(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な基材と、
透明なゲート電極と、
前記ゲート電極の一部と重畳し、両端にドレイン電極およびソース電極が配置された半導体膜と、
前記ドレイン電極、前記ソース電極および前記半導体膜と離隔して前記ゲート電極の他の一部と重畳し、被測定物が配置される透明なイオン感応膜とにより前記透明な基材上に構成されるセンサトランジスタを有し、
前記半導体膜、前記ドレイン電極、前記ソース電極のいずれか１以上は透明であり、前記センサトランジスタのオンオフ比は２以上であることを特徴とするバイオセンサ。
【請求項２】
前記半導体膜は、キャリア濃度が１０１９ｃｍ−３以上である酸化物半導体であることを特徴とする請求項１に記載のバイオセンサ。
【請求項３】
前記被測定物と前記ドレイン電極および前記ソース電極のいずれか一との間に所定の電圧を印加する参照電極を有する請求項１または２に記載のバイオセンサ。
【請求項４】
前記センサトランジスタは複数配置され、前記イオン感応膜が複数マトリクス状に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のバイオセンサ。
【請求項５】
透明な基材と、透明なゲート電極と、前記ゲート電極の一部と重畳し、両端にドレイン電極およびソース電極が配置された半導体膜と、前記ドレイン電極、前記ソース電極および前記半導体膜と離隔して前記ゲート電極の他の一部と重畳し、被測定物が配置される透明なイオン感応膜とにより前記透明な基材上に構成されるセンサトランジスタを有し、前記半導体膜、前記ドレイン電極、前記ソース電極のいずれか１以上は透明であり、前記センサトランジスタのオンオフ比は２以上であることを特徴とするバイオセンサの動作方法であって、
前記イオン感応膜上に前記被測定物を配置し、
前記ドレイン電極と前記ソース電極との間に電圧を印加して前記ドレイン電極と前記ソース電極との間に流れる電流を測定することを含む、バイオセンサの動作方法。
【請求項６】
前記バイオセンサは参照電極を有し、
前記参照電極によって前記被測定物と前記ドレイン電極および前記ソース電極のいずれか一との間に所定の電圧を印加することをさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の、バイオセンサの動作方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バイオセンサに関する。特に電界効果トランジスタ型のセンサ手段を用いるバイオセンサに関する。
【背景技術】
【０００２】
血液や細胞等の生体試料やその中の特定成分について迅速かつ簡便に濃度等を測定する方法として、電気化学的検出手段によるバイオセンサが実用化されている。その一つとして、電界効果トランジスタ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下、ＦＥＴという）型のセンサ手段を用いるバイオセンサが知られ、特にＩＳＦＥＴ（Ｉｏｎ−ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ＦＥＴ）と呼ばれている。ＩＳＦＥＴを用いたＤＮＡやタンパク質等の生体成分、細胞などの検出系への応用が盛んに研究されている（たとえば、特許文献１参照。）。
【０００３】
このようなバイオセンサは、主にシリコンウェハ上に形成される場合が多い。この理由の一つとして、高性能なＬＳＩ向けのシリコントランジスタの集積回路の技術とＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍ）の技術との融合が容易であるという点から、検出精度の高いバイオセンサの製造が比較的容易であったことが挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開ＷＯ０５／０９０９６１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
