(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画用のレーザ光を発するレーザ光源と、
被描画体が載置される描画テーブルと、
前記描画テーブルを所定平面内で所定のＸ方向に移動させるテーブル駆動手段と、
前記レーザ光源から発せられたレーザ光を偏向器および結像光学系を介して走査させ、前記所定平面内で前記Ｘ方向に直交するＹ方向に沿った走査線を前記被描画体の描画面に形成する複数の走査光学系と、
少なくとも１つの前記走査光学系が設置される光学ステージと、
前記光学ステージを前記Ｙ方向に移動させるステージ駆動手段と、
前記走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを前記描画面に描画する場合には、前記描画パターンを前記走査光学系の数に応じて分割し、分割した前記各描画パターンを前記各走査光学系に夫々描画させるとともに、前記各走査光学系が描画する描画パターンが１つの描画パターンとして互いに接続する位置へ前記光学ステージを移動させるように前記ステージ駆動手段を制御し、また、前記走査光学系の有効走査範囲以下の大きさの描画パターンを前記描画面に複数描画する場合には、これら描画パターンを前記各走査光学系に夫々描画させるとともに、前記各描画パターンが互いの間に所定の間隔を空ける位置へ前記光学ステージを移動させるように前記ステージ駆動手段を制御する制御部と
を備えることを特徴とするレーザ描画装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記各走査光学系が描画すべき描画パターンを、前記各走査光学系の有効走査範囲の中心部分において夫々描画させる
ことを特徴とする請求項１記載のレーザ描画装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを前記描画面に描画する場合であって前記描画パターンを分割するときには、分割した前記各描画パターンが前記Ｙ方向において等幅となるように、前記描画パターンを分割する
ことを特徴とする請求項１又は２記載のレーザ描画装置。
【請求項４】
前記走査光学系は、２つの走査光学系からなる
ことを特徴とする請求項１，２又は３記載のレーザ描画装置。
【請求項５】
前記２つの走査光学系のうち、一方の走査光学系のみが、前記光学ステージに設置されて前記ステージ駆動手段によって前記Ｙ方向へ移動される
ことを特徴とする請求項４記載のレーザ描画装置。
【請求項６】
描画用のレーザ光を発するレーザ光源と、
被描画体が載置される描画テーブルと、
前記描画テーブルを所定平面内で所定のＸ方向に移動させるテーブル駆動手段と、
前記レーザ光源から発せられたレーザ光を偏向器および結像光学系を介して走査させ、前記所定平面内で前記Ｘ方向に直交するＹ方向に沿った走査線を前記被描画体の描画面に形成する走査光学系と、
前記走査光学系が設置される光学ステージと、
前記光学ステージを前記Ｙ方向に移動させるステージ駆動手段と、
前記走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを前記描画面に描画する場合には、前記走査光学系の有効走査範囲に収まる大きさにて前記描画パターンを幾つかに分割し、分割した前記各描画パターンを前記走査光学系に順次描画させるとともに、各描画毎に前記走査光学系が描画する前記各描画パターンが１つの描画パターンとして互いに接続する位置へ前記光学ステージを描画毎に移動させるように前記ステージ駆動手段を制御し、また、前記走査光学系の有効走査範囲以下の大きさの描画パターンを前記描画面に複数描画する場合には、これら描画パターンを前記走査光学系に順次描画させるとともに、各描画毎に前記走査光学系が描画する前記各描画パターンが互いの間に所定の間隔を空ける位置へ前記光学ステージを描画毎に移動させるように前記ステージ駆動手段を制御する制御部と
を備えることを特徴とするレーザ描画装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記走査光学系が描画毎に描画すべき描画パターンを、前記走査光学系の有効走査範囲の中心部分において夫々描画させる
ことを特徴とする請求項６記載のレーザ描画装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを前記描画面に描画する場合であって前記描画パターンを分割するときには、分割した前記各描画パターンが前記Ｙ方向において等幅となるように、前記描画パターンを分割する
