(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１光線を発する第１光線発生装置と、
第２光線を発する第２光線発生装置と、
前記第１光線及び前記第２光線を反射する複数の反射面を有し、各反射面上にサジタル方向に整列して第１走査線及び第２走査線が形成される、回転可能な反射装置と、
前記第１光発生装置と前記反射装置の間の光路に設けられる第１視準レンズを少なくとも１つ備える第１光学装置と、
前記第２光発生装置と前記反射装置の間の光路に設けられる第２視準レンズを少なくとも１つ備える第２光学装置と、
前記第１光学装置と前記反射装置の間の光路に設けられ、前記第１光学装置とは別の平行プレートで構成される第１透光板と、
前記第２光学装置と前記反射装置の間の光路に設けられ、前記第２光学装置とは別の平行プレートで構成される第２透光板と、
前記第１光線が前記第１透光板を通過して前記反射装置に達する際に、前記第１光線がサジタル方向とタンジェンシャル方向に変化するように、前記第１透光板の向きを調整する第１調整装置と、
前記第２光線が前記第２透光板を通過して前記反射装置に達する際に、前記第２光線がサジタル方向とタンジェンシャル方向に変化するように、前記第２透光板の向きを調整する第２調整装置と、
を含み、
前記各反射面上において、前記第１走査線と前記第２走査線がサジタル方向に光軸から等距離で近接し、且つ、前記第１走査線と前記第２走査線がタンジェンシャル方向に揃うことを特徴とするラスタ走査光学装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般に、ラスタ走査装置における光線（光ビーム）の方向(orientation) を調整する装置に関するものであり、特に湾曲差を修正するために光線のサジタルおよびタンジェンシャル方向の光線方向を調整する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
フライングスポット走査器（ラスタ出力走査器または「ＲＯＳ（ラスターアウトプットスキャナー）」と呼ばれることがある）は、従来、中心軸の周りに回転する多面多角形反射（ポリゴン）ミラーを有し、その回転により複数の強度変調された光線を、線走査方向（タンジェンシャル（接線）方向に沿った高速走査方向、又はタンジェンシャル方向の主走査方向ともよばれる）へ感光記録媒体上を横切らせて繰り返しスイープ（走査）させる一方、光線がラスタ走査パターンに従って記録媒体を走査できるように、記録媒体を直角または「処理」方向（サジタル方向の低速走査方向とも呼ばれる）に送るようにするものである。デジタル印刷は、個々の光線を２進数字サンプル列に応じて連続的に強度変調させ、サンプルによって表される画像を走査中に記録媒体に露出するようにして実行される。複数の光線を同時にスイープさせるプリンタは、マルチビームプリンタと呼ばれている。ＲＯＳおよびマルチビームプリンタ技術は両方とも、北村によって米国特許第４，４７４，４２２号（１９９４年１０月２日付与）に説明されており、同特許の内容が引用により開示されるものとする。
【０００３】
高速処理カラーおよびマルチハイライトカラーゼログラフィック画像出力端末器には、個別にアドレスできる複数のラスタ線を同時に別々の場所で印刷する能力が要求される。これはマルチステーション印刷と呼ばれている。従来のマルチステーション処理カラープリンタは、別々のＲＯＳを複数台、通常は独立したＲＯＳを４台使用している。この例としては村山他によって米国特許第４，８４７，６４２号（１９８９年７月１１日付与）および第４，９０３，０６７号（１９９０年２月２０日付与）に説明されたものがあり、同特許が引用により開示されるものとする。
【０００４】
上記の装置の共通する問題は、複数のＲＯＳにかかる経費が高いことである。すなわち、複数のほぼ同一のＲＯＳの製造費用が高いこと、およびシステムカラーの正確な重ね合わせの困難さである。
【０００５】
