(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸発された化合物を化学気相成長工程に供給するためのバブラーであって、当該バブラーが、（ａ）入口および出口を持つバブラーチャンバーアッセンブリ、（ｂ）当該入口に接続された、不活性キャリアーガスを当該化合物に供給するための手段、（ｃ）当該蒸発された化合物およびキャリアーガスを当該チャンバーアッセンブリから排出し、そして当該出口に接続された、当該化学気相成長工程に当該化合物を運ぶための手段、および（ｄ）当該化合物の当該キャリアーガス中への蒸発を引き起こす、当該バブラーチャンバーアッセンブリが入れられる温度調節手段、を含み、
当該バブラーチャンバーアッセンブリが、直列に接続された２以上のチャンバーを含み、該蒸発された化合物およびキャリアーガスの流れは当該直列の隣接するチャンバーの間で上向き流および下向き流の交互であり、全てのチャンバーは実質的に垂直の向きにあり、ここで、２以上のチャンバーが、当該化合物の固形の源を内蔵し、
当該２以上のチャンバーを通る当該キャリアーガスの流れの方向に関する、当該直列に接続された２以上のチャンバーの長さの合計長さと、当該２以上のチャンバーを通る当該キャリアーガスの流れの方向に関する当該２以上のチャンバーの断面の平均等価直径との比が、６：１以上である、上記バブラー。
【請求項２】
当該チャンバーの全長が、当該化合物のほとんどが枯渇されるまで当該キャリアーガスが当該バブラーチャンバーアッセンブリの当該出口において当該化合物で飽和またはほとんど飽和されるのに十分である、請求項１に記載されたバブラー。
【請求項３】
当該バブラーチャンバーアッセンブリ内のチャンバーが、水平線から少なくとも４５°に置かれている、請求項１または２に記載されたバブラー。
【請求項４】
当該バブラーアッセンブリを構成する２以上のチャンバーが、１．３ｃｍ〜７．６ｃｍの平均内径を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項５】
当該バブラーアッセンブリを構成する２以上のチャンバーが、その長さ全体にわたって同一または異なる平均内径を持つ、請求項１〜４のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項６】
当該バブラーアッセンブリが、隣接する一連の当該チャンバーと各端で接続された管を含んでいる隣接する一連のチャンバー間の連結具とともに直列になった２以上の当該チャンバーを含み、隣接する一連の当該チャンバーと当該連結具のチャンバーとの間の接続が、留め継ぎされた取付具である、請求項１〜５のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項７】
当該バブラーアッセンブリが、隣接する一連の当該チャンバーと各端で接続された管を含んでいる隣接する一連のチャンバー間の連結具とともに直列になった２以上の当該チャンバーを含み、隣接する一連の当該チャンバーと当該連結具のチャンバーとの間の接続が、円形の取付具である、請求項１〜５のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項８】
当該バブラーチャンバーアッセンブリが、直列に接続された２以上のチャンバーを含み、当該チャンバーのうち少なくとも１が同心のチャンバーの環状空間を含んでいる、請求項１〜７のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項９】
当該化合物が有機金属化合物を含んでいる、請求項１〜８のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項１０】
当該有機金属化合物が、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡＬ）、トリメチルガリウム（ＴＭＧ）、トリエチルガリウム（ＴＥＧ）、トリメチルアンチモン（ＴＭＳｂ）、ジメチルヒドラジン（ＤＭＨｙ）、トリメチルインジウム（ＴＭＩ）、およびシクロペンタジエニルマグネシウム（Ｃｐ２Ｍｇ）からなる群から選ばれる、請求項９に記載されたバブラー。
