(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持して鉛直方向を向く回転軸を中心に回転する回転台と、前記回転台に支持された基板の表面に塗布液を供給する供給手段と、前記回転台に支持された基板と所定間隔を隔てた上方位置に前記基板と平行に配設された上部回転板と、前記回転台に支持されて回転する基板から飛散する余剰塗布液を捕獲して貯留する貯留部と、前記貯留部に貯留された余剰塗布液を吸引して排出する吸引ノズルとを有する塗布装置において、
前記貯留部は、前記回転軸に対して前記上部回転板の外周位置より外側に配設され、その上部に前記回転軸を中心とする円周状の開口部が形成されており、当該開口部から前記吸引ノズルによって余剰塗布液を排出することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置において、
前記吸引ノズルは、前記回転軸に対して前記上部回転板の外周位置より外側に複数個配設される塗布装置。
【請求項３】
請求項１または２いずれかに記載の塗布装置において、
前記吸引ノズルを、当該吸引ノズルにより余剰塗布液を吸引して排出する排出位置と、前記排出位置より上方の退避位置との間で昇降させる昇降手段をさらに備えた塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶表示パネル用のガラス基板、半導体ウエハ、半導体素子製造用のマスク基板等の基板の表面に、フォトレジスト等の塗布液を塗布する塗布装置および塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の塗布装置は、回転台により支持された基板の表面における回転中心付近に塗布液を供給した後、基板を回転台とともに回転させ、塗布液を遠心力によって外方へ向け均一に拡げて基板表面全域に塗布するように構成されている。そして、基板の上方に回転台とともに回転する上部回転板を設けることにより、基板表面に塗布される塗布液の膜圧が均一になるようにしている。
【０００３】
このような塗布装置においては、基板の回転に伴い、基板の表面に供給された塗布液のうち、余剰な塗布液が基板の端縁から外側に飛散する。このため、回転台の外周部には回収ケースが設けられており、基板から飛散した余剰な塗布液（以下「余剰塗布液」という）はこの回収ケースにより捕獲され、回収ケースの下端部から流出して回収されるように構成されている。
【０００４】
しかしながら、このような装置において、塗布液として、例えば液晶表示パネルのカラーフィルター製造用のレジストを使用した場合、このレジストは粒子が大きく溶媒に溶けにくく流動性が低いことから、回収ケースの内側に付着したままとなりその回収が困難となる場合がある。塗布液が回収ケースの内側に付着したまま乾燥固化すると、装置の振動等によりパーティクルが発生し、基板に付着して歩留まりを低下させる等の問題が発生する。
【０００５】
一方、特開平７−１３６５７２号公報には、余剰塗布液を回収するため、上述した回転台や上部回転板等から構成されるインナーカップの内周部に余剰塗布液の貯留部を設けるとともに、この貯留部に貯留された余剰塗布液を吸引排出するノズルを移動可能に配置した塗布装置が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
特開平７−１３６５７２号公報に記載された塗布装置においては、余剰塗布液の回収部が、回転台や上部回転板等から構成されるインナーカップの内周部に設けられている。従って、この回収部は上部回転板の下方に位置することになり、基板への塗布工程の終了後にノズルにより余剰塗布液を吸引排出するためには、一旦上部回転板を開いて貯留部の上方を開放した上で、ノズルを移動させて貯留部の上方から貯留部内に進入させ、余剰塗布液の吸引排出動作を行う必要がある。
【０００７】
このため、余剰塗布液の吸引排出作業は上部回転板が解放された状態でしか実行することはできない。すなわち、特開平７−１３６５７２号公報に記載された塗布装置においては、基板に対する塗布液の回転塗布時のみならず、上部回転板の開放動作時および閉鎖動作時においても、貯留部に貯留された余剰塗布液の吸引排出動作を実行することはできないことになる。
【０００８】
