(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体基体上に感光層を形成して電子写真感光体を製造するに際し、基体表面に該感光層を形成する前に、基体表面をノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤及び両性界面活性剤の存在下に、ｐＨ値が９．５〜１３．０の洗剤液で処理することを特徴とする電子写真感光体基体の洗浄方法。
【請求項２】
洗剤液中に無機ビルダー又は有機ビルダーを含有する水溶液であることを特徴とする請求項１記載の感光体基体の洗浄方法。
【請求項３】
感光体基体の切削工程、洗浄工程、水洗工程、乾燥工程の後、感光層塗布乾燥工程を経て作製する感光体の製造方法において、洗浄工程に使用される洗剤液がノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤及び両性界面活性剤を含有し、ｐＨ値が９．５〜１３．０の洗剤液であることを特徴とする電子写真感光体の作製方法。
【請求項４】
感光体基体の切削工程、洗浄工程、水洗工程、乾燥工程の後、感光層塗布乾燥工程を経て作製された感光体において、洗浄工程に使用される洗剤液がノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤及び両性界面活性剤を含有し、ｐＨ値が９．５〜１３．０の洗剤液であることを特徴とする電子写真感光体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複写機、プリンタ等に利用される電子写真感光体及びその製造方法に関するものであり、特に電子写真感光体基体の洗浄に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に電子写真感光体は、ドラム状導電性基体上に感光層を形成したものである。このドラム状導電性基体は円筒状のアルミを鏡面加工又は板状のアルミをインパクト成形することにより作製される。鏡面加工、粗面化加工又はインパクト成形中に基体表面には、切削油のミスト、空気中のダスト、切粉等が付着するため、基体表面を洗浄処理して除去した後に、縮合多環顔料、アゾ顔料等の電荷発生物質、樹脂の結着剤等から成る電荷発生層及びヒドラゾン系又はアリールアミン系電荷輸送物質、樹脂の結着剤、及び酸化防止剤等の添加剤から成る電荷輸送層を順次塗布・積層し、乾燥して感光層を形成する。
【０００３】
電荷発生層及び電荷輸送層は、上述した電荷発生層及び電荷輸送層を構成する物質をそれぞれ含有する塗布液にドラム状導電性基体を公知の方法で塗布することによって該基体の表面に形成される。ここで行う塗布方法としては、特に制限はなく公知の方法が使用し得るが、例えば特開昭４９−１３０７３６号、同５７−５０４７号、同５９−４６１７１号及び特開昭５８−１８９０６１号に開示される方法が挙げられる。
【０００４】
前記塗布法において、導電性基体表面の洗浄が不十分であると、その表面に油ダスト等が残り、塗布の際にハジキ、シミ等の塗布欠陥の原因となる。このような電子写真感光体上に発生した欠陥は、コピー画像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン画像のムラ等となって現れ、画像品質に悪影響を及ぼす。かような電子写真感光体は実用に適さないものである。
【０００５】
基体表面の洗浄方法としては、通常有機溶媒中、必要に応じて加温された有機溶媒中に基体を浸漬処理及び／又は超音波の作用下で浸漬処理する浸漬洗浄；基体を溶媒に浸漬中又は基体に溶媒をシャワーリングしながらブラシ、スポンジ等により物理的に擦する接触洗浄；溶媒を高圧下でスリットより基体表面に噴出するジェット洗浄及び溶媒蒸気中に基体を挿入する蒸気洗浄が挙げられ、これらの単独又は組み合わせて基体表面の洗浄が行われている。
【０００６】
ここで使用される溶媒としては、メチレンクロライド、エチレンクロライド、１，１，１−トリクロルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチレン等の塩素系溶剤、フロン−１１２、フロン−１１３等のフッ素系溶剤、該フッ素系溶剤とメタノール、メチレンクロライド等の混合溶剤、ベンゼン、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、石油系炭化水素等及びそれ等の混合物が挙げられる。これらの溶剤中には引火性、発火性を有するもの、人体に有害であるので使用許容濃度が低いもの、洗浄能力が低いものが含まれており、必ずしも望ましいものではない。