ことを特徴とする請求項６又は７記載のレーザ描画装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光源から発せられるレーザ光を偏向走査して被描画体上に描画パターンを照射するレーザ描画装置に、関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント基板や半導体素子などの被描画体に配線などの描画パターンを直接記録するために、ダイレクトイメージャやレーザフォトプロッタ等が使用されている。これらレーザ描画装置は、その光源部から発せられるレーザ光を変調器で変調して回転多面鏡で偏向走査することにより、感光材料が付着された基板の表面に描画パターンを露光する。
【０００３】
近年、需要者の間では、このレーザ描画装置を使ってより大きな基板に大きな描画パターンを描画したいとの要望があった。ところが、より広い走査幅を実現しようとして走査光学系（回転多面鏡及び結像光学系）を大きく設けると、描画密度が下がるという欠点があった。そのため、最近では、複数の走査光学系を備えたレーザ描画装置が提案されている。この種のレーザ描画装置は、隣接する走査光学系の有効走査範囲同士が接する状態で各走査光学系が主走査方向に縦列に配置されるために、高い描画密度を維持しつつ走査幅を広げることができる。
【０００４】
一方、需要者の間では、一定の描画パターンを記録した基板を大量生産する場合に、基板１枚１枚にその描画パターンを繰り返し描画していると非効率的であるので、１つの大きな基板に複数の描画パターンを一度に描画し（これを「多面付け」という）、その後の製造工程においてその基板を描画パターン毎に切り分けたいとの要望もあった。そこで、上述したような複数の走査光学系を有するレーザ描画装置において各走査光学系に対して同じ描画パターンを同時に描画させることにより、１つの大きな基板に２つの描画パターンを記録する場合（２面付け）がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した構成のレーザ描画装置においてこのような「２面付け」を行う場合、隣接する走査光学系の有効走査範囲同士が接する境界部分に、基板を切り分けるときの切り代（隙間）を設けなければならないので、各々の走査光学系は、自己の有効走査範囲における隣接する走査光学系がある側の端部及びその近傍に、描画を行うことができない。即ち、本来描画が可能である全有効走査範囲のうちの一部のみにしか描画を行うことができず、切り代に相当する部分が無駄となっていた。
【０００６】
そこで、本発明の課題は、複数の走査光学系が主走査方向に並べて配置されているレーザ描画装置であって、一走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを描画するときには、幾つかに分割した描画パターンを各走査光学系に夫々描画させて切れ目の無い描画パターンとして描画面に描画させるとともに、一走査光学系の有効走査範囲以下の大きさの複数の描画パターンを描画面に描画するいわゆる多面付けのときには、描画される各描画パターンの間に切り代を設けつつも各走査光学系の有効走査範囲の全域を利用することができるレーザ描画装置を、提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を達成するために構成された本発明によるレーザ描画装置は、描画用のレーザ光を発するレーザ光源と、被描画体が載置される描画テーブルと、前記描画テーブルを所定平面内で所定のＸ方向に移動させるテーブル駆動手段と、前記レーザ光源から発したレーザ光を偏向器および結像光学系を介して走査させ、前記所定平面内で前記Ｘ方向に直交するＹ方向に沿った走査線を前記被描画体の描画面に形成する複数の走査光学系と、少なくとも１つの前記走査光学系が設置される光学ステージと、前記光学ステージを前記Ｙ方向に移動させるステージ駆動手段とを備えることを、特徴とする。
【０００８】
このように構成されると、光学ステージに設置される走査光学系の有効走査範囲は、描画面上において他の走査光学系の有効走査範囲に対して接離移動される。
【０００９】
従って、走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを描画面に描画する場合には、描画面上において各走査光学系の有効走査範囲が接するように光学ステージを移動させることにより、各走査光学系の有効走査範囲に収まるように幾つかに分割した描画パターンを各走査光学系に描画させて切れ目の無い描画パターンを描画面上に描画することができる。
【００１０】
