(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱室内を上下に仕切る載置台を備え、前記加熱室内の上下各室にマグネトロンから高周波を供給できるようにした高周波加熱装置において、前記加熱室の側面部に設けた開口を通して前記加熱室内の上下各室に置かれた被加熱物から放射される赤外線を検出できるように、上下方向へ複数の赤外線検知素子をアレイ状に並設した赤外線検出器を設置したことを特徴とする高周波加熱装置。
【請求項２】
前記赤外線検出器を前記載置台の側縁部の側方に対向して配設したことを特徴とする請求項１記載の高周波加熱装置。
【請求項３】
前記赤外線検出器をその赤外線検出領域が前記加熱室内の左右方向に移動するよう回動したことを特徴とする請求項1記載の高周波加熱装置。
【請求項４】
前記赤外線検知素子による検出値の中で最高値を抽出して前記マグネトロンを駆動制御することを特徴とする請求項1記載の高周波加熱装置。
【請求項５】
加熱室内を上下に仕切る載置台を備え、前記加熱室内の上下各室にマグネトロンから高周波を供給できるようにした高周波加熱装置において、上下各室それぞれに置かれた被加熱物から放射される赤外線を検出できるように、上下各室のそれぞれに対応する側面部の部位に開口を設けると共に、前記側面部に沿って前記開口間を移動する赤外線検出器を設置したことを特徴とする高周波加熱装置。
【請求項６】
前記赤外線検出器は少なくとも前記加熱室側面部の上下方向へ複数の赤外線検知素子を並設したアレイ状のものから構成したことを特徴とする請求項５記載の高周波加熱装置。
【請求項７】
オーブン調理を行う場合、前記赤外線検出器を前記開口と対向しない位置に移動させることを特徴とする請求項５または６記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、マグネトロンから発生するマイクロ波を被加熱物に照射して暖め調理する高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図１２は、例えば特開平１０−２６７２８９号公報に開示された従来の二段温め調理方式の高周波加熱装置を示す正面構成図である。図１２において、１は本体（図示なし）内に形成される加熱室、２は加熱室１の中央部に設置される角皿、３は角皿２の上に載置する第１の被加熱物、４は加熱室１の下部に設置されるロータリープレートであり、このロータリープレート４は加熱室１の外部に配設されるモータ５の回転軸６を介して回転する。７はロータリープレート４の上部に置かれる回転皿、８は回転皿７の上に載置する第２の被加熱物、９は加熱室１の上方側部に設けられて第１の被加熱物３から発生する蒸気の温度を検出する例えばサーミスタから成る第１の温度検出器、１０は加熱室１の中央側部に設けられて第２の被加熱物８から発生する蒸気の温度を検出する例えばサーミスタから成る第８の温度検出器である。１１は加熱室１の外側に配置するマグネトロン、１２はマグネトロン１１から発生するマイクロ波を加熱室１の壁面の上下２箇所に形成する給電口１３を塞ぐ高周波透過性の部材から成る閉塞部材１３ａを介して加熱室１に導入させる導波管、１４は前述のモータ５およびマグネトロン１１の駆動を制御する制御部である。
【０００３】
次に、二段温め調理方式の高周波加熱装置の動作について図１２を併用して説明する。その装置を動作開始した場合に、マグネトロン１１から発生するマイクロ波は第１の被加熱物３およびその下部に配置する第２の被加熱部８に照射される。このとき、回転皿７に載置する第２の被加熱物８はモータ５の回転駆動によって回転しながらマイクロ波を照射する。これにより、双方の被加熱物は加熱状態となって水蒸気が発生し、第１の温度検出器９の検出値がある閾値に至った場合に第１の被加熱物３は温め終了と判断される。