(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製フィルム基体の少なくとも一面に、硬化樹脂製クラッド層と硬化樹脂製コア層からなりかつ両層の界面に凹凸部が設けられてなる樹脂製クラッド／コア部材が、互いに接して２以上積層されてなる光メモリ素子であって、硬化樹脂製クラッド層の膜厚が５〜１００μｍ、硬化樹脂製コア層の膜厚が０．５〜３μｍであり、樹脂製フィルム基体と樹脂製クラッド／コア部材の間に、該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない、膜厚が０．５〜３μｍの接着層が設けられてなることを特徴とする光メモリ素子。
【請求項２】
樹脂製フィルム基体の一面に該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない接着層を介して樹脂製クラッド／コア部材が設けられ、該基体の他の一面に、該積層された樹脂製クラッド／コア部材と同等の収縮率を有する樹脂層が設けられてなる請求項１に記載の光メモリ素子。
【請求項３】
樹脂製フィルム基体の一面に該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない接着層を介して樹脂製クラッド／コア部材が設けられ、該基体の他の一面に、樹脂製クラッド層が設けられてなる請求項１に記載の光メモリ素子。
【請求項４】
樹脂製フィルム基体が遮光性を有する請求項１乃至３のいずれかに記載の光メモリ素子。
【請求項５】
樹脂製フィルム基体と、該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない接着層の間に、遮光性被膜が設けられてなる請求項１乃至３のいずれかに記載の光メモリ素子。
【請求項６】
樹脂製フィルム基体の両面に、該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない接着層を介して樹脂製クラッド／コア部材が設けられなる請求項１に記載の光メモリ素子。
【請求項７】
樹脂製フィルム基体の少なくとも一面に、硬化樹脂製クラッド層と硬化樹脂製コア層からなりかつ両層の界面に凹凸部が設けられてなり、硬化樹脂製クラッド層の膜厚が５〜１００μｍ、硬化樹脂製コア層の膜厚が０．５〜３μｍである樹脂製クラッド／コア部材が、互いに接して２以上積層されてなる光メモリ素子の製造方法であって、
表面に凹凸形状を有するスタンパ上に硬化性樹脂材からなるクラッド剤を塗布し硬化させて硬化樹脂製の第１クラッド層を形成する第１工程と、
該第１クラッド層上にコア層と同じ硬化性樹脂材からなる接着剤を塗布し半硬化させる第２工程と、
該接着剤を介して樹脂製フィルム基材を貼着する第３工程と、
該接着剤を硬化させて、膜厚が０．５〜３μｍの硬化樹脂製の接着層を形成する第４工程と、
該スタンパから上記の接着層、クラッド層及び樹脂製フィルム基材を一体に分離する第５工程とを含むことを特徴とする、光メモリ素子の製造方法。
【請求項８】
該第２工程において、塗布する接着剤の粘度が１００ｃｐｓ以下である、請求項７に記載の光メモリ素子の製造方法。
【請求項９】
該第２工程において、半硬化を、２００ｍＪ／ｃｍ2 以上６００ｍＪ／ｃｍ2 以下の紫外線を照射することにより行う、請求項７又は８に記載の光メモリ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光メモリ素子及び光メモリ素子の製造方法に関し、特に、光導波路デバイスを用いた光メモリ素子及び光メモリ素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、予め所定の散乱光を生じるようにパターンが刻まれた平面型の光導波路中に光を導入し、光導波面の外部に画像を結像させる技術が提案されている（IEEE  Photon.  Technol.  Lett.,  Vol.9,  pp.958-960,  July  1997等参照）。
即ち、例えば、図７に模式的に示すように、光導波路として機能するように、屈折率や膜厚を調整されたコア層１０１と、このコア層１０１を挟む形でその両側（両面部）に設けられた（第１、第２の）クラッド層１０２とを備えてなるカード型スラブ型光導波路デバイス１００において、コア層１０１とクラッド層１０２との界面に微細な凹凸が存在していた場合、コア層（光導波路）１０１にレンズ１０３を介して光（レーザ光）を導入すると、導入光の一部がその凹凸部分で散乱し、散乱光がクラッド層１０２を通じて外部に出てくる。
【０００３】
従って、光導波面（光導波路１０１）から所定距離に特定の画像が結像するような光の散乱強度と位相とを計算し、その計算に応じた微細な凹凸パターンを予めコア層１０１に刻み込んでおけば、光導波面の外部に所望の画像を結像させることができる。つまり、コア層１０１は情報の記録層として機能することになる。
【０００４】
そして例えば、光導波面の外部に出てきた散乱光を上記所定距離に設置したＣＣＤ受像機１０４により受光して、結像画像を２次元のディジタルパターン（例えば明暗の２値パターン、もしくは明度（グレイスケール）による多値のパターン等）化してディジタル信号化すれば、既存のディジタル画像処理装置（図示省略）で結像画像に対し、所望の画像処理を実施することができる。
【０００５】
また、例えば、上記のクラッド層１０２／コア層１０１／クラッド層１０２を繰り返し積層して、光導波路（記録層）１０１を複数個積層した場合、或る光導波路１０１で散乱した光は、別の光導波路１０１を横切ることになるが、通常、コア層１０１とクラッド層１０２の屈折率差が極めて小さいので、その散乱光が別の光導波路１０１に形成された凹凸で再散乱することは殆ど無く、結像画像が乱れることはない。従って、積層数に比例して数多くの画像やパターンを結像できることになる。
【０００６】
つまり、光導波路デバイス１００はその積層数に比例した容量を有する光メモリ素子（ＲＯＭ等の記録媒体）として使用できるのである。なお、この光メモリ素子は、理論上では、１層で約１ギガバイト程度の容量を持たせることができ、１００層程度まで積層することが可能であるといわれており、将来的には動画像の記録等に十分対応できる大容量ＲＯＭとして使用されることが有望視されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来、光導波路デバイス１００のコア層１０１における上記の微細な凹凸パターンは、例えば、次のような手法で形成される。即ち、まず（第１の）クラッド層１０２となる平板状のガラス等の上にフォトレジストを塗布し、光あるいは電子線等の露光とその現象によりそのガラス（クラッド層１０２）上に、結像させたい像に応じたピット（凹凸パターン）を形成する。