【請求項１１】
当該有機金属化合物が、トリメチルインジウムおよび／またはシクロペンタジエニルマグネシウムを含んでいる、請求項１０に記載されたバブラー。
【請求項１２】
当該固形化合物が、四臭化炭素および／または四塩化ハフニウムを含んでいる、請求項１に記載されたバブラー。
【請求項１３】
当該キャリアーガスが、水素、窒素および不活性ガスからなる群から選ばれる、請求項１〜１２のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項１４】
当該キャリアーガスが水素を含んでいる、請求項１３に記載されたバブラー。
【請求項１５】
当該２以上のチャンバーの内壁が、波形にされまたはバッフルを有し、該波形またはバッフルが当該キャリアーガスの流れの方向に対して実質的に直角に配列されている、請求項１〜１４のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項１６】
当該化合物が、充填物と混合された固体の粒子を含んでいる、請求項１〜１５のいずれか１項に記載されたバブラー。
【請求項１７】
当該充填物が、当該化合物およびキャリアーガスに不活性な、実質的に球形の粒子または他の形状物を含んでいる、請求項１６に記載されたバブラー。
【請求項１８】
当該球形の粒子または他の形状物が、鋼鉄、ガラスの球、または他の形状物を含んでいる、請求項１７に記載されたバブラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体の製造のための有機金属蒸気を供給することに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＯＣＶＤ成長法（有機金属化学気相成長法）用として、有機金属化合物は、化合物半導体産業のための原料物質である。化学気相成長法用前駆体として典型的に使用されている有機金属化合物は、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡｌ）、トリメチルガリウム（ＴＭＧ）、トリエチルガリウム（ＴＥＧ）、トリメチルアンチモン（ＴＭＳｂ）、ジメチルヒドラジン（ＤＭＨｙ）、トリメチルインジウム（ＴＭＩ）、およびシクロペンタジエニルマグネシウム（Ｃｐ２Ｍｇ）を包含する。
【０００３】
典型的には、気相成長用の揮発性有機金属化合物は、バブラー（ｂｕｂｂｌｅｒ）内に供給され、そして一定温度に付され、そこにキャリアーガス、たとえば水素または窒素が導入されて、該化合物を輸送し、そしてそれを気相成長チャンバーに供給する。
【０００４】
良好な有機金属前駆体供給技術は、ガス流に、内蔵された有機金属の既知の、一定の、調節可能な量を与える。液状の有機金属化合物については、キャリアーガスの最も妥当な流量において、物質輸送および蒸発速度が、ほぼ飽和濃度を与えるのに十分なほど速いので、これは一般に簡単な作業である。前述の前駆体で飽和されたキャリアーガスの供給に利用される、前駆体用の任意の容器を言うために、「バブラー」の語はＣＶＤ業界で一般的に使用される。
【０００５】
固形の有機金属、特にＴＭＩの場合には、一定の供給を達成することは、今も継続している課題であることが判っている。この場合には、蒸発速度はより遅く、かつ複数の問題、たとえば物体の形態（モルホロジー）、温度、ガス接触時間、および表面積に左右される。微細分割された、不規則な形状の、高い表面積を持つ物質は、一定形状の、高密度な、より大塊状の物質よりも速く蒸発するだろう。物質輸送もまた、より多くの問題を抱えている。より遅い蒸発プロセスについては、十分な接触時間を許すことが重要であり、かつ前駆体の適当な量をＣＶＤチャンバーに供給するために十分な速度で、全ての曝露された表面積を横切って、キャリアーガスが移動するのを保つことが重要である。たとえば、チャネリングは、流れているガスに曝露される接触時間と面積の両方を低減するだろう。他の因子、たとえばキャリアーガスが前駆体床を通って流れるときの圧力変化は、一定しない供給速度およびキャリアーガス飽和度の変化を引き起こすことが知られている。
