(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上の一面に、少なくとも一層の下塗層と、磁性層とがこの順に形成され、反対面にバックコート層を有し、スライダ面より引っ込んだ磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによって磁気記録信号が再生される磁気記録媒体において、
非磁性支持体の厚さが2.０μｍ以上7.０μｍ以下、
磁性層の厚さが0.０１μｍ以上0.３０μｍ以下、
中心線平均表面粗さＲａが0.５ｎｍ以上3.２ｎｍ以下で、
走査型白色光干渉法により３５０μｍ×２６０μｍの視野で測定した場合の磁性層の凹凸の中心値をＰ0 、磁性層の最大の凸量をＰ1 、順次第２番目、第３番目、第４番目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸量をＰ2 、Ｐ3 、Ｐ4 、Ｐ5 、・・・、Ｐ19、Ｐ20とした時の（Ｐ1 −Ｐ0 ）が５ｎｍ以上３０ｎｍ以下で、かつ（Ｐ1 −Ｐ20）が0.４ｎｍ以上５ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
磁性層は、その保磁力が１２０〜３２０ｋＡ／ｍ、長手方向の残留磁束密度と厚さとの積が0.００１８μＴｍ〜0.０６μＴｍである、請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
非磁性支持体は、長手方向のヤング率が6.０８ＧＰａ（６００kg／mm2 ）以上１2.０ＧＰａ（１１８４kg／mm2 ）以下であり、長手方向のヤング率をＭＤ、幅方向のヤング率をＴＤとした時の比（ＭＤ／ＴＤ）が、0.６〜1.８０である、請求項１または２記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、記録容量、アクセス速度、転送速度が高い磁気記録媒体に関し、特に磁気抵抗効果型素子（ＭＲ素子）を利用した再生ヘッド（以下、ＭＲヘッド）を使用するデータバックアップ用磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
磁気テープは、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピユータ用テープなど種々の用途があるが、特にデータバックアップ用テープの分野ではバックアップ対象となるハードディスクの大容量化に伴い、１巻当たり数十ＧＢ以上の記憶容量のものが商品化されており、今後ハードディスクのさらなる大容量化に対応するためバックアップテープの高容量化は不可欠である。また、アクセス速度、転送速度を大きくするため、テープの送り速度、テープとヘッド間の相対速度を高めることが必要不可欠である。
【０００３】
バックアップテープ１巻当たりの高容量化のためには、テープ全厚を薄くして１巻あたりのテープ長さを長くすること、磁性層厚さを0.３μｍ以下と極めて薄くすることで厚さ減磁を小さくして記録波長を短くすることと共に、トラック幅（テープ上の信号パターン幅）を１５μｍ以下と狭くして幅方向の記録密度を高くすることが必要である。
【０００４】
磁性層厚さを0.３μｍ以下と極めて薄くすると、耐久性が劣化したりするので、非磁性支持体と磁性層との間に少なくとも一層の下塗層を設ける必要がある。また、記録波長を短くすると、磁性層と磁気ヘッドとのスペーシングの影響が大きくなるので、磁性層に大きな突起があると、スペーシングロスにより、出力ピークの半値幅（以下、ＰＷ５０）が広くなったり出力が低下したりして、エラーレートが高くなる。
【０００５】
トラック幅を１５μｍ以下と狭くして幅方向の記録密度を高くすると磁気記録媒体からの漏れ磁束が小さくなるため、再生ヘッドに微小磁束でも高い出力が得られる磁気抵抗効果型素子を使用した再生ヘッド（以下、ＭＲヘッド）を使用する必要がある。
【０００６】
従来、ＭＲヘッド対応の磁気記録媒体においては、磁気記録媒体の磁束（残留磁束密度と厚さの積）を特定の値に制御してＭＲヘッドの出力の歪を防止したり（例えば特許文献１、２参照）、磁性層表面のへこみを特定の値以下にしてＭＲヘッドのサーマル・アスペリティを低減したり（例えば特許文献３参照）することが提案されている。
【０００７】
【特許文献１】
特開平１１−２３８２２５号公報（特許請求の範囲、段落番号０００７〜００１１、実施例）
【特許文献２】
特開２０００−４０２１７号公報（特許請求の範囲、段落番号０００６〜０００９、実施例）
【特許文献３】
特開２０００−４０２１８号公報（特許請求の範囲、段落番号０００５〜００１４、００２３、実施例、図２、図３）
【０００８】
従来の磁気ヘッドは記録用の磁気誘導型ヘッドと再生用の磁気誘導型ヘッドとを貼り合わせたチップをそのまま使用する。一方、図２および図３に模式的に示すようにＭＲヘッド２０は、記録用の磁気誘導型の記録ヘッド２１と複合した形でスライダ２２に埋めこんで使用される。これらの図において、符号２０ａはＭＲ素子、２１ａ・２１ｂは記録ヘッド２１を構成する磁気素子、２１ｃは書き込みギャップ、２３はシールド材を示す。また、ＭＲヘッド２０はスライダ面２２ａより２５ｎｍ程度引っ込んだ状態で埋め込まれている。すなわち、従来のヘッドは非常に小さいチップからなり、ナイフエッジが磁気テープに食い込むような形態で走行するのに対して、図２および図３に示したようなＭＲヘッド２０は大きなスライダ２２に引っ込んだ状態で埋め込まれているので、スライダ２２に対して磁気テープ３０が接触しながら走行する。また、磁気テープ３０がＭＲヘッド２０の方に膨らむようにして磁気テープ３０とＭＲヘッド２０とがコンタクトする。このようにコンタクト形態が従来とは大幅に異なっているので、一口にスペーシングロスの低減といっても、磁気テープに要求される特性は全く異なっている。さらに、ＭＲヘッド２０はＭＲ素子２０ａが非常に薄い薄膜から構成されるので、摩耗し易いという問題点もある。なお、図２および図３に示したごとく、磁気テープ３０がフォワード方向およびバック方向のいずれの方向に走行しても記録・再生できるように、ＭＲヘッド２０および記録ヘッド２１は通常は対で設けられ、また複数のトラックを同時に読み書きできるように図２の左右方向に複数設けられる。
【０００９】
加えて、ＭＲヘッドはトラック幅が非常に狭いので、ＭＲヘッドのトラッキングサーボのために、サーボ信号が設けられる。トラックサーボ方式には磁気サーボ方式や光学サーボ方式があるが、前者は、サーボバンドを磁気記録により磁性層に形成し、これを磁気的に読み取ってサーボトラッキングを行うものであり、後者は、凹部アレイからなるサーボバンドをレーザー照射等でバックコート層に形成し、これを光学的に読み取ってサーボトラッキングを行うものである。なお、これら以外に、磁気サーボ方式にはバックコート層にも磁性を持たせ、このバックコート層に磁気サーボ信号を記録する方式があり、また光学サーボ方式にはバックコート層に光を吸収する材料等で光学サーボ信号を記録する方式もある。
【００１０】
テープの送り速度やテープとヘッド間の相対速度の高速化に対応するためには、サーボ信号をトレースしながら高速走行する必要があるが、スライダ材料（例えば、アルミナ／チタニア／カーバイド）やガイドローラ材料等に対する磁性層やバックコート層との摩擦係数の最適化が不充分であると、磁気テ−プが蛇行してトラッキングずれ（オフトラック）が起こり、ＰＷ５０が広くなったり出力が低下したりして、エラーレートが高くなるという問題がある。
【００１１】
