(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
底部に排気口を有する真空チャンバーと、該真空チャンバー内において前記排気口の上方に配設された中板と、該中板上に設けられた載置用凸部とを少なくとも備え、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であることを特徴とする真空乾燥装置。
【請求項２】
前記中板を前記真空チャンバーの底部に対して上下動させることにより、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であることを特徴とする請求項１に記載の真空乾燥装置。
【請求項３】
前記載置用凸部の高さを変更することにより、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の真空乾燥装置。
【請求項４】
前記真空チャンバーの側壁部にスペーサを着脱することにより、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の真空乾燥装置。
【請求項５】
前記真空チャンバーは内側上壁部の下方に天板が配設可能であり、該天板を配設することにより、実質的に前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の真空乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空乾燥装置に係り、特に乾燥に要する時間の短縮が可能で、かつ、被乾燥体の乾燥面が良好な真空乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、ＬＣＤ用カラーフィルタでは、ガラス基板にレジスト液等の塗布液を塗布して乾燥し、フォトリソグラフィー等により所望のパターンの形成が行われる。塗布液の塗布方式としては、例えば、スピン塗布方式、ナイフ塗布方式、ロール塗布方式およびビード塗布方式等の種々の塗布方式が用いられている。このような何れの塗布方式で塗布した場合でも、パターン形成工程の前に塗布膜の乾燥工程を経る必要がある。従来、塗布液が塗布されたガラス基板等の被乾燥体は、オーブンあるいはホットプレートにおいて加熱乾燥がなされていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の加熱による方法は乾燥に要する時間が長く、この結果、上述のようなＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程では、ガラス基板の塗布膜の乾燥工程が全工程の律速段階となっていた。そこで、近年、この乾燥工程の時間短縮を可能とするものとして真空乾燥装置が使用されている。これは、塗布膜が形成されたガラス基板を真空状態に置き、溶剤の蒸発速度を飛躍的に高めたものである。
【０００４】
しかしながら、真空乾燥装置を使用することによっても、乾燥工程が全工程の律速段階であることは変わらず、乾燥工程の更なる時間短縮が重要な課題となっている。また、ＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程では、単に乾燥時間の短縮が必要であるだけではなく、ガラス基板上の乾燥された塗布膜の表面が平滑であることが要求されている。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、被乾燥体の乾燥時間の短縮が可能で、かつ、乾燥後の被乾燥体の表面状態が極めて良好である真空乾燥装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は底部に排気口を有する真空チャンバーと、該真空チャンバー内において前記排気口の上方に配設された中板と、該中板上に設けられた載置用凸部とを少なくとも備え、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であるような構成とした。
【０００７】
また、本発明の真空乾燥装置は、前記中板を前記真空チャンバーの底部に対して上下動させることにより、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であるような構成とした。
【０００８】
また、本発明の真空乾燥装置は、前記載置用凸部の高さを変更することにより、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であるような構成とした。
