(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録層が基材上の一部を覆って積層されており、前記基材の前記磁気記録層が覆っていない部分と前記磁気記録層との境界の表面上に、前記磁気記録層と接するパターン層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記パターン層が印刷パターンであることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記パターン層が金属薄膜のパターンからなることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記パターン層が光回折構造体のパターンからなることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記光回折構造体がホログラムであることを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は偽造・改ざんに対する安全性が高められた磁気記録媒体に関するもので、特に本発明は、カードに適用したときに価値の高いものである。
【０００２】
【従来の技術】
銀行カード、クレジットカード、通帳、あるいは身分証明書等のさまざまな用途に、紙やプラスチックを基材とし、磁気テープ等の磁気記録層を積層した磁気記録媒体が使用されている。中でも、銀行預金や送金等に使用する銀行カード（またはキャッシュカード）、クレジット会社との契約に基づき、現金を扱うことなく決済を行なえるクレジットカードを始めとして、種々のカードが多用されている。
これら磁気記録媒体は、大きさや形状が異なることを別にすると、いずれも基材に磁気記録層を有していて、磁気記録媒体を保持する各人に特有なＩＤ情報等を保持し、これに基づいて、種々の入出力、演算、記憶等を行なわせるものである。
以降の説明はカードを念頭に行なうが、本発明は広く磁気記録媒体全般に適用できるものである。なお、「カード」とは、携帯されるために、ほぼ名刺または手札程度のサイズに統一されているもので、種々の手段によりＩＤ情報やその他の情報を持っており、それぞれの目的に応じて使用されるものを指す。
【０００３】
これらのカードには、一般的に言って、カードを横長に置いたとき、上辺に沿って、カードの上辺から若干離れた位置に磁気記録層が設けられていて、その位置は、磁気記録層を利用した情報の書き込み・読み取りが円滑にできるよう、統一されている。
磁気記録層は、例えば、磁性酸化鉄粉を塗料中に分散させて、直接塗布したり、別の基体に塗布したものを転写する等により形成したものであるが、既にかなり普及しており、ＩＤやその他の目的で使用する方法についてもよく知られていて、磁気記録層のみを情報を記録手段とするだけでは、偽造や改ざんに対する安全性が高いとは言えない。
【０００４】
最近、カードの分野では、磁気記録層以外に、ホログラムシール等の光回折パターン層を積層することが行われている。ホログラムの製造には、特殊な素材やレーザー光を扱う高度な技術を必要とするため、不正な意図で製造することが難しいためである。
ただ、ホログラムシールも、玩具等の分野で市販されていることから、単にホログラムシールを貼るだけでは、不正な意図を持つ者を完全に排除することは困難になってきている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の課題は、上記の従来技術において、磁気記録層以外にホログラムシールを積層していた従来の磁気記録媒体に、より一層の偽造・改ざんの困難性を与えることを課題とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、磁気記録層を有する磁気記録媒体の基材上に、磁気記録層と磁気記録媒体の露出部分とにまたがってパターン層を積層することにより、課題を解決することができた。
【０００７】
即ち、第１の発明は、磁気記録層が基材上の一部を覆って積層されており、前記基材の前記磁気記録層が覆っていない部分と前記磁気記録層との境界の表面上に、前記磁気記録層と接するパターン層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体に関するものである。
第２の発明は、第1の発明において、前記パターン層が印刷パターンであることを特徴とする磁気記録媒体に関するものである。
第３の発明は、第1の発明において、前記パターン層が金属薄膜のパターンからなることを特徴とする磁気記録媒体に関するものである。
