(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送中の板状部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最上流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配置され前記洗浄部材とで前記板状部材の両端部を挟持する押え部材とを備えるとともに、前記下面を洗浄する洗浄部材および前記押え部材の下流側に、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材と、この上面洗浄部材に対向する位置に配置され前記上面洗浄部材とで前記板状部材を幅方向に亘って挟持する支持部材とを備えたことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
搬送中の板状部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最下流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配置され前記洗浄部材とで前記板状部材の両端部を挟持する押え部材とを備えるとともに、前記下面を洗浄する洗浄部材および前記押え部材の上流側に、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材と、この上面洗浄部材に対向する位置に配置され前記上面洗浄部材とで前記板状部材を幅方向に亘って挟持する支持部材とを備えたことを特徴とする洗浄装置。
【請求項３】
搬送中の板状部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最上流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配置され前記洗浄部材とで前記板状部材の両端部を挟持する押え部材とを備え、搬送最下流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配置され前記洗浄部材とで前記板状部材の両端部を挟持する押え部材とを備え、かつ、前記最上流側の洗浄部材と前記最下流側の洗浄部材との間に、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材と、この上面洗浄部材に対向する位置に配置され前記上面洗浄部材とで前記板状部材を幅方向に亘って挟持する支持部材とを備えたことを特徴とする洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄部材はブラシ洗浄部材で構成され、前記押え部材はローラ部材で構成されたことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶表示器用ガラス基板やプリント基板などの基板類および半導体ウエハなどの板状部材の表面および裏面をそれぞれブラシなどで洗浄する洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のブラシ洗浄装置は、図１０に示すようにディスクブラシ５１を上下に対向配設し、板状部材としてのガラス基板やプリント基板などの基板５２が、上下のディスクブラシ５１の間を水平姿勢で搬送されることにより、基板５２の表裏両面を同時に洗浄していた。また、これらのディスクブラシ５１の代わりに、図１１に示すような上下のロールブラシ５３を回転させると共に、上下のロールブラシ５３で基板５２の表裏両面を挾み込んで同時に洗浄していた。
【０００３】
また、例えば液晶表示器の製造工程において、基板にフォトリソグラフィ工程などの各種処理を施そうとする場合、かかる処理を施す面（以下、表面と称す）の方がその裏面よりもより高い洗浄度を要求される場合が多いのが現状である。このため、基板の表面側の方がその裏面側よりもブラシを多く配設していた。例えば、図１２に示すようなブラシ洗浄装置では、上側ディスクブラシ６１，６２を搬送方向Ａに対して所定距離置いて配設すると共に、これらの上側ディスクブラシ６１，６２の間に下側ディスクブラシ６３を配設し、かつ、上側ディスクブラシ６１，６２の下側にはそれぞれ対向するように全面支持ロール６４，６５がそれぞれ配設されている。これらの上側ディスクブラシ６１，６２と下側ディスクブラシ６３および全面支持ロール６４，６５との間を基板６６が表面側を上にして水平姿勢で搬送されることにより、基板６６の表面側の洗浄度が裏面側のそれよりもより高くなるように洗浄していた。
【０００４】
