(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電材料で形成された隔壁によって隔てられた複数の溝を有するアクチュエータプレートと、該アクチュエータプレートの前記溝の開口部を塞ぐカバー部材と、前記隔壁の一部に形成されて電界を発生させるための駆動電極とを有する液体噴射ヘッドにおける駆動電極形成方法において、
前記アクチュエータプレートの前記隔壁の側面全面に、フォトレジスト膜を形成する第一工程と、
前記フォトレジスト膜の所望の部分に光線を照射する第二工程と、
前記光線が照射された部分または前記光線が照射されなかった部分のフォトレジスト膜を除去する第三工程と、
前記隔壁の側面全面に導電性膜を形成する第四工程と、
前記第三工程で除去されずに前記隔壁に残ったレジスト膜とともに該レジスト膜上の導電性膜を除去して、駆動電極を得る第五工程と、
前記溝内に、該溝より幅が広く深さが浅い第２の溝を形成し、該第２の溝が形成された隔壁に対して前記第一工程ないし前記第五工程を行い、一つの隔壁に対して二つの駆動電極を形成することを特徴とする液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項２】
前記第一工程は、前記アクチュエータプレートの溝形成側の面および溝の内面の全体に、フォトレジスト膜を形成することを特徴とする請求項１記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項３】
前記第二工程において用いる前記光線は、前記隔壁のシャドー効果によって、所望する部分に照射されることを特徴とする請求項１または２記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項４】
前記第三工程は、現像により前記フォトレジスト膜を除去することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項５】
前記フォトレジスト膜は、前記光線に反応して、前記現像の現像液に溶解または不溶となることを特徴とする請求項４記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項６】
前記第四工程における導電性膜は、前記アクチュエータプレートの溝形成側の面および溝の内面の全体に形成されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項７】
前記第五工程における前記レジスト膜の除去は、溶剤によって行われることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項８】
圧電材料で形成された隔壁によって隔てられた複数の溝を有するアクチュエータプレートと、該アクチュエータプレートの前記溝の開口部を塞ぐカバー部材と、前記隔壁の一部に形成されて電界を発生させるための駆動電極とを有する液体噴射ヘッドにおける駆動電極形成方法において、
前記アクチュエータプレートの前記隔壁の側面全面に導電性膜を形成する第一工程と、前記導電性膜上にフォトレジスト膜を形成する第二工程と、前記フォトレジスト膜の所望の部分に光線を照射する第三工程と、前記光線が照射された部分または前記光線が照射されなかった部分のレジスト膜を除去する第四工程と、前記第四工程で除去された前記レジスト膜に対応した位置の導電性膜を除去する第五工程と、前記第四工程で除去されなかった前記レジスト膜を除去して、駆動電極を得る第六工程と、前記溝内に、該溝より幅が広く深さが浅い第２の溝を形成し、該第２の溝が形成された隔壁に対して前記第一工程ないし前記第六工程を行い、一つの隔壁に対して二つの駆動電極を形成することを特徴とする液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項９】
前記第一工程は、前記アクチュエータプレートの溝形成側の面および溝の内面の全体に、導電性膜を形成することを特徴とする請求項８記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項１０】