【０００６】
化合物半導体デバイスの製造に、固形の有機金属前駆体からのほぼ飽和濃度にある蒸気の、一定かつ安定な供給を提供することも非常に望ましい。固形の有機金属前駆体についての不安定な蒸気供給速度は、数多くの因子によって影響される。すなわち、
・  固形前駆体が消耗される故に、該固体の全表面積の減少が、連続的に進行する。小さい、高い表面積の粒子が優先的に蒸発され、前駆体床の寿命の早期に、表面積の急速な減少を引き起こす。
・  固形前駆体床の浸食に起因して生じるかも知れないチャネリング。
・  運転中の該床内部の圧力変化。
・  固形物質の蒸発および昇華、並びに固形前駆体表面に再成長が起きる同時平衡とともに生じる凝塊形成プロセスに起因する粒状物の成長の影響。ガスの飽和においては、蒸発および再成長が同一速度で起きるが、床の形態（モルホロジー）は変化して、より低い表面積を優先して生じる。
・  固形前駆体が消費されるに従って、ガス流路はより短くなり、利用できる表面積が減少する。したがって、有機金属前駆体の蒸気によるキャリアーガスの飽和は、ますます起きにくくなる。
【０００７】
理想的なバブラーの設計は、上述の問題点を克服しなければならず、かつ以下の目標を達成する必要がある。
・  バブラー中の固形有機金属の実質的に完全な消耗が起きるまで、安定した、一定の蒸気供給速度を提供する。
・  最も一般的かつ妥当な運転パラメータ、たとえば温度、圧力、キャリアーガスのタイプ（Ｎ２、Ｈ２等）および該キャリアーガスの流量において、飽和またはほぼ飽和濃度を提供する。
・  運転パラメータが変更された時に、速い応答、および安定した一定の蒸気供給速度の速い再確立を提供する。
【０００８】
固形有機金属からの蒸気の供給への、従来からの一般的な取組み手法が存在する。すなわち、
１）溶液状ＴＭＩ：「溶液状ＴＭＩ」を使用するときに当業界で承知されている欠点は、該溶媒のエーロゾルの同伴およびＴＭＩ／ＴＥＩを使用したときの全インジウムの安定しない、変化する供給速度を包含する。
ａ）米国特許第５，２３２，８６９号（１９９３年）：Ｅｐｉｃｈｅｍ社によって実施されている。この場合には、懸濁液体が速度および物質輸送を克服するために使用される。固形前駆体が蒸発によって消耗されるに従って、それが溶媒中に溶解して、平衡状態および変化しない供給速度を維持する。
ｂ）米国特許第５，５０２，２２７号（１９９６年）：Ｒ３Ｉｎ、たとえばトリエチルインジウム（ＴＥＩ）中に溶解されたＴＭＩ。
２）他の一般的な取組み手法は、バブラー内の流れおよび固体−気体接触の均一性を改良するバブラーの設計である。従来から採用されていた戦略は、以下を包含する。
ａ）米国特許第４，９１６，８２８号（１９９０年）：「充填物」を混合された、または分散されたＴＭＩの使用。
ｂ）米国特許第４，７３４，９９９号（１９８７年）：管端にフリット分散器が取り付けられた浸漬管が組み込まれ、頂部に対して底部でのバブラー直径が低減されているバブラーの使用。
ｃ）米国特許第５，０１９，４２３号（１９９１年）：多数の孔を有する仕切板の上にある固形有機金属の充填床を通って上向きに流れるキャリアーガスを、この設計は使用する。
ｄ）米国特許第４，９４７，７９０号（１９９０年）：以下の順に、すなわち、厚いガス入口板、粉状固体床、および薄いガス出口板を通って重力の方向に、キャリアーガスが流れる。
ｅ）国際特許出願公開第９９／２８５３２号（１９９９年）：超音波蒸発器が使用される。
ｆ）米国特許第５，６０３，１６９号（１９９７年）：排出管、圧縮板および一対の多孔性薄板を有するバブラーの使用が記載されている。
