(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定物（Ｗ）における複数の被測定箇所の座標と、該複数の被測定箇所に対応する予め設定される基準座標とを、基準座標平面（ＸＹ）上で照合して、前記複数の被測定箇所を検査する外観検査装置において、
所定の線分（ｌ）と、該線分の少なくともいずれか一方の端点（Ｑ）と、前記複数の被測定箇所の一部（Ｈ1 ）に対応し前記端点から所望の間隔で前記線分上に配列されている複数の未知点（Ａ〜Ｅ）と、からなり、前記基準座標平面上に複製されるモデル点列（Ｌ）と、
該モデル点列が記憶されるモデル点列記憶手段（２）と、
前記モデル点列を前記基準座標平面上に最初に複製する初期座標（ｘ，ｙ）と、前記モデル点列の複製回数（Ｎ）と、前記線分上の前記端点及び前記複数の未知点に基づくモデル点列データと、所定の複製座標（ｓ，ｔ）及び点列回転量（θ）からなる複製データ、を入力するデータ入力手段（３）と、
前記モデル点列を前記基準座標平面上の前記初期座標から前記複製回数分順次複製する複製手段（４）と、
前記基準座標平面上において直前に複製された前記モデル点列（Ｌn ）の端点（Ｑn ）及び複数の未知点（Ａn 〜Ｅn ）の配列方向（Ｓ）に基づく複製座標平面（ＳＴ）を作成する複製座標平面作成手段（５）と、
前記複製座標平面上において前記複製座標を読み出して新たな端点（Ｑn+1 ）とし、該新たな端点を回転軸として前記直前に複製された前記モデル点列の配列方向に対し前記点列回転量分回転させて新たに複製される前記モデル点列（Ｌn+1 ）の複製位置を設定する複製制御手段（６）と、
前記初期座標，前記モデル点列データ及び前記複製データに基づき、前記基準座標平面上に複製された総ての前記モデル点列の未知点の基準座標を演算する基準座標演算手段（７）と、
該基準座標演算手段により算出された前記基準座標を格納保持する基準座標記憶手段（８）と、
を具備することを特徴とする外観検査装置。
【請求項２】
被測定物における複数の被測定箇所の座標と、該複数の被測定箇所に対応する予め設定される基準座標とを、基準座標平面上に照合して、前記複数の被測定箇所を検査する外観検査方法において、
所定の線分と、該線分の少なくともいずれか一方の端点と、前記複数の被測定箇所の一部に対応し前記端点から所望の間隔で前記線分上に配列されている複数の未知点と、からなるモデル点列を設定し、
該モデル点列を前記基準座標平面上に最初に複製する初期座標と、前記モデル点列の複製回数と、前記線分上の前記端点及び前記複数の未知点に基づくモデル点列データと、所定の複製座標及び点列回転量からなる複製データ、を入力し、
前記モデル点列を前記基準座標平面上の前記初期座標から複製し、
前記基準座標平面上において直前に複製された前記モデル点列の端点及び複数の未知点の配列方向に基づく複製座標平面を作成し、
該複製座標平面上において前記複製座標を読み出して新たな端点とし、該新たな端点座標を回転軸として前記直前に複製された前記モデル点列の配列方向に対し前記点列回転量分回転させて新たに前記モデル点列を複製し、
前記モデル点列を前記複製回数複製した後、前記初期座標，前記モデル点列データ及び前記複製データに基づき、前記基準座標平面上に複製された総ての前記モデル点列の未知点の基準座標を演算し、
算出された前記基準座標を格納保持することを特徴とする外観検査方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被測定物における複数の被測定箇所の座標と、該複数の被測定箇所に対応する予め設定される基準座標とを、基準座標平面上で照合して、前記複数の半田を検査する外観検査装置及び方法に係り、特に、所定のパターンを有する点列データに基づいて座標を入力する外観検査装置及び方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の印刷半田の検査について説明する。図９（ａ）は、プリント基板上に接続する電子部品を示す図である。この電子部品Ｗ３には、その矩形状の本体の各側面にそれぞれ等間隔に配列されている５本の端子からなる端子列Ｐ５〜Ｐ８が、四方に延出している。プリント基板上には、図９（ｂ）に示すように、各端子列Ｐ５〜Ｐ８に対応するように、半田列Ｈ5 〜Ｈ8 が印刷されている。
【０００３】
また、図１０（ａ）は、プリント基板上に接続するボールグリッドアレイ（ＢＧＡ）Ｗ４を示す図である。このＢＧＡＷ４の裏面には、等間隔に配列されている５個の端子が縦に４本形成されており、この４本の端子列Ｐ５〜Ｐ８に対応するように、プリント基板上には、４本の半田列Ｈ5 〜Ｈ8 が印刷されている。
【０００４】
プリント基板上の半田列Ｈ5 〜Ｈ8 の位置を検査する場合、ＣＣＤカメラやＣＣＤラインセンサの輝度情報により半田列Ｈ5 〜Ｈ8 を読み取り、各半田の座標位置を決定する。そして、電子部品Ｗ３，Ｗ４ごとに予め設定されている基準座標平面に基づく半田の基準座標と照合し、半田の欠損等を検査している。
【０００５】
