(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜帯状の支持体を真空中で表面処理を行う際に真空中の支持体の搬送を制御する方法において、前記支持体の移動速度と駆動源の駆動速度との差を前記支持体の移動速度の±０．２％以内に保持し、且つ前記支持体にかかる張力を３〜３０ｋｇ／ｍ幅の範囲に保持して前記支持体を搬送することを特徴とする感光材料用支持体の真空中の搬送制御方法。
【請求項２】
前記支持体として両側端部にナーリング処理したものを用いることを特徴とする請求項1に記載の感光材料用支持体の真空中の搬送制御方法。
【請求項３】
薄膜帯状の支持体を真空処理室内で搬送しながら前記支持体に表面処理するための搬送装置であって、
主駆動手段と、少なくとも１個の副駆動手段を備え、該副駆動手段には、前記支持体の移動速度と副駆動手段の駆動速度との差を前記支持体の移動速度の±０．２％以内とする速度制御手段と、前記主駆動手段と前記副駆動手段との間の前記支持体にかかる張力を３〜３０ｋｇ／ｍ幅の範囲に保つ張力制御手段とを備えたことを特徴とする感光材料用支持体の真空中の搬送制御装置。
【請求項４】
前記速度制御手段が、前記真空処理室内に配設される少なくとも１つのダンサローラの変位量に基づいて前記支持体の搬送速度を微調整可能なダンサ制御手段と電気的に接続されて成ることを特徴とする請求項３に記載の感光材料用支持体の真空中の搬送制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本願発明は、グロー放電処理等の真空処理を行なう際の、真空中における支持体の搬送制御方法及び装置に関するものであり、より具体的には、感光材料用の支持体を連続的またはバッチ処理にて真空中で処理を行なう際の、真空中における支持体の搬送速度の制御方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プラスチックフィルム、金属板等に対し、その表面に設けられた樹脂層或いは金属層との接着力を向上させる目的で、真空グロー放電処理、無電極プラズマ放電処理等の低温プラズマ処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理等種々の表面処理が行われている。特にポリマーフィルムに対して接着性、親水性、染色性等の改良のために真空グロー放電処理を行なうことが知られている。
真空グロー放電処理については、例えば米国特許第３，４６２，３３５号、同３，７６１，２９９号、同４，０７２，７６９号等に記載されている。特に写真感光材料の支持体については、平面性や表面特性を損なわずにグロー放電処理が好ましく用いられる例が、特開昭５９−５６４３０号、特公昭６０−１６６１４号、特公平３−３９１０６号等の各公報に開示されている他、本件出願人が提出した特願平５−１４７８６４号、同５−１９９７０４号等に提案されている。
【０００３】
薄膜帯状の支持体に対して真空処理を施すための方法には、支持体の繰出・巻取手段を含めて真空室に収納し、一回の処理毎に真空を解除して取り出す場合（バッチ式）と、真空処理室に外部から処理の対象となる支持体を供給しつつ処理を行なう場合（連続式）があるが、いずれの場合も真空中で支持体を搬送し処理部を通過させる搬送手段が必要である。
支持体は処理後は大気中で扱われることになるため、大気中での搬送適性は通常充分に考慮されているが、特に真空中の搬送において起きる問題に対しては充分な配慮がされていないことが多い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
真空中の搬送においては、次のような問題がある。
第１に、搬送ローラ上で、大気中の場合に存在する空気同伴が起こらないためにローラの保持力が高くなり、スリキズや、シワが発生し易い。また支持体に異物等が付着しているとローラに押された際に支持体にダメージを与え易い。
第２に、真空中では、搬送ローラ等との接触が密になり剥離帯電が起き易く、また水蒸気等の媒体がないために、発生した静電荷が逃げにくい。
