(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチックフィルム上若しくはプラスチックフィルム上に設けられた下部クラッド層上に略矩形断面形状のフォトブリーチング用の高屈折率のコア層が形成され、該高屈折率のコア層の両側面にフォトブリーチング用の低屈折率のクラッド層が形成され、該低屈折率のクラッド層及び上記コア層の上に低屈折率の上部クラッド層が形成され、上記プラスチックフィルムの下面若しくは上記プラスチックフィルム内及び上記上部クラッド層の上面若しくは上記上部クラッド層内にUV光反射層か、あるいはUV吸収層が形成された大面積導波路フィルタにおいて、上記プラスチックフィルムの端面側のコア層の少なくとも一方の端面側に４５°ミラーが形成され、上記コア層内に信号光が伝搬するように上記４５°ミラーの下側から信号光を入射し、上記４５°ミラーで反射させて上記コア層内を伝搬させ、その伝搬した信号光を上記プラスチックフィルムの反対側の端面から光フィルタを介して受光回路でモニタしつつ、上記４５°ミラーの上側若しくは下側からＵＶ光を照射し、上記受光回路でのモニタ光の強度が最大となった状態で上記ＵＶ光をオフにするようにして形成したことを特徴とする大面積導波路フィルム。
【請求項２】
上記コア層は２個以上のアレイ状に形成されている請求項１に記載の大面積導波路フィルム。
【請求項３】
上記４５°ミラー近傍のフォトブリーチング用のコア層及びクラッド層の屈折率が略連続的な分布を有する請求項１または２に記載の大面積導波路フィルム。
【請求項４】
プラスチックフィルム上若しくはプラスチックフィルム上に設けられた下部クラッド層上にフォトブリーチング用のポリマ層を形成する工程と、該ポリマ層上にフォトマスクを介してUV光を照射して略矩形断面形状の高屈折率のコア層を形成し、該コア層の両側面を低屈折率のポリマからなるクラッド層に形成する工程と、該クラッド層及び上記コア層の上に上部クラッド層を形成する工程と、上記プラスチックフィルムの下面若しくは上記プラスチックフィルム内及び上記上部クラッド層の上面若しくは上記上部クラッド層内にUV光反射層か、あるいはUV吸収層が形成する工程とを備えた大面積導波路フィルムの製造方法において、上記コア層の断面を有するプラスチックフィルムの少なくとも一方の端面側に４５°ミラーを形成し、上記プラスチックフィルム上のコア層内に信号光が伝搬するように４５°ミラーの下部のフィルム裏面側から信号光を入射させて該４５°ミラーで反射させて上記コア層内を伝搬させ、その伝搬した信号光を上記プラスチックフィルムの反対側の端面から光フィルタを介して受光回路でモニタしつつ、上記４５°ミラーの上面側若しくは裏面側からUV光を照射しつつ、上記受光回路でのモニタ光が最大となった状態で上記UV光をオフにすることにより上記コア層の屈折率を調整することを特徴とする大面積導波路フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大面積導波路フィルム及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大容量の情報伝送として、多チャンネル並列光インターコネクションの研究が盛んに行われるようになってきた。この多チャンネル並列光インターコネクションを実現する上でのキー部品の一つとして、導波路フィルムがある。
【０００３】
この導波路フィルムは、多芯光コネクタと多チャンネル光素子アレイとの間を接続するための導波路フィルムである。
【０００４】
図７（ａ）は従来の導波路フィルムの外観斜視図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）の矢印Ａ方向の部分矢視図であり、図７（ｃ）は図７（ａ）の矢印Ｂ方向の部分矢視図である。
【０００５】
この導波路フィルム５０は、ポリイミドフィルム５１内に低屈折率のクラッド層５３で覆われた高屈折率のコア層５２が略矩形断面形状に所望間隔（２５０μｍ）Ｓでアレイ状に５２−１、５２−２のように配列されたものである。この導波路フィルム５０の一方の端面側５７には光ファイバアレイ５４が接続され、他方の端面側５８には発光ダイオード（あるいは半導体レーザ）またはフォトダイオードのアレイ５５が配置されている。導波路フィルム５０の他方の端面側５８には４５°ミラー５６が形成され、発光ダイオード（あるいはフォトダイオード）のアレイ５５との光結合を効率よく行わせるように構成されている。
