(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と第２の基板の間に液晶層を介在させて構成され、複数の隣接する画素領域を備える液晶装置であって、
前記画素領域に設けられた光反射層により構成される反射表示領域と、
前記画素領域の残りの領域により構成される透過表示領域と、
前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする層厚調整層と、を有し、
前記画素領域は矩形領域として形成されている一方、前記透過表示領域は、明視方向側に位置する辺が前記画素領域の辺に平面的に重なる矩形領域として形成され、かつ、
前記画素領域と前記透過表示領域の辺同士が重なる側には、当該辺に対して平面的に重なるように遮光膜が形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１において、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域では、前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層の端部に形成されている斜面と平面的に重なる領域内に存在していることを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかにおいて、前記画素領域と前記透過表示領域とが重なっている辺に隣接して、隣の画素領域の反射表示領域が形成されていることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記反射表示領域に形成された反射表示用カラーフィルタと、前記透過表示領域に形成された、前記反射表示用カラーフィルタよりも着色度の強い透過表示用カラーフィルタを備えていることを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域では、前記反射表示用カラーフィルタの端縁が、前記光反射層の端縁と平面的に重なっていることを特徴とする請求項４記載の液晶装置。
【請求項６】
前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域には、前記反射表示用カラーフィルタを構成する層および／または前記透過表示用カラーフィルタを構成する層であって、色調の異なる２層以上が積層されたオーバーラップ部が設けられていることを特徴とする請求項４記載の液晶装置。
【請求項７】
前記オーバーラップ部では、前記反射表示用カラーフィルタの端部と前記透過表示用カラーフィルタの端部とが重なり合っていることを特徴とする請求項６記載の液晶装置。
【請求項８】
前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域では、前記層厚調整層の端部に斜面が形成されており、前記オーバーラップ部と平面的に重なる領域内に、前記斜面が存在していることを特徴とする請求項６または７のいずれかに記載の液晶装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかにおいて、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域では、前記層厚調整層の端部に斜面が形成されており、該斜面の平面的な幅が８μｍ以下であることを特徴とする液晶装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、前記液晶層では、液晶のツイスト角が９０°以下であることを特徴とする液晶装置。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の液晶装置を表示部に備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半透過・反射型液晶装置に関するものである。さらに詳しくは、１画素内で透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層の層厚を適正な値に変えたマルチギャップタイプの液晶装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
各種の液晶装置のうち、透過モードおよび反射モードの双方で画像を表示可能なものは半透過・反射型液晶装置と称せられ、あらゆるシーンで使用されている。
【０００３】
この半透過・反射型液晶装置では、図２４（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示すように、表面に第１の透明電極１１が形成された透明な第１の基板１０と、第１の電極１１と対向する面側に第２の透明電極２１が形成された透明な第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間に保持されたＴＮ（ツイステッドネマティック）モードの液晶層５とを有している。また、第１の基板１０には、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する画素領域３に反射表示領域３１を構成する光反射層４が形成され、この光反射層４の開口４０に相当する領域が透過表示領域３２になっている。第１の基板１０および第２の基板２０の各々の外側の面には偏光板４１、４２が配置され、偏光板４１の側にはバックライト装置７が対向配置されている。
【０００４】
このような構成の液晶装置１では、バックライト装置７から出射された光のうち、透過表示領域３２に入射した光は、矢印Ｌ１で示すように、第１の基板１０の側から液晶層５に入射し、液晶層５で光変調された後、第２の基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を表示する（透過モード）。
【０００５】
また、第２の基板２０の側から入射した外光のうち、反射表示領域３１に入射した光は、矢印Ｌ２で示すように、液晶層５を通って反射層４に届き、この反射層４で反射されて再び、液晶層５を通って第２の基板２０の側から反射表示光として出射されて画像を表示する（反射モード）。
【０００６】
ここで、第１の基板１０上には、反射表示領域３１および透過表示領域３２の各々に反射表示用カラーフィルタ８１および透過表示用カラーフィルタ８２が形成されているので、カラー表示が可能である。
【０００７】
このような光変調が行われる際、液晶のツイスト角を小さく設定した場合には、偏光状態の変化が屈折率差Δｎと液晶層５の層厚ｄの積（リターデーションΔｎ・ｄ）の関数になるため、この値を適正化しておけば視認性のよい表示を行うことができる。しかしながら、半透過・反射型の液晶装置１において、透過表示光は、液晶層５を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は、液晶層５を２度、通過することになるため、透過表示光および反射表示光の双方において、リターデーションΔｎ・ｄを最適化することは困難である。従って、反射モードでの表示が視認性のよいものとなるように液晶層５の層厚ｄを設定すると、透過モードでの表示が犠牲となる。逆に、透過モードでの表示が視認性のよいものとなるように液晶層５の層厚ｄを設定すると、反射モードでの表示が犠牲となる。
【０００８】
そこで、特開平１１−２４２２２６号には、反射表示領域３１における液晶層の層厚ｄを透過表示領域３２における液晶層５の層厚ｄよりも小さくする構成が開示されている。このような構成はマルチギャップタイプと称せられ、例えば、図２４（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示すように、第１の透明電極１１の下層側、かつ、光反射層４の上層側に、透過表示領域３２に相当する領域が開口６１となっている層厚調整層６によって実現できる。すなわち、透過表示領域３２では、反射表示領域３１と比較して、層厚調整層６の膜厚分だけ、液晶層５の層厚ｄが大きいので、透過表示光および反射表示光の双方に対してリターデーションΔｎ・ｄを最適化することが可能である。ここで、層厚調整層６で液晶層５の層厚ｄを調整するには、層厚調整層６を分厚く形成する必要があり、このような分厚い層の形成には感光性樹脂などが用いられる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、感光性樹脂層で層厚調整層６を形成する際、フォトリソグラフィ技術が用いられるが、その際の露光精度、あるいは現像の際のサイドエッチングなどが原因で、層厚調整層６は、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分で斜め上向きの斜面６０となってしまう。その結果、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分では、液晶層５の層厚ｄが連続的に変化する結果、リターデーションΔｎ・ｄも連続的に変化してしまう。また、液晶層５に含まれる液晶分子は、第１の基板１０および第２の基板２０の最表層に形成した配向膜１２、２２によって初期の配向状態が規定されているが、斜面６０では、配向膜１２の配向規制力が斜めに作用するので、この部分では、図２５に模式的に示すように、液晶分子の配向の乱れ、いわゆるディスクリネーションが発生している。
【００１０】
このため、従来の液晶装置１では、例えば、ノーマリホワイトで設計した場合、電場を印加状態において全面黒表示となるはずであるが、斜面６０に相当する部分で光が漏れてしまい、コントラストが低下するなどといった表示不良が発生してしまう。例えば、図２６（Ａ）に、黒表示時において、反射表示領域３１から透過表示領域３２にかけての反射光強度の分布を各ラビング方向についてシュミレーションした結果を示すように、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域では、光の漏れが発生する。ここで、光の漏れが連続的に変化しているのはリターデーションΔｎ・ｄが不適合であることに起因し、光の漏れが急激なピークを示しているのは、液晶の配向不良に起因するものである。また、図２６（Ｂ）に、黒表示時において、反射表示領域３１から透過表示領域３２にかけての透過光強度の分布を各ラビング方向についてシュミレーションした結果を示すように、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域では、光の漏れが発生する。ここでも、光の漏れが連続的に変化しているのはリターデーションΔｎ・ｄが不適合であることに起因し、光の漏れが急激なピークを示しているのは、液晶の配向不良に起因するものであるが、透過光の場合には、反射光に比較して漏れの度合いが著しくレベルが低い。
【００１１】
