(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線管と、
前記Ｘ線管からＸ線を発生させるために前記Ｘ線管に管電圧を印加し、管電流を供給する高電圧発生部と、
前記Ｘ線管から発生され、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出部と、
前記Ｘ線検出部の出力に基づいて、Ｘ線像を発生する画像発生部と、
前記発生されたＸ線像における画素値範囲から、前記画素値範囲における略最大画素値に基づく上限と、前記画素値範囲における略最小画素値に基づく下限とを有する一部範囲を決定する範囲決定部と、
前記一部範囲内の画素値に基づいてＸ線条件を決定し、前記決定したＸ線条件に基づいて前記高電圧発生部を制御するＸ線制御部とを具備することを特徴とするＸ線診断装置。
【請求項２】
前記範囲決定部は、前記Ｘ線像の全画素数に対する前記一部範囲内の画素数の割合が特定の値未満のとき、前記一部範囲を拡大することを特徴とする請求項１に記載のＸ線診断装置。
【請求項３】
前記範囲決定部は、前記Ｘ線像における関心領域内の前記画素値範囲から、前記一部範囲を決定することを特徴とする請求項１又は２記載のＸ線診断装置。
【請求項４】
前記一部範囲内の最大度数に対応する画素値と、前記一部範囲外の最大度数に対応する画素値との間における最小度数が、前記一部範囲内の最大度数に対して所定の割合を超える場合、前記範囲決定部は、前記一部範囲を関心領域に拡大することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか一項に記載のＸ線診断装置。
【請求項５】
前記範囲決定部は、前記略最大画素値が前記Ｘ線検出部の出力上限レベルに等価なとき、前記一部範囲内の最大度数に対応する画素値と前記一部範囲外の最大度数に対応する画素値との間における最小度数に対応する画素値に所定の係数を乗じた画素値を、関心領域内の最大画素値に置き換えることを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか一項に記載のＸ線診断装置。
【請求項６】
Ｘ線管と、
前記Ｘ線管からＸ線を発生させるために前記Ｘ線管に管電圧を印加し、管電流を供給する高電圧発生部と、
前記Ｘ線管から発生され、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出部と、
前記Ｘ線検出部の出力に基づいて、Ｘ線像を順次発生する画像発生部と、
前記順次発生されたＸ線像の中でいずれか１つのＸ線像における画素値範囲において、前記画素値範囲における略最大画素値に基づいた上限と、前記画素値範囲における略最小画素値に基づいた下限とを有する一部範囲を決定する範囲決定部と、
前記一部範囲内の画素値に基づいてＸ線条件を決定し、前記決定したＸ線条件に基づいた新規のＸ線像を発生するために、前記高電圧発生部を制御するＸ線制御部と、
前記Ｘ線検出部の出力に基づいて順次発生されるＸ線像を順次表示することにより、順次変化されたＸ線条件によって得られた複数のＸ線像による動画表示を行う表示部と、
を具備することを特徴とするＸ線診断装置。
【請求項７】
前記表示部は、下肢が含まれた前記複数のＸ線像による動画表示を行うことを特徴とする請求項６に記載のＸ線診断装置。
【請求項８】
前記複数のＸ線像は、撮像範囲内において被検体の部位を移動させて発生されたものであり、
前記表示部は、前記被検体の部位が順次移動した前記動画表示を行うことを特徴とする請求項６又は７に記載のＸ線診断装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＡＢＣ制御機能を有するＸ線診断装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、Ｘ線診断装置において、適切なＸ線像の輝度（以下輝度レベルと呼ぶ）を得るための技術として自動輝度調整（Automatic Brightness Control 以下ＡＢＣ制御と呼ぶ）がある。ＡＢＣ制御は、Ｘ線像における関心領域（Region Of Interest 以下ＲＯＩと呼ぶ）内の画素値の平均値もしくは重み付け平均値を目標値に近づけるように、次のフレームのために発生されるＸ線の条件を変化させて、輝度レベルを一定にするための動的な制御である。しかし、従来のＡＢＣ制御では、特に下肢などでＸ線源から被検体を通過せずに直接Ｘ線検出器に入射するＸ線（以下直接線と呼ぶ）がＲＯＩ内に入ると、図１４に示すようにＲＯＩ内の画素値の平均値もしくは重み付け平均値が極端に高くなる。この結果図１３の矢印の左側で示すように輝度レベルが下がり、画像観察が難しくなるという問題がある。
