(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と第２の基板との間に液晶層を介在して構成され、複数の隣接する画素領域を備える液晶表示装置であって、
前記画素領域に設けられた光反射層により構成される反射表示領域と、
前記画素領域の残りの領域により構成される透過表示領域と、
前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする層厚調整層と、を有し、
前記反射表示領域には反射表示用カラーフィルタが形成され、前記透過表示領域には透過表示用カラーフィルタが形成され、前記層厚調整層の斜面と重なる領域、及び隣接する画素領域の境界領域の少なくとも一部には、前記反射表示用カラーフィルタと前記透過表示用カラーフィルタとが重なるように積層されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記透過表示用カラーフィルタは、前記反射表示用カラーフィルタよりも着色度の強いものであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記反射表示用カラーフィルタおよび前記透過表示用カラーフィルタが前記第１の基板側に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記反射表示用カラーフィルタおよび前記透過表示用カラーフィルタが前記第２の基板側に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記透過表示領域は、前記画素領域内の中央部に配置されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記画素領域は、矩形領域として形成され、前記透過表示領域は、前記画素領域の辺に少なくとも１辺が重なる矩形形状を有していることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置、特に半透過反射型液晶表示装置に関するものである。さらに詳しくは、１画素内で透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層の層厚を適正な値に変えたマルチギャップタイプの液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
各種の液晶表示装置のうち、透過モードおよび反射モードの双方で画像を表示可能なものは半透過・反射型液晶表示装置と称せられ、あらゆるシーンで使用されている。
図９（Ａ）、（Ｂ）、図１０（Ｃ）、（Ｄ）はそれぞれ、従来の液晶表示装置の断面図、液晶表示装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域の一つを抜き出して模式的に示す平面図、そのA-A’断面図、及びB-B'断面図である。
【０００３】
この半透過・反射型液晶表示装置では、図９（Ａ）、（Ｂ）、図１０（Ｃ）、（Ｄ）に示すように、第１の透明電極１１が形成された透明な第１の基板１０と、第１の電極１１と対向する面側に第２の透明電極２１が形成された透明な第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間に保持されたＴＮ（ツイステッドネマティック）モードの液晶層５とを有している。また、第１の基板１０には、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する画素領域３に反射表示領域３１を構成する光反射層４が形成され、この光反射層４の形成されていない残りの領域は、透過表示領域３２になっている。光反射層４の上側には反射表示領域３１および透過表示領域３２の各々に反射表示用カラーフィルタ８１および透過表示用カラーフィルタ８２が形成され、さらにオーバーコート層１２を介し、透明電極１１、配向膜１３が形成されている。また第２の基板２０上にも、基板側から透明電極２１、配向膜２２が形成されている。第１の基板１０および第２の基板２０の各々の外側の面には偏光板４１、４２が配置され、偏光板４１の側にはバックライト装置７が対向配置されている。
【０００４】
このような構成の液晶表示装置では、バックライト装置７から出射された光のうち、透過表示領域３２に入射した光は、矢印Ｌ１で示すように、第１の基板１０の側から液晶層５に入射し、液晶層５で光変調された後、第２の基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を表示する（透過モード）。
また、第２の基板２０の側から入射した外光のうち、反射表示領域３１に入射した光は、矢印Ｌ２で示すように、液晶層５を通って光反射層４に届き、この光反射層４で反射されて再び、液晶層５を通って第２の基板２０の側から反射表示光として出射されて画像を表示する（反射モード）。
【０００５】
