(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に透明導電層と光反射性金属層との積層体にてストライプ状積層電極群を形成し、このストライプ状積層電極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状積層電極群とストライプ状透明電極群とが交差するようネマチック液晶を介して貼り合わせて画素をマトリクス状に配列せしめた液晶表示装置であって、
上記光反射性金属層に対し画素の端部に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過領域となし、光透過部以外の領域にて反射領域となし、さらに他方部材に対し画素に対応してカラーフィルタを配するとともに、
遮光膜をこのカラーフィルタの周辺にカラーフィルタの膜厚に比べて大きな膜厚に形成して、
前記カラーフィルタを遮光膜の端部上に延在させて、前記光透過部内のカラーフィルタの周囲の厚みを、前記遮光膜への盛り上がりにより増大させたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型（反射モード）と透過型（透過モード）の双方の機能を有する液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は小型もしくは中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。とくに携帯情報端末などのように屋外・屋内両方にわたって使用される機器においては、外光が十分強い環境では表示装置の照明手段として積極的に外光を利用し、外光が弱い環境ではバックライトを使用するという半透過型の液晶表示装置が主流になっている。
【０００３】
従来の半透過型液晶表示装置を図２に示す。同図はこの液晶表示装置Ａの断面模式図である。
【０００４】
液晶表示装置Ａによれば、１はコモン側のガラス基板、２はセグメント側のガラス基板であって、ガラス基板２上に多数平行に配列したＩＴＯからなるストライプ状透明電極群３と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜４とを順次形成している。
【０００５】
また、ガラス基板１上にスパッタリングによりアルミニウム金属からなる光半透過層５を形成し、この光半透過層５上にカラーフィルタ６とアクリル系樹脂からなるオーバーコート層７と、多数平行に配列したＩＴＯからなるストライプ状透明電極群８とを形成し、さらにストライプ状透明電極群８上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜９を形成している。
【０００６】
そして、これらガラス基板２とガラス基板１とをたとえば２００〜２６０°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層１０を介して、双方のストライプ状透明電極群３、８が交差（直交）するように、シール部材（図示せず）により貼り合わせる。また、図示していないが、両ガラス基板１、２間には液晶層１０の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配している。
【０００７】
さらにガラス基板２の外側に光散乱材１１、ポリカーボネートからなる第１位相差板１２、第２位相差板１３、ヨウ素系の偏光板１４とを順次積み重ね、ガラス基板１の外側にポリカーボネートからなる第３位相差板１５、ヨウ素系の偏光板１６とを順次積み重ねている。これらの配設にあたっては、アクリル系の材料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。
【０００８】
上記構成の液晶表示装置Ａにおいては、太陽光、蛍光灯などの外部照明による照射光は偏光板１４と第２位相差板１３、第１位相差板１２、光散乱材１１、ガラス基板２とを順次通過し、この入射光がストライプ状透明電極群３と配向膜４と液晶層１０、さらに配向膜９とストライプ状透明電極群８とオーバーコート層７とカラーフィルタ６を通して光半透過層５に到達し、ついで反射され、その反射光が入射時と逆の過程を経て光出射される。また、バックライトの光は偏光板１６と第３位相差板１５、ガラス基板１、光半透過層５、カラーフィルタ６等を順次通過し、光出射される。