バイオセンサとして、従来技術において、シリコンウェハ上に形成される高性能なトランジスタが用いられる。しかし、その一方で、例えば液晶ディスプレイの画素制御に用いられているアモルファスシリコン膜などを半導体層に用いた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をガラス基板上やプラスチック基板上に形成してバイオセンサとして用いることも考えられる。
【０００６】
そもそも、一般的な薄膜トランジスタの使用用途としては、液晶ディスプレイの画素駆動が挙げられる。すなわち、液晶ディスプレイの画素駆動においては、薄膜トランジスタのオン期間で画素に電荷を充電し、オフ期間ではその電荷を維持するといった方法が用いられるのが一般的である。このオフ期間で流れるリーク電流が大きい場合はそのリーク電流によって充電された電荷が放電され、対向している透明電極との間の電界強度が減少し、液晶の透過率が変化してしまう。さらにこのオフ期間はオン期間よりも時間が長いためによりオフ電流を小さくする必要がある。この様な背景から例えば液晶ディスプレイの背面板に用いられている薄膜トランジスタは、オフ状態におけるリーク電流（オフリーク電流）が極めて低くなるように、オンオフ比が１０の４乗から６乗以上となることが要求されている。
【０００７】
図７は、オフ状態におけるリーク電流（オフリーク電流）が極めて低く、オンオフ比が１０の６乗程度となる薄膜トランジスタのゲート電圧に対するドレイン電流の関係を示すグラフの一例を示す。図７のグラフにおいて、ドレイン電流の大きさを線形スケールと対数スケールとによって示している。２つの縦軸のうち左側の縦軸が、線形スケールの目盛であり、非議側の縦軸が対数スケールでの目盛である。図７に示すようにゲート電圧が−１０Ｖから０Ｖの直前までにおけるドレイン電流の大きさは約１０−１３Ａである。このときのドレイン電流がオフリーク電流となる。一方、ゲート電圧が約０Ｖ以上になると、急激にドレイン電流が増加し、ゲート電圧が１０Ｖのときには、ドレイン電流の大きさは１０―７Ａとなる。
【０００８】
しかしながら、薄膜トランジスタにおいては、必ずオンオフ比が１０の４乗から６乗以上となるわけではない。すなわち、ゲート絶縁膜の絶縁性が確保されながらもトランジスタとしてのオフリーク電流が大きくなってしまう場合がある。例えばソースドレイン電極と半導体の接合界面が崩れている場合そこでのリーク電流が発生する。他にも外部エネルギー例えば光エネルギーなどの影響でキャリアが生成されてオフリーク電流が増加してしまうケースなどもある。オンオフ比が１０の４乗から６乗以上とならないと、液晶ディスプレイの画素駆動には向かないため、オンオフ比が１０の４乗から６乗以上とならない薄膜トランジスタは、不良品として扱われていた。
【０００９】
このため、従来においてはオフリーク電流を小さくすることは至上命題であった。このため、製造プロセス中の工程を工夫することによって、オフリーク電流を小さくすることが実現されてきた。例えば、ソースドレイン電極の接合問題に対しては、ポリシリコンＴＦＴの場合には、ソースドレイン電極と接する高い不純物濃度層と真性半導体とを直接接合せず、間に比較的低い不純物濃度の導電層を設け、これにより電界強度の緩和を行って接合不良を回避する技術が用いられている。さらに例えば酸化物ＴＦＴの場合には酸素原子の欠損によってキャリアが誘起されてしまうので、アニールなどの工程によってキャリア濃度の低減作業が必要になる場合もある。
【００１０】
しかし、これらの目的のために、従来技術においては、ＴＦＴの製造工程に、イオン注入の工程を追加する必要がある。このため、プロセスコストの増加が避けられないこととなる。以上の様にトランジスタのオフリーク電流の低減はプロセスによってはプロセスコストを高くせしめる要因となりえる。このため、従来の薄膜トランジスタの技術を用いてバイオセンサを製造すると、コストが高くなってしまうことになる。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
バイオセンサに薄膜トランジスタを使用する事を考えた場合には、使用用途によっては上記の様な非常に低いオフ電流が求められないケースが多々ある。すなわち、これはトランジスタをバイオセンサとして用いる場合には、ゲート電極にかかる電位変化を、ソースドレイン電極間に流れる電流値により計測する手法が用いられる。そして、液晶ディスプレイの画素制御の際には、ソースドレイン電極の片側に充電する形であり、その充電された電荷を保持する為に低いリーク電流が求められるが、バイオセンサ用のトランジスタとしてはそのような負荷対象がゲート電極に接続される。ゲート絶縁膜の絶縁性が確保されれば、上記の様なオフリーク電流の問題はバイオセンサ型のデバイスでは問題にならないことに本願発明者は注目した。
