(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
断熱壁（1）で構成した室（A）内に回転円盤（3）を単数段ないし複数段に設けた自動製麹装置において、制御装置（12）が複数の堆積変更温度、堆積変更時間、堆積を変更する場合の堆積厚、複数の表面積変更温度、表面積変更時間、表面の凹凸形状を変更する場合の表面形状、使用する白米量を設定し、製麹作業に使用する白米量が異なっても、堆積層厚を所定の厚みに堆積させ、外周形状を一定にし、製麹開始後、測定温度が各々の堆積変更温度に一致した場合又は製麹時間が各々の堆積変更時間に達した場合に、麹の堆積高さを所定の堆積厚に調節し、外周形状を調節し、測定麹温度が各々の表面積変更温度に一致した場合又は製麹時間が各々の表面積変更時間に達した場合に、所定の麹の表面形状を変更し、外周形状を調節することを特徴とする酒造用麹の製麹方法。
【請求項２】
断熱壁（1）で構成した室（A）内に回転円盤（3）を単数段ないし複数段に設けた自動製麹装置において、各々の回転円盤（3）に、中心軸（2）側と回転円盤（3）の外周部側相互に麹を移動することで堆積厚を任意に調節可能なスクリュウ装置（6）と、異なる形状の溝入れ板を複数備えた溝入れ装置（11）を設け、各々の回転円盤（3）に、円形に堆積する麹の外周部を麹の堆積厚に応じて自動調節する麹寄せ板（7）を設け、制御装置（13）が複数の堆積変更温度、堆積変更時間、堆積の高さを変更する場合の堆積厚、複数の表面積変更温度、表面積変更時間、表面の凹凸形状を変更する場合の表面形状、使用する白米量を設けることを特徴とする酒造用麹の製麹装置。
【請求項３】
前記麹寄せ板（7）の先端を麹の安息角に一致するように、すなわち前記回転円盤（3）に対して30°から70°の範囲内の角度に前記麹寄せ板（7）の先端部分を調整し、この麹寄せ板（7）の先端近傍に制御装置（12）の麹を感知する麹温度センサ（8）、外周センサ（9）、内周センサ（10）を単数又は複数設け、これらセンサ（8，9，10）が麹を感知した場合には、前記スクリュウ装置（6）の回転速度を低速にし及び／又は前記麹寄せ板（７）の位置を回転円盤（3）外周寄りに移動し、前記センサ（8，9）が麹を感知しない場合には、前記スクリュウ装置（6）の回転速度を高速にし及び／又は麹寄せ板（7）の位置を回転円盤(3)の中心寄りに移動するようにした請求項2に記載の酒造用麹の製麹装置。
【請求項４】
回転円盤（3）を断熱室（１）で構成した室（A）内に複数段に設け、単数ないし複数の回転円盤（3）を床工程用に使用し、床工程から棚工程に移行する場合、床工程に使用した回転円盤（3）の麹を移動することなく棚工程に使用し、又は床工程に使用し回転円盤（3）に所定量の麹を残し他の回転円盤（3）に分配シュート（5）により麹を分配し、棚工程では、床工程に使用した回転円盤（3）を含むすべての回転円盤（3）を棚工程に使用したの回転円盤（3）に分配シュート（5）によりすべての麹を移動し、棚工程では床工程で使用した回転円盤（3）を除く他の回転円盤（3）を棚工程に使用することを特徴とする請求項2又は3に記載の酒造用麹の製麹装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は、主として清酒醸造に用いられる酒造用麹の製麹方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
酒造用麹を製造する場合には、麹菌の生育に伴い麹温度と麹水分の関係を微妙に調節する必要がある。種々の酒造用自動製麹装置では、麹の温度管理と水分調節を室内温湿度の変更、麹基質堆積層への通風、手入などにより制御していた。しかしながら、このような手段では麹温度と麹水分を十分に調節することが困難であったため、優れた吟醸用麹を生産することができなかった。また麹基質の処理量は目的とする麹の種類によって異なるが、この処理量の変化に品質を維持しながら対応することができなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
麹の生育状況に対応した麹基質の堆積厚、外周形状、堆積表面積を適宜自動調節すると共に、麹処理量の変動に対応して麹品質を均一に維持する酒造用麹の製麹方法及び装置を提供することがこの発明の課題である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