以上の問題点に鑑みて、本発明では、１画素領域内で透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層の層厚を適正な値に変えたマルチギャップタイプの液晶装置、およびそれを用いた電子機器において、透過表示領域と反射表示領域との境界部分でリターデーションが不適正な状態、あるいは液晶分子の配向が乱れている状態にあっても、品位の高い表示を行うことのできる構成を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、第１の基板と第２の基板の間に液晶層を介在させて構成され、複数の隣接する画素領域を備える液晶装置であって、前記画素領域に設けられた光反射層により構成される反射表示領域と、前記画素領域の残りの領域により構成される透過表示領域と、前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする層厚調整層と、を有し、前記画素領域は矩形領域として形成されている一方、前記透過表示領域は、明視方向側に位置する辺が前記画素領域の辺に平面的に重なる矩形領域として形成され、かつ、前記画素領域と前記透過表示領域の辺同士が重なる側には、当該辺に対して平面的に重なるように遮光膜が形成されていることを特徴とする。
液晶装置では、透過表示領域の周りのうち、明視方向側に位置する辺において、光の漏れが視認されやすいが、本発明において、明視方向側に位置する辺は、画素領域の辺と重なっている。ここで、隣接する画素領域同士の境界領域には、ブラックマトリクスやブラックストライプと称せられる遮光膜、あるいは遮光性の配線が通っているので、透過表示領域の周りのうち、明視方向側に位置する辺側で漏れようとする光は、遮光膜で遮られて出射されない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。また、反射表示領域と透過表示領域との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができる。
【００１３】
かかる構成において、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域では、前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層の端部に形成されている斜面と平面的に重なる領域内に存在している構成、前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層の端部に形成されている斜面の上端縁と平面的に重なっている構成、または前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層の端部に形成されている斜面の下端縁と平面的に重なっている構成としてもよい。
本発明によれば、反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域のうち、光反射層と層厚調整層の端部に形成されている斜面とが平面的に重なっている部分では光が透過しないので、透過モードにおいて、前記斜面を透過して出射される光を低減させることができる。これにより、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、透過モードにおいて、このような領域を透過して出射される光を低減させることができる。
又、反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域のうち、光反射層と層厚調整層の端部に形成されている斜面とが平面的に重なっていない部分では光が反射しないので、反射モードにおいて、前記斜面を透過して出射される反射光を低減させることができる。これにより、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、反射モードにおいて、このような領域を透過して出射される光を低減させることができる。
よって、透過モードおよび反射モードのそれぞれにおいて、コントラストを向上させ、表示の品位を向上させることができる。また、反射表示領域と透過表示領域との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができる。
【００１４】
特に、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において、光反射層の端縁が、層厚調整層の端部に形成されている斜面の上端縁と平面的に重なっている構成とすれば、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において、層厚調整層の端部に形成されている斜面と平面的に重なる領域には、光反射層が形成されない。従って、反射表示領域と透過表示領域との境界領域（層厚調整層が端部で斜面となっている領域）からは光が反射してこない。それ故、反射表示領域と透過表示領域との境界領域においては、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、反射モードにおいて、このような領域で光が漏れるおそれがない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。また、反射表示領域と透過表示領域との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができる。
【００１５】
また、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において、光反射層の端縁が、層厚調整層の端部に形成されている斜面の下端縁と平面的に重なっている構成とすれば、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において、層厚調整層の端部に形成されている斜面には光反射層が平面的に重なっている。従って、反射表示領域と透過表示領域との境界領域（層厚調整層が端部で斜面となっている領域）からは光が透過してこない。それ故、反射表示領域と透過表示領域との境界領域においては、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、透過モードにおいて、このような領域で光が漏れるおそれがない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。また、反射表示領域と透過表示領域との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができる。
【００１８】
また、前記画素領域と前記透過表示領域とが重なっている辺に隣接して、隣の画素領域の反射表示領域が形成されていることが好ましい。
かかる構成によれば、透過表示領域の明視方向側の辺に隣接して、隣の反射表示領域が形成されているので、これら透過表示領域と隣の反射表示領域との境界領域（層厚調整層が端部で斜面となっている領域）で漏れようとする光は、遮光膜で遮られる。それ故、この透過表示領域と隣の反射表示領域との境界領域においては、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、ここを透過する光の一部または全部を遮光層で遮ることができるので、これによりコントラストを向上させ、表示品位を向上させることができる。また、反射表示領域と透過表示領域との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができる。
【００１９】
本発明において、前記反射表示領域に形成された反射表示用カラーフィルタと、前記透過表示領域に形成された、前記反射表示用カラーフィルタよりも着色度の強い透過表示用カラーフィルタを備えることが好ましい。
かかる構成によれば、反射モード時にカラーフィルターを２回透過して得られる光と、透過モード時にカラーフィルターを１回透過して得られる光との色の濃淡差を小さくすることができるので、視認性の高い表示を得ることができる。
【００２０】
特に、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域で、前記反射表示用カラーフィルタの端縁が、前記光反射層の端縁と平面的にほぼ重なっている構成とすれば、光反射層で反射された光を、確実に反射表示用カラーフィルタを透過させることができるので、視認性をより向上させることができる。
【００２１】
あるいは、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域には、前記反射表示用カラーフィルタを構成する層および／または前記透過表示用カラーフィルタを構成する層であって、色調の異なる２層以上が積層されたオーバーラップ部を設けてもよい。
かかる構成とすれば、２層以上の着色層を積層させてオーバーラップ部を形成することにより、このオーバーラップ部での光の吸収率を高くすることができる、このためオーバーラップ部を透過して出射される出射光量が減少し、オーバーラップ部は視覚的に暗く見える。それ故、透過表示領域と反射表示領域との境界領域において、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、ここから漏れる光は、その一部がオーバーラップ部で吸収されるので視覚的に目立たなくなる。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。
【００２２】
特に、前記オーバーラップ部では、前記反射表示用カラーフィルタの端部と前記透過表示用カラーフィルタの端部とが重なり合っている構成とすれば、比較的容易にオーバーラップ部を形成することができる。
また、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域では、前記層厚調整層の端部に斜面が形成されており、前記オーバーラップ部と平面的に重なる領域内に、前記斜面が存在していることが好ましい。
かかる構成とすれば、層厚調整層の厚さが連続的に変化している斜面部で、リターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、ここから光が漏れる光を、確実にオーバーラップ部を透させて視覚的に目立たなくすることができる。
【００２３】
本発明において、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域で、前記層厚調整層の端部に斜面が形成されている構成において、該斜面の平面的な幅が８μｍ以下であることが好ましい。
【００２４】
本発明において、前記液晶層では、例えば、液晶のツイスト角が９０°以下である。
【００２５】
本発明に係る半透過・反射型液晶装置は、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった電子機器の表示部として用いることができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いる各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００２７】
［実施の形態１］
