(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれが電極を備えた一対の基板と、
前記一対の基板を貼り合せたシール材と、
前記一対の基板のうち一方の基板上に設けられた第１端子と、
前記一対の基板のうち他方の基板上に設けられていて、前記他方の基板上の前記電極に接続している第２端子と、
前記第１端子と前記第２端子とを電気的に接続するための導通材と、
前記一対の基板のうち一方の基板上の有効表示領域外に形成され、前記第１端子に接続している配線と、
前記一対の基板のうち他方の基板上の有効表示領域に形成された半透過反射膜及びカラーフィルタ膜と、
前記他方の基板上の前記配線と対応する領域の少なくとも一部に設けられた、前記半透過反射膜と前記カラーフィルタ膜を積層してなる遮光膜とを有する
ことを特徴とする液晶パネル。
【請求項２】
それぞれが電極を備えた一対の基板と、
前記一対の基板を貼り合せたシール材と、
前記一対の基板のうち一方の基板上に設けられた第１端子と、
前記一対の基板のうち他方の基板上に設けられていて、前記他方の基板上の前記電極に接続している第２端子と、
前記第１端子と前記第２端子とを電気的に接続するための導通材と、
前記一対の基板のうち一方の基板上の有効表示領域外に形成され、前記第１端子に接続している配線と、
前記一対の基板のうち他方の基板上の有効表示領域に形成されたカラーフィルタ膜と、
前記他方の基板上の前記配線と対応する領域の少なくとも一部に設けられた、前記カラーフィルタ膜からなり、且つ第１着色層と前記第１着色層上に配置された第２着色層とからなる遮光膜とを有し、
前記第１着色層および前記第２着色層のそれぞれは赤、緑および青から選択された複数の色又はシアン、マゼンタおよびイエローから選択された複数の色を有し、前記第１着色層と前記第２着色層は同じ色が上下に積層されないように各色が配列されてなる
ことを特徴とする液晶パネル。
【請求項３】
前記液晶パネルは、有効表示領域に形成された半透過反射膜を有し、
前記遮光膜は前記カラーにフィルタ膜の下層に重ねて形成された前記半透過反射膜を有することを特徴とする請求項２に記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記第１着色層および前記第２着色層の色は、有効表示領域内のドットピッチと同じピッチで異なることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記一方の基板上に電子部品を備え、前記配線は前記電子部品に接続していることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項６】
前記電子部品はＩＣチップであることを特徴とする請求項５に記載の液晶パネル。
【請求項７】
前記液晶パネルは、前記一対の基板を貼り合わせるシール材を有し、
前記遮光膜の少なくとも一部は前記シール材に重なっていることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の前記液晶パネルを備えた液晶装置。
【請求項９】
請求項８に記載の前記液晶装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶によって光を変調して文字、数字、図形等といった像を表示する液晶装置に関する。また、本発明は、その液晶装置を用いて構成される電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯情報端末機等といった各種の電子機器の表示部として液晶装置が広く用いられている。この液晶装置では、一般に、それぞれが電極を備えた一対の基板を電極面が互いに対向するように一定の間隙、いわゆるセルギャップを保って貼り合わされ、さらにそのセルギャップ内に液晶が封入される。
この液晶装置としては、スイッチング素子によって液晶を駆動するアクティブマトリクス方式の液晶装置や、スイッチング素子を用いないで液晶を駆動する単純マトリクス方式の液晶装置が知られている。また、アクティブマトリクス方式の液晶装置には、スイッチング素子としてＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型のアクティブ素子を用いるものや、ＴＦＤ（Thin Film Diode）等といった２端子型のアクティブ素子を用いたものがある。
【０００３】
従来の液晶装置として、例えば、図１０に示す構造のものが知られている。この液晶装置５１は、シール材５２によって貼り合わされた一対の基板５３ａ及び５３ｂを有し、これらの基板の間に形成される空間内に、すなわちセルギャップ内に、図１１に示すように、液晶が封入されて液晶層Ｌが形成される。セルギャップは、第１基板５３ａ又は第２基板５３ｂのいずれかの表面に分散されたスペーサ６７によって一定の寸法に維持される。
【０００４】
図１０において、第１基板５３ａの液晶Ｌ側の表面には、複数の直線状のライン配線５６が互いに平行に並べられてストライプ状に配列され、各ライン配線５６にＴＦＤ素子５７を介して画素電極５４が形成されている。ライン配線５６がストライプ状に形成されていることにより、画素電極５４はドットマトリクス状に配列されている。画素電極５４が形成された第１基板５３ａの表面には、図１１に示すように、配向膜５８ａが形成される。