本発明は、ＭＲヘッドに対応した磁気テープのスペーシングロスの低減と、磁気テープの蛇行によるオフトラックの低減とを図ることにより、エラーレートを低下させることを目的とする。また、本発明の磁気記録媒体と組み合わせて使用されるＭＲヘッドの摩耗低減を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成するため、鋭意検討した結果、磁気テープの最大凸量（Ｐ1 ）と凹凸の平均値（Ｐ0 ）との差（Ｐ1 −Ｐ0 ）を特定の値以下とし、かつ最大凸量（Ｐ1 ）と第２０番目の凸量（Ｐ20）との差（Ｐ1 −Ｐ20）を特定の値以下にすることで、スペーシングロスが低減され、また、磁性層とスライダ材料（例えば、アルミナ／チタニア／カーバイド）との動摩擦係数（以下単に摩擦係数という）をμmSL 、磁性層とＳＵＳ（ＳＵＳ３０４、以下単にＳＵＳという）との摩擦係数をμmSUS、バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数をμBSUSとした時の（μmSL ／μmSUS）および（μmSL ／μBSUS）を特定の値に制御することにより、磁気テ−プの蛇行によるオフトラックが低減され、エラーレートが低下することを見出した。このオフトラック低減によるエラーレートの低減効果は、トラック幅を１５μｍ以下とした場合に特に大きい。
【００１３】
本発明は、以上の知見をもとにして、完成されたものである。すなわち、非磁性支持体上の一面に、少なくとも一層の下塗層と、磁性層とがこの順に形成され、反対面にバックコート層を有し、磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッドによって磁気記録信号が再生される磁気記録媒体において、非磁性支持体の厚さが2.０μｍ以上7.０μｍ以下、磁性層の厚さが0.０１μｍ以上0.３０μｍ以下で、中心線平均表面粗さＲａが0.５ｎｍ以上3.２ｎｍ以下で、走査型白色光干渉法により３５０μｍ×２６０μｍの視野で測定した場合の磁性層の凹凸の中心値をＰ0 、磁性層の最大の凸量をＰ1 、順次第２番目、第３番目、第４番目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸量をＰ2 、Ｐ3 、Ｐ4 、Ｐ5 ・・・、Ｐ19、Ｐ20とした時の（Ｐ1 −Ｐ0 ）が５ｎｍ以上３０ｎｍ以下で、かつ（Ｐ1 −Ｐ20）が0.４ｎｍ以上５ｎｍ以下である磁気記録媒体（請求項１）と、磁性層の保磁力が１２０〜３２０ｋＡ／ｍ、長手方向の残留磁束密度と厚さの積が0.００１８μＴｍ〜0.０６μＴｍである磁気記録媒体（請求項２）と、非磁性支持体の長手方向のヤング率が6.０８ＧＰａ（６００kg／mm2 ）以上１2.０ＧＰａ（１１８４kg／mm2 ）であり、当該長手方向のヤング率をＭＤ、幅方向のヤング率をＴＤとした時の比（ＭＤ／ＴＤ）が0.６〜1.８０である磁気記録媒体（請求項３）とに係るものである。なお、本発明でいう摩擦係数は先にも述べたように動摩擦係数を意味し、その具体的な測定法は後述する実施例で説明する。
【００１４】
【発明の実施の形態】
非磁性支持体上の少なくとも一面に、少なくとも一層の下塗層と、磁性層とがこの順に形成された磁気記録媒体において、磁性層の厚さを0.３μｍ以下とした磁気記録媒体は、磁性層が極めて薄く厚み損失が小さいので磁気ヘッド走行方向の記録密度が高い。磁性層の厚さは、0.０１〜0.３μｍが好ましく、0.０１〜0.２５μｍがより好ましく、0.０１〜0.２μｍがさらに好ましく、0.０１〜0.１５μｍがいっそう好ましい。この範囲がより好ましいのは、0.０１μｍ未満では均一な磁性層が得にくく、0.３μｍを越えると厚さ損失により、再生出力が小さくなるためである。
【００１５】
磁性層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は3.２ｎｍ以下が好ましく、0.５〜3.２ｎｍがより好ましく、0.７〜2.９ｎｍがさらに好ましく、0.７〜2.５ｎｍがいっそう好ましい。この範囲が好ましいのは、磁性層のＲａが0.５ｎｍ未満では磁気テープの走行が不安定になり、Ｒａが3.２ｎｍを越えると、スペーシングロスにより、ＰＷ５０が広くなったり出力が低下したりして、エラーレートが高くなるためである。
【００１６】
磁性層の凹凸の中心値をＰ0 、磁性層の最大の凸量をＰ1 とした時の（Ｐ1 −Ｐ0 ）は、３０ｎｍ以下が好ましく、５〜３０ｎｍがより好ましく、５〜２５ｎｍがさらに好ましく、５〜２０ｎｍがいっそう好ましい。この範囲が好ましいのは、磁性層の（Ｐ1 −Ｐ0 ）が５ｎｍ未満では磁気テープの走行が不安定になる場合があり、（Ｐ1 −Ｐ0 ）が３０ｎｍを越えると、スペーシングロスにより、ＰＷ５０が広くなったり出力が低下したりして、エラーレートが高くなるためである。また、（Ｐ1 −Ｐ0 ）を３０ｎｍ以下にすると、ＭＲヘッドとの衝突によるサーマル・アスペリティの低減にも有効である。さらに、上記の条件を満たすと共に、磁性層の最大の凸量をＰ1 、順次第２番目、第３番目、第４番目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸量をＰ2 、Ｐ3 、Ｐ4 、Ｐ5 、・・・、Ｐ19、Ｐ20とした時の（Ｐ1 −Ｐ20）が５ｎｍ以下であることが好ましい。（Ｐ1 −Ｐ20）は1.８ｎｍ以下がより好ましく、1.５ｎｍ以下がさらに好ましく、1.０ｎｍ以下が特に好ましい。この範囲が好ましいのは、（Ｐ1 −Ｐ20）を５ｎｍ（より好ましくは1.８ｎｍ）以下にすると、スライダ（アルミナ／チタニア／カーバイド）から約２５ｎｍ引っ込んで埋め込まれたＭＲヘッドと磁気テープが均一に当たるのでコンタクトが良くなり、ＰＷ５０の低減と出力の向上によって、エラーレートが低くなるためである。また、このような均一な突起があると、摩擦係数が低くなると共に、ＭＲスライダ（ＡｌＴｉＣ；アルミナ／チタニア／カーバイド）との引っ掛かりが低減され、スムーズな走行性が得られるという副次的な効果もある。なお、最大の凸量と第２０番目の凸量の差が重要な理由は、ＭＲヘッドがスライダ面から約２５ｎｍ引っ込んだ形態で埋め込まれていることと関係があると考えられるが、明確な理由は不明である。現在のところは、実験事実を述べるに留める。
【００１７】
さらに、スライダに埋め込まれたＭＲヘッドを使用する磁気テープでは、［（Ｐ1 −Ｐ0 ）／Ｒａ］は１２以下が好ましく、１０以下がさらに好ましく、８以下がさらに好ましく、６以下がいっそう好ましい。[ （Ｐ1 −Ｐ0 ）／Ｒａ ]について１２以下が好ましいのは、ＭＲ素子が磨耗した場合にも、ＭＲヘッドと磁気テープが均一に当たり、ＰＷ５０が狭く出力が高く維持されてエラーレートが低くなるためである。このような磁気テープは、磁性層に施すラッピング／ロータリ／ティシュ処理（ＬＲＴ処理）の処理条件のコントロールによって得られる。
【００１８】
磁性層とスライダ材料（例えば、アルミナ／チタニア／カーバイド）との摩擦係数をμmSL 、磁性層とＳＵＳとの摩擦係数をμmSUS、バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数をμBSUSとした時の［（μmSL ）／（μmSUS）］を0.７〜1.３に設定し、かつ［（μmSL ）／（μBSUS）］を0.８〜1.５に設定すると、磁気テープの蛇行によるオフトラックが低減され、エラーレートが低下する。この効果は、トラック幅が５μｍ以下の場合に特に大きい。［（μmSL ）／（μmSUS）］が0.８５〜1.１５で、かつ［（μmSL ）／（μBSUS）］が1.０〜1.３であればより好ましく、［（μmSL ）／（μmSUS）］が0.９〜1.１で、かつ［（μmSL ）／（μBSUS）］が1.０〜1.３であればさらに好ましい。このような磁気テープは、（１）磁性層に高級脂肪酸のエステルとともに脂肪酸アミドを含有させ、あるいは磁性層中の架橋剤量を減少させる等の工夫を磁性層に施し、（２）バックコート層に粒径３００ｎｍ〜４００ｎｍの大粒径カーボンブラックと、粒径５ｎｍ〜２００ｎｍの小粒径カーボンブラックとを含有させるとともに、（３）上記のＬＲＴ処理を磁性層に施すことにより得られる。
