(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、熱伝導性の高い冷却膜を形成する工程と、
この冷却膜上に、冷却膜より熱伝導率の小さい絶縁体膜を形成する工程と、
この絶縁体膜上において薄膜トランジスタのドレイン領域，チャネル領域及びソース領域が形成されるべき領域の一部に対応した前記絶縁体膜の領域を局所的に薄膜化する工程と、
この局所的に薄膜化された絶縁体膜上の、前記薄膜トランジスタの活性領域となる領域に半導体薄膜を形成する工程と、
この半導体薄膜にパルス状のエネルギービームを照射し、前記局所的に薄膜化された絶縁体膜上の半導体薄膜で核を発生させ結晶成長させる工程と、
を含み、複数の薄膜トランジスタのオフリーク電流のばらつきを低減することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の薄膜トランジスタの製造方法により形成された薄膜トランジスタであって、
基板上に絶縁体を介して形成され、
前記基板と前記絶縁体との間に、前記絶縁体より熱伝導性の高い材料からなる冷却膜を備え、
前記薄膜トランジスタの少なくとも一部は上記冷却膜上に配置され、
前記冷却膜は、前記絶縁体上に形成されたドレイン領域，チャネル領域及びソース領域からなる領域の一部と局所的に接近したことを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項３】
上記請求項２に記載の薄膜トランジスタにおいて、
前記ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域からなる領域の一部、または前記冷却膜の少なくともいずれか一方が、他方に接近したことを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項４】
上記請求項２または３に記載の薄膜トランジスタにおいて、
前記チャネル領域上にゲート電極が形成されるとともに、前記ドレイン領域が前記冷却膜と接近したことを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項５】
上記請求項２〜請求項４のいずれかに記載の薄膜トランジスタにおいて、
前記冷却膜が遮光性を有することを特徴とする薄膜トランジスタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ、センサ、プリンティングデバイスなどの機能機器や、メモリ、ＣＰＵなどの半導体デバイスに使用され、特に、絶縁体上に形成された薄膜トランジスタおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ガラス基板などの絶縁基板上に薄膜トランジスタ（適宜、ＴＦＴと略称する。）を形成する代表的な技術として、水素化アモルファスシリコンＴＦＴ技術や多結晶シリコンＴＦＴ技術が開発され実用に供されてきた。
【０００３】
水素化アモルファスシリコンＴＦＴ技術は、作製プロセスにおける最高温度が約３００℃であり、移動度が約１ｃｍ２／Ｖｓｅｃのキャリア移動を実現している。
このため、当該技術は、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイ（適宜、ＡＭ−ＬＣＤと略称する。）における各画素のスイッチングトランジスタとして用いられ、かかる場合には、薄膜トランジスタは、画面周辺に配置されたドライバー集積回路（ＩＣまたは単結晶シリコン基板上に形成されたＬＳＩ）によって駆動される。
また、ＡＭ−ＬＣＤは、各画素毎にスイッチング素子としてＴＦＴが形成されているため、周辺ドライバ回路から液晶駆動用の電気信号を送るパッシブマトリクス型ＬＣＤに比べ、クロストークなどが低減され良好な画像品質を得られるという特徴を有している。
【０００４】
一方、多結晶シリコンＴＦＴ技術は、例えば、石英基板を用いた作製プロセスにおける最高温度が約１０００℃のＬＳＩと類似した高温プロセスを用いることで、移動度が約３０〜１００ｃｍ２／Ｖｓｅｃの高いキャリア移動を実現している。
このため、当該技術を例えば液晶ディスプレイに応用した場合には、各画素を駆動する画素ＴＦＴとその周辺駆動回路部を、同一ガラス基板上に同時に形成することができる。
また、液晶ディスプレイの小型化、高解像度化に伴い、ＡＭ−ＬＣＤ基板と周辺ドライバー集積回路の接続ピッチが狭小化し、タブ接続やワイヤボンディング法では対処しきれないといった問題があったが、この技術によって解決され、製造プロセスのコストを低減し、さらに、製品を小型化することができた。