米国特許第５，２４３，３５９号（１９９３年９月７日付与）でティボア・フィスリ（Tibor  Fisli）は、マルチステーションプリンタ内で、複数のレーザービームを偏向できるＲＯＳ装置を開示している。以後同特許の内容が引用により開示されるものとする。図１は、フィスリのマルチステーションプリンタ１０の一実施例を図示している。図示の便宜上、本願の図１にある構成の番号は、フィスリ特許にある構成の番号とは異なる。回転式多角形ミラー１２が、波長が異なり、それぞれの最大発散角が互いに平行で、群をなす複数のレーザービームを同時に偏向する。次に、レーザービームが複数の光学フィルター１６、１８、および２０により分離され、それぞれが対応する各受光器２２、２４、２６および２８に導かれている。各ビーム用に等しい光路の長さを設立することにより、各受光器２２、２４、２６および２８上に同様な面積を有するスポットが得られる。フィスリの米国特許第５，２４３，３５９号では、レーザーダイオードが低速走査方向に（すなわちサジタル方向にオフセット）配列されている。レーザーダイオードは、スポットサイズ、エネルギーの均等化、湾曲、線形性等の光線特性の誤差を最小にするため、多角形ミラーの回転軸に平行な方向に密集して配置される。すなわち、光線ができるだけ多角形ミラー上の同一箇所に照射されるよう、レーザーダイオードをできるだけ密集して配置する。
【０００６】
特願平５−１５３５３０号では、フィスリの米国特許第５，２４３，３５９号のダイオード配置上の制限を除くため、レーザービームが高速走査方向（すなわち水平線方向に分離される）にオフセットされるＲＯＳ装置が開示されている。以後同特許の内容が引用により開示されるものとする。
【０００７】
図２は、従来の技術によるシングルステーションプリンタ用のデュアルスポットＲＯＳを図解している。このようなシングルステーションデュアルスポットＲＯＳをマルチステーションデュアルスポットプリンタに拡張することができる。図示の便宜上、図２にはレーザーダイオードやポリゴン前段の光学系が省かれている。これらの特徴は、従来の技術として公知の事実であり、下記に詳しく説明される。図２では、２つのレーザービーム３１および３３が、回転多角形ミラー３０で偏向され、公知のポリゴン後段の光学系３２および３４、さらにフォールディングミラー３６によって受光器３８上に合焦されている。このようなデュアルスポットプリンタは、速度を早めるため、受光器３８上に２つ以上のスポットを同時に印刷する。
【０００８】
通常、このような装置は、受光器３８上に複数の光線で画像を形成するインターレース技術を採用している。例えば、特願平５−１５９８６０号にこのような複数光線インターレース走査装置が開示されている。以後同特許の内容が引用により開示されるものとする。本発明は、フィスリの米国特許第５，２４３，３５９号が説明するシングルスポットまたはマルチスポットマルチステーションプリンタに適用することも可能だが、主に図２に示されているようなデュアルスポットプリンタに適用される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
シングルスポット回転多角形ベースの光学系では、光学公差の累積により、湾曲変形が生じる。湾曲自体は、ＲＯＳが高速走査方向に走査するとき、走査されるレーザービームが描く曲線である。従って、湾曲は、線が高速走査方向に延びるにつれて、処理方向に走査線の変位として現われる。
【００１０】
マルチビーム、レーザーダイオードベースのＲＯＳは、高質ゼログラフィック印刷で最も強力な技術とみなされているが、走査線湾曲差の問題は、好ましくない副次効果として存在する。走査線湾曲差は、ビームがサジタル方向（すなわち低速走査方向）にオフセットされるというマルチビーム光学系そのものの特性に起因する。湾曲は、各サジタルオフセットビームが、光学系を伝播する際に、各サジタル面の倍率が変わるために発生する。
【００１１】
例えば、図８（Ａ）には、多角形ミラー５６の３つの面が示されている。現行の面１００では、高速走査方向におけるレーザービーム３１および３３のそれぞれの走査を示すため、２つの走査線１０２と１０４が図示されている。図８（Ａ）に示されているように、走査線１０２は、現行面１００の上半分（すなわち光学軸５６Ａの上）から反射しているが、走査線１０４は、現行面１００の下半分（すなわち光学軸５６Ａの下）から反射している。
【００１２】
