(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を被処理体に吐出する処理液吐出ノズルであって、
処理液を略水平方向に送る送液管と、該送液管に連通され、処理液を吐出する吐出部とを有し、
前記吐出部は、垂直にかつ同軸的に配置された内筒および外筒を有し、
前記内筒の上端部には前記外筒から処理液を内筒へ導入する導入口が設けられ、
前記外筒および内筒の上部は、前記送液管より上方に配置された液切り部を構成し、
前記内筒の下端部は、被処理体に処理液を吐出する先端部を構成していることを特徴とする処理液吐出ノズル。
【請求項２】
前記先端部は、その肉厚が先端に行くにつれて小さくなるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の処理液吐出ノズル。
【請求項３】
前記吐出部の少なくとも一部は、その内面の粗度が前記送液管の内面の粗度より小さいことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理液吐出ノズル。
【請求項４】
前記吐出部の少なくとも一部は、その内面に樹脂被膜が形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理液吐出ノズル。
【請求項５】
前記吐出部には、処理液を振動させる振動部が設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の処理液吐出ノズル。
【請求項６】
基板を保持する保持部と、基板の表面に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、該処理液吐出ノズルを待機位置から基板の上方へ移動させる処理液吐出ノズル移動機構とを具備する液処理装置であって、
前記処理液吐出ノズルは、処理液を略水平方向に送る送液管と、該送液管に連通され、処理液を吐出する吐出部とを有し、
前記吐出部は、垂直にかつ同軸的に配置された内筒および外筒を有し、
前記内筒の上端部には前記外筒から処理液を内筒へ導入する導入口が設けられ、
前記外筒および内筒の上部は、前記送液管より上方に配置された液切り部を構成し、
前記内筒の下端部は、被処理体に処理液を吐出する先端部を構成していることを特徴とする液処理装置。
【請求項７】
前記先端部は、その肉厚の面積が先端に行くにつれて小さくなるように前記先端部が逆円錐状に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液処理装置。
【請求項８】
前記吐出部の少なくとも一部は、その内面に樹脂被膜が形成されていることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の液処理装置。
【請求項９】
前記吐出部は、処理液を振動させる振動部を有することを特徴とする請求項６ないし請求項８のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１０】
前記処理液吐出ノズル移動機構は、処理液吐出ノズルに振動を与え、前記処理液吐出ノズルの吐出口近傍の処理液を振り切るノズル振動手段と、前記ノズル振動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする請求項６ないし請求項８のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１１】
基板を保持する保持部と、基板の表面に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、該処理液吐出ノズルを吐出ノズル待機位置から基板の上方へ移動させる処理液吐出ノズル移動機構を具備する液処理装置であって、
前記処理液吐出ノズルは、該処理液吐出ノズルから吐出した処理液が基板表面に対し斜め上方向から基板表面に到達するように構成されており、さらに前記処理液吐出ノズルと基板の間でかつ前記処理液吐出ノズルの吐出口のほぼ垂直下方に位置し、該吐出口からほぼ垂直下方に滴下した処理液を基板に達する前に回収する処理液回収手段を具備し、
前記処理液吐出ノズル移動機構は、ノズルアームを備えており、該ノズルアームに前記処理液吐出ノズルと前記処理液回収手段が取り付けられていることを特徴とする液処理装置。
【請求項１２】
前記液処理装置は現像処理装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板から現像液を取り除くリンス液を吐出するノズルまたは基板に現像液を吐出するノズルであることを特徴とする請求項６ないし請求項１１のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１３】
前記液処理装置はレジスト塗布装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板にレジストを吐出するノズルまたは基板にレジスト溶剤を吐出するノズルであることを特徴とする請求項６ないし請求項１１のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１４】
前記液処理装置は基板洗浄装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板に洗浄液を吐出するノズルであることを特徴とする請求項６ないし請求項１１のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項１５】
略水平に載置された基板の表面に、処理液を略水平方向に送る送液管と、該送液管に連通され、処理液を吐出する吐出部とを有し、前記吐出部は、垂直にかつ同軸的に配置された内筒および外筒を有し、前記内筒の上端部には前記外筒から処理液を内筒へ導入する導入口が設けられ、前記外筒および内筒の上部は、前記送液管より上方に配置された液切り部を構成し、前記内筒の下端部は、被処理体に処理液を吐出する先端部を構成している処理液吐出ノズルから処理液を供給する工程と、
処理液の供給を停止する工程と、
処理液吐出ノズルの吐出口近傍の処理液を振り切るように前記処理液吐出ノズルを振動させる工程と、
基板を基板のほぼ中心を軸としてほぼ水平に回転させて、基板表面の不要な処理液を振り切る工程と
を有することを特徴とする液処理方法。
【請求項１６】
前記処理液吐出ノズルを振動させる工程は、処理液の供給を停止する工程と、時間的に重なりがあることを特徴とする請求項１５に記載の液処理方法。
【請求項１７】
前記処理液吐出ノズルを振動させる工程は、処理液吐出ノズルが基板上に位置する状態で行うことを特徴とする請求項１５または請求項１６に記載の液処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用ガラス基板や半導体ウェハのような基板に液処理を行う処理液吐出ノズル、液処理装置および液処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造においては、ガラス製の矩形のＬＣＤ基板にフォトレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、回路パターンに対応してレジスト膜を露光し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターンが形成される。
【０００３】
このような回路パターンの成形に際しては、複数の処理ユニットが集約されたレジスト塗布現像システムにより行われる。このようなシステムにおいては、まず、基板に対して必要に応じて紫外線照射により表面改質・洗浄処理が行われた後、洗浄ユニットによりブラシ洗浄および超音波水洗浄が施される。その後、基板は、レジストの定着性を高めるために、アドヒージョン処理ユニットにて疎水化処理（ＨＭＤＳ処理）され、引き続き、レジスト塗布ユニットにてレジスト塗布が行われ、プリベーク後、露光装置にて所定のパターンが露光され、さらに現像処理ユニットで現像処理され、ポストベーク処理されて所定の回路パターンが形成される。
【０００４】