前記第二工程は、前記アクチュエータプレートの溝形成側の面および溝の内面の全体に、フォトレジスト膜を形成することを特徴とする請求項８または９記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項１１】
前記第三工程において用いる前記光線は、前記隔壁のシャドー効果によって、所望する部分に照射されることを特徴とする請求項８ないし１０のいずれか１項に記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項１２】
前記第四工程は、現像により前記フォトレジスト膜を除去することを特徴とする請求項８ないし１１のいずれか１項に記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項１３】
前記フォトレジスト膜は、前記光線に反応して、前記現像の現像液に溶解または不溶となることを特徴とする請求項１２記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項１４】
前記第五工程における導電性膜の除去は、エッチングによって行われることを特徴とする請求項８ないし１３のいずれか１項に記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【請求項１５】
前記第六工程におけるフォトレジスト膜の除去は、溶剤によって行われることを特徴とする請求項８ないし１４のいずれか１項に記載の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、圧電素子（ピエゾ素子）を利用して液滴を吐出させる液体噴射ヘッドにおける駆動電極の形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液体噴射記録装置（インクジェットプリンタ）の記録ヘッドとしては、熱エネルギーによってインク等の記録液中に気泡（バブル）を発生させ、その気泡による圧力波により液滴を吐出させるバブルジェット方式、ピエゾ素子のような振動子による圧力波を利用して液滴を吐出させる圧電方式など種々の方式がある。
【０００３】
圧電方式の液体噴射ヘッドとしては、例えば、図５の（ａ）に示すようなものがある。以下、図５の（ａ）および（ｂ）を参照して具体的に説明すると、液体噴射ヘッド１００は、複数の隔壁１０３を有し、かつ矢印Ａの方向に分極処理を施した圧電セラミックス板１０１とアルミナ等のセラミックスで形成されたカバー部材（蓋）１０９とを接合することで、横方向に互いに間隔を有する多数の平行な液室１０５が形成され、液室１０５は、長方形断面の長くて狭いものであり、隔壁１０３は液室１０５の全長にわたって延びている。隔壁１０３の表面の下半分（あるいは上半分）の領域には、駆動電圧印加用の駆動電極１０４が形成されている。液体が導電性材料であるか、あるいは信頼性、耐久性を向上させる場合については、駆動電極１０４の上から保護膜（図示しない）が作製される。
【０００４】
このような駆動電極１０４は、例えば、特開平２−１５０３５５号公報に記載されている方法により形成されている。前記公報に記載された方法によれば、先ず、強誘電性を有するチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）系のセラミックス材料にて分極方向に分極処理を施した圧電セラミックス板１０１に、ダイヤモンドカッティング円盤の回転またはレーザ光の照射等により互いに平行で等しい幅の複数の溝１０２を切削することにより液室１０５を形成する。次に、図５の（ｂ）に示すように、隔壁１０３に駆動電極１０４を真空蒸着法により形成する。このとき、蒸発源（不図示）から蒸発する金属粒子の平行ビーム１０６に対して角度θだけ圧電セラミックス板１０１を傾斜させることで、隔壁１０３のシャドー効果により隔壁１０３の一面における開口部側の必要な領域に駆動電極１０４となる導電性薄膜１０７を形成し、さらに、圧電セラミックス板１０１を１８０度回転させて同様に、隔壁１０３の他面の開口部側の必要な領域に駆動電極１０４となる導電性薄膜１０７を形成し、その後、隔壁１０３の頭頂部１０８の導電性薄膜１０７を除去して、図５の（ａ）に示すような駆動電極１０４を形成している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記公報に記載されているような従来の液体噴射ヘッドにおける隔壁への電極形成方法においては、隔壁１０３が一方向に分極された圧電セラミックス板１０１で形成されているので、隔壁１０３の上半分の領域（図５の（ｂ）参照）に駆動電極１０４を形成するために隔壁１０３のシャドー効果を利用した真空蒸着を行っている。