(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１個の単一円板状物品を保持しかつ回転させるためのスピンチャック、
円板状物品上に液体を分配して液体層を形成するための液体分配手段、
円板状物品上に気体を吹き付けるためのオリフィスを有する少なくも１個のノズルを備えた第１の気体分配手段、
円板状物品上に気体を吹き付けるためのオリフィスを有する少なくも１個のノズルを備えた第２の気体分配手段、
第２の気体分配手段と液体分配手段とが縁部の領域に向かって動くように、液体分配手段と第２の気体分配手段とを円板状物品を横切って動かすための移動手段、及び
第２の気体分配手段とは別の第１の気体分配手段を通って分配される気体の流量を制御するための手段、
を備え、
第１の気体分配手段のオリフィスの断面積の和が第２の気体分配手段のオリフィスの断面積の和より小さく、
第１の気体流の気体速度ｖ１が最小３ｍ／ｓであるように制御して液体層を開口させ、
円板状物品を横切って液体分配手段と第２の気体分配手段とを動かすための移動手段が、第２の気体分配手段が液体分配手段に追随するように構成され、
移動手段は、第１の気体分配手段が液体分配手段に追随するように、円板状物品を横切って第１の気体分配手段を動かすための手段を更に備え、
第２の気体分配手段は、気体のカーテンを分配するように回転運動の半径に対して実質的に直角に配列されたスリット状のノズル、または気体のカーテンを分配するように第２の気体分配手段の運動方向と実質的に直角である直線上に配列されたノズルの列、のいずれかを備えている、円板状物品の表面から液体を除去するための装置。
【請求項２】
第１及び第２の気体分配手段のオリフィスの断面積の和が１：１.１から１：２０の比率を有する請求項１による装置。
【請求項３】
第１の気体分配手段が２０ｍｍ2より小さい断面積の和を有する請求項１による装置。
【請求項４】
第２の気体分配手段が５ｍｍ2より大きい断面積の和を有する請求項１による装置。
【請求項５】
第２の気体分配手段と液体分配手段とが、第２の気体分配手段と液体分配手段との間の距離ｄ２で互いに固定される請求項１による装置。
【請求項６】
第１の気体分配手段、第２の気体分配手段及び液体分配手段が、第１の気体分配手段と液体分配手段との間の距離ｄ１で互いに固定される請求項５による装置。
【請求項７】
距離ｄ２と距離ｄ１との差（ｄ２−ｄ１）が、−１ｃｍと＋１ｃｍとの間である請求項５による装置。
【請求項８】
円板状物品の主表面に直角な軸線まわりで円板状物品を回転させる工程、
回転しているときに円板状物品の上に液体を供給し、この液体が円板状物品の縁部に向かって基板を横切って動かされる供給ポートから供給される工程、
第１の気体供給ポートを通して一つの領域に向かって円板状物品上に第１の気体流を供給し、この領域の中心が２０ｍｍより大きくない回転運動の中心までの距離を有し、第１の気体が供給されるこの領域は、第１の気体が供給されるとき液体層で覆われ、そしてこれにより分離した領域において液体層を開口させる工程、更に
第２の気体供給ポートが、気体のカーテンを分配するように回転運動の半径に対して実質的に直角に配列されたスリット状のノズル、または気体のカーテンを分配するように第２の気体供給ポートの運動方向と実質的に直角である直線上に配列されたノズルの列、のいずれかを備える工程、
回転されたときの円板状物品上に第２の気体供給ポートを通して第２の気体流を供給し、この第２の気体流が基板の縁部に向かって基板を横切って動かされる第２の気体供給ポートより供給され、第２の気体供給ポートから中心までの距離が、第２の気体流及び液体が供給されている間の液体供給ポートから中心までの距離より小さい工程、
を有し、
第１の気体流の気体速度ｖ１が最小３ｍ／ｓであり、
第２の気体供給ポートが液体供給ポートに追随し、
第２の気体流の供給が、第１の気体流が開始された後で開始され、
第２の気体流の気体速度ｖ２が最大５ｍ／ｓである、
