(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を挟持する一対の基板と、
前記一対の基板の一方に対向して設けられる導光体と、
前記一対の基板のいずれか一方に接続され、前記一対の基板の背面側に折り曲げられてなる可撓性基板と、
前記可撓性基板上に実装され、折り曲げられた前記可撓性基板の内側に配置されてなるとともに、前記導光体の光取込み面に対向して配置されてなり、発光点と、当該発光点と前記導光板の光取り込み面とが対向する箇所以外の部分に設けられてなる位置決め用凸部と、を有する発光素子と、を有し、
前記導光体の光取込み面は、位置決め用凹部を有し、
前記可撓性基板を折り曲げるときに前記位置決め用凹部と前記位置決め用凸部が嵌合し、前記導光体と前記発光素子が位置決めされてなることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１において、前記位置決め用凸部は円柱状ピン又は三角状突起であることを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記発光素子は前記可撓性基板を前記導光体の光取込み面に沿って曲げることにより該光取込み面に対向して配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１つにおいて、前記可撓性基板は前記基板へ接続される端子を有し、前記発光素子は前記端子が設けられる面と同じ可撓性基板面上に設けられ、さらに、該可撓性基板は前記発光素子が設けられた面と反対側の面に配線パターンを有し、該配線パターンと前記端子はスルーホールによってつながることを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つにおいて、前記可撓性基板は前記基板へ接続される端子を有し、該端子が設けられた面と同じ面に配線パターンを有し、前記発光素子は前記配線パターンが設けられる面と同じ可撓性基板面上に設けられることを特徴とする液晶装置。
【請求項６】
請求項５において、前記配線パターンは前記可撓性基板上で前記発光素子を避けて設けられることを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１つにおいて、前記発光素子は前記可撓性基板に取り付けられる面の側面が発光面であり、この発光面が前記導光体の光取込み面に対向して配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項８】
請求項１から請求項６のいずれか１つにおいて、前記導光体はその光取込み面が前記一対の基板の反対方向へ向くような曲がり形状に形成され、前記発光素子の発光面は一対の基板の反対方向へ向けられた前記光取込み面に対向して配置されることを特徴とする液晶装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１つにおいて、前記可撓性基板は前記液晶を駆動するための信号を供給するための基板であることを特徴とする液晶装置。
【請求項１０】
液晶装置と、該液晶装置の動作を制御する制御回路とを有する電子機器において、前記液晶装置は請求項１から請求項９のいずれか１つに記載の液晶装置によって構成され、前記制御回路に前記可撓性基板が接続され、その接続状態において前記発光素子が前記導光体の光取込み面に対向して配置されることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶の配向を制御することにより、その液晶を通過する光を変調して像を表示する液晶装置に関する。また本発明は、その液晶装置を用いた電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、コンピュータ、携帯電話機等といった電子機器に液晶装置が広く用いられている。この液晶装置は、一般に、電極を備えた一対の基板によって液晶を挟持し、電極間に電圧を印加して液晶の配向を制御し、これにより、液晶を通過する光を変調して像の表示を行う。
【０００３】
液晶装置を液晶への光の供給の仕方に基づいて区別すると、一方の基板の外面又は内面に設けた反射板によって外光を反射する構造の反射型液晶装置や、一方の基板の外側に設けた照明装置によって液晶へ光を平面的に供給する構造の透過型液晶装置や、外光がある場合には反射型として機能すると共に外光が不十分な場合には透過型として機能する半透過半反射型液晶装置等といった各種の液晶装置が知られている。
【０００４】
透過型液晶装置や半透過半反射型液晶装置等のように照明装置を用いて液晶へ光を供給する方式の液晶装置として、従来、発光源としてＬＥＤ（Light Emitting Diode）等といった発光素子を用いる構造のものが知られている。この方式の液晶装置では、通常、発光素子をガラスエポキシ基板等といった非可撓性基板上に実装し、この非可撓性基板を導光体のハウジングに装着することにより発光素子を導光体の光取込み面に対向して配置している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構成の従来の液晶装置においては、発光素子のための専用の非可撓性基板を用いると共に、その非可撓性基板を支持するための構造を構築しなければならないので、コストが高く、構造が複雑になり、液晶装置の小型化を達成できない等といった問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、発光素子の支持構造を簡略化することにより、液晶装置のコスト低減及び小型化を達成することを第１目的とする。
【０００７】
また本発明は、発光素子の支持構造を簡略化した場合でも、導光体に対する発光素子の相対的な位置がずれることを防止することにより、導光体への光の入射効率にバラツキが発生することを防止し、これにより、液晶へ供給される光にバラツキが発生するのを防止することを第２目的とする。
【０００８】
（１）  上記第１の目的を達成するため、本発明に係る第１の液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、前記一対の基板の一方に対向して設けられる導光体と、前記一対の基板のいずれか一方に接続される可撓性基板と、前記導光体の光取込み面に対向して設けられる発光素子とを有する液晶装置において、前記発光素子は前記可撓性基板上に実装されており、且つ前記導光体の光取込み面に対向する位置に配置されることが望ましい。