【０００９】
このような構成の液晶表示装置Ａにおいては、光半透過層５としてアルミニウム、クロム、銀などからなる薄膜あるいはアルミニウム合金、クロム合金、銀合金からなる薄膜を用い、その厚みを通常５０〜５００Å、好適には１００〜４００Åにすることによって半透過層としての機能を持たせている。
【００１０】
あるいは金属薄膜に代えて誘電体ハーフミラーにより半透過層を形成してもよい。すなわち、低屈折率層と高屈折率層とを交互に順次積層構造にし、低屈折率層としては、屈折率が１．３〜１．６のＳｉＯ２、ＡｌＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２など、高屈折率層としては、屈折率が２．０〜２．８のＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｒＯ３などで形成する構造である。いずれにしても、カラーフィルタ６のＲＧＢに対し、各一画素内で均質な半透過層を形成している。
【００１１】
一方、液晶表示装置Ａにおいて、上記に示した半透過層に対応するカラーフィルタ６については、従来の透過型液晶装置と同様に、ＲＧＢ各一画素内にて均一の厚みをもったカラーフィルタを形成し、そのカラーフィルタの全体的な厚みや透過率、色度を調整することで、反射時と透過時の明るさ、色再現性のバランスをとっている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構成の半透過型液晶表示装置Ａによれば、ＲＧＢ各一画素内で均質な半透過層を形成し、対応するカラーフィルタをＲＧＢ各一画素内で均一な厚みで形成した場合、次のような課題があった。
【００１３】
すなわち、半透過膜をある反射率・透過率の割合で形成し、反射時と透過時の明るさ・色再現性をカラーフィルタによって調整しようとした場合、たとえば反射時の明るさを上げるためにカラーフィルタの厚さを薄くする、あるいは透過率の高いカラーフィルタを用いた場合に、透過時の色再現性が低くなり、あるいは透過時の色再現性を良くするために色の濃いカラーフィルタを用いた場合に、反射時の明るさが低下するという課題があった。
【００１４】
要するに、反射時の特性と透過時の特性が相反するものであり、実際には反射時の特性あるいは透過時の特性のいずれか一方を優先したり、双方の特性のバランスをとったりすることで妥協しなければならなかった。これらの課題は、透過時には光がカラーフィルタを１回しか通過しないのに対して、反射時には２回通過することに起因している。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置は基板上に透明導電層と光反射性金属層との積層体にてストライプ状積層電極群を形成し、このストライプ状積層電極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状積層電極群とストライプ状透明電極群とが交差するようネマチック液晶を介して貼り合わせて画素をマトリクス状に配列せしめた液晶表示装置であって、
上記光反射性金属層に対し画素の端部に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過領域となし、光透過部以外の領域にて反射領域となし、さらに他方部材に対し画素に対応してカラーフィルタを配するとともに、
遮光膜をこのカラーフィルタの周辺にカラーフィルタの膜厚に比べて大きな膜厚に形成して、前記カラーフィルタを遮光膜の端部上に延在させて、前記光透過部内のカラーフィルタの周囲の厚みを、前記遮光膜への盛り上がりにより増大させたことを特徴とする。
【００１６】
本発明によれば、光反射性金属層のうちＲＧＢ各一画素内で透過時に利用される領域の金属層を取り除くことでもって、スリットなどの光透過部を設け、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなし、これにより、半透過型の液晶表示装置とする。
【００１７】
そして、本発明においては、他方部材に対し画素に対応してカラーフィルタを配し、さらに遮光膜をＲＧＢ各一画素に対応するカラーフィルタの周辺に形成するが、その際、遮光膜をカラーフィルタの膜厚に比べて大きな膜厚にて形成し、カラーフィルタを遮光膜の端部上に延在せしめるよう成したことで、次のような作用効果を得ることができる。
