(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つ以上の光ファイバと，前記光ファイバのファイバ固定用溝と，前記ファイバ固定用溝と一体に形成され，前記光ファイバからの出射光の光路を変換する傾斜面とを備える光ファイバ保持部材と，光素子を複数個形成してなる光素子部材と，を有する光伝送モジュールにおいて，
前記光ファイバ保持部材は，表面の所望の位置に電極パターン若しくは半導体集積回路ベアチップを搭載して当該光伝送モジュールのベース部材として機能し，
前記光素子部材は，前記光ファイバ毎の出射光の投影領域に対し少なくとも２つ以上の光素子が含まれるように，光素子が形成され，
前記光ファイバ保持部材上の電極の一部と前記光素子部材の電極の一部とを電気的に接続する接続手段を備えることを特徴とする光伝送モジュール。
【請求項２】
前記光ファイバ保持部材は，所定の方位を有する結晶基板を材料とし，半導体加工プロセス及び異方性エッチングにより前記ファイバ固定用溝及び前記傾斜面が一体に作製され，
前記光ファイバは，前記ファイバ固定用溝に配置される際に，前記光ファイバ保持部材の表面より当該光ファイバの外周の一部が突出するように設置され，前記光素子部材の一部が当該光ファイバの該突出部分に突き当たるように配置されることを特徴とする請求項１記載の光伝送モジュール。
【請求項３】
前記光ファイバ保持部材上に形成される電極の間隔は，前記光素子部材の電極間隔より大きいか，或いは前記光素子部材の電極の一部が不等間隔であるように変調されたピッチで形成されることを特徴とする請求項１または２記載の光伝送モジュール。
【請求項４】
前記光ファイバ保持部材は，当該光ファイバ保持部材上に形成された電極間に凸部を有することを特徴とする請求項１，２または３記載の光伝送モジュール。
【請求項５】
前記光ファイバ保持部材は，化学エッチングに対し等方性を有する基板を材料とし，前記反射面は，選択的なエッチングにより球面若しくは非球面で形成されることを特徴とする請求項１，２，３または４記載の光伝送モジュール。
【請求項６】
前記光ファイバは，端面が球面若しくは非球面形状に加工されたものであることを特徴とする請求項１，２，３，４または５記載の光伝送モジュール。
【請求項７】
前記光ファイバ保持部材は，前記光ファイバ固定用溝に略平行な方向に前記光素子部材の位置を概略規定するための位置決め部材を有し，
前記光素子部材は，光素子が複数個アレイ状に形成され，前記位置決め部材に所定の一部を配置し，ファイバ方向に対する位置決めにおいて，前記位置決め部材に一辺が接触するよう配置され，また，ファイバアレイ方向に対する位置決めにおいて，前記光ファイバ毎の出射光の投影部分に位置する複数の前記光素子の電極に前記光ファイバ保持部材の電極パターンがくるように配置されることを特徴とする請求項１，２，３，４，５または６記載の光伝送モジュール。
【請求項８】
前記接続手段において，前記光ファイバ保持部材上の電極の一部に導電性粘着材を選択的に塗布される接続手段を備えることを特徴とする請求項１，２，３，４，５，６または７記載の光伝送モジュール。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光通信，光情報処理及び光インターコネクション等に用いられる光伝送モジュールに係り，特に，光ファイバと光路変換面及び光素子との位置合わせ精度を確保しつつ，生産性に優れ，且つ安価な小型の自己整合的な光伝送モジュールに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の光伝送モジュールの構成方法としては，例えば，図６に示すようなものがある。この第１従来例は，特開平５−３０３０２８号公報で開示された「光ファイバアレイ用光反射器」の構成であり，光ファイバ整列用Ｖ字溝６０２を設け，一方の端にこれら光ファイバ整列用Ｖ字溝６０２に直交する反射用Ｖ字溝６０１を設け，光ファイバ整列用Ｖ字溝６０２に整列された光ファイバ６０１からの出射光を，反射用Ｖ字溝６０３のＶ字にカットされた面により方向変更させるものであり，受光素子等の光素子との光学的結合を複雑な調整を必要とせずに実現している。
