(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の表面電極が設けられた半導体チップと、
前記半導体チップが搭載されたダイパッドと、
前記半導体チップの周囲に配置された複数のリードと、
前記半導体チップの前記複数の表面電極と前記複数のリードとをそれぞれ電気的に接続する複数のワイヤと、
前記半導体チップ及び前記複数のワイヤを封止する封止体と、
前記複数のリードのそれぞれのうちの前記封止体から露出する表面に形成された鉛フリーめっきと、
を有し、
前記鉛フリーめっきは、（２１１）、（３３２）または（４３２）の配向を持った粒子を有し、
前記鉛フリーめっきの前記配向は、温度サイクル環境試験後の前記鉛フリーめっきの前記リードに対する垂直方向の解析における配向であり、
前記鉛フリーめっきは、その厚み方向の中心から前記リードに近い界面側と前記鉛フリーめっきの表面に近い表面側とで、前記界面側に存在する直径１μｍ以下の粒子の数が、前記表面側に存在する直径１μｍ以下の粒子の数より多い、半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置において、前記複数のリードのそれぞれは、鉄−ニッケル合金または銅合金から成る、半導体装置。
【請求項３】
請求項２記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきは、錫を主材とするめっきであることを特徴とする、半導体装置。
【請求項４】
請求項３記載の半導体装置において、前記複数のリードのそれぞれのワイヤ接合部に銀めっきが形成されている、半導体装置。
【請求項５】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきの厚みに対して直径１μｍ以下の粒子を有する粒子層の厚みが１／１０である、半導体装置。
【請求項６】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきには、直径１μｍ以下の粒子が４５％以上存在する、半導体装置。
【請求項７】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきの厚み方向の中心から前記リードに近い前記界面側には、直径１μｍ以下の粒子が５０％以上存在する、半導体装置。
【請求項８】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきの厚み方向の中心から前記鉛フリーめっきの表面に近い前記表面側には、直径１μｍ以下の粒子が３５％以上存在する、半導体装置。
【請求項９】
請求項１記載の半導体装置において、温度サイクル環境試験後に、前記鉛フリーめっきには、直径１μｍ以下の粒子が４５％以上存在する、半導体装置。
【請求項１０】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっき内には、直径１μｍ以下の複数の粒子から成る層を有し、
前記層の厚みが１．５μｍ以上である、半導体装置。
【請求項１１】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきには、複数の異なる直径の粒子が含まれており、前記複数の異なる直径の粒子の平均断面積が２．５μｍ2以下である、半導体装置。
【請求項１２】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきには、複数の異なる直径の粒子が含まれており、前記鉛フリーめっきの厚み方向の中心から前記鉛フリーめっきの表面に近い前記表面側において、前記複数の異なる直径の粒子の平均断面積が２．４μｍ2以下である、半導体装置。
【請求項１３】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきには、複数の異なる直径の粒子が含まれており、前記鉛フリーめっきの厚み方向の中心から前記リードに近い前記界面側において、前記複数の異なる直径の粒子の平均断面積が１．６μｍ2以下である、半導体装置。
【請求項１４】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきには、複数の異なる直径の粒子が含まれており、前記鉛フリーめっきの前記複数の異なる直径の粒子の持つ線膨張係数が２１ｐｐｍ以下である、半導体装置。
【請求項１５】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきには、複数の異なる直径の粒子が含まれており、前記鉛フリーめっきの前記複数の異なる直径の粒子と前記リードとの線膨張係数差の平均値が１６．３ｐｐｍ以下である、半導体装置。
【請求項１６】
請求項１記載の半導体装置において、前記鉛フリーめっきの前記配向は、温度サイクル環境試験後の前記鉛フリーめっきの前記リードに対する前記垂直方向および水平方向の解析における配向である、半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置技術に関し、特に、鉛フリーめっきのウイスカ耐性向上に適用して有効な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路装置において、錫−鉛共晶はんだよりも融点が高く主要構成金属として鉛を含まない合金層が樹脂によって封止される部分より外の部分に設けられた構造が記載されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
近年、環境への配慮から鉛の使用の低減化が図られ、鉛を使用しない鉛フリーめっきの適用が増加しており、半導体装置等の外部端子の表面処理として鉛フリーめっきが広く使われるようになってきている。
【０００４】
しかしながら、鉛フリーめっきにおいては、錫のウイスカ成長が潜在的な問題として存在している。錫ウイスカはその抑制が容易でない自然現象であり、その発生は自然放置によるもの、温度サイクルによるもの、高温高湿環境における腐食によるものと考えられている。特に、温度サイクルにおけるウイスカは、めっき種によらず錫を含む場合には共通的に発生する。
