(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
メガネレンズのサンプル材料（８）の屈折率を測定する装置（２００）において、
実質的に空間的にコヒーレントな放射ビーム（２４０）のビーム源（１，２，２１，２２）と、
前記実質的に空間的にコヒーレントな放射ビーム（２４０）に応動してサンプルビーム（４）と基準ビーム（５）を形成するビームスプリッタ（３）と、
前記基準ビーム（５）を前記ビームスプリッタ（３）の方に逆反射するように並進可能に配置された第１の反射手段（６）と、
前記メガネレンズのサンプル材料（８）を通過した前記サンプルビーム（４）を前記ビームスプリッタ（３）の方に逆反射する第２の反射手段（９）と、
前記第２の反射手段（９）の変位量を測定する手段と、
前記反射された基準ビーム（５）と前記反射されたサンプルビーム（４）との重畳された信号を検出して、当該基準ビーム（５）と当該サンプルビーム（４）とに応動して検出器出力信号（３００）を形成するように配置されている検出器手段（９２）と、
前記メガネレンズのサンプル材料（８）の厚さを測定する、サンプル厚さ測定手段（１０，１１，１２）と、
前記検出器出力信号（３００）に応動して、前記第１の反射手段（６）の位置を測定し、当該第１の反射手段（６）の位置と前記メガネレンズのサンプル材料（８）の厚さに応動して、当該メガネレンズのサンプル材料（８）の屈折率を測定する分析手段（１３，１４，１５，１６）と
を有している
ことを特徴とする、メガネレンズのサンプル材料の屈折率を測定する装置。
【請求項２】
ビーム源（１，２，２１，２２）が数ミクロンのオーダーのコヒーレント長さを有する、請求項１記載の測定装置。
【請求項３】
ビーム源（１，２，２１，２２）が発光ダイオードである、請求項２記載の装測定置。
【請求項４】
ビーム源（１，２，２１，２２）がスーパールミネセントダイオードである、請求項２記載の測定装置。
【請求項５】
ビーム源（１，２，２１，２２）が更に発光ダイオード（１）の出力をコリメートする手段（２）と、コリメートされた出力をピンホール（２２）を介して集束する手段（２１）とを含む、請求項３または４記載の測定装置。
【請求項６】
第１の並進可能な反射手段（６）は、ステップモータ（７）に取り付けられている第１の逆反射器即ちリトロレフレクタ（６）である、請求項１〜５迄の何れか１記載の測定装置。
【請求項７】
サンプル厚さ測定手段（１０，１１，１２）は、カリパ−（２７）の変位量を測定する手段（１２）を含む、請求項１記載の測定装置。
【請求項８】
検出器（９２）の出力は帯域通過濾波フィルタ（１４）、平方根平均二乗フィルタ（１５）に供給され、およびトリガ（１６）へ供給される、請求項１から７迄の何れか１記載の測定装置。
【請求項９】
第１の逆反射器即ちリトロレフレクタ（６）が実質的に一定の速度で運動される、請求項６記載の測定装置。
【請求項１０】
メガネレンズのサンプル材料（８）の屈折率を測定する方法において、該測定方法が次のステップを有しており、即ち、
実質的に空間的にコヒーレントな放射ビーム（２４０）を形成するステップ；
該放射ビーム（２４０）をビームスプリッタによってサンプルビーム（４）と基準ビーム（５）とに分割するステップ；
前記基準ビーム（５）を並進可能に配置された第１の反射手段（６）の方に配向させるステップ；
前記基準ビーム（５）を前記第１の反射手段（６）によりビームスプリッタ（３）に逆反射させるステップ；
前記メガネレンズのサンプル材料（８）を前記サンプルビーム（４）の経路内に保持するステップ；
前記サンプルビーム（４）を、第２の反射手段（９）によって、前記メガネレンズのサンプル材料（８）を通って前記ビームスプリッタ（３）に逆反射させるステップ；
前記メガネレンズのサンプル材料（８）を前記ビームスプリッタ（３）から所定距離に保持するステップ；
前記反射された基準ビーム（５）と前記反射されたサンプルビーム（４）を前記ビームスプリッタ（３）を介して検出して、検出器出力信号（３００）を発生するステップ；
前記サンプルビーム（４）が通過する個所の前記メガネレンズのサンプル材料（８）の厚さ（ｄ）を測定するステップ；
前記検出器出力信号（３００）に応答して、前記第１の反射手段（６）の位置を決定するステップ；