第３に、感光材料用の支持体に対してグロー放電処理等の処理を行なう時期は、ゼラチン層等の塗布を施す前であることから、支持体は電荷保持性が高い状態にあることが普通であり、上記の帯電問題が特に起き易い。
【０００５】
本発明の目的は、これらの問題点を解消し、特に写真感光材料の支持体のように電荷保持性が高く、ゴミ、スリキズ等に敏感な支持体に対しても、真空中でダメージを与えにくい搬送方法及び装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記構成によって達成される。
（１） 薄膜帯状の支持体を真空中で表面処理を行う際に真空中の支持体の搬送を制御する方法において、支持体の移動速度と駆動源の駆動速度との差を、支持体の移動速度の±０．２％以内に保持し、且つ前記支持体にかかる張力を３〜３０ｋｇ／ｍ幅の範囲に保持して前記支持体を搬送することを特徴と特徴とする感光材料用支持体の真空中の搬送制御方法。
【０００８】
（２） 前記支持体として両側端部にナーリング処理を施したものを用いることを特徴とする前記（１）に記載の感光材料用支持体の真空中の搬送制御方法。
【０００９】
（３）薄膜帯状の支持体を真空処理室内で搬送しながら前記支持体に表面処理するための搬送装置であって、主駆動手段と、少なくとも１個の副駆動手段を備え、該副駆動手段には、前記支持体の移動速度と副駆動手段の駆動速度との差を前記支持体の移動速度の±０．２％以内とする速度制御手段と、前記主駆動手段と前記副駆動手段との間の前記支持体にかかる張力を3〜30ｋｇ／ｍ幅の範囲に保つ張力制御手段とを備えたことを特徴とする感光材料用支持体の真空中の搬送制御装置。
【００１１】
（４）前記速度制御手段が、前記真空処理室内に配設される少なくとも１つのダンサローラの変位量に基づいて前記支持体の搬送速度を微調整可能なダンサ制御手段と電気的に接続されて成ることを特徴とする（３）に記載の感光材料用支持体の真空中の搬送制御装置。
【００１２】
【作用】
支持体の移動速度と駆動源との速度差が、支持体の移動速度に対して±０．２％以内であるように、駆動源の駆動速度を制御することにより、支持体と駆動源との大きな摺接を防止することができ、支持体のスリキズ及び帯電を防止することができる。
支持体の移動速度と駆動源の駆動速度とは等しいことが好ましいが、必ずしも等しくなくてもよく、両者の速度差が支持体の移動速度に対して±０．２％以内であれば、スリキズの程度も許容範囲内に収まる。換言すれば、支持体の移動速度が、駆動手段による駆動速度の０．９９８〜１．００２倍の範囲にあれば、支持体のスリキズを許容することができる。
【００１３】
本発明の構成を図１及び図２を用いて説明する。
図１は、バッチ式の真空処理装置に本発明を適用する場合の概念図である。
図１において、真空処理室２の中に、支持体１の繰出部３、主駆動ローラ４、副駆動ローラ５、巻取部６、それらの間の搬送を導く複数のパスローラ７、速度や張力の変動を吸収するダンサー制御部８、グロー放電処理部等の処理部２０を収納している。
主駆動ローラ４と副駆動ローラ５の間には図示していない真空処理部が配置される。また真空処理室２は真空吸引開口９を介して図示していない外部の真空発生源に接続されている。
この他に真空処理室２中には、必要に応じてエッジポジションの制御や、支持体の加熱・冷却等の温度制御、電極の冷却の温度制御、帯電除去等の手段を備えることもできる。
【００１４】
主駆動ローラ４は基準速度で一定に回転される。支持体１は真空処理を施されることにより、或いは図示していない温度調節手段によりその温度が変わり、伸縮が起きることが多いが、その伸縮の程度に応じて副駆動ローラ５の回転を制御する。副駆動ローラ５の速度制御の方法としては、同期制御、ドロー制御、トルク制御、テンデンシー制御等が知られているが、真空中におけるこのような制御には、大きな速度差を生じないドロー制御、ダンサーローラ制御が適している。また、ドロー制御の際のドロー比は、支持体１の移動速度と副駆動ローラ５の周速との差が、支持体１の移動速度に対して±０．２％以内となるようにする。真空中においては、支持体１の移動速度と副駆動ローラ５の周速との差が、±０．２％を超えるとローラ上でのスリップの機会が増し、スリキズが発生し易くなる。これに対して、大気中においては、ローラの保持力は真空中に比べて一般に１／３程度に落ちるため、ドロー比は高く設定でき、通常は例えば±１％程度以内のドロー比を採用する。