【０００３】
また、特許文献１に示すように、顕微鏡における自動露出技術がある。この自動露出技術では、全受光素子の一部の測光出力から露出時間を算出するものである。露出時間を制御する自動露出技術では、上記直接線の影響によって輝度レベルが下がる問題を解消できない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２２２２８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、Ｘ線診断装置において、ＡＢＣ制御の精度を向上し、適切な輝度レベルを得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によるＸ線診断装置は、Ｘ線管と、Ｘ線管からＸ線を発生させるためにＸ線管に管電圧を印加し、管電流を供給する高電圧発生部と、Ｘ線管から発生され、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出部と、Ｘ線検出部の出力に基づいて、Ｘ線像を発生する画像発生部と、発生されたＸ線像における関心領域内の最大画素値と最小画素値との画素値範囲から、前記画素値範囲における略最大画素値に基づく上限と、前記画素値範囲における略最小画素値に基づく下限とを有する一部範囲を決定する範囲決定部と、一部範囲内の画素値に基づいてＸ線条件を決定し、決定したＸ線条件に基づいて高電圧発生部を制御するＸ線制御部とを具備する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、Ｘ線診断装置において、ＡＢＣ制御の精度を向上し、適切な輝度レベルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、本発明における第１の実施形態に係るＸ線診断装置の構成を示す図である。
【図２】図２は、Ｘ線像におけるＡＢＣ制御に用いる画素の範囲であるＲＯＩの一例を示す図である。
【図３】図３は、第１の実施形態に係り、ＲＯＩ内の一部範囲における画素値の平均値からＸ線条件を決定する処理の流れを示す流れ図である。
【図４】図４は、第１の実施形態に係り、ＲＯＩ内の画素値の度数分布と画素値の平均値を計算するためのＲＯＩ内の一部範囲とを示す図である。
【図５】図５は、第２の実施形態に係るＸ線診断装置の構成を示す図である。
【図６】図６は、第２の実施形態に係り、ＲＯＩ内の一部範囲を拡大した範囲における画素値の平均値からＸ線条件を決定する処理の流れを示す流れ図である。
【図７】図７は、第２の実施形態に係り、ＲＯＩ内の画素値の度数分布と画素値の平均値を計算するための拡大された範囲とを示す図である。
【図８】図８は、第３の実施形態に係り、ＲＯＩ内の一部範囲から新たな範囲を決定し、決定された新たな範囲における画素値の平均値からＸ線条件を決定する処理の流れを示す流れ図である。
【図９】図９は、第３の実施形態に係り、ＲＯＩ内の画素値の度数分布と画素値の平均値を計算するための新たな範囲とを示す図である。
【図１０】図１０は、第４の実施形態に係るＸ線診断装置の構成を示す図である。
【図１１】図１１は、第４の実施形態に係り、ＲＯＩ内の一部範囲から新たな一部範囲を決定し、決定された新たな一部範囲における画素値の平均値からＸ線条件を決定する処理の流れを示す流れ図である。
【図１２】図１２は、第４の実施形態に係り、ＲＯＩ内の画素値の度数分布と画素値の平均値を計算するための新たな一部範囲とを示す図である。
【図１３】図１３は、従来のＡＢＣ制御によるＸ線像と第１の実施形態適用後のＡＢＣ制御によるＸ線像とを示す図である。
