(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のランド及びグルーブが形成された基板と、該基板上に有機色素を含有する記録層と反射層とを有する光情報記録媒体であって、
上記グルーブが、第１グルーブと；
ピットが形成されている第２グルーブと；
第２グルーブのピットより幅の狭いピットが形成されている第３グルーブと；を含み、
第３グルーブが、第１グルーブと第２グルーブとの間に配置され、
第１グルーブ、第２グルーブのグルーブ及び第３グルーブのグルーブが、上記光情報記録媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｏで表わし、第２グルーブのピットにおける半値幅をＷｐで表わし、第３グルーブのピットにおける半値幅をＷｐｂで表わしたときに、Ｗｇｉ＜Ｗｇｏ≦Ｗｐｂ＜Ｗｐであることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
半値幅Ｗｐと半値幅Ｗｐｂとの比Ｗｐ／Ｗｐｂが、１．０５≦Ｗｐ／Ｗｐｂ≦１．１５であることを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｏで表わしたときに、深さｄｇｉと深さｄｇｏとの比ｄｇｏ／ｄｇｉが、１．００＜ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．１０であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
半値幅Ｗｇｉと半値幅Ｗｇｏとの比Ｗｇｏ／Ｗｇｉが、１．０３≦Ｗｇｏ／Ｗｇｉ≦１．１０であることを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｉで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｏで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第２グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面からの記録層の窪み深さをＴｐで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第３グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｐｂで表わしたときに、Ｔｇｉ＝Ｔｇｏ＜Ｔｐｂ＜Ｔｐであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
上記グルーブの同一グルーブ内に形成されているピットが、第１ピットと、グルーブ方向の長さが第１ピットよりも長い第２ピットで構成されており、第１ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ１で表わし、第２ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ２で表わしたとき、１≦Ｗ２／Ｗ１＜１．２であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
上記有機色素材料がアゾ系色素材料であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法であって、
原盤上に形成された感光性材料を原盤の内側から外側に向かって連続的に変化するような露光強度で照射することにより、該感光性材料に第１グルーブ、第２グルーブのグルーブ及び第３グルーブのグルーブに対応するパターンを露光するとともに、２種の異なる露光強度で照射することにより、該感光性材料に第２グルーブのピット及び第３グルーブのピットに対応するパターンを露光することと；
上記露光後に、原盤を現像及びＲＩＥによるエッチングを行うことにより、第１グルーブ、ピット付き第２グルーブ及びピット付き第３グルーブに対応するパターンを形成することと；
上記パターンが形成された原盤を用いて、基板を成形することと；
該基板上に記録層及び反射層を形成することと；を含む光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
上記ピットに対応するパターンを露光する際の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第１の露光強度よりも低い第２露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更することを特徴とする請求項９に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
光情報記録媒体を再生するときのクロック周期をＴと表わしたときに、第１の露光強度で露光する期間をそれぞれ１Ｔ〜１．５Ｔに設定することを特徴とする請求項１０に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
上記原盤の露光の際に、上記露光強度に加えて露光強度を０にすることを含むことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１３】
上記ＲＩＥによるエッチングを、上記原盤の内側と外側とでＲＩＥに用いるガスの流量を変えて行うことを特徴とする請求項９〜１２のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１４】
複数のランド及びグルーブが形成された基板と、該基板上に有機色素を含有する記録層と反射層とを有する光情報記録媒体であって、
上記グルーブが、第１グルーブと；
第１グルーブより幅の広い第２グルーブと；
ピットが形成されている第３グルーブと；を含み、
第２グルーブが、第１グルーブと第３グルーブとの間に配置され、
第１グルーブ及び第３グルーブのグルーブが、上記光情報記録媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項１５】
上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｏで表わし、第２グルーブの半値幅をＷｇｂで表わし、第３グルーブのピットにおける半値幅をＷｐで表わしたときに、Ｗｇｉ＜Ｗｇｏ≦Ｗｇｂ≦Ｗｐであることを特徴とする請求項１４に記載の光情報記録媒体。
【請求項１６】
上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｏで表わしたときに、深さｄｇｉと深さｄｇｏとの比ｄｇｏ／ｄｇｉが、１．００＜ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．１０であることを特徴とする請求項１４または１５に記載の光情報記録媒体。
【請求項１７】
半値幅Ｗｇｉと半値幅Ｗｇｏとの比Ｗｇｏ／Ｗｇｉが、１．０３≦Ｗｇｏ／Ｗｇｉ≦１．１０であることを特徴とする請求項１５または１６に記載の光情報記録媒体。
【請求項１８】
上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｉで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｏで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第２グルーブにおける記録層と反射層との界面からの記録層の窪み深さをＴｇｂで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第３グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｐで表わしたときに、Ｔｇｉ＝Ｔｇｏ＜Ｔｇｂ＜Ｔｐであることを特徴とする請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１９】
上記グルーブの同一グルーブ内に形成されているピットが、第１ピットと、グルーブ方向の長さが第１ピットよりも長い第２ピットで構成されており、第１ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ１で表わし、第２ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ２で表わしたとき、１≦Ｗ２／Ｗ１＜１．２であることを特徴とする請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項２０】
上記有機色素材料がアゾ系色素材料であることを特徴とする請求項１４〜１９のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項２１】
請求項１４〜２０のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法であって、
原盤上に形成された感光性材料を原盤の内側から外側に向かって連続的に変化するような露光強度で照射することにより、該感光性材料に第１グルーブ及び第３グルーブのグルーブに対応するパターンを露光するとともに、２種の異なる露光強度で照射することにより、該感光性材料に第２グルーブ及び第３グルーブのピットに対応するパターンを露光することと；
上記露光後に、原盤を現像及びＲＩＥによるエッチングを行うことにより、第１グルーブ、第２グルーブ及びピット付き第３グルーブに対応するパターンを形成することと；
上記パターンが形成された原盤を用いて、基板を成形することと；
該基板上に記録層及び反射層を形成することと；を含む光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２２】
上記ピットに対応するパターンを露光する際の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第１の露光強度よりも低い第２露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更することを特徴とする請求項２１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２３】
光情報記録媒体を再生するときのクロック周期をＴと表わしたときに、第１の露光強度で露光する期間をそれぞれ１Ｔ〜１．５Ｔに設定することを特徴とする請求項２２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２４】
上記原盤の露光の際に、上記露光強度に加えて露光強度を０にすることを含むことを特徴とする請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２５】
上記ＲＩＥによるエッチングを、上記原盤の内側と外側とでＲＩＥに用いるガスの流量を変えて行うことを特徴とする請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２６】
複数のランド及びグルーブが形成された基板と、該基板上に有機色素を含有する記録層と反射層とを有する光情報記録媒体であって、
上記グルーブが、第１グルーブと；
第１グルーブより幅の広い第２グルーブと；
ピットが形成されている第３グルーブと；
第３グルーブのピットより幅の狭いピットが形成されている第４グルーブと；を含み、
第１〜第４グルーブが、第１グルーブ、第２グルーブ、第４グルーブ、第３グルーブの順に配置され、
第１グルーブ、第３グルーブのグルーブ及び第４グルーブのグルーブが、上記光情報記録媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２７】
上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｏで表わし、第２グルーブの半値幅をＷｇｂで表わし、第３グルーブのピットにおける半値幅をＷｐで表わし、第４グルーブのピットにおける半値幅をＷｐｂで表わしたときに、Ｗｇｉ＜Ｗｇｏ≦Ｗｇｂ≦Ｗｐｂ＜Ｗｐであることを特徴とする請求項２６に記載の光情報記録媒体。
【請求項２８】
半値幅Ｗｐと半値幅Ｗｐｂとの比Ｗｐ／Ｗｐｂが、１．０５≦Ｗｐ／Ｗｐｂ≦１．１５であることを特徴とする請求項２７に記載の光情報記録媒体。
【請求項２９】
上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｏで表わしたときに、深さｄｇｉと深さｄｇｏとの比ｄｇｏ／ｄｇｉが、１．００＜ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．１０であることを特徴とする請求項２６〜２８のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項３０】
半値幅Ｗｇｉと半値幅Ｗｇｏとの比Ｗｇｏ／Ｗｇｉが、１．０３≦Ｗｇｏ／Ｗｇｉ≦１．１０であることを特徴とする請求項２７〜２９のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項３１】
上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｉで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｏで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第２グルーブにおける記録層と反射層との界面からの記録層の窪み深さをＴｇｂで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第３グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｐで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第４グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面からの記録層の窪み深さをＴｐｂで表わしたときに、Ｔｇｉ＝Ｔｇｏ＜Ｔｇｂ＜Ｔｐｂ＜Ｔｐであることを特徴とする請求項２６〜３０のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項３２】