【０００６】
図８は図７に示した導波路フィルムの製造工程図である。
【０００７】
プラスチックフィルム表面に下部クラッド層を形成する（ステップＳ１ａ）。下部クラッド層上にコア層を形成する（ステップＳ１ｂ）。
【０００８】
コア層上にフォトレジスト膜を形成する（ステップＳ１ｃ）。
【０００９】
そのフォトレジスト膜の上にフォトマスクを配置し、そのフォトマスクを介してＵＶ光を照射してフォトレジスト膜を露光する（ステップＳ１ｄ）。
【００１０】
そのフォトレジスト膜を現像し（ステップＳ１ｅ）、フォトマスクに対応したフォトレジストパターンを形成し、このフォトレジストパターンを用いてコア層をドライエッチングする（ステップＳ１ｆ）。
【００１１】
レジスト膜を除去する（ステップＳ１ｇ）。
【００１２】
フォトレジストパターンに対応した略矩形断面形状のコア層パターンを形成する（ステップＳ１ｈ）。
【００１３】
コア層パターンの上を覆うように上部クラッド層を形成する（ステップＳ１ｉ）。
【００１４】
最後に導波路端面に４５°ミラーを形成することにより導波路フィルムが得られる（ステップＳ１ｊ）。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の導波路フィルムには以下のような問題がある。
【００１６】
(1)  製造工程が複雑で低コスト化が困難である。
【００１７】
(2)  大面積の導波路フィルムを製造するためには、大面積の膜形成装置、露光装置及びドライエッチング装置が必要である。しかし、これらの装置は非常に高価であり、結果的に導波路フィルムの価格に上乗せされて非常に高価なものとなる。
【００１８】
(3)  大面積対応の各種装置は面内の膜均一性、露光の均一性、ドライエッチングの均一性等がよくなく、結果的に導波路フィルムの性能を低下させる。従って大面積化に性能的な限界がある。現状のものは十数ｍｍ×十数ｍｍ程度の面積である。
【００１９】
(4)  生産性が低い。
【００２０】
(5)  導波路フィルム内のコア層と発光ダイオードまたはフォトダイオードとの光結合特性は、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、バラツキが大きく、また結合損失も大きい。なお、図９（ａ）は送信モジュール用のポリマ光導波路結合部品の挿入損失を示す図であり、図９（ｂ）は受信モジュール用のポリマ光導波路結合部品の挿入損失を示す図である（桂：光インタコネクション，´９９ＮＴＴ−ＡＴ技術セミナー，ＮＴＴアドバンステクノロジ（株）（１９９９−６・１４））。なお、両図において、横軸が挿入損失軸を示し、縦軸が数量軸を示し、各矢印が光の方向を示している。
【００２１】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、製造が容易で低コストな大面積導波路フィルム及びその製造方法を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の大面積導波路フィルムは、プラスチックフィルム上若しくはプラスチックフィルム上に設けられた下部クラッド層上に略矩形断面形状のフォトブリーチング用の高屈折率のコア層が形成され、該高屈折率のコア層の両側面にフォトブリーチング用の低屈折率のクラッド層が形成され、該低屈折率のクラッド層及び上記コア層の上に低屈折率の上部クラッド層が形成され、上記プラスチックフィルムの下面若しくは上記プラスチックフィルム内及び上記上部クラッド層の上面若しくは上記上部クラッド層内にUV光反射層か、あるいはUV吸収層が形成された大面積導波路フィルタにおいて、上記プラスチックフィルムの端面側のコア層の少なくとも一方の端面側に４５°ミラーが形成され、上記コア層内に信号光が伝搬するように上記４５°ミラーの下側から信号光を入射し、上記４５°ミラーで反射させて上記コア層内を伝搬させ、その伝搬した信号光を上記プラスチックフィルムの反対側の端面から光フィルタを介して受光回路でモニタしつつ、上記４５°ミラーの上側若しくは下側からＵＶ光を照射し、上記受光回路でのモニタ光の強度が最大となった状態で上記ＵＶ光をオフにするようにして形成したことを特徴とするものである。
【００２３】