第４の発明は、第1の発明において、前記パターン層が光回折構造体のパターンからなることを特徴とする磁気記録媒体に関するものである。
第５の発明は、第４の発明において、前記光回折構造体がホログラムであることを特徴とする磁気記録媒体に関するものである。
。
【０００８】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明をカードに適用した例を示す平面図である。
図１において、磁気記録媒体１は、カードの基材２の一部に約７ｍｍの幅の磁気記録層３が、基材２の長辺に平行に、かつ、一端より余白を有して積層されたものであり、磁気記録層３の上辺と上辺に隣接した基材２の余白部分（磁気記録層３を有していない意味）とにまたがって、カードのほぼ右半分の位置にパターン層として文字４（英文字の「ＣＡＲＤ」）が形成され、また、磁気記録層２の下辺と下辺に隣接した基材２の余白部とにまたがって、カードのほぼ左半分の位置に文字４が形成されたものである。
いずれの文字４も、磁気記録層３上にほぼ半分が形成されていて、文字４の残りの部分は磁気記録層３のない基材上に形成されている。
なお、カードには、このほか、種々の印刷から始まって、種々の装飾や加工が施されているが、図示は省略する。
【０００９】
図２は、図１に示した磁気記録媒体１のＡ−Ａ線矢視断面図である。
基材１は、図２において表わされるように２枚のコアシート２Ｃ、２Ｃ’と、印刷層５を介して積層された上下２枚のオーバーシート２Ｏ、２Ｏ’との合計４枚のシートが積層されたものである。
オーバーシート２Ｏの上面には、磁気記録層３と文字４が積層されており、文字４の上面、および、文字４のない部分では磁気記録層３の上面が、オーバーシート２Ｏの上面と同じ平面上になるよう、埋め込まれている。
図１及び図２で示したカードの例では、英文字の「ＣＡＲＤ」からなる文字４の上下のほぼ中央が、基材２の露出部と磁気記録層３との境界上に位置しているので、偽造を企てる場合には、磁気記録層３上に、色を本物と合わせた文字４を位置合わせをして形成する必要があり、困難性が増す。また、真正なカードから磁気記録層３と文字４とを剥がして、別のカードに適用しようとすると、文字４が切れるのを避けるため、オーバーシート２Ｏごと剥がさなければならず、磁気記録層３のみを剥がすよりも、より困難性が増す。
【００１０】
基材２としては、磁気記録媒体を携帯中に折れ曲がったり、取扱い時に破れたりせず、かつ、磁気記録層３への書き込み・読み取りを行なう際に使用する機械内部での走行に支障のない強度と剛性を有しているものが好ましい。
具体的な基材２としては、ポリ塩化ビニル、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレートの構造を持つもの、もしくはポリエチレンテレフタレート樹脂のエチレングリコール部分の一部をシクロヘキサンジメタノールで置き換え、エチレングリコール部分とシクロヘキサンジメタノール部分とをほぼ交互に繰り返した非結晶質のもの。後者はイーストマンケミカル社がＰＥＴ−Ｇの名称で販売）、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリスチレン系、ＡＢＳ、ポリアクリル酸エステル、ポリプロピレン、またはポリエチレン等の合成樹脂のシート、銅、アルミニウム、または錫等の金属シート、もしくは厚紙、特に、樹脂またはラテックスの含浸紙等のうちから選択した、単独のシートまたは複合シートを素材として使用する。
【００１１】
基材２を構成する上記素材の厚みは、１０μｍ〜５ｍｍ程度であるが、カードの場合、ＩＳＯの規格では、０．７６ｍｍが標準である。
カード基材２自体に隠蔽性を持たせる観点から、隠蔽性の顔料を練り込んだ合成樹脂のシートを使用することが普通である。例えば、厚み、素材、層構成の典型例としては、厚み０．２８ｍｍの白色のポリ塩化ビニル樹脂シートをコアシートとして２枚使用し、その２枚合わせたものに対し、厚み０．１ｍｍの無色透明なポリ塩化ビニル樹脂シートを表裏にオーバーシートとして１枚ずつ使用し、合計厚み０．７６ｍｍの４層からなる積層シートとして使用する。
【００１２】
磁気記録層３は、通常、６〜１３ｍｍ幅程度のストライプ状のものであり、基材２の表面に、磁性物質を添加し混練して調製した磁気塗料を用いて直接に塗布して設けるか、一旦、別の薄いプラスチックシート等の基材に塗布し、ストライプ状にカットしてカード基材２上に貼るか、あるいは、一旦、別の仮の基材に剥離可能に積層して磁気記録層転写シートを準備し、転写法により、カード基材上に転写して形成する。
磁性物質を添加し混練して作製した塗料を用いる以外に、磁性物質の蒸着やスパッタリング等により気相状態で磁性物質の薄膜を形成して磁気記録層２とする方法によって行なうか、以降、ストライプ状にカットして貼るか、転写により適用する等によってもよい。
