(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半田パターンを設けた半田キャリアを用いて，絶縁基板上の導体回路に予備半田を被覆するに際して，
上記導体回路に対応する形状の半田パターンを有すると共に，該半田パターンは，半田材によって形成した部分半田層と，半田材を設けていない仮想パターンとを交互に配置してなり，
かつ隣接する半田パターンにおいては，一方の半田パターンにおける部分半田層は，他方の半田パターンにおける仮想パターンと互いに並列するように，半田パターンを半田キャリアの表面に形成し，
次いで，該半田キャリアの上記部分半田層を上記絶縁基板上の導体回路に転写し，
その後，転写した上記部分半田層を加熱して，その半田材を溶融させることにより，該半田材を上記導体回路上に流延させて，該導体回路上に予備半田を被覆することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【請求項２】
請求項１において，隣接する半田パターンにおいて，一方の半田パターンにおける部分半田層は，他方の半田パターンにおける部分半田層と互い違いに斜めに配列されていることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において，上記部分半田層の間に設けた仮想パターンの長さは，０．１〜１．０ｍｍであることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項において，隣接する導体回路の間の間隙は，５０〜１５０μｍであることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項において，半田キャリアの表面に形成した上記部分半田層の厚みは，５〜５０μｍであることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
本発明は，導体回路に予備半田を設けたプリント配線板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】
プリント配線板としては，従来，図１０，図１１に示すごとく，絶縁基板３上の複数の導体回路５１，５２，５３，５４の表面に，予備半田９１０，９２０，９３０，９４０を被覆したものがある。予備半田は，例えば，プリント配線板７９を相手部材８に対して半田接合するために用いられる。
【０００３】
上記プリント配線板を製造するに当たっては，従来，例えば，以下の製造方法が用いられている。
即ち，まず，図１２に示すごとく，半田キャリア２の表面に，導体回路と同一の形状に半田パターン９１〜９４を形成する。
【０００４】
次に，図１３に示すごとく，絶縁基板３上の導体回路５１〜５４の表面に，上記半田パターン９１〜９４が対面配置するように上記半田キャリア２を載置する。次いで，これらを加熱して，半田キャリア２上の半田パターン９１〜９４を加熱溶融して上記導体回路５１〜５４の上に上記半田パターン９１〜９４を転写する。
これにより，導体回路５１〜５４の表面に予備半田９１０，９２０，９３０，９４０を被覆した上記プリント配線板７９（図１１）が得られる。
【０００５】
【解決しようとする課題】
しかしながら，上記従来のプリント配線板の製造方法においては，半田パターン９１〜９４を半田キャリア２から導体回路５１〜５４上に転写する際に，図１１に示すごとく，半田パターンが導体回路上から流れだし，流れ出した半田９２５が転写形成された予備半田９２０，９３０同志を電気的に接続することがある。
この場合には，隣接する導体回路９２０，９３０の間にショートが発生する。
【０００６】
特に，近年，パターンのファイン化が進み，導体回路が高密度に配線される傾向にあり，隣接する導体回路の間隙が益々小さくなってきた。そのため，導体回路上の予備半田は，更に接触しやすくなり，ショートの発生する確率も大きくなってきた。
【０００７】
そこで，導体回路の線幅を細くすることが考えられる。しかし，この場合には，導体回路の形成の際に，ショートの発生する確率は低くなるが，形成された導体回路に線切れ，線とびなどの断線の発生をもたらす確率が高くなる。
【０００８】
本発明はかかる従来の問題点に鑑み，隣接する予備半田の間でショートが発生することなく，導体回路の高密度配線をすることができる，プリント配線板の製造方法を提供しようとするものである。
【０００９】
【課題の解決手段】
請求項１の発明は，半田パターンを設けた半田キャリアを用いて，絶縁基板上の導体回路に予備半田を被覆するに際して，
上記導体回路に対応する形状の半田パターンを有すると共に，該半田パターンは，半田材によって形成した部分半田層と，半田材を設けていない仮想パターンとを交互に配置してなり，
