現像装置、あるいは基板表面に処理液を供給して洗浄処理を行う回転式洗浄装置等がある。
【０００３】
これらの基板処理装置は、基板表面に各処理液を供給するための処理液吐出ノズルを備えている。また、処理内容に応じて異なる処理液を供給するため、１台の基板処理装置が複数の処理液吐出ノズルを備える場合もある。
【０００４】
処理液吐出ノズルは、待機時には、基板の外方の待機位置で待機し、処理液の供給時には、基板の上方に移動し、基板表面に処理液を供給する。処理液の供給が終了すると、処理液吐出ノズルは、待機位置に戻り、次の供給動作に備える。
【０００５】
処理液は、所定のタイミングでかつ所定の量ずつ処理液吐出ノズルから基板上に供給される。例えば、処理液としてレジスト液を供給する回転式塗布装置では、基板の低速回転時に、処理液吐出ノズルからレジスト液を基板のほぼ中央に所定量供給する。その後、基板を高速回転させ、基板の全面にわたってレジスト液を所定の膜厚に塗り広げる。
【０００６】
設計上、処理液吐出ノズルは、基板の回転中心に移動するようになっている。ところが、実際は、組み立て誤差等により、処理液吐出ノズルの吐出位置が基板の回転中心と一致しないことがある。そして、基板の回転中心からずれた位置にある処理液吐出ノズルから基板上に処理液を供給すると、基板表面の処理液の膜厚が不均一となり、基板に不均一な処理を施すこととなる。したがって、処理液吐出ノズルの吐出位置が基板の回転中心と一致するように、処理液吐出ノズルの吐出位置を予め調整する（以下、ティーチングと呼ぶ）必要がある。
【０００７】
回転式塗布装置に設けられた操作パネルから処理液吐出ノズルをティーチングする方法について説明する。
【０００８】
図５は従来の回転式塗布装置における処理液吐出ノズルの吐出位置を調整するための操作パネルを示す図である。なお、回転式塗布装置は複数の処理液吐出ノズルを有するものとする。
【０００９】
図５（ａ）に示すように、操作パネル５０にはティーチング画面５１が表示されている。ティーチング画面５１は、複数の処理液吐出ノズルからティーチングする処理液吐出ノズルを選択するためのノズル選択部５２、選択した処理液吐出ノズルをＸ軸方向またはＹ軸方向へ水平移動させる移動ボタン５３ａを有する軸位置操作部５３、選択した処理液吐出ノズルのＸ軸およびＹ軸における位置を表示する表示部５４、基板を回転させる開始ボタン５５ａおよび基板を停止させる停止ボタン５５ｂを有する回転操作部５５、および吐出メニュー画面を開くための吐出メニューボタン５６を備える。吐出メニューボタン５６を押すことにより操作パネル５０は、ティーチング画面５１から図５（ｂ）の吐出メニュー画面５７へ切り替わる。
【００１０】
図５（ｂ）に示すように、吐出メニュー画面５７は、処理液吐出ノズルからのレジスト液の吐出条件、例えば連続吐出あるいは間欠吐出等を選択するための吐出条件選択部５８、レジスト液の吐出を開始させる開始ボタン５９ａおよびレジスト液の吐出を停止させる停止ボタン５９ｂを有する吐出操作部５９、およびティーチング画面５１へ戻るための復帰ボタン６０を備える。
【００１１】
次に、ティーチング処理について説明する。
まず、ティーチング画面５１のノズル選択部５２において、ティーチングを行う処理液吐出ノズルを選択する。次に、回転操作部５５の開始ボタン５５ａを押す。これにより、基板が回転する。
【００１２】
吐出メニューボタン５６を押し、吐出メニュー画面５７を開く。吐出メニュー画面５７の吐出条件選択部５８において、処理液吐出ノズルからレジスト液が間欠的に吐出される条件を選択する。次に、吐出操作部５９の開始ボタン５９ａを押す。これにより、処理液吐出ノズルは、基板外方の待機位置から基板上方の吐出位置に移動する。その後、処理液吐出ノズルから基板上にレジスト液が間欠的に吐出される。
【００１３】
次に、基板上に吐出されたレジスト液の塗り広がり状態を観察する。レジスト液が基板の全面に一様な膜厚で塗り広げられている場合、処理液吐出ノズルの吐出位置が基板の回転中心と一致しているものと判断される。一方、基板上に塗り広げられたレジスト液の膜厚が不均一である場合、処理液吐出ノズルの吐出位置が基板の回転中心と一致していないものと判断される。