【０００３】
また，図７には，１９９５年電子情報通信学会エレクトロニクスソサエティ大会，発表番号Ｃ−１９８で開示された「光受信アレイモジュール」の構成図を示す。この第２従来例では，第１従来例と同様に，反射用Ｖ字溝を結晶基板の異方性エッチングの手法で作製し，その反射面によりアレイファイバ７０３からの出射光の光路を変換させ，ＡｕＳｎバンプ７０４を用いたセルフアライメントの手法により位置決めされたＰＤアレイ（受光素子）に投影することにより，光結合を実現している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，上記第１従来例においては，光ファイバアレイ６０１と反射機構が簡単な構造となり，また同一の基板６０１上に形成が可能であり，モジュールの小型化等に有効であるが，依然として受光素子等の光素子と光ファイバアレイとの位置合わせのための調整作業が残る等，生産性に問題があった。
【０００５】
また，第２従来例のように半田バンプによるフリップチップ実装を用いた場合，最終的な位置合わせはセルフアライメントの効果により簡略化できるが，半田バンプの作製工程が付加されることにより，製造工程の煩雑化によるコストアップ等，生産性に問題が残る。
【０００６】
本発明は，上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって，光ファイバと光路変換面及び光素子との位置合わせ精度を確保しつつ，生産性に優れ且つ安価な小型の自己整合的な光伝送モジュールを提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために，本発明の請求項１に係る光伝送モジュールは，少なくとも１つ以上の光ファイバと，前記光ファイバのファイバ固定用溝と，前記ファイバ固定用溝と一体に形成され，前記光ファイバからの出射光の光路を変換する傾斜面とを備える光ファイバ保持部材と，光素子を複数個形成してなる光素子部材と，を具備する光伝送モジュールにおいて，前記光ファイバ保持部材は，表面の所望の位置に電極パターン若しくは半導体集積回路ベアチップを搭載して当該光伝送モジュールのベース部材として機能し，前記光素子部材は，前記光ファイバ毎の出射光の投影領域に対し少なくとも２つ以上の光素子が含まれるように，光素子が形成されて，前記光ファイバ保持部材上の電極の一部と前記光素子部材の電極の一部とを電気的に接続させたものである。
【０００８】
また，請求項２に係る光伝送モジュールは，請求項１記載の光伝送モジュールにおいて，前記光ファイバ保持部材は，所定の方位を有する結晶基板を材料とし，半導体加工プロセス及び異方性エッチングにより前記ファイバ固定用溝及び前記傾斜面が一体に作製され，前記光ファイバは，前記ファイバ固定用溝に配置される際に，前記光ファイバ保持部材の表面より当該光ファイバの外周の一部が突出するように設置され，前記光素子部材の一部が当該光ファイバの該突出部分に突き当たるように配置されるものである。
【０００９】
また，請求項３に係る光伝送モジュールは，請求項１または２記載の光伝送モジュールにおいて，前記光ファイバ保持部材上に形成される電極の間隔は，前記光素子部材の電極間隔より大きいか，或いは前記光素子部材の電極の一部が不等間隔であるように変調されたピッチで形成されるものである。
【００１０】
また，請求項４に係る光伝送モジュールは，請求項１，２または３記載の光伝送モジュールにおいて，前記光ファイバ保持部材は，当該光ファイバ保持部材上に形成された電極間に凸部を具備するものである。
【００１１】
また，請求項５に係る光伝送モジュールは，請求項１，２，３または４記載の光伝送モジュールにおいて，前記光ファイバ保持部材は，化学エッチングに対し等方性を有する基板を材料とし，前記反射面は，選択的なエッチングにより球面若しくは非球面で形成されるものである。
【００１２】
