(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２以上の電極群を前面基板および背面基板のいずれか一方にまたは双方に形成したプラズマディスプレイパネルにおいて、
該電極群のうちの少なくとも１つの電極群を少なくとも一部覆う磁性体層を設け、該磁性体層が磁性材料粉末および該磁性材料粉末を結合する結合材料で形成されるとともに、該結合材料が低融点ガラスであり、前記磁性体層が放電ガスを封入するシール層を兼ねていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記磁性体層が放電ガスを封入するシール層の内側の領域の前記電極群の部位に形成されてなることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル（以下、必要に応じてＰＤＰと表記することがある。）は、例えば図１に示すように、前面基板および背面基板となる２枚のガラス基板１ａ、１ｂのそれぞれに多数の平行なストライプ状の電極（電極群）２ａ、２ｂおよび２ｃ、２ｄが形成され、電極２ａ、２ｂおよび電極２ｃ、２ｄが対向し、垂直に交差するようにガラス基板１ａ、１ｂが配置される。ガラス基板１ａ、１ｂの間の周縁には、シール層３が設けられ、これにより、ガラス基板１ａ、１ｂが一体化されるとともに、密閉空間（図１中矢印ｘで示す。）が画成される。なお、隣り合う電極２ａおよび電極２ｂは、それぞれ交互に対向するシール層３の反対の外側（図１中左側または右側）の端部に引き出されている。また、隣り合う電極２ｃおよび電極２ｄについても電極２ａ、２ｂと同様にそれぞれ交互に、対向するシール層３の反対の外側（図１中上側または下側）の端部に引き出されている。各電極２ａ〜２ｄ１本の長さは１ｍ以上の場合もある。密閉空間ｘには、ネオンやキセノン等の放電ガスが封入される。なお、図１をはじめとする各図において、表示の便宜上、シール層３には平行斜線模様を付す。
【０００３】
図１のプラズマディスプレイパネルが例えば直流駆動型（ＤＣ型）の場合、２枚のガラス基板１ａ、１ｂに形成された、対向して交差する電極２ａ、２ｂと電極２ｃ、２ｄとは正負対となって放電を発生する表示電極であり、表示電極の交差点（図１中矢印ｙで示す。）は、発光単位であるセルを構成する。一方、図１のプラズマディスプレイパネルが例えば交流駆動型（ＡＣ型）の場合、例えばガラス基板１ａに形成された隣り合う電極２ａおよび電極２ｂが正負対となって放電を発生する表示電極となる。
【０００４】
ＰＤＰの動作は、各電極２ａ〜２ｄに百数十Ｖ前後の電圧を印加して、発光させるセルに電流を流すことによって行われる。この時、セルに流れる電流とともに、セルを構成する電極２ａ、２ｂおよび電極２ｃ、２ｄ間の浮遊容量を充電する電流が同時に流れる。これらの電流は、数十〜１００ｎｓ程度の立ち上がり時間の間に、最大で合計数十Ａに達する、短パルス大電流である。
【０００５】
このような短パルス大電流が上記したように長さの長い電極に流れることにより、不要な電磁波が輻射される。
【０００６】
従来、この不要な電磁波の輻射を解消するために、ＰＤＰの前面に設けられた保護機能を兼ねた透明な板にＩＴＯ層や金属のメッシュを組み込むことなどにより導電性を持たせ、電磁波をシールドすることが行われている。また、フェライトのフィルタを電極２ａ〜２ｄに外付けすることも行われている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の不要な電磁波の輻射を解消する方法は、前者については、ＩＴＯ層や金属のメッシュを格別に設けることにより製造コストの増大を招いていた。また、後者のフェライトのフィルタを外付けする方法についても、部品点数が多くなるとともに製造コストの増大を招いていた。
【０００８】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、部品点数を増加させることなく、また、低コストで不要な電磁波の輻射を解消することができるプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルは、２以上の電極群を前面基板および背面基板のいずれか一方にまたは双方に形成したプラズマディスプレイパネルにおいて、該電極群のうちの少なくとも１つの電極群を少なくとも一部覆う磁性体層を設け、該磁性体層が磁性材料粉末および該磁性材料粉末を結合する結合材料で形成されてなるとともに、該結合材料が低融点ガラスであり、前記磁性体層が放電ガスを封入するシール層を兼ねていることを特徴とする。
【００１０】
ここで、プラズマディスプレイパネルは、直流駆動型（ＤＣ型）および交流駆動型（ＡＣ型）のいずれのタイプであってもよい。電極群は、ストライプ状に平行に形成された多数の電極からなる。電極のうち、放電を発生させる対となる表示電極は、前面基板および背面基板の双方にそれぞれ１つずつ設けられ、あるいは、前面基板または背面基板のいずれか一方に２つとも設けられる。また、電極として、表示電極以外にも信号電極やバス電極を適宜有する。磁性体層は、電極群の表裏面のいずれを覆うように設けてもよい。また、磁性体層は、電極群から僅かに離間するように設けてもよいが、電極群に接するように設けるとより好適である。