装置のデザインにより、走査線湾曲は、お互いに接近する方向に移動したり（たる型変形）、お互いに遠ざかる方向に移動する（針差し型変形）。どちらの場合でも、光源（レーザー）は、光軸５６Ａの反対側に置かれている。したがって、図９（Ｂ）に示されているように、湾曲した走査線の曲率の中心も光軸の反対側に存在することになる。すべての光源が、光軸に対し同じ側に配置されると、すべての走査線は、光軸に対し反対側に結像することになる。従って、すべての湾曲曲線の曲率の中心も、光軸に対し同じ側に存在することになる。しかし、各湾曲曲線は、異なる曲率半径を有することになる。これは違った種類の湾曲差の原因となる。
【００１３】
１９９３年１２月２９日に出願された米国特許出願第０８／１７４，９１７号でティボア・フィスリ他は、光学系の最後の要素から受光器に放出される主光線が、サジタル経線方向にテレセントリック状であるマルチビームＲＯＳを提案している。以後同特許の内容が引用により開示されるものとする。テレセントリック状の主放出光線を提供することにより、マルチビーム装置は、シングルステーションゼログラフィックプリンタで、ピラミッド状ポリゴン角度誤差を許容し、適度に安定し、許容された焦点の深度内でほぼ湾曲皆無の印刷を実現する。さらに、湾曲の全体的形状、およびその方向を注意深く制御することにより、シングルパス、マルチステーション装置は、広域に配置されたゼログラフィックステーションで描かれた多種の画像間の、重ね合わせの誤差を許容範囲に収めることができる。
【００１４】
本発明の目的は、レーザービームが通過する光学領域（アパーチャ）を制御することによって湾曲差問題を修正する光学系を提供することにある。
【００１５】
また本発明の目的は、光線のサジタルおよびタンジェンシャル方向の方向設定を変える装置を提供することにある。
【００１６】
さらに本発明の目的は、多角形ミラーの面上で、入射した静止光線を、お互いに密接して、サジタルとタンジェンシャルの両方向に平行に、かつ光軸から等間隔で平行にサジタル方向（垂直方向）に整列するように調節する装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第１光線を発する第１光線発生装置と、第２光線を発する第２光線発生装置と、前記第１光線及び前記第２光線を反射する複数の反射面を有し、各反射面上にサジタル方向に整列して第１走査線及び第２走査線が形成される、回転可能な反射装置と、前記第１光発生装置と前記反射装置の間の光路に設けられる第１視準レンズを少なくとも１つ備える第１光学装置と、前記第２光発生装置と前記反射装置の間の光路に設けられる第２視準レンズを少なくとも１つ備える第２光学装置と、前記第１光学装置と前記反射装置の間の光路に設けられ、前記第１光学装置とは別の平行プレートで構成される第１透光板と、前記第２光学装置と前記反射装置の間の光路に設けられ、前記第２光学装置とは別の平行プレートで構成される第２透光板と、前記第１光線が前記第１透光板を通過して前記反射装置に達する際に、前記第１光線がサジタル方向とタンジェンシャル方向に変化するように、前記第１透光板の向きを調整する第１調整装置と、前記第２光線が前記第２透光板を通過して前記反射装置に達する際に、前記第２光線がサジタル方向とタンジェンシャル方向に変化するように、前記第２透光板の向きを調整する第２調整装置と、を含み、前記各反射面上において、前記第１走査線と前記第２走査線がサジタル方向に光軸から等距離で近接し、且つ、前記第１走査線と前記第２走査線がタンジェンシャル方向に揃うことを特徴とする。
【００１８】
本発明は、このように、受光器のような光受信部材を有するラスタ走査光学系を提供する。第一発光装置が第一光線を発し、第二発光装置が第二光線を発する。多角形ミラーのような走査装置は、第一光線と第二光線を光受信部材に反射する面を少なくとも１つ有する。第一光線の光路の第一光発出装置と走査装置の間に、透光板が設置される。第一光線が透光板を通過する。透光板が、第一光線の方向を、サジタル方向あるいはタンジェンシャル方向の一方へ所望の量だけ調節する。
【００１９】
本発明はさらに、光線を発し、その光線を透光板を通過させ、光線のサジタル方向の方向とタンジェンシャル方向の方向の少なくとも一方を変えることによって、光線が当たる走査装置の面上の位置を調節する方法を提供する。サジタル方向やタンジェンシャル方向に光線の方向を変化させることにより、光線が走査装置の面上で異なった場所にあたることになる。
