(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミクロン―スケールのパターン（Ｐ）を光学製品（１）の表面上に転写する方法であって、
ａ）転写されるパターンに対応したミクロン―スケールまたはサブミクロン―スケールに画定されたマイクロ―レリーフを構成する凹部（１２）及び突起部（１３）を持つスタンプの表面上に、少なくとも１つの転写可能な材料の層を堆積する段階と；
ｂ）光学製品の基板表面上に液状のラテックス層を堆積する段階と；
ｃ）前記ラテックス層が乾燥する前に、転写可能な材料の層を含む前記スタンプの表面をラテックス層に接触させる段階と；
ｄ）前記スタンプに圧力を加える段階と；及び、
ｅ）前記ラテックス層を備える前記光学製品の表面から前記スタンプを取り除く段階；
を備え、
前記転写されたパターン（Ｐ）はホログラフィックパターンであり、
前記パターンの部位において、光線（１０１）が前記レンズ（１）を通り抜けるまたは前記レンズ上で反射される時、ホログラフィックパターン（Ｐ）は、読取画像を形成するように構成される、方法。
【請求項２】
ミクロン―スケールのパターンは１つまたはそれ以上の個々のパターンを備え、それぞれのパターンは１０μｍから５０ｎｍの範囲の寸法を持つ、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記凹部（１２）及び前記突起部（１３）の寸法は、前記スタンプの表面に平行に測定し、１０マイクロメートルから５０ナノメートルの範囲である、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記凹部１２の深さは０．１μｍから３０μｍの範囲である、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記転写されたパターン（Ｐ）は振幅ホログラム型のホログラフィックパターンである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記転写されたパターン（Ｐ）は位相ホログラム型のホログラフィックパターンである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記転写されたパターンは、一式の隣接するピクセルによって構成されるデジタルホログラム型のホログラフィックパターンであり、それぞれのピクセルは０．２μｍ２から２５μｍ２の範囲の表面積を持つ、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記転写されたパターン（Ｐ）は、前記光学製品（１）の表面のごく一部を占める、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記転写されたパターン（Ｐ）は、前記製品（１）の表面の２５ｍｍ２未満の部分を占める、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ラテックス層（２）は、回転塗布法を利用し前記光学製品（１）の表面上に堆積される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記ラテックス層の厚さは、０．２μｍから５０μｍの範囲である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記スタンプの表面の突起部（１３）上に配置された転写可能な材料の層（１４）が前記製品の表面上に選択的に転写される条件下にて、段階ｃ）において、前記スタンプの表面（Ｓ）を、前記ラテックス層（２）を保持する前記光学製品（１）の表面に接触させる、請求項５に記載の方法。
【請求項１３】
段階ｃ）において、前記パターンＰの突起部の表面にて０．１ｇ／ｍｍ２から６０ｇ／ｍｍ２の範囲の圧力とした状態で、前記スタンプの表面（Ｓ）を、前記ラテックス層（２）を保持する前記光学製品（１）の表面に接触させる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記スタンプの表面上の突起部（１３）は前記ラテックス層に完全に浸入し、及び前記スタンプの表面上の突起部（１３）上に配置される前記転写可能な材料の層の部分及び前記スタンプの凹部（１２ｂ）内に配置される前記転写可能な材料の層の部分が前記光学製品の表面上に一緒に転写される条件下にて、段階ｃ）において、前記スタンプの表面（Ｓ）を、前記ラテックス層（２）を保持する前記光学製品（１）の表面に接触させる、請求項６に記載の方法。
【請求項１５】
段階ｃ）において、前記パターンＰの突起部の表面にて６０ｇ／ｍｍ２よりも大きな圧力で、前記スタンプの表面（Ｓ）を、前記ラテックス層（２）を保持する前記光学製品（１）の表面に接触させる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
段階ａ）及び／又は段階ｅ）の後に実行される、
ｆ）１つまたはそれ以上の機能付与されたコーティングによって前記光学製品の表面を覆う段階；
をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記機能付与されたコーティングは、耐衝撃、耐磨耗、反射防止、汚染防止、曇り防止、帯電防止、偏光、着色、又は光発色性の機能を持つ、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
段階ｅ）の後に、付加的な段階ｆ）が実行される、請求項１６または請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記転写可能な材料は金属材料である、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記転写可能な材料は、金、アルミニウム、クロム、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、及び前記金属の少なくとも１つを含む合金から選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記転写可能な材料の層は、段階ａ）において、真空蒸発または真空陰極スパッタリングによって前記スタンプの表面（Ｓ）上に堆積される、請求項１９または請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記転写可能な材料の層（１４）は、それぞれの材料の層の複数を含むスタックを備える、請求項１９から請求項２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
