(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
直線上に複数個の発光点を有する第１の半導体レーザアレイと、
この第１の半導体レーザと同一構造の第２の半導体レーザアレイと、
前記第１の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光をカップリングする第１のコリメータレンズと、
前記第２の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光をカップリングする第２のコリメータレンズと、
第１の射出軸に対して複数個の発光点が副走査方向に離隔されるように対称に配列された前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリングレンズとを前記第１の射出軸上に配置させるとともに前記第１の射出軸に対して主走査方向に所定角度隔てた第２の射出軸に対して複数個の発光点が副走査方向に離隔されるように対称に配列された前記第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリングレンズとを前記第２の射出軸上に配置させ、前記第１の射出軸、前記第２の射出軸に直交する各面内において前記発光点の配列方向を各々定めて、これらの部材を一体に保持する支持部材と、
前記第１の射出軸と前記第２の射出軸との軸間の中間位置を通るように定めた回動中心に直交する面内において回動調整自在となるように前記支持部材を保持するホルダ部材と、を備え、
前記回動中心が、前記第１及び前記第２の半導体レーザアレイから出射される複数のレーザ光を走査して被走査面にビームスポットを形成するための走査光学系の光軸と合致するように定めたマルチビーム光源装置。
【請求項２】
直線上に複数個の発光点を有する第１の半導体レーザアレイと、
この第１の半導体レーザと同一構造の第２の半導体レーザアレイと、
前記第１の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光をカップリングする第１のコリメータレンズと、
前記第２の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光をカップリングする第２のコリメータレンズと、
第１の射出軸に対して複数個の発光点が副走査方向に離隔されるように対称に配列された前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリングレンズとを前記第１の射出軸上に配置させて一体に保持して第１の光源部を形成する第１の支持部材と、
第２の射出軸に対して複数個の発光点が副走査方向に離隔されるように対称に配列された前記第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリングレンズとを前記第２の射出軸上に配置させて一体に保持して第２の光源部を形成する第２の支持部材と、
前記第１及び第２の半導体レーザアレイから出射される複数のレーザ光を走査して被走査面にビームスポットを形成するための走査光学系の光軸に対して、前記複数のレーザ光を副走査方向に近接させて射出させるビーム合成手段と、
前記第１の射出軸と前記第２の射出軸とを主走査方向に対して所定角度隔て、前記第１の射出軸、前記第２の射出軸に直交する各面内において前記発光点の配列方向を各々定めて、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材と前記ビーム合成手段とを一体に保持するとともに、前記第１の射出軸と前記第２の射出軸との軸間の中間位置を通るように定めた回動中心に直交する面内において回動調整自在となすホルダ部材と、を備え、
前記回動中心が、前記走査光学系の光軸と合致するように定めたマルチビーム光源装置。
【請求項３】
前記第１及び第２の支持部材は各々対応する前記第１及び第２の射出軸を回動中心として回動調整自在に前記ホルダ部材に保持されている請求項２記載のマルチビーム光源装置。
【請求項４】
前記第１及び第２の半導体レーザアレイにおける複数個の発光点を各々副走査方向に配列し、前記被走査面上での前記第１及び第２の射出軸間隔を隣接する記録ラインピッチの２倍以上に設定してなる請求項１又は２記載のマルチビーム光源装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、デジタル複写機やレーザプリンタ等の画像形成装置の光書込走査装置に適用され、特に、複数のレーザビームにより感光体等の被走査面上を同時に走査させるために用いられるマルチビーム光源装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、光書込系に用いられる光走査装置において記録速度を向上させる手法として、偏向手段としてのポリゴンミラーの回転速度を上げる方法がある。しかし、この方法ではポリゴンモータの耐久性や騒音、振動、及び、レーザの変調速度等が問題となり、かつ、記録速度の向上にも限界がある。