【００２０】
本発明のその他の目的、利点、顕著な特徴が、本発明の実施の形態を開示する図を参照した下記の詳しい説明によって明らかにされる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
図３は、公知の多角形ミラーラスタ走査光学系をタンジェンシャル方向から見た図である。当業者であれば、公知のラスタ走査光学系が他にもあり、本発明の意図する範囲に入るものであることを理解できるようになる。よく知られているように、レーザーダイオード５０が、視準器（コリメーター）５２によって視準されるビーム５１を発生する。視準されたビームは、回転多角形ミラー５６上でビームをタンジェンシャル方向に合焦させないようなレンズ５４を通過する。多角形ミラー５６で反射されると同時に、ビームは、レンズ５８によって受光器３８の表面に収束される。Ｆθ ´レンズ５８は、走査の線形性を公知の方法で修正する。矢印ＡおよびＢは、サジタルとタンジェンシャル方向の画像面に沿った画像スポット６４の移動可能な２つの方向を示している。
【００２２】
図４は、ラスタ走査光学系のサジタル図を示している。レーザーダイオード５０は、視準器５２によって視準されるレーザービーム５１を発生する。次にシリンダーレンズ５４が、ビームを、回転多角形ミラー５６の現行面上でサジタル方向に合焦する。ビームは、多角形ミラー５６で反射されると同時に発散する。次に、レンズ５８が、受光器３８の表面上において、サジタル方向へ光線を合焦する。通常、歪形要素６０はビーム５１のサジタル合焦に限定されたパワーを提供する。むしろ、Ｆθ レンズ５８の方が、タンジェンシャル方向の合焦および走査線線形性を制御する。このことは当業者にはよく知られていることである。
【００２３】
図解と説明の便宜上、以後レンズ５２と５４をポリゴン前段光学系、そしてレンズ５８と６０をポリゴン後段光学系と呼ぶことにする。当業者であれば、ポリゴン前段光学系とポリゴン後段光学系には、さらに他のレンズが含まれてもよいことが理解できる。
【００２４】
図３および図４に示されたような多角形走査器（ポリゴン・スキャナー）は従来の技術として良く知られており、例えばジョン・Ｃ・アーバック（John C. Urbach）他の「電子印刷用レーザー走査」と題した論文が、１９８２年６月に出版された「Proceedings of the IEEE 」の第７０巻、第６号に載っている。以後同論文の内容は引用により開示されるものとする。同様に、他のポリゴン・スキャナーの例も良く知られており、本発明の範囲内のものである。
【００２５】
図９（Ａ）と図９（Ｂ）は、受光器の表面に発生する湾曲を示している。理想的な走査線１１０が破線で表されている。しかしながら、図３や図４に図示されている装置を用いてレーザービームを走査して得られた走査線１１２には湾曲が発生する。従って、湾曲問題が解決されないと、線が真直ではなく曲がって印刷される。このような誤差は肉眼でも検知できる。
【００２６】
図２に示されるようなデュアルスポットＲＯＳが使用されると，この問題はより顕著になる。デュアルスポットＲＯＳは、１つの受光器に２つのスポットを同時に結像する。このようなＲＯＳでは、２つの異なった湾曲が起こりうる。図９（Ｂ）では、走査線１１４の曲率半径が、第一走査線１１２の曲率半径と違うこともある。従って、シングルステーションプリンタにおけるデュアルスポットＲＯＳでは、湾曲が修正されなければ、複数の湾曲の問題が生じる。
【００２７】
図９（Ｂ）に示された問題は、多角形ミラー５６の現行面１００上の異なる領域で２つ以上のレーザービームを走査するために起こる。例えば、図８（Ａ）は、回転多角形ミラー５６の３つの面を図解している。２つの走査線１０２および１０４が、現行面１００から反射される。第一走査線１０２が、現行面１００の光軸５６Ａの上半分を走査し、第二走査線１０４が、現行面１００の光軸５６Ａの下半分を走査する。このような装置は、図９（Ｂ）に図示される湾曲差の問題を起こす。上記で説明したように、湾曲は、サジタル方向にオフセットされた走査線１０２および１０４が、光学系を伝播する際に、各サジタル面の倍率が異なることに起因する。
