(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に軟磁性層を形成する工程と、
磁気的アイソレーション層を前記軟磁性層上に形成する工程と、
磁気抵抗効果層を前記磁気的アイソレーション層上に形成する工程と、
反強磁性体又は硬質強磁性体よりなる磁区制御用磁性層を前記磁気抵抗効果層上に形成する工程と、
電極を構成する金属層を前記磁区制御用磁性層上に形成する工程とを連続的に行い、
前記軟磁性層、前記磁気的アイソレーション層、前記磁気抵抗効果層、前記磁区制御用磁性層及び前記金属層を連続的にパターニングする工程と、
前記金属層の両側寄りの領域に耐エッチングマスク又は引出電極を形成する工程と、
前記金属層のうち前記耐エッチングマスク又は前記引出電極に覆われない領域をエッチングにより除去した後、更に前記耐エッチングマスク又は前記引出電極に覆われない前記磁区制御用磁性層の中央領域をエッチングして前記磁区制御用磁性層が磁気的に不活性になる厚さにまで薄くするか、若しくは該中央領域を酸化する工程と
を有することを特徴とする磁気抵抗効果ヘッドの製造方法。
【請求項２】
印加磁場に対する前記磁気抵抗効果層の電気的、磁気的特性を監視しつつ、前記磁区制御用磁性層のエッチング量を調整することを特徴とする請求項１記載の磁気抵抗効果ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、磁気抵抗効果ヘッドとその製造方法に関し、より詳しくは、ＭＲセンス領域の磁区制御のために反強磁性膜又は硬質強磁性膜が用いられる磁気抵抗効果ヘッドとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気記録媒体に書き込まれた情報を読み出すための磁気ヘッドとして、磁気抵抗効果（ＭＲ）ヘッドが実用化されている。ＭＲヘッドは、パーマロイ等の軟質強磁性膜（以下、軟磁性膜という）の磁気抵抗効果を利用したもので、大きな再生出力が得られる。
【０００３】
ＭＲヘッドの基本的な製造方法は、例えば例えば特開平７−６３３０号公報、特開平７─１４１２５号公報に記載されている。
以下に、ＭＲヘッドの製造工程の一例を図６(a) 〜(c) を参照して説明する。
まず、図６(a) に示すまでの工程を説明する。
基板１の上に、軟磁性体よりなる磁化バイアス層２、磁気的アイソレーション層３、軟磁性体よりなるＭＲ層４を真空蒸着により連続して形成する。磁化バイアス層２やＭＲ層４を構成する材料として例えばNiFeがある。磁気的アイソレーション層３２の構成材料としてAl2O3 のような絶縁物又はタンタル、チタンのような高抵抗金属が適用される。続いて、フォトリソグラフィー法によって磁化バイアス層２、磁気的アイソレーション層３及びＭＲ層４を平面矩形状にパターニングする。
【０００４】
次に、図６(b) に示すように、ＭＲ層４及び基板１の上にレジスト５を塗布した後に、レジスト５を露光、現像してＭＲ層４のセンス領域Ｓの両側の引出電極形成領域に開口部５ａを形成する。
さらに、図６(c) に示すように、レジスト５、ＭＲ層４及び基板の上に、硬質強磁性膜（以下、硬磁性膜という）又は反強磁性膜のいずれかよりなる磁区制御用磁性層６を蒸着し、さらにその上に端子用金属膜７を蒸着する。反強磁性層の構成材料として例えばFeMn、NiMnがあり、硬磁性膜の構成材料として例えばCo、Cr、CoPt、CoCrPtがある。
【０００５】
続いて、レジスト５を剥離するリフトオフ法により、磁区制御用磁性６及び端子用金属膜７を引出電極形成領域にのみ残す。磁区制御用磁性層６は、ＭＲ層４のセンス領域の磁区を制御するためにセンス領域Ｓの両側に残され、またその上の端子用金属膜７はリード電極として使用され。ＭＲ層４のセンス領域Ｓには、引出電極（７）を通して電流が供給される。
【０００６】
ところで、ＭＲ層４は成膜後に大気に曝されるので、ＭＲ層４の表面には図６(a) に示すように自然酸化膜４ａが形成される。その自然酸化膜４ａの存在は、ＭＲ層４と磁区制御用磁性層６の交換結合を阻止するので、磁区制御用磁性層６を蒸着する前にイオンミリング、逆スパッタリングなどにより自然酸化膜４ａを除去するための表面クリーニング工程が実施される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