かつ隣接する半田パターンにおいては，一方の半田パターンにおける部分半田層は，他方の半田パターンにおける仮想パターンと互いに並列するように，半田パターンを半田キャリアの表面に形成し，
次いで，該半田キャリアの上記部分半田層を上記絶縁基板上の導体回路に転写し，
その後，転写した上記部分半田層を加熱して，その半田材を溶融させることにより，該半田材を上記導体回路上に流延させて，該導体回路上に予備半田を被覆することを特徴とするプリント配線板の製造方法である。
【００１０】
本発明において最も注目すべきことは，半田キャリアに形成する半田パターンが，導体回路に対応する形状を有すること，及び半田パターンは，半田材からなる部分半田層と，半田材を設けていない仮想パターンとを交互に配置してなることである。
上記の仮想パターンは，仮に半田材を設けたとしたら半田材によって連続した半田パターンの形成が可能となる部分である。
【００１１】
上記半田パターンを導体回路上に転写する方法としては，例えば，上記半田パターンを導体回路の上面に対面して載置し，その後加熱することにより，半田パターンの部分半田層を導体回路上に転写する。
また，導体回路上の部分半田層を溶融，流延させるに当たっては，プリント配線板を例えば加熱炉中において，半田材の融点以上に加熱する。
【００１２】
次に，本発明の作用効果について説明する。
本発明においては，転写用の半田キャリアの表面に部分半田層と仮想パターンとからなる半田パターンを形成している。そして，隣接する半田パターン間においては，一方の半田パターンにおける部分半田層は，他方の半田パターンにおける仮想パターンと互いに並列するように配列されている。
【００１３】
そのため，部分半田層を導体回路に転写したときには，導体回路上には上記部分半田層が転写された半田材を有する部分と，半田材がない未被覆部分とが交互に形成される（図６参照）。従って，隣接する半田パターンの間の電気絶縁性を確保して，部分半田層の転写をすることができる。
【００１４】
次に，このようにして転写した部分半田層は，加熱溶融する。このとき，溶融した半田材は金属である導体回路との馴染みが良いため，導体回路の上面を伝って，導体回路上の半田材が被覆されていない未被覆部分に流延する。
そして，未被覆部分に流延した半田材は，未被覆部分を隔てた部分半田層の半田材と合流する。このため，導体回路の上面全体に，半田材からなる予備半田を適切な厚みに被覆，形成することができる。
【００１５】
以上のごとく導体回路上に形成された予備半田は，導体回路のパターンの方向に沿って流延形成したものであるから，適度の厚みを有すると共に主に導体回路の上面に形成されている。そのため，隣接する導体回路上の予備半田とは接触することがなく，両者の間でショートの発生はない。
また，そのため，従来に比較して導体回路の間隙を狭くしても，隣接する導体回路上の予備半田と接触するおそれはない。故に，予備半田によるショートのおそれはなく，導体回路を高密度に配線することができる。
【００１６】
次に，請求項２に記載のように，隣接する半田パターンにおいて，一方の半田パターンにおける部分半田層は，他方の半田パターンにおける部分半田層と互い違いに斜めに配列されていること（千鳥状配置）が好ましい。これにより，予備半田を確実に導体回路上に被覆することができると共に，隣接する導体回路における予備半田によるショートを一層確実に防止することができる。
【００１７】
次に，請求項３に記載のように，上記部分半田層の間に設けた仮想パターンの長さＡは，０．１〜１．０ｍｍであることが好ましい（図２参照）。０．１ｍｍ未満の場合には，仮想パターンの長さが短くなり，その仮想パターンに流延した半田材が導体回路の表面からはみだして，隣接する半田パターンの半田材と接触し，ショートの原因となるおそれがある。一方，１．０ｍｍを越える場合には，半田材の溶融時に，仮想パターンに半田不着部分が残り，半田接合力の弱い予備半田が形成されるおそれがある。
【００１８】
次に，請求項４に記載のように，隣接する導体回路の間の間隙Ｇは，５０〜１５０μｍであることが好ましい（図４，図５参照）。５０μｍ未満の場合には，部分半田層の転写時に，隣接する半田パターンにおける部分半田層同志が接触し，予備半田のショートの原因となるおそれがある。一方，１５０μｍを越える場合には，導体回路を高密度に配線することが困難となるおそれがある。
【００１９】
次に，請求項５に記載のように，半田キャリアの表面に形成した上記部分半田層の厚みＣは，５〜５０μｍであることが好ましい（図３参照）。５μｍ未満の場合には，半田材の量が少なすぎて，その溶融時に，仮想パターンに半田未着部分が残り，半田接合力の弱い予備半田が形成されるおそれがある。一方，５０μｍを越える場合には，部分半田層の量が多すぎて，その転写，溶融の際に，半田材の流延量が多くなり，隣接する予備半田の間の間隙で半田材が接触して，ショートの原因となるおそれがある。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態例にかかるプリント配線板の製造方法について，図１〜図９を用いて説明する。
