(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）一方の基板上に、エポキシ樹脂と、（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂と、潜在性エポキシ硬化剤とを含む液晶シール剤を塗布形成して枠状のシールパターンを得る工程と、
２）前記一方の基板上に形成したシールパターンで囲まれた領域、または前記シールパターンで囲まれた領域と対向する他方の基板上に、液晶を滴下する工程と、
３）前記シールパターンが未硬化の状態で、前記一方の基板と前記他方の基板とを貼りあわせる工程と、
４）前記シールパターンを光硬化させた後、熱硬化させる工程と、
を含む液晶滴下工法用の液晶表示パネルの製造方法であって、
前記１）の工程では、前記液晶シール剤または前記一方の基板を２６〜５０℃に加温し、
前記潜在性エポキシ硬化剤は、融点が１７０℃以上の有機酸ジヒドラジド化合物、融点が１３０℃以下のイミダゾール変性化合物、融点が１３０℃以下のポリアミン化合物および融点が１３０℃以下のポリアミノウレア化合物からなる群より選ばれる少なくとも一の化合物からなり、
Ｅ型粘度計を用いて２５℃、１ｒｐｍで測定される粘度η１（２５℃）が１００〜５００Ｐａ・ｓであり、４０℃、１ｒｐｍで測定される粘度η２（４０℃）が１０〜６０Ｐａ・ｓであり、かつ
４０℃で２４時間保存後に、Ｅ型粘度計を用いて２５℃、１ｒｐｍで測定される粘度をη３（２５℃）としたとき、下記式（１）で表される粘度上昇率が１．０〜１．１である、液晶表示パネルの製造方法。
粘度上昇率＝η３（２５℃）／η１（２５℃）・・・（１）
【請求項２】
前記（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂の含有量が、硬化性樹脂全体１００重量部に対して４０重量部以上である、請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記潜在性エポキシ硬化剤の含有量が、硬化性樹脂全体１００重量部に対して１〜２０重量部である、請求項１または２に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記液晶シール剤を、ディスペンサにより塗布する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記液晶シール剤を、スクリーン印刷により塗布する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶表示パネルの製造方法により製造される液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話やパーソナルコンピュータをはじめとする各種電子機器の画像表示パネルとして、液晶表示パネルが広く使用されている。液晶表示パネルは、表面に電極が設けられた２枚の透明基板の間に液晶材料（以下、単に「液晶」という）を挟み込み、その周りを液晶シール剤によってシールされた構造を有する画像表示パネルである。
【０００３】
上記液晶シール剤は、その使用量は僅かであるものの液晶と直接接触するため、液晶表示パネルの信頼性に大きな影響を与える。したがって、液晶表示パネルの高画質化を実現するため、現在、液晶シール剤には、高度かつ多様な特性が求められている。
【０００４】
従来から、液晶表示パネルは、主に液晶注入工法によって製造されている。液晶注入工法は、一般に、（１）１枚の透明な基板の上に液晶シール剤を塗布して枠を形成し、（２）当該基板をプレキュア処理することによって液晶シール剤を乾燥させた後、他方の基板を貼り合わせ、（３）この２枚の基板を加熱圧締し、基板同士を接着させることにより基板の間に液晶シール剤の枠（セル）を形成し、（４）空のセル内に適量の液晶を注入した後、液晶の注入口を封止することにより液晶表示パネルを製造する方法である。
【０００５】
一方、最近では、生産性の向上が見込まれる液晶表示パネルの製造方法として液晶滴下工法が検討されている。液晶滴下工法は、（１）透明な基板の上に液晶シール剤を塗布して液晶を充填するための枠を形成し、（２）前記枠内に微小の液晶を滴下し、（３）液晶シール剤が未硬化状態のままで２枚の基板を高真空下で重ね合わせた後、（４）液晶シール剤を硬化させてパネルを製造する方法である。通常、液晶滴下工法では、光および熱硬化性の液晶シール剤を使用し、上記（４）の工程で、液晶シール剤に紫外線などの光を照射する仮硬化を行った後、加熱による後硬化が行われている。
【０００６】
この液晶滴下工法では、液晶シール剤が未硬化の状態で液晶と接触するため、液晶注入工法よりも液晶シール剤の成分が液晶に溶解しやすい。このため、液晶表示パネルの表示特性が低下し易いという問題があった。
【０００７】
これに対して、液晶滴下工法用の液晶シール剤として、種々のものが提案されている（例えば特許文献１〜４）。これらの液晶シール剤の多くは、液晶がシールパターンの外側へ滲み出すことによるリークや、シールパターン成分が液晶に溶解することによる液晶汚染を抑制する等の観点から、比較的高粘度に調整されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−２３４１９号公報
【特許文献２】特開２００５−３０８８１１号公報
【特許文献３】特許第３５８３３２６号公報
【特許文献４】特開２００９−８７５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで本発明者らは、液晶滴下工法用の液晶シール剤に、アクリル樹脂とエポキシ樹脂の相溶性を高めて、硬化性および接着性を高めるために、一定以上の（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂を含ませている。しかしながら、（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂を一定以上含む液晶シール剤は、特に粘度が高く、粘度安定性も低いという問題があった。このため、液晶シール剤を常温で塗布してシールパターンを得ることが難しかった。また、得られるシールパターンは線幅が不均一になり易く、液晶表示パネルのシール性が低下したり、基板と基板とのギャップ（セルギャップ）を調整し難くなったりするという問題があった。
【００１０】
一方、液晶シール剤の塗布速度を小さくすれば、一定のシールパターンを得ることはできるものの、製造効率が低下するという問題があった。
