(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられ、かつ前記基板に対して実質的に平行に配置された（１１１）結晶学的平面を形成するために選択された面心立方材料を含むシード層と、
磁束が通り、かつ該磁束の変化に応答して変化する電気抵抗を有するように構成され、前記シード層の上に位置した磁性材料からなる自由層と、
を有し、
前記シード層は、一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される）
で表される化合物からなる群から選択される化合物を含む第１の層を有し、
前記第１の層と前記基板との間に位置した第２の層をさらに有し、また前記第２の層はＮｉ合金を含むことを特徴とするスピン・バルブ・センサ。
【請求項２】
第１の層はＮｉＦｅＮｂを含むことを特徴とする請求項１に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項３】
前記第２の層はＮｉＯを含むことを特徴とする請求項２に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項４】
前記第１の層の厚さは５オングストローム乃至３０オングストロームであり、また前記第２の層の厚さは２０オングストローム乃至１００オングストロームであることを特徴とする請求項３に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項５】
前記第１の層と前記第２の層との間に第３の層をさらに有し、前記第３の層はＴａ及びＺｒからなる群から選択される金属を含有することを特徴とする請求項１に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項６】
前記第３の層はＴａを含むことを特徴とする請求項５に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項７】
前記第３の層の厚さは、２０オングストローム乃至６０オングストロームであることを特徴とする請求項６に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項８】
前記シード層と前記自由層との間に位置したピン留め層をさらに有し、前記ピン留め層から反強磁性層へ流れる電流の量を減少させるようにして選択された抵抗材料からなる層を前記ピン留め層が有することを特徴とする請求項１に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項９】
前記ピン留め層は、一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される）
で表される化合物からなる群から選択される化合物を含むことを特徴とする請求項８に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項１０】
前記ピン留め層はＮｉＦｅＮｂを含むことを特徴とする請求項９に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項１１】
基板と、
前記基板の上に位置した反強磁性（ＡＦＭ）層と、
強磁性体から形成され、かつ前記反強磁性層の上に配置されたピン留め層と、
磁束が通り、かつ該磁束の変化に応答して変化する電気抵抗を有するように構成され、前記反強磁性（ＡＦＭ）層の上に位置した磁性材料からなる自由層とを有し、さらに、
前記ピン留め層の磁気配向が実質的に前記反強磁性層によって固定され、さらに前記ピン留め層から反強磁性層に流れる電流の量を減少させるために選択された電気抵抗材料からなる層を前記ピン留め層が有し、
前記ピン留め層は、前記反強磁性層に隣接した第１の逆平行ピン留め層、前記第１の逆平行ピン留め層の上に位置した第２の逆平行ピン留め層をさらに有し、
電気的抵抗材料からなる層は第１及び第２の逆平行ピン留め層の間に互いに隣接して位置し、
一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される元素）
で表される化合物からなる群から選択される化合物からなる材料を含むことを特徴とするスピン・バルブ・センサ。
【請求項１２】
前記ピン留め層は、前記第１の逆平行ピン留め層はＣｏＦｅとＣｏとからなる群から選択される材料を含むことを特徴とする請求項１１に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項１３】
前記ピン留め層は、前記第２の逆平行ピン留め層はＣｏＦｅとＣｏとからなる群から選択される材料を含むことを特徴とする請求項１２に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項１４】
前記電気抵抗材料からなる層は、ＮｉＦｅＮｂを含むことを特徴とする請求項１１に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項１５】
前記電気抵抗材料からなる層は、厚さが５オングストローム乃至１５オングストロームであることを特徴とする請求項１４に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項１６】
前記第１の逆平行ピン留め層及び第２の逆平行ピン留め層は、それぞれ厚さが５オングストローム乃至２０オングストロームであることを特徴とする請求項１５に記載のスピン・バルブ・センサ。
【請求項１７】
（１）磁気記録ディスクと、
（２）基板、
一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される）
で表される化合物からなる群から選択される化合物を含む第１の層と、
前記第１の層と前記基板との間に位置し、かつＮｉ合金を含む第２の層とを有し、前記基板の上に配置され、かつ前記基板に対して実質的に平行に配置された（１１１）結晶学的平面を形成するために選択された面心立方材料を含むシード層、
前記シード層の上に配置した反強磁性（ＡＦＭ）層、
強磁性体から形成され、かつ前記反強磁性層の上に配置され、さらに磁気的配向が実質的に固定された逆平行ピン留め層を含むピン留め層、
前記ピン留め層の上に配置されたスペーサ層、
磁束が通り、かつ該磁束の変化に応答して変化する電気抵抗を有するように構成され、前記反強磁性（ＡＦＭ）層の上に位置した磁性材料からなる自由層、及び
前記自由層の上に配置されたキャップ層を有し、前記磁気記録ディスク上に記録されたデータを読み取るための逆平行ピン留めスピン・バルブ・センサと、
（３）前記磁気記録ディスク上に磁気記録された異なるデータに前記スピン・バルブ・センサがアクセスするために前記磁気記録ディスク上で前記スピン・バルブ・センサを移動させるアクチュエータと、
（４）前記スピン・バルブ・センサに電気的に連結し、かつ前記磁気記録されたデータによって誘導される磁場の変化に応答して前記ピン留め層の一定の磁化を基準とした前記自由層の磁化軸の回転によって生ずる前記スピン・バルブ・センサの抵抗の変化を検出するように構成された検出器と、
を備えることを特徴とするディスク・ドライブ装置。
【請求項１８】
