(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルを構成する一対の対向基板の一方の基板上に、複数の画素に対応して、ゲートバスパターンと半導体パターンの交差部分に対応してチャネル領域が形成される薄膜トランジスタを行列状に配列した構成の液晶表示装置において、
前記薄膜トランジスタを担持する基板上に、列方向に配列した複数の薄膜トランジスタを覆うように、互いに平行に、各々列方向に連続的に延在する複数の遮光ストライプが形成され、
さらに、各々の画素に対応して、互いに孤立した、また前記遮光ストライプに対しても孤立した別の遮光パターンが形成され、
前記薄膜トランジスタのゲートバスパターンは幅が狭い部分を有し、前記孤立した遮光パターンは、前記ゲートバスパターンの幅が狭い部分に対応して当該部分の縁を覆うように形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
液晶パネルを構成する一対の対向基板の一方の基板上に、複数の画素に対応して複数の薄膜トランジスタを行列状に配列した構成の液晶表示装置において、
前記薄膜トランジスタを担持する基板上に、列方向に配列した複数の薄膜トランジスタを覆うように、互いに平行に、各々列方向に連続的に延在する複数の遮光ストライプが形成され、
さらに、各々の画素に対応して、互いに孤立した、また前記遮光ストライプに対しても孤立した別の遮光パターンが形成され、
前記薄膜トランジスタのゲートバスパターンは幅が狭い部分を有し、前記孤立した遮光パターンは、前記ゲートバスパターンの幅が狭い部分に対応して当該部分の縁を覆うように形成され、
前記薄膜トランジスタの半導体パターンは、前記ゲートバスパターンの幅が狭い部分と交差する部分と、前記ゲートバスパターンの幅が狭い部分以外の部分と交差する部分とを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
液晶パネルを構成する一対の対向基板の一方の基板上に、複数の画素に対応して、ゲートバスパターンと半導体パターンの交差部分に対応してチャネル領域が形成される薄膜トランジスタを行列状に配列した構成の液晶表示装置において、
前記薄膜トランジスタを担持する基板上に、列方向に配列した複数の薄膜トランジスタを覆うように、互いに平行に、各々列方向に連続的に延在する複数の遮光ストライプが形成され、
さらに、各々の画素に対応して、互いに孤立した、また前記遮光ストライプに対しても孤立した別の遮光パターンが形成され、
各々の画素において、前記孤立した別の遮光パターンは第１および第２の、互いに孤立したパターンより構成され、前記孤立した第１のパターンは、行方向に延在し前記薄膜トランジスタのゲートバスパターンを構成する遮光性パターンの一方の縁を覆うように形成され、前記孤立した第２のパターンは、前記遮光性パターンの他方の縁を覆うように形成され、
前記ゲートバスパターンは、幅が狭い部分を有し、前記孤立した第１および第２のパターンは、前記ゲートバスパターンの幅が狭い部分に対応して形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
液晶パネルを構成する一対の対向基板の一方の基板上に、複数の画素に対応して複数の薄膜トランジスタを行列状に配列した構成の液晶表示装置において、
前記薄膜トランジスタを担持する基板上に、列方向に配列した複数の薄膜トランジスタを覆うように、互いに平行に、各々列方向に連続的に延在する複数の遮光ストライプが形成され、
前記複数の遮光ストライプの各々は、行方向に延在する前記薄膜トランジスタのゲートパターンを覆うように、行方向に延在する枝を有し、前記一の遮光ストライプの枝は、隣接する遮光ストライプの対応する枝と、前記薄膜トランジスタの活性部を構成する半導体パターン上において、前記半導体パターンの幅よりもせまい間隔で、対向することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記複数の遮光ストライプは、共通の電位に接続されていることを特徴とする請求項１〜４のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一般に液晶表示装置に関し、特に液晶パネルを構成する一対の対向基板のうち、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を担持する側の基板に遮光パターンを設けた液晶表示装置に関する。