また、例えば、上記ディスクブラシの代わりにロールブラシを用いたブラシ洗浄装置としては、図１３に示すように、上側ロールブラシ７１，７２，７３を搬送方向Ａに対して所定距離置いてそれぞれ配設すると共に、これらの上側ロールブラシ７１，７２の間に下側ロールブラシ７４を、上側ロールブラシ７２，７３の間に下側ロールブラシ７５を配設し、かつ、上側ロールブラシ７１，７２，７３の下側にそれぞれ対向するように全面支持ロール７６，７７，７８がそれぞれ配設されている。これらの上側ロールブラシ７１，７２，７３と下側ロールブラシ７４，７５および全面支持ロール７６，７７，７８との間を基板６６が表面側を上にして水平姿勢で搬送されることにより、基板６６の表面側の洗浄度が裏面側のそれよりもより高くなるように洗浄していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の構成で、図１０および図１１のようにディスクブラシ５１またはロールブラシ５３などのブラシを対向配設した場合には、この部分での基板５１両面の支持は上下のブラシの押し込みバランスに頼っているため、鉛直方向での基板位置（以下、基板搬送基準面と称す）の調整が難しく、基板位置が上下することにより基板両面とブラシとの接触が不均一になりやすく基板両面の洗浄度が低下するという問題があった。また、例えば、基板５１の裏面を支持している下側のブラシにガタツキが発生したような場合には、基板５１の裏面に対しても下側のブラシが不均一な接触になると共に、基板５１の表面に対して上側のブラシも不均一な接触になって影響し、基板両面の洗浄度が低下するという問題があった。
【０００６】
また、このようなブラシで基板５１の表面の洗浄を行うような場合には、基板５１の表面に対してある程度、ブラシを基板５１側に押し込む必要があるため、基板５１が通過していない状態では上下のブラシが互いに接触することになり、このとき、ブラシ毛先端同志が擦れて摩耗し、これが発塵の原因になるという問題を有していた。このようなブラシ毛による発塵は、基板５１の表面に対するブラシの押し込み量が多いほど、また、基板５１が薄くなるほど、ブラシがロールブラシ５３の場合にブラシ回転数が高いほど顕著になる。特に、液晶表示器用ガラス基板ではその表面に高いクリーン度が要求されているため、発塵防止対策が重要な課題となっている。
【０００７】
次に、上記従来の構成で、図１２および図１３のように上側ディスクブラシ６１，６２または上側ロールブラシ７１，７２，７３などの上側ブラシの真下に全面支持ロール６４，６５または全面支持ロール７６〜７８がそれぞれ配設されている位置では、これらの全面支持ロール６４，６５または全面支持ロール７６〜７８上を基板６６がそれぞれ搬送されるので、基板６６や洗浄液の重量の他に上側ブラシの基板６６上面への加圧によっても基板６６が撓まず、基板６６が下方向に移動することがなく、基板搬送基準面が確定するので、上側ブラシの基板６６上面への接触も均一となっている。しかし、上記下側ディスクブラシ６３または下側ロールブラシ７４，７５などの位置では、それらの下側ブラシの基板６６の裏面への押し込み量によっては基板６６が上方向に移動し得るため、下側ブラシ部分での基板搬送基準面が確定せず、基板位置が上方向に移動して、基板裏面とブラシとの接触が不均一になりやすいという問題があった。
【０００８】
また、これらの全面支持ロール６４，６５または全面支持ロール７６〜７８の存在が逆に、基板６６の裏面を汚染してしまうという問題を有していた。つまり、最近では、基板の裏面の洗浄度も要求されるようになってきており、上記全面支持ロール６４，６５または全面支持ロール７６〜７８が基板６６の全裏面に亘って接触することで基板６６の裏面を汚染してしていた。
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するもので、搬送基準面の調整が容易で板状部材両面の洗浄度をより高くすることができると共に、発塵をも抑制することができる洗浄装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の洗浄装置は、搬送中の板状部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最上流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配置され前記洗浄部材とで前記板状部材の両端部を挟持する押え部材とを備えるとともに、前記下面を洗浄する洗浄部材および前記押え部材の下流側に、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材と、この上面洗浄部材に対向する位置に配置され前記上面洗浄部材とで前記板状部材を幅方向に亘って挟持する支持部材とを備えたことを特徴とするものである。
【００１１】
