(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定幅の塗布液吐出口が開口したノズルを洗浄する装置であって、この装置はノズルの幅よりも長く上面が開放された洗浄部が形成され、この洗浄部はノズルを載置した状態で実質的な密閉空間を形成するとともに洗浄部のノズルの幅方向の一端にはガス供給管が開口し、このガス供給管近傍に洗浄液供給管を臨ませ、他端には排気管が開口していることを特徴とする塗布ノズルの洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布ノズルの洗浄装置において、塗布ノズル先端を長期間浸漬しておくための洗浄液の溜り部が前記洗浄部と併設されていることを特徴とする塗布ノズルの洗浄装置。
【請求項３】
請求項１に記載の塗布ノズルの洗浄装置において、前記洗浄部の底部に洗浄液を溜めて洗浄液溜まり部を形成し、洗浄が終了したノズルを長時間待機させておくことができることを特徴とする塗布ノズルの洗浄装置。
【請求項４】
請求項１に記載の塗布ノズルの洗浄装置を用いた洗浄方法において、ノズル洗浄の終了後、ガスのみを供給することによってノズルの乾燥を行なうことを特徴とする塗布ノズルの洗浄方法。
【請求項５】
請求項１に記載の塗布ノズルの洗浄装置を用いた洗浄方法において、ガス供給管を閉じ、洗浄液のみを供給することを特徴とする塗布ノズルの洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウェーハやガラス基板等の板状被処理物表面に塗布液を一定幅で塗布するための塗布ノズルを洗浄する装置と洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来にあって、半導体ウェーハやガラス基板等の板状被処理物表面にレジスト液等を塗布するには、スピンナー上に載置した被処理物の中心部にノズルから塗布液を滴下し、スピンナーによって被処理物を回転させることで発生する遠心力で塗布液を外方に向けて拡散せしめるようにしたが、この方法では、被処理物表面に残る塗布液が僅かであり、殆どが飛散してしまうので無駄がある。
そこで、スピンナー塗布の代わりにノズル自体に所定幅の塗布液吐出口を開口せしめ、被処理物に対しノズルを相対的に移動することで被処理物表面に所定幅で塗布液を塗布することが考えられている。
【０００３】
上述した所定幅の塗布液吐出口を有するノズルを用いれば、塗布液の無駄をなくし且つ効率的に塗布を行えるのであるが、幅広となる分、ノズル先端の周辺部に塗布液の回り込み量も多く、これが乾燥すると大量の異物発生の原因となる。このため、塗布後の洗浄によってノズル先端及びその周辺部の塗布液を除去しなければならない。
【０００４】
洗浄方法としては、洗浄液が付着したローラにてノズル先端の異物を除去する方法が考えられていたが、ローラの表面に十分な量の洗浄液を供給することができず、ノズル先端部に付着した塗布液を短時間のうちに除去することができず、更に、ローラによる洗浄では、異物を溶解した洗浄液が再び洗浄液溜まりに戻ってしまい、洗浄液が汚れてしまう。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本出願人は先にノズルの幅と略等しい幅で洗浄部が形成された洗浄装置を提案した。この洗浄装置は、ノズル側面と対向する洗浄部側面に洗浄液供給源につながるスリットおよび吸引装置につながる排気孔を開口せしめている。
この洗浄装置によれば、常に新鮮な洗浄液をノズル先端に供給できるとともに効率よく且つ均一に洗浄することができるのであるが、ノズル先端とスリットとの間隔をノズルの幅方向全域に亘って一定にするには、洗浄部の製作上の寸法誤差を極めて小さくしなければならず、製作に手間がかかる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明に係る所定幅の塗布液吐出口が開口したノズルを洗浄する装置は、ノズルの幅よりも長い洗浄部を備え、この洗浄部はノズルを載置した状態で実質的な密閉空間を形成するとともに洗浄部のノズルの幅方向の一端にはガス供給管が開口し、このガス供給管近傍に洗浄液供給管を臨ませ、他端には排気管が開口した構成とした。
【０００７】
また前記洗浄部とは別に塗布ノズル先端を長期間浸漬しておくための洗浄液の溜り部を形成してもよい。このようにすることで、ノズル先端に付着した塗布液が乾燥して固着することを未然に防ぐことができる。
【０００８】
また、前記洗浄部の底部に洗浄液の溜まり部を形成してもよい。このようにすることで、洗浄部の実質的な密閉空間は洗浄液により飽和状態となり、ノズル先端に付着した塗布液が乾燥して固着することもない。
