(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを発生する光源と、
前記光源から出射した光ビームを所定の発散度に変換する光学レンズと、
前記光学レンズを通過した光ビームを整形するスリットと、を有する光ビーム発生装置において、
前記光学レンズに対する前記光源からの光ビームの入射方向と逆の方向から前記光学レンズに平行光束の光ビームを入射し、結像されたビーム形状における、ビームの中心から発生したサイドローブのうち最大強度を示すサイドローブに向かう方向であるサイドローブ方向が、前記スリットの短辺方向に対して、±３０度以内になるように、前記光学レンズと前記スリットとを配置したことを特徴とする光ビーム発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光ビーム発生装置から出射した光ビームを、前記スリットにより整形された光ビームの長辺方向に偏光器で偏向して、像形成体上を走査することにより、前記像形成体上に画像形成を行うことを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
鏡胴に保持された光学レンズによって、主胴に保持された光源から出射した光ビームの発散度を変換し、スリットによって、前記光学レンズを通過した光ビームを整形する光ビーム発生装置の製造方法において、
前記光学レンズに対する前記光源からの光ビームの入射方向と逆の方向から前記光学レンズに平行光束の光ビームを入射し、結像されたビーム形状における、ビームの中心から発生したサイドローブのうち最大強度を示すサイドローブに向かう方向であるサイドローブ方向が、前記スリットの短辺方向に対して、所定の角度になるように、前記鏡胴に前記スリットを設けることを特徴とする光ビーム発生装置の製造方法。
【請求項４】
前記所定の角度は、±３０度以内であることを特徴とする請求項３に記載の光ビーム発生装置の製造方法。
【請求項５】
前記鏡胴と前記主胴とのうち一方を他方に対して光軸方向にのみ移動させ、前記鏡胴に保持された前記光学レンズと前記主胴に保持された前記光源とを所定の位置に設定することを特徴とする請求項３又は４に記載の光ビーム発生装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、鏡胴に保持された光学レンズによって、主胴に保持された光源から出射した光ビームの発散度を変換し、スリットによって、光学レンズを通過した光ビームを整形する光ビーム発生装置、その製造方法、及び、光ビーム発生装置を搭載した画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
鏡胴に保持された光学レンズによって、主胴に保持された光源から出射した光ビームの発散度を変換し、スリットによって、光学レンズを通過した光ビームを整形する光ビーム発生装置は、電子写真方式の画像形成装置などに利用されている。この画像形成装置においては、光ビーム発生装置から出射した光ビーム（光源から出射し、光学レンズによって発散度が変換された光ビーム）を、偏光器を介して、感光体ドラム上に結像させ、静電潜像を形成する。
【０００３】
この光ビーム発生装置から出射する光ビームは、所定の発散度にする必要があり、これがなされなければ、例えば、上述した画像形成装置においては、感光体ドラム上に結像せず、良好な画像形成を行うことができない。
【０００４】
従来、光ビーム発生装置から出射する光ビームを所定の発散度にするためには、スリット及び光学レンズを保持し雄ネジが切られた鏡胴を、光源を保持し雌ネジが切られた主胴に対して、ねじ込みながら、光学レンズと光源とを所定の位置になるように調整、設定して、光ビーム発生装置を製造していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、光ビーム発生装置から出射する光ビームには、光学レンズの収差などに起因するサイドローブが発生している。このサイドローブが発生すると、例えば、上述の画像形成装置においては、感光体ドラム上への結像性能が低下し、良好な画像形成を行うことができないという問題が生じる。
【０００６】