【００２８】
図５は、レーザービーム１０３と１０５のどちらかを、回転多角形ミラー５６で偏向する前に、サジタルまたはタンジェンシャル方向に調節する装置を図示している。本実施形態では、例えば走査線１０４（光線１０５から得られる）のような１つの走査線の位置をサジタルおよびタンジェンシャル方向に動かし、図８（Ｂ）に示されているように、走査線１０２と１０４が互いに接近し、光軸５６Ａから等距離（ｄ）となるようにする。従って、走査線１０２と１０４の両方が、ポリゴン後段光学系のほぼ同一の領域を活用し、湾曲差等、各種光学問題を同様な方法で修正できるように調節される。ビーム１０３と１０５の両方が、多角形ミラー５６の同一領域から反射されるので、ビーム１０３と１０５は、ポリゴン後段においてほとんど等しい倍率を持つことになる。
【００２９】
図５に示されているように、レーザービーム１０５と１０３を発生するため、２つのレーザーダイオード９０と９６が、それぞれ２つの入力光学チャネルとして用意されている。ポリゴン後段光学系９２と９８が、各入力光学チャネルごとに設けられている。一実施形態では、レーザービーム１０５を偏向するためミラー９４が利用されている。当業者であれば、サイズ上の制限や光路の長さに関する各種の問題を修正するため、多くのミラーやレンズを利用できることを理解できる。第一入力光学チャネルでは、ビーム１０５が、ガラスプレート７０を通過するが、第二光線はガラスプレート７０を通過しない。ガラスプレート７０は、ユーザが、できれば手操作で、サジタルとタンジェンシャルの両方向に調節できるようにする。ガラスプレート７０を使って、多角形ミラー５６の現行面１００に結像される走査線１０４の位置を調節する。理想的には、図８（Ｂ）に示されているように走査線１０４が、第二走査線１０２に近づき、走査線１０２と１０４が光軸５６Ａから等距離（ｄ）になるようにすることが望まれる。多角形ミラー５６から反射後、各ビーム１０３および１０５は、上記図３と図４に関連して説明されたレンズ５８やＦθ レンズ６０のようなポリゴン後段光学系を通過する。図示の便宜上、図５では、多角形ミラー５６から１つの光線だけが反射しているが、実際には２つのビームが反射されることはいうまでもない。上記で説明したように、各画像スポットは、ポリゴン後段光学系（例えば、レンズ５８や６０）によって受光器３８の表面に合焦される。
【００３０】
もう１つの実施例では、第二入力光学チャネルに、もう１つのガラスプレート７０を配置して、光線１０３がガラスプレート７０を通過するようにしている。これによりユーザが、現行面１００に結像する走査線１０２の位置を調節できる。１又は複数のガラスプレート７０は、現行面１００上で走査線１０２と１０４がサジタル方向に整列し、互いに接近し、互いに平行で、光軸から等距離にあり、現行面１００の光軸に平行になるように結像された走査線１０２と１０４をさらに調節することができる。
【００３１】
当業者であれば、本発明がシングルステーションプリンタのデュアルスポットＲＯＳに限定されるものでないことを理解でき、多くの修正が可能であることは明らかである。例えば、各入力チャネルは、その光学チャネル内に複数の光線を含ませることもできる。それにより、ガラスプレート７０が、複数の光線を調節できることになる。他の例では、１つのチャネルにつき４つ以上の光線が導入されている。さらに、上述の光学に似た光学を用いて、３つ以上の入力チャネルを提供することも可能である。
【００３２】
また、当業者にはよく知られていることではあるが、レーザーダイオード９０と９６のそれぞれは、同一または異なる波長、さらに同一または異なる偏光のレーザーダイオードを発することができる。これらのビームは、後に複数の異なる受光器に分れて導かれることもある。例えば、フィスリに付与された米国特許第５，２４３，３５９号では、光線が４つの個々の波長（それぞれが異なる波長を持つ）に分けられ、それぞれが別々の受光器に送られている。さらに、ジェームス・アペル（James  Appel）他が１９９２年９月２２日に出願した米国出願０７／９４８，５３０号では、レーザービームを、その波長と偏光に基づいて分離するシステムを開示している。以後同特許の内容は引用によって開示されるものとする。当業者であれば、本発明に基づいて、多くの異なるレーザーダイオード、波長、偏光および受光器の様態が使用できることを理解できる。
