(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネロリドールとＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールとをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを製造する方法であって、
ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモル比が１．５〜３であるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項２】
有機溶媒を含まないか、有機溶媒を含む場合には、ネロリドールに対して、１００質量％未満の有機溶媒を含む条件で、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させる請求項１に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項３】
前記有機溶媒が、炭化水素類である請求項２に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項４】
ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモルひが、２〜３である請求項１〜３のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項５】
還流が、精留塔を用いて行われる請求項１〜４のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項６】
精留塔の段数が３段以上である、請求項５に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項７】
精留塔の段数が４０段以下である請求項５または６に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項８】
還流が、還流比が３以上の条件下で行われる請求項１〜７のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項９】
還流が、還流比が５以上４０以下の条件下で行われる請求項１〜８のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項１０】
Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件が、１０１ｋＰａの圧力条件でＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）の沸点以上である請求項１〜９のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【請求項１１】
下記工程１〜４を有する、（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
工程１：ネロリドールとＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールとをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを製造する工程であって、ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモル比が１．５〜３である工程；
工程２：工程１で得られたＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを、酸性剤の存在下で環化し、さらに加水分解してスクラレオライドを得る工程；
工程３：工程２で得られたスクラレオライドを還元してアンブロキシジオールを得る工程；および
工程４：工程３で得られたアンブロキシジオールを脱水環化して（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランを得る工程。
【請求項１２】
前記酸性剤は、硫酸もしくはメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、クロロスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の硫酸と同等以上の酸強度を有するブレンステッド酸、及び金属塩化物や三フッ化ホウ素エーテル錯体等のルイス酸である請求項１１に記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【請求項１３】
前記酸性剤は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して０．１〜１０モル倍用いる請求項１１または１２に記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【請求項１４】
工程２において、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して１〜１００質量倍の溶媒をさらに用いる請求項１１〜１３のいずれかに記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【請求項１５】
前記溶媒が、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ニトロ炭化水素類、またはエーテル類である請求項１４に記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法、及び（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フラン（以下、（±）−アンブロキサンと称する）は、香気特性及び残香性に優れるアンバー様香料素材として、調合香料の原料、並びに各種製品の賦香に用いられている。
【０００３】
【化１】
0005501519.tif 000002
【０００４】
（±）−アンブロキサンの製造方法としては、いくつかの方法が知られているが、近年、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを経由する（±）−アンブロキサンの製造方法が報告されている。例えば特許文献１、２及び非特許文献１には、ネロリドールを出発原料として、Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミドを経由する（±）−アンブロキサンの製造方法が開示されており、Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミドを得る方法として、ネロリドールにＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールを反応させる方法が開示されている。
【０００５】
【化２】
0005501519.tif 000003
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−５６６６３号公報
【特許文献２】特開２０１０−１８９２８５号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミストリー（Journal of Organic Chemistry）、第６１巻、２２１５頁、１９９６年
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記特許文献等に開示された方法によって（±）−アンブロキサンを合成する際、高収率で純度の高い（±）−アンブロキサンを効率よく得るためには、その原料となるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを高収率かつ高純度で、効率よく得る必要がある。
【０００９】