また、走査光学系の有効走査範囲以下の大きさの複数の描画パターンを描画面に描画するいわゆる多面付けを行う場合には、描画面上において各走査光学系の有効走査範囲の間が所定の間隔ずつ空くように光学ステージを移動させることにより、各描画パターンの間に切り代を設けつつも各走査光学系の有効走査範囲の全域を利用して各描画パターンを夫々描画面上に描画することができる。
【００１１】
本発明によるレーザ描画装置は、描画パターンを描画するための走査光学系を２つ備えていても良いし、３つ以上備えていても良い。２つの走査光学系からなる場合には、一方の走査光学系を固定して他方の走査光学系のみをＹ方向（主走査方向）に移動できるように光学ステージに設置しても良いし、両方の走査光学系をＹ方向（主走査方向）に移動できるように光学ステージに夫々設置しても良い。
【００１２】
また、これら複数の走査光学系を備えるレーザ描画装置には、光学ステージを移動させるステージ駆動手段を制御する制御部を、設けることもできる。この場合の制御部は、走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを描画面に描画するときには、各走査光学系の数に応じて描画パターンを分割し、分割した描画パターンが互いに接続されて切れ目の無い１つの描画パターンとして描画されるように、ステージ駆動手段を制御する。また、制御部は、走査光学系の有効走査範囲以下の大きさの描画パターンを描画面に複数描画する多面付けのときには、各描画パターンが互いの間に所定の間隔を空けて描画面に描画されるように、ステージ駆動手段を制御する。
【００１３】
さらに、本発明によるレーザ描画装置は、１つの走査光学系のみからなっても良いが、この場合、この走査光学系を光学ステージに設置し、複数の描画パターンを走査光学系に順次描画させるとともに、各描画毎にＹ方向へ移動させることにより、描画面に全ての描画パターンを描画することができる。
【００１４】
また、このように１つの走査光学系のみを備えるレーザ描画装置にも、光学ステージを移動させるステージ駆動手段を制御する制御部を、設けることができる。この場合の制御部は、走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを描画面に描画するときには、描画パターンを幾つかの描画可能な大きさに分割し、分割した描画パターンを走査光学系に順次描画させる。その際、制御部は、１回の描画によって描画面に描画される描画パターンが、前回の描画によって描画された描画パターンに接して描画されるように、ステージ駆動手段を制御する。また、制御部は、多面付けのときには、１つの描画パターンを描画面に描画させた後に、その描画された描画パターンの隣に切り代として所定の間隔を空けて別の描画パターンが描画されるように、ステージ駆動手段を制御する。
【００１５】
本発明によるレーザ描画装置において、各走査光学系が描画すべき描画パターンは、走査光学系の有効走査範囲内の何れかの箇所にて描画されても良いが、その描画すべき描画パターンが、各走査光学系の有効走査範囲の中心部分において描画されることが好ましい。
【００１６】
また、複数の走査光学系を備える場合であって描画パターンを走査光学系の数に応じて分割するとき、或いは、１つの走査光学系を備える場合であって描画パターンを描画回数に応じて分割するときには、分割した描画パターンがＹ方向において等幅となるように、分割されることが望ましい。
【００１７】
本発明によるレーザ描画装置では、描画テーブルを駆動するテーブル駆動手段及び光学ステージを駆動するステージ駆動手段として、例えば、サーボモータとボールネジを用いた機構やリニアモータを用いた機構などを利用することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るレーザ描画装置の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１９】
【実施形態１】
図１は、本発明の第１実施形態によるレーザ描画装置１の全体構成を示す斜視図である。
【００２０】
第１実施形態のレーザ描画装置１は、図１に示すように、基盤１０と、この基盤１０上に図中のＸ方向に沿って移動可能に設けられた描画テーブル２０と、基盤１０上に固定された光学台３０と、基盤１０に固定されたレーザ光源４０と、光学台３０上に設けられた第１走査光学系５０と、光学台３０上で上記のＸ方向と水平面内で直交するＹ方向に移動可能に設けられた第２走査光学系６０とを、備えている。
【００２１】