【図１４】図１４は、ＲＯＩ内における画素値の度数分布と直接線による度数分布との一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明によるＸ線診断装置の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１０】
（第１の実施形態）
図１は、本実施形態に係るＸ線診断装置の構成を示す図である。図１に示すように、本Ｘ線診断装置１００は、装置本体１、表示部２１、装置本体１に接続されユーザからの各種指示・命令・情報を装置本体１に取り込むための操作部２２とから構成される。操作部２２は、図示しないが、ＲＯＩなどの設定操作を行うためのトラックボール、スイッチボタン、マウス、キーボードを有する。表示部２１は、画像発生部１１により発生されたＸ線像を表示する。また、装置本体１は、天板５、Ｃ形アーム７、Ｘ線管８１、Ｘ線絞り器８２、Ｘ線検出部９、高電圧発生部１０、画像発生部１１、ＲＯＩ設定部１２、範囲決定部１３、画素値抽出部１４、平均値計算部１５、Ｘ線条件決定部１６、Ｘ線制御部１７、システム制御部１８を有している。
【００１１】
Ｘ線検出部９は、Ｃ形アーム７の一端にマウントされる。Ｘ線検出部９は、図示しないイメージインテンシファイアとＴＶカメラとの組合せから構成される。Ｘ線検出部９は、イメージインテンシファイアとＴＶカメラとの組合せに代えて、マトリクス状に配列された複数の半導体検出素子を有するフラットパネルディテクタ（ＦＰＤ：平面型Ｘ線検出器）で構成されてもよい。
【００１２】
Ｘ線管８１は、Ｘ線検出部９に対向する向きでＣ形アーム７の他端にマウントされる。Ｘ線管８１は、高電圧発生部１０より供給された管電流によって陰極のフィラメントから熱電子を放出する。放出された熱電子は、Ｘ線管８１内のタングステン陽極と陰極との間に印加された管電圧により加速され、タングステン陽極に衝突しＸ線を発生させる。
【００１３】
Ｘ線絞り器８２は、Ｘ線管８１のＸ線放射窓に取り付けられる。Ｘ線絞り器８２は、Ｘ線管８１から発生するＸ線を、観察部位以外の不要な被爆をさせないために、所定の照射視野のサイズに絞り込む。  
被検体Ｐを載置する寝台の天板５は、Ｘ線管８１とＸ線検出部９との間に配置される。  
Ｃ形アーム７は、例えば天井から吊り下げられる円弧状の支柱に回転自在に支持される。  
画像発生部１１は、Ｘ線検出部９の出力に基づいてＸ線像のデータを発生する。  
ＲＯＩ設定部１２は、操作部２２の出力に従って、画像発生部１１で発生されたＸ線像上に、ＡＢＣ制御に用いるＲＯＩを設定する。図２は、ＲＯＩの一例を示す図である。図２においてＲＯＩは、円形で示されている。なお、ＲＯＩの設定は、ユーザにより操作部２２を介して円形や矩形、多角形、その他自由な図形を用いて、画像上の任意の場所および大きさで設定することも可能である。
【００１４】
範囲決定部１３は、ＲＯＩ設定部１２で設定されたＲＯＩ内の最大画素値と最小画素値との画素値範囲において、画素値それぞれに対応する度数から、度数分布を発生する。範囲決定部１３は、発生された画素値の度数分布に基づいて、画素値範囲の一部分（一部範囲）を決定する。一部範囲を決定するための規則は、以下の動作で詳述する。  
画素値抽出部１４は、範囲決定部１３で決定された一部範囲内の画素値と画素値それぞれに対応する度数とを抽出する。
【００１５】
平均値計算部１５は、画素値抽出部１４で抽出された画素値と画素値それぞれに対応する度数とから一部範囲内の画素値の平均値を計算する。平均値は、画素値に画素値の度数を乗じて、上記一部範囲内の画素値にわたって和を取り、上記一部範囲内の全画素数で割ったものである。計算される平均値は、ＡＢＣ制御を行うための制御点として典型的な値である。なお、上記制御点は平均値に限定されず、上記一部範囲内の画素値範囲から中間の画素値を抽出した値でもよいし、上記一部範囲内の画素値から重み付け平均を計算した値でもよい。
【００１６】
Ｘ線条件決定部１６は、予め決められている対応表に基づいて、平均値計算部１５で計算された制御点から、次フレームの管電流および管電圧の少なくとも一方（以下Ｘ線条件と呼ぶ）を決定する。  
