(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表皮（Ｈ）内側の線維芽細胞（Ｆ）とコラーゲン組織（Ｃ）に照射する磁場（Ｍ）を、前記表皮（Ｈ）外側で発生させる磁場発生部（２）を有し、
この磁場発生部（２）は、前記磁場（Ｍ）を前記表皮（Ｈ）越しに照射し、
前記磁場（Ｍ）の発生を所定時間ごとにＯＮ／ＯＦＦさせる際において、前記磁場（Ｍ）が発生するＯＮ状態の時間と、前記磁場（Ｍ）が発生しないＯＦＦ状態の時間を調節するタイマー部を有し、
前記磁場発生部（２）は、前記磁場（Ｍ）を発生する磁場発生面（３ａ）が設けられたケース体（３）と、このケース体（３）に内蔵されたコイル（４）を有し、
このコイル（４）は、両端に鍔部（５ａ、５ｂ）を設けたスプール部（６）周面に電線が巻かれたボビン（７）と、このボビン（７）一端側から一端部（８ａ）が突出した状態でスプール部（６）内に嵌入される鉄心（８）を備え、
この鉄心（８）の突出した一端部（８ａ）が進入可能な磁極孔（９）を前記ケース体（３）の磁場発生面（３ａ）側に形成し、且つ、前記ボビン（７）一端側の鍔部（５ａ）を前記ケース体（３）の磁場発生面（３ａ）側の内面に当接させていて、
前記磁気発生部（２）は、前記コイル（４）を１つ有し、
前記鉄心（８）は、略Ｅ字状であると共に、
前記磁極孔（９）が有底状の孔であり、且つ、前記磁場発生面（３ａ）には前記表皮（Ｈ）を当該磁場発生面（３ａ）から抗シワ用、及び／又は、コラーゲン収縮用の所定距離だけ離れた位置にセットする部材が設けられていることを特徴とする美容機器。
【請求項２】
表皮（Ｈ）内側の線維芽細胞（Ｆ）に照射する磁場（Ｍ）を、前記表皮（Ｈ）外側で発生させる磁場発生部（２）を有し、
この磁場発生部（２）は、前記磁場（Ｍ）を前記表皮（Ｈ）越しに照射し、
前記磁場（Ｍ）の発生を所定時間ごとにＯＮ／ＯＦＦさせる際において、前記磁場（Ｍ）が発生するＯＮ状態の時間と、前記磁場（Ｍ）が発生しないＯＦＦ状態の時間を調節するタイマー部を有し、
前記磁場発生部（２）は、前記磁場（Ｍ）を発生する磁場発生面（３ａ）が設けられたケース体（３）と、このケース体（３）に内蔵されたコイル（４）を有し、
このコイル（４）は、両端に鍔部（５ａ、５ｂ）を設けたスプール部（６）周面に電線が巻かれたボビン（７）と、このボビン（７）一端側から一端部（８ａ）が突出した状態でスプール部（６）内に嵌入される鉄心（８）を備え、
この鉄心（８）の突出した一端部（８ａ）が進入可能な磁極孔（９）を前記ケース体（３）の磁場発生面（３ａ）側に形成し、且つ、前記ボビン（７）一端側の鍔部（５ａ）を前記ケース体（３）の磁場発生面（３ａ）側の内面に当接させていて、
前記磁気発生部（２）は、前記コイル（４）を１つ有し、
前記鉄心（８）は、略Ｅ字状であると共に、
前記磁極孔（９）が有底状の孔であり、且つ、前記磁場発生面（３ａ）には前記表皮（Ｈ）を当該磁場発生面（３ａ）から抗シワ用、ヒアルロン酸増加用、及び／又は、細胞増殖用の所定距離だけ離れた位置にセットする部材が設けられていることを特徴とする美容機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表皮越しに、その内側の線維芽細胞とコラーゲン組織に、変動する磁場（変動磁気）などを照射することで、表皮下方のコラーゲン組織を収縮させる等をして、変動磁気などによって肌のハリを良くする美容機器等に関する。この他、美容方法、コラーゲン収縮方法、ヒアルロン酸増加方法、及び、細胞増殖方法についても記載する。
【背景技術】
【０００２】
従来、相対的な突出部およびエネルギーが与えられ相対的に窪んだ溶解セグメントからなる実質的に平面的な先端部を備えたシャフトからなるフェイスタイトニング装置が知られている（特許文献１参照）。
このフェイスタイトニング装置は、先端部、シャフトおよびハンドル、および前記先端部の遠位端にあり、エネルギーが付与される相対的に窪んだ少なくとも一つの溶解セグメントによって隔てられた複数の相対的に突出する部分、を含み、複数の相対的に突出する部分は、前記窪んだ少なくとも一つの溶解セグメントと共に組織を実質的に平面に溶解させるように構成され、相対的な突出および窪みは少なくとも一つの視角から見ることで規定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２００８−５０８０５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載されたフェイスタイトニング装置は、特許文献１の図２〜４において、当該装置の典型的な切開および挿入地点等が示されたように、皮膚を切開して当該装置を挿入するものであって、皮下の組織を溶解させることを必須とする。
つまり、このフェイスタイトニング装置は、外科手術によってしか使用できない。
更に、特許文献１の図２〜４における符号４１０は、避けるべき表面神経経路周辺を、二重点線円を示しており、この表面神経経路周辺４１０の近傍を、フェイスタイトニング装置の経路を示すベクトル３００が通っており、危険である。
【０００５】
本発明は、このような点に鑑み、表皮を傷つけることがないのであれば、表皮内側の線維芽細胞とコラーゲン組織に、変動するか否かを問わず、表皮越しに磁場を照射しても良く、表皮内部のコラーゲン組織を収縮させ、抗シワ効果を奏する美容機器等を提供することを目的とする。
この他、表皮内側の線維芽細胞とコラーゲン組織に、表皮越しに照射する磁場を変動させることで、表皮を傷つけることなく、その内部のコラーゲン組織を収縮させ、抗シワ効果を奏する美容機器を提供すると共に、表皮越しに発生する磁場を変動させる等の美容方法、及び、コラーゲンそのものを収縮させる方法を提供することや、更に、コラーゲン収縮方法、ヒアルロン酸増加方法、細胞増殖方法についても記載する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る美容機器１は、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに照射する磁場Ｍを、前記表皮Ｈ外側で発生させる磁場発生部２を有し、この磁場発生部２は、前記磁場Ｍを前記表皮Ｈ越しに照射し、前記磁場Ｍの発生を所定時間ごとにＯＮ／ＯＦＦさせる際において、前記磁場Ｍが発生するＯＮ状態の時間と、前記磁場Ｍが発生しないＯＦＦ状態の時間を調節するタイマー部を有し、前記磁場発生部２は、前記磁場Ｍを発生する磁場発生面３ａが設けられたケース体３と、このケース体３に内蔵されたコイル４を有し、このコイル４は、両端に鍔部５ａ、５ｂを設けたスプール部６周面に電線が巻かれたボビン７と、このボビン７一端側から一端部８ａが突出した状態でスプール部６内に嵌入される鉄心８を備え、この鉄心８の突出した一端部８ａが進入可能な磁極孔９を前記ケース体３の磁場発生面３ａ側に形成し、且つ、前記ボビン７一端側の鍔部５ａを前記ケース体３の磁場発生面３ａ側の内面に当接させていて、前記磁気発生部２は、前記コイル４を１つ有し、前記鉄心８は、略Ｅ字状であると共に、前記磁極孔９が有底状の孔であり、且つ、前記磁場発生面３ａには前記表皮Ｈを当該磁場発生面３ａから抗シワ用、及び／又は、コラーゲン収縮用の所定距離だけ離れた位置にセットする部材が設けられていることを第１の特徴とする。
【０００７】
本発明に係る美容機器１の第２の特徴は、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆに照射する磁場Ｍを、前記表皮Ｈ外側で発生させる磁場発生部２を有し、この磁場発生部２は、前記磁場Ｍを前記表皮Ｈ越しに照射し、前記磁場Ｍの発生を所定時間ごとにＯＮ／ＯＦＦさせる際において、前記磁場Ｍが発生するＯＮ状態の時間と、前記磁場Ｍが発生しないＯＦＦ状態の時間を調節するタイマー部を有し、前記磁場発生部２は、前記磁場Ｍを発生する磁場発生面３ａが設けられたケース体３と、このケース体３に内蔵されたコイル４を有し、このコイル４は、両端に鍔部５ａ、５ｂを設けたスプール部６周面に電線が巻かれたボビン７と、このボビン７一端側から一端部８ａが突出した状態でスプール部６内に嵌入される鉄心８を備え、この鉄心８の突出した一端部８ａが進入可能な磁極孔９を前記ケース体３の磁場発生面３ａ側に形成し、且つ、前記ボビン７一端側の鍔部５ａを前記ケース体３の磁場発生面３ａ側の内面に当接させていて、前記磁気発生部２は、前記コイル４を１つ有し、前記鉄心８は、略Ｅ字状であると共に、前記磁極孔９が有底状の孔であり、且つ、前記磁場発生面３ａには前記表皮Ｈを当該磁場発生面３ａから抗シワ用、ヒアルロン酸増加用、及び／又は、細胞増殖用の所定距離だけ離れた位置にセットする部材が設けられている点にある。
この他、美容機器１は、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに照射する磁場Ｍを、前記表皮Ｈ外側で発生させる磁場発生部２を有し、この磁場発生部２は、前記磁場Ｍを変動させながら前記表皮Ｈ越しに照射している場合もある。
又、この他に、美容機器１は、前記磁場発生部２は、前記磁場Ｍを発生する磁場発生面３ａが設けられたケース体３と、このケース体３に内蔵されたコイル４を有し、このコイル４は、両端に鍔部５ａ、５ｂを設けたスプール部６周面に電線が巻かれたボビン７と、このボビン７一端側から一端部８ａが突出した状態でスプール部６内に嵌入される鉄心８を備え、この鉄心８の突出した一端部８ａが進入可能な磁極孔９を前記ケース体３の磁場発生面３ａ側に形成し、且つ、前記ボビン７一端側の鍔部５ａを前記ケース体３の磁場発生面３ａ側の内面に当接させていて、前記ボビン７の電線に流す電流が、交流電流又はパルス電流である場合もある。
【０００８】
これらの特徴により、図９に示したように、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃ等に対して、表皮Ｈ越しに、表皮Ｈ外部の磁場発生部２で、磁場Ｍを発生させることで、特許文献１のように表皮Ｈを切開するなど、傷つけることなく、表皮Ｈ内側のコラーゲン組織Ｃを収縮させることなどが出来、その結果、肌にハリを持たせることが可能となる。
つまり、「抗シワ効果」が実現できる。
この他、図９に示したように、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに対して、表皮Ｈ越しに、表皮Ｈ外部の磁場発生部２で、変動する磁場Ｍを発生させる場合にも、特許文献１のように表皮Ｈを切開するなど、傷つけることなく、表皮Ｈ内側のコラーゲン組織Ｃを収縮させることなどが出来、その結果、肌にハリを持たせることが可能となる。
尚、本発明における磁場Ｍの「変動」とは、磁場Ｍにおける磁束密度（ガウス）が変化することは勿論のこと、磁場Ｍにおける磁力線の向きも変化することを意味する。
【０００９】
又、磁場発生部２において、コイル４の鉄心８の一端部８ａが進入可能な磁極孔９をケース体３の磁場発生面３ａ側に形成し、ボビン７一端側の鍔部５ａをケース体３の磁場発生面３ａ側の内面に当接させることで、鉄心８の一端部８ａを、極力、表皮Ｈ内側（表皮Ｈ下方）の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃ等に近接させて、線維芽細胞Ｆやコラーゲン組織Ｃ等に届く磁場Ｍの磁束密度（ガウス）が高くなり、「高ガウス化」が図れる。