前記ピン留め層は前記ピン留め層から前記反強磁性層へ流れる電流の量を減少させるように選択された電気抵抗材料からなる層を有することを特徴とする請求項１７に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項１９】
（１）磁気記録ディスクと、
（２）基板、
一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される）
で表される化合物からなる群から選択される化合物を含む第１の層と、
前記第１の層と前記基板との間に位置し、かつＮｉ合金を含む第２の層とを有し、前記基板の上に配置さたシード層、
前記シード層の上に配置した反強磁性（ＡＦＭ）層、
強磁性体から形成され、かつ前記反強磁性層の上に配置され、さらに磁気的配向が実質的に固定されたピン留め層、
前記ピン留め層の上に配置されたスペーサ層、
磁束が通り、かつ該磁束の変化に応答して変化する電気抵抗を有するように構成され、前記反強磁性（ＡＦＭ）層の上に位置した磁性材料からなる自由層、及び
前記自由層の上に配置されたキャップ層を有し、前記磁気記録ディスク上に記録されたデータを読み取るための逆平行ピン留めスピン・バルブ・センサと、
（３）前記磁気記録ディスク上に磁気記録された異なるデータに前記スピン・バルブ・センサがアクセスするために前記磁気記録ディスク上で前記スピン・バルブ・センサを移動させるアクチュエータと、
（４）前記スピン・バルブ・センサに電気的に連結し、かつ前記磁気記録されたデータによって誘導される磁場の変化に応答して前記ピン留め層の一定の磁化を基準とした前記自由層の磁化軸の回転によって生ずる前記スピン・バルブ・センサの抵抗の変化を検出するように構成された検出器と、
を備え、
前記ピン留め層の磁気配向が実質的に前記反強磁性層によって固定され、さらに前記ピン留め層から反強磁性層に流れる電流の量を減少させるために選択された電気抵抗材料からなる層を前記ピン留め層が有し、
前記ピン留め層は、前記反強磁性層に隣接した第１の逆平行ピン留め層、前記第１の逆平行ピン留め層の上に位置した第２の逆平行ピン留め層をさらに有し、
電気的抵抗材料からなる層は第１及び第２の逆平行ピン留め層の間に互いに隣接して位置し、
一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される元素）
で表される化合物からなる群から選択される化合物からなる材料を含むことを特徴とするディスク・ドライブ装置。
【請求項２０】
前記第１の層はＮｉＦｅＮｂを含み、また前記第２の層はＮｉＯを含むことを特徴とする請求項１７または１９に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項２１】
前記第１の層は厚さが５オングストローム乃至３０オングストロームであり、また前記第２の層は厚さが２０オングストローム乃至１００オングストロームであることを特徴とする請求項１９または２０に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項２２】
前記シード層は、前記第１の層と前記第２の層との間に位置したＴａからなる第３の層をさらに有することを特徴とする請求項１９または２１に記載のディスク・ドライブ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気媒体から情報信号を読み取るためのスピン・バルブ磁気変換器、特にスピン・バルブ・センサのための新たな構造とそのようなセンサを備えた磁気記録装置とに関する。
【０００２】
【関連する技術】
コンピュータ・システムは、データを後で使用するためにデータの書き込みや読み取りが可能な補助記憶装置を一般に利用する。回転磁気ディスクを組み込む直接アクセス記憶装置、例えばディスク・ドライブは、ディスク面上に磁気的形態によるデータの格納を行うために一般に使用される。データは、ディスク面上の同心的かつ放射状に間隔を置いたトランク上に記録される。次に、読み取りセンサを持つ磁気ヘッドがディスク面上のトラックからデータを読み取るために使われる。
【０００３】
容量の大きいディスク・ドライブでは、一般にＭＲヘッドと呼ばれる磁気抵抗型読み取りセンサが現在最も一般的な読み取りセンサである。このことは、従来使用された薄膜誘導ヘッドが可能な線密度よりも大きい線密度のディスク上でデータを読み取る能力をＭＲヘッドが有するということが大きく関係している。ＭＲセンサは、該ＭＲセンサに備わったＭＲセンシング層（ＭＲ素子ともいう）によって検出されている磁束の強さ及び方向の関数としての抵抗の変化を介して磁場を検出する。
【０００４】
従来のＭＲセンサは、ＭＲ素子の磁化と該ＭＲ素子を流れるセンス電流の方向との間の余弦角の平方としてＭＲ素子抵抗が変化する異方性磁気抵抗（ＡＭＲ）効果に基づいて動作する。記録データは磁気媒体から読み取ることができる。なぜなら、記録された磁気媒体からの外部磁場（信号場）は、ＭＲ素子における磁化の方向に変化を生じさせ、同様にＭＲ素子の抵抗に変化を生じさせ、さらにそれに対応した変化がセンス電流又は電圧に生ずる。
【０００５】
ＭＲセンサの別の種類は、ＧＭＲ効果を示す巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）センサである。ＧＭＲセンサでは、ＭＲセンシング層の抵抗は非磁気層（スペーサ）によって分割された磁気層間の伝導電子とそれに付随すスピン依存散乱との関数として変化する。スピン依存散乱は磁気層と非磁気層との境界面で起こる。
【０００６】
非磁気的導電材料からなる層によって分離された強磁性体からなる２つの層のみを用いるＧＭＲセンサは、ＧＭＲを示すスピン・バルブ（ＳＶ）センサとして一般に言及される。ＳＶセンサでは、それらの強磁性層のうち、一層はピン留め（ｐｉｎｎｅｄ）層と呼ばれ、通常は反強磁性層（例えば、ＮｉＯ又はＦｅ−Ｍｎ）層と交換結合（ｅｘｃｈａｎｇｅ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ）によってピン留めされた磁化を有する。
【０００７】
しかし、自由層と呼ばれる他の強磁性層の磁化は、固定されず、記録された磁気媒体からの磁場（信号場）に応答した回転から解放される。ＳＶセンサでは、ＳＶ効果はピン留め層の磁化と自由層の磁化との間の余弦角として変化する。記録されたデータは、磁気媒体から読み出すことができる。なぜなら、記録された磁気媒体からの外部磁場によって自由層における磁化の方向が変化し、それによってＳＶセンサの抵抗の変化及びセンス電流又は電圧のそれに対応した変化が生ずる。留意すべきことは、ＡＭＲ効果もまたＳＶセンサの自由層で現れ、それによって全体的なＧＭＲ効果が減少する傾向にある。
【０００８】
図１は、従来のＳＶセンサの典型的な構成を説明するための模式図である。図に示すように、ＳＶセンサ１００は中央領域１０２によって分かれる一対の端部領域１０４及び１０６を有する。中央領域１０２は、適当な方法、例えばスパッタリングによって形成され、該中央領域の縁と連続かつ隣接した端部領域を限定する。自由層（自由強磁性層）１１０は非磁気的導電スペーサ層１１５によってピン留め層（ピン留め強磁性層）１２０から分離されている。ピン留め層１２０の磁化は、反強磁性（ＡＦＭ）層１２１による交換結合を介して固定されている。
