(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の方向に沿って配置された回転軸と、
この回転軸の周面に接触して上記回転軸の周囲に環状空間を形成するシール状態および上記回転軸の周面から離間したシール解除状態に変位可能な可変シール部材と、
上記環状空間に気体を供給する気体供給手段と、
上記回転軸に設けられており、上記環状空間に臨んで上記回転軸の周面に形成された気体取込口に連通された気体流通路と、
を含むことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
上記気体流通路に気体を流通させる必要がある時には、上記可変シール部材をシール状態にし、上記気体流通路に気体を流通させる必要がない時には、上記可変シール部材をシール解除状態にする可変シール部材変位手段をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
上記回転軸に固定されたチャックベースと、
このチャックベースに取り付けられており、基板の周縁部にそれぞれ当接して基板を挟持する複数の挟持部材と、
エアシリンダを駆動源とし、少なくとも１つの挟持部材を駆動するための挟持部材駆動機構とをさらに含み、
上記気体供給手段は、上記エアシリンダの駆動用エアを供給するものであり、
上記気体流通路は、上記エアシリンダに接続されて、上記エアシリンダの駆動用エアが流通するための駆動用エア流通路であることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
上記回転軸を中心軸まわりに回転させる回転手段と、
上記回転軸が上記回転手段によって回転されている状態で、上記気体供給手段により上記環状空間に駆動用エアを供給して、上記少なくとも１つの挟持部材の基板挟持状態を解除させる制御手段をさらに含むことを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
上記可変シール部材は、内部に中空部が形成され、伸縮性を有する一対の環状部材であり、
上記シール状態は、上記中空部に気体を供給して可変シール部材を膨張させた状態であり、
上記シール解除状態は、上記中空部から気体を排出して可変シール部材を収縮させた状態であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
上記可変シール部材は、伸縮性を有するゴムを主材料とし、上記回転軸の周面と接触する部分をポリテトラフルオロエチレン系材料で構成したものであることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板などの各種の被処理基板に所定の処理を施すための基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の製造工程においては、半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）の表面、裏面および端面の全域に銅薄膜などの金属薄膜を形成した後、この金属薄膜の不要部分をエッチング除去する処理が行われる場合がある。たとえば、配線形成のための銅薄膜は、ウエハの表面の素子形成領域に形成されていればよいから、ウエハの表面の周縁部、裏面および端面に形成された銅薄膜は不要となる。
【０００３】
図４は、ウエハＷの表面の周縁部、裏面および端面に形成されている薄膜を除去するための装置の構成を図解的に示す図である。この処理装置は、ウエハＷをほぼ水平に保持した状態で高速回転するスピンチャック１０１と、スピンチャック１０１に保持されているウエハＷの裏面の中央部に向けてエッチング液を吐出するノズル１０２とを備えている。スピンチャック１０１は、鉛直方向に沿って配置された回転軸１０３と、この回転軸１０３の上端に水平に固定されたチャックベース１０４と、このチャックベース１０４に立設され、ウエハＷの周縁部を保持する複数本のチャックピン１０５とを備えている。ノズル１０２は、チャックベース１０４の上面の回転中心上に配置されている。
【０００４】
ウエハＷに対して処理を施す際には、複数のチャックピン１０５によりウエハＷがほぼ水平に保持された状態で、モータなどを含む回転駆動機構から入力される回転力により回転軸１０３が回転される。そして、その回転中のウエハＷの裏面に向けてノズル１０２からエッチング液が供給されるとともに、ウエハＷの表面の回転中心に向けてエアが供給される。これにより、ウエハＷの表面の周縁部を除く領域がエアで覆われて、この領域にウエハＷの裏面に供給されたエッチング液が回り込むことが防止され、ウエハＷの表面の周縁部、裏面および端面に形成されている不要な薄膜のみをエッチング除去することができる。
