(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光を被測定試料に照射し、被測定試料によって反射した反射光の分光光強度を測定することにより被測定試料に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、
紫外域またはそれよりも短波長の照明光を連続的に射出する光源と、
前記光源からの照明光を被測定試料に導光可能な照明光学系と、
前記被測定試料から反射した反射光を受光してその分光光強度を検出する光検出手段と、
前記光検出手段により検出された分光光強度に基づき前記薄膜の膜厚を演算するデータ処理部と、
前記光源と前記照明光学系との間に配置されたシャッター機構と、
前記シャッター機構を制御し、前記膜厚を測定する時に照明光の前記照明光学系への入射を許可する一方、前記膜厚の測定を行わない時には前記光源からの照明光の前記照明光学系への入射を禁止するシャッター制御手段と
を備えたことを特徴とする膜厚測定装置。
【請求項２】
照明光を被測定試料に照射し、被測定試料によって反射した反射光の分光光強度を測定することにより被測定試料に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、
可視光域の照明光を照射可能な第１の光源と、
紫外域またはそれよりも短波長の照明光を連続的に射出する第２の光源と、
前記第１および第２の光源からの照明光を被測定試料に導光可能な照明光学系と、
前記被測定試料から反射した反射光を受光してその分光光強度を検出する光検出手段と、
前記光検出手段により検出された分光光強度に基づき前記薄膜の膜厚を演算するデータ処理部と、
前記第２の光源と前記照明光学系との間に配置されたシャッター機構と、
前記シャッター機構を制御し、前記膜厚を測定する時に第２の光源からの照明光の前記照明光学系への入射を許可する一方、前記膜厚の測定を行わない時には前記第２の光源からの照明光の前記照明光学系への入射を禁止するシャッター制御手段と
を備えたことを特徴とする膜厚測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、照明光を被測定試料に照射し、被測定試料によって反射した反射光の分光光強度を測定することにより被測定試料に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の膜厚測定装置は、基板表面に薄膜が形成された被測定試料に一定波長域の光を照射し、被測定試料によって反射された反射光を分光して各波長ごとの分光光強度を測定することで被測定試料の分光反射率を求め、この分光反射率に基づき薄膜の膜厚を測定するものである。
【０００３】
この膜厚測定装置では、照明光学装置の光源として紫外域の光を発光する重水素ランプが用いられており、この重水素ランプから射出される照明光を照明光学系を介して被測定試料の表面位置に導光し、その表面で反射された反射光を分光して分光特性を測定し、さらに該分光特性に基づき被測定試料上の膜厚を非接触・非破壊で測定できるようになっている。特に、被測定試料が例えばＳｉ基板上に１００オングストローム以下のＳｉＯ2の超薄膜を形成したようなものの場合、可視光領域では分光反射率に大きな変化が現われないのに対し、２００ｎｍ付近では分光反射率に大きな変化が現われる。したがって、このように重水素ランプに代表される紫外光を射出するランプを備えた装置を用いて２００ｎｍ付近で分光反射率を求めることにより、かかる超薄膜の膜厚測定が可能になる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、重水素ランプは点灯後、そのランプからの射出光量が直ちに安定化するわけではなく、安定化のためには一定時間必要となる。そのため、従来から、重水素ランプを一旦点灯し、安定化した後においては、重水素ランプは連続的に点灯させている。
【０００５】
しかしながら、重水素ランプから射出される照明光は可視光に比べて高いエネルギーを有しており、その高エネルギーの照明光が照明光学系に入射し続けると、重水素ランプからの照明光が入射する光学素子、例えば全反射ミラーやレンズなどの表面が曇るという現象が生じ、その後、その曇り度合に応じて照明光学系を介して被測定試料の表面位置に照射される照明光の照度が変動し、再現性のよい膜厚測定が困難となる。