これらの中で例えば現像処理ユニットは、基板に現像液を吐出する現像ノズルと、現像処理後にリンス液を吐出する吐出ノズルと、基板保持用のスピンチャックと、現像ノズルと吐出ノズルをそれぞれ待機位置から基板上に移動させる移動機構と、スピンチャック周囲に振り切った処理液を回収するカップを備えている。そして、この現像処理ユニットにて現像処理する際には、まず、スピンチャック上に基板を載置し、現像ノズルを待機位置から基板上に移動させて現像液を基板上に液盛りする。液盛り終了後、現像ノズルは待機位置へ移動する。この状態で所定の現像時間保持した後スピンチャックを回転させ、現像液を振り切り、次いでリンス液を吐出するリンス液吐出ノズルが待機位置から基板上に移動し、スピンチャックを回転させながらリンス液を吐出し、その後リンス液の供給を停止して、リンス液の振り切り乾燥を行う。振り切り乾燥後にリンス液吐出ノズルが待機位置に移動する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、振り切り乾燥が終わってリンス液ノズルが待機位置に移動する時に、基板上にリンス液がノズルから垂れるおそれがある。リンス液が垂れると基板上に水滴跡が付いたり、垂れ落ちたリンス液が基板搬送装置に付着して、他の基板にもリンス液が付着する可能性がある。このように基板上に直接水滴跡が付いたり、基板搬送装置に付着したリンス液が他の基板に付着すると製品の歩留まりが低下してしまう。
【０００６】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、移動時に処理液が基板上に垂れずに製品の歩留まりを向上できる処理液吐出ノズル、それを用いた液処理装置および液処理方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決する手段】
上記課題を解決するために、本発明は、次の（１）〜（１７）を提供する。
（１）処理液を被処理体に吐出する処理液吐出ノズルであって、
処理液を略水平方向に送る送液管と、該送液管に連通され、処理液を吐出する吐出部とを有し、前記吐出部は、垂直にかつ同軸的に配置された内筒および外筒を有し、
前記内筒の上端部には前記外筒から処理液を内筒へ導入する導入口が設けられ、
前記外筒および内筒の上部は、前記送液管より上方に配置された液切り部を構成し、
前記内筒の下端部は、被処理体に処理液を吐出する先端部を構成していることを特徴とする処理液吐出ノズル。
【０００８】
（２）前記先端部は、その肉厚が先端に行くにつれて小さくなるように形成されていることを特徴とする上記（１）に記載の処理液吐出ノズル。
【０００９】
（３）前記吐出部の少なくとも一部は、その内面の粗度が前記送液管の内面の粗度より小さいことを特徴とする上記（１）または（２）に記載の処理液吐出ノズル。
【００１０】
（４）前記吐出部の少なくとも一部は、その内面に樹脂被膜が形成されていることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の処理液吐出ノズル。
【００１１】
（５）前記吐出部には、処理液を振動させる振動部が設けられていることを特徴とする上記（１）ないし（４）のいずれか１つに記載の処理液吐出ノズル。
【００１２】
（６）基板を保持する保持部と、基板の表面に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、該処理液吐出ノズルを待機位置から基板の上方へ移動させる処理液吐出ノズル移動機構とを具備する液処理装置であって、
前記処理液吐出ノズルは、処理液を略水平方向に送る送液管と、該送液管に連通され、処理液を吐出する吐出部とを有し、
前記吐出部は、垂直にかつ同軸的に配置された内筒および外筒を有し、
前記内筒の上端部には前記外筒から処理液を内筒へ導入する導入口が設けられ、
前記外筒および内筒の上部は、前記送液管より上方に配置された液切り部を構成し、
前記内筒の下端部は、被処理体に処理液を吐出する先端部を構成していることを特徴とする液処理装置。
【００１３】
（７）  前記先端部は、その肉厚の面積が先端に行くにつれて小さくなるように前記先端部が逆円錐状に形成されていることを特徴とする上記（６）に記載の液処理装置。
【００１４】
（８）  前記吐出部の少なくとも一部は、その内面に樹脂被膜が形成されていることを特徴とする上記（６）または（７）に記載の液処理装置。
【００１５】
（９）  前記吐出部は、処理液を振動させる振動部を有することを特徴とする上記（６）ないし（８）のいずれか１つに記載の液処理装置。
【００１６】
（１０）  前記処理液吐出ノズル移動機構は、処理液吐出ノズルに振動を与え、前記処理液吐出ノズルの吐出口近傍の処理液を振り切るノズル振動手段と、前記ノズル振動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする上記（６）ないし（８）のいずれか１つに記載の液処理装置。
【００１７】
（１１）  基板を保持する保持部と、基板の表面に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、該処理液吐出ノズルを吐出ノズル待機位置から基板の上方へ移動させる処理液吐出ノズル移動機構を具備する液処理装置であって、
前記処理液吐出ノズルは、該処理液吐出ノズルから吐出した処理液が基板表面に対し斜め上方向から基板表面に到達するように構成されており、さらに前記処理液吐出ノズルと基板の間でかつ前記処理液吐出ノズルの吐出口のほぼ垂直下方に位置し、該吐出口からほぼ垂直下方に滴下した処理液を基板に達する前に回収する処理液回収手段を具備し、
前記処理液吐出ノズル移動機構は、ノズルアームを備えており、該ノズルアームに前記処理液吐出ノズルと前記処理液回収手段が取り付けられていることを特徴とする液処理装置。
【００１８】
（１２）  前記液処理装置は現像処理装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板から現像液を取り除くリンス液を吐出するノズルまたは基板に現像液を吐出するノズルであることを特徴とする上記（６）ないし（１１）のいずれか１つに記載の液処理装置。
【００１９】
（１３）  前記液処理装置はレジスト塗布装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板にレジストを吐出するノズルまたは基板にレジスト溶剤を吐出するノズルであることを特徴とする上記（６）ないし（１１）のいずれか１つに記載の液処理装置。
【００２０】
（１４）  前記液処理装置は基板洗浄装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板に洗浄液を吐出するノズルであることを特徴とする上記（６）ないし（１１）のいずれか１つに記載の液処理装置。
【００２１】
（１５）  略水平に載置された基板の表面に、処理液を略水平方向に送る送液管と、該送液管に連通され、処理液を吐出する吐出部とを有し、前記吐出部は、垂直にかつ同軸的に配置された内筒および外筒を有し、前記内筒の上端部には前記外筒から処理液を内筒へ導入する導入口が設けられ、前記外筒および内筒の上部は、前記送液管より上方に配置された液切り部を構成し、前記内筒の下端部は、被処理体に処理液を吐出する先端部を構成している処理液吐出ノズルから処理液を供給する工程と、
処理液の供給を停止する工程と、
処理液吐出ノズルの吐出口近傍の処理液を振り切るように前記処理液吐出ノズルを振動させる工程と、
基板を基板のほぼ中心を軸としてほぼ水平に回転させて、基板表面の不要な処理液を振り切る工程と
を有することを特徴とする液処理方法。
【００２２】
（１６）  前記処理液吐出ノズルを振動させる工程は、処理液の供給を停止する工程と、時間的に重なりがあることを特徴とする上記（１５）に記載の液処理方法。
【００２３】
（１７）  前記処理液吐出ノズルを振動させる工程は、処理液吐出ノズルが基板上に位置する状態で行うことを特徴とする上記（１５）または（１６）に記載の液処理方法。
【００２４】