円板状物品の表面から液体を除去するための方法。
【請求項９】
第２の気体供給ポートの外側の縁部が回転運動の中心まで少なくも２０ｍｍの距離にあるとき、第２の気体流が開始される請求項８による方法。
【請求項１０】
第１の気体流の気体速度が第２の気体流の気体速度の少なくも２倍である請求項８による方法。
【請求項１１】
第１の気体流の気体体積流量が、第２の気体流の気体体積流量の半分より多くない請求項８による方法。
【請求項１２】
液体供給ポートが縁部に向かって動くとき、回転速度が減少する請求項８による方法。
【請求項１３】
液体供給ポートが縁部に向かうとき、液体供給ポートが縁部に向かって動く移動速度が減少する請求項８による方法。
【請求項１４】
除去液体の表面張力を減少させる物質が、除去液体を経て、又は少なくも第２の気体流を経て、或いは除去液体と少なく第２の気体流との両者を通して適用される請求項８による方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、円板状物品の表面から液体を除去するための装置に関する。より特別には、本発明は、表面から液体を除去するために円板状物品を流体処理する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体産業において、種々の液体除去方法が知られている。多くの液体除去方法は定められた液体／気体境界層を使用する。かかる液体除去方法はマランゴニ乾燥法としてよく知られている。
【０００３】
特許文献１は、複合マランゴニスピン乾燥方法及び装置を明らかにする。これにより、脱イオン水が窒素と２プロパノールとの混合物と同時に水の上に分配される。窒素中の２プロパノールは液体／気体の境界層に影響を与え、表面の勾配を発生させ、ウエハー上に滴を残すことなしに水がウエハー上を走る効果（マランゴニ効果）を導く。液体分配装置がウエハーの中心から縁の方に動かされかつウエハーが旋回されている間、気体分配装置が液体分配装置のすぐ後を追随し、これにより、気体がウエハーから液体を直接排除させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第５８８２４３３号  明細書
【特許文献２】米国特許第６５３６４５４Ｂ号  明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、この液体除去方法は制御が非常に困難である。例えば、液体分配装置から気体分配装置までの距離、温度、気体の流量、及び液体の流量は決定的な要因である。従って、３００ｍｍ半導体ウエハーのような大直径の円板状物品及び平パネルディスプレイに対して、並びにデバイスサイズが例えば９０ｎｍ、６５ｎｍの高集積回路に対しては作業工程実施の許容範囲が極めて狭い。
【０００６】
円板状物品の内側領域から液体を除去するようにうまく設計された現在入手可能な装置は、外側領域からの液体の除去が不十分である。かかる設計で外側領域から液体を十分に除去するように設計が変更されると、内側領域からの除去が不十分である。
【０００７】
従って、大きい円板状物品、例えば２００ｍｍより大きい直径を有する半導体ウエハーから液体を除去するための改良された方法を提供することが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、円板状物品の表面から液体を除去するための装置であって、
・１個の円板状物品を保持しかつ回転させるための回転手段、
・円板状物品上に液体を分配するための液体分配手段、
・円板状物品上に気体を吹き付けるためのオリフィスを有する少なくも１個のノズルを
備えた第１の気体分配手段、
・円板状物品上に気体を吹き付けるためのオリフィスを有する少なくも１個のノズルを
備えた第２の気体分配手段、
・第２の気体分配手段と液体分配手段とが縁の領域に向かって動くように、液体分配手
段と第２の気体分配手段とを円板状物品を横切って動かすための移動手段、及び