【００１９】
磁性層の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、１４０〜３２０ｋＡ／ｍがより好ましく、１６０〜３２０ｋＡ／ｍがさらに好ましい。磁性層の保磁力が１２０ｋＡ／ｍ未満では記録波長を短くすると反磁界減磁で出力低下が起こり、３２０ｋＡ／ｍを越えると磁気ヘッドによる記録が困難になることがある。
【００２０】
長手方向の残留磁束密度と厚さの積は0.００１８〜0.０６μＴｍが好ましく、0.００３６〜0.０５０μＴｍがより好ましく、0.００４〜0.０４５μＴｍがさらに好ましく、0.００４〜0.０４０μＴｍがいっそう好ましい。長手方向の残留磁束密度と厚さの積が0.００１８μＴｍ未満では、ＭＲヘッドによる再生出力が小さく、0.０６μＴｍを越えるとＭＲヘッドによる再生出力が歪みやすくなることがある。このような磁性層からなる磁気記録媒体は、記録波長を短くでき、しかも、ＭＲヘッドで再生した時の再生出力を大きくすることができ、さらには再生出力の歪を低減できて出力対ノイズ比を大きくできるので好ましい。
【００２１】
下塗層の厚さは、0.３〜3.０μｍが好ましく、0.５〜2.５μｍがより好ましく、0.５〜2.０μｍがさらに好ましく、0.５〜1.５μｍがいっそう好ましい。下塗層の厚さが0.３μｍ未満では磁気記録媒体の耐久性が悪くなる場合があり、3.０μｍを越えると磁気記録媒体の耐久性向上効果が飽和するばかりでなく、磁気テープの場合は全厚が厚くなって、１巻当りのテープ長さが短くなり、記憶容量が小さくなることがある。
【００２２】
バックコート層の厚さは、0.２〜0.８μｍが好ましい。この範囲が好ましいのは、0.２μｍ未満では磁気記録媒体の走行性が悪くなり、0.８μｍを越えると磁気記録媒体の全厚が厚くなって、１巻当りのテープ長さが短くなり、記憶容量が小さくなるためである。バックコート層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は２〜１５ｎｍが好ましく、３〜８ｎｍがより好ましい。バックコート層のＲａが２ｎｍ未満では磁気テープの走行が不安定になることがあり、Ｒａが１５ｎｍを越えると、裏写により、磁性層の表面粗さが大きくなって、スペーシングロスが大きくなることがある。このようなバックコート層は、粒径５ｎｍ〜１００ｎｍの小粒径カーボンブラックと粒径３００〜４００ｎｍの大粒径カーボンブラックとを、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラック合計の添加量が無機粉体重量を基準にして６０〜９８重量％となるように含有し、粒子径が0.１μｍ〜0.６μｍの酸化鉄を、無機粉体重量を基準にして２〜４０重量％含有させ、カレンダ処理を行うことによって得られる。なお、大粒径カーボンブラックの添加量は、通常、小粒径カーボンブラックの５〜１５重量％である。
【００２３】
以下に、各構成要素毎の好ましい形態を述べる。
〈非磁性支持体〉
非磁性支持体の厚さは、7.０μｍ以下が好ましく、2.０〜7.０μｍがより好ましく、２〜6.５μｍがさらに好ましく、2.５〜6.０μｍがいっそう好ましい。この範囲の厚さの非磁性支持体が好ましいのは、２μｍ未満では製膜が難しく、またテープ強度が小さくなり、7.０μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、テープ１巻当りの記憶容量が小さくなるためである。
【００２４】
非磁性支持体の長手方向のヤング率は、非磁性支持体の厚さによって異なるが、通常5.０７ＧＰａ（５００kg／mm2 ）以上のものが使用される。このヤング率は6.０８ＧＰａ（６００kg／mm2 ）以上が好ましく、7.０９ＧＰａ（７００kg／mm2 ）以上が好ましい。また、非磁性支持体の厚さが5.０μｍ以下の場合は、１0.１３ＧＰａ（１０００kg／mm2 ）以上のヤング率のものが好ましく使用される。非磁性支持体の長手方向のヤング率が6.０８ＧＰａ（６００kg／mm2 ）未満では、磁気テープの強度が弱くなったり、磁気テープの走行が不安定になったりすることがある。
【００２５】
非磁性支持体の長手方向のヤング率をＭＤ、幅方向のヤング率をＴＤとした時の比（ＭＤ／ＴＤ）が0.６〜1.８である非磁性支持体を用いると、ＭＲヘッドとの当たりが良くなるので好ましい。ＭＤ／ＴＤの好ましい範囲は、ヘリキャルスキャンタイプとリニアレコーディングタイプとで異なっており、ヘリキャルスキャンタイプで好ましいＭＤ／ＴＤの範囲は、0.６〜1.２で、0.６〜1.０がより好ましく、0.６０〜0.８０がさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、メカニズムは現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入り側から出側間の出力のばらつき（フラットネス）が大きくなるためである。リニアレコーディングタイプでは、1.０〜1.８が好ましく、1.１〜1.７がより好ましく、1.２〜1.６がさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、ヘッドタッチが良くなるためである。このような非磁性支持体には、ポリエチレンナフタレートフィルム、芳香族ポリアミドフィルム、芳香族ポリイミドフィルム等がある。
【００２６】
〈下塗層〉
上述のように、下塗層の厚さは、0.３〜3.０μｍが好ましく、0.５〜2.５μｍがより好ましく、0.５〜2.０μｍがさらに好ましく、0.５〜1.５μｍがいっそう好ましい。この範囲が好ましいのは、0.３μｍ未満では磁気記録媒体の耐久性が悪くなる場合があり、3.０μｍを越えると磁気記録媒体の耐久性向上効果が飽和するばかりでなく、磁気テープの場合は全厚が厚くなって、１巻当りのテープ長さが短くなり、記憶容量が小さくなるためである。
【００２７】
下塗層には、導電性改良の目的でカーボンブラック、塗料粘度やテープ剛性の制御を目的に非磁性粒子を添加する。下塗層に使用する非磁性粒子としては、酸化チタン、酸化鉄、アルミナ等があるが、酸化鉄単独または酸化鉄とアルミナの混合系が使用される。下塗層に、下塗層中の全無機粉体の重量を基準にして、粒径１０〜１００ｎｍのカーボンブラックを１５〜３５重量％、長軸長0.０５〜0.２０μｍ、短軸長５〜２００ｎｍの非磁性の酸化鉄を３５〜８３重量％、必要に応じて粒径１０〜１００ｎｍのアルミナを０〜２０重量％含有させると、ウエット・オン・ウエットで、その上に形成した磁性層の表面粗さが小さくなるので好ましい。なお、非磁性酸化鉄は通常針状であるが、粒状または無定形の非磁性酸化鉄を使用する場合には粒径５〜２００ｎｍの酸化鉄が好ましい。なお、表面の平滑性を損なわない範囲で１００ｎｍ以上の大粒径カーボンブラックを添加することを排除するものではない。その場合のカーボンブラック量は、小粒径カーボンブラック量と大粒径カーボンブラック量との和を上記範囲内にすることが好ましい。大粒径カーボンブラック量は通常、全カーボンブラック量の２０重量％以下である。