【０００２】
液晶表示装置は投射型表示装置あるいは、いわゆるラップトップ型と称される携帯型情報処理装置の表示装置として広く使われている。また、最近では、液晶表示装置をいわゆるデスクトップ型と称する固定型情報処理装置の高解像度カラー表示装置として使おうとする試みも始まっている。
【０００３】
【従来の技術】
図１０は、投射型液晶表示装置の例を示す。
図１０を参照するに、高輝度メタルハライドランプ６１より出射した光はフィルタ６１ａを通過した後ミラー６２で光路変換され、さらに一部はダイクロイックミラー６３で反射される。ミラー６３で反射された光は、さらにミラー６４で反射された後、コンデンサレンズ６５および液晶表示パネル６６を通過する。液晶表示パネル６６を通過した光は、ダイクロイックミラー６７、６８を通過後、投射レンズ６９に到達する。
【０００４】
一方、前記ダイクロイックミラー６３を通過した光の一部は、ダイクロイックミラー７０で反射され、さらにコンデンサレンズ７１および液晶表示パネル７２を通過した後、ダイクロイックミラー６７で反射され、反射された光はさらにダイクロイックミラー６８を通って投射レンズ６９に到達する。
【０００５】
さらに、ダイクロイックミラー７０を通過した光は、コンデンサレンズ７３および液晶表示パネル７４を通過し、さらにミラー７５で反射された後、ダイクロイックミラー６８に到達する。到達した光は、さらにレンズ６９により投射される。
【０００６】
ところで、液晶表示装置においてかかる高解像度カラー表示を達成するためには、個々の画素を薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）により駆動する、いわゆるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置が適している。アクティブマトリクス駆動方式を使うことにより、単純マトリクス方式において生じる画素間のクロストークを排除することができ、優れた表示特性が得られる。かかるアクティブマトリクス駆動方式では、液晶パネルを構成するガラス基板の一方にＴＦＴが配列され、個々のＴＦＴは対応する透明な画素電極への印加電圧を制御する。
【０００７】
ところで、このようなアクティブマトリクス方式の液晶表示装置では、液晶層のうち、画素電極が形成された部分にはＴＦＴにより駆動電界が印加されるため、光の透過がオンオフ制御されるが、ＴＦＴ直上の部分には駆動電界はかからないため、このような部分を通って投射光やバックライト等の光が漏れてしまう問題が生じる。表示のコントラスト比を向上させるためには、このようなＴＦＴ形成部分を通って漏れる光を最小化する必要があり、このため、従来は、ＴＦＴを担持する基板と対向する基板上に、かかるＴＦＴ形成部分に対応して遮光パターンを形成していた。しかし、かかる構成では、遮光パターンが対応するＴＦＴを覆うように基板間の精密なアラインメントが必要で、このため液晶パネルの組立工程に時間を要していた。アラインメント作業を容易にするために遮光パターンを大きめに形成すると、表示の明るさが減じる等の問題が生じてしまう。
【０００８】
このため、本発明の発明者は、遮光パターンを、ＴＦＴを担持する同じ基板上に形成する構成を検討し、液晶表示装置の試作を行った。
【０００９】
図１１は、かかる本発明の発明者が試作した液晶表示パネルの平面図を示す。
図１１を参照するに、液晶表示パネルを構成する対向ガラス基板の一方の上に、液晶表示装置の画素に対応して、複数の略Ｕ字型のポリシリコンパターン１が形成される。ポリシリコンパターン１の両端には、それぞれ接続パッド１ａ，１ｂが形成され、また前記ガラス基板上には、ポリシリコンパターン１をゲート酸化膜として作用するＳｉＯ2 膜を介して跨ぐように、Ａｌよりなる複数のゲートパターン２が、互いに平行に形成される。ポリシリコンパターン１は、前記ゲートパターン２と交差する部分の両側がｎ型あるいはｐ型にドープされ、その結果ポリシリコンパターン１とゲートパターン２の交差点に対応して、ＴＦＴのチャネル領域が形成される。かかるＵ字型のポリシリコンパターン１では、単一のパターン１について、互いに直列に接続された一対のｎチャネルあるいはｐチャネルＴＦＴが形成される。