しかし、半田の基準座標の入力に際しては、半田一つずつに基準座標を入力していたため、入力作業が煩雑である。特に、図１や図７（ａ）に示すような電子部品Ｗ１，Ｗ２をプリント基板に接続する場合、図２や図７（ｂ）に示すようなプリント基板上に形成されている各半田列Ｐ1 〜Ｐ4 の半田が等間隔で配列されていないため、基準座標の設定が困難である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記欠点を除くためになされたものであって、その目的とするところは、モデル点列を所定の間隔及び方向に順次複製して総ての未知点を演算することにより、少ない入力データで被測定物上の複雑な配列をなしている被測定箇所に対応する多数の未知点の座標が得られ、複数の未知点の入力手順の簡素化を図ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
要するに、本発明の請求項１記載の外観検査装置は、被測定物における複数の被測定箇所の座標と、該複数の被測定箇所に対応する予め設定される基準座標とを、基準座標平面ＸＹ上で照合して、前記複数の被測定箇所を検査する外観検査装置において、
所定の線分と、該線分の少なくともいずれか一方の端点と、前記複数の被測定箇所の一部に対応し前記端点から所望の間隔で前記線分上に配列されている複数の未知点と、からなり、前記基準座標平面上に複製されるモデル点列と、
該モデル点列が記憶されるモデル点列記憶手段と、
前記モデル点列を前記基準座標平面上に最初に複製する初期座標と、前記モデル点列の複製回数と、前記線分上の前記端点及び前記複数の未知点に基づくモデル点列データと、所定の複製座標及び点列回転量θからなる複製データ、を入力するデータ入力手段と、
前記モデル点列を前記基準座標平面上の前記初期座標から前記複製回数分順次複製する複製手段と、
前記基準座標平面上において直前に複製された前記モデル点列の端点及び複数の未知点の配列方向に基づく複製座標平面を作成する複製座標平面作成手段５と、
前記複製座標平面上において前記複製座標を読み出して新たな端点とし、該新たな端点を回転軸として前記直前に複製された前記モデル点列の配列方向に対し前記点列回転量分回転させて新たに複製される前記モデル点列の複製位置を設定する複製制御手段と、
前記初期座標，前記モデル点列データ及び前記複製データに基づき、前記基準座標平面上に複製された総ての前記モデル点列の未知点の基準座標を演算する基準座標演算手段と、
該基準座標演算手段により算出された前記基準座標を格納保持する基準座標記憶手段と、
を具備することを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の請求項２記載の外観検査方法は、被測定物における複数の被測定箇所の座標と、該複数の被測定箇所に対応する予め設定される基準座標とを、基準座標平面上に照合して、前記複数の被測定箇所を検査する外観検査方法において、
所定の線分と、該線分の少なくともいずれか一方の端点と、前記複数の被測定箇所の一部に対応し前記端点から所望の間隔で前記線分上に配列されている複数の未知点と、からなるモデル点列を設定し、
該モデル点列を前記基準座標平面上に最初に複製する初期座標と、前記モデル点列の複製回数と、前記線分上の前記端点及び前記複数の未知点に基づくモデル点列データと、所定の複製座標及び点列回転量からなる複製データ、を入力し、
前記モデル点列を前記基準座標平面上の前記初期座標から複製し、
前記基準座標平面上において直前に複製された前記モデル点列の端点及び複数の未知点の配列方向に基づく複製座標平面を作成し、
該複製座標平面上において前記複製座標を読み出して新たな端点とし、該新たな端点座標を回転軸として前記直前に複製された前記モデル点列の配列方向に対し前記点列回転量分回転させて新たに前記モデル点列を複製し、
前記モデル点列を前記複製回数複製した後、前記初期座標，前記モデル点列データ及び前記複製データに基づき、前記基準座標平面上に複製された総ての前記モデル点列の未知点の基準座標を演算し、
算出された前記基準座標を格納保持することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の外観検査装置の第一実施の形態について説明する。図１は、被測定物としてのプリント基板に搭載される電子部品Ｗ（Ｗ１）を示す図であり、図２は、被測定物における複数の被測定箇所としてのプリント基板上に印刷されている半田列Ｈ1 〜Ｈ4 の配列状態を示す図である。図１に示すように、電子部品Ｗ１には、その直方体形状の本体の各側面にそれぞれ配列されている５本の端子からなる端子列Ｐ1 〜Ｐ4 が、四方に延出している。各側面の端子列の一部は等間隔ピッチで形成されており、所定の間隔をおいて残りの端子が形成されている。プリント基板には、電子部品Ｗ１を接続する位置に、電子部品Ｗ１の端子の配列に対応して半田列Ｈ1 〜Ｈ4 が印刷されている。
【００１０】