前記スタックの少なくとも１つの層の材料は屈折性である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記スタンプの表面（Ｓ）の少なくとも突起部（１３）の部位において、前記スタンプはポリジメチルシロキサンを基礎としている、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
前記スタンプは、前記光学製品の基板上の接触する地点の法線と平行に近づけられる、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
段階ｃ）において、生成品表面の曲率に応じ、前記生成品（１）の表面に前記スタンプが接触されている間、前記スタンプの表面（Ｓ）は、変形するように構成される、請求項１から請求項２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
段階ｂ）の前に実行される、前記光学製品（１）の表面を処理する段階をさらに備える、請求項１から請求項２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
前記光学製品（１）は、光学機器レンズ、観察レンズ、バイザー、及び眼科用レンズから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項２９】
前記光学製品（１）は、無限焦点、単焦点、二焦点、三焦点及び累進屈折力レンズから選択される眼科用レンズである、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
光学製品（１）であって、前記製品の表面上に少なくとも１つの転写されたパターン（Ｐ）を備え、請求項１から請求項２９のいずれか１項に記載の方法によって前記パターンの転写が行われる光学製品。
【請求項３１】
眼科用レンズであって、前記レンズは
・少なくとも１つの有機物または無機物の基板を備える基板レンズと；
・乾燥したラテックス層（２）と；及び
・接着剤の層によって前記基板レンズに接着することにより、転写されたパターンを形成する転写可能な材料の部分と；
を備える、請求項３０に記載の光学製品。
【請求項３２】
前記パターン（Ｐ）は、ラテックス層（２）上であって前記層に対し垂直方向において同じレベルに配置されているプリントされた材料のいくつかの部分によって形成され、転写された材料のない隙間（４ａ）によって分離される、請求項３１に記載の光学製品。
【請求項３３】
前記パターン（Ｐ）は、ラテックス層（２）内にエンボス成形され、前記転写可能な材料の部分（３、４ｂ）は、前記ラテックス層内においてマイクロ―レリーフを構成する凹部及び突起部を覆う、請求項３１に記載の光学製品。
【請求項３４】
さらに、前記ラテックス層（２）は、その後に前記レンズが受けうる衝撃からの前記レンズ（１）の保護を形成する、請求項３１から請求項３３のいずれか１項に記載の光学製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学製品上にミクロン―スケールの寸法のパターンを転写する方法、及びこの方法によるパターンを含む光学製品に関する。特に、光学レンズ型、特に眼科用レンズ型の製品に適している。この方法は、ホログラフィックのパターンの導入に極めて有利である。
【背景技術】
【０００２】
完成済み又は製造途中の製品に既定のパターンをプリントしなければならない場合がある。例えば、製品のロゴを表示する又は製品の偽装の可能性を防ぐための特に装飾を目的した場合である。
【０００３】
この目的を達成するために、多くのプリント方法が開発され、通常、統合された電子回路の製造に利用されるリソグラフィー方法とは対象的に、一般的に“ソフト”リソグラフィー方法として指定されている。一方、これらのリソグラフィー方法は、既定のパターンにおける選択放射及び樹脂マスクの部分の溶解に基づいており、ソフトリソグラフィー方法は、凹部及び突起部により構成されるマイクロ―レリーフを表面に持つスタンプを利用する。このマイクロ―レリーフは生成品上に再生されるパターンを画定する。生成品の表面上に存在する材料に適した状況下において、表面にスタンプを接触させることにより、このパターンは生成品の表面上に再生される。
【０００４】
用語“パターン”は、スタンプを接触させた時に、生成品の表面に接触される突出した表面の部分の幾何学的配置を意味する。
【０００５】
“マイクロ―コンタクトプリンティング”として知られているソフトリソグラフィー方法において、生成品の表面は金属層によって覆われており、及びスタンプは、エッチング段階の間、金属層を保護することが出来る物質によってコーティングされている。生成品の表面にスタンプを接触させている間、スタンプの突起部に対応する位置におけるいくつかの物質は、スタンプから金属層に選択的に転写される。その後、金属層はスタンプの凹部に対応する位置においてのみエッチングされる。しかしながら、満足できる質のプリントを得るためには、金属層上に自己組織化した分子層を形成する物質を利用することが必要である。この目的を達成するために、金属層は汚染されておらず、及び酸化のような化学的な表面変化が起こり易くない金属によって構成されなければならない。実際には、純金、白金、及び銀によって満足な質のプリントを実現することが出来る。プリントされたパターン構成に対するそのような材料の選択は、特に限定されており、及び生成品の原価のような生成品に対する他の制約とは相いれないかもしれない。その上、特に、一般的にエッチング剤溶液を利用することにより実行される金属層のエッチング段階のため、このような方法は時間を要する。
【０００６】
特開平０７―２１９４３５号公報には、ホログラムリンカーの製造方法が記載されており、凹部及び突起部によって構成されるホログラムはまず熱可塑性材料の表面がエングレービングされ、その後金属層によって覆われる。しかしながら、このようなプロセスにおいては、ホログラムによって占められる表面の一部に金属層を制限することが難しい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的の１つは、パターンの転写方法を提案することであり、この方法は実行が容易であり及び数多くの材料によって構成されるパターンに適合する。特に、本発明は、ホログラムを有利に構成するパターンのようなミクロンスケールまたはサブミクロンスケールにさえ画定された転写パターンをその上に持つための光学製品を可能にする。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