【０００９】
この液晶装置では、液晶を挟持する基板に接続される可撓性基板（ＦＰＣ：Flexible Printed Circuit）の上に発光素子が取り付けられる。この可撓性基板は液晶に対する何等かの電気的な配線のために用いられるものであって、発光素子を導光体に装着するための専用の基板ではない。よって、本発明によれば、発光素子の支持構造を非常に簡略化することができ、それ故、液晶装置のコスト低減及び小型化を達成することができる。
【００１０】
上記構成の第１の発明に係る液晶装置において、前記発光素子は前記可撓性基板を前記導光体の光取込み面に沿って曲げることにより該光取込み面に対向して配置されることが望ましい。多くの場合、一対の基板によって挟持された液晶の動作を制御するための制御基板はそれら一対の基板とは別体に設けられる。そして、前記可撓性基板は前記導光体の光取込み面に沿って曲げられた後に制御基板に接続されることが多い。よって、前記発光素子は前記可撓性基板がそのように導光体の光取込み面に沿って曲げられたときにその光取込み面に対向する位置に配置されることが望ましい。
【００１１】
また、第１の発明に係る液晶装置において、前記可撓性基板は前記基板へ接続される端子を有し、前記発光素子は前記端子が設けられる面と同じ可撓性基板面上に設けられ、さらに、該可撓性基板は前記発光素子が設けられた面と反対側の面に配線パターンを有し、該配線パターンと前記端子はスルーホールによってつながることが望ましい。この構成によれば、発光素子を取り付ける可撓性基板の面には配線パターンが存在しないので、発光素子を取り付ける位置を自由に選択できるので好ましい。また、配線パターンが発光素子によって邪魔されることがなくなるのでパターン設計が楽になる。
【００１２】
また、第１の発明に係る液晶装置において、前記可撓性基板は前記基板へ接続される端子を有し、該端子が設けられた面と同じ面に配線パターンを有し、前記発光素子は前記配線パターンが設けられる面と同じ可撓性基板面上に設けることも可能である。
【００１３】
また、前記発光素子を前記配線パターンが設けられる面と同じ可撓性基板面上に設ける構造の本発明の液晶装置においては、前記配線パターンは前記可撓性基板上で前記発光素子を避けて設けられることが望ましい。こうすれば、可撓性基板上に発光素子を取り付ける場合でも、配線パターンに支障が生じることを防止できる。
【００１４】
また、第１の発明に係る液晶装置において、前記発光素子は前記可撓性基板に取り付けられる面の側面が発光面となるように該可撓性基板に取り付けることができ、その場合には、その側面である発光面が前記導光体の光取込み面に対向して配置される。この構成によれば、図１０に示すように、発光素子の発光面の反対側に広い空間Ｒを形成することができ、この空間Ｒを、例えば、チップコンデンサその他の電子部品を収容するために用いることができる。
【００１５】
また、第１の発明に係る液晶装置において、前記導光体はその光取込み面が前記一対の基板の反対方向へ向くような曲がり形状に形成でき、さらに、前記発光素子の発光面は一対の基板の反対方向へ向けられた前記光取込み面に対向して配置することができる。この構成によれば、図９に示すように、導光体と可撓性基板との間に広い空間Ｒを形成することができ、この空間Ｒを、例えば、チップコンデンサその他の電子部品を収容するために用いることができる。
【００１６】
また、第１の発明に係る液晶装置において、前記可撓性基板は特定の用途に用いられることに限定されるものではないが、望ましくは、前記液晶を駆動するための信号を供給するための基板である。
【００１７】
（２）  次に、前記第２の目的を達成するため、本発明に係る液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、前記一対の基板の一方に対向して設けられる導光体と、前記一対の基板のいずれか一方に接続され、前記一対の基板の背面側に折り曲げられてなる可撓性基板と、前記可撓性基板上に実装され、折り曲げられた前記可撓性基板の内側に配置されてなるとともに、前記導光体の光取込み面に対向して配置されてなり、発光点と、当該発光点と前記導光板の光取り込み面とが対向する箇所以外の部分に設けられてなる位置決め用凸部と、を有する発光素子と、を有し、前記導光体の光取込み面は、位置決め用凹部を有し、前記可撓性基板を折り曲げるときに前記位置決め用凹部と前記位置決め用凸部が嵌合し、前記導光体と前記発光素子が位置決めされてなることを特徴とする。また、本発明に係る液晶装置は、前記位置決め用凸部は円柱状ピン又は三角状突起であることを特徴とする。
本発明に係る第２の液晶装置は、液晶を挟持する一対の基板と、前記一対の基板の一方に対向して設けられる導光体と、前記一対の基板のいずれか一方に接続される可撓性基板と、前記導光体の光取込み面に対向して設けられる発光素子とを有する液晶装置において、前記発光素子は前記可撓性基板上に実装されており、且つ前記光取込み面に対向する位置に配置され、さらに前記発光素子と前記導光体の光取込み面との間には該発光素子を位置決めするための位置決め手段が設けられることが望ましい。
【００１８】
この第２の発明に係る液晶装置が前記第１の液晶装置と異なる点は、発光素子を可撓性基板上に設けた状態で導光体の光取込み面に対向する位置に配置するという構成に加えて、さらに、発光素子と導光体の光取込み面との間に該発光素子を位置決めするための位置決め手段を設けたことである。
【００１９】
この第２の発明に係る液晶装置によれば、発光素子を可撓性基板上に設けた状態で導光体の光取込み面に対向する位置に配置するようにしたので、発光素子の支持構造を非常に簡略化することができ、それ故、液晶装置のコスト低減及び小型化を達成することができる。
【００２０】
しかも、そのように発光素子の支持構造を簡略化した場合でも、導光体に対する発光素子の相対的な位置がずれることを位置決め手段の働きによって防止することができる。このため、導光体への光の入射効率にバラツキが発生することを防止でき、その結果、液晶へ供給される光にバラツキが発生することを防止できる。
【００２１】
また、上記第２の発明に係る液晶装置において、前記位置決め手段は、前記発光素子側又は前記導光体側の一方に設けられる凸部と、前記発光素子側又は前記導光体側の他方に設けられ前記凸部が嵌合する凹部とを有することが望ましい。そして、前記凸部は円柱状ピン又は三角状突起とすることができる。
【００２２】