図１（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。図２は、この液晶装置に形成した光反射層と層厚調整層の位置関係を示す説明図である。なお、本形態の液晶装置は、基本的な構成が従来の液晶装置と共通するので、共通する機能を有する部分には同一の符号を付して説明する。
【００２８】
図１（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示す画素領域は、後述するアクティブマトリクス型液晶装置のうち、画素スイッチング用の非線形素子として、ＴＦＤおよびＴＦＴのいずれを用いた場合にも共通する部分を抜き出して示してある。ここに示す液晶装置１は、ＩＴＯ膜などからなる第１の透明電極１１が表面に形成された石英やガラスなどの透明な第１の基板１０と、第１の電極１１と対向する面側に同じくＩＴＯ膜などからなる第２の透明電極２１が形成された石英やガラスなどの透明な第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間に保持されたＴＮモードの液晶からなる液晶層５０とを有しており、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する領域が表示に直接、寄与する画素領域３となっている。
【００２９】
また、第１の基板１０において、第１の透明電極１１の表面には配向膜１２が形成され、第２の基板２０において、第２の透明電極２１の表面には配向膜２２が形成されている。ここで、配向膜１２、２２は、ポリイミド膜などを塗布、焼成後、所定の方向にラビング処理を施してなるもので、このラビング処理によって、配向膜１２、２２は、液晶層５０を構成する液晶分子を９０°以下のツイスト角で配向させ、画素領域３の四辺のうち、図面における下側（６時方向）の位置が明視方向になっている。
【００３０】
液晶装置１において、画素領域３はマトリクス状に多数、形成されているが、これらの画素領域３同士の境界領域を平面的にみると、第２の基板２０に形成されているブラックマクスやブラックストライプと称せられる遮光膜９、あるいは第１の基板１０の側に形成された遮光性の配線（図示せず）が通っている。従って、画素領域３は、平面的には遮光膜９や遮光性の配線によって周りを囲まれた状態にある。
【００３１】
第１の基板１０には、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する矩形の画素領域３に反射表示領域３１を構成する矩形の光反射層４（図１（Ａ）に右下がりの斜線領域で示す）がアルミニウム膜や銀合金膜によって形成され、この光反射層４には矩形の開口４０が形成されている。このため、画素領域３において、光反射層４が形成されている領域は反射表示領域３１となっているが、開口４０に相当する領域は、光反射層４が形成されていない矩形の透過表示領域３２になっている。ここで、透過表示領域３２の四辺のうち、明視方向（６時側）に位置する辺３３は、画素領域の辺３４と重なっている。
また、透過表示領域３２の明視方向側に位置する辺３３に隣接して、隣の画素領域の反射表示領域３１ａが形成されている。
【００３２】
第１の基板１０および第２の基板２０の各々の外側の面には偏光板４１、４２が配置され、偏光板４１の側にはバックライト装置７が対向配置されている。
【００３３】
このように構成した液晶装置１において、バックライト装置７から出射された光のうち、透過表示領域３２に入射した光は、矢印Ｌ１で示すように、第１の基板１０の側から液晶層５０に入射し、そこで、光変調された後、第２の基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を表示する（透過モード）。
【００３４】
また、第２の基板２０の側から入射した外光のうち、反射表示領域３１に入射した光は、矢印Ｌ２で示すように、液晶層５０を通って反射層４に届き、この反射層４で反射されて再び、液晶層５０を通って第２の基板２０の側から反射表示光として出射されて画像を表示する（反射モード）。
【００３５】
ここで、第１の基板１０上には、反射表示領域３１および透過表示領域３２の各々に反射表示用カラーフィルタ８１および透過表示用カラーフィルタ８２が形成されているので、カラー表示が可能である。透過表示用カラーフィルタ８２としては、顔料が多量に配合されているなど、反射表示用カラーフィルタ８１よりも着色度が強いものが用いられている。ここで、反射表示用カラーフィルタ８１の端縁は、光反射層４の端縁と平面的に重なる位置にある。
【００３６】
このような半透過・反射型の液晶装置１において、透過表示光は、液晶層５０を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は、液晶層５０を２度、通過することになる。そこで、第１の基板１０において、第１の透明電極１１の下層側、かつ、光反射層４の上層側には、透過表示領域３２に相当する領域が開口６１となっている感光性樹脂層からなる層厚調整層６が形成されている。従って、透過表示領域３２では、反射表示領域３１と比較して、層厚調整層６の膜厚分だけ、液晶層５０の層厚ｄが大きいので、透過表示光および反射表示光の双方に対してリターデーションΔｎ・ｄを最適化できる。
【００３７】
この層厚調整層６を形成する際にはフォトリソグラフィ技術が用いられるが、その際の露光精度、あるいは現像の際のサイドエッチングなどが原因で、層厚調整層６は、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分が斜め上向きの斜面６０になっており、この斜面６０を平面的にみると８μｍの幅をもって形成されている状態にある。従って、透過表示領域３２との境界部分では、液晶層５０の層厚ｄが連続的に変化する結果、リターデーションΔｎ・ｄも連続的に変化している。また、液晶層５０に含まれる液晶分子は、第１の基板１０および第２の基板２０の最表層に形成した配向膜１２、２２によって初期の配向状態が規定されているが、斜面６０では、配向膜１２の配向規制力が斜めに作用するので、この部分では液晶分子の配向が乱れている。
【００３８】
このような不安定な状態にある境界領域は、表示の品位を低下させる原因となる。そこで、本形態では、反射モードでの表示品位の向上を目的として、図２に拡大して示すように、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域では、光反射層４の端縁４５が、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０の上端縁６５と平面的に重なっている。
【００３９】
このため、本形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域において、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０と平面的に重なる領域には、光反射層４が形成されていない。従って、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）からは光が反射してこない。なお、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）からは光が透過してくるが、図２６（Ｂ）を参照して説明したように、透過光での光の漏れのレベルは、反射光での光の漏れと比較して著しく低い。それ故、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域において、層厚調整層６の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、反射モードにおいて、このような領域で反射光が漏れてくるおそれがない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。また、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができる。
【００４０】
また、本形態では、透過表示領域３２の四辺のうち、明視方向（６時側）に位置する辺３３は、画素領域の辺３４と重なっており、この部分は遮光膜９と平面的に重なっている。このため、透過表示領域３２の周りのうち、明視方向側で光の漏れが発生しやすい傾向にあるが、ここから漏れようとする光は、遮光膜９で遮られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。
さらに、透過表示領域３２の明視方向側の辺３３に隣接して、隣の反射表示領域３１ａが形成されているので、この透過表示領域３２と隣の反射表示領域３１ａとの境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）で漏れようとする光は、遮光膜９で遮られる。したがって、層厚調整層６が斜面６０となっている領域でリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、ここから漏れる光は遮光層９で遮られるので、これによりコントラストを向上させ、表示の品位を向上させることができる。
【００４１】
また、透過表示用カラーフィルタ８２として、反射表示用カラーフィルタ８１よりも着色度が強いものが用いられているため、透過表示光がカラーフィルタを１度しか通過しない構成であっても、カラーフィルタを２度、通過する反射表示光と同等の着色を受けるので、品位の高いカラー表示を行うことができる。
【００４２】
このような構造の液晶装置１を製造する際、第１の基板１０は以下のようにして形成する。
【００４３】
まず、石英やガラスなどからなる第１の基板１０を準備した後、その全面にアルミニウムや銀合金などの反射性の金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を利用して、この金属膜をパターニングして光反射層４を形成する。
【００４４】
次に、フレキソ印刷法、フォトリグラフィ技術、あるいはインクジェット法を利用して、所定の領域に反射表示用カラーフィルタ８１、および透過表示用カラーフィルタ８２を形成する。
【００４５】
次に、スピンコート法を利用して、第１の基板１０の全面に感光性樹脂を塗布した後、露光、現像して層厚調整層６を形成する。
【００４６】
次に、第１の基板１０の全面にＩＴＯ膜などの透明導電膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を利用して、この透明導電膜をパターニングして第１の透明電極１１を形成する。
【００４７】
次に、スピンコート法を利用して、第１の基板１０の全面にポリイミド樹脂を塗布した後、焼成し、しかる後にラビング処理などの配向処理を施して配向膜１２を形成する。
【００４８】
このように形成した第１の基板１０については、別途、形成しておいた第２の基板２０と所定の間隔を介して貼り合わせ、しかる後に、基板間に液晶を注入して液晶層５０を形成する。
【００４９】
なお、液晶装置１では、第１の基板１０の側にＴＦＤやＴＦＴなどといった画素スイッチング用の非線形素子が形成される場合があるので、境界用遮光膜９、その他の層については、ＴＦＤやＴＦＴなどを形成する工程の一部を利用して形成してもよい。