【００１０】
さらに、前記接続パッド１ｂに対応して、前記ポリシリコンパターン１上には、縦方向に、Ａｌよりなる複数のデータバスパターン３が、互いに平行に形成される。かかるデータバスパターン３は、各々コンタクトホールにより対応する接続パッド１ｂに接続され、かかる接続パッド１ｂを介してポリシリコンパターン１中に形成されたｐ型あるいはｎ型のドレイン領域に駆動電流を供給する。一方、前記接続パッド１ａは、以下に説明する遮光パターンあるいはＡｌパターンを介して透明な画素電極に接続される。
【００１１】
かかる構成では、前記ゲートパターン２およびデータバスパターン３に対応して、遮光マスク５が形成される。遮光マスク５は不透明な金属、例えばＴｉよりなり、隣接する画素電極の隙間から漏れる光を遮断する。
【００１２】
図１２は，図１１の構成のうち、線１−１’に沿った断面図を示す。
図１２を参照するに、前記ポリシリコンパターン１がガラス基板１０上に形成され、その上を第１層目の絶縁膜６が覆う。前記データバスパターン３はかかる絶縁膜６上に形成され、絶縁膜６に形成されたコンタクトホール６ａを介してポリシリコンパターン１の接続パッド１ｂに接続される。
【００１３】
データバスパターン３は、さらに第２層目の絶縁膜７に覆われ、前記遮光マスク５は、かかる絶縁膜７上に、前記データバスパターン３に対応して形成されている。遮光マスク５は、さらに第３層目の絶縁膜８により覆われ、絶縁膜８上には透明電極を構成するＩＴＯパターン９が形成される。透明電極パターン９は、図示していない別のコンタクトホールを介して、ポリシリコンパターン１の接続パッド１ａに接続される。
【００１４】
図１２の断面図では示されていないが、前記ゲートパターン２は、前記基板１０上に、前記ポリシリコンパターン１と同じレベルに形成され、ＴＦＴのチャネル領域において、前記ポリシリコンパターン１を跨ぐ。
【００１５】
図１１中、データバスパターン３はポリシリコンパターン１に対して左側にずれて図示されているが、これば図１２に示すように、単にデータバスパターン３がポリシリコンパターン１の上に形成されていることを示すにすぎない。
【００１６】
かかる構成では、縦方向（行方向）に延在する遮光マスク５が、縦方向に延在するデータバスパターン３の両側縁から漏れだす光を遮断する。データバスパターン３は、容量を介して透明電極パターン９と相互作用する可能性があるため、電極パターン９と重なるように幅を大きくすることができず、間に隙間ｇが形成されるのが避けられない。遮光マスク５は、このような隙間ｇから漏れだす光を遮断する。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
図１１，１２の構成は、遮光パターン５をＴＦＴを担持する同じ基板１０上に、ＴＦＴを形成する一連の工程の一部により形成できるため、遮光マスク５とＴＦＴとの間にはほぼ理想的な位置整合が実現され、従来なされていたような、基板１０と遮光パターンを担持する対向基板とを精密に整合させる工程を省略できる。
【００１８】
しかし、実際に図１１，１２に示す構成の液晶表示装置を製作してみると、遮光、マスク５を構成する金属パターンとデータバスパターン３とが短絡し易く、液晶表示装置の歩留りが上がらないという問題点が発見された。
【００１９】
これは、図１３に示すように、絶縁膜７によるデータバスパターン３のステップカバレージが不十分で、遮光マスク５とデータバスパターン３とが短絡してしまうことによると考えられる。同様な短絡は、また遮光マスク５と透明電極パターン９との間にも生じやすく、このような短絡が生じると、遮光マスク５は図８に示すように縦横に連続して延在しているため、ライン欠陥を生じてしまう。
【００２０】