上記グルーブの同一グルーブ内に形成されているピットが、第１ピットと、グルーブ方向の長さが第１ピットよりも長い第２ピットで構成されており、第１ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ１で表わし、第２ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ２で表わしたとき、１≦Ｗ２／Ｗ１＜１．２であることを特徴とする請求項２６〜３１のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項３３】
上記有機色素材料がアゾ系色素材料であることを特徴とする請求項２６〜３２のいずれか一項に記載の光情報記録媒体。
【請求項３４】
請求項２６〜３３のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法であって、
原盤上に形成された感光性材料を原盤の内側から外側に向かって連続的に変化するような露光強度で照射することにより、該感光性材料に第１グルーブ、第３グルーブのグルーブ及び第４グルーブのグルーブに対応するパターンを露光するとともに、３種の異なる露光強度で照射することにより、該感光性材料に第２グルーブ、第３グルーブのピット及び第４グルーブのピットに対応するパターンを露光することと；
上記露光後に、原盤を現像及びＲＩＥによるエッチングを行うことにより、第１グルーブ、第２グルーブ、ピット付き第３グルーブ及びピット付き第４グルーブに対応するパターンを形成することと；
上記パターンが形成された原盤を用いて、基板を成形することと；
該基板上に記録層及び反射層を形成することと；を含む光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３５】
上記ピットに対応するパターンを露光する際の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第１の露光強度よりも低い第２露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更することを特徴とする請求項３４に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３６】
光情報記録媒体を再生するときのクロック周期をＴと表わしたときに、第１の露光強度で露光する期間をそれぞれ１Ｔ〜１．５Ｔに設定することを特徴とする請求項３５に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３７】
上記原盤の露光の際に、上記露光強度に加えて露光強度を０にすることを含むことを特徴とする請求項３４〜３６のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３８】
上記ＲＩＥによるエッチングを、上記原盤の内側と外側とでＲＩＥに用いるガスの流量を変えて行うことを特徴とする請求項３４〜３７のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３９】
請求項９、２１または３４に記載の光情報記録媒体の製造方法に用いられる原盤であって、ガラスで形成されている原盤。
【請求項４０】
請求項９、２１または３４に記載の光情報記録媒体の製造方法に用いられる原盤を用いて作製されたスタンパ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体に係り、特に、メーカ名や著作権保護対策用情報等のメディア情報がプリピットの形で書きこまれた光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＤ（コンパクトディスク）に比べて数倍の記録容量を有するＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）が、映画等の画像や音声等の情報を記録した情報記録媒体として、広く使用されている。また、このＤＶＤに対して、ユーザ側で情報の記録を１回に限り行うことができるＤＶＤ−Ｒ（追記型のデジタル多用途ディスク）や、情報の書換えを可能とするＤＶＤ−ＲＷ（書換え可能型のデジタル多用途ディスク）が既に製品化され、今後の大容量の情報記録媒体として、広く一般化されると思われる。
【０００３】
通常、ＤＶＤ−Ｒ及びＤＶＤ−ＲＷでは、そのディスクのメーカ情報や、著作権保護対策用情報等の情報（以下、メディア情報という）がディスク最内周部や最外周部に予め記憶されている。これらのメディア情報は、ディスク製造工程の最終段階で、記録装置を用いて、光照射等により記録層を変性させることで記録している。これに対し、メディア情報を上記のような記録層に記録するのではなく、ディスクの基板製造段階において、予め基板のグルーブにエンボスピット（以下、イングルーブピットという）の形で記録する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。この方法を用いて作製した光情報記録媒体の一部を、図１に示す。図１（ａ）は、光情報記録媒体の部分拡大平面図であり、イングルーブピットが形成された領域（以下、イングルーブピット領域という）を、概略的に表わしている。また、図１（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面及びＢ−Ｂ線断面を示した図である。この光情報記録媒体では、図１（ｂ）に示すように、ランド及びグルーブが形成された基板１０１のランド表面１０１ａを基準としたときのイングルーブピット１０７の底面（最下面）１０７ａまでの深さｄｐ”が、同じくランド表面１０１ａを基準としてグルーブ１０５の底面（最下面）１０５ａまでの深さｄｇ”より深く形成されている。これにより、この基板１０１のパターン形成面上に記録層１０２及び反射層１０３を形成した場合、イングルーブピット１０７が形成されている部分と、イングルーブピット１０７が形成されていないグルーブの部分とでは、形成される各層の表面高さに違いが生じる。したがって、このイングルーブピット部分とグルーブ部分との深さの違いを利用することにより、メディア情報等のデータをグルーブに記録することができる。
【０００４】
ところで、有機色素を含む溶液をスピンコート法を用いて塗布することにより記録層を形成した光情報記録媒体では、媒体の内側（内周部）の記録層の厚みに比べて外側（外周部）の記録層の厚みが厚くなるように形成される。この厚みの差は、用いる有機色素材料や溶媒の種類によって異なるが、スピンコートの際の溶媒の乾燥や有機色素材料の溶液が基板の内側から外側に向かって展開することに起因して生じる。これにより、媒体の基板表面に形成された案内溝上に形成される記録層は、媒体の内側に比べて外側が厚くなるように形成される。この厚みの差によって、光情報記録媒体の内側と外側とでは反射率が変動してしまい、プッシュプル信号や記録再生信号の変調度等の諸特性が不均一となるという問題があった。これを解決する手段として、予め記録層が形成される基板の溝を基板の内周から外周に向かって深く且つ広く形成する方法が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−６７７３３号公報（第５−６頁、第１−３図）
【特許文献２】特開２００２−２３７１００号公報（第５−６欄）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のようなイングルーブピットを有する光情報記録媒体を用いて、実際に情報の記録再生を行った場合、イングルーブピット領域と、ユーザ側の記録領域であるグルーブのみが形成された領域（以下、グルーブ領域という）との境界部をトラッキングした際に、しばしばトラッキングが外れるエラーが確認されている。これは、図１５に示すように、基板にイングルーブピット１５１を形成することにより隣接するランド１５２の側壁が削られてしまうことに原因がある。隣接するランド１５２の側壁が削られることにより、イングルーブピット１５１とグルーブ１５３との間にあるランド１５２の上面の面積が、通常のグルーブ１５３間におけるランド１５４の上面の面積よりも小さくなる。それに応じて、ランド１５２とランド１５４上に形成される記録層及び反射層の面積にも差が生じる。このランド１５２とランド１５４との間のグルーブ１５３を光スポットＳＰでトラッキングした場合、光スポットＳＰがグルーブ１５３の中央に位置していても、ランド１５４から得られる反射光ＲＦ１の光量と、ランド１５２から得られる反射光ＲＦ２の光量との間に差が生じ、ラジアルプッシュプル信号はオフセットしてしまう。これにより、グルーブの良好なトラッキングが行えなくなり、ジッターの増加や変調度の減少を招く。また、場合によっては、トラッキングが外れてしまうこともある。
【０００７】
実際のラジアルプッシュプル信号検出においては、波長λ＝６５０ｎｍ、開口数ＮＡ＝０．６の光ピックアップを用いた場合、直径φ＝１μｍ程度の光スポットが光情報記録媒体上を半径方向に走査する。このとき、光情報記録媒体が高速で回転している為、光スポットはトラッキング方向に対して垂直な方向に走査されるのではなく、トラッキング方向に対して緩やかな角度をなす方向に走査される。ラジアルプッシュプル信号は、ピットを分解して検出できる程の周波数特性を有していないため、グルーブより深く形成されたイングルーブピット部分では、幅の広いグルーブを検出していることと同等となる。したがって、この場合、イングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部を境にグルーブの幅が極端に変化したことになり、ラジアルプッシュプル信号の乱れが生じる。
【０００８】
特に、ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ−ＲＷでは、ラジアルプッシュプル信号を用いてトラッキングを行っており、ラジアルプッシュプル信号のオフセットや乱れによりトラッキングエラーが引き起こされる。したがって、ＤＶＤ−ＲやＤＶＤ−ＲＷにおいては、上記トラッキングエラーを防止する必要がある。
【０００９】
また、イングルーブピットを有する光情報記録媒体の基板は、通常ＲＩＥ装置を用いてエッチングした原盤を用いて作製するが、通常ＲＩＥ装置を用いてエッチングすることにより原盤表面に溝を形成した場合には、形成される溝の深さは略一定となる。このようなＲＩＥ装置を用いて、原盤表面に内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝を形成することは困難であった。
【００１０】
そこで、本発明の目的は、上記イングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部分をトラッキングした場合においても、安定したラジアルプッシュプル信号を得ることが可能な光情報記録媒体及びその製造方法を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の別の目的は、色素材料からなる記録層が形成された、イングルーブピットを有する光情報記録媒体であって、媒体の内側と外側とで反射率変動を抑制することによって諸特性が均一となる光情報記録媒体及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１の態様に従えば、複数のランド及びグルーブが形成された基板と、該基板上に有機色素を含有する記録層と反射層とを有する光情報記録媒体であって、
上記グルーブが、第１グルーブと；
ピットが形成されている第２グルーブと；
第２グルーブのピットより幅の狭いピットが形成されている第３グルーブと；を含み、
第３グルーブが、第１グルーブと第２グルーブとの間に配置され、
第１グルーブ、第２グルーブのグルーブ及び第３グルーブのグルーブが、上記光情報記録媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されていることを特徴とする光情報記録媒体が提供される。
【００１３】
本発明の光情報記録媒体の基板には、複数のランド及びグルーブが形成されており、一部のグルーブにピット（イングルーブピット）が形成されている。このイングルーブピットが形成された領域（イングルーブピット領域）とグルーブのみが形成された領域（グルーブ領域）との境界部分に、さらに、上記イングルーブピットよりも幅の狭いイングルーブピットが形成された領域（以下、境界ピット領域という）が設けられている。これにより、基板表面において、イングルーブピット領域からグルーブ領域にかけて、緩やかな形状変化が得られる。よって、この基板を用いた光情報記録媒体では、イングルーブが形成された領域とグルーブのみが形成された領域との境界部を跨ぐようにトラッキングをかけた場合においても、ラジアルプッシュプル信号の乱れが少なく、安定したトラッキングを行うことができる。また、本発明の光情報記録媒体の基板に形成されているグルーブは、媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されている。これにより、基板上にスピン塗布によって有機色素材料からなる記録層を形成した場合でも、グルーブ部分における記録層と反射層との界面の高さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて全体的に略同じとなるように記録層を形成することができる。
【００１４】
