(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒を使用してクロロシラン化合物と有機ハロゲン化合物とを反応させて有機シランを製造する方法において、上記の触媒として、４級有機ホスホニウム塩を使用して、水素−珪素の結合を有する次の化学式１で表されるクロロシラン化合物と次の化学式２で表される有機ハロゲン化合物を、脱ハロゲン化水素反応により結合させて次の化学式３で表される有機シラン化合物を製造することを特徴とする有機シランの製造方法。
（１）      ＨＳｉＲ１Ｃｌ２
（２）      Ｒ２Ｒ３ＣＨＸ
（３）      Ｒ４Ｒ３ＣＨＳｉＲ１Ｃｌ２
上記の化学式１と３において、Ｒ１は水素、クロロ或はメチル基であり；
上記の化学式２において、Ｘはクロロ、或はブロモ；Ｒ２はＣ１−１７のアルキル基、少なくとも１つのフルオロで置換されたＣ１−１０のアルキル基、不飽和結合を有するＣ２−５のアルケニル基、（ＣＨ２）ｎＳｉＭｅ３−ｍＣｌｍで表されるアルキル基（この時、ｎは０−２の整数、ｍは０−３の整数である）、Ａｒ（Ｒ’）ｑで表される芳香族基（この時、ＡｒはＣ６−１４の芳香族の炭化水素であり；Ｒ’はＣ１−４のアルキル基、ハロゲン、アルコキシ基或はビニル基であり；ｑは０−５の整数である）、（ＣＨ２）ｐＸで表されるハロアルキル基（この時、ｐは１−９の整数であり；Ｘはクロロ或はブロモである）、あるいはＡｒＣＨ２Ｘで表されるハロメチル芳香族基（この時、ＡｒはＣ６−１４の芳香族の炭化水素であり；；Ｘはクロロ或はブロモである）であり、Ｒ３は水素、Ｃ１−６のアルキル基、Ａｒ（Ｒ’）ｑで表される芳香族基（この時、ＡｒはＣ６−１４の芳香族炭化水素であり、Ｒ’はＣ１−４のアルキル基、ハロゲン、アルコキシまたはビニルであり、ｑは０−５の整数である）であり；またはＲ２とＲ３は互いに共有結合で連結されてシクロアルキル基を形成してもよく；Ｒ４はＲ２と同じであるが、但し、Ｒ２が反応性のあるハロゲンが置換されたアルキル基である、（ＣＨ２）ｐＸまたはＡｒＣＨ２Ｘである場合、Ｒ４は（ＣＨ２）ｐＳｉＲ１Ｃｌ２、あるいはＡｒＣＨ２ＳｉＲ１Ｃｌ２であることができる。
【請求項２】
上記の４級有機ホスホニウム塩として、次の化学式４で表される化合物を使用することを特徴とする請求項１記載の有機シランの製造方法。
（４）      ＰＲ”４Ｘ’
式中、  Ｘ’はクロロ、ブロモ或はヨードであり；  Ｒ”はＣ１−１２のアルキル基、Ｃ１−６のアルキル基が含まれた芳香族基、あるいはフェニル基であり；２つのＲ”は互いに共有結合により連結されて環形構造を持つことができ、それぞれのＲ”は互いに同じ、又は異なる構造を持つことができる。
【請求項３】
上記の４級有機ホスホニウム塩として、次の化学式５で表される化合物を使用することを特徴とする請求項１記載の有機シランの製造方法。
（５）      Ｘ’Ｒ”３Ｐ−Ｙ−ＰＲ”３Ｘ’
式中、  Ｘ’はクロロ、ブロモ或はヨードであり；  ＹはＣ１−１２のアルキル基、Ｃ１−６のアルキル基が含まれた芳香族基、あるいは芳香族基であり；Ｒ”はＣ１−１２のアルキル基、Ｃ１−６のアルキル基が含まれた芳香族基、フェニル基であり；２つのＲ”は互いに共有結合により連結されて環形構造を持つことができ、それぞれのＲ”は互いに同じ、または異なる構造を持つことができる。
【請求項４】
上記の４級有機ホスホニウム塩が、触媒としてシリコン樹脂、シリカ、無機支持体、有機高分子の中から選ばれたものに固定された構造を持つことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の有機シランの製造方法。
【請求項５】
上記の４級有機ホスホニウム塩が、触媒として他の助触媒と共に使用されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の有機シランの製造方法。
【請求項６】
上記の４級有機ホスホニウム塩が、触媒として上記の化学式２で表される化合物に対して１−１００モル％使用されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の有機シランの製造方法。
【請求項７】
上記の脱ハロゲン化水素反応が、１０−２５０℃で行われることを特徴とする請求項１記載の有機シランの製造方法。
【請求項８】
上記の脱ハロゲン化水素反応が、反応溶媒の存在下で行われることを特徴とする請求項１又は７記載の有機シランの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機シランの製造方法に関するもので、より詳細には４級有機ホスホニウム塩を触媒として使用し、水素−珪素の結合を持つクロロシラン化合物及び有機ハロゲン化合物を脱ハロゲン化水素反応を通じて結合させて有機珪素化合物を合成することにより、従来の製法に比べて少量の触媒を使用し、また触媒を使用した後に別の工程を経ることなく回収し再使用することが容易であるので、非常に経済的に高収率で製造することができる改善された方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に、有機シラン化合物は、シリコン高分子の原料物質として広く使用されている化合物である。ベンケセルらによれば、１９６９年に塩化ベンジルと１，１，１−トリクロロエタンがトリクロロシランとトリアルキルアミンの１：１である混合物と反応して脱塩化水素反応によりクロロの代わりにトリクロロシリル基で置換された化合物が生成されたと報告している（Ｂｅｎｋｅｓｅｒ，  Ｒ．Ａ．：  Ｇａｕｌ，  Ｊ．Ｍ．：  Ｓｍｉｔｈ，  Ｗ．Ｅ．  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  １９６９，  ９１，  ３６６６）。その後、１９７５年にはより発展された有機シランの製法として、日本のフルヤらは塩化アリルにトリクロロシランとトリアルキルアミンの１：１である混合物を反応させ、銅塩化物を触媒として使用し、高い収率でアリルトリクロロシランが得られたと報告している（Ｆｕｒｕｙａ，  Ｎ．：  Ｓｕｋａｗａ，  Ｔ．  Ｊ．  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．  Ｃｈｅｍ．  １９７５，  ９６，  Ｃｌ）。
【０００３】
近年、有機シラン化合物の合成のために比較的に改良された触媒を使用する技術として、フランスのコリュウーらは過量のトリブチルアミンの存在下でクロロホルムとトリクロロシランを反応させてビス（トリクロロシリル）メタンとトリス（トリクロロシリル）メタンを合成したと報告している（Ｃｏｒｒｉｕ，  Ｒ．  Ｊ．  Ｐ．：  Ｇｒａｎｉｅｒ，  Ｍ．：  Ｌａｎｎｅａｕ，  Ｇ．Ｆ．  Ｊ．  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．  Ｃｈｅｍ．  １９９８，  ５６２，  ７９）。上に述べたように、いままで知られている有機シランの製造方法は大体に塩化ベンジルや塩化アリルのような活性化された有機塩化物だけを、トリクロロシランと脱塩化水素反応により結合すると言われており、その反面に活性を高める置換基のない有機ハロゲン化合物を使用する反応により有機シランを合成する方法はまだ知られていなかった。
