(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に垂直磁化膜が形成された垂直磁気記録媒体において、
該垂直磁化膜は、Ｃｏ基合金を含有し多結晶構造を有する第１の垂直磁化膜と、遷移金属及び希土類金属を含有し非晶質構造を有する第２の垂直磁化膜とが積層された膜であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
基板上に垂直磁化膜が形成された垂直磁気記録媒体において、
該垂直磁化膜は、Ｃｏ基合金を含有し多結晶構造を有する第１の垂直磁化膜と、Ｃｏ又はＣｏ合金を含む膜とＰｔ、Ｐｔ合金、Ｐｄ又はＰｄ合金を含む膜とが交互に積層された多層垂直磁化膜とが積層された膜であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
上記垂直磁化膜と基板との間に軟磁性膜が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項４】
上記第１の垂直磁化膜と基板との間に軟磁性膜が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項５】
上記多結晶構造を有する第１の垂直磁化膜は、Ｃｒ、Ｔａ、Ｐｔ、Ｂ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｖ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｐ、Ｏ及びＮからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を含む六方最密構造を有するＣｏ基合金を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項６】
垂直磁気記録媒体並びに記録用の薄膜磁気ヘッド素子及び磁気抵抗効果素子を応用した再生用のヘッド素子を組み合わせた記録再生分離型ヘッドを具備し、上記磁気記録媒体は、請求項１又は２に記載の垂直磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気記録媒体およびこれを用いた磁気記憶装置に関し、特に磁気記録媒体から発生するノイズを著しく低減できるとともに、大きな再生出力を得ることができる、改良された垂直磁気記録媒体およびこれを用いた磁気記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
垂直磁気記録は、磁気記録媒体の膜面に対して垂直方向に情報の記録を行うものであって、高密度記録の際の各ビット間の反磁界が小さいので、記録密度を上げるのに適した方式である。
垂直磁気記録に使用できる磁気記録媒体としては、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｒｅ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ−ＰｔおよびＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂなど、Ｃｏ基合金膜が用いられた。これらのＣｏ基合金膜は六方最密（ｈｃｐ）構造を持ち、薄膜を構成する結晶粒のｃ軸が垂直に配向しやすい性質を持っている。
また、IEEE Trans. Magnetics, MAG-15,1456(1979)において論じられているように、磁気記録の感度を高くするためには、上記Ｃｏ基合金膜の下に、パ−マロイなどの高透磁率を持った軟磁性材料からなる薄膜を設けることが有効とされている。
