(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を注入させるための液体注入口と、該液体注入口から注入された液体を幅方向に拡散させるための空洞部と、該空洞部内の液体を一定の厚みにして幅方向と直交する下方向に流出させるためのスロットとを塗布ヘッドに備えてなる液体塗布装置において、
前記スロットの先端開口部の対向する両壁面は、これら両壁面により挟まれる空間が液体の吐出方向に漸次広がるように互いに反対方向に傾斜する傾斜面とされ、
前記傾斜面は、親水性の表面材質にされ、前記傾斜面より外方側に連なる前記塗布ヘッドの下端面は、撥水性の表面材質にされて、これら親水性の表面材質と撥水性の表面材質との境界が、前記塗布ヘッドの幅方向に沿って形成されたことを特徴とする液体塗布装置。
【請求項２】
前記スロットの先端開口部の対向する両壁面のうちのいずれか一方もしくは双方には、前記塗布ヘッドの幅方向に向かう線条痕が形成されたことを特徴とする請求項１に記載の液体塗布装置。
【請求項３】
前記傾斜面は、凸または凹の曲面で構成されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の液体塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本願の発明は、半導体基板や液晶基板等の基板の表面に均一な膜厚で液体を塗布するためのスロット型の液体塗布装置に関し、特に塗膜の端部の膜厚の増大を防止して、膜厚の均一性を向上させた液体塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体基板や液晶基板等の基板に塗布されるレジスト液やクロム塗布液等の塗膜の膜厚のバラツキ（塗布ムラ）は、配線幅のバラツキに直接結びつく。従来は、バラツキの少ない均一な膜厚を得るために、スピンコータが使用されていたが、このスピンコータは、多量の塗布液を消費する問題があった。
【０００３】
他方、スロットコータ（カーテンコータ、ダイコータ等のスロット型液体塗布装置）の使用は、少量の塗布液ですみ、低コストであるが、膜厚のバラツキが大きく、膜厚の均一化の問題が残されていた。特に塗り始めの膜厚にバラツキが大きく、いわゆる線引きがあり、それが塗り始めだけでなく、全体に渡って引きずられて、基板全領域の膜厚のバラツキに影響していた。
【０００４】
塗り始めの状態を良くしたり、膜厚を均一にする手段としては、スロットの隙間を塗布ヘッドの幅方向の全域に渡って均一にすることが第一であり、そのために様々な工夫が成されてきたものの、なお、いくつかの問題が残されている。例えば、スロットの先端開口部（ノズル口）の隙間は数１０ミクロンであり、開口の内壁面を数ミクロン以下の面精度で機械研磨を行なうには、限界がある。また、開口の幅の精度に影響を与える部品の組立精度についてみれば、塗布ヘッド（スロットノズル）の各部品を組み合わせて、どのように組立精度を高めるかの問題があり、さらに、そのための調整も精密なものとなっていた。
【０００５】
また、一般に、塗布ヘッドに塗布液を供給してスロットの先端開口部から液を流出させるに際しては、塗布開始前、図８（ａ）に図示されるように、スロット０２７  の先端開口部０２８  に液ダレが生じ、この液ダレは、塗布ヘッド０２０  の幅方向（長さ方向）に複数の液玉０２９  が作られた状態を呈する。これによって、塗り始めの５〜１０ｍｍ程度の範囲においては、図８（ｂ）に濃い点模様で図示されるように、線引きが行なわれ、Ａ−Ａ位置での膜厚分布は、図８（ｃ）のＡ−Ａ断面図に示されるような形状となり、かなり大きな膜厚のバラツキがある。また、塗り始め以外の位置であるＢ−Ｂ位置でも、図８（ｃ）のＢ−Ｂ断面図に示されるように、ある程度の膜厚のバラツキが残る。これは、塗り始めの線引きが後まで影響することによる。
【０００６】