【００１１】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法において、製造効率を低下させることなく、シール性と表示特性（特に耐湿表示特性）に優れた液晶表示パネルを得るための液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂を一定以上含む液晶シール剤であっても、加温下で塗布することで、塗布性を向上できることを見出した。一方で、液晶シール剤を加温すると、液晶シール剤に含まれる硬化性樹脂と硬化剤との予期せぬ反応等が生じ、加温下での粘度安定性が低くなるという不具合があった。
【００１３】
そこで本発明者らは、特定の有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾール変性化合物、ポリアミン化合物およびポリアミノウレア化合物からなる群より選ばれる少なくとも一の化合物からなる潜在性エポキシ硬化剤を用いることにより、加温下での液晶シール剤の粘度上昇率を少なくできること；即ち加温下での粘度安定性を高められることを見出した。本発明は、このような知見に基づきなされたものである。
【００１４】
本発明は、以下の液晶表示パネルの製造方法に関する。
［１］  １）一方の基板上に、エポキシ樹脂と、（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂と、潜在性エポキシ硬化剤とを含む液晶シール剤を塗布形成して枠状のシールパターンを得る工程と、２）前記一方の基板上に形成したシールパターンで囲まれた領域、または前記シールパターンで囲まれた領域と対向する他方の基板上に、液晶を滴下する工程と、３）前記シールパターンが未硬化の状態で、前記一方の基板と前記他方の基板とを貼りあわせる工程と、４）前記シールパターンを光硬化させた後、熱硬化させる工程と、を含む液晶滴下工法用の液晶表示パネルの製造方法であって、前記１）の工程では、前記液晶シール剤または前記一方の基板を２６〜５０℃に加温し、Ｅ型粘度計を用いて２５℃、１ｒｐｍで測定される粘度η１（２５℃）が１００〜５００Ｐａ・ｓであり、４０℃、１ｒｐｍで測定される粘度η２（４０℃）が１０〜６０Ｐａ・ｓであり、かつ４０℃で２４時間保存後に、Ｅ型粘度計を用いて２５℃、１ｒｐｍで測定される粘度をη３（２５℃）としたとき、下記式（１）で表される粘度上昇率が１．０〜１．１である、液晶表示パネルの製造方法。
粘度上昇率＝η３（２５℃）／η１（２５℃）・・・（１）
［２］  前記潜在性エポキシ硬化剤は、融点が１７０℃以上の有機酸ジヒドラジド化合物、融点が１３０℃以下のイミダゾール変性化合物、融点が１３０℃以下のポリアミン化合物および融点が１３０℃以下のポリアミノウレア化合物からなる群より選ばれる少なくとも一の化合物からなる、［１］に記載の液晶表示パネルの製造方法。
［３］  前記（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂の含有量が、前記硬化性樹脂全体１００重量部に対して４０重量部以上である、［１］または［２］に記載の液晶表示パネルの製造方法。
［４］  前記潜在性エポキシ硬化剤の含有量が、前記硬化性樹脂全体１００重量部に対して１〜２０重量部である、［１］〜［３］のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法。
［５］  前記液晶シール剤を、ディスペンサにより塗布する、［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法。
［６］  前記液晶シール剤を、スクリーン印刷により塗布する、［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法。
【００１５】
本発明の第二は、以下の液晶表示パネルに関する。
［７］  ［１］〜［６］のいずれかに記載の液晶表示パネルの製造方法により製造される液晶表示パネル。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、液晶シール剤の塗布性が高く、製造効率の高い液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法を提供できる。この液晶表示パネルの製造方法により得られる液晶表示パネルは、シール性（耐湿性）および表示特性に優れている。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
１．液晶シール剤
本発明に用いられる液晶シール剤は、後述の液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法に好適な液晶シール剤であって、（Ａ）エポキシ樹脂と、（Ｂ）特定の潜在性エポキシ硬化剤と、（Ｃ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂とを含み、必要に応じて（Ｄ）アクリル樹脂、（Ｅ）光重合開始剤、および（Ｆ）フィラー等をさらに含んでよい。
【００１８】
（Ａ）エポキシ樹脂
エポキシ樹脂は、２官能以上のエポキシ樹脂であれば、特に限定されず、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型、ビスフェノールＡＤ型、および水添ビスフェノール型等のビスフェノール型エポキシ樹脂；ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂；フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、ビスフェノールノボラック型、ナフトールノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型エポキシ樹脂；ビフェニル型エポキシ樹脂；ナフチル型エポキシ樹脂；トリフェノールメタン型、トリフェノールエタン型、トリフェノールプロパン型等のトリフェノールアルカン型エポキシ樹脂；脂環型エポキシ樹脂等が含まれる。
【００１９】
なかでも、２官能のエポキシ樹脂が好ましく、ビスフェノールＡ型およびビスフェノールＦ型等のビスフェノール型エポキシ樹脂がより好ましい。これらのビスフェノール型エポキシ樹脂は、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂等と比べて結晶性が低いため、塗布性や粘度安定性に優れる等の利点があるからである。
【００２０】
エポキシ樹脂は、単独で用いてもよいし、種類や分子量の異なる２種類以上のエポキシ樹脂を組み合わせて用いてもよい。エポキシ樹脂は、分子蒸留法などによって高純度化され、不純物が取り除かれた樹脂であることが好ましい。
【００２１】
エポキシ樹脂の含有量は、１００重量部の液晶シール剤に対して、好ましくは１〜２０重量部であり、より好ましくは３〜１０重量部である。
【００２２】
（Ｂ）潜在性エポキシ硬化剤