【０００５】
ところが、多結晶シリコンＴＦＴ技術は、上述したような高温プロセスを用いる場合、水素化アモルファスシリコンＴＦＴ技術のプロセスで用いられる安価な低軟化点ガラスを用いることができない。
このため、多結晶シリコンＴＦＴの作製プロセスの最高温度を低くするために、レーザ結晶化技術を応用した多結晶シリコン膜の低温形成技術が研究・開発されている。
【０００６】
一般に、このレーザ結晶化技術は、図１１に示す構成からなるパルスレーザ照射装置により実現される。
パルスレーザ光源から照射されるエネルギービームとしてのレーザ光は、ミラーや光強度の空間的な均一化を行うビームホモジナイザなどの光学素子群によって規定される光路を経由し、被照射体であるガラス基板５上のシリコン薄膜に到達する。
通常、レーザ光の照射範囲は、ガラス基板より小さいため、ガラス基板は、ｘｙステージを移動させることによって、任意の位置へのレーザ照射が行われている。なお、ｘｙステージの代わりに、上述の光学素子群を移動させることや、光学素子群とステージを双方移動させる方法も採られている。
【０００７】
このように、レーザ照射によって形成されたレーザ結晶化多結晶シリコン膜は、図１２に示すような薄膜トランジスタに用いられる。
同図に示す薄膜トランジスタは、基板コート層１９でカバーされたガラス基板５上に、チャネル領域７，ソース領域８，ドレイン領域９及びＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  ｄｏｐｅｄ  ｄｒａｉｎ）領域１４が形成され、ゲート絶縁膜を介してゲート電極１０が形成されている。そして、さらに、二酸化シリコン４を積層し、コンタクトホールに形成された金属１１によって配線される。
【０００８】
この薄膜トランジスタは、多結晶シリコン半導体中の結晶粒界に存在する高密度のトラップ準位によって、キャリアが移動しオフリーク電流が流れることを、オフセットゲート領域としてのＬＤＤ領域１４を形成することによって防止している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述したレーザ結晶化多結晶シリコン薄膜は、照射するレーザの強度、パルス幅、パルス数などに応じて結晶粒径が数ｎ（ナノ）ｍ〜数μｍの結晶粒径を有する膜となり、これらの結晶粒を所望の場所にかつ均一に形成することは困難であった。特にエキシマレーザを用いたレーザ結晶化法では、レーザの吸収による加熱再結晶化過程において、結晶核発生がナノ秒オーダの極めて短い時間に生じるため、結晶粒を所望の場所にかつ均一に形成することは非常に困難であった。
なお、レーザ結晶化多結晶シリコン薄膜に限らず、固相成長による多結晶シリコン薄膜や、直接ガラス基板上に多結晶シリコン薄膜を堆積形成するような方法においても同様である。
【００１０】
このため、各薄膜トランジスタは、結晶粒界の状態が均一でないために、各オフリーク電流がばらつき、ＬＤＤ領域によって均一にオフセットしても、各薄膜トランジスタのオフリーク電流のばらつきは改善されず、結果的にオフリーク電流を精度良く低減することができないといった問題があった。
【００１１】
なお、上記課題に関連する技術として、特許２５２５７０７号にて開示された、チャネル領域に低濃度のオフセットゲート領域（ＬＤＤ領域）を設けることにより、オフリーク電流を低減することのできる薄膜トランジスタを有する半導体集積回路が提案されている。
この技術は、上述したように、各薄膜トランジスタの結晶粒界の状態が均一でないために、オフリーク電流を精度良く低減することができず、特に、エキシマレーザを用いたレーザ結晶化法では、結晶化過程において発生する結晶核の状態をコントロールすることはできず、上記課題を解決することはできない。
【００１２】
同じく、上記課題に関連する技術として、特開平９−２９３８７０号にて開示された、ガラス基板と電気絶縁性を有するアルカリ金属イオン阻止膜との間に、熱伝導率の高い電気伝導膜が形成された半導体装置が提案されている。
この技術は、溶融シリコンがほぼ均一に冷却固化し、特定の方位を持つ結晶核の多結晶シリコンを得ることによって、高い移動度の薄膜トランジスタを製造することができる技術であるものの、オフリーク電流の低減および結晶核の位置制御を精度良く行なうことはできず、上記課題を解決することはできない。
【００１３】