過去の特許出願例として、例えば、特開平１１−５７５３３号公報に記載のものにおいては、その液玉をできるだけ小さくしようとして、スロットの液が流出する側の先端開口部の壁面に多数の細かい縦溝（線条痕）を設けたり、液玉自体が生成されないように、同スロットの先端開口部の直下に幅方向にワイヤーを設ける等の試みが成されている。
【０００７】
しかしながら、これらの試みにもかかわらず、従来の方法では、塗膜の端部にまで渡って膜厚のバラツキ（塗布ムラ）の少ない、均一な膜厚の塗膜を得ることができず、実用に耐え得るスロット型の液体塗布装置を得るまでには至っていない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本願の発明は、従来のスロット型の液体塗布装置が有する前記のような問題点を解決して、塗膜の端部に至るまで膜厚のバラツキ（塗布ムラ）の少ない、均一な膜厚の塗膜を得ることができる、この種液体塗布装置を提供することを課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段および効果】
本願の発明は、前記のような課題を解決した液体塗布装置に係り、その請求項１に記載された発明は、液体を注入させるための液体注入口と、該液体注入口から注入された液体を幅方向に拡散させるための空洞部と、該空洞部内の液体を一定の厚みにして幅方向と直交する下方向に流出させるためのスロットとを塗布ヘッドに備えてなる液体塗布装置において、前記スロットの先端開口部の対向する両壁面は、これら両壁面により挟まれる空間が液体の吐出方向に漸次広がるように互いに反対方向に傾斜する傾斜面とされ、前記傾斜面は、親水性の表面材質にされ、前記傾斜面より外方側に連なる前記塗布ヘッドの下端面は、撥水性の表面材質にされて、これら親水性の表面材質と撥水性の表面材質との境界が、前記塗布ヘッドの幅方向に沿って形成されたことを特徴とする液体塗布装置である。
【００１０】
請求項１に記載された発明は、前記のように構成されているので、次のような効果を奏することができる。
塗布ヘッドが備えるスロットの先端開口部（ノズル口）の対向する両壁面は、これら両壁面により挟まれる空間が液体の吐出方向に漸次広がるように互いに反対方向に傾斜する傾斜面とされるので、スロットの対向する両壁面の垂直部分から、これら両壁面の下縁が塗布ヘッドの下端面に接続される部分に至るまでの間に、傾斜面が介在することになり、吐出液のスロット先端開口部壁面に対する接触角の方向も、同様に三段階で変化することになる。これにより、塗布液吐出時の液の安定性が向上して、液玉ができにくくなり、塗布ヘッドの幅方向における塗膜の膜厚の不均一性が低減される。
【００１１】
また、前記のような傾斜面が形成されることによって、両傾斜面により挟まれる液体の吐出方向に漸次広がる空間部分は、ビードを形成する準備を行う場所を与えることになり、この空間部分があることによって初めてビードの生成が可能になるとともに、生成されたビードは、その空間部分の凹部に埋没されて、その形状が安定に保持される。さらに、傾斜面は、親水性の表面材質にされ、該傾斜面より外方側に連なる塗布ヘッドの下端面は、撥水性の表面材質にされて、これら親水性の表面材質と撥水性の表面材質との境界が塗布ヘッドの幅方向に沿って形成されているので、ビードができる際に、吐出液面がスロットの先端開口部と接触する最前線がその境界を越えると、ビードの形成のために吐出液面が立ち上がり、吐出液の開口部壁面に対する接触角が急激に増大するが、内側に傾斜面があるので急激な立上がりが避けられ、また、外側の撥水性表面材質により外方へのはみ出しも防がれて、ビードの生成時に、ビードの安定性が得られる。これらにより、液玉の発生がさらに効果的に抑制されて、塗布ヘッドの幅方向における塗膜の膜厚の不均一性がさらに低減される。
【００１２】
