(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シクロオレフィンポリマー中に、下記一般式（Ａ）で表されるエチレン性不飽和モノマーＸａの一種、及びエチレン性不飽和モノマーＸｂの一種とを共重合して得られたポリマーである重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００〜３００００の範囲内である化合物を０．１〜３０質量％含有することを特徴とする光学フィルム。
一般式（Ａ）
−（Ｘａ）ｍ−（Ｘｂ）ｎ−  （ｍ、ｎは繰り返し単位を表す）
（式中、Ｘａはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−エトキシエチル）、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものであり、
Ｘｂはアクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、又はこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものであり、
Ｘａ、Ｘｂのモル組成比ｍ：ｎは９９：１〜６５：３５の範囲である。）
【請求項２】
前記Ｘａはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、及びメタクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）から選択され、前記Ｘｂはアクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、メタクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、及びアクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）から選択され、前記モル組成比ｍ：ｎは９５：５〜７５：２５の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記光学フィルムのリターデーション値が、下記式（ａ）及び（ｂ）を満たすことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム。
式（ａ）  ０．７０≦Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（６３０）≦０．９９
式（ｂ）  ０．７０≦Ｒｔｈ（４８０）／Ｒｔｈ（６３０）≦０．９９
式中、Ｒｅ（４８０）、Ｒｅ（６３０）、Ｒｔｈ（４８０）、Ｒｔｈ（６３０）は、各々波長４８０ｎｍもしくは６３０ｎｍで測定した時の、フィルム面内のリターデーション（Ｒｅ）、フィルム厚さ方向のリターデーション（Ｒｔｈ）を表す。
【請求項４】
前記シクロオレフィンポリマーが、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有するノルボルネン系ポリマーであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項６】
請求項５に記載の偏光板を少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法であって、該光学フィルムが溶融流延法によって製造されることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置に関し、より詳しくは透明性に優れ、充分な耐熱性を所持したまま最適な波長分散特性を有する光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置において、透過光の位相差及びその波長依存性（波長分散性ともいう）を制御することにより、液晶ディスプレイの色抜け、着色を防止し、全方位で高いコントラスト比が得られることが知られている。具体的には、光学補償フィルムの位相差（リターデーション）を、長波長になるに伴い大きく、短波長になるに従って小さくなるように制御することにより色抜け、着色防止が達成される。また、このように位相差を制御する手段として、脂環式構造を有する熱可塑性樹脂に、スチレン系ポリマーやアクリル系ポリマーを添加する方法が知られている（例えば、特許文献１〜５参照。）。
【０００３】
しかしながら、スチレン系ポリマーやアクリル系ポリマーを添加した場合、充分な波長分散性を得るまで添加すると、樹脂の耐熱性が著しく低下してしまうという問題があった。また、脂環式構造を有する熱可塑性樹脂に添加した場合には、相溶性が悪く透明性が失われる場合があった。
【特許文献１】特許第３３２５５６０号公報
【特許文献２】特開２００１−３３７２２２号公報
【特許文献３】特開２００２−４０２５８号公報
【特許文献４】特開２００４−３２５５２３号公報
【特許文献５】特開２００６−５８５４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従って本発明の目的は、透明性に優れ、充分な耐熱性を所持したまま最適な波長分散特性を有する光学フィルムを提供することにあり、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを用いた偏光板、及び液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【０００６】
１．シクロオレフィンポリマー中に、下記一般式（Ａ）で表されるエチレン性不飽和モノマーＸａの一種、及びエチレン性不飽和モノマーＸｂの一種とを共重合して得られたポリマーである重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００〜３００００の範囲内である化合物を０．１〜３０質量％含有することを特徴とする光学フィルム。
一般式（Ａ）
−（Ｘａ）ｍ−（Ｘｂ）ｎ−  （ｍ、ｎは繰り返し単位を表す）
（式中、Ｘａはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−エトキシエチル）、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものであり、
Ｘｂはアクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、又はこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものであり、
Ｘａ、Ｘｂのモル組成比ｍ：ｎは９９：１〜６５：３５の範囲である。）
【０００７】
２．前記Ｘａはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、及びメタクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）から選択され、前記Ｘｂはアクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、メタクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、及びアクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）から選択され、前記モル組成比ｍ：ｎは９５：５〜７５：２５の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【０００８】
３．前記光学フィルムのリターデーション値が、下記式（ａ）及び（ｂ）を満たすことを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学フィルム。
式（ａ）  ０．７０≦Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（６３０）≦０．９９
式（ｂ）  ０．７０≦Ｒｔｈ（４８０）／Ｒｔｈ（６３０）≦０．９９
式中、Ｒｅ（４８０）、Ｒｅ（６３０）、Ｒｔｈ（４８０）、Ｒｔｈ（６３０）は、各々波長４８０ｎｍもしくは６３０ｎｍで測定した時の、フィルム面内のリターデーション（Ｒｅ）、フィルム厚さ方向のリターデーション（Ｒｔｈ）を表す。
【０００９】
４．前記前記シクロオレフィンポリマーが、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有するノルボルネン系ポリマーであることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００１０】
５．第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。