【０００５】
錫ウイスカが発生する原因としては、その要因はさまざまであるが、めっき皮膜に圧縮応力が印加されることで、めっき膜が押し出されることによるものと考えられている。錫ウイスカを改善する為の対策は、ベーク処理やリフロー処理をするような対処的手法が殆どであり、外装処理における有効な改善対策は見出せていない。
【０００６】
一方、コネクタ製品等の嵌合によって生じるウイスカに対しては、異種金属による複層めっきや異種めっきによる複層めっきが改善対策の１つとして示されている。
【０００７】
本発明は、上述の潜在的に存在する鉛フリーめっきの錫ウイスカ成長を抑制改善するという技術的背景の下で検討・考案されたものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−３５２１７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
リードフレームを用いた半導体装置の組み立て工程は、主に、半導体チップをリードフレームのダイパッドに搭載するダイボンディング、半導体チップの電極パッドとインナリードとを電気的に接続するワイヤボンディング、半導体チップやワイヤを封止するパッケージング（封止）、アウタリードをリードフレームから切断分離する個片化から成る。
【００１０】
さらに、パッケージング後、個片化の前に、各アウタリードに外装めっき処理を施す外装めっき工程がある。前記外装めっき工程では、半導体装置をプリント基板等の実装基板に取り付けるため、封止体から露出したアウタリードに外装めっきを形成する。
【００１１】
外装めっきとしては、前述のように環境問題への対策が求められているため、鉛フリーめっきが多く用いられている。鉛フリーめっきとしては、例えば、錫−銅、錫−ビスマス、錫−銀、純錫等が多く用いられている。
【００１２】
ところが、半導体装置の試験において温度サイクル試験を行うと、アウタリードの表面に、前述のようにウイスカと呼ばれる金属のヒゲ状の結晶生成物が形成されることがある。
【００１３】
温度サイクル試験でウイスカが生成されるメカニズムは、アウタリードの基材（例えば、鉄−ニッケル合金）と鉛フリーめっき（例えば、錫−銅めっき）とで、線膨張係数が異なるため、温度サイクルによる両者の熱収縮で歪みが発生し、鉛フリーめっきの中で次第に溜まっていった歪みが最終的にウイスカとなって外部に突出するものと考えられている。この温度サイクル起因のウイスカは、鉄−ニッケル系合金素材と鉛フリーめっきの場合では線膨張係数差が大きい為に顕著であるが、銅合金素材と鉛フリーめっきの場合でも線膨張係数差は小さいながらに存在する為に、ウイスカ発生のポテンシャルは有していると考えられる。
【００１４】
図３１、図３２は本発明者が検討したウイスカ発生の原理を示す図であり、一般的な外装めっき析出の形態を模式的に示したものである。
【００１５】
外装めっきは、図３１に示すように、まずアウタリードなどのフレーム素材５４上には、（１１１）配向方向５０の向きに配向を持った粒径の小さい結晶５２（粒子）が析出する。さらに、その上部には、図３２に示すように幾何学的な成長によって粒径の大きな結晶５３（粒子）の析出が起こるが、始めに析出した（１１１）配向方向５０を持った結晶５２に沿った析出となる。このような配向の結晶５３（粒子）は、フレーム素材５４に水平な方向（Ｃ軸方向５１）に結晶のＣ軸が向くために、線膨張係数が大きい、つまりフレーム素材５４との線膨張係数差が大きな粒子となる。この大きな粒子がウイスカ生成に繋がる。
【００１６】
上述のような原理によって半導体装置のアウタリードにウイスカが生成されると、半導体装置が電気的ショートを引き起こし、半導体装置の動作不良を引き起こすことが課題である。
【００１７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ウイスカ耐性の向上を図ることができる技術を提供することにある。
【００１８】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【００２０】
代表的な実施の形態による半導体装置は、複数の表面電極が設けられた半導体チップと、前記半導体チップが搭載されたダイパッドと、前記半導体チップの周囲に配置された複数のインナリードと、前記半導体チップの前記複数の表面電極と前記複数のインナリードとをそれぞれ電気的に接続する複数のワイヤと、前記半導体チップ、前記複数のインナリード及び前記複数のワイヤを封止する封止体と、前記複数のインナリードそれぞれと一体で繋がり、前記封止体から露出する複数のアウタリードと、前記複数のアウタリードそれぞれの表面に形成された外装めっきと、を有し、前記外装めっきは、その厚み方向の中心からリードに近い界面側と前記外装めっきの表面に近い表面側とで、前記界面側に存在する直径１μｍ以下の粒子が、前記表面側に存在する直径１μｍ以下の粒子より多いものである。
【発明の効果】
【００２１】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【００２２】
リード上の外装めっきにおいて、リードの線膨張係数と外装めっきの線膨張係数の差による圧縮応力を低減してめっき膜にかかる圧縮応力の蓄積を生じにくくし、ウイスカの成長を抑制することで、外装めっきにおけるウイスカ耐性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態の半導体装置の製造方法によって組み立てられる半導体装置の構造の一例を示す平面図である。
【図２】図１に示すＡ−Ａ線に沿って切断した構造を示す断面図である。
【図３】図２に示すＡ部におけるめっき構造の一例を示す部分断面図である。
【図４】図１に示す半導体装置の組み立て手順の一例を示す製造フロー図である。
【図５】図１に示す半導体装置の組み立てで用いられるリードフレームの構造の一例を示す拡大部分平面図である。