このように、二重、三重に塗布液吐出時のビードの生成に安定性が得られ、生成されたビードの形状が安定に保持されて、液玉の発生が効果的に抑制されるので、塗布液の安定性が大きく向上して、塗布ヘッドの幅方向における塗膜の膜厚の不均一性が大きく低減され、塗り始めの膜厚のバラツキが非常に小さくなり、また、塗り始め以外の位置では、さらに小さくなり、塗膜の端部にまで渡って膜厚の均一性が著しく向上する。また、塗布液の安定性が大きく向上するので、膜厚の制御が容易になる。
【００１３】
また、請求項２に記載のように請求項１に記載の発明を構成することにより、スロットの先端開口部の対向する両壁面のうちのいずれか一方もしくは双方には、塗布ヘッドの幅方向に向かう線条痕が形成される。
【００１４】
この結果、スロットの先端開口部（ノズル口）の空間拡大部（液だまり部）に存在する吐出液は、先端開口部の壁面とより広い接触面積を得て、液がこの壁面によってより強く保持されることになる。これにより、ビードの生成にさらに安定性が得られ、生成されたビードの形状がさらに安定に保持されて、液玉の発生がさらに効果的に抑制され、塗布液の安定性がさらに向上するので、請求項１に記載の発明が奏する前記のような効果がさらに助長される。
【００１５】
さらに、請求項３に記載のように請求項１または請求項２に記載の発明を構成することにより、傾斜面は、凸または凹の曲面で構成される。
【００１６】
この結果、塗布液の種類により安定してビードが形成できるよう傾斜面の形状が凹凸選択されれば、スロットの先端開口部（ノズル口）の金属表面の方向が徐々に連続的に変化するので、塗布液表面の金属表面に対する接触角の方向も連続的に変化することになり、さらに良好なビードを形成することができて、液玉の発生がさらに効果的に抑制され、塗布液の安定性がさらに向上するので、請求項１または請求項２に記載の発明が奏する前記のような効果がさらに助長される。
【００１７】
【発明の実施の形態】
次に、図１ないし図５に図示される本願の請求項１に記載された発明の一実施形態（実施形態１）について説明する。
図１は、本実施形態１における液体塗布装置の概略斜視図、図２は、同液体塗布装置に使用される塗布ヘッドの横断面図、図３は、同塗布ヘッドの分解斜視図、図４は、塗布液が充填された塗布ヘッドと、同塗布ヘッドによる塗布液の塗布状況とを示す図であって、（ａ）は塗布液が充填された塗布ヘッドのスロット先端開口部に液玉およびビードが形成される状況を示す図、（ｂ）は塗布された塗布液の塗布状況を示す基板の平面図、（ｃ）は（ｂ）のＡ−Ａ、Ｂ−Ｂ位置における塗布液の塗布状況を示す基板の断面図、図５は、同塗布ヘッドのスロット先端開口部にビードが成立する過程を従来例と比較して示す図である。
【００１８】
本実施形態１における液体塗布装置は、半導体基板や液晶基板等の基板の表面に均一な膜厚でレジスト液やクロム塗布液等の液体もしくは液状体（以下、これらを総称して「塗布液」もしくは「液体」という。）を塗布するために使用される。その全体構成は、概略、図１に図示されるように、液体塗布装置１の基台をなすベース２上の中央部寄りにテーブル３が設置されており、該テーブル３の上面に塗布対象物となる基板４が載置されている。ベース２の両側縁には、直角に起立した側壁２ａ  、２ｂ  がそれぞれ形成されており、これらの側壁２ａ  、２ｂ  の上面にレール５ａ  、５ｂ  が敷設されていて、これらのレール５ａ  、５ｂ  にガイドされながら塗布機構部１０が走行して、該塗布機構部１０に昇降自在に備えられている塗布ヘッド２０の下端ノズル部から吐出される塗布液が、塗布機構部１０および塗布ヘッド２０の走行とともに、基板４上に、その塗布始端部から終端部に至るまで満遍なく、一様な膜厚で塗布されるようになっている。
【００１９】
塗布ヘッド２０の下端ノズル部は、基板４の幅（塗布ヘッド２０の走行方向と直交する方向における基板４の長さ）を越える長さを有する細長いノズル部をなし、この細長ノズル部から塗布液が一様に吐出される。塗布ヘッド２０の構造については、後で詳細に説明される。
【００２０】