【００１２】
そこで、本発明の一実施形態として、透明な基材と、透明なゲート電極と、前記ゲート電極の一部と重畳し、両端にドレイン電極およびソース電極が配置された半導体膜と、前記ドレイン電極、前記ソース電極および前記半導体膜と離隔して前記ゲート電極の他の一部と重畳し、被測定物が配置される透明なイオン感応膜とにより前記透明な基材上に構成されるセンサトランジスタを有し、前記半導体膜、前記ドレイン電極、前記ソース電極のいずれか１以上は透明であり、前記センサトランジスタのオンオフ比は２以上であることを特徴とするバイオセンサを提供する。
【００１３】
また、本発明の別の一実施形態として、透明な基材と、透明なゲート電極と、前記ゲート電極の一部と重畳し、両端にドレイン電極およびソース電極が配置された半導体膜と、前記ドレイン電極、前記ソース電極および前記半導体膜と離隔して前記ゲート電極の他の一部と重畳し、被測定物が配置される透明なイオン感応膜とにより前記透明な基材上に構成されるセンサトランジスタを有し、前記半導体膜、前記ドレイン電極、前記ソース電極のいずれか１以上は透明であり、前記センサトランジスタのオンオフ比は２以上であることを特徴とするバイオセンサの動作方法であって、前記イオン感応膜上に前記被測定物を配置し、前記ドレイン電極と前記ソース電極との間に電圧を印加して前記ドレイン電極と前記ソース電極との間に流れる電流を測定することを含む、バイオセンサの動作方法を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、液晶の画素制御に求められるような低いオフリーク電流は必要なく、精査されたプロセスが必要とされず、従来よりも低コストにてバイオセンサを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係るバイオセンサの上面図と等価回路図。
【図２】本発明の一実施形態に係るバイオセンサの断面図。
【図３】本発明の一実施形態に係るバイオセンサの断面図。
【図４】ゲート電圧に対するドレイン電極とソース電極との間に流れる電流値の変化を示すグラフの一例図。
【図５】本発明の一実施形態に係るバイオセンサのゲート電圧とドレイン電流との関係を示すグラフの一例図。
【図６】本発明の一実施形態に係るバイオセンサの上面図。
【図７】一般的な薄膜トランジスタのゲート電圧とドレイン電流との関係を示すグラフの一例図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明に係るバイオセンサについて説明する。なお、本発明は、種々の態様において実施することが可能である。従って、本発明は、以下に説明する実施の形態に限定して解釈されるものではない。なお、以下の説明において参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、繰り返して説明することを省略する。また、図面においては、膜の厚さや長さを誇張して記載する場合がある。
【００１７】
（実施形態１）
図１（ａ）は、本発明の一実施形態に係るバイオセンサに用いられるセンサトランジスタの上面図を示す。センサトランジスタは、半導体膜１０１と、ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３と、ゲート電極１０４とを有する。
【００１８】
半導体膜１０１は、半導体材料から構成される膜である。半導体材料としては、アモルファス酸化物を用いることができる。そのようなアモルファス酸化物の主成分は、ＩｎＭＺｎＯと表すことができ、ここで、Ｍは、Ｇａ（ガリウム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｆｅ（鉄）のうち少なくとも１種である。この中でも、アモルファス酸化物としては、ＭがＧａであるＩｎＧａＺｎＯ系のものを用いるのが好ましい。ＩｎＧａＺｎＯ系のアモルファス酸化物は、室温から１５０°Ｃ程度の低温で成膜が可能である。このため、半導体膜１０１が形成される基材が耐熱性に乏しいプラスチックやガラスにより構成されている場合でも使用することができる。また、ＩｎＧａＺｎＯ系のアモルファス酸化物には、必要に応じて、Ａｌ、Ｆｅ、Ｓｎなどが加えられていてもよい。
