(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
0005457200.tif 000096
（式中、
Ｒ1は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、シクロプロピル、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、ビニル、エチニル、メトキシ、エトキシ、ハロメトキシ又はハロエトキシであり；
Ｒ2及びＲ3は、独立に、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2−Ｃ6アルケニル、Ｃ2−Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ2−Ｃ6アルキニル、Ｃ3−Ｃ6アルケニルオキシ、Ｃ3−Ｃ6ハロアルケニルオキシ、Ｃ3−Ｃ6アルキニルオキシ、Ｃ3−Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキルスルホニルオキシ、シアノ、ニトロ、フェニルもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキルスルホニルにより置換されたフェニル；又はヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキルスルホニルで置換されたヘテロアリールであり；
Ｒ4は、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、ビニル、エチニル、メトキシ、エトキシ、ハロメトキシ又はハロエトキシであり；
Ｘは、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）2であり；
Ｒ5は、水素又はメチルであり；
Ｒ6は、水素、メチル又はエチルであり、あるいはＲ6に付随している、Ｒ7又はＲ8の隣接炭素原子と共に二重結合を形成し；
Ｒ7及びＲ8は、互いに独立に、置換されていない、あるいはメチル又はエチルにより置換されているＣ1−Ｃ5アルキレン、又は置換されていない、あるいはメチル又はエチルにより置換されているＣ2−Ｃ5アルケニレンであり；そして
Ｇは、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、スルホニウム、アンモニウム又は潜在性基であり；
ここでＧが潜在性基である場合、Ｇは：Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ2−Ｃ8ハロアルキル、フェニルＣ1−Ｃ8アルキル（ここで該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されている）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ8アルキル（該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されている）、Ｃ3−Ｃ8アルケニル、Ｃ3−Ｃ8ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8アルキニル、Ｃ（Ｘa）−Ｒa、Ｃ（Ｘb）−Ｘc−Ｒb、Ｃ（Ｘd）−Ｎ（Ｒc）−Ｒd、−ＳＯ2−Ｒe、−Ｐ（Ｘe）（Ｒf）（Ｒg）又はＣＨ2−Ｘf−Ｒhであり；
ここでＸa、Ｘb、Ｘc、Ｘd、Ｘe及びＸfは、互いに独立に、酸素又は硫黄であり；
Ｒaは、Ｈ、Ｃ1−Ｃ18アルキル、Ｃ2−Ｃ18アルケニル、Ｃ2−Ｃ18アルキニル、Ｃ1−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルＣ1−Ｃ5オキシアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、Ｃ2−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールであり、
Ｒbは、Ｃ1−Ｃ18アルキル、Ｃ3−Ｃ18アルケニル、Ｃ3−Ｃ18アルキニル、Ｃ2−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ2−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、Ｃ3−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはフェニルＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールであり、
Ｒc及びＲdは、各々互いに独立に、水素、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ3−Ｃ10アルケニル、Ｃ3−Ｃ10アルキニル、Ｃ2−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ2−Ｃ5アルキルアミノアルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、Ｃ2−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジフェニルアミノ、又はＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジ−Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ又はＣ3−Ｃ7シクロアルコキシであり；
あるいはＲc及びＲdは、一緒に結合して、Ｏ又はＳから選択される１つのヘテロ原子を任意に含有する３〜７員環を形成してもよく；
Ｒeは、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ2−Ｃ10アルケニル、Ｃ2−Ｃ10アルキニル、Ｃ1−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、Ｃ2−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジフェニルアミノ、又はＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ又はＣ3−Ｃ7シクロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、Ｃ1−Ｃ10ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノ又はＣ2−Ｃ8ジアルキルアミノであり；
Ｒf及びＲgは、各々互いに独立に、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ2−Ｃ10アルケニル、Ｃ2−Ｃ10アルキニル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、Ｃ1−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ2−Ｃ5アルキルアミノアルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されている）、Ｃ2−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジフェニルアミノ、又はＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ又はＣ3−Ｃ7シクロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ10ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノ又はＣ2−Ｃ8ジアルキルアミノ、ベンジ��オキシ又はフェノキシ、ここで、該ベンジル及びフェニル基は、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されていてもよく；そして
Ｒhは、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ3−Ｃ10アルケニル、Ｃ3−Ｃ10アルキニル、Ｃ1−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ2−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されている）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されている）、フェノキシＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されている）、ヘテロアリールオキシＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されている）、Ｃ3−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ5ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲンもしくはニトロで置換されたフェニル、又はヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ5ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲンもしくはニトロで置換されたヘテロアリールである）の化合物。
【請求項２】
前記式中、Ｒ1がメチル、エチル、ビニル、エチニル、メトキシ又はハロゲンである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記式中、Ｒ1がメチル又はエチルである、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
前記式中、Ｒ2が、水素、ハロゲン、メチル、エチル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキルスルホニルで置換されたフェニルである、請求項１、２又は３に記載の化合物。
【請求項５】
前記式中、Ｒ2が水素又はメチルである、請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
前記式中、Ｒ3が水素、ハロゲン、メチル、エチル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキルスルホニルで置換されたフェニルである、請求項１、２又は３に記載の化合物。
【請求項７】
前記式中、Ｒ3が水素又はハロゲンで置換されたフェニルである、請求項６に記載の化合物。
【請求項８】
前記式中、Ｒ2及びＲ3が、独立に、水素、メチル、エチル、ハロゲン；Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキルスルホニルで任意に置換されたフェニル；又はＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキルスルホニルで任意に置換されたヘテロアリールである、請求項１、２又は３に記載の化合物。
【請求項９】
前記式中、Ｒ4が、水素、メチル、エチル、ビニル又はエチニルである、請求項１、２、３又は８に記載の化合物。
【請求項１０】
前記式中、Ｒ4が水素、メチル又はエチルである、請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
前記式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ4が、互いに独立に、メチル又はエチルであり、そしてＲ3が水素である、請求項１、２、３、８、９又は１０に記載の化合物。
【請求項１２】
前記式中、Ｒ1がメチル又はエチルであり、Ｒ2が水素であり、そしてＲ3がフェニルもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロもしくはハロゲンで置換されたフェニル、又はヘテロアリールもしくはアルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロもしくはハロゲンで置換されたヘテロアリールである、請求項１に記載の化合物。
【請求項１３】
前記式中、
Ｒ1がメチル又はエチルであり、
Ｒ2がフェニルもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロもしくはハロゲンで置換されたフェニル、又はヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロもしくはハロゲンで置換されたヘテロアリールであり、
Ｒ3が水素であり、そして
Ｒ4が水素、メチル又はエチルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項１４】
前記式中、Ｒ5が水素である、請求項１〜３又は８〜１３のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１５】
前記式中、Ｒ6が水素である、請求項１〜３又は８〜１４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１６】
前記式中、Ｒ7及びＲ8が、互いに独立に、メチレン、エチレン、プロピレン、又はプロペニレンである、請求項１〜３又は８〜１５のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１７】
前記式中、Ｒ7及びＲ8がエチレンである、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】
前記式中、潜在性基ＧがＣ（Ｘa）−Ｒa又はＣ（Ｘb）−Ｘc−Ｒbであり、そしてＸa、Ｒa、Ｘb、Ｘc及びＲbの意味が請求項１に定義されるとおりである、請求項１〜３又は８〜１７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１９】
前記式中、Ｇが水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である、請求項１〜３又は８〜１７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項２０】
前記式中、Ｇが水素である、請求項１９に記載の化合物。
【請求項２１】
前記式中、ＸがＯ又はＳである、請求項１〜３又は８〜２０のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項２２】
前記式中、ＸがＳ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）2である、請求項１〜３又は８〜２０のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項２３】
請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物（式中、Ｇは水素である）の調製方法であって、式（Ｚ）の化合物
【化２】
0005457200.tif 000097
（式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＸは請求項１において示された意味を有し、そしてＡｒは任意に置換されたフェニル基である）と、式（ＡＡ）のアリールボロン酸
【化３】
0005457200.tif 000098
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は請求項１において示された意味を有する）とを、パラジウム触媒及び塩基の存在下で反応させることを含む、方法。
【請求項２４】
請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物（式中、Ｇは水素である）の調製方法であって、式（Ｂ）の化合物
【化４】
0005457200.tif 000099
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＸは請求項１において示された意味を有し、そしてＲはアルキルである）の酸性又は塩基性条件下における環化を含む、方法。
【請求項２５】
請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物（式中、Ｇは水素である）の調製方法であって、式（Ｂ）の化合物
【化５】
0005457200.tif 000100
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＸは請求項１において示された意味を有し、そしてＲはアルキルである）の酸性条件下における環化を含む、方法。
【請求項２６】
請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物（式中、ＧはＣ1−Ｃ4アルキルであり、そしてＲ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は請求項１において示された意味を有する）の調製方法であって、式（ＫＫ）の化合物
【化６】
0005457200.tif 000101
（式中、ＧはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｈａｌは塩素、臭素又はヨウ素である）を、式（ＡＡ）のアリールボロン酸
【化７】
0005457200.tif 000102
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は請求項１において示された意味を有する）で、塩基、溶媒及びパラジウム触媒の存在下において処理することを含む、方法。
【請求項２７】
請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物（式中、Ｈである）の調製方法であって、式（Ｉ）の化合物（式中、ＧはＣ1−Ｃ4アルキルである）の酸性条件下における加水分解を含む、方法。
【請求項２８】
有用な植物の作物における草及び雑草を制御する方法であって、除草的有効量の請求項１〜２２のいずれか１項に記載の式（Ｉ）の化合物、又はこのような化合物を含む組成物を、植物又はその場所に適用することを含む、方法。
【請求項２９】
製剤用アジュバントを含むことに加えて、除草的有効量の請求項１〜２２のいずれか１項に記載の式（Ｉ）の化合物を含む、除草組成物。
【請求項３０】
式（Ｉ）の化合物を含むことに加えて、混合パートナーをさらに含む、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３１】
式（Ｉ）の化合物を含むことに加えて、薬害軽減剤をさらに含む、請求項２９に記載の組成物。
【請求項３２】
式（Ｉ）の化合物を含むことに加えて、混合パートナーとして除草剤及び薬害軽減剤をさらに含む、請求項２９に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な除草活性環式ジオン及びこれらの誘導体、これらの調製方法、これらの化合物を含む組成物、及び特に有用植物の作物における雑草の制御又は植物成長の阻害におけるこれらの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
除草活性を有する環式ジオンは、例えばWO 01/74770に記載されている。
【発明の概要】
【０００３】
このたび、除草特性及び成長阻害特性を有する新規なシクロヘキサンジオン化合物及びこれらの誘導体が見出された。
