(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板を有し、前記第１基板には、互いに絶縁された状態で交差するように形成された複数の走査線及び信号線と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素とを備え、前記第２基板には、平面視で、前記走査線及び信号線に対向する位置に形成された遮光層と、前記走査線及び信号線よって区画されたサブ画素毎に形成されたカラーフィルター層とを備え、前記第１基板に透明電極が備えられた液晶表示パネルにおいて、
前記第１基板には、複数箇所に、前記走査線と共に当該走査線と同じ材料で形成された行方向又は列方向に延在された第１の目盛パターンと、前記第１の目盛パターンを形成してから前記信号線と共に当該信号線と同じ材料で形成された列方向又は行方向に延在された第２の目盛パターンとが形成されており、前記第２基板には、前記第１及び第２の目盛パターンにそれぞれ対向する位置に、行方向に延在された第３の目盛パターン及び列方向に延在された第４の目盛パターンが形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記第３の目盛パターン及び第４の目盛パターンは、前記カラーフィルター層と同じ材料で形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記遮光層は、互いに隣接する前記カラーフィルター層の端部を重ね合わせて形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素毎に形成された前記透明電極は画素電極であり、前記第１基板には、更に前記画素電極と互いに電気的に絶縁された状態で形成された共通電極とを備えていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記透明電極は、前記第１基板及び前記第２基板のそれぞれに一層ずつ形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示パネルを備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高精細化された液晶表示パネル及びこれを用いた電子機器に関し、特に、一
対の基板の位置合わせが正確にできるようにした良好な表示画質が得られる高精細化され
た液晶表示パネル及びこれを用いた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、薄型化、軽量化及び小型化などができる利点を有していることから
、各種の電子機器、例えば、テレビジョン、パーソナルコンピューター、携帯電話機やそ
の他の携帯用情報端末などの表示装置として多く使用されている。液晶表示パネルは、ガ
ラス板などから形成された一対のアレイ基板及びカラーフィルター基板を有し、これらの
一対の基板間の外周側に枠シール材が配置されて両基板間に所定の空間が形成されるよう
に貼り合わされ、この空間内に液晶が封入された構成を備えている。
【０００３】
液晶表示パネルには、表示画面の高透過率化及び高コントラスト化が求められている。
そのため、カラーフィルター基板に設けられるカラーフィルターについても様々な改良が
行われている。一般に、カラーフィルター基板に用いられる遮光層としては、クロム等の
金属膜からなる遮光層や樹脂製の遮光層が用いられている。
【０００４】
これらのカラーフィルター基板に形成される遮光層は、表示領域においては、アレイ基
板の走査線及び信号線と平面視で重畳するように形成することによって遮光部分の面積を
小さくし、開口率が大きくなるようになされている。しかしながら、アレイ基板及びカラ
ーフィルター基板の貼り合わせに対しては位置合わせ誤差が生じるため、カラーフィルタ
ー層に形成する遮光部材はこの位置合わせ誤差を見込んで太くされている。そのため、金
属膜からなる遮光層や樹脂製の遮光層を用いた場合、高精細化された液晶表示パネルでは
、開口率を向上させることが困難である。
【０００５】
これらの問題点を解決する手段として、例えば、下記特許文献１には、カラーフィルタ
ー基板に形成する遮光膜として異なる色のカラーフィルターを積層することで遮光膜を形