前記並進可能な反射手段（６）の位置及び前記メガネレンズのサンプル材料（８）の厚さに応動して、当該メガネレンズのサンプル材料（８）の屈折率を決定するステップを有することを特徴とする、材料の屈折率を測定する方法。
【請求項１１】
メガネレンズのサンプル材料（８）の屈折率を測定する装置（５００）において、
実質的に空間的にコヒーレントな放射ビーム（２４０）を放射するビーム源（１，２，２１，２２）；
前記コヒーレントな放射ビーム（２４０）に応答して、サンプルビーム（４）と基準ビーム（５）を形成する第１のビームスプリッタ手段（３）と、
前記基準ビーム（５）に応答して、第１の基準ビーム（２５）と第２の基準ビーム（２６）とを形成する第２のビームスプリッタ手段（２４）と、
第１の基準ビーム（２５）が前記第１のビームスプリッタ手段（３）と前記第２のビームスプリッタ手段（２４）とに反射されるように、並進可能に配設された第１の反射手段（６）と、
サンプルビーム（４）が、前記メガネレンズのサンプル材料（８）を通過して逆反射されるように配設された第２の反射手段（９）と、
前記第２の規準ビーム（２６）が前記第１のビームスプリッタ手段（３）と前記第２のビームスプリッタ手段（２４）とに反射されるように配設された第３の反射手段（１２７）と、
前記第１の基準ビーム（２５）と前記第２の基準ビーム（２６）とからなる前記規準ビーム（５）と、検出器経路（９１）内の前記第１のビームスプリッタ（３）を介して反射された前記サンプルビーム（４）の重畳信号を検出して、前記規準ビーム（５）と前記サンプルビーム（４）とに応答して検出器出力信号（３００）を形成するように構成された検出器（９２）と、
該検出器出力信号（３００）に応動して、前記第１の並進可能な反射手段（６）の第１および第２の位置を測定し、当該第１および第２の位置に応動して、前記メガネレンズのサンプル材料（８）の屈折率を測定するための分析手段（１３，１４，１５，１６）を備えていることを特徴とする、メガネレンズのサンプル材料（８）の屈折率を測定する装置（５００）。
【請求項１２】
ビーム源（１，２，２１，２２）が、数ミクロンのオーダーのコヒーレント長さを有する、請求項１１記載の測定装置。
【請求項１３】
ビーム源（１，２，２１，２２）がスーパールミネセントダイオードである、請求項１２記載の測定装置。
【請求項１４】
並進反射手段は実質的に一定の速度で運動される、請求項１１〜１３迄の何れか１記載の測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、メガネレンズのような材料の屈折率を測定する方法および装置に関する。
【０００２】
【従来技術】
ガラスの屈折率を測定するために用いられる各種の従来技術がある。１つの方法においては、全反射の臨界角を測定するためのアッベ（Ａｂｂｅ）屈折計を用いる。この方法によれば、屈折率は、測定された臨界角の値から導出される。この方法は刊行物“Ｏｐｔｉｃｓ”ｂｙ  Ｅｕｇｅｎｅ  Ｈｅｃｈｔ  ａｎｄ  Ａｌｆｒｅｄ  Ｚａｊａｃ，Ｐｕｂｌｉｓｈｅｄ  ｂｙ  Ａｄｄｉｓｏｎ−  Ｗｅｓｌｅｙ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ. Ｆｅｂｒｕａｒｙ，１９７９（Ｃｏｐｙｒｉｇｈｔ  １９７４），ｐｐ．８１−８４．に示されている。
【０００３】
ガラスの屈折率を測定するために用いられる別の方法においては、ガラスの、屈折率に依存する反射率を測定する。屈折率と反射率との関係は例えば前記の刊行物の第７５頁のフレネルの式に示されている。
【０００４】
ガラスの屈折率を測定するさらに別の方法においては、ガラスのサンプルブロックを貫通する光ビームの偏向角度を測定する。この方法は前記の刊行物の第６２−６３頁に示されている。
【０００５】
前述の全部の方法は欠点を有する。例えばこれらの方法は、測定されるべき屈折率のガラスの表面の幾何学的形状が既知であることを必要とする。例えば同等の精度の屈折率の測定を行い得るには表面の曲率半径を、約０．１％の精度まで測定しなければならない。さらに最初の２つの方法は反射の測定である。これは、メガネの屈折率を測定する時は欠点を有する、何故ならばメガネは反射防止用にコーティングされていることが多いからである。
【０００６】
【発明の解決すべき課題】
