(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、または水溶液中の水素ラジカルの検出方法であって、試料に３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）を添加し、その着色による試料中の水素ラジカルの検出方法。
【請求項２】
水、または水溶液は電解還元水である請求項１記載の水素ラジカルの検出方法。
【請求項３】
着色は３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）が水素ラジカルと反応して生成するＤＢＮＢＳアゾ化合物の吸収ピークによるものである請求項１記載の水素ラジカルの検出方法。
【請求項４】
波長が４２５〜４５０ｎｍの吸収ピークを検出することを特徴とする請求項１記載の水素ラジカルの検出方法。
【請求項５】
次の（１）〜（４）の工程よりなる水または水溶液中の水素ラジカルの定量分析方法。
（１）  ５１７ｎｍ近傍に吸収を有する１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジル（ＤＰＰＨ）の溶液に、白金黒存在下で一定の速度で水素ガスを吹込み、５１７ｎｍ近傍の吸光度の減少と水素ガスの吹込み時間との相関のグラフを求める（検量線Ａの作成）。
（２）  システィンとＤＰＰＨを反応させ、ＤＰＰＨの５１７ｎｍ近傍における吸光度の減少とシスティン濃度との相関のグラフを求める（検量線Ｂの作成）。
（３）  ３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）の溶液に前記（１）と同一条件で白金黒存在下で一定の速度で水素ガスを一定の時間吹込んだ後、４５０ｎｍ近傍の吸光度を測定し、その吸光度の値と検量線Ａ及び検量線Ｂより算出した水素ガスの吹込み時間あたりの水素ラジカル発生濃度との相関のグラフを求める（検量線Ｃの作成）。
（４）  試料に３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）を添加し、４５０ｎｍ近傍の吸光度を測定し、その吸光度の値から前記検量線Ｃを用いて水素ラジカルの濃度を読み取る。
【請求項６】
水または水溶液は１０〜５００倍に濃縮されている請求項５記載の定量分析方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水、特に電解還元水または水溶液中の水素ラジカルの検出方法、及び水素ラジカルの濃度を定量分析する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、水酸化ナトリウム等の電解質溶液を電気分解して陰極室で得られる、いわゆる電解還元水は、体内で活性酸素消去活性及びＤＮＡ切断抑制活性を有するとされている。これは電解還元水に含まれる活性水素の還元性によるものとされている。
【０００３】
そして、電解還元水等に含まれる水素ラジカルの濃度が体内での活性酸素消去活性に影響する為、水素ラジカルの検出方法とともにその定量分析方法の確立が要請されている。
【０００４】
ここで活性水素とは紫外線照射や放電などの方法によって化学反応を起こしやすくなった水素ラジカルのことであり、金属に酸を作用させたときや、電気分解のときに陰極側から発生する水素も反応性の高い水素ラジカルである。活性水素はアルカリ金属塩から金属を遊離させ、各種金属元素の酸化物、硫化物などを容易に還元して金属とする。またヒ素、燐、酸素、ハロゲン、アンチモン、スズなどとは水素化物を、一酸化炭素及び二酸化炭素とはホルムアルデヒドを作る。また種々の有機化合物と付加、置換、水素原子引き抜き反応を生じ、不飽和有機化合物には水素付加をする。水素ラジカルはそのままでは比較的安定であるが、金属表面に触れると極めて多量の熱を放出して通常の分子に戻る。
【０００５】
２Ｈ・→Ｈ2＋４３５ｋＪ／ｍｏｌ