成した液晶表示パネルが開示されている。すなわち、下記特許文献１に開示された液晶表
示パネルによれば、赤、緑、青の各カラーフィルター材料層を所定位置に順に形成する際
、相隣り合う異なる色彩のカラーフィルター材料の端部を重ね合わせて遮光層を形成する
ことにより、従来の金属膜からなる遮光層や樹脂製の遮光層よりも幅を細く形成できるの
で、高開口率化を図ることができるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３１０７９１号公報
【特許文献２】特開２０００−２５００２１号公報
【特許文献３】特開２００７−１９３３７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１に開示されている液晶表示パネルによれば、アレイ基板及びカラーフィ
ルター基板の貼り合わせに際しては、各色のカラーフィルター層がストライプ状に形成さ
れているため、少なくとも列方向の貼り合わせずれは混色の原因とはならない。しかも、
上記特許文献１に開示されている液晶表示パネルは、縦電界方式の液晶表示パネルであっ
ても、横電界方式の液晶表示パネルであっても、適用可能である。
【０００８】
しかしながら、積層したカラーフィルターを遮光膜として利用するようにすると、カラ
ーフィルター基板とアレイ基板の位置合わせに高精度が要求される。これは、遮光膜がカ
ラーフィルター基板に形成された積層したカラーフィルターからなる場合、カラーフィル
ター基板とアレイ基板との貼り合わせの際に行方向及び列方向の何れかの方向に位置ずれ
が生じると、混色を起こしてしまうためである。このような問題点は、特に高精細化され
た液晶表示パネルの場合には大きく現れる。
【０００９】
このようなアレイ基板及びカラーフィルター基板の貼り合わせに際する位置ずれを少な
くするため、アレイ基板及びカラーフィルター基板の周辺部に位置確認用マーク（上記特
許文献２参照）ないし位置確認用パターン（以下、「目盛パターン」という。上記特許文
献３参照。）を形成することが行われている。特に目盛パターンは、行方向及び列方向の
位置ずれの程度を定量的に把握できるため、高精度の位置合わせが要求される場合にも良
好な効果を奏することができる。
【００１０】
しかしながら、従来の目盛パターンは、アレイ基板側ではゲートメタルによって形成さ
れており、カラーフィルター基板側では遮光層によって形成されていた。しかしながら、
液晶表示パネルの作成に際しては、信号線を作製する際の露光用マスクの位置ずれも考慮
する必要がある。従来のアレイ基板側の目盛パターンは、ゲートメタルによって形成され
ているため、信号線を作製する際の露光用マスクの位置ズレ等に起因する信号線の位置ズ
レについては考慮されていない。
【００１１】
本発明は、上述のような従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、信号
線の位置ズレをも考慮したアレイ基板及びカラーフィルター基板の位置合わせが正確にで
きるようにし、コントラストが良好で、混色が少なく、良好な表示画質が得られる高精細
化された液晶表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明の液晶表示パネルは、液晶層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板を有し、前記第１基板には、互いに絶縁された状態で交差するように形成された複数の走査線及び信号線と、前記走査線及び信号線によって区画されたサブ画素とを備え、前記第２基板には、平面視で、前記走査線及び信号線に対向する位置に形成された遮光層と、前記走査線及び信号線よって区画されたサブ画素毎に形成されたカラーフィルター層とを備え、前記第１基板に透明電極が備えられた液晶表示パネルにおいて、
前記第１基板には、複数箇所に、前記走査線と共に当該走査線と同じ材料で形成された行方向又は列方向に延在された第１の目盛パターンと、前記第１の目盛パターンを形成してから前記信号線と共に当該信号線と同じ材料で形成された列方向又は行方向に延在された第２の目盛パターンとが形成されており、前記第２基板には、前記第１及び第２の目盛パターンにそれぞれ対向する位置に、行方向に延在された第３の目盛パターン及び列方向に延在された第４の目盛パターンが形成されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の液晶表示パネルにおいては、第１基板には、複数箇所に、走査線と同じ材料で