【０００６】
この発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、高エネルギーの照明光が入射する照明光学系の曇りを抑制することができる膜厚測定装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、上記目的を達成するため、照明光を被測定試料に照射し、被測定試料によって反射した反射光の分光光強度を測定することにより被測定試料に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、紫外域またはそれよりも短波長の照明光を連続的に射出する光源と、前記光源からの照明光を被測定試料に導光可能な照明光学系と、前記被測定試料から反射した反射光を受光してその分光光強度を検出する光検出手段と、前記光検出手段により検出された分光光強度に基づき前記薄膜の膜厚を演算するデータ処理部と、前記光源と前記照明光学系との間に配置されたシャッター機構と、前記シャッター機構を制御し、前記膜厚を測定する時に照明光の前記照明光学系への入射を許可する一方、前記膜厚の測定を行わない時には前記光源からの照明光の前記照明光学系への入射を禁止するシャッター制御手段とを備えている。
【０００８】
また、照明光を被測定試料に照射し、被測定試料によって反射した反射光の分光光強度を測定することにより被測定試料に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、可視光域の照明光を照射可能な第１の光源と、紫外域またはそれよりも短波長の照明光を連続的に射出する第２の光源と、前記第１および第２の光源からの照明光を被測定試料に導光可能な照明光学系と、前記被測定試料から反射した反射光を受光してその分光光強度を検出する光検出手段と、前記光検出手段により検出された分光光強度に基づき前記薄膜の膜厚を演算するデータ処理部と、前記第２の光源と前記照明光学系との間に配置されたシャッター機構と、前記シャッター機構を制御し、前記膜厚を測定する時に第２の光源からの照明光の前記照明光学系への入射を許可する一方、前記膜厚の測定を行わない時には前記第２の光源からの照明光の前記照明光学系への入射を禁止するシャッター制御手段とを備えている。
【０００９】
これらの発明では、シャッター機構が光源と照明光学系との間に配置され、被測定試料の膜厚測定を行わない時には、紫外域またはそれよりも短波長の高エネルギーの照明光が照明光学系に入射するのを禁止して照明光学系が長時間高エネルギーの照明光に曝されるのを防止する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明にかかる膜厚測定装置を示す斜視図である。以下、この膜厚測定装置の概要を説明する。
【００１１】
Ａ．膜厚測定装置の概略構成
この図に示す膜厚測定装置は、半導体ウエハに形成された薄膜の膜厚を測定する装置であり、ウエハカセットを載置する載置ステージ１と、ウエハカセットに対して半導体ウエハ（以下、ウエハと略す）を出し入れするインデクサ部２と、半導体ウエハの膜厚を測定する測定部３とを備えている。この実施の形態にかかる膜厚測定装置では、上記インデクサ部２を中心として、その周囲に上記載置ステージ１及び測定部３が配置されたレイアウト構成となっている。
【００１２】
上記載置ステージ１は、図示の例では二つ設けられており、各ステージ１には、複数枚のウエハを多段に収納したウエハカセット１１，１２が、それぞれ収納口をインデクサ部２に臨ませた状態で載置されている。なお、本実施形態の装置では、直径２００mm及び３００mmの２種類のウエハが測定対象となる。
【００１３】
上記インデクサ部２には、ウエハの搬送手段であるインデクサロボット２１と、該インデクサロボット２１により上記ウエハカセット１１，１２から取り出されたウエハの中心位置修正（センタリング）を行う中心調整装置２２とが設けられている。
【００１４】
インデクサロボット２１は、上下動可能な水平多関節型のロボットからなり、そのアーム先端にはウエハを保持するための薄板状のハンド２１１が装着されている。ハンド２１１の表面には、吸引孔２１２が開口しており、該吸引孔２１２を介して負圧が供給されることにより、ハンド２１１によってウエハを吸着、保持するようになっている。
