(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記スケールからの反射光又は透過光を受光する受光手段、又は該受光手段の前面に配した、複数に分割された領域を有し各領域の単位で相互にスケールピッチのずれたスリットを有するマスク上に、回折光によるスケールパターンのスケールピッチが回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと同じになるように、かつ前記回折光によるスケールパターンと前記回折光でない光によるスケールパターンの位相が同じになるように光学系諸元を設定したことを特徴とする相対位置検出装置。
【請求項２】
光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部と前記透過部のスリット幅を同一とせず、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと前記回折光によるスケールパターンのスケールピッチを同じにし、かつ前記回折光でない光によるスケールパターンと前記回折光によるスケールパターンの位相が１８０度ずれるように光学系諸元を設定したことを特徴とする相対位置検出装置。
【請求項３】
光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部と前記透過部のスリット幅を異らせ、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと前記回折光のうち＋１次光によるスケールパターンのスケールピッチと回折光のうち−１次光によるスケールパターンのスケールピッチとを同一にし、かつ前記各スケールパターンの位相がそれぞれ１２０度ずれるように光学系諸元を設定したことを特徴とする相対位置検出装置。
【請求項４】
光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部をブレーズド回格格子とし、回折光の＋１次光又は−１次光を発生させ、前記回折光によらないスケールパターンと前記回折光の＋１次光又は前記−１次光によるスケールパターンのスケールピッチが１／４ピッチずれるように光学系諸元を設定したことを特徴とする相対位置検出装置。
【請求項５】
光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記回折光をｎ次光まで発生させ、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチ間隔を前記ｎ次光のそれぞれによるスリットパターンでｎ個略均等に分割するスリットパターンを形成するよう光学系諸元を設定したことを特徴とする相対位置検出装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、相対位置検出装置に関し、より詳細には、光源からの光をスケールに投射し、光源とスケールの相対的な位置変化を光学的に読み取る相対位置検出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図６（Ａ）は、従来の相対位置検出装置の概略構成図で、図中、３０は光源、３１は光の反射率又は透過率が周期的に変化するスリットパターンを有するスケール、３２，３３及び３２′，３３′は受光素子、３４はマスク、３５はエンコーダ用のカウンタ、ＳＰ３０，ＳＰ３０′はそれぞれスケール３１による反射光路及び透過光路中に現われるスリットパターンである。図６（Ｂ）は、受光素子３２，３３及び３２′，３３′からそれぞれ得られるスケール３１の移動に対して位相がずれた２つの信号（以下、これらの信号をＡ相信号及びＢ相信号という）を示す図である。
いま、光源３０の光を、スリットパターンを有するスケール３１に投射すると該スケール３１からの反射光及び透過光により受光素子３２，３３及び３２′，３３′上にそれぞれスリットパターンＳＰ３０，ＳＰ３０′が現われる。これらのパターンは、スケール３１の移動に伴って変化するので、この変化を受光素子３２，３３及び３２′３３′でそれぞれ読み取る。このとき、受光素子３２，３３及び３２′，３３′を前記スリットパターンの明暗のピッチに対してそれぞれ１／４ピッチずらしておけば、スケール３１の移動に対して９０度位相のずれた信号が得られる。これらの信号は、Ａ相信号、Ｂ相信号に相当することから、エンコーダ用のカウンタ３５を用いれば、スケール３１のスリットの移動本数をカウントでき、スケール３１の移動距離を検出することができる。図１（Ｂ）は、前記Ａ相信号とＢ相信号を示したものである。
【０００３】
