(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
トロリーコンベヤに懸吊されて搬送される素地瓦に釉薬を塗布する瓦の施釉装置において、前記トロリーコンベヤのチェーンにフックを介して吊持される固定部材及び固定部材に上下動かつ垂直軸回りに９０°の角度ずつ回動可能に装着した回動部材を有する自転舞ハンガと、自転舞ハンガの回動部材に水平なピンを介して枢支され、素地瓦を自動的にチャッキングするチャッキングハンガと、チャッキングハンガのチャッキング位置より下流における自転舞ハンガの移動経路の側方に配設され、回動部材を９０°の角度回動させるハンガ回動体と、ハンガ回動体より下流における素地瓦の移動経路の一側方に配設され、素地瓦の表面に釉薬を塗布する複数のノズルと、施釉された素地瓦の移動経路の下部に配設され、素地瓦を傾斜させるためこの素地瓦の裏面に当接してトロリーコンベヤと同調作動するガイドコンベヤとを備えることを特徴とする瓦の施釉装置。
【請求項２】
前記ガイドコンベヤの上方に配設され、施釉後の素地瓦を強制乾燥する乾燥手段を備えることを特徴とする請求項１記載の瓦の施釉装置。
【請求項３】
前記ガイドコンベヤの下方に配設され、素地瓦から垂れ落ちる釉薬を受ける受け皿又はベルトコンベヤを備えることを特徴とする請求項１又は２記載の瓦の施釉装置。
【請求項４】
前記自転舞ハンガが、回動部材を下方へ付勢するばねを有していることを特徴とする請求項１、２又は３記載の瓦の施釉装置。
【請求項５】
前記ガイドコンベヤによる素地瓦の傾斜角度が、垂直方向に対して２５〜３０°であることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の瓦の施釉装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、トロリーコンベヤに懸吊されて搬送される素地（白地）瓦に釉薬を塗布する瓦の施釉装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の瓦の施釉装置としては、トロリーコンベヤのチェーンにフックを介して吊持され、下方へ突出したトロリーコンベヤの昇降領域で素地瓦を表面が搬送方向前方となるようにして自動的にチャッキングするチャッキングハンガと、チャッキングハンガのチャッキング位置より下流において素地瓦の移動経路の上方又は下方に配設され、素地瓦の表面に釉薬を塗布する複数のノズルとを備えたものが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の瓦の施釉装置では、釉薬の塗布が素地瓦の移動経路の上方又は下方のノズルからの噴霧によって行われるので、素地瓦の間隔を大きくしなければならず、施釉効率の低下を招く不具合がある。
又、素地瓦が垂直な状態で施釉されかつ搬送されるので、施釉された釉薬が、素地瓦の下端面に厚く付着するむらを生ずる不具合がある。
そこで、本発明は、施釉効率を高め得、かつ、むらのない施釉をなし得る瓦の施釉装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため、本発明の第１の瓦の施釉装置は、トロリーコンベヤに懸吊されて搬送される素地瓦に釉薬を塗布する瓦の施釉装置において、前記トロリーコンベヤのチェーンにフックを介して吊持される固定部材及び固定部材に上下動かつ垂直軸回りに９０°の角度ずつ回動可能に装着した回動部材を有する自転舞ハンガと、自転舞ハンガの回動部材に水平なピンを介して枢支され、素地瓦を自動的にチャッキングするチャッキングハンガと、チャッキングハンガのチャッキング位置より下流における自転舞ハンガの移動経路の側方に配設され、回動部材を９０°の角度回動させるハンガ回動体と、ハンガ回動体より下流における素地瓦の移動経路の一側方に配設され、素地瓦の表面に釉薬を塗布する複数のノズルと、施釉された素地瓦の移動経路の下部に配設され、素地瓦を傾斜させるためこの素地瓦の裏面に当接してトロリーコンベヤと同調作動するガイドコンベヤとを備えることを特徴とする。
第２の瓦の施釉装置は、第１のものにおいて、前記ガイドコンベヤの上方に配設され、施釉後の素地瓦を強制乾燥する乾燥手段を備えることを特徴とする。
第３の瓦の施釉装置は、第１又は第２のものにおいて、前記ガイドコンベヤの下方に配設され、素地瓦から垂れ落ちる釉薬を受ける受け皿又はベルトコンベヤを備えることを特徴とする。
前記自転舞ハンガは、回動部材を下方へ付勢するばねを有していることが好ましい。
