(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるディスプレイデバイスのレイアウト設計をおこなうにあたって、
ショット領域毎に、すべての層の対応するショット領域を含むように疑似分割領域を設定する工程と、
設定した前記疑似分割領域に沿って全層を一括して分割処理する工程と、
分割処理により得られた前記疑似分割領域のうち、各層のショット領域に含まれない部分を遮光領域とする工程と、
を含むことを特徴とするディスプレイデバイスのレイアウト設計方法。
【請求項２】
前記遮光領域を遮光帯により遮光される領域とすることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイデバイスのレイアウト設計方法。
【請求項３】
前記遮光領域を露光装置のブラインドにより遮光される領域とすることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイデバイスのレイアウト設計方法。
【請求項４】
複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるディスプレイデバイスのレイアウト設計をおこなうにあたって、
基準となる層に他の層をずらして合わせ込むことによって全層にわたって分割領域を一致させる工程と、
一致させた前記分割領域に沿って全層を一括して分割処理する工程と、
を含むことを特徴とするディスプレイデバイスのレイアウト設計方法。
【請求項５】
基準となる層に対して他の層を合わせ込むためにずらした量をオフセットさせてレチクルにショット配置をおこなう工程をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載のディスプレイデバイスのレイアウト設計方法。
【請求項６】
基準となる層に対して他の層を合わせ込むためにずらした量を、露光時のオフセット量とすることを特徴とする請求項４に記載のディスプレイデバイスのレイアウト設計方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイデバイスのレイアウト設計方法に関する。
【０００２】
ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）をスイッチング素子に用いた液晶ディスプレイパネルなどでは、図１３に示すように、一枚のガラス基板１１にたとえば４面分のパネル１２が作製される。各パネル１２は、図１４に示すように、たとえば４つのショット領域（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ）に分割されて作製される。
【０００３】
図１５には、一枚分のパネル１２が拡大して示されている。図１５において、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤの各ショット領域１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄの表示部には、図１６に示すように、ＴＦＴのスイッチングパターン１３およびピクセルパターン１４などが形成される。ＴＦＴのスイッチングパターン１３は、ゲートバスライン１３ｇやドレインバスライン１３ｄなどにより３〜７層程度の層構成で形成される。
【０００４】
【従来の技術】
従来、レイアウト設計方法においては、ディスプレイデバイスのＴＦＴやピクセル等のパネルデータを作成した後に、分割ツール等を用いて、一枚のパネル１２を複数のショット領域１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄに分割している。しかし、ゲートバスライン１３ｇやドレインバスライン１３ｄなどがトランジスタのスイッチング特性に影響を及ぼすような箇所で分割されたり、あるいは、一つのピクセルパターン１４が二分されてしまうと、そこだけ画素の特性が変わってしまい、表示むらが発生してしまう。
【０００５】
この表示むらを回避するためには、図１７に示すように、ゲートバスライン１３ｇが形成されるＧ層については、ゲート電極部分を避けて第１の分割ラインＡ−Ａで分割する必要がある。ドレインバスライン１３ｄが形成されるＩ層については、ソース・ドレイン領域を避けて第２の分割ラインＢ−Ｂで分割する必要がある。ピクセルパターン１４が形成されるＰｘ層については、単一のピクセルが二分されないように、第３の分割ラインＣ−Ｃで分割する必要がある。
【０００６】
図示省略したその他の層についても、層毎に分割に適したラインの位置があり、これら分割ラインの位置は一般に一致していない。すなわち、すべての層に対して同一の分割ラインを設定して、一パネルを複数のショット領域に分割することはできない。
【０００７】