【０００５】
なお、図１０では、画素電極５４及びＴＦＤ素子５７の構造をわかり易く示すために、それらを実際よりも大きく模式的に示しており、さらに、隣り合うそれら同士の間隔も実際よりも大きく間を開けて模式的に示している。
【０００６】
第１基板５３ａは第２基板５３ｂの外側へ張り出す基板張出し部５９ａを有し、その基板張出し部５９ａの表面に液晶駆動用ＩＣ６１ａがＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）６５によって実装されている。すなわち、ＣＯＧ（Chip On Glass）方式の実装が成されている。そして、各ライン配線５６がシール材５２の外側へ延び出て、それらの先端が液晶駆動用ＩＣ６１ａの端子すなわちバンプ（図示せず）に接続する。
【０００７】
第２基板５３ｂの液晶Ｌ側の表面には、複数の直線状の電極６２が互いに平行に並べられてストライプ状に配列されている。これらの電極６２は、第１基板５３ａ上のライン配線５６に対してほぼ直角に形成され、さらに各画素電極５４に対向する位置関係で形成されている。
【０００８】
第２基板５３ｂは第１基板５３ａの外側へ張り出す基板張出し部５９ｂを有し、その基板張出し部５９ｂの表面に液晶駆動用ＩＣ６１ｂがＡＣＦ６５によって実装されている。すなわち、ＣＯＧ（Chip On Glass）方式の実装が成されている。そして、各電極６２がシール材５２の外側へ延び出て、それらの先端が液晶駆動用ＩＣ６１ｂの端子すなわちバンプ（図示せず）に接続する。
【０００９】
図１１に示すように，第２基板５３ｂの液晶Ｌ側の表面には半透過反射膜６３が形成され、さらにその上にカラーフィルタ膜６４が形成され、さらにその上にオーバーコート層６６が形成されている。上記の電極６２は、そのオーバーコート層６６の上に形成されており、それらの電極６２の上には配向膜５８ｂが形成されている。
【００１０】
第１基板５３ａの外側表面には位相差板６８ａが設けられ、さらにその上に偏光板６９ａが設けられる。また、第２基板５３ｂの外側表面には位相差板６８ｂが設けられ、さらにその上に偏光板６９ｂが設けられる。また、半透過反射板６３が設けられた第２基板５３ｂの外側表面に対向する位置にはバックライトとして作用する照明装置７１が配設される。
【００１１】
図１０において、画素電極５４と対向電極６２とが重なる点が１つのドットを構成し、この１つのドットに対応して図１１のカラーフィルタ膜６４の１つの色絵素、例えばＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色絵素が配置される。そして、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色ドットが１つのユニットとなって１つの画素が形成される。
【００１２】
図１０において、液晶駆動用ＩＣ６１ａ及び６１ｂの一方は対応する画素電極５４又は対向電極６２に走査信号を供給し、それらの液晶駆動用ＩＣ６１ａ及び６１ｂの他方は対応する画素電極５４又は対向電極６２にデータ信号を供給し、これにより、ドットマトリクス状に配列された複数の画素内の液晶の配向が制御される。
【００１３】
図１１において、液晶装置５１の周りが明るい場合には、第１基板５３ａ側から入射した外部光が半透過反射膜６３で反射して液晶層Ｌへ供給される。また、液晶装置５１の周囲が暗い場合には、照明装置７１が発光し、その光が半透過反射板６３を透過して液晶装置Ｌへ供給される。こうして液晶層Ｌへ供給された光は画素毎に配向制御される液晶によって画素毎に変調され、これにより、第１基板５３ａの外側に像が表示される。
【００１４】
図１０において、マトリクス状に配列された複数の画素電極５４によって区画される領域が駆動領域、すなわち有効表示領域Ｖであり、文字、数字等といった像はこの有効表示領域Ｖ内に形成される。また、有効表示領域Ｖの外側にはそれに連続してダミー画素領域Ｗ１が形成され、さらにそのダミー画素領域Ｗ１の外側にはそれに連続して金属膜領域Ｗ２が形成されている。
【００１５】
ダミー画素領域Ｗ１には、形式的には画素電極５４と同じ形状のパターンが形成される。しかしながら、ここに形成されるパターンはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった透明電極材料ではなくて、電極に相当する部分に非透明な金属膜が被されている。これにより、このダミー画素領域Ｗ１は遮光領域となっている。
【００１６】