真空蒸着においては、その蒸発源から蒸発する金属粒子は、放射状に飛ぶため、蒸発源と駆動電極１０４を形成する隔壁１０３との距離を大きくとる必要があり、そして、蒸着金属の直進性を利用して、蒸発源から蒸発した金属粒子の一部だけを利用して隔壁１０３に蒸着している。そのために、駆動電極１０４の形成速度が遅く、生産効率が非常に悪いという問題点があった。またさらに、大容量の真空系が必要であり、設備が高価なものとなり、作製コストが高くなるという問題点があった。
【０００６】
また、このように作製された駆動電極は、液室を区画する隔壁に対し半分しかないので、液体の吐出力が弱いという欠点があった。
【０００７】
そこで、本発明は、前述した従来技術の有する未解決の課題に鑑みてなされたものであって、駆動電極を短時間にて容易にかつ低コストで形成でき、吐出力に優れた液体噴射ヘッドを構成することができる液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法は、圧電材料で形成された隔壁によって隔てられた複数の溝を有するアクチュエータプレートと、該アクチュエータプレートの前記溝の開口部を塞ぐカバー部材と、前記隔壁の一部に形成されて電界を発生させるための駆動電極とを有する液体噴射ヘッドにおける駆動電極形成方法において、前記アクチュエータプレートの前記隔壁の側面全面に、フォトレジスト膜を形成する第一工程と、前記フォトレジスト膜の所望の部分に光線を照射する第二工程と、前記光線が照射された部分または前記光線が照射されなかった部分のフォトレジスト膜を除去する第三工程と、前記隔壁の側面全面に導電性膜を形成する第四工程と、前記第三工程で除去されずに前記隔壁に残ったレジスト膜とともに該レジスト膜上の導電性膜を除去して、駆動電極を得る第五工程と、前記溝内に、該溝より幅が広く深さが浅い第２の溝を形成し、該第２の溝が形成された隔壁に対して前記第一工程ないし前記第五工程を行い、一つの隔壁に対して二つの駆動電極を形成することを特徴とする。
【０００９】
本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第一工程は、前記アクチュエータプレートの溝形成側の面および溝の内面の全体に、フォトレジスト膜を形成することが好ましい。
【００１０】
本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第二工程において用いる前記光線は、前記隔壁のシャドー効果によって、所望する部分に照射されることが好ましい。
【００１１】
本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第三工程は、現像により前記フォトレジスト膜を除去することが好ましく、また、前記フォトレジスト膜は、前記光線に反応して、前記現像の現像液に溶解または不溶となることが好ましい。
【００１２】
本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第四工程における導電性膜は、前記アクチュエータプレートの溝形成側の面および溝の内面の全体に形成されることが好ましい。
【００１３】
本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第五工程における前記レジスト膜の除去は、溶剤によって行われることが好ましい。
【００１４】