したがって、従来は、各層毎に適切な分割ラインを設定している。実際のディスプレイパネルの作製時には、図１８に示すように、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤの各ショット領域１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄに対応するレチクル１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄを各層毎に作製し、これらのレチクル１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄを順次用いて、ステッパ等の露光装置により、ガラス基板１１上に塗布したレジストに対して露光をおこなう。
【０００８】
つぎに、従来のレイアウト設計方法を図１９乃至図２７を参照しながら説明する。図１９は、従来のレイアウト設計方法によるレチクル作製の流れを示すフローチャートである。図２０〜図２７は、そのフローチャートの理解を容易にするための図形パターン例である。
【０００９】
図２０に示す図形パターン例では、図２１に示すように、パネル２１が４分割され、かつハート形のパターン２２が形成されるＧ層と、正方形のパターン２３が形成されるＩ層の２層で構成されているとする。図２１において、Ｇ１−Ｇ１およびＩ１−Ｉ１は、それぞれＧ層およびＩ層の分割ラインである。なお、図示したパネルパターンにおいて、表示機能上は何ら問題ないものとする。
【００１０】
図１９に示すように、レイアウト設計が開始されると、まず、パネルデータの作成がおこなわれる（ステップＳ１）。図２０は、このパネルデータにより構成されるパネルイメージを表している。つづいて、全層について分割領域の作成がおこなわれる（ステップＳ２）。図２１は、全層、すなわち、ここではＧ層とＩ層の分割イメージを表している。
【００１１】
そして、分割する各ショット領域のイメージがレチクルイメージのデータに配置され、レチクルイメージが作成される（ステップＳ３）。なお、アライメントマーク等のプロセスパターンも作製される。
【００１２】
つづいて、ある単層、たとえばＧ層の分割処理がおこなわれる（ステップＳ４）。図２２は、Ｇ層を４分割したイメージのうちの一イメージ２４を表している。なお、図２２〜図２７においては、Ｇ層およびＩ層ともに、図２１の左上に位置するＧＡおよびＩＡのショット領域のみを図示する。そして、Ｇ層の分割した４つのイメージの周囲に遮光帯（ブラインドパターン）および補助パターンが付加される（ステップＳ５）。図２３は、Ｇ層のショット領域ＧＡの分割イメージ２４に遮光帯２５を付加したものである。
【００１３】
その後、全層の分割処理が終了したか否かの判断がおこなわれる（ステップＳ６）。ここでは、Ｉ層の分割処理がおこなわれていないので、ステップＳ４に戻り、Ｉ層について分割処理がおこなわれる。図２４は、Ｉ層を４分割したイメージのうちのＩＡのショット領域のイメージ２６を表している。そして、Ｉ層の分割した４つのイメージの周囲に遮光帯および補助パターンが付加される（ステップＳ５）。図２５は、Ｉ層のショット領域ＩＡの分割イメージ２６に遮光帯２７を付加したものである。
【００１４】
すべての層について分割処理が終了するまで、ステップＳ４〜ステップＳ６を繰り返し、全層の分割処理が終了したら、設計データの作成が完了する（ステップＳ７）。図２６（ａ）および（ｂ）は、それぞれ作成が完了したＧ層およびＩ層の設計データ２８，２９を表している。
【００１５】
そして、得られた設計データに基づいて、露光データの作成およびレチクルの作製がおこなわれる（ステップＳ８）。図２７（ａ）および（ｂ）は、それぞれＧ層およびＩ層について、露光データおよびレチクル３０，３１を表している。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のレイアウト設計方法では、スイッチングパターンやピクセルパターンを考慮して各層毎に分割領域を設定して分割処理をおこなうため、すべての層について分割処理が終了するまで繰り返し分割処理をおこなわなければならない。たとえば５層で構成された１５インチのディスプレイデバイスの場合には、一層当たりの分割処理時間がおおよそ１時間であるため、全層の分割処理を終了するのにおおよそ５時間もかかってしまう。
【００１７】
したがって、近時、ディスプレイデバイスの製造コストおよび設計コストの削減が望まれているにもかかわらず、設計コストを削減することは困難であるという問題点があった。
【００１８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、ディスプレイデバイスの設計時間を短縮し、設計コストを削減することができるディスプレイデバイスのレイアウト設計方法を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるディスプレイパネルの設計をおこなうにあたって、すべての層の対応するショット領域を含むように疑似分割領域を設定し、その疑似分割領域に沿って全層を一括して分割処理し、得られた疑似分割領域のうち、各層のショット領域に含まれない部分を遮光領域とすることによって、不要な部分を隠すようにしたものである。
【００２０】
つぎの発明は、複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるディスプレイパネルの設計をおこなうにあたって、基準となる層に他の層をずらして合わせ込むことによって全層にわたって分割領域を一致させ、その一致させた分割領域に沿って全層を一括して分割処理するようにしたものである。
