(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平に保持しつつ回転させる基板回転保持装置であって、
水平姿勢で回転駆動される回転部材と、
前記基板の外周端縁に当接して前記基板の水平位置を規制する１以上の固定式保持部材および複数の回転式保持部材とを備え、
前記複数の回転式保持部材は、所定の回転軸の周りで回動可能に前記回転部材に取り付けられた支持部と、凸状の曲面を有する保持部とからなり、かつ前記基板の回転中心に関して互いに非対称な位置に配置され、少なくとも２つの回転式保持部材は互いに隣接するように配置され、
前記保持部の前記曲面は、前記支持部の回動に伴って前記基板の外周端縁に当接するように前記支持部に前記回転軸に対して偏心して設けられたことを特徴とする基板回転保持装置。
【請求項２】
前記基板の回転中心に関して前記複数の回転式保持部材と対向する位置にそれぞれ固定式保持部材が配置されたことを特徴とする請求項１記載の基板回転保持装置。
【請求項３】
前記支持部は、前記基板の裏面の周縁部を支持する上面部を有し、
前記保持部は、前記支持部の前記上面部に前記回転軸に対して偏心して設けられた円柱体からなることを特徴とする請求項１または２に記載の基板回転保持装置。
【請求項４】
前記支持部は、前記基板の裏面の周縁部を支持する上面部を有し、
前記保持部の前記曲面は、前記支持部の前記上面部にほぼ前記回転軸から外周縁にかけて形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の基板回転保持装置。
【請求項５】
前記複数の回転式保持部材の前記支持部は磁力により回転駆動されることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板回転保持装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の基板回転保持装置を備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を水平に保持しつつ回転させる基板回転保持装置およびそれを備えた回転式基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
回転式塗布装置、回転式現像装置等の回転式基板処理装置においては、半導体ウエハ等の基板を水平に保持しながら回転させる必要がある。一般的には、基板の裏面を真空吸着により吸着保持する吸引式スピンチャックが用いられている。しかしながら、吸引式スピンチャックでは、基板を回転時に確実に吸着保持するために強力な吸引を行っているので、吸着による基板裏面の汚染が生じる。
【０００３】
そこで、基板の裏面の周縁部を支持するとともに基板の外周端縁を保持しつつ基板に回転力を伝達する外周端縁保持型の基板回転保持装置（機械式スピンチャック）が提案されている。このような基板回転保持装置では、基板の回転時に、基板の外周端縁に当接する部材と基板との間の滑りを極力抑えることが要求される。
【０００４】
図１７は従来の外周端縁保持型の基板回転保持装置の平面図である。また、図１８（ａ），（ｂ）は基板回転保持装置に用いられる従来の回転式保持部材（チャックピン）のそれぞれ平面図および側面図である。
【０００５】
図１７に示すように、円形の回転部材１の上面に複数の固定式保持部材２および回転式保持部材２ａが取り付けられている。各固定式保持部材２は、円柱状の基板支持部３およびその基板支持部３よりも小さい直径を有する円柱状の水平位置規制部４からなる。固定式保持部材２の基板支持部３の上面部が基板１００の裏面の周縁部に当接し、水平位置規制部４の外周面が基板１００の外周端縁に当接することにより、基板１００が水平姿勢に支持されるとともに基板１００の水平方向の位置が規制される。
【０００６】
一方、回転式保持部材２ａは、円柱状の支持部３および４分の１の円柱状の保持部４ａからなる。図１８に示すように、回転式保持部材２ａは、回転軸４０の周りで矢印ｘ，ｙで示す方向に回動可能に回転部材１（図１７参照）に取り付けられている。回転式保持部材２ａが矢印ｘの方向に回動すると、保持部４ａの外側の端縁４１が基板１００の外周端縁に当接し、基板１００が水平方向に保持される。逆に、回転式保持部材２ａが矢印ｙの方向に回動すると、基板１００の保持が解除される。
【０００７】
図１９は従来の回転基板保持装置に用いられる回転式保持部材の他の例を示す平面図である。
