(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの成膜処理室内に、基板に複数の成膜を行うべく各種の成膜材料からなる複数のターゲットが立設されている一方、上記各ターゲットに基板を対向させるための基板起立具が複数設けられ、かつ各基板起立具は、相互に独立した回転軸を有してそれぞれの回転軸周りに回転起立して保持した基板を各ターゲットに対向可能とするように設けられ、さらに、各基板起立具は、横臥したときに互いに重ならないように形成されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項２】
前記基板起立具に、基板加熱機能を備えた基板保持具を載置すると共に、この基板保持具に保持した基板を加熱可能状態にして基板起立具にて回転起立させることを特徴とする請求項１記載の真空成膜装置。
【請求項３】
前記基板保持具には基板加熱の給電を受けるための保持具電気接点が設けられる一方、前記各基板起立具にはこの保持具電気接点に当接する起立具電気接点が加熱給電可能に設けられていることを特徴とする請求項２記載の真空成膜装置。
【請求項４】
前記起立具電気接点は、基板を載置した基板保持具を基板起立具にて回転起立させたときに、基板保持具を下側から支持して保持することを特徴とする請求項３記載の真空成膜装置。
【請求項５】
前記基板保持具に設けられた複数の保持具電気接点と各基板起立具に設けられた複数の起立具電気接点の内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点が互いに嵌挿状態で当接するように形成されていることを特徴とする請求項３又は４記載の真空成膜装置。
【請求項６】
前記基板保持具に設けられた複数の保持具電気接点と各基板起立具に設けられた複数の起立具電気接点の内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点における一方の電気接点が断面円形若しくは断面円筒又は球面を含む形状である一方、この電気接点に当接する他方の電気接点は該形状における断面の少なくとも２点にて外接する形状に形成されていることを特徴とする請求項３、４又は５記載の真空成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、液晶表示装置や半導体等の製造に供せられる真空成膜装置に関するものであり、特に、基板に例えば多層膜を形成する場合の成膜処理室の構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置や半導体等の製造には真空成膜装置が用いられる。
液晶表示装置を製造する場合を例に説明すると、液晶表示装置の製造では、インジウム−錫酸化物や金属の薄膜をガラス基板表面に成膜する行程が含まれている。これらの薄膜は、例えばスパッタ装置と呼ばれる真空成膜装置によってガラス表面に成膜される。
【０００３】
スパッタ装置では、成膜材料にて構成されたターゲットと基板であるガラス基板とを減圧雰囲気の中で対向させ、放電現象を利用してガラス基板上に成膜材料を堆積させる。また、成膜処理に先立ち、ガラス基板を加熱する行程を含むことが多い。
【０００４】
さて、こうした製造装置に要求される機能は、良好な膜が得られ、生産性が高く、メンテナンス性が良好であり、設置面積の小さいことである。したがって、現在、この種の真空成膜装置は、複数の処理室が周りに配され、それらの中央に中間室を設けたクラスターツール真空成膜装置が主流となっている。
【０００５】
すなわち、一般的なクラスターツール真空成膜装置は、例えば、本発明の説明図である図２に示すように、６個の各種処理室が中間室１７の周りに配置されている。上記の６個の処理室の内訳は、２個のロード処理室１・１、１個の加熱処理室４、及び３個の成膜処理室５・５・５である。各処理室１・１・４・５・５・５と中間室１７との間はそれぞれゲートバルブ３…によって仕切られ、個別に真空排気できるように構成されている。
【０００６】
中間室１７の内部には基板搬送ロボット１５が配置され、各処理室１・１・４・５・５・５相互間のガラス基板６の搬送を行う。なお、一般的には基板搬送ロボット１５は、一度に一枚の基板６しか搬送できない。
【０００７】
また、クラスターツール真空成膜装置の外側には、ガラス基板６を運搬するための基板カセット２１…と、ガラス基板６を成膜処理する前にこのガラス基板６を洗浄する洗浄装置１９と、基板カセット２１…と洗浄装置１９と上記ロード室１との間でガラス基板６を搬送する自走ロボット２０とが設置されている。
【０００８】
上記構成のクラスターツール真空成膜装置では、処理前のガラス基板６は、複数枚が基板カセット２１…に入れられて真空成膜装置手前に運搬される。自走ロボット２０は、処理前のガラス基板６を基板カセット２１から取り出し、洗浄装置１９まで搬送し、洗浄する。次いで、自走ロボット２０は、洗浄を終了したガラス基板６を洗浄装置１９からいずれかのロード処理室１・１に搬送する。
【０００９】
また、成膜処理後においては、上記自走ロボット２０は、処理済みのガラス基板６をロード処理室１・１から取り出し、基板カセット２１…に搬送する。
【００１０】
一方、上記のロード処理室１では、成膜処理前のガラス基板６が外部から搬入されると、ロード処理室扉２及びゲートバルブ３を閉め、図示しない排気装置を用いて内部を真空にする。ロード処理室１を排気した後、ゲートバルブ３を開けると、基板搬送ロボット１５がガラス基板６を中間室１７に搬入し、次いで、加熱室４へ搬出する。加熱処理室４にて加熱処理終了後、ガラス基板６は基板搬送ロボット１５によっていずれかの成膜処理室５・５・５に搬送され、成膜される。
【００１１】
成膜処理終了後、ガラス基板６は基板搬送ロボット１５にていずれかのロード処理室１・１に搬送される。ロード処理室１・１では、ゲートバルブ３が閉じられた後、ロード処理室１内部が大気圧に戻され、ロード処理室扉２が開き、ガラス基板６が搬出されて、一連の処理が終了する。
【００１２】
ここで、上記成膜処理室５の形態には、ガラス基板を水平状態で成膜するものと、ほぼ鉛直に起立させて成膜するものとの２種類がある。後者の形態に関しては、特開平８−６０３５８号公報、特開平９−４１１４２号公報、又は特開平９−５９７７６号公報に開示されている。前者の形態は、成膜処理室内で基板を起立させる機構の必要性がなく、成膜処理室の容積を小さくできる利点がある。一方、後者の形態は、成膜中において基板表面にダストが落下することがない。
【００１３】