【０００５】
ところが、全処理期間を通してチャックピン１０５に対するウエハＷの相対回転位置が一定であれば、ウエハＷの端面のチャックピン１０５と接触している部分にはエッチング液が供給されず、この部分の薄膜が除去されずに残ってしまう。そのため、複数本のチャックピン１０５のうちの少なくとも１本のチャックピンは、ウエハＷの端面に対して接触／離間可能な可動ピン１０５ａとなっており、この可動ピン１０５ａをスピンチャック１０１の回転中にウエハＷの端面から離間させることによってウエハＷの挟持を解放し、このときのウエハＷとスピンチャック１０１との回転速度の違いを利用して、チャックピン１０５に対するウエハＷの相対回転位置をずらすようにしている。
【０００６】
可動ピン１０５ａは、チャックベース１０４内に配設されたエアシリンダ１０６によって駆動されるようになっている。エアシリンダ１０６の本体部１０７の後端には、エア導入口（図示せず）が形成されており、チャックベース１０４内には、当該エア導入口に連通するようにエア通路１０８が形成されている。このエア通路１０８は、回転軸１０３に形成されたエア通路１０９と結合されている。そして、エア通路１０９は、回転軸１０３の周面に形成された貫通孔１１０と連通している。
【０００７】
回転軸１０３の周囲には、回転軸１０３の周面に摺接するオイルシール１１１，１１２がホルダ１１３に保持されて配置されている。オイルシール１１１，１１２の先端は回転軸１０３の全周に接触しており、オイルシール１１１，１１２およびホルダ１１３と回転軸１０３の周面との間には環状の閉空間１１４が形成されている。そして、この閉空間１１４に臨んで、エア通路１０９と連通した貫通孔１１０が形成されている。また、ホルダ１１３には、閉空間１１４にエアを供給するためのエア供給路１１５が形成されており、このエア供給路１１５は、エア供給管１１６に結合されている。エア供給管１１６には、エア供給バルブ１１７が介装されており、図外のエア供給源からの圧縮エアを必要に応じて供給できるようになっている。
【０００８】
したがって、エア供給源からエア供給バルブ１１７を介して供給される圧縮エアは、エア供給管１１６、エア供給路１１５、閉空間１１４、回転軸１０３のエア通路１０９およびチャックベース１０４内のエア通路１０８を順に通ってエアシリンダ１０６に供給される。オイルシール１１１，１１２間の閉空間１１４と回転軸１０３のエア通路１０９との連通状態は、回転軸１０３の回転位置によらずに常時確立されているから、スピンチャック１０１の回転中においても、エアシリンダ１０６に駆動用の圧縮エアを供給することが可能である。
【０００９】
たとえば、エアシリンダ１０６に圧縮エアを供給しない状態では、エアシリンダ１０６のロッド１１８が本体部１０７に没入し、可動ピン１０５ａがウエハＷの端面に押し付けられる。このとき、可動ピン１０５ａは、定位置においてウエハＷの端面を規制する他のチャックピン１０５と協働してウエハＷを挟持する。そして、この挟持状態は、エアシリンダ１０６に圧縮エアを供給して、エアシリンダ１０６のロッド１１８を本体部１０７から進出させ、可動ピン１０５ａをウエハＷの端面から離間させることによって解除できる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述の処理装置では、オイルシール１１１，１１２が高速回転する回転軸１０３の周面と常に接触しているため、オイルシール１１１，１１２の摩耗による発塵が多く、また、オイルシール１１１，１１２と回転軸１０３との接触部分で発熱し、これらがウエハＷの処理に悪影響を及ぼすおそれがあった。
さらには、オイルシール１１１，１１２の寿命が短く、オイルシール１１１，１１２の交換を頻繁に行わなければならないうえに、そのオイルシール１１１，１１２の交換時にオイルシール１１１，１１２に傷をつけてしまうと、その傷がついた部分から圧縮エアが漏れるという問題もあった。
【００１１】