【０００９】
また、本発明の真空乾燥装置は、前記真空チャンバーの側壁部にスペーサを着脱することにより、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であるような構成とした。
【００１０】
さらに、本発明の真空乾燥装置は、前記真空チャンバーの内側上壁部の下方に天板の配設が可能であり、該天板を配設することにより、実質的に前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であるような構成とした。
【００１１】
上述のような本発明では、被乾燥体に応じて被乾燥体と真空チャンバーの内側上壁部との距離を調整することにより、載置用凸部上に載置される被乾燥体から中板上面を通り、中板と真空チャンバー底部との間を経由して排気口に至る排気経路が被乾燥体に応じた最適なものとすることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明を行う。
【００１３】
図１は本発明の真空乾燥装置の一実施形態を示す概略構成図である。図１において、本発明の真空乾燥装置１は、真空チャンバー２と、この真空チャンバー２の底部２Ａに配設された中板５と、この中板５上に設けられた複数の載置用凸部７とを備え、真空チャンバー２の底部２Ａには排気口３が形成されている。
【００１４】
真空乾燥装置１を構成する真空チャンバー２は、公知の種々の真空チャンバーを使用することができ、内部容積、内部形状等は適宜設定することができる。図示例では、真空チャンバー２は底部２Ａ、上壁部２Ｂ、側壁部２Ｃを備え、縦断面形状が長方形をなしている。また、真空チャンバーの底部２Ａに設けられる排気口３は、図示されていない真空ポンプに接続され、この排気口３を介して真空チャンバー２内の気体が外部に排出され、真空チャンバー２内を所定の真空状態とすることができる。この排気口３は、図示例では真空チャンバー２の低部２Ａの中央に１個形成されているが、複数の排気口３（例えば、４個）を底部２Ａに形成してもよい。尚、この場合、排気口３は、いずれも中板５の下方の位置に形成することが好ましい。
【００１５】
真空乾燥装置１を構成する中板５は、排気口３の上方に位置するように脚部５Ａを介して真空チャンバー２の底部２Ａに配設されている。この中板５は、アルミニウム、ＳＵＳ、鉄、銅、樹脂等の材料により形成されたものを使用することができ、中板５の面積は、真空チャンバー２の底部２Ａの面積の７０〜９９％の範囲とすることが好ましい。また、中板５の周辺部と真空チャンバー２の側壁部２Ｃとの距離は、できるだけ均一となるように中板５を配設することが好ましく、中板５の周辺部と真空チャンバー２の側壁部２Ｃとの距離を０．５ｃｍ以上に設定することが好ましい。
【００１６】
本実施形態では、中板５は脚部５Ａによって上下動可能とされている。脚部５Ａの構造は特に制限はなく、手動あるいはモータ駆動等により高さを調整できるものであればよい。また、脚部５Ａが着脱可能であり、所望の高さの脚部５Ａを介して中板５を配設するようにしてもよい。このような脚部５Ａの高さ調整の可能な範囲は、例えば、３〜５０ｍｍ程度とすることができる。
【００１７】
中板５上に設けられた載置用凸部７は、被乾燥体Ｓを中板５表面から所望の距離に浮かして保持するためのものであり、円錐形状、円柱形状、角柱形状等任意の形状のものとすることができる。この載置用凸部７の形成個数、形成位置は特に制限はなく、また、載置用凸部７の高さは、０．５〜１０ｍｍ程度の範囲で設定することができる。載置用凸部７は、中板５との摩擦等により被乾燥体Ｓに傷を与えないような材料を選定して形成されたものを使用でき、中板５の表面に固定して配設することができる。
【００１８】
このような真空乾燥装置１は、載置用凸部７上に被乾燥体Ｓを載置したときの被乾燥体Ｓと真空チャンバー２の内側上壁部２Ｂとの距離Ｈが調整可能である。すなわち、例えば、図１に示される脚部５Ａ（高さｈ）を、図２に示されるように高く（高さｈ´）することにより中板５を真空チャンバー２の底部２Ａに対して上昇させ、被乾燥体Ｓと真空チャンバー２の内側上壁部２Ｂとの距離をＨ´（Ｈ＞Ｈ´）とすることができる。したがって、被乾燥体Ｓに応じて、載置用凸部７上に載置される被乾燥体Ｓから中板５の表面を通り、中板５と真空チャンバー２の底部２Ａとの間を経由して排気口３に至る排気経路（図１、図２に矢印で示される経路）を、乾燥に最も適したものとすることができる。これにより、被乾燥体の突沸を防止して表面状態を荒らすことなく乾燥時間を短縮することが可能となり、被乾燥体の乾燥後の表面状態も極めて良好なものとなる。