また，請求項６に係る光伝送モジュールは，請求項１，２，３，４または５記載の光伝送モジュールにおいて，前記光ファイバは，端面が球面若しくは非球面形状に加工されたものである。
【００１３】
また，請求項７に係る光伝送モジュールは，請求項１，２，３，４，５または６記載の光伝送モジュールにおいて，前記光ファイバ固定用溝に略平行な方向に前記光素子部材の位置を概略規定するための位置決め部材を具備し，前記光素子部材は，光素子が複数個アレイ状に形成され，前記位置決め部材に所定の一部を配置し，ファイバ方向に対する位置決めにおいて，前記位置決め部材に前記光素子部材の一辺が接触するよう配置し，ファイバアレイ方向に対する位置決めにおいて，前記光ファイバ毎の出射光の投影部分に位置する複数の前記受光素子の電極に光ファイバ保持部材の電極パターンがくるようにしたものである。
【００１４】
また，請求項８に係る光伝送モジュールは，請求項１，２，３，４，５，６または７記載の光伝送モジュールにおいて，前記光ファイバ保持部材上の電極の一部と前記光素子部材の電極の一部とを電気的に接続させる際に，前記光ファイバ保持部材上の電極の一部に導電性粘着材を選択的に塗布するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の光伝送モジュールの概要について，並びに，本発明の光伝送モジュールの実施例について，〔実施例１〕，〔実施例２〕，〔実施例３〕，〔実施例４〕の順に図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
〔本発明の光伝送モジュールの概要〕
本発明の請求項１に係る光伝送モジュールでは，図１に示す如く，少なくとも１つ以上の光ファイバ１０３と，ファイバ固定用溝１０４と，ファイバ固定用溝１０４と一体に形成され，光ファイバ１０３からの出射光の光路を変換する傾斜面１０５とを備える光ファイバ保持部材１０１と，光素子１１０を複数個形成してなる光素子部材１０２と，を具備して構成し，光ファイバ保持部材１０１は，表面の所望の位置に電極パターン１０６若しくは半導体集積回路ベアチップを搭載して当該光伝送モジュールのベース部材として機能し，光素子部材１０２を，光ファイバ１０３からの出射光の投影領域に対し少なくとも２つ以上の光素子１１０が含まれるように構成し，光ファイバ保持部材１０１上の電極１０６の一部と光素子部材１０２の電極１１１の一部とを電気的に接続させている。
【００１７】
従って，光ファイバ１０３と光路変換面である傾斜面１０５及び光素子１１０との位置合わせ精度を確保しつつ，生産性に優れ且つ小型の光伝送モジュールを実現できる。
【００１８】
また，請求項２に係る光伝送モジュールでは，図１及び図２に示す如く，光ファイバ保持部材１０１の材料として，所定の方位を有する結晶基板を用い，半導体加工プロセス及び異方性エッチングによりファイバ固定用溝１０４及び傾斜面１０５を一体に作製し，光ファイバ１０３をファイバ固定用溝１０４に配置する際に，光ファイバ保持部材１０１の表面より当該光ファイバ１０３の外周の一部が突出するように設置し，光素子部材１０２の一部が光ファイバ１０３の該突出部分に突き当たるように配置している。
【００１９】
従って，半導体プロセスを利用して光伝送モジュールを作製することができ，簡易に高精度な位置決め機構を備えた光伝送モジュールを実現できる。
【００２０】
また，請求項３に係る光伝送モジュールでは，図１及び図３に示す如く，光ファイバ保持部材１０１上に形成される電極１０６の間隔は，光素子部材１０２の電極１１１の間隔より大きいか，或いは光素子部材１０２の電極の一部１１１'が不等間隔であるように変調されたピッチで形成されている。
【００２１】
これにより，隣接チャンネルの電気的接触を効率よく回避することができ，また不必要な光素子１１０の接続による当該光伝送モジュールの性能劣化や配線の電気的特性が制御可能で，且つ，歩留まりよく生産が可能な光伝送モジュールを実現できる。
【００２２】