【００２８】
下塗層に添加するカーボンブラック（以下、ＣＢともいう）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。通常、粒径が５ｎｍ〜１００ｎｍのものが使用されるが、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。この範囲が好ましいのは、ＣＢがストラクチャーを持っているため、粒径が１０ｎｍ未満になるとＣＢの分散が難しく、１００ｎｍを越えると平滑性が悪くなるためである。ＣＢ添加量は、ＣＢの粒子径によって異なるが、１５〜３５重量％が好ましい。この範囲が好ましいのは、１５重量％未満では導電性向上効果が乏しく、３５重量％を越えると効果が飽和するためである。粒径１５ｎｍ〜８０ｎｍのＣＢを１５〜３５重量％使用するのがより好ましく、粒径２０ｎｍ〜５０ｎｍのＣＢを２０〜３０重量％用いるのがさらに好ましい。このような粒径・量のカーボンブラックを添加することにより電気抵抗が低減され、かつ走行むらが小さくなる。
【００２９】
下塗層に添加する非磁性の酸化鉄としては、針状の場合、長軸長0.０５〜0.２０μｍ、短軸長（粒径）５〜２００ｎｍのものが好ましく、粒状または無定形のものでは、粒径５〜２００ｎｍが好ましい。粒径0.０５〜１５０ｎｍがより好ましく、粒径0.０５〜１００ｎｍがさらに好ましい。なお、針状のものが磁性層の配向がよくなるのでより好ましい。添加量は、３５〜８３重量％が好ましく、４０〜８０重量％がより好ましく、５０〜７５重量％がさらに好ましい。この範囲の粒径（針状の場合は短軸長）が好ましいのは、粒径５ｎｍ未満では均一分散が難しく、２００ｎｍを越えると下塗層と磁性層の界面の凹凸が増加するためである。この範囲の添加量が好ましいのは、３５重量％未満では塗膜強度向上効果が小さく、８３重量％を越えると却って塗膜強度が低下することがあるためである。
【００３０】
下塗層には酸化鉄に加えてアルミナを添加してもよい。アルミナの粒径は、１０〜１００ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましく、３０〜１００ｎｍがさらに好ましい。粒径１０ｎｍ未満では均一分散が難しく、１００ｎｍを越えると下塗層と磁性層の界面の凹凸が増加することがある。アルミナの添加量は、通常０〜２０重量％であるが、２〜１０重量％がより好ましく、４〜８重量％がさらに好ましい。
【００３１】
〈潤滑剤〉
下塗層と磁性層からなる塗布層に、役割の異なる潤滑剤を使用する。下塗層には全粉体に対して0.５〜4.０重量％の高級脂肪酸を含有させ、0.２〜3.０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、磁気テープと走行系のヘッドおよびガイドローラ等との摩擦係数が小さくなるので好ましい。高級脂肪酸の添加量が0.５重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、4.０重量％を越えると下塗層が可塑化してしまい強靭性が失われることがある。また、この範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、0.５重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、3.０重量％を越えると磁性層への移入量が多すぎるため、磁気テープと走行系のヘッドおよびガイドローラ等が貼り付く等の副作用があるためである。
【００３２】
磁性層に、強磁性粉末に対して0.２〜3.０重量％の脂肪酸アミドを含有させ、0.２〜3.０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、磁気テープと走行系のキャプスタンやＭＲヘッドのスライダ等との摩擦係数が小さくなるので好ましい。前記脂肪酸アミドの含有量が0.２重量％未満ではヘッドスライダ／磁性層の摩擦係数が大きくなりやすく、3.０重量％を越えるとブリードアウトしてしまいドロップアウトなどの欠陥が発生することがある。脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸などの高級脂肪酸が使用される。脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、モノ−ステアリン酸無水ソルビタン、ジ−ステアリン酸無水ソルビタン、トリ−ステアリン酸無水ソルビタンなどが使用される。脂肪酸アミドとしては、パルミチン酸、ステアリン酸等の上記高級脂肪酸のアミドが使用可能である。また、上記範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、0.２重量％未満では摩擦係数低減効果が小さく、3.０重量％を越えると磁気テープと走行系のヘッドおよびガイドローラ等が貼り付く等の副作用があるためである。なお、磁性層の潤滑剤と下塗層の潤滑剤の相互移動を排除するものではない。ＭＲヘッドのスライダとの摩擦係数は0.３０以下が好ましく、0.２５以下がより好ましい。この範囲が好ましいのは、0.３０を越えると、スライダ汚れによるスペーシングロスが起こりやすいためである。なお、0.１０未満は実現が困難である。ＳＵＳとの摩擦係数は0.１０〜0.２５が好ましく、0.１２〜0.２０がより好ましい。この範囲が好ましいのは、0.１０未満になるとヘッドおよびガイドローラ部分で滑りやすく走行が不安定になり、0.２５を越えるヘッドおよびガイドローラが汚れやすくなるためである。また、［（μmSL ）／（μmSUS）］は0.７〜1.３が好ましく、0.８〜1.２がより好ましい。この範囲が好ましいのは、磁気テ−プの蛇行によるトラッキングずれ（オフトラック）が小さくなるためである。
【００３３】
〈磁性層〉
磁性層の厚さは上述のように、通常0.３μｍ以下で、0.０１〜0.３μｍが好ましく、0.０１〜0.２５μｍがより好ましく、0.０１〜0.２μｍがさらに好ましく、0.０１〜0.１５μｍがいっそう好ましい。この範囲がより好ましいのは、0.０１μｍ未満では均一な磁性層が得にくく、0.３μｍを越えると厚さ損失により、再生出力が小さくなったり、当該磁性層における残留磁束密度（Ｂｒ）と厚さ（δ）との積（Ｂｒδ）が大きくなり過ぎて、ＭＲヘッドの飽和による再生出力の歪が起こりやすくなるためである。また、上述のように、磁性層の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、１４０〜３２０ｋＡ／ｍがより好ましく、１６０〜３２０ｋＡ／ｍがさらに好ましい。磁性層の保磁力が１２０ｋＡ／ｍ未満では記録波長を短くした場合に反磁界減磁で出力低下が起こり、３２０ｋＡ／ｍを越えると磁気ヘッドによる記録が困難になることがある。長手方向の残留磁束密度と厚さの積は0.００１８〜0.０６μＴｍが好ましく、0.００３６〜0.０５０μＴｍがより好ましく、0.００４〜0.０４５μＴｍがさらに好ましく、0.００４〜0.０４０μＴｍがいっそう好ましい。この範囲が好ましいのは、0.００１８μＴｍ未満では、ＭＲヘッドによる再生出力が小さく、0.０６μＴｍを越えるとＭＲヘッドによる再生出力が歪みやすいからである。
【００３４】