【００１９】
図３は本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概略構成図である。図３において、本発明の真空乾燥装置１１は、真空チャンバー１２と、この真空チャンバー１２の底部１２Ａに脚部１５Ａを介して配設された中板１５と、この中板１５上に設けられた複数の載置用凸部１７とを備え、真空チャンバー１２の底部１２Ａには排気口１３が形成されている。
【００２０】
この真空乾燥装置１１では、中板１５上に設けられた複数の載置用凸部１７が、その高さを調整できることを特徴とする。載置用凸部１７は、載置用凸部７と同様に被乾燥体Ｓを中板１５表面から所望の距離に浮かして保持するためのものであり、手動あるいはモータ駆動により長さを調整できるものであればよい。また、載置用凸部１７が中板１５に着脱可能であり、所望の高さの載置用凸部１７を中板１５に装着できるようにしてもよい。このような載置用凸部１７の高さ調整の可能な範囲は、例えば、０．５〜１０ｍｍ程度とすることができる。上記の載置用凸１７の形状には特に制限はなく、また、載置用凸部１７の形成個数、形成位置は、被乾燥体Ｓを安定して保持できる範囲で任意に設定できる。
【００２１】
尚、上述の真空乾燥装置１１を構成する真空チャンバー１２、中板１５は、上述の真空乾燥装置１を構成する真空チャンバー２、中板５と同様にすることができるので、ここでの説明は省略する。また、脚部１５Ａは、中板１５の下面に固着された高さ固定式のものでもよく、あるいは、上述の実施形態における脚部５Ａと同様に高さの調整が可能なものでもよい。
【００２２】
このような真空乾燥装置１１は、載置用凸部１７上に被乾燥体Ｓを載置したときの被乾燥体Ｓと真空チャンバー１２の内側上壁部１２Ｂとの距離Ｈが調整可能である。すなわち、例えば、図３に示される載置用凸部１７（高さｈ）を、図４に示されるように高く（高さｈ´）することにより被乾燥体Ｓと真空チャンバー１２の内側上壁部１２Ｂとの距離をＨ´（Ｈ＞Ｈ´）とすることができる。したがって、被乾燥体Ｓに応じて、載置用凸部１７上に載置される被乾燥体Ｓから中板１５の表面を通り、中板１５と真空チャンバー１２の底部１２Ａとの間を経由して排気口１３に至る排気経路（図３、図４に矢印で示される経路）を、乾燥に最も適したものとすることができる。これにより、被乾燥体の突沸を防止して表面状態を荒らすことなく乾燥時間を短縮することが可能となり、被乾燥体の乾燥後の表面状態も極めて良好なものとなる。尚、上述のように、脚部１５Ａを上述の実施形態における脚部５Ａと同様に高さの調整が可能なものとし、載置用凸部１７の高さ調整と脚部１５Ａの高さ調整を併用して、被乾燥体Ｓと真空チャンバー１２の内側上壁部１２Ｂとの距離Ｈの調整を行ってもよい。
【００２３】
図５は本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概略構成図である。図５において、本発明の真空乾燥装置２１は、真空チャンバー２２と、この真空チャンバー２２の底部２２Ａに脚部２５Ａを介して配設された中板２５と、この中板２５上に設けられた複数の載置用凸部２７とを備え、真空チャンバー２２の底部２２Ａには排気口２３が形成されている。
【００２４】
この真空乾燥装置２１では、真空チャンバー２２は底部２２Ａ、上壁部２２Ｂ、側壁部２２Ｃを備え、側壁部２２Ｃはスペーサ２９が着脱可能であり、所望のスペーサ２９を装着することにより側壁部２２Ｃの高さを調整できることを特徴とする。図示例では、スペーサ２９は側壁部２２Ｃが上壁部２２Ｂと当接する位置、すなわち、側壁部２２Ｃの最上部おいて側壁部２２Ｃに装着されているが、スペーサ２９の側壁部２２Ｃへの着脱可能位置はこれに限定されるものではない。スペーサ２９の高さｈは任意に設定することができ、被乾燥体の種類に応じて多種の高さのスペーサを予め準備することができる。このスペーサ２９の構造は、側壁部２２Ｃの平面形状に対応した形状を備え、側壁部２２Ｃに装着した際に、真空チャンバー２２内を気密状態にできるものであれば、特に制限はない。具体的には、アルミニウム、ＳＵＳ、鉄、銅等の金属、または、樹脂等を用いて側壁部２２Ｃの平面形状に対応した形状のスペーサ２９を作製し、さらに、真空チャンバー２２内を気密状態とするために、このスペーサ２９の上面および下面にＯリングを装着し、あるいは、ゴムシートを貼着する等の構成にすることができる。
