(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｐ２Ｏ５  ３６〜４８質量％、Ｂ２Ｏ３  ４〜１１質量％、Ｌｉ２Ｏ  ３〜５質量％、ＢａＯ  １５〜３８質量％、ＣａＯ  ２〜９質量％、ＭｇＯ  ０〜７質量％、ＳｒＯ  ０〜８質量％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜４質量％、他微量成分（ＺｎＯ、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３）がそれぞれ  ０〜４質量％であり、その屈折率ｎｄは１．５８〜１．６２、アッベ数ｖｄは６３〜６８の範囲である燐酸ガラスの表面に、異なる材質で形成された２層以上の膜を積層してなる光学機能膜を有するレンズであって、
前記光学機能膜の最表面層が、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＨｆＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２及びＮｂ２Ｏ５よりなる群から選ばれた少なくとも１種以上の材質からなり、その膜厚が５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下であることを特徴とするレンズ。
【請求項２】
Ｐ２Ｏ５  ０〜７質量％、ＮａＦ  ０〜２質量％、ＡｌＦ３  １２〜３２質量％、ＭｇＦ２  ５〜１１質量％、ＣａＦ２  １５〜１７質量％、ＳｒＦ２  １９〜２６質量％、Ａｌ（ＰＯ３）３  ０〜２７質量％であり、その屈折率ｎｄは１．４３〜１．５０、アッベ数ｖｄは８１〜９６の範囲であるフツ燐酸ガラスの表面に、異なる材質で形成された２層以上の膜を積層してなる光学機能膜を有するレンズであって、
前記光学機能膜の最表面層が、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＨｆＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２及びＮｂ２Ｏ５よりなる群から選ばれた少なくとも１種以上の材質からなり、その膜厚が５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下であることを特徴とするレンズ。
【請求項３】
Ｐ２Ｏ５  ３６〜４８質量％、Ｂ２Ｏ３  ４〜１１質量％、Ｌｉ２Ｏ  ３〜５質量％、ＢａＯ  １５〜３８質量％、ＣａＯ  ２〜９質量％、ＭｇＯ  ０〜７質量％、ＳｒＯ  ０〜８質量％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜４質量％、他微量成分（ＺｎＯ、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３）がそれぞれ  ０〜４質量％であり、その屈折率ｎｄは１．５８〜１．６２、アッベ数ｖｄは６３〜６８の範囲である燐酸ガラスからなるレンズの表面に、異なる材質で形成された２層以上の膜を順次積層してなる光学機能膜を形成するレンズの製造方法であって、
前記光学機能膜の最表面層を、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＨｆＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２及びＮｂ２Ｏ５よりなる群から選ばれた少なくとも１種以上の材質からなり、その膜厚を５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下とすることを特徴とするレンズの製造方法。
【請求項４】
Ｐ２Ｏ５  ０〜７質量％、ＮａＦ  ０〜２質量％、ＡｌＦ３  １２〜３２質量％、ＭｇＦ２  ５〜１１質量％、ＣａＦ２  １５〜１７質量％、ＳｒＦ２  １９〜２６質量％、Ａｌ（ＰＯ３）３  ０〜２７質量％であり、その屈折率ｎｄは１．４３〜１．５０、アッベ数ｖｄは８１〜９６の範囲であるフツ燐酸ガラスからなるレンズの表面に、異なる材質で形成された２層以上の膜を順次積層してなる光学機能膜を形成するレンズの製造方法であって、
前記光学機能膜の最表面層を、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＨｆＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２及びＮｂ２Ｏ５よりなる群から選ばれた少なくとも１種以上の材質からなり、その膜厚を５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下とすることを特徴とするレンズの製造方法。
【請求項５】
前記光学機能膜を、電子銃蒸発源を用いた真空蒸着成膜法により形成することを特徴とする請求項３又は４記載のレンズの製造方法。
【請求項６】
前記光学機能膜を、電子銃蒸発源を用いたプラズマアシスト又はイオンアシスト蒸着成膜法により形成することを特徴とする請求項５記載のレンズの製造方法。
【請求項７】
前記光学機能膜を、スパッタリング成膜法により形成することを特徴とする請求項６記載のレンズの製造方法。
【請求項８】
前記燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスからなるレンズが、光学素子成形素材を加熱軟化させ、成形型によりプレスして得られることを特徴とする請求項３乃至７のいずれか１項記載のレンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、環境耐久性を向上させた光学素子及びその製造方法に係り、特に、燐酸ガラスなどを硝材として用いた際に、光学素子のクモリ、変質を抑制し環境耐久性を向上させた光学素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ガラスレンズなどの光学ガラス素子をプレス成形し、成形面を研磨等せずにそのまま使用することを可能とする直接プレス成形法が注目されている。
【０００３】