磁気記録層３としては、公知のものが使用できるが、現在、おもて面磁気ストライプ付き識別カードに関して、ＪＩＳ  Ｘ  ６３０１では、抗磁力が５２±４ＫＡ／ｍと決められていることから、４８〜５６ＫＡ／ｍのものが好ましく、また、そのための具体的な磁性材料としては、バリウムフェライトを使用するとよい。
【００１３】
パターン層４は、図１に例示したものであれば、通常のインキを使用して印刷することにより形成できる。片面に通常の印刷を施した２枚のコアシートを準備し、いずれも印刷面を外側にして重ね、これらの上下にオーバーシートを重ね、オーバーシート上に磁気ストライプを貼り付け、全体を加熱加圧して一体化してから、印刷してパターン層４を形成し、印刷後、再度、全体を加熱加圧して、表面を平らにならして、カードとする。
印刷方式としては、平版オフセット印刷、グラビア印刷、もしくはフレキソ印刷等の、印刷対象のシートに直接印刷する方式が利用できるが、これら以外にも、転写シートを使用して加圧および／または加熱により行なう転写方式も利用できる。このほか、インキジェット方式や電子写真方式も利用でき、以上のいずれも印刷の概念に含めるものとする。
【００１４】
上記の印刷を利用して、種々の印刷のバリエーションが行なえる。
まず、見えやすく、偽造・改ざんがあった場合に判別しやすいという観点からは、形成するパターン層４の色相は、磁気記録層３の色相と差が大きい方が好ましい。しかし、可視化するための手段を別に講じて、色相的な判別がしにくい色相や無色透明なものとすることもできる。赤外線や紫外線に感度のある染料または顔料、導電性物質等の添加物を練り込んだインキを使用し、各々の添加物を検出する手段、例えば、赤外線カメラの使用、紫外線照射による蛍光発光の検出等により、パターンの判別を行なう。
パターン層４のパターンとしては、通常の文字、記号、取扱い会社の社章やサービスマーク等、輪郭や色相で、目視で区別できるパターンのほか、彩紋や細かい線、網点等を使用して形成したものも使用できる。また、上記したような、赤外線や紫外線に感度のある染料または顔料、導電性物質等の添加物を配合したインキによる必ずしも目視できないか、目立たないパターンであってもよい。
パターン層４のパターンは、磁気記録層３上と、磁気記録層３のない基材２の露出部とにまたがって形成するが、磁気記録層３上に文字「Ａ」が形成され、磁気記録層３のない基材２の露出部に文字「Ｂ」が形成されるような文字どうしの間が磁気記録層３と、磁気記録層３のない基材２の露出部との境界になるような配置よりも、図１に示したように、文字の上下の中央が磁気記録層３上と、磁気記録層３のない基材２の露出部との境界上になるよう形成すると、偽造・改ざんの困難性が高まるので、好ましい。
前述の赤外線や紫外線に感度のある染料または顔料、導電性物質等の添加物を用いて、パターン部に、それらの物理的読み取り可能なパターンを形成しておいて、パターン層のうち磁気記録層３上にある部分から読み取れる信号と、磁気記録層３のない基材２の露出部上のパターン層から読み取れる信号とを検出して、両者が揃っていることにより、真正なパターンと見なすこともできる。
【００１５】
パターン層４は、上記した印刷による以外に、金属薄膜を転写層として有する転写シートを使用した転写によっても形成できる。転写シートとしては、ポリエステルフィルム等に離型層を積層した離型シートを転写シートのベースとして、その離型層上に、透明樹脂保護層、および金属薄膜層を順に形成し、さらに接着剤層を積層して準備した転写シート等を使用する。
このような転写シートを使用して金属薄膜からなるパターン層４を形成するには、蒸着またはスパッタリングの際にマスクを使用して、パターン状の金属薄膜を形成する方法、もしくは一様均一に形成した金属薄膜をレジストを用いたエッチング法により、パターン状に形成する方法が利用でき、これらの方法においては、転写シート上に予めパターンが形成される。
または、金属薄膜は一様均一に形成しておき、転写の際にパターン状に転写させるやり方も利用できる。金属薄膜層上に接着剤層をパターン状に形成する方法、もしくは転写の際の押し型としてパターン状のものを準備し、パターン状に転写する方法が利用できる。
【００１６】
さらにパターン層４としては、ホログラムや回折格子等の光回折構造を持つ光回折構造体を、転写または貼付けにより適用しても、形成することができる。
図３に示すように、光回折構造体１１は、光回折構造を有する光回折構造形成層１４の裏面側（観察者側から見た場合の）に金属薄膜等の光反射性層１３、および接着剤層１２が順に積層され、表側の最表面に透明保護層１５が積層されたものである。この光回折構造体１１は、図の上方からの入射光を光反射性層１３で反射するので、反射型のものである。