また、本発明の第２の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法は、圧電材料で形成された隔壁によって隔てられた複数の溝を有するアクチュエータプレートと、該アクチュエータプレートの前記溝の開口部を塞ぐカバー部材と、前記隔壁の一部に形成されて電界を発生させるための駆動電極とを有する液体噴射ヘッドにおける駆動電極形成方法において、前記アクチュエータプレートの前記隔壁の側面全面に導電性膜を形成する第一工程と、前記導電性膜上にフォトレジスト膜を形成する第二工程と、前記フォトレジスト膜の所望の部分に光線を照射する第三工程と、前記光線が照射された部分または前記光線が照射されなかった部分のレジスト膜を除去する第四工程と、前記第四工程で除去された前記レジスト膜に対応した位置の導電性膜を除去する第五工程と、前記第四工程で除去されなかった前記レジスト膜を除去して、駆動電極を得る第六工程と、前記溝内に、該溝より幅が広く深さが浅い第２の溝を形成し、該第２の溝が形成された隔壁に対して前記第一工程ないし前記第六工程を行い、一つの隔壁に対して二つの駆動電極を形成することを特徴とする。
【００１５】
本発明の第２の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第一工程は、前記アクチュエータプレートの溝形成側の面および溝の内面の全体に、導電性膜を形成することが好ましい。
【００１６】
本発明の第２の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第二工程は、前記アクチュエータプレートの溝形成側の面および溝の内面の全体に、フォトレジスト膜を形成することが好ましい。
【００１７】
本発明の第２の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第三工程において用いる前記光線は、前記隔壁のシャドー効果によって、所望する部分に照射されることが好ましい。
【００１８】
本発明の第２の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第四工程は、現像により前記フォトレジスト膜を除去することが好ましく、また、前記フォトレジスト膜は、前記光線に反応して、前記現像の現像液に溶解または不溶となることが好ましい。
【００１９】
本発明の第２の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第五工程における導電性膜の除去は、エッチングによって行われることが好ましい。
【００２０】
本発明の第２の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法において、前記第六工程における前記レジスト膜の除去は、溶剤によって行われることが好ましい。
【００２１】
【作用】
本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法によれば、アクチュエータプレートの隔壁の側面全面に形成されたレジスト膜の所望の部分に光線を照射し、次に、前記光線が照射された部分もしくは前記光線が照射されなかった部分のレジスト膜を除去して、隔壁の側面全面に導電性膜を形成した後、除去されずに隔壁に残ったレジスト膜とともにそのレジスト膜上の導電性膜を除去することによって、あるいは、アクチュエータプレートの隔壁の側面全面に形成された導電性膜上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜の所望の部分に光線を照射し、次に、前記光線が照射された部分もしくは前記光線が照射されなかった部分のレジスト膜を除去するとともに該部分の導電性膜をエッチング等により除去し、その後に、先に除去されなかったレジスト膜を除去することによって、所望する部分のみに駆動電極を形成することができ、短時間で容易に、かつ低コストで駆動電極を形成することを可能にする。
【００２２】
また、一つの隔壁に対し、二つの電極対を設けることができることから、従来よりも隔壁の変形力が強く、液体噴射ヘッドとしての吐出力が優れている。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００２４】
図１ないし図４は、本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法の一実施例に基づく工程を示す工程図であり、本発明の一実施例について、工程に沿って順次説明する。
【００２５】
図１の（ａ）において、１は、アクチュエータプレートとしての圧電セラミックス板であって、強誘電性を有するチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）系のセラミックス材料で形成され、矢印Ａの方向に分極処理を施した板であり、ダイヤモンドカッティング円盤の回転またはレーザ光の照射等により互いに平行な複数の溝２が形成されている。