このような光変調が行われる際、液晶のツイスト角を小さく設定した場合には、偏光状態の変化が屈折率差Δｎと液晶層５の層厚ｄの積（リターデーションΔｎ・ｄ）の関数になるため、この値を適正化しておけば視認性のよい表示を行うことができる。しかしながら、半透過・反射型の液晶表示装置において、透過表示光は、液晶層５を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は、液晶層５を２度、通過することになるため、透過表示光および反射表示光の双方において、リターデーションΔｎ・ｄを最適化することは困難である。従って、反射モードでの表示が視認性のよいものとなるように液晶層５の層厚ｄを設定すると、透過モードでの表示が犠牲となる。逆に、透過モードでの表示が視認性のよいものとなるように液晶層５の層厚ｄを設定すると、反射モードでの表示が犠牲となる。
【０００６】
そこで、特開平１１−２４２２２６号には、反射表示領域３１における液晶層の層厚ｄを透過表示領域３２における液晶層５の層厚ｄよりも小さくする構成が開示されている。このような構成はマルチギャップタイプと称せられ、例えば、図１１に示すように、第１の透明電極１１の下層側、かつ、光反射層４の上層側に、透過表示領域３２に相当する領域が開口となっている層厚調整層６によって実現できる。すなわち、透過表示領域３２では、反射表示領域３１と比較して、層厚調整層６の膜厚分だけ、液晶層５の層厚ｄが大きいので、透過表示光および反射表示光の双方に対してリターデーションΔｎ・ｄを最適化することが可能である。ここで、層厚調整層６で液晶層５の層厚ｄを調整するには、層厚調整層６を分厚く形成する必要があり、このような分厚い層の形成には感光性樹脂などが用いられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、感光性樹脂層で層厚調整層６を形成する際、フォトリソグラフィ技術が用いられるが、その際の露光精度、あるいは現像の際のサイドエッチングなどが原因で、層厚調整層６は、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分で斜め上向きの斜面６０となってしまう。その結果、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分では、液晶層５の層厚ｄが連続的に変化する結果、リターデーションΔｎ・ｄも連続的に変化してしまう。また、液晶層５に含まれる液晶分子は、第１の基板１０および第２の基板２０の最表層に形成した配向膜１３、２２によって初期の配向状態が規定されているが、斜面６０では、配向膜１３の配向規制力が斜めに作用するので、この部分では液晶分子の配向が乱れている。斜面にならない場合でも基板と段差部が垂直となり、境界で液晶分子の配向が乱れる可能性がある。
【０００８】
このため、従来の液晶表示装置では、例えば、ノーマリブラックで設計した場合、電場を印加しない状態において全面黒表示となるはずであるが、斜面６０に相当する部分で光が漏れてしまい、コントラストが低下するなどといった表示不良が発生してしまう。
また、隣接する画素領域の境界領域でも、透明電極の極性の違いにより液晶分子の配向が乱れ、光が漏れてしまう。この部分には従来の液晶表示装置では、金属、樹脂等で遮光膜が設けられているが、遮光膜を設けるために工程が一つ増えコストアップにつながっている。
【０００９】
以上の問題点に鑑みて、本発明では、１画素領域内で透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層の層厚を適正な値に変えたマルチギャップタイプの液晶表示装置、およびそれを用いた電子機器において、透過表示領域と反射表示領域との境界部分でリターデーションが不適正な状態、あるいは液晶分子の配向が乱れている状態にあっても、品位の高い表示を行うことのできる構成、かつ隣接する画素領域の境界領域で液晶分子の配向が乱れている状態にあっても、金属、樹脂等で遮光膜を形成する必要がなく、より低コストで品位の高い表示を行なうことのできる構成を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、第１の基板と第２の基板との間に液晶層を介在して構成され、複数の隣接する画素領域を備える液晶表示装置であって、前記画素領域に設けられた光反射層により構成される反射表示領域と、前記画素領域の残りの領域により構成される透過表示領域と、前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする層厚調整層と、を有し、前記反射表示領域には反射表示用カラーフィルタが形成され、前記透過表示領域には透過表示用カラーフィルタが形成され、前記層厚調整層の斜面と重なる領域、及び隣接する画素領域の境界領域の少なくとも一部には、前記反射表示用カラーフィルタと前記透過表示用カラーフィルタとが重なるように積層されていることを特徴とする。
【００１１】