ここで、図６（Ｃ）は、前記マスク３４とともに使用される受光素子の構成を説明するための図で、図中、ａ，ｂ，ｃ，ｄはそれぞれ受光素子が配置される４つに分割された領域である。図６（Ｄ）は、前記マスク３４の概略構成図で、前記領域ａ，ｂ，ｃ，ｄに対応する領域単位で、相互にスケールピッチがずれたスリットを有する態様を示す。ここで、ａ領域とｄ領域のスリット及びｂ領域とｃ領域のスリットは、１／４ピッチ位相がずれるようにし、ａ領域とｂ領域のスリットは、１／２ピッチ位相がずれるように配置する。受光素子を前記４つの領域ａ，ｂ，ｃ，ｄに配置し、これら受光素子上に、前記マスク３４を配置する。そして、受光素子間の出力信号の差をとると、
ａ領域の出力−ｂ領域の出力＝Ａ相信号
ｂ領域の出力−ｃ領域の出力＝Ｂ相信号
となる。前記マスク３４を使用する代りに、各領域の受光素子の出力の位相がずれるよう受光素子をスリット形状に作成して同じ結果を得ることができた。
なお、４つの領域に受光素子を配置する代りに、３つの領域に受光素子を配置し、
ａ領域の出力−ｂ領域の出力＝Ａ相信号
ｄ領域の出力−ｂ領域の出力＝Ｂ相信号
とする。ｃ領域の出力が不要となるので、前記マスクも受光素子も３つの領域でよい。
さらに、前記マスクのスリットや前記スリット形状に作成する受光素子は、これらスリットや受光素子の位相関係さえ前記同様であれば直線状に配置してもよい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
図６（Ａ）に示される相対位置検出装置によれば、スケール３１からの反射光及び透過光路中に回折光によるスリットパターンが現れ、このスリットパターンが出力信号にノイズとなって加わるという問題点があった。
【０００５】
本発明は、上述のような問題点に鑑みてなされたもので、回折光によるノイズをなくし、また回折光を積極的に利用することにより一層進化した相対位置検出装置を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記スケールからの反射光又は透過光を受光する受光手段、又は該受光手段の前面に配した、複数に分割された領域を有し各領域の単位で相互にスケールピッチのずれたスリットを有するマスク上に、回折光によるスケールパターンのスケールピッチが回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと同じになるように、かつ前記回折光によるスケールパターンと前記回折光でない光によるスケールパターンの位相が同じになるように光学系諸元を設定したことを特徴とし、もって、回折光がノイズになることを防止し、出力信号成分を大きくすることを可能にしたものである。
【０００７】
請求項２の発明は、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部と前記透過部のスリット幅を同一とせず、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと前記回折光によるスケールパターンスケールピッチを同じにし、かつ前記回折光でない光によるスケールパターンと前記回折光によるスケールパターンの位相が１８０度ずれるように光学系諸元を設定したことを特徴とし、もって、２倍の分解能を得ることを可能にしたものである。
【０００８】
請求項３の発明は、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部と前記透過部のスリット幅を異らせ、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと前記回折光のうち＋１次光によるスケールパターンのスケールピッチと回折光のうち−１次光によるスケールパターンのスケールピッチとを同一にし、かつ前記各スケールパターンの位相がそれぞれ１２０度ずれるように光学系諸元を設定したことを特徴とし、もって、３倍の分解能を得ることを可能にしたものである。
【０００９】
請求項４の発明は、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部をブレーズド回格格子とし、回折光の＋１次光又は−１次光を発生させ、前記回折光によらないスケールパターンと前記回折光の＋１次光又は前記−１次光によるスケールパターンのスケールピッチが１／４ピッチずれるように光学系諸元を設定したことを特徴とし、もって、容易に位相の異る２つの信号を得ることを可能にしたものである。
【００１０】
請求項５の発明は、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記回折光をｎ次光まで発生させ、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチ間隔を前記ｎ次光のそれぞれによるスリットパターンでｎ個略均等に分割するスリットパターンを形成するよう光学系諸元を設定したことを特徴とし、もって、容易に位相の異る２つの信号を得ることを可能にしたものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