【０００４】
したがって、本発明は、式（Ｉ）
【化１】
0005457200.tif 000002
（式中、
Ｒ1は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、シクロプロピル、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、ビニル、エチニル、メトキシ、エトキシ、ハロメトキシ又はハロエトキシであり、
Ｒ2及びＲ3は、独立に、水素、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2−Ｃ6アルケニル、Ｃ2−Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ2−Ｃ6アルキニル、Ｃ3−Ｃ6アルケニルオキシ、Ｃ3−Ｃ6ハロアルケニルオキシ、Ｃ3−Ｃ6アルキニルオキシ、Ｃ3−Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1−Ｃ6アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキルスルホニルオキシ、シアノ、ニトロ、フェニル、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキルスルホニルにより置換されたフェニル、又はヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロ、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキルスルホニルで置換されたヘテロアリールであり、
Ｒ4は、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ハロメチル、ハロエチル、ハロゲン、ビニル、エチニル、メトキシ、エトキシ、ハロメトキシ又はハロエトキシであり、
Ｘは、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）2であり、
Ｒ5は、水素又はメチルであり、
Ｒ6は、水素、メチル又はエチルであり、あるいはＲ6に付随している、Ｒ7又はＲ8の隣接炭素原子と共に二重結合を形成し、
Ｒ7及びＲ8は、互いに独立に、置換されていない、あるいはメチル又はエチルにより置換されているＣ1−Ｃ5アルキレン、又は置換されていない、あるいはメチル又はエチルにより置換されているＣ2−Ｃ5アルケニレンであり、そして
Ｇは、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、スルホニウム、アンモニウム又は潜在性（latentiating）基である）の化合物、に関する。
【０００５】
式（Ｉ）の化合物の置換基の定義において、１〜６の炭素原子を有するアルキル置換基及びアルコキシ、アルキルアミノ等のアルキル部分は、好ましくはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシル、ならびに直鎖及び分岐鎖のこれらの異性体である。最大１８の炭素原子の高度なアルキル基は、好ましくはオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル及びドデシルを含む。２〜６の炭素原子、ならびに最大１８の炭素原子を有するアルケニル及びアルキニルラジカルは、直鎖又は分岐鎖であってよく、そしてそれぞれ１以上の二重結合又は三十結合を含有してよい。例は、ビニル、アリル、プロパルギル、ブテニル、ブチニル、ペンテニル及びペンチニルである。適当なシクロアルキル基は、３〜６の炭素原子を含有し、そして例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチルである。シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシルが好ましい。ヘテロアリールの好ましい例は、チエニル、フリル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾキサゾリル、インドリル、キノリニル及びキノキサリニル基であり、そして適当な場合にはこれらのＮ−オキシド及び塩である。基Ｇは、水素又はアルカリ金属、アルカリ土類金属、スルホニウム（−Ｓ（Ｃ1−Ｃ6アルキル3）+）、アンモニウム（−ＮＨ4+又は−Ｎ（Ｃ1−Ｃ6アルキル）4+）又は脱離基である。この潜在性（latentiating）基Ｇは、処理される領域又は植物に適用する間又はその後、式（Ｉ）の化合物（式中ＧはＨである）を与えるための生物化学的、化学的又は物理的な方法の１つ又はその組み合わせにより除去することができるように選択される。これらの方法の例は、酵素的切断、化学的加水分解及び光分解を含む。潜在性基Ｇを有する化合物は、一定の利点、例えば処置された植物の角皮の改善された浸透、増大した作物の耐性、ほかの除草剤、除草剤薬害軽減剤、植物成長制御剤、殺真菌剤又は殺虫剤を含有する処方混合物における改善された適合性もしくは安定性、又は土壌における低下した浸出を提供することができる。当業界において知られている多くの潜在性基が、新規化合物において使用することができる。
【０００６】
式Ｉの化合物の好ましい基において、Ｒ1は、メチル、エチル、ビニル、エチニル、メトキシ又はハロゲンである。より好ましくは、Ｒ1はメチル又はエチルである。
【０００７】
好ましくは、Ｒ2及びＲ3は、独立に、水素、メチル、エチル、ハロゲン、任意に置換されたフェニル又は任意に置換されたヘテロアリールである。
【０００８】
好ましくは、Ｒ4は、水素、メチル、エチル、ビニル又はエチニルであり、そしてより好ましくは、Ｒ4は、水素、メチル又はエチルである。
【０００９】
式（Ｉ）の化合物の他の好ましい基において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ4は、互いに独立に、メチル又はエチルであり、そしてＲ3は、水素である。
【００１０】
式（Ｉ）の化合物の他の好ましい基において、Ｒ1は、メチル又はエチルであり、Ｒ2は、水素であり、Ｒ3は、フェニルもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロもしくはハロゲンで置換されたフェニル、又はヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロもしくはハロゲンで置換されたヘテロアリールである。
【００１１】
式（Ｉ）の化合物の他の好ましい基において、Ｒ1は、メチル又はエチルであり、Ｒ2は、フェニルもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロもしくはハロゲンで置換されたフェニル、又はヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、シアノ、ニトロもしくはハロゲンで置換されたヘテロアリールであり、Ｒ3は、水素であり、そしてＲ4は、水素、メチル又はエチルである。
【００１２】
置換基Ｒ5は、好ましくは水素である。
【００１３】
置換基Ｒ6は、好ましくは水素である。
【００１４】
式（Ｉ）の化合物の好ましい基において、Ｒ7及びＲ8は、互いに独立に、メチレン、エチレン、プロピレン又はプロペニレンである。
【００１５】
より好ましくは、Ｒ7及びＲ8は、エチレンである。
【００１６】
潜在性の基Ｇは、好ましくは、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ2−Ｃ8ハロアルキル、フェニルＣ1−Ｃ8アルキル（ここで該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されていてよい）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ8アルキル（該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されていてよい）、Ｃ3−Ｃ8アルケニル、Ｃ3−Ｃ8ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8アルキニル、Ｃ（Ｘa）−Ｒa、Ｃ（Ｘb）−Ｘc−Ｒb、Ｃ（Ｘd）−Ｎ（Ｒc）−Ｒd、−ＳＯ2−Ｒe、−Ｐ（Ｘe）（Ｒf）（Ｒg）又はＣＨ2−Ｘf−Ｒhであり、ここでＸa、Ｘb、Ｘc、Ｘd、Ｘe及びＸfは、互いに独立に、酸素又は硫黄であり；
Ｒaは、Ｈ、Ｃ1−Ｃ18アルキル、Ｃ2−Ｃ18アルケニル、Ｃ2−Ｃ18アルキニル、Ｃ1−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルＣ1−Ｃ5オキシアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよい）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよい）、Ｃ2−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールであり、
Ｒbは、Ｃ1−Ｃ18アルキル、Ｃ3−Ｃ18アルケニル、Ｃ3−Ｃ18アルキニル、Ｃ2−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ2−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよい）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよい）、Ｃ3−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはフェニルＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールであり、
Ｒｃ及びＲｄは、各々互いに独立に、水素、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ3−Ｃ10アルケニル、Ｃ3−Ｃ10アルキニル、Ｃ2−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ2−Ｃ5アルキルアミノアルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよい）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよい）、Ｃ2−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジフェニルアミノ、又はＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジ−Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ又はＣ3−Ｃ7シクロアルコキシであり、あるいはＲc及びＲdは、一緒に結合して、Ｏ又はＳから選択される１つのヘテロ原子を任意に含有する３〜７員環を形成し、
Ｒeは、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ2−Ｃ10アルケニル、Ｃ2−Ｃ10アルキニル、Ｃ1−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよく）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよく）、Ｃ2−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジフェニルアミノ、又はＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ又はＣ3−Ｃ7シクロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、Ｃ1−Ｃ10ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノ又はＣ2−Ｃ8ジアルキルアミノであり、
Ｒf及びＲgは、各々互いに独立に、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ2−Ｃ10アルケニル、Ｃ2−Ｃ10アルキニル、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ、Ｃ1−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ2−Ｃ5アルキルアミノアルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよい）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、又はニトロで任意に置換されていてよい）、Ｃ2−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニル、ヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されたジフェニルアミノ、又はＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジＣ3−Ｃ7シクロアルキルアミノ又はＣ3−Ｃ7シクロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ10ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノ又はＣ2−Ｃ8ジアルキルアミノ��ベンジルオキシ又はフェノキシ、ここで、該ベンジル及びフェニル基は、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノもしくはニトロで置換されていてもよく、そして
Ｒhは、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ3−Ｃ10アルケニル、Ｃ3−Ｃ10アルキニル、Ｃ1−Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1−Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ2−Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ7シクロアルキルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルケニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ5アルキニルオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルチオＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルフィニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルスルホニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8アルキリデンアミノオキシＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルコキシカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、アミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ8ジアルキルアミノカルボニルＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1−Ｃ5アルキルアミノＣ1−Ｃ5アルキル、Ｃ3−Ｃ6トリアルキルシリルＣ1−Ｃ5アルキル、フェニルＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されていてよい）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されていてよい）、フェノキシＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されていてよい）、ヘテロアリールオキシＣ1−Ｃ5アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノもしくはニトロで任意に置換されていてよい）、Ｃ3−Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、フェニルもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ5ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲンもしくはニトロで置換されたフェニル、又はヘテロアリールもしくはＣ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ5ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲンもしくはニトロで置換されたヘテロアリールである。
【００１７】
特に、潜在性基Ｇは、基−Ｃ（Ｘa）−Ｒa又は−Ｃ（Ｘb）−Ｘc−Ｒbであり、そしてＸa、Ｒa、Ｘb、Ｘc及びＲbの意味は上記で定義したとおりである。
【００１８】
Ｇは、水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属であることが好ましく、水素である場合が特に好ましい。
【００１９】
式（Ｉ）の化合物の好ましい基において、Ｘは、Ｏ又はＳである。
【００２０】
式（Ｉ）の化合物の好ましい基において、Ｘは、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）2である。
【００２１】
本発明はまた、式Ｉの化合物が、アミン、アルカリ金属アルカリ土類金属塩基又は第４級アンモニウム塩基と形成することができる塩に関する。前者の塩としてのアルカリ金属及びアルカリ土類金属水酸化物のうち、特に言及すべきものは、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム及びカルシウムの水酸化物であるが、特には、ナトリウム及びカリウムの水酸化物である。本発明の式Ｉの化合物はまた、塩形成の間意に形成することができる水和物を含む。
【００２２】