【００１４】
処理液吐出ノズルの位置が基板の回転中心と一致していないと判断した場合、基板の回転中心と処理液吐出ノズルの吐出位置とのずれ量を目視により推測し、推測したずれ量を記憶する。次に、吐出操作部５９の停止ボタン５９ｂを押す。これにより、処理液吐出ノズルからのレジスト液の吐出が停止し、処理液吐出ノズルは基板上方の吐出位置から基板外方の待機位置に移動する。
【００１５】
次に、復帰ボタン６０を押し、ティーチング画面５１を開く。そして、先程記憶した基板の回転中心と処理液吐出ノズルの吐出位置とのずれ量だけ処理液吐出ノズルを移動させるため、表示部５４に表示される処理液吐出ノズルの位置を確認しながら、軸位置操作部５３の移動ボタン５３ａを押す。
【００１６】
吐出メニューボタン５６を押して、上記と同様に、吐出メニュー画面５７の吐出条件選択部５８において間欠吐出条件を選択し、吐出操作部５９の開始ボタン５９ａを押す。基板上に吐出されたレジスト液の塗り広がり状態を観察し、処理液吐出ノズルの吐出位置と基板の回転中心との一致または不一致の判断を行う。
【００１７】
上記の処理液吐出ノズルの移動操作および基板上への処理液の吐出操作を、処理液吐出ノズルの吐出位置が基板の回転中心と一致していると判断されるまで行う。
【００１８】
その後、回転操作部５５の停止ボタン５５ｂを押し、基板の回転を停止する。これにより、処理液吐出ノズルのティーチングは終了する。
【００１９】
一方、処理液吐出ノズルの吐出位置と基板の回転中心とのずれ量が小さい場合には、回転式塗布装置を覆うカバーを開き、処理液吐出ノズルを手でずらすことも行われる。この作業も基板上に吐出されたレジスト液の塗り広がり状態を観察しながら行われる。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、処理液吐出ノズルの吐出位置の移動は、目視により推測した基板の回転中心と処理液吐出ノズルの吐出位置とのずれ量に基づいて行われる。そのため、処理液吐出ノズルの吐出位置の調整を繰り返し行わないと、基板の回転中心と処理液吐出ノズルの吐出位置とが一致しない。それにより、ティーチング画面５１と吐出メニュー画面５７とを何度も切り替えることが必要となる。そのため、ティーチングに要する時間が長くなる。また、目視により推測したずれ量を記憶しておく必要がある。
【００２１】
一方、処理液吐出ノズルを手でずらして吐出位置の調整を行う場合、基板の回転中に回転式塗布装置を覆うカバーを開く必要がある。これにより、処理液のミスト（飛沫）が回転式塗布装置外に飛散し、周囲を汚染する恐れがある。
【００２２】
本発明の目的は、処理液吐出ノズルの吐出位置の調整を容易にかつ短時間で行うことが可能な基板処理装置を提供することである。
【００２３】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
第１の発明に係る基板処理装置は、基板を保持する基板保持手段と、基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、処理液吐出ノズルを基板保持手段に保持された基板の上方の吐出位置と基板の上方から外れた待機位置とに移動させる移動手段と、吐出位置にある処理液吐出ノズルを移動させることにより吐出位置を調整する調整手段と、回転駆動手段による基板保持手段の回転動作、移動手段による処理液吐出ノズルの移動動作、処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作および調整手段による吐出位置の調整動作を制御する制御手段と、回転駆動手段による基板保持手段の回転動作、移動手段による処理液吐出ノズルの移動動作、および処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作を制御手段に指令するとともに、処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作中に調整手段による吐出位置の調整動作を制御手段に指令するための操作パネルとを備えたものである。