【００１５】
真空中における上記のドロー条件を常に維持するためには、ドロー制御とともに、速度や張力の細かい変動を吸収するダンサー制御部８の併用が有効である。ここで使用されるダンサー制御部８は、ダンサーローラ８ａとコントローラ８ｂとを備え、支持体１にかかる張力を、ダンサーローラ自重とカウンターウエイトによって規定される張力に保つと共に、その変位を副駆動ローラ５にフィードバックして副駆動ローラ５の駆動速度を微調整するよう構成されている。
【００１６】
支持体１が加熱又は冷却により伸縮すると、ダンサーローラ８ａが瞬時に揺動変位して伸縮による張力の変化を瞬時に補償し張力を一定に保持する。その後、ダンサーローラ８ａを適正な位置、即ち揺動範囲の中央に戻すために、副駆動ローラ５による駆動速度を増減して支持体１の移動速度を調整する必要がある。ここで、支持体１は主駆動ローラ４により駆動されることから、支持体１の移動速度は主駆動ローラ４の駆動速度と等しい。したがって、主駆動ローラ４の駆動速度に対してドロー比が±０．２％以内となるように副駆動ローラ５を駆動すれば、支持体１と副駆動ローラ５との速度差は、スリキズを許容できる範囲内に収まる。
図１においては、主駆動ローラ４が副駆動ローラ５よりも上流側にある場合を示しているが、逆に主駆動ローラ４が下流側にあってもよい。
【００１７】
主駆動ローラ４、副駆動ローラ５、及びパスローラ７に用いるローラは、真空中で搬送する場合のスリキズを避ける観点から、低慣性（軽量）で平滑な面を持つものが好ましい。例えばアルミニウムコアに硬質クロムメッキし、鏡面に仕上げたものが代表的な例であるが、これに限定されるものではない。ローラ径のプロファイルも限定されるものではなく、フラットローラの他に必要に応じてクラウンローラ、糸巻型ローラ（コンケイブローラ、逆クラウンローラともいう）を用いることもできる。
【００１８】
真空処理室２の中で処理を多段階で行なうような場合、或いは処理後冷却、除電等の付加的な処理を行なうために駆動セクションを追加する場合は、副駆動ローラ５を２個以上もつことになるが、ドロー制御の好ましい条件は同様であり、各ステップの間で±０．２％以内の条件に抑えることが望ましい。
また、この時の支持体１にかかる張力は、３〜３０ｋｇ／ｍ幅の範囲がよく、より好ましくは３〜２０ｋｇ／ｍ幅が良い。
張力が３ｋｇ／ｍ幅以下では、保持力が不足するためにスリキズの原因となり、逆に高すぎるとローラの僅かな凹凸や、ローラに付着した異物によってスリキズが発生する確率が増し、好ましくない。
【００１９】
図２は、連続式の真空処理装置に本発明を適用する場合の概念図である。
図２において、真空処理室１０の一部は、大気との間で支持体の導入・導出を行なう支持体の導入・導出部１１を形成しており、この導入・導出部１１は、複数の支持体導入ローラ１２を縦に整列させた支持体導入ローラ群、同じく複数の支持体導出ローラ１３を縦に整列させた支持体導出ローラ群、及びシールを補助する補助シールローラ１４を縦に整列させた補助シールローラ群を備え、これらのローラ群が横並びに隣接するローラとの間で支持体１をニップし、或いは僅かな間隙を介して挟みながら大気からの導入、また大気への導出を行なうようになっている。
このような構成では支持体をニップする場合においても支持体の幅の側端部や、支持体１に同伴する空気の洩れにより、１段では真空と大気の充分な遮断ができず、図２に示すように多段階のローラ群としてその段階毎に真空吸引手段を接続し、段階的に真空度を上げる構成が採られる。
【００２０】
図２においては、主駆動ローラ１５は真空処理室１０の外側にあり、真空処理室１０の内部に複数の副駆動ローラ１６ａ、１６ｂを備えることが示されている。