本発明では、反射表示領域と透過表示領域との境界領域（層厚調整層の斜面と重なる領域）、および隣接する画素領域の境界領域には反射表示用カラーフィルタと透過表示用カラーフィルタが重なるように積層されている。例えば、透過用カラーフィルタのＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、反射用カラーフィルタのＢ（青）が積層されている。このため、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において層厚調整層の厚さが連続的に変化して、この部分においてリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化している場合、あるいは、液晶分子の配向が乱れている場合でも、積層されたカラーフィルタにより光が吸収され、この部分があたかも遮光膜のように機能するので、このような領域からの反射表示光、透過表示光の光漏れを防ぐことが出来る。また、隣接する画素領域の境界領域において、透明電極の極性の違いにより液晶分子の配向が乱れている場合でも、この領域からの反射表示光、透過表示光の光漏れを防ぐことができる。従って、黒表示時に光漏れが発生するなどといった不具合の発生を回避することができ、また従来、隣接する画素領域の境界領域からの光漏れを防ぐために設けられていた金属、樹脂等の遮光膜を形成する工程が省けるため、表示品位が高く、かつ低コストな液晶表示装置を提供することができる。
【００１２】
上記の構成において、透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタは、透過表示領域と反射表示領域とで特性の異なるカラーフィルタを作り分けたものである。例えば、透過表示用カラーフィルタを、反射表示用カラーフィルタよりも着色度の強いものとすることができる。
その場合、カラーフィルタを１回しか通過しない透過表示光も、カラーフィルタを２回通過する反射表示光と同等の着色がなされるので、透過表示と反射表示とで色の濃淡の差が少なく、品位の高いカラー表示が得られる。
【００１３】
本発明において、前記反射表示用カラーフィルタ、前記透過表示用カラーフィルタは前記第１の基板側、前記第２の基板側のいずれに形成されていてもよい。
【００１４】
本発明において、前記層厚調整層は、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域が斜面になっている。
【００１５】
本発明において、前記反射表示用カラーフィルタと前記透過表示用カラーフィルタの積層部は、前記層厚調整層の前記斜面、前記隣接する画素領域の境界領域と平面的、または立体的に少なくとも一部重なるように形成されていることが好ましい。ここで言う「前記反射表示用カラーフィルタと前記透過表示用カラーフィルタの積層部が、前記層厚調整層の前記斜面、前記隣接する画素領域の境界領域と立体的に少なくとも一部重なる」とは、第２の基板側に設けられた前記反射表示用カラーフィルタと前記透過表示用カラーフィルタの積層部が、前記第１の基板側の前記層厚調整層の前記斜面、前記隣接する画素領域の境界領域に対応して形成されているという意味である。
【００１６】
本発明において、前記透過表示領域は、例えば、前記画素領域内の中央部に配置されている。ここで言う「画素領域内の中央部」とは、透過表示領域の縁が画素領域の縁と重ならない場合のことである。
【００１７】
本発明において、前記画素領域は、矩形領域として形成され、前記透過表示領域は、前記画素領域の辺に少なくとも１辺が重なる矩形形状を有している場合もある。
【００１８】
反射表示用カラーフィルタと透過表示用カラーフィルタの積層部の形成領域が広いほど、表示に寄与する光量が低下するため表示が暗くなるが、画素領域の辺に透過表示領域の辺を重ねると、その分、透過表示領域と反射表示領域との境界領域の全長を短くできるので、表示に寄与する光量低下を最小限に抑えることができる。また、隣接する画素領域の境界領域にも、反射表示用カラーフィルタと透過表示用カラーフィルタの積層部が形成されているので、透過表示領域の周りのうち、これらの部分は、もとより表示に寄与しないので、この部分でリターデーションや液晶の配向に乱れがあっても、表示の品位が低下することはない。
【００１９】
このような構成としては、例えば、前記透過表示領域は、前記画素領域の辺に１辺が重なる位置に配置されている構成、前記画素領域の辺に２辺が重なる位置に配置されている構成、前記画素領域の辺に３辺が重なる位置に配置されている構成のいずれであってもよい。
【００２０】
本発明を適用した液晶表示装置は、携帯電話機、モバイルコンピュータといった電子機器の表示装置として用いることができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いる各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００２２】
［実施の形態１］
図１（Ａ）、（Ｂ）、図２（Ｃ）、（Ｄ）はそれぞれ本実施の形態の液晶表示装置の断面図、液晶表示装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域を任意に抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ’断面図、及びＢ−Ｂ‘断面図である。なお、本実施の形態の液晶表示装置は、基本的な構成が図１１と共通するので、共通する機能を有する部分には同一の符号を付している。