Ｘ線制御部１７は、Ｘ線条件決定部１６で決定されたＸ線条件に従って、高電圧発生部１０を制御する。  
システム制御部１８は、図示しないＣＰＵ（中央処理装置）と記憶回路を備える。システム制御部１８は、以下説明するＸ線透視動作を実行するために、Ｘ線制御部１７を制御する
（動作）
次に、本Ｘ線診断装置１００において、図３に示すフローチャートを参照しながら、Ｘ線条件を制御する動作について説明する。透視期間中、システム制御部１８の制御のもとで、Ｘ線が継続的に発生される。この透視期間中、Ｘ線検出部９で電荷蓄積、電荷読み出し、リセットの一連の動作が繰り返される。画像が画像発生部１１により繰り返し発生される（ステップＳ１１）。発生される画像は、透視像であるとする。なお、発生される画像は、撮影像であってもよい。発生された画像に対してＲＯＩが、ＲＯＩ設定部１２により、例えば画像中心に所定の形状およびサイズで設定される。なお、ＲＯＩの設定は事前にされ、透視期間中にユーザにより操作部２２を介して円形や矩形、多角形、その他自由な図形を用いて、画像上の任意の場所および大きさとすることも可能である。
【００１７】
設定されたＲＯＩ内における画像のデータから、画素値の最小値（Ｖ＿ｍｉｎ）と画素値の最大値（Ｖ＿ｍａｘ）とが取得される（ステップＳ１２）。なお、画素値の最大値は、画素値の度数が１以上で最も高い画素値である。画素値の最小値は、画素値の度数が１以上で最も低い画素値である。
【００１８】
ＲＯＩ内における画素値それぞれに対する度数から、画素値の度数分布が生成される（ステップＳ１３）。図４は、範囲決定部１３が生成する度数分布の一例を示している。図４横軸の画素値は、例えば、Ｘ線像における明るさと対応している。Ｘ線像において、ある画素の画素値が周囲の画素の画素値より高ければ、ある画素は、周囲の画素に比べて白く表示される。図４の度数分布における２つの凸部のうち、右側の凸部は、主に直接線の影響による度数分布を示している。左側の凸部は、被検体Ｐを透過したＸ線による度数分布を主に示している。
【００１９】
図４の度数分布中の最小値（Ｖ＿ｍｉｎ）と最大値（Ｖ＿ｍａｘ）とから、ＲＯＩ内の一部範囲が、所定の規則に従って範囲決定部１３により決定される（ステップＳ１４）。所定の規則のもとで、例えば、０以上１以下である２種の定数Ｒ＿ｌ、Ｒ＿ｈ（Ｒ＿ｌ＜Ｒ＿ｈ）を用いて、上記一部範囲における画素値の下限値は、  
Ｖ＿ｍｉｎ＋Ｒ＿ｌ×（Ｖ＿ｍａｘ−Ｖ＿ｍｉｎ）  
として決定される。上記一部範囲における上限値は、  
Ｖ＿ｍｉｎ＋Ｒ＿ｈ×（Ｖ＿ｍａｘ−Ｖ＿ｍｉｎ）  
として決定される。なお、０以上１以下である２種の定数Ｒ＿ｌ、Ｒ＿ｈの初期値は、例えばＲ＿ｌ＝０、Ｒ＿ｈ＝０．５に設定される。Ｒ＿ｌ、Ｒ＿ｈは、ユーザが操作部２２を介して、輝度レベルに応じて任意に変更されることも可能である。なお、上記所定の規則は、ＲＯＩ内の最小の画素値（Ｖ＿ｍｉｎ）を基準とした規則であるが、ＲＯＩ内の最大の画素値（Ｖ＿ｍａｘ）を基準とした規則を用いて上記一部範囲を決定することも可能である。なお、一部範囲の上限値および下限値は、ＲＯＩ内の最小の画素値（Ｖ＿ｍｉｎ）にそれぞれ異なる２種の定数を乗じたものを用いてもよい。また、所定の範囲の上限値および下限値は、ＲＯＩ内の最大の画素値（Ｖ＿ｍａｘ）にそれぞれ異なる２種の定数を乗じたものを用いてもよい。なお、ＲＯＩ内の一部範囲は、表示部２１で表示された上記度数分布に基づいて、ユーザが操作部２２を介して決定されてもよい。
【００２０】
決定された一部範囲における画素値と画素値それぞれの度数とが、上記画像のデータから抽出される（ステップＳ１５）。抽出された画素値と度数とから、制御点が計算される（ステップＳ１６）。制御点として典型的な平均値は、画素値に画素値の度数を乗じて、上記一部範囲内の画素値にわたって和を取り、上記一部範囲内の全画素数で割ったものである。なお、上記制御点は、上記一部範囲内の画素値範囲から中間の画素値を抽出した値でもよいし、抽出された画素値と度数とに基づいて重み付け平均を計算した値でもよい。
【００２１】