・第２の気体分配手段とは別の第１の気体分配手段を通って分配される気体の流量を制
御するための手段
を備え、第１の気体分配手段のオリフィスの断面積の和が第２の気体分配手段のオリフィスの断面積の和より小さい装置を提供することにより目的を達成する。
【０００９】
かかるチャックは、真空チャック、スピンチャック又はベルヌーイチャックとすることができ、或いは円板状物品と円周で接触しかつ円板状物品を駆動するローラーとすることができる。
【００１０】
液体分配手段は、配管液体加圧手段（例えば、ポンプ又は高所に置かれた容器）及び少なくも１個のオリフィスを有する少なくも１個の排出ノズルを備えることが普通である。排出ノズルは円板状物品の表面に向けられる。好ましくは、液体除去プロセス中、１個のノズルを有するただ１個のノズルが使用され、ノズルは、液体が表面上に直角方向に分配されるように表面に向けられる。液体が飛沫にならず円板状物品上に分配されるように、滑らかな形状のオリフィス（例えば、円形又は長円形オリフィス）を選定することが有利である。
【００１１】
第１及び第２の気体分配手段の気体流量を別々に管理する手段は、一実施例においては制御器（例えば、コンピューター）により切り替えられる電磁弁である。かかる制御器は、ある瞬間における液体分配手段及び気体分配手段の置かれた場所の情報を有し、従って第２の気体分配手段の作動を開始させ得る時機及び液体分手段がある特定の位置を通過する時機を決めることができる。別の実施例においては、別々に制御する手段は、気体の体積流量を増加させ又は減少させることまでもできる。
【００１２】
好ましい実施例においては、円板状物品を横切って液体分配手段と第２の気体分配手段とを動かすための移動手段は、第２の気体分配手段が液体分配手段に追随するように構成される。これは、第２の気体分配手段と液体分配手段との両者を同じノズル組立体上に取り付け又はこれらを別の媒体アーム上に取り付けることにより実行することができる。別のアームへのノズルの取り付けは、液体分配手段と第２の気体分配手段との間の距離をプロセス中に、プロセスとプロセスとの間に変更できるという利点を与える。この実施例においては、第１の気体分配手段を回転運動の中心に固定し、第１の気体分配手段が液体分配手段に追随しないようにすることができる。
【００１３】
なお別の実施例においては、第１の気体分配手段段が液体分配手段に追随するように、移動手段は、第１の分配手段を円板状物品を横切って動かすための手段を更に備える。この場合、全部で３個の気体分配手段を別のアームに取り付けることができ、或いは同じノズル組立体に付属させることができる。
【００１４】
第１及び第２の気体分配手段のオリフィスの断面積の和は、１：１.１から１：２０の比率を持つ。好ましい比率の範囲は１：２から１：１.１０である。
【００１５】
なお別の好ましい実施例においては、第１の気体分配手段は２０ｍｍ２より小さい断面積の和を有し、これは第１の気体の衝撃面積を小さくする。
【００１６】
第２の気体分配手段は、好ましくは、５ｍｍ２より大きい断面積の和を有し、これは、第２の気体により大きい領域をカバーすることを許す。
【００１７】
第２の気体分配手段はスリット状のノズルを備え、このスリットは回転運動の半径に対して実質的に直角に配列され、これにより第２の気体分配手段は気体のカーテンを分配する。この場合の用語「実質的に直角」は８５゜から９５゜の範囲を意味する。この構成は
、回転運動の中心を通りかつスリット状ノズルが直線運動に関して実質的に直角に取り付られたとき第２の気体分配手段の直線運動により達成することができる。スリット状ノズルがスイベルアームに取り付けられた場合は、スリット状ノズルを回転運動の半径に対して実質的に直角な位置に維持するためにノズルの逆方向移動を行わなければならない。
【００１８】
スリット状ノズルに代わるものとして、第２の気体分配手段が実質的に直線に配列されたノズルのアレイを備えることができる。この線は第２の気体分配手段の運動方向と実質的に直角であり、これによりノズルが気体のカーテンを分配する。