【００５０】
［実施の形態２］
図３（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本形態の液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′断面図である。なお、本形態の液晶装置は、基本的な構成が実施の形態１と共通するので、共通する機能を有する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。また、製造方法も実施の形態１と同様であるので、その説明を省略する。
【００５１】
図３（Ａ）、（Ｂ）に示す画素領域も、実施の形態１と同様、後述するアクティブマトリクス型液晶装置のうち、画素スイッチング用の非線形素子として、ＴＦＤおよびＴＦＴのいずれを用いた場合にも共通する部分を抜き出して示してある。ここに示す液晶装置１も、第１の透明電極１１が表面に形成された透明な第１の基板１０と、第１の電極１１と対向する面側に第２の透明電極２１が形成された第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間に保持されたＴＮモードの液晶からなる液晶層５０とを有しており、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する領域が表示に直接、寄与する画素領域３となっている。
【００５２】
また、第１の基板１０において、第１の透明電極１１の表面には配向膜１２が形成され、第２の基板２０において、第２の透明電極２１の表面には配向膜２２が形成されている。ここで、配向膜１２、２２は、ポリイミド膜などを塗布、焼成後、所定の方向にラビング処理を施してなるもので、このラビング処理によって、配向膜１２、２２は、液晶層５０を構成する液晶分子を９０°以下のツイスト角で配向させ、画素領域３の四辺のうち、図面における下側（６時方向）の位置が明視方向になっている。
【００５３】
液晶装置１において、画素領域３はマトリクス状に多数、形成されているが、これらの画素領域３同士の境界領域を平面的にみると、第２の基板２０に形成されているブラックマクスやブラックストライプと称せられる遮光膜９、あるいは第１の基板１０の側に形成された遮光性の配線（図示せず）が通っている。従って、画素領域３は、平面的には遮光膜９や遮光性の配線によって周りを囲まれた状態にある。
【００５４】
第１の基板１０には、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する矩形の画素領域３に反射表示領域３１を構成する矩形の光反射層４（図３（Ａ）に右下がりの斜線領域で示す）がアルミニウム膜や銀合金膜によって形成され、この光反射層４には矩形の開口４０が形成されている。このため、画素領域３において、光反射層４が形成されている領域は反射表示領域３１となっているが、開口４０に相当する領域は、光反射層４が形成されていない矩形の透過表示領域３２になっている。ここで、透過表示領域３２の四辺のうち、明視方向（６時側）に位置する辺３３は、画素領域の辺３４と重なっている。また、透過表示領域３２の四辺のうち、明視方向（６時側）に位置する辺３３と隣接する辺３５、３６はそれぞれ、画素領域３の辺３７、３８と重なっている。
また、透過表示領域３２の明視方向側に位置する辺３３に隣接して、隣の画素領域の反射表示領域３１ａが形成されている。
【００５５】
第１の基板１０および第２の基板２０の各々の外側の面には偏光板４１、４２が配置され、偏光板４１の側にはバックライト装置７が対向配置されている。
【００５６】
このように構成した液晶装置１において、バックライト装置７から出射された光のうち、透過表示領域３２に入射した光は、矢印Ｌ１で示すように、第１の基板１０の側から液晶層５０に入射し、そこで、光変調された後、第２の基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を表示する（透過モード）。
【００５７】
また、第２の基板２０の側から入射した外光のうち、反射表示領域３１に入射した光は、矢印Ｌ２で示すように、液晶層５０を通って反射層４に届き、この反射層４で反射されて再び、液晶層５０を通って第２の基板２０の側から反射表示光として出射されて画像を表示する（反射モード）。
【００５８】
ここで、第１の基板１０上には、反射表示領域３１および透過表示領域３２の各々に反射表示用カラーフィルタ８１および透過表示用カラーフィルタ８２が形成されているので、カラー表示が可能である。透過表示用カラーフィルタ８２としては、顔料が多量に配合されているなど、反射表示用カラーフィルタ８１よりも着色度が強いものが用いられている。ここで、反射表示用カラーフィルタ８１の端縁は、光反射層４の端縁と平面的に重なる位置にある。
【００５９】
このような半透過・反射型の液晶装置１において、透過表示光は、液晶層５０を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は、液晶層５０を２度、通過することになる。そこで、第１の基板１０において、第１の透明電極１１の下層側、かつ、光反射層４の上層側には、透過表示領域３２に相当する領域が開口６１となっている感光性樹脂層からなる層厚調整層６が形成されている。従って、透過表示領域３２では、反射表示領域３１と比較して、層厚調整層６の膜厚分だけ、液晶層５０の層厚ｄが大きいので、透過表示光および反射表示光の双方に対してリターデーションΔｎ・ｄを最適化できる。
【００６０】
この層厚調整層６を形成する際にはフォトリソグラフィ技術が用いられるが、その際の露光精度、あるいは現像の際のサイドエッチングなどが原因で、層厚調整層６は、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分が斜め上向きの斜面６０になっており、この斜面６０を平面的にみると８μｍの幅をもって形成されている状態にある。従って、透過表示領域３２との境界部分では、液晶層５０の層厚ｄが連続的に変化する結果、リターデーションΔｎ・ｄも連続的に変化している。また、液晶層５０に含まれる液晶分子は、第１の基板１０および第２の基板２０の最表層に形成した配向膜１２、２２によって初期の配向状態が規定されているが、斜面６０では、配向膜１２の配向規制力が斜めに作用するので、この部分では液晶分子の配向が乱れている。
【００６１】
このような不安定な状態にある境界領域は、表示の品位を低下させる原因となる。そこで、本形態では、反射モードでの表示品位の向上を目的として、図２に拡大して示したように、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域では、光反射層４の端縁４５が、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０の上端縁６５と平面的に重なっている。
【００６２】
このため、本形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域において、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０と平面的に重なる領域には、光反射層４が形成されていない。従って、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）からは光が反射してこない。なお、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）からは光が透過してくるが、図２６（Ｂ）を参照して説明したように、透過光での光の漏れのレベルは、反射光での光の漏れと比較して著しく低い。それ故、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域において、層厚調整層６の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、反射モードにおいて、このような領域で反射光が漏れてくるおそれがない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。
また、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００６３】
また、本形態では、透過表示領域３２の四辺のうち、明視方向（６時側）に位置する辺３３は、画素領域の辺３４と重なっており、この部分は遮光膜９と平面的に重なっている。このため、透過表示領域３２の周りのうち、明視方向側で光の漏れが発生しやすい傾向にあるが、ここから漏れようとする光は、遮光膜９で遮られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。
【００６４】
さらに、透過表示領域３２の四辺のうち、辺３５、３６も、画素領域３の辺３７、３８と重なっており、この部分は遮光膜９と平面的に重なっている。このため、透過表示領域３２の辺３５、３６に相当する領域から漏れようとする光は、遮光膜９で遮られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。
さらに、透過表示領域３２の明視方向側の辺３３に隣接して、隣の反射表示領域３１ａが形成されているので、この透過表示領域３２と隣の反射表示領域３１ａとの境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）で漏れようとする光は、遮光膜９で遮られる。したがって、層厚調整層６が斜面６０となっている領域でリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、ここから漏れる光が光層９で遮られるので、これにより、コントラストを向上させ、表示の品位を向上させることができる。
【００６５】
［実施の形態３］
図４（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。図５は、この液晶装置に形成した光反射層と層厚調整層の位置関係を示す説明図である。
【００６６】
上記形態１、２はいずれも、反射光の漏れを防止する点に特徴を有しているのに対して、本形態および後述する実施の形態４は、いずれも透過光の漏れを防止する点に特徴を有し、その他の構成は共通している。従って、以下の説明では、共通する機能を有する部分については同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。
【００６７】
図４（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、および図５において、本形態では、透過モードでの表示品位の向上を目的として、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域では、光反射層４の端縁４５が、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０の下端縁６６と平面的に重なっている。また、反射表示用カラーフィルタ８１の端縁は、光反射層４の端縁と平面的に重なる位置にある。