一方、近年の基板の大型化に伴い、余剰塗布液の吸引排出に比較的長い時間が必要となる場合がある。また、上部回転板を高速で開閉すると塗布液等によるパーティクルが発生することから、上部回転板の開放動作および閉鎖動作にも一定の時間が必要となる。このため、特開平７−１３６５７２号公報に記載された塗布装置においては、上部回転板の開放動作時および閉鎖動作時に貯留部に貯留された余剰塗布液の吸引排出動作を実行することはできないことに起因して、余剰塗布液の吸引排出動作を効率的に実行することが不可能となり、これにより塗布装置全体の処理時間が長くなるという問題が生じる。
【０００９】
この発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、貯留部に貯留された余剰塗布液を効率よく排出することのできる塗布装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板を支持して鉛直方向を向く回転軸を中心に回転する回転台と、回転台に支持された基板の表面に塗布液を供給する供給手段と、回転台に支持された基板と所定間隔を隔てた上方位置に前記基板と平行に配設された上部回転板と、回転台に支持されて回転する基板から飛散する余剰塗布液を捕獲して貯留する貯留部と、貯留部に貯留された余剰塗布液を吸引して排出する吸引ノズルとを有する塗布装置において、貯留部は、回転軸に対して上部回転板の外周位置より外側に配設され、その上部に前記回転軸を中心とする円周状の開口部が形成されており、当該開口部から吸引ノズルによって余剰塗布液を排出することを特徴とする。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、吸引ノズルは、回転軸に対して上部回転板の外周位置より外側に複数個配設されている。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２いずれかに記載の発明において、吸引ノズルを、当該吸引ノズルにより余剰塗布液を吸引して排出する排出位置と、排出位置より上方の退避位置との間で昇降させる昇降手段をさらに備えている。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明の第１実施形態に係る塗布装置の断面図であり、図２は塗布装置の一部拡大断面図である。
【００１４】
この塗布装置は、角形のガラス基板１の表面にレジスト剤からなる塗布液を塗布するものであり、基板１を支持して回転する回転台２と、外周リング３を介して回転台２と接離する上部回転板４と、回転台２の外側に配設された余剰塗布液の貯留部５と、貯留部５より余剰塗布液を吸引して排出する吸引ノズル６と、回転台２に支持されて回転する基板１の回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノズル７と、回転台２を囲うように配設された外装カバー１０とを備える。
【００１５】
回転台２は、連結ボス１２を介して図示しないモータに連結された回転軸８を有し、鉛直方向を向く回転軸８の軸芯を中心に回転する。この回転台２の上面には、複数の支持ピン１３が立設されており、基板１はこの支持ピン１３によりその下面を支持される。また、支持ピン１３に支持された基板１の各角部に対応する位置には、複数の係合ピン１４が立設されており、基板１はこの係合ピンと係合することにより固定される。回転台２の上面には、支持ピン１３により支持された基板１の裏面に洗浄液を供給することにより、塗布液が基板１の裏面へ付着することを防止するための裏面洗浄用ノズル１５が配設されている。この裏面洗浄用ノズル１５は、連結管１６を介して、回転軸８の中空部内に配設された洗浄液供給管１７に接続されている。
【００１６】
上記回転台２は、平面視において略円形の形状を成しており、その外周部には、略円形の形状を成す余剰塗布液の貯留部５が配設されている。この貯留部５は、遠心力により基板１の表面から飛散する余剰塗布液を捕獲して貯留するためのものであり、図２に示すように、余剰塗布液を捕獲するための壁部２１と、余剰塗布液の貯留用の凹部２２と、当該凹部２２の上方に設けられた開口部２３とを有する。これらの壁部２１、凹部２２および開口部２３は、回転軸８を中心とする円周状に形成されている。
【００１７】
上記貯留部５の上方には、外周リング３が配設されている。この外周リング３は、回転台２や貯留部５と同様、回転軸８を中心とした略円形の形状を有する。外周リング３は、回転軸８を中心とする円周上の十数カ所において、それぞれスペーサを介して貯留部５にネジ止めされている。このため、外周リング３の下面と、この下面に対向する貯留部５の表面との間には、隙間２４が複数形成されている。また、外周リング３の内側は、回転台２の半径方向の内側に向かって高くなる傾斜面２５となっている。