一方、第２の温度検出器１０の検出値がある閾値に至った場合に第２の被加熱物８は温め終了と判断され、双方の被加熱物の温め調理がスムーズに行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来の二段温め調理方式の高周波加熱装置は、前述のように加熱室の上下に配置する双方の被加熱物から発生する蒸気の温度を、加熱室の上部および中央部に設置される各々の温度検出器で検出し、その検出値に基づいて被加熱物の温度を間接的に計測する方法であった。しかし、温度検出器を複数個用いるために部品コストが高くなり、かつ双方の被加熱物の温度を精度良く検出することが無理であり、これによって暖め不十分或いは温めし過ぎという不具合を招くという問題点を生じる。
【０００５】
この発明は、前述のような問題点を解決するためになされたもので、加熱室の上下に配置される双方の被加熱物の温度を、一つの温度検出器を用いて検出することで部品コストを低減し、さらに被加熱物の温度を直接検出する方法を採用して温め調理を正確に行うことができる高周波加熱装置を得ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る高周波加熱装置は加熱室内を上下に仕切る載置台を備え、加熱室内の上下各室にマグネトロンから高周波を供給できるようにした高周波加熱装置において、加熱室の側面部に設けた開口を通して加熱室内の上下各室に置かれた被加熱物から放射される赤外線を検出できるように、上下方向へ複数の赤外線検知素子をアレイ状に並設した赤外線検出器を設けるようにしたものである。
【０００７】
また、赤外線検出器を載置台の側縁部の側方に対向して配設するようにしたものである。
【０００８】
また、赤外線検出器をその赤外線検出領域が加熱室内の左右方向に移動するよう回動したものである。また赤外線検知素子による検出値の中で最高値を抽出してマグネトロンを駆動制御するようにしたものである。
【０００９】
また、加熱室内を上下に仕切る載置台を備え、加熱室内の上下各室にマグネトロンから高周波を供給できるようにした高周波加熱装置において、上下各室それぞれに置かれた被加熱物から放射される赤外線を検出できるように、上下各室のそれぞれに対応する側面部の部位に開口を設けると共に、側面部に沿って開口間を移動する赤外線検出器を設置したものである。
【００１０】
また、赤外線検出器は少なくとも加熱室側面部の上下方向へ複数の赤外線検知素子を並設したアレイ状のものから構成するようにしたものである。さらにまたオーブン調理を行う場合、赤外線検出器を開口と対向しない位置に移動したものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
図１はこの発明の高周波加熱装置に係る実施の形態１を示す上面構成図、図２は図１に示す加熱室１の対角線ａを境界として見た場合の正面構成図である。図１と図２において、従来例と同一の符号は同一または相当部分を示す。１５は加熱室１の角部かつその中央部の高さ位置であって、加熱室１の外側方向へ突出して設けられる箱状のカバーであり、このカバー１５の側面に第１の被加熱物３および第２の被加熱物８から放射される熱エネルギー即ち赤外線を透過し、マイクロ波を遮断するように例えば直径８ｍｍ程度の赤外線透過窓１６が形成される。１７は赤外線透過窓１６に近接して配設される例えば１×８の素子配列となっている焦電型或いはサーモパイル型のアレイ状赤外線センサ１７である。なお、図１中のＡ部に示すように赤外線センサ１７から遠ざかるに応じて赤外線の検知エリアが広くなっていることが分かる。
【００１２】