潜在性エポキシ硬化剤は、エポキシ樹脂に混合されていても、樹脂を通常保存する状態（室温、可視光線下等）ではエポキシ樹脂を硬化させないが、熱が与えられるとエポキシ樹脂を硬化させる化合物である。具体的には、常温では固体であり、加熱硬化時に液化して硬化剤として作用する潜在性エポキシ硬化剤などである。このような潜在性エポキシ硬化剤を液晶シール剤に含ませることにより、液晶シール剤の室温での粘度安定性が向上する。
【００２３】
潜在性エポキシ硬化剤は、好ましくは融点が５０℃以上の硬化剤、より好ましくは融点５０℃以上２５０℃以下である熱硬化剤が好ましい。
【００２４】
なかでも、熱硬化剤は、融点が１７０℃以上の有機酸ジヒドラジド化合物、融点が１３０℃以下のイミダゾール変性化合物、融点が１３０℃以下のポリアミン化合物および融点が１３０℃以下のポリアミノウレア化合物からなる群より選ばれる少なくとも一の化合物からなることが好ましい。これらの熱硬化剤は、単独で用いてもよいし、複数以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２５】
融点が１７０℃以上である有機酸ジヒドラジド化合物の例には、アジピン酸ジヒドラジド（融点１８１℃）、ドデカン二酸ジヒドラジド（融点１９０℃）、イソフタル酸ジヒドラジド（融点２２４℃）、およびセバシン酸ジヒドラジド（融点１８９℃）などが含まれる。このように、一定以上の融点を有する有機酸ジヒドラジド化合物は、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン（ＶＤＨ）等の融点が低い有機酸ジヒドラジド化合物と比べて熱的に安定であるため、加温下における粘度安定性に優れる。
【００２６】
融点が１３０℃以下のイミダゾール変性化合物の例には、味の素ファインテクノ社製ＰＮ-２３（融点１００℃）、ＰＮ−４０Ｊ（融点１１０℃）、ＭＹ−Ｈ（融点１３０℃）、ＭＹ−２４（融点１２０℃）、およびＡＤＥＫＡ社製ＥＨ-４３４４Ｓ（１１０℃）等が含まれる。融点が１３０℃以下のポリアミン化合物の例には、ＡＤＥＫＡ社製ＥＨ−５０５７（８０℃）が含まれる。融点が１３０℃以下のポリアミノウレア化合物の例には、フジキュアＦＸＲ−１０８１（融点１２１℃）、およびフジキュアＦＸＲ−１０２０（融点１２４℃）などが含まれる。ポリアミノウレア化合物とは、アミンと尿素を加熱硬化させて得られる化合物である。
【００２７】
潜在性エポキシ硬化剤は、前述の通り固形物であり、その数平均粒子径は４μｍ以下であることが好ましく、０．５〜４μｍであることがより好ましく、１〜３μｍであることがさらに好ましい。潜在性エポキシ硬化剤の数平均粒子径が０．５μｍよりも小さいと粘度安定性が低下しやすく、数平均粒子径が４μｍを超えると、分散性が低下するからである。潜在性エポキシ硬化剤の粒子径は、ビーズミル、ボールミル等により粉砕することで調整できる。
【００２８】
潜在性エポキシ硬化剤の含有量は、硬化性樹脂の合計（（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｃ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂および（Ｄ）アクリル樹脂の合計）１００重量部に対して、好ましくは１〜２０重量部であり、より好ましくは３〜１５重量部である。
【００２９】
（Ｃ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂
（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂には、２官能以上のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸または（メタ）アクリル酸エステルとを反応させることにより得られる樹脂が含まれる。原料となる２官能以上のエポキシ樹脂は、前述のエポキシ樹脂と同様のものであってよい。
【００３０】
原料としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等の２官能のエポキシ樹脂を用いる場合は、（メタ）アクリル酸をエポキシ基と（メタ）アクリル酸がほぼ１：１となる比率で反応させて得られる樹脂が好ましい。
【００３１】
このように、（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂は、分子内にエポキシ基と（メタ）アクリル基とを有するため、それを含む液晶シール剤は、光硬化性と熱硬化性とを併せ持つことができる。また、（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂は、（Ｄ）アクリル樹脂と（Ａ）エポキシ樹脂の相溶性を高めることができる。このため、硬化性および接着信頼性に優れた硬化物が得られる。
【００３２】
（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂の含有量は、１００重量部の液晶シール剤に対して、４０重量部以上であり、好ましくは４０〜７０重量部である。
【００３３】
（Ｄ）アクリル樹脂
本発明の液晶シール剤は、必要に応じてアクリル樹脂を含んでいてもよい。アクリル樹脂の例には、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジアクリレートおよび／またはジメタクリレート；トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジアクリレートおよび／またはジメタクリレート；ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジアクリレートおよび／またはジメタクリレート；ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジアクリレートおよび／またはジメタクリレート；トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリアクリレートおよび／またはジまたはトリメタクリレート；ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジアクリレートおよび／またはジメタクリレート；トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートおよび／またはトリメタクリレート；トリメチロールプロパントリアクリレートおよび／またはトリメタクリレート、またはそのオリゴマー；ペンタエリスリトールトリアクリレートおよび／またはトリメタクリレート、またはそのオリゴマー；ジペンタエリスリトールのポリアクリレートおよび／またはポリメタクリレート；トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート；カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート；カプロラクトン変性トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート；アルキル変性ジペンタエリスリトールのポリアクリレートおよび／またはポリメタクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのポリアクリレートおよび／またはポリメタクリレート；ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレートおよび／またはジメタクリレート；カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレートおよび／またはジメタクリレート；エチレンオキサイド変性リン酸アクリレートおよび／またはジメタクリレート；エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸アクリレートおよび／またはジメタクリレート；ネオペンチルグルコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのオリゴアクリレートおよび／またはオリゴメタクリレート等が含まれる。
【００３４】
アクリル樹脂の含有量は、１００重量部の液晶シール剤に対して、好ましくは１〜４０重量部であり、より好ましくは３〜２０重量部である。
【００３５】
（Ｅ）光重合開始剤
光重合開始剤は、（Ｃ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂や（Ｄ）アクリル樹脂などを光硬化させるための重合開始剤である。液晶シール剤が光重合開始剤を含むと、液晶パネルを製造する際に光硬化によるシール剤の仮硬化が可能となり、作業工程が容易になる。
【００３６】
光重合開始剤としては公知のものが使用できる。この例には、アルキルフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサトン系化合物、α−アシロキシムエステル系化合物、フェニルグリオキシレート系化合物、ベンジル系化合物、アゾ系化合物、ジフェニルスルフィド系化合物、有機色素系化合物、鉄−フタロシアニン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、アントラキノン系化合物等が含まれる。
【００３７】
アルキルフェノン系化合物の例には、２,２-ジメトキシ-１,２-ジフェニルエタン-１-オン（IRGACURE 651）等のベンジルジメチルケタール；２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン（IIRGACURE 907）等のα−アミノアルキルフェノン；１-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン（IRGACURE 184）等のα−ヒドロキシアルキルフェノン等が含まれる。アシルフォスフィンオキサイド系化合物の例には、２,４,６-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド等が含まれ、チタノセン系化合物には、ビス(η５-２,４-シクロペンタジエン-１-イル)-ビス(２,６-ジフルオロ-３-(１H-ピロール-１-イル)-フェニル）チタニウム（IRGACURE 784）等が含まれ、オキシムエステル化合物の例には、１.２-オクタンジオン-１-[４-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)]（IRGACURE OXE 01）などが含まれる。
【００３８】
光重合開始剤の含有量は、（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）潜在性エポキシ硬化剤、（Ｃ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂および（Ｄ）アクリル樹脂の合計（以下「樹脂ユニット」ともいう）１００重量部に対して０．３〜５．０重量部であることが好ましい。前記含有量を０．３重量部以上とすることにより液晶シール剤の光照射による硬化性が良好となり、５．０重量部以下とすることにより、基板への塗布時の安定性が良好となる。
【００３９】
（Ｆ）フィラー
本発明の液晶シール剤は、さらにフィラーを含んでいてもよい。フィラーの添加により、液晶シール剤の粘度、硬化物の強度、および線膨張性の制御等を行うことができる。
【００４０】
フィラーは、特に制限されないが、その例には、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、チタン酸カリウム、カオリン、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等の無機フィラーが含まれ、好ましくは二酸化ケイ素、タルクである。
【００４１】
フィラーの形状は、特に限定されず、球状、板状、針状等の定形状あるいは非定形状のいずれであってもよい。フィラーは平均一次粒子径が１．５μｍ以下であることが好ましく、かつその比表面積が０．５ｍ２／ｇ〜２０ｍ２／ｇであることが好ましい。フィラーの平均一次粒子径は、ＪＩＳ  Ｚ８８２５−１に記載のレーザー回折法で測定できる。また、比表面積測定は、ＪＩＳ  Ｚ８８３０に記載のＢＥＴ法により測定できる。
【００４２】
フィラーの充填量は、樹脂ユニット１００重量部に対して、１〜５０重量部であることが好ましく、１０〜３０重量部であることがより好ましい。
【００４３】
（Ｇ）熱可塑性樹脂粒子
本発明の液晶シール剤は、必要に応じてエポキシ樹脂で変性された熱可塑性樹脂粒子（「エポキシ変性粒子」ともいう）を含んでもよい。熱可塑性樹脂粒子は、エポキシ基と二重結合基を含む樹脂を、ラジカル重合可能なモノマーと懸濁重合して得られる。
【００４４】
エポキシ基と二重結合基を含む樹脂の例には、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂とメタアクリル酸を三級アミン存在下で反応させた樹脂が含まれる。ラジカル重合可能なモノマーの例には、ブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、およびジビニルベンゼンが含まれる。熱可塑性樹脂粒子は、樹脂ユニット１００重量部に対して１〜３０重量部が好ましい。熱可塑性樹脂粒子の平均粒径は、液晶セルのギャップは５μｍ以下が主流であるために、通常０．０５〜５μｍ、好ましくは０．０７〜３μｍの範囲であることがより好ましい。
【００４５】
（Ｈ）その他の添加剤
本発明の液晶シール剤は、必要に応じてさらに、熱ラジカル重合開始剤、シランカップリング剤等のカップリング剤、イオントラップ剤、イオン交換剤、レベリング剤、顔料、染料、可塑剤、消泡剤等の添加剤を含んでいてもよい。また、液晶パネルのギャップを調整するためにスペーサー等を配合してもよい。