【図６】図１に示す半導体装置の組み立てのダイボンディング後の構造の一例を示す部分断面図である。
【図７】図１に示す半導体装置の組み立てのワイヤボンディング後の構造の一例を示す部分断面図である。
【図８】図１に示す半導体装置の組み立ての樹脂モールディング後の構造の一例を示す部分断面図である。
【図９】図１に示す半導体装置の組み立ての切断・成形後の構造の一例を示す部分断面図である。
【図１０】図３のＢ部に示す外装めっきの改善前の構造を示す部分断面図である。
【図１１】図３のＢ部に示す外装めっきの改善後（本実施の形態）構造の一例を示す部分断面図である。
【図１２】図１０の外装めっきにおける粒径ごとの含有量を示す図である。
【図１３】図１１の外装めっきにおける粒径ごとの含有量の一例を示す図である。
【図１４】図１０の構造の一部を拡大して示す部分拡大断面図である。
【図１５】図１１の構造の一部を拡大して示す部分拡大断面図である。
【図１６】図１２と図１３に示す改善前後の外装めっきの粒径分布を示すデータ図である。
【図１７】図１４と図１５に示す改善前後の外装めっきの全粒子の平均断面積を示すデータ図である。
【図１８】外装めっきの各結晶の配向ごとの線膨張係数の一例を示すデータ図である。
【図１９】改善前後の外装めっきにおけるリードとの線膨張係数の差の平均値を示すデータ図である。
【図２０】図１０の改善前の外装めっきのリードに対して水平方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【図２１】図１１の改善後（本実施の形態）の外装めっきのリードに対して水平方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【図２２】図１０の改善前の外装めっきのリードに対して垂直方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【図２３】図１１の改善後（本実施の形態）の外装めっきのリードに対して垂直方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【図２４】図１０の改善前の外装めっき（温度サイクル後）のリードに対して水平方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【図２５】図１１の改善後（本実施の形態）の外装めっき（温度サイクル後）のリードに対して水平方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【図２６】図１０の改善前の外装めっき（温度サイクル後）のリードに対して垂直方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【図２７】図１１の改善後（本実施の形態）の外装めっき（温度サイクル後）のリードに対して垂直方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【図２８】図１１に示す改善後（本実施の形態）の外装めっきのウイスカ抑制効果を示すデータ図である。
【図２９】改善後の外装めっきの析出推定原理の第１ステップを示す模式図である。
【図３０】改善後の外装めっきの析出推定原理の第２ステップを示す模式図である。
【図３１】比較例の無光沢めっき（外装めっき）の析出推定原理の第１ステップを示す模式図である。
【図３２】比較例の無光沢めっき（外装めっき）の析出推定原理の第２ステップを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下の実施の形態では特に必要なとき以外は同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。
【００２５】
さらに、以下の実施の形態では便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明などの関係にある。
【００２６】
また、以下の実施の形態において、要素の数など（個数、数値、量、範囲などを含む）に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良いものとする。
【００２７】
また、以下の実施の形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。
【００２８】
また、以下の実施の形態において、構成要素等について、「Ａからなる」、「Ａよりなる」、「Ａを有する」、「Ａを含む」と言うときは、特にその要素のみである旨明示した場合等を除き、それ以外の要素を排除するものでないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。
【００２９】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【００３０】
（実施の形態）
図１は本発明の実施の形態の半導体装置の製造方法によって組み立てられる半導体装置の構造の一例を示す平面図、図２は図１に示すＡ−Ａ線に沿って切断した構造を示す断面図、図３は図２に示すＡ部におけるめっき構造の一例を示す部分断面図である。
【００３１】
本実施の形態の半導体装置は、リードフレームを用いて組み立てられる樹脂封止型の半導体パッケージであり、本実施の形態では前記半導体装置の一例として、図１に示すような多ピンのＱＦＰ（Quad Flat Package)１を取り上げて説明する。
【００３２】
図１、図２に示すＱＦＰ１の構成について説明すると、半導体集積回路が形成された半導体チップ４と、半導体チップ４の周囲に放射状に配置された複数のインナリード２ａと、インナリード２ａと一体に形成された複数のアウタリード２ｂと、半導体チップ４の主面４ａに形成された表面電極である電極パッド４ｃとこれに対応するインナリード２ａとを電気的に接続する金線等の複数のワイヤ５とを有している。
【００３３】
