(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）        ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）
〔式中、Ｍは元素周期表第Ｉａ族のアルカリ金属のうち、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓのいずれかを表わし、  Ｒｆ １  、  Ｒｆ ２  は同じかあるいは異なる炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、フルオロアリル基あるいはフルオロアルケニル基の直鎖状または分岐状化合物のいずれかを表わす。〕
で示されるスルホニルイミド化合物の製造方法において、
一般式（ＩＩ）      Ｒｆ  ＳＯ２Ｘ
〔式中、  Ｒｆ  は一般式（Ｉ）  における  Ｒｆ １  または  Ｒｆ ２  と同様の基を表わし、Ｘは元素周期表ＶＩＩｂ族のハロゲン元素のうちＦまたはＣｌを表わす。〕
で示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、
無水アンモニアまたはアンモニウム塩と、
一般式（ＩＩＩ）    ＭＦ
〔式中、Ｍは元素周期表第Ｉａ族のアルカリ金属のうち、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓのいずれかを表わす。〕
で示されるフッ素化合物
とを反応させることを特徴とするスルホニルイミド化合物の製造方法。
【請求項２】
一般式（Ｉ）        ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）
〔式中、Ｍは元素周期表第Ｉａ族のアルカリ金属のうち、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓのいずれかを表わし、  Ｒｆ １  、  Ｒｆ ２  は同じかあるいは異なる炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、フルオロアリル基あるいはフルオロアルケニル基の直鎖状または分岐状化合物のいずれかを表わす。〕
で示されるスルホニルイミド化合物の製造方法において、
一般式（ＩＶ）  Ｒｆ  ＳＯ２ＮＨ２
〔式中、  Ｒｆ  は一般式（Ｉ）  における  Ｒｆ １  、  Ｒｆ ２  と同様の基を表わす。〕
で示されるスルホニルアミドと、
一般式（ＩＩ）      Ｒｆ  ＳＯ２Ｘ
〔式中、  Ｒｆ  は一般式（Ｉ）  における  Ｒｆ １  、  Ｒｆ ２  と同様の基を表わし、Ｘは元素周期表ＶＩＩｂ族のハロゲン元素のうちＦまたはＣｌを表わす。〕
で示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、
一般式（ＩＩＩ）    ＭＦ
〔式中、Ｍは元素周期表第Ｉａ族のアルカリ金属のうち、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓのいずれかを表わす。〕
で示されるフッ素化合物
とを反応させることを特徴とするスルホニルイミド化合物の製造方法。
【請求項３】
アンモニウム塩として、フッ化アンモニウムもしくは酸性フッ化アンモニウムを使用することを特徴とする請求項１記載のスルホニルイミド化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般式（Ｉ）  ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）で示されるスルホニルイミド化合物を製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】
スルホニルイミド化合物は安全で、高いエネルギー密度を有し、しかも、高伝導度を示すので、リチウム電池電解液の溶質として有望視されており、有機合成の分野ではルイス酸触媒やイオン伝導剤として有用な物質である。
【０００３】
一般式（Ｉ）  ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）で示されるスルホニルイミド化合物は、ＩＮＯＲＧＡＮＩＣ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ  ＶＯＬ．２３，Ｎｏ．２３，Ｐ３７２０〜３７２３（１９８４）においてＤ．Ｄ．Ｄｅｓｍａｒｔｅａｕらによって提案された方法で合成することができる。
この合成方法とは、下式に示す様に、トリフルオロメタンスルホニルフロリドとアンモニアとを反応させ、得られた生成物を塩酸で処理してトリフルオロメタンスルホニルアミドとし、それをナトリウムメチラートと反応させた後、ヘキサメチルジシラザンと反応させ、得られた生成物をトリフルオロメタンスルホニルフロリドと反応させてイミドナトリウム塩を得る方法である。
【０００４】
【化１】
0003623452.tif 000002
