(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の有機導電性（ＯＣ）層（３２）を形成するため、フェースプレートパネル（１２）の内面を揮発性有機導電性材料で被覆する段階と、
第１の有機光伝導性（ＯＰＣ）層（３４）を形成するため、上記第１のＯＣ層を揮発性光伝導性材料で被覆する段階と、
実質的に均一の静電的な電圧を上記第１のＯＰＣ層に確定させる段階と、
上記第１のＯＰＣ層の露光されていない領域の電圧に影響を与えることなく、上記第１のＯＰＣ層の選択された領域の電圧に影響を与えるため、上記第１のＯＰＣ層の選択された領域を可視光で露光する段階と、
中に開口を有する光吸収性材料の実質的に連続的なマトリックス（２３）を形成するため、摩擦電気的に充電された光吸収性スクリーン構造体材料を上記第１のＯＰＣ層の露光されていない領域に堆積させる段階とからなるルミネッセンススクリーン組立体をカ
ラーＣＲＴ（１０）用の上記パネルの上記内面に電子写真的に製造する方法であって、
ａ）プレーナ化層（３５，１３５）を形成する段階と、
（ｂ）第２のＯＣ層（１３２）を形成するため、上記プレーナ化層を第２の上記揮発性有機導電性材料の被膜で被覆する段階と、
（ｃ）第２のＯＰＣ層（１３４）を形成するため、上記第２のＯＣ層を第２の上記揮発性有機光導電性材料の被膜で被覆する段階とを更に有することにより改良された方法。
【請求項２】
上記プレーナ化層（３５）は上記光吸収性材料を上記第１のＯＰＣ層（３４）に融合することにより形成される請求項１記載の方法。
【請求項３】
上記プレーナ化層（１３５）は、上記第１のＯＰＣ層（３４）と上記光吸収性マトリックス（２３）材料との上に重なる適当な薄膜を塗布することにより形成される請求項１記載の方法。
【請求項４】
（ｄ）実質的に均一な静電的な電圧を上記第２のＯＰＣ層（１３４）に再確定する段階と、
（ｅ）上記第２のＯＰＣ層の選択された領域の電圧に影響を与えるため、上記第２のＯＰＣ層の選択された領域を可視光で露光する段階と、
（ｆ）第１の発色性蛍光体が、第１の色の位置に対応した上記マトリックス（２３）内の上記開口領域と、上記開口領域を取り囲む上記光吸収性材料の少なくとも一部分との上に重なるように、摩擦電気的に充電された第１の発色性蛍光体を上記第２のＯＰＣ層の上記露光され、選択された領域に堆積させる段階と、
（ｇ）静電的な電圧を再確定させるため、上記第２のＯＰＣ層の露光されていない領域及び上記第１の発色性蛍光体を再充電する段階と、
（ｈ）上記第２のＯＰＣ層の露光されていない領域及び上記第１の発色性蛍光体の電圧が影響されないままの状態を保つと共に、上記第２のＯＰＣ層の選択された領域の電圧に影響を与えるため、上記第２のＯＰＣ層の選択された領域を光源からの可視光で露光する
段階と、
（ｉ）第２の発色性蛍光体が、第２の色に対応した上記マトリックス内の上記開口領域と、上記開口領域を取り囲む上記光吸収性材料の少なくとも一部分との上に重なるように、摩擦電気的に充電された第２の発色性蛍光体を上記第２のＯＰＣ層の上記露光され、選
択された領域に堆積させる段階とを更に有する請求項１記載の方法。
【請求項５】
（ｊ）静電的な電圧を確定させるため、上記第２のＯＰＣ層（１３４）の露光された領域と、上記第１及び第２の発色性蛍光体を再充電する段階と、
（ｋ）上記第２のＯＰＣ層の露光されていない領域と、上記第１及び第２の発色性蛍光体との電圧が影響されないままの状態を保つと共に、上記第２のＯＰＣ層の選択された領域の電圧に影響を与えるため、上記第２のＯＰＣ層の選択された領域を上記光源からの可視光で露光する段階と、
（ｌ）第３の発色性蛍光体が、上記マトリックス（２３）内の残りの開口領域と、上記開口領域を取り囲む上記光吸収性材料の少なくとも一部分との上に重なるように、摩擦電気的に充電された第３の発色性蛍光体を上記第２のＯＰＣ層の上記露光され、選択された領域に堆積させる段階とを更に有する請求項４記載の方法。
【請求項６】
（ｍ）上記蛍光体を上記ルミネッセンススクリーンの上記第