Ｃｏ膜とＣｒ膜からなる多層膜（特開平１−２９８５１９）、Ｃｏ膜とＰｄもしくはＰｔ膜の交互積層膜（特開平２−０３１０２、特開平３−８０４２１）およびＣｏ−ＣｏＯ膜（特開昭６３−２８１２１５）からなる垂直磁化膜などが、それぞれ提案されており、さらに、従来は光磁気記録膜として検討されてきたＴｂなど稀土類金属にＦｅなどの遷移金属を添加した非晶質合金膜も、磁気記録用の垂直磁化膜として検討され始めている。
【０００３】
パ−マロイなどの高透磁率を有する軟磁性材料からなる薄膜を設けた垂直磁気記録媒体は、単磁極ヘッドからなる自己録再兼用型ヘッドもしくは単磁極ヘッドと磁気抵抗効果（ＭＲ）型の再生ヘッドからなる録再分離型ヘッドと組み合わせて用いられる。一方、単層垂直磁化膜からなる磁気記録媒体の場合は、自己録音再生兼用型のリングヘッドもしくはリングヘッドとＭＲ再生ヘッドを組み合わせた録音再生分離型ヘッドと組み合わせて用いられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
磁気記録の面密度を向上させるためには、磁気記録の分解能を向上するとともに充分な再生出力を確保し、かつ磁気記録媒体から発生するノイズを低減し、再生信号のＳ／Ｎを向上させることが必要である。従来の垂直磁気記録技術では、磁気記録の面記録密度が２Ｇｂ／ｉｎ2以上になると、従来の媒体では媒体のノイズ低減が困難になるとともに高密度記録時の再生出力が低下し、充分なエラ−レ−トが得難くなるという問題が生じていた。
【０００５】
本発明の目的は、上記従来の磁気記録技術の有する問題を解決し、高密度磁気記録を行なうことのできる磁気記録媒体およびこれ用いた磁気記録装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、磁気記録媒体を構成する磁性膜を、複数の層の積層膜とし、それぞれの層に機能分担させることにより、高出力、高分解能、低ノイズ特性を実現するものである。例えば、第１の磁性膜に低ノイズおよび高分解能特性を有する磁性膜を用い、第２層の磁性膜として高出力特性を有する磁性膜を用いて積層することにより、上記目的が達成される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
磁化容易軸が垂直配向した例えばＣｏ基合金系の多結晶垂直磁化膜は、高分解能で低ノイズであるが、膜面垂直方向で測定した磁化曲線の残留磁化が小さいため、磁気ヘッドとして用いたときの再生出力が低いという問題点がある。これに対し、例えばＣｏ膜とＰｔ膜を交互に積層して形成された多層膜からなる垂直磁化膜は、記録再生を行ったときの媒体ノイズは大きいが、磁化曲線の残留磁化が大きく、再生出力が大きいという特徴がある。このような異なる種類の垂直磁化膜を、直接もしくは薄い非磁性層を介して基板上に積層することにより、両者の特長を引き出すことができ、高分解能、低ノイズ、高出力の垂直磁気記録媒体を実現することができる。
【０００８】
すなわち、上記多層膜からなる垂直磁化膜は垂直性の向上に有効で、一方、多結晶構造を有する垂直磁化膜をノイズを低減して記録再生特性の向上に有効であり、両者を組合わせて使用することによって極めて優れた磁気記録媒体が得られることが確認された。
【０００９】
上記二つの垂直磁化膜の間に、薄い非磁性膜を介在させることにより、磁性膜間の磁気的な結合力を調整することができるので磁気媒体ノイズが低減される。この非磁性膜の望ましい膜厚は０．１〜１０ｎｍ、特に望ましい範囲は０．５〜５ｎｍである。
【００１０】