【００１５】
中心調整装置２２は、上記ハンド２１１に対するウエハ位置を修正するもので、接離可能な一対のチャック２２１を備えており、上記ウエハカセット１１，１２から取り出されたウエハを、上記チャック２２１により径方向に挾持することによってウエハ位置を機械的に修正するように構成されている。
【００１６】
上記測定部３は、被測定ウエハの保持部分となる測定ステージ４と、この測定ステージ４の上部に配置される膜厚測定のための測定ヘッド５とを有している。
【００１７】
測定ステージ４には、ウエハを移動可能に保持する六軸テーブル４１と、プリアライメント用センサ４７と、ウエハを待機させるための補助ステージ４８とが設けられている。
【００１８】
上記六軸テーブル４１は、ウエハを吸着保持するための円盤状の保持プレート４１１と、これを六軸方向、すなわち、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸及びこれら各軸回り（θＹ方向、θＸ方向，θ方向）に変位可能に支持する支持機構４１２から構成されており、保持プレート４１１を上記各方向に移動させながら補助ステージ４８との間でウエハの受渡しを行うとともに、上記測定ヘッド５及びプリアライメント用センサ４７の所定の測定位置にウエハを配置するように構成されている。
【００１９】
プリアライメント用センサ４７は、光の照射部４７１と受光部４７２とを所定の検査空間を挟んで上下に配置したもので、上記検査空間にウエハ端縁部を介在させた状態でウエハを回転させることにより、プリアライメント、すなわち上記保持プレート４１１の中心に対するウエハ中心の偏心を検出するようになっている。
【００２０】
補助ステージ４８は、インデクサ部２と六軸テーブル４１との間に配設されており、図示の例では、測定前のウエハを待機させるための供給側ステージ４８１と、測定後のウエハを待機させるための排出側ステージ４８２とが並べて設けられている。各ステージ４８１，４８２は、上記保持プレート４１１を介在させるための切欠部分を有した略Ｕ字型に形成されており、例えば、供給側ステージ４８１から六軸テーブル４１へのウエハの受渡しは、供給側ステージ４８１の切欠下部分の下方に上記保持プレート４１１が配置された状態で、供給側ステージ４８１と保持プレート４１１とが相対的に上下動されることにより行われるようになっている。一方、六軸テーブル４１から排出側ステージ４８２へのウエハの受渡しは、これと逆の動作に基づいて行われるようになっている。
【００２１】
なお、図中、符号３１は、作業者が膜厚測定装置に対して種々のデータや指令などを入力する操作部で、この操作部３１の上方には、作業者に対して種々のメッセージや情報等を表示するモニター（図示せず）が設けられている。
【００２２】
次に、上記の膜厚測定装置による膜厚測定動作について、ウエハの流れを示す図２のタイミングチャートに基づいて説明する。
【００２３】
同図の実線に示すように、上記インデクサロボット２１によりウエハカセット１１又は１２から取り出されたウエハ（一枚目のウエハ）は、まず、中心調整装置２２によりセンタリングが行われて供給側ステージ４８１に載置され、該供給側ステージ４８１から六軸テーブル４１の保持プレート４１１に受渡される。そして、プリアライメント用センサ４７による検出（プリアライメント）が行われた後、測定ヘッド５直下の所定の測定位置に配置されて膜厚測定が行われる。
【００２４】
このようにして一枚目のウエハのプリアライメント及び膜厚測定が行われている間、同図の一点鎖線に示すように、インデクサロボット２１によってウエハカセット１１又は１２から次のウエハ（二枚目のウエハ）が取り出され、中心調整装置２２によるセンタリングが行われて供給側ステージ４８１に載置される。
【００２５】
一枚目のウエハの膜厚測定が終了すると、該ウエハが六軸テーブル４１から排出側ステージ４８２に受渡され、その後、インデクサロボット２１により排出側ステージ４８２から取上げられてウエハカセット１１又は１２に収納される。こうして、一枚目のウエハの膜厚測定の全工程が終了する。
【００２６】
なお、上記のように一枚目のウエハが排出側ステージ４８２に移載されると、保持プレート４１１が排出側ステージ４８２側へと移動され、待機中のウエハが排出側ステージ４８２から六軸テーブル４１に受渡される。そして、一枚目のウエハと同様にして、二枚目のウエハのプリアライメント及び膜厚測定が順次行われるとともに、その最中に、図中、破線で示すようにインデクサロボット２１により次のウエハ（３枚目のウエハ）がウエハカセット１１又は１２から取り出される。
