(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の端縁を基板支持部材で支持して搬送する基板搬送装置において、前記基板支持部材は、前記基板の対向する２辺の端縁にそれぞれ当接して基板を自重による撓みを持たせた状態で支持するように構成され、前記基板の表面における両端縁に沿うように前記基板支持部材にそれぞれ設けられ、前記自重により撓んだ基板の最上部である両端縁にそれぞれ向けて処理液を供給する処理液供給部材を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
基板処理手段により基板に所定処理を施す基板処理装置において、基板を前記基板処理手段上に搬送する請求項１記載の基板搬送装置を有したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
基板回転手段により基板を回転させて乾燥処理する基板処理装置において、基板を前記基板回転手段上に搬送する請求項１記載の基板搬送装置を有したことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばガラス基板やプリント基板などの基板類の表面に処理液を供給しながらその基板類を搬送する基板搬送装置に関し、また、この基板搬送装置を用いた基板乾燥装置などの基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この基板処理装置としての基板乾燥装置は、例えば角形の基板の表面に所定の洗浄液を供給して基板を洗浄する浄処理部などから乾燥処理部に角形基板を搬送する場合、この基板の表面が搬送途中で乾燥すると、薬液成分がその表面に残ってシミとなり後工程の処理に悪影響を与えたり、パーティクルが発生する要因となるため、基板の表面に純水などのリンス液を供給しながら基板搬送装置によって搬送していた。このように、洗浄処理後の基板の表面を乾かすことなく基板を搬送していた。
【０００３】
この基板搬送装置としては、例えば図８に示すように、角形の基板７１の対向する２辺の各外周縁近くを一対の基板支持部材７２で支持すると共に、これらの２辺と直交する各外周縁近くを一対の基板支持部材７３で支持しながら搬送していた。このとき、基板搬送装置は、基板支持部材７２，７３で支持された基板７１の中央上部に配設された純水ノズル（図示せず）により、基板７１の表面に純水を供給して、搬送される基板７１の表面から純水がはじかれて部分的に乾燥することを防止していた。
【０００４】
また、基板搬送装置としては、例えば図９に示すように、基板７１の互いに対向する両角部を一対の基板支持部材７４で挾み込んで支持しながら搬送していた。この場合にも、各基板支持部材７４で両角部が支持された基板７１の中央上部に純水ノズル（図示せず）が配設されている。
【０００５】
さらに、基板搬送装置としては、例えば図１０に示すように、基板７１の対向する２辺の両外周縁下面側をその全長に亘って基板支持部材７５で載置しながら搬送していた。この場合にも、各基板支持部材７５で支持された基板７１の中央上部に純水ノズル（図示せず）が配設されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年の基板の大型化や薄型化に伴って基板の自重による撓みが生じ易くなっており、これに加えて、部分乾燥防止のために基板表面に純水などの処理液を供給しながら搬送する基板搬送装置では、基板表面に供給される処理液の液溜まりによる重量で、益々、基板の撓みが増長されてしまう虞があるという問題があった。例えば、図８の基板端部の６点支持の場合には基板７１の中央部付近Ｌ１（基板支持部材７２の支持位置が比較的中央部に近い場合）または中央線部Ｌ２（基板支持部材７２の支持位置が比較的端部に近い場合）が、また、図９の基板端部の４点支持の場合には基板７１の中央対角線部Ｍが、さらに、図１０の基板裏面部の６点支持の場合には基板７１の中央線部Ｎが下方に撓むことになる。また、基板搬送中に純水を供給すると、基板搬送方向に加速度が働いて基板表面上の純水の分布に片寄りが生じ、これによっても基板に撓みが生じ易くなる。
