(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一または複数の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、
所定方向に配列され、基板に対して薬液処理を行う薬液処理部と、この薬液処理部で薬液処理された基板に対して水洗処理を行う水洗処理部とを含む複数の処理部と、
前記複数の処理部の配列された方向に基板を搬送させるために、前記複数の処理部の上方において前記複数の処理部の配列する方向に沿って配置された第１搬送路と、
前記複数の処理部の少なくとも薬液処理部と水洗処理部との間で基板を搬送させるために、これら薬液処理部及び水洗処理部と前記第１搬送路との間に設置された第２搬送路と、
前記第１搬送路において前記複数の処理部の配列された方向に基板を搬送させる第１搬送手段と、
前記第２搬送路において少なくとも薬液処理部と水洗処理部との間で基板を搬送させる第２搬送手段と、
前記第１搬送路の空間と前記第２搬送路の空間との間で雰囲気を分離するために、前記第１搬送路と第２の搬送路との間に配設され、かつ前記第１搬送路と第２の搬送路との間における前記第２搬送路手段の移動を許容するための開口が形成された分離部材と、を備え、
前記分離部材の基板搬送用の開口は、前記分離部材における、前記水洗処理部の上方に対応した位置に形成されたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記分離部材の基板搬送用の開口に対して開閉可能なシャッタ手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置であって、
前記第２搬送路の空間内の雰囲気を排気する排気手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置であって、
前記排気手段は、前記処理部のうち薬液処理部の近傍にその排気口が設けられたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項３または４に記載の基板処理装置であって、
前記排気手段は、前記分離部材の基板搬送用の開口に対して開閉可能なシャッタ手段が開位置と閉位置に応じて高排気出力と低排気出力に切り換え制御を行う制御手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板などの薄板状の基板に所定の処理を行う基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板などを用いた精密電子基板の製造プロセスにおいては、基板を処理液に浸漬して種々の表面処理を施している。このような表面処理においては、エッチング液などの薬液を貯留した薬液槽とリンス液である純水を貯留した水洗槽とを有し、薬液槽さらに水洗槽に順次基板を浸漬して、薬液槽にて基板に薬液処理を施した後に、さらに、水洗槽にて基板に付着した薬液やパーティクルを洗い流すリンス処理を施している。
【０００３】
図５は、従来の基板処理装置における要部の概略構成を示す模式図である。
【０００４】
図５において、基板処理装置５１は、複数の基板を一括して処理する装置であって、カセットに所定枚数がセットされた基板を装置外部との間で受渡しをする搬出入部（図示せず）と、この搬出入部（図示せず）から基板を受け取って搬送すると共に搬出入部（図示せず）に基板を受渡す搬送部５２と、この搬送部５２から基板を受け取って基板に所定の処理を施すと共に、その処理後の基板を搬送部５２に受け渡す各処理ユニット５３とを有している。
【０００５】
この搬送部５２は、上下の各搬送路にそれぞれ配設され各処理ユニット５３の配設方向（Ｘ方向）にそれぞれ移動する２つの搬送ロボット５２ａ，５２ｂを備えている。これらの搬送ロボット５２ａ，５２ｂはそれぞれ、各処理ユニット５３の配設方向（Ｘ方向）と図５の紙面に直交する方向（図６のＹ方向）に伸びる軸部材５４ａ（図６）を介して取り付けられた保持板５４をそれぞれ一対有し、これらの一対の保持板５４の内側の保持用溝（図示せず）で、起立姿勢の複数の基板５５がＹ方向に並べられた状態でそれらの両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで各保持用溝で受けて保持するようになっている。
【０００６】
また、各処理ユニット５３は、エッチィング液などの薬液を貯留した薬液槽５６と、この薬液槽５６による処理済みの基板５５に付いた薬液やパーティクルなどを水洗する水洗槽５７と、薬液を貯留した薬液槽５８と、この薬液槽５８による処理済みの基板５５に付いた薬液やパーティクルなどを水洗する水洗槽５９と、この水洗槽５９で水洗処理された基板５５を乾燥する乾燥槽６０とを有している。これらの薬液槽５６、水洗槽５７、薬液槽５８さらに水洗槽５９にわたって複数の基板５５を一括して順次浸漬させることにより基板５５に薬液処理や水洗処理などの一連の各種処理が施され、さらにその処理後の基板５５を乾燥させるようになっている。
【０００７】
さらに、これらの薬液槽５６，５８および水洗槽５７，５９の各処理槽にはそれぞれリフタ装置６１が配設されており、各リフタ装置６１はそれぞれ複数の基板５５を載置可能であると共に処理槽内と基板受渡位置の間で上下移動自在に構成されている。また、これらの薬液槽５６，５８および水洗槽５７，５９の各処理槽にはそれぞれ外郭部材６２がそれぞれ配設されており、これらの外郭部材６２と乾燥槽６０の上面部にはそれぞれ、各処理槽の上部開放口に対向するように基板導入口を開閉自在な開閉扉６３が配設されている。これらの開閉扉６３はそれぞれ通常は閉じており、リフタ装置６１の処理槽内への下降に連動して両側に開くように構成されていると共に、処理槽内からの上昇に連動して両側に開くように構成されている。
【０００８】
これらの各外郭部材６２の適所にはそれぞれ排気ダクト６４が開口しており、その排気ダクト６４は流量調整バルブ６５を介して排気ポンプ６６に連通されている。この外郭部材６２内の排気によって、外郭部材６２の基板導入口の開閉扉６３が開いても、この基板導入口から外部空気が流入することで、この基板導入口を介して薬液槽５６，５８からのヒューム（酸やアルカリなどが混ざった雰囲気）の外部への拡散を防止するようになっている。
【０００９】
さらに、図６に示すように、リフタ装置６１と例えば搬送ロボット５２ｂとは、並んで配設（図６の紙面に垂直な図５のＸ方向）された複数の処理槽をそれらの幅方向に両側から挾んで対向した状態で配設されている。また同様に、リフタ装置６１と例えば搬送ロボット５２ａについても、並んで配設（図６の紙面に垂直な図５のＸ方向）された複数の処理槽をそれらの幅方向に両側から挾んで対向した状態で配設されている。
【００１０】