【００１１】
６．第５項に記載の偏光板を少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【００１２】
７．第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法であって、該光学フィルムが溶融流延法によって製造されることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、透明性に優れ、充分な耐熱性を所持したまま最適な波長分散特性を有する光学フィルム、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを用いた偏光板、及び液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１５】
本発明は、固有複屈折値が正及び負のポリマーをブレンドしたポリマーブレンドからなるフィルムを使用することにより、各ポリマーが単独で示すリターデーションの波長分散特性を互いに軽減させ、可視光全域の入射光に対して、本発明の式（ａ）、式（ｂ）で表される波長分散性を与えることを可能とするものである。
【００１６】
即ち、本発明の光学フィルムは、固有複屈折値が正のポリマーの少なくとも一種類と、固有複屈折値が負のポリマーの少なくとも一種類とを含むポリマーブレンドからなるフィルムに配向を付与して形成される。
【００１７】
前記「固有複屈折値が正のポリマー」とは、分子が一軸性の配向をとって形成された層に光が入射したとき、前記配向方向の光の屈折率が前記配向方向に直交する方向の光の屈折率より大きくなるポリマーをいう。一方、前記「固有複屈折値が負のポリマー」とは、分子が一軸性の配向をとって形成された層に光が入射したとき、前記配向方向の光の屈折率が前記配向方向に直交する方向の光の屈折率より小さくなるポリマーをいう。
【００１８】
前記したように、従来の固有複屈折値が負のポリマーであるスチレン系ポリマーやアクリル系ポリマーを波長分散調整剤として、固有複屈折値が正のポリマーである、例えばノルボルネン系樹脂等の脂環式構造を有する重合体樹脂に充分な効果が得られるまで添加すると、耐熱性が著しく低下し、また、脂環式構造を有する重合体樹脂にアクリル系の材料を添加した際には、相溶しない場合があった。
【００１９】
本発明者らは、上記問題について鋭意検討を加えた結果、本発明の一般式（Ａ）で表され、重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００〜３００００である化合物を用いることにより、驚くべきことにシクロオレフィンポリマーと相溶し易く、耐熱性を損なうことなく波長分散性を最適化した光学フィルムを作製することが可能になることを見出したものである。
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
《一般式（Ａ）で表される化合物》
本発明の一般式（Ａ）で表される化合物は重量平均分子量が１０００〜３００００であるから、オリゴマーから低分子量ポリマーの間にあると考えられるものである。
【００２２】
本発明の一般式（Ａ）で表される化合物は、下記エチレン性不飽和モノマーＸａの一種、及び下記エチレン性不飽和モノマーＸｂの一種とを共重合して得られたポリマーである。
【００２３】
一般式（Ａ）
−（Ｘａ）ｍ−（Ｘｂ）ｎ−    （ｍ、ｎは繰り返し単位を表す）
本発明の一般式（Ａ）で表される化合物を構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げる。
【００２４】
エチレン性不飽和モノマーＸａは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−エトキシエチル）、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものである。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、及びメタクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）から選択されることが好ましい。
【００２５】
エチレン性不飽和モノマーＸｂは、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、又はこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものである。中でもアクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、メタクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、及びアクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）から選択されることが好ましい。
【００２６】
Ｘａ、Ｘｂのモル組成比ｍ：ｎは９９：１〜６５：３５の範囲であり、好ましくは９５：５〜７５：２５の範囲である。
【００２７】
Ｘａのモル組成比が多いとシクロオレフィンポリマーとの相溶性が良化するがフィルムの耐熱性が低下する。Ｘｂのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなる。また、Ｘｂのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りＸａ、Ｘｂのモル組成比を決めることが好ましい。
【００２８】
本発明の一般式（１）で表される化合物の重量平均分子量は１０００〜３００００であり、より好ましくは８０００〜２５０００である。
【００２９】
重量平均分子量を１０００以上３００００以下とすることにより、蒸発や揮発することなく樹脂との相溶性がより向上し好ましい。
【００３０】
重量平均分子量の測定方法は下記方法によることができる。
【００３１】
（重量平均分子量測定方法）
重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。
【００３２】
測定条件は以下の通りである。
【００３３】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【００３４】
一般式（１）で表される化合物を合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開２０００−１２８９１１号または同２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、分子中にチオール基と２級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。
【００３５】
この場合、一般式（Ａ）で表される化合物の末端には、重合触媒及び連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、一般式（１）で表される化合物とシクロオレフィンポリマーとの相溶性を調整することができる。
【００３６】
また、重合温度は通常室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われるが、この温度または重合反応時間を調整することで分子量のコントロールが可能である。
【００３７】
また、一般式（１）で表される化合物の水酸基価は３０〜１５０［ｍｇＫＯＨ／ｇ］であることが好ましい。
【００３８】
（水酸基価の測定方法）
この測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０（１９９２）に準ずる。この水酸基価は、試料１ｇをアセチル化させたとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数と定義される。具体的には試料Ｘｇ（約１ｇ）をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬（無水酢酸２０ｍｌにピリジンを加えて４００ｍｌにしたもの）２０ｍｌを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、９５〜１００℃のグリセリン浴にて加熱する。
【００３９】
１時間３０分後、冷却し、空気冷却管から精製水１ｍｌを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。次に電位差滴定装置を用いて０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。
【００４０】