【００１８】
外周リング３の上方には、上部回転板４が、回転台２に支持された基板１と所定間隔を隔てて平行に設置されている。この上部回転板４は、図示しない昇降機構により、図１において実線で示す下降位置と一点鎖線で示す上昇位置との間を昇降可能に構成されている。そして、上部回転板４は、下降位置においては外周リング３と嵌合し、回転台２および外周リング３と一体となって回転軸８を中心に回転する。また、図１において一点鎖線で示すように、上部回転板４が上昇した状態において、塗布液供給ノズル７は基板１に塗布液を供給する。
【００１９】
吸引ノズル６は、連結具２６を介してエアシリンダ２７と連結されている。これにより、吸引ノズル６は、図２において実線で示す排出位置と二点鎖線で示す退避位置との間を昇降する。ここで、前記排出位置は、吸引ノズル６の先端部が貯留部５における開口部２３を通過して凹部２２の最下端部とわずかな距離だけ離隔した状態で対向し、そこに貯留された余剰塗布液を吸引して排出する位置である。また、前記退避位置は、吸引ノズル６の先端部が貯留部５の上面より上方に移動した位置である。なお、吸引ノズル６は、例えば真空ポンプ等の吸引ポンプ３２により負圧にされた排液タンク３３に電磁弁３４を介して連結されている。
【００２０】
外装カバー１０は、回転台２の側方および下部を覆うように構成されている。そして、外装カバー１０の下部には、図示しない排気装置に接続された排気孔２８が設けられており、この排気孔２８を介して外装カバー１０内のミストや塵埃が外部に排出される。
【００２１】
次に、この塗布装置の動作について説明する。
【００２２】
先ず、図１において一点鎖線で示すように上部回転板４を上昇させ、図示しない搬送手段により搬送した基板１を回転台２の支持ピン１３上に載置する。続いて、塗布液供給ノズル７を、図１において一点鎖線で示すように、その先端部が回転台２によって支持された基板１の中央に対向する位置まで移動させた後、適当な高さまで下降させる。そして、この塗布液供給ノズル７より基板１の表面中央部に塗布液を滴下する。塗布液の滴下が終了すれば、塗布液供給ノズル７は、上部回転板４の昇降に支障がない位置まで退避する。
【００２３】
続いて、図１において実線で示すように、上部回転板４をその下面が外周リング３の上面に当接する位置まで下降させる。そして、回転台２を上部回転板４等とともに、例えば１０００ｒｐｍ程度の回転数で回転させる。この回転によって、基板１の表面に供給された塗布液は、遠心力によって外方に向かって均一に拡がり、基板１の表面全域に薄膜上の塗布液層が形成される。特にこの実施の形態においては、基板１を、回転台２と外周リング３と上部回転板４とにより形成される半密閉空間内において回転させることから、基板１の表面に生ずる空気の流れ等により塗布液の膜圧が不均一となることを防止することができる。なお、必要に応じ、この塗布工程と並行して、裏面洗浄用ノズル１５から基板１の裏面に洗浄液を供給することにより、塗布液の基板１の裏面への付着を防止する。
【００２４】
この塗布工程においては、基板１の表面に供給された塗布液のうちの一部の余剰塗布液が、遠心力により基板１の端縁等から飛散し、外周リング３に到達する。そして、この余剰塗布液は、遠心力の作用により外周リング３の傾斜面２５に沿って外側に移動し、外周リング３の下面と貯留部５の表面との間に形成された隙間２４を通過して貯留部５の壁部２１に捕獲され、凹部２２に貯留される。
【００２５】
この実施の形態においては、特に外周リング３の内側に傾斜面２５が形成されていることから、余剰塗布液は、遠心力の作用によりこの傾斜面に沿って隙間２４方向に誘導される。このため、余剰塗布液を有効に回収することが可能となる。なお、この状態においては、吸引ノズル６は待機位置において待機している。このため、吸引ノズル６に隙間２４を通過して飛散する塗布液が付着することはない。
【００２６】
また、この実施の形態においては、隙間２４は、回転台２と、外周リング３と、上部回転板４とにより形成される半密閉空間の内側と外側とを連通する連通部として機能する。そして、この隙間２４の外側には貯留部５の壁部２１が配置されており、かつ、この壁部２１の上端は隙間２４より十分高い位置に配置されている。このため、隙間２４を通過して外側に飛散しようとする余剰塗布液は、貯留部５の壁部２１により確実に捕獲され、貯留部５より外部に飛散することはない。なお、貯留部５の壁部２１の上端は、少なくとも、連通部として機能する隙間２４より上方にあればよい。また、外周リング３の下面と貯留部５の表面との間に設けられた隙間２４の換わりに、外周リング３に複数の開口部を設け、この開口部を連通部として機能させてもよい。
