(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物と相互作用により結合する性質を持つ粉末粒子を純水中に一様に分散させてなる加工液を用いて、上記被加工物の被研磨面を加工する研磨装置において、上記加工液を溜めるための密閉タンクを備え、上記密閉タンク内に、上記被加工物を保持するワークテーブルと、スライダと、ガイドレールと、上記ワークテーブルを上記密閉タンク内で移動させるアクチュエータと、上記被加工物の被研磨面へ向けて上記加工液を流動させる流れ生成部を収容して、加工液中に浸漬しており、
上記ワークテーブルは、上記スライダを介して上記ガイドレール上を移動するようになっており、上記スライダは、純水を用いた静圧軸受によって上記ガイドレールと非接触になっており、
かつ、静圧を発生するのに使われた上記純水が上記密閉タンク内に流出することにより、粉末粒子濃度が低下する傾向がある上記加工液を濾過して、濾された純水を密閉タンク外へ排出し、上記加工液中の粉末粒子濃度を一定に維持する加工液精製手段を備えたことを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
請求項１に記載の研磨装置において、上記密閉タンクに連結されたバッファタンクを備え、このバッファタンク内の加工液の液面レベルを検出する液面センサを設けたことを特徴とする研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は研磨装置に関し、より詳しくはＥＥＭ（弾性放散加工；Ｅlastic  Ｅmission  Ｍachining）を利用した研磨装置に関する。
【０００２】
ここでＥＥＭとは、被加工物と相互作用により結合する性質を持つ粉末粒子を水流によって被加工物の表面に輸送して、上記粉末粒子と被加工物の表面原子とを相互作用により結合させるとともに、被加工物の表面原子とその裏側の原子との結合力を減少させて被加工物の表面原子を取り除くことにより、被加工物の表面を原子オーダで加工する技術をいう。
【０００３】
【従来の技術】
従来のＥＥＭを利用した研磨装置としては、上部が開放された槽内に、被加工物と相互作用により結合する性質を持つ粉末粒子を純水に分散させてなる加工液を満たし、槽の上方から加工液中に延びる回転軸の先端に取り付けられた弾性体を加工液に浸漬した被加工物の被研磨面に接近させた状態で、上記回転軸を回転させて加工液を弾性体に連れ回りさせるものが知られている。これにより、粉末粒子を流れによって被加工物の表面に輸送して、上記粉末粒子と被加工物の表面原子とを相互作用により結合させるとともに、被加工物の表面原子とその裏側の原子との結合力を減少させて被加工物の表面原子を取り除く。この結果、被加工物の表面を原子サイズのオーダ（タリステップ等による測定によれば５Å以下の精度）で平坦に加工することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のＥＥＭを利用した研磨装置では、槽の上部が開放されているため、大気中の酸素等が加工液中に溶け込んで、加工現象の安定に悪影響を及ぼすという問題がある。
【０００５】
そこで、この発明の目的は、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができる研磨装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の研磨装置は、被加工物と相互作用により結合する性質を持つ粉末粒子を純水中に一様に分散させてなる加工液を用いて、上記被加工物の被研磨面を加工する研磨装置において、上記加工液を溜めるための密閉タンクを備え、上記密閉タンク内に、上記被加工物を保持するワークテーブルと、スライダと、ガイドレールと、上記ワークテーブルを上記密閉タンク内で移動させるアクチュエータと、上記被加工物の被研磨面へ向けて上記加工液を流動させる流れ生成部を収容して、加工液中に浸漬しており、
上記ワークテーブルは、上記スライダを介して上記ガイドレール上を移動するようになっており、上記スライダは、純水を用いた静圧軸受によって上記ガイドレールと非接触になっており、
