(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱抵抗が０．００５（ｍ２・Ｋ／Ｗ）以上、０．１（ｍ２・Ｋ／Ｗ）以下であり、かつ、ディスプレイの画面上に設置されることを特徴とする近赤外線吸収色素を含有してなるディスプレイ用光学フィルター。
【請求項２】
透明な板状成形体と透明な薄膜とが積層されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項３】
透明な薄膜のシート抵抗が１０（Ω／□）以下であることを特徴とする請求項２記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項４】
透明な薄膜がコーティングされた高分子フィルムと、透明な板状成形体とが貼り合わされていることを特徴とする請求項２乃至請求項３のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項５】
ディスプレイがプラズマディスプレイパネルであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイの画面上に設置される光学フィルターに関するものであり、さらに詳しくは、ディスプレイの発熱が原因で起こる変色等の異常発生を抑制した光学フィルターに関するものである。ディスプレイが発熱量の大きいプラズマディスプレイパネルである場合に、特に効果を発揮するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、社会が高度化するに従って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置用等としてめざましく普及しつつある。その中でも、ディスプレイの大型化及び薄型化に対する市場要求は高まる一方である。
【０００３】
最近、大型かつ薄型化を実現することが可能であるディスプレイとしてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が、注目されている。しかし、プラズマディスプレイパネルは、原理上、強い近赤外線を放出する。この近赤外線は、コードレス電話や赤外線方式のリモートコントローラ等の誤動作を引き起こす。光学フィルターはディスプレイの画面から放出される波長が８００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外線を遮断するために用いられ、ディスプレイの画面上に設置される。そのため光学フィルターの光線透過率は、波長が８００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外線に対しては低く、波長が３８０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線に対しては高いことが望ましい。また可視光域に関しては単に透過率が高いだけでなく、例えば色調等ディスプレイの映像を損なわせないだけの光学特性が必要とされる。
【０００４】
近赤外線を遮断するための手段としては、（１）近赤外線を吸収する材料をフィルターを構成する材料中に混入させる。（２）近赤外線を反射する材料をフィルター表面にコーティングする。の二種類に大別される。近赤外線を吸収する材料としてはジチオール錯体化合物が挙げられ、これは近赤外線吸収色素として市販されているものである。また、近赤外線を反射する材料としては銀が知られている。  また、プラズマディスプレイパネルは、強い電磁波を装置外に放出することが知られている。電磁波は、計器に障害を及ぼすことが知られており、最近では、電磁波が人体にも障害を及ぼす可能性もあるとの報告もされている。このため、電磁波放出に関しては、法的に規制されるようになってきている。例えば、現在日本では、ＶＣＣＩ（Ｖｏｌｕｎｔａｒｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｃｏｕｎｃｉｌ  ｆｏｒ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ  ｂｙ  ｄａｔａ  ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｏｆｆｉｃｅ  ｍａｃｈｉｎｅ）による規制があり、米国では、ＦＣＣ（Ｆｅｄｅｒａｌ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ  Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ）による製品規制がある。近年、画面から放出される電磁波を遮断する機能を併せもつ光学フィルターが開発されてきた。電磁波を遮断する機能をもつフィルターは、二種類に大別することができる。一つは、金属メッシュタイプと呼ばれているものであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させたものである。これは、優れた電磁波遮断能力を持つが、透明性が優れずモワレ像が生じることからディスプレイフィルター用途に対して、あまり好ましくない。もう一つは、透明薄膜タイプと呼ばれているものであり、透明導電性薄膜を全面にわたって配置したものである。薄膜の材料としては抵抗率の低いものが好ましく、銀や金が適当な材料として挙げられる。なかでも銀は近赤外線反射能をも併せ持つため、適当な厚みに設計された銀薄膜を配置すれば、近赤外線遮断機能及び電磁波遮断機能をもつ光学フィルターを得ることができる。実際には銀薄膜と適当な屈折率を有する薄膜との積層により、可視光線領域の光学特性を制御した電磁波遮断機能付き光学フィルターが開発されている。このタイプは金属メッシュタイプと異なりモワレ像が生じることはなく、ディスプレイの映像性能を落とすことがない。