また，請求項４に係る光伝送モジュールでは，図４に示す如く，光ファイバ保持部材１０１に，当該光ファイバ保持部材１０１上に形成された電極１０６間に凸部４２５を具備している。これにより，隣接チャンネルの電気的接触を効率よく回避することができ，歩留まりよく生産が可能な光伝送モジュールを実現できる。
【００２３】
また，請求項５に係る光伝送モジュールでは，図５に示す如く，光ファイバ保持部材１０１の材料として，化学エッチングに対し等方性を有する基板を用い，反射面１０５'を，選択的なエッチングにより球面若しくは非球面で形成している。これにより，反射機能部の光学的性能を向上することが可能で，半導体プロセスを利用することができ，簡易に高精度な位置決め機構を備えた光伝送モジュールを実現できると共に，高効率な光結合系が実現される。
【００２４】
また，請求項６に係る光伝送モジュールでは，図５に示す如く，光ファイバ１０３'の端面を，球面若しくは非球面形状に加工している。これにより，光ファイバ１０３'からの出射光の拡散を抑制することが可能で，光素子１１０の小型化により高速性を確保できると共に，高効率な光結合系を実現できる。
【００２５】
また，請求項７に係る光伝送モジュールでは，光ファイバ固定用溝１０４に略平行な方向に光素子部材１０２の位置を概略規定するための位置決め部材１０７を具備し，光素子部材１０２は，光素子１１０を複数個アレイ状に形成し，該位置決め部材１０７に所定の一部を配置し，ファイバ光軸方向の位置決めについて，光素子部材１０２の一辺が接触するよう配置させ，ファイバアレイ方向の位置決めについて，光素子部材１０２を配置した際に，光ファイバ１０３からの出射光の投影部分２００に位置する複数の受光素子の電極１１１に，光ファイバ保持部材１０１上の電極パターン１０６がくるように配置することで，精度よく位置決めがなされた光伝送モジュールを実現できる。
【００２６】
また，請求項８に係る光伝送モジュールでは，光ファイバ保持部材１０１上の電極１０６の一部に導電性接着剤を選択的に塗布してメサ形状の凸部１０７を形成し，この凸部１０７と受光素子の電極１１１とを接触させ硬化させることにより接続を行うことで，位置決め機構として用いることにより，精度良く位置決めがなされた光伝送モジュールを実現できる。
【００２７】
〔実施例１〕
図１は本発明の実施例１に係る光伝送モジュールの構造説明図である。図１（ａ）は，光ファイバ保持部材１０１及び光素子部材１０２を接続する前の光伝送モジュールの斜視図，図１（ｂ）は方向Ｂから見た光結合部分の断面図，図１（ｃ）は光素子部材１０２の斜視図である。
【００２８】
本実施例の光伝送モジュールでは，少なくとも１つ以上の光ファイバ１０３と，ファイバ固定用溝１０４と，ファイバ固定用溝１０４と一体に形成され，光フアイバ１０３からの出射光の光路を変換するため反射面（傾斜面）１０５とを，同一部材である光ファイバ保持部材１０１上に形成する。
【００２９】
例えば光ファイバ保持部材１０１の材料として，所定の方位（この場合＜１００面＞）を有するシリコン結晶基板を用いた場合には，通常のフォトリソグラフィ等の半導体加工プロセス及び異方性エッチングの手法により，ファイバ固定用溝１０４を同一基板１０１上に一体に作製する。
【００３０】
この時，ファイバ固定用溝１０４の光ファイバ１０３に対向する傾斜面１０５を，光路変換機能素子である反射面として用いることにより，反射面１０５をファイバ固定用溝１０４と一体化されたものとして扱うことができる。更にこの場合，反射率を向上させるために，反射面１０５に金属薄膜と透明絶縁膜や誘電体多層膜を形成してもよい。
【００３１】
また，光素子部材１０２の位置決め機構としては，ファイバ固定用溝１０４に沿った光ファイバ保持部材１０１の両サイドの所定の位置に薄膜を形成後，フォトリソグラフィの手法によるパターニングとエッチングの手法により形成した凸部１０７を設けて，該凸部１０７を位置決め機構として用いるか，或いは，ファイバ固定用溝１０４の幅を，光ファイバ１０３が配置された際に，光ファイバ１０３の外周の一部が光ファイバ保持部材１０１の表面より所定量だけ突出するよう設定して，光ファイバ１０３の一部を位置決め機構として用いる。
【００３２】
