(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下面を多点で支持して回路基板の供給側流れを形成するための供給用流れ形成手段と、
前記供給側流れ形成の前記回路基板をその上端部分を把持して鉛直方向に吊り下げるための吊下手段と、
前記供給用流れ形成手段に支持されている前記回路基板を渡して前記吊下手段が受け取るように受け渡すための受渡手段と、
前記吊下手段を昇降させて前記回路基板をレジスト液に液浸するための昇降手段と、
前記受渡手段と前記昇降手段とは機械的に独立している
回路基板のレジスト膜形成装置において、
前記受渡手段は、前記回路基板を鉛直方向に姿勢を変換するための供給側姿勢変換部（Ｂ）を備えており、
前記供給側姿勢変換部（Ｂ）は、前記回路基板の姿勢を９０度変換するものであり、１組４体の挟持手段（１２）を備え、
前記１組４体の挟持手段（１２）は、それぞれ、位相送り回転軸（１３）に放射方向に向くように結合され、
前記位相送り回転軸（１３）は、モータ（１０）により９０度単位で一方方向に回転し、
前記１体の挟持手段（１２）は、対向する２体のローラ支持アーム（１４）と多数の挟持ローラ（１５）とから形成され、前記２体のローラ支持アーム（１４）にはその対向側に、概ね平行な対向面（１６）が形成され、
前記対向面（１６）に前記供給用流れ形成手段から送られてくる前記回路基板を受け入れて前記回路基板の姿勢を変換する
ことを特徴とする回路基板のレジスト膜形成装置。
【請求項２】
下面を多点で支持して回路基板の供給側流れを形成するための供給用流れ形成手段と、
前記供給側流れ形成の前記回路基板をその上端部分を把持して鉛直方向に吊り下げるための吊下手段と、
前記供給用流れ形成手段に支持されている前記回路基板を渡して前記吊下手段が受け取るように受け渡すための受渡手段と、
前記吊下手段を昇降させて前記回路基板をレジスト液に液浸するための昇降手段と、
前記液浸後の回路基板を乾燥部へ移送するための移送手段とからなり、
前記昇降手段と前記移送手段とは機械的に独立している
回路基板のレジスト膜形成装置において、
前記受渡手段と前記昇降手段との間に配置される供給側基板受渡部（Ｄ）であって、
前記回路基板のレジスト膜形成装置の本体板（８１）に、転置用回転アーム（８６）が同体に取りつけられている転置用回転軸（８５）が回転自在に支持され、前記転置用回転アーム（８６）の自由端部に自転可能に自転吊体（８７）が取りつけられて支持され、
前記自転吊体（８７）の重心は、前記自転吊体（８７）の自転軸（８８）よりも下方にあり、前記自転吊体（８７）は、重力により常時鉛直方向に向いており、
前記自転吊体（８７）の上端面は、転置用凹面（８９）が形成され、前記転置用凹面（８９）に、前記回路基板を把持する吊下手段（４０）の吊下用棒状体（４１）が載置され、
前記転置用回転アーム（８６）は、転置用サーボモータ（８２）により間欠的に１回転することができ、
前記吊下手段（４０）は、前記転置用回転アーム（８６）が１回転する間に前記自転吊体（８７）によりすくい取られて回転して前記昇降手段側に送る
ことを特徴とする回路基板のレジスト膜形成装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記供給側基板受渡部（Ｄ）は、複数個の前記吊下手段（４０）をフック手段（６９）に搭載するための歩進機構（９５）を含み、
前記歩進機構（９５）は、
前記本体板（８１）に前方延長部（８１ａ）を有し、
前記前方延長部（８１ａ）に、第１従動プーリ（９６）、第２従動プーリ（９７）が回転自在に取りつけられ、前記第１従動プーリ（９６）と前記第２従動プーリ（９７）と歩進用サーボモータ（８３）の出力軸と連動し、
前記第１従動プーリ（９６）と前記第２従動プーリ（９７）には、４節リンク機構の２本の平行等長のリンクが同体に取りつけられて、
前記リンクの自由端に歩進板（１１１）が回転自在に取りつけられて、前記歩進板（１１１）の任意の位置は、個別な中心点を中心に円運動して、
前記歩進板（１１１）を並進的に回転駆動する駆動中心線（１１２，１１３）は、前記第１従動プーリ（９６）及び前記第２従動プーリ（９７）の回転軸心線に一致し、
前記歩進板（１１１）の上端面は、波状の駆動側歩進用凹凸面（１１４）に形成され、
前記回路基板を把持した前記吊下手段（４０）の吊下用棒状体（４１）が前記転置用回転アーム（８６）の回転により前記フック手段（６９）の凹凸面（７４）に載置され、
前記転置用回転アーム（８６）の回転時には、同時に並進的に１回転する前記歩進板（１１１）の前記駆動側歩進用凹凸面（１１４）の傾斜面に押されて順次歩進させて、前記フック手段（６９）に複数の吊下用棒状体（４１）が載置される
ことを特徴とする回路基板のレジスト膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、レジスト膜を回路基板に形成する回路基板のレジスト膜形成装置に関する。更に詳しくは、レジスト膜を回路基板に形成する装置の全体が自動化される回路基板のレジスト膜形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
回路基板の製造工程は、絶縁基板に形成された電極層にレジスト層を形成する工程を含んでいる。集積密度が高密度化するにしたがって、レジスト層の厚さの均一化が要求される。そのような高密度化とともに回路基板の多層化も要求されている。このように立体的に多層化したものの全体を薄くするためには、回路基板そのものを薄くすることが求められている。
【０００３】
絶縁基板としては、ガラス、エポキシ樹脂が用いられている。絶縁基板を薄くするとともに必要な機械強度を保証するためには、エポキシ樹脂が絶縁基板として適している。
【０００４】