【０００７】
電子写真感光体の導電性基体としては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス、真ちゅう等の金属の円筒状基体又は薄膜シート又はアルミニウム、錫合金、酸化インジウム等をポリエステルフィルム或いは紙、金属フィルムの円筒状基体等に蒸着したものが挙げられるが、低価格、加工し易さ、強度及び重量等の観点から、アルミニウムが最も一般的である。アルミニウムは反応性が高く柔らかいという性質を有しており、アルミニウムの純度が高くなるとこの傾向が著しいが、加工し易さ及び感光層との接着性の観点から純度の高いアルミニウムが導電性基体の材料として広く用いられている。
【０００８】
このような高純度のアルミニウムから成る導電性基体の表面を洗浄する場合は、基体材料であるアルミニウムの反応性と柔らかさを考慮して、有機溶媒による洗浄が行われるのが通常である。
【０００９】
しかしながら、１，１，１−トリクロルエタン等は、洗浄能力が高い、取り扱いが容易等長所があるものの、地球温暖化、オゾン層の破壊等を引き起こす物質の一つであると推考され、フロンと共に全世界でその削減が決定されており、１，１，１−トリクロルエタンの代替洗浄液の提供又は代替洗浄法の開発が切望されている。
【００１０】
近年、上記有機溶媒を使う場合の問題点を解消するため、感光体基体を超音波の作用下、純水、ノニオン系又はアニオン系界面活性剤溶液等で浸漬洗浄する方法が開発されている（例えば特開平５−６１２１５号）。しかし、これによる洗浄能力は十分ではなく、洗浄不良と思われる感光層塗布時のハジキ、シミ等を完全に防止することは出来なかった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、かぶり、黒ポチ又は白ポチ等の感光体性能故障の無い、無公害で取り扱いが簡単な電子写真感光体基体の洗浄方法とそれを用いた感光体の製造方法及び感光体を提供する為になされた。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記構成の何れかによって達成される。
【００１３】
（１）  電子写真感光体基体上に感光層を形成して電子写真感光体を製造するに際し、基体表面に該感光層を形成する前に、基体表面をノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤及び両性界面活性剤の存在下に、ｐＨ値が９．５〜１３．０の洗剤液で処理することを特徴とする電子写真感光体基体の洗浄方法。
【００１４】
（２）  洗剤液中に無機ビルダー又は有機ビルダーを含有する水溶液であることを特徴とする（１）記載の感光体基体の洗浄方法。
【００１５】
（３）  感光体基体の切削工程、洗浄工程、水洗工程、乾燥工程の後、感光層塗布乾燥工程を経て作製する感光体の製造方法において、洗浄工程に使用される洗剤液がノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤及び両性界面活性剤を含有し、ｐＨ値が９．５〜１３．０の洗剤液であることを特徴とする電子写真感光体の作製方法。
【００１６】
（４）  感光体基体の切削工程、洗浄工程、水洗工程、乾燥工程の後、感光層塗布乾燥工程を経て作製された感光体において、洗浄工程に使用される洗剤液がノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤及び両性界面活性剤を含有し、ｐＨ値が９．５〜１３．０の洗剤液であることを特徴とする電子写真感光体。
【００１７】
本発明は電子写真感光体作製の為の各工程、つまり（１）基体の切削工程、（２）洗浄剤による洗浄工程（含、水による洗浄工程と乾燥工程）の後、（３）感光層を塗布する工程の中、主に（２）の工程に関するものである。
【００１８】
本発明における感光体基体の材質は特に限定されるものではなく、各種のものに適用可能であるが、現在主にはアルミニウムが用いられている。また、その表面切削、研磨方法も各種のものがあるが、特に限定される事なく本発明の適用が可能である。
【００１９】