そのためガラスの表面の幾何学的寸法を測定せずにガラスたとえばメガネレンズのガラスの屈折率を測定する方法と装置が必要とされる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この課題は本発明による第１の測定装置における次の構成により解決されている。即ちメガネレンズのサンプル材料の屈折率を測定する装置において、
実質的に空間的にコヒーレントな放射ビームのビーム源と、
実質的に空間的にコヒーレントな放射ビームに応動してサンプルビームと基準ビームを形成するビームスプリッタと、
基準ビームをビームスプリッタの方に逆反射（つまり再帰反射）するように並進可能に配置された第１の反射手段と、
メガネレンズのサンプル材料を通過したサンプルビームをビームスプリッタの方に逆反射する第２の反射手段と、
第２の反射手段の変位量を測定する手段と、
反射された基準ビームと反射されたサンプルビームとの重畳された信号を検出して、当該基準ビームと当該サンプルビームとに応動して検出器出力信号を形成するように配置されている検出器手段と、
メガネレンズのサンプル材料の厚さを測定する、サンプル厚さ測定手段と、
検出器出力信号に応動して、第１の反射手段の位置を測定し、当該第１の反射手段の位置とメガネレンズのサンプル材料の厚さに応動して、当該メガネレンズのサンプル材料の屈折率を測定する分析手段と
を有している
構成により解決されている。
【０００８】
この第１の測定装置の実施において、ビーム源は発光ダイオードでありその出力はコリメートされてピンホールにより集束化される；サンプルビームと基準ビームを供給する装置はビームスプリッタである；可動の反射手段はステップモータに取り付けられている逆反射器即ちリトロレフレクタである；材料の保持手段はカリパー手段であり、このカリパー手段は、材料をビームスプリッタと逆反射器即ちリトロレフレクタから所定の距離で保持する；検出器装置は検出器を含み、検出器の出力は帯域通過濾波され、平方根平均二乗フィルタで濾波されてトリガへ加えられる。
【０００９】
更に、この課題は、本発明の方法によると、
該測定方法が次のステップを有しており、即ち、
実質的に空間的にコヒーレントな放射ビームを形成するステップ；
該放射ビームをビームスプリッタによってサンプルビームと基準ビームとに分割するステップ；
基準ビームを並進可能に配置された第１の反射手段の方に配向させるステップ；
基準ビームを第１の反射手段によりビームスプリッタに逆反射つまり再帰反射させるステップ；
メガネレンズのサンプル材料をサンプルビームの経路内に保持するステップ；
サンプルビームを、第２の反射手段によって、メガネレンズのサンプル材料を通ってビームスプリッタに逆反射させるステップ；
メガネレンズのサンプル材料をビームスプリッタから所定距離に保持するステップ；
反射された基準ビームと反射されたサンプルビームをビームスプリッタを介して検出して、検出器出力信号を発生するステップ；
サンプルビームが通過する個所のメガネレンズのサンプル材料の厚さを測定するステップ；
検出器出力信号に応答して、第１の反射手段の位置を決定するステップ；
並進可能な反射手段の位置及びメガネレンズのサンプル材料の厚さに応動して、当該メガネレンズのサンプル材料の屈折率を決定するステップを有することにより解決される。
【００１０】
本発明により第２の測定装置は次の構成を有する、即ち
実質的に空間的にコヒーレントな放射ビームを放射するビーム源；
コヒーレントな放射ビームに応答して、サンプルビームと基準ビームを形成する第１のビームスプリッタ手段と、
基準ビームに応答して、第１の基準ビームと第２の基準ビームとを形成する第２のビームスプリッタ手段と、
第１の基準ビームが第１のビームスプリッタ手段と第２のビームスプリッタ手段とに反射されるように、並進可能に配設された第１の反射手段と、
サンプルビームが、メガネレンズのサンプル材料を通過して逆反射つまり再帰反射されるように配設された第２の反射手段と、
第２の規準ビームが第１のビームスプリッタ手段と第２のビームスプリッタ手段とに反射されるように配設された第３の反射手段と、
第１の基準ビームと第２の基準ビームとからなる規準ビームと、検出器経路内の第１のビームスプリッタを介して反射されたサンプルビームの重畳信号を検出して、規準ビームとサンプルビームとに応答して検出器出力信号を形成するように構成された検出器と、