【０００５】
透明導電性薄膜タイプの光学フィルターは、高分子成形体基板やガラス基板に透明導電性薄膜フィルムを貼り合わせてある場合が多い。このフィルムを貼り合わせる手法の利点は、薄膜形成が基材フィルムをロールに巻き取りながら連続的に行えるため量産に適している点である。また、反射率低減機能、防幻機能または調色機能を持った光学フィルムを透明導電性フィルムに組み合わせて貼り合わせることも多い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
赤外線遮断能を有する光学フィルターを、プラズマディスプレイパネルの表示画面上に設置して表示体を完成させこれを点灯し長時間放置すると、光学フィルターが変色し色調が変化する不具合が発生した。これはプラズマディスプレイの長期信頼性を損なうものであり、この解決が強く求められていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、プラズマディスプレイパネルで生成される熱が光学フィルターに伝わり、光学フィルターの一部が加熱された結果異常が生じたことを突き止めた。光学フィルターが加熱されるのはディスプレイに近い部分の一部であり、その箇所に異常が発生してしまう。本発明者らは、光学フィルターの熱抵抗を制御することで、その異常発生を抑制できることを発見し本発明に到った。
【０００８】
すなわち本発明は、（１）熱抵抗が０．００５（ｍ２・Ｋ／Ｗ）以上、０．１（ｍ２・Ｋ／Ｗ）以下であり、かつ、ディスプレイの画面上に設置されることを特徴とする近赤外線吸収色素を含有してなるディスプレイ用光学フィルター、（２）透明な板状成形体と透明な薄膜とが積層されていることを特徴とする（１）記載のディスプレイ用光学フィルター、（３）透明な薄膜のシート抵抗が１０（Ω／□）以下であることを特徴とする（２）記載のディスプレイ用光学フィルター、（４）透明な薄膜がコーティングされた高分子フィルムと、透明な板状成形体とが貼り合わされていることを特徴とする（２）乃至（３）のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルター、（５）ディスプレイがプラズマディスプレイであることを特徴とする（１）乃至（４）のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルターに関するものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明における光学フィルターは、熱抵抗が０．００５（ｍ2・Ｋ／Ｗ）以上０．１（ｍ2・Ｋ／Ｗ）以下である。熱抵抗をこの範囲に限定しなければならないのは、ディスプレイの連続点灯時における画面の発熱により光学フィルターが劣化するのを防止するためである。これは、表示画面からの発生熱量が大きいプラズマディスプレイの光学フィルターとして用いる場合に特に有効である。プラズマディスプレイの表示画面は連続点灯時に８０℃〜９０℃程度にまで達し、画面上に設置された光学フィルターを加熱させる。すなわちプラズマディスプレイパネル自体が、光学フィルターを加熱する熱源となってしまう。プラズマディスプレイパネルの連続点灯時には、プラズマディスプレイパネルとの距離が近い部分において光学フィルターが加熱されて、光学フィルターの熱抵抗が大きいと放熱されず蓄熱されることになる。この蓄熱により、近赤外線を遮断するために用いられている近赤外線吸収色素や銀薄膜が劣化し、変色等の不具合が引き起こされる。この問題は、光学フィルターの熱抵抗を上限以下とすることで解決することができるのである。
【００１０】
光学フィルターの熱抵抗の下限値は０．００５（ｍ2・Ｋ／Ｗ）でなければならない。熱抵抗が０．００５（ｍ2・Ｋ／Ｗ）以下だと、ディスプレイで発生した熱が光学フィルターを通して外部にまで達し放熱性はよくなるものの、人が触れる可能性のある光学フィルターの外側までもが熱くなってしまうのである。従って光学フィルターの熱抵抗は０．００５（ｍ2・Ｋ／Ｗ）以上０．１（ｍ2・Ｋ／Ｗ）以下とする必要がある。
【００１１】
本発明を添付図面でもって説明する。図１は、本発明の実施形態の一例を示しており、光学フィルターがディスプレイの画面上に設置された様子を断面から見た図である。図１において光学フィルター１０は、プラズマディスプレイパネル２０の表示画面２１上に設置されている。プラズマディスプレイパネルの連続点灯時にこの表示画面が８０℃〜９０℃にまで達し、光学フィルターの表示画面側１１に伝わる。光学フィルターの熱抵抗が大きいとこの部分に蓄熱してしまい、劣化が生じるのである。逆に光学フィルターの熱抵抗が小さいと、光学フィルターの外側１２までもが熱くなり、この部分は人が直接触れる可能性があるので危険である。２５は光学フィルターをディスプレイの表示画面上に設置するための留め具である。
