(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、
純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、
前記基板処理部から排出された処理液を再び前記基板処理部へ供給する循環路と、
前記循環路内の処理液を循環させる処理液循環手段と、
前記循環路に一端が連通接続され、他端が純水供給源に連通接続されている純水供給路と、
前記循環路に一端が連通接続され、他端が排液路に連通接続されているとともに、前記純水供給路よりも上流側に配設されている排水循環切替え弁と、
前記循環路に一端が連通接続され、他端が薬液供給源に連通接続されている薬液供給路と、
前記薬液供給路から前記循環路へ注入される薬液の注入量を調節する薬液注入量調節手段と、
前記循環路内を流通する処理液の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記基板処理部の純水の比抵抗を測定する比抵抗測定系と、
前記濃度測定手段により測定された処理液の濃度に基づいて、前記薬液注入量調節手段を制御する制御手段と、
前記制御手段は、前記純水供給路と前記排水循環切替え弁を共に開放して前記循環路に純水だけを供給し、前記比抵抗測定系によって比抵抗がある一定値に達するまで純水を供給し続けることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、
純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、
前記基板処理部から排出された処理液を再び前記基板処理部へ供給する循環路と、
前記循環路内の処理液を循環させる処理液循環手段と、
前記循環路に一端が連通接続され、他端が純水供給源に連通接続されている純水供給路と、
前記循環路に一端が連通接続され、他端が排液路に連通接続されているとともに、前記純水供給路よりも上流側に配設されている排水循環切替え弁と、
前記循環路に一端が連通接続され、他端が薬液供給源に連通接続されている薬液供給路と、
前記薬液供給路から前記循環路へ注入される薬液の注入量を調節する薬液注入量調節手段と、
前記基板処理部の純水の比抵抗を測定する比抵抗測定系と、
前記薬液注入量調節手段を制御して処理液による処理を行った後、前記純水供給路と前記排水循環切替え弁を共に開放して前記循環路に純水だけを供給し、前記比抵抗測定系によって比抵抗がある一定値に達するまで純水を供給し続ける制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置において、
前記比抵抗測定系は、前記基板処理部に連通接続された採取管と、この採取管を開閉する開閉弁と、前記採取管に取り込まれた純水の比抵抗を測定する比抵抗測定器とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記処理液循環手段と、前記薬液供給路と、前記濃度測定手段とは、前記純水供給路より下流に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記処理液循環手段と、前記薬液供給路とは、前記純水供給路より下流に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称する）に対して、処理液で表面処理を施す基板処理装置に係り、特に、基板処理部に循環路を介して処理液を循環させながら濃度調整を行う技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の基板処理装置として、例えば、特開平９−１９９４６８号公報に示すような装置が挙げられる。
この装置は、基板に表面処理を施す処理槽とこの槽から溢れ出た処理液を受ける外槽とからなる基板処理部と、この基板処理部の処理槽と外槽とに連通して、溢れ出た処理液を再び処理槽へと循環させて供給するための循環路とを備え、目標とする濃度になるように純水と薬液とを混合して得られた処理液あるいは純水のみが供給ユニットにより外槽の上方から供給されるように構成されている。
【０００３】
また、上記の循環路には、流通する処理液の一部を採取するために分岐した採取管が配設されており、採取した処理液を対象にして濃度を測定し、目標とする濃度との偏差に基づいてコントローラが供給ユニットにおける薬液の混合比などを調整して濃度を目標値に調整するようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、処理液によって基板に処理を施した後は、通常、薬液を含む処理液を純水で置換してリンス処理を行い、純水の比抵抗が上がってある一定の基準値（例えば、１８ＭΩｃｍ）に達した時点でリンス処理が完了したと判断するようになっている。しかしながら、純水が供給ユニットによって外槽の上方から供給されるように構成されている関係上、空気中に含まれている炭酸ガスがその中に溶け込んで純水の比抵抗を下げることになる。したがって、実際には処理液が純水で完全に置換されているにも係わらず比抵抗としては上記基準値に到達せず低いままであることからリンス処理が不完全であると判断され、リンス処理の完了時点を適切に判断することができないという問題点がある。このようにリンス処理の完了時点が適切に判断できない場合には、リンス処理時の純水の使用量が極めて多くなって無駄となる。
【０００５】
