(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともヨコ糸が丸形断面のポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸からなり、該ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うとともに、下記(1)式で定められるカバーファクター（ＣＦ）が２８００〜３８００である５枚以上の朱子織からなることを特徴とする磁気ディスク研磨用織物。
ＣＦ＝√［タテ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×タテ糸密度（本／２５．４ｍｍ）＋√［ヨコ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×ヨコ糸密度（本／２５．４ｍｍ）……(1)
【請求項２】
前記ヨコ糸が、実質的に無撚糸であることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク研磨用織物。
【請求項３】
前記ヨコ糸の総繊度が前記タテ糸の総繊度の１．５〜１０倍であることを特徴とする請求項１または２記載の磁気ディスク研磨用織物。
【請求項４】
前記ポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸が複合繊維の割繊糸からなり、割繊後の単繊維繊度が０．６ｄｔｅｘ以下であることを特徴とする請求項１、２または３に記載の磁気ディスク研磨用織物。
【請求項５】
前記複合繊維が海島型の割繊糸であることを特徴とする請求項４に記載の磁気ディスク研磨用織物。
【請求項６】
前記ポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸が、ポリエステル繊維単独であるかまたはポリエステル繊維とナイロン繊維との混繊糸であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の磁気ディスク研磨用織物。
【請求項７】
前記タテ糸およびヨコ糸の少なくとも一方が制電性繊維を含んでいることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の磁気ディスク研磨用織物。
【請求項８】
研磨面である織物表面がカレンダー加工で平滑化されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の磁気ディスク研磨用織物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気ティスク研磨用の織物に関し、さらに詳しくは磁気ティスク製造工程においてディスク基板の表面に微細な凹凸溝を付けるテクスチャー加工に使用することのできる研磨用織物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子機器における磁気ヘッドは、磁気ディスク（磁気記憶媒体）に僅少な距離で対峙して、磁気ディスクに記憶された記録を読み取るように構成されている。
【０００３】
磁気ディスクの記憶容量は、磁気ヘッドとの間の距離、すなわち磁気ヘッドの磁気ディスク表面に対する浮上距離を極力小さくすることが技術課題の一つになっている。しかし、高速回転する磁気ディスクに磁気ヘッドを接近させ過ぎると、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触し、ヘッドクラッシュを起こしやすくなるという問題がある。
【０００４】
従来、上記ヘッドクラッシュを発生させることなく、磁気ヘッドの浮上距離を極力小さくする方法として、ディスク基板に磁気膜等を形成する前に、その基板面に微細な凹凸溝を付ける所謂テクスチャー加工をすることが行われている。
【０００５】
かかるテクスチャー加工は、一般に、ダイヤモンド、アルミナあるいはジルコニア等の砥粒を配合したスラリーを研磨用織物（研磨用テープ）を介して押圧することにより行われるが、この加工で得られる凹凸溝の表面粗さ（Ｒａ）が小さくなるほど、磁気ヘッドの浮上距離を小さくすることができるため、砥粒の粒径が次第に微細化し、平均粒径が０．５μｍ以下や、さらには０．２５μｍ以下のものが使用されるようになっている。
【０００６】