【００１２】
光学フィルターの形状はディスプレイの画面上に設置するため板状が好ましい。また、十分な機械的強度を有し、軽量で割れにくいものが好ましく、基材となる材料としてはポリメタクリル酸メチルをはじめとするアクリルやポリカーボネート等の高分子材料が好適に使用できる。近赤外線を吸収して遮断する光学フィルターを製造する場合には、基材となる材料の中に近赤外線吸収色素を混入させて、平面状に成形すればよい。近赤外線の透過率は、近赤外線吸収色素の混入量により制御することができる。また近赤外線を反射させて遮断する光学フィルターを製造する場合には、板状に形成された基材の表面上に銀薄膜を形成すればよい。この場合も基材としてはポリメタクリル酸メチルやポリカーボネートといった材料が適している。近赤外線の透過率の制御及び可視光線の透過率は銀薄膜の膜厚により制御することができる。
【００１３】
近赤外線吸収剤を混入させて近赤外線を吸収する方法と近赤外線を反射する薄膜を形成する方法の二つの手法を組み合わせて光学フィルターを製造しても良い。その場合には、近赤外線吸収剤を混入させて成形した基材の表面上に銀薄膜を形成すればよい。
【００１４】
近赤外線を遮断するのに銀薄膜を使用するとこれを電磁波遮断にも使用することができるため、画面から電磁波を放射するプラズマディスプレイの光学フィルターとして使用するのには最適である。この場合、ディスプレイの画面上に光学フィルターを設置する時に、銀薄膜をディスプレイのアースと電気的に接続すればディスプレイの画面から放射される電磁波を減衰させることができる。この際の銀薄膜のシート抵抗値は１０Ω／□以下が好ましい。シート抵抗値が高いと電磁波遮断能が低下し、電磁波遮断膜として使用できなくなる。画面サイズを大きくする場合にはシート抵抗値をさらに小さくしなければならず、４２インチサイズの画面を持つプラズマディスプレイパネルに使用する場合には２Ω／□以下が好ましい。シート抵抗値は銀薄膜の膜厚により決定されるので、光学特性を損なわない範囲で膜厚を制御すればよい。
【００１５】
銀は近赤外線を反射すること、導電性に優れること、の二点において本発明の光学フィルターを構成する薄膜材料として最適なものであるが、高湿下における耐久性が低いという欠点を有する。この欠点を改良するために、銀に金、パラジウム、白金、銅等の貴金属を１重量％〜５０重量％ドープさせてもよい。貴金属のドープにより銀の光学特性は若干変化するが、高湿下における耐久性を飛躍的に向上させることができる。
【００１６】
また、銀と屈折率の異なる材料を適当な構成で積層させることにより可視光透過率の波長分散を制御できることが知られている。屈折率の異なる材料としては、波長５５０ｎｍの光線に対する屈折率が１．４以上で可視光領域での吸収が小さく波長が４００ｎｍ〜７００ｎｍの光線に対する透過率が６０％以上の材料が好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化シリコン、酸化アンチモン、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化亜鉛等の酸化物が挙げられる。なかでも酸化スズをドープした酸化インジウム、酸化アルミニウムを酸化亜鉛、酸化アンチモンをドープした酸化スズは屈折率が２．０以上と大きいのに加え、導電性も有しているので最適な材料である。可視光領域での波長分散を制御するのに適した積層構成を列挙すれば、Ａ／ｂ／ｃ／ｂ、Ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、Ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、Ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、Ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ等である。ここでＡは基材、ｂは酸化物薄膜、ｃは銀薄膜を表している。
【００１７】
銀薄膜や酸化物薄膜の成膜は真空蒸着法やスパッタリング法といった従来からよく知られている手法により行えばよい。真空蒸着法では、所望の材料を蒸着源として使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により、加熱蒸着させることで、簡便に金属薄膜を形成することができる。また、スパッタリング法を用いる場合は、ターゲットに所望の材料を用いて、スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッタリング法や高周波スパッタリング法を用いて金属薄膜を形成することができる。酸化物薄膜を成膜する場合にはスパッタリングガス中に酸素を混合し酸素と反応させながら成膜してもよい。成膜速度を上昇させるために、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンスパッタリング法が用いられることも多い。