水酸基価は、次の式によって算出する。
【００４１】
水酸基価＝｛（Ｂ−Ｃ）×ｆ×２８．０５／Ｘ｝＋Ｄ
（式中、Ｂは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、Ｃは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、ｆは０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Ｄは酸価、また、２８．０５は水酸化カリウムの１ｍｏｌ量５６．１１の１／２を表す）
一般式（Ａ）で表される化合物は、シクロオレフィンポリマー中に０．１〜３０質量％含有させることが必要であり、好ましくは１〜２５質量％、より好ましくは３〜２０質量％、特に好ましくは５〜１５質量％である。
【００４２】
一般式（Ａ）で表される化合物は、下記シクロオレフィンポリマーと一緒に後述する溶融流延法によって均一に混練溶融され、光学フィルムを形成する。
【００４３】
（シクロオレフィンポリマー）
本発明に用いられるシクロオレフィンポリマーは脂環式構造を有する重合体樹脂からなるものである。
【００４４】
好ましいシクロオレフィンポリマーは、シクロオレフィンを重合または共重合した樹脂である。シクロオレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。これらシクロオレフィンには置換基として極性基を有していてもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、エステル基、カルボキシル基またはカルボン酸無水物基が好適である。
【００４５】
好ましいシクロオレフィンポリマーは、シクロオレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテンなどのエチレンまたはα−オレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
【００４６】
シクロオレフィンは、付加重合反応或いはメタセシス開環重合反応によって得られる。重合は触媒の存在下で行われる。付加重合用触媒として、例えば、バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。開環重合用触媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金などの金属のハロゲン化物、硝酸塩またはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる重合触媒；或いは、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデンなどの金属のハロゲン化物またはアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常−５０℃〜１００℃の重合温度、０〜４９０Ｎ／ｃｍ2の重合圧力で重合させる。
【００４７】
本発明に用いられるシクロオレフィンポリマーは、シクロオレフィンを重合または共重合させた後、水素添加反応させて、分子中の不飽和結合を飽和結合に変えたものであることが好ましい。水素添加反応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素を吹き込んで行う。水素化触媒としては、酢酸コバルト／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド／ｎ−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリド／ｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート／ジメチルマグネシウムの如き遷移金属化合物／アルキル金属化合物の組み合わせからなる均一系触媒；ニッケル、パラジウム、白金などの不均一系金属触媒；ニッケル／シリカ、ニッケル／けい藻土、ニッケル／アルミナ、パラジウム／カーボン、パラジウム／シリカ、パラジウム／けい藻土、パラジウム／アルミナの如き金属触媒を担体に担持してなる不均一系固体担持触媒などが挙げられる。
【００４８】
シクロオレフィンポリマーとして、下記のノルボルネン系ポリマーが好ましい。ノルボルネン系ポリマーは、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報、特開平５−３９４０３号公報、特開平５−４３６６３号公報、特開平５−４３８３４号公報、特開平５−７０６５５号公報、特開平５−２７９５５４号公報、特開平６−２０６９８５号公報、特開平７−６２０２８号公報、特開平８−１７６４１１号公報、特開平９−２４１４８４号公報等に記載されたものが好ましく利用できるが、これらに限定されるものではない。また、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
本発明においては、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式（Ｉ）〜（IV）のいずれかで表される繰り返し単位を有するものが好ましい。
【００５０】
【化１】
0005509515.tif 000002
【００５１】
前記構造式（Ｉ）〜（IV）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、各々独立して、水素原子または１価の有機基を表す。
【００５２】
また、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式（Ｖ）または（VI）で表される化合物の少なくとも１種と、これと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体も好ましい。
【００５３】
【化２】
0005509515.tif 000003
【００５４】
前記構造式中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、各々独立して、水素原子または１価の有機基を表す。
【００５５】
ここで、上記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは特に限定されないが、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、または、少なくとも２価の連結基を介して有機基が連結されてもよく、これらは同じであっても異なっていてもよい。また、ＡまたはＢとＣまたはＤは単環または多環構造を形成してもよい。ここで、上記少なくとも２価の連結基とは、酸素原子、イオウ原子、窒素原子に代表されるヘテロ原子を含み、例えばエーテル、エステル、カルボニル、ウレタン、アミド、チオエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、上記連結基を介し、上記有機基は更に置換されてもよい。
【００５６】
また、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィン、及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどのシクロオレフィン、及びこれらの誘導体；１、４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどの非共役ジエン；などが用いられる。これらの中でも、α−オレフィン、特にエチレンが好ましい。
【００５７】
これらの、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーは、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて使用することができる。ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとを付加共重合する場合は、付加共重合体中のノルボルネン系モノマー由来の構造単位と共重合可能なその他のモノマー由来の構造単位との割合が、質量比で通常３０：７０〜９９：１、好ましくは５０：５０〜９７：３、より好ましくは７０：３０〜９５：５の範囲となるように適宜選択される。
【００５８】
合成したポリマーの分子鎖中に残留する不飽和結合を水素添加反応により飽和させる場合には、耐光劣化や耐候劣化性などの観点から、水素添加率を９０％以上、好ましくは９５％以上、特に好ましくは９９％以上とする。
【００５９】