【０００７】
このように、搬送される基板７１が撓んだり基板７１の撓みが不均一であったりすると、例えば図８の基板搬送装置を一例として説明すると、図１１および図１２に示すように、基板７１の中央上部の純水ノズル７６から基板７１の中央部に純水を供給しているため、矢印（図１２）で示すように純水が流れて、２点鎖線で示す、撓んだ基板７１の両端縁上部Ａなど、純水が供給されない部分が生じていた。このように、純水が基板の表面全体に均一に供給されず、基板７１の表面への純水の供給にムラが生じると、基板の表面が部分的に乾燥し、この乾燥した部分に前洗浄工程の処理液の成分などがその表面に残って、後で洗浄しても容易には取れないシミとなりこれが後工程の処理に悪影響を与えたり、パーティクルの原因になるという問題を有していた。この搬送される基板７１が疎水性基板であれば、このような乾燥ムラは顕著に生じることになる。
【０００８】
このような基板７１の撓みによるシミの発生を防止するためには、基板７１の裏面の中央側にも基板支持部材を複数個配設することが必要であるが、この場合、基板７１の裏面の中央側を基板支持部材によって汚染すると共に、基板支持部材の機構も複雑なものになってしまうという問題を有していた。また、上記シミ対策として純水ノズルの数を基板全表面上方に分散させて複数配設することも考えられるが、この場合には、純水の供給量が大幅に多くなってしまい、基板の撓みがさらに増加して基板が破損し易くなるという問題を有していた。
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するもので、簡単な構成で純水などの処理液の供給量も大幅に増加させることなく、基板の撓みによる破損を防止すると共に、基板の表面にシミが発生することを防止することができる基板搬送装置および基板処理装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板搬送装置は、基板の端縁を基板支持部材で支持して搬送する基板搬送装置において、前記基板支持部材は、前記基板の対向する２辺の端縁にそれぞれ当接して基板を自重による撓みを持たせた状態で支持するように構成され、前記基板の表面における両端縁に沿うように前記基板支持部材にそれぞれ設けられ、前記自重により撓んだ基板の最上部である両端縁にそれぞれ向けて処理液を供給する処理液供給部材を備えたことを特徴とするものである。
【００１１】
この構成により、基板の大形化や薄形化に伴って、基板を支持して搬送するに際して、基板の中央部付近は下方側に湾曲して反ることになるが、その反った基板の最上部である両端縁に向けて処理液供給部材からそれぞれ処理液を供給するので、処理液は、湾曲した底部である中央部付近に向けて流れることになって、基板表面全面に均一な処理液の供給が可能となる。したがって、従来のように処理液供給ノズルの数を基板全表面上方に多数分散させて配設する必要もなく、簡単な構成で大幅に増加させることなく、基板の撓みによる破損が防止されると共に、部分的に処理液が供給されにくい両端縁に向けて処理液が供給されており、部分的に処理液が供給されにくいことによる従来のような部分乾燥によるシミの発生やシミに伴ったパーティクルの発生も防止可能となる。
【００１２】
また、本発明の基板処理装置は、基板処理手段により基板に所定処理を施す基板処理装置において、基板を基板処理手段上に搬送する上述の基板搬送装置を有することを特徴とするものである。また、この基板処理装置が基板乾燥装置の場合、基板を基板回転手段上に搬送する上述の基板搬送装置を有することを特徴とするものである。
【００１３】
この構成により、部分的に処理液が供給されにくい基板の両端縁の表面を乾燥させることなく基板を搬送する基板搬送装置を、基板乾燥装置などの基板処理装置に容易に適応させることが可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照して説明する。
【００１５】