Ｃｏ基合金系の多結晶垂直磁化膜としては、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｒｅ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂなどを用いることができ、これにＣｒ、Ｔａ、Ｐｔ、Ｂ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｖ、Ｎｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｂ、Ｏ、Ｎから選ばれてなる少なくとも１種の元素を含む六方最密構造のＣｏ基合金が最適である。
【００１１】
Ｃｏ基合金にＳｉＯ2やＺｒＯ2が添加された混合物、あるいはＣｏ−ＣｏＯのように、六方最密構造のＣｏに他の結晶構造を持った材料が混じった混合物であってもよい。これらＣｏ基合金系多結晶膜の望ましい膜厚は、１０−１００ｎｍである。多層構造を有する垂直磁化膜としては、ＣｏもしくはＣｏ基合金とＰｔ、Ｐｔ合金、Ｐｄ、Ｐｄ合金のいずれかの膜からなる多層膜が適当である。この多層膜の望ましい膜厚は、５〜５０ｎｍである。
【００１２】
図１に、非磁性基板１０１上に上記２種の磁性膜１０２、１０３を積層して形成した本発明による磁気記録媒体の断面構造を示した。基板１０１と多結晶磁性膜１０２の間に、必要に応じて、多結晶磁性膜１０３と基板１０１の間の接着力強化あるいは磁性膜の構造制御のための非磁性の下地膜（図示せず）を介在させてもよい。
【００１３】
また、本発明の磁気記録媒体は、図２に示すように、基板１０１と磁性膜１０２との間に軟磁性膜２０５を介在させても良い。さらに、図１、図２に示した多層膜からなる垂直磁化膜１０３の代わりに、光磁気記録膜として検討されているＴｂなどの稀土類金属にＦｅなどの遷移金属が添加された非晶質合金膜を用いても同様の望ましい効果が得られる。
さらに、媒体ノイズを低減するためには、図３、４に示したように、２枚の磁性膜１０２、１０３の間に、非磁性膜３０５を介在させることが有効であることが認められた。
【００１４】
図１から図４に示した磁気記録媒体において、上記２枚の磁性膜１０２、１０３の積層順を逆にしても、同等の望ましい効果が得られる。また、上記２枚の垂直磁化膜１０２、１０３を複数回繰り返して積層しても良い。
【００１５】
図１、図３に示した軟磁性膜を持たない磁気記録媒体は、自己録音再生兼用のリングヘッドもしくは記録用にリングヘッド再生用にＭＲヘッドを用いた録音再生分離ヘッドと組み合わせて用いられる。図２、４に示した軟磁性膜を有する磁気記録媒体は、単磁極ヘッドからなる自己録音再生兼用型ヘッドもしくは単磁極ヘッドとＭＲ再生ヘッドを組み合わせた録音再生分離ヘッドを組み合わせて用いることができる。磁気記録の面記録密度が２Ｇｂ／ｉｎ2以上の場合、磁気記録媒体表面と磁気ヘッド先端とのスペ−シングを０．１μｍ以下、望ましくは０．０８μｍ以下０．０２μｍ以上に設定しなければならない。０．１μｍ以上になると２Ｇｂ／ｉｎ2以上の面記録密度を実現するのに必要な線記録密度が１００ｋＦＣＩ以上の磁気信号が有効に記録できなくなり、また、０．０２μｍ以下では磁気記録媒体表面に設ける耐摺動保護膜や潤滑膜の厚さが不十分となり、耐久性が極端に劣化するので望ましくない。
【００１６】
記録音再生に用いる磁気ヘッドのトラック幅の望ましい範囲は２μｍ以下、０．３μｍ以上である。２μｍ以上であると、２Ｇｂ／ｉｎ2以上の面記録密度を実現するための線記録密度を大きくしなければならいため、磁気記録系の設計上望ましくない。一方、０．３μｍ以下になると磁気ヘッドの加工精度を保つことが困難になり、実用上望ましくない。
【００１７】