【０００８】
その後、その凹凸パターン上にコア層１０１を形成する。これにより、凹凸パターンの形成されたコア層１０１が作製され、このコア層１０１上にさらに第２のクラッド層１０２を形成することにより、１層分の光導波路デバイス（光メモリ素子）１００が作製される。
これを繰り返すことによって、多層構造の光メモリ素子（以下、「多層光メモリ」ということがある。）が作製される。
【０００９】
しかしながら、このような露光と現像とを用いた手法では、１層分の光メモリ素子１００の作製に非常に時間及びコストがかかってしまうので、大容量の多層光メモリを作成するには、膨大な時間とコストがかかるという課題がある。
そこで、コア層及びクラッド層を樹脂製にすることで、上記の凹凸パターンを簡易に形成できるようにして、光メモリ素子を容易かつ安価に実現できるようにすることが求められている。
【００１０】
本発明者は先に、特願平１１−３５１５４１号において、基体上に、クラッド層とコア層からなり、かつ両層の界面に凹凸が設けられてなる樹脂製クラッド／コア部材が多層に積層された光メモリ素子を提案している。例えば、基体である樹脂フィルムの一面に、クラッド層／コア層／クラッド層／コア層／クラッド層の順に積層され、両層の界面には情報に応じた微細な凹凸部が設けられている。
【００１１】
このような積層体を作製する方法として例えば、基体上にクラッド剤を塗布して硬化し、コア剤を塗布してスタンパから凹凸を転写したのち硬化し、クラッド剤を塗布して硬化することを繰り返すことが考えられる。しかし本法では、（１）クラッド剤やコア剤の硬化収縮による反りが蓄積され、基体が樹脂フィルムや薄い樹脂基板だと反りを抑えられず、硬質基板の使用が不可欠である、（２）硬質基板を用いると曲げが行えずスタンパからの剥離が困難である、といった問題がある。
【００１２】
これを解決するために、特願平１１−３５１５４１号では以下のような光メモリ素子の製造方法を提案している。
まず、表面に凹凸形状を有するスタンパ上に硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させて樹脂製の第１コア層を形成する工程と、第１コア層上に硬化性樹脂材からなるクラッド剤を塗布し硬化させて樹脂製の第１クラッド層を形成する工程と、第１クラッド層上に硬化性樹脂材からなるクラッド剤を介して樹脂製フィルム部材を貼着する工程と、クラッド剤を硬化させて樹脂製の第２クラッド層を形成する工程と、スタンパから上記のコア層、クラッド層及び樹脂製フィルム部材を一体に分離する工程とにより、フィルム部材上にクラッド／コア部材が１層分形成される。
【００１３】
次に、同様にしてスタンパ上に第一コア層、第一クラッド層を形成したのち、クラッド剤を介して、上記で得られたクラッド／コア部材が１層分形成されたフィルム部材を貼着し、クラッド剤を硬化させ、全てをスタンパから剥がす。これによりフィルム部材上にクラッド／コア部材が２層分形成される。
これを繰り返して基体にクラッド／コア部材を積層し、多層光メモリ素子を作製できる。これによれば、（１）各層の硬化収縮による反りが蓄積しにくく、また、基体の両側に交互に積層する等の製造方法の工夫で反りが抑制できるため、樹脂フィルムの使用が可能である、（２）曲げが容易な樹脂フィルムを用いるためスタンパを用いた実用的なプロセスを作ることができる、という利点がある。
【００１４】
しかしながら、さらなる検討によれば、多層光メモリ素子を作製する際には、各部材の貼合せ（ラミネート）時に生じる接着層の膜厚ムラが、導入光の導波の品質を下げてしまうため、メモリ素子の出力信号のノイズ増大という悪影響を与え、また、総膜厚の不均一の原因となるという問題があることが分かった。
上記問題点に鑑み、本発明は、小型大容量であってノイズが少なく信頼性の高い光メモリ素子を、さらに容易かつ安価に提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１の光メモリ素子は、樹脂製フィルム基体の少なくとも一面に、硬化樹脂製クラッド層と硬化樹脂製コア層からなりかつ両層の界面に凹凸部が設けられてなる樹脂製クラッド／コア部材が、互いに接して２以上積層されてなる光メモリ素子であって、硬化樹脂製クラッド層の膜厚が５〜１００μｍ、硬化樹脂製コア層の膜厚が０．５〜３μｍであり、樹脂製フィルム基体と樹脂製クラッド／コア部材の間に、該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない、膜厚が０．５〜３μｍの接着層が設けられてなることを特徴とする。
【００１６】
本発明の請求項２の光メモリ素子は、前記請求項１の素子において、樹脂製フィルム基体の一面に該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない接着層を介して樹脂製クラッド／コア部材が設けられ、該基体の他の一面に、該積層された樹脂製クラッド／コア部材と同等の収縮率を有する樹脂層が設けられてなることを特徴とする。
本発明の請求項３の光メモリ素子は、前記請求項１の素子において、樹脂製フィルム基体の一面に該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない接着層を介して樹脂製クラッド／コア部材が設けられ、該基体の他の一面に、樹脂製クラッド層が設けられてなることを特徴とする。
【００１７】
本発明の請求項４の光メモリ素子は、前記請求項１乃至３のいずれかの素子において、樹脂製フィルム基体が遮光性を有することを特徴とする。
本発明の請求項５の光メモリ素子は、前記請求項１乃至３のいずれかの素子において、樹脂製フィルム基体と、該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない接着層の間に、遮光性被膜が設けられてなることを特徴とする。
【００１８】
本発明の請求項６の光メモリ素子は、前記請求項１の素子において、樹脂製フィルム基体の両面に、該硬化樹脂製コア層の樹脂と同じ硬化樹脂からなり表面に凹凸部を有しない接着層を介して樹脂製クラッド／コア部材が設けられなることを特徴とする。
本発明の請求項７の光メモリ素子の製造方法は、樹脂製フィルム基体の少なくとも一面に、硬化樹脂製クラッド層と硬化樹脂製コア層からなりかつ両層の界面に凹凸部が設けられてなり、硬化樹脂製クラッド層の膜厚が５〜１００μｍ、硬化樹脂製コア層の膜厚が０．５〜３μｍである樹脂製クラッド／コア部材が、互いに接して２以上積層されてなる光メモリ素子の製造方法であって、
表面に凹凸形状を有するスタンパ上に硬化性樹脂材からなるクラッド剤を塗布し硬化させて硬化樹脂製の第１クラッド層を形成する第１工程と、