又、前記ガイドコンベヤによる素地瓦の傾斜角度は、垂直方向に対して２５〜３０°であることが好ましい。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図１，図２は本発明に係る瓦の施釉装置の実施の形態の一例を示す概略側面図、概略平面図である。
図中１はトロリーコンベヤで、このトロリーコンベヤ１のチェーン２には、図３に示すように、多数（図１，図２においては２個のみ示す）の自転舞ハンガ３がフック４を介して適宣間隔で吊持されている。
自転舞ハンガ３は、後述するようにチャッキングハンガ１７によってチャッキングされた素地瓦Ｗの向きを９０°の角度ずつ向きを変えるためのもので、図４、図５に示すように、上記フック４に吊持される固定部材５と、固定部材５に上下動可能かつ垂直軸回りに回動可能に装着され、素地瓦Ｗをチャッキングハンガ１７を介して吊持する回動部材６と、回動部材６を下方へ付勢するばね７とから構成されている。
固定部材５は、前記フック４を係止するための係止孔８を設けた方形板状の垂直なフック係止部９と、フック係止部９の下部中央に垂設した支軸部１０と、支軸部１０の下端部に取り付けられ、支軸部１０を中心とする回動部材６の回動角度を割り出す凹凸面を上面に形成したほぼ円板状の割出し部１１とからなり、割出し部１１は、支軸部１０を中心として放射状に延在する凹（谷）凸（山）を周方向へ４５°の角度で交互に形成してなる。
固定部材５の支軸部１０の外周には、割出し部１１の凹凸面と係合する凹凸面を下面に形成したほぼ円板状の被割出し部１２が遊嵌されており、被割出し部１２の上部には、この被割出し部１２等と協働して回動部材６を形成する平面視Ｔ字状のレバー部１３が取り付けられている。レバー部１３の下部には、被割出し部１２の回動と干渉しないように、側面視ほぼＵ字状を呈する垂直なフック部１４が取り付けられており、その下部中央には、前記チャッキングハンガ１７を係止する係止孔１５が設けられている。
又、固定部材５の支軸部１０の外周には、ばね係止段部を周辺部に対向させて形成した円板状の２枚のばね受け１６が、フック係止部９とレバー部１３との間において遊嵌されており、これらのばね受け１６の間における支軸部１０の外周には、圧縮コイルばねからなる前期ばね７が弾装されている。
【０００６】
自転舞ハンガ３における回動部材６のフック部１４の係止孔１５には、図１、図３に示すように、チャッキングハンガ１７が水平なピン１８を介して枢支されている。チャッキングハンガ１７は、上端部が上記ピン１８を介してフック部１４の係止孔１５に係止され、下端部に挟持部１９ａを設けたくの字状の第１挟持部材１９と、第１挟持部材１９の屈曲部に上記ピン１８と平行なガイドピン２０を介して一端部が枢着され、他端部に第１挟持部材１９の挟持部１９ａと協働して素地瓦Ｗを挟持するために水平方向へ延在する帯板状の挟持部２１ａを設けたＬ字状の第２挟持部材２１とからなり、下方に突出したトロリーコンベヤ１の昇降領域の下方に沿って配設されたガイドレール２２上にガイドピン２０の端部を摺動させることにより、ガイドレール２２の終端部でその下方に立設された素地瓦Ｗを表面が搬送方向（図１〜図３における矢印方向）前方となるように自動的にチャッキングするものである。
【０００７】
上記昇降位置より下流におけるトロリーコンベヤ１の水平搬送領域には、図１、図２に示すように、自転舞ハンガ３のレバー部１３と衝突し回動部材６を９０°の角度回動させる棒状のハンガ回動体２３が、自転舞ハンガ３の移動経路の側方に配設されている。
ハンガ回動体２３の配設位置より下流におけるトロリーコンベヤ１の水平搬送領域には、図１、図２及び図６に示すように、ハンガ回動体２３による自転舞ハンガ３回動に伴って表面が移動経路の一側方（図２においては下方）に向けられた素地瓦Ｗの表面に釉薬を噴霧して塗布する複数のノズル２４が、素地瓦Ｗの移動経路の一側方に配設されている。各ノズル２４には、撹拌装置（図示せず）を内装した釉薬タンク２５からポンプ２６及び適宜の配管２７等を介して釉薬が供給されるものであり、各ノズル２４の下方には、素地瓦Ｗから流下する余分の釉薬を受け取る箱形の受釉タンク２８が配設されている。受釉タンク２８は、一つの隅部（図２においては左下の隅部）が開放されており、この隅部が低くなるようにしてタンク架台２９上に載置され、かつ受釉タンク２８の上部と連結されている。