【００１９】
また、半導体膜１０１の別の材料として、酸化物亜鉛（ＺｎＯ）を主成分とする酸化物半導体が用いられていてもよい。ＺｎＯを主成分とする場合には、真性の酸化物亜鉛の他に、必要に応じて、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、窒素（Ｎ）及び炭素（Ｃ）等のｐ型ドーパント及びホウ素（Ｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）等のｎ型ドーパントがドーピングされた酸化亜鉛及びマグネシウム（Ｍｇ）、ベリリウム（Ｂｅ）などがドーピングされた酸化亜鉛を加えたものであってもよい。さらに、第１の半導体膜１３１は、錫を添加した酸化インジウム（インジウム錫オキサイド：ＩＴＯ）、インジウム亜鉛オキサイド（ＩＺＯ）または酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などの酸化物半導体から形成されていてもよい。
【００２０】
ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３は、導電性材料により構成される電極である。例えば、チタン、アルミ、銅、金等を用いることができる。酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、ガリウムを添加した酸化亜鉛（ＧＺＯ）等を用いることができる。ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３は、半導体膜１０２の両側に配置され、また、半導体膜１０２とオーミック接触して配置される。このため、ゲート電極１０４に電圧が印加され半導体膜１０２にチャネルが形成されると、そのチャネルを介してドレイン電極およびソース電極１０２、１０３の間に電流を流すことが可能となる。
【００２１】
ゲート電極１０４は、導電性材料により構成される電極である。ゲート電極１０４は、ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３と同様の材料を用いて構成することができる。本発明の一実施形態においては、ゲート電極１０４は、センサトランジスタを上面から見た場合、図１に示すように、半導体膜１０１と重なる部分を有する。また、イオン感応膜と重なる部分を有する。イオン感応膜の上には被測定物を配置することが可能である。このため、ゲート電極１０４は、イオン感応膜を介して検出される被測定物の電位を半導体膜１０１に伝達することが可能となる。
【００２２】
図１（ｂ）は、図１（ａ）のセンサトランジスタの等価回路図を示す。センサトランジスタは、電界効果トランジスタの一種１０５である。そのゲート電極１０８が、ゲート電極１０４に対応し、そのドレイン電極およびソース電極１０６、１０７がドレイン電極およびソース電極１０２、１０３に対応する。
【００２３】
図１（ａ）のＩ−Ｉ断面線における断面図を図２に示す。図２において、基材２０１の上に、ゲート電極１０４が配置され、ゲート電極１０４の上にイオン感応膜２０２が配置されている。イオン感応膜２０２の上に被測定物２０３が配置される。
【００２４】
基材２０１は、絶縁性の材料である。例えば、ガラスなどの無機材料や、ＰＥＮまたはＰＥＴなどのプラスチック（ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、ナイロン、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、メチルペンテン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂）に代表される有機材料であってもよい。
【００２５】
