(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の（Ａ）成分をベースポリマーとするとともに、下記の（Ｂ）および（Ｃ）成分を含有し、かつ、上記（Ｂ）成分の含有量が上記ベースポリマー１００重量部に対して１０〜１５０重量部の範囲に設定され、上記（Ｃ）成分の含有量が上記ベースポリマー１００重量部に対して０．５〜２０重量部の範囲に設定されていることを特徴とする高減衰材料組成物。
（Ａ）極性側鎖を有するアクリル系モノマーから誘導される構造単位を主成分とし、側鎖に架橋点を有する架橋点モノマーから誘導される構造単位を有するアクリル系ゴム。
（Ｂ）ヒンダードフェノール系化合物、亜リン酸エステル系化合物、リン酸エステル系化合物および含窒素塩基性化合物からなる群から選ばれた少なくとも一つの減衰性付与剤。
（Ｃ）架橋剤。
【請求項２】
（Ａ）〜（Ｃ）成分に加えて架橋促進剤を含有し、この架橋促進剤含有下において、上記（Ｃ）成分である架橋剤と架橋促進剤の合計含有量がベースポリマー１００重量部に対して０．５〜２０重量部の範囲に設定されている請求項１記載の高減衰材料組成物。
【請求項３】
（Ｃ）成分である架橋剤が、トリアジン系架橋剤、金属石鹸系架橋剤、アミン系架橋剤およびイミダゾール系架橋剤からなる群から選ばれた少なくとも一つである請求項１または２記載の高減衰材料組成物。
【請求項４】
上記（Ａ）成分のアクリル系ゴムが、下記の一般式（１）で表されるアクリル系モノマーから誘導される構造単位、および下記の一般式（２）で表されるエチレン−アクリル系共重合体から誘導される構造単位の少なくとも一方を主成分とするものである請求項１〜３のいずれか一項に記載の高減衰材料組成物。
【化１】
0003724233.tif 000023
【化２】
0003724233.tif 000024
【請求項５】
上記（Ａ）成分のアクリル系ゴムが、下記の一般式（３）で表されるエチレン−酢酸ビニル共重合体から誘導される構造単位を併用したものである請求項４記載の高減衰材料組成物。
【化３】
0003724233.tif 000025
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高減衰材料組成物に関するものであり、詳しくは、音響ルームの遮音壁、建築構造体の遮音間仕切り、車両の防音壁等に適用される振動や騒音を吸収する制振材・防音材等として有用な高減衰材料組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、高減衰材料組成物として用いられる高分子系材料は、典型的な粘弾性挙動を呈するものであり、その材料微小部が何等かの原因で振動すると、それぞれの材料微小部に、複素正弦歪（ε* ）が発生し、これにより複素正弦応力（σ* ）が発生する。複素弾性係数（Ｅ* ）は、次式に示したように、これらの比をとったものである。
複素弾性係数（Ｅ* ）＝複素正弦応力（σ* ）／複素正弦歪（ε* ）
【０００３】
上記複素弾性係数（Ｅ* ）の実数部は、高分子系材料の弾性的な性質に係る貯蔵弾性係数（Ｅ′）と定義され、上記複素弾性係数（Ｅ* ）の虚数部は、高分子系材料の粘性的な性質に係る損失弾性係数（Ｅ′′）と定義される。損失正接（ｔａｎδ）は、次式に示したように、これらの比をとったものである。
損失正接（ｔａｎδ）＝損失弾性係数（Ｅ′′）／貯蔵弾性係数（Ｅ′）
【０００４】
上記損失正接（ｔａｎδ）は、防音・制振特性を決定する因子の一つであり、この値が高いほど力学的エネルギーを電気あるいは熱エネルギーとして吸収・放出して、優れた吸音性や制振性等の機械特性を示すことが知られている。従来、高減衰材料組成物の損失正接（ｔａｎδ）として求められる値は、０．５以上である。
【０００５】
上記従来の要求特性（ｔａｎδ≧０．５）を満たした高減衰材料組成物としては、例えば、高分子系複合材料が知られている。上記高分子系複合材料は、ポリマーアロイあるいは高分子網目構造を有する高分子化合物をベースポリマーとしており、このベースポリマーに充填剤（マイカ等）や可塑剤を添加し、所定の製造工程を経て得られたものである。上記ベースポリマーとして用いられる特定の高分子化合物としては、例えば、各種ゴム材料、高分子樹脂材料（ポリスチレン、ポリイソブチレン、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン等）の他に、エラストマー樹脂材料等が用いられている。
【０００６】
また、本出願人は、他の高減衰材料組成物として、極性側鎖を有するベースポリマーに、第２級アミン，第３級アミンおよび含窒素複素環からなる群から選ばれた少なくとも一つの塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質からなる減衰性付与剤を配合したものを提案している（特願平９−３６２１２５号）。具体的には、上記ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを、上記減衰性付与剤としてＮ−シクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド等を用いたものである。上記高減衰材料組成物は、損失正接（ｔａｎδ）が１．０を超えており、一応の成果が得られている。