ここで、加熱室１の角部に箱状のカバー１５を設けてそのカバー１５の外側に赤外線センサ１７を配設する理由は、第１の被加熱物３および第２の被加熱物８と赤外線センサ１７との距離を長くして双方の被加熱物から放射される赤外線に対しての検知エリアを広くするためである。また、赤外線センサ１７を赤外線透過窓１６に対して所定角度だけ傾斜させて配置し、加熱室１の上部に配置する第１の被加熱物３の側部における図中の検知エリアｅ１、ｅ２の赤外線量を、その赤外線センサ１７を構成する第１の素子１７ａおよび第２の素子１７ｂで検出させる。また、加熱室１の中央部に位置する第１の被加熱物３を載置する角皿２の側部における図中の検知エリアｅ３〜ｅ５の赤外線量を、第３の素子１７ｃから第５の素子１７ｅで検出させる。
【００１３】
さらに、加熱室１の下部に配置する第２の被加熱物８の側部における図中の検知エリアｅ６〜ｅ８の赤外線量を、第６の素子１７ｆから第８の素子１７ｈで検出させる。なお、前述のように角皿２の側部の赤外線量を第３の素子１７ｃから第５の素子１７ｅで検出する目的は、加熱室１の温度を計測するためである。そして、その温度情報を赤外線センサ１７から出力される赤外線検出値を温度変化に基づいて補正するために用いる補正データの一つとする。
なお、赤外線センサ１７の取り付け位置を限定し、赤外線センサ１７の上下方向の検出エリア内に加熱室１の上下部に配置される第１の被加熱物３及び第２の被加熱物８が収まるように、角皿２や回転皿７の位置を適宜工夫しても良い。これに関しては、実施の形態２〜実施の形態５についても同様である。
【００１４】
次に、加熱室４の上部に配置される第１の被加熱物３を載置する載置台を図３に示すように角状皿から丸状皿へ変更することにより、加熱室１の下方に対応した赤外線センサ１７の検知エリアｅ４、ｅ５は丸皿の側部で遮断されることがない。これにより、その検知エリアｅ４およびｅ５は加熱室１の下部に配置される第２の被加熱物８の上部を狙うことになる。したがって、第２の被加熱物８の上部に対しては赤外線センサ１７が検知エリアｅ４とｅ５の個所の赤外線量を検出し、かつその側部に対しては検知エリアｅ６からｅ８でその個所から放射される赤外線量を検出することで、第２の被加熱物８の温度を精度良く検出することができる。このとき、加熱室１の上部に配置される第１の被加熱物３の側部の検知エリアはｅ１およびｅ２であり、その検知エリアの赤外線量を赤外線センサ１７で検出して温度を計測する。
【００１５】
次に、高周波加熱装置の動作について図１〜図３を併用して説明する。本体パネルに取り付けられるスタートボタン（図示なし）を押してＯＮさせると、マグネトロン１１が駆動する。これにより、マグネトロン１１から発生するマイクロ波が導波管１２を伝播して加熱室１の側壁部に形成される上下の給電口１３から閉塞部材１３ａを介し、加熱室１に収容される第１の被加熱物３および第２の被加熱物８に照射する。このとき、加熱室１の中央部に配置される角皿２の上に第１の被加熱物３を置いた場合は、図１に示すように第１の被加熱物３が静止状態でマイクロ波を浴び、かつ加熱室１の下部に配置される回転皿７の上に置かれた第２の被加熱物８は回転状態でマイクロ波を浴びる。したがって、双方の被加熱物は効率的に温め調理される。
【００１６】
次に、前述の温め調理の過程で赤外線センサ１７を構成する第１の素子１７ａおよび第２の素子１７ｂは、加熱室１内の上部に位置する第１の被加熱物１の検知エリアｅ１〜ｅ２から放射された赤外線量を検出する。また、赤外線センサ１７の第６の素子１７ｆ〜第８の素子１７ｇで、加熱室１の下部に配置する第２の被加熱物８の側部に対応した検知エリアｅ６〜ｅ８の赤外線量を検出する。そして、各検知エリアｅ1〜２、e６〜ｅ８の個所に対応した赤外線センサ１７の各素子から出力される信号に基づき、双方の被加熱物の温度が検出される。この後で、制御部１４は赤外線センサ１７の第１の素子１７ａと第２の素子１７ｂとの検出値を所定時間毎に読み込み、それらの検出値の中の最高値ｍ１のみを記憶する。そして、その最高値ｍ１がある閾値ｓ１に到達した場合に第１の被加熱物３の温度は所定温度ｔ１に到達したと判断し、マグネトロン１１の駆動を停止する。
【００１７】