２のＯＰＣ層（１３４）に固定する段階と、
（ｎ）上記固定されたスクリーンを薄膜化する段階と、
（ｏ）上記薄膜化されたスクリーンをアルミニウム処理する段階と、
（ｐ）上記ルミネッセンススクリーン組立体を形成するため、上記アルミニウム処理されたスクリーンから揮発性構成物を除去すべく上記アルミニウム処理されたスクリーンをベーキング処理する段階とを更に有する請求項５記載の方法。
【発明の詳細な説明】
本発明は、摩擦電気的に充電されたスクリーン構造体材料を使用する電子写真スクリーニング（ＥＰＳ）処理による陰極線管（ＣＲＴ）用のルミネッセンススクリーン組立体の製造方法に係り、特に、先に堆積されたＥＰＳマトリックスの充電特性に起因して生じる次に堆積される蛍光体の誤った重ね合わせを排除し、スクリーン組立体の滑らかな面を与える“プレーナ化”層を形成する方法に関する。
発明の背景
１９９０年５月１日にダッタ（Datta）他に発行された米国特許第４，９２１，７６７号及び１９９３年７月２０日にリッドル（Riddle）他に発行された米国特許第５，２２９，２３４号に記載された電子写真スクリーニング（ＥＰＳ）処理によれば、乾燥粉末化され、摩擦電気的に充電された発色性蛍光体は、乾燥粉末化され、摩擦電気的に充電された光吸収性マトリックスが重ねられた静電的に充電可能な光受容体上に逐次的に堆積される。光受容体は、好ましくは、有機導電性（ＯＣ）層の上に重なる有機光伝導性（ＯＰＣ）層により構成され、両方の層は、ＣＲＴフェースプレートパネルの内面に逐次的に堆積される。最初に、光受容体のＯＰＣ層は、１９９２年１月２８日にダッタ他に発行された米国特許第５，０８３，９５９号に記載されたタイプの適当なコロナ放電装置を使用して、正の電位まで静電的に充電される。次に、光受容体の選択された領域は、露光されない領域上の電荷に影響を与えることなく、上記領域を放電させるため可視光に晒される。続いて、摩擦電気的に負に充電された光吸収性材料は、実質的に連続的な光吸収性材料のパターンを形成するため、光受容体の充電された露光されていない領域に直接現像によって堆積させられる。以下、マトリックスと称される光吸収性材料のパターンは、中に開口領域を有する。ＥＰＳ堆積形マトリックスの十分な光学濃度又は不透明度を得るため、十分な量の光吸収性材料を集積することが必要である。しかし、その結果として、マトリックスは、かなり粗い表面を持つ。光受容体及びマトリックスは、静電的電荷を上に与えるため、コロナ放電装置によって再充電される。光受容体上の電荷は、先に堆積させられたマトリックス上の電荷と同じ電荷からなることが望ましいが、しかし、光受容体及びマトリックスは、必ずしも同一電位まで充電しなくてもよいことが判定された。実際上、マトリックスの電荷アクセプタンスは、光受容体の電荷アクセプタンスとは異なる。従って、光受容体の別の選択された領域がその領域を放電させるため可視光に晒されたとき、摩擦電気的に充電された発色性蛍光体材料で容易にリバーサル現像が行えるようにするため、マトリックスは、光受容体の露光されていない領域上の正の電荷とは異なる大きさの正の電荷を維持する。この電荷の差は、正に充電された発色性蛍光体材料の堆積に影響を与え、蛍光体は、蛍光体の露光されていない領域上の電荷よりもマトリックス上の電荷によって強く反発されるようになる。このようなマトリックスのより強い反発効果は、発色性蛍光体を蛍光体上の所望の位置から僅かに偏位させる。マトリックスの反発効果は小さいが、それにも係わらず、その効果は、発色性蛍光体ラインの幅を狭小化させるのに十分であるため、ラインはマトリックスのエッジに接触並びに重なることがない。かくして、僅かなギャップが蛍光体ラインと周囲のマトリックスとの間に生じる。上記ギャップは、各画像内の蛍光体の輝度を低下させるので許容されない。更に、反射的な裏材と、スクリーン組立体へのアノード接触とを提供するため、スクリーン組立体がアルミニウム処理されたとき、上記ギャップは視認性がある。