【００６８】
このため、本形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域において、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０には光反射層４が平面的に重なっている。従って、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）からは光が透過してこない。
それ故、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域においては、層厚調整層６の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、透過モードにおいて、このような領域で光が漏れるおそれがない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。また、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができる。
【００６９】
また、本形態では、透過表示領域３２の四辺のうち、明視方向（６時側）に位置する辺３３は、画素領域の辺３４と重なっており、この部分は遮光膜９と平面的に重なっている。このため、透過表示領域３２の周りのうち、明視方向側で光の漏れが発生しやすい傾向にあるが、ここから漏れようとする光は、遮光膜９で遮られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。
さらに、透過表示領域３２の明視方向側の辺３３に隣接して、隣の反射表示領域３１ａが形成されているので、この透過表示領域３２と隣の反射表示領域３１ａとの境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）で漏れようとする光は、遮光膜９で遮られる。したがって、層厚調整層６が斜面６０となっている領域でリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、ここから漏れる光は遮光層９で遮られるので、これにより、コントラストを向上させ、表示の品位を向上させることができる。
【００７０】
［実施の形態４］
図６（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′断面図である。
【００７１】
図６（Ａ）、（Ｂ）および図５において、本形態でも、実施の形態３と同様、透過モードでの表示品位の向上を目的として、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域では、光反射層４の端縁４５が、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０の下端縁６６と平面的に重なっている。また、反射表示用カラーフィルタ８１の端縁は、光反射層４の端縁と平面的に重なる位置にある。
【００７２】
このため、本形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域において、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０には光反射層４が平面的に重なっている。従って、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）からは光が透過してこない。
それ故、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域においては、層厚調整層６の厚さが連続的に変化してリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、透過モードにおいて、このような領域で光が漏れるおそれがない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。また、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことができる。
【００７３】
また、本形態では、透過表示領域３２の四辺のうち、明視方向（６時側）に位置する辺３３は、画素領域３の辺３４と重なっており、この部分は遮光膜９と平面的に重なっている。このため、透過表示領域３２の周りのうち、明視方向側で光の漏れが発生しやすい傾向にあるが、ここから漏れようとする光は、遮光膜９で遮られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。
さらに、透過表示領域３２の明視方向側の辺３３に隣接して、隣の反射表示領域３１ａが形成されているので、この透過表示領域３２と隣の反射表示領域３１ａとの境界領域（層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域）で漏れようとする光は、遮光膜９で遮られる。したがって、層厚調整層６が斜面６０となっている領域でリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、ここから漏れる光が遮光層９で遮られるので、これにより、コントラストを向上させ、表示の品位を向上させることができる。
【００７４】
さらに、透過表示領域３２の四辺のうち、辺３５、３６も、画素領域３の辺３７、３８と重なっており、この部分は遮光膜９と平面的に重なっている。このため、透過表示領域３２の辺３５、３６に相当する領域から漏れようとする光は、遮光膜９で遮られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。
【００７５】
［実施の形態５］
図７は、図１に示した実施の形態１の変形例を示すもので、図７（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′断面図である。 なお、本形態の液晶装置において、実施の形態１と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【００７６】
本形態が、前記実施の形態１と大きく異なる点は、透過表示領域３２と隣の反射表示領域３１ａとの境界領域において、反射表示用カラーフィルタ８１と透過表示用カラーフィルタ８２との間に遮光膜９ａが設けられている点である。この遮光膜９ａと透過表示用カラーフィルタ８２との境界は、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０の下端縁６６と平面的にほぼ重なっており、遮光膜９ａと反射表示用カラーフィルタ８１との境界および光反射層４と遮光膜９ａとの境界は、斜面６０の上端縁６５と平面的にほぼ重なっている。
遮光膜９ａは、例えばカーボンブラックを含有させたアクリル系樹脂を用いて構成され、スピンコーターで塗布後、パターニングを行うことによって形成することができる。
【００７７】
かかる構成によれば、前記実施の形態１と同様の作用効果が得られるほか、特に透過表示領域３２と隣の反射表示領域３１ａとの境界領域において、反射表示用カラーフィルタ８１と透過表示用カラーフィルタ８２との間に遮光膜９ａが設けられており、層厚調整層６が端部で斜面６０となっている領域が、遮光層９ａと平面的に重なっているので、この境界領域から光が漏れるおそれがない。またこの境界領域は、元々隣接する画素領域同士の境界でもあり、遮光性の膜や配線が形成される領域であるので、反射表示用カラーフィルタ８と透過表示用カラーフィルタ８２との間に遮光膜９ａを設けることによる表示光量の減少量が少なくて済む。したがって、層厚調整層６の斜面６０から漏れる光を効果的に遮光して、コントラストの向上および表示品位の向上を図ることができる。
【００７８】
なお、ここでは説明を省略するが、前記実施の形態２においても同様に、透過表示領域３２と隣の反射表示領域３１ａとの境界領域において、反射表示用カラーフィルタ８１と透過表示用カラーフィルタ８２との間に、本形態と同様の遮光膜９ａを設けてもよい。
【００７９】
［実施の形態６］
図８は、本形態の液晶装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図である。本形態が前記実施の形態１と大きく異なる点は、層厚調整層６の端部に斜面６０が形成されている領域において、反射表示用カラーフィルタ８１ａの端部と透過表示用カラーフィルタ８２ａの端部とが重なり合ってオーバーラップ部８３が形成されている点である。なお、本形態の液晶装置において、実施の形態１と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【００８０】
本形態において、第１の基板１０上にはアルミニウム膜や銀合金膜等からなる光反射層４が形成され、この光反射層４には矩形の開口４０が形成されている。このため、画素領域において、光反射層４が形成されている領域は反射表示領域３１となっているが、開口４０に相当する領域は、光反射層４が形成されていない矩形の透過表示領域３２になっている。光反射層４の端縁は層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０の上端縁６５と平面的にほぼ重なっている。
【００８１】
また、光反射層４上には反射表示用カラーフィルタ８１ａが形成されており、この反射表示用カラーフィルタ８１ａの端縁は、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０の下端縁６６とほぼ平面的に重なっている。
一方、光反射層４の開口４０内においては、第１の基板１０上に透過表示用カラーフィルタ８２ａが形成されている。この透過表示用カラーフィルタ８２ａの端縁は、層厚調整層６の端部に形成されている斜面６０の上端縁６５とほぼ平面的に重なっており、層厚調整層６の端部に斜面６０が形成されている領域においては、反射表示用カラーフィルタ８１ａの端部上に透過表示用カラーフィルタ８２ａの端部が積層されたオーバーラップ部８３が形成されている。透過表示用カラーフィルタ８２ａの上面はオーバーラップ部８３で若干盛り上がっており、オーバーラップ部８３における反射表示用カラーフィルタ８１ａと透過表示用カラーフィルタ８２ａの合計の膜厚は、他の部分での反射表示用カラーフィルタ８１ａの膜厚および透過表示用カラーフィルタ８２ａの膜厚のいずれよりも厚くなっている。
【００８２】
かかる構成を有する下基板は、例えば以下のようにして形成することができる。
まず、前記実施の形態１と同様にして、第１の基板１０の全面に反射性の金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を利用して、この金属膜をパターニングして光反射層４を形成する。
【００８３】
次に、フレキソ印刷法やインクジェット法等を利用して、第１の基板１０の全面上に反射表示用カラーフィルタ８１ａを形成した後、フォトリグラフィ技術を用いて不要部分（透過表示領域３２のうちのオーバーラップ部８３を除く部分）を除去する。