また、感光層の組成、層構成、塗布方法についても特に限定されず、各種のものが適用可能であるが、主には有機感光物質を用い、電荷輸送機能と電荷発生機能を別の化合物に分担させ、別の層に含有させた、いわゆる機能分離型有機感光層を持つ感光体に最も適している。
【００２０】
本発明の感光体基体洗浄の実施態様を説明すれば、下記のごとくである。
【００２１】
所定の直径に造られ、一定サイズに切断された切削等で表面加工済みのアルミニウム製感光体基体を洗浄する。洗浄槽は通常３〜１０槽程度に別れており、その概要は図１のごとくである。
【００２２】
より具体的な説明を、例えば図１の（ｂ）で説明すれば、第１槽１−１は通常０．１〜３０％程度の洗剤溶液（洗剤液ともいう）を用い、洗剤溶液の温度は通常１０〜６０℃であり、槽内には超音波洗浄装置を装備している。第２槽１−２もほぼ同じ構成を有し、感光体基体面に切削時に付いた金属粉や油等の汚れは、第１槽にてかなり洗浄して落とされ、第２槽にて完全に洗浄される。両槽共、処理時間は通常１〜３０分で超音波を均一に照射する。又、槽中で基体を回転し及び／又は上下に揺動しても良い。尚、図１において１−１、１−２・・・・は洗剤溶液槽を表し、２−１、２−２・・・・は水洗槽を表す。
【００２３】
洗剤溶液成分としては、下記のものが含有される。
【００２４】
ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンエーテル類、ソルビタンアルキルエステル類等であり、例えばＲＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）nＨ等のアルキルポリオキシエチレンエーテル型、ＲＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）m（Ｃ3Ｈ6Ｏ）nＨの構造を有するポリオキシアルキレンブロックコポリマー型（プルロニック型、Ｒは炭素数４〜２５の飽和、不飽和のアルキル基）が代表的なものである。これらのノニオン界面活性剤のＨＬＢは５〜１５であり、ＨＬＢ７〜１４が特に好ましい。
【００２５】
アニオン界面活性剤としては、高級アルコール硫酸エステル塩類、脂肪酸アミドスルホン酸塩類等であり、代表的なものとして、例えば炭素数８〜２２の飽和、不飽和のアルキル基を有する直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムがある。
【００２６】
両性界面活性剤としては、イミダゾリン誘導体型、ベタイン高級アルキルアミノカルボン酸型等があり、「化１」に示すごとき、（Ａ）、（Ｂ）のＮ−アルキルジメチルベタインのごとき、アルキルカルボキシベタイン型（Ｒは炭素数８〜２２の飽和、不飽和アルキル基）、（Ｃ）のＮ−アルキルアミノプロピオン酸塩のごときアルキルアミノカルボン酸型（Ｒは（１）と同一）、アルキルイミダゾリン型等がある。
【００２７】
【化１】
0003722162.tif 000002
【００２８】
又、無機ビルダーとしては、オルトケイ酸ソーダやメタケイ酸ソーダのケイ酸塩等があり、有機ビルダーとしては、Ｄ−グルコン酸モノナトリウム塩（Ｃ6Ｈ11ＮａＯ7）やエチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）のアルカリ金属塩等がある。
【００２９】
さらに、多くの場合加えられているものとしてニトリロトリ酢酸トリナトリウム塩（ＮＴＡ−Ｎａ塩  Ｎ（ＣＨＣＯＯＮａ）3）等のキレート剤がある。
【００３０】
その他の添加剤として、液安定性向上、洗浄性向上の為グルコン酸ナトリウム塩、クエン酸ナトリウム塩、ｐ−エチルベンゼンスルホン酸ソーダ、或いはキシレンスルホン酸ソーダ塩等を加えても良い。
【００３１】
第１、２槽１−１、１−２共、当初のｐＨ値は通常１２〜１２．５であり、１３．０以下の値をとるし、これ以上ではアルミニウム基体の溶解を伴い、洗浄性能を発揮させる上からはこれ以上とする必要も無い。洗浄が進むに従いコントロールしなければｐＨ値は低下傾向を示すが、９．５未満にまで低下すれば液の活性度も低下することになる。従って、９．５以上にする必要があり、適当なアルカリ剤あるいは弱酸と強アルカリの塩類を添加すると良い。
【００３２】
図１の（ｂ）において第３〜５槽２−１、２−２、２−３は、主に第１、２槽にて用いた洗剤等を洗い落とす工程であり、第５槽２−３に純水を注入し、これによりオーバーフローした第５槽液を第４槽４へ注入し、さらに第４槽をオーバーフローした液を第３槽に注入し、第３槽のオーバーフロー液は破棄する構成を採っている。