なお、この技術は、ＴＦＴの積層構成が、・・・熱伝導率の高い電気伝導膜／絶縁膜／ゲート電極／絶縁膜／シリコン膜・・・としてあり、本発明の構成（・・・熱伝導率の高い電気伝導膜／絶縁膜／シリコン膜／絶縁膜／ゲート電極・・・）と異なっており、さらに、本発明と目的および効果も異なっている。
【００１４】
本発明は、上記の問題を解決すべくなされたものであり、結晶粒界のトラップ準位によるオフリーク電流を、シリコン薄膜の単結晶化によって結晶粒界を排除することにより根本的に低減するとともに、これらの結晶粒を所望の場所にかつ均一に形成することにより、各薄膜トランジスタのオフリーク電流のばらつきを低減し、より精度良くオフリーク電流を低減する薄膜トランジスタおよびその製造方法の提供を目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明における請求項１記載の薄膜トランジスタの製造方法は、基板上に、熱伝導性の高い冷却膜を形成する工程と、この冷却膜上に、冷却膜より熱伝導率の小さい絶縁体膜を形成する工程と、この絶縁体膜上において薄膜トランジスタのドレイン領域，チャネル領域及びソース領域が形成されるべき領域の一部に対応した前記絶縁体膜の領域を局所的に薄膜化する工程と、この局所的に薄膜化された絶縁体膜上の、前記薄膜トランジスタの活性領域となる領域に半導体薄膜を形成する工程と、この半導体薄膜にパルス状のエネルギービームを照射し、前記局所的に薄膜化された絶縁体膜上の半導体薄膜で核を発生させ結晶成長させる工程と、を含み、複数の薄膜トランジスタのオフリーク電流のばらつきを低減することを特徴とする製造方法である。
【００１６】
この製造方法によれば、絶縁体上に形成されたシリコン薄膜に、エキシマレーザを照射して結晶性シリコン薄膜を製作する場合に、冷却膜と局所的に接近した半導体の活性領域（ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域）の一部に結晶核が形成され、この結晶核を中心に再結晶化が始まり、冷却が遅れた部分に向かって固化が進行する。したがって、結晶核近傍にシリコン薄膜をエピタキシャル成長させることにより、単結晶または均一の結晶粒界からなるシリコン薄膜を形成することができる。この製造方法により形成されたシリコン薄膜を薄膜トランジスタに用いることによって、薄膜トランジスタは、結晶粒界のトラップ準位によるオフリーク電流を根本的に低減するとともに、各薄膜トランジスタのオフリーク電流をより精度良く低減することができる。
【００１７】
請求項２記載の発明は、上記請求項１に記載の薄膜トランジスタの製造方法により形成された薄膜トランジスタであって、基板上に絶縁体を介して形成され、前記基板と前記絶縁体との間に、前記絶縁体より熱伝導性の高い材料からなる冷却膜を備え、前記薄膜トランジスタの少なくとも一部は上記冷却膜上に配置され、前記冷却膜は、前記絶縁体上に形成されたドレイン領域，チャネル領域及びソース領域からなる領域の一部と局所的に接近したことを特徴とする。
これにより、薄膜トランジスタは、絶縁体上に形成されたシリコン薄膜に、エキシマレーザを照射して結晶性シリコン薄膜を製作する場合に、冷却膜と局所的に接近した半導体の活性領域（ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域）の一部に結晶核が形成され、この結晶核を中心に再結晶化が始まり、冷却が遅れた部分に向かって固化が進行する。したがって、結晶核近傍にシリコン薄膜をエピタキシャル成長させることにより、単結晶または均一の結晶粒界からなるシリコン薄膜を形成することができ、このシリコン薄膜を薄膜トランジスタに用いることによって、薄膜トランジスタは、結晶粒界のトラップ準位によるオフリーク電流を根本的に低減するとともに、各薄膜トランジスタのオフリーク電流をより精度良く低減することができる。
【００１８】
請求項３に記載の発明は、上記請求項２記載の薄膜トランジスタにおいて、前記ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域の少なくとも一つの領域、または前記冷却膜の少なくともいずれか一方が、他方に接近した構成としてある。
このように、薄膜トランジスタは、冷却膜および半導体の活性領域（ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域）の構造についての選択肢が多いので、設計の自由度が大きくなり、最適設計を行なうことができる。
【００１９】