次に、上述したプリント基板に印刷されている半田Ｈ1 〜Ｈ4 の基準座標を入力する外観検査装置１について説明する。図３は、本発明による外観検査装置１の実施の形態を示すブロック構成図である。外観検査装置１は、内部メモリ等からなるモデル点列記憶手段２と、テンキー，タッチパネル等からなるデータ入力手段３と、不揮発性ＲＡＭ等からなる基準座標記憶手段８と、を有している。また、ＣＰＵは、モデル点列記憶手段２及びデータ入力手段３からのデータに基づいて、演算処理する部分であり、その機能に応じて、複製手段４，複製座標作成手段５，複製制御手段６及び基準座標演算手段７で構成されている。
【００１１】
モデル点列記憶手段２には、プリント基板上に印刷されている複数の半田Ｈ1 〜Ｈ4 の一部Ｈ1 に対応するモデル点列Ｌが記憶されている。モデル点列Ｌは、図４に示すように、所定長さの線分ｌと、線分ｌの少なくともいずれか一方の端点Ｑと、端点Ｑから所望の間隔で線分上に配列されている複数の未知点Ａ〜Ｅと、で構成されている。このモデル点列Ｌは、線分ｌ上の端点Ｑから所定間隔離れた位置に未知点Ａが設定され、この未知点Ａから等間隔ｆで未知点Ｂ〜Ｄが設定され、更に未知点Ｄから所定間隔をおいて未知点Ｅが設定されている。
【００１２】
データ入力手段２には、モデル点列Ｌを基準座標平面ＸＹ上に最初に複製する初期座標（ｘ，ｙ）と、モデル点列Ｌの複製回数Ｎと、モデル点列データと、複製データが入力される。
【００１３】
モデル点列データは、線分ｌ上の端点Ｑ及び複数の未知点Ａ〜Ｅに基づいて設定される。具体的には、各未知点Ａ〜Ｅの端点Ｑからの距離ａ〜ｅが設定されている。なお、このモデル点列の場合、未知点Ａ〜Ｄが等間隔で配列されているため、未知点Ｂ〜Ｄに関しては、端点Ｑからの距離ｂ〜ｄに換えて、その数（この場合は３個）及びその間隔ｆを設定してもよい。複製データは、所定の複製座標（ｓ，ｔ）及び点列回転量θからなるパラメータである。複製データは、直前に複製されたモデル点列Ｌn の端点座標及び配列方向に基づいて、新たに複製されるモデル点列Ｌn+1 の複製位置を設定するための相対的なパラメータである。
【００１４】
複製手段４では、モデル点列Ｌを基準座標平面ＸＹ上の初期座標（ｘ，ｙ）から複製回数Ｎ分順次複製する処理が行われる。
【００１５】
複製座標平面作成手段５では、複製の都度、複数の未知点Ａ〜Ｅの配列方向Ｓ及び配列方向Ｓの直交方向Ｔからなる複製座標平面ＳＴを作成する処理が行われる。原点は、直前に複製されたモデル点列の端点Ｑn である。
【００１６】
複製制御手段６では、ＳＴ複製座標平面上に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）を読み出して新たな端点Ｑn+1 とする処理が行われる。そして、新たな端点Ｑn+1 を回転軸として直前に複製されたモデル点列Ｌn の配列方向Ｓに対し点列回転量θ分回転させたモデル点列Ｌを、新たなモデル点列Ｌn+1 として複製処理をする。
【００１７】
基準座標演算手段７では、初期座標（ｘ，ｙ），モデル点列データ及び複製データに基づき、図６（ｄ）に示すような、複製手段４により基準座標平面ＸＹ上に複製された総てのモデル点列Ｌ1 〜Ｌ4 の未知点Ａ1 〜Ｅ1 ，Ａ2 〜Ｅ2 ，Ａ3 〜Ｅ3 ，Ａ4 〜Ｅ4 ，Ａ5 〜Ｅ5 の基準座標を演算処理する。
基準座標記憶手段８は、基準座標演算手段７により演算処理された総てのモデル点列の未知点Ａ1 〜Ｅ1 ，Ａ2 〜Ｅ2 ，Ａ3 〜Ｅ3 ，Ａ4 〜Ｅ4 ，Ａ5 〜Ｅ5 の基準座標を格納保持する。
【００１８】
次に、本実施の形態の作用について図５及び図６を用いて説明する。まず、図１に示すプリント基板上に印刷されている複数の半田Ｈ1 〜Ｈ4 の一部Ｈ1 に対応するモデル点列Ｌを作成して予めモデル点列記憶手段２に記憶させる。このモデル点列Ｌの配列方向Ｓは、Ｘ軸方向に設定されている。
【００１９】
次に、モデル点列Ｌを基準座標平面ＸＹ上に最初に複製する初期座標（ｘ，ｙ）及びモデル点列Ｌの複製回数Ｎを入力する。そして、モデル点列Ｌのモデル点列データである端点Ｑから各未知点Ａ〜Ｅまでの距離を入力する。最後に、所定の複製座標（ｓ，ｔ）＝（ｓ，０）及び点列回転量θ＝９０°からなる複製データを入力する。
【００２０】
そして、モデル点列Ｌをモデル点列記憶手段２から読み出し、図６（ａ）に示すように、その端点ＱがＸＹ座標平面上の初期座標（ｘ，ｙ）と一致するように１回目の複製処理を行う。このとき、複製されたモデル点列Ｌ1 の配列方向Ｓは、Ｘ軸方向と同一方向となっており、配列方向Ｓに直交する直交方向Ｔは、Ｙ軸方向と同一方向となっている（ＳＴ１）。
【００２１】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎと一致するか否かを判断する（ＳＴ６）。複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎに満たないので、２回目の複製処理に移る（ＳＴ６−ＮＯ）。
【００２２】