その検出方法としては高濃度の場合は圧力差から、微量の場合は酸化タングステンの変色などが利用されている。しかしこれらは気体中で発生した際の検出方法で水中の水素ラジカルの測定に応用できない。水素ラジカルは水溶性のラジカルトラップ剤でトラップして検出及び定量ができれば電解還元水中に水素ラジカルの存在を証明できるので検出法及び定量法の確立を目指して研究が進められていた。
【０００６】
そこで電子スピン共鳴装置（ＥＳＲ）を用いて水試料のみや水溶性のラジカルトラップ剤５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド（ＤＭＰＯ）と水溶液試料と反応させ、ＥＳＲスペクトルを測定したが水素ラジカルのスペクトルは認められなかった。
【０００７】
またフェントン試薬で水酸化ラジカルを発生させて水溶液試料の還元力による水酸化ラジカルの減少をＥＳＲスペクトルで確認することを試みたが明確な差が認められなかった。これらのことから電解還元水中の水素ラジカルの濃度が低いために検出感度が低い方法では検出が困難と考えられた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は水または水溶液に存在する水素ラジカルを高精度で検出する方法及びその定量分析方法を提供する。発明者は大量の水試料を中和し、ラジカルトラップ剤である３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）と反応させた後、ロータリーエバポレーターで濃縮することを試みた。その結果活性酸素消去活性の認められた電解還元水試料においては橙色の着色が認められた。しかし超純水（Milli Q水）や他のミネラルウォーターや水道水では着色が認められなかった。このことはＤＢＮＢＳが電解還元水中の活性水素と反応し新たに着色物質を作るからではないかと考えられた。この現象を利用し、水溶液中の水素ラジカルを高精度で検出できると考え、水素ラジカルの検出法及び定量分析の開発を行なった。本発明は上記知見に基くもので、電解還元水等にラジカルトラップ剤として３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）を使用して、水素ラジカルの検出、及び定量分析方法を提供する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は水、または水溶液中の水素ラジカルの検出方法であって、試料に３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）を添加し、水素ラジカルとの反応によりＤＢＮＢＳアゾ化合物を生成し、その吸収特性に基く着色によって水素ラジカルを検出する方法である。
【００１０】
ここで前記水、または水溶液は電解還元水が好適に用いられる。
また前記着色は３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）が水素ラジカルと反応し、ＤＢＮＢＳアゾ化合物を生成する着色反応を利用する。そして、着色は波長が４２５〜４５０ｎｍの吸収ピークに起因する。
【００１１】
本発明は、また次の（１）〜（４）の工程よりなる水または水溶液中の水素ラジカルの定量分析方法である。
（１）  ５１７ｎｍ近傍に吸収を有する１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジル（ＤＰＰＨ）の溶液に、白金黒存在下で一定の速度で水素ガスを吹込み、５１７ｎｍ近傍の吸光度の減少と水素ガスの吹込み時間との相関のグラフを求める（検量線Ａの作成）。
（２）  システィンとＤＰＰＨを反応させ、ＤＰＰＨの５１７ｎｍ近傍における吸光度の減少とシスティン濃度との相関のグラフを求める（検量線Ｂの作成）。なお、ここでシスティンにかえてアスコルビン酸などの還元剤を用いることができる。