【００２７】
基板１の表面に塗布液の薄膜が形成されて塗布工程が完了すれば、モータの駆動を停止し、高速で回転する回転台２を減速させる。そして、回転台２の回転数が例えば２０ｒｐｍ程度となれば、回転速度をこの状態のまま維持する。
【００２８】
この状態において、吸引ノズル６を排出位置まで下降させることにより、吸引ノズル６の先端部を貯留部５における円周状の開口部２３を通過させて凹部２２の最下端部とわずかな距離だけ離隔した位置に配置する。そして、吸引ポンプ３２により負圧状態となっている排液タンク３３と吸引ノズル６との間に設けられた電磁弁３４を開くことにより、凹部２２に貯留された余剰塗布液を吸引して、排液タンク３３に回収する。
【００２９】
この排出工程における回転台２の回転速度が２０ｒｐｍであれば、回転台は３秒で１回転する。従って、３秒以上排出動作を維持すれば、円周状の凹部２２に貯留された全ての余剰塗布液を排出することができる。この回転台２の回転速度が速いほど、排出動作に要する時間を短時間とすることができるが、回転速度を過度に高速とした場合には、吸引ノズル６による余剰塗布液の吸引動作に支障を来す。この回転速度は、基板１の大きさや吸引ノズル６の吸引力および余剰塗布液の粘度等によって左右されるが、５ｒｐｍ〜６０ｒｐｍ程度とすることが好ましい。
【００３０】
なお、この実施の形態に係る塗布装置においては、貯留部５が上部回転板４の外周位置より外側に配設されているため、吸引ノズル６を上下移動させるのみで、上記吸引動作を行うことができる。従って、従来のように吸引ノズル６を上部回転板４の下方位置まで移動させる移動機構を省略することが可能となり、装置を簡易化することができる。
【００３１】
吸引ノズル６により貯留部５に貯留された余剰塗布液の排出作業が終了すれば、回転台２の回転を停止する。そして、上部回転板４を上昇させた後、図示しない搬送手段により、処理済の基板１を回転台２から搬出すると共に、次に処理を行う基板１を回転台２に搬入する。
【００３２】
なお、上述した実施の形態においては、基板１を回転台２とともに回転させながら吸引ノズル６により余剰塗布液を吸引する構成であることから、吸引ノズル６の先端部が凹部２２と摺動することによるパーティクルの発生を防止するため、吸引ノズル６の先端部を凹部２２の最下端部からわずかな距離だけ離隔させた状態で余剰塗布液を吸引している。しかしながら、基板１を回転させることなく、貯留部５に貯留された余剰塗布液を一箇所から吸引ノズル６により吸引して排出する構成とした場合においては、吸引ノズル６の先端部を凹部２２の最下端部と当接させた状態で余剰塗布液を吸引してもよい。
【００３３】
このとき、余剰塗布液の吸引のための開口部を形成する吸引ノズル６の円形の先端部を含む平面と凹部２２の最下端部表面とが平行となり、吸引ノズル６の円形の先端部がその全面で凹部２２の最下端部表面と当接した場合には、吸引ノズル６により凹部２２に貯留された余剰塗布液を有効に吸引できなくなる。このため、吸引ノズル６の先端部を、当該先端部が斜めに切断された形状とすることにより、吸引ノズル６の先端部を含む平面と凹部２２の最下端部表面とが平行とはならない構成とし、吸引ノズル６の先端部と凹部２２の表面との間に、常に余剰塗布液が通過するための隙間が形成されるようにすることが好ましい。
【００３４】
上記の実施形態においては、塗布液の塗布工程が終了した後、基板１の回転を停止させることなく余剰塗布液の排出工程を実行する場合について述べたが、基板１の回転を一旦停止させた後に再度基板１を低速で回転させて余剰塗布液を排出するようにしてもよい。すなわち、角形の基板１に対して塗布を行った後には、基板１の回転角度位置を制御するため、基板１の回転を一旦停止させた後、一定の角度だけ回転させて基板１を一定の方向に向けているが、この基板１の回転角度位置の制御時に基板１を一回転以上回転させて余剰塗布液の排出を行ってもよい。
【００３５】
また、上記の実施形態においては、単一の吸引ノズル６を使用して余剰塗布液を排出する場合について説明したが、吸引ノズル６を互いに１８０度離隔した位置に２本配設することにより、排出効率を２倍とし、余剰塗布液の排出に要する時間短くするようにしてもよい。なお、この場合においては、回転台２を少なくとも１８０度回転させることにより、貯留部５の全域から余剰塗布液を効率よく排出することができる。