本発明の磁気記録媒体を磁気ヘッドと組み合わせて磁気記録装置を構成する場合、数Ｇｂ／ｉｎ2以上の面記録密度を実現するためには、磁気ヘッドと磁気記録媒体を接触状態で相対運動させるコンタクト磁気記録方式を用いるのが望ましい。さらに、再生用の磁気ヘッド素子としては、巨大磁気抵抗効果（Ｇ−ＭＲ）を用いた高感度な再生素子を用いる方が、高い面記録密度を実現するには有利である。
【００１８】
本発明により、特に磁気記録媒体から発生するノイズが低減され、かつ高分解能、高出力で高密度磁気記録に適することのできる改良された垂直磁気記録媒体が実現され、面記録密度を２Ｇｂ／ｉｎ2以上の磁気記録装置の実現が容易になった。
【００１９】
〈実施例１〉
図５は本発明の第１の実施例の磁気記録媒体の断面構造を示す図である。
直径２．５インチのガラスからなる基板１０１を３００Ｃの温度に保って、周知の高周波ＤＣマグネトロンスパッタ法を用いて、Ｃｒ−５ａｔ％Ｔｉからなる厚さ３０ｎｍの下地膜５０２を形成した。こ膜は、磁性膜の結晶配向性を磁化容易軸が基板と垂直になるように制御するための膜であり、圧力１０ｍＴｏｒｒのＡｒガスをスパッタガスに用いて形成した。
【００２０】
上記下地膜５０２の上に、ｈ．ｃ．ｐ．結晶構造を持ったＣｏ−１６ａｔ％Ｃｒ−４ａｔ％Ｔａからなる厚さ４０ｎｍの多結晶の垂直磁化膜１０２を形成しタ後、厚さ２ｎｍのＰｔ膜と厚さ３ｎｍのＣｏ膜を交互に１０層積層して、積層垂直磁化膜１０３を形成した。これら多結晶の垂直磁化膜１０２および積層垂直磁化膜１０３の形成時のＡｒ圧力は、いずれも５ｍＴｏｒｒとした。
【００２１】
厚さ１０ｎｍカ−ボン膜からなる保護膜１０４および有機材料からなる厚さ５ｎｍの潤滑膜（図示せず）を形成して、磁気記録媒体を作製し、得られた磁気記録媒体の、膜面垂直方向で測定した保磁力の値は、１．５ｋＯｅであった。
【００２２】
この磁気記録媒体を（ａ）とし、上記Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａの代わりに（ｂ）Ｃｏ−１５ａｔ％Ｃｒ−１２ａｔ％Ｐｔ、（ｃ）Ｃｏ−１３ａｔ％Ｃｒ−８ａｔ％Ｐｔ−４ａｔ％Ｔａ、（ｄ）Ｃｏ−１３ａｔ％Ｃｒ−１０ａｔ％Ｐｔ−３ａｔ％Ｂおよび（ｅ）Ｃｏ−ＣｏＯ、Ｃｏ−１０ａｔ％Ｃｒ−１３ａｔ％Ｐｔ−３ａｔ％Ｚｒ−６ａｔ％Ｏの多結晶膜を、それぞれ上記多結晶垂直磁化膜１０２として用いて、第５図に示したのと同様な構造の磁気記録媒体を作成した。
【００２３】
一方、比較例（１）として、厚さ３０ｎｍのＣｒ−５ａｔ％Ｔｉ膜、厚さ９０ｎｍのＣｏ−１６ａｔ％Ｃｒ−４ａｔ％Ｔａ、厚さ１０ｎｍのカ−ボン膜および厚さ５ｎｍの潤滑膜をガラス基板上に順次積層して形成した垂直磁気記録媒体を作成した。同様に、比較例（２）として、厚さ２ｎｍのＰｔ膜と厚さ３ｎｍのＣｏ膜を交互に２０層積層して形成した積層垂直磁化膜、厚さ１０ｎｍのカ−ボン膜および厚さ５ｎｍの潤滑膜をガラス基板上に順次積層して、垂直磁気記録媒体を作成した。
【００２４】
これらの磁気記録媒体の記録再生特性を、記録用にリングヘッド、再生用にＭＲヘッドからなる録再分離型の磁気ヘッドを用い、磁気ヘッドと磁気記録媒体間の距離を０．０４μｍとして測定した。リングヘッドのトラック幅は１．２μｍ、ギャップ間隔は０．１８μｍ、ＭＲヘッドのトラック幅は０．９μｍ、磁気シ−ルド間隔は０．２５μｍであった。
【００２５】
測定結果を表１に示す。表１から明らかなように、本発明の磁気記録媒体は、比較例１、２よりも、記録分解能、再生信号および媒体ノイズ比（Ｓ／Ｎ）のバランスが良く、１０~6以下の良好なエラ−レ−トが得られることが確認された。
【００２６】
【表１】
0003670728.tif 000002
【００２７】
〈実施例２〉