しかしながら、砥粒の粒度が微細になるにしたがって、従来から使用されていた研磨用織物（織物テープ）では、微小粒の砥粒を保持することが難しいため、十分な削り量（ＳＲ）が得られなくなり、凹凸溝が均一に分布した微細な表面粗さ（Ｒａ）を得ることが困難になっている。
【０００７】
このために磁気ヘッドの浮上距離の縮小にも限界があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、砥粒の粒度の大小にかかわらず十分な削り量（ＳＲ）を確保し得て、均一で微細な表面粗さ（Ｒａ）を呈するテクスチャー加工を可能にする磁気ディスクの研磨用織物を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の磁気ディクス研磨用織物は、以下の構成からなる。
【００１０】
すなわち、本発明の磁気ディクス研磨用織物は、少なくともヨコ糸が丸形断面のポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸からなり、該ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うとともに、下記(1)式で定められるカバーファクター（ＣＦ）が２８００〜３８００である５枚以上の朱子織からなることを特徴とする磁気ディスク研磨用織物である。
【００１１】
ＣＦ＝√［タテ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×タテ糸密度（本／２５．４ｍｍ）＋√［ヨコ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×ヨコ糸密度（本／２５．４ｍｍ）……(1)
かかる本発明のように少なくともヨコ糸に実質的に丸形断面のポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする捲縮糸を使用し、特定のカバーファクター（ＣＦ）を有する５枚以上の朱子織に織製したことにより、粒度が微細な砥粒であっても研磨用織物表面に均一に保持することができるようになるのである。
【００１２】
したがって、十分な削り量（ＳＲ）の研磨が可能になり、ディスク基板の表面全体を均一で微細な表面粗さ（Ｒａ）に加工することができるようになったのである。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の磁気ディクス研磨用織物は、少なくともヨコ糸が丸形断面のポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸からなり、該ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うとともに、下記(1)式で定められるカバーファクター（ＣＦ）が２８００〜３８００ある５枚以上の朱子織からなる。
【００１４】
ＣＦ＝√［タテ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×タテ糸密度（本／２５．４ｍｍ）＋√［ヨコ糸総繊度（ｄｔｅｘ）］×ヨコ糸密度（本／２５．４ｍｍ）……(1)
ここで、極細フィラメント繊維とは、単繊維繊度０．８ｄｔｅｘ以下のものであることをいう。また、主体とするとは、ポリエステル極細フィラメント繊維が８０％以上を占めることであることを言う。
【００１５】
また、本発明において、非捲縮糸とは、未延伸糸を延伸したもので、仮ヨリ加工等の捲縮加工を実質的に施していないものである糸を言う。
【００１６】
また、ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うとは、該織物表面上にヨコ糸がタテ糸よりも多い状態であることを言い、該状態は、該織物の表面において、光沢があり、かつ滑らかとなる効果となって表れるものである。
【００１７】
また、タテ糸総繊度とは、織物１インチ間のタテ糸本数×タテ糸１本の繊度であり、ヨコ糸総繊度とは、織物１インチ間のヨコ糸本数×ヨコ糸１本の繊度である。
【００１８】
図１は、本発明にかかる研磨用織物を用いて磁気ディスク用の基板をテクスチャー加工する場合を例示したモデル外観図であり、同図において、（Ａ）は正面外観図、（Ｂ）は側面外観図である。
【００１９】