請求項４記載の発明は、上記請求項２または３記載の薄膜トランジスタにおいて、前記チャネル領域上にゲート電極が形成されるとともに、前記ドレイン領域が前記冷却膜と接近した構成としてある。
【００２０】
これにより、薄膜トランジスタは、ドレイン領域の近傍、つまり、チャネル領域に単結晶または均一の結晶粒界が形成されるので、効果的にオフリーク電流を低減することができる。
具体的には、薄膜トランジスタのドレイン端付近に単結晶シリコンが形成されるように設計することで、多結晶シリコンに特有なドレイン領域におけるフリーク電流を低減することができる。
【００２１】
請求項５記載の発明は、上記請求項２〜請求項４のいずれかに記載の薄膜トランジスタにおいて、前記冷却膜が遮光性を有する構成としてある。
【００２２】
これにより、薄膜トランジスタは、光照射条件下においてもシリコン中の光キャリアの発生を抑え、誤動作を防ぐことができる。具体的には、例えば、強光に曝される液晶プロジェクタに用いられるライトバルブ、特に、液晶画素を駆動する薄膜トランジスタにおいてその効果が大きく好適である。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の各実施形態および各実施例に係る薄膜トランジスタ及びその製造方法について、図面を参照して説明する。
先ず、本発明の第一実施形態に係る薄膜トランジスタについて説明する。
＜第一実施形態＞
図１は、第一実施形態に係る薄膜トランジスタの概略図であり、（ａ）は途中工程における概略上面図を、（ｂ）はＡ−Ａ断面における概略断面図を、（ｃ）は最終工程後の概略断面図を示している。
【００２８】
同図（ａ）において、薄膜トランジスタは、途中工程としてシリコン薄膜１〜３が形成してあり、具体的には、同図（ｂ）に示すように、ガラス基板５上に、冷却膜であるタングステンシリサイド６，絶縁体である二酸化シリコン４及びシリコン薄膜１〜３を順次積層してある。
【００２９】
タングステンシリサイド６は、二酸化シリコン４よりも熱伝導率の大きい材料であり、ガラス基板５の上面のほぼ全面に積層してある。
このため、タングステンシリサイド６は、シリコン薄膜１〜３にレーザ光を照射して結晶化させる際、効率良くこの熱を伝達し冷却効果を発揮する。
なお、タングステンシリサイド６は、冷却膜としての一例であり、冷却膜をタングステンシリサイド６に限定するものではない。
【００３０】
二酸化シリコン４は、タングステンシリサイド６の上面のほぼ全面に積層してあり、また、上面には、底面がほぼ正方形の凹部が形成してある。
このため、凹部の底面は、冷却膜であるタングステンシリサイド６との距離が凹部を除く上面より接近しているので、レーザ光の照射終了後、熱が効率良くタングステンシリサイド６に伝達され早く冷える。
【００３１】
シリコン薄膜１〜３は、二酸化シリコン４の上面のほぼ全面に、また、凹部については、凹部を覆うように薄膜状に形成されている。
このような構造を有するガラス基板５に、エキシマレーザをシリコン層１〜３が溶融するような条件で照射すると、シリコン層１〜３が再結晶化する際に、熱伝導率の大きいタングステンシリサイド６に近接する領域から順に固化する。
つまり、凹部に積層されたシリコン薄膜２は、冷却膜であるタングステンシリサイド６に最も近いので、レーザ光の照射終了後、熱が効率良くタングステンシリサイド６に伝達され、他のシリコン薄膜１、３より早く冷え早く固化する。
【００３２】
より具体的には、凹部底面に積層されたシリコン薄膜２は、周辺に比べ早く冷却されるためインキュベーションタイムt1、核発生密度n1で固化し、第一の多結晶シリコン領域を形成する。
そして、シリコン薄膜３は、この第一の多結晶シリコン領域で固化（結晶化）を開始したシリコン薄膜２が核となり、凹部の側面および外周へ向かって結晶成長する。
【００３３】
このときの結晶成長距離は、インキュベーションタイムt2(t1<t2)、核発生密度n2(n1n2)で固化する第二の多結晶シリコン領域の結晶化領域１と衝突する点で決まる（結晶成長時間:t3=t2-t1）。
したがって、シリコン薄膜３は、第一の多結晶シリコン領域２を核として結晶生長し、第二の多結晶シリコン領域の結晶化領域（シリコン薄膜１）と衝突するまでに、単結晶シリコンとして形成される。
【００３４】
このように、薄膜トランジスタは、エキシマレーザによる再結晶化工程において、シリコン薄膜１〜３が均一に冷却され、所定のインキュベーション時間を経た後、ランダムに結晶核が形成され、この核を中心に結晶粒がランダムに成長し、結晶粒界がランダムに発生することを防止することができる。