【００４６】
本発明の液晶シール剤は、前述の通り、液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法に好適である。液晶滴下工法における硬化は、熱硬化のみであっても、光硬化と熱硬化の併用であってもよいが、好ましくは光硬化と熱硬化との併用が好ましい。熱硬化のみでは、加熱によりシールパターンが低粘度化し易く、硬化するのに時間がかかるのに対し、光硬化と熱硬化の併用では、光硬化により短時間で仮硬化させることにより、シールパターンが低粘度化するのを抑制できるからである。
【００４７】
このような液晶シール剤は、以下１）〜３）の粘度特性を有する。
１）Ｅ型粘度計を用いて２５℃、１ｒｐｍで測定される粘度η１（２５℃）は、１００〜５００Ｐａ・ｓであり、好ましくは１７０〜４００Ｐａ・ｓである。
２）Ｅ型粘度計を用いて４０℃、１ｒｐｍで測定される粘度η２（４０℃）は、１０〜６０Ｐａ・ｓであり、好ましくは２０〜５０Ｐａ・ｓである。
３）液晶シール剤を４０℃で２４時間保存後に、Ｅ型粘度計により２５℃、１ｒｐｍで測定される粘度をη３（２５℃）としたとき、下記式（１）で表される粘度上昇率が１．０〜１．１、好ましくは１．００〜１．０５である。
粘度上昇率＝η３（２５℃）／η１（２５℃）・・・（１）
【００４８】
粘度η１（２５℃）、粘度η２（４０℃）および粘度η３（２５℃）は、液晶シール剤を、昇温速度１０〜５０℃／分で測定温度まで昇温させて約５分以内に測定される粘度である。
【００４９】
すなわち、２５℃での粘度η１（２５℃）を前記１）の範囲とするのは、液晶シール剤の粘度η１（２５℃）が１００Ｐａ・ｓよりも低いと、硬化後のシールパターンの粘度が低く、液晶汚染が生じ易くなり、５００Ｐａ・ｓよりも高いと、貼り合わせたガラス基板を押圧して、ガラス基板間のギャップを調整し難くなるからである。
【００５０】
４０℃での粘度η２（４０℃）を前記２）の範囲とするのは、液晶シール剤を２６〜５０℃に加温した状態での塗布性を高めるためである。すなわち、４０℃での粘度η２（４０℃）が１０Ｐａ・ｓよりも低いと、一定のシールパターンの塗布形状を保持し難く、６０Ｐａ・ｓよりも高いと、加温下での流動性が十分でないからである。
【００５１】
そして、液晶シール剤の粘度上昇率を前記３）の範囲とするのは、液晶シール剤を加温下で塗布する際の粘度安定性を高め、得られるシールパターンの硬さ（弾性率）を適切な範囲に調整するためである。すなわち、粘度上昇率が１．１を超えると、液晶シール剤を加温下で塗布する瞬間から粘度が上昇するため、均一な線幅のシールパターンが得られ難い。また、得られるシールパターンの弾性率も高くなりすぎて、シール性や接着性が低下したり、セルギャップの調整が困難になったりする。
【００５２】
式（１）で表される粘度上昇率は、前述のように、（Ｂ）特定の有機酸ジヒドラジド系化合物から選ばれる潜在性エポキシ硬化剤の種類や含有量等によって調整できる。
【００５３】
このように、本発明に用いられる液晶シール剤は、加温下において優れた粘度安定性を有する。このため、本発明に用いられる液晶シール剤は、常温では比較的高い粘度を有するが、加温下で良好な塗布性を維持できるので、本発明の液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法に好ましく用いられる。
【００５４】
２．液晶表示パネルの構成とその製造方法
本発明の液晶表示パネルは、表示基板と、それと対になる対向基板と、表示基板と対向基板との間に介在している枠状のシール部材と、表示基板と対向基板との間のシール部材で囲まれた空間に充填された液晶層とを含む。後述する液晶シール剤の硬化物を、シール部材とすることができる。
【００５５】
表示基板および対向基板は、いずれも透明基板である。透明基板の材質は、ガラス、または、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォンおよびＰＭＭＡ等のプラスチックでありうる。
【００５６】
表示基板または対向基板の表面には、マトリックス状のＴＦＴ、カラーフィルタ、ブラックマトリクスなどが配置されうる。表示基板または対向基板の表面には、さらに配向膜が形成される。配向膜には、公知の有機配向剤や無機配向剤などが含まれる。
【００５７】
このような液晶表示パネルは、製造効率が高い等の観点から、液晶滴下工法により製造される。液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法は、
１）一方の基板に、前述の液晶シール剤を塗布して枠状のシールパターンを得る工程と、
２）シールパターンが未硬化の状態において、前記シールパターンで囲まれた領域、または該シールパターンで囲まれた領域に対向する他方の基板の領域に、液晶を滴下する工程と、
３）一方の基板と、他方の基板とを、シールパターンを介して重ね合わせる工程と、
４）シールパターンを硬化させる工程と、を含む。
そして、前記１）の工程において、液晶シール剤を所定の温度に加温した状態で塗布してシールパターンを得ることを特徴とする。
【００５８】
前記１）の工程における加熱温度は、前述の液晶シール剤を、均一な線幅のシールパターンを安定して塗布形成できる範囲であればよいが、２６〜５０℃、好ましくは２６〜４０℃である。（塗布される）基板またはその周辺の雰囲気を加熱してもよいし、液晶シール剤自体を加熱してもよいが、液晶シール剤の粘度安定性を維持する観点では、基板またはその周辺の雰囲気を加熱することが好ましい。基板またはその周辺の雰囲気を加熱する加熱手段としては、特に制限されず、保温ヒータ、熱風ヒータ等であってよい。
【００５９】
液晶シール剤の塗布手段は、特に制限されないが、スクリーン印刷による塗布、およびディスペンサによる塗布等が含まれる。ディスペンサによる塗布速度は、製造効率を損なわない観点から、好ましくは６０ｍｍ／秒以上であり、より好ましくは１００〜３５０ｍｍ／秒である。スクリーン印刷による塗布速度は、製造効率を損なわない観点から、好ましくは２０ｍｍ／秒以上であり、より好ましくは３０〜１００ｍｍ／秒程度である。
【００６０】
このように、加温下で塗布形成されたシールパターンは、自然冷却等されて室温（約２３℃）まで戻される。このとき、液晶シール剤の粘度上昇率が前述の範囲を満たすため、得られるシールパターンの弾性率も高くなりすぎず、シール性が損なわれ難い。
【００６１】
前記２）の工程における、シールパターンが未硬化の状態とは、液晶シール剤の硬化反応がゲル化点までは進行していない状態を意味する。このため、前記２）の工程では、液晶シール剤の液晶への溶解を抑制するために、シールパターンを光照射または加熱して半硬化させてもよい。一方の基板および他方の基板は、それぞれ表示基板または対向基板である。
【００６２】