ＥＰＳ堆積形マトリックスの反発効果を低減する一方法は、１９９４年５月２７日にリット（Ritt）他により出願され、発明の名称が「電子写真的蛍光体堆積の方法」である係属中の米国特許出願第２５０，２３１号に記載されている。上記出願では、ＥＰＳ堆積形マトリックスを使用する代わりに、通常の湿式スラリーマトリックスが、１９７１年１月２６日にメイアウド（Mayaud）に発行された米国特許第３，５５８，３１０号に記載された処理により形成される。通常のマトリックスは、フェースプレートの内面に直接形成される。従来のマトリックスは、薄く、滑らかであり、かつ、ＯＣ及びＯＰＣ層がその上に直接堆積されるように所望の不透明度を有する。更に、上にあるＯＣ及びＯＰＣ層は、マトリックスとＥＰＳ堆積形蛍光体との間の静電的な相互作用を除去する。しかし、スクリーニング動作の効率を改良し、完全に乾式のスクリーニング処理を得るため、上記の有害な静電的な相互作用を伴うことなく、ＥＰＳ処理によりマトリックスを堆積させることが望ましい。
従って、マトリックスが３個の発色性蛍光体のＥＰＳ堆積中に静電的に充電されないように従来のＥＰＳ堆積形のマトリックスを電気的に絶縁し、蛍光体がマトリックスに対し適切に重ね合わされるようにスクリーン組立体の次の処理のため滑らかな表面を与えるプレーナ化層を形成する必要がある。
発明の概要
本発明によれば、カラーＣＲＴ用のフェースプレートパネルの内面にルミネッセンススクリーン組立体を電子写真的に製造する方法は、有機導電性（ＯＣ）層を形成するため、上記パネルの内面を揮発性有機導電性材料で被覆する段階と、有機光伝導性（ＯＰＣ）層を形成するため、揮発性光伝導性材料で上記ＯＣ層を被覆する段階とからなる。そのとき、実質的に均一な電圧が上記ＯＰＣ層上に確定され、上記ＯＰＣ層の選択された領域は、上記ＯＰＣ層の露光されていない領域上の電圧に影響を与えることなく、その上の電圧に影響を与えるため可視光に晒される。次に、摩擦電気的に充電された光吸収性スクリーン構造体材料は、中に開口領域を有する実質的に連続的な光吸収性材料のマトリックスを形成するため、上記ＯＰＣ層の上記露光されていない領域の上に堆積される。本発明の方法が従来の方法よりも改良されているのは、本発明が、上記ＯＰＣ層の上にプレーナ化層を形成する段階と、第２のＯＣ層を形成するため、第２の揮発性有機導電性材料の被覆で上記プレーナ化層を被覆する段階と、次に、第２のＯＰＣ層を形成するため、第２の揮発性有機光伝導性材料で上記ＯＣ層を被覆する段階とを更に含む点である。
【図面の簡単な説明】
以下、添付図面を参照して本発明の詳細な説明を行う。図面において、
図１は、本発明に従って作成されたカラーＣＲＴの軸方向部分断面の平面図であり、
図２は図１に示された管のスクリーン組立体としての断面図であり、
図３乃至８は、ＥＰＳ処理における幾つかの通常の段階中のフェースプレートパネルの断面図であり、
図９は、新規な処理の一実施例によるフェースプレートパネルの断面図であり、
図１０は、新規な処理の第２の実施例に従って作成されたフェースプレートパネルの断面図である。
好ましい実施例の詳細な説明
図１には、矩形状ファンネル１５により連結された矩形状フェースプレートパネル１２と管状ネック１４とからなるガラスエンベロープ１１を有するカラーＣＲＴ１０が示される。ファンネル１５は、アノードボタン１６と接触し、ネック１４内に延在する内部伝導性被膜（図示しない）を有する。パネル１２は、ビューイングフェースプレート又はサブストレート１８と、周辺フランジ又は側壁２０とにより構成され、ガラスフリット２１によりファンネル１５に封止される。３色蛍光体スクリーン２２は、フェースプレート１８の内面上に置かれる。図２に示されるように、スクリーン２２は、循環式の順番で、色の組、或いは、３本の縞又は三つ一組の画素に配置された赤色発色蛍光体の縞Ｒ、緑色発色蛍光体の縞Ｇ及び青色発色性蛍光体の縞Ｂからなる複数のスクリーン素子を含むラインスクリーンである。縞は、電子ビームが発生させられる平面に略垂直な方向に延在する。上記実施例の通常のビューイングポジションにおいて、蛍光体の縞は垂直方向に延在する。