(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基板及び記録層からなる光記録媒体において、記録状態の変化に対応して可視光域の光学特性が変化する５００〜７００ｎｍに光吸収を有する有機色素材料又はＶＩｂ族元素から選ばれる元素を少なくとも一種含む無機材料からなる記録層と、記録容量に対応する位置マークを設けた基板とを有し、前記位置マークが基板に設けた凹凸パターンであり、前記凹凸パターンが基板の案内溝パターンであることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記案内溝パターンが記録容量又はアドレス情報に対応して、トラックピッチが変化したパターンであることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
記録容量又はアドレス情報に対応して、トラックピッチが変化した、情報ピット及び／又は案内溝が表面に形成されてなる基板上に、直接又は他の層を介して有機色素を主成分とする記録層を塗布成膜手段により、又は無機材料からなる記録層を真空成膜手段により設け、その上に直接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手段により設け、更にその上に保護層を設けることを特徴とする請求項１又は２に記載の光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はメディアの使用容量又は残容量の大まかな把握が目視にて可能な光記録媒体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、追記型ＣＤ（コンパクトディスク）の開発が活発化してきている。これは、従来のＣＤと異なりユーザが情報を記録することが可能で且つ記録後の信号は従来のＣＤの規格を満足するため、市販ＣＤプレーヤで再生可能であるという特徴をもつ。このようなメディアを実現する方法の１つとして、特開平２−４２６５２号公報において、基板上に色素をスピンコーティングして光吸収層を設け、その背後に金属反射層を設けることが提案されている。また、特開平２−１３２６５６号公報に述べられているように、光吸収層の複素屈折率、膜厚を適当に選ぶことにより、記録後の信号がＣＤ規格を満足するようになり、追記型ＣＤとし商品化されている。
【０００３】
一方、この追記型ＣＤの記録方法としては、一度に全データを記録し、１枚のＣＤを作製するシングルセッションモードと、データを毎回追記して記録するマルチセッションモードが提案されている。ところが、マルチセッションを行った場合、記録するデータ容量とメディアの残容量を確認しておかなければならないが、従来のメディアの使用容量はメディアのドライブで再生しなければ確認できず、複数枚のメディアから使用するメディアを選ぶ際など、はなはだ面倒であった。特に、従来のＣＤと同様に業務用のみならず民生に普及し、大量にメディアが使用される可能性がある追記型ＣＤにおいては、使い勝手が悪い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明は、前述の問題点を改善するためになされたものであり、メディアの使用容量又は残容量の大まかな把握が目視にて可能な光記録媒体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、以下の発明が提供される。
（１）少なくとも基板及び記録層からなる光記録媒体において、記録状態の変化に対応して可視光域の光学特性が変化する５００〜７００ｎｍに光吸収を有する有機色素材料又はＶＩｂ族元素から選ばれる元素を少なくとも一種含む無機材料からなる記録層と、記録容量に対応する位置マークを設けた基板とを有し、前記位置マークが基板に設けた凹凸パターンであり、前記凹凸パターンが基板の案内溝パターンであることを特徴とする光記録媒体。
（２）前記案内溝パターンが記録容量又はアドレス情報に対応して、トラックピッチが変化したパターンであることを特徴とする前記（１）に記載の光記録媒体。
（３）記録容量又はアドレス情報に対応して、トラックピッチが変化した、情報ピット及び／又は案内溝が表面に形成されてなる基板上に、直接又は他の層を介して有機色素を主成分とする記録層を塗布成膜手段により、又は無機材料からなる記録層を真空成膜手段により設け、その上に直接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手段により設け、更にその上に保護層を設けることを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の光記録媒体の製造方法。
【０００６】
本発明の光記録媒体は、基板その他の媒体構成要素に、記録容量に対応する位置マークを設けたことから、記録済領域を上記記録容量を示す位置マークに対応させることによって、目視にて使用容量を確認することができるものとなる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について、具体的に詳しく説明する。
本発明の光記録媒体は、記録状態の変化に対応して可視光域の光学特性が変化する記録層と、記録容量に対応する位置マークを設けた基板又は他の媒体構成要素を有し、記録層の記録済み領域と前記マークの位置関係から媒体の使用容量又は残容量が目視により確認可能であることを特徴とする。