一般的に、本発明との関連において、用語“ミクロン―スケール”の利用には、ミクロンスケールに画定されたミクロン―スケールパターン、及びミクロンスケールよりも小さなスケール、すなわち１００または５０ナノメートル、に画定されたサブミクロン―スケールパターンの両方を含む。
【０００９】
この目的を達成するために、本発明は、光学製品の表面上に上記に定義したようなミクロン―スケールパターンを転写する方法を提案する。この方法は以下の段階を備える。
ａ）転写されるパターンに対応したミクロン―スケールまたはサブミクロン―スケールに画定されたマイクロ―レリーフを構成する凹部及び突起部を持つスタンプの表面上に、少なくとも１つの転写可能な材料の層を堆積する段階と；
ｂ）光学製品の基板表面上に液状のラテックス層を堆積する段階と；
ｃ）ラテックス層が乾燥する前に、転写可能な材料の層を含むスタンプの表面をラテックス層に接触させる段階と；
ｄ）スタンプに圧力を加える段階と；及び、
ｅ）ラテックス層を備える光学製品の表面からスタンプを取り除く段階。
【００１０】
本発明によると、段階ａ）の間においてスタンプのマイクロ―レリーフ上に堆積する転写可能な材料の層は、一般的にマイクロ―レリーフの外形と正確には一致しない。この層は、材料が堆積される主方向に対し直角な面にあるマイクロ―レリーフの領域上に選択的に存在する。図１ｂに示すように、これらの領域はスタンプの突起部（１３）または凹部（１２ｂ）によって保持される。
【００１１】
それ故に、本発明による方法はソフトリソグラフィー型であり、この理由のため、特有の有利な点を示す。特に、スタンプ表面の凹部に初めから配置される転写可能な材料層の部分は、接着剤として機能するラテックス層とは接触せず、この理由によりこれらはラテックスの表面に転写されないため、この方法はいずれのエッチング段階も含まない。この方法は正確であり、化学的なエッチング段階を必要としないため非汚染であるという利点を持つ。
【００１２】
本発明の方法では、未だ部分的に液状であるラテックス層は、スタンプを接触させている間に転写される転写可能な材料の層の部分の、光学製品表面への接着性を確保する。このような接着メカニズムは、数多くの転写可能な材料、特に導電性材料、金属材料、絶縁体、誘電体、または屈折材料に適合される。さらに、従って得られる接着は、転写可能な材料層上または光学製品上に存在する汚染物質による影響をほとんど受けない。
【００１３】
本発明の１つの利点は、少なくとも１つのラテックス層によってコーティングされた光学製品の表面上に、少なくとも１つの転写可能な材料の層によってコーティングされたスタンプを接触させる条件にある。これらの条件は本質的にラテックス層の特性、スタンプに加える圧力、及び圧力を加える期間に関連する。これらは、日常的に利用できる単純で安価な手段を用いることにより制御することが出来る。当業者は、適当な特性を備えるラテックス層を形成するために必要とされる条件を知っている。光学製品の表面にスタンプを有利に接触させるための条件には、スタンプが光学製品基板上の接触する地点の法線と平行に移動するという条件下において本発明の方法が実行されることが含まれる。
【００１４】
乾燥段階の間においてラテックスは単に過度的な接着特性を持つため、このタイプの方法におけるラテックスの利用は特有な利点となる。従って、この方法を実行した後、パターンが実行された領域から光学製品上に堆積されたラテックス層を除去することは必須ではない。ラテックス層の接着特性は、乾燥し及びラテックス粒子が結合するにつれ、消滅する。
【００１５】
さらに、本発明の１つの実施形態において、ラテックスは、マスターのマイクロ―レリーフから、圧力によって課せられた特有のマイクロ―レリーフを再生することが出来るため、このタイプの方法におけるラテックスの利用は極めて有利でもある。
【００１６】
上述したように、このパターンはミクロン―スケールまたはサブミクロン―スケールでもよく、本明細書の全体において一般的方法にて利用される用語“ミクロン―スケール”はこれら２つのパターンの寸法を示す。従って、一般的方法における本発明との関連において、用語“ミクロン―スケールパターン”は１つまたはそれ以上の個々のパターンを備えるパターンを意味する。それぞれ個々のパターンは、１０μｍ（マイクロメートル）から５０ｎｍ（ナノメートル）の範囲内、有利には５μｍから１００ｎｍの範囲内、及びさらに有利には３μｍから１５０ｎｍの範囲内の寸法を持つ。
【００１７】
特に、転写されたパターンは、光線によって照射された時に回折するパターンでよい。特に、ホログラフィックパターンでよい。このようなパターンは、特に生成品を同定する及び／または偽物の生成品からオリジナルの生成品を区別することを可能にするために適している。さらに、特に、本発明の方法は、振幅ホログラムを光学製品に導入するのに適している。用語“振幅ホログラム”は法線入射電磁場の振幅に選択的に影響を及ぼすホログラフィックの微細構造を意味する。特に、これは透明な領域及び不透明な領域の配列によって構成されるホログラムに利用され、金属の利用により不透明な領域が形成された時、不透明な領域もまた反射する。その結果、ホログラムに対応する読取画像はレンズを通り抜けるまたはレンズ上の光線を透過するまたは反射することによって見られうる。
【００１８】
本発明の転写されたパターンは、光学製品に位相ホログラムを導入するのにも適している。用語“位相ホログラム”は法線入射電磁場の位相に選択的に影響を及ぼすホログラフィックの微細構造を意味する。
【００１９】
このパターン自体は、ロゴまたは光学製品から直接読み取ることの出来る記載を示してもよい。パターンが複数の同一な個々のパターンによって構成される時、パターンは活字を示すホログラフィック及び光学製品から直接読み取ることが出来るホログラフィックの両方でもよい。
【００２０】
ホログラフィックパターンはデジタルホログラム式であってもよい。すなわち、ホログラムはコンピューターによって生成される（しばしば“ＣＧＨ” と略される“ｃｏｍｐｕｔｅｒ  ｇｅｎｅｒａｔｅｄ  ｈｏｌｏｇｒａｍ”）。このようなホログラフィックパターンは、それぞれのピクセルが０．２μｍ２［平方マイクロメートル］から２５μｍ２の範囲の表面積、有利には０．２μｍ２から４μｍ２の範囲の表面積を持つ一式の隣接するピクセルによって構成されてもよい。好ましくは、パターンは数多くのピクセルを備える。例えば、合計１００００よりも多くのピクセルを備え、それ故に、照射下において復元することによって十分な解像度を備えた画像を生成することが出来ることを意味する。