そのような表面クリーニング処理を施すことにより、ＭＲ層４ではバルクハウゼン雑音を抑止する機能をもつ交換結合磁場が大きく変動する。このため、安定な特性をもつＭＲ素子を得ることが困難になる。
交換結合磁場の大きさが変動する要因として、例えば、イオンミリングされたNiFe膜の表面において特定の結晶面をもつ結晶粒が露出し、その結晶粒の結晶配向が変化することがあげられる。結晶配向の変化は、イオン入射角度などのイオンミリング条件に依存する。これらのことは、日本応用磁気学会誌、Vol.17, No.2, pp.315-318, 1993において記載されている。
【０００８】
また、そのようなＭＲ層４の表面クリーニングによってＭＲ層４の膜厚が変化することも、交換結合磁場の大きさが変動する別の重要な要因の１つである。交換結合磁場の大きさがＭＲ層４の膜厚に概略反比例することは、例えばJ. Appl. Phys., Vol.52, No.3, pp.2471-2473, 1981に記載されている。
これに対して、特開平７−１４１２５号公報にはＭＲ層に続いて反強磁性層を連続して形成し、ＭＲ層と反強磁性層の境界に異物が混入することを防止する方法が記載されている。しかし、この公報では、センス領域の反強磁性層を除去した後に引出電極を形成するようにしているので、引出電極の位置ずれによって反強磁性層が露出することもあり、反強磁性層が酸化されて交換結合が劣化するおそれがある。
【０００９】
また、上述した工程によれば、ＭＲ層４のセンス領域Ｓの表面は、引出電極形成後に露出状態となるために、リード電極形成後の諸プロセスにおいて表面酸化が進行したり磁性微粒子が付着するなど、ＭＲヘッドの信頼性を低下させる諸要因の発生が避けられない。
本発明は、特性のバラツキやバルクハウゼン雑音を抑止できるＭＲヘッドとその製造方法及び磁気記録装置を提供することを目的とする。本発明のもう１つの目的は、引出電極形成直後のＭＲ層のセンス領域の表面を清浄な状態に保つことができるＭＲヘッドとその製造方法及び磁気記録装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記した課題は、図２、図３、図４に例示するように、基板２１上に軟磁性層２２を形成する工程と、磁気的アイソレーション層２３を前記軟磁性層２２上に形成する工程と、磁気抵抗効果層２４を前記磁気的アイソレーション層２３上に形成する工程と、反強磁性体又は硬質強磁性体よりなる磁区制御用磁性層２５を前記磁気抵抗効果層２４上に形成する工程とを連続的に行い、電極を構成する金属層２６を前記磁区制御用磁性層上２５に形成する工程と、前記軟磁性層２２、前記磁気的アイソレーション層２３、前記磁気抵抗効果層２４、前記磁区制御用磁性層２５及び前記金属層２６を連続的にパターニングする工程と、前記金属層２６の両側寄りの領域に耐エッチングマスク又は引出電極２８を形成する工程と、前記金属層のうち前記耐エッチングマスク又は前記引出電極２８に覆われない領域をエッチングにより除去した後、更に、前記耐エッチングマスク又は前記引出電極２８に覆われない前記磁区制御用磁性層２５の中央領域Sをエッチングして前記磁区制御用磁性層２５が磁気的に不活性になる厚さにまで薄くするか、若しくは該中央領域Sの前記磁気抵抗効果層２５を酸化する工程とを有することを特徴とする磁気抵抗効果ヘッドの製造方法によって解決する。この場合、印加磁場に対する前記磁気抵抗効果層の電気的、磁気的特性を監視しつつ、前記磁区制御用磁性層のエッチング量を調整することを特徴とする。
【００１５】
次に、上記した本発明の作用について説明する。
本発明によれば磁気抵抗効果（ＭＲ）層と磁区制御用磁性層を連続して成膜した後に、磁区制御用磁性層の両側寄りに１対の引出電極を形成し、ついで、それらの引出電極を耐エッチングマスクに使用して磁区制御用磁性層を除去してＭＲ層のセンス領域を露出するようにしている。
【００１６】
従って、磁区制御用磁性層をＭＲ層に連続的に成長してこれらの層の間に自然酸化物が介在したり、磁区制御用磁性層の下のＭＲ層の膜厚が変化することがなくなる。これにより、ＭＲ層に対する反強磁性層の交換結合磁場が安定し、バルクハウゼン雑音が抑止され、磁気抵抗効果特性も良好になる。