【００２３】
図１（Ｂ）、図２（Ｃ）、（Ｄ）に示す画素領域は、アクティブマトリクス型液晶表示装置のうち、画素スイッチング用の素子として、ＴＦＤ（薄膜ダイオード、Thin Film Diode）およびＴＦＴ(薄膜トランジスタ、Thin Film Transistor)のいずれを用いた場合にも共通する部分を抜き出して示してある。ここに示す液晶表示装置はＩＴＯ（インジウム錫酸化物、Indium Tin Oxide）膜などからなる第１の透明電極１１が形成された石英やガラスなどの透明な第１の基板１０と、第１の電極１１と対向する面側に同じくＩＴＯ膜などからなる第２の透明電極２１が形成された石英やガラスなどの透明な第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間に保持されたＴＮモードの液晶からなる液晶層５とを有しており、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する領域が表示に直接、寄与する画素領域３となっている。
【００２４】
第１の基板１０には、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する矩形の画素領域３に反射表示領域３１を構成する矩形の光反射層４がアルミニウム膜や銀合金膜によって形成され、この光反射層４の中央には矩形の開口４０が形成されている。このため、画素領域３において、光反射層４が形成されている領域は反射表示領域３１となっているが、開口４０に相当する領域は、光反射層４が形成されていない島状、かつ、矩形の透過表示領域３２になっている。
【００２５】
第１の基板１０および第２の基板２０の各々の外側の面には偏光板４１、４２が配置され、偏光板４１の側にはバックライト装置７が対向配置されている。
【００２６】
このように構成した液晶表示装置において、バックライト装置７から出射された光のうち、透過表示領域３２に入射した光は、矢印Ｌ１で示すように、第１の基板１０の側から液晶層５に入射し、そこで、光変調された後、第２の基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を表示する（透過モード）。
また、第２の基板２０の側から入射した外光のうち、反射表示領域３１に入射した光は、矢印Ｌ２で示すように、液晶層５を通って反射層４に届き、この反射層４で反射されて再び、液晶層５を通って第２の基板２０の側から反射表示光として出射されて画像を表示する（反射モード）。
【００２７】
ここで、第１の基板１０上には、反射表示領域３１および透過表示領域３２の各々に反射表示用カラーフィルタ８１および透過表示用カラーフィルタ８２が形成されているので、カラー表示が可能である。透過表示用カラーフィルタ８２としては、顔料が多量に配合されているなど、反射表示用カラーフィルタ８１よりも着色度が強いものが用いられている。
【００２８】
このような半透過・反射型の液晶表示装置において、透過表示光は、液晶層５を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は、液晶層５を２度、通過することになる。そこで、第１の基板１０において、第１の透明電極１１の下層側、かつ、光反射層４の上層側には、透過表示領域３２に相当する領域が開口４０となっているアクリルなどの感光性樹脂層からなる層厚調整層６が形成されている。従って、透過表示領域３２では、反射表示領域３１と比較して、層厚調整層６の膜厚分だけ、液晶層５の層厚ｄが大きいので、透過表示光および反射表示光の双方に対してリターデーションΔｎ・ｄを最適化できる。
【００２９】
この層厚調整層６を形成する際にはフォトリソグラフィ技術が用いられるが、その際の露光精度、あるいは現像の際のサイドエッチングなどが原因で、層厚調整層６は、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分が斜め上向きの斜面６０になっている。従って、透過表示領域３２との境界部分では、液晶層５の層厚ｄが連続的に変化する結果、リターデーションΔｎ・ｄも連続的に変化している。また、液晶層５に含まれる液晶分子は、第１の基板１０および第２の基板２０の最表層に形成した配向膜１３、２２によって初期の配向状態が規定されているが、斜面６０では、配向膜１３の配向規制力が斜めに作用するので、この部分では液晶分子の配向が乱れている。
また、隣接する画素領域の境界部分でも、透明電極の極性の違いにより液晶分子の配向が乱れている。
【００３０】
このような不安定な状態にある境界領域は、表示の品位を低下させる原因となるので、本実施の形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域、および隣接する画素領域の境界領域の全てに重なるように、第１の基板１０に形成された反射表示用カラーフィルタ８１、透過表示用カラーフィルタ８２からなるカラーフィルタ積層部８が形成されている。例えば、カラーフィルタ積層部８は透過表示用カラーフィルターのR（赤）、G（緑）、B（青）、反射表示用カラーフィルターのB（青）が積層されている。すなわち、本実施の形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２とを仕切る光反射層４の内周縁全体および、画素領域３の周囲に沿ってカラーフィルタ積層部８が矩形の枠状に形成してある。