【０００３】
そこで、一度に複数本のレーザビームを走査して複数の記録ラインを同時に記録させるマルチビーム走査装置が提案されている。例えば、特開昭５６−４２２４８号公報に示されるように複数個の発光源（発光点）をモノリシックにアレイ状に配列させた半導体レーザアレイを光源として用いるようにしている。
【０００４】
通常、半導体レーザの光出力は１走査ライン毎に画像領域外の走査時間を利用して、その光出力を検出し、フィードバック制御により印加電流量の設定が行われる。上述した公報例のような半導体レーザアレイでは光源（発光点）は複数であるものの、光出力を検出するセンサは共通であるため、光出力の検出〜フィードバックによる出力設定を時系列的に行なわざるを得ない。従って、半導体レーザアレイにおける光源数が多くなるに従い、この処理に要する時間が増加し、１走査毎の画像領域外の走査時間では間に合わなくなる可能性が大きい。間に合わない場合には、ページ間の走査時間を利用して上記の処理を行なうが、これでは、設定した印加電流量を長時間に渡って保持しなければならず、その間にレーザ出力が変動し画像濃度が変化してしまう可能性がある。
【０００５】
この点、特開平７−７２４０７号公報によれば、複数個の半導体レーザアレイの複数の発光源から射出されるレーザ光をプリズム等のビーム合成手段を用いて合成させ、恰も１つの光源から複数本のレーザ光が射出される如く構成したマルチビーム光源ユニットが提案されている。これによれば、１個の半導体レーザアレイに要求される発光点の数を半減させることができるので、これらの発光点の光出力の検出〜フィードバック制御による光出力の設定処理に要する処理時間も半減させることができる。よって、画像濃度の変動を最小限に抑えて、高品質な画像を得ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
複数個の半導体レーザアレイの各々は、複数個の発光点に対して単一のコリメータレンズが配設されて、各発光点からのレーザ光は平行光束化して、走査光学系に入射させる構成とされる。ここに、走査光学系全体の副走査倍率によりビームスポット列の隣接ピッチが決定されることとなる。
【０００７】
ところが、特開平７−７２４０７号公報方式による場合、複数個の半導体レーザアレイ、対応するコリメータレンズ、及び、ビーム合成手段の組合せにおいて、プリズム中のビームスプリッタで合成した各半導体レーザアレイ間のビームスポット列の相対位置のずれを許容値内に抑えるには、その射出軸のアライメント精度やプリズムのビームスプリッタ面、反射面の角度精度に依存するしかなく、量産性の点で問題がある。
【０００８】
そこで、本発明は、２個の半導体レーザアレイを用いる方式において、半導体レーザアレイ間のビームスポット列の位置合せ調整自在とし、この調整を容易かつ確実に行なうことができ、組立効率が向上するマルチビーム光源装置を提供することを目的とする。
【０００９】
また、本発明は、上記目的をより高精度に行なえるマルチビーム光源装置を提供する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、直線上に複数個の発光点を有する第１の半導体レーザアレイと、この第１の半導体レーザと同一構造の第２の半導体レーザアレイと、  前記第１の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光をカップリングする第１のコリメータレンズと、前記第２の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光をカップリングする第２のコリメータレンズと、第１の射出軸に対して複数個の発光点が副走査方向に離隔されるように対称に配列された前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリングレンズとを前記第１の射出軸上に配置させるとともに前記第１の射出軸に対して主走査方向に所定角度隔てた第２の射出軸に対して複数個の発光点が副走査方向に離隔されるように対称に配列された前記第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリングレンズとを前記第２の射出軸上に配置させ、前記第１の射出軸、前記第２の射出軸に直交する各面内において前記発光点の配列方向を各々定めて、これらの部材を一体に保持する支持部材と、前記第１の射出軸と前記第２の射出軸との軸間の中間位置を通るように定めた回動中心に直交する面内において回動調整自在となるように前記支持部材を保持するホルダ部材と、を備え、前記回動中心が、前記第１及び前記第２の半導体レーザアレイから出射される複数のレーザ光を走査して被走査面にビームスポットを形成するための走査光学系の光軸と合致するように定めたことを特徴とする。