磁性層に添加する磁性粉には、強磁性鉄系金属粉末、六方晶バリウムフェライト粉末が使用される。強磁性鉄系金属粉末、六方晶バリウムフェライト粉末の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽和磁化量は、強磁性鉄系金属粉末では、１２０〜２００Ａ・ｍ2 ／kg（１２０〜２００ｅｍｕ／ｇ）が好ましく、１３０〜１８０Ａ・ｍ2 ／kg（１３０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）がより好ましい。六方晶バリウムフェライト粉末では、５０〜７０Ａ・ｍ2 ／kg（５０〜７０ｅｍｕ／ｇ）が好ましい。なお、この磁性層の磁気特性と、強磁性粉末の磁気特性は、いずれも試料振動形磁束計で外部磁場1.２８ＭＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定値をいうものである。
【００３５】
本発明の磁気記録媒体において使用する強磁性鉄系金属粉末の平均長軸長としては、0.０３〜0.２μｍが好ましく、0.０３〜0.１８μｍがより好ましく、0.０４〜0.１５μｍがさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、平均長軸長が0.０３μｍ未満となると、磁性粉の凝集力が増大するため塗料中への分散が困難になり、0.２μｍより大きいと、保磁力が低下し、また粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるからである。また、六方晶バリウムフェライト粉末では、同様の理由により、板径５〜２００ｎｍが好ましい。なお、上記の平均長軸長、粒径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて撮影した写真の粒子サイズを実測し、１００個の平均値により求めたものである。また、この強磁性鉄系金属粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ2 ／ｇ以上が好ましく、４０ｍ2 ／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ2 ／ｇ以上が最も好ましい。六方晶バリウムフェライト粉末のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ2 ／ｇ以上が好ましい。
【００３６】
下塗層、磁性層に含有させる結合剤としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体、ニトロセルロースなどの中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂との組み合わせを用いることができる。中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体とポリウレタン樹脂を併用するのが好ましい。ポリウレタン樹脂には、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタンなどがある。
【００３７】
官能基としてＣＯＯＨ、ＳＯ3 Ｍ、ＯＳＯ2 Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）3 、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 ［Ｍは水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩］、ＯＨ、ＮＲ' Ｒ''、Ｎ+ Ｒ''' Ｒ''''Ｒ''''' ［Ｒ' 、Ｒ''、Ｒ''' 、Ｒ''''、Ｒ''''' は水素または炭化水素基］、エポキシ基を有する高分子からなるウレタン樹脂等の結合剤が使用される。このような結合剤を使用するのは、上述のように磁性粉等の分散性が向上するためである。２種以上の樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一致させるのが好ましく、中でも−ＳＯ3 Ｍ基どうしの組み合わせが好ましい。
【００３８】
これらの結合剤は、強磁性粉末１００重量部に対して、７〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重量部の範囲で用いられる。特に、結合剤として、塩化ビニル系樹脂５〜３０重量部と、ポリウレタン樹脂２〜２０重量部とを、複合して用いるのが最も好ましい。
【００３９】
これらの結合剤とともに、結合剤中に含まれる官能基などと結合させて架橋する熱硬化性の架橋剤を併用するのが望ましい。この架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどや、これらのイソシアネート類とトリメチロールプロパンなどの水酸基を複数個有するものとの反応生成物、上記イソシアネート類の縮合生成物などの各種のポリイソシアネートが好ましい。これらの架橋剤は、結合剤１００重量部に対して、通常１０〜５０重量部の割合で用いられる。より好ましくは１０〜３５重量部である。なお、磁性層に使用する架橋剤の量を、下塗層に使用する量の１／２程度（３０％〜６０％）にすれば、ＭＲヘッドのスライダに対する摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲が好ましいのは、３０％未満では、磁性層の塗膜強度が弱くなりやすく、６０％を越えるとスライダに対する摩擦係数を小さくするために、ＬＲＴ処理条件を強くする必要があり、コストアップにつながるためである。
【００４０】
導電性向上と表面潤滑性向上を目的に従来公知のＣＢを添加することができる。これらのＣＢとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。粒径が５ｎｍ〜１００ｎｍのものが使用されるが、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。この範囲が好ましいのは、粒径が５ｎｍ以下になるとＣＢの分散が難しく、１００ｎｍ以上では多量のＣＢを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、出力低下の原因になるためである。添加量は強磁性粉末に対して0.２〜５重量％が好ましく、0.５〜４重量％がより好ましく、0.５〜3.５重量％がさらに好ましく、0.５〜３重量％がいっそう好ましい。この範囲が好ましいのは、0.２重量％未満では効果が小さく、５重量％を越えるＣＢを添加すると、磁性層表面が粗くなりやすいからである。
【００４１】
〈バックコート層〉
走行性向上を目的に、厚さ0.２〜0.８μｍの従来公知のバックコート層を使用できる。この範囲が良いのは、0.２μｍ未満では、走行性向上効果が不充分であり、0.８μｍを越えるとテープ全厚が厚くなって１巻当たりの記憶容量が小さくなるためである。バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数は0.１０〜0.３０が好ましく、0.１０〜0.２５がより好ましい。この範囲が好ましいのは、0.１０未満になるとガイドローラ部分で滑りやすく走行が不安定になり、0.３０を越えるとガイドローラが汚れやすくなるためである。また、［（μmSL ）／（μBSUS）］は0.８〜1.５が好ましく、0.９〜1.４がより好ましい。この範囲が好ましいのは、磁気テープの蛇行によるトラッキングずれ（オフトラック）が小さくなることがあるためである。
【００４２】