【０００９】
自由層１１０、スペーサ層１１５、ピン留め層１２０及びＡＦＭ層１２１は全て中央領域１０２に形成されている。ハード・バイアス層１３０及び１３５はそれぞれ端部領域１０４及び１０６に形成されており、自由層１１０の長手方向バイアスを与える。リード１４０及び１４５はそれぞれハード・バイアス層１３０及び１３５上に形成され、電源１６０からＳＶセンサ１００へ流れるセンス電流ＩＳのための電気的接続を提供する。リード１４０及び１４５に接続された検出装置１７０は、外部磁場（例えば、ディスクに格納されたデータ・ビットによって生成する場）によって自由層１１０に誘導された変化による抵抗の変化を検出する。ＩＢＭの米国特許第５，２０６，５９０号（Ｄｉｅｎｙ他）はＳＶ効果に基づいて動作するＭＲセンサを開示している。なお、本明細書についてはこの特許の開示内容を参照するとよい。
【００１０】
最近開発されたスピン・バルブ・センサの別のタイプは、逆平行（ＡＰ）ピン留めスピン・バルブ・センサである。図２は、ＡＰピン留めスピン・バルブ・センサの一例を示す。ＡＰピン留めスピン・バルブ・センサ２００は中央領域２０６によって互いに分離された一対の端部領域２０２及び２０４を有する。また、図に示すように、ＡＰピン留めスピン・バルブ・センサ２００は、銅スペーサ層２２０によって、積層されたＡＰピン留め層２１０から分離したＮｉ−Ｆｅ自由層２２５を有する。積層されたＡＰピン留め層２１０の磁化は、ＮｉＯからなるＡＦＭ層２０８によって固定されている。
【００１１】
積層されたＡＰピン留め層２１０は、コバルトからなる第１の強磁性層２１２とコバルトからなる第２の強磁性層２１６とを有し、これらの層はルテニウム（Ｒｕ）逆平行結合層２１４によって互いに分離されている。ＡＦＭ層２０８、ＡＰピン留め層２１０、銅スペーサ２２０、自由層２２５、及びキャップ層２３０は、すべて中央領域２０６に連続的に形成されている。一対のハード・バイアス層２３５及び２４０が端部領域２０２及び２０４に形成され、自由層２２５の長手方向バイアスを提供する。
【００１２】
一対のリード２４５及び２５０もまた、それぞれ端部領域２０２及び２０４に形成されており、電源（不図示）からスピン・バルブ・センサ２００へ電流を供給する。図示した例では、外部磁場が存在しない状態で平行自由層２２５の磁化方向と空気軸受（ベアリング）面（ＡＢＳ）とが平行に定められている。ピン留め層２１２及び２１４の磁化方向もそれぞれＡＢＳに対して垂直に定められている。ピン留め層２１２及び２１４の磁化方向は、それぞれ図中では、符号２６０で示す部分から図面に対して垂直方向に飛び出る方向、及び符号２５５で示す部分に外から図面に対して垂直に入る方向である。自由層２２５の磁化は、ＡＢＳと平行となるように図示されている。
【００１３】
ディスク・ドライブ産業は、スピン・バルブ・センサの全体的な感度又はＧＭＲ係数を高めることでドライブ・ヘッドが磁束におけるよりいっそう小さな変化を読み取ることが可能となるように努力してきた。ＧＭＰ係数がよりいっそう高ければ、任意に与えられたディスク面上によりいっそう多くの情報ビットを格納することが可能となる。スピン・バルブ・センのＧＭＲ係数は、Ｒ’／Ｒ、又はセンサ材料の全体的な抵抗によって割った該材料の磁気抵抗における変化である。ＧＭＲ係数は材料の「軟度（ｓｏｆｔｎｅｓｓ）」と全体的な抵抗との両方に依存する。
【００１４】
スピン・バルブ・センサの軟度は、材料の磁気抵抗を、該材料の磁気モーメントを１つの配向から別の配向へ動かし、最初から９０Ｅでオフセットするのに一般に要求される所定の量変化させるのに必要な磁場の閾値の目安である。材料の軟度は、材料が磁壁を示す時、さらに一般的には磁気結晶異方性特性（ｐｒｏｐｅｒｔｙ  ｍａｇｎｅｔｏｃｒｙｓｔａｌ  ｌｉｎｅ  ａｎｉｓｏｔｒｏｐｙ）ＨＫによって、その飽和保持力ＨＣとして言及される。磁気抵抗Ｒ’の変化は、材料の軟度で増大した磁束の変化に比例する。高度の軟度は、ディスク・ドライブ密度が増加し、かつ記録された材料の磁場強度がそれに対応したかたちで減少するので、重要性が高まっている。
【００１５】
センサ材料の抵抗の変化は、材料の全体的な抵抗Ｒと比較して大きい場合のみ容易に測定することができる。したがって磁気抵抗Ｒ’の変化が大きいことと組合わさって、全体的な抵抗Ｒが低いと、高いＧＭＲ係数が生ずるであろう。
【００１６】
ＧＭＲヘッドの特性に関連した他の特性として、例えば磁気歪み、ＡＦＭとピン留め層又は複数のピン留め層との間の交換結合、及びＡＦＭの電気的固有抵抗が挙げられる。磁気歪みは、磁気の変化を被る時の材料のストレス又は変形の目安となる。スピン・バルブの構成として求められることは、磁気歪みを最小限にすることである。なぜなら、ＧＭＲヘッドの材料が変形することで層間の貧弱なインタフェースと磁束変化としての非線形性能とが生ずる。
【００１７】
ＡＦＭと複数のピン留め層との間の交換結合は重要である。なぜなら、ＡＦＭからの磁束は、安定した配向でピン留め層の磁気モーメントを保つように最小限のリラクタンス又は漏れでピン留め層に到達しなければならない。不十分な交換結合が生ずるとピン留めが不十分になるので、ＧＭＲヘッドの感度が減少することがある。
【００１８】
また、スピン・バルブ・センサを流れる電流が該スピン・バルブ・センサのピン留め及び感知部分に制限されることも重要である。もし電流がＡＦＭ層に分流することが可能となるならば、センサによって記録された磁気抵抗は人為的に低下し、その結果ＧＭＲ係数及び非線形信号が低下する。したがって、ＡＦＭ層のために選択された材料は、分流を防ぐために高い電気的固有抵抗を持たなければならない。
【００１９】
ドライブ・ヘッドの製造は、基板の上又は近傍にシード層又はバッファ層を形成し、続いてシード層の上部に残りの層を形成することによって行われてきた。シード層の結晶構造及び配向は、残りの層の構成を決める。ＮｉＦｅ等の材料は、シード層の全体又は一部の形成に使われてきた。
【００２０】
残念なことに、従来使用された下部層は不均一な結晶学的平面に沿って形成される傾向があり、しばしば複数の非平行平面の組み合わせと平坦ではない境界面までもが生ずる。その結果、シード層の境界を形成する複数の原子が遠ざかるように広がり、シード層の上に形成された層は不均一なテクスチャ及び弱い結合を示す。その結果、磁気軟度が低くなり、またＡＦＭとピン留め層又は複数のピン留め層との間の交換結合が不良になる。
【００２１】
本発明者が確信したことは、よりいっそう稠密で、かつよりいっそう均質な境界を持つシード層を設けることで、層の一様なテクスチャ形成が促進されるということである。したがって、スピン・バルブ・センサのＧＭＲ係数は、軟度を高くし、複数のセンシング層間の電流の動きに対する抵抗を低くすると思われる。また、ＡＦＭとピン留め層又は複数のピン留め層との間の交換結合を改善することで、磁気感度がさらに増大するだろう。
【００２２】