【０００５】
しかし、この方法では反応が多段階であるからそれだけ工程が長くなり、また、中間体を得るために高価なヘキサメチルジシラザンを使用しなければならず、収率も５０％程度と低い。
なお、上述した一般式（Ｉ）  において、Ｍは元素周期表第Ｉａ族のアルカリ金属のうち、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓのいずれかを表わし、  Ｒｆ １  、  Ｒｆ ２  は同じかあるいは異なる炭素原子数１〜１２のフルオロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、フルオロアリル基あるいはフルオロアルケニル基の直鎖状または分岐状化合物のいずれかを示す（以下、同じ）。
【０００６】
また、特表平３−５０１８６０号公報には、シラザン金属化合物とペルフルオロハロゲン化スルホニル化合物とを反応させ、イミド化合物を得る方法が、特表平４−５０１１１８号公報には、イオン性の窒化物とハロゲン化スルホン酸とを反応させ、イミド化合物を得る方法が開示されている。
しかし、これらの場合に用いられているシラザン金属化合物やイオン性の窒化物はいずれも高価で、安価な製造方法とは言えない。
【０００７】
また、特開平８−８１４３６号公報には、無水アンモニウムもしくはスルホニルアミドとスルホニルフロリドを第三アミンあるいは複素環式アミンと反応させ、反応生成物をアルカリ金属、アルカリ土類金属を含む水酸化物などとさらに反応させ、イミド塩類を製造する方法が開示されている。
この方法では、１段階目の生成物はアミンの塩として生成するため、さらに無機塩と反応させなければならない。また、反応に第三アミンもしくは複素環式アミンを使用するため、臭気などによる作業環境、使用したアミンの処分に問題がある。さらに、必ず無水アンモニアを使用するため、反応容器としてのオートクレーブや低温の冷却装置が必要となり、量産には向かない。
【０００８】
このように、従来の技術は反応工程が長く、また、高価な原料を使用するため、工業的な製造法とは言い難い。
また、特開平８−８１４３６号公報では、無水アンモニアとペルフルオロアルカンスルホニルフロリドと第三アミンとを反応させているが、イミド塩を得るには最低でも２工程が必要であり、また、反応に第三アミンもしくは複素環式アミンを使用するため、臭気などにより作業環境が汚染される可能性がある。また、２工程目で生成物を水溶液中でアルカリ金属などと反応させなければならず、その際、遊離して水と共に溜出するアミンを適切に処分しなければならないため、それだけ製造費が増大する要因となる。
本発明は、これらの諸問題を解消し、工業的に容易に、かつ、安価に、さらに、効率良くスルホニルイミド化合物を製造することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、一般式（ＩＩＩ）  ＭＦで示されるフッ素化合物を用いることにより、上述したような問題点の無いスルホニルイミド化合物〔一般式（Ｉ）  ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）で示される〕を工業的に容易に、かつ、安価に、さらに、効率良く製造できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち、本発明は、一般式（ＩＩ）  Ｒｆ  ＳＯ２Ｘで示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、無水アンモニアまたはアンモニウム塩を、一般式（ＩＩＩ）  ＭＦで示されるフッ素化合物の存在下で反応させることを特徴とする。
なお、上記式（Ｉ）  及び式（ＩＩＩ）  におけるＭは、元素周期表第Ｉａ族のアルカリ金属のうち、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓのいずれかを表わし、Ｘは元素周期表ＶＩＩｂ族のハロゲン元素のうちＦまたはＣｌを表わす（既に説明済・以下、同じ）。また、上記式（ＩＩ）における  Ｒｆ  は、一般式（Ｉ）  における  Ｒｆ １  または  Ｒｆ ２  と同様の基を表わす（以下、同じ）。
【００１１】
また、一般式（ＩＶ）  Ｒｆ  ＳＯ２ＮＨ２で示されるスルホニルアミドと、
一般式（ＩＩ）  Ｒｆ  ＳＯ２Ｘで示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、一般式（ＩＩＩ）  ＭＦで示されるフッ素化合物
とを反応させることにより、必ずしも無水アンモニアを使用しなくても温和な条件下で、かつ、１段階の反応だけで、
一般式（Ｉ）  ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）で示されるスルホニルイミド化合物を製造出来ることを見出した。
【００１２】