なお、上記公報に開示されたいずれの成膜処理室も１つのみターゲットを備えた一つの基板を成膜するための構造となっている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年、液晶表示装置の性能向上に伴って、複数種類の成膜処理を必要とする多層膜成膜の要求が高まっている。クラスターツール真空成膜装置でも、各成膜処理室に異なった種類のターゲットを設置して多層膜を成膜することが可能である。
【００１５】
しかしながら、上記従来の真空成膜装置では、多層膜成膜の場合には、以下の問題点を有している。
【００１６】
▲１▼  各処理室１・１・４・５・５・５を接続する中間室１７内部の基板搬送ロボット１５の基板搬送能力が生産能力を決定し、生産効率が単層膜成膜と比較して大幅に悪くなる。
【００１７】
▲２▼  成膜する膜種類の数と少なくとも同じか又はそれ以上の数の成膜処理室が必要となるため、装置寸法が大きくなる。
【００１８】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、多層膜成膜における生産効率の低下を防止し、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明の真空成膜装置は、上記課題を解決するために、１つの成膜処理室内に、基板に複数の成膜を行うべく各種の成膜材料からなる複数のターゲットが立設されている一方、上記各ターゲットに基板を対向させるための基板起立具が複数設けられ、かつ各基板起立具は、相互に独立した回転軸を有してそれぞれの回転軸周りに回転起立して保持した基板を各ターゲットに対向可能とするように設けられ、さらに、各基板起立具は、横臥したときに互いに重ならないように形成されていることを特徴としている。
【００２０】
上記の発明によれば、１つの成膜処理室内に、基板に複数の成膜を行うべく各種の成膜材料からなる複数のターゲットが立設されている。また、各ターゲットに基板を対向させるための基板起立具が複数設けられ、かつ各基板起立具は、相互に独立した回転軸を有してそれぞれの回転軸周りに回転起立して保持した基板を各ターゲットに対向可能とするように設けられている。
【００２１】
これによって、１つの成膜処理室内にて、基板に第１の薄膜を成膜するときには、１つの基板起立具に基板を載置し、この基板を載置した基板起立具を回転軸にて回転させて、基板起立具を介して基板を回転立設させることができる。そして、基板を保持してターゲットに対向させることにより、第１の薄膜を成膜することができる。また、成膜処理後は、回転軸を逆に回転させて基板を基板起立具と共に横臥することができる。
【００２２】
このとき、各基板起立具は、横臥したときに互いに重ならないように形成されているので、例えば、一方の基板起立具を凹面板に形成すると共に、他方の基板起立具をこの凹面板に遊嵌する凸面板に形成することが可能である。
【００２３】
したがって、このように形成した凹面板と凸面板との遊嵌状態においては、基板が載置された凹面板の基板起立具を横臥することによって、その基板を凸面板の基板起立具にも載置した状態とすることができる。
【００２４】
このため、この基板に、第２の薄膜を成膜するときには、横臥状態にある他の基板起立具をそのまま該基板起立具用の回転軸にて回転起立させることにより、基板は該他の基板起立具に保持された状態で回転立設され、他方のターゲットに対向させることができ、第２の薄膜を成膜することができる。また、成膜処理後は、同様にして、回転軸を逆に回転させて基板起立具を横臥し、基板を基板起立具に水平に載置した状態に戻すことができる。
【００２５】
したがって、１つの成膜処理室内で、基板を室外に逐一取り出すことなく、多層膜を連続して成膜することができる。
【００２６】
ここで、本発明では、上述したように、各基板起立具は、横臥したときに互いに重ならないように形成されている。
【００２７】
このため、基板起立具に保持される基板は、横臥した状態からいずれの基板起立具によっても回転起立可能となると共に、複数の基板起立具を密接させて配設させることができ、かつ密接させて配設したときにも各基板起立具は自在に回転することができる。
【００２８】
したがって、１つの成膜処理室内において、複数分のスーペスを取ることなく複数の基板起立具を設けることができる。
【００２９】
この結果、多種類の薄膜が一つの成膜処理室内で成膜可能となるため、多層膜成膜における基板搬送ロボットによる基板搬送回数を少なくできる。したがって、基板搬送ロボットの基板搬送能力への負担が減少し、生産の高効率化可能となる。
【００３０】
さらに、膜種類数の半分以下の成膜処理室数で多層膜成膜を実現できるため、装置寸法の小型化が可能となる。
【００３１】
以上により、多層膜成膜における生産効率の低下を防止し、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができる。
【００３２】
請求項２に係る発明の真空成膜装置は、上記課題を解決するために、請求項１記載の真空成膜装置において、前記基板起立具に、基板加熱機能を備えた基板保持具を載置すると共に、この基板保持具に保持した基板を加熱可能状態にして基板起立具にて回転起立させることを特徴としている。
【００３３】
上記の発明によれば、基板起立具には、基板加熱機能を備えた基板保持具が載置される。そして、基板保持具に保持した基板を加熱可能状態にして基板起立具にて回転起立させる。
【００３４】
このため、一般に、この種の成膜においては、成膜中に基板を加熱するのが常道であるが、その加熱装置についても容易に構成することができる。
【００３５】
すなわち、基板保持具に加熱機能を有すると共に、この基板保持具は基板を載置した状態にて基板起立具が回転起立することにより、基板と基板保持具とが一体となった状態でいずれのターゲットにも対向可能となる。
【００３６】
したがって、いずれのターゲットに対向したときにも、基板を加熱することができる。
【００３７】
この結果、加熱装置を含めて、多層膜成膜における生産効率の低下を防止し得る真空成膜装置を提供することができる。
【００３８】
請求項３に係る発明の真空成膜装置は、上記課題を解決するために、請求項２記載の真空成膜装置において、前記基板保持具には基板加熱の給電を受けるための保持具電気接点が設けられる一方、前記各基板起立具にはこの保持具電気接点に当接する起立具電気接点が加熱給電可能に設けられていることを特徴としている。
【００３９】
上記の発明によれば、基板保持具には基板加熱の給電を受けるための保持具電気接点が設けられる。また、基板起立具にはこの保持具電気接点に当接する起立具電気接点が加熱給電可能に設けられる。
【００４０】
したがって、基板起立具に配設した起立具電気接点を通じて基板保持具に給電することができるため、成膜位置のいずれの位置においても、配線を施す必要が無い。
【００４１】