前記４）の工程では、加熱による硬化のみを行ってもよいが、光照射による硬化（仮硬化）を行った後、加熱による硬化（本硬化）を行うことが好ましい。すなわち、熱硬化のみでは、シールパターンが硬化するまでに時間がかかるため、硬化の初期段階で液晶を汚染することがある。一方、光照射によりシールパターンを瞬時に硬化させた後、熱硬化させれば、硬化の初期段階での液晶汚染を抑制できる。特に、本発明の液晶シール剤は、加熱により低粘度化し易いため、光硬化と熱硬化とを併用することが好ましい。
【００６３】
光照射エネルギーは、（Ｂ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂や（Ｃ）アクリル樹脂などを硬化できる程度であればよいが、１０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２程度、好ましくは２０００ｍＪ／ｃｍ２程度である。光は、好ましくは紫外線である。熱硬化温度は、液晶シール剤の組成にもよるが、液晶の劣化を少なくする等の点から、できるだけ低い温度、例えば１２０℃程度、好ましくは８０〜１００℃であり、熱硬化時間は１〜２時間程度とすることができる。
【００６４】
従来の液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法では、液晶シール剤を常温で塗布するため、塗布速度を小さくする必要があり、製造効率が低かった。一方、液晶シール剤の常温での粘度を低くすることで、塗布性は向上するが、未硬化状態でのシールパターンが液晶に溶解して液晶汚染を生じ易くなる。
【００６５】
これに対して、本発明の液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法によれば、（Ｃ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂を一定以上含む、比較的粘度の高い液晶シール剤であっても、加温下で塗布することにより、液晶シール剤の塗布性を向上できる。このため、高い塗布速度でも、均一な線幅で、適度な弾性を有するシールパターンを得ることができる。このため、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、製造効率が高く、シール性と表示特性（特に耐湿表示特性）に優れた液晶表示パネルを得ることができる。
【実施例】
【００６６】
以下に、本発明に係る実施例を具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
（Ａ）エポキシ樹脂
液状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂  （ＤＩＣ社製品  商品名「ＥＸＡ−８５０ＣＲＰ」、エポキシ当量１７３ｇ／ｅｑ）
液状ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂  （ＤＩＣ社製品・商品名「ＥＸＡ−８３０ＣＲＰ」、エポキシ当量１６０ｇ／ｅｑ）
【００６７】
（Ｂ）潜在性エポキシ硬化剤
［有機酸ジヒドラジド化合物］
アジピン酸ジヒドラジド（日本ファインケム社製  商品名「ＡＤＨ」  融点１８１℃）
ドデカン二酸ジヒドラジド（日本ファインケム社製  商品名「Ｎ−１２」
融点１９０℃）
セバチン酸ジヒドラジド（日本ファインケム社製  商品名「ＳＤＨ」  融点１８９℃）
１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン（味の素社製  商品名「アミキュアＶＤＨ−Ｊ」  融点１２０℃）
［ポリアミン化合物］
ＥＨ−５０５７（ＡＤＥＫＡ社製  融点８０℃）
【００６８】
（Ｃ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂
下記合成例１〜３で合成した（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂を用いた。
［合成例１］
攪拌機、気体導入管、温度計、および冷却管を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコに、１７３ｇの液状ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製  商品名「エピクロンＥＸＡ−８５０ＣＲＰ」、エポキシ当量１７３ｇ／ｅｑ）、４３ｇのメタアクリル酸、および０．２ｇのトリエタノールアミンを投入および混合し、乾燥エア気流下、１１０℃、５時間加熱攪拌して、メタアクリル変性エポキシ樹脂（５０％部分アクリル化物）を得た。得られたメタアクリル変性エポキシ樹脂（５０％部分アクリル化物）を、超純水にて３回洗浄処理した。
【００６９】
［合成例２］
攪拌機、気体導入管、温度計、および冷却管を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコで、１６０ｇの液状ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（東都化成社製・商品名「エポトートＹＤＦ−８１７０Ｃ」、エポキシ当量１６０ｇ／ｅｑ）、４３ｇのメタアクリル酸、および０．２ｇのトリエタノールアミンを投入および混合し、乾燥エア気流下、１１０℃ 、５時間加熱攪拌して、メタアクリル変性エポキシ樹脂（５０％部分アクリル化物）を得た。得られたメタアクリル変性エポキシ樹脂（５０％部分アクリル化物）を超純水にて３回洗浄処理した。
【００７０】
［合成例３］
攪拌機、気体導入管、温度計、および冷却管を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコで、１６０ｇの液状ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（東都化成社製・商品名「エポトートＹＤＦ−８１７０Ｃ」、エポキシ当量１６０ｇ／ｅｑ）、１１５ｇの２−ヒドロキシエチルアクリレート変性イプシロン−カプロラクトン（ダイセル化学社製・商品名「プラクセル  ＦＡ１ＤＤＭ」）、および０．２ｇのトリエタノールアミンを混合し、乾燥エア気流下、１１０℃、５時間加熱攪拌して、アクリル変性エポキシ樹脂（５０％部分アクリル化物）を得た。得られたアクリル変性エポキシ樹脂（５０％部分アクリル化物）を、超純水にて３回洗浄処理した。
【００７１】
（Ｄ）アクリル樹脂
ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製  ビスコートＶ＃３００）
（Ｅ）光ラジカル重合開始剤
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトン（ＢＡＳＦ社製  商品名「イルガキュア６５１」）
（Ｆ）フィラー
超高純度シリカ（ＳＯ−Ｅ１  アドマテックス社製）