また、同時に制御部１４は第６の素子１７ｆから第８の素子１７ｇの検出値を所定時間毎に読み込み、それらの検出値の中の最高値ｍ２のみを記憶する。そして、その最高値ｍ２がある閾値ｓ２に到達した場合に第２の被加熱物８の温度は所定温度ｔ２に到達したと判断し、マグネトロン１１の駆動を停止する。なお、第１の被加熱物３を載置する皿を角皿から丸皿へ変更した場合に、前述の理由で赤外線センサ１７の第２の被加熱物８に対応した検知エリアがｅ４〜ｅ８に拡大し、その検知エリアｅ４〜ｅ８の個所に対応した各素子から出力される信号に基づき、第２の被加熱物８の各個所の温度を検出する。そして、第４の素子１７ｄから第８の素子１７ｇの検出値を読み込み、それらの検出値の最高値ｍ３を記憶する。それ以降は、前述と同様にその最高値ｍ３とある閾値との関係を見ながらマグネトロン１１の駆動を停止する。このような制御部１４によるマグネトロン１１の駆動制御方法は、後述の実施の形態２〜実施の形態５についても同様である。
【００１８】
ここで、アレイ状の赤外線センサ１７を構成する各赤外線検知素子の配列について図４を併用して説明する。赤外線センサ１７は、加熱室１の上部と下部に配置される被加熱物の温度を検出する関係上、各素子の配列は図４に示すように縦長状であることが好ましい。例えば、各素子の縦サイズは全てＨＳの大きさ、素子同志の間隔は全てＨＧの大きさであり、即ち等分状に区分けされた配列方法となっている。また、各素子の縦サイズＨＳと間隔ＨＧとの関係は、ＨＳ＞ＨＧ、ＨＳ＜ＨＧ、ＨＳ＝ＨＧの何れかの大きさとなるように適宜選択して設計する必要がある。さらに、各素子の配列は図４に示すように１×８の他に、例えば２×８、３×８、４×８の縦長状の形状であっても良い。
【００１９】
以上のように、複数の赤外線検知素子が縦長状に配列された一つのアレイ状赤外線センサ１７を、加熱室１の一方の側壁部の近傍に配設して加熱室１の上下部に配置する被加熱物の複数箇所の温度を検出し、この検出値に基づいてマグネトロン１１を駆動制御するように構成しているので、双方の被加熱物を適切に温め調理することができる。
【００２０】
実施の形態２．
図５は、この発明の高周波加熱装置に係る実施の形態２を示す正面構成図である。図５において、従来例と同一の符号は同一または相当部分を示す。ここでは、例えば１×８のアレイ状の赤外線センサ１７を加熱室１の上部に配置される第１の被加熱物３の側部における検知エリアをｅ１〜ｅ４、加熱室１の下部に配置される第２の被加熱物８の上部および側部における検知エリアをｅ５〜ｅ８となるように、箱状のカバー１５に形成する赤外線透過窓１６に対して所定角度だけ傾斜させて配置する。なお、これを実現させるために、赤外線センサ１７の素子配列を図６に示すように、第１の素子Ａ１〜第４の素子Ａ４の縦サイズを全てＨＳ、素子同志の間隔を全てＨＧに設定し、即ち等分状に区分けされた配列方法とする。
【００２１】
また、素子サイズＨＳと間隔ＨＧとの大きさの関係は、実施の形態１と同様にＨＳ＞ＨＧ、ＨＳ＜ＨＧ、ＨＳ＝ＨＧの何れかの大きさとなるように適宜選択して設計する必要がある。そして、第４の素子Ａ４と第５の素子Ａ５との間隔は図６に示すようにＨＧよりも大きいＨＧ’となるように適宜設計する。さらに、第５の素子Ａ５〜第８の素子Ａ８の縦サイズを全てＨＳ、素子同志の間隔を全てＨＧに設計して等分状に区分けされた配列方法とする。、なお、赤外線センサ１７の各素子の配列は１×８の他に、例えば２×８、３×８、４×８という具合に縦長状の任意の形状となるように設計しても良い。
【００２２】
以上のように、複数の赤外線検知素子が縦長状に配列され、かつ配列された素子郡の中央個所に大きい間隔を形成する一つのアレイ状赤外線センサ１７を使用して加熱室１の上下部に配置する被加熱物の温度を検出することで、双方の被加熱物をより一層適切に温め調理することができる。
【００２３】
実施の形態３．