次に、図６（ｂ）に示すように、２回目の複製処理を行う。最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の端点Ｑ1 の座標である基準座標（ｘ，ｙ）を原点とし、複数の未知点Ａ1 〜Ｅ1 の配列方向Ｓ及び配列方向Ｓに直交する方向Ｔからなる複製座標平面ＳＴを作成する（ＳＴ４）。この複製座標平面ＳＴ上に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（ｓ，０）を読み出して新たな端点Ｑ2 とする。そして、新たな端点Ｑ2 を回転軸として直前に複製されたモデル点列Ｌ1 の配列方向Ｓに対し点列回転量θ＝９０°分回転させたモデル点列Ｌを、新たなモデル点列Ｌ2 として複製する（ＳＴ５）。
【００２３】
この２回目に複製されたモデル点列の配列方向Ｓは、Ｙ軸と同一方向であり、直交方向ＴはＸ軸と反対方向を向いている。
【００２４】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎと一致するか否かを判断する（ＳＴ６）。複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎに満たないので、３回目の複製処理に移る（ＳＴ６−ＮＯ）。
【００２５】
次に、図６（ｃ）に示すように、３回目の複製処理を行う。２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の端点Ｑ2 を原点とし、複数の未知点Ａ2 〜Ｅ2 の配列方向Ｓ及びその直交方向Ｔからなる複製座標平面ＳＴを作成する（ＳＴ４）。この複製座標平面ＳＴ上に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（ｓ，０）を読み出して新たな端点Ｑ3 とする。そして、新たな端点Ｑ3 を回転軸として直前に複製されたモデル点列Ｌ2 の配列方向Ｓに対し点列回転量θ＝９０°分回転させたモデル点列Ｌを、新たなモデル点列Ｌ3 として複製する（ＳＴ５）。
【００２６】
この３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の配列方向Ｓは、Ｘ軸方向と平行でかつ反対方向であり、直交方向ＴもＹ軸方向と平行でかつ反対方向である。
【００２７】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎと一致するか否かを判断する（ＳＴ６）。複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎに満たないので、４回目の複製処理に移る（ＳＴ６−ＮＯ）。
【００２８】
次に、図６（ｄ）に示すように、４回目の複製処理を行う。３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の端点Ｑ3 を原点とし、複数の未知点Ａ3 〜Ｅ3 の配列方向Ｓ及び配列方向Ｓに直交する方向Ｔからなる複製座標平面ＳＴを作成する（ＳＴ４）。この複製座標平面ＳＴ上に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（ｓ，０）を読み出して新たな端点Ｑ4 とする。そして、新たな端点Ｑ4 を回転軸として直前に複製されたモデル点列Ｌ3 の配列方向Ｓに対し点列回転量θ＝９０°分回転させたモデル点列Ｌを、新たなモデル点列Ｌ4 として複製する（ＳＴ５）。このモデル点列Ｌ4 により、複数の未知点Ａ4 〜Ｅ4 が設定される。
【００２９】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎと一致するか否かを判断する（ＳＴ６）。複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎに一致するので、複製処理は終了する（ＳＴ６−ＹＥＳ）。
【００３０】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製された総てのモデル点列Ｌ1 〜Ｌ4 の未知点Ａ1 〜Ｅ1 ，Ａ2 〜Ｅ2 ，Ａ3 〜Ｅ3 ，Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標を演算する（ＳＴ７）。まず、最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の各未知点Ａ1 〜Ｅ1 の基準座標を算出する。最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の端点Ｑ1 の座標は、初期座標（ｘ，ｙ）として求められる。そして、モデル点列データを読み込む。最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の配列方向ＳはＸ軸方向と同一方向であるので、初期座標（ｘ，ｙ）のＸ成分に、各未知点Ａ1 〜Ｅ1 ごとに端点Ｑ1 からの距離ａ〜ｅを加算する。これにより、最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の線分上の各未知点Ａ1 〜Ｅ1 の基準座標Ａ1 （ｘ＋ａ，ｙ），Ｂ1 （ｘ＋ｂ，ｙ），Ｃ1 （ｘ＋ｃ，ｙ），Ｄ1 （ｘ＋ｄ，ｙ），Ｅ1 （ｘ＋ｅ，ｙ）が算出される。