【００２１】
特に、それ自身が前記製品を覆わず、または製品の次の利用を妨げないために、転写されたパターンは製品表面のごく一部を占めてもよい。このような構造では、好ましくは、パターンは２５ｍｍ２［平方ミリメートル］よりも小さな製品の表面の一部を占める。
【００２２】
あるいは、特にミクロン―スケールまたはサブミクロン―スケールのワイヤーの配列を備える時、転写されたパターンは実質的に製品の表面の全てを占めてもよい。このような製品の表面全体を占めるパターンは、光学製品の表面において帯電防止機能を得るため、マトリックスディスプレイにおける一組の電極を生成するまたは光学製品によって反射または透過される光に対する偏光フィルター機能を得るために生成されてもよい。偏光フィルターにおいて、偏光効果は平行導線（ワイヤグリッド偏光子）のパターンを転写することによって得られる。
【００２３】
有利に、前記光学製品の表面上にラテックス層を設置する前に、光学製品の表面処理を実行してもよい。特に、この処理は化学、熱、プラズマ、及びコロナ処理から選択される。特に、この表面処理は、イソプロパノール及び／又は水を用いた光学製品の表面洗浄を含む化学処理を備えてよい。従って、この表面に存在しうるチリやごみを取り除くことが出来る。
【００２４】
本発明との関連において、ラテックス層は回転塗布法によって堆積させてもよく、この方法は特に、眼科用レンズの生産ラインにおいて広く知られている。浸漬被膜、吹き付けまたはインクジェットプリンティングヘッドのノズルを通り抜けた物質の噴出を利用するような、他の堆積手法を利用して堆積されてもよい。光学製品の表面上に堆積させるラテックス層の厚さは、一般的に０．２μｍから５０μｍの範囲、有利には１μｍから１０μｍの範囲である。この層は光学的に透明でなければならない。特に薄い色のついた層において、その透過率は可変であってよいが、層は拡散、回折または接着剤の層のようなものを備えた光学製品を透過することよって観察される製品の見え方を変更するものであってはならない。
【００２５】
この方法は以下の段階を含んでよく、段階ａ）及び／又は段階ｅ）の後に実行される。
ｆ）１つまたはそれ以上の機能付与されたコーティングによって光学製品の表面を覆う段階
【００２６】
これらの機能付与されたコーティングは、浸漬被膜、回転塗布、吹き付け、インクジェットプリンティングヘッドのノズルを通り抜けた物質の噴出を利用したプリンティングのようないずれの堆積手法を利用し、フィルムまたは単層または複層ラッカーの形状で堆積されてよい。耐衝撃、耐磨耗、反射防止、汚染防止、曇り防止、帯電防止、偏光、着色、及び光発色性の機能を備えるコーティングから有利に選択される。
【００２７】
本発明の好ましい実施形態によると、次にこの方法には、段階ｅ）の後に実行され、転写されたパターン及びラテックス層上にある少なくとも１つの機能付与されたコーティングによって光学製品の表面を覆う処理を構成する付加的な段階が含まれる。このコーティングは、それ自身の機能付与に加えて、転写されたパターンに対する保護用のコーティングを有利に構成する。
【００２８】
転写可能な材料は、金、アルミニウム、クロム、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、または、例えば前記金属の少なくとも１つを含む合金のような金属材料でよい。次に、転写可能な材料の層は、段階ａ）において真空蒸発または真空陰極スパッタリングによってスタンプの表面に有利に堆積されてもよい。一般的に、スタンプ上に金属層を堆積してから段階ｃ）を実行する期間を短くすればするほど、前記金属層はラテックス上により良好に転写されることが示されている。これは、金属層が汚染されないという事実、つまり汚染は接着の質を低下させる、によって説明することが出来る。
【００２９】
また、転写可能な材料層は複数のそれぞれの材料の層のスタックを備えてよい。次に、少なくとも１つのスタックの層の材料は屈折性であってよい。次に、転写されたパターンは、パターンを照射するために利用する光線の干渉の結果、部分的に見えてもよい。前記スタックの厚さによって、複数の材料の層のスタックの転写は、生成されるホログラムが法線入射電磁場の位相に実質的な影響を及ぼしうる原因となる。故に、このような転写によって、位相ホログラムを生成するための条件に近づけることが出来る。用語“位相ホログラム”は法線入射電磁場の位相に選択的に影響を及ぼすホログラフィックの微細構造を意味する。
【００３０】
本発明の第１実施形態では、スタンプの表面の突起部上に配置される転写可能な材料の層の部分を光学製品の表面上に選択的に転写させるために、段階ｃ）における適当な条件下にて、スタンプの表面をラテックス層を保持する光学製品の表面に接触させる。この第１実施形態によると、スタンプの凹部に配置される転写可能な材料の層の部分は、マイクロ―レリーフの凹部はラテックス層に接触しないため、スタンプが接触している間に光学製品の表面上に転写されない。これを達成するために、段階ｃ）においてスタンプには適度な圧力が加えられるが、これはスタンプの突起部がラテックス層に浸入しないためである。従って、少なくとも転写されたパターンによって占められる表面の一部において、ラテックス層の厚さは光学製品の表面上で実質的に一定のままである。従って、パターンの異なる位置において、製品の表面上に転写可能な材料が存在する又はしないことにより、転写されたパターンのコントラストが生じる。次に、転写されたパターンにより、不透明及び透明な領域の並置が形成され、もしこのパターンにより回折を生じるホログラフィックの構造が形成されたならば、結果として振幅ホログラムとなる。本発明のこの実施形態では、光学製品上の突起部上に存在する転写可能な材料の選択的な転写、及びパターンの凹部へのラテックスの浸入が存在しないことの組合せによって、振幅ホログラムが形成される。
【００３１】
本発明の第２の実施形態によると、スタンプの表面の突起部上及びスタンプの凹部に配置される転写可能な材料の層の部分が光学製品の表面上に一緒に転写されるために、段階ｃ）のスタンプの表面の突起部がラテックス層に完全に浸入するのに適した条件下において、スタンプの表面をラテックス層を保持する光学製品の表面に接触させる。好ましくは、スタンプの表面は、適当な期間の間、すなわち、スタンプを取り除いた後において、スタンプの突起部によるラテックス層への浸入によって生成される永続的なくぼみをラテックス層が保持するために適した乾燥時間の間、接触される。従って、ラテックス層はその表面にマイクロ―レリーフを保持し、このマイクロ―レリーフはスタンプの表面に設けられるマイクロ―レリーフの補完物にほかならない。言い換えると、このパターンはラテックス層に形作られる。ラテックス層に保持されるマイクロ―レリーフは凹部及び突起部によって構成される。この凹部及び突起部は転写された金属層の部分によって覆われる。次に、少なくとも一部分において、ラテックス層の厚さの変動の結果により転写されたパターンのコントラストが生じる。転写されたパターンがホログラフィックパターンである時、得られるマイクロ―レリーフは位相ホログラムを構成してもよい。用語“位相ホログラム”は法線入射電磁場の位相に選択的に影響を及ぼすホログラフィックの微細構造を意味する。