本発明の光情報記録媒体では、上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｏで表わし、第２グルーブのピットにおける半値幅をＷｐで表わし、第３グルーブのピットにおける半値幅をＷｐｂで表わしたときに、Ｗｇｉ＜Ｗｇｏ≦Ｗｐｂ＜Ｗｐであることが望ましい。また、半値幅Ｗｐと半値幅Ｗｐｂとの比Ｗｐ／Ｗｐｂが、１．０５≦Ｗｐ／Ｗｐｂ≦１．１５であることが望ましい。Ｗｐ／Ｗｐｂ＜１．０５であると、第１グルーブにおけるラジアルプッシュプル信号にオフセットや乱れが生じ易くなり、１．１５＜Ｗｐ／Ｗｐｂであると第３グルーブに形成されたイングルーブピットからの信号変調度が低くなるために望ましくない。
【００１５】
本発明の光情報記録媒体では、上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｏで表わしたときに、深さｄｇｉと深さｄｇｏとの比ｄｇｏ／ｄｇｉが、１．００＜ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．１０であることが望ましい。ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．００であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて浅くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が低下し、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。また、ｄｇｏ／ｄｇｉ＞１．１０であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて深くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が大きくなり、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。さらに、ｄｇｏ／ｄｇｉ＞１．１０であると、媒体外側のグルーブ部分が深すぎるので、グルーブ部分の光の反射率は低下する。
【００１６】
また、本発明では、半値幅Ｗｇｉと半値幅Ｗｇｏとの比Ｗｇｏ／Ｗｇｉが、１．０３≦Ｗｇｏ／Ｗｇｉ≦１．１０であることが望ましい。Ｗｇｏ／Ｗｇｉ＜１．０３であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて浅くなるとともに窪みの幅が狭くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が低下するとともに記録密度も低下し、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。また、Ｗｇｏ／Ｗｇｉ＞１．１０であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて深くなるとともに窪みの幅が広くなる。これにより、外側ほどプッシュプル信号が大きくなるとともに記録密度も大きくなり、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。本発明では、グルーブ部分における記録層と反射層との界面の高さが光情報記録媒体全体で略同じとなるように、色素材料からなる記録層を形成することができる。
【００１７】
本発明では、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｉで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｏで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第２グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面からの記録層の窪み深さをＴｐで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第３グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｐｂで表わしたときに、Ｔｇｉ＝Ｔｇｏ＜Ｔｐｂ＜Ｔｐであることが望ましい。これにより、ラジアルプッシュプル信号の乱れの低減が可能となる。
【００１８】
本発明では、上記グルーブの同一グルーブ内に形成されているピットが、第１ピットと、グルーブ方向の長さが第１ピットよりも長い第２ピットで構成されており、第１ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ１で表わし、第２ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ２で表わしたとき、１≦Ｗ２／Ｗ１＜１．２であることが望ましい。
【００１９】
本発明では、上記有機色素材料がアゾ系色素材料であることが望ましい。
【００２０】
本発明の第２の態様に従えば、第１の態様の光情報記録媒体の製造方法であって、
原盤上に形成された感光性材料を原盤の内側から外側に向かって連続的に変化するような露光強度で照射することにより、該感光性材料に第１グルーブ、第２グルーブのグルーブ及び第３グルーブのグルーブに対応するパターンを露光するとともに、２種の異なる露光強度で照射することにより、該感光性材料に第２グルーブのピット及び第３グルーブのピットに対応するパターンを露光することと；
上記露光後に、原盤を現像及びＲＩＥによるエッチングを行うことにより、第１グルーブ、ピット付き第２グルーブ及びピット付き第３グルーブに対応するパターンを形成することと；
上記パターンが形成された原盤を用いて、基板を成形することと；
該基板上に記録層及び反射層を形成することと；を含む光情報記録媒体の製造方法が提供される。
【００２１】
本発明の製造方法を用いることにより、本発明の第１の態様の光情報記録媒体を製造することができる。
【００２２】
本発明の光情報記録媒体の製造方法では、上記ピットに対応するパターンを露光する際の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第１の露光強度よりも低い第２露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更することが望ましい。これにより、ピット長が長いイングルーブピットを形成する場合においても、基板半径方向の幅の広がりを抑制することができる。これは、原盤露光時に、第２の露光強度で露光した間の積算露光量を低減することにより、ピットを通じてほぼ一定の積算露光量を与えることができるからである。また、光情報記録媒体を再生するときのクロック周期をＴと表わしたときに、第１の露光強度で露光する期間をそれぞれ１Ｔ〜１．５Ｔに設定することが望ましい。さらに、上記原盤の露光の際に、上記露光強度に加えて露光強度を０にすることを含むことが望ましい。
【００２３】
本発明では、上記ＲＩＥによるエッチングを、上記原盤の内側と外側とでＲＩＥに用いるガスの流量を変えて行うことが望ましい。これにより、原盤に形成されるグルーブに対応する部分を、ＲＩＥを用いて原盤の内側から外側に向かって深くなるように形成することができる。
【００２４】
本発明の第３の態様に従えば、複数のランド及びグルーブが形成された基板と、該基板上に有機色素を含有する記録層と反射層とを有する光情報記録媒体であって、
上記グルーブが、第１グルーブと；
第１グルーブより幅の広い第２グルーブと；
ピットが形成されている第３グルーブと；を含み、
第２グルーブが、第１グルーブと第３グルーブとの間に配置され、
第１グルーブ及び第３グルーブのグルーブが、上記光情報記録媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されていることを特徴とする光情報記録媒体が提供される。
【００２５】
本発明の光情報記録媒体の基板には、複数のランド及びグルーブが形成されており、一部のグルーブにイングルーブピットが形成されている。また、イングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部分に、さらに、通常のグルーブよりも幅の広いグルーブ（境界グルーブ）が形成された領域（以下、境界グルーブ領域という）が設けられている。この基板を用いた光情報記録媒体では、イングルーブピットとグルーブのみ形成された光情報記録媒体に比べて、イングルーブピット領域からグルーブ領域にかけて隣り合うグルーブ間でのグルーブ幅の変化が緩やかであるので、ラジアルプッシュプル信号の乱れが少なく、安定したトラッキングを行うことができる。また、本発明の光情報記録媒体の基板に形成されているグルーブは、媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されている。これにより、基板上にスピン塗布によって有機色素材料からなる記録層を形成した場合でも、グルーブ部分における記録層と反射層との界面の高さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて全体的に略同じとなるように記録層を形成することができる。
【００２６】
本発明の光情報記録媒体では、上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｏで表わし、第２グルーブの半値幅をＷｇｂで表わし、第３グルーブのピットにおける半値幅をＷｐで表わしたときに、Ｗｇｉ＜Ｗｇｏ≦Ｗｇｂ≦Ｗｐであることが望ましい。
【００２７】
本発明の光情報記録媒体では、上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｏで表わしたときに、深さｄｇｉと深さｄｇｏとの比ｄｇｏ／ｄｇｉが、１．００＜ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．１０であることが望ましい。ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．００であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて浅くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が低下し、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。また、ｄｇｏ／ｄｇｉ＞１．１０であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて深くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が大きくなり、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。さらに、ｄｇｏ／ｄｇｉ＞１．１０であると、媒体外側のグルーブ部分が深すぎるので、グルーブ部分の光の反射率は低下する。
【００２８】
また、本発明では、半値幅Ｗｇｉと半値幅Ｗｇｏとの比Ｗｇｏ／Ｗｇｉが、１．０３≦Ｗｇｏ／Ｗｇｉ≦１．１０であることが望ましい。Ｗｇｏ／Ｗｇｉ＜１．０３であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて浅くなるとともに窪みの幅が狭くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が低下するとともに記録密度も低下し、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。また、Ｗｇｏ／Ｗｇｉ＞１．１０であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて深くなるとともに窪みの幅が広くなる。これにより、外側ほどプッシュプル信号が大きくなるとともに記録密度も大きくなり、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。本発明では、グルーブ部分における記録層と反射層との界面の高さが光情報記録媒体全体で略同じとなるように、色素材料からなる記録層を形成することができる。
【００２９】
本発明では、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｉで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｏで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第２グルーブにおける記録層と反射層との界面からの記録層の窪み深さをＴｇｂで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第３グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｐで表わしたときに、Ｔｇｉ＝Ｔｇｏ＜Ｔｇｂ＜Ｔｐであることが望ましい。また、上記グルーブの同一グルーブ内に形成されているピットが、第１ピットと、グルーブ方向の長さが第１ピットよりも長い第２ピットで構成されており、第１ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ１で表わし、第２ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ２で表わしたとき、１≦Ｗ２／Ｗ１＜１．２であることが望ましい。
【００３０】
本発明では、上記有機色素材料がアゾ系色素材料であることが望ましい。
【００３１】
本発明の第４の態様に従えば、第３の態様の光情報記録媒体の製造方法であって、
原盤上に形成された感光性材料を原盤の内側から外側に向かって連続的に変化するような露光強度で照射することにより、該感光性材料に第１グルーブ及び第３グルーブのグルーブに対応するパターンを露光するとともに、２種の異なる露光強度で照射することにより、該感光性材料に第２グルーブ及び第３グルーブのピットに対応するパターンを露光することと；
上記露光後に、原盤を現像及びＲＩＥによるエッチングを行うことにより、第１グルーブ、第２グルーブ及びピット付き第３グルーブに対応するパターンを形成することと；
