(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に塗装したフッ素樹脂を焼成後に剥がして薄膜を得る薄膜製造方法において、
未改質フッ素樹脂を結晶融点以上に加熱するとともに放射線を照射して得られた改質フッ素樹脂粉末を、前記フッ素樹脂に混合して混合物とし、該混合物をチタン金属基材の表面に塗装して、塗装膜を形成するステップと、
前記チタン金属基材の表面に形成された前記塗装膜を焼成するステップと、
前記焼成された塗装膜を、前記チタン金属基材の表面から剥離して、薄膜を得るステップから構成されることを特徴とする薄膜製造方法。
【請求項２】
前記塗装膜を形成するステップは、
前記チタン金属基材の形状として、平板状のチタン金属基材、円筒状のチタン金属基材、あるいはエンドレスベルト状のチタン金属基材の表面に、前記混合物を塗装して、前記塗装膜を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜製造方法。
【請求項３】
前記塗装膜を形成するステップは、
前記チタン金属基材の表面に、前記混合物を、浸漬法、スプレーコーティング法、あるいはロールコート法によって塗装して、塗装膜を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１あるいは請求項２に記載の薄膜製造方法。
【請求項４】
前記塗装膜を形成するステップは、
前記塗装膜を形成する前記混合物における配合割合が、塗装膜全体に対して、フッ素樹脂９５〜５０重量％、改質フッ素樹脂粉末５〜５０重量％の範囲の中から選定して得られる混合物を塗装して、前記塗装膜を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の薄膜製造方法。
【請求項５】
前記塗装膜を形成するステップは、
未改質フッ素樹脂を結晶融点以上に加熱するとともに、酸素濃度１３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件下で、前記未改質フッ素樹脂に放射線を照射して得られた改質フッ素樹脂粉末を、前記フッ素樹脂に混合して混合物とし、該混合物をチタン金属基材の表面に塗装して、前記塗装膜を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の薄膜製造方法。
【請求項６】
前記塗装膜を形成するステップは、
未改質フッ素樹脂を結晶融点以上に加熱するとともに、水素、フッ素、あるいはフッ素化合物の中から選ばれた少なくとも１種の改質剤の存在下あるいは前記選ばれた少なくとも１種の改質剤と接触させた状態で、かつ、酸素濃度１３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件下で、前記未改質フッ素樹脂に放射線を照射して得られた改質フッ素樹脂粉末を、前記フッ素樹脂に混合して混合物とし、該混合物をチタン金属基材の表面に塗装して、前記塗装膜を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の薄膜製造方法。
【請求項７】
前記塗装膜を形成するステップは、
前記未改質フッ素樹脂として、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、テトラフルオロエチレンーパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、エチレンーテトラフルオロエチレン共重合樹脂、あるいはテトラフルオロエチレンーヘキサフルオロプロピレン共重合樹脂の中から選ばれた少なくとも１つの樹脂を用いることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の薄膜製造方法。
【請求項８】
前記焼成した塗装膜を、前記チタン金属基材の表面から剥離して薄膜を得るステップは、