【００１９】
更に、第２の気体分配手段と液体分配手段とが、第２の気体分配手段と液体分配手段との間の距離ｄ２で互いに固定される。
【００２０】
第１の気体分配手段、第２の気体分配手段及び液体分配手段の整列は、第１の気体分配手段と液体分配手段との間の距離ｄ１で互いに固定される。
【００２１】
好ましくは、距離ｄ２と距離ｄ１との差（ｄ２−ｄ１）は、−１ｃｍから＋１ｃｍの範囲とすべきである。
【００２２】
本発明の第２の態様は、円板状物品の表面から液体を除去するための方法であって、
・円板状物品の表面に直角な軸線まわりに円板状物品を回転させ、
・回転しているときに円板状物品の上に液体を供給し、この液体は供給ポートから供給
され、これは円板状物品の縁に  向かって基板を横切って動かされ、
・第１の気体流を、第１の気体供給ポートを通してある一領域に向かって円板状物品上
に供給し、この領域の中心は２０ｍｍより大きくない回転運動の中心までの距離を有し
、第１の気体が供給されるこの領域は、第１の気体が供給されるとき液体層で覆われ、
そしてこれにより液体層が分離した領域において開口され、更に
・第２の気体供給ポートを通して第２の気体流を回転中の円板状物品上に供給し、この
第２の気体流は第２の気体供給ポートより供給され、基板の縁の方に基板を横切って動
かされ、第２の気体供給ポートの中心までの距離は、第２の気体流及び液体が供給され
ている間の液体供給ポートの中心までの距離より小さい
諸段階よりなる方法である。
【００２３】
例えば、第２の気体流の供給は、第１の気体流が開始された後で開始され、或いは、第１の気体流が開始された後でなく第２の気体流が開始された場合は、第１の気体流が開始された後に第２の気体流が増加される。これは、第２の気体流を最初は非常に低流量０.２ ｌ／ｍｉｎとし、中心からの距離が例えば４０ｍｍにおいて６ ｌ／ｍｉｎに増加させ得ることを意味する。
【００２４】
好ましい方法においては、第２の気体流は、第２の気体供給ポートの外側の縁が回転運動の中心まで少なくも２０ｍｍの距離にあるとき開始される。
【００２５】
第１の気体流の気体速度が第２の気体流の気体速度の少なくも２倍であることが好ましい。
【００２６】
第１の気体流の気体体積流量は、第２の気体流の気体体積流量の半分より多くてはいけない。
【００２７】
第１の気体流の気体速度ｖ１は、最小３ｍ／ｓであることが有利である。第２の気体流の気体速度ｖ２は最大５ｍ／ｓであることが好ましい。
【００２８】
別の実施例においては、回転速度は、液体分配手段が縁に向かって動くとき減少する。しかし、これは、回転速度が縁に向かって増加する場合は有利となる得る。
【００２９】
好ましい方法においては、液体分配手段が縁に向かうとき、縁に向かって動く液体分配手段の移動速度が減少する。
【００３０】
液体除去効率を更に改善するために、除去液体の表面張力を減少させる物質が、除去液体を通して、又は少なくも第２の気体流を通して、或いは除去液体と少なく第２の気体流との両者を通して適用される。
【００３１】
かかる物質は、表面活性物質と呼ぶことができる。しかし、ここでは、表面活性物質は、水の表面エネルギー（表面張力）を低下させ得る物質でなければならない。これは、セッケンのような表面活性体であるべきことを必ずしも意味しない。これは、極性又は非極性の末端を有する分子（例えば、適宜の種類のアルコール）よりなることを意味するだけである。
【００３２】
本発明の更なる詳細及び利点は図面及び関連した説明より明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の実施例の略図を示す。
【図２】本発明の第１の実施例のノズルの構成の下方から見た略図である。
【図３】本発明の第２の実施例のノズルの構成の下方から見た略図である。
【図４】本発明の第３の実施例のノズルの構成の下方から見た略図である。