一方、回路基板の製造方法は、量産に適していなければならない。量産手段である自動化装置として、絶縁基板を吊るして搬送する搬送途中でレジスト液に液浸する装置が知られている。この公知装置は、循環するチェーンに把持手段が多数設けられ、その把持手段に回路基板の上方部分が把持されている。このような装置の吊り方式は、従来、写真フィルムの自動現像装置として知られていた。即ち、従来から、チェーンの循環路の一部が降下し、降下した把持手段に把持された回路基板又は写真フィルムがレジスト液又は現像液に液浸するように構成された装置が知られている。
【０００５】
レジスト液の膜厚の均質化は、基板の昇降速度、液の希釈度、液の温度などに依存することは知られていたが、薄い基板を前記した従来装置に適用すると、膜厚の均質性能が予想外に低下することは知られていなかった。膜厚の均質性能の低下の原因は、薄い基板例えば０．０６ｍｍのエポキシ樹脂を従来装置により吊るして移動させた場合に、ぺらぺらな（フロッピーな）基板が搬送機械系の振動によりゆらゆら揺れ、レジスト液が基板表面近傍で乱流状態となって膜形成の均質化が乱され、更に、レジスト液が重力方向と異なる不規則な方向に紆余曲折して基板面を流下するためであろうと推定される。
【０００６】
回路基板の薄層化にともなって、レジスト膜のより一層の均一な薄層化が要求されることになる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような技術的背景に基づいてなされたものであり、下記のような目的を達成する。
【０００８】
本発明の目的は、レジスト膜のより一層の均一な薄層化を可能にする回路基板のレジスト膜形成装置を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、レジスト膜のより一層の均一な薄層化を可能にするとともに処理工程の前後の搬送工程を含めて自動化するのの適した回路基板のレジスト膜形成装置を提供することにある。
【００１０】
本発明の更に他の目的は、レジスト膜のより一層の均一な薄層化を可能にするとともに自動装置の低廉化にも対応できる回路基板のレジスト膜形成装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような課題を解決するために、次のような手段が採用されている。本発明による回路基板のレジスト膜形成装置及びその方法の全体構成は、２系統の搬送手段を含む。２系統の搬送手段は、基板を把持して吊り下げる吊下手段を循環搬送させる循環搬送手段と基板を一方方向に搬送する基板搬送手段とである。回路基板をレジスト液に液浸する処理部では、循環搬送手段と基板搬送手段が合流している。処理部の昇降駆動系と処理部の前後の搬送系の駆動系が独立している。即ち、処理部の搬送系は、その前後の循環搬送系及びその前後の基板搬送系から独立して断続している。この断続は、メカ的・物理的な断続である。即ち、処理部の可動部分と処理部の前後の可動部分とは、機械的に連結されていない。循環する吊下手段は、処理部で回路基板であるワークを把持して鉛直面内に吊り下げる。
【００１３】
液浸処理部で昇降する回路基板には、前後の搬送系の振動が伝達されず、回路基板は静かに昇降する。このため、回路基板に波状の揺れが生じず回路基板面近傍でレジスト液の乱流が生じないから、レジスト液の希釈度が一定に維持される。レジスト液は、静かに鉛直方向に基板面上を流下し、不規則な方向即ち水平方向に向く不規則な流れが生じないので、流下するレジスト液の液層が均一な厚みを有し、波状・凹凸状のレジスト層が形成されにくい。
【００１４】
回路基板は、液浸処理部に向かって、一枚一枚が連続流れを形成する。この流れは、処理部に回路基板をバッチ式に供給するための供給用流れを形成する。一枚ずつの回路基板は、下面を多点で支持され液浸処理部に向かうように搬送される。このような供給側搬送手段は、前後に並ぶ多数の搬送用ローラにより形成されうる。
【００１５】
概ね水平方向に搬送され供給される回路基板は、概ね鉛直方向に姿勢を変更される。鉛直方向に向いた回路基板の上方部分が、把持手段により把持され鉛直上方に搬送される。液浸処理のための処理部には、処理用の昇降手段が設けられている。処理用昇降手段に水平方向の搬送機能を備えさせると好都合である。この場合、処理用昇降手段は、Ｚ−Ｘ軸移動手段又はＺ−Ｘ軸ロボットとして形成される。
【００１６】
姿勢変更手段と処理用昇降手段とは、それらのそれぞれの駆動系が独立している。即ち、チェーンのような連続した伝達機構により両駆動系が接続されてはいない。処理部の前後の搬送系から独立し処理部の昇降運動には、その前後の搬送系の振動、押し合いなどの運動状態が伝達されない。したがって、処理部の昇降運動は、前後の搬送系の運動状態から独立しており、静かな昇降が可能である。
【００１７】
このような静かな昇降運動は、昇降体の案内手段により行われる。このような案内手段としては、リニアベアリングが好適である。リニアベアリングに限られず、ベルトに一体の昇降体を案内レールで案内する手段も好適である。処理部の前後の搬送系は、水平送りの搬送系、水平送りの搬送系から処理部の昇降手段の昇降体に移し変える受渡手段を含む。
【００１８】
受渡手段により受け渡される手段は、回路基板を鉛直方向に吊るす吊下手段である。回路基板は、吊下手段により吊り下げられる。吊り下げられた回路基板の表裏面は、重力作用により自然に概ね鉛直面に形成される。薄くてぺらぺらの回路基板の表裏面は、特に、鉛直面に近づく。このように鉛直面に近づく作用は、写真フィルムの現像工程でよく知られている。
【００１９】
好ましい昇降手段の昇降体は、その上面が複数の凹凸面に形成されている。この凹凸面の凹面部に、吊下手段の両端部分が載置される。好ましい吊下手段は、円柱状の棒状体とこの棒状体の２箇所に取りつけられている把持手段とから形成されている。把持手段は、閉じる方向に常時付勢された把持指を備えている。この棒状体の両端部分が、昇降体の凹面部に載置される。凹面部は、例えば１つの昇降体に１０部が設けられている。把持手段は、１０体が処理部でバッチ式に昇降する。乾燥部でもその１０体がバッチ式に搬送されることが装置のシンプル化のために好ましい。バッチ式に処理される１０体の１群が連続的に処理される。