本実施例は、図２に示す断面構造を有する磁気記録媒体を形成した例である。図２に示したように、直径２．５インチのＳｉ基板１０１の上に、周知のＤＣマグネトロンスパッタ法を用いて、厚さ１００ｎｍのＮｉ−Ｆｅパ−マロイ膜からなる軟磁性膜２０５を形成した。この際の基板温度は３５０Ｃとし、スパッタガスとしては圧力３ｍＴｏｒｒのＡｒガスを使用した。
【００２８】
次に、ｈｃｐ構造を持ったＣｏ−１７ａｔ％Ｃｒ−１０ａｔ％Ｐｔ−３ａｔ％Ｔａからなる厚さ２５ｎｍの多結晶垂直磁化膜１０２を、同様に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で形成し、厚さ２ｎｍのＰｄ膜と厚さ３ｎｍのＣｏ−１０ａｔ％Ｃｒ膜を、高周波スパッタ法を用いて交互に１０層積層して形成された積層垂直磁化膜１０３および、厚さ７ｎｍのカ−ボンからなる保護膜２０５をＤＣマグネトロンスパッタ法で形成した。さらに成膜装置から試料をとりだして、有機材料からなる厚さ５ｎｍの潤滑膜（図示せず）を形成して磁気記録媒体を作成した。得られた磁気記録媒体の媒体保磁力は２．７ｋＯｅであった。この磁気記録媒体を試料（ａ）とする。
【００２９】
試料（ａ）において、上記多結晶垂直磁化膜１０２として、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ膜の代わりに、Ｃｏ−２１ａｔ％Ｃｒ、Ｃｏ−２３ａｔ％Ｖ、Ｃｏ−１８ａｔ％ＭｏおよびＣｏ−１６ａｔ％Ｒｅをそれぞれ用いた以外は、試料（ａ）と同じである試料（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）を作成した。さらに上記積層垂直磁化膜１４として、試料（ａ）において、ＰｄとＣｏ−Ｃｒ交互積層膜の代わりに光磁気記録媒体として検討されている非晶質のＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ膜を用いた以外は試料（ａ）と同じである試料（ｆ）を作成した。
【００３０】
これらの磁気記録媒体を単磁極ヘッドからなる自己録再兼用型ヘッドを用いてヘッドと記録媒体の間の平均スペ−シングが０．０３μｍとなるコンタクト磁気記録方式を用いて記録再生特性を調べた。磁気ヘッドのトラック幅は１μｍとした。得られた結果を表２に示す。表２から明らかなように、いずれの磁気記録媒体においても、５Ｇｂ／ｉｎ2の条件で１０~6以下のエラ−レ−トが得らた。
【００３１】
【表２】
0003670728.tif 000003
【００３２】
〈実施例３〉
本実施例は、図６に示す断面構造を有する磁気記録媒体を形成した例である。図６に示したように、直径１．８インチのＳｉディスクからなる基板１０１の上に、周知ＤＣマグネトロンスパッタ法を用いて、ｈｃｐ構造を持ったＣｏ−１５ａｔ％Ｃｒ−８ａｔ％Ｐｔ−４ａｔ％Ｔａからなる厚さ３０ｎｍの多結晶垂直磁化膜１０２を、基板温度２００Ｃとして形成した。
【００３３】
次に、周知の高周波スパッタ法を用いて、Ｔｂ−７６ａｔ％Ｆｅ−３ａｔ％Ｃｏからなる厚さ２５ｎｍの非晶質垂直磁化膜６０３およびカ−ボンからなる厚さ５ｎｍの保護膜１０４を連続して形成して、磁気記録媒体を作成した。
上記Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏからなる非晶質垂直磁化膜６０３の構造をＸ線回折法で調べ、非晶質であることを確認した。
【００３４】
本実施例の磁気記録媒体において、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ膜の代わりに、Ｔｂ−８１ａｔ％Ｆｅ、Ｇｄ−８１ａｔ％Ｃｏ、Ｓｍ−８７ａｔ％Ｃｏ、Ｓｍ−５８ａｔ％Ｃｏ−１５ａｔ％Ｂを用いて作成した磁気記録媒体をそれぞれ作成した。Ｔｂ−Ｆｅ、Ｇｄ−Ｃｏ、Ｓｍ−Ｃｏ、Ｓｍ−Ｃｏ−Ｂ膜は、いずれも非晶質構造をもつ垂直磁化膜であることが確認された。