【００１８】
すなわち、反射モードに必要とされる反射率・色再現性から光反射性金属層の光反射部面積とカラーフィルタの各要素（色の濃さ・厚み）を設定した場合、従来の半透過型液晶表示装置のカラーフィルタの構成によれば、光透過部にも同じ色の濃さ・厚みのカラーフィルタが形成され、これによって透過モードにおいて色再現性が悪くなっていた。しかしながら、本発明では画素間に配する遮光膜を合成樹脂などからなるブラックレジストにて、カラーフィルタに対し厚く形成し、そして、カラーフィルタを遮光膜の端部にまで被着することで、光透過部のカラーフィルタの平均膜厚が増大し、これによって色再現性の低下を抑え、その結果、鮮明な色調が得られる。
【００１９】
ちなみに、反射モード用カラーフィルターの厚さを透過モード用カラーフィルターの厚さに比べて薄くする技術が提案されているが（特開２００１−１６６２８９号参照）、この技術によれば、カラーフィルター形成前に反射領域となる部分にあらかじめ透明層を形成することで、その分、工程が増大するが、これに対する本発明では、画素間遮光膜となる樹脂ブラックレジストを形成する際に、次の工程で形成するカラーフィルタに比べ膜厚を厚くしておくだけでよく、これにより、工程数の増大がなく、製造コストが低減される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明を図面により説明する。
図１は本発明の半透過型液晶表示装置Ｂの断面模式図である。
【００２１】
液晶表示装置Ｂによれば、１はコモン側のガラス基板、２はセグメント側のガラス基板であって、ガラス基板２上に多数平行に配列したＩＴＯからなる前記透明導電層であるストライプ状透明電極群３を形成し、この透明電極群３上にスパッタリングにより一様に成膜したＣｒ膜４、Ａｌ膜５をフォトリソグラフィ工程によって、画素間および透過領域部（光透過部）をパターニングして取り除くことで、Ｃｒ膜４とＡｌ膜５による前記光反射性金属層を形成する。そして、この上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜６を形成している。なお、Ｃｒ膜４はＩＴＯ層とＡｌ膜との接着性を高めるために介在させる。
【００２２】
このような光反射性金属層の形成方法を図３により説明する。
このストライプ状光反射性金属層は図３に示す如く、スパッタリングにより一様に成膜したＣｒ膜４、Ａｌ膜５をフォトリソグラフィ工程によって、画素間および光透過部をパターニングして取り除くことにより得られる。
【００２３】
同図によれば、セグメント側ガラス基板２（０．５ｍｍ厚）（同図にてＧｌａｓｓと表示する）上に多数平行に配列したＩＴＯからなるストライプ状透明電極群（セグメント電極）をフォトリソグラフィによって形成する。この工程は、従来周知のとおりであり、同図にて「レジスト塗布」、「露光、現像」、「ＩＴＯエッチング」、「レジスト剥離」として示す。
【００２４】
ついでスパッタリングによりＣｒ膜（３５０Å）、Ａｌ膜（１０００Å）を一様に成膜し、フォトリソグラフィによって画素間および光透過部を同時にパターニングして取り除くことで、光透過部を設けた光反射性金属層とした。これらの工程は図３に示すとおり、「Ｃｒ、Ａｌ成膜」、「レジスト塗布」、「露光、現像」、「Ａｌ，Ｃｒエッチング」、「レジスト剥離」として示す。
【００２５】
以上のような工程を経ることで、一方部材が得られ、他方部材については、下記のとおりである。図１に加えて、さらに図４に示す要部の断面図にて構成を詳述する。
【００２６】
ガラス基板１（０．５ｍｍ厚）上にＲＧＢの配列と平行になるようストライプ状に前記遮光膜である画素間の樹脂ブラックレジストＳを形成し、カラーフィルタ７（厚さ１μｍでＲＧＢ平均透過率５８．５％）も形成する。これらはフォトリソグラフィによって形成し、それらの上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層８を被着形成し、この上に多数平行に配列したＩＴＯからなるストライプ状透明電極群９（コモン電極）をフォトリソグラフィによって形成し、さらにストライプ状透明電極群９上にポリイミド樹脂からなる配向膜１０を形成して一定方向にラビングした。
【００２７】