【００２６】
以下、駆動電極４（４ａ、４ｂ、４ｃ）としてのＮｉ膜を圧電セラミックス板１の隔壁３の両側の所望の領域にコーティングする例について説明する。
【００２７】
先ず、図１の（ｂ）に示すように、圧電セラミックス板１の溝２の加工側の面および溝２の内面に全体（隔壁の側面全面）に、フォトレジスト剤を塗布して、フォトレジスト膜５を形成する（第一工程）。このフォトレジスト剤は、可視光だけでなく紫外線やＸ線等も含めたある特定波長の光線に反応して選択的に硬化させることが可能な物性をもつので、例えば特定波長の光線を照射した後に現像すると現像液に対し不溶となるもの（ネガタイプ）や、特定波長の光線を照射した後に現像すると現像液に溶けて除去されるもの（ポジタイプ）があり、いずれのタイプも用いることができるが、本実施例の説明においては、後者の物性を持つポジタイプのフォトレジスト剤を用いて説明する。フォトレジスト剤の塗布方法としては、例えばスピンコート法等を用い、フォトレジスト膜５を薄く均一に形成する。
【００２８】
次に、図１の（ｂ）に示すように、紫外線光源（不図示）から照射される紫外線６を、圧電セラミックス板１の隔壁３の長手方向に対して直角でありかつ圧電セラミックス板１の溝２の加工側の面に対して角度ψだけ傾けた方向より、隔壁３の一方の面に照射し、さらに紫外線光源に対する圧電セラミックス板１の位置を変えて同様にして紫外線６を隔壁３の他方の面に照射する（第二工程）。この角度ψについては、例えば、隔壁３の高さの寸法をＨ、溝２の溝幅の寸法をＷとした場合、ｔａｎψ＝Ｗ／Ｈの関係を満たす角度ψをもってすれば、溝２の内面に関しては、隔壁３の両側の領域にのみ紫外線６が照射される。
【００２９】
その後に、図１の（ｃ）に示すように、専用の現像液により現像を行って、紫外線６の照射された部分のフォトレジスト膜５を現像液に溶解させて除去し、照射されなかった部分を残す（第三工程）。すなわち、隔壁３の両側の領域のフォトレジスト膜５は除去され、隔壁３のシャドー効果により紫外線６が照射されなかった溝２の底部分にのみレジスト層７が形成される。
【００３０】
次に、図１の（ｄ）に示すように、（第１）駆動電極４ａとなる導電性薄膜１０を、例えばＮｉの無電解メッキ法を用いて、圧電セラミックス板１の溝２の加工側の面および溝２の内面の全体に形成する（第四工程）。Ｎｉの無電解メッキ法については周知の技術であるので詳細な説明は省くが、無電解メッキの前に、塩化パラジウムにより活性化処理を施し、その後、錯化剤、還元剤を入れた硫酸ニッケル浴中で、カソードに圧電セラミックス板１を取り付け、アノードに白金の電極を取り付け、カソードとアノードの間に２ｄＡ／ｃｍ2 の電流密度で電流を流すことにより、圧電セラミックス板１の溝２の加工側の面および溝２の内面の全体にＮｉ膜を形成することができる。ただし、溝２に対しては、前処理により触媒を均一に形成し、かつ、メッキ浴の流れを十分もたせることでＮｉ膜を比較的均一な厚みに形成する。
【００３１】
次に、アセトン等の有機溶剤によってレジスト層７およびそのレジスト層７に付着した導電性薄膜１０を除去し、そして、隔壁３の頭頂部８の導電性薄膜１０を除去することによって、図１の（ｅ）に示すように、隔壁３の開口部側の必要な領域だけに第１駆動電極４ａ（導電性薄膜１０）を形成する（第五工程）。
【００３２】
次に、図２の（ａ）に示すように、最初に形成されている溝２部分をダイヤモンドカッティング円盤の回転またはレーザ光の照射等によりさらに切削して、溝２より幅広く、深さ方向に対しては半分の第２の溝２ａを平行に複数形成する（第六工程）。
【００３３】
次に、図２の（ｂ）に示すように、圧電セラミックス板１の溝２より深さの浅い第２の溝２ａの加工側の面および溝２、２ａの内面に全体に、フォトレジスト剤を塗布して、フォトレジスト膜５ｘを形成する（第七工程）。このフォトレジスト剤は、第一工程で使用したものと同じく、特定波長の光線を照射した後に現像すると現像液に溶けて除去されるポジタイプのフォトレジスト剤を用い、フォトレジスト剤の塗布方法としては、第一工程で使用したものと同じく、例えばスピンコート法等を用いる。フォトレジスト膜５ｘを薄く均一に形成することが望ましい。