このプレス成形法に用いられる硝材は、プレス成形温度を低くして加工性を向上させる場合には、ガラス転移点が低くなるように組成が調整される。例えば、特に低いガラス転移点を実現するために、ガラスの組成系をシリカガラスから燐酸ガラスに変更することで大幅な成形温度の低下が実現できることが知られている。
【０００４】
ところが、燐酸ガラスを用いた場合には環境耐久性が著しく低下してしまい、これに対して、反射防止膜などの光学機能膜を成膜することで表面を保護しても環境耐久性については芳しくないものとなることがあった。
【０００５】
また、プレス成形用硝材に限らず光学ガラスの中には、光学性能を優先するために燐酸を主成分とした燐酸ガラスや、さらにフッ素を添加したフツ燐酸ガラスも存在する。これらは、光学性能を優先するため、環境耐久性については低いまま使用されているが、この環境耐久性の低さが実用上大きな問題となっている。
【０００６】
上記のように環境耐久性が悪い硝材を実用化する場合には、従来は、（１）反射防止膜の第１層をアルミナなどの緻密な膜にして、水分の進入を防止したり（例えば、特許文献１参照。）、（２）レンズの全面を反射防止膜などの膜でコートし、水分の影響を無くしたり（例えば、特許文献２参照。）、（３）反射防止膜の成膜方法を通常の真空蒸着ではなくＩＡＤ（イオンビームアシスト成膜）を使用した真空蒸着を用いたり、（４）プレス成形品の表面変質層に着目して１層目にＳｉＯ２を成膜し、ガラスと反射防止膜の密着性を高めたり（例えば、特許文献３参照。）、する等の方法により改善を図ってきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平９−１５９８０３号公報
【特許文献２】特開平２−１７８６０１号公報
【特許文献３】特開平１−２８７５０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、（１）の方法では、第１層にいかに緻密な膜を成膜しても、レンズの側面はガラスがむき出しのため、湿度の高い雰囲気に置かれると、側面から燐酸成分が溶け出しそれがレンズ光学面の表面と反応し、結果としてレンズにクモリが発生することがわかった。
【０００９】
また、（２）の方法では、レンズの側面も膜で覆われているため、燐酸の溶け出しがないためクモリの防止効果はあるが、１回で全面にコートすることが可能なディップコートを採用しており、この方法に使用される薬品はガラスを溶かす作用があるため、環境耐久性が悪い硝材を浸すとガラス表面が白濁したり、ガラスそのものが溶けて無くなることがあったり、適用できる硝材に制限があった。
【００１０】
さらに、（２）のような全面コートを通常の蒸着方法を用いて行おうとすると、側面にコートするのが困難であり、光学機能面のみをコートするのであれば通常表裏の２回成膜で済むものが、側面への成膜がプラスされるため、成膜回数が４〜６回程度と大幅に増加するとともに、特殊な治具や光学機能面の反射防止膜の性能が確保できづらいなど様々な問題が発生してしまう。
【００１１】
また、（３）の方法は、膜の密着性を強固にするのには効果的であるが、レンズの側面はむき出しのため（１）の方法と同様にレンズにクモリが発生することがあった。さらに、ＩＡＤ方式は装置の価格が通常の真空蒸着の場合よりも大幅に高いため、コスト的にも問題である。
【００１２】
また、（４）の方法では、ＳｉＯ２もアルミナと同様緻密な膜であるが、第１層にいかに緻密な膜を成膜しても、レンズの側面はガラスがむき出しのため、湿度の高い雰囲気に置かれると、側面から燐酸成分が溶け出しそれがレンズ光学面の表面と反応し、結果としてレンズにクモリが発生することになる。また、ＳｉＯ２の単層膜の場合には、レンズは曇らないと思われるが、反射防止膜としての特性（反射率）が通常のフッ化マグネシウムの場合よりも２％程度悪化するため、レンズの性能が低下してしまう欠点がある。
【００１３】
上述したように、従来の方法では、耐久性の悪い硝材、特に燐酸ガラスの環境耐久性を完全に実用に耐えるレベルに引き上げ、さらにレンズの光学特性を確保するには不十分であった。
【００１４】
本発明は、環境耐久性の悪い燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスからなるガラス製光学素子であっても、高温高湿下で長時間保持したときに表面にクモリなどの劣化、変質を生じないようにした光学素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは環境耐久性が悪い硝材、特に燐酸ガラス、を用いた光学素子の環境耐久性を向上させるため、反射防止膜を代表とする光学機能薄膜の形成について種々検討した結果、光学機能薄膜の最表面層に燐酸と反応性が低い物質を採用することが非常に効果的であることを見出した。
【００１６】
すなわち、本発明の光学素子は、燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスの表面に、異なる材質で形成された２層以上の膜を積層してなる光学機能膜を有する光学素子であって、光学機能膜の最表面層が、燐酸と反応性の低い物質で形成されてなることを特徴とするものである。
【００１７】
また、本発明の光学素子の製造方法は、燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスからなる光学素子の表面に、異なる材質で形成された２層以上の膜を順次積層してなる光学機能膜を形成する光学素子の製造方法であって、光学機能膜の最表面層を燐酸と反応性の低い物質で形成することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の光学素子によれば、燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスを硝材としたガラス製光学素子の表面に形成された光学機能膜を、高温高湿雰囲気においても侵されることなく、クモリの発生を効果的に抑制することができる。
【００１９】
また、本発明の光学素子の製造方法によれば、従来の製造方法を利用して、高温高湿雰囲気下でもクモリの発生することのない環境耐久性を向上させた光学素子を安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態である光学素子の断面図である。