そして，次段の電気回路への接続やＩＣのベアチップ実装のための電気配線１０６を，図１（ｂ）に示す如く，光ファイバ保持部材１０１の絶縁体薄膜１１２上に形成する。
【００３３】
次に光素子部材１０２においては，本実施例では受光素子が光素子１１０として形成されているが，例えば，１［μｍ］以下の波長による光伝送システムを考えた場合，光素子部材（受光素子基板）１０２としてシリコン基板を用い，フォトダイオード（例えば，ｐｉｎ層から構成されるｐｉｎ−ＰＤ）を受光素子１１０として，所定間隔を保つアレイ状に作製する。
【００３４】
また光素子部材１０２においては，図２に示す平面図の如く，光伝送モジュールを構成する際に，光ファイバ１０３からの出射光の投影領域２００に対して，少なくとも２つ以上の受光素子１１０が含まれるように，受光素子１１０を複数個アレイ状に形成し，電極１１１も該受光素子１１０と共に形成されている。
【００３５】
本実施例による光伝送モジュールでは，光ファイバ保持部材１０１の位置決め部材である凸部（本実施例では，ファイバ外周部の一部）１０７に，受光素子部材１０２の一辺が接触するよう配置させることにより，受光素子部材１０２のファイバ光軸方向についての位置決めが行われる。
【００３６】
更に，受光素子部材１０２のファイバアレイ方向についての位置決めは，受光素子部材１０２を配置した際に，光ファイバ１０３からの出射光の投影部分２００に位置する複数の受光素子の電極１１１に，光ファイバ保持部材１０１上の電極パターン１０６がくるようにすることにより行われる。
【００３７】
つまり，ファイバ固定用溝１０４の延長上の光ファイバ保持部材１０６表面に設けた電極１０６を，受光素子部材１０２上の所定の電極に接触させることにより，自動的に光が入射した複数の受光素子１１０が電気的に接続され，対応する光ファイバ１０３にアライメントされた１つの受光素子として機能することにより，特に光素子部材１０２の微調整をする必要なく，光伝送モジュールの組付けを行うことが可能になる。
【００３８】
上記方法により，受光素子部材１０２は，ファイバアレイ方向とファイバ光軸方向について，機械的な機構とアライメントフリーな素子構成により精度良く位置決めがなされる。
【００３９】
尚，受光素子部材１０２上の電極１１１と光ファイバ保持部材１０１上の電極１０６との電気的接続には，例えば，光ファイバ保持部材１０１上の電極１０６の一部に導電性接着剤を選択的に塗布してメサ形状の凸部１０７を形成し，この凸部１０７と受光素子の電極１１１とを接触させ硬化させることにより接続を行う。
【００４０】
〔実施例２〕
次に，本発明の実施例２に係る光伝送モジュールについて説明する。図３は，本実施例の光伝送モジュールにおける光ファイバ保持部材１０１及び光素子部材１０２の接続を説明する平面図である。
【００４１】
実施例１では，図２に示すように，光ファイバ保持部材１０１上に形成される電極１０６の間隔が，受光素子部材１０２上の電極１１１のピッチよりも大きくなるように形成されている。
【００４２】
これに対して実施例２では，図３に示すように，受光素子部材１０２上の電極１１１の一部が不等間隔であるように変調されたピッチで形成されている。
【００４３】
これらの方法により，実施例１及び実施例２では，光ファイバ保持部材１０１上の電極１０６の一部に導電性接着剤を選択的に塗布してメサ形状の凸部１０７を形成する際に，その塗布量の制御を緩和することができ，光伝送モジュール構成時に，凸部１０７の変形による不要な隣接チャンネル間の電気的接触を防止することができる。
【００４４】
また，特に実施例２（図３）においては，更に，必要以上の受光素子の電気的結合によって受光素子の容量が増加することによる応答速度の低下を防止することも可能となる。
【００４５】
〔実施例３〕
次に，本発明の実施例３に係る光伝送モジュールについて説明する。図４は，本実施例の光伝送モジュールにおける光ファイバ保持部材１０１及び光素子部材１０２の接続を説明する説明図であり，図４（ａ）は平面図，図４（ｂ）は断面図である。
【００４６】