バックコート層のカーボンブラック（ＣＢ）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。通常、小粒径カーボンと大粒径カーボンを使用する。小粒径カーボンには、粒径が５ｎｍ〜１００ｎｍのものを使用することができるが、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものがより好ましい。この範囲がより好ましいのは、粒径が１０ｎｍ以下になるとＣＢの分散が難しく、粒径が１００ｎｍ以上では多量のＣＢを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗くなり、磁性層への裏移り（エンボス）原因になるためである。大粒径カーボンとして、粒径３００〜４００ｎｍのカーボンを小粒径カーボンの添加量に対して５〜１５重量％の割合で添加すると、表面も粗くならず、走行性向上効果も大きくなる。小粒径カーボンと大粒径カーボン合計の添加量は無機粉体重量を基準にして６０〜９８重量％が好ましく、７０〜９５重量％がより好ましい。バックコート層の中心線平均表面粗さＲａは２〜１５ｎｍが好ましく、３〜８ｎｍがより好ましい。
【００４３】
また、バックコート層には、強度向上を目的に、粒子径が0.１μｍ〜0.６μｍの酸化鉄を添加するのが好ましく、0.２μｍ〜0.５μｍがより好ましい。添加量は無機粉体重量を基準にして２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。
【００４４】
バックコート層には結合剤として、前述した磁性層や下塗層に用いるのと同じ樹脂を用いることができるが、これらの中でも摩擦係数を低減し走行性を向上させるため、セルロース系樹脂とポリウレタン樹脂を複合して併用することが好ましい。結合剤の含有量は通常、カーボンブラックと前記無機非磁性粉末との合計量１００重量部に対して４０〜１５０重量部で、５０〜１２０重量部が好ましく、６０〜１１０重量部がより好ましく、７０〜１１０重量部がさらに好ましい。この範囲が好ましいのは、５０重量部未満では、バックコート層の強度が不十分で、１２０重量部を越えると摩擦係数が高くなりやすいためである。セルロース系樹脂を３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂を２０〜５０重量部使用することが好ましい。また、さらに結合剤を硬化するために、ポリイソシアネート化合物などの架橋剤を用いることが好ましい。
【００４５】
バックコート層には架橋剤として、前述した磁性層や下塗層に用いる架橋剤を使用する。架橋剤の量は、結合剤１００重量部に対して、通常１０〜５０重量部の割合で用いられる。好ましくは１０〜３５重量部、より好ましくは１０〜３０重量部である。この範囲が好ましいのは、１０重量部未満では、バックコート層の塗膜強度が弱くなりやすく、３５重量部を越えるとＳＵＳに対する動摩擦係数が大きくなるためである。
【００４６】
磁気サーボ信号が記録される特殊用途のバックコート層には、磁性層に使用する上述の強磁性粉末を３０〜６０重量部、バックコート層に使用する上述のカーボンブラックを４０〜７０重量部、必要に応じて、バックコート層に使用する上述の酸化鉄、アルミナを２〜１５重量部添加する。また、結合剤には、強磁性粉末、カーボンブラック、無機非磁性粉末との合計量１００重量部に対して、上記バックコート層に用いる樹脂を通常、４０〜１５０重量部、好ましくは５０〜１２０重量部使用する。また、架橋剤には、上述の架橋剤を結合剤１００重量部に対して、通常１０〜５０重量部の割合で用いることができる。上述の磁性層で述べたのと同じ理由で、保磁力は１２０〜３２０ｋＡ／ｍ、残留磁束密度Ｂｒと膜厚の積は、0.０１８〜0.０６μＴｍが好ましい。
【００４７】
〈ＬＲＴ（ラッピング／ロータリ／ティシュ）処理〉
ＬＲＴ処理の概略を図１を用いて説明する。図１中の符号１は磁気テープ３０用の送り出しロール、２は送りロール、３は研磨テープ（ラッピングテープ）、４は研磨テープ用のガイドブロック、５は研磨テープ用の回転ロール、６はアルミ製のロータリホイール、７は磁気テープ３０のバックコート層３０ｂ側に対する不織布面当て用の回転棒、８は磁性層３０ａ側に対する不織布面当て用の回転棒、９は不織布（ティシュ）、１０は不織布用の回転ロール、１１はフィードローラ、１２は巻き取りロールを示す。
【００４８】
（１）ラッピング処理：  図１に示すように研磨テープ（ラッピングテープ）３は、回転ロール５によって磁気テープ３０の送り方向（テープ送り速度は、標準：４００ｍ／min ）と反対方向に一定の速さ（標準：１4.４cm／min ）で移動し、図中の下部側からガイドブロック４によって押さえられることによって磁気テープ３０の磁性層３０ａ側と接触し、この時の磁気テープ巻き出しテンションおよび研磨テープ３のテンションを一定（標準：各１００ｇ、２５０ｇ）として研磨処理を行う。この工程で使用する研磨テープ（ラッピングテープ）３は、例えば、Ｍ２００００番、ＷＡ１００００番あるいはＫ１００００番のような研磨砥粒の細かいラッピングテープである。なお、研磨ホイール（ラッピングホイール）を研磨テープ（ラッピングテープ）３の代りにまたは併用して使用することを排除するものではないが、頻繁に交換を要する場合は、研磨テープ（ラッピングテープ）３のみを使用する。
【００４９】
（２）ロータリ処理：  図１に示す空気抜き用溝付ロータリホイール［標準：幅１インチ（２5.４mm）、直径６０mmφ、空気抜き用溝２mm幅、溝の角度４５度、協和精工社製］６を、磁気テープ３０の走行方向（図中に矢印で示す）と反対方向に一定の回転速度（通常：２００〜３０００ｒｐｍ、標準：１１００ｒｐｍ）で回転させつつ、磁気テープ３０の磁性層３０ａに対して一定の接触角度（標準：９０度）で接触させることにより、磁性層３０ａの表面処理を行う。
【００５０】
（３）ティシュ処理：  ティシュ（不織布、例えば東レ社製のトレシー）を、磁気テープの３０の送り方向と反対方向に一定の速度（標準：１4.０mm／min ）で送り、回転棒７・８でそれぞれ磁気テープ３０のバックコート層３０ｂおよび磁気層３０ａの表面に押し当ててクリーニング処理を行う。
【００５１】
本発明のテープを組み込んだカセットテープは、１巻当たりの容量が大きく、ＭＲ再生ヘッドを使用した場合のＰＷ５０が小さく、再生出力が高いので、エラーレートが低く、ハードディスクドライブのバックアップ用テープとして、信頼性も高く、特に優れている。
【００５２】
【実施例】
以下に実施例によって本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例、比較例の部は重量部を示す。
【００５３】
実施例１：
《下塗層用塗料成分》
（１）
酸化鉄粉末（平均粒径：0.１１×0.０２μｍ）                    ６８部
α−アルミナ（平均粒径：0.０７μｍ）                            ８部
カーボンブラック（平均粒径：２５ｎｍ、吸油量：５５ｇ／cc）    ２４部
ステアリン酸                                                  2.０部
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体            0.８部
（含有−ＳＯ3 Ｎａ基：0.７×１０-4当量／ｇ）
ポリエステルポリウレタン樹脂                                  4.４部
（Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ3 Ｎａ基：１×１０-4当量／ｇ）
シクロヘキサノン                                              ２５部
メチルエチルケトン                                            ４０部