この他、本発明で用いられるシクロオレフィンポリマー（樹脂）としては、特開平５−２１０８号公報段落番号［００１４］〜［００１９］記載の熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂、特開２００１−２７７４３０号公報段落番号［００１５］〜［００３１］記載の熱可塑性ノルボルネン系ポリマー、特開２００３−１４９０１号公報段落番号［０００８］〜［００４５］記載の熱可塑性ノルボルネン系樹脂、特開２００３−１３９９５０号公報段落番号［００１４］〜［００２８］記載のノルボルネン系樹脂組成物、特開２００３−１６１８３２号公報段落番号［００２９］〜［００３７］記載のノルボルネン系樹脂、特開２００３−１９５２６８号公報段落番号［００２７］〜［００３６］記載のノルボルネン系樹脂、特開２００３−２１１５８９号公報段落番号［０００９］〜［００２３］脂環式構造含有重合体樹脂、特開２００３−２１１５８８号公報段落番号［０００８］〜［００２４］記載のノルボルネン系重合体樹脂若しくはビニル脂環式炭化水素重合体樹脂などが挙げられる。
【００６０】
具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
【００６１】
本発明で使用されるシクロオレフィンポリマーの分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常、５０００〜５０００００、好ましくは８０００〜２０００００、より好ましくは１００００〜１０００００の範囲である時に、成形体の機械的強度、及び成形加工性とが高度にバランスされて好適である。
【００６２】
シクロオレフィンポリマーは、フィルム成形する際に一般的に樹脂フィルムに配合することができる添加剤を含有していてもよい。そのような添加剤としては、熱安定剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、可塑剤、及び充填剤などが挙げられ、その含有量は本発明の目的を損ねない範囲で選択することができる。
【００６３】
例えば、シクロオレフィンポリマー１００質量部に対して、低揮発性の酸化防止剤を０．０１〜５質量部の割合で配合すると、成形加工時のポリマーの分解や着色を効果的に防止することができる。
【００６４】
酸化防止剤としては、２０℃における蒸気圧が１０-5Ｐａ以下、特に好ましくは１０-8Ｐａ以下の酸化防止剤が望ましい。蒸気圧が１０-5Ｐａより高い酸化防止剤は、押出成形する場合に発泡したり、また、高温にさらされた時に成形品の表面から酸化防止剤が揮散するという問題が起こる。
【００６５】
本発明で使用できる酸化防止剤としては、例えば、次のようなものを挙げることができ、これらのうちの一種または数種を組み合わせて用いてもよい。
【００６６】
ヒンタードフェノール系：２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−α−メトキシ−ｐ−ジメチル−フェノール、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノール、ｔ−ブチル−ｍ−クレゾール、４−ｔ−ブチルフェノール、スチレン化フェノール、３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、４，４′−ビスフェノール、４，４′−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−α−メチルシクロヘキシルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、１，１′−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルナフトール）、４，４′−ブチリデン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−メタ−クレゾール）、２，２′−チオ−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ジ−ｏ−クレゾールスルフィド、２，２′−チオ−ビス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス−（２，３−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、１，１′−チオ−ビス−（２−ナフトール）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルエーテル、１，６−ヘキサンジオール−ビス−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウム、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシジェニル）プロピオネート〕等。
【００６７】
アミノフェノール類：ノルマルブチル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルブチロイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルペラゴノイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルラウロイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルステアロイル−ｐ−アミノフェノール、２、６−ジ−ｔ−ブチル−α−ジメチル、アミノ−ｐ−クレゾール等。
【００６８】
ハイドロキノン系：ハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノン、ハイドロキノンメチルエーテル、ハイドロキノンモノベンジルエーテル等。
【００６９】
ホスファイト系トリホスファイト、トリス（３，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）フォスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンフォスファナイト、２−エチルヘキシルオクチルフォスファイト等。
【００７０】
その他：２−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛塩、ジカテコールボレート−ジ−ｏ−トリルグアニジン塩、ニッケル−ジメチルジチオカーバメイト、ニッケル−ペンタメチレンンジチオカルバネート、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩等。
【００７１】
（ヒンダードアミン系安定剤）
ヒンダードアミン系安定剤を樹脂に添加することで、４００ｎｍといった短波長の光を継続的に照射した場合の白濁や、屈折率の変動等の光学特性変動を高度に抑制することができる。ヒンダードアミン系安定剤の含有量は、樹脂１００質量部に対し、０．０５〜２質量部であることが好ましく、より好ましくは、０．１〜１質量部である。
【００７２】
また、好ましいヒンダードアミン系安定剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルデカン）ジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【００７３】
（帯電防止剤）
本発明の光学フィルムは帯電防止剤を含有することが好ましく、樹脂１００質量部に対し、帯電防止剤を０．００１〜２．０質量部含有することが好ましい。
【００７４】
帯電防止剤としては、特に制限はなく、公知の帯電防止剤を用いることができるが、その中でも、アニオン性帯電防止剤、カチオン性帯電防止剤、非イオン性帯電防止剤、両性イオン性帯電防止剤、高分子帯電防止剤及び導電性微粒子から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、更に好ましくは導電性微粒子であり、特に好ましくは酸化セリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン及び酸化シリコンから選ばれる少なくとも１種である。
【００７５】
アニオン性帯電防止剤としては、例えば、脂肪酸塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステル塩類、脂肪族アミン及び脂肪属アマイドの硫酸塩類、脂肪属アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類、脂肪族アミドスルホン酸塩類、アルキルアリルスルホン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリンスルホン酸塩類等が挙げられ、カチオン性帯電防止剤としては、例えば、脂肪族アミン塩類、第４級アンモニウム塩類、アルキルピリジニウム塩等が挙げられる。非イオン性帯電防止剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル類等が挙げられ、両性イオン性帯電防止剤としては、例えば、イミダゾリン誘導体、ベタイン型高級アルキルアミノ誘導体、硫酸エステル誘導体、リン酸エステル誘導体等が挙げられ、具体的な化合物は、丸茂秀雄著「帯電防止剤  高分子の表面改質」幸書房、増補「プラスチック及びゴム用添加剤実用便覧  ｐ３３３〜ｐ４５５」化学工業社刊、特開平１１−２５６１４３号、特公昭５２−３２５７２号、特開平１０−１５８４８４号等に記載されている。