しかも、引出電極をマスクに使用して反強磁性層をパターニングしているので、引出電極の縁によってセンス領域が区画されることになり、引出電極の端部とセンス領域の端部が一致することになり、これにより、反強磁性層の露出を防止するとともに、磁気抵抗効果素子が精度良くなる。
【００１７】
さらに、ＭＲ層と磁区制御用磁性層と電極構成金属層を連続して成膜すると、磁区制御用磁性層の表面の汚染が防止され、ＭＲ層に対する反強磁性層の交換結合磁場がより一層安定し、さらに良好な磁気抵抗効果特性が得られる。
また、別の本発明によれば、磁気抵抗効果ヘッドを構成するＭＲ層のうち中央のセンス領域を反強磁性体層又は硬質強磁性体層で覆い、しかも反強磁性体層又は硬質強磁性体層の膜厚を磁気的に不活性な厚さにしている。これによれば、ＭＲ層のセンス領域が酸化されたり汚染されることはないので、磁気抵抗効果ヘッドの信頼性が向上する。なお、磁気的に不活性ということは、磁気的に交換結合せず、磁気的な影響を与えないことである。
【００１８】
このような構成は、ＭＲ層の形成に続いて、センス領域の磁区を制御するための反強磁性体層又は硬質強磁性体層をＭＲ層上に形成した後に、ＭＲ層のセンス領域の上にある反強磁性体層又は硬質強磁性体層を薄層化することにより得られる。センス領域の磁区制御は、センス領域の両側方での反強磁性体層又は硬質強磁性体層とＭＲ層との交換結合によって行われる。
【００１９】
このように反強磁性層又は硬質強磁性体層をＭＲ層上に成長した後にＭＲ層を露出させないことにより、ＭＲ層の全ての上面は清浄な状態で保護されるので、信頼性に優れた磁気抵抗効果ヘッドが実現できる。
反強磁性体層又は硬質強磁性体層を薄層化する際には、印加磁場に対するＭＲ層の磁気抵抗の変化などのように、電気的、磁気的特性を監視しながら行うと、精度良く反強磁性体層又は硬質強磁性体層の膜厚を制御できる。
【００２０】
また、さらに別の本発明によれば、磁気抵抗効果ヘッドを構成するＭＲ層のうち中央のセンス領域を反強磁性体酸化物又は硬質強磁性体酸化物で覆っている。反強磁性体酸化物又は硬質強磁性体酸化物は磁気的に不活性であるので、ＭＲ層のセンス領域が酸化されたり汚染されることはないので、磁気抵抗効果ヘッドの信頼性が向上する。
【００２１】
このような構成は、ＭＲ層の形成に続いて、センス領域の磁区を制御するための反強磁性体層又は硬質強磁性体層をＭＲ層上に形成した後に、ＭＲ層のセンス領域直上の反強磁性体層又は硬質強磁性体層を酸化することにより得られる。
このように反強磁性層又は硬質強磁性体層をＭＲ層上に成長した後にＭＲ層を露出させないことにより、ＭＲ層の全ての上面は清浄な状態で保護されることになり、信頼性に優れた磁気抵抗効果ヘッドが実現できる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
そこで、以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
（第１の実施の形態）
以下に、本発明の第１実施形態に係るＭＲヘッドの製造工程を説明する。
まず、図１(a) に示すように、基板１１の上に、軟磁性体よりなる磁化バイアス層１２、絶縁物又は高抵抗金属よりなる磁気的アイソレーション層１３、軟磁性体よりなるＭＲ層１４、反強磁性層（磁区制御用磁性層）１５をそれぞれＲＦスパッタリングにより連続して形成する。そのＲＦスパッタリングの際には、磁化容易磁区方向に約１００Oeの磁界を成長膜に印加して磁化バイアス層１２、ＭＲ層１４を同じ方向に磁化する。また、反強磁性層１５は、その下のＭＲ層１４の磁化方向を固定する状態となる。
【００２３】
なお、ＲＦスパッリングは、アルゴンガスを導入した圧力約１０-2Torrの雰囲気で行う（以下の実施の形態の際も同じ条件とする）。
各層の具体的な材料及び膜厚の一例を挙げると、磁化バイアス層１２は厚さ２０nmのNi80Fe20からなり、磁気的アイソレーション層１３は厚さ５０nmのAl2O3 からなり、ＭＲ層１４は、厚さ２０nmのNi80Fe20からなり、反強磁性層１５は、膜厚１５nmのFe50Mn50からなる。
【００２４】
なお、基板１１としては、その上面に非磁性絶縁層、シールド層、非磁性絶縁層などが形成されたものが使用される。このことは、第２〜第４の実施の形態でも同様である。