アンモニウム塩の形成に適当なアミンの例は、アンモニア、ならびに第１級、第２級及び第３級Ｃ1−Ｃ18アルキルアミン、Ｃ1−Ｃ4ヒドロキシアルキルアミン及びＣ2−Ｃ4−アルコキシアルキルアミン、例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、４つのブチルアミン異性体、ｎ−アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、メチルエチルアミン、メチルオクタプロピルアミン、メチルヘキシルアミン、メチルノニルアミン、メチルペンタデシルアミン、メチルオクタデシルアミン、エチルブチルアミン、エチルヘプチルアミン、エチルオクチルアミン、ヘキシルヘプチルアミン、ヘキシルオクチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−アミルアミン、ジイソアミルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、エタノールアミン、ｎ−プロパノールアミン、イソプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ−エチルプロパノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、アリルアミン、ｎ−ブト−２−エニルアミン、ｎ−ペント−２−エニルアミン、２，３−ジメチルブト−２−エニルアミン、ジブト−２−エニルアミン、ｎ−ヘキシ−２−エニルアミン、プロピレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ｎ−アミルアミン、メトキシエチルアミン及びエトキシエチルアミン；複素環式アミン、例えば、ピリジン、キノリン、イソキノリン、モルホリン、ピペリジン、ピロリジン、インドリン、キヌクリジン及びアゼピン；第１級アミン、例えば、アニリン、メトキシアニリン、エトキシアニリン、ｏ−、ｍ−及びｐ−トルイジン、フェニレンジアミン、ベンジジン、ナフチルアミン及びｏ−、ｍ−及びｐ−クロロアニリン；を含むが、特に、トリエチルアミン、イソプロピルアミン及びジイソプロピルアミンである。
【００２３】
塩形成に適当な、好ましい第４級アンモニウム塩基は、例えば、式［Ｎ（ＲaＲbＲcＲd）］ＯＨ（式中Ｒa、Ｒb、Ｒc及びＲdは、各々独立に、Ｃ1−Ｃ4アルキルである）に対応する。さらに適当な、他の陰イオンとの第４級アンモニウム塩基は、例えば陰イオン変換反応により得ることができる。
【００２４】
置換基Ｇ、Ｒc、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4の性質に依存して、式Ｉの化合物は、異なる異性体として存在してもよい。Ｇが水素である場合、例えば、式Ｉの化合物は異なる互変異性体として存在することができる。本発明は、全てのこのような異性体及び互変異性体、ならびに全ての割合におけるこれらの混合物を網羅する。また、置換基が二重結合を含む場合、シス−及びトランス−異性体が存在しうる。これらの異性体もまた、本発明の式（Ｉ）の化合物の範囲である。
【００２５】
式（Ｉ）の化合物（置換基は上述の意味を有する）は、既知の方法、例えば式Ａの化合物をアルキル化、アシル化、リン酸化又はスルホニル化試薬で処理することにより調製することができる。
【００２６】
式（Ｉ）の化合物（式中、Ｇは、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ2−Ｃ8ハロアルキル、フェニルＣ1−Ｃ8アルキル（ここで、該フェニルは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロで任意に置換されていてよい）、ヘテロアリールＣ1−Ｃ8アルキル（ここで、該ヘテロアリールは、Ｃ1−Ｃ3アルキル、Ｃ1−Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ3アルコキシ、Ｃ1−Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1−Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1−Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロで任意に置換されていてよい）、Ｃ3−Ｃ8アルケニル、Ｃ3−Ｃ8ハロアルケニル、Ｃ3−Ｃ8アルキニル、Ｃ（Ｘa）−Ｒa、Ｃ（Ｘb）−Ｘc−Ｒb、Ｃ（Ｘd）−Ｎ（Ｒc）−Ｒd、−ＳＯ2−Ｒe、−Ｐ（Ｘe）（Ｒf）−Ｒg又はＣＨ2−Ｘf−Ｒh（ここでＸa、Ｘb、Ｘc、Ｘd、Ｘe、Ｘf、Ｒa、Ｒb、Ｒc、Ｒd、Ｒe、Ｒf、Ｒg及びＲhは、上記で定義したとおりである）である）は、式（Ａ）の化合物（式中、ＧはＨである）を試薬Ｇ−Ｚ（ここでＧ−Ｚはアルキル化剤、例えばハロゲン化アルキル（ハロゲン化アルキルの定義は、単純なハロゲン化Ｃ1−Ｃ8アルキル、例えばヨウ化メチル及びヨウ化エチル、置換されたハロゲン化アルキル、例えばフェニルＣ1−Ｃ8アルキルハロゲン化物、クロロメチルアルキルエーテル、Ｃｌ−ＣＨ2−Ｘf−Ｒh（式中Ｘfは、酸素である）、及びクロロメチルアルキルスルフィドＣｌ−ＣＨ2−Ｘf−Ｒh（式中Ｘfは、硫黄である）、Ｃ1−Ｃ8アルキルスルホネート、又はジ−Ｃ1−Ｃ8アルキルスルホネートにより、あるいはＣ3−Ｃ8アルケニルハロゲン化物、又はＣ3−Ｃ8アルキニルハロゲン化物、又はアシル化剤、例えばカルボン酸、ＨＯ−Ｃ（Ｘa）Ｒa（式中Ｘaは、酸素である）、酸塩化物、Ｃｌ−Ｃ（Ｘa）Ｒa（式中Ｘaは、酸素である）、又は酸無水物、［ＲaＣ（Ｘa）］2Ｏ（式中Ｘaは、酸素である）、又はイソシアネート、ＲcＮ＝Ｃ＝Ｏ、又はカルバモイル塩化物、Ｃｌ−Ｃ（Ｘd）−Ｎ（Ｒc）−Ｒd（式中Ｘdは、酸素であり、ただしＲc又はＲdのいずれかは水素ではない）、又はチオカルバモイル塩化物、Ｃｌ−Ｃ（Ｘd）−Ｎ（Ｒc）−Ｒd（式中Ｘｄは、硫黄であり、ただしＲc又はＲdのいずれかは水素ではない）、又はクロロホルメート、Ｃｌ−Ｃ（Ｘb）−Ｘc−Ｒb（式中Ｘb及びＸcは、酸素である）、又はクロロチオホルメート、Ｃｌ−Ｃ（Ｘb）−Ｘc−Ｒb（式中Ｘbは、酸素であり、そしてＸcは、硫黄である）、又はクロロジチオホルメート、Ｃｌ−Ｃ（Ｘb）−Ｘc−Ｒb（式中Ｘb及びＸcは、硫黄である）、又はイソチオシアネート、ＲcＮ＝Ｃ＝Ｓ、又は二硫化炭素とアルキル化剤の連続処理により、あるいはリン酸化剤、例えば塩化ホスホリル、Ｃｌ−Ｐ（Ｘe）（Ｒf）−Ｒgにより、又はスルホニル化剤、例えば塩化スルホニル、Ｃｌ−ＳＯ2−Ｒeにより、好ましくは少なくとも１当量の塩基の存在下において処理することにより調製することができる。
【化２】
0005457200.tif 000003
【００２７】
環式１，３ジオンのＯ−アルキル化は知られており、適当な方法は、例えばT. Wheeler, US4436666により記載されている。他の手順は、M. Pizzorno and S. Albonico, Chem. Ind. （London）, （1972）, 425-426; H. Born et al., J. Chem. Soc, （1953）, 1779-1782; M. G. Constantino et al., Synth. Commun., （1992）, 22 （19）, 2859-2864; Y. Tian et al., Synth. Commun., （1997）, 27 （9）, 1577-1582; S. Chandra Roy et al., Chem. Letters, （2006）, 35 （1）, 16-17; P. K. Zubaidha et al., Tetrahedron Lett., （2004）, 45, 7187-7188により報告されている。環式１，３ジオンのＯ−アシル化は、例えばR. Haines, US4175135及びT. Wheeler, US4422870, US4659372 及びUS4436666に記載されるものと類似する手段により達成することができる。式（Ａ）の典型的なジオンは、好ましくは少なくとも１当量の適当な塩基の存在下において、及び任意には適当な溶媒の存在下でアシル化剤で処理することができる。これの塩基は、無機塩基、例えば炭酸もしくは水酸化アルカリ金属、水素化金属、あるいは有機塩基、例えば第３級アミン又は金属アルコキシドであってよい。適当な無機塩基の例は、炭酸ナトリム、水酸化ナトリウムもしくはカリウム、水素化ナトリウムを含み、そして適当な有機塩基は、トリアルキルアミン、例えばトリメチルアミン及びトリエチルアミン、ピリジン又は他のアミン塩基、例えば１，４−ジアゾビシクロ［２，２，２］−オクタン及び１、８−ジアザビシクロ［５．４．０］−ウンデク−７−エンを含む。好ましい塩基は、トリエチルアミン及びピリジンを含む。この反応に適当な溶媒は、該試薬に混合可能であるように選択され、そしてエーテル、例えばテトラヒドロフラン及び１，２−ジメトキシエタン及びハロゲン化溶媒、例えばジクロロメタン及びクロロホルムを含む。一定の塩基、例えばピリジン及びトリエチルアミンは、塩基と溶媒の両方として成功的に利用することができる。該アシル化剤がカルボン酸である場合、アシル化は、好ましくは既知のカップリング剤、例えば２−クロロ−１−メチルピリジウムヨウ化物、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド及びＮ，Ｎ’−カルボジイミダゾールの存在下において、そして任意には、適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジクロロメタン又はアセトニトリル中の塩基、例えばトリエチルアミン又はピリジンの存在下において達成することができる。適当な手順は、例えばW. Zhang and G. Pugh, Tetrahedron Lett., （1999）, 40 （43）, 7595-7598; T. lsobe and T. Ishikawa, J. Org. Chem., （1999）, 64 （19）, 6984-6988 and K. Nicolaou, T. Montagnon, G. Vassilikogiannakis, C. Mathison, J. Am. Chem. So[alpha], （2005）, 127（24）, 8872-8888に記載される。
【００２８】
環式１，３−ジオンのリン酸化は、L. Hodakowski, US4409153に記載されるものと類似の手順により、ハロゲン化ホスホリル又はハロゲン化チオホスホリル及び塩基を使用して達成することができる。
【００２９】
式（Ａ）の化合物のスルホニル化は、ハロゲン化アルキルもしくはアリールスルホニルを使用して、好ましくは少なくとも１当量の塩基の存在下において、例えばC. Kowalski and K. Fields, J. Org. Chem., （1981）, 46, 197-201の手順により達成することができる。
【００３０】
式（Ａ）の化合物（式中、ＸはＳ（Ｏ）であるか、又はＸがＳ（Ｏ）2である）は、既知の手順に従い、例えば既知の条件下で過酸化水素、又は過酸、例えば過酢酸又はメタ−クロロ過安息香酸で処理することによる、酸化により、式（Ａ）の化合物（式中、ＸはＳである）から調製することができる。
【００３１】
式（Ａ）の化合物は、酸又は塩基の存在下において、そして任意には適当な溶媒の存在下において、T. Wheeler, US4209532に記載されるものと類似の方法により、式（Ｂ）の化合物（式中、Ｒは水素又はアルキル基である）の環化により調製することができる。式（Ｂ）の化合物は、式（Ｉ）の化合物の合成における中間体として特に設計されている。式（Ｂ）の化合物（式中、Ｒは水素である）は、酸性条件下、好ましくは強酸、例えば硫酸、ポリリン酸又はイートン試薬の存在下において、任意には適当な溶媒、例えば酢酸、トルエン又はジクロロメタンの存在下において環化することができる。
【化３】
0005457200.tif 000004
【００３２】
式（Ｂ）の化合物（式中、Ｒはアルキル（好ましくはメチル又はエチル）である）は、酸性又は塩基性条件下において、好ましくは少なくとも１当量の強塩基、例えばカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、又は水素化ナトリウムの存在下において、そして溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で環化することができる。
【００３３】
式（Ｂ）の化合物（式中、ＲはＨである）は、Wheeler, US4209532に記載されるものと類似の方法によって、標準条件下において、式（Ｃ）の化合物（式中、Ｒ’はアルキル（好ましくはメチル又はエチル）である）をケン化し、その後該反応混合物の酸性化によって脱カルボキシル化することにより調製することができる。
【化４】
0005457200.tif 000005
【００３４】
式（Ｂ）の化合物（式中、ＲはＨである）は、既知の条件下において、例えば酸触媒の存在中アルキルアルコール、ＲＯＨで加熱することにより、式（Ｂ）の化合物（式中、Ｒはアルキルである）にエステル化することができる。
【００３５】
式（Ｃ）の化合物（式中、Ｒはアルキルである）は、塩基性条件下において、式（Ｄ）の化合物を式（Ｅ）の適当なカルボン酸クロライドで処理することにより調製することができる。適当な塩基は、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド及びリチウムジイソプロピルアミドを含み、そして該反応は、好ましくは、適当な溶媒（例えばテトラヒドロフラン又はトルエン）中、−８０℃〜３０℃の温度において行われる。あるいは、式（Ｃ）の化合物（式中、ＲはＨである）は、式（Ｄ）の化合物を適当な塩基（例えば、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド及びリチウムジイソプロピルアミド）で、適当な溶媒（例えばテトラヒドロフラン又はトルエン）中、適当な温度（−８０℃〜３０℃）において処理し、そして生じたアニオンを適当な式（Ｆ）の無水物と反応させることにより調製することができる：
【化５】
0005457200.tif 000006
【００３６】
式（Ｄ）の化合物は既知の化合物であるか、あるいは既知の方法により既知の化合物から調製することができる。
【００３７】
式（Ｅ）の化合物は、既知の条件下において、アルキルアルコール、Ｒ−ＯＨで処理し、その後生じた酸を塩素化剤、例えば塩化オキサリル又は塩化チオニルで処理することにより式（Ｆ）の化合物から調製することができる（例えばC. Rouvier. Tetrahedron Lett., （1984）, 25 （39）, 4371 ; D. Walba and M. Wand, Tetrahedron Lett., （1982）, 23, 4995; J. Cason, Org. Synth. Coll. Vol. Ill, （1955）, 169を参照のこと）。
【化６】
0005457200.tif 000007
【００３８】
式（Ｆ）の化合物は、式（Ｇ）の化合物を脱水剤、例えば酸無水物で処理することにより調製することができる（例えばJ. Cason, Org. Synth. Coll. Vol. IV, （1963）, 630に記載される）。好ましい酸無水物は無水酢酸である。
【化７】
0005457200.tif 000008
【００３９】
式（Ｇ）の化合物は、式（Ｈ）のエステル（式中Ｒ’’及びＲ’’’は適当なアルキル基である）をケン化し、その後生じた酸を脱カルボキシル化することにより調製することができる。適当なアルキル基は、Ｃ1−Ｃ6アルキル、特にはメチル又はエチルである。ケン化を達成するための適当な方法は既知であり、例えば式（Ｈ）の化合物を適当な塩基の水溶液、例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムで処理し、そして脱カルボキシル化を促進するために、該反応混合物を酸、例えば塩酸で酸性化することを含む。
【化８】
0005457200.tif 000009
【００４０】
式（Ｈ）の化合物は、塩基性条件下において、式（Ｊ）の化合物をマロン酸ジアルキル、例えばマロン酸ジメチル又はマロン酸ジエチルと反応させることにより調製することができる。好ましい塩基は、ナトリムアルコキシド塩基、例えばナトリウムメトキシド及びナトリウムエトキシドを含み、そして該反応は、好ましくは溶媒、例えばメタノール、エタノール又はトルエン中で行われる。
【化９】
0005457200.tif 000010
【００４１】
式（Ｊ）の化合物は既知の化合物であり、あるいは既知の方法により既知の化合物から調製することができる。
【００４２】
式（Ｂ）の化合物（式中、Ｒ及びＲ5は共にＨである）は、式（Ｋ）の化合物の加水分解及び脱カルボキシル化を介しても調製することができる。これは順番に、適当な溶媒、例えばメタノール、エタノール又はトルエン中、適当な塩基、例えばナトリウムメトキシド又はナトリウムエトキシドの存在下において、マロン酸ジアルキル（好ましくはマロン酸ジメチル又はマロン酸ジエチル）を式（Ｌ）の化合物に添加することにより調製することができる。式（Ｌ）の化合物は、既知の手順に従い、式（Ｍ）のアルデヒドと式（Ｎ）のβ−ケトエステル（式中Ｒ’’’’はアルキルである）のKnoevenagel縮合により調製することができる（例えばJ. March, Advanced Organic Chemistry, 3rd Edition, pp 835-841 , John Wiley and Sons Inc. 1985を参照のこと）。式（Ｎ）の化合物は、式（Ｄ）の化合物（式中、ＲはＨである）から、対応する酸塩化物への変換及びその後、文献に記載される手順に従う式（Ｎ）のβ−ケトエステルを与える反応を介して調製することができる（例えばJ. Wemple et al., Synthesis, （1993）, 290-292; J. Bowman, J. Chem. Soc, （1950）, 322を参照のこと）。
【化１０】
0005457200.tif 000011
【００４３】
式（Ｍ）の化合物は既知の化合物であるか、あるいは既知の方法により既知の化合物から調製することができる。
【００４４】
式（Ａ）の更なる化合物は、既知の条件下において、式（Ｏ）の２−ジアゾシクロヘキサン−１，３−ジオンを式（Ｐ）の化合物と反応させることにより調製することができる。適当な手順は、ジアゾケトンの光増感分解を含み（例えばT. Wheeler, J. Org. Chem., （1979）, 44, 4906を参照のこと）、あるいは既知の条件下における適当な溶媒中の適当な金属触媒、例えば酢酸ロジウム、塩化銅又は銅トリフレートを使用することを含む（例えばM. Oda et al., Chem. Lett. , （1987）, 1263を参照のこと）。式（Ｐ）の化合物が室温において液体である場合、これらの反応はいずれかの溶媒の不存在下において達成することができる。
【００４５】
式（Ｐ）の化合物は既知の化合物であるか、あるいは既知の方法により既知の化合物から調製することができる。
【化１１】
0005457200.tif 000012
【００４６】
式（Ｏ）の化合物は、例えばT. Ye and M. McKervey （Chem. Rev., （1994）, 94, 1091-1160）, H. Stetter and K. Kiehs （Chem. Ber, （1965）, 98, 1181）及びD. Taber ef a/. （J. Org. Chem., （1986）, 51 , 4077）に記載されるとおり、式（Ｑ）の化合物をジアゾ転移剤、例えばトシルアジド又はメシルアジド及び塩基で処理することにより調製することができる。
【化１２】
0005457200.tif 000013
【００４７】
式（Ｑ）の化合物は、既知の条件下において、式（Ｒ）の化合物の加水分解及び脱カルボキシル化を介して調製することができる。好ましくはＲ’’はメチル又はエチルである。
【化１３】
0005457200.tif 000014
【００４８】
式（Ｒ）の化合物は、塩基性条件下において、式（Ｓ）の化合物をマロン酸ジアルキルと反応させることにより調製することができる。好ましいマロン酸ジアルキルはマロン酸ジメチル又はマロン酸ジエチルであり、該塩基は金属アルコキシド、例えばナトリウムメトキシド又はナトリウムエトキシドであり、そして該反応は、適当な溶媒、例えばメタノール、エタノール又はトルエン中で行われる。
【化１４】
0005457200.tif 000015
【００４９】