予め決められている対応表に基づいて、計算された制御点に対応付けられている管電流および管電圧が決定される（ステップＳ１７）。決定されたＸ線条件に従って、高電圧発生部１０がＸ線制御部１７によって制御される（ＡＢＣ制御）。なお、上記Ｘ線条件は、ユーザからの操作部２２を介した入力に従って変更することも可能である。
【００２２】
透視が終了するまで、システム制御部１８の制御のもとでＸ線像を発生させる処理（ステップＳ１１）からＡＢＣ制御を行う処理（ステップＳ１７）までの処理が繰り返される（ステップＳ１８）。なお、ＲＯＩ内における画素値それぞれに対する度数から、画素値の度数分布が生成される処理（ステップＳ１３）は、ユーザによって一部範囲の決定がなされない場合、省略することも可能である。
【００２３】
以上に述べた構成によれば、以下の効果を得ることができる。  
本Ｘ線診断装置によれば、直接線がＲＯＩ内に入る場合、ＲＯＩ内の画素値に対する度数分布から、直接線の影響を軽減して制御点を算出することができる。算出された制御点に基づいて、次フレームのＸ線条件を決定する。これにより、直接線がＲＯＩ内に入ることで制御点が大きくなり、Ｘ線像の輝度レベルが下がる問題を改善できる。例として、図１３の矢印の右側は、本実施形態適用前後Ｘ線像を示している。結果として、Ｘ線像の観察が容易になる。また、直接線の影響を軽減させるためにユーザによるＲＯＩの大きさや位置の設定が不必要となることや、Ｘ線像の取り直しが減ることにより、ユーザの負担を軽減できる。また、被検体を動かしながらＸ線像を得る際、ユーザが注目する被検体の部位に応じて、かつ、直接線がＲＯＩに入らないように、ＲＯＩを設定する煩雑さが解消される。
【００２４】
（第２の実施形態）
次に本発明の第２の実施形態ついて説明する。  
以下に述べる第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成要素については、説明の重複を避けるため同じ構成部分には同符号を付して、その詳細な説明は省略し、異なる構成要素についてのみ説明する。  
図５は、第２の実施形態に係るＸ線診断装置の構成を示す図である。  
判断処理部２０は、ＲＯＩ全体の画素数に対する決定された一部範囲内の画素値を有する画素の数の割合を特定の閾値（Ｒ＿ｎ）に比較して、一部範囲の拡大の必要性を判断するという判断処理を行う。
【００２５】
（動作）
第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ処理については、説明の重複を避けるため、同じ処理には同符号を付して、その詳細な説明は省略する。第１の実施形態と第２の実施形態との動作が異なる点は、制御点を算出する際の画素値範囲を拡大する点である。
【００２６】
図６に示すフローチャートを参照しながら、Ｘ線条件を制御する動作について説明する。ＲＯＩ全体の画素数に対する、決定された一部範囲内の画素値を有する画素の数の割合が特定の値（Ｒ＿ｎ）以上であるか否かという判断処理が、判断処理部２０で行われる（ステップＳ２６）。ＲＯＩ全体の画素数に対する一部範囲内の画素値を有する画素の数の割合が特定の値（Ｒ＿ｎ）以上である場合、ステップＳ２６に続く処理は、第１の実施形態と同じである（ステップＳ１６からステップＳ１８）。ＲＯＩ全体の画素数に対する抽出した画素数の割合が特定の値（Ｒ＿ｎ）未満である場合、ステップＳ１４で決定された一部範囲は、上記割合が特定の値（Ｒ＿ｎ）に達するまで、範囲決定部１３で、画素値の増加方向に例えば１画素値ずつ拡大される（ステップＳ２７）。なお、特定の値（Ｒ＿ｎ）は、過去の多数の検査結果から経験則的に予め設定されるが、操作部２２を介してユーザにより変更可能である。図７は、決定された一部範囲と拡大された一部範囲とを、度数分布上で示した一例である。図７における拡大された一部範囲は、決定された一部範囲に対して、画素値の増加方向および減少方向に拡大されている。なお、ステップＳ１４で決定された一部範囲の拡大方向は、画素値の増加方向もしくは画素値の減少方向についてのみ拡大することも可能である。なお、ステップＳ２７の処理における拡大される画素値の幅は、操作部２２を介してユーザにより任意に変更可能である。