（３）  ３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）の溶液に前記（１）と同一条件で白金黒存在下で一定の速度で水素ガスを一定の時間吹込んだ後、４５０ｎｍ近傍の吸光度を測定し、その吸光度の値と検量線Ａ及び検量線Ｂより算出した水素ガスの吹込み時間あたりの水素ラジカル発生濃度との相関のグラフを求める（検量線Ｃの作成）。
（４）  試料に３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）を添加し、４５０ｎｍ近傍の吸光度を測定し、その吸光度の値から前記検量線Ｃを用いて水素ラジカルの濃度を読み取る。
【００１２】
ここで水または水溶液は１０〜５００倍の水素ラジカル濃度になるように濃縮されることが好ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明で水素ラジカルの検出方法は次の反応に基く、光吸収特性を利用するものである。即ち、３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩（ＤＢＮＢＳ）が水素ラジカルと反応し、ＤＢＮＢＳアゾ化合物を生成する。そしてＤＢＮＢＳアゾ化合物は波長が４２５〜４５０ｎｍの吸収ピークを有するため、その着色によって水素ラジカルを検出できる。
【００１４】
【化１】
0003657535.tif 000002
【００１５】
反応式で示すと、ＤＢＮＢＳ（式Ａ）は水又は水溶液中の水素ラジカルと反応して、ＤＢＮＢＳ−Ｈ・（式Ｂ）となり、その２分子が反応して二量体（式Ｃ）を生成する。その後加熱下で脱水してＤＢＮＢＳアゾキシ化合物（式Ｄ）が生成する。更に１個の酸素がとれて安定なＤＢＮＢＳアゾ化合物（式Ｅ）が生成する。このＤＢＮＢＳアゾ化合物に由来する４２５〜４５０ｎｍの吸収を検出することにより、水素ラジカルの定性分析が可能となる。上記式Ａ〜式Ｅの一連の反応は発明者によって初めて見出された新規な反応であるが、ニトロベンゼン及びニトロソベンゼンの還元反応によりアゾキシベンゼン及びアゾベンゼンを生じる類似の反応が知られている。（A.Streitwieser,Jr.&C.H.Heathcock:Introduction to Organic Chemistry,pp960-965,Macmillan Publishing co.,Inc.,New York(1976)）。アゾキシベンゼンとアゾベンゼンは酸化還元反応により相互に変換されうる。
【００１６】
次に水又は水溶液中の水素ラジカルの定量分析は次の方法による。
ＤＰＰＨは５１７ｎｍの波長に特異吸収を有する安定なフリーラジカルである。ＤＰＰＨは水素ラジカルと定量的に反応し、５１７ｎｍの吸収が消失する。一方、白金黒（粒状白金）は大きな表面積を有し、ガス状の水素分子を水素ラジカル（原子状水素）に変換してそれを保持する。そのため溶液中で白金黒の存在下で水素ガスを吹込むことにより、容易に水素ラジカルを発生させることができる。そこで白金黒存在下で所定濃度のＤＰＰＨ水溶液に水素ガスを吹込み、その吹込み時間とＤＰＰＨの５１７ｎｍでの吸光度の減少との関係を示す検量線（Ａ）が作成できる。
【００１７】
次に、水素ガスの吹き込み時間あたりの水素ラジカルの発生濃度を算出する為に、定量的に反応することが知られている還元性物質システィンと、ＤＰＰＨを反応させ、システィン濃度とＤＰＰＨの５１７ｎｍ近傍における吸光度の減少との関係を示す検量線（Ｂ）を作成する。１モルのシスティンが１モルの水素ラジカルに相当すると仮定して、検量線（Ａ）から水素ガスの吹き込み時間あたりに発生した水素ラジカル濃度を算出する。
【００１８】
一方、前述の如くＤＢＮＢＳ（式Ａ）は水素ラジカルと反応して、式Ｂのジヒドロキシ中間体（ＤＢＮＢＳ−Ｈ・）及びその二量体（式Ｃ）を経てＤＢＮＢＳアゾ化合物（式Ｄ）を生成する。そしてＤＢＮＢＳアゾ化合物の４５０ｎｍ近傍における特異吸収を定量分析に使用する。白金黒存在下で水素ガスを吹き込むと水素ラジカルが発生することは前述のとおりであり、したがって、４５０ｎｍ近傍の吸光度と水素ガスの吹込み時間の関係を求めることにより、検量線（Ａ）及び検量線（Ｂ）を用いて４５０ｎｍ近傍の吸光度と水素ラジカルの濃度の関係を示す検量線（Ｃ）を求めることができる。