【００１１】
従って、ホルダ部材を走査光学系の光軸を回動中心として回動調整するだけの単純な作業で第１，２の半導体レーザアレイの各発光点によるビームスポット列間の副走査相対位置の調整が可能となり、組立効率が向上する。
【００１２】
請求項２記載の発明は、直線上に複数個の発光点を有する第１の半導体レーザアレイと、この第１の半導体レーザと同一構造の第２の半導体レーザアレイと、前記第１の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光をカップリングする第１のコリメータレンズと、前記第２の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光をカップリングする第２のコリメータレンズと、第１の射出軸に対して複数個の発光点が副走査方向に離隔されるように対称に配列された前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリングレンズとを前記第１の射出軸上に配置させて一体に保持して第１の光源部を形成する第１の支持部材と、第２の射出軸に対して複数個の発光点が副走査方向に離隔されるように対称に配列された前記第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリングレンズとを前記第２の射出軸上に配置させて一体に保持して第２の光源部を形成する第２の支持部材と、前記第１及び第２の半導体レーザアレイから出射される複数のレーザ光を走査して被走査面にビームスポットを形成するための走査光学系の光軸に対して、前記複数のレーザ光を副走査方向に近接させて射出させるビーム合成手段と、前記第１の射出軸と前記第２の射出軸とを主走査方向に対して所定角度隔て、前記第１の射出軸、前記第２の射出軸に直交する各面内において前記発光点の配列方向を各々定めて、前記第１の支持部材と前記第２の支持部材と前記ビーム合成手段とを一体に保持するとともに、前記第１の射出軸と前記第２の射出軸との軸間の中間位置を通るように定めた回動中心に直交する面内において回動調整自在となすホルダ部材と、を備え、前記回動中心が、前記走査光学系の光軸と合致するように定めたことを特徴とする。
【００１３】
従って、ビーム合成手段を利用した方式にあっても、ホルダ部材を走査光学系の光軸を回動中心として回動調整するだけの単純な作業で第１，２の半導体レーザアレイの各発光点によるビームスポット列間の副走査相対位置の調整が可能となり、組立効率が向上する。
【００１４】
請求項３記載の発明は、請求項２記載のマルチビーム光源装置において、前記第１及び第２の支持部材は各々対応する前記第１及び第２の射出軸を回動中心として回動調整自在に前記ホルダ部材に保持されている。
【００１５】
従って、第１，２の半導体レーザアレイのビームスポット列における副走査ピッチを個別に調整でき、高精度化を図れるため、より高品位な画像記録が可能となる。
【００１６】
請求項４記載の発明は、請求項１又は２記載のマルチビーム光源装置において、前記第１及び第２の半導体レーザアレイにおける複数個の発光点を各々副走査方向に配列し、前記被走査面上での前記第１及び第２の射出軸間隔を隣接する記録ラインピッチの２倍以上に設定してなる。
【００１７】
従って、半導体レーザアレイのビームスポット列間の副走査方向の相対位置を調整した後に、ビームスポット列における副走査ピッチの変化を許容値に抑えることができ、高精度化を図れるため、高品位な画像記録が可能となる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明の第一の実施の形態を図１ないし図５に基づいて説明する。まず、本実施の形態の前提として、半導体レーザアレイを用いた場合の結像関係について図１及び図２を参照して説明する。図１は２つの発光点１ａ，１ｂを有する半導体レーザアレイ１の発光点ピッチＰｓと被走査面（感光体面等の像面）２における副走査ピッチＰｓ′との関係を示す光学系説明図である。ｆはコリメータレンズ３の焦点距離を示す。４は副走査倍率βｓの走査光学系である。ここに、被走査面２において所定の副走査ピッチＰｓ′を得るには、半導体レーザアレイ１の光源面ではＰｓ＝Ｐｓ′／βｓとなり、記録ピッチに応じて副走査倍率βｓを設定することになる。
【００１９】