【００２４】
第１の発明に係る基板処理装置においては、操作パネルを操作することにより操作パネルから制御手段へ指令が与えられる。操作パネルにより基板保持手段の回転を指令すると、制御手段は、回転駆動手段により基板保持手段を回転させる。操作パネルにより処理液吐出ノズルの移動を指令すると、制御手段は、移動手段により処理液の吐出ノズルを待機位置から吐出位置まで移動させる。操作パネルにより処理液吐出ノズルからの処理液の吐出を指令すると、制御手段は、処理液吐出ノズルから回転する基板上に処理液を吐出させる。この状態で操作パネルを操作することにより、基板上での処理液の塗り広がり状態を観察しながら調整手段により処理液吐出ノズルを移動させて処理液吐出ノズルの吐出位置の調整を行うことができる。
【００２５】
これにより、容易にかつ短時間で処理液吐出ノズルの吐出位置を基板の回転中心に一致させることができる。この吐出位置の調整の際には、処理液吐出ノズルの吐出位置と基板の回転中心とのずれ量を記憶しておく必要がない。
【００２６】
さらに、操作パネルからの操作だけで処理液吐出ノズルの吐出位置の調整ができるため、作業中に処理液吐出ノズルの吐出位置を手で直接調整する必要がない。それにより、処理液が基板処理装置外に飛散することがない。
【００２７】
第２の発明に係る基板処理装置は、第１の発明に係る基板処理装置の構成において、操作パネルは、基板保持手段の回転動作を指令するための回転操作部と、処理液吐出ノズルの移動動作を指令するための移動操作部と、処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作を指令するための吐出操作部と、吐出位置の調整動作を指令するための吐出位置操作部とを備えたものである。
【００２８】
この場合、操作パネルの回転操作部から基板保持手段の回転動作を指令し、操作パネルの移動操作部から処理液吐出ノズルの移動動作を指令し、操作パネルの吐出操作部から処理液吐出ノズルからの処理液の吐出動作を指令し、操作パネルの吐出位置操作部から処理液吐出ノズルの吐出位置の調整動作を指令することができる。
【００２９】
第３の発明に係る基板処理装置は、第２の発明に係る基板処理装置の構成において、回転操作部、移動操作部、吐出操作部および吐出位置操作部は画面上に表示されるものである。
【００３０】
この場合、画面上で処理液吐出ノズルの吐出位置の調整に関する全ての操作ができるため、作業効率が高くなる。
第４の発明に係る基板処理装置は、第１〜３のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成において、処理液吐出ノズルは、複数のノズルを含み、操作パネルは、複数のノズルのいずれかを選択する選択操作部を備え、制御手段は、選択操作部により選択されたノズルの移動動作、処理液の吐出動作および吐出位置の調整動作を制御するものである。
この場合、操作パネルの選択操作部から複数のノズルのいずれかが選択され、選択されたノズルの移動動作、処理液の吐出動作および吐出位置の調整動作が制御手段により制御される。
【００３１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る基板処理装置の一例として回転式塗布装置について説明する。
【００３２】
図１は本発明の一実施例における回転式塗布装置の断面図、図２は図１の回転式塗布装置の平面図である。
【００３３】
図１に示すように、回転式塗布装置１００は、塗布ユニット５０およびノズルユニット４０を備える。塗布ユニット５０は、基板Ｗを水平姿勢で吸引保持する基板保持部１を備える。基板保持部１は、モータ３の回転軸４の先端部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成されている。基板保持部１の周囲には、基板Ｗを取り囲むように円形のカップ２が上下動自在に設けられている。