そこで、この発明の目的は、回転軸周面における発塵や発熱を抑制でき、かつ、回転軸に形成された気体流通路に気体を良好に供給できる基板処理装置を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、所定の方向に沿って配置された回転軸（１２）と、この回転軸の周面に接触して上記回転軸の周囲に環状空間（４３）を形成するシール状態および上記回転軸の周面から離間したシール解除状態に変位可能な可変シール部材（３２，３３）と、上記環状空間に気体を供給する気体供給手段（４４，４５，４６）と、上記回転軸に設けられており、上記環状空間に臨んで上記回転軸の周面に形成された気体取込口（３１）に連通された気体流通路（３０）と、を含むことを特徴とする基板処理装置である。
【００１３】
また、請求項２記載の発明のように、上記気体流通路に気体を流通させる必要がある時には、上記可変シール部材をシール状態にし、上記気体流通路に気体を流通させる必要がない時には、上記可変シール部材をシール解除状態にする可変シール部材変位手段（３５，３６，３７，３８，３９，４０，４１，４２）をさらに含むことが好ましい。
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じである。
【００１４】
この発明によれば、気体流通路に気体を流通させる必要がある時にのみ、可変シール部材がシール状態にされて、可変シール部材が回転軸の周面に接触される。したがって、回転軸の周面に環状空間（環状の閉空間）を形成するためのシール部材が常時密着している従来装置に比べて、回転軸の周面における発塵や発熱を抑制することができる。また、可変シール部材の摩耗が少なく、可変シール部材は頻繁に交換する必要がないので、この可変シール部材の交換時の傷つきによるエア漏れなどの不都合が発生するおそれを少なくできる。
【００１５】
なお、請求項３に記載のように、上記回転軸に固定されたチャックベース（１３）と、このチャックベースに取り付けられており、基板の周縁部にそれぞれ当接して基板を挟持する複数の挟持部材（１６，１７，１８，１９）と、エアシリンダ（２６）を駆動源とし、少なくとも１つの挟持部材（１９）を駆動するための挟持部材駆動機構（２４）とをさらに含み、上記気体供給手段は、上記エアシリンダの駆動用エアを供給するものであり、上記気体流通路は、上記エアシリンダに接続されて、上記エアシリンダの駆動用エアが流通するための駆動用エア流通路であってもよい。
【００１６】
請求項４記載の発明は、上記回転軸を中心軸まわりに回転させる回転手段（１４）と、上記回転軸が上記回転手段によって回転されている状態で、上記気体供給手段により上記環状空間に駆動用エアを供給して、上記少なくとも１つの挟持部材の基板挟持状態を解除させる制御手段（４７）をさらに含むことを特徴とする請求項３記載の基板処理装置である。
この発明によれば、回転している基板がその挟持を解除されるたびに回転方向にずれて、基板と挟持部材との当接位置が変化する。これにより、基板の全周における裏面周縁部や周端面に良好な処理を施すことができる。
【００１７】
なお、請求項５記載の発明は、上記可変シール部材（３２，３３）が、内部に中空部が形成され、伸縮性を有する一対の環状部材であって、上記シール状態は、上記中空部に気体を供給して可変シール部材（３２，３３）を膨張させた状態であり、上記シール解除状態は、上記中空部から気体を排出して可変シール部材（３２，３３）を収縮させた状態であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置である。
【００１８】
これにより、可変シール部材によるシール状態およびシール解除状態を、可変シール部材への気体の供給／停止だけで容易に実現することができる。
請求項６記載の発明は、上記可変シール部材は、伸縮性を有するゴムを主材料とし、上記回転軸の周面と接触する部分をポリテトラフルオロエチレン系材料で構成したものであることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置である。
【００１９】
この発明によれば、可変シール部材を適当な圧力で回転軸に接触させることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１および図２は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための図解的な断面図である。この基板処理装置は、ウエハＷの裏面に形成された薄膜とウエハＷの表面の周縁部および端面に形成されている薄膜を同時に除去することができるものであり、ウエハＷをほぼ水平に保持し、この保持したウエハＷのほぼ中心を通る鉛直軸線まわりに回転する周縁部保持チャック１１を備えている。
【００２１】