薄膜の形状として、平板状の薄膜、円筒状の薄膜、あるいはエンドレスベルト状の薄膜を得るステップを含むことを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の薄膜製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基材に塗装したフッ素樹脂を焼成後に剥がして薄膜を得る薄膜製造方法、特に、表面粗さが小さくて、機械的および化学的強度に優れた薄膜が要求される使用分野、例えば複写機の薄膜のような複写の高速化、むらの少ない定着画像、あるいは光沢性に優れた画像のフルカラー化などに対応可能な薄膜を得る薄膜製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、機械的および化学的強度を有する薄膜製造方法としては、例えば、アルミ板基材の被塗布面に、未改質フッ素樹脂を、浸漬法、スプレーコーティング法、ロールコート法などによって塗装した後、未改質フッ素樹脂を樹脂の融点以上の温度で焼成して薄膜を得ることが知られている。
【０００３】
また、融点以上に加熱された未改質フッ素樹脂に、酸素濃度１．３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件で電離性放射線を照射して、熱安定性に富む改質フッ素樹脂を得る方法が特開２０００―１９１８１１号公報に開示されている。
【０００４】
一方、薄膜技術の製品分野においては、近年、耐摩耗性と定着性に優れた薄膜が求められている。例えば、複写機などの画像形成装置では、複写の高速化、あるいは画像のフルカラー化などへの移行が進み、従来のトナーよりも低融点のトナーが用いられるようになり、これに伴って複写機のシームレスベルトは、表面にフッ素樹脂層を形成したシームレスベルトが使用される傾向にある。薄膜の表面粗さも、画像のむらや光沢に影響を与えるため、表面粗さの小さいシームレスベルトが求められている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の薄膜製造方法によると、アルミ板基材の表面に、未改質フッ素樹脂の塗装膜を、浸漬法、スプレーコーティング法、あるいはロールコート法などを用いて塗装した後、未改質フッ素樹脂を焼成しているため、焼成後の薄膜をアルミ板基材より剥がすときに、剥離しにくいという問題があり、このため剥離後の薄膜の表面が粗く仕上がるという大きな課題があった。
また、未改質フッ素樹脂を焼成して得た表面仕上がりの粗い薄膜を、例えば、複写機のシームレスベルトに用いると、複写の高速化によってシームレスベルトへの負荷が高まるとともに、複写機のシームレスベルトが比較的高い温度（１３０〜２００℃）で用いられるため、その温度でベルト全体が軟化して、表面に形成したフッ素樹脂層の摩耗が進み、シームレスベルトの耐摩耗性が不十分となり耐久性が減少するという問題があった。
さらに、シームレスベルトの表面粗さが大きいと、画像形成装置の画像のむらや光沢に影響を与え、しかも、複写の高速化と画像のフルカラー化のために採用された低融点のトナーが、比較的高い温度のシームレスベルト表面に付着し易くなって、複写物とベルトの離型性を悪くさせてオフセット現象が多発するという問題があった。
【０００６】
このように、薄膜の使用分野である複写機のような画像形成装置のシームレスベルトをみても、フツ素樹脂の薄膜の製造に当たっては、薄膜の表面粗さを小さく仕上げることが求められ、しかも、熱安定性、耐摩耗性の特性を改良した薄膜の製造方法が強く望まれている状況にある。
【０００７】
それ故、本発明の目的は、焼成後の薄膜の剥離が容易で、薄膜の表面仕上がり粗さが小さく、優れた熱安定性と耐摩耗性を共に備え、使用時の離型性の良い薄膜製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上記の目的を達成するため、基材に塗装したフッ素樹脂を焼成後に剥がして薄膜を得る薄膜製造方法において、