図１９に示す回転式保持部材２ｂは、円柱状の支持部３および円弧状の保持部４ｂとからなる。保持部４ｂの内側の中央部には２つの突起４２が設けられている。回転式保持部材２ｂが矢印ｘの方向に回動すると、突起４２の一方が基板１００の外周端縁に当接し、基板１００が水平方向に保持される。逆に、回転式保持部材２ｂが矢印ｙの方向に回動すると、基板１００の保持が解除される。
【０００８】
また、基板１００のノッチ部（凹状切欠き）が突起４２の箇所に位置して突起４２がノッチ部に入り込んだときには、保持部４ｂの端部４３が基板１００の外周端縁に当接し、基板１００が水平方向に保持される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような回転式保持部材２ａ，２ｂにおいては、基板１００に当接する保持部４ａ，４ｂの当接部分と回転軸との間の距離が長くなるほど保持力が弱くなる。これを、図２０を用いて説明する。
【００１０】
図２０に示すように、棒２００の中央部２０１に回転力Ｐを加え、回転軸Ｏを中心として棒２００を回動させて物体を保持する場合を考える。図２０（ａ）は棒２００の端部２０２で物体を保持する場合を示し、図２０（ｂ）は棒２００の中心部２０１で物体を保持する場合を示す。回転力Ｐを２Ａとすると、図２０（ａ）の場合には、保持力ＨはＡとなり、図２０（ｂ）の場合には、保持力Ｈは２Ａとなる。このように、回転軸Ｏと保持部（当接部分）との間の距離が長くなるほど、保持力は弱くなる。
【００１１】
図１８の回転式保持部材２ａにおいては、保持部４ａの外周部に存在する端縁４１が基板１００の外周端縁に当接するので、回転軸４０と当接部分との間の距離が長く、回転力に対する保持力が弱い。
【００１２】
一方、図１９の回転式保持部材２ｂにおいては、回転軸の近くに存在する突起４２が基板１００の外周端縁に当接するので、回転軸と当接部分との間の距離が短く、回転力に対する保持力が強い。しかしながら、基板１００のノッチ部が突起４２の箇所に位置したときには、保持部４ｂの端部４３が基板１００の外周端縁に当接するため、回転軸と当接部分との間の距離が長くなり、突起４２が当接する場合に比べて回転力に対する保持力が弱くなる。
【００１３】
したがって、従来の回転式保持部材２ａ，２ｂを用いた基板回転保持装置では、基板の回転時に基板と保持部材との間に滑りが生じるおそれがある。
本発明の目的は、常に強い保持力で基板を水平方向に保持することができる基板回転保持装置およびそれを用いた回転式基板処理装置を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
第１の発明に係る基板回転保持装置は、基板を水平に保持しつつ回転させる基板回転保持装置であって、水平姿勢で回転駆動される回転部材と、基板の外周端縁に当接して基板の水平位置を規制する１以上の固定式保持部材および複数の回転式保持部材とを備え、複数の回転式保持部材は、所定の回転軸の周りで回動可能に回転部材に取り付けられた支持部と、凸状の曲面を有する保持部とからなり、かつ基板の回転中心に関して互いに非対称な位置に配置され、少なくとも２つの回転式保持部材は互いに隣接するように配置され、保持部の曲面は、支持部の回動に伴って基板の外周端縁に当接するように支持部に回転軸に対して偏心して設けられたものである。
【００１５】
第２の発明に係る基板回転保持装置は、第１の発明に係る基板回転保持装置の構成において、基板の回転中心に関して複数の回転式保持部材と対向する位置にそれぞれ固定式保持部材が配置されたものである。
【００１６】
第３の発明に係る基板回転保持装置は、第１または第２の発明に係る基板回転保持装置の構成において、支持部が、基板の裏面の周縁部を支持する上面部を有し、保持部が、支持部の上面部に回転軸に対して偏心して設けられた円柱体からなるものである。
【００１７】
第４の発明に係る基板回転保持装置は、第１または第２の発明に係る基板回転保持装置の構成において、支持部が、基板の裏面の周縁部を支持する上面部を有し、保持部の曲面が、支持部の上面部にほぼ回転軸から外周縁にかけて形成されたものである。
【００１９】
第５の発明に係る基板回転保持装置は、第１〜第４のいずれかの発明に係る基板回転保持装置の構成において、複数の回転式保持部材の支持部が磁力により回転駆動されるものである。
【００２０】