周縁部保持チャック１１は、鉛直方向に沿わせて配置されたチャック軸１２と、このチャック軸１２の上端からほぼ水平方向に延びたチャックベース１３とを有している。チャック軸１２には、たとえばモータなどの駆動源を含む回転駆動部１４が結合されている。また、チャック軸１２は、中空軸とされていて、その内部には、ウエハＷの裏面にエッチング液または純水などの処理液を供給するための処理液ノズル１５が挿通されている。この処理液ノズル１５は、周縁部保持チャック１１に保持されたウエハＷの裏面（下面）中央に近接した位置に吐出口を有しており、図外の処理液供給源から供給されてくる処理液を上方に向けて吐出することができる。これにより、処理液ノズル１５から吐出される処理液は、周縁部保持チャック１１に保持されたウエハＷの裏面中央に供給されることになる。
【００２２】
チャックベース１３の周縁部には、図３に示すように、円周方向に間隔を開けて、複数個（この実施形態では４個）の挟持部材１６，１７，１８，１９が配置されている。このうち、ほぼ等角度間隔で配置された３個の挟持部材１６，１７，１８は、ウエハＷの処理時において、定位置でウエハＷの端面を規制する位置規制用挟持部材であり、残る１個の挟持部材１９は、ウエハＷの処理時において、ウエハＷの端面に押し付け力を作用させて、位置規制用挟持部材１６〜１８と協働しウエハＷを挟持する押し付け用挟持部材である。なお、図３には、チャックベース１３の内部を透視した構成を示してある。
【００２３】
位置規制用挟持部材１６，１７，１８はいずれも、ウエハＷを下方から保持するためのウエハ載置面２０と、ウエハＷの周端面を規制するためのウエハ規制面２１とを有している。一方、押し付け用挟持部材１９は、鉛直軸線まわりに所定角度範囲で回動可能であり、その回動軸線（鉛直軸線）から遠い第１鉛直面２２と、回動軸線に近い第２鉛直面２３とが形成されていて、第１鉛直面２２をウエハＷの周端面に対向させて接触させることにより、位置規制用挟持部材１６，１７，１８と協働してウエハＷを水平面に沿った状態で挟持することができる。
【００２４】
また、押し付け用挟持部材１９の下端部には、レバー２４が固定されている。レバー２４の一端は、取付部材２５を介して、エアシリンダ２６のロッド２７に結合されている。エアシリンダ２６は、いわゆる単動型のシリンダであり、圧縮エアの供給によって、ロッド２７が本体部２８から進出し、圧縮エアの開放に伴って、内蔵のばねの働きによりロッド２７が本体部２８内に没入するものである。この実施形態では、ロッド２７が本体部２８内に没入した状態で、押し付け用挟持部材１９の第１鉛直面２２がウエハＷの周端面に対向し、挟持部材１６〜１９によってウエハＷが挟持される。この状態から、ロッド２７が本体部２８から進出すると、押し付け用挟持部材１９が図２における時計回りに回動して、押し付け用挟持部材１９の第２鉛直面２３がウエハＷの周端面に対向し、挟持部材１６〜１９によるウエハＷの挟持が開放される。
【００２５】
エアシリンダ２６の駆動用圧縮エアは、エアシリンダ２６の本体部２８に形成されたエア導入口（図示せず）から供給されるようになっている。このエア導入口には、チャックベース１３内に形成されたエア通路２９が連通されている。エア通路２９は、チャック軸１２内に形成されたエア通路３０と結合されていて、エア通路３０は、チャック軸１２の周面に形成されたエア取込口３１に接続されている。
【００２６】
チャック軸１２の周囲には、形状可変シール部材３２，３３が配置されている。形状可変シール部材３２，３３は、たとえば、伸縮性を有する材料を用いて内部が中空の環状に形成されており、その外周部分がホルダ３４に保持されて、上下に間隔を開けて並べられている。形状可変シール部材３２，３３の外周には、それぞれ膨張用エア導入口３５，３６が形成されており、これらの膨張用エア導入口３５，３６と連通するように、ホルダ３４には貫通孔３７，３８が形成されている。そして、貫通孔３７，３８には、それぞれ膨張用エア供給源から延びた膨張用エア供給管３９，４０が接続されており、膨張用エア供給管３９，４０には、それぞれ３方弁構造の膨張用エア供給バルブ４１，４２が介装されている。これにより、形状可変シール部材３２，３３の内部（中空部）に、膨張用エア供給源からの膨張用エアを必要に応じて供給／停止することができ、この膨張用エアの供給／停止に応じて、形状可変シール部材３２，３３を膨張／収縮させることができる。なお、膨張用エア供給バルブ４１，４２は３方弁構造となっているため、膨張用エア供給バルブ４１，４２が閉じられて膨張用エアの供給が停止した時には、貫通孔３７，３８と大気空間とが連通する状態とされて、形状可変シール部材３２，３３の内部にある膨張用エアが大気開放されて排出されるようになっている。形状可変シール部材３２，３３は、内部に膨張用エアが供給されて膨張した状態（シール状態）で、その内周面がチャック軸１２の全周に圧接され（図１参照）、内部への膨張用エアの供給が停止され、内部の膨張用エアが排出されて収縮した状態（シール解除状態）で、その内周面がチャック軸１２の周面から離間する（図２参照）。