形成された行方向又は列方向に延在された第１の目盛パターンと、信号線と同じ材料で形
成された列方向又は行方向に延在された第２の目盛パターンとが形成されている。なお、
第１の目盛パターンと第２の目盛パターンとは、一方が行方向に延在されるように形成さ
れた場合、他方は列方向に延在されるように形成された状態となる。また、第１の目盛パ
ターン及び第２の目盛パターンは、同じであっても異なっていてもよく、任意の目盛パタ
ーンを採用できる。
【００１４】
本発明の液晶表示パネルにおいては、信号線の形成時にマスクずれ等が生じた場合、こ
のマスクずれは列方向に形成された第１又は第２の目盛パターンにも現れる。そのため、
第１基板に形成された第１及び第２の目盛パターンと第２基板に形成された第３及び第４
の目盛パターンとが正確に重なるように、第１基板及び第２基板を位置合わせすれば、た
とえ信号線の形成時にマスクずれが生じていても、第２基板に形成されている遮光層は正
確に信号線に対向する位置に配置することができる。従って、本発明の液晶表示パネルに
よれば、遮光層の位置ずれを抑制できるため、遮光層の幅を細くしても光漏れを抑制する
ことができ、コントラストが良好で、開口率が大きく、混色が少なく、良好な表示画質が
得られる高精細化された液晶表示パネルが得られる。
【００１５】
また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記第３の目盛パターン及び第４の目盛パ
ターンは、前記カラーフィルター層と同じ材料で形成されたものであることが好ましい。
【００１６】
本発明の液晶表示パネルによれば、第３及び第４の目盛パターンをカラーフィルター層
と同じ材料で形成したので、別途第３及び第４の目盛パターンを形成するための工程を設
ける必要がなくなると共に、使用材料の数を減らすことができる。なお、これらの第３及
び第４の目盛パターンは、単一層として、あるいは複数層重なった状態として、形成して
もよい。
【００１７】
また、第１及び第２の目盛パターンは、走査線ないし信号線と同じ材料で形成されてい
るから、アルミニウム等の金属材料からなっており、金属光沢を有している。それに対し
、第３及び第４の目盛パターンは、単一層で形成しても、対応するカラーフィルター層の
色に対応した色を有することとなるため、明確に第１及び第２の目盛パターンと区別して
視認することができる。そのため、本発明の液晶表示パネルによれば、第１基板及び第２
基板の位置合わせを容易にかつ正確に行うことができるようになる。
【００１８】
また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記遮光層は、互いに隣接する前記カラー
フィルター層の端部を重ね合わせて形成されたものであることが好ましい。
【００１９】
本発明の液晶表示パネルによれば、個々のサブ画素の両側に位置する第１基板の信号線
に対応する位置には、従来の金属膜からなる遮光層や樹脂製の遮光層を形成しなくても、
隣接するカラーフィルター層同士が重なるように形成することにより、容易に遮光膜を形
成することができる。なお、この互いに隣接する前記カラーフィルター層の端部を重ね合
わせて形成された遮光層は、信号線に対向する位置だけでなく、走査線やスイッチング素
子に対向する位置に形成してもよい。
【００２０】
また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記走査線及び信号線によって区画された
サブ画素毎に形成された前記透明電極は画素電極であり、前記第１基板には、更に前記画
素電極と互いに電気的に絶縁された状態で形成された共通電極とを備えているものとする
ことができる。
【００２１】
本発明の液晶表示パネルは、第１基板に画素電極と共通電極とが形成されているため、
横電界方式の液晶表示パネルとなる。そのため、本発明の液晶表示パネルによれば、第１