光回折構造体は透明型のものも使用できる。透明型の場合は、光反射性層１３に代えて、光回折構造形成層１４とは光の屈折率の異なる透明薄膜が積層されたものである。
光回折構造体１１の各層、およびパターン化、基材２への適用方法について、次に述べる。
【００１７】
光回折構造形成層１４は、透明な合成樹脂の片面、通常は汚染や損傷をさける意味で通常、下面に光回折構造の微細な凹凸を有しているか、あるいは体積ホログラムのように、内部に回折格子を有している。表面に微細な凹凸を有する前者は、熱プレス等の方式で複製するのに適している。
光回折構造としては、平面ホログラム、体積ホログラムのいずれも使用でき、レリーフホログラム、リップマンホログラム、フレネルホログラム、フラウンホウファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム（イメージホログラム等）、白色光再生ホログラム（レインボーホログラム）、カラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラクム、ホログラフィック回折格子、電子線直接描画等により機械的に形成された回折格子が挙げられる。
【００１８】
光回折構造形成層１４を構成する素材としては、光回折構造の凹凸を注型や型押しで再現できる熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、または光回折構造情報に応じて硬化部と未硬化部とを成形することができる感光性樹脂組成物が利用できる。
具体的には、例えば、ポリ塩化ビニル、アクリル（ポリメチルメタクリレート）、ポリスチレン、またはポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、またはトリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂であり、それぞれの単独、熱可塑性樹脂どうし、または熱硬化性樹脂同志の混合、もしくは熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合等であってもよい。ラジカル重合性不飽和基を有し、熱成形性を有するものや、ラジカル重合性不飽和モノマーを添加した電離放射線硬化性樹脂組成物も利用できる。
光回折構造形成層１４の厚みは０．１〜６μｍ、より好ましくは、０．１〜４μｍであることが好ましい。
【００１９】
光反射性層１３の役割は、その上方にあるホログラム層等の光回折構造形成層１４の光回折模様の視認性を高める事である。
光反射性層１３は、通常、金属光沢を有する金属元素の蒸着、スパッタリングにより得られる金属の薄膜であるが、メッキ等によっても形成できる。
光反射性層１３を、金属の薄膜で構成する場合には、アルミニウム、クロム、ニッケル、金、銀、白金、亜鉛、または錫等が特に好ましく、２００〜１０００Å程度の厚みになるよう、通常は、蒸着、スパッタリング等により設ける。
このような光反射性層１３を背面に有するホログラムは、光の反射により観察することができる。光反射性層１３はまた、その膜厚にもよるが、下地を隠蔽する働きもある。
【００２０】
透明型の場合、光回折構造形成層１４の裏面には、光回折構造形成層１４を構成する樹脂とは光の屈折率が異なる物質の透明薄膜を形成して光の屈折を起こさせ、ホログラム等の光回折模様の視認性を付与することができる。
具体的には、光回折構造形成層１４と比べて、光の屈折率の高い薄膜と屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｓ3 、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＳｉＯ2 、等があり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ2 、ＡｌＦ3 がある。
アルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出てくるので、上記のような光回折構造形成層１４とは光の屈折率が異なる物質からなる透明な薄膜と同じ効果を発揮でき、使用できる。
このような透明薄膜を裏面に形成したものは透明型であって、下層を透視することができるので、下層には、文字、パターン等が形成してもよい。
【００２１】
光回折構造形成層１４には、透明保護層１５を積層することが好ましい。