上記パターンが形成された原盤を用いて、基板を成形することと；
該基板上に記録層及び反射層を形成することと；を含む光情報記録媒体の製造方法が提供される。
【００３２】
本発明の製造方法を用いることにより、本発明の第３の態様の光情報記録媒体を製造することができる。
【００３３】
本発明では、上記ピットに対応するパターンを露光する際の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第１の露光強度よりも低い第２露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更することが望ましい。これにより、ピット長が長いイングルーブピットを形成する場合においても、基板半径方向の幅の広がりを抑制することができる。また、光情報記録媒体を再生するときのクロック周期をＴと表わしたときに、第１の露光強度で露光する期間をそれぞれ１Ｔ〜１．５Ｔに設定することが望ましい。さらに、上記原盤の露光の際に、上記露光強度に加えて露光強度を０にすることを含むことが望ましい。また、上記ＲＩＥによるエッチングを、上記原盤の内側と外側とでＲＩＥに用いるガスの流量を変えて行うことが望ましい。
【００３４】
本発明の第５の態様に従えば、複数のランド及びグルーブが形成された基板と、該基板上に有機色素を含有する記録層と反射層とを有する光情報記録媒体であって、
上記グルーブが、第１グルーブと；
第１グルーブより幅の広い第２グルーブと；
ピットが形成されている第３グルーブと；
第３グルーブのピットより幅の狭いピットが形成されている第４グルーブと；を含み、
第１〜第４グルーブが、第１グルーブ、第２グルーブ、第４グルーブ、第３グルーブの順に配置され、
第１グルーブ、第３グルーブのグルーブ及び第４グルーブのグルーブが、上記光情報記録媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されていることを特徴とする光情報記録媒体が提供される。
【００３５】
本発明の光情報記録媒体の基板には、複数のランド及びグルーブが形成されており、一部のグルーブにイングルーブピットが形成されている。また、イングルーブピット領域とグルーブ領域との間に、境界ピット領域が設けられ、さらに境界ピット領域とグルーブ領域との間には通常のグルーブよりも幅の広い境界グルーブが設けられている。この基板を用いた光情報記録媒体では、境界グルーブ領域を設けることによって、グルーブ領域から境界ピット領域にかけて、互いに隣り合うグルーブ幅の変化が緩やかとなるので、第１の態様による光情報記録媒体に比べてラジアルプッシュプル信号の乱れをさらに抑制することができる。また、グルーブ領域と境界ピット領域の間に境界グルーブ領域が設けられているので、境界グルーブ領域が存在しない場合に比べて、境界ピット領域におけるイングルーブピットの寸法を大きくすることができる。これによって、境界ピット領域のイングルーブピットから変調度が高い再生信号を得ることが可能となる。また、本発明の光情報記録媒体の基板に形成されているグルーブは、媒体の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝深さで且つ連続的に広くなるような溝幅で形成されている。これにより、基板上にスピン塗布によって有機色素材料からなる記録層を形成した場合でも、グルーブ部分における記録層と反射層との界面の高さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて全体的に略同じとなるように記録層を形成することができる。
【００３６】
本発明の光情報記録媒体では、上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの半値幅をＷｇｏで表わし、第２グルーブの半値幅をＷｇｂで表わし、第３グルーブのピットにおける半値幅をＷｐで表わし、第４グルーブのピットにおける半値幅をＷｐｂで表わしたときに、Ｗｇｉ＜Ｗｇｏ≦Ｗｇｂ≦Ｗｐｂ＜Ｗｐであることが望ましい。また、半値幅Ｗｐと半値幅Ｗｐｂとの比Ｗｐ／Ｗｐｂが、１．０５≦Ｗｐ／Ｗｐｂ≦１．１５であることが望ましい。前述の通り、Ｗｐ／Ｗｐｂ＜１．０５であると、第１グルーブにおけるラジアルプッシュプル信号にオフセットや乱れが生じ易くなり、１．１５＜Ｗｐ／Ｗｐｂであると第３グルーブに形成されたイングルーブピットからの信号変調度が低くなるために望ましくない。
【００３７】
本発明の光情報記録媒体では、上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｉで表わし、上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブの基板表面からの深さをｄｇｏで表わしたときに、深さｄｇｉと深さｄｇｏとの比ｄｇｏ／ｄｇｉが、１．００＜ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．１０であることが望ましい。ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．００であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて浅くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が低下し、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。また、ｄｇｏ／ｄｇｉ＞１．１０であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて深くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が大きくなり、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。さらに、ｄｇｏ／ｄｇｉ＞１．１０であると、媒体外側のグルーブ部分が深すぎるので、グルーブ部分の光の反射率は低下する。
【００３８】
また、本発明では、半値幅Ｗｇｉと半値幅Ｗｇｏとの比Ｗｇｏ／Ｗｇｉが、１．０３≦Ｗｇｏ／Ｗｇｉ≦１．１０であることが望ましい。Ｗｇｏ／Ｗｇｉ＜１．０３であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて浅くなるとともに窪みの幅が狭くなる。これにより、媒体の外側ほどプッシュプル信号が低下するとともに記録密度も低下し、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。また、Ｗｇｏ／Ｗｇｉ＞１．１０であると、グルーブ部分に対応する記録層の窪み深さが光情報記録媒体の内側から外側にかけて深くなるとともに窪みの幅が広くなる。これにより、外側ほどプッシュプル信号が大きくなるとともに記録密度も大きくなり、媒体の内側と外側でバランスが崩れる。本発明では、グルーブ部分における記録層と反射層との界面の高さが光情報記録媒体全体で略同じとなるように、色素材料からなる記録層を形成することができる。
【００３９】
本発明では、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の内側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｉで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から上記光情報記録媒体の外側に位置する第１グルーブにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｇｏで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第２グルーブにおける記録層と反射層との界面からの記録層の窪み深さをＴｇｂで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第３グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面までの記録層の窪み深さをＴｐで表わし、上記ランド表面上の記録層と反射層との界面から第４グルーブのピットにおける記録層と反射層との界面からの記録層の窪み深さをＴｐｂで表わしたときに、Ｔｇｉ＝Ｔｇｏ＜Ｔｇｂ＜Ｔｐｂ＜Ｔｐであることが望ましい。これにより、ラジアルプッシュプル信号の乱れの低減が可能となる。
【００４０】
本発明では、上記グルーブの同一グルーブ内に形成されているピットが、第１ピットと、グルーブ方向の長さが第１ピットよりも長い第２ピットで構成されており、第１ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ１で表わし、第２ピットにおける基板半径方向の最大幅をＷ２で表わしたとき、１≦Ｗ２／Ｗ１＜１．２であることが望ましい。
【００４１】
本発明では、上記有機色素材料がアゾ系色素材料であることが望ましい。
【００４２】
本発明の第６の態様に従えば、第５の態様の光情報記録媒体の製造方法であって、
原盤上に形成された感光性材料を原盤の内側から外側に向かって連続的に変化するような露光強度で照射することにより、該感光性材料に第１グルーブ、第３グルーブのグルーブ及び第４グルーブのグルーブに対応するパターンを露光するとともに、３種の異なる露光強度で照射することにより、該感光性材料に第２グルーブ、第３グルーブのピット及び第４グルーブのピットに対応するパターンを露光することと；
上記露光後に、原盤を現像及びＲＩＥによるエッチングを行うことにより、第１グルーブ、第２グルーブ、ピット付き第３グルーブ及びピット付き第４グルーブに対応するパターンを形成することと；
上記パターンが形成された原盤を用いて、基板を成形することと；
該基板上に記録層及び反射層を形成することと；を含む光情報記録媒体の製造方法が提供される。
【００４３】
本発明の製造方法を用いることにより、本発明の第５の態様の光情報記録媒体を製造することができる。
【００４４】
本発明の光情報記録媒体の製造方法では、上記ピットに対応するパターンを露光する際の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第１の露光強度よりも低い第２露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更することが望ましい。これにより、ピット長が長いイングルーブピットを形成する場合においても、基板半径方向の幅の広がりを抑制することができる。これは、原盤露光時に、第２の露光強度で露光した間の積算露光量を低減することにより、ピットを通じてほぼ一定の積算露光量を与えることができるからである。また、光情報記録媒体を再生するときのクロック周期をＴと表わしたときに、第１の露光強度で露光する期間をそれぞれ１Ｔ〜１．５Ｔに設定することが望ましい。さらに、上記原盤の露光の際に、上記露光強度に加えて露光強度を０にすることを含むことが望ましい。
【００４５】
本発明では、上記ＲＩＥによるエッチングを、上記原盤の内側と外側とでＲＩＥに用いるガスの流量を変えて行うことが望ましい。これにより、ＲＩＥを用いて、原盤に形成されるグルーブに対応する部分を、原盤の内側から外側に向かって深くなるように形成することができる。
【００４６】
本発明では、上記態様の光情報記録媒体の製造方法に用いられる原盤であって、ガラスで形成されている原盤が提供される。また、本発明では、上記態様の光情報記録媒体の製造方法に用いられる原盤を用いて作製されたスタンパが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４７】
本発明の実施の形態を、図を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【実施例１】
【００４８】
［基板作製の為の原盤及びスタンパの作製方法］
本発明における光情報記録媒体の基板には、図７に示すように、基板１の内周側から順に、グルーブ領域７１、境界ピット領域７２、イングルーブピット領域７３、境界ピット領域７４及びグルーブ領域７５が形成されている。この基板１を作製するための原盤及びスタンパの作製方法について、図２〜７を用いて説明する。図２（ａ）に示すように、直径２００ｍｍ、厚さ６ｍｍのガラス原盤５０を用意した。次いで、図２（ｂ）に示すように、ガラス原盤５０の一方の表面５０ａ上に、フォトレジスト５２を、スピンコート法を用いて、厚さ２００ｎｍで均一に塗布した。次いで、フォトレジスト５２が形成されたガラス原盤５０を、不図示のカッティング装置に装着した。カッティング装置は、主に、波長３５１ｎｍのレーザ光を発振するＫｒガスレーザ光源、音響光変調素子からなる光変調器、集光レンズ及びガラス原盤を回転させるための駆動装置等で構成されている。図２（ｃ）に示すように、上記カッティング装置のレーザ光源（不図示）から出射されたレーザ光ＬＳは、光変調器及び集光レンズを介して、ガラス原盤５０上のフォトレジスト５２に照射される。このとき、ガラス原盤５０を、ガラス原盤５０の中心軸ＡＸを基準に、所定の回転数で回転させた。また、ガラス原盤５０上のレーザ光ＬＳの照射位置が、ガラス原盤５０の半径方向に沿って、ガラス原盤５０の内側から外側に向かって移動する（矢印ＡＲ２）。
【００４９】