また、光源から出射される光ビームが異方性を有していた場合、光を有効活用するために、光源から出射された光ビームの長辺方向と、スリットの長辺方向とを一致させる必要がある。しかしながら、上述のように、鏡胴と主胴とをネジにより一方を回転させながら、コリメータレンズと半導体レーザーとを所定の位置に設定した場合は、鏡胴とスリットとを別体にし、コリメータレンズと半導体レーザーの間の距離を調整した後、主胴に対してスリットを位置決めして取り付けることになる。この場合、コリメータレンズを取り付けている鏡胴は、ねじ送りされているので、コリメータレンズに起因するサイドローブ（大きくは、鏡胴とコリメータレンズの取り付け精度に起因するサイドローブも含む）と半導体レーザーから出射される異方性の光ビームとビーム整形するための異方性のスリットとの３つの位相関係を常に同一にすることができず、光ビーム装置を高精度に製造することができない。
【０００７】
そこで、本第１発明は、光ビーム発生装置から出射される光ビームに、サイドローブの発生を抑えることを第１課題とする。
【０００８】
また、本第２発明は、サイドローブの発生を抑え、高精度に製造することができる光ビーム発生装置の製造方法を提供することを第２課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記第１課題は、以下の構成により解決することができる。
【００１０】
（１）  光ビームを発生する光源と、前記光源から出射した光ビームを所定の発散度に変換する光学レンズと、前記光学レンズを通過した光ビームを整形するスリットと、を有する光ビーム発生装置において、前記光学レンズに対する前記光源からの光ビームの入射方向と逆の方向から前記光学レンズに平行光束の光ビームを入射し、結像されたビーム形状における、ビームの中心から発生したサイドローブのうち最大強度を示すサイドローブに向かう方向であるサイドローブ方向が、前記スリットの短辺方向に対して、±３０度以内になるように、前記光学レンズと前記スリットとを配置したことを特徴とする光ビーム発生装置。
【００１１】
（２）  （１）に記載の光ビーム発生装置から出射した光ビームを、前記スリットにより整形された光ビームの長辺方向に偏光器で偏向して、像形成体上を走査することにより、前記像形成体上に画像形成を行うことを特徴とする画像形成装置。
【００１２】
上記第２課題は、以下の構成により解決することができる。
【００１３】
（３）  鏡胴に保持された光学レンズによって、主胴に保持された光源から出射した光ビームの発散度を変換し、スリットによって、前記光学レンズを通過した光ビームを整形する光ビーム発生装置の製造方法において、前記光学レンズに対する前記光源からの光ビームの入射方向と逆の方向から前記光学レンズに平行光束の光ビームを入射し、結像されたビーム形状における、ビームの中心から発生したサイドローブのうち最大強度を示すサイドローブに向かう方向であるサイドローブ方向が、前記スリットの短辺方向に対して、所定の角度になるように、前記鏡胴に前記スリットを設けることを特徴とする光ビーム発生装置の製造方法。
（４） 前記所定の角度は、±３０度以内であることを特徴とする請求項３に記載の光ビーム発生装置の製造方法。
（５） 前記鏡胴と前記主胴とのうち一方を他方に対して光軸方向にのみ移動させ、前記鏡胴に保持された前記光学レンズと前記主胴に保持された前記光源とを所定の位置に設定することを特徴とする請求項３又は４に記載の光ビーム発生装置の製造方法。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。まず、画像形成装置の書き込み手段の斜視図である図１に基づいて、本発明を適用した光ビーム発生装置を搭載した画像形成装置について、説明する。なお、本実施の形態は、電子写真方式の画像形成装置であるが、電子写真方式の画像形成プロセスは周知であるので、簡略に説明する。
【００１５】
まず、像形成体である感光体ドラム１は、静電潜像及びトナー像が形成されるものであり、感光体（例えば、ＯＰＣ）がドラム上に塗布されたものである。この感光体ドラム１は、電位的に接地されており、図示しない駆動手段により駆動回転される。この感光体ドラム１は、帯電器（不図示）によって、一様な帯電を与えられる。
【００１６】
そして、書き込み手段２によって、画像信号に基づいた像露光が行われる。書き込み手段２は、画像信号に基づいた光ビームを出射する光源（半導体レーザ）を有した光ビーム発生手段３と、第１シリンドリカルレンズ４と、光ビームを主走査方向に偏向する偏向器であるポリゴンミラー５と、ｆθレンズ６と、第２シリンドリカルレンズ７と、第１反射ミラー８とを有している。なお、この光ビーム発生手段３については、後段において詳述する。