【００１１】
本発明の上記の構成により、磁性体層の存在によって電極の高周波成分に対するインピーダンスを増加させて電流の高周波成分を低減することで、不要な電磁波の発生そのものが軽減されるとともに、磁性体層の磁気損失によって発生した不要な電磁波が吸収される。これにより、部品点数を増加させることなく、また、安価に形成することができる磁性体層を設けることで、不要な電磁波の輻射を解消することができる。また、前記磁性体層の前記結合材料が低融点ガラスであり、該磁性体層が放電ガスを封入するシール層を兼ねているため、シール層と格別に磁性体層を設ける必要がなく、好適である。
【００１３】
また、この場合、前記磁性体層が放電ガスを封入するシール層の内側の領域の前記電極群の部位に形成されてなると、磁性体層によって電極群に密接してあるいは近接して電極群を所望の被覆率で被覆することができて好適である。また、従来のようにシール層の外側に電磁シールド部材を設ける必要がないため、パネル周辺部の寸法が大きくならず、好適である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法の好適な実施の形態（以下、本実施の形態例という。）について、図を参照して、以下に説明する。
【００１６】
まず、本実施の形態の第１の例に係るプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法について、図２、図３を参照して説明する。図２は、プラズマディスプレイパネルの概略平面図であり、図３は、図２中ＩＩＩ−ＩＩＩ線上部分断面を上下反転して示す図である。なお、図３において、表示の便宜上、断面をハッチング表示していない。
【００１７】
本実施の形態の第１の例に係るプラズマディスプレイパネル１０は、図２に示すように、基本的な構成は図１の従来例の直流型プラズマディスプレイパネルと同様である。
【００１８】
すなわち、プラズマディスプレイパネル１０は、前面基板１２と、背面基板１４とを有する。前面基板１２には、図２中左右方向に延出し、交互に対向するシール層２０の外側に引き出されたストライプ状の行電極１６ａ（引き出し方向の異なる隣り合う電極について、便宜的に同一の参照符号を付す。以下、他の実施例についても同じ。）が複数行形成されて１つの電極群１６を構成し、一方、背面基板１４には図２中上下方向に延出し、交互に対向するシール層２０の外側に引き出されたストライプ状の列電極１８ａ（引き出し方向の異なる隣り合う電極について、便宜的に同一の参照符号を付す。以下、他の実施例についても同じ。）が複数列形成されて１つの電極群１８を構成する。対向して配置された前面基板１２および背面基板１４の間には周縁をシールするシール層２０が設けられ、シール層２０ならびに前面基板１２および背面基板１４で画成された密閉空間（図２中矢印Ｘで示す。）にネオンやキセノン等の放電ガスが封入される。
【００１９】
プラズマディスプレイパネル１０は、前面基板１２の電極群１６の延出方向両端部のそれぞれシール層２０の外側に交互に引き出された各電極１６ａに跨って一部覆うように図２中上下方向に延出して、磁性体層２２が帯状に、例えば５０μｍの厚みに形成される。なお、図２をはじめとする以下の各図において、表示の便宜上、磁性体層２２に梨地模様を付す。
【００２０】
磁性体層２２は、磁性材料粉末と、磁性体粉末を結合する結合材料とからなる。磁性材料粉末は、フェライトや金属等の粉末である。また、結合材料は、低融点ガラスである。
【００２１】
上記のように構成されるプラズマディスプレイパネル１０は、基本的には、常法により、形成する部分の特性に応じて、厚膜プロセスや薄膜プロセスにより、また、必要に応じて焼成工程を含んで製造される。このとき、前面基板１２および背面基板１４を重ねてシール層２０によりシールする前に、上記した磁性材料粉末および結合材料をＢＣＡ（ブチルカルビトールアセテート）等の適当な溶剤によってペースト状あるいはスラリー状にしたものを電極群１６の両端部に塗布（塗工）し、焼成することにより磁性体層２２を形成する。
【００２２】
塗布方法は、厚膜印刷、ダイコーティング、ブレードコーティング、グラビアコーティング、リバースコーティング等の方法を用いることができる。
【００２３】
また、磁性体層２２の形成方法として、上記塗布方法に変えて、ラミネート法を用いてもよい。
【００２４】
すなわち、上記した磁性材料粉末および結合材料を予めロール形成法、射出形成法、押出し形成法等の方法によりシート状に形成したものを、前面基板上（電極群上）にラミネートした後に焼成して磁性体層２２を形成してもよい。
【００２５】
これら塗布方法やラミネート法は、隔壁やシール層等を形成する方法でもあるため、格別な方法によることなく、磁性体層を形成することができる。
【００２６】