元素周期表第Ｉａ族のアルカリ金属には、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｆｒが存在するが、その中でも特にＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓのいずれかを選択して用いるのが好ましい。従って、それらの場合のフッ素化合物はＬｉＦ  、ＮａＦ  、ＫＦ（ＫＦは、ばい煙法によるｃａｌｃｉｎｅ−ｄｒｉｅｄ  ＫＦ  （ｃｄ  ＫＦ）、スプレードライ法によるｓｐｒａｙ−ｄｒｉｅｄ  ＫＦ  （ｓｄ  ＫＦ）のどちらを使用しても良い）、ＣｓＦ  である。
元素周期表第Ｉａ族のアルカリ金属の中でも、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓが好ましい理由は、それらが比較的安価であって、しかも、スルホニルイミド化合物を工業的に容易に、かつ、安価に、さらに、効率良く製造するのに適しているからである。Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓの中でも、Ｋが上記の点では特に顕著である。
【００１３】
一方、本発明においては、アンモニウム塩を使用することによってスルホニルイミド化合物を製造することができるが、その場合のアンモニウム塩としては、フッ化アンモニウムもしくは酸性フッ化アンモニウムを使用することが望ましい。それらのうちのいずれかを使用すれば、無水アンモニアを使用した場合のように特殊な反応装置（耐圧容器）を必要としないという利点がある。
なお、一般式（ＩＩ）  Ｒｆ  ＳＯ２Ｘで表わされるスルホニルハロゲン化物のうち現在試薬として市販されているＣＦ３ＳＯ２Ｃｌは、この種の化合物のなかでは比較的沸点が３０℃と高いため、通常は液体として取り扱うことができる。
【００１４】
なお、本明細書における「スルホニルイミド」は、正式には「スルホンイミド」と、また、本明細書における「スルホニルアミド」は、正式には「スルホンアミド」と表現されるようであるが、本明細書においては両者をそれぞれ同義のものとして取り扱うこととする。
【００１５】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を説明する。
従来の技術では多段階であったものが、以下の反応式２、３、４、５に示すように、一般式（ＩＩＩ）  ＭＦで示されるフッ素化合物と、一般式（ＩＩ）  Ｒｆ  ＳＯ２Ｘで示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、無水アンモニアまたはアンモニウム塩を、不活性溶媒に導入し反応させることによって、１段階で製造することが出来る。
これは、一般式（ＩＩＩ）  ＭＦで示されるフッ素化合物の塩基性によるものである。
【００１６】
（１）  一般式（Ｉ）  ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）の  Ｒｆ １  と  Ｒｆ ２  が同じ場合。
【００１７】
【化２】
0003623452.tif 000003
【００１８】
１モルの無水アンモニアに対して２モルの一般式（ＩＩ）  Ｒｆ  ＳＯ２Ｘで示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、６モルの一般式（ＩＩＩ）  ＭＦで示されるフッ素化合物を反応容器に導入し、溶媒中で反応させる。
反応後、副生する２モルのＭＸと３モルの酸性フッ化物ＭＦＨＦをろ過し、ろ液を濃縮することにより、一般式（Ｉ）  ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ  ）２で示されるスルホニルイミド化合物を製造することが出来る。
【００１９】
（２）  一般式（Ｉ）  ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）の  Ｒｆ １  と  Ｒｆ ２  が異なる場合。
次に示すような適当な公知の方法により合成された  Ｒｆ １  基を含むスルホニルアミドを経て、所望の  Ｒｆ ２  基を有するスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと反応させることにより、目的とする基で  Ｒｆ １  基と  Ｒｆ ２  基とが構成されたスルホニルイミド化合物を製造することが出来る。
【００２０】
【化３】
0003623452.tif 000004
【００２１】
【化４】
0003623452.tif 000005
【００２２】
（３）  アンモニウム塩を使用する場合。
【００２３】
【化５】
0003623452.tif 000006
【００２４】
（式中、  Ｒｆ １  及び  Ｒｆ ２  は同じかあるいは異なる。）
１モルのアンモニウム塩に対して２モルの一般式（ＩＩ）  Ｒｆ  ＳＯ２Ｘで示されるスルホニルハロゲン化物の少なくとも一つと、７モルの一般式（ＩＩＩ）  ＭＦで示されるフッ素化合物を反応容器に導入し、溶媒中で反応させる。
反応後、副生する２モルのＭＸと４モルの酸性フッ化物ＭＦＨＦをろ過し、ろ液を濃縮することにより、一般式（Ｉ）  ＭＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）で示されるスルホニルイミド化合物を製造することが出来る。
