(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に多数の貫通小孔を形成して加熱平面１０とし、ワックス咬合堤の平滑時溶融ワックスを貫通小孔を介して下方に落下させる平滑用ワックス加熱体１と、該ワックス加熱体１を載置し、かつ加熱する電熱体２とから構成され、前記電熱体２が、多数の薄層金属片を間隙を設けて立設してなる、ワックス咬合堤の当接面の一定深さを均質軟化させる薄層集合体３０を備え、ワックス咬合堤軟化機能を有することを特徴とするワックス咬合堤平滑化装置。
【請求項２】
上記電熱体が多数の薄層金属片を間隙を設けてフィン状若しくはハニカム状に立設した薄層集合体と該薄層集合体の下面に金属伝熱基板を介して配置した電熱体とから成るワックス咬合堤軟化装置であり、
上記ワックス加熱体が該薄層集合体の上面に取り外し自在に載置可能な板状とされた、ワックス咬合堤軟化装置と兼ねる請求項１記載のワックス咬合堤平滑化装置。
【請求項３】
上記ワックス加熱体がその上面の側縁に平滑な無孔平面を備えた請求項１又は２に記載のワックス咬合堤平滑化装置。
【請求項４】
上記ワックス加熱体の貫通小孔が直径１．５〜６．５ｍｍの円孔である請求項１又は２に記載のワックス咬合堤平滑化装置。
【請求項５】
上記ワックス加熱体には、多数の貫通小孔に代えて、多数の細長い溝孔を併設している請求項１又は２に記載のワックス咬合堤平滑化装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の技術分野】
本発明は、歯科の分野で義歯を調製する過程において咬合採得時に使用される咬合堤、特に、上顎側の咬合堤のワックス面を平滑化するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ワックス咬合堤は、無歯顎患者の口腔内の上下顎部から印象採得された石膏模型の基礎床に、その歯槽頂に沿ってＵ字形又は馬蹄形にワックスを盛り上げて整形したもので、ワックス咬合堤は最終的には人工歯を植設しワックス部分を合成樹脂に置換して総義歯とされる。人工歯の植設のために、予め、上顎側の咬合床を患者の口腔内に装着して、そのワックス咬合堤に咬合面を決定して形成する作業がある。
【０００３】
咬合面の決定・形成には、上顎側ワックス咬合堤を予め嵩高に作っておき、従来は、歯科術者が、咬合採得により、咬合堤のワックス上面を小刀で切削し或いはバーナーで加熱したへら状工具で溶融削除して概形を整え、最終的に、ワックス上面を咬合平面に適合させるべくサンドペーパーで研磨して正しく平滑な平面に仕上げる作業をしていた。
【０００４】
下顎側のワックス咬合堤については、上述の要領で既に平滑化され口腔内上顎に装着した上顎側のワックス咬合堤の咬合面を基準にして、軟化した下顎側の咬合堤のワックス上面を工具により調整して咬合堤の高径を決める作業を行う。
【０００５】
本発明者は、既に、下顎側のワックス咬合堤を軟化させるための装置を提案した（実願平５−１０３１７号）が、このワックス咬合堤軟化装置は、基本的には、多数の薄層金属片を間隙を設けてフィン状又はハニカム状に立設した薄層集合体と該薄層集合体の下面に金属伝熱基板を介して配置した電熱体とから構成されており、使用に際して、薄層集合体をワックス溶融温度以上に加熱しておき、下顎側の咬合堤のワックス面を薄層集合体の上面に押し当てて、ワックスの表面から一定深さまで一様に加熱軟化させるものであった。
【０００６】
【発明が解決しょうとする課題】
上記従来のワックス咬合堤の平滑化作業は、ワックス咬合堤上面の切除、研磨する手作業であって、時間と熟練を必要として非能率的であった。
【０００７】
上顎側のワックス咬合堤の平滑化作業は、咬合採得の一連の作業の中で、下顎側の咬合堤の軟化と高径決定に先立って行う作業であり、上顎側のワックス咬合堤の平滑化作業を効率化する必要がある。また、ワックスの平滑化は、下顎側の咬合堤が高すぎる様なときに、そのワックス上面を一様に削除する場合にも要求される。