該第１クラッド層上にコア層と同じ硬化性樹脂材からなる接着剤を塗布し半硬化させる第２工程と、
該接着剤を介して樹脂製フィルム基材を貼着する第３工程と、
該接着剤を硬化させて、膜厚が０．５〜３μｍの硬化樹脂製の接着層を形成する第４工程と、
該スタンパから上記の接着層、クラッド層及び樹脂製フィルム基材を一体に分離する第５工程とを含むことを特徴とする。
【００１９】
ここで、樹脂製フィルム部材とは、樹脂フィルムのみでもよいし、樹脂フィルムにクラッド／コア部材が１層以上積層されたものでもよい。
本発明の請求項８の光メモリ素子の製造方法は、前記請求項７の方法において、該第２工程において、塗布する接着剤の粘度が１００ｃｐｓ以下であることを特徴とする。
【００２０】
本発明の請求項９の光メモリ素子の製造方法は、前記請求項７又は８の方法において、該第２工程において、半硬化を、２００ｍＪ／ｃｍ2 以上６００ｍＪ／ｃｍ2 以下の紫外線を照射することにより行うことを特徴とする。
本発明の光メモリ素子（請求項１）によると、コア層とその両面部に積層されるクラッド層とがいずれも樹脂製なので、従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用いることなく、スタンパの転写により凹凸のついたコア層を簡単に形成することができる。従って、個々の光導波部材を極めて容易に短期間で大量生産することが可能となり、この光導波部材を多層に積層した多層構造の光メモリ素子を容易かつ安価に得ることができる。
【００２１】
また、１層のクラッド層がその両側のコア層のクラッド層を兼ね、さらに各光導波部材間の接着剤及び基体を不要としたので、多層光メモリの厚みをさらに薄くして小型化を図ることができる。
さらに、基体とクラッド／コア部材を、従来のクラッド層ではなくコア層により接着するので、接着層を薄くでき接着による膜厚変動を抑えられ、均一な膜厚を有する光メモリを得ることができる。部材と部材のあいだの接着もクラッド剤ではなくコア剤により行えるので同様の効果が得られる。従って、導入光を高品質を保ったまま長く導波することができ、ノイズが小さく信頼性の高い光メモリ素子を得ることができる。また、接着層のフローアウト（端面からのはみ出し）が抑えられることから、洗浄作業やローラーでの余分な剤の押出し作業が不要となり、光メモリ素子を容易かつ安価に得ることができる。そして、連続工程での製造にも適している。
【００２２】
本発明の光メモリ素子（請求項２、３）によると、基体の両面部において、コア／クラッド部材による収縮力と樹脂層の収縮力とが同等に働くので、基体の両面部間の収縮バランスが確保されて、基体ひいては多層光メモリの反曲を最小限に抑制することができる。また、収縮バランスをとるための樹脂層が１層なので、多層光メモリの小型化にも寄与する。好ましくは該樹脂層としてクラッド層を用いる。
【００２３】
本発明の光メモリ素子（請求項４、５）によると、基体が遮光性を有するか、或いは、基体とコア層の間に遮光性被膜が設けられてなるため、コア層に光を導波させた際、上記の凹凸部で散乱した散乱光がクラッド層で導波してしまうことが無い。従って信号光への干渉を抑えノイズが少なく精細な画像の得られる光メモリ素子の実現性に大きく寄与する。
【００２４】
本発明の光メモリ素子（請求項６）によると、基体層の両面部において、樹脂製のコア／クラッド部材による収縮力がそれぞれ同等に働くので、樹脂製基体層の両面部間の収縮バランスが確保されて、樹脂製基体層ひいては光メモリ素子の反曲を最小限に抑制することができる。また基体の両面に光導波部材を積層するため、多層光メモリの厚みをさらに薄くして小型化を図ることができる。
【００２５】
本発明の光メモリ素子の製造方法（請求項７）によると、基体とクラッド／コア部材との接着にクラッド剤ではなく粘度の低いコア剤を用いたので、接着層を薄くでき接着による膜厚変動を抑えられ、均一な膜厚を有する光メモリを得ることができる。従って、導入光を高品質を保ったまま長く導波することができ、ノイズが小さく信頼性の高い光メモリ素子を得ることができる。
【００２６】
また、クラッド層上に塗布し半硬化させたのち基体を貼着したので、接着層のフローアウト（端面からのはみ出し）が抑えられることから、洗浄作業やローラーでの余分な剤の押出し作業が不要となり、光メモリ素子を容易かつ安価に得ることができる。そして、連続工程での製造にも適している。
さらに、従来は接着のためにクラッド層を２層設ける必要があったが、本発明によればクラッド層を１層とすることができるため、より容易かつ安価に光メモリ素子を得ることができる。
【００２７】
また、スタンパからの凹凸の転写をクラッド剤により行うので、コア剤により行うのに比べて剥離性がよい。
好ましくは、塗布するコア剤として粘度が１００ｃｐｓ以下の低いものを用いることで、接着層を薄くでき接着による膜厚変動を抑えられ、均一な膜厚を有する光メモリを得ることができる（請求項８）。
【００２８】
好ましくは、コア剤の半硬化を２００ｍＪ／ｃｍ2以上６００ｍＪ／ｃｍ2以下の紫外線照射条件下で行うことで、フローアウトと気泡の発生を適切に抑えることができ、ノイズが小さく信頼性の高い光メモリ素子を得ることができる（請求項９）。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
前述の通り、多層光メモリ素子を作製する際には、各部材の貼合せ（ラミネート）時に生じる接着層の膜厚ムラが、導入光の導波の品質を下げてしまうため、メモリ素子の出力信号の読み出しに悪影響を与える。また、総膜厚の不均一の原因ともなる。
【００３０】
前述の製造法においては、基体と部材、部材と部材を貼着する際に接着層の役割を果たすのは第２クラッド層である。そして、ラミネート時の膜厚ムラ発生には、接着層の膜厚と固さが大きく影響することが分かった。
膜厚ムラを抑えるためには、接着層の膜厚を薄くするほうがよい。また、接着層の固さを、ラミネート圧力によって膜厚変動が殆ど生じない程度に固く、かつラミネート時に気泡が巻きこまれない程度に柔らかいように調整する。
【００３１】
鋭意検討の結果、基体と部材、部材と部材の接着をコア層により行うことで、接着層の膜厚と固さを適切にできることが分かった。
すなわち本発明の光メモリ素子は、基体の少なくとも一面に、樹脂製クラッド層と樹脂製コア層からなりかつ両層の界面に凹凸部が設けられてなる樹脂製クラッド／コア部材が、互いに接して２以上積層されてなる光メモリ素子であって、基体と樹脂製クラッド／コア部材のあいだに、該凹凸部を有しない樹脂製コア層が少なくとも１層設けられてなる。
通常、コア層とクラッド層の界面には情報に応じて、サブミクロン単位の凹凸が設けられている。例えば幅が０．１〜０．２μｍ、深さが５０〜２００ｎｍ程度の矩形溝である。