塗布機構部１０は、左右一対の移動台１１ａ  、１１ｂ  を備えており、これらの移動台１１ａ  、１１ｂ  間にヘッド保持フレーム１２が昇降自在に渡架されており、このヘッド保持フレーム１２に塗布ヘッド２０が取り付けられている。したがって、塗布ヘッド２０は、ヘッド保持フレーム１２が昇降することにより、該ヘッド保持フレーム１２と一体になって昇降する。ヘッド保持フレーム１２は、移動台１１ａ  、１１ｂ  に固定された昇降シリンダ１３ａ  、１３ｂ  に連結されていて、これらの昇降シリンダ１３ａ  、１３ｂが昇降することにより昇降する。
【００２１】
移動台１１ａ  、１１ｂ  の下部には、リニア駆動部１４ａ  、１４ｂ  が取り付けられている（リニア駆動部１４ａ  は図示されず）。これらのリニア駆動部１４ａ  、１４ｂ  には、可動ケーブル１５により電力が供給される。そこで、今、これらのリニア駆動部１４ａ、１４ｂ  に可動ケーブル１５により電力が供給されると、詳細には図示されないが、リニア駆動部１４ａ  、１４ｂ  に設けられている電磁コイルにより励磁される電磁石とベース２の両側壁２ａ  、２ｂ  の上面にレール５ａ  、５ｂ  と平行に敷設された永久磁石１６ａ  、１６ｂ  との間で吸引、反発作用が生じて、移動台１１ａ  、１１ｂ  の推進力が形成され、移動台１１ａ  、１１ｂ  は、レール５ａ  、５ｂ  にガイドされながら、励磁電流の向きに応じて前後いずれかの方向に走行を開始する。移動台１１ａ  、１１ｂ  の下面には、リニアブッシュ１７ａ  、１７ｂ  が固着されており、これらのリニアブッシュ１７ａ  、１７ｂ  がレール５ａ  、５ｂ  に嵌合してスライドすることにより、移動台１１ａ、１１ｂ  は、レール５ａ  、５ｂ  にガイドされながら走行する。
【００２２】
ベース２上のテーブル３より前方（図１において左下方）部分には、詳細には図示されないが、塗布ヘッド２０の交換や、塗布ヘッド２０の下端ノズル部の清掃等のメンテナンス作業を行なう時に使用されるメンテナンス機構部１８が設置されている。
【００２３】
次に、塗布ヘッド２０の構造について詳細に説明する。
塗布ヘッド２０は、図２および図３に図示されるように、２つの分割ヘッド２１、２２とシム２３とからなる。そして、これら２つの分割ヘッド２１、２２の間にシム２３が挟み付けられることにより形成されている。２つの分割ヘッド２１、２２は、それぞれ細長い直方体形状の金属（ステンレス）製ブロックからなり、互いに対向する側寄りの下方部には、鋭角状に突出する歯先部２１ａ  、２２ａ  が形成されている。歯先部２１ａ  、２２ａ  を囲む２つの分割ヘッド２１、２２の下端面は、水平面に形成されている。
【００２４】
シム２３は、図３に図示されるように、コの字形状に打ち抜きされた薄板からなり、そのコの字の凹部２３ａ  は、２つの分割ヘッド２１、２２の間にシム２３が挟み付けられたとき、これら２つの分割ヘッド２１、２２の間にスロット２７を形成する。シム２３の厚さは、このスロット２７の隙間の大きさを決定する。
【００２５】
一方の分割ヘッド21の上部には、その長さ方向（塗布ヘッド20の幅方向）の中央部に、塗布液をなす液体を注入するための液体注入口24が形成され、その長さ方向の両端部寄りに、空気抜き口34がそれぞれ形成さている。また、同じく一方の分割ヘッド21の中間部には、液体注入口24から注入された液体を幅方向に拡散させるための空洞部26が形成されている。そして、これら液体注入口24、空気抜き口34と空洞部26とを連通させるための３個の通孔25が形成されている。空洞部26は、スロット27に連通しており、空洞部26内の液体は、スロット27により一定の厚みにされて、スロット27の下方の先端開口部28から吐出される。このスロット27の先端開口部28は、塗布ヘッド20の下端ノズル部のノズル口を形成する。
【００２６】