【００３１】
次に、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の各未知点Ａ2 〜Ｅ2 の基準座標を算出する。最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の配列方向ＳはＸ軸方向と同一方向であり、直交方向ＴはＹ軸方向と同一方向である。したがって、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の端点Ｑ2 の座標は、最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の端点座標Ｑ1 （ｘ，ｙ）に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（ｓ，０）を加算した座標Ｑ2 （ｘ＋ｓ，ｙ）となる。
【００３２】
次に、モデル点列データを読み込む。２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の配列方向Ｓは、最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の配列方向Ｓから点列回転量θ＝９０°分回転させられているので、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の配列方向Ｓは、Ｙ軸方向と同一方向である。したがって、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の端点Ｑ2 の座標（ｘ＋ｓ，ｙ）のＹ成分に、各未知点Ａ2 〜Ｅ2 ごとに端点Ｑ2 からの距離ａ〜ｅを加算する。これにより、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の線分上の各未知点Ａ2 〜Ｅ2 の基準座標Ａ2 （ｘ＋ｓ，ｙ＋ａ），Ｂ2 （ｘ＋ｓ，ｙ＋ｂ），Ｃ2 （ｘ＋ｓ，ｙ＋ｃ），Ｄ2 （ｘ＋ｓ，ｙ＋ｄ），Ｅ2 （ｘ＋ｓ，ｙ＋ｅ）が算出される。
【００３３】
次に、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の各未知点Ａ3 〜Ｅ3 の基準座標を算出する。２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の配列方向ＳはＹ軸方向と同一方向であり、直交方向ＴはＸ軸方向と反対方向である。このため、複製座標平面ＳＴにおける複製データの複製座標（ｓ，ｔ）は、基準座標平面ＸＹにおいて、（−ｔ，ｓ）と変換される。
【００３４】
したがって、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の端点Ｑ3 の座標は、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の端点座標Ｑ2 （ｘ＋ｓ，ｙ）に、変換された複製データの複製座標（−ｔ，ｓ）＝（０，ｓ）を加算した座標Ｑ3 （ｘ＋ｓ，ｙ＋ｓ）となる。
【００３５】
次に、モデル点列データを読み込む。３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の配列方向Ｓは、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の配列方向Ｓから点列回転量θ＝９０°分回転させられているので、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の配列方向Ｓは、Ｘ軸方向と反対方向である。したがって、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の端点Ｑ3 の座標（ｘ＋ｓ，ｙ＋ｓ）のＸ成分に、各未知点Ａ3 〜Ｅ3 ごとに端点Ｑ3 からの距離ａ〜ｅを減算する。これにより、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の線分上の各未知点Ａ3 〜Ｅ3 の基準座標Ａ3 （ｘ＋ｓ−ａ，ｙ＋ｓ），Ｂ3 （ｘ＋ｓ−ｂ，ｙ＋ｓ），Ｃ3 （ｘ＋ｓ−ｃ，ｙ＋ｓ），Ｄ3 （ｘ＋ｓ−ｄ，ｙ＋ｓ），Ｅ3 （ｘ＋ｓ−ｅ，ｙ＋ｓ）が算出される。
【００３６】
次に、４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の各未知点Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標を算出する。３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の配列方向ＳはＸ軸方向と反対方向であり、直交方向ＴはＹ軸方向と反対方向である。このため、複製座標平面ＳＴにおける複製データの複製座標（ｓ，ｔ）は、基準座標平面ＸＹにおいて、（−ｓ，−ｔ）と変換される。