上記構成により、まず、搬送ロボット５２ｂは、搬出入部（図示せず）から基板を受け取って各処理ユニット５３の薬液槽５６の上方の基板受渡位置までその配設方向（Ｘ方向）に沿って搬送する。このとき、図６に示すように、搬送ロボット５２ｂの一対の保持板５４は、それらの内側の複数の保持用溝で、起立姿勢の複数の基板５５の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで受けて保持している。これに対して、薬液槽５６のリフタ装置６１が上昇してきて、その下方部に設けられた３つの保持アーム６１ａ上側の複数の各保持溝で、搬送ロボット５２ｂに保持されている複数の基板を下方から受ける。その後、搬送ロボット５２ｂの一対の保持板５４をそれぞれ実線で示すような垂直方向になるように回動させて、搬送ロボット５２ｂの複数の基板５５への保持を解除し、リフタ装置６１への複数の基板５５の受渡しを完了する。
【００１１】
次に、リフタ装置６１は複数の基板を３つの保持アーム６１ａ上側の複数の各保持溝で保持した状態で薬液槽５６内に向けて下降する。この下降に連動して外郭部材６２の開閉扉６３が仮想線のように両側に起立して開き、薬液槽５６の上部開放口から複数の基板５５を保持した保持アーム６１ａを薬液中に浸漬させて所定時間放置することで複数の基板５５に所定の薬液処理を施す。このとき、開閉扉６３は閉じられており、この薬液槽５６は外郭部材６２で略密閉されている。また、外郭部材６２内は排気ポンプ６６によって排気ダクト６４を介して排気されている。
【００１２】
さらに、リフタ装置６１は、所定時間後、薬液処理後の複数の基板５５を上昇させ、それに連動するように開閉扉６３が仮想線のように両側に起立して開き、薬液槽５６の上部開放口から複数の基板５５を保持した保持アーム６１ａを薬液槽５６の上方の基板受渡位置まで上昇させる。その基板受渡位置では、搬送ロボット５２ｂが一対の保持板５４をそれぞれ垂直方向にした状態で待機しており、複数の基板５５を保持した保持アーム６１ａを基板受渡位置に到着させた後に、一対の保持板５４の下部側をそれぞれ内側に回動させて、複数の基板５５の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで一対の保持板５４の各保持用溝で受けて保持する。
【００１３】
さらに、リフタ装置６１を保持アーム６１ａと共に下方に退避させて一対の保持板５４に基板５５を移し代えた後に、搬送ロボット５２ｂは複数の基板５５を、薬液槽５６の隣に位置している水洗槽５７の上方の基板受渡位置までその配設方向（Ｘ方向）に沿って搬送する。このとき、搬送ロボット５２ｂの一対の保持板５４はそれぞれ、それらの内側の複数の保持用溝で、起立姿勢の複数の基板５５の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで受けて保持している。これに対して、水洗槽５７のリフタ装置６１が上昇してきて、その下方部に設けられた３つの保持アーム６１ａの上側の複数の各保持溝で、搬送ロボット５２ｂに保持されている複数の基板５５を下方から受ける。その後、搬送ロボット５２ｂの一対の保持板５４をその長手方向が垂直方向になるようにそれぞれ回動させて、搬送ロボット５２ｂの複数の基板５５への保持を解除し、水洗槽５７のリフタ装置６１への複数の基板５５の受渡しが完了する。
【００１４】
さらに、水洗槽５７のリフタ装置６１は複数の基板５５を３つの保持アーム６１ａ上側の複数の各保持溝で保持した状態で水洗槽５７内に向けて下降する。これと同時に、基板５５の受渡し後の空状態の搬送ロボット５２ｂは、搬出入部（図示せず）との基板受渡位置までその配設方向（Ｘ方向）に沿って移動し、その搬出入部から複数の基板５５の受渡しに備える。
【００１５】
このリフタ装置６１の下降に連動して外郭部材６２の開閉扉６３が開き、水洗槽５７の上部開放口から複数の基板５５を保持した保持アーム６１ａをその純水中に浸漬させて複数の基板５５を水洗処理する。この水洗処理時には、その開閉扉６３は閉じられており、この水洗槽５７の外郭部材６２内が密閉されている。
【００１６】
さらに、リフタ装置６１は、所定時間後、水洗処理後の複数の基板５５を上昇させ、それに連動するように開閉扉６３が開き、水洗槽５７の上部開放口から複数の基板５５を保持した保持アーム６１ａを水洗槽５７の上方の搬送ロボット５２ａ用の上側の基板受渡位置まで上昇させる。その基板受渡位置では、搬送ロボット５２ａが一対の保持板５４の長手方向を垂直方向にした状態で待機しており、複数の基板５５を保持した保持アーム６１ａをその基板受渡位置に到着させた後に、一対の保持板５４の下部側をそれぞれ内側に回動させて、複数の基板５５の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで各保持用溝で受けて保持することで、複数の基板５５の受渡しを行う。
【００１７】
その後、搬送ロボット５２ａは、乾燥槽６０へ複数の基板５５を搬送して乾燥槽６０で複数の基板５５に乾燥処理を施す。また、搬送ロボット５２ｂは、各処理槽のリフタ装置６１との複数の基板５５の受渡しを行いつつ、以上と同様の動作を繰り返して薬液槽５６さらに水洗槽５７による一連の処理を行うように複数の基板５５を搬送する。
【００１８】
さらに、乾燥処理後の複数の基板５５を乾燥槽６０のリフタ装置６１から受け取った搬送ロボット５２ａは、搬出入部（図示せず）との基板受渡位置までその配設方向（Ｘ方向）に沿って複数の処理済みの複数の基板５５を搬送して、搬出入部に複数の処理済みの複数の基板５５を受け渡す。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記従来の構成では、各処理槽に対してリフタ装置６１が複数の基板５５を載置した状態で上昇または下降するときに、それに連動して外郭部材６２の開閉扉６３が開いて、保持アーム６１ａに保持され、かつ、薬液の付いた複数の基板５５が基板導入口から処理槽外部に出るが、開閉扉６３が開いて基板導入口から拡散して出る薬液槽５６，５８からのヒュームについては、外郭部材６２内の排気によって基板導入口から空気を流入させることでヒュームの外部への拡散をある程度は防止することができるが、薬液の付いた複数の基板５５および保持アーム６１ａが外郭部材６２の外側に出ることから、薬液の付いた複数の基板５５および保持アーム６１ａからのヒュームは、搬送ロボット５２ａ，５２ｂの受渡位置を含む基板搬送ラインにまで拡散してしまうという問題を有していた。
【００２０】
このように、ヒュームが基板搬送ラインにまで拡散してしまうと、ヒュームによって水洗処理後の綺麗な複数の基板５５も汚れることになり、これがデバイスのロット不良を引き起すと共に、ヒュームによる腐食によって機械構造系の部品不良を引き起こしたり、クリーンルーム内の清浄な空気を汚したりしてしまう。
【００２１】