上記（１）および（６）の観点によれば、処理液の供給を停止した後に、液切り部の一番高い所から先端部内の処理液が重力により自重落下し、その後この部分には処理液が存在しない。したがってその後に吐出ノズルを待機位置に移動させても、移動時に吐出ノズルから処理液が垂れてくることがない。なお、送液管が水平方向に処理液を送るので、送液管が垂直な場合に比べ、処理液に重力が作用しても、送液管内の処理液が液切り部の一番高い所を乗り越えてまで吐出される可能性が、送液管が垂直な場合と比較して少なく、処理液供給停止後には液切り部の一番高い所から先端部内の処理液しか吐出されないので、処理液の供給停止後に吐出ノズルから吐出される処理液の量がより少ない量で済み、送液管が垂直な場合より吐出量の安定性を向上できる。
【００２５】
上記（２）および（７）の観点によれば、処理液吐出ノズルの先端部の肉厚の面積が先端に行くにつれて小さくなるように前記先端部の外形が逆円錐台状に形成されているので、先端部にぶらさがった水滴が先端部と接触する面積をさらに小さくでき、先端部に水滴がぶらさがりにくくなり、先端部に水滴が残りにくくなる。
【００２６】
上記（３）の観点によれば、吐出部の少なくとも一部の内面の粗度が前記送液管の内面の粗度より小さいので、吐出部に処理液が付着しにくくなり、吐出部における液切れが良好となる。
【００２７】
上記（４）および（８）の観点によれば、処理液吐出ノズルの吐出部の少なくとも一部の内面に樹脂被膜が形成されているから、吐出部の撥水性が大きくなり、吐出部での液切れが良好となる。
【００２８】
上記（５）および（９）の観点によれば、処理液吐出ノズルの吐出部には、処理液を振動させる振動部が設けられているので、振動部を振動させることにより、吐出部における液切れ性が向上する。
【００２９】
上記（１０）および（１５）の観点によれば、処理液吐出ノズルに振動を与えてその吐出口近傍の処理液を振り切るので、処理液吐出ノズルの吐出口近傍の処理液をほぼ完全に除去することができる。また、上記（１０）のように、ノズル振動手段が処理液吐出ノズル移動機構に設けられているので、処理液吐出ノズル移動機構に処理液吐出ノズルが複数取り付けてあってもノズル振動手段を複数設ける必要がなく、装置を簡易化することが可能である。
【００３０】
上記（１１）の観点によれば、処理液吐出ノズルから基板表面に対し、斜めに処理液を吐出し、また、吐出口の下方で、基板と吐出ノズルの間に吐出ノズルから垂直方向に垂れ落ちた処理液を回収する処理液回収手段を設けているので、処理液供給時は、基板表面に対し、斜め上方から処理液を基板に供給し、処理液供給停止後に吐出ノズルから垂れ落ちる処理液が基板表面に到達する前に回収可能であり、製品の歩留まりを高くすることができる。
【００３１】
上記（１）ないし（３）および（５）の観点に係る処理液吐出ノズルにおいて、前記吐出部の少なくとも一部の内面に、樹脂皮膜が形成されていることが好ましい。これにより、吐出部の撥水性が大きくなり、吐出部での液切れを一層良好とすることができる。
【００３２】
上記（６）ないし（１１）の観点に係る液処理装置において、前記液処理装置は現像処理装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板から現像液を取り除くリンス液を吐出するノズルまたは基板に現像液を吐出するノズルとすることができる。リンス液を吐出する場合には、現像終了後にリンス液を吐出し、その後に基板を回転させながら乾燥させ、しかる後に吐出ノズルを基板上から吐出ノズル待機位置まで移動させても、乾いた基板表面にリンス液が垂れ落ち、基板表面に水滴跡がついたり、基板表面に垂れたリンス液が基板搬送装置に付着して、さらに他の基板にリンス液が付着する可能性が減少する。また、現像液を吐出する場合には、基板表面に液盛りした状態で吐出ノズルを基板上から吐出ノズル待機位置まで移動させても、現像液が吐出ノズルから液盛りされた基板表面に垂れ落ちるおそれが小さく、したがって、液盛りされる液量が増えて表面張力で保持しきれなくなった現像液が基板裏面に回り込んで基板裏面を汚染する可能性を減少させることができ、歩留まりを高く維持することができる。
【００３３】
上記（６）ないし（１１）の観点に係る液処理装置において、前記液処理装置はレジスト塗布装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板にレジストを吐出するノズルまたは基板にレジスト溶剤を吐出するノズルとすることができる。レジストを吐出する場合には、レジストを基板表面のほぼ中心に吐出し、その後吐出ノズルを移動させるが、この際にレジストが基板表面に垂れ落ちると、基板表面のほぼ中心に円形にレジスト液が広がった状態にならずに、円形のコア部分から外側にとげ状に広がり、その後基板を水平方向に回転させてレジストを基板表面に広げようとしても、円形のコア部分から突出したとげ状の部分から先に広がってゆき、レジストの厚みが均一にならない可能性があったり、均一の厚みにするために必要以上の時間基板を回転させる必要がある。しかし、本発明では吐出ノズル移動時にレジストが基板表面に垂れ落ちる可能性が減少するので、レジストの膜厚均一性を向上させることができる。一方、レジスト溶剤を吐出する場合には、初めにレジスト溶剤を基板表面に吐出して基板を回転させて溶剤を基板表面に広げ、その後レジストを基板表面に吐出し、基板表面にレジストを広げる。レジスト溶剤吐出ノズルを移動させる時に、溶剤が基板表面に垂れ落ちると、基板のその部分だけ溶剤が多くなり、レジストを広げた後に基板のその部分のレジスト膜厚が変わる可能性があるが、本発明では、レジスト溶剤吐出ノズルの移動時に溶剤が垂れ落ちる可能性が減少するので、レジストの膜厚均一性を向上させることができる。
【００３４】
上記（６）ないし（１１）の観点に係る液処理装置において、前記液処理装置は基板洗浄装置であり、前記処理液吐出ノズルは基板に洗浄液を吐出するノズルとすることができる。この場合には、基板を洗浄した後、基板を回転させて乾燥させ、しかる後に洗浄液吐出ノズルを基板上から吐出ノズル待機位置へ移動させても、乾いた基板表面に洗浄液が垂れ落ち、基板表面に水滴跡がついたり、基板表面に垂れた洗浄液が基板搬送装置に付着してさらに他の基板に洗浄液が付着する可能性が減少し、歩留まりを高く維持することができる。
【００３５】
上記（１５）の観点に係る液処理方法において、前記処理液吐出ノズルを振動させる工程は、処理液の供給を停止する工程と、時間的に重なりがあることが好ましい。これにより、吐出ノズルの液切れ性を向上させることが可能である。
【００３６】
上記（１５）の観点に係る液処理方法において、前記処理液吐出ノズルを振動させる工程は、処理液吐出ノズルが基板上に位置する状態で行うことが好ましい。吐出ノズルが基板上に位置する状態で吐出ノズルを振動させるので、液切りする液量も考慮して吐出量を制御することにより、液切りした処理液も利用でき、無駄な処理液を省くことができる。
【００３７】
【発明実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明が適用されるＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理システムを示す平面図である。
【００３８】
この塗布・現像処理システムは、複数の基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部２と、露光装置（図示せず）との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェイス部３とを備えており、処理部２の両端にそれぞれカセットステーション１およびインターフェイス部３が配置されている。
【００３９】
カセットステーション１は、カセットＣと処理部２との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション１においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１０ａ上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００４０】
処理部２は、前段部２ａと中段部２ｂと後段部２ｃとに分かれており、それぞれ中央に搬送路１２、１３、１４を有し、これら搬送路の両側に各処理ユニットが配設されている。そして、これらの間には中継部１５、１６が設けられている。
【００４１】