ｇ）米国特許出願公開第２００２／００７８８９４号（２００２年）：このバブラーは、慣用の浸漬管ではなく、金属焼結フィルターを有する。
ｈ）米国特許第５，５５３，３９５号（１９９６年）：円錐の形をした（円錐状の）バブラーの使用が、この特許には記載されている。
ｉ）特開２００３−３０３７７２号：このバブラーは、固形有機金属化合物を充填する容器であって、該容器を縦方向に分割する仕切板を貫いて交差された流れ方向切替管を持つものである。
【特許文献１】米国特許第５，２３２，８６９号公報
【特許文献２】米国特許第５，５０２，２２７号公報
【特許文献３】米国特許第４，９１６，８２８号公報
【特許文献４】米国特許第４，７３４，９９９号公報
【特許文献５】米国特許第５，０１９，４２３号公報
【特許文献６】米国特許第４，９４７，７９０号公報
【特許文献７】国際特許出願公開第９９／２８５３２号公報
【特許文献８】米国特許第５，６０３，１６９号公報
【特許文献９】米国特許出願公開第２００２／００７８８９４号公報
【特許文献１０】米国特許第５，５５３，３９５号公報
【特許文献１１】特開２００３−３０３７７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
残念なことに、前記のバブラー設計のいずれも、固形有機金属供給の問題点の全てを解決したわけではなかった。広い運転範囲にわたって、蒸気源の実質的に完全な消耗まで、前駆体物質を最大に収集しながら均一な供給速度を与える能力が、前述のバブラー設計のいずれにもない。その範囲で各バブラーが最も効率的に運転されるところの、パラメータの限定された範囲を、各バブラーの設計は持つ。固形の基体が消耗されるに従って、飽和されていないキャリアーガスの発生が、時期尚早にまたは徐々に起きる。時期尚早な発生は、早期の取外しおよび新バブラーへの取替の故に、不十分な供給効率および高価な有機金属製品の浪費をもたらす。キャリアーガス飽和度パーセントのゆっくりとした低下は、成長工程の間に検知されないと、基準に達しない成長層の製造をもたらすことがある。
【００１０】
本発明は、前述の問題点を解決する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第一の実施態様では、（ａ）入口および出口を持つバブラーチャンバーアッセンブリ、（ｂ）該入口に接続された、不活性キャリアーガスを供給するための手段、（ｃ）蒸発された化合物およびキャリアーガスをチャンバーアッセンブリから排出し、そして該出口に接続された、化学気相成長工程に該化合物を運ぶための手段、および（ｄ）該化合物のキャリアーガス中への蒸発を引き起こす、バブラーチャンバーアッセンブリが入れられる温度調節手段を含んでいる、蒸発された化合物を化学気相成長工程に供給するためのバブラーを、本発明は含む。
【００１２】
バブラーチャンバーアッセンブリは、１のチャンバーまたは直列に接続された２以上のチャンバーを含み、全てのチャンバーは、実質的に垂直の向きにある。該１または２以上のチャンバーは、該化合物の固形または液状の源を内蔵する。該１または２以上のチャンバーを通るキャリアーガスの流れの方向に関する、該１のチャンバーの長さまたは直列に接続された２以上のチャンバーの合計長さと、該１または２以上のチャンバーを通るキャリアーガスの流れの方向に関する、該１または２以上のチャンバーの断面の平均等価直径との比は、約６：１以上である。
【００１３】
本発明の他の実施態様は、チャンバーの長さ、直径および向き、該化合物およびキャリアーガスの組成を含む詳細を包含し、それらの全ては、以降に詳細に記載される。
【００１４】
トリメチルインジウム（ＴＭＩ）を充填された、上に要約されたバブラーを通してキャリアーガスを流すことは、該カラム内に充填されたＴＭＩの殆んどが消耗されるまで、ＴＭＩ蒸気で飽和された安定なガス流を与えることが発見された（図１Ａ参照）。この観察に基づいて、本発明は、固形源（ＭＯＣＶＤ）系のための改良された供給装置を提供する。
【００１５】