また、金属膜領域Ｗ２は、例えば、ＴＦＤ素子５７を構成する金属、例えばＴａ（タンタル）によって形成されており、やはり、遮光領域となっている。このように、有効表示領域Ｖとシール材５２との間には、遮光領域Ｗ１及びＷ２が形成されている。この遮光領域Ｗ１及びＷ２は、有効表示領域Ｖの周囲を暗く、すなわち光透過率を下げることにより、有効表示領域Ｖのコントラストを高め、これにより、表示品質を高めるものである。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図１０に示した従来の液晶装置５１に関しては、液晶駆動用ＩＣ６１ａを実装する基板張出し部５９ａ及び液晶駆動用ＩＣ６１ｂを実装する基板張出し部５９ｂがそれぞれ異なった方向へ張り出しているので、液晶装置５１の外形形状が有効表示領域Ｖに関して左右非対称になり、それ故、液晶装置５１の取り扱いが不便になるという問題があった。
【００１８】
これを解消するため，本出願人は、図１２に示すように、第１基板５３ａだけに基板張出し部５９を設け、第１基板側５３ａ側の液晶駆動用ＩＣ６１ａ及び第２基板５３ｂ側の液晶駆動用ＩＣ６１ｂの両方をその基板張り出し部５９に共通に実装した構造を提案した。この液晶装置８１では、液晶駆動用ＩＣ６１ａ及び６１ｂの両方が１つの基板張り出し部５９に集約的に実装されるので、液晶装置８１の外形形状が有効表示領域Ｖに関して左右対称になり、それ故、取り扱いが非常に楽になる。
【００１９】
この液晶装置８１では、シール材５２の内部に導通材７２が分散して混入される。そして、一端が第２基板５３ｂ側の液晶駆動用ＩＣ６１ｂの端子、すなわちバンプ（図示せず）に接続し、他端がシール材５２の内部に進入して導通材７２に接触する配線７３を第１基板５３ａの液晶側表面にライン配線５６と同時に形成する。一方、第２基板５３ｂに形成する対向電極６２の先端をシール材５２の内部にまで延長して導通材７２に接触させる。以上により、第１基板５３ａ側の配線７３と第２基板５３ｂ側の対向電極６２とが導通材７２を介して互いに導電接続される。
【００２０】
図１２に示した構造の液晶装置８１においても、有効表示領域Ｖの周りには遮光領域を設けて表示品質を向上することが望まれる。図１０に示した従来の液晶装置５１に関しては有効表示領域Ｖの周りに遮光領域を設けるために、ＴＦＤ素子５４を形成した第１基板５３ａの表面であってその有効表示領域Ｖの周りにダミー画素領域Ｗ１及び金属膜領域Ｗ２を形成した。このことに鑑み、図１２の液晶装置８１に関しても第１基板５３ａの有効表示領域Ｖの周りにダミー画素領域Ｗ１及び金属膜領域Ｗ２を形成すれば、有効表示領域Ｖの周りに遮光領域を設けることができて表示品質を向上することができるように思われる。
【００２１】
しかしながら、図１２の構造の液晶装置８１では、ＴＦＤ素子５７や画素電極５４が形成される第１基板５３ａの表面であって有効表示領域Ｖとシール材５２との間に配線７３が形成されるので、この領域にはダミー画素領域Ｗ１及び金属膜領域Ｗ２を形成することができず、従って、この領域に遮光領域を設けることができないという新たな問題が発生した。
【００２２】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、導通材と配線とが形成される構造の液晶装置において有効表示領域の周りに支障なく遮光領域を形成できる構造を提供することを目的とする。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明に係る液晶パネルは、それぞれが電極を備えた一対の基板と、前記一対の基板を貼り合せたシール材と、前記一対の基板のうち一方の基板上に設けられた第１端子と、前記一対の基板のうち他方の基板上に設けられていて、前記他方の基板上の前記電極に接続している第２端子と、前記第１端子と前記第２端子とを電気的に接続するための導通材と、前記一対の基板のうち一方の基板上の有効表示領域外に形成され、前記第１端子に接続している配線と、前記一対の基板のうち他方の基板上の有効表示領域に形成された半透過反射膜及びカラーフィルタ膜と、前記他方の基板上の前記配線と対応する領域の少なくとも一部に設けられた、前記半透過反射膜と前記カラーフィルタ膜を積層してなる遮光膜とを有することを特徴とする。
【００２４】
この液晶パネルによれば、遮光膜が、配線が形成された基板に形成されるのではなくて、その配線に対向する基板側に形成される。従って、一方の基板の表面に配線を形成しなければならない構造の液晶パネルにおいても何等の支障も無く有効表示領域の周りに遮光領域を設けることができる。
【００２５】
なお、図１２に示した構造の液晶装置８１では配線７３が有効表示領域Ｖとシール材５２との間の領域に設けられていた。この構造の液晶装置に対して本発明が適用できるのはもちろんであるが、配線７３が有効表示領域Ｖとシール材５２との間の領域以外の領域、例えばシール材５２の外側に設けられるような構造の液晶装置に対しても本発明を適用できる。
【００２６】
本発明に係る液晶パネルにおいて、前記遮光膜は半透過反射膜によって形成できる。この液晶パネルによれば、半透過反射膜の形成と同時に遮光膜を形成することができるので、遮光膜を簡単、迅速且つ正確に形成することができる。
【００２７】
また、本発明に係る液晶パネルにおいて、前記遮光膜はカラーフィルタ膜によって形成できる。この液晶パネルによれば、カラーフィルタ膜の形成と同時に遮光膜を形成することができるので、遮光膜を簡単、迅速且つ正確に形成することができる。
【００２８】
また、本発明に係る液晶パネルにおいて、前記遮光膜は半透過反射膜と前記半透過反射膜上に配置されたカラーフィルタ膜とを有する構成とすることができる。