ここで、半導体レーザアレイ１に関しては、２つの発光点１ａ，１ｂ間のピッチＰｓ＝Ｐなる比較的狭い発光点ピッチのものを用い、これを図２（ａ）に示すように副走査方向に配列させる方式と、２つの発光点１ａ，１ｂ間のピッチＰｓが比較的広いものを用い、これを図２（ｂ）に示すように光軸Ｃ回り（発光点１ａ，１ｂ間中心）に角度θ傾けることでＰ・sinθ＝Ｐｓとなるように配列させる方式とがある。本発明は、何れの方式にも適用できるが、ここでは、説明を簡単にするため前者方式への適用例とする。
【００２０】
このような前提の下、本実施の形態の構成例を図３及び図４により説明する。図３は本実施の形態のマルチビーム光源装置の分解斜視図、図４はその組立状態における縦断側面図である。本実施の形態は、各々２個の発光点を有する２個の半導体レーザアレイ１１，１２（第１，２の半導体レーザアレイ）を用いる４ビーム光源装置として構成されている。これらの半導体レーザアレイ１１，１２は同一構造で形成されている。また、これらの半導体レーザアレイ１１，１２に対して対をなし、射出光を平行光として走査光学系にカップリングさせるためのコリメータレンズ１３，１４（第１，２のコリメータレンズ）も設けられている。
【００２１】
また、これらの部材（半導体レーザアレイ１１，１２、コリメータレンズ１３，１４）を一体に保持する支持部材１５が設けられている。この支持部材１５はアルミダイキャスト製のもので、その背面側には主走査方向に８ｍｍ間隔で並列させて半導体レーザアレイ１１，１２を圧入支持させるための２個の段差付きの嵌合穴１６が形成されている。ここに、半導体レーザアレイ１１，１２はこれらの嵌合穴１６に対して各々の２個の発光点が副走査方向に配列されるように方向付けられて取付けられる。また、支持部材１５の前面側中央部にはこれらの嵌合穴１６に連続的にレンズ支持用のＵ字状支持部１７ａ，１７ｂが突出形成されている。ここでは、各々の射出軸ａ１，ａ２（第１，２の射出軸＝レンズ中心軸）に対して２個の発光点が対称に配置されるように副走査方向の位置合せがなされ、かつ、その射出光が平行光束となるように光軸方向の位置合せがなされて、これらのＵ字状支持部１７ａ，１７ｂに対して紫外線硬化接着剤１８を充填し硬化させることによりコリメータレンズ１３，１４が固定される。
【００２２】
この際、特に図４に示すように、２個の嵌合穴１６を各々主走査方向に角度をつけて形成することで、半導体レーザアレイ１１及びコリメータレンズ１３、半導体レーザアレイ１２及びコリメータレンズ１４の全系を傾けて配置させることにより、各々の射出軸ａ１，ａ２がポリゴンミラー（図示せず）の近傍で交差するように形成しているので、被走査面では、図５に示すように、ビームスポット列が主走査方向に間隔ｘをもって分離形成される。図５中、１１ａ，１１ｂは半導体レーザアレイ１１の２個の発光点により形成されるビームスポットを示し、１２ａ，１２ｂは半導体レーザアレイ１２の２個の発光点により形成されるビームスポットを示す。
【００２３】
また、半導体レーザアレイ１１，１２及びコリメータレンズ１３，１４を一体に保持した支持部材１５を保持するホルダ部材１９が設けられている。このホルダ部材１９は走査光学系の光軸Ｃを回動中心として所定の支持部に回動調整自在に位置決めされるための円筒部２０を前面側中央に有し、背面側にはＵ字状支持部１７ａ，１７ｂ部分やコリメータレンズ１３，１４部分を挿入させるための逃げ開口２１が形成されており、ねじ穴２２にねじ着されるねじ２３により支持部材１５が固定されている。ここに、支持部材１５は各半導体レーザアレイ１１，１２、コリメータレンズ１３，１４が光軸Ｃに対して対称配置となるようにホルダ部材１９に位置決め固定される。
【００２４】
このような構成によれば、走査光学系の光軸Ｃを回動中心としてホルダ部材１９を回動調整して傾け量γを適宜設定するだけで、各々の半導体レーザアレイ１１，１２のビームスポット１１ａ，１１ｂ列、ビームスポット１２ａ，１２ｂ列の副走査方向の相対位置を所定値に簡単かつ正確に合せることができる。よって、組立効率が向上する。
【００２５】
図５に示す例では、ビームスポット１１ａ，１１ｂ列、ビームスポット１２ａ，１２ｂ列が１２ａ，１１ａ，１２ｂ，１１ｂの順に千鳥配列状となるように画像記録ピッチｐ（＝Ｐ／２＝ｘ・cosγ）だけずらして配置させている。このとき、傾け量γによりビームスポット列の最短スポットの副走査ピッチｐは、ビーム数をｎとすると、δ＝（ｎ−１）Ｐ・（１−cosγ）だけ変化してしまう。ビームスポット列の副走査相対位置を図５に示すようにｐだけずらすことを想定すると、間隔ｘによる補正によりsinγ＞ｐ／ｘとなる。従って、最短スポットの副走査ピッチの変化量δを画像品質に影響を与えない（ｎ−１）Ｐ／８以下とするためには、間隔ｘは少なくとも２ｐ以上とする必要がある。
【００２６】