【００３６】
次に、この発明の他の実施の形態を図面に基づいて説明する。図３および図４はこの発明の第２実施形態に係る塗布装置の断面図であり、図５は塗布装置の一部拡大断面図、また、図６は塗布装置の平面概要図である。なお、図１および図２に示す塗布装置と同様の部材については同一の符号を付している。
【００３７】
この塗布装置は、図１および図２に示す塗布装置と同様、角形のガラス基板１の表面に塗布液を塗布するものであり、基板１を支持して回転する回転台２と、外周リング３を介して回転台２と接離する上部回転板４と、回転台２の外側に配設された余剰塗布液の貯留部５と、貯留部５より余剰塗布液を吸引して排出する複数の吸引ノズル６と、回転台２に支持された基板１の表面にスリット状の吐出口３８から塗布液を供給する塗布液供給ノズル３７（図４参照）と、回転台２を囲うように配設された外装カバー１０とを備える。
【００３８】
回転台２は、連結ボス１２を介して図示しないモータに連結された回転軸８を有し、鉛直方向を向く回転軸８の軸芯を中心に回転する。また、この回転軸８の内部には、回転軸８と同期して回転すると共に、図示しない昇降駆動手段の駆動により昇降動作を行う昇降軸３９が挿設されており、この昇降軸３９の上端部には真空チャック４２が配設されている。基板１は、回転台２の真空チャック４２によりその下面を吸着支持され、図３に示す下降位置と図４に示す上昇位置の間を昇降される。
【００３９】
回転台２は、平面視において略円形の形状を成しており、その外周部には、図６に示すように、略円形の形状を成す余剰塗布液の貯留部５が配設されている。この貯留部５は、遠心力により基板１の表面から飛散する余剰塗布液を捕獲して貯留するためのものであり、図５に示すように、余剰塗布液を捕獲するための壁部２１と、余剰塗布液の貯留用の凹部２２と、当該凹部２２の上方に設けられた開口部２３とを有する。これらの壁部２１、凹部２２および開口部２３は、回転軸８を中心とする円周状に形成されている。
【００４０】
上記貯留部５の上方には、外周リング３が配設されている。この外周リング３は、回転台２や貯留部５と同様、回転軸８を中心とした略円形の形状を有する。外周リング３は、回転軸８を中心とする円周上の十数カ所において、それぞれスペーサを介して貯留部５にネジ止めされている。このため、外周リング３の下面と、この下面に対向する貯留部５の表面との間には、隙間２４が複数形成されている。また、外周リング３の内側は、回転台２の半径方向の内側に向かって高くなる傾斜面２５となっている。
【００４１】
外周リング３の上方には、上部回転板４が、回転台２に支持された基板１と所定間隔を隔てて平行に設置されている。この上部回転板４は、図示しない昇降機構により、図３に示す下降位置と図４に示す上昇位置との間を昇降可能に構成されている。そして、上部回転板４は、下降位置においては外周リング３と嵌合し、回転台２および外周リング３と一体となって回転軸８を中心に回転する。
【００４２】
吸引ノズル６は、図６に示すように、貯留部５の外周に沿って等間隔に４個配設されている。そして、各吸引ノズル６は、図１および図２に示す実施形態の場合と同様、それぞれ連結具２６を介してエアシリンダ２７と連結されている。これにより、各吸引ノズル６は、図５において実線で示す排出位置と二点鎖線で示す退避位置との間を昇降する。ここで、前記排出位置は、吸引ノズル６の先端部が貯留部５における開口部２３を通過して凹部２２の最下端部とわずかな距離だけ離隔した状態で対向し、そこに貯留された余剰塗布液を吸引して排出する位置である。また、前記退避位置は、吸引ノズル６の先端部が貯留部５の上面より上方に移動した位置である。なお、各吸引ノズル６は、例えば真空ポンプ等の吸引ポンプ３２により負圧にされた排液タンク３３に電磁弁３４を介してそれぞれ連結されている。
【００４３】
塗布液供給ノズル３７は、例えば特開平７−２８４７１５号公報に記載されたように、スリット状の吐出口３８から基板１の表面に塗布液を塗布するものである。すなわち、この塗布液供給ノズル３７は、図４に示すように、上昇位置にある基板１の表面に対向するように配置された吐出口３８を備える。この吐出口３８は、図４における紙面に垂直な方向に延びるスリット形状を有する。また、この塗布液供給ノズル３７は、図示しない移動手段に連結されており、図４に示す左右方向に往復移動するよう構成されている。
【００４４】