式（Ｓ）の化合物は既知の化合物であるか、あるいは既知の方法により既知の化合物から調製することができる。
【００５０】
式（Ａ）の更なる化合物は、適当な溶媒中、適当なパラジウム触媒、塩基の存在下において、式（Ｚ）のヨードニウムイリド（式中、Ａｒは任意に置換されたフェニル基である）、及び式（ＡＡ）アリールボロン酸を反応させることにより調製することができる。
【化１５】
0005457200.tif 000016
【００５１】
適当なパラジウム触媒は、一般にパラジウム（ＩＩ）又はパラジウム（０）錯体、例えばパラジウム（ＩＩ）ジハライド、パラジウム（ＩＩ）アセテート、パラジウム（ＩＩ）スルフェート、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロライド、ビス（トリシクロフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロライド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロライド、ビス（ジベンジリデナセトン）パラジウム（０）又はテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）である。該パラジウム触媒はまた、所望のリガンド、例えばトリフェニルホスフィン（ＰＰｈ3）、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、２−ジシクロヘキシル−ホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル又は２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル及び選択した溶媒、式（Ｚ）の化合物、式（ＡＡ）のアリールボロン酸、及び塩基と一緒に、例えばパラジウム（ＩＩ）を混合して、錯体、例えばパラジウム（ＩＩ）ジクロライド（ＰｄＣｌ2）又はパラジウム（ＩＩ）アセテート（Ｐｄ（ＯＡｃ）2）とすることにより、所望のリガンドと錯化させて、パラジウム（ＩＩ）又はパラジウム（０）化合物から「in situ」で調製することができる。また、好適には、二座リガンド、例えば１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン又は１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンである。反応媒体を加熱することにより、Ｃ−Ｃカップリング反応に所望されるパラジウム（ＩＩ）錯体又はパラジウム（０）錯体は、「in situ」で形成され、その後Ｃ−Ｃカップリング反応が開始する。
【００５２】
パラジウム触媒は、式（Ｚ）の化合物に基づき、０．０１〜５０モル％の量、好ましくは０．１〜１５モル％の量において使用される。また、該反応は、他の添加剤、例えばテトラアルキルアンモニウム塩、例えばテトラブチルアンモニウムブロミドの存在下において行うことができる。好ましくは、該パラジウム触媒は、パラジウムアセテートであり、該塩基は水酸化リチウムであり、そして該溶媒は、水性１，２−ジメトキシエタンである。
【００５３】
式（Ｚ）の化合物は、K. Schank and C. Lick, Synthesis, （1983）, 392, R. Moriarty et al, J. Am. Chem. Soc, （1985）, 107, 1375, 又はZ. Yang et al., Org. Lett., （2002）, 4 （19）, 3333の手順に従い、式（Ｑ）の化合物から、溶媒、例えば水又は水性アルコール、例えば水性エタノール中、超原子価ヨード試薬、例えば（ジアセトキシ）ヨードベンゼン又はヨードシルベンゼン、及び塩基例えば、水性炭酸ナトリウム、水酸化リチウム又は水酸化ナトリウムでの処理により、調製することができる。
【００５４】
式（ＡＡ）のアリールボロン酸は、式（ＢＢ）のハロゲン化アリール（式中、Ｈａｌは臭素又はヨウ素である）から、既知の方法（例えばW. Thompson and J. Gaudino, J. Org. Chem, （1984）, 49, 5237 及び R. Hawkins et al., J. Am. Chem. Soc, （1960）, 82, 3053を参照のこと）により調製することができる。例えば、式（ＢＢ）のハロゲン化アリールは、適当な溶媒、好ましくはジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン中、−８０℃〜３０℃の温度において、ハロゲン化アルキルリチウム又はアルキルマグネシウムで処理し、その後得られたアリールマグネシウム又はアリールリチウム試薬は、トリアルキルボレート（好ましくはトリメチルボレート）で処理し、酸性条件下において、式（ＡＡ）の所望のボロン酸に加水分解することができるアリールジアルキルボロネートを与えることができる。
【化１６】
0005457200.tif 000017
【００５５】
あるいは、式（ＢＢ）の化合物は、既知の条件下において、ビス（ピナコレート）ジボロンと反応させることができ（例えばN. Miyaura et al., J. Org. Chem., （1995）, 60, 7508を参照のこと）、そして生じたボロン酸アリールは酸性条件下で加水分解し、式（ＡＡ）のボロン酸を与える。式（ＢＢ）のハロゲン化アリールは、式（ＣＣ）のアニリンから、既知の方法、例えばサンドマイヤー反応により、対応するジアゾニウム塩を介して調製することができる。
【００５６】
式（ＣＣ）のアニリンは既知の化合物であるか、あるいは既知の方法により既知の化合物から調製することができる。
【化１７】
0005457200.tif 000018
【００５７】
式（Ａ）の更なる化合物（式中、Ｒ2は、任意に置換されたアリール又はヘテロアリールである）は、式（ＤＤ）の化合物（式中、Ｘ’は、既知の条件下において適当なパラジウム触媒及び塩基の存在中、アリール−又はヘテロアリールボロン酸とのクロスカップリングに適当な原子又は基である）から調製することができる（例えばF. Bellina, A. Carpita and R. Rossi, Synthesis, （2004）, 15, 2419 及び A. Suzuki, Journal of Organometallic Chemistry, （2002）, 653, 83を参照のこと）。適当な原子及び基Ｘ’は、トリフレート及びハロゲン、特に塩素、臭素及びヨウ素を含む。
【化１８】
0005457200.tif 000019
【００５８】
同様に、式（Ａ）の化合物（式中、Ｒ3は任意に置換されたアリール又はへテロアリールである）は、式（ＥＥ）の化合物（式中、Ｘ’は上記のとおりであり、そして同様のパラジウム触媒条件下において適当なアリール−又はヘテロアリールボロン酸である）から調製することができる。
【化１９】
0005457200.tif 000020
【００５９】
式（ＤＤ）及び式（ＥＥ）の化合物は、それぞれ式（ＦＦ）及び式（ＧＧ）の化合物から、上述した１又は複数の手順により調製することができる。
【化２０】
0005457200.tif 000021
【００６０】
式（ＦＦ）及び式（ＧＧ）の化合物は、既知の方法により既知の化合物から調製することができる。
【００６１】
式（ＤＤ）の化合物はまた、式（Ｏ）の化合物の式（Ａ）の化合物の変換のために上述した同様の条件下において、式（Ｏ）の化合物を式（ＨＨ）の化合物と反応させることにより調製することができる。
【化２１】
0005457200.tif 000022
【００６２】
同様に、式（ＥＥ）の化合物は、式（Ｏ）の化合物及び式（ＪＪ）の化合物から、同様の条件下で調製することができる。
【００６３】
式（Ｉ）の更なる化合物（式中、ＧはＣ1-4アルキルである）は、適当なパラジウム触媒お延期の存在下において、そして好ましくは、適当なリガンドの存在中、適当な溶媒中において、式（ＫＫ）の化合物（式中、ＧはＣ1-4アルキルである）を式（ＡＡ）のアリールボロン酸と反応させることにより調製することができる。好ましくは、該パラジウム触媒は、パラジウムアセテートであり、該塩基はリン酸カリウムであり、該リガンドは２−ジシクロヘキシルホスホリノ−２’，６’−ジメトキシビフェニルであり、そして該溶媒はトルエンである。
【化２２】
0005457200.tif 000023
【００６４】
式（ＫＫ）の化合物は、適当な条件下、例えばR. Shepherd and A. White, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 （1987）, 2153 及び Y.-L. Lin et al., Bioorg. Med. Chem. 10 （2002）, 685の手順により、式（Ｑ）の化合物をハロゲン化し、その後生じた式（ＬＬ）のハロゲン化物をＣ1-4アルキルハロゲン化物又はトリ−Ｃ1-4アルキルオルトホルメートでアルキル化することにより調製することができる。あるいは、式（ＫＫ）の化合物は、既知の条件下において、式（Ｑ）の化合物をＣ1-4アルキルハロゲン化物又はトリ−Ｃ1-4アルキルオルトホルメートでアルキル化し、そして生じた式（ＭＭ）のエノンをハロゲン化することにより調製することができる。
【化２３】
0005457200.tif 000024
【００６５】
式（Ｉ）の化合物（式中、ＧはＨである）は、式（Ｉ）の化合物（式中、ＧはＣ1-4アルキルである）の化合物から、好ましくは酸触媒、例えば塩酸の存在中、そして任意には適当な溶媒、例えばテトラヒドロフランの存在中における加水分解により調製することができる。式（Ａ）の更なる化合物は、例えばJ. Pinhey, Pure and Appl. Chem., （1996）, Vol. 68 （4）, 819 及びM. Moloney et al., Tetrahedron Lett., （2002）, 43, 3407-3409に記載される条件下において、式（Ｑ）の化合物を式（ＮＮ）の有機鉛化剤と反応させることにより調製することができる。
【化２４】
0005457200.tif 000025
【００６６】
式（ＮＮ）の有機鉛化剤は、式（Ｚ）のボロン酸、式（ＯＯ）のスタンナン（式中、ＲはＣ1−Ｃ4アルキルである）から、あるいは既知の手順に従うリード・テトラアセテートでの式（ＰＰ）の化合物の直接的なプラムベーション（plumbation）により調製することができる。
【化２５】
0005457200.tif 000026
【００６７】
式（Ａ）の更なる化合物は、例えばA. Yu. Fedorov et al., Russ. Chem. Bull. Int. Ed., （2005）, 54 （11）, 2602, 及びP. Koech and M. Krische, J. Am. Chem. Soc, （2004）, 126 （17）, 5350、ならびにその参考文献に記載される条件下において、式（Ｑ）の化合物を適当なトリアリールビスマス化合物と反応させることにより調製することができる。
【００６８】
本発明の式（Ｉ）の化合物は、合成により得られる、未修飾形態において除草剤として使用することができるが、これらは、一般的に、製剤アジュバント、例えば担体、溶媒及び界面活性物質を使用して多様な方法において除草組成物に処方される。該製剤は、多様な物理的形状、例えば散布剤、ゲル、水和剤、水分散性顆粒、水分散性錠剤、発泡性圧縮錠、乳剤、マイクロ乳剤、水中油型乳剤、油流動剤、水分散液、油性分散剤分散剤、サスポエマルション、カプセル懸濁液、乳化顆粒、溶液、水溶性濃縮物（担体として水又は水混和性有機溶媒を伴う）、含浸ポリマーフィルムの形態、あるいは例えばthe Manual on Development and Use of FAO Specifications for Plant Protection Products, 5th Edition, 1999から既知の他の形態であってよい。このような製剤は、直接又は使用前に希釈して使用することができる。希釈製剤は、例えば水、液体肥料、微量栄養素、生物有機体、油又は溶媒と共に調製することができる。
【００６９】
製剤は、例えば、微粉化固形物、顆粒、溶液、分散剤、エマルションの形態における組成物を得るために、活性成分を製剤アジュバントと混合することにより調製することができる。該活性成分はまた、ほかのアジュバント、例えば微粉化固形物、ミネラル油、植物油、変性植物油、有機溶媒、水、界面活性物質及びこれらの組み合わせと共に処方することができる。該活性成分はまた、ポリマーから成る超細マイクロカプセルに含有されていてもよい。マイクロカプセルは、多孔質担体中に活性成分を含有する。これは、該活性成分を制御された量においてこれらの周囲に放出させることができる（例えば持続放出）。マイクロカプセルは、通常０．１〜５００ミクロンの直径を有する。これらは、カプセル重量の約２５〜９５重量％の量において活性成分を含有する。該活性成分は、モノリシック固形物の形態において、固体又は液体分散剤中の微粒子の形態において、あるいは適当な溶液の形態において存在することができる。封入メンブランは、例えば天然及び合成ゴム、セルロース、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレア、ポリウレタン又は化学修飾ポリマー及びスターチキサンタン、又は当業者に知られる他のポリマーを含む。あるいは、活性成分が基体の固形マトリックス中の微粉化粒子の形態中に存在する微細マイクロカプセルを形成することも可能であるが、この場合マイクロカプセルは封入されていない。
【００７０】
本発明の組成物の調製に適当な製剤アジュバントは既知である。使用できる液体担体は、水、トルエン、キシレン、石油エーテル、植物油、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酸無水物、アセトニトリル、アセトフェノン、酢酸アミル、２−ブタノン、炭酸ブチレン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、酢酸のアルキルエステル、ジアセトンアルコール、１，２−ジクロロプロパン、ジエタノールアミン、ｐ−ジエチルベンゼン、ジエチルグリコール、アビエチン酸ジエチレングリコール、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，４−ジオキサン、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジベンゾエート、ジプロキシトール、アルキルプロリドン、酢酸エチル、２−エチルヘキサノール、炭酸エチレン、１，１，１−トリクロロエタン、２−ヘプタノン、α−ピネン、ｄ−リモネン、乳酸エチル、エチレングリコール、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、グリセロール、グリセロールアセテート、グリセロールジアセテート、グリセロールトリアセテート、ヘキサデカン、ヘキシレングリコール、イソアミルアセテート、イソボルニルアセテート、イソオクタン、イソホロン、イソプロピルベンゼン、イソプロピルミリステート、乳酸、ラウリルアミン、メシチルオキシド、メトキシプロパノール、メチルイソアミルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルラウレート、メチルオクタノエート、メチルオレエート、塩化メチレン、ｍ−キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクチルアミン、オクタデカン酸、オクチルアミンアセテート、オレイン酸、オレイルアミン、ｏ−キシレン、フェノール、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ４００）、プロピオン酸、プロピルラクテート、炭酸プロピレン、プロピレングリコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ｐ−キシレン、トルエン、トリエチルホスフェート、トリエチレングリコール、キシレンスルホン酸、パラフィン、ミネラル油、トリクロロエチレン、ペルクロロエチレン、エチルアセテート、アミルアセテート、ブチルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及び高分子量アルコール、例えばアミルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ヘキサノール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等である。水は、一般に、濃縮物の希釈のために選択される担体である。適当な固形担体は、例えばタルク、二酸化チタン、パイロフィライト粘土、シリカ、アタパルジャイト粘度、珪藻土、石灰岩、炭酸カルシウム、ベントナイト、カルシウム・モントモリロナイト、綿実殻、大豆粉、軽石、木粉、クルミ殻、リグニン及び例えばCFR 180.1001. （c） & （d）に記載される同様の材料を含む。
【００７１】
固体及び液体製剤の両方において、特に使用の前に担体により希釈できる製剤において、多数の界面活性物質を有利に使用することができる。界面活性物質は、陰イオン性、陽イオン性、非イオン性又はポリマー性であってよく、これらは乳化剤、湿潤剤又は懸濁剤として、あるいは他の目的のために使用することができる。典型的な界面活性物質は、例えばアルキルスルフェートの塩、例えばジエタノールアンモニウムラウリルスルフェート、；アルキルアリールスルホネートの塩、例えばカルシウムドデシルベンゼンスルホネート；アルキルフェノールアルキレンオキシド付加生成物、例えばノニルフェノールエトキシレート；アルコール−アルキレンオキシド付加生成物、例えばトリデシルアルコールエトキシレート；例えばステアリン酸ナトリウム；アルキルナフタレンスルホネートの塩、例えばナトリウムジブチルナフタレンスルホネート；スルホコハク酸塩のジアルキルエステル、例えばナトリウムジ（２−エチルヘキシル）スルホスクシネート；ソルビトールエステル、例えばスルビトールオレエート；第４級アミン、例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、脂肪酸のポリエチレングリコールエステル、例えばポリエチレングリコールステアレート；エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロックコポリマー；及びモノ−及びジ−アルキルホスフェートエステルの塩；ならびに、例えば"McCutcheon's Detergents and Emulsifiers Annual", MC Publishing Corp., Ridgewood, New Jersey, 1981に記載される更なる物質を含む。
【００７２】
殺虫製剤に通常使用できる更なるアジュバントは、結晶化阻害剤、粘度修飾物質、懸濁剤、色素、抗酸化剤、発泡剤、光吸収剤、混合剤、消泡剤、錯化剤、中和剤もしくはｐＨ−修飾物質及び緩衝液、腐食阻害剤、芳香剤、湿潤剤、吸収促進剤、微量栄養素、可塑剤、流動促進剤、潤滑剤、分散剤、増粘剤、不凍剤、殺微生物剤、及び液体及び固体の肥料を含む。
【００７３】
上記製剤はまた、更なる活性物質、例えば更なる除草剤、除草剤薬害軽減剤、植物成長制御剤、殺真菌剤又は殺虫剤を含んでよい。
【００７４】