プラズマディスプレイパネル１０は、電極１６ａ、１８ａ間に短パルス大電流を印加して動作させるとき、磁性体層２２の存在によって電極１６ａ、１８ａの高周波成分に対するインピーダンスが増加し、電流の高周波成分が低減され、不要な電磁波の発生が軽減される。なお、プラズマディスプレイパネル１０がＡＣ駆動型の場合は、隣り合う電極１６ａ、１６ａ間に短パルス大電流を印加して動作させるとき、同様の効果が得られる。また、プラズマディスプレイパネル１０は、磁性体層２２の磁気損失によって、発生した不要な電磁波が吸収され、プラズマディスプレイパネル１０の外部への不要な電磁波輻射が防止される。
【００２７】
以上説明した本実施の形態の第１の例に係るプラズマディスプレイパネル１０は、上記の作用により、従来のようにシールド部材を格別に設けて部品点数を増加させることなく、また、安価に形成することができる磁性体層２２を設けることで、不要な電磁波の輻射を解消することができる。
【００２８】
また、プラズマディスプレイパネル１０は、磁性体層２２がシール層２０の内側に形成されているため、磁性体層２２によって電極群１６に密接してあるいは近接して電極群１６を所望の被覆率で被覆することができる。また、従来のようにシール層２０の外側に電磁シールド部材を設ける必要がないため、パネル周辺部の寸法が大きくならない。
【００２９】
なお、プラズマディスプレイパネル１０において、磁性体層２２を電極群１６の一端側のみに設けてもよい。すなわち、１本置きに配置された電極１６ａの端部のみを覆うように磁性体層２２を設けることで、一定の効果を得ることができる。
【００３０】
つぎに、本実施の形態の第２の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図４を参照して説明する。
【００３１】
本実施の形態の第２の例に係るプラズマディスプレイパネル２４は、第１の例のプラズマディスプレイパネル１０と同様に前面基板１２の電極群１６の両端部の一部を覆う帯状の磁性体層２２が形成される。プラズマディスプレイパネル２４は、さらに、シール層２０の内側の領域の背面基板１４の電極群１８の延出方向両端部を一部覆うように図４中左右方向に延出して、磁性体層２６が帯状に形成される。なお、磁性体層の形成方法は、本実施の形態の第２の例に係るプラズマディスプレイパネルを含む以下の実施例において、特に断らない限り、本実施の形態の第１の例に係るプラズマディスプレイパネル１０の製造方法と同様の方法を用いることができる。
【００３２】
本実施の形態の第２の例に係るプラズマディスプレイパネル２４は、背面基板１４の電極群１８の側にも磁性体層２６が設けられているため、第１の例のプラズマディスプレイパネル１０よりもさらに好適に不要な電磁波の輻射を解消することができる。
【００３３】
つぎに、本実施の形態の第３の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図５を参照して説明する。
【００３４】
本実施の形態の第３の例に係るプラズマディスプレイパネル２８は、第１の例のプラズマディスプレイパネル１０と同様に前面基板１２の電極群１６の両端部の一部を覆う帯状の磁性体層２２が形成されるとともに、さらに、シール層２０の内側の領域の背面基板１４の電極群１８の全体を覆うように磁性体層３０が面状に形成される。この場合、背面基板１４は可視光を透過する必要がないため、磁性体層３０を面状に形成しても問題はない。
【００３５】
本実施の形態の第３の例に係るプラズマディスプレイパネル２８は、背面基板１４の電極群１８の全体を覆うように磁性体層３０が面状に形成されているため、第２の例のプラズマディスプレイパネル２４よりもさらに好適に不要な電磁波の輻射を解消することができる。
【００３６】
つぎに、本実施の形態の第４の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図６を参照して説明する。
【００３７】
本実施の形態の第４の例に係るプラズマディスプレイパネル３２は、シール層２０の外側の領域の前面基板１２の電極群１６の両端部位および背面基板１４の電極群１８の両端部位のそれぞれを覆うように磁性体層３４、３６がシール層２０に沿って帯状に形成される。
【００３８】
磁性体層３４、３６は、常法により、焼成工程を含む一連の製造工程を経て従来例と同様のパネルを形成した後、上記した塗布法またはラミネート法により形成する。
【００３９】
この場合、磁性体層３４、３６は、パネル製造工程における高温雰囲気に曝されることがないため、結合材料として前記した低融点ガラス等を用いて塗布等した後焼成することなく、結合材料としてゴムやプラスチック等の有機材料を用いて塗布等の工程のみで形成することができ、簡易である。
【００４０】
本実施の形態の第４の例に係るプラズマディスプレイパネル３２は、従来の製造工程を経た後、磁性体層形成工程を追加することで製造できるため、パネル形成工程を変更する必要がなく、したがって、全体の製造工程が煩雑化することがない。また、磁性体層３４、３６の厚みがパネル内部の厚みに制約されないため、例えばディスペンサー等の塗布方法により、所望の厚膜に形成することができる。
【００４１】