かつ、静圧を発生するのに使われた上記純水が上記密閉タンク内に流出することにより、粉末粒子濃度が低下する傾向がある上記加工液を濾過して、濾された純水を密閉タンク外へ排出し、上記加工液中の粉末粒子濃度を一定に維持する加工液精製手段を備えたことを特徴としている。
【０００７】
この請求項１の研磨装置では、密閉タンク内のワークテーブルに、被加工物が取り付けられて保持される。被加工物と相互作用により結合する性質を持つ粉末粒子を純水中に一様に分散させてなる加工液によって密閉タンク内が満たされた状態で、流れ発生部によって、上記被加工物の被研磨面へ向けて上記加工液が流動される。これにより、加工液中の粉末粒子が流れによって被加工物の被研磨面に輸送されて、上記粉末粒子と被加工物の表面原子とが相互作用により結合するとともに、被加工物の表面原子とその裏側の原子との結合力が減少して被加工物の表面原子が取り除かれる。この研磨装置では、加工液を溜める槽が密閉タンクであるから、加工液中に大気中の酸素等が溶け込むことがない。したがって、ＥＥＭによる加工現象が高度に安定に保たれる。なお、密閉タンク内でアクチュエータによってワークテーブルが移動されるので、被加工物を加工液の流れに対して相対的に変位させることができる。したがって、上記被加工物の被研磨面を所望の形状に仕上げることができる。
【０００９】
また、この請求項１の研磨装置では、上記スライダは、純水を用いた静圧軸受によって上記ガイドレールと非接触になっているので、上記スライダと上記ガイドレールとの摺動部が、摩耗粉を生じることがなく、したがって摩耗粉が上記加工液中へ流出することもない。したがって、加工液が汚染されることがなく、ＥＥＭによる加工現象が高度に安定に保たれる。
【００１１】
静圧を発生するのに用いられた純水がアクチュエータから加工液中に流出すると、加工液中の粉末粒子濃度が低下しようとする傾向が生じる。これを放置すると、ＥＥＭによる加工現象が安定に維持されなくなる。そこで、この請求項１の研磨装置では、加工液精製手段によって、上記加工液を濾過して、濾された純水を密閉タンク外へ排出する。これにより、上記密閉タンク内の加工液中の粉末粒子濃度を維持することができ、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができる。
【００１２】
請求項２に記載の研磨装置は、請求項１に記載の研磨装置において、上記密閉タンクに連結されたバッファタンクを備え、このバッファタンク内の加工液の液面レベルを検出する液面センサを設けたことを特徴とする。
【００１３】
この請求項２の研磨装置では、バッファタンク内の加工液の液面レベルが液面センサによって検出される。したがって、この液面センサの出力に基づいて、バッファタンク内の加工液の液面レベルが一定となるように上記加工液精製手段を制御することが可能となる。そのようにした場合、上記加工液中の粉末粒子濃度が高度に一定に維持されて、被加工物の被研磨面の加工が円滑に行われる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の研磨装置の実施の形態を詳細に説明する。
【００１５】
図１は一実施形態の研磨装置１の概略ブロック構成を示している。この研磨装置１は、密閉された本体タンク３の内部に被加工物を収容して研磨を行う本体２と、市水を精製して純水（超純水と呼ばれるものを含む）を得る公知の純水精製装置９０と、バッファタンク７０および加工液回収タンク８０と、加工液精製手段としての液相分離ユニット９３と、本体２によって被加工物を自動的に研磨するための制御を行う制御装置９９を備えている。
【００１６】
この研磨装置１は、矩形板状のガラス板（ＳｉＯ2を主成分とする）を研磨してトロイダル形状を持つ光学素子を得るのに適している。加工液１００としては、被加工物１０と相互作用により結合する性質を持つアルミナ（Ａl2Ｏ3）の微粉末を超純水中に一様に分散させてなるものを用いる。
【００１７】