上記のように、レーザ光ＬＳをガラス原盤５０上で移動させながら、ガラス原盤５０に照射するレーザ光ＬＳの露光強度を、上記光変調器を用いて変化させる。本実施例では、図３に示すように、レーザ光の露光強度を、低レベル、中レベル及び高レベルの３段階に変化させた。ガラス原盤の中心軸（ＡＸ）を基準として、半径１９．０ｍｍ〜２４．０ｍｍの領域は、図７に示す基板１のグルーブ領域７１に相当する（以下、第１グルーブ形成領域という）。また、半径２４．０ｍｍ〜２４．１ｍｍの領域は、基板１のイングルーブピット領域７３に相当する（以下、イングルーブピット形成領域という）。さらに、半径２４．１ｍｍ〜５８．９ｍｍの領域は、ユーザデータ領域であり、基板１のグルーブ領域７５に相当する（以下、第２グルーブ形成領域という）。図３に示すように、第１及び第２グルーブ形成領域における露光強度は、低レベル（以下、グルーブレベルという）に設定した。また、イングルーブピット形成領域における、イングルーブピットを形成するときの露光強度は高レベル（以下、イングルーブピットレベルという）に、それ以外のグルーブ部分の露光強度は、グルーブレベルに設定した。さらに、第１及び第２グルーブ形成領域とイングルーブピット形成領域との境界部に、それぞれ１トラック分に相当するイングルーブピットで形成された領域（以下、境界ピット形成領域という）を設けた。この境界ピット形成領域は、図７に示した基板１の境界ピット領域７２及び７４に相当する。この境界ピット形成領域のイングルーブピットを形成するときの露光強度は中レベル（以下、境界ピットレベルという）に、それ以外のグルーブ部分の露光強度はグルーブレベルに設定した。本実施例において、イングルーブピットレベルを１００％とした場合、境界ピットレベルは９０％、グルーブレベルは５５％となるように設定した。また、境界ピット形成領域に形成される各イングルーブピットは、トラックの接線方向に、３Ｔ〜１１Ｔ又は１４Ｔ（Ｔ：クロック周期）のいずれかのチャネルビット長で形成される。１トラック内に形成される境界ピットのパターンはランダムパターンであればよい。また、最短チャネルビット長は、用いる再生装置に併せて調整可能である。さらに、本実施例では、露光中に露光強度を変化させる場合、図３に示したように、露光強度を切り替える毎に一時的にレーザ光の露光強度を０レベルにする期間を設けた。これにより、ガラス原盤のイングルーブピット形成領域及び境界ピット形成領域におけるイングルーブピット部分の加工精度が向上する。
【００５０】
次に、フォトレジストが感光されたガラス原盤をカッティング装置から取出し、現像処理を行った。これにより、図４（ａ）及び（ｂ）に示すような、グルーブ形成部４０、境界ピット形成部４２及びイングルーブピット形成部４４が、ガラス原盤５０上に形成された。グルーブ形成部４０は、断面がＶ字状の溝形状となるように形成される。また、境界ピット形成部４２及びイングルーブピット形成部４４では、現像処理によってガラス原盤５０上のフォトレジスト５２は除去され、図４（ｂ）に示すように、ガラス原盤５０の表面５０ａがそれぞれ露出部４２ａ及び露出部４４ａとして現れる。露出部４２ａの、ガラス原盤半径方向における幅は、イングルーブピット形成部４４の露出部４４ａの幅に比べて狭い。
【００５１】
次に、図５（ａ）に示すように、ガラス原盤５０上に形成されているフォトレジスト５２の表面を、不図示のＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）装置を用いて、Ｃ２Ｆ６のガス雰囲気中でエッチングした。これにより、イングルーブピット形成部４４及び境界ピット形成部４２は、それぞれガラス原盤５０の表面５０ａから９０ｎｍの深さまでエッチングされる。次いで、図５（ｂ）に示すように、グルーブ形成部４０におけるガラス原盤５０の表面５０ａを露出させるために、不図示のＯ２によるレジストアッシング装置を用いて、フォトレジスト５２を所定厚さだけ削った。これにより、グルーブ形成部４０のガラス原盤表面５０ａを露出させた。さらに、図５（ｃ）に示すように、ガラス原盤５０のフォトレジスト５２形成面に対して、再度Ｃ２Ｆ６のガス雰囲気中でＲＩＥを行った。これにより、グルーブ形成部４０は、ガラス原盤表面５０ａから１７０ｎｍの深さまで、エッチングされた。同時に、イングルーブピット形成部４４及び境界ピット形成部４２は、それぞれ、ガラス原盤表面５０ａから２６０ｎｍの深さまでエッチングされた。次いで、図５（ｄ）に示すように、再度レジストアッシング装置（不図示）を用いて、ガラス原盤５０上のフォトレジスト５２を除去した。これにより、表面に所望のパターンが形成されたガラス原盤５０を得た。
【００５２】
このガラス原盤５０のパターン形成面に、メッキの前処理として無電解メッキを施した。さらに、このメッキ層を導電膜として用いることにより、厚さ０．２９ｍｍのＮｉ層を、電鋳法によって形成した。次いで、ガラス原盤５０上に形成したＮｉ層の表面を研磨し、さらに、ガラス原盤から上記Ｎｉ層を剥離することにより、スタンパを得た。なお、上記メッキの前処理における導電膜形成を、スパッタ法や蒸着法を用いて行ってもよい。
【００５３】
［情報記録媒体の作製方法］
上記のスタンパを、既存の射出成形装置に装着し、射出成形により基板１を得た。基板１は、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板であり、図６に示すように、ガラス原盤に形成された凹凸パターン形状と同じ形状のパターンが、基板１の一方の面上に転写されている。前述の通り、基板１には、図７に示すようにグルーブ領域７１、境界ピット領域７２、イングルーブピット領域７３、境界ピット領域７４及びグルーブ領域（ユーザデータ領域）７５が形成されている。この基板１のパタ−ン形成面上に、下記化学式（１）で表わされる、アゾ系色素１重量％の濃度を有する溶液を、スピンコート法により塗布した。このとき、上記溶液を、グルーブ部分で厚さ１００ｎｍとなるように塗布した。なお、上記色素溶液を塗布する際に、テトラフルオロプロパノールを溶媒として用いることによりアゾ系色素溶媒とし、フィルタで濾過して不純物を取り除いた。次いで、上記色素材料を塗布した基板１を７０℃にて１時間乾燥させ、さらに、室温にて１時間冷却した。こうして、記録層２が基板１上に形成された（図８（ｂ）参照）。
【００５４】
【化１】
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【００５５】
さらに、図８（ｂ）に示すように、記録層２上に、反射層３としてＡｇ合金を厚さ１６０ｎｍとなるように、スパッタ法を用いて形成した。次いで、反射層３上に、ＵＶ樹脂材料をスピンコート法により塗布し、さらに、その上に厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板（ダミー基板）を載置した。この状態で、各層が形成された基板にＵＶ照射を施すことにより、各層が形成された基板とダミー基板とを貼り合わせて光情報記録媒体を得た。
【００５６】
こうして得られた光情報記録媒体について、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分、境界ピット領域７４の境界ピット部分及びグルーブ領域７５のグルーブ部分の最大深さを、ディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。それらの深さは、図８（ｂ）に示すように、基板のランド８０の表面からの深さとした。グルーブ部分の最大深さｄｇは、１７０ｎｍであった。境界ピット部分の最大深さｄｐｂは、２６０ｎｍであった。また、イングルーブピット部分の最大深さｄｐは、２６０ｎｍであった。グルーブ部分の最大深さｄｇ及びイングルーブピット部分の最大深さｄｐは、良好な信号変調度やジッター等の記録再生信号特性を得るために、１．４≦ｄｐ／ｄｇ≦１．７の条件を満たすことが望ましい。これは、本発明者らの実験に基づいて求められた条件であり、本実施例における光情報記録媒体においても、この条件を満たすようにした。また、ランド８０の表面を基準として、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分の半値幅Ｗｐ、境界ピット領域７４の境界ピット部分の半値幅Ｗｐｂ及びグルーブ領域７５のグルーブ部分における半値幅Ｗｇを、それぞれディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。ここで、半値幅とは、ランド８０の表面を基準面とし、各部分における最大深さの２分の１の深さ位置における、媒体の半径方向の溝幅又は穴の幅をいう。半値幅Ｗｇは３２０ｎｍ、半値幅Ｗｐｂは３５０ｎｍ、半値幅Ｗｐは４００ｎｍであった。これより、Ｗｇ≦Ｗｐｂ＜Ｗｐの関係が成り立つことが分かる。また、半値幅Ｗｐと半値幅Ｗｐｂとの比Ｗｐ／Ｗｐｂ＝１．１４であり、１．０５≦Ｗｐ／Ｗｐｂ≦１．１５の条件を満たすことが分かる。
【００５７】
さらに、図８（ｂ）に示すように、得られた光情報記録媒体のイングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分、境界ピット領域７４の境界ピット部分及びグルーブ領域７５のグルーブ部分の記録層窪み深さを、ディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。ここで、記録層窪み深さとは、ランド８０上に形成された記録層２の表面２ａを基準としたときの記録層２の最大窪み量をいう。イングルーブピット領域７３における記録層窪み深さＴｐは、１７０ｎｍであった。境界ピット領域７４における記録層窪み深さＴｐｂは、１３５ｎｍであった。また、グルーブ領域７５の記録層窪み深さＴｇは、１００ｎｍであった。記録層窪み深さＴｐ及び記録層窪み深さＴｇは、良好な信号変調度やジッタ−等の記録再生信号特性を得るために、１．６≦Ｔｐ／Ｔｇ≦２．０の条件を満たすことが望ましい。これは、本発明者らの実験に基づいて求められた条件であり、本実施例における光情報記録媒体においても、この条件を満たすようにした。なお、境界ピット領域７４における記録層窪み深さＴｐｂと、イングルーブピット領域７３における記録層窪み深さＴｐまたはグルーブ領域７５の記録層窪み深さＴｇとの条件については、境界ピット領域７４の記録層窪み深さＴｐｂがグルーブ領域７５の記録層窪み深さＴｇとイングルーブピット領域７３の記録層窪み深さＴｐの差を低減するという理由から、Ｔｇ＜Ｔｐｂ＜Ｔｐとなる。さらに、グルーブ部分の最大深さｄｇに対するイングルーブピット部分の最大深さｄｐの比率と記録層窪み深さＴｇに対する記録層窪み深さＴｐの比率が、ｄｐ／ｄｇ＜Ｔｐ／Ｔｇの条件を満たすことが望ましい。イングルーブピットの最大深さｄｐがグルーブ部分の最大深さｄｇに対して、十分な信号変調度やラジアルプッシュプル信号が得られるような条件でない場合でも、基板上に記録層として色素材料を塗布することにより、記録情報再生時においてグルーブ部におけるレーザ光の光路長とイングルーブピット部におけるレーザ光の光路長との差が拡大され、光路長差を大きくすることができる。これにより、十分な信号変調度やラジアルプッシュプル信号を得ることができる。
【００５８】
上記実施例で得た光情報記録媒体を、波長６５０ｎｍのレーザ光及び開口数０．６のレンズを有する光ピックアップを用いて、イングルーブピット領域の記録信号の再生を行った。信号の検出及び再生は安定して行うことができ、また、このときの再生信号の信号変調度は６１％、ジッターは７．２％であり、いずれも良好な結果を得ることができた。
【００５９】
なお、本実施例では、図８（ａ）に示すように、イングルーブピット７３ａと境界ピット７４ａとが隣り合う領域について述べたが、イングルーブピットと境界ピット領域におけるグルーブ部分が隣り合う領域でトラッキングしているときでも、以下の理由によりトラッキングエラーは生じない。光スポットがある程度のスポットサイズを有していることに加え、実際のトラッキングの際には光スポットがトラッキング方向に対して垂直ではなく緩やかな角度をなす方向に走査されるので、境界ピット領域をトラッキングした場合、光スポット内にいずれかの境界ピット部分が入ることになる。これにより、境界ピット領域から得られるラジアルプッシュプル信号は平均化され、グルーブとイングルーブピットのみ形成された光情報記録媒体に比べて、トラッキングの際のイングルーブピット領域とグルーブ領域との間のラジアルプッシュプル信号の乱れを抑制することができる。
【００６０】
比較例１
次に、上記実施例で作製した光情報記録媒体のラジアルプッシュプル信号出力と、従来のイングルーブピットを有する情報記録媒体のラジアルプッシュプル信号出力との比較結果を示す。図９（ａ）は、上記実施例で作製した光情報記録媒体の検出結果を示し、上段に、シーク時における光ピックアップの２分割ディテクタからの和信号ｓａの出力を、下段に、差信号（ラジアルプッシュプル信号）ｐｐａの出力を示している。図９（ｂ）は、従来のイングルーブピットを有する光情報記録媒体の検出結果を示し、上段に、シーク時における和信号ｓｂの出力を、下段に、差信号（ラジアルプッシュプル信号）ｐｐｂの出力を、それぞれ示している。図９（ａ）、図９（ｂ）共に、和信号ｓａ、ｓｂの振幅レベルが大きく変化したところ（図９（ａ）中、符号９ａ及び図９（ｂ）中、符号９ｂでそれぞれ表わされたところ）が、イングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部となる。図９（ａ）の符号９ａに対応する位置、即ち、上記実施例の光情報記録媒体における、イングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部では、下段に示す差信号（ラジアルプッシュプル信号）ｐｐａの乱れは殆ど見られない。一方、図９（ｂ）の符号９ｂに対応する位置、即ち、従来のイングルーブピットを有する光情報記録媒体における、イングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部では、下段に示す差信号（ラジアルプッシュプル信号）ｐｐｂの乱れが大きいことが確認できた。上述の通りＤＶＤ−Ｒ及びＤＶＤ−ＲＷではこのラジアルプッシュプル信号を利用してトラッキングを行っており、イングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部において、ラジアルプッシュプル信号の振幅のバランスが崩れる、即ち、振幅の中心がずれることにより、トラッキングエラーが生じ易くなる。
【００６１】