（請求項１の発明）
図１は、請求項１の発明が適用される相対位置検出装置の概略構成図で、図１（Ａ）において、１は光源、２は光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケール、３，４及び３′，４′は受光素子、ＳＰ１はスケール２からの反射光により受光素子３，４上に現われるスリットパターン、ＳＰ２はスケール２からの反射側の回折光により受光素子３，４上に現われるスリットパターン、ＳＰ１′はスケール２からの透過光により受光素子３′，４′上に現われるスリットパターン、ＳＰ２′はスケール２の透過側の回折光により受光素子３′，４′上に現われるスリットパターンである。
【００１２】
いま、光源１の光を、スケール２に投射すると、スケール２からの反射光又は透過光により、受光素子３，４又は３′，４′上にそれぞれスリットパターンＳＰ１又はＳＰ１′が現われる。このパターンは、スケール２の移動に伴って変化するので、この変化を受光素子３，４又は３′，４′で読み取る。このとき、２つの受光素子３，４又は３′，４′をスリットパターンのスリットの明暗のピッチに対して１／４ピッチずらして設置するか、あるいは複数に分割された領域を有し、各領域単位で、相互にスケールピッチのずれたスリットを有するマスク３４を前面に有する受光素子を使用すればスケール２の移動に対して９０度位相のずれた信号を得ることができる。
これらの信号は周知のエンコーダのＡ相信号、Ｂ相信号に相当することから、エンコーダのカウンタを用いれば、スケール２のスリットの移動本数をカウントでき、スケール２の移動距離を検出することができる。
【００１３】
ここで、スケール２からの回折光は、その主な部分が＋１次光と−１次光である。透過光である０次光は、スケール２のスリットパターンの投影に寄与するが、＋１次光及び−１次光は、回折角をもつため、０次光とずれて重なり、０次光のスリットパターンを狂わせ、受光素子からの出力信号はノイズを含んだものにする。
【００１４】
図１（Ｂ）は、透過光（０次光）に対して回折光（＋１次光及び−１次光）がずれて重なる態様を示す。
そこで、請求項１の発明の実施例は、前記スケール２において発生する回折光によるスリットパターンのピッチが、該スケール２の反射光又は透射光によるスリットパターンのピッチと同じになるように相対位置検出装置の光学系諸元、例えば、受光素子の位置とスリットピッチ等を設定したものである。
【００１５】
ここで、図１（Ｃ）は、回折光によるスリットパターンと反射光又は透過光によるスリットパターンの位相が合わされた状態を示している。
このような設定により、回折光による信号は反射光又は透過光による信号と同じとなるので、信号検出に何ら支障を生じることはなく、しかも、出力信号は大きくなる。また、受光素子は、従来のものをそのまま使用することができる。
【００１６】
（請求項２の発明）
図２（Ａ）は、請求項２の発明が適用される相対位置検出装置の概略構成図であり、図中、図１（Ａ）の構成部品と同じ構成部品には同じ参照番号を付し、説明を省略する。図２（Ａ）において、２′はスケール２の透過部、２″はスケール２の反射部で、透過部２′の幅は反射部２″の幅より狭くなっている。
請求項２の発明の実施例は、スリットパターンの位相を１８０度ずらすことにより回折光の影響をなくすように、相対位置検出装置の光学系諸元、例えば、受光素子の位置とスリットピッチ等を設定したものである。
図２（Ｂ）は、反射光によるスリットパターンと反射回折光によるスリットパターンの位相を１８０度ずらして重なるパターンを示す図、図２（Ｃ）は、透過光によるスリットパターンと透過回折光によるスリットパターンの位相を１８０度ずらして重なるパターンを示す図である。
【００１７】
このように位相を１８０度ずらすことによって、スリットパターンは、あたかもスケールピッチが半分になったかのようなパターンとして現われるので、検出分解能を２倍にすることができる。この場合、受光素子３，４又は３′，４′は前記スケールピッチに合せて作成する。ここで、スケール２の透過部２′と反射部２″が同じ幅であると、スリットパターンの明暗の分布における明部と暗部の比が同じになるので１８０度ずらせた重ねたパターンには、分布がなくなる。そこで、スリットパターンの明部と暗部の比は１対１から外す必要がある。図２（Ａ）においては、透過部２′の幅を反射部２″の幅より小さくしたが、これを反対にすれば、透過光のスリットパターンと反射光のスリットパターンが逆になるだけである。
なお、受光素子は従来のものを使用してよい。
【００１８】
（請求項３の発明）
図３（Ａ）は、請求項３の発明が適用される相対位置検出装置の概略構成図であり、図中、図１（Ａ）の構成部品と同じ構造部品には、同じ参照番号を付し、説明を省略する。