キャリアーガス中の前駆体蒸気の飽和またはほぼ飽和濃度を与える、細い、長い独特のシリンダーの設計を、該バブラーの設計概念は包含する。固形物質を通るガスのチャネリングを最小化することによって、およびチャンバー壁を通した該化合物中への最大熱移動に資することによって、この細い、長いシリンダーの設計は、該化合物とのキャリアーガスの最大接触を許すので、前記の熱および物質輸送の問題点を克服する。したがって、慣用のバブラーと比較して、より低い圧力およびより高いキャリアーガス流量で、該バブラーは使用されることができる。
【００１６】
化合物の蒸気圧は温度と直接に関係している。一定の蒸気圧を保つために、使用中のバブラーは、恒温浴に浸漬されるか、あるいはその目的に合わせて作られた外部熱交換器で覆われる。殆どのＭＯＣＶＤ機は、第一の選択肢の方を備えている。このようなバブラーの立体配置は、恒温浴の寸法に制限される。したがって、単一の長い直管を使用する代わりに、単一または複数の管ベンドを用いて、または直列に一本に接続された管の束を用いて、または同心の管を用いて、バブラーは製作されなければならないことがある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
固形源物質の大部分が消耗されるまで、該原料物質の連続した、安定な供給速度を、本発明のバブラー設計は与える。このようなバブラーは、以下に記載される特徴の一部または全部を含むことができる。
・  構成材料：バブラー中に内蔵される固形原料に対して不活性である任意の適当な材料、たとえばガラス、プラスチック、または金属。鋼鉄はＭＯＣＶＤ業界における標準仕様なので、好まれる。
・  バブラーは、キャリアーガスを導入するための入口部、固形原料と接触した後の、蒸気で飽和されたキャリアーガスを排出するための排出口部、および該化合物原料を充填するための１以上の充填部を持つ。
・  バブラーの入口部および出口部は、フリット付きで、あるいはフリットなしで設けられることができる。
・  バブラーは、単一のチャンバーあるいは複数のチャンバーを含むことができる。
・  ２以上のチャンバーの内径は、その長さ全体にわたって同一または異なることができる。
・  ２以上のチャンバーの直径または平均等価直径は、約１．３ｃｍ〜約７．６ｃｍの範囲にある。
・  ２以上のチャンバーは、その断面が円形状に限定されない。それらは、円形、楕円形、四角形、長方形、らせん形、または当業者に知られた任意の他の形状であることができる。
・  ２以上のチャンバーは、有効流路長を増加するための内部バッフルまたは内部波形を設けられてもよい。
・  ２以上のチャンバーは、直列に接続され、実質的に直立の位置にあるが、好ましくは水平線から少なくとも約４５°に置かれる。しかし、これらは水平線から少なくとも約４５°の角度でジグザクの様式で接続されることもできる。
・  ２以上のチャンバーは、該チャンバーと同一またはそれより小さい断面直径を持つ連結具を使用して通じ合うことができる。
・  隣接する一連のチャンバーと各端で接続された、約１．３ｃｍ〜約７．６ｃｍの平均直径を持つ、実質的に水平の向きの管を含んでいる、隣接する一連のチャンバー間の連結具とともに直列になった２以上のチャンバーを、バブラーアッセンブリは含むことができ、隣接する一連のチャンバーと該連結具の管との間の接続が、留め継ぎされた、または円形の取付具（rounded fittings）であることができる。
・  当該キャリアーガスが、１の管から次の管へ連続的な様式で通過して、バブラーアッセンブリ内に有機金属化合物が存在する間にできるだけ長い間、バブラー管アッセンブリ出口でのキャリアーガスの飽和状態を維持するように、２以上のチャンバーは接続されることができる。たとえば、実施例１に示されたように、１７℃の調節された温度を持つトリメチルインジウムを充填された本発明のバブラーは、バブラー内にトリメチルインジウムが存在する時間の９５％超の間、飽和キャリアーガスの供給を達成する。