また、処理液の濃度測定は、循環路から分岐した採取管に処理液を採取してから行われるようになっているため、測定値と濃度の目標値との偏差に基づいてコントローラが供給ユニットを制御するのに遅れが生じ、濃度制御を正確に行うことができないという問題も生じている。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、純水への炭酸ガスの溶け込みを防止することによってリンス処理の完了時点を正確に判断することができ、しかも、循環している処理液の濃度を直接的に測定することによって正確に濃度制御を行うことができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の基板処理装置は、基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、前記基板処理部から排出された処理液を再び前記基板処理部へ供給する循環路と、前記循環路内の処理液を循環させる処理液循環手段と、前記循環路に一端が連通接続され、他端が純水供給源に連通接続されている純水供給路と、前記循環路に一端が連通接続され、他端が排液路に連通接続されているとともに、前記純水供給路よりも上流側に配設されている排水循環切替え弁と、前記循環路に一端が連通接続され、他端が薬液供給源に連通接続されている薬液供給路と、前記薬液供給路から前記循環路へ注入される薬液の注入量を調節する薬液注入量調節手段と、前記循環路内を流通する処理液の濃度を測定する濃度測定手段と、前記基板処理部の純水の比抵抗を測定する比抵抗測定系と、前記濃度測定手段により測定された処理液の濃度に基づいて、前記薬液注入量調節手段を制御する制御手段と、前記制御手段は、前記純水供給路と前記排水循環切替え弁を共に開放して前記循環路に純水だけを供給し、前記比抵抗測定系によって比抵抗がある一定値に達するまで純水を供給し続けることを特徴とするものである。
【０００８】
また、請求項２に記載の基板処理装置は、基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、前記基板処理部から排出された処理液を再び前記基板処理部へ供給する循環路と、前記循環路内の処理液を循環させる処理液循環手段と、前記循環路に一端が連通接続され、他端が純水供給源に連通接続されている純水供給路と、前記循環路に一端が連通接続され、他端が排液路に連通接続されているとともに、前記純水供給路よりも上流側に配設されている排水循環切替え弁と、前記循環路に一端が連通接続され、他端が薬液供給源に連通接続されている薬液供給路と、前記薬液供給路から前記循環路へ注入される薬液の注入量を調節する薬液注入量調節手段と、前記基板処理部の純水の比抵抗を測定する比抵抗測定系と、前記薬液注入量調節手段を制御して処理液による処理を行った後、前記純水供給路と前記排水循環切替え弁を共に開放して前記循環路に純水だけを供給し、前記比抵抗測定系によって比抵抗がある一定値に達するまで純水を供給し続ける制御手段と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００９】
また、請求項３に記載の基板処理装置は、請求項１または２に記載の基板処理装置において、前記比抵抗測定系は、前記基板処理部に連通接続された採取管と、この採取管を開閉する開閉弁と、前記採取管に取り込まれた純水の比抵抗を測定する比抵抗測定器とを備えていることを特徴とするものである。
【００１０】
また、請求項４に記載の基板処理装置は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記処理液循環手段と、前記薬液供給路と、前記濃度測定手段とは、前記純水供給路より下流に設けられていることを特徴とするものである。
【００１１】
また、請求項５に記載の基板処理装置は、請求項２に記載の基板処理装置において、前記処理液循環手段と、前記薬液供給路とは、前記純水供給路より下流に設けられていることを特徴とするものである。
【００１２】
【作用】
請求項１に記載の発明の作用は次のとおりである。
純水供給源から純水供給路を経て純水が供給され、薬液供給源から薬液供給路を介して薬液注入量調節手段によって薬液の注入量が調節されて循環路に処理液が供給される。そして、処理液循環手段が処理液を循環させることにより、薬液と純水とを含む処理液が循環路から基板処理部へ流通し、基板処理部から循環路へと流通してそれらを循環する。処理液の濃度は、循環路に設けられた濃度測定手段によって直接的に測定されるので、循環路から分岐した採取管に処理液を採取して濃度を測定する従来例に比較して濃度の変化を応答性良く素早く検出できる。制御手段は、このようにして測定された濃度に基づいて薬液注入量調節手段を操作して処理液の濃度を制御する。さらに、制御手段は、純水供給路と排水循環切替え弁を共に開放して循環路に純水だけを供給するので、処理液を排出しつつ基板処理部に純水だけを供給することになる。そして、比抵抗測定系によって比抵抗がある一定値に達するまで純水を供給し続ける。
【００１３】
請求項２に記載の発明の作用は次のとおりである。
純水供給源から純水供給路を経て純水が供給され、薬液供給源から薬液供給路を介して薬液注入量調節手段によって薬液の注入量が調節されて循環路に処理液が供給される。そして、処理液循環手段が処理液を循環させることにより、薬液と純水とを含む処理液が循環路から基板処理部へ流通し、基板処理部から循環路へと流通してそれらを循環する。制御手段は、薬液注入量調節手段を制御して処理液による処理を行った後、純水供給路と排水循環切替え弁を共に開放して循環路に純水だけを供給するので、処理液を排出しつつ基板処理部に純水だけを供給することになる。そして、比抵抗測定系によって比抵抗がある一定値に達するまで純水を供給し続ける。
【００１４】
また、請求項３に記載の発明によれば、開閉弁を開放し、採取管に基板処理部からの処理液を採取することにより比抵抗測定器で比抵抗を測定する。
【００１５】
また、請求項４に記載の発明によれば、処理液循環手段と、薬液供給路と、濃度測定手段とは、純水供給路より下流に設けられているので、純水を流通させることにより、これらに付着している処理液を洗い流すことができる。
【００１６】
また、請求項５に記載の発明によれば、処理液循環手段と、薬液供給路とは、純水供給路より下流に設けられているので、純水を流通させることにより、これらに付着している処理液を洗い流すことができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
＜第１実施例＞
本実施例に係る基板処理装置の概略構成を図１を参照して説明する。