しかしながら、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを高純度で得るためには、非特許文献１に示されるように、ネロリドールに対して、高価なＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールを大過剰（例えば、ネロリドールに対して８４０モル％）に加えて反応させる必要がある。そのため、得られた反応生成物を多量の原料から分離する工程が必要となる。更に反応中にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールが加水分解したり、重合するなどして、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールを回収することが困難となり、効率的ではなかった。
【００１０】
本発明の課題は、香料として有用な（±）−アンブロキサンの前駆体であるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを、原料の回収率が高く、高純度かつ高収率で得られる製造方法、及び（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フラン（すなわち、(±)−アンブロキサン）の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、原料の回収率、純度、収率に影響する要因は、ネロリドールとＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールの反応時の比率であると考えて検討を行った。その結果、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造において、ネロリドールに対して、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールを特定の比率で用いることで、原料の回収率、純度、収率をいずれも高めることができることを見出した。
【００１２】
すなわち、本発明は、以下の〔１〕及び〔２〕を提供する。
〔１〕ネロリドールとＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールとをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを製造する方法であって、
ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモル比が１．５〜３であるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００１３】
〔２〕下記工程１〜４を有する、（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
工程１：ネロリドールとＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールとをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを製造する工程であって、ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモル比が１．５〜３である工程；
工程２：工程１で得られたＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを、酸性剤の存在下で環化し、さらに加水分解してスクラレオライドを得る工程；
工程３：工程２で得られたスクラレオライドを還元してアンブロキシジオールを得る工程；および
工程４：工程３で得られたアンブロキシジオールを脱水環化して（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランを得る工程。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、香料として有用な（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの前駆体であるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを、原料の回収率が高く、高純度かつ高収率で得られる製造方法、及び（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（以下、式（Ｉ）で表される）の製造方法は、ネロリドール（以下、式（ＩＩ）で表される）とＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（以下、式（ＩＩＩ）で表される）とをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を製造する方法であって、ネロリドール（ＩＩ）に対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）のモル比が１．５〜３である。以下のスキームに示す。
【００１６】
【化３】
0005501519.tif 000004
【００１７】
前記式中、Ｒは、アルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
【００１８】
本発明の製造方法により、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を原料の回収率が高く、高純度かつ高収率で得られる理由は定かではないが、次のように考えられる。
【００１９】
本発明の反応は、ネロリドール（ＩＩ）とＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）とをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で行う。この条件では、ネロリドール（ＩＩ）のアミド化反応が迅速に進行し、その結果、目的とするＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を高収率で得ることができる。
【００２０】
ネロリドール（ＩＩ）には、この条件において、アミド化反応と自己の脱水反応が生じる。Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が１．５モル倍以上の場合、ネロリドール（ＩＩ）は気化せず、一方、反応系中に存在するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）量が十分となり、その結果、副反応を抑制でき、純度が著しく向上し、収率も向上するものと考えられる。
【００２１】
一方、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件下では、徐々に加水分解を受けたり、それ自身で重合する。しかしながら、ネロリドールに対して３モル倍以下のＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）を用いると、ほとんどのＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）がネロリドール（ＩＩ）と反応して得られる中間体との平衡反応に用いられるため、その加水分解物や重合物の生成は著しく低減できるものと考えられる。
【００２２】
【化４】
0005501519.tif 000005
【００２３】
前記式中、Ｒは、アルキル基である。
【００２４】
以下、本発明において用いられる各成分、工程等について説明する。
【００２５】
〔ネロリドール〕