・  バブラーは、各チャンバーの底部にガス分散装置を設けられていても、いなくてもよい。該ガス分散装置は、多孔性の要素、たとえば調節された多孔度を持つフリット（図６参照）、またはガス分散管（図７参照）であることができる。
・  １のチャンバーまたは接続された２以上のチャンバーの全長は、キャリアーガスがバブラーチャンバーアッセンブリの出口において該化合物で９０％超に飽和されるのに十分でなければならない。
・  ２以上のチャンバーのうち少なくとも１が同心のチャンバーの環状空間を含んでいる、直列に接続された該２以上のチャンバーを、バブラーチャンバーアッセンブリは含んでもよい。
・  恒温流体の循環のための入口部および出口部を備えた外側容器内に、バブラーは収められることができる。
・  バブラーの個々のチャンバーは、熱交換器で覆われることができる。
・  液状または固形の、有機金属性または非有機金属性の任意の化合物が実際的な条件下に蒸発する能力がある限り、該化合物とともに、バブラーは使用されることができる。可能な化合物は、前述の有機金属化合物並びに非有機金属性化合物、たとえばトリメチルアルミニウム（ＴＭＡＬ）、トリメチルガリウム（ＴＭＧ）、トリエチルガリウム（ＴＥＧ）、トリメチルアンチモン（ＴＭＳｂ）、ジメチルヒドラジン（ＤＭＨｙ）、トリメチルインジウム（ＴＭＩ）、およびシクロペンタジエニルマグネシウム（Ｃｐ２Ｍｇ）、四臭化炭素（ＣＢｒ４）、四塩化ハフニウム（ＨｆＣｌ４）の1以上を包含する。
・  該化合物が液体であるときは、キャリアーガスの流れは、１または２以上のチャンバーを通る上向き流のみであるだろう。
・  該化合物が固体であるときは、任意のサイズおよび形状の粒子が、バブラーの１または２以上のチャンバー内へと、その目的のために設けられた開口部を通して好都合に充填され詰められる限り、該化合物は該粒子を包含することができる。
・  水素、窒素および非活性ガス（例は、アルゴン、ヘリウムである。）からなるガスの群から、キャリアーガスは選ばれることができる。水素が、好まれるキャリアーガスである。
・  １または２以上のチャンバーの内壁は、波形にされてもまたはバッフルを有してもよく、該波形またはバッフルはキャリアーガスの流れの方向に対して実質的に直角に配列されている。
・  蒸発されるべき化合物は、充填物と混合された固体の粒子を含んでもよい。該化合物およびキャリアーガスに不活性な、実質的に球形の粒子または他の形状物を、充填物は含むことができる。鋼鉄および／若しくはガラスの球または他の形状物を、充填物は含んでもよい。
【００１８】
以下の実施例は、本発明を例証するために示される。
【実施例１】
【００１９】
トリメチルインジウム（３２０ｇ）が、図２のバブラー中に仕込まれ、水素がキャリアーガスとして使用された。この実験の条件は、３００ｓｃｃｍ（標準ｃｍ３／分）の水素流量、２２５Ｔｏｒｒの制御された下流圧力、および１７℃の一定温度であった。水素中のＴＭＩ濃度を監視するために、Ｅｐｉｓｏｎガス濃度計が使用された。図９のＥｐｉｓｏｎプロファイルに示されたように、ＴＭＩ仕込物の少なくとも９５％の消耗まで、ＴＭＩ供給速度は一定であった。
【００２０】
実験の詳細
図２のバブラー
充填重量：３２０ｇのＴＭＩｎ
長さと等価直径との比：２０
チャンバーの全個数：３
試験条件：
Ｐ＝２２５Ｔｏｒｒ（３００ミリバール）
Ｔ＝１７℃
Ｈ２流量：３００ｓｃｃｍ
【実施例２】
【００２１】
トリメチルインジウム（３２０ｇ）が、図２のバブラー中に仕込まれ、水素がキャリアーガスとして使用された。この一連の実験の条件は、６００、７００および１００ｓｃｃｍの水素流量、１８０Ｔｏｒｒの制御された下流圧力、および１７℃の一定温度であった。水素中のＴＭＩ濃度を監視するために、Ｅｐｉｓｏｎガス濃度計が使用された。図１０のＥｐｉｓｏｎプロファイルに示されたように、ＴＭＩ仕込物の少なくとも９２％の消耗まで、ＴＭＩ供給速度は一定であった。
【００２２】
実験の詳細
図２のバブラー
充填重量：３２０ｇのＴＭＩｎ
長さと等価直径との比：２０