スロット２７の先端開口部（ノズル口）２８の対向する両壁面は、これら両壁面により挟まれる空間が液体の吐出方向に漸次広がるように互いに反対方向に傾斜する傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  とされている。
【００２７】
２つの分割ヘッド２１、２２の下部の歯先部分２１ａ  、２２ａ  の外側面は、下方向（液体の吐出方向）に漸次接近するように互いに反対方向に傾斜する傾斜面２１ｂ  、２２ｂ  とされている。そして、これらの傾斜面２１ｂ  、２２ｂ  には、テフロン（登録商標）によるコーティングが施されている。歯先部分２１ａ  、２２ａ  の内側面は、スロット２７の壁面の一部をなし、その下縁を含む下縁近傍部分が、前記した傾斜面２１ｃ、２２ｃ  とされている。
【００２８】
したがって、傾斜面２１ｂ  と傾斜面２１ｃ  とは、下方向に漸次接近するように互いに反対方向に傾斜する傾斜面をなし、それらの下縁は、細長い帯状の水平面部分２１ｄ  を介して隣り合っている。また、傾斜面２２ｂ  と傾斜面２２ｃ  とは、下方向に漸次接近するように互いに反対方向に傾斜する傾斜面をなし、それらの下縁は、細長い帯状の水平面部分２２ｄ  を介して隣り合っている。これらの細長い帯状の水平面部分２１ｄ  、２２ｄ  は、加工上必ず残存するものではあるが、塗布ヘッド２０の下端ノズル部が基板４を傷付けないようにするとともに、後述する吐出液のビード３０を安定に生成するのに役立つ。
【００２９】
しかしながら、傾斜面２１ｂ  、２２ｂ  は、必ずしも傾斜面にされる必要はなく、細長い帯状の水平面部分２１ｄ  、２２ｄ  に続く水平面とされてもよい（傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  は残される。）。この場合には、２つの分割ヘッド２１、２２の下端面の全体が平坦面とされて、歯先部分２１ａ  、２２ａ  は解消される。但し、この場合にあっても、この平坦な下端面の全体もしくは傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  の下縁近傍の所要領域には、テフロン・コーティングが施される。
【００３０】
２つの分割ヘッド２１、２２の歯先部分２１ａ  、２２ａ  の傾斜面２１ｂ  、２２ｂ  もしくは２つの分割ヘッド２１、２２の平坦な下端面の所要領域にテフロン・コーティングが施されるのは、次の理由による。
塗布ヘッド２０の基本材質は、前記のとおり、ステンレスであり、液体のこの材質に対する接触角（θ）は１０度程度であり、親水性である。これに対して、傾斜面２１ｂ  、２２ｂ  にコーティングされているテフロンに対する塗布液の接触角は６０度程度であり、撥水性であると言える。このため、スロット２７の先端開口部２８の内側はステンレスで、外側はテフロンという、相反する性質を有する２つの材質の境界があることになり、液体がスロット２７により一定の厚みにされて先端開口部２８から吐出される時には、液体が先端開口部２８の周辺に浸透しようとするが、液体が傾斜面２１ｂ  、２２ｂ  に達しようとすると、ステンレスとテフロンとの境界をなす水平面部分２１ｄ  、２２ｄ  で液体表面が立ち上がり（図５、（本発明）（ｄ）参照）、液体がそれより外側にはみ出すのが妨げられる。
【００３１】
次に、本実施形態１における液体塗布装置１の動作について説明する。
基板４への液体塗布の開始時には、塗布ヘッド２０は、基板４の前端（図１においては左下端）の所定高さ位置にセットされている。この状態において、図示されない液体供給源から液体（塗布液）が塗布ヘッド２０に供給されると、この液体は、液体注入口２４から通孔２５を通って空洞部２６に導かれ、次いで、スロット２７により一定の厚みにされて、スロット２７の下方の先端開口部２８から吐出される。同時に、リニア駆動部１４ａ  、１４ｂ  が作動して、塗布機構部１０が走行を開始する。これにより、塗布ヘッド２０は、その先端開口部２８から吐出される塗布液を基板４上に、その塗布始端部から終端部に至るまで満遍なく、一様な膜厚で塗布しながら、基板４の後端（図１においては右上端）に向かって走行する。