【００２９】
この構成の液晶パネルによれば、液晶パネルが透過光型として用いられる場合には半透過反射膜の延在部分によって透過光を十分に遮光できる。一方、液晶パネルが反射型として用いられる場合にはカラーフィルタ膜の延在部分によって反射光を十分に遮光できる。これにより、半透過反射型でカラー表示可能な液晶パネルに関して有効表示領域の周りに十分な遮光領域を形成することができる。
【００３０】
また、本発明に係る液晶パネルにおいて、それぞれが電極を備えた一対の基板と、前記一対の基板を貼り合せたシール材と、前記一対の基板のうち一方の基板上に設けられた第１端子と、前記一対の基板のうち他方の基板上に設けられていて、前記他方の基板上の前記電極に接続している第２端子と、前記第１端子と前記第２端子とを電気的に接続するための導通材と、前記一対の基板のうち一方の基板上の有効表示領域外に形成され、前記第１端子に接続している配線と、前記一対の基板のうち他方の基板上の有効表示領域に形成されたカラーフィルタ膜と、前記他方の基板上の前記配線と対応する領域の少なくとも一部に設けられた、前記カラーフィルタ膜からなり、且つ第１着色層と前記第１着色層上に配置された第２着色層とからなる遮光膜とを有し、前記第１着色層および前記第２着色層のそれぞれは赤、緑および青から選択された複数の色又はシアン、マゼンタおよびイエローから選択された複数の色を有し、前記第１着色層と前記第２着色層は同じ色が上下に積層されないように各色が配列されてなるように構成できる。
【００３１】
このような着色層の構造は、例えば図５に示すような、赤、緑、青の３色から選択した２色の積層色の平面的な配列によって構成することができる。ここに示す構成の液晶パネルによれば、単に、単一色のべた塗り状態で遮光膜を形成する場合に比べて、一様な色合いの遮光膜を得ることができる。
【００３２】
また、本発明に係る液晶パネルにおいて、前記第１着色層および前記第２着色層の色は、有効表示領域内のドットピッチと同じピッチで異なるように構成できる。こうすれば、遮光膜の色を平面内で、より一層一様にすることができる。
【００３３】
また、本発明に係る液晶パネルにおいては、前記一方の基板上に電子部品を備え、前記配線は前記電子部品に接続しているように構成できる。この液晶パネルは、電子部品を基板上に直接に実装する構造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネルである。ここで用いる電子部品としては、ＩＣチップ、チップコンデンサ、チップコイル、チップ抵抗その他種々のチップ部品が考えられる。
【００３４】
また、本発明に係る液晶パネルにおいて、前記電子部品はＩＣチップとすることができる。電子部品としては、ＩＣチップ以外に、チップコンデンサ、チップコイル、チップ抵抗その他種々のチップ部品が考えられるが、液晶パネルの分野では駆動用ＩＣが基板上に直接に実装されることが多い。このような液晶パネルの場合には、ＩＣチップに多数個の出力バンプが設けられる場合があるから、それらに接続される配線の数も多くなる傾向にある。従って、このような構造の液晶パネルに本発明を適用すれば、配線の数が多くなるにも拘らず、有効表示領域の周りに十分な遮光領域を形成できる。
【００４７】
また、本発明に係る液晶パネルは、前記一対の基板を貼り合わせるシール材を有し、前記遮光膜の少なくとも一部は前記シール材に重なるように構成できる。
【００４８】
遮光膜がシール材の手前位置で終わっていると、遮光膜の先端とシール材との間に隙間が形成され、その隙間から光が漏れ出て有効表示領域内の像のコントラストを低下させて表示品質を低下させるおそれがある。これに対し、本発明のように、遮光膜をシール材に重なるように構成すれば、遮光膜とシール材との間に隙間が形成されることがなくなるので、光漏れによる表示品質の低下を確実に回避できる。
【００４９】
次に、本発明に係る液晶装置は、以上に説明した構成の液晶パネルを備えることを特徴とする。
【００５０】
次に、本発明に係る電子機器は、上記液晶装置を備えることを特徴とする。この構成の電子機器によれば、液晶パネル又は液晶装置の有効表示領域の周りに遮光領域を設けることによって鮮明な像を視認できるようになる。
【００５１】
【発明の実施の形態】
（第１実施形態）
以下、本発明をＴＦＤ素子をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式でＣＯＧ方式の液晶装置に適用した場合を例に挙げて説明する。図１は、その液晶装置の一実施形態を示している。ここに示す液晶装置１は、図面の手前側に配置された第１基板２ａと、図面の奥側に配置された第２基板２ｂとをシール材３によって互いに接合、すなわち貼り合わせることによって形成される。
【００５２】
シール材３、第１基板２ａ及び第２基板２ｂによって囲まれる領域は高さが一定の間隙、いわゆるセルギャップを構成する。さらに、シール材３の一部には液晶注入用開口３ａが形成される。上記のセルギャップ内には、上記液晶注入用開口３ａを通して液晶が注入され、その注入の完了後、液晶注入用開口３ａが樹脂等によって封止される。図２は、図１におけるＩＩ−ＩＩ線に従って液晶装置１の断面構造を示している。図２に示すように、第２基板２ｂの裏側（図２に示す構造の下側）には、発光源７及び導光体８を有する照明装置１０がバックライトとして設けられている。