つまり、薄膜トランジスタは、再結晶化工程において特定の場所（凹部の底面）から固化（再結晶化）させ、冷却が遅れた部分に向かって固化を進行させることができるので、結晶が、凹部の底面を核として外周方向にエピタキシャル成長し、単結晶として成長する。
【００３５】
このように形成されるシリコン薄膜１〜３を薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）に用いた場合のＴＦＴ構造を図１（Ｃ）に示す。
薄膜トランジスタは、引き続いて、チャネル領域７、ソース領域８、ドレイン領域９、がそれぞれ形成され、ゲート絶縁膜１２を介してゲート１０、金属１１配線、層間絶縁膜１３がそれぞれ形成してある。
【００３６】
ここで、ドレイン領域９をシリコン薄膜２の位置に合わせて形成することにより、チャネル領域７は、単結晶層で形成される。
ここで、シリコン薄膜３は、凹部底面の各辺から結晶成長し対角線上に結晶粒界が発生する場合が考えられるが、ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域を、幅の狭い長方形状とすることにより、結晶粒界を含まないようにすることができる。
【００３７】
このため、薄膜トランジスタは、チャネル領域７の粒界数が削減されているので、多結晶シリコン特有の粒界トラップによるリーク電流を低減することができる。
このように、インキュベーションタイムt2、t1を調整し、結晶成長時間（t3=t2-t1）を長くして、シリコン薄膜３を大きく成長させることにより、単結晶からなる（結晶粒界の存在しない）チャネル領域７を形成することができる。
【００３８】
上述したように、第一実施形態における薄膜トランジスタは、シリコン層であるドレイン領域，チャネル領域及びソース領域の一部が、熱伝導率の大きい材料からなる冷却膜と局所的に接近しているので、レーザ光による加熱後再結晶化する際に、その部分が核となって周辺に向かって単結晶として結晶が成長する。
これにより、薄膜トランジスタは、粒界トラップによるリーク電流を根本的に低減することができる。
【００３９】
また、薄膜トランジスタは、エキシマレーザを用いたレーザ結晶化法による加熱再結晶化過程において、結晶核発生がナノ秒オーダの極めて短い時間に生じるが、結晶核を凹部の底面に形成し、この結晶核の周辺に、単結晶または均一の結晶粒界からなるシリコン薄膜を形成することができ、薄膜トランジスタのオフリーク電流をより精度良く低減することができる。
【００４０】
また、本発明の第一実施形態における薄膜トランジスタの説明は、その製造方法についても説明したものであり、この薄膜トランジスタの製造方法は、冷却膜を形成することによって、単結晶または均一の結晶粒界からなるシリコン薄膜を形成し、結晶粒界のトラップ準位によるオフリーク電流を根本的に低減するとともに、各薄膜トランジスタのオフリーク電流をより精度良く低減することができる。
【００４１】
また、第一実施形態における薄膜トランジスタは、ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域の一部を、熱伝導率の高い材料からなる冷却膜と局所的に接近させる構造において、上述した構造に限定するものではなく、様々な構造とすることができる。
次に、これらの構造について、第一実施形態における応用例として、図面を参照して説明する。
【００４２】
［第一応用例］
図２は、第一応用例に係る薄膜トランジスタの概略図であり、（ａ）は途中工程における概略断面図を、（ｂ）は最終工程後の概略断面図を示している。
同図（ａ）において、薄膜トランジスタは、途中工程として、ガラス基板５上に、冷却膜であるタングステンシリサイド６，絶縁体である二酸化シリコン４及びシリコン薄膜１〜３を順次積層してある。
ここで、二酸化シリコン４の上面には、溝部が形成されており、溝部の底面には、シリコン薄膜２が積層されている。
したがって、シリコン薄膜２は、タングステンシリサイド６に最も近いので、冷却効率が高くなっている。
【００４３】
このような構造を有するガラス基板５に、エキシマレーザをシリコン層１〜３が溶融するような条件で照射すると、シリコン層１〜３が再結晶化する際に、第一実施形態の薄膜トランジスタと同様に、タングステンシリサイド６に近いシリコン薄膜２から固化し、単結晶または均一の結晶粒界からなるシリコン薄膜３を形成する。
【００４４】
引き続いて、薄膜トランジスタは、この単結晶シリコン薄膜３の領域内に、チャネル領域７，ソース領域８及びドレイン領域９がそれぞれ形成され、絶縁性を有する二酸化シリコン４を介してゲート１０、配線としての金属１１がそれぞれ形成してある。