【００２７】
なお、形状可変シール部材３２，３３は、たとえば、伸縮性を有するゴムが主材料とされ、チャック軸１２の周面と接触する部分がポリテトラフルオロエチレン系材料で構成されている。
図１に示すように、形状可変シール部材３２，３３が膨張してチャック軸１２の全周に密着したシール状態で、チャック軸１２の周囲には、形状可変シール部材３２，３３およびホルダ３４によって囲まれた環状の閉空間４３（環状空間）が形成される。そして、この環状空間４３に臨んで、チャック軸１２内のエア通路３０と連通したエア取込口３１が形成されている。また、ホルダ３４には、環状空間４３にエアを供給するためのエア供給路４４が形成されており、このエア供給路４４は、エア供給管４５に結合されている。エア供給管４５には、エア供給バルブ４６が介装されており、エア供給源からの圧縮エアを必要に応じて供給できるようになっている。
【００２８】
したがって、エア供給源からエア供給管４５を介して供給される圧縮エアは、形状可変シール部材３２，３３がチャック軸１２の全周に密着して環状空間４３が形成されていれば、エア供給路４４から環状空間４３に流入し、環状空間４３からチャック軸１２内のエア通路３０およびチャックベース１３内のエア通路２９を順に通ってエアシリンダ２６に供給される。環状空間４３とチャック軸１２のエア通路３０との連通状態は、チャック軸１２の回転位置によらずに常時確立されているから、チャック軸１２（周縁部保持チャック１１）の回転中においても、エアシリンダ２６に駆動用の圧縮エアを供給することが可能である。
【００２９】
なお、膨張用エア供給バルブ４１，４２およびエア供給バルブ４６の開閉は、たとえばマイクロプロセッサなどを含む制御部４７により制御されるようになっている。
この基板処理装置における処理に際しては、処理対象のウエハＷは、スピンチャック１の上方から位置規制用挟持部材１６，１７，１８のウエハ載置面２０上に載置される。このウエハＷの載置時には、膨張用エア供給バルブ４１，４２が開かれて、形状可変シール部材３２，３３の内部に膨張用エアが供給されるとともに、エア供給バルブ４６が開かれて、エアシリンダ２６に圧縮エアが供給されることにより、押し付け用挟持部材１９の第２鉛直面２３がウエハＷの周端面に対向している。
【００３０】
その後、エア供給バルブ４６および膨張用エア供給バルブ４１，４２が閉じられる。これにより、エアシリンダ２６の圧縮エアが開放されて、エアシリンダ２６のロッド２７が没入し、押し付け用挟持部材１９の第１鉛直面２２がウエハＷの周端面に対向して、挟持部材１６〜１９によってウエハＷが挟持される。また、形状可変シール部材３２，３３への膨張用エアの供給が停止して、形状可変シール部材３２，３３が収縮し、形状可変シール部材３２，３３がチャック軸１２から離間する。
【００３１】
つづいて、回転駆動部１４によってチャック軸１２が回転され、周縁部保持チャック１１に保持されたウエハＷがその中心を通る鉛直軸まわりに高速回転される。そして、この回転しているウエハＷの裏面（下面）に向けて、チャック軸１２の上端に配置された処理液ノズル１５から処理液が吐出され、ウエハＷの表面の周縁部、裏面および端面に処理が施されていく。
ウエハＷが高速回転されつつ、ウエハＷの裏面に処理液が供給されている途中で、所定の時間間隔でウエハＷの挟持が所定の短時間だけ解除されるようになっている。すなわち、膨張用エア供給バルブ４１，４２が短時間だけ開かれて、形状可変シール部材３２，３３の内部に膨張用エアが供給されるとともに、エア供給バルブ４６が短時間だけ開かれて、エアシリンダ２６に圧縮エアが供給されることにより、押し付け用挟持部材１９が往復回動され、挟持部材１６，１７，１８，１９によるウエハＷの挟持が上記所定の短時間だけ解除される。この短時間のウエハＷの挟持解除動作は、ウエハＷの高速回転中に所定の時間間隔で何度か行われる。これにより、回転しているウエハＷが、その挟持を解除されるたびに、位置規制用挟持部材１６〜１８上で回転方向にずれて、ウエハＷと挟持部材１６〜１９との当接位置が変化する。これにより、ウエハＷの全周における裏面周縁部や周端面に良好な処理を施すことができる。