【００３２】
本発明はまた、上述したような方法を利用した、その表面に転写されたパターンを備える光学製品を提案する。この光学製品は光学計装レンズ、光学的観察レンズ、バイザー、または眼科用レンズ、及び特にメガネのフレームに組み込まれることが出来るレンズを備える。従って、このようなレンズはそれ自身に、
・少なくとも１つの有機物または無機物の基板を備える基板レンズと；
・乾燥したラテックス層と；及び
・ラテックス層を通して基板レンズに接着することにより転写された、転写されたパターンを形成する転写可能な材料の部分と；を備える。
【００３３】
特に、基板レンズは有機基板を備える。用語“基板”は、光学レンズの基部及び特に眼科用レンズを構成する透明な材料を意味する。この材料は、１つ又はそれ以上のコーティングのスタックを支持する機能を果たし、及びレンズが矯正眼科用レンズである時、レンズの矯正機能の生成に関与する。光学製品が眼科用レンズである時、適当な基板の例としては、ポリカーボネート；ポリアミド；ポリイミド；ポリサルフォン；ポリエチレンテレフタラート／ポリカーボネート  コポリマー；ポリオレフィン、特にポリノルボルネン；ジエチレン  グリコール  ビス（アリルカーボネート）  ポリマー及びコポリマー；（メタ）アクリル  ポリマー及びコポリマー、特にビスフェノール―Ａから生じる（メタ）アクリル  ポリマー及びコポリマー；チオ（メタ）アクリル  ポリマー及びコポリマー；ウレタン及びチオウレタン  ポリマー及びコポリマー；エポキシ  ポリマー及びコポリマー；及びエピサルファイド  ポリマー及びコポリマーがある。いくつかの例においては、基板は直接的に大部分に薄い色がついてもよい。
【００３４】
１つまたはそれ以上のコーティングは、有機基板とラテックス層の間に任意に存在してよい。特に、上述したように、これらのコーティングは機能付与されたコーティングでよい。
【００３５】
もしレンズが基本的に透明であるならば、パターンが活字を示すホログラフィックである時、光線がパターンの位置におけるレンズを通して送られる時の読取画像を形成するために利用されてもよい。
【００３６】
ラテックス層はその後に受ける衝撃からレンズを保護してもよい。有利に、放射線耐性の材料の層がレンズ上、ラテックス層及び転写されたパターンの上に形成されてもよい。
【００３７】
本発明の他の特徴及び利点は、添付の図を参照する２つの制限しない実施形態の記述により明らかになる。
【００３８】
明確にするために、図に示す様々な要素の寸法は、実際の寸法または寸法の比率に応じたものではない。さらに、図では、同一の要素を示すために同一の参照数字を利用する。
【００３９】
本発明は、眼科用レンズへのホログラフィックパターンの転写に関連し、以下に記載する。記載において、個々には従来の方法から知られている本発明の方法による個々の段階については詳細に記載されない。本記載は、本発明による転写を可能にする一連の個々の段階についての記載に専念する。
【００４０】
図１ａでは、スタンプは基板１０及び膜１１を備える。膜１１は表面Ｓを持ち、表面Ｓと反対の面によって基板１０に固定される。パターンを支持する表面Ｓは、膜１１の２つの異なる厚さに対応した凹部１２及び突起部１３を備える。凹部１２及び突起部１３は、Ｐに示すパターンを画定するミクロン―スケールの寸法のマイクロ―レリーフを形成する。Ｐは光学製品の表面への接触を目的とする表面上の突起した部分の幾何学的配列を指定する。少なくともスタンプの表面Ｓの突起部１３の部位において、膜１１はポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を基にしている。このような材料は低い表面エネルギーを持ち、転写の品質を良好にするように促す。ラテックス層とスタンプの表面Ｓによって保持される転写可能な材料の部分の間における完全な接触を保証し、転写可能な層、特に金属層は接着層に接着するためのスタンプからそれ自身を容易に引き離すことが出来ることも保証するので、弾性率により特徴づけられる柔らかな特性と共に、膜の構成材料の低い表面エネルギーは重要な条件である。目安として、Ｓｙｌｇａｒｄ  １８４（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ）として知られている商用のＰＤＭＳは、２．５ＭＰａ［メガパスカル］の弾性率を持つ。他の材料、特にエラストマー型の材料は膜１１にも適しうる。凹部１２及び突起部１３は様々な方法によって形成してよい。例えば、エラストマーの前駆モノマーを含む液体がパターンＰを生成する膜の鋳型に流し込まれ、その後加熱又は紫外線（ＵＶ）を含む照射によって鋳型の内側で重合されてよい。型から外された後得られる膜１１は、基板１０上に固定される。このような膜１１と共に、凹部１２及び突起部１３は、例えば、膜１１に平行に測定し、１０μｍから５０ｎｍの範囲の寸法を持ってよい。凹部１２の深さは０．１μｍから３０μｍ、有利には０．１μｍから１０μｍでよい。
【００４１】
有利には、転写可能な材料１４が堆積される前に、膜１１からの金属層１４の分離を促進する層が表面Ｓ上に堆積されてもよい。
【００４２】
表面Ｓは、受用の層に接触している間、受用の層の曲率に応じて変形してもよい。前記変形は、表面Ｓの長さに沿った様々な方法における膜の押し合い、及び／又は適切な方法において基板１０上に固定された時の様々な方法における膜の押し返しから生じてもよい。
【００４３】
図１ｂは膜１１の拡大図である。例えば、金またはアルミニウムから形成される層１４は膜１１上に堆積され、及び材料が堆積される主方向に直角の面を構成するマイクロ―レリーフ（１２ｂ及び１３）の領域に分配される。層１４は、例えば３０ｎｍの厚さ“ｅ”を持ってよい。様々な方法、特に、るつぼの中に含まれるある量の金またはアルミニウムの真空蒸発よって表面Ｓ上に堆積されてよい。
【００４４】