この構成により、押え部材の存在で板状部材が上方向に移動することがなく、基板搬送基準面の調整が容易で板状部材下面への洗浄部材の接触が不均一とならず、また、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材に対して支持部材を設けたので、板状部材が下方向に移動することがなく、基板搬送基準面の調整が容易で板状部材上面への洗浄部材の接触が不均一とならないことから、板状部材両面の洗浄度がより高くなる。また、このように、搬送最上流側に下面洗浄用の洗浄部材が設けられているので、その後の搬送経路に板状部材の下方向搬送基準面規定用の支持部材が配置されたとしても、支持部材へ来る基板の下面はすでに清浄であり、支持部材が汚染されることはなく、板状部材下面の汚れが支持部材を介して板状部材下面に再付着するようなことはなく板状部材下面の洗浄度もより高くなる。さらに、洗浄部材が対向して配設されていないので、特に洗浄部材がブラシ洗浄部材の場合のように互いのブラシ毛の摩耗による発塵の問題は抑制されることになる。
【００１２】
また、本発明の洗浄装置は、搬送中の板状部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最下流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配置され前記洗浄部材とで前記板状部材の両端部を挟持する押え部材とを備えるとともに、前記下面を洗浄する洗浄部材および前記押え部材の上流側に、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材と、この上面洗浄部材に対向する位置に配置され前記上面洗浄部材とで前記板状部材を幅方向に亘って挟持する支持部材とを備えたことを特徴とするものである。
【００１３】
この構成により、押え部材の存在で板状部材が上方向に移動することがなく、基板搬送基準面の調整が容易で板状部材下面への洗浄部材の接触が不均一とならず、また、その上流側に板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材に対して支持部材が設けてあるので、板状部材が下方向に移動することがなく、基板搬送基準面の調整が容易で板状部材上面への洗浄部材の接触が不均一とならないことから、板状部材両面の洗浄度がより高くなる。また、このような板状部材の下方向搬送基準面規定用の支持部材が上流側に配置されたとしても、その後の搬送最下流側に板状部材下面洗浄用の洗浄部材が配設されているので、板状部材の搬送を支持する支持部材で板状部材の下面が汚染されたとしても最終的にその汚染を洗浄除去することが可能となる。さらに、洗浄部材が対向して配設されていないので、特に洗浄部材がブラシ洗浄部材の場合のように互いのブラシ毛の摩耗による発塵の問題は抑制されることになる。
【００１４】
さらに、本発明の洗浄装置は、搬送中の板状部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最上流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配置され前記洗浄部材とで前記板状部材の両端部を挟持する押え部材とを備え、搬送最下流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配置され前記洗浄部材とで前記板状部材の両端部を挟持する押え部材とを備え、かつ、前記最上流側の洗浄部材と前記最下流側の洗浄部材との間に、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材と、この上面洗浄部材に対向する位置に配置され前記上面洗浄部材とで前記板状部材を幅方向に亘って挟持する支持部材とを備えたことを特徴とするものである。
【００１５】
この構成により、押え部材で搬送基準面の調整が容易になり、また同様に、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材に対して支持部材が設けてあるので、板状部材が下方向に移動することがなく、基板搬送基準面の調整が容易で、板状部材両面の洗浄度がより高くなる。また、このような板状部材の下方向の搬送基準面規定用の支持部材が配置されたとしても、搬送最上流側に下面洗浄用の洗浄部材が設けられているので、支持部材へ来る基板の下面はすでに清浄であり、支持部材が汚染されることはなく、板状部材下面の汚れが支持部材を介して板状部材下面に再付着することなく、また、万一、板状部材下面の汚れが残ったり、また、支持部材に汚染があったとしても、搬送最下流側に板状部材下面洗浄用の洗浄部材が配設されているので、最終的にその汚染を洗浄することが可能となる。さらに、従来のように洗浄部材が対向して配設されていないので、特に洗浄部材がブラシ洗浄部材の場合のように互いのブラシ毛の摩耗による発塵の問題は抑制されることになる。