イオン感応膜２０２は、被測定物２０３に添加された試料に含まれる被検出物、例えば、細胞、ＤＮＡ、糖鎖、タンパク質等を配置可能なものである。イオン感応膜２０２は、透明な絶縁材料を用い、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化タンタル、酸化アルミニウム等を用いることができる。
【００２６】
また、上述した材料を用いて、基板２０１と、半導体膜１０１と、ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３と、ゲート電極１０４とを形成する場合に、基板２０１と、半導体膜１０１と、ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３と、ゲート電極１０４との少なくとも一つの材料を透明とすることも可能である。特に基材２０１とイオン感応膜２０２とゲート電極１０４とは、透明であることが好ましい。ここで透明とは、顕微鏡などの観察機器を用いて基材２０１からイオン感応膜２０２の上に配置された被測定物２０３を観察することができる程度に透明であればよい。
【００２７】
また、被測定物２０３が液体などの場合に、被測定物２０３をゲート電極１０４の上に配置されるイオン感応膜２０２の上に滞留させるために、イオン感応膜２０２の上にガラス等の材質の隔壁が設けられていてもよい。
【００２８】
図３（ａ）、図３（ｂ）それぞれは、図１（ａ）のＩＩ−ＩＩ断面線における断面図を示す。図３（ａ）は、ゲート電極１０４が半導体膜１０１よりも基材２０１側に配置された構成を示し、図３（ｂ）は、半導体膜１０４がゲート電極１０４よりも基材２０１側に配置された構成を示す。
【００２９】
図３（ａ）においては、基材２０１の上に、ゲート電極１０４が配置されている。ゲート電極１０４を覆って基材２０１の上にゲート絶縁膜３０１が配置されている。ゲート絶縁膜３０１は、イオン感応膜２０２と同様の材料を用いることができる。ゲート絶縁膜３０１の上に、半導体膜１０１が配置され、その両側に、ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３が配置されている。半導体膜１０１とドレイン電極およびソース電極１０２、１０３との上には、保護膜３０２が配置されている。
【００３０】
図３（ｂ）においては、基材２０１の上に、半導体膜１０１が配置され、その両側にドレイン電極およびソース電極１０２、１０３が配置されている。半導体膜１０１とドレイン電極およびソース電極１０２、１０３との上には、ゲート絶縁膜３０３が配置され、ゲート絶縁膜３０３の上にゲート電極１０４が配置されている。そして、保護膜３０４が、半導体膜１０１とドレイン電極およびソース電極１０２、１０３とゲート絶縁膜３０３とゲート電極１０４とを覆っている。
【００３１】
図３（ａ）、図３（ｂ）において、イオン感応膜２０２は、ゲート絶縁膜３０１または保護膜３０２と一体となっていてもよい。また、イオン感応膜２０２は、ゲート絶縁膜３０１または保護膜３０２のいずれとも異なっていてもよい。
【００３２】
また、被測定物２０３が配置される位置は、半導体膜１０１の上であってもよい。この場合には、半導体膜１０１は透明であってもよい。半導体膜１０１を透明とすることにより、基材２０１の側から、半導体膜１０１の上に配置される被測定物２０３を観察することが可能となる。
【００３３】
図４は、ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３（１０６、１０７）間の電圧を一定とした場合での、ゲート電圧ＶＧとドレイン電流ＩＤとの関係を示すグラフである。なお、ゲート電圧ＶＧとは、ゲート電極１０４（１０８）とドレイン電極およびソース電極１０２、１０３（１０６、１０７）とのいずれかとの間に印加される電圧である。ドレイン電流ＩＤとは、ドレイン電極およびソース電極１０２、１０３（１０６、１０７）間に流れる電流である。
【００３４】
一般的にバイオセンサの技術分野においては、ゲート電圧を−５Ｖ程度から５Ｖ程度までの範囲で変化させる場合が多い。したがって、ＶＧの変化する範囲は、例えば１０Ｖ程度の範囲となる。センシングの対象物質（被測定物）によっては、ＶＧの変化する範囲はもう少し狭い範囲に設定することも可能であり、また、センシングの対象物質によって適宜調整することが可能である。例えば、対象物質などによっては、ゲート電圧を約−１０Ｖから１０Ｖまでの範囲に変化させる場合もある。したがって、本発明においては、ゲート電圧の範囲は特に限定されないものとする。