ピン留め層又は複数のピン留め層を作るために使用する構造の選択もまた重要だと考えられる。ＮｉＦｅも従来の多くのピン留め層に使用されている。現在使用されているピン留め層の多くは、電流に対して重大な障害を与えるものではない。したがって、ＮｉＦｅ等の材料の電気抵抗は、電流分路を防ぐには不十分である。その結果、センシング層及びピン留め層又は複数のピン留め層を通過するのでより高い抵抗に遭遇しなければならない電流は、ＡＦＭを通る「近道」をとることが可能である。したがって、Ｒ’が減少し、それに対応したＧＭＲ係数の減少が生ずる。
【００２３】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、電気抵抗が大きいＡＦＭの上に層を形成することも望まれる。そのような層によって、電流分路を防ぐことができ、Ｒ’を磁束の変化に対して高感度に保つことが確実になり、さらにＧＭＲ係数が改善されるだろう。
【００２４】
【課題を解決するための手段】
本発明の装置は、当該技術分野の現在の状況に応じて、特に現在入手可能なスピン・バルブ・センサによっては完全に解決されていない当該技術分野における問題及び要求に応じて、開発されたものである。したがって、本発明の全体的な目的は、当該技術分野に存在する上記した問題のいくつか、又は全てを解決する改良されたスピン・バルブ・センサを提供することである。
【００２５】
そのような目的を達成するために、また好ましい実施形態としてここに体現され、また幅広く記述された本発明にもとづいて、スピン・バルブ・センサは、結晶学的に位置合わせされた電気的抵抗層を１つ以上加えることによって強化された下部構造によって提供及び構成される。
【００２６】
本発明のスピン・バルブ・センサは、ＮｉＦｅＮｂからなる層と金属酸化物（例えば、ＮｉＯ）からなる層とを含むシード層を有する。本発明の別の実施形態では、重金属（例えば、Ｔａ）からなる層を、シード層の一部としてＮｉＦｅＮｂからなる層と金属酸化物からなる層との間に設けてもよい。
【００２７】
選択された実施形態は、ピン留め層の中にＮｉＦｅＮｂからなる層を設ける。この構成では、ＮｉＦｅＮｂ層は下にある層の高固有抵抗バッファ層として作用する。この高固有抵抗バッファ層は、シード層のＮｉＦｅＮｂの使用の有無に関わりなく提供可能である。
【００２８】
スピン・バルブ・センサは、キャップ層、自由層、スペーサ層、上記したような強磁性体のピン留め層、反強磁性層（ＡＦＭ層）、及び基板を有するものであってもよい。しかし、本発明のシード層及び高固有抵抗バッファ層は、適当な構成を有するスピン・バルブ・センサの任意のタイプによる使用を意図したものである。
【００２９】
本発明のスピン・バルブ・センサは、ディスク・ドライブ装置に組み込まれてもよい。このディスク・ドライブ装置は、磁気ディスクと、上記のように構成された逆平行（ＡＰ）ピン留めスピン・バルブ（ＳＶ）・センサと、磁気ディスク上の磁気的に記録されたデータの異なる領域をスピン・バルブ・センサがアクセスできるように、磁気記録ディスクの端から端までスピン・バルブ・センサを移動させるアクチュエータと、磁気的に記録されたデータからの磁場に応じてＡＰピン留め層の固定された磁化に関連した自由強磁性層の磁化軸の回転を生じさせるスピン・バルブ・センサの抵抗変化を検出するためにスピン・バルブ・センサに電気的に結合した検出器とを有する。
【００３０】
【発明の実施の形態】
図３は、本発明の一実施形態であるディスク・ドライブ３００の一例を示す。図３に示すように、ディスク・ドライブ３００は、少なくとも１つの回転可能な磁気ディスク３１２を有する。この磁気ディスク３１２はスピンドル３１４によって支持され、かつディスク・ドライブ・モータ３１８によって回転する。各磁気ディスク３１２上の磁気記録媒体は、同心的、かつ環状のデータ・トラック（不図示）の形状をなしている。
【００３１】
少なくとも１つのスライダ３１３がディスク３１２上に位置している。各スライダ３１３は、本発明のＧＭＲセンサを取り込む１つ以上の磁気読み取り／書き込みヘッド３２１を支持する。ディスクが回転することで、スライダ３１３はディスク面３２２上を放射状に往復移動する。それによってヘッド３２１は所望のデータが記録されている磁気ディスク３２２の異なる部位にアクセスすることができる。各スライダ３１３は、サスペンジョン３１５からなる手段によってアクチュエータ・アーム３１９に取り付けられている。サスペンジョン３１５は、ディスク面３２２に対してスライダ３１３をバイアスする僅かなバネ力を提供する。各アクチュエータ・アーム３１９はアクチュエータ手段３２７に取り付けられている。
【００３２】
図３に示すようなアクチュエータ手段３２７は、ボイス・コイル・モータ（ＶＣＭ）であってもよい。ＶＣＭは、固定された磁場内で移動可能なコイルを有し、コイル動作の方向及び速度はコントローラによって供給されたモータ電流信号によって制御される。
【００３３】
ディスク記憶装置の作動中、磁気ディスク３１２の回転によってスライダ３１３（ヘッド３２１を含み、かつ磁気ディスク３１２の表面と向かい合うスライダ３１３の表面を空機軸受け面（ＡＢＳ）と呼ぶ）と該スライダ３１３の上方向の力又は浮力を生じるディスク面３２２との間に空気軸受けを生成する。したがって、正常に作動している間、空気軸受けはサスペンジョン３１５の僅かなバネ力をカウンタ・バランスし、実質的に一定の僅かな空間によって、スライダ３１３を僅かにディスク面と離間させ、かつその上に支持する。
【００３４】
ディスク記憶装置の種々の構成要素は、制御ユニット３２９によって生成される制御信号によって作動中に制御される。制御信号は、アクセス制御信号及び内部クロック信号を含む。一般に、制御ユニット３２９は論理回路、記憶手段、及びマイクロプロセッサを有する。制御ユニット３２９は、ライン３２３上の駆動モータ制御信号、ライン３２８上のヘッド位置及びシーク制御信号等の様々なシステム動作を制御するための制御信号を生成する。ライン３２８上の制御信号は、スライダ３１３をディスク３１２上の所望のデータ・トラックに向けて最適に移動かつ配置させる所望の電流プロフィールを提供する。読み取り及び書き込み信号は、記録チャンネル３２５からなる手段によって、読み取り／書き込みヘッド３２１へ伝達されたり、そこから受けたりする。図に示す実施形態では、読み取り／書き込みヘッド３２１は、本発明のスピン・バルブを有するＧＭＲセンサが組み込まれている。
【００３５】
図４は、ＦＣＣ又は面心立方構造を有する読み取り／書き込みヘッド３２１で使用される多くの材料を示す。ＦＣＣ構造の原子が最も密に、かつ均一に（１１１）結晶学的平面に沿って配置されるという知見が得られた。したがって、（１１１）結晶学的平面が基板に対して平行となるように、読み取り／書き込みヘッド３２１のＦＣＣ材料が配向される場合に読み取り／書き込みヘッド３２１が最適に機能する。図４では、基板３７２上に配置されたＦＣＣ材料の立方体試料３７０が図示されている。（１１１）面心立方材料は基板に対して平行に置かれている。立方体試料３７０の角にある３つの原子３７６及び面の中心にある３つの原子３７８は、（１１１）平面３７４の中にあり、隣接する原子間の距離を小さくして相対的に等しく離間している。
【００３６】
後段の層の境界面を形成するために（１１１）平面３７４が露出される場合、新たな層の結晶構造はシード層のものと位置合わせして形成される。層と層との間の境界面は、いくつかの不連続（原子のずれたセット）又は隙間（原子が存在すべき空いた空間）を有する。その結果、（１１１）平面３７４は、密に結合した一様のテクスチャ層の成長のための効果的な礎である。