【図２】本発明による光学機能膜を成膜する際に用いられる真空蒸着装置の概略構成図である。
【図３】従来例１における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図４】比較例１における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図５】実施例１における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図６】実施例２における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図７】実施例３における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図８】従来例２における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図９】実施例４における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１０】従来例３における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１１】実施例５における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１２】実施例６における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１３】従来例４における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１４】実施例７における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１５】実施例８における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１６】実施例９における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１７】実施例１０における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１８】実施例１１における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図１９】従来例５における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図２０】実施例１２における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図２１】従来例６における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図２２】実施例１３における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図２３】従来例７における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図２４】実施例１４における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図２５】従来例８における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図２６】実施例１５における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【図２７】実施例１６における波長と分光反射率との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明は、上記したように、燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラス製の光学素子の表面に、光学機能膜を形成してなるものである。そして、その光学機能膜は、異なる材質で形成された２種類以上の膜を積層して形成されたものであり、その最表面層が燐酸と反応性の低い物質で構成されていることを特徴とするものである。
【００２２】
以下、本発明について図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の光学素子の概略構成を示した断面図である。ここで光学素子１は、芯ガラス２と、その表面に形成された第１層の膜３ａと最表面層（第２層の膜）３ｂの２層からなる光学機能膜３とからなるものである。
【００２３】
ここで、芯ガラス２は、燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスからなるものであり、光学素子として加工して得られるものである。この芯ガラス２は、公知の光学素子の製造方法により得られるものである。光学素子（レンズ）の製造方法としては、ガラス材料を切断、丸め、荒ずり、砂かけ、研磨、芯取りしたり、又はガラス材料をモールド成形によりプレス、芯取りしたり、することで得ることができる。
【００２４】
なお、芯ガラス２の硝材としては、例えば、表１〜３で示した組成（質量％）を有する燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスが挙げられる。これら硝材については、その屈折率（ｎｄ）、アッベ数（ｖｄ）、ガラス転移点（Ｔｇ）、屈伏点（Ａｔ）もあわせて示した。
【００２５】
【表１】
0005509691.tif 000002
【００２６】
【表２】
0005509691.tif 000003
【００２７】
【表３】
0005509691.tif 000004
【００２８】