【０００７】
しかし、上述した種々の高減衰材料組成物は、従来の要求特性（ｔａｎδ≧０．５）に応えているとはいえ、それらが使用される環境あるいは、その用途等の要請から、より優れたｔａｎδ（ｔａｎδ≧２．０、さらに好ましくはｔａｎδ≧２．５）を発現できるものが望まれている。
【０００８】
そこで、本出願人は、より優れたｔａｎδを発現できる高減衰材料組成物として、塩基性の極性側鎖を有する塩基性ポリマーをベースポリマーとし、これに特定の減衰性付与剤を含有したものを提案している（特願平１０−２１５４０６号）。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上記特願平１０−２１５４０６号に係る高減衰材料組成物は、塩基性ポリマー中の極性側鎖と特定の減衰性付与剤とが水素結合して、いわゆる疑似架橋を形成するため、より優れたｔａｎδを発現でき、高減衰性に優れている。しかしながら、上記高減衰材料組成物は、圧縮永久歪み特性に劣るという難点がある。この理由は、一般に、圧縮永久歪み特性は、高減衰材料組成物のガラス転移点を超える温度で２５％の圧縮をかけて放置した時の特性であるため、このような温度では、上記水素結合の殆どが解離することに起因する。このように、高減衰性を維持しつつ、圧縮永久歪み特性に優れた高減衰材料組成物は未だ得られていないのが実情である。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、高減衰性を維持しつつ、圧縮永久歪み特性に優れた高減衰材料組成物の提供をその目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明の高減衰材料組成物は、下記の（Ａ）成分をベースポリマーとするとともに、下記の（Ｂ）および（Ｃ）成分を含有し、かつ、上記（Ｂ）成分の含有量が上記ベースポリマー１００重量部に対して１０〜１５０重量部の範囲に設定され、上記（Ｃ）成分の含有量が上記ベースポリマー１００重量部に対して０．５〜２０重量部の範囲に設定されているという構成をとる。
（Ａ）極性側鎖を有するアクリル系モノマーから誘導される構造単位を主成分とし、側鎖に架橋点を有する架橋点モノマーから誘導される構造単位を有するアクリル系ゴム。
（Ｂ）ヒンダードフェノール系化合物、亜リン酸エステル系化合物、リン酸エステル系化合物および含窒素塩基性化合物からなる群から選ばれた少なくとも一つの減衰性付与剤。
（Ｃ）架橋剤。
【００１２】
すなわち、本発明者らは、高減衰性を維持しつつ、圧縮永久歪み特性に優れた高減衰材料組成物を得るため鋭意研究を重ねた。その研究の過程で、ベースポリマーを共有結合により架橋すると、ガラス転移点を超える温度でも、共有結合が解離することがなく、その結果、圧縮永久歪み特性を改善できるのではないかと想起した。しかし、ベースポリマーの架橋密度が高すぎると、自由体積を確保することができず、高減衰性が失われるため、好ましいベースポリマーの種類および架橋剤の配合割合について研究を続けた。その結果、側鎖に架橋点を有する架橋点モノマーから誘導される構造単位を有する特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）を、特定の割合の架橋剤（Ｃ成分）を用いて架橋すると、ベースポリマーの側鎖に共有結合による架橋が形成され、自由体積を確保できるため、高減衰性を維持しつつ、圧縮永久歪み特性に優れた高減衰材料組成物が得られることを見出し、本発明に到達した。
【００１３】
そして、上記架橋剤（Ｃ成分）とともに架橋促進剤を特定の割合で用いると、共有結合による架橋を容易に施すことができる。
【００１４】
また、上記特定の架橋剤（Ｃ成分）を用いると、特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）中の架橋点に応じた架橋剤を選択することができ、共有結合による架橋を容易に施すことができる。
【００１５】
さらに、上記減衰性付与剤（Ｂ成分）の含有量を特定の範囲に設定することにより、特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）中の極性側鎖との水素結合（疑似架橋）を適切に施すことができ、より優れた高減衰性を発現することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態を詳しく説明する。
【００１７】
本発明の高減衰材料組成物は、特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）をベースポリマーとするとともに、特定の減衰性付与剤（Ｂ成分）および架橋剤（Ｃ成分）を含有し、かつ、上記特定の減衰性付与剤（Ｂ成分）および上記架橋剤（Ｃ成分）の含有量が、それぞれ特定の範囲に設定されたものである。