【００１７】
光ビーム発生手段３から出射した光ビームは、第１シリンドリカルレンズ４を介して、矢示の方向に回転するポリゴンミラー５によって、主走査方向に偏向、走査されて、ｆθレンズ６、第２シリンドリカルレンズ７を経て、第１反射ミラー８により光路を曲げられ、感光体ドラム１上に結像し、主走査方向の露光が行われ（感光体ドラム１の回転（副走査）とともに）、感光体ドラム１上に画像（静電潜像）を形成する。なお、第２反射ミラー９によって反射された光ビームは、同期検出器Ｓによって検出され、画像信号における主走査方向の同期タイミングがとられる。
【００１８】
静電潜像が形成された感光体ドラム１は、トナーとキャリアとからなる現像剤をそれぞれ内蔵した現像手段（不図示）によって、トナーで現像され、静電潜像が顕像化される。そして、別途搬送されてくる転写材上に転写手段（不図示）によって、感光体ドラム１上に形成されたトナー像が転写される。トナー像が転写された転写材は、感光体ドラム１上から分離され、定着手段（不図示）によって加熱・加圧作用により、トナー像が転写材上に定着されて、画像形成装置外へと排出される。
【００１９】
次に、このような画像形成装置に搭載される光ビーム発生手段（装置）３について、光ビーム発生手段３の断面図である図２、光ビーム発生装置の分解斜視図である図３に基づいて、その構成を説明する。なお、図３（ｂ）に示した斜視図は、スリット部材３０を図３（ａ）とは反対側から見た図である。
【００２０】
本実施の形態の光ビーム発生手段３は、光ビームを出射する光源である半導体レーザー１２と、半導体レーザー１２より出射した光ビームの発散度を所定の発散度（本実施の形態では平行光とするが、発散光或いは収斂光としてもよい）に変換する光学レンズ（以下、、コリメータレンズ２１）と、コリメータレンズ２１を通過した光ビームを整形するスリット３１とを有するものである。これら半導体レーザー１２、コリメータレンズ２１、スリット３１は、それぞれ主胴１０、鏡胴２０、スリット部材３０に設けられており、これら主胴１０に、鏡胴２０、スリット部材３０を組み付けることにより、光ビーム発生手段３を構成する。
【００２１】
まず、樹脂で形成された円筒状の主胴１０は、光源である半導体レーザー１２や後述する鏡胴２０を保持する部材である。半導体レーザー１２は、金属性の支持部材１１を介して、例えば、ネジなどの固定手段（不図示）によって、主胴１０に固定されている。また、主胴１０は、その内面に、鏡胴２０の外面が嵌合されている。すなわち、主胴１０の内径は、鏡胴２０の外径よりも小さくなっており、鏡胴２０が主胴１０に対して圧入されることにより、主胴１０が鏡胴２０を保持している。なお、主胴１０には穴１５が設けられており、この穴１５に、接着剤、例えば、紫外線硬化樹脂を充填することにより、主胴１０に圧入された鏡胴２０を、主胴１０に固定している。
【００２２】
また、この主胴１０の先端側（図２において右側）には、２本の突出部１３が設けられ、この２本の突起１３の間に、後述するスリット部材３０のリブ部３３が嵌合するスリット状の凹部１４が形成されている。なお、この主胴１０には、取付穴１６が設けられた取付板１７が一体に形成されており、この取付穴１６にネジを通して、書き込み手段２の筐体（符号なし）に固定することにより、光ビーム発生手段３を書き込み手段２に固定することができる。
【００２３】
樹脂で形成された円筒状の鏡胴２０は、半導体レーザー１２から出射された光ビームの発散度を平行光にするコリメータレンズ２１や後述するスリット部材３０を保持する部材である。コリメータレンズ２１は、半導体レーザー１２側の鏡胴２０の内部で嵌合し、接着剤などにより固定されて、保持されている。
【００２４】
また、この鏡胴２０は、前述したように、主胴１０に対して圧入され、穴１５から充填された接着剤により、位置が固定されている。この位置は、半導体レーザー１２から出射しコリメータレンズ２１を通過した光ビームが所定の発散度、実施の形態では、平行光となるように、半導体レーザー１２とコリメータレンズ２１とを所定の位置に設定（すなわち、コリメータレンズ２１の焦点位置に半導体レーザー１２の発光点を配置）されている。
【００２５】