この基板処理装置は、純水と薬液とを混合して得られた処理液で半導体ウエハなどの基板Ｗに対して表面処理を行うためのものである。この基板処理装置は、大きく分けて処理液を貯留して基板Ｗの表面処理を行うための『基板処理部１』と、この基板処理部１に対して処理液を供給する『処理液供給系』と、処理液が純水で置換され、リンス処理が完了したことを確認するための『比抵抗測定系』と、処理液供給系を制御する『制御系』とから構成されている。
【００１８】
『基板処理部１』は、処理槽１ａと外槽１ｂとを備えており、処理槽１ａは槽底部から処理液の供給を受け、外槽１ｂは処理槽１ａから溢れた出た余剰の処理液を貯留して排出するようになっている。一般的には、この種の基板処理装置は、複数個の基板処理部１を備え、各基板処理部１には個別の処理液供給系統によって処理液が供給されるように構成されている。但し、本明細書では説明の簡単のために単一の基板処理部１を備えた基板処理装置を例に採って説明するが、本発明は複数個の基板処理部１を備えた装置にも適用することが可能である。また、本発明は複数枚の基板Ｗを浸漬させて処理を施す処理槽１ａを用いるものではなく、基板を１枚ずつ処理する処理部を備えた装置であっても適用可能である。
【００１９】
『処理液供給系統』は、処理槽１ａと外槽１ｂとに連通接続された循環路２と、この循環路２に、三方弁で構成された給水循環切替え弁３ａを介して純水供給源から純水を直接的に供給するための純水供給路３と、循環路２中に薬液を注入するために薬液供給路１６が循環路２に連通接続されている薬液注入部４と、外槽１ｂに溢れ出た処理液を循環路２に送り込んで再び処理槽１ａに供給するように循環させるための処理液循環手段に相当し、耐薬品性を有するベローズ式の処理液循環ポンプ５と、この処理液循環ポンプ５がベローズ式であることから生じる脈動に起因する圧力変動を抑制するためのポンプ脈動緩衝器６（オートアキュームレータなどとも呼ばれる）と、循環路２内の処理液や純水を三方弁で構成された排水循環切替え弁７ａの切り換えによって排出するための排液路７とを備えている。また、薬液注入部４と処理槽１ａの底部との間、すなわち、薬液注入部４の下流側には循環路２を流通する処理液の濃度を測定するための処理液濃度センサ８（濃度測定手段）が取り付けられており、下流濃度検出信号が後述する制御部３０Ａに与えられる。この処理液濃度センサ８としては、例えば、処理液の透過光強度を測定して吸光度に基づき濃度を求めるフローセル式のものが好ましい。
【００２０】
さらに循環路２の給水循環切替え弁３ａと薬液注入部４の間には処理液流量センサ９が取り付けられ、この処理液流量センサ９と薬液注入部４の間には処理液の圧力を一定に保持するための処理液圧力調節器１０が、また、薬液注入部４と処理液濃度センサ８の間には、循環路２内を流通する処理液の圧力を測定する処理液圧力センサ１１が取り付けられている。処理液圧力調節器１０は、電空変換器１２から与えられた空気圧（以下、パイロット圧と称する）に応じて処理液圧力調節器１０の二次側の処理液圧力を調節する制御弁である。なお、上記の処理液流量センサ９と処理液圧力センサ１１の取り付け位置は好ましい例であって、特にそれらの位置に限定されるものではない。
【００２１】
処理液圧力調節器１０についてより具体的に説明すると、これはその内部にダイアフラムに連動する弁体を備えている。このダイアフラムの一方面にパイロット圧が、他方面に二次側の処理液圧力がそれぞれ作用する。両圧力に差圧があるとダイアフラムが変形して弁体の開度が変わり、両圧力が平衡したところで弁体が静止する。つまり、処理液圧力調節器１０の二次側の処理液圧力がパイロット圧に平衡するように弁体が変位する。したがって、一定のパイロット圧を与えることによって処理液圧力調整器１０の二次側の処理液圧力を一定にすることができる。
【００２２】
処理液圧力調節器１０を操作する電空変換器１２は、供給された加圧空気を、後述する制御系である制御部３０Ａからの操作電圧に応じた空気圧（パイロット圧）に変換して出力する。処理液流量センサ９は循環路２を流通する処理液の流量を検出し、その処理液流量検出信号が後述する制御部３０Ａに入力される。また、処理液圧力センサ１１は、その処理液圧力検出信号が後述する制御部３０Ａに対して与えられるようになっている。
【００２３】
薬液注入部４には、循環路２の純水中に異なる種類の薬液を個別に導入する複数個の薬液導入弁１５と、各薬液導入弁１５の出口側にそれぞれ接続されて薬液供給路１６を開閉する薬液供給弁１７とが配設されている。
【００２４】
図２は、上述した薬液導入弁１５の構造を示しており、薬液供給弁１７の機能も兼ね備えている。薬液導入弁１５は、図２に示すように、循環路２の途中に介在する導入弁連結管１８に連結されている。薬液導入弁１５の底面部と、導入弁連結管１８に穿たれた有底穴とが相まって弁室１５ａが形成されている。この弁室１５ａは、接続孔１５ｂを介して薬液供給路１６に連通接続されている。また、弁室１５ａには、薬液導入口１５ｇを介して、導入弁連結管１８の処理液流路１８ａに連通接続されている。弁室１５ａには、薬液導入口１５ｇの開閉を行い、かつ開口度を調節する絞り弁１５ｃが設けられている。絞り弁１５ｃの基端は、弁本体１５ｄ内を摺動変位する支持体１５ｅに連結されている。この支持体１５ｅは、バネ１５ｈによって下方に押し付けられる。パイロットエア供給口１５ｉにエアを供給しない状態では、バネ１５ｈのバネ力によって支持体１５ｅおよび絞り弁１５ｃは下方向に押し付けられており、このとき薬液導入口１５ｇは閉じられている。パイロットエア供給口１５ｉにエアを供給した状態では、支持体１５ｅおよび絞り弁１５ｃがバネ１５ｈのバネ力に勝って上昇し、弁本体１５ｄ内にねじ込み挿入された調整ボルト１５ｆの先端に当接して停止する。この状態では薬液導入口１５ｇは開いている。この調整ボルト１５ｆのねじ込み量を手操作で調節することにより、絞り弁１５ｃと調整ボルト１５ｆとが当接して、薬液導入口１５ｇの開口度が調節されるようになっている。この薬液導入弁１５によれば、出口側の処理液流路１８ａを流通する処理液の圧力が、入口側の薬液供給路１６を流通する薬液の圧力よりも低くなるように各圧力を設定することにより、入口側の薬液圧力と出口側の処理液圧力との差圧に応じた流量の薬液が、処理液流路１８ａの処理液中に導入される。