ここで表１に示す硝材は、プレス成形用にガラス転移点を下げ低い温度で成形できるように燐酸主成分のガラスとしたものである。その成分はＰ２Ｏ５  ４５〜５３質量％、ＺｎＯ  ７〜３７質量％、Ｋ２Ｏ  ０〜９質量％、Ｎａ２Ｏ  ０〜１０質量％、Ｌｉ２Ｏ  １〜４質量％、Ａｌ２Ｏ３  １〜１０質量％，ＢａＯ  ０〜１０質量％、ＣａＯ  ０〜５質量％、他微量成分（Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｒＯ、Ｌａ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＷＯ３、Ｎｂ２Ｏ５）がそれぞれ  ０〜２質量％となっている。また屈折率ｎｄは、１．５３〜１．６０、アッベ数νｄは５９〜６４の範囲となっている。
【００２９】
表２に示す硝材は、光学特性上もともと燐酸を主成分とする硝材であるが、プレス成形用にさらにガラス転移点を下げ低い温度で成形できるように調整した硝材である。その成分はＰ２Ｏ５  ３６〜４８質量％、Ｂ２Ｏ３  ４〜１１質量％、Ｌｉ２Ｏ  ３〜５質量％、ＢａＯ  １５〜３８質量％、ＣａＯ  ２〜９質量％、ＭｇＯ  ０〜７質量％、ＳｒＯ  ０〜８質量％、Ａｌ２Ｏ３  ２〜４質量％、他微量成分（ＺｎＯ、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３）がそれぞれ  ０〜４質量％となっている。また屈折率ｎｄは、１．５８〜１．６２、アッベ数νｄは６３〜６８の範囲となっている。
【００３０】
表３に示す硝材は通常の光学ガラスであり、プレス成形用ではないが、光学特性上所定の用途に使用されるもので、燐酸を主成分とし、さらにフッ素を添加したフツ燐酸ガラスである。光学特性を優先したために環境耐久性は著しく劣悪である。その成分はＰ２Ｏ５  ０〜７質量％、ＮａＦ  ０〜２質量％、ＡｌＦ３  １２〜３２質量％、ＭｇＦ２  ５〜１１質量％、ＣａＦ２  １５〜１７質量％、ＳｒＦ２  １９〜２６質量％、Ａｌ（ＰＯ３）３  ０〜２７質量％となっている。また屈折率ｎｄは、１．４３〜１．５０、アッベ数νｄは８１〜９６の範囲となっている。
【００３１】
上記したように、高温高湿等の過酷な環境下においては、この芯ガラス２の材質自体がそれほど強くなく、また、これまでも、その表面に光学機能膜である反射防止膜等が形成されている例はあるが、環境耐久性についてはほとんど効果のないものであり、燐酸ガラス及びフツ燐酸ガラスを硝材として用いた光学素子は過酷な環境下での用途には用いられてこなかった。
【００３２】
例えば、反射防止膜の典型例として、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を最表面層としたものがあるが、この反射防止膜を形成した燐酸ガラスについて環境耐久試験を行った結果、ガラス表面が侵食され、クモリが生じてしまった。
【００３３】
本発明者らは、この光学素子のクモリのメカニズムを検討した結果、次のようなステップ１〜４でクモリが生成するものであることを突き止めた。
【００３４】
ステップ１：高温高湿条件で光学素子の側面から燐酸ガラス中の燐酸が溶け出す。
ステップ２：溶け出した燐酸が光学素子の光学機能膜表面、すなわち最表面層に付着する。
ステップ３：表面に付着した燐酸は、反射防止膜の最表面層に採用されているフッ化マグネシウムと反応する。
ステップ４：フッ化マグネシウムは劣化し、光学素子表面にクモリが発生する。
【００３５】
上記は、環境耐久試験で劣化した光学素子を詳細に分析した結果判明したもので、具体的には、クモリの発生したレンズの表面を表面側から詳細に組成分析していくと、劣化が生じているのは最表面層のみであり、その次の層は全く劣化していないことがわかった。
【００３６】
すなわち、燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスにおいては、その硝材の最表面層に起因してクモリを生じていたのであり、本発明者らは、環境耐久性が低くなる原因を初めて解明したものである。
【００３７】
そこで、本発明者らは、燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスからなる芯ガラス２の表面（光学機能面）に光学機能膜３として、異なる材質で形成された２層以上の膜を積層してなる光学機能膜とし、さらに、その光学機能膜の最表面層３ｂが燐酸と反応性の低い物質となるように構成することによって、環境耐久性の向上した光学素子を製造できることを見出したのである。
【００３８】
ここで、光学機能膜３としては、反射防止膜、ＩＲカットフィルター、反射膜、保護膜、バンドパスフィルター、ローカットフィルター等が挙げられ、最表面層３ｂを後述する構成とすれば、その他の膜構成は、所望の機能を発揮するように公知の材質を用いて、所定の規格に適合するように構成すればよい。
【００３９】
また、この光学機能膜３は、図１では２層の膜から構成されるものを示したが、２層以上の膜を積層してなるものであり、これらの層は異なる材質で形成されたものである。後述する最表面層では所定の材質が用いられるので、最表面層の内側に形成される層のうち少なくとも１つが最表面層と異なる材質となっているものであればよい。また、３層以上形成する場合には、互いに隣接する膜は異なる材質からなるものであることが好ましいが、全ての材質を重複しないように異なるものとする必要はなく、同じ材料を用いた層を形成してもよい。
【００４０】
なお、光学機能膜３は、芯ガラス２の光学機能面に形成され、その側面は燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスがむき出しとなっているように、芯ガラス２表面に部分的に形成されたものである。このようにすれば、光学機能膜が必要な光学機能面のみに形成され、光学的には意味のない側面には形成しないようにして、製造に際してコスト、手間を軽減することができる。また、本発明はこのように燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスがむき出しの状態として存在するときに、その効果を好適に発揮するものである。
【００４１】