【００１９】
そこで試料中の水素ラジカル濃度を求めるには、試料溶液に所定濃度のＤＢＮＢＳを添加し、ＤＢＮＢＳと水素ラジカルを反応させＤＢＮＢＳアゾ化合物を生成させた後、その４５０ｎｍ近傍の吸光度を測定し、前記検量線（Ｃ）から水素ラジカル濃度を測定する。
【００２０】
試料として電解還元水を用いる場合、これを１０〜５００倍に濃縮して使用することが好ましい。例えば電解還元水１２５ｍｌにＤＢＮＢＳ保存液を２００μｌ添加し、攪拌した後、ロータリエバポレーターで６０℃の恒温槽にて濃縮乾固する。これを１ｍｌの超純水（Milli Q水）で濃縮乾固物を溶解して回収する。次に６０℃恒温槽にて約１時間保温し、氷上に５分間静置し例えば１２，０００ｒｐｍで遠心分離して上清を得る。
【００２１】
【実施例】
実施例１：  ＤＢＮＢＳを用いた白金黒−水素による水素ラジカル発生の検出
１−１  試薬
ＤＢＮＢＳはラボテック（株）製を、白金黒は石福金属鉱業（株）製を、水素ガスは大洋サンソ（株）製を使用した。ＤＢＮＢＳは超純水（Milli Q水）に１２．５ｍｇ／ｍｌの濃度で溶解し４℃に保存し、２週間以内に使い切るようにした。
【００２２】
１−２  白金黒−水素による水素ラジカル発生
水素ガスは白金表面上で原子状の水素になる。そこで０．０１ｍｇ／ｍｌの白金黒を含む２．５ｍｇ／ｍｌのＤＢＮＢＳ溶液２０ｍｌに４５ｍｌ／ｍｉｎの吹き込み速度で水素ガスを吹きこんだ。５分、１０分、１５分、３０分、４５分、６０分後にそれぞれ２００μｌずつ回収し１２，０００ｒｐｍ、５分間遠心分離後、上清を６０℃の恒温槽にて１時間保温した。コントロールとしては水素ガスを吹き込ませなかったものを６０℃時間保温処理した。
【００２３】
１−３  水素ラジカルの検出
反応後のコントロールのＤＢＮＢＳ水溶液をキャリブレーションし、ＤＢＮＢＳ自身の吸光度を０とし、各ＤＢＮＢＳ試料の３５０〜６００ｎｍの波長をスキャンし差スペクトルを得た。この差スペクトルの測定は白金黒−水素処理によってＤＢＮＢＳが新たな物質に変化したことを検出するためである。また白金黒−水素処理によって生成する水素ラジカルにＤＢＮＢＳが特異的に反応するかを調べるために白金黒のみ、水素ガスのみ、窒素ガスのみ、白金黒−窒素ガス処理した試料も行なった。
【００２４】
白金黒−水素反応によって得られたＤＢＮＢＳアゾ化合物の試料の吸収スペクトルは図１（Ｐｔ−Ｈ2）に示す如く、４２５ｎｍから４５０ｎｍにピークを持つなだらかな可視吸収スペクトルを示した。それらの試料はオレンジ色に着色していた。このことは白金黒−水素処理によってＤＢＮＢＳが新たなオレンジ色の着色物質であるＤＢＮＢＳアゾ化合物に変化したことを示す。そしてそのピークの高さは図２に示される如く、吹き込んだ水素ガス量に依存して増加していき、４５分間吹き込みにおいて最大となり、その後は減少した。
【００２５】
また白金黒−水素反応特異性を調べるために行なった白金黒のみ、水素ガスのみ、窒素ガスのみ、白金黒−窒素ガス処理した試料では全く着色が認められず、紫外部吸収においても波形に変化が認められなかった。水素ラジカルと反応して得られたものの吸収スペクトルの４５０ｎｍにおける吸光値を水素ラジカル反応値（ＡＨ値）とした。
【００２６】
実施例２：  ＤＢＮＢＳを用いた電解還元水中の水素ラジカルの検出
２−１  試薬
実施例１と同じものを用いた。
【００２７】
２−２  電解還元水
０．０１％ＮａＣｌ水を日本トリム社製の電解還元水装置ＴＩ−８０００でレベル４（５Ａ）で電解還元し、陰極側の電解還元水を得た。
【００２８】
２−３  水素ラジカルの検出
電解還元水１２５ｍｌにＤＢＮＢＳ保存液を２００μｌ添加し、攪拌した後、ロータリエバポレーターで６０℃の恒温槽にて濃縮乾固した。１ｍｌの超純水（Milli Q水）で濃縮乾固物を溶解し、回収した。次に６０℃恒温槽にて１時間保温し、氷上に５分間静置し、１２，０００ｒｐｍで遠心分離し、上清を得た。コントロールとして上記超純水で同様に行なったＤＢＮＢＳ試料をキャリブレーションし、ＤＢＮＢＳ試料の３５０〜６００ｎｍの波長をスキャンして差スペクトルを得た。