図２は本体２およびバッファタンク７０を斜め上方から見たところを示し、図３は本体２の内部を側方から見たところを示している（理解の容易のために、いずれも本体タンク３の側板を部分的に取り除いて示している。）。これらの図に示すように、本体タンク３は、底板３ｂと、側板３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆと、開閉可能なカバー３ａとからなる略直方体状のものである。便宜上、底板３ｂの長手方向をｘ方向、底板３ｂのそれに垂直な方向をｙ方向、鉛直方向をｚ方向と呼ぶ。
【００１８】
以下に述べる本体タンク３の内部の要素は、特に記述しない限り、セラミックス、ステンレス鋼またはアルミニウムなどの純水への溶け出しが少ない材料によって形成されている。また、モータは、いずれも各モータ内へ加工液１００が浸入するのを防ぐためのシール機構を備えている。
【００１９】
底板３ｂ上には、底板３ｂの大半の面積を占める本体ベース５が載置されている。この本体ベース５のｘ方向中央近傍にコラム部材７が立設されている。コラム部材７は、本体ベース５のｙ方向奥，手前に配置された２本の支柱７ａ，７ｂと、これらの支柱７ａ，７ｂの上端に水平に架け渡されたビーム７ｃとからなっている。ビーム７ｃのｙ方向略中央に、取付部材９を介して主ユニット５０が取り付けられている。
【００２０】
主ユニット５０は、取付部材９に水平に取り付けられた固定板５１と、固定板５１の下方に水平に設けられた可動板５２と、固定板５１に搭載され可動板５２をガイド５４に沿ってｚ方向に平行移動させるモータ５３を備えている。可動板５２の下方には、モータ６０、静圧軸受６４、弾性体としてのポリウレタン球体６１および静圧軸受６２（図３では省略）がこの順にｙ方向に１列に並んで設けられている。モータ６０と静圧軸受６４，６２とは、それぞれ可動板５２に取り付けられている。モータ６０の出力軸は静圧軸受６４を通り、ポリウレタン球体６１の中心を貫通し、その先端が静圧軸受６２によって径方向および軸方向に受けられている。ポリウレタン球体６１はモータ６０の出力軸と一体に回転して、流れ生成部として働く。
【００２１】
本体ベース５の上部には、ｘ駆動モータ２１と、図示しない静圧送りねじと、ｘ方向に延びる２本の断面矩形状のガイドレール６，６とを含むｘ駆動ユニット２０が設けられている。ガイドレール６，６上に、断面コの字状の静圧スライダ２３，２３を介して、本体ベース５に対してｘ方向にに移動自在に矩形板状のｘテーブル２２が設けられている。静圧スライダ２３は、ｘテーブル２２の各コーナの下面にそれぞれ（計４個）取り付けられ、それぞれ対応するガイドレール６に嵌合している。ｘテーブル２２は、ｘ駆動ユニット２０の静圧送りねじを介して、ｘ駆動モータ２１によって本体ベース５に対して相対的にｘ方向に平行移動される。
【００２２】
また、ｘテーブル２２の上部に、ｙ駆動モータ３１と、図示しない静圧送りねじと、ｙ方向に延びる３本の断面矩形状のガイドレール２４ａ，２４ｂ，２４ｃとを含むｙ駆動ユニット３０が設けられている。ガイドレール２４ａ，２４ｂ，２４ｃ上に、断面コの字状の静圧スライダ３３ａ，３３ｂ，３３ｃを介して、ｘテーブル２２に対してｙ方向に移動自在に矩形板状のｙテーブル３２が設けられている。静圧スライダ３３ａ，３３ｂ，３３ｃはｙテーブル３２のｙ方向両端の辺に沿ってそれぞれ（計６個）取り付けられ、それぞれ対応するガイドレール２４ａ，２４ｂ，２４ｃに嵌合している。ｙテーブル３２は、図示しない静圧送りねじを介して、ｙ駆動モータ３１によってｘテーブル２２に対して相対的にｙ方向に平行移動される。詳しくは、図６に例示するように、スライダ３３ａには、ポンプ９１から絞りを介して純水が供給される上下の流路３８ａ，３８ｂが形成されている。流路３８ａはポケット３３ｅを介して上方からガイドレール２４ａの上面に向かって開く一方、流路３３ｂはポケット３３ｆを介して下方からガイドレール２４ａの下面に向かって開いている。各流路３８ａ，３８ｂを通してスライダ３３ａ内に供給された純水は、スライダ３３ａとガイドレール２４ａとの間の隙間３９ａ，３９ｂからスライダ３３ａの外部へ排出される。これにより、スライダ３３ａは純水を用いた流体潤滑によってガイドレール２４ａと非接触になる。このようにして、各スライダ３３ａ，３３ｂ，３３ｃがガイドレール２４ａ，２４ｂ，２４ｃと非接触になった状態で、ｙテーブル３２はｙ方向に移動される。したがって、各スライダ３３ａ，３３ｂ，３３ｃとガイドレール２４ａ，２４ｂ，２４ｃとの摺動部が材料の摩耗粉を生じることはなく、材料の摩耗粉が加工液１００中へ流出することもない。なお、上述のｘテーブル２２のためのスライダ２３も、このｙテーブル３２のためのスライダ３３と同様に構成されており、摺動部の材料の摩耗粉を加工液１００中へ流出させることはない。