本発明に用いられるネロリドール（ＩＩ）は、３，７，１１−トリメチル−１，６，１０−ドデカトリエン−３−オールである。このネロリドールは、Peruviolとも呼ばれる。本発明に用いられるネロリドールは、カブルバ油から抽出する方法や、リナロールからゲラニルアセトンを経て合成する方法で得ることができる。また、香料として、ＢＡＳＦ社からＭｅｌａｌｅｕｃｏｌとして市販されているもの等をネロリドールとして用いることができる。
【００２６】
【化５】
0005501519.tif 000006
【００２７】
ネロリドール（ＩＩ）には幾何異性体及び光学異性体が存在するが、本発明においては、いずれの異性体及びその混合物も好適に用いることができる。
【００２８】
〔Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール〕
本発明に用いられるＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドとジメチル硫酸を原料として合成する方法で得ることができる。または、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）は、市販されているものをそのまま用いてもよい。
【００２９】
【化６】
0005501519.tif 000007
【００３０】
前記式中、Ｒは、アルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、反応性及び高収率でＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを得る観点から、より好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基又はエチル基であり、より更に好ましくはメチル基である。Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールが好ましい。
【００３１】
〔Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）の製造方法〕
本発明のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）の製造方法は、ネロリドール（ＩＩ）とＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）とをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を製造する方法であって、ネロリドール（ＩＩ）に対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）のモル比が１．５〜３である。
【００３２】
【化７】
0005501519.tif 000008
【００３３】
前記式中、Ｒは、アルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
【００３４】
ネロリドール（ＩＩ）に対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）のモル比は、原料（Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ））の回収率が高く、かつ、目的のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を高純度かつ高収率で得る観点から、１．５〜３である。また、ネロリドール（ＩＩ）に対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）のモル比は、目的のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を高純度かつ高収率で得る観点から、１．７〜３が好ましく、２〜３がより好ましく、２〜２．５が更に好ましい。
【００３５】
また、原料の回収率を高める観点から、ネロリドール（ＩＩ）に対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）のモル比は、１．７〜３が好ましく、２〜３がより好ましく、２〜２．５が更に好ましい。
【００３６】
また、反応せず、回収もされなかったＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールは、加水分解によって分解して、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドになる。Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド、特にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドはアミン様の臭気を有しており、生成物のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に残留することで、最終生成物である香料に異臭を付与したり、それを除去するための精製による負荷の増大や収量の低下が生じるため、分解物の残留量は少ない方がよい。
【００３７】
Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールの分解物の残留量を低減する観点から、ネロリドール（ＩＩ）に対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）のモル比は、１．５〜２．５が好ましく、１．５〜２がより好ましく、１．７５〜２が更に好ましい。
【００３８】
（反応条件）
本発明は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件下で行う。Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件とは、大気圧すなわち１０１ｋＰａの圧力条件でＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）の沸点以上という条件である。Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件は、反応性の観点から、好ましくは１００℃以上である。また、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件は、精留塔を用いた場合に、副生成物として得られるアルコールと原料であるＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）とを効率よく分離する観点から、より好ましくは１００〜２００℃、更に好ましくは１００〜１５０℃である。
【００３９】
本発明は、大気圧、大気圧よりわずかに高い圧力、または大気圧よりわずかに低い圧力で行うこともできる。
【００４０】
（有機溶媒）
本発明は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件下で反応させる際、有機溶媒を含んでも含まないでも反応させてもよい。
【００４１】
有機溶媒としては、原料や生成物の溶解性及び反応に影響を与えない観点から、炭化水素類が好ましく、反応温度を良好な範囲に保つ観点から、トルエン及びキシレンが好ましく、キシレンがより好ましい。
【００４２】
有機溶媒の使用量としては、生成物の純度及び収率を向上させる観点から、ネロリドール（ＩＩ）に対して、１０００質量％未満であることが好ましく、１００質量％未満であることがより好ましく、有機溶媒を含まないことが更に好ましい。
【００４３】
（精留）
本発明において、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件で反応を行う際に、精留塔を用いて、副生成物として得られるアルコールと原料であるＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）とを分離しながら、反応を行うことが好ましい。
【００４４】