【００３４】
回転式塗布装置１００の底面に２軸駆動装置１１が固定されており、２軸駆動装置１１の上面に扇形テーブル１０が取り付けられている。また、図２に示すように、扇形テーブル１０の上面には複数のノズルユニット４０が放射状に配設されている。
【００３５】
図１に示す２軸駆動装置１１は、支持部材１１ａと、支持部材１１ａの上面に配置されたＸ方向用部材１１ｂと、Ｘ方向用部材１１ｂの上面に配置されたＹ方向用部材１１ｃとを備える。以下、図２に示すように、水平面上で互いに直交する２方向をＸ軸方向およびＹ軸方向と呼ぶ。
【００３６】
Ｘ方向用部材１１ｂは、支持部材１１ａに対してＸ軸方向に移動可能に形成されている。支持部材１１ａとＸ方向用部材１１ｂとの間には、正逆回転可能なＸ軸モータ１２ａの回転軸１１ｄが、Ｘ軸方向に沿って設けられている。回転軸１１ｄには雄ねじ（図示せず）が形成されており、支持部材１１ａ、Ｘ方向用部材１１ｂおよび回転軸１１ｄでＸ軸方向の送り機構を構成している。これによりＸ軸モータ１２ａを駆動することにより、Ｘ方向用部材１１ｂをＸ軸方向に移動させることが可能となる。
【００３７】
Ｙ方向用部材１１ｃは、Ｘ方向用部材１１ｂに対してＹ軸方向に移動可能に形成されている。Ｘ方向用部材１１ｂとＹ方向用部材１１ｃとの間には、正逆回転可能なＹ軸モータ１２ｂの回転軸１１ｅが、Ｙ軸方向に沿って設けられている。回転軸１１ｅには雄ねじ（図示せず）が形成されており、Ｘ方向用部材１１ｂ、Ｙ方向用部材１１ｃおよび回転軸１１ｅでＹ軸方向の送り機構を構成している。Ｙ軸モータ１２ｂを駆動することにより、Ｙ方向用部材１１ｃをＹ軸方向に移動させることが可能となる。したがって、Ｘ軸モータ１２ａおよびＹ軸モータ１２ｂを駆動することにより、ノズルユニット４０をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させることができる。
【００３８】
ノズルユニット４０は、ノズルアーム７、ノズルアーム案内部材１３、ノズルアーム支持部材９およびエアシリンダ８を備える。ノズルアーム支持部材９はエアシリンダ８のロッド８ａの上端面に取り付けられており、ロッド８ａの伸縮動作に伴い昇降する。
【００３９】
ノズルアーム７の一端部には、処理液吐出ノズル６を保持する保持部材１５が取り付けられている。処理液吐出ノズル６には、レジスト液を供給する配管が取り付けられ、配管には開閉弁１７が設けられている。
【００４０】
ノズルアーム７はノズルアーム支持部材９に対し、軸部材７ａにより回転可能に取り付けられている。
【００４１】
ノズルアーム７の他端部には突起部材７ｂが取り付けられている。突起部材７ｂは、ノズルアーム案内部材１３に設けられた上下方向に延びる溝部１３ａに係合している。溝部１３ａは、下側が軸部材７ａより塗布ユニット５０側に位置し、上側が軸部材７ａより塗布ユニット５０と反対側に位置するように形成されている。
【００４２】
上記の構成により、ノズルアーム７は、ロッド８ａが縮退している場合に起立姿勢となる。一方、ロッド８ａが伸長すると、ノズルアーム７は、軸部材７ａを中心として回転する。その結果、ノズルアーム７が水平姿勢となり、処理液吐出ノズル６を基板Ｗの上方の吐出位置に移動させることができる。
【００４３】
回転式塗布装置１００の外側面には操作パネル２０が設けられている。操作パネル２０からの設定により、処理液吐出ノズル６の吐出位置が基板Ｗの回転中心と一致するように処理液吐出ノズル６の吐出位置を予め調整する操作（ティーチング）が行われる。
【００４４】
操作パネル２０からの入力に基づく設定信号は、制御部１８に与えられる。制御部１８は、設定信号に基づいてモータ３、Ｘ軸モータ１２ａ、Ｙ軸モータ１２ｂ、エアシリンダ８および開閉弁１７を制御する。
【００４５】
図３は図１の回転式塗布装置１００の操作パネル２０に表示される設定画面の図である。
【００４６】
図３に示すように、操作パネル２０にはティーチング画面２１が表示される。ティーチング画面２１は、ノズル選択部２２、軸位置操作部２３、回転操作部２５および吐出操作部２６を備える。図１を参照しながらティーチング画面２１の各部の機能について説明する。