【０００９】
また、本発明に係る塗布ノズルの洗浄方法は、前記した洗浄装置を用いた洗浄方法であって、ノズル洗浄の終了後、ガスのみを供給することによってノズルの乾燥を行なうようにした。また、他の塗布ノズルの洗浄方法は、ガス供給管を閉じ、洗浄液のみを供給するようにした。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明にかかる洗浄装置の平面図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った拡大断面図、図３はプリディスペンスステージの断面図、図４は別実施例を示す図２と同様の断面図である。
【００１１】
洗浄装置１は洗浄部２と洗浄液の溜り部３を併設してなり、洗浄部２はノズルＮの幅よりも長く上面が開放され、左右にはノズルの受け板４，４をネジ５で取り付けている。この受け板４，４は交換可能とされ、ノズルＮの先端部の突出長に合わせて受け板４の厚みを変えることで、常にノズルＮの先端部と洗浄部２の底面との間隔がほぼ一定になるようにしている。
【００１２】
また、受け板４にはノズルＮの側面と接触するテーパ面４ａが形成され、ノズルＮを受け板４，４上に載置した状態で、ノズルＮと洗浄部２底面との間に実質的な密閉空間が形成される。
【００１３】
更に、洗浄部２のノズルの幅方向を基準とした一端にはガス供給管６が接続され、このガス供給管６の近傍、好ましくは途中に洗浄液供給管９が接続され、また洗浄部２の他端には真空ポンプ等につながる排気管７が接続している。
一方、洗浄液の溜り部３にも前記受け板４と同様の目的で受け板８，８が交換可能に取り付けられている。
【００１４】
以上において、ノズルＮを洗浄するには、ノズルＮを受け板４，４上に載置した状態で、排気管７を介して洗浄部２とノズルＮとで形成する密閉空間から排気するとともにガス供給管６からガスを密閉空間内に供給する。すると、密閉空間内は排気管７から空気が引かれているため、一端から供給されたガスは他端の排気管７に向かって流れる。その時、洗浄液供給管９より洗浄液が供給される。そして、その間に洗浄液はノズル表面に接触し、ノズル表面に付着している塗布液等を溶解し洗い流す。
【００１５】
また、ガスの供給を止め、洗浄液のみを供給しても同様に洗浄することができる。このあと、洗浄液供給管９を閉じ、ガスのみを供給することで、洗浄後のノズル先端に付着している洗浄液を飛散させノズル先端を乾燥させることができる。
【００１６】
更に、上記の洗浄後のノズルＮを使用する場合には、図３に示すように、プリディスペンスステージ１０にノズルＮをセットし、吸引孔１１を介して余分な塗布液をノズルＮから吸引してから、塗布を行なう。このようにすることで、ボタ落ちを防止することができる。
【００１７】
図４は別実施例を示す図２と同様の断面図であり、この実施例にあっては、洗浄部２の底部を洗浄液を溜めて洗浄液溜まり部３’とし、洗浄が終了したノズルを長時間待機させておくことができるようにしている。
【００１８】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明によれば、所定幅の塗布液吐出口が開口したノズルを洗浄する装置として、ノズルの幅よりも長い洗浄部を備え、ノズルを洗浄部に載置した状態で実質的な密閉空間を形成するようにし、更に洗浄部のノズルの幅方向の一端にガス供給管を開口せしめ、このガス供給管近傍に洗浄液供給管を臨ませ、他端に排気管を開口せしめたので、一端から供給された洗浄液が他端から排出されるまでの間にノズル表面に付着した塗布液に洗浄液が接触して洗い流すので、効率よくノズル表面を洗浄することができる。
【００１９】
特にノズルに対向する洗浄部の側面に洗浄液の供給スリットを形成し、このスリットから供給した洗浄液を洗浄部の下方へ排出する構成と比較した場合には、洗浄液に無駄がなく、コスト的に有利である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる洗浄装置の平面図
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った拡大断面図
【図３】プリディスペンスステージの断面図
【図４】別実施例の図２と同様の断面図
【符号の説明】
１…洗浄装置、２…洗浄部、３，３’…洗浄液の溜り部、４，８…受け板、５…ネジ、６…ガス供給管、７…排気管、９…洗浄液供給管、Ｎ…ノズル。
【図１】
0003645686.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
0003645686.tif 000005