【００２３】
さらに、図３によって良く分かるように、ｙテーブル３２のｘ方向両端の上面に、それぞれ支持部材４６，４６を介して静圧軸受４５，４５が設けられている。これらの静圧軸受４５，４５を通る回動軸４４，４４は同心になっている。回動軸４４，４４の間に、互いに平行な一対のブーム４３，４３と、これらのブームの下端に架け渡された矩形板状のθステージ４２とが設けられている。θステージ４２の上面には試料ホルダ１１が設けられている。θ駆動モータ４１によって図３において左側のブーム４３が軸４４の周りに回動されることにより、θステージ４２は試料ホルダ１１に取り付けられた被加工物１０とともに軸４４を中心として揺動される。
【００２４】
上述の軸受６４，６２，４５，４５や各モータ５３，６０，２１，３１，４１内の出力軸のための軸受は、加工液１００の汚染を防止するために、純水精製装置９０からの純水を用いた静圧軸受となっている。例えばｘ駆動モータ２１の軸受は図５に示すように構成されている。すなわち、モータ２１の出力軸２１ａの途中には残りの部分よりも径が大きい拡径部２１ｂが設けられている。軸受を構成するスリーブ２８の内壁は、出力軸２１ａの各部と若干の隙間を保って対向する穴２９ｅが軸方向に貫設されている。スリーブ２８の外周面と内壁との間に、ポンプ９１から絞りを介して純水が供給される流路２９ａ，２９ｂ，２９ｃ，２９ｄが形成されている。流路２９ａはポケット２９ｆを介して出力軸（の拡径部以外の部分）２１ａの外周面に向かって開き、流路２９ｂはポケット２９ｇを介して拡径部２１ｂの一方の端面に向かって開き、流路２９ｃはポケット２９ｈを介して拡径部２１ｂの他方の端面に向かって開き、また、流路２９ｄは拡径部２１ｂの外周面に向かって開いている。各流路２９ａ，２９ｂ，２９ｃ，２９ｄを通してスリーブ２８内に供給された純水は、スリーブ２８と出力軸２１ａとの間の隙間２９ｅと流路２９ｄからモータ２１の外部へ排出される。これにより、モータ２１の出力軸２１ａは、純水を用いた流体潤滑によってスリーブ２８と非接触になり、径方向および軸方向に一定位置に維持される。上述の他の軸受も同様に構成されている。この結果、モータの出力軸や軸受の材料の摩耗粉が生じることがなく、したがって摩耗粉が加工液１００中へ流出することもない。
【００２５】
この研磨装置１では、本体タンク３内の試料ホルダ１１に被加工物としてのガラス板１０が取り付けられて保持され、加工液１００によって本体タンク３内が満たされる。この状態で、制御装置９９（図１）によって、主ユニット５０、ｘ駆動ユニット２０、ｙ駆動ユニット３０、θ駆動ユニット４０が必要に応じて駆動されて、ガラス板１０の被研磨面１０ａとポリウレタン球体６１とが接近される。モータ６０によってポリウレタン球体６１を回転させることによって、ガラス板１０の被研磨面１０ａへ向けて加工液１００が流動される。これにより、加工液１００中のアルミナ（Ａl2Ｏ3）粉末粒子が流れによってガラス板１０の被研磨面１０ａに輸送されて、アルミナ粉末粒子とガラス板１０の表面原子とが相互作用により結合するとともに、ガラス板１０の表面原子とその裏側の原子との結合力が減少してガラス板１０の表面原子が取り除かれる。制御装置９９（図１）によって本体タンク３内で主ユニット５０、ｘ駆動ユニット２０、ｙ駆動ユニット３０、θ駆動ユニット４０を適宜制御することによって、ガラス板１０とポリウレタン球体６１とを相対的に変位させることができ、ガラス板１０の被研磨面１０ａを所望の形状に仕上げることができる。
【００２６】
ここで、この研磨装置１では、加工液１００を溜める本体タンク３が密閉されているから、加工液１００中に大気中の酸素等が溶け込むことがない。しかも、ガラス板１０とポリウレタン球体６１とを相対的に変位させるために、本体ベース５とｘテーブル２２との間、ｘテーブル２２とｙテーブル３３との間でスライダとガイドレールとが作る摺動部、各送りねじや各軸受の材料の摩耗粉が加工液１００中へ流出することがないので、加工液１００が汚染されることがない。したがって、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができる。