該検出器出力信号に応動して、第１の並進可能な反射手段の第１および第２の位置を測定し、当該第１および第２の位置に応動して、メガネレンズのサンプル材料の屈折率を測定するための分析手段を備えていることにより解決される。
【００１１】
この第２の測定装置において、ビーム源は発光ダイオードであり、その出力はコリメートされピンホールにより集束される；サンプルビームと第１および第２に基準ビームを供給するは第１および第２のビームスプリッタである；可動の反射手段はステップモータに取り付けられている逆反射器即ちリトロレフレクタである；材料のための保持手段は、材料と第１および第２の逆反射器を保持するカリパー手段である；検出器手段は検出器を含み、その出力は帯域通過濾波され、値（平均二乗の平方根フィルタで濾波されてトリガへ加えられる。
【００１２】
次に本発明の構成を図面を用いて説明する。
【００１３】
【実施例の説明】
図１は本発明による、ガラスの表面の曲率半径を測定することなく、ガラスたとえば眼鏡レンズ８のガラスの屈折率を測定するための装置の実施例２００を示す。
【００１４】
本発明のこの実施例において、光源１により送出された光ビーム出力２０５は、コリメータレンズ２によりビーム２１０としてコリメートされる。本発明によれば、光源１からの出力２０５は短かいコヒーレント長さを有する。このコヒーレント長さは有利に数ミクロンのオーダである。適切な光源は例えば発光ダイオード（“ＬＥＤ”）である。
【００１５】
レンズ２からのコリメートされた出力２１０は、焦点距離ｆを有するレンズ２１によりビーム２２０として小さいピンホール２２へ収束される。ピンホールの直径は実質的に次の式により与えられる。
【００１６】
ｄ＝１．２２λｆ／ａ                  （１）
ただしλはＬＥＤ１からの出力の波長、ａはレンズ２により形成されたコリメートされたビーム２１０の半径である。この結果、ピンホール２２から送出されたビーム２３０は空間的にコヒーレントとなる。別の実施例においてはビーム２３０はスーパ−ルミネセント光源たとえばスーパールミネセントダイオードからの出力として供給される。スーパールミネセントダイオードは回折の制限された光源であるにもかかわらず、図１に示された拡張ＬＥＤ源が必要とするよりもよりクリティカル困難な合わせ（アラインメント）必要とする。
【００１７】
ビーム２３０は、次にコリメータレンズ２３により再びコリメートされてビーム２４０となる。ビーム２４０はサンプルビーム４と基準ビーム５を形成する目的でビームスプリッタ３へ入射する。
【００１８】
図１に示されている様に基準ビーム５は、可動の台７の上に取り付けられている基準ミラー６へ入射するように、案内される。基準ミラー６は例えば逆反射するプリズムのような逆反射器即ちリトロレフレクタとすることができる。
【００１９】
さらに図１に示されているようにサンプルビーム４はメガネレンズ８へその頂点において入射するように案内される。サンプルビーム４はメガネレンズ８を通過して、カリパー手段２７の可動のアース上に取り付けられている逆反射プリズム９へ入射する。逆反射されたサンプルビーム４と逆反射された基準ビーム５は検出路９１において重ねられ、この組み合わされた信号は光検出器９２により案内される。
【００２０】
本発明によれば基準ミラー６は一定の直線的な速度Ｖで可動の台７により往復運動される。本発明によれば、基準ビーム５の光学的長さがサンプルビーム４の光学的長さＬに等しくなると検出器９２における信号が、次の式により与えられる周波数ｆにより直ちに変調される：
ｆ＝２Ｖ／λ                  （２）
ただしλは光源１の波長である。
【００２１】
図２は、検出器９２により形成される検出器信号３００のグラフを示す。図２において縦軸４００は検出器信号３００の振幅を示し、横軸４１０は基準ミラー７の変位を示す。
【００２２】
図２に示されている様に信号の長さは光源１のコヒーレンス長さにほぼ等しく、光源１がＬＥＤである実施例においては、信号の長さはミクロンのオーダである。
【００２３】
サンプルビーム４の光学的長さＬは次の式で与えられる：
Ｌ＝２（ｄ１＋ｎｄ＋ｄ２）                  （３）