本発明の第二の実施の形態を図６ないし図９に基づいて説明する。図６は本実施の形態のマルチビーム光源装置を示す分解斜視図、図７はその組立状態における縦断側面図である。本実施の形態は、前述した特開平７−７２４０７号公報の場合のようなビーム合成手段を用いるマルチビーム光源装置に適用されている。また、各々２個の発光点を有する２個の半導体レーザアレイ３１，３２（第１，２の半導体レーザアレイ）を用いる４ビーム光源装置として構成されている。これらの半導体レーザアレイ３１，３２は同一構造で形成されている。また、これらの半導体レーザアレイ３１，３２に対して対をなし、射出光を平行光として走査光学系にカップリングさせるためのコリメータレンズ３３，３４（第１，２のコリメータレンズ）も設けられている。
【００２７】
また、半導体レーザアレイ３１とコリメータレンズ３３とを一体に保持する第１の保持部材３５と、半導体レーザアレイ３２とコリメータレンズ３４とを一体に保持する第２の保持部材３６とが設けられている。これらの保持部材３５，３６は何れもアルミダイキャスト製のもので、同一形状に形成されている。これらの保持部材３５，３６の背面側には半導体レーザアレイ３１，３２を圧入支持させるための段差付きの嵌合穴３７が各々形成されている。コリメータレンズ３３，３４は各々半導体レーザアレイ３１，３２の複数個の発光点を副走査方向に配列させるとともに、射出軸ａ１，ａ２（第１，２の射出軸＝レンズ中心軸）に対して２個の発光点が対称に配置されるように副走査方向の位置合せがなされ、かつ、その射出光が平行光束となるように光軸方向の位置合せがなされて、各々の支持部材３５，３６に形成されたＵ字状支持部３７，３８に対して紫外線硬化接着剤３９を充填し硬化させることにより固定される。このようにして、半導体レーザアレイ３１、コリメータレンズ３３及び支持部材３５により第１の光源部４０が構成され、半導体レーザアレイ３２、コリメータレンズ３４及び支持部材３６により第２の光源部４１が構成されている。
【００２８】
また、前述の特開平７−７２４０７号公報に示されるような平行四辺形柱部４２ａと三角柱部４２ｂとを組合せたプリズム４２によるビーム合成手段が設けられている。このプリズム４２は第１，２の半導体レーザアレイ３１，３２の各発光点から出射される複数のレーザ光を走査光学系の光軸Ｃに対して副走査方向に近接させて射出させるもので、第２の半導体レーザアレイ３２側からの入射部分には１／２波長板４３が設けられている。即ち、第２の半導体レーザアレイ３２側からの射出光は平行四辺形柱部４２ａの斜辺で反射された後、三角柱部４２ｂとの境界面でさらに反射されることにより、この三角柱部４２部分を透過する第１の半導体レーザアレイ３１側からの射出光と副走査方向に近接した状態でプリズム４２から射出される。
【００２９】
さらに、ユニット化されたこれらの第１，２の光源部４０，４１及びプリズム４２を保持するホルダ部材４４が設けられている。ここに、このホルダ部材４４は走査光学系の光軸Ｃを回動中心として所定の支持部に回動調整自在に位置決めされるための円筒部４５を前面側中央に有し、背面側にはプリズム４２が入り込むプリズム収納部４６に連続させてＵ字状支持部３７，３８部分やコリメータレンズ３３，３４部分を挿入させるための逃げ開口４７が形成されており、ねじ穴４８にねじ着されるねじ４９により支持部材３５，３６が固定されている。この際、第１，２の支持部材３５，３６が取付けられるホルダ部材４２の取付面４２ａ，４２ｂを図７に示すように各々主走査方向に角度を付けることにより、各々の射出軸ａ１，ａ２が被走査面に向かって徐々に広がっていくように形成されている。よって、被走査面では、図８に示すように、ビームスポット列が主走査方向に間隔ｘをもって分離形成される。図８中、３１ａ，３１ｂは半導体レーザアレイ３１の２個の発光点により形成されるビームスポットを示し、３２ａ，３２ｂは半導体レーザアレイ３２の２個の発光点により形成されるビームスポットを示す。
【００３０】
このような構成によれば、走査光学系の光軸Ｃを回動中心としてホルダ部材４４を回動調整して傾け量γを適宜設定するだけで、各々の半導体レーザアレイ３１，３２のビームスポット３１ａ，３１ｂ列、ビームスポット３２ａ，３２ｂ列の副走査方向の相対位置を所定値に簡単かつ正確に合せることができる。よって、組立効率が向上する。
【００３１】
また、本実施の形態では、支持部材３５，３６に関してホルダ部材４４の取付面上で各射出軸ａ１，ａ２を回転中心として位置決めを可能とする円筒部３５ａ，３６ａが形成されており、ホルダ部材４４に対して各々独立して回動調整自在とされている。これにより、各ビームスポット３１ａ，３１ｂ列、ビームスポット３２ａ，３２ｂ列における隣接ピッチＰを予めＰ＞２ｐとなるように走査光学系の副走査倍率βｓを設定することで、各射出軸ａ１，ａ２を回動中心とした傾け量αの調整により各ビームスポット３１ａ，３１ｂ列、ビームスポット３２ａ，３２ｂ列の副走査方向の間隔ｄ（＝Ｐ／２＝Ｐ・cosα）を正確に合せることが可能となる。さらに、傾け量γによっても各ビームスポット３１ａ，３１ｂ列、ビームスポット３２ａ，３２ｂ列は常に一定姿勢に維持することができ、副走査ピッチを正確に保つことが可能となる。