磁気ディスク用の基板１は、駆動軸に支持され、矢印方向に回転駆動されるようになっている。このように駆動軸に支持された基板１の両側面に、本発明のテープ状にした研磨用織物Ｆがゴムローラ２を介して押圧され、かつその研磨用織物Ｆと基板１との間に砥粒配合のスラリーを介在させるようにしてテクスチャー加工がされる。基板１は、磁気ディスクに使用されるものであれば良く、特に限定されないが、一般にアルミニウムを基板とし、その表面がニッケルメッキにより硬化され、さらにその上が研磨されて平滑化されたものを使用することが通常である。
【００２０】
テープ状の研磨用織物Ｆは、特に限定されないが、例えば、広幅の織物からタテ糸方向に一定幅に裁断されてなるものであり、供給リール３にロール状に巻き上げられて使用される。研磨用織物Ｆは、供給リール３から一定速度で引き出されながらゴムローラ２に至る途中で、スラリー供給ノズル５から砥粒を配合したスラリーを塗布され、次いでゴムローラ２により基板１の表面に押圧されることにより、回転する基板１の表面に微細な凹凸溝を研磨形成して、回収ローラ４に巻き取られる。
【００２１】
本発明にかかる磁気ディスク研磨用織物は、ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆うように５枚以上のバックサテン（朱子織）に織製されている。
【００２２】
好ましくは５〜１１枚の朱子織が使用される。５枚以上の朱子織は、ヨコ糸が表面に長く浮いた状態になって布面を覆うため、このヨコ糸がタテ糸との組織点を隠して平滑化表面を形成し、砥粒を全面に均一分布するように保持することができる。すなわち、ヨコ糸がタテ糸よりも広い面積で表面を覆っている状態は、朱子織物組織にすることにより、実現することができる。
【００２３】
このように５枚以上の朱子織からなる研磨用織物は、長手方向（タテ糸方向）に沿って所定幅のテープ状に切り出されて使用され、図１に例示したように、その長手方向（タテ糸方向）をディスク基板の周方向に沿わせるように配置され、ヨコ糸が基板の回転方向に対して略直交した関係にする。
【００２４】
このようにヨコ糸を基板の回転方向に略直交する配置にして用いることによれば、微細な粒度の砥粒を織物表面に保持し、かつヨコ糸の長さ方向全体に均一に分布させることができるのである。
【００２５】
所定幅に切り出されたテープの幅は、特に限定されるものではないが、一般的にはディスク基板の大きさに応じて３８ｍｍ幅や４５ｍｍ幅にしたものが使用される。一般に、テープの長さは５０ｍから１５０ｍのものが使用され、図１に例示したように供給リールにロール状に巻き上げられ、その供給リールから一定速度で繰り出しながら研磨加工に供される。
【００２６】
研磨織物は５枚以上の朱子織の構成であるため、ヨコ糸に砥粒配合のスラリーをしっかりと保持しやすくすることができる。また、このスラリーの保持効果を良好にするために、該朱子織物は前記(1)式で定められるカバーファクター（ＣＦ）を２８００〜３８００の範囲にすることが重要である。
【００２７】
さらに好ましくは、ヨコ糸の総繊度をタテ糸の総繊度の１．５〜１０倍にするとよい。カバーファクターを上記範囲にすることにより、ヨコ糸の配列を隙間のない状態にし、実質的にヨコ糸によって織物全体を覆った状態にするため、砥粒の保持が織物全体により均一になり、ディスク基板の研磨により有効に作用させることができるからである。
【００２８】
カバーファクター（ＣＦ）が２８００よりも小さいと、スラリーをヨコ糸がしっかりと保持させることが難しくなり、またカバーファクター（ＣＦ）が３８００よりも大きいと、スラリーがヨコ糸に均一に保持されなくなるため、ディスク基板を均一で微細な表面粗さＲａにテクスチャー加工することが難しくなる。
【００２９】
本発明において、タテ糸に使用される繊維は、特に限定されず、通常の衣料用等に使用されるポリエステル繊維やナイロン繊維も使用可能である。また、繊維の繊度や断面形状も任意であってもよい。もちろん、ヨコ糸と同一繊維を使用するようにしてもよい。
【００３０】
しかし、少なくてもヨコ糸は、実質的に丸形断面を有し、かつポリエステル極細フィラメント繊維を主体とする非捲縮糸を使用する必要がある。実質的に丸形断面を有するとは、丸形口金で紡糸したものである。
【００３１】
ここで、ポリエステル極細フィラメント繊維が主体の非捲縮糸とは、ポリエステル極細フィラメント繊維単独からなる非捲縮糸はもちろんであるが、ポリエステル極細フイラメント繊維を主成分として他の極細フィラメント繊維を混繊した糸条からなる非捲縮糸も含むことを意味する。混繊糸を使用する場合は、特にポリエステル繊維とナイロン繊維との混繊糸が好ましい。
【００３２】