【００２９】
実施例１で求めた吸収スペクトルと同様のスペクトルが電解還元水において認められ（図１：電解還元水）、電解還元水中に水素ラジカルが存在することが確認された。
【００３０】
実施例３：  電解還元水の濃度と水素ラジカル反応値の関係及び電解強度と水素ラジカル反応値の関係
電解還元水の濃度と水素ラジカル量の相関関係があるかどうかを試験した。電解還元水を超純水（Milli Q水）で希釈して、それぞれ試料の水素ラジカル反応値を測定した。また電解強度と水素ラジカル反応値との関係を調べるためにＮａＣｌ濃度が０．０００１％から０．０１％までの水を用意し、それぞれを電解還元した水の活性水素反応を測定した。電解還元水は日本トリム社製の電解還元水装置ＴＩ−８０００でレベル４（５Ａ）で電解還元し、陰極側の還元水を得た。
【００３１】
電解還元水の％体積が２５、５０、７５、１００％の水を希釈により作成し、水素ラジカル反応値を測定したところ、図３に示す如く電解還元水の濃度とともに水素ラジカル反応値が上昇していたので、この測定系は電解還元水の試料においても定量性があることが明らかとなった。また電気分解で電解還元水を得る際の電解強度を変化させた水溶液を作成するために、水溶液の塩濃度（ＮａＣｌ濃度）を変えて得られた電解還元水においては図４に示す如く、電解強度（ＮａＣｌ濃度）とともに水素ラジカル反応値も上昇した。このことは電解強度を強くすることによって水素ラジカルも多く発生することを意味する。
【００３２】
実施例４：  水素ラジカルとＤＢＮＢＳとの反応過程の解析
４−１  試料
ＤＢＮＢＳはラボテック（株）製、白金黒粉末Ｍタイプは石福金属鉱業（株）、水素ガスは大洋サンソ（株）製のものをそれぞれ用いた。
【００３３】
４−２  ＤＢＮＢＳの反応
０．０１ｍｇ／ｍｌの白金黒を含む２．５ｍｇ／ｍｌのＤＢＮＢＳ溶液２０ｍｌに４５ｍｌ／ｍｉｎの吹き込み速度で水素ガスを１時間吹き込み、加熱処理しないものと、６０℃で１時間加熱処理したものを氷冷し反応を停止させたものを分析試料に用いた。
【００３４】
４−３  分析試料の調整
（１）  高速液体クロマトグラム（ＨＰＬＣ）分析試料
分析試料をそれぞれ０．４５μｍのフィルタで濾過し、その２０００μｌを用いた。
【００３５】
（２）  ＮＭＲ、ＴＯＦ−ＭＡＳＳ分析における分析試料
ＨＰＬＣより、分離した非加熱処理である反応中間体は、無水酢酸（和光純薬（株）製）を用いアセチル化し安定化させたものを用い、加熱処理により分離されたアゾ化合物は、再度ＨＰＬＣ分取することにより分離度を完全なものにして用いた。
【００３６】
（３）  微量元素分析における分析試料
非加熱処理の反応中間体はＨＰＬＣより分離したもの用い、加熱処理により分離されたアゾ化合物はＮＭＲ、ＴＯＦ−ＭＡＳＳ分析と同様のものを用いた。
【００３７】
４−４  機器測定条件
（１）  ＨＰＬＣはWaters社のWaters600E、移動相はMilli-QWater、流速は５ｍｌ／ｍｉｎ、注入量は、Waters717のオートサンプラーで採取した２０００μｌ、カラムはWaters社製Nova-Pak  Ｃ１８  １９×３００ｍｍを用いた。また検出器にはWaters社のWaters996フォトダイオードアレイ検出器を用い２００−６００ｎｍの波長領域において１．２ｎｍ間隔でデータを取込んだ。スペクトルクロマトグラムによる解析は、コンパックＶ７００パーソナルコンピュータを用いミレニアム３２（Waters社）で作成したプログラムで行なった。
【００３８】
（２）  ＴＯＦ−ＭＡＳＳ分析計は、Voyager（パーセプティブ、バイオシステム社）を使用した。Voyagerは、窒素レーザ（３３７ｎｍ）を搭載した、加速電圧２０ｋＶのレーザイオン化飛行時間型質量分析装置である。加速電圧は、２０ｋＶを使用し、飛行モードはリニアモードで分析を行なった。マトリックスは、２−（４−ヒドロキシ−フェニルアゾ）−安息香酸（ＨＡＢＡ）（アルドリッチケミカル社製）１．３ｍｇを、５０：５０水・アセトニトリル１ｍｌに溶解し使用した。試料スライドに０．５μｌの試料を塗布して自然乾燥した後、同量のマトリックス溶液を添加し、再度自然乾燥してイオン源に導入した。