【００２０】
把持手段は、循環搬送手段により搬送される。循環搬送手段は、往路循環搬送手段と復路循環搬送手段とから形成されている。往路循環搬送手段は、往路降下搬送路、往路上昇搬送路、往路受渡搬送路、処理部降下搬送路、処理部上昇搬送路、乾燥供給側基板受渡部部搬送路から構成されている。復路循環搬送手段は、復路降下搬送路、復路上昇搬送路、復路受渡搬送路、送返搬送路から構成されている。往路循環搬送手段と復路循環搬送手段とは、往路受渡搬送路及び復路受渡搬送路のところで断続している。この断続は、搬送路としては連続であるが機械的には断続していることを意味している。折返搬送路は、循環する無端チェーンで形成することができる。処理部上昇搬送路と乾燥部搬送路とを断続させることにも意義がある。
【００２１】
供給側連続流れ路と鏡面対称に取出側連続流れ路が形成されている。供給側連続流れ路と処理部昇降体との間の供給側基板受渡手段は、回転機構として構成されている。この回転式基板受渡手段はもう１つが、取出側基板受渡手段として取出側にも鏡面対称に設けられている。処理部上昇搬送路と供給側基板受渡手段を断続させることにも意義がある。処理部上昇搬送路と取出側基板受渡手段を断続させることにも意義がある。
【００２２】
乾燥部搬送路には、処理部の昇降体と同形の凹凸波面を有する乾燥部搬送体が複数体設けられている。この搬送体は、搬送方向のその位置で、昇降自在である。この搬送体とウオーキングビームとの組み合わせにより、１０体の把持手段が１群として尺取り虫的に前進搬送される。
【００２３】
姿勢変換手段は、挟持ローラの多数組により形成された挟持手段とこの挟持手段を９０度ごとに回転させる回転手段とから構成されている。この姿勢変換手段も、供給側と取出側で鏡面対称に設けられている。基板は、エポキシ樹脂フィルムであり、０．０６ｍｍのものの実用化が求められている。本発明による搬送系は、平面状態の０．０６ｍｍのものの曲がりが生じないように構成されている。吊り下げたまま回路基板を処理部で昇降させ次いで乾燥部で吊り下げたまま移送するから、平面状態の０．０６ｍｍのものの曲がりが生じない移送が可能である。
【００２４】
液浸された基板は、レジスト液から脱出する際に、即ち液切れが起こる直前に、上昇速度が遅くなり、例えば完全停止する。この停止期間中に、レジスト液面と基板の下端縁との間に形成されるメニスカスがかなりの速度で一方から他方へ見か上走行する。この場合に特に、基板は静かに停止又はゆっくりした速度で上昇する必要がある。前後の搬送系から独立している処理部の昇降体は、静かに上昇する。
【００２５】
姿勢変換のための駆動系と下降のための駆動系とを機械的に独立にすること、上昇のための駆動系と移送のための駆動系とを機械的に独立にすることは、それぞれに効果的である。両独立系を同時に形成することは、更に効果的である。受渡手段と昇降手段とを機械的に独立に形成することも効果的である。即ち、液切れ直前で処理部の昇降手段を除く全ての搬送系から独立させることが、もっとも好ましい。
【００２６】
吊下手段は、棒状体と把持手段とから形成されている。棒状体は、円柱状ロッドであることが好ましい。把持手段は、棒状体の中心線よりも偏った位置にあり、吊下手段は、重力により一定の姿勢を維持する。即ち、把持され吊り下げられた回路基板は、鉛直面内で安定している。液浸して浮力が働いても、把持手段が重心を下げているから、液中でも回路基板は鉛直向きに安定する。
【００２７】
【発明の効果】
この発明による回路基板のレジスト膜形成装置及びその方法は、前後の搬送路から断続した処理部の昇降体が静かに昇降し、特に静かに上昇するから、基板の振動・揺らぎがなく、均質な厚さのレジスト層が形成される。特に、液切れ直前で静止させられる基板の振動・揺らぎがないから、メニスカスの走行が安定し、基板の下端部分のレジスト層の膜厚の均一化の点で特に威力を発揮することができる。更に、自動装置化をシンプルに行うことができ、生産コストの低廉化に応じることができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本発明による回路基板のレジスト膜形成装置及びその方法の実施形態の全体構成を示している。図２は、その全体構成を内に含むケーシング構成を示している。図１に示すように、その全体構成は、２系統の搬送手段を含む。２系統の搬送手段は、基板を把持する吊下手段を循環搬送させる循環搬送手段と基板を一方方向に搬送する基板搬送手段とである。
【００２９】
基板搬送手段が形成する基板搬送系は、基板供給部Ａ、供給側姿勢変換部Ｂ、供給側上昇搬送部Ｃ、供給側基板受渡部Ｄ、処理部搬送部Ｅ、乾燥部Ｆ、取出側基板受渡部Ｇ、取出側基板下降部Ｈ、取出側姿勢変換部Ｉ、基板取出部Ｊから構成されている。
【００３０】
循環搬送手段は、往路受渡部Ｋ、往路下降部Ｌ、供給側上昇搬送部Ｃに一致する往路上昇部Ｍ、共通する処理部搬送部Ｅ、共通する乾燥部Ｆ、取出側基板下降部Ｈに一致する復路下降部Ｎ、復路上昇部Ｏ、復路受渡部Ｐ、折返部Ｑから構成されている。
【００３１】
図２に示すように、ケーシング構成は、基板供給部Ａに対応する供給部ケーシング１、処理部搬送部Ｅに対応する処理部ケーシング２、乾燥部Ｆに対応する乾燥部ケーシング３、基板取出部Ｊに対応する取出部ケーシング４、折返部Ｑに対応する折返部ケーシング５等から形成されている。
【００３２】
これらケーシングは、床６上に装置される全自動装置系を化粧している。床６は、地面上に浮かされて固定されている。レジスト液をオーバーフロー式に溜めているレジスト液タンク７が、処理部に設けられている。以下、各部ごとに説明する。
【００３３】
（基板供給部Ａ）