本実施例では，光ファイバ保持部材１０１表面の電極１１１間に，例えば，フォトリソグラフィ及びパターニングの手法等により，凸部４２５を所定の場所に形成後，光ファイバ保持部材１０１上の電極１０６の一部に導電性接着剤を選択的に塗布してメサ形状の凸部１０７を形成している。これにより，光素子部材１０２を配置の際に，接着剤（１０７）の変形による不要な隣接チャンネル間の電気的接触を防止することができる。
【００４７】
〔実施例４〕
次に，本発明の実施例４に係る光伝送モジュールについて説明する。図５は，本実施例の光伝送モジュールの断面図である。
【００４８】
図５（ａ）では，光ファイバ保持部材１０１として，化学エッチングに対し等方性を有する基板，例えばガラス基板等を用い，選択的なエッチングにより反射面１０５が球面若しくは非球面形状となるように加工して金属反射膜を形成後，絶縁膜を形成するか，或いは誘電体多層膜を形成して，光路変換機能を実現している。
【００４９】
図５（ａ）の如く，反射面１０５を球面若しくは非球面形状とすることにより，光ファイバ１０３からの出射光の発散を抑制でき，また効率よく受光素子に集光させることができ，更に，より少ない受光素子１１０により受光素子部材１０２を構成させることにより，実質的な受光面積を小さくでき，受光素子１１０の応答速度を向上させることができる。
【００５０】
また図５（ｂ）のように，光ファイバ１０３'として，光ファイバ１０３'の端面が球面若しくは非球面形状に加工されたものを用いることによっても，光ファイバ１０３からの発散光の発散角を抑制でき，図５（ａ）と同様な効果が期待できる。
【００５１】
本発明は上記実施例１から実施例４までの実施形態に限定されることなく，その他この精神に逸脱することなく種々の変形が可能である。例えば，光素子１１０の表面に機能薄膜を形成したり，光素子１１０として面発光タイプのＬＥＤまたはＬＤを用いることも可能であり，また，波長帯も１［μｍ］以下に限られることなく，他の波長帯，例えば１．３／１．５［μｍ］帯の伝送システムに用いるデバイスにも応用可能であり，更に，光ファイバ保持部材１０１として，前記半導体プロセス及び異方性エッチングの手法により作製した基板をもとに，電鋳法による金型作製とそれを型に樹脂等で射出成形や複製した樹脂部材を用いても良い。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明したように，本発明の請求項１に係る光伝送モジュールによれば，少なくとも１つ以上の光ファイバと，ファイバ固定用溝と，ファイバ固定用溝と一体に形成され，光ファイバからの出射光の光路を変換する傾斜面とを備える光ファイバ保持部材と，光素子を複数個形成してなる光素子部材とを具備して構成し，光ファイバ保持部材は，表面の所望の位置に電極パターン若しくは半導体集積回路ベアチップを搭載して当該光伝送モジュールのベース部材として機能し，光素子部材を，光ファイバ毎の出射光の投影領域に対し少なくとも２つ以上の光素子が含まれるように，光素子を形成して構成し，光ファイバ保持部材上の電極の一部と光素子部材の電極の一部とを電気的に接続させることとしたので，光ファイバと光路変換面である傾斜面及び光素子との位置合わせについて，微調整しなくとも，精度を確保しつつ，生産性に優れ且つ小型の光伝送モジュールを提供することができる。
【００５３】
また，請求項２に係る光伝送モジュールによれば，光ファイバ保持部材の材料として，所定の方位を有する結晶基板を用い，半導体加工プロセス及び異方性エッチングによりファイバ固定用溝及び傾斜面を一体に作製し，光ファイバをファイバ固定用溝に配置する際に，光ファイバ保持部材の表面より当該光ファイバの外周の一部が突出するように設置し，光素子部材の一部が光ファイバの該突出部分に突き当たるように配置したので，半導体プロセスを利用して光伝送モジュールを作製することができ，簡易に高精度な位置決め機構を備えた光伝送モジュールを提供することができる。
【００５４】