次いで、フレキソ印刷法、インクジェット法、フォトリグラフィ技術等を用いて透過表示領域３２に透過表示用カラーフィルタ８２ａを形成する。
【００８４】
次に、スピンコート法を利用して、第１の基板１０の全面に感光性樹脂を塗布した後、露光、現像して層厚調整層６を形成する。
【００８５】
この後、前記実施の形態１と同様にして、第１の透明電極１１および配向膜１２（いずれも図示略）を形成する。
【００８６】
本形態によれば、層厚調整層６の端部に斜面６０が形成されている領域と平面的に重なるようにオーバーラップ部８３が形成されており、この領域には光反射層４は形成されていない。したがって、斜面６０が形成されている領域においては、バックライトからの光がオーバーラップ部８３を透過した後に液晶層を通って出射されるので、視覚的に目立たなくなる。これにより斜面６０で形成されている領域で生じる表示不良を目立たなくして、コントラストの向上、表示品位の向上を図ることができる。また、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域に、表示に寄与しないオーバーラップ部８３が設けられているので、製造工程で生じる誤差による表示不良が生じ難い。
【００８７】
［実施の形態７］
図９は、本形態の液晶装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図である。本形態が前記実施の形態６と大きく異なる点は、光反射層４の端縁４５が、層厚調整層６の斜面６０の下端縁６６と平面的に重なっている点である。なお、本形態の液晶装置において、実施の形態６と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【００８８】
本形態の液晶装置における下基板は、前記実施の形態６の下基板の製造において、光反射層４を、その端縁４５が層厚調整層６の斜面６０の下端縁６６と平面的に重なるように形成するほかは、同様の手順で製造することができる。
【００８９】
本形態によれば、層厚調整層６の端部に斜面６０が形成されている領域と平面的に重なるように、オーバーラップ部８３が形成されており、さらにこの領域には光反射層４が形成されている。したがって、斜面６０が形成されている領域においては、光反射層４で反射した光がオーバーラップ部８３を透過した後に液晶層を通って出射されるので、視覚的に目立たなくなる。これにより斜面６０が形成されている領域で生じる表示不良を目立たなくして、コントラストの向上、表示品位の向上を図ることができる。また、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域に、表示に寄与しないオーバーラップ部８３が設けられているので、製造工程で生じる誤差による表示不良が生じ難い。
【００９０】
［実施の形態８］
図１０は、本形態の液晶装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図である。本形態が前記実施の形態６と大きく異なる点は、光反射層４の端縁４５が、平面的に、層厚調整層６の斜面６０の上端縁６５と下端縁６６との間に位置している点である。また、本形態では、反射表示用カラーフィルタ８１ａの端縁が、斜面６０の下端縁６６よりも、若干、開口部４０の内側方向に位置しており、透過表示用カラーフィルタ８１ａの端縁が、斜面６０の上端縁６５よりも、若干、開口部４０の外側方向に位置している。なお、本形態の液晶装置において、実施の形態６と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【００９１】
本形態の液晶装置における下基板は、前記実施の形態６の下基板の製造において、光反射層４を、その端縁４５が、平面的に層厚調整層６の斜面６０の上端縁６５と下端縁６６との間に位置するように形成するとともに、反射表示用カラーフィルタ８１ａおよび透過表示用カラーフィルタ８２ａの端縁の位置を若干変更するほかは、同様の手順で製造することができる。
【００９２】
本形態によれば、層厚調整層６の端部に斜面６０が形成されている領域と平面的に重なるように、オーバーラップ部８３が形成されており、この領域内には外周部にのみ光反射層４が形成されている。したがって、斜面６０が形成されている領域においては、光反射層４で反射した光およびバックライトからの光がオーバーラップ部８３を透過した後に液晶層を通って出射されるので、視覚的に目立たなくなる。これにより斜面６０が形成されている領域で生じる表示不良を目立たなくして、コントラストの向上、表示品位の向上を図ることができる。
また、本形態ではオーバーラップ部８３の幅が、斜面６０の平面的な幅よりも大きく、平面視したときに斜面６０が完全にオーバーラップ部８３に含まれているので、オーバーラップ部８３を透過しない光が斜面６０を透過して出射されるのを確実に防止することができる。
【００９３】
［実施の形態９］
図１１は、本形態の液晶装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図である。本形態が前記実施の形態６と大きく異なる点は、オーバーラップ部８３が、反射表示用カラーフィルタ８１ａ、および３層の色調の異なる透過表示用カラーフィルタ８２Ｒ、８２Ｇ、８２Ｂの４層を積層して形成されている点である。また、本形態では、反射表示用カラーフィルタ８１ａの端縁が、斜面６０の下端縁６６よりも、若干、開口部４０の内側方向に位置しており、上から２層の透過表示用カラーフィルタ８２Ｇ、８２Ｂ端縁が、斜面６０の上端縁６５よりも、若干、開口部４０の外側方向に位置している。なお、本形態の液晶装置において、実施の形態６と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【００９４】
本形態の液晶装置における下基板は、次のようにして製造することができる。まず、前記実施の形態１と同様にして、第１の基板１０の全面に反射性の金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を利用して、この金属膜をパターニングして光反射層４を形成する。
【００９５】
次に、フレキソ印刷法やインクジェット法等を利用して、第１の基板１０の全面上に反射表示用カラーフィルタ８１ａを形成した後、フォトリグラフィ技術を用いて透過表示領域３２内の不要部分を除去する。
【００９６】
次いで、フレキソ印刷法、インクジェット法、フォトリグラフィ技術等を用いて透過表示領域３２に透過表示用カラーフィルタ８２Ｒを形成する。このとき、各透過表示領域３２には、まず赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色調の層（図の例では赤の透過表示用カラーフィルタ８２Ｒ）を所定の配列パターンとなるように形成した後、オーバーラップ部８３に、該透過表示領域３２に形成されていない２色の層（図の例では緑の透過表示用カラーフィルタ８２Ｇおよび青の透過表示用カラーフィルタ８２Ｂ）を順に積層させる。
【００９７】
次に、スピンコート法を利用して、第１の基板１０の全面に感光性樹脂を塗布した後、露光、現像して層厚調整層６を形成する。
この後、前記実施の形態１と同様にして、第１の透明電極１１および配向膜１２（いずれも図示略）を形成する。
【００９８】
本形態によれば、特にオーバーラップ部８３に、反射表示用カラーフィルタ８１ａ、および３層の色調の異なる透過表示用カラーフィルタ８２Ｒ、８２Ｇ、８２Ｂの、色調の異なる４層が積層されているので、このオーバーラップ部８３がブラックマトリクスとしての役割を果たす。したがって、層厚調整層６の端部に斜面６０が形成されている領域においては、バックライトからの透過光の大部分がオーバーラップ部８３で吸収されるので、視覚的にはこの領域はほぼ黒表示となる。よって、斜面６０が形成されていることに起因して生じる表示不良を目立たなくして、コントラストの向上、表示品位の向上を図ることができる。
また、本形態ではオーバーラップ部８３の幅が、斜面６０の平面的な幅ｗよりも大きく、平面視したときに斜面６０が完全にオーバーラップ部８３に含まれているので、オーバーラップ部８３を透過しない光が斜面６０を透過して出射されるのを確実に防止することができる。
【００９９】
［実施の形態１０］
次に、実施の形態１ないし９に係る構成が採用されるＴＦＤアクティブマトリクス型液晶装置の構成を説明する。
【０１００】
図１２は、液晶装置の電気的構成を模式的に示すブロック図である。図１３は、この液晶装置の構造を示す分解斜視図である。図１４は、液晶装置において液晶を挟持する１対の基板のうち、素子基板における１画素分の平面図である。図１５（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１４のIII−III′線断面図、および各画素に形成されているＴＦＤ素子の斜視図である。
【０１０１】
図１２に示す液晶装置１００では、複数の配線としての走査線１５１が行方向（Ｘ方向）に形成され、複数のデータ線１５２が列方向（Ｙ方向）に形成されている。走査線１５１とデータ線１５２との各交差点に対応する位置には画素１５３が形成され、この画素１５３では、液晶層１５４と、画素スイッチング用のＴＦＤ素子１５６（非線形素子）とが直列に接続されている。各走査線１５１は走査線駆動回路１５７によって駆動され、各データ線１５２はデータ線駆動回路１５８によって駆動される。
【０１０２】
このような構成のアクティブマトリクス方式の液晶装置１００は、図１３に示すように、液晶１０６を保持する透明な一対の基板のうち、素子基板１２０では、複数本の走査線１５１が延びており、各走査線１５１には、ＴＦＤ素子１５６を介して、画素電極１６６が電気的に接続している。これに対して、対向基板１１０には、素子基板１２０の走査線１５１と交差する方向に延びた複数列の帯状のデータ線１５２がＩＴＯ膜によって形成され、各データ線１５２の間にはブラックストライプと称せられる遮光膜１５９が形成されている。従って、画素電極１６６の周りは、平面的には、遮光膜１５９および走査線１５１で囲まれた状態にある。
【０１０３】
なお、液晶１０６として通常のＴＮモードの液晶１０６が用いられ、この種の液晶１０６は、光の偏光方向を変えることにより光変調を行うので、対向基板１１０および素子基板１２０の各外側表面には偏光板１０８、１０９が重ねて配置される。また、偏光板１０８の側にはバックライト装置１０３が対向配置される。
【０１０４】
なお、ここに示す例では、素子基板１２０に走査線１５１を形成し、対向基板１０にデータ線１５２を形成したが、素子基板１２０にデータ線を形成し、対向基板１１０に走査線を形成してもよい。
【０１０５】