【００３９】
（３）  ＮＭＲは、４００ＭＨｚ  ＮＭＲ（ＪＥＯＬ  ＪＮＭ−ＧＳＸ４００ＮＭＲシステムスペクトロメータ）を使用し、1Ｈ−ＮＭＲ測定を行なった。溶媒として、ジメチルスルフォキサイド（ＤＭＳＯ）（和光純薬（株）製）及びデュートリウムオキシド（Ｄ2Ｏ）（アルドリッチケミカル社製）を使用した。
【００４０】
４−５  解析結果
（Ａ）  高速液体クロマトグラム（ＨＰＬＣ）測定結果
（ｉ）  分析試料（１）
０．０１ｍｇ／ｍｌの白金を含む２．５ｍｇ／ｍｌのＤＢＮＢＳ溶液２０ｍｌに４５ｍｌ／ｍｉｎの吹き込み速度で水素ガスを１時間吹き込み、０．４５μｍのフィルタで濾過し、その２０００μｌをフォトダイオードアレイ検出器付きＨＰＬＣ用いて、非加熱処理の試料を測定した。その測定結果を図５に示す。図５において非加熱処理のＤＢＮＢＳ反応物の保持時間約９．０分に認められるピークは図６にその紫外可視吸収スペクトルを示したように、２２０ｎｍに吸収ピークを示し、４５０ｎｍには吸収を示さなかった。これは式Ｃに示される二量体に相当すると推定された。
【００４１】
（ii）  分析試料（２）
０．０１ｍｇ／ｍｌの白金を含む２．５ｍｇ／ｍｌのＤＢＮＢＳ溶液２０ｍｌに４５ｍｌ／ｍｉｎの通気速度で水素ガスを１時間吹き込み、６０℃で１時間加熱処理したものを氷冷し反応を停止させたものを０．４５μｍのフィルタで濾過し、その２０００μｌをフォトダイオードアレイ検出器付きＨＰＬＣ用いて、加熱処理の試料を測定した。測定結果を図７に示す。図７において加熱処理のＤＢＮＢＳ反応物の保持時間８．５分に認められるピークは図８にその紫外可視吸収スペクトルに示したように、３２０ｎｍ及び４５０ｎｍに吸収ピークが認められ、既知のアゾベンゼンに類似した紫外線吸収スペクトルを示した。これは式Ｅで示されるＤＢＮＢＳアゾ化合物に相当する。
【００４２】
（Ｂ）  マススペクトル（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ）の測定結果
（ｉ）  分析試料（１）
上記ＨＰＬＣ測定において得られた、２８０ｎｍに吸収を有する非加熱処理ＤＢＮＢＳ反応物を、マススペクトル（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ）を用いて測定した。
【００４３】
アセチル化した２８０ｎｍに吸収を持つ非加熱処理のＤＢＮＢＳ反応物のマススペクトルは図９に示す如くｍ／ｚ６７５．４４９にイオンピークが示され、これは中間体（式Ｃ）よりＢｒ及びＮａが１つ脱離し、式Ｃの中間体のヒドロキシル基が１つアセチル化したものと一致した。
【００４４】
（ii）  分析試料（２）
上記ＨＰＬＣ測定において得られた４５０ｎｍに吸収を有する加熱処理ＤＢＮＢＳ反応物をマススペクトル（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ）を用いて測定した。
【００４５】
４５０ｎｍに吸収を有する加熱処理のＤＢＮＢＳ反応物のマススペクトルが図１０に示す如くｍ／ｚ６５６．３２９にイオンピークが示され、Ｎａが２つ脱離したＤＢＮＢＳアゾ化合物（式Ｅ）と一致した。
【００４６】
（Ｃ）  ＮＭＲ測定結果
（ｉ）  分析試料（１）
上記ＨＰＬＣ測定において得られた、２８０ｎｍに吸収を有する非加熱処理ＤＢＮＢＳ反応物を、1Ｈ−ＮＭＲを用いて測定した結果を図１１に示す。図１１からアセチル化した２８０ｎｍに吸収を有する非加熱処理ＤＢＮＢＳ反応物のスペクトルが示されている。コントロールとしてアセチル化に用いた無水酢酸を同様にＨＰＬＣ分取により採取したものを測定した。コントロールの無水酢酸のメチル基が２．５ｐｐｍにシグナルを示したのに比較して、ケミカルシフト２．０ｐｐｍにメチル基の存在が示されたことにより、非加熱処理ＤＢＮＢＳ反応物のヒドロキシル基と無水酢酸が直接反応が生じたことを示している。