そこで、本発明は、上記の課題を解決した、新規で有用な液晶表示装置を提供することを概括的目的とする。
【００２１】
本発明のより具体的な目的は、遮光マスクの位置合わせが容易で、しかも信頼性および歩留りの高い液晶表示装置を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を、
請求項１に記載したように、
液晶パネルを構成する一対の対向基板の一方の基板上に、複数の画素に対応して複数の薄膜トランジスタを行列状に配列した構成の液晶表示装置において、
前記薄膜トランジスタを担持する基板上に、行方向に配列した複数の薄膜トランジスタを覆うように、互いに平行に、各々行方向に連続的に延在する複数の遮光ストライプを形成され、
さらに、各々の画素に対応して、互いに孤立した、また前記遮光ストライプに対しても孤立した別の遮光パターンを形成されていることを特徴とする液晶表示装置により、または
【００２３】
請求項２に記載したように、
各々の画素において、前記孤立した別の遮光パターンは第１および第２の、互いに孤立したパターンより構成され、前記第１の孤立パターンは、列方向に延在し前記薄膜トランジスタのデータバスパターンを構成する遮光性パターンの一方の縁を覆うように形成され、前記第２の孤立パターンは、前記遮光性パターンの他方の縁を覆うように形成されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置により、または
【００２４】
請求項３に記載したように、
前記液晶表示装置は、さらに行方向に延在し前記薄膜トランジスタのゲートバスパターンを構成する複数の遮光性パターンを備え、前記ゲートバスパターンは、前記データバスパターンに対応して、その下方を列方向に延在する枝を有することを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置により、または
【００２５】
請求項４に記載したように、
前記遮光ストライプは、前記ゲートバスパターンを覆うように形成され、前記枝の先端は、前記遮光ストライプの側縁よりも外側に位置することを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置により、または
【００２６】
請求項５に記載したように、
前記遮光ストライプは、さらに前記データバスパターンを覆って列方向に延在する枝を有することを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置により、または
【００２７】
請求項６に記載したように、
液晶パネルを構成する一対の対向基板の一方の基板上に、複数の画素に対応して複数の薄膜トランジスタを行列状に配列した構成の液晶表示装置において、
前記薄膜トランジスタを担持する基板上に、列方向に配列した複数の薄膜トランジスタを覆うように、互いに平行に、各々列方向に連続的に延在する複数の遮光ストライプを形成され、
さらに、各々の画素に対応して、互いに孤立した、また前記遮光ストライプに対しても孤立した別の遮光パターンを形成されていることを特徴とする液晶表示装置により、または
【００２８】
請求項７に記載したように、
各々の画素において、前記孤立した別の遮光パターンは第１および第２の、互いに孤立したパターンより構成され、前記第１の孤立パターンは、行方向に延在し前記薄膜トランジスタのゲートバスパターンを構成する遮光性パターンの一方の縁を覆うように形成され、前記第２の孤立パターンは、前記遮光性パターンの他方の縁を覆うように形成されていることを特徴とする請求項６記載の液晶表示装置により、または
【００２９】
請求項８に記載したように、
液晶パネルを構成する一対の対向基板の一方の基板上に、複数の画素に対応して複数の薄膜トランジスタを行列状に配列した構成の液晶表示装置において、
前記薄膜トランジスタを担持する基板上に、列方向に配列した複数の薄膜トランジスタを覆うように、互いに平行に、各々列方向に連続的に延在する複数の遮光ストライプを形成され、