【００３７】
したがって、４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の端点Ｑ4 の座標は、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の端点座標Ｑ3 （ｘ＋ｓ，ｙ＋ｓ）に、変換された複製データの複製座標（−ｓ，−ｔ）＝（−ｓ，０）を加算した座標Ｑ4 （ｘ，ｙ＋ｓ）となる。
【００３８】
次に、モデル点列データを読み込む。４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の配列方向Ｓは、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の配列方向Ｓから点列回転量θ＝９０°分回転させられているので、４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の配列方向Ｓは、Ｙ軸方向と反対方向である。したがって、４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の端点Ｑ4 の座標（ｘ，ｙ＋ｓ）のＹ成分に、各未知点Ａ4 〜Ｅ4 ごとの端点Ｑ4 からの距離ａ〜ｅを減算する。これにより、４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の線分上の各未知点Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標Ａ4 （ｘ−ａ，ｙ＋ｓ），Ｂ4 （ｘ−ｂ，ｙ＋ｓ），Ｃ4 （ｘ−ｃ，ｙ＋ｓ），Ｄ4 （ｘ−ｄ，ｙ＋ｓ），Ｅ4 （ｘ−ｅ，ｙ＋ｓ）が算出される。
【００３９】
基準座標平面ＸＹ上に複製された総てのモデル点列Ｌ1 〜Ｌ4 の未知点Ａ1 〜Ｅ1 ，Ａ2 〜Ｅ2 ，Ａ3 〜Ｅ3 ，Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標を座標記憶手段８に格納する。
【００４０】
プリント基板上に印刷された半田Ｈ1 〜Ｈ4 の位置を検査する場合、半田Ｈ1 〜Ｈ4 が印刷されたプリント基板をＣＣＤ等で読み込んで、半田Ｈ1 〜Ｈ4 の印刷位置を座標値に換算する。この座標値と基準座標記憶手段８に格納されている基準座標Ａ1 〜Ｅ1 ，Ａ2 〜Ｅ2 ，Ａ3 〜Ｅ3 ，Ａ4 〜Ｅ4 を比較して、半田Ｈ1 〜Ｈ4 の印刷位置のずれや欠落しているか否かを検査する。
【００４１】
次に、本発明の第二実施の形態について説明する。本実施の形態では、図７（ａ）に示すように、電子部品Ｗとしてボールグリッドアレイ（ＢＧＡ）Ｗ２を用いた例である。プリント基板に印刷されている半田列Ｈ1 〜Ｈ4 は、図７（ｂ）に示すように配列されている。なお、複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（０，ｔ）とし、点列回転量θ＝０°とする。モデル点列は、第一実施の形態のモデル点列Ｌを用いる。
【００４２】
本実施の形態では、点列回転量θがθ＝０°であるので、基準座標平面ＸＹのＸ軸と複製座標平面ＳＴのＳ軸とが常に同一方向であり、基準座標平面ＸＹのＹ軸と複製座標平面ＳＴのＴ軸とも常に同一方向である。
【００４３】
したがって、本実施の形態の複製処理は以下のようになる。なお、ＳＴ１及びＳＴ２は第一実施の形態と同様であるので省略する。まず、図８（ａ）に示すように、モデル点列Ｌをモデル点列記憶手段２から読み出し、その端点Ｑが基準座標平面ＸＹ上の初期座標（ｘ，ｙ）と一致するように１回目の複製処理を行う（ＳＴ３）。
【００４４】
次に、図８（ｂ）に示すように、２回目の複製処理を行う。最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の端点Ｑ1 の座標である初期座標（ｘ，ｙ）を原点とし、複数の未知点Ａ1 〜Ｅ1 の配列方向Ｓ及び配列方向Ｓに直交する方向Ｔからなる複製座標平面ＳＴを作成する（ＳＴ４）。この複製座標平面ＳＴ上に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（０，ｔ）を読み出して新たな端点Ｑ2 とする。そして、点列回転量θ＝０°であるため、新たな端点Ｑ2 を回転軸として直前に複製されたモデル点列Ｌ1 と同一配列方向のモデル点列Ｌを、新たなモデル点列Ｌ2 として複製する（ＳＴ５）。
【００４５】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎと一致するか否かを判断する（ＳＴ６）。複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎに満たないので、２回目の複製処理に移る（ＳＴ６−ＮＯ）。
【００４６】