好ましくは、少なくとも蛍光体の縞の一部分は、従来技術において知られるように非常に薄い光吸収性マトリックス２３に重なる。更に、新規の処理によりドットスクリーンを形成可能である。好ましくは、アルミニウムの薄い導電性層２４は、スクリーン２２の上に重なり、均一な電位をスクリーンに印加し、蛍光体素子から放出された光をフェースプレート１８を介して反射する手段を提供する。スクリーン２２及び上に重なるアルミニウム層２４は、スクリーン組立体を構成する。多開口形色選択電極又はシャドーマスク２５は、通例的な手段により、スクリーン組立体に対し所定の間隔の関係で取外し自在に取り付けられる。
図１に破線で概略的に示された電子銃２６は、ネック１４内の中心に取り付けられる。３本の電子ビームを発生させ、コンバージェンスパスに沿ってマスク２５の開口を介してスクリーン２２に電子ビームを向ける。電子銃は、通常のものであり、従来知られている適当な銃であれば構わない。
管１０は、ファンネル・ネック接合の領域にあるヨーク３０のような外部磁気偏向ヨークと共に使用するよう設計される。ヨーク３０が作動されたとき、ヨーク３０は、３本の電子ビーム２８を、スクリーン２２の全体を矩形状ラスタで水平及び垂直方向に電子ビームを走査させる磁界に従わせる。偏向の初期平面（零偏向）は、ヨーク３０の中間周辺で図１のラインＰ−Ｐにより示される。簡単化のため、偏向ゾーン内の偏向ビームパスの実際の曲率は示されない。
スクリーンは、米国特許第４，９２１，７６７号に記載されたＥＰＳ処理により製造される。処理の一部は図３乃至８に示される。最初に、パネル１２は、従来より知られているように、パネルを腐食性溶液で洗浄し、それを水中で洗い流し、緩衝フッ化水素酸でエッチング処理し、再度水で洗い流すことにより、光吸収性マトリックス２３の堆積のため調製される。次に、フェースプレートパネル１２のビューイング領域１８の内面は、上にある揮発性有機光伝導性（ＯＰＣ）層３４に電極を設ける有機導電性（ＯＣ）層３２を形成するため、揮発性有機導電性材料で被覆される。ＯＣ層３２及びＯＰＣ層３４は、共に光受容体３６を形成する。上にＯＰＣ層３４を伴うＯＣ層３２からなる光受容体３６を有するフェースプレート構造体は、図３に示される。ＯＣ層３２のための適当な材料は、１９９４年１２月６日にダッタ他に発行された米国特許第５，３７０，９５２号に引用されたある第四アンモニウム高分子電解質を含む。ＯＰＣ層３４は、ＯＣ層３２の上に被覆される溶液を提供する適当な樹脂、電子ドナー材料、電子アクセプタ材料、界面活性剤、及び有機溶媒から形成される。ＯＰＣ層３４を形成するため使用される適当な材料は、１９９３年１２月２２日にダッタ他により出願された係属中の米国特許出願第１６８，４８６号に記載されている。
ＥＰＳ処理によりマトリックス２３を形成するため、ＯＰＣ層３４は、図４に概略的に示され、かつ、米国特許第５，０８３，９５９号に記載されたコロナ放電装置３８を用いて、約＋２００乃至＋７００ボルトの範囲内の適当な電位まで静電的に充電される。次に、シャドーマスク２５はフェースプレートパネル１２の中に挿入され、パネルは、図５に装置４０として概略的に表わされたスリーインワン形ライトハウスに置かれ、ライトハウスは、シャドーマスクの開口を介して光を投影する光源４２からの可視光でＯＰＣ層３４を露光する。露光は、管１０の電子銃２６からの３本の電子ビームを疑似するため設けられた光源で３回以上繰り返される。光は、ＯＰＣ層３４の露光された領域を放電させ、次いで、その領域に蛍光体材料が堆積されるが、ＯＰＣ層３４の露光されていない領域には正の電荷を残す。３回目の露光後、パネルはライトハウスから取り除かれ、シャドーマスクはパネルから取り除かれる。