本例は，半田パターンを設けた半田キャリアを用いて，絶縁基板の導体回路に予備半田を被覆して，プリント配線板を製造する方法である。
【００２１】
まず，図４，図５に示すごとく，絶縁基板３の上に，導体回路５１〜５４を形成する。隣接する導体回路５１，５２の間（５２，５３の間，５３，５４の間も同様。）の間隙Ｇは，７０μｍである。導体回路５１〜５４の幅Ｆは，８０μｍである。
絶縁基板３としては，例えば，ガラスエポキシ等の樹脂基板を用いる。導体回路５１〜５４は，例えば，銅箔をエッチングして，残ったパターンの表面を金属（Ｎｉ，Ａｕ）めっきにより被覆して形成することができる。
【００２２】
次に，図１〜図３に示すごとく，上記導体回路５１〜５４に対応する形状を有する半田パターン１１〜１４を，半田キャリア２の表面に形成する。この半田パターン１１は，図１に示すごとく，半田材によって形成した部分半田層１１１，１１２，１１３と，半田材が設けられていない仮想パターン１１９，１１８，１１７，１１６とを交互に配置している。仮想パターン１１９，１１８，１１７，１１６は，仮に半田材があったとしたら半田材が上記部分半田層と一体的に連続した半田パターンの形成が可能となる部分である。半田パターン１２〜１４においても，上記半田パターン１１と同様に，部分半田層と仮想パターンとを交互に配置している。
【００２３】
また，隣接する半田パターン１１，１２において，一方の半田パターン１１における部分半田層１１１は，他方の隣接する半田パターン１２における仮想パターン１２９と互いに並列している。
上記半田パターン１１及び１２における，部分半田層１１２，１１３及び１２１，１２２も，仮想パターン１１６〜１１９及び１２８と，同様に並列している。また，隣接する半田パターン１２，１３同志，半田パターン１３，１４同志においても，部分半田層と仮想パターンとは同様に並列している。
【００２４】
また，隣接する半田パターン１１，１２において，一方の半田パターン１１における部分半田層１１１〜１１３は，他方の半田パターン１２における部分半田層１２１，１２２と，千鳥状に，互い違いに斜めに配列している。また，隣接する半田パターン１２，１３同志，１３，１４同志も，上記半田パターン１１，１２と同様に部分半田層が千鳥状に配列している。
【００２５】
図２，図３に示すごとく，部分半田層の間に設けた仮想パターン１１６〜１１９，１２８，１２９，１３８，１３９，１４８，１４９の長さＡは，１００μｍである。半田キャリア２の表面に形成した上記部分半田層の厚みＣは，１５μｍである。
隣接する半田パターン１１，１２の間（１２，１３の間，１３，１４の間も同様。）の間隙Ｅは，５０μｍである。半田パターン１１〜１４の表面の幅Ｄは，１００μｍである。
【００２６】
半田キャリア２としては，例えば，ポリイミド材，ガラスエポキシ材，ビスマレイミドトリアジン材，紙フェノール等を用いる。上記部分半田層は，例えば，半田箔をエッチングして形成するか，又は半田ペーストを印刷して形成する。
【００２７】
次いで，図５に示すごとく，上記絶縁基板３の導体回路５１〜５４の表面に，半田キャリア２に形成した上記半田パターン１１〜１４を重ね合わせ，これらを２２５℃に加熱する。これにより，図６，図７に示すごとく，半田パターン１１〜１４が，半田キャリア２から導体回路５１〜５４へと転写される。
次に，半田キャリア２を半田パターンから剥離し，絶縁基板の表面から除去する。
【００２８】
その後，転写した部分半田層を設けた絶縁基板３を加熱炉内に入れ，２２５℃に加熱する。これにより，図８，図９に示すごとく，部分半田層の半田材を溶融させる。
溶融した半田材は，主として導体回路の上面を，その未被覆部分へと流延し，そこで，該未被覆部分を隔てた他の部分半田層から流延して来た半田材と合流する。そのため，形成された予備半田は，導体回路の表面全体を被覆することになる。
【００２９】
これにより，図８，図９に示すごとく，それぞれの導体回路５１〜５４において，複数の部分半田層が一体的に連なった，接合力の高い予備半田１１０，１２０，１３０，１４０が形成される。
以上により，導体回路表面を予備半田により被覆したプリント配線板７が得られる。
【００３０】
次に，本例の作用効果について説明する。
本例においては，図１に示すごとく，半田パターン１１における部分半田層１１１が，隣接する半田パターン１２における仮想パターン１２９と互いに並列するように，半田パターン１１，１２を半田キャリア２の表面に形成している。