また、起立具電気接点は、各基板起立具に設けられている。このことは、基板保持具に加熱機能を作用させるために、いずれの基板起立具に保持される基板保持具においても、配線を施すことなく、基板起立具に配設した起立具電気接点を通じて基板保持具に給電できることになり、成膜位置にとらわれることなく、基板温度を所定の温度範囲にすることができることになる。
【００４２】
この結果、配線面を含めて、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができる。
【００４３】
請求項４に係る発明の真空成膜装置は、上記課題を解決するために、請求項３記載の真空成膜装置において、前記起立具電気接点は、基板を載置した基板保持具を基板起立具にて回転起立させたときに、基板保持具を下側から支持して保持することを特徴としている。
【００４４】
上記の発明によれば、基板を載置した基板保持具を基板起立具にて回転起立させたときに、基板起立具に設けられた起立具電気接点は、基板保持具を下側から支持して保持するものとなっている。
【００４５】
したがって、起立具電気接点は、基板保持具を起立させたときの支持部材を兼ねている。
【００４６】
この結果、部品点数を削減して、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができる。
【００４７】
請求項５に係る発明の真空成膜装置は、上記課題を解決するために、請求項３又は４記載の真空成膜装置において、前記基板保持具に設けられた複数の保持具電気接点と各基板起立具に設けられた複数の起立具電気接点の内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点が互いに嵌挿状態で当接するように形成されていることを特徴としている。
【００４８】
上記の発明によれば、例えば、基板起立具が２個存在する場合には、基板保持具には、下側に正極用保持具電気接点と負極用保持具電気接点との２つの電気接点が設けられると共に、上側にも正極用保持具電気接点と負極用保持具電気接点との各２つの電気接点が設けられる。
【００４９】
また、２個の各基板起立具には基板保持具の２つの正極用及び負極用の電気接点に対応してそれぞれ正極用起立具電気接点及び負極用起立具電気接点の２つの正極用及び負極用の電気接点が設けられる。
【００５０】
ここで、本発明では、基板保持具に設けられた複数の保持具電気接点と各基板起立具に設けられた複数の起立具電気接点の内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点が互いに嵌挿状態で当接するように形成されている。
【００５１】
すなわち、上記基板保持具の下側に設けられた正極用保持具電気接点と基板起立具に設けられた正極用起立具電気接点との組み合わせ、及び基板保持具の下側に設けられた負極用保持具電気接点と基板起立具に設けられた負極用起立具電気接点との組み合わせのいずれか少なくとも一方の組み合わせにおいて、電気接点が互いに嵌挿状態で当接するように形成されている。
【００５２】
このため、少なくとも一組の保持具電気接点と起立具電気接点とを電通させるために両者を嵌挿して当接させると、両者は互いに固定される。このことは基板保持具が基板起立具に固定されることを意味する。したがって、基板保持具が基板起立具に対して位置決めされるので、基板保持具を精度良く所定の位置にセットすることができる。
【００５３】
この結果、基板保持具が移動することによる基板の移動を抑制し、成膜の品質を確保し得る真空成膜装置を提供することができる。
【００５４】
請求項６に係る発明の真空成膜装置は、上記課題を解決するために、請求項３、４又は５記載の真空成膜装置において、前記基板保持具に設けられた複数の保持具電気接点と各基板起立具に設けられた複数の起立具電気接点の内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点における一方の電気接点が断面円形若しくは断面円筒又は球面を含む形状である一方、この電気接点に当接する他方の電気接点は該形状における断面の少なくとも２点にて外接する形状に形成されていることを特徴としている。
【００５５】
上記の発明によれば、基板保持具に設けられた複数の保持具電気接点と各基板起立具に設けられた複数の起立具電気接点の内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点における一方の電気接点が断面円形若しくは断面円筒又は球面を含む形状である一方、この電気接点に当接する他方の電気接点は該形状における断面の少なくとも２点にて外接する形状に形成されている。
【００５６】
すなわち、例えば、一方の断面円形の電気接点に当接する他方の電気接点は、例えば断面Ｖ字状に形成される。これによって、他方の断面Ｖ字状の電気接点は、断面円形の電気接点に対して２点にて外接する。
【００５７】
したがって、これによって、例えば、基板起立具を横臥状態にしたときに基板保持具が基板起立具に対して少し移動したとしても、基板起立具を起立状態にしたときに、一方の断面円形等の電気接点に他方の断面Ｖ字状等の電気接点に容易に嵌まり込む。
【００５８】
したがって、基板保持具が基板起立具に対して少し移動したときにも確実に両電気接点が嵌挿され、基板保持具が基板起立具に対して位置決めされる。
【００５９】
この結果、基板保持具における基板加熱機能を確実に確保することができると共に、基板保持具が移動することによる基板の移動を抑制し、成膜の品質を確実に確保し得る真空成膜装置を提供することができる。
【００６０】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の一形態について図１ないし図８に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施の形態では、真空成膜装置としてのクラスターツール真空成膜装置について説明するが、必ずしもこれに限らず、他の真空成膜装置であっても良い。また、成膜の対象物としては液晶表示装置の製造に用いられる基板としてのガラス基板について説明するが、これについても、必ずしもこれに限らず、半導体等の製造に使用される成膜対象物としての基板であっても良い。
【００６１】
本実施の形態のクラスターツール真空成膜装置（以下、単に「真空成膜装置」という）は、例えば、図２に示すように、６個の各種処理室が中間室１７の周りに配置されている。これら６個の処理室の内訳は、２個のロード処理室１・１、１個の加熱処理室４、及び３個の成膜処理室５・５・５である。各処理室１・１・４・５・５・５と中間室１７との間はそれぞれゲートバルブ３…によって仕切られ、個別に真空排気できるように構成されている。なお、これら６個の処理室の内訳は、これに限定されるものではない。また、６個に限ることもない。