次に、光学機能膜の最表面層３ｂについて説明する。本発明において、最表面層を形成する燐酸と反応性が低い物質としては、酸化物であることが好ましく、特に、金属酸化物であることがより好ましく、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＨｆＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５等が挙げられる。これら例示した酸化物は高純度かつガス放出が少ない良質な蒸着材料であり、安定して良好な光学特性を得ることができる。
【００４２】
最表面層３ｂは、上記した物質の少なくとも１種からなる材質で形成される。すなわち、上記物質の１種類を用いた層でもよいし、２種以上を混合した材質を用いてもよく、中でも、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２及びＺｒＯ２から選ばれた少なくとも１種の物質を用いることが好適である。
【００４３】
なお、ここで、燐酸と反応性が低い物質とは、濃度８５質量％のオルト燐酸水溶液を塗布して６０℃で１００時間保持後に、塗布したオルト燐酸水溶液を除去し、照度６０００ルックスで観察した時にクモリが認められないものをいう。
【００４４】
そして、本発明において光学機能膜３の最表面層３ｂをこのような燐酸と反応性の低い物質としたことで、芯ガラス２から生じるクモリの原因となる燐酸に対して良好な耐久性を示し、光学機能膜３が安定して機能することができる。
【００４５】
この最表面層に採用する物質は、燐酸と反応しない物質であればよいが光学機能膜としての性能も発揮しなければならず、例えば、反射防止膜は、一般に、屈折率の低い物質と高い物質が交互に成膜して形成され、最表面層は屈折率の比較的低い物質とするのが一般的である。
【００４６】
ところで、本発明者らは、最表面層の膜厚を適切に調整し全体の膜設計をすることで、屈折率の高い物質を最表面層に付けても所望の性能を満たした反射防止膜を代表とする光学機能薄膜が成立することを見出し、燐酸と反応性が低い物質でこのような条件に当てはまるものを探索した結果、上記に挙げた物質を用いることができることがわかった。なお、上記した膜設計は、光学機能膜３の変質を抑制するために最表層の膜厚を決定した後、従来と同様にＴＦＣａｌｃ，ＯＰＴＣＡＬＣ，Ｏｐｔｉｌａｙｅｒ，Ｍａｃｌｅｏｄ等の光学薄膜設計ソフトによる最適化手法により所望の分光特性を有する膜構成を決定すればよい。
【００４７】
この光学機能膜３の最表面層３ｂの膜厚は、その性能を損なわない範囲で任意に設定できるが、好ましくは、５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲である。５ｎｍ未満では、膜の緻密性が低くなり反応を防止する特性が十分でなくなる可能性があり、４５０ｎｍを越えると反射防止膜の特性が悪化するとともに膜にクラックが発生しやすくなるため好ましくない。４５０ｎｍを超えた場合には、さらに成膜に時間がかかり経済的にも問題となる。
【００４８】
このとき、赤外域の光を透過させる場合には３００ｎｍ超４５０ｎｍ以下の厚さで形成することが好ましく、可視域の光を透過させる場合には３００ｎｍ以下の厚さで形成することが好ましい。
【００４９】
なお、光学機能膜を反射防止膜とする場合には、その特性を最も良好に発揮するために、８ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲とすることが好ましく、できるだけ厚く形成することが、燐酸による表面変質を防止する効果を安定的に発揮することができる点で有利である。
【００５０】
なお、前述した最表面層３ｂの膜厚は、それ以外の領域、例えば、紫外域等で使用する場合や特定の波長の光をカットするフィルター（ＩＲカットフィルター等）などには、前述の膜厚範囲に限らず適宜光学機能薄膜の構成と膜厚を調整して対応することができる。
【００５１】
次に、本発明の光学素子の製造方法について説明する。
本発明の光学素子は、従来公知の方法、例えば、ガラス材料を切断、丸め、荒ずり、砂かけ、研磨、芯取り、という方法か、光学素子成形素材を加熱軟化させ、成形型によりプレスし、必要に応じて芯取りする方法、により得られた芯ガラス２の表面に、常法により異なる材質からなる２層以上の薄膜を形成して行えばよく、その際に、光学機能膜の最表面層を燐酸と反応性の低い物質で形成すればよい。
【００５２】
上記燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラスの光学機能表面に、光学機能膜を形成するには、公知の薄膜形成方法を用いることができる。例えば、抵抗加熱、電子ビーム等により蒸着原料を気化させる真空蒸着成膜法により膜形成を行うのがコスト的に有利である。また、真空蒸着により膜形成を行うに際しては、プラズマアシスト又はイオンアシスト蒸着成膜法を用いて行うことが膜形成を効率良く行うことができる点で好ましい。また、次に挙げるように、真空蒸着以外にもスパッタリング、ＣＶＤ等の公知の成膜方法を用いることもできる。
【００５３】
以下、図１及び図２を参照しながら、芯ガラス２に真空蒸着成膜法により光学機能膜３を形成する方法を説明する。ここで、図２は、真空蒸着装置の概略構成を示した図である。
【００５４】
まず、芯ガラス２を超音波洗浄機により通常のガラス洗浄工程により洗浄した後、成膜用のドーム１３に芯ガラス２をセットし、真空チャンバー１１内に載置する。真空排気口１４からチャンバー内を真空排気しながら、加熱ヒータ１２より芯ガラス２を１５０℃〜３５０℃に加熱する。加熱する温度は芯ガラス２のガラス転移点に応じて選択すればよく、ガラス転移点よりも１００℃以上低い温度とすればよい。
【００５５】
なお、成膜時に加熱する理由は、膜の緻密性を上げるためであり、加熱しない場合には膜がぼそぼその状態になり好ましくない。真空チャンバー１１内部の真空度が１×１０−３Ｐａ以下になるまで排気した後、蒸発源１６である各種物質を電子銃１７により蒸発させ、芯ガラス２上に光学機能膜３の一部（第１層の膜３ａ）となる薄膜を形成する。なお、ガス導入口１５からは、蒸着する酸化物が所望の酸化状態となるように、必要に応じて成膜中に酸素を導入する。
【００５６】