次に、図１(b) に示すように、レジストパターンをマスクＭに使用するフォトリソグラフィー法によって磁化バイアス層１２、磁気的アイソレーション層１３、ＭＲ層１４及び磁化バイアス層１５を平面長方形にパターニングする。この場合、長方形の長手方向を、上記した印加磁界による磁化方向に一致させる。
【００２５】
その後、反強磁性層１５及び基板１１の上にレジストを塗布した後に、レジストを露光、現像して図１(c) のようなレジストパターン１６を形成する。このレジストパターン１６は、図１(c) に示すように、反強磁性層１５のセンス領域Ｓを覆い且つセンス領域Ｓ両側の２つのリード形成領域に開口部１６ａを有している。このレジストパターン１６は、図に見られるように周縁上部が庇状に張り出すような断面形状となっている。
【００２６】
続いて、レジストパターン１６、反強磁性層１５及び基板１１のそれぞれの露出部分の上に、金よりなる低抵抗金属膜１７を蒸着により形成する。
ついで、レジストパターン１６を剥離するリフトオフ法により、低抵抗金属層を２つのリード形成領域にのみ残す。これによりパターニングされた低抵抗金属膜は、図１(d) のようにセンス領域Ｓの両側で１対の引出電極１７となる。ス領域Ｓの両側に形成される。２つの引出電極１７のうち一方から他方への向きは、上記した磁化方向と一致する。
【００２７】
次に、図１(e) に示すように、１対の引出電極１７をマスクに使用して、アルゴン（Ar）ガスを用いたイオンミリングにより反強磁性層（Fe50Mn50）１５の一部を除去してＭＲ層１４のセンス領域Ｓを露出させる。イオンミリングの条件としては、加速電圧を１keV 、イオン電流密度を１mA／cm2 とする。なお、反強磁性層１５のエッチングの際に引出電極１７もエッチングされるので、予めそのエッチング量を見越して引出電極１７を厚く形成しておく必要がある。
【００２８】
これにより、磁気抵抗効果ヘッドの磁気抵抗効果素子の形成が終了する。
以上のような磁気抵抗効果素子によれば、ＭＲ層１４のセンス領域Ｓの両側にのみ反強磁性層１５をコンタクトさせる構造としているので、反強磁性層１５をＭＲ層１４の上に連続して形成し、ついでそれらの層を連続してパターニングすることが可能になった。従って、反強磁性層１５をＭＲ層１４に続いて連続的に成長することにより、反強磁性層１５とＭＲ層１４の間に自然酸化物が介在したり、反強磁性層１５の下のＭＲ層１４の膜厚が変化することがなくなる。これにより、ＭＲ層１４に対する反強磁性層１５の交換結合磁場が安定し、バルクハウゼン雑音が抑止され、磁気抵抗効果特性も安定する。
【００２９】
しかも、上記した工程によれば、引出電極１７をマスクに使用して反強磁性層１５をパターニングしているので、引出電極１７の縁によってセンス領域が区画されることになり、引出電極１７の端部とセンス領域の端部が一致することになる。これにより、反強磁性層１５の露出が防止されて酸化されにくくなるとともに磁気抵抗効果素子が精度良く形成されることになる。
【００３０】
ところで、１対の引出電極１７を介してＭＲ層１４のセンス領域Ｓに電流を流すと、ＭＲ層１４の周囲に発生する磁界によって磁化バイアス層１２の磁化方向は初期の状態から角度を変えることになる。そして、磁化方向の角度が変化した磁化バイアス層１２の周囲に生じる磁化バイアス磁界によってＭＲ層１４の磁化の方向が変化する。磁化バイアス層１２はＳＡＬ(soft adjacent layer) と呼ばれる。
【００３１】
なお、引出電極１７となる低抵抗金属膜を形成する前に、レジストパターン１６の開口部１６ａから露出した反強磁性層１５の表面を逆スパッタリングでクリーニングしてもよい。このクリーニングにより反強磁性層１５と引出電極１７の電気的接触抵抗が低減する。
（第２の実施の形態）
次に、本発明の第２の実施の形態に係るＭＲヘッドとその製造工程について説明する。
【００３２】
まず、図２(a) に示すように、基板２１の上に、軟磁性体よりなる磁化バイアス層２２、絶縁膜又は高抵抗金属膜よりなる磁気的アイソレーション層２３、軟磁性体よりなるＭＲ層２４、反強磁性層（磁区制御用磁性層）２５及び第一の低抵抗金属層２６をそれぞれＲＦスパッタリングにより連続して形成する。第一の低抵抗金属層２６の成長を除くＲＦスパッタリングの際には、磁化容易磁区方向に約１００Oeの磁界を成長膜に印加して磁化バイアス層２２、ＭＲ層２４を同じ方向に磁化する。また、反強磁性層２５は、その下のＭＲ層２４の磁化方向を固定する状態となる。