本発明は、上記従来の問題を解決するもので、基板搬送ラインへのヒュームの拡散をより抑制することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板処理装置は、一または複数の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、所定方向に配列され、基板に対して薬液処理を行う薬液処理部と、この薬液処理部で薬液処理された基板に対して水洗処理を行う水洗処理部とを含む複数の処理部と、前記複数の処理部の配列された方向に基板を搬送させるために、前記複数の処理部の上方において前記複数の処理部の配列する方向に沿って配置された第１搬送路と、前記複数の処理部の少なくとも薬液処理部と水洗処理部との間で基板を搬送させるために、これら薬液処理部及び水洗処理部と前記第１搬送路との間に設置された第２搬送路と、前記第１搬送路において前記複数の処理部の配列された方向に基板を搬送させる第１搬送手段と、前記第２搬送路において少なくとも薬液処理部と水洗処理部との間で基板を搬送させる第２搬送手段と、前記第１搬送路の空間と前記第２搬送路の空間との間で雰囲気を分離するために、前記第１搬送路と第２の搬送路との間に配設され、かつ前記第１搬送路と第２の搬送路との間における前記第２搬送路手段の移動を許容するための開口が形成された分離部材とを備え、前記分離部材の基板搬送用の開口は、前記分離部材における、前記水洗処理部の上方に対応した位置に形成されたものである。
【００２３】
この構成により、処理部内（基板処理エリア）に基板搬送を行う第２基板搬送路と、この第２基板搬送路に対して基板搬送を行う第１基板搬送路との間を仕切って分離する分離部材を設けたので、薬液等の付いた基板が基板処理エリアから外側の第２基板搬送路内に取り出されても、薬液等の付いた複数の基板から出たヒュームは、分離部材で囲まれた第２基板搬送路の空間内に漂うものの、分離部材の外側の第１基板搬送路に対してヒュームが拡散することが大幅に抑制される。したがって、ヒュームが第１基板搬送路の基板搬送ラインまでは拡散せず、従来のように水洗処理後の綺麗な基板が汚染されるようなこともなくなり、デバイスのロット不良を引き起したり、ヒュームによる腐食によって機械構造系の部品不良を引き起こしたり、クリーンルーム内の清浄な空気を汚したりする従来の不都合は解消される。
【００２４】
しかも、本発明の基板処理装置における複数の処理部は、基板に対して薬液処理を行う薬液処理部と、基板に対して水洗処理を行う水洗処理部とを含み、分離部材の基板搬送用の開口は、分離部材における、水洗処理部の上方に対応した位置に形成されている。
【００２５】
この構成により、薬液の付いた基板が基板処理エリアから外側の第２基板搬送路の空間内に取り出される薬液処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、そのヒューム濃度の濃い位置から離れた水洗処理部の上方の分離部材に開口があれば、薬液から出たヒュームがさらに外側の第１基板搬送路の空間内に拡散することが抑制され得る。
【００２６】
また、好ましくは、本発明の基板処理装置において、分離部材の基板搬送用の開口に対して開閉可能なシャッタ手段を備える。
【００２７】
この構成により、第１基板搬送路と第２基板搬送路との間で基板を搬送する開口が分離部材に必要となるが、この分離部材の開口を開閉するシャッタ手段を設ければ、第２基板搬送路の空間内の、薬液等から出たヒュームが外側の第１基板搬送路に拡散することが大幅に抑制され得る。
【００２８】
さらに、好ましくは、本発明の基板処理装置における第２搬送エリア内の雰囲気を排気する排気手段を備える。
【００２９】
この構成により、排気手段で第２搬送エリア内の雰囲気を排気するようにすれば、第２基板搬送エリア内の薬液から出たヒューム濃度が、より希薄になって外側の第１基板搬送エリアに拡散することが大幅に抑制され得る。
【００３０】
さらに、好ましくは、本発明の基板処理装置における排気手段は、処理部のうち薬液処理部の近傍にその排気口を設ける。
【００３１】
この構成により、薬液処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、薬液処理部の近傍に排気口を設けるようにすれば、排気手段で排気口からヒューム濃度の濃い第２搬送路の空間内の雰囲気を排気することが可能となって、第２基板搬送路の空間内のヒューム濃度を、より効率よく希薄にすることが可能となって外側の第１基板搬送路にヒュームが拡散することが大幅に抑制され得る。
【００３２】
さらに、好ましくは、本発明の基板処理装置における排気手段は、分離部材の基板搬送用の開口に対して開閉可能なシャッタ手段の開位置と閉位置に応じて高排気出力と低排気出力に切り換え制御を行う制御手段を備える。
【００３３】
この構成により、分離部材の開口がシャッタ手段によって開いているときには高排気出力で第２基板搬送路の空間内のヒュームを排気し、分離部材の開口がシャッタ手段によって閉じているときには低排気出力で第２基板搬送路の空間内のヒュームを排気するように切り換え可能にしたので、シャッタ手段の閉時には、省電力で小駆動音（静音）とすることが可能になると共に、シャッタ手段の開時にはヒュームの第１基板搬送路への拡散がさらに抑制され得る。
【００３４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る基板処理装置の実施形態について図面を参照して説明するが、本発明は以下に示す実施形態に限定されるものではない。
【００３５】
図１は本発明の一実施形態の基板処理装置の概略要部構成を示す斜視図であり、図２は図１の基板処理装置のＡＡ断面部分を背面から見た概略要部構成図である。
【００３６】
図１において、基板処理装置１は、ウエハなどの複数の基板２を一括して処理する装置であって、カセット３に所定枚数がセットされた基板２を装置外部との間で受渡しをする搬出入部４と、この搬出入部４から処理前の基板２を受け取って搬送し、基板２に所定の処理を施すと共に、処理済みの基板２を搬送して搬出入部４に受渡す基板処理ユニット５とを有している。
【００３７】
この搬出入部４は、搬入された（または搬出直前の）複数の基板２をカセット３にセットした状態で一時的に並べて載置しておくカセット載置台６と、カセット３の両上端つば部分３ａを下方からそれぞれ受けて保持する片持ち状に２本突き出たカセット保持アーム７が、このカセット載置台６のカセット並び方向に移動自在であると共に、カセット保持アーム７でカセット３を取り込んで保持したりカセット３を載置したりするために上下方向に昇降自在で、かつその上下方向に平行な軸（カセット保持アーム７の取付部材を支持する支持軸）を中心に回動自在に構成されている移載ロボット８と、この移載ロボット８によってカセット載置台６から載置されたカセット３内の複数の基板２だけを突き上げて搬送機構９に受け渡す突上部１０と、移載ロボット８によって突上部１０から載置された空のカセット３を洗浄するカセット洗浄部１１とを有している。この移載ロボット８は、カセット載置台６から突上部１０の所定位置にカセット３を搬送して載置し、突上部１０でカセット３から複数の基板２だけを突き上げて搬送機構９に受け渡した後の空のカセット３をカセット洗浄部１１に移送すると共に、カセット洗浄部１１で洗浄処理された空のカセット３を、処理済みの複数の基板２が搬送機構９から突上部１０に受け渡されてカセット３内に回収されるべく、再び突上部１０の位置決めされた所定位置に移送して待機させるようになっている。