【００２７】
こうして以後同様に、ウエハのプリアライメント及び膜厚測定と、ウエハカセット１１又は１２に対するウエハの出し入れが並行して行われつつ、各ウエハカセット１１，１２に収納されたウエハの膜厚測定が行われることとなる。
【００２８】
Ｂ．測定ヘッドの構成
測定ヘッド５は、照明光学装置としての照明光学ユニットと、結像光学ユニットと、分光ユニットとを備えており、照明光学ユニットによって被測定試料たるウエハの表面に所定の波長域の光を照射し、その被測定試料で反射された光を結像光学ユニットを介して分光ユニットに導光した後、この分光ユニットで反射光を分光し、各波長ごとの光強度を測定して対応する電気信号を出力する。
【００２９】
図３は測定ヘッド５を示す図であり、図４は図３のＡ−Ａ線矢視図であり、図５は測定ヘッド５の光学的および電気的構成を示す模式図である。この測定ヘッド５は、照明光学装置としての照明光学ユニット５１を有している。この照明光学ユニット５１では、所定の光源配置領域（図４の右下隅領域）５１１に、ハロゲンランプ５１２と重水素ランプ５１３とが配置されている。そして、各ランプ５１２，５１３から射出された光Ｌ1，Ｌ2が照明光学ユニット５１を介して結像光学ユニット５２に入射される。また、この実施形態では、このように光源配置領域５１１には、ハロゲンランプ５１２および重水素ランプ５１３を覆うように保護カバー５１５が設けられるとともに、この保護カバー５１５に排気ダクト５１６を介して図示を省略する排気ポンプが接続されている。
【００３０】
両ランプ５１２、５１３から射出される光Ｌ1，Ｌ2が入射する照明光学系５１４は、複数のフィルターを同心円状に配置してなるフィルターターレット５１４ａと、このフィルターターレット５１４ａを回転させて任意のフィルターを光軸ＯＡ上に位置決めするフィルター切換用モータ５１４ｂと、レンズ５１４ｃと、全反射ミラー５１４ｄと、視野絞り５１４ｅと、ハーフミラー５１４ｆとを備えており、ハロゲンランプ５１２から射出された白色光Ｌ1が光軸ＯＡ上に位置決めされたフィルターを通過して当該フィルターに対応する可視域の光（以下「可視光」という）がレンズ５１４ｃ、全反射ミラー５１４ｄ、視野絞り５１４ｅおよびハーフミラー５１４ｆを介して結像光学ユニット５２に入射する。
【００３１】
また、照明光学系５１４は、全反射ミラー５１４ｇと、レンズ５１４ｈとをさらに備えており、重水素ランプ５１３から射出した紫外光Ｌ2が全反射ミラー５１４ｇで反射された後、レンズ５１４ｈおよびハーフミラー５１４ｆを介して結像光学ユニット５２に入射する。
【００３２】
なお、重水素ランプ５１３から射出される高エネルギーの紫外光Ｌ2が常時全反射ミラー５１４ｇに入射し、全反射ミラー５１４ｇの表面が長時間紫外光に曝されると、その表面が曇るという問題が生じる。そこで、この実施形態では、重水素ランプ５１３と全反射ミラー５１４ｇとの間にシャッター機構５１７を設けて、被測定試料に紫外光Ｌ2を照射する場合のみ、シャッター機構５１７を開いて重水素ランプ５１３からの紫外光Ｌ2を全反射ミラー５１４ｇに導光するように構成している。
【００３３】
図６は、シャッター機構を示す斜視図であり、同図(a)はシャッターを開いた状態を示す一方、同図(b)はシャッターを閉じた状態を示している。同図に示すように、このシャッター機構５１７は、断面が略Ｌ字状の基台５１７ａの前端面にシャッターブラケット５１７ｂが取り付けられている。このシャッターブラケット５１７ｂの左下部には、貫通孔５１７ｃが設けられている。そして、図示を省略するミラーブラケットを基台５１７ａの前端面に固着することで、この貫通孔５１７ｃに対応するように全反射ミラー５１４ｇが固定配置されている。このため、重水素ランプ５１３から射出した高エネルギーの紫外光Ｌ2は、貫通孔５１７ｃを介して全反射ミラー５１４ｇに入射可能となっている。
【００３４】