次に、同様の操作により、燐酸との反応性の低い材質を用いて最表面層３ｂを形成して光学機能膜３とする。なお、３層以上の膜で構成する場合も同様に、膜設計に応じて所定の材質からなる薄膜を順次積層していき、最後に燐酸との反応性の低い材質からなる薄膜が最表面層となるように膜形成を行い光学機能膜３とすればよい。このようにして得られた光学機能膜３は、最表面層が上記燐酸と反応性の低い物質から形成されるものであり、好ましくは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２等よりなる群から選ばれた少なくとも１種からなるものである。
【００５７】
膜構成は、燐酸との反応性の低い物質を最表面層に形成することを前提として、通常のレンズに要求される特性を満たすように、かつ、光学機能膜としての機能を十分に発揮できるように予め設計して決定する。
【００５８】
この最表面層の物質の膜厚は反射防止膜の性能を損なわない範囲で任意に設定できる。好ましくは、５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下であり、反射防止膜の特性が最も良くなる範囲となるため８ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましい。５ｎｍ未満では、反応を防止する特性が十分でなく、４５０ｎｍを越えると変質抑制の効果が悪化するとともに、膜にクラックが発生しやすく好ましくない。また、成膜に時間がかかり経済的にも問題となる。
【００５９】
このとき、最表面層の膜厚は、赤外域の光を透過させる場合には４５０ｎｍ以下の厚さで形成することが好ましく、可視域の光を透過させる場合には３００ｎｍ以下の厚さで形成することが好ましい。
【００６０】
それ以外の領域、たとえば紫外域で使用する場合や特定の波長をカットするフィルターなどには、前述の膜厚範囲に限らず適宜光学機能薄膜の構成と膜厚を調整して対応することができる。
【実施例】
【００６１】
以下、実施例を参照して本発明の実施形態について具体的に説明する。
＜光学素子（芯ガラス）の準備＞
表１〜３に示した組成を有する燐酸を主成分とする光学ガラスのブロック（板材）から素材を切り出し、常法により研削、研磨、芯取りを行い、外径φ７ｍｍ、中心肉厚４．３ｍｍ、曲率半径が両面とも７ｍｍ、（コバ厚：２．４２４ｍｍ）、（体積０．１３ｃｃ）の両凸レンズ形状の芯ガラス２に加工した。
【００６２】
＜反射防止膜（光学機能薄膜）の形成＞
得られた芯ガラス２を超音波洗浄機により通常のガラス洗浄工程により洗浄した後、図２に示す真空蒸着装置により本発明の反射防止膜として機能する光学機能膜３を形成した。図１は本発明の光学素子の一実施形態を示した断面図であり、光学素子の芯ガラス２は、それぞれ表１〜３に示す燐酸を主成分とする光学ガラスよりなる。光学機能薄膜３は、最表面層の薄膜が燐酸と反応性の低い材料からなるものである。
【００６３】
まず、成膜用のドーム１３に芯ガラス２をセットし、真空チャンバー１１内に載置した。真空排気口１４から真空排気しながら、加熱ヒータ１２より芯ガラスを１５０℃〜３５０℃に加熱した。加熱する温度はガラスの転移点に応じて選択した。すなわち転移点よりも１００℃以上低い温度とした。
【００６４】
真空チャンバー１１内部の真空度が１×１０−３Ｐａ以下になるまで排気した後、蒸発源である各種物質を電子銃１７により蒸発させ、芯ガラス２上に異なる物質から形成される２層以上の膜を順次積層して形成した。ここで芯ガラス２上の膜は、最後に燐酸との反応性の低い材料で膜を構成して最表面層とし、反射防止膜３とした。この反射防止膜３は、その最表面層にどの物質からなる膜を形成するかを決定し、それを前提として、通常のレンズに要求される特性を満たすように膜構成を予め設計して形成した。
【００６５】
＜反射防止膜（光学機能薄膜）設計＞
本発明の反射防止膜について詳細に述べる。代表例として表２の硝材Ｎｏ．７、ｎｄが１．５９２１６のガラスを用いて本発明の反射防止膜を上記反射防止膜（光学機能薄膜）の形成方法により成膜した場合について、以下、従来例も交えながらその特性を検討した。なお、以下に記載した表４〜表２８中において、芯ガラスに直接形成される膜を第１層とし、順次第２層、第３層、…第Ｎ層と積層する順番に番号を付与した。最大数となる第Ｎ層が最表面層であり、ＡＩＲは空気（最表面層が空気と接触していること）を表わす。
【００６６】
（従来例１）
表４に、芯ガラスの表面にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）単層膜を形成した反射防止膜の構成を、図３にはその反射特性を示した。この特性を以下シングル特性と呼ぶことにする。
【００６７】
【表４】
0005509691.tif 000005
【００６８】
（比較例１）
表５に、芯ガラスの表面に二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）単層膜を形成した反射防止膜の構成を、図４にはその反射特性を示した。
【００６９】
【表５】
0005509691.tif 000006
【００７０】
図４からわかるようにＳｉＯ２の単層コートではシングル特性と比較して反射率が０．５％以上も上がっており、反射防止膜特性としては好ましくない状態になっている。
【００７１】
（実施例１〜３）
表６〜８に、芯ガラスの表面に最表面層が二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）又はアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）となるシングル特性に近づけるように設計した反射防止膜の構成を、図５〜７には、それぞれ表６〜８に対応した反射特性を示した。さらに、表６に示した構成で最表面層の膜厚を７ｎｍとしたものも製造した（実施例１−２）。
【００７２】
【表６】
0005509691.tif 000007
【００７３】
【表７】
0005509691.tif 000008
【００７４】
【表８】
0005509691.tif 000009
【００７５】
図５〜７に示すように、ＳｉＯ２の単層コートに対して２層以上の膜構成にすればシングル特性からの乖離は少なく、通常デジタルカメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【００７６】