さらに、ＱＦＰ１は、銀ペースト等のダイボンディング材７を介して半導体チップ４が固定されたチップ搭載部であるタブ（ダイパッド）２ｃと、樹脂モールディングによって封止用樹脂等から形成され、かつ半導体チップ４とタブ２ｃと複数のワイヤ５と複数のインナリード２ａを封止する封止体３とを有している。ＱＦＰ１であるため、複数のインナリード２ａそれぞれと一体に形成された複数のアウタリード２ｂは、封止体３の４辺それぞれから外部に向かって突出しており、各アウタリード２ｂは、ガルウィング状に曲げ成形されている。
【００３４】
ＱＦＰ１に搭載された半導体チップ４は、その主面４ａに形成された複数の電極パッド４ｃが、例えば、５０μｍ以下の狭パッドピッチで設けられている。これにより、ワイヤ５に、例えば、ワイヤ径が２０μｍ以下の金線を採用することができ、多ピン化も図ることができる。
【００３５】
また、インナリード２ａ、アウタリード２ｂ及びタブ２ｃは、鉄−ニッケル合金、あるいは銅合金等の薄板状の部材によって形成され、さらに、封止体３は、例えば、熱硬化性のエポキシ系樹脂等から成り、樹脂モールディングによって形成されたものである。
【００３６】
また、半導体チップ４は、例えば、シリコン等によって形成され、その主面４ａには半導体集積回路が形成されているとともに、タブ２ｃの主面２ｈ上にダイボンディング材７によって固着されている。すなわち、半導体チップ４の裏面４ｂとタブ２ｃの主面２ｈとがダイボンディング材７を介して接合されている。
【００３７】
また、図３に示すように、複数のインナリード２ａのそれぞれの端部付近のワイヤ接合部２ｉには、銀めっき９が形成されており、金線等のワイヤ５との接続信頼性を高めている。銀めっき９は、インナリード２ａの表面に形成された下地銅めっき９ａ上に形成されている。
【００３８】
ここで、本実施の形態１のＱＦＰ１では、封止体３から突出する複数のアウタリード２ｂのそれぞれの表面に、図２に示すように、鉛フリーめっきから成る外装めっき８が形成されている。
【００３９】
ただし、図３に示すように各アウタリード２ｂの先端部の切断面２ｊは、外装めっき形成後にリード切断により形成された面であるため、外装めっき８は形成されていない。
【００４０】
この外装めっき８は、種々の鉛フリーめっきの中で、錫（Ｓｎ）−銅（Ｃｕ）めっき、錫（Ｓｎ）−銀（Ａｇ）めっき、錫（Ｓｎ）−ビスマス（Ｂｉ）めっきもしくは純錫（Ｓｎ）等のうちの何れであってもよい。
【００４１】
次に、本実施の形態の半導体装置（ＱＦＰ１）の製造方法を、図４に示す製造フロー図に沿って説明する。
【００４２】
図４は図１に示す半導体装置の組み立て手順の一例を示す製造フロー図、図５は図１に示す半導体装置の組み立てで用いられるリードフレームの構造の一例を示す拡大部分平面図、図６は図１に示す半導体装置の組み立てのダイボンディング後の構造の一例を示す部分断面図である。さらに、図７は図１に示す半導体装置の組み立てのワイヤボンディング後の構造の一例を示す部分断面図、図８は図１に示す半導体装置の組み立ての樹脂モールディング後の構造の一例を示す部分断面図、図９は図１に示す半導体装置の組み立ての切断・成形後の構造の一例を示す部分断面図である。
【００４３】
まず、図４のステップＳ１に示すリードフレーム準備を行う。ここでは、図５に示すリードフレームの一例であるマトリクスフレーム２を準備する。マトリクスフレーム２には、半導体チップ４が搭載されるデバイス領域２ｄが複数個並んで形成されているとともに、それぞれのデバイス領域２ｄに複数のインナリード２ａやアウタリード２ｂが設けられている。
【００４４】
本実施の形態で用いられる図５に示すマトリクスフレーム２には、１つのＱＦＰ１を形成するための領域であるデバイス領域２ｄが複数行×複数列（例えば、図５では２行×２列）に亘ってマトリクス配置で複数個形成されており、各デバイス領域２ｄに、１つのタブ（ダイパッド）２ｃ、タブ２ｃの周囲に配置された複数のインナリード２ａ及び複数のアウタリード２ｂ等が形成されている。
【００４５】
また、マトリクスフレーム２は、例えば、鉄−ニッケル合金または銅合金等によって形成された長方形の薄板材であり、タブ２ｃ、複数のインナリード２ａ及びアウタリード２ｂが一体に繋がって形成されている。図５に示すマトリクスフレーム２では、Ｘ方向が長方形の長手方向であり、Ｙ方向が長方形の幅方向である。
【００４６】
また、マトリクスフレーム２の幅方向の両端部の枠部２ｅには、処理の際の位置決め用の長孔２ｇやガイド用のスプロケットホール２ｆが複数個設けられている。
【００４７】
なお、図５に示すマトリクスフレーム２における１つのデバイス領域２ｄのインナリード２ａの本数は、図１に示すＱＦＰ１におけるアウタリード２ｂの本数と異なっているが、これはマトリクスフレーム２のリード部分の形状をわかり易く示すためのものであり、ＱＦＰ１を組み立てるために用いられるマトリクスフレーム２の１つのデバイス領域２ｄのインナリード２ａの本数は、ＱＦＰ１のアウタリード２ｂの本数と同じであることは言うまでもない。
【００４８】
その後、図４のステップＳ２に示すダイボンディングを行う。ここでは、マトリクスフレーム２の複数のデバイス領域２ｄのタブ２ｃに、ダイボンディング材７を介して図６に示すように半導体チップ４を搭載する。すなわち、図２に示すように半導体チップ４の裏面４ｂとタブ２ｃの主面２ｈとをダイボンディング材７によって接合する。
【００４９】
その後、図４のステップＳ３に示すワイヤボンディングを行う。すなわち、図７に示すように、半導体チップ４の主面４ａの電極パッド４ｃとこれに対応する複数のインナリード２ａのそれぞれとをワイヤ５によって電気的に接続する。なお、ワイヤ５は、例えば、金線である。
【００５０】
ワイヤボンディング後、図４のステップＳ４に示す樹脂モールディングを行う。ここでは、図示しない樹脂成形金型を用いてマトリクスフレーム２のデバイス領域２ｄにおける図８に示すタブ２ｃ、半導体チップ４、複数のインナリード２ａ及び複数のワイヤ５を封止用樹脂を用いて樹脂封止し、封止体３を形成する。なお、前記封止用樹脂は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂等である。
【００５１】
