(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成した放電電極を誘電体層で被覆し、該誘電体層上に保護層を備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記保護層が、ＭｇＯ結晶層とＭｇＯ蒸着層の積層構造体からなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記ＭｇＯ結晶層は、結晶化したＭｇＯ微粉末、マグネシウムの有機酸金属塩、或いはこれら部材の混合ペーストを塗布し、乾燥後、焼成して形成された膜からなることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項２記載のＭｇＯ結晶層がさらに低融点ガラスを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１記載の保護層を形成するに際し、前記誘電体層の表面にＭｇＯ結晶層を形成した後、該ＭｇＯ結晶層の表面をイオンクリーニングしてから当該ＭｇＯ結晶層表面にＭｇＯ蒸着層を形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＡＣ型プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略称する）の誘電体層の保護層の改良に関するものである。
【０００２】
近年のＰＤＰのカラー化に伴い、ＡＣ型ＰＤＰがテレビ受像機のフルカラー表示装置として用いられるようになり、特にハイビジョン映像用の大型フラットディスプレイとして注目されている。
【０００３】
このような用途に用いるためには、ＰＤＰの大型化とともに高精細化、長寿命化が必要である。
以上のような状況から、大型且つ高精細、長寿命のＰＤＰが要望されている。
【０００４】
【従来の技術】
従来のＰＤＰについて、図４により詳細に説明する。
図４は従来のＰＤＰの主要部を示す図である。
【０００５】
従来のＰＤＰの主要部は図４に示すように、ソーダライムガラスからなる板厚３mmの前面ガラス基板11の表面には隣接して対となる平行な２本の表示用放電電極12の複数対と、この放電電極12を被覆する低融点ガラスからなる膜厚50μm の誘電体層13と、この誘電体層13の表面に保護膜となる膜厚10,000ÅのＭｇＯ層15が形成されている。
【０００６】
このＭｇＯ層15の形成方法としては、一般的には蒸着法が用いられるが、その他の方法として、液体状の有機酸金属塩を用いるスプレー法或いは塗布法や、ＭｇＯ微粉末を含むペーストを塗布する微粉末塗布法も用いられている。
【０００７】
一方、ソーダライムガラスからなる板厚３mmの背面ガラス基板16の表面には、アドレス電極17と放電部を画定する帯状の隔壁（図示せず）とが互いに並行して形成されている。この前面ガラス基板11とは電極形成面を対向させて重ね合わされた後、その周囲が封止され、これら基板の間に形成された放電空間内を排気してから、99.9％のネオン(Ne)と0.1 ％のキセノン(Xe)との混合ガスを放電用ガスとして封入している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
以上説明した従来のＡＣ型ＰＤＰにおいては、二次電子放出比γを大きくするように放電開始電圧を低下させることと、寿命を長くするように耐スパッタ性を向上させる必要から保護層が設けられ、この保護層として一般的にはＭｇＯ蒸着層が用いられている。蒸着法によりこの保護層を形成すると下地の誘電体膜が低融点ガラスであるため、まず、膜厚数千Åのアモルファス層が形成され、その後徐々に結晶層が形成される。しかしＰＤＰの使用時間が長くなると、この結晶層がスパッタされて膜厚が薄くなり、スパッタがアモルファス層に到達すると、駆動電圧が急激に上昇して、設定されている駆動電圧よりも高くなり、ＰＤＰの寿命になるという問題点があった。
【０００９】
蒸着法以外の液体状の有機酸金属塩を用いるスプレー法或いは塗布法においては、一工程では2,000〜3,000Å程度の膜厚の保護層しか形成することができず、また、ＭｇＯ微粉末を含むペーストを塗布する微粉末塗布法においては、形成された保護層内に空隙が生じるという問題点があった。
【００１０】
本発明は以上のような状況から、放電開始電圧を低下させ、耐スパッタ性を向上させることが可能となる誘電体層の保護層を具備するＰＤＰ及びその製造方法の提供を目的としたものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明のＰＤＰは、ＭｇＯ結晶層とＭｇＯ蒸着層との積層体からなる保護層を具備するように構成する。
【００１２】
本発明においては、蒸着によるＭｇＯ層の下層にＭｇＯ微粉末もしくは、ＭｇＯを含む有機酸金属塩を用いてＭｇＯ結晶層を形成するので、誘電体層の表面のＭｇＯ結晶層を厚くすることができ、結晶度も向上させることが可能となるので、耐スパッタ性の良好な、長寿命のＰＤＰを供することが可能となる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下図１〜図３により本発明の実施例について詳細に説明する。
図１は本発明のＰＤＰの主要部を示す図、図２は本発明のＰＤＰの製造方法の実施例を工程順に示す図、図３は本発明のＰＤＰの試験時間と放電電圧の変化量との関係を示す図である。
【００１４】