【０００８】
本発明の目的は、上記問題に鑑み、第１に、ワックス咬合堤、特に、上顎側の咬合堤のワックス表面を効率的に溶融平滑化する装置を提供すること、第２に、ワックス咬合堤軟化装置と兼用ないし同時使用可能な平滑化装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明のワックス咬合堤平滑化装置は、咬合堤のワックス表面を溶融して平滑化する装置であって、上面に多数の貫通小孔を設けた加熱平面を有するワックス加熱体と、該加熱体を加熱する電熱器とから成ることを特徴とする。
【００１０】
本発明の具体的態様の１つは、ワックス加熱体は、その加熱平面が水平状ないし傾斜状に装置基台上に架設して配置され、該ワックス加熱体の加熱平面域下方に溶融したワックスを排出若しくは受容する空所を設けて、その空所には、容器状ワックス受けが配置されものがある。
上記電熱器は、上記加熱体の加熱平面域の一側部若しくは両側部に埋設若しくは添設された電熱体が使用される。
【００１１】
本発明のワックス咬合堤平滑化装置の他の態様には、上記電熱器が、多数の薄層金属片を間隙を設けて立設した薄層集合体と該薄層集合体の下面に金属伝熱基板を介して配置した電熱体とから成るワックス咬合堤軟化装置であり、上記ワックス加熱体を該薄層集合体の上面に取り外し自在に載置可能な板状として、ワックス咬合堤軟化装置と兼ねるものが含まれる。
【００１２】
【作用】
ワックス加熱体は、金属又は熱伝導良好なセラミック材料で表面平坦に形成され、電熱器により加熱されて、使用するワックスで定まるワックス溶融温度以上で且つワックスの気化発煙温度以下の適温に加熱保持されている。ワックス加熱体の上面が平面状の加熱平面とされるので、ワックス咬合堤のワックス面を押し当てると、ワックス咬合堤は加熱体に接触するワックス面が順次溶融され、順次ワックス咬合堤の高さを減ずる。
【００１３】
ワックス加熱体の貫通小孔は、溶融したワックス（溶融したワックス）を下方に排出するものである。貫通小孔が円孔である場合、ワックス加熱体が上記の温度範囲にあるとき、直径１．５ｍｍ未満では、溶融ワックスは、表面張力により貫通小孔内に留まって貫通小孔を流出落下しないので、ワックス加熱体の上面に溜まり排出できず、この場合、ワックス咬合堤を引き上げると、溜まっている溶融したワックスが付着して咬合堤ワックスの表面外縁に蝋ばりを張り出すので好ましくない。円孔の直径６．５ｍｍを越えると、ワックス表面のワックス加熱体表面に接触する部位は熱伝導良好で速やかに溶融するが、ワックス表面の円孔開口に対応する部位は熱伝導悪く溶融が遅れるので、ワックス表面には平滑でなく小孔に対応した多数の凸状突起が生じる。この場合、後述の如く、加熱平面上をワックス咬合堤を擦り動かす操作をしようとしても動かせられず平滑化は困難である。そこで、円孔直径１．５〜６．５ｍｍの範囲のとき、溶融したワックスの効果的な排出とワックス表面の溶融平滑化が同時に容易にできる。
【００１４】
貫通小孔は、円孔の他、断面三角形、四角形その他の多角形も採用されるが、これらの場合に、多角形の頂点と対辺との距離又は対辺間距離を、上記の理由により上記の如く１．５〜６．５ｍｍとする。
本発明において、貫通小孔に代えて、ワックス加熱体の表裏に貫通する細長い溝孔をも含むものとし、ワックス加熱体は溝孔を平行に又は同心の円弧状に多数並設して加熱平面とする。この場合、溝孔の幅を１．５〜６．５ｍｍの範囲とする。
【００１５】
該貫通小孔の開口面の上記加熱平面に占める面積率は２０〜６０％であることが好ましいが、面積率２０％未満であると溶融したワックスの排出が不十分となって加熱平面に溜まる傾向にあり、また６０％を越えると咬合堤のワックス面への熱伝導が小さくなり、溶融速度が低くなり平滑化の作業能率が低下する。最も好ましい面積率は、３０〜４０％の範囲である。