図１は本発明の一実施形態における基板搬送装置を含む基板乾燥装置の背面図であり、図２は図１の基板乾燥装置のＢ１−Ｂ２断面図である。
【００１６】
図１および図２において、平行に配設された上下一対の案内レール１，１および、これらの間に配設されたロッドレスシリンダ２によって支持フレーム３が左右水平方向に往復移動可能に設けられている。この支持フレーム３には、左右水平方向に所定間隔置いて基板搬送用の支持体４，４がそれぞれ配設されている。これらの基板搬送用の支持体４，４はそれぞれ、上下方向に平行に配設された左右一対の第２の案内レール５，５および、これらの間に配設された昇降用のエアーシリンダ６によって昇降自在に構成されている。
【００１７】
また、洗浄処理部４１は角形の基板１１に洗浄液を供給して基板１１を洗浄する洗浄処理部である。回転処理部４２は表面に洗浄液および純水などの処理液が付着した基板１１を回転させて、基板１１を乾燥させる乾燥処理部である。基板受渡部４３は、基板１１をカセット（図示せず）に収納するインデクサロボット（図示せず）に基板１１を受け渡す。第１シャトル３０は洗浄処理部４１上に位置している。また、第１シャトル３１は回転処理部４２上に位置している。これらの第１シャトル３０，３１は同一のものであり、説明の便宜上、２つ描いている。さらに、第２シャトル３２は、基板１１を乾燥処理部から基板受渡部４３に基板１１を搬送するものであり、第１シャトル３０，３１から処理液供給部材２０とガスノズル２４の構成を除いたものと略同じである。
【００１８】
図３は図１の基板乾燥装置の平面図であり、図４は図３の要部Ｃの拡大図であり、図５は図２の基板搬送装置の要部Ｄの拡大図であり、図６は図５の要部Ｆの側面図である。
【００１９】
図３〜図６において、これらの基板搬送用の支持体４，４にはそれぞれ、対向して設けられた一対の第１の支持アーム７，７と、これらの支持アーム７，７の一方端部がそれぞれ、第１の連結アーム８，８をそれぞれ介してそれぞれ連結された各第１のエアーシリンダ９，９とがそれぞれ配設されており、これらの個別の第１のエアーシリンダ９，９に駆動によって一対の第１の支持アーム７，７が基板搬送方向Ｅに沿った互いに反対方向に移動して接近または退避自在に構成されている。これらの一対の第１の支持アーム７，７にはそれぞれ、下方に延びる状態で一対の第１の基板支持部材１０がそれぞれ配設されていると共に、これらの一対の第１の基板支持部材１０の下端部にはそれぞれ角形の基板１１の端縁を裏面から受ける支持鍔１２がそれぞれ配設されている。これらの第１の基板支持部材１０，１０は、基板１１の対向する２辺を両側から挾み込むと共に、これらの２辺の端縁を裏面から各支持鍔１２で受けるように支持する構成である。
【００２０】
また、基板搬送用の支持体４，４にはそれぞれ、平行に設けられ長さの異なる一組みの第２の支持アーム１３，１４と、これらの第２の支持アーム１３，１４の一方端部がそれぞれ、第２の連結アーム１５，１６をそれぞれ介して連結された各第２のエアーシリンダ１７，１７とが配設されており、この第２のエアーシリンダ１７，１７の駆動によって一組みの第２の支持アーム１３，１４の各他方端部が基板搬送方向Ｅと直交する互いに反対方向に移動して接近または退避自在に構成されている。これらの一組みの第２の支持アーム１３，１４の他方端部にはそれぞれ、下方に延びる状態で第２の基板支持部材１８が配設されていると共に、この基板支持部材１８の下端部にはそれぞれ、基板支持部材１０，１０で支持した基板１１の端縁と直交する２辺の端縁中央付近を裏面から受ける支持鍔１９がそれぞれ配設されている。これらの第２の基板支持部材１８，１８は基板１１の対向する２辺を挾み込むと共に、これらの２辺の側端縁中央付近を裏面から各支持鍔１９で受けるように支持する構成である。このとき、これらの第２の基板支持部材１８，１８の支持鍔１９，１９で支持する端縁の基板支持面と、第１の基板支持部材１０，１０の支持鍔１２，１２で支持する側端縁の基板支持面とは同一の高さ位置となっている。
【００２１】