【００３１】
そのため，図５に示すごとく，部分半田層を導体回路に転写したときには，導体回路５１，５２上には，上記部分半田層１１１が転写された半田材を有する部分と，半田材がない未被覆部分とが交互に形成される。
また，半田パターン１１，１２における他の部分半田層１１２，１１３，１２１，１２２についても，転写により上記部分半田層１１１と同様に半田材を有する部分と未被覆部分とを交互に形成する。
【００３２】
従って，隣接する半田パターン１１，１２の間の電気絶縁性を確保して，部分半田層の転写をすることができる。
また，他の半田パターン１３，１４も，上記半田パターン１１，１２と同様に絶縁性を確保して部分半田層を転写することができる。
【００３３】
次に，このようにして転写した部分半田層１１１の半田材は，加熱溶融する。このとき，図６に示すごとく，溶融した部分半田層１１１の半田材は，金属である導体回路１１との馴染みが良いため，導体回路の上面を伝わって，導体回路５１上の半田材により被覆されていない未被覆部分５２８上に流延する。そして，流延した半田材は，その未被覆部分５２８を隔てた部分半田層１１２の半田材と合流する。
【００３４】
半田パターン１１，１２における他の部分半田層も，同様に未被覆部分を隔てた部分半田層と合流する。このため，図８，図９に示すごとく，導体回路５１，５２の上面全体に，半田材からなる予備半田１１０，１２０を被覆，形成することができる。
また，他の半田パターン１３，１４においても，上記半田パターン１１，１２と同様に予備半田１３０，１４０を適切な厚みに被覆，形成することができる。
【００３５】
以上のごとく導体回路５１〜５４上に形成された予備半田１１０，１２０，１３０，１４０は，導体回路のパターンの方向に沿って流延形成したものであるから，適度な厚みを有すると共に導体回路の上面に形成されている。そのため，隣接する導体回路上の予備半田とは接触することなく，両者の間でショートの発生はない。また，そのため，従来に比較して導体回路の間隙を狭くしても，隣接する導体回路上の予備半田と接触するおそれはない。故に，予備半田によるショートのおそれはなく，導体回路を高密度に配線することができる。
【００３６】
【発明の効果】
本発明によれば，隣接する予備半田の間でショートが発生することなく，導体回路の高密度配線をすることができる，プリント配線板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態例における，半田パターンを形成した半田キャリアの平面透視図。
【図２】実施形態例における，部分半田層と仮想パターンとの寸法を説明するための，半田キャリアの平面透視図。
【図３】実施形態例における，半田パターンの寸法を説明するための，図２のＰ−Ｐ線矢視断面図。
【図４】実施形態例における，導体回路の寸法を説明するための，絶縁基板の平面図。
【図５】実施形態例における，半田キャリアの部分半田層を導体回路に転写する方法を示す説明図。
【図６】実施形態例における，導体回路上に転写された部分半田層を説明するための，絶縁基板の平面図。
【図７】図６のＱ−Ｑ線矢視断面図。
【図８】実施形態例における，予備半田が形成されたプリント配線板の平面図。
【図９】図８のＲ−Ｒ線矢視断面図。
【図１０】従来例における，予備半田が形成されたプリント配線板の平面図。
【図１１】図１０のＳ−Ｓ線矢視断面図。
【図１２】従来例における，半田パターンを形成した半田キャリアの平面透視図。
【図１３】従来例における，半田キャリアの部分半田層を導体回路に転写する方法を示す説明図。
【符号の説明】
１１〜１４・・・半田パターン，
１１０，１２０，１３０，１４０・・・予備半田，
１１１〜１１３，１２１，１２２，１３１，１３２，１４１〜１４３・・・部分半田層，
１１６〜１１９，１２８，１２９，１３８，１３９，１４８，１４９・・・仮想パターン，
２・・・半田キャリア，
３・・・絶縁基板，
５１〜５４・・・導体回路，
７・・・プリント配線板，
【図１】
0003702516.tif 000002
【図２】
0003702516.tif 000003
【図３】
0003702516.tif 000004
【図４】
0003702516.tif 000005
【図５】
0003702516.tif 000006
【図６】
0003702516.tif 000007
【図７】
0003702516.tif 000008
【図８】
0003702516.tif 000009
【図９】
0003702516.tif 000010
【図１０】
0003702516.tif 000011
【図１１】
0003702516.tif 000012
【図１２】
0003702516.tif 000013
【図１３】
0003702516.tif 000014