本発明の組成物は、更に、添加剤、例えば植物若しくは動物起源の油、ミネラル油、これらの油のアルキルエステル、又はこれらの油と油誘導体の混合物を含んでよい。本発明の組成物に使用される油添加剤の量は、噴霧混合物に基づき、一般に０．０１〜１０％である。例えば、該添加剤は、噴霧混合物が調製された後に、所望の濃度においてスプレータンクに添加することができる。好ましい油添加剤は、ミネラル油、植物起源の油、例えばナタネ油、オリーブ油又はヒマワリ油、乳化植物油、例えばAMIGO（登録商標）（Rhone-Poulenc Canada Inc.）、植物起源の油のアルキルエステル、例えばメチル誘導体、又は動物起源の油、例えば魚油又は牛脂を含む。好ましい添加剤は、例えば活性成分として、本質的に８０重量％の魚油のアルキルエステル及び１５重量％のメチル化ナタネ油、及び５重量％の慣習的な乳化剤及びｐＨ修飾剤を含有する。特に好ましい油添加剤は、重要なものとして、Ｃ8−Ｃ22脂肪酸のアルキルエステル、特にＣ12−Ｃ18脂肪酸のメチル誘導体、例えばラウリン酸、パルミチン酸及びオレイン酸のメチルエステルを含む。これらのエステルは、メチルラウレート（CAS-112-39-0）及びメチルオレエート（CAS-112-62-9）として知られている。好ましい脂肪酸メチルエステル誘導体は、Emery（登録商標）2230及び2231（Cognis GmbH）である。これら及び他の誘導体はまたthe Compendium of Herbicide Adjuvants, 5th Edition, Southern Illinois University, 2000により知られている。
【００７５】
上記油添加剤の適用及び作用は、これらと界面活性物質、例えば非イオン性、陰イオン性又は陽イオン性界面活性剤との組み合わせにより更に改善することができる。適当な陰イオン性、非イオン性及び陽イオン性界面活性剤の例は、WO97/34485の７及び８頁に挙げられている。好ましい界面活性物質は、ドデシルベンジルスルホネート型の陰イオン性界面活性剤、特にそのカルシウム塩であり、そして脂肪アルコールエトキシレート型の非イオン性界面活性剤である。特に好ましいものは５〜４０のエトキシル化を有するエトキシル化Ｃ12−Ｃ22脂肪アルコールである。商業的に入手可能な界面活性剤の例はゲナポール（Genapol）型（Clariant AG）である。また、好ましいものはシリコーン界面活性剤、特にポリアルキル−オキシド−修飾ヘプタメチルトリシロキサン（これは例えばSilwet L-77（登録商標）として商業的に入手可能である）及びペルフルオロ化界面活性剤である。全添加剤に対する界面活性物質の濃度は一般に１〜３０重量％である。油又はミネラル油又はそれらの混合物と界面活性剤とから成る油添加剤の例は、Edenor ME SU（登録商標）、Turbocharge（登録商標）（Syngenta AG, CH）及びActipron（登録商標）（BP Oil UK Limited, GB）である。
【００７６】
また、上記界面活性物質は製剤単独で、すなわち油添加剤を伴わずに使用することもできる。
【００７７】
更に、有機溶媒の上記油添加剤／界面活性剤混合物への添加は、更なる作用の増強に寄与しうる。適当な溶媒は、例えばSolvesso（登録商標）（ESSO）及びAromatic Solvent（登録商標）（Exxon Corporation）である。このような溶媒の濃度は、全重量の１０〜８０％であってよい。このような油添加物（これは溶媒との混合剤中に存在してよい）は例えばUS-A-4 834 908に記載されている。本明細書に開示される商業的に入手可能な油添加剤は、MERGE（登録商標）（BASF Corporation）の名称で知られている。本発明に好ましい更なる油添加剤は、SCORE（登録商標）（Syngenta Crop Protection Canada）である。
【００７８】
上記の油添加物に加えて、本発明の組成物の活性を増強するために、アルキルピロリドン（例えばAgrimax（登録商標））を製剤用の噴霧混合物に加えることが可能である。合成ラテックスの製剤、例えばポリアクリルアミド、ポリビニル化合物又はポリ−１−ｐ−メンテン（例えばBond（登録商標）、Courier（登録商標）又はEmerald（登録商標））もまた使用することができる。プロピオン酸を含有する溶液、例えばEurogkem Pen-e-trate（登録商標）もまた活性増強剤として噴霧混合物に混ぜることができる。
【００７９】
除草製剤は、一般に０．１〜９９重量％、特には０．１〜９５重量％の式Ｉの化合物、及び１〜９９．９重量％の製剤アジュバントを含有し、これは好ましくは、０〜２５重量％の界面活性物質を含む。商業的な製品は、好ましくは濃縮物として処方されるが、末端消費者は通常希釈製剤を利用するものと考えられる。
【００８０】
式Ｉの化合物の適用の割合は、広範な制限において変更することができ、そして土壌の性質、適用方法（発芽前後；種子粉衣；種子溝に対する適用；非耕作適用等）、作物、制御すべき雑草又は草、一般的な気候条件、及び適用方法、適用時間及び標的作物により支配される他の要因に依存する。本発明の式Ｉの化合物は、一般に１〜４０００ｇ／ｈａ、特には５〜１０００ｇ／ｈａの割合で適用される。好ましい製剤は特に以下の組成を有する（％＝重量パーセント）。
【００８１】
乳剤：
活性成分：    １〜９５％、好ましくは６０〜９０％
界面活性剤：  １〜３０％、好ましくは５〜２０％
液体担体：    １〜８０％、好ましくは１〜３５％
【００８２】
粉剤：
活性成分：    ０．１〜１０％、好ましくは０．１〜５％
固形担体：    ９９．９〜９０％、好ましくは９９．９〜９９％
【００８３】
懸濁濃縮剤：
活性成分：    ５〜７５％、好ましくは１０〜５０％
水：          ９４〜２４％、好ましくは８８〜３０％
界面活性剤：  １〜４０％、好ましくは２〜３０％
【００８４】
水和剤：
活性成分：    ０．５〜９０％、好ましくは１〜８０％
界面活性剤：  ０．５〜２０％、好ましくは１〜１５％
固形担体：    ５〜９５％、好ましくは１５〜９０％
【００８５】
顆粒：
活性成分：    ０．１〜３０％、好ましくは０．１〜１５％
固形担体：    ９９．５〜７０％、好ましくは９７〜８５％
【００８６】
以下の例は制限することなく本発明をさらに実証する。
【００８７】
【表１】
0005457200.tif 000027
いずれかの所望の濃度のエマルションは、水による希釈によってこのような濃縮物から調製することができる。
【００８８】
【表２】
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該溶液は微液滴の形態における適用に適当である。
【００８９】
【表３】
0005457200.tif 000029
活性成分をアジュバントと完全に混合させ、そして該混合物を適当なミルにおいて完全に粉末化し、水で希釈して懸濁液を与えることができる水和剤が産生する。
【００９０】
【表４】
0005457200.tif 000030
活性成分を塩化メチレン中に溶かし、該溶液を担体上に噴霧し、その後真空下で溶媒を留去する。
【００９１】
【表５】
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細かく粉末化した活性成分を均一に、ミキサー中で、ポリエチレングリコールで湿らせた担体に適用する。この方法において非粉末性コート剤が得られる。
【００９２】
【表６】
0005457200.tif 000032
活性成分をアジュバントと混合して粉末化し、そして該混合物を水で湿らせる。生じた混合物を押し出し、その後空気流中で乾燥させる。
【００９３】
【表７】
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活性成分を担体と混合し、そして該混合物を適当なミル中で粉末化することにより使用準備済みの粉末を得る。
【００９４】
【表８】
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まず、細かく粉末化した活性成分をアジュバントと混合し、懸濁液濃縮物を産生する。ここで所望の濃度の懸濁液は水による希釈によって調製することができる。
【００９５】
本発明はまた、有用な植物の栽培において草及び雑草を選択的に制御するための方法であって、有用な植物又はその栽培下における領域もしくは場所を式Ｉの化合物で処理することを含んで成る方法に関する。
【００９６】
本発明の組成物が使用できる有用な植物の作物は、特に穀物、綿、大豆、シュガービート、サトウキビ、プランテーション作物、アブラナ、トウモロコシ及び稲を含む。用語「作物」は、品種改良又は遺伝子工学技術による慣習的な方法の結果として除草剤又は除草剤のクラス（例えばＡＬＳ、ＧＳ、ＥＰＳＰＳ、ＰＰＯ、ＡＣＣアーゼ及びＨＰＰＤ阻害剤）に対して耐性を与えられた作物を含むものと理解される。慣習的な品種改良方法により、例えばイミダゾリノン、例えばイマザモックスに対して耐性を与えられた作物の例は、クリアフィールド（登録商標）サマーレイプ（キャノーラ）である。遺伝子工学方法により除草剤に対して耐性を与えられた作物の例は、例えばグリホセート−及びグルホシネート抵抗性トウモロコシ品種であり、RoundupReady（登録商標）及びLibertyLink（登録商標）の商標名において商業的に入手可能である。制御すべき雑草は、単子葉及び双子葉雑草の両方であり、例えばハコベ属（Stellaria）、キンレンカ（Nasturtium）、コヌカグサ属（Agrostis）、メヒシバ属（Digitaria）、アベナ（Avena）、セタリア属（Setaria）、シロガラシ属（Sinapis）、ドクムギ属（Lolium）、ソラヌム属（Solanum）、ヒエ属（Echinochloa）、スキルプス属（Scirpus）、モノコリア属（Monochoria）、オモダカ属（Sagittaria）、スズメノチャヒキ属（Bromus）、アロペクルス属（Alopecurus）、モロコシ属（Sorghum）、ロトボエリア属（Rottboellia）、カヤツリグサ属（Cyperus）、アブチロン属（Abutilon）、シダ属（Sida）、キサンチウム属（Xanthium）、アマランサス属（Amaranthus）、アカザ属（Chenopodium）、イポメア属（Ipomoea）、クリサンセマム属（Chrysanthemum）、ヤエムグラ属（Galium）、ビオラ属（Viola）及びクワガタソウ属（Veronica）を含む。
【００９７】
作物はまた、遺伝子工学方法により害虫に対して耐性を与えられたもの、例えばＢｔトウモロコシ（ヨーロッパ・コーン・ボーラーに対する抵抗性）、Ｂｔ綿花（綿花ゾウムシに対する抵抗性）及びＢｔジャガイモ（コロラドハムシに対する抵抗性）を含むものとして理解される。Ｂｔトウモロコシの例は、ＮＫ（登録商標）のＢｔ−１７６トウモロコシハイブリッド（Syngenta Seeds）である。Ｂｔ毒素は、バチルス・チューリンゲンシス（Bacillus thuringiensis）土壌細菌により天然に形成されるタンパク質である。毒素及びこのような毒素を合成することができる遺伝子導入植物の例は、EP-A-451 878、EP- A-374 753、WO 93/07278、WO 95/34656、WO 03/052073及びEP-A-427 529に記載されている。殺虫剤抵抗性についてコードし、１又は複数の毒素を発現する１又は複数の遺伝子を含有する遺伝子導入植物の例は、KnockOut（登録商標）（トウモロコシ）、Yield Gard（登録商標）（トウモロコシ）、NuCOTIN33B（登録商標）（綿花）、Bollgard（登録商標）（綿花）、NewLeaf（登録商標）（ジャガイモ）、NatureGard（登録商標）及びProtexcta（登録商標）である。植物作物及びこれらの種子材料は、除草剤に対して抵抗性であると同時に虫の摂食に対しても抵抗性であってよい（「積層」遺伝子組み換え事象）。種子は、例えば殺虫的に活性なＣｒｙ３タンパク質を発現する能力を有し、同時にグリホセート耐性である。「作物」の用語は、品種改良又は遺伝子工学の慣習的な方法の結果として得られる作物も含むものと理解され、これはいわゆるアウトプット・トレート（output trait）（例えば改善された風味、貯蔵安定性、栄養量）を含む。
【００９８】
栽培における領域は、作物植物がすでに生長している土壌、ならびにこれらの作物植物の栽培が意図される土壌を含むものとして理解される。
【００９９】
また、本発明の式（Ｉ）の化合物は、１又は複数の他の除草剤との組み合わせにおいて使用することができる。特に式（Ｉ）の化合物の以下の混合物は重要である。好ましくは、式（Ｉ）の化合物は、以下の表１〜３５に挙げられる化合物である：
式（Ｉ）の化合物＋アセトクロル、式（Ｉ）の化合物＋アシフルオルフェン、式（Ｉ）の化合物＋アシフルオルフェン−ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋アクロニフェン、式（Ｉ）の化合物＋アクロレイン、式（Ｉ）の化合物＋アラクロル、式（Ｉ）の化合物＋アロキシジム、式（Ｉ）の化合物＋アリルアルコール、式（Ｉ）の化合物＋アメトリン、式（Ｉ）の化合物＋アミカルバゾン、式（Ｉ）の化合物＋アミドスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋アミノピラリド、式（Ｉ）の化合物＋アミトロール、式（Ｉ）の化合物＋アンモニウムスルファメート、式（Ｉ）の化合物＋アニロホス、式（Ｉ）の化合物＋アスラム、式（Ｉ）の化合物＋アトラトン、式（Ｉ）の化合物＋アトラジン、式（Ｉ）の化合物＋アジムスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋ＢＣＰＣ、式（Ｉ）の化合物＋ベフルブタミド、式（Ｉ）の化合物＋ベナゾリン、式（Ｉ）の化合物＋ベンフレセート、式（Ｉ）の化合物＋ベンフレセート、式（Ｉ）の化合物＋ベンスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋ベンスルフロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋ベンスリド、式（Ｉ）の化合物＋ベンタゾン、式（Ｉ）の化合物＋ベンズフェンジゾン、式（Ｉ）の化合物＋ベンゾビシクロン、式（Ｉ）の化合物＋ベンゾフェナプ、式（Ｉ）の化合物＋ビフェノクス、式（Ｉ）の化合物＋ビラナホス、式（Ｉ）の化合物＋ビスピリバク、式（Ｉ）の化合物＋ビスピリバク−ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋ボラックス、式（Ｉ）の化合物＋ブロマシル、式（Ｉ）の化合物＋ブロモブチド、式（Ｉ）の化合物＋ブロモキシニル、式（Ｉ）の化合物＋ブタクロル、式（Ｉ）の化合物＋ブタフェナシル、式（Ｉ）の化合物＋ブタミホス、式（Ｉ）の化合物＋ブトラリン、式（Ｉ）の化合物＋ブトロキシジム、式（Ｉ）の化合物＋ブチレート、式（Ｉ）の化合物＋カコジル酸、式（Ｉ）の化合物＋塩素酸カルシウム、式（Ｉ）の化合物＋カフェンストロール、式（Ｉ）の化合物＋カルベタミド、式（Ｉ）の化合物＋カフェントラゾン、式（Ｉ）の化合物＋カフェントラゾン・エチル、式（Ｉ）の化合物＋ＣＤＥＡ、式（Ｉ）の化合物＋ＣＥＰＣ、式（Ｉ）の化合物＋クロルフレノール、式（Ｉ）の化合物＋クロルフレノール・メチル、式（Ｉ）の化合物＋クロリダゾン、式（Ｉ）の化合物＋クロリムロン、式（Ｉ）の化合物＋クロリムロン・エチル、式（Ｉ）の化合物＋クロロ酢酸、式（Ｉ）の化合物＋クロロトルロン、式（Ｉ）の化合物＋クロルプロファム、式（Ｉ）の化合物＋クロルスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋クロルタール、式（Ｉ）の化合物＋クロルタール・ジメチル、式（Ｉ）の化合物＋シニドン・エチル、式（Ｉ）の化合物＋シンメチリン、式（Ｉ）の化合物＋シノスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋シスアニリド、式（Ｉ）の化合物＋クレソジム、式（Ｉ）の化合物＋クロジナフォプ、式（Ｉ）の化合物＋クロジナフォプ・プロパルギル、式（Ｉ）の化合物＋クロマゾン、式（Ｉ）の化合物＋クロメプロプ、式（Ｉ）の化合物＋クロピラリド、式（Ｉ）の化合物＋クロランスラム、式（Ｉ）の化合物＋クロランスラム・メチル、式（Ｉ）の化合物＋ＣＭＡ、式（Ｉ）の化合物＋４−ＣＰＢ、式（Ｉ）の化合物＋ＣＰＭＦ、式（Ｉ）の化合物＋４−ＣＰＰ、式（Ｉ）の化合物＋ＣＰＰＣ、式（Ｉ）の化合物＋クレゾール、式（Ｉ）の化合物＋クミルロン、式（Ｉ）の化合物＋シアンアミド、式（Ｉ）の化合物＋シアンアジン、式（Ｉ）の化合物＋シクロエート、式（Ｉ）の化合物＋シクロスルファムロン、式（Ｉ）の化合物＋シクロキシジム、式（Ｉ）の化合物＋シハロフォプ、式（Ｉ）の化合物＋シハロフォプ・ブチル、式（Ｉ）の化合物＋２，４−Ｄ、式（Ｉ）の化合物＋３，４−ＤＡ、式（Ｉ）の化合物＋ダイムロン、式（Ｉ）の化合物＋ダラポン、式（Ｉ）の化合物＋ダゾメット、式（Ｉ）の化合物＋２，４−ＤＢ、式（Ｉ）の化合物＋３，４−ＤＢ、式（Ｉ）の化合物＋２，４−ＤＥＢ、式（Ｉ）の化合物＋デスメジファム、式（Ｉ）の化合物＋ジカムバ、式（Ｉ）の化合物＋ジクロベニル、式（Ｉ）の化合物＋オルト−ジクロロベンゼン、式（Ｉ）の化合物＋パラ−ジクロロベンゼン、式（Ｉ）の化合物＋ジクロルプロプ、式（Ｉ）の化合物＋ジクロルプロプ−Ｐ、式（Ｉ）の化合物＋ジクロホプ、式（Ｉ）の化合物＋ジクロホプ・メチル、式（Ｉ）の化合物＋ジクロスラム、式（Ｉ）の化合物＋ジフェンゾケット、式（Ｉ）の化合物＋ジフェンゾケット・メチルスルフェート、式（Ｉ）の化合物＋ジフルフェニカン、式（Ｉ）の化合物＋ジフルフェンゾピル、式（Ｉ）の化合物＋ジメフロン、式（Ｉ）の化合物＋ジメピレレート、式（Ｉ）の化合物＋ジメタクロル、式（Ｉ）の化合物＋ジメタメトリン、式（Ｉ）の化合物＋ジメテナミド、式（Ｉ）の化合物＋ジメテナミド−Ｐ、式（Ｉ）の化合物＋ジメチピン、式（Ｉ）の化合物＋ヒ酸ジメチル、式（Ｉ）の化合物＋ジニトラミン、式（Ｉ）の化合物＋ジノテルブ、式（Ｉ）の化合物＋ジフェナミド、式（Ｉ）の化合物＋ジクアット、式（Ｉ）の化合物＋アイクアットジブロミド、式（Ｉ）の化合物＋ジチオピル、式（Ｉ）の化合物＋ジウロン、式（Ｉ）の化合物＋ＤＮＯＣ、式（Ｉ）の化合物＋３，４−ＤＰ、式（Ｉ）の化合物＋ＤＳＭＡ、式（Ｉ）の化合物＋ＥＢＥＰ、式（Ｉ）の化合物＋エンドサル、式（Ｉ）の化合物＋ＥＰＴＣ、式（Ｉ）の化合物＋エスプロカルブ、式（Ｉ）の化合物＋エタルフラリン、式（Ｉ）の化合物＋エタメトスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋エタメトスルフロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋エトフメセート、式（Ｉ）の化合物＋エトキシフェン、式（Ｉ）の化合物＋エトキシスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋エトベンザニド、式（Ｉ）の化合物＋フェノキサプロプ−Ｐ、式（Ｉ）の化合物＋フェノキサプロプ−Ｐ−エチル、式（Ｉ）の化合物＋フェントラザミド、式（Ｉ）の化合物＋フェロウススルフェート、式（Ｉ）の化合物＋フラムプロプ−Ｍ、式（Ｉ）の化合物＋フラザスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋フロラスラム、式（Ｉ）の化合物＋フルアジホプ、式（Ｉ）の化合物＋フルアジホプ・ブチル、式（Ｉ）の化合物＋フルアジホプ−Ｐ、式（Ｉ）の化合物＋フルアジホプ−Ｐ−ブチル、式（Ｉ）の化合物＋フルカルバゾン、式（Ｉ）の化合物＋フルカルバゾン・ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋フルセトスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋フルクロラリン、式（Ｉ）の化合物＋フルフェナセト、式（Ｉ）の化合物＋フルフェンピル、式（Ｉ）の化合物＋フルフェンピル・エチル、式（Ｉ）の化合物＋フルメトスラム、式（Ｉ）の化合物＋フルミクロラク、式（Ｉ）の化合物＋フルミクロラク・ペンチル、式（Ｉ）の化合物＋フルミオキサジン、式（Ｉ）の化合物＋フルメツロン、式（Ｉ）の化合物＋フルオロギリコフェン、式（Ｉ）の化合物＋フルオロギリコフェン・エチル、式（Ｉ）の化合物＋フルプロパネート、式（Ｉ）の化合物＋フルピルスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋フルピルスルフロン−メチル−ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋フルレノール、式（Ｉ）の化合物＋フルリドン、式（Ｉ）の化合物＋フルロクロリドン、式（Ｉ）の化合物＋フルロキシピル、式（Ｉ）の化合物＋フルルタオン、式（Ｉ）の化合物＋フルチアセト、式（Ｉ）の化合物＋フルチアセト・メチル、式（Ｉ）の化合物＋ホメサフェン、式（Ｉ）の化合物＋ホラムスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋ホサミン、式（Ｉ）の化合物＋グルホシネート、式（Ｉ）の化合物＋グルホシネート・アンモニウム、式（Ｉ）の化合物＋グリホセート、式（Ｉ）の化合物＋ハロスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋ハロスルフロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋ハロキシホプ、式（Ｉ）の化合物＋ハロキシホプ−Ｐ、式（Ｉ）の化合物＋ＨＣ−２５２、式（Ｉ）の化合物＋ヘキサジノン、式（Ｉ）の化合物＋イマザメタベンズ、式（Ｉ）の化合物＋イマザメタベンズ・メチル、式（Ｉ）の化合物＋イマザモクス、式（Ｉ）の化合物＋イマザピク、式（Ｉ）の化合物＋イマザピル、式（Ｉ）の化合物＋イマザキン、式（Ｉ）の化合物＋イマゼタピル、式（Ｉ）の化合物＋イマゾスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋インダノファン、式（Ｉ）の化合物＋インドメタン、式（Ｉ）の化合物＋インドスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋インドスルフロン−メチル−ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋イオキシニル、式（Ｉ）の化合物＋イソプロツロン、式（Ｉ）の化合物＋イソウロン、式（Ｉ）の化合物＋イソキサベン、式（Ｉ）の化合物＋イソキサクロルトール、式（Ｉ）の化合物＋イソキサフルトール、式（Ｉ）の化合物＋カルブチレート、式（Ｉ）の化合物＋ラクトフェン、式（Ｉ）の化合物＋レナシル、式（Ｉ）の化合物＋リヌロン、式（Ｉ）の化合物＋ＭＡＡ、式（Ｉ）の化合物＋ＭＡＭＡ、式（Ｉ）の化合物＋ＭＣＰＡ、式（Ｉ）の化合物＋ＭＣＰＡ−チオエチル、式（Ｉ）の化合物＋ＭＣＰＢ、式（Ｉ）の化合物＋メクロプロプ、式（Ｉ）の化合物＋メクロプロプ−Ｐ、式（Ｉ）の化合物＋メフェナセト、式（Ｉ）の化合物＋メフルイジド、式（Ｉ）の化合物＋メソスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋メソスルフロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋メソトリオン、式（Ｉ）の化合物＋メタム、式（Ｉ）の化合物＋メタミフォプ、式（Ｉ）の化合物＋メタミトロン、式（Ｉ）の化合物＋メタゾクロル、式（Ｉ）の化合物＋メタベンズチアズロン、式（Ｉ）の化合物＋メチルアルソン酸、式（Ｉ）の化合物＋メチルジムロン、式（Ｉ）の化合物＋メチルイソチオシアネート、式（Ｉ）の化合物＋メトベンズロン、式（Ｉ）の化合物＋メトラクロル、式（Ｉ）の化合物＋Ｓ−メトラクロル、式（Ｉ）の化合物＋メトスラム、式（Ｉ）の化合物＋メトクスロン、式（Ｉ）の化合物＋メトリブジン、式（Ｉ）の化合物＋メトスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋メトスルフロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋ＭＫ−６１６、式（Ｉ）の化合物＋モリネート、式（Ｉ）の化合物＋モノリヌロン、式（Ｉ）の化合物＋ＭＳＭＡ、式（Ｉ）の化合物＋ナプロアニリド、式（Ｉ）の化合物＋ナプロパミド、式（Ｉ）の化合物＋ナプタラム、式（Ｉ）の化合物＋ネブロン、式（Ｉ）の化合物＋ニコスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋ノナン酸、式（Ｉ）の化合物＋ノルフルラゾン、式（Ｉ）の化合物＋オレイン酸（脂肪酸）、式（Ｉ）の化合物＋オルベンカルブ、式（Ｉ）の化合物＋オルトスルファムロン、式（Ｉ）の化合物＋オリルザリン、式（Ｉ）の化合物＋オキサジアルギル、式（Ｉ）の化合物＋オキサジアゾン、式（Ｉ）の化合物＋オキサスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋オキサジクロメホン、式（Ｉ）の化合物＋オキシフルオルフェン、式（Ｉ）の化合物＋パラコート、式（Ｉ）の化合物＋パラコートジクロライド、式（Ｉ）の化合物＋ペブレート、式（Ｉ）の化合物＋ペンディメタリン、式（Ｉ）の化合物＋ペノクススラム、式（Ｉ）の化合物＋ペンタクロロフェノール、式（Ｉ）の化合物＋ペンタノクロル、式（Ｉ）の化合物＋ペントキサゾン、式（Ｉ）の化合物＋ペントキサミド、式（Ｉ）の化合物＋石油、式（Ｉ）の化合物＋ｐフェンメジファム、式（Ｉ）の化合物＋フェンメジファム・エチル、式（Ｉ）の化合物＋ピクロラム、式（Ｉ）の化合物＋ピコリナフェン、式（Ｉ）の化合物＋ピノキサデン、式（Ｉ）の化合物＋ピペロホス、式（Ｉ）の化合物＋亜ヒ酸カリウム、式（Ｉ）の化合物＋カリウムアジド、式（Ｉ）の化合物＋プレチラクロル、式（Ｉ）の化合物＋プリミスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋プリミスルフロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋プロジアミド、式（Ｉ）の化合物＋プロフルアゾール、式（Ｉ）の化合物＋プロホキシジム、式（Ｉ）の化合物＋プロメトン、式（Ｉ）の化合物＋プロメトリン、式（Ｉ）の化合物＋プロパクロル、式（Ｉ）の化合物＋プロパニル、式（Ｉ）の化合物＋プロパクイザホップ、式（Ｉ）の化合物＋プロパジン、式（Ｉ）の化合物＋プロファム、式（Ｉ）の化合物＋プロピソクロル、式（Ｉ）の化合物＋プロポキシカルバゾン、式（Ｉ）の化合物＋プロポキシカルバゾン・ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋プロピザミド、式（Ｉ）の化合物＋プロスルホカルブ、式（Ｉ）の化合物＋プロスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋ピラコニル、式（Ｉ）の化合物＋ピラフルフェン、式（Ｉ）の化合物＋ピラフルフェン・エチル、
式（Ｉ）の化合物＋ピラゾリネート、式（Ｉ）の化合物＋ピラゾスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋ピラゾスルフロン・エチル、式（Ｉ）の化合物＋ピラゾキシフェン、式（Ｉ）の化合物＋ピリベンゾキシム、式（Ｉ）の化合物＋ピリブチカルブ、式（Ｉ）の化合物＋ピリダホル、式（Ｉ）の化合物＋ピリデート、式（Ｉ）の化合物＋ピリフタリド、式（Ｉ）の化合物＋ピリミノバク、式（Ｉ）の化合物＋ピリミノバク・メチル、式（Ｉ）の化合物＋ピリミスルファン、式（Ｉ）の化合物＋ピリチオバク、式（Ｉ）の化合物＋ピリチオバク・ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋クインクロラク、式（Ｉ）の化合物＋クインメラク、式（Ｉ）の化合物＋キノクラミン、式（Ｉ）の化合物＋キザロホップ、式（Ｉ）の化合物＋キザロホップ−Ｐ、式（Ｉ）の化合物＋リムスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋セトキシジム、式（Ｉ）の化合物＋シズロン、式（Ｉ）の化合物＋シマジン、式（Ｉ）の化合物＋シメトリン、式（Ｉ）の化合物＋ＳＭＡ、式（Ｉ）の化合物＋亜ヒ酸ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋ナトリウムアジド、式（Ｉ）の化合物＋塩素酸ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋スルコトリオン、式（Ｉ）の化合物＋スルフェントラゾン、式（Ｉ）の化合物＋スルホメツロン、式（Ｉ）の化合物＋スルホメツロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋スルホセート、式（Ｉ）の化合物＋スルホスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋硫酸、式（Ｉ）の化合物＋タール油、式（Ｉ）の化合物＋２，３，６−ＴＢＡ、式（Ｉ）の化合物＋ＴＣＡ、式（Ｉ）の化合物＋ＴＣＡ−ナトリム、式（Ｉ）の化合物＋テブチウロン、式（Ｉ）の化合物＋テプラロキシジム、式（Ｉ）の化合物＋テルバシル、式（Ｉ）の化合物＋テルブメトン、式（Ｉ）の化合物＋テルブチルアジン、式（Ｉ）の化合物＋テルブトリン、式（Ｉ）の化合物＋セニルクロル、式（Ｉ）の化合物＋チアゾピル、式（Ｉ）の化合物＋チフェンスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋チフェンスルフロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋チオベンカルブ、式（Ｉ）の化合物＋チオカルバジル、式（Ｉ）の化合物＋トプラメゾン、式（Ｉ）の化合物＋トラルコキシジム、式（Ｉ）の化合物＋トリアレート、式（Ｉ）の化合物＋トリアスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋トリアジフラム、式（Ｉ）の化合物＋トリベヌロン、式（Ｉ）の化合物＋トリベヌロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋トリカムバ、式（Ｉ）の化合物＋トリクロピル、式（Ｉ）の化合物＋トリエタジン、式（Ｉ）の化合物＋トリフロキシスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋トリフロキシスルフロン−ナトリウム、式（Ｉ）の化合物＋トリフルラリン、式（Ｉ）の化合物＋トリフルスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋トリフルスルフロン・メチル、式（Ｉ）の化合物＋トリヒドロキシトリアジン、式（Ｉ）の化合物＋トリトスルフロン、式（Ｉ）の化合物＋［３−［２−クロロ−４−フルオロ−５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−３−イル）フェノキシ］−２−ピリジルオキシ］酢酸エチルエステル（ＣＡＳＲＮ３５３２９２−３１−６）、式（Ｉ）の化合物＋４−［（４，５−ジヒドロ−３−メトキシ−４−メチル−５−オキソ）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルカルバモイルスルファモイル］−５−メチルチオフェン−３−カルボン酸（ＢＡＹ６３６）、式（Ｉ）の化合物＋ＢＡＹ７４７（ＣＡＳＲＮ３３５１０４−８４−２）、式（Ｉ）の化合物＋トプラメゾン（ＣＡＳＲＮ２１０６３１−６８−８）、式（Ｉ）の化合物＋４−ヒドロキシ−３−［［２−［（２−メトキシエトキシ）メチル］−６−（トリフルオロメチル）−３−ピペリジニル］カルバモイル］−ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エン−２−オン（ＣＡＳＲＮ３５２０１０−６８−５）、及び式（Ｉ）の化合物＋４−ヒドロキシ−３−［［２−（３−メトキシプロピル）−６−（ジフルオロメチル）−３−ピリジニル］カルボニル］−ビシクロ［３．２．１］オクト−３−エン−２−オン。
【０１００】
式（Ｉ）の化合物はまた、例えばThe Pesticide Manual, 12th Edition （BCPC）, 2000に挙げられるようなエステル又は塩の形態におけるものであってもよい。
【０１０１】
式（Ｉ）の化合物と混合パートナーの混合比は１：１００〜１０００：１である。
【０１０２】
上記混合物は、上述の製剤（この場合「活性成分」は式（Ｉ）の化合物と混合パートナーのそれぞれの混合物を意味する）において有利に使用することができる。
【０１０３】
本発明の式（Ｉ）の化合物はまた、薬害軽減剤との組み合わせにおいても使用することができる。好ましくはこれらの混合物において、式（Ｉ）の化合物は以下の表１〜３５に挙げられる化合物の１つである。以下の薬害軽減剤との混合物は、特に考慮されるものである：
式（Ｉ）の化合物＋クロキントセト−メキシル、式（Ｉ）の化合物＋クロキントセト酸（cloquintocet acid）及びその塩、式（Ｉ）の化合物＋フェンクロラゾール−エチル、式（Ｉ）の化合物＋フェンクロラゾール酸及びその塩、式（Ｉ）の化合物＋メフェンピル−ジエチル、式（Ｉ）の化合物＋メフェンピル二酸、式（Ｉ）の化合物＋イソキサジフェン−エチル、式（Ｉ）の化合物＋イソキサジフェン酸、式（Ｉ）の化合物＋フリラゾール、式（Ｉ）の化合物＋フリラゾールＲ異性体、式（Ｉ）の化合物＋ベノキサコル、式（Ｉ）の化合物＋ジクロルミド、式（Ｉ）の化合物＋ＡＤ−６７、式（Ｉ）の化合物＋オキサベトリニル、式（Ｉ）の化合物＋シオメトリニル、式（Ｉ）の化合物＋シオメトリニルＺ−異性体、式（Ｉ）の化合物＋フェンクロリム、式（Ｉ）の化合物＋シプロスルファミド、式（Ｉ）の化合物＋ナフタル酸無水物、式（Ｉ）の化合物＋フルラゾール、式（Ｉ）の化合物＋Ｎ−（２−メトキシベンゾイル）−４−［（メチルアミノカルボニル）アミノ］ベンゼンスルホンアミド、式（Ｉ）の化合物＋ＣＬ３０４４１５、式（Ｉ）の化合物＋ジシクロノン、式（Ｉ）の化合物＋フルキソフェニム、式（Ｉ）の化合物＋ＤＫＡ−２４、式（Ｉ）の化合物＋Ｒ−２９１４８及び式（Ｉ）の化合物＋ＰＰＧ−１２９２。薬害軽減効果はまた、式（Ｉ）の化合物＋ジムロン、式（Ｉ）の化合物＋ＭＣＰＡ、式（Ｉ）の化合物＋メコプロプ、及び式（Ｉ）の化合物＋メコプロプ−Ｐの混合物についても観察することができる。
【０１０４】
上述の薬害軽減剤及び除草剤は、例えばthe Pesticide Manual, Twelfth Edition, British Crop Protection Council, 2000に記載されている。Ｒ−２９１４８は、例えばP. B. Goldsbrough et al., Plant Physiology, （2002）, Vol. 130 pp. 1497-1505 及びその中の参考文献中に記載されており、ＰＰＧ−１２９２はWO09211761から知られており、そしてＮ−（２−メトキシベンゾイル）−４−［（メチルアミノカルボニル）アミノ］ベンゼンスルホンアミドはEP365484より知られている。
【０１０５】
本発明の式（Ｉ）の化合物はまた、上述の共除草剤及び薬害軽減剤との組み合わせにおいても使用することができ、式（Ｉ）の化合物、共除草剤及び薬害軽減剤を含有する三系混合物を形成する。
【０１０６】
以下の実施例は本発明を制限することなく本発明を実証する。
【実施例】
【０１０７】
調製例：
例１
２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（テトラヒドロピラン−４−イル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（表Ｔ１中の化合物Ｔ２）の調製
工程１
メトキシメチルトリフェニルホスホニウム・クロライド（８１．８ｇ）を乾燥ＴＨＦ（２００ｍｌ）中に懸濁し、そして窒素下０℃で攪拌する。窒素下でカニューレによりＴＨＦ（２３９ｍｌ）中のリチウム・ビス（トリメチルシリル）アミドの１モル溶液を滴下漏斗に移し、そして２０分間にわたり添加する。生じる赤褐色の溶液を０〜２０℃で１時間攪拌する。その後、該混合物を−２５℃に冷却し、そしてテトラヒドロ−４Ｈ−ピラン−４−オン（２０ｍｌ）を１０分間にわたり添加する。冷却浴をはずし、そして該混合物を室温まで上昇させ、その後２２時間攪拌する。該反応混合物を水（４００ｍｌ）に注ぎ、そしてエーテル中に抽出させる（２×４００ｍｌ）。有機抽出物をあわせ、水（２×４００ｍｌ）及びブライン（４００ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮する。残渣を８００ｍｌのエーテル：ヘキサン（１：１）で処理し、１５分間攪拌し、その後氷浴中で１０分間冷却し、そして真空下で濾過し、沈殿したトリフェニルホスフィンオキシドを除く。濾液を濃縮し、４００ｍｌのエーテル：ヘキサン（１：１）で再度処理し、１５分間攪拌し、その後氷浴中で冷却し、濾過により更なる沈殿物を除く。濾液を濃縮し、２５．３７１ｇの褐色の油を得る。該原料を真空蒸留により生成し、４−（メトキシメチレン）テトラヒドロピランを得る（沸点６６℃／２０ｍｍＨｇ）。
【０１０８】
工程２
水（９０ｍｌ）とＴＨＦ（９０ｍｌ）の混合物中の４−（メトキシメチレン）テトラヒドロピラン（１７．１８ｇ、１３４ｍｍｏｌ）とトルエン−４−スルホン酸水和物（３５．７６ｇ、１８８ｍｍｏｌ）の混合物を室温で４時間半加熱する。該混合物をＮａＨＣＯ3（３００ｍｌ）の飽和水溶液で処理し、そして泡立ちが停止するまで攪拌する。該混合物を分離漏斗に移し、ブライン（１００ｍｌ）を添加し、そして反応物をジクロロメタン（４×１５０ｍｌ）中に抽出する。有機抽出物をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮し、テトラヒドロピラン−４−カルボキシアルデヒドを得る。
【０１０９】
工程３
ジクロロメタン（３００ｍｌ）中のテトラヒドロピラン−４−カルボキシアルデヒド（１２．０ｇ、１０５ｍｍｏｌ）の溶液に、トリフェニルホスホラニリデン−２−プロパノン（３３．４３ｇ、１０５ｍｍｏｌ）を添加する。該反応混合物を還流温度で１６時間加熱する。該反応混合物を冷却し、そして真空下で濃縮する。ヘキサン（３００ｍｌ）を残渣に添加し、そして該混合物を攪拌し、その後真空下で濾過する。固形物をヘキサン（１００ｍｌ）中に懸濁させ、攪拌し、その後濾過し、そして残りの固形物を捨てる。濾液をあわせ、そして真空下で濃縮し、黄色の油を得る。該油をジクロロメタン（２５０ｍｌ）中に溶解し、トリフェニルホスホラニリデン−２−プロパノン（９．５５ｇ、３０ｍｍｏｌ）を添加し、そして該混合物を還流温度でさらに７日間加熱する。
【０１１０】
反応混合物を真空下で濃縮し、そしてヘキサン（３００ｍｌ）を添加する。該混合物を数分間攪拌し、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。酢酸エチルとヘキサンの混合物で溶出するシリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーによる精製によって、４−（テトラヒドロピラン−４−イル）−３−ブテン−２−オンを得る。
【０１１１】
工程４