これと同時に、磁場発生部２の磁場発生面３ａを、内面から、ボビン７一端側の鍔部５ａが支えることにもなり、ケース体３の「強度向上」にも繋がる。
従って、美容機器１の「高ガウス化」と「強度向上」を両立できる。
この他、ボビン７の電線に交流電流又はパルス電流を流す場合もある。
【００１０】
尚、本発明に係る美容機器１は、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに照射する磁場Ｍを、前記表皮Ｈ外側で発生させる磁場発生部２を有し、この磁場発生部２は、前記磁場Ｍを前記表皮Ｈ越しに照射することとしても良い。
【００１１】
この他、美容方法は、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに、変動する磁場Ｍを前記表皮Ｈ越しに照射する場合もある。
【００１２】
又、この他に、美容方法は、前記変動する磁場Ｍを、所定時間ごとに間欠的に照射する場合もある。
【００１３】
同じく図９に示す如く、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに、表皮Ｈ越しに、変動する磁場Ｍを照射した場合には、表皮Ｈを切開して装置を挿入したり、挿入した装置によって、表皮Ｈ下（内側）溶解させたり外科的な方法は一切必要なく、表皮Ｈ内側のコラーゲン組織Ｃを収縮させて「抗シワ効果」を発揮できる。
又、変動する磁場Ｍを、所定時間ごとで間欠的に照射した場合には、コラーゲン組織Ｃの収縮が促進されやすい温度環境下で、変動磁場（変動磁気）を照射でき、更なる「抗シワ効果」の向上が図れる。
【００１４】
尚、この他、美容方法は、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに、磁場Ｍを前記表皮Ｈ越しに照射する場合もある。
又、この他、美容方法は、ヒトに対する医療行為を除く。この他、美容方法は、ヒトを含む動物に対する医療行為を除いても良い。
【００１５】
尚、この他、コラーゲン収縮方法は、線維芽細胞Ｆを埋包したコラーゲンに磁場Ｍを照射し、この磁場Ｍを変動させる場合もあり、図９に示すように、この場合には、コラーゲンゲルＧ（コラーゲン組織Ｃ）も収縮させることが可能となる。
又、この他に、コラーゲン収縮方法は、線維芽細胞Ｆを埋包したコラーゲンに磁場Ｍを照射する場合もある。
更に、この他、ヒアルロン酸増加方法は、線維芽細胞Ｆに磁場Ｍを照射する場合もあり、この他に、細胞増殖方法も、線維芽細胞Ｆに磁場Ｍを照射する場合もある。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は、表皮内側の線維芽細胞とコラーゲン組織に、表皮越しに磁場を照射することで、表皮を傷つけることなく、その内部のコラーゲン組織を収縮等させ、抗シワ効果を奏する。
その他、更に、ヒアルロン酸増加方法、及び、細胞増殖方法も提供できる場合もある。 又、その他、美容機器、美容方法によると、表皮内側の線維芽細胞とコラーゲン組織に、表皮越しに、磁場発生部で変動する磁場を照射することで、表皮を傷つけずに、表皮内側のコラーゲン組織を収縮させることが出来、肌にハリを持たせ「抗シワ効果」が実現できると共に、コラーゲン収縮方法も提供可能となる場合もある。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】は表皮と表皮内側の線維芽細胞とコラーゲン組織を示す断面図である。
【図２】は本発明に係る美容機器を示す断面図である。
【図３】は照射試験１−１における線維芽細胞を埋包したコラーゲンゲルへの磁気の照射試験装置を示す概要側面図である。
【図４】は照射試験１−１における線維芽細胞を埋包したコラーゲンゲルへの磁気の照射試験装置を示す概要平面図である。
【図５】は照射試験１−１の２日目におけるコラーゲンゲルの様子を示す図面代用写真である。
【図６】は照射試験１−１の３日目におけるコラーゲンゲルの様子を示す図面代用写真である。
【図７】は照射試験１−１の４日目におけるコラーゲンゲルの様子を示す図面代用写真である。
【図８】は線維芽細胞を埋包したコラーゲンゲルへの磁気の照射試験１−１における培養液のみの場合と１０％血清添加の場合の結果を示す折線グラフである。
【図９】は線維芽細胞を埋包したコラーゲンゲルへの磁気の照射試験１−１における培養液のみの場合の結果を示す棒グラフである。
【図１０】は線維芽細胞を埋包したコラーゲンゲルへの磁気の照射試験１−１における１０％血清添加の場合の結果を示す棒グラフである。
【図１１】は照射試験１−２における線維芽細胞への磁気の照射試験装置に用いられた細胞培養用４８穴平底プレートの各ウェルの内容物を示す概要平面図である。
【図１２】は線維芽細胞への磁気の照射試験１−２におけるヒアルロン酸の産生の結果（細胞数での補正なしの場合）を示す棒グラフである。
【図１３】は線維芽細胞への磁気の照射試験１−２におけるヒアルロン酸の産生の結果（細胞数での補正ありの場合）を示す棒グラフである。
【図１４】は線維芽細胞への磁気の照射試験１−２における細胞増殖の度合いの結果を示す棒グラフである。
【図１５】はヒトの目尻のシワへの磁気の照射試験２「前」における一の被験者の「磁気照射」される右側の目尻の様子を示す図面代用写真である。
【図１６】はヒトの目尻のシワへの磁気の照射試験２「後」における当該被験者の「磁気照射」された右側の目尻の様子を示す図面代用写真である。
【図１７】はヒトの目尻のシワへの磁気の照射試験２「前」における当該被験者の「磁気照射」される右側の目尻の解析結果を示す図である。
【図１８】はヒトの目尻のシワへの磁気の照射試験２「後」における当該被験者の「磁気照射」された右側の目尻の解析結果を示す図である。
【図１９】はヒトの目尻のシワへの磁気の照射試験２「前」における当該被験者の「磁気非照射」側である左側の目尻の三次元解析結果を示す図である。
【図２０】はヒトの目尻のシワへの磁気の照射試験２「後」における当該被験者の「磁気非照射」側である左側の目尻の三次元解析結果を示す図である。
【図２１】はヒトの目尻のシワへの磁気の照射試験２におけるシワ面積率、総シワ平均深さ、最大シワ平均深さ、最大シワ最大深さ及びシワ総体積に関する「磁気照射」と「磁気非照射」の変化率を示す棒グラフである。
【図２２】はヒトの目尻のシワへの磁気の照射試験２における紅斑に関する「磁気照射」と「磁気非照射」の変化率を示す棒グラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
＜皮膚＞
ここでは、まず、本発明の美容機器１が、磁場Ｍを照射する対象である皮膚と、この皮膚のハリ、タルミ・シワについて述べる。
人（ヒト）は老化等により皮膚の真皮結合組織（コラーゲン組織Ｃ）が収縮力を失い、更には強度、弾力性も失って、結果として皮膚のハリが低下し、タルミやシワが生じると考えられている。
【００１９】
図１に示したように、皮膚は、大きく分けて、外側から表皮Ｈ、真皮Ｓ、皮下組織Ｕより構成されている。
表皮Ｈは、その厚みが約０．２ｍｍであって、角層Ｈ１、表皮層Ｈ２、基底膜（表皮基底膜）Ｈ３を有している。
このうち、表皮層Ｈ２は、更に、顆粒層（２〜３層）、有棘層（５〜１０層）、基底層（１層）から成る。
【００２０】
真皮Ｓは、表皮Ｈ内側（表皮Ｈ下方）に位置し、真皮Ｓの厚みは約２．０ｍｍであって表皮Ｈよりも領域の広い部分となっている。
真皮Ｓは、線維芽細胞Ｆとその周囲にI 型、及び、III 型コラーゲン組織Ｃなどからなる細胞外マトリックスが密につまった状態になっており、皮膚の弾性やハリなどの強度を保っている。
【００２１】
尚、線維芽細胞Ｆは、皮膚の機能を保つ上で重要な細胞であって、皮膚が揖傷した際に、その揖傷部に遊走し、コラーゲンなどの細胞外マトリックスの産生を始める結合組織の固有細胞である。
コラーゲン組織Ｃをはじめとする細胞外マトリックス（細胞外基質）は、生体を構成する細胞の外側にある線維状や網目状の構造体であって、人等の動物の場合、コラーゲン・ヒアルロン酸・プロテオグリカンなどが主な成分である。細胞と細胞の間を満たし、生体組織を支持するだけでなく、細胞の増殖・分化・形質発現の制御にも重要な役割を果たす。
【００２２】
皮下組織Ｕは、真皮Ｓの内側（下方）に位置し、脂肪（皮下脂肪）が蓄えられており、この皮下脂肪は、エネルギーを蓄えるための貯蔵庫的な役割や、外部からの衝撃を吸収するクッションの役割を持っている。皮下組織Ｕは、熱を伝えにくい脂肪の特性によって、体温の調整にも役立っている。
尚、皮下組織Ｕの厚みは、身体の部位、年齢、性別、肥満度によって左右されるが、顔や頭部における皮下組織Ｕの厚みは、約２．０ｍｍである。
【００２３】
上述した表皮Ｈ、真皮Ｓ、皮下組織Ｕを持つ皮膚（肌）のタルミやシワの予防・回復、ハリのある肌（特に、顔の肌）の維持・改善は、美容上の観点から注目されている。
肌のハリの維持・改善に用いられる本発明の美容機器（美顔器）１を、図面を参照して説明する。
【００２４】
＜全体構成＞
図２には、本発明に係る美容機器１が示されている。
この美容機器１は、表皮Ｈ内側の真皮Ｓ（線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃ）に照射する磁場Ｍを発生させる磁場発生部２を有している。
又、美容機器１は、磁場発生部２を保持する保持部や、磁場Ｍの発生時間を調節するタイマー部、磁場Ｍの変動を調節する磁場操作部、現在の磁場Ｍの変動状態を表示する画面などを有していても良い（保持部、タイマー部、磁場操作部、画面などは、図示省略）。
【００２５】
上述した保持部は、磁場Ｍを照射したい箇所（顔や首、腕、脚等）に、磁場発生部２を当てた状態に保つものである。
この保持部を、ベルト等の帯状部材とし、この帯状部材を磁場発生部２に取り付けてベルト型としても良く、この場合は、人体の一部（顔、首、腕、脚など）に当て易く、集中してピンポイントで磁場Ｍを部分的に作用させることが容易となる。
【００２６】
又、この保持部を、クッション部材として、磁場発生部２がクッション部材の枠又は凹みに対して嵌合可能として、枠又は凹みに嵌合した磁場発生部２は、クッション部材に囲まれたシートクッション型であっても良く、この場合には、例えば、１つのクッション部材に対して複数の美容機器１を備えた美容機器としたり、美容機器１を備えたクッション部材を、他のクッション部材（美容機器１の有無を問わず）を、２つ、３つ又は４つ以上を連結させた美容機器としても構わない。
このシートクッション型とすることで、人体からの荷重を所定の広さで支えながら、広範囲に亘って人の全身に磁場を作用させることが可能となると共に、美容機器１を備えたクッション部材等を連結した美容機器であれば、床等の平坦面上や椅子やソファなどの形状に応じて変形し、床や椅子等の上に広げることが可能となる。
【００２７】