ＴＦＤ素子１５６は、例えば、図１４および図１５（Ａ）、（Ｂ）に示すように、素子基板１２０の表面に成膜された下地層１６１の上に形成された第１のＴＦＤ素子１５６ａ、および第２のＴＦＤ素子１５６ｂからなる２つのＴＦＤ素子要素によって、いわゆるＢａｃｋ−ｔｏ−Ｂａｃｋ構造として構成されている。このため、ＴＦＤ素子１５６は、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されている。下地層１６１は、例えば、厚さが５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度の酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）によって構成されている。
【０１０６】
第１のＴＦＤ素子１５６ａ、および第２のＴＦＤ素子１５６ｂは、第１の金属膜１６２と、この第１の金属膜１６２の表面に形成された絶縁膜１６３と、絶縁膜１６３の表面に互いに離間して形成された第２の金属膜１６４ａ、１６４ｂとによって構成されている。第１の金属膜１６２は、例えば、厚さが１００ｎｍ〜５００ｎｍ程度のＴａ単体膜、あるいはＴａ−Ｗ（タングステン）合金膜などのＴａ合金膜によって形成され、絶縁膜１６３は、例えば、陽極酸化法によって第１の金属膜１６２の表面を酸化することによって形成された厚さが１０ｎｍ〜３５ｎｍの酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）である。
【０１０７】
第２の金属膜１６４ａ、１６４ｂは、クロム（Ｃｒ）等といった遮光性の金属膜によって５０ｎｍ〜３００ｎｍ程度の厚さに形成されている。第２の金属膜１６４ａは、そのまま走査線１５１となり、他方の第２の金属膜１６４ｂは、ＩＴＯなどからなる画素電極１６６に接続されている。
【０１０８】
このように構成した液晶装置１００において、画素電極１６６とデータ線１５２とが対向している領域が実施の形態１ないし９で説明した画素領域３となる。
従って、素子基板１２０、対向基板１１０、画素電極１６６、データ線１５２、および遮光膜１５９はそれぞれ、実施の形態１ないし９における第１の基板１０、第２の基板２０、第１の電極１１、第２の電極２１、および遮光膜９に相当し、画素電極１６６の下層側に、図１ないし図１１を参照して説明した光反射膜４、反射表示用カラーフィルタ８１（８１ａ）、透過表示用カラーフィルタ８２（８２ａ、８２Ｒ、８２Ｇ、８２Ｂ）および層厚調整層６が形成されることになる。
【０１０９】
［実施の形態１１］
次に、実施の形態１ないし９に係る構成が採用されるＴＦＴアクティブマトリクス型液晶装置の構成を説明する。
【０１１０】
図１６は、ＴＦＴアクティブマトリクス型液晶装置を各構成要素とともに対向基板の側から見た平面図であり、図１７は、図１６のＨ−Ｈ′断面図である。図１８は、液晶装置の画像表示領域においてマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【０１１１】
図１６および図１７において、本形態の液晶装置２００は、ＴＦＴアレイ基板２１０と対向基板２２０とがシール材２５２によって貼り合わされ、このシール材２５２によって区画された領域（液晶封入領域）内には、電気光学物質としての液晶２５０が挟持されている。ＴＦＴアレイ基板２１０および対向基板２２０の各々には偏光板２８８、２８９が配置され、偏光板２８８の側に対してはバックライト装置２９０が対向配置されている。
【０１１２】
シール材２５２の形成領域の内側領域には、遮光性材料からなる周辺見切り２５３が形成されている。シール材２５２の外側の領域には、データ線駆動回路３０１、および実装端子３０２がＴＦＴアレイ基板２１０の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路３０４が形成されている。ＴＦＴアレイ基板２１０の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路３０４の間をつなぐための複数の配線３０５が設けられており、更に、周辺見切り２５３の下などを利用して、プリチャージ回路や検査回路が設けられることもある。また、対向基板２２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、ＴＦＴアレイ基板２１０と対向基板２２０との間で電気的導通をとるための基板間導通材３０６が形成されている。
【０１１３】
なお、データ線駆動回路３０１および走査線駆動回路３０４をＴＦＴアレイ基板２１０の上に形成する代わりに、たとえば、駆動用ＬＳＩが実装されたＴＡＢ（テープ  オートメイテッド、ボンディング）基板をＴＦＴアレイ基板２１０の周辺部に形成された端子群に対して異方性導電膜を介して電気的および機械的に接続するようにしてもよい。なお、本形態の液晶装置２００でも、液晶５０はＴＮモードで使用されている。
【０１１４】
このような構造を有する液晶装置２００の画像表示領域においては、図１８に示すように、複数の画素２００ａがマトリクス状に構成されているとともに、これらの画素２００ａの各々には、画素電極２０９ａ、およびこの画素電極２０９ａを駆動するための画素スイッチング用のＴＦＴ２３０が形成されており、画素信号Ｓ１、Ｓ２・・・Ｓｎを供給するデータ線２０６ａが当該ＴＦＴ２３０のソースに電気的に接続されている。データ線２０６ａに書き込む画素信号Ｓ１、Ｓ２・・・Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線２０６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。また、ＴＦＴ２３０のゲートには走査線２０３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線２０３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２・・・Ｇｍをこの順に線順次で印加するように構成されている。画素電極２０９ａは、ＴＦＴ２３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ２３０を一定期間だけそのオン状態とすることにより、データ線２０６ａから供給される画素信号Ｓ１、Ｓ２・・・Ｓｎを各画素に所定のタイミングで書き込む。このようにして画素電極２０９ａを介して液晶に書き込まれた所定レベルの画素信号Ｓ１、Ｓ２、・・・Ｓｎは、図１７に示す対向基板２２０の対向電極２２１との間で一定期間保持される。
【０１１５】
ここで、液晶２５０は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホワイトモードであれば、印加された電圧に応じて入射光がこの液晶２５０の部分を通過する光量が低下し、ノーマリーブラックモードであれば、印加された電圧に応じて入射光がこの液晶２５０の部分を通過する光量が増大していく。その結果、全体として液晶装置２００からは画素信号Ｓ１、Ｓ２、・・・Ｓｎに応じたコントラストを持つ光が出射される。
【０１１６】
なお、保持された画素信号Ｓ１、Ｓ２、・・・Ｓｎがリークするのを防ぐために、画素電極２０９ａと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量２６０を付加することがある。例えば、画素電極２０９ａの電圧は、ソース電圧が印加された時間よりも３桁も長い時間だけ蓄積容量２６０により保持される。
これにより、電荷の保持特性は改善され、コントラスト比の高い液晶装置２００が実現できる。なお、蓄積容量２６０を形成する方法としては、図１８に例示するように、蓄積容量２６０を形成するための配線である容量線２０３ｂとの間に形成する場合、あるいは前段の走査線２０３ａとの間に形成する場合もいずれであってもよい。
【０１１７】
図１９は、本形態の液晶装置に用いたＴＦＴアレイ基板の相隣接する複数の画素群の平面図である。図２０は、本形態の液晶装置の画素の一部を図１９のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図である。
【０１１８】
図１９において、ＴＦＴアレイ基板２１０上には、複数の透明なＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜からなる画素電極２０９ａがマトリクス状に形成されており、これら各画素電極２０９ａに対して画素スイッチング用のＴＦＴ２３０がそれぞれ接続している。また、画素電極２０９ａの縦横の境界に沿って、データ線２０６ａ、走査線２０３ａ、および容量線２０３ｂが形成され、ＴＦＴ２３０は、データ線２０６ａおよび走査線２０３ａに対して接続している。
すなわち、データ線２０６ａは、コンタクトホールを介してＴＦＴ２３０の高濃度ソース領域２０１ｄに電気的に接続し、画素電極２０９ａは、コンタクトホールを介してＴＦＴ２０３の高濃度ドレイン領域２０１ｅに電気的に接続している。また、ＴＦＴ２３０のチャネル領域２０１ａ′に対向するように走査線２０３ａが延びている。なお、蓄積容量２６０は、画素スイッチング用のＴＦＴ２３０を形成するための半導体膜２０１の延設部分２０１ｆを導電化したものを下電極とし、この下電極２４１に、走査線２０３ｂと同層の容量線２０３ｂが上電極として重なった構造になっている。
【０１１９】
このように構成した液晶装置２００において、ＴＦＴアレイ基板２１０の表面には、厚さが５０ｎｍ〜１００ｎｍの島状の半導体膜２０１ａが形成されている。半導体膜２０１ａの表面には、厚さが約５０〜１５０ｎｍのシリコン酸化膜からなるゲート絶縁膜２０２が形成され、このゲート絶縁膜２０２の表面に、厚さが３００ｎｍ〜８００ｎｍの走査線２０３ａがゲート電極として通っている。半導体膜２０１ａのうち、走査線２０３ａに対してゲート絶縁膜２０２を介して対峙する領域がチャネル領域２０１ａ′になっている。このチャネル領域２０１ａ′に対して一方側には、低濃度ソース領域２０１ｂおよび高濃度ソース領域２０１ｄを備えるソース領域が形成され、他方側には低濃度ドレイン領域２０１ｃおよび高濃度ドレイン領域２０１ｅを備えるドレイン領域が形成されている。
【０１２０】
画素スイッチング用のＴＦＴ２３０の表面側には、厚さが３００ｎｍ〜８００ｎｍのシリコン酸化膜からなる第１層間絶縁膜２０４、および厚さが１００ｎｍ〜３００ｎｍのシリコン窒化膜からなる第２層間絶縁膜２０５が形成されている。第１層間絶縁膜２０４の表面には、厚さが３００ｎｍ〜８００ｎｍのデータ線２０６ａが形成され、このデータ線２０６ａは、第１層間絶縁膜２０４に形成されたコンタクトホールを介して高濃度ソース領域２０１ｄに電気的に接続している。
【０１２１】
第２層間絶縁膜２０５の上層には、ＩＴＯ膜からなる画素電極２０９ａが形成されている。画素電極２０９ａは、第２層間絶縁膜２０５に形成されたコンタクトホールなどを介してドレイン電極２０６ｂに電気的に接続している。画素電極２０９ａの表面側にはポリイミド膜からなる配向膜２１２が形成されている。この配向膜２１２は、ポリイミド膜に対してラビング処理が施された膜である。
【０１２２】
また、高濃度ドレイン領域２０１ｅからの延設部分２０１ｆ（下電極）に対しては、ゲート絶縁膜２０２と同時形成された絶縁膜（誘電体膜）を介して、走査線２０３ａと同層の容量線２０３ｂが上電極として対向することにより、蓄積容量２６０が構成されている。
【０１２３】