【００６２】
上記の中間室１７の内部には基板搬送ロボット１５が配置され、各処理室１・１・４・５・５・５相互間の基板としてのガラス基板６の搬送を行う。
【００６３】
また、真空成膜装置の外側には、ガラス基板６を運搬するための基板カセット２１…と、ガラス基板６を成膜処理する前にこのガラス基板６を洗浄する洗浄装置１９と、基板カセット２１…と洗浄装置１９と上記ロード室１との間でガラス基板６を搬送する自走ロボット２０とが設置されている。
【００６４】
上記構成の真空成膜装置では、処理前のガラス基板６は、複数枚が基板カセット２１…に入れられて真空成膜装置手前に運搬される。自走ロボット２０は、処理前のガラス基板６を基板カセット２１から取り出し、洗浄装置１９まで搬送し、洗浄する。次いで、自走ロボット２０は、洗浄を終了したガラス基板６を洗浄装置１９から２つのロード処理室１・１のうちのいずれかに搬送する。
【００６５】
また、成膜処理後においては、上記自走ロボット２０は、処理済みのガラス基板６をロード処理室１・１から取り出し、基板カセット２１…に搬送する。
【００６６】
一方、上記のロード処理室１では、成膜処理前のガラス基板６が外部から搬入されると、ロード処理室扉２及びゲートバルブ３を閉め、図示しない排気装置を用いて内部を真空にする。ロード処理室１を排気した後、ゲートバルブ３を開けると、基板搬送ロボット１５がガラス基板６を中間室１７に搬入し、次いで、加熱室４へ搬出する。加熱処理室４にて加熱処理終了後、ガラス基板６は基板搬送ロボット１５によっていずれかの成膜処理室５・５・５に搬送され、成膜される。
【００６７】
成膜処理終了後、ガラス基板６は基板搬送ロボット１５にていずれかのロード処理室１・１に搬送される。ロード処理室１・１では、ゲートバルブ３が閉じられた後、ロード処理室１内部が大気圧に戻され、ロード処理室扉２が開き、ガラス基板６が搬出されて、一連の処理が終了する。
【００６８】
ここで、本実施の形態の真空成膜装置における成膜処理室５について詳細に説明する。
【００６９】
上記の成膜処理室５は、成膜材料にて構成されたターゲットとガラス基板６とを減圧雰囲気の中で対向させ、放電現象を利用してガラス基板６上に成膜材料を堆積させるようになっている。
【００７０】
ここで、本実施の形態の成膜処理室５では、図１（ｂ）に示すように、２種類のターゲット１８ａ・１８ｂがそれぞれほぼ鉛直に、より正確には鉛直方向に対してやや内側に傾斜した状態にて両側壁の近傍位置に配置されている。したがって、両ターゲット１８ａ・１８ｂは対向している。また、成膜処理室５の中央部側における上記ターゲット１８ａ・１８ｂの近傍には、ガラス基板６の不要部分への膜の堆積を防止するための図示しない防着板が配置されるようになっている。
【００７１】
上記両ターゲット１８ａ・１８ｂの間における成膜処理室５の床近傍には、図１（ａ）に示すように、上記ガラス基板６を載置するための２つの基板起立具１１ａ・１１ｂが設けられている。これら基板起立具１１ａ・１１ｂは、各端部にて水平に設けられた回転軸１２ａ・１２ｂにそれぞれ独自に支持されている。上記回転軸１２ａ・１２ｂは、真空内回転導入機構１３ａ・１３ｂを介して成膜処理室５外に配置された回転力発生機構１４ａ・１４ｂに接続されている。
【００７２】
したがって、回転力発生機構１４ａ・１４ｂによって真空内回転導入機構１３ａ・１３ｂを介して各回転軸１２ａ・１２ｂに回転駆動力が与えられる。これにより、各回転軸１２ａ・１２ｂが回転し、基板起立具１１ａ・１１ｂが各回転軸１２ａ・１２ｂの周りに回転するので、基板起立具１１ａ・１１ｂが起立し得るようになっている。この起立は、上記ターゲット１８ａ・１８ｂとほぼ平行となる位置で停止される。
【００７３】
また、上記基板起立具１１ａは、図１（ａ）に示すように、ガラス基板６及び後述する基板保持具８を保持する領域において平面状態においてコの字状に形成される一方、基板起立具１１ｂは、このコの字状の基板起立具１１ａに納まるように平面状態においてＴ字状に形成されている。すなわち、これら基板起立具１１ａ・１１ｂは、ガラス基板６を載置するための基板保持具８を安定して載置できると共に、両基板起立具１１ａ・１１ｂが横臥状態つまり平面状態において互いに重ならないように、相互に形状を補うという相補的な形状からなっている。
【００７４】
なお、本実施の形態では、相互に形状を補う相補的な形状として、片方の基板起立具１１ａはコの字形状に形成され、他方の基板起立具１１ｂはＴ字形状に形成されているが、必ずしもこれに限らず、例えば、互いに、挿嵌し得るフォーク形状であっても差し支えない。また、それ以外の形状であっても良い。すなわち、各基板起立具１１ａ・１１ｂを回転軸１２ａ・１２ｂの周りに回転したときに、互いの基板起立具１１ａ・１１ｂが支障なく回転できるようになっていれば良い。ただし、基板保持具８を載置し得る必要がある。
【００７５】
なお、図１（ａ）においては、ターゲット１８ａ・１８ｂの記載を省略している。
【００７６】
次に、図３（ａ）（ｂ）に示すように、基板起立具１１ａ・１１ｂの上には基板保持具８が設けられている。
【００７７】
基板保持具８は、同図（ａ）（ｂ）に示すように、薄型の直方体からなっており、その表面における回転軸１２ａ・１２ｂ側の両端部近傍には、表面から突出する基板支持ピン７ａ・７ａ・７ｂ・７ｂが左右にそれぞれ設けられている。これら基板支持ピン７ａ・７ａ又は基板支持ピン７ｂ・７ｂは、この基板保持具８にガラス基板６が載置された状態にて基板起立具１１ａ・１１ｂが回転軸１２ａ・１２ｂの周りに回転して、図４に示すように、ガラス基板６が基板起立具１１ａ・１１ｂ及び基板保持具８と一体的に起立したときに、このガラス基板６を支持するようになっている。
【００７８】
また、基板保持具８は、図示しない加熱機能を内蔵している。したがって、成膜時に、基板保持具８はこの上に載置したガラス基板６の温度を所定の温度範囲内に維持することができるようになっている。
【００７９】
上記基板保持具８の側面には、図３（ａ）（ｂ）において少なくとも左右２個ずつ計４個の保持具電気接点９ａ・９ａ・９ｂ・９ｂが設けられており、これら２個の保持具電気接点９ａ・９ａ又は保持具電気接点９ｂ・９ｂによって、基板保持具８の内部に配設されている図示しない基板加熱装置に給電を行なうようになっている。すなわち、例えば、上記右側の２個の保持具電気接点９ａ・９ａは、正極用保持具電気接点と負極用保持具電気接点との２つの電気接点となっている。
【００８０】