基板供給部搬送系である基板供給部Ａには、図３に示すように、搬送方向ａに直交する軸心線を有する回転軸８が多数本同一平面上に回転自在に設けられている。回転軸８のそれぞれの回転軸心線は、互いに平行である。各回転軸８は、等間隔に多数のゴム製ローラ９を備えている。各回転軸８は、同一平面に外接して、その同一平面が供給部搬送面を形成している。
【００３４】
回転軸８の一端部には、それぞれに動力伝達用の歯車が取りつけられている。歯車は、ベベルギア（図示せず）に噛み合っている。各ベベルギアは、いずれも共通の回転駆動源１１により同期的に駆動される。全てのローラ９は、同一直径を有し、同一の周速度で回転する。
【００３５】
搬送面上の回路基板（図示せず）は、多数のローラにより多点で支持される。薄い回路基板の表裏面は平面を形成して、概ね、水平面上で直進し回転しないように搬送される。搬送面は、幅がもっとも長い回路基板を受容することができる。複数の回路基板が連続して基板供給部Ａ上で搬送され連続流れを形成する。
【００３６】
（供給側姿勢変換部Ｂ）
図４は、供給側姿勢変換部Ｂを示している。供給側姿勢変換部Ｂは、基板の姿勢を９０度変更する搬送系を形成している。搬送路としては基板供給部Ａに連続して形成されている。供給側姿勢変換部Ｂは、図５に示すように、１組４体の挟持手段１２を３組分備えている。
【００３７】
１組４体の挟持手段１２は、それぞれにその１体が図６に示すように、位相送り回転軸１３に放射方向に向くように結合されている。位相送り回転軸１３は、モータ１０（図５）により９０度単位で一方方向に回転する。９０度単位の回転制御は、マイクロフォトセンサ（図示せず）により行われる。
【００３８】
１体の挟持手段１２は、図６に示すように、対向する２体のローラ支持アーム１４と多数の挟持ローラ１５とから形成されている。２体のローラ支持アーム１４にはその対向側に、概ね平行な対向面１６が形成されている。
【００３９】
挟持ローラ１５は、両対向面１６からそれぞれに相手側対向面側に僅かにはみ出すように、ローラ支持アーム１４に設けられている。挟持ローラ１５は、半径方向の直線上に等間隔で並んでローラ支持アーム１４に回転自在に設けられている。
【００４０】
対向する１組の挟持ローラ１５は、等しい半径方向位置に設けられている。同一半径方向位置で対向する２体の挟持ローラ１５の最接近距離は、もっとも薄い回路基板の厚みよりも大きい。例えば、その最接近距離は、０．０６ｍｍよりも大きい。全ての挟持ローラ１５は、自転自由である。４体の挟持手段１２は、位相送り回転軸１３に互いに９０度の位相差で設けられている。
【００４１】
８体のローラ支持アーム１４の半径方向長さは、等しい。対向する２体のローラ支持アーム１４の外側端部の対向面は、テーパ状に形成されている。このようなテーパ面１７は、基板供給部Ａ上で搬送されてくる回路基板の挟持手段１２への侵入を誘導する。
【００４２】
図５に示すように、４体１組の挟持手段１２は、３組が設けられている。３組の挟持手段１２のローラ支持アーム１４は、同一位相位置に配置されている。即ち、対向するローラ支持アーム１４の間の３つの隙間は、同一平面上に位置している。１枚の回路基板は、３組のそれぞれの一対のローラ支持アーム１４が備える挟持ローラ１５の間に侵入する。１対のローラ支持アーム１４の中心側端部位置には、ストッパ１８（図６）が形成されている。
【００４３】
図５中に、立ち上がった状態の回路基板Ｗの寸法が例示されている。仮想線で示す回路基板Ｗは、幅が７２０ｍｍｍ、長さが５３０ｍｍである。回路基板Ｗの厚みは、例えば、０．０６ｍｍであり、ぺらぺら状で拘束されない限り、波打状に曲がり変形しやすい。回路基板Ｗの材質は、絶縁基板のために好適なエポキシ樹脂がしばしば用いられる。
【００４４】
基板供給部Ａにより形成される水平面上を進行して挟持手段１２に侵入する回路基板Ｗは、ストッパ１８に当たり停止する。モータ１０により駆動される回転軸１３が９０度回転して、即ち、図４で時計方向に回転し、回路基板の水平姿勢は鉛直姿勢に変換される。鉛直姿勢は概ね鉛直に向く姿勢でよい。３組の挟持手段１２は、回路基板Ｗの様々な横幅寸法に対応することができる。３組の挟持手段１２により挟持される回路基板Ｗは、立ち上がった際にも剛性を保持して概ね矩形に維持される
（供給側上昇搬送部Ｃ）
図７〜９は、供給側姿勢変換部Ｂで立ち上がった回路基板Ｗを一定高さ位置まで上昇させるための供給側上昇搬送部Ｃを示している。供給側上昇搬送部Ｃは、昇降運動する昇降台２１を備えている。図８に示すように、水平方向に延びる昇降台２１は、その両端部が主案内レール２２及び副案内レール２３により案内されて昇降する。
【００４５】
主案内レール２２は、鉛直方向に延びる２条の断面矩形状の案内体である。主案内レール２２を抱き込む抱擁部材２４が、図７，８に示すように、昇降台２１の下方及び水平方向に突出するように昇降台２１に取りつけられ固定されている。抱擁部材２４は、同じ鉛直方向位置に位置する抱擁部分２５が２箇所で抱擁部材２４に形成されている。
【００４６】
２箇所の抱擁部分２５は、一方の１組を形成する。他方の１組の抱擁部分２５が、一方の１組の高さ位置と異なる他の高さ位置で昇降台２１に同様に設けられている。図８に示すように、適切な支持台２６に、昇降駆動用回転軸２７が回転自在に設けられている。昇降駆動用回転軸２７の鉛直上方に、従動側プーリ２８が回転自在に固定されている。
【００４７】
昇降駆動用回転軸２７と同軸の駆動側プーリ２９と従動側プーリ２８との間に無端のタイミングベルト３１が掛けられている。タイミングベルト３１の両端が、昇降台２１又は昇降台２１に一体の部材に固着されている。昇降駆動用回転軸２７は、図７に示す第１昇降用サーボモータ３２により回転駆動される。
【００４８】