【００１８】
上記ベースポリマーとして用いられる特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）は、極性側鎖を有するアクリル系モノマーから誘導される構造単位を主成分とし、側鎖に架橋点を有する架橋点モノマーから誘導される構造単位を有するものである。
【００１９】
上記特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）の主成分である、極性側鎖を有するアクリル系モノマーから誘導される構造単位としては、前記特定の減衰性付与剤（Ｂ成分）と水素結合（疑似架橋）可能なものであれば特に限定するものではない。具体的には、下記の一般式（１）で表されるアクリル系モノマーから誘導される構造単位、下記の一般式（２）で表されるエチレン−アクリル系共重合体から誘導される構造単位等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。なお、下記の一般式（３）で表されるエチレン−酢酸ビニル共重合体から誘導される構造単位を併用しても差し支えない。
【００２０】
【化４】
0003724233.tif 000002
【００２１】
【化５】
0003724233.tif 000003
【００２２】
【化６】
0003724233.tif 000004
【００２３】
上記一般式（１）および（２）において、Ｒで表される有機基としては極性基であれば特に限定はなく、例えば、メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基等のアルキル基や、メトキシエチル基、エトキシエチル基等のアルコキシル基等があげられる。なかでも、耐熱性、耐油性、耐候性の点で、メチル基、エチル基が好ましい。
【００２４】
前記特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）の構成成分である、側鎖に架橋点を有する架橋点モノマーから誘導される構造単位としては、側鎖で共重結合による架橋を形成するものであれば特に限定するものではない。具体的には、下記の一般式（４）で表されるクロロ酢酸ビニル（架橋点：活性塩素基）から誘導される構造単位、下記の一般式（５）で表されるアリルグリシジルエーテル（架橋点：エポキシ基）から誘導される構造単位、下記の一般式（６）で表されるアクリル酸（架橋点：カルボキシル基）から誘導される構造単位等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００２５】
【化７】
0003724233.tif 000005
【００２６】
【化８】
0003724233.tif 000006
【００２７】
【化９】
0003724233.tif 000007
【００２８】
上記特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）とともに用いられる減衰性付与剤（Ｂ成分）としては、ヒンダードフェノール系化合物、亜リン酸エステル系化合物、リン酸エステル系化合物、含窒素塩基性化合物が用いられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。このように、減衰性付与剤（Ｂ成分）として上記特定の化合物を用いるのは、これら化合物は上記特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）中の極性側鎖と水素結合（疑似架橋）して、高減衰性を発現するからである。
【００２９】
上記ヒンダードフェノール系化合物としては、酸化防止剤である、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、４，４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ペンタエリスリチル−テトラ〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ベンゼン、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−4 −ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ｐ−クレゾールとジシクロペンタジエンのブチル化反応生成物、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノン等、紫外線吸収剤である、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−ブタン等、光安定剤である、１−〔２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−４−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００３０】