すなわち、精留塔を用いることによって、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）が還流する条件を維持しつつ、副生成物として得られるアルコールを効率よく系外に除去することにより、本発明の効果を更に良好にするものである。
【００４５】
用いる精留塔の段数は、分離能の観点からは多いほど好ましく、３段以上が好ましく、５段以上がより好ましい。また、反応効率と設備負荷の観点からは少ないほど好ましく、４０段以下が好ましく、３０段以下がより好ましく、１０段以下が更に好ましい。以上の観点から、用いる精留塔の段数は、好ましくは３段以上、より好ましくは３段〜４０段、さらに好ましくは５段〜３０段である。
【００４６】
還流比は、反応を速やかに進行させ、得られるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）の純度を高める観点から、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、９以上が更に好ましく、１０以上が更に好ましい。本発明において、還流比とは、還流によって冷却器から系内に戻る液体量と系外に除去された液体量の比である。
【００４７】
また、本発明における還流比は、反応効率及び生成物の収率、純度、原料の回収率及び分解物を抑制する観点からは低いほど好ましく、４０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２５以下が更に好ましく、２０以下が更に好ましく、１５以下が更に好ましい。これらを総合すると、本発明における還流比は、３〜４０が好ましく、５〜３０がより好ましく、８〜２５が更に好ましく、９〜２０が更に好ましく、１０〜１５が更に好ましい。
【００４８】
〔（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法〕
本発明で得られた高純度のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を用いることによって、効率的かつ高品質の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フラン（ＶＩ）、すなわち（±）−アンブロキサンを得ることができる。
【００４９】
Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を用いる（±）−アンブロキサン（ＶＩ）の製造方法としては、前記文献に記載の方法が挙げられるが、以下の方法によることが好ましい。
【００５０】
すなわち、下記工程１〜４を有することが好ましい。
工程１：ネロリドール（ＩＩ）とＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）とをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール(ＩＩＩ)が還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を製造する工程であって、ネロリドール(ＩＩ)に対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール(ＩＩＩ)のモル比が１．５〜３である工程；
工程２：工程１で得られたＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を、酸性剤の存在下で環化し、さらに加水分解してスクラレオライド(ＩＶ)を得る工程；
工程３：工程２で得られたスクラレオライド(ＩＶ)を還元してアンブロキシジオール（Ｖ）を得る工程；および
工程４：工程３で得られたアンブロキシジオール（Ｖ）を脱水環化して（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フラン（すなわち（±）−アンブロキサン）(ＶＩ)を得る工程。
【００５１】
【化８】
0005501519.tif 000009
【００５２】
前記式中、Ｒは、アルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
【００５３】
（工程１）
工程１は前記のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）の製造方法と同様であり、好適な態様及び範囲も同じである。
【００５４】
（工程２）
工程２は、工程１で得られたＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を、酸性剤の存在下で環化し、さらに加水分解してスクラレオライド(ＩＶ)を得る工程である。
【００５５】
【化９】
0005501519.tif 000010
【００５６】
本工程では、まず、酸性剤と溶媒の混合液にＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を滴下して環化反応を行い、環状エナミン誘導体を得る。
【００５７】
環化反応に用いる酸性剤としては、硫酸もしくはメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、クロロスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の硫酸と同等以上の酸強度を有するブレンステッド酸、及び金属塩化物や三フッ化ホウ素エーテル錯体等のルイス酸を挙げることができる。スクラレオライド(ＩＶ)のジアステレオ選択性の観点及び安価かつ取り扱い容易な観点から、前記酸性剤としては、硫酸、メタンスルホン酸、クロロスルホン酸、四塩化スズ、四塩化チタンが好ましい。
【００５８】
酸性剤は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して０．１〜１０モル倍用いることが好ましい。原料を完全に転化させる観点から、前記酸性剤は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して２モル倍以上用いるのがより好ましく、また、製造コスト及び後処理の負荷の観点からＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して７モル倍以下用いるのが好ましい。
【００５９】
環化反応は、原料の重合による収率低下を抑制する観点から、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して１〜１００質量倍の溶媒を用いることが好ましい。使用できる溶媒としては、酸性剤存在下で不活性なものであれば特に制限されず、例えば炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ニトロ炭化水素類、エーテル類等が挙げられる。回収操作の観点からは、低沸点で非水溶性の溶媒が好ましく、安価であることからジクロロメタン、クロロホルム、トルエン及びキシレン等がより好ましい。
【００６０】
Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）は、これらの溶媒の溶液もしくはＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）自体を滴下することが好ましく、生産性の観点から、溶媒を用いずにＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）自体を滴下することがより好ましい。
【００６１】
環化反応は−７０〜１００℃の範囲内で実施できるが、工業化する際の設備負荷の観点から−２０℃以上で実施するのが好ましい。また、重合などの副反応を抑制する観点から、環化反応は５０℃以下で行うのが好ましく、（±）−スクラレオライドを高選択的に得る観点から環化反応は１０℃以下で行うのがより好ましい。
【００６２】
Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）の滴下終了後に水を添加し、中間体である環状エナミン誘導体の消失を確認するまで、酸性条件下のまま０℃から溶媒沸点の範囲内で反応混合物を撹拌することが好ましい。
【００６３】
加水分解終了後に反応混合物中の酸性剤を中和して、有機溶媒による抽出及び溶媒除去の操作を行うことで、スクラレオライド（ＩＶ）が得られる。
【００６４】
（工程３）
工程３は、工程２で得られたスクラレオライド（ＩＶ）を還元してアンブロキシジオール（Ｖ）を得る工程である。
【００６５】
【化１０】
0005501519.tif 000011
【００６６】
本工程の還元反応は、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤の共存下で還元することが好ましい。
【００６７】
（工程４）
工程４は、工程３で得られたアンブロキシジオール（Ｖ）を脱水環化して（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フラン（すなわち（±）−アンブロキサン）（ＶＩ）を得る工程である。
【００６８】
【化１１】
0005501519.tif 000012
【００６９】
脱水環化には、オキシ塩化リン等の脱水剤を用いることが好ましい。
【００７０】
以上の工程を行うことによって、効率的に高品質な（±）−アンブロキサン（ＶＩ）を得ることができる。
【００７１】
上述した実施形態に関し、本発明はさらに以下のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法および（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法を開示する。
【００７２】
＜１＞  ネロリドールとＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールとをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを製造する方法であって、
ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモル比が１．５〜３であるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００７３】
＜２＞  Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールは、以下の式（ＩＩＩ）で表される＜１＞に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００７４】
【化１２】
0005501519.tif 000013
【００７５】
前記式中、Ｒは、アルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基又はエチル基であり、より更に好ましくはメチル基である。
【００７６】
＜３＞  ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモル比は、好ましくは１．７〜３、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは２〜２．５である＜１＞または＜２＞に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００７７】
＜４＞  有機溶媒を含まないか、有機溶媒を含む場合には、ネロリドールに対して、１００質量％未満、好ましくは１００質量％未満の有機溶媒を含む条件で、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させる＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００７８】
＜５＞  前記有機溶媒が、炭化水素類であり、好ましくはトルエンまたはキシレンであり、より好ましくはキシレンである＜４＞に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００７９】
＜６＞  還流が、還流比が３以上の条件下で行われる還流における還流比が３以上、好ましくは５以上、より好ましくは８以上、さらに好ましくは９以上、さらに好ましくは１０以上、４０以下、好ましくは３０以下、より好ましくは２５以下、さらに好ましくは２０以下、さらに好ましくは１５以下の条件下で行われる＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００８０】
＜７＞  還流が、精留塔を用いて行われる＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００８１】
＜８＞  精留塔の段数が３段以上であり、好ましくは５段以上であり、４０段以下であり、３０段以下が好ましく、１０段以下がより好ましい、＜７＞に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００８２】
＜９＞  Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件が、大気圧すなわち１０１ｋＰａの圧力条件でＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ）の沸点以上であり、好ましくは１００℃以上である＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００８３】
＜１０＞  Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件が、１００〜２００℃であり、好ましくは１００〜１５０℃である＜７＞または＜８＞に記載のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドの製造方法。
【００８４】
＜１１＞  下記工程１〜４を有する、（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
工程１：ネロリドールとＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールとをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを製造する工程であって、ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモル比が１．５〜３である工程；
工程２：工程１で得られたＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを、酸性剤の存在下で環化し、さらに加水分解してスクラレオライドを得る工程；
工程３：工程２で得られたスクラレオライドを還元してアンブロキシジオールを得る工程；および
工程４：工程３で得られたアンブロキシジオールを脱水環化して（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランを得る工程。
【００８５】
＜１２＞  Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールは、以下の式（ＩＩＩ）で表される＜１１＞に記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【００８６】
【化１３】
0005501519.tif 000014
【００８７】
前記式中、Ｒは、アルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。
【００８８】