真空処理室１０内部に備えるその他の装置、即ちパスローラ１７、ダンサー制御部１８、或いは真空処理装置その他の図示されない付加的装置については、上記のバッチ式の場合と同様であり、図示のものについては同じ符号で示してある。
特に連続式の場合には巻き取られる前に真空から大気中に曝されるために、真空中に生じた帯電を除いておくことが重要であり、支持体１の導入・導出部１１の特に導出部において除電手段を設けることが望ましい。
【００２１】
主駆動ローラ１５が真空処理室１０の外部にある場合でも、真空中の副駆動ローラ１６ａ，１６ｂの速度の制御における好ましいドロー条件は上記と同様である。即ち、主駆動ローラ１５と副駆動ローラ１６ａとの間、或いは副駆動ローラ同士１６ａ，１６ｂ間のドロー比を制御して、支持体１の移動速度と副駆動ローラ１６ａ，１６ｂとの速度差を、支持体１の移動速度の±０．２％以内の条件に抑えることが望ましい。この範囲を常に維持するためには、ダンサー制御部１８をそれぞれの副駆動ローラ１６ａ，１６ｂの近傍、即ち真空処理室１０内に設けることが特に有効である。また、この時の支持体１にかかる張力も、同様に３〜３０ｋｇ／ｍ幅が好ましく、特に３〜２０ｋｇ／ｍ幅の範囲が好ましい。
【００２２】
本発明の搬送方法及び装置を採用するに当たって、支持体の導入・導出部１１に除塵手段を設けることが極めて有効である。支持体１が大気から真空中に導入される際に、既に付着した、或いは同伴する空気に含まれる異物を持ち込むと、真空中の搬送において、品質上致命的なダメージを支持体に与えるおそれがある。これを防止するために、特に支持体の導入・導出部１１の導入部分近傍、例えば支持体導入ローラ群の最も大気寄りに位置する第１段の支持体導入ローラ１２に除塵手段を設けるとよい。除塵手段としては、気体のジェット・サクション方式が好ましいが、本発明の場合には真空用のサクションが既に設けられているので、クリーンエアのジェット吹き付けのみを追加して有効に除塵することが可能である。
また、真空処理終了後に支持体１を大気中に導出する際、支持体１が保持する静電気によってゴミを吸いつけ易いため、必要に応じて支持体の導入・導出部１１の出口側にも同様の除塵手段を設けると更に良い。
【００２３】
本発明において処理対象として適用できる支持体用素材としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリエチレンフタレート金属スルホネートを有する芳香族ジカルボン酸を共重合成分とする共重合ポリエステル、金属スルホネートを有する芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸を共重合成分とする共重合ポリエステル等のポリエステル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、芳香族ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド等が挙げられる。
【００２４】
この他本発明が適用できる支持体の例は、特開平１−２４４４４６号、同３−５４５５１号、同３−８４５４２号、同４−２２０３２９号、同４−２３４０３９号、同４−２３５０３６号、同５−３０７２２９号、同５−３０７２３０号、欧州特許第５７２，２７５−Ａ１号の各公報にも開示されている。
本発明は、上記支持体のいずれか、或いはそれらのポリマーブレンドに適用できるものであるが、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルムに好ましく適用できる。これらのポリエステルフィルムを用いる場合の好ましい厚みの範囲は８０〜１９０μｍである。
【００２５】
支持体の搬送性を高めるためにウエブの両耳端部にナーリング処理を施すことがよく行なわれる。
ナーリング処理は、支持体の両耳端部を凹凸を有するローラで挟み、支持体の耳部に凹凸パターンの変形を起こさせる処理であり、例えば特公昭５７−３６１２９号公報にナーリング処理の態様例が紹介されており、これらを採用することができる。例えば、凹凸パターンは、支持体の両側部に長手方向に沿って帯状に形成され、この帯状パターンは、一方の側部について１本でも複数本でもよい。凹凸の高さは、支持体の厚さの１０％〜６０％程度が好ましい。帯状パターンの幅は３〜１５ｍｍが好ましく、特に８〜１２ｍｍが好ましい。凹凸のピッチは、０．５〜５ｍｍが好ましく、特に０．８〜３ｍｍが好ましい。
