(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイの欠陥画素に、この欠陥画素よりも小さなスポットのレ−ザ光を照射してリペアするレ−ザリペア装置において、
上記液晶ディスプレイが保持されるワ−クステ−ジと、
このワ−クステ−ジをＸ、Ｙおよびθ方向に駆動する第１の駆動手段と、
上記液晶ディスプレイの欠陥画素を指示するための指示用光を出射する指示用光源と、
上記欠陥画素をリペアするための上記レ−ザ光を出力するレ−ザ装置と、
上記ワ−クステ−ジを駆動して上記指示用光のスポットに上記液晶デイスプレイの欠陥画素を合わせたときに、上記ワ−クステ−ジの移動量から上記欠陥画素の座標を算出する演算手段と、
上記欠陥画素をリペアするときの上記レ−ザ光のスタ−ト座標を設定するために上記演算手段によって算出された座標に基づいて位置決めされた上記欠陥画素を撮像する撮像手段と、
上記レ−ザ装置と上記撮像手段とをＸ、ＹおよびＺ方向に駆動する第２の駆動手段と、
上記第１の駆動手段あるいは上記第２の駆動手段を作動させ上記欠陥画素に対して上記レ−ザ光を上記撮像手段によって設定されたスタ−ト座標に基づいて所定のパタ−ンで走査させる駆動制御手段と
を具備したことを特徴とする液晶ディスプレイのレ−ザリペア装置。
【請求項２】
上記液晶ディスプレイの高温欠陥画素を検出するために、上記ワ−クステ−ジに保持された液晶ディスプレイを加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのレ−ザリペア装置。
【請求項３】
上記液晶ディスプレイの光欠陥画素を検出するために、上記ワ−クステ−ジに保持された液晶ディスプレイに検出光を照射する検出光源が設けられていることを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイのレ−ザリペア装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は液晶ディスプレイの画素欠陥をレ−ザ光によってリペアするレ−ザリペア装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アクティブマトリックス液晶ディスプレイは、マトリックス状に存在する画素電極の各々に対応するスイッチング素子が形成されており、このスイッチング素子により画素電極に電荷を充放電して液晶を駆動するものである。
【０００３】
上記構成において、画素を表示するために形成されるスイッチング素子と画素電極の数は数十万個であり、中には１００万個を越えるものも製造されるようになってきた。
【０００４】
このような多数の画素を形成していく過程では何らかの原因によってスイッチング素子が作動しない、あるいは画素駆動電極が正常に形成されていないために液晶を駆動できない欠陥箇所が生じることがある。欠陥の発生は製造歩留まりを低下させ、コストアップの要因となっていた。
【０００５】
このような対策として、特開平５−２１０１１１号公報に示されるように、レ−ザ光を用いてゲ−ト電極とドレン電極を接続し、常に欠陥画素の表示電極部に直流電圧を印加し、画素の透過光を減少させて目立たなくさせることが知られている。
【０００６】
このようなリペア方法によると、画素電極に印加される直流電圧によって液晶中のイオンがリペア部の片側電極に集積され、液晶ディスプレイの寿命を短くする欠点があった。
【０００７】
他のリペア方法としては特開昭６０−２４３６３５号公報に開示されている。このリペア方法は画素サイズに近い、比較的大きな径のレ−ザスポット、たとえば７０×２００μｍのレ−ザスポットを形成し、このレ−ザスポットを配向膜や画素電極に照射し、これらを除去加工する。それによって、液晶層の配向性が選択的に消失するから、透過光を減少させることができる。
【０００８】
しかしながら、このようなリペア方法によると、大きな面積のレ−ザスポットを欠陥画素に一括照射するため、単位時間当たりの入熱量が高くなり、配向膜や画素電極以外の部分が損傷を受け易いということがあった。また、急激な温度上昇による液晶層の気化によって加工部分が液晶層によって冷却されにくくなるため、損傷が顕著になるということもある。