【００２５】
『薬液供給系統』は、本装置で使用する処理液の種類に応じた個数だけ設けられ、各薬液供給系統が薬液注入部４の各薬液導入弁１５に接続されている。各薬液供給系統は同一構成であるので、以下の説明では図１に示した１つの薬液供給系統について説明する。
【００２６】
薬液供給路１６は、その一端が薬液供給源１９に連通接続されており、不活性ガスによって加圧されることによって、薬液供給路１６に薬液が供給される。また、薬液供給源１９側から順に、薬液流量を検出する薬液流量センサ２０と、二次側の薬液圧力を調節し、薬液注入量調節手段となる薬液圧力調節器２１が設けられている。この薬液圧力調節器２１の二次側が上述した薬液導入弁１５に接続されている。薬液流量センサ２０の薬液流量検出信号は、後述する制御部３０Ａに与えられる。薬液圧力調節器２１は、上述した処理液圧力調節器１０と同様の構成を備えた制御弁であり、電空変換器２２から与えられたパイロット圧に応じて、その二次側の薬液圧力を調節するように作動する。電空変換器２２は、後述する制御部３０Ａからの操作電圧に応じたパイロット圧を出力する。
【００２７】
なお、本実施例では、薬液注入部４が薬液だけを注入する構成として説明するが、薬液注入部４を構成している薬液導入弁１５の一つに純水供給源を接続して純水を供給するようにしてもよい。これにより処理液の濃度が濃度目標値を越えたとしても、純水を注入して濃度を下げる方向に調整することができるようになる。
【００２８】
『比抵抗測定系』は、基板処理部１の処理槽１ａに連通接続された採取管２５ａと、この採取管２５ａに純水を導入するための開閉弁２５ｂと、採取管２５ａに取り込まれて流通する純水の比抵抗を測定する比抵抗測定器２５ｃとを備えている。開閉弁２５ｂを設けているのは、通常、比抵抗測定器２５ｃの検出部には耐薬品性がないため、それが損傷しないように処理液濃度が十分に低下して、処理液が十分に純水で置換されてから取り込むようにするためである。比抵抗測定器２５ｃによって測定された比抵抗値は、制御部３０Ａに出力され、純水による置換度合いの判断に利用される。
【００２９】
『制御系』である制御部３０Ａはコンピュータ機器などによって構成されている。この制御部３０Ａを機能的に大別すると、図３に示すように目標値設定部４０と、濃度制御調整部５０と、薬液制御調整部６０と、薬液操作信号補正部７０と、濃度補正調整部８０Ａと、処理液制御調整部９０と、処理液操作信号補正部１００となる。
【００３０】
目標値設定部４０は、制御量の目標値を設定するためのものである。基板処理装置の場合、最終的には処理液の濃度を所望の濃度にすることが目標である。この処理液は純水と薬液とを混合して生成されるので、処理液流量と薬液流量とが定まると処理液の濃度は一義的に決まる。したがって、処理液の濃度を所望濃度にすることが目標であっても、制御量として必ずしも処理液の濃度を選択する必要はない。つまり、「処理液濃度」、「処理液流量」、「薬液流量」のうちいずれか２つを制御量として設定すればよい。制御量として何を選択するかは、管理したい項目によって決定されるが、本実施例では制御量として「処理液濃度」と「薬液流量」とを用いている。つまり、目標値設定部４０は、制御量としての処理液濃度と薬液流量の各目標値を設定する。
【００３１】
目標値設定部４０は、変数指定部４１と、目標値出力部４２と、目標値変換部４３とから構成されている。変数指定部４１は、設定しようとする目標値の種別の指定と、指定された目標値について、その変化パターンを決定するための変数を指定するためのものである。目標値出力部４２は、変数指定部４１を介して指定された変数に基づいて、例えば、時間に係わらず一定の薬液流量目標値ａ１と、時間の経過とともに変化する濃度目標値ａ３とを出力する（図５参照）。また、目標値変換部４３は、目標値出力部４２からの目標値に基づき、処理液流量目標値ａ２と濃度目標値ａ３とに変換して出力する。
【００３２】
濃度制御調整部５０は、処理液の濃度が濃度目標値ａ３と一致するようにフィードバック制御を行うものであり、図３および図４に示すように、処理液濃度センサ８による下流濃度検出信号ｂ１と濃度目標値ａ３との偏差ｃ１を求め、この濃度偏差ｃ１を打ち消すように薬液流量操作量ｄ１を調節する。この薬液流量操作量ｄ１が、薬液制御調整部６０において薬液流量検出信号ｂ２に応じた補正を加えられ、流量−電圧変換部５３で薬液流量操作電圧Ｖｄ１に変換されて薬液操作信号補正部７０に出力される。
【００３３】
本実施例装置は、薬液注入部４の下流に処理液濃度センサ８が設けられているので薬液の注入による濃度変化を素早く検出することが可能である。濃度補正調整部８０Ａは、処理液濃度センサ８からの下流濃度検出信号ｂ１と、薬液流量センサ２０からの薬液流量検出信号ｂ２と、処理液流量センサ９からの処理液流量検出信号ｂ３とに基づき一巡処理液濃度計算部８１で一巡処理液濃度ｆｂｃｒｃ、すなわち処理槽１ａからオーバーフローした後、循環路２を通って薬液注入部４まで戻ってきた処理液の濃度を算出する。そして、濃度補正信号１計算部８２でその値にゲインと時定数を付加して補正を行い、このようにして求めた帰還補正信号ｆｆｃｐ１を濃度制御調整部５０にフィードフォワードすることにより、濃度制御調整部５０の制御偏差をより小さくするように制御する。
【００３４】
ところで循環路２に処理液を循環させる方式による基板処理装置の薬液混合を式で表すと、
処理液濃度＝一巡処理液濃度＋薬液流量に相当する濃度上昇分
となり、循環させながら処理液の濃度制御を行うには、上記の一巡処理液濃度ｆｂｃｒｃに応じて薬液流量を変化させてゆく必要がある。
【００３５】