図７は、この発明の高周波加熱装置に係る実施の形態３を示す上面構成図である。図７において、従来例と同一の符号は同一または相当部分を示す。１８は加熱室１の外側に突出して設けられる箱状のカバー１５に形成する赤外線透過窓１６に対向し、アレイ状の赤外線センサ１７を左右方向に往復回動させる即ち検知エリアを左右方向に往復回動させる左右回動機構部である。ここで、赤外線センサ１７を左右回動機構部１８により加熱室１の対角線ｂに対して右方向に回動した場合に、赤外線センサ１７の検知エリアはＲｅである。また、赤外線センサ１７を中央部に回動した場合に検知エリアはＣｅ、それを左方向に回動した場合に検知エリアはＬｅである。なお、加熱室１の上下部に配置される被加熱物に対しての赤外線センサ１７の垂直方向側の検知エリアｅ１〜ｅ８は、実施の形態１または実施の形態２と同様の配置構成である。
【００２４】
次に、例えば高周波加熱装置で被加熱物のオーブン調理を行う場合は、その被加熱物から発生するオイルミストなどが赤外線透過窓１６を介してアレイ状の赤外線センサ１７の受光部に付着する恐れが生じる。この状態で、被加熱物の温め調理を行った場合は赤外線センサ１７の検出精度が著しく低下する関係上、被加熱物の温めし過ぎの事態を招く。これを未然に防止するために、オーブン調理のメニューボタン（図示なし）を押してＯＮさせた場合は、赤外線センサ１７の受光部（図示なし）を左右回動機構部１８により赤外線透過窓１８に対して背を向けるように配置させて汚染対策を行う。
【００２５】
こうした構成により、加熱室１の上部に固定設置される皿の上に置かれる第１の被加熱物３の側部に対し、アレイ状の赤外線センサ１７の検知エリアが常に左右方向に回動する。したがって、赤外線センサ１７により第１の被加熱物３の側部全体の温度を検出し、適切な温め調理を行うことができる。なお、この過程で加熱室１の下部に配置される第２の被加熱物８は、回転した状態でその側部の温度が赤外線センサ１７によって検出される。
【００２６】
実施の形態４．
図８〜図１０は、この発明の高周波加熱装置に係る実施の形態４を示す正面構成図である。図８〜図１０において、従来例と同一の符号は同一または相当部分を示す。１９は加熱室１の外側に突出して設けられる箱状のカバー１５の上部および中央部に形成する一対の赤外線透過窓、２０はアレイ状の赤外線センサ１７を加熱室１の外側であって上部の赤外線透過窓１９ａと中央部の赤外線透過窓１９ａを通過するように、往復移動させる垂直移動機構部である。
【００２７】
次に、こうした構成を有する高周波加熱装置の動作を図８〜図１０を併用して説明する。本体パネルに取り付けられるスタートボタン（図示なし）を押してＯＮさせると、マグネトロン１１が駆動して加熱室１の上部に配置する第１の被加熱物３、加熱室１の下部に配置する第２の被加熱物８に照射する。このとき、赤外線センサ１７は図８に示すように箱状のカバー１５の上部に形成する赤外線透過窓１９ａに対向して所定時間だけ静止配置させる。これにより、赤外線センサ１７は第１の被加熱物３の側部における検知エリアｅ１〜ｅ８の温度を精度良く検出する。
【００２８】
次に、垂直移動機構部２０により赤外線センサ１７は下降移動し、図９に示すように箱状のカバー１５の中央部に形成される赤外線透過窓１９ｂに対向するようして、所定時間だけ停止する。これにより、赤外線センサ１９は加熱室１の下部に配置される第２の被加熱物８の側部における検知エリアｅ１〜ｅ８の温度を精度良く検出する。この後で、赤外線センサ１９は箱状のカバー１５の上部の赤外線透過窓１９ａ側へ上昇移動し、この赤外線透過窓１９ｂに対向した状態で所定時間だけ停止する。そして、赤外線センサ４は加熱室１の上部に配置される第１の被加熱物３の側部における検知エリアｅ１〜ｅ８の温度を検出する。このように、赤外線センサ１７は垂直移動機構部２０により一対の赤外線透過窓１９を対向するようして、箱状のカバー１５の面を沿うように垂直移動するような動作を繰り返す。そして、加熱室１内の上下部に配置される被加熱物のそれぞれの温め温度に相当する赤外線センサ１７の検出値が出力されたときに、マグネトロン１１の駆動が停止して温め動作が終了する。