前記複数の遮光ストライプの各々は、行方向に延在する前記薄膜トランジスタのゲートパターンを覆うように、行方向に延在する枝を有し、前記一の遮光ストライプの枝は、隣接する遮光ストライブの対応する枝と、前記薄膜トランジスタの活性部を構成する半導体パターン上において、前記半導体パターンの幅よりもせまい間隔で、対向することを特徴とする液晶表示装置により、または
【００３０】
請求項９に記載したように、
前記複数の遮光ストライプは、共通の電位に接続されていることを特徴とする請求項１〜８のうち、いずれか一項記載の液晶表示装置により解決する。
【００３１】
以下、本発明の原理を、図１および３，４を参照しながら説明する。ただし、図１は本発明による液晶表示装置の基本的レイアウトを示す平面図、図３は図１中、線２ー２’に沿った断面図、さらに図４は図１中、線３ー３’に沿った断面図である。
【００３２】
図１を参照するに、本発明では、図８１１遮光パターン５のかわりに行方向に平行に延在する複数の遮光ストライプ５’が形成され、さらに列方向に延在するデータバスパターン３の遮光パターンとして、ゲートパターン２から列方向に延在する枝２Ａが形成される。枝２Ａはポリシリコンパターン１の手前で止まり、ポリシリコンパターン１の接続パッド１ｂとの間に隙間が形成される。換言すると、ゲートパターン２とポリシリコンパターン１がかかる枝２Ａを介して電気的に接触することはない。
【００３３】
本発明では、さらにかかる隙間の遮光を行うために、遮光ストライプ５’から孤立した第１および第２の遮光パターン５Ａ，５Ｂが形成される。遮光パターン５Ａ，５Ｂは遮光ストライプ５’と同様な不透明金属よりなり、遮光パターン５Ａはデータバスパターン３の左側縁と透明電極パターン９との間の隙間を遮光する。同様に、遮光パターン５Ｂはデータバスパターン３の右側縁と、右隣の画素の透明電極パターン９との間の隙間を遮光する。
【００３４】
かかる構成によれば、万が一遮光パターン５Ａあるいは５Ｂがデータバスパターン３と短絡しても、パターン５Ａ，５Ｂは孤立しているため、短絡の影響が表示に及ぶことがない。換言すると、本発明の構成により、十分な遮光による高いコントラスト表示を、線欠陥を生じることなく実現できる液晶表示装置が得られる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
図２は、本発明の第１実施例による液晶表示装置で使われるＴＦＴ基板のレイアウトを示す平面図である。ただし、図２中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、その説明を省略する。
【００３６】
図２を参照するに、ゲートパターン２は図１に示す枝２Ａと反対側にも、データバスパターン３に沿って延在する別の枝２Ｂを有し、枝２Ｂの先端は遮光ストライプ５’の外側まで延在するのがわかる。
図３は、図２（および図１）の構成における、線２−２’に沿った断面図を示す。
【００３７】
図３を参照するに、ガラス基板１０上には、ＴＦＴの活性部を構成するポリシリコンパターン１と同一のレベルに、ゲートパターン２から延在する枝２Ａが形成されており、パターン２Ａ上には第１層目の絶縁膜６を介してデータバスパターン３が延在する。データバスパターン３は第２層目の絶縁膜７で覆われ、絶縁膜７上には、前記パターン３の両側縁に対応して、遮光パターン５Ａ，５Ｂが、互いに離間して形成される。パターン５Ａ，５Ｂはさらに第３層目の絶縁膜８により覆われ、絶縁膜８上にはＩＴＯパターン９が形成される。
【００３８】
図４は、図２（および図１）の構成における、線３−３’に沿った断面図を示す。
【００３９】
図４を参照するに、ガラス基板１０上には、ＴＦＴの活性部を構成するポリシリコンパターン１の接続パッド１ｂが形成されており、パターン１上には第１層目の絶縁膜６を介してデータバスパターン３が延在する。ただし、データバスパターン３は、絶縁膜６に形成されたコンタクトホール６ａを介して前記接続パッド１ｂに接続される。先にも説明したように、接続パッド１ｂはＴＦＴのドレイン領域に接続されている。
【００４０】
データバスパターン３は第２層目の絶縁膜７で覆われ、絶縁膜７上には、前記パターン３の両側縁に対応して、遮光パターン５Ａ，５Ｂが、互いに離間して形成される。パターン５Ａ，５Ｂはさらに第３層目の絶縁膜８により覆われ、絶縁膜８上にはＩＴＯよりなる透明電極パターン９が形成される。
