(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気的に動作される放電によって光学放射を生成する装置であって、
少なくとも２つの電極であって、前記電極間のガス媒体内のプラズマの点火を可能にする互いから離間されて放電空間内に配されている少なくとも２つの電極と、
前記放電空間を通って移動する表面に液体材料を供給する装置と、
供給された前記液体材料を少なくとも部分的に蒸発させている前記表面上への１つ又は複数のパルスエネルギビームを指向するエネルギビーム装置であって、これにより前記ガス媒体の少なくとも一部を生成するエネルギビーム装置と、
を有する装置であって、前記エネルギビーム装置は前記表面の移動方向に対して垂直な前記表面上の方向の異なる複数の位置においてパルスエネルギビームのパルスを供給するように設計されている、装置。
【請求項２】
前記エネルギビーム装置は、前記装置の動作の間、前記表面における衝突点の周期的な繰り返しパターンを達成するように前記パルスエネルギビームのパルスを供給するように設計されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記エネルギビーム装置は、前記表面の移動方向に対して垂直な前記表面上の異なる複数の位置において前記パルスエネルギビームのパルスを供給する回転又は走査光学部品を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記液体材料を供給する装置は、前記液体材料を少なくとも１つの前記電極の表面に供給し、前記少なくとも１つの電極は、動作の間、回転において位置されることができる回転可能な車輪として設計されている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
生成される前記光学放射の特性を測定する放射センサを更に有する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
生成される前記光学放射の通路内に配されている光学アパーチャを更に有し、前記放射センサの幾つかは、このアパーチャ開口の周りに又は前記アパーチャ開口の境界に配されている、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記エネルギビーム装置に接続されていると共に、前記放射センサの測定データに依存して、前記放電を電気的に動作させる電流パルスのエネルギ及び形態又はコンデンサユニットの充電電圧を制御する制御ユニットを更に有する、請求項５又は６に記載の装置。
【請求項８】
前記放射センサの測定データに依存して、前記パルスエネルギの個々のパルスの各々のパルスエネルギ及び前記放電を電気的に動作させる電流パルスのエネルギ及び形態並びに又はコンデンサユニットの充電電圧を制御する制御ユニットを更に有する、請求項５又は６に記載の装置。
【請求項９】
電気的に動作される放電によって光学放射を生成する方法であって、
生成されるべき放射を発するプラズマが、放電空間における少なくとも２つの電極間のガス媒体において点火され、
前記ガス媒体は、少なくとも部分的に液体材料から生成され、前記液体材料は、前記放電空間内で移動する表面に供給され、少なくとも部分的に１つ又は複数のパルスエネルギビームによって蒸発され、
前記パルスエネルギビームのパルスは、前記表面の移動方向に対して垂直な前記表面上の方向の異なる複数の位置に指向されている、
方法。
【請求項１０】
前記複数のパルスエネルギビームの各々は、異なるエネルギビーム源によって生成されると共に、前記表面の移動方向に対して異なる横方向の場所に指向される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記表面の移動の間、前記１つのパルスエネルギビームが、前記異なる複数の位置に前記パルスエネルギビームのパルスを供給するために、前記表面の移動方向を横切って往復するように移動される、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記パルスエネルギビームのパルスが、衝突点の周期的に繰り返しているパターンが、前記表面の移動の間、前記表面において達成されるように、前記表面に供給される、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
生成される前記光学放射の特性が検出され、コンデンサユニットの充電電圧又は前記放電を電気的に動作させる電流パルスのエネルギ及び形態は、前記検出の測定データに依存して制御される、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