【００３１】
このように本実施の形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域、及び隣接する画素領域の境界領域の全てに重なるようにカラーフィルタ積層部８が形成されている。このため、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域において層厚調整層６の厚さが連続的に変化して、この部分においてリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化しても、また液晶分子の配向が乱れていても、このような領域からの反射表示光、透過表示光の光漏れを防ぐことができる。また、隣接する画素領域の境界領域において、透明電極の極性の違いにより液晶分子の配向が乱れていても、この領域からの反射表示光、透過表示光の光漏れを防ぐことができる。従って、黒表示時に光漏れするなどといった不具合の発生を回避することができるので、コントラストが高く、品位の高い表示を行うことができる。
【００３２】
従来、隣接する画素領域の境界領域からの光漏れを防ぐために金属、樹脂等の遮光膜が設けられていたが、本実施の形態では金属、樹脂等の遮光膜を形成する必要がなく、遮光膜を形成する工程が省けるため、より低コストな液晶表示装置を提供することができる。
【００３３】
また、透過表示用カラーフィルタ８２として、反射表示用カラーフィルタ８１よりも着色度が強いものが用いられているため、透過表示光がカラーフィルタを１度しか通過しない構成であっても、カラーフィルタを２度、通過する反射表示光と同等の着色を受けるので、品位の高いカラー表示を行うことができる。
【００３４】
なお、本実施の形態では、カラーフィルタ積層部８において透過表示用カラーフィルターのＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、反射表示用カラーフィルタのＢ（青）の４層を積層しているので、充分な遮光性能を得ることができるが、積層するカラーフィルタの数や種類はこれに限るものではない。
【００３５】
このような構造の液晶表示装置を製造する際、第１の基板１０は以下のようにして形成する。
まず、石英やガラスなどからなる第１の基板１０を準備した後、その全面にアルミニウムや銀合金などの反射性の金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を利用して、この金属膜をパターニングして光反射層４を形成する。
【００３６】
次に、フレキソ印刷法、フォトリグラフィ技術、あるいはインクジェット法を利用して、所定の領域に反射表示用カラーフィルタ８１、および透過表示用カラーフィルタ８２を形成する。この際、マスクなどで予めカラーフィルタ積層部８が形成されるように設定しておく。
【００３７】
次に、スピンコート法を利用して、第１の基板１０の全面に感光性樹脂を塗布した後、露光、現像して層厚調整層６を形成する。
【００３８】
次に、第１の基板１０の全面にＩＴＯ膜などの透明導電膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を利用して、この透明導電膜をパターニングして第１の透明電極１１を形成する。
【００３９】
次に、スピンコート法を利用して、第１の基板１０の全面にポリイミド樹脂を塗布した後、焼成し、しかる後にラビング処理などの配向処理を施して配向膜１３を形成する。
【００４０】
このように形成した第１の基板１０については、別途、形成しておいた第２の基板２０と所定の間隔を介して貼り合わせ、しかる後に、基板間に液晶を注入して液晶層５を形成する。
【００４１】
なお、この液晶表示装置では、第１の基板１０の側にＴＦＤやＴＦＴなどといった画素スイッチング用の非線形素子が形成される場合があるので、各層は、ＴＦＤやＴＦＴなどを形成する工程の一部を利用して形成してもよい。
【００４２】
［実施の形態２］
図３（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、本実施の形態の液晶表示装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域を任意に抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。本実施の形態は、基本的な構成が実施の形態１と共通するので、共通する機能を有する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。また、製造方法も実施の形態１と同様であるので、その説明を省略する。なお、本実施の形態の液晶表示装置の断面図は実施の形態１とほぼ同様であるので図１（Ａ）を参照して頂きたい。
【００４３】