【０００９】
このような欠陥をなくすため、上記レ−ザスポットを画素よりも十分に小さくして照射するということが考えられている。つまり、レ−ザスポットを小さくすれば、単位時間当たりの入熱量を低くできるから、画素電極以外の部分に損傷を与えるのを防止できることになる。
【００１０】
その場合、レ−ザスポットは欠陥画素に比べて十分に小さいため、レ−ザスポットによって欠陥画素全体を照射するためには、そのレ−ザスポットを走査させなければならない。レ−ザスポットを走査せる場合には、欠陥画素の座標を認識したり、その認識に基づいて欠陥画素に対してレ−ザスポットを位置決めするなどのことを行わなければ走査させることができない。したがって、そのようなリペア作業を行うための装置の開発が望まれていた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
このように、レ−ザ光によって欠陥画素をリペアする場合、画素電極以外の部分に損傷を与えるのを防止するためには、レ−ザスポットを欠陥画素に比べて十分に小さく走査させなければならないということがある。
【００１２】
この発明は上記事情に基づきなされたもので、その目的とするところは、欠陥画素よりも小さなスポットのレ−ザ光によって上記欠陥画素をリペアできる液晶ディスプレイのレ−ザリペア装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、液晶ディスプレイの欠陥画素に、この欠陥画素よりも小さなスポットのレ−ザ光を照射してリペアするレ−ザリペア装置において、
上記液晶デイスプレイが保持されるワ−クステ−ジと、
このワ−クステ−ジをＸ、Ｙおよびθ方向に駆動する第１の駆動手段と、
上記液晶ディスプレイの欠陥画素を指示するための指示用光を出射する指示用光源と、
上記欠陥画素をリペアする上記レ−ザ光を出力するためのレ−ザ装置と、
上記ワ−クステ−ジを駆動して上記指示用光のスポットに上記液晶デイスプレイの欠陥画素を合わせたときに、上記ワ−クステ−ジの移動量から上記欠陥画素の座標を算出する演算手段と、
上記欠陥画素をリペアするときの上記レ−ザ光のスタ−ト座標を設定するために上記演算手段によって算出された座標に基づいて位置決めされた上記液晶用ディスプレイの欠陥画素を撮像する撮像手段と、
上記レ−ザ装置と上記撮像手段とをＸ、ＹおよびＺ方向に駆動する第２の駆動手段と、
上記第１の駆動手段あるいは上記第２の駆動手段を作動させ上記欠陥画素に対して上記レ−ザ光を上記撮像手段によって設定されたスタ−ト座標に基づいて所定のパタ−ンで走査させる制御手段と
を具備したことを特徴とする。
【００１４】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、上記液晶ディスプレイの高温欠陥画素を検出するために、上記ワ−クステ−ジに保持された液晶ディスプレイを加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする。
【００１５】
請求項３の発明は、請求項１の発明において、上記液晶ディスプレイの光欠陥画素を検出するために、上記ワ−クステ−ジに保持された液晶ディスプレイに検出光を照射する検出光源が設けられていることを特徴とする。
【００１８】
請求項１の発明によれば、液晶ディスプレイの欠陥画素の座標を算出し、この算出結果に基づいて上記欠陥画素を撮像することで、リペア時のレ−ザ光のスポットのスタ−ト座標が設定されるから、その設定に基づきレ−ザ光を上記欠陥画素に対して相対的に走査させることで、その欠陥画素をリペアすることができる。
【００１９】
請求項２の発明によれば、液晶ディスプレイの欠陥画素が温度が高いときに反応する場合、上記液晶ディスプレイを温度上昇させてその欠陥画素を見つけることができる。
【００２０】
請求項３の発明によれば、液晶用ディスプレイの欠陥画素が光に反応する場合、その液晶ディスプレイに光を照射してその欠陥画素を見つけることができる。
【００２１】
【発明の実施形態】
以下、この発明の一実施形態を図面を参照して説明する。