上記構成に加え本発明の大面積導波路フィルムのコア層は２個以上のアレイ状に形成されているのが好ましい。
【００２４】
上記構成に加え本発明の大面積導波路フィルムは、４５°ミラー近傍のフォトブリーチング用のコア層及びクラッド層の屈折率が略連続的な分布を有してもよい。
【００２５】
本発明の大面積導波路フィルムの製造方法は、プラスチックフィルム上若しくはプラスチックフィルム上に設けられた下部クラッド層上にフォトブリーチング用のポリマ層を形成する工程と、該ポリマ層上にフォトマスクを介してUV光を照射して略矩形断面形状の高屈折率のコア層を形成し、該コア層の両側面を低屈折率のポリマからなるクラッド層に形成する工程と、該クラッド層及び上記コア層の上に上部クラッド層を形成する工程と、上記プラスチックフィルムの下面若しくは上記プラスチックフィルム内及び上記上部クラッド層の上面若しくは上記上部クラッド層内にUV光反射層か、あるいはUV吸収層が形成する工程とを備えた大面積導波路フィルムの製造方法において、上記コア層の断面を有するプラスチックフィルムの少なくとも一方の端面側に４５°ミラーを形成し、上記プラスチックフィルム上のコア層内に信号光が伝搬するように４５°ミラーの下部のフィルム裏面側から信号光を入射させて該４５°ミラーで反射させて上記コア層内を伝搬させ、その伝搬した信号光を上記プラスチックフィルムの反対側の端面から光フィルタを介して受光回路でモニタしつつ、上記４５°ミラーの上面側若しくは裏面側からUV光を照射しつつ、上記受光回路でのモニタ光が最大となった状態で上記UV光をオフにすることにより上記コア層の屈折率を調整することを特徴とするものである。
【００２６】
本発明によれば、コア層及び側面クラッド層を形成する際にフォトブリーチング用ポリマ材料にフォトマスクを介してＵＶ光を照射することにより同時にコア層及び側面クラッド層を得ることができるので、従来のようなフォトリソグラフィ工程、ドライエッチング工程等を用いることなく高精度で大面積のコア層パターンが簡単にしかも低コストで得られる。
【００２７】
また、本発明によれば、導波路フィルムのプラスチックフィルムの下面及び上部クラッド層の上面にＵＶ光反射層か、あるいはＵＶ光吸収層が形成されているので、屈折率調節後外部からのＵＶ光の影響を受けることがなく安定した性能が得られる。
【００２８】
さらに、本発明によれば、コア層内に信号光が伝搬するように４５°ミラーの下側から信号光を入射し、４５°ミラーで反射させてコア層内を伝搬させ、その伝搬した信号光をプラスチックフィルムの反対側の端面から光フィルタを介して受光回路でモニタしつつ、４５°ミラーの上側からＵＶ光を照射し、受光回路でのモニタ光の強度が最大となった状態でＵＶ光をオフにすることにより、信号光を効率よく伝送させることができる。
【００２９】
またさらに、本発明によれば、プラスチックフィルム上のコア層内に信号光が伝搬するように４５°ミラーの下側から信号光及びＵＶ光を入射し、４５°ミラーで反射させてコア層内を伝搬させ、伝搬した信号光をプラスチックフィルムの反対側の端面から光フィルタを介して受光回路でモニタし、そのモニタ光が最大となった状態でＵＶ光をオフにすることにより、信号光を効率よく伝送させることができる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００３１】
図１（ａ）は本発明の大面積導波路フィルムの一実施の形態を示す正面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）の側面図である。
【００３２】
本大面積導波路フィルム１は、プラスチックフィルム２上に略矩形断面形状のフォトブリーチング用の高屈折率のコア層４が所望間隔でアレイ状に形成され、高屈折率のコア層４の両側面にフォトブリーチング用の低屈折率の側面クラッド層５が形成され、側面クラッド層５及びコア層４の上に低屈折率の上部クラッド層６が形成され、プラスチックフィルム２の下面及び上部クラッド層６の上面にＵＶ光反射層７−１、７−２が形成されたものである。
【００３３】
本大面積導波路フィルム１の特徴は、コア層４及び側面クラッド層５にフォトブリーチング用ポリマ材料を用いているので、フォトマスク（図示せず）を介してのＵＶ光照射でコア層パターンを実現することができ、従来のようなフォトリソグラフィ工程、ドライエッチング工程等を不要とするため、大面積化が容易に実現することができる点である。