ＯＰＣ層３４の正に充電された領域は、１９９３年１０月６日にリッドル他により出願された係属中の米国特許出願第１３２，２６３号に記載されているタイプの現像器４４から、摩擦電気的に負に充電された光吸収性材料の粒子をその領域上に堆積させることにより、直接現像される。適当な光吸収性材料は、一般的に、４５０℃の管の処理温度で安定する黒の色素を含む。光吸収性材料を作成する際に使用するのに適当な黒の色素は、酸化マンガン鉄、酸化コバルト鉄、硫化鉄亜鉛、及び、絶縁性カーボンブラックを含む。上記の米国特許第４，９２１，７６７号に記載されているように、光吸収性材料は、色素、ポリマー、及び、材料に与えられた摩擦電気的電荷の大きさを制御する適当な電荷制御試薬を溶融混合することにより調製される。現像器４４内の摩擦電気銃４６は、光吸収性マトリックス粒子に負の電荷を与える。マトリックス材料の負に充電された光吸収性粒子は、ＯＰＣ層３４の放電された領域に付着されないが、放電された領域を取り囲む正に充電された領域に付着されるので、さもなければ発光蛍光体が次に重ねられる実質的に連続的なマトリックス内に開口またはウィンドウを形成する。上記の米国特許第５，２２９，２３４号に記載されているように、第２のマトリックス材料の堆積は、マトリックスの不透明度を増加させるため行われる。現像後のマトリックス２３は図７に示される。５１ｃｍ（２０インチ）の対角寸法を有するフェースプレートパネルに対し、マトリックス内に形成されたウィンドウ開口は約０．１３乃至０．１８ｍｍの幅を有し、マトリックスラインは約０．１乃至０．１５ｍｍの幅を有する。図８に示され、かつ、上記の米国特許第４，９２１，７６７号に記載されているように、マトリックス２３の光吸収性材料は、次の処理中の材料の動きを防止するため、下にあるＯＰＣ層３４に融合される。
米国特許第４，９２１，７６７号に記載された従来のＥＰＳ処理において、マトリックス被覆形のフェースプレートパネルは、正の電位まで均一に再充電され、電荷像を形成するためシャドーマスクの開口内に可視光を通過させることにより再露光され、発色性蛍光体で現像される。しかし、上記の如く、従来技術の場合に、マトリックス２３は、再充電段階中に、ＯＰＣ層３４により得られた静電的な電位とは異なり、それよりも大きい正の静電的な電位を得る。マトリックス２３上の正の電圧が高くなると共に、摩擦電気的に正に充電された蛍光体粒子を反発するので、蛍光体粒子はマトリックス内の開口を完全には埋め尽くさないが、好ましくない小さいギャップを残す。
上記のギャップを除去するため、マトリックス２３は、次に堆積される蛍光体から静電的に絶縁される必要がある。これは、プレーナ化層３５をＯＰＣ層３４上に形成し、次に、プレーナ化層３５を第２のＯＣ層１３２及び第２のＯＰＣ層１３４で被覆することにより実現される。図９に示された本発明の第１の実施例によれば、プレーナ化層３５は分離した層ではないが、上記の如く、マトリックス２３をＯＰＣ層３４に融合することにより形成される。これは、光吸収性マトリックス材料上のポリマー被覆を溶融し、或いは、融合作用によりマトリックス材料をＯＰＣ層３４に吸収させることにより実現される。次に、プレーナ化層３５は、第２のＯＣ層１３２を形成するため、ＯＣ層３２のため使用された材料と同じ第２の揮発性有機導電性被覆材料で被覆される。ＯＣ層１３２は、次に、第２のＯＰＣ層１３４を形成するため、ＯＰＣ層３４を形成するため使用された揮発性有機光伝導性被覆材料と同じ材料で被覆される。この構造により、ＥＰＳ堆積形マトリックス２３の十分な電気的絶縁が得られるので、マトリックスは、以下に説明する蛍光体の堆積中に第２のＯＰＣ層１３４上の電荷に影響を与えない。
本発明の方法の第２の実施例は図１０に示される。第２の実施例は、特に、ＥＰＳ堆積形のマトリックス２３が、要求された不透明度を与えるため集積され、連続的なＯＣ層の直接的な被覆を阻害する粗い表面を有する場合に有効である。従って、別個のプレーナ化層１３５は、ペンシルベニア州フィラデルフィア市のローム  アンド  ハース（ROHM and HAAS）社よりＲＨＯＰＬＥＸ  Ｂ−７４という商品名で販売されるタイプの薄膜化エマルジョンを塗布することにより、マトリックス及びＯＰＣ層３４の上に設けられる。薄膜化エマルジョンは、スクリーンを適当な温度でベーキング処理することにより除去可能な揮発性樹脂を含む。