【００１６】
電熱器は、ワックス加熱体を直接ないし間接に加熱するもので、電熱体が加熱体の内部或いは下面に直接固定されているものの他に、加熱体の下部に、金属薄板をフィン状又はハニカム状（格子状も含む）に立てて並設した伝熱部材を介し電熱体を取着した構造のものも含む。フィン状とは、多数の薄板状の金属片を一定間隔を設けて板面平行に立てた状態を言い、ハニカム状とは、薄層の金属片を立てた状態で金属片の表面が断面六角形或いは四角形の多数の空房（セル）を形成するように接合した状態をいい、伝熱部材の上面即ちフィン状ないしハニカム状の金属片突端が形成する面が、ワックス加熱体の下面を伝熱可能に支持するものであればよい。そして、この伝熱部材の空所（間隙ないし空房）を以てワックス加熱体の下方に溶融したワックスを排出若しくは受容する空所とする。
【００１７】
ワックス咬合堤軟化装置と兼用する平滑化装置では、薄層金属片をフィン状に又はハニカム状に立設した薄層集合体と該薄層集合体の下面に金属伝熱基板を介して配置した電熱体とから構成される。
この場合、ワックス加熱体は上記要領で配設された貫通小孔を具備して板状とするのがよく、該薄層集合体の上面に載置されるので、電熱体の熱は薄層集合体と金属伝熱基板とを伝わってワックス加熱体が加熱される。
この装置をワックス咬合堤軟化装置として使用する場合は、ワックス加熱体を取り外し、薄層集合体の上面にワックス咬合堤を一定深さに押し当てるとフィン状又はハニカム状の金属薄片の正面突端がワックスに差し込まれ、金属薄片の熱により金属薄片に接するワックスが一部溶解し且つその熱が間隙ないしセルを満たしたワックスを加熱軟化させ、ワックスが表面より一定深さまで均一に軟化させることができる。薄層金属片の厚みは２ｍｍ以下、好ましくは０．１〜０．６ｍｍ程度、間隙ないしセルの間隔は４〜１０ｍｍ程度とするのが均一軟化のために良い。
【００１８】
【実施例】
（実施例１）
シースヒーターを埋設固定した厚肉アルミニウム板をワックス加熱体に使用した最も簡便なワックス咬合堤平滑化装置の例を図１と図２に示す。
ワックス加熱体１は、図１の斜視図（Ａ）と断面図（Ｂ）に示すように、矩形厚板状であって、両面にはその中央部面域に多数の小孔１２が貫通して形成されて、その上面が加熱平面１０とされており、上面の周縁部は無孔平面１３とされている。
貫通小孔１２の分布については、小孔１２は直径３〜４ｍｍの円孔で、１つの小孔１２の廻りに６つの隣接小孔１２が配置され、小孔１２間の中心間距離を５〜６ｍｍとして、加熱平面１０の面域は、８０〜１００ｍｍ四方程度として、ワックス咬合堤のワックス面の擦り動きに対して十分な広さとしてある。
【００１９】
電熱器については、ワックス加熱体１の左右側部内に、一対のシースヒーター２，２が埋設されて、周縁縁部１３の内部には外面筒状のシースヒーター２，２のほぼ中間位置に半導体温度センサー２９が挿通固定されている。
シースヒーター２，２のリード線は温度制御回路を含む電源部（不図示）を通じて外部電源と接続されるが、温度制御回路（不図示）は、温度センサー２９の温度信号と設定温度との比較をして、シースヒーター２，２への給電流を制御し、歯科用の常用のワックスの場合、加熱平面１０の温度を８０〜１３０℃の範囲に制御する。
【００２０】
ワックス咬合堤平滑化装置の外観を図２に示すが、本例では、ワックス加熱体１の四隅には支柱４７・・・が取着されて、装置基台８の上面８０に架設され、ワックス加熱体１の直下であつて、且つ装置基台の上面にワックス受け皿６が取出自由に載置され、ワックス加熱体１の下部は、溶融したワックスがワックス受け皿６内に滴下する空所９とされている。装置基台の内部には温度制御回路を含むヒータ電源部が配置され、前側側面８３が操作パネルとされている。