【００２５】
このような真空チャンバー２２は、上記のスペーサ２９の着脱可能な機構を除いて、公知の種々の真空チャンバーを使用することができ、内部容積、内部形状等は適宜設定することができる。また、真空チャンバーの底部２２Ａに設けられる排気口２３は、図示されていない真空ポンプに接続され、この排気口２３を介して真空チャンバー２２内の気体が外部に排出され、真空チャンバー２２内を所定の真空状態とすることができる。この排気口２３は、図示例では真空チャンバー２２の低部２２Ａの中央に１個形成されているが、複数の排気口２３を底部２２Ａに形成してもよい。この場合、排気口２３は、いずれも中板２５の下方の位置に形成することが好ましい。
【００２６】
尚、上述の真空乾燥装置２１を構成する中板２５および載置用凸部２７は、上述の真空乾燥装置１を構成する中板５、載置用凸部７と同様にすることができるので、ここでの説明は省略する。また、脚部２５Ａは、中板２５の下面に固着された高さ固定式のものでもよく、あるいは、上述の実施形態における脚部５Ａと同様に高さの調整が可能なものでもよい。さらに、載置用凸部２７は、中板２５の表面に固着された高さ固定式のものでもよく、あるいは、上述の実施形態における載置用凸部１７と同様に高さの調整が可能なものでもよい。
【００２７】
このような真空乾燥装置２１は、載置用凸部２７上に被乾燥体Ｓを載置したときの被乾燥体Ｓと真空チャンバー２２の内側上壁部２２Ｂとの距離Ｈが調整可能である。すなわち、真空チャンバー２２の側壁部２２Ｃに装着するスペーサ２９を所望の高さのものとしたり、スペーサ２９を装着せずに真空チャンバー２２を構成することにより、被乾燥体Ｓと真空チャンバー２２の内側上壁部２２Ｂとの距離Ｈを適宜調整することができる。したがって、被乾燥体Ｓに応じて、載置用凸部２７上に載置される被乾燥体Ｓから中板２５の表面を通り、中板２５と真空チャンバー２２の底部２２Ａとの間を経由して排気口２３に至る排気経路（図５に矢印で示される経路）を、乾燥に最も適したものとすることができる。これにより、被乾燥体の突沸を防止して表面状態を荒らすことなく乾燥時間の短縮が可能となり、被乾燥体の乾燥後の表面状態も極めて良好なものとなる。尚、上述のように、脚部２５Ａを上述の実施形態における脚部５Ａと同様に高さの調整が可能なものとし、あるいは、載置用凸部２７を上述の実施例における載置用凸部１７と同様に高さの調整が可能なものとすることにより、側壁部２２Ｃのスペーサ２９による高さ調整に、脚部２５Ａの高さ調整や載置用凸部２７の高さ調整を併用して、被乾燥体Ｓと真空チャンバー２２の内側上壁部２２Ｂとの距離Ｈの調整を行ってもよい。
【００２８】
図６は本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概略構成図である。図６において、本発明の真空乾燥装置３１は、真空チャンバー３２と、この真空チャンバー３２の底部３２Ａに脚部３５Ａを介して配設された中板３５と、この中板３５上に設けられた複数の載置用凸部３７とを備え、真空チャンバー３２の底部３２Ａには排気口３３が形成されている。そして、真空チャンバー３２の上壁部３２Ｂの下方には、天板３８が配設可能とされている。図示例では、真空チャンバー３２の側壁部３２Ｃに保持部３９が設けられており、この保持部３９に天板３８の端部を係合させて天板３８が真空チャンバー３２内に掛け渡すように配設できるようになっている。
【００２９】
上記の天板３８は、ＳＵＳ板、アルミニウム板、鉄板、銅板、樹脂板等を用いて作製されたものを使用することができ、真空チャンバー３２内に配設された際に、中央部が中板３５方向にたわみを生じないものを使用する。このような天板３８の面積は、真空チャンバー３２の上壁部３２Ｂの面積の８０〜１００％の範囲とすることが好ましく、少なくとも中板３５を覆うような面積を有するものである。また、図示例では、真空チャンバー３２の側壁部３２Ｃに複数の保持部３９が設けられているが、真空チャンバー３２内に天板３８を昇降可能に配設してもよい。
【００３０】