上記の濃度補正調整部８０Ａを備えていない場合は、一巡処理液濃度ｆｂｃｒｃが変化すると上述した濃度偏差ｃ１が大きくなり、これを修正するため濃度偏差ｃ１を抑制するように濃度帰還調整部５１が動作するので、この部分の帰還動作に大きく依存してしまう。一方、本実施例のように濃度補正調整部８０Ａを備えている場合は、一巡処理液濃度ｆｂｃｒｃを計算してフィードバックすることにより、最初から必要な薬液流量を流すようにするので、濃度偏差ｃ１をより小さくすることができ、濃度制御を精度良くできて処理槽１ａにおける処理を高精度に行うことができる。
【００３６】
処理液制御調整部９０は、処理液流量検出信号ｂ３を用いてフィードバック制御を行うことによって処理液流量を安定させるものである。処理液帰還調整部９１において目標値設定部４０からの処理液流量目標値ａ２と処理液流量検出信号ｂ３との偏差に基づく処理液流量操作量ｄ２を求め、この値に基づき処理液操作量変換部９２が処理液流量操作電圧Ｖｄ２を求める。この処理液流量操作電圧Ｖｄ２は、処理液操作信号補正部１００に出力され、ここで電空変換器１２や処理液圧力調節器１０に応じた補正が加えられる。
【００３７】
なお、上記の処理液操作信号補正部１００では、予め設定されている処理液圧力基準値と処理液圧力センサ１１からの処理液圧力検出信号ｂ４との偏差（処理液圧力の変動分を表している）を一定に保持する補正も行っている。つまり、処理液制御調整部９０から出力される処理液流量操作電圧Ｖｄ２からその偏差に応じた電圧を減算する。したがって、ポンプ脈動緩衝器６によって除去しきれなかった脈動を抑制して処理液圧力の変動を吸収し、薬液注入部４からの注入量が変動することを防止できるようになっている。上記処理液操作信号補正部１００、処理液圧力センサ１１、処理液圧力調節器１０は、本発明の処理液圧力一定化手段に相当する。
【００３８】
また、上述した薬液操作信号補正部７０では、同様にして偏差を求めるが、この偏差に応じた電圧を処理液制御調整部５０からの処理液操作電圧Ｖｄ２に加算することによって、処理液の圧力変動分だけ薬液の圧力を変位させて処理液圧力と薬液圧力との差圧を一定化するように作用する。したがって、処理液圧力が変動しても薬液圧力も同様に同じ方向へ変動するのでこれらの差圧が一定化され、薬液の注入量が変動することが防止できる。薬液操作信号補正部７０、処理液圧力センサ１１、薬液圧力調節器２１は、本発明における差圧一定化手段に相当する。
【００３９】
次に上記のように構成された装置の動作について説明する。
（１）目標値の設定
まず、オペレータが変数指定部４１を操作して、目標値の種別、本実施例では図５に示すように薬液流量目標値ａ１と濃度目標値ａ３の指定と、これらの目標値について、その変化パターンを決定するための変数を指定する。目標値出力部４２からこれらの指定に基づく薬液流量目標値ａ１と濃度目標値ａ３が出力され、目標値変換部４３からは時間の経過とともに変化する処理液流量目標値ａ２と濃度目標値ａ３が出力される。
【００４０】
上記の目標値の設定は、複数種類の処理液を順に用いて基板の処理を行う場合、各処理液について適用される。処理槽１ａに処理液の供給を開始するとき、排水循環切替え弁７ａが閉じられるとともに給水循環切替え弁３ａが開放されて純水が供給され、処理槽１ａおよび循環路２内は純水で満たされている。これはある処理液を使って基板の処理を行った後、次の処理液で基板の処理を行う場合も同様である。すなわち、ある処理液を使って基板の処理が終わると、排水循環切替え弁７ａと給水循環切替え弁３ａが共に開放され、使用済みの処理液を排出しながら循環路２に純水だけを供給し、処理槽１ａ内の使用済の処理液を一旦、純水で置換する。続いて、開放弁２５ｂを開放して採取管２５ａに処理槽１ａ内の純水を採取して比抵抗測定器２５ｃにより比抵抗を測定し、置換の度合いを判断する。そして、比抵抗値が十分に高まった場合には置換が完了してリンス処理が完了したと判断し、処理槽１ａに純水が供給されている状態で、純水中への薬液の注入を開始することにより、新たな処理液を処理槽１ａに供給して処理槽１ａの純水を新たな処理液で置換する。以下の説明では、純水が供給され続けている処理槽１ａに純水が満たされている状態を置換の初期状態とし、この状態から循環路２の純水中に薬液が注入され始めた時点が、処理槽１ａへの処理液の供給開始時点であるとして説明する。
【００４１】
なお、本実施例装置は、図１に示すように純水供給路３と給水循環切替え弁３ａの下流に薬液注入部４を設けているので、処理槽１ａと循環路２に純水を完全に満たすことなく純水を供給しながら薬液を供給することができる。したがって、処理液による表面処理を開始するまでの時間を短縮可能である。
【００４２】
（２）濃度制御調整部５０，濃度補正調整部８０Ａの動作
目標値変換部４３から出力された濃度目標値ａ３は、濃度帰還調整部５１に与えられ、処理液流量目標値ａ２は濃度−流量変換部５２に与えられる。
濃度目標値ａ３は、図４に示すように減算器５１ａ，５１ｂに与えられる。そして、減算器５１ａでは濃度偏差ｃ１が算出されてＰＩＩ2Ｄ計算部５１ｃに与えられる。ここでは、減算器５１ａから与えられた濃度偏差ｃ１に比例して濃度操作量を決定する比例動作（Ｐ動作）と、濃度偏差ｃ１の積分に比例して濃度操作量を決定する積分動作（Ｉ動作）と、濃度偏差ｃ１の二重積分に例して濃度操作量を決定する二重積分動作（Ｉ2動作）と、濃度偏差ｃ１の微分に比例して濃度操作量を決定する微分動作（Ｄ動作）とを含む制御則によって、処理液の濃度偏差ｃ１を打ち消すような処理液の濃度制御操作量を算出する。この濃度制御操作量は、スイッチ５１ｄを介して加算器５１ｅに与えられる。スイッチ５１ｄは、循環路２の純水中に薬液が注入され始めた時点から一定時間の間、ＯＦＦ状態となってＰＩＩ2Ｄ計算部５１ｃの出力を禁止し（ＰＩＩ2Ｄ計算部５１ｃを非動作にし）、一定時間経過後にＯＮ状態に切り換わってＰＩＩ2Ｄ計算部５１ｃの出力を許す（ＰＩＩ2Ｄ計算部５１ｃを動作させる）。このようにスイッチ５１ｄを設けるのは、薬液の注入開始初期において、濃度偏差ｃ１が極めて大きいことに起因して生じるオーバーシュートを抑制するためである。
【００４３】