上記第２の発明に係る液晶装置において、前記発光素子は前記可撓性基板を前記導光体の光取込み面に沿って曲げることにより該光取込み面に対向して配置されることが望ましい。多くの場合、一対の基板によって挟持された液晶の動作を制御するための制御基板はそれら一対の基板とは別体に設けられる。そして、前記可撓性基板は前記導光体の光取込み面に沿って曲げられた後に制御基板に接続されることが多い。よって、前記発光素子は前記可撓性基板がそのように導光体の光取込み面に沿って曲げられたときにその光取込み面に対向する位置に配置されることが望ましい。
【００２３】
また、第２の発明に係る液晶装置において、前記可撓性基板は前記基板へ接続される端子を有し、前記発光素子は前記端子が設けられる面と同じ可撓性基板面上に設けられ、さらに、該可撓性基板は前記発光素子が設けられた面と反対側の面に配線パターンを有し、該配線パターンと前記端子はスルーホールによってつながることが望ましい。
【００２４】
この構成によれば、発光素子を取り付ける可撓性基板の面には配線パターンが存在しないので、発光素子を取り付ける位置を自由に選択できるので好ましい。また、配線パターンが発光素子によって邪魔されることがなくなるのでパターン設計が楽になる。
【００２５】
また、第２の発明に係る液晶装置において、前記可撓性基板は前記基板へ接続される端子を有し、該端子が設けられた面と同じ面に配線パターンを有し、前記発光素子は前記配線パターンが設けられる面と同じ可撓性基板面上に設けることも可能である。
【００２６】
また、前記発光素子を前記配線パターンが設けられる面と同じ可撓性基板面上に設ける構造の第２の発明に係る液晶装置においては、前記配線パターンは前記可撓性基板上で前記発光素子を避けて設けられることが望ましい。こうすれば、可撓性基板上に発光素子を取り付ける場合でも、配線パターンに支障が生じることを防止できる。
【００２７】
また、第２の発明に係る液晶装置において、前記発光素子は前記可撓性基板に取り付けられる面の側面が発光面となるように該可撓性基板に取り付けることができ、その場合には、その側面である発光面が前記導光体の光取込み面に対向して配置される。この構成によれば、図１０に示すように、発光素子の発光面の反対側に広い空間Ｒを形成することができ、この空間Ｒを、例えば、チップコンデンサその他の電子部品を収容するために用いることができる。
【００２８】
また、第２の発明に係る液晶装置において、前記導光体はその光取込み面が前記一対の基板の反対方向へ向くような曲がり形状に形成でき、さらに、前記発光素子の発光面は一対の基板の反対方向へ向けられた前記光取込み面に対向して配置することができる。この構成によれば、図９に示すように、導光体と可撓性基板との間に広い空間Ｒを形成することができ、この空間Ｒを、例えば、チップコンデンサその他の電子部品を収容するために用いることができる。
【００２９】
また、第２の発明に係る液晶装置において、前記可撓性基板は特定の用途に用いられることに限定されるものではないが、望ましくは、前記液晶を駆動するための信号を供給するための基板である。
【００３０】
（３）  次に、本発明に係る電子機器は、液晶装置と、該液晶装置の動作を制御する制御回路とを有する電子機器において、前記液晶装置は上記第１の発明に係る液晶装置又は上記第２の発明に係る液晶装置によって構成され、前記制御回路に前記可撓性基板が接続され、その接続状態において前記発光素子が前記導光体の光取込み面に対向して配置されることを特徴とする。
【００３１】
この電子機器によれば、前記第１発明に係る液晶装置を用いた場合には、液晶装置において照明用光源として用いられる発光素子のまわりの構造が非常に簡略化且つ小型化されるので、電子機器の構造設計を行い易くなる。
【００３２】
また、前記第２発明に係る液晶装置を用いた場合には、上記のように発光素子のまわりの構造を簡略化した場合でも、導光体に対する発光素子の相対的な位置がずれることを位置決め手段の働きによって防止することができるので、導光体への光の入射効率にバラツキが発生することを防止でき、それ故、液晶へ供給される光にバラツキが発生することを防止できる。この結果、製造される電子機器の製品毎に関して、液晶装置によって構成される表示部に表示される像の明るさにバラツキが発生することを確実に防止でき、一定の表示品質を備えた電子機器を安定して多数製造できる。
【００３３】
【発明の実施の形態】
液晶装置を液晶の駆動方式によって区別すると、画素電極をスイッチング素子（すなわち、非線形素子）によって駆動する方式であるアクティブマトリクス方式の液晶装置と、スイッチング素子を用いない単純なマトリクス配列によって構成されるパッシブマトリクス方式の液晶装置とが考えられる。両者を比べると、コントラストやレスポンス等が良好であり、且つ、高精細な表示が容易に達成できる点においてアクティブマトリクス方式の方が有利であると考えられる。
【００３４】
また、アクティブマトリクス方式の液晶装置としては、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）等といった３端子型素子を用いる方式と、薄膜ダイオード（ＴＦＤ：Thin Film Diode）等といった２端子型素子を用いる方式とが知られている。これらのうちＴＦＤ等を用いた液晶装置は、配線の交差部分がないために配線間の短絡不良が原理的に発生しないこと、成膜工程及びフォトリソグラフィ工程を短縮できること等といった利点を有している。
【００３５】
以下、ＴＦＤを画素電極のためのスイッチング素子として用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶装置に上述した第１発明及び第２発明を適用する場合を例に挙げて、本発明の実施形態を説明する。また、本実施形態の液晶装置は、外光がある場合には反射型として機能すると共に外光が不十分な場合には透過型として機能する半透過半反射型の液晶装置であるものとする。
【００３６】
図１はその実施形態に係る液晶装置１を示している。この液晶装置１は、液晶パネル２にＦＰＣ(Flexible Printed Circuit：可撓性基板）３ａ及びＦＰＣ３ｂを接続し、さらに、液晶パネル２の非表示面側（図１の下面側）に導光体４を取り付けることによって形成される。導光体４の液晶パネル２の反対側には制御基板５が設けられる。この制御基板５は、場合に応じて、液晶装置を構成する要素として用いられたり、あるいは、液晶装置が装着される電子機器を構成する要素として用いられたりする。ＦＰＣ３ａ及びＦＰＣ３ｂは、本実施形態の場合、液晶パネル２と制御基板５とを電気的に接続するために用いられる。