この塗布液供給ノズル３７により基板１の表面に塗布液を供給する際には、移動手段により塗布液供給ノズル３７を移動させながら吐出口３８から基板１の表面に塗布液を吐出することにより、基板１の表面の所定範囲に塗布液を効率的に供給することができる。
【００４５】
外装カバー１０は、回転台２の側方および下部を覆うように構成されている。そして、外装カバー１０の下部には、図示しない排気装置に接続された排気孔２８が設けられており、この排気孔２８を介して外装カバー１０内のミストや塵埃が外部に排出される。
【００４６】
次に、この塗布装置の動作について説明する。
【００４７】
先ず、図４に示すように上部回転板４を上昇させる。そして、回転台２の真空チャック４２を上昇位置に移動させた後、図示しない基板搬送手段により搬送した基板１を真空チャック４２により吸着支持させる。
【００４８】
続いて、塗布液供給ノズル３７を、図４において一点鎖線で示す位置から側方に平行移動させると共に、吐出口３８から塗布液を吐出する。これにより、基板１の表面の所定範囲に塗布液が供給される。塗布液の供給が終了すれば、塗布液供給ノズル３７は、上部回転板４の昇降に支障がない位置まで退避する。
【００４９】
続いて、図３に示すように、真空チャック４２を基板１と共に下降位置まで下降させる。また、上部回転板４をその下面が外周リング３の上面に当接する位置まで下降させる。そして、回転台２および真空チャック４２を上部回転板４等とともに、例えば１０００ｒｐｍ程度の回転数で回転させる。この回転によって、基板１の表面に供給された塗布液は、遠心力によって外方に向かって均一に拡がり、基板１の表面全域に薄膜上の塗布液層が形成される。特にこの実施の形態においては、基板１を、回転台２と外周リング３と上部回転板４とにより形成される半密閉空間内において回転させることから、基板１の表面に生ずる空気の流れ等により塗布液の膜圧が不均一となることを防止することができる。
【００５０】
この塗布工程においては、基板１の表面に供給された塗布液のうちの一部の余剰塗布液が、遠心力により基板１の端縁等から飛散し、外周リング３に到達する。そして、この余剰塗布液は、遠心力の作用により外周リング３の傾斜面２５に沿って外側に移動し、外周リング３の下面と貯留部５の表面との間に形成された隙間２４を通過して貯留部５の壁部２１に捕獲され、凹部２２に貯留される。
【００５１】
この実施の形態においては、特に外周リング３の内側に傾斜面２５が形成されていることから、余剰塗布液は、遠心力の作用によりこの傾斜面に沿って隙間２４方向に誘導される。このため、余剰塗布液を有効に回収することが可能となる。なお、この状態においては、４個の吸引ノズル６は待機位置において待機している。このため、吸引ノズル６に隙間２４を通過して飛散する塗布液が付着することはない。
【００５２】
また、この実施の形態においては、隙間２４は、回転台２と、外周リング３と、上部回転板４とにより形成される半密閉空間の内側と外側とを連通する連通部として機能する。そして、この隙間２４の外側には貯留部５の壁部２１が配置されており、かつ、この壁部２１の上端は隙間２４より十分高い位置に配置されている。このため、隙間２４を通過して外側に飛散しようとする余剰塗布液は、貯留部５の壁部２１により確実に捕獲され、貯留部５より外部に飛散することはない。なお、貯留部５の壁部２１の上端は、少なくとも、連通部として機能する隙間２４より上方にあればよい。また、外周リング３の下面と貯留部５の表面との間に設けられた隙間２４の換わりに、外周リング３に複数の開口部を設け、この開口部を連通部として機能させてもよい。
【００５３】
基板１の表面に塗布液の薄膜が形成されて塗布工程が完了すれば、回転台２の回転を停止させる。そして、４個の吸引ノズル６を排出位置まで下降させることにより、各吸引ノズル６の先端部を貯留部５における円周状の開口部２３を通過させて凹部２２の最下端部とわずかな距離だけ離隔した位置に配置する。そして、吸引ポンプ３２により負圧状態となっている排液タンク３３と吸引ノズル６との間に設けられた電磁弁３４を開くことにより、凹部２２に貯留された余剰塗布液を吸引して、排液タンク３３に回収する。
【００５４】
このとき、円周状の凹部２２に貯留された余剰塗布液を等間隔に配置された４個の吸引ノズル６により吸引除去することから、回転台２の回転を停止した状態においても、凹部２２全域に貯留された余剰塗布液を効率的に吸引除去することができる。
【００５５】
吸引ノズル６による余剰塗布液の吸引除去動作と並行して、上部回転板４を上昇させる。そして、図示しない搬送手段により、処理済の基板１を回転台２から搬出すると共に、次に処理を行う基板１を回転台２に搬入する。