ただしｄ１ はメガネレンズ８の上側表面からビームスプリッタ３への距離、ｎはメガネ８のガラス材料の屈折率、ｄはメガネレンズ８の厚さ、ｄ２ はメガネレンズ８の下側表面から逆反射器逆反射器即ちリトロレフレクタ９への距離である。本発明によれば、メガネレンズ８の屈折率ｎは、式（３）からｎを求めることにより測定される：このことは以下の実施例によりなされる。
【００２４】
本発明の方法を実施するための設定ステップの一部はメガネレンズ８の厚さｄの測定を必要とする。ピン１０と１１を有するカリパー手段２７がこの目的で用いられる。図１に示されている様に逆反射器９はカリパー手段２７の可動のピン１１へ固定され、カリパー手段２７のピン１０は干渉計プラットフォーム１０１へ固定されている。ピン１１と逆反射器９との間の固定の距離と、ピン１０と干渉計プラットフォーム１０１の間の固定の距離との使用が、既知の所定の値としてのｄ２とｄ１を与える。次に本発明によればメガネレンズ８の厚さｄが変位センサ１２により測定される。変位センサ１２は、逆反射器９を保持するカリパー手段２７のピンの変位量を測定する。
【００２５】
変位センサ１２からの電気的な読み出し信号３１０は制御ユニット１３へ伝送される。制御ユニットはステップモータ７を駆動するための出力信号３２０を出力する。本発明によれば検出器９２からの信号３００は、帯域通過フィルタ１４により帯域通過濾波される。帯域通過フィルタ１４からの出力信号３３０は式（２）により与えられる周波数と、光源１のコヒーレンス長さに相応するパルス長さとを有する振動する信号パルスである。帯域通過フィルタ１４からの出力３３０はさらに値（平方根平均二乗ｒｏｏｔ  ｍｅａｎ  ｓｑｕａｒｅ  ｖａｌｕｅ）フィルタ１５により濾波される。その目的は検出器９２により発生された信号パルスすなわち信号３４０の包絡線を得るためである。
【００２６】
次にフィルタ１５からの出力信号３４０は入力としてトリガユニット１６たとえばシュミットトリガへ加えられる。その目的は信号パルス３４０から時限信号３５０を導出するためである。時限パルス３５０は入力として制御ユニット１３へ加えられる。
【００２７】
本発明によればトリガ１６からの時限信号３５０に応動して制御ユニット１３は、トリガパルス３５０の瞬時におけるステップモータ７の位置を記憶する。ステップモータ７の位置は、サンプルビーム４の光路長さに等しい基準アーム長さに相応する。この光路長さは上述の式２のＬに等しい。
【００２８】
いまや制御ユニット１３は屈折率ｎを求めるために式（３）を解くのに必要とされる値を有する：（ａ）ｄ１とｄ２（前述の様にｄ１とｄ２は所定値として得られる）；ｄ（前述の様にｄは変位センサ１２により出力される信号３１０から得られる）；（ｃ）Ｌ（前述の様にＬはステップモータ７の位置から得られる）。制御ユニット１３はメガネレンズ８の材料の屈折率ｎを求めるために式（３）を解いて、この値を例えばディスプレー１７に表示する。多くの方法と装置が当業者に制御ユニット１３を提供するために知られている。例えば制御ユニット１３は簡単に入手できるマイクロプロセッサ装置を用いて製造できる。
【００２９】
図３はブロック図で本発明の選択的な実施例５００を示す。これは、ガラスの表面の曲率半径を測定することなくガラスたとえばメガネレンズ８のガラスの屈折率を測定する装置である。
【００３０】
以下では、図１に示された前述の実施例２００とは異なる部分だけを説明する。
【００３１】
図３に示されている様にビーム２４０は空間的にコヒーレントなコリメートされたビームである。このビームはビームスプリッタ３により分割されてサンプルビーム４と基準ビーム５になる。さらに図３に示されている様に基準ビーム５はさらに第１の基準ビーム２５と第２の基準ビーム２６に分割される。第１の基準ビーム２５は、ステップモータにより駆動される、可動の段７の上に取り付けられている基準逆反射器６により反射される。
【００３２】
第２の基準ビーム２６はプラットホーム２８の上に取り付けられている逆反射器１２７により反射される。図３に示されている様に逆反射器９のカリパー手段ピン１１もプラットホーム２８の上に取り付けられている。逆反射された第２の基準ビーム２６はビームスプリッタ２４とビームスプリッタ３により反射されて、逆反射された第１の基準ビーム２５および逆反射されたサンプルビーム４と検出器ビーム路９１において重ねられる。