【００７６】
好ましい帯電防止剤としては、アニオン性帯電防止剤やカチオン性帯電防止剤といったイオン性高分子化合物を挙げることができる。イオン性高分子化合物としては、特公昭４９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５７−１８１７６号、同５７−５６０５９号等にみられるような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマー：特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３号、同６２−９３４６号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー、特開平５−２３０１６１号にみられるようなグラフト共重合体等を挙げることができる。
【００７７】
また、本発明において特に好ましく用いることのできる導電性微粒子としては、金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ2、Ｖ2Ｏ5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特に、ＣｅＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、及びＳｉＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えば、ＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ2に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。
【００７８】
本発明においては、導電性微粒子の平均微粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５〜１００ｎｍである。導電性微粒子の平均微粒子径が１００ｎｍ以下であれば、樹脂材料に含有した際に、十分な帯電特性を付与できると共に、樹脂材料の透明性を損なうことがないため好ましい。
【００７９】
特に好ましい帯電防止剤は、帯電防止性能と添加量の関係から、表面固有抵抗値が１×１０10Ω以下のものが好ましい。表面固有抵抗値は、試料を２３℃、５０％ＲＨの雰囲気で２４時間調湿した後、超絶縁計を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ２５７に準拠し測定する。
【００８０】
また、本発明において好ましく用いることのできる帯電防止剤は、特開平９−２０３８１０号に記載されているアイオネン導電性ポリマー或いは分子間架橋を有する第４級アンモニウムカチオン導電性ポリマー等である。
【００８１】
架橋型カチオン性導電性ポリマーの特徴は、得られる分散性粒状ポリマーにあり、微粒子内のカチオン成分を高濃度、高密度にもたせることができるため、優れた導電性を有しているばかりでなく、樹脂との相溶性が良く、高い透明性が選られることにある、更に低相対湿度下においても導電性の劣化は見られない。
【００８２】
帯電防止に用いられる架橋型のカチオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一般に約０．０１〜０．３μｍの微粒子サイズ範囲にあり、好ましくは０．０５〜０．１５μｍの範囲の微粒子サイズが用いられる。
【００８３】
本発明において、上記で説明した各帯電防止剤は、シクロオレフィンポリマー１００質量部に対して、０．００１〜２．０質量部の範囲で添加することが好ましく、帯電防止剤の添加量が０．００１質量部以上、２．０質量部以下である場合、樹脂材料への埃や塵の付着を効果的に抑制でき、樹脂材料の光透過率を所望の値に維持できる。尚、帯電防止剤の添加量は、シクロオレフィンポリマー１００質量部に対して０．００５〜１．０質量部であることが好ましく、０．０１〜０．５質量部が更に好ましい。
【００８４】
本発明においては、上記帯電防止剤及び一般に防汚のために用いられるフッ素化合物を含有した層を樹脂に設けることによっても同様の効果を得られる。
【００８５】
また、本発明の光学フィルムの性能を得るために、帯電防止剤の少なくとも１種を含む層（帯電防止層）を光学フィルム表面に設けるようにしてもよい。
【００８６】
帯電防止層は、前述の帯電防止剤を有する混合物を光学素子表面に塗布することにより設けてもよいし、蒸着のような方法によって設けてもよい。尚、帯電防止層の厚さは、５０μｍ以上、３００μｍ以下であることが好ましい。
【００８７】
（その他の安定剤）
樹脂には、フェノール系安定剤、リン系安定剤、イオウ系安定剤の中から選ばれた１種以上の安定剤を追加して添加してもよい。これら安定剤を適宜選択し、樹脂に添加することで、４００ｎｍといった短波長の光を継続的に照射した場合の白濁や、屈折率の変動等の光学特性変動をより高度に抑制することができる。
【００８８】
好ましいフェノール系安定剤としては、従来公知のものが使用でき、例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレート等の特開昭６３−１７９９５３号公報や特開平１−１６８６４３号公報に記載されるアクリレート系化合物；オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、トリエチレングリコール  ビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）等のアルキル置換フェノール系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物；等が挙げられる。
【００８９】
また、好ましいリン系安定剤としては、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等が特に好ましい。
【００９０】
また、好ましいイオウ系安定剤としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【００９１】
これらの安定剤の配合量は、本発明の目的を損なわれない範囲で適宜選択されるが、樹脂１００質量部に対して通常０．０１〜２質量部、好ましくは０．０１〜１質量部である。
【００９２】
（可塑剤）
樹脂としてノルボルネン樹脂を用いる場合には、可塑剤として、アジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）、アジピン酸ビス（２−ブトキシエチル）、アゼライン酸ビス（２−エチルヘキシル）、ジプロピレングリコールジベンゾエート、クエン酸トリ−ｎ−ブチル、クエン酸トリ−ｎ−ブチルアセチル、エポキシ化大豆油、２−エチルヘキシルエポキシ化トール油、塩素化パラフィン、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリクレジル、リン酸−ｔ−ブチルフェニル、リン酸トリ−２−エチルヘキシルジフェニル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ジシクロヘキシル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、トリメリット酸トリ−２−エチルヘキシル、Ｓａｎｔｉｃｉｚｅｒ  ２７８、Ｐａｒａｐｌｅｘ  Ｇ４０、Ｄｒａｐｅｘ  ３３４Ｆ、Ｐｌａｓｔｏｌｅｉｎ  ９７２０、Ｍｅｓａｍｏｌｌ、ＤＮＯＤＰ−６１０、ＨＢ−４０等の公知のものが適用可能である。可塑剤の選定及び添加量の決定は、樹脂の透過性や環境変化に対する耐性を損なわないことを条件に適宜行なわれる。
【００９３】
本発明においては、上記の樹脂に更に他の樹脂を配合することもできる。他の樹脂は、本発明の目的を損なわない範囲内で添加される。
【００９４】
ここで、樹脂に添加し得る他の樹脂を以下に例示する。
【００９５】