【００３２】
ただし、基体と部材のあいだに設けられるコア層は、他のコア層と異なり上記サブミクロン単位の凹凸が設けられておらず、基体と部材の接着のために専ら用いられ情報再生層としては用いられない。
なお、他の層の情報に影響を与えない程度の微細な荒れはあってもよい。
光メモリ素子として機能させる導波条件を満たすために、コア層は０．５〜３μｍ程度の薄い膜厚とする必要がある。そして、コア剤は硬化後に目的とする薄い膜厚になるように塗布する。
【００３３】
一方、クラッド層このような制限はないが、コア層間のクロストークを抑えるために、膜厚を５〜１００μｍ、好ましくは１０μｍ前後にする。
そのため、通常、コア剤の粘度はクラッド剤よりかなり低くする。クラッド剤の粘度は１００ｃｐｓ(cps:centi poise)以上が好ましい。コア剤の粘度は１００ｃｐｓ以下が好ましく、より好ましくは５０ｃｐｓ以下である。
【００３４】
粘度の比較的低いコア剤を接着剤として塗布することで、薄い接着層を得ることができる。コア層を接着層として用いる場合、コア剤を塗布したままでは、その粘度が低いために、接着層の固さが不十分となり、ラミネート圧力により膜厚変動が生じやすい。
そこで、本発明では、ラミネート前に紫外線照射によりコア層を予め或る程度硬化させ（不完全に硬化させる、以下では半硬化と称する。）た後に、ラミネートを行う。
【００３５】
良好なラミネートを行うためには、接着層となるコア剤の固さが、ラミネート時に気泡が混入しない程度に柔らかく、かつラミネート圧力によるコア層の膜厚変動が殆どなくフローアウト（端部からの接着剤のはみ出し）が発生しない程度に固くする。
半硬化させる紫外線照射量が大きすぎると接着層が固すぎて気泡が生じ、小さすぎるとフローアウトが生じるため、使用する樹脂に応じた最適な紫外線照射量を選択する。
【００３６】
最適な照射量はコア剤樹脂、ラミネート条件（圧力、速度、基板とフィルムの角度等）により異なるが、好ましくは、２００ｍＪ／ｃｍ2以上とし、より好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ2以上とする。ただし、好ましくは６００ｍＪ／ｃｍ2以下とし、より好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ2以下とする。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明を行う。
【００３７】
［第１実施形態の説明］
まず、第１実施形態の光メモリ素子とその製造方法について、図１及び図２に示す模式的側面図を用いて説明する。
図１に第１実施形態の光メモリ素子の構造を示す。基体である樹脂フィルム４の一面に、コア層３、クラッド層２、コア層３’、クラッド層２’、コア層３”・・・のごとく樹脂製クラッド層と樹脂製コア層が交互に形成され、かつ両層の界面には微細な凹凸部が設けられてなり（一層目のコア層を除く）、最上層として樹脂製クラッド層が設けられてなる。この凹凸部は、本光メモリ素子の光導波面から所定距離に特定の画像が結像するような光の散乱強度と位相とを計算し、その計算に応じて形成された微細な凹凸パターンである。以下、一層目のコア層を除き、このような樹脂製クラッド層と樹脂製コア層の２層の積層体を樹脂製クラッド／コア部材と称する。
【００３８】
このような光メモリ素子においては、クラッド層２／コア層３’／クラッド層２’が１個の光導波部材を形成し、またクラッド層２’／コア層３”／クラッド層２”が他の１個の光導波部材を形成する。すなわち、クラッド層２’はコア層３’、３”の両方のクラッド層を兼ねている。このように、本発明の光メモリ素子においてクラッド層は１層でその両側に位置するコア層のクラッド層を兼ねる。
【００３９】
次に第１実施形態の光メモリ素子の製造方法について説明する。
始めに、図２（Ａ）に示すように、表面に結像させたい画像（情報）に応じた所望の凹凸パターン（凸形状；ピット）の刻まれたスタンパ１上に、所定の膜厚となるようにクラッド剤（液状クラッド樹脂）２を塗布する。このクラッド剤２には、本実施形態では、紫外線（ＵＶ光）を照射することにより硬化する紫外線硬化性樹脂剤から成るものを使用し、このようにスタンパ１へ塗布した後、紫外線を照射して完全に硬化させることで樹脂製のクラッド層２を形成する。
【００４０】
次に、このようにクラッド剤２を完全硬化させた後、図２（Ｂ）に示すように、その上に、クラッド層２よりも屈折率の小さい紫外線硬化性樹脂剤から成るコア剤（液状コア樹脂）３を塗布し、紫外線照射により半硬化させる。
その後、図２（Ｃ）に示すように、上記のコア剤３上に、基体となる樹脂フィルム（樹脂製フィルム部材）４を、例えばローラ等を用いて加圧しながら貼着（ラミネート）していく。かかる状態で、紫外線をさらに照射してコア剤３を完全硬化させれば、クラッド層２よりも屈折率の小さい樹脂製コア層３が形成されると共に、樹脂フィルム４の接着が行われる。
【００４１】
そして、図２（Ｄ）に示すように、スタンパ１から、上記のクラッド層２とコア層３と樹脂フィルム４とを一体に剥離（分離）する。
次に、図２（Ｅ）に示すように、次層の所望の凹凸パターンが刻まれたスタンパ１’上に同様にクラッド層２’を塗布、紫外線照射による硬化により形成したのち、コア剤３’を塗布、紫外線照射により半硬化する。
【００４２】
その後、図２（Ｆ）に示すように、上記コア剤３’上に、上記部材２３４を貼着する。コア剤３’の表面には部材２３４のクラッド層２の凹凸に応じた凹凸が形成される。紫外線照射により、コア剤３’を硬化した後、図２（Ｇ）に示すように、スタンパ１’から、上記のクラッド層２’とコア層３’と部材２３４とを一体に剥離する。
【００４３】
以上のプロセスを繰り返すことにより、図１に示すような、基体の少なくとも一面に、樹脂製クラッド層と樹脂製コア層からなりかつ両層の界面に凹凸部が設けられてなる樹脂製クラッド／コア部材が、互いに接して２以上積層されてなり、基体と樹脂製クラッド／コア部材のあいだに凹凸部を有しない樹脂製コア層が少なくとも１層設けられた光メモリ素子が形成される。
【００４４】
なお、光メモリ素子の最上層に積層される部材は、樹脂製クラッド／樹脂製コア部材ではなく、パターンのないスタンパ上で硬化させたクラッド層炭層からなる部材が好ましい。
第１実施形態の製造方法によると、基体とクラッド／コア部材との接着に比較的粘度の低いコア剤を用いたので、接着層を薄くでき接着による膜厚変動を抑えられ、均一な膜厚を有する光メモリを得ることができる。また、コア層に気泡が混入することもない。従って、導入光を高品質を保ったまま長く導波することができ、出力信号のノイズが小さく信頼性の高い光メモリ素子を得ることができる。
【００４５】