基板と第２基板との位置ずれが少なく、コントラストが良好で、開口率が大きく、混色が
少なく、良好な表示画質が得られる高精細化された横電界方式で作動する液晶表示パネル
が得られる。なお、本発明の横電界方式の液晶表示パネルは、ＦＦＳモードで作動するも
のだけでなく、ＩＰＳモードで作動するものにも適用可能である。
【００２２】
また、本発明の液晶表示パネルにおいては、前記透明電極は、前記第１基板及び前記第
２基板のそれぞれに一層ずつ形成されていることが好ましい。
【００２３】
本発明の液晶表示パネルによれば、正確に第１基板及び第２基板の位置合わせができる
ので、高開口率であり、コントラストが良好で、混色が少なく、良好な表示画質が得られ
る高精細化された縦電界方式で作動する液晶表示パネルが得られる。
【００２４】
上記目的を達成するため、本発明の電気機器は、上記何れかに記載の液晶表示パネルを
備えていることを特徴とする。
【００２５】
本発明の電子機器によれば、上記の効果を奏することができる液晶表示パネルを備えた
電子機器が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】実施形態のＦＦＳモードの液晶表示パネルの平面図である。
【図２】実施形態のＦＦＳモードの液晶表示パネルの１サブ画素分の平面図である。
【図３】図３Ａは図３のIIIＡ−IIIＡ線に沿った断面図であり、図３Ｂは図２のIIIＢ−IIIＢ線に沿った断面図である。
【図４】図４Ａは数サブ画素分のアレイ基板の平面図であり、図４Ｂは同じくカラーフィルター基板の平面図である。
【図５】図５（ａ）〜図５（ｃ）はそれぞれ図４のＶＡ−ＶＡ線及びＶＢ−ＶＢ線に沿った部分の製造工程順に示す断面図である。
【図６】図６Ａは図１のVI部分の第１及び第２の目盛パターンの平面図であり、図６Ｂは同じく第３及び第４の目盛パターンの平面図であり、図６Ｃは同じく第１〜第４の目盛パターンの視認状態を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。ただし、以下に示す実施形態は、
本発明の技術思想を具体化するための一例を示すものであって、本発明をこの実施形態に
特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のも
のも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説明のために用いられた各
図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各
部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されている
ものではない。また、本発明における「平面視」とは、表示面であるカラーフィルター基
板（第２基板）に直交する方向から見た状態を意味する。
【００２８】
まず、図１〜図３を参照して、本実施形態のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０の概略
構成について説明する。なお、図１は実施形態のＦＦＳモードの液晶表示パネルの平面図
である。図２は実施形態のＦＦＳモードの液晶表示パネルの１サブ画素分の平面図である
。図３Ａは図２のIIIＡ−IIIＡ線に沿った断面図であり、図３Ｂは図２のIIIＢ−IIIＢ線
に沿った断面図である。
【００２９】
本実施形態の液晶表示パネル１０はガラス等からなる第１の透明基板１１上に各種配線
等を形成したアレイ基板ＡＲ（本発明の第１基板に対応）とガラス等からなる第２透明基
板２５上に例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等のカラーフィルター層２７Ｒ、２７Ｇ
、２７Ｂ等を形成したカラーフィルター基板ＣＦ（本発明の第２基板に対応）が対向配置
されている。そして、このアレイ基板ＡＲとカラーフィルター基板ＣＦは、周囲がシール
材３６によって貼り合わされており、このシール材３６で形成された空間に液晶３０が封
入されている。シール材３６で囲まれ、液晶３０が封入された部分が表示領域３７となり
、この表示領域３７の外側が非表示領域３８（額縁領域とも言う）となっている。
【００３０】