次に、図８（ｃ）に示すように、３回目の複製処理を行う。２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の端点Ｑ2 を原点とし、複数の未知点Ａ2 〜Ｅ2 の配列方向Ｓ及び配列方向Ｓに直交する直交方向Ｔからなる複製座標平面ＳＴを作成する（ＳＴ４）。この複製座標平面ＳＴ上に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（０，ｔ）を読み出して新たな端点Ｑ3 とする。そして、点列回転量θ＝０°であるため、新たな端点Ｑ3 を回転軸として直前に複製されたモデル点列Ｌ2 と同一配列方向のモデル点列Ｌを、新たなモデル点列Ｌ3 として複製する（ＳＴ５）。
【００４７】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎと一致するか否かを判断する（ＳＴ６）。複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎに満たないので、４回目の複製処理に移る（ＳＴ６−ＮＯ）。
【００４８】
次に、図８（ｄ）に示すように、４回目の複製処理を行う。３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の端点Ｑ3 を原点とし、複数の未知点Ａ3 〜Ｅ3 の配列方向Ｓ及び配列方向Ｓに直交する直交方向Ｔからなる複製座標平面ＳＴを作成する（ＳＴ４）。この複製座標平面ＳＴ上に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（０，ｔ）を読み出して新たな端点Ｑ4 とする。そして、点列回転量θ＝０°であるため、新たな端点Ｑ4 を回転軸として直前に複製されたモデル点列Ｌ3 と同一配列方向のモデル点列Ｌを、新たなモデル点列Ｌ4 として複製する（ＳＴ５）。このモデル点列Ｌ4 により、複数の未知点Ａ4 〜Ｅ4 が設定される。
【００４９】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎと一致するか否かを判断する（ＳＴ６）。複製されたモデル点列の数が、入力した複製回数Ｎに一致するので、複製処理は終了する（ＳＴ６−ＹＥＳ）。
【００５０】
次に、基準座標平面ＸＹ上に複製された総てのモデル点列Ｌ1 〜Ｌ4 の未知点Ａ1 〜Ｅ1 ，Ａ2 〜Ｅ2 ，Ａ3 〜Ｅ3 ，Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標を演算する（ＳＴ７）。まず、最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の各未知点Ａ1 〜Ｅ1 の基準座標を算出する。最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の端点Ｑ1 の座標は、初期座標（ｘ，ｙ）として求められる。そして、モデル点列データを読み込む。最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の配列方向ＳはＸ軸方向と同一方向であるので、初期座標（ｘ，ｙ）のＸ成分に、各未知点Ａ1 〜Ｅ1 ごとに端点Ｑ1 からの距離ａ〜ｅを加算する。これにより、最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の線分上の各未知点Ａ1 〜Ｅ1 の基準座標Ａ1 （ｘ＋ａ，ｙ），Ｂ1 （ｘ＋ｂ，ｙ），Ｃ1 （ｘ＋ｃ，ｙ），Ｄ1 （ｘ＋ｄ，ｙ），Ｅ1 （ｘ＋ｅ，ｙ）が算出される。
【００５１】
次に、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の各未知点Ａ2 〜Ｅ2 の基準座標を算出する。２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の端点Ｑ2 の座標は、最初に複製されたモデル点列Ｌ1 の端点座標Ｑ1 （ｘ，ｙ）に複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（０，ｔ）を加算した座標Ｑ2 （ｘ，ｙ＋ｔ）となる。
【００５２】
次に、モデル点列データを読み込む。２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の端点Ｑ2 の座標（ｘ，ｙ＋ｔ）のＸ成分に、各未知点Ａ2 〜Ｅ2 ごとに端点Ｑ2 からの距離ａ〜ｅを加算する。これにより、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の線分上の各未知点Ａ2 〜Ｅ2 の基準座標Ａ2 （ｘ＋ａ，ｙ＋ｔ），Ｂ2 （ｘ＋ｂ，ｙ＋ｔ），Ｃ2 （ｘ＋ｃ，ｙ＋ｔ），Ｄ2 （ｘ＋ｄ，ｙ＋ｔ），Ｅ2 （ｘ＋ｅ，ｙ＋ｔ）が算出される。
【００５３】
次に、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の各未知点Ａ3 〜Ｅ3 の基準座標を算出する。３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の端点Ｑ3 の座標は、２回目に複製されたモデル点列Ｌ2 の端点座標Ｑ2 （ｘ，ｙ＋ｔ）に、複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（０，ｔ）を加算した座標Ｑ3 （ｘ，ｙ＋２ｔ）となる。