【０００８】
本発明における記録層（光吸収層）材料としては、記録状態の変化対応して可視光域の光学特性が変化する材料が使用でき、状態の変化としては、形状変化、相変化、化学変化などを挙げることができる。
記録層材料には、有機色素材料と無機材料とがある。
有機色素材料の具体例としては、例えばフタロシアニン系色素、シアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素などを挙げることができるが、好ましくは５００〜７００ｎｍ域に光吸収を有するものが良い。記録状態の変化を目視にて確認する際、大きなコントラストを得やすいためである。更に、これらの色素には必要に応じて他の第３成分、例えばバインダー、安定剤などを含有させることができる。
一方、無機材料としては、例えばＧｅＴｅ、ＧｅＴｅＳｂ、ＳｅＴｅ、ＩｎＳｂＴｅ、ＡｇＩｎＳｂＴｅ、ＴｅＯｘ、ＩｎＳｂ、ＳｂＳｎＳ、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｎＳ、Ｔｅ−Ｃ、ＩｎＳｎなどを挙げることができるが、好ましくはVIｂ族元素（Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐｏ）から選ばれる元素を少なくとも一種含むものが良い。これは前述の有機色素材料と同様に目視にて大きなコントラストを得やすいためである。
なお、記録層の膜厚は１００〜５０００Åの範囲が適切である。
【０００９】
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。
基板材料の例としては、ポリメチルメタクリレートのようなアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル、ソーダ石灰ガラス等のガラス及びセラミックスを挙げることができる。特に寸法安定性、透明性及び平面性などの点から、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル及びガラスなどを挙げることができる。
【００１０】
本発明において設けられる位置マークは、基板又は他の媒体構成要素に設けられる。他の媒体構成要素とは、下塗り層、反射層、保護層などを挙げることができるが、基板以外の構成要素に位置マークを設けた場合、構成要素の特性（密着性、反射率、耐水性など）に影響する場合があるので、好ましくは基板に設けるのが良い。
【００１１】
以下、基板に設けた場合について説明する。
位置マークは、例えば、図１（ａ）、（ｂ）に示すようなパターンであり、マーク位置が媒体の容量に対応するように設けられる。パターン形成は、印刷パターン、凹凸パターンが良く、スクリーン印刷、オフセット印刷、成形、切削などを用いることができる。形成する位置は基板の光入射側、記録膜面側のどちらでもよいが印刷パターンを光入射側に形成する場合は、記録再生光波長（λ≒７８０ｎｍ）に対して透明な材料を用いる必要がある。このような材料としては、例えば、トリメチン系のシアニン色素（トリメチン系、ベンズインドレニンなど）、軸配位子を有するフタロシアニン色素（リン酸エステル軸配位子系Ｓｉフタロシアニンなど）などを含む材料を挙げることができる。
【００１２】
位置マークの好ましい形態としては、▲１▼印刷パターンにより形成する場合は、基板の入射側に前述の透明材料を印刷したものである。基板の記録膜側に印刷パターンを形成すると、記録膜の特性が変化しやすいためである。印刷方法は、スクリーン印刷、オフセット印刷など従来の方法が使用できる。
【００１３】
一方、▲２▼凹凸パターンにより形成する場合は、基板案内溝を記録容量に対応してパターン化したものである。すなわち、案内溝形状をアドレス情報に対応して変化させることにより、目視で確認可能なパターンを形成する。溝形状の変化としては、溝幅、溝深さ、トラックピッチなどを挙げることができるが、特にトラックピッチが好ましい。溝幅、溝深さを変化させると、信号特性が変化しやすいためである。溝形状の変化量は、変化前の値（１００％とする）に対して、溝幅で−３％〜−１０％、３％〜１０％、溝深さで−３％〜−１０％、３％〜１０％、トラックピッチで１０％〜１００％が良い。変化の絶対値がこれより小さいと、目視で確認する際大きなコントラストを得にくく、またこれより大きくなると、信号特性が変化しやすいためである。凹凸パターンを案内溝で形成する場合は、基板作成に用いるスタンパを変更するだけで良く、印刷工程など他の工程を必要としないので、従来と同じ工程、コストで光記録媒体の製造が可能であり、本発明の最も好ましい形態である。
【００１４】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び光吸収層の変質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン／スルホン酸共重合体、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質：シランカップリング剤などの有機物質：及び無機酸化物（ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3等）、無機フッ化物（ＭｇＦ2）などの無機物質を挙げることができる。