昇降台２１は、第１昇降用サーボモータ３２の往復回転により昇降する。昇降の上限・下限位置は、プログラムによる第１昇降用サーボモータ３２の回転角度の制御により自由に変更することができる。後述する把持動作を行わせる場合に手動で昇降させる昇降台２１の高さ位置を第１昇降用サーボモータ３２の回転角度位置として全装置系を管理し制御するためのコントローラの記憶部に記憶させることにより、当該供給側上昇搬送部Ｃをロボット化することができる。
【００４９】
昇降台２１の概ね中央部分に、吊下手段を動作させるための把持手段動作機構３３が設けられている。吊下手段の詳細は、後述される。把持手段動作機構３３は、左右対称に２組が設けられている。１組の把持手段動作機構３３は、図９に示すように、２体の開閉指３４を備えている。
【００５０】
開閉指３４は、エアチャックケーシング３５に内蔵されているエアアクチェータ（図示ぜず）により開閉する。エアチャックケーシング３５は、回転アーム３６に取りつけられている。回転アーム３６は、図７，９に示すように、揺動用軸３７を介して昇降台２１に取りつけられている。
【００５１】
２体の回転アーム３６は、揺動用軸３７を共有している。揺動用軸３７の軸心線は、水平方向に向いていて、その水平方向は昇降台２１が延びる方向に同じである。図９中に、座標軸Ｚ−Ｘを設定する。軸Ｚは鉛直上方向に向き、軸Ｘは、基板供給部Ａの搬送方向に向いている。開閉指３４はＺ−Ｘ平面内で開閉運動し、把持手段動作機構３３は揺動用軸３７の軸心線を中心としてＺ−Ｘ平面内で揺動運動する。
【００５２】
その揺動角度は、概ね９０度である。図９に示すように、エアチャックケーシング３５は、実線で示す動作位置３５Ｉと鎖線で示す待避位置３５ＩＩとの間で揺動することができる。２体の開閉指３４の動作端部には、それぞれに滑動爪３８が設けられている。
【００５３】
滑動爪３８は、ローラにより形成されている。昇降台２１は、図８に示すように、原則として、３位置の間で昇降運動しその３位置で停止することができる。３位置は、上方位置２１Ｔと中間位置２１Ｍと下方位置２１Ｂとであり、これらの高さ位置の意義は後述される。
【００５４】
（吊下手段４０）
吊下手段４０は、昇降搬送路が含まれ昇降搬送路の前後の搬送路が昇降搬送路から機械的に断続している循環搬送路上で循環する吊下手段であり、回転軸心線を有する棒状体とその棒状体に取りつけられる複数体の把持手段とからなり、その棒状体が平面に載置された場合にその棒状体の重心はその軸心線より下方にある。その把持手段は回路基板の上端部近傍を把持するように開閉する把持指を備えている。
【００５５】
吊下手段４０は、後述する循環搬送手段により、循環して搬送される。循環搬送手段により形成される循環搬送路の一部の搬送路上にある吊下手段４０によりワークである回路基板Ｗが把持されて搬送される。吊下手段４０は、図１０に示されるように、吊下用棒状体４１と２体の吊下用把持手段４２と両側の車輪４３とから構成されている。車輪４３は、吊下手段４０の揺動を可能にして、ワークＷの鉛直姿勢の自己制御を可能にしている。
。
【００５６】
吊下用棒状体４１は、円柱状ロッドである。吊下用把持手段４２及び車輪４３は、吊下用棒状体４１に中心対称位置に２体がそれぞれに固定されている。吊下用把持手段４２としては、市販の金属クリップが用いられている。吊下用把持手段４２は、図１１，１２に示されるように、２体の把持爪４４，４５を備えている。
【００５７】
２体の把持爪４４，４５は、把持開閉用軸４６（吊下用棒状体４１に一致）により開閉自在に一体化されている。把持爪４４及び把持爪４５は、把持開閉用軸４６の軸心線に直交する面を有する側板４７，４８をそれぞれに備えている。側板４７，４８の下端縁は、図１１に示す把持位置では交叉線４９を形成し、図１２で示す把持解消位置では水平方向の直線５１を形成している。
【００５８】
図１２に示すように回路基板Ｗが鉛直上方に即ちＺ軸方向に上昇して直線を形成する側板４７と側板４８の下端縁に追突した後に把持爪４４と把持爪４５が閉る際に、その回路基板Ｗは、交叉線４９に誘導されて吊下用把持手段４２の定まった位置即ち概ね中央位置で挟持されることになる。
【００５９】
把持爪４４と把持爪４５は、巻きばね５２により閉じる方向に常時付勢されている。吊下手段４０は、図１０に示されるように、最小幅のワークＷ１及び最大幅のワークＷ２を把持することができるように設計されている。吊下手段４０の吊下用棒状体４１が、図７に示されるように、昇降台２１から水平方向（Ｘ軸方向）にはり出す載置台５３の上端面に形成された載置用凹面（図示せず）に２位置で載置される。吊下用棒状体４１は、把持手段動作機構３３が待避している間は、鉛直上方に即ちＺ軸方向に昇降台２１に対して上昇可能である。
【００６０】
（処理部搬送部Ｅ）
図１３〜１５は、処理部搬送部Ｅを示している。図１４では、Ｘ軸は紙面に垂直な方向である。処理部昇降体６１が、処理部昇降レール６２に昇降自在に設けられている。処理部昇降体６１の昇降駆動機構としては、駆動プーリにより回転駆動されるタイミングベルトで昇降台２１を昇降させる昇降駆動と同じ図８に示される昇降駆動機構を適用することができる。その詳細は、省略する。
【００６１】
処理部昇降レール６２は、処理部Ｘ軸方向往復動体６３に固定され取りつけられている。処理部ケーシング２に、２条の処理部Ｘ軸方向案内レール６４が固定され設けられている。２箇所で抱擁部材６５が、処理部昇降レール６２に設けられている。抱擁部材６５が、処理部Ｘ軸方向案内レール６４を抱き込んでいる。ロッドレスシリンダ６６が、図１４、１５に示されるように、処理部ケーシング２に取りつけられている。
【００６２】
ロッドレスシリンダ６６の可動側部材が、処理部Ｘ軸方向往復動体６３に結合されている。処理部搬送手段６７が、図１３，１４に示されるように、処理部昇降体６１に固定され取りつけられている。処理部搬送手段６７は、搬送用構造部材６８とフック手段６９とから形成されている。
【００６３】