【００１６】
さらに、好ましくは、本発明の洗浄装置における洗浄部材はブラシ洗浄部材で構成され、押え部材はローラ部材で構成されている。この構成により、本発明を容易に適応することが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る洗浄装置の実施形態について図面を参照して説明する。
（実施形態１）
図１は本発明の実施形態１における基板洗浄装置を含む基板洗浄システムの構成を示す平面図である。
【００１８】
図１において、この基板洗浄システムは、主に、基板供給部または基板排出部として機能するインデクサ装置１と、板状部材としてのガラス基板などの基板２の表面および裏面をそれぞれブラシ洗浄部材で洗浄する基板洗浄装置３と、インデクサ装置１と基板洗浄装置３の間で基板２を搬出入を行うロボット装置４とで構成されている。
【００１９】
このインデクサ装置１には、角形の基板２を複数枚収納可能なカセット５，６を載置する載置台７が設けられている。これらのカセット５，６は、例えば自動搬送ロボット（図示せず）により載置台７上の所定の位置に搬送されてくる。カセット５，６が載置台７上に設置された状態で、ロボット装置４によるカセット５からの基板２の取り出し、およびカセット６への洗浄処理後の基板２の収納が可能となる。
【００２０】
このように、ロボット装置４は、カセット５と基板洗浄装置３の搬入側との間および、カセット６と基板洗浄装置３の搬出側との間に移動自在であり、図示しない旋回、進退および上下移動可能なハンドによって基板２の周辺部を吸着支持した状態で、制御部からの指令に応じてハンドを基板２と共に移動させて、カセット５から基板洗浄装置３の搬入側に基板２の搬入を行うことができ、また、基板洗浄装置３の搬出側からカセット６に基板２の搬出を行うことができる。
【００２１】
図２は図１の基板洗浄装置の要部を示す部分側面図であり、図３は図１の基板洗浄装置の搬送ローラ、上乗せローラ、基板支持ロールおよびロールブラシの構成を詳しく示す断面図である。
【００２２】
図２および図３において、この基板洗浄装置３は、基板２の搬入側に前側コンベア部１１が配設され、ブラシ洗浄処理後の基板２の搬出側に後側コンベア部１２が配設され、これらの前側コンベア部１１と後側コンベア部１２との間にブラシ洗浄部１３が配設されている。
【００２３】
これらの前側コンベア部１１および後側コンベア部１２では、複数の搬送ローラ１４が互いに平行に搬送方向に配設されている。これらの各搬送ローラ１４の構成については後述するが、これらの各搬送ローラ１４は図示しない駆動部と連結されており、駆動部からの駆動力によって一定方向に回転して基板２を表面側を上にして水平に保持した状態で搬送方向Ａに搬送する構成となっている。
【００２４】
また、ブラシ洗浄部１３は、前側コンベア部１１と後側コンベア部１２との間の基板洗浄搬送経路に配設されており、基板２の表面および裏面にノズルＮから純水、洗剤などの洗浄液を供給しつつブラシによって洗浄するように構成されている。その経路上流側に、基板２の裏面を洗浄する下側ロールブラシ１７と、この下側ロールブラシ１７の上方に配設され下側ロールブラシ１７とで基板２の幅の両端部をそれぞれ挾持する基板押えロール１８とを、それらの軸心が上下平行になるようにそれぞれ配設しており、これらの下側ロールブラシ１７と各基板押えロール１８との間を基板２が搬送されるように構成されている。この場合、押え部材としての各基板押えロール１８は、基板２の裏面により均一にブラシが当接するように平面性を維持するため、下側ロールブラシ１７に対向するように前後に２個配設されているが、基板２に剛性があれば撓みにくく平面性を維持できるため、１個の基板押えロール１８でもよい。また、これらの各基板押えロール１８は、基板２の汚染や損傷などを防止するために、各基板押えロール１８が基板２の中央部に当接しないように基板２の両端縁部をそれぞれ押えるように構成されている。このように、下側ロールブラシ１７により基板２の下側からブラシで押圧する部位では、各基板押えロール１８で基板２の両端縁部をそれぞれ押えていれば、下側ロールブラシ１７の基板２の裏面への押し込み量が多くても、基板２自体が持つ剛性に加え、基板２の自重や基板２上に乗っている洗浄液の重量などがかかるため、基板２が上方向に移動したり撓んだりするようなこともない。さらに、下側ロールブラシ１７はその上方を通過する基板２の幅に亘って配設されており、各基板押えロール１８の存在により下側ロールブラシ１７の基板２の裏面への押し込み量が適度に調整可能であり、下側ロールブラシ１７の基板２の裏面への均一な接触を容易に得ることが可能である。
【００２５】