生成される前記光学放射の特性が検出され、コンデンサユニットの充電電圧又は放電を電気的に動作させるための電流パルスのエネルギ及び形態並びに前記パルスエネルギビームの各々の個々のパルスのパルスエネルギは、前記検出の測定データに基づいて制御される、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記電極の少なくとも一方は、動作の間の回転において設定され、前記液体材料は、前記電極の前記少なくとも一方の表面に供給される、請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気的に動作される放電によって、光学放射、特にＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成する方法及び装置であって、プラズマが放電空間内の少なくとも２つの電極間のガス媒体において点火され、前記プラズマは、生成されるべき放射を発し、前記ガス媒体は、前記放電空間内を移動する表面に供給される液体材料から少なくとも部分的に生成されると共に、１つ又は複数のパルスエネルギビームによって少なくとも部分的に蒸発される、方法及び装置に関する。このような放電ベースの（特に約１ｎｍと２０ｎｍとの間の波長範囲における）ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を発する光源は、主に、ＥＵＶリソグラフィ及び計測学の分野において必要とされている。
【背景技術】
【０００２】
上述の種類の光源において、前記放射は、パルス電流によって生成される熱プラズマから発される。金属蒸気による非常に強力なＥＵＶ放射生成装置が、前記必要なプラズマを生成するために動作される。このような装置の例は、国際特許出願公開第２００５／０２５２８０Ａ２号パンフレットに示されている。この既知のＥＵＶ放射生成装置において、前記金属蒸気は、前記放電空間内の表面に供給される金属溶融物から生成され、パルスエネルギビーム（特にレーザビーム）によって少なくとも部分的に蒸発される。この装置の好ましい実施例において、これら２つの電極は、回転可能に取り付けられており、当該装置の動作の間に回転される電極車輪を形成している。前記電極車輪は、回転の間、前記金属溶融物を有する容器内に浸漬する。パルスレーザビームは、供給される金属溶融物から金属蒸気を生成するために、前記電極のうちの一方の電極の表面に直接的に指向される。この蒸発は、充電されているコンデンサバンクに接続している２つの電極間に短絡回路をもたらして、電気放電を点火する。得られる電流は、所望のイオン化段階が励起され、所望の波長の放射がピンチプラズマから発されるように、前記金属蒸気を加熱する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ＥＵＶ放射を生成するためのこのような技術によって、当該放電領域の空間的な変動が発生し、この変動は、小さい放電ボリュームのピンチプラズマにより、無視できるものではない。更に、ＥＵＶ又は軟Ｘ線生成ボリュームの幾何学的な形態は、通常、このＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を使用する前記光学システムに適合化されておらず、しばしば、ＥＵＶ放射を、例えば、ＥＵＶリソグラフィの場合のレチクル及びウェハに導くための円形アパーチャを有する。従って、このような用途において、前記ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線は、効果的に使用されることができない。
【０００４】
本発明の目的は、電気的に動作される放電によって、光学放射、特にＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成する方法及び装置であって、一方では、生成される前記光学放射の更に有効な使用を可能にし、他方では前記装置のより高い出力を達成する、方法及び装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、添付の請求項１及び９に記載の装置及び方法によって達成される。当該方法及び装置の有利な実施例は、添付の従属請求項に記載の主題であり、以下の記載において更に説明される。
【０００６】