（１）１個または２個の不飽和結合を有する炭化水素から誘導される重合体で、具体的には、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルブタ−１−エン、ポリ４−メチルペンタ−１−エン、ポリブタ−１−エン及びポリスチレン等のポリオレフィンが挙げられる。尚これらのポリオレフィンは架橋構造を有していてもよい。
【００９６】
（２）ハロゲン含有ビニル重合体で、具体的にはポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロプレン、塩素化ゴム等が挙げられる。
【００９７】
（３）α，β−不飽和酸とその誘導体から誘導された重合体で、具体的にはポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、または前記の重合体を構成するモノマーとの共重合体、例えばアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、アクリロニトリル・スチレン共重合体、アクリロニトリル・スチレン・アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
【００９８】
（４）不飽和アルコール及びアミン、または不飽和アルコールのアシル誘導体またはアセタールから誘導される重合体で、具体的にはポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート、ポリアリルメラミン、または前記重合体を構成するモノマーとの共重合体、例えばエチレン・酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
【００９９】
（５）エポキシドから誘導される重合体で、具体的にはポリエチレンオキシドまたはビスグリシジルエーテルから誘導された重合体等が挙げられる。
【０１００】
（６）ポリアセタール類で、具体的にはポリオキシメチレン、ポリオキシエチレン、コモノマーとしてエチレンオキシドを含むようなポリオキシメチレン等が挙げられる。
【０１０１】
（７）ポリフェニレンオキシド（８）ポリカーボネート（９）Ｓポリスルフォン（１０）ポリウレタン及び尿素樹脂等が挙げられる。
【０１０２】
（１１）ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミノカルボン酸、または相応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミドで、具体的にはナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２等が挙げられる。
【０１０３】
（１２）ジカルボン酸及びジアルコール及び／またはオキシカルボン酸、または相応するラクトンから誘導されたポリエステルで、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ１，４−ジメチロール・シクロヘキサンテレフタレート等が挙げられる。
【０１０４】
（１３）アルデヒドとフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋構造を有した重合体で、具体的には、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、尿素・ホルムアルデヒド樹脂、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。
【０１０５】
（１４）アルキッド樹脂で、具体的にはグリセリン・フタル酸樹脂等が挙げられる。
【０１０６】
（１５）飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルから誘導され、架橋剤としてビニル化合物を使用して得られる不飽和ポリエステル樹脂ならびにハロゲン含有改質樹脂等が挙げられる。
【０１０７】
（１６）天然重合体で、具体的にはセルロース、ゴム、蛋白質、或いはそれらの誘導体例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、セルロースエーテル等が挙げられる。
【０１０８】
（１７）軟質重合体、例えば、環状オレフィン成分を含む軟質重合体、α−オレフィン系共重合体、α−オレフィン・ジエン系共重合体、芳香族ビニル系炭化水素・共役ジエン系軟質共重合体、イソブチレンまたはイソブチレン・共役ジエンからなる軟質重合体または共重合体等が挙げられる。
【０１０９】
（１８）側鎖に脂環式環状構造を有する炭化水素系重合体が挙げられる。
【０１１０】
樹脂バインダーと、他の樹脂成分や添加剤等との混合方法としては、それ自体公知の方法が適用できる。例えば各成分を同時に混合する方法等である。
【０１１１】
（溶融流延法）
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィンポリマーと前記一般式（Ａ）で表される化合物、更に各種添加剤とを好ましくは溶融混練し光学フィルムとするものである。
【０１１２】
上記シクロオレフィンポリマーを用いたフィルムの成形方法は格別な限定はなく、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができるが、本発明では加熱溶融成形法であることが好ましい。加熱溶融成形法は、更に詳細に、押し出し成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押し出し成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押し出し成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、通常１５０〜４００℃、好ましくは２００〜３５０℃、より好ましくは２３０〜３３０℃の範囲で適宜設定される。樹脂温度が過度に低いと流動性が悪化し、フィルムにヒケやひずみを生じ、樹脂温度が過度に高いと樹脂の熱分解によるボイド等が発生したり、フィルムが黄変するなどの成形不良が発生するおそれがある。フィルムの厚みは、通常５〜３００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１００μｍの範囲である。厚みが薄過ぎる場合は、積層時の取り扱いが困難となり、厚過ぎる場合は、積層後の乾燥時間が長くなって生産性が低下する。
【０１１３】
フィルムの幅は１．４ｍ以上が生産性の点から好ましい。より好ましくは１．４〜４ｍの範囲である。本発明によれば、１．４ｍ以上の幅広のフィルムを用いても、ムラのない光学フィルムを形成することができる。
【０１１４】
上記シクロオレフィンポリマーフィルムを本発明に係る光学フィルムに適用するには、シートを少なくとも一軸方向に延伸することが好ましく、より好ましくは幅方向に延伸することである。尚、実質的な一軸延伸、例えば、分子の配向に影響のない範囲で延伸した後、分子を配向させるべく一軸方向に延伸する二軸延伸であってもよい。好ましくは二軸延伸であり、延伸するにはテンター装置等を用いることが好ましい。
【０１１５】
延伸倍率は１．１〜１０倍、好ましくは１．２〜８倍であることが好ましい。延伸倍率が低過ぎると平面性が劣化したり所望の光学性能が発現しなかったり、高過ぎると破断することもある。
【０１１６】
延伸は、通常、シートを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋５０℃、好ましくはＴｇ〜Ｔｇ＋４０℃の温度範囲で行われる。延伸温度が低過ぎると破断し、高過ぎると分子配向しないため、平面性の劣化や所望の光学性能が得られない。
【０１１７】
この様にして得たフィルムは、延伸により分子が配向されて、所望の大きさのリターデーションを持たせることができる。
【０１１８】
本発明では、光学フィルムのリターデーション値が、下記式（ａ）、（ｂ）を満たすことにより、リターデーションの波長分散性を改善し、液晶ディスプレイの色抜け、着色を防止し、全方位で高いコントラスト比を実現するものである。
【０１１９】
式（ａ）  ０．７０≦Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（６３０）≦０．９９
式（ｂ）  ０．７０≦Ｒｔｈ（４８０）／Ｒｔｈ（６３０）≦０．９９
式中、Ｒｅ（４８０）、Ｒｅ（６３０）、Ｒｔｈ（４８０）、Ｒｔｈ（６３０）は、各々波長４８０ｎｍもしくは６３０ｎｍで測定した時の、下記式で定義されるフィルム面内のリターデーション（Ｒｅ）、フィルム厚み方向のリターデーション（Ｒｔｈ）を表す。
【０１２０】
式（ｉ）  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内で遅相軸に直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、ｄは各々の厚み（ｎｍ）を表す。）