搬送用構造部材６８は、Ｙ軸方向に平行に延びる２本の棒状体から形成されている。Ｙ軸は、Ｚ−Ｘ平面に直交している。搬送用構造部材６８は、その一端部が処理部昇降体６１に強固に挿入されて固定されている。フック手段６９は、Ｙ軸方向に離隔する２箇所で搬送用構造部材６８に固定され鏡面対称に設けられている。
【００６４】
フック手段６９は、図１６に示されるように、フック本体７１と波形成板７２とから形成されている。波形成板７２の下方部には、鏡面対称に向き合って曲げられ立ち上がる立上部分７３が形成されている。立上部分７３の上端面は波状に凹凸面７４に形成されている。凹凸面７４は、凹面部が１０部設けられている。その１０部は、Ｘ軸方向（図１６で紙面に垂直）に並んでいる。１０部の凹面部に１０本の吊下用棒状体４１の両端部分が載置される。
【００６５】
吊下手段４０は、図１４に示されるように、実線で示す上方位置６７Ｔと鎖線で示す下方位置６７Ｂとの間で昇降し、上方位置６７Ｔと下方位置６７Ｂとの２位置で停止することができる。処理部搬送手段６７は、一定距離Ｘ軸方向に往復することができ、その往復の途中例えばＸ軸方向にもっとも前進した位置で鉛直方向即ちＺ軸方向に昇降することができる。
【００６６】
レジスト液タンク７５は、図１４，１５に示されるように、処理部ケーシング２の床上に設置され、上面側は開放されている。レジスト液タンク７５は、オーバーフロー式にレジスト液が循環する。希釈液の追加による成分濃度及び温度の調整制御が自動化されている。液面振動が起きないように、定常流れの循環が行われている。
【００６７】
（供給側基板受渡部Ｄ）
図８の中間位置２１Ｍの吊下手段４０は、図１４に示す上方位置６７Ｔに転置される。図１７〜１９は、このような転置を行う供給側基板受渡部Ｄを示している。供給側基板受渡部Ｄは、後述する歩進機構を含む。処理部ケーシング１の対向する２壁面に、本体板８１が固定され取りつけられている。
【００６８】
本体板８１に、２つのサーボモータが取りつけられている。この２つのサーボモータは、図１７に現れているように、転置用サーボモータ８２と歩進用サーボモータ８３とである。転置用サーボモータ８２には、出力軸８４（図１９）が同軸に結合している。
【００６９】
出力軸８４の一端部分は、一方の本体板８１に回転自在に支持されている。両側の本体板８１に、転置用回転軸８５が回転自在に支持されている。両側の転置用回転軸８５に、両側の転置用回転アーム８６がそれぞれに同体に取りつけられている。転置用回転アーム８６の自由端部に自転可能に自転吊体８７が取りつけられ支持されている。
【００７０】
自転吊体８７の重心はその自転軸８８よりも下方にある。自転吊体８７は、重力により常時鉛直方向に向いている。自転吊体８７の上端面は、転置用凹面８９に形成されている。転置用凹面８９に、吊下手段４０の吊下用棒状体４１が載置される。出力軸８４と同軸のプーリと転置用回転軸８５と同軸のプーリとの間に、タイミングベルト９１がめぐらされている。
【００７１】
転置用回転アーム８６は、転置用サーボモータ８２により間欠的に１回転することができる。中間位置２１Ｍの吊下手段４０は、転置用回転アーム８６が１回転する間に自転吊体８７によりすくい取られ１２０度ほど回転して処理部搬送手段６７の搬送用構造部材６８の波形成板７２に移載されて転置される。
【００７２】
図１９は、歩進機構９５を示している。本体板８１は、前方延長部８１ａを有している。前方延長部８１ａに、第１従動プーリ９６、第２従動プーリ９７が回転自在に取りつけられている。第１従動プーリ９６と第２従動プーリ９７と歩進用サーボモータ８３の出力軸に同体の駆動プーリ９８とは、歩進用タイミングベルト９９により連動している。
【００７３】
第１従動プーリ９６と第２従動プーリ９７には、４節リンク機構の２本の平行等長のリンク（図に現れず）が同体に取りつけられている。そのリンクの自由端に歩進板１１１が回転自在に取りつけられている。歩進板１１１の任意の位置は、個別な中心点を中心に円運動し、全体としては並進的に回転する。
【００７４】
図２０に示されるように、歩進板１１１を並進的に回転駆動する駆動中心線１１２，１１３は、両プーリ９６，９７の回転軸心線に一致している。歩進板１１１の上端面は、図２０に示されるように、波状の駆動側歩進用凹凸面１１４に形成されている。
【００７５】
回路基板であるワークＷを把持した吊下手段４０は、その吊下用棒状体４１が転置用回転アーム８６の回転によりフック手段６９の凹凸面７４の１番目の凹面に載置される。２回目の転置用回転アーム８６の回転時には、同時に並進的に１回転する歩進板１１１の駆動側歩進用凹凸面１１４の傾斜面に押されて１凹凸分歩進して駆動側歩進用凹凸面１１４の２番目の凹面部に移動する。このような歩進運動により、フック手段６９に１０体の吊下用棒状体４１が載置されることになる。
【００７６】
（乾燥部Ｆ）
図２１は、乾燥部における搬送手段を示している。乾燥部には、乾燥部昇降体１２１が、Ｘ軸方向に等間隔で５箇所で並んで設けられている。Ｘ軸方向に見て両側に１箇所につき２体の乾燥部昇降体１２１が設けられている。５組１０体の乾燥部昇降体１２１は、図に現れていない共通の昇降用部材により同時に並進的に昇降する。
【００７７】
全乾燥部昇降体１２１は、それぞれに、処理部搬送手段上端面が１０の凹部を有する波状の保持用凹凸面（図に現れず）に形成された乾燥部波形成板１２２（図２０に示した波形成板７２に類似したもの）を備えている。その保持用凹凸面の凹面部の数は、１０である。乾燥部波形成板１２２の下方域に、２連のウオーキングビーム１２３が設けられている。
【００７８】
ウオーキングビーム１２３は、図示されていない往復駆動手段によりＸ軸方向に往復運動する。その往復運動の運動幅は、一定の値に規定されている。その規定値は、前後方向（Ｘ軸方向）に隣り合う乾燥部昇降体１２１どうしの間の間隔である。ウオーキングビーム１２３には、ぞの上面に５組の保持用凹凸面１２４が形成されている。
【００７９】