【００３３】
図６は、ガラスプレート７０とその支持部材７２の側面図である。支持部材７２が、セメント等の接着材でガラスプレート７０を確実に固定する。支持部材７２（および調節装置７６）にはアパーチャ７３（および７７）が設けられ、光線１０５が、ガラスプレート７０を矢印Ｃの方向に通過するようになっている。従って、支持部材７２は、一部材で構成されることが望ましい。また、支持部材７２は、装着板１１０に取付けられ、枢軸ねじ７８によって、装着板１１０に対し、所定の角で傾いた位置に調節される。支持部材は、それがいつも矢印Ｃの方向にバイアスされるように矢印Ｃの方向に傾けられている。
【００３４】
支持部材７２の後側に、調節装置７６が設けられる。調節装置７６には、中央に位置し、光線１０５を矢印Ｃの方向に通過させるアパーチャ７７が形成されている。調節装置７６は、２つのねじ８０、８２によって装着板１１０に取付けられることが望ましい。さらに、調節装置７６には、装着板１１０に対し、支持部材を傾いた位置に調節してガラスプレート７０を傾かせる設定ねじ８４が含まれる。設定ねじ８４には、調節装置７６を貫いて、ストッパー８４の付近まで溝が刻まれている。設定ねじ８４が回されると、ねじ８４がストッパー７４に当接し、支持部材７２を、矢印Ｃと反対方向に押す。それにより、ガラスプレート７０の上端部が矢印Ｃと反対方向に傾き、光線１０５の制御されたサジタル平行調節を実行する。サジタル調節により、走査線１０４の位置が、図８（Ａ）、図８（Ｂ）に示されるように、移動する。このように、設定ねじ８４を調節することにより、走査線１０４が、多角形ミラー５６の現行面１００上で適切に調節される。
【００３５】
図７は、図６を矢印Ｅ方向からみた図である。図７は、走査線のタンジェンシャル方向の移動がどのように起こるか示している。支持部材７２とガラスプレート７０が、ねじ７８の周りを矢印Ｄの方向に回転する。第二設定ねじ８６がストッパー７５に当接し、枢軸回転を制御する。設定ねじ８６を用いて支持部材７２を回転させ、ガラスプレート７０を通過する光線１０５を、タンジェンシャル方向に制御しながら調節する。
【００３６】
光線１０５をタンジェンシャル方向に調節することによって、多角形ミラー５６の現行面１００に結像される走査線１０４をタンジェンシャル方向に調節することができる。これは、図８（Ｃ）と図８（Ｄ）との違いによって示される。図８（Ｃ）は、現行面１００上で、サジタルおよびタンジェンシャル方向にオフセットされた２つの走査線１０２と１０４を示している。図８（Ｄ）では、走査線１０４が設定ねじ８４によって、サジタル方向に調節され、設定ねじ８６によってタンジェンシャル方向に調節されている。このようなサジタルおよびタンジェンシャル方向の調節は、基本的に光像を現行面１００上に整列させるものである。このようにして、各光像は、ポリゴン後段光学系のほとんど同一の領域を通過することになる。上記で説明したように、ビーム１０３と１０５のそれぞれが、次に共通の受光器３８に合焦されるか、図１に示されるように、波長や偏光に基づいて分離され、異なった受光器に導かれる。
【００３７】
支持部材７２や調節装置７６のその他の様態も、本発明の範囲内に含まれるものである。例えば、設定ねじ８４と８６は、ストッパー７４ではなく、支持部材７２に直接当接するようにすることもできる。また、図１０は、設定ねじ８４の他の実施形態を示している。この実施形態では、ねじ８４が、頭部８５と調節装置７６内に受け入れられるねじ溝部８７と支持部材７２にはめ込まれる凹部８９とを備えている。凹部８９は、Ｔ字型になっており、頭が丸型なので支持部材７２の凹部７３内にはめ込まれる。設定ねじ８６を、さらに図１０にあるような形に変形してもよい。
【００３８】
ガラスプレート７０は、支持部材７２と調節装置７６を使って、多角形ミラー５６の現行面１００で反射される前に、よく制御の行き届いた手法で、光線をサジタル方向およびタンジェンシャル方向に調節する。上記で説明したように、このような調節によって、デュアルスポットシングル受光器システムにおいて、湾曲差の問題が解決されることが望まれる。しかしながら、サジタルおよびタンジェンシャル方向の調節は、当業者が承知の通り、他の多くの理由で用いられる。