プレーナ化層１３５が形成された後、上記の第２のＯＣ層１３２がその上に被覆され、次に、ＯＰＣ層１３４がＯＣ層１３２の上に被覆される。プレーナ化層１３５は、スクリーン組立体の第２のＯＣ層１３２及び第２のＯＰＣ層１３４をプレーナ化層１３５の上に形成するため、滑らか、かつ、適度に平坦な表面を与え、マトリックス２３と、次に堆積される発色性蛍光体との間で相互関連又は重ね合わせを可能にさせる。第２の実施例の考えられる欠点は、付加的な量の有機薄膜化材料がスクリーン構造体に添加され、スクリーンのベーキング処理段階の間に除去しなければならない点である。
スクリーンの更なる処理は従来のＥＰＳ処理と類似する。第２のＯＰＣ層１３４は、米国特許第５，０８３，９５９号に記載されたコロナ放電装置を用いて均一に静電的に充電され、このコロナ装置は、第２のＯＰＣ層１３４を約＋２００乃至＋７００ボルトの範囲内の電圧まで充電する。シャドーマスク２５は、次に、パネル１２の中に挿入され、正に充電された第２のＯＰＣ層１３４は、シャドーマスク２５を介して、ライトハウス（図示しない）内に配置されたキセノンフラッシュランプ、又は、マーキュリアークのような十分な強度の他の光源からの光で露光される。管の電子銃からの１個の電子ビームの角度と一致した角度でシャドーマスク２５内の開口を通る光は、その光が入射した第２のＯＰＣ層１３４上の照明された領域を放電させる。シャドーマスクはパネル１２から取り外され、パネルは第１の蛍光体現像器に置かれ、第１の蛍光体現像器は図示されないが、上記の米国特許出願第１３２，２６３号に記載されている。第１の発色性蛍光体材料は、現像器内で正に摩擦電気的に充電され、第２のＯＰＣ層１３４の方に向けられる。正に充電された第１の発色性蛍光体材料は、第２のＯＰＣ層１３４上の正に充電された領域により反発され、従来技術において“リバーサル”現像として知られた処理によりその放電された領域に堆積させられる。リバーサル現像において、スクリーン構造体材料の摩擦電気的に充電された粒子は、ＯＰＣ層１３４の同様に充電された領域により反発され、放電された領域に堆積される。第１の発色性蛍光体の各ラインの寸法は、各開口の完全な被覆と、開口を取り巻く光吸収性マトリックス材料の僅かな重なりとを与えるため、マトリックス内の開口の寸法よりも僅かに大きい。パネル１２は、次に、上記のコロナ放電装置を用いて再充電される。正の電圧が第２のＯＰＣ層１３４の上と、第２のＯＰＣ層１３４上に堆積させられた第１の発色性蛍光体材料の上とに確定される。光の照射及び蛍光体の現像段階は、残りの２個の各発色性蛍光体に対し繰り返され、ライトハウス内の光の位置は、各照射に対し、上記の係属中の米国特許出願第２５０，２３１号に記載された方法に従う。第２のＯＰＣ層１３４上の他の２個の発色性蛍光体の各ラインの寸法は、ギャップが生じないこと、並びに、開口を取り巻く光吸収性マトリックス材料の僅かな重なりが得られることを保証するため、マトリックス開口の寸法よりも大きい。３個の発色性蛍光体は、１９９４年４月３０日にリット他により出願された米国特許出願第２９７，７４０号に記載された態様で第２のＯＰＣ層１３４に固定される。スクリーン構造体は、次に、ルミネッセンススクリーン組立体を形成するため、薄膜化され、アルミニウム処理される。スクリーン組立体の製造に使用される有機材料が多量であるため、従来技術において知られるように、揮発させられた有機物がアルミニウム層にブリスターを生じさせることなく漏れるように小さい開口をアルミニウム層に設けるため、アルミニウム処理の前に、ホウ酸又は蓚酸アンモニウムが薄膜化されたスクリーン構造体に噴霧される。スクリーン組立体は、スクリーン組立体の揮発性構成物を強制的に除くため、約３０分間、約４２５℃の温度でベーキング処理される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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