ポリエステル繊維は、ナイロン繊維等に比べて大きな弾性率を有するため、ディスク基板に押圧した際の摩擦力に対して砥粒を保持し、その砥粒をディスク基板に対して大きな圧力で押し付けることができるので、研磨効率を増大することができる。
【００３３】
本発明の研磨用織物では、少なくてもヨコ糸の繊維断面は丸形であることにより、次のような作用効果を奏する。
【００３４】
すなわち、例えば、粒経分布が０．０１〜１μｍの砥粒を配合したスラリ−を使用する場合、０．１１ｄｔｅｘのポリエステル極細フィラメント繊維の径は３．２μｍであり、０．０１１ｄｔｅｘでは１０μｍであるから、砥粒の径は繊維径よりもはるかに小さい関係になっている。他方、スラリーが塗布された研磨用織物でディスク基板を研磨する工程を観察すると、砥粒は繊維にせき止められて研磨するのではなく、繊維とディスク基板との隙間にくさびが打ち込まれたように挟まれ、その隙間を押しのけて通過することにより基板表面を研磨する。
【００３５】
したがって、ヨコ糸を構成する繊維の断面が丸形であること、砥粒が繊維とディスク基板との隙間に挟持されやすくなり、基板表面の研磨効果がよい。
【００３６】
また、ヨコ糸に用いられるポリエステル極細フィラメント繊維は非捲縮糸であるが、割繊前の複合繊維は十分にリラックス熱水処理によって、充分に収縮させられた状態にあり、その状態で割繊するのがよい。割繊後にピンテンターにより適度な幅出ししながらセットすることにより、割繊の促進と極細フィラメント繊維のヨコ糸によって織物表面をより広い面積にて覆うことができる。割繊処理は液流染色機内で酸処理を行い、その後アルカリ処理により割繊するとよい。
【００３７】
また、ヨコ糸に用いるポリエステル極細フィラメント繊維は、実質的に無撚糸を使用することが好ましい。実撚糸であると、その螺旋によって砥粒が繊維の長手方向に流れやすくなり、上記と同様の問題があるからである。また、スラリーの含浸性が低下するため、砥粒の保持能力が低下するためである。ここで、実質的に無撚糸とは、延伸機で挿入される２０Ｔ／Ｍ以下の撚数しか持たない糸であることをいう。
【００３８】
上記極細フィラメント繊維の単繊維繊度としては、０．６ｄｔｅｘ以下がよく、さらに好ましくは０．１１ｄｔｅｘ以下であるのがよい。このような極細繊度のフィラメント繊維を使用することにより、粒度０．５μｍ以下の微細砥粒であってもヨコ糸に効率よく保持することができ、良好なテクスチャー加工を可能にする。
【００３９】
本発明において、該極細フィラメント繊維の製造方法は、特に限定されないが、好ましくは複合繊維の割繊糸を用いるのがよい。割繊される複合繊維としては、海島型繊維が好ましい。海島型繊維は、海成分を溶解除去して島成分を極細フィラメント繊維とするものであるが、海島型繊維は類似のポリマーを用いることで紡糸性を保持しながら、島成分を極細化しやすくする利点があるからである。
【００４０】
海島型繊維に用いるポリマーは、島成分にポリエステル、海成分に共重合ポリエステルを用いるのが好ましい。割繊後の島成分から得られる極細フィラメント繊維は、前述の如く断面は丸形がよいものである。
【００４１】
さらに、本発明に使用する研磨用織物には、タテ糸およびヨコ糸の少なくとも一方に制電性繊維を含ませることが好ましい。
【００４２】
すなわち、織物の製造過程では、摩擦帯電によって環境周辺の異物、ごみ、ほこりなどを吸い寄せ、織物表面や織物内部に抱き込むことがある。このような異物等はテクスチャー加工において均一な研磨を阻害する場合がある。しかし、上記のような制電性繊維を含有させておくと、摩擦帯電による異物の混入を大幅に低減することができる。
【００４３】
また、本発明に使用する研磨用織物は、表面をできるだけ平滑化することが好ましい。このように表面を平滑化することにより、研磨加工時の繊維とディスク基板との隙間に砥粒を保持しやすくし、一層優れたテクスチャー加工を可能にする。
【００４４】
このように織物表面を一層平滑にする方法としては、織物表面にカレンダー加工を施すことが好ましく、かつそのカレンダー加工の加工温度としては室温（２０℃）〜８０℃が好ましい。加工温度が１００℃を越えると織物表面に融着が発生するようになり、かえって平滑化が悪化する場合もあるので注意をするのがよい。
【００４５】