前段部２ａは、搬送路１２に沿って移動可能な主搬送装置１７を備えており、搬送路１２の一方側には、２つの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ、２１ｂが配置されており、搬送路１２の他方側には紫外線照射装置（ＵＶ）および冷却装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる紫外線照射／冷却ユニット２５、２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加熱処理ユニット２６、および２つの冷却装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる冷却ユニット２７が配置されている。
【００４２】
また、中段部２ｂは、搬送路１３に沿って移動可能な主搬送装置１８を備えており、搬送路１３の一方側には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２および基板Ｇの周縁部のレジストを除去する周縁レジスト除去ユニット（ＥＲ）２３が一体的に設けられており、搬送路１３の他方側には、２つの加熱装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加熱処理ユニット２８、加熱処理装置（ＨＰ）と冷却処理装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる加熱処理／冷却ユニット２９、およびアドヒージョン処理装置（ＡＤ）と冷却装置（ＣＯＬ）とが上下に積層されてなるアドヒージョン処理／冷却ユニット３０が配置されている。
【００４３】
さらに、後段部２ｃは、搬送路１４に沿って移動可能な主搬送装置１９を備えており、搬送路１４の一方側には、３つの現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ、２４ｂ、２４ｃが配置されており、搬送路１４の他方側には２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加熱処理ユニット３１、および加熱処理装置（ＨＰ）と冷却装置（ＣＯＬ）が上下に積層されてなる２つの加熱処理／冷却ユニット３２、３３が配置されている。
【００４４】
上記主搬送装置１７，１８，１９は、それぞれ水平面内の２方向のＸ軸駆動機構、Ｙ軸駆動機構、および垂直方向のＺ軸駆動機構を備えており、さらにＺ軸を中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞれ基板Ｇを支持するアーム１７ａ，１８ａ，１９ａを有している。
【００４５】
なお、処理部２は、搬送路を挟んで一方の側に洗浄処理ユニット２１ａ、レジスト処理ユニット２２、現像処理ユニット２４ａのようなスピナー系ユニットのみを配置しており、他方の側に加熱処理ユニットや冷却処理ユニット等の熱系処理ユニットのみを配置する構造となっている。
【００４６】
また、中継部１５、１６のスピナー系ユニット配置側の部分には、薬液供給ユニット３４が配置されており、さらにメンテナンスが可能なスペース３５が設けられている。
【００４７】
インターフェイス部３は、処理部２との間で基板を受け渡しする際に一時的に基板を保持するエクステンション３６と、さらにその両側に設けられた、バッファーカセットを配置する２つのバッファーステージ３７と、これらと露光装置（図示せず）との間の基板Ｇの搬入出を行う搬送機構３８とを備えている。搬送機構３８はエクステンション３６およびバッファーステージ３７の配列方向に沿って設けられた搬送路３８ａ上を移動可能な搬送アーム３９を備え、この搬送アーム３９により処理部２と露光装置との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００４８】
このように各処理ユニットを集約して一体化することにより、省スペース化および処理の効率化を図ることができる。
【００４９】
このように構成される塗布・現像処理システムにおいては、カセットＣ内の基板Ｇが、処理部２に搬送され、処理部２では、まず、前段部２ａの紫外線照射／冷却ユニット２５の紫外線照射装置（ＵＶ）で表面改質・洗浄処理が行われ、その後そのユニットの冷却装置（ＣＯＬ）で冷却された後、洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ，２１ｂでスクラバー洗浄が施され、前段部２ａに配置された加熱処理装置（ＨＰ）の一つで加熱乾燥された後、冷却ユニット２７のいずれかの冷却装置（ＣＯＬ）で冷却される。
【００５０】
その後、基板Ｇは中段部２ｂに搬送され、レジストの定着性を高めるために、ユニット３０の上段のアドヒージョン処理装置（ＡＤ）にて疎水化処理（ＨＭＤＳ処理）され、下段の冷却装置（ＣＯＬ）で冷却後、レジスト塗布ユニット（ＣＴ）２２でレジストが塗布され、周縁レジスト除去ユニット（ＥＲ）２３で基板Ｇの周縁の余分なレジストが除去される。その後、基板Ｇは、中段部２ｂに配置された加熱処理装置（ＨＰ）の一つでプリベーク処理され、ユニット２９または３０の下段の冷却装置（ＣＯＬ）で冷却される。
【００５１】
その後、基板Ｇは中継部１６から主搬送装置１９にてインターフェイス部３を介して露光装置に搬送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、基板Ｇは再びインターフェイス部３を介して搬入され、必要に応じて後段部２ｃのいずれかの加熱処理装置（ＨＰ）でポストエクスポージャーベーク処理を行った後、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれかで現像処理され、所定の回路パターンが形成される。現像処理された基板Ｇは、後段部２ｃのいずれかの加熱処理装置（ＨＰ）にてポストベーク処理が施された後、冷却装置（ＣＯＬ）にて冷却され、主搬送装置１９，１８，１７および搬送機構１０によってカセットステーション１上の所定のカセットに収容される。
【００５２】
次に、本発明が適用された現像処理ユニット（ＤＥＶ）について説明する。図２は現像処理ユニット（ＤＥＶ）の断面図であり、図３は現像処理ユニット（ＤＥＶ）の平面図である。
【００５３】
図２に示すように、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃにおいては、基板Ｇを機械的に保持するスピンチャック４１が回転駆動機構４２により回転されるように設けられ、このスピンチャック４１の下側には、回転駆動機構４２を包囲するカバー４３が配置され、このカバー４３の外周囲には、２つのアンダーカップ４４，４５が離間して設けられている。
【００５４】
この２つのアンダーカップ４４，４５の間の上方には、主として現像液を下方に流すためのインナーカップ４６が昇降自在に設けられ、アンダーカップ４５の外側には、主としてリンス液を下方に流すためのアウターカップ４７がインナーカップ４６と一体的に昇降自在に設けられている。図２において、左側には、現像液の排出時に、インナーカップ４６およびアウターカップ４７が上昇される位置が示され、右側には、リンス液の排出時に、これらが降下される位置が示されている。
【００５５】
さらに、これら現像処理ユニット全体を包囲するためのシンク４８が設けられ、このシンク４８には、回転乾燥時にユニット内を排気するための排気口４９、現像液のためのドレイン管５０ａ、およびリンス液のためのドレイン管５０ｂが設けられている。
【００５６】
図３に示すように、アウターカップ４７の一方の側には、現像液用のノズルアーム５１が設けられ、このノズルアーム５１内には、現像液吐出ノズル８０が収納されている。このノズルアーム５１は、ガイドレール５３に沿って、ベルト駆動等の駆動機構５２により基板Ｇを横切って移動するように構成され、これにより、現像液の塗布時には、ノズルアーム５１は、現像液供給ノズルから現像液を吐出しながら、静止した基板Ｇをスキャンするようになっている。
【００５７】
アウターカップ４７の他方の側には、純水等のリンス液用のノズルアーム５４が設けられ、このノズルアーム５４の先端部分には、リンス液吐出ノズル６０が設けられている。このノズルアーム５４は枢軸５５を中心として駆動機構５６により回動自在に設けられている。これにより、リンス液の吐出時には、ノズルアーム５４は、リンス液吐出ノズル６０からリンス液を吐出しながら、基板Ｇ上をスキャンするようになっている。
【００５８】