つぎに、本実施の形態の第５の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図７を参照して説明する。
【００４２】
本実施の形態の第５の例に係るプラズマディスプレイパネル３８は、前面基板１２および背面基板１４の間の周縁部に形成されるシール層４０が磁性体層を兼ねている。通常のシール層は低融点ガラス等により形成されるが、これに対してシール層（磁性体層）４０は低融点ガラス等を結合材料とし、これにフェライト等の磁性材料粉体を混合して前記した塗布、焼成方法によって形成される。
【００４３】
本実施の形態の第５の例に係るプラズマディスプレイパネル３８は、磁性体層がシール層を兼ねているため、プラズマディスプレイパネル３８の構造が簡易であり、また、磁性体層を形成するための格別の工程を必要とせず製造方法が簡略化され、また、電磁気シールド効果を付与するためのコストの増分も小さい。
【００４４】
つぎに、本実施の形態の第６の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図８を参照して説明する。
【００４５】
本実施の形態の第６の例に係るプラズマディスプレイパネルは、前面基板１２上に磁性体層４０形成した後、磁性体層４０の上に電極群１６を形成し、さらに電極群１６の磁性体層４２が形成される。
【００４６】
本実施の形態の第６の例に係るプラズマディスプレイパネルは、電極の周囲を覆う形態で磁性体層４０、４２が設けられるため、好適に電磁波の低減が図られる。
【００４７】
なお、本実施の形態の第６の例に係るプラズマディスプレイパネルにおいて、磁性体層４０、４２は、前面基板１２に変えて背面基板１４の上に設けてもよく、また、前面基板１２および背面基板１４の双方に設けてもよい。
【００４８】
【発明の効果】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルによれば、２以上の電極群のうちの少なくとも１つの電極群を少なくとも一部覆う磁性体層を設け、磁性体層が磁性材料粉末および結合材料で形成されているため、部品点数を増加させることなく、また、安価に形成することができる磁性体層を設けることで、不要な電磁波の輻射を解消することができる。
【００４９】
また、本発明に係るプラズマディスプレイパネルによれば、磁性体層の結合材料が低融点ガラスであり、磁性体層が放電ガスを封入するシール層を兼ねているため、シール層と格別に磁性体層を設ける必要がなく、好適である。
【００５０】
また、本発明に係るプラズマディスプレイパネルによれば、磁性体層が放電ガスを封入するシール層の内側の領域の電極群の部位に形成されているため、磁性体層によって電極群に密接してあるいは近接して電極群を所望の被覆率で被覆することができる。また、従来のようにシール層の外側に電磁シールド部材を設ける必要がないため、パネル周辺部の寸法が大きくならない。
【００５１】
また、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、磁性体層を塗布法またはラミネート法により形成するため、格別な方法によることなく、隔壁やシール層等を形成するときと同様の方法で磁性体層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  従来例のプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図２】  本実施の形態の第１の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図３】  本実施の形態の第１の例に係るプラズマディスプレイパネルの図２中ＩＩＩ−ＩＩＩ線上部分断面である。
【図４】  本実施の形態の第２の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図５】  本実施の形態の第３の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図６】  本実施の形態の第４の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図７】  本実施の形態の第５の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図８】  本実施の形態の第６の例に係るプラズマディスプレイパネルの部分断面図である。
【符号の説明】
１０、２４、２８、３２、３８  プラズマディスプレイパネル
１２  前面基板
１４  背面基板
１６、１８  電極群
１６ａ、１８ａ  電極
２０、４０  シール層
４２  磁性体層
【図１】
0003655245.tif 000002
【図２】
0003655245.tif 000003
【図３】
0003655245.tif 000004
【図４】
0003655245.tif 000005
【図５】
0003655245.tif 000006
【図６】
0003655245.tif 000007
【図７】
0003655245.tif 000008
【図８】
0003655245.tif 000009