未改質フッ素樹脂を結晶融点以上に加熱するとともに放射線を照射して得られた改質フッ素樹脂粉末を、前記フッ素樹脂に混合して混合物とし、該混合物をチタン金属基材の表面に塗装して、塗装膜を形成するステップと、
前記チタン金属基材の表面に形成された前記塗装膜を焼成するステップと、
前記焼成された塗装膜を、前記チタン金属基材の表面から剥離して、薄膜を得るステップから構成されることを特徴とする薄膜製造方法を提供する。
【０００９】
前記塗装膜を形成するステップは、前記チタン金属基材の形状として、平板状のチタン金属基材、円筒状のチタン金属基材、あるいはエンドレスベルト状のチタン金属基材の表面に、前記混合物を塗装して、前記塗装膜を形成するステップを含むことができる。
また、前記塗装膜を形成するステップは、前記チタン金属基材の表面に、前記混合物を、浸漬法、スプレーコーティング法、あるいはロールコート法によって塗装して、塗装膜を形成するステップを含むこともできる。
【００１０】
前記塗装膜を形成するステップは、前記塗装膜を形成する前記混合物における配合割合が、塗装膜全体に対して、フッ素樹脂９５〜５０重量％、改質フッ素樹脂粉末５〜５０重量％の範囲の中から選定して得られる混合物を塗装して、前記塗装膜を形成するステップを含むことができる。
また、前記塗装膜を形成するステップは、未改質フッ素樹脂を結晶融点以上に加熱するとともに、酸素濃度１３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件下で、前記未改質フッ素樹脂に放射線を照射して得られた改質フッ素樹脂粉末を、前記フッ素樹脂に混合して混合物とし、該混合物をチタン金属基材の表面に塗装して、前記塗装膜を形成するステップを含むこともできる。
更に、前記塗装膜を形成するステップは、未改質フッ素樹脂を結晶融点以上に加熱するとともに、水素、フッ素、あるいはフッ素化合物の中から選ばれた少なくとも１種の改質剤の存在下あるいは前記選ばれた少なくとも１種の改質剤と接触させた状態で、かつ、酸素濃度１３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件下で、前記未改質フッ素樹脂に放射線を照射して得られた改質フッ素樹脂粉末を、前記フッ素樹脂に混合して混合物とし、該混合物をチタン金属基材の表面に塗装して、前記塗装膜を形成するステップを含むこともできる。
【００１１】
前記塗装膜を形成するステップは、前記未改質フッ素樹脂として、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、テトラフルオロエチレンーパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、エチレンーテトラフルオロエチレン共重合樹脂、あるいはテトラフルオロエチレンーヘキサフルオロプロピレン共重合樹脂の中から選ばれた少なくとも１つの樹脂を用いることができる。
また、前記焼成した塗装膜を、前記チタン金属基材の表面から剥離して薄膜を得るステップは、薄膜の形状として、平板状の薄膜、円筒状の薄膜、あるいはエンドレスベルト状の薄膜を得るステップを含むことができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施の形態による薄膜製造方法により得られた平板状薄膜の斜視図を示している。
図１においては、平板状のチタン金属基材（図示省略）の表面に、未改質フッ素樹脂に放射線を照射して得た改質フッ素樹脂粉末を、フッ素樹脂に混合して得られた混合物を塗装して平板状の塗装膜を形成し、この塗装膜を３６０℃で焼成したのち、焼成された塗装膜をチタン金属基材の表面から剥離することにより、平板状の薄膜１を得ることができる。なお、平板状の塗装膜を形成する場合、プライマー層を設けることにより２層以上の薄膜フィルムとすることができる。
【００１３】
図２は、本発明の実施の形態による薄膜製造方法により得られた円筒状薄膜の斜視図を示している。