また、上記実施例で作製した光情報記録媒体では、グルーブ部におけるラジアルプッシュプル信号とイングルーブピット部におけるラジアルプッシュプル信号との間の変動量は、正常な状態におけるラジアルプッシュプル信号の振幅を１００％とした場合、３６％となる。ＤＶＤ−Ｒ規格では特に規定されていないが、ＤＶＤ−ＲＷ規格においては、グルーブ部におけるラジアルプッシュプル信号とプリピット部におけるラジアルプッシュプル信号の変動量は２０％以上と規定されている。したがって、上記実施例の光情報記録媒体は、十分この規格を満たしており、トラッキング外れ（トラッキングエラー）を起すことはない。これに対し、従来のイングルーブピットを有する光情報記録媒体では、上記変動量が１８〜２０％程度となる。したがって、従来のイングルーブピットを有する光情報記録媒体は、ＤＶＤ−ＲＷの規格の下限値又はそれを下回ることになり、トラッキング外れ（トラッキングエラー）が生じやすい。
【００６２】
上記実施例の光情報記録媒体では、基板としてポリカーボネートを用いたが、ポリメチルメタクリレートやアモルファスポリオレフィン等を用いてもよい。また、上記実施例の光情報記録媒体では、基板上に記録層、反射層の順に、各層を形成したが、まず、基板上のパターン形成面に反射層を形成し、次いでその反射層上に記録層を形成することにより、各層を形成しても構わない。このような層構成で光情報記録媒体を作製した場合においても、上記実施例と同様な効果を得ることができる。
【実施例２】
【００６３】
本発明における光情報記録媒体の別の実施例を、図１０を用いて説明する。本実施例における光情報記録媒体は、記録層として、金属材料としてテルル（Ｔｅ）を用いた以外は、実施例１と同様に構成した。この記録層は、ＡｇＩｎＳｂＴｅにより情報の記録及び再生が行われる。図１０に示すように、ランド及びグルーブ並びにイングルーブピットを形成した基板１’面上に記録層２’として、Ｔｅを含む金属材料を、スパッタ法を用いて厚さ１５ｎｍとなるように形成した。さらに、実施例１と同様にして、記録層２’上に、スパッタ法を用いて、Ａｇ合金を厚さ１６０ｎｍで形成した。これにより、反射層３’を得た。記録層２’の材料として、ＡｇＩｎＳｂＴｅを用いることにより、基板１’のパターン形成面上に積層される記録層２’の厚みｔｒ２は、場所によらずほぼ一定となる。また、記録層２’上に積層される反射層３’の厚みｔｒ３も、場所によらずほぼ一定となる。したがって、媒体の各領域における記録層及び反射層の厚みを把握することが容易となり、その情報に基づき、積層する層の厚みを制御することができる。これにより、光情報記録媒体において、より安定した層形成が可能となる。
【実施例３】
【００６４】
本発明の別の実施例を、図１１及び１２を用いて説明する。この実施例では、光情報記録媒体に用いる基板のグルーブ領域と境界ピット領域の間に、グルーブ領域におけるグルーブより幅の広いグルーブ（以下、境界グルーブという）を１トラック分形成した以外は、実施例１と同様に構成した。以下に、上記基板の作製に用いた原盤、スタンパ及び光情報記録媒体の作製方法について説明する。
【００６５】
本実施例では、実施例１と同様にして、レーザ光をガラス原盤上で移動させながら、ガラス原盤に照射するレーザ光の露光強度を、上記光変調器を用いて変化させる。本実施例では、図１１に示すように、レーザ光の露光強度を、低い方から順にレベル１、レベル２、レベル３、レベル４の４段階に変化させた。本実施例における各レベルの比は、レベル４を１００％とした場合、レベル３は９０％、レベル２は６０％、レベル１は５５％となるように設定した。図１１に示すように、第１及び第２グルーブ形成領域における露光強度は、レベル１に設定した。また、イングルーブピット形成領域における、イングルーブピット形成部分の露光強度はレベル４に、それ以外のグルーブ部分の露光強度は、レベル１に設定した。境界グルーブ形成領域のグルーブ形成部分の露光強度はレベル２に設定した。境界ピット形成領域におけるイングルーブピット形成部分の露光強度はレベル３に、それ以外のグルーブ部分の露光強度はレベル１に設定した。本実施例の光情報記録媒体では、境界グルーブを設けることにより、実施例１の場合に比べて境界ピットに形成されるピットを大きく形成しても、境界グルーブ領域から境界ピット領域にかけてのグルーブ幅の変化は緩やかとなるので、ラジアルプッシュプル信号のオフセットや乱れが生じにくくなる。これにより、境界ピットに形成されたイングルーブピットでも十分な変調度を得ることができる。したがって、境界ピットに形成されるイングルーブピットのパターンはダミー等のランダムパターンに限らず、ユーザ情報の記録信号パターンでもよい。これにより、原盤の境界ピット形成領域におけるイングルーブピット形成部分のパターンも、上記イングルーブピットに対応したパターンが形成される。
【００６６】
次に、フォトレジストが感光されたガラス原盤を、実施例１と同様にして現像処理を行い、残ったフォトレジストのパターンに従って、ガラス原盤をＲＩＥ装置等を用いてエッチングした。これにより、表面に所望の凹凸パターンを形成したガラス原盤を得た。なお、本実施例において、グルーブ形成部及び境界グルーブ形成部は、ガラス原盤表面から１７０ｎｍの深さまで、イングルーブピット形成部及び境界ピット形成部は、ガラス原盤表面から２６０ｎｍの深さまでエッチングした。また、境界グルーブ形成部はグルーブ形成部に比べて広く形成した。
【００６７】
また、本実施例では、実施例１と同様にして、露光中に露光強度を変化させる場合、露光強度を切り替える毎に一時的にレーザ光の露光強度を０レベルにする期間を設けた。さらに、本実施例では、イングルーブピット形成領域において、所定のピット長を有する各イングルーブピット形成部分の露光強度を以下のように制御しながら、原盤露光を行った。図１１に示すように、露光開始から１Ｔ〜１．５Ｔ（Ｔ：クロック周期）の間はレベル４で露光し、次いで、所定の間露光強度をレベル４に対し７０％のレベル（レベルＡ）に低下させて露光した。さらに、イングルーブピット形成部分の終了までの１Ｔ〜１．５Ｔの間、再びレベル４に露光強度を戻して露光した。これにより、各イングルーブピット形成部分の原盤半径方向の幅は、イングルーブピット形成部分のトラック方向における中間部付近で広がることが阻止される。なお、境界ピット形成領域におけるイングルーブピット形成部分の露光強度についても、同様に露光強度の制御を行ってもよい。
【００６８】
こうして得られた原盤を用いてスタンパを作製し、実施例１と同様にして射出成形法を用いて基板を作製した。次いで、図１２（ｂ）に示すように、実施例１と同様にして、記録層２、及び反射層３を形成した。得られた基板にダミー基板を光硬化性樹脂を介して貼付けすることにより、光情報記録媒体を得た。
【００６９】
こうして得られた光情報記録媒体について、実施例１と同様にして、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分、境界ピット領域７４の境界ピット部分、境界グルーブ領域７６のグルーブ部分、グルーブ領域７５のグルーブ部分の最大深さを、ディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。図１２（ｂ）に示すように、グルーブ部分の最大深さｄｇは、１７０ｎｍであった。境界グルーブ部分の最大深さｄｇｂは、１７０ｎｍであった。境界ピット部分の最大深さｄｐｂは、２６０ｎｍであった。イングルーブピット部分の最大深さｄｐは、２６０ｎｍであった。なお、グルーブ部分の最大深さｄｇ及びイングルーブピット部分の最大深さｄｐは、良好な信号変調度やジッター等の記録再生信号特性を得るために、１．４≦ｄｐ／ｄｇ≦１．７の条件を満たすことが望ましい。
【００７０】
また、ランド８０の表面を基準として、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分の半値幅Ｗｐ、境界ピット領域７４の境界ピット部分の半値幅Ｗｐｂ、境界グルーブ領域７６のグルーブ部分における半値幅Ｗｇｂ、グルーブ領域７５のグルーブ部分における半値幅Ｗｇを、それぞれディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。半値幅Ｗｇは３２０ｎｍ、半値幅Ｗｇｂは３３０ｎｍ、半値幅Ｗｐｂは３６０ｎｍ、半値幅Ｗｐは４００ｎｍであった。これより、Ｗｇ≦Ｗｇｂ≦Ｗｐｂ＜Ｗｐの関係が成り立つことが分かる。また、半値幅Ｗｐと半値幅Ｗｐｂとの比Ｗｐ／Ｗｐｂ＝１．１１であり、１．０５≦Ｗｐ／Ｗｐｂ≦１．１５の条件を満たすことが分かる。さらに、半値幅Ｗｇｂと半値幅Ｗｇとの比Ｗｇｂ／Ｗｇ＝１．０３であり、１．０３≦Ｗｇｂ／Ｗｇ≦１．１５の条件を満たすことが分かる。
【００７１】
また、本実施例で得られた光情報記録媒体においては、図１２（ａ）に示すように、前述のような露光スケジュールで露光した結果、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット７３ａのトラック方向中間部付近で基板半径方向の幅の広がりが抑制されている。これにより、イングルーブピットに隣接するランド部分７７においても十分な面積のランド面を確保することができる。よって、この光情報記録媒体から安定したラジアルプッシュプル信号を得ることができる。
【００７２】
さらに、イングルーブピット７３ａの幅の広がり抑制効果を調整するために、イングルーブピット領域７３において、最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの基板半径方向の幅及びそれよりも長いチャネルビット長を有するイングルーブピットの基板半径方向の幅を、それぞれディジタルインスツルメンツ社製走査型プローブ顕微鏡を用いて測定した。最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は０．３４μｍであった。また、チャネルビット長１１Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は、０．３８μｍであった。さらに、チャネルビット長１４Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は、０．４μｍであった。本発明者らによる実験から、最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの最大幅に対する最短チャネルビット長３Ｔよりも長いチャネルビット長を有するイングルーブピットの最大幅の割合は１１２〜１１８％の範囲内であり、最短チャネルビット長よりも長いイングルーブピットにおいて、基板半径方向の幅の広がりが抑制されていることが分かる。
【００７３】
さらに、実施例１と同様にして、得られた光情報記録媒体のイングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分、境界ピット領域７４の境界ピット部分、境界グルーブ領域７６及びグルーブ領域７５のグルーブ部分の記録層窪み深さを、ディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。図１２（ｂ）に示すように、イングルーブピット領域７３における記録層窪み深さＴｐは、１７０ｎｍであった。境界ピット領域７４における記録層窪み深さＴｐｂは、１３５ｎｍであった。境界グルーブ領域７６の記録層窪み深さＴｇｂは、１１０ｎｍであった。また、グルーブ領域７５の記録層窪み深さＴｇは、１００ｎｍであった。なお、記録層窪み深さＴｐ及び記録層窪み深さＴｇは、実施例１と同様、良好な信号変調度やジッタ−等の記録再生信号特性を得るために、１．６≦Ｔｐ／Ｔｇ≦２．０の条件を満たすことが望ましい。
【００７４】
また、境界ピット領域７４の記録層窪み深さＴｐｂと、イングルーブピット領域７３の記録層窪み深さＴｐと、境界グルーブ領域７６の記録層窪み深さＴｇｂと、グルーブ領域７５の記録層窪み深さＴｇとの関係は、上記各領域のグルーブ半値幅の関係から、Ｔｇ＜Ｔｇｂ＜Ｔｐｂ＜Ｔｐとなる。
【００７５】
上記実施例で得た光情報記録媒体を、波長６５０ｎｍのレーザ光及び開口数０．６のレンズを有する光ピックアップを用いて、イングルーブピット領域の記録信号の再生を行った。信号の検出及び再生は安定して行うことができ、また、このときの再生信号の信号変調度は６１％、ジッターは７．２％であり、いずれも良好な結果を得ることができた。
【実施例４】
【００７６】
本発明の更なる別の実施例を、図１３及び１４を用いて説明する。本実施例では、光情報記録媒体に用いる境界ピット領域を設けず、グルーブ領域とイングルーブピット形成領域との間に境界グルーブ領域のみ形成した以外は、実施例３と同様に構成した。以下、上記基板の作製に用いた原盤、スタンパ及び光情報記録媒体の作製方法について、説明する。
【００７７】
本実施例では、図１３に示すように、レーザ光の露光強度を、実施例３で用いた露光強度のうちレベル１、レベル２、レベル４の３段階のレベルを用いて原盤露光を行った。本実施例における各レベルの比は、実施例３と同様に、レベル４を１００％とした場合、レベル２は６０％、レベル１は５５％となるように設定した。図１３に示すように、第１及び第２グルーブ形成領域における露光強度は、レベル１に設定した。また、イングルーブピット形成領域における、イングルーブピット形成部分の露光強度はレベル４に、それ以外のグルーブ部分の露光強度は、レベル１に設定した。また、境界グルーブ形成領域のグルーブ形成部分の露光強度はレベル２に設定した。
【００７８】
次に、フォトレジストが感光されたガラス原盤を、実施例１と同様にして現像処理を行い、残ったフォトレジストのパターンに従って、ガラス原盤をＲＩＥ装置等を用いてエッチングした。これにより、表面に所望の凹凸パターンを形成したガラス原盤を得た。なお、本実施例において、グルーブ形成部及び境界グルーブ形成部は、ガラス原盤表面から１７０ｎｍの深さまで、イングルーブピット形成部は、ガラス原盤表面から２６０ｎｍの深さまでエッチングした。また、境界グルーブ形成部はグルーブ形成部に比べて広く形成した。
【００７９】
また、本実施例では、実施例３と同様にして、露光中に露光強度を変化させる場合、露光強度を切り替える毎に一時的にレーザ光の露光強度を０レベルにする期間を設けた。また、図１３に示すように、イングルーブピット形成領域において、所定のピット長を有する各イングルーブピット形成部分の露光強度を、実施例３と同様に制御して原盤露光を行った。