【００４５】
これにより、薄膜トランジスタは、ドレイン領域９およびその近傍（チャネル領域７）に単結晶または均一の結晶粒界が形成されるので、多結晶シリコンに特有なドレイン領域９におけるフリーク電流を効果的に低減することができる。
ここで、好ましくは、チャネル領域７の両端にＬＤＤ領域１４を形成すると良い。このようにすることにより、各チャネル領域７に、例えば、二、三本の結晶粒界が均一に発生している場合に、この分をオフセットすることにより、非常に精度良くリーク電流の発生を防止することができる。
その他の構造および作用は、第一実施形態における薄膜トランジスタと同様としてある。
【００４６】
このように、第一応用例における薄膜トランジスタは、ドレイン領域９，チャネル領域７及びソース領域８が単結晶層で形成されるため、多結晶シリコン特有の粒界トラップによるリーク電流を精度良く低減することができる。
【００４７】
［第二応用例］
図３は、第二応用例に係る薄膜トランジスタの概略図であり、（ａ）は途中工程における概略断面図を、（ｂ）は最終工程後の概略断面図を示している。
同図（ａ）において、薄膜トランジスタは、途中工程として、ガラス基板５上に、冷却膜であるタングステンシリサイド６，絶縁体である二酸化シリコン４及びシリコン薄膜１〜３を順次積層してある。
ここで、二酸化シリコン４の上面には、ストライプ状に二本の溝部が形成されており、この二本の溝部を含む二酸化シリコン４上に、シリコン薄膜１〜３が積層されている。
したがって、この溝部底面は、タングステンシリサイド６に最も近いので、冷却効率が高くなっている。
【００４８】
このような構造を有するガラス基板５に、エキシマレーザをシリコン層１〜３が溶融するような条件で照射すると、シリコン層１〜３が再結晶化する際に、第一実施形態と同様に、タングステンシリサイド６に近い溝部底面に積層されたシリコン薄膜２から固化し、単結晶または均一の結晶粒界からなるシリコン薄膜３を形成する。
ここで、好ましくは、各溝部に挟まれた凸部上面の幅を狭くすると良い。このようにすることにより、多結晶からなるシリコン薄膜１が形成される前に、各溝から成長形成するシリコン薄膜３が凸部上面で衝突すると、結晶粒界の少ないチャネル領域７を形成することができる。
【００４９】
引き続いて、薄膜トランジスタは、この単結晶シリコン薄膜３の領域内に、チャネル領域７，ソース領域８及びドレイン領域９がそれぞれ形成され、絶縁性を有する二酸化シリコン４を介してゲート１０、金属１１配線がそれぞれ形成してある。
【００５０】
このようにすることにより、薄膜トランジスタは、単結晶シリコン３領域内に、ソース領域８とドレイン領域９を形成し、チャネル領域７は単結晶を含む均一な結晶粒界からなるシリコン薄膜３を形成するため、例えば、液晶ディスプレイの画素駆動素子として用いた場合においても、多結晶シリコン特有の粒界トラップによるリーク電流がなくなり、コントラストが向上する。
その他の構造および作用は、第一応用例における薄膜トランジスタと同様としてある。
【００５１】
［第三応用例］
図４は、第三応用例に係る薄膜トランジスタの概略図であり、（ａ）は途中工程における概略断面図を、（ｂ）は最終工程後の概略断面図を示している。
同図（ａ）において、薄膜トランジスタは、途中工程として、ガラス基板５上に、冷却膜であるタングステンシリサイド６，絶縁体である二酸化シリコン４及びシリコン薄膜１〜３を順次積層してある。
ここで、二酸化シリコン４の上面には、一本の溝部が形成されており、この一本の溝部を含む二酸化シリコン４上に、シリコン薄膜１〜３が積層されている。したがって、この溝部底面は、タングステンシリサイド６に最も近いので、冷却効率が高くなっている。
【００５２】
このような構造を有するガラス基板５に、エキシマレーザをシリコン層１〜３が溶融するような条件で照射すると、シリコン層１〜３が再結晶化する際に、第一実施形態と同様に、タングステンシリサイド６に近い溝部底面に積層されたシリコン薄膜２から固化し、溝部の両側に、単結晶または均一な結晶粒界からなるシリコン薄膜３を形成する。
ここで、好ましくは、溝部の幅を狭くすると良い。このようにすることにより、多結晶からなるシリコン薄膜１が形成される領域を減少させ、単結晶または均一な結晶粒界からなるシリコン薄膜３を増加させるので、結果的に、結晶粒界の少ないチャネル領域７を形成することができる。
【００５３】