前記亜リン酸エステル系化合物としては、例えば、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００３１】
前記リン酸エステル系化合物としては、例えば、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、クレジル−ジ−２，６−キシレニルホスフェート等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００３２】
前記含窒素塩基性化合物としては、グアニジン系のＮ，Ｎ′−ジフェニルグアニジン、スルフェンアミド系のＮ−シクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド、ヒンダードアミン系のテトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β′，β′−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン）ジエタノールとの縮合物、ベーターアラニン，Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ドデシルエステルおよびテトラデシルエステル混合物、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ピロリジン−２，５−ジオン、Ｎ−アセチル−３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ピロリジン−２，５−ジオン、イソシアヌレート系のトリス（２，３−ジブロモプロピル）イソシアヌレート、シアノアクリレート系のエチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、オクチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、ポリエチレンイミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００３３】
上記減衰性付与剤（Ｂ成分）の配合割合は、前記ベースポリマー１００重量部（以下「部」と略す）に対して１０〜１５０部の範囲に設定する必要があり、特に好ましくは３０〜５０部である。すなわち、１０部未満であると、特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）中の極性側鎖との水素結合（疑似架橋）の割合が少なくなりすぎ、高減衰性を発現することが困難となり、１５０部を超えると、ブルーム現象が起こり、またコストが高くなりすぎるからである。
【００３４】
前記Ａ成分およびＢ成分とともに用いられる架橋剤（Ｃ成分）としては、例えば、トリアジン系架橋剤、金属石鹸系架橋剤、アミン系架橋剤、カルバメート塩系架橋剤、イミダゾール系架橋剤、硫黄系架橋剤等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００３５】
上記トリアジン系架橋剤としては、例えば、２，４，６−トリメルカプト−Ｓ−トリアジン等があげられる。
【００３６】
上記金属石鹸系架橋剤としては、例えば、式ＣＨ3 （ＣＨ2 ）16ＣＯＯＫで表されるステアリン酸カリウム、式ＣＨ3 （ＣＨ2 ）16ＣＯＯＮａで表されるステアリン酸ナトリウム等があげられる。
【００３７】
上記アミン系架橋剤としては、例えば、式Ｈ3 + Ｎ（ＣＨ2 ）6 ＮＨＣＯ2 - で表されるヘキサメチレンジアミンカルバメート、安息香酸アンモニウム、下記の一般式（７）で表される置換ジフェニルアミン等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００３８】
【化１０】
0003724233.tif 000008
【００３９】
上記カルバメート塩系架橋剤としては、例えば、Ｚｉｎｃジメチルジチオカルバメート、Ｚｉｎｃジ−ｎ−ブチルジチオカルバメート等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００４０】
上記イミダゾール系架橋剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジオルトトリルグアニジン等があげられる。
【００４１】
上記硫黄系架橋剤としては、例えば、硫黄、２−メルカプトイミダゾリン、ジペンタメチレンチウラムペンタサルファイド等があげられる。
【００４２】
上記架橋剤（Ｃ成分）の含有量は、ベースポリマー１００部に対して０．５〜２０部の範囲に設定する必要があり、好ましくは１．５〜５部である。すなわち、含有量が０．５部未満であると、共有結合による架橋の割合が少なすぎ、圧縮永久歪み特性を改善することができず、逆に２０部を超えると、共有結合による架橋の割合が高くなりすぎて反発弾性が高くなり、高減衰性が失われるからである。なお、後述する架橋促進剤を併用する場合は、上記架橋剤（Ｃ成分）と架橋促進剤の合計含有量が、前記ベースポリマー１００部に対して０．５〜２０部の範囲になるよう設定する必要がある。
【００４３】