【００３８】
また、基板処理ユニット５には、図２に示すように、複数の処理槽１２〜１５をそれぞれ覆う各槽外郭部材１６内（処理部内）の複数の基板処理エリア１７と、これらの複数の基板処理エリア１７の上方に設けられ各基板処理エリア１７間を搬送する第２搬送路を有する２つの第２基板搬送エリア１８，１９と、これらの第２基板搬送エリア１８，１９に対してそれぞれ基板２を搬送する第１搬送路を有する第１基板搬送エリア２０と、これらの第２基板搬送エリア１８，１９と第１基板搬送エリア２０の間をそれぞれ仕切って分離する各分離部材（雰囲気遮断部材）としての各搬送エリア外郭部材２１とが配設されている。この搬送エリア外郭部材２１の、一の処理槽（本実施形態では水洗槽）の上部開放口に対応（対向）した上方位置には、第２基板搬送エリア１８と第１基板搬送エリア２０との間および、第２基板搬送エリア１９と第１基板搬送エリア２０との間を複数の基板２が搬送可能な各開口２２がそれぞれ設けられている。また、各基板処理エリア１７内および第２基板搬送エリア１８，１９内の雰囲気を共に排気する排気手段２３が設けられている。このように、搬送エリア外郭部材２１によって仕切られた外側のクリーンな第１基板搬送エリア２０と、複数の基板２の薬液からの出し入れでヒュームが拡散する搬送エリア外郭部材２１の内側の第２基板搬送エリア１８，１９と、実際に複数の基板２を処理する基板処理エリア１７との３つのエリアに分けると共に、基板処理エリア１７内および第２基板搬送エリア１８，１９内の雰囲気を排気手段２３で排気することで、基板搬送ラインである第１基板搬送エリア２０へのヒュームの拡散をより確実に防止するようになっている。
【００３９】
つまり、本実施形態では、上記複数の処理槽１２〜１５は、エッチィング液などの薬液を貯留した薬液槽１２と、この薬液槽１２による処理済みの基板２に付いた薬液やパーティクルなどを洗い流す水洗槽１３と、薬液を貯留した薬液槽１４と、この薬液槽１４による処理済みの基板２に付いた薬液やパーティクルなどを洗い流す水洗槽１５とで構成されている。搬送エリア外郭部材２１の一方は、薬液槽１２を覆った槽外郭部材１６と、水洗槽１３を覆った槽外郭部材１６とを覆うと共に、それらの各槽外郭部材１６の間（各処理部間）を基板搬送可能な第２基板搬送エリア１８をも覆うように構成されている。また、搬送エリア外郭部材２１の他方は、薬液槽１４を覆った槽外郭部材１６と、水洗槽１５を覆った槽外郭部材１６とを覆うと共に、それらの各槽外郭部材１６間を基板搬送可能な第２基板搬送エリア１９をも覆うように構成されている。さらに、薬液槽１２，１４および水洗槽１３，１５の各上部開放口にそれぞれ対応（対向）した各槽外郭部材１６の上面にはそれぞれ、複数の基板２を内部に導入可能な各基板導入口２４がそれぞれ配設されている。これらの各基板導入口２４のうち、水洗槽１３，１５側の各基板導入口２４にそれぞれ対応（対向）する上方の各搬送エリア外郭部材２１の上面だけに、複数の基板２を内部に導入可能な各開口２２がそれぞれ設けられている。一方、薬液槽１２，１４の各上部開放口にそれぞれ対向するようにその各上方に基板導入口２４をそれぞれ配設し、さらにその上方の各搬送エリア外郭部材２１にそれぞれ開口をそれぞれ設けていない。これは、搬送エリア外郭部材２１でエリア間を仕切るだけではなく、第２基板搬送エリア１８，１９と第１基板搬送エリア２０との連通面積（開口面積）をより小さくして第１基板搬送エリア２０へのヒュームの拡散を抑制すると共に、排気手段２３によって第１基板搬送エリア２０へのヒュームの拡散を防止する程度に、基板処理エリア１７内および第２基板搬送エリア１８，１９内の雰囲気を排気することから、その排気量を従来とは大幅に削減可能にするためである。
【００４０】
また、この水洗槽１５の隣側には、水洗槽１５で水洗処理された基板２を乾燥する乾燥槽２５が配設されている。薬液槽１２、水洗槽１３、薬液槽１４等で複数の基板２を一括して順次各処理槽に浸漬させることにより、複数の基板２に薬液処理や水洗処理などの一連の各種処理が施され、その処理後の複数の基板２を乾燥槽２５で乾燥させるようになっている。この乾燥槽２５は、所定温度の乾燥用温風（ヒータなどで昇温されていてもよい）が供給される構成であってもよいし、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）による減圧乾燥などであってもよい。
【００４１】
さらに、各開口２２をそれぞれスライドして開閉する板状の開口部開閉扉２６と、この開口部開閉扉２６を基板搬送に応じて開閉駆動させる開口部開閉駆動手段（図示せず）とが搬送エリア外郭部材２１の上面部に配設されている。これらの開口部開閉扉２６と開口部開閉駆動手段によってシャッタ手段が構成されており、基板搬送用の開口２２に対して開閉可能である。また、各槽外郭部材１６の基板導入口２４をそれぞれ開閉する各導入口開閉扉２７と、これらの各導入口開閉扉２７を基板搬送に応じて開閉駆動させる導入口開閉駆動手段（図示せず）とが各槽外郭部材１６の上面部に配設されている。これらの各槽外郭部材１６に各導入口開閉扉２７をそれぞれ設けているのは、単にヒュームの拡散防止のためだけではなく液中に含まれている揮発成分の蒸発をできるだけ抑えるためである。また、各開口部開閉扉２６を設けているのは、高クリーン度が要求される第１基板搬送エリア２０側に第２基板搬送エリア１８，１９側からヒュームが拡散するのをできるだけ防止するためである。この観点から、これらの各開口部開閉扉２６および各導入口開閉扉２７は、複数の基板２の物流時以外には閉じている。さらに、乾燥槽２５の上面にも基板導入口を開閉する各導入口開閉扉２８が配設されている。
【００４２】
本実施形態では、この開口部開閉扉２６は搬送エリア外郭部材２１の上面に沿って所定距離だけスライドして水平移動することで開口２２を開閉するようになっており、導入口開閉扉２７は両開き状に両側で回動駆動して基板導入口２４を開閉するようになっている。これらの開口部開閉駆動手段および導入口開閉駆動手段は例えばエアーシリンダ（図示せず）などで構成されていてもよい。この場合、開口部開閉扉２６にエアーシリンダのロッド先端が取り付けられてロッドの所定ストロークの伸縮によって開口２２を開閉する。また、導入口開閉扉２７は２枚の扉で構成され、それぞれの扉に対して、アーム一端がそれぞれ固定され、アーム中央部でそれぞれ回動自在に軸支されたアーム（図示せず）の他端にエアーシリンダのロッド先端が取り付けられてロッドの所定ストロークの伸縮によって導入口開閉扉２７をアーム（図示せず）を介して両開き状に両側で回動駆動させて基板導入口２４を開閉するようになっている。このように、導入口開閉扉２７を両開き用にしてそれぞれの扉を開閉する場合、それぞれの扉の駆動用にはエアーシリンダを２台設けるようにしてもよい。
【００４３】