【００３２】
本実施形態１における液体塗布装置１は、前記のように構成されているので、次のような作用、効果を奏することができる。
塗布ヘッド２０のスロット２７の先端開口部２８の対向する両壁面が、これら両壁面により挟まれる空間が液体の吐出方向に漸次広がるように互いに反対方向に傾斜する傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  とされているので、液体の塗り始めにおける先端開口部２８の液ダレの状態は、図４（ａ）に図示されるように、従来（図８参照）に比べて液玉２９の大きさが小さくなり、かつ、数も減り、さらに、先端開口部２８の幅方向に沿って均一なビード３０ができるようになっている。
【００３３】
この結果、基板４上の塗膜の膜厚の分布は、図４（ｃ）のＡ−Ａ断面図に示されるように、塗り始め（図４（ｂ）のＡ−Ａ位置）での膜厚のバラツキが従来に比して非常に小さくなり、また、図４（ｃ）のＢ−Ｂ断面図に示されるように、塗り始め以外の位置（図４（ｂ）のＢ−Ｂ位置）ではさらに小さくなり、膜厚の均一性が向上していることが分かる。
【００３４】
以下に、このような結果が得られる理由を、図５を参照しながら、詳細に説明する。
図５は、本実施形態１の塗布ヘッド20による塗布液の吐出の状況と従来の塗布ヘッド020 による塗布液の吐出の状況とを比較して示した図である。この図から明らかなとおり、従来の塗布ヘッド020 においては、液の先端が先端開口部028に達しようとする時に、液と接触している金属面の向きが鉛直方向（（従来）（ａ）、（ｂ）参照）から水平方向（（従来）（ｃ）参照）に変位する。液の金属面に対する接触角は、ステンレスの場合１０度程度であるが、その角度を保持したまま同様に変化する。このような液面の急激な変化により、液の状態が非常に不安定となり、各所に液玉029 を発生させて（（従来）（ｄ）参照）、この状態で液の吐出が行なわれる（（従来）（ｅ）参照）ので、塗布ヘッド020 の幅方向における塗膜の膜厚の無視し得ない不均一性の発生を回避し得ない。
【００３５】
これに対して、本実施形態１の塗布ヘッド２０においては、塗布ヘッド２０の先端開口部２８の対向する両壁面が傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  とされているので、液と接触している金属表面の向きが鉛直方向（（本発明）（ａ）参照）から水平方向（（本発明）（ｃ）参照）に変位する間に傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  が介在することになり（（本発明）（ｂ）参照）、吐出液面の接触角の方向も、同様に３段階で変化することになる。これにより、塗布液吐出時の液の安定性が向上して、液玉２９ができにくくなり、この状態で液の吐出が行なわれる（（本発明）（ｅ）参照）ので、塗布ヘッド２０の幅方向における塗膜の膜厚の不均一性の発生が低減される。
【００３６】
また、前記のような傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  が形成されることによって、両傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  により挟まれる液体の吐出方向に漸次広がる空間部分は、ビード３０を形成する準備を行う場所を与えることになり、この空間部分があることによって初めてビード３０の生成が可能になる（（本発明）（ｄ）参照）。そして、この空間部分で一度ビード３０ができてしまえば、そのビード３０の形状を保持するのに、この末広がりの空間部分は非常に有効であり、ビード３０は、この末広がりの空間部分の形状に最適にフィットして、この空間部分を形成する両傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  が完成したビード３０の形状を保持力によって保持するため、ビード３０の形状が非常に安定する。しかも、完成したビード３０は、この空間部分の凹部に埋没しているので、先端開口部２８から露出する部分が最小で済むことになり、従来であれば、先端開口部０２８  から露出する部分が大きい（（従来）（ｄ）参照）ので、液面の歪みが幅方向の液圧の不安定さを招くところ、そのようなことがなくなる。この面からも、液玉２９の発生を効果的に抑制することができる。