【００３７】
図５は、本発明にもとづく改善された下部構造が設けられたスピン・バルブ４００の一実施形態の空気軸受け面（ＡＢＳ）を示す。ＡＰピン留めスピン・バルブ・センサ４００が図示され、かつそれが本発明の改良された下部構造で使用するのに好ましい一方で、それにもかかわらず、本発明の改良された下部構造もまたスピン・バルブ・センサの他のタイプ、例えば図１に示す単純なスピン・バルブ・センサ１００で使用することができる。
【００３８】
図５のスピン・バルブ・センサ４００は、中央領域４０４によって互いに分離された一対の端部領域４０２とともに図示されている。中央領域４０４は所定の縁端部を有し、
端部領域４０２は該縁端部と連続した接合部を形成し、かつ縁縁部に隣接する。スピン・バルブ・センサ４００は基板４０６に形成されている。基板４０６は、適当な任意の基板であってもよく、例えばガラス、半導体材料、又はアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）等のセラミック材料が挙げられる。基板４０６は当業者に既知のシールド層及びギャップ層を含むものであってもよい。以下の記述では、「上」は基板４０６よりもさらに遠ざかることを意味し、「下」は基板４０６に近づくことを意味する。同様に、「下部」層は基板４０６にもっとも近いものを意味し、さらに「上部」層は基板４０６から最も遠ざかったものを意味する。
【００３９】
第２の層４０７は基板４０６の上部に形成される。シード層４０７は本発明にもとづくいくつかの異なる方法で構成されてもよい。シード層４０７の主な働きは、その上部に複数の層が成長する礎を形成することである。したがって、本発明ではシード層４０７を形成するのに使用された材料が、図４に関連して説明したように、基板４０６に平行な（１１１）平面を持って形成されることが好ましい。もしシード層４０７の（１１１）平面が基板に平行であるならば、シード層４０７を覆うように形成された後段のＦＣＣ層は一貫した結晶構造及び配向を持って形成される。シード層４０７は、好ましくは約２５オングストローム乃至約１８５オングストローム、より好ましくは約５０オングストローム乃至約８０オングストロームの厚さを有する。
【００４０】
反強磁性（ＡＦＭ）層４０８は、好ましくは中央領域４０４内のシート層４０７上に形成される。あるいは、ＡＦＭ層４０８を端部領域４０２と同様に中央領域４０４を形成してもよい。ＡＦＭ層４０８は、一つの実施形態ではＩｒＭｎから形成され、その厚さは約４０オングストローム乃至約１００オングストロームの範囲内である。約５０オングストローム乃至約８０オングストロームの範囲の厚さが好ましい。また、約６０オングストロームの厚さがＩｒＭｒを用いた実施形態にとって最も好ましい。
【００４１】
高温で良好なピニング（ｐｉｎｎｉｎｇ）を保つために、ＰｔＭｎを使用して反強磁性層４０８を形成してもよい。また、そのような層は、好ましくは１００オングストローム乃至約３００オングストロームで、より好ましくは約１２５オングストローム乃至約２２５オングストロームで、さらにＰｔＭｎにとっては最も好ましくは約１５０オングストロームに好ましくは形成する。ＩｒＭｎを使用する場合と比較してＰｔＭｎを使用する際に犠牲にしなければならない点は、ＩｒＭｎよりも反強磁性層４０８を厚くしなければならないことである。同様な点を犠牲にすることで、ＰｔＰｄＭｎ、ＮｉＯ、ＮｉＭｎ、ＣｒＰｔＭｎ等、他の材料を使用して反強磁性層４０８を形成してもよい。
【００４２】
次に、ＡＦＭ層４０８上に積層された逆平行（ＡＰ）ピン留め層４１０について説明する。図に示す実施形態では、ＡＰピン留め層４１０は、第１のピン留め層４１２、第２のピン留め層４１４、及び第３のピン留め層４１６から構成される。あるいは、積層されたピン留め層４１４の代わりに、図１の層１２０と同様に、単一のピン留め層を使用することも可能である。図に示す実施形態では、第１及び第２のＡＰピン留め層４１４及び４１４は、好ましくは高固有抵抗を有する金属材料から形成された層４１８によって互いに分かれている。逆平行結合（ＡＰＣ）層４２０は、好ましくは非磁気材料から形成され、それによって第１及び第２のＡＰピン留め層４１２及び４１４が反強磁性的に第３のＡＰピン留め層４１６と結合することを可能とする。
【００４３】
層４１８は、任意の抵抗材料から形成することができる。そのような材料として、例えばＮＦｅＮｂ、ＮｉＦｅＭｏ、及びＮｉＦｅＣｒが挙げられる。しかし、ＮｉＦｅＮｂは、電気的な固有抵抗が高く、また均質なＦＣＣ構造を有することから特に効果的であると考えられる。任意の適当な非磁気材料を用いて逆平行結合層４２０を用いてもよいが、Ｒｕが好ましい。第１、第２、及び第３のＡＰピン留め層４１２、４１４、及び４１６は適当な材料、例えばＣｏＦｅ及びＣｏから形成することができる。図に示す実施形態では、ＡＰピン留め層４１２はＣｏＦｅからなる層であり、ＡＦＭ層４０８上に堆積かつ接触している。第２及び第３のＡＰピン留め層４１４及び４１６もまたＣｏＦｅから形成してもよい。逆平行結合層４２０が第２のＡＰピン留め層４１４と第３のＡＰピン留め層４１６との間に形成されている。好ましくは、第１及び第２のＡＰピン留め層４１２及び４１４は、第３のＡＰピン留め層４１６の方向４２４とは反対の方向４２２にピン留めされている。
【００４４】
ピン留め層全体は、好ましくは厚さが約３４オングストローム乃至約１０５オングストローム、より好ましくは約５６オングストロームである。第１のＡＰピン留め層４１２は、好ましくは厚さが約５オングストローム乃至約２５オングストロームであり、より好ましくは約８オングストローム乃至約１５オングストロームである。最も好ましい厚さは約１０オングストロームである。ピン留め層４１０の中の高固有抵抗層４１８の厚さは、約５オングストローム乃至約１５オングストロームの範囲内に収まることが好ましい。また、より好ましくは厚さが約６オングストローム乃至約１０オングストロームである。高固有抵抗層４１８が約７オングストロームの厚さであることが最も好ましい。第２のＡＰピン留め層４１４は好ましくは約５オングストローム乃至約２５オングストロームの厚さであり、より好ましくは約５オングストローム乃至約２５オングストローム、さらに最も好ましくは約５オングストロームである。逆平行結合層４２０の厚さは、好ましくは約４オングストローム乃至約１０オングストローム、より好ましくは約６オングストローム乃至約９オングストローム、さらに最も約８オングストロームである。
【００４５】
第３のＡＰピン留め層４１６の厚さは、好ましくは約１５オングストローム乃至約３０オングストローム、より好ましくは２２オングストローム乃至約２８オングストローム、さらに最も好ましくは約２６オングストロームである。第１及び第３のＡＰピン留め層４１２及び４１６の厚さは、同時に調整されなければならない。なぜなら、スピン・バルブ・センサ４００の性能はそれらの間の差に依存するからである。この差、又は第３のＡＰピン留め層４１６の厚さを差し引いた第１のＡＰピン留め層４１２の厚さは、約３オングストローム乃至約２０オングストロームである。
【００４６】