又、タイマー部は、磁場Ｍを発生させる時間や、所定時間ごとに間欠的に磁場Ｍを発生させる（つまり、磁場Ｍの発生を所定時間ごとにＯＮ／ＯＦＦさせる）際のＯＮ状態の時間やＯＦＦ状態の時間を調節するものである。
更に、磁場操作部は、発生させる磁場Ｍの変動周期、変動幅（磁束密度（ガウス）や磁場Ｍの強さ）、変動波形等を調節するものである。
【００２８】
＜磁場発生部２＞
図２で示されたように、磁場発生部２は、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに照射する磁場Ｍを、表皮Ｈの外側で発生させるものである。
尚、表皮Ｈの外側で発生させるため、磁場Ｍは、表皮Ｈ越しに、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃへ照射される。
従って、磁場発生部２により発生された磁場Ｍは、表皮Ｈを切開して装置を挿入する等の外科的な方法（手術）はせずとも、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに届く。
更に、磁場発生部２が発生させる磁場Ｍは、その磁束密度や磁力線の向きが変化する。
このような変化する磁場Ｍを発生させ得る磁場発生部２は、磁場Ｍを発生する磁場発生面３ａが設けられたケース体３と、このケース体３に内蔵されたコイル４を有している。
尚、磁場発生部２は、変化する磁場Ｍを発生させないものであっても構わない。
【００２９】
＜ケース体３＞
図２で示した如く、ケース体３は、珪素樹脂、ナイロン（ポリアミド）ポリマー等の合成樹脂や、ポリアセタール、ポリカーボネート等のエンジニアリングプラスチックで構成されている。更に、ケース体３は、上下分割可能であって、下ケース体１１と上ケース体１２を備えている。
ケース体３は、何れの形状であっても構わないが、例えば、平面視略矩形状（略直方体状）であっても構わない。
【００３０】
尚、ケース体３は、上面の部分（磁場発生面３ａの部分）のみが、着脱自在であったり、前後方向又は左右方向が開口し、横からコイル４をケース体３内に入れた後、横蓋で開口を閉じる構成であっても構わない。
又、ケース体３は、手のひらに乗るサイズであっても良い。
更に、ケース体３は、下ケース体１１、上ケース体１２以外に、これら上下ケース体１１、１２間に配備され且つその内部にコイル４（例えば、個数は２つであったり、１つであっても良い）を配備可能な中間フレーム（図示省略）を有していても良い。
【００３１】
更に、ケース体３は、帯状部材を取付可能な第１ジョイントと、ケース体３が嵌合可能なクッション部材の枠又は凹みに係止する第２ジョイントのうち少なくとも１つが設けられていても良い（第１ジョイント、第２ジョイントは、図示省略）。
尚、第１ジョイントは、帯状部材を取り付けられるのであれば、帯状部材の端部と嵌合、係止、縫合、再剥離可能な接着や、面ファスナ等による着脱などの何れであっても良い。
又、第２ジョイントは、クッション部材の枠又は凹みに係止するのであれば、出退する鉤部を有していたり、第１ジョイントのように、クッション部材の枠又は凹みに対して嵌合、係止、縫合、接着や、面ファスナ等による着脱など、何れの構成であっても構わない。
【００３２】
＜下ケース体１１＞
図２に示されたように、下ケース体１１は、２つで１組としたコイル４、４を下方から支える容器状の部材であって、下ケース体１１の内底面には、コイル４、特に、後述する鉄心８の略角柱状の鉄心胴部１９を位置決め保持する（左右）一対の係止片１３、１３が立設されている。
この一対の係止片１３、１３は、それぞれが平面視で略コ字状であって、各係止片１３は、係止片胴部の両端に設けた係止片枝部が、互い向き合うように配備されている。
従って、これら各係止片１３間に、鉄心胴部１９を載置すれは、コイル４が所定位置で支持され、つまり、コイル４が下方に移動しないよう（コイル４の下端がケース体３の内面に当接して）下支えされ、この下支えされた所定位置において、コイル４上面側の鉄心８の突出した一端部８ａが、上ケース体１２内面の磁極孔９に対応する位置となる。
【００３３】
これに加えて、下ケース体１１（係止片１３、１３間）と各コイル４（後述する鉄心胴部１９）とに挟まれて配置され、且つ、それぞれのコイル４を上方へ付勢するバネ板１４を有している。尚、バネ板１４を有していなくても良い。
又、ケース体３には、コイル４に電力を供給するコードを、ケース体３内から外へ挿通させるコード孔の下半分を形成する下切欠が、下ケース体１１の１つ側面に、当該側面を略半円状に下方へ切り欠いて設けられている（コード、下切欠は、図示省略）。
【００３４】
下ケース体１１の内底面には、固定筒体が立設しており、上ケース体１２の後述する固定孔に挿通されるネジ等によって、上下ケース体１１、１２が一体固定される（固定筒体は、図示省略）。
尚、上下ケース体１１、１２を一体固定するのであれば、これら固定筒体や固定孔、ネジ等の構成に限定されず、嵌め合いや接着等で一体固定しても良い。
【００３５】
＜上ケース体１２＞
図２に示した如く、上ケース体１２は、２つ１組のコイル４、４の上方に被さる蓋状の部材である。
この上ケース体１２の外上面がケース体３における平面状の磁場発生面３ａを構成している。
【００３６】
この磁場発生面３ａには、上ケース体１２の上面側を厚み方向に沿って貫通した（左右）一対の磁極孔９、９が設けられており、これらの各磁極孔９は、コイル４における鉄心８の突出した一端部８ａがそれぞれ進入可能な大きさに設定されている。
尚、各磁極孔９は、貫通孔でなく、有底状の孔であっても良く、この場合は、後述する被覆シート１５や外凹部１６、接着剤１８を有さない。
各磁極孔９は、平面視で略円形であり、この円形の略中心か若干ずれた位置に、下ケース体１１の係止片１３、１３で位置決めされたコイル４の鉄心８の突出した一端部８ａ（特に、一端部８ａの頂面２１）に位置する。
【００３７】
又、磁極孔９の貫通長さは、当然、上ケース体１２の上面側の厚みと略同一であると共に、鉄心８の一端部８ａが、ボビン７の一方の鍔部４から突出した長さとも、略一致している。
これに加えて、磁極孔９における内周面９ａは、鉛直方向（上下方向）に沿った略直筒状に形成されているが、この内周面９ａは、磁極孔９の内面開口９ｂから外面開口９ｃに近づくほど直径が広がる上方末広がり状（上方へいくほど直径が広がるよう）に形成されたり、下方末広がり状に形成されていても良い。
【００３８】
上述した一対の磁極孔９、９の外面開口９ｃは被覆シート１５で被われている。
この被覆シート１５を上ケース体１２に貼り付けた際、磁場発生面３ａが略面一となるように、上ケース体１２には、外上面（磁場発生面３ａ）を所定範囲だけ窪ませた外凹部１６が設けられている。
この外凹部１６の平面視形状は、被覆シート１５と平面視で相似形且つ若干小さく、外凹部１６の深さは、被覆シート１５の厚みと略同一である。
このように、被覆シート１５を外凹部１６内に貼り付けて、磁場発生面３ａを略面一とすることで、磁場発生面３ａ側の体裁（見栄え）が向上するだけでなく、被覆シート１５端面が露出しないので、被覆シート１５の剥れを抑制できる。
【００３９】
尚、磁場発生面３ａは、これに貼り付けて略面一状となった被覆シート１５も含めて、必ずしも平面でなくとも良く、使用者の腰部や肩部、腕、脚等の形状にあわせて、窪みが形成された曲面であっても、このような曲面と平面の両方から成る面であっても良い。
又、上述した各磁極孔９の外面開口９ｃは、外凹部１６の底面内に位置することとなる。
【００４０】
更に、上ケース体１２における磁場発生面３ａ側の内面（内上底面）には、２つのコイル４における各ボビン７、７の隣接した一方の鍔部５、５両方を嵌合させて位置決め可能な凹部１７も、形成されている。
この凹部１７は、平面視において、略長方形であって、隣接した２つの鍔部５、５両方を外側から囲うように、窪んでいる。
このように窪んだ凹部１７に、隣接した２つの鍔部５、５両方をあてがえば、コイル４における鉄心８の突出した一端部８ａが、それぞれ磁極孔９に対応する位置となる。
このように、２つのボビン７、７の鍔部５、５を位置決め可能な凹部１７を、磁場発生面３ａ側の内面に形成することで、複数のコイル４を同時に、位置決め（つまり、支柱兼用位置に配設）でき、ケース体３の強度を確保しながら、組立が容易となる。
【００４１】
尚、上ケース体１２には、上述したコード孔の上半分を形成する上切欠が、上ケース体の１つの側面（の下切欠に対応する位置）に、当該側面を略半円状に上方へ切り欠いて設けられている（上切欠は、図示省略）。
又、上ケース体１２には、内上底面を貫通する固定孔が設けられており、この固定孔を通るネジ等が、下ケース体１１の固定筒体に螺合することによって、上下ケース体１１、１２が一体固定されることとなる（固定孔、ネジ等は、図示省略）。
当然、上述したように、上下ケース体１１、１２の一体固定は、固定できるのであれば、ネジ等による固定手段に限定されない。
【００４２】
＜被覆シート１５＞
図２に示すように、被覆シート１５は、一対の磁極孔９、９を被う大きさであり、上ケース体１２の磁場発生面３ａ（外凹部１６内）に、接着剤１８を介して貼り付けられている。尚、被覆シート１５が、磁場発生面３ａをはみ出すほど大きい場合であっても、各磁極孔９を被えるのであれば、構わない。
被覆シート１５の平面視における形状は、特に限定されないが、例えば、大小で同心状に配置された略８字図形を上面（表面）に描き、磁力線をイメージした模様を形成したものでも良い。
但し、この模様は、同心円又は一重円のみで構成されたものであったり、形成されていなくても良い。
【００４３】
被覆シート１５は、樹脂フィルムや紙素材、非磁性である金属の薄板等で構成され、更に詳しくは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等の合成樹脂のフィルムや、これらの合成樹脂フィルムの上（表面）に、アルミ蒸着加工やホログラム加工を施したものであったり、パルプ（セルロース繊維）を主成分とする各種紙（上質紙、アート紙、クラフト紙、和紙等）やこれらの紙の表面にアルミ蒸着加工を施したもの、金・銀・銅・アルミニウム・マグネシウムなどの非磁性の金属薄板などでも良い。
これらの素材で構成される被覆シート１５の厚みは、０．０５ｍｍ以上１．００ｍｍ以下、好ましくは０．０７ｍｍ以上０．７ｍｍ以下、更に好ましくは０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下である。
【００４４】
又、被覆シート１５は、上述した素材のシートの裏面１５ａ側に接着剤１８を塗布や含浸等されたシール体であっても良く、その場合、接着剤１８が成す層（接着層）１８ａを形成することとなる。
尚、被覆シート１５（シール体）の接着層１８ａの裏面（ケース体３側の面）には、剥離紙が設けられていても良く、製造の際に、ケース体３（上ケース体１２）へ貼り付ける際には、剥離紙を剥がして被覆シート１５を容易に貼り付けられると同時に、貼り付ける前までの被覆シート１５の扱い・管理が容易となる。
【００４５】
被覆シート１５は、少なくとも裏面（ケース体３側の面（上ケース体１２に貼り付けられる側の面））１５ａが、略平坦となっているため、この被覆シート１５の厚み等が、コイル４の鉄心８における上端部８ａの先端（頂面２１）から、ケース体３外の人体等までの距離となる。