そして、これらガラス基板２とガラス基板１とをたとえば２００〜２６０°（たとえば２４０°）の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層１１を介して、双方のストライプ状透明電極群３、９が交差（直交）するように、シール部材（図示せず）により貼り合わせる。また、図示していないが、両ガラス基板１、２間には液晶層１１の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配している。
【００２８】
さらにガラス基板１の外側に光散乱材１２、ポリカーボネートからなる第１位相差板１３、第２位相差板１４、ヨウ素系の偏光板１５とを順次積み重ね、ガラス基板２の外側にポリカーボネートからなる第３位相差板１６、ヨウ素系の偏光板１７とを順次積み重ねている。これらの配設にあたっては、アクリル系の材料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。
【００２９】
なお、前記光反射性金属層としてはＣｒ、Ａｌの積層構造を設けたが、この積層構造に代えて、ＡｌＮｄなどのＡｌ合金、ＡｇおよびＡｇ合金等の金属膜を使用しても良い。
【００３０】
そして、本発明の液晶表示装置Ｂについては、ＲＧＢ各一画素の端に透過時に利用される領域（光透過部）となるスリットなどを設けて透過モードと成したが、さらに画素に対応するカラーフィルタ７を設けるに当り、樹脂ブラックレジストＳの膜厚をカラーフィルタ７の膜厚に対し厚くし、そして、カラーフィルタ７を樹脂ブラックレジストＳの端部にまで被着した構成にしており、これにより、光透過部のカラーフィルタの平均膜厚が増大し、色再現性の低下を抑えることができる。
【００３１】
参考までに、図４に示す構造によれば、樹脂ブラックレジストＳの膜厚をカラーフィルタ７の膜厚に対し厚くして、さらにカラーフィルタ７を樹脂ブラックレジストＳの端部にまで被着した構成であるが、このような構成に対する等価モデルを図５に示す。
【００３２】
図４によれば、カラーフィルタ７を樹脂ブラックレジストＳの端部に大きく盛り上げていることで、光透過部の一部（樹脂ブラックレジストの周辺部）のカラーフィルタ膜厚が増大し、これにより、図５に示す如く、反射領域部のカラーフィルタの厚みに比べ、透過領域部のカラーフィルタが大きな厚みで樹脂ブラックレジストＳの周囲（透過領域部に対応）に配設された構成に相当し、その結果、透過モードにおける色再現性の低下が抑えられる。
【００３３】
つぎに樹脂ブラックレジストＳの構成による光透過部との関係を図６により述べる。同図はセグメント側基板における光透過部の配置部位を示すとともに、コモン側基板における樹脂ブラックレジストの配置関係を光透過部との関係でもって示す。
【００３４】
図６によれば、ガラス基板１上にＲＧＢの各カラーフィルタを帯状に平行にストライプ配列した場合であって、このような帯状カラーフィルタでは、各画素は長方形になり、その長辺が帯に平行になる。よって、画素ごとに設ける光透過部を画素長辺両サイドに配置している。
【００３５】
以下、図６に示す構成に対する具体例を述べる。
【００３６】
（例１）
長辺Ｌ１が２３０μｍであり、短辺Ｍ１を７０μｍにした一画素に対し、Ｍ２・Ｍ３をそれぞれ８．７５μｍにする。これにより、Ｍ２＋Ｍ３＝１７．５μｍとなり、光透過部の一画素に対する面積比を２５％にした。
【００３７】
樹脂ブラックレジスト（ストライプ状）については、幅１０μｍ・厚さ２μｍで形成し、カラーフィルタは幅７５μｍ・厚さ１μｍにて形成し、これにより、反射領域および透過領域の一部には１μｍの厚みのカラーフィルタが形成され、その他の透過領域部分（樹脂ブラックレジストの周辺部）には３μｍの厚みのカラーフィルタが形成された。
【００３８】
このような構成によれば、透過領域全体でのカラーフィルタの厚みは平均すると、計算上１．２３μｍになり、これにより、反射領域に比べカラーフィルタを厚く形成したことに相当する。
【００３９】
（例２）
セグメント側基板は、例１と同じ構成であるが、樹脂ブラックレジスト（ストライプ状）については、幅１０μｍ・厚さ３μｍで形成し、カラーフィルタは幅７５μｍ・厚さ１μｍにて形成し、これにより、反射領域および透過領域の一部には１μｍの厚みのカラーフィルタが形成され、その他の透過領域部分（樹脂ブラックレジストの周辺部）には４μｍの厚みのカラーフィルタが形成された。
【００４０】