【図５】本発明の第４の実施例のノズルの構成の下方から見た略図である。
【図６】ノズルが半導体ウエハー（ウエハー）の中心における液体除去を開始する前の本発明の実施例の断面略図である。
【図７】第１の気体分配手段のノズルが半導体ウエハー（ウエハー）の中心における液体除去を開始したときの本発明の実施例の断面略図である。
【図８】第１の気体分配手段のノズルが半導体ウエハー（ウエハー）の中心における液体の除去を開始しそして第２の気体分配手段により支援されたかなり後の本発明の実施例の断面略図を示す。
【図９】第１の気体分配手段のノズルが半導体ウエハー（ウエハー）の中心における液体の除去を開始しそして第２の気体分配手段により支援されたかなり後の本発明の実施例の平面略図を示す。
【図１０】ウエハー上方のノズルの位置に関し、かつウエハー上への液体、第１の気体及び第２の気体の供給時に関する本発明の第１の実施例における方法を視覚化させたものである。
【図１１】ウエハー上方のノズルの位置に関する本発明の第２の実施例における方法を視覚化させたものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
図１は、好ましい実施例による円板状物品Ｗの表面から液体を除去するための装置１を示す。この装置は、円板状物品Ｗを保持するためのスピンチャック２と、ノズル組立体４の取り付けられるアーム３とを備える。この場合、円板状物品は半導体ウエハー（ウエハー）である。スピンチャック２は回転可能である（矢印Ｒにより示される）。ノズル組立体４は、下向きのオリフィスを有するノズルを複数個備える。かかるノズルを経てウエハーの上向きの面に向けて異なった液体が排出される。ウエハーの表面を横切ってノズル組立体４を動かすために、アーム３及びノズル組立体は移動機構（図示せず）に連結される。アーム３は、（例えば矢印Ｘにより示され、半径にわたる）直線に沿って、或いはスイベル運動に従って動かすことができる。ノズル組立体がウエハーを横切って動く間、ノズ
ル組立体とウエハー表面との間にはただ一定の距離ａ１が維持される。かかる距離はプロセス要因（例えば流体の流量、チャックの速度）に応じて最適化され、１ｍｍから５ｃｍの間、好ましくは３ｍｍから２ｃｍの間で選定される。ノズル組立体の距離は、ウエハーに最寄りのノズルオリフィスの距離であるとして定義される。
【００３５】
図２、図３、及び図４は、かかるノズル組立体の３種の異なった実施例の下方から見た略図である。
【００３６】
図２は、液体除去プロセス中、濡らし液を供給するための濡らし用ノズル１０、（ウエハーの全表面が液体で覆われているとき）閉じられた液体層の上に気体を吹き付け、これにより濡らし液の液体層に口を開けるための開口用ノズル８、及び気体の雰囲気を提供するための第２の気体流のための２個のカーテンノズル６を有するノズル組立体の第１の実施例を示す。
【００３７】
選択的に、ノズル組立体４は、液体除去プロセスの開始前にウエハー上にリンス用液体（例えば脱イオン水）を分配するためのリンス用ノズル１２を備える。これは、別の媒体アームが不必要であるという利点を与える。
【００３８】
開口用ノズル８のオリフィスの断面積は、カーテンノズル６のオリフィスの断面積の和より小さい。示された例においては、開口用ノズルのオリフィスの断面積は８ｍｍ２（直径は３.２ｍｍである）であり、一方、カーテンノズルの２個のオリフィスの断面積の和は３２ｍｍ２（２×２ｍｍ×８ｍｍ）である。
【００３９】
もし、第１の気体の気体体積流量（開口用ノズル８を通るｆ１）及び第２の気体の気体体積流量（カーテンノズル１０を通るｆ２）を同じ（例えば、ｆ１＝ｆ２＝６ ｌ／ｍｉｎ）に選定したならば、開口用ノズルを通って分配される気体の体積速度（ｖ１）は、カーテンノズルを通って分配される気体の気体速度（ｖ２）の４倍である。このため、開口用ノズルを通して液体層に向けられる衝撃力はカーテンノズルにより作られる衝撃力の４倍である。
【００４０】