第１〜第５の発明に係る基板回転保持装置においては、複数の回転式保持部材の支持部を回転軸の周りで一方向に回動させることにより保持部の凸状の曲面が基板の外周端縁に当接し、支持部を回転軸の周りで逆方向に回動させることにより凸状の曲面が基板の外周端縁から離れる。この場合、基板の外周端縁への当接部分は凸状の曲面の頂部となり、回転軸と当接部分との間の距離が短い。したがって、回転力に対する保持力が強くなる。その結果、基板を強い保持力で水平方向に保持することができ、基板と保持部材との間に滑りが生じない。
【００２１】
しかも、複数の回転式保持部材が基板の回転中心に関して非対称な位置に配置されているので、保持部材どうしが保持力を相殺することがなく、基板を確実に保持することができる。
【００２２】
また、少なくとも２つの回転式保持部材が互いに隣接するように設けられているので、１つの回転式保持部材が基板のオリエンテーションフラット部（直線状切欠き）に位置しても、他の回転式保持部材が基板を保持することができる。したがって、オリエンテーションフラット部の位置に関わらず基板を確実に保持することができる。オリエンテーションフラット部を有さない基板を保持する場合には、基板の中心と回転中心とを一致させることができる。
【００２３】
特に、第２の発明に係る基板回転保持装置においては、回転式保持部材と固定式保持部材とが基板の回転中心に関して互いに対向して配置されているので、回転式保持部材が互いに対向して配置された場合に比較して、弱い力で基板を保持しても、基板と保持部との間に滑りが発生しない。
【００２４】
また、第３の発明に係る基板回転保持装置においては、支持部の上面部が基板の裏面の周縁部に当接するとともに、円柱体からなる保持部の外周面が基板の外周端縁に当接することにより、基板が水平姿勢で支持されるとともに水平方向に保持される。この場合、支持部の回転変位量に比較して基板の外周端縁へ向かう方向への保持部の変位量が小さいので、回転力に対する保持力がより強くなる。
【００２５】
さらに、第４の発明に係る基板回転保持装置においては、支持部の上面部が基板の裏面の周縁部に当接するとともに、保持部の曲面が基板の外周端縁に当接することにより、基板が水平姿勢で支持されるとともに水平方向に保持される。この場合、基板への当接部分が支持部の回転軸と外周縁との間に存在するので、回転軸と当接部分との間の距離が短くなり、回転力に対する保持力がより強くなる。
【００２７】
さらに、第５の発明に係る基板回転保持装置においては、回転式保持部材の保持部が磁力により回転駆動されるので、部材間の摩擦によるパーティクル（粒子）が発生しない。
【００２８】
第６の発明に係る回転式基板処理装置は、第１〜第５のいずれかの発明に係る基板回転保持装置を備えたものである。
第６の発明に係る回転式基板処理装置においては、第１〜第５のいずれかの発明に係る基板回転保持装置が設けられているので、基板を強い保持力で水平方向に保持して回転させることができる。したがって、基板の回転時に、基板と保持部材との間に滑りが生じない。
【００２９】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の第１の実施例における基板回転保持装置の斜視図、図２は図１の基板回転保持装置の平面図である。
【００３０】
図１および図２において、円形の回転部材１は回転軸１ａの周りで回転駆動される。回転部材１の下方には、リング状磁石１１が回転軸１ａと同軸に配設されている。回転部材１の上面には、回転軸１ａと同軸の円周に沿って複数の固定式回転保持部材２および２つの回転式保持部材５が取り付けられている。固定式保持部材２の構成は、図１３に示した固定式保持部材２の構成と同様である。
【００３１】
特に、２つの回転式保持部材５は、回転軸１ａに関して点対称とならない位置に配置され、各回転式保持部材５と対向する位置に固定式保持部材２が配置されている。本実施例では、２つの回転式保持部材５が隣接する位置に配置される。
【００３２】
図３（ａ），（ｂ）は回転式保持部材５のそれぞれ平面図および側面図である。図３に示すように、回転式保持部材５は、円柱状の支持部６およびその支持部６よりも小さな直径を有する円柱状の保持部７からなる。支持部６は、その中心軸と同軸の回転軸６ａの周りで回動可能に回転部材１（図１および図２参照）に取り付けられる。保持部７は、支持部６の上面部にその回転軸６ａに対して偏心して設けられている。すなわち、支持部６の回転軸６ａと保持部７の中心軸７ａとは所定の距離だけずれている。
【００３３】