一般にカレンダー加工には、加熱、加圧により表面を平滑化するものであるが、本発明の研磨用織物の場合には、室温下で加圧するだけであっても十分に効果のある平滑化を行うことができる。これは、ヨコ糸の極細フィラメント繊維がタテ糸に拘束されずに織物表面により多く存在している（言わば「浮いている」）ので、該繊維群を平滑化することが少しのカレンダー加工で効果的に実現できるからである。上述のカレンダー加工は、織物の研磨面となるサイドにおいて加工効果が主として発揮される加工方式をとることが効果的であり好ましい。
【００４６】
【実施例】
以下に実施例と比較例を示すが、テクスチャー加工の研磨評価は次の方法にて行った。
（１）テクスチャー加工の研磨評価方法：
ハードディスク用アルミ基板を用い、その基板の回転数３００ｒｐｍ、研磨用織物テープの移動速度２ｃｍ／分とし、最大出現粒度０．５μｍのダイヤモンドを配合したスラリーを２０ｃｃ／分の条件で滴下しながら３０秒間研磨加工を行い、その加工後のディスク基板の表面粗さＲａ（平均）とスクラッチの有無を調べた。表面粗さ（Ｒａ）は＜次の基準に従い分類し評価した。
【００４７】
◎：表面粗さＲａが６オングストローム以下。
【００４８】
◯：表面粗さＲａが６オングストローム超で１０オングストローム以下。
【００４９】
×：表面粗さＲａが１０オングストローム超。
実施例１
タテ糸にポリエステルマルチフィラメント糸（生糸（なま糸）：捲縮のないストレートな糸）、丸断面、３３ｄｔｅｘ、総繊度１２フィラメントを用い、一方、ヨコ糸には、海島型繊維（海成分：テレフタル酸と５ナトリウムスルホイソフタル酸の共重合ポリエステル、島成分：ポリエステル１００％、７０本、海成分／島成分＝２０／８０）１３５ｄｔｅｘ、１８フィラメントを２本引き揃えヨコ打ち込みして８枚バックサテン（朱子織）に製織した。
【００５０】
次いで、該８枚朱子織物を精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％の存在下にて８０℃で３０分間アルカリ処理に供して海島型繊維の海成分を除去した。
【００５１】
該海成分除去後の海島型繊維は７０本のポリエステル極細フィラメント繊維の割繊糸になり、単繊維繊度０．０８ｄｔｅｘで、かつ単繊維断面形状は丸形であった。
【００５２】
次いで、上記織物をピンテンターで１８０℃の条件でヒ−トセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１７４本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１３６本／２５．４ｍｍ、カバーファクターＣＦ＝３２３３）に仕上げた。
【００５３】
この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示した通り、表面粗さＲａは７オングストロームであり、結果は良好（○）であった。
実施例２
タテ糸にポリエステルマルチフィラメント糸（生糸（なま糸）、丸断面）５６ｄｔｅｘ、１８フィラメントを用い、またヨコ糸に実施例１と同じ組成の海島型繊維１３５ｄｔｅｘ、１８フィラメントを２本引き揃え、ヨコ打ち込みして５枚バックサテン（朱子織）に製織した。
【００５４】
次いで、該５枚朱子織物を精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％の存在下にて８０℃で３０分間アルカリ処理に供して海島型繊維の海成分を除去した。
【００５５】
海成分除去後の海島型繊維は、７０本のポリエステル極細フィラメント糸繊維からなる割繊糸になり、単繊維繊度０．０８ｄｔｅｘで、かつ単繊維断面形状は丸形であった。
【００５６】
次いで、実施例と同じ条件でヒートセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１３７本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１１９本／２５．４ｍｍ、カバーファクター（ＣＦ）値＝２９８０）に仕上げた。
【００５７】
この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示したように、表面粗さＲａは８オングストロームであり、結果は良好（〇）であった。
実施例３
タテ糸にポリエステルマルチフィラメント糸（制電性生糸（なま糸）、丸形断面）５６ｄｔｅｘ、１８フィラメントを用い、ヨコ糸に実施例１と同じ組成の海島型繊維１３５ｄｔｅｘ、１８フィラメントを２本引き揃えてヨコ打ち込みして１１枚バックサテン（朱子織）に製織した。
【００５８】
