(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象とするデータの値が大きく変化することを予測する異常変動予測方法であって、
測定値が時間とともに変化する時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値よりなる変動周期の周波数成分を算出する周波数成分算出工程と、
前記周波数成分の変化量を検出し、検出した周波数成分の変化量である検出変化量があらかじめ設定した変化量である許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、前記検出変化量が前記許容変化量の範囲内にないときには、測定値が大きく変動する兆候であると判定する異常変動検出工程とを備えていることを特徴とする異常変動予測方法。
【請求項２】
前記異常変動検出工程は、前記複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて前記周波数成分の変化量を検出する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の異常変動予測方法。
【請求項３】
前記異常変動検出工程は、前記複素数の実部の平均値と虚部の平均値とにより表わされる２次元の座標系を導入し、前記許容変化量の範囲を前記座標系における長円形の円周及び内部よりなる領域として表わす工程を含み、
前記長円形の長軸は、前記複素数の実部及び虚部の各平均値から算出された近似直線に平行であり、
前記長軸から垂直方向への前記長円形の円周までの距離は、前記長軸に垂直な方向に対して前記複素数の実部及び虚部の各平均値が示す位置の分散値に依存することを特徴とする請求項２に記載の異常変動予測方法。
【請求項４】
測定値が時間とともに変化する時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値を用いて前記時系列データにおける変動周期の周波数成分を算出する周波数成分算出手段と、
前記複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて前記周波数成分の変化量を検出し、検出した周波数成分の変化量である検出変化量があらかじめ設定した変化量である許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、前記検出変化量が前記許容変化量の範囲内にないときには、測定値が大きく変動する兆候であると判定する異常変動検出手段とを備え、
前記異常変動検出手段において、前記複素数の実部の平均値と虚部の平均値とにより表わされる２次元の座標系を導入され、前記許容変化量の範囲を前記座標系における長円形の円周及び内部よりなる領域として表わされると共に、
前記長円形の長軸は、前記複素数の実部及び虚部の各平均値から算出された近似直線に平行であり、
前記長軸から垂直方向への前記長円形の円周までの距離は、前記長軸に垂直な方向に対して前記複素数の実部及び虚部の各平均値が示す位置の分散値に依存することを特徴とする異常変動予測装置。
【請求項５】
測定対象のデータの値が大きく変化することを予測するプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
コンピュータを、
測定値が時間とともに変化する時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値を用いて前記時系列データにおける変動周期の周波数成分を算出する周波数成分算出手段と、
前記複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて前記周波数成分の変化量を検出し、検出した周波数成分の変化量である検出変化量があらかじめ設定した変化量である許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、前記検出変化量が前記許容変化量の範囲内にないときには、測定値が大きく変動する兆候であると判定する異常変動検出手段として機能させるためのプログラムを備え、
前記異常変動検出手段において、前記複素数の実部の平均値と虚部の平均値とにより表わされる２次元の座標系を導入され、前記許容変化量の範囲を前記座標系における長円形の円周及び内部よりなる領域として表わすと共に、
前記長円形の長軸は、前記複素数の実部及び虚部の各平均値から算出された近似直線に平行であり、