請求項３の発明の実施例は、回折光の＋１次光と−１次光と０次光の位相を１２０度ずらすように、相対位置検出装置の光学系諸元、例えば、受光素子の位置、スリットピッチ等を設定したものである。
図３（Ｂ）及び図３（Ｃ）は、それぞれ反射光及び透過光での位相を１２０度ずらせて重なるパターンを示す図である。このような１２０度のずれにより、あたかもスケールピッチが１／３になったように見えるので分解能は３倍になる。受光素子は、このスケールピッチに合せて作成する。この場合も、スケール２の透過部２′と反射部２″の幅が同じであると、スリットパターンの明暗の分布における明部と暗部の比が同じになるので、１２０度ずらせて重ねたパターンには、分布がなくなる。そこで、明部と暗部の比は１対１から外し、透過部２′を反射部２″より狭くしている。これを逆にすれば、透過光のパターンと反射光のパターンが逆になる。
【００１９】
（請求項４の発明）
図４（Ａ）は、請求項４の発明が適用される相対位置検出装置の概略構成図で、図中、図１（Ａ）の構成部品と同じ構成部品には同じ参照番号を付し、説明を省略する。図４（Ａ）において、５はスケールで、透過部５′と回折光の＋１次光と−１次光のうち、一方のみを発生させるためのブレーズド回折格子５″を有する。前記透過部５′の幅は、前記ブレーズド回折格子５″の幅よりも狭くしてある。ＳＰ３及びＳＰ３′は、それぞれスケール５の反射光及び透過光によるスリットパターン、ＳＰ４及びＳＰ４′は、それぞれ反射＋１次光及び透過＋１次光によるスリットパターンである。８は図４（Ｄ）で説明する２分割受光素子、９は図４（Ｅ）で説明する３分割受光素子である。
【００２０】
請求項４の発明の実施例は、スリットパターンＳＰ３とＳＰ４又はスリットパターンＳＰ３′とＳＰ４′の位相が１／４ずれるように相対位置検出装置の光学系諸元を設定したものである。図４（Ｂ）は反射光での位相を９０度ずらせて重なるスリットパターンを、図４（Ｃ）は透過光での位相を９０度ずらせて重なるスリットパターンを示す。
【００２１】
図４（Ｄ）は、反射光又は透過光によるスリットパターンと反射回折光又は透過回折光によるスリットパターンのピッチが１／４ピッチずれたパターンと受光素子との関係を示す図で、図中、８は受光素子ｅ，ｆを有する２分割受光素子である。これら受光素子ｅ，ｆからは、スリット５の移動により９０度位相がずれた信号が得られ、これらの信号は周知のエンコーダのＡ相信号、Ｂ相信号に相当することから、エンコーダ用のカウンタを用いれば、スリットの移動本数をカウントすることができ、インクレメンタルな信号として移動距離を検出することができる。
【００２２】
図４（Ｅ）は、反射光又は透過光によるスリットパターンと反射側の回折光又は透過側の回折光によるスリットパターンのピッチが１／４ピッチずれたパターンと受光素子との関係を示す図で、図中、９は受光素子ｇ，ｈ，ｉを有する３分割受光素子である。これら受光素子ｇ，ｈ，ｉは１／４ピッチずらして配置する。そして、隣り合った２つの受光素子の出力の差をとると、
ｇ−ｈ＝Ａ相信号
ｈ−ｉ＝Ｂ相信号
となり、バイアス成分が除去された信号を得ることができる。図４（Ｄ）、図４（Ｅ）では、１本のパターンを中心に受光素子を配置しているが、他のパターンを使用することができる。この場合は、受光素子をパターンに合わせて複数個用意すればよく、出力信号の増大化を図ることができる。
【００２３】
（請求項５の発明）
図５（Ａ）は、請求項５の発明が適用される相対位置検出装置の概略構成図で、図中、図２（Ａ）の構成部品しと同じ構成部品には同じ参照番号を付し説明を省略する。図５（Ａ）において、ＳＰ５、ＳＰ５′は、それぞれ反射側の回折光又は透過側の回折光の＋１次光、−１次光、＋２次光、−２次光などによるスリットパターンを模式的に示したものである。請求項５の発明の実施例は、回折光は、複数次数発生させることが可能であるので、±ｎ次光まで発生させ、これら各次光によるスケールパターンにより反射光又は透過光のスケールパターンピッチを（２ｎ＋１）分割するよう相対位置検出装置の光学系諸元を設定したものである。このような分割により、より分解能を上げることができるようになる。
【００２４】
図５（Ｂ）及び図５（Ｃ）は、反射光又は透過光のスケールパターンのピッチを、＋２次光から−２次光まで用いて分割する例を示すもので、反射光又は透過光のパターンを中心にして＋２次光から−２次光まで５個発生するので５分割できることになる。分割されたスリットパターンのスリットピッチを１／４ずらすよう前記光学系諸元を設定して、前記２分割受光素子８の受光素子ｅ，ｆからＡ相信号、Ｂ相信号を得ることができる。また、前記３分割受光素子９の受光素子ｇ，ｈ，ｉを１／４ピッチずらして配置し、隣り合った受光素子の出力の差をとると、
ｇ−ｈ＝Ａ相信号
ｈ−ｉ＝Ｂ相信号