【００３５】
これらの磁気記録媒体の記録再生特性を、実施例１と同様な条件で調べたところ、３Ｇｂ／ｉｎ2の条件で１０~6以下のエラ−レ−トが得られた。
【００３６】
〈実施例４〉
本実施例は、図７に示す断面構造を有する磁気記録媒体を形成した例である。図７に示したように、直径１．８インチのガラスからなる基板１０１上に、この基板１０１の温度を１０００Ｃに保って、周知の高周波マグネトロンスパッタ法を用いてで厚さ２５ｎｍのＴｂ−７８ａｔ％Ｆｅ−３ａｔ％Ｃｏ膜からなる非晶質垂直磁化膜６０３、ＤＣマグネトロンスパッタ法を用いてｈｃｐ構造を持った厚さ３０ｎｍのＣｏ−１５ａｔ％Ｃｒ−８ａｔ％Ｐｔ−４ａｔ％Ｔａ膜からなる多結晶垂直磁化膜１０２および厚さ７ｎｍのカ−ボン膜からなる保護膜１０４を、順次形成して磁気記録媒体を作成した。
【００３７】
上記Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ膜は非晶質構造を持つ垂直磁化膜であることが確認された。これらの磁気記録媒体を実施例１と同様な磁気ヘッドを用いてコンタクト条件で記録再生特性を調べたところ、４Ｇｂ／ｉｎ2の条件で１０~6以下のエラ−レ−トが得られることが分かった。
【００３８】
〈実施例５〉
上記実施例１において、多結晶垂直磁化膜１０２と積層垂直磁化膜１０３の間に厚さ２ｎｍのＴｉ−５ａｔ％Ｃｒ膜を挿入した以外は、実施例１と同じ構成を有する磁気記録媒体を作成した。これらの磁気記録媒体を、実施例１と同様な磁気ヘッドを用いて、コンタクト条件で記録再生特性を調べたところ、４Ｇｂ／ｉｎ2の条件で２ｘ１０~7以下のエラ−レ−トが得られた。
【００３９】
〈実施例６〉
上記実施例３において、多結晶垂直磁化膜１０２と非晶質垂直磁化膜６０３の間に、厚さ２ｎｍの非磁性のＲｅ膜を導入した以外は、実施例３と同じ構成を有する磁気記録媒体を作成した。これらの磁気記録媒体を、実施例１と同様な磁気ヘッドを用いてコンタクト条件で記録再生特性を調べたところ、４Ｇｂ／ｉｎ2の条件で１０~7以下のエラ−レ−トが得られた。
【００４０】
〈実施例７〉
上記実施例２において、多結晶垂直磁化膜１０２と非晶質垂直磁化膜１０３の間に、厚さ２ｎｍの非磁性のＲｅ膜を導入した以外は、実施例２と同じ構成を有する磁気記録媒体を作成した。これらの磁気記録媒体を、実施例２と同様な磁気ヘッドを用いてコンタクト条件で記録再生特性を調べたところ、４Ｇｂ／ｉｎ2の条件で１０~7以下のエラ−レ−トが得られた。
【００４１】
〈実施例８〉
図８は本発明の他の実施例を示す断面図である。
図８に示したように、直径２．５インチのガラスからなる基板１０１の上に、周知のＤＣマグネトロンスパッタ法を用いて、基板温度３５０Ｃ、Ａｒガス圧力３ｍＴｏｒｒという条件で、厚さ１００ｎｍのＮｉ−Ｆｅパ−マロイからなる軟磁性膜２０５を形成した。
【００４２】
非晶質構造を持つ厚さ２５ｎｍのＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏからなる非晶質垂直磁化膜６０３、厚さ２５ｎｍのＣｏ−１７ａｔ％Ｃｒ−１０ａｔ％Ｐｔ−３ａｔ％Ｔａからなる多結晶垂直磁化膜１０２おおび厚さ７ｎｍのカ−ボン膜からなる保護膜１０４を、いずれもＤＣマグネトロンスパッタ法で順次形成した。さらに、成膜装置から試料を取り出し、厚さ５ｎｍの潤滑膜８０６を形成して、図８に示した磁気記録媒体を作成した。
【００４３】
得られた媒体保磁力は２．２ｋＯｅであった。この磁気記録媒体を試料（ａ）とする。