リターデーションの測定は、例えば王子計測機器製ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて２３℃、５５％ＲＨの環境下で行うことができる。また、厚み方向のリターデーションを計算する際には、アッベの屈折計を用いて各層の該当波長の屈折率を測定した値を用いた。
【０１２１】
本発明の光学フィルムが上記式（ａ）、式（ｂ）で表される波長分散性を満たすには、本発明に係るシクロオレフィンポリマーの種類や添加量、一般式（Ａ）で表される化合物の種類や添加量を調整すること以外に、用いられる添加剤の種類や添加量、溶融流延時の温度、時間等の製造条件やフィルムの延伸操作により制御することが可能である。特にフィルムの延伸操作による制御を併用することが好ましい。
【０１２２】
リターデーションは、延伸前のシートのリターデーションと延伸倍率、延伸温度、延伸配向フィルムの厚さにより制御することができる。延伸前のシートが一定の厚さの場合、延伸倍率が大きいフィルムほどリターデーションの絶対値が大きくなる傾向があるので、延伸倍率を変更することによって所望のリターデーションの位相差フィルムを得ることができる。
【０１２３】
本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして用いる場合、好ましいリターデーション値は、フィルム厚み方向のリターデーション値Ｒｔｈが−３００〜３００ｎｍ、フィルム面内方向のリターデーション値Ｒｅが０〜１００ｎｍであり、更に好ましいＲｅは０〜７０ｎｍである。
【０１２４】
リターデーションのバラツキは小さいほど好ましく、位相差フィルムとしては、波長５５０ｎｍのリターデーションのバラツキが通常±１０ｎｍ以内、好ましくは±５ｎｍ以下、より好ましくは±１ｎｍ以下の小さなものである。
【０１２５】
リターデーションの面内でのバラツキや厚さムラは、それらの小さな延伸前のシートを用いる他、延伸時にシートに応力が均等にかかるようにすることにより、小さくすることができる。そのためには、均一な温度分布下、好ましくは±５℃以内、更に好ましくは±２℃以内、特に好ましくは±０．５℃以内に温度を制御した環境で延伸することが望ましい。
【０１２６】
また、液晶ディスプレイ用に使用される本発明の光学フィルムは、バックライトを効率的に利用する観点、及び表示の鮮明さの観点から低ヘイズであることが望まれる。延伸終了後のフィルムヘイズ値は１．５％以内が好ましく、１．０％以内がより好ましく、０．８％未満が最も好ましい。
【０１２７】
光学フィルムのヘイズはＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って、ヘイズメーター（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定し、透明性の指標とした。
【０１２８】
《偏光板》
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の光学フィルムの裏面側を、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、プライマー溶液を介して貼り合わせることが好ましい。プライマー溶液としては、無水マレイン酸変性スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物を、溶媒に溶解させたものなどを好ましく用いることができる。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。別の偏光板保護フィルムには、ハードコート層、防眩性ハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防汚層等の機能性層を設けることが好ましい。市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ−Ｎ、以上コニカミノルタオプト（株）製）も好ましく用いられる。
【０１２９】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルム、別の偏光板保護フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。
【０１３０】
《表示装置》
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することができる。本発明の光学フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に波長分散性に優れている為、ＭＶＡ型液晶表示装置、ＩＰＳ型液晶表示装置に用いられ、顕著な効果が認められる。特に、色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０１３１】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３２】
最初に実施例で用いる素材について記載する。
【０１３３】
〈ポリマーＸ１の合成〉
攪拌機、２個の滴下ロート、ガス導入管及び温度計の付いたガラスフラスコに、メタクリル酸メチルと２−ヒドロキシエチルアクリレートを、モル比８０：２０の割合で混ぜて混合液４０ｇを作り、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸２ｇ及びトルエン３０ｇを仕込み、９０℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、上記混合比の混合液６０ｇを３時間かけて滴下すると共に、同時にもう一方のロートからトルエン１４ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．４ｇを３時間かけて滴下した。その後更に、トルエン５６ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを２時間かけて滴下した後、更に２時間反応を継続させ、ポリマーＸ１を得た。このポリマーＸ１の重量平均分子量は８０００であった。
【０１３４】
〈ポリマーＸ２の合成〉
上記ポリマーＸ１の合成において、２−ヒドロキシエチルアクリレートのかわりに２−ヒドロキシエチルメタクリレートを用いて同様な合成手順を行い、ポリマーＸ２を得た。このポリマーＸ２の重量平均分子量は８２００であった。
【０１３５】
〈ポリマーＸ３〜６の合成〉
上記ポリマーＸ２の合成において、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸の添加量、アゾビスイソブチロニトリルの添加速度を変更して、分子量の異なるポリマーＸ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６を作製した。ポリマーＸ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６の重量平均分子量はそれぞれ５００、１２００、２５０００、３５０００であった。
【０１３６】
（分子量測定）
重量平均分子量の測定は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した。
【０１３７】
測定条件は以下の通りである。
【０１３８】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【０１３９】
〈シクロオレフィンポリマーの合成〉
エチレン雰囲気下、容量１．６ｌのオートクレーブにノルボルネン濃度が２０ｍｏｌ／ｌで、総液量が６４０ｍｌとなるようにトルエンとフェニルノルボルネン−トルエン溶液を入れた。メチルアルミノキサン（アルベマール社製、ＭＡＯ２０％トルエン溶液）をＡｌ基準で５．８８ｍｍｏｌ、メチレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド１．５μｍｏｌを添加し、エチレンを導入して圧力を０．２ＭＰａに保持しながら、８０℃で６０分間反応させた。
【０１４０】
反応終了後、放冷しながらエチレンを脱圧し、系内を窒素で置換した。その後、吸着水分量を１０質量％に調整したシリカ（富士シリシア社製、グレード：Ｇ−３粒径：５０μｍ）を３．０ｇ加えて１時間反応させた。その反応液を濾紙（５Ｃ、９０ｍｍ）とセライト（和光純薬工業社）をセットした加圧ろ過器（アドバンテック東洋株式会社、型式ＫＳＴ−９０−ＵＨ）に入れ、窒素で加圧ろ過して重合液を回収した。その重合液を５倍量のアセトン中に少量ずつ滴下して析出させ、シクロオレフィンポリマーＣ１を得た。Ｃ１の重量平均分子量は１４２，０００であり、またガラス転移温度は１４０℃であった。