【００２１】
そして、基準となる層に対して他の層を合わせ込むためにずらした量をオフセットさせてレチクルにショット配置をおこなう。あるいは、基準となる層に対して他の層を合わせ込むためにずらした量を、露光時のオフセット量として露光装置に与える。
【００２２】
これらの発明によれば、全層を一括して分割処理することができるため、分割処理に要する時間を短縮することができ、したがって、設計コストを削減することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明にかかるディスプレイデバイスのレイアウト設計方法の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００２４】
（実施の形態１）
図１は、本発明にかかるディスプレイデバイスのレイアウト設計方法の実施の形態１によるレチクル作製の流れを示すフローチャートである。図２〜図６は、そのフローチャートの理解を容易にするための図形パターン例であり、図２０および図２１にそれぞれ示すパネルイメージおよび分割イメージに対してレイアウト設計をおこなう場合の図形パターン例を示している。なお、図２〜図６においては、Ｇ層およびＩ層ともに、図２１の左上に位置するＧＡおよびＩＡのショット領域のみを図示する（図８〜図１２も同じ）。
【００２５】
図１に示すように、レイアウト設計を開始すると、まず、図２０に示すパネルイメージに対応するパネルデータの作成をおこなう（ステップＳ１１）。つづいて、図２１に示す分割イメージのように、全層について分割領域の作成をおこなう（ステップＳ１２）。ここまでは、従来と同様であるが、ここで作成された分割領域は仮の分割領域である。
【００２６】
そして、作成された全層の分割領域に基づいて、各層の対応する分割領域をすべて含むように疑似分割領域を作成する（ステップＳ１３）。具体的には、たとえば、図２（ａ）に示すように、ＧＡのショット領域４１とＩＡのショット領域４２がずれている場合に、図２（ｂ）に示すように、ＧＡとＩＡの両方のショット領域４１，４２を含むように疑似分割領域４３を設定する。
【００２７】
疑似分割領域４３は、特に限定しないが、たとえば、ＧＡのショット領域４１のうちＩＡのショット領域４２に含まれない頂点Ｍの座標と、ＩＡのショット領域４２のうちＧＡのショット領域４１に含まれない頂点Ｎの座標とで規定される。その他の分割領域、すなわち図２１に示すＧＢとＩＢのショット領域、ＧＣとＩＣのショット領域、およびＧＤとＩＤのショット領域についても、同様にしてそれぞれ疑似分割領域を設定する。
【００２８】
つづいて、分割する各ショット領域のイメージをレチクルイメージのデータに配置し、レチクルイメージを作成する（ステップＳ１４）。なお、アライメントマーク等のプロセスパターンも作製する。
【００２９】
つづいて、疑似分割領域に基づいて、全層の分割処理をおこなう（ステップＳ１５）。すなわち、全層を一括して疑似分割領域にしたがって分割する。図３（ａ）は、ＧＡおよびＩＡの両ショット領域を含む疑似分割領域の分割イメージ４４を表している。図３（ｂ）は、Ｇ層およびＩ層のそれぞれについて、図３（ａ）の疑似分割領域に対応する領域のイメージ４５，４６を表している。
【００３０】
つづいて、疑似分割領域のうちＧＡのショット領域には本来含まれない領域に遮光帯を付加する。また、疑似分割領域のうちＩＡのショット領域に本来含まれない領域にも遮光帯を付加する。さらに疑似分割領域の周囲に遮光帯を付加する。また補助パターンも付加する（ステップＳ１６）。
【００３１】
図４（ａ）は、疑似分割領域のイメージ４４のうち、ＧＡのショット領域に含まれない領域、ＩＡのショット領域に含まれない領域、および疑似分割領域の分割イメージ４４の周囲に、それぞれに遮光帯４７，４８，４９を付加したものである。図４（ｂ）は、図４（ａ）のイメージをＧ層およびＩ層のそれぞれに分けたイメージを表している。
【００３２】
この段階で、設計データの作成が完了する（ステップＳ１７）。図５は、作成が完了した設計データ５０を表している。そして、得られた設計データに基づいて、露光データの作成およびレチクルの作製をおこなう（ステップＳ１８）。図６（ａ）および（ｂ）は、それぞれＧ層およびＩ層について、露光データおよびレチクル５１，５２を表している。
【００３３】
以上説明したように、実施の形態１によれば、複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるディスプレイパネルの設計をおこなうにあたって、すべての層の対応するショット領域を含むように疑似分割領域を設定し、その疑似分割領域に沿って全層を一括して分割処理するため、分割処理に要する時間を短縮することができる。したがって、設計コストを削減することができる。
【００３４】
具体的には、ショット種類が６で、総ショット数が２０で、層構造数が５の１５インチのディスプレイパネルの場合、従来、分割処理に５時間を要していたが、実施の形態１によれば１時間で済むと推測される。また、ショット種類が１５で、総ショット数が２６で、層構造数が９の２１インチのディスプレイパネルの場合、従来、分割処理に２３時間を要していたが、実施の形態１によれば２．５時間で済むと推測される。