距離ｄ１は、開口用ノズルのオリフィス８と濡らし用ノズルのオリフィス１０との間の距離を表す。
【００４１】
距離ｄ２は、カーテンノズルのオリフィス６と濡らし用ノズルのオリフィス１０との間の距離を表す。この距離ｄ２は、直線Ｌ６と濡らし用ノズル１０の輪郭との間の距離であるとして定義される。直線Ｌ６は、カーテンノズルのオリフィスの輪郭間を連結する。直線Ｌ６は、濡らし用ノズル１０に面しているオリフィスの輪郭部分と接触する。示された実施例においては、線Ｌ６は移動方向に対して直角である。ｄ１はｄ２より小さい（ｄ２−ｄ１＝４ｍｍ）。
【００４２】
２個のノズル間の距離（例えば、ｄ１、ｄ２）は、これこれら２個のノズルの中心間の距離であるとして理解すべきではない。
【００４３】
前記第２の気体分配手段は２個のスリット状ノズルよりなり、各スリットは、回転運動の半径に対して実質的に８５゜から９５゜の範囲の角度で配置され（図９を参照）、これにより第２の気体分配手段は気体カーテンを分配する。
【００４４】
図３に示されたノズル組立体の第２の実施例は第１の実施例（図２）に基づくが、カーテンノズル（線Ｌ６）及び開口用ノズルの両者のノズルオリフィスは、濡らし用ノズルのオリフィスから同じの距離を持つ（ｄ１＝ｄ２）。
【００４５】
図４に示されたノズル組立体の第３の実施例は第１の実施例（図２）に基づくが、カーテンノズルのノズルオリフィス（線Ｌ６）は開口用ノズルのオリフィスよりも濡らし用ノズルのオリフィスにより近い（ｄ１＞ｄ２；ｄ２−ｄ１＝−４ｍｍ）．
図５に示されたノズル組立体の第４の実施例は第２の実施例（図３）に基づくが、リンス用ノズルは別のアームにが取り付けられる。これは機械的にはより複雑な解を導くが、これは、リンス用ノズルをウエハーの上方の空間から取り去ることができ、従ってリンス用ノズルが液体除去プロセスを妨害しないという利点を与える。
【００４６】
ｄ２が少なくもｄ１と同じ大きさである場合は、距離ｄ１は０.５ｃｍから３ｃｍの範囲とすべきである。ｄ１が少なくもｄ２と同じ大きさである場合は、距離ｄ２は０.５ｃｍから３ｃｍの範囲とすべきである。
【００４７】
液体除去のプロセスが、ノズル組立体の第１の実施例に基づき図２、図６、図７、図８及び図９を参照し説明されるであろう。ここでは、直径３００ｍｍのウエハーを乾燥させるとする。
【００４８】
清浄処理の後、リンス用ノズル１２を経てウエハー表面にリンス液が（１０ ｌ／ｍｉｎで）適用され、この間、リンス用ノズルはウエハー表面を横切って走査する。中心Ｚ（図６）においてリンス液を停止させ、これによりウエハー表面の全体を濡らした状態に保つ。ノズル組立体４のこの位置においては、濡らし用ノズル１０の中心は位置Ａにある。位置Ａは、ノズル組立体４の運動方向に関して中心Ｚの前方２０ｍｍである。以後は、濡らし用ノズル１０の中心Ｐを基準点として使用する。位置Ａにおいて、濡らし液（例えば、脱イオン水）が、体積流量０.４ ｌ／ｍｉｎで濡らし用ノズル１０を経て適用される。断面積４ｍｍ２で濡らし液速度２.５ ｍ／ｓが得られる。濡らし液が位置Ａ（図６）において供給開始されたときリンス液が停止される。開口用ノズルが中心Ｚを通過した後、開口用ノズル８が中心Ｚにより近い位置にノズルが保持されるように、ノズル組立体は、回転運動（Ｒ）の中心Ｚの上方を約５ｍｍ／ｓの速度でウエハーを横切って動かされる。開口用ノズル８が中心Ｚに達するより前であるが濡らし用ノズル１０が中心Ｚを通過した後に、第１の気体の流れが開始され、これにより液体層Ｌが先ず中心の周りで開口される（図７参照）。開口用ノズルを通って分配される気体の体積流量ｆ１は６ ｌ／ｍｉｎ（１００ｃｍ３／ｓ）である。更なる支援のために、液体層ｆ１の開口は、出発期間５ｓに対してはより大きく選ぶことができる（例えば、１０ ｌ／ｍｉｎ）（図１１に図示）。
【００４９】