【００３７】
さらに、また、傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  は親水性の表面材質にされ、該傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  より外方側に連なる塗布ヘッド２０の下端の歯先部分２１ａ  、２２ａ  の傾斜面２１ｂ、２２ｂ  は撥水性の表面材質にされて、これら親水性の表面材質と撥水性の表面材質との境界が塗布ヘッド２０の幅方向に沿って形成されているので、ビード３０ができる際に、吐出液面がスロット２７の先端開口部２８と接触する最前線がその境界を越えると、ビード３０の形成のために吐出液面が立ち上がり、吐出液の開口部壁面に対する接触角が急激に増大するが、内側に傾斜面２１ｃ  、２２ｃ  があるので急激な立上がりが避けられ、また、外側の撥水性の表面材質により外方へのはみ出しも防がれて、ビード３０の生成時においても、ビード３０の安定性が得られる。これにより、液玉２９の発生がさらに効果的に抑制される。
【００３８】
以上のようにして、本実施形態１の塗布ヘッド２０においては、二重、三重に塗布液吐出時のビード３０の生成に安定性が得られ、生成されたビード３０の形状が安定に保持されて、液玉２９の発生が効果的に抑制されるので、塗布液の安定性が大きく向上して、塗布ヘッド２０の幅方向における塗膜の膜厚の不均一性が大きく低減され、塗り始めの膜厚のバラツキが非常に小さくなり、また、塗り始め以外の位置では、さらに小さくなり、塗膜の端部にまで渡って膜厚の均一性が著しく向上する。また、塗布液の安定性が大きく向上するので、膜厚の制御が容易になる。
【００３９】
次に、図６に図示される本願の請求項２に記載された発明の一実施形態（実施形態２）について説明する。
図６は、本実施形態２における液体塗布装置に使用される塗布ヘッドのスロット先端開口部の壁面に線条痕が形成された状態を示す図である。なお、実施形態１における液体塗布装置１に使用される塗布ヘッド２０と同じ部分には同一の符号を付している。
【００４０】
本実施形態２における液体塗布装置１に使用される塗布ヘッド２０においては、そのスロット２７の先端開口部（ノズル口）２８の対向する両壁面をなす傾斜面２１ｃ、２２ｃ  ）のいずれかもしくは双方に、図６に図示されるように、塗布ヘッド２０の幅方向に向かい、かつ、該幅方向の略全長に及ぶ複数条の線条痕３１が形成されている。
本実施形態２の液体塗布装置１は、以上の点において実施形態１と異なっているが、その他の点において異なるところはないので、詳細な説明を省略する。
【００４１】
本実施形態２の液体塗布装置１は、前記のように構成されているので、先端開口部２８の液溜まり部分がノズル材質部分とより広い接触面積を得て、液が金属部分によってより強く保持されることになり、より安定してビード３０が生成され、生成されたビード３０の形状もより安定して保持され、液玉２９の発生がさらに効果的に抑制されて、塗布液の安定性がさらに向上する。これにより、塗膜の端部にまで渡る膜厚の均一性がさらに向上する。
【００４２】
次に、図７に図示される本願の請求項３に記載された発明の一実施形態（実施形態３）について説明する。