また、クラッド層上に塗布し半硬化させたのち基体を貼着したので、接着層のフローアウト（端面からのはみ出し）が抑えられることから、洗浄作業やローラーでの余分な剤の押出し作業が不要となり、光メモリ素子を容易かつ安価に得ることができる。
そして、洗浄作業が不要で、ローラーでの余分な剤の押し出しがないため、枚用フィルムのみならず、連続フィルムを用いた連続工程での製造にも適している。
【００４６】
さらに、クラッド層を１度に形成することができるため、塗布・硬化工程数をより少なくすることができ、より容易かつ安価に光メモリ素子を得ることができる。
また、本発明ではスタンパからの凹凸の転写にクラッド剤を使用しているが、クラッド剤は粘度が高く、膜厚も厚いため、スタンパからの剥離が容易である。
【００４７】
［第２実施形態の説明］
次に、第２実施形態の光メモリ素子とその製造方法について、図３及び図４に示す模式的側面図を用いて説明する。
図３に、基体の一面に上記樹脂製クラッド／コア部材が２以上積層されてなり、かつ該基体の他の一面に、該積層された樹脂製クラッド／コア部材と同等の収縮率を有する樹脂層が設けられてなる光メモリ素子を示す。コア層、クラッド層の機能等については、第１実施形態の光メモリ素子と同様である。
【００４８】
始めに、図４（Ａ）に示すように、表面に結像させたい画像（情報）に応じた所望の凹凸パターン（凹凸形状；ピット）の刻まれたスタンパ１上に、所定の膜厚となるようにクラッド剤（液状クラッド樹脂）２を塗布する。このクラッド剤２には、本実施形態では、紫外線（ＵＶ光）を照射することにより硬化する紫外線硬化性樹脂剤から成るものを使用し、このようにスタンパ１へ塗布した後、紫外線を照射して完全に硬化させることで樹脂製のクラッド層２を形成する。
【００４９】
次に、このようにクラッド剤２を完全硬化させた後、図４（Ｂ）に示すように、その上に、クラッド層２よりも屈折率の小さい紫外線硬化性樹脂剤から成るコア剤（液状コア樹脂）３を塗布し、紫外線照射により半硬化させる。
その後、図４（Ｃ）に示すように、上記のコア剤３上に、基体となる樹脂フィルム（樹脂製フィルム部材）４を、例えばローラ等を用いて加圧しながら貼着（ラミネート）していく。かかる状態で、紫外線をさらに照射してコア剤３を完全硬化させれば、クラッド層２よりも屈折率の小さい樹脂製コア層３が形成されると共に、樹脂フィルム４の接着が行われる。
【００５０】
そして、図４（Ｄ）に示すように、樹脂フィルム４上に、クラッド剤５を塗布し、紫外線照射により硬化させる。そして、図４（Ｅ）に示すように、スタンパ１から、上記のクラッド層２とコア層３と樹脂フィルム４とクラッド層５とを一体に剥離（分離）する。
次に、図４（Ｆ）に示すように、次層の所望の凹凸パターンが刻まれたスタンパ１’上に同様にクラッド層２’を塗布、紫外線照射による硬化により形成したのち、コア剤３’を塗布、紫外線照射により半硬化する。
【００５１】
その後、図４（Ｇ）に示すように、上記コア剤３’上に、上記部材２３４５を貼着する。コア剤３’の表面には部材２３４５のクラッド層２の凹凸に応じた凹凸が形成される。紫外線照射により、コア剤３’を硬化した後、部材２３４５上にクラッド剤５’を塗布し、紫外線照射により硬化させる。そして図４（Ｈ）に示すように、スタンパ１’から、上記のクラッド層２’とコア層３’と部材２３４５とクラッド層５’とを一体に剥離する。
【００５２】
以上のプロセスを繰り返すことにより、図３に示すような、基体の一面に凹凸部を有しない樹脂製コア層を介して樹脂製クラッド／コア部材が設けられてなり、該樹脂基体の他の一面にクラッド層が設けられてなる光メモリ素子が形成される。
第２実施形態の製造方法によっても、第１実施形態と同様の効果が得られる。
【００５３】
さらに、一般に硬化樹脂は硬化時に収縮するため、樹脂フィルムの一方の側だけにコア／クラッド部材を積層していくと、光メモリ素子がカール（反曲）してしまう。そこで、本実施形態の様に、フィルムの一面にコア／クラッド部材を積層し、もう一面にクラッド剤を積層することにより、フィルムの両側の収縮がバランスし、素子のカールを抑えることができる。
【００５４】
なお、フィルムの、コア／クラッド部材を積層する面と反対側に積層する樹脂は、樹脂製クラッド／樹脂製コア部材と同等の収縮率を有する樹脂であれば必ずしもクラッド剤である必要はない。ただし、材料選択の容易性を考えればクラッド剤を用いるのが望ましい。
［第３実施形態の説明］
次に、第３実施形態の光メモリ素子とその製造方法について、図５及び図６に示す模式的側面図を用いて説明する。
【００５５】
図５に、基体の両面に、樹脂製クラッド層と樹脂製コア層からなりかつ両層の界面に凹凸部が設けられて成る樹脂製クラッド／コア部材が、２以上積層されてなる光メモリ素子を示す。コア層、クラッド層の機能等については、第１実施形態の光メモリ素子と同様である。
始めに、図６（Ａ）に示すように、表面に結像させたい画像（情報）に応じた所望の凹凸パターン（凹凸形状；ピット）の刻まれたスタンパ１上に、所定の膜厚となるようにクラッド剤（液状クラッド樹脂）２を塗布する。このクラッド剤２には、本実施形態では、紫外線（ＵＶ光）を照射することにより硬化する紫外線硬化性樹脂剤から成るものを使用し、このようにスタンパ１へ塗布した後、紫外線を照射して完全に硬化させることで樹脂製のクラッド層２を形成する。
【００５６】
次に、このようにクラッド剤２を完全硬化させた後、図６（Ｂ）に示すように、その上に、クラッド層２よりも屈折率の小さい紫外線硬化性樹脂剤から成るコア剤（液状コア樹脂）３を塗布し、紫外線照射により半硬化させる。
その後、図６（Ｃ）に示すように、上記のコア剤３上に、基体となる樹脂フィルム（樹脂製フィルム部材）４を、例えばローラ等を用いて加圧しながら貼着（ラミネート）していく。かかる状態で、紫外線をさらに照射してコア剤３を完全硬化させれば、クラッド層２よりも屈折率の小さい樹脂製コア層３が形成されると共に、樹脂フィルム４の接着が行われる。
【００５７】
そして、図６（Ｄ）に示すように、スタンパ１から、上記のクラッド層２とコア層３と樹脂フィルム４とを一体に剥離（分離）する。
次に、図６（Ｅ）に示すように、次層の所望の凹凸パターンが刻まれたスタンパ１’上に同様にクラッド層２’を塗布、紫外線照射による硬化により形成したのち、コア剤３’を塗布、紫外線照射により半硬化する。
【００５８】
その後、図６（Ｆ）に示すように、上記コア剤３’上に、上記部材２３４を上下反転させ、樹脂フィルム４がコア剤３’に接するように貼着する。紫外線照射により、コア剤３’を硬化した後、図６（Ｇ）に示すように、スタンパ１’から、上記のクラッド層２’とコア層３’と部材４３２とを一体に剥離する。