さらに、第１の基板支持部材１０，１０側にはそれぞれ、処理液供給部材２０，２０がそれぞれ、第１の基板支持部材１０，１０で支持する基板１１の端縁に沿ってそれぞれ配設されている。これらの処理液供給部材２０，２０はそれぞれ、パイプなどの筒状体で構成され、その両端部が封止され、処理液が吐出される吐出口（例えばパイプに穴が開けられてノズルが取り付けられている）が長手方向の所定の間隔毎に、例えば吐出口の直径が１ｍｍで３０ｍｍ間隔毎に設けるように構成してもよい。また、基板支持の位置などによっては基板１１が撓んで不均一に傾斜するなどして供給される処理液に片寄った流れが発生するが、基板の表面にできるだけ均一に処理液が流れるように、吐出口の間隔や口径を異ならせて設けるように構成してもよい。これらの各吐出口は基板１１の端縁部側に向けて処理液が吐出するように開口しており、処理液供給部材２０，２０の先端部でそれぞれ連結された処理液供給管２０ａを介して基板１１の両端縁部に沿ってそれぞれ満遍なく処理液を供給するようになっている。さらに、これらの処理液供給部材２０，２０はそれぞれ、第１の基板支持部材１０，１０に固定金具などで支持されて固定されており、第１の基板支持部材１０，１０が移動可能なように処理液供給管２０ａに余裕を持たせて処理液供給部材２０，２０とそれぞれ連結している。
【００２２】
さらに、これらの基板支持部材１０，１８によって支持されて搬送される基板１１の搬送経路の所定位置には、図３および図４に示すような基板保持手段２３が設けられており、第１シャトル３０によって基板１１を基板保持手段２３上で載置して固定し、基板１１を回転させると共に、基板１１の中央部に第１シャトル３０のガスノズル２４から窒素ガスを噴出させつつ、基板１１上の処理液を遠心力で振り切って乾燥させる構成である。このとき、エアーシリンダ２５を駆動させることによりガスノズル２４の噴出口を基板１１側に対向させるようにガスノズル２４を回動させる構成となっている。
【００２３】
この基板保持手段２３の基板固定機構は、十字状に構成された基板載置アーム２６が配設され、この基板載置アーム２６の各先端部に基板１１の角部裏面側をそれぞれ支持する基板支持ピン２７が配設され、かつ、基板１１の４角部をそれぞれ２個のピンで位置決めする位置決めピン２８が配設されている。また、基板載置アーム２６の中央部裏側には回転軸が設けられており、この回転軸が図２に示す電動モータ２９の駆動軸に連結されている。
【００２４】
以上のロッドレスシリンダ２、昇降用のシリンダ６、第１のエアーシリンダ９、第２のエアーシリンダ１７、第１の基板支持部材１０および第２の基板支持部材１８などに処理液供給部材２０を加えて基板搬送装置が構成されており、洗浄処理部４１などから乾燥処理部に基板１１を、その表面に純水などの処理液を供給しつつ搬送するものである。
【００２５】
上記構成により、まず、洗浄処理部４１で洗浄処理を済ませた洗浄液が付着した基板１１を、対向する２辺それぞれの２個所ずつを第１の基板支持部材１０の支持鍔１２で支持すると共に、それらの２辺に直交する２辺それぞれを支持する第２の基板支持部材１８の支持鍔１９で支持することで、図７（ａ）に示すような自重による所定の撓みを基板１１に持たせた状態で、基板全体として４方から挾み込むように６点で支持しながら搬送する。このとき同時に、図７（ｂ）に示すように処理液供給部材２０，２０の吐出口から処理液を基板１１の両端縁に向かってそれぞれ満遍なく吐出させる。
【００２６】
次に、基板保持手段２３上まで基板１１を搬送した後に昇降用のエアーシリンダ６のロッドを短縮させて基板１１を下降させ、支持ピン２７上に基板１１を載置させる。その後、各エアーシリンダ９，１７をそれぞれ駆動させて基板支持部材１０，１８を基板１１の各端縁から退避させて、昇降用のエアーシリンダ６を伸長させて所定の位置まで上昇させる。さらに、シリンダ２５を駆動させることにより、ガスノズル２４の噴出口を基板１１側に対向させるように直立させると共に、基板１１を回転させながらガスノズル２４の噴出口から基板１１の表面側に窒素ガスを噴出させることで基板１１の乾燥がなされることになっている。このような乾燥処理後においては、前述の場合とは逆の動作によって、基板保持手段２３から基板１１を取り出して基板受渡部４３に搬送することになる。