なお、アレイ基板ＡＲはカラーフィルター基板ＣＦと対向配置させたときに所定スペー
スの張出した部分が形成されるようにカラーフィルター基板ＣＦより若干サイズが大きい
ものが使用されている。この張出した部分は、液晶３０を駆動するためのドライバーＩＣ
３９等が配置される実装領域となっている。また、液晶表示パネル１０では、シール材３
６により液晶注入口４０が形成され、この液晶注入口４０を封止材４１で封止した例を示
している。
【００３１】
アレイ基板ＡＲは、ガラス基板等の第１の透明基板１１の表示領域の表面に、マトリク
ス状に複数の走査線１２及び信号線１３が互いにゲート絶縁膜１４で絶縁された状態で交
差するように形成されており、更に、表示領域３７の周縁部にはコモン配線（図示省略）
が形成されている。これらの走査線１２及び信号線１３で囲まれたそれぞれの領域が１サ
ブ画素を形成する。また、第１の透明基板１１には画素毎にスイッチング素子として例え
ば薄膜トランジスターＴＦＴが形成されており、この薄膜トランジスターＴＦＴを含む第
１の透明基板１１の表面全体に亘って例えば窒化ケイ素層ないし酸化ケイ素層からなるパ
ッシベーション膜１５で被覆されている。
【００３２】
そして、パッシベーション膜１５の表面には有機材料からなる平坦化膜１６が形成され
ており、この平坦化膜１６及びパッシベーション膜１５には薄膜トランジスターＴＦＴの
ドレイン電極Ｄに対応する位置にコンタクトホール１７が形成されている。そして、平坦
化膜１６の表面には、薄膜トランジスターＴＦＴが形成されている領域及びコンタクトホ
ール１７が形成されている領域を除いて、ベタ状にＩＴＯ（Indium Thin Oxide）ないし
ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料からなる下電極１８が形成されている
。この下電極１８は、図示しない表示領域の周縁部でコモン配線に接続されており、共通
電極として作動する。
【００３３】
下電極１８が形成された第１の透明基板１１の表面全体に亘って窒化ケイ素層ないし酸
化ケイ素層からなる絶縁膜１９が形成されている。この絶縁膜１９の表面には、それぞれ
のサブ画素にＩＴＯないしＩＺＯ等の透明導電性材料からなる上電極２２が形成されてい
る。そして、この上電極２２には、予め定められた所定幅で、かつ「く」字状に折り曲げ
られたスリット状開口２０が形成されている。また、上電極２２は、コンタクトホール１
７を介して薄膜トランジスターＴＦＴのドレイン電極Ｄと電気的に接続されており、画素
電極として作動する。
【００３４】
なお、上電極２２と下電極１８のどちらを薄膜トランジスターＴＦＴのドレイン電極Ｄ
と接続するか及びどちらをコモン配線と電気的に接続するかは任意である。また、上電極
２２の表面及びスリット状開口２０の内部を含み、表示領域３７全体に亘って第１の配向
膜２４が形成されている。この第１の配向膜２４は液晶分子を特定の方向に配向させるた
めに例えば特定の方向Ｒにラビング処理されている。
【００３５】
また、カラーフィルター基板ＣＦは、図３Ａ及び図３Ｂに示したように、ガラス基板等
の第２の透明基板２５の表面に、アレイ基板ＡＲの走査線１２、信号線１３、コンタクト
ホール１７及び薄膜トランジスターＴＦＴに対応する位置を被覆するように遮光層２６及
び遮光部材ＢＭが形成されている。また、遮光層２６及び遮光部材ＢＭで囲まれた第２の
透明基板２５の表面には、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）色のカラーフィルター
層２７Ｒ、２７Ｇ及び２７Ｂがそれぞれ形成されている。なお、カラーフィルター層２７
Ｒ、２７Ｇ、２７Ｂ、遮光層２６及び遮光部材ＢＭの具体的構成及びその形成方法等につ
いては後述する。
【００３６】
更に、遮光層２６、遮光部材ＢＭ及びカラーフィルター層２７の表面を被覆するように
オーバーコート層２８が形成されている。そして、オーバーコート層２８の表面には第２
の配向膜２９が形成されている。この第２の配向膜２９は、第１の配向膜２４とは１８０
°ずれた方向にラビング処理されている。そして、アレイ基板ＡＲの上電極２２とカラー
フィルター基板ＣＦのカラーフィルター層２７とが互いに対向するように、アレイ基板Ａ