【００３４】
次いで、図２の（ｂ）に示すように、紫外線光源（不図示）から照射される紫外線６ｘを、圧電セラミックス板１の隔壁３の長手方向に対して直角でありかつ圧電セラミックス板１の第２の溝２ａの加工側の面に対して角度φだけ傾けた方向より、隔壁３の一方の面に照射し、さらに紫外線光源に対する圧電セラミックス板１の位置を変えて同様にして紫外線６を隔壁３の他方の面に照射する（第八工程）。この角度φについては、例えば、隔壁３の高さの寸法をＨ、第２の溝２ａの溝幅の寸法をＷ1 とした場合、ｔａｎφ＝２Ｗ1 ／Ｈの関係を満たす角度φをもってすれば、第２の溝２ａ部分の隔壁３の両側の領域にのみ紫外線６ｘが照射される。その後に、専用の現像液により現像を行って、紫外線６ｘが照射された部分のフォトレジスト膜５ｘを現像液に溶解させて除去し、照射されなかった部分を残す（第九工程）。すなわち、図２の（ｃ）に示すように、隔壁３の第２の溝２ａに対応する部分の両側領域のフォトレジスト膜５ｘは除去され、隔壁３のシャドー効果により紫外線６ｘが照射されなかった第２の溝２ａの底部分および溝２に対応する両側部分にのみレジスト層７ｘが形成される。
【００３５】
次に、（第２）駆動電極４ｂとなる導電性薄膜１０を、前述した第四工程と同様に、例えばＮｉの無電解メッキ法を用いて図２の（ｄ）に示すように圧電セラミックス板１の第２の溝２ａの加工側の面および溝２、２ａの内面の全体に形成する（第十工程）。Ｎｉの無電解メッキに際しては、前述したように、無電解メッキの前に、塩化パラジウムにより活性化処理を施し、その後、錯化剤、還元剤を入れた硫酸ニッケル浴中で、カソードに圧電セラミックス板１を取り付け、アノードに白金の電極を取り付け、カソードとアノードの間に２ｄＡ／ｃｍ2 の電流密度で電流を流すことにより、圧電セラミックス板１の第２の溝２ａの加工側の面および第２の溝２ａの内面の全体にＮｉ膜を形成する。ただし、第２の溝２ａに対しては、前処理により触媒を均一に形成し、かつ、メッキ浴の流れを十分もたせることでＮｉ膜を比較的均一な厚みに形成する。
【００３６】
次に、アセトン等の有機溶剤によってレジスト層７ｘおよびそのレジスト層７ｘに付着した導電性薄膜１０を除去し、そして、隔壁３の頭頂部８の導電性薄膜１０を除去することによって、図２の（ｅ）に示すように、隔壁３の開口部側の必要な領域だけに第２駆動電極４ｂを形成する（第十一工程）。
【００３７】
次に、図３の（ａ）に示すように、各隔壁３の幅方向の中央部分をダイヤモンドカッティング円盤の回転またはレーザ光の照射等により切削して、平行な複数の第３の溝２ｂを形成する（第十二工程）。第３の溝２ｂにより分割された隔壁３のそれぞれの部分を隔壁３ａおよび３ｂとする。
【００３８】
次に、図３の（ｂ）に示すように、圧電セラミックス板１の溝２ａ、２ｂの加工側の面および溝２、２ａ、２ｂの内面に全体にフォトレジスト剤を塗布して、フォトレジスト膜５ｙを形成する（第十三工程）。このフォトレジスト剤は、第一工程および第七工程で使用したものと同じく、特定波長の光線を照射した後に現像すると現像液に溶けて除去されるポジタイプのフォトレジスト剤を用い、フォトレジスト剤の塗布方法としては、第一工程および第七工程で使用したものと同じく、例えばスピンコート法等を用いる。フォトレジスト膜５ｙを薄く均一に形成することが望ましい。
【００３９】
次に、図３の（ｃ）に示すように、第３の溝２ｂに対応する部分のみ穴が開いているマスクパターン１２を圧電セラミックス板１の第３の溝２ｂが形成されている開放部側に置き、紫外線光源（不図示）から照射される紫外線６ｙを、圧電セラミックス板１の隔壁３ａ、３ｂの長手方向に対して直角でありかつ圧電セラミックス板１の第３の溝２ｂの加工側の面に対して角度ρだけ傾けた方向より、隔壁３ａ、３ｂの一方の一面に照射した後、さらに紫外線光源に対する圧電セラミックス板１の位置を変えて同様にして紫外線６ｙを隔壁３ａ、３ｂの他方の一面に照射する（第十四工程）。この角度ρについては、例えば、隔壁３ａ、３ｂの高さの寸法をＨ、第３の溝２ｂの溝幅の寸法をＷ2 とした場合、ｔａｎρ＝Ｗ2 ／Ｈの関係を満たす角度ρをもってすれば、隔壁３ａ、３ｂの両側の領域にのみ紫外線６ｙが照射される。その後に、専用の現像液により現像を行って、紫外線６ｙが照射された部分のフォトレジスト膜５ｙを現像液に溶解させて除去し、照射されなかった部分を残す（第十五工程）。すなわち、図３の（ｄ）に示すように、隔壁３ａ、３ｂには、紫外線６ｙが照射されなかった部分にレジスト層７ｙが形成される。