【００５３】
図１において、第１基板２ａは第２基板２ｂの外側へ張り出す基板張出し部２ｃを有し、その基板張出し部２ｃ上に液晶駆動用ＩＣ４ａ及び４ｂが導電接着要素、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）６によって実装されている。液晶駆動用ＩＣ４ａと液晶駆動用ＩＣ４ｂとは特性が異なるものであり、このように特性の異なる２種類の液晶駆動用ＩＣを用いるのは、第１基板２ａ側と第２基板２ｂ側とで、換言すれば、走査線駆動系と信号線駆動系との間で使用する電圧値が異なっているため、それらを１つのＩＣチップで賄うことができないからである。
【００５４】
図２において、第１基板２ａは基材９ａを有し、その基材９ａの内側表面、すなわち液晶Ｌ側の表面に複数の画素電極１４ａが形成される。また、図１に示すように、第１基板２ａの内側表面には、直線状の複数のライン配線３２が互いに平行にストライプ状に形成され、それらのライン配線３２に導通するようにＴＦＤ素子３３が形成され、それらのＴＦＤ素子３３を介して複数の画素電極１４ａがドットマトリクス状に形成される。また、画素電極１４ａ、ＴＦＤ素子３３及びライン配線３２の上に、図２に示すように、配向膜１６ａが形成される。また、基材９ａの外側表面には位相差板１７ａが形成され、さらにその上に偏光板１８ａが形成される。
【００５５】
図１及び図２において矢印ＩＶで示す１個のＴＦＤ素子の近傍の構造を示すと、例えば図４の通りである。図４に示すのは、いわゆるBack-to-Back（バック・ツー・バック）構造のＴＦＤ素子を用いたものである。図４において、ライン配線３２は、例えば、ＴａＷ（タンタル・タングステン）によって形成された第１層３２ａと、例えば陽極酸化膜であるＴａ２Ｏ５（酸化タンタル）によって形成された第２層３２ｂと、例えばＣｒによって形成された第３層３２ｃとから成る３層構造に形成されている。
【００５６】
また、ＴＦＤ素子３３は、第１ＴＦＤ部３３ａと第２ＴＦＤ部３３ｂとを直列に接続することによって構成されている。第１ＴＦＤ部３３ａ及び第２ＴＦＤ部３３ｂは、ＴａＷによって形成された第１金属層３６と、陽極酸化によって形成されたＴａ２Ｏ５の絶縁層３７と、ライン配線３２の第３層３２ｃと同一層であるＣｒの第２金属層３８との３層構造によって構成されている。
【００５７】
第１ＴＦＤ部３３ａは、ライン配線３２側からの電流が第２金属層３８→絶縁層３７→第１金属層３６の順で流れるような積層構造に構成される。他方、第２ＴＦＤ部３３ｂは、ライン配線３２側からの電流が第１金属層３６→絶縁層３７→第２金属層３８の順で流れるような積層構造に構成される。このように一対のＴＦＤ部３３ａ及び３３ｂを電気的に逆向きに直列接続してバック・ツー・バック構造のＴＦＤ素子を構成することにより、ＴＦＤ素子のスイッチング特性の安定化が達成されている。画素電極１４ａは、第２ＴＦＤ部３３ｂの第２金属層３８に導通するように、例えばＩＴＯによって形成される。
【００５８】
図２において、第２基板２ｂは基材９ｂを有し、その基材９ｂの内側表面、すなわち液晶Ｌ側の表面には半透過反射膜１１が形成され、その上にカラーフィルタ膜１２が形成され、その上にオーバーコート膜１３が形成され、その上に第２電極１４ｂが形成され、さらにその上に配向膜１６ｂが形成される。また、基材９ｂの外側表面には、位相差板１７ｂが形成され、さらにその上に偏光板１８ｂが形成される。
【００５９】
第２電極１４ｂは、図１に示すように、多数の直線状の電極をライン配線３２と交差するように互いに平行に並べることによりストライプ状に形成されている。なお、図１では、電極パターンをわかり易く示すために、第２電極１４ｂの間隔を大きく広げて模式的に描いてあるが、実際には、第２電極１４ｂの間隔は画素電極１４ａのドットピッチに合せて非常に狭く形成されている。
【００６０】
画素電極１４ａと第２電極１４ｂとの交差点はドットマトリクス状に配列しており、これらの交差点の個々がそれぞれ１つのドットを構成し、図２のカラーフィルタ膜１２の個々の色パターンがその１ドットに対応する。カラーフィルタ膜１２は、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色が１つのユニットとなって１画素を構成する。つまり、３ドットが１つのユニットになって１つの画素を構成している。
【００６１】
基材９ａ，９ｂは、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、半透過反射膜１１は光反射性の材料、例えば、Ａｌ（アルミニウム）によって形成される。但し、光反射性材料は半透過及び反射の機能を達成するために、その厚さが光を透過可能な程度に薄く形成したり、あるいは、半透過反射膜１１の適所に光を通過させる開口を適宜の面積割合で形成したりする。
【００６２】