その後、図４のステップＳ５に示す鉛フリーめっき形成を行う。この鉛フリーめっきが、図２に示す外装めっき８である。
【００５２】
その後、図４のステップＳ６に示す切断・成形を行う。図５に示すマトリクスフレーム２の枠部２ｅから図９に示すように各アウタリード２ｂを切断分離し、かつガルウィング状に曲げ成形してＱＦＰ１の組み立て完了となる。
【００５３】
次に、本実施の形態のＱＦＰ１のアウタリード２ｂの表面に形成される鉛フリーめっきである外装めっき８について説明する。
【００５４】
図１０は図３のＢ部に示す外装めっきの改善前の構造を示す部分断面図、図１１は図３のＢ部に示す外装めっきの改善後（本実施の形態）構造の一例を示す部分断面図、図１２は図１０の外装めっきにおける粒径ごとの含有量を示す図、図１３は図１１の外装めっきにおける粒径ごとの含有量の一例を示す図、図１４は図１０の構造の一部を拡大して示す部分拡大断面図、図１５は図１１の構造の一部を拡大して示す部分拡大断面図である。さらに、図１６は図１２と図１３に示す改善前後の外装めっきの粒径分布を示すデータ図、図１７は図１４と図１５に示す改善前後の外装めっきの全粒子の平均断面積を示すデータ図、図１８は外装めっきの各結晶の配向ごとの線膨張係数の一例を示すデータ図、図１９は改善前後の外装めっきにおけるリードとの線膨張係数の差の平均値を示すデータ図である。
【００５５】
本実施の形態では、外装めっき８の特徴を、ウイスカの生成において改善が成されていない図１０に示す改善前の一般的な外装めっき５５と、改善が成された図１１に示す改善後の本実施の形態の外装めっき８とを比較しながら説明する。また、ここでは、前記外装めっき８，５５が錫−銅の鉛フリーめっきである場合を一例として取り上げて説明する。さらに、本実施の形態では、外装めっき８の特徴を、めっきの粒径、線膨張係数、配向性の観点で改善前（外装めっき５５）と改善後（外装めっき８）で比較して説明する。
【００５６】
まず、図１０と図１１は、改善前（図１０）と改善後（図１１）で、めっきの厚さ方向における粒径ごとの分布を調べたデータであり、それぞれの図において、色の濃い領域ほど粒径の小さな粒子が多く存在していることを示している。
【００５７】
図１０の改善前の外装めっき５５と図１１の改善後の外装めっき８では、それぞれのめっき内に粒径の異なった複数のめっきの粒子が含まれていることが判るが、改善前に比較して改善後の方が、粒径が小さくなっていることが判る。それぞれの図において、最も濃い色（黒色）の領域が直径１μｍ以下のめっき粒子が存在している領域である。
【００５８】
さらに、図１１に示す改善後では、外装めっき８の厚みＴに対して直径１μｍ以下の粒子を有する粒子層（微細結晶層）８ａの厚みｔが、おおよそ前記Ｔの１／１０となっている。
【００５９】
また、図１２及び図１３は、改善前（図１２）と改善後（図１３）のそれぞれの外装めっき８，５５におけるめっき粒の粒径と含有数の関係を示すものであるが、それぞれの外装めっき８，５５において、粒径（直径）１μｍ以下の大きさの粒子が多く含まれていることがわかる。
【００６０】
図１４は、改善前（図１０）の構造の一部を抜き出して拡大したものであり、粒径１μｍ以下の粒子が存在するエリアを求めた結果である。この場合の粒径１μｍ以下の粒子が存在するエリアはアウタリード２ｂとの界面から厚さＰのところであり、Ｐは１．５μｍ程度となっている。
【００６１】
一方、図１５は、改善後（図１１）の構造の一部を抜き出して拡大したものであり、粒径１μｍ以下の粒子が存在するエリアを求めた結果である。この場合の粒径１μｍ以下の粒子が存在するエリアはアウタリード２ｂとの界面から厚さＱのところであり、Ｑは３．０μｍ程度となっている。したがって、改善前（図１４）と比べ、直径１μｍ以下の粒子が、およそ２倍に増加していることがわかる。
【００６２】
すなわち、粒径が１μｍ以下の図１１に示す粒子層８ａが１．５μｍ以上存在することによって錫ウイスカの抑制改善効果を得ることができる。なお、この粒子層８ａは、めっき膜内のどの位置に存在してもよく、粒径が１μｍ以下の図１１に示す粒子層８ａが１．５μｍ以上存在すればよい。
【００６３】
なお、図１５に示されるように、改善後の外装めっき８は、その厚み方向の中心８ｂからリードであるアウタリード２ｂに近い界面側８ｃと、外装めっき８の表面に近い表面側８ｄとで、界面側８ｃに存在する直径１μｍ以下の粒子が、表面側８ｄに存在する直径１μｍ以下の粒子より多く存在している。
【００６４】
これは、リードと外装めっき８の線膨張係数差が大きいと、前述のようにウイスカが生成され易くなるため、外装めっき８のリードに近い界面側８ｃに粒径の小さなめっき粒子を多く存在させることで、リードとの線膨張係数差を小さくしてウイスカ生成を抑制させるものである。
【００６５】
次に、図１６は、図１０及び図１１それぞれに示す外装めっき構造の、粒径について調べた結果である。改善後（図１１）は改善前（図１０）に比べると、めっき後の状態で粒径１μｍ以下の粒子が存在する割合が高くなっていることがわかり、外装めっき膜全体では４５％以上、リード（フレーム素材）と外装めっき８の界面近傍では５０％以上、外装めっき８の表面近傍では３５％以上であることが特徴である。
【００６６】
また、温度サイクル環境試験後の状態でも、粒径１μｍ以下の粒子が４５％以上残存していることが特徴である。
【００６７】
以上により、図１６から、粒径が１μｍ以下の粒子が外装めっき膜全体で見ると４５％以上存在することが好ましく、さらに鉄−ニッケル合金素材や銅合金素材等のリードとめっきの界面近傍、すなわち図１５に示す外装めっき８の厚み方向の中心８ｂからアウタリード２ｂに近い界面側８ｃの位置では５０％以上、また外装めっき表面近傍、すなわち外装めっき８の厚み方向の中心８ｂから外装めっき８の表面に近い表面側８ｄの位置では３５％以上存在することが好ましい。
【００６８】
さらに、錫ウイスカの成長が顕著である温度サイクル環境試験後にて、粒径１μｍ以下の粒子が４５％以上残存（存在）していることが好ましい。
【００６９】