【００３２】
このように構成された４ビーム光源ユニット４８から射出される４本のレーザ光は、図９に示すように、シリンダレンズ４９を介してポリゴンミラー５０で偏向走査され、結像用の走査光学系５１を構成するｆθレンズ５２及びトロイダルレンズ５３により被走査面である感光体５４面上に結像されることで、４ライン同時記録が行われる。５５は反射ミラーである。また、５６は画像領域外で検知用ミラー５７で反射されるレーザ光を受光して主走査ライン方向の同期をとるたの同期検知センサである。
【００３３】
なお、これらの実施の形態では、２つの発光点を持つ半導体レーザアレイを用いた構成例としたが、２つの発光点に限らず、３つ以上の発光点を持つ半導体レーザアレイを用いるようにしてもよい。要は、複数個の発光点が同一直線上に等ピッチで配列されていればよい。また、第１，２の射出軸ａ１，ａ２の設定に関して、第一の実施の形態ではポリゴンミラーの近傍で交差するように、第二の実施の形態では被走査面に向かって徐々に広がっていくようにしたが、これらに限らず、要は、主走査方向に所定角度隔てられていればよい。
【００３４】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、ホルダ部材を走査光学系の光軸を回動中心として回動調整するだけの単純な作業で第１，２の半導体レーザアレイの各発光点によるビームスポット列間の副走査相対位置の調整が可能となり、組立効率を向上させることができる。
【００３５】
請求項２記載の発明によれば、ビーム合成手段を利用した方式にあっても、ホルダ部材を走査光学系の光軸を回動中心として回動調整するだけの単純な作業で第1，２の半導体レーザアレイの各発光点によるビームスポット列間の副走査相対位置の調整が可能となり、組立効率を向上させることができる。
【００３６】
請求項３記載の発明によれば、ビーム合成手段を利用する請求項２記載のマルチビーム光源装置において、第１，２の半導体レーザアレイのビームスポット列における副走査ピッチを個別に調整でき、高精度化を図れるため、より高品位な画像記録が可能となる。
【００３７】
請求項４記載の発明によれば、請求項１又は２記載のマルチビーム光源装置において、半導体レーザアレイのビームスポット列間の副走査方向の相対位置を調整した後に、ビームスポット列における副走査ピッチの変化を許容値に抑えることができ、高精度化を図れるため、高品位な画像記録が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の前提として、２つの発光点を有する半導体レーザアレイの発光点ピッチＰｓと被走査面における副走査ピッチＰｓ′との関係を示す光学系説明図である。
【図２】複数個の発光点の配列方式を示す説明図である。
【図３】本発明の第一の実施の形態のマルチビーム光源装置を示す分解斜視図である。
【図４】その組立状態における縦断側面図である。
【図５】被走査面上でのビームスポット配列を示す説明図である。
【図６】本発明の第二の実施の形態のマルチビーム光源装置を示す分解斜視図である。
【図７】その組立状態における縦断側面図である。
【図８】被走査面上でのビームスポット配列を示す説明図である。
【図９】レーザプリンタ構成例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１１      第１の半導体レーザアレイ
１２      第２の半導体レーザアレイ
１３      第１のコリメータレンズ
１４      第２のコリメータレンズ
１５      支持部材
１９      ホルダ部材
３１      第１の半導体レーザアレイ
３２      第２の半導体レーザアレイ
３３      第１のコリメータレンズ
３４      第２のコリメータレンズ
３５      第１の支持部材
３６      第２の支持部材
４０      第１の光源部
４１      第２の光源部
４２      ビーム合成手段
４４      ホルダ部材
【図１】
0003670858.tif 000002
【図２】
0003670858.tif 000003
【図３】
0003670858.tif 000004
【図４】
0003670858.tif 000005
【図５】
0003670858.tif 000006
【図６】
0003670858.tif 000007
【図７】
0003670858.tif 000008
【図８】
0003670858.tif 000009
【図９】
0003670858.tif 000010