【００２９】
次に、例えば高周波加熱装置で被加熱物のオーブン調理を行う場合は、その被加熱物から発生するオイルミストなどが一対の赤外線透過窓１９を介してアレイ状の赤外線センサ１７の受光部に付着する恐れを生じる。したがって、実施の形態３の記載内容と同様に、被加熱物の温めし過ぎの事態を招く。これを未然に防止するために、オーブン調理のメニューボタン（図示なし）を押してＯＮさせた場合は、赤外線センサ１７を図１０に示すように垂直移動機構部２０により箱状のカバー１５の赤外線透過窓１９が形成していない個所、例えば下部に配置するように下降移動させて汚染対策を行う。
【００３０】
以上のように、一つのアレイ状の赤外線センサ１７は一対の赤外線透過窓１９を介して加熱室１の上部および下部に配置される被加熱物の側部に対応する検知エリアの数をｅ１〜ｅ８に増やし、被加熱物の温度をより一層精度良く検出して温め調理を実行することができる。また、オーブン調理を行う場合は赤外線センサ１７を一対の赤外線透過窓１９が形成していない個所に配置することで、オイルミストなどの汚れ対策を施すことができる。
【００３１】
実施の形態５．
図１１は、この発明の高周波加熱装置に係る実施の形態５を示す正面構成図である。図１１において、従来例および実施の形態１〜実施の形態４と同一の符号は同一または相当部分を示す。２１は加熱室１の外側に突出して設けられる箱状のカバー１５の上部から下部に跨って複数箇所に形成される複数の赤外線透過窓、２２は垂直移動機構部２０の動作により複数の赤外線透過窓２１に対向するシングル状の赤外線センサ即ち１個の素子のみで構成する赤外線センサである。
【００３２】
こうした構成により、高周波加熱装置の動作を開始させた場合に、赤外線センサ２２は図１１に示すように箱状のカバー１５の最上部に形成する赤外線透過窓２１ａに所定時間だけ対向して静止配置する。そして、赤外線センサ２２は加熱室１の上部に配置される第１の被加熱物３の側部Ａに対応する検知エリアｅ１の赤外線量を検出する。次に、赤外線センサ２２は垂直移動機構部２０により所定量だけ下降移動し、赤外線透過窓２１ｂに所定時間だけ対向して静止配置した状態で第１の被加熱物３の側部Ｂに対応する検知エリアｅ２（図示なし）の赤外線量を検出する。
【００３３】
次に、赤外線センサ２２は垂直移動機構部２０によって所定量だけ順次下降移動しながら赤外線透過窓２１ｃから２１ｄを介し、加熱室１の下部に配置される第２の被加熱物８の側部ＣからＤに対応する検知エリアｅ３（図示なし）の赤外線量を検出する。この後で、赤外線センサ２２は垂直移動機構部２０により上昇移動して、再び第１の被加熱物３の側部Ａに対応する検知エリアｅ１の赤外線量を検出する。これ以降は、前述と同様の動作を繰り返す。そして、双方の被加熱物の側部に対応した検知エリアにおける赤外線センサ２２の検出値がある閾値に至ったときに、マグネトロン１１の駆動が停止して温め調理が終了する。
なお、例えば高周波加熱装置で被加熱物のオーブン調理を行う場合は、赤外線センサ２２の汚れ対策を実施する上で、前述と同様に垂直移動機構部２０で赤外線センサ２２を赤外線透過窓２１に対向しない位置に配置することが肝要である。
【００３４】
以上のように、シングル状の赤外線センサ２２は複数の赤外線透過窓２１を介して加熱室１の上部および下部に配置される被加熱物の側部に対応する検知エリアの赤外線量を検出することで、双方の被加熱物の温度を計測して温め調理を実行することができる。
【００３５】
【発明の効果】
この発明は、以上説明したように構成されているので以下に記載されるような効果を奏する。
【００３６】