また、シャッターブラケット５１７ｂには、中央上部に設けられた回動軸５１７ｄ回りにシャッター５１７ｅが回動自在に軸支されている。このシャッター５１７ｅは、バネ用ステンレス鋼板に反射防止用の黒色メッキを施したものである。一方、回動軸５１７ｄにはシャッター駆動用モータ５１７ｆが連結されており、モータ５１７ｆの作動に応じてシャッター５１７ｅが回動軸５１７ｄを回動中心として回動し、貫通孔５１７ｃを開放したり、塞ぐことができるように構成されている。
【００３５】
したがって、紫外光Ｌ2を被測定試料に照射する際には、同図(a)に示すように、シャッター５１７ｅを貫通孔５１７ｃから退避させて紫外光Ｌ2を全反射ミラー５１４ｇで反射させて被測定試料に導光する一方、被測定試料への紫外光Ｌ2の照射が必要ない場合には、同図(b)に示すように、シャッター５１７ｅを貫通孔５１７ｃに位置決めして紫外光Ｌ2の全反射ミラー５１４ｇへの入射を禁止することができる。その結果、全反射ミラー５１４ｇの表面に紫外光Ｌ2が長時間照射されるのを防止することができ、全反射ミラー５１４ｇの表面の曇りを効果的に防止することができる。
【００３６】
次に、図３および５に戻り、上記のように構成された照明光学ユニット５１から射出された可視光および紫外光が入射される結像光学ユニット５２、またウエハによって反射された光を分光する分光ユニット５４の構成についての説明を続ける。
【００３７】
結像光学ユニット５２は、複数の対物レンズ５２１ａ，５２１ｂが同心円状に配置されて回転軸５２２ａ回りに回転自在なレンズターレット５２２と、このレンズターレット５２２を回転軸５２２ａ回りに回転駆動して任意の対物レンズを光軸ＯＡ上に位置決めする対物レンズ切換用モータ５２３と、ビームスプリッタ５２４と、チューブレンズ５２５とからなり、照明光学ユニット５１からの照明光（可視光あるいは紫外光）がビームスプリッタ５２４によって反射させ、対物レンズ切換用モータ５２３によって光軸ＯＡ上に位置決めされた対物レンズを介して所定の照明位置ＩＬに照射される。
【００３８】
この照明位置ＩＬを含む比較的広い範囲にわたって六軸テーブル４１（図１）は移動可能に構成されており、この六軸テーブル４１の保持プレート４１１に被測定試料たるウエハＷが載置され、この六軸テーブル４１によってウエハＷの表面の任意の微小領域を照明位置ＩＬに位置させることができるように構成されている。なお、図面への図示を省略するが、この六軸テーブル４１には、その位置（Ｘ，Ｙ座標など）を検出して、その位置情報を装置全体を制御する制御ユニット６に与えられるようになっている。
【００３９】
この照明位置ＩＬに位置するウエハＷの微小領域で反射された光は、対物レンズ５２１，ビームスプリッタ５２４およびチューブレンズ５２５を介して光軸ＯＡ上の所定位置に集光される。この集光位置の近傍には、中心部にピンホール５３１を有するプレート５３２が配置されている。また、そのプレート５３２の近傍にシャッター５３３が配置されており、制御ユニット６からの信号に基づきシャッター５３３を開閉駆動して、反射光のうちピンホール５３１を通過した光が分光ユニット５４に入射されるかどうかを制御するようになっている。
【００４０】
この分光ユニット５４は、反射光を分光する凹面回折格子５４１と、凹面回折格子５４１により回折された回折光の分光光強度を検出する光検出器５４２とで構成されている。光検出器５４２は、例えばフォトダイオードアレイやＣＣＤなどにより構成されており、ピンホール５３１と共役な関係に配置されている。このため、分光ユニット５４に取り込まれた光は凹面回折格子５４１に分光され、その光の分光光強度に対応した信号が光検出器５４２から制御ユニット６に与えられる。
【００４１】
なお、チューブレンズ５２５とプレート５３２との間の光軸ＯＡ上には、プリズム５５１が配置されており、ウエハＷからの光の一部を取り出すようになっている。また、取り出された光は、レンズ５５２を介して所定位置に集光される。この集光位置には、撮像素子５５３が配置されており、ウエハＷ表面の一部領域（膜厚測定領域）の像に対応した画像信号が制御ユニット６に与えられる。このように、この実施形態では、撮像ユニット５５によって測定領域の画像を撮像可能となっているが、この撮像ユニット５５の配設位置はチューブレンズ５２５とプレート５３２との間に限定されるものではなく、対物レンズ５２１と分光ユニット５４との間の光軸ＯＡ上であれば任意である。
【００４２】