引き続いて、薄膜トランジスタは、この単結晶シリコン薄膜３の領域内に、チャネル領域７、ソース領域８、ドレイン領域９がそれぞれ形成され、絶縁性を有する二酸化シリコン４を介してゲート１０、金属１１配線がそれぞれ形成してある。
その他の構造および作用は、第一応用例における薄膜トランジスタと同様としてある。
【００５４】
［第四応用例］
図５は、第四応用例に係る薄膜トランジスタを用いた相補型ＭＯＳ（ＣＭＯＳ）の概略図であり、（ａ）は途中工程における概略断面図を、（ｂ）は最終工程後の概略断面図を示している。
同図（ａ）において、ＣＭＯＳは、途中工程として、ストライプ状に凸部を形成したガラス基板５上に、厚さが一定のタングステンシリサイド６，上面が平坦な二酸化シリコン４及びシリコン薄膜１〜３を順次積層してある。
したがって、この凸部上方のシリコン薄膜２は、タングステンシリサイド６に最も近いので、冷却効率が高くなっている。
【００５５】
ここで、この凸部は、予め、ガラス基板に段差を設け、その段差を覆うようにタングステンシリサイド６を形成する。
なお、この凸部は、基板材料自体の加工に限定するものではなく、酸化膜、窒化膜などの膜を堆積した後に、パターニングしても良いし、タングステンシリサイド６に凸部を設けても良い。
【００５６】
このような構造を有するガラス基板５に、エキシマレーザをシリコン層１〜３が溶融するような条件で照射すると、シリコン層１〜３が再結晶化する際に、第一実施形態と同様に、タングステンシリサイド６に近い凸部上面に積層されたシリコン薄膜２から固化し、シリコン薄膜２の両側に単結晶または均一な結晶粒界からなるシリコン薄膜３を形成することができる。
【００５７】
次に、このように形成されるシリコン薄膜１〜３を用いるＣＭＯＳは、図６に示すように、ゲート絶縁膜１２、ゲート電極１０を形成した後、イオン注入により、チャネル領域７，ソース領域８及びドレイン領域９が形成される。
また、レジストを用いることによって、リンとホウ素を注入し分けることにより、n+領域１５とp+領域１６を作り分け、相補型ＭＯＳ（ＣＭＯＳ）回路を形成してある。
そして、図５（ｂ）に示すように、層間絶縁膜１３を形成し、コンタクトホールを形成した後に、金属層１１により配線する。
なお、n+領域１５とp+領域１６が接する部分は多結晶で構成されているが、単結晶の方が好ましいことは、勿論である。
【００５８】
このように、第一実施形態における薄膜トランジスタを用いたＣＭＯＳ回路は、チャネル領域７が単結晶領域に形成することができるので、リーク電流を低減することができ、結果的に、消費電流を低減することができる。
【００５９】
各応用例を挙げて上述したように、本発明における薄膜トランジスタは、冷却膜および半導体の活性領域（ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域）の構造についての選択肢が多いので、設計の自由度が大きくなり、最適設計を行なうことができ、結果的に、優れた性能の薄膜トランジスタを提供することができる。
【００６０】
また、本発明における薄膜トランジスタの製造方法は、上述した薄膜トランジスタの製造方法の応用例として、半導体薄膜の上方に冷却膜を形成およびパターン化して、半導体薄膜および冷却膜にエネルギービームを照射し、冷却膜の下方の半導体薄膜に結晶核を先に形成する製造方法とすることもできる。
この薄膜トランジスタの製造方法によっても、薄膜トランジスタは、同様の作用（単結晶または均一な結晶粒界からなるシリコン薄膜３を形成する。）を得ることができ、オフリーク電流を根本的にかつ精度良く低減することができる。
【００６１】
また、本発明の薄膜トランジスタは、様々な電子機器に広く使用される。
例えば、本発明の薄膜トランジスタは、図７に示すように半導体メモリに用いることができる。
この半導体メモリは、２ｎ×２ｍビットのメモリセルからなり、メモリセルに薄膜トランジスタが形成されている。
【００６２】
また、例えば、本発明の薄膜トランジスタは、図８に示すように液晶ディスプレイ（適宜、液晶ライトバルブと略称する。）に用いることができ、図９に液晶ライトバルブを応用したプロジェクタの概略構成を示している。
図８において、周辺駆動回路（データドライバ、ゲートドライバ）によりアクティブマトリクスアレイに接続された液晶の画素が駆動される。ここで、薄膜トランジスタは、データドライバ，ゲートドライバ及び画素に用いられている。
図９において、プロジェクタは、ハロゲンランプにより生成された光が、ダイクロイックミラーを介してライトバルブに入射し、その映像が投影レンズを介してスクリーンに投影される。ここで、光の赤成分、緑成分、青成分にそれぞれ対応したライトバルブが用いられる。