【００３５】
なお、疑似分割領域のイメージ４４のうち、ＧＡのショット領域に含まれない領域、およびＩＡのショット領域に含まれない領域に、それぞれに遮光帯４７，４８を付加して余分な領域を遮光する代わりに、ステッパ等の露光装置に付属するブラインドを用いて遮光する構成としてもよいし、遮光帯４７，４８と露光装置のブラインドを併用する構成としてもよい。
【００３６】
（実施の形態２）
図７は、本発明にかかるディスプレイレイアウト設計方法の実施の形態２によるレチクル作製の流れを示すフローチャートである。図８〜図１２は、そのフローチャートの理解を容易にするための図形パターン例であり、図２０および図２１にそれぞれ示すパネルイメージおよび分割イメージに対してレイアウト設計をおこなう場合の図形パターン例を示している。
【００３７】
図７に示すように、レイアウト設計を開始すると、まず、図２０に示すパネルイメージに対応するパネルデータの作成をおこなう（ステップＳ２１）。つづいて、図２１に示す分割イメージのように、全層について分割領域の作成をおこなう（ステップＳ２２）。ここまでは、従来と同様であるが、ここで作成された分割領域は仮の分割領域である。
【００３８】
そして、ある層を基準とし、その基準となる層のショット領域に他の層の対応するショット領域をずらして合わせ込む（ステップＳ２３）。具体的には、たとえば、図８（ａ）に示すように、ＧＡのショット領域６１とＩＡのショット領域６２がずれている場合に、図８（ｂ）に示すように、Ｉ層を基準とし、ＧＡのショット領域６１をずらしてＩＡのショット領域６２に一致させた領域６３を得る。
【００３９】
すなわち、Ｇ層とＩ層のずれ量だけＧ層の座標をずらす。この方法として、各層のストラクチャーを区別し、設計データでずらす方法と、図形の論理処理においてずらす方法がある。その他の分割領域、すなわち図２１に示すＧＢ、ＧＣおよびＧＤの各ショット領域についても、同様にしてそれぞれＩＢ、ＩＣおよびＩＤの各ショット領域に合わせ込む。
【００４０】
つづいて、分割する各ショット領域のイメージをレチクルイメージのデータに配置し、レチクルイメージを作成する（ステップＳ２４）。なお、アライメントマーク等のプロセスパターンも作製する。
【００４１】
つづいて、全層の対応するショット領域が一致しているため、全層の分割処理を一括しておこなう（ステップＳ２５）。図９（ａ）は、ＧＡのショット領域をずらしてＩＡのショット領域に合わせ込んだ領域の分割イメージ６４を表している。図９（ｂ）は、Ｇ層およびＩ層のそれぞれについて、図９（ａ）の領域に対応する領域のイメージ６５，６６を表している。
【００４２】
つづいて、一括して分割した領域の周囲に遮光帯を付加する。また補助パターンも付加する（ステップＳ２６）。図１０（ａ）は、一括して分割した領域のイメージ６４の周囲に遮光帯６７を付加したものである。また、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）のイメージをＧ層およびＩ層のそれぞれに分けたイメージを表している。
【００４３】
この段階で、設計データの作成が完了する（ステップＳ２７）。図１１は、作成が完了した設計データ６８を表している。そして、得られた設計データに基づいて、露光データの作成およびレチクルの作製をおこなう（ステップＳ２８）。レチクルを作製する際には、ステップＳ２３で基準とした層（Ｉ層）以外の層（Ｇ層）については、基準とした層に他の層を合わせ込む際にずらした分だけショット配置をオフセットさせる。図１２（ａ）および（ｂ）は、それぞれＧ層およびＩ層について、露光データおよびレチクル６９，７０を表している。
【００４４】
上述した実施の形態２によれば、複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるディスプレイパネルの設計をおこなうにあたって、基準となる層に他の層をずらして合わせ込むことによって全層にわたって分割領域を一致させ、その一致させた分割領域に沿って全層を一括して分割処理するため、分割処理に要する時間を短縮することができる。したがって、設計コストを削減することができる。
【００４５】
具体的には、ショット種類が６で、総ショット数が２０で、層構造数が５の１５インチのディスプレイパネルの場合、またはショット種類が１５で、総ショット数が２６で、層構造数が９の２１インチのディスプレイパネルの場合、分割処理に要する時間は、それぞれ、実施の形態１と同様に１時間または２．５時間で済むと推測される。
【００４６】
なお、ステップＳ２３で基準とした層（Ｉ層）以外の層（Ｇ層）について、レチクルへのショット配置をオフセットさせる代わりに、実際にステッパ等の露光装置により露光処理をおこなう際に、基準とした層に他の層を合わせ込む際にずらした分だけオフセットさせて露光をおこなうようにしてもよい。
【００４７】