提案される方法において、プラズマは、放電空間内の少なくとも２つの電極間のガス媒体において点火され、前記プラズマは、生成されるべき放射を発する。このガス媒体は、前記放電空間内で移動する表面に供給される液体材料（特に、金属溶融物）から少なくとも部分的に生成されると共に、１つ又は幾つかのパルスエネルギビーム（例えば、イオン又は電子ビームであり、好ましい実施例においては、レーザビームであり得る）によって少なくとも部分的に蒸発される。前記パルスエネルギビームのパルスは、前記表面の移動方向に関して前記表面上の少なくとも２つの異なる横方向の場所に指向される。
【０００７】
対応する装置は、前記電極間のガス媒体におけるプラズマの点火を可能にする互いから離間されて放電空間内に配されている少なくとも２つの電極と、前記放電空間内で移動する表面に液体材料を供給する装置と、１つ又は複数のパルスエネルギビームを前記表面上に指向するエネルギビーム装置であって、供給される前記液体材料を少なくとも部分的に蒸発させ、これにより前記ガス媒体の少なくとも一部を生成するエネルギビーム装置とを有する。前記エネルギビーム装置は、前記表面の移動方向に関して少なくとも２つの異なる横方向の場所において前記表面上にパルスエネルギビームのパルスを供給するように設計されている。提案される当該装置は、こうでない場合、参照によって本願明細書に引用したものとする国際特許出願公開第２００５／０２５２８０Ａ２号パンフレットに記載されている装置のように構成されても良い。
【０００８】
提案される当該方法及び装置の主な見地は、プラズマ又は放電の点火のためのエネルギビームパルスを、当該移動表面の移動方向に対して少なくとも１つの横方向の位置だけでなく、前記移動方向に対して異なる横方向の位置又は場所においても供給することにある。本明細書において、「横方向」なる語は、この表面の移動方向に対して垂直な表面上の方向を意味する。この技術によって、前記放電のボリュームは、このボリュームが通常小さい延長部のみを有する方向に拡張される。前記放電クラウド又はボリュームの空間的な変動が、単一のパルスの供給と比較して変化し得ないので、前記放電ボリュームの相対的な変動は、提案される当該方法及び装置の場合、より小さい。更に、前記移動表面上の前記エネルギビームパルスの衝突点を適切に分配することによって、（前記放電ボリュームである）発光ボリュームは、前記発光ボリュームを光学システム（例えば、リソグラフィスキャナの光学システム）の受け入れ領域に最適に適応化させるための正しい仕方において成形されることができ、従って、生成される放射のより効果的な使用を可能にする。提案される当該方法及び装置の更なる有利な点は、光出力（即ち、生成される光放射の出力）を増大させる実現性である。本明細書の導入部において記載したような既知のＥＵＶ放射生成装置において、パルスからパルスまでの間隔が、前記液体材料を蒸発させるために前記移動表面の衝突点の離間が保持されるように、前記移動表面の移動速度に適合化されていなければならないので、前記光出力は、制限されている。前記移動方向に対して異なる横方向の位置において前記パルスを供給することによって、多数のパルスが、同じ時間間隔及び前記表面の移動速度において供給されることができる一方で、必要とされる距離を保持することができる。
【０００９】
有利な実施例において、前記エネルギビームパルスは、衝突点の周期的な繰り返しパターンが前記移動表面上で達成されるように、前記移動表面に供給される。このパターンは、結果として、前記表面の動き、前記パルス間の時間間隔及び前記パルスの横方向の分布の組み合わせとして生じる。例えば、前記パターンは、衝突点の円形の分布に近くなるように選択されることができ、又は３つのパルスから生じる３つの衝突点を有し、これらの衝突点の各々が二等辺三角形の角を形成するように選択されることができる。 
【００１０】
各パターンを形成している幾つかのパルスは、幾つかのエネルギビーム源（例えば、幾つかのレーザ光源）を使用して生成されることができ、前記パターンを達成するために前記移動表面上の異なる場所に焦束される。前記幾つかのパルスは、前記パルスを前記異なる場所に指向するために、１つのエネルギビーム源と適切な偏向又は走査システム（例えば、走査又は回転光学部品）によっても生成されることができる。
【００１１】