なお、アウターカップ４７の上には昇降自在に蓋体（図示せず）が設けられており、リンスの際にこの蓋体が閉じられるようになっている。また、リンス液吐出ノズル６０をカップ内に入れたまま蓋体を閉じることができるように、アウターカップ４７には切り欠きが形成されている。
【００５９】
また、図４に示すように、スピンチャック４１を回転させる回転駆動機構４２、現像液用のノズルアーム５１を駆動する駆動機構５２、およびリンス液用のノズルアーム５４を回動させる駆動機構５６は、いずれも制御装置７０により制御されるようになっている。
【００６０】
リンス液吐出ノズル６０は、図５の断面図に示すように、管状をなし、水平に配置されリンス液を送液する送液管６１と、送液管６１に連通され、リンス液を吐出する吐出部６２とを有している。吐出部６２は、送液管６１より上方に配置された液切り部６３と、液切り部から下方に向けられ、基板Ｇにリンス液を吐出する先端部６４とからなる。液切り部６３は、上方に湾曲して形成されている。送液管６１はエアオペレーションバルブ（図示せず）につながっており、リンス液の供給、停止を制御することが可能となっている。リンス液吐出ノズル６０は金属製であって曲げ加工により、少ない加工で形成することが可能である。
【００６１】
次に、以上のように構成された現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃにおける現像処理動作について説明する。
まず、図１に示すように、露光処理された基板Ｇが主搬送装置１９により、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれかに搬入され、図２に示すように、搬入された基板Ｇがスピンチャック４１に吸着保持される。次いで、現像液用のノズルアーム５１が駆動機構５２によってガイドレール５３に沿って静止した基板Ｇ上を移動しながら、ノズルアーム５１に取り付けられた現像液吐出ノズル（図示略）から現像液が吐出され、基板Ｇの全面に塗布される。その後、ノズルアーム５１は待機位置へ移動し、この状態で所定時間静止されて自然対流により現像処理が進行し、その後、基板Ｇがスピンチャック４１により回転されて現像液が振り切られる。
【００６２】
次いで、リンス液用のノズルアーム５４が駆動機構５６により枢軸５５を中心に回動されて、基板Ｇ上へ移動し、図示しない蓋体を下降させて密閉し、基板Ｇを回転させながら、リンス液吐出ノズル６０からリンス液が吐出され、基板が洗浄される。
【００６３】
所定時間経過後、リンス液の供給を停止され、基板Ｇの回転を高速にしてリンス液および残留する現像液が振り切り乾燥される。その後、回転が停止されるとともに蓋体が上昇され、その後リンス液吐出ノズル６０が待機位置へ移動されて、一連の現像処理が終了する。
【００６４】
この際、図５に示す構造のリンス液供給ノズル６０では、リンス液の供給を停止した後に、液切り部６３の一番高い所からリンス液が重力により自由落下し、その後この部分にはリンス液が存在しない。したがってその後にリンス液吐出ノズル６０を待機位置に移動させても、移動時にリンス液吐出ノズル６０からリンス液が基板表面に垂れ落ちるおそれが小さく、基板表面に水滴跡がついたり、基板表面に垂れ落ちたリンス液が基板搬送装置に付着して、さらに他の基板にリンス液が付着する可能性が減少し、製品の歩留まりが向上する。
【００６５】
また、送液管が垂直な場合には、処理液供給停止後も送液管内の処理液に重力が働き、送液管内の処理液が液切り部の一番高い所を乗り越えて吐出されてしまい、処理液の吐出量が安定しないが、本発明では、送液管６１が略水平方向に配置されているので、リンス液に重力が作用しても、送液管６１内のリンス液が液切り部６３の一番高い所を乗り越えてまで吐出される可能性が、送液管が垂直な場合と比較して少なく、リンス液供給停止後には液切り部の一番高い所から先端部６４内のリンス液しか吐出されないので、リンス液の供給停止後にリンスノズルから吐出されるリンス液の量がより少ない量ですみ、送液管が垂直な場合より吐出量の安定性を向上することができる。
【００６６】
図５の構造のリンス液吐出ノズル６０において、液切り部６３の内面の粗度を送液管６１の内面の粗度より小さくすることが好ましい。これにより、液切り部６３にリンス液が一層付着しにくくなり、液切り部６３での液切れが良くなり、リンス液吐出ノズル６０の移動時にリンス液がリンス液吐出ノズル６０から垂れ落ちるおそれをさらに低減することができる。このように液切り部６３の内面の粗度を送液管６１の内面の粗度より小さくするためには、液切り部６３の内面を研磨すればよい。
【００６７】
また、図６に示すように、リンス液吐出ノズル６０の液切り部６３の内面を研磨して面粗度を小さくするかわりに、少なくとも液切り部６３の内面に樹脂被膜６５を形成してもよい。樹脂被膜６５は通常、表面は極めて滑らかであるから、液切り部６３の内面の粗度は送液管６１の内面より小さくなるであろうし、また、液切り部６３の撥水性がさらに良くなり、液切り部６３での液切れが良好なものとなる。
【００６８】
これらの内面処理は、曲げ加工する前に施すことができ、リンス液吐出ノズル６０を容易に作成することが可能である。
【００６９】
リンス液吐出ノズル６０の先端部６４は、図７のように、その肉厚が先端へ行くにつれて小さくなるように形成されていることが好ましい。この場合には、その外形が逆円錐台状に形成され、先端部６４にぶらさがった液滴６６の先端部６４と接触する面積を極めて小さくすることができるので、先端部６４に液滴がぶらさがりにくくなり、端部６４に液滴が残りにくくなる。
【００７０】
また、図８に示すように、リンス液吐出ノズル６０に吐出されるリンス液を振動させる振動部６７を設けてもよい。振動部６７は、図示しない制御部により振動時間を制御することができる。振動部６７は、リンス液吐出ノズル６０の少なくとも一部に隣接し、またはリンス液吐出ノズル６０と一体に設けられ、液切り部６３に存在するリンス液に振動を与えることが可能である。振動部６７を設けた場合には、リンス液を供給し、リンス液の供給を停止する時、およびリンス液の供給を停止した後に振動部６７を振動させることにより、液切り部６３での液切れが良くなり、リンス液供給停止後のリンス液吐出ノズル６０からの液垂れの可能性を小さくすることができる。また、振動部６７を振動させる時、リンス液吐出ノズル６０が基板Ｇ上に位置する状態で行うと、液切りする液量も考慮して吐出量を制御することにより、液切りしたリンス液も利用することができ、無駄なリンス液を省くことができる。なお、リンス液吐出ノズル６０が基板Ｇ上から外れた位置で振動部６７を振動させ、液切りしたリンス液を再利用しなくてもよい。
【００７１】
以上は、リンス液吐出ノズル６０に本発明が適用された例を示したが、現像液吐出ノズル８０に本発明を適用することもできる。その例を図９、図１０を参照して説明する。図９は現像液吐出ノズル８０の斜視図であり、図１０は現像液吐出ノズル８０の断面図である。現像液吐出ノズル８０は、現像液を略水平方向に送る送液管８１と、送液管８１に連通され、現像液を吐出する吐出部８２とで構成されている。送液管８１はエアオペレーションバルブ（図示せず）につながっており、現像液の供給、停止を制御することが可能である。吐出部８２は、送液管８１より上方に配置された液切り部８３と、液切り部に連通したノズルブロック８４と、ノズルブロック８４の下部に設けられ、現像液を吐出する先端部８５とを有する。ノズルブロック８４の長手方向の寸法は、基板Ｇの短辺寸法より長くなっている。先端部８５には細径の穴８６がノズルブロック８４の長手方向に一列に複数設けられており、穴８６が配置された範囲は、基板の短辺長さとほぼ同じである。したがって、現像液吐出ノズル８０を基板Ｇの一方の短辺から短辺と平行状態を保ったまま他方の短辺まで現像液を吐出しつつ移動させることによって、基板Ｇの表面に現像液が液盛りされるようになっている。
【００７２】
このような構成の現像液吐出ノズル８０においては、上述したリンス液吐出ノズルと同様、液切り部８３の一番高い所から現像液が重力により自由落下し、その後この部分には現像液が存在しない。したがって、基板表面に液盛りした状態で現像液吐出ノズル８０を基板Ｇ上から現像液吐出ノズル待機位置まで移動させても、現像液が現像液吐出ノズルから液盛りされた基板Ｇ表面に垂れ落ちるおそれが小さく、したがって、液盛りされる液量が増えて表面張力で保持しきれなくなった現像液が基板裏面に回り込んで基板裏面を汚染する可能性を減少させることができ、歩留まりを高く維持することができる。