【００３４】
このため本発明の大面積導波路フィルム１は、
(a)  幅Ｗ１を数十ｍｍ以上、１０００ｍｍ程度まで大きくすることができ、長さＬを数十ｍｍ以上、１０００ｍｍ程度まで大きくすることができる。本導波路フィルム１の面積は、図７に示した従来の導波路フィルムの数千倍の面積を有し、図７に示したような導波路フィルム５０を一度に大量に製造することができる。
【００３５】
(b)  製造時間を大幅に短縮することができると共に、簡単な装置で製造することができるので、装置コストも極端に低くなり、結果的に導波路フィルム１のコストが大幅に下がる。
【００３６】
(c)  本大面積導波路フィルムの製造方法によれば加工精度が従来の製造方法に比べて格段に向上する。
【００３７】
(d)  コア層４と側面クラッド層５との界面がフォトブリーチングによって形成されるので、界面が一様になり光散乱損失を低減させることができ、導波路フィルム１の光伝搬損失を低減させることができる。
【００３８】
(e)  コア層４及び側面クラッド層５の上面は一様に平坦となっているので、その上に形成される上部クラッド層６及びＵＶ光反射層（あるいはＵＶ光吸収層）７−１、７−２の表面も平坦となり、界面の不均一性による光散乱損失は非常に低くなり、結果的に低損失な導波路フィルム１を実現することができる。
【００３９】
(f)  導波路フィルム１の上面及び下面が平坦であるので、例えば、プリント基板上に密着して設置することができ、設置時に凹凸による不要な応力を受けることがない。
【００４０】
(g)  プラスチックフィルム２上に電子部品、電子回路、光部品あるいは光回路等を実装することが容易である。
【００４１】
なお、プラスチックフィルム２には、ポリイミド、ポリフッ化ビニリデン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、エバール、ポリビニリデンクロリド、ポリプロピレン、液晶ポリマーフィルム等を用いることができる。
【００４２】
ここで、プラスチックフィルム２の屈折率がコア層４の屈折率よりも低い場合には下部クラッド層３はなくてもよい。この下部クラッド層３は屈折率がコア層４の屈折率よりも低い材料が用いられる。例えば、フッ素を添加したポリマ材料（ポリフッ化ビニリデン）、ポリメチルメタクリレート、ポリシロキサン、ポリガイド等のポリマ材料やＳＯＧ（スピンオングラス）のようなコーティング材料等が挙げられる。
【００４３】
下部クラッド層３の上のコア層４及び側面クラッド層５にはフォトブリーチング用ポリマ材料が用いられる。コア層４及び側面クラッド層５の材料は、ＵＶ光の照射エネルギー量を変えることにより屈折率を変えることができるフォトブリーチングポリマ材料であり、ポリシラン、４−ａｌｋｏｘｙ−４´−ａｌｋｙｌｓｕｌｆｏｎｅ  ｓｔｉｌｂｅｎｅ  ＰＭＭＡ  ｓｉｄｅ−ｃｈａｉｎ，ｄｙｅｐｏｌｙｍｅｒ，４−ｄｉａｌｋｙｌａｍｉｎｏ−４´−ｎｉｔｒｏ−ｓｔｉｌｂｅｎｅ，ＤＭＡＰＮ等が挙げられる。
【００４４】
コア層４は、例えば１２個のアレイ状に配置されている。このコア層４はＵＶ光が照射されないか、あるいは照射されるＵＶ光のエネルギー量が少なくなるように形成され、下部クラッド層３や側面クラッド層５の屈折率よりも高い屈折率に保たれる。
【００４５】
側面クラッド層５はＵＶ光を照射することによってコア層４の屈折率よりも低くなるように制御される。コア層４のパターンはフォトマスクを使うことによって、そのフォトマスクの上からＵＶ光を照射することによってパターニングされる。この結果、コア層４及び側面クラッド層５の上面は平坦な面となる。コア層４と側面クラッド層５との境界面もフォトマスクを介したＵＶ光照射によって形成されるので、一様に均一な境界面となり、光散乱損失を従来のドライエッチングで形成したコア層４に比べて大幅に低減することができる。コア層４及び側面クラッド層５の上面も平坦な面であるので、その上面に形成される上部クラッド層６も平坦な膜となり、コア層４及び側面クラッド層５の上面と上部クラッド層６との境界面も一様となり、その境界面での光散乱損失も従来のものに比べて大幅に低減させることができる。
【００４６】
上部クラッド層６の材料には下部クラッド層３と同様の材料を用いることができる。ＵＶ光反射層（ＵＶ光吸収層）７−１、７−２はプラスチックフィルム２及び上部クラッド層６内に含ませてもよい。