図２ａでは、例として、初めに基板レンズ１によって構成される眼科用レンズは凸型の前面及び凹型の後面を持つ。次に、パターンＰがレンズの前面上に転写されるが、同様な転写が後面上に形成されることも出来ると理解すべきである。従って、特に、本発明は疑似―球面上にパターンを転写するために利用される。本発明に関し、用語“疑似―球”面は連続する凹型または凸型表面、すなわちホール又ステップがないことを意味する。一般的に、結果として生じるレンズの厚さの変化はそれ自身に屈折力を与えるため、光学レンズの２つの面のうち少なくとも１は疑似―球である。無限焦点、単焦点、二焦点、三焦点及び累進屈折力眼科用レンズの全ては、少なくともひとつの疑似―球面を持つ。球面は、２つの垂線方向における表面の曲率半径が等しい疑似―球面の特別なケースに対応する。以下に利用する時の語句“疑似―球面”は球面の特別なケースを含むことを意味する。
【００４５】
眼科用レンズ１は上述したようないずれのタイプでもよい。用語“眼科用レンズ”は、特にメガネのフレームに組み込むのに適したレンズであり、及び目を保護し及び／又は視力を矯正するために機能することを意味する。
【００４６】
好ましくは、パターンＰを受け取ることを目的としたレンズ１の表面は、まず洗浄される。この目的のため、レンズにコロナ処理またはプラズマ処理を実施してもよいが、１つまたはそれ以上の洗剤及び／またはすすぎ溶液を利用する洗浄方法を用いてもよい。
【００４７】
液状のラテックス層がレンズ１の前面上に形成される。好ましくは、符号２０を参照して、ラテックス層は、ラテックス溶液を用いた回転塗布によって堆積される。レンズ１は支持材３０上に水平に配置され、垂直軸の周りを回転する。次に、液体２０がレンズ１上に施される。それ自体が周知である方法では、ラテックスが塗布される時のレンズの回転速度は、レンズ上に形成されるラテックス層の厚さを決定する。塗布時間はラテックス層の乾燥に影響を及ぼす。以下においてラテックス層は符号２と定める。
【００４８】
ラテックス型材料を利用することにより、レンズ１の前面は、完全に乾燥していない限りは一時的な接着力を持つ層２によって覆われる。この接着力は、液体のラテックスに存在する多くのペンダント化学結合により生じる。多くのラテックスは層２を形成するために利用してよい。；例としては、ポリウレタン  ラテックス、ポリ（メタ）アクリレート  ラテックス、ポリエステル  ラテックス、及びポリブタジエンまたはポリ（スチレン―ブタジエン）  ラテックスのようなブタジエン単位を含むラテックスを含めた言及をしてよい。特に、これらの型のラテックスは、米国特許第５３１６７９１号明細書、米国特許第６５０３６３１号明細書、及び米国特許第６４８９０２８号明細書に記載されており、参照としてその全文が本願に組み込まれる。また、欧州特許第１１６１５１２号明細書及び仏国特許発明第２８１１３２２号明細書に記載されているような光発色性のラテックスを利用することも可能である。有利には、Ｚｅｎｅｃａ社から販売されているＡ−６３９（登録商標）のようなアクリル  ラテックス、またはＢａｘｅｎｄｅｎ社から販売されているＷ−２４０（登録商標）及びＷ−２３４（登録商標）のポリウレタン  ラテックスが利用される。
【００４９】
次に、スタンプの表面Ｓ、すなわち金属層１４を保持する突起部１３及び凹部１２ｂ、は層２に覆われているレンズ１の前面に接触される。この目的のため、スタンプはレンズの表面に実質的に垂直な方向に近づけられる（図２ｂ）。表面Ｓの突起部１３において、金属層１４が良好にラテックス層２と接着するために十分な圧力が加えられる。
【００５０】
本発明の第１実施形態を図３に示す。接触している間、レンズ１に対して加えるスタンプの圧力は、ラテックス層２が突起部１３の間を浸入することがないようにするため、さほど高くない。言い換えると、表面Ｓの突起部１３は層２に浸入しない。この方法において、最初に突起部１３上に配置される金属層１４の部分のみは、ラテックス層２に接触する。スタンプが取り除かれた時、図３の符号３を参照すると、未だ乾燥していないラテックスの接着力によって、これら層１４の部分はレンズ１に選択的に接着したままである。パターンＰはレンズ１上に転写されるため、これらはスタンプの表面Ｓの突起部１３のそれらを再生した、レンズの表面に対し平行な形状を持つ。従って、層１４の材料は、レンズ１上にパターンＰを転写するための材料として機能する。スタンプがレンズ１から遠ざけられる時に、表面Ｓの凹部１２に配置される層１４の部分はスタンプと共に取り除かれるが、これはこれらがラテックス層２に接触しないためである。従って、図３の符号４ａを参照すると、金属材料がなく及び表面Ｓの凹部１２に対応する隙間はレンズ１の前面上にある部分３を分離する。スタンプがレンズ１に接触する位置の圧力であり、パターンＰ上の突起部の表面にて０．１グラム  パー  平方ミリメートル（ｇ／ｍｍ２）から６０ｇ／ｍｍ２の範囲である圧力は、振幅ホログラムの生成を可能にする選択的な転写の質を生成することを発明者は示している。このような実施形態にて、十分な結合力を維持するために、ラテックス層２の密度が高くなり始め及び部分的に乾燥し始めるが完全には乾燥していない時に、スタンプはレンズ１に接触する。例として、回転塗布法によりラテックス層が堆積された１０秒間後に、２秒間の間スタンプはレンズに接触させてもよい。次に、転写されたパターンＰを形成する材料の部分３は、層に対し垂直方向におけるラテックス層２と同じレベルに配置され、これらは転写可能な材料のない隙間によって分離される。
【００５１】
図４に示す第２実施形態において、レンズに加えるスタンプの圧力は、突起部１３の間の凹部１２へのラテックス層の浸入を引起こすのに十分なものとなる。従って、表面Ｓの突起部１３は層２に浸入する。この方法において、金属層１４の転写可能な材料の全部分はラテックス層２に接触するため、スタンプが取り除かれた時、層１４の全部分、すなわち、突起部上に存在する転写可能な材料の層と凹部の部分１２ｂに存在する転写可能な材料の層の両方は、完全に層２に結合したまま残る。層２への突起部１３の侵入は、モールディングまたはエンボシングによりその中にマイクロ―レリーフを形成する。従って、レンズ１上に転写されるパターンは、ラテックス層２内において異なる深さのマイクロ―レリーフ成形体に配置された層１４の転写可能な材料のいくつかの部分によって構成される。図４において、符号３及び４ｂである部分はそれぞれ、スタンプの表面Ｓの突起部１３及び凹部１２に対応する。回転塗布法による層２の堆積の１０秒間後にスタンプをレンズ１に接触させ、２秒間の間接触させる時は、レンズ１上に加えられるスタンプの圧力は６０ｇ／ｍｍ２よりも大きくてよいことを発明者は示している。圧力の計算に利用する表面積は、パターンＰを構成する突起部１３のものである。