【００３７】
液晶パネル２は、環状のシール材６によって互いに貼り合わされた一対の基板７ａ及び７ｂを有する。第１基板７ａのうち第２基板７ｂから張出す部分の表面にはＡＦＣ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）９によって液晶駆動用ＩＣ８ａが実装される。また、第２基板７ｂのうち第１基板７ａから張出す部分の表面（図１の下側表面）にはＡＣＦ９によって液晶駆動用ＩＣ８ｂが実装される。
【００３８】
本実施形態の液晶装置はスイッチング素子としてＴＦＤを用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置であり、第１基板７ａ及び第２基板７ｂのいずれか一方は素子基板であり、他方が対向基板である。本実施形態では、第１基板７ａを素子基板と考え、第２基板７ｂを対向基板と考えることにする。
【００３９】
図２に示すように、素子基板としての第１基板７ａの内面には画素電極６６が形成され、その外面には偏向板１２ａが貼着される。また、対向基板としての第２基板７ｂの内面にはデータ線５２が形成され、その外面には偏向版１２ｂが貼着される。そして、第１基板７ａ、第２基板７ｂ及びシール材６によって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内に液晶Ｌが封入される。
【００４０】
図２には示されていないが、第１基板７ａ及び第２基板７ｂには必要に応じて上記以外の各種の光学要素が設けられる。例えば、液晶Ｌの配向を揃えるための配向膜が各基板の内面に設けられる。これらの配向膜は、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成することによって形成される。このポリイミドのポリマー主鎖がラビング処理によって所定の方向へ延伸され、セルギャップ内に封入された液晶Ｌ内の液晶分子が配向膜の延伸方向に沿って方向配位するといわれている。
【００４１】
また、カラー表示を行う場合には、素子基板に形成された画素電極に対向する部分の対向基板に、Ｒ（レッド）、Ｇ(グリーン）、Ｂ（ブルー）の各原色のカラーフィルタが所定の配列で形成され、画素電極に対向しない領域にはＢｋ（ブラック）のブラックマトリクスが形成される。さらに、カラーフィルタ及びブラックマトリクスの表面の平滑化及び保護のために平滑化層がコーティングされる。対向基板側に設けられる対向電極は上記の平滑化層の上に形成される。
【００４２】
図３は、液晶パネル２の電気的構成を模式的に示している。図示のように、液晶パネル２には複数本の走査線５１が行方向（Ｘ方向）に形成され、さらに、複数本のデータ線５２が列方向（Ｙ方向）に形成され、走査線５１とデータ線５２との各交差点に画素５３が形成される。各画素５３は、液晶層５４とＴＦＤ（Thin Film Diode）５６との直列接続によって形成される。
【００４３】
各走査線５１は走査線駆動回路５７によって駆動され、また、各データ線５２はデータ線駆動回路５８によって駆動される。本実施形態の場合、走査線駆動回路５７は図１の液晶駆動用ＩＣ８ａに含まれ、データ線駆動回路５８は図１の液晶駆動用ＩＣ８ｂに含まれる。
【００４４】
図３において、走査線５１及びＴＦＤ５６は図２の素子基板７ａの内面に形成され、また、素子基板７ａの内面に形成される画素電極６６は走査線５１につながる。一方、図３において、データ線５２は図２の対向基板７ｂの内面にストライプ状の電極として形成される。素子基板７ａと対向基板７ｂは、１列分の画素電極６６と１本のデータ線５２とが互いに対向する位置関係となるように、互いに貼り合わされる。このため、液晶層５４は、データ線５２と画素電極６６とこれらの間に挟持される液晶Ｌによって構成されることになる。
【００４５】
データ線５２は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）のような透明導電材によって形成される。また、画素電極６６は、Ａｌ（アルミニウム）等といった反射性材料によって形成される。なお、図３では、ＴＦＤ５６が走査線５１の側に接続され、液晶層５４がデータ線５２の側に接続されているが、これとは逆に、ＴＦＤ５６をデータ線５２の側に接続し、液晶層５４を走査線５１の側にすることもできる。
【００４６】
次に、図４は、素子基板７ａにおける１画素分の構成を示している。特に図４(ａ）はその１画素分の構成の平面構造を示し、図４（ｂ）は図４(ａ）のＡ−Ａ線に従った断面構造を示している。これらの図において、ＴＦＤ５６は、素子基板７ａの表面に成膜された絶縁膜６１の上に形成された第１ＴＦＤ５６ａ及び第２ＴＦＤ５６ｂという２つのＴＦＤ部分によって構成されている。絶縁膜６１は、例えば、酸化タンタル（ＴＡ2Ｏ5）によって５０〜２００ｍｍ程度の厚さに形成される。
【００４７】
ＴＦＤ５６ａ及び５６ｂは、それぞれ、第１金属膜６２と、この第１金属膜６２の表面に形成されて絶縁体として作用する酸化膜６３と、そして、酸化膜６３の表面に互いに離間して形成された第２金属膜６４ａ及び６４ｂとによって構成されている。酸化膜６３は、例えば、陽極酸化法によって第１金属膜６２の表面を酸化することによって形成された酸化タンタル（ＴＡ2Ｏ5）によって構成される。なお、第１金属膜６２を陽極酸化したときには、走査線５１の基礎となる部分の表面も同時に酸化されて、同様に酸化タンタルから成る酸化膜が形成される。
【００４８】
酸化膜６３の膜厚はその用途に応じて好ましい値が選択され、例えば、１０〜３５ｎｍ程度である。この膜厚は、１つの画素について１個のＴＦＤを用いる場合と比べて半分の厚さである。また、陽極酸化に用いられる化成液としては、特定のものに限定されることはないが、例えば、０．０１〜０．１重量％のクエン酸水溶液を用いることができる。
【００４９】
第２金属膜６４ａ及び６４ｂは、例えば、Ａｌ（アルミニウム）等といった反射性材料をスパッタリング法等といった成膜技術を用いて成膜した上で、フォトリソグラフィ及びエッチング技術によってパターニングして、最終的に５０〜３００ｎｍ程度の厚さに形成される。一方の第２金属膜６４ａはそのまま走査線５１となり、他方の第２金属膜６４ｂは画素電極６６に接続される。
【００５０】