【０００４】
また、従来の有機シランの製造方法では、触媒成分として強い塩基性を有する過量の３級アミンを使用するので、反応中に発生した塩化水素がアミンと塩を形成することになる。従って、過量の触媒使用による経済的負担と共に触媒として使用されたアミンを回収するために、塩化水素を中和させるのにかかる多くの費用を考えれば工業的に実用化するには難しい問題がある。
このような研究の一環として、本発明者は少量を使用して反応させる触媒を見出すことが上記工程の経済性を高める要だと想到し、３級有機ホスフィンを反応物質に対して約１０％、即ち反応物でない触媒として使用し、反応温度を約１５０℃に高めて反応させた時に、脱ハロゲン化水素反応により有機珪素化合物の合成に関わる改良された方法を発明して韓国特許出願第９９−１３００６号（１９９９年４月１３日）として出願した。その後、３級有機アミンを触媒として使用しても３級有機ホスフィンを使用する時より収率は低かったが、少量の触媒を使用しても目的の有機シランの合成反応は起こることを見出して、やはり韓国特許出願第２０００−１３０９０号（２０００年３月１５日）として出願した。
【０００５】
しかし、上記した従来の方法をはじめ、本発明者らが既に開発した方法の場合、触媒として使用する３級有機アミンや３級有機ホスフィンは、従来の触媒に比べて比較的に少量を使用しても従来と類似、又はそれ以上の収率で目的とする脱ハロゲン化水素反応が行われて経済的な効果を期待することができた。その反面、上記触媒は酸の発生する反応では、酸と塩を形成すると共にハロゲン化アルキルとも４級塩を形成するので、反応が終った後に使用された触媒を回収、又は３級アミン或は３級ホスフィンに還元して再使用するのに問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上に述べたように、従来の技術によると、クロロメチル基を有する有機珪素化合物は、３級有機アミン或は３級有機ホスフィンのような有機塩基の存在下で水素−珪素の結合を持つクロロシランと反応して脱ハロゲン化水素反応により生成することがわかる。しかし、この場合には、塩の形成により再使用のために還元することが難しいという短所があって、これを解決する新たな触媒の開発が必要であった。本発明者らは、従来の技術問題を解決し、より優れた活性を発揮する触媒を探索してきたが、反応で副産物として得られた酸や反応の出発物質であるハロゲン化アルキルと塩を形成する３級有機アミンや３級有機ホスフィンよりも、４級有機ホスフィンを触媒として使用すれば本工程の経済性を高めることを見出して本発明を完成した。
従って、本発明は、従来とは異なり、４級有機ホスホニウム塩を触媒として使用し、水素−珪素の結合を持つクロロシラン化合物及び有機ハロゲン化合物を脱ハロゲン化水素反応を通じて結合させて有機珪素化合物を合成することにより、少量の触媒を使用し、また触媒を使用した後に別の工程を経ることなく回収し再使用することが容易であるので、非常に経済的に高収率で製造することができる改善された方法を提供することにその目的がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、  触媒を使用してクロロシラン化合物と有機ハロゲン化合物とを反応させて有機シランを製造する方法において、上記の触媒として、４級有機ホスホニウム塩を使用して水素−珪素の結合を有する次の化学式１で表されるクロロシラン化合物と次の化学式２で表される有機ハロゲン化合物を、脱ハロゲン化水素反応により結合させて次の化学式３で表される有機シラン化合物を製造することを特徴とする。
（１）      ＨＳｉＲ１Ｃｌ２
（２）      Ｒ２Ｒ３ＣＨＸ
（３）      Ｒ４Ｒ３ＣＨＳｉＲ１Ｃｌ２
反応式１
ＨＳｉＲ１Ｃｌ２  ＋  Ｒ２Ｒ３ＣＨＸ  →  Ｒ４Ｒ３ＣＨＳｉＲ１Ｃｌ２  ＋  ＨＸ
【０００８】
式中、Ｒ１は水素、クロロ或はメチル基であり；Ｘはクロロ或はブロモであり；Ｒ２はＣ１−１７のアルキル基、少なくとも１つのフルオロで置換されたＣ１−１０のアルキル基、不飽和結合を有する  Ｃ２−５のアルケニル基、（ＣＨ２）ｎＳｉＭｅ３−ｍＣｌｍで表されるアルキル基（この時、ｎは０−２の整数、ｍは０−３の整数である）、Ａｒ（Ｒ１）ｑで表される芳香族基（この時、ＡｒはＣ６−１４の芳香族の炭化水素であり；Ｒ１はＣ１−４のアルキル基、ハロゲン、アルコキシ基或はビニル基であり；ｑは０−５の整数である）、（ＣＨ２）ｐＸで表されるハロアルキル基（この時、ｐは１−９の整数であり；Ｘはクロロ或はブロモである）、あるいはＡｒＣＨ２Ｘで表されるハロメチル芳香族基（この時、ＡｒはＣ６−１４の芳香族の炭化水素であり；  Ｘはクロロ或はブロモである）であり；  Ｒ３は水素、Ｃ１−６のアルキル基、Ａｒ（Ｒ’）ｑで表される芳香族基（この時、ＡｒはＣ６−１４の芳香族炭化水素であり、Ｒ’はＣ１−４のアルキル基、ハロゲン、アルコキシまたはビニルであり、ｑは０−５の整数である）であり；またはＲ２とＲ３は互いに共有結合で連結されて、シクロペンチルやシクロヘキシル等のシクロアルキル基を形成してもよく；Ｒ４はＲ２と同じであるが、但し、Ｒ２が反応性のあるハロゲンが置換されたアルキル基である、（ＣＨ２）ｐＸまたはＡｒＣＨ２Ｘである場合、Ｒ４は（ＣＨ２）ｐＳｉＲ１Ｃｌ２、あるいはＡｒＣＨ２ＳｉＲ１Ｃｌ２であることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明は、従来の触媒を使用してクロロシラン化合物と有機ハロゲン化合物とを反応させて有機シランを製造する方法において、上記の触媒として従来使用されたことのない４級有機ホスホニウム塩を使用して、有機シランを効果的に製造し、触媒は容易に回収して再利用することができる、経済的な方法を提供するものである。
本発明では、圧力に耐える反応槽に上記の化学式１で表される化合物と上記の化学式２で表されるハロゲン化合物、また触媒として４級有機ホスホニウム塩を上記の化学式２で表される化合物に対して１−１００モル％、望ましくは５−２０モル％を入れて１０−２５０℃、望ましくは１００−２００℃で加熱すれば上記の反応式１のように上記の化学式３で表される有機シランを合成することができる。この時、本発明において触媒として使用する４級有機ホスホニウム塩は、その活性が優れており、塩化ベンジル或は塩化アリルのように活性化された有機塩化物ばかりでなく、単純な有機ハロゲン化合物とハロゲン置換アルキル基を持つ有機珪素化合物もＳｉ−Ｈの結合を有するシランと脱ハロゲン化水素反応により結合させるようにして目的の有機シランを製造する。