以上のプロセスを繰り返すことにより、図５に示すような、基体の両面に凹凸部を有しない樹脂製コア層を介して樹脂製クラッド／コア部材が設けられてなる光メモリ素子が形成される。
【００５９】
第３実施形態の製造方法によっても、第１実施形態と同様の効果が得られる。
さらに、一般に硬化樹脂は硬化時に収縮するため、樹脂フィルムの一方の側だけにコア／クラッド部材を積層していくと、光メモリ素子がカール（反曲）してしまう。そこで、本実施形態の様に、フィルムの両面にコア／クラッド部材を積層することによって、フィルムの両側の収縮がバランスし、光メモリ素子のカールを抑えることができる。
【００６０】
なお、片面に樹脂製コア／クラッド部材を複数積層したのち他面への積層を行ってもよいが、両面に１部材ずつ交互に設けていくと、カール（反曲）をより抑えることができ好ましい。
また、以上説明した第１実施形態、第２実施形態、第３実施形態の光メモリ素子同士をさらに、接着剤により積層することによっても、さらに多層の光メモリ素子として機能する素子を得ることができる。接着剤としては、例えば硬化後にクラッド層として機能するクラッド剤を使用すればよい。
【００６１】
或いは本発明の光メモリ素子は、必要に応じて他の機能を有する層を積層したり、間に挟んだりしてもよい。
以上の説明において、コア剤には、塗布時には液体で、その後、硬化させることのできる樹脂であればどのような樹脂を適用してもよいが、好適な物質としては、例えば、紫外線硬化性樹脂などの光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等が挙げられる。ただし、上述のごとくスタンパによる転写を行なう場合には、光硬化性樹脂を適用するのが好ましく、例えば、アクリル系，エポキシ系，チオール系の各樹脂などが好ましい。
【００６２】
また、上記のクラッド剤は、透明で屈折率がコア剤よりも僅かに小さい物質（樹脂）であれば何でも良いが、各種樹脂製のクラッド剤を塗布すると簡便である。光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等から成るクラッド剤は樹脂フィルムとの接着性に優れ、好適である。
また、コア剤、クラッド剤の塗布方法には、例えば、スピンコート法，ブレードコート法，グラビアコート法，ダイコート法等があるが、塗布膜厚と均一性を満足すればどのような塗布方法を用いてもよい。
【００６３】
本発明において、基体は、光メモリ素子を保持する基体として機能する物質であれば樹脂、金属など各種のものが用いられるが、製造工程上、貼着（ラミネート）を行うなど柔軟性が要求される場合は、樹脂製の基体とするのが好ましい。各種の硬化性樹脂を塗布後硬化させたり、樹脂を溶剤に溶かして塗布し乾燥させたりして樹脂製基体としてもよいが、樹脂フィルムを用いると、スタンパー上への貼着、剥離を繰り返して行いやすく、生産性、作業性の点で好ましい。
【００６４】
樹脂フィルムには、具体的には、ポリカーボネート，アートン（ＪＳＲ社製）などの非晶質ポリオレフィン，ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等の光学特性に優れる（ＰＥＮはさらに耐熱性にも優れる）熱可塑性の樹脂フィルムが好適（特に、上記のＰＥＴやＰＥＮはいずれも均一な厚みのフィルムを得られやすいので好適）で、これらのいずれかを熱延伸或いは溶媒キャスト等の方法で、例えば１００μｍ以下の厚さにしたものがよい。
【００６５】
また、一般に樹脂フィルムは、その製造工程で、無機粒子等の光学的には散乱体として機能するものがフィルム内に混入される。フィルム内の散乱体による光の散乱が信号の読み取りに際し問題になる場合、フィルムの片面にのみコア／クラッド部材が積層されている態様であれば、フィルムとして遮光性フィルムを用いるか、もしくはフィルムとコア／クラッド部材の間に遮光膜を設けることが好ましい。これにより、樹脂フィルム内への光の伝搬、もしくはフィルム内での散乱光の信号光への干渉を防ぐことができる。
【００６６】
基体そのものを遮光性とすることが、光メモリ素子の小型化が図れ、製造工程も簡素化できるためより好ましい。
上記遮光性フィルム及び遮光膜としては、例えばカーボンを樹脂中に練りこんだり、色素を添加したりして作製したＰＥＴフィルムなどが挙げられる。なお、該遮光フィルムまたは該遮光膜が作用する波長域については、再生に用いる導入光の波長を遮光することができれば十分であり、可視光域全てを遮光する必要はない。遮光性能については、フィルム厚さ方向で、９０％以上の光を遮断することができればよいが、９９％以上の光を遮断することができればより望ましい。
【００６７】
なお、コア層，クラッド層の膜厚については、コア層，クラッド層が光導波路として機能するだけの膜厚であればよく、例えば、使用光波長域が可視光の波長域であれば、コア層はおおよそ０．５〜３．０μｍ程度になると考えられる。この場合、クラッド層の膜厚に関しては特に制限は無いが、全体の厚みを薄くすることを考慮すれば、１００μｍ以下にするのが好ましい。あえて下限を規定するなら、０．１μｍ以上になると思われる。
【００６８】
また、上記では、樹脂フィルムとして、枚葉のフィルムを用いた方式を説明したが、本発明は連続フィルムによる実施にも適している。フィルム上へのクラッド、コア剤のダイコーター、マイクログラビア、バーコータ等による塗布、スタンパを加圧した状態でのコア、クラッド剤の硬化、等のプロセスを組み合わせることにより、基体上にコア／クラッド部材を積層した構造体を作製することができる。また、スタンパとしてロールに巻き取り可能な形に加工したロールスタンパを用いることにより、スタンパからの転写プロセスの生産性を向上させることも可能である。
【００６９】
上述のごとく構成された光メモリ素子では、例えば、或る光導波路のコア層に光を入力すると、その入力光が界面の凹凸部分で散乱し、その散乱光は上下方向のそれぞれに伝搬してゆき最終的に光メモリ素子の両面部から外部へ放出される。
以上のように、本実施形態によれば、積層されたコア層とクラッド層とがいずれも樹脂製で、しかも、凹凸の形成されるコア層（コア剤）に光や熱等で硬化しうる硬化性樹脂を用いているので、従来のようにフォトレジストの露光，現像処理等を用いなくても、スタンパからの転写によって、コア層とクラッド層との界面に容易に所望形状の凹凸を形成することが可能になる。
【００７０】
また、クラッド層の膜厚を例えば１０μｍ程度にすることによって、１００層積層時にも素子の膜厚を１ｍｍ程度に抑えることが可能となり、多層構造の実用的な光メモリ素子を製造することが可能となる。従って、多層構造の光メモリ素子の大量生産が可能になり、光メモリ素子を従来よりも容易に（短期間で）且つ安価に提供することができる。
【００７１】
【実施例】