【００４７】
ノズル選択部２２は、複数のノズルユニット４０の中からティーチングするノズルユニット４０を選択するためものである。ノズル選択部２２によりティーチングするノズルユニット４０を選択し、後で説明する吐出操作部２６の開始ボタン２６ａを押すと、ノズルユニット４０のノズルアーム７が水平姿勢となり、基板Ｗの上方に選択されたノズルユニット４０の処理液吐出ノズル６が移動する。そして、処理液吐出ノズル６から基板Ｗ上にレジスト液が吐出される。
【００４８】
軸位置操作部２３は、選択したノズルユニット４０をＸ軸方向またはＹ軸方向へ移動させるためのものである。軸位置操作部２３は、ノズルユニット４０をＸ軸方向に移動させるＸ方向移動ボタン２３ａ，２３ｂおよびＹ軸方向に移動させるＹ方向移動ボタン２３ｃ，２３ｄから構成されている。Ｘ方向移動ボタン２３ａおよびＹ方向移動ボタン２３ｃは、ノズルユニット４０をそれぞれＸ軸およびＹ軸に沿った正方向に移動させるためのものであり、Ｘ方向移動ボタン２３ｂおよびＹ方向移動ボタン２３ｄは、ノズルユニット４０をそれぞれＸ軸およびＹ軸に沿った負方向に移動させるためのものである。Ｘ方向移動ボタン２３ａ，２３ｂまたはＹ方向移動ボタン２３ｃ，２３ｄが押されている間、制御部１８はＸ軸モータ２３ａまたはＹ軸モータ２３ｂを駆動する。これにより、ノズルユニット４０をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させることができる。
【００４９】
回転操作部２５は、基板Ｗを回転または停止させるためのものである。回転操作部２５の開始ボタン２５ａを押すと、制御部１８はモータ３を駆動する。これにより、基板Ｗを保持する基板保持部１が回転する。また、停止ボタン２５ｂを押すと、制御部１８はモータ３の駆動を停止する。これにより、基板Ｗを保持する基板保持部１が停止する。
【００５０】
吐出操作部２６は、選択したノズルユニット４０の処理液吐出ノズル６から基板Ｗ上へのレジスト液の吐出を開始または停止させるためものである。吐出操作部２６の開始ボタン２６ａを押すと、制御部１８は選択されたノズルユニット４０のロッド８ａが伸長するようにエアシリンダ８を制御する。これにより、基板Ｗの上方に処理液吐出ノズル６が移動する。次に、制御部１８は開閉弁１７が開くように制御する。これにより、処理液吐出ノズル６から基板Ｗ上にレジスト液が吐出される。
【００５１】
レジスト液が吐出している間、制御部１８は、開閉弁１７が一定のサイクルで開閉するように開閉弁１７を制御する。これにより、基板Ｗ上にレジスト液が間欠的に吐出される。
【００５２】
吐出操作部２６の停止ボタン２６ｂを押すと、制御部１８は開閉弁１７が閉じるように開閉弁１７を制御する。これにより、レジスト液の吐出が停止される。次に、制御部１８はロッド８ａが縮退するようにエアシリンダ８を制御する。これにより、ノズルユニット４０は待機状態に戻る。
【００５３】
本実施例では、基板保持部１が基板保持手段に相当し、モータ３が回転駆動手段に相当し、処理液吐出ノズル６が処理液吐出ノズルに相当し、ノズルアーム７、エアシリンダ８、ノズルアーム支持部材９およびノズルアーム案内部材１３が移動手段を構成し、２軸駆動装置１１が調整手段に相当し、制御部１８が制御手段に相当し、操作パネル２０が操作パネルに相当し、回転操作部２５が回転操作部に相当し、ノズル選択部２２が移動操作部に相当し、吐出操作部２６が吐出操作部に相当し、軸位置操作部２３が吐出位置操作部に相当する。さらに、ノズル選択部５２が選択操作部に相当する。
【００５４】
図４は図１のノズルユニット４０のティーチング処理を示すフローチャートである。次に、図１〜図４を参照しながらティーチング処理について説明する。
【００５５】
図３のティーチング画面２１のノズル選択部２２において、ティーチングを行うノズルユニット４０を選択する（ステップＳ１）。このとき、ノズルユニット４０は待機状態となっている。
【００５６】