また、基板洗浄搬送経路の下流側には、基板２の表面を洗浄する上側ロールブラシ１９と、この上側ロールブラシ１９の真下に配設され基板２の幅全体に亘って基板２を支持する支持部材としての基板支持ロール２０とを、それらの軸心が上下平行になるようにそれぞれ配設しており、これらの上側ロールブラシ１９と基板支持ロール２０との間を基板２が搬送されるように構成されている。この場合、基板支持ロール２０は、その上方を通過する基板２の幅全体に亘って支持するいわゆる全面支持ロールであり、基板支持ロール２０の存在により、基板２や洗浄液の自重に加えて上側ロールブラシ１９の加圧によっても基板２が下方向に撓むようなことはなくより均一に上側ロールブラシ１９を基板２の表面に当接させることが可能となる。また、上側ロールブラシ１９はその下方を通過する基板幅全体に亘って配設されており、各基板支持ロール２０の存在により上側ロールブラシ１９の基板２の表面への押し込み量が適度に調整されて上側ロールブラシ１９の基板２の表面への均一な接触を得ることが可能となる。
【００２６】
さらに、これらの下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１９の前後位置にはそれぞれ、搬送ローラ２１〜２３が互いに平行に搬送方向Ａに沿って配設されている。ブラシ洗浄部１３におけるこれらの各搬送ローラ２１〜２３は、図３（ａ）に示すように、軸部１５と、この軸部１５の両端部に配設され基板２の両端縁をそれぞれ支持する支持軸部１６ａおよび、この支持軸部１６ａに連なるつば部１６ｂとを有している。この両端のつば部１６ｂと支持軸部１６ａとの間はテーパ部で構成されている。このテーパ部で基板２を案内しつつ両支持軸部１６ａ上に設置可能な構成になっている。また、これらの各搬送ローラ２１〜２３は駆動部と連結されており、駆動部からの駆動力によって一定方向に回転して基板２を水平に保持した状態で搬送方向Ａに搬送する構成となっている。
【００２７】
また、これらの各搬送ローラ２１〜２３上にはそれぞれ、基板２の両端縁２ａを挾持すべく上乗せローラ２４〜２６がそれぞれ配設されている。これらの上乗せローラ２４〜２６はそれぞれ、軸部２７と、この軸部２７の両端部に配設され基板２の両端縁２ａをそれぞれ転がりながら押える円形つば部２８とを有している。このように、図３（ａ）に示す上乗せローラ２６と、他の上乗せローラ２４，２５とは同様の構成であり、搬送ローラ２３は他の搬送ローラ２１，２２と同様の構成である。また、前側コンベア部１１、後側コンベア部１２における搬送ローラ１４は、上乗せローラと組み合わせられてはいないが、その構成は搬送ローラ２３と同様である。なお、搬送ローラ１４にも同様の上乗せローラを組み合わせてもよい。
【００２８】
上記構成により、インデクサ装置１の載置台７上に載置されたカセット５からロボット装置４のハンドにより基板２を吸着して取り出して基板洗浄装置３の搬入側の各搬送ローラ１４上に搬入する。このように、カセット５から各搬送ローラ１４上に搬送された基板２は、ブラシ洗浄部１３で基板２の表面および裏面がそれぞれ洗浄されることになる。
【００２９】
このとき、まず、基板洗浄搬送経路の上流側では、下側ロールブラシ１７と各基板押えロール１８との間隔が調整されており、各基板押えロール１８の存在で基板搬送基準面が確定するため、適度なブラシの押し込み量に容易に設定することができると共に、下側ロールブラシ１７の基板２の裏全面に対する均一接触を得ることができる。
【００３０】
次に、基板洗浄搬送経路の下流側では、上側ロールブラシ１９と基板支持ロール２０との間隔が調整されており、基板支持ロール２０の存在で、容易に基板搬送基準面が確定し、適度な上側ロールブラシ１９の押し込み量に設定することができると共に、上側ロールブラシ１９の基板２の表全面に対する均一接触を得ることができる。このようにして、ブラシ洗浄部１３で基板２の表面および裏面をそれぞれ洗浄することができる。
【００３１】
その後、ブラシ洗浄処理が終了した基板２は、基板洗浄装置３の搬出側における後側コンベア部１２の各搬送ローラ１４上からロボット装置４のハンドにより基板２を吸着して取り出してカセット６内に収納する。
【００３２】
このように、下側ロールブラシ１７の真上には各基板押えロール１８が存在し、また、上側ロールブラシ１９の真下には基板支持ロール２０が存在するため、基板搬送基準面が確定し、基板２の両面に対するブラシの均一接触のためのブラシ押し込み量調整を容易に行うことができて、基板２の安定搬送と共に安定洗浄を行うことができる。
【００３３】
また、基板２の裏面が汚れていると、その汚れが全面支持ロールである基板支持ロール２０に付着すると共に基板支持ロール２０から基板２の裏面に再付着して基板２の裏面が汚染されることが考えられるが、この実施形態１では、下側ロールブラシ１７を基板洗浄の搬送経路最上流側に配置して先に基板２の裏面を洗浄してしまっているので、次にくる基板支持ロール２０も汚染されずに済み、基板２の裏面の汚染も軽減されることになる。その後、搬送経路下流側で基板２の表面側を基板支持ロール２０に対して上側ロールブラシ１９で加圧しながら洗浄すれば、基板２の両面の洗浄度をより高くすることができる。