図２においては、未改質フッ素樹脂に放射線を照射して得た改質フッ素樹脂粉末を、フッ素樹脂に混合して得られる混合物を、円筒状のチタン金属基材（図示省略）の円筒内部表面に塗装して、円筒状の塗装膜を形成し、この塗装膜を３６０℃で焼成したのち、円筒内部の表面から焼成された円筒状の塗装膜を剥離することにより、円筒状の薄膜２を得ることができる。円筒状の薄膜２は、例えば複写機のシームレスベルトなどに使用される。
【００１４】
本発明の実施の形態においては、基材に塗装したフッ素樹脂を焼成後に剥がして薄膜を製造する場合、樹脂を塗布する基材としてチタン金属基材を用い、樹脂としてフッ素樹脂に改質フッ素樹脂を混合して得られる混合物、特に、未改質フッ素樹脂に放射線を照射して得た改質フッ素樹脂粉末をフッ素樹脂に混合して得られる混合物を用いることにより、混合物をチタン金属基材に塗布して形成した塗装膜を焼成すると、極めて表面粗さの小さい薄膜が得られるという相乗効果があることを見い出したものである。また、フッ素樹脂に改質フッ素樹脂を混合した混合物を塗布して形成した塗装膜を焼成すると、優れた耐摩耗性と優れた熱安定性を備えた薄膜が得られる。
【００１５】
本発明の実施の形態によると、表面粗さの小さなチタン金属面にフッ素樹脂と改質フッ素樹脂の混合物の塗膜を形成したのち焼成しているから、従来のアルミ板表面に、未改質フッ素樹脂素材そのままを塗布して焼成する薄膜製造方法と比較して、チタン金属面から薄膜を剥がすのが容易であり、表面粗さの極めて小さな薄膜の焼成が実現される。
【００１６】
本発明の実施の形態において、塗装膜を形成する場合のチタン金属基材の形状としては、平板状のチタン金属基材、円筒状のチタン金属基材、あるいはエンドレスベルト状のチタン金属基材などが用いられ、それらチタン金属基材の表面に、フッ素樹脂と改質フッ素樹脂の混合物を塗装して塗装膜を形成する。
【００１７】
本発明の実施の形態において、チタン金属基材の表面に、フッ素樹脂と改質フッ素樹脂の混合物を、塗装して塗装膜を形成する場合の塗装方法としては、浸漬法、スプレーコーティング法、あるいはロールコート法などによって塗装して塗装膜を形成する。
【００１８】
本発明の実施の形態において、チタン金属基材の表面に、フッ素樹脂と改質フッ素樹脂の混合物を塗装して塗装膜を形成する場合、混合物の改質フッ素樹脂粉末とフッ素樹脂の配合割合は、塗膜全体に対して、フッ素樹脂９５〜５０重量％、改質フッ素樹脂粉末５〜５０重量％の範囲の混合物にすると、耐摩耗性、耐久性を向上させることができる。
【００１９】
本発明の実施の形態において、チタン金属基材の表面に、フッ素樹脂と改質フッ素樹脂の混合物を塗装して塗装膜を形成する場合、改質フッ素樹脂の原料として未改質フッ素樹脂が使用される。
このため、原料の未改質フッ素樹脂は、結晶融点以上に加熱するとともに、原料の未改質フッ素樹脂に放射線を照射して、改質フッ素樹脂を得ている。
また、原料の未改質フッ素樹脂は、結晶融点以上に加熱するとともに、酸素濃度１３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件下で、原料の未改質フッ素樹脂に放射線を照射して、改質フッ素樹脂を得ることができる。
このように、放射線の照射のみで改質されて得た改質フッ素樹脂粉末は、フッ素樹脂に混合して混合物としたのち、塗装して塗装膜を形成することができる。
【００２０】
本発明の実施の形態においては、原料の未改質フッ素樹脂を改質するために、未改質フッ素樹脂を結晶融点以上に加熱するとともに、水素、フッ素、あるいはフッ素化合物の中から選ばれた少なくとも１種の改質剤の存在下、あるいは選ばれた少なくとも１種の改質剤と接触させた状態で、しかも、酸素濃度１３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件下で、原料の未改質フッ素樹脂に放射線を照射して、改質フッ素樹脂を得ることができる。この改質フッ素樹脂粉末は、フッ素樹脂に混合して混合物とし、塗装膜を形成する。