提案されている当該装置及び方法の一実施例において、発光ボリュームの空間分布は、生成される光学放射の放出特性として測定される。この測定データは、この放出ボリュームの所望の幾何学的配置をできるだけ近いように達成するために、フィードバック制御において使用される。このフィードバック制御は、前記所望の放出ボリュームに近づくために、この電圧まで前記電極に接続されているコンデンサユニットが充電される電圧と、オプションとして各パターンの個々のエネルギビームパルスのパルスエネルギとを変化させる。前記電圧の変化によって、充電されるパルスエネルギと、得られる放電電流とが、変化される。前記電流パルスの形態及びエネルギを制御する更に複雑なネットワークを使用している装置において、前記フィードバック制御は、前記電流パルスの形態及びエネルギを変化させるように前記ネットワークに影響を与える。同じ態様において、前記光出力及び／又は前記生成される光学放射の時間的な安定性は、制御されることができる。当該測定は、バックライト付きのＣＣＤカメラ又はフォトダイオードのような適切な放射検出器によって実施されることができる。
【００１２】
このようなフィードバック制御も有する他の実施例において、アパーチャは、生成される光学放射の光路内に配される。幾つかの放射センサは、前記アパーチャを通過しない放射を検出するためにこのアパーチャ開口のエッジ又は境界に配され、生成される光学放射の放出特性を与える。前記フィードバック制御は、この場合、前記放射センサによって検出される放射を最小化することによって実施されることができる。同時に、前記アパーチャ開口を通過する放射エネルギは、この放射を最大化にするために測定されることができる。前記フィードバック制御の他の実現性は、前記アパーチャ開口を通過する光学放射を最大化すると同時に、前記センサの各々によって検出されるほぼ等しい量の放射を達成することにある。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】ＥＵＶ放射又は軟Ｘ選を生成する装置の模式的な図である。
【図２】従来技術の装置によって生成される移動表面上の衝突点の模式的な図である。
【図３】提案される方法及び装置によって生成される移動表面上の衝突点のパターンの模式的な図である。
【図４】アパーチャの平面にマッピングされている２つの円柱形のＥＵＶ放出領域を示していている模式的な図である。
【図５】アパーチャを、包囲している放射センサと前記アパーチャの平面にマッピングされている幾つかのＥＵＶ放出領域と共に示している模式的な図である。
【図６】提案されている装置及び方法の実施例において使用されている回転又は走査光学部品を備えているレーザの模式的な図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
提案される方法及び装置は、添付請求項の範囲を制限することのなく、添付図面に関連して以下に記載される。
【００１５】
図１は、本発明の方法が利用されることができるＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成する装置であって、本発明の装置の一部でもあり得る装置の模式的な側面図を示している。当該装置は、真空チャンバ内に配されている２つの電極１、２を有している。この円盤形電極１、２は、回転可能に取り付けられており、即ちこれらは、動作の間、回転軸３の周りに回転される。回転の間、電極１、２は、対応する容器４、５内に部分的に浸漬する。これらの容器４、５の各々は、金属溶融物６を含んでおり、この場合は、液体スズを含んでいる。金属溶融物６が、約３００℃の温度に保持され、即ちスズの２３０℃の融点よりも僅かに高く保持されている。容器４、５内の金属溶融物６は、前記容器に接続されている加熱装置又は冷却装置（図示略）によって上述の高い動作温度に保持されている。回転の間、電極１、２の表面は、液体金属の薄膜が前記電極を形成するように前記液体金属によって濡らされている。電極１、２上の液体金属の層の厚さは、典型的には０．５μｍと４０μｍとの間の範囲内に、ストリッパ１１によって制御されることができる。電極１、２への電流は、絶縁されているフィードスルー８を介してコンデンサバンク７に接続されている金属溶融物６を介して供給される。
【００１６】
このような装置によって、前記電極の表面は、前記電極の基材の放電損耗が生じないように連続的に再生されている。前記金属溶融物を通る電極車輪の電極の回転は、前記ガス放電によって加熱される電極車輪が、自身の熱を前記金属溶融物に効果的に放出することができるように、前記電極と前記金属溶融物との間の近い熱接触をもたらす。電極車輪と前記金属溶融物との間の低いオーミック抵抗は、更に、ＥＵＶ放射生成のための十分な熱プラズマを生成するのに必要である非常に高い電流の伝導を可能にする。前記電流を供給するコンデンサバンクの回転又は精巧な電流コンタクトは、必要とされない。この電流は、前記金属溶融物の外側から１つ又は幾つかのフィードスルーを介して固定されて供給されることができる。
【００１７】