上述の真空乾燥装置３１を構成する真空チャンバー３２は、上記の天板３８が配設可能な機構を除いて、公知の種々の真空チャンバーを使用することができ、内部容積、内部形状等は適宜設定することができる。また、真空チャンバーの底部３２Ａに設けられる排気口３３は、図示されていない真空ポンプに接続され、この排気口３３を介して真空チャンバー３２内の気体が外部に排出され、真空チャンバー３２内を所定の真空状態とすることができる。この排気口３３は、図示例では真空チャンバー３２の低部３２Ａの中央に１個形成されているが、複数の排気口３３を底部３２Ａに形成してもよい。この場合、排気口３３は、いずれも中板３５の下方の位置に形成することが好ましい。
【００３１】
尚、真空乾燥装置３１を構成する中板３５および載置用凸部３７は、上述の真空乾燥装置１を構成する中板５、載置用凸部７と同様にすることができるので、ここでの説明は省略する。また、脚部３５Ａは、中板３５の下面に固着された高さ固定式のものでもよく、あるいは、上述の実施形態における脚部５Ａと同様に長さの調整が可能なものでもよい。さらに、載置用凸部３７は、中板３５の表面に固着された高さ固定式のものでもよく、あるいは、上述の実施形態における載置用凸部１７と同様に高さの調整が可能なものでもよい。
【００３２】
このような真空乾燥装置３１は、載置用凸部３７上に被乾燥体Ｓを載置したときの被乾燥体Ｓと真空チャンバー３２の内側上壁部３２Ｂとの距離Ｈが調整可能である。すなわち、側壁部３２Ｃの所望の保持部３９に天板３８を載置することにより、実質的な上壁部を被乾燥体Ｓ上に形成することができる。そして、この天板３８を載置する保持部３９の位置を変更することにより、被乾燥体Ｓと真空チャンバー３２の実質的な上壁部である天板３８との距離を適宜調整することができる。したがって、被乾燥体Ｓに応じて、載置用凸部３７上に載置される被乾燥体Ｓから中板３５の表面を通り、中板３５と真空チャンバー３２の底部３２Ａとの間を経由して排気口３３に至る排気経路（図６に矢印で示される経路）を、乾燥に最も適したものとすることができる。これにより、被乾燥体の突沸を防止して表面状態を荒らすことなく乾燥時間を短縮することが可能となり、被乾燥体の乾燥後の表面状態も極めて良好なものとなる。尚、上述のように、脚部３５Ａを上述の実施形態における脚部５Ａと同様に高さの調整が可能なものとし、あるいは、載置用凸部３７を上述の実施例における載置用凸部１７と同様に高さの調整が可能なものとすることにより、天板３８による高さ調整に、脚部３５Ａの高さ調整や載置用凸部３７の高さ調整を併用して、被乾燥体Ｓと真空チャンバー３２の内側上壁部３２Ｂ（天板３８）との距離の調整を行ってもよい。
【００３３】
本発明では、被乾燥体には特に制限はなく、ダイコート、グラビアコート、ハケ塗り、スピンコート等の種々の方式により形成された塗布膜が対象となり得る。
【００３４】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
【００３５】
まず、下記の４種の塗布液を調製した。
【００３６】
塗布液Ａ
・固形分含有量  ：  ２０重量％
・使用溶剤      ：  セロソルブアセテート（沸点１５６．４℃）
塗布液Ｂ
・固形分含有量  ：  ２０重量％
・使用溶剤      ：  メトアセテート（沸点１７１．０℃）
塗布液Ｃ
・固形分含有量  ：  ２０重量％
・使用溶剤      ：  酢酸エチル（沸点７６．７℃）
塗布液Ｄ
・固形分含有量  ：  ２０重量％
・使用溶剤      ：  メチルアミルケトン（沸点１５１．０℃）
次に、この塗布液Ａ〜Ｄを用いて、厚み０．７ｍｍのガラス基板上にスピンコート方法により塗布（Ａ，Ｂ＝膜厚１．８μｍ、Ｃ＝膜厚１．２５μｍ、Ｄ＝膜厚１．５μｍ）を行った。
（乾燥試験１）
下記の仕様の真空チャンバー、中板、載置用凸部を備えた本発明の真空乾燥装置（図１に相当するもの）を準備し、真空ポンプ（ＵＬＶＡＣ（株）製Ｄ−９５０Ｋ＋ＰＭＢ００３ＣＭ）に排気口を接続した。
【００３７】
・内部容積          ：  １５２７６ｃｍ３
・底部形状          ：  長方形
・底部面積          ：  ３８１９ｃｍ２
・側壁部高さ        ：  ４０ｍｍ
・脚部の長さ        ：  １０〜２５ｍｍの範囲で調整可能
・中板厚み          ：  ５ｍｍ
・中板面積          ：  ３５７５ｃｍ２
・載置用凸部の高さ  ：  ５ｍｍ
・載置用凸部形成数  ：  ５個