【００３３】
各層の具体的な材料及び膜厚の一例を挙げると、磁化バイアス層２２は厚さ２０nmのNi80Fe20からなり、磁気的アイソレーション層２３は厚さ５０nmのAl2O3 からなり、ＭＲ層２４は厚さ２０nmのNi80Fe20からなり、反強磁性層２５は膜厚１５nmのFe50Mn50からなり、第一の低抵抗金属層２６は厚さ１０nmのTaからなる。
【００３４】
次に、図２(b) に示すように、レジストパターンをマスクＭに使用するフォトリソグラフィー法によって磁化バイアス層２２から第一の低抵抗金属層２６までの各層を平面長方形状にパターニングする。この場合、長方形の長手方向を上記印加磁界による磁化方向に一致させる。
その後、第一の低抵抗金属層２６及び基板２１の上にレジストを塗布した後に、レジストを露光、現像して図２(c) のようなレジストパターン２７を形成する。このレジストパターン２７は、図２(c) に示すように、のセンス領域Ｓの上の第一の低抵抗金属層２６を覆い且つセンス領域Ｓ両側の２つのリード形成領域に開口部２７ａを有している。このレジストパターン２６は、図に見られるように周縁上部が庇状に張り出すような断面形状となっている。
【００３５】
次に、引出電極となる低抵抗金属膜を形成する前に、レジストパターン２７の開口部２７ａから露出した第一の低抵抗金属層２６の表面を逆スパッタリングでクリーニングする。このクリーニングにより第一の低抵抗金属層２６の表面の酸化物が除去されるので、次の工程で形成される第二の低抵抗金属層２８と第一の低抵抗金属層２６の電気的コンタクトが良好になる。なお、第一の低抵抗金属層２６の表面をエッチングしても、磁気抵抗効果素子の特性に悪影響を与えることはない。
【００３６】
続いて、レジストパターン２７、第一の低抵抗金属層２６及び基板２１のそれぞれの露出部分の上にTa／W ／Taの三層構造よりなる第二の低抵抗金属膜２８を蒸着する。この場合、下側のTaは１０nmの厚さを有し、上側のTaは後述するエッチングを考慮して３５nmの厚さを有し、W は１００nmの厚さを有している。
それから、図２(d) に示すように、レジストパターン２７を剥離するリフトオフ法により第二の低抵抗金属膜２８をパターニングしてリード形成領域にのみ残す。
【００３７】
次に、図２(e) に示すように、パターニングされた第二の低抵抗金属膜２８をマスクに使用して、アルゴン（Ar）ガスを用いたイオンミリングにより、センス領域Ｓの上にある第一の低抵抗金属膜２６と反強磁性層（Fe50Mn50）２５を除去する。この場合、第二の低抵抗金属膜２８のうちの上側のTa層もエッチングされて１０nmまで薄くなる。イオンミリングは、加速電圧を１keV 、イオン電流密度を１mA／cm2 とする。
【００３８】
これによりパターニングされた第一及び第二の低抵抗金属膜２６，２８は１対の引出電極２９となって、センス領域Ｓの両側に形成される。２つの引出電極２９のうちの一方から他方への向きは上記磁化方向と同じになる。
これにより、磁気抵抗効果ヘッドの磁気抵抗効果素子の形成が終了する。
以上のような磁気抵抗効果素子によれば、反強磁性層２５をＭＲ層２４に続いて連続的に成長しているので、反強磁性層２５とＭＲ層２４の間に自然酸化物が介在したり、反強磁性層２５の下に存在するＭＲ層２４の膜厚が変化することがなくなる。これにより、ＭＲ層２４に対する反強磁性層２５の交換結合磁場が安定し、バルクハウゼン雑音が抑止され、磁気抵抗効果特性も安定する。
【００３９】
しかも、上記した工程によれば、引出電極２９と同一平面形状の第二の低抵抗金属層２８をマスクに使用して第一の低抵抗金属層２６及び反強磁性層２５をパターニングしているので、引出電極２９の縁によってセンス領域が区画されることになり、引出電極２９を形成するためのマージンを大きくとる必要がなくなる。これにより、磁気抵抗効果素子の微細化が促進される。
【００４０】