なお、下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００１５】
また、基板（又は下塗層）上には、トラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグループ層が設けられてもよい。プレグループ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（又はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
【００１６】
更に、記録層の上には、Ｓ／Ｎ比、反射率の向上及び記録時における感度の向上の目的で、反射層が設けられてもよい。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｓｉなどの金属及び半金属を挙げることができる。これらのうちで好ましいものはＡｕ、Ａｌ及びＡｇである。これら物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで又は合金として用いてもよい。
なお、反射層の層厚は一般に１００〜３０００Åの範囲にある。
また、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく、この場合には情報の記録再生は記録層側（基板とは反対の側）から行なわれる。
【００１７】
また、記録層（又は反射層）の上には、記録層などを物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられてもよい。この保護層は、基板の光吸収層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
保護層に用いられる材料の例としては、Ｓｉ、Ｏ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂を挙げることができる。
なお、保護層の層厚は一般的には５００Å〜５０μｍの範囲にある。
【００１８】
次に、本発明の光記録媒体の製造方法について説明する。
本発明の光記録媒体の製造方法は、記録容量又はアドレス情報に対応してトラックピッチが変化した、情報ピット及び／又は案内溝が表面に形成されてなる基板上に直接又は他の層を介して、有機色素を主成分とする記録層を塗布成膜手段により、又は無機材料からなる記録層を真空成膜手段により設け、その上に直接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手段により設け、更にその上に保護層を設けることを特徴とする。
すなわち、本発明の製造方法は、下記の工程からなる。
（イ）記録容量又はアドレス情報に対応してトラックピッチが変化した、情報ピット及び／又は案内溝が表面に形成されてなる基板上に直接又は他の層を介して、有機色素からなる記録層を塗布成膜手段により設ける工程、又は無機材料からなる記録層を真空成膜により設ける工程、
（ロ）記録層上に直接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手段により設ける工程、及び
（ハ）記録層上に保護層を設ける工程。
【００１９】
（記録層形成工程）
本発明の方法においては、記録容量又はアドレス情報に応じてトラックピッチが変化した情報ピット及び／又は案内溝が表面に形成されている基板上に、直接又は他の層を介して、記録層が有機色素材料の場合は、色素材料を溶媒に溶解し、液状の塗布液として基板上にコートすることにより、記録層が形成される。この塗布液を調整するための溶媒としては、公知の有機溶媒（例えばアルコール、セルソルブ、ハロゲン化炭素、ケトン、エーテル等）を使用することができる。また、有機記録層の形成手段としては、蒸着法、ＬＢ法スピンコート法等が挙げられるが、記録層の濃度、粘度、溶剤の乾燥温度を調節することにより層厚を制御できるため、スピンコート法が望ましい。
一方、記録層が無機材料の場合は、無機材料に対応する組成のターゲットを作成し、基板表面に無機材料をスパッタ成膜することにより、記録層が形成される。無機記録層の形成手段としては、蒸着法、ＬＢ法、スパッタ法などが挙げられるが、成膜速度、タクトが速いスパッタ法（特に枚葉スパッタ）が望ましい。
【００２０】
なお、記録層が設けられる側の基体表面に下塗層を設けることが、基板表面の平面性の改善や接着力の向上あるいは記録層の変質防止等の目的で、行なわれる。この場合の下塗層は、例えば前述した下塗層用物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調整したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
【００２１】
（光反射層形成工程）
本発明の方法においては、次に記録層上に直接又は他の層を介して光反射層が真空成膜手段により設けられる。すなわち、前述した光反射性物質を、例えば蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより、光反射層が記録層の上に形成される。