カラーフィルタ膜１２は、周知の色絵素形成手法、例えば、インクジェット法、顔料分散法等を用いて顔料を、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等といった適宜のパターンに塗布することによって形成される。また、オーバーコート膜１３は、適宜の透光性樹脂材料を、例えばスピンコート法、ロールコート法等によって均一に塗布することによって形成される。
【００６３】
電極１４ａ及び１４ｂは、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を周知の膜付け法、例えば、スパッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、さらにフォトエッチング法によって希望のパターンに形成される。配向膜１６ａ，１６ｂは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成する方法や、オフセット印刷法等によって形成される。
【００６４】
図１において、第１基板２ａの基板張出し部２ｃ上には、ライン配線３２からそのまま延びる配線１９ａと、シール材の中に分散された導通材２１(図２参照）を介して第２基板２ｂ上の第２電極１４ｂに接続される配線１９ｂとが形成される。また、基板張出し部２ｃの辺端部には端子２２が形成される。なお、配線１９ａと第２電極１４ｂとが導通材２１によって接続されるそれぞれの部分は、端子として機能する。
【００６５】
図２では、液晶装置１の全体をわかり易く示すために、導通材２１を断面楕円状に模式化して示してあるが、実際は、導通材２１は球状又は円筒状に形成され、その大きさはシール材３の線幅に対して非常に小さいものである。よって、導通材２１はシール材３の線幅方向に複数個存在することができる。
【００６６】
本実施形態に係る液晶装置１は以上のように構成されているので、この液晶装置１は反射型表示及び透過型表示の２通りの表示方法を選択的に実施できる。反射型表示では、図２において第１基板２ａ側の外部から取り込んだ光を半透過反射膜１１によって反射させて液晶Ｌの層へ供給する。この状態で、液晶Ｌに印加する電圧を画素毎に制御して液晶の配向を画素毎に制御することにより、液晶Ｌの層へ供給された光を画素毎に変調し、その変調した光を偏光板１８ａへ供給する。これにより、第１基板２ａの外側へ文字等といった像を表示する。
【００６７】
他方、液晶装置１によって透過型表示を行う場合には、照明装置１０の発光源７を発光させる。発光源７からの光は光入射面８ａを通して導光体８の内部へ導入され、その導光体８の内部を平面的に広がって伝播しながら光出射面８ｂを通して外部へ出射される。これにより、面状の光が液晶Ｌの層へ供給される。この光を液晶Ｌによって変調することによって表示を行うことは反射型表示の場合と同じである。
【００６８】
反射型表示の場合でも、あるいは、透過型表示の場合でも、文字等といった像は、ドットマトリクス状に配列された画素電極１４ａとこれに対向する対向電極１４ｂとが重なった部分に形成される画素、すなわちピクセルによって区画される領域である、有効表示領域Ｖすなわち駆動領域Ｖの中に形成される。
【００６９】
本実施形態では、図２に示すように及び図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従った断面図である図３に示すように、ＴＦＤ素子３３が形成される基板である第１基板２ａに対向する第２基板２ｂの内側表面上であって、有効表示領域Ｖに連続する外側領域に、半透過反射膜１１から延びる延在部１１ａとカラーフィルタ膜１２から延びる延在部１２ａとの積層構造によって形成された遮光膜２３を設けてある。
【００７０】
この遮光膜２３は、本実施形態の場合、図２及び図３に示すように、有効表示領域Ｖから連続的に延び出てシール材３の下を通過してシール材３の外側へ広がって、第２基板２ｂの表面のほぼ全域を覆っている。これにより、図１において、有効表示領域Ｖの外側であってシール材３の内側の周辺領域Ｗは、遮光膜２３によって完全に覆われている。
【００７１】
有効表示領域Ｖの周辺領域Ｗに設けた遮光膜２３は、液晶装置１が透過型表示を行う場合には、半透過反射膜１１からの延在部１１ａの働きにより、照明装置１０からの光が有効表示領域Ｖの周辺領域Ｗから外部へ漏れ出ることを防止する。また、遮光膜２３は、液晶装置１が反射型表示を行う場合には、カラーフィルタ膜１２からの延在部１２ａの働きにより、外部光が有効表示領域Ｖの周辺領域Ｗにおいて反射することを防止する。以上により、透過型表示及び反射型表示のいずれの場合にも、有効表示領域Ｖの周辺領域Ｗにおいて外部へ光が漏れ出ることを防止し、有効表示領域Ｖ内に形成される像のコントラストを高く維持し、これにより表示品質を高く維持することができる。
【００７２】
本実施形態の液晶装置１では、図１及び図３に示すように、第１基板２ａの内側表面のうち有効表示領域Ｖの周辺領域Ｗに相当する部分には配線１９ｂが形成されているので、図１０及び図１１に示した従来の液晶装置の場合のように、ＴＦＤ素子３３及び画素電極１４ａを形成した第１基板２ａの周辺領域Ｗにダミー画素や金属膜によって遮光膜２３を形成することができない。しかしながら、本実施形態では、図３に示す通り、周辺領域Ｗに相当する第２基板２ｂの表面上に遮光膜２３を形成するようにしたので、配線１９ｂの存在に拘り無く、何の支障も無く遮光膜２３を設けることが可能になった。