図１６に示す改善後の場合にはそのいずれにおいても、ウイスカ生成を抑制することができる。
【００７０】
また、図１７は、図１０及び図１１それぞれに示す外装めっき構造におけるめっき粒子１粒々々の平均断面積を求めた結果である。改善後（図１１）は改善前（図１０）に比べ、全体的に平均断面積が小さくなっていることがわかる。これは、前述の粒径の小さい粒子の割合が増加したことと同様である。
【００７１】
外装めっき膜に含まれる複数のめっき粒子の平均断面積については、外装めっき膜全体では２．５μｍ2 以下、リード（フレーム素材）と外装めっき８の界面近傍（界面側８ｃ）で１．６μｍ2 以下、表面近傍（表面側８ｄ）で２．４μｍ2 以下であることが特徴である。
【００７２】
以上により、図１７から、外装めっき膜に含まれる複数のめっき粒子の平均断面積において、外装めっき膜全体では２．５μｍ2 以下、表面近傍（図１５に示す表面側８ｄ）では２．４μｍ2 以下、鉄−ニッケル系合金素材や銅合金素材と外装めっき８の界面近傍（図１５に示す界面側８ｃ）では１．６μｍ2 以下であることが好ましい。
【００７３】
図１７に示す改善後の場合にはそのいずれにおいても、ウイスカ生成を抑制することができる。
【００７４】
次に、本実施の形態の外装めっき８の配向性及び線膨張係数についての特徴を説明する。
【００７５】
外装めっき８の各粒子は配向性を有しており、その配向性によって線膨張係数に差異があることが知られている。図１８は、錫の各配向に対する線膨張係数を示している。配向によって粒子そのものの持つ線膨張係数に違いがあることがわかり、１５ｐｐｍ〜２３ｐｐｍ程度に分布していることがわかる。一般的な錫の線膨張係数は１６ｐｐｍ〜２２ｐｐｍ（２３ｐｐｍでもよい）と言われており、各配向に対する線膨張係数の分布の大きめの範囲に相当している。
【００７６】
ここで、アウタリード２ｂを含むリード材が、鉄−ニッケル系合金素材から成る場合、その線膨張係数は、５ｐｐｍ程度であり、銅合金素材から成る場合には、その線膨張係数は１７ｐｐｍ程度である。
【００７７】
錫のウイスカの生成を低減するためには、外装めっき８のリード（フレーム素材）との線膨張係数差を小さくする必要があり、したがって、外装めっき８が、線膨張係数の小さい粒子の集合体であることが望ましい。
【００７８】
その結果、錫の線膨張係数が２１ｐｐｍ以下の配向性の粒子で構成されることが好ましい。これにより、錫のウイスカの生成を低減することができる。
【００７９】
また、図１９は、改善前（図１０）の外装めっき５５と、改善後（図１１）の外装めっき８の構造から、平均線膨張係数差を求めた結果である。改善後（図１１）は１５．９ｐｐｍであり、改善前（図１０）の１６．５ｐｐｍに比べ、平均線膨張係数差が小さくなっていることが判った。
【００８０】
これにより、外装めっき８の改善前後のめっき膜解析から得られた配向性によって求めた平均線膨張係数差（リードとめっきの線膨張係数差）は、１６．３ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００８１】
次に、図２０は図１０の改善前の外装めっきのリードに対して水平方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図、図２１は図１１の改善後（本実施の形態）の外装めっきのリードに対して水平方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図、図２２は図１０の改善前の外装めっきのリードに対して垂直方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図、図２３は図１１の改善後（本実施の形態）の外装めっきのリードに対して垂直方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。さらに、図２４は図１０の改善前の外装めっき（温度サイクル後）のリードに対して水平方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図、図２５は図１１の改善後（本実施の形態）の外装めっき（温度サイクル後）のリードに対して水平方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図、図２６は図１０の改善前の外装めっき（温度サイクル後）のリードに対して垂直方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図、図２７は図１１の改善後（本実施の形態）の外装めっき（温度サイクル後）のリードに対して垂直方向から眺めた際の結晶配向性を示すデータ図である。
【００８２】
また、図２８は図１１に示す改善後（本実施の形態）の外装めっきのウイスカ抑制効果を示すデータ図、図２９は改善後の外装めっきの析出推定原理の第１ステップを示す模式図、図３０は改善後の外装めっきの析出推定原理の第２ステップを示す模式図である。
【００８３】
ここで、図２０〜図２７は全てＩＰＦプロットによる配向性ごとの分布量を示すデータ図であり、各図において、白地の領域が分布量「ゼロ（０）」の領域であり、斜め線によるハッチングの領域が分布量が最も高い領域である。
【００８４】
図２０と図２１はそれぞれめっき処理後のリード（フレーム素材）に対して水平方向の解析結果を示したものであり、図２０の改善前と図２１の改善後を比較すると、改善前（図２０）に分布量が０で、かつ改善後（図２１）に分布量が０ではなくなった（増えた）配向は、（１０３），（１１０），（２０１），（４１１），（４２１），（４４１），（５１２），（５４１）及び（９９１）である。
【００８５】
したがって、このような配向性を有した構造を持つ外装めっき８とすることで、ウイスカの生成を抑制することができる。また、改善前に比べて改善後に分布量が減少した配向は、（１１１），（２１０），（３２３），（３３２），（４３２）及び（９５１）であり、このような配向的な特徴を有するめっき構造が錫ウイスカの抑制に有効な効果を持っている。
【００８６】