図４は回転式保持部材およびその下部に取り付けられた磁石保持部を示す斜視図である。図４に示すように、回転式保持部材５の支持部６の下部には、回転軸６ａと同軸の回転軸体８を介して円形の磁石保持部９が取り付けられている。磁石保持部９の中央には棒状の永久磁石１０が内蔵されている。
【００３４】
図５および図６は図１の基板回転保持装置の構成および動作を説明するための図であり、（ａ）は回転式保持部材およびその周辺部の部分断面図、（ｂ）は回転式保持部材の平面図である。
【００３５】
図５（ａ）および図６（ａ）に示すように、回転式保持部材５の回転軸体８は回動軸受け１２を介して回転部材１に回動自在に支持されている。回動軸受け１２には、回動摩擦を抑えるために例えばベアリング機構が設けられている。
【００３６】
基板１００の処理前および処理後には、図５（ａ）に示すように、リング状磁石１１が回転部材１の下方に離れて位置する。このとき、リング状磁石１１が形成する磁力線Ｂは、永久磁石１０が設置される高さにおいて、回転部材１の外側から中心部に向かう方向に向いている。したがって、永久磁石１０のＮ極が回転部材１の中心部に向かう方向に吸引される。それにより、図５（ｂ）に示すように、回転式保持部材５は矢印Ｘの方向に回動し、保持部７の外周面が基板１００の外周端縁から離れる。
【００３７】
基板１００を処理する際には、図６（ａ）に示すように、リング状磁石１１が上昇して回転部材１に接近する。したがって、永久磁石１０のＳ極がリング状磁石１１のＮ極に吸引される。それにより、図６（ｂ）に示すように、回転式保持部材５が矢印Ｙの方向に回動し、保持部７の外周面が基板１００の外周端縁に当接し、基板１００が水平方向に保持される。
【００３８】
本実施例の回転式保持部材５においては、支持部６の回転軸６ａ（図３参照）の近くに存在する保持部７の外周面が基板１００の外周端縁に当接するので、永久磁石１０とリング状磁石１１による回転力に対する基板１００の保持力が強くなる。
【００３９】
しかも、図７に示すように、支持部６の回転変位量Ｒに対する保持部７の変位量Ｌが小さいので、回転力に対して大きな保持力が得られる。その結果、基板１００が保持部７に対して滑りを生じることなく確実に保持される。
【００４０】
また、図８に示すように、基板１００がノッチ部１０１を有する場合、そのノッチ部１０１の開口の寸法が例えば３ｍｍであるとすると、回転式保持部材５の支持部６の直径を例えば１６ｍｍに設定し、保持部７の直径を例えば１０ｍｍに設定する。それにより、保持部７の箇所にノッチ部１０１が位置しても、保持部７がノッチ部１０１に入り込まない。したがって、基板１００のノッチ部１０１の位置に関わらず基板１００をほぼ同一位置で同一の保持力で保持することができる。
【００４１】
また、図９に示すように、各回転保持部材５は、保持部７が基板１００の円形の外周端縁を保持するために必要な最小限の量だけ基板１００の外周端縁に向かう方向に移動する。
【００４２】
したがって、基板１００がオリエンテーションフラット部（直線状切欠き）１０２を有する場合、回転式保持部材５の箇所にオリエンテーションフラット部１０２が位置しても、保持部７がオリエンテーションフラット部１０２に向かう方向に入り込まず、保持部７がオリエンテーションフラット部１０２に当接しない。したがって、基板１００の領域１０３をブラシで洗浄する際に、回転式保持部材５が洗浄の妨げになることはない。
【００４３】
特に、オリエンテーションフラット部を有さない基板１００を保持する場合には、基板１００の中心と回転中心とを一致させることができる。
さらに、保持部７が突起ではなく曲面で基板１００の外周端縁に当接するので、保持部７が破損するおそれが少ない。
【００４４】
また、２つの回転式保持部材５が設けられているので、１つの回転式保持部材５が基板１００のオリエンテーションフラット部１０２に位置しても他の１つの回転式保持部材５が基板１００を保持することができる。したがって、オリエンテーションフラット部の位置に関わらず、基板１００を確実に保持することができる。
【００４５】
次に、２つの回転式保持部材５の配置による効果を図１０および図１１を参照しながら説明する。
本実施例の基板回転保持装置においては、図１０に示すように、２つの回転式保持部材５が隣接する位置に配置され、すなわち２つの回転式保持部材５は回転軸１ａに関して非対称な位置に配置されている。基板１００が回転部材１とともに矢印Ｃの方向に回転される場合、回転式保持部材５は矢印Ｄの方向に回動され、保持部７により基板１００の外周端縁が保持される。このとき、２つの回転式保持部材５が回転軸１ａに関して非対称な位置に配置されているので、回転式保持部材５による保持力が基板１００に有効に与えられる。