一方、上記基板保持具８の下側に位置する基板起立具１１ａ・１１ｂには、この基板保持具８の保持具電気接点９ａ・９ａ又は保持具電気接点９ｂ・９ｂに対応するように、それぞれ起立具電気接点１０ａ・１０ａ又は起立具電気接点１０ｂ・１０ｂが設けられおり、これらは互いに嵌挿状態で当接するように形成されている。
【００８１】
これら起立具電気接点１０ａ・１０ａ・１０ｂ・１０ｂは、図示しない配線によって、室外から加熱給電可能となっており、これら起立具電気接点１０ａ・１０ａ又は起立具電気接点１０ｂ・１０ｂと上記保持具電気接点９ａ・９ａ又は保持具電気接点９ｂ・９ｂとが当接することにより、通電されて、上記基板保持具８に内蔵された基板加熱装置に給電されるようになっている。
【００８２】
本実施の形態では、少なくとも一方の上記起立具電気接点１０ａ・１０ｂの形状は、図４に示すように、断面円形となって基板起立具１１ａ・１１ｂの表面から突出して設けられており、基板起立具１１が回転軸１２ａの周りに回転して起立状態となったとき、この基板保持具８を支持する機能を兼用している。なお、上記起立具電気接点１０ａ・１０ｂは、必ずしも断面円形に限らず、断面円筒でも良い。また、その他の断面多角形、断面多角筒、断面楕円形、断面楕円筒、その他の形状でも良い。
【００８３】
さらに、本実施の形態においては、保持具電気接点９ａ・９ａ又は保持具電気接点９ｂ・９ｂにおける少なくとも一組の保持具電気接点９ａ・９ｂは、上記断面円形の起立具電気接点１０ａ・１０ｂに嵌挿し、かつ横方向の位置決め機能を兼用するため、例えば断面Ｖ字形状にて構成されている。この結果、上記保持具電気接点９ａ・９ｂは、断面円形の起立具電気接点１０ａ・１０ｂに外接する少なくとも２つの面を有する形状となっている。したがって、上記断面Ｖ字形状は、多角筒状であって良く、さらに、断面Ｕ字状、円弧状であっても良い。
【００８４】
また、本実施の形態では、両者が互いに嵌挿状態となるように、断面円形と断面Ｖ字形状にて、起立具電気接点１０ａ・１０ｂ及び保持具電気接点９ａ・９ｂを形成したが、必ずしもこれに限らず、例えば、図５に示すように、起立具電気接点１０ａを断面円形とし、保持具電気接点９ａをこの断面円形を挟む２個の断面円形又は球面にて構成することが可能である。さらに、図４及び図５に換えて、これら断面円形と断面Ｖ字形状との形状の位置関係を逆にし、起立具電気接点１０ａと保持具電気接点９ａとの間又は起立具電気接点１０ｂと保持具電気接点９ｂとの間で入れ換えた形状にすることも可能である。
【００８５】
次に、上記構成を有する本実施の形態の真空成膜装置における成膜処理室５にて、ガラス基板６に２層膜を成膜する場合の動作について説明する。
図６（ａ）に示すように、ガラス基板６は基板搬送ロボット１５のハンド１６上に乗り、成膜処理室５側面に設けられたゲートバルブ３を通って、成膜処理室５内の基板保持具８上まで水平に導入され、図６（ｂ）に示すように、基板保持具８の上に載置される。
【００８６】
なお、このとき成膜処理室５の床から上下方向に移動可能な図示しない支持ピンが複数突出してきている。これら支持ピンは、例えば、基板起立具１１の隙間又は基板起立具１１に形成された図示しない穴及び基板保持具８に形成された図示しない穴を通して上下移動するようになっている。したがって、ガラス基板６の搬入時には基板搬送ロボット１５は先ずこれら支持ピンの上にガラス基板６を載置する。その後、支持ピンが下に引っ込むことにより、ガラス基板６は基板保持具８の上に載置される。
【００８７】
次に、図７（ａ）（ｂ）に示すように、ガラス基板６に第１薄膜の成膜を行うために成膜処理室５外部の回転力発生機構１４ａを駆動すると、真空内回転導入機構１３ａを介して回転軸１２ａが回転する。これによって、回転軸１２ａに接続された基板起立具１１ａが回転起立し、基板起立具１１ａ上に配置された基板保持具８及びガラス基板６が起立する。
【００８８】
このとき、基板保持具８の上記保持具電気接点９ａ・９ａは、起立した基板起立具１１ａの起立具電気接点１０ａ・１０ａに重力によって押しつけられ、導通する。さらに、保持具電気接点９ａと起立具電気接点１０ａとが嵌合することにより基板起立具１１ａに対する基板保持具８の位置決めが行われる。
【００８９】
また、基板起立具１１ａが起立した際には、ガラス基板６は基板保持具８に配設された基板支持ピン７ａ・７ａによって支持されるようになっている。
【００９０】
そして、ガラス基板６をターゲット１８ａと平行に対向するまで起立させ、その状態で第１薄膜の成膜を行う。
【００９１】
第１薄膜の成膜終了後は、回転軸１２ａを先ほどとは逆に回転させ、ガラス基板６を水平状態に戻す。
【００９２】
次いで、図８（ａ）（ｂ）に示すように、外部の回転力発生機構１４ｂにて真空内回転導入機構１３ｂを介して回転軸１２ｂを回転させ、ガラス基板６をターゲット１８ｂに平行に対向するまで起立させ、その状態で第２薄膜の成膜を行う。
【００９３】
このとき、上記保持具電気接点９ｂ・９ｂと起立具電気接点１０ｂ・１０ｂとは、第１の薄膜の成膜時と同様に作用する。
【００９４】
第２薄膜の成膜終了後は、回転軸１２ｂを逆転させ、ガラス基板６を水平に戻す。
【００９５】
こうして、２層膜の成膜が終了し、基板搬送ロボット１５がガラス基板６を成膜処理室５の外部に搬出する。
【００９６】
このように、本実施の形態の真空成膜装置では、１つの成膜処理室５内に、ガラス基板６に２層の成膜を行うべく２種の成膜材料からなる２個のターゲット１８ａ・１８ｂが立設されている。また、各ターゲット１８ａ・１８ｂにガラス基板６を対向させるための基板起立具１１ａ・１１ｂが２個設けられ、かつ各基板起立具１１ａ・１１ｂは、相互に独立した回転軸１２ａ・１２ｂを有してそれぞれの回転軸１２ａ・１２ｂ周りに回転起立して保持したガラス基板６を各ターゲット１８ａ・１８ｂに対向可能とするように設けられている。
【００９７】
これによって、１つの成膜処理室５内にて、ガラス基板６に第１の薄膜を成膜するときには、１つの基板起立具１１ａにガラス基板６を載置し、このガラス基板６を載置した基板起立具１１ａを回転軸１２ａにて回転させて、基板起立具１１ａを介してガラス基板６を回転立設させることができる。そして、ガラス基板６を保持してターゲット１８ａに対向させることにより、第１の薄膜を成膜することができる。また、成膜処理後は、回転軸１２ａを逆に回転させてガラス基板６を基板起立具１１ａと共に横臥することができる。
【００９８】
このとき、各基板起立具１１ａ・１１ｂは、横臥したときに互いに重ならないように形成されているので、例えば、一方の基板起立具１１ａを凹面板に形成すると共に、他方の基板起立具１１ｂをこの凹面板に遊嵌する凸面板に形成することが可能である。
【００９９】