試料（ａ）において、上記Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ膜８０４の代わりに、Ｃｏ−２１ａｔ％Ｃｒ−４ａｔ％Ｔａ膜、Ｃｏ−２０ａｔ％Ｃｒ−５ａｔ％Ｐｔ膜、Ｃｏ−ＣｏＯ膜およびＣｏ−１８ａｔ％Ｃｒ−８ａｔ％Ｐｔ−３ａｔ％Ｓｉ膜をそれぞれ用いた以外は、上記（ａ）と同じ試料（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）を作成した。さらに、上記試料（ａ）において、非晶質垂直磁化膜のＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ膜８０３とＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ多結晶垂直磁化膜８０４の積層順を逆にした以外は上記試料（ａ）と同じ試料（ｆ）を作成した。
【００４４】
これらの磁気記録媒体を単磁極ヘッドからなる記録ヘッドとＭＲヘッドからなる再生ヘッドから構成された録再分離ヘッドを用い、記録媒体と磁気ヘッドの間の平均スペ−シングが０．０３５μｍとなるコンタクト磁気記録方式を用いて記録再生特性を調べた。記録磁気ヘッドのトラック幅は０．８μｍ、再生磁気ヘッドのトラック幅は０．６μｍとした。
得られた結果を表３に示す。表３から明らかなように、低周波再生出力が半減する記録密度（Ｄ50）はいずれも２００ｋＦＣＩ以上であり、利用線記録密度が１００ｋＦＣＩ以上の高密度磁気記録に適することが確認された。いずれの磁気記録媒体においても５Ｇｂ／ｉｎ2の条件で１０~6以下のエラ−レ−トが得られることが認められた。
【００４５】
【表３】
0003670728.tif 000004
【００４６】
〈実施例９〉
上記実施例８において、２種類の上記垂直磁化膜６０３、２０５の間に、厚さ３ｎｍのＣｏ−２８ａｔ％Ｃｒ膜を介在させた以外は、実施例８と同じ磁気記録媒体を作成した。上記Ｃｏ−２８ａｔ％Ｃｒ膜は、非磁性であった。
得られた磁気記録媒体を、トラック幅が０．８μｍの単磁極リングヘッドとＧ−ＭＲ膜を用いた高感度再生ヘッドからなる録再分離ヘッドを、コンタクト条件で摺動させて記録再生特性を測定した。磁気ヘッドと媒体磁性膜表面との距離は０．０３μｍとした。その結果、８Ｇｂ／ｉｎ2の条件で１０~6以下のエラ−レ−トが得られることが確認された。
【００４７】
【発明の効果】
本発明によれば、媒体ノイズが低減され、しかも再生出力が大きい垂直磁気記録媒体が得られたので、２Ｇｂ／ｉｎ2以上の高い記録密度を持つ磁気ディスク装置を容易に実現することができ、装置の小型化と大容量化が容易になった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体を示す断面図、
【図２】本発明の第２の実施例を示す断面図、
【図３】非磁性膜を有する発明の磁気記録媒体を示す断面図、
【図４】非磁性膜を有する本発明の磁気記録媒体を示す断面図、
【図５】本発明の第１の実施例を示す断面図、
【図６】本発明の第３の実施例を示す断面図、
【図７】本発明の第４の実施例を示す断面図、
【図８】本発明の第８の実施例を示す断面図。
【符号の説明】
１０１……基板、１０２……多結晶垂直磁化膜、１０３……多層垂直磁化膜、
１０４……保護膜、２０５……軟磁性膜、３０５……非磁性膜、
６０３……非晶質垂直磁化膜、８０６……潤滑膜。
【図１】
0003670728.tif 000005
【図２】
0003670728.tif 000006
【図３】
0003670728.tif 000007
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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