【００４６】
しかも、回転式保持部材５に対向する位置に固定式保持部材２が配置されているので、保持力が弱い場合でも保持部７と基板１００との間に滑りが発生しない。
【００４７】
これに対して、図１１に示すように、２つの回転式保持部材５が回転軸１ａを通る直線上に対向して配置されている場合には、回転式保持部材５が矢印Ｄで示す方向に回動すると、２つの回転式保持部材５の回動による保持力が相互に相殺され、基板１００に有効な保持力が与えられない。
【００４８】
したがって、２つ以上の回転式保持部材５で基板１００を保持する場合には、それらの回転式保持部材５を基板１００の回転軸１ａに関して非対称な位置に配置する必要がある。
【００４９】
図１２は本実施例の基板回転保持装置における回転保持部材５の他の配置例を示す平面図である。
図１２の例では、２つの回転式保持部材５が１つの固定式保持部材２を挟んで配置されている。この場合にも、２つの回転式保持部材５が基板１００の回転中心１ａに関して非対称な位置に設けられているので、２つの回転式保持部材５による保持力が基板１００に有効に与えられる。したがって、基板１００を確実に保持することができる。
【００５０】
なお、回転式保持部材５の数および配置は図１０および図１２の例に限定されず、任意の数の回転式保持部材５を任意の配置で設けてもよい。
この場合にも、複数の回転式保持部材５を基板１００の回転中心１ａに関して非対称な位置に配置することにより、回転式保持部材５による保持力を基板１００に有効に与えることができる。その結果、基板１００を確実に保持することができる。
【００５１】
図１３および図１４は本発明の第２の実施例における基板回転保持装置に用いられる回転式保持部材を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【００５２】
図１３および図１４に示すように、回転式保持部材１５は、円柱状の支持部１６と、曲面部１７ａを有する保持部１７とからなる。支持部１６は、その中心軸と同軸の回転軸１６ａの周りで回動可能に回転部材に取り付けられる。保持部１７は支持部１６の上面部に設けられ、曲面部１７ａは、支持部１６の回転軸１６ａから外周面にかけてほぼ中央部が凸になるように形成されている。
【００５３】
図１３（ａ），（ｂ）に示すように、回転式保持部材１５が回転軸１６ａの周りで矢印Ｘの方向に回動すると、保持部１７の曲面部１７ａが基板１００の外周端縁から離れる。逆に、図１４（ａ），（ｂ）に示すように、回転式保持部材１５が回転軸１６ａの周りで矢印Ｙの方向に回動すると、保持部１７の曲面部１７ａのほぼ中央部が基板１００の外周端縁に当接する。それにより、基板１００が水平方向に保持される。
【００５４】
本実施例の回転式保持部材１５においては、回転軸１６ａの近くに存在する曲面部１７ａの頂部が基板１００の外周端縁に当接するので、強い保持力が得られる。
【００５５】
図１５は第１および第２の実施例の基板回転保持装置を適用可能な基板処理装置の全体の概略斜視図である。
図１５の基板処理装置は、基板１００に洗浄処理、塗布処理、現像処理、密着強化処理、加熱処理、冷却処理等の一連の処理を行うための装置であり、正面側に第１の基板処理領域３０１を有し、後方側に第２の基板処理領域３０２を有し、第１の基板処理領域３０１と第２の基板処理領域３０２との間に搬送領域３０３を有する。
【００５６】
第１の基板処理領域３０１には、基板の洗浄処理を行う回転式洗浄部（スピンスクラバー）ＳＳ、処理液の塗布処理を行う回転式塗布部（スピンコータ）ＳＣおよび現像処理を行う回転式現像部（スピンデベロッパー）ＳＤが配列されている。また、第２の基板処理領域３０２には、密着強化処理を行う密着強化部ＡＨ、加熱処理を行う基板加熱部（ホットプレート）ＨＰおよび冷却処理を行う基板冷却部（クーリングプレート）ＣＰが配置されている。搬送領域３０３には、基板搬送装置６０が移動自在に設けられている。
【００５７】
さらに、この基板処理装置の側部側には、基板１００の搬入および搬出を行うインデクサＩＮＤが設けられている。インデクサＩＮＤの移載ロボット６１は、カセット６２から基板１００を取り出して基板搬送装置６０に送り出し、逆に、一連の処理が施された基板１００を基板搬送装置６０からカセット６２に戻す。
【００５８】
基板搬送装置６０は、第１の基板処理領域３０１および第２の基板処理領域３０２の側に進退移動可能となっており、各処理部との間で処理済みの基板１００と未処理の基板１００とを交換する。