【００１８】
基材は板状の成形体を使用すればよく、アクリル板やポリカーボネート板が基材として使用できる。板状成形体には、表面の硬度または密着性を増す等の理由でハードコート層が設けられることが多い。ハードコート層材料としては、アクリレート樹脂またはメタクリレート樹脂が用いられる場合が多いが、特に限定されるわけではない。またハードコート層の形成方法は、紫外線硬化法または重合転写法が用いられる場合が多いが、特にこれに限定されるわけではない。重合転写法は、対象となる材料が、メタクリレート樹脂等セルキャスト重合ものに限定されるが、連続製版方式によって非常に生産性良く、ハードコート層を形成することができる。このため、重合転写法によるメタクリレート樹脂層形成は、最も好適に用いられるハードコート層形成手法である。
【００１９】
銀薄膜を形成する蒸着法やスパッタリング法は真空容器を必要とする手法であるため、大きなサイズの板状成形体に全面にわたって均質な銀薄膜を直接成膜することが困難な場合がある。そのような場合には巻き取り可能な高分子フィルムにロール・ツ・ロールで銀薄膜を形成した後、これを板状成形体に貼り合わせればよい。高分子フィルムの材料は、透明性があれば特に制限はない。具体的に例示すると、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。なかでもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）は、特に好適に用いられる。図２は、このようにして製造した光学フィルターの構成を断面方向から見た図である。高分子フィルム３１の表面上に銀薄膜３０を形成し、板状成形体３３に粘着剤３２でもって貼り合わせ光学フィルターを完成した。高分子フィルムはロール状に巻き取ることができるので、銀薄膜形成の大量加工に適している。
【００２０】
板状成形体と透明導電性薄膜付きフィルムとを貼り合わせるのに用いられる粘着材は、できるだけ透明なものが好ましい。使用可能な粘着剤を例示すると、アクリル系粘着材、シリコン系粘着材、ウレタン系粘着材、ポリビニルブチラール粘着材（ＰＶＢ）、エチレンー酢酸ビニル系粘着材（ＥＶＡ）等である。中でもアクリル系粘着材は、透明性及び耐熱性に優れるために特に好適に用いられる。また、フィルムまたはシート状の誘電体を光学フィルターに貼り合わせる場合にも同じ粘着剤を使用することができる。
【００２１】
粘着材の形態は、大きく分けてシート状のものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通常、感圧型であり、貼り付け後に各部材をラミネートする事によって貼り合わせを行う。液状粘着材は、塗布貼り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるものであり、粘着材の塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等が挙げられ、粘着材の種類、粘度、塗布量等から考慮選定される。粘着材層の厚みに特に制限はないが、０．５〜５０μｍ、好ましくは、１〜３０μｍである。粘着材を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせた時に入り込んだ気泡を脱法させたり、粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条件下にて養生を行うことが好ましい。この時、加圧条件としては、一般的に数気圧〜２０気圧程度であり、加温条件としては、各部材の耐熱性にも依るが、一般的には室温以上、８０℃以下である。
【００２２】
本発明において粘着剤を使用した貼り合わせ方法に特に制限はない。通常は、高分子フィルムに粘着材を貼り付け、その上を離型フィルムで覆ったものをロール状態であらかじめ用意しておき、ロールから高分子成形フィルムを繰り出しながら、離型フィルムをはがしていき、高分子成形体基板上へ貼り付け、ロールで押さえつけながら貼り付けていく。貼り合わせられたフィルム上に重ねて貼り合わせる場合も同様である。
【００２３】
光学フィルターの熱抵抗は、厚さや貼り合わせ枚数を変化させることにより制御することができる。板状試料の熱抵抗Ｒ（ｍ2・Ｋ／Ｗ）は、その材料の熱伝導率λ（Ｗ／（ｍ・Ｋ））と厚さｄ（ｍ）とから（１）式により算出できる。
【００２４】
Ｒ（ｍ2・Ｋ／Ｗ）＝ｄ（ｍ）／λ（Ｗ／（ｍ・Ｋ））    （１）
熱抵抗を変化させる簡便な手法は厚さｄ（ｍ）を制御することであるが、厚さの設定は機械的強度を十分保ち、重量もあまり重くならない範囲でなければならない。厚さを変化させるだけでは熱抵抗を所望の範囲に設定し難い場合には、高分子フィルムの貼り合わせにより熱抵抗を変化させることができる。異なる材料を貼り合わせることになるため（１）の熱伝導率λ（Ｗ／（ｍ・Ｋ））を変化させることができるからである。
【００２５】