【０１４１】
実施例１
（光学フィルムＦ１の作製）
上記で合成したシクロオレフィンポリマーＣ１とポリマーＸ１を９０：１０の割合で混ぜ、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて７０℃で２時間乾燥して水分を除去した後に、６５ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押し出し成形機（Ｔダイ幅５００ｍｍ）を使用し、溶融樹脂温度２４０℃、Ｔダイ温度２４０℃の成形条件にて、膜厚１００μｍの光学フィルムＦ１を押し出し成形した。
【０１４２】
（光学フィルムＦ２の作製）
上記光学フィルムＦ１の作製において、ポリマーＸ１のかわりにポリマーＸ２を用いて同様の手順を行い、表１記載の膜厚の光学フィルムＦ２を得た。
【０１４３】
（光学フィルムＦ３の作製）
上記光学フィルムＦ１の作製において、重合体樹脂Ｃ１のかわりにＺＥＯＮＯＲ１４２０（日本ゼオン社製）を用いて同様の手順を行い、表１記載の膜厚の光学フィルムＦ３を得た。
【０１４４】
（光学フィルムＦ４の作製）
上記光学フィルムＦ１の作製において、重合体樹脂Ｃ１のかわりにアートンＦ（ＪＳＲ社製）を用いて同様の手順を行い、表１記載の膜厚の光学フィルムＦ４を得た。
【０１４５】
（光学フィルムＦ５の作製）
上記光学フィルムＦ１の作製において、ポリマーＸ１のかわりにスチレン−無水マレイン酸共重合体（積水化学工業（株）製、商品名：ダイラークＤ３３２）を用いて同様の手順を行い、表１記載の膜厚の光学フィルムＦ５を得た。
【０１４６】
（光学フィルムＦ６の作製）
上記光学フィルムＦ１の作製において、ポリマーＸ１のかわりにポリスチレン（新日鉄化学製、ＨＲＭ２２１１Ｌ）を用いて同様の手順を行い、表１記載の膜厚の光学フィルムＦ６を得た。
【０１４７】
（光学フィルムＦ７の作製）
上記光学フィルムＦ１の作製において、ポリマーＸ１のかわりにアクリル樹脂であるダイヤナールＢＲ１０８（三菱レイヨン社製）を用いて同様の手順を行い、表１記載の膜厚の光学フィルムＦ７を得た。
【０１４８】
（光学フィルムＦ８〜１４の作製）
上記光学フィルムＦ１の作製において、重合体樹脂の種類、及び重合体樹脂と混合するポリマーの種類、量を表１を基に調製し、光学フィルムＦ１の作製と同様の手順を行って表１記載の膜厚の光学フィルムＦ８〜Ｆ１４を得た。
【０１４９】
（光学フィルムＦ１５〜１８の作製）
上記光学フィルムＦ１の作製において、ポリマーＸ１のかわりにポリマーＸ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６を用いて同様の手順を行い、表１記載の膜厚の光学フィルムＦ１５、Ｆ１６、Ｆ１７、Ｆ１８を得た。
【０１５０】
（光学フィルムＦ１９、２０の作製）
上記作製した光学フィルムＦ１及びＦ９を１５０℃で、テンター装置によりフィルム幅手方向に１５％一軸延伸し、それぞれ表１記載の膜厚の光学フィルムＦ１９、Ｆ２０を得た。
【０１５１】
〈評価〉
（リターデーションの測定）
自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下２４時間放置したフィルムにおいて、同環境下、波長が５９０ｎｍにおけるフィルムのリターデーション測定を行った。アッベ屈折率計で測定したフィルム構成材料の平均屈折率と膜厚ｄを入力し、面内リターデーション（Ｒｅ）及び厚み方向のリターデーション（Ｒｔｈ）の値を得た。また、上記装置によって３次元屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの値が算出される。
【０１５２】
式（ｉ）  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内で遅相軸に直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、ｄは各々の厚み（ｎｍ）を表す。）
次いで、測定波長を４８０ｎｍ、６３０ｎｍに変えて、該当波長のリターデーション値Ｒｅ（４８０）、Ｒｅ（６３０）、Ｒｔｈ（４８０）、Ｒｔｈ（６３０）の値を得、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（６３０）及び、Ｒｔｈ（４８０）／Ｒｔｈ（６３０）を求めた。結果を表１に示した。
【０１５３】
【表１】
0005509515.tif 000004
【０１５４】
〈偏光板の作製〉
（プライマー溶液の調製）
無水マレイン酸変性スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物（タフテックＭ１９１３、旭化成工業社製；メルトインデックス値は２００℃、４９Ｎ荷重で４．０ｇ／１０分、スチレンブロック含有量３０％、水素添加率８０％以上、無水マレイン酸付加量２％）２部を、キシレン８部とメチルイソブチルケトン４０部の混合溶媒に溶解し、孔径１μｍのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターでろ過してプライマー溶液とした。
【０１５５】
（偏光板１〜２０の作製）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液１００ｋｇに浸漬し５０℃で６倍に延伸して膜厚２５μｍの偏光子を作った。
【０１５６】
上記作製した光学フィルムＦ１〜Ｆ２０と、上記作製した偏光子とを、調製したプライマー溶液を介して接着し、もう一方には４０℃の２．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液にて鹸化処理を施した４ＵＹ（コニカミノルタオプト（株）製）を、全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として貼り合わせ乾燥させて、偏光板１〜２０を作製した。
【０１５７】
〈評価〉
（ヘイズ測定）
上記作製した光学フィルムＦ１〜Ｆ２０のヘイズを、ヘーズメーターＮＤＨ２０００（日本電色工業社製）を用いて測定した。
【０１５８】
（視野角変動）
〈液晶表示装置の作製〉
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
【０１５９】
ＳＯＮＹ製２０型ディスプレイＫＬＶ−２０ＡＰ２の予め貼合されていた裏側（バックライト側）の偏光板のみを剥がして、上記作製した偏光板１〜２０を４ＵＹがバックライト側になるようそれぞれ液晶セルのガラスに貼合した。その際、偏光板の貼合の向きは、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置１〜２０を作製した。
【０１６０】
以上のようにして作製した液晶表示装置１〜２０を用いて下記の評価を行った。
【０１６１】
２３℃、５５％ＲＨの環境で、ＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて液晶表示装置の視野角測定を行った。続いて上記偏光板を６０℃、９０％ＲＨで１０００時間処理したものを同様に測定し、下記基準で３段階評価した。
【０１６２】
◎：視野角変動がない
△：視野角変動が認められる
×：視野角変動が非常に大きい
（カラーシフト）
上記記載の視野角評価と同様に偏光板を貼り付け、液晶表示装置１〜２０を作製した。次に、ディスプレイを黒表示にし、斜め４５°の角度から観察した際の色変化を下記基準で評価した。
【０１６３】
◎：色変化が全くない
○：色変化が僅かに認められる
×：色変化が非常に大きい
以上の評価の結果を表２に示す。
【０１６４】
【表２】
0005509515.tif 000005
【０１６５】
表２から、本発明の光学フィルムは、ヘイズ値が低くシクロオレフィンポリマーとポリマーとの相溶性が良好である。表２から本発明の光学フィルム、それを用いた液晶表示装置は、比較例に対し、カラーシフト、視野角変動に優れており、充分な耐熱性を所持したまま最適な波長分散特性を有する光学フィルム、液晶表示装置であることが分かる。
【０１６６】
実施例２
実施例１の視野角測定を行った液晶パネル  ＳＯＮＹ製２０型ディスプレイＫＬＶ−２０ＡＰ２の替わりに、ＩＰＳ型液晶表示装置である日立製液晶テレビ  Ｗｏｏｏ  Ｗ１７−ＬＣ５０の予め貼合されていた表側（観察者側）の偏光板のみを剥がして、実施例１で作製した偏光板１〜２０を、光学フィルムＦ１〜Ｆ２０がそれぞれ液晶セルのガラス面側になるように貼合した。
【０１６７】
作製した液晶表示装置を用いて、実施例１と同様な視野角変動及びカラーシフトの評価を実施したところ、本発明の光学フィルムは、実施例１を再現し、カラーシフト、視野角変動に優れていることが確認できた。