【００４１】
図３よりわかるように、図２の構成では、データバスパターン３に沿って延在するゲートパターンの枝２Ａがパターン３と透明電極パターン９との間の隙間ｇを遮光し、さらに前記枝２Ａが途切れた先の領域では、前記孤立遮光パターン５Ａ，５Ｂがかかる隙間を遮光する。また、同様な遮光効果は、ゲートパターンの別の枝２Ｂによっても得られる。
【００４２】
孤立遮光パターン５Ａ，５Ｂは互いに分離しているため、いずれか一方の遮光パターンがデータバスパターン３あるいは透明電極パターン９との間で短絡を生じても、液晶表示装置の表示に線欠陥が現れる等の問題は生じない。
【００４３】
また、図２の構成では、枝２Ｂの先端が遮光ストライプ５’の外側に位置するため、データバスパターン３がかかる枝２Ｂの前縁部において鋭い段差を形成しても、遮光ストライプ５’とデータバスパターン３とが、かかる鋭い段差より短絡してしまうことがない。
【００４４】
次に、本発明の第２実施例を、図５を参照しながら説明する。ただし、図５中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【００４５】
本実施例では、図２の実施例における枝２Ｂが省略され、そのかわり遮光ストライプ５’に、前記データバスパターン３に対応して列方向に延在する枝５Ｃ，５Ｄが形成される。このうち、枝５Ｃは前記ゲートパターン２の枝２Ａの上方を延在し、データバスパターン３の側縁から漏れる光を遮断する。いっぽう、枝５Ｄは前記データバスパターン３に沿って、前記枝５Ｃとは反対の側において前記孤立遮光パターン５Ａ，５Ｂの方向に延在し、データバスパターン３の側縁から漏れる光を遮断する。
【００４６】
次に、本は発明の第３実施例を、図６を参照しながら説明する。ただし、図６中、先に説明した部分は同一の参照符号で示し、説明を省略する。
【００４７】
本実施例では、行方向に延在する遮光ストライプ５’の代わりに、列方向に延在する遮光ストライプ５”が使われる。すなわち、遮光ストライプ５”は、データバスパターン３を覆うように列方向に延在する。また、行方向に延在するゲートバスパターン２は、前記データバスパターン３との交差点において幅を広げられており、またゲートバスパターンの幅が狭い部分に対応して、行方向に延在する一対の、孤立した遮光パターン５Ａ”，５Ｂ”が、それぞれゲートバスパターン２の側縁を覆うように形成され、かかる側縁における光の漏れを遮断する。
【００４８】
図７は、本発明の第４実施例による液晶表示装置の要部を示す。
図７を参照するに、本実施例においても、図６の実施例と同様、データバスパターン３に沿って列方向に延在する遮光ストライプ５”が形成されており、さらに、各々の遮光ストライプ５”は、前記ゲートバスパターン２を覆うように、行方向に延在する枝５Ｃ”，５Ｄ”を有する。その際、隣接する一対の遮光ストライプ５”において、一方の遮光ストライプ５”から図７中で右方向に延在する枝５Ｄ”は、隣接する遮光ストライプ５”から左方向に延在する枝５Ｃ”と、前記ＴＦＴの活性部を構成するポリシリコンパターン１上において対向する。その際、枝５Ｄ”と枝５Ｃ”との間の間隔は、ポリシリコンパターン１の幅よりも狭くされ、ポリシリコンパターン１の両側から漏れる光が、枝５Ｃ”，５Ｄ”により遮断される。すなわち、本実施例では、ポリシリコンパターン１自体を遮光に使う。
【００４９】
図８は、本発明の前記第１実施例〜第４実施例による液晶表示装置においてＴＦＴを担持する基板の全体的構成を示す。ただし、図８には、遮光ストライプ５’のみを示し、ＴＦＴあるいは透明電極パターンは省略してある。
【００５０】
図８を参照するに、前記基板上には多数の遮光ストライプ５’が平行に延在し、各々の遮光ストライプ５’は表示装置の周辺領域を囲むように延在する遮光パターン５０に接続されている。遮光パターン５０には接続パッド５１が形成されており、遮光ストライプ５’はかかる遮光パターン５０および接続パッド５１を介して共通の電位、例えば接地電位に落とされる。
【００５１】