【００７３】
有効表示領域Ｖ内にある半透過反射膜１１は、例えば、膜厚を薄くしたり、適所に穴を開けたりして半透過と半反射の両方の機能を達成するように構成されている。これに対し、遮光膜２３として作用する延在部１１ａは半透過反射膜１１と同じ半透過機能及び半反射機能の両方を奏するように形成しても良いし、あるいは、半透過の機能は奏しないように形成しても良い。
【００７４】
しかしながら、延在部１１ａの主たる機能は、照明装置１０からの光を有効表示領域Ｖの周辺において遮断することであるので、延在部１１ａは半透過の機能を奏しないように形成するほうが望ましいかもしれない。このように半透過の機能を奏さないようにするためには、例えば、有効表示領域Ｖの周辺領域Ｗにおいて半透過反射膜１１の膜厚を厚くしたり、あるいは、有効表示領域Ｖの周辺領域Ｗにおいては透光用の穴を開けないというように処理したりする。
【００７５】
また、有効表示領域Ｖ内にあるカラーフィルタ膜１２は、例えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色要素や、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）の３色要素を平面的に、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等のような所定の繰り返しパターンに配列することによって形成される。
【００７６】
これに対し、遮光膜２３として作用する延在部１２ａは、必ずしも３色要素の組み合わせパターンとしなければならないことはなく、例えば、図５に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂ又はＣ，Ｍ，Ｙのうちから組み合わせを変えて２色を選択してそれらを積層して単位色を形成し、それら異なる色の単位色を交互に平面的に（すなわち、図５の紙面垂直方向に）配列することにより形成することができる。
【００７７】
なお、有効表示領域Ｖ内にあるカラーフィルタ膜１２は各色絵素を画素、すなわちピクセルに対応して配列させて形成されるが、遮光膜２３として作用する延在部１２ａに関しては、各色絵素の大きさは必ずしも画素に対応した大きさとする必要は無い。画素よりも大きく形成することもできる。しかしながら、延在部１２ａにおける光反射抑制能力を効果的に発揮させるためには、延在部１２ａの色合いを平面的に均一にすることが望ましく、そのためには、例えば、延在部１２ａを構成する単位色の大きさを、カラーフィルタ膜１２の画素のドットピッチと同じドットピッチで配列させることが望ましい。
【００７８】
なお、図２及び図３に示した実施形態では、半透過反射膜１１の延在部１１ａとカラーフィルタ膜１２の延在部１２ａとの積層構造によって遮光膜２３を形成したが、機能的に許される場合には、半透過反射膜１１の延在部１１ａ又はカラーフィルタ膜１２の延在部１２ａのいずれか一方の単層膜によって遮光膜２３を形成することができる。
【００７９】
また、液晶装置１の製造工程が複雑になるかもしれないが、遮光膜２３を半透過反射膜１１やカラーフィルタ膜１２とは関係の無い他の材料によって形成することも可能である。
【００８０】
さらに、本実施形態では、図２及び図３に示した通り、遮光膜２３を形成する半透過反射膜１１の延在部１１ａ及びカラーフィルタ膜１２の延在部１２ａをシール材３の下を通過させて第２基板２ｂのほぼ前面を覆うように広く形成した。しかしながら、延在部１１ａ及び延在部１２ａの延在領域は、これに限定されるものではなく、例えば、図６に示すように、シール材３の内壁に接触又は近接する位置まで延ばしたり、あるいは、図７に示すように、シール材３の内部に入る位置まで延ばすこともできる。
【００８１】
（第２実施形態）
図８は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話機を示している。ここに示した携帯電話機４０は、アンテナ４１、スピーカ４２、キースイッチ４３、マイクロホン４４等といった各種構成要素を、外装ケース４６に格納することによって構成される。外装ケース４６の内部には、表示装置として作用する液晶装置５０及び制御回路基板４７が収納される。
【００８２】
液晶装置５０は図の上部面が表示面となっており、その表示面に対向する部分の外装ケース４６には、液晶装置５０を保護すると共に表示面の視界を確保するための透明なカバー４８が設けられる。液晶装置５０は、例えば図１に示す液晶装置１によって構成できる。
【００８３】
図８に示す携帯電話機４０では、キースイッチ４３及びマイクロホン４４を通して入力される信号や、アンテナ４１によって受信した受信データ等が制御回路基板４７の制御回路に入力される。そしてその制御回路は、入力した各種のデータに基づいて液晶装置５０の表示面内に数字、文字、図形等といった像を表示し、さらにアンテナ４１から送信データを送信する。