さらに、引出電極２９の一部を構成する第一の低抵抗金属層２６は、反強磁性層２５の上にだけ形成されているので、反強磁性層２５の上に連続して第一の低抵抗金属層２６を形成しても不都合はない。従って、第一の低抵抗金属層２６により反強磁性層２５の表面が保護されるので、反強磁性層２５の表面に形成される自然酸化膜を除去する手間が省ける。反強磁性層２５表面の自然酸化膜をエッチングする必要がないということは、反強磁性層２５の膜厚が減らないことを意味し、反強磁性層２５とＭＲ層２４の交換結合がさらに良好になる。
【００４１】
しかも、反強磁性層２５と引出電極２９の電気的接触抵抗が小さくなり、打１の実施の形態よりも高感度のＭＲ素子が実現できる。
なお、耐エッチングマスクとして引出電極２９を使用することは引出電極２９の間によってセンス領域Ｓを画定するので好ましいが、磁区制御用磁性層の保護だけを達成するためには耐エッチングマスクとしてレジストパターンを用いてもよい。
（第３の実施の形態）
上記した第２の実施の形態においては、第二の低抵抗金属層３８をマスクに使用して、第一の低抵抗金属層２６と反強磁性層２５の一部を除去した。しかし、反強磁性層２５を除去するとＭＲ層２４のセンス領域Ｓが露出するので、ＭＲ層２４の表面が酸化されたり、汚染される可能性が大きくなる。
【００４２】
そこで、ＭＲ層の表面を露出させずに、ＭＲ層の表面を保護する方法を図３(a) 〜(c) を参照して説明する。図３(a) 〜(c) において、図２(d) と同じ符号は同じ要素を示している。
まず、図３(a) に示すように、基板２１の上に磁化バイアス層２２、磁気的アイソレーション層２３、ＭＲ層２４、反強磁性層２５及び第一の低抵抗金属層２６をそれぞれＲＦスパッタリングにより連続して形成し、これらの層を平面矩形状にパターニングした後に、センス領域Ｓの両側に２つの第二の低抵抗金属層２８を形成する。ここまでは、第２の実施の形態の図２(a) 〜(d) と同じ条件と工程を経ることになる。
【００４３】
次に、図３(b) に示すように、パターニングされた第二の低抵抗金属層２８をマスクに使用してＭＲ層２４のセンス領域Ｓの上にある第一の低抵抗金属層２６をイオンミリングにより除去する。パターニングされた第一及び第二の低抵抗金属層２６，２８によって１対の引出電極２９が形成される。
続いて、図３(c) に示すように、反強磁性層２５をイオンミリングして、ＭＲ層２４との磁気的交換結合が破壊される厚さまで薄くし、センス領域Ｓ上に残った反強磁性層２５はＭＲ層２４の保護膜となる。
【００４４】
それらのイオンミリングの条件は、加速電圧を１keV 、イオン電流密度を１mA／cm2 とする。
反強磁性層２５を薄層化するためのそのようなエッチングプロセスでは、磁化困難軸方向の磁場Ｈに対するＭＲ層２４の磁気抵抗ρの変化（即ち、ρ−Ｈ曲線）を測定しながらエッチングを行い、ρ−Ｈ曲線の曲率が増大したとき、即ち、ρ−Ｈ曲線の反値幅が減少した時にエッチングを停止させる。ρ−Ｈ曲線の曲率が増大することは、反強磁性層２５とＭＲ層２４との交換結合が破壊され、ＭＲ層２４の磁気感度が増大することに対応する。この方法によれば、残留する反強磁性層２５の実質的な膜厚を極めて高精度で制御できる。
【００４５】
このように、反強磁性層の膜厚が所定の膜厚よりも薄くなると交換結合磁場が零になることは、日本応用磁気学会誌Vol.17, No.2, 1993や電子情報通信学会春季全国大会誌C-428 に記載されている。
以上のような工程によれば、ＭＲ層２４のセンス領域Ｓの磁気的な特性は反強磁性層２５が無い状態と同じであって、センス領域Ｓ上の反強磁性層２５は保護膜としてのみ機能することになる。しかも、ＭＲ層２４と反強磁性層２５は連続して減圧雰囲気で成長されるので、ＭＲ層の表面は清浄な状態を維持することになる。
【００４６】
従って、センス領域Ｓの上の反強磁性層２５を薄層化した後には、ＭＲ層２４は酸化され難くなり、しかも、ＭＲ層２４が汚染されなくなる。
しかも、反強磁性層（磁区制御用磁性層）２５のエッチング量を制御する方法を採用すると、ＭＲ層２４のセンス領域Ｓは新たな工程を加えることなく保護されるので、スループットが低下することはない。
【００４７】
なお、反強磁性層２５のエッチング量は、交換結合磁場が零になる膜厚を予め測定しておいて、エッチング速度とエッチング時間によって制御してもよい。また、耐エッチングマスクとして引出電極２９を使用しているがレジストパターンを用いてもよい。