Ｒとカラーフィルター基板ＣＦが対向され、その間に液晶３０が封入されている。更に、
アレイ基板ＡＲの外側に第１の偏光板３１及びバックライト装置（図示省略）が配置され
、カラーフィルター基板ＣＦの外側に第２の偏光板３２が配置されて実施形態の液晶表示
パネル１０が完成される。
【００３７】
上述のようにして形成されたアレイ基板ＡＲの数サブ画素分の走査線１２、信号線１３
、薄膜トランジスターＴＦＴのゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄの配置は
図４Ａに示したとおりである。このように、信号線１３が各サブ画素毎に「く」字状に曲
折されているため、各サブ画素の平面視の形状は「く」字状に折れ曲がった形状をしてい
る。そのため、カラーフィルター基板ＣＦに形成された各色のカラーフィルター層２７Ｒ
、２７Ｇ、２７Ｂの形状も各サブ画素の形状に従って「く」字状に折れ曲がった形をして
いる
【００３８】
ここで、カラーフィルター基板ＣＦのカラーフィルター層２７Ｒ、２７Ｇ、２７Ｂ、遮
光層２６及び遮光部材ＢＭの形成方法を、図４〜図５を用いて説明する。なお、図４Ａは
数サブ画素分のアレイ基板の平面図であり、図４Ｂは同じくカラーフィルター基板の平面
図である。図５（ａ）〜図５（ｃ）はそれぞれ図４のＶＡ−ＶＡ線及びＶＢ−ＶＢ線に沿
った部分の製造工程順に示す断面図である。なお、図５（ａ）〜図５（ｃ）においては、
上側が液晶層側となるように表してある。
【００３９】
例えば、最初に、少なくとも走査線１２及びＴＦＴに対向する位置を遮光するように、
行方向に遮光部材ＢＭ（本発明の「遮光層」に対応）を形成する。この際、信号線１３に
沿っては遮光部材ＢＭを形成しないかったが、信号線１３に沿って遮光部材ＢＭを形成し
てもよい。この遮光部材ＢＭとしてはクロム等の金属部材ないし樹脂製遮光部材を使用し
得る。次いで、赤（Ｒ）のカラーフィルター層２７Ｒを「く」字状に折れ曲がった形状の
ストライプ状に形成する。このとき、赤（Ｒ）のカラーフィルター層２７Ｒは、個々のサ
ブ画素の両側に位置するアレイ基板ＡＲの信号線１３に対応する位置を被覆すると同時に
、遮光部材ＢＭを跨ぐように形成される。このとき、遮光部材ＢＭ上の赤（Ｒ）のカラー
フィルター層２７Ｒを個々のサブ画素の両側に位置するアレイ基板ＡＲの信号線１３に対
応する位置も被覆するかしないかは任意である。この状態の図４のＶＡ−ＶＡ線及びＶＢ
−ＶＢ線に沿った部分の断面図を図５（ａ）に示す。
【００４０】
次いで、緑（Ｇ）のカラーフィルター層２７Ｇを「く」字状に折れ曲がった形状のスト
ライプ状に形成する。このとき、緑（Ｇ）のカラーフィルター層２７Ｇは、個々のサブ画
素の両側に位置するアレイ基板ＡＲの信号線１３に対応する位置を被覆すると同時に、遮
光部材ＢＭを跨ぐように形成される。すなわち、緑（Ｇ）のカラーフィルター層２７Ｇは
、「く」字状に折れ曲がった形状にストライプ状に形成されていると共に、一部がアレイ
基板ＡＲの信号線１３に対応する位置に形成されている赤（Ｒ）のカラーフィルター層２
７Ｒと重なるように被覆され、更に、遮光部材ＢＭを跨ぐように形成される。
【００４１】
この状態の図４のＶＡ−ＶＡ線及びＶＢ−ＶＢ線に沿った部分の断面図を図５（ｂ）に
示す。このとき形成された赤（Ｒ）のカラーフィルター層２７Ｒと緑（Ｇ）のカラーフィ
ルター層２７Ｇが重なった部分が、遮光層２６として機能する。このとき、遮光部材ＢＭ
上の緑（Ｇ）のカラーフィルター層２７Ｒを個々のサブ画素の両側に位置するアレイ基板
ＡＲの信号線１３に対応する位置も被覆するかしないか、すなわち、遮光部材ＢＭ上で緑
（Ｇ）のカラーフィルター層２７Ｇと赤（Ｒ）のカラーフィルター層２７Ｒとが重なるよ
うにするかしないかは任意である。ここでは、緑（Ｇ）のカラーフィルター層２７Ｇは赤
（Ｒ）のカラーフィルター層２７Ｒとは重ならないように形成した例を示した。
【００４２】
更に、青（Ｂ）のカラーフィルター層２７Ｂを、「く」字状に折れ曲がった形状のスト
ライプ状に形成する。このとき、青（Ｂ）のカラーフィルター層２７Ｂは、個々のサブ画
素の両側に位置するアレイ基板ＡＲの信号線１３に対応する位置を被覆され、更に、遮光
部材ＢＭを跨ぐように形成される。すなわち、青（Ｂ）のカラーフィルター層２７Ｇは、