【００５９】
図１５の基板処理装置において、回転式洗浄部ＳＳ、回転式塗布部ＳＣおよび回転式現像部ＳＤに第１または第２の実施例の基板回転保持装置が設けられる。それにより、回転式洗浄部ＳＳ、回転式塗布部ＳＣおよび回転式現像部ＳＤにおいて、滑りを生じることなく基板１００を確実に回転保持しつつ所定の処理を施すことが可能となる。
【００６０】
特に、本発明を回転式洗浄部ＳＳに適用すると以下のような効果を生じる。つまり、回転式洗浄部ＳＳにおいて、図１６に示すように、基板１００が回転式保持部材５の保持部７により矢印Ｙの方向に保持された状態で回転式保持部材５とともに矢印Ｒ１の方向に回転しているものとする。このとき、ブラシ等の洗浄具（図示せず）が回転中の基板１００に接すると、基板１００は回転式保持部材５に対して回転方向とは逆の方向（矢印Ｒ２の方向）に滑ろうとするが、その滑ろうとする方向が保持部７により基板１００が保持される方向となる。そのため、洗浄具が回転中の基板１００に接している間は回転式保持部材５による保持力が強くなる。このように、本発明によると、単に保持力を一定に強くするのみならず、必要なときだけ保持力を強くすることが可能となる。
【００６１】
なお、本発明の基板回転保持装置は、上記実施例に限らず種々の回転式基板処理装置に適用することができる。例えば、本発明の基板回転保持装置を回転式エッジ露光装置に適用することにより、滑りを生じることなく基板を確実に回転保持しつつ基板のエッジ露光を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例における基板回転保持装置の概略斜視図である。
【図２】図１の基板回転保持装置の平面図である。
【図３】図１の基板回転保持装置に用いられる回転式保持部材の平面図および側面図である。
【図４】図１の基板回転保持装置に用いられる回転式保持部材および磁石保持部材の斜視図である。
【図５】回転式保持部材の保持部が基板の外周端縁から離れた状態を示す部分断面図および平面図である。
【図６】回転式保持部材の保持部が基板の外周端縁に当接した状態を示す部分断面図および平面図である。
【図７】回転式保持部材の支持部の回転変位量と保持部の変位量との関係を示す平面図である。
【図８】回転式保持部材の保持部と基板のノッチ部との関係を示す平面図である。
【図９】回転式保持部材と基板のオリエンテーションフラット部との関係を示す平面図である。
【図１０】基板回転保持装置における２つの回転式保持部材の配置による効果を説明するための平面図である。
【図１１】基板回転保持装置における２つの回転式保持部材の配置による効果を説明するための平面図である。
【図１２】基板回転保持装置における回転式保持部材の他の配置例を示す平面図である。
【図１３】本発明の第２の実施例における回転式保持部材の保持部が基板の外周端縁から離れた状態を示す平面図および側面図である。
【図１４】本発明の第２の実施例における回転式保持部材の保持部が基板の外周端縁に当接した状態を示す平面図および側面図である。
【図１５】本発明の第１および第２の実施例における基板回転保持装置が適用される基板処理装置の全体の概略斜視図である。
【図１６】本発明を回転式洗浄部に適用した場合の効果を説明するための図である。
【図１７】従来の基板回転保持装置の平面図である。
【図１８】図１６の基板回転保持装置に用いられる回転式保持部材の平面図および側面図である。
【図１９】従来の回転式保持部材の他の例を示す平面図である。
【図２０】回転式保持部材の回転力と保持力との関係を説明するための図である。
【符号の説明】
１  回転部材
２  固定式保持部材
３  基板支持部
４  水平位置規制部
５，１５  回転式保持部材
６，１６  支持部
７，１７  保持部
７ａ  中心軸
６ａ，１６ａ  回転軸
１７ａ  曲面部
【図１】
0003642848.tif 000002
【図２】
0003642848.tif 000003
【図３】
0003642848.tif 000004
【図４】
0003642848.tif 000005
【図５】
0003642848.tif 000006
【図６】
0003642848.tif 000007
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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