尚、被覆シート１５で裏面１５ａが略平坦であれば、つまり、被覆シート１５に、裏面１５ａから上方に開口した有底状の孔や凹み等を設けず、鉄心８の上端部８ａの先端（頂面２１）を近接させることは、上ケース体１２の磁極孔９側「だけ」に担わせることを意味する。
【００４６】
尚、本発明における被覆シート１５の裏面１５ａが「略平坦」とは、製造当初は、鉄心８の上端部８ａの先端（頂面２１）に裏面１５ａが当接して、多少削れてしまった（窪んでしまった）等の場合も含む。
更に、被覆シート１５は、製造当初は表面、裏面１５ａ共に、略平坦であっても、上ケース体１２に貼り付け後、表面（つまり、磁場発生面３ａ）側から下方に湾曲したり、窪みが出来ていたり、下方に削れていたり等しても、裏面１５ａ側が略平坦であれば、本発明における「被覆シート１５」に含まれる。
【００４７】
＜接着剤１８＞
図２に示す如く、接着剤１８は、被覆シート１５の裏面１５ａを、上ケース体１２における外凹部１６の内底面に貼り付ける（接着させる）ものであって、当然に、被覆シート１５と上ケース体１２との間に存在する。
接着剤１８は、被覆シート１５と上ケース体１２との間に存在するのであれば、いずれの構成でも良く、上述したように、被覆シート１５がシール体であれば被覆シート１５側に存在することとなり、これとは逆に、上ケース体１２側が、当初から接着剤１８が塗布等され（その上面は剥離紙で覆われ）たシール状となっていても良い。
又、被覆シート１５を上ケース体１２に貼り付ける直前に、被覆シート１５と上ケース体１２の何れか（又は両方）に、接着剤１８を塗布等するものであっても良く、更には、被覆シート１５がシール体であるか、上ケース体１２側がシール状となっている場合であっても、直前に接着剤１８を塗布等することとしても構わない。
【００４８】
接着剤１８は、有機系（合成系、天然系）や無機系の接着剤など、被覆シート１５の裏面１５ａを、ケース体３に貼り付け、各磁極孔９を被うのであれば何れでも良いが、以下に詳解する。
接着剤１８は、有機系であれば、アクリル酸および誘導体を主成分とする接着剤や、ジアクリレートと過酸化物を主成分とする接着剤、アクリル樹脂エマルジョンを主成分とする接着剤等のアクリル系接着剤、α−オレフィン（イソブチレン等）と無水マレイン酸との共重合樹脂を主成分とする接着剤や、非結晶性ポリプロピレン（ＡＰＰ）樹脂を主成分とする接着剤等のオレフィン系接着剤、ウレタン基等のイソシアネート基やヒドロキシ基から誘導され化合する接着剤や、ポリウレタン（ＰＵ）樹脂またはウレタンプレポリマーを溶剤に溶融させた接着剤、ポリウレタン樹脂エマルジョンを主成分とする接着剤、各種親水性高分子の水溶液またはエマルション溶液と架橋剤としてのイソシアネート化合物を主成分とする接着剤、ポリウレタン樹脂を主成分としホットメルトに反応系の特性を付与した接着剤、熱可塑性ポリウレタン樹脂を主成分とする接着剤等のウレタン系接着剤、エーテル系誘導体セルロースを主成分とするエーテル系セルロ−ス接着剤、エチレンビニルアルコール（ＥＶＡ）と酢酸ビニルを共重合させた樹脂やそのエマルジョンを主成分とするＥＶＡ系接着剤、エポキシ樹脂やそのエマルジョンを主成分とするエポキシ系接着剤、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）樹脂を主成分とするポリ塩化ビニル系接着剤、クロロプレンゴムとフェノール樹脂を主成分とするクロロプレンゴム系接着剤、ポリ酢酸ビニル樹脂やそのエマルジョンを主成分とするポリ酢酸ビニル系接着剤、２−シアノアクリル酸エステルモノマーを主成分とするシアノアクリレート系接着剤、オルガノポリシロキサンを主成分とする接着剤や、メチルジメトキシシリル基を末端に持つポリプロピレンオキシド（変成シリコーン）を主成分とする接着剤等のシリコーン系接着剤、スチレンとブタジエンとの共重合体やそのラテックスを主成分とするスチレン−ブタジエンゴム系接着剤、ニトリルゴムを主成分とするニトリルゴム系接着剤、セルロースのエステル系誘導体のひとつであるニトロセルロース（硝化綿）を主成分とするニトロセルロース系接着剤、フェノール樹脂を主成分とするフェノール系接着剤、ポリアミド（ナイロン）樹脂を主成分とするポリアミド系接着剤、ポリイミド（ＰＩ）類の低分子ポリマーを主成分とするポリイミド系接着剤、ポリスチレン（ＰＳ）樹脂を主成分とするポリスチレン系接着剤、ポリビニルアルコールを主成分とする接着剤や、ポリビニルアルコールの一種であるポリビニルブチラール樹脂を主成分とする接着剤等のポリビニルアルコール系接着剤、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）樹脂を主成分とするポリビニルピロリドン系接着剤、芳香族複素環ポリマーに属するポリベンズイミダソール（ＰＢＩ）を主成分とするポリベンズイミダソール系接着剤、ポリメタクリレート樹脂を主成分とするポリメタクリレート系接着剤、メラミン（シアヌリル酸アミド）を主成分とするメラミン系接着剤、尿素を主成分とするユリア系接着剤、レゾルシノール樹脂またはフェノール・レゾルシノール樹脂を主成分とするレゾルシノール系接着剤などの合成系の接着剤の何れでも構わない。
又、接着剤１８は、ラテックスを主成分とする天然ゴム系接着剤、植物由来のデンプンを主成分とするデンプン系接着剤、牛乳由来の蛋白質の一種であるカゼインを成分とするカゼイン系接着剤、動物由来のゼラチンを主成分とする接着剤である膠、血液に含まれる蛋白質の一種であるフィブリンを利用したフィブリン接着剤、マツ属の木から分泌される天然樹脂である松やに、ウルシ科のウルシノキやブラックツリーから採取した樹液を加工したウルシオールを主成分とする天然樹脂である漆、卵白の主成分タンパク質であるアルブミン、マメ科のアラビアゴムノキまたはその同属近縁植物の樹皮の傷口からの分泌物を乾燥させたアラビアガム、原油に含まれる炭化水素類の中で最も重質なアスファルトなどの天然系の接着剤であったり、二酸化ケイ素を主成分とするシリカ系接着剤、ケイ酸ナトリウムの濃い水溶液である水ガラス、石膏や石灰等を組み合わせたセメントなどの無機系の接着剤の何れでも良い。
【００４９】
尚、これらの素材で構成される接着剤１８が、被覆シート１５の裏面１５ａや上ケース体１２の上面に塗布又は含浸等された際の厚み（接着層１８ａの厚み）は、０．０１ｍｍ以上０．２０ｍｍ以下であって、好ましくは、０．０３ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下、更に好ましくは０．０５ｍｍ以上０．１０ｍｍ以下である。
又、接着剤１８が当初より被覆シート１５の裏面１５ａ側に塗布等されたシール体である場合、被覆シート１５自体と接着層１８ａを合わせた厚みは、０．０６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下、好ましくは０．１０ｍｍ以上０．８５ｍｍ以下、更に好ましくは０．１５ｍｍ以上０．６０ｍｍ以下である。
更に、接着剤１８を、被覆シート１５の裏面１５ａにおいて磁極孔９に対応する部分を避けて存在させることで、接着剤１８がない分（接着層１８ａの厚み分）だけ、鉄心８の一端部８ａを、より人体等に近づけることが可能となる。
【００５０】
＜コイル４＞
図２に示したように、本発明におけるコイル４は、２つのボビン７、７と、この２つのボビン７、７に嵌入される略コ字状の鉄心８を備えている。
尚、コイル４は、上述では、２つであるが、合計で４つや、１つ、３つ、更には、５つ以上であっても良い。
この場合、鉄心８は、嵌入するボビン７の一方の鍔部４から、突出する部分（一端部８ａ）があるのであれば、略コ字状でなくとも良く、１つのボビン７に嵌入する棒状の鉄心（１本棒）であったり、略Ｅ字状であっても良い。
【００５１】
＜ボビン７＞
コイル４におけるボビン７は、珪素樹脂、ナイロン（ポリアミド）ポリマー等の合成樹脂や、ポリアセタール、ポリカーボネート等のエンジニアリングプラスチックで構成され、鉄心８を内部に嵌入可能なスプール部６と、同じく合成樹脂で構成され、このスプール部６の両端（上端、下端）に設けられた鍔部５、５と、スプール部６の外周面に巻回された電線を備えている。
ボビン７におけるスプール部６は、断面略正方形の角筒状部材であって、この筒内の断面形状・断面積は、鉄心８（鉄心枝部２０）の断面形状・断面積より若干大きいか又は略同一である。
【００５２】
従って、スプール部６が、嵌め合いや両面テープ、接着剤等によって、鉄心８（鉄心枝部２０）に固定されることなる。
尚、スプール部６は、略コ字状の鉄心８を介して、ケース体３に対して、その上下方向にスプール部６の軸心が沿うように配置される。
【００５３】
ボビン７における鍔部５は、スプール部６の上下端に一体的に設けられた一対の略正方形の平板状部材であって、各鍔部５は、スプール部６の軸心に直交する、つまり、それぞれの上下面が略水平方向に向くように配設される。
ここで、一対の鍔部５、５のうち、スプール部５の上端に設けられた一方の鍔部５（上鍔部５ａ）は、上述したように、上ケース体１２の内上底面（磁場発生面３ａ側の内面）に当接配置される。
一方、一対の鍔部５、５のうち、スプール部６の下端に設けられた他方の鍔部５（下鍔部５ｂ）は、略コ字状の鉄心８における鉄心胴部１９上面に当接することによって、鉄心８に対するボビン７の位置決めをし、鉄心枝部２０のスプール部６内への嵌入深さ、つまり、ボビン７上鍔部からの鉄心８の突出した一端部８ａの突出長さを規定する。
【００５４】
尚、下鍔部５ｂにおいて対応する一対の側端面（互いに対向する位置にある前後面、左右面）には、電線をスプール部６に巻き始め又は巻き終りに、その電線を絡げる掛止ピンが立設されている（掛止ピンは、図示省略）。
尚、その掛止ピンに電線を絡げる際に、その電線を案内可能な案内溝が下鍔部５ｂに設けられていても良い。
又、掛止ピンは、各側端面に所定間隔をおいて、２本ずつを一対として設けられており、この場合には、スプール部６に対して、左右どちらの方向でも巻線が対応可能（巻回しする電線の方向を、右巻きでも左巻きでも可能）となり、作業の自由度が増し、作業工程も軽減した整列巻きが出来る。
【００５５】
更には、各側端面において、２本ずつ設けられた掛止ピンの間（略中間位置）に、電線を引っ掛けて巻く向きを変える凸部を設けていても良い。
これに加えて、互いに対向する一対の側端面のうち、一方の側端面に設けられた一対の掛止ピンの間の距離（ピン間の距離）を、他方の側端面に設けられた２本の掛止ピン間の距離（ピン間の距離）より小さく又は大きく（幅狭又は幅広）となるように（つまり、異なるように）設定している。
尚、掛止ピンは、各側端面に１本ずつ設けられていたり、設けられていなくても良い。
又、鉄心８の上端部８ａの先端（頂面２１）を、被覆シート１５の裏面１５ａに、より近接させるために、上鍔部５ａや下鍔部５ｂを薄くしたり、スプール部６を短くしても良い。
【００５６】
ボビン７における電線は、銅をはじめ、銀、金、アルミ等の電流を流し得るものであれば、素材、線種は何れであっても構わない。