図示したように、スピン・バルブ・センサ４００は、第３のＡＰピン留め層４１６の上に接触するようにして形成されたスペーサ層４２６を同様に有する。スペーサ層４２６は、好ましくはＧＭＲ促進物質（例えば銅（Ｃｕ））から形成されるが、  金（Ａｕ）又は銀（Ａｇ）等の他のＧＭＲ促進物質から形成されてもよい。本発明にとってスペーサ層４２６の厚さは重要であり、好ましくは約１５オングストローム乃至約３０オングストローム、より好ましくは約１８オングストローム乃至約２５オングストローム、さらに最も好ましくは約２１オングストロームである。
【００４７】
図に示すように、自由強磁性層４２８がスペーサ層４２６の上に隣接したかたちで形成されている。本発明の優れた点が得られるように、自由強磁性層４２８は好ましくは磁気抵抗の度合いが高い材料から形成される。そのような材料の一例として、Ｃｏ−Ｆｅ合金が挙げられる。好ましくは、自由強磁性層４２８は、該自由強磁性層４２８の構造が第２の材料に張り合わせられている構造とともに磁気軟度ＨＫを保つ。図示した実施形態では、自由層４２８はＣｏＦｅからなる抵抗層（ラミネート層）４３０とＮｉＦｅからなるラミネート層４３２とから形成され、それはその磁気抵抗が高いこと及びその磁気歪みが低いことから選択される。ＣｏＦｅからなるラミネート層４３０及びＮｉＦｅからなるラミネート層４３２は、磁気軟度達成の助けとなる。
【００４８】
好ましくは、自由磁強磁性層４２８は、全体の厚さが約２５オングストローム乃至約７５オングストロームである。より好ましくは約３５オングストローム乃至約５５オングストロームの厚さである。約４５オングストロームが最も好ましい。したがって、抵抗層４３０は好ましくは厚さが約５オングストローム乃至約１５オングストロームであり、より好ましくは約１０オングストローム乃至約１５オングストローム、さらに最も好ましくは約１５オングストロームである。さらに、ラミネート層４３２は、好ましくは厚さが約２０オングストローム乃至約６０オングストロームの範囲内で形成される。より好ましい範囲は、約２５オングストローム乃至約４０オングストロームである。最も好ましい厚さは約３０オングストロームである。
【００４９】
ラミネート層４３２は、好ましいＮｉ−Ｆｅ合金とともに複数の材料から構成されるものであってもよい。例えば、ＣｏをＮｉ−Ｆｅ合金に加えることで自由強磁性層４２８の全体的な磁気抵抗が実質的に増加し、一方で自由強磁性層４２８の磁気軟度ＨＫが実質的に減少するという知見が得られている。クロム、タンタル、ロジウム、及びモリブデンもまたＮｉ−Ｆｅ合金に加えることでラミネート層４３２の抵抗を高め、それによって抵抗層４３０を流れる電流の量を高めることができる。
【００５０】
再び図５を参照する。図に示すように、スピン・バルブ・センサ４００は、中央領域４０４に堆積された材料を酸化から保護するために自由強磁性層４２８上に形成されたキャップ層４３５が設けられている。キャップ層４３５は、好ましくはタンタル（Ｔａ）から作られるが、任意の適当な材料を使用してもよいことは当然である。また、図に示すように、スピン・バルブ・センサ４００は端部領域４０２に一対の長手方向にバイアスする層４３６が形成されている。バイアス層４３６は、好ましくはＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒ合金等の硬質材料から作られ、中央領域４０４を長手方向にバイアスするために使用される。
【００５１】
図に示すように、一対のリード４３８もまたバイアス層４３６上に形成されており、スピン・バルブ・センサ４００、電源４４２、及び検出装置４４０の間の回路経路を形成するのに用いられる。好ましい実施の形態では、検出装置４４０は２本のリード４０２間の電圧信号を検出する。ディスク上の磁気信号が変化することでこの電圧信号が変化する。
【００５２】
センス電圧信号は、記録された媒体からの印加磁気信号に応答して自由強磁性層４２８の磁化方向ＭＦが回転することで中央領域４０４の抵抗Ｒ’’が変化することで生ずる。検出装置は、当業者に知られている部分応答最尤（ＰＲＭＬ）チャンネル等のデジタル記録チャンネルを有するものであってもよい。あるいは、検出装置は当業者に知られているピーク検出チャンネルを含むものであってもよい。一実施形態では、検出装置はＰＲＭＬ形のデジタル記録チャンネルを有する。
【００５３】
図６（ａ）を参照すると、シード層４０７はそれ自体が複数の層から形成されていてもよい。図に示す例では、下部層５１０が基板４０６上に直接置かれており、またシード層４０７の上に形成された層のテクスチャを制御するために下部層５１０の上部にテクスチャ層５３０が置かれている。テクスチャ層５３０は、好ましくは面心立方（ＦＣＣ）結晶構造を持つ材料から形成されており、該結晶構造の（１１１）平面を基板４０６に対して平行にする材料からテクスチャ層５３０を形成することが優れた点であると考えられる。そのような材料として、ＮｉＦｅｂが最も好ましいが、適当な特性を持つ他の材料（例えばＮｉＦｅＭｏ及びＮｉＦｅＣｒ）を用いてもよい。
【００５４】
下部層５１０は、好ましくは基板４０６及びテクスチャ層５３０の両方と適合性のある構造を有する。適合性のある構造は、一般に類似の結晶構造、結晶配向、及び格子定数を有する。結晶材料の格子定数は、結晶内の隣接する原子間の最も短い距離として定義される。類似の格子定数によって、隣接する層の結晶が互いに整列し、殆ど不規則なところがない均質なきめの細かい境界が得られる。したがって、下部層５１０は、好ましくは基板４１０に平行な（１１１）平面を持つＦＣＣ結晶構造も有するべきである。また、基板４０６及びテクスチャ層５３０と類似の格子定数を有することが下部層５１０に求められる。  ＮｉＯは下部層５１０を形成する上で好ましい材料ではあるが、他の材料、例えばＮｉＭｎＯを用いてもよい。
【００５５】
このように構成することで、下部層５１０は好ましくは厚さが約２０オングストローム乃至約１００オングストロームである。より好ましくは、下部層５１０の厚さは、約３０オングストローム乃至約７０オングストロームである。最も好ましくは、下部層５１０は厚さが４０オングストロームとするべきである。テクスチャ層５３０の厚さは、好ましくは約５オングストローム乃至約３０オングストロームである。より好ましくは、テクスチャ層５３０の厚さは約７オングストローム乃至約２０オングストロームである。最も好ましくは、テクスチャ層５３０の厚さは約１０オングストロームである。
【００５６】
次に図６（ｂ）を参照しながら説明する。この図では、図５のシード層４０７に取って代わる実施形態が示されている。図に示すように、下部層５１０とテクスチャ層５３０との間に移行層５２０が挿入されている。移行層５２０は、下部層５１０とテクスチャ層５３０との間の移行をたやすくすることができ、反強磁性層４０８のよりいっそう適当な礎を提供することができる。一つの例として、反強磁性層４０８はＰｔＭｎから形成され、かつ移行層５２０が好ましくは含まれることで薄い反強磁性層４０８の良好な形成が可能となる。Ｔａは移行層５２０を形成する上で好ましい材料ではなるが、他の適当な材料（例えばＺｒ）を用いてもよい。
【００５７】