透明保護層１５を形成する樹脂としては、熱可塑性のものも使用し得るが、熱硬化性樹脂を使用する熱硬化性樹脂組成物、あるいは紫外線又は電子線照射により硬化する電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性の化合物を用い、塗布後に加熱したり、電離放射線を照射して架橋硬化させることにより、さらに物理的、化学的な諸性能を向上させることができる。
透明保護層１５の厚みは保護機能の確保と、一方で厚みを減らしたい要望とから０．５〜４μｍとすることが好ましい。このように薄い膜で保護機能を発揮させるためには、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて架橋硬化させて得られるものが特に好ましい。
ここで、電離放射線硬化性樹脂組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものである。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。
次に、電離放射線硬化性樹脂組成物を構成する成分について説明する。
【００２２】
電離放射線硬化性樹脂組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。
これらのプレポリマー、オリゴマーに、多官能モノマー、または単官能モノマーを必要に応じて１種若しくは２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性樹脂組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好ましい。
【００２３】
電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性樹脂組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙げられる。
【００２４】
電離放射線硬化性樹脂組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性樹脂組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。
【００２５】
接着剤層１２の素材としては、光反射性層１３（または透明薄膜）との接着性および貼る対象となるカード基材２や磁気記録層３の表面との接着性のよいものを選択して使用する。
具体的な素材としては、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体系樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、もしくはゴム変成物等が挙げられ、これらのうちから単独もしくは混合して使用することができる。
上記の樹脂は適宜な溶媒に溶解させ、ロールコーティング等により塗布して乾燥させ、接着剤層１２とする。接着剤層の厚みは、０．５〜５μｍ、より好ましくは１．５〜３μｍである。
【００２６】
基材２上に、光回折構造体をパターン状に適用するには、大別すると、光回折構造体をパターン状に作るか、または光回折構造体自体をパターン化することはせず、転写の際にパターン状に転写する。
光回折構造体をパターン状に作るには、例えば、光回折構造形成層１４そのものをパターン状に作る方法か、または光回折構造形成層１４そのものは、パターン化せず、裏面に形成する光反射性層１３または光回折構造形成層１４を構成する樹脂とは光の屈折率が異なる物質の透明薄膜をパターン状に形成する方法がある。
【００２７】
光回折構造体をパターン状に作る方法として、光回折構造形成層１４をパターン状に作る方法があり、光回折構造形成層１４の素材により、次のような方法が利用できる。
素材が熱可塑性樹脂の場合には、その熱可塑性樹脂を含むインキを印刷法により、パターン状に形成できる。
素材が熱硬化性樹脂の場合には、主剤を一様均一に適用しておき、硬化剤をパターン状に与えて硬化させ、未硬化部分を溶解除去するとよい。
素材が電離放射線硬化性樹脂組成物の場合には、電離放射線をマスクを用いる等してパターン状に照射して硬化させ、未硬化部分を溶解除去する方法が利用できる。
あるいは、いずれの樹脂の場合も、一旦、一様均一に適用しておき、マスクを介してサンドブラスト等により、パターン化する方法も利用できる。
【００２８】
光回折構造体をパターン状に作る別の方法として、光回折構造形成層１４そのものは、パターン化せず、裏面に形成する光反射性層１３または光回折構造形成層１４を構成する樹脂とは光の屈折率が異なる物質の透明薄膜をパターン状に形成する方法がある。