【００２７】
さて、上述のように、純水精製装置９０によって精製された純水が、スライダとガイドレールとが作る摺動部、各送りねじや各軸受等の機器４に供給されて、静圧を発生するのに使われている。このため、静圧を発生するのに使われた純水がそれらの機器４から本体タンク３内に流出して、加工液１００中の粉末粒子濃度が低下しようとする傾向が生ずる。そこで、本体タンク３からポンプ９２を介して液相分離ユニット９３内に加工液１００を取り込み、この液相分離ユニット９３によって、加工液１００を濾過して、濾された純水を本体タンク３外へ排出する。詳しくは図７に示すように、液相分離ユニット９３は内部に濾過膜９４を備え、限外濾過法により、取り込んだ加工液１００のうち低分子物質やイオン類を含む水分を透過する一方、高分子物質を含む水分を保持する。この結果、粉末粒子濃度が高まった加工液１００が本体タンク３へ戻される。したがって、液相分離ユニット９３内に取り込む加工液１００の流量、すなわち図１中のポンプ９２の排水量を制御（後述）することにより、本体タンク３内の加工液１００中の粉末粒子濃度を一定に維持することができ、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができる。
【００２８】
図４は本体タンク３に配管８１を介して連結されたバッファタンク７０および加工液回収タンク８０を示している。バッファタンク７０は、概略、上端が封じられた上側円筒部材７２と下端が封じられた下側円筒部材７３とを１列にフランジ接続して構成されており、上側円筒部材７２の上端は本体タンク３よりも高い位置にある。上側円筒部材７２の上端には、内部の加工液１００の液面レベルを検出するための超音波センサ７１と、Ｎ2ガス供給口７６と、真空ポンプ吸引口７７が設けられている。また、上側円筒部材７２の外周面には、内部の加工液１００の液面レベルを作業者に視認させるための液面計７８が設けられている。このバッファタンク７０の内部は下側円筒部材７３の下端の穴７５と分岐配管８１ａとを通して配管８１に連通している。なお、下側円筒部材７３の外周面にはバッファタンクの転倒防止のための脚７４が放射状に設けられている。加工液回収タンク８０は略直方体状の形状のものであり、その容量は本体タンク３の容量とバッファタンク７０の容量との和を超えるように設計されている。本体タンク３とバッファタンク７０との間の配管、バッファタンク７０と加工液回収タンク８０との間の配管にはそれぞれバルブ８２，８３が設けられている。
【００２９】
本体２の動作時には、バルブ８２が開、バルブ８３が閉にそれぞれ設定される。また、バッファタンク７０の上部には、加工液１００が外気によって汚染されるのを防止するために、Ｎ2ガス供給口７６を通してＮ2ガスが満たされる。そして、液面センサ７１の出力に基づいて、バッファタンク７０内の加工液１００の液面レベルが一定となるように図１中のポンプ９２の輸送量が制御される。この結果、上述したように、本体タンク３内の加工液１００中の粉末粒子濃度を高度に一定に維持することができる。したがって、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができ、被加工物１０の被研磨面１０ａの加工を円滑に行うことができる。
【００３０】
また、このバッファタンク７０は本体タンク３と加工液回収タンク８０との間で加工液１００を移動させるときに、ポンプとして働く。すなわち、例えば本体２による加工作業を開始する前に、加工液回収タンク８０内に満たされている加工液１００を本体タンク３へ移動させるものとする。このとき、まず、バルブ８２を閉、バルブ８３を開に設定し、真空ポンプ吸引口７７を通してＮ2ガスを排気してバッファタンク７０の内部を減圧する。これにより、加工液回収タンク８０内の加工液１００が配管８１を通してバッファタンク７０内へ吸い上げられる。続いて、バルブ８２を開、バルブ８３を閉に設定し、Ｎ2ガス供給口７６を通してＮ2ガスを供給してバッファタンク７０の内部を加圧する。これにより、バッファタンク７０内の加工液１００が配管８１を通して本体タンク３内へ押し出される。このような動作を繰り返すことにより、加工液回収タンク８０内に満たされている加工液１００を本体タンク３へ移動させることができる。また、例えば試料ホルダ１１に取り付けられた加工済みの被加工物１０を新たな被加工物と交換するときや、本体タンク３の部品を交換するときは、本体タンク３内に満たされている加工液１００を加工液回収タンク８０へ移動させる必要が生ずる。このときは、バルブ８２，８３の開閉状態を上の例とは逆にして、バッファタンク７０の内部の減圧、加圧を繰り返せば良い。