熱抵抗の測定は、ＡＳＴＭ  Ｃ−５１８やＪＩＳ  Ａ−１４１２に記載された、平板直接法、平板比較法、平板熱流計法、保護熱板熱流計法のいずれかに準拠した方法で測定することができる。これらの方法に準拠した方法で熱抵抗を簡便に測定することのできる装置が市販されている。
上記の方法により作製した、光学フィルターの層構成及び各層の状態は、断面の光学顕微鏡測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定、透過型電子顕微鏡測定（ＴＥＭ）を用いて調べることができる。
【００２６】
【実施例】
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。
（実施例１）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に下記式（１）［化１］で示されるジオール錯体を０．３重量％混合し、２６０℃〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み１００μｍのフィルムを作製し、その後このフィルムを２軸延伸して、厚み５０μｍの色素フィルムを作製した。
この色素フィルムを、厚さ３ｍｍのポリメタクリル酸メチル板（三菱レイヨン（株）製）にアクリル系粘着剤を介して貼り合わせディスプレイ用光学フィルターを完成させた。大きさは４２型ワイドディスプレイの画面に装着できる大きさとした。
【００２７】
【化１】
0003681280.tif 000002
【００２８】
（実施例２）無色透明な厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に、ターゲットインジウムを、スパッタガスにアルゴン酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧８０ｍＰａ）を用いて酸化インジウム薄膜を、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて銀薄膜を、マグネトロン直流スパッタリング法により、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍの順に積層し、積層フィルムを作製した。
【００２９】
（実施例３）
厚さ３ｍｍのポリメタクリル酸メチル板の一方の面に、実施例１で作製した色素フィルムを、もう一方の面に実施例２で作製した積層フィルムをアクリル系粘着剤を用いて貼り合わせディスプレイ用光学フィルターを完成させた。
【００３０】
（実施例４）
ポリメタクリル酸メチル板の厚さを７ｍｍに変更した以外は実施例３と同じ手法でディスプレイ用光学フィルターを完成させた。
【００３１】
（実施例５）
ポリメタクリル酸メチル板の厚さを１．５ｍｍに変更した以外は実施例３と同じ手法でディスプレイ用光学フィルターを完成させた。
【００３２】
（比較例１）
ポリメタクリル酸メチル板の厚さを１ｍｍに変更した以外は実施例３と同じ手法によりディスプレイ用光学フィルターを完成させた。
【００３３】
（比較例２）
厚さ７ｍｍのポリメタクリル酸メチル板を厚さ７ｍｍのポリカーボネート板に変更した以外は実施例３と同じ手法によりディスプレイ用光学フィルターを完成させた。
【００３４】
以上の手法により作製したディスプレイ用光学フィルターの熱抵抗を、ＡＳＴＭ  Ｃ−５１８に準拠した熱伝導率測定装置（英弘精機（株）製  型番：ＨＣ−０７２）を使用して、熱流計法により測定した。なお、高温板側温度は４０℃、低温板側温度は１０℃とした。
【００３５】
次に、ディスプレイ用光学フィルターを４２型ワイドプラズマディスプレイパネルの画面上に面同士を接触させて装着し、ディスプレイを点灯させ放置した。点灯後５００時間経過後、ディスプレイ用光学フィルターをプラズマディスプレイ画面から取り外し、目視で変色等異常の有無を調べた。その結果を［表１］にまとめた。
【００３６】
【表１】
0003681280.tif 000003
［表１］から本発明のディスプレイ光学フィルターは、プラズマディスプレイの画面上に設置して長時間使用しても外観不良の発生しないものであることが分かる。
【００３７】
【発明の効果】
ディスプレイ長期点灯時において、ディスプレイ表示画面上に設置する光学フィルターの劣化を抑制する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態の一例を示す断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ光学フィルターの一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１０  本発明のディスプレイ用光学フィルター
１１  ディスプレイ用光学フィルターの表示画面側
１２  ディスプレイ用光学フィルターの外側
２０  ディスプレイ
２１  ディスプレイの表示画面
２５  ディスプレイ用光学フィルターを取り付けるための留め具
３０  銀薄膜
３１  高分子フィルム
３２  粘着剤
３３  板状成形体
【図１】
0003681280.tif 000004
【図２】
0003681280.tif 000005