＜１３＞  前記酸性剤は、硫酸もしくはメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、クロロスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の硫酸と同等以上の酸強度を有するブレンステッド酸、及び金属塩化物や三フッ化ホウ素エーテル錯体等のルイス酸、好ましくは硫酸、メタンスルホン酸、クロロスルホン酸、四塩化スズまたは四塩化チタンである＜１１＞または＜１２＞に記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【００８９】
＜１４＞  前記酸性剤は、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して０．１〜１０モル倍、好ましくは２モル倍以上、好ましくは７モル倍以下用いる＜１１＞〜＜１３＞のいずれかに記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【００９０】
＜１５＞  工程２において、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して１〜１００質量倍の溶媒をさらに用いる＜１１＞〜＜１４＞のいずれかに記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【００９１】
＜１６＞  前記溶媒が、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ニトロ炭化水素類、またはエーテル類、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、トルエンまたはキシレンである＜１５＞に記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【００９２】
＜１７＞  工程２における環化反応が、−７０〜１００℃の範囲内で、好ましくは−２０℃以上で、好ましくは５０℃以下、より好ましくは１０℃以下で行われる＜１１＞〜＜１６＞のいずれかに記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【００９３】
＜１８＞  工程３における還元が、還元剤、好ましくは水素化リチウムアルミニウムの共存下で行われる＜１１＞〜＜１７＞のいずれかに記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【００９４】
＜１９＞  工程４における脱水環化が、脱水剤、好ましくはオキシ塩化リンを用いて行われる＜１１＞〜＜１７＞のいずれかに記載の（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法。
【実施例】
【００９５】
［収率、純度及び原料ＤＭＦ−ＤＭＡ回収率の定量］
収率、純度及び原料ＤＭＦ−ＤＭＡ回収率は、下記ＧＣ分析条件によるガスクロマトグラフィー（以下、ＧＣと称する）によって求め、原料に用いたネロリドールに対するモル％で表した。ただし、収率についてはＧＣ内標定量分析法を用い、Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミドの検量線を使用した。また、（±）−スクラレオライド（ＩＶ）、（±）−アンブロキシジオール（Ｖ）、（±）−アンブロキサン（ＶＩ）の定量分析には、それぞれ（±）−スクラレオライド（ＩＶ）、（±）−アンブロキシジオール（Ｖ）、（±）−アンブロキサン（ＶＩ）の検量線を用いた。
【００９６】
収率及び純度は、値が大きいほど良好である。
【００９７】
原料ＤＭＦ−ＤＭＡ回収率は、反応後のＮ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミドと回収されたＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールの合計モル量を反応前のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールのモル量で除した値である。
原料ＤＭＦ−ＤＭＡ回収率は、値が大きいほど良好である。
【００９８】
［原料ＤＭＦ−ＤＭＡ分解物量］
原料ＤＭＦ−ＤＭＡ分解物量（モル％。原料に用いたネロリドールに対して）は、仕込みＤＭＦ−ＤＭＡ量（モル％。原料に用いたネロリドールに対して）から、反応ＤＭＦ−ＤＭＡ量（モル％。原料に用いたネロリドールに対して）と回収ＤＭＦ−ＤＭＡ量（モル％。原料に用いたネロリドールに対して）を減じた差の値であり、値が小さいほど良好である。
【００９９】
（ＧＣ分析条件）
ＧＣ分析機器：Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ６８５０Ａ（商品名、アジレント・テクノロジー（株）製）
カラム：ＤＢ−ＷＡＸ（商品名、アジレント・テクノロジー（株）製、３０ｍ×２５０μｍ×０．２５μｍ）
昇温条件：オーブン８０℃→６℃／分→２２０℃（３２分間保持）（計５５分）
キャリアガス：ヘリウム
流量：２．０ｍｌ／分
注入口：２００℃
注入量：１μｍ（スプリット  １００：１）
検出器：ＦＩＤ  ２８０℃
内部標準：ｎ−テトラデカン
【０１００】
［実施例１］
以下のスキームに従い、ネロリドール（ＩＩ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）とを反応させ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）を得た。
【０１０１】
【化１４】
0005501519.tif 000015
【０１０２】
５段精留塔を備えた反応装置に、キシレン１２０．０ｇ（ネロリドールに対して９２３質量％）、ネロリドール（ＩＩ）１３．０ｇ（純度９８．６％、純分１２．８ｇ、５７．７ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）１４．６ｇ（純度９４．０％、純分１３．７ｇ、１１５．３ｍｍｏｌ、ネロリドールに対して２００モル％）を加え、常圧下１２０〜１３０℃に加熱した。還流比を１０とし、副生成物であるメタノールを留出させながら分離し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールを反応系に戻しながら５５時間撹拌した。
【０１０３】
減圧下でキシレン及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）を留出することで、Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）１５．５ｇ（純度８３．９％、純分１３．０ｇ、４７．０ｍｍｏｌ、収率８１．５％）を得た。メタノール及びキシレンと共に回収されたＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）純分は６．９ｇ（５８．１ｍｍｏｌ）であり、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）の回収率は８１．５％、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール分解物量は３７．０％であった。
【０１０４】
［実施例２〜４及び比較例１〜２］
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）の量（純分換算）を表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして、Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）を得た。得られたＮ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）の純度および収率ならびにＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）の回収率及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール分解物量を表１に示す。
【０１０５】