【００２７】
続いて、拡大された一部範囲内の画素値と画素値それぞれの度数とが、画像データから抽出される（ステップＳ２８）。以後の処理は、第１の実施形態と同様である。
【００２８】
以上に述べた構成によれば、以下の効果を得ることができる。  
本Ｘ線診断装置によれば、第１の実施形態の効果に加え、平均値を算出する際、ＲＯＩ全体の画素数に対する決定された一部範囲内の画素値を有する画素の数の割合が、特定の値（Ｒ＿ｎ）以上となるようにすることで、平均値の計算に用いられる画素の数の下限レベルが決定され、過敏なＡＢＣ制御を防ぐことができる。これにより、第１の実施形態において一部範囲内に含まれる画素の数が少ない場合においても、適切な輝度レベルを得ることができる。また、Ｘ線条件の過敏な制御が緩和され、装置に対する負担を軽減できる。
【００２９】
（第３の実施形態）
次に本発明の第３の実施形態ついて説明する。  
以下に述べる第３の実施形態において、第３の実施形態の構成要素は、第２の実施形態と同じであるので、説明の重複を避けるためその詳細な説明は省略する。
【００３０】
（動作）
第３の実施形態において、第１の実施形態と同じ処理については、説明の重複を避けるため、同じ処理には同符号を付して、その詳細な説明は省略する。第１の実施形態および第２の実施形態と、第３の実施形態との動作が異なる点は、所定の規則によって決定されたＲＯＩ内の一部範囲における上限値を、ＲＯＩ内の最大画素値に変更する点である。
【００３１】
図８に示すフローチャートを参照しながら、Ｘ線条件を制御する動作について説明する。一部範囲内の最大度数に対応する画素値と一部範囲外の最大度数に対応する画素値との間における最小度数が、度数分布から抽出される（ステップＳ３５）。続いて、上記一部範囲内の最大度数に対する抽出された最小度数の割合が所定の割合（Ｒ＿ｖ）以下であるか否かという判断処理が、判断処理部２０で行われる（ステップＳ３６）。所定の割合（Ｒ＿ｖ）は、例えば０．３である。なお、所定の割合（Ｒ＿ｖ）は、初期値を０．３として、操作部２２を介してユーザにより変更可能である。
【００３２】
上記一部範囲内の最大度数に対する抽出された最小度数の割合が所定の割合（Ｒ＿ｖ）以下である場合、ステップＳ３６に続く処理は、第１の実施形態と同じである（ステップＳ１５からステップＳ１８）。
【００３３】
上記一部範囲内の最大度数に対する抽出された最小度数の割合が所定の割合（Ｒ＿ｖ）を超える場合、上記一部範囲の最小値  
Ｖ＿ｍｉｎ＋Ｒ＿ｌ×（Ｖ＿ｍａｘ−Ｖ＿ｍｉｎ）  
からＲＯＩ内の最大値（Ｖ＿ｍａｘ）までの範囲が、画素値の平均値を計算するための新たな範囲として決定される（ステップＳ３７）。なお、決定される新たな範囲は、ＲＯＩ内の画素値範囲としてもよい。図９は、一部範囲と決定された新たな範囲を、度数分布上で示した一例である。  
続いて、新たな範囲内の画素値と画素値それぞれの度数とが、画像データから抽出される（ステップＳ３８）。以後の処理は、第１の実施形態と同様である。
【００３４】
以上に述べた構成によれば、以下の効果を得ることができる。  
本Ｘ線診断装置によれば、第１の実施形態の効果に加え、平均値を算出する際、一部範囲内の最大度数に対する最小度数の割合が所定の割合（Ｒ＿ｖ）を超える場合、一部範囲の上限値をＲＯＩ内の最大画素値に変更する。これにより、ＲＯＩ内に直接線がほとんど入射しない場合においても、画素値範囲が拡大されることで制御点が大きくなり、必要以上に次フレームの輝度レベルが上がることを防ぐことができる。また、制御点が大きくなることで、被検体に対する次フレームの撮影または透視による被爆量が低減される。
【００３５】
（第４の実施形態）
次に本発明の第４の実施形態ついて説明する。  
以下に述べる第４の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成要素については、説明の重複を避けるため同じ構成部分には同符号を付して、その詳細な説明は省略し、異なる構成要素についてのみ説明する。  
図１０は、第４の実施形態に係るＸ線診断装置の構成を示す図である。
【００３６】