前記電極車輪は、有利には、少なくとも１０―４ｈＰａ（１０―４ｍｂａｒ）の基本的な真空を備える真空システム内に配される。このような真空によって、高い電圧（例えば、２ｋＶと１０ｋＶとの間の電圧）が、如何なる制御されていない電気絶縁破壊も生じることなく、前記電極に印加されることができる。この電気絶縁破壊はパルスエネルギビーム（この例においては、レーザパルス）の適切なパルスによって制御された態様において開始される。レーザパルス９は、図に示されているように、２つの電極間の最も狭い点において電極１、２のうちの一方に集束される。結果として、電極１、２上の金属薄膜の一部は蒸発し、前記電極のギャップを架橋する。このことは、コンデンサバンク７からの非常に高い電流によって達成されるこの点における破壊放電をもたらす。この電流は、前記金属蒸気（この文脈において、燃料とも称される）を、当該金属蒸気がイオン化されてピンチプラズマ１５において所望のＥＵＶ放射を発するような高い温度まで加熱する。
【００１８】
前記燃料が当該装置から漏出するのを防止するために、残骸緩和ユニット（debris mitigation unit）１０が前記装置の前方に配される。この残骸緩和ユニット１０が、当該装置からの放射の真っ直ぐな通過を可能にしているが、当該装置から出ようとしている多量の残骸粒子を保持している。当該装置のハウジング１４のコンタミネーションを避けるために、遮蔽１２が、電極１、２とハウジング１４との間に配されることができる。付加的な金属遮蔽１３が、電極１、２間に配されることができ、凝縮された金属が２つの容器４、５内に流れて戻ることを可能にしている。
【００１９】
このようなＥＵＶ生成装置によって、従来技術により使用されている及び構成されている場合、前記レーザパルスは、回転している電極車輪２の表面に、常にこの車輪の同じ横方向の位置において供給される。従って、衝突点１６の得られるトレースは、図２に示されているように、この表面上の直線上にある。各放電は、対応するレーザパルスの衝突の点である固定点におけるスズの蒸着から生じる。従って、ＥＵＶ放出領域は、固定されている空間位置において常に強く局在化されている。プラズマの拡張及び加熱の物理的な過程は、結果として、直径約０．１ｍｍ及び長さ１ｍｍのほぼ円柱形の放電ボリューム又は光放出ボリュームをもたらす。統計的な変動のため、このボリュームの長さ及び位置は、０.０３ｍｍだけ全ての方向において変化し得る。従って、これらの変動は、直径の方向において非常に高い相対的な効果を有し、当該光学システムによって設定されている前記空間的な放射の分布の安定性に関する強い仕様が、満たされることができないようにし得る。
【００２０】
この不利な点は、図１におけるような装置に関して、幾つかのレーザパルスが、回転電極車輪の表面の移動方向に対して少なくとも２つの異なる横方向の場所において供給される、本発明による装置又は方法を使用して克服される。このようなレーザパルスの分布又は前記スズの表面に対するレーザパルスの衝突により、プラズマピンチ又は放射発生ボリュームが形成され、前記放射発生ボリュームは、幾つかの放電にわたって平均化されて、上述の従来技術と比較して、前記直径の方向に向かって（即ちより大きい直径の方向に向かって）より高くなる延在部を有する。半径方向におけるこのようなより大きい直径又は延在部によって、相対的な空間変動が、減少される。図１の装置は、このようなレーザパルスの分布を前記電極車輪の表面上に得るように適応化されるのみで良い。このことは、前記電極車輪上の異なる場所に集束する幾つかのレーザ光源を使用することにより、又は前記レーザ光源と前記電極車輪の表面との間に回転又は走査光学部品を使用することによって達成されることができる。
【００２１】
図１に示されている装置において、最大のＥＵＶ放射出力は、以下のように制限される。前記電極車輪のこの回転速度は、異なる因子によって制限される。連続した２つの放電は、常に前記スズ薄膜の新しい又は新鮮な部分が使用されることを保証するために、前記電極車輪の表面の空間的に異なる領域を介して生成されなければならない。２つの衝突点間の距離は、例えば、０.３ｍｍでなければならない。前記レーザパルスを前記表面における１つの固定されている横方向の位置に供給すると、衝突点の構造は図２に示されているような移動表面において生成される。他方では、前記電極車輪の回転速度に対するレーザパルス間の時間間隔に依存しての、提案される方法又は装置による前記表面の移動方向に対する異なる横方向の点における幾つかのレーザパルスを使用して、従来の装置の２倍の出力までの出力電力が、２つの異なる横方向の点における各放電のための２つのパルスを供給する場合に、達成されることができる。これらの２つのパルス間の時間間隔に依存して、図３ａ及び３ｂに示されているような衝突点１６のパターン１７が、前記表面上に達成される。２つの前記レーザパルスが前記電極車輪の回転速度と比較して非常に短い時間間隔において供給される場合（例えば、２０μｓによって供給される場合）、図３ａのようなパターンが、達成される。前記パルスの全てが、同じ時間間隔において供給される場合、図３に示されているようなジグザクのパターンが、達成される。