【００８４】
図９は、図８に示す携帯電話機、あるいはその他の電子機器に用いられる電気制御系の一実施形態を示している。ここに示した電気制御系は、表示情報出力源９０、表示情報処理回路９１、電源回路９２、タイミングジェネレータ９３、そして表示装置としての液晶装置９４を有する。また、液晶装置９４は液晶パネル９５及び駆動回路９６を有する。液晶装置９４は、例えば図１に示した液晶装置１を用いて構成できる。
【００８５】
表示情報出力源９０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ９３によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路９１に供給する。
【００８６】
表示情報処理回路９１は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路８６へ供給する。駆動回路９６は走査線駆動回路、データ線駆動回路、検査回路等を含んで構成される。また、電源回路９２は各構成要素に所定の電圧を供給する。
【００８７】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【００８８】
例えば、以上に説明した実施形態ではＴＦＤ素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型スイッチング素子をアクティブ素子として用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用でき、あるいは、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。
【００８９】
また、本発明に係る電子機器は、図８に示した携帯電話機に限られず、その他の任意の電子機器、例えば携帯情報端末機、デジタルカメラ等とすることもできる。
【００９０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る液晶パネル、液晶装置及び電子機器によれば、有効表示領域の周りに設けられる遮光膜が、配線が形成された基板に形成されるのではなくて、その配線に対向する基板側に形成されるので、一方の基板の表面に配線を形成しなければならない構造の液晶装置においても何等の支障も無く有効表示領域の周りに遮光領域を設けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図４】図１の矢印ＶＩで示すＴＦＤ素子を拡大して示す斜視図である。
【図５】図１の液晶装置で用いられる遮光膜の一実施形態の断面構造を模式的に示す図である。
【図６】本発明に係る液晶装置の他の実施形態を示す断面図である。
【図７】本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態を示す断面図である。
【図８】本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話機の一例を示す斜視図である。
【図９】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示すブロック図である。
【図１０】従来の液晶装置の一例を一部破断して示す平面図である。
【図１１】図１０のＸＩ−ＸＩ線に従って液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図１２】本発明に係る液晶装置に関連する液晶装置の一例を一部破断して示す平面図である。
【符号の説明】
１            液晶装置
２ａ，２ｂ    基板
２ｃ          基板張出し部
３            シール材
４ａ，４ｂ    液晶駆動用ＩＣ（電子部品）
９ａ，９ｂ    基材
１０            照明装置
１１            半透過反射膜
１１ａ          延在部（遮光膜）
１２            カラーフィルタ膜
１２ａ          延在部（遮光膜）
１３            オーバーコート膜
１４ａ          画素電極
１４ｂ          第２電極
１９ａ，１９ｂ  配線
２１            導通材
２３            遮光膜
３２            ライン配線
３３            ＴＦＤ素子
４０            携帯電話機（電子機器）
Ｌ            液晶装置
Ｖ            有効表示領域
Ｗ            周辺領域
Ｗ１          ダミー画素領域
Ｗ２          金属膜領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
0003642304.tif 000010
【図１０】
0003642304.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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