スリット部材３０は、鏡胴２０の先端側（コリメータレンズ２１が設けられた側とは反対側）の内部で嵌合し、接着剤などにより固定されて鏡胴２０と一体となって構成される樹脂で成型された部材である。このスリット部材３０は、コリメータレンズ２１を通過した光ビームを整形する整形部材として、矩形（又は、長穴）形状のスリット３１を有している。
【００２６】
また、このスリット部材３０は、鏡胴２０と一体となった後に、前述した、コリメータレンズ２１と半導体レーザー１２とを所定の位置に設定・調整するために、後述する自動調整装置４０によってコリメータレンズ２１を（鏡胴２０とスリット部材３０と一緒に）移動させるためのフランジ部３２が設けられている。なお、このスリット３１の短辺方向（図２において上下方向）は、後述するように、コリメータレンズ２１のサイドローブ方向に対して±３０度以内（最も好ましいのは、サイドローブ方向と一致、すなわち、０度）に設定されている。
【００２７】
また、このスリット部材３０には、スリット３１の方向と関連づけた（スリット３１の方向を示す）リブ部３３が設けられている。本実施の形態では、このリブ部３３は、スリット３１の短辺方向（換言すると、スリット３１の長辺方向に対して垂直な方向）に設けられている。そして、このリブ部３３は、前述の主胴１０に設けられた２本の突出部１３間に形成された凹部１４に、嵌合する。
【００２８】
このような光ビーム発生手段３は、図２に示す如くに構成され、スリット３１により整形される光ビームの長辺方向（図２において紙面垂直方向）が、ポリゴンミラー５の回転方向を含む面（すなわち、主走査方向）と一致するように、主胴１０の取付穴１６にネジを通して、書き込み手段２の筐体に固定する。そして、半導体レーザー１２から出射した光ビームは、コリメータレンズ２１によって平行光束へと発散度を変換され、さらに、スリット３１によって光ビームが整形されて、この光ビーム発生手段３から出射し、上述したように、第１シリンドリカルレンズ４、ポリゴンミラー５、ｆθレンズ６、第２シリンドリカルレンズ７、第１反射ミラー８を経て、感光体ドラム１上に結像し、画像（静電潜像）が形成される。
【００２９】
次に、この光ビーム発生手段３の組み立てについて説明する。まず、主胴１０に半導体レーザー１２を、支持部材１１を介して、ネジにより固定する。このとき、半導体レーザー１２から出射される光ビームは、光軸方向から見ると楕円の光束であるので、楕円の光束の長軸方向を、光軸から２本の突出部１３の間の凹部１４へと向かう方向に直交するように、半導体レーザー１２を固定する。一方、鏡胴２０内にコリメータレンズ２１を嵌合させ、接着剤等で固定する。このコリメータレンズ２１を保持した鏡胴２０に対して、スリット部材３０を、スリット３１の方向が所定の方向になるように、挿入して嵌合させ、接着剤等で固定し、鏡胴２０とスリット部材３０とを一体化する。なお、スリット３１を鏡胴２０に一体化する際に、スリット３１の方向、すなわち、スリット３１の配置については、後段において詳述する。
【００３０】
そして、鏡胴２０とスリット部材３０とを一体化したのちは、スリット部材３０のリブ部３３が、主胴１０の２つの突出部１３間に形成された凹部１４に嵌合するように、一体化して鏡胴２０とスリット部材３０とを、主胴１０に対して圧入する。このように行うのは、半導体レーザー１２が発光する光ビームは、異方性、すなわち、光軸方向から見て縦横比が１でないために、半導体レーザー１２が発光する光ビームの長軸方向を、スリット３１の長辺方向と一致させ、半導体レーザー１２から出射される光を有効的に活用するためである。そして、図４に示す自動調整装置４０によって、コリメータレンズ２１と半導体レーザー１２とを所定の位置に設定する。
【００３１】
この自動調整装置４０は、押し込み部材４１と、リリース部材４２と、自動ステージ４３とを有している。押し込み部材４１は、コリメータレンズ２１を半導体レーザー１２側に近づけるために、鏡胴２０（具体的には、鏡胴２０と一体になったスリット部材３０のフランジ部３２を、図４（ａ）において左方向に）を押す部材である。リリース部材４２は、コリメータレンズ２１を半導体レーザー１２から離すために、鏡胴２０（具体的には、鏡胴２０と一体になったスリット部材３０のフランジ部３２を、図４（ａ）において右方向に）を押す部材である。なお、この押し込み部材４１及びリリース部材４２は、光軸方向から見た図４（ｂ）に示すように、コの字状を呈しており、光ビーム発生手段３から出射する光ビームを遮光しないように構成している。また、この押し込み部材４１とリリース部材４２とは、フランジ部３２の厚み（光軸方向の長さ）よりも長い間隙を以て、一体に設けられている。すなわち、この間隙にフランジ部３２を挟み、コリメータレンズ２１の位置を設定するものである。自動ステージ４３は、これら押し込み部材４１とリリース部材４２とを光軸方向のみに移動させるものである。