加算器５１ｅは、減算器５１ｂによって補正された濃度目標値ａ３に、スイッチ５１ｄを介してＰＩＩ2Ｄ計算部５１ｃから与えられた濃度制御操作量を加算する。濃度目標値ａ３に対する補正は、上述した濃度補正調整部８０Ａから与えられる帰還補正信号ｆｆｃｐ１を濃度目標値ａ３から差し引くことにより行われる。
【００４４】
ここで帰還補正信号ｆｆｃｐ１の求め方について説明する。
まず濃度補正調整部８０Ａは、処理液濃度センサ８からの下流濃度検出信号ｂ１と、薬液流量センサ２０からの薬液流量検出信号ｂ２と、処理液流量センサ９からの処理液流量検出信号ｂ３とから一巡処理液濃度ｆｂｃｒｃを求める。処理液濃度センサ８が薬液注入部４の下流に設けられている関係上、処理液濃度センサ８からの下流濃度検出信号ｂ１は、薬液流量センサ２０からの薬液流量検出信号ｂ２に対して一定時間だけ時間的に遅れる。したがって、時間的に整合をとらなければ、これらの検出信号に基づいて正確に制御を行うことはできない。そこで、時間的に進んでいる薬液流量センサ２０からの薬液流量検出信号ｂ２を、遅れ時間（濃度変位遅れ時間）後の信号に相当する時間遅れ信号ｆｂｆｄ［cc/min］にして計算に用いることによってこれらの信号間の時間的な整合をとる。一巡処理液濃度ｆｂｃｒｃ［％］は、次の（１）式で求められる。
fbcrc ＝ b1 −（C0−b1）×fbfd／（1000×b3）    ………（１）
但し、
b1 は、処理液濃度［％］
b3 は、処理液流量［リットル／min ］
C0 は、原薬液濃度［％］
fbfdは、薬液流量検出信号ｂ２の時間遅れ信号［cc/min］
【００４５】
なお、時間的な整合をとるための上記時間遅れ信号ｆｂｆｄ［cc/min］は、例えば、時系列的に順次に出力されてくる薬液流量検出信号ｂ２をバッファに蓄えてゆき、下流濃度検出信号ｂ１が測定された時間の濃度変位遅れ時間前に収集した信号ｂ２をバッファから読み出すことにより得ることができる。
【００４６】
次に、濃度補正信号１計算部８２は、上記のようにして求められた一巡処理液濃度ｆｂｃｒｃに対してゲインと時定数を付加して補正を行い、帰還補正信号ｆｆｃｐ１を求める。このようにして求められた帰還補正信号ｆｆｃｐ１は、上述したように減算器５１ｂに出力され、ここで濃度目標値ａ３に補正が加えられる。そして、補正された濃度目標値ａ３が加算器５１ｅでＰＩＩ2Ｄ計算部５１ｃから与えられた濃度制御操作量に加算され濃度操作量ｄ３とされる。
【００４７】
濃度−流量変換部５２は、処理液の濃度操作量ｄ３を薬液流量操作量ｄ１に変換する。この変換のために、濃度−流量変換部５２は、処理液流量目標値ａ２を参照して次の（２）式によって薬液流量操作量ｄ１［cc/min］を得ている。
d1＝1000×d3×a2／（C0−d3）      ………（２）
但し、
a2は、処理液流量目標値［リットル／min ］
d3は、濃度操作量［％］
C0は、原薬液濃度［％］
【００４８】
この薬液流量操作量ｄ１は薬液制御調整部６０に与えられ、ここで薬液流量センサ２０からの薬液流量検出信号ｂ２に基づくＰＩＤ制御が行われ、濃度制御調整部５０の流量−電圧変換部５３に出力される。ここでは、次の（３）式によって薬液流量操作量ｄ１を薬液操作信号補正部７０に与える薬液流量操作電圧Ｖｄ１［Ｖ］に変換する。
Vd1 ＝Ac×d12 ＋Bc×d1＋Cc  ………（３）
但し、
d1は、薬液流量操作量［cc/min］
Ac，Bcは、電空変換器２２および薬液圧力調節器２１の各仕様と、薬液導入弁１５の弁開度から決まる定数
Ccは、処理液圧力基準値と薬液圧力調節器２１の仕様から決まる定数
上記の定数Ac，Bc，Ccは、実験によって求めることができる。
【００４９】
薬液流量操作電圧Ｖｄ１は薬液操作信号補正部７０に出力され、上述したように処理液圧力センサ１１からの処理液圧力検出信号ｂ４に基づき、薬液圧力と処理液圧力との差圧が一定となるように補正される。
【００５０】
上述したように濃度制御調整部５０と濃度補正調整部８０Ａは、処理液の濃度目標値ａ３と、循環路２に設けられた処理液濃度センサ８からの下流濃度検出信号ｂ１との濃度偏差ｃ１を打ち消すように薬液流量操作量ｄ１を調節しているので、従来例のように採取管に処理液を採取してから測定した濃度値の基づき濃度を制御する方式に比較して濃度変位を素早く検出することができ濃度制御を正確にできる。
【００５１】
（３）処理液制御調整部９０の動作
目標値変換部４３から出力された処理液流量目標値ａ２は、処理液制御調整部９０に与えられる。処理液帰還調整部９１では処理液流量目標値ａ２と処理液流量センサ９からの処理液流量検出信号ｂ３とから処理液流量偏差が求められ、これを打ち消すようにＰＩＤ制御が行われ、処理液流量操作量ｄ２が出力される。これを与えられた処理液操作量変換部９２は、処理液操作電圧Ｖｄ２を出力する。この処理液操作電圧Ｖｄ２［Ｖ］は、次の（４）式で与えられる。
Vd2 ＝（d2−Cc）／Dc    ………（４）
但し、
d2は、処理液流量操作量［リットル/min］
Cc，Dcは、電空変換器１２および処理液圧力調節器１０の各仕様と、循環路２の管路の抵抗係数などから決まる定数
上記の定数Cc，Dcは、実験によって求めることができる。
【００５２】
処理液操作電圧Ｖｄ２を与えられた処理液操作信号補正部１００は、上述したように処理液圧力センサ１１からの処理液圧力検出信号ｂ４に基づき処理液の圧力が一定になるようにその電圧を補正する。補正された操作電圧は電空変換器１２に出力され、電空変換器１２からその電圧に応じたパイロット圧が処理液圧力調節器１０に与えられる。したがって、脈動に起因する処理液圧力の変動が抑制され、濃度制御の精度を向上させることができる。
【００５３】