【００１０】
従って、本発明は、４級有機ホスホニウム塩を触媒として使用してハロゲン元素の置換された有機化合物とＳｉ−Ｈの結合を有するシランを反応させ、上記の化学式２で表されるハロゲンをシリル基に置換させることによって有機珪素化合物を合成する。本発明による典型的な合成工程は、窒素雰囲気下で上記の化学式２で表されるハロゲン置換有機化合物と４級有機ホスホニウム塩を、圧力に耐えるステンレス管の反応槽に入れ、上記の化学式１で表されるクロロシラン化合物を入れてから蓋を閉めて反応させることである。この時、上記の化学式１で表されるクロロシラン化合物は、上記の化学式２で表される有機ハロゲンに対してモル比で１−５倍使用することが望ましい。触媒としての４級有機ホスホニウム塩は、上記の化学式２で表される化合物に対して１−１００モル％の量で使用するが、好ましくは３−１５モル％を使用する。この過程において、反応溶媒は反応物に従って芳香族炭化水素を使用、又は使用しなくてもよい。また、反応温度は１０−２５０℃、望ましくは１００−２００℃の範囲を維持して１−４８時間にわたって反応させる。反応が終ると、蓋を開けてハロゲン化水素ガスを排出し、常圧あるいは減圧の条件下で蒸留して生成物を分離すれば目的物が得られる。有機ホスホニウム塩をシリコン樹脂やシリカ或いはゼオライトに固定させて使用すると、反応後に回収して再使用するのに非常に便利である［Ｊｕｎｇ，  Ｉ．  Ｎ．；Ｃｈｏ，  Ｋ．  Ｄ．；Ｌｉｍ，  Ｊ．  Ｃ．  Ｙｏｏ，  Ｂ．  Ｒ．  ＵＳ  Ｐａｔｅｎｔ  ４，６１３，４９１］。
【００１１】
本発明によると、上記したように生成物を製造・分離した後に触媒を再利用するためには、生成物を分離して残った残留物を別の過程を経ることなく触媒として使用することができるので、触媒として使用した４級有機ホスホニウム塩を簡単に回収することができる。その回収率は８０％までであり、回収して再使用するので経済的にも非常に有利である。
本発明に使用する化学式１で表されるシラン化合物の例としては、トリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジクロロシランが挙げられ、化学式２で表される有機ハロゲン化合物の例としては、１−クロロオクタン、１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロパン、（クロロメチル）トリクロロシラン、（クロロメチル）メチルジクロロシラン、（クロロメチル）ジメチルクロロシラン、（クロロメチル）トリメチルシラン、（３−クロロプロピル）トリメチルシラン、塩化アリル、臭化アリル、塩化クロチル、塩化ベンジル、塩化４−フルオロベンジル、塩化４−クロロベンジル、塩化４−メトキシベンジル、塩化４−フェニルベンジル、ジフェニル−１−クロロメタン、１−クロロエチルベンゼン、塩化シクロペンチル、２−クロロブタン、塩化イソプロピル、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，３−ジクロロプロパン、１−ブロモ−３−クロロプロパン、１，４−ジクロロブタン、１，４−ビス（クロロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
【００１２】
また、本発明により特徴的に使用する触媒成分は４級有機ホスホニウム塩であり、例えば次の化学式４あるいは５で表される化合物を使用することができる。（４）      ＰＲ”４Ｘ’
式中、  Ｘ’はクロロ、ブロモ或はヨードであり；  Ｒ”はＣ１−１２のアルキル基、Ｃ１−６のアルキル基が含まれた芳香族基、あるいはフェニル基であり；２つのＲ”は互いに共有結合により連結されて環形構造を持つことができ、それぞれのＲ”は互いに同じ、または異なる構造を持つことができる。
（５）      ＸＲ”３Ｐ−Ｙ−ＰＲ”３Ｘ’
式中、  Ｘ’はクロロ、ブロモ或はヨードであり；  ＹはＣ１−１２のアルキル基、Ｃ１−６のアルキル基が含まれた芳香族基、あるいは芳香族基であり；Ｒ”はＣ１−１２のアルキル基、Ｃ１−６のアルキル基が含まれた芳香族基、フェニル基であり；２つのＲ”は互いに共有結合により連結されて環形構造を持つことができ、それぞれのＲ”は互いに同じ、または異なる構造を持つことができる。
【００１３】
本発明に使用する触媒である４級有機ホスホニウム塩の具体的な化合物の例としては、塩化ベンジルトリブチルホスホニウム、塩化テトラブチルホスホニウム、塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化ベンジルトリホスホニウム、固定化された４級塩化ホスホニウム、エチレンビス（塩化ベンジルジメチルホスホニウム）、塩化トリフェニルホスホニウム、塩化トリブチルホスホニウム等が挙げられる。
このような本発明による触媒は、望ましくはシリコーン樹脂、シリカ、無機支持体、有機高分子等に固定化された形態で使用される。
上記したような成分を使用して製造した本発明により上記の化学式３で表される有機シラン化合物は、例えば次の実施例から製造した各種のシラン化合物として製造される。上記の有機シラン化合物は、一般的にシリコン高分子の原料物質及びシラン結合剤等の用途で広く使用されている。
【００１４】
上に述べたように、本発明は、従来、有機シラン化合物の製造に適用されなかった触媒として４級有機ホスホニウム塩を使用して活性のない有機ハロゲン化合物を使用しても脱ハロゲン化水素反応を通じて有機シラン化合物を製造することができる。上記の触媒は少量だけ使用すること、容易に回収して再使用すること、活性の高い有機塩化物ばかりでなく、活性の低い有機ハロゲン化合物でも比較的に高収率で反応が進むことを特徴とする。従って、本発明は、従来に比べて非常に経済的かつ効率的な方法により多様な有機珪素化合物の合成に適用することができ、工程も非常に容易である。また、生産費も低いので、有機珪素の含まれた高分子の合成に広く活用することができる。
本発明を次の実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００１５】
実施例１：１−クロロオクタンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化ベンジルトリブチルホスホニウム）
オーブンで乾燥された２５ｍｌのステンレス管である反応槽を、窒素気体の存在下で冷却させた後に、塩化ベンジルトリブチルホスホニウム（０．２２ｇ，  ０．６７  ｍｍｏｌ）、１−クロロオクタン（１．００ｇ，  ６．７３  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（２．７１ｇ，  ２０．０  ｍｍｏｌ）を入れた。反応槽の口を蓋で密封し、１７０℃で２時間にわたって反応させた後に、反応物を減圧下で蒸留して１．４５ｇ（収率：８７％）のｎ−オクチルトリクロロシランを得た。