【００２２】
（保護層形成工程）
本発明の方法においては、光反射層上に保護層が設けられる。すなわち、前述した無機物質や種々の樹脂からなる保護層用材料を、真空成膜又は塗布成膜することにより形成される。特にＵＶ硬化性樹脂を用いるのが、好ましく、該樹脂をスピンコート後、紫外線照射により硬化して形成される。
【００２３】
【実施例】
以下実施例について本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２４】
実施例１
直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート円板の表面上に、７４分用追記型ＣＤの案内溝を深さ約１６００Å、トラックピッチ１．６μｍ、且つアドレス情報（ＡＴＩＰ  ＴＩＭＥ）１０分、２０分、３０分、４０分、５０分、６０分、７０分の存在するトラック及び隣接する前後３トラックピッチを２．６μｍの条件で形成した基板［図１−（ｂ）参照］を用意し、下記一般式（Ｉ）で表わされるシアニン系色素を２，２，３，３−テトラフロロプロパノールに溶解させ、塗布液としてスピンコートすることにより、基板表面に記録層を設けた。
【化１】
0003651709.tif 000002
【００２５】
この記録層の膜厚は約１３００Åであった。記録層の上にＡｕスパッタ法によりＡｕを約８００Åの厚さに設け反射層とし、更その上に紫外線硬化樹脂からなる保護層を約５μｍの厚さに設けて、本発明の光記録媒体を得た。
この媒体にＣＤライター（ＲＰＤ−１０００  パイオニア社製）を用いて４０分のデータを記録し、媒体の光入射側を目視により観察したところ、７本の円周状の位置マーク及び内周から４本目に対応する位置に記録済領域があることが確認できた。
【００２６】
実施例２
実施例１の基板において、案内溝深さを８００Åに変えた基板を用意し、基板表面にＧｅＴｅＳｂからなるアモルファス記録層をスパッタ法により形成した。この記録層の膜厚は約８００Åとした。記録層の上に紫外線硬化樹脂からなる保護層を約５μｍの厚さに設けて、本発明の光記録媒体を得た。
この媒体に波長７８５ｎｍ、Ｎ．Ａ．０．５、線速４．８ｍ／ｓの条件で容量３０分のデータを記録し、媒体の光入射側を目視により観察したところ、７本の円周状の位置マーク及び内周から３本目に対応する位置に記録済領域があることが確認できた。
【００２７】
実施例３
実施例１において、トラックピッチを全面１．６μｍとした従来の媒体の基板表面（光入射側）に図１−（ａ）に示す位置マークパターンを半径３１．５ｍｍ、３７ｍｍ、４１．５ｍｍ、４５．５ｍｍ、４９．５ｍｍ、５３ｍｍ、５６．５ｍｍに印刷することより、本発明の光記録媒体を得た。なお、印刷には、下記一般式（II）で表わされるシアニン系色素を用いた。
【化２】
0003651709.tif 000003
この媒体にＣＤライター（ＲＰＤ−１０００  パイオニア社製）を用いて２０分のデータを記録し、媒体の光入射側を目視により観察したところ、印刷した７本の位置マーク及び内周から２本目に対応する位置に記録済領域があることが確認できた。
【００２８】
【発明の効果】
請求項１の光記録媒体は、基板その他の媒体構成要素に、記録容量に対応する位置マークを設けたことから、目視にて媒体の使用容量又は残容量の大まかな把握が可能となり、光記録媒体は、記録層が５００〜７００ｎｍに光吸収を有する有機色素材料又はVIｂ族元素から選ばれる元素を少なくとも一種含む無機材料からなるものとしたことから、記録済領域を目視にて確認する際のコントラストが向上するという効果が加わり、光記録媒体は、前記位置マークが基板に設けた凹凸パターンであることから、他の媒体構成要素の特性を変化させることがないという効果を有する光記録媒体において、前記凹凸パターンが基板の案内溝パターンであることから、製造の際の工程数を増すことなく低コストで本媒体が得られる。
【００２９】
請求項２の光記録媒体は、前記案内溝パターンがトラックピッチが変化したパターンであることから、低コストで且つ信号特性を変化させることなしに本媒体が得られるという効果が加わる。
【００３０】
請求項３の光記録媒体の製造方法は、記録容量又はアドレス情報に対応して、トラックピッチが変化した、情報ピット及び／又は案内溝が表面に形成されてなる基板上に、直接又は他の層を介して有機色素を主成分とする記録層を塗布成膜手段により、又は無機材料からなる記録層を真空成膜手段により形成させ、その上に直接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手段により形成させるものとしたことから、本方法によると本発明の光記録媒体を低コストで且つ安定に製造することができる。
【００３１】
削除
【００３２】
削除
【００３３】
削除
【００３４】
削除
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は位置マークが印刷パターンである本発明の光ディスクの上面図であり、（ｂ）は位置マークが案内溝パターンである本発明の光ディスクの上面図である。
【符号の説明】
１  ディスク外径
２  スピンドル穴
３  記録領域最内周部
４  記録領域最外周部
５  位置マーク
６  記録済領域
【図１】
0003651709.tif 000004