図３（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示す画素領域も、実施の形態１と同様、アクティブマトリクス型液晶表示装置のうち、画素スイッチング用の非線形素子として、ＴＦＤおよびＴＦＴのいずれを用いた場合にも共通する部分を抜き出して示してある。ここに示す液晶表示装置も、第１の透明電極１１が形成された透明な第１の基板１０と、第１の電極１１と対向する面側に第２の透明電極２１が形成された透明な第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間に保持されたＴＮモードの液晶からなる液晶層５とを有しており、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する領域が表示に直接、寄与する画素領域３となっている。
【００４４】
第１の基板１０には、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する矩形の画素領域３に反射表示領域３１を構成する光反射層４がアルミニウム膜や銀合金膜によって形成され、この光反射層４の１辺に相当する部分には矩形の開口４０が形成されている。このため、画素領域３において、光反射層４が形成されている領域は反射表示領域３１となっているが、開口４０に相当する領域は、光反射層４が形成されていない矩形の透過表示領域３２になっている。ここで、透過表示領域３２は、その１辺が画素領域３の１辺と重なっている。
【００４５】
なお、第１の基板１０および第２の基板２０の各々の外側の面には偏光板４１、４２が配置され、偏光板４１の側にはバックライト装置７が対向配置されている。また、第１の基板１０上には、反射表示領域３１および透過表示領域３２の各々に反射表示用カラーフィルタ８１および透過表示用カラーフィルタ８２が形成されているので、カラー表示が可能である。
【００４６】
本実施の形態でも、第１の基板１０において、第１の透明電極１１の下層側、かつ、光反射層４の上層側には、透過表示領域３２に相当する領域が開口４０となっている感光性樹脂層からなる層厚調整層６が形成されている。従って、透過表示領域３２では、反射表示領域３１と比較して、層厚調整層６の膜厚分だけ、液晶層５の層厚ｄが大きいので、透過表示光および反射表示光の双方に対してリターデーションΔｎ・ｄが最適化されている。
【００４７】
ここで、層厚調整層６には、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分は、斜め上向きの斜面６０となっている。そこで、本実施の形態では、第１の基板１０において、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域および、画素領域３の周囲に沿ってカラーフィルタ積層部８が形成してある。すなわち、カラーフィルタ積層部８は、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域では平面コの字に形成されている。
【００４８】
このように本実施の形態では、実施の形態１と同様、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域と隣接する画素領域の境界領域の全てに重なるようにカラーフィルタ積層部８が形成されているため、黒表示時に反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域、および隣接する画素領域の境界領域で光漏れするなどといった不具合の発生を回避することができるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００４９】
また、カラーフィルタ積層部８についてはその形成領域が広いほど、表示に寄与する光量が低下するので、表示が暗くなる傾向にあるが、本実施の形態では、カラーフィルタ積層部８が、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域では平面コの字形状に形成され、透過表示領域３２の１辺に相当する部分にはカラーフィルタ積層部８が形成されていない。このため、カラーフィルタ積層部８の全長が短いので、その分、表示に寄与する光量の低下を最小限に抑えることができる。ここで、隣接する画素領域の境界領域にも、カラーフィルタ積層部８が形成されているので、透過表示領域３２の周りのうち、これらのカラーフィルタ積層部８で覆われた部分は、もとより表示に寄与しないので、この部分でリターデーションや液晶の配向に乱れがあっても、表示の品位が低下することはない。さらに、画素領域の辺に透過表示領域の２辺が重なる構成、画素領域の辺に透過表示領域の３辺が重なる構成を採用してもよい。
【００５０】
［実施の形態３］
図４（Ａ）、図５（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）はそれぞれ本実施の形態の液晶表示装置の断面図、本実施の形態の液晶装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。なお、本実施の形態は、基本的な構成が実施の形態１と共通するので、共通する機能を有する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。また、製造方法も実施の形態１と同様であるので、その説明を省略する。