図９は、＃１〜＃８まで、液晶表示装置をそれぞれ図１１に示す従来の構成および図１，２，５に示す本発明の構成に従って実際に製作し、その線欠陥密度を評価した結果を示す。
【００５２】
図９よりわかるように、黒で塗りつぶした従来の構成の基板では、白抜きで示した本発明による基板よりも、発生する線欠陥の数がはるかに大きいことがわかる。換言すると、本発明は、従来の構造において生じていた線欠陥の発生の問題を解決するものであることがわかる。
【００５３】
以上、本発明を好ましい実施例について説明したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨内において様々な変形・変更が可能である。
【００５４】
【発明の効果】
請求項１〜７記載の本発明の特徴によれば、液晶パネルを構成する一対の対向基板の一方の基板上に、複数の画素に対応して複数の薄膜トランジスタを行列状に配列した構成の液晶表示装置において、前記薄膜トランジスタを担持する基板上に、行または列方向に配列した複数の薄膜トランジスタを覆うように、互いに平行に、各々行方向または列方向に連続的に延在する複数の遮光ストライプをし、さらに、各々の画素に対応して、互いに孤立した、また前記遮光ストライプに対しても孤立した別の遮光パターンを形成することにより、光漏れのない高いコントラストを有し、線欠陥の発生しにくい信頼性の高い液晶表示装置が得られる。また、かかる液晶表示装置では、遮光パターンが薄膜トランジスタを担持する基板上に形成されるため、遮光パターンを担持する基板と薄膜トランジスタを担持する基板とを整合させるアラインメント工程が簡単になり、液晶表示装置の組立時におけるスループットが大きく向上し、また製作費用が低減される。
【００５５】
請求項８記載の本発明の特徴によれば、列方向に延在する複数の遮光ストライプの各々から、行方向に枝を延在させ、さらにかかる枝が隣接する遮光ストライプの対向する枝と、薄膜トランジスタの活性部を構成するポリシリコンパターン上において、前記ポリシリコンパターンの幅よりも狭い間隔で対向するように形成することにより、簡単で効果的な、また短絡の危険の少ない遮光系を構成することができる。
【００５６】
請求項９記載の本発明の特徴によれば、遮光ストライプを共通の電位、例えば接地電位に落とすことにより、個々の薄膜トランジスタの動作を安定化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理を説明する図である。
【図２】本発明の第１実施例による液晶表示装置の要部を示す図である。
【図３】図１または図２の構造の、線２ー２’に沿った断面を示す断面図である。
【図４】図１または図２２の構造の、線３ー３’に沿った断面を示す断面図である。
【図５】本発明の第２実施例による液晶表示装置の要部を示す図である。
【図６】本発明の第３実施例による液晶表示装置の要部を示す図である。
【図７】本発明の第４実施例による液晶表示装置の要部を示す図である。
【図８】本発明の液晶表示装置の全体的構成を示す図である。
【図９】本発明の効果を示す図である。
【図１０】投射型液晶表示装置の構成例を示す図である。
【図１１】従来の液晶表示装置の一部の構成を示す図である。
【図１２】図１１の構造の、線１−１’に沿った断面を示す断面図である。
【図１３】図１１の構成において生じる問題点を説明する図である。
【符号の説明】
１  ポリシリコンパターン
１ａ，１ｂ  接続パッド
２  ゲートパターン
２Ａ，２Ｂ  ゲートパターンの枝
３  データバスパターン
５，５０  遮光パターン
５’  遮光ストライプ
５Ａ，５Ｂ  孤立遮光パターン
５Ｃ，５Ｄ  遮光ストライプの枝
６  第１層目絶縁膜
６ａ  コンタクトホール
７  第２層目絶縁膜
８  第３層目絶縁膜
９  透明電極
１０  ＴＦＴ基板
５１  遮光パターン接地パッド
【図１】
0003685869.tif 000002
【図２】
0003685869.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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