チャンバーの全個数：３
試験条件：
Ｐ＝１８０Ｔｏｒｒ（２４０ミリバール）
Ｔ＝１７℃
Ｈ２流量：６００、７５０および１０００ｓｃｃｍ
【実施例３】
【００２３】
トリメチルインジウム（１００ｇ）が、単一チャンバーのバブラー中に仕込まれ、窒素がキャリアーガスとして使用された。この実験の条件は、２５０ＳＣＣＭの窒素流量、３６０Ｔｏｒｒの制御された下流圧力、および２５℃の一定温度であった。窒素中のＴＭＩ濃度を監視するために、Ｅｐｉｓｏｎガス濃度計が使用された。図１１のＥｐｉｓｏｎプロファイルに示されたように、ＴＭＩ仕込物の約３０％の消耗の時点で、ＴＭＩ供給速度は有意に低下した。
【００２４】
実験の詳細
図１１のバブラー（慣用のシリンダー）
充填重量：１００ｇのＴＭＩｎ
長さと等価直径との比：２．１２５
チャンバーの全個数：１
試験条件：
Ｐ＝３６０Ｔｏｒｒ（４８０ミリバール）
Ｔ＝２５℃
Ｎ２流量：２５０ｓｃｃｍ
【００２５】
１または２以上のチャンバーを通るキャリアーガスの流れの方向に関して直列に接続された、１のチャンバーの長さまたは２以上のチャンバーの合計長さと、１または２以上のチャンバーの断面の平均等価直径との、約６：１以上の比を持つバブラーは、該比が約６：１未満であるときには可能ではない程度にまで一定である、蒸発された化合物の供給速度を達成することを、上の実施例は非常な説得力を持って例証する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１Ａ】試験に付される固形物質を充填された、長い、細いカラムを通って流れるキャリアーガスの基本概念図。
【図１Ｂ】直列の２チャンバーについてのガスの流れ図。
【図１Ｃ】直列の４チャンバーについてのガスの流れ図。
【図２】様々の直径サイズおよび形状の３チャンバー、すなわち、より小さい直径の入口チャンバーおよび出口チャンバーの２チャンバー並びにＵ管状のより大きい１チャンバーを持つバブラーの設計図。全チャンバーが径違い管を介して直列に接続されている。
【図３】３の１８０°返しベンド半円形エルボーを持つバブラーの図。
【図４】３の９０°留め継ぎエルボーを持つ多チャンバーバブラーの図。
【図５】同一直径管の３チャンバー、すなわち、直管の入口チャンバーおよび出口チャンバーの２チャンバー並びにＵ管状の１チャンバーを持つバブラーの図。全チャンバーは、径違い管を介して直列に接続されている。
【図６】各チャンバーの底部にフリットを持つ、４チャンバーバブラーの図。
【図７】各チャンバーの底部にガス分散管を持つ、４チャンバーバブラーの図。
【図８】らせん状シリンダーであって、その中をガスが、らせんの一方側を通って下向きに流れ、バブラーの底部で該らせんの他方側に接続し、そして出口に向かって上向きに移動する、らせん状シリンダーの図。らせんの有効長さは、らせん状チャンバーのうちの１の平均断面の６倍以上である。
【図９】実施例１に関する、ＴＭＩｎ濃度対ＴＭＩｎ消費量のＥｐｉｓｏｎプロファイル図。
【図１０】実施例２に関する、ＴＭＩｎ濃度対ＴＭＩｎ消費量のＥｐｉｓｏｎプロファイル図。
【図１１】実施例３に関する、ＴＭＩｎ濃度対ＴＭＩｎ消費量のＥｐｉｓｏｎプロファイル図。
【図１Ａ】
0005383038.tif 000002
【図１Ｂ】
0005383038.tif 000003
【図１Ｃ】
0005383038.tif 000004
【図２】
0005383038.tif 000005
【図３】
0005383038.tif 000006
【図４】
0005383038.tif 000007
【図５】
0005383038.tif 000008
【図６】
0005383038.tif 000009
【図７】
0005383038.tif 000010
【図８】
0005383038.tif 000011
【図９】
0005383038.tif 000012
【図１０】
0005383038.tif 000013
【図１１】
0005383038.tif 000014