この電線をスプール部６に巻く際には、手巻きや、巻線器等など、何れであっても構わない。尚、巻線器を利用して整列巻回しをする場合には、ある程度電線にテンションをかけて、電線を張った状態でないと綺麗な整列巻きが出来ないため、巻き始め及び巻き終りの電線を、テープで仮止めしたり、上述の掛止ピンに絡げても良い。
【００５７】
＜亘り線・コード＞
隣接した（隣り合う）２つのボビン７のうち、一方のボビン７の下鍔部５ｂの側端面に立設された２本の掛止ピンと、これら２本の掛止ピンと同じ側の側端面に立設されている他方のボビン７における２本の掛止ピンの合計４本の掛止ピンに亘って、ハンダ等を介して、亘り線が取り付けられている（亘り線は、図示省略）。
又、これら４本の掛止ピンと互いに対向する位置の側端面に立設している別の４本の掛止ピンにも、また別の亘り線が取り付けられており、２つのボビン７、７は、平面視で２本の亘り線に挟まれている。
【００５８】
尚、亘り線は、４本の掛止ピンの下方に位置しているが、各掛止ピンの上方で取り付けられていても良く、又、各掛止ピンを縫うように上下互い違いに亘されていても良い。
又、１本の亘り線が亘される４本の掛止ピンのうち、実際に巻き始め及び巻き終りの電線を絡げられるものは、２つのボビン７それぞれの巻き始め及び巻き終りの電線の合計２本だが、亘り線を４本ともに取り付けることによって、取付強度の向上を図っている。
２つのボビン７、７（２つ１組のコイル４）に亘された２本の亘り線それぞれの一端には、それぞれコードが接続されている（コードは、図示省略）。
これらコード（２本のコード）が、ＯＮ／ＯＦＦスイッチやタイマー等を経て、上述したコード孔からケース体３外にある商用電源（５０Ｈｚ又は６０Ｈｚ）等から供給される電力によって、ケース体３の磁場発生面３ａに磁場を発生させる。
【００５９】
＜鉄心８＞
図２に示した如く、コイル４における鉄心８は、略コ字状に形成されており、略角柱状（断面視略正方形状）の鉄心胴部１９と、この鉄心胴部１９の両端（左右両端）に設けられた鉄心枝部２０、２０を備えている。尚、各鉄心枝部２０も、略角柱状（断面視略正方形状）である。
つまり、長手方向を有する鉄心胴部１９の左右両端から、この鉄心胴部１９の長手方向と直交し且つ上方向に、それぞれの鉄心枝部２０が延伸して、略コ字状（馬蹄状）を成している。
尚、鉄心８は、軟鉄などの薄板を所定の形にくり抜いて、重ね合せて一定の厚みを持たせるように構成されている。
【００６０】
又、各鉄心枝部２０の上端部（突出した鉄心８の一端部）８ａは、先細り状で、その最先端に頂面２１を有し、この頂面２１から根元に向け徐々に太くなるよう形成されている。
更に、この上端部８ａの形状は、鉄心８の正面視だけでなく、側面視においても、先細るよう構成されている。
そこで、まずは、各鉄心枝部２０の上端部８ａにおける正面視の構成を述べる。
【００６１】
鉄心枝部２０の上端部８ａを正面から見るとは、略平坦で略水平状の頂面２１と、この頂面２１に連なる垂直面２２と、この垂直面２２の反対側に位置する傾斜部２３を備えている。
上端部８ａにおける垂直面２２は、左右一対の鉄心枝部２０、２０が互いに向かい合う側（内側）に設けられており、鉄心胴部１９の上面両端から上方へ連続して延びる垂直な面である。
【００６２】
上端部８ａにおける傾斜部２３は、左右一対の鉄心枝部２０、２０で互いに向かい合っていない側（外側）に設けられており、この外側から各鉄心枝部２０が近づく側につれて高くなる向きに傾斜している。
更に、傾斜部２３は、各鉄心枝部２０の内側に位置する上段の上傾斜面２４と、この上傾斜面２４より各鉄心枝部２０外側に位置する下段の下傾斜面２５と、これら２つの傾斜面２４、２５の間に位置する平坦面２６を備えている。
【００６３】
尚、上端部８ａを正面から見た際の形状は、上述のように、上傾斜面２４、下傾斜面２５、平坦面２６を備えていなくとも良く、例えば、間の平坦面２６を有さず、上傾斜面２４と下傾斜面２５が連続して１つの傾斜部（傾斜面）２３を構成していたり、上傾斜面２４と平坦面２６だけで傾斜部２３を構成し、下傾斜面２５を有さない場合など、先細り形状であれば、種々の形状を採用できる。
【００６４】
一方、各鉄心枝部２０の上端部８ａにおける側面視では、鉄心８を構成する薄板を、鉄心枝部２０の長いものと短いもの２種類用い、鉄心８の厚み方向（側面視）においても先細るよう構成されている。
つまり、側面視における尖った部分は、鉄心枝部２０が長い薄板を数枚積層したものを、鉄心枝部２０が短い薄板を数枚積層したもので前後から挟むことで、構成している。
尚、この側面視における尖った部分（鉄心枝部２０が長い薄板を数枚積層したものの上端部）の厚みは、当然、鉄心胴部１９など鉄心８における他の部分（鉄心枝部２０が長い積層体を、鉄心枝部２０が短い積層体で挟んだ部分）より薄く、例えば、他の部分の厚みの１／３以上２／３以下となっている。
【００６５】
このように、鉄心８の突出した上端部８ａを先細り状に形成することで、磁場の放出端からの磁束密度が上がり、その結果、放出される磁力（ガウス）が高まる。
つまり、ボビン７の電線に通電した際に、鉄心８内に発生した磁束が、尖った上端部８ａから出ていくとき、より狭い空間を通るので、その空間内の磁束密度が高くなって、磁界内での磁力（ガウス）が高くなる。
【００６６】
又、上端部８ａの傾斜した傾斜部２３からは磁力線が放射されず、小さく尖った部分の先端に設けられた頂面２１から全ての磁力線が出ていくので、磁力線が小さい面積の頂面２１から集中して放射されることでも、磁力が高まる。
尚、ボビン７の電線に流す電流は、所定の周波数（例えば、５０Ｈｚ、６０Ｈｚ又はこれら以外の周波数）、振幅の交流電流としても良く、この場合には、コイルボビンからは、周波数によって磁極性が切り替わりながら磁束密度が時間的に変化する交流磁場が発生する。
又、本発明における周波数は、特に限定されないが、例えば、上述した５０Ｈｚや６０Ｈｚのほか、１００Ｈｚ以下の周波数（低周波、超低周波）であっても良い。超低周波数としては２０Ｈｚ以下としても良い。
ここで、１００Ｈｚ以下や２０Ｈｚ以下ということは、磁場操作部により周波数が０Ｈｚとなった場合も含まれ、その際、磁場発生部２は、コイル４を有しているものの、変化する磁場Ｍ（変動磁場）を発生させないものとなる。尚、変動磁場を発生させない磁場発生部２としては、永久磁石でも良い。
更に、ボビン７の電線に流す電流は、所定の周期で所定値の電流が間欠的に流れるパルス電流、例えば、瞬時に立ち上がりややなだらかに立ち下がるという、三角形状の波形をしたパルス電流を流しても良く、この場合には、正弦波状のなだらかな波形をした交流電流よりも磁束変化が大きくなる。又、パルス電流は、正なら正だけ、負なら負だけの電流が間欠的に発生するので、交流電流のように、正の電流と負の電流が交互に流れる場合よりも、磁束の変化が相殺され難い。
【００６７】
これに加えて、鉄心８の上端部８ａに形成された頂面２１は、略平坦で略水平であり、各磁極孔９を被う被覆シート１５の裏面１５ａも、同様に、略平坦で略水平であるため、上端部８ａの頂面２１と、被覆シート１５の裏面１５ａは、対向している。
よって、鉄心８の上端部８ａで尖った部分（例えば、頂面２１と上傾斜面２４を分ける縁部）で、ケース体３の磁場発生面３ａ側を突き抜けること等を抑制できると共に、鉄心８の一端部８ａの頂面２１が、対向する被覆シート１５の裏面１５ａに当接して、頂面２１と被覆シート１５との間でも、ケース体３の磁場発生面３ａを支えられる。
又、鉄心８の上端部８ａの先端（頂面２１）を、被覆シート１５の裏面１５ａに、より近接させるために、鉄心８の各鉄心枝部２０を伸ばしても良い。
【００６８】
ここまで述べた構成を持つ本発明は、コイル４における鉄心８の突出した上端部８ａを、上ケース体１２の磁場発生面３ａ側の内面に形成された磁極孔９に進入させる一方で、磁極孔９の外面開口９ｃを被覆シート１５で被い、この被覆シート１５に鉄心８の一端部８ａを近接させることで、磁場発生面３ａ側では、ケース体３と被覆シート１５の２層構造となって、ケース体３の２層分の強度が確保できると同時に、鉄心８の一端部８ａから被覆シート１５の表面（人体等）までの距離が、被覆シート１５自体の厚み分だけの距離となり、所定の入力電力に対して発生する磁場の強度が上がる。
つまり、「磁場効率の向上」と「ケース強度保持」の両立が可能となる。
【００６９】
この磁場効率の向上により、最大磁束密度が１８００ガウス（１８０ミリテスラ）の美容機器１ができると共に、「磁場発生手段によるケース体の支柱兼用」と「磁場効率の向上」の両立も実現する。
更に、上鍔部５ａを、上ケース体１２の磁場発生面３ａ側の内面に当接させることで、磁場発生面３ａの内面側への凹みを、コイル４で規制して、コイル４を、ケース体３の磁場発生面３ａを支える支柱として兼用することとなり、更なるケース強度の保持が図れる。
【００７０】
＜実施例１＞
上述した本発明に係る美容機器１を用いて、肌のシワやハリに対する予防ないし回復に役立つかを評価するin vitro（試験管内）での方法として、線維芽細胞Ｆを埋包したコラーゲンゲルＧ（以下、コラーゲンゲルＧと略す）を用いる。
このコラーゲンゲルＧに、美容機器１で発生される磁場Ｍを照射して、コラーゲンゲルＧの収縮能（収縮活性）を試験する（照射試験１−１）。
【００７１】
尚、この照射試験１−１における線維芽細胞Ｆ、コラーゲンゲルＧに用いるコラーゲン、培地、陽性対照物質、抗生物質を、以下に示す。
線維芽細胞Ｆには、正常ヒト皮膚線維芽細胞（NB1RGB細胞、理研細胞バンク（独立行政法人理化学研究所  理研バイオリソースセンター））を用いた。
コラーゲンには、アテロコラーゲン（AteloCell （登録商標） DME-02H、DMEM  高グルコース（2mg/mL）、株式会社高研）を用いた。
培地には、ＤＭＥＭ培地（和光純薬工業株式会社）を用いた。
陽性対照物質には、牛胎児血清（Fetal bovine serum; 以下「ＦＢＳ」、Hana-Nesco Bio（株式会社ハナ・ネスコバイオ））１０％を用いた。
抗生物質には、ペニシリン＋ストレプトマイシン（Cat No. （製品番号）10378-016 、インビトロジェン株式会社（ライフテクノロジーズ株式会社））を用いた。
【００７２】
ここで、「陽性対照」とは、ある試験において明らかに陽性を示すと予想される対照を言い、仮に、陽性対照においても陽性を示さない試験は、その試験自体の信頼性がないと判断される。
本照射試験１−１において「陽性を示す」とは、「コラーゲンゲルＧが収縮する」ことを意味し、陽性対照物質であるＦＢＳを（１０％）含有させたコラーゲンゲルＧが、磁場Ｍの照射の有無に拠らず、収縮すれば、本照射試験１−１の信頼性があると判断する。
一方、「陽性対照」とは逆の「陰性対照」とは、ある試験において明らかに陰性を示すと予想される対照を言い、「ネガティブコントロール」とも言う。
本照射試験１−１において陰性対照のコラーゲンゲルＧとは、ＦＢＳを微量の０．２５％だけ含有させた（つまり、実質的には、含有されていない）コラーゲンゲルＧである。