ｎ−オクチルトリクロロシランのＭＳ（７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ（相対強度）：２５０（１），  ２４８（３），  ２４６（４），  １７９（１２），  １７７（３５），  １７５（３４），  １３５（５３），  １３３（５４），  ８５（１００），  ７１（５７），  ５７（９８）
【００１６】
実施例２：１−クロロオクタンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．２０ｇ，  ０．６８  ｍｍｏｌ）、１−クロロオクタン（１．００ｇ，  ６．７３  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（２．７１ｇ，  ２０．０  ｍｍｏｌ）を、１７０℃で２時間にわたって反応させて１．４２ｇ（収率：８５％）のｎ−オクチルトリクロロシランを得た。
【００１７】
実施例３：１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロパンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．２０ｇ，  ０．６８  ｍｍｏｌ）、１−クロロオクタン（０．８９ｇ，  ６．７２  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（２．７１ｇ，  ２０．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で１０時間にわたって反応させて１．２４ｇ（収率：８０％）の（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロシランを得た。
３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロシランのＭＳ（７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ（相対強度）：１３７（２４），  １３５（７１），  １３３（７２），  ９８（１１），  ７８（８７），  ７７（１００），  ６９（２０），  ６３（２１），  ５９（２６），  ５１（１１）
【００１８】
実施例４：（クロロメチル）トリクロロシランとトリクロロシランとの反応（触媒：  塩化ベンジルトリブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化ベンジルトリブチルホスホニウム（０．２２ｇ，  ０．６７  ｍｍｏｌ）、（クロロメチル）トリクロロシラン（１．２３ｇ，  ６．６９  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（２．７１ｇ，  ２０．０  ｍｍｏｌ）を、１６０℃で１５時間にわたって反応させて１．１３ｇ（収率：６８％）の１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロ−１，３−ジシラプロパンを得た。
１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロ−１，３−ジシラプロパンの１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ｄ  １．８７（ｓ，  ＳｉＣＨ２Ｓｉ）
【００１９】
実施例５：（クロロメチル）メチルジクロロシランとトリクロロシランとの反応（触媒：  塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．１８ｇ，  ０．６１  ｍｍｏｌ）、（クロロメチル）メチルジクロロシラン（１．００ｇ，  ６．１２  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（２．５２ｇ，  １８．６  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて０．９６ｇ（収率：６０％）の１，１，１，３，３−ペンタクロロ−１，３−ジシラブタンを得た。
１，１，１，３，３−ペンタクロロ−１，３−ジシラブタンの１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ｄ  ０．９４（ｓ，  ３Ｈ，  ＳｉＣＨ３），  １．５８（ｓ，  ＳｉＣＨ２Ｓｉ）
【００２０】
実施例６：（クロロメチル）ジメチルクロロシランとトリクロロシランとの反応（触媒：  塩化テトラエチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラエチルホスホニウム（０．２７ｇ，  １．５  ｍｍｏｌ）、（クロロメチル）ジメチルクロロシラン（２．１５ｇ，  １５．０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（６．１０ｇ，  ４５．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で１０時間にわたって反応させて２．１８ｇ（収率：６０％）の１，１，１，３−テトラクロロ−３−メチル−１，３−ジシラブタンを得た。
テトラクロロ−３−メチル−１，３−ジシラブタンのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：０．６２（ｓ，  ６Ｈ，  ＳｉＣＨ３），  １．２８（ｓ，  ２Ｈ，  ＳｉＣＨ２Ｓｉ）
【００２１】
実施例７：（クロロメチル）トリメチルシランとトリクロロシランとの反応（触媒：  塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム（０．２９ｇ，  ０．７５  ｍｍｏｌ）、（クロロメチル）トリメチルシラン（０．９２ｇ，  ７．５  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（３．０５ｇ，  ２２．５  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で１０時間にわたって反応させて１．２０ｇ（収率：７２％）の１，１，１−トリクロロ−３，３−ジメチル−１，３−ジシラブタンを得た。
１，１，１−トリクロロ−３，３−ジメチル−１，３−ジシラブタンのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：０．２５（ｓ，  ９Ｈ，  ＳｉＣＨ３），  ０．８５（ｓ，  ２Ｈ，  ＳｉＣＨ２Ｓｉ）
【００２２】