【００３２】
そして、半導体レーザー１２から出射した光束が、感光体ドラム１上で最良のビームスポットが形成されるように自動ステージ４３を移動して、コリメータレンズ２１と半導体レーザー１２とを所定の位置に設定する。すなわち、移動ステージ４３の移動に伴い、押し込み部材４１及びリリース部材４２が鏡胴２０（具体的には、鏡胴２０と一体になったスリット部材３０のフランジ部３２）を光軸方向に押し（移動させ）、コリメータレンズ２１と半導体レーザー１２とを所定の位置に設定する。
【００３３】
コリメータレンズ２１と半導体レーザー１２とが所定の位置に設定されると、穴１５から紫外線硬化樹脂を流し込んだ後硬化させ、光ビーム発生装置３の組み立て（製造）を終える。
【００３４】
このように本実施の形態では、スリット３１を設けた鏡胴２０を主胴１０に対して光軸方向にのみ移動させ、コリメータレンズ２１と半導体レーザー１２とを所定の位置に設定することにより、この所定の位置を高精度に調整することができ。すなわち、従来のように、スリット部材が予め取り付けられていない鏡胴と主胴とをネジにより一方を回転させながら、コリメータレンズと半導体レーザーとを所定の位置に設定した場合は、コリメータレンズに起因するサイドローブを半導体レーザーが発光する光ビームの短軸方向とを常に一致させることができず、コリメータレンズの位置調整をした後にスリット部材を取り付けて、半導体レーザーの発光する光ビームの短軸方向とスリットの短辺方向とを一致させ、効率よくビーム整形を行ったとしても、感光体ドラム上への良好な結像性能を得ることができない。これに対して、本実施の形態では、スリット３１が設けられた（一体化した）鏡胴２０を、主胴１０に対して光軸方向にのみ移動させ、コリメータレンズ２１と半導体レーザー１２とを所定の位置に設定するので、この設定精度が格段に向上させることができる。
【００３５】
ところで、光ビーム発生手段３から出射する光ビームには、コリメータレンズ２１の収差などに起因するサイドローブが発生している。このサイドローブが発生すると、本実施の形態の画像形成装置においては、感光体ドラム上への結像性能が低下し、良好な画像形成を行うことができないという問題が生じる。
【００３６】
そのために、本実施の形態では、スリット３１の方向が所定の方向になるように、スリット部材３１と鏡胴２０とを一体化している。以下、これについて、説明する。
【００３７】
サイドローブは、コリメータレンズ２１の収差に起因して発生する。ところが、このサイドローブは、コリメータレンズ２１のもつ（鏡胴２０にコリメータレンズ２１を固定した際に生じる）コマ収差など方向性のある収差のために、等方的に発生するのではなく、ある方向に大きく発生する。したがって、本実施の形態では、サイドローブが大きく発生する方向を、スリット３１の短辺方向にすることにより、光ビーム発生装置３から出射する光ビームに、サイドローブの発生を抑えるものである。
【００３８】
これについて、詳細な説明を、サイドローブ方向を説明する図である図５に基づいて行う。図５（ａ）に示すように、コリメータレンズ２１に対して、光ビームを逆方向（図２に示すような通常の使用時とは逆方向）から入射（本実施の形態では、平行光束を入射）し、このコリメータレンズ２１を通過した光ビームが結像する結像位置における像面のビームの形状を測定、観察する。この測定、観察した結果の一例として、図５（ｂ）、（ｃ）に示す。図５（ｂ）は、ビームの強度分布を断面で示した図であり、横軸に半径方向（「０」がビームの中心）を、縦軸に主ビームの最大強度を１００としたときの相対強度を示している。また、図５（ｃ）は、図５（ｂ）の断面強度分布を光軸方向から見たビームの強度分布を示した等高線図である。
【００３９】
この得られたビーム形状から、発生したサイドローブのうち最大強度を示すサイドローブを特定する。図５（ｃ）に示す例においては、主ビームの周囲にサイドローブが三方に発生しており、そのうち一方、すなわち、図５（ｃ）において左側に発生してるサイドローブが最大強度を示してる。最大強度を示すサイドローブが特定されると、ビームの中心（すなわち、光軸）から、最大強度を示すサイドローブに向かう方向を、サイドローブ方向とする（図５（ｃ）参照）。そして、このサイドローブ方向とスリット３１の短辺方向を所定の角度となるように、スリット部材３１と鏡胴２０とを一体化する。