また、図２２と図２３はそれぞれめっき処理後のリード（フレーム素材）に対して垂直方向の解析結果を示したものであり、図２２の改善前と図２３の改善後を比較すると、改善前（図２２）に分布量が０で、かつ改善後（図２３）に分布量が０ではなくなった（増えた）配向は、（３１０），（３３２），（４１０）及び（９３１）である。
【００８７】
したがって、このような配向性を有した構造を持つ外装めっき８とすることで、ウイスカの生成を抑制することができる。
【００８８】
さらに、改善前に比べて改善後に分布量が減少した配向は、（１１０）であり、加えて（３１０），（４１０），（９３１）近傍の配向が増加しており、このような配向的な特徴を有するめっき構造が錫ウイスカの抑制に有効な効果を持っている。
【００８９】
図２４と図２５はそれぞれめっき処理後で、かつ錫ウイスカの成長が顕著な温度サイクル環境試験後のリード（フレーム素材）に対して水平方向の解析結果を示したものであり、図２４の改善前と図２５の改善後を比較すると、改善前（図２４）に分布量が０で、かつ改善後（図２５）に分布量が０ではなくなった（増えた）配向は、（１００），（２１１），（３０１），（３３２），（４０１），（４３２），（５３２）及び（９１０）である。
【００９０】
したがって、このような配向性を有した構造を持つ外装めっき８とすることで、ウイスカの生成を抑制することができる。
【００９１】
また、（１０３），（２１０），（３２０），（４１３），（４３１），（４４１），（５２１），（５４１），（６３１），（９５１），（９７１）及び（９９１）の配向が温度サイクル環境試験中に減少し、（４３２），（５３２），（２１１）及び（３１２）の配向が試験中に増加しており、このような配向的な特徴を有するめっき構造が錫ウイスカの抑制に有効な効果を持っている。
【００９２】
図２６と図２７はそれぞれめっき処理後で、かつ錫ウイスカの成長が顕著な温度サイクル環境試験後のリード（フレーム素材）に対して垂直方向の解析結果を示したものであり、図２６の改善前と図２７の改善後を比較すると、改善前（図２６）に分布量が０で、かつ改善後（図２７）に分布量が０ではなくなった（増えた）配向は、（１１１），（２１１），（３１２），（３３２）及び（４３２）である。
【００９３】
したがって、このような配向性を有した構造を持つ外装めっき８とすることで、ウイスカの生成を抑制することができる。
【００９４】
また、（１１０），（４３０）及び（２２１）の配向が温度サイクル環境試験中に減少し、（６３１），（４２１），（３２１），（４３２），（３３２），（５３２）及び（２１１）の配向が温度サイクル環境試験中に増加しており、このような配向的な特徴を有するめっき構造が錫ウイスカの抑制に有効な効果を持っている。
【００９５】
次に、前述した外装めっき８における結晶粒径や粒子の分布、低い平均線膨張係数、配向性等の特徴を有するめっき構造の実現方法（形成方法）について説明する。
【００９６】
本実施の形態の外装めっき８の形成方法の一例としては、めっき処理中に電流密度を変化させることによって複層めっきを得る方法が考えられる。
【００９７】
具体的一例としては、第１〜第５のステージを有する図示しないめっき槽において、このめっき槽の第１のステージで、例えば、３０Ａ／ｄｍ2 ：１０秒の条件で第１鉛フリーめっき（条件変更層）を外装めっき８のリード側（界面側）に形成する。その後、前記めっき槽の第２〜第５のステージの各ステージで、例えば、２０Ａ／ｄｍ2 ：１０秒の条件で第２鉛フリーめっきを前記第１鉛フリーめっき上のめっき表面側に形成する。ここで、２０Ａ／ｄｍ2 ：１０秒の条件は、鉛フリーめっきを形成する上での標準的な条件である。この場合、条件変更層である界面側の前記第１鉛フリーめっきは、大きな電流密度で先に形成して短めの時間（１０秒）で形成完了とし、標準的な電流密度（２０Ａ／ｄｍ2 ）による前記第２鉛フリーめっきは、後から時間を掛けて（１０秒×４回）じっくりと形成する。このようにめっき処理中に電流密度を変化させることで外装めっき８を２層構造に形成することができる。
【００９８】
この形成方法を適用して本実施の形態の外装めっき８を形成する場合には、例えば、リードとの界面側を条件変更層とすると、まず、前記条件変更層となる第１鉛フリーめっきを直径１μｍ以下の粒径の粒子が集まった図１１に示す粒子層８ａとなるような条件（電流密度や印加時間等）で形成し、その上層に標準的な電流密度等の条件による第２鉛フリーめっきから成る層を形成することで実現できる。
【００９９】
ただし、本実施の形態に記載の結晶粒径や分布、低い平均線膨張係数、配向性等の特徴を有するめっき構造を実現できる手法であれば、前述のめっき処理中に電流密度を変化させて複層めっきを得る方法に限定されるものではない。
【０１００】
なお、一般的に無光沢めっきにおいては、（１１１）の配向を持った比較的小さい結晶が析出し、その上部に幾何学的な大きな粒径が析出するものと考えられるが、この場合も下部の配向を継承し（１１１）に配向した析出となる。
【０１０１】
前述のめっき処理中に電流密度を変化させて複層めっきを得る方法では、電流密度に変化を与えることによって、例えば、リード（フレーム素材）と外装めっき８の界面近傍の条件を変えた場合には、図２９に示すように、まず、粒径の小さいランダムな（１１１）配向方向８ｅを持った結晶８ｇの析出が起こる。この場合、Ｃ軸方向８ｆがアウタリード（フレーム素材）２ｂに水平な方向となり、この水平の線膨張係数が大きな結晶の析出が削減される。
【０１０２】
その後、結晶８ｇの上部に、図３０に示すように前述と同様に粒径の小さい結晶８ｈの析出が生じるが、下部の配向に沿ったランダムな（１１１）配向方向８ｅの結晶８ｈとなり、さらに図示はしないが、その上部にも幾何学的な粒径の大きな析出が発生し、この幾何学的な粒径の大きな析出もランダムな配向を持った析出となる。
【０１０３】
なお、結晶学的には、（１１１）の配向は線膨張係数が大きい向きとなるため、ランダムな配向を有した析出が線膨張係数を軽減する効果があるとされている。
【０１０４】