図７は、本実施形態３における液体塗布装置に使用される塗布ヘッドのスロット先端開口部の対向する両壁面に異なる形状の曲面が形成された状態を示す図であって、（ａ）は凸曲面が形成された状態を示す図、（ｂ）は凹曲面が形成された状態を示す図である。なお、実施形態１における液体塗布装置１に使用される塗布ヘッド２０と同じ部分には同一の符号を付している。
【００４３】
本実施形態３における液体塗布装置１に使用される塗布ヘッド２０においては、そのスロット２７の先端開口部（ノズル口）２８の対向する両壁面をなす傾斜面２１ｃ、２２ｃ  が凸または凹の曲面３２、３３で構成されている。凸曲面３２と凹曲面３３とのいずれを選択するかは、塗布液の種類により、いずれの面がより安定したビード３０の形成に役立つかにしたがって決定すればよい。
本実施形態３の液体塗布装置１は、以上の点において実施形態１と異なっているが、その他の点において異なるところはないので、詳細な説明を省略する。
【００４４】
本実施形態３の液体塗布装置１は、前記のように構成されているので、塗布液の種類により、安定してビード３０を形成することができるよう傾斜面の形状が凹凸選択されれば、金属表面の方向が徐々に連続的に変化することになり、塗布液の金属表面に対する接触角の方向も連続的に変化することになり、さらに良好なビード３０を形成することができ、液玉２９の発生がさらに効果的に抑制されて、塗布液の安定性がさらに向上する。これにより、塗膜の端部にまで渡る膜厚の均一性がさらに向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願の請求項１に記載された発明の一実施形態（実施形態１）における液体塗布装置の概略斜視図である。
【図２】同液体塗布装置に使用される塗布ヘッドの横断面図である。
【図３】同塗布ヘッドの分解斜視図である。
【図４】塗布液が充填された同塗布ヘッドと、同塗布ヘッドによる塗布液の塗布状況とを示す図であって、（ａ）は塗布液が充填された塗布ヘッドのスロット先端開口部に液玉およびビードが形成される状況を示す図、（ｂ）は塗布された塗布液の塗布状況を示す基板の平面図、（ｃ）は（ｂ）のＡ−Ａ、Ｂ−Ｂ位置における塗布液の塗布状況を示す基板の断面図である。
【図５】同塗布ヘッドのスロット先端開口部にビードが成立する過程を従来例と比較して示す図である。
【図６】本願の請求項２に記載された発明の一実施形態（実施形態２）における液体塗布装置に使用される塗布ヘッドのスロット先端開口部の壁面に線条痕が形成された状態を示す図である。
【図７】本願の請求項３に記載された発明の一実施形態（実施形態３）における液体塗布装置に使用される塗布ヘッドのスロット先端開口部の対向する両壁面に異なる形状の曲面が形成された状態を示す図であって、（ａ）は凸曲面が形成された状態を示す図、（ｂ）は凹曲面が形成された状態を示す図である。
【図８】従来例を示す図である。
【符号の説明】
１…液体塗布装置、２…ベース、２ａ  、２ｂ  …ベース側壁、３…テーブル、４…基板、５ａ  、５ｂ  …レール、１０…塗布機構部、１１ａ  、１１ｂ  …移動台、１２…ヘッド保持フレーム、１３ａ  、１３ｂ  …昇降シリンダ、１４ａ  、１４ｂ  …リニア駆動部、１５…可動ケーブル、１６ａ  、１６ｂ  …永久磁石、１７ａ  、１７ｂ  …リニアブッシュ、１８…メンテナンス機構、２０…塗布ヘッド、２１…分割ヘッド、２１ａ  …歯先部、２１ｂ  …傾斜面、２１ｃ  …傾斜面、２１ｄ  …帯状の水平面部分、２２…分割ヘッド、２２ａ  …歯先部、２２ｂ  …傾斜面、２２ｃ  …傾斜面、２２ｄ  …帯状の水平面部分、２３…シム、２３ａ  …凹部、２４…液体注入口、２５…通孔、２６…空洞部、２７…スロット、２８…先端開口部（ノズル部）、２９…液玉、３０…ビード、３１…線条痕、３２…凸曲面、３３…凹曲面、３４…空気抜き口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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