上記のように指定された変数に応じて濃度制御された処理液により基板Ｗに表面処理が施されるが、この処理が終了すると、排水循環切替え弁７ａと給水循環切替え弁３ａを共に開放し、使用済みの処理液を排出しながら処理槽１ａに純水だけを供給し、処理槽１ａ内の使用済の処理液を一旦、純水で置換してリンス処理を行う。続いて、開閉弁２５ｂを開放して処理槽１ａに連通した採取管２５ａに純水を採取し、その比抵抗を比抵抗測定器２５ｃによって測定する。そして、比抵抗値がある一定値に達するまで純水を供給し続ける。この閾値となる比抵抗値は、例えば、１８ＭΩｃｍのように高い値であるが、本実施例の場合、循環路２に純水を直接導入する構成を採っているので、測定値がほぼ閾値と同じ値となりリンス処理の完了を正確に判断することができる。したがって、従来例のように炭酸ガスの混入により、リンス処理が十分にできているにも係わらず比抵抗値が閾値に達しないため必要以上にリンス処理を行うような不都合が防止でき、リンス処理に要する純水の供給量を抑制することができる。
【００５４】
次なる表面処理がある場合には、排水循環切替え弁７ａと給水循環切替え弁３ａを閉止するとともに上述したようにして純水中への薬液の注入を開始することにより、新たな処理液を処理槽１ａに供給して処理槽１ａの純水を新たな処理液で置換する。
【００５５】
＜第２実施例＞
上述した第１実施例は、処理液濃度センサ８を薬液注入部４の下流に設けているが、本実施例は図１中に点線で示すようにその上流に処理液濃度センサ８を設けたものである。なお、上記の第１実施例と共通する構成には、上記と同じ符号を付けることで詳細な説明については省略する。
【００５６】
薬液注入部４の上流に設けられた処理液濃度センサ８からは、上流濃度検出信号ｂ５が出力され、図６に示すように、制御部３０Ｂを構成している濃度補正調整部８０Ｂの濃度補正信号１計算部８２と混合後処理液濃度計算部１１０に与えられる。
【００５７】
混合後処理液濃度計算部１１０は、処理液濃度センサ８からの上流濃度検出信号ｂ５と、薬液流量センサ２０からの薬液流量検出信号ｂ２と、処理液流量センサ９からの処理液流量検出信号ｂ３とに基づいて、薬液注入部４で薬液を注入されて循環路２を循環してきた処理液の濃度（混合後処理液濃度 fbc）を求める。但し、処理液濃度センサ８は、薬液流量センサ２０に対して時間的に進んでいるので、時間的な整合をとるために処理液濃度センサ８からの上流濃度検出信号ｂ５を、濃度変位遅れ時間後の信号に相当する時間遅れ信号ｆｂｃｄ２［％］にして計算に用いる。混合後処理液濃度 fbc［％］は、次の（５）式を用いることにより算出される。
fbc ＝ (1000×b3×fbcd2 ＋C0×b2) ／(1000 ×b3＋b2)   ……（５）
但し、
b2 は、薬液流量［cc/min］
b3 は、処理液流量［リットル／min ］
C0は、原薬液濃度［％］
fbcd2 は、上流濃度検出信号ｂ５の時間遅れ信号［％］
【００５８】
このようにして算出された混合後処理液濃度 fbcは、濃度帰還調整部５１に与えられる。
【００５９】
濃度補正調整部８０Ｂは、処理液濃度センサ８からの上流濃度検出信号ｂ５を直接的に利用し、濃度補正信号１計算部８２にてゲインと時定数を付加する補正を施す。このように補正された上流濃度検出信号ｂ５’は、濃度帰還調整部５１に与えられる。この補正された上流濃度検出信号ｂ５’を濃度帰還調整部５１にフィードフォワードすることにより濃度制御調整部５０の制御偏差を小さくすることができる。
【００６０】
混合後処理液濃度fbc と補正された上流濃度検出信号ｂ５’を与えられた濃度帰還調整部５１は、上述した第１実施例と同様に、濃度目標値ａ３と混合後処理液濃度fbc から求まる濃度偏差ｃ１と、補正された上流濃度検出信号ｂ５’とに基づいて濃度操作量ｄ３を出力する。この濃度操作量ｄ３に基づき濃度制御が行われる。
【００６１】
したがって、上記第１実施例と同様に濃度制御を正確に行うことができるが、処理液濃度センサ８が上流側に設けたものであるので、遅れのない上流濃度検出信号ｂ５に基づき濃度調整を行うことができ、上記第１実施例に比較してより安定して濃度を制御することが可能である。
【００６２】
＜第３実施例＞
上述した第１／第２実施例は、処理液濃度センサ８を薬液注入部４の下流／上流のいずれか一方に設けているが、本実施例は図７に示すようにそれらを組み合わせて下流に第１の処理液濃度センサ１Ａを設け、上流に第２の処理液濃度センサ８Ｂを設けたものである。なお、上述した各実施例と共通する構成には、上記と同じ符号を付けることで詳細な説明については省略する。
【００６３】
図８のブロック図に示すように、本発明の第１の濃度測定手段に相当する第１の処理液濃度センサ８Ａからの上流濃度検出信号ｂ１は、制御部３０Ｃを構成している濃度制御調整部５０と薬液流量計算部１２０に与えられ、本発明の第２の濃度測定手段に相当する第２の処理液濃度センサ８Ｂからの下流濃度検出信号ｂ５は、濃度補正調整部８０Ｂと薬液流量計算部１２０に与えられる。
【００６４】
薬液流量計算部１２０は、上流濃度検出信号ｂ１と、下流濃度検出信号ｂ５と、処理液流量検出信号ｂ３とに基づき薬液流量を求める。しかし、上流濃度検出信号ｂ５は、第１の処理液濃度センサ８Ａから出力される下流濃度検出信号ｂ１に対して濃度変位遅れ時間だけ進んでいるので、時間的な整合をとるために上流濃度検出信号ｂ５を、濃度変位遅れ時間後の信号に相当する時間遅れ信号ｆｂｃｄ２［％］にして計算に用いる。薬液流量ｆｂｆ［リットル／min ］は、次の（６）式を用いることにより算出される。
fbf ＝ 1000 ×b3×(b1 −fbcd2)／ (C0−b1)   ……（６）
但し、
b1 は、下流濃度検出信号［％］
b3 は、処理液流量［リットル／min ］
C0は、原薬液濃度［％］
fbcd2 は、上流濃度検出信号ｂ５の時間遅れ信号［％］
【００６５】
このようにして算出された薬液流量ｆｂｆは、薬液制御調整部６０に与えられ、ここで薬液流量操作量ｄ１に対して薬液流量ｆｂｆに基づくＰＩＤ制御が行われ、濃度制御調整部５０の流量−電圧変換部５３に出力される。
【００６６】
係る構成によると薬液流量センサ２０を設ける必要がなく（図７参照）、構成を簡単化できる。特に、使用する薬液の種類が多い場合には、薬液供給路１６（図１参照）もそれに応じた数だけ薬液流量センサ２０が必要になってその数も増大するので、本実施例の構成を採用すると効果的である。
【００６７】