上記の真空乾燥装置の載置用凸部に、上記の塗布液Ａを塗布したガラス基板を載置した。この初期状態でのガラス基板面から真空チャンバーの内側上壁面までの距離（以下ギャップという）を５ｍｍに設定した。そして、真空ポンプでの吸引を開始し、吸引開始から乾燥開始（真空度の変化がほぼ停止する時点）までの時間ｔ１  を測定し、また、乾燥開始から乾燥完了（塗布膜の乾燥が完了して、ほぼ一定であった真空度が再度変化する時点）までの時間ｔ２  を測定し、時間ｔ１  と時間ｔ２  の合計時間（乾燥時間）Ｔとともに、図７に示した。
【００３８】
その後、脚部の高さを調整して、ギャップを１０ｍｍ，１５ｍｍ，２０ｍｍ，２５ｍｍとして、上記と同様に乾燥時間を測定して図７に示した。
【００３９】
図７に示される塗布液Ａの真空乾燥では、ギャップ＝２０ｍｍまではギャップの増加とともに時間ｔ２  （時間Ｔ）の減少がみられたが、ギャップが１５ｍｍを超えると乾燥途中の塗布膜において突沸が発生し、乾燥後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。したがって、塗布液Ａの真空乾燥では、ギャップを１５ｍｍ程度に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて良好としながら乾燥時間Ｔの短縮が可能であることが確認された。
（乾燥試験２）
塗布液Ａを塗布したガラス基板の代わりに、塗布液Ｂを塗布したガラス基板を被乾燥体とした他は、乾燥試験１と同様にして乾燥を行い、時間ｔ１  、時間ｔ２  合計時間（乾燥時間）Ｔを図８に示した。
【００４０】
図８に示される塗布液Ｂの真空乾燥では、ギャップ＝２０ｍｍまではギャップの増加とともに時間ｔ２  （時間Ｔ）の減少がみられたが、ギャップが１０ｍｍを超えると乾燥途中の塗布膜において突沸が発生し、乾燥後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。したがって、塗布液Ｂの真空乾燥では、ギャップを１０ｍｍ程度に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて良好としながら乾燥時間Ｔの短縮が可能であることが確認された。
（乾燥試験３）
塗布液Ａを塗布したガラス基板の代わりに、塗布液Ｃを塗布したガラス基板を被乾燥体とした他は、乾燥試験１と同様にして乾燥を行い、時間ｔ１  、時間ｔ２  合計時間（乾燥時間）Ｔを図９に示した。
【００４１】
図９に示される塗布液Ｃの真空乾燥では、ギャップ＝１０〜１５ｍｍにおいて乾燥時間Ｔは最も短くなるが、ギャップが５ｍｍを超えると乾燥途中の塗布膜において突沸が発生し、乾燥後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。したがって、塗布液Ｃの真空乾燥では、ギャップを５ｍｍ程度に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて良好としながら乾燥時間Ｔを最も短くすることが可能であることが確認された。
（乾燥試験４）
塗布液Ａを塗布したガラス基板の代わりに、塗布液Ｄを塗布したガラス基板を被乾燥体とした他は、乾燥試験１と同様にして乾燥を行い、時間ｔ１  、時間ｔ２  合計時間（乾燥時間）Ｔを図１０に示した。
【００４２】
図１０に示される塗布液Ｄの真空乾燥では、ギャップ＝２０ｍｍまではギャップの増加とともに時間ｔ２  （時間Ｔ）の減少がみられたが、ギャップが１５ｍｍを超えると乾燥途中の塗布膜において突沸が発生し、乾燥後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。したがって、塗布液Ｄの真空乾燥では、ギャップを１５ｍｍ程度に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて良好としながら乾燥時間Ｔの短縮が可能であることが確認された。
（乾燥試験５）
真空チャンバーの側壁部の上部にスペーサ（高さ１５ｍｍ）を装着し、内部容積を９５４７．５ｃｍ３  とした他は、乾燥試験１と同様の仕様で本発明の真空乾燥装置（図５に相当するもの）を準備し、真空ポンプ（ＵＬＶＡＣ（株）製Ｄ−９５０Ｋ＋ＰＭＢ００３ＣＭ）に排気口を接続した。
【００４３】
上記の真空乾燥装置の載置用凸部に、上記の塗布液Ａを塗布したガラス基板を載置した。この初期状態でのギャップを５ｍｍに設定した。そして、乾燥試験１と同様にして乾燥を行い、時間ｔ１  、時間ｔ２  合計時間（乾燥時間）Ｔを図１１に示した。
【００４４】
その後、脚部の高さを調整して、ギャップを１０ｍｍ，１５ｍｍ，２０ｍｍ，２５ｍｍ，３０ｍｍとして、上記と同様に乾燥時間を測定して図１１に示した。