被描画体２１が載置される描画テーブル２０は、基盤１０上に設けられたレール１１によってガイドされ、図示せぬテーブル駆動手段によりＸ方向に往復運動する。
【００２２】
レーザ光源４０から発された描画用のレーザ光は、第１及び第２ミラー４１，４２により順に反射され、Ｙ方向に沿って進行するレーザ光として光学台３０上のハーフミラー４３に入射し、反射光と透過光とに分離される。
【００２３】
ハーフミラー４３によって反射されたレーザ光は、光学台３０上に配置されるの第１走査光学系５０へ入射する。第１走査光学系５０に入射したレーザ光は、音響光学変調素子（ＡＯＭ）５１により描画データに従ってオンオフ変調された後、第１乃至第３ミラー５２〜５４により順に反射されて偏向器であるポリゴンミラー５５に入射される。ポリゴンミラー５５の回転に伴って偏向走査されたレーザ光は、ｆθレンズ５６を介して折返しミラー５７に入射し、描画テーブル２０側に反射される。折返しミラー５７で反射されたレーザ光は、コンデンサレンズ５８を介して被描画体２１の描画面上にスポットを形成する。このスポットは、ポリゴンミラー５５の回転に伴ってＹ方向に走査され、被描画体２１の描画面上においてＹ方向に沿った走査線Ｓを形成する（通常、描画面において、Ｘ方向を「副走査方向」と称し、Ｙ方向を「主走査方向」と称する）。
【００２４】
一方、ハーフミラー４３を透過してＹ方向に沿って進むレーザ光は、光学台３０上のレール３１に沿ってＹ方向に移動可能な光学ステージ３２上の第５ミラー４６に、入射する。但し、光学ステージ３２上の第５ミラー４６は、光学台３０上のハーフミラー４３に対し、Ｘ方向及びＹ方向に直交するＺ方向において異なる位置に設置されているために、ハーフミラー４３を透過してＹ方向に沿って進むレーザ光は、第３及び第４ミラー４４，４５によってＺ方向へシフトされて、第５ミラー４６へ入射する。このとき、第４ミラー４５を反射したレーザ光は、Ｙ方向に沿って進行するために、光学ステージ３２がＹ方向へ移動されることに伴って第５ミラー４６がＹ方向へ平行移動されても、常に第５ミラー４６へ入射することができる。そして、第５ミラー４６によって反射されたレーザ光は、光学ステージ３２上の第２走査光学系６０へ入射する。
【００２５】
第２走査光学系６０に入射したレーザ光は、ＡＯＭ６１により描画データに従ってオンオフ変調された後、ミラー６２により反射されてポリゴンミラー６３に入射される。ポリゴンミラー６３の回転に伴って偏向走査されたレーザ光は、ｆθレンズ６４を介して折返しミラー６５に入射し、描画テーブル２０側に反射される。折返しミラー６５で反射されたレーザ光は、コンデンサレンズ６６を介して被描画体２１の描画面上にスポットを形成する。このスポットは、ポリゴンミラー６３の回転に伴ってＹ方向に走査され、被描画体２１の描画面上においてＹ方向に沿った走査線Ｓ’を形成する。
【００２６】
上記の第２走査光学系６０及び第５ミラー４６は、図示せぬステージ駆動手段によってレール３１に沿って往復運動される光学ステージ３２の移動により、全体が一体となった状態で、Ｙ方向に移動する。また、第２走査光学系６０によって被描画体２１の描画面に形成される走査線Ｓ’は、光学ステージ３２の移動に応じてＹ方向に平行移動される。
【００２７】
ところで、第１及び第２走査光学系５０，６０のコンデンサレンズ５８，６６は、Ｚ方向における描画面からの高さが互いに等しい位置に、夫々設置されている。このため、コンデンサレンズ６６は、光学ステージ３２の移動に伴ってＹ方向に移動されたときに、光学台３０上のコンデンサレンズ５８に対してＸ方向においてシフトした位置を移動するように、光学ステージ３２に設置されている。
【００２８】
図２は、本例のレーザ描画装置１の制御部を示すブロック図である。この図２に示すように、レーザ描画装置１の制御部は、テーブル駆動モータ１０１，ステージ駆動モータ１０２，レーザ光源４０，ＡＯＭ５１，第１のポリゴンモータ１０３，ＡＯＭ６１，及び、第２のポリゴンモータ１０４に接続された制御回路１００を備えている。
【００２９】
制御回路１００は、入力される描画データや各種のコマンドに応じて、接続される各装置へ命令を出力する。そして、制御回路１００からの命令に従って、レーザ光源４０は、描画用のレーザ光を発し、両ポリゴンモータ１０３，１０４は、夫々、第１及び第２走査光学系５０，６０のポリゴンミラー５５，６３を回転させ、テーブル駆動モータ１０１は、描画テーブル２０をレール１１に沿ってＸ方向へ移動させる（テーブル駆動手段に相当）。このとき、ＡＯＭ５１，６１は、制御回路１００の命令に従って、自己を透過するレーザ光に対し、描画データに応じたオンオフ変調を行い、描画面には、描画データに基づくパターンが描画される。