５組の保持用凹凸面１２４は、互いに合同である。隣り合う２組の保持用凹凸面１２４は、前記した間隔に等しい。ウオーキングビーム１２３が往復運動する間は、全乾燥部昇降体１２１は下降位置にあり、したがって、全吊下手段４０の吊下用棒状体４１は、ウオーキングビーム１２３の保持用凹凸面１２４に載置されている。
【００８０】
ウオーキングビーム１２３は規定値の距離だけ前進して停止すると、乾燥部昇降体１２１が上昇し、全吊下用棒状体４１は乾燥部昇降体１２１の保持用凹凸面に載置される。このような運動の繰り返しにより、１０体１群の吊下手段４０が尺取り虫運動的に一定距離だけ間欠的に前進する。
（取出側基板受渡部Ｇ、取出側基板下降部Ｈ：Ｇ＝Ｄ，Ｈ＝Ｃ）
取出側基板受渡部Ｇは、供給側基板受渡部Ｄのそれと同一構造を有している。但し、取出側基板受渡部Ｇと供給側基板受渡部Ｄは、鏡面対称に配置されている。取出側基板受渡部Ｇの構成部材は、供給側基板受渡部Ｄの構成部材としてそのまま用いられている。鏡面対称配置の部材は、運動についても鏡面対称であるから、運動方向例えば前後方向、左右方向が逆になる。
【００８１】
取出側基板下降部Ｈは、供給側上昇搬送部Ｃのそれと同一構造を有している。但し、取出側基板下降部Ｈと供給側上昇搬送部Ｃは、鏡面対称に配置されている。取出側基板下降部Ｈの構成部材は、供給側上昇搬送部Ｃの構成部材としてそのまま用いられている。鏡面対称配置の部材は、運動についても鏡面対称であるから、運動方向例えば前後方向、左右方向が逆になる。
【００８２】
取出側基板受渡部Ｇによりウオーキングビーム１２３の先頭の１群の最前進位置の吊下手段４０が、転置用回転アーム８６の回転により（図１９に示す回転方向とは鏡面対称で逆方向）取出側基板下降部Ｈの載置台５３（図７の載置台５３に対応）に転置される。
【００８３】
（取出側姿勢変換部Ｉ：Ｉ＝Ｂ）
取出側姿勢変換部Ｉは、供給側姿勢変換部Ｂのそれと同一構造を有している。但し、取出側姿勢変換部Ｉと供給側姿勢変換部Ｂは、鏡面対称に配置されている。供給側姿勢変換部Ｂの構成部材は、取出側姿勢変換部Ｉの構成部材としてそのまま用いられている。鏡面対称配置の部材は、運動についても鏡面対称であるから、運動方向例えば前後方向、左右方向が逆になる。
【００８４】
（基板取出部Ｊ：Ｊ＝Ａ）
基板取出部Ｊは、基板供給部Ａのそれと同一構造を有している。但し、基板取出部Ｊと基板供給部Ａは、鏡面対称に配置されている。基板供給部Ａの構成部材は、基板取出部Ｊの構成部材としてそのまま用いられている。鏡面対称配置の部材は、運動についても鏡面対称であるから、運動方向例えば前後方向、左右方向、上下方向が逆になる。
【００８５】
回路基板Ｗは、取出側姿勢変換部Ｉの鉛直向きの挟持手段１２に上方から侵入し、鏡面対称であるが逆回転しない挟持手段１２により水平向きに姿勢を変更され、ゴム製ローラ９上で搬送され送り出される。
【００８６】
（復路受渡部Ｐ、折返部Ｑ）
図２２は、復路受渡部Ｐ及び折返部Ｑを示している。折返部Ｑは、循環する無端の２条の折返用ベルト１３１により形成されている。折返用ベルト１３１は、駆動用プーリにより巡回駆動される。折返用ベルト１３１は、適当複数箇所の支持プーリ１３２に支持されている。
【００８７】
折返部Ｑを形成する部分の折返用ベルト１３１は、−Ｘ軸方向に前進する。最低限必要な個数を越す数の吊下手段４０が、折返用ベルト１３１上にある。即ち、この余分の個数の吊下手段４０は、後方側に設けられているストッパ１３４に制止され、数珠つなぎ状態で滞留している。このように、折返用ベルト１３１の一部が、折返部Ｑを形成している。
【００８８】
復路受渡部Ｐが、図２２に示されている。折返用ベルト１３１の前端近傍位置に移送用回転アーム１４１が回転自在に設けられている。移送用回転アーム１４１の自由端部には、回転方向に向いて立ち上がる爪部分１４２が形成されている。図８に示した装置と鏡面対称に配置されている装置の昇降台２１により図８に示す上昇位置２１Ｔに支持されている吊下手段４０の吊下用棒状体４１が、爪部分１４２の凹部に嵌まって掬い上げられ、移送用回転アーム１４１がある程度回転した位置で吊下手段４０は爪部分１４２から重力により折返用ベルト１３１上へ放擲される。
【００８９】
（往路受渡部Ｋ）
図２２は、往路受渡部Ｋを示している。折返用ベルト１３１の後端近傍位置に移送用回転板１５１が回転自在に設けられている。移送用回転板１５１には、その外周縁に単数又は複数の凹部が設けられている。開閉自在なストッパ１３４が開いた時に、その凹部に折返用ベルト１３１上の吊下手段４０が１個だけ嵌まり込む。一定角度回転する移送用回転板１５１の凹部に嵌まっている吊下手段４０は、降下して図８に示す上昇位置２１Ｔに位置して、昇降台２１に載置される。
【００９０】
（往路下降部Ｌ、復路上昇部Ｏ）
往路下降部Ｌ、復路上昇部Ｏは、図８に示した装置即ち昇降台２１を含む昇降手段及びこれに鏡面対称に配置された装置により形成されている。
（往路上昇部Ｍ、復路下降部Ｎ）
往路上昇部Ｍ、復路下降部Ｎは、供給側上昇搬送部Ｃ、取出側基板下降部Ｈにそれぞれに一致しているから、説明は省略されている。
【００９１】
（動作及び方法）
吊下手段４０は、循環して流れる。ワークＷは一方方向に流れる。吊下手段４０と回路基板Ｗは、一部で合流して流れる。図２３は、吊下手段４０とワークＷの搬送流れを示している。実線は吊下手段４０の搬送流れを示し、点線はワークＷの搬送流れを示している。
吊下手段４０と回路基板Ｗが合流して同一搬送路を形成する搬送路部分は、供給側上昇搬送部Ｃ（往路上昇部Ｍに一致）、供給側基板受渡部Ｄ、乾燥部Ｆ、取出側基板受渡部Ｇ及び取出側基板下降部Ｈ（復路下降部Ｎに一致）である。
【００９２】
供給側上昇搬送部Ｃと往路下降部Ｌと往路上昇部Ｍとは、図８に示す同一の昇降手段により形成されている。取出側基板下降部Ｈと復路下降部Ｎと復路上昇部Ｏとは、図８に示す昇降手段と鏡面対称に設けられている同一の昇降手段により形成されている。