【００３９】
ガラスプレート７０は、できれば平行なガラスで作られるのがよい。ほかの同類の材料を使うこともできる。システムが正しく作用するには、ガラスプレート７０の透き通ったアパーチャ部分が、アーク角度が数分以内で平行で、光学的平坦性が動作波長の約１／５以内で、溝、傷、泡気、等が無く、動作波長に対し、最低９８パーセントの伝送率（両面に反射防止塗料を塗ったもの）を有するものであることが望ましい。このような小角の平行ガラスプレートを用いた場合の光線の平行変位量は次の公式から求められる。
【００４０】
ｄ＝ｔｓｉｎθ（Ｎ′−１）／Ｎ′  （式１）
ここで、ｄは平行変位量、ｔはプレートの厚さ、θは入射角、Ｎ′はガラスの屈折率を表す。平行変位量（ｄ）は、図１１に示されている。
【００４１】
例えば、もしガラスプレート７０の厚さが２ミリで、屈折率が１．５であるとすると、５度の傾斜により、５８ミクロンの変位が生じる。従って、ラスタ走査装置にこのようなガラスプレートを導入すると、多くの用途が考えられる。もし厚いガラスを導入しても、修正の度合いが大き過ぎる場合は、屈折率の大きいガラスプレートを用いるか、より大きな傾斜角を採用すればよい。
【００４２】
図１２（Ａ）は、多角形ミラー５６の現行面１００上の２対の入力走査線を示している。第一対は、光軸５６Ａの上にある走査線１２０と１２２である。第二対は、光軸５６Ａの下にある走査線１２４と１２６である。走査線１２０と１２２は、第一光学チャネルから発し、走査線１２４と１２６は、第二光学チャネルから発せられることが望ましい。図１２（Ｂ）から解かるように、走査線の第一対、１２０と１２２は、線１２０が光軸５６Ａの上にあり、線１２２が光軸５６Ａの下にあるように調節される。走査線の第二対、１２４と１２６は、線１２４が光軸５６Ａの上にあり、線１２６が光軸５６Ａの下にあるように調節される。現行面上で、走査線を互い違いにすることにより、飛び越し（インターレース）走査が実現する。また、ビーム分離を削減し、湾曲差も少なくすることができる。図１２（Ｂ）では、各入力光学チャネルにガラスプレート７０を設けて、各対の走査線間のサジタル分離が狭められている。これは、レーザー製造過程上の規制により分離を狭くできない場合に特に有効である。
【００４３】
【発明の効果】
本発明によれば、透光板を利用して湾曲差を修正でき、この結果、良質の画像を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  従来のマルチステーション・ラスタ出力走査器の概略図である。
【図２】  デュアルスポット・シングルステーション・ゼログラフィックプリンタの概略図である。
【図３】  ラスタ走査光学系のタンジェンシャル方向の展開図である。
【図４】  ラスタ走査光学系のサジタル方向の展開図である。
【図５】  本発明の実施形態の概略図である。
【図６】  平行ガラスプレートと調節装置の実施形態の側面図である。
【図７】  図６を矢印Ｅの方向からみた図である。
【図８】  （Ａ）は多角形ミラー上の光像のサジタル分離を示す図であり、（Ｂ）は本発明の実施形態に係る小さくよく制御された光像のサジタル分離を示す図であり、（Ｃ）は多角形ミラー上の光像のサジタルおよびタンジェンシャル分離を示す図であり、（Ｄ）は本発明の実施形態に係る小さくよく制御された光像のサジタル分離およびタンジェンシャル分離を示す図である。
【図９】  （Ａ）は湾曲を持つ走査線を示す図であり、（Ｂ）は湾曲を持つ一対の走査線を示す図である。
【図１０】  本発明の実施形態に用いられる設定ねじのもう１つの実施形態の側面図である。
【図１１】  平面ガラスプレートを通過する光線を示す図である。
【図１２】  （Ａ）は多角形ミラー上の二対の光像を示す図であり、（Ｂ）は本発明の実施形態に係る小さくよく制御された二対の光像の分離を示す図である。
【符号の説明】
３８  受光器、５６  ポリゴンミラー、７０  ガラスプレート、９０  レーザーダイオード。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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