前記長軸から垂直方向への前記長円形の円周までの距離は、前記長軸に垂直な方向に対して前記複素数の実部及び虚部の各平均値が示す位置の分散値に依存することを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体等の製造時に測定対象とするデータの値が急激に変動することを予測できる異常変動予測方法及び異常変動予測装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
監視対象の状態を示すデータがどのように変動するかを予測する方法において、その変動を近似直線を用いて表わせないほど複雑であり、且つ、変動の要因が判明していない場合は、測定時の変動と類似した過去の変動を用いて、近い未来も類似した過去の変動と同じ値になると推測する予測方法が有効である。
【０００３】
その１つの方法として、公開番号  特開平０８−０１６２０９「予測制御方法及びその装置」がある。
【０００４】
以下、前記従来の予測制御方法及びその装置を図面を参照しながら概要を説明する。
【０００５】
図７は従来の予測制御装置を示す機能ブロック図である。図７に示すように、半導体製造装置１００は制御対象であり、測定器１０１は半導体製造装置１００の状態等を示すパラメータを測定する。パターン抽出手段１０２はパラメータ値を外部記憶装置１０６に記録すると共に変動しているパラメータ値の変化率等を抽出する。類似度算出手段１０３は現在測定しているパラメータ値の変動が過去の変動と比べてどのくらい類似しているかを算出する。評価手段１０４は類似度と測定値及び予測値の差とを比較して、予測値を求めるために使用したデータが適切であるかを判断し、不適当なデータを外部記憶装置１０６に記録する。また、現在測定しているパラメータの変動と類似した過去のデータとから半導体製造装置１００の状態を予測する。制御器１０５は評価手段１０４の予測結果に基づいて半導体製造装置１００を制御する。
【０００６】
以上のように構成された予測制御装置は、過去に測定したパラメータの変動パターンを蓄積し、蓄積している変動パターンの中から、測定中のパラメータの変動と類似しているものを抽出し、該測定中のパラメータが、近い未来に、抽出した変動パターンが示すとおりに変動すると予測し、その予測結果を用いて半導体製造装置１００を制御する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の予測制御装置は、過去に測定したデータの変動パターンが少ない場合は、測定中のデータが示す変動と類似しない場合が多いため、近い未来の変動を予測できないという問題を有していた。従って、比較対象の変動パターンが十分に得られない環境下では、比較対象の変動パターンが少ない場合でも予測できる方法、又は比較対象の変動パターンを必要としない予測方法が必要となる。
【０００８】
また、監視対象の状態を示すデータを管理する場合は、監視対象の状態が大きく変化して問題が発生することを未然に防ぐことが重要であり、小さな変化を予測しても問題を未然に防止する効果は極めて小さい。
【０００９】
本発明は、前記従来の問題を解決し、近い未来における監視対象の状態を予測する際に比較対象の変動パターンを用いることなく、近い未来に監視対象の状態が大きく変化することを予測できるようにすることを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明が講じた解決手段は、測定対象とするデータの値が大きく変化することを予測する異常変動予測方法を対象とし、測定値が時間とともに変化する時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値よりなる変動周期の周波数成分を算出する周波数成分算出工程と、前記周波数成分の変化量を検出し、検出した周波数成分の変化量である検出変化量があらかじめ設定した変化量である許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、前記検出変化量が前記許容変化量の範囲内にないときには、前記測定値が大きく変動する兆候であると判定する異常変動検出工程とを備えている構成とするものである。
【００１１】
請求項１の構成により、測定値が時間とともに変化する時系列データにおける変動周期の周波数成分を算出した後、周波数成分の変化量を検出し、検出変化量が許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、検出変化量が許容変化量の範囲内にないときには、測定値が大きく変動する兆候であると判定するため、比較対象とする変動パターンを用いる必要がない。
【００１３】
請求項２の発明は、請求項１の構成に、前記異常変動検出工程は、前記複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて前記周波数成分の変化量を検出する工程を含む構成を付加するものである。
【００１４】