＜変形例＞
上述した各実施例では、薬液圧力調節器２１により薬液の圧力を調節して薬液の注入量を調節し、処理液圧力調節器１０により処理液の圧力を調節して処理液の流量を調節する構成としたが、図９に示すように、開閉弁と流量調節弁の機能を兼ね備えた薬液流量調節弁２３と、処理液流量調節弁２４とにより構成するようにしてもよい。
【００６８】
薬液流量調節弁２３により薬液の流量を調節しても薬液の注入量を調節することができ、さらに、処理液の圧力が変動した場合には、薬液圧力と処理液圧力の差圧による薬液流量変動を補う分だけ弁開度を変化させることにより注入量の変動を防止できる。また、処理液流量調節弁２４により弁開度を変化させて処理液の流量を調節しても処理液流量を調節することができ、循環路２を流通する処理液の圧力を一定化することができる。したがって、係る構成によっても上述した構成と同様の効果を得ることができる。
【００６９】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、リンス処理のための純水は純水供給路を介して循環路に直接供給され、その際に空気中の炭酸ガスの溶け込みを防止できるので、リンス処理の完了時点を正確に判断することができる。さらに、制御手段は、純水供給路と排水循環切替え弁を共に開放して循環路に純水だけを供給し、基板処理部の処理液を純水で置換しつつ、比抵抗測定系によって比抵抗がある一定値に達するまで純水を供給し続ける。また、処理液の濃度は循環路に設けられた濃度測定手段によって直接的に測定され、循環路から分岐した採取管に処理液を採取して濃度を測定する従来例に比較して濃度の変化を応答性良く素早く検出できるため、正確に濃度制御を行うことができる。
【００７０】
また、請求項２に記載の発明によれば、リンス処理のための純水は純水供給路を介して循環路に直接供給され、その際に空気中の炭酸ガスの溶け込みを防止できるので、リンス処理の完了時点を正確に判断することができる。さらに、制御手段は、純水供給路と排水循環切替え弁を共に開放して循環路に純水だけを供給し、基板処理部の処理液を純水で置換しつつ、比抵抗測定系によって比抵抗がある一定値に達するまで純水を供給し続ける。
【００７１】
また、請求項３に記載の発明によれば、開閉弁を開放し、採取管に基板処理部からの処理液を採取することにより比抵抗測定器で比抵抗を測定する。したがって、処理液が充分に充分に純水で置換されてから開閉弁を開放して測定することにより、薬品による比抵抗測定器の損傷を防止できる。
【００７２】
また、請求項４に記載の発明によれば、純水を流通させることにより、処理液循環手段と、薬液供給路と、濃度測定手段とに付着している処理液を洗い流すことができる。
【００７３】
また、請求項５に記載の発明によれば、純水を流通させることにより、処理液循環手段と、薬液供給路とに付着している処理液を洗い流すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施例および第２実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】薬液導入弁の構造を示す縦断面図である。
【図３】第１実施例に係る制御部の構成を示すブロック図である。
【図４】第１実施例に係る濃度制御調整部および濃度補正調整部の構成を示すブロック図である。
【図５】目標値の変化パターンの一例を示す図である。
【図６】第２実施例に係る制御部の構成を示すブロック図である。
【図７】第３実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図８】第３実施例に係る制御部の構成を示すブロック図である。
【図９】基板処理装置の変形例を示すブロック図である。
【符号の説明】
Ｗ  …  基板                  １  …  基板処理部
２  …  循環路                ３  …  純水供給路
４  …  薬液注入部            ５  …  処理液循環ポンプ
６  …  ポンプ脈動緩衝器      ７  …  排液路
８  …  処理液濃度センサ    １０  …  処理液圧力調節器
１１  …  処理液圧力センサ    １５  …  薬液導入弁
１７  …  薬液供給弁          １９  …  純水供給源
２０  …  薬液流量センサ
２１  …  薬液圧力調節器      ２２  …  電空変換器
３０Ａ〜３０Ｃ  …  制御部    ４０  …  目標値設定部
５０  …  濃度制御調整部      ６０  …  薬液制御調整部
７０  …  薬液操作信号補正部  ８０Ａ，８０Ｂ  …  濃度補正調整部
９０  …  処理液制御調整部    １００  …  処理液操作信号補正部
ａ１  …  薬液流量目標値      ａ２  …  処理液流量目標値
ａ３  …  濃度目標値
ｂ１  …  下流濃度検出信号    ｂ２  …  薬液流量検出信号
ｂ３  …  処理液流量検出信号  ｂ４  …  処理液圧力検出信号
ｂ５  …  下流濃度検出信号
ｃ１  …  濃度偏差
ｄ１  …  薬液流量操作量      ｄ２  …  処理液流量操作量
ｄ３  …  濃度操作量
Ｖｄ１  …  薬液流量操作電圧  Ｖｄ２  …  処理液流量操作電圧
ｆｂｆ  …  薬液流量          ｆｂｃ  …  混合後処理液濃度
ｆｂｆｄ  …  薬液流量検出信号の時間遅れ信号
ｆｂｆｄ２  …  上流濃度検出信号の時間遅れ信号Ｆ
【図１】
0003630543.tif 000002
【図２】
0003630543.tif 000003
【図３】
0003630543.tif 000004
【図４】
0003630543.tif 000005
【図５】
0003630543.tif 000006
【図６】
0003630543.tif 000007
【図７】
0003630543.tif 000008
【図８】
0003630543.tif 000009
【図９】
0003630543.tif 000010