以上において本発明は、Ｇ層とＩ層の２層を一括して分割処理する場合に限らず、３層以上を一括して分割処理する場合にも適用できる。また、ディスプレイパネルを構成する層数が３層以上の場合、その一部の複数層のみを一括して分割処理するようにしてもよい。さらに、ディスプレイデバイスの設計に限らず、複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるデバイスの設計をおこなう場合にも適用できる。
【００４８】
【発明の効果】
本発明によれば、複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるディスプレイパネルの設計をおこなうにあたって、すべての層の対応するショット領域を含むように疑似分割領域を設定し、その疑似分割領域に沿って全層を一括して分割処理するため、分割処理に要する時間を短縮することができる。したがって、設計コストを削減することができる。
【００４９】
つぎの発明によれば、複数層で構成され、かつ複数のショット領域に分割して設計されるディスプレイパネルの設計をおこなうにあたって、基準となる層に他の層をずらして合わせ込むことによって全層にわたって分割領域を一致させ、その一致させた分割領域に沿って全層を一括して分割処理するため、分割処理に要する時間を短縮することができる。したがって、設計コストを削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかるレイアウト設計方法の実施の形態１によるレチクル作製の流れを示すフローチャートである。
【図２】図１に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図３】図１に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図４】図１に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図５】図１に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図６】図１に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図７】本発明にかかるレイアウト設計方法の実施の形態２によるレチクル作製の流れを示すフローチャートである。
【図８】図７に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図９】図７に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図１０】図７に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図１１】図７に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図１２】図７に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図１３】ディスプレイデバイスのガラスイメージを示す概略図である。
【図１４】複数のショット領域で構成したディスプレイデバイスのガラスイメージを示す概略図である。
【図１５】複数のショット領域で構成したディスプレイデバイスのパネルイメージを示す概略図である。
【図１６】ショット領域の表示部イメージを示す概略図である。
【図１７】ショット領域の表示部イメージを示す概略図である。
【図１８】複数のショット領域で構成したディスプレイデバイスのガラスイメージおよびレチクルを示す概略図である。
【図１９】従来のレイアウト設計方法によるレチクル作製の流れを示すフローチャートである。
【図２０】図１９に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図２１】図１９に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図２２】図１９に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図２３】図１９に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図２４】図１９に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図２５】図１９に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図２６】図１９に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【図２７】図１９に示したフローチャートを説明するための図形パターン例を示す模式図である。
【符号の説明】
ＧＡ，ＧＢ，ＧＣ，ＧＤ，ＩＡ，ＩＢ，ＩＣ，ＩＤ    ショット領域
４３    疑似分割領域
４７，４８，４９    遮光帯
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
0003710964.tif 000023
【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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