（従来例２）
表９に、芯ガラスの表面に従来の多層膜（７層）を形成した反射防止膜の構成を、図８にはその反射特性を示した。この特性を以下マルチ特性７と呼ぶことにする。
【００７７】
【表９】
0005509691.tif 000010
【００７８】
（実施例４）
表１０に、芯ガラスの表面に最表面層が二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）となるマルチ特性７に近づけるように設計した反射防止膜の構成を、図９にはその反射特性を示した。さらに、表１０に示した構成で最表面層の膜厚を７ｎｍとしたものも製造した（実施例４−２）。
【００７９】
【表１０】
0005509691.tif 000011
【００８０】
図９に示すように、上記構成からなる反射防止膜はマルチ特性７からの乖離は少なく、通常デジタルカメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【００８１】
（従来例３）
表１１に、芯ガラスの表面に従来の多層膜（３層）を形成した反射防止膜の構成を、図１０にはその反射特性を示した。この特性を以下マルチ特性３と呼ぶことにする。
【００８２】
【表１１】
0005509691.tif 000012
【００８３】
（実施例５，６）
表１２及び１３に、芯ガラスの表面に最表面層が二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）又はアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）となるマルチ特性３に近づけるように設計した反射防止膜の構成を、図１１及び１２にはその反射特性を示した。
【００８４】
【表１２】
0005509691.tif 000013
【００８５】
【表１３】
0005509691.tif 000014
【００８６】
図１１及び１２に示すように、上記構成からなる反射防止膜はマルチ特性３からの乖離は少なく、通常デジタルカメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【００８７】
（従来例４）
表１４に芯ガラスの表面に、従来の多層膜（５層）を形成した反射防止膜の構成を、図１３にはその反射特性を示した。この特性を以下マルチ特性５と呼ぶことにする。
【００８８】
【表１４】
0005509691.tif 000015
【００８９】
（実施例７〜１１）
表１５〜１９に、芯ガラスの表面に最表面層が酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、Ｈ４、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）となるマルチ特性５に近づけるように設計した反射防止膜の構成を、図１４〜１８には、それぞれ表１５〜１９に対応した反射特性を示した。
【００９０】
【表１５】
0005509691.tif 000016
【００９１】
【表１６】
0005509691.tif 000017
【００９２】
【表１７】
0005509691.tif 000018
【００９３】
【表１８】
0005509691.tif 000019
【００９４】
【表１９】
0005509691.tif 000020
【００９５】
図１４〜１８に示すように、上記構成からなる反射防止膜はマルチ特性５からの乖離は少なく、通常デジタルカメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【００９６】
（従来例５）
表２０に、芯ガラスの表面に従来の多層膜（６層）を形成した反射防止膜の構成を、図１９にはその反射特性を示した。この特性を以下マルチ特性６と呼ぶことにする。
【００９７】
【表２０】
0005509691.tif 000021
【００９８】
（実施例１２）
表２１に、芯ガラスの表面に最表面層が酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）となるマルチ特性６に近づけるように設計した反射防止膜の構成を、図２０にはその反射特性を示した。
【００９９】
【表２１】
0005509691.tif 000022
【０１００】
図２０に示すように、上記構成からなる反射防止膜はマルチ特性６からの乖離は少なく、通常デジタルカメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【０１０１】
次に、代表例として表３の硝材Ｎｏ．１２、ｎｄが１．４３４２５のガラスに本発明の反射防止膜を成膜した場合で検討した。
【０１０２】
（従来例６）
表２２に、芯ガラスの表面に従来の多層膜（５層）を形成した反射防止膜の構成を、図２１にはその反射特性を示した。この特性を以下マルチ特性５’と呼ぶことにする。
【０１０３】
【表２２】
0005509691.tif 000023
【０１０４】
（実施例１３）
表２３に、芯ガラスの表面に最表面層がＯＨ５となるマルチ特性５’に近づけるように設計した反射防止膜の構成を、図２２にはその反射特性を示した。
【０１０５】
【表２３】
0005509691.tif 000024
【０１０６】
図２２に示すように、上記構成からなる反射防止膜はマルチ特性５’からの乖離は少なく、通常デジタルカメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【０１０７】
（従来例７）
表２４に、芯ガラスの表面に従来の多層膜（７層）を形成した反射防止膜の構成を、図２３にはその反射特性を示した。この特性を以下マルチ特性７’と呼ぶことにする。
【０１０８】
【表２４】
0005509691.tif 000025
【０１０９】
（実施例１４）
表２５に、芯ガラスの表面に最表面層がアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）となるマルチ特性７’に近づけるように設計した反射防止膜の構成を、図２４にはその反射特性を示した。