【００５２】
一旦、ラテックス層２が完全に乾燥してしまうと、接着特性を失い、レンズ１の前面の全部分は接着することなく接触されることが出来る。同時に、層２は転写可能な材料の部分３（領域１３から得られる）、または突起部１３及び凹部１２ｂから得られる、それによって転写されたパターンＰを構成する転写可能な層１４の全部分を確実に固定する。
【００５３】
特に有利に、ラテックス層２もまた衝撃からレンズ１を保護する。実際には、ラテックス層は表面に与えられる衝撃を緩衝することが出来る。従って、本発明に関連し、層２は２つの機能を持ってよい。：転写可能な材料の部分をレンズに固定することに加え、起こりうる衝撃からレンズを保護する。
【００５４】
上部層５がレンズ１の前面に堆積されてもよい。特に、この層５は転写された層Ｐを覆う。ラテックス層２上であり、及びパターンＰを形成する転写された材料の部分３（図３）上またはラテックス内にモールドされたマイクロ―レリーフを覆う転写された層１４の全部分の上（図４）に堆積される前駆体溶液状でよい。このような上部層５は、例えば偏光、吸収、着色、またはレンズ１を通る光をフィルターする機能のような、光学的な機能を持ってもよい。
【００５５】
転写されたパターンが回折ホログラフィック構造を構成する時、ホログラム及びそれが含む情報を再構成することにより回折する読取画像は、転写可能なパターンＰの位置における、レンズ１上のコヒーレント光線の透過または反射によって見えうる。この目的のため、図５によると、ホログラフィックパターンＰは、低出力レーザーペンによって照射される。例えば、波長６４５ｎｍの赤である。既知の方法にて、レーザー１００とパターンＰの距離は画像の再構成には重要ではない。レンズ１を通り抜けた後、少なくとも２つの二次ビーム１０２及び１０３に分離するために、レーザー１００から生じる光線１０１はパターンＰによって回折される。これら２つのビーム１０２及び１０３のそれぞれは、レンズ１から離れて画像を再構成する。例えば、この距離は２０センチメートル（ｃｍ）から５０ｃｍの範囲であってよい。この画像は、２つのビーム１０２または１０３の内の１つの光路にあるスクリーンの機能を果たすオブジェクト１０４を配置することによって明らかになる。使用する光はレーザーから生じるため、スクリーンの機能を果たす何れのオブジェクトを利用してもよい。任意に、迅速及び正確な認識を備えるため、この画像は、例えばＣＣＤ（ｃｈａｒｇｅ  ｃｏｕｐｌｅｄ  ｄｅｖｉｃｅ）またはＣＭＯＳ（ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  ｍｅｔａｌ  ｏｘｉｄｅ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）型のような画像センサに投影されてもよい。図５において、２つのビーム１０２及び１０３のそれぞれに対応する画像は、それぞれ符号１０５及び１０６である。これら２つの画像１０５及び１０６は互いに反対の関係にあるため、これらは、例えば＋１と−１のような、２つの反対の回折次数に対応する。反転しておらず、または“直接画像”である画像は、回折次数＋１に対応し、ホログラフィックパターンＰの読取画像である。
【００５６】
眼科用レンズ１は、メガネのフレームに組み込むことを対象としてよい。メガネの着用者の視力に干渉しないために、パターンＰの寸法は小さく及びレンズ１の端の近くにプリントされてもよい（図５）。例として、転写されたパターンＰは、レンズ１の表面の２５ｍｍ２未満の部分を占めてよい。このパターンは、切除する予定であるレンズの一部上に導入されてもよい。このような状況下において、このパターンは、主に最終的な生成品の生産履歴管理を目的として導入される。このような構造は、転写されたパターンがＣＧＨ型コンピューターによって生成され及びピクセルによって構成されるホログラムに対応する場合において、特に有利である。従って、このようなホログラムは、極めて小さな領域、有利には１５ｍｍ２から０．５ｍｍ２の範囲内に膨大な情報量を含み、例えば、生成及び物流ラインにおける光学製品の完全な生産履歴管理を保証することが出来る。
【００５７】
あるいは、例えば、転写されたパターンＰがレンズに特別な光学的機能を授ける時は、レンズ１の前面の全体を占めてよい。特に、転写されたパターンＰが、既定の方向に平行である導電性ワイヤーの一式によって構成される時、光の偏光に応じてレンズを通り抜ける光をフィルターするために、これが利用される。一般的に、導電性ワイヤーはわずか数１０ナノメートルの幅であり、及びそれらは数１０ナノメートルの間隔とされる。
【００５８】
上記にて詳細に述べたように、転写方法に関し多くの変更が導入されてもよいが、それでもなお、本発明の少なくともいくつかの利点は保持したままである。例として、層１４とスタンプの膜１１の間の表面エネルギーを調整するために、転写可能な材料１４の層より前に、中間層をスタンプの膜１１上に堆積させてもよい。このような調整は、転写可能な材料の部分３のレンズ１上への転写をさらに改善しうる。さらに、レンズ上に転写されたパターンは回折パターン、すなわち、部分３及び／またはそれらの間に存在する隙間４による光の回折の結果生じる可視性を備えてよい。最後に、転写されたパターンは、周囲の照明条件下またはレーザービームによって照射される時でも可視的であってよい。
【００５９】
〈実施例〉
［１．ラテックス層（２）］
本方法の重要なパラメーターは、段階ｃ）が実行される時：すなわち、転写可能な材料の層を含むスタンプの表面をラテックス層に接触させる時のラテックス層の状態である。
【００６０】
この段階の間、ラテックス層は乾燥させてはならない。これは、
・接着性であり、接着層の転写を可能にし；
・変形可能であり、凹部及び突起部によって構成されるマイクロ―レリーフを再構成するためにラテックスの変形を確実に可能にするためである。；このマイクロ―レリーフは、スタンプの表面上においてパターンＰを構成するマイクロ―レリーフと補完的である。
【００６１】
用語ラテックスＡは、Ｂａｘｅｎｄｅｎ社から提供されるＷ２３４ポリウレタン  ラテックスの水溶液に利用されている。これは、２１．６℃及び４４％の相対湿度にて測定された以下の特性を備える。：
・粘度：７センチポアズ（ｃＰ）；
・乾燥抽出物：２２．２５％
【００６２】
１２０ミリメートル（ｍｍ）の曲率半径を持つＯｒｍａ（登録商標）（Ｅｓｓｉｌｏｒ）に基づく眼科用レンズの凸面上に、回転塗布法により、１μｍの厚さを備えるラテックスＡ層が以下の条件下において堆積された。：
・乾燥していない層が堆積するための条件（２１．６℃及び相対湿度４４％）：