したがって、このように形成した凹面板と凸面板との遊嵌状態においては、ガラス基板６が載置された凹面板の基板起立具１１ａを横臥することによって、そのガラス基板６を凸面板の基板起立具１１ｂにも載置した状態とすることができる。
【０１００】
このため、このガラス基板６に、第２の薄膜を成膜するときには、横臥状態にある他の基板起立具１１ｂをそのまま基板起立具１１ｂ用の回転軸１２ｂにて回転起立させることにより、ガラス基板６は基板起立具１１ｂに保持された状態で回転立設され、他方のターゲット１８ｂに対向させることができ、第２の薄膜を成膜することができる。また、成膜処理後は、同様にして、回転軸１２ｂを逆に回転させて基板起立具１１ｂを横臥し、ガラス基板６を基板起立具１１ｂに水平に載置した状態に戻すことができる。
【０１０１】
したがって、１つの成膜処理室５内で、ガラス基板６を室外に逐一取り出すことなく、多層膜を連続して成膜することができる。
【０１０２】
ここで、本実施の形態では、上述したように、各基板起立具１１ａ・１１ｂは、横臥したときに互いに重ならないように形成されている。
【０１０３】
このため、基板起立具１１ａ・１１ｂに保持されるガラス基板６は、横臥した状態からいずれの基板起立具１１ａ・１１ｂによっても回転起立可能となると共に、複数の基板起立具１１ａ・１１ｂを密接させて配設させることができ、かつ密接させて配設したときにも各基板起立具１１ａ・１１ｂは自在に回転することができる。
【０１０４】
したがって、１つの成膜処理室５内において、２個分のスーペスを取ることなく２個の基板起立具１１ａ・１１ｂを設けることができる。
【０１０５】
この結果、２種類の薄膜が一つの成膜処理室５内で成膜可能となるため、２層膜成膜における基板搬送ロボット１５による基板搬送回数を少なくできる。したがって、基板搬送ロボット１５の基板搬送能力への負担が減少し、生産の高効率化可能となる。
【０１０６】
さらに、膜種類数の半分の成膜処理室５の室数で２層膜の成膜を実現できるため、装置寸法の小型化が可能となる。
【０１０７】
以上により、多層膜成膜における生産効率の低下を防止し、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができる。
【０１０８】
また、本実施の形態の真空成膜装置では、基板起立具１１ａ・１１ｂには、基板加熱機能を備えた基板保持具８が載置される。そして、基板保持具８に保持したガラス基板６を加熱可能状態にして基板起立具１１ａ・１１ｂにて回転起立させる。
【０１０９】
このため、一般に、この種の成膜においては、成膜中にガラス基板６を加熱するのが常道であるが、その加熱装置についても容易に構成することができる。
【０１１０】
すなわち、基板保持具８に加熱機能を有すると共に、この基板保持具８はガラス基板６を載置した状態にて基板起立具１１ａ・１１ｂが回転起立することにより、ガラス基板６と基板起立具１１ａ・１１ｂとが一体となった状態でいずれのターゲット１８ａ・１８ｂにも対向可能となる。
【０１１１】
したがって、いずれのターゲット１８ａ・１８ｂに対向したときにも、すなわち、成膜位置のいずれの位置においても、ガラス基板６を所定の温度範囲内に均一に加熱することができる。
【０１１２】
この結果、加熱装置を含めて、多層膜成膜における生産効率の低下を防止し得る真空成膜装置を提供することができる。
【０１１３】
また、本実施の形態では、基板起立具１１ａ・１１ｂには基板加熱の給電を受けるための保持具電気接点９ａ・９ａ・９ｂ・９ｂが設けられる。また、基板起立具１１ａ・１１ｂにはこれら保持具電気接点９ａ・９ａ・９ｂ・９ｂに当接する起立具電気接点１０ａ・１０ａ・１０ｂ・１０ｂが加熱給電可能に設けられる。
【０１１４】
したがって、基板起立具１１ａ・１１ｂに配設した起立具電気接点１０ａ・１０ａ・１０ｂ・１０ｂを通じて基板保持具８に給電することができるため、成膜位置のいずれの位置においても、配線を施す必要が無い。
【０１１５】
また、起立具電気接点１０ａ・１０ａ・１０ｂ・１０ｂは、各基板起立具１１ａ・１１ｂに設けられている。このことは、基板保持具８に加熱機能を作用させるために、いずれの基板起立具１１ａ・１１ｂに保持される基板保持具８においても、配線を施すことなく、基板起立具１１ａ・１１ｂに配設した起立具電気接点１０ａ・１０ａ・１０ｂ・１０ｂを通じて基板保持具８に給電できることになり、成膜位置にとらわれることなく、ガラス基板６の温度を所定の温度範囲にすることができることになる。
【０１１６】
この結果、配線面を含めて、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができる。
【０１１７】
また、本実施の形態の真空成膜装置では、ガラス基板６を載置した基板保持具８を基板起立具１１ａ・１１ｂにて回転起立させたときに、基板起立具１１ａ・１１ｂに設けられた起立具電気接点１０ａ・１０ａ又は起立具電気接点１０ｂ・１０ｂは、基板保持具８を下側から支持して保持するものとなっている。
【０１１８】
したがって、起立具電気接点１０ａ・１０ａ又は起立具電気接点１０ｂ・１０ｂは、基板保持具８を起立させたときの支持部材を兼ねている。
【０１１９】
この結果、部品点数を削減して、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができる。
【０１２０】
また、本実施の形態の真空成膜装置では、例えば、基板起立具１１ａ・１１ｂが２個存在する場合には、基板保持具８には、下側に正極用保持具電気接点９ａと負極用保持具電気接点９ｂとの２つの電気接点が設けられると共に、上側にも正極用保持具電気接点９ａと負極用保持具電気接点９ｂとの２つの電気接点が設けられる。
【０１２１】
また、２個の各基板起立具１１ａ・１１ｂには、上記基板保持具８の２つの正極用及び負極用の電気接点９ａ・９ａ又は電気接点９ｂ・９ｂに対応してそれぞれ正極用起立具電気接点１０ａ及び負極用起立具電気接点１０ａ又は正極用起立具電気接点１０ｂ及び負極用起立具電気接点１０ｂの各２つの正極用及び負極用の電気接点が設けられる。
【０１２２】
ここで、本実施の形態では、基板保持具８に設けられた４個の保持具電気接点９ａ・９ａ又は保持具電気接点９ｂ・９ｂと各基板起立具１１ａ・１１ｂに設けられた４個の起立具電気接点１０ａ・１０ａ又は起立具電気接点１０ｂ・１０ｂの内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点９ａ・１０ａ又は電気接点９ｂ・１０ｂが互いに嵌挿状態で当接するように形成されている。
【０１２３】
すなわち、基板保持具８の下側に設けられた正極用保持具電気接点９ａと基板起立具１１ａに設けられた正極用起立具電気接点１０ａとの組み合わせ、及び基板保持具８の下側に設けられた負極用保持具電気接点９ａと基板起立具１１ａに設けられた負極用起立具電気接点１０ａとの組み合わせのいずれか少なくとも一方の組み合わせにおいて、電気接点が互いに嵌挿状態で当接するように形成されている。