本発明のＰＤＰは図１に示すように、ソーダライムガラスからなる板厚３mmの前面ガラス基板１の表面には従来例と同様に放電電極２、低融点ガラスからなる膜厚50μm の誘電体層３が形成されている。
【００１５】
この誘電体層３の表面には本発明の特徴に従って、スクリーン印刷法及び加熱焼成により形成した膜厚 2,000ÅのＭｇＯ結晶層４と、このＭｇＯ結晶層４の表面に蒸着法により形成した膜厚 5,000ÅのＭｇＯ蒸着層５とからなる二層構造の保護層が形成されている。
【００１６】
一方、ソーダライムガラスからなる板厚３mmの背面ガラス基板６の表面には、アドレス電極７と放電部を画定する帯状の隔壁（図示せず）とが互いに並行して形成されている。この前面ガラス基板１には電極形成面を対向させて重ね合わされた後、その周囲が封止され、これら基板の間に形成された放電空間内を排気してから、99.9％のネオン(Ne)と0.1 ％のキセノン(Xe)との混合ガスを放電用ガスとして封入している。
【００１７】
このようなＰＤＰの第１〜第５の製造方法を図２により工程順に詳細に説明する。
第１〜第５の製造方法は、ＭｇＯ結晶層の形成工程は異なるが、他の製造工程は同一であるから、第１の製造方法について詳細に説明する。
【００１８】
まず図２(a) に示すように、前面ガラス基板１の表面に放電電極２を形成し、この前面ガラス基板１と放電電極２とを被覆する膜厚50μmの誘電体層３を形成した後、この誘電体層３の表面に結晶化したＭｇＯ微粉末をスクリーン印刷法で塗布して乾燥した後、 500℃で焼成して膜厚 2,000ÅのＭｇＯ結晶層４を形成する。
【００１９】
次に図２(b) に示すように、蒸着法によりこのＭｇＯ結晶層４の表面に膜厚が 8,000ÅのＭｇＯ蒸着層５を形成する。
その後、図１に示すようにアドレス電極７が形成されているソーダライムガラスからなる板厚３mmの背面ガラス基板６の周囲と、この前面ガラス基板１の周囲とを封止し、これらの前面ガラス基板１と背面ガラス基板６との間の放電空間内の空気を排気し、99.9％のネオン(Ne)と0.1 ％のキセノン(Xe)との混合ガスを放電用ガスとして封入する。
【００２０】
ＰＤＰの第２の製造方法においては、第１の製造方法において行う結晶化したＭｇＯ微粉末のスクリーン印刷法の代わりに、酢酸マグネシウムやプロピオン酸マグネシウム等の有機酸金属塩のペーストをスクリーン印刷法により塗布して乾燥した後 500℃で焼成して膜厚 2,000ÅのＭｇＯ結晶層４を形成する。
【００２１】
ＰＤＰの第３の製造方法においては、第１の製造方法において行う結晶化したＭｇＯ微粉末のスクリーン印刷法の代わりに、酢酸マグネシウムやプロピオン酸マグネシウム等の有機酸金属塩と結晶化したＭｇＯ微粉末の混合ペーストをスクリーン印刷法により塗布して乾燥した後 500℃で焼成して膜厚 2,000ÅのＭｇＯ結晶層４を形成する。
【００２２】
ＰＤＰの第４の製造方法においては、第１の製造方法において行う結晶化したＭｇＯ微粉末のスクリーン印刷法の代わりに、結晶化したＭｇＯ微粉末と低融点ガラスの混合ペーストをスクリーン印刷法により塗布して乾燥した後 500℃で焼成して膜厚 2,000ÅのＭｇＯ結晶層４を形成する。
【００２３】
ＰＤＰの第５の製造方法においては、上記の第１の製造方法においてＭｇＯ結晶層４を形成し、蒸着前にイオンガンにて約５分間クリーニングを行っている。
これらの第１〜第５の製造方法により製造したＰＤＰの試験時間と放電電圧の変化量との関係を図３に示す。
【００２４】
図３に示すように、従来のＰＤＰの放電電圧の変化量は、試験時間が 1,000時間位までは本発明の各実施例の放電電圧の変化量と殆ど変わらないが、 1,200時間位になると著しく大きくなり、本発明の効果が明白になる。
【００２５】
本発明の各実施例を比較すると、実施例３の放電電圧の変化量が最も少なく、次に実施例１にイオンクリーニング工程を追加して行った実施例５の放電電圧の変化量が少なく、ついで実施例４、実施例１、実施例２の順に放電電圧の変化量が多くなっている。
【００２６】
なお、本発明は上記の３電極面放電型ＡＣＰＤＰに限らず、２本の電極を有する面放電型或いは対向放電型のＡＣＰＤＰにも適用できるのはいうまでもない。
【００２７】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば誘電体層の表面のＭｇＯ結晶層を厚くすることができ、結晶度も向上させることが可能となり、また、耐スパッタ性を向上させることができるので、長寿命のＰＤＰを製造することが可能となる利点があり、著しい経済的及び、信頼性向上の効果が期待できるＰＤＰ及びその製造方法の提供が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明のＰＤＰの主要部を示す図
【図２】  本発明のＰＤＰの製造方法の実施例を工程順に示す図
【図３】  本発明のＰＤＰの試験時間と放電電圧の変化量との関係を示す図
【図４】  従来のＰＤＰの主要部を示す図
【符号の説明】
１  前面ガラス基板
２  放電電極
３  誘電体層
４  ＭｇＯ結晶層
５  ＭｇＯ蒸着層
６  背面ガラス基板
７  アドレス電極
【図１】
0003677571.tif 000002
【図２】
0003677571.tif 000003
【図３】
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【図４】
0003677571.tif 000005