さらに、搬送機構９は搬送ロボットで構成されており、複数の処理槽１２〜１５の配設方向（Ｘ方向）に移動可能で複数の基板２を保持可能な一対の保持板２９を有している。この一対の保持板２９はそれぞれ、図２の紙面に直交する方向（図３のＹ方向）に伸びる各軸部材３０（図３）にそれぞれ固定されており、これらの各軸部材３０の軸芯をそれぞれ回動中心として互いに逆方向に回動自在に搬送機構本体９ａに連結されている。また、この一対の保持板２９にはそれぞれ、その対向した各内側に複数の基板２を所定間隔を空けてそれぞれ起立（垂直）姿勢で保持可能な保持用溝（図示せず）が複数形成されている。一対の保持板２９の下端部を互いに内側に接近させて、複数の基板２をＹ方向に並べた状態でそれらの両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで各保持用溝で受けて保持する。
【００４４】
さらに、これらの薬液槽１２および水洗槽１３と、薬液槽１４および水洗槽１５のそれぞれに、複数の基板２を搬送する各リフタ装置３１がそれぞれ配設されている。図３に示すように、これらの各リフタ装置３１は、基板保持用溝３２ａが複数形成され複数の基板２を下方から各基板保持用溝３２ａでそれぞれ受けて起立姿勢で保持する３本の保持アーム３２と、この３本の保持アーム３２が下端部分でＬ字状に接続された可動保持板３３と、この可動保持板３３の上端部分裏面に固定され上下移動および水平動可能な可動部材３４と、この可動部材３４を上下動および水平動させる駆動手段（図示せず）とがそれぞれ配設されている。また、乾燥槽２５にも、複数の基板２を搬送する各リフタ装置３５が配設されており、このリフタ装置３５はリフタ装置３１と同様の構成をしている。
【００４５】
これらの各リフタ装置３１，３５の駆動手段（図示せず）は、レールなどの案内部材（図示せず）に沿って可動部材３４をレールなどの案内部材（図示せず）に沿って上下方向に移動させる垂直駆動ユニットを有しており、例えばワイヤやベルトなどを駆動するプーリやロールなどをモータで回転駆動させてワイヤやベルトなどに取り付けられた可動部材３４を上下動させるようにしてもよい。また、ピニオンおよびラックをモータで駆動させて可動部材３４を上下動させるようにしてもよく、ボールねじとモータによって可動部材３４を上下動させるようにしてもよく、種々の駆動系が考えられる。さらに、この各リフタ装置３１の駆動手段（図示せず）は、レールなどの案内部材（図示せず）に沿って可動部材３４を上記垂直駆動ユニットと共に水平方向に移動させる水平駆動ユニットを有しており、上記と同様にボールねじなど種々の駆動系が考えられる。
【００４６】
各リフタ装置３１の処理槽内への下降に連動して導入口開閉扉２７が開くように構成されていると共に、処理槽内からの上昇に連動して導入口開閉扉２７が開くように構成されている。また、各リフタ装置３１の第２基板搬送エリア１８内または第２基板搬送エリア１９内への下降に連動して開口部開閉扉２６が開くように構成されていると共に、第２基板搬送エリア１８内または第２基板搬送エリア１９内からの上昇に連動して開口部開閉扉２６が開くように構成されている。さらに、リフタ装置３５の乾燥槽２５内への下降に連動して導入口開閉扉２８が開くように構成されていると共に、乾燥槽２５内からの上昇に連動して導入口開閉扉２８が開くように構成されている。つまり、これらの開口部開閉扉２６および導入口開閉扉２７，２８はそれぞれ複数の基板２の通過時のみ開き、他は閉じているようになっている。
【００４７】
さらに、各槽外郭部材１６の上部側壁（図２の処理槽開放口の高さ位置）にはそれぞれ各排気ダクト３７の排気口が処理槽幅方向に渡って長方形状にそれぞれ開口しており、それらの排気ダクト３７の排気口は流量調整バルブ３８を介して排気ポンプ３９に連通されている。また、各第２基板搬送エリア１８，１９をそれぞれ覆っている各搬送エリア外郭部材２１の側壁部にはそれぞれ、各排気ダクト３７の排気口がリフタ装置３１の幅方向に渡って長方形状にそれぞれ開口しており、それらの排気ダクト３７の排気口も流量調整バルブ３８を介して排気ポンプ３９に連通されている。これらの各搬送エリア外郭部材２１の排気口は、薬液槽１２，１４の上方近傍位置であって各第２基板搬送エリア１８の最も奥側の側壁に配設されている。これらの排気ダクト３７、流量調整バルブ３８および排気ポンプ３９によって排気手段２３が構成されており、各槽外郭部材１６内（基板処理エリア１７）および各搬送エリア外郭部材２１内（第２基板搬送エリア１８内）の適所に設けられたこの排気手段２３による排気口からの排気によって、各搬送エリア外郭部材２１の開口部開閉扉２６が開いたり、各外郭部材１６の基板導入口開閉扉２７が開いても、この開口２２や基板導入口２４から外部の空気が流入することで、この開口２２や基板導入口２４を介して薬液槽１２，１４や、薬液の付いた複数の基板２からのヒューム（酸やアルカリなどが混ざった雰囲気）の外部への拡散が防止されるようになっている。
【００４８】
また、排気手段２３は、分離部材としての各搬送エリア外郭部材２１の基板搬送用の開口２２に対して開閉可能なシャッタ手段を構成する開口部開閉扉２６が開位置と閉位置に応じて排気ポンプ３９の出力を高排気出力と低排気出力に切り換え制御を行う制御手段（図示せず）を有するようにしてもよい。つまり、この制御手段は、シャッタ手段が開口２２を閉じている場合には、それをリミットスイッチ（図示せず）などで検出させて排気ポンプ３９の出力を低排気出力とするように制御して省電力化し、基板搬送時などシャッタ手段が開口２２を開けている場合には、それをリミットスイッチなどで検出させて排気ポンプ３９の出力を高排気出力とするように制御してヒュームがクリーンな第１基板搬送エリア側に拡散しないように構成することもできる。
【００４９】
さらに、図３〜図５に示すように、これらのリフタ装置３１と搬送機構９とは、並んで配設された複数の処理槽１２〜１５，２５に対して同一側にそれぞれ配設されている。この場合に、これらのリフタ装置３１と搬送機構９とはそれぞれ基板保持部分（保持板２９や３本の保持アーム３２）が前方（搬送方向に直交する方向）に突き出た片持ち構造をしている。
【００５０】
さらに、各搬送エリア外郭部材２１の上方の第１基板搬送エリア２０を覆う更なるヒューム拡散防止用の搬送エリア外郭部材４０が設けられており、搬送エリア外郭部材４０内において複数の処理槽１２〜１５，２５の配列された方向（Ｘ方向）に複数の基板２を搬送させるための基板搬送ライン（第１搬送路）の空間部分を構成している。この搬送エリア外郭部材４０の側壁には、搬送機構９の一対の保持板２９と共にそれに保持された複数の基板２の移動を許容するための開口４１が形成されており、この開口４１を開閉するための開閉扉４２がには、その搬送エリア外郭部材４０の側壁に沿ってスライド自在に構成されている。この開閉扉４２は、通常は閉状態であり、搬送機構９の開口４１に対する通過時にのみ開状態となるように開閉駆動手段（図示せず）で開閉駆動されるようになっている。この開閉駆動手段は、例えば扉開閉用のシリンダと、搬送機構９を検出する検出手段と、この検出手段で搬送機構９を検出したときにシリンダを駆動させるように切り換える電磁弁とを有している。