【００４０】
次に、第四工程および第十工程と同様に、（第３）駆動電極４ｃとなる導電性薄膜１０を、例えばＮｉの無電解メッキ法を用いて、図３の（ｅ）に示すように圧電セラミックス板１の第３の溝２ｂの内面のフォトレジスト膜５ｙが除去された部分に形成する（第十六工程）。Ｎｉの無電解メッキに際しては、前述したと同様に、無電解メッキの前に、塩化パラジウムにより活性化処理を施し、その後、錯化剤、還元剤を入れた硫酸ニッケル浴中で、カソードに圧電セラミックス板１を取り付け、アノードに白金の電極を取り付け、カソードとアノードの間に２ｄＡ／ｃｍ2 の電流密度で電流を流すことにより、圧電セラミックス板１の第３の溝２ｂの加工側の面および第３の溝２ｂの内面の全体にＮｉ膜を形成する。ただし、第３の溝２ｂに対しては、前処理により触媒を均一に形成し、かつ、メッキ浴の流れを十分もたせることでＮｉ膜を比較的均一な厚みに形成する。
【００４１】
次に、アセトン等の有機溶剤によってレジスト層７ｙおよびそのレジスト層７ｙに付着した導電性薄膜１０を除去することによって、図４の（ａ）に示すように、隔壁３ａ、３ｂの開口部側の必要な領域だけに第３駆動電極４ｃを形成する（第十七工程）。
【００４２】
次に、必要に応じて駆動電極４（４ａ、４ｂ、４ｃ）の上から保護膜（図示しない）を作製した後、図４の（ｂ）に示すように、圧電セラミックス板１の溝２ａ、２ｂの開口部側にカバー部材（蓋）１５が接着されて、横方向に互いに間隔を有する多数の平行な液室９が形成される。このように構成された液体噴射ヘッドは、ＬＳＩチップ等によって駆動されて各液室９から液体が噴射される。
【００４３】
このようにして駆動電極４ａ、４ｂ、４ｃを形成すれば、従来の真空蒸着の手法によらずに、メッキ処理により駆動電極４（４ａ、４ｂ、４ｃ）を短時間にて容易に、かつ、低コストに形成することができる。
【００４４】
なお、前述した実施例では、駆動電極４（４ａ、４ｂ、４ｃ）として、Ｎｉを例にしたが、クロム（Ｃｒ）、アルミ（Ａｌ）、金（Ａｕ）等、あるいは、それらの積層、その他導電性の膜ならばなんでもよく、その形成法も電解、無電解のメッキどちらでもよい。また、レジストもその種類を限定しない。
【００４５】
次に、本発明の第２の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法である他の実施例について説明する。本実施例においても、アクチュエータプレートとしての圧電セラミックス板は、強誘電性を有するチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）系のセラミックス材料で形成され、分極処理を施した板であり、ダイヤモンドカッティング円盤の回転またはレーザ光の照射等により互いに平行な複数の溝が形成されている。
【００４６】
この他の実施例では、上述した一実施例と異なり、先ず、第一工程として圧電セラミックス板の複数の溝の加工側の面および溝の内面全面に導電性薄膜を形成する。この導電性薄膜の形成は、前述した実施例と同様に無電解メッキ法を用いて行うことができる。
【００４７】
そして、導電性膜上にフォトレジスト剤を塗布してフォトレジスト膜を形成する（第二工程）。フォトレジスト剤は、可視光だけでなく紫外線やＸ線等も含めたある特定波長の光線に反応して選択的に硬化させることが可能な物性をもつので、ネガタイプ、ポジタイプのいずれであってもよい。その後に、フォトレジスト膜の所望の部分に隔壁のシャドー効果等を利用して光線を照射し（第三工程）、該光線が照射された部分または光線が照射されなかった部分のレジスト膜を現像処理により除去する（第四工程）。
【００４８】
その後に、現像処理によりレジスト膜が除去された領域の導電性薄膜をエッチング処理により除去し（第五工程）、次に、先の現像処理によって除去されなかったレジスト膜を溶剤等により除去する。これにより、所望する部分に駆動電極を形成する（第六工程）ことができる。