【００３５】
本発明の一実施形態に係るバイオセンサにおいては、イオン感応膜の上に配置される被測定物の電位が、ゲート電圧ＶＧとして半導体膜１０１に伝達される。これにより半導体膜１０１に形成されるチャネルの電気伝導度が変化する。
【００３６】
オンオフ比を、バイオセンサによる測定時にゲート電圧が変化する範囲の両端の電圧におけるドレイン電流の変化の大きさの比として定義する。すなわち、図４に示すように、バイオセンサによる測定時にゲート電圧が変化する範囲がＶ１からＶ２であるとき、ゲート電圧がＶ１であるときのドレイン電流ＩＤの大きさに対するゲート電圧がＶ２であるときのドレイン電流ＩＤの大きさの比（Ｉ２／Ｉ１）と定義する。このとき、オンオフ比が２を下回り、小さな値となると、ゲート電圧ＶＧがＶ１とＶ２との間の範囲を変化しても、ドレイン電流ＩＤの変化量が小さくなり、小さな電流範囲を精密に測定する必要があり、被測定物の測定が困難となる。このため、高価な電源と電流計が必要となるなどの問題が生ずる。したがって、オンオフ比は２以上であることが好ましい。
【００３７】
通常、バイオセンサによる測定時にゲート電圧が変化する範囲は、−５Ｖ以上から５Ｖ以下あるいは、−１０Ｖ以上から１０Ｖ以下の範囲であるので、ゲート電圧を５Ｖまたは１０Ｖにしたときのドレイン電流の大きさを求め、その値を、ゲート電圧を−５Ｖまたは−１０Ｖにしたときのドレイン電流の大きさにより除することにより、オンオフ比を算出することができる。
【００３８】
一方でオンオフ比の上限は、例えば５０あるいは１００以下であってもよいが、オンオフ比には特に上限はない。ただし、本発明の一実施形態においては、Ｉ１＞０であることが必要である。したがって、オンオフ比が例えば１００を超えると、Ｉ２が過大となる場合がある。また、ＶＧがＶ１とＶ２との間の範囲を変化する場合、ドレイン電流ＩＤは、図４に示すように、ゲート電圧ＶＧの変化に対して線形に変化するのが好ましい。ドレイン電流ＩＤからセンシングの対象物質の状態を測定するのが容易になるからである。
【００３９】
オンオフ比を２以上とする必要条件は、半導体膜１０１の種類や作製条件にもよるため一義的な定義はないが、例えばＩＧＺＯなどの酸化物半導体を例にとるとキャリア濃度を１０１９ｃｍ−３以上とすることである。
【００４０】
なお、測定を行なう際には、被測定物とドレイン電極およびソース電極１０２、１０３のいずれかとの間に所定の電圧（たとえば、Ｖ１以上、Ｖ２以下の電圧）を印加するために、参照電極を被測定物に接触させてもよい。これにより、参照電極に印加される電位に応じたＩＤの変化のプロファイルを得ることもできる。
【００４１】
以上のように、本実施形態においては、例えば液晶の画素制御に求められるような低いオフリーク電流は必要なく、精査されたプロセスが必要とされず、トータルコストが低いバイオセンサが提供される。
【００４２】
以下、本実施形態に係るバイオセンサを製造した実施例について具体的に説明する。
【００４３】
本実施例では、ボトムゲート・トップコンタクト構造のトランジスタ型センサをガラス基板上に作製した。先ず、ガラス基板の全面に厚さ１００ｎｍのゲート電極膜をスパッタ成膜した後、レジストパターンをフォトリソグラフィーで形成した後にエッチングし、ゲート電極膜を所定パターンにパターニングしてゲート電極を形成した。次に、そのゲート電極を覆うように厚さ３００ｎｍの酸化ケイ素をゲート絶縁膜として全面に形成した。このゲート絶縁膜は、ＲＦマグネトロンスパッタリング装置を用い、８インチのＳｉＯ２ターゲットに投入電力：２．０ｋＷ（＝６Ｗ／ｃｍ２）、圧力：０．３Ｐａ、Ｏ２ガスにて形成した。この後、ドライエッチングによりコンタクトホールを形成した。
【００４４】
次に、ゲート絶縁膜を覆うように、全面に、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎが１：１：１のＩｎＧａＺｎＯ系ＩＧＺＯ半導体膜（ＩｎＧａＺｎＯ４）を厚さ２５ｎｍとなるように形成した。ＩＧＺＯ半導体膜は、ＲＦマグネトロンスパッタリング装置を用い、室温（２５℃）、Ａｒ：Ｏ２を３０：５０とした条件下で、４インチのＩｎＧａＺｎＯ（Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１）ターゲットを用いて形成した。次に、このＩＧＺＯ半導体膜上にレジストパターンをフォトリソグラフィーで形成した後、シュウ酸溶液でウェットエッチングし、そのＩＧＺＯ半導体膜をパターニングし、所定パターンからなるＩＧＺＯ半導体膜を形成した。