このような構成によれば、透過領域全体でのカラーフィルタの厚みは平均すると、計算上１．３４μｍになり、これにより、反射領域に比べカラーフィルタを厚く形成したことに相当する。
【００４１】
（比較例）
セグメント側基板は、例１と同じ構成であるが、樹脂ブラックレジスト（ストライプ状）については、幅１０μｍ・厚さ１μｍで形成し、カラーフィルタは幅７０μｍ・厚さ１μｍにて形成し、これにより、反射領域および透過領域ともに１μｍの厚みのカラーフィルタが形成された。
【００４２】
以上の各例にて作製した液晶表示パネルの特性を表１に示す。同表によれば、反射モードにて反射率、色域面積、コントラストを測定し、透過モードにおいては、透過率、色域面積、コントラストを測定した。
【００４３】
【表１】
0003631719.tif 000002
【００４４】
例１と例２によれば、比較例に比べ、透過色域面積がそれぞれ１．３９倍、１．５８倍になった。その半面、透過率が若干低下傾向にあるが、実際上にはほとんど問題にならない程度の変化であった。
【００４５】
また、本発明のさらに他の特徴を説明する。
上述した構成の液晶表示装置Ｂによれば、図３に示す如くストライプ状透明電極群と光反射性金属層（反射層スリットなど）とを形成する工程を経ることで、ＩＴＯパターンと金属反射層との間にて露光上ズレが生じ、このような露光ズレが生じると、反射層スリットなどの設計によっては一画素内での反射領域が小さくなり、反射率が減少する。一方、透過領域が大きくなり、透過率が増加し、製品上の特性バラツキが生じることが考えられる。
【００４６】
この課題に対し、本例の液晶表示装置Ｂでは、図７に示す如く、光透過部をＣｒ膜４およびＡｌ膜５とからなる光反射性金属層の配列方向と平行するようなスリットにする。
【００４７】
このように光透過部をセグメント電極と平行に設けるが、同図に示すように、さらにそのスリット部位を一画素内のサイド部に設けている。
【００４８】
すなわち、セグメント側基板によれば、長辺Ｌ１と短辺Ｍ１の一画素に対し、設計上短辺Ｍ１よりも小さな幅の光反射性金属層を帯状に形成することで、各セグメント電極に光透過部を設けた構成にする。Ｍ２とＭ３は、それぞれストライプ状透明電極群３と帯状の光反射性金属層との双方の端部の間隔である。
【００４９】
上記のような構成の反射層スリットによれば、図３に示す如くストライプ状透明電極群と光反射性金属層（反射層スリット）とを形成する工程を経ることで、図７Ａに示すようにＩＴＯパターンと金属反射層との間にて露光上ズレがない場合に比べて、同図Ｂに示す如く、ＩＴＯパターンと金属反射層との間にて露光上ズレが生じることがあっても、一画素内での反射領域に変化がなく、反射率が減少したり、透過領域が大きくなって透過率が増加することもなく、これにより、製品上の一定の品質特性が得られる。
【００５０】
つぎに他の液晶表示装置を述べる。
上述した構成の半透過型液晶表示装置Ｂによれば、その光反射性金属層としてＡｇ合金（たとえばＡＰ）などを用いた場合に、反射表示が透過表示に比べ黄色寄りになる傾向になり、反射モードと透過モードとの双方間にて色調に差がみられる場合がある。
【００５１】
このように光反射性金属層にＡＰを用いた半透過型液晶表示装置Ｂについて、反射モードと透過モードの色度座標の比較を図８にて示す。
【００５２】
同図からわかるように、反射モードと透過モードにてＲ・Ｇ・Ｂおよび白（Ｗｈｉｔｅと記す）の色度が大きく異なっている。
【００５３】
このような課題に対して、本発明者はカラーフィルタ形成時の成膜条件を調整することで解決できることを知見した。
【００５４】
すなわち、叙上の半透過型液晶表示装置Ｂによれば、図４に示す如く、光反射部・光透過部および樹脂ブラックレジスト端部にわたって、同一の膜厚（たとえば１μｍ）にてカラーフィルタを一様に形成しているが、これに代えて、成膜条件を変えることで、これらの膜厚を変えることができる。
【００５５】
このような構成例を図９に示す。
同図は本発明の他の半透過型液晶表示装置の要部断面図であり、図４に示す部材と同一箇所には同一符号を付す。
【００５６】
図９に示す装置によれば、Ｒ・Ｇ・Ｂのそれぞれに対しカラーフィルタレジストの粘度・成膜条件を調整することで、光透過部の樹脂ブラックレジストの端部付近にてスロープ状にカラーフィルタを形成し、Ｒ・Ｇ・Ｂそれぞれの透過部の平均膜厚を変えることができる。
【００５７】