ナーリング処理を施した支持体は、真空中においてもパスローラとの過度な接着を防ぎ、また剥離帯電を軽減する作用をもっており、本発明に好ましく採用される。ナーリング処理の有無により上記ドロー比の好ましい条件や、好ましい張力範囲は変わらず、ほぼ同等の条件が採用できる。
【００２６】
【実施例】
本発明の効果を明確にするために、実施例により説明する。
（実施例１）
支持体として厚み８０μｍのポリエチレンナフタレートフィルムを用い、図２に示す連続式真空処理装置により、支持体にかかる張力を変えてスリキズの発生程度を６段階で評価した。ここで、支持体の移動速度と副駆動ローラの周速度とが等しくなるように副駆動ローラの駆動を制御した。また、支持体の導入・導出部の出口に設けたエアジェット・サクション式除塵装置により、除塵処理を行った支持体と、除塵処理を行わなかった支持体とについて比較した。
結果を図３に示す。図３に示すように、除塵処理を行わなかった支持体は、張力が３〜２０ｋｇ／ｍ幅ではスリキズレベルが許容範囲内にあった。また、除塵処理を行った支持体は、張力が３〜３０ｋｇ／ｍ幅ではスリキズレベルが許容範囲内にあった。このことから、張力の好ましい範囲は、３〜３０ｋｇ／ｍ幅、より好ましくは３〜２０ｋｇ／ｍ幅であることがわかる。
【００２７】
（実施例２）
実施例１において、支持体の移動速度と副駆動ローラに周速度との差を、この差が支持体の移動速度に対して０〜＋０．５％となるように制御した。すなわち副駆動ローラの周速度が支持体の移動速度の１〜１．００５倍となるように副駆動ローラの駆動を制御した。
支持体にかかる張力は１０ｋｇ／ｍ幅とし、実施例１と同様に除塵処理を行ったものと行わないものについて、支持体のスリキズレベルの評価を行った。その他は実施例１と同じ条件で行った。
結果を図４に示す。図４に示すように、除塵処理を行わない支持体は、上記速度差の比率が＋０．１％まではスリキズレベルが許容範囲内にあった。また、除塵処理を行った支持体は、上記速度差の比率が＋０．２％まではスリキズレベルが許容範囲内にあった。このことから、支持体と副駆動ローラとの速度差の、支持体の移動速度に対する比率は、＋０．２％以下、より好ましくは＋０．１％以下であることがわかる。
【００２８】
【発明の効果】
本発明の方法及び装置によれば、支持体の移動速度と駆動源の駆動速度との差を、支持体の移動速度の±０．２％以内に保持し、且つ前記支持体にかかる張力を３〜３０ｋｇ／ｍ幅の範囲に保持して前記支持体を搬送することにより、支持体に付着したゴミや、支持体と駆動ローラとの摺接に起因する、真空中での搬送中の支持体のスリキズを有効に防止しつつ搬送速度を制御でき、感光材料用支持体の真空処理を安定に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に用いるバッチ式の真空処理装置の搬送系の構成図である。
【図２】本発明に用いる連続式の真空処理装置の搬送系の構成図である。
【図３】支持体にかかる張力、及び除塵処理有無とスリキズとの関係を示すグラフである。
【図４】支持体の移動速度と副駆動ローラの周速度との差の、支持体の移動速度に対する比率と、この比率に対するスリキズレベルとの関係を表すグラフである。
【符号の説明】
１  支持体
２，１０  真空処理室
３  繰出部
４，１５  主駆動ローラ
５，１６ａ，１６ｂ副駆動ローラ
６  巻取部
７，１７  パスローラ
８，１８  ダンサー制御部
８ａ  ダンサーローラ
８ｂ  コントローラ
９  真空吸引開口
１１  支持体の導入・導出部
１２  支持体導入ローラ
１３  支持体導出ローラ
１４  補助シールローラ
２０  処理部
【図１】
0003724650.tif 000002
【図２】
0003724650.tif 000003
【図３】
0003724650.tif 000004
【図４】
0003724650.tif 000005