請求項３の発明は、請求項２の構成に、前記異常変動検出工程は、前記複素数の実部の平均値と虚部の平均値とにより表わされる２次元の座標系を導入し、前記許容変化量の範囲を前記座標系における長円形の円周及び内部よりなる領域として表わす工程を含み、前記長円形の長軸は、前記複素数の実部及び虚部の各平均値から算出された近似直線に平行であり、前記長軸から垂直方向への前記長円形の円周までの距離は、前記長軸に垂直な方向に対して前記複素数の実部及び虚部の各平均値が示す位置の分散値に依存する構成を付加するものである。
【００１５】
請求項４の発明が講じた解決手段は、異常変動予測装置を、測定値が時間とともに変化する時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値を用いて前記時系列データにおける変動周期の周波数成分を算出する周波数成分算出手段と、前記複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて前記周波数成分の変化量を検出し、検出した周波数成分の変化量である検出変化量があらかじめ設定した変化量である許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、前記検出変化量が前記許容変化量の範囲内にないときには、測定値が大きく変動する兆候であると判定する異常変動検出手段とを備え、前記異常変動検出手段において、前記複素数の実部の平均値と虚部の平均値とにより表わされる２次元の座標系を導入され、前記許容変化量の範囲を前記座標系における長円形の円周及び内部よりなる領域として表わされると共に、前記長円形の長軸は、前記複素数の実部及び虚部の各平均値から算出された近似直線に平行であり、前記長軸から垂直方向への前記長円形の円周までの距離は、前記長軸に垂直な方向に対して前記複素数の実部及び虚部の各平均値が示す位置の分散値に依存する構成とするものである。
【００１６】
請求項４の構成により、測定値が時間とともに変化する時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値を用いて前記時系列データにおける変動周期の周波数成分を算出した後、複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて周波数成分の変化量を検出し、検出変化量が許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、検出変化量が許容変化量の範囲内にないときには、測定値が大きく変動する兆候であると判定するため、比較対象とする変動パターンを用いる必要がない。
【００１７】
請求項５の発明が講じた解決手段は、測定対象のデータの値が大きく変化することを予測するプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を対象とし、コンピュータを、測定値が時間とともに変化する時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値を用いて前記時系列データにおける変動周期の周波数成分を算出する周波数成分算出手段と、前記複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて前記周波数成分の変化量を検出し、検出した周波数成分の変化量である検出変化量があらかじめ設定した変化量である許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、前記検出変化量が前記許容変化量の範囲内にないときには、測定値が大きく変動する兆候であると判定する異常変動検出手段として機能させるためのプログラムを備え、前記異常変動検出手段において、前記複素数の実部の平均値と虚部の平均値とにより表わされる２次元の座標系を導入され、前記許容変化量の範囲を前記座標系における長円形の円周及び内部よりなる領域として表わすと共に、前記長円形の長軸は、前記複素数の実部及び虚部の各平均値から算出された近似直線に平行であり、前記長軸から垂直方向への前記長円形の円周までの距離は、前記長軸に垂直な方向に対して前記複素数の実部及び虚部の各平均値が示す位置の分散値に依存する構成とするものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態に係る異常変動予測方法及びその装置を図面を参照しながら説明する。本実施形態において、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置内に発生するダスト等の異物の個数（以下、異物数と記す。）の異常増加に関する予測を一例として挙げる。
【００１９】