【００５１】
図５（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）に示す画素領域も、実施の形態１、２と同様、アクティブマトリクス型液晶表示装置のうち、画素スイッチング用の非線形素子として、ＴＦＤおよびＴＦＴのいずれを用いた場合にも共通する部分を抜き出して示してある。ここに示す液晶表示装置も、第１の透明電極１１が形成された透明な第１の基板１０と、第１の電極１１と対向する面側に第２の透明電極２１が形成された透明な第２の基板２０と、第１の基板１０と第２の基板２０との間に保持されたＴＮモードの液晶からなる液晶層５とを有しており、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する領域が表示に直接寄与する画素領域３となっている。
【００５２】
第１の基板１０には、第１の透明電極１１と第２の透明電極２１とが対向する矩形の画素領域３に反射表示領域３１を構成する矩形の光反射層４がアルミニウム膜や銀合金膜によって形成され、この光反射層４の中央には矩形の開口４０が形成されている。このため、画素領域３において、光反射層４が形成されている領域は反射表示領域３１となっているが、開口４０に相当する領域は、光反射層４が形成されていない島状、かつ、矩形の透過表示領域３２になっている。
【００５３】
なお、第１の基板１０および第２の基板２０の各々の外側の面には偏光板４１、４２が配置され、偏光板４１の側にはバックライト装置７が対向配置されている。
【００５４】
本実施の形態では、反射表示領域３１および透過表示領域３２に対向する第２の基板２０上の領域の各々に反射表示用カラーフィルタ８１および透過表示用カラーフィルタ８２が形成されているので、カラー表示が可能である。
【００５５】
本実施の形態でも、第１の基板１０において、第１の透明電極１１の下層側、かつ、光反射層４の上層側には、透過表示領域３２に相当する領域が開口４０となっている感光性樹脂層からなる層厚調整層６が形成されている。従って、透過表示領域３２では、反射表示領域３１と比較して、層厚調整層６の膜厚分だけ、液晶層５の層厚ｄが大きいので、透過表示光および反射表示光の双方に対してリターデーションΔｎ・ｄが最適化されている。
【００５６】
ここで、層厚調整層６は、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分で、斜め上向きの斜面６０となっている。そこで、本実施の形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域、および画素領域３の周囲に対向する第２の基板２０上の領域全てに重なるようにカラーフィルタ積層部８が形成してある。
【００５７】
このように本実施の形態では、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域、および隣接する画素領域の境界領域に対向する第２の基板２０上の領域全てにカラーフィルタ積層部８が形成されているため、黒表示時に反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界領域、および隣接する画素領域の境界領域で光漏れするなどといった不具合の発生を回避することができるなど、実施の形態１、２と同様な効果を奏する。
【００５８】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば上記実施の形態１〜３ではＴＦＤやＴＦＴをスイッチング素子としたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示したが、その他、パッシブマトリクス方式の液晶装置に適用することも可能である。また上記実施の形態１〜３では、反射表示領域と透過表示領域との境界領域と隣接する画素領域の境界領域の全てに重なるようにカラーフィルタ積層部を形成した結果、より確実に光漏れ等を防止することができたが、上記境界領域の少なくとも一部に設けても相応の効果を得ることができる。
【００５９】
［液晶表示装置の電子機器への適用］
このように構成した液晶表示装置は、各種の電子機器の表示部として用いることができるが、その一例を、図６、図７、および図８を参照して説明する。
【００６０】
図６は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図６において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
図７は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図７において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