【００３３】
ここにおいて用いる純水は抵抗値０．０１〜１８×１０6Ω・ｃｍの純水であり、第５槽に注入される純水は当然抵抗値が高く、１５×１０6Ω・ｃｍ程度のものが用いられる。
【００３４】
第３〜５槽の温度は、第３、４槽が２５〜３０℃、又、第３、４槽には、超音波発振器５が設置されている。第５槽は超音波発振器は設置しなくても良い。その代わり温度はかなり高い４０〜６０℃程度とするのが良い。処理時間は通常１〜３０分で基体を回転させながら上下に揺動させるとよい。なお、洗浄のための超音波発振器は周波数２５〜６０ｋＨｚ程度で用いられる。
【００３５】
これらの第１〜５槽間を感光体基体を搬送しては、浸漬するための機構としては、３本爪による無段取替チャックと３本爪による自動段取替パレットにより、又、第２槽においては液中固定ブラシ４によるスクラブ洗浄を行っても良い。さらに第５槽には、洗浄装置より最終的に基体を取り出す時、付着している槽液を出来るだけ落とすため、エアーナイフ１２が設置されているのがよい。第５槽を出た基体は、乾燥炉１０にて８０〜１５０℃程度のクリーンエアーにより３〜６０分間乾燥され、洗浄工程を終える。これらの構成は図１の他の構成（ａ）、（ｃ）〜（ｆ）においてもほぼ同様である。
【００３６】
このようにして洗浄された感光体基体を用いた感光体は、かぶり、黒ポチ、白ポチ等が出ず、又洗浄廃液は無公害性が高いことがわかった。
【００３７】
ここにおいて各槽にはそれぞれ循環経路とポンプが付設されており、その経路中にはフィルターを備え、液中の不溶解物を取り除くシステムにするのが望ましい。
【００３８】
洗浄処理された導電性基体表面に公知の方法で感光層を形成する。例えば浸漬塗布法、リング方式塗布法、スプレー塗布法又は円形量規制型塗布法によって、洗浄処理された導電性基体表面に電荷発生層を形成し、次いで、電荷発生層の上に浸漬塗布法又はスプレー塗布法によって電荷輸送層を形成する。
【００３９】
感光体層の接着性改良、塗布性改良、基体上の欠陥の被覆及び基体から電荷発生層への電荷注入性改良等のために下引き層が設けられることが有る。下引き層の材料としては、ポリアミド、共重合ナイロン、カゼイン、ポリビニルアルコール、セルロース、ゼラチン等の樹脂が知られている。これらを各種有機溶媒に溶解し、膜厚が０．０１〜５μｍ程度になるように導電性円筒状基体上に塗布される。
【００４０】
電荷発生層は、光照射により電荷を発生する電荷発生材料を主成分とし、必要に応じて公知の結合剤、可塑剤、増感剤を含有し、膜厚が１．０μｍ以下（乾燥膜厚）となるように導電性円筒状基体又は下引き層の上に塗布される。
【００４１】
電荷発生材料としては、ペリレン系顔料、多環キノン系顔料、フタロシアニン顔料、金属フタロシアニン系顔料、スクエアリウム色素、アズレニウム色素、チアピリリウム色素及びカルバゾール骨格、スチリルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベンゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾール骨格又はジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料等が挙げられる。
【００４２】
電荷輸送層は、電荷発生材料が発生した電荷を受け入れこれを輸送する能力を有する電荷輸送材料及び結着剤を必須成分とし、必要に応じて公知のレベリング剤、可塑剤、増感剤等を含有し、乾燥膜厚５〜７０μｍとなるように電荷発生層の上に塗布される。
【００４３】
電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキソジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、ヒドラゾン誘導体等の電子供与性物質、或いはフルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、インデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、フェナジンオキサイド誘導体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノン等の電子受容性物質等が挙げられる。