図１は本発明の一実施形態に係る異常変動予測方法を用いた異常変動予測装置を示す機能ブロック図である。図１に示すように、本装置は、ＣＶＤ装置１０において製造中のウェハの表面に付着した異物数を検出する測定器１１と、異物数等を蓄積する外部記憶装置１２と、異物数が急激に増加することを予測するための異物数の変動を解析する解析装置１３と、解析装置１３が出力する予測結果を表示する表示手段１４とを備え、解析装置１３は、異物数の時間的変動を示す時系列データを作成する時系列データ作成手段１３ａと、時系列データが示す変動の周波数成分を算出する周波数成分算出手段１３ｂと、異物数が大きく増加する兆候として周波数成分の特徴的な変化を検出する異常変動検出手段１３ｃとを有している。
【００２０】
以下、前記のように構成された異常変動予測装置の動作を図面を参照しながら説明する。図１に示すように、時系列データ作成手段１３ａは、測定器１１から新たな測定値を抽出する度に、抽出された測定値を含めた時系列データを作成し、周波数成分算出手段１３ｂ及び異常変動検出手段１３ｃは、時系列データ作成手段１３ａが作成した時系列データを用いて近い未来に測定値が大きく変動するか否かを予測する。
【００２１】
図２は時系列データの一例であり、図２に示すように、時系列データ作成手段１３ａは、測定器１１から異物数を抽出する度に、異物数と測定時の累積処理ウェハ枚数とを対にした２次元の配列からなる時系列データを作成する。２０は異物数を格納する異物数格納フィールドであり、２１は累積処理ウェハ枚数を格納する累積処理ウェハ枚数格納フィールドである。
【００２２】
以下、時系列データの作成方法を説明する。時系列データ作成手段１３ａは、時系列データを作成する度に、時系列データを外部記憶装置１２に格納しており、測定器１１から新たに測定された異物数を収集すると、その異物数と測定時の累積処理ウェハ枚数とを対にしたデータを外部記憶装置１２から抽出した時系列データの最後に追加している。
【００２３】
図３及び図４はＣＶＤ装置内において発生した異物数を測定し時系列データ作成手段１３ａにより作成された時系列データを表わすトレンドグラフであって、累積処理ウェハ枚数に対する異物数の変動を表わしており、グラフの横軸は累積処理ウェハ枚数、縦軸はウェハの表面に付着した異物数を表わしている。
【００２４】
ここで、累積処理ウェハ枚数は、ＣＶＤ装置１０で処理したウェハの枚数を、ＣＶＤ装置１０内を掃除して内壁に付着している異物を取り除いた時点から数えた値であり、ＣＶＤ装置１０内を掃除するたびに累積処理ウェハ枚数は０に戻る。関数ｆτ（ｔ）は、累積処理ウェハ枚数ｔに対する異物数を示した非連続な関数であり、累積処理ウェハ枚数が０枚からτ枚における異物数の変動を示している。すなわち、図３（ａ）に示す関数ｆτ（ｔ）は累積処理ウェハ枚数ｔ＝０からｔ＝ｔａ  までに測定した異物数の変動を、図３（ｂ）に示す関数ｆτ（ｔ）は累積処理ウェハ枚数ｔ＝ｔｂ  までに測定した異物数の変動を、図３（ｃ）に示す関数ｆτ（ｔ）は累積処理ウェハ枚数ｔ＝ｔｃ  までに測定した異物数の変動を、図４（ａ）に示す関数ｆτ（ｔ）は累積処理ウェハ枚数ｔ＝ｔｄ  までに測定した異物数の変動を、図４（ｂ）に示す関数ｆτ（ｔ）は累積処理ウェハ枚数ｔ＝ｔｅ  までに測定した異物数の変動をそれぞれ表わしている。
【００２５】
次に、周波数成分算出手段１３ｂは、時系列データが作成される度に、その時系列データが示す異物数の変動の周波数成分を算出する。すなわち、［数１］に示すように、時系列データに対応した関数ｆτ（ｔ）に対して離散フーリエ変換を行なう。
【００２６】
【数１】
0003628812.tif 000002
【００２７】
ここで、Ｆτ（ｍω０  ）はｆτ（ｔ）のフーリエ積分関数、ｍは高調波の番号、ｘτ（ｍ）はｍ高調波の実部、ｙτ（ｍ）は第ｍ高調波の虚部、ωは周波数、Ｔはサンプリング周期、ω０  は１／Ｔ、ｍとｋは０以上のシーケンス番号を表わす。第ｍ高調波の周波数はｍω０  である。また、ｘτ（ｍ）とｙτ（ｍ）とは、次の関係を有する周波数成分であって、｛ｘτ（ｍ）２  ＋ｙτ（ｍ）２  ｝１／２  は第ｍ高調波のスペクトル強度を表わすと共に、ｔａｎ−１｛ｙτ（ｍ）／ｘτ（ｍ）｝は第ｍ高調波の位相を表わす。
【００２８】
なお、ｆτ（ｔ）に［数１］を適用するときに、サンプリングデータが不足している場合は、離散的な実データの間を最小自乗法を用いて補間した数値を用いる。
【００２９】
次に、異常変動検出手段１３ｃは、周波数成分算出手段１３ｂにより求められた全高調波の実部及び虚部の平均値を外部記憶装置１２に記録する。ただし、ＣＶＤ装置１０内の掃除が行なわれ、累積処理ウェハ枚数が前回よりも少なくなった場合（例えば０枚）は、外部記憶装置１２に蓄積してきた実部及び虚部の平均値を削除した後、周波数成分算出手段１３ｂにより求められた全高調波の実部及び虚部の平均値を外部記憶装置１２にそのまま記録する。