【００４７】
次に本発明の大面積導波路フィルムの製造方法について述べる。
【００４８】
プラスチックフィルム２の厚さは数十μｍから１ｍｍの範囲が好ましく、下部クラッド層３の厚さは数十μｍから２０μｍの範囲が好ましい。コア層４及び側面クラッド層５の厚さは、シングルモード伝送用の場合には数μｍから十数μｍが好ましく、マルチモード伝送用の場合には十数μｍから数十μｍの範囲が好ましい。コア層４の幅もコア層の厚さと同程度の値が好ましい。上部クラッド層６の厚さも下部クラッド層３の厚さと同程度の値が好ましい。ＵＶ光反射層（ＵＶ光吸収層）７−１、７−２の厚さは厚い程、ＵＶ光の高い反射（吸収）効果を得ることができるが、数十μｍから十数μｍの範囲が好ましい。
【００４９】
ここで、コア層４の数やパターン形状は上述した数値に限定されない。例えば、コア層４の数は１００以上でもよく、パターン形状も直線、曲線あるいは直線と曲線とが混在したパターン形状であってもよい。さらには方向性結合回路や分波回路、分岐回路等を含んでいてもよい。
【００５０】
図２（ａ）は本発明の大面積導波路フィルムの他の実施の形態を示す正面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＣ−Ｃ線断面図、図２（ｃ）は図２（ａ）のＤ−Ｄ線断面図である。
【００５１】
図１に示した実施の形態との相違点は、導波路フィルム１の一方の端面８−１側に４５°ミラー９を設けた点である。
【００５２】
すなわち、本大面積導波路フィルム１００は、プラスチックフィルム２上に略矩形断面形状のフォトブリーチング用の高屈折率のコア層４が所望間隔でアレイ状に形成され、コア層４の両側面にフォトブリーチング用の低屈折率の側面クラッド層５が形成され、側面クラッド層５及びコア層４の上に低屈折率の上部クラッド層６が形成され、プラスチックフィルム２の下面及び上部クラッド層６の上面にＵＶ光反射層７−１、７−２が形成され、プラスチックフィルム２のコア層４の一方の端面側に４５°ミラー９が形成されているものである。
【００５３】
このように４５°ミラー９の近傍の導波路に屈折率分布を持たせることによって４５°ミラー９の下部から入射させた信号光を４５°ミラー９で反射させてコア層４内に効率よく閉じ込めて伝搬させることができる。なお、本大面積導波路フィルム１００は、４５°ミラー９の近傍のフォトブリーチング用ポリマコア層４及び側面クラッド層５の屈折率が端面８−２から端面８−１方向に向かって略連続的に低下するように構成されていてもよい。
【００５４】
図３（ａ）は本発明の大面積導波路フィルムの屈折率の調節方法の説明図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）に示した大面積導波路フィルムのＥ−Ｅ線断面図である。
【００５５】
この調節方法は、本発明の大面積導波路フィルム１の４５°ミラー９を通して信号光１２を効率よくコア層４内へ伝搬させるため、４５°ミラー９の近傍のコア層４及び側面クラッド層５の屈折率をＵＶ光１９の照射によって調節する方法である。
【００５６】
信号光源１０を駆動回路１１で駆動して信号光１２を発生させ、その信号光１２を導波路フィルム１の下面から４５°ミラー９に向けて入射させ、この４５°ミラー９で反射させてコア層４内に信号光を伝搬させ、導波路フィルム１の他端８−２から出射された信号光１３を光フィルタ（信号光１２のみを通過させる光フィルタ）１４を介して受光回路１５でモニタする。ＵＶ光光源１７を駆動回路１８で駆動してＵＶ光１９を発光させ、このＵＶ光１９を４５°ミラー９近傍のコア層４及び側面クラッド層５またはいずれか一方に照射する。コア層４はフォトブリーチング用の材料からなるのでＵＶ光の照射により屈折率が変化する。この屈折率の変化したコア層４を通過する信号光を受光回路１５でモニタし、そのモニタ光が最大となるまで照射し続け、略受光量が最大となった時点（実際には受光量が平坦になった時か、あるいは低下し始めた時）でＵＶ光の照射をオフにする。この制御系は受光回路１５の出力信号を制御回路１６を通して駆動回路１８へフィードバックするようになっている。
【００５７】
このような構成と制御方式により、信号光を導波路フィルム１内のコア層４内に効率よく結合させることができる。ＵＶ光照射はそれぞれのコア層４について行う。