図１に示すこの発明のレ−ザリペア装置は基体１を備えている。この基体１の上面にはベ−ス板２が水平に設けられている。このベ−ス板２の上面にはフレ−ム３が設けられ、このフレ−ム３の内部にはワ−クステ−ジ４が設けられている。上記フレ−ム３の内部にはそれぞれ平行に離間対向した一対のＸロッド５とＹロッド６とが上記フレ−ム３のＸ方向およびＹ方向に沿って移動自在に設けられ、これらロッド５、６に上記ワ−クステ−ジ４がＸ、Ｙ方向に移動自在に支持されている。
【００２２】
上記Ｘロッド５はＸ駆動源７によってＸ方向に沿って駆動され、Ｙロッド６はＹ駆動源８によってＹ方向に駆動される。上記ワ−クステ−ジ４は上述したようにＸロッド５とＹロッド６にスライド自在に設けられている。したがって、Ｘ駆動源７によってＸロッド５がＸ方向に駆動されることで、ワ−クステ−ジ４はＹロッド６に沿ってＸ方向に移動し、Ｙ駆動源８によってＹロッド６がＹ方向に駆動されることで、Ｘロッド５に沿ってＹ方向に移動するようになっている。
【００２３】
図２は上記装置の全体構成を示すブロック図で、上記Ｘ駆動源７、Ｙ駆動源８は制御装置１０にドライバ７ａ、８ａを介して接続され、この制御装置１０に接続された操作盤３０を操作することで出力される駆動信号によって駆動されるようになっている。
【００２４】
上記ワ−クステ−ジ４の移動量はエンコ−ダやリニアスケ−ルなどによって検出される。上記制御装置１０は、エンコ−ダやリニアスケ−ルからの検出信号から上記ワ−クステ−ジ４の移動座標を演算する演算機能と、この演算機能によって演算された座標を記憶したり、欠陥画素をリペアするときに、その画素の形状に応じてレ−ザ光の走査パタ−ンを記憶する記憶機能などが設けられている。
【００２５】
上記ワ−クステ−ジ４は上記Ｘ、Ｙロッド５、６に支持された箱形状の基部１１の上面にθテ−ブル１２が設けられてなり、このθテ−ブル１２の上面に液晶デイスプレイ２０が保持されるようになっている。
【００２６】
上記θテ−ブル１２は、上記制御装置１０にドライバ１３ａを介して接続されたθ駆動源１３によってθ（回転）方向に駆動されるようになっており、また上記基部１１の下方には上記θテ−ブル１２に保持された液晶ディスプレイ１０を下面側から照明するバックライト１４が設けられている。
【００２７】
上記バックライト１４を点灯させれば、上記液晶ディスプレイ２０に欠陥画素がある場合、バックライト１４の光がその欠陥画素を通過するから、その欠陥画素を認識することができる。
【００２８】
図１に示すように、上記ベ−ス板２の上面後方側で、上記フレ−ム３の両側にはそれぞれ脚部材１５が立設されている。これら脚部材１５には載置板１６が上記ベ−ス板２の左右方向に沿って架設されている。
【００２９】
上記ベ−ス板２の上面中央部には、このベ−ス板２上にＸ方向に沿って移動自在なＸテ−ブル２２と、このＸテ−ブル２２上にＹ方向に沿って移動自在なＹテ−ブル２４とが設けられている。図２に示すように上記Ｘテ−ブル２２は制御装置１０にドライバ２１ａを介して接続されたＸ駆動源２１によって駆動され、上記Ｙテ−ブル２４は上記制御装置１０にドライバ２３ａを介して接続されたＹ駆動源２３によって駆動されるようになっている。
【００３０】
上記Ｙテ−ブル２４の一端側にはリペア用のレ−ザ光を発振出力するレ−ザ装置２５が光軸をＹ方向に沿わせて配置され、このレ−ザ装置２５の出力側にはレ−ザ装置２５から出力されたレ−ザ光の光路をＹ方向に偏向する光学系２６が設けられている。
【００３１】
上記Ｙテ−ブル２４の他端側にはＺテ−ブル２７が設けられ、このＺテ−ブル２７には撮像光学系２８がＺ方向に移動自在に設けられている。この撮像光学系２８は図２に示すＺ駆動源２９によってＺ方向に駆動されるようになっている。このＺ駆動源２９は上記制御装置１０にドライバ２９ａを介して接続されている。
【００３２】
上記撮像光学系２８は、図２に示すように鏡筒３１を有し、この鏡筒３１の下端にはレボルバ３２が設けられている。このレボルバ３２はドライバ３２ａを介して制御装置１０に接続され、この制御装置１０からの駆動信号によって回転駆動される。
【００３３】
上記レボルバ３２には低倍率レンズ３３と高倍率レンズ３４とが設けられている。低倍率レンズ３３あるいは高倍率レンズ３４によって撮像された画像は上記鏡筒３１の上端に設けられたＣＣＤモニタ３５に入射して電気信号に変換される。