この発明の請求項１では、断熱壁で構成した室内に回転円盤を単数段ないし複数段に設けた自動製麹装置において、制御装置に複数の堆積変更温度、堆積変更時間を設定する。また堆積の高さを変更する場合の堆積厚を設定する。制御装置に複数の表面積変更温度、表面積変更時間を設定する。また表面の凹凸形状を変更する場合の表面形状を設定する。更に、使用する白米量を設定する。
【０００５】
製麹毎に使用する白米量が異なっても、堆積層厚を所定の厚みに堆積させ、外周形状を一定にする。製麹開始後、測定麹温度が各々の堆積変更温度に一致した場合又は製麹時間が各々の堆積変更時間に達した場合に、麹基質の堆積の高さを所定の堆積厚に調節し、外周形状を調節する。測定麹温度が各々の表面積変更温度に一致した場合又は製麹時間が各々の表面積変更時間に達した場合に、所定の麹基質の表面形状を変更し、外周形状を調節する。
【０００６】
この発明の請求項２では、断熱壁で構成した室内に回転円盤を単数段又は複数段に設ける。各々の回転円盤に、中心軸側と円盤外周部側相互に麹基質を移動することで堆積厚を任意に調節可能なスクリュウ装置と、異なる形状の溝入れ板を複数備えた溝入れ装置を設ける。また各々の回転円盤に、円形に堆積する麹基質の外周部を麹基質の堆積厚に応じて自動調節する麹寄せ板を設ける。
【０００７】
制御装置に複数の堆積変更温度、堆積変更時間を設定する。また堆積の高さを変更する場合の堆積厚を制御装置に設定する。制御装置に複数の表面積変更温度、表面積変更時間を設定する。また表面の凹凸形状を変更する場合の表面形状を制御装置に設定する。更に使用する白米量を設定する。
【０００８】
製麹毎に異なる麹基質量を制御装置に入力し、所定の堆積厚を保ちながら麹寄せ板の位置を自動調節して外周形状を一定に保つ。測定麹温度が各々の堆積変更温度に一致した場合又は製麹時間が各々の堆積変更時間に達した場合に、スクリュウ装置により麹基質を堆積厚に調節し、麹基質の堆積厚から計算される麹基質の外周位置に自動的に麹寄せ板を移動して麹基質の外周部を調節する。測定麹温度が各々の表面積変更温度に一致した場合、又は製麹時間が各々の表面積変更時間に達した場合に、溝入れ装置により麹基質の表面形状に変更し、麹基質の堆積厚から計算される麹基質の外周位置に自動的に麹寄せ板を移動して麹基質の外周形状を調節する。
【０００９】
この発明の請求項３では、麹寄せ板の先端を麹基質の安息角度に一致するように調整する。すなわち、回転円盤に対して３０°から７０°の範囲内の角度に麹寄せ板の先端部分を調整する。また麹寄せ板の先端近傍に麹基質を感知する麹温度センサ、外周センサ、内周センサを単数又は複数設ける。これらセンサが麹基質を感知した場合には、スクリュウの回転速度を低速にしかつ又は麹寄せ板の位置を円盤外周寄りに移動する。前記センサが麹を感知しない場合には、スクリュウの回転速度を高速にしかつ又は麹寄せ板の位置を円盤中心寄りに移動する。
【００１０】
この発明の請求項４では、回転円盤を複数段に設け、単数ないし複数の円盤床を床工程用に使用する。床工程から棚工程に移行する場合、床工程に使用した円盤床の麹基質を移動することなく棚工程に使用する。又は床工程に使用した回転円盤に所定量の麹基質を残し、他の回転円盤に分配シュートにより麹基質を分配する。棚工程では、床工程に使用した回転円盤を含むすべての回転円盤を棚工程用に使用する。又は単数又は複数の回転円盤を床工程専用に使用する。他の回転円盤に分配シュートによりすべての麹基質を移動する。棚工程では、床工程に使用した回転円盤を除く他の回転円盤を棚工程用に使用する。
【００１１】
【作用】
この発明の請求項１では、制御装置に複数の白米使用量、堆積変更温度、堆積変更時間、堆積厚、表面積変更温度、表面積変更時間、表面形状を設定する。麹の種類により製麹する白米使用量は異なることが多い。製麹条件の中で麹の堆積厚は重要な要素であるため、製麹量が変動しても堆積厚を所定の厚みとして、円盤床中央部に円錐台形に堆積させ、更に堆積外周部の堆積厚を可能な限り薄くしないように調節する。
【００１２】
麹菌の生育により単位時間当りの麹の発熱量が増大するため、麹の温度は加速度的に上昇する。この温度上昇を制御するために麹堆積層の堆積厚を段階的に薄くしながら熱放散を促す必要がある。また麹菌の生育に伴う麹水分の経時変化は、麹の品質と密接な関係があるため、温度条件と製麹時間の条件を考慮する必要がある。堆積変更温度、堆積変更時間と堆積厚は、理想的と考えられる麹温度と麹水分の経過を測定値が辿るように設定する。麹の堆積外周部は堆積層が薄くなり製麹室内の環境条件を強く受けるため、可能な限り円盤中心軸側に寄せる。