【００２１】
使用に際しては、所定温度に加熱されたワックス加熱体１の加熱平面１０にワックス咬合堤（不図示）のワックス面を押し当てて、咬合堤を加熱平面１０の面域に前後ないし左右の方向に若しくは円を描くように擦り動かすと、ワックス面は全体に均一に順次溶融し、未溶融ワックス面は平坦度な平面となっている。溶融したワックスは速やかに小孔１２を通過して下方の空所９からワックス受け皿６の底部に溜まる。未溶融ワックス面が溶解して所望の面まで達すると、最後に平滑面にするためには、咬合堤をワックス面が接触したまま加熱平面１０から周縁の無孔平面１３に速やかに移動させてワックス加熱体の面域外に引き出す（押し出す）と、溶融状態のワックスが除去されてワックス面は平坦且つ平滑になる。
【００２２】
この場合、咬合堤を、ワックス面が接触した加熱平面１０から、単に引き上げたのでは、未溶融ワックス面に溶融ワックスが粘着しているので、凝固後には平滑面が得られないが、凝固前直ちに、別体の板ガラスなどの冷たい平面に押し当てることにより、平滑面とすることもできる。
【００２３】
ワックス加熱体１には、上記実施例ではアルミニウム厚板を使用したが、その他、銅やステンレス鋼、セラミックス材料では、アルミナ、ジルコニア、炭化硅素、特に加工性と熱伝導度の良好な窒化硼素（ＢＮ）、などの厚板や上面平滑なブロックに小孔１２を設けて好適に採用される。
また、ワックス加熱体１が厚肉であるような場合には、小孔１２を下面側に向けてテーパー状に又は段部をもうけて直状に拡径したものが、溶融したワックスの排出に好都合となる。
【００２４】
（実施例２）
次に、ワックス咬合堤軟化装置と兼用したワックス咬合堤平滑化装置の例を示すが、この実施例で使用するワックス咬合堤軟化装置自体は、実願平５−１０３１７号の明細書及び図面において開示した装置とほぼ同じものである。
【００２５】
図３と図４において、装置本体には、装置ケース８内に固定された支持体４から圧縮コイルスプリング７１とガイド支柱７とにより上方に弾性付勢された支持基板２６に板状電熱体２（ニクロム線ヒータ）が固定されている。
【００２６】
他方、多数の薄層金属片を間隙を設けてハニカム状に立設した薄層集合体３０と該薄層集合体３０の下面に接触する伝熱基板３３とを四方枠体３１で周囲を囲繞して固定したワックス軟化用加熱体３が、装置本体とは別体に構成されている。
薄層金属片は、本例では、厚み０．３ｍｍ程度のアルミニウム合金又はステンレス鋼の薄板で形成され、薄層金属片で形成される多数の６角形の空房（セル）３０２の対辺距離は約５ｍｍとされている。
【００２７】
ワックス軟化用加熱体３は、その伝熱基板３３の裏面が装置本体の板状電熱体２の上面に接触するように、支持体４より一体に上方に垂設された固定部材４１，５に着脱自在に係合して取着されて、ワックス咬合堤軟化装置とされる。
【００２８】
本実施例では、ワックス加熱体１、即ち、平滑化用ワックス加熱体１は板状であって、上記のワックス軟化用加熱体３の薄層集合体３０の上面３０１に取り外し自在に載置されて、ワックス咬合堤軟化装置となすもので、薄層集合体３０を含むワックス軟化用加熱体３と板状電熱体２をもって電熱器とし、ハニカム構造の薄層集合体３０の各空房（セル）３０２をもって溶融したワックスを排出若しくは受容する空所に利用するものである。
【００２９】
図４には、ワックス軟化用加熱体３と板状の平滑化用ワックス加熱体１を分離した状態を示す斜視図を示すが、ワックス軟化用加熱体３の上面のハニカム状薄層集合体３０の周縁のうち３方は、四方枠体の上部３１１で覆われているが、残る１方の縁部３１５は四方枠体３１が上部から側部にかけて切欠かれて薄層集合体３０の一部側縁が露出している。
【００３０】