ここで、第１ＴＦＤ５６ａは、走査線５１の側から見ると順番に、第２金属膜６４ａ／酸化膜６３／第１金属膜６２の積層構造、すなわち金属／絶縁体／金属のサンドイッチ構造を採るため、その電流−電圧特性は正負双方向にわたって非線形となる。他方、第２ＴＦＤ５６ｂは、走査線５１の側から見ると順番に、第１金属膜６２／酸化膜６３／第２金属膜６４ｂとなって、第１ＴＦＤ５６ａとは反対の電流−電圧特性を有することになる。従って、ＴＦＤ５６は２つの素子を互いに逆向きに直列接続させた形となり、このため、１つの素子を用いる場合に比べて、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されることになる。
【００５１】
第１金属膜６２は、例えば、タンタル単体、タンタル合金等によって形成される。また、その第１金属膜６２の膜厚は、ＴＦＤ５６の用途に応じて好適な値が選択されるが、通常は、１００〜５００ｎｍ程度である。なお、第１金属膜６２としてタンタル合金を用いる場合には、主成分のタンタルに、例えば、タングステン、クロム、モリブデン、レニウム、イットリウム、ランタン、ディスプロリウム等といった周期律表において第６〜第８族に属する元素が添加される。この際、添加元素としてはタングステンが好ましく、その含有割合は、例えば０．１〜６重量％が望ましい。
【００５２】
ところで、素子基板７ａを構成する基台１７ａは、対向基板７ｂを構成する基台１７ｂ（図２参照）と共に、例えば、石英、ガラス、プラスチック等によって形成される。ここで、単純な反射型の場合には素子基板基台１７ａが透明であることは必須要件ではないが、本実施形態のように反射型及び透過型の両方として用いる場合には、素子基板基台１７ａは透明であることが必須の要件となる。
【００５３】
また、素子基板７ａの表面に絶縁膜６１を設けるのは次の理由による。すなわち第１に、第２金属膜６４ａ及び６４ｂの堆積後における熱処理により、第１金属膜６２が下地から剥離しないようにするためである。また第２に、第１金属膜６２に不純物が拡散しないようにするためである。従って、これらの点が問題にならないのであれば、絶縁膜６１は省略可能である。
【００５４】
なお、ＴＦＤ５６は、２端子型非線形素子としての一例であり、他にＭＳＩ（Metal Semi-Insulator）等のようなダイオード索子構造を用いた素子や、これらの素子を逆向きに直列接続又は並列接続したもの等を用いることもできる。さらに、電流−電圧特性を正負双方向で厳密に対称化する必要がない場合には、１つの素子だけによってＴＦＤを構成できる。
【００５５】
図４において、第２金属膜６４ｂから延長された形で形成される画素電極６６は、Ａｌ（アルミニウム）等といった反射率の大きな金属膜によって形成されている。また、画素電極６６には図４(ａ）に示すように斜め方向に開口するスリット状の開口部６７が設けられる。本液晶装置が透過型として機能するときには、これらの開口部６７を通過する光が液晶層５４（図３参照）に進入する。なお、画素電極６６には、反射光が散乱するように微妙な起伏を設けることが望ましい。
【００５６】
さて、液晶パネル２（図１参照）は、素子基板７ａと対向基板７ｂとが互いに一定の間隔を保持した状態で貼り付けられ、この間隙に液晶Ｌ（図２参照）が封入される。そして、液晶Ｌに配向性を持たせるためのラビング方向は、液晶パネルの視覚特性を考慮して、素子基板７ａの場合が図４(ａ）に矢印ＲAで示す方向に、そして対向基板７ｂの場合が矢印ＲBで示す方向にそれぞれ設定される。
つまり、電圧無印加時における液晶分子の配向方位を定めるラビング方向は、両基板を貼り合せた状態のときに対向基板７ｂの側から透視すると、手前側に位置する対向基板７ｂでは左斜め上方へ４５°の方向ＲBであり、背面側に位置する素子基板７ａでは、左斜め下方へ４５°の方向ＲAである。従って、素子基板７ａにおける開口部６７のスリット方向は、ラビング方向ＲAに一致して形成される。
【００５７】
なお、ラビング処理は、一般に、ローラに巻き回されたバフ布を一定方向に擦ることによって行われるため、静電気の発生や各種ダストの発生等、製造プロセスにおいて好ましくない事態が発生し易い。本実施形態では、ラビング処理においてバフ布の進行方向が開口部６７のスリット方向と一致するため、画素電極６６の段差による影響が低減され、この結果、静電気の発生や各種ダストの発生を抑えることができる。
【００５８】
なお、上記説明では第２金属膜６４ａ，６４ｂと画素電極６６との組成を同一としたが、第２金属膜６４ａ，６４ｂとして、クロム、チタン、モリブデン等といった非反射性金属をパターニングによって形成し、この後画素電極６６としてＡｌ等といった反射性金属をパターニングによって形成しても良い。
【００５９】
ところで、画素電極６６とこれに対向するデータ線５２とによって発生する電界方向は、図５に示すように、開口部６７以外では両基板に対して垂直方向となるので、その強度も一様となる。これに対し、開口部６７には電極が存在しないので画素電極６６の開口端からの漏れによって電界が発生するに過ぎない。このため、開口部６７近傍での電界強度は開口端から距離が大きくなるにつれて弱くなり、一様ではない。逆に言えば、画素電極６６に形成された開口部６７の辺端から等距離の点、すなわち図６(ａ）において破線で示す点では電界強度がほぼ等しいことを意味する。
【００６０】
一方、画素電極６６が形成された素子基板７ａのラビング方向と、そこに形成される開口部６７のスリット方向とは一致しているので、電圧無印加時において素子基板７ａ側での液晶分子Ｍは、開口部６７の辺端に沿って平行に配向方位することになる。従って、画素電極６６とデータ線５２との間に電位差が発生した場合、そして特にこの電位差が小さい場合、液晶分子Ｍの一端と他端とにおいて電界強度が等しくなるので、開口部６７に位置する液晶分子Ｍは、電極が存在する領域、すなわち反射型として機能する際に表示に寄与する領域、に位置する液晶分子と同様にチルトすることとなる。このため、開口部６７を通過する光と、画素電極６６で反射する反射光との旋光方向が互いにほぼ等しくなるので、透過型と反射型との表示品質の差を少なくすることができる。
【００６１】
以上のように開口部６７のスリット方向とラビング方向とは互いに一致することが望ましいが、両者が±１５°以内の角度範囲内であれば、上記の表示品質の差を実用上支障のない程度にすることができると考えられる。
【００６２】
なお、ラビング方向と開口部６７のスリット方向とが互いに一致しない場合には、図６（ｂ）に示すように、開口部６７に位置する液晶分子Ｍが電圧無印加時において開口部６７の辺端と交差する方向に配向方位する。このため、画素電極６６とデータ線５２との間に電位差が発生しても、特にこの電位差が小さい場合には、液晶分子Ｍの一端と他端との電界強度が異なるので、反射型として用いる際に表示に寄与する領域に位置する液晶分子と同様にチルトしない。この結果、開口部６７を通過する光と画素電極６６で反射する反射光とでは旋光方向が異なってしまうので、透過型と反射型との表示品質に差が生じることになる。