以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではなく、その要旨を超えない限り適用可能である。
（実施例１）
表面に画像情報に応じた凹凸形状を有する、金属ニッケルからなるスタンパ上に、クラッド層となるアクリル系紫外線硬化樹脂（屈折率ｎ＝１．４９）を塗布した後、紫外線を照射して硬化させ、１４μｍ厚のクラッド層を形成した。
【００７２】
このクラッド層上に、アクリル系紫外線硬化樹脂からなるコア剤（屈折率ｎ＝１．４９）を塗布した後、紫外線を３８０ｍＪ／ｃｍ2照射し半硬化させた後、厚さ１００μｍのアートンフィルム部材（ジェイ・エス・アール社製）を、ゴムローラーで圧着しながら、ゆっくりと貼着した。この上から紫外線を照射して、フィルム部材をコア／クラッド層と接着した。
【００７３】
紫外線を照射してコア剤を完全に硬化させ、１．８μｍ厚のコア層が形成された。そして、スタンパからクラッド層とコア層とアートンフィルムとを一体に分離した。（これを第１部材と呼ぶ。）なお、形成したコア層、クラッド層の屈折率はそれぞれ１．５２、１．５１であった。
次に、次層の凹凸パターンを有するスタンパ上に、同様に１４μｍ厚のクラッド層を形成し、コア剤を塗布し半硬化させた後、第１部材を上下反転させ、アートンフィルムとコア剤とが接するように貼着した。紫外線を照射してコア剤を完全に硬化させた後、スタンパから、クラッド層とコア層と第１部材とを一体に分離した。（これを第２部材と呼ぶ。）
この工程をさらに８回繰り返した。（この結果得られた部材を第３部材と呼ぶ。）
次にパターンのないスタンパ上に、１４μｍ厚のクラッド層を形成し、コア剤を塗布し半硬化させた後、第３部材を貼着した。コア剤を完全に硬化させた後、スタンパから、クラッド層とコア層と第３部材とを一体に分離した。（この結果得られた部材を第４部材と呼ぶ。）
さらに、パターンのないスタンパ上に、１４μｍ厚のクラッド層を形成し、コア剤を塗布し半硬化させた後、第４部材を上下反転させ、前工程でクラッド層とコア層を貼着した面とは反対側に、貼着した。コア剤を完全に硬化させた後、スタンパから、クラッド層とコア層と第４部材とを一体に分離し、光メモリ素子を作製した。
【００７４】
以上の工程の結果、アートンフィルムの両面に、各５層、計１０層の１．８μｍ厚のコア層がそれぞれ１４μｍ厚のクラッド層に挟まれた構造が構成された。なお、コア層は全部で１２層形成されているが、そのうち、アートンフィルムに直接接している２層については、スタンパの凹凸パターンが転写されていないので、メモリ素子として動作するコア層ではない。従って、機能的には全部で１０層のコア層が形成されている。
【００７５】
いずれのコア層もメモリ素子として機能するのに十分均一な膜厚であった。また、コア層への気泡の混入も観察されなかった。
上記工程中において、ゴムローラーを用いてフィルム部材を貼着する際に、コア剤がスタンパとフィルムの界面からフローアウトすることはなかった。
これを、ダイシングソーを用いて、縦約２ｃｍ、横約３ｃｍの大きさに切断し、このサンプルの所定の方向からレーザー光を導入し評価を行った。
【００７６】
レーザー光は、波長が６８０ｎｍ、強度が約５ｍＷの半導体レーザーで、レンズを組み合わせて光束が縦約１０μｍ、横約１ｃｍとなるよう絞って、この光束がコア層に入るように調整を行った。
この結果、レーザー光はコア層内を伝播し、凹凸によってわずかに散乱された光はコア層と垂直方向に透過して、結像した。この像を光学顕微鏡を介して観察し、所期の画像（テストパターン）であることを確認した。また、出力信号を測定したところ、１４ｄＢと良好なＳ／Ｎが得られた。さらに、１０層ある各コア層には異なる画像が記録されており、レーザー光を導入するコア層を変えることによってこれらの画像が互いに影響を与えることなく、独立に読み出せることを確認した。
【００７７】
（実施例２）
コア剤を半硬化させるための紫外線照射強度を２７０ｍＪ／ｃｍ2とした以外は実施例１と同様にして光メモリ素子を作製した。
上記工程中において、ゴムローラーを用いてフィルム部材を貼着する際に、コア剤がスタンパとフィルムの界面からわずかにフローアウトした。
【００７８】
各コア層は、設計値よりも多少膜厚が薄かったものの、メモリ素子として機能するのに支障はなく、また十分均一な膜厚であった。コア層への気泡の混入は観察されなかった。
これを実施例１と同様に評価したところ、レーザー光はコア層内を伝播し、凹凸によってわずかに散乱された光はコア層と垂直方向に透過して、結像した。この像を光学顕微鏡を介して観察し、所期の画像（テストパターン）であることを確認した。また、出力信号を測定したところ、１４ｄＢと良好なＳ／Ｎが得られた。さらに、１０層ある各コア層には異なる画像が記録されており、レーザー光を導入するコア層を変えることによってこれらの画像が互いに影響を与えることなく、独立に読み出せることを確認した。
【００７９】
（比較例１）
表面に画像情報に応じた凹凸形状を有する、金属ニッケルからなるスタンパ上に、コア層となるアクリル系紫外線硬化樹脂（屈折率ｎ＝１．４９）を塗布した後、紫外線を照射して硬化させ、１．８μｍ厚のコア層を形成した。
このコア層上に、アクリル系紫外線硬化樹脂からなるクラッド剤（屈折率ｎ＝１．４９）を塗布した後、紫外線を照射して硬化させ、１４μｍ厚のクラッド層を形成した。このクラッド層上にクラッド剤を１０μｍ厚程度に塗布した後、厚さ１００μｍのアートンフィルム（ジェイ・エス・アール社製）を、ゴムローラーで圧着しながら、ゆっくりと貼着した。このとき、ゴムローラーの圧力により、スタンパとフィルムの界面から、クラッド剤の多量のフローアウトが見られ、クラッド剤の厚みは２μｍ程度となった。フローアウトしたクラッド剤を除去後、この上から紫外線を照射して、フィルム部材をコア／クラッド層と接着した。
【００８０】
さらに該フィルム部材の上にクラッド剤を塗布した後、紫外線を照射して硬化させ、１４μｍ厚のクラッド層を形成した。そして、スタンパからコア層とクラッド層とアートンフィルムとクラッド層とを一体に分離した。（これを第１部材と呼ぶ。）
なお、形成したコア層、クラッド層の屈折率はそれぞれ１．５３、１．５２であった。
【００８１】
次に、次層の凹凸パターンを有するスタンパ上に、同様に１．８μｍ厚のコア層、１４μｍ厚のクラッド層を形成した。そして該クラッド層上にクラッド剤を１０μｍ厚程度に塗布した後、上記工程と同様に圧着しながら第１部材を貼着した。さらに第１部材上に１４μｍ厚のクラッド層を設け、スタンパから、コア層とクラッド層と第１部材とクラッド層とを一体に分離した。（これを第２部材と呼ぶ。）
この工程をもう一度繰り返した。（この結果得られた部材を第３部材と呼ぶ。）