【００８０】
こうして得られた原盤を用いて、実施例３と同様にして射出成形法を用いて基板を作製した。次いで、図１４（ｂ）に示すように、実施例３と同様にして、記録層２、及び反射層３を形成した。得られた基板に、ダミー基板を光硬化性樹脂を介して貼付けすることにより光情報記録媒体を得た。
【００８１】
こうして得られた光情報記録媒体について、実施例３と同様にして、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分、境界グルーブ領域７６のグルーブ部分、グルーブ領域７５のグルーブ部分の最大深さを、ディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。図１４（ｂ）に示すように、グルーブ部分の最大深さｄｇは、１７０ｎｍであった。境界グルーブ部分の最大深さｄｇｂは、１７０ｎｍであった。イングルーブピット部分の最大深さｄｐは、２６０ｎｍであった。なお、グルーブ部分の最大深さｄｇ及びイングルーブピット部分の最大深さｄｐは、良好な信号変調度やジッター等の記録再生信号特性を得るために、１．４≦ｄｐ／ｄｇ≦１．７の条件を満たすことが望ましい。
【００８２】
また、ランド８０の表面を基準として、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分の半値幅Ｗｐ、境界グルーブ領域７６のグルーブ部分における半値幅Ｗｇｂ、グルーブ領域７５のグルーブ部分における半値幅Ｗｇを、それぞれディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。半値幅Ｗｇは３２０ｎｍ、半値幅Ｗｇｂは３５０ｎｍ、半値幅Ｗｐは４００ｎｍであった。これより、Ｗｇ＜Ｗｇｂ≦Ｗｐの関係が成り立つことが分かる。さらに、半値幅Ｗｇｂと半値幅Ｗｇとの比Ｗｇｂ／Ｗｇ＝１．０９であり、１．０５≦Ｗｇｂ／Ｗｇ≦１．１５の条件を満たすことが分かる。
【００８３】
また、図１４（ａ）に示すように、前述のような露光スケジュールで露光した結果、イングルーブピット領域７３のイングルーブピット７３ａのトラック方向中間部付近で基板半径方向の幅の広がりが抑制されている。これにより、イングルーブピットに隣接するランド部分７７’においても十分な面積のランド面を確保することができる。よって、この光情報記録媒体から安定したラジアルプッシュプル信号を得ることができる。
【００８４】
さらに、イングルーブピット７３ａの幅の広がり抑制効果を調整するために、イングルーブピット領域７３において、最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの基板半径方向の幅及びそれよりも長いチャネルビット長を有するイングルーブピットの基板半径方向の幅を、それぞれディジタルインスツルメンツ社製走査型プローブ顕微鏡を用いて測定した。最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は０．３４μｍであった。また、チャネルビット長１１Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は、０．３８μｍであった。さらに、チャネルビット長１４Ｔを有するイングルーブピットの最大幅は、０．４μｍであった。本発明者らによる実験から、最短チャネルビット長３Ｔを有するイングルーブピットの最大幅に対する最短チャネルビット長３Ｔよりも長いチャネルビット長を有するイングルーブピットの最大幅の割合は１００％〜１１８％の範囲内、好ましくは１１２〜１１８％の範囲内であり、最短チャネルビット長よりも長いイングルーブピットにおいて、基板半径方向の幅の広がりが抑制されていることが分かる。
【００８５】
また、実施例３と同様にして、得られた光情報記録媒体のイングルーブピット領域７３のイングルーブピット部分、境界グルーブ領域７６及びグルーブ領域７５のグルーブ部分の記録層窪み深さを、ディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。図１４（ｂ）に示すように、イングルーブピット領域７３における記録層窪み深さＴｐは、１７０ｎｍであった。境界グルーブ領域７６の記録層窪み深さＴｇｂは、１２０ｎｍであった。また、グルーブ領域７５の記録層窪み深さＴｇは、１００ｎｍであった。なお、記録層窪み深さＴｐ及び記録層窪み深さＴｇは、実施例１と同様、良好な信号変調度やジッタ−等の記録再生信号特性を得るために、１．６≦Ｔｐ／Ｔｇ≦２．０の条件を満たすことが望ましい。
【００８６】
また、イングルーブピット領域７３の記録層窪み深さＴｐと、境界グルーブ領域７６の記録層窪み深さＴｇｂと、グルーブ領域７５の記録層窪み深さＴｇとの関係は、上記各領域のグルーブ半値幅の関係から、Ｔｇ＜Ｔｇｂ＜Ｔｐとなる。
【００８７】
上記実施例で得た光情報記録媒体を、波長６５０ｎｍのレーザ光及び開口数０．６のレンズを有する光ピックアップを用いて、イングルーブピット領域の記録信号の再生を行った。信号の検出及び再生は安定して行うことができ、また、このときの再生信号の信号変調度は６１％、ジッターは７．２％であり、いずれも良好な結果を得ることができた。
【００８８】
実施例３及び４の原盤露光時に、イングルーブピット形成領域における所定のピット長を有するイングルーブピット形成部分の露光強度を、始めに第１の露光強度とし、次いで第１の露光強度よりも低い第２露光強度とし、さらに第１の露光強度に変更するように制御したが、実施例１及び２における原盤露光時においても、同様な露光強度制御を行ってもよい。
【実施例５】
【００８９】
本発明の第５の実施形態を、図１６〜１９を用いて説明する。本実施例における光情報記録媒体では、図１６に示すように、基板１のランド部分にランドプリピットＬＰＰがトラック方向に所定の間隔で形成されているとともに、境界グルーブ領域１７６を除くグルーブが基板の内周（内側）から外周（外側）に向かって連続的に深く且つ広くなるように形成され、また、ランドプリピットＬＰＰが基板の内周から外周に向かって連続的に深く且つ広く形成されている以外は、実施例３と同様に構成した。なお、ランドプリピットＬＰＰは、媒体の位置情報等を光情報記録媒体に予め記録しておくために用いられる。以下、上記基板の作製に用いた原盤、スタンパ及び光情報記録媒体の作製方法について、説明する。
【００９０】
図１７は、ガラス原盤のイングルーブピット形成領域付近のレーザ光の露光強度変化を示している。また、図１８は、ガラス原盤全体のレーザ光の露光強度変化を示している。本実施例では、図１７に示すように、レーザ光の露光強度を、実施例３で用いた露光強度レベル１、レベル２、レベル３及びレベル４の４段階のレベルを用いるとともに、図１８に示すように、レベル１、即ちグルーブレベルの露光強度をガラス原盤の内周から外周の方向に連続的に変化させて原盤露光を行った。本実施例における各レベルの比は、レベル４を１００％とした場合、レベル２は６０％、レベル３は９０％となるように設定した。また、レベル１は、図１８に示すように、ガラス原盤の露光開始位置（ガラス原盤中心から半径１９．０ｍｍの位置）では５５％、露光終了位置（ガラス原盤中心から半径５８．９ｍｍの位置）では６０％となるように連続的に変化させた。このように、グルーブレベルの露光強度を連続的に強くなるよう変化させることによって、グルーブに対応するパターンの幅がガラス原盤の内側から外側に向って連続的に広くなるように、ガラス原盤上にグルーブに対応するパターンを形成することができる。
【００９１】
また、図１７に示すように、第１及び第２グルーブ形成領域における露光強度は、それぞれレベル１に設定した。イングルーブピット形成領域における、イングルーブピット形成部分の露光強度はレベル４に、それ以外のグルーブ部分の露光強度は、レベル１に設定した。境界グルーブ形成領域のグルーブ形成部分の露光強度はレベル２に設定した。境界ピット形成領域におけるイングルーブピット形成部分の露光強度はレベル３に、それ以外のグルーブ部分の露光強度はレベル１に設定した。なお、本実施例においても、実施例３と同様にして、露光中に露光強度を変化させる場合、露光強度を切り替える毎に一時的にレーザ光の露光強度を０レベルにする期間を設けるとともに、イングルーブピット形成領域において、所定のピット長を有する各イングルーブピット形成部分の露光強度を一時的に低下させる（レベルＡにする）ように制御して原盤露光を行った。なお、本実施例においては、露光強度レベルＡの比を７５％とした。
【００９２】
また、不図示ではあるが、基板のランド上に形成されるランドプリピットに対応する部分（以下、ランドプリピット形成部分という）を露光する際には、ランドプリピットの深さが隣接するグルーブの深さと略同じとなり且つ基板の内周から外周に向かって溝幅が基板の内周から外周に向かって連続的に広くなるように、上記の露光強度の制御方法と同様にして、レーザ光の露光強度を調整した。なお、ランドプリピット形成部分は、グルーブ形成部分やイングルーブピット形成部分等の露光に用いるレーザ光とは別のレーザ光を用いて露光した。
【００９３】
次に、フォトレジストが感光されたガラス原盤を、実施例３と同様にして、現像処理を行い、残ったフォトレジストのパターンに従ってガラス原盤をＲＩＥ装置やアッシング装置を用いてエッチングした。これにより、表面に所望の凹凸パターンを形成したガラス原盤（不図示）を得た。なお、本実施例では、トラック方向には均一な深さであり、ガラス原盤の内周から外周に向かって連続的に深くなるような溝を形成するために、ＲＩＥ装置を以下のように制御した。
【００９４】
［ＲＩＥ装置の制御方法］
図１９にＲＩＥ装置の概略図を示す。ＲＩＥ装置２００は、主に密閉可能なチャンバ２０１、アノード２０３、カソード２０４、ＲＦ電源２０５、絶縁体部２０７、排気管２０９，２１０、ガス供給管２１１、冷却水供給管２１３，２１４で構成される。アノード２０３は、チャンバ２０１内の上方に、ガス供給管２１１及び冷却水供給管２１３とともに設置されている。カソード２０４は、チャンバ２０１内の下方に絶縁体部２０７を介して設置されており、カソード２０４の上面にエッチング対象の原盤が載置される。排気管２０９は、チャンバ２０１内の下面に、チャンバ２０１内と連通するように設けられている。排気管２１０は、チャンバ２０１の側壁にチャンバ２０１内と連通するように設けられており、排気管２１０の途中に設けたゲートバルブ２１５によりチャンバ２０１内の圧力調節を可能にする。
【００９５】
まず、ＲＩＥ装置２００のアノード２０３側に設置されている不図示のガス供給部からガス供給管２１１を介して所定量のプロセスガス（Ｃ２Ｆ６）がチャンバ２０１内に供給される。このとき、チャンバ２０１内の圧力が常に一定となるように、排気管２０９を介して余分なプロセスガスが排気される。チャンバ２０１内がプロセスガスで充填した状態でＲＦ電源２０５によってカソード２０４に電力を印加することにより、チャンバ２０１内がプラズマ状態となり、表面にパターニングされたフォトレジスト層が形成されたガラス原盤５０がエッチングされる。
【００９６】
一般にＲＩＥでは、チャンバ内のガスの流れが速い程エッチングレートが上がることが知られている。また、本発明者らは、ＲＩＥにおいてガス流量、圧力及び印加電力の条件を種々変更して検討した結果、原盤の内側と外側でそれぞれ形成される溝の深さに差を生じさせるためには、特にチャンバ内の圧力が大きく関係することが分かった。チャンバ内の圧力を高く設定するに従い、ＲＩＥ装置のチャンバ内を流れるガスの流量に内外差が生じる。これにより、チャンバ内の中央に近ければ近い程ガスの流量が少なく、即ち、ガスの流れが遅く、チャンバ内壁に近ければ近い程ガスの流量が多く、即ち、ガスの流れが速くなる。よって、ガラス原盤の外側に近い程エッチングレートが上がり、ガラス原盤の内側から外側に向かって連続的に深くなるような溝が形成される。
【００９７】
本実施例では、ＲＩＥ装置のガス流量と印加電力を固定とし、圧力のみを従来の圧力（条件１）を基準として、従来の２倍の圧力（条件２）、従来の４倍の圧力（条件３）、従来の８倍の圧力（条件４）及び従来の１６倍の圧力（条件５）となるように種々変更してガラス原盤をエッチングし、ガラス原盤に形成される溝深さの内外差を比較した。その結果を表１に示す。また、表１には各条件におけるプラズマの安定性についても合わせて示した。プラズマの安定性は、エッチング中にプラズマが明滅、放電等の有無を調べたものである。表中の「〇」は問題とならないレベルを、「×」は放電の安定性を欠いており再現性をもって原盤加工することが困難と思われるレベルを、「△」はその中間のレベルを、それぞれ示している。表１の結果より、チャンバー内の圧力を高く設定するにつれて原盤の内側と外側の溝深さの差は大きくなるが、それとともにチャンバー内のプラズマの安定性も悪化していることが分かる。プラズマの安定性を保った状態で一定量の溝深さの差を得るためには、チャンバー内を条件３の圧力、即ち、従来の４倍の圧力に設定することが好適である。これにより、１０ｎｍ程度の溝深さの内外差を得ることができる。
【００９８】
【表１】
0003655296.tif 000003
【００９９】
本実施例において、境界グルーブ形成部は、ガラス原盤表面から１７０ｎｍの深さまで、イングルーブピット形成部及び境界ピット形成部は、ガラス原盤表面から２５０ｎｍの深さまでエッチングした。また、グルーブ形成部は、ガラス原盤の内周部（半径２３．０ｍｍ）でガラス原盤表面から１６０ｎｍ、外周部（半径５８．７ｍｍ）で１７０ｎｍの深さまでエッチングした。さらに、ランドプリピット形成部分は、各ランドプリピット形成部分に隣接するグルーブ形成部の溝深さと同じとなるように、ガラス原盤の内周部でガラス原盤表面から１６０ｎｍ、ガラス原盤の外周部でガラス原盤表面から１７０ｎｍの深さまでエッチングした。
【０１００】