【００４５】
図１１に示される塗布液Ａの真空乾燥では、乾燥試験１における塗布液Ａの真空乾燥と異なり、ギャップ＝３０ｍｍまではギャップの増加とともに乾燥時間Ｔの減少がみられたが、乾燥途中の塗布膜における突沸は、乾燥試験１における塗布液Ａの真空乾燥よりもギャップが小さい段階（ほぼ１５ｍｍ）で発生し、乾燥後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。したがって、塗布液Ａの真空乾燥では、ギャップを１０〜１３ｍｍ程度に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて良好としながら乾燥時間Ｔの短縮が可能であることが確認された。
【００４６】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば真空チャンバーの底部に設けた排気口の上方に中板を配設し、この中板上に載置用凸部を設けて真空乾燥装置とし、載置用凸部上に載置された被乾燥体と真空チャンバーの内側上壁部との距離を調整可能とするので、被乾燥体に応じて被乾燥体と真空チャンバーの内側上壁部との距離を調整し、載置用凸部上に載置される被乾燥体から中板上面を通り、中板と真空チャンバー底部との間を経由して排気口に至る排気経路を被乾燥体の乾燥に最適なものとすることができ、これにより、被乾燥体の突沸を防止して表面状態を荒らすことなく乾燥時間を短縮することが可能となり、被乾燥体の乾燥後の表面状態も極めて良好なものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の真空乾燥装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】図１に示される真空乾燥装置の中板を上昇させた状態を示す図である。
【図３】本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【図４】図３に示される真空乾燥装置の載置用凸部を高くした状態を示す図である。
【図５】本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【図６】本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概略構成図である。
【図７】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空チャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥時間の関係を示す図である。
【図８】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空チャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥時間の関係を示す図である。
【図９】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空チャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥時間の関係を示す図である。
【図１０】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空チャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥時間の関係を示す図である。
【図１１】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空チャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥時間の関係を示す図である。
【符号の説明】
１，１１，２１，３１…真空乾燥装置
２，１２，２２，３２…真空チャンバー
２Ａ，１２Ａ，２２Ａ，３２Ａ…底部
２Ｂ，１２Ｂ，２２Ｂ，３２Ｂ…上壁部
２Ｃ，１２Ｃ，２２Ｃ，３２Ｃ…側壁部
３，１３，２３，３３…排気口
５，１５，２５，３５…中板
７，１７，２７，３７…載置用凸部
２９…スペーサ
３８…天板
Ｓ…被乾燥体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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