この陰性対照のコラーゲンゲルＧにおいて、本来、陰性である（収縮しない）コラーゲンゲルＧが、磁場Ｍを照射させた方だけが、収縮すれば、磁場Ｍの照射によって、コラーゲンゲルＧが収縮した、すなわち、磁場Ｍの照射（磁気刺激）にコラーゲンゲルＧの収縮能（収縮活性）があると判断される。
【００７３】
又、ＤＭＥＭとは、ダルベッコ改変イーグル培地（Dulbecco's Modified Eagle's Medium）である。
更に、アテロコラーゲンとは、たんぱく質であるコラーゲン（トロポコラーゲン）の両端において、他の高分子と結合（分子間架橋）するためのテロペプチドを有さないコラーゲンである。
【００７４】
＜照射試験装置３０＞
又、本照射試験１−１において、本発明に係る美容機器１を用いた照射試験装置３０を、以下に示す。
照射試験装置３０は、平面視略矩形状の美容機器１を２台用い、ＣＯ2 インキュベーター（MCO-96、三洋電機株式会社、以下「インキュベーター」、図示省略）内に設置した。
図３に示したように、各美容機器１の上面（磁場発生面３ａ）の４隅に、コルク製の台座３１を置き、その上に、細胞培養用１２穴平底プレート３２（蓋付き、ＢＤ（ベクトン・ディッキンソンアンドカンパニー）、以下「プレート３２」）を設置した。
温度測定装置（メモリハイロガーLR8400、日置電機株式会社）から延びる温度センサ３３は、４本用い、（１）美容機器１の磁場発生面３ａ、（２）プレート３２の下面、（３）後述する培養液３４中、及び、（４）インキュベーター内の美容機器１から所定距離（例えば、５ｃｍ）離れた位置に、それぞれセットした（（４）の温度センサは、図示省略）。
尚、（３）の培養液３４中の温度センサ３３は、センサ部分を密封するもの（例えば、エポキシ系の接着剤）で覆い、センサ部分の内部に培養液３４が浸入しないようにした。
【００７５】
＜培養液の調製＞
本照射試験１−１におけるコラーゲンゲルＧの培養液は、ＤＭＥＭ培地と、ＦＢＳと、ペニシリン＋ストレプトマイシンから、ＦＢＳの濃度が１０％となる培養液を調製した（１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液）。
この１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液を、ＦＢＳを含まない抗生物質含有ＤＭＥＭ培地にて希釈して、ＦＢＳの濃度が０．２５％となる培養液を調製した（０．２５％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液）。
【００７６】
＜細胞懸濁液の調製＞
線維芽細胞Ｆを、１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液を用いてサブコンフルエントとなるように培養フラスコで前培養した。
培養フラスコに植えつけた線維芽細胞Ｆがサブコンフルエント状態に達した時、培地を吸引除去した。
トリプシン−ＥＤＴＡ溶液（インビトロジェン株式会社（ライフテクノロジーズ株式会社））を加え、インキュベートし、培養フラスコから線維芽細胞Ｆが剥離したことを確認後、１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液を加えて（トリプシン−ＥＤＴＡ溶液の働きを止めて）、懸濁液が出来る。
この懸濁液をコニカルチューブに回収し、遠心分離機を用いて遠心分離を行った。
遠心分離後、上清を除去し、線維芽細胞Ｆの沈殿をタッピングしてほぐし、１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液を加えて、再び遠心分離を行った。
遠心分離後、上清を除去し、線維芽細胞Ｆが６×１０5 cells/mLとなるように、ＤＭＥＭ培地を加えて懸濁し、細胞懸濁液を調製した。
【００７７】
＜コラーゲンゲルＧの作製＞
ＤＭＥＭ培地とＦＢＳを混合した後で、アテロコラーゲンを加え、ピペッティング操作にて緩やかに混合した。最後に、細胞懸濁液を加えて混合して、コラーゲン溶液（Ａ溶液）を得た。
このＡ溶液を、上述したプレート３２の各ウェル（well、穴）３５に入れた後に、すぐにインキュベートして、コラーゲンを、コラーゲンゲルＧにゲル化する。
【００７８】
＜収縮活性の測定準備＞
図４に示すように、照射試験装置３０におけるプレート３２の各ウェル３５内で、コラーゲンゲルＧにゲル化した後、プレート３２の各ウェル３５に、１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液と、０．２５％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液を加えていく。
このとき、図４において符号ａで示された区分の８つのウェル３５ａは、培養液のみ（ＦＢＳの濃度が０．２５％、つまり、実質ＦＢＳなし）を加え、磁場Ｍの照射（磁気刺激）をしないものを指す。
図４において符号ｂで示された区分の８つのウェル３５ｂは、培養液のみ（実質ＦＢＳなし）を加え、磁場Ｍの照射（磁気刺激）をするものを指す。
尚、これら符号ａ、ｂで示された区分のウェル３５ａ、３５ｂが、陰性対照のコラーゲンゲルＧである。
一方、図４において符号ｃで示された区分の４つのウェル３５ｃは、１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液を加え、磁場Ｍの照射（磁気刺激）をしないものを指す。
図４において符号ｄで示された区分の４つのウェル３５ｄは、１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液を加え、磁場Ｍの照射（磁気刺激）をするものを指す。
尚、これら符号ｃ、ｄで示された区分のウェル３５ｃ、３５ｄが、陽性対照のコラーゲンゲルＧである。
【００７９】
＜照射試験１−１＞
上述した符号ａ〜ｄに４区分した２つのプレート３２が、磁場発生面３ａ上に置かれた２つの美容機器１のうち、符号ｂ、ｄの２区分を含むプレート３２側の美容機器１だけに、安定化電源（又は、商用電源）から電流値や電流の向きが変動する電流（例えば、６０Ｈｚの交流）を流し、符号ｂ、ｄのプレート３２だけに変動する磁場Ｍを照射する。
この変動磁場Ｍの照射する方の美容機器１と安定化電源との間に、タイマーを設置することで、美容機器１への電流のＯＮ／ＯＦＦし、所定時間ごとに間欠的に変動磁場Ｍの照射を行った。
このように、変動する磁場Ｍを、所定時間ごとで間欠的に照射することで、コラーゲンゲルＧの収縮が促進されやすい温度環境下で、変動磁場Ｍ（変動磁気）を照射でき、「抗シワ効果」の向上が図れる。
尚、本照射試験１−１にて用いた美容機器１は、コイル４に、例えば、５０Ｈｚや６０Ｈｚの交流（つまり、低周波又は超低周波と言える交流）を流して美容機器１で磁場Ｍを発生させていたが、この磁場Ｍは、周波数が０Ｈｚである磁場Ｍであったり、又、美容機器１の磁場発生部２が永久磁石であっても良い。
【００８０】
ここで、所定時間ごとの間欠的な変動磁場Ｍの照射は、ＯＮである時間、ＯＦＦである時間は、特に限定されないが、例えば、８時間ごとに１回１５分間のＯＮ時間とし、それ以外をＯＦＦ時間としても良い。
このようなＯＮ／ＯＦＦを行う照射試験１−１を、例えば、４日間行い、コラーゲンゲルＧの収縮活性を毎日評価した。
【００８１】
この収縮活性は、２つのプレート３２それぞれの平面視におけるコラーゲンゲルＧの面積により求めた。
図５〜７に示されたように、コラーゲンゲルＧの面積は、各プレート３２を真上から写真撮影し、その写真データよりコラーゲンゲルＧの直径とウェル３５の内径の測定値から求めた。
そして、変動磁場Ｍを照射したコラーゲンゲルＧの面積と、変動磁場Ｍを照射しなかったコラーゲンゲルＧの面積を比較し、収縮活性を評価した。
以下の表１〜６と図８〜１０に、本照射試験１−１の結果を示す。
【００８２】
【表１】
0005605927.tif 000002
【００８３】
【表２】
0005605927.tif 000003
【００８４】
【表３】
0005605927.tif 000004
【００８５】
【表４】
0005605927.tif 000005
【００８６】
【表５】
0005605927.tif 000006
【００８７】
【表６】
0005605927.tif 000007
【００８８】
＜照射試験１−１の評価＞
上述の表１〜６及び図５〜１０に示したように、収縮促進の陽性対照として用いた図４中の符号ｃ、ｄの１０％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液を用いたコラーゲンゲルＧの群（１０％血清添加群）は、符号ａ、ｂの培養液のみ（０．２５％ＦＢＳ抗生物質含有ＤＭＥＭ培養液）のコラーゲンゲルＧの群と比較して、２日目から４日目の各測定において、変動磁場Ｍの照射の有無に関わらず、有意に小さいコラーゲンゲルＧの面積を示した（図８参照）。
又、変動磁場Ｍの照射（磁気刺激）によるコラーゲンゲルＧの収縮に及ぼす影響については、符号ａ、ｂの培養液のみにおける磁場Ｍ未照射群（磁場Ｍを照射していない群）と磁場Ｍ刺激群（磁場Ｍを照射した群）の間で、刺激群のコラーゲンゲルＧの面積が、２日目から４日目に有意に小さいことが示された（図９参照）。
更に、磁気刺激によるコラーゲンゲルＧの収縮に及ぼす影響については、符号ｃ、ｄの１０％血清添加群は、磁場Ｍ未刺激群と刺激群の間で、２日目において有意な縮小が認められた。３日目と４日目では面積に有意な差は認められなかった（図１０参照）。
以上の結果より、有意なコラーゲンゲルＧの縮小が認められたことから、本照射試験１−１において磁気刺激の抗シワ効果が期待できることが明らかになった。
【００８９】
従って、線維芽細胞Ｆを埋包したコラーゲンに磁場Ｍを照射し、この磁場Ｍを変動させることによって、コラーゲンゲルＧ（コラーゲン組織Ｃ）を収縮させることが可能となり、これは、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに照射する磁場Ｍを、前記表皮Ｈ外側で発生させる磁場発生部２を有し、この磁場発生部２は、前記磁場Ｍを変動させながら前記表皮Ｈ越しに照射することで、特許文献１のように表皮Ｈを切開するなど、傷つけることなく、表皮Ｈ内側のコラーゲン組織Ｃを収縮させることも出来、その結果、肌にハリを持たせて「抗シワ効果」が実現できることを意味する。
尚、本照射試験１−１にて用いた美容機器１は、コイル４に、例えば、５０Ｈｚや６０Ｈｚの交流（つまり、低周波又は超低周波と言える交流）を流して磁場発生部２で磁場Ｍを発生させていたが、線維芽細胞Ｆを埋包したコラーゲンに対して、変動するか否かを問わず（つまり、コイル４を有する磁場発生部２であれば、交流か否かを問わず、又、磁場発生部２が永久磁石か否かを問わず）、磁場Ｍを照射することで、コラーゲンゲルＧ（コラーゲン組織Ｃ）を収縮させ、シワの改善作用が期待し得る。
【００９０】
＜照射試験１−２＞
上述した照射試験１−１と同様に、本発明に係る美容機器１を用いるが、照射時間や、範囲等が照射試験１−１と異なる照射試験１−２を行う。
尚、この照射試験１−２で用いる線維芽細胞Ｆ、コラーゲンゲルＧに用いるコラーゲン、培地、陽性対照物質、抗生物質を、以下に示す。