記憶部１９は、ＲＯＩ内の画素値がＸ線検出部９の出力上限レベルに等価である（ハレーションを起こしている）複数の画素値度数分布（参照分布）の形状それぞれと対応する係数（Ｒ＿ｍａｘ）を記憶する。
【００３７】
（動作）
第４の実施形態において、第１の実施形態と同じ処理については、説明の重複を避けるため、同じ処理には同符号を付して、その詳細な説明は省略する。第４の実施形態と、第１乃至第３の実施形態の動作が異なる点は、ＲＯＩ内の画素値がＸ線検出部９の出力上限レベルに等価である場合において、ＲＯＩ内の一部範囲を決定する所定の規則に用いるＲＯＩ内の最大画素値を、以下で解説する計算された画素値に置き換える点である。
【００３８】
図１１に示すフローチャートを参照しながら、Ｘ線条件を制御する動作について説明する。ＲＯＩ内の画素値の最大値（Ｖ＿ｍａｘ）がＸ線検出部９の出力上限レベルに等価であるか否かという判断処理が、判断処理部２０で行われる（ステップＳ４５）。ＲＯＩ内の最大画素値（Ｖ＿ｍａｘ）がＸ線検出部９の出力上限レベルに等価でない場合、ステップＳ４５に続く処理は、第１の実施形態と同じである（ステップＳ１５からステップＳ１８）。
【００３９】
ＲＯＩ内の最大画素値（Ｖ＿ｍａｘ）がＸ線検出部９の出力上限レベルに等価である場合、一部範囲内の最大度数に対応する画素値と一部範囲外の最大度数に対応する画素値との間における最小度数に対応する画素値が、度数分布から判断処理部２０で特定される（ステップＳ４６）。次に、ステップＳ１３で生成された度数分布の形状に最も近似する参照分布に対応した係数（Ｒ＿ｍａｘ）が、記憶部１９から読み出される（ステップＳ４７）。なお、係数Ｒ＿ｍａｘは、例えば初期値を２．０として、操作部２２を介してユーザにより変更可能である。
【００４０】
ステップＳ４６で度数分布から抽出された最小度数の画素値に係数（Ｒ＿ｍａｘ）を乗じて、画素値の新たな最大値（Ｖ＿ｍａｘ’）が、算出される（ステップＳ４８）。なお、画素値の新たな最大値（Ｖ＿ｍａｘ’）は、ステップＳ１３で生成された度数分布の一部である直接線の影響による度数分布の形状に基づいて、推定されることも可能である。
【００４１】
ＲＯＩ内の最小画素値（Ｖ＿ｍｉｎ）と算出された新たな最大値（Ｖ＿ｍａｘ’）とから、所定の規則に従って新たな一部範囲が決定される（ステップＳ４９）。所定の規則とは、第１の実施形態で説明した規則である。図１２は、一部範囲と新たな一部範囲とを、度数分布上で示した一例である。  
続いて、新たな一部範囲内の画素値と画素値それぞれの度数とが、画像データから抽出される（ステップＳ５０）。以後の処理は、第１の実施形態と同様である。
【００４２】
以上に述べた構成によれば、以下の効果を得ることができる。  
本Ｘ線診断装置によれば、第１の実施形態の効果に加え、ＲＯＩ内の画素値がＸ線検出部９の出力上限レベルに等価である（ハレーションを起こしている）場合、記憶部１９から所定の係数（Ｒ＿ｍａｘ）を読出し、画素値の新たな最大値（Ｖ＿ｍａｘ’）を算出する。ＲＯＩ内の画素値の最小値（Ｖ＿ｍｉｎ）と画素値の新たな最大値（Ｖ＿ｍａｘ’）とから新たな一部範囲を決定する。これにより、一部範囲が新たな一部範囲に拡大されることで制御点が大きくなり、必要以上に次フレームの輝度レベルが上がることを防ぐことができる。また、制御点が大きくなることで、被検体に対する次フレームの撮影または透視による被爆量が低減される。
【００４３】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００４４】
１…装置本体、５…天板、７…Ｃ形アーム、９…Ｘ線検出部、１０…高電圧発生部、１１画像発生部…、１２…ＲＯＩ設定部、１３…範囲決定部、１４…画素値抽出部、１５…平均値計算部、１６…Ｘ線条件決定部、１７…Ｘ線制御部、１８…システム制御部、１９…記憶部、２０…判断処理部、２１…表示部、２２…操作部、８１…Ｘ線管、８２…Ｘ線絞り器、１００…Ｘ線診断装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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