なお、ＴＦＴ２３０は、好ましくは上述のようにＬＤＤ構造をもつが、低濃度ソース領域２０１ｂ、および低濃度ドレイン領域２０１ｃに相当する領域に不純物イオンの打ち込みを行わないオフセット構造を有していてもよい。また、ＴＦＴ２３０は、ゲート電極（走査線２０３ａの一部）をマスクとして高濃度で不純物イオンを打ち込み、自己整合的に高濃度のソースおよびドレイン領域を形成したセルフアライン型のＴＦＴであってもよい。
【０１２４】
また、本形態では、ＴＦＴ２３０のゲート電極（走査線２０３ａ）をソース−ドレイン領域の間に１個のみ配置したシングルゲート構造としたが、これらの間に２個以上のゲート電極を配置してもよい。この際、各々のゲート電極には同一の信号が印加されるようにする。このようにデュアルゲート（ダブルゲート）、あるいはトリプルゲート以上でＴＦＴ２３０を構成すれば、チャネルとソース−ドレイン領域の接合部でのリーク電流を防止でき、オフ時の電流を低減することが出来る。これらのゲート電極の少なくとも１個をＬＤＤ構造或いはオフセット構造にすれば、さらにオフ電流を低減でき、安定したスイッチング素子を得ることができる。
【０１２５】
図２０において、対向基板２２０では、ＴＦＴアレイ基板２１０に形成されている画素電極２０９ａの縦横の境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜２２３が形成され、その上層側には、ＩＴＯ膜からなる対向電極２２１が形成されている。また、対向電極２２１の上層側には、ポリイミド膜からなる配向膜２２２が形成され、この配向膜２２２は、ポリイミド膜に対してラビング処理が施された膜である。
【０１２６】
このように構成した液晶装置２００において、画素電極２０９ａと対向電極２２１とが対向している領域が実施の形態１ないし９で説明した画素領域３となる。従って、ＴＦＴアレイ基板２１０、対向基板２２０、画素電極２０９ａ、対向電極２２１、および遮光膜２２３はそれぞれ、実施の形態１ないし９における第１の基板１０、第２の基板２０、第１の電極１１、第２の電極２１、および遮光膜９に相当し、画素電極２０９ａの下層側には、図１ないし図１１を参照して説明した反射膜４、反射表示用カラーフィルタ８１（８１ａ）、透過表示用カラーフィルタ８２（８２ａ、８２Ｒ、８２Ｇ、８２Ｂ）および層厚調整層６が形成されることになる。
【０１２７】
［液晶装置の電子機器への適用］
このように構成した反射型、あるいは半透過・反射型の液晶装置は、各種の電子機器の表示部として用いることができるが、その一例を、図２１、図２２、および図２３を参照して説明する。
【０１２８】
図２１は、本発明に係る液晶装置を表示装置として用いた電子機器の回路構成を示すブロック図である。
【０１２９】
図２１において、電子機器は、表示情報出力源５７０、表示情報処理回路５７１、電源回路５７２、タイミングジェネレータ５７３、そして液晶装置５７４を有する。また、液晶装置５７４は、液晶表示パネル５７５および駆動回路５７６を有する。液晶装置５７４としては、本発明を適用した液晶装置１、１００、２００を用いることができる。
【０１３０】
表示情報出力源５７０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ５７３によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路５７１に供給する。
【０１３１】
表示情報処理回路５７１は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路５７６へ供給する。電源回路５７２は、各構成要素に所定の電圧を供給する。
【０１３２】
図２２は、本発明に係る電子機器の一実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すパーソナルコンピュータ５８０は、キーボード５８１を備えた本体部５８２と、液晶表示ユニット５８３とを有する。液晶表示ユニット５８３は、本発明を適用した液晶装置１、１００、２００を含んで構成される。
【０１３３】
図２３は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機５９０は、複数の操作ボタン５９１と、本発明を適用した液晶装置１、１００、２００からなる表示部とを有している。
【０１３４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、１画素領域内で透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層の層厚を適正な値に変えたマルチギャップタイプの液晶装置、およびそれを用いた電子機器において、反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域のうち、光反射層と層厚調整層の端部に形成されている斜面とが平面的に重なっている部分では光が透過しないので、透過モードにおいて、前記斜面を透過して出射される光を低減させることができる。これにより、透過表示領域と反射表示領域との境界部分でリターデーションが不適正な状態、あるいは液晶分子の配向が乱れている状態にあっても、品位の高い表示を行うことのできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、本発明の実施の形態１に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。
【図２】 図１に示す液晶装置に形成されている光反射膜と層厚調整層の位置関係を示す説明図である。
【図３】 （Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態２に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′断面図である。
【図４】 （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、本発明の実施の形態３に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。
【図５】 図４に示す液晶装置に形成されている光反射膜と層厚調整層の位置関係を示す説明図である。
【図６】 （Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態４に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′断面図である。
【図７】 （Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態５に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′断面図である。
【図８】本発明の実施の形態６に係る液晶装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図である。
【図９】本発明の実施の形態７に係る液晶装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図である。
【図１０】本発明の実施の形態８に係る液晶装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図である。
【図１１】本発明の実施の形態９に係る液晶装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図である。
【図１２】 本発明に係る半透過・反射型のＴＦＤアクティブマトリクス型液晶装置の電気的構成を模式的に示すブロック図である。
【図１３】 図１２に示す液晶装置の構造を示す分解斜視図である。
【図１４】 図１３に示す液晶装置において液晶を挟持する１対の基板のうち、素子基板における１画素分の平面図である。
【図１５】 （Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１４のIII−III′線断面図、および図１４に示すＴＦＤ素子の斜視図である。
【図１６】 本発明に係る半透過・反射型のＴＦＴアクティブマトリクス型液晶装置を対向基板の側からみたときの平面図である。
【図１７】 図１６のＨ−Ｈ′線における断面図である。
【図１８】 図１６に示す液晶装置において、マトリクス状に配置された複数の画素に形成された各種素子、配線などの等価回路図である。
【図１９】 図１６に示す液晶装置において、ＴＦＴアレイ基板に形成された各画素の構成を示す平面図である。
【図２０】 図１６に示す液晶装置の画素の一部を図１９のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図である。
【図２１】 本発明に係る液晶装置を表示装置として用いた電子機器の回路構成を示すブロック図である。
【図２２】 本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一実施形態としてのモバイル型のパーソナルコンピュータを示す説明図である。
【図２３】 本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一実施形態としての携帯電話機の説明図である。
【図２４】 （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、従来の半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。
【図２５】 従来の半透過・反射型の液晶装置において、層厚調整層の斜面で発生する液晶分子の配向異常を示す説明図である。
【図２６】 （Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、従来の半透過・反射型の液晶装置で黒表示を行った時、反射表示領域から透過表示領域にかけての反射光強度の分布を各ラビング方向についてシュミレーションした結果を示す説明図、および従来の半透過・反射型の液晶装置で黒表示を行った時、反射表示領域から透過表示領域にかけての透過光強度の分布を各ラビング方向についてシュミレーションした結果を示す説明図である。
【符号の説明】
１、１００、２００  液晶装置
３  画素領域
５、５０  液晶層
６  層厚調整層
７  バックライト装置
９  境界用遮光膜
１０  第１の基板
１１  第１の透明電極
２０  第２の基板
２１  第２の透明電極
３１  反射表示領域
３２  透過表示領域
４０  光反射層の開口
４１、４２  偏光板
４５  光反射層の端縁
６０  層厚調整層の斜面
６１  層厚調整層の開口
６５  層厚調整層の斜面の上端縁
６６  層厚調整層の斜面の下端縁
８１、８１ａ  反射表示用カラーフィルタ
８２、８２ａ、８２Ｒ、８２Ｇ、８２Ｂ  透過表示用カラーフィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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