【００３０】
その後、これまでに外部記憶装置１２に蓄積してきた実部及び虚部の平均値を用いて異物数が異常に増加する兆候を検出し、検出した場合には表示手段１４に近い未来に異物数が異常に増加する旨を表示する。
【００３１】
以下、周波数成分の実部及び虚部の平均値の変化において、異物数が異常に増加する兆候を示す特徴的な変化を図３、図４及び図５を用いて説明する。
【００３２】
図５は周波数成分の累積処理ウェハ枚数の増加に伴って変化する実部及び虚部の平均値を示す散布図である。散布図の横軸は実部の平均値を示し、縦軸は虚部の平均値を示す。各プロットは、異物数を測定する度に作成した時系列データから［数１］を用いて算出された実部及び虚部の平均値を示す。また、累積処理ウェハ枚数の昇順に各プロットを曲線でトレースしており、プロットに添えて記述されているτ＝ｔａ  ，・・・，ｔｅ  は、図３及び図４に示すτ＝ｔａ  、ｔｂ  、ｔｃ  、ｔｄ  、ｔｅ  のときの時系列データから算出された値のプロットであることを表わしている。
【００３３】
図３、図４及び図５に示す各グラフを解析すると次のことが分かる。
【００３４】
すなわち、図４（ａ）に示すτ＜ｔｄ  の領域において、異物数は大きな変動を示しておらず、τ＜ｔｄ  の領域に対応する図５のプロットの軌跡は長円形のような軌道を描く曲線である。しかし、異物数が大きく増加する図４（ｂ）に示すτ≧ｔｄ  の領域に対応した図５のプロットは、長円形が占める領域になく、該領域から外れた値となる。
【００３５】
従って、図５のプロットの軌跡が描く長円形のような領域を許容変化量として設定し、この許容変化量を示す領域から最初に外れたデータを検出することにより、異物数が大きく増加することを予測することが可能になる。
【００３６】
以下、図５のプロットの軌跡が描く長円形のような領域から最初に外れたデータを検出する方法を図６を用いて説明する。図６は長円形の領域から外れたプロットを検出するために用いる長円形３０を図５に追加した散布図である。長円形３０は、該長円形３０の大きさ、位置又は向きが実部及び虚部にそれぞれ新しい平均値が算出される度に変化する。長円形３０の長軸は、実部と虚部との平均値から算出した近似直線に平行であり、長軸から垂直方向に位置する長円形３０の円周までの距離は、長軸に垂直な方向に対するプロットの分散に依存する。
【００３７】
図６に示す長円形３０は、周波数成分算出手段１３ｂがτ＝ｔｄ  のプロットが示す値を求めた後に、異常変動検出手段１３ｃが用いる長円形である。
【００３８】
このように、異常変動検出手段１３ｃは、最新のτに対応したプロットが長円形３０が占める領域から外れているか否かを調べ、該長円形３０が占める許容変化領域から大きく外れるプロットを検出したときに、近い未来に異物数が大きく増加すると予測する。
【００３９】
以上説明したように、本実施形態によると、異物数が変動する周波数成分を離散フーリエ変換を用いて算出し、異物数が大きく増加する兆候を示す周波数成分の変化を検出することにより、異物数の異常な増加を予測することができる。
【００４０】
なお、本実施形態において、異常変動検出手段１３ｃは異物数が異常に増加する兆候を示すデータを検出するために長円形３０を用いたが、長円形３０の代わりに、あらかじめ設定した値以上にプロットが密集している領域を用いて、その領域外に最初に現われるτに対応するプロットを検出してもよい。
【００４１】
また、本実施形態はＣＶＤ装置１０内において発生する異物数を予測する場合を説明したが、ＣＶＤ装置１０以外の洗浄装置、スパッタ装置等における異物数であってもよく、異物数以外のエッチングレートなどであっても予測することができる。また、半導体製造に関わるデータ以外に、周期的な変動を示す多くの要因が重なり合って観測されるデータに対しても、データ値が急激に大きくなることを予測することができる。
【００４２】
【発明の効果】
請求項１の異常変動予測方法によると、過去に測定した多くの変動パターンが存在しない場合でも、測定値が大きく変動することを正確に予測することができる。
【００４３】
その上、周波数成分算出工程において、時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部よりなる周波数成分を算出するため、時系列データの周波数成分を確実に算出することができる。
【００４４】
請求項２の異常変動予測方法によると、請求項１の異常変動予測方法の効果が得られる上に、異常変動検出工程において、複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて周波数成分の変化量を検出するため、時系列データが示す変動周期に関わる周波数成分の変化から測定値が大きく変化する兆候を確実に検出することができる。