【００３３】
本発明による測定過程は次のように行なわれる。メガネレンズ８がカリパー手段ピン１０と１１の間に、両方のピンがメガネレンズ８と密着するように、挿入される。ビームスプリッタ３、ビームスプリッタ２４と逆反射器１２７との間の幾何学的光路は、ビームスプリッタ３と逆反射器９との間の幾何学的光路と同じに選定される。上述のように逆反射器６は一定の直線的な速度Ｖで可動の段７により往復運動され、さらに検出器９２は図４に示されている検出器信号６００を発生する。
【００３４】
図４において縦軸６１０は検出器信号６００の振幅を示し、横軸６２０は基準ミラー７００の変位を示す。図４における信号ピーク１００１の位置は、カリパー手段２７のゼロ点からの逆反射器１２７の位置をマークする。カリパー手段２７のゼロ点は、図３におけるノギズ１０と１１が接触する（メガネ８がない）個所における点に相応する。その結果、図４におけるピーク１００１の位置がメガネレンズ８の厚さｄを測定する。図４における信号ピーク２００１の位置はメガネレンズ８の光学的厚さｎｄに依存する。ピーク１００１と２００１は、制御ユニット１３により、図１を用いて説明した様にトリガ１６から出力され信号３５０から測定される。次に制御ユニット１３は逆反射器６の位置を求めるために、これによりｄとｎｄを求めるためにピーク１００１と２００１を用いる。これらの２つの数ｄ，ｎｄを用いて制御ユニット１３はｎを求めてその結果をディスクプレー１７に表示する。図３に示された選択的な実施例５００の利点は、図１に示された変位センサ１２が必要とされないこと、および ｄ１（メガネレンズ８の上側表面からビームスプリッタ３への距離）またはｄ２（メガネレンズ８の下側表面から逆反射器９への距離）を知る必要がないことである。
【００３５】
図３の選択的な実施例５００においては、検出器９２からの信号３００が帯域通過フィルタ１４により帯域通過濾波される。帯域通過フィルタ１４からの出力信号３３０は２つの振動する信号パルスである。各パルスは、式（２）により与えられる周波数と、光源１のコヒーレント長さに相応するパルス長さを有する。帯域通過フィルタ１４からの出力３３０は、検出器９２により発生される信号パルス即ち信号３４０の包絡線を得る目的で、値フィルタ１５により濾波される。
【００３６】
次に値フィルタ１５からの出力信号３４０は入力としてトリガユニット１６たとえばシュミットトリガへ、信号パルス３４０から時限信号３５０を導出するために加えられる。時限パルス３５０は入力として制御ユニット１３へ加えられる。
【００３７】
本発明によれば、トリガ１６からの時限信号３５０に応動して制御ユニット１３は、時限パルス３５０における各パルスの瞬時におけるステップモータ７の位置を記憶する。前述のようにピーク１００１に相応するステップモータ７の位置はｄを発生し、ピーク２００１に相応するステップモータ７の位置はｎｄを発生する。
【００３８】
前述の本発明の特定の実施例は本発明の基本的な技術思想の単なる一例にすぎない。種々の変形は当業者にこの技術思想にもとづいて可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の有利な実施例のブロック図である。この場合、本発明は、ガラスの表面の幾何学的寸法を測定せずにガラスの屈折率を測定する装置である。
【図２】  本発明による、検出器により発生される信号図である。
【図３】  本発明の別の実施例のブロック図である。
【図４】  本発明の別の実施例による、検出器により発生される信号図である。
【符号の説明】
１    光源
２    コリメータレンズ
３    ビームスプリッタ
４    サンプルビーム
５    基準ビーム
６    基準ミラー
７    可動の段
８    メガネレンズ
９    逆反射（リトロレフレクション）プリズム
１０，１１    ピン
１２    変位センサ
１３    制御ユニット
１４    帯域通過フィルタ
１５    値フィルタ
１６    トリガユニット
１７    ディスクプレー
２７    カリパー手段
９２    検出器
【図１】
0003645933.tif 000002
【図２】
0003645933.tif 000003
【図３】
0003645933.tif 000004
【図４】
0003645933.tif 000005