マロン酸ジエチル（８．８６ｍｌ、５８ｍｍｏｌ）を３分間にわたり、エタノール（８０ｍｌ）中のナトリウムの冷却（氷浴）溶液（１．４８ｇ、６４ｍｍｏｌ）中に滴下する。添加が完了したら、氷浴を除き、そして反応物を２５分間室温で攪拌し、その後反応混合物を再度氷浴で冷却する。エタノール（４５ｍｌ）中の４−（テトラヒドロピラン−４−イル）−３−ブテン−２−オン（７．５０ｇ、４９ｍｍｏｌ）の溶液を、滴下漏斗を介して反応混合物中に１５分間にわたり添加する。添加が完了したら、冷却浴をはずし、そして黄色の溶液を室温で１９時間攪拌する。反応混合物を、２Ｍの水性塩酸の滴下によりｐＨ３に酸性化させ、沈殿物を溶解させるために水を添加し、そして反応混合物をジクロロメタン中に抽出させる。有機抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮する。
【０１１２】
残渣をイソプロパノール（５０ｍｌ）中に取り、そして水酸化ナトリウムの２Ｍ水溶液（１４０ｍｌ）を添加する。反応混合物を室温で２０時間攪拌する。反応混合物を真空下で濃縮し、イソプロパノールを除去し、その後７０℃に加熱する。反応混合物がｐＨ２に達するまで、２Ｍの水性塩酸の溶液を注意深く添加する。該反応混合物を７５℃で２時間半加熱し、その後室温に冷却し、そして生成物を酢酸エチル中に抽出させる。有機抽出物をあわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮し、５−（テトラヒドロピラン−４−イル）−シクロヘキサン−１，３−ジオンを得る。
【０１１３】
工程５
水（２０ｍｌ）中の５−（テトラヒドロピラン−４−イル）−シクロヘキサン−１，３−ジオン（１．５０ｇ、７．６４ｍｍｏｌ）と炭酸ナトリウム（０．８１ｇ、７．６４ｍｏｌ）の溶液を、水（２５ｍｌ）中のヨードベンゼンジアセテート（２．４６ｇ、７．６４ｍｍｏｌ）と炭酸ナトリウム（０．８１ｇ、７．６４ｍｍｏｌ）の懸濁液に滴下し、そして該混合物を室温で３時間半攪拌する。濾過によりヨードニウムイリド（２．１８６ｇ）を回収する。
【０１１４】
工程６
工程５で調製したイリドの一部（０．７０ｇ、１．７６ｍｍｏｌ）、２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸（０．０２ｇ、０．０９ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．５８３ｇ、１．７６ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（０．５８３ｇ、１．７６ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（０．２２２ｇ、５．２８ｍｍｏｌ）を、１，２−ジメトキシエタン（２０ｍｌ）及び水（５ｍｌ）の混合物に添加し、そして該混合物を５０℃で５時間４５分間加熱する。該混合物を室温に冷却し、珪藻土を介して濾過して触媒を除去し、そして濾液を酢酸エチルと水に分割する。有機抽出物をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。残渣をさらに、酢酸エチルとヘキサンの混合物で溶出するシリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーにより精製し、２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（テトラヒドロピラン−４−イル）シクロヘキサン−１，３−ジオンを得る。
【表９】
0005457200.tif 000035
【０１１５】
例２
２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（テトラヒドロフラン−３−イル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（表Ｔ１中の化合物Ｔ４）の調製
工程１
ジメチル（２−オキソプロピル）ホスホネート（３２．０６ｇ、１９３ｍｍｏｌ）を水（３０ｍｌ）とエタノール（１７０ｍｌ）中の水酸化カリウムの冷却（氷浴）溶液に添加し、そして該混合物を攪拌する。テトラヒドロフラン−３−カルボキシアルデヒド（５０％、ｗｔ％、水溶液、２５ｍｌ、１３８ｍｍｏｌ）を滴下し、そして該反応混合物を５℃で１０分間攪拌する。冷却浴をはずし、そして混合物を室温で７時間攪拌する。ほとんどの溶媒を真空下で除去し、水（１００ｍｌ）とジエチルエーテル（２００ｍｌ）を添加し、そして該混合物を分離漏斗に注ぎ、そして有機相を回収する。水相をジエチルエーテルで３回抽出し、そして有機抽出物をあわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。残渣をさらに、酢酸エチルとヘキサンの混合物で溶出するシリカゲルのカラムクロマトグラフィーにより精製し、４−（テトラヒドロフラン−３−イル）−３−ブテン−２−オンを淡黄色の液体として得る。
【０１１６】
工程２
マロン酸ジエチル（６．５０ｍｌ、４３ｍｍｏｌ）を、無水エタノール（６０ｍｌ）中のナトリウムの冷却（氷浴）溶液（１．０７ｇ、４６ｍｍｏｌ）に滴下し、添加が完了したら、冷却浴をはずし、そして反応混合物を室温で２５分間攪拌する。該混合物を氷浴中で冷却し、そしてエタノール（３０ｍｌ）中の４−（テトラヒドロフラン−３−イル）−３−ブテン−２−オン（５．０ｇ、３６ｍｍｏｌ）の溶液を滴下する。添加が完了したら冷却浴をはずし、そして反応混合物を室温で１９時間攪拌する。該反応混合物を２Ｍの水性塩酸の滴下によりｐＨ３に酸性化し、水を添加して、形成されたいずれかの沈殿を溶解し、そして該反応混合物をジクロロメタン中で抽出させる。有機抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮し、イソプロパノール（３５ｍｌ）中に取った黄色の油を得て、そして２Ｍの水酸化ナトリウム水溶液（１００ｍｌ）を添加する。該反応混合物を室温で２０時間攪拌する。該反応混合物を真空下で濃縮してイソプロパノールを除去し、その後７０℃に加熱する。反応混合物がｐＨ１に達するまで２Ｍの塩酸水溶液を注意深く添加する。該反応混合物を７０℃で１時間半加熱し、その後室温に冷却し、水で希釈し、そして生成物を酢酸エチル中で抽出させる。有機抽出物をあわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮し、黄色の固形物として５−（テトラヒドロフラン−３イル）シクロヘキサン−１，３−ジオンを得る。
【０１１７】
工程３
水（２５ｍｌ）中の５−（テトラヒドロフラン−３イル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（１．８２ｇ、１０ｍｍｏｌ）と炭酸ナトリウム（１．０６ｇ、１０ｍｏｌ）の溶液を、水（３５ｍｌ）中のヨードベンゼンジアセテート（３．２２ｇ、１０ｍｍｏｌ）と炭酸ナトリウム（１．０６ｇ、１０ｍｍｏｌ）の懸濁液に滴下し、そして室温で３時間半攪拌する。該混合物をブラインとジクロロメタンに分割し、そして有機抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を蒸発させ、黄色の発泡体を得る。該残渣をジエチルエーテルに取り、そしてエーテルを蒸発させ、黄色の固形物として所望のヨードニウムイリドを得る。
【０１１８】
工程４
上記イリドの一部（０．８５ｇ、２．２１ｍｍｏｌ）、２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸（０．４６７ｇ、２．４３ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．０２５ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（０．７３４ｇ、２．２１ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム一水和物（０．２７８ｇ、６．６３ｍｍｏｌ）を、１，２−ジメトキシエタン（２４ｍｌ）及び水（６ｍｌ）の混合物に添加し、そして該混合物を５０℃で５時間４５分間加熱する。該混合物を室温に冷却し、珪藻土を介して濾過して触媒を除去し、そして濾液を酢酸エチルと水に分割する。有機抽出物をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。残渣をさらに、酢酸エチルとヘキサンの混合物で溶出するシリカゲルのカラムクロマトグラフィーにより精製し、２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−（テトラヒドロフラン−３−イル）シクロヘキサン−１，３−ジオンを得る。
【表１０】
0005457200.tif 000036
【０１１９】
例３
２−（３，５−ジメチルビフェン−４−イル）−５−（テトラヒドロピラン−４−イル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（表Ｔ１中の化合物Ｔ２６）の調製
５−（テトラヒドロピラン−４−イル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（１９６ｍｇ；１ｍｍｏｌ）と４−ジメチルアミノピリジン（６１０ｍｇ；５ｍｍｏｌ）の混合物に乾燥クロロホルム（４ｍｌ）を窒素雰囲気下で添加し、そして全ての固形物が溶解するまで該混合物を室温で攪拌する。その後、この溶液に乾燥トルエン（２ｍｌ）及びクロロホルム中の３，５−ジメチルビフェン−４−イルリードトリアセテート（１．２ｍｍｏｌ）の溶液を添加する。該反応混合物を還流温度で１時間加熱する。該反応混合物を室温に冷却し、２Ｎ水性塩酸でｐＨ１に酸性化し、濾過し、そして濾液をジクロロメタン（２×４０ｍｌ）で抽出する。有機抽出物をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。残渣をさらに、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーにより精製し、２−（３，５−ジメチルビフェン−４−イル）−５−（テトラヒドロピラン−４−イル）シクロヘキサン−１，３−ジオンを得る。
【表１１】
0005457200.tif 000037
【０１２０】
以下の表Ｔ１中の化合物は、適当な出発材料を用いて同様の方法によって調製される。
【０１２１】
【表１２】
0005457200.tif 000038
【０１２２】
【表１３】
0005457200.tif 000039
【０１２３】
【表１４】
0005457200.tif 000040
【０１２４】
【表１５】
0005457200.tif 000041
【０１２５】
【表１６】
0005457200.tif 000042
【０１２６】
【表１７】
0005457200.tif 000043
【０１２７】
以下の表１〜３５の化合物は類似の方法において得ることができる。
【０１２８】
以下の表において用いられるＣ．Ｃは、これらの２つの炭素原子間の三重結合の存在を表す。例えばＣ．ＣＨはアセチレン基を表す。
【０１２９】
表１
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化２６】
0005457200.tif 000044
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１３０】
【表１８】
0005457200.tif 000045
【０１３１】
【表１９】
0005457200.tif 000046
【０１３２】
【表２０】
0005457200.tif 000047
【０１３３】
【表２１】
0005457200.tif 000048
【０１３４】
【表２２】
0005457200.tif 000049
【０１３５】
【表２３】
0005457200.tif 000050
【０１３６】
【表２４】
0005457200.tif 000051
【０１３７】
【表２５】
0005457200.tif 000052
【０１３８】
【表２６】
0005457200.tif 000053
【０１３９】
【表２７】
0005457200.tif 000054
【０１４０】
表２
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化２７】
0005457200.tif 000055
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４１】
表３
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化２８】
0005457200.tif 000056
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４２】
表４
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化２９】
0005457200.tif 000057
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４３】
表５
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３０】
0005457200.tif 000058
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４４】
表６
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３１】
0005457200.tif 000059
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４５】
表７
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３２】
0005457200.tif 000060
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４６】
表８
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３３】
0005457200.tif 000061
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４７】
表９
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３４】
0005457200.tif 000062
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４８】
表１０
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３５】
0005457200.tif 000063
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１４９】
表１１
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３６】
0005457200.tif 000064
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５０】
表１２
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３７】
0005457200.tif 000065
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５１】
表１３
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３８】
0005457200.tif 000066
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５２】
表１４
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化３９】
0005457200.tif 000067
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５３】
表１５
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４０】
0005457200.tif 000068
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５４】
表１６
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４１】
0005457200.tif 000069
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５５】
表１７
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４２】
0005457200.tif 000070
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５６】
表１８
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４３】
0005457200.tif 000071
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５７】
表１９
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４４】
0005457200.tif 000072
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５８】
表２０
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４５】
0005457200.tif 000073
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１５９】
表２１
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４６】
0005457200.tif 000074
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６０】
表２２
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４７】
0005457200.tif 000075
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６１】
表２３
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４８】
0005457200.tif 000076
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６２】
表２４
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化４９】
0005457200.tif 000077
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６３】
表２５
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５０】
0005457200.tif 000078
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６４】
表２６