【００６３】
次に、画素電極６６に形成される開口部６７の幅及び面積について検討する。一般に、一対の基板間に封入される液晶がＴＮ（Twisted Nematic）型である場合、基板間隔は数μｍであり、この場合、例えばノーマリーホワイトであれば、両基板の電極が交差する領域の端部から１．５μｍ程度はなれた点でも、電圧を印加すれば電極の外周の一端から漏れる電界の影響によって黒表示が行われる。これを根拠とすると、図４(ａ）においてスリット状の開口部６７の幅が１．５μｍの倍である３μｍ程度以下であれば、開口部６７の両側端部から漏れる電界によって、当該開口部６７の液晶分子は電極の存在領域と同様にチルトする。逆に言えば、スリット状の開口部６７の幅Ｗを３μｍ以上にすると、反射型においても透過型においても電界に応じて液晶分子Ｍがチルトしないデッドスペースが画素電極６６に形成されるということである。従って、開口部６７の幅Ｗは３μｍ以下であることが望ましいと考えられる。
【００６４】
さて、開口部６７の幅Ｗを３μｍ以下とした場合、画素電極６６のサイズによっては複数の開口部６７を設けないと、透過型として機能させるに足るだけの十分な光量が得られないことが想定される。反面、開口部６７を多数設けてその総面積を増やすと、透過型とした場合の透過光量は増加するが、それだけ反射光量が減少するので、反射型として用いる場合の表示画面が暗くなる。実験によれば、開口部６７の面積を画素電極６６の面積に対して１０〜２５％に設定した場合に、透過型表示と反射型表示とがバランス良く表示されることがわかった。なお、ここでいう画素電極６６の面積とは、厳密に言えば、画素電極６６とデータ線５２との交差領域であって、ブラックマトリクス等によって遮光されない有効表示領域の面積のことである。
【００６５】
図１に戻って、素子基板としての第１基板７ａの張出し部分には複数の端子１３ａが形成される。これらの端子は、対向基板としての第２基板７ｂに対向する領域の第１基板７ａの表面に画素電極６６を形成する際に同時に形成される。また、第２基板７ｂの張出し部分にも複数の端子１３ｂが形成される。これらの端子は、第１基板７ａに対向する領域の第２基板７ｂの表面にデータ線５２を形成する際に同時に形成される。
【００６６】
ＦＰＣ３ａ及びＦＰＣ３ｂは、ポリイミドその他の材料から成る可撓性ベース層に金属膜パターンを希望のパターン形状に形成することによって作製されている。ＦＰＣ３ｂの辺端部には複数の端子２２が設けられ、ＡＣＦ等といった導電接着要素を用いてそれらの端子が第２基板７ｂの端子１３ｂに導電接続される。ＦＰＣ３ｂの他の辺端部に形成された複数の端子２３は制御基板５の適所に設けた端子（図示せず）に接続される。
【００６７】
一方、ＦＰＣ３ａに関しては、液晶パネル２側の辺端部の裏側（図１の下側面）に複数のパネル側端子１４が形成され、液晶パネル２と反対側の辺端部の表面（図１の上側面）に複数の制御基板側端子１６が形成される。また、ＦＰＣ３ａの表面の広い範囲に適宜の配線パターン１８が形成され、この配線パターン１８は一方で制御基板側端子１６に直接につながり、他方でスルーホール１９を介して裏側のパネル側端子１４につながっている。
【００６８】
また、ＦＰＣ３ａの裏面すなわち配線パターン１８と反対側の面には、導光体４と協働して照明装置を構成する発光素子としての複数のＬＥＤ（Light Emitting Diode）２１が互いに適当な間隔を開けて１列に装着すなわち実装されている。これらのＬＥＤ２１のための配線は、例えば、スルーホールを介して制御基板側端子１６に接続される。ＬＥＤ２１は、例えば、図７(ａ）に示すように、発光面２４の両側に位置決め手段としてのピン２６を有し、これらの発光面２４及びピン２６は図１において、矢印Ｂで示す方向、すなわちＦＰＣ３ａの反対方向を向くようになっている。
【００６９】
導光板４の液晶パネル２側の表面には拡散板２７が貼着等によって装着され、導光板４の液晶パネル２と反対側の表面には反射板２８が貼着等によって装着される。反射板２８は、導光体４の光取込み面４ａから取込んだ光を液晶パネル２の方向へ反射する。また、拡散板２７は、導光体４から液晶パネル２へ向けて出射する光を平面的に一様な強度となるように拡散する。
【００７０】
導光体４の光取込み面４ａには、ＦＰＣ３ａに装着されたＬＥＤ２１の数に対応した数の収納用凹部２９が設けられ、それらの収納用凹部２９の両側に位置決め用凹部３１が設けられる。これらの位置決め用凹部３１は、ＦＰＣ３ａに装着されたＬＥＤ２１の発光面２４に形成したピン２６がガタツキなく挿入できる大きさ及び位置関係で形成されている。
【００７１】
図２に示すように、導光体４はゴム、プラスチック等によって形成された緩衝材３２を挟んで液晶パネル２の非表示面側に取り付けられる。また、制御基板５は導光体４の反射板２８が装着された面に対向して配設される。この制御基板５は、液晶装置１を構成する要素として導光体４の非表示側表面に装着されることもあるし、あるいは、本液晶装置１が用いられる電子機器を構成する構成要素となる場合もある。制御基板５の辺端部には外部回路との接続をとるための端子３３が形成される。
【００７２】
図１に分解状態で示す液晶装置１の各構成部分を組み付ける際には、図２に示すように、ＦＰＣ３ａの液晶パネル２側の辺端部をＡＣＦ３４によって第１基板７ａの張出し部分に接着する。この接着により、第１基板７ａの端子１３ａとＦＰＣ３ａの端子１４とがＡＣＦ３４内の導電粒子によって導電接続される。その後、ＦＰＣ３ａは導光体４の光取込み面４ａに沿って曲げられ、この曲げ状態においてＦＰＣ３ａの辺端部が制御基板５の辺端部に重ねられる。そして、ＦＰＣ３ａ側の端子１６が制御基板５側の端子３３に半田付け、あるいはその他の導電接続手法によって接続される。
【００７３】
導電接続のためにＦＰＣ３ａを上記のように曲げるとき、ＦＰＣ３ａの表面に装着した複数のＬＥＤ２１はその発光面２４（図７(ａ）参照）が導光体４の光取込み面４ａに形成した収納用凹部２９に収納され、さらにＬＥＤ２１の発光面２４に設けたピン２６が位置決め用凹部３１に嵌合する。以上の作業により、図２に示すように、導光体４の光取込み面４ａにＬＥＤ２１が装着されて、液晶パネル２へ光を供給するための照明装置が構成される。図１に示すもう一方のＦＰＣ３ｂも同様にして、端子２３を形成した辺端部が制御基板５の適所に形成した制御基板側の端子に導電接続される。