【００３０】
また、上述した被描画体２１への描画に先立って、制御回路１００は、入力された描画データや各種のコマンドに応じて、描画面における第１走査光学系５０の描画位置に対する第２走査光学系６０の描画位置を決定し、ステージ駆動モータ１０２を駆動して光学ステージ３２をレール３１に沿ってＹ方向へ移動させ（ステージ駆動手段に相当）、これにより、第２走査光学系６０を所定の位置へ移動させる。
【００３１】
図３乃至図５は、それら第１及び第２走査光学系５０，６０の有効走査範囲の位置関係の具体例を示す説明図である。以下では、被描画体２１の描画面に走査される描画パターンの大きさによって、場合分けして説明する。
【００３２】
第１に、第１走査光学系５０の有効走査幅と第２走査光学系６０の有効走査幅とを足し合わせた大きさの描画パターンを描く場合、制御回路１００は、図３に示すように、破線枠で示される第１走査光学系５０の有効走査範囲Ｌ１に対して破線枠で示される第２走査光学系６０の有効走査範囲Ｌ２が接する様に、第２走査光学系６０を移動させる。そして、Ｙ方向において等幅となるように分割した描画パターンを第１及び第２走査光学系５０，６０に夫々描画させることにより、大きな描画パターンを切れ目無く描画面に描画することができる。
【００３３】
第２に、第１走査光学系５０の有効走査幅以下の大きさの描画パターンを描く場合、制御回路１００は、その描画パターンを第１走査光学系５０だけに描画させることにより、第１走査光学系５０の有効走査範囲Ｌ１内にその描画パターンを描く。このとき、第２走査光学系６０は使用されない。但し、描画面上において描画パターンを描画すべき位置が第１走査光学系５０の有効走査範囲Ｌ１内に無い場合には、第１走査光学系５０を使用せずに、適宜移動させた第２走査光学系６０によってその描画パターンを描画することができる。
【００３４】
第３に、第１及び第２走査光学系５０，６０の有効走査幅と同じ大きさの描画パターンを２つ同時に描く場合（即ち、いわゆる２面付けの場合）、制御回路１００は、図４に示すように、有効走査範囲Ｌ２が有効走査範囲Ｌ１に対して所定の間隔ｄを空けて離れる位置へ、第２走査光学系６０をＹ方向に移動させる。そして、同じ図柄（図４では「星」形状）の描画パターンを第１及び第２走査光学系５０，６０に夫々描画させる。同じ図柄の２つの描画パターンは、互いの間に所定の間隔ｄを設けて描画されているので、作業者は、この所定の間隔ｄを切り代として利用することにより、この被描画体２１を各描画パターン毎に切り分けることができる。
【００３５】
第４に、第１走査光学系５０の有効走査幅と第２走査光学系６０の有効走査幅とを足し合わせた大きさよりも若干小さい描画パターンを描く場合、制御回路１００は、図５の（ａ）及び（ｂ）に示すように、有効走査範囲Ｌ２が有効走査範囲Ｌ１に対して所定の幅ｄ’だけ重複する位置へ、第２走査光学系６０をＹ方向に移動させる。そして、Ｙ方向において等幅となるように分割した描画パターンを第１及び第２走査光学系５０，６０に夫々描画させることにより、１つの走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを切れ目無く描画面に描画することができる。
【００３６】
ここで、当該描画パターンを、有効走査範囲Ｌ１，Ｌ２同士が接した状態（図３に示す状態）にある各走査光学系５０，６０に描画させたとしても、切れ目のない描画パターンを描画することができる。しかし、この場合、少なくとも１つの走査光学系によって描画される描画パターンは、その有効走査範囲における隣接する走査光学系がある側に偏った位置に描画されるので、その描画パターンが描画される際には、走査光学系における光軸から離れる描画性能の低い部分が利用される。
【００３７】
第４の場合では、両方の走査光学系５０，６０における光軸に近い描画性能の高い部分ができるだけ利用されて各描画パターンが夫々描画されるように、当該描画パターンを均等な幅にて２分割し、有効走査範囲Ｌ１，Ｌ２の中心部分において各描画パターンを夫々描画させている。そのため、描画パターンの大きさに応じて適宜決定される幅にて有効走査範囲Ｌ１，Ｌ２を重複させ、分割した描画パターンを切れ目の無い描画パターンとして描画している。
【００３８】
以上に示したように、第１実施形態のレーザ描画装置１によると、第１走査光学系５０に対し、第２走査光学系６０を描画パターンの大きさに応じてＹ方向に移動させることができるので、１つの走査光学系５０の有効走査範囲よりも大きな描画パターンであっても、２つの走査光学系５０，６０の有効走査幅を足し合わせた大きさ以下の大きさである限り、１つの描画パターンとして切れ目無く描画することができる。