受薬タンク２８の配設位置より下流におけるトロリーコンベヤ１の水平搬送領域には、図１、図２及び図７に示すように、素地瓦Ｗを釉薬が塗布された表面を上にして２５〜３０°の角度で傾斜させるため、上記素地瓦Ｗの裏面に当接してトロリーコンベヤ１と同調作動するガイドコンベヤ３０が、施釉された素地瓦Ｗの移動経路の下部に配設されている。ガイドコンベヤ３０は、タンク架台２９に連設したコンベヤ架台３１上に搭載されていると共に、その始端側（図２においては左端側）が素地瓦Ｗの傾斜を徐々に大きくし、かつ、図示しない終端側が素地瓦Ｗの傾斜を徐々に小さくするように設けられている。
ガイドコンベヤ３０の下流側の上方には、施釉後の素地瓦Ｗを強制的に乾燥するヒーターや温風供給装置等の乾燥手段（図示せず）が配設されている一方、コンベヤ架台３１には、素地瓦Ｗから垂れ落ちる釉薬を受ける受け皿３２又はベルトコンベヤ（図示せず）が取り付けられている。
【０００８】
上述した瓦の施釉装置において、素地瓦Ｗは、先ず、トロリーコンベヤ１の昇降領域におけるガイドレール２２の終端部でチャッキングハンガ１７によって表面が搬送方向前方となるように自動的にチャッキングされた後、トロリーコンベヤ１の水平搬送領域において自転舞ハンガ３における回動部材６がハンガ回動体２３と衝突して９０°の角度回動され、表面が移動経路の一側方に向けられる。上記トロリーコンベヤ１による素地瓦Ｗの搬送に際し、チェーン２に上下振動等が加えられても、自転舞ハンガ３の回動部材６がばね７によって下方に付勢されているので、回動部材６が回動して素地瓦Ｗの向きが変わるようなことはない。
次に、素地瓦Ｗがノズル２４の配設個所に至ると、釉薬が表面に塗布される。素地瓦Ｗから流下する余分な釉薬は、受釉タンク２８によって受け取られた後、釉薬タンク２５に還流される。
そして、施釉された素地瓦Ｗは、ガイドコンベヤ３０によって表面を上にして傾斜され、余分な釉薬が受け皿３２に垂れ落ち、しかる後に、乾燥手段によって素地瓦Ｗが強制乾燥される。
上記施釉後の素地瓦Ｗの傾斜によって、余分な釉薬が素地瓦Ｗの裏面の下端縁に集まってから垂れ落ちるので施釉むらを生ずることはない。
ここで、ガイドコンベヤ３０による素地瓦Ｗの垂直方向に対する傾斜角度が、２５℃未満であると、素地瓦Ｗの下端面の釉薬の厚みが大きくなる一方、３０°を超えると、釉薬の垂れが止まって玉状となり、品質が低下する。
【０００９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の瓦の施釉装置によれば、素地瓦の表面が移動経路の一側を向いた状態で施釉されるので、素地瓦の間隔を従来に比べて小さくすることができ、施釉効率を大幅に高めることができる。
又、施釉後の素地瓦が表面を上にして傾斜されるので、余分な釉薬が下端部に集まってから垂れ落ちるので色むらを生じることがない。
第２の瓦の施釉装置によれば、第１のものと同様の作用効果が得られる他、施釉後の素地瓦が強制乾燥されるので、トロリーコンベヤラインの長さを短縮することができる。
又、第３の瓦の施釉装置によれば、第１又は第２のものと同様の作用効果が得られる他、素地瓦から垂れ落ちる釉薬を受けることができるので、周辺環境を汚すことがないと共に、その回収によって釉薬の無駄を無くすることができる。
一方、自転舞ハンガの回動部材をばねによって下方へ付勢することにより、トロリーコンベヤのチェーンの振動等によって回動部材が回動し、素地瓦の向きが変わるようなことはなく、素地瓦のチャッキングハンガからの脱落を防止できると共に、施釉を正確に行うことができる。
又、素地瓦を２５〜３０°の角度で傾斜させることにより、釉薬の性状に合わせて良好な施釉を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る瓦の施釉装置の実施の形態の一例を示す概略側面図である。
【図２】図１の瓦の施釉装置の概略平面図である。
【図３】図１の要部の拡大図である。
【図４】図１の瓦の施釉装置における自転舞ハンガの側面図である。
【図５】図４の自転舞ハンガの平面図である。
【図６】図１のVI−VI線断面矢視図である。
【図７】図１のVII −VII 線断面矢視図である。
【符号の説明】
１    トロリーコンベヤ
２    チェーン
３    自転舞ハンガ
４    フック
５    固定部材
６    回動部材
７    ばね
１７    チャッキングハンガ
１８    ピン
２３    ハンガ回動体
２４    ノズル
３０    ガイドコンベヤ
３２    受け皿
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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