板状の平滑化用ワックス加熱体１は、金属薄板、例えば薄いステンレス鋼板で形成され、その外形は四方枠体３１の上面内縁３１４の薄層集合体３０露出部に直截可能な四角形である。その貫通小孔１２については、実施例１に示したものとほぼ同じく円孔であって、小孔１２の直径は約３ｍｍで、１つの小孔の廻りに６つの小孔が配置され、小孔１２中心間の間隔を約５ｍｍとして、該円孔１２の上記加熱平面１０に占める面積率が約３３％としてある。
また、平滑化用ワックス加熱体１の一辺縁部には小把手１９が取着され、対辺の縁部には、無孔平面１３が形成されている。
【００３１】
平滑化用ワックス加熱体１は、使用時には、図３に図示の如く、薄層集合体３０の上面３０１に直接載置され、発熱体２の熱は、伝熱基板３３と薄層集合体３０を構成する多数の薄層金属片とを伝わって、平滑化用ワックス加熱体１を加熱し、加熱平面１０の温度を８０〜１３０℃の範囲に制御保持される。
【００３２】
そこで、例えば上顎用の、ワックス咬合堤（不図示）のワックス面を平滑化用加熱体１の加熱平面１０に押し当てて前後左右に擦り動かすと、溶融したワックス６０は、小孔１２を通過し、更に薄層集合体３のハニカム構造のセル３０２を通過して、伝熱基板３３に溜まり、さらに、伝熱基板３３の上面の溝６４を流れて電熱体２の外側で該溝６４に連通して設けた排出孔６５を滴下して、下方のワックス受け皿６に溜まるようになっている。伝熱基板３３と排出孔６５とは、溶融したワックスを、高温の電熱体２に接触させずに受け皿６に誘導し、伝熱基板３３自体は電熱体２により加熱されているので、凝固することと発煙することとを防止している。
本装置でワックス面を所定高さにまで溶融し平滑化するための作業要領は、実施例１で述べた通りである。
【００３３】
ワックス軟化作業のために薄層集合体３０を使用する場合には、平滑化用ワックス加熱体１を取り外し、例えば下顎用の、ワックス咬合堤（不図示）のワックス面を軟化用加熱体３である薄層集合体３０の上面３０１露出部に一定深さだけ押し込むと、ワックス内に挿入された多数の薄層金属片によりワックスが加熱軟化されるので、直ちに取り出して、ワックス面を所要の形状に整形する。
【００３４】
以上の如く、この実施例のものは、ワックス咬合堤軟化装置を電熱器として利用し、平滑化用ワックス加熱体１が極めて単純な構造として、ワックス咬合堤平滑化装置に利用することを可能にしている。
【００３５】
【発明の効果】
本発明のワックス咬合堤平滑化装置は、多数の貫通小孔を設けた平面を加熱平面とし、上顎側のワックス咬合堤のワックス面に押し当て擦り動かす作業だけで、ワックス面を所要の咬合平面に成形でき、咬合採得作業の効率化に寄与する。
【００３６】
特に、ワックス咬合堤軟化装置と兼用することで、上顎側のワックス咬合堤の平滑化と下顎側のワックス咬合堤の軟化とを同時に実現できて、咬合採得作業の効率化に一層有効となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施例に使用したワックス加熱体の斜視図（Ａ）とその断面図（Ｂ）。
【図２】本発明の実施例に係るワックス咬合堤平滑化装置の斜視図。
【図３】本発明の他の実施例に係るワックス咬合堤軟化装置と兼用したワックス咬合堤平滑化装置の縦断面図。
【図４】図２に示したワックス咬合堤平滑化装置から取り外した状態の板状の平滑化用ワックス加熱体１とワックス軟化用加熱体３の斜視図。
【符号の説明】
１      ワックス加熱体
１０    加熱平面
１２    貫通小孔
１３    無孔平面
２      電熱体
２９    温度センサー
３      ワックス軟化用加熱体
３０    薄層集合体
３３    伝熱基板
４７    支柱
６      ワックス受け皿
【図１】
0003667785.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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