【００４７】
（ii）  分析試料（２）
上記ＨＰＬＣ測定において得られた、４５０ｎｍに吸収を有する加熱処理ＤＢＮＢＳ反応物を、1Ｈ−ＮＭＲを用いて測定した結果を図１２に示す。ＤＢＮＢＳが８．０ｐｐｍに１本のシグナルを示したのに比較して、４５０ｎｍに吸収を有する加熱処理のＤＢＮＢＳ反応物のプロトン、ケミカルシフトは６．６〜６．８ｐｐｍであり、６．７５７５ｐｐｍ及び６．６３４ｐｐｍのシグナルは左右にさらに１本づつの対称なシグナルに分裂している。これはアゾ基の形成にともなって、メタ位のプロトンが非対称となり、さらにプロトン間にカップリングが生じたことを示している。
【００４８】
（Ｄ）  微量元素分析結果
（ｉ）  分析試料（１）
上記ＨＰＬＣ測定において得られた、２２０ｎｍに吸収ピークを有する非加熱処理ＤＢＮＢＳ反応物を、微量元素分析した。炭素含量１９．９３％（計算値１９．３５％）、水素含量１．６１％（計算値１．６１％）、窒素含量３．７６％（計算値３．７６％）となった。これは中間体の３水和物より、Ｎａが２つ脱離したものと一致する。
【００４９】
（ii）  分析試料（２）
上記ＨＰＬＣ測定において得られた、４５０ｎｍに吸収を有する加熱処理ＤＢＮＢＳ反応物を、微量元素分析した。
炭素含量２１．５３％（計算値２１．４３％）、水素含量１．７３％（計算値１．７９％）、窒素含量３．８４％（計算値４．１７％）となった。これはＤＢＮＢＳアゾ化合物の４水和物より、Ｂｒ及びＮａが１つずつ脱離したものと一致する。
実施例５：  水素ラジカルの定量分析
５−１  検量線Ａの作成（１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジル（ＤＰＰＨ）と水素ガス吹込み時間との関係）
０．１Ｍの酢酸緩衝液（ｐＨ５．５）１．９６ｍｌにエタノール及び０．５ｍＭのＤＰＰＨ・エタノール溶液１ｍｌと１．０ｍｇ／ｍｌの白金黒・酢酸緩衝液０．０５ｍｌを加えて全量を５ｍｌとし、４５ｍｌ／ｍｉｎの速度で水素ガスを吹込み、一定の時間ごとに２００μの試料を採取し、ＤＰＰＨの特異吸収である５１７ｎｍの吸光度を測定し、吸光度の減少と吹込み時間の関係を示すグラフ（検量線Ａ）として図１３を得た。
【００５０】
５−２  検量線Ｂの作成
０〜１００μＭのシスティンとＤＰＰＨを反応させ、ＤＰＰＨの５１７ｎｍ近傍における吸光度の減少と、システィン濃度との相関のグラフを求めた。検量線Ｂのグラフとして図１４を得た。
【００５１】
５−３  検量線Ｃの作成（３，５−ジブロモ−４−ニトロソベンゼンスルフォン酸のナトリウム塩アゾ化合物（ＤＢＮＢＳアゾ化合物）の吸光度と水素ラジカル濃度の関係）
０．０１ｍｇ／ｍｌの白金を含む２．５ｍｇ／ｍｌのＤＢＮＢＳ溶液５ｍｌに４５ｍｌ／ｍｉｎの速度で水素ガスを吹込み、ＤＢＮＢＳと水素ラジカルを反応させながら、一定の時間ごとに２００μｌの試料を採取し、６０℃で１時間加温後、ＤＢＮＢＳと水素ラジカルの反応生成物であるＤＢＮＢＳアゾ化合物の特異吸収である４５０ｎｍの吸光度を測定し図１５に示す検量線Ｃを作成した。
【００５２】
５−４  試料中の水素ラジカル濃度の測定
（１）  試料調製
電解還元水をｐＨ７．０に調製し、その製造条件によりレベル１〜レベル４の試料を調製した。ここで電解還元水は隔膜で隔てられた陰極室と陽極室のそれぞれにＮａＯＨを含む水溶液を導入し、陰極と陽極の間に通電し、前記ＮａＯＨ水溶液を電気分解し、前記陰極室で得られたものである。これらの酸化還元電位（ＯＲＰ）及びｐＨを表１に示す。対照例として超純水（Milli Q水）を用いた。
【００５３】
１２５ｍｌのMilli Q水、レベル１〜４の電解還元水のそれぞれにＤＢＮＢＳストック溶液（１２．５ｍｇ／ｍｌ）を２００μｌ加えて、１２５倍に減圧濃縮した。Milli Q水１ｍｌで濃縮後のナス型フラスコの内壁を洗い、しばらく静置し溶液を回収した。回収後の溶液を６０℃湯浴中（遮光）で加熱し、その後氷中で冷却し反応を停止した。回転速度１２０００ｒｐｍで５分間、遠心分離して上澄を採取した。