【００２５】
これらの反応は約−３０℃から  ２００℃の温度範囲で可能であり、それ以下の温度では反応速度が著しく遅く、それ以上の温度では使用する化合物、溶媒、生成物の分解が生じる。より好ましい温度範囲は０℃〜１００  ℃である。
使用出来る溶媒は反応物質に対して不活性なものであれば、特に制限されることなく使用出来る。例えば、エーテル類では、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等、ハロゲン化炭化水素では、ジクロロメタン、ジクロロエタン等、炭化水素では、ベンゼン、ヘプタン、ヘキサン等、ニトリル類では、アセトニトリル等を使用出来る。
【００２６】
また、上記以外の種々のスルホニルイミド化合物を製造するためには、これらの製造法で得られるスルホニルイミド化合物を濃硫酸のような強酸で酸とし、蒸留することによりスルホニルイミド酸〔ＨＮ（ＳＯ２Ｒｆ １）（ＳＯ２Ｒｆ ２）〕を合成し、さらに、この酸に対応する金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩、酢酸塩の中から選ばれた化合物を反応させれば良い。
この場合には、スルホニルイミド化合物を合成する際に使用する一般式（ＩＩＩ）  ＭＦで示されるフッ素化合物を、１種または２種混合して使用しても良い。
【００２７】
【実施例】
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。ただし、本発明がこれらの実施例のみに限定されないことは勿論である。
【００２８】
（実施例１）
４つ口フラスコにアセトニトリル  １５０ｍｌ、フッ化カリウム  ２３．４ｇ、トリフルオロメタンスルホニルアミド  ＣＦ３ＳＯ２ＮＨ２  ２０ｇを加えた。４０℃湯浴に反応容器を浸け、十分に攪拌しながらトリフルオロメタンスルホニルフロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｆ  ２５．１ｇを導入した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮してビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウム  ＫＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  ４２．７ｇを得た。収率は９９％であった。
次に、このビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウム  ４２．７ｇを濃硫酸６０ｍｌを入れたフラスコに加え、加熱溶解した。その後、減圧下でビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸  ＨＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  ３４．６ｇを蒸留により留出させた。収率は９２％であった。
得られたビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸  ３４．６ｇを純水に溶解し、炭酸リチウム  ４．５ｇ  と反応させた。過剰の炭酸リチウムはろ過し、ろ液を濃縮してリチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド  ＬｉＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  ３４．６ｇ  を得た。収率は９８％であった。
【００２９】
（実施例２）
ＳＵＳ（ステンレス）製オートクレーブにアセトニトリル  ２００ｍｌ、フッ化カリウム  ６８．３ｇを加え、反応容器をドライアイス−メタノール浴で−６０℃に冷却し、無水アンモニア５ｇを導入した。
続いて、トリフルオロメタンスルホニルフロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｆを  ９０．０ｇ導入し、十分に攪拌しながら室温に戻した。その後、４０℃湯浴に反応容器を浸け、十分に攪拌しながら反応を完結させた。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮してビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウム  ＫＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  ８８．２ｇを得た。収率は９５％であった。
【００３０】
（実施例３）