【００３９】
また、本例のレーザ描画装置１は、いわゆる２面付けの場合には、第２走査光学系６０を、その有効走査範囲Ｌ２が第１走査光学系５０の有効走査範囲Ｌ１から所定の間隔ｄだけ離れる位置へ、移動させることができる。このため、切り代を設けつつ各走査光学系５０，６０の有効走査範囲Ｌ１，Ｌ２の全域が利用できるので、有効走査範囲同士が接した状態で各走査光学系が固定されている従来のレーザ描画装置と比較すると、２面付けの場合における各描画パターンの描画面積をより多く稼ぐことができる。
【００４０】
【実施形態２】
第２実施形態のレーザ描画装置２は、第１実施形態のレーザ描画装置１における第１走査光学系５０を設けずに、第１実施形態の第１走査光学系５０によって描画される描画パターンと第２走査光学系６０によって描画される描画パターンとを、Ｙ方向（主走査方向）に移動可能に設けられた走査光学系７０によって２回に分けて描画することにより、目的とする描画パターンを描画面に形成することを特徴とする。
【００４１】
図６は、本発明の第２実施形態によるレーザ描画装置２の全体構成を示す斜視図である。また、図７は、本例のレーザ描画装置２の制御部を示すブロック図である。
【００４２】
第２実施形態のレーザ描画装置２は、図６に示すように、基盤１０と、この基盤１０上に図中のＸ方向に沿って移動可能に設けられた描画テーブル２０と、基盤１０上に固定された光学台３０と、光学台３０に固定されたレーザ光源４０と、光学台３０上で上記のＸ方向と水平面内で直交するＹ方向に移動可能に設けられた走査光学系７０とを、備えている。
【００４３】
被描画体２１が載置される描画テーブル２０は、基盤１０上に設けられたレール１１によってガイドされ、図示せぬテーブル駆動手段によりＸ方向に往復運動する。
【００４４】
レーザ光源４０から発された描画用のレーザ光は、ミラー４１において反射され、Ｙ方向に沿って進行するレーザ光として光学台３０上に配置される走査光学系７０へ入射する。
【００４５】
走査光学系７０に入射したレーザ光は、ＡＯＭ７１により描画データに従ってオンオフ変調された後、第１及び第２ミラー７２，７３により順に反射されてポリゴンミラー７４に入射される。ポリゴンミラー７４の回転に伴って偏向走査されたレーザ光は、ｆθレンズ７５を介して折返しミラー７６に入射し、描画テーブル２０側に反射される。折返しミラー７６で反射されたレーザ光は、コンデンサレンズ７７を介して被描画体２１の描画面上にスポットを形成する。このスポットは、ポリゴンミラー７４の回転に伴ってＹ方向に走査され、被描画体２１の描画面上においてＸ方向に直交するＹ方向に沿った走査線Ｓ”を形成する。
【００４６】
上記の走査光学系７０は、光学台３０のレール３６に沿って移動可能な光学ステージ３７上に設置され、この光学ステージ３７の移動により、走査光学系７０全体が一体となった状態で、Ｙ方向に移動する。このとき、ミラー４１を反射したレーザ光は、Ｙ方向に沿って進行するために、光学ステージ３７がＹ方向へ移動されることに伴ってＡＯＭ７１がＹ方向へ平行移動されても、常にＡＯＭ７１へ入射する。
【００４７】
レーザ描画装置２の制御部は、図７に示すように、テーブル駆動モータ１０１，ステージ駆動モータ１０２，レーザ光源４０，ポリゴンモータ１０５，及び、ＡＯＭ７１に接続された制御回路１１０を備えている。
【００４８】
制御回路１１０は、入力される描画データや各種のコマンドに応じて、接続される描画面における走査光学系７０の描画位置を決定し、ステージ駆動モータ１０２を駆動させ（ステージ駆動手段に相当）、走査光学系７０を所定の位置へ移動させる。
【００４９】
そして、制御回路１１０からの命令に従って、レーザ光源４０は、描画用のレーザ光を発し、ポリゴンモータ１０５は、走査光学系７０のポリゴンミラー７４を回転させ、テーブル駆動モータ１０１は、描画テーブル２０をレール１１に沿ってＸ方向へ移動させる（テーブル駆動手段に相当）。このとき、ＡＯＭ７１は、制御回路１１０の命令に従って、自己を透過するレーザ光に対し、描画データに応じたオンオフ変調を行い、描画面には、描画データに基づくパターンが描画される。
【００５０】
本例のレーザ描画装置２は、走査光学系７０の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを走査する場合、又は、いわゆる２面付けにより２つの描画パターンを被描画体２１に描画する場合、描画パターンを１回の描画で描画可能な大きさに分割し、走査光学系７０を一方の分割描画パターンの中心位置へ移動した後に１回目の描画を行わせ、続いて他方の分割描画パターンの中心位置へ移動した後に２回目の描画を行わせ、これにより、全ての描画パターンを描画面に描画する。