次に、回転操作部２５の開始ボタン２５ａを押す。これにより、基板Ｗが回転する（ステップＳ２）。
【００５７】
さらに、吐出操作部２６の開始ボタン２６ａを押す（ステップＳ３）。これにより、選択されたノズルユニット４０の処理液吐出ノズル６が基板Ｗの上方に移動する。その後、レジスト液が処理液吐出ノズル６から基板Ｗ上に間欠的に吐出される。
【００５８】
次に、基板Ｗ上に吐出されたレジスト液の塗り広がり状態を観察し、処理液吐出ノズル６の吐出位置が基板Ｗの回転中心に一致しているか否かを判断する（ステップＳ４）。レジスト液が基板Ｗの全面に一様な膜厚で塗り広げられている場合、処理液吐出ノズル６の吐出位置が基板Ｗの回転中心と一致しているものと判断される。一方、基板Ｗ上に塗り広げられたレジスト液の膜厚が不均一である場合、処理液吐出ノズル６の吐出位置が基板Ｗの回転中心と一致していないものと判断される。
【００５９】
処理液吐出ノズル６の吐出位置が基板Ｗの回転中心と一致していないと判断した場合、基板Ｗ上に吐出されたレジスト液の塗り広がり状態を観察しながらＸ方向移動ボタン２３ａ，２３ｂおよびＹ方向移動ボタン２３ｃ，２３ｄを操作し、処理液吐出ノズル６を基板Ｗの回転中心まで移動させ（ステップＳ５）、ステップＳ４に戻る。
【００６０】
ステップＳ４で処理液吐出ノズル６の吐出位置が基板Ｗの回転中心と一致していると判断した場合、吐出操作部２６の停止ボタン２６ｂを押す（ステップＳ６）。これにより、レジスト液の吐出が停止する。その後、エアシリンダ８のロッド８ａが縮退し、ノズルユニット４０は待機状態に戻る。
【００６１】
最後に、回転操作部２５の停止ボタン２５ｂを押す（ステップＳ７）。これにより、基板Ｗの回転が停止する。
【００６２】
このように、基板Ｗ上に吐出されるレジスト液の塗り広がり状態を観察しながら、処理液吐出ノズル６の吐出位置を調整することができる。これにより、容易にかつ短時間で処理液吐出ノズル６の吐出位置を基板Ｗの回転中心に一致させることができる。
【００６３】
また、ティーチング画面２１だけでティーチングに関する全ての操作ができるため、作業効率が高くなる。また、処理液吐出ノズル６の吐出位置と基板Ｗの回転中心とのずれ量を記憶しておく必要もない。
【００６４】
さらに、操作パネル２０からの操作によりティーチングを行うことができるため、手で処理液吐出ノズル６をずらす必要がない。そのため、ティーチング中に回転式塗布装置１００を覆うカバー（図示せず）を開く必要がない。したがって、レジスト液が回転式塗布装置１００外に飛散することなくティーチングを行うことができる。
【００６５】
上記実施例では、本発明を回転式塗布装置のレジスト液を吐出する処理液吐出ノズル（レジストノズル）に適用した場合を説明したが、本発明は、回転式塗布装置のエッジクリーナノズルにも適用することができ、回転式現像装置の現像ノズルまたは純水ノズル、回転式洗浄装置の純水ノズル等の種々の基板処理装置の処理液吐出ノズルに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例における回転式塗布装置の断面図である。
【図２】図１の回転式塗布装置の平面図である。
【図３】図１の回転式塗布装置の操作パネルに表示される設定画面の図である。
【図４】図１のノズルユニットのティーチング処理を示すフローチャートである。
【図５】従来の回転式塗布装置の操作パネルに表示される設定画面の図である。
【符号の説明】
１  基板保持部
３  モータ
６  処理液吐出ノズル
７  ノズルアーム
８  エアシリンダ
９  ノズルアーム支持部材
１１  ２軸駆動装置
１３  ノズルアーム案内部材
１８  制御部
２０  操作パネル
２２  ノズル選択部
２３  軸位置操作部
２５  回転操作部
２６  吐出操作部
【図１】
0003657819.tif 000002
【図２】
0003657819.tif 000003
【図３】
0003657819.tif 000004
【図４】
0003657819.tif 000005
【図５】
0003657819.tif 000006