【００２１】
さらに、本発明の実施の形態において、原料の未改質フッ素樹脂を改質するに際しては、未改質フッ素樹脂を結晶融点以上に加熱するとともに、酸素濃度１３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件下で、原料の未改質フッ素樹脂に放射線を照射した後に、水素、フッ素、あるいはフッ素化合物の中から選ばれた少なくとも１種の改質剤の存在下、あるいは選ばれた少なくとも１種の改質剤と接触させることによっても、改質フッ素樹脂を得ることができる。
このように、放射線の照射後に、改質剤の存在下の雰囲気あるいは改質剤と接触させることによって得た改質された改質フッ素樹脂粉末は、フッ素樹脂に混合して混合物としたのち、塗装して塗装膜を形成できる。
【００２２】
本発明の実施の形態において、原料の未改質フッ素樹脂を改質するに際し、酸素濃度１３ｋＰａ以下、吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件で、融点以上に加熱された未改質フッ素樹脂に放射線を照射することにより、照射により発生したラジカルなどの活性端部を消滅させることなく、効率的に架橋反応を起こさせることができる。また、改質剤を併用すると、照射架橋時に生じる未反応あるいは残存不飽和結合に改質剤が付加反応することにより、熱安定性に優れた改質フッ素樹脂粉末が得られる。
【００２３】
本発明の実施の形態において、放射線を照射して得られた改質フッ素樹脂は、架橋反応の処理をしたり、さらには残存不飽和結合へ改質剤が反応したりすることによって、原料の未改質フッ素樹脂よりも、高温での熱融着や熱軟化を起こしにくくなって耐熱性に優れる。また、改質フッ素樹脂粉末は、フッ素樹脂に混合したとき同じフッ素樹脂系統なので、塗膜への分散性あるいは樹脂塗装膜とした場合の密着性に優れるという利点がある。
【００２４】
本発明の実施の形態において、チタン金属基材の表面に、フッ素樹脂と改質フッ素樹脂の混合物を塗装して塗装膜を形成する場合、混合物の改質フッ素樹脂の改質前の原料には、未改質フッ素樹脂が素材として使用される。
改質前の未改質フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン樹脂（ＰＴＦＥと略称）、テトラフルオロエチレンーパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂（ＰＦＡと略称）、エチレンーテトラフルオロエチレン共重合樹脂（ＥＴＦＥと略称）、あるいはテトラフルオロエチレンーヘキサフルオロプロピレン共重合樹脂（ＦＥＰと略称）の中から選ばれた少なくとも１つの未改質フッ素樹脂が使用される。
これら未改質フッ素樹脂の素材は、改質されて改質フッ素樹脂粉末としたのち、フッ素樹脂と混合して混合物と成し、塗装して塗装膜を形成する。
【００２５】
本発明の実施の形態において、フッ素樹脂と改質フッ素樹脂の混合物を塗装して塗装膜を形成する場合の塗膜は、フッ素樹脂塗膜に未改質フッ素樹脂の粉末を配合するか、あるいはフッ素樹脂の溶液または分散液に改質フッ素樹脂粉末を配合して塗料を得る。改質フッ素樹脂粉末を形成するための未改質フッ素樹脂の粉末としては、ＰＴＦＥ、ＰＦＥ、ＦＥＰを単独であるいは混合体として用いることができる。これらのうち、ＰＴＦＥは、特に架橋後の熱融着や熱軟化を起こしにくく耐熱性に優れるため好まれる。
【００２６】
本発明の実施の形態において、改質フッ素樹脂粉末が配合される未改質フッ素樹脂の溶液または分散液は、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、ＥＴＦＥ、ＦＥＰの単独あるいは混合体を、溶液に溶解または分散させて得ることができる。これらの中でも、塗膜形成時の観点からは、溶融流動性に優れ、連続塗膜が生成し易いＰＦＡ、ＥＴＦＥ、ＦＥＰの単独あるいは混合体が好まれる。
【００２７】