【００５１】
上記構成により、以下、その動作を説明する。
【００５２】
まず、搬送機構９は、搬出入部（図示せず）から基板２を受け取って第１の処理ユニットのある第１基板搬送エリア１８の開口２２の上方の基板受渡位置まで第１基板搬送エリア２０内の搬送路をその搬送路方向（Ｘ方向）に沿って搬送する。この基板受渡位置において、図２に示すように、搬送機構９の一対の保持板２９はそれぞれ、それらの内側の複数の保持用溝で、起立姿勢の複数の基板２の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで受けて保持している。これに対して、リフタ装置３１がその基板受渡位置まで上昇してきて、その下方部に設けられた３つの保持アーム３２の上側の複数の各保持溝で、搬送機構９に保持されている複数の基板２を下方から受ける。その後、搬送機構９の一対の保持板２９をそれぞれ垂直方向になるようにそれぞれ回動させて、搬送機構９による複数の基板２への保持を解除し、リフタ装置３１の３つの保持アーム３２上への複数の基板２の受渡しを完了する。
【００５３】
次に、リフタ装置３１は複数の基板２を３つの保持アーム３２上の複数の各保持溝で保持した状態で下降し始めると、この下降に連動して搬送エリア外郭部材２１の開口部開閉扉２６が開き、その開口２２を通して複数の基板２と共にリフタ装置３１が第２基板搬送エリア１８内に入る。この第２基板搬送エリア１８内で、リフタ装置３１は複数の基板２と共に、薬液処理部の上方位置まで横方向に水平移動した後に、薬液槽１２のある薬液処理部内に向けて下降し始める。この下降に連動して槽外郭部材１６の基板導入口開閉扉２７が開き、その基板導入口２４を通して複数の基板２を保持した３つの保持アーム３２が基板処理エリア１７内に入って、さらに、薬液槽１２の上部開放口から複数の基板２を保持した保持アーム３２をその薬液中に浸漬させ、その状態で所定時間放置して複数の基板２の表面に所定の薬液処理を施す。
【００５４】
これらの一連の第２基板搬送エリア１８内の基板搬送時や薬液処理時には、搬送エリア外郭部材２１の開口２２は開口部開閉扉２６によって閉じられていると共に、この薬液槽１２および水洗槽１３上の各槽外郭部材１６の基板導入口２４もそれぞれ、その基板処理エリア１７内への基板導入時以外は各基板導入口開閉扉２７によってそれぞれ閉じられている。また、排気手段２３は、常に一定の排気能力で排気するようにしてもよいが、この場合には、その開口２２および各基板導入口２４の開放時（エリア間の基板搬送時）にも外部にヒューム拡散がないような高排気能力でなければならない。このため、開口２２および各基板導入口２４の開放時に高排気出力で排気ポンプ３９を駆動してその内部雰囲気を排気し、開口２２および各基板導入口２４のうち何れか一方の開放時に、中排気出力で排気ポンプ３９を駆動してその内部雰囲気を排気し、開口２２および基板導入口２４の閉止時（エリア内基板搬送時および基板処理時）には低排気出力で排気して排気ポンプ３９を３段階の省電力駆動としてもよい。また、開口２２および各基板導入口２４のうち少なくとも何れかの開放時に、高排気出力で排気ポンプ３９を駆動してその内部雰囲気を排気し、開口２２および基板導入口２４の閉止時（エリア内基板搬送時および基板処理時）には低排気出力で排気して排気ポンプ３９を２段階の省電力駆動としてもよい。
【００５５】
さらに、所定時間後の薬液処理後、リフタ装置３１は、複数の基板２を保持した保持アーム３２を上昇させ、それに連動するように開閉扉２７が仮想線で示すように両側に開き、薬液槽１２の上部開放口から基板導入口２４を通して複数の基板２を保持した保持アーム３２を薬液槽１２の上方まで上昇させ、水洗槽１３のある水洗処理部の上方位置まで横方向に水平移動させる。その後、リフタ装置３１は、薬液処理を済ませて基板２の表面に薬液が付いた複数の基板２を保持アーム３２と共に下降させる、この下降に連動して槽外郭部材１６の基板導入口開閉扉２７が開き、その基板導入口２４を通して複数の基板２を保持した保持アーム３２が水洗槽１３の基板処理エリア１７内に導入される。この基板処理エリア１７内で、リフタ装置３１は、水洗槽１３の上部開放口から複数の基板２を保持した保持アーム３２をその薬液中に浸漬させ、複数の基板２の表面に付着した薬液を洗い流す水洗処理を行う。
【００５６】
これらの一連の第２基板搬送エリア１８内の基板搬送時や水洗処理時には上記と同様に、搬送エリア外郭部材２１の開口２２は開口部開閉扉２６によって閉じられていると共に、この薬液槽１２および水洗槽１３上の各槽外郭部材１６の基板導入口２４もそれぞれ、各基板処理エリア１７内への基板導入時以外は各基板導入口開閉扉２７によってそれぞれ閉じられているが、このような場合にも、薬液槽１２からの一連の第２基板搬送エリア１８内の基板搬送時には、薬液の付いた複数の基板２からのヒュームを排気するべく、高排気出力で排気ポンプ３９を駆動してその内部雰囲気を排気するようにしてもよい。
【００５７】
さらに、所定時間後の水洗処理後、リフタ装置３１は、複数の基板２を保持した保持アーム３２を上昇させ、それに連動するように開閉扉２７を両側に開き、水洗槽１３の上部開放口から基板導入口２４を通して複数の基板２を保持した保持アーム３２を上昇させ、その上昇に連動するように開口部開閉扉２６を開き、搬送エリア外郭部材２１の開口２２を通して複数の基板２を保持した保持アーム３２を基板受渡位置まで上昇させる。
【００５８】
この搬送エリア外郭部材２１で覆われた第１の処理ユニットにおける基板受渡位置では、搬送機構９の一対の保持板２９が垂直方向の姿勢で待機しており、複数の基板２を保持した保持アーム３２を一対の保持板２９の間に到着させた後に、一対の保持板２９の下部側をそれぞれ内側に回動させて、複数の基板２の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで各保持用溝でそれぞれ受けて保持する。
【００５９】
さらに、リフタ装置３１を保持アーム３２と共に下方に退避させた後に、搬送機構９の一対の保持板２９は複数の基板２を保持した状態で、次の第２の処理ユニットのある第２基板搬送エリア１９の開口２２の上方の基板受渡位置まで第１基板搬送エリア２０内の搬送路をその搬送路方向（Ｘ方向）に沿って搬送する。このとき、搬送機構９の一対の保持板２９は、それらの内側の複数の保持用溝で、起立姿勢の複数の基板２の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで受けて保持している。これに対して、第２の処理ユニットのリフタ装置３１が上昇してきて、その下方部に設けられた３つの保持アーム３２の上側の複数の各保持溝で、一対の保持板２９に保持されている複数の基板２を下方から受ける。その後、一対の保持板２９をそれぞれ垂直方向になるように回動させて、一対の保持板２９の複数の基板２への保持を解除し、搬送機構９の一対の保持板２９から第２の処理ユニットのリフタ装置３１への複数の基板２の受渡しが完了する。
【００６０】