【００１３】
酒造用麹は麹温度と麹水分の経時変化が大きく品質に影響を与えるため、より高度な制御が必要となる。表面積変更温度、表面積変更時間と表面形状は、麹堆積層の表面積を段階的に調整可能であるため、麹温度と麹水分の微調整用として設定する。
【００１４】
この発明の請求項２では各々の回転円盤に、中心軸側、スクリュウ装置、溝入れ装置、麹寄せ板を設ける。制御装置に複数の堆積変更温度、堆積変更時間、堆積厚、表面積変更温度、表面積変更時間、表面形状を設定する。
【００１５】
堆積層厚と外周形状を所定の値に保つことにより、麹品質を損なうことなく盛込量の変化に対応することができる。測定麹温度が各々の堆積変更温度に一致した場合は、スクリュウ装置下端を所定の堆積厚に移動させ、円盤を回転しながらスクリュウ装置で麹基質を堆積厚に調節する。同時に、円錐台形に堆積する麹基質の全容積と堆積厚から計算される麹基質の外周位置に自動的に麹寄せ板を移動して、麹基質の外周部に麹基質が拡散しないように調節する。製麹時間が各々の堆積変更時間に達した場合も、同様に調節する。
【００１６】
測定麹温度が各々の表面積変更温度に一致した場合は、所定の表面形状に一致する溝入れ装置の溝型を選択した後溝入れ装置を下降させ、回転円盤を回転しながら麹基質の表面を所定の表面形状に形成する。同時に、円錐台形に堆積する麹基質の全容積と堆積厚から計算される麹基質の外周位置に自動的に麹寄せ板を移動して、麹基質の外周部に麹基質が拡散しないように調節する。製麹時間が各々の表面積変更時間に達した場合も、同様に調節する。
【００１７】
この発明の請求項３では、麹寄せ板の先端を麹基質の安息角度に一致するように調整し、麹基質外周の形状を安定して維持できるようにする。またセンサの感知により、スクリュウの回転速度と麹寄せ板の位置を調節することで、麹の堆積層を凹凸のない円錐台形にすることが可能となり、室内環境に影響される麹堆積層の表面積を常に一定に保つことができる。
【００１８】
この発明の請求項４では、回転円盤を複数段に設け、各々の回転円盤を床工程と棚工程の両工程に利用できるようにすることで、床工程と棚工程での製麹量の調整を自在にし、製麹量が毎回異なる場合にも、高品質の吟醸用麹を安定して製麹可能となる。
【００１９】
【実施例】
以下図面及び表１によってこの発明の実施例を詳細に説明する。以下の実施例は、３種類の使用目的の異なる酒造用麹を３段の回転円盤上で、それぞれ床工程と棚工程を連続して製麹する場合について説明する。
【００２０】
【表１】
0003682661.tif 000002
【００２１】
表１は、白米使用量、堆積変更温度、堆積変更時間、堆積厚、表面積変更温度、表面積変更時間、表面形状の設定を麹種類別に設定した制御データの一例である。表中の引込みは種付後の蒸米を回転円盤上に堆積させる操作であり、盛りは床工程を終了した麹を棚工程の堆積厚に調整する操作である。仲仕事と仕舞仕事は製麹操作の中で麹を撹袢混合する手入工程の名称である。堆積厚と表面形状の変更は、手入操作と異なる時期に実施しても同時に実施しても良い。表面形状の１は麹基質の表面積が小さい形状、表面形状の２は麹基質の表面積が大きい形状を示す。
【００２２】
各々の回転円盤毎に使用目的の異なる麹を製麹する場合は、使用目的に応じて表１に示すようなデータを、各々の蚊点円盤毎に制御装置に入力する。堆積変更温度と表面積変更温度は、堆積と表面積を変更するタイミングを麹温度により制御する。堆積変更時間と表面積変更時間は、棚工程の経過時間により制御する。堆積変更温度は経過時間に関係なく麹温度の上昇率の低下を目的として設定する。堆積変更時間は麹温度の上昇が伴わない場合においても麹菌の増殖が進む場合があるため、麹の水分発散を目的として設定する。表面積変更温度と表面積変更時間は、麹の熱と水分の放散を微調整する目的で設定する。
【００２３】
図１はこの発明の酒造用麹の製麹装置の横断面図、図２は縦断面図であり、断熱壁１で構成された室内に、中心軸２を中心として回転する多孔板よりなる回転円盤３を３段備えた多段式自動製麹装置である。
【００２４】