また，請求項３に係る光伝送モジュールによれば，光ファイバ保持部材上に形成される電極の間隔は，光素子部材の電極の間隔より大きいか，或いは光素子部材の電極の一部が不等間隔であるように変調されたピッチで形成されることとしたので，隣接チャンネルの電気的接触を効率よく回避することができ，また不必要な光素子の接続による当該光伝送モジュールの性能劣化や配線の電気的特性が制御可能で，且つ，歩留まりよく生産が可能な光伝送モジュールを提供することができる。
【００５５】
また，請求項４に係る光伝送モジュールによれば，光ファイバ保持部材に，当該光ファイバ保持部材上に形成された電極間に凸部を具備しているので，隣接チャンネルの電気的接触を効率よく回避することができ，歩留まりよく生産が可能な光伝送モジュールを提供することができる。
【００５６】
また，請求項５に係る光伝送モジュールによれば，光ファイバ保持部材の材料として，化学エッチングに対し等方性を有する基板を用い，反射面を，選択的なエッチングにより球面若しくは非球面で形成したので，反射機能部の光学的性能を向上することが可能で，半導体プロセスを利用することができ，簡易に高精度な位置決め機構を備えた光伝送モジュールを提供することができると共に，高効率な光結合系を実現し得る光伝送モジュールを提供することができる。
【００５７】
また，請求項６に係る光伝送モジュールによれば，光ファイバの端面を，球面若しくは非球面形状に加工したので，光ファイバからの出射光の拡散を抑制することが可能で，光素子の小型化により高速性を確保できると共に，高効率な光結合系を実現し得る光伝送モジュールを提供することができる。
【００５８】
また，請求項７に係る光伝送モジュールによれば，光ファイバ固定用溝に略平行な方向に光素子部材の位置を概略規定するための位置決め部材を具備し，前記光素子部材は，光素子が複数個アレイ状に形成され，前記位置決め部材に所定の一部を配置し，ファイバ方向に対する位置決めについて，前記位置決め部材に一辺が接触するよう配置し，ファイバアレイ方向に対する位置決めについて，光ファイバ毎の出射光の投影部分に位置する複数の受光素子の電極に光ファイバ保持部材の電極パターンがくるように配置することで，精度良く位置決めがなされた光伝送モジュールを実現できる。
【００５９】
また，請求項８に係る光伝送モジュールによれば，光ファイバ保持部材の電極の一部に導電性接着剤を選択的に塗布してメサ形状の凸部を形成し，この凸部と受光素子の電極とを接触させ，位置決め機構として用いることにより，精度良く位置決めがなされた光伝送モジュールを実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施例１に係る光伝送モジュールの構造説明図であり，図１（ａ）は光ファイバ保持部材及び光素子部材を接続する前の光伝送モジュールの斜視図，図１（ｂ）は方向Ｂから見た光結合部分の断面図，図１（ｃ）は光素子部材の斜視図である。
【図２】  実施例１の光伝送モジュールにおける光ファイバ保持部材及び光素子部材の接続を説明する平面図である。
【図３】  実施例２の光伝送モジュールにおける光ファイバ保持部材及び光素子部材の接続を説明する平面図である。
【図４】  実施例３の光伝送モジュールにおける光ファイバ保持部材及び光素子部材の接続を説明する説明図であり，図４（ａ）は平面図，図４（ｂ）は断面図である。
【図５】  実施例４の光伝送モジュールの断面図である。
【図６】  第１従来例の光ファイバアレイ用光反射器の構造説明図である。
【図７】  第２従来例の光受信アレイモジュールの構造説明図である。
【符号の説明】
１０１  光ファイバ保持部材
１０２  光素子部材
１０３，１０３'  光ファイバ
１０４  ファイバ固定用溝
１０５，１０５'  傾斜面（反射面）
１０６，１１１，１１１'  電極パターン（電極）
１０７  固定及び電気接触のための凸部（導電性接着剤）
１１０  光素子
２００，３００  出射光の投影領域
４２５  凸部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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