【０１２４】
このため、少なくとも一組の保持具電気接点９ａと起立具電気接点１０ａとを電通させるために両者を嵌挿して当接させると、両者は互いに固定される。また、同様に、少なくとも一組の保持具電気接点９ｂと起立具電気接点１０ｂとを電通させるために両者を嵌挿して当接させると、両者は互いに固定される。
【０１２５】
このことは基板保持具８が基板起立具１１ａ又は基板起立具１１ｂに固定されることを意味する。
【０１２６】
したがって、基板保持具８が基板起立具１１ａ・１１ｂに対して位置決めされるので、基板保持具８を精度良く所定の位置にセットすることができる。
【０１２７】
この結果、基板保持具８が移動することによるガラス基板６の移動を抑制し、成膜の品質を確保し得る真空成膜装置を提供することができる。
【０１２８】
また、本実施の形態の真空成膜装置では、基板保持具８に設けられた４個の保持具電気接点９ａ・９ａ又は保持具電気接点９ｂ・９ｂと各基板起立具１１ａ・１１ｂに設けられた４個の起立具電気接点１０ａ・１０ａ又は起立具電気接点１０ｂ・１０ｂの内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点９ａ・１０ａ又は電気接点９ｂ・１０ｂにおける一方の電気接点１０ａ又は電気接点１０ｂが断面円形若しくは断面円筒又は球面を含む形状である一方、この電気接点１０ａ又は電気接点１０ｂに当接する他方の電気接点９ａ又は電気接点９ｂは該形状における断面の少なくとも２点にて外接する形状に形成されている。
【０１２９】
すなわち、例えば、一方の断面円形の電気接点１０ａに当接する他方の電気接点９ａは、例えば断面Ｖ字状に形成される。これによって、他方の断面Ｖ字状の電気接点９ａは、断面円形の電気接点１０ａに対して２点にて外接する。
【０１３０】
したがって、これによって、例えば、基板起立具１１ａ・１１ｂを横臥状態にしたときに基板保持具８が基板起立具１１ａ・１１ｂに対して少し移動したとしても、基板起立具１１ａ・１１ｂを起立状態にしたときに、一方の断面円形等の電気接点１０ａ又は電気接点１０ｂに他方の断面Ｖ字状等の電気接点９ａ又は電気接点９ｂに容易に嵌まり込む。
【０１３１】
したがって、基板保持具８が基板起立具１１ａ・１１ｂに対して少し移動したときにも確実に両電気接点９ａ・１０ａ又は電気接点９ｂ・１０ｂが嵌挿され、基板保持具８が基板起立具１１ａ・１１ｂに対して位置決めされる。
【０１３２】
この結果、基板保持具８における基板加熱機能を確実に確保することができると共に、基板保持具８が移動することによるガラス基板６の移動を抑制し、成膜の品質を確実に確保し得る真空成膜装置を提供することができる。
【０１３３】
なお、本実施の形態では、ガラス基板６に２層膜を形成するために１つの成膜処理室５内に２個のターゲット１８ａ・１８ｂを設け、それに対応するように２個の基板起立具１１ａ・１１ｂを設けた。しかしながら、必ずしもこれに限らず、例えば、１つの成膜処理室５内にさらにターゲットを設けて３個とし、基板起立具もこれに対応して３個とすることができる。また、それ以上の複数にすることも可能である。
【０１３４】
また、本実施の形態では、ガラス基板６に２層膜を形成するものとして説明を行ったが、必ずしも層を形成するのではなく、ガラス基板６の異なる領域に異なる成膜材料を成膜することも可能である。
【０１３５】
【発明の効果】
請求項１に係る発明の真空成膜装置は、以上のように、１つの成膜処理室内に、基板に複数の成膜を行うべく各種の成膜材料からなる複数のターゲットが立設されている一方、上記各ターゲットに基板を対向させるための基板起立具が複数設けられ、かつ各基板起立具は、相互に独立した回転軸を有してそれぞれの回転軸周りに回転起立して保持した基板を各ターゲットに対向可能とするように設けられ、さらに、各基板起立具は、横臥したときに互いに重ならないように形成されているものである。
【０１３６】
それゆえ、１つの成膜処理室内にて、基板に第１の薄膜を成膜するときには、１つの基板起立具に基板を載置し、この基板を載置した基板起立具を回転軸にて回転させて、基板起立具を介して基板を回転立設させることができる。そして、基板を保持してターゲットに対向させることにより、第１の薄膜を成膜することができる。また、成膜処理後は、回転軸を逆に回転させて基板を基板起立具と共に横臥することができる。
【０１３７】
このとき、各基板起立具は、横臥したときに互いに重ならないように形成されているので、基板が載置された一方の基板起立具を横臥することによって、その基板を他方の基板起立具にも載置した状態とすることができる。
【０１３８】
このため、この基板に、第２の薄膜を成膜するときには、横臥状態にある他の基板起立具をそのまま該基板起立具用の回転軸にて回転起立させることにより、基板は該他の基板起立具に保持された状態で回転立設され、他方のターゲットに対向させることができ、第２の薄膜を成膜することができる。
【０１３９】
したがって、１つの成膜処理室内で、基板を室外に逐一取り出すことなく、多層膜を連続して成膜することができる。
【０１４０】
ここで、本発明では、上述したように、各基板起立具は、横臥したときに互いに重ならないように形成されている。
【０１４１】
このため、基板起立具に保持される基板は、横臥した状態からいずれの基板起立具によっても回転起立可能となると共に、複数の基板起立具を密接させて配設させることができ、かつ密接させて配設したときにも各基板起立具は自在に回転することができる。
【０１４２】
したがって、１つの成膜処理室内において、複数分のスーペスを取ることなく複数の基板起立具を設けることができる。
【０１４３】
この結果、多種類の薄膜が一つの成膜処理室内で成膜可能となるため、多層膜成膜における基板搬送ロボットによる基板搬送回数を少なくできる。したがって、基板搬送ロボットの基板搬送能力への負担が減少し、生産の高効率化可能となる。
【０１４４】
さらに、膜種類数の半分以下の成膜処理室数で多層膜成膜を実現できるため、装置寸法の小型化が可能となる。
【０１４５】
以上により、多層膜成膜における生産効率の低下を防止し、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができるという効果を奏する。
【０１４６】
請求項２に係る発明の真空成膜装置は、以上のように、請求項１記載の真空成膜装置において、前記基板起立具に、基板加熱機能を備えた基板保持具を載置すると共に、この基板保持具に保持した基板を加熱可能状態にして基板起立具にて回転起立させるものである。
【０１４７】