（Ｇ）熱可塑性樹脂粒子
熱可塑性ポリマー  （ガンツ化成社製  ゼフィアックＦ３５１）
（Ｈ）その他
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３）
【００７２】
［実施例１］
６重量部の（Ａ）液状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＥＸＡ−８５０ＣＲＰ）を、２５重量部の（Ｄ）ペンタエリスリトールトリアクリレート（ビスコートＶ＃３００）に加熱溶解させて均一溶液とした。この溶液に、さらに（Ｂ）６重量部のアジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）、（Ｃ）２５重量部の合成例１のメタアクリル変性エポキシ樹脂、（Ｅ）２重量部の２，２ージメトキシー２ーフェニルアセトン（イルガキュア６５１）、（Ｆ）２０重量部の超高純度シリカ（ＳＯ−Ｅ１）、（Ｇ）１５重量部の熱可塑性ポリマー（ゼフィアックＦ３５１）、および（Ｈ）１重量部のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを加えて、ミキサーで予備混合した。その後、この混合溶液を、３本ロールで固体原料が５μｍ以下になるまで混練し、混練物を真空脱泡処理して液晶シール剤を得た。
【００７３】
［実施例２〜５］
液晶シール剤の組成を表１に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００７４】
［実施例６〜１０］
液晶シール剤の組成を表１に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００７５】
［実施例１１］
（Ｂ）アジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）に代えて、ドデカン二酸ジヒドラジド（Ｎ−１２）を用いて表１に示されるような組成とした以外は、実施例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００７６】
［実施例１２〜１５］
液晶シール剤の組成を表１に示されるように変更した以外は、実施例１１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００７７】
［実施例１６］
（Ｂ）アジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）に代えて、セバチン酸ジヒドラジド（ＳＤＨ）を用いた以外は実施例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００７８】
［実施例１７〜２０］
液晶シール剤の組成を表２に示されるような組成とした以外は実施例１６と同様にして液晶シール剤を得た。
【００７９】
［実施例２１］
（Ｂ）６重量部のアジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）に代えて、（Ｂ）３重量部のアジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）／３重量部のドデカン二酸ジヒドラジド（Ｎ−１２）を併用した以外は実施例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００８０】
［実施例２２〜２５］
液晶シール剤の組成を表２に示されるような組成とした以外は実施例２１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００８１】
［実施例２６］
（Ｂ）アジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）に代えて、（Ｂ）ポリアミン（ＥＨ−５０５７）を用いた以外は実施例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００８２】
［実施例２７〜３０］
液晶シール剤の組成を表２に示されるような組成とした以外は実施例２６と同様にして液晶シール剤を得た。
【００８３】
［比較例１］
（Ｂ）アジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）の代わりに、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン（アミキュアＶＤＨ−Ｊ）を用いた以外は実施例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００８４】
［比較例２〜５］
液晶シール剤の組成を表３に示されるように変更した以外は比較例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００８５】
［比較例６］
（Ｂ）６重量部のアジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）に代えて、（Ｂ）３重量部のアジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）／３重量部の１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン（アミキュアＶＤＨ−Ｊ）を併用した以外は実施例１と同様にして液晶シール剤を得た。
【００８６】
［比較例７〜１０］
液晶シール剤の組成を表３に示されるように変更した以外は比較例６と同様にして液晶シール剤を得た。
【００８７】
実施例１〜１５の液晶シール剤の組成を表１に；実施例１６〜３０の液晶シール剤の組成を表２に；比較例１〜１０の液晶シール剤の組成を表３にそれぞれ示す。
【表１】
0005424411.tif 000002
【表２】
0005424411.tif 000003
【表３】
0005424411.tif 000004
【００８８】
実施例１〜３０および比較例１〜１０で得られたシール剤の、１）粘度安定性、２）スクリーン印刷による塗布性、３）ディスペンスによる塗布性、４）液晶表示パネルの表示特性、および５）耐湿表示特性を、以下の方法で評価した。
【００８９】
１）粘度安定性
得られたシール剤１００重量部をポリエチレン製容器に入れて、Ｅ型粘度計を用いて室温（２５℃）、１ｒｐｍにおける初期の粘度η１（２５℃）を測定した。次いで、ポリエチレン製容器を密封した後、４０℃の恒温槽で２４時間保存した後、恒温槽から取り出した。
その後、ポリエチレン製容器を室温（２３℃）まで放冷し、ポリエチレン製容器内のシール剤の室温（２５℃）、１ｒｐｍにおける保存後粘度η３（２５℃）を測定した。これらの測定値を下記式に当てはめて粘度上昇率を求めた。
粘度上昇率＝４０℃保存後の粘度η３（２５℃）／初期の粘度η１（２５℃）・・・（１）
【００９０】