【００４５】
請求項３の異常変動予測方法によると、請求項２の異常変動予測方法の効果が得られる上に、異常変動検出工程は、複素数の実部の平均値と虚部の平均値とにより表わされる２次元の座標系を導入し、許容変化量の範囲を座標系における長円形の円周及び内部よりなる領域として表わす工程を含み、長円形の長軸は、複素数の実部及び虚部の各平均値から算出された近似直線に平行であり、長軸から垂直方向への長円形の円周までの距離は、長軸に垂直な方向に対して複素数の実部及び虚部の各平均値が示す位置の分散値に依存するため、時系列データが示す変動周期に関わる周波数成分の変化から測定値が大きく変化する兆候をより一層確実に検出することができる。
【００４６】
請求項４の異常変動予測装置によると、過去に測定した多くの変動パターンが存在しない場合でも、測定値が大きく変動することを正確に予測することができる。
【００４７】
また、周波数成分算出手段は、周波数成分に時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値を用いるため、時系列データの周波数成分を確実に算出することができる。
【００４８】
さらに、異常変動検出手段は、複素数の実部の平均値と虚部の平均値とにより表わされる２次元の座標系を導入され、許容変化量の範囲を座標系における長円形の円周及び内部よりなる領域として表わされ、長円形の長軸は、複素数の実部及び虚部の各平均値から算出された近似直線に平行であり、長軸から垂直方向への長円形の円周までの距離は、長軸に垂直な方向に対して複素数の実部及び虚部の各平均値が示す位置の分散値に依存するため、時系列データが示す変動周期に関わる周波数成分の変化から測定値が大きく変化する兆候を確実に検出することができる。
【００４９】
請求項５のコンピュータ読み取り可能な記録媒体によると、時系列データをフーリエ変換することにより導出された複素数の実部及び虚部の値を用いる周波数成分算出手段と、複素数の実部の平均値及び虚部の平均値を用いて周波数成分の変化量を検出し、検出した周波数成分の変化量である検出変化量があらかじめ設定した変化量である許容変化量の範囲内であるか否かを判断し、検出変化量が許容変化量の範囲内にないときには、前記測定値が大きく変動する兆候であると判定する異常変動検出手段とを有する異常変動予測手段として機能させるためのプログラムが記録されているため、過去に測定した多くの変動パターンが存在しない場合でも、測定値が大きく変動することを正確に予測することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る異常変動予測方法を用いた異常変動予測装置を示す機能ブロック図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る異常変動予測方法における時系列データのデータフォーマットを示す図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は本発明の一実施形態に係る異常変動予測方法における時系列データを表わすトレンドグラフである。
【図４】（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施形態に係る異常変動予測方法における時系列データを表わすトレンドグラフである。
【図５】本発明の一実施形態に係る異常変動予測方法における周波数成分の累積処理ウェハ枚数の増加に伴って変化する実部及び虚部の平均値を示す散布図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る異常変動予測方法における周波数成分の累積処理ウェハ枚数の増加に伴って変化する実部及び虚部の平均値を示す散布図であって、異常の兆候が現われる周波数成分の特徴的な変化を検出する方法を示した図である。
【図７】従来の予測制御装置を示す機能ブロック図である。
【符号の説明】
１０    ＣＶＤ装置
１１    測定器１
１２    外部記憶装置
１３    解析装置
１３ａ  時系列データ作成手段
１３ｂ  周波数成分算出手段
１３ｃ  異常変動検出手段
１４    表示手段
２０    異物数格納フィールド
２１    累積処理ウェハ枚数格納フィールド
３０    長円形
【図１】
0003628812.tif 000003
【図２】
0003628812.tif 000004
【図３】
0003628812.tif 000005
【図４】
0003628812.tif 000006
【図５】
0003628812.tif 000007
【図６】
0003628812.tif 000008
【図７】
0003628812.tif 000009