次いで該１１枚朱子織物を精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％存在下に８０℃で３０分間アルカリ処理に供して海島型繊維の海成分を除去した。
【００５９】
海成分除去後の海島型繊維は７０本のポリエステル極細フィラメント繊維からなる割繊糸になり、単繊維繊度０．０８ｄｔｅｘで、かつ単繊維断面形状は丸形であった。
【００６０】
次いで、上記織物を実施例１と同じ条件でヒートセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１４２本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１５９本／２５．４ｍｍ、カバーファクターＣＦ＝３６７４）に仕上げた。
【００６１】
この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示したように、表面粗さＲａは５オングストロームであった。結果は極めて良好（◎）であった。
比較例１
タテ糸にポリエステルマルチフィラメント糸（生糸、丸形断面）５６ｄｔｅｘ、１８フィラメントを用い、またヨコ糸に実施例１と同じ組成の海島型繊維１３５ｄｔｅｘ、１８フィラメントを２本引き揃えてヨコ打ち込みし、５枚バックサテン（朱子織）に製織した。次いで精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％存在下に８０℃で３０分間アルカリ処理に供して海島型繊維の海成分を除去した。
【００６２】
海成分除去後の海島型繊維は７０本のポリエステル極細フィラメント繊維からなる割繊糸になり、単繊維繊度０．０８ｄｔｅｘ（０．０７デニール）で、かつ単繊維断面形状は丸形であった。
【００６３】
次いで、上記織物を実施例１と同じ条件でヒ−トセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１１０本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１００本／２５．４ｍｍ、カバーファクター（ＣＦ）値＝２４６６）に仕上げた。この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示したように、表面粗さ（Ｒａ）は１２オングストロームもあり、結果は良好なものとは言えなかった（×）。
比較例２
タテ糸とヨコ糸に、それぞれ実施例１と同じ組成の海島型繊維５６ｄｔｅｘ、９フィラメントの生糸を用いて、平織の製織した。次いで精錬した後、水酸化ナトリウム３０重量％存在下に、８０℃で３０分間アルカリ処理して海島型繊維の海成分を除去した。
【００６４】
次いで、上記平織物を実施例１と同じ条件でヒートセットし、幅１５２ｃｍの布帛（タテ糸密度１６８本／２５．４ｍｍ、ヨコ糸密度１２７本／２５．４ｍｍ、カバーファクター（ＣＦ）値＝２２０７）に仕上げた。この布帛をテクスチャー加工用研磨織物に使用した評価結果を表１に示した。表１に示したように、表面粗さＲａは２４オングストロームもあり、結果は良好と言えず（×）、かつ多数のスクラッチが多発した。
【００６５】
【表１】
0003675355.tif 000002
【００６６】
実施例４、５、６
実施例１で得られた布帛を、さらにローラ圧力３０ｔｏｎ／本、布速度１０ｍ／分として、加工温度をそれぞれ室温（２０℃）、６０℃および８０℃の３水準に異ならせてカレンダー加工した。
【００６７】
加工後の布帛表面は平滑化が向上し、それぞれテクスチャ−加工用研磨織物に使用して評価したところ、表２に示したとおりの結果が得られた。
【００６８】
いずれも加工後のディスク表面粗さ（Ｒａ）は、実施例１よりもさらに向上していて良好な研磨が実現できていた。
【００６９】
【表２】
0003675355.tif 000003
【００７０】
【発明の効果】
上述したように本発明の研磨用織物によれば、磁気ディスク基板の面全体にわたり均一で微細な表面粗さ（Ｒａ）にテクスチャー加工することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明にかかる研磨用織物を用いて磁気ディスク用の基板をテクスチャー加工する場合を例示したモデル外観図であり、同図において、（Ａ）は正面外観図、（Ｂ）は側面外観図である。
【符号の説明】
１：基板
２：ゴムローラ
３：供給リール
４：回収リール
５：供給ノズル
Ｆ：研磨用織物
【図１】
0003675355.tif 000004