例えば、光反射性層および透明薄膜を気相で形成する際に、マスクを介して行なう方法か、一旦、一様均一に形成しておいて、レジストを利用したエッチングによりパターン化する方法が利用できる。
あるいは、光回折構造形成層１４中に、光回折構造を有する区域をパターン化する方法も利用できる。干渉縞を露光する際に、マスクを使用してパターン状に露光するか、一旦、干渉縞を全面に露光した後に、マスクを使用して非パターン部に単なる露光を行ない、記録された干渉縞を解消するやり方が利用できる。
【００２９】
光回折構造体自体はパターン化せず、転写の際にパターン状に転写する方法としては、接着剤層をパターン状に形成する方法、もしくは転写の際の押し型としてパターン状のものを準備して転写する方法が利用できる。
【００３０】
光回折構造１１の基材２への適用に当たっては、図４に示すように、仮の基材シート１７の下面に離型層１６を積層した離型シートに、透明保護層１５、光回折構造形成層１４、光反射性層１３（または透明薄膜）、および接着剤層１２を順に、かつ剥離可能に積層した転写シート２０を準備して使用し、転写するとよい。
あるいは、図５に示すように、透明保護層１５、光回折構造形成層１４、光反射性層１３（または透明薄膜）、および接着剤層１２を積層したものに、必要に応じ、接着剤層１２側にセパレーターシート１８を、また透明保護層１５側に剥離可能な保護フィルム１９を積層した、ラベル２１を準備しておき、離型シート１８や保護フィルム１９を剥離して、積層を行なわせてもよい。
これらの転写シート２０、およびラベル２１の、層１４、１４、１３、および１２を転写または貼付けるための構造自体は、従来からなるもので、種々のバリエーションがあり得る。
【００３１】
なお、パターン層４を形成するための印刷、金属薄膜の適用、およびホログラムや回折格子等の光回折構造を持つ光回折構造体の適用の各手法は、単独でも、任意に２つ以上組み合わせて利用することができる。
例えば、金属薄膜のパターンと印刷パターンを重ねたものや、光回折構造体のパターンと印刷パターンを重ねたものを、いずれも印刷パターンを上にして適用することができる。
【００３２】
本発明の磁気記録媒体には、このほか、この分野で用いられる各種の手段を形成してあってもよく、例えば、必要な文字や説明等の印刷層、エンボス文字、筆記性層、光学記録可能な光記録層、ＩＣまたはＬＳＩ等を任意に選択して、適宜な位置に積層したり、埋設したりして形成してもよい。
【００３３】
【発明の効果】
第１の発明によれば、磁気記録層と基材の双方にまたがり、且つ、前記磁気記録層と接するパターン層が形成されているため、磁気記録層のみを剥がし、他に流用したり、他の磁気記録層と置き換えたりすることが、磁気記録層単独の場合に比べて一段と難くなり、従って、偽造や改ざんが困難な磁気記録媒体を提供できる。
第２の発明によれば、第１の発明の効果に加え、印刷手法を利用して製造するのに適した磁気記録媒体を提供できる。
第３の発明によれば、第１の発明の効果に加え、金属薄膜を別に準備する必要があるため、偽造や改ざんがより困難な磁気記録媒体を提供できる。
第４の発明によれば、第１の発明の効果に加え、製造が難しい光回折構造体を適用するため、偽造や改ざんがより困難な磁気記録媒体を提供できる。
第５の発明によれば、第４の発明の光回折構造体を特にホログラム模様を有したものとすることにより、外観がより複雑で、偽造や改ざんも一層困難な磁気記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】カードへの適用例の平面図である。
【図２】カードへの適用例の断面図である。
【図３】パターン層に用いるホログラム等の光回折構造体の断面図である。
【図４】光回折構造体を転写シートの構成とした例を示す断面図である。
【図５】光回折構造体をラベルの構成とした例を示す断面図である。
【符号の説明】
１    磁気記録媒体
２    基材（２Ｃ；コアシート、２Ｏ；オーバーシート）
３    磁気記録層
４    パターン層
５    印刷層
１１    光回折構造体
１２    接着剤層
１３    光反射性層（または透明薄膜）
１４    光回折構造形成層
１５    透明保護層
１６    離型層
１７    基材シート
１８    セパレーターシート
１９    保護フィルム
２０    転写シート
２１    ラベル
【図１】
0003710963.tif 000002
【図２】
0003710963.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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