【００４４】
電荷輸送層を構成する結着剤としては、電荷輸送材料と相溶性を有するものであれば良く、例えばポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエステル、ポリケトン、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ホリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。
【００４５】
本発明の方法で製造された電子写真感光体はハジキ、シミ等による画像への黒ポチ、白ポチの発生が殆どなく、良品率が高い。更に、洗浄工程において、有機溶媒を使用しないので、有機溶媒の使用による大気汚染、人体への影響、高い引火性及び発火性による爆発の危険等がない。
【００４６】
【実施例】
以下、本発明を挙げてさらに説明するが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
【００４７】
実施例１
切削加工した円筒状基体を洗浄処理した。洗浄は図１（ａ）の洗浄工程で行い、第１槽の洗浄液としての洗剤液実−１を用い第２〜４槽の洗浄液として純水を用いた。第１槽の洗浄液温度は４０〜４５℃、第２〜４槽の洗浄液温度はそれぞれ２５〜３０℃であった。各槽への浸漬時間はそれぞれ２分間であった。洗浄後、基体を１００℃で１０分間乾燥した後放冷し感光槽を形成した。
【００４８】
実施例２
切削加工した円筒状基体を洗浄処理した。洗浄は図１（ｂ）の工程で行い、第１、２槽の洗浄液として洗剤液実−２を用い第３〜５槽の洗浄液として純水を用いた。第１、２槽の洗浄液温度は２５〜３０℃、第３、４槽の洗浄液温度はそれぞれ２５〜３０℃また、第５槽の洗浄液温度は４０〜５０℃であった。各槽への浸漬時間はそれぞれ２分間であった。洗浄後、基体を１００℃で７分間乾燥した後放冷し感光層を形成した。
【００４９】
実施例３
切削加工した円筒状基体を洗浄処理した。洗浄は図１（ｃ）の洗浄工程で行い、第１槽の洗浄液として洗剤液実−３を用い第２〜５槽の洗浄液として純水を用いた。第１槽の洗浄液温度は２５〜３０℃、第２〜４槽の洗浄液温度はそれぞれ２５〜３０℃また、第５槽の洗浄液温度は４０℃〜３５℃であった。各槽への浸漬時間はそれぞれ３分間であった。洗浄後、基体を１００℃で１５分間乾燥した後冷却し感光層を形成した。
【００５０】
実施例４
切削加工した円筒状基体を洗浄処理した。洗浄は図１（ｄ）の洗浄工程で行い、第１、２槽の洗浄液として洗剤液実−４を用い第３〜７槽の洗浄液として純水を用いた。第１、２槽の洗剤液温度は３５〜４５℃、第３〜７槽の洗浄液温度はそれぞれ２５〜３５℃であった。各槽への浸漬時間はそれぞれ１分間であった。洗浄後、基体と１００℃で１５分間乾燥した後放冷し感光層を形成した。
【００５１】
実施例５
切削加工した円筒状基体を洗浄処理した。洗浄は図１（ｃ）の洗浄工程で行い、第１槽の洗浄液として洗剤液実−５を用い第２〜５槽の洗浄液として純水を用いた。第１槽の洗浄液温度は３５〜４５℃、第２〜４層の洗浄液温度はそれぞれ２５〜３０℃また、第５槽の洗浄液温度は４０〜５０℃であった。各槽への浸漬時間はそれぞれ３分間であった。洗浄後、基体を１００℃で１０分間乾燥した後放冷し感光槽を形成した。
【００５２】
尚、洗剤液実−１、実−２、実−３、実−４、実−５とは洗剤液実施例１〜５の略である。又、下記洗剤液比−１〜３とは洗剤液比較例１〜３を表す。
【００５３】
比較例１
切削加工した円筒状基体を洗浄処理した。洗浄は図１（ａ）の洗浄工程で行い、第１槽の洗浄液として洗剤液比−１を用い第２〜４槽の洗浄液として純水を用いた。第１槽の洗浄液温度は４０〜４５℃、第２〜４槽の洗浄液温度はそれぞれ２５〜３０℃であった。各槽への浸漬時間はそれぞれ２分間であった。洗浄後、基体を１００℃で１０分間乾燥した後放冷し感光層を形成した。
【００５４】
比較例２
切削加工した円筒状基体を洗浄処理した。洗浄は図１（ｃ）の洗浄工程で行い、第１槽の洗浄液として洗剤液比−２を用い第２〜５槽の洗浄液として純水を用いた。第１槽の洗浄液温度は３０〜３５℃、第２〜５槽の洗浄液温度はそれぞれ２５〜３０℃であった。各槽への浸漬時間はそれぞれ２分間であった。洗浄後、基体を１００℃で１０分間乾燥した後放冷し感光層を形成した。
【００５５】
比較例３