図８は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図８において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【００６１】
図６〜図８に示す電子機器は、上記実施の形態の液晶表示装置を用いた液晶表示部を備えているので、あらゆる使用環境で視認性に優れた液晶表示部を備えた電子機器を実現することができる。
【００６２】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明に係る液晶表示装置では反射表示領域と透過表示領域との境界領域、および隣接する画素領域の境界領域の全てに重なるように透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタが積層されている。このため、反射表示領域と透過表示領域との境界領域において層厚調整層の厚さが連続的に変化して、この部分においてリターデーションΔｎ・ｄが連続的に変化している場合、あるいは、液晶分子の配向が乱れている場合でも、このような領域からの反射表示光、透過表示光の光漏れを防ぐことができる。また、隣接する画素領域の境界領域において、隣接画素の透明電極の極性の違いによって液晶分子の配向が乱れている場合でも、このような領域からの反射表示光、透過表示光の光漏れを防ぐことができる。従って、黒表示時に光漏れが発生するなどといった不具合の発生を回避することができるので、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことができる。また、従来、隣接する画素領域の境界領域からの光漏れを防ぐために設けられていた金属、樹脂等の遮光膜を設ける必要がなくなるので、工程を一つ減らすことができ、より低コストで液晶表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  （Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本実施の形態の液晶表示装置の断面図、液晶表示装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域を任意に抜き出して模式的に示す平面図である。
【図２】  （Ｃ）、（Ｄ）はそれぞれ図１（Ｂ）の平面図のＡ−Ａ’断面図、及びＢ−Ｂ‘断面図である。
【図３】  （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ、本実施の形態の液晶表示装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域を任意に抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。
【図４】  （Ａ）は本実施の形態の液晶表示装置の断面図である。
【図５】  （Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）はそれぞれ本実施の形態の液晶表示装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域のうちの１つを抜き出して模式的に示す平面図、そのＡ−Ａ′断面図、およびＢ−Ｂ′断面図である。
【図６】  本発明に係る液晶表示装置を表示装置として用いた電子機器の例である。
【図７】  本発明に係る液晶表示装置を表示装置として用いた電子機器のもう一つの例である。
【図８】  本発明に係る液晶表示装置を表示装置として用いた電子機器のさらにもう一つの例である。
【図９】  （Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、従来の液晶表示装置の断面図、液晶表示装置にマトリクス状に形成されている複数の画素領域の一つを抜き出して模式的に示す平面図である。
【図１０】  （Ｃ）、（Ｄ）はそれぞれ、図９（Ｂ）の平面図のＡ−Ａ’断面図、及びＢ−Ｂ‘断面図である。
【図１１】  従来のマルチギャップタイプの液晶表示装置の断面図である。
【符号の説明】
３  画素領域
４  光反射層
５  液晶層
６  層厚調整層
７  バックライト装置
８  カラーフィルタ積層部
１０  第１の基板
１１  第１の透明電極
２０  第２の基板
２１  第２の透明電極
３１  反射表示領域
３２  透過表示領域
４０  光反射層の開口
４１、４２  偏光板
６０  層厚調整層の斜面
８１  反射表示用カラーフィルタ
８２  透過表示用カラーフィルタ
【図１】
0003675420.tif 000002
【図２】
0003675420.tif 000003
【図３】
0003675420.tif 000004
【図４】
0003675420.tif 000005
【図５】
0003675420.tif 000006
【図６】
0003675420.tif 000007
【図７】
0003675420.tif 000008
【図８】
0003675420.tif 000009
【図９】
0003675420.tif 000010
【図１０】
0003675420.tif 000011
【図１１】
0003675420.tif 000012