【００３４】
さらに、基板２が通過していない状態であっても、従来のように、下側ロールブラシ１７と上側ロールブラシ１９とが互いに接触するようなことがなく、ブラシ毛先端同志が擦れることによる発塵はなくなって発塵をより抑制させることができる。
【００３５】
（実施形態２）
上記実施形態１では基板搬送経路上流側で下側ロールブラシ１７を用い、基板搬送経路下流側で上側ロールブラシ１９を用いたが、本実施形態２では、更なる基板両面の洗浄度を向上させるべく、その後の少なくとも最終洗浄工程に上記実施形態１と同様の下側ロールブラシ１７を用いると共に、この下側ロールブラシ１７の真上に基板押えロール１８を用いる場合である。
【００３６】
図４は本発明の実施形態２における基板洗浄装置の要部を示す部分側面図であり、図２と同様の作用、効果を奏する部材には同様の符号を付してその説明を省略する。
【００３７】
図４において、図２のブラシ洗浄部１３の搬送経路後流側に、上側ロールブラシ１９および基板押えロール１８、さらに下側ロールブラシ１７および基板支持ロール２０と同様の部材を配設している。
【００３８】
この構成により、基板押えロール１８で基板２の上方向の搬送基準面の調整が容易になり、また、基板２の表面を洗浄する上側ロールブラシ１９に対して基板支持ロール２０を設けているので、基板２の下方向の搬送基準面の調整が容易で、基板２の両面の洗浄度をより高くすることができる。また、このような基板２の下方向の搬送基準面規定用の基板支持ロール２０が配置されたとしても、搬送最上流側に裏面洗浄用の下側ロールブラシ１７が設けられているので、基板２の裏面の汚れが下側ロールブラシ１７を介して基板２の裏面に再付着することなく、また、基板２の裏面の汚れが残ったとしても、搬送最下流側に基板２の裏面洗浄用の下側ロールブラシ１７が配設されているので、最終的にその汚染を洗浄することができる。さらに、従来のように上側ロールブラシ１９および下側ロールブラシ１７が対向して配設されていないので、互いのブラシ毛の摩耗による発塵の問題も抑制される。
【００３９】
（変形例）
上記実施形態１では、ブラシに下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１９を用いたが、これらの下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１９の代わりに、図５のように、下側ディスクブラシ４１および上側ディスクブラシ４２を用いてもよい。また、ロールブラシとディスクブラシが混在していてもよく、例えば図６のように、搬送経路上流側で下側ロールブラシ１７を用い、搬送経路下流側で上側ディスクブラシ４２を用いてもよく、または、搬送経路上流側で下側ディスクブラシ４１を用い、搬送経路下流側で上側ロールブラシ１９を用いてもよい。これらの場合にも、上記実施形態１と同様に、基板押えロール１８および基板支持ロール２０を用いることができる。また、基板支持ロール２０は上側ブラシの下方向に対向するように前後に２個以上配設してもよく、この場合には、より均一な平面度が得られる。
【００４０】
また、上記実施形態２では、ブラシに下側ロールブラシ１７、上側ロールブラシ１９、上側ロールブラシ１９さらに下側ロールブラシ１７を用いたが、これらの下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１９の代わりに、図７のように、下側ディスクブラシ４１、上側ディスクブラシ４２、上側ディスクブラシ４２さらに下側ディスクブラシ４１を用いてもよい。また、ロールブラシとディスクブラシが混在していてもよく、例えば図８のように、搬送経路上流側で下側ロールブラシ１７さらに上側ディスクブラシ４２を用い、搬送経路下流側で上側ディスクブラシ４２さらに下側ロールブラシ１７を用いてもよく、または、搬送経路上流側で下側ディスクブラシ４１さらに上側ロールブラシ１９を用い、搬送経路下流側で上側ロールブラシ１９さらに下側ディスクブラシ４１を用いてもよい。これらの場合にも、上記実施形態１と同様に、基板押えロール１８および基板支持ロール２０を用いることができる。
【００４１】
さらに、上記実施形態２では、下側ロールブラシ１７、上側ロールブラシ１９、上側ロールブラシ１９さらに下側ロールブラシ１７の順に配設したが、搬送最上流側および搬送最下流側に下側ロールブラシ１７および基板押えロール１８をそれぞれ配設すればよく、搬送最上流側と搬送最下流側との間には上側ロールブラシ１９および基板支持ロール２０の組みが少なくとも１組みあればよく、この間に下側ロールブラシ１７および基板押えロール１８の組みが含まれていてもよい。