【００４５】
次に、ＩＧＺＯ半導体膜上の全面に厚さ２００ｎｍのチタニウム膜をソース電極及びドレイン電極とするためにスパッタ成膜した後、レジストパターンをフォトリソグラフィーで形成した後に過酸化水素水とアンモニアの混合溶液でウェットエッチングし、チタニウム膜を所定パターンにパターニングしてソース電極及びドレイン電極を形成した。このとき、ソース電極及びドレイン電極は、ＩＧＺＯ半導体膜上であってＩＧＺＯ半導体膜の中央部直上以外に離間したパターンとなるように形成した。
【００４６】
次に、ソース電極、ドレイン電極及びＩＧＺＯ半導体膜の全てを覆うように、厚さ１００ｎｍの酸化ケイ素をパッシベーション層としてＲＦマグネトロンスパッタリング法で形成し、ドライエッチングによりコンタクトホールを形成した。こうしてセンサトランジスタを有するバイオセンサを製造した。なお、このセンサトランジスタにおいて、ゲート長、ゲート幅は、それぞれ１０μｍである。
【００４７】
図５は、このように製造したバイオセンサのゲート電圧に対するドレイン電流の大きさを測定した結果を示す。図５は、図７と同様に、ドレイン電流の大きさを線形スケールと対数スケールとによって示している。なお、この測定においては、Ｖ１を−１０Ｖとし、Ｖ２を１０Ｖとして測定範囲を定め、０．１Ｖごとにドレイン電流を測定した。この場合、図５より、ゲート電圧が−１０Ｖである場合のドレイン電流の大きさは、２×１０−７Ａであり、ゲート電圧が１０Ｖであるときのドレイン電流の大きさは、４．５×１０−７Ａであるので、オンオフ比は２．２５であり、オンオフ比は２以上となることがわかる。
【００４８】
（実施形態２）
図６は、本発明の別の一実施形態に係るバイオセンサの上面図を示す。図６においては、符号６００は、被測定物が配置されるエリアを示し、この周囲に実施形態１に係る、オンオフ比が２以上のセンサトランジスタが配置される。このエリアは、複数の領域６００（１）、６００（２）、６００（３）、６００（４）に分割されており、それぞれの分割された領域に、イオン感応膜が配置されている。特にエリア６００はマトリクス状に複数の領域に分割され、この分割に応じてイオン感応膜がマトリクス状に配置されていることが好ましい。
【００４９】
イオン感応膜６００（１）、６００（２）、６００（３）、６００（４）の下には、ゲート電極６０１（Ｇ）、６０２（Ｇ）、６０３（ｇ）６０４（Ｇ）がそれぞれ配置され、エリア６００の周囲に配置されたセンサトランジスタの半導体膜６０１（Ｈ）、６０２（Ｈ）、６０３（Ｈ）、６０４（Ｈ）に、エリア６００に配置された被測定物の電位を伝達する。
【００５０】
それぞれのセンサトランジスタは、図１、図３と同様に、半導体膜６０１（Ｈ）、６０２（Ｈ）、６０３（Ｈ）、６０４（Ｈ）それぞれの両側にドレイン電極およびソース電極６０１（Ｄ），６０１（Ｓ）、６０２（Ｄ），６０２（Ｓ）、６０３（Ｄ），６０３（Ｓ）、６０４（Ｄ），６０４（Ｓ）が配置され、半導体膜６０１（Ｈ）、６０２（Ｈ）、６０３（Ｈ）、６０４（Ｈ）それぞれとオーミック接触している。
【００５１】
本実施形態に係るバイオセンサにおいては、複数のバイオセンサトランジスタが用いられるが、液晶の画素制御に求められるような低いオフリーク電流は必要なく、実施形態１の実施例にて説明したように精査されたプロセスが必要とされず、低コストにてバイオセンサを提供することができる。
【符号の説明】
【００５２】
１０１…半導体膜；１０２、１０３…ドレイン電極、ソース電極；１０４…ゲート電極
【図１】
0005640704.tif 000002
【図２】
0005640704.tif 000003
【図３】
0005640704.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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