【００７３】
なお、現像液を吐出後、現像液の供給を停止するためにエアオペバルブ（図示せず）を閉じた後も、液切り部８３から先端部８５までの現像液が基板Ｇ上に供給されるので、予めこの現像液量を測定しておくとよい。現像液を基板Ｇ表面に液盛りする工程では、エアオペバルブを閉じた後に供給される現像液量も考慮して、エアオペバルブを閉じることにより、必要な現像液量を基板Ｇ表面に供給可能である。
【００７４】
次に、本発明の処理液吐出ノズルをレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２のレジスト液吐出ノズルに適用した場合について説明する。
図１１は、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）の概略構成を示す平面図である。このレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２は、基板Ｇを吸着保持する水平回転可能なスピンチャック９１、このスピンチャック９１の上端部を囲みかつこのスピンチャック９１に吸着保持された基板Ｇを包囲して上端部が開口する有底開口円筒形状の回転カップ９２、この回転カップ９２の上端開口にかぶせられる蓋体（図示せず）、回転カップ９２の外周を取り囲むように固定配置されるドレンカップ９３を有している。これにより、レジスト液の吐出時には、蓋体が開かれた状態で基板Ｇがスピンチャック９１により回転され、レジスト液の拡散時には、基板Ｇがスピンチャック９１により回転されると同時に、蓋体が閉じられた状態の回転カップ９２が回転されるようになっている。なお、ドレンカップ９３の外周には、アウターカバー９４が設けられている。
【００７５】
また、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２は、ガラス製の矩形のＬＣＤ基板Ｇに、レジスト液および溶剤を吐出するためのノズルアーム９５を有している。このノズルアーム９５は、レジスト液または溶剤吐出時には、基板Ｇの中心まで移動されるようになっている。ノズルアーム９５の先端には、レジスト液吐出ノズル１００と、レジストの溶剤を吐出する溶剤吐出ノズル１１０とが設けられ、レジスト供給管（図示せず）を介してレジスト供給部（図示せず）に接続されている。なお、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２でレジストが塗布された基板Ｇは、一対の搬送アーム９６によりエッジリムーバー（ＥＲ）２３に搬送されるようになっている。
【００７６】
レジスト液吐出ノズル１００は、基本的に、上述のリンス液吐出ノズル６０と同様に構成されており、図１２示すように、管状をなし、水平に配置されレジスト液を送液する送液管１０１と、送液管１０１に連通され、レジスト液を吐出する吐出部１０２とを有している。吐出部１０２は、送液管１０１より上方に配置された液切り部１０３と、液切り部から下方に向けられ、基板Ｇにレジスト液を吐出する先端部１０４とからなる。液切り部１０３は、上方に湾曲して形成されている。送液管１０１はエアオペレーションバルブ（図示せず）につながっており、レジスト液の供給、停止を制御することが可能となっている。このレジスト液吐出ノズル１００も金属製であって曲げ加工により、少ない加工で形成することが可能である。
【００７７】
次に、以上のように構成されたレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２における塗布処理動作について説明する。まず、スピンチャック９１に基板Ｇが真空吸着されるとともにスピンチャック９１により基板Ｇが回転される。この状態でノズルアーム９５が基板Ｇの中心まで回動され、溶剤吐出ノズル１１０が基板Ｇの中心に到達されると、回転する基板Ｇの表面にシンナー等の溶剤が吐出され、遠心力によって基板Ｇの中心からその周囲全域にむらなく広げられる。続いて、レジスト液吐出ノズル１００がスピンチャック９１の中心（基板Ｇの中心）に到達され、基板Ｇの中心にレジスト液が吐出され、その後、蓋体が降下されてカップ内が密閉され、その状態でカップおよび蓋体とともに基板Ｇが回転されて遠心力によって基板Ｇの中心からその周囲全域にレジスト液がむらなく広げられる。その後、回転が停止され、蓋体が上昇されて基板Ｇが搬出される。なお、溶剤の吐出は必須なものではない。
【００７８】
この際、図１２に示す構造のレジスト液吐出ノズル１００から基板Ｇ表面のほぼ中心にレジスト液が吐出され、その後、レジスト液吐出ノズル１００を待機位置へ移動させるが、レジスト液吐出ノズル１００では、リンス液の供給を停止した後に、液切り部１０３の一番高い所からリンス液が重力により自由落下し、その後この部分にはリンス液が存在しない。したがってその後にレジスト液吐出ノズル１００を待機位置に移動させても、移動時にレジスト液吐出ノズル１００からレジスト液が基板表面に垂れ落ちるおそれが小さい。レジスト吐出ノズル１００の移動時にレジスト液が基板Ｇ表面に垂れ落ちると、基板Ｇ表面のほぼ中心に円形にレジスト液が広がった状態にならずに、円形のコア部分から外側にとげ状に広がり、その後基板Ｇを水平方向に回転させてレジストを基板Ｇ表面に広げようとしても、円形のコア部分から突出したとげ状の部分から先に広がってゆき、レジストの厚みが均一にならない可能性があったり、均一の厚みにするために必要以上の時間基板を回転させる必要がある。しかし、このように、レジスト液吐出ノズル１００の移動時にレジスト液が基板Ｇ表面に垂れ落ちる可能性が減少することにより、レジストの膜厚均一性を向上でき、製品の歩留まりが向上する。
【００７９】
レジスト液吐出ノズル１００に本発明が適用された例を示したが、溶剤吐出ノズル１１０に本発明を適用することもできる。そして、この場合には、溶剤吐出ノズル１１０をレジスト液吐出ノズル１００とほぼ同様に構成することができる。
【００８０】
溶剤吐出ノズル１１０を移動させる時に、溶剤が基板表面に垂れ落ちると、垂れ落ちた部分だけ溶剤が多くなり、レジストを広げた後に基板Ｇのその部分のレジスト膜厚が他の部分と異なる可能性があるが、溶剤吐出ノズル１１０をレジスト液吐出ノズル１００とほぼ同様に構成して、溶剤吐出ノズルの移動時に溶剤が垂れ落ちる可能性を低減させることにより、レジストの膜厚均一性を向上させることができ、製品の歩留まりが向上する。
【００８１】
次に、本発明の処理液吐出ノズルを洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ，２１ｂのレジスト液吐出ノズルに適用した場合について説明する。
図１３は洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ（２１ｂ）の概略斜視図である。洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ（２１ｂ）は、基板Ｇを保持する回転可能なチャック１２１、チャック１２１の周囲に設けられたカップ１２２、基板Ｇを洗浄するブラシ１２３、基板に洗浄液を吐出する複数の洗浄液吐出ノズル１３０を備えている。洗浄液吐出ノズル１３０は、上述したリンス液ノズル６０と同様の構造を有しており、複数（図では４つ）の洗浄液吐出ノズル１３０が並列に配置されている。そして、これら洗浄液吐出ノズル１３０は水平に配置された１本の送液管１３１に連通されている。送液管１３１はエアオペレーションバルブ（図示せず）に接続されており、洗浄液の供給、停止を制御することが可能となっている。
【００８２】
次に、以上のように構成された洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ，２１ｂの洗浄処理動作について説明する。まず、基板Ｇがチャック１２１上に載置され、次いでブラシ１２３と洗浄液吐出ノズル１３０が基板Ｇ上に移動される。そして、洗浄ブラシ１２３を回転させ、洗浄液吐出ノズル１３０から洗浄液を吐出しながら、ブラシ１２３および洗浄液吐出ノズル１３０が基板Ｇの一方側の短辺から他方側の短辺に向かってブラシ洗浄を実施する。その後、ブラシ１２３を待機位置へ移動させ、洗浄液吐出ノズル１３０を基板Ｇ中央へ移動させて、基板Ｇを低速（５０r.p.m）回転させながら洗浄液で基板Ｇを洗浄する。洗浄液吐出停止後、基板Ｇを高速回転（１０００r.p.m）させて基板を振り切り乾燥させる。乾燥終了後、基板Ｇの回転が停止され、洗浄液吐出ノズル１３０が待機位置へ移動され、その後基板Ｇが搬出される。