下部層５１０及びテクスチャ層５３０の厚さは、この実施形態で構成したように、好ましくは既に述べたように先行する実施形態と関連させることが好ましい。移行層５２０の厚さは、好ましくは約２０オングストローム乃至約６０オングストロームの範囲内となるようにする。より好ましくは、移行層５２０の厚さは約２５オングストローム乃至約４５オングストロームである。この実施形態の移行層５２０は最も好ましくは約３０オングストロームの厚さを有する。
【００５８】
図７は、本発明にもとづくＧＭＲセンサの別の実施形態を示す。図７の実施形態では、シート層４０７が省かれている。高固有抵抗層４１８を残して、図５に関連して説明したような構成とすることができる。反強磁性層４０８は、この構成では、好ましくはＮｉＯから形成されるが、反強磁性層４０８のピン留め機能を実施するために他の材料を使用してもよい。他の層及び構成要素は、図５に関連した説明通りに形成することができる。
【００５９】
高固有抵抗層４１８及びシード層４０７を一緒に用いた場合、特定の相乗効果が得られる。高比抵抗バッファリング、均一なテクスチャ成長、及び高交換結合の組み合わせによって、一意的に高いＧＭＲ係数をもたらすことができる。図７の実施形態は、固有抵抗層４１８がシード層４０７の不在下で機能することができることを例証している。同様に、シード層４０７はピン留め層４１０が高固有抵抗層４１８を含まない実施形態でも機能することができる。
【００６０】
本発明の好ましい合金及び濃度は以下の通りである。第１、第２、及び第３のピン留め層４１２、４１４、及び４１６で使用するＣｏ−Ｆｅ合金の現在のところ好ましい例は、Ｃｏ９０Ｆｅ１０である。ラミネート層で使用するＮｉ−Ｆｅ合金の好ましい例は、Ｎｉ８１Ｆｅ１９である。高固有抵抗層４１８又はテクスチャ層５３０で使用するＮｉ−Ｆｅ合金の好ましい例は、Ｎｉ４２Ｆｅ５０Ｎｂ８であり、Ｎｉ及びＦｅの部分は変更することができるが、Ｎｂの部分とほとんど等しいか大きいことが好ましい。
【００６１】
反強磁性層４０８又は下部層５１０で使用する上でＮｉ合金の好ましい一例は、Ｎｉ５０Ｏ５０である。反強磁性層５１０で使用する上でＩｒＭｎの好ましい例は、Ｉｒ２５Ｍｎ７５であり、Ｉｒの部分は約２０％から約２５％の間で変動してもよく、またＭｎの部分は約７５％から約８０％の間で同様に変動してもよい。反強磁性層４０８で使用する上でＰｔＭｎの好ましい例は、Ｐｔ４０Ｍｎ６０である。Ｐｔの部分は約４０％から約５０％の間で変動してもよく、またＭｎの部分は同様に約５０％から約６０％の間で変動してもよい。
【００６２】
以上のことから、本発明の改善された下部スピン・バルブ構造は、ＧＭＲ係数を改善するので、スピン・バルブの測定感度が改善される。改善されたシード層及び高固有抵抗層は、層のテクスチャが改善されることで自由層の測定可能な抵抗変化を高めるので、自由層の磁気軟度が増加し、層間の結合が強固となり、さらに電流分路が減少する。
【００６３】
本発明は、その必須の特徴から離れることなく他の特定の形態で具体化することができる。記述した実施形態は、全ての点で例証することのみを考慮したものであり、何ら限定を加えるためのものではない。したがって、本発明の範囲は、上記の説明によってではなく特許請求の範囲によって示される。各請求項に開示された発明と等価なものが意味すること及びその範囲に入る全ての変更は、本発明の特許請求の範囲に包含される。
【００６４】
まとめとして、本発明の構成に関して以下に事項を開示する。
（１）基板と、
前記基板上に設けられ、かつ前記基板に対して実質的に平行に配置された（１１１）結晶学的平面を形成するために選択された面心立方材料を含むシード層と、
磁束が通り、かつ該磁束の変化に応答して変化する電気抵抗を有するように構成され、前記シード層の上に位置した磁性材料からなる自由層と、
を有することを特徴とするスピン・バルブ・センサ。
（２）前記シード層は、一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される）
で表される化合物からなる群から選択される化合物を含む第１の層を有することを特徴とする上記（１）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（３）前記シード層は、前記第１の層と前記基板との間に位置した第２の層をさらに有し、また前記第２の層はＮｉ合金を含むことを特徴とする上記（２）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（４）第１の層はＮｉＦｅＮｂを含むことを特徴とする上記（３）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（５）前記第２の層はＮｉＯを含むことを特徴とする上記（４）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（６）前記第１の層の厚さは５オングストローム乃至３０オングストロームであり、また前記第２の層の厚さは２０オングストローム乃至１００オングストロームであることを特徴とする上記（５）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（７）前記第１の層と前記第２の層との間に第３の層をさらに有し、前記第３の層はＴａ及びＺｒからなる群から選択される金属を含有することを特徴とする上記（３）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（８）前記第３の層はＴａを含むことを特徴とする上記（７）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（９）前記第３の層の厚さは、２０オングストローム乃至６０オングストロームであることを特徴とする上記（８）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（１０）前記シード層と前記自由層との間に位置したピン留め層をさらに有し、前記ピン留め層から前記反強磁性層へ流れる電流の量を減少させるようにして選択された抵抗材料からなる層を前記ピン留め層が有することを特徴とする上記（３）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（１１）前記ピン留め層は、一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される）
で表される化合物からなる群から選択される化合物を含むことを特徴とする上記（１０）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（１２）前記ピン留め層はＮｉＦｅＮｂを含むことを特徴とする上記（１１）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（１３）基板と、
前記基板の上に位置した反強磁性（ＡＦＭ）層と、
強磁性体から形成され、かつ前記反強磁性層の上に配置されたピン留め層と、
磁束が通り、かつ該磁束の変化に応答して変化する電気抵抗を有するように構成され、前記反強磁性（ＡＦＭ）層の上に位置した磁性材料からなる自由層とを有し、さらに、
前記ピン留め層の磁気配向が実質的に前記反強磁性層によって固定され、さらに前記ピン留め層から反強磁性層に流れる電流の量を減少させるために選択された電気抵抗材料からなる層を前記ピン留め層が有することを特徴とするスピン・バルブ・センサ。