この発明に係る高周波加熱装置は、加熱室内を上下に仕切る載置台を設け、加熱室内の上下各室にマグネトロンから高周波を供給できるようにしたものにおいて、加熱室の側面部に設けた開口を通して加熱室内の上下各室に置かれた被加熱物から放射される赤外線を検出できるように、上下方向へ複数の赤外線検知素子をアレイ状に並設した赤外線検出器を設けるようにしたので、一つのアレイ状の赤外線検出器により加熱室の上下部に配置する被加熱物の複数箇所の温度を検出し、これらの検出値の中で最高値のみを抽出してマグネトロンを駆動制御することが可能である。したがって、双方の被加熱物を適切に温め調理することができると共に、その被加熱物の複数箇所の温度を検出する温度検出器が複数の温度検知素子から成る一つのアレイ状の赤外線センサで構成されるために、その取り付け作業が非常に容易であると共に部品コストが安くなるという利点を有する。
【００３７】
また、赤外線検出器を載置台の側縁部の側方に対向して配設するようにしたので、一つのアレイ状の赤外線検出器で加熱室の上下部に配置する被加熱物の複数箇所の温度を検出し、検出した温度に基づいてマグネトロンの駆動を制御することができる。これにより、加熱室の上下部の被加熱物を適切に温め調理することが可能となる。
【００３８】
また、赤外線検出器をその赤外線検出領域が加熱室内の左右方向に移動するよう回動したので、加熱室の上部に配置される静止状態である被加熱物の複数個所の温度を精度良く検出し、温め調理することができる。
【００３９】
また、赤外線検出器を加熱室の側面部に沿って上下方向に移動できるよう設けると共に、側面部に加熱室の上下各室に対向して開口を設けるようにしたので、加熱室の上下部に配置する被加熱物の複数個所の温度をより一層精度良く検出し、温め調理することができる。さらに、例えば高周波加熱装置で被加熱物のオーブン調理を行う場合は、垂直移動機構部により赤外線センサを赤外線透過窓に対向しない位置に配置し、汚染対策を行うことができる。
【００４０】
また、赤外線検出器は少なくとも加熱室側面部の上下方向へ複数の赤外線検知素子を並設したアレイ状のものから構成するようにしたので、高周波加熱装置への赤外線センサの取り付け作業を簡単にして、かつ部品コストを低減させながら加熱室の上下部に配置する被加熱物の温度を精度良く検出し、温め調理を実行することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明の高周波加熱装置に係る実施の形態１を示す上面構成図である。
【図２】  実施の形態１を示す高周波加熱装置の正面図である。
【図３】  実施の形態１を示す高周波加熱装置の正面図である。
【図４】  実施の形態１の高周波加熱装置に使用されるアレイ状の赤外線センサの構成図である。
【図５】  実施の形態２を示す高周波加熱装置の正面図である。
【図６】  実施の形態２の高周波加熱装置に使用されるアレイ状の赤外線センサの構成図である。
【図７】  実施の形態３を示す高周波加熱装置の正面図である。
【図８】  実施の形態４を示す高周波加熱装置の正面図である。
【図９】  実施の形態４を示す高周波加熱装置の正面図である。
【図１０】  実施の形態４を示す高周波加熱装置の正面図である。
【図１１】  実施の形態５を示す高周波加熱装置の正面図である。
【図１２】  従来の高周波加熱装置を示す正面図である。
【符号の説明】
１  加熱室、２  角皿、３  第１の被加熱物、４  ロータリープレート、５  モータ、６  回転軸、７  回転皿、８  第２の被加熱物、９  第１の温度検出器、１０  第２の温度検出器、１１  マグネトロン、１２  導波管、１３  給電口、１４  制御部、１５  箱状のカバー、１６  赤外線透過窓、１７  アレイ状の赤外線センサ、１８  左右移動機構部、１９  一対の赤外線透過窓、２０  垂直移動機構部、２１  複数の赤外線透過窓。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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