・レンズ上に２．５ミリリットル（ｍｌ）のラテックスを分配；
・レンズを１分間当たり回転数２０００（ｒｐｍ）にて１５秒間（ｓ）回転；
・２５００ｒｐｍにて２ｓ回転。
【００６３】
堆積されたラテックス層は、約１０秒間の間その特性を保持する。この時間は、本方法において転写が実行されなければならない時間帯を定義する。
【００６４】
［２．転写されるパターン（３）］
例としてあげられる方法は、それぞれが１μｍの側面を備えた正方形の個々のピクセルによって構成されるデジタルホログラフィックパターンのために最適化されている。
【００６５】
この目的のため、スタンプの膜１１はその表面に、図１ａにて図式的に示すような長方形の外形を備えた凹部１２及び突起部１３で構成されるマイクロ―レリーフを保持している。マイクロ―レリーフの深さ（凹部１２ｂと突起部１３の間の高さの違い）は１μｍとした。
【００６６】
ホログラフィックパターンの特徴には、膜１１によって保持されるマイクロ―レリーフの突起部の幅があり、これは正方形のピクセルの端と平行な軸に沿って測定され、検討しているスタンプの領域によって決定される１μｍから８５μｍの範囲内とした。
【００６７】
［３．パターンを保持するスタンプ（図１ａ）］
転写されるパターンはモールド成形されたＳｙｌｇａｒｄ１８４（登録商標）（１１）（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ）である。１００℃にて１時間重合された後のこの材料の特性は以下であった。
・表面エネルギー：２２ミリニュートン  パー  メートル（ｍＮ／ｍ）；
・ヤング係数：２．５ＭＰａ。
【００６８】
［４．金属層（１４）］
金属層は真空蒸発によって得た。適当な金属材料がるつぼの中に配置され、及びジュール効果を用いて加熱した。事前の表面処理のいずれも実施していないＳｙｌｇａｒｄ１８４スタンプ上にて蒸発が実行された。
金：純度９９．９％である金の蒸発によって厚さ３０ｎｍの層が得られた。
アルミニウム：純度９９．５％である顆粒アルミニウムの蒸発によって厚さ３０ｎｍの層が得られた。
【００６９】
金属層は、眼科用レンズ上に転写されるのと同じ日に蒸着された。
【００７０】
［５．転写（図２ｂ）］
本発明の第１実施形態：層１４の転写は選択的に実行された；初めにスタンプの突起部（１３）上に配置された材料の部分のみ転写された。転写されたホログラフィックパターンは振幅ホログラム型であった。
【００７１】
本発明の第２実施形態：スタンプの表面の突起部はラテックス層内に完全に浸入することが出来た。層１４の全体が転写された。：突起部１３及び凹部１２ｂ上に存在する転写可能な層１４の全部分が転写された。層１４の全部分の転写はラテックス層の永続的なくぼみに付随して生じ、スタンプのパターンＰを構成するマイクロ―レリーフに対し補完的なマイクロ―レリーフが再構成された。転写されたホログラフィックパターンは位相ホログラム型であり、金属層で覆われた。
【００７２】
スタンプは表面に対し直角に接触させた。
【００７３】
転写の結果は、スタンプを接触させる場所における圧力によって決まり、従って、本発明の実施形態では：
圧力が圧力Ｐｌｉｍｉｔを下回る場合：転写は選択的である；これは本発明の第１実施形態による：振幅ホログラム。
圧力が圧力Ｐｌｉｍｉｔを上回る場合：ラテックス層の永続的なくぼみに付随して全体の転写が生じ、スタンプ上のパターンＰを構成するマイクロ―レリーフに対し補完的なマイクロ―レリーフが再構成される。
【００７４】
このＰｌｉｍｉｔは、上記の条件下にて堆積されたラテックス上の３０ｎｍの金またはアルミニウムの層に対し決定された。
【００７５】
Ｐｌｉｍｉｔは、パターンＰを構成するスタンプの突起物１３の表面において４５ｇ／ｍｍ２から６０ｇ／ｍｍ２であった。
【００７６】
以下の表１は様々なテスト条件での結果を示す。
【００７７】
【表１】
0005424645.tif 000002
【００７８】
金の選択的な転写に対して加えた圧力の例：
上記の条件下にて堆積されたラテックス層によって覆われる眼科用レンズ（１２０ｍｍの曲率半径を持つ）の凸表面に対し加えられたスタンプの圧力は、１．５ｇ／ｍｍ２であった。３０ｎｍの金層の転写は選択的であった：得られるホログラムは振幅ホログラムであった。
【００７９】
アルミニウム全体の転写に対して加えた圧力の例であり、ラテックスＡ層の永続的なくぼみを伴い、パターンＰを構成するスタンプの凹部１２及び突起部１３の反対の形状を生成する例：
上記の条件下にて堆積されたラテックス層によって覆われる眼科用レンズ（１２０ｍｍの曲率半径を持つ）の凸表面に対し加えられたスタンプの圧力は、１．５ｇ／ｍｍ２であった。３０ｎｍのアルミニウム層の全体が転写され、及び、ラテックス層は、ラテックス層のマイクロ―レリーフがスタンプの表面上のパターンＰを構成するマイクロ―レリーフの補完的なマイクロ―レリーフであるような、明確に凹凸のある形状であった。得られたホログラムは位相ホログラムであった。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１ａ】本発明による転写方法を用いたスタンプの断面図である
【図１ｂ】本発明による転写方法を用いたスタンプの断面図である
【図２ａ】本発明の方法における後続の段階を示す
【図２ｂ】本発明の方法における後続の段階を示す
【図３】本発明の２つの実施形態による転写されたパターンの断面図である
【図４】本発明の２つの実施形態による転写されたパターンの断面図である
【図５】本発明による転写されたホログラフィックパターンの表示段階を示す
【符号の説明】
【００８１】
Ｓ    表面
Ｐ    パターン
１    基板レンズ
２    ラテックス層
３    転写可能な材料の１つまたはそれ以上の部分
４ａ    隙間
４ｂ    転写可能な材料の１つまたはそれ以上の部分
５    上部層
１０    基板
１１    膜
１２    凹部
１３    突起部
１４    転写可能な材料
２０    液体
３０    支持材
１００    レーザー
１０１    光線
１０２、１０３    二次ビーム
１０４    オブジェクト
１０５、１０６    画像
【図１ａ】
0005424645.tif 000003
【図１ｂ】
0005424645.tif 000004
【図２ａ】
0005424645.tif 000005
【図２ｂ】
0005424645.tif 000006
【図３】
0005424645.tif 000007
【図４】
0005424645.tif 000008
【図５】
0005424645.tif 000009