【表１】
0005501519.tif 000016
【０１０６】
［実施例５〜８及び比較例３〜４］
キシレンを用いず、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）の量（純分換算）を表２に示すように変更した以外は実施例１と同様にして、Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）を得た。得られたＮ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）の純度、収率及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）の回収率及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール分解物量を表２に示す。
【０１０７】
【表２】
0005501519.tif 000017
【０１０８】
表１及び表２より、比較例の製造方法に比べ、実施例の製造方法によれば、得られるＮ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）の純度が高く、収率が良好であり、かつＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）を高い回収率で回収できることがわかる。
【０１０９】
［実施例９］
キシレンを用いず、還流比を８に変更した以外は実施例５と同様にして、Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）を得た。得られたＮ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）の純度、収率及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ−１）の回収率及び分解物量を表３に示す。
【０１１０】
【表３】
0005501519.tif 000018
【０１１１】
［実施例１０］
［（±）−アンブロキサンの製造］
Ｎ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）を出発原料として、以下のスキームに従い、（±）−アンブロキサン（ＶＩ）を製造した。
【０１１２】
【化１５】
0005501519.tif 000019
【０１１３】
（工程Ａ）
【０１１４】
【化１６】
0005501519.tif 000020
【０１１５】
０℃に冷却した濃硫酸７３３．３ｇ（７．０ｋｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）に対して３．０モル倍）とジクロロメタン６．７ｋｇとの混合液へ、実施例１で得られたＮ，Ｎ−ジメチルホモファルネシル酸アミド（Ｉ−１）７７０．８ｇ（純度８３．９％、２．３ｋｍｏｌ）を１０質量％含有するジクロロメタン溶液を２時間かけて滴下した。その混合液へ水３．３ｋｇを加えた後に、２５℃で５０時間撹拌した。得られた混合液の水層を水酸化ナトリウム水溶液で中和後、有機層を分離し、さらに水層をジクロロメタン３．３ｋｇで２度抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、溶媒留去して橙色固体６９４ｇを得た。分析の結果、この固体には（±）−スクラレオライド（ＩＶ）のジアステレオマー混合物が計３４５ｇ（収率６０％、（±）−スクラレオライドのジアステレオ選択性は４１％）含まれていた。
【０１１６】
（工程Ｂ）
【０１１７】
【化１７】
0005501519.tif 000021
【０１１８】
０℃に冷却した無水ジエチルエーテル２．６ｋｇに水素化リチウムアルミニウム７３．３ｇ（１．９ｍｏｌ）を分散させた懸濁液へ、無水ジエチルエーテル２．６ｋｇに工程Ａで得られた（±）−スクラレオライド（ＩＶ）のジアステレオマー混合物２３８．３ｇ（０．９ｍｏｌ）を含む固体４７９ｇを溶解させた溶液を１５分かけて滴下した。滴下終了後、さらに１時間還流下で混合物を撹拌した。室温まで冷却した後に前記混合物へ１０質量％水酸化ナトリウム水溶液３．９ｋｇを滴下し、分離した水層をジエチルエーテル２．６ｋｇで２度抽出した。合わせた有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄後、乾燥し、溶媒を留去して薄黄色半固体７３８ｇを得た。分析の結果、この半固体には（±）−アンブロキシジオール（Ｖ）のジアステレオマー混合物が計２１９ｇ（収率９０％）含まれていた。
【０１１９】
（工程Ｃ）
【０１２０】
【化１８】
0005501519.tif 000022
【０１２１】
０℃に冷却した無水ピリジン６．０ｋｇに（±）−アンブロキシジオール（Ｖ）のジアステレオマー混合物２１０．０ｇ（０．８ｍｏｌ）を含む半固体７１１ｇを溶解させた溶液へ、オキシ塩化リン１５６．０ｇ（１．０ｍｏｌ）を５分かけて滴下し、次いで２時間撹拌した。続いて０℃で１０質量％水酸化ナトリウム水溶液３．０ｋｇを混合物へ滴下し、分離した水層をジエチルエーテル３．０ｋｇで２度抽出した。合わせた有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄後、乾燥し、溶媒を留去して油状の粗（±）−アンブロキサン(ＶＩ)のジアステレオマー混合物６５１ｇを得た。分析の結果、この粗（±）−アンブロキサン(ＶＩ)のジアステレオマー混合物には（±）−アンブロキサン(ＶＩ)が計１２６ｇ（収率６５％）含まれており、（±）−アンブロキサン(ＶＩ)のジアステレオ純度は４４％であった。このようにして得られた（±）−アンブロキサンは、強いアンバー様の香気を有していた。
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明の製造方法により得られるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）は、香気特性及び残香性に優れる重要なアンバー様香料素材の（±）−アンブロキサン（ＶＩ）の前駆体として好適に使用できる。また、本発明の方法によれば、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）の収率および純度ならびに原料（Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタール（ＩＩＩ））の回収率も高いことから、前記のような高純度のＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミド（Ｉ）を効率的に製造することができる。
【要約】
【課題】香料として有用な（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの前駆体であるＮ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを、原料の回収率が高く、高純度かつ高収率で得られる製造方法、及び（±）−３ａ，６，６，９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２，１−ｂ］フランの製造方法を提供する。
【解決手段】ネロリドールとＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールとをＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールが還流する条件下で反応させて、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホモファルネシル酸アミドを製造する方法であって、ネロリドールに対するＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジメチルアセタールのモル比が１．５〜３である。
【選択図】なし