制御ユニット６は、図５に示すように、論理演算を実行する周知のＣＰＵ６１１と、そのＣＰＵ６１１を制御する種々のプログラムなどを予め記憶するＲＯＭ６１２と、装置動作中に種々のデータを一時的に記憶するＲＡＭ６１３とを備えた制御部６１を備えている。また、この制御部６１は、Ｉ／Ｏ部６２を介して以下の構成要素、
・操作部３１、
・モニタ３２、
・データ処理部６３１：光検出器５４２からの信号に対して所定の処理を施す、
・シャッターコントローラ６３２：シャッター５３３を開閉制御する、
・画像処理部６３３：撮像素子５５３からの画像信号に対して所定の処理を施す、
・フィルター切換コントローラ６３４：フィルター切換用モータ５１４ｂを回転制御してフィルターを切換る、
・点灯回路６３５：ハロゲンランプ５１２を点灯／消灯制御する、
・点灯回路６３６：重水素ランプ５１３を点灯／消灯制御する、
・シャッターコントローラ６３７：シャッター５１７ｅを開閉制御する、
・レンズターレットコントローラ６３８：対物レンズ切換用モータ５２３を回転制御して対物レンズを切換る、
・テーブルコントローラ６３９：六軸テーブル４１を駆動制御する、
と電気的に接続されている。
【００４３】
Ｃ．膜厚測定装置の効果
以上のように、この実施形態にかかる膜厚測定装置によれば、照明光学ユニット５１において重水素ランプ５１３と照明光学系５１４の全反射ミラー５１４ｇとの間にシャッター機構５１７が設けられ、紫外光Ｌ2を被測定試料に照射する時のみシャッター５１７ｅが貫通孔５１７ｃから退避して紫外光Ｌ2を照明位置ＩＬに導光して紫外域での分光特性を測定して超薄膜の膜厚測定を可能とする一方、それ以外の時（照明位置ＩＬへの紫外光の照射が必要ない時）にはシャッター５１７ｅが貫通孔５１７ｃを塞いで重水素ランプ５１３からの紫外光（照明光）の照明光学系５１４への入射を禁止するようにしているので、照明光学系５１７の全反射ミラー５１７ｇが長時間高エネルギーの紫外光Ｌ2に曝されるのを防止し、全反射ミラー５１７ｇの曇りを抑制することができる。
【００４４】
Ｄ．変形例
なお、上記実施形態では、照明光学系５１４は、重水素ランプ５１３からの紫外光Ｌ2（高エネルギーの照明光）が全反射ミラー５１４ｇに入射されるように構成されており、シャッター機構５１７を設けることで全反射ミラー５１４ｇの曇りを抑制する技術が開示されているが、照明光学系５１４の構成はこれに限定されるものではなく、例えば重水素ランプ５１３からの紫外光Ｌ2がレンズ５１４ｈに直接入射されるように構成するとともに、シャッター機構５１７をこのレンズ５１４ｈと重水素ランプ５１３との間に設けることでレンズ５１４ｈの曇りを抑制するようにしてもよい。
【００４５】
また、上記実施形態では、紫外域の照明光Ｌ2を射出する光源として重水素ランプを用いているが、光源として別のランプを用いてもよく、また紫外線よりも短波長の光を照明光とし、この照明光を射出するものを光源としてもよく、これらの場合にも、上記実施形態と同様に、シャッター機構を設けてシャッターを必要に応じて開閉制御することで照明光学系の曇りを抑制することができる。
【００４６】
【発明の効果】
この発明によれば、シャッター機構を光源と照明光学系との間に配置し、所定位置への照明光の照射が必要ない時には、光源から射出される照明光が照明光学系に入射するのを禁止するように構成しているので、照明光学系が長時間高エネルギーの照明光（紫外域またはそれよりも短波長の照明光）に曝されるのを防止し、照明光学系の曇りを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明にかかる膜厚測定装置を示す斜視図である。
【図２】  図１の膜厚測定装置の動作を示すフローチャートである。
【図３】  測定ヘッドを示す図である。
【図４】  図３のＡ−Ａ線矢視図である。
【図５】  図３の測定ヘッドの光学的および電気的構成を示す模式図である。
【図６】  シャッター機構を示す斜視図である。
【符号の説明】
５１…照明光学ユニット
５１３…重水素ランプ
５１４…照明光学系
６３６…シャッターコントローラ
Ｌ2…紫外光
ＩＬ…照明位置
Ｗ…ウエハ（被測定試料）
【図１】
0003670470.tif 000002
【図２】
0003670470.tif 000003
【図３】
0003670470.tif 000004
【図４】
0003670470.tif 000005
【図５】
0003670470.tif 000006
【図６】
0003670470.tif 000007