【００６３】
さらにまた、例えば、図１０に示すように、本発明の薄膜トランジスタは、携帯型スキャナに用いることができ、具体的には、アモルファスシリコンフォトダイオードの駆動に用いられている。
イメージセンサは、アモルファスシリコンフォトダイオードと主走査方向を制御する薄膜トランジスタで構成されるシフトレジスタ、および読み出しスイッチで構成される。
【００６４】
携帯型スキャナは、光源，イメージセンサ及びファイバーアレイプレートを備え、イメージセンサ背面から証明された原稿表面画像を、ファイバーアレイプレートを用いて画像読みとりする。
そして、この読み取られた画像信号は、ローラーとエンコーダーにより副走査方向への移動位置読みとりがなされ、読み出した画像信号はプリント基板上に形成された外部回路を介して、コンピュータや記録装置に出力される。
ここでは上記のような携帯型スキャナを例示したが、フラットベッド型スキャナ、ファクシミリ、デジタル複写機などのイメージセンサ、あるいは二次元センサにも応用可能である。
【００６５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の薄膜トランジスタは、絶縁体上に形成されたシリコン薄膜に、エキシマレーザを照射して結晶性シリコン薄膜を製作する場合に、冷却膜と局所的に接近した半導体の活性領域（ドレイン領域，チャネル領域及びソース領域）の一部に結晶核が形成され、この結晶核を中心に再結晶化が始まり、冷却が遅れた部分に向かって固化が進行する。
【００６６】
このため、結晶核近傍にシリコン薄膜をエピタキシャル成長させることにより、単結晶または均一の結晶粒界からなるシリコン薄膜を形成することができ、このシリコン薄膜を薄膜トランジスタに用いることによって、薄膜トランジスタは、結晶粒界のトラップ準位によるオフリーク電流を根本的に低減するとともに、各薄膜トランジスタのオフリーク電流をより精度良く低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、第一実施形態に係る薄膜トランジスタの概略図であり、（ａ）は途中工程における概略上面図を、（ｂ）はＡ−Ａ断面における概略断面図を、（ｃ）は最終工程後の概略断面図を示している。
【図２】図２は、第一応用例に係る薄膜トランジスタの概略図であり、（ａ）は途中工程における概略断面図を、（ｂ）は最終工程後の概略断面図を示している。
【図３】図３は、第二応用例に係る薄膜トランジスタの概略図であり、（ａ）は途中工程における概略断面図を、（ｂ）は最終工程後の概略断面図を示している。
【図４】図４は、第三応用例に係る薄膜トランジスタの概略図であり、（ａ）は途中工程における概略断面図を、（ｂ）は最終工程後の概略断面図を示している。
【図５】図５は、第四応用例に係る薄膜トランジスタを用いた相補型ＭＯＳ（ＣＭＯＳ）の概略図であり、（ａ）は途中工程における概略断面図を、（ｂ）は最終工程後の概略断面図を示している。
【図６】図６は、第四応用例に係る薄膜トランジスタを用いた相補型ＭＯＳ（ＣＭＯＳ）の途中工程における概略断面図を示している。
【図７】図７は、本発明に係る薄膜トランジスタを用いた半導体メモリの概略構成図を示している。
【図８】図８は、本発明に係る薄膜トランジスタを用いた液晶ライトバルブの概略構成図を示している。
【図９】図９は、本発明に係る薄膜トランジスタを用いたプロジェクタの概略構成図を示している。
【図１０】図１０は、本発明に係る薄膜トランジスタを用いた携帯型スキャナの要部の概略図であり、（ａ）は内部の斜視図を、（ｂ）は拡大断面図を示している。
【図１１】図１１は、パルスレーザ照射装置の概略構成図を示している。
【図１２】図１２は、従来技術における薄膜トランジスタの概略断面図を示している。
【符号の説明】
１  シリコン薄膜
２  シリコン薄膜
３  シリコン薄膜
４  二酸化シリコン
５  ガラス基板
６  タングステンシリサイド
７  チャネル領域
８  ソース領域
９  ドレイン領域
１０  ゲート電極
１１  金属
１２  ゲート絶縁膜
１３  層間絶縁膜
１４  ＬＤＤ領域
１５  n+領域
１６  p+領域
１９  基板コート層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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