となりバイアス信号が除去された信号を得ることができる。
【００２５】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記スケールからの反射光又は透過光を受光する受光手段、又は該受光手段の前面に配した、複数に分割された領域を有し各領域の単位で相互にスケールピッチのずれたスリットを有するマスク上に、回折光によるスケールパターンのスケールピッチが回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと同じになるように、かつ前記回折光によるスケールパターンと前記回折光でない光によるスケールパターンの位相が同じになるように光学系諸元を設定したので、回折光がノイズになることを防止し、受光素子からの出力信号成分を大きくすることができる。
【００２６】
請求項２の発明によれば、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部と前記透過部のスリット幅を異らせ、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと前記回折光によるスケールパターンスケールピッチを同じにし、かつ前記回折光でない光によるスケールパターンと前記回折光によるスケールパターンの位相が１８０度ずれるように光学系諸元を設定したので、２倍の分解能を得ることができる。
【００２７】
請求項３の発明によれば、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部と前記透過部のスリット幅を同一とせず、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチと前記回折光のうち＋１次光によるスケールパターンのスケールピッチと回折光のうち−１次光によるスケールパターンのスケールピッチとを同一にし、かつ前記各スケールパターンの位相がそれぞれ１２０度ずれるように光学系諸元を設定したので、３倍の分解能を得ることができる。
【００２８】
請求項４の発明によれば、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記反射部をブレーズド回格格子とし、回折光の＋１次光又は−１次光を発生させ、前記回折光によらないスケールパターンと前記回折光の＋１次光又は前記−１次光によるスケールパターンのスケールピッチが１／４ピッチずれるように光学系諸元を設定したので、容易に位相の異る２つの信号を得ることができる。
【００２９】
請求項５の発明によれば、光の反射部及び透過部からなるスリットパターンを有するスケールと、該スケールに光を投射する光源と、該光源と前記スケールの相対的な位置の変化に伴う前記スケールからの反射光又は透過光の光強度変化を検出する受光手段とを有し、前記光源からの回折光でない光により前記スケールの相対的な位置の変化を前記受光手段で読み取る相対位置検出装置において、前記回折光をｎ次光まで発生させ、前記回折光でない光によるスケールパターンのスケールピッチ間隔を前記ｎ次光のそれぞれによるスリットパターンでｎ個略均等に分割するスリットパターンを形成するよう光学系諸元を設定したので、（２ｎ＋１）倍の分解能を得ることできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明が適用される相対位置検出装置の一例を説明するための概略構成図である。
【図２】  本発明が適用される相対位置検出装置の他の例を説明するための概略構成図である。
【図３】  本発明が適用される相対位置検出装置のさらに他の例を説明するための概略構成図である。
【図４】  本発明が適用される相対位置検出装置のさらに他の例を説明するための概略構成図である。
【図５】  本発明が適用される相対位置検出装置のさらに他の例を説明するための概略構成図である。
【図６】  従来の相対位置検出装置の概略構成図である。
【符号の説明】
１…光源、２…スケール、２′…透過部、２″…反射部、３，３′，４，４′…受光素子、５…スケール、５′…透過部、５″…反射部、６，６′，７，７′…受光素子、８，８′…２分割受光素子、９，９′…３分割受光素子、３０…光源、３１…スケール、３２，３３…受光素子、３４…マスク、３５…エンコーダ用カウンタ、ＳＰ１，ＳＰ１′，ＳＰ２，ＳＰ２′，ＳＰ３，ＳＰ３′，ＳＰ４，ＳＰ４′，ＳＰ５，ＳＰ５′…スリットパターン、ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ…受光素子、ＳＰ３０，ＳＰ３０′…スリットパターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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