【０１１０】
【表２５】
0005509691.tif 000026
【０１１１】
図２４に示すように、上記構成からなる反射防止膜はマルチ特性７’からの乖離は少なく、通常デジタルカメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【０１１２】
（従来例８）
表２６に、芯ガラスの表面に従来の多層膜（６層）を形成した反射防止膜の構成を、図２５にはその反射特性を示した。この特性を以下マルチ特性６’と呼ぶことにする。
【０１１３】
【表２６】
0005509691.tif 000027
【０１１４】
（実施例１５）
表２７に、芯ガラスの表面に最表面層が二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）となるマルチ特性６’に近づけるように設計した反射防止膜の構成を、図２６にはその反射特性を示した。
【０１１５】
【表２７】
0005509691.tif 000028
【０１１６】
図２６に示すように、上記構成からなる反射防止膜はマルチ特性６’からの乖離は少なく、通常デジタルカメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【０１１７】
（実施例１６）
表２８に、芯ガラスの表面に最表面層が二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）となる長波長域で使用可能なように設計した反射防止膜の構成を、図２７にはその反射特性を示した。
【０１１８】
【表２８】
0005509691.tif 000029
【０１１９】
図２７に示すように、上記構成からなる反射防止膜は、赤外領域の反射率が低く、赤外線カメラ用のレンズに要求される性能の反射防止膜を設計できることが確認できた。
【０１２０】
なお、表中にＯＨ５とあるのは、キヤノンオプトロン社製の蒸着材料の商品名であり、ＺｒＯ２とＴｉＯ２の混合物であり、Ｈ４とあるのは、メルク社製の蒸着材料の商品名であり、Ｌａ２Ｏ３とＴｉＯ２との混合物である。
【０１２１】
＜環境耐久試験＞
実施例、従来例及び比較例で得られた光学素子について、環境耐久試験を行った。環境耐久試験は、６０℃、９０％ＲＨに保持された恒温恒湿装置に、得られた光学素子を投入することで行なった。投入してから、１２５時間、２５０時間、５００時間、７５０時間、１０００時間後の各時間での光学素子のクモリ、クラックの発生状況について高輝度光源を用いて目視観察により行った。さらに顕微鏡観察もあわせて行った。硝材Ｎｏ．７、ｎｄが１．５９２１６のガラスの結果を表２９に、硝材Ｎｏ．１２、ｎｄが１．４３４２５のガラスの結果を表３０に示した。
【０１２２】
【表２９】
0005509691.tif 000030
【０１２３】
【表３０】
0005509691.tif 000031
【０１２４】
表２８の実施例１〜１５より、最表面層を燐酸との反応性が低い物質、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＨｆＯ２及びＴａ２Ｏ５よりなる群から選ばれた少なくとも１種を用いて形成している場合には環境耐久性が良好であることがわかった。また、膜厚を調整することで１０００時間後も外観の変化がなく、環境耐久性を極めて良好にすることができることもわかった。
【０１２５】
なお、膜厚を薄くしていくと、効果はあるもののやや早い段階で光学素子がくもり始めてしまい、厚く（例えば、４５０ｎｍ超）していくと光学素子の表面にクラックが発生しやすくなってしまう。一方、最表面層がＭｇＦ２となっている場合には硝材により多少の違いはあるものの２５０時間以下で全て外観が悪化した。
【０１２６】
Ｎｏ．７、Ｎｏ．１２以外の硝材（Ｎｏ．１〜６、８〜１１）についても同様に試験を行なったところ、多少の違いはあるものの、同様の傾向を示した。なお、サンプルをプレス成形により作製したレンズに変えて同様の試験を行なったが、同様の結果が得られた。
【符号の説明】
【０１２７】
１…光学素子、２…芯ガラス、３…光学機能膜、１１…真空チャンバー、１２…加熱ヒータ、１３…ドーム、１４…真空排気口、１５…ガス導入口、１６…蒸発源、１７…電子銃
【図１】
0005509691.tif 000032
【図２】
0005509691.tif 000033
【図３】
0005509691.tif 000034
【図４】
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【図５】
0005509691.tif 000036
【図６】
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【図７】
0005509691.tif 000038
【図８】
0005509691.tif 000039
【図９】
0005509691.tif 000040
【図１０】
0005509691.tif 000041
【図１１】
0005509691.tif 000042
【図１２】
0005509691.tif 000043
【図１３】
0005509691.tif 000044
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
0005509691.tif 000047
【図１７】
0005509691.tif 000048
【図１８】
0005509691.tif 000049
【図１９】
0005509691.tif 000050
【図２０】
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【図２１】
0005509691.tif 000052
【図２２】
0005509691.tif 000053
【図２３】
0005509691.tif 000054
【図２４】
0005509691.tif 000055
【図２５】
0005509691.tif 000056
【図２６】
0005509691.tif 000057
【図２７】
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