実施例８：（３−クロロプロピル）トリメチルシランとトリクロロシランとの反応（触媒：  塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム  （０．２２ｇ，  ０．７５  ｍｍｏｌ）、（３−クロロプロピル）トリメチルシラン（１．１３ｇ，  ７．５０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（３．０５ｇ，  ２２．５  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で１０時間にわたって反応させて１．５７ｇ（収率：８４％）の［３−トリクロロシリルプロピル］トリメチルシランを得た。
［３−トリクロロシリルプロピル］トリメチルシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ０．０２（ｓ，  ９Ｈ，  ＳｉＣＨ３），  ０．０６（ｍ，  ２Ｈ，  Ｍｅ３ＳｉＣＨ２），  １．４７（ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  １．６１（ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２ＳｉＣｌ３）
【００２３】
実施例９：塩化アリルとトリクロロシランとの反応（触媒：  塩化テトラメチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラメチルホスホニウム  （０．１６ｇ，  １．３  ｍｍｏｌ）、塩化アリル（１．００ｇ，  １３．１  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（５．３１ｇ，  ３２．９  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて１．７２ｇ（収率：７５％）のアリルトリクロロシランを得た。
アリルトリクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ２．３５−２．３７（ｄ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ５．１８−５．２４（ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２＝），  ５．７１−５．８５（ｍ，  １Ｈ，  −ＣＨ＝）
【００２４】
実施例１０：塩化アリルとトリクロロシランとの反応（触媒：固定化された４級塩化ホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により４級ホスホニウム塩（０．３０ｇ）を含んだ固定化触媒であるシリコン樹脂［（ＲＳｉＯ３／２）ｎ，  Ｒ  ＝  ［３−（トリブチルホスホニウム）プロピル］クロライド］、塩化アリル（１．００ｇ，  １３．１  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（５．３１ｇ，  ３９．２  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて１．２０ｇ（収率：５２％）のアリルトリクロロシランを得た。
【００２５】
実施例１１：塩化アリルとメチルジクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラエチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラエチルホスホニウム（０．２４ｇ，  １．３１  ｍｍｏｌ）、塩化アリル（１．００ｇ，  １３．１  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（４．５２ｇ，  ３９．３  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて０．４５ｇ（収率：２２％）のアリルメチルジクロロシランを得た。
アリルメチルジクロロシランのＭＳ（７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ（相対強度）：１５６（１３），  １５４（１８），  １４１（１３），  １３９（２０），  １１７（１３），  １１５（７０），  １１４（９），  １１３（１００），  ６５（７），  ６３（２２）
【００２６】
実施例１２：塩化アリルとジクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．３６ｇ，  １．２２  ｍｍｏｌ）、塩化アリル（０．９４ｇ，  １２．３  ｍｍｏｌ）及びジクロロシラン（６．２２ｇ，  ６１．６  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で１時間にわたって反応させて０．３８ｇ（収率：２２％）のアリルジクロロシランを得た。
アリルジクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ２．１７−２．１９（ｄ，  ２Ｈ，  ＳｉＣＨ３），  ５．１３−５．１８（ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２＝），  ５．４７（ｔ，  Ｊ＝１．８Ｈｚ，  １Ｈ，  ＳｉＨ），  ５．７１−５．８５（ｍ，  １Ｈ，  ＣＨ＝）
【００２７】
実施例１３：臭化アリルとトリクロロシランとの反応（触媒：臭化テトラメチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により臭化テトラメチルホスホニウム（０．２１ｇ，  １．２  ｍｍｏｌ）、臭化アリル（１．５０ｇ，  １２．４  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（５．０４ｇ，  ３７．２  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて１．８５ｇ（収率：８５％）のアリルジクロロシランを得た。
【００２８】
実施例１４：塩化クロチルとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．３２ｇ，  １．１  ｍｍｏｌ）、塩化クロチル（１．００ｇ，  １１．１  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（４．４７ｇ，  ３３．０  ｍｍｏｌ）を、１３０℃で１時間にわたって反応させて１．０４ｇ（収率：５０％）のクロチルトリクロロシランを得た。
クロチルトリクロロシランのＭＳ（７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ（相対強度）：１９０（７），  １８８（７），  １３５（１０），  １３３（１０），  ６３（７），  ５６（６），  ５５（１００），  ５４（１１），  ５３（８）