このように透過モードでのＲ・Ｇ・Ｂの色度をそれぞれ独立に調整することで、透過モードでの色調を反射モードの色調に近づけることができ、これにより、反射モードと透過モードでの色調の差を低減したり、無くすことができる。
【００５８】
光半透過層にＡＰを用いた図９の半透過型液晶表示装置において、反射モードと透過モードの色度座標の比較を図１０にて示す。
【００５９】
同図からわかるように、反射モードと透過モードのＲ・Ｇ・Ｂおよび白（Ｗｈｉｔｅと記する）の色度の差が小さくなっており、反射モードと透過モードの色調の差を低減もしくは無くすことができた。
【００６０】
以上のように光透過部の樹脂ブラックレジスト端部に対するカラーフィルタの成膜条件を規定することで、透過モードでの色調の調整ができ、たとえば金属反射層をＡｇ合金等にした場合に透過モード時に比べ反射モード時の表示が黄色寄りの色調になるなどの反射モードと透過モードの色調の差を低減もしくは解消することができた。
【００６１】
なお、本発明は上記実施形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改良等はなんら差し支えない。たとえば、遮光膜である画素間の樹脂ブラックレジストＳについては、上述の如く、ＲＧＢの配列と平行になるようストライプ状に樹脂ブラックレジストＳを形成し、カラーフィルタ７も同様に形成したが、このように樹脂ブラックレジスト（遮光膜）をストライプ状に配列することに代えて、画素間の樹脂ブラックレジスト（遮光層）をマトリックス状に配置してもよい。
【００６２】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明の液晶表示装置によれば、光反射性金属層に対し画素の端部に対応して光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなし、さらに他方部材に対し画素に対応してカラーフィルタを配するとともに、遮光膜をこのカラーフィルタの周辺にカラーフィルタの膜厚に比べて大きな膜厚にて形成して、カラーフィルタを遮光膜の端部上に延在せしめるよう成したことで、透過領域のカラーフィルタの平均膜厚が増大し、これによって透過モードでの色再現性の低下を抑え、その結果、反射モードの特性をもとに選択したカラーフィルタを用いた場合でも透過モードで鮮明な色調が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液晶表示装置の断面模式図である。
【図２】従来の液晶表示装置の断面模式図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の要部構成を説明する断面模式図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の要部構成の等価モデルを説明する断面模式図である。
【図６】セグメント側基板とコモン側基板の双方の拡大図である。
【図７】Ａ、Ｂはそれぞれセグメント側基板の拡大図であり、Ａは露光ズレがない場合、Ｂは露光ズレがある場合である。
【図８】図４に示す液晶表示装置の光反射性金属層に対しＡＰを用いた場合の透過モードと反射モードの色度座標の線図である。
【図９】本発明の他の液晶表示装置の要部構成を説明する断面模式図である。
【図１０】図９に示す液晶表示装置の光反射性金属層に対しＡＰを用いた場合の透過モードと反射モードの色度座標の線図である。
【符号の説明】
１・・・コモン側のガラス基板
２・・・セグメント側のガラス基板
３・・・ストライプ状透明電極群
４・・・Ｃｒ膜
５・・・Ａｌ膜
６、１０・・・配向膜
７・・・カラーフィルタ
８・・・オーバーコート層
９・・・ストライプ状透明電極群
１１・・・液晶層
Ｓ・・・樹脂ブラックレジスト
【図１】
0003631719.tif 000003
【図２】
0003631719.tif 000004
【図３】
0003631719.tif 000005
【図４】
0003631719.tif 000006
【図５】
0003631719.tif 000007
【図６】
0003631719.tif 000008
【図７】
0003631719.tif 000009
【図８】
0003631719.tif 000010
【図９】
0003631719.tif 000011
【図１０】
0003631719.tif 000012