【００４２】
さらに、ブラシ洗浄部がディスクブラシで構成され、特に、図９に示すように、円形のディスクブラシ４３が基板２の幅方向に沿って複数個配設される場合には、各ディスクブラシ４３間に隙間ができないように千鳥形状に配設して洗浄する。このように、ディスクブラシ４３を千鳥形状に配設すると、配設スペースの面積が増える。
【００４３】
さらに、上記実施形態１，２では、下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１９による基板２の洗浄時に、洗浄液は、下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１９の若干上流側の両側方より供給するようにしているが、これらの下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１９自体の中央部からそれぞれ供給するような構成であってもよい。なお、以上の変形例の説明では、ノズルＮの図示は省略している。
【００４４】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、下側の洗浄部材の上方に対向して押え部材を設けたため、板状部材下面への洗浄部材の接触が不均一とならず、また、板状部材の上面を洗浄する上面洗浄部材に対して支持部材を設けたので、板状部材上面への洗浄部材の接触も不均一とならず、板状部材両面の洗浄度をより高くすることができる、また、このような支持部材が板状部材下面側に配置されたとしても、搬送最上流側に下面洗浄用の洗浄部材が設けられているため、板状部材下面の汚れが支持部材を介して板状部材下面に再付着するようなことなく板状部材下面の洗浄度もより高くなる。さらに、洗浄部材が対向配設ではないため、従来のような発塵をも抑制することができる。
【００４５】
また、上側の上面洗浄部材の下方に対向して支持部材を設けたとしても、搬送最下流側に板状部材下面洗浄用の洗浄部材が配設されているため、その支持部材で板状部材の下面が汚染されたとしても最終的にその汚染を洗浄することで板状部材下面の洗浄度をより高くすることができる。
【００４６】
さらに、上側の上面洗浄部材の下方に対向して支持部材を設けたとしても、搬送最上流側に下面洗浄用の洗浄部材が設けられているため、板状部材下面の汚れが支持部材を介して板状部材下面に再付着することなく、また、板状部材下面の汚れが残ったとしても、搬送最下流側に板状部材下面洗浄用の洗浄部材が配設されているため、最終的にその汚染を洗浄することができて、板状部材下面の洗浄度をより高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施形態１における基板洗浄装置を含む基板洗浄システムの構成を示す平面図である。
【図２】  図１の基板洗浄装置の要部を示す部分側面図である。
【図３】  図１の基板洗浄装置の搬送ローラ、上乗せローラ、基板支持ロールおよびロールブラシの構成を詳しく示す断面図である。
【図４】  本発明の実施形態２における基板洗浄装置の要部を示す部分側面図である。
【図５】  図２の基板洗浄装置の要部の変形例を模式的に示す部分側面図である。
【図６】  図２の基板洗浄装置の要部の他の変形例を模式的に示す部分側面図である。
【図７】  図４の基板洗浄装置の要部の変形例を模式的に示す部分側面図である。
【図８】  図４の基板洗浄装置の要部の他の変形例を模式的に示す部分側面図である。
【図９】  基板の幅方向に沿って複数の円形ディスクブラシを配設した場合の従来の洗浄ブラシのレイアウトを模式的に示す平面図である。
【図１０】  ディスクブラシを対向配設した場合の従来のブラシ洗浄装置の要部を模式的に示す部分側面図である。
【図１１】  ロールブラシを対向配設した場合の従来のブラシ洗浄装置の要部を模式的に示す部分側面図である。
【図１２】  基板表面側により多くのディスクブラシを配設した場合の従来のブラシ洗浄装置の要部を模式的に示す部分側面図である。
【図１３】  基板表面側により多くのロールブラシを配設した場合の従来のブラシ洗浄装置の要部を模式的に示す部分側面図である。
【符号の説明】
２    基板
３    基板洗浄装置
１３    ブラシ洗浄部
１７    下側ロールブラシ（洗浄部材）
１８    基板押えロール（押え部材）
１９    上側ロールブラシ
２０    基板支持ロール
４１    下側ディスクブラシ
４２    上側ディスクブラシ
４３    円形ディスクブラシ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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