（第４の実施の形態）
次に、第３の実施の態様と異なる手段によって、ＭＲ層２４を保護するＭＲ素子構造とその製造方法を図４(a) 〜(c) を参照して説明する。図４(a) 〜(c) において、図２(d) と同じ符号は同じ要素を示している。
【００４８】
まず、図３(a) に示すように、基板２１の上に磁化バイアス層２２、磁気的アイソレーション層２３、ＭＲ層２４、反強磁性層２５及び第一の低抵抗金属層２６をそれぞれＲＦスパッタリングにより連続して形成し、これらの層を平面矩形状にパターニングした後に、センス領域Ｓの両側に２つの第二の低抵抗金属層２８を形成する。ここまでは、第２の実施の形態の図２(a) 〜(d) と同じ条件と工程を経ることになる。
【００４９】
次に、図４(b) に示すように、パターニングされた第二の低抵抗金属層２８をマスクに使用してＭＲ層２４のセンス領域Ｓの上にある第一の低抵抗金属層２６をイオンミリングにより除去する。パターニングされた第一及び第二の低抵抗金属層２６，２８によって１対の引出電極２９が形成される。イオンミリングの条件は、加速電圧を１keV 、イオン電流密度を１mA／cm2 とする。
【００５０】
その後に、引出電極２９をマスクにしてＭＲ層２４のセンス領域Ｓの上に存在する反強磁性層２５を酸素プラズマによって酸化するとともに磁気的に不活性の状態にして保護膜３０を形成する。
酸素プラズマによる反強磁性層２５の酸化は、０．０５Torrの減圧雰囲気で行われる。また、酸素プラズマは、１３．５６MHz で１５０Ｗの高周波電力で励起される。
【００５１】
この場合、図４(c) に示すように、第二の低抵抗金属層２８の上層部２８ａも酸化されるので、第２の実施の形態で引出電極２９のエッチングを考慮したと同様に、第二の低抵抗金属層２８の上側のTaを予め厚く形成しておけば特に不都合は生じない。
ところで、センス領域Ｓ上の反強磁性層２５の酸化は完全に行われなくても良く、第３の実施の形態において説明したように交換結合磁場が失われるまで酸素プラズマを照射すれば足りる。
【００５２】
なお、第３の実施の形態において説明したように、センス領域Ｓでの交換結合磁場が零になるまで反強磁性層２５を薄層化する場合にも、酸素プラズマによってその領域の反強磁性層２５を酸化してもよい。また、図３(c) において、センス領域Ｓ上の反強磁性層２５が容易に酸化される程度に薄い場合には、酸素を含む雰囲気にその反強磁性層２５を放置して酸化してもよい。
【００５３】
なお、耐エッチングマスクとして引出電極２９を使用しているがレジストパターンを用いてもよい。
（第５の実施の形態）
次に、上記したＭＲ素子が適用される磁気記録装置の磁気ヘッドと磁気記録媒体の概要を図５を参照して説明する。
【００５４】
図５において、基板４１の上には再生用ヘッド４２と記録用ヘッド４３が隣設されている。
再生用ヘッドは、第１の磁気シールド層４４の上に絶縁膜（不図示）を介して形成されたＭＲ素子４５と、ＭＲ素子４５から引き出される引出電極（リード端子）４６と、ＭＲ素子４５及び引出電極４６を覆う絶縁膜４７と、絶縁膜４７上に形成された第２の磁気シールド層４８とを有している。ＭＲ素子４５は、上記した構造のものが採用される。
【００５５】
一方、記録用ヘッド４３は、第２の磁気シールド層４８と第３の磁気シールド層４９の間に絶縁層５０を介して形成されたコイル５１を有している。
第１〜第３の磁気シールド層４４，４８，５０はそれぞれ軟磁性体より形成され、それらのうち磁気記録媒体５２に対向する部分には、それぞれギャップが形成されている。
（その他の実施の形態）
上記した反強磁性層の構成材料としてはFeMnに替えてNiMnを使用しても同様な作用効果が得られる。また、ＭＲ層のセンス領域の磁区を制御するための磁区制御用磁性層として、Co、Cr、CoPt、CoCrPtのような硬磁性膜を使用してもよい。
【００５６】
また、磁気的アイソレーション層は、ＭＲ層と磁化バイアス層を磁気的に分離するものであり、その構成材料としてAl2O3 のような絶縁物又はタンタル、チタンのような高抵抗金属が適用される。