それゆえ、一般に、この種の成膜においては、成膜中に基板を加熱するのが常道であるが、その加熱装置についても、いずれのターゲットに対向したときにも基板を加熱することができるように、容易に構成することができる。
【０１４８】
この結果、加熱装置を含めて、多層膜成膜における生産効率の低下を防止し得る真空成膜装置を提供することができるという効果を奏する。
【０１４９】
請求項３に係る発明の真空成膜装置は、以上のように、請求項２記載の真空成膜装置において、前記基板保持具には基板加熱の給電を受けるための保持具電気接点が設けられる一方、前記各基板起立具にはこの保持具電気接点に当接する起立具電気接点が加熱給電可能に設けられているものである。
【０１５０】
それゆえ、基板起立具に配設した起立具電気接点を通じて基板保持具に給電することができるため、成膜位置のいずれの位置においても、配線を施す必要が無い。
【０１５１】
また、起立具電気接点は、各基板起立具に設けられている。このことは、基板保持具に加熱機能を作用させるために、いずれの基板起立具に保持される基板保持具においても、配線を施すことなく、基板起立具に配設した起立具電気接点を通じて基板保持具に給電できることになり、成膜位置にとらわれることなく、基板温度を所定の温度範囲にすることができることになる。
【０１５２】
この結果、配線面を含めて、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができるという効果を奏する。
【０１５３】
請求項４に係る発明の真空成膜装置は、以上のように、請求項３記載の真空成膜装置において、前記起立具電気接点は、基板を載置した基板保持具を基板起立具にて回転起立させたときに、基板保持具を下側から支持して保持するものである。
【０１５４】
それゆえ、起立具電気接点は、基板保持具を起立させたときの支持部材を兼ねている。
【０１５５】
この結果、部品点数を削減して、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供することができるという効果を奏する。
【０１５６】
請求項５に係る発明の真空成膜装置は、以上のように、請求項３又は４記載の真空成膜装置において、前記基板保持具に設けられた複数の保持具電気接点と各基板起立具に設けられた複数の起立具電気接点の内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点が互いに嵌挿状態で当接するように形成されているものである。
【０１５７】
それゆえ、少なくとも一組の保持具電気接点と起立具電気接点とを電通させるために両者を嵌挿して当接させると、両者は互いに固定される。このことは基板保持具が基板起立具に固定されることを意味する。したがって、基板保持具が基板起立具に対して位置決めされるので、基板保持具を精度良く所定の位置にセットすることができる。
【０１５８】
この結果、基板保持具が移動することによる基板の移動を抑制し、成膜の品質を確保し得る真空成膜装置を提供することができるという効果を奏する。
【０１５９】
請求項６に係る発明の真空成膜装置は、以上のように、請求項３、４又は５記載の真空成膜装置において、前記基板保持具に設けられた複数の保持具電気接点と各基板起立具に設けられた複数の起立具電気接点の内、相互に対応して対をなす少なくとも一組の電気接点における一方の電気接点が断面円形若しくは断面円筒又は球面を含む形状である一方、この電気接点に当接する他方の電気接点は該形状における断面の少なくとも２点にて外接する形状に形成されているものである。
【０１６０】
それゆえ、基板起立具を横臥状態にしたときに基板保持具が基板起立具に対して少し移動したとしても、基板起立具を起立状態にしたときに、一方の断面円形等の電気接点に他方の断面Ｖ字状等の電気接点に容易に嵌まり込む。
【０１６１】
したがって、基板保持具が基板起立具に対して少し移動したときにも確実に両電気接点が嵌挿され、基板保持具が基板起立具に対して位置決めされる。
【０１６２】
この結果、基板保持具における基板加熱機能を確実に確保することができると共に、基板保持具が移動することによる基板の移動を抑制し、成膜の品質を確実に確保し得る真空成膜装置を提供することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における真空成膜装置の実施の一形態を示すものであり、（ａ）はターゲットを略して示す成膜処理室の平面図、（ｂ）は成膜処理室の正面図である。
【図２】上記真空成膜装置の全体構成を示す平面図である。
【図３】上記真空成膜装置の成膜処理室において、基板起立具の上に基板保持具が載置された状態を示すものであり、（ａ）はターゲットを略して示す平面図、（ｂ）は正面図である。
【図４】上記真空成膜装置の成膜処理室において、ガラス基板を載置した基板保持具が基板起立具にて回転起立したときに、ガラス基板が基板支持ピンにて支持される状態、及び基板保持具が起立具電気接点にて支持される状態、及び起立具電気接点が起立具電気接点に嵌挿される状態を示す側面図である。
【図５】上記真空成膜装置の成膜処理室において、起立具電気接点が図４とは異なる形状の起立具電気接点に嵌挿される状態を示す側面図である。
【図６】上記真空成膜装置の成膜処理室において、基板保持具の上にガラス基板が載置された状態を示すものであり、（ａ）はターゲットを略して示す平面図、（ｂ）は正面図である。
【図７】上記真空成膜装置の成膜処理室において、第１薄膜を形成すべく基板保持具の上に載置されたガラス基板を一方の基板起立具にて回転起立させた状態を示すものであり、（ａ）はターゲットを略して示す平面図、（ｂ）は正面図である。
【図８】上記真空成膜装置の成膜処理室において、第２薄膜を積層すべく基板保持具の上に載置されたガラス基板を他方の基板起立具にて回転起立させた状態を示すものであり、（ａ）はターゲットを略して示す平面図、（ｂ）は正面図である。
【符号の説明】
３    ゲートバルブ
５    成膜処理室
６    ガラス基板（基板）
７ａ・  ７ｂ  基板支持ピン
８    基板保持具
９ａ・  ９ｂ  保持具電気接点
１０ａ・１０ｂ  起立具電気接点
１１ａ・１１ｂ  基板起立具
１２ａ・１２ｂ  回転軸
１４ａ・１４ｂ  回転力発生機構
１５    基板搬送ロボット
１６    ハンド
１７    中間室
１８ａ・１８ｂ  ターゲット
【図１】
0003645121.tif 000002
【図２】
0003645121.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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