ここで、図２８は本実施の形態の外装めっき８のウイスカ試験結果を示したものである。前述のめっき処理中に電流密度を変化させて複層めっきを得る方法によって、ウイスカ成長抑制に効果的なめっき構造の外装めっき８を得た場合の試験結果を示しており、改善前と比べたウイスカ長さの割合が示されている。
【０１０５】
図２８では、マイナス（−）はウイスカ長さが減少したことを示しており、いずれも改善前に比べるとウイスカ長さが低減していることが示されている。すなわち、本実施の形態で得られた特徴的な外装めっき８の構造を実現することによって、ウイスカ成長の抑制に効果的であることがわかる。
【０１０６】
なお、錫の線膨張係数を、例えば、２３ｐｐｍとし、銅の線膨張係数を、例えば、１７ｐｐｍとし、鉄−ニッケル合金の線膨張係数を、例えば、５ｐｐｍとすると、錫と、鉄−ニッケルとの合金間では、１８ｐｐｍの線膨張係数差があるため、温度変化が生じた場合には、歪み（応力）は大きくなる。
【０１０７】
しかしながら、本実施の形態のＱＦＰ１では、アウタリード２ｂの表面に形成された外装めっき８中の粒径の小さい粒子（直径１μｍ以下の粒子）の存在率を高めることや、線膨張係数の小さい配向を持った結晶析出とすることによって、ウイスカが発生するポテンシャルを低減してウイスカ耐性の向上を図ることができる。また、錫−銅間では、６ｐｐｍの線膨張係数差があるが、その差が比較的小さいため、温度変化が生じても歪み（応力）が小さいため、ウイスカ発生までには至らない。
【０１０８】
本実施の形態の半導体装置によれば、アウタリード２ｂ上に形成された外装めっき８においてアウタリード２ｂに近い界面側８ｃと表面に近い表面側８ｄとで、界面側８ｃに存在する直径１μｍ以下の粒子が、表面側８ｄに存在する直径１μｍ以下の粒子より多いことで、アウタリード２ｂとの界面側８ｃに粒径の小さな粒子が増えるため、配向性にランダム性が生じ、その結果、外装めっき８の膜全体の平均線膨張係数を低減することができる。
【０１０９】
これにより、外装めっき８のアウタリード２ｂ（フレーム素材）の線膨張係数との差が小さくなるため、アウタリード２ｂの線膨張係数と外装めっき８の線膨張係数の差による圧縮応力を低減することができる。
【０１１０】
したがって、外装めっき８のめっき膜にかかる圧縮応力の蓄積が生じにくくなり、ウイスカの成長を抑制することができる。その結果、外装めっき８におけるウイスカ耐性の向上を図ることができる。
【０１１１】
また、外装めっき８のウイスカ耐性の向上を図ることができるため、電気的なショートによって半導体装置（ＱＦＰ１）が動作不良を引き起こすことを低減化することができる。
【０１１２】
さらに、外装めっき８において粒径の小さい粒子が増えることによって、粒界を伝播する錫原子の移動距離が延びる。これにより、表面までに到達する錫原子を抑制することができ、ウイスカを発生しにくくすることができる。ここでは、小さい粒径が集合した層が、応力を緩和する緩衝層の役目を果たしている可能性もある。
【０１１３】
また、これらの相乗効果によって、ウイスカの発生に不利な鉄−ニッケル系合金素材と鉛フリーめっきの組み合わせにおいても、温度サイクル試験環境におけるウイスカの成長を抑制することができる。
【０１１４】
以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【０１１５】
例えば、前記実施の形態では、半導体装置がＱＦＰ１の場合について説明したが、前記半導体装置は、外部端子としてアウタリードを有し、かつこのアウタリード上に外装めっきが形成されるものであれば、特に限定されるものではなく、ＳＯＰ（Small Outline Package)やＱＦＪ（Quad Flat J-leaded Package) 若しくはＳＯＪ（Small Outline J-leaded Package) 等の他の半導体装置であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１１６】
本発明は、鉛フリーめっきが形成される電子装置の組み立てに好適であり、錫ウイスカ成長の抑制を実現する。
【符号の説明】
【０１１７】
１  ＱＦＰ（半導体装置）
２  マトリクスフレーム
２ａ  インナリード
２ｂ  アウタリード
２ｃ  タブ（ダイパッド）
２ｄ  デバイス領域
２ｅ  枠部
２ｆ  スプロケットホール
２ｇ  長孔
２ｈ  主面
２ｉ  ワイヤ接合部
２ｊ  切断面
３  封止体
４  半導体チップ
４ａ  主面
４ｂ  裏面
４ｃ  電極パッド（表面電極）
５  ワイヤ
７  ダイボンディング材
８  外装めっき
８ａ  粒子層
８ｂ  中心
８ｃ  界面側
８ｄ  表面側
８ｅ  （１１１）配向方向
８ｆ  Ｃ軸方向
８ｇ，８ｈ  結晶
９  銀めっき
９ａ  下地銅めっき
５０  （１１１）配向方向
５１  Ｃ軸方向
５２，５３  結晶
５４  フレーム素材
５５  外装めっき
【図１】
0005634149.tif 000002
【図２】
0005634149.tif 000003
【図３】
0005634149.tif 000004
【図４】
0005634149.tif 000005
【図５】
0005634149.tif 000006
【図６】
0005634149.tif 000007
【図７】
0005634149.tif 000008
【図８】
0005634149.tif 000009
【図９】
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【図１０】
0005634149.tif 000011
【図１１】
0005634149.tif 000012
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
0005634149.tif 000015
【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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