線維芽細胞Ｆには、照射試験１−１と同じく、正常ヒト皮膚線維芽細胞（NB1RGB細胞、理研細胞バンク（独立行政法人理化学研究所  理研バイオリソースセンター））を用いた。
コラーゲンには、Ｉ型コラーゲン（Human Collagen type I ELISA kit (without pepsin) EC1-E105 、株式会社エーセル）を用いた。
培地には、ＥＭＥＭ培地（和光純薬工業株式会社）を用いた。
陽性対照物質には、ビタミンＣの誘導体であるパルミチン酸アスコルビルリン酸３Ｎａ（以下、ＡＰＰＳ：TriSodium Ascorbyl Palmitate Phosphate）を用いた。
抗生物質には、照射試験１−１と同じく、ペニシリン＋ストレプトマイシン（Cat No. （製品番号）10378-016 、インビトロジェン株式会社（ライフテクノロジーズ株式会社））を用いた。
尚、後述する培養液には、照射試験１−１で使用した牛胎児血清（Fetal bovine serum; 以下「ＦＢＳ」、Hana-Nesco Bio（株式会社ハナ・ネスコバイオ）を用いた。
【００９１】
又、ＥＭＥＭとは、イーグル最少必須培地（Eagle's Minimum Essential Medium Dulbecco's Modified Eagle's Medium ）である。
更に、Ｉ型コラーゲンとは、グリシン（アミノ酢酸）：Gly −アミノ酸Ｘ−アミノ酸Ｙの繰り返しからなるポリペプチド鎖（α鎖）のうち、が３本より合わさったものであって、これら３本のα鎖は、α１鎖（Ｉ型）が１本と、α２鎖（Ｉ型）２本で構成される。
尚、アミノ酸Ｘやアミノ酸Ｙは、任意のアミノ酸を表すが、例えば、アミノ酸Ｘをプロリンとし、アミノ酸Ｙをヒドロキシプロリン又はアラニン等としても良い。
【００９２】
＜照射試験装置３０’＞
又、本照射試験１−２において、本発明に係る美容機器１を用いた照射試験装置３０’を、以下に示す。
図１１に示す如く、照射試験装置３０’では、照射試験１−１における細胞培養用１２穴平底プレート３２に替わって、ウェル（穴）の数が４８である細胞培養用４８穴平底プレート３２’（蓋付き、ＢＤ（ベクトン・ディッキンソンアンドカンパニー）、以下「プレート３２’」）を用いた。
【００９３】
このプレート３２’は、縦６行（列Ａ〜列Ｆ）、横８列（列１〜列８）で合計４８個のウェル（穴）３５’を有し、大まかに言えば、図１１のプレート３２’における左半分（列１〜列４）は、ＡＰＰＳなしとし、図１１のプレート３２’における右半分（列５〜列８）は、ＡＰＰＳありとしている。
左半分について詳解すれば、図１１のプレート３２’における１番左端の列１では、行Ａ〜行Ｆの６つのウェル３５’全てに、培養液を加えたのみで、線維芽細胞ＦやＡＰＰＳを入れていない（このようなウェルを、以下「未使用のウェル」とする）。
図１１のプレート３２’における左端から２番目の列２では、行Ａのウェル３５’は「未使用のウェル」である。行Ｂ〜行Ｅのウェル３５’は、培養液と線維芽細胞Ｆを入れ、ＡＰＰＳを入れていない（このようなウェルを、以下「細胞のみのウェル」とする）。行Ｆのウェル３５’は「未使用のウェル」である。
図１１のプレート３２’における左端から３番目の列３、及び、４番目の列４も、列２と全く同様で、行Ａのウェル３５’は「未使用のウェル」であり、行Ｂ〜行Ｅのウェル３５’は「細胞のみのウェル」であり、行Ｆのウェル３５’は「未使用のウェル」である。
【００９４】
右半分についても詳解すれば、図１１のプレート３２’における１番右端の列８では、列１と同様に、行Ａ〜行Ｆの６つのウェル３５’全てが「未使用のウェル」である。
図１１のプレート３２’における右端から２番目の列７では、行Ａのウェル３５’は「未使用のウェル」である。行Ｂ〜行Ｅのウェル３５’は、培養液と線維芽細胞Ｆと共に、ＡＰＰＳを３μＭ（３×１０-6mol/L ）入れている（このようなウェルを、以下「細胞とＡＰＰＳのウェル」とする）。行Ｆのウェル３５’は、培養液と共に、ＡＰＰＳを３μＭ（３×１０-6mol/L ）入れているが、線維芽細胞Ｆは入れていない（このようなウェルを、以下「ＡＰＰＳのみのウェル」とする）。
図１１のプレート３２’における右端から３番目の列６、及び、４番目の列５も、列７と全く同様で、行Ａのウェル３５’は「未使用のウェル」であり、行Ｂ〜行Ｅのウェル３５’は「細胞とＡＰＰＳのウェル」であり、行Ｆのウェル３５’は「ＡＰＰＳのみのウェル」である。
【００９５】
本照射試験１−２においても、照射試験装置３０’として、このようなプレート３２’を２つ用意し、ぞれぞれのプレート３２’を、平面視略矩形状の美容機器１上に、台座３１’を介して置いた。
このとき、一方のプレート３２’のみに、磁場Ｍの照射（磁気刺激）をするものとし、他方のプレート３２’に対しては、磁場Ｍの照射（磁気刺激）をしない。
この他、本照射試験１−２における照射試験装置３０’の構成、作用効果及び使用態様は、照射試験１−１の照射試験装置３０と同様である。
【００９６】
＜培養液、線維芽細胞Ｆの調製＞
本照射試験１−２における線維芽細胞Ｆの培養液は、ＥＭＥＭ培地と、ＦＢＳと、ペニシリン＋ストレプトマイシンから、ＦＢＳの濃度が５％となる培養液を調製した（５％ＦＢＳ抗生物質含有ＥＭＥＭ培養液）。
この５％ＦＢＳ抗生物質含有ＥＭＥＭ培養液を、上述したプレート３２’で培養液として用いた。
上述のプレート３２’の各ウェル３５’のうち、「細胞のみのウェル」や「細胞とＡＰＰＳのウェル」に、線維芽細胞Ｆを、当該線維芽細胞Ｆの密度が所定の値（例えば、１×１０4 cells/２００μL/ウェル等）となるように播種し、所定の時間（例えば、２４時間）培養した。
尚、この培養で用いた培養液は、新鮮な培養液（別途調整して、ＦＢＳの濃度を０．５％とした０．５％ＦＢＳ抗生物質含有ＥＭＥＭ培養液）と交換して、「細胞のみのウェル」や「細胞とＡＰＰＳのウェル」として照射試験１−２を行った。
【００９７】
＜照射試験１−２＞
上述した２つのプレート３２’が置かれた２つの美容機器１のうち、一方のプレート３２’側の美容機器１だけに、安定化電源（又は、商用電源）から電流値や電流の向きが変動する電流（例えば、６０Ｈｚの交流）を流し、当該一方のプレート３２’だけに変動する磁場Ｍを照射する。他方のプレート３２’側の美容機器１には、電流を流さない（通電しない）。
この変動磁場Ｍの照射する方の美容機器１と安定化電源との間に、タイマーを設置することで、美容機器１への電流のＯＮ／ＯＦＦし、所定時間ごとに間欠的に変動磁場Ｍの照射を行った。
このように、変動する磁場Ｍを、所定時間ごとで間欠的に照射することで、コラーゲンゲルＧの収縮が促進されやすい温度環境下で、変動磁場Ｍ（変動磁気）を照射でき、「抗シワ効果」の向上が図れる。
尚、本照射試験１−２でも、用いる美容機器１が、コイル４を有した磁場発生部２で、周波数が０Ｈｚである磁場Ｍを発生させたり、美容機器１の磁場発生部２が永久磁石であっても構わない。
【００９８】
ここで、所定時間ごとの間欠的な変動磁場Ｍの照射は、ＯＮである時間、ＯＦＦである時間は、特に限定されないが、例えば、磁気刺激を行う一方のプレート３２’側の美容機器１に対し、１時間ごとに１回１５分間のＯＮ時間とし、その後の４５分間をＯＦＦ時間として、３日間（７２時間）ＯＮ／ＯＦＦを行った。
このように３日間、一方のプレート３２’側の美容機器１をＯＮ／ＯＦＦした後に、線維芽細胞Ｆ内でのヒアルロン酸の産生能と、線維芽細胞Ｆの増殖促進能を評価した。
【００９９】
維芽細胞Ｆ内でのヒアルロン酸産生能は、各ウェル３５’中のヒアルロン酸の量を、ELISA （Enzyme-Linked ImmunoSorbent Assay ）測定して判断した。
このELISA 測定では、Hyaluronic Acid, ELISA Kit, QnE (96well)BTP-96200 （Biotech Trading Partners社）を用いて、図１１のプレート３２’における列４の「細胞のみのウェル」と列５の「細胞とＡＰＰＳのウェル」内の培養液のヒアルロン酸の量を測定した。
又、線維芽細胞Ｆの増殖促進能は、各ウェル３５’中の細胞数を、当該ウェル３５’中の培養液に試薬を加えて培養した後、所定の波長（例えば、主波長４５０nm、副波長７００nm）で吸光度を測定して判断した。
この測定には、Premix WST-1 Cell Proliferation Assay System MK400（タカラバイオ株式会社）を試薬として用い、図１１のプレート３２’における列２〜４の「細胞のみのウェル」と列５〜７の「細胞とＡＰＰＳのウェル」内の培養液の吸光度を、各列ごとに測定した。
以下の表７〜９と図１２〜１４に、本照射試験１−２の結果を示す。
【０１００】
尚、これら表７〜９と図１２〜１４における「mediumのみ」とは、「細胞のみのウェル」を示し、「APPS３μM 添加」とは、「細胞とＡＰＰＳのウェル」を意味する。
又、表７及び図１２は、ヒアルロン酸量を、細胞数で補正していない結果を示し、表８及び図１３は、ヒアルロン酸量を、細胞数で補正した結果を示す。
ここで、「細胞数で補正」したのは、各ウェル３５’ごとに入れた線維芽細胞Ｆの数自体に、元々違いがあった場合、単純に線維芽細胞Ｆの数の実測値同士を比較しても、ヒアルロン酸の産生能や線維芽細胞Ｆの増殖促進能の正確な判断が出来ないためである。
【０１０１】
【表７】
0005605927.tif 000008
【０１０２】
【表８】
0005605927.tif 000009
【０１０３】
【表９】
0005605927.tif 000010
【０１０４】
＜照射試験１−２の評価＞
上述の表７、８及び図１２、１３に示したように、磁気刺激をする一方のプレート３２’におけるヒアルロン酸量の値は、「細胞のみのウェル」であるか「細胞とＡＰＰＳのウェル」であるか、又は、補正の有無に関わらず、磁気刺激をしない他方のプレート３２’におけるヒアルロン酸量の値より大きい。
以上の結果より、線維芽細胞Ｆ内でのヒアルロン酸の産生量の増加が認められたことから、本照射試験１−２において、ヒアルロン酸量の観点から、磁気刺激の抗シワ効果が期待できることが明らかになった（ヒアルロン酸量の観点から、磁気刺激、つまり、磁気照射は、ヒアルロン酸のビーム（ヒアルビーム）を照射しているとも捉えられる）。
尚、この本照射試験１−２におけるヒアルロン酸の産生量の増加は、磁気照射のＯＮ／ＯＦＦの時間・タイミング・期間等が、上述の照射試験１−１と異なっていても生じていることから、磁気照射のＯＮ／ＯＦＦの時間・タイミング・期間等が変わっても、磁気刺激による抗シワ効果が期待できることを示している。
【０１０５】
上述の表９及び図１４に示したように、磁気刺激をする一方のプレート３２’における吸光度（つまり、線維芽細胞Ｆの数）は、「細胞のみのウェル」であるか「細胞とＡＰＰＳのウェル」であるかに関わらず、磁気刺激をしない他方のプレート３２’における吸光度（つまり、線維芽細胞Ｆの数）より大きい。
以上の結果より、線維芽細胞Ｆの増殖度合いの増加が認められたことから、本照射試験１−２において、線維芽細胞Ｆの数の観点からも、磁気刺激の抗シワ効果が期待できることが明らかになった。