【００２９】
実施例１５：塩化ベンジルとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．２３ｇ，  ０．７８  ｍｍｏｌ）、塩化ベンジル（１．００ｇ，  ７．９０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（３．２１ｇ，  ２３．７  ｍｍｏｌ）を、１３０℃で４時間にわたって反応させて１．４８ｇ（収率：８３％）のベンジルトリクロロシランを得た。
ベンジルトリクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ２．１７−２．１９（ｓ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ７．２９−７．３６（ｍ，  ５Ｈ，  ＡｒＨ）
【００３０】
実施例１６：塩化ベンジルとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化ベンジルトリブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化ベンジルトリブチルホスホニウム（０．２６ｇ，  ０．７９  ｍｍｏｌ）、塩化ベンジル（１．００ｇ，  ７．９０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（３．２１ｇ，  ２３．７  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて１．４３ｇ（収率：８０％）のベンジルトリクロロシランを得た。
【００３１】
実施例１７：塩化ベンジルとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム（０．３１ｇ，  ０．８０  ｍｍｏｌ）、塩化ベンジル（１．００ｇ，  ７．９０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（３．２１ｇ，  ２３．７  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で３時間にわたって反応させて０．０７ｇ（収率：４％）のベンジルトリクロロシランを得た。
【００３２】
実施例１８：塩化ベンジルとトリクロロシランとの反応［触媒：エチレンビス（塩化ベンジルジメチルホスホニウム）］
上記の実施例１と同様の方法によりエチレンビス（塩化ベンジルジメチルホスホニウム）（０．１６ｇ，  ０．４０  ｍｍｏｌ）、塩化ベンジル（１．００ｇ，  ７．９０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（３．２１ｇ，  ２３．７  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて１．５１ｇ（収率：８５）のベンジルトリクロロシランを得た。
【００３３】
実施例１９：塩化ベンジルとメチルジクロロシランとの反応（触媒：塩化トリブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化トリブチルホスホニウム（０．２６ｇ，  ０．７９  ｍｍｏｌ）、塩化ベンジル（１．００ｇ，  ７．９０  ｍｍｏｌ）及びメチルジクロロシラン（２．７３ｇ，  ２３．７  ｍｍｏｌ）を、２００℃で２時間にわたって反応させて０．３９ｇ（収率：２４％）のベンジルメチルジクロロシランを得た。
ベンジルメチルジクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ０．９６（ｓ，  ３Ｈ，  ＳｉＣＨ３），  ２．８５（ｓ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ７．２９−７．３６（ｍ，  ５Ｈ，  ＡｒＨ）
【００３４】
実施例２０：塩化ベンジルとジクロロシランとの反応（触媒：塩化ベンジルトリブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化ベンジルトリブチルホスホニウム（０．２６ｇ，  ０．７９  ｍｍｏｌ）、塩化ベンジル（１．０１ｇ，  ７．９８  ｍｍｏｌ）及びジクロロシラン（２．４２ｇ，  ２４．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて０．２９ｇ（収率：１９％）のベンジルジクロロシランを得た。
ベンジルジクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ２．７６（ｓ，  Ｊ  ＝  ２．０  Ｈｚ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ５．５４（ｔ，  Ｊ  ＝  ２．０  Ｈｚ，  １Ｈ，  ＳｉＨ），  ７．１８−７．３７（ｍ，  ５Ｈ，  ＡｒＨ）
【００３５】
実施例２１：塩化４−フルオロベンジルとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．２０ｇ，  ０．６８  ｍｍｏｌ）、塩化４−フルオロベンジル（１．００ｇ，  ０．９２  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（２．８０ｇ，  ２０．７  ｍｍｏｌ）を、１３０℃で４時間にわたって反応させて１．１９ｇ（収率：８２％）の（４−フルオロベンジル）トリクロロシランを得た。
（４−フルオロベンジル）トリクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ２．８９（ｓ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ７．００−７．２０（ｍ，  ４Ｈ，  ＡｒＨ）
【００３６】
実施例２２：塩化４−クロロベンジルとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．２２ｇ，  ０．７５  ｍｍｏｌ）、塩化４−クロロベンジル（１．２１ｇ，  ７．５１  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（３．０５ｇ，  ２２．５  ｍｍｏｌ）を、１３０℃で４時間にわたって反応させて１．３７ｇ（収率：８１％）の（４−クロロベンジル）トリクロロシランを得た。
（４−クロロベンジル）トリクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：２．９３（ｓ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），