【００９３】
処理部搬送部Ｅは、供給側上昇搬送部Ｃと往路下降部Ｌと往路上昇部Ｍと搬送系としては幾何学的・数学的・プログラム的に当然に連続しているが、物理的・メカ的には断続している。吊下手段４１が処理部搬送部Ｅで昇降運動している間は、供給側基板受渡部Ｄの可動部分は処理部搬送部Ｅの可動部分に物理的に結合していない。吊下手段４１が処理部搬送部Ｅで昇降運動している間は、乾燥部Ｆの可動部分は処理部搬送部Ｅの可動部分に物理的に結合していない。即ち、処理部搬送部Ｅは、その前後の搬送部分からメカ的・物理的に断続している。
【００９４】
したがって、処理部搬送部Ｅは、次の搬送部からメカ的・物理的に断続している：基板供給部Ａ、供給側姿勢変換部Ｂ、供給側上昇搬送部Ｃ、供給側基板受渡部Ｄ、乾燥部Ｆ、取出側基板受渡部Ｇ、取出側基板下降部Ｈ、取出側姿勢変換部Ｉ、基板取出部Ｊ、往路受渡部Ｋ、往路下降部Ｌ、往路上昇部Ｍ、復路下降部Ｎ、復路上昇部Ｏ、復路受渡部Ｐ、折返部Ｑ。
【００９５】
基板供給部Ａ上の回路基板は、電極層が形成されその電極層の面の研磨処理などが既に施されている。基板供給部Ａ上の回路基板は、多点で支持され曲げ力は受けない。供給側姿勢変換部Ｂで鉛直方向に姿勢を変換された回路基板の面は、上端部分で吊下手段４０の吊下用把持手段４２により吊されているから、重力作用により自然に平面を維持している。このように吊るされた回路基板の面には上昇気流が容易に発生し乾燥部Ｆでの乾燥が速い。
【００９６】
図２４は、処理部における好ましい液浸方法を示している。この液浸方法は、特願平９−７０６２６号に詳細に説明されている。この液浸方法は、短く説明すると、回路基板Ｗはその直線状の下端縁１６１が液面Ｓに対して僅かに傾斜し又はその液面Ｓに平行に昇降し、最下降位置から液切れ直前位置までの区間Ｄ１では比較的に速く上昇し、液切れ直前位置から液切れするまでの区間Ｄ２では比較的に遅く上昇し又は停止し、区間Ｄ２では下端縁と液面との間に形成されるメニスカス１６２が一方から他方へかなり速い速度で走って、下端縁部に比較的に厚く形成されているレジスト液を液面側に表面張力で除去し液切れをよくして、基板の全体で膜厚を均一にする方法である。
【００９７】
区間Ｄ１の速度を比較的に速くするのは、主として処理時間の短縮のためである。このようなメニスカス１６２の速度は、膜厚の均一化に大きく影響する。基板の厚さが０．０６ｍｍのような薄い場合には、上昇速度が速くなると急に基板に波状の揺れが生じる。メニスカスの速度は、回路基板の振動、この振動に基づく液面近傍の液の揺らぎ・乱流度に影響される。基板が振動を外部から受けると、このような波状の波面運動が促進される。本発明によれば、ワークＷは静かに昇降し、基板にこのような揺らぎを与えず、液の乱流を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明による回路基板のレジスト膜形成装置の外観を示す正面図である。
【図２】図２は、前記装置内の搬送路系を概念的に示す正面断面図である。
【図３】図３は、基板供給部Ａの搬送装置を示す平面図である。
【図４】図４は、供給側姿勢変換部Ｂを示す正面図である。
【図５】図５は、図４の側面図である。
【図６】図６は、図４の一部を示す正面図である。
【図７】図７は、供給側上昇搬送部Ｃ、往路下降部Ｌ、往路上昇部Ｍを示す平面図である。
【図８】図８は、図７の正面図である。
【図９】図９は、図８の側面図である。
【図１０】図１０は、吊下手段を示す正面図である。
【図１１】図１１は、図１０の一部の閉状態を示す側面図である。
【図１２】図１２は、図１０の一部の開状態を示す側面図である。
【図１３】図１３は、処理部搬送部Ｅを示す平面図である。
【図１４】図１４は、図１３の正面図である。
【図１５】図１５は、図１３の側面図である。
【図１６】図１６は、図１４の一部を示す正面図である。
【図１７】図１７は、供給側基板受渡部Ｄを示す平面図である。
【図１８】図１８は、図１７の正面図である。
【図１９】図１９は、図１８の側面図である。
【図２０】図２０は、歩進機構を示す斜軸投影図である。
【図２１】図２１は、乾燥部を示す正面図である。
【図２２】図２２は、折返部Ｑを示す正面図である。
【図２３】図２３は、全搬送路系を概念的に示す正面図である。
【図２４】図２４は、液浸方法を示す断面図である。
【符号の説明】
７…レジスト液タンク
１２…挟持手段
１４…ローラ支持アーム
１５…挟持ローラ
２２…主案内レール２２
２１…昇降台
２１Ｔ…上方位置
２１Ｍ…中間位置
２１Ｂ…下方位置
３３…把持手段動作機構
４０…吊下手段
４１…吊下用棒状体
４２…吊下用把持手段
４４，４５…把持爪
６１…処理部昇降体
６２…処理部昇降レール
６３…Ｘ処理部Ｘ軸方向往復動体
６４…処理部Ｘ軸方向案内レール
６８…搬送用構造部材
６９…フック手段
７１…フック本体
７２…波形成板
７４…凹凸面
６７Ｔ…上方位置
６７Ｂ…下方位置
６７…処理部搬送手段
７２…波形成板
８６…転置用回転アーム
８７…自転吊体
８９…転置用凹面
９５…歩進機構
１１４…駆動側歩進用凹凸面
１２１…乾燥部昇降体
１２２…乾燥部波形成板
１２３…ウオーキングビーム
１２４…保持用凹凸面
１３１…折返用ベルト
１４１…移送用回転アーム
１５１…移送用回転板
１６２…メニスカス１６２
Ａ…基板供給部
Ｂ…供給側姿勢変換部
Ｃ…供給側上昇搬送部
Ｄ…供給側基板受渡部
Ｅ…処理部搬送部
Ｆ…乾燥部
Ｇ…取出側基板受渡部
Ｈ…取出側基板下降部
Ｉ…取出側姿勢変換部
Ｊ…基板取出部
Ｋ…往路受渡部
Ｌ…往路下降部
Ｍ…往路上昇部
Ｎ…復路下降部
Ｏ…復路上昇部
Ｐ…復路受渡部
Ｑ…折返部
Ｗ…回路基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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