本発明の実施の形態において、未改質フッ素樹脂への放射線の照射に使用できる放射線としては、未改質フッ素樹脂を架橋反応させることができる放射線、例えば、電離作用をもつ電離性放射線が好ましい。具体的には、γ線、電子線、Ｘ線、中性子線、あるいは高エネルギーイオン等が挙げられる。
【００２８】
本発明の実施の形態において、電離性放射線の照射を行なうに際しては、未改質フッ素樹脂を、その結晶融点以上に加熱しておくことが好ましい。例えば、未改質フッ素樹脂としてＰＴＦＥを使用する場合には、ＰＴＦＥの結晶融点である３２７℃よりも高い温度にＰＴＦＥを加熱した状態で電離性放射線を照射することが好ましく、また、ＰＦＡやＦＥＰを使用する場合には、前者が３１０℃で、後者が２７５℃に特定される融点よりも高い温度に加熱して照射する。
未改質フッ素樹脂をその融点以上に加熱することは、フッ素樹脂を構成する主鎖の分子運動を活発化させることになり、その結果、分子間の架橋反応を効率よく促進させることが可能となる。ただし、過度の加熱は、逆に分子主鎖の切断と分解とを招くようになるので、このような解重合現象の発生を抑制する意味合いから、加熱温度はフッ素樹指の結晶融点よりも１０〜３０℃高い範囲内に抑えることが望まれる。
【００２９】
本発明の実施の形態において、電離性放射線の照射条件は、酸素濃度１３ｋＰａ以下、好ましくは１．３ｋＰａ以下の不活性ガス雰囲気下で、未改質フッ素樹脂の吸収線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの条件が望まれる。酸素濃度１３ｋＰａを超えると、放射線照射によって生じたラジカル等が消費されて架橋反応が進まなくなる。また、吸収線量１ｋＧｙ未満の場合は、架橋反応が生じにくくなり、１０ＭＧｙを超えると、樹脂の伸び等の著しい低下を招くため好ましくない。
【００３０】
本発明の実施の形態において、未改質フッ素樹脂への放射線の照射中、あるいは照射後に用いられる改質剤は、水素（Ｈ２）、フッ素（Ｆ２）、フッ素化合物、またはこれらの混合物である。このうち、フッ素化合物としては、ＣＩＦ３、ＢｒＦ３、ＳＦ４、ＣＦ３ＣＯＣＦ３、ＣＦ３ＣＨＯ、ＣＦ４、ＮＦ３、ＳｉＦ４、Ｃ３Ｆ６等が挙げられる。
【００３１】
本発明の実施の形態において、未改質フッ素樹脂への放射線の照射中、あるいは照射後に用いられる改質剤の濃度は、２６６Ｐａ以上とすることが好ましく、２６６Ｐａ未満では高温での熱安定性を付与する効果が少なくなる。上限は特に規定しないが、安全上から１０１．３ｋＰａ以下が望ましい。
【００３２】
本発明の実施の形態において、焼成した塗装膜は、チタン金属基材の表面から剥離して薄膜を得るものであり、薄膜の形状としては、平板状の薄膜、円筒状の薄膜、あるいはエンドレスベルト状の薄膜などを得ることができる。
【００３３】
本発明の薄膜製造方法の実施の形態により得られた薄膜は、熱安定性と耐摩耗性などの耐久性に優れ、しかも、表面粗さの小さな薄膜は離型性に優れているから、例えば、複写の高速化や画像のフルカラー化に対応することができるようになり、複写機、プリンター、ファクシミリなどの電子写真方式を利用した画像形成装置の熱定着装置、搬送ベルト、回転伝達用ベルト等の用途に最適である。
【００３４】
【実施例】
（実施例）
塗装膜を形成する基材は、チタン金属箔を準備した。
テトラフルオロエチレンーパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂（三井・デュポンフロロケミカル社製：ＰＦＡ：ＥＮ５１０ＣＬ（高分子量タイプ））と改質ポリテトラフルオロエチレン樹脂粉末（日立電線社製：改質ＰＴＦＥ粉末の製品略号：ＸＦＯ）を、樹脂全量に対して各々１００〜４０重量％と０〜６０重量％の範囲で配合して、チタン金属箔の表面に、スプレーコートによる塗装膜を形成し、３６０℃で５０分間焼成した後、金型から剥離して、表１に示す実施例１〜実施例５の薄膜を得た。なお、比較のために、比較例１〜比較例２の薄膜を得た。薄膜の厚さは４０〜８０μｍであった。