７．２９−７．３８（ｍ，  ４Ｈ，  ＡｒＨ）
【００３７】
実施例２３：塩化４−メトキシベンジルとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．１９ｇ，  ０．６４  ｍｍｏｌ）、塩化４−メトキシベンジル（１．００ｇ，  ６．３９  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（２．４６ｇ，  １８．２  ｍｍｏｌ）を、１３０℃で４時間にわたって反応させて１．２２ｇ（収率：８６％）の（４−メトキシベンジル）トリクロロシランを得た。
（４−メトキシベンジル）トリクロロシランのＭＳ（７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ（相対強度）：２５６（７），  ２５４（７），  １３５（５），  １３３（５），  １２２（９），  １２１（１００），  ７８（１０），  ７７（８），  ５１（６）
【００３８】
実施例２４：塩化４−フェニルベンジルとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．２２ｇ，  ０．７５  ｍｍｏｌ）、塩化４−フェニルベンジル（１．５２ｇ，  ７．５  ｍｍｏｌ）、１０ｍｌのベンゼン及びトリクロロシラン（３．０５ｇ，  ２２．５  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて１．７０ｇ（収率：８５％）の（４−フェニルベンジル）トリクロロシランを得た。
（４−フェニルベンジル）トリクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  ２．９０（ｓ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ７．２０−７．４０（ｍ，  ９Ｈ，  ＡｒＨ）
【００３９】
実施例２５：塩化イソプロピルとトリクロロシランの反応（触媒：ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒０．３７ｇ（１．２５ｍｍｏｌ）、塩化イソプロピル１．００ｇ（１２．７３ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン５．１７ｇ（３８．２０ｍｍｏｌ）を、１８０℃で１３時間にわたって反応させて１．７２ｇ（収率：７６％）のイソプロピルトリクロロシランを得た。
イソプロピルトリクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  １．１８〜１．２０（ｄ，  ６Ｈ，  （ＣＨ３）
２ＣＨ−），  １．４９〜１．５８（ｍ，  −ＣＨＳｉＣｌ３）．
【００４０】
実施例２６：２−クロロブタンとトリクロロシランの反応（触媒：ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒０．３２ｇ（１．０９ｍｍｏｌ）、２−クロロブタン１．００ｇ（１０．９０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン４．４３ｇ（３２．７１ｍｍｏｌ）を、１８０℃で１３時間にわたって反応させて０．８２ｇ（収率：３９％）の２−トリクロロシリルブタンを得た。
２−トリクロロシリルブタンのＭＳ  （７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ  （相対強度）：  １９０（２），  １３９（４），  １３７（６），  １３５（１６），  １３３（１６），  ９８（４），  ６３（６），  ５７（１００），  ５６（１９），  ４１（２５），  ３９（７）．
【００４１】
実施例２７：塩化シクロペンチルとトリクロロシランの反応（触媒：ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒０．２９ｇ（０．９８ｍｍｏｌ）、塩化シクロペンチル１．０１ｇ（９．６６ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン３．９２ｇ（２８．９４ｍｍｏｌ）を、１８０℃で８時間にわたって反応させて０．４３ｇ（収率：２２％）のシクロペンチルトリクロロシランを得た。
シクロペンチルトリクロロシランのＭＳ  （７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ  （相対強度）：  ２０２（２），  １７６（１１），  １７４（１１），  １３５（１４），  １３３（１４），  ６９（１００），  ６８（２３），  ６７（１４），  ６５（４），  ６３（５）．
【００４２】
実施例２８：１−クロロエチルベンゼンとトリクロロシランの反応（触媒：ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒０．２０ｇ（０．６８ｍｍｏｌ）、１−クロロエチルベンゼン０．９６ｇ（６．８３ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン２．７１ｇ（２０．００ｍｍｏｌ）を、１５０℃で６時間にわたって反応させて０．５８ｇ（収率：３５％）の１−トリクロロシリルエチルベンゼンを得た。
１−トリクロロシリルエチルベンゼンのＭＳ  （７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ  （相対強度）：  ２３８（１０），  １３３（５），  １０６（１２），  １０５（１００），  １０３（１０），  ７９（１２），  ７７（１４），  ６３（５），  ５１（６）．
【００４３】
実施例２９：ジフェニル−１−クロロメタンとトリクロロシランの反応（触媒：ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒０．１４ｇ（０．４７ｍｍｏｌ）とジフェニル−１−クロロメタン０．９５ｇ（４．６９ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン１．９１ｇ（１４．１０ｍｍｏｌ）を、１５０℃で６時間にわたって反応させて０．３１ｇ（収率：２２％）のジフェニル−１−トリクロロシリルメタンを得た。
ジフェニル−１−トリクロロシリルメタンのＭＳ  （７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ  （相対強度）：  ３００（８），  １６８（１７），  １６７（１００），  １６６（１５），  １６５（３９），  １５２（１８），  １３３（３），  １１５（４），  ６３（５）．
【００４４】