洗浄は図１（ｄ）の洗浄工程において、洗剤液比−３を用いた以外は実施例４と同様にして感光体を作製した。上記の各洗剤液組成とｐＨを纏めて表１に示す。
【００５６】
【表１】
0003722162.tif 000003
【００５７】
なお、感光層塗布に当たっては、まず下引層を感光体基体上に塗布し、さらに電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した。各層液の構成は下記のごとくである。
【００５８】
〔下引層〕
エチレン−酢酸ビニル−メタアクリル酸共重合体
（ＥＬＶＡＸ４２６０  三井デュポンケミカル社製）          ５０ｇ
トルエン                                              １７７０ｍｌ
メチルエチルケトン                                      １８０ｍｌ
からなる液を用い、感光体基体上に乾燥膜厚０．４μｍになるように設けた。
【００５９】
〔電荷発生層〕
τ型無金属フタロシアニン顔料                                ５０ｇ
シリコ−ン樹脂（ＫＲ−５２４０  信越化学社製）              ５０ｇ
メチルエチルケトン                                    ２４００ｍｌ
上記組成物液をサンドミルを用いて２時間分散した。この液を用いて前記下引層上に浸漬塗布し、０．５μｍの膜厚の電荷発生層を形成した。
【００６０】
〔電荷輸送層〕
スチリル系化合物（ＥＬ−２６  下記化２の構造）          １４００ｇ
ポリカーボネート（Ｚ−２００  三菱瓦斯化学社製）        ２３００ｇ
シリコーンオイル（ＫＦ−５４  信越化学社製）              ０．５ｇ
ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（チバガイギー社製）                  ７０ｇ
からなる混合物を１，２−ジクロロエタン１００００ｍｌに溶解した塗布液を用いて、前記電荷発生層上に浸漬塗布して後、９０℃で６０分乾燥し、平均膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【００６１】
【化２】
0003722162.tif 000004
【００６２】
性能評価
Ａ  実写画像テスト
Ｋｏｎｉｃａ９０２８（コニカ社製、半導体レーザー光源使用、有機光導電体使用感光体、反転現像法採用機）に本発明による感光体ドラムを装着し、５０００コピー実写後の画像を、黒ポチ、ハーフトーンムラの有無という観点から肉眼にて観察した。
【００６３】
◎：黒ポチ、ハーフトーンムラ共ほとんど認められず、全く問題なし
○：やや認められるが、実用上は問題なし
△：実用上問題ある
×：明らかに実用上問題ある。
【００６４】
Ｂ  電位安定性
Ｋｏｎｉｃａ９０２８の現像器の代わりに電位計を設置し、低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下においての感光体帯電電位を測定した。
【００６５】
初期と５０００コピー後の未露光部帯電電位（ＶH）の差を下記のごとくして求めた。
【００６６】
電位安定性（％）
＝｛（初期ＶH）ー（５０００コピー後ＶH）｝／（初期ＶH）×１００
◎：７％未満で全く問題なし
○：７％以上１０％未満で実用上は問題なし
△：１０％以上１５％未満で実用上問題ある
×：１５％以上で明らかに実用上問題ある。
【００６７】
結果は下記表２に記載した。
【００６８】
【表２】
0003722162.tif 000005
【００６９】
表２から明らかなごとく、本発明内の実施例１〜５は実写画像テスト、電位安定性共良好な特性を示すが、比較例１〜３は実用に適さないことがわかる。
【００７０】
【発明の効果】
本発明により、かぶり、黒ポチ又は白ポチ等の感光体性能故障の無い、無公害で取り扱いが簡単な電子写真感光体基体の洗浄方法とそれを用いた感光体の製造方法及び感光体を提供する事が出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の洗浄装置の概念図。
【符号の説明】
１−１  第１槽
１−２  第２槽
２−１  第３槽
２−２  第４槽
２−３  第５槽
６  感光体基体
１０  乾燥炉
【図１】
0003722162.tif 000006