【００３１】
なお、この例では、被加工物としてのガラス板１０と相互作用により結合する性質を持つ粉末粒子としてアルミナ（Ａl2Ｏ3）を用いたが、これに限られるものではない。その他、二酸化シリコン（ＳｉＯ2）やジルコニア（ＺｒＯ2）等の粉末粒子を用いることができる。
【００３２】
また、被加工物の材質もガラス材料に限られるものでなく、金属やセラミックス等も加工できる。さらに、加工形状も上述のようなトロイダル形状に限られず、試料ホルダ１１、主ユニット５０およびコラム部材７の取り付け位置を変更することにより、軸対称形状の加工も行うことができる。
【００３３】
なお、本体タンク３内の流れ発生部は、ポリウレタン球体６１などの回転弾性体ではなく、ノズルによる噴流によって構成しても良い。
【００３４】
【発明の効果】
以上より明らかなように、請求項１の研磨装置は、加工液を溜める槽が密閉タンクであるから、加工液中に大気中の酸素等が溶け込むことがない。したがって、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができる。
【００３５】
また、請求項１の研磨装置では、上記スライダは、純水を用いた静圧軸受によって上記ガイドレールと非接触になっているので、上記スライダと上記ガイドレールとの摺動部が、摩耗粉を生じることがなく、したがって摩耗粉が上記加工液中へ流出することもない。したがって、加工液が汚染されることがなく、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができる。
【００３６】
また、請求項１の研磨装置では、加工液精製手段によって、加工液を濾過して、濾された純水を密閉タンク外へ排出するので、上記密閉タンク内の加工液中の粉末粒子濃度を維持することができ、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができる。
【００３７】
請求項２の研磨装置では、バッファタンク内の加工液の液面レベルが液面センサによって検出され、この液面センサの出力に基づいて、バッファタンク内の加工液の液面レベルが一定となるように上記加工液精製手段が制御され得る。したがって、上記加工液中の粉末粒子濃度を高度に一定に維持でき、被加工物の被研磨面の加工を円滑に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明の一実施形態の研磨装置のブロック構成を示す図である。
【図２】  上記研磨装置の本体およびバッファタンクを斜め上方から見たところを示す図である。
【図３】  上記研磨装置の本体の内部を側方から見たところを示す図である。
【図４】  本体にバッファタンクと加工液回収タンクが連結された状態を示す図である。
【図５】  モータの出力軸の軸受の構成を例示する図である。
【図６】  スライダとガイドレールとが作る摺動部の構成を例示する図である。
【図７】  液相分離ユニットによる濾過作用を説明する図である。
【符号の説明】
２  本体
３  本体タンク
７０  バッファタンク
８０  加工液回収タンク
９０  超純水精製装置
９３  液相分離ユニット
【図１】
0003673070.tif 000002
【図２】
0003673070.tif 000003
【図３】
0003673070.tif 000004
【図４】
0003673070.tif 000005
【図５】
0003673070.tif 000006
【図６】
0003673070.tif 000007
【図７】
0003673070.tif 000008