【００８３】
この場合に、洗浄液吐出ノズル１３０は上述のリンス液吐出ノズル６０と同様の構造を有し、液切り部を有しているから、基板Ｇを回転させて乾燥させた後に洗浄液吐出ノズル１３０を基板Ｇ上から待機位置へ移動させても、乾いた基板表面に洗浄液が垂れ落ちるおそれが小さく、洗浄液の滴下により基板表面に水滴跡がついたり、基板表面に垂れた洗浄液が基板搬送装置に付着して、さらに他の基板に洗浄液が付着する可能性が小さい。
【００８４】
次に、本発明の処理液吐出ノズルの他の構造例について説明する。図１４は現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃに設けられたリンス液吐出ノズルの他の例を示す断面図である。図１４に示すように、このリンス液吐出ノズル１４０は、管状をなし、水平に配置されリンス液を送液する送液管１４１と、送液管１４１に連通され、リンス液を吐出する吐出部１４２とを有している。吐出部１４２は、垂直にかつ同軸的に配置された内筒１４３および外筒１４４を有しており、内筒１４３の上端部には外筒１４４からリンス液を内筒１４３へ導入する導入口１４７が設けられている。そして外筒１４４および内筒１４３の上部は、送液管１４１より上方に配置された液切り部１４５を構成し、内筒１４３の下端部は、基板Ｇにリンス液を吐出する先端部１４６を構成している。
【００８５】
このような構造のリンス液吐出ノズル１４０においても、リンス液の供給を停止した後に、液切り部１４５の一番高い所からリンス液が重力により自由落下し、その後この部分にはリンス液が存在しない。したがってその後にリンス液吐出ノズル１４０を待機位置に移動させても、移動時にリンス液吐出ノズル１４０からリンス液が基板表面に垂れ落ちるおそれが小さく、基板表面に水滴跡がついたり、基板表面に垂れ落ちたリンス液が基板搬送装置に付着して、さらに他の基板にリンス液が付着する可能性が減少し、製品の歩留まりが向上する。
【００８６】
図１４の構造のリンス液吐出ノズル１４０において、液切り部１４５を含む内筒１４３の内面の粗度を送液管１４１の内面の粗度より小さくすることにより、上記リンス液吐出ノズル６０の場合と同様、液切り部１４５にリンス液が一層付着しにくくなり、液切り部１４５での液切れが良くなり、リンス液吐出ノズル１４０の移動時にリンス液がリンス液吐出ノズル１４０から垂れ落ちるおそれをさらに低減することができる。
【００８７】
また、図１５に示すように、リンス液吐出ノズル１４０の液切り部１４５を含む内筒１４３の内面を研磨して面粗度を小さくする代わりに、樹脂被膜１４８を形成してもよい。これにより上記リンス液吐出ノズル６０と同様、液切り部１４５での液切れが良好なものとなる。
【００８８】
また、リンス液吐出ノズル１４０の先端部１４６も、上述の図７に示すリンス液吐出ノズル６０の先端部６４と同様、その肉厚が先端へ行くにつれて小さくなるように形成されていることが好ましい。
【００８９】
さらに、図１６に示すように、リンス液吐出ノズル６０と同様に吐出されるリンス液を振動させる振動部１４９を設けてもよい。
【００９０】
次に、処理液吐出ノズルに振動部を設けるのではなく、処理液吐出ノズル移動機構に吐出ノズルに振動を与えるノズル振動部を設けた場合の液処理装置について説明する。
【００９１】
この処理装置は、図１７に示すように、処理液吐出ノズル１５０と、処理液吐出ノズル移動機構１６０とを有しており、この処理液吐出ノズル移動機構１６０により、処理液吐出ノズル１５０がカップ１７０内のチャック（図示せず）に保持された基板Ｇ上の吐出位置と待機位置との間で移動可能となっている。
【００９２】
処理液吐出ノズル１５０は、図１８に示すように、水平方向に処理液を送る送液管１５１と、下方に処理液を吐出する吐出部１５２とで構成される。送液管１５１はエアオペレーションバルブ（図示せず）につながっており、これにより処理液を供給、停止することが可能である。また、処理液吐出ノズル移動機構１６０は、処理液吐出ノズル１５０が取り付けられているノズルアーム１６１と、処理液吐出ノズル１５０をカップ１７０内のチャック（図示せず）に保持された基板Ｇ上の吐出位置と待機位置との間で移動させるようにノズルアーム１６１を回動させるモーター１６２とを備えている。また、ノズルアーム１６１には振動部１６３が取り付けられており、この振動部１６３の振動時間は制御部１６４により制御可能となっている。そして、この振動部１６３を振動させことにより、処理液吐出ノズル１５０が振動される。
【００９３】
このような処理液吐出ノズル１５０は、上述したような現像処理ユニットのリンス液吐出ノズル、レジスト塗布ユニットのレジスト液吐出ノズル、レジスト溶剤吐出ノズル等に適用することができ、このノズルを用いて各処理動作を行う際には、処理液吐出を行い、吐出時間終了の所定時間前から振動部１６３により処理液吐出ノズル１５０の振動を開始し、処理液吐出終了してから所定時間経過後に振動部１６３の振動を停止する。さらに所定時間経過後吐出ノズルが待機位置へ移動となる。
【００９４】
したがって、処理液吐出終了時前後に処理液吐出ノズル１５０内の処理液に振動を与え、処理液吐出ノズル１５０内の処理液や、処理液吐出ノズル１５０先端に付着した処理液を吐出ノズル１５０から振り切ることが可能であり、処理液吐出停止後に処理液吐出ノズル１５０が移動する時に処理液吐出ノズル１５０から処理液が垂れ落ちる可能性が低減する。
【００９５】
なお、処理液吐出ノズル１５０を振動させる工程は、処理液の供給停止した後だけ行っても良いのはいうまでもない。この場合は、処理液を吐出させている際にノズル１５０を振動させないので、処理液が基板に対し適正な位置で吐出可能となる。
【００９６】
また、このようにノズルアームに振動部を設けた場合におけるノズルの形状は上記ノズル１５０に限らず、現像処理ユニットの現像液吐出ノズルに適用する際には、図１９に示すように、水平方向に処理液を送る送液管１８１と、下方に処理液を吐出する吐出部１８２とを有し、吐出部１８２は、送液管１８１に連続する垂直部１８３と、垂直部１８３に連続するノズルブロック１８４とを有する。ノズルブロック１８４の下端には多数の処理液吐出孔１８５が形成されている。また、洗浄処理装置の洗浄ノズルに使用される場合には、図２０に示すように、上記ノズル１５０が複数（図では４つ）が並列に配置され、これらノズル１５０が水平に配置された１本の送液管１９１に連通された構造の処理液吐出ノズル１９０であってもよい。
【００９７】
また、ノズルアーム１６１のモーター１６２を正逆回転を繰り返すことにより、吐出ノズル１５０を振動させてもよい。この場合、振動部１６３を設ける必要がなく、装置の簡易化および小型化が可能である。また、パーツ点数を削減することができるため、装置の信頼性が向上する。
【００９８】
次に、さらに他の処理液吐出ノズルを備えた現像処理ユニットの他の例について説明する。図２１はこのような現像処理ユニットの斜視図であり、図２２はその断面図である。この現像処理ユニットは、現像液を吐出する現像液吐出ノズル（図省せず）と、基板Ｇを保持する保持部材であるスピンチャック２０１と、スピンチャックの周りに設けられたカップ２０２と、リンス液を吐出するためのリンス液吐出ノズル２１０が設けられている。リンス液吐出ノズル２１０はノズルアーム２０４に取り付けられている。
【００９９】
リンス液吐出ノズル２１０は、その先端部分に吐出口２１１を有しており、この吐出口２１１は、基板Ｇ表面に対し、斜めにリンス液を吐出することができるように形成されている。また、リンス液吐出ノズル２１０の吐出口２１１の下方で、基板Ｇとリンス液吐出ノズル２１０との間には、リンス液吐出ノズル２１０から垂直方向に垂れ落ちたリンス液を回収する処理液回収手段例えばドレイン受け２０５が設けられている。ドレイン受け２０５は、ノズルアーム２０４に取り付けられており、ノズルアーム２０４が移動してもリンス液吐出ノズル２１０とドレイン受け２０５との位置関係は変わらない。ドレイン受け２０５には図示しない配管がつながっており、ドレイン受け２０５内のリンス液を排出可能となっている。