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５１】
0005457200.tif 000079
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６５】
表２７
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５２】
0005457200.tif 000080
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６６】
表２８
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５３】
0005457200.tif 000081
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６７】
表２９
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５４】
0005457200.tif 000082
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６８】
表３０
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５５】
0005457200.tif 000083
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１６９】
表３１
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５６】
0005457200.tif 000084
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１７０】
表３２
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５７】
0005457200.tif 000085
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１７１】
表３３
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５８】
0005457200.tif 000086
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１７２】
表３４
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化５９】
0005457200.tif 000087
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１７３】
表３５
この表は以下のタイプの２９０の化合物を網羅する：
【化６０】
0005457200.tif 000088
式中Ｇは水素であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は表１に規定される。
【０１７４】
例４
３−オキソ−５−（テトラヒドロフラン−３−イル）−２−（２，４，６−トリメチルフェニル）シクロヘクス−１−エニルアセテート（表Ｔ２中の化合物Ｐ１）の調製
ジクロロメタン（２ｍｌ）中のトリエチルアミン（０．１１ｍｌ、０．７９ｍｍｏｌ）の溶液を、ジクロロメタン（４．５ｍｌ）中の２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−５−（テトラヒドロフラン−３−イル）シクロヘキサン−１，３−ジオン（例２に記載される方法と類似の方法により調製される）と塩化アセチル（０．０５６ｍｌ、０．７９ｍｍｏｌ）の冷却した（氷浴）溶液に滴下する。添加が完了したら、冷却浴をはずし、そして反応混合物を室温で一晩攪拌する。該反応混合物をジクロロメタン（３５ｍｌ）で希釈し、そして炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（２０ｍｌ）で洗浄する。有機相をあわせ、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下において蒸発させる。残渣を、酢酸エチルとヘキサンの混合物で溶出する、シリカゲルによるカラムクロマトグラフィーにより精製し、３−オキソ−５−（テトラヒドロフラン−３−イル）−２−（２，４，６−トリメチルフェニル）シクロヘクス−１−エニルアセテートを得る。
【表２８】
0005457200.tif 000089
【０１７５】
以下の表Ｔ２の化合物は、適当な出発材料を用いて同様の方法により調製される。
【０１７６】
【表２９】
0005457200.tif 000090
【０１７７】
【表３０】
0005457200.tif 000091
【０１７８】
重要中間体に対する実験手順
例１Ａ
２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸の調製
−７８℃における２４０ｍｌのテトラヒドロフラン中の２５ｇ（１１０ｍｍｏｌ）の２，６−ジエチル−４−メチルブロモベンゼン（WO 2000078712に記載される調製物）の溶液に、ヘキサン中のブチルリチウムの〜１．６Ｍ溶液を１０分間にわたり滴下する。該混合物を−７８℃で１０分間攪拌し、その後トリメチルボレート（２４．６ｍｌ，２２．９ｇ；２２０ｍｍｏｌ）を一度に添加し、そして−７８℃で３０分間かくはんする。冷却浴をはずし、そして該溶液を１時間にわたり室温に加温させ、そして２Ｎの水性酢酸（１４０ｍｌ）でクエンチする。
【０１７９】
有機層を分離し、そして水相をジエチルエーテル：ヘキサン１：１で３回抽出する。有機抽出物をあわせ、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下において濃縮させる。攪拌しながら油性残渣をヘキサン中に取り、そして濾過により白色の固形物を回収し、２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸を得る。濾液を濃縮し、そしてシリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーにより精製し、更なる量の所望の生成物を得る。あわせて１６．６ｇ（７８％）の２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸が得られる。
【０１８０】
例１Ｂ
５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニルボロン酸の調製
工程１
４−クロロフェニルボロン酸（２０．２ｇ、０．１３ｍｏｌ）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（３．７ｇ、０．００３ｍｏｌ）を、１，２−ジメトキシエタン（２００ｍｌ）中の５−ブロモ−２−メチルアニリン（２０ｇ、０．１ｍｏｌ）の溶液に添加する。該反応混合物を２０℃で１５分間攪拌後、２０％水性炭酸ナトリウム（３００ｍｌ）の溶液を該混合物に添加し、そして生じる混合物を２４時間還流させる。該反応混合物を室温に冷却し、水（６００ｍｌ）で希釈し、そして酢酸エチルを使用して抽出する。あわせた有機抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。残渣を、ヘキサン中７％酢酸エチルにより溶出する、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−メチルアニリン（２１．０ｇ）を得る。
【０１８１】
工程２
臭化水素酸（水中４８％ｗｔ、１２０ｍｌ）を、水（８０ｍｌ）中の５−（４−クロロフェニル）−２−メチルアニリン（２１ｇ、０．０９ｍｏｌ）の懸濁液に滴下し、そして固形物が溶解するまで該混合物を攪拌する。該混合物を−５℃まで冷却し、そして０〜５℃の温度を維持しながら、水（５０ｍｌ）中のナトリウムニトリル（１０．１２ｇ、０．１４ｍｏｌ）の溶液を滴下する。該反応混合物を１時間攪拌し、その後臭化水素酸（水中４８％ｗｔ、１２０ｍｌ）中の臭化第一銅（１７．９ｇ、０．１２ｍｏｌ）の０℃にあらかじめ冷却した溶液に添加する。該反応混合物を攪拌し、そして室温に一晩加温する。該混合物を酢酸エチルで抽出し、そして有機抽出物をあわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮する。ヘキサン中２％酢酸エチルにより溶出する、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−メチル−１−ブロモベンゼン（１５．０ｇ）を得る。
【０１８２】
工程３
５−（４−クロロフェニル）−２−メチル−１−ブロモベンゼン（５．０ｇ、０．０２ｍｏｌ）をＴＨＦ（１２５ｍｌ）中に溶解し、そして温度を−７８℃にする。温度をおよそ−７８℃に維持しながら、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３３モル、１７．３ｍｌ）を３０分間にわたり滴下する。該反応混合物を−７８℃で１時間半攪拌し、その後トリメチルボレート（２．５８ｇ、０．０２４ｍｏｌ）を滴下し、そして該反応混合物を３時間半攪拌し、０℃に加温させる。その後２Ｎの水性塩酸の溶液（５０ｍｌ）を滴下し、そして添加が完了したら、該混合物を２時間攪拌する。該混合物を真空下で濃縮し、ほとんどのテトラヒドロフランを除去し、その後水（〜８０ｍｌ）で希釈し、そしてジエチルエーテルで抽出する。有機抽出物をあわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。ヘキサン中７％酢酸エチルにより溶出する、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニルボロン酸（２．５ｇ）を得る。
【０１８３】
例１Ｃ
５−（４−クロロフェニル）−２−エチルフェニルボロン酸の調製
工程１
硝酸アンモニウム（３９．６ｇ、０．４９ｍｏｌ）を、外部冷却により−１０℃〜０℃の温度に維持しながら、濃硫酸（１００ｍｌ）中の４−エチルアニリン（２０ｇ、０．１６ｍｏｌ）の冷却した（氷浴）溶液に滴下する。該反応混合物を２時間攪拌し、その後砕いた氷上に注ぎ、そして濾過により沈殿物を回収する。該固形物を水に入れ、希釈した水酸化ナトリウム水溶液の添加により該溶液を中性にし、そして酢酸エチルで抽出する。有機抽出物をあわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させ、４−エチル−３−ニトロアニリン（２０ｇ）を得る。
【０１８４】
工程２
臭化水素酸（水中４８％ｗｔ、２４０ｍｌ）を、水（８０ｍｌ）中の４−エチル−ニトロアニリン（２０ｇ、０．１２ｍｏｌ）の懸濁液に滴下し、そして固形物が溶解するまで該混合物を攪拌する。該混合物を−５℃に冷却し、そして温度を０〜５℃に維持しながら、水（１００ｍｌ）中のナトリウムニトリル（１９．８ｇ、０．２８ｍｏｌ）の溶液を滴下する。添加が完了したら冷却浴をはずし、そして該反応混合物を室温で１時間攪拌する。該混合物を、臭化水素酸（水中４８％ｗｔ）中の臭化第一銅（２２．４ｇ、０．１６ｍｏｌ）の０℃にあらかじめ冷却した溶液に滴下する。該反応混合物を攪拌し、そして３時間にわたり室温に加温させる。該混合物をジエチルエーテルで抽出し、そして有機抽出物をあわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮する。ヘキサンにより溶出する、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、４−ブロモ−１−エチル−２−ニトロベンゼン（１８ｇ）を得る。
【０１８５】
工程３
水（３０ｍｌ）中の塩化アンモニウム（１２．５ｇ、０．２ｍｏｌ）の溶液を、メタノール（７２０ｍｌ）と水（１８０ｍｌ）中の亜鉛末（３５．７ｇ、０．５ｍｏｌ）と４−ブロモ−１−エチル−２−ニトロベンゼン（１８ｇ、０．０７ｍｏｌ）の混合物に添加する。該反応混合物を１時間還流させ、その後室温に冷却し、そして珪藻土のプラグを介して濾過する。濾液を真空下で濃縮し、その後水で基ｓｙ策し、そして酢酸エチルで抽出する。あわせた有機抽出物を水及びブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮し、次の工程において更に精製することなく使用される、５−ブロモ−２−エチルアニリン（１４ｇ）を産生する。
【０１８６】
工程４
４−クロロフェニルボロン酸（１３．２ｇ、０．０８ｍｏｌ）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（２．４ｇ、０．００２ｍｏｌ）を、１，２−ジメトキシエタン（１４０ｍｌ）中の５−ブロモ−２−エチルアニリン（１４．１ｇ、０．０７ｍｏｌ）の溶液に添加する。該反応混合物を２０℃で１５分間攪拌後、２０％水性炭酸ナトリウム（３００ｍｌ）の溶液を該混合物に添加し、そして生じる混合物を２４時間還流させる。該反応混合物を室温に冷却し、水で希釈し、そして酢酸エチルを使用して抽出する。あわせた有機抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。残渣を、ヘキサン中５％酢酸エチルにより溶出する、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−エチルアニリン（１４．３ｇ）を得る。
【０１８７】
工程５
臭化水素酸（水中４８％ｗｔ、８５ｍｌ）を、水（５７ｍｌ）中の５−（４−クロロフェニル）−２−エチルアニリン（１４．３ｇ、０．０６２ｍｏｌ）の懸濁液に滴下し、そして該混合物を攪拌する。該混合物を−５℃まで冷却し、そして０〜５℃の温度を維持しながら、水（２５ｍｌ）中のナトリウムニトリル（５．０７ｇ、０．０７２ｍｏｌ）の溶液を滴下する。該反応混合物を１時間攪拌し、その後臭化水素酸（水中４８％ｗｔ、６４ｍｌ）中の臭化第一銅（９ｇ、０．０６２ｍｏｌ）の０℃にあらかじめ冷却した溶液に添加する。該反応混合物を攪拌し、そして室温に一晩加温する。該混合物を水で希釈し、ジエチルエーテルで抽出し、そして有機抽出物をあわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で濃縮する。ヘキサン中２％酢酸エチルにより溶出する、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−エチル−１−ブロモベンゼン（１０ｇ）を得る。
【０１８８】
工程６
５−（４−クロロフェニル）−２−エチル−１−ブロモベンゼン（１０ｇ、０．０３ｍｏｌ）をＴＨＦ（２５０ｍｌ）中に溶解し、そして温度を−７８℃にする。温度をおよそ−７８℃に維持しながら、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．３３モル、３４．６ｍｌ）を３０分間にわたり滴下する。該反応混合物を１時間半攪拌し、その後トリメチルボレート（４．９ｇ、０．０５ｍｏｌ）を滴下し、そして該反応混合物を２時間攪拌する。２Ｎの水性塩酸の溶液（１００ｍｌ）を滴下し、そして添加が完了したら、該混合物を２時間攪拌する。該混合物を真空下で濃縮し、ほとんどのテトラヒドロフランを除去し、その後水で希釈し、そしてジエチルエーテルで抽出する。有機抽出物を水及びブラインで洗浄し、あわせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させる。ヘキサン中７％酢酸エチルにより溶出する、シリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィーによりさらに精製し、５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニルボロン酸（５．４ｇ）を得る。
【０１８９】
例１Ｄ
３，５−ジメチルビフェニルボロン酸の調製
Ｔｅｒｔ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．７Ｍ溶液、３６．２ｍｌ、６２．６ｍｍｏｌ）を、乾燥テトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）中の３．５−ジメチルビフェニル（７．２７ｇ；２８ｍｍｏｌ）の溶液に−７８℃において滴下し、そして窒素雰囲気下で３０分間攪拌する。ホウ酸トリメチル（９．５４ｍｌ；８４ｍｍｏｌ）を添加し、そして生じる混合物を−７８℃で３０分間攪拌し、その後室温に加温させる。該反応混合物を水性塩酸で酸性化し、そしてエーテル（２×１５０ｍｌ）で抽出する。有機層をあわせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、そして濾液を真空下で蒸発させ、黄色の固形物を得る。該粗生成物をｉｓｏ−ヘキサンで粉末化し、白色の粉末として３，５−ジメチルビフェニルボロン酸（５．８９ｇ）を得る。
【０１９０】
例１Ｅ
３，５−ジメチルビフェン−４−イルリードトリアセテートの調製
４５℃における乾燥クロロホルム（１５ｍｌ）中のテトラ酢酸鉛（４．３ｇ、９．７ｍｍｏｌ）の溶液に、３，５−ジメチルビフェン−４イルボロン酸（２．０ｇ；８．８ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下で添加する。該混合物を４０℃で４時間攪拌し、その後室温に冷却する。濾過により沈殿物を除去し、そして濾液を珪藻土に支持された炭酸カリウムのプラグを通過させて、酢酸を除去する。濾液を真空下で蒸発させ、褐色の油として３，５−ジメチルビフェン−４−イルリードトリアセテート（３．３７ｇ）を得る。
【０１９１】
生物学的例
単子葉及び双子葉試験植物をポット中の標準的な土壌にまいた。室温における制御条件下における栽培から１日後（発芽前）又は１０日後（発芽後）、０．６ｍｌのアセトン及び１０．６％のＥｍｕｌｓｏｇｅｎ  ＥＬ（登録番号６１７９１−１２−６）、４２.２％のＮ−メチルピロリドン、４２．２％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル（登録番号３４５９０−９４−８）及び０．２％のＸ−７７（登録番号１１０９７−６６−８）を含有する４５ｍｌの製剤溶液中の技術的活性成分の製剤に由来する散布水溶液を植物に散布した。その後、温室中の最適な条件下において、該試験植物を発芽後から１４又は１５日間、発芽前から１９、２０又は２１日間成長させ、該試験を評価した（１００＝植物に対して全てのダメージ；０＝植物に対してダメージなし）。
【０１９２】
試験植物：
ノスズメノテッポウ（Alopecurus myosuroides）（ALOMY）、カラスムギ（Avena fatua）（AVEFA）、ホソムギ（Lolium perenne）（LOLPE）、アキノエノコログサ（Setaria faberi）（SETFA）、オニメヒシバ（Digitaria sanguinalis）（DIGSA）、イヌビエ（Echinochloa crus-galli）（ECHCG）。
【０１９３】
【表３１】
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【０１９４】
【表３２】
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【０１９５】
【表３３】
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【０１９６】
【表３４】
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