トルエン                                                      １０部
（２）
ステアリン酸ブチル                                              １部
シクロヘキサノン                                              ７０部
メチルエチルケトン                                            ５０部
トルエン                                                      ２０部
（３）
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）        4.４部
シクロヘキサノン                                              １０部
メチルエチルケトン                                            １５部
トルエン                                                      １０部
【００５４】
《磁性層用塗料成分》
（１）
強磁性鉄系金属粉                                            １００部
（Ｃｏ／Ｆｅ：２０ａｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：３ａｔ％、
Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：５ｗｔ％、Ｃａ／Ｆｅ：０ｗｔ％、
σs ：１５５Ａ・ｍ2 ／kg、Ｈｃ：１４9.６ｋＡ／ｍ、
ｐＨ：9.４、長軸長：0.１０μｍ）
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体          １2.３部
（含有−ＳＯ3 Ｎａ基：0.７×１０-4当量／ｇ）
ポリエステルポリウレタン樹脂                                  5.５部
（含有−ＳＯ3 Ｎａ基：1.０×１０-4当量／ｇ）
α−アルミナ（平均粒径：0.１２μｍ）                            ８部
α−アルミナ（平均粒径：0.０７μｍ）                            ２部
カーボンブラック                                              1.０部
（平均粒径：７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：７２cc／１００ｇ）
メタルアシッドホスフェート                                      ２部
パルミチン酸アミド                                            1.５部
ステアリン酸ｎ−ブチル                                        1.０部
テトラヒドロフラン                                            ６５部
メチルエチルケトン                                          ２４５部
トルエン                                                      ８５部
（２）
ポリイソシアネート                                            2.０部
シクロヘキサノン                                            １６７部
【００５５】
上記の下塗層用塗料成分において（１）をニーダで混練したのち、（２）を加えて攪拌の後サンドミルで滞留時間を６０分として分散処理を行い、これに（３）を加え攪拌・濾過した後、下塗層用塗料とした。これとは別に、上記の磁性層用塗料成分（１）をニーダで混練したのち、サンドミルで滞留時間を４５分として分散し、これに磁性層用塗料成分（２）を加え攪拌・濾過後、磁性塗料とした。上記の下塗層用塗料を、ポリエチレンナフタレートフイルム（厚さ6.２μｍ、ＭＤ＝6.０８ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝1.３、帝人社製）からなる支持体上に、乾燥、カレンダ後の厚さが1.８μｍとなるように塗布し、この下塗層上に、さらに上記の磁性塗料を磁場配向処理、乾燥、カレンダー処理後の磁性層の厚さが0.１５μｍとなるようにウエット・オン・ウエットで塗布し、磁場配向処理後、ドライヤを用いて乾燥し、磁気シートを得た。なお、磁場配向処理は、ドライヤ前にＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を設置し、ドライヤ内で塗膜の指蝕乾燥位置の手前側７５cmからＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を２基５０cm間隔で設置して行った。塗布速度は１００ｍ／分とした。
【００５６】
《バックコート層用塗料成分》
カーボンブラック（平均粒径：２５ｎｍ）                        ８０部
カーボンブラック（平均粒径：３７０ｎｍ）                      １０部
酸化鉄（長軸長：0.４μｍ、軸比：約１０）                      １０部
ニトロセルロース                                              ４５部
ポリウレタン樹脂（ＳＯ3 Ｎａ基含有）                          ３０部
シクロヘキサノン                                            ２６０部
トルエン                                                    ２６０部
メチルエチルケトン                                          ５２５部
【００５７】
上記バックコート層用塗料成分をサンドミルで滞留時間４５分として分散した後、ポリイソシアネート１５部を加えてバックコート層用塗料を調整し濾過した後、上記で作製した磁気シートの磁性層の反対面に、乾燥、カレンダ後の厚みが0.５μｍとなるように塗布し、乾燥した。このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧１５０kg／cmの条件で鏡面化処理し、磁気シートをコアに巻いた状態で７０℃で７２時間エージングしたのち、１／２インチ幅に裁断し、下記の条件でＬＲＴ処理を行った。このようにして得られた磁気テープを、カートリッジに組み込み、コンピュータ用テープを作製した。バックコート層のＲａは８ｎｍであった。
【００５８】
〈ＬＲＴ（ラッピング／ロータリ／ティシュ）処理〉
（１）ラッピング処理：  図１に示すように研磨テープ（ラッピングテープ）３を、回転ロール５によって磁気テープ３０の送り方向（磁気テープ送り速度：標準で４００ｍ／min ）と反対方向に１4.４cm／min の速さで移動させ、図中の下部からガイドブロック４によって押さることによって磁気テープ３０の磁性層３０ａの表面と接触させ、この時の磁気テープ巻き出しテンションを１００ｇ、研磨テープ３のテンションを２５０ｇとして研磨処理を行った。
