(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一枚のウエハ上に、フォトレジスト膜をスピンコーティングにより形成する工程を含み、電磁変換部および外部導体接続用のパッド部を含む薄膜磁気ヘッド要素を複数個マトリックス状に整列した状態に形成し、保護膜をその上に形成する薄膜磁気ヘッド要素集合体の製造方法において、
前記薄膜磁気ヘッド要素を列方向および行方向に複数個配列し、
各薄膜磁気ヘッド要素の対応するパッド部をそれぞれ列方向に向けて同一方向に導出し、
各列に属する薄膜磁気ヘッド要素を、各列にて、その電磁変換部の中心間隔が等しくなるように整列し、
１列おいた列に属する相隣る２個づつの薄膜磁気ヘッド要素の電磁変換部の中心が矩形を形成するようにし、その面心位置に、中間の列の薄膜磁気ヘッド要素の電磁変換部の中心を配置し、
その面心位置からみて、相互に隣接する列に属する薄膜磁気ヘッド要素間における電磁変換部の中心間隔を等しくすることを特徴とする薄膜磁気ヘッド要素集合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、一枚のウエハ上に多数の薄膜磁気ヘッド要素が整列状態に形成された薄膜磁気ヘッド要素集合体に関するものである。さらに詳しくは、このような薄膜磁気ヘッド要素集合体において、各要素の電磁変換部とそれに隣接する要素の電磁変換部の間隔が各電磁変換部において実質的に等しくなるように、各要素を配置することにより、特に上部磁性膜を形成するためのホトリソグラフィー工程において、ホトレジストの塗布厚さを均一化できるようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】
薄膜磁気ヘッドの製造に当たっては、セラミック構造体からなるウエハ上に多数個の薄膜磁気ヘッド素子を整列状態に形成した薄膜磁気ヘッド集合体を製造し、この集合体を切断加工して、薄膜磁気ヘッド要素の単体を備えたスライダを製造する方法が採用されている。
【０００３】
薄膜磁気ヘッドとしては、例えば図３に示す浮上型薄膜磁気ヘッドが知られている。薄膜磁気ヘッド１は、セラミック構造体からなるスライダ２の媒体対向面側に、間隔を置いて２本のレール部２０１、２０２が形成され、レール部２０１、２０２の表面を硬度の平面度を有する浮上面２０３、２０４とすると共に、レール部２０１の空気流出方向ａの端部２０５に薄膜磁気ヘッド要素３が形成されている。この薄膜磁気ヘッド要素３は、電磁変換部３Ａと、ここから導出されている二本の外部導体接続用のパッド部３Ｂ、３Ｃを備えている。
【０００４】
図４には、上記の薄膜磁気ヘッド要素３の電磁変換部３Ａの一般的な構成例を示してある。この薄膜磁気ヘッド要素３は集積回路製造技術を用いて形成された薄膜素子である。この図において、３１はパーマロイ等からなる下部磁性膜、３２は絶縁ギャップ層、３３、３４は導体コイル膜、３５から３７はホトレジスト等により形成した層間絶縁膜、３８は上部磁性膜である。薄膜磁気ヘッド要素３の導体コイル膜３３、３４は、保護膜４の表面に形成された外部導体接続用のパッド部３Ｂ、３Ｃに導通接続されている。薄膜磁気ヘッド要素としては、この構成の面内記録再生用の他に、垂直記録再生用のものも知られている。
【０００５】
上記構成の薄膜磁気ヘッドは、多数個の薄膜磁気ヘッド要素３をウエハ上に形成した後に、これを切断加工することによって製造している。すなわち、図５に示すように、スライダとなるウエハ５の上に薄膜磁気ヘッド要素３を整列して担持させ、各薄膜磁気ヘッド要素のパッド部（３Ｂ、３Ｃ）をウエハ５上の保護膜４の表面に導出させて、薄膜磁気ヘッド要素集合体６を製造する。各薄膜磁気ヘッド要素３はマトリックス状態に配列されている。
【０００６】
ウエハ５から薄膜磁気ヘッド１を取り出すには、先ず、列Ｈ１からＨｎのそれぞれの間に設定された切断位置（Ｘ１−Ｘ１からＸｎ−Ｘｎ）でウエハ５を切断して、図６に示すような一列状の薄膜磁気ヘッド要素集合体１Ａを切り出す。この図６には、切断位置（Ｘ４−Ｘ４）と切断位置（Ｘ５−Ｘ５）で切断された列Ｈ４の薄膜磁気ヘッド集合体１Ａを示している。この後、切り出された薄膜磁気ヘッド要素集合体１Ａに対し研磨加工等を施した後に、これを切断位置Ｙ１からＹｎで切断して、個々の薄膜磁気ヘッド１を得る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のように薄膜磁気ヘッド要素を配列した薄膜磁気ヘッド要素集合体においては次のような問題点がある。図７を参照して説明すると、従来のように各薄膜磁気ヘッド要素３をマトリックス状態に整列した場合には、隣接する各要素３における電磁変換部３Ａ相互間の距離が列方向（Ｘ方向）とそれに直交する行方向（Ｙ方向）とでは異なっている。今、図において要素３（３）を例に挙げて説明すると、列方向に隣接する要素３（２）、３（４）の電磁変換部３（２）Ａ、３（４）Ａとの中心間距離ｂ、ｄは相互に等しく充分な間隔となっている。これに対して、行方向に隣接する要素３（５）、３（６）の電磁変換部３（５）Ａ、３（６）Ａとの中心間距離ａ、ｃは狭くなっている。
【０００８】
このような方向によって電磁変換部の間隔が異なると、要素３の上部磁性膜などを形成するプロセスにおいてホトレジスト膜をスピンコーティングする場合に、行方向と列方向とでは、段差部分等におけるレジスト膜の流動抵抗が異なってしまい、均一な厚さのレジスト膜を形成することが困難になる。レジスト膜の厚さを均一にできないと、所望のパターニングを行うことができないという問題が発生する。本発明の課題はこのような従来の問題点を解消することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）の本発明により達成される。