スクリュウ装置６の下端を表１に示す引込み工程の堆積厚に自動調節し、回転円盤３の外周方向に麹基質を移動するようにスクリュウを回転させる。堆積厚と白米使用量から計算される堆積底面積に麹が堆積するように、麹寄せ板７の位置を自動調節する。種付けを終了した麹基質を盛込ホッパ４から分配シュート５により、回転円盤３に移送する。麹寄せ板７により回転円盤３上の麹基質は外周部を安定した形に整えられながら、スクリュウ装置６により所定の堆積厚に調節される。盛込ホッパ４と分配シュート５は、回転円盤３と断熱壁１の間の空間に設けてもよい。
【００２５】
麹寄せ板７先端部に設けた麹を感知する制御装置12のセンサ8，9，10には、回転円盤３の外周寄りにある外周センサ９と内周寄りにある内周センサ１０がある。外周センサ９と内周センサ１０は麹寄せ板７先端近傍にあればよく、麹寄せ板７と分離して別の駆動装置により、麹寄せ板７と連動するように動作させてもよい。麹の引込み状態が不規則な場合は、中心軸２を中心とした同心円を描くような円錐台形の堆積状態にはならず不規則な凹凸のある外周形状を示す。そこで、外周センサ９と内周センサ１０が両方感知した場合は、麹基質の搬送能力を低下させるためにスクリュウ装置６の回転速度を低速にする。外周センサ９が感知せず内周センサ１０が感知した場合は、麹基質の搬送能力を標準にするためにスクリュウ装置６の回転速度を中速にする。
【００２６】
外周センサ９と内周センサ１０が両方感知しない場合は、麹基質の搬送能力を上昇させるためにスクリュウ装置６の回転速度を高速にする。外周センサ９と内周センサ１０が両方感知した場合、又は外周センサ９と内周センサ１０が両方感知しない場合が所定の時間以上に継続した場合は、麹寄せ板の位置を調節する。麹寄せ板７の形状は、先端部分が麹基質の安息角と等しく、回転円盤３上に拡散した麹基質を確実に麹堆積層側に移動させればよく、図中の形状に限定されない。
【００２７】
前記制御装置12の麹温度センサ８により測定麹温度が堆積変更温度に一致するか、又は製麹時間が堆積変更時間に一致した場合には、回転円盤３を回転させながら、麹寄せ板７とスクリュウ装置６を所定の位置に移動し、スクリュウを回転円盤３の外周方向に麹を移動するように回転させる。スクリュウ装置６により麹基質の堆積厚を減少させ、余剰の麹を回転円盤３の外周部に押し広げる。押し広げられた麹基質は麹寄せ板７と外周センサ９及び内周センサ１０により外周部を安定した形に整えられ、中心軸２を中心とした同心円を描くように円錐台形の堆積状態となる。
【００２８】
麹温度センサ８により測定麹温度が表面積変更温度に一致するか、又は製麹時間が表面積変更時間に一致した場合には、回転円盤３を回転させながら、溝入れ装置１１と麹寄せ板７を所定の位置に移動する。溝入れ装置１１は、所定の形状の溝型を麹堆積層に挿入して回転円盤３を回転することにより、目的とする麹堆積層の表面積を選択できる。溝入れ装置１１は麹堆積層の表面積を各種選択できるように、図中に示していないが３点以上の異なる形状の溝型を設けてもよい。この発明の酒造用麹の製麹方法及び装置は、製麹方法及び装置をより高度に制御するものであるため、設定値を変更することにより通常の麹を製麹することもできる。なお図において，13は室A内の空調を行う空調装置である。
【００２９】
【発明の効果】
この発明の酒造用麹の製麹方法及び装置は以上の方法及び装置を有することにより、麹の生育状態の変動に適応して麹堆積層の厚みと室内環境に接する堆積表面積を調節するため、麹の温度と水分をバランス良く調節することが可能となった。また麹堆積層の外周部を極端に薄くすることなく堆積形状を安定した形状に形成するため、麹外周部と内周部の品質を均一に保つことができる。特に、装置の製麹最大処理量以内であれば、異なる製麹処理量にも対応でき、少量でも均一な酒造麹を生産可能な点は、この発明を更に有益有用なものとしている。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明の酒造用麹の製麹方法を実施すべき装置の横断面図である。
【図２】  図1に示す装置の縦断面図である。
【図３】  麹寄せ板の立体図である。
【符号の説明】
Ａ    室
１    断熱壁
２    中心軸
３    回転円盤
４    盛込ホッパ
５    盛込シュート
６    スクリュウ装置
７    麹寄せ板
８    麹温度センサ
９    外周センサ
１０  内周センサ
１１  溝入れ装置
１２  制御装置
１３  空調装置
【図１】
0003682661.tif 000003
【図２】
0003682661.tif 000004
【図３】
0003682661.tif 000005