【００３２】
以上のようにこの実施形態によれば、挟持部材１６〜１９によるウエハＷの挟持を解除するためにエアシリンダ２６に圧縮エアを供給する必要がある時だけ、形状可変シール部材３２，３３に膨張用エアが供給されて、形状可変シール部材３２，３３がチャック軸１２の周面に密着される。したがって、チャック軸の周面に環状空間を形成するためのシール部材が常時密着している従来装置に比べて、チャック軸１２の周面における発塵や発熱を抑制することができる。また、形状可変シール部材３２，３３の摩耗が少なく、形状可変シール部材３２，３３は頻繁に交換する必要がないので、この形状可変シール部材３２，３３の交換時の傷つきによるエア漏れなどの不都合が発生するおそれを少なくできる。
【００３３】
この発明の一実施形態の説明は以上の通りであるが、この発明は、他の形態で実施することも可能である。たとえば、上述の実施形態では、ウエハＷを保持して回転させる周縁部保持チャック１１のチャック軸１２にエア通路３０が形成され、このエア通路３０にエアシリンダ駆動用の圧縮エアを供給するための構成を取り上げたが、たとえば、上述のチャック軸１２に基板乾燥用のＮ2ガスが流通する気体通路が形成され、この気体通路に基板乾燥用のＮ2ガスを供給するための構成に本発明が適用されてもよい。また、基板のスクラブ洗浄用のブラシを回転させるための回転軸に気体流通路が形成され、この気体流通路に処理ガスやエアなどの気体を供給するための構成に本発明が適用されてもよい。また、基板に処理液を供給するためのノズルが取り付けられたノズルアームの回転軸に気体流通路が形成され、この気体流通路に気体を供給するための構成に本発明が提供されてもよい。さらには、基板の表面に遮断板を近接させ、基板の回転に伴って遮断板を回転させるとともに、その遮断板の中央から基板に向けてＮ2などの気体を供給する装置において、遮断板を回転させるための回転軸に形成された気体流通路に上記Ｎ2などの気体を供給するための構成に本発明が適用されてもよい。
【００３４】
また、上述の実施形態では、形状可変シール部材３２，３３の内部に膨張用エアを供給したり、その内部の膨張用エアを排出したりすることで、形状可変シール部材３２，３３によるシール状態およびシール解除状態の変位を行っているが、形状可変シール部材３２，３３の形状を変化させて、その変位を行うものなら何でもよい。たとえば、形状可変シール部材３２，３３が中実の部材である場合であっても、形状可変シール部材３２，３３に固い部材を押し付けて物理的に変形させ、上述の変位を行うものであってもよい。
【００３５】
さらにまた、上述の実施形態では、ウエハＷに処理を施す場合を例にとったが、処理対象の基板はウエハＷに限らず、たとえば、液晶表示装置用ガラス基板やＰＤＰ用ガラス基板などの他の種類の基板であってもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための図解的な断面図であり、可変シール部材がチャック軸（回転軸）に密着した状態を示している。
【図２】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための図解的な断面図であり、可変シール部材がチャック軸（回転軸）から離間した状態を示している。
【図３】周縁部保持チャックの構成を説明するための簡略化された平面図である。
【図４】ウエハの表面の周縁部、裏面および端面に形成されている薄膜を除去するための従来装置の構成を図解的に示す図である。
【符号の説明】
１１      周縁部保持チャック
１２      チャック軸
１３      チャックベース
１４      回転駆動部
１６，１７，１８，１９  挟持部材
２４      レバー
２６      エアシリンダ
３０      エア通路
３１      エア取込口
３２，３３  形状可変シール部材
３５，３６  膨張用エア導入口
３７，３８  貫通孔
３９，４０  膨張用エア供給管
４１，４２  膨張用エア供給バルブ
４３      環状空間
４４      エア供給路
４５      エア供給管
４６      エア供給バルブ
４７      制御部
【図１】
0003673459.tif 000002
【図２】
0003673459.tif 000003
【図３】
0003673459.tif 000004
【図４】
0003673459.tif 000005