【００３４】
ＣＣＤモニタ３５からの電気信号はＣＣＵ３５ａを介して画像処理部３６に入力されて処理される。画像処理部３６で処理された電気信号は第１の表示装置３７に入力されて上記画像を表示するとともに、上記制御装置１０にも入力されるようになっている。
【００３５】
なお、図２に示すように、上記撮像光学系２８の上方と下方には、良好な撮像状態を維持するための上部照明光源３８と下部照明光源３９とが配設されている。
【００３６】
上記レ−ザ装置２５から出力されて光学系２６で進路が偏向されたレ−ザ光は上記撮像光学系２８の鏡筒３１にシャッタ４１を介して入射する。鏡筒３１に入射したレ−ザ光はダイクロイックミラ−４２で反射してレボルバ３２の低倍率レンズ３３あるいは高倍率レンズ３４から出射する。したがって、レボルバ３２の下方に液晶ディスプレイ２０を位置させれば、その液晶ディスプレイ２０を照射できるようになっている。
【００３７】
なお、レ−ザ装置２５から出力されるレ−ザ光は、その色を上記液晶ディスプレイ２０の画素の色によって変えることができるようになっている。
上記Ｚテ−ブル２７と第１の表示装置３７との間には取付け板４３が立設され、この取付け板４３には可視レ−ザ光からなる指示用光を出射する指示用光源４４が設けられている。この指示用光源４４から出射される指示用光は一定の位置を照射するようになっている。したがって、ワ−クステ−ジ４に保持された液晶ディスプレイ２０の欠陥画素が上記指示用光に照射されるように、上記ワ−クステ−ジ４をＸ、Ｙ方向に駆動することで、その移動量から上記欠陥画素の座標を検出できる。
【００３８】
なお、欠陥画素には液晶ディスプレイ２０が温度上昇したときにその欠陥を現す高温欠陥画素や光を照射したときに欠陥を現す光欠陥画素がある。これらの欠陥画素を認識するために上記フレ−ム３内にはワ−クステ−ジ４に保持された液晶デイスプレイ２０を温風で加熱するための温風発生器４５が設けられ、上記取付け板４３には液晶デイスプレイ２０に検査光を照射するための検査光源４６が設けられている。
【００３９】
上記制御装置１０にはジョイスティック５１が接続されている。このジョイスティック５１を操作することで、上記ワ−クステ−ジ４を駆動するＸ、Ｙおよびθ駆動源７、８、１３と、上記撮像光学系２８を駆動するＸ、ＹおよびＺ駆動源２１、２３、２９を微動させることができる。
【００４０】
したがって、上記ジョイスティック５１は、上記指示用光源４４からの指示用光を液晶ディスプレイ２０の欠陥画素に合わせたり、その欠陥画素を撮像光学系２８の高倍率レンズ３４によって拡大表示する場合などに利用される。
【００４１】
上記ワ−クステ−ジ４に保持される液晶ディスプレイ２０は液晶モジュ−ルや液晶セルのどちらの状態であってもよい。ワ−クステ−ジ４に保持された液晶ディスプレイ２０は、図２に示すように治具５２を介して液晶駆動装置５３に電気的に接続できるようになっている。この液晶駆動装置５３によって上記液晶ディスプレイ２０を駆動することで、その欠陥画素を認識することができる。
【００４２】
上記制御装置１０には、上記ワ−クステ−ジ４に載置された液晶ディスプレイ１０を吸着保持するための吸引力を発生させるフットッスイッチ５４やワ−クステ−ジ４が移動してバックライト１４が露出したときに、そのバックライト１４を覆うシャッタ（図示せず）を駆動するためのシリンダ５５、装置の運転状態をランプで表示するシグナルタワ−５５などが電気的に接続されている。
【００４３】
さらに、上記載置板１６の一端側には第２の表示装置５７が設けられている。この第２の表示装置５７にはリペア装置が運転されているときの運転モ−ドやエラ−メッセ−ジなどが表示されるようになっている。
【００４４】
つぎに、上記構成のリペア装置によって液晶ディスプレイ２０の欠陥画素をリペアする場合の手順を図３のフロ−チャ−トを参照しながら説明する。
まず、所定のロ−ド位置でワ−クステ−ジ４に液晶ディスプレイ２０をセットし、この液晶ディスプレイ２０を液晶駆動装置５３に電気的に接続して駆動する。それと同時にバックライト１４を点灯させる。
【００４５】