実施例３０：ジクロロメタンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．４４ｇ，  １．５０  ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（０．６４ｇ，  ７．５  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（１０．１６ｇ，  ７５．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で６時間にわたって反応させて少量のビス（トリクロロシリル）メタンが生成されたことを確認した。
【００４５】
実施例３１：  １，２−ジクロロエタンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．４４ｇ，  １．５０  ｍｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン（０．７４ｇ，  ７．５  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（１０．１６ｇ，  ７５．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で１０時間にわたって反応させて１．０９ｇ（収率：５４％）の１，２−ビス（トリクロロシリル）エタンを得た。
１，２−ビス（トリクロロシリル）エタンのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  １．５９（ｓ，  ４Ｈ，  ＳｉＣＨ２）
【００４６】
実施例３２：  １，３−ジクロロプロパンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．４４ｇ，  １．５０  ｍｍｏｌ）、１，３−ジクロロプロパン（０．８５ｇ，  ７．５  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（１０．１６ｇ，  ７５．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で１０時間にわたって反応させて０．２２ｇ（収率：１４％）の（３−クロロプロピル）トリクロロシランと１．６８ｇ（収率：７２％）の１，３−ビス（トリクロロシリル）プロパンを得た。
１，３−ビス（トリクロロシリル）プロパンの１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：ｄ  １．５６（ｍ，  ４Ｈ，  ＳｉＣＨ２），  １．９２（ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２）（３−クロロプロピル）トリクロロシランのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  １．５８（ｍ，  ２Ｈ，  ＳｉＣＨ２），  ２．０６（ｍ，  ２Ｈ，  ＣＨ２），  ３．６１（ｔ，  Ｊ  ＝  ６．４８  Ｈｚ，  ２Ｈ，  ＣＨ２Ｃｌ）
【００４７】
実施例３３：  １−ブロモ−３−クロロプロパンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．４４ｇ，  １．５０  ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−３−クロロプロパン（１．１８ｇ，  ７．５０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（１０．１６ｇ，  ７５．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で４時間にわたって反応させて０．１６ｇ（収率：１０％）の（３−クロロプロピル）トリクロロシランと０．１７ｇ（収率：９％）の１，３−ビス（トリクロロシリル）プロパンを得た。
【００４８】
実施例３４：  １，４−ジクロロブタンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．４４ｇ，  １．５０  ｍｍｏｌ）、１，４−ジクロロブタン（０．９５ｇ，  ７．５０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（１０．１６ｇ，  ７５．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２０時間にわたって反応させて２．０２ｇ（収率：８３％）の１，４−ビス（トリクロロシリル）ブタンを得た。
１，４−ビス（トリクロロシリル）ブタンのＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：１．４６（ｍ，  ４Ｈ，  ＳｉＣＨ２），
１．７３（ｍ，  ４Ｈ，  ＣＨ２）
【００４９】
実施例３５：  １，４−ビス（クロロメチル）ベンゼンとトリクロロシランとの反応（触媒：塩化テトラブチルホスホニウム）
上記の実施例１と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム（０．  ０５９ｇ，  ０．２０  ｍｍｏｌ）、１，４−ビス（クロロメチル）ベンゼン（０．３５ｇ，  ２．０  ｍｍｏｌ）及びトリクロロシラン（１．３５ｇ，  １０．０  ｍｍｏｌ）を、１５０℃で２時間にわたって反応させて０．１６ｇ（収率：３０％）の１−クロロメチル−４−（トリクロロシリルメチル）ベンゼンと０．１９ｇ（収率：２５％）の１，４−ビス（トリクロロシリルメチル）ベンゼンを得た。
１−クロロメチル−４−（トリクロロシリルメチル）ベンゼンのＭＳ（７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ（相対強度）：２７４（２３），  ２７２（１７），  ２４１（３７），  ２３９（９９），  ２３８（１７），  ２３７（１００），  １３９（３３），  １０４（３９），  １０３（３２），  ７７（２０）
１，４−ビス（トリクロロシリルメチル）ベンゼンのＭＳ（７０ｅＶ  ＥＩ）  ｍ／ｚ（相対強度）：３７２（１５），  ２４１（３８）．  ２４０（１６），  ２３９（９９），  ２３８（１７），  ２３７（１００），  １３４（１３），  １３２（１４），  １０４（２７），  １０３（１９）
【００５０】
【発明の効果】
上に述べたように、本発明は、従来の有機シランの製法とは異なって４級有機ホスホニウム塩を触媒として使用し、水素−珪素の結合を持つクロロシラン化合物及び有機ハロゲン化合物を脱ハロゲン化水素反応を通じて結合させて有機珪素化合物を合成することにより、従来の製法に比べて少量の触媒を使用し、また触媒を使用した後にその回収も容易であるので非常に経済的に高収率で有機シランを製造することができる。