【００５４】
次に、モデル点列データを読み込む。３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の端点Ｑ3 の座標（ｘ，ｙ＋２ｔ）のＸ成分に、各未知点Ａ3 〜Ｅ3 ごとに端点Ｑ3 からの距離ａ〜ｅを加算する。これにより、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の線分上の各未知点Ａ3 〜Ｅ3 の基準座標Ａ3 （ｘ＋２ａ，ｙ＋ｔ），Ｂ3 （ｘ＋２ｂ，ｙ＋ｔ），Ｃ3 （ｘ＋２ｃ，ｙ＋ｔ），Ｄ3 （ｘ＋２ｄ，ｙ＋ｔ），Ｅ3 （ｘ＋２ｅ，ｙ＋ｔ）が算出される。
【００５５】
次に、４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の各未知点Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標を算出する。４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の端点Ｑ4 の座標は、３回目に複製されたモデル点列Ｌ3 の端点座標Ｑ3 （ｘ，ｙ＋２ｔ）に、複製データの複製座標（ｓ，ｔ）＝（０，ｔ）を加算した座標Ｑ4 （ｘ，ｙ＋３ｔ）となる。
【００５６】
次に、モデル点列データを読み込む。４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の端点Ｑ4 の座標（ｘ，ｙ＋３ｔ）のＸ成分に、各未知点Ａ4 〜Ｅ4 ごとに端点Ｑ4 からの距離ａ〜ｅを加算する。これにより、４回目に複製されたモデル点列Ｌ4 の線分上の各未知点Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標Ａ4 （ｘ＋３ａ，ｙ＋ｔ），Ｂ4 （ｘ＋３ｂ，ｙ＋ｔ），Ｃ4 （ｘ＋３ｃ，ｙ＋ｔ），Ｄ4 （ｘ＋３ｄ，ｙ＋ｔ），Ｅ4 （ｘ＋３ｅ，ｙ＋ｔ）が算出される。
【００５７】
基準座標平面ＸＹ上に複製された総てのモデル点列Ｌ1 〜Ｌ4 の未知点Ａ1 〜Ｅ1 ，Ａ2 〜Ｅ2 ，Ａ3 〜Ｅ3 ，Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標を座標記憶手段８に格納する（ＳＴ８）。
【００５８】
なお、上述したいずれの実施の形態においても、図４に示すようなモデル点列Ｌを用いたがこれに限定されることはない。また、初期座標（ｘ，ｙ），複製回数Ｎ，モデル点列データ，複製データも任意に設定することができる。更に、基準座標平面ＸＹ上に複製された総てのモデル点列Ｌ1 〜Ｌ4 の未知点Ａ1 〜Ｅ1 ，Ａ2 〜Ｅ2 ，Ａ3 〜Ｅ3 ，Ａ4 〜Ｅ4 の基準座標と、電子部品Ｗ１上に印刷されている半田の座標と、を基準座標平面（ＸＹ）上で照合して、部品認識装置として電子部品の外観を検査することができる。
【００５９】
【発明の効果】
以上説明したように本発明による外観検査装置及び方法では、モデル点列を所定の間隔及び方向に順次複製して総ての未知点を演算することにより、少ない入力データで被測定物上の複雑な配列をなしている被測定箇所に対応する多数の未知点の座標が得られ、複数の未知点の入力手順の簡素化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による外観検査装置及び方法の第一実施の形態で用いる電子部品を示す図である。
【図２】第一実施の形態で用いられる電子部品の端子の配列に対応した、プリント基板上に印刷されている半田を示す図である。
【図３】本発明による外観検査装置の概略ブロック構成図である。
【図４】本発明による外観検査装置及び方法で用いられるモデル点列を示す図である。
【図５】本発明による外観検査方法を示すフローチャートである。
【図６】本発明による外観検査装置及び方法の第一実施の形態における複製処理を示す図である。
【図７】本発明による外観検査装置及び方法の第一実施の形態で用いる電子部品及びプリント基板上の半田を示す図である。
【図８】本発明による外観検査装置及び方法の第二実施の形態における複製処理を示す図である。
【図９】従来の電子部品及びプリント基板上の半田を示す図である。
【図１０】従来のＢＧＡ及びプリント基板上の半田を示す図である。
【符号の説明】
１…外観検査装置
２…モデル点列記憶手段
３…データ入力手段
４…複製手段
５…複製座標平面作成手段
６…複製制御手段
７…基準座標演算手段
８…基準座標記憶手段
ＸＹ…基準座標平面
ＳＴ…複製座標平面
Ｌ…モデル点列
１…所定の線分
Ｑ…端点
Ａ〜Ｅ…未知点
（ｘ，ｙ）…初期座標
Ｎ…複製回数
（ｓ，ｔ）…複製座標
θ…点列回転量
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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