上記液晶ディスプレイ２０に欠陥画素があると、図４に示すように上記バックライト１４からの光Ｌ１  が欠陥画素Ｇ１  を通過するから、作業者はその欠陥画素Ｇ１  を目視によって認識することができる。欠陥画素Ｇ１  を認識したならば、指示用光源４４を点灯するとともに、ジョイスティック５１を操作してワ−クステ−ジ４をＸ、Ｙ方向に駆動し、上記指示用光源４４からの指示用光のスポットを上記欠陥画素Ｇ１  に合わせる。
【００４６】
欠陥画素Ｇ１  には、液晶ディスプレイ２０が温度上昇したときにその欠陥を現す高温欠陥画素や光を照射したときに欠陥を現す光欠陥画素などがあり、それらの欠陥を認識する場合には熱風ヒ−タ４５を作動させたり、検出光源４６を作動させることで、認識することができる。
【００４７】
指示用光のスポットが上記欠陥画素Ｇ１  を照射したならば、操作盤３０に設けられた図示しない登録スイッチを押してその欠陥画素の座標を制御装置１０に登録する。欠陥画素Ｇ１  が複数ある場合には、ワ−クステ−ジ４の移動と登録を繰り返して行うことで、それぞれの欠陥画素の座標が順次登録される。
【００４８】
登録が終了したならば、操作盤３０に設けられた図示しない実行スイッチを押す。それによって、ワ−クステ−ジ４は撮像光学系２８の下方へ移動する。撮像光学系２８は、まず低倍率レンズ３３を通じて上記欠陥画素Ｇ１  の部分を撮像し、その画像を第１の表示装置３７に写し出す。第１の表示装置３７に欠陥画素Ｇ１  が写し出されたならば、ジョイスティック５１を操作してＺテ−ブル２７を駆動し、フォ−カスを合わせる。ついで、上記ジョイスティック５１によってθテ−ブル１２を駆動し、上記欠陥画素Ｇ１  を第１の表示装置３７の画面の電子クロスラインを基準にして角度調整する。
【００４９】
つぎに、レボルバ３２を切換え、欠陥画素Ｇ１  の撮像を低倍率レンズ３３から高倍率レンズ３４に切換え、第１の表示装置３７に１つの欠陥画素Ｇ１  を拡大表示させる。ついで、拡大表示された欠陥画素Ｇ１  にレ−ザ装置２５からのレ−ザ光を走査させる際に、その走査のスタ−トとなる点Ｓ（図５に示す）に上記電子クロスラインの交点が位置するよう、ジョイスティック５１によって撮像光学系２８が設けられたＸテ−ブル２２、Ｙテ−ブル２４を駆動する。また、画素の色に合わせてレ−ザ装置２５から出力されるレ−ザ光のパワ−を設定する。この設定は、操作盤３０に設けられた設定ボタンによって設定できる。
【００５０】
上記第１の表示装置３７の電子クロスラインに、欠陥画素Ｇ１  のスタ−ト点を合わせたならば、操作盤３０に設けられた実行スイッチを押す。それによって、図５に示すように制御装置１０に予め設定された走査パタ−ンに基づきリペア用のレ−ザ光Ｌ２  が欠陥画素Ｇ１  を走査する。つまり、欠陥画素Ｇ１  がリペアされることになる。
【００５１】
上記レ−ザ光Ｌ２  の走査は撮像光学系２８がＸ、Ｙ方向に駆動されることで行われるが、ワ−クステ−ジ４をＸ、Ｙ方向に駆動して上記レ−ザ光Ｌ２  を上記欠陥画素Ｇ１  に対して相対的に走査させるようにしてもよい。
【００５２】
欠陥画素Ｇ１  のリペアが終了し、登録された他の欠陥画素も続いてリペアするときには、操作盤３０の実行スイッチを押すことで、つぎに登録されている欠陥画素に対して上述した工程が繰り返して行われる。
【００５３】
登録された欠陥画素のリペアがすべて終了すると、ワ−クステ−ジ４が初期位置に移動するから、その位置でリペアが終了した液晶ディスプレイ２０を取り外して未処理の新たな液晶ディスプレイ２０を供給することで、そのリペアを繰り返すことができる。
【００５４】
図６乃至図８はそれぞれこの発明のワ−クステ−ジの変形例を示す。なお、上記第１の実施形態と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。
図６（ａ）、（ｂ）に示すこの発明の第２の実施形態は、ＸＹテ−ブル６１上には長尺な取付けテ−ブル６２が一端部を固定して設けられ、他端部をリペア装置の前方へ突出させている。この取付けテ−ブル６２の前方へ突出した他端部の上面にはθテ−ブル６３が設けられている。このθテ−ブル６３上にはバックライト６４を介して液晶ディスプレイ２０を保持するための保持具６５が設けられている。
【００５５】