【００５７】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、ＭＲ層と磁区制御用磁性層を連続して成膜した後に、磁区制御用磁性層の両側寄りに１対の引出電極を形成し、ついで、それらの引出電極を耐エッチングマスクに使用してセンス領域上の磁区制御用磁性層を除去するようにしたので、引出電極の端部とセンス領域の端部が一致することになり、これにより、磁区制御磁性層の酸化を防止でき、しかも磁気抵抗効果素子を精度よく形成できる。
【００５８】
また、ＭＲ層と磁区制御用磁性層と電極構成金属層を連続して成膜するようにしているので、磁区制御用磁性層の表面の汚染が防止され、ＭＲ層に対する反強磁性層の交換結合磁場をより一層安定にすることができ、さらに良好な磁気抵抗効果特性が得られる。
また、別の本発明によれば、ＭＲ層のセンス領域を反強磁性体層又は硬質強磁性体層で覆い、しかもセンス領域の反強磁性体層又は硬質強磁性体層の膜厚を磁気的に不活性な厚さにしているので、ＭＲ層のセンス領域の酸化や汚染を防止でき、磁気抵抗効果ヘッドの信頼性を向上できる。
【００５９】
このような構成は、ＭＲ層の形成に続いて、センス領域の磁区を制御するための反強磁性体層又は硬質強磁性体層をＭＲ層上に形成した後に、ＭＲ層のセンス領域の上にある反強磁性体層又は硬質強磁性体層を薄層化することにより得られる。センス領域の磁区制御は、センス領域の両側における反強磁性体層又は硬質強磁性体層とＭＲ層との交換結合によって行われる。
【００６０】
このように反強磁性層又は硬質強磁性体層をＭＲ層上に成長した後にＭＲ層を露出させないことにより、ＭＲ層の全ての上面は清浄な状態で保護されることになり、信頼性に優れた磁気抵抗効果ヘッドが実現できる。
この場合、反強磁性体層又は硬質強磁性体層を薄層化する際には、印加磁場に対するＭＲ層の磁気抵抗の変化などのように、電気的、磁気的特性を監視しながら行うと、精度良く反強磁性体層又は硬質強磁性体層の膜厚を制御できる。
【００６１】
また、さらに別の本発明によれば、磁気抵抗効果ヘッドを構成するＭＲ層のうち中央のセンス領域を反強磁性体酸化物又は硬質強磁性体酸化物で覆っている。それらの反強磁性体酸化物又は硬質強磁性体酸化物は磁気的に不活性であるので、ＭＲ層のセンス領域が酸化されたり汚染されることはないので、磁気抵抗効果ヘッドの信頼性が向上する。
【００６２】
このような構成は、ＭＲ層の形成に続いて、センス領域の磁区を制御するための反強磁性体層又は硬質強磁性体層をＭＲ層上に形成した後に、ＭＲ層のセンス領域直上の反強磁性体層又は硬質強磁性体層を酸化することにより得られる。
このように反強磁性層又は硬質強磁性体層をＭＲ層上に成長した後にＭＲ層を露出させないことにより、ＭＲ層の全ての上面は清浄な状態で保護されることになり、信頼性に優れた磁気抵抗効果ヘッドが実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１(a) 〜(e) は、本発明の第１の実施の形態にかかる磁気抵抗効果素子の形成工程を示す断面図である。
【図２】図２(a) 〜(e) は、本発明の第２の実施の形態にかかる磁気抵抗効果素子の形成工程を示す断面図である。
【図３】図３(a) 〜(c) は、本発明の第３の実施の形態にかかる磁気抵抗効果素子の形成工程を示す断面図である。
【図４】図４(a) 〜(c) は、本発明の第４の実施の形態にかかる磁気抵抗効果素子の形成工程を示す断面図である。
【図５】図５は、本発明の磁気抵抗効果素子を採用する磁気記録媒体の要部を示す断面図である。
【図６】図６(a) 〜(d) は、従来の磁気抵抗効果素子の形成工程を示す断面図である。
【符号の説明】
１１，２１    基板
１２，２２    磁化バイアス層（軟磁性層）
１３，２３    磁気的アイソレーション層
１４，２４    ＭＲ層
１５，２５    反強磁性層（磁区制御用磁性層）
１６，２７    レジストマスク
１７    低抵抗金属層（引出電極）
２６    第一の低抵抗金属層
２８    第二の低抵抗金属層
２９    引出電極
３０    保護膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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