【００５１】
このため、制御回路１１０は、走査光学系７０の１回目の描画位置と，走査光学系７０の１回目の描画の後で２回目の描画に移る時に走査光学系７０をＹ方向へ移動させる距離と、１回目及び２回目の描画において走査光学系７０に描画させる描画パターンとを、入力された描画データや各種コマンドによって決定している。
【００５２】
具体的には、入力された描画データに基づく描画パターンが走査光学系７０の有効走査範囲よりも大きな描画パターンである場合、制御回路１１０は、その描画パターンをＹ方向において等幅となるように分割し、走査光学系７０に対し、この分割された個々の描画パターンを有効走査範囲の中心部分において夫々描画させる。この際、１回目に描画された描画パターンと２回目に描画される描画パターンが１つの大きな描画パターンとして切れ目無く描画面に描画されるように、制御回路１１０は、１回目の描画と２回目の描画における走査光学系７０のＹ方向への移動量を調整している。
【００５３】
また、いわゆる２面付けにより２つの描画パターンを１つの被描画体２１に描画する場合、制御回路１１０は、走査光学系７０に対し、先ず１つの描画パターンを描画面に描画させた後に、この走査光学系７０を移動し、その描画パターンの隣にもう１つの描画パターンを描画させる。このとき、制御回路１１０は、１回目の描画により描画される描画パターンと２回目の描画により描画される描画パターンとの間に切り代として所定の間隔が形成されるように、１回目の描画と２回目の描画における走査光学系７０のＹ方向への移動量を調整している。
【００５４】
なお、走査光学系７０の有効走査範囲よりも小さな描画パターンである場合には、制御回路１１０は、その描画パターンを１回の描画で描画面に描画する。このとき、走査光学系７０を適宜移動させることにより、所望の描画位置に当該描画パターンを描画することができる。
【００５５】
以上に示したように、第２実施形態のレーザ描画装置２によっても、走査光学系７０の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを、１つの描画パターンとして切れ目無く描画することができ、また、いわゆる２面付けの場合であっても、切り代を設けつつ走査光学系７０の有効走査範囲の全域を無駄なく利用することができる。
【００５６】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明のレーザ描画装置によると、複数の走査光学系が主走査方向に並べて配置されている場合に、一走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを描画するときには、幾つかに分割した描画パターンを各走査光学系に夫々描画させて切れ目の無い描画パターンを描画面に描画させることができるとともに、一走査光学系の有効走査範囲以下の大きさの複数の描画パターンを同時に描画するいわゆる多面付けのときには、描画される各描画パターンの間に切り代を設けつつも各走査光学系の有効走査範囲の全域を利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１実施形態によるレーザ描画装置の全体構成を示す斜視図
【図２】  本例のレーザ描画装置の制御部を示すブロック図
【図３】  本例のレーザ描画装置の各走査光学系による描画位置を示す説明図
【図４】  本例のレーザ描画装置の各走査光学系による描画位置を示す説明図
【図５】  本例のレーザ描画装置の各走査光学系による描画位置を示す説明図
【図６】  本発明の第２実施形態によるレーザ描画装置の全体構成を示す斜視図
【図７】  本例のレーザ描画装置の制御部を示すブロック図
【符号の説明】
１          レーザ描画装置
２０          描画テーブル
２１          被描画体
３２          光学ステージ
４０          レーザ光源
５０，６０    走査光学系
５１，６１    音響光学変調素子
５５，６３    ポリゴンミラー
５６，６４    ｆθレンズ
５８，６６    コンデンサレンズ
１００          制御回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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