「く」字状に折れ曲がった形状にストライプ状に形成されていると共に、一部がアレイ基
板ＡＲの信号線１３に対応する位置に形成されている赤（Ｒ）のカラーフィルター層２７
Ｒ及び緑（Ｇ）のカラーフィルター層２７Ｇと重なるように被覆され、更に、遮光部材Ｂ
Ｍを跨ぐように形成される。
【００４３】
この状態の図４のＶＡ−ＶＡ線及びＶＢ−ＶＢ線に沿った部分の断面図を図５（ｃ）に
示す。このとき形成された青（Ｂ）のカラーフィルター層２７Ｂと緑（Ｇ）のカラーフィ
ルター層２７Ｇとが重なった部分及び青（Ｂ）のカラーフィルター層２７Ｂと赤（Ｒ）の
カラーフィルター層２７Ｒとが重なった部分が、それぞれ遮光層２６として機能する。こ
のとき、遮光部材ＢＭ上の青（Ｂ）のカラーフィルター層２７Ｂを個々のサブ画素の両側
に位置するアレイ基板ＡＲの信号線１３に対応する位置も被覆するかしないか、すなわち
、遮光部材ＢＭ上で青（Ｂ）のカラーフィルター層２７Ｂが緑（Ｇ）のカラーフィルター
層２７Ｇ及び赤（Ｒ）のカラーフィルター層２７Ｒと重なるようにするかしないかは任意
である。ここでは、青（Ｂ）のカラーフィルター層２７Ｂは赤（Ｒ）のカラーフィルター
層２７Ｒ及び緑（Ｇ）のカラーフィルター層２７Ｇとは重ならないように形成した例を示
した。
【００４４】
このように、個々のサブ画素の両側に位置するアレイ基板ＡＲの信号線１３に対応する
位置には、従来の金属膜からなる遮光層や樹脂製の遮光層を形成しなくても、隣接するカ
ラーフィルター層同士が重なるように形成することにより、遮光層２６を形成することが
できる。
【００４５】
次いで、実施形態の液晶表示パネルにおける位置合わせ用の目盛パターンを図６を用い
て説明する。なお、図６Ａは図１のVI部分のアレイ基板に形成される第１及び第２の目盛
パターンの平面図であり、図６Ｂは同じくカラーフィルター基板に形成される第３及び第
４の目盛パターンの平面図であり、図６Ｃは同じく第１〜第４の目盛パターンの視認状態
を示す平面図である。なお、図６Ａ〜図６Ｃは、全て液晶表示パネル１０のカラーフィル
ター基板ＣＦ側から視認した状態の図である。
【００４６】
アレイ基板ＡＲにおいては、最初に走査線１２（図２参照）の形成時に同時に、例えば
列方向に延在するように、第１の目盛パターン５０Ａを表示領域の外周側に少なくとも２
箇所に形成する。この第１の目盛パターン５０Ａは、図６Ａでは台形状の目盛りの組合せ
としたが、一般的な物差しの目盛パターンや十字状の目盛パターン等、任意の形状のもの
を採用し得る。次いで、信号線１３（図２参照）の形成時に、第１の目盛パターン５０Ａ
と直交する方向、例えば行方向に延在するように第２の目盛パターン５０Ｂを少なくとも
２箇所に形成する。第２の目盛パターン５０Ｂは、形成方向が異なっていれば、第１の目
盛パターン５０Ａと同じ形状のものを採用し得る。
【００４７】
この第２の目盛パターン５０Ｂは、第１の目盛パターン５０Ａと重なっていても良いが
、重なっていなくても良い。ただし、アレイ基板ＡＲとカラーフィルター基板ＣＦの位置
合わせを行いやすくするため、同時に視認できる位置に形成することが好ましい。
【００４８】
次に、カラーフィルター基板ＣＦにおいては、アレイ基板ＡＲに形成された第１の目盛
パターン５０Ａに対向する位置に第３の目盛パターン５０Ｃを形成し、それと同時にアレ
イ基板ＡＲに形成された第２の目盛パターン５０Ｂに対向する位置に第４の目盛パターン
５０Ｄを形成する。これらの第３及び第４の目盛パターン５０Ｃ、５０Ｄは、第１及び第
２の目盛パターン５０Ａ、５０Ｂと同じ形状であっても良いが、見分けが付きやすいよう
にするため、異なる形状としてもよい。また、これらの第３及び第４の目盛パターン５０
Ｃ、５０Ｄは、カラーフィルター層２７Ｒ、２７Ｇ、２７Ｂの形成時に、同時に同一の材
料で、単一層として、あるいは複数層重なった状態として、形成してもよい。
【００４９】
このように、第３及び第４の目盛パターン５０Ｃ、５０Ｄをカラーフィルター層２７Ｒ
、２７Ｇ、２７Ｂと同じ材料で形成すると、別途第３及び第４の目盛パターン５０Ｃ、５
０Ｄを形成するための工程を設ける必要がなくなると共に、使用材料の数を減らすことが
できる。なお、第１及び第２の目盛パターン５０Ａ、５０Ｂは、アルミニウム等の金属材