これとは別に、得られたシール剤１００重量部をカップに入れて、Ｅ型粘度計を用いて４０℃、１ｒｐｍにおける粘度η２（４０℃）を測定した。
【００９１】
２）スクリーン印刷によるシール塗布
１００重量部のシール剤に、１重量部のガラスファイバー（平均粒径  ４μｍ）を添加したシール剤を調製した。次いで、３６０ｍｍ×４６０ｍｍの無アルカリガラス基板（日本電気硝子社製、ＯＡ−１０Ｆ）上に、前記調製したシール剤を、スクリーン印刷機（ＳＥＲＩＡ  ＳＳＡ−ＧＬ４７３７−Ｐ  東海精機社製）において、５０ｍｍ□のパターンが縦に６個、横に７個形成されたスクリーン版を用いて、室温（２３℃）にて、印刷速度１０ｍｍ／ｓｅｃ〜８０ｍｍ／ｓｅｃで、２２０μｍの線幅、１５μｍの厚みのシールパターンを塗布した。そして、連続して５０枚印刷後のシールパターンの塗布形状を目視観察した。
塗布形状が良好である場合を○；断線、カスレがある場合を△；塗布が不可能である場合を×とした。
【００９２】
さらに、無アルカリガラス基板および印刷スクリーンを、熱風ヒータで２６℃、４０℃にそれぞれ加熱した状態で、シール剤を塗布して得られるシールパターンの塗布形状を同様に目視観察した。
【００９３】
３）ディスペンサによるシール塗布
３６０ｍｍ×４６０ｍｍの無アルカリガラス基板（日本電気硝子社製、ＯＡ−１０Ｆ）上に、前記調製したシール剤を、ディスペンサ（ショットマスター  武蔵エンジニアリング社製）にて、塗布速度２０ｍｍ／ｓｅｃ〜３００ｍｍ／ｓｅｃで、２００μｍの線幅、２０μｍの厚みのシールパターンを塗布した。シールパターンは、始点から４００ｍｍ描画した終端部を、２Ｒで（半径２ｍｍの円を描きながら１８０°方向を変えて）折り返し、この折り返しを８５回繰り返して、１枚あたり合計３４ｍ塗布した。これを連続２０枚塗布した後の、シールパターンの塗布形状を目視観察した。
塗布形状が良好である場合を○；断線、カスレがある場合を△；塗布が不可能である場合を×とした。
【００９４】
さらに、無アルカリガラス基板とその周辺を、熱風ヒータで２６℃、４０℃にそれぞれ加熱した状態で、シール剤を塗布して得られるシールパターンの塗布形状を同様に目視観察した。
【００９５】
４）液晶表示パネルの表示特性評価
透明電極および配向膜を付した４０ｍｍ×４５ｍｍガラス基板（ＥＨＣ社製、ＲＴ−ＤＭ８８−Ｐ１Ｎ）を熱風ヒータで２６℃に加熱した状態で、シール剤を、ディスペンサ（ショットマスター  武蔵エンジニアリング製）にて、３５ｍｍ×４０ｍｍの四角形のシールパターン（線幅２００μｍ、断面積３５００μｍ２）（メインシール）を形成し、さらにその外周にも同様のシールパターンを形成した。塗布速度は、１００ｍｍ／ｓｅｃとした。
【００９６】
次いで、貼り合せ後のパネル内容量に相当する液晶材料（ＭＬＣ−１１９００−０００  メルク社製）を、ディスペンサを用いてメインシールの枠内に精密に滴下し、対になるガラス基板を減圧下で貼り合せた後、大気開放して貼りあわせた。貼り合わせたガラス基板を、３分間遮光ボックスにて保持した後、紫外線を３０００ｍＪ／ｃｍ２照射し、その後１２０℃で１時間加熱した。
【００９７】
得られた液晶表示パネルのシール部周辺の液晶に生じる色むらを目視で観察した。色むらが確認されなかったものを○；確認されたものを×とした。
【００９８】
この液晶表示パネルを、直流電源装置を用いて５Ｖの印加電圧で駆動させたときの、液晶シール剤近傍の液晶表示機能が駆動初期から正常に機能するか否かでパネル表示特性を評価した。
シール際まで液晶表示機能が発揮できている場合を○（良好）；シール際の近傍０．３ｍｍ未満で表示機能の異常が確認された場合を△（やや劣る）；シール際の近傍０．３ｍｍを超えて表示機能の異常が確認された場合を×（著しく劣る）；とした。
【００９９】
５）液晶表示パネルの耐湿表示特性評価
前記４）と同様にして作製した液晶表示パネルを、７０℃、９５％ＲＨで５００時間保存後における、シール部周辺の液晶に生じる色むらを目視観察した。
保存前の状態と比較して、保存後において新たな色むらが確認されなかったものを○；新たな色むらが確認されたものを×とした。
【０１００】
この液晶表示パネルを、直流電源装置を用いて５Ｖの印加電圧で駆動させ、液晶シール剤近傍の液晶表示機能が駆動初期から正常に機能するか否かでパネル表示特性を評価した。
シール際まで液晶表示機能が発揮できている場合を○（良好）；シール際の近傍０．３ｍｍ未満で表示機能の異常が確認された場合を△（やや劣る）；シール際の近傍０．３ｍｍを超えて表示機能の異常が確認された場合を×（著しく劣る）とした。
【０１０１】
実施例１〜１５の結果を表４に；実施例１６〜３０の結果を表５に；比較例１〜１０の結果を表６にそれぞれ示す。
【表４】
0005424411.tif 000005
【表５】
0005424411.tif 000006
【表６】
0005424411.tif 000007
【０１０２】
特定の潜在性エポキシ硬化剤を用いた実施例１〜３０のシール剤は、粘度上昇率が１．１以下と低く、（加温下での）粘度安定性に優れることがわかる。また、実施例１〜３０のシール剤のスクリーン印刷による塗布性、およびディスペンス塗布性も、非加温（２３℃）の場合よりも、２５℃、４０℃に加温することにより、塗布性、特に高い塗布速度における塗布性が良好となることがわかる。また、実施例１〜３０のシール剤を用いて作製した液晶表示パネルは、特に耐湿表示特性において優れることがわかる。これは、実施例１〜３０のシール剤により形成されるシールパターンは、線幅や厚みの均一性が高く、シール性が高いためと考えられる。
【０１０３】
一方、他の潜在性エポキシ硬化剤を用いた比較例１〜１０のシール剤は、粘度上昇率が１．１を超えて高く、（加温下での）粘度安定性が低いことがわかる。また、比較例１〜１０のシール剤のスクリーン印刷による塗布性、およびディスペンス塗布性は、２５℃、４０℃に加温しても、非加温（２３℃）の場合と変わらず塗布性が低いことがわかる。また、比較例１〜１０のシール剤を用いて作製した液晶表示パネルは、特に耐湿表示特性において著しく低いことがわかる。これは、比較例１〜１０のシール剤により形成されるシールパターンは、線幅や厚みの均一性が低く、シール性が低いためと考えられる。
【０１０４】
特に、硬化性樹脂のうち（Ｃ）（メタ）アクリル変性エポキシ樹脂の含有量が多くなるほど、粘度安定性が低下する傾向がみられる。そのようなシール剤でも、２６℃〜４０℃で加温しながら塗布することで、良好な塗布形状のシールパターンが得られることが示唆される。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
本発明によれば、液晶シール剤の塗布性が高く、製造効率の高い液晶表示パネルの製造方法を提供できる。この液晶表示パネルの製造方法により得られる液晶表示パネルは、シール性（耐湿性）および表示特性に優れている。