４つ口フラスコに塩化メチレン１リットル、フッ化アンモニウム  １０ｇ、フッ化カリウム  ７８．４ｇを加えた。４０℃湯浴に反応容器を浸け、十分に攪拌しながらトリフルオロメタンスルホニルフロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｆを  ８２．１ｇ導入した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮してビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウム  ＫＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  ８１．５ｇを得た。収率は９５％であった。
【００３１】
（実施例４）
フラスコにＤＭＦ（ジメチルホルムアマイド）  ３００ｍｌとパーフルオロブタンスルホニルフロリド  Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｆ  ３０ｇ  とトリフルオロメタンスルホニルアミド  ＣＦ３ＳＯ２ＮＨ２  １５．１ｇとフッ化ナトリウム  １３ｇとを加え、１００  ℃に加温して十分に攪拌し反応させた。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮してペルフルオロブタンスルホニルトリフルオロメタンスルホニルイミドナトリウム  ＮａＮ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）（ＳＯ２ＣＦ３）  ３５．１ｇ  を得た。収率は７８．０％であった。
【００３２】
（実施例５）
４つ口フラスコにアセトニトリル  ２００ｍｌとパーフルオロブタンスルホニルフロリド  Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｆ  １２ｇ  とフッ化セシウム  １５．０ｇとフッ化アンモニウム  ０．７３ｇを加え、５０℃に加温して十分に攪拌し反応させた。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮してビスペルフルオロブタンスルホニルイミドセシウム  ＣｓＮ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２  １２．５ｇを得た。収率は８９．３％であった。
【００３３】
（実施例６）
ＳＵＳ（ステンレス）製オートクレーブに塩化メチレン  １００ｍｌ、ＤＭＦ（ジメチルホルムアマイド）１００ｍｌ  、フッ化リチウム  ３０．５ｇを加え、反応容器をドライアイス−メタノール浴で−６０℃に冷却し、無水アンモニア５ｇを導入した。
続いて、トリフルオロメタンスルホニルフロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｆを１００．０ｇ導入し、十分に攪拌しながら室温に戻した。その後、５０℃湯浴に反応容器を浸け、十分に攪拌しながら反応させた。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮したが、ビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウム  ＬｉＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  は１．７ｇ（収率は  ２．０％）しか得られなかった。
この場合の生成化合物の量及び収率は、他の実施例の場合に比べて現段階ではかなり低いが、今後の研究によって更なる改善が見込まれており、本発明は、この場合を当然包含するものである。
【００３４】
（実施例７）
４つ口フラスコにアセトニトリル  １５０ｍｌ、フッ化カリウム  ３１．２ｇ、トリフルオロメタンスルホニルアミド  ＣＦ３ＳＯ２ＮＨ２  １０ｇを加えた。４０℃湯浴に反応容器を浸け、十分に攪拌しながらトリフルオロメタンスルホニルクロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｃｌ  １１．３ｇ  を導入した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮してビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウム  ＫＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  ２１．４ｇを得た。収率は９６％であった。
次に、このビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウム  ２１．４ｇを濃硫酸３０ｍｌを入れたフラスコに加え、加熱溶解した。その後、減圧下でビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸  ＨＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  １５．６ｇを蒸留により留出させた。収率は８３％であった。
得られたビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸  １５．６ｇを純水に溶解し、炭酸リチウム  ２．１ｇ  と反応させた。過剰の炭酸リチウムはろ過し、ろ液を濃縮してリチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド  ＬｉＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  １５．４ｇ  を得た。収率は９７％であった。
【００３５】
（実施例８）
４つ口フラスコに塩化メチレン  ２００ｍｌ、フッ化アンモニウム  １０ｇ、フッ化カリウム１１０ｇを加えた。４０℃湯浴に反応容器を浸け、十分に攪拌しながらトリフルオロメタンスルホニルクロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｃｌ  を  ９１．０ｇ導入した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下濃縮してビストリフルオロメタンスルホニルイミドカリウム  ＫＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  ８１．０ｇを得た。収率は９４％であった。
【００３６】
（実施例９）
４つ口フラスコにフッ化アンモニウム５ｇ、フッ化セシウム１４３．６ｇ、テトラヒドロフラン２００ｍｌ  を加えた。反応容器を十分に攪拌しながらトリフルオロメタンスルホニルクロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｃｌ  ２２．８ｇ  を加え、その後、ペンタフルオロエチルスルホニルフロリド  Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｆ  ２７．３ｇ  を加えた。反応液を実施例２と同様に処理してペルフルオロエタンスルホニルトリフルオロメタンスルホニルイミドセシウム  ＣｓＮ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）（ＳＯ２ＣＦ３）  ６２ｇ  を得た。収率は９９．２％であった。
【００３７】
（実施例１０）
ＳＵＳ（ステンレス）製オートクレーブに塩化メチレン  ２００ｍｌ、ＤＭＦ（ジメチルホルムアマイド）３００ｍｌ  、フッ化リチウム  ４５．６ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｃｌ  ９９．０ｇ  を加え、反応容器をメタノール−ドライアイス浴で−６０℃に冷却し、無水アンモニア５ｇを導入した。
十分に攪拌しながら室温に戻し、その後、８０℃湯浴に反応容器を浸し、十分に攪拌しながら反応させた。その後、実施例２と同様に処理したが、ビストリフルオロメタンスルホニルイミドリチウム  ＬｉＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２  は０．８ｇ（収率  ０．９％）しか得られなかった。この場合の生成化合物の量及び収率は、他の実施例の場合に比べて現段階ではかなり低いが、今後の研究によって更なる改善が見込まれており、本発明は、この場合を当然包含するものである。
【００３８】
（実施例１１）
ＳＵＳ（ステンレス）製オートクレーブに塩化メチレン  ２００ｍｌ、ＤＭＦ（ジメチルホルムアマイド）３００ｍｌ  、フッ化ナトリウム  ７４．１ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド  ＣＦ３ＳＯ２Ｃｌ  ４９．５ｇ  を加え、反応容器をメタノール−ドライアイス浴で−６０℃に冷却し、無水アンモニア５ｇを導入した。
続いて、パーフルオロブタンスルホニルフロリド  Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｆ  ８８．８ｇ  を加え、十分に攪拌しながら室温に戻した。その後、８０℃湯浴に反応容器を浸し、十分に攪拌しながら反応させた。その後、実施例２と同様に処理し、ペルフルオロブタンスルホニルトリフルオロメタンスルホニルイミドナトリウム  ＮａＮ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）（ＳＯ２ＣＦ３）  １８ｇ  を得た。収率は１３．５％であった。
【００３９】
なお、上記各実施例で得られたスルホニルイミド化合物は、赤外吸収スペクトルで同定することによって、それぞれ確認した。
【００４０】
【発明の効果】
請求項１又は２記載の製造方法を用いた場合には、リチウム電池電解質や有機合成触媒として有用なスルホニルイミド化合物を工業的に容易に、かつ、安価に、さらに、効率良く製造出来る効果がある。
【００４１】
特に、請求項２記載の製造方法を用いた場合には、必ずしも無水アンモニアを使用しなくても温和な条件下で、かつ、１段階で、リチウム電池電解質や有機合成触媒として有用なスルホニルイミド化合物を製造出来る効果がある。
【００４２】
また、請求項３記載の発明によれば、無水アンモニアを使用した場合のように特殊な反応装置（耐圧容器）を必要としないという利点がある。