料で形成されているから、第３及び第４の目盛パターン５０Ｃ、５０Ｄを単一層で形成し
ても、明確に第１及び第２の目盛パターン５０Ａ、５０Ｂと区別して視認することができ
る。
【００５０】
アレイ基板ＡＲとカラーフィルター基板ＣＦとの位置合わせは、図６Ｃに示したように
、それぞれ複数箇所に形成されたアレイ基板ＡＲに形成された第１及び第２の目盛りパタ
ーン５０Ａ、５０Ｂとカラーフィルター基板ＣＦに形成された第３及び第４の目盛パター
ンの重なり具合を視認しながら行方向及び列方向の位置を調整することによって行うこと
ができる。なお、第１〜第４の目盛パターン５０Ａ〜５０Ｄの視認は、倍率２０倍程度の
ルーペを用いるか或いは撮像素子で撮影することにより行うことができる。
【００５１】
このように、第１の目盛パターン５０Ａと第２の目盛パターン５０Ｂとの製造工程を、
走査線の製造工程と信号線の製造工程とに分けて形成したため、たとえ信号線の形成時に
マスクずれ等によって形成位置にずれが生じても、このずれは第２の目盛パターン５０Ｂ
の位置ずれとしても現れるので、正確にアレイ基板ＡＲとカラーフィルター基板ＣＦとの
位置合わせを行うことができるようになる。そのため、実施形態の液晶表示パネル１０に
よれば、高精細化しても、光漏れが少なく、コントラストが良好で、表示画質が良好な液
晶表示パネルを得ることができるようになる。
【００５２】
なお、上記実施形態の液晶表示パネル１０では、遮光層２６としてカラーフィルター層
を重ね合わせることにより形成したものを用いた例を示した。しかしながら、本発明の液
晶表示パネルの特徴は第１〜第４の目盛パターン５０Ａ〜５０Ｄにあるので、遮光層２６
を従来の金属膜からなる遮光層や樹脂製の遮光層によって形成した液晶表示パネルにも適
用可能である。この場合は、第３及び第４の目盛りパターンを金属膜や樹脂製の遮光層と
同じ材料で形成すればよい。
【００５３】
同様に、上記実施形態の液晶表示パネル１０では、横電界方式のＦＦＳモードの液晶表
示パネルの場合について説明したが、同じく横電界方式のＩＰＳモードの液晶表示パネル
、更には、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＭＶ
Ａ（Multi-domain Vertical Alignment）モード、ＥＣＢモード等の縦電界方式の液晶表
示パネルに対しても等しく適用可能である。
【００５４】
また、上記実施形態の液晶表示パネル１０では、横電界方式のＦＦＳモードの液晶表示
パネルにおいて、各サブ画素の形状が「く」字状に屈曲しており、しかも、上電極に形成
されているスリット状開口も縦「く」字状とされている場合について説明したが、これに
限らず、各サブ画素の形状が方形状の場合や、スリット状開口が直線状の場合等について
も等しく適用可能である。
【００５５】
以上、本発明の実施形態として液晶表示パネルの例を説明した。このような本発明の液
晶表示パネルは、パーソナルコンピューター、携帯電話機、携帯情報端末、カーナビゲー
ションシステムなどの各種電子機器に使用することができる。なお、これらの各種電子機
器の基本的構成は当業者に周知であるので、詳細な説明は省略する。
【符号の説明】
【００５６】
１０…液晶表示パネル  １１…透明基板  １２…走査線  １３…信号線  １４…ゲート
絶縁膜  １５…パッシベーション膜  １６…平坦化膜  １７…コンタクトホール  １８…
下電極  １９…絶縁膜  ２０…スリット状開口  ２２…上電極  ２４…配向膜  ２５…透
明基板  ２６…遮光層  ２７Ｒ、２７Ｇ、２７Ｂ…カラーフィルター層  ２８…オーバー
コート層  ２９…配向膜  ３０…液晶  ３１、３２…偏光板  ３６…シール材  ３７…表
示領域  ３８…非表示領域  ３９…ドライバーＩＣ  ４０…液晶注入口  ４１…封止材  
５０Ａ〜５０Ｄ…第１〜第４の目盛パターン  ＡＲ…アレイ基板  ＣＦ…カラーフィルタ
ー基板  ＢＭ…遮光部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図４】
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