【００５４】
（２）  吸光度の測定
上記試料の周波数４５０ｎｍの吸光度を測定した。測定は同じ試料について、それぞれ三個の試料を用いて測定し、その平均値を求めた。吸光度の測定結果を表１に示す。ＨＰＬＣを用いた分析の結果、電解還元水とＤＢＮＢＳとの反応の結果、生じた着色物質は、白金黒存在下で水素ガスを吹き込んだ際に生成するＤＢＮＢＳアゾ化合物と同一物質であることが、溶出位置及び紫外線可視吸収スペクトルから同定された。
【００５５】
（３）  水素ラジカル濃度の測定
コントロールとして用いたＤＢＮＢＳのMilli Q水溶液の４５０ｎｍでの平均吸光度０．０３５８を各レベルの試料の吸光度を差し引き、その差の吸光度の値から、検量線（Ｃ）を用いて、水素ラジカル濃度を求めた。なお１２５倍に濃縮した電解還元水は水素ラジカル濃度がレベル１〜４で７〜３４μＭ（μｍｏｌ／ｌ）の範囲である。
【００５６】
【表１】
0003657535.tif 000003
【００５７】
今回開示された実施の形態及び実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００５８】
【発明の効果】
上述の方法を採用すれば、水もしくは水溶液中での水素ラジカルの微量の存在が検出できるとともに、その濃度も正確に測定することが可能となる。特にこの分析手法を採用することで、電解還元水における水素ラジカルの濃度を容易かつ正確に定量することが可能となる。したがってこの分析手法を用いることにより各種製品の用途に応じた水素ラジカル（活性水素）の濃度を調整した電解還元水を製造できる。さらに水素吸蔵合金の性能評価にも利用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  ＤＢＮＢＳアゾ化合物の吸収特性を示すグラフである。
【図２】  ４５０ｎｍにおける水素ガス吹き込み時間と吸光度の関係を示すグラフである。
【図３】  電解還元水と水素ラジカル反応値の関係を示すグラフである。
【図４】  塩化ナトリウム濃度と水素ラジカル反応値の関係を示すグラフである。
【図５】  ＤＢＮＢＳ非加熱処理反応物のＨＰＬＣ測定結果を示すチャートである。
【図６】  ＤＢＮＢＳ非加熱処理反応物の紫外可視吸収スペクトルを示すチャートである。
【図７】  ＤＢＮＢＳ加熱処理反応物のＨＰＬＣ測定結果を示すチャートである。
【図８】  ＤＢＮＢＳ加熱処理反応物の紫外可視吸収スペクトルを示すチャートである。
【図９】  ＤＢＮＢＳ非加熱処理反応物のマススペクトル測定チャートである。
【図１０】  ＤＢＮＢＳ加熱処理反応物のマススペクトル測定チャートである。
【図１１】  ＤＢＮＢＳ非加熱処理反応物のＮＭＲスペクトル測定チャートである。
【図１２】  ＤＢＮＢＳ加熱処理反応物のＮＭＲスペクトル測定チャートである。
【図１３】  検量線Ａを示すグラフである。
【図１４】  検量線Ｂを示すグラフである。
【図１５】  検量線Ｃを示すグラフである。
【図１】
0003657535.tif 000004
【図２】
0003657535.tif 000005
【図３】
0003657535.tif 000006
【図４】
0003657535.tif 000007
【図５】
0003657535.tif 000008
【図６】
0003657535.tif 000009
【図７】
0003657535.tif 000010
【図８】
0003657535.tif 000011
【図９】
0003657535.tif 000012
【図１０】
0003657535.tif 000013
【図１１】
0003657535.tif 000014
【図１２】
0003657535.tif 000015
【図１３】
0003657535.tif 000016
【図１４】
0003657535.tif 000017
【図１５】
0003657535.tif 000018