【００３５】
得られた実施例１〜実施例５、および比較例１〜比較例２の薄膜について、薄膜を、ＳＵＳ３０４製のリングに接着し、リングオンディスク試験により、それぞれ評価した。試験条件は、速度が１０．８ｍ／ｍｉｎ、測定温度が２５℃、荷重が９８０Ｎ、測定時間が３０分である。
表１は、測定した表面粗さ・相対摩耗量の評価結果を示している。
【００３６】
【表１】
0003672022.tif 000002
【００３７】
（実施例の評価結果）
表１の評価結果によると、改質フッ素樹脂粉末（ＸＦＯ）の配合割合は、フッ素樹脂塗膜全体に対して、５〜５０重量％の範囲が好ましいことが判る。改質フッ素樹脂粉末（ＸＦＯ）の配合割合が５重量％未満であると、耐摩耗性、耐久性が向上しない。また、改質フッ素樹脂粉末（ＸＦＯ）の配合割合が５０重量％を超えると、相対摩耗量の評価結果が落ちることが判った。
【００３８】
（比較例）
塗装膜を形成する基材は、アルミ金属箔を準備した。
テトラフルオロエチレンーパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂（三井・デュポンフロロケミカル社製：ＰＦＡ：ＥＮ５１０ＣＬ（高分子量タイプ））と改質ポリテトラフルオロエチレン樹脂粉末（日立電線社製：改質ＰＴＦＥ粉末の製品略号：ＸＦＯ）を、樹脂全量に対して各々１００〜４０重量％と０〜６０重量％の範囲で配合して、アルミ金属箔の表面に、静電粉体塗装法による塗装膜を形成し、３６０℃で５０分間焼成した後、金型から剥離して、表２に示す比較例３〜比較例８の薄膜を得た。薄膜の厚さは４０〜８０μｍであった。
【００３９】
（比較例の評価結果）
得られた比較例３〜比較例８の薄膜について、実施例と同―の試験条件によりそれぞれ評価した。
表２は、測定した表面粗さ・相対摩耗量の評価結果を示している。
表２の評価結果によると、塗装膜を形成する基材としてアルミ金属箔を使用しているために、表面粗さが大きくなることが判る。薄膜の表面粗さが大きいと定着画像に悪い影響を与える。
【００４０】
【表２】
0003672022.tif 000003
【００４１】
【発明の効果】
本発明の薄膜製造方法によると、基材としてチタン金属基材を使用し、塗装膜として未改質フッ素樹脂に放射線を照射して得た改質フッ素樹脂粉末をフッ素樹脂に混合した混合物を用いて塗装膜を形成し、その後に塗装膜を焼成して薄膜を形成しているから、チタン金属基材と改質フッ素樹脂粉末をフッ素樹脂に混合した混合物との相乗作用によって、焼成後に行うチタン金属基材からの薄膜の剥離作業が容易であり、薄膜の表面仕上がり粗さも小さい平滑な薄膜が得られるという効果がある。
また、本発明の薄膜製造方法に用いられる改質フッ素樹脂は、放射線の照射、あるいは放射線の照射と改質剤の併用により改質された架橋改質フッ素樹脂粉末を混合した混合物の塗装膜を焼成して薄膜を形成しているから、機械的および化学的強度に優れた焼成薄膜を提供できる。
【００４２】
この結果、本発明の薄膜製造方法により得られた薄膜は、表面粗さが小さく優れた熱安定性と耐摩耗性を有しているから、例えば、画像形成装置としての複写機のシームレスベルトなどに使用すると、定着画像のむらがなく、光沢性に優れた画像が得られる。しかも、使用時には、比較的高い温度に耐えるため、複写物と薄膜との離型性が良くなり、複写の高速化や画像のフルカラー化などに対応できる薄膜を提供できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態による薄膜製造方法により得られた平板状の薄膜を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態による薄膜製造方法により得られた円筒状の薄膜を示す斜視図である。
【符号の説明】
１  平板状薄膜
２  円筒状薄膜
【図１】
0003672022.tif 000004
【図２】
0003672022.tif 000005