【００７４】
以上により形成された液晶装置１に関して、図２において、ＬＥＤ２１が発光すると、発光面２４から出射された光が導光体４へ導入され、その導入された光が反射板２８で反射して液晶パネル２の方向へ進行し、拡散板２７によって平面内で一様な強度となるように拡散された状態で液晶パネル２へ供給される。供給された光は導光体側の偏向板１２ａを通過した成分が液晶層へ供給され、さらに画素電極６６とデータ線５２との間に印加される電圧の変化に応じて画素毎に配向が制御された液晶によって画素毎に変調され、さらにその変調光を表示側の偏向板１２ｂに通すことにより、外部に像を表示する。
【００７５】
以上のように本実施形態の液晶装置１では、液晶パネル２と制御基板５との間の電気的な接続を司るＦＰＣ３ａによってＬＥＤ２１を支持するようにして、ＬＥＤ２１を支持するための専用の基板を排除したので、ＬＥＤ２１のための支持構造が非常に簡略化された。それ故、液晶装置のコスト低減及び小型化を達成することができた。
【００７６】
また、ＬＥＤ２１は、ピン２６と凹部３１との嵌合によって導光体４の光取込み面４ａに対して常に一定の位置に位置決めされ、さらに、液晶装置１の使用時に導光体４に対して位置ズレすることを防止される。従って、液晶パネル２の表示の明るさが製品毎にばらつくことがなくなって、一様な表示特性の液晶装置１を安定して多数製造することができる。
【００７７】
また、本実施形態では、ＬＥＤ２１がＦＰＣ３ａの液晶パネル２側の端子１４と同じ面に装着され、ＦＰＣ３ａの配線パターン１８はスルーホール１９を介してその端子１４に接続されることにより、ＬＥＤ２１と反対側の面に設けられている。従って、配線パターン１８はＬＥＤ２１に邪魔されることなく自由にパターン設計することができる。
【００７８】
（第２実施形態）
図８は、本発明に係る液晶装置の他の実施形態を示している。この実施形態において、図１に示した実施形態の場合と同じ部材は同じ符号によって示すことにしてそれらについての説明は省略する。また、図８に示されていない部分の構成は図１に示した実施形態と同じである。
【００７９】
本実施形態が図１に示した実施形態と異なる点は、可撓性基板としてのＦＰＣ３ｃに設けられる液晶パネル側端子１４、制御基板側端子１６及び配線パターン１８の全てが、ＬＥＤ２１が装着された面と同じ面、図８の場合には図の下面に形成されていることである。この場合には、配線パターン１８とＬＥＤ２１を同じ個所に配置することができないので、配線パターン１８はＬＥＤ２１を迂回するように形成される。
【００８０】
（第３実施形態）
図９は、本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態の要部を示している。この実施形態において、図１及び図２に示した実施形態の場合と同じ部材は同じ符号によって示すことにしてそれらについての説明は省略する。また、図９に示されていない部分の構成は図１及び図２に示した実施形態と同じである。
【００８１】
本実施形態が図２に示した実施形態と異なる点は、導光体４Ａの光取込み面４ａが液晶パネル２の反対方向へ向くような曲がり形状に形成され、ＦＰＣ３ａによって支持されたＬＥＤ２１の発光面２４は、ＦＰＣ３ａが制御基板５の端子３３に導電接続された状態で、その曲げられた光取込み面４ａに対向して配置される。
【００８２】
本実施形態によれば、導光体４ＡとＦＰＣ３ａとの間に広い空間Ｒを形成することができ、この空間Ｒを、例えば、ＦＰＣ３ａ上に実装すなわち装着したチップコンデンサその他の電子部品を収容するために用いることができるので好都合である。
【００８３】
（第４実施形態）
図１０は、本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態の要部を示している。この実施形態において、図１及び図２に示した実施形態の場合と同じ部材は同じ符号によって示すことにしてそれらについての説明は省略する。また、図１０に示されていない部分の構成は図１及び図２に示した実施形態と同じである。
【００８４】
本実施形態が図２に示した実施形態と異なる点は、ＬＥＤ２１の発光面２４がＦＰＣ３ａへの取り付け面の側面となっており、ＦＰＣ３ａが制御基板５の端子３３に導電接続された状態で、その側面発光面２４が導光体４の光取込み面４ａに対向して配置されることである。
【００８５】
本実施形態によれば、導光体４とＦＰＣ３ａとの間に広い空間Ｒを形成することができ、この空間Ｒを、例えば、ＦＰＣ３ａ上に実装すなわち装着したチップコンデンサその他の電子部品を収容するために用いることができるので好都合である。
【００８６】
（第５実施形態）
図７（ｂ）は発光素子としてのＬＥＤの変形例２１Ａを示している。このＬＥＤ２１Ａは、発光点Ｆのまわりの発光面２４が平面となっている点に関して図７(ａ）に示したＬＥＤ２１と異なっている。
【００８７】
（第６実施形態）
図７（ｃ）は発光素子としてのＬＥＤの他の変形例２１Ｂを示している。このＬＥＤ２１Ｂは、発光点Ｆのまわりの発光面２４が平面となっていること及び位置決め手段としてピン２６に代えて三角柱状の突起３６を用いることに関して図７(ａ）に示したＬＥＤ２１と異なっている。
【００８８】
(電子機器の実施形態）
図１１は本発明に係る液晶装置を各種電子機器の表示装置として用いる場合の１つの実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１００、表示情報処理回路１０１、電源回路１０２、タイミングジェネレータ１０３、そして液晶装置１０４を有する。また、液晶装置１０４は液晶パネル１０５及び駆動回路１０６を有する。液晶装置１０４は図１に示した液晶装置１を用いることができ、液晶パネル１０５は図１に示した液晶パネル２を用いることができる。
【００８９】
表示情報出力源１００は、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０３によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０１に供給する。
【００９０】
表示情報処理回路１０１は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０６へ供給する。駆動回路１０６は、図３における走査線駆動回路５７やデータ線駆動回路５８、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０２は、各構成要素に所定の電源を供給する。