本発明の高減衰材料組成物には、上記架橋剤（Ｃ成分）とともに架橋促進剤を用いることができる。上記架橋促進剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジエチルチオウレア、Ｆｅｒｒｉｃジメチルジチオカルバメート、牛脂脂肪酸ソーダ石鹸等があげられる。
【００４４】
また、本発明の高減衰材料組成物には、前記各成分の他に、硬度、強度、加工性等の向上、あるいは重量化等を図るために、充填剤を必要に応じて配合することができる。上記充填剤としては、例えば、マイカ，タルク，クレー，炭酸カルシウム等の無機微粉末や、セルロース粉末等の有機微粉末等があげられる。
【００４５】
また、本発明の高減衰材料組成物には、ｔａｎδピーク温度の広域化を図るために、非結晶性樹脂を適宜配合することができる。上記非結晶性樹脂としては、例えば、クマロン樹脂、フェノール樹脂、ケトン樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、マレイン樹脂、エステル化ロジン、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂等があげられ、これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００４６】
さらに、本発明の高減衰材料組成物には、着色剤（顔料、染料）、光沢剤、老化防止剤、粘着付与剤、難燃剤、発泡剤、発泡助剤、加工助剤、オゾン劣化防止剤、ブロッキング防止剤、耐候剤、耐熱剤、分散剤、相溶化剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤等を適宜配合することができる。
【００４７】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
【００４８】
まず、実施例および比較例に先立ち、下記に示す材料を準備した。
【００４９】
〔アクリル系ゴム〕
アクリルゴム（ニポールＡＲ５１、日本ゼオン社製）
【００５０】
アクリルゴム（ニポールＡＲ７１、日本ゼオン社製）
【００５１】
エチレン−メチルアクリレート共重合体（架橋点：エチレン部）から誘導される構造単位を主成分とし、アクリル酸（架橋点：カルボキシル基）から誘導される構造単位を有するエチレン−アクリルゴム（ベーマックＧ、昭和電工・デュポン社製）
【００５２】
アクリルゴム（デンカＥＲ３４００、電気化学社製）
【００５３】
〔減衰性付与剤（ヒンダードフェノール系化合物）〕
下記の式で表される３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（アデカスタブＡＯ−８０、旭電化工業社製）
【化１１】
0003724233.tif 000009
【００５４】
〔架橋剤〕
下記の式で表される安息香酸アンモニウム（バルノックＡＢＳ、大内新興化学社製）
【化１２】
0003724233.tif 000010
【００５５】
下記の式で表されるＺｉｎｃジメチルジチオカルバメート（ノクセラーＰＺ、大内新興化学社製）
【化１３】
0003724233.tif 000011
【００５６】
下記の式で表されるＺｉｎｃジブチルジチオカルバメート（ノクセラーＢＺ−Ｇ、大内新興化学社製）
【化１４】
0003724233.tif 000012
【００５７】
硫黄（サルファックスＰＭＧ、鶴見化学工業社製）
【００５８】
式ＣＨ3 （ＣＨ2 ）16ＣＯＯＫで表されるステアリン酸カリウム（ノンサールＳＫ−１、日本油脂社製）
【００５９】
下記の式で表される２，４，６−トリメルカプト−Ｓ−トリアジン（ジスネットＦ−ｐｔ、日本ゼオン社製）
【化１５】
0003724233.tif 000013
【００６０】
式Ｈ3 + Ｎ（ＣＨ2 ）6 ＮＨＣＯ2 - で表されるヘキサメチレンジアミンカルバメート（ダイアック＃１、昭和電工・デュポン社製）
【００６１】
下記の式で表されるＮ，Ｎ′−ジオルトトリルグアニジン（ノクセラーＤＴ、大内新興化学社製）
【化１６】
0003724233.tif 000014
【００６２】
〔架橋促進剤〕
下記の式で表されるＦｅｒｒｉｃジメチルジチオカルバメート（ノクセラーＴＴＦＥ、大内新興化学社製）
【化１７】
0003724233.tif 000015
【００６３】
牛脂脂肪酸ソーダ石鹸（ＮＳソープ、花王社製）
【００６４】
下記の式で表されるＮ，Ｎ′−ジエチルチオウレア（ノクセラーＥＵＲ、大内新興化学社製）
【化１８】
0003724233.tif 000016
【００６５】
〔加工助剤〕
ステアリン酸（ルーナックＳ３０、花王社製）
【００６６】
【実施例１】
まず、ベースポリマーであるアクリルゴム（ニポールＡＲ５１、日本ゼオン社製）１００部に、減衰性付与剤（Ｂ成分）であるヒンダードフェノール系化合物（アデカスタブＡＯ−８０、旭電化工業社製）４０部、架橋剤（Ｃ成分）である安息香酸アンモニウム（バルノックＡＢＳ、大内新興化学社製）１．５部およびその他の成分を後記の表１に示す割合で配合した。これを室温で約１５〜２０分間程度、２本ロールを用いて混練した。つぎに、この混練材料を熱プレス機を用いて所定の型枠内で、減衰性付与剤の融点より２０℃以上高い温度で、１０分間程度溶融プレス成形した。その後、１５℃程度の温度条件下、これに１３０ｋｇ／ｃｍ2 の面圧をかけて冷却プレス成形し、これを厚み２ｍｍのシートとした。