次に、パターンのないスタンパ上に、１４μｍ厚のクラッド層を形成し、該クラッド層上にクラッド剤を１０μｍ厚程度に塗布した後、上記工程と同様に圧着しながら第３部材を貼着し、さらに該第３部材上に１４μｍ厚のクラッド層を設けた。最後に、スタンパから、クラッド層と第３部材とクラッド層とを一体に分離し、光メモリ素子を作製した。
【００８２】
以上の工程の結果、アートンフィルムの一方の面上に、３層の１．８μｍ厚のコア層がそれぞれ１９μｍ厚のクラッド層に挟まれた構造が構成された。また、アートンフィルムの他の面上には、収縮バランス用に合計５６μｍ厚のクラッド層が設けた。
これを、ダイシングソーを用いて、縦約２ｃｍ、横約３ｃｍの大きさに切断し、このサンプルの所定の方向からレーザー光を導入し評価を行った。
【００８３】
レーザー光は、波長が６８０ｎｍ、強度が約５ｍＷの半導体レーザーで、レンズを組み合わせて光束が縦が約１０μｍ、横が約１ｃｍに絞って、この光束がコア層に導入されるように調整を行った。
上記工程中において、ゴムローラーを用いてフィルム部材を貼着する際に、いずれも、クラッド剤がスタンパとフィルムの界面から多量にフローアウトし、都度の洗浄作業が必要であった。
【００８４】
【発明の効果】
以上記述したように、本発明の光メモリ素子（請求項１）によると、コア層とその両面部に積層されるクラッド層とがいずれも樹脂製なので、従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用いることなく、スタンパの転写により凹凸のついたコア層を簡単に形成することができる。従って、個々の光導波部材を極めて容易に短期間で大量生産することが可能となり、この光導波部材を多層に積層した多層構造の光メモリ素子を容易かつ安価に得ることができる。
【００８５】
また、１層のクラッド層がその両側のコア層のクラッド層を兼ね、さらに各光導波部材間の接着剤及び基体を不要としたので、多層光メモリの厚みをさらに薄くして小型化を図ることができる。
さらに、基体とクラッド／コア部材との接着にコア層を用いたので、接着層を薄くでき接着による膜厚変動を抑えられ、均一な膜厚を有する光メモリを得ることができる。従って、導入光を高品質を保ったまま長く導波することができ、ノイズが小さく信頼性の高い光メモリ素子を得ることができる。また、接着層のフローアウト（端面からのはみ出し）が抑えられることから、洗浄作業やローラーでの余分な剤の押出し作業が不要となり、光メモリ素子を容易かつ安価に得ることができる。そして、連続工程での製造にも適している。
【００８６】
本発明の光メモリ素子（請求項２、３）によると、基体の両面部において、コア／クラッド部材による収縮力と樹脂層の収縮力とが同等に働くので、基体の両面部間の収縮バランスが確保されて、基体ひいては多層光メモリの反曲を最小限に抑制することができる。また、収縮バランスをとるための樹脂層が１層なので、多層光メモリの小型化にも寄与する。好ましくは該樹脂層としてクラッド層を用いる。
【００８７】
本発明の光メモリ素子（請求項４、５）によると、基体が遮光性を有するか、或いは、基体とコア層の間に遮光性被膜が設けられてなるため、コア層に光を導波させた際、上記の凹凸部で散乱した散乱光がクラッド層で導波してしまうことが無い。従って信号光への干渉を抑えイズが少なく精細な画像の得られる光メモリ素子の実現性に大きく寄与する。
【００８８】
本発明の光メモリ素子（請求項６）によると、基体層の両面部において、樹脂製のコア／クラッド部材による収縮力がそれぞれ同等に働くので、樹脂製基体層の両面部間の収縮バランスが確保されて、樹脂製基体層ひいては光メモリ素子の反曲を最小限に抑制することができる。また基体の両面に光導波部材を積層するため、多層光メモリの厚みをさらに薄くして小型化を図ることができる。
【００８９】
本発明の光メモリ素子の製造方法（請求項７）によると、基体とクラッド／コア部材との接着に比較的粘度の低いコア剤を用いたので、接着層を薄くでき接着による膜厚変動を抑えられ、均一な膜厚を有する光メモリを得ることができる。従って、導入光を高品質を保ったまま長く導波することができ、ノイズが小さく信頼性の高い光メモリ素子を得ることができる。
【００９０】
また、クラッド層上に塗布し半硬化させたのち基体を貼着したので、接着層のフローアウト（端面からのはみ出し）が抑えられることから、洗浄作業やローラーでの余分な剤の押出し作業が不要となり、光メモリ素子を容易かつ安価に得ることができる。そして、連続工程での製造にも適している。
さらに、クラッド層を１度に形成することができるため、より容易かつ安価に光メモリ素子を得ることができる。
【００９１】
好ましくは、塗布するコア剤の粘度を１００ｃｐｓ以下と低くすることで、接着層を薄くでき接着による膜厚変動を抑えられ、均一な膜厚を有する光メモリを得ることができる（請求項８）。
好ましくは、コア剤の半硬化を２００ｍＪ／ｃｍ2以上６００ｍＪ／ｃｍ2以下の紫外線照射条件下で行うことで、フローアウトと気泡の発生を適切に抑えることができ、ノイズが小さく信頼性の高い光メモリ素子を得ることができる（請求項９）。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１実施形態としての光メモリ素子の構造を説明するための模式的側面図である。
【図２】  Ａ〜Ｇはいずれも、本発明の第１実施形態としての光メモリ素子の製造方法を説明するための模式的側面図である。
【図３】  本発明の第２実施形態としての光メモリ素子の構造を説明するための模式的側面図である。
【図４】  Ａ〜Ｈはいずれも、本発明の第２実施形態としての光メモリ素子の製造方法を説明するための模式的側面図である。
【図５】  本発明の第３実施形態としての光メモリ素子の構造を説明するための模式的側面図である。
【図６】  Ａ〜Ｇはいずれも、本発明の第３実施形態としての光メモリ素子の製造方法を説明するための模式的側面図である。
【図７】  従来の光メモリ素子の動作原理を説明するための模式的斜視図である。
【符号の説明】
１、１’  スタンパ
２、２’  クラッド剤（液状クラッド樹脂；クラッド層）
３、３’  コア剤（液状コア樹脂；コア層）
４        樹脂フィルム（基体）
５、５’  クラッド剤（液状クラッド樹脂；クラッド層（収縮バランス用））
２３４、４３２、２３４５  積層体
１００  光導波路デバイス
１０１  コア層（記録層）
１０２  クラッド層
１０３  レンズ
１０４  ＣＣＤ受像器
【図１】
0003726648.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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