【００９１】
図１２は本発明に係る電子機器の一実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すパーソナルコンピュータ１１０は、キーボード１１１を備えた本体部１１２と、液晶表示ユニット１１３とを有する。液晶表示ユニット１１３は、図１に示す液晶装置１を含んで構成される。図１３は本発明に係る電子機器の他の一実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機１２０は、複数の操作ボタン１２１と、液晶装置１とを有する。
【００９２】
図１２及び図１３の実施形態で用いられる液晶装置１は、図１に関連して説明したように半透過半反射型の液晶装置であるので、コンピュータや携帯電話機が外光の不十分な場所に置かれた場合でも、ＬＥＤ２１及び導光体４によって構成される照明装置、いわゆるバックライトを点灯させることにより、何等の支障もなく表示を視認できる。
【００９３】
また、図１の液晶装置１では、液晶パネル２と制御基板５との間の電気的な接続を司るＦＰＣ３ａによってＬＥＤ２１を支持するようにして、ＬＥＤ２１を支持するための専用の基板を排除したので、ＬＥＤ２１のための支持構造が非常に簡略化された。それ故、液晶装置１を小型に形成することが可能となり、図１２においてこの液晶装置１を液晶表示ユニット１１３へ組み込むことにより、液晶表示ユニット１１３の枠部分、いわゆる額縁領域を狭く形成することが可能となった。また、図１３の携帯電話機１２０に関して言えば、液晶装置１の小型化により、携帯電話機の外形を小さくした場合でも大きな表示部を組み込むことができるようになった。
【００９４】
また、図２において、ＬＥＤ２１はピン２６と凹部３１との嵌合によって導光体４の光取込み面４ａに対して常に一定の位置に位置決めされ、さらに、液晶装置１の使用時に導光体４に対して位置ズレすることを防止されるので、液晶パネル２の表示の明るさが製品毎にばらつくことがなくなった。このため、図１２のコンピュータの表示画面の明るさ及び図１３の携帯電話機１２０の表示画面の明るさも製品毎にばらつきのない、一様な表示特性が得られるようになった。
【００９５】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【００９６】
例えば、図１に示す実施形態では半透過半反射型でＴＦＤを用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適用したが、本発明はその他各種の方式の液晶装置、例えば反射型の液晶装置、透過型の液晶装置、ＴＦＤ以外のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置、スイッチング素子を用いないパッシブマトリクス方式の液晶装置等に対して適用することもできる。
【００９７】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明に係る液晶装置によれば、液晶を挟持する基板に接続される可撓性基板の上に発光素子が取り付けられ、この可撓性基板は液晶に対する何等かの電気的な配線のために用いられるものであって、発光素子を導光体に装着するための専用の基板ではないので、発光素子の支持構造が非常に簡略化され、それ故、液晶装置のコスト低減及び小型化を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶装置の一実施形態を分解状態で示す斜視図である。
【図２】図１に示す液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図３】図１に示す液晶装置を構成する液晶パネルの電気的構成を模式的に示す図である。
【図４】図３の液晶パネルにおける１画素分の構造を示す図であり、(ａ）は平面図であり、（ｂ）は(ａ）のＡ−Ａ線に従った断面図である。
【図５】素子基板における電界方向を示す断面図である。
【図６】素子基板における電界強度と液晶分子の配列との関係を模式的に示す図である。
【図７】発光素子のいくつかの実施形態を示す斜視図である。
【図８】本発明に係る液晶装置の他の実施形態を分解状態で示す斜視図である。
【図９】本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態の要部を示す断面図である。
【図１０】本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態の要部を示す断面図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の表示制御系の一実施形態を示すブロック図である。
【図１２】本発明に係る電子機器の一実施形態を示す斜視図である。
【図１３】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
１            液晶装置
２            液晶パネル
３ａ          ＦＰＣ（可撓性基板）
４            導光体
５            制御基板
７ａ          第１基板（素子基板）
７ｂ          第２基板（対向基板）
８ａ，８ｂ    液晶駆動用ＩＣ
９            ＡＣＦ
１３ａ，１３ｂ  端子
１４            端子
１６            端子
１７ａ，１７ｂ  基台
１８            配線パターン
１９            スルーホール
２１            ＬＥＤ（発光素子）
２６            ピン（位置決め手段）
２９            収納用凹部
３１            位置決め用凹部（位置決め手段）
３３            端子
３６            三角柱状突起（位置決め手段）
Ｆ            発光点
Ｌ            液晶
Ｍ            液晶分子
Ｒ            空間
Ｗ            スリット幅
【図１】
0003642263.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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