【００５９】
（２）ロータリホイール処理：  図１に示す幅１インチ（２5.４mm）、直径６０mmφ、溝幅２mmの空気抜き用溝付アルミ製ロータリホイール（溝角度４５度、協和精工社製）６を磁気テープ３０の送り方向と反対方向に回転（回転速度１１００ｒｐｍ）させて、磁性層３０ａに対して接触角度９０度で接触させることにより、磁性層３０ａの表面処理を行った。
【００６０】
（３）ティシュ処理：  不織布（ここでは、東レ社製の不織布トレシー）９を、磁気テープ３０の送り方向と反対方向に１4.０mm／min の速度で送り、回転棒７、８で各々バックコート層３０ｂおよび磁性層３０ａの表面に押し当てて、これらの表面に対するクリーニング処理を行った。
【００６１】
実施例２〜１０：
一部条件を表１〜表３の条件に変更したことを除き、実施例１と同様にして実施例２〜１０のコンピュータ用磁気テープを作製した。
【００６２】
比較例１：
ＬＲＴ処理を行わなかったことを除き、実施例１と同様にして比較例１のコンピュータ用テープを作製した。
【００６３】
比較例２：
ＬＲＴ処理の代りに下記のＬＢＴ処理を行ったことを除き、実施例１と同様にして比較例２のコンピュータ用テープを作製した。
【００６４】
〈ＬＢＴ処理〉
磁気テープを４００ｍ／min で走行させながら磁性層表面をラッピングテープ研磨、ブレード研磨そして表面拭き取りの後処理を行い、磁気テ−プを作製した。この時、ラッピングテープ（研磨テープ）にはＫ１００００、ブレードには超硬刃、表面拭き取りには東レ製トレシーを用い、走行テンション３０ｇで処理を行った。上記のようにして得られた磁気テープを、カートリッジに組み込み、コンピュータ用磁気テープを作製した。
【００６５】
比較例３：
ＬＢＴ処理を１０回行ったことを除き、比較例２と同様にして比較例３のコンピュータ用テープを作製した。
【００６６】
比較例４〜６：
一部条件を表５の条件に変更したことを除き、比較例２と同様にして比較例４〜６のコンピュータ用磁気テープを作製した。
【００６７】
特性の評価は、以下のようにして行った。
〈ＰＷ５０、再生出力およびエラーレート等の測定〉
ＰＷ５０、再生出力およびエラーレート（ＥＲＴ）の測定は、薄手テープも測定できるように改造したＬＴＯドライブを用いて記録（記録波長0.５５μｍ）・再生することによって求めた。ＰＷ５０は、比較例１テープのＰＷ５０を１とした時の値、再生出力は、比較例１テープを０ｄＢとした時の値、出力劣化はそれぞれの磁気テープの初期値を０ｄＢとして記録再生を１００回行った後の値である。
【００６８】
〈磁性層の表面粗さ、凹凸の中心値および凸量の評価〉
ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００による走査型白色光干渉法にてＳｃａｎ  Ｌｅｎｇｔｈを５μｍで測定した。測定視野は、３５０μｍ×２６０μｍである。磁性層の中心線平均表面粗さをＲａとし、凹凸の中心値をＰ0 、最大の凸量（第１番目の凸量）をＰ1 、順次第２番目、第３番目、第４番目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸量を、Ｐ2 、Ｐ3 、Ｐ4 、Ｐ5 、・・・、Ｐ19、Ｐ20とした時の（Ｐ1 −Ｐ0 ）と（Ｐ1 −Ｐ20）および［（Ｐ1 −Ｐ0 ）／Ｒａ］を求めた。
【００６９】
〈ＭＲヘッドの突出量と、磨耗量の測定〉
ＤＩ(Digital Instrument)社製の走査型プローブ顕微鏡(Nano Scopea／Dimension-3100 Tapping mode AFM)で、８０μｍ×８０μｍの視野を測定し、傾き、ノイズ等の補正をしたのち、断面プロファイルの解析を行い、ＭＲヘッドの突出量、走行前後の磨耗量を測定した。
【００７０】
〈磁性層とスライダ材料およびＳＵＳとの摩擦係数の測定〉
［ＳＵＳ］
外径５mmのＳＵＳピン（ＳＵＳ３０４）に磁気テープを角度９０°、荷重0.６４Ｎで掛け、磁気テープの同一箇所を送り速度２０mm／sec で繰り返し１０回摺動させた時の摩擦係数を測定した。
【００７１】
［スライダ材料］
外径７mmのＡＬＴＩＣのピンに磁気テープを角度９０°、荷重0.６４Ｎで掛け、磁気テープの同一箇所を送り速度２０mm／sec で繰り返し１０回摺動させた時の摩擦係数を測定した。
【００７２】
〈非磁性支持体のヤング率（ＭＤ、ＴＤ）の測定〉
小型引っ張り試験機（横浜システム社製）を用い、２３℃、５０％ＲＨの環境での歪み・引っ張り強度を測定した。試料の測定長さは１０mm、引っ張り速度１０％歪み／分で引っ張り、得られた強度の0.３％歪みの値をもとに、0.３％伸び弾性率を評価した。この評価は試料の長手方向と幅方向で行った。
【００７３】
以上の測定結果を表１〜表５に示す。表中の略号の意味は、以下の通りである。
・μmSL ：磁性層とスライダ材料との摩擦係数
・μmSUS：磁性層とＳＵＳとの摩擦係数
・μBSUS：バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数
・Ｂｒδ：磁性層の残留磁束密度（Ｂｒ）と厚さ（δ）との積
・Ｈｃ：磁性層の保磁力
・ＢＣ：バックコート層
・ＣＢ：カーボンブラック
・ＭＤ／ＴＤ：非磁性支持体の長手方向のヤング率（ＭＤ）と幅方向のヤング率（ＴＤ）との比
・磁性面表面粗度Ｒａ：磁性層の中心線平均表面粗さＲａ
【００７４】
【表１】
0003710063.tif 000002
【００７５】
【表２】
0003710063.tif 000003
【００７６】
【表３】
0003710063.tif 000004
【００７７】
【表４】
0003710063.tif 000005
【００７８】
【表５】
0003710063.tif 000006
【００７９】
【発明の効果】
表１ないし表５に示した実施例１〜１０および比較例１〜６から明らかなように、非磁性支持体、下塗層、磁性層、バックコート層からなる磁気記録媒体であって、磁性層の厚さが0.３０μｍ以下、中心線平均表面粗さＲａが3.２ｎｍ以下で、磁性層の凹凸の中心値をＰ0 、該磁性層の最大の凸量をＰ1 、第２０番目の凸量をＰ20とした時の（Ｐ1 −Ｐ0 ）が３０ｎｍ以下で、かつ（Ｐ1 −Ｐ20）が５ｎｍ以下である磁気記録媒体は、エラーレートが小さい優れた磁気記録媒体である。このような効果は、（Ｐ1 −Ｐ20）を1.８ｎｍ以下とした磁気記録媒体において特に顕著である。また、磁性層とスライダ材料との摩擦係数をμmSL 、磁性層とＳＵＳとの摩擦係数をμmSUS、バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数をμBSUSとした時の［（μmSL ）／（μmSUS）］が0.７〜1.３で、かつ［（μmSL ）／（μBSUS）］が0.８〜1.５である磁気記録媒体は、オフトラックが小さい優れた磁気記録媒体である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体を製造する場合に行うＬＲＴ（ラッピング／ロータリ／ティシュ）処理の一例を示す概略工程図である。
【図２】スライダ上に載置された、記録ヘッドと再生用のＭＲヘッドとを示す概略平面図である。
【図３】図２のＹ−Ｙ線で切断した概略断面図である。
【符号の説明】
２０  ＭＲヘッド
２２  スライダ
３０  磁気記録媒体（磁気テープ）
３０ａ  磁性層
３０ｂ  バックコート層
【図１】
0003710063.tif 000007
【図２】
0003710063.tif 000008
【図３】
0003710063.tif 000009