【００２７】
したがって、第１の基板支持部材１０，１０などで支持され自重によって撓んだ基板１１の最上部である両端縁に向って処理液供給部材２０，２０からそれぞれ処理液を供給するため、処理液は、湾曲した底部である中央部付近に向かって流れることになって、基板表面全面に均一に処理液を供給することができる。したがって、従来のように処理液供給ノズルの数を基板全表面上方に分散させて複数配設する必要もなく、処理液の供給量をより低減することができると共に、両側端縁上など、部分的に処理液が供給されにくいことによる従来のような部分乾燥によるシミの発生やこのシミに起因するパーティクルの発生も防止することができる。また、基板１１の端縁の裏面で基板１１を支持しているので、基板１１の裏面の中央部付近の汚染がない。
【００２８】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、基板の中央部を自重によって下方に撓ませ、その基板の表面における両端縁に沿ってそれぞれ処理液供給部材が配設され、この処理液供給部材から基板の両端縁に向ってそれぞれ処理液を供給するので、基板表面上の両端縁部から中央部への均一な処理液の流れが生じると共に、従来のように処理液供給部材を基板全面に多数分散させて設ける必要がなく簡単な構成で、処理液の供給量を抑えつつ、基板破損の防止と共に基板表面全面に亘って均一に処理液をかけることができる。これによって、基板表面にシミを発生させることを防止することができると共に、このシミに起因するパーティクルの発生を抑えることができる。
【００２９】
また、基板の端縁の裏面で基板を支持しているので、基板の裏面の中央部付近の汚染がない。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施形態における基板搬送装置を含む基板乾燥装置の正面図である。
【図２】  図１の基板乾燥装置のＢ１−Ｂ２断面図である。
【図３】  図１の基板乾燥装置の平面図である。
【図４】  図３の要部Ｃの拡大図である。
【図５】  図２の要部Ｄの拡大図である。
【図６】  図５の基板乾燥装置の要部Ｆの側面図である。
【図７】  （ａ）は本発明の一実施形態における基板搬送装置の要部を模式的に示す断面図、（ｂ）は（ａ）の基板搬送装置における一部斜視図である。
【図８】  従来の基板の基板支持部材による６点支持状態を示す斜視図である。
【図９】  従来の基板の基板支持部材による４点支持状態を示す斜視図である。
【図１０】  従来の基板の他の基板支持部材による６点支持状態を示す斜視図である。
【図１１】  図８の基板支持部材による支持状態を模式的に示す断面図である。
【図１２】  図１１の基板支持部材による支持状態を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
２    ロッドレスシリンダ
６    昇降用のシリンダ
７    第１の支持アーム
８    第１の連結アーム
９    第１のエアーシリンダ
１０    第１の基板支持部材
１１    基板
１２，１９    支持鍔
１３，１４    第２の支持アーム
１５，１６    第２の連結アーム
１７    第２のエアーシリンダ
１８    第２の基板支持部材
２０    処理液供給部材
２０ａ    処理液供給管
【図１】
0003725618.tif 000002
【図２】
0003725618.tif 000003
【図３】
0003725618.tif 000004
【図４】
0003725618.tif 000005
【図５】
0003725618.tif 000006
【図６】
0003725618.tif 000007
【図７】
0003725618.tif 000008
【図８】
0003725618.tif 000009
【図９】
0003725618.tif 000010
【図１０】
0003725618.tif 000011
【図１１】
0003725618.tif 000012
【図１２】
0003725618.tif 000013