【００４０】
ここで、所定の角度について、サイドローブ方向とスリット３１の短辺方向とがなす角度と、感光体ドラム１上に結像した光ビームに発生したサイドローブの相対強度Ｓとの関係を図６に示す。図６から分かるように、サイドローブ方向とスリット３１の短辺方向とがなす角度を種々変更すると、相対強度を大きく変化する。そして、サイドローブ方向とスリット３１の短辺方向とがなす角度を、０度〜３０度、１５０度〜２１０度、３３０度〜３６０度の範囲に設定すると、換言すると、サイドローブ方向がスリット３１のが短辺方向に対して±３０度以内であれば、サイドローブの発生を抑えることができる。好ましくは、サイドローブ方向がスリット３１のが短辺方向に対して±０度（図６における角度が０度、１８０度、３６０度、換言すると、サイドローブ方向とスリット３１の短辺方向とが一致している）であれば、サイドローブの発生を最小に抑えることができるので、本実施の形態では、サイドローブ方向とスリット３１の短辺方向とを一致させて、スリット部材３０と鏡胴２０とを一体化している。
【００４１】
具体的には、本実施の形態では、このサイドローブ方向にある鏡胴２０の外周面に、マーク（不図示）を入れる。そして、サイドローブ方向を示すマークと、スリット部材３０に設けられたリブ部３３とが一致するように、コリメータレンズ２１を保持した鏡胴２０に対して、スリット部材３０を、挿入して嵌合させ、接着剤等で固定し、鏡胴２０とスリット部材３０とを一体化する。すなわち、本実施の形態ではリブ部３３を、スリット３１の方向と関連づけて、スリット３１の短辺方向に、スリット部材３０に設けられているので、サイドローブ方向とスリット３１の短辺方向とが一致することになる。
【００４２】
このように本実施の形態では、コリメータレンズ２１に対して逆方向に光ビームを入射し、結像されたビーム形状を観察し、ビームの中心から発生したサイドローブのうち最大強度を示すサイドローブに向かう方向であるサイドローブ方向が、スリット３１の短辺方向に対して、±３０度以内になるように、コリメータレンズ２１とスリット３１とを配置することにより、光ビーム発生手段３から出射されたビームに発生するサイドローブを、抑えることができ、感光体ドラム１上への結像性能を向上させ、良好な画像形成を行うことができる。
【００４３】
なお、上述した実施の形態求めた、サイドローブ方向は、コリメータレンズ２１のコマ収差の方向とほぼ一致（等価）であるので、コマ収差を測定することにより、サイドローブ方向を特定してもよい。
【００４４】
以上説明した本実施の形態は、主胴１０内に鏡胴２０を圧入するように構成したが、鏡胴２０内に主胴１０を圧入するようにしてもよい。
【００４５】
【発明の効果】
以上詳述したように、本第１発明によれば、光ビーム発生装置から出射される光ビームに、サイドローブの発生を抑えることができる。
【００４６】
また、本第２発明によれば、サイドローブの発生を抑え、高精度に製造することができる光ビーム発生装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】画像形成装置の書き込み手段の斜視図である。
【図２】光ビーム発生手段の断面図である。
【図３】光ビーム発生装置の分解斜視図である。
【図４】光学レンズと光源とを所定の位置に設定するための、自動調整装置を示す図である。
【図５】サイドローブ方向を説明する図である。
【図６】サイドローブ方向とスリットの短辺方向とがなす角度と、発生したサイドローブの相対強度Ｓとの関係を示した図である。
【符号の説明】
１  感光体ドラム
２  書き込み手段
３  光ビーム発生手段（光ビーム発生装置）
５  ポリゴンミラー
１０  主胴
１２  半導体レーザー（光源）
１３  突出部
１４  凹部
２０  鏡胴
２１  コリメータレンズ（光学レンズ）
３０  スリット部材
３１  スリット
３２  フランジ部
３３  リブ部
【図１】
0003677988.tif 000002
【図２】
0003677988.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0003677988.tif 000007