（１）  一枚のウエハ上に、フォトレジスト膜をスピンコーティングにより形成する工程を含み、電磁変換部および外部導体接続用のパッド部を含む薄膜磁気ヘッド要素を複数個マトリックス状に整列した状態に形成し、保護膜をその上に形成する薄膜磁気ヘッド要素集合体の製造方法において、
前記薄膜磁気ヘッド要素を列方向および行方向に複数個配列し、
各薄膜磁気ヘッド要素の対応するパッド部をそれぞれ列方向に向けて同一方向に導出し、
各列に属する薄膜磁気ヘッド要素を、各列にて、その電磁変換部の中心間隔が等しくなるように整列し、
１列おいた列に属する相隣る２個づつの薄膜磁気ヘッド要素の電磁変換部の中心が矩形を形成するようにし、その面心位置に、中間の列の薄膜磁気ヘッド要素の電磁変換部の中心を配置し、
その面心位置からみて、相互に隣接する列に属する薄膜磁気ヘッド要素間における電磁変換部の中心間隔を等しくすることを特徴とする薄膜磁気ヘッド要素集合体の製造方法。
【００１０】
【作用】
このようにウエハ５上に各薄膜磁気ヘッド要素３を配列した場合には、薄膜磁気ヘッド要素の上部磁性膜等を形成するためのホトレジスト膜の塗布工程等において、ホトレジスト膜の流動抵抗がウエハ上の各方向において実質的に均一化することができる。
【００１１】
【実施例】
上記の課題を解決するために、本発明では、一枚のウエハの表面に多数の薄膜磁気ヘッド要素を整列して形成した薄膜磁気ヘッド要素集合体において、各薄膜磁気ヘッド要素を次のような状態にウエハ上に配列するようにしている。
【００１２】
図１および図２に示すように、一枚のウエハ５の表面に多数の薄膜磁気ヘッド要素３（ｍ，ｎ）を整列して形成した薄膜磁気ヘッド要素集合体１において、各薄膜磁気ヘッド要素３（ｍ，ｎ）のパッド部３Ｂ、３Ｃを薄膜磁気ヘッド要素の配列方向Ｘに向けて同一方向に導出すると共に、相互に隣接する列に属する隣接薄膜磁気ヘッド要素間における電磁変換部３Ａの中心間距離ａ、ｂ、ｃ、ｄが実質的に等しくなるようにしている。
【００１３】
隣接する電磁変換部３Ａ相互の中心間隔が等しくなるようにするためには、図２から分かるように、各薄膜磁気ヘッド要素３（ｍ，ｎ）を行方向Ｙにおいて千鳥状となるように配列すればよい。例えば、列Ｈ２に属する薄膜ヘッド要素３（２，３）を中心にして説明すると、これに隣接する異なる列に属する要素は、列Ｈ１に属する要素３（１，２）、３（１，３）および列Ｈ３に属する要素３（３，２）、３（３，３）である。薄膜磁気ヘッド要素３（２，３）の電磁変換部３Ａの中心から、これらの各要素３（１，２）、３（３，２）、３（３，３）および３（１，３）の各電磁変換部の中心までの距離ａ、ｂ、ｃおよびｄが等しくなるように、隣接する列間において各要素を千鳥状に配列する。
【００１４】
以上説明した実施例においては、記録および再生を１つの電磁変換部で行う磁気ヘッドの例について説明したが、最近、再生用としてＭＲ素子を用いたインダクティブ−ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッドの使用が提案されている。本発明は、このようなインダクティブ−ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッドへももちろん適用可能である。この場合、インダクティブをＭＲの両者の素子から１組ずつパッド部が導出しているが、それぞれのパッド部を構成する２本のリードは、電磁変換部を通る中心線を中央にして左右に振り分けられた構造とされるのが通常である。
【００１５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の薄膜磁気ヘッド要素集合体においては、各薄膜磁気ヘッド要素のパッド部を薄膜磁気ヘッド要素の配列方向に向けて同一方向に導出すると共に、相互に隣接する列に属する隣接薄膜磁気ヘッド要素間における電磁変換部の中心間距離が実質的に等しくなるようにしている。したがって、本発明によれば、各要素の薄膜形成工程におけるホトレジストの塗布厚を各部分において均一化でき、したがって、磁気特性の安定した薄膜磁気ヘッド集合体を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る薄膜磁気ヘッド要素集合体を模式的に示す斜視図である。
【図２】図１の薄膜磁気ヘッド要素集合体の薄膜磁気ヘッド要素の配列を示す部分拡大平面図である。
【図３】一般的な構成の薄膜磁気ヘッド要素を示す斜視図である。
【図４】図３の薄膜磁気ヘッドの電磁変換部を示す部分拡大断面図である。
【図５】従来の薄膜磁気ヘッド要素集合体を模式的に示す斜視図である。
【図６】図５の薄膜磁気ヘッド要素集合体から一列の薄膜磁気ヘッド集合体を切り出した状態を示す斜視図である。
【図７】図５の薄膜磁気ヘッド要素集合体の薄膜磁気ヘッド要素の配列を示す説明図である。
【符号の説明】
１  …  薄膜磁気ヘッド要素集合体
３（ｍ，ｎ）  …  薄膜磁気ヘッド要素
３ａ  …  電磁変換部
３Ｂ、３Ｃ  …  パッド部
５  …  ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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