このとき、グルーブ形成部の深さ半値の溝幅はガラス原盤の内周部（半径２３．０ｍｍ）で３１０ｎｍ、外周部（半径５８．７ｍｍ）で３３０ｎｍであった。また、境界グルーブ形成部の深さ半値の溝幅は３３０ｍｍであり、隣接するグルーブ形成部の幅に比べて広く形成されている。さらに、ランドプリピット形成部分の幅はガラス原盤の内周部で１７０ｎｍ、外周部で２００ｎｍであった。このとき、内周部におけるランドプリピット形成部分のトラック方向長さ（ピット長さ）は１７０ｎｍ、外周部におけるランドプリピット形成部分のトラック方向長さ（ピット長さ）は２００ｎｍであった。
【０１０１】
こうして得られた原盤を用いて、実施例３と同様にして射出成形法を用いて基板を作製した。次いで、実施例３と同様にして、図１６（ｂ）に示すように、記録層２及び反射層３を形成した。得られた基板１に、ダミー基板を光硬化性樹脂を介して貼付けすることにより光情報記録媒体を得た。
【０１０２】
この光情報記録媒体について、イングルーブピット領域のイングルーブピット部分、境界ピット領域の境界ピット部分、境界グルーブ領域のグルーブ部分における基板表面（ランド表面）からの最大深さ、グルーブ領域の内周部（半径２３．０ｍｍ）及び外周部（半径５５．０ｍｍ）のグルーブ部分の基板表面からの最大深さ、並びに、内周部（半径２３．０ｍｍ）及び外周部（半径５５．０ｍｍ）のランドプリピットにおける基板表面からの最大深さを、ディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。内周部のグルーブ部分の最大深さｄｇｉは、１５５ｎｍであった。外周部のグルーブ部分の最大深さｄｇｏは、１６５ｎｍであった。最大深さｄｇｉと最大深さｄｇｏとの比ｄｇｏ／ｄｇｉ＝１．０６であり、１．００＜ｄｇｏ／ｄｇｉ≦１．１０の条件を満たすことが分かる。また、境界グルーブ部分の最大深さｄｇｂは、１５５ｎｍであった。境界ピット部分の最大深さｄｐｂは、２４５ｎｍであった。イングルーブピット部分の最大深さｄｐは、２４５ｎｍであった。なお、グルーブ部分の最大深さｄｇ（ｄｇｉ≦ｄｇ≦ｄｇｏ）及びイングルーブピット部分の最大深さｄｐは、良好な信号変調度やジッター等の記録再生信号特性を得るために、１．４≦ｄｐ／ｄｇ≦１．７の条件を満たすことが望ましい。また、内周部のランドプリピットの最大深さｄｌｐｉは、１５５ｎｍであり、外周部のランドプリピットの最大深さｄｌｐｏは、１６５ｎｍであった。それぞれ隣接するグルーブ部分の溝深さと略同じ深さであった。グルーブ部分及びランドプリピットともに、媒体の内周部に比べて外周部の方が溝が深く形成されていることが分かる。
【０１０３】
また、ランドの表面を基準として、イングルーブピット領域のイングルーブピット部分の半値幅Ｗｐ、境界ピット領域の境界ピット部分の半値幅Ｗｐｂ、境界グルーブ領域のグルーブ部分における半値幅Ｗｇｂ、グルーブ領域の内周部及び外周部におけるグルーブ部分における半値幅Ｗｇｉ及びＷｇｏ、並びに内周部（半径２３．０ｍｍ）及び外周部（半径５５．０ｍｍ）のランドプリピットにおける底部の幅Ｗｌｐｉ及びＷｌｐｏを、それぞれディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。半値幅Ｗｇｉは３２５ｎｍ、半値幅Ｗｇｏは３４５ｎｍ、半値幅Ｗｇｂは３４５ｎｍ、半値幅Ｗｐｂは３５０ｎｍ、半値幅Ｗｐは４００ｎｍであった。これより、Ｗｇｉ＜Ｗｇｏ≦Ｗｇｂ≦Ｗｐｂ＜Ｗｐの関係が成り立つことが分かる。また、半値幅Ｗｐと半値幅Ｗｐｂとの比Ｗｐ／Ｗｐｂ＝１．１４であり、１．０５≦Ｗｐ／Ｗｐｂ≦１．１５の条件を満たすことが分かる。さらに、半値幅Ｗｇｉと半値幅Ｗｇｏとの比Ｗｇｏ／Ｗｇｉ＝１．０６であり、１．０３≦Ｗｇｏ／Ｗｇｉ≦１．１０の条件を満たすことが分かる。また、底部の幅Ｗｌｐｉ及びＷｌｐｏは、それぞれ１８０ｎｍ、２００ｎｍであり、媒体の内周部に比べて外周部の方がランドプリピットの幅が広く形成されていることが分かる。
【０１０４】
また、本実施例で得られた光情報記録媒体では、前述のような露光スケジュールで露光した結果、図１６（ａ）に示すように、イングルーブピット領域１７３のイングルーブピット１７３ａのトラック方向中間部付近で基板半径方向の幅の広がりが抑制されている。これにより、イングルーブピットに隣接するランド部１７７の表面には、十分な面積のランド面が確保される。これにより、このランド１７７面上には、安定した形状のランドプリピットＬＰＰを形成することができる。よって、安定したラジアルプッシュプル信号を得ることができるとともに、ランドプリピットに記録されたデータを安定した状態で再生することができる。
【０１０５】
さらに、得られた光情報記録媒体のイングルーブピット領域１７３のイングルーブピット部分１７３ａ、境界ピット領域１７４の境界ピット部分１７４ａ、境界グルーブ領域１７６及びグルーブ領域１７５のグルーブ部分の記録層窪み深さ、並びにランドプリピットの記録層窪み深さを、ディジタルインスツルメンツ社製ＡＦＭを用いて測定した。図１６（ｂ）に示すように、イングルーブピット領域１７３における記録層窪み深さＴｐは、１７０ｎｍであった。境界ピット領域１７４における記録層窪み深さＴｐｂは、１３５ｎｍであった。境界グルーブ領域１７６の記録層窪み深さＴｇｂは、１１５ｎｍであった。また、グルーブ領域１７５の内周部（半径２３．０ｍｍ）の記録層窪み深さＴｇｉ及び外周部（半径５５．０ｍｍ）の記録層窪み深さＴｇｏは、いずれも１００ｎｍであった。なお、記録層窪み深さＴｐ及び記録層窪み深さＴｇ（＝Ｔｇｉ＝Ｔｇｏ）は、良好な信号変調度やジッタ−等の記録再生信号特性を得るために、１．６≦Ｔｐ／Ｔｇ≦２．０の条件を満たすことが望ましい。さらに、ランドプリピットＬＰＰの内周部（半径２３．０ｍｍ）の記録層窪み深さＴｌｐｉ及び外周部（半径５５．０ｍｍ）の記録層窪み深さＴｌｐｏは、いずれも１００ｎｍであった。
【０１０６】
また、境界ピット部分１７４ａの記録層窪み深さＴｐｂと、イングルーブピット部分１７３ａの記録層窪み深さＴｐと、境界グルーブ領域１７６の記録層窪み深さＴｇｂと、グルーブ領域１７５の内周部の記録層窪み深さＴｇｉ及び外周部の記録層窪み深さＴｇｏとの関係は、上記各領域の溝の半値幅の関係及びスピンコートにより形成された記録層膜厚の内外周差から、Ｔｇｉ＝Ｔｇｏ＜Ｔｇｂ＜Ｔｐｂ＜Ｔｐとなる。
【０１０７】
本実施例で得た光情報記録媒体を、波長６５０ｎｍのレーザ光及び開口数０．６のレンズを有する光ピックアップを用いて、イングルーブピット領域の記録信号の再生を行った。信号の検出及び再生は安定して行うことができ、また、このときの再生信号の信号変調度は６４〜６５％、ジッターは７．８〜７．５％程度に推移しており、いずれも良好な結果を得ることができた。また、媒体の記録再生領域における内外周の反射率変動は２％未満であり、上述の反射率変動に起因するプッシュプル信号の変動や記録再生信号の変調度変動を抑制することができた。
【０１０８】
比較例２
以下に、本実施例の光情報記録媒体（以下、媒体Ａという）と、光情報記録媒体の内周から外周に向かってグルーブの溝幅のみ連続的に広く形成した光情報記録媒体（以下、媒体Ｂという）と、媒体全体に亘ってグルーブの溝深さ及び溝幅がともに均一となるように形成した光情報記録媒体（以下、媒体Ｃという）についての各特性を比較した結果を表２に示す。表２から明らかなように、媒体Ｂ及びＣに比べて、光情報記録媒体のどの特性においても媒体Ａの内外周差（内周と外周との変動量）が小さい、即ち、媒体の半径位置によらず略均等な特性が得られることが分かる。
【０１０９】
【表２】
0003655296.tif 000004
【０１１０】
本実施例では、境界ピット及び境界グルーブの両方を形成した光情報記録媒体について説明したが、本実施例における光情報記録媒体の製造方法を境界ピットのみを形成した光情報記録媒体または境界グルーブのみを形成した光情報記録媒体に適用することも可能である。これにより、本実施例と同様に、媒体の内側と外側で均一な特性を有する光情報記録媒体を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
本発明の光情報記録媒体では、イングルーブピット領域とグルーブ領域との間に境界ピット領域を設けることにより、イングルーブピット領域とグルーブ領域との間で生じるトラッキングエラーを抑制することが可能となる。本発明の光情報記録媒体の製造方法は、本発明の光情報記録媒体を製造するのに有用である。
【０１１２】
グルーブ形成領域と境界ピット形成領域との間に幅広のグルーブ（境界グルーブ）を設けることにより、境界ピットの変調度を良好な状態に維持しつつ、良好なトラッキング特性を得ることができる。また、境界ピット形成領域に代えて境界グルーブのみを設けた場合においても、安定したサーボ制御を行うことができる。
【０１１３】
また、本発明におけるイングルーブピットが形成されるとともに有機色素材料からなる記録層が形成された光情報記録媒体では、媒体の内側（内周）から外側（外周）に向かってグルーブやランドプリピットが連続的に深く且つ広くなるように形成されている。これにより、グルーブ部分やランドプリピット部分に形成される記録層と反射層との界面高さが、それぞれ内外差を生じることなく一定となる。これにより、媒体の内周から外周に亘って安定したプッシュプル信号が得られるとともに、ランドプリピットに記録されたデータを安定して再生することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】（ａ）は、従来のイングルーブピットを有する光情報記録媒体の一部分を示した概略上面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図２】実施例１におけるガラス原盤の作製方法を説明した図である。
【図３】実施例１におけるガラス原盤に照射するレーザ光の露光強度の時間変化を示した図である。
【図４】（ａ）は、実施例１において、フォトレジスト露光・現像直後のガラス原盤の一部分を示した概略上面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ’−Ａ’線断面図である。
【図５】実施例１におけるガラス原盤の作製方法を説明した図である。
【図６】実施例１において得られた基板のパターン形成面の概略斜視図である。
【図７】実施例１において得られた基板の概略図である。
【図８】（ａ）は、実施例１における光情報記録媒体の、境界ピット領域付近の概略上面図を示し、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線断面を示した図である。
【図９】イングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部付近の和信号及び差信号（ラジアルプッシュプル信号）を示した図であり、（ａ）は、実施例１で作成した情報記録媒体の、それらの各信号を示した図であり、（ｂ）は、従来のイングルーブピットを有する情報記録媒体の、それらの各信号を示した図である。
【図１０】実施例２における光情報記録媒体のイングルーブピット領域とグルーブ領域との境界部付近の概略断面図である。
【図１１】実施例３におけるガラス原盤に照射するレーザ光の露光強度の時間変化を示した図である。
【図１２】（ａ）は、実施例３における光情報記録媒体の、境界ピット領域付近の概略上面図を示し、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ線断面を示した図である。
【図１３】実施例４におけるガラス原盤に照射するレーザ光の露光強度の時間変化を示した図である。
【図１４】（ａ）は、実施例４における光情報記録媒体の、境界ピット領域付近の概略上面図を示し、（ｂ）は（ａ）のＥ−Ｅ線断面を示した図である。
【図１５】グルーブ形成領域とイングルーブピット形成領域との境界部で起こるトラッキングエラーの発生原因について説明した図である。
【図１６】（ａ）は、実施例５における光情報記録媒体の、境界ピット領域付近の概略上面図を示し、（ｂ）は（ａ）のＦ−Ｆ線断面を示した図である。
【図１７】実施例５において、ガラス原盤に照射するレーザ光の、イングルーブピット形成領域付近の露光強度の時間変化を示した図である。
【図１８】実施例５において、ガラス原盤に照射するレーザ光の、ガラス原盤全体の露光強度の時間変化を示した図である。
【図１９】実施例５で用いたＲＩＥ装置の概略図である。
【符号の説明】
【０１１５】
１，１’，１０１  基板
２，２’，１０２  記録層
３，３’，１０３  反射層
４０  グルーブ形成部
４２  境界ピット形成部
４４  イングルーブピット形成部
５０  ガラス原盤
５２  フォトレジスト
７１，７５  グルーブ領域
７３  イングルーブピット領域
７２，７４  境界ピット領域
１０１ａ  ランド面
１０５  グルーブ
１０７  イングルーブピット
ｓａ，ｓｂ  和信号
ｐｐａ，ｐｐｂ  差信号（ラジアルプッシュプル信号）
ＡＸ  中心軸
ＡＸ  中心軸
【図１】
0003655296.tif 000005
【図２】
0003655296.tif 000006
【図３】
0003655296.tif 000007
【図４】
0003655296.tif 000008
【図５】
0003655296.tif 000009
【図６】
0003655296.tif 000010
【図７】
0003655296.tif 000011
【図８】
0003655296.tif 000012
【図９】
0003655296.tif 000013
【図１０】
0003655296.tif 000014
【図１１】
0003655296.tif 000015
【図１２】
0003655296.tif 000016
【図１３】
0003655296.tif 000017
【図１４】
0003655296.tif 000018
【図１５】
0003655296.tif 000019
【図１６】
0003655296.tif 000020
【図１７】
0003655296.tif 000021
【図１８】
0003655296.tif 000022
【図１９】
0003655296.tif 000023