【００５８】
図４（ａ）は本発明の大面積導波路フィルムの屈折率の他の調節方法の説明図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）に示した大面積導波路フィルムのＦ−Ｆ線断面図である。
【００５９】
同図に示す方法は、ＵＶ光１９を信号光１２に重畳させてコア層４内に入力させて伝搬させ、４５°ミラー９近傍のコア層４及び側面クラッド層５の屈折率を調節する方法である。
【００６０】
次に本発明の大面積導波路フィルムの製造方法について図１及び図５を参照して説明する。
【００６１】
図５は本発明の大面積導波路フィルムの製造方法の一実施の形態を示す工程図である。
【００６２】
プラスチックフィルム２の表面に下部クラッド層を形成する。この場合、プラスチックフィルム２は幅が数十ｍｍから数百ｍｍで、長さが数十ｍｍから１０００ｍｍ程度の大面積サイズである。このため下部クラッド層３を形成（塗布）する方法として、スピンコーティング法よりは、幅広い液体容器に設けられたスリットから液体状の下部クラッド層を押出し、吹き付けコーティングする方法を用いるのが好ましい。押出し、吹き付けコーティング法を用いれば、幅が１０００ｍｍ、長さが１０００ｍｍ以上のプラスチックフィルム２上に液体容器を移動しながら液体を押し出して下部クラッド層３を効率よくコーティングすることができる。そのコーティングはスリット部付き液体容器を移動させるか、プラスチックフィルム２を移動させることによって行い、その膜厚は移動速度、液体の粘度、液体の押出し圧力等によって調節することができる。液体をコーティングした後にはベーキングを行って下部クラッド層３を固化させる（ステップＳ２ａ）。
【００６３】
固化した下部クラッド層３上にフォトブリーチング用ポリマ材料層を形成する。このフォトブリーチング用ポリマ材料層のコーティング方法は、下部クラッド層３のコーティング方法と同様の方法を用いる。その後にベーキングを行い、溶剤を揮発させてポリマ材料層を固化する（ステップＳ２ｂ）。
【００６４】
フォトブリーチング材料層の上にフォトマスク（図示せず）を配置し、このフォトマスクを介してＵＶ光をフォトブリーチング材料層に照射する（ステップＳ２ｃ）。
【００６５】
ＵＶ光の照射により、高屈折率のコア層４のパターンとコア層４の両側面に低屈折率の側面クラッド層５とが同時に形成される。なお、フォトマスクは大面積の１枚マスクをフォトブリーチング用ポリマ材料層上に配置し、その上からＵＶ光を照射する以外に、小面積のフォトマスクをフォトブリーチング用ポリマ材料層上に配置し、ＵＶ光を照射し、フォトマスクの別の位置へ再配置し、ＵＶ光照射を複数回繰り返して行うことにより、大面積のフィルム上のフォトブリーチング用ポリマ層へのＵＶ光照射によるパターニングを行うようにしてもよい（ステップＳ２ｄ）。
【００６６】
フォトブリーチング用ポリマからなるコア層４及び側面クラッド層５の層上に上部クラッド層６をコーティングする。この上部クラッド層、コーティング及びベーキング方法は下部クラッド層と同様の材料、コーティング及びベーキング方法を用いる（ステップＳ２ｅ）。
【００６７】
上部クラッド層６及びプラスチックフィルム２の下面にＵＶ光反射層（吸収層）７−１、７−２を形成することにより図１に示した導波路フィルム１が得られる（ステップＳ２ｆ）。
【００６８】
なお、導波路フィルム１の端面を鏡面研磨することにより４５°ミラー９が形成され、導波路フィルム１００が得られる（ステップＳ２ｇ）。
【００６９】
図６は本発明の大面積導波路フィルムの製造方法の他の実施の形態を示す工程図である。
【００７０】
図５に示した実施の形態との相違点は、予めプラスチックフィルムの下面にＵＶ光吸収層（あるいはＵＶ光反射層）を有するフィルムを用い、上部クラッド層上へのＵＶ光吸収層（あるいはＵＶ光反射層）を形成する点である。
【００７１】
すなわち、本製造方法は、予めプラスチックフィルムの下面にＵＶ光吸収層（ＵＶ光反射層）を有するフィルムを用い、このフィルムの表面に下部クラッド層を形成することからスタートし、ステップＳ３ｂからステップＳ３ｅは図５に示した製造工程と同じ工程であり、ステップＳ３ｆで上部クラッド層へＵＶ光吸収層（ＵＶ光反射層）を形成する工程を設け、図５に示したステップＳ３ｇと同じ工程を施すことにより大面積導波路フィルムが得られる。