【００２２】
パターン又は電気放電のために３つのレーザパルスを使用して、二等辺三角形に近い構造は、図３ｃに示されているように達成されることができる。衝突点の各々１６は、三角形の角にある。このようなパターンは、強調された出力電力の有利な点とＥＵＶ放射のより大きい放出領域又はボリュームの有利な点と、を組み合わせる。この放出領域は、図２及び図３ａ−ｄの各々の右手側における閉じた丸によって示されている。この端部への３つのレーザパルスは、前記電極車輪の回転速度と比較して、時間的に非常に短い間隔において、供給されることができる。次いで、次の放電は、図３ｃから認識されることができるように、より大きい時間間隔の後に、生成される。
【００２３】
ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成する装置の利用は、放射のビーム成形又はビームガイドのための光学システムの使用を必要とする。このシステムのエタンデュは、しばしば、光学システムの円形のアパーチャ開口によって達成される。従来技術の装置の典型的な円柱形の放出ボリュームは、この円柱の軸が当該光学システムの光学軸と一致している場合、このようなアパーチャに適応化されるのみである。しかしながら、この状態は、ほとんどの場合、満たされていない。これらの場合において、前記放出又は放電ボリュームの円柱軸は、光軸に対して垂直に配向されていても良く、従って、前記アパーチャの表面に平行である。提案されている方法及び装置によって、この円柱形の放出ボリュームは、この円形アパーチャ開口に良好に整合するように、円柱の直径の方向における幾つかの部分的な放出領域によって延在されることができる。このことは、図４に示されており、図４は、２つの当接している部分的な円柱形の放出ボリューム１８がこれにマッピングされているアパーチャ開口１９を示している。この図から明らかであるように、２つの当接している又は部分的に重複している円柱形の放出ボリュームは、１つの円柱形の放出ボリュームだけよりも良好に円形アパーチャ開口１９に整合している。前記表面上の異なる横方向の場所に供給される３つ以上レーザパルスを使用することによって、３つ以上のこのような部分的な放出ボリュームを生成すると、この円形アパーチャは、更に効果的に整合されることができる。
【００２４】
前記放電又は放出ボリュームの前記円形開口への整合は、最大量のＥＵＶ放射がこのアパーチャを通過するように、制御ユニット２３によって前記放電ボリュームの生成を制御するために測定されることができる（図６参照）。この目的のために、幾つかの放射センサ２０は、この境界と衝突すると共にアパーチャ開口１９を通過しないＥＵＶ放射を測定するために、アパーチャ開口１９の境界に配されても良い。このような実施例の概略図は、アパーチャ開口１９及び周囲の放射センサ２０を備えて図５に示されている。この図において、３つの重複している部分的な円柱形の放出ボリューム１８は、アパーチャ開口の平面内にマッピングされている。これらの部分的な放出を生じる単一のパルスは、放射センサ２０によって検出される放射が最小化されると同時に、アパーチャ開口１９を通過するＥＵＶ放射の量が最大化されるように、制御されることができる。前記検出器は、異なる方位角に対して類似の信号を供給する場合、前記放出ボリュームの円形アパーチャ開口１９への最適な適合化が、達成される。
【００２５】
前記電極車輪の移動方向に対して異なる横方向の位置において衝突する異なるレーザパルスは、異なるレーザ光源によって供給されることができる。例えば、３つのレーザ光源は、レーザパルスを前記電極車輪の表面における３つの異なる場所に焦束するように配されることができる。達成される衝突点のパターンは、３つの前記レーザパルスと前記電極車輪の放射速度との間の時間間隔の関係によっても影響を受ける。 
【００２６】
他の可能性は、単一のレーザ光源のみを使用することであり、前記単一のレーザ光源のレーザビームは、前記電極車輪の表面上の円形の態様における回転光学部品によって走査される。図６は、このような実施例であって、ほぼ円形のパターン１７を前記電極車輪の表面上に達成するための単一のレーザ光源２１と回転又は走査光学部品２２とを備える実施例を示している。前記レーザパルスのパルス周波数が、前記電極車輪の回転周波数の整数倍である場合、前記衝突点は、常に前記円周の同じ場所にある。前記関係が異なる場合、前記パターンは、一体的に、ほぼ円形の分布が達成されるように、回転する。