なお、上述した一実施例と同様でよい点については説明を省略する。
【００４９】
本実施例においても、駆動電極としては、Ｎｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｕ等、あるいは、それらの積層、その他導電性の膜ならばなんでもよく、その形成法も電解、無電解のメッキどちらでもよい。
【００５０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、アクチュエータプレートの隔壁の側面全面に形成されたレジスト膜の所望の部分に光線を照射し、次に、前記光線が照射された部分もしくは前記光線が照射されなかった部分のレジスト膜を除去して、隔壁の側面全面に導電性膜を形成した後、除去されずに隔壁に残ったレジスト膜とともにそのレジスト膜上の導電性膜を除去することによって、あるいは、アクチュエータプレートの隔壁の側面全面に形成された導電性膜上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜の所望の部分に光線を照射し、次に、前記光線が照射された部分もしくは前記光線が照射されなかった部分のレジスト膜を除去するとともに該部分の導電性膜をエッチング等により除去し、その後に、先に除去されなかったレジスト膜を除去することによって、所望する部分のみに駆動電極を形成しているので、真空蒸着法等を用いることなく、短時間にて容易に、低コストで駆動電極を形成することができる。
【００５１】
また、一つの隔壁に対し、二つの電極対を設けることができることから、従来よりも隔壁の変形力が強く、液体噴射ヘッドとしての吐出力に優れている。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法の一実施例を説明するための第１の工程図であり、（ａ）は溝が形成された圧電セラミックス板を示し、（ｂ）はレジスト膜の形成とレジスト膜への紫外線の照射状態を示し、（ｃ）は現像処理により形成されたレジスト層を示し、（ｄ）は導電性薄膜の形成状態を示し、（ｅ）は導電性薄膜を溶剤により除去して第１駆動電極を形成した状態を示す。
【図２】本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法の一実施例を説明するための第２の工程図であり、（ａ）は第１駆動電極が形成された後に第２の溝が形成された圧電セラミックス板を示し、（ｂ）はレジスト膜の形成とレジスト膜への紫外線の照射状態を示し、（ｃ）は現像処理により形成されたレジスト層を示し、（ｄ）は導電性薄膜の形成状態を示し、（ｅ）は導電性薄膜を溶剤により除去して第２駆動電極を形成した状態を示す。
【図３】本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法の一実施例を説明するための第３の工程図であり、（ａ）は第１および第２駆動電極が形成された後に第３の溝が形成された圧電セラミックス板を示し、（ｂ）はレジスト膜の形成状態を示し、（ｃ）はレジスト膜への紫外線の照射状態を示し、（ｄ）は現像処理により形成されたレジスト層を示し、（ｅ）は導電性薄膜の形成状態を示す。
【図４】本発明の液体噴射ヘッドの駆動電極形成方法の一実施例を説明するための第４の工程図であり、（ａ）はレジスト層を除去して、第３駆動電極を形成した状態を示し、（ｂ）は圧電セラミックス板にカバー部材を接合して形成した液体噴射ヘッドを示す。
【図５】（ａ）は従来の液体噴射記録ヘッドの構成を示す概略図であり、（ｂ）は従来の液体噴射記録ヘッドにおける駆動電極の形成方法を示す概略図である。
【符号の説明】
１    圧電セラミックス板
２、２ａ、２ｂ    溝
３、３ａ、３ｂ    隔壁
４（４ａ、４ｂ、４ｃ）    駆動電極
５、５ｘ、５ｙ    フォトレジスト膜
６、６ｘ、６ｙ    紫外線
７、７ｘ、７ｙ    レジスト層
８    頭頂部
９    液室
１０    導電性薄膜
１２    マスクパターン
１５    カバー部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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