【００７２】
以上において本発明によれば、
(1)  コア層及び側面クラッド層にフォトブリーチング用ポリマ材料を用いているので、フォトマスクを介してＵＶ光照射を行うことにより、コア層パターンを形成することができるので、従来のようなフォトリソグラフィ工程、ドライエッチング工程等が不要なため、大面積化が容易に実現できる。
【００７３】
(2)  従来の導波路フィルムの面積に比べ、数千倍も大きい面積を実現することができ、この結果光通信システムに用いる導波路フィルム型部品（例えば図７に示す部品）を一度に大量に作ることができる。これにより、製造時間の大幅な短縮と低コスト化を図ることができる。
【００７４】
(3)  簡単な装置で短時間に製造できるので、低コスト化が可能となる。
【００７５】
(4)  導波路フィルムの加工精度もＵＶ光照射技術を利用しているので、従来のフォトリソグラフィ、ドライエッチング技術を利用した方法に比べ、格段に向上する。また、コア層と側面クラッド層との界面もフォトブリーチングによって形成されるので、一様となる。コア層及び側面クラッド層の上面は平坦であるので、その上に形成される上部クラッド層との界面の不整合もほとんどなく、光散乱損失が非常に少ない低損失導波路フィルムを実現することができる。
【００７６】
(5)  導波路フィルムの表面及び裏面は平坦であるので、プリント基板やセラミックス基板上への密着した実装が可能となり、高密度実装を期待することができる。また、導波路フィルムの表面上への電子部品、電子回路、光部品、光回路等の実装も可能である。
【００７７】
(6)  導波路フィルムの一方の端面側に設けた４５°ミラーを経由して信号光をコア層内へ伝搬させる際に、４５°ミラー近傍にＵＶ光を照射してその近傍のコア層及び側面クラッド層の屈折率を略連続的に低下させることにより、オンラインで高効率光結合を実現することができる。
【００７８】
(7)  上記(6)の方法を用いることにより、各コア層への光結合効率が最大となるように調整することができるので、光結合効率のバラツキを小さく抑えることができる。
【００７９】
(8)  寸法精度や光学特性に優れた大面積導波路フィルムを高歩留で製造することができる。
【００８０】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような優れた効果を発揮する。
【００８１】
製造が容易で低コストな大面積導波路フィルム及びその製造方法の提供を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の大面積導波路フィルムの一実施の形態を示す正面図であり、（ｂ）は（ａ）の側面図である。
【図２】（ａ）は本発明の大面積導波路フィルムの他の実施の形態を示す正面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線断面図、（ｃ）は（ａ）のＤ−Ｄ線断面図である。
【図３】（ａ）は本発明の大面積導波路フィルムの屈折率の調節方法の説明図であり、（ｂ）は（ａ）に示した大面積導波路フィルムのＥ−Ｅ線断面図である。
【図４】（ａ）は本発明の大面積導波路フィルムの屈折率の他の調節方法の説明図であり、（ｂ）は（ａ）に示した大面積導波路フィルムのＦ−Ｆ線断面図である。
【図５】本発明の大面積導波路フィルムの製造方法の一実施の形態を示す工程図である。
【図６】本発明の大面積導波路フィルムの製造方法の他の実施の形態を示す工程図である。
【図７】（ａ）は従来の導波路フィルムの外観斜視図であり、（ｂ）は（ａ）の矢印Ａ方向の部分矢視図であり、（ｃ）は（ａ）の矢印Ｂ方向の部分矢視図である。
【図８】図７に示した導波路フィルムの製造工程図である。
【図９】（ａ）は送信モジュール用のポリマ光導波路結合部品の挿入損失を示す図であり、（ｂ）は受信モジュール用のポリマ光導波路結合部品の挿入損失を示す図である。
【符号の説明】
２  プラスチックフィルム
３  下部クラッド層
４  コア層
５  側面クラッド層
６  上部クラッド層
７−１、７−２  ＵＶ光反射層（ＵＶ光吸収層）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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