さらに、第２の処理ユニットのリフタ装置３１に受け渡された複数の基板２は、そのリフタ装置３１によって第２基板搬送エリア１９内に導入されることになる。また、一方、空の搬送機構９は、搬出入部に戻って基板２を受け取り、第１第１の処理ユニットの搬送エリア外郭部材２１の開口２２の上方の基板受渡位置まで複数の基板２を搬送して、第２基板搬送エリア１９内に導入するべくリフタ装置３１に複数の基板２の受渡しを行う。
【００６１】
また、このように、第２基板搬送エリア１８，１９内にそれぞれ導入された複数の基板２はそれぞれ、その後の第１の処理ユニットおよび第２の処理ユニットにおける各基板搬送および扉開閉さらに排気などの各動作は、上記した第１の処理ユニットにおける薬液処理および水洗処理のための各動作と同様に行われる。
【００６２】
さらに、第２の処理ユニットのリフタ装置３１は、所定時間後の水洗処理後の複数の基板２を上昇させ、それに連動するように開閉扉２７が開き、水洗槽１５の上部開放口からその基板導入口２４を通して複数の基板２を保持した保持アーム３２を上昇させ、その上昇に連動するように開口部開閉扉２６を開き、搬送エリア外郭部材２１の開口２２を通して複数の基板２を保持した保持アーム３２を第２の処理ユニットの基板受渡位置まで上昇させる。その基板受渡位置では、搬送機構９の一対の保持板２９が一対の保持板２９をそれぞれ垂直方向の姿勢で待機しており、複数の基板２を保持した保持アーム３２を一対の保持板２９の間の基板受渡位置に到着させた後に、一対の保持板２９の下端側をそれぞれ内側に回動させて、複数の基板２の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで各保持用溝で受けて保持することで基板２の搬送機構９への受渡しを行う。
【００６３】
その後、搬送機構９の一対の保持板２９は、乾燥槽２５のリフタ装置３５に対して第２の処理ユニットの処理が終了した複数の基板２を受け渡す。また、第１の処理ユニットのリフタ装置３１から一対の保持板２９に対して第１の処理ユニットの処理が終了した複数の基板２を受け取ってその一対の保持板２９から第２の処理ユニットのリフタ装置３１に複数の基板２を受け渡す。さらに、第２の処理ユニットのリフタ装置３１に受け渡された複数の基板２は第２基板搬送エリア１９内に導入されると共に、搬送機構９は、搬出入部に戻って基板２を受け取り、第１の処理ユニットの開口２２の上方の基板受渡位置まで基板２を搬送して、第１の処理ユニットのリフタ装置３１に複数の基板２の受渡しを行う。一方、乾燥処理部のリフタ装置３１によって複数の基板２を保持アーム３２と共に下降させ、その下降に連動させて開閉扉２８を開いて乾燥槽２５内に複数の基板２が導入されて乾燥処理が行われる。
【００６４】
このようにして、第２基板搬送エリア１８，１９、乾燥処理部内にそれぞれ導入された複数の基板２はそれぞれ、第１の処理ユニットおよび第２の処理ユニット、乾燥処理部における各基板搬送および扉開閉さらに排気などの各動作が行われる。
【００６５】
さらに、リフタ装置３５によって再び、乾燥槽２５内からその上方の基板受渡位置まで乾燥処理後の複数の基板２を上昇させて搬送機構９の一対の保持板２９間に受渡し、その搬送機構９によって乾燥処理後の複数の基板２を搬出入部（図示せず）との基板受渡位置まで各処理部の配設方向（Ｘ方向）に沿って複数の処理済みの基板２を搬送して、搬出入部にその複数の処理済みの基板２を受け渡す。
【００６６】
このように、搬送機構９の一対の保持板２９は、乾燥槽２５のリフタ装置３５に対して第２の処理ユニットの処理が終了した複数の基板２を受け渡すと共に、第１の処理ユニットのリフタ装置３１から第１の処理ユニットの処理が終了した複数の基板２を受け取ってその一対の保持板２９から第２の処理ユニットのリフタ装置３１に複数の基板２を受け渡す。さらに、第２の処理ユニットのリフタ装置３１に受け渡された複数の基板２は第２基板搬送エリア１９内に導入されると共に、搬送機構９は、搬出入部に戻って複数の基板２を受け取り、第１の処理ユニットの開口２２の上方の基板受渡位置まで基板２を搬送して、第１の処理ユニットのリフタ装置３１に複数の基板２の受渡しを行う。以上の各動作が、上記したように順次繰り返されて複数の基板２に対して所定の処理が行われることになる。
【００６７】
以上のように、薬液槽１２の基板処理エリア１７や水洗槽１３の基板処理エリア１７内に基板搬送を行う第２基板搬送エリア１８と、薬液槽１４の基板処理エリア１７や水洗槽１５の基板処理エリア１７内に基板搬送を行う第２基板搬送エリア１９と、これらの第２基板搬送エリア１８，１９に対して基板搬送を行う第１基板搬送エリア２０とを有し、これらの第２基板搬送エリア１８，１９と第１基板搬送エリア２０との間を仕切って分離する分離部材としての搬送エリア外郭部材２１を設けたため、薬液の付いた複数の基板２が薬液槽１２，１４の基板処理エリアから外側の第２基板搬送エリア１８，１９内に取り出されても、薬液の付いた複数の基板２から出たヒュームは、搬送エリア外郭部材２１で囲まれた第２基板搬送エリア１８，１９内に漂うものの、搬送エリア外郭部材２１の外側の第１基板搬送エリア２０に対してヒュームが拡散することが大幅に抑制される。したがって、ヒュームが第１基板搬送エリア２０の基板搬送ラインまでは拡散せず、従来のように水洗処理後の綺麗な基板２が汚染されるようなこともなくなり、デバイスのロット不良を引き起したり、ヒュームによる腐食によって機械構造系の部品不良を引き起こしたり、クリーンルーム内の清浄な空気を汚したりする従来の不都合は解消される。
【００６８】
また、第１基板搬送エリア２０と第２基板搬送エリア１８，１９との間で複数の基板２の通過を許容する搬送エリア外郭部材２１の開口２２を開閉するシャッタ手段を設けたため、複数の基板２の通過時以外は、搬送エリア外郭部材２１の開口２２を閉じるようにシャッタ手段を駆動するようにすれば、第２基板搬送エリア１８，１９内の、薬液から出たヒュームが外側の第１基板搬送エリア２０に拡散することをさらに抑制することができる。
【００６９】
さらに、薬液の付いた複数の基板２が基板処理エリア１７から外側の第２基板搬送エリア１８，１９内に取り出される薬液処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、そのヒューム濃度の濃い位置から離れた水洗処理部の上方の搬送エリア外郭部材２１に開口２２を設けたため、薬液から出たヒュームが外側の第１基板搬送エリア２０内に拡散することをさらに抑制することができる。
【００７０】
さらに、排気手段２３で第２基板搬送エリア１８，１９内の雰囲気を排気するようにしたため、第２基板搬送エリア１８，１９内の薬液から出たヒューム濃度が、より希薄になって外側の第１基板搬送エリア２０側にヒュームが拡散することを大幅に抑制することができる。
【００７１】