（１４）前記ピン留め層は、前記反強磁性層に隣接した第１の逆平行ピン留め層をさらに有し、前記第１の逆平行ピン留め層はＣｏＦｅとＣｏとからなる群から選択される材料を含むことを特徴とする上記（１３）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（１５）前記ピン留め層は、前記第１の逆平行ピン留め層の上に位置した第２の逆平行ピン留め層をさらに有し、前記第２の逆平行ピン留め層はＣｏＦｅとＣｏとからなる群から選択される材料を含むことを特徴とする上記（１４）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（１６）電気的抵抗材料からなる層は第１及び第２の逆平行ピン留め層の間、及び隣接して位置することを特徴とする上記（１５）のスピン・バルブ・センサ。
（１７）前記電気抵抗材料からなる層は、一般式
ＮｉｆｅＸ（式中、Ｘは、Ｎｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される元素）
で表される化合物からなる群から選択される化合物からなる材料を含むことを特徴とする上記（１６）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（１８）前記電気抵抗材料からなる層は、ＮｉＦｅＮｂを含むことを特徴とする上記（１７）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（１９）前記電気抵抗材料からなる層は、厚さが５オングストローム乃至１５オングストロームであることを特徴とする上記（１８）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（２０）前記第１の逆平行ピン留め層及び第２の逆平行ピン留め層は、それぞれ厚さが５オングストローム乃至２０オングストロームであることを特徴とする上記（１９）に記載のスピン・バルブ・センサ。
（２１）（１）磁気記録ディスクと、
（２）基板、
一般式
ＮｉＦｅＸ（式中、ＸはＮｂ、Ｍｏ、及びＣｒからなる群から選択される）
で表される化合物からなる群から選択される化合物を含む第１の層と、
前記第１の層と前記基板との間に位置し、かつＮｉ合金を含む第２の層とを有し、前記基板の上に配置されたシード層、
前記シード層の上に配置した反強磁性（ＡＦＭ）層、
強磁性体から形成され、かつ前記反強磁性層の上に配置され、さらに磁気的配向が実質的に固定されたピン留め層、
前記ピン留め層の上に配置されたスペーサ層、
磁束が通り、かつ該磁束の変化に応答して変化する電気抵抗を有するように構成され、前記反強磁性（ＡＦＭ）層の上に位置した磁性材料からなる自由層、及び
前記自由層の上に配置されたキャップ層を有し、前記磁気記録ディスク上に記録されたデータを読み取るための逆平行ピン留めスピン・バルブ・センサと、
（３）前記磁気記録ディスク上に磁気記録された異なるデータに前記スピン・バルブ・センサがアクセスするために前記磁気記録ディスク上で前記スピン・バルブ・センサを移動させるアクチュエータと、
（４）前記スピン・バルブ・センサに電気的に連結し、かつ前記磁気記録されたデータによって誘導される磁場の変化に応答して前記ピン留め層の一定の磁化を基準とした前記自由層の磁化軸の回転によって生ずる前記スピン・バルブ・センサの抵抗の変化を検出するように構成された検出器と、
を備えることを特徴とするディスク・ドライブ装置。
（２２）前記第１の層はＮｉＦｅＮｂを含み、また前記第２の層はＮｉＯを含むことを特徴とする上記（２１）に記載のディスク・ドライブ装置。
（２３）前記第１の層は厚さが５オングストローム乃至３０オングストロームであり、また前記第２の層は厚さが２０オングストローム乃至１００オングストロームであることを特徴とする上記（２２）に記載のディスク・ドライブ装置。
（２４）前記シード層は、前記第１の層と前記第２の層との間に位置したＴａからなる第３の層をさらに有することを特徴とする上記（２３）に記載のディスク・ドライブ装置。
（２５）前記ピン留め層は前記ピン留め層から前記反強磁性層へ流れる電流の量を減少させるように選択された電気抵抗材料からなる層を有することを特徴とする上記（２４）に記載のディスク・ドライブ装置。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のスピン・バルブ・センサの構成要素を説明するための模式的断面図である。
【図２】従来のＡＰピン留めスピン・バルブ・センサの構成要素を説明するための模式的断面図である。
【図３】本発明の磁気記録ディスク・ドライブ装置の一実施形態の概略的構成を説明するためのブロック図である。
【図４】本発明にもとづくＳＶヘッドの基板に対して平行な（１１１）平面を持つ面心立方体（ＦＣＣ）の微視的部分の模式的斜視図である。
【図５】本発明にもとづく改善されたシード層を組み込んだスピン・バルブ・センサの一実施形態の構成要素を説明するための模式的断面図である。
【図６】図５に示す改善されたシード層を形成する複数の層を説明するための断面図で、（ａ）はテクスチャ層と下部層との間に移行層がない場合、（ｂ）はテクスチャ層と下部層との間に移行層が設けられた場合を示す。
【図７】本発明にもとづく改善されたピン留め層を組み込んだスピン・バルブ・センサの一実施形態の構成要素を説明するための模式的断面図である。
【符号の説明】
３００      ディスク・ドライブ
３１２      磁気ディスク３１２
３１３      スライダ
３１４      スピンドル
３１５      サスペンジョン
３１８      ディスク・ドライブ・モータ
３１９      アクチュエータ・アーム
３２１      磁気読み取り／書き込みヘッド
３２２      ディスク面
３２７      アクチュエータ手段
３２９      制御ユニット
３２３、３２８      ライン
３２５      記録チャンネル
３７０      立方体試料
３７２    基板３７２
３７４    （１１１）平面
３７８    原子
４００    スピン・バルブ・センサ
４０２    端部領域
４０４    中央領域
４０６    基板
４０７    第２の層（シード層）
４０８    反強磁性（ＡＦＭ）層
４１０    ＡＰピン留め層
４１２    第１のピン留め層
４１４    第２のピン留め層
４１６    第３のピン留め層
４１８    高固有抵抗層
４２０    逆平行結合（ＡＰＣ）層
４２２、４２４    方向
４２６    スペーサ層
４２８    自由強磁性層
４３０    抵抗層（ラミネート層）
４３２    ラミネート層
４３５    キャップ層
４３６    バイアス層
４３８    リード
４４０    検出装置
４４２    電源
５１０    下部層
５２０    移行層
５３０    テクスチャ層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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