【００６７】
【実施例２〜１２、比較例１〜４】
減衰性付与剤（Ｂ成分）であるヒンダードフェノール系化合物の配合割合、架橋剤（Ｃ成分）と架橋促進剤の種類および配合割合を、下記の表１〜表３に示すように変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、厚み２ｍｍのシートを得た。
【００６８】
【表１】
0003724233.tif 000017
【００６９】
【表２】
0003724233.tif 000018
【００７０】
【表３】
0003724233.tif 000019
【００７１】
このようにして得られた実施例品および比較例品のシートを用いて、比重、硬度、引張強度、伸び、引裂き強度、圧縮永久歪み、反発弾性およびｔａｎδを測定した。なお、ｔａｎδは、周波数１０Ｈｚ、歪み１０μｍの条件で、動的粘弾性測定装置（ＴＡインスツルメント社製のＤＭＡ）を用いて測定し、その他の特性はＪＩＳ  Ｋ  ６３０１に準じて測定した。これらの結果を下記の表４〜表６に併せて示した。
【００７２】
【表４】
0003724233.tif 000020
【００７３】
【表５】
0003724233.tif 000021
【００７４】
【表６】
0003724233.tif 000022
【００７５】
上記表４〜表６の結果から、実施例品は、圧縮永久歪みが大幅に改善され、また、反発弾性が小さく、高減衰性を発現することがわかる。
【００７６】
これに対して、比較例１品は、架橋剤を用いていないため、共有結合による架橋がなく、圧縮永久歪みが著しく劣ることがわかる。比較例２品は、架橋剤の割合が少なすぎるため、圧縮永久歪みに劣ることがわかる。比較例３品および比較例４品は、架橋剤の割合が多すぎるため、反発弾性が高く、高減衰性が失われていることがわかる。
【００７７】
〔その他の実施例〕
なお、前記減衰性付与剤（Ｂ成分）であるヒンダードフェノール系化合物に代えて、亜リン酸エステル系化合物、リン酸エステル系化合物および含窒素塩基性化合物を用いた場合も、上記ヒンダードフェノール系化合物を用いた場合と同様に優れた効果が得られた。
【００７８】
【発明の効果】
以上のように、本発明の高減衰材料組成物は、特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）をベースポリマーとするとともに、特定の減衰性付与剤（Ｂ成分）および架橋剤（Ｃ成分）を含有し、かつ、上記架橋剤（Ｃ成分）の含有量が特定の範囲に設定されたものである。そして、上記ベースポリマーとして用いる特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）は、極性側鎖を有するアクリル系モノマーから誘導される構造単位を主成分とし、側鎖に架橋点を有する架橋点モノマーから誘導される構造単位を有するものである。その結果、上記極性側鎖と特定の減衰性付与剤（Ｂ成分）とが水素結合（疑似架橋）して、高減衰性を発現するとともに、側鎖で共有結合による架橋を形成するため、圧縮永久歪み特性を大幅に改善することができるという効果を奏する。
【００７９】
そして、上記架橋剤（Ｃ成分）とともに架橋促進剤を特定の割合で用いると、共有結合による架橋を容易に施すことができる。
【００８０】
また、上記特定の架橋剤（Ｃ成分）を用いると、特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）中の架橋点に応じた架橋剤を選択することができ、共有結合による架橋を容易に施すことができる。
【００８１】
さらに、上記減衰性付与剤（Ｂ成分）の含有量を特定の範囲に設定することにより、特定のアクリル系ゴム（Ａ成分）中の極性側鎖との水素結合（疑似架橋）を適切に施すことができ、より優れた高減衰性を発現することができる。
【００８２】
なお、未架橋ゴムを用いてプレス成形すると、製品中に泡が残るが、本発明のように架橋ゴムを用いると、プレス成形の際に消泡の効果があり、製品中に泡が残らなくなる。また、本発明によると、プレス成形の際の高温による塑性変形がなくなり、形を維持できるため、シート形状のみでなく、ダンパー等の成型品として利用することができる。
【００８３】
このように優れた本発明の高減衰材料組成物は、その応用範囲が極めて広く、音響ルームの遮音壁、建築構造体の遮音間仕切り、車両の防音壁等に適用される振動や騒音を吸収する制振材・防音材として有用である。また、本発明の高減衰材料組成物は、例えば、免震材、靴底、テニスラケット，卓球ラケット，野球バット，ゴルフクラブ，ホッケークラブ等のグリップ部の制振材、電気機器等のＣＤ読取部の制振材、パソコン落下時等の緩衝材、蛇口ハンマーリング用制振材等にも使用することができる。