【００５６】
なお、この実施の形態においては、回転台２の回転を停止させた状態で、吸引ノズル６により凹部２２に貯留された余剰塗布液を吸引する構成であることから、吸引ノズル６の先端部を凹部２２の最下端部と当接させた状態で余剰塗布液を吸引してもよい。この場合においては、上述した第１実施形態の場合と同様、吸引ノズル６の先端部を、当該先端部が斜めに切断された形状とすることにより、吸引ノズル６の先端部を含む平面と凹部２２の最下端部表面とが平行とはならない構成とし、吸引ノズル６の先端部と凹部２２の表面との間に、常に余剰塗布液が通過するための隙間が形成されるようにすることが好ましい。
【００５７】
この実施の形態に係る塗布装置においては、吸引ノズル６による余剰塗布液の吸引除去動作と上部回転板４の開閉動作を含む基板１の搬出搬入動作とを並行して実行することが可能となる。このため、余剰塗布液の排出を含む全体の処理時間を短縮することが可能となる。
【００５８】
また、この実施の形態に係る塗布装置においては、貯留部５が上部回転板４の外周位置より外側に配設されているため、吸引ノズル６を上下移動させるのみで、上記吸引動作を行うことができる。従って、従来のように吸引ノズル６を上部回転板４の下方位置まで移動させる移動機構を省略することが可能となり、装置を簡易化することができる。
【００５９】
上記第１、第２実施形態において、吸引ノズル６の先端部を凹部２２の最下端部に当接させず、吸引ノズル６の先端部と凹部２２の最下端部とを離隔した状態で余剰塗布液を吸引する構成とした場合においては、吸引ノズル６の上下機構を省略して常に吸引位置に固定ようにしてもよい。
【００６０】
また、上記第１、第２実施形態においては、いずれも、吸引ノズル６によって貯留部５から排出した余剰塗布液を、排液タンク３３に排出する場合について述べたが、塗布液として高価なものを使用する場合等においては、吸引ノズル６により回収した余剰塗布液を再使用するようにしてもよい。なお、その際は、図１における洗浄液供給管１７からの基板１の裏面側に対する洗浄液の供給は行わない。
【００６１】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、貯留部が回転軸に対して上部回転板の外周位置より外側に配設され、この貯留部の上部に形成された回転軸を中心とする円周状の開口部から吸引ノズルによって余剰塗布液を排出することから、上部回転板の状態の如何にかかわらず、余剰塗布液を必要なときにすぐに排出することが可能となる。従って、余剰塗布液の排出を含む全体の処理時間を短縮することが可能となる。
【００６２】
請求項２に記載の発明によれば、吸引ノズルが回転軸に対し上部回転板の外周位置より外側に複数個配設されていることから、余剰塗布液をより効率的に排出することが可能となる。
【００６３】
請求項３に記載の発明によれば、吸引ノズルが排出位置と退避位置との間で昇降するため、塗布工程において吸引ノズルを退避位置に退避させておくことにより、基板より飛散する余剰塗布液が吸引ノズルに付着することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１実施形態に係る塗布装置の断面図である。
【図２】この発明の第１実施形態に係る塗布装置の一部拡大断面図である。
【図３】この発明の第２実施形態に係る塗布装置の断面図である。
【図４】この発明の第２実施形態に係る塗布装置の断面図である。
【図５】この発明の第２実施形態に係る塗布装置の一部拡大断面図である。
【図６】この発明の第２実施形態に係る塗布装置の平面概要図である。
【符号の説明】
１      基板
２      回転台
３      外周リング
４      上部回転板
５      貯留部
６      吸引ノズル
７      塗布液供給ノズル
８      回転軸
１３    支持ピン
１４    係合ピン
２１    壁部
２２    凹部
２３    開口部
２４    隙間
２５    傾斜面
２６    連結具
２７    エアシリンダ
３３    廃液タンク
３２    吸引ポンプ
３７    塗布液供給ノズル
３８    吐出口
３９    昇降軸
４２    真空チャック
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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