【０１００】
このように構成される現像処理ユニットにおいては、上述したのと同様の工程により、現像液の液盛りまで行い、液盛り後に現像液吐出ノズルを待機位置へ移動させる。現像液を液盛りして所定時間経過後、図２３に示すように、ノズルアーム２０４を回動させるとともに降下させて、リンス液吐出ノズル２１０を吐出位置に配置する。そして、カップ２０２を上昇させるとともに、カップ上方に設けられた蓋体（図示せず）を下降させ、カップ２０２の上部開口を塞ぐ。カップ２０２にはリンスノズルアーム２０４用の切り欠きがあるため、ノズルアーム２０４が蓋体の妨げにはならない。この状態で、図２３に示すように、基板Ｇを回転させながらリンス液吐出ノズル２１０からリンス液を吐出させる。所定時間経過後、リンス液供給を停止し、基板Ｇの回転速度を上昇させて、リンス液を振り切り乾燥させる。基板Ｇの回転停止後に蓋体を上昇させ、リンス液吐出ノズル２１０を待機位置へ移動させ、基板Ｇを搬出する。
【０１０１】
このように、リンス液供給時は基板表面に対し斜め上方からリンス液を基板Ｇに供給する。リンス液供給停止後は、リンス液供給ノズル２１０の吐出口２１１から垂れ落ちるリンス液は自重落下し、基板Ｇ表面に到達する前にドレイン受け２０５内に回収される。したがって、ノズルに残存したリンス液が基板Ｇ表面に到達する可能性が少なく、製品の歩留まりを高く維持することが可能となる。
【０１０２】
なお、このようなノズルは、上述したノズルと同様、現像処理ユニットのリンス液用に限らず、現像処理装置の現像ノズル部に用いても良く、またレジスト塗布処理装置のレジスト液吐出ノズル、またはその溶剤吐出ノズルや、基板洗浄装置の洗浄液吐出ノズルに用いることができる。
【０１０３】
なお、本発明は、上述した実施の形態には限定されず、その技術思想の範囲内で様々な変形が可能であり、また上述した実施の形態を複数組み合わせてもよい。
また、例えば、本発明はＴＦＴアレイガラス基板に代表される液晶表示装置基板に対する処理システムを例にとり説明したが、カラーフィルターや、導体ウエハ等の他の基板を処理するシステムにも当然適用することができる。
【０１０４】
【発明の効果】
本発明によれば、処理液吐出ノズルの送液管より上方に液切り部が配置されており、処理液を吐出する先端部が液切り部から下方に向けられているので、処理液の供給を停止した後に、液切り部の一番高い所から先端部内の処理液が重力により自重落下し、その後この部分には処理液が存在しない。したがってその後に吐出ノズルを待機位置に移動させても、移動時に吐出ノズルから処理液が垂れてくることがない。なお、送液管が水平方向に処理液を送るので、送液管が垂直な場合に比べ、処理液に重力が作用しても、送液管内の処理液が液切り部の一番高い所を乗り越えてまで吐出される可能性が、送液管が垂直な場合と比較して少なく、処理液供給停止後には液切り部の一番高い所から先端部内の処理液しか吐出されないので、処理液の供給停止後に吐出ノズルから吐出される処理液の量がより少ない量で済み、送液管が垂直な場合より吐出量の安定性を向上できる。
【０１０５】
また、本発明によれば、処理液吐出ノズルの先端部の肉厚の面積が先端に行くにつれて小さくなるように前記先端部の外形が逆円錐台状に形成されているので、先端部にぶらさがった水滴が先端部と接触する面積をさらに小さくでき、先端部に水滴がぶらさがりにくくなり、先端部に水滴が残りにくくなる。
【０１０６】
さらに、本発明によれば、吐出部の少なくとも一部の内面の粗度が前記送液管の内面の粗度より小さいので、吐出部に処理液が付着しにくくなり、吐出部における液切れが良好となる。
【０１０７】
さらにまた、本発明によれば、処理液吐出ノズルの吐出部の少なくとも一部の内面に樹脂被膜が形成されているから、吐出部の撥水性が大きくなり、吐出部での液切れが良好となる。
【０１０８】
さらにまた、本発明によれば、処理液吐出ノズルの吐出部には、処理液を振動させる振動部が設けられているので、振動部を振動させることにより、吐出部における液切れ性が向上する。
【０１０９】
さらにまた、本発明によれば、処理液吐出ノズルに振動を与えてその吐出口近傍の処理液を振り切るので、処理液吐出ノズルの吐出口近傍の処理液をほぼ完全に除去することができる。また、ノズル振動手段が処理液吐出ノズル移動機構に設けられているので、処理液吐出ノズル移動機構に処理液吐出ノズルが複数取り付けてあってもノズル振動手段を複数設ける必要がなく、装置を簡易化することが可能である。
【０１１０】
さらにまた、本発明によれば、処理液吐出ノズルから基板表面に対し、斜めに処理液を吐出し、また、吐出口の下方で、基板と吐出ノズルの間に吐出ノズルから垂直方向に垂れ落ちた処理液を回収する処理液回収手段を設けているので、処理液供給時は、基板表面に対し、斜め上方から処理液を基板に供給し、処理液供給停止後に吐出ノズルから垂れ落ちる処理液が基板表面に到達する前に回収可能であり、製品の歩留まりを高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明が適用されるＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理システムを示す平面図。
【図２】  図１のシステムに搭載された現像処理ユニットを示す断面図。
【図３】  図２に示した現像処理ユニットを示す平面図。
【図４】  図２および図３に示した現像処理ユニットにおける制御系を示すブロック図。
【図５】  図２および図３に示した現像処理ユニットに装着された本発明の処理液供給ノズルの一実施形態に係るリンス液供給ノズルを示す断面図。
【図６】  図５に示すリンス液供給ノズルに基づいた変形例を示す断面図。
【図７】  リンス液供給ノズルの先端部の形状の好ましい例を示す部分断面図。
【図８】  図５に示すリンス液供給ノズルに基づいた他の変形例を示す断面図。
【図９】  本発明の処理液供給ノズルの他の実施形態に係る現像液吐出ノズルを示す斜視図。
【図１０】  図９に示す現像液吐出ノズルの断面図。
【図１１】  図１のシステムに搭載されたレジスト塗布処理ユニットを示す断面図。
【図１２】  本発明の処理液供給ノズルの他の実施形態に係るレジスト液吐出ノズルを示す断面図。
【図１３】  図１のシステムに搭載された洗浄ユニットを示す概略斜視図。
【図１４】  本発明の処理液吐出ノズルの他の構造例を示す断面図。
【図１５】  図１４の処理液吐出ノズルに基づいた変形例を示す断面図。
【図１６】  図１４の処理液吐出ノズルに基づいた他の変形例を示す断面図。
【図１７】  処理液吐出ノズル移動機構に吐出ノズルに振動を与えるノズル振動部を設けた場合の液処理装置を示す斜視図。
【図１８】  図１７の装置に用いられる処理液吐出ノズルを示す側面図。
【図１９】  処理液吐出ノズル移動機構に吐出ノズルに振動を与えるノズル振動部を設けた場合のノズルアームに振動部を設けた液処理装置を現像処理ユニットに適用した場合における現像液吐出ノズルを示す斜視図。
【図２０】  処理液吐出ノズル移動機構に吐出ノズルに振動を与えるノズル振動部を設けた場合のノズルアームに振動部を設けた液処理装置を洗浄ユニットに適用した場合における洗浄液吐出ノズルを示す斜視図。
【図２１】  さらに他の処理液吐出ノズルを備えた現像処理ユニットを示す斜視図。
【図２２】  図２１の現像処理ユニットを示す断面図。
【図２３】  図２１の現像処理ユニットにおいてリンス処理を行っている状態を示す断面図。
【符号の説明】
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ；現像処理ユニット（ＤＥＶ）
４１；スピンチャック
４２；回転駆動機構
４６；インナーカップ
４７；アウターカップ
５１；現像液用のノズルアーム
５２，５６；駆動機構
５４；リンス液用のノズルアーム
６０；リンス液吐出ノズル
６１；送液管
６２；吐出部
６３；液切り部
６４；先端部
６５；樹脂被膜
６７；振動部
Ｇ；ＬＣＤ基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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