このような構成によれば、上記保持具６５に対して液晶ディスプレイ２０を着脱する際、ＸＹテ−ブル６１を前方へ駆動することで、取付けテ−ブル６２に設けられた保持具６５を十分にリペア装置の前方へ突出させることができるから、上記保持具６５に対して液晶ディスプレイ２０の着脱を容易に行うことができる。
【００５６】
図７（ａ）、（ｂ）に示すこの発明の第２の実施形態は、ＸＹテ−ブル６１上にはスライドテ−ブル７１が一端部を固定し、他端部をリペア装置の前方へ突出させて設けられている。このスライドテ−ブル７１上にはθテ−ブル６３が上記スライドテ−ブル７１の前後方向に沿ってスライド自在に設けられ、このθテ−ブル６３上にはバックライト６４を介して液晶ディスプレイ２０を保持するための保持具６５が設けられている。
【００５７】
このような構成によれば、上記第２の実施形態と同様、上記保持具６５をスライドテ−ブル６２の突出した他端部へスライドさせることで、十分にリペア装置の前方へ突出させることができるから、上記保持具６５に対して液晶ディスプレイ２０の着脱を容易に行うことができる。
【００５８】
図８（ａ）、（ｂ）はこの発明の第４の実施形態で、この実施形態はＸＹテ−ブル６１上にθテ−ブル６３を設け、このθテ−ブル６３上にバックライト６４をその前端側を支点として前方へ回動自在に設け、図示しないシリンダなどの駆動源によって図中鎖線で示すように所定の角度で起立させることができるようになっている。このバックライト６４の上面には保持具６５が設けられている。
【００５９】
したがって、上記保持具６５を所定の角度で起立させれば、この保持具６５に保持された液晶ディスプレイ２０の着脱を容易に行うことができる。
すなわち、上記第２乃至第４の実施形態によれば、保持具６５を作業者が作業し易い角度に傾斜させることができるから、作業者は保持具６５に対して液晶ディスプレイ２０の着脱を容易に行うことが可能となる。
【００６０】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、液晶ディスプレイの欠陥画素の座標を算出し、この算出結果に基づいて上記欠陥画素を撮像し、それによってリペア時のレ−ザ光のスポットのスタ−ト座標を設定したのち、そのレ−ザ光を上記欠陥画素に対して相対的に走査させることで、その欠陥画素をリペアするようにした。
【００６１】
そのため、上記欠陥画素のリペアを、その画素よりも小さなスポットのレ−ザ光によって確実に行うことができる装置および方法を提供することができる。
請求項２の発明によれば、ワ−クステ−ジに保持された液晶ディスプレイを加熱する加熱手段を設けたので、欠陥画素が温度が高いときに反応する場合、上記液晶ディスプレイを温度上昇させてその欠陥画素を見つけることができる。
【００６２】
請求項３の発明によれば、ワ−クステ−ジに保持された液晶ディスプレイに検査光を照射する検査光源を設けたので、液晶用ディスプレイの欠陥画素が光に反応する場合、その液晶ディスプレイに光を照射してその欠陥画素を見つけることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態の全体構成を示す斜視図。
【図２】同じく全体構成のブロック図。
【図３】同じくフロ−チャ−ト。
【図４】同じくバックライトによって欠陥画素を認識するときの説明図。
【図５】同じく欠陥画素にレ−ザ光を走査するときの説明図。
【図６】（ａ）はこの発明の第２の実施形態を示すワ−クホルダの側面図、（ｂ）は同じく斜視図。
【図７】（ａ）はこの発明の第３の実施形態を示すワ−クホルダの側面図、（ｂ）は同じく斜視図。
【図８】（ａ）はこの発明の第４の実施形態を示すワ−クホルダの側面図、（ｂ）は同じく斜視図。
【符号の説明】
４…ワ−クステ−ジ
７…Ｘ駆動源（第１の駆動手段）
８…Ｙ駆動源（第１の駆動手段）
１０…制御装置（記憶手段、制御手段）
２０…液晶ディスプレイ
２１…Ｘ駆動源（第２の駆動手段）
２２…Ｙ駆動源（第２の駆動手段）
２５…レ−ザ装置
２８…撮像光学系（撮像手段）
４４…指示用光源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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