さらに、第２基板搬送エリア１８，１９内の薬液処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、薬液処理部の近傍に排気口を設けるようにしたため、排気手段２３で排気口からヒューム濃度の濃い第２基板搬送エリア１８，１９内の雰囲気を排気することができ、第２基板搬送エリア１８，１９内のヒューム濃度を、より効率よく希薄にすることができて、外側の第１基板搬送エリア２０にヒュームが拡散することを大幅に抑制することができる。
【００７２】
さらに、搬送エリア外郭部材２１の開口２２がシャッタ手段によって開いているときには高排気出力で第２基板搬送エリア１８，１９内のヒューム雰囲気を排気し、搬送エリア外郭部材２１の開口２２がシャッタ手段によって閉じているときには低排気出力で第２基板搬送エリア１８，１９内のヒューム雰囲気を排気するように切り換えるようにしたため、シャッタ手段の閉時には、省電力で小駆動音（静音）とすることができると共に、シャッタ手段の開時にはヒュームの第１基板搬送エリア２０への拡散をさらに抑制することもできる。
【００７３】
なお、本実施形態では、基板処理エリア１７および第２基板搬送エリア１８，１９内の雰囲気を排気手段２３の排気ダクト３７を介して排気するように構成し、排気手段２３の排気ポンプ３９の排気出力制御は、開口２２および各基板導入口２４の開閉に応じて行うと共に、薬液槽１２，１４から水洗槽１３，１５に至る一連の第２基板搬送エリア１８，１９内の基板搬送時に、薬液の付いた複数の基板２からのヒュームを排気するべく、排気出力を高めるように行ったが、これに限らず、薬液槽１２，１４と水洗槽１３，１５と第２基板搬送エリア１８，１９とでそれぞれ異なる排気手段を設け、それらの排気手段を上記のように排気出力制御してもよい。この場合に、薬液槽１２，１４と水洗槽１３，１５の基板処理エリア１７内の排気出力制御ではヒューム自体が異なりそれに応じた排気出力制御（例えばヒューム濃度が薄ければ排気出力も低出力でよい）とするように、それぞれ異なる各排気手段を制御することができる。また、基板処理エリア１７内や第２基板搬送エリア１８，１９内の排気出力制御では、開口部開閉扉２６や基板導入口開閉扉２７が開いたときに最も高い排気出力とし、その後は、ヒューム拡散がない程度に徐々に出力低下させるようにし、また、第２基板搬送エリア１８，１９での排気出力制御で、薬液槽１２，１４から第２基板搬送エリア１８，１９内に取り出されたときに最も高い排気出力とし、その後は、ヒューム拡散がない程度に徐々に出力低下させるように、それぞれ異なる各排気手段を制御することができる。
【００７４】
また、本実施形態では、複数の基板２を一括して処理するバッチ式の基板処理装置に、各処理部側の基板搬送エリアを分離部材で覆って分離する本発明を適応する場合について説明したが、基板２を一枚づつ処理する枚様式の基板処理装置にも本発明は適用可能である。
【００７５】
【発明の効果】
以上のように本発明の請求項１によれば、基板処理エリアに基板搬送を行う第２基板搬送路と、この第２基板搬送路に対して基板搬送を行う第１基板搬送路との間を仕切って分離する分離部材を設けたため、薬液等の付いた基板が基板処理エリアから外側の第２基板搬送路の空間内に取り出されても、薬液等の付いた複数の基板から出たヒュームは、分離部材で囲まれた第２基板搬送路の空間内に漂うものの、分離部材の外側の第１基板搬送路に対してヒュームが拡散することを大幅に抑制することができる。
【００７６】
さらに、薬液の付いた基板が基板処理エリアから外側の第２基板搬送路の空間内に取り出される薬液処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、そのヒューム濃度の濃い位置から離れた水洗処理部の上方の分離部材に開口を設けるようにしているので、薬液から出たヒュームが外側の第１基板搬送路の空間内に拡散することをさらに抑制することができる。
【００７７】
また、本発明の請求項２によれば、第１基板搬送路と第２基板搬送路との間で基板を搬送する開口を開閉するシャッタ手段を設けることにより、第２基板搬送路の空間内の、薬液等から出たヒュームが外側の第１基板搬送路に拡散することをさらに抑制することができる。
【００７８】
さらに、本発明の請求項３によれば、排気手段で第２搬送路の空間内の雰囲気を排気するようにすることにより、第２基板搬送路の空間内の薬液から出たヒューム濃度が、より希薄になって外側の第１基板搬送路にヒュームが拡散することを大幅に抑制することができる。
【００７９】
さらに、本発明の請求項４によれば、薬液処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、薬液処理部の近傍に排気口を設けるようにすることにより、排気手段で排気口からヒューム濃度の濃い第２搬送路の空間内の雰囲気を排気することができて、第２基板搬送路の空間内のヒューム濃度を、より効率よく希薄にすることができ、外側の第１基板搬送路にヒュームが拡散することを大幅に抑制することができる。
【００８０】
さらに、本発明の請求項５によれば、分離部材の開口がシャッタ手段によって開いているときには高排気出力で第２基板搬送路の空間内のヒュームを排気し、分離部材の開口がシャッタ手段によって閉じているときには低排気出力で第２基板搬送路の空間内のヒュームを排気するように切り換え可能にしたため、シャッタ手段の閉時には、省電力で小駆動音（静音）とすることができると共に、シャッタ手段の開時にはヒュームの第１基板搬送路への拡散をさらに抑制することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態の基板処理装置の概略要部構成を示す斜視図である。
【図２】図１の基板処理装置のＡＡ断面部分を背面から見た概略要部構成図である。
【図３】図２のリフタ装置と搬送機構との基板受渡し状態の概略構成を示す斜視図である。
【図４】図２のリフタ装置と搬送機構との基板受渡し状態の概略構成を示す側面図である。
【図５】従来の基板処理装置における要部の概略構成を示す模式図である。
【図６】図５のリフタ装置と搬送ロボットとの基板受渡し状態の概略構成を示す側面図である。
【符号の説明】
１    基板処理装置
２    基板
５    基板処理ユニット
９    搬送機構
１２，１４    薬液槽
１３，１５    水洗槽
１６    槽外郭部材
１７    基板処理エリア
１８，１９    第２基板搬送エリア
２０    第１基板搬送エリア
２１，４０    搬送エリア外郭部材
２２，４１    開口
２３    排気手段
２４    基板導入口
２５    乾燥槽
２６    開口部開閉扉
２７，２８    導入口開閉扉
２９    保持板
３１，３５    リフタ装置
３２    保持アーム
３７    排気ダクト
３８    流量調整バルブ
３９    排気ポンプ
４２    開閉扉
【図１】
0003609936.tif 000002
【図２】
0003609936.tif 000003
【図３】
0003609936.tif 000004
【図４】
0003609936.tif 000005
【図５】
0003609936.tif 000006
【図６】
0003609936.tif 000007