【００２７】
回転又は走査光学部品は、方位方向の放出ボリュームの空間分布が、非常に正確に制御されることができるという有利な点も有する。このような回転光学部品は、例えば、非常に正確な円形穿孔を生成するのに必要である場合のレーザ穿孔の分野から知られている。前記移動表面の移動速度に対する前記パルス間の時間間隔を適切に選択することによって、各パターン内の衝突点のほぼ均一な分布も、達成されることができる。衝突点のこのような均一な分布によって、前記スズの表面は、最適に使用され、この結果、前記装置の出力電力の最大化がもたらされる。走査光学部品の更なる実施例は、例えば、図３ａにおける２つの衝突点間の中間の空間を充填するパターンを達成することができる圧電駆動ミラーに基づく。このことは、結果として、より更に均一なＥＵＶ放出領域をもたらす。 
【００２８】
アパーチャ開口の境界及び後ろにおける放射センサによる前記放出ボリュームの上述の制御から離れて、前記制御は、前記放出領域又は放出ボリュームの直接的な観察にも基づき得る。この場合、各パルスに対するＥＵＶ放出と放出ボリュームの空間分布とを測定する放射検出器が、配されなければならない。全ての場合において、測定された値は、前記ＥＵＶ放射の放出ボリュームを制御するための制御ユニット２３を含むフィードバックシステムに供給される（図６参照）。この測定データに基づく前記フィードバックシステムは、前記放出ボリュームの所望の幾何学的な形又は前記放出の他の特性に近づくために、個々のパルスのパルスエネルギと、この電圧まで充電器がコンデンサバンクを充電する電圧とを計算する。このようなフィードバックシステム又は制御ユニットによって、前記ＥＵＶ放出ボリュームの空間均一性、前記ＥＵＶ放出の時間的な安定性、光学システムへの適応、及びスズ表面の最大限の使用（出力電力の増大）が、最適化されることができる。
【００２９】
本発明は、添付図面及び上述の記載において、詳細に説明及び記載されたが、このような図例及び説明は、説明的なもの又は例示的なものとみなされるべきであり、限定的なものとみなされるべきではない。本発明は、開示されている実施例に限定されるものではない。上述及び添付の請求項に記載の異なる実施例は、組み合わせられることもできる。開示されている実施例に対する他の変化は、添付図面、本明細書及び添付請求項の熟慮により、添付請求項に記載の本発明を実施する際に当業者によって理解され、達成されることができる。例えば、衝突点のパターンは、添付図面に示されているパターンに限定されるものではないが、所望の効果を達成するために如何なる適切な形も取り得る。同じことが、各パターンのためのパルスそれぞれ衝突点の数にもあてはまる。本発明は、ＥＵＶ放射又は軟Ｘ線に限定されるものでもないが、電気的に動作される放電によって発される如何なる種類の光学放射に対しても利用されることができる。更に、前記フィードバック制御は、用途の場における（即ち、例えば、リソグラフィスキャナにおける）放射特性を測定する１つ又は複数の放射センサに基づくこともできる。
【００３０】
「有する」という語は、請求項に記載されていない構成要素又はステップの存在を排除するものではなく、単数形の構成要素は、複数のこのような構成要素を排除するものではない。特定の手段が、相互に異なる従属請求項において引用されているという単なる事実は、これらの手段の組み合わせが有利になるように使用されることができないと示すものではない。添付請求項における符号は、これらの請求項の範囲を制限するものとして解釈されてはならない。
【符号の説明】
【００３１】
１    電極
２    電極
３    回転軸
４    容器
５    容器
６    金属溶融物
７    コンデンサバンク
８    フィードスルー
９    レーザパルス
１０  破片緩和ユニット
１１  ストリッパ
１２  遮蔽
１３  金属遮蔽
１４  ハウジング
１５  ピンチプラズマ
１６  衝突点
１７  パターン
１８  マップされた放出ボリューム
１９  アパーチャ開口
２０  放射センサ
２１  レーザ
２２  回転又は走査光学部品
２３  制御ユニット
【図１】
0005588439.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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