ノズル組立体４は、ウエハーの縁に向かって更に動かされる。濡らし液の液体流量及び第１の気体の流量は一定に保たれ、従って滑らかな液体／気体境界層が確立され、これは、ノズル組立体の運動とともにゆっくりとウエハーの縁に向かった動かされる。濡らし用ノズルの中心Ｐが回転中心Ｚから距離５０ｍｍの位置（位置Ｃ、図８参照）に達したとき、カーテンノズル６が作動させられ、これにより広い境界層に気体が供給される。選択的に、開口用ノズルの気体流を停止させ又は低下させることができる。これを低下させるとき、これは、第２の気体流の気体体積流量の１／４である気体体積流量に下げることができる。従って、第１の気体流の気体速度は第２の気体流の気体速度に適合するあろう。濡らし用ノズルが、中心Ｚから１４０ｍｍの位置Ｄに達すると、濡らし液が停止される（このとき、開口用ノズルは中心から１３０ｍｍの距離にある）。濡らし用ノズルが中心Ｚから１６０ｍｍの位置Ｅに達すると、両方の気体流が停止される（このとき、開口用ノズルは中心から１５０ｍｍの距離、即ちウエハーの縁にある）。
【００５０】
滑らかな境界層の確立を更に支援するために、表面エネルギーに影響を与える媒体（例えば、２プロパノール）を、気体流の一方（又は双方）を通し、又は濡らし液を通し、或いは濡らし液と気体流との両者を通して入れることができる。
【００５１】
説明されたプロセス例を表１及び表２にまとめた。これは図１０において可視化される。
【００５２】
【表１】
0005523099.tif 000002
【００５３】
【表２】
0005523099.tif 000003
【００５４】
液体除去プロセスを更に支援するために、濡らし液の衝撃点における円周方向速度を一定に保つことが望ましい。例えば、中心から位置Ｃ（上の例においてはＺＣは５０ｍｍ）まで、回転速度は３００ｒｐｍ一定に保たれる。従って濡らし液の衝撃点Ｐにおける円周方向速度（ｖｃ（ｒ））は、０ｍ／ｓから２.３６ｍ／ｓに増加する。その後、回転速度
は、濡らし用ノズル１０の中心の位置Ｐの距離ｒに依存して次式に示されるように調整すべきである。
【００５５】
ｗ（ｒ）＝ｗ１＊ｒ１／ｒ
ここに
ｗ１は、基本回転速度であり、
ｒ１は、円周方向速度を一定にしようとする衝撃点と回転中心との距離である。
【００５６】
これは、濡らし用ノズルが回転中心から１００ｍｍの距離のとき回転速度が１５０ｒｐｍであるとすると、縁（ｒ＝１５０ｍｍ）にあるときは回転速度は１００ｒｐｍとすべきあることを意味する。
【００５７】
更に、ノズルが更に外向きに動くとき、移動速度ｍは、これを減速させるべきであることが望ましい。例えば、中心から位置Ｃへの移動速度は１２ｍｍ／ｓであり、その後低下させられる。例えば、ｒ＝１００ｍｍにおいてｍ＝６ｍｍ／ｓ、そしてｒ＝１５０ｍｍにおいてｍ＝４ｍｍ／ｓとすべきである。
【００５８】
−１ｃｍ＜ｄ２−ｄ１＜＋１ｃｍ、好ましくはｄ１−ｄ２＝０である。
【００５９】
図９は、第１の気体分配手段のノズルが半導体ウエハー（ウエハー）の中心における液体除去を開始しかつ第２の気体分配手段により支援されてからかなり後の本発明の実施例に平面略図を示す。回転中心の点線で示されたノズル組立体が、ノズル組立体の（矢印Ｘにより示される）運動の開始された場所を示す。
【００６０】
上に説明された例については、表面活性物質、キャリヤーガスとしての窒素中の２プロパノール（濃度１５００ｐｐｍ）が第２の気体流に加えられる。
【００６１】
或いは、表面活性物質（２プロパノール）を重量で２０％の濃度で濡らし液（脱イオン水）に加えることができる。この場合、ノズル組立体の移動速度ｍは２ｍｍ／ｓに選定される。
【００６２】
別の例においては、ウエハーはチャック上で反転して保持され、液体と気体とは下方からウエハーに供給される。或いは、例えば、特許文献２に説明されたようなスピンチャックによる同じ方法を使用してウエハーの両面を同時に乾燥させることができる。
【図１】
0005523099.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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