尚、この本照射試験１−２における線維芽細胞Ｆの増殖度合いの増加も、磁気照射のＯＮ／ＯＦＦの時間・タイミング・期間等が、上述の照射試験１−１と異なっていても生じていることから、磁気照射のＯＮ／ＯＦＦの時間・タイミング・期間等が変わっても、磁気刺激による抗シワ効果が期待できることを示している。
更に、図１１にて示したように、プレート３２’における列２〜７ごとに、磁気の強さに差がある（美容機器１における中央付近の列４、５の磁気が最も強く、美容機器１の端に近づくにつれて磁気が弱くなる）にも関わらず、この本照射試験１−２における線維芽細胞Ｆの増殖度合いの増加は生じていることから、磁気の強弱が変わっても、磁気刺激による抗シワ効果が期待できることを示している。
【０１０６】
従って、線維芽細胞Ｆに磁場Ｍを照射し、この磁場Ｍを変動させることによって、線維芽細胞Ｆ内でのヒアルロン酸量を増加させ、線維芽細胞Ｆを増殖促進させることが可能となり、これは、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆに照射する磁場Ｍを、前記表皮Ｈ外側で発生させる磁場発生部２を有し、この磁場発生部２は、前記磁場Ｍを変動させながら前記表皮Ｈ越しに照射することで、特許文献１のように表皮Ｈを切開するなど、傷つけることなく、表皮Ｈ内側のヒアルロン酸量を増加させ、線維芽細胞Ｆを増殖促進させることも出来、その結果、肌にハリを持たせて「抗シワ効果」が実現できることを意味する。
尚、本照射試験１−２にても、用いた美容機器１は、コイル４に、例えば、５０Ｈｚや６０Ｈｚの交流（つまり、低周波又は超低周波と言える交流）を流して磁場発生部２で磁場Ｍを発生させていたが、線維芽細胞Ｆに対して、変動するか否かを問わず（つまり、コイル４を有する磁場発生部２であれば、交流か否かを問わず、又、磁場発生部２が永久磁石か否かを問わず）、磁場Ｍを照射することで、線維芽細胞Ｆ内でのヒアルロン酸量を増加させ、線維芽細胞Ｆを増殖促進して、シワの改善作用が期待し得る。
【０１０７】
＜実施例２＞
上述した本発明に係る美容機器１を用いて、肌のシワやハリに対する予防ないし回復に役立つかを評価する方法として、美容機器１で発生される磁場Ｍをヒトの目尻のシワに照射して、シワの改善作用を試験する（照射試験２）。
ここで、「目尻」とは、抗シワ製品評価ガイドライン（抗老化機能評価専門委員会、「＜化粧品機能評価法ガイドライン＞新規効能取得のための抗シワ製品評価ガイドライン」、日本香粧品学会、２００６年、Vol.30、No.4、pp.316-332）等にて記載されたように、「外眼角（上下の眼瞼が出会う点）部」を指す。
又、「目尻のシワ」とは、同じく、抗シワ製品評価ガイドライン等にて記載されたように、「外眼角から線状に走る溝」を指す。
【０１０８】
＜照射試験２＞
この実施例２の本照射試験２における被験者は、目尻に適当な深さのシワを有する成人の健常で、試験の事前に同意書を得た男女全８名である。このうち、後述の表１０における被験者番号３の１名が試験途中で使用中止となり、後述の表１１〜１７において、被験者番号３は欠番としている。
又、本照射試験２では、被験者は、左右どちら一方の目尻に磁場Ｍを照射し、同一被験者における左右の目尻のシワを比較する。尚、左右どちらの目尻に磁場Ｍを照射するかは、男女それぞれ半分、無作為に割り当てる。
【０１０９】
この照射試験２では、上述の被験者に対し、＜１＞専門医の目視によるシワグレードの判定（目視判定）と、＜２＞シワレプリカによる肌表面形状測定・三次元解析、＜３＞肌状態解析を行う。
尚、本照射試験２の美容機器１にも、安定化電源（又は、商用電源）から電流値や電流の向きが変動する電流（例えば、５０Ｈｚや６０Ｈｚの交流）を流すことで、変動磁場Ｍ（変動磁気）を照射する機器（交流磁気タイプの美容機器）を用いる。
【０１１０】
又、本照射試験２は、平成２５年７月１９日に＜１＞目視判定及び＜３＞肌状態解析を行い、平成２５年７月２６日に＜２＞シワレプリカを採取し、平成２５年９月２９日に＜２＞再びシワレプリカを採取し、平成２５年９月３０日に再び＜１＞目視判定及び＜３＞肌状態解析を行った。
尚、本照射試験２の＜１＞目視判定及び＜３＞肌状態解析における照射試験２「前」とは「平成２５年７月１９日以前」を言い、照射試験２「後」とは「平成２５年９月３０日以後」を言う。
同様に、本照射試験２の＜２＞シワレプリカによる肌表面形状測定・三次元解析における照射試験２「前」とは「平成２５年７月２６日以前」を言い、照射試験２「後」とは「平成２５年９月３０日以後」を言う。
本照射試験２における磁気照射は、各被験者によって、平成２５年７月１９日から平成２５年９月３０日までの約２ヶ月間、毎日２回（何れの時間帯でも良いが、例えば、午前と午後（より具体的には、午前９時頃と午後８時）など）、１回当り１５分間行われた。
尚、本照射試験２の期間中、各被験者には、磁気照射確認及び体調確認のため、毎日セルフチェックシートを記載した。
【０１１１】
＜１＞目視判定
本照射試験２における被験部位（観察対象部位）となる「目尻のシワ」を、照射試験２の「前」と「後」に、専門医が、上述の抗シワ製品評価ガイドラインにて開示された「シワグレード（シワグレード標準写真）」に基づき、各被験者の状態を目視判定した。
尚、「シワグレード」には、グレード０（シワは無い）、グレード１（不明瞭な浅いシワが僅かに認められる）、グレード２（明瞭な浅いシワが僅かに認められる）、グレード３（明瞭な浅いシワが認められる）、グレード４（明瞭な浅いシワの中に、やや深いシワが僅かに認められる）、グレード５（やや深いシワが認められる）、グレード６（明瞭な深いシワが認められる）、グレード７（著しく深いシワが認められる）の８つのスコアがある。
以下の表１０に、＜１＞目視判定の結果を示す。
【０１１２】
【表１０】
0005605927.tif 000011
【０１１３】
又、この＜１＞目視判定と同時に、各被験者の目尻の写真撮影も行っている。
図１５に示した図面代用写真は、後述する表１０における被験者番号６の照射試験２「前」の「磁気照射」される右側の目尻の様子を示し、このシワグレードのスコアは、グレード６である。
図１６に示した図面代用写真は、同じく、表１０における被験者番号６の照射試験２「後」の「磁気照射」された右側の目尻の様子を示し、このシワグレードのスコアは、グレード５である。
つまり、照射試験２「後」の方がシワグレードのスコアは減少している（図面代用写真の図１５、１６を比較しても、照射試験２「後」の方が、実際、シワが薄く見える）。
【０１１４】
尚、図１５、１６中、目尻の左上（シワ観察対象部位の近傍であり、評価に影響を与えない部分）には、画像の色補正やスケール補正のための画像補正用カラーチャート（CASMATCH（キャスマッチ）、株式会社ベアーメディック）を貼付した。
又、照射試験２の「前」と「後」における写真撮影は、角度、距離、撮影範囲、アゴのせ台（アゴ台）の使用などの撮影条件を可能な限り同じとした。
【０１１５】
＜１の評価＞目視判定
上述の表１０と共に、図１５、１６でも示された如く、目視判定によるシワグレードについて、「磁気照射」された左右何れかの側における「目尻のシワ」は、照射試験２「後」の各被験者のスコアは、照射試験２「前」のスコアよりも減少している。
つまり、磁気刺激によりシワ改善の作用が見られた。
【０１１６】
＜２＞シワレプリカによる肌表面形状測定・三次元解析
本照射試験２におけるシワレプリカの採取は、目の際から１０ｍｍ程度離れた位置における１０ｍｍ×１０ｍｍの範囲を、被験部位（観察対象部位）とした。
この採取では、レプリカ剤（レプリカセット）として、SILFLO（Flexico Ltd., 、England ）を用いた。
又、採取する際の顔面の表情は、一定とするために、軽く目を閉じた状態で安静にして採取し、身体の姿勢（座位、仰臥位など）も一定の条件下で採取した。
【０１１７】
採取したシワレプリカを、３Ｄ肌表面レプリカスキャナ（LPW-20HS、株式会社浜野エンジニアリング、抗シワ製品評価ガイドライン対応）を用いて三次元解析を行った。
この解析では、３Ｄ画像（俯瞰図、シワ高低カラーマップ画像、シワ分布画像）と共に、シワ面積率、総シワ平均深さ、最大シワ平均深さ、最大シワ最大深さ及びシワ総体積について解析した。
【０１１８】
尚、「シワ面積率」とは、抗シワ製品評価ガイドライン等にて記載されたように、「形状補正された三次元形状からシワを抽出し、測定範囲に占める抽出されたシワの面積比率」を意味する。
以下同様に、抗シワ製品評価ガイドライン等にて記載されたように、「総シワ平均深さ」とは「形状補正された三次元形状からシワを抽出し、測定範囲内のシワの平均深さ」を意味し、「最大シワ平均深さ」とは「形状補正された三次元形状からシワを抽出し、解析範囲に存在する最大の体積（もしくは面積）のシワに対してシワの平均の深さ」を意味し、「最大シワ最大深さ」とは「形状補正された三次元形状からシワを抽出し、解析範囲に存在する最大の体積（もしくは面積）のシワに対してシワの最大の深さ」を意味し、「シワ総体積」とは「形状補正された三次元形状からシワを抽出し、測定範囲内のシワ個々の体積を算出し、すべてのシワの体積の総和」を意味する。
【０１１９】
これら３Ｄ画像やシワ面積率等の項目の三次元解析について、以下、具体例を示す。
図１７は、図１５に示した表１０における被験者番号６の照射試験２「前」の「磁気照射」される右側の目尻を、三次元解析した結果を示す。
図１８は、図１６に示した表１０における被験者番号６の照射試験２「後」の「磁気照射」された右側の目尻を、三次元解析した結果を示す。
図１７、１８中には、３Ｄ画像やシワ面積率等の項目以外に、算術平均粗さＲａ、最大高さＲｙ、十点平均粗さＲｚも示されている。
又、図１７、１８は、「磁気照射」された右側の目尻を三次元解析した結果であるが、逆に、磁気照射されなかった「磁気非照射」の左側の目尻を三次元解析した結果として、図１９、２０を示す。
【０１２０】
ここで、「算術平均粗さＲａ」とは、抗シワ製品評価ガイドライン等にて記載されたように、「平均線から測定曲線までの距離の絶対値を足し合わせて平均したもの」を意味し、「最大高さＲｙ」とは「長さ中の最大山と最大谷の距離」を意味し、「十点平均粗さＲｚ」とは「最も高い５つの山の平均と最も低い５つの谷の平均の深さの間の値の和（距離）」を意味する。
これら算術平均粗さＲａ、最大高さＲｙ、十点平均粗さＲｚは、ＩＳＯ標準表面粗さパラメータとも言う。
【０１２１】
上述した図１７〜２０に示された如くの三次元解析を、照射試験２「前」と「後」で、各被験者における「磁気照射」側と「磁気非照射」側の目尻に対して行った。
それらの三次元解析の結果、照射試験２「前」の各項目（シワ面積率等）の値を基準とした照射試験２「後」の各項目の変化（変化率）を求めた。
尚、この「変化率」は、その数値が１以上であった場合は、照射試験２「前」のシワ面積率等の各項目の値が増した（つまり、シワの面積や深さが増した）ことを示し、逆に、「変化率」の数値が１以下であれば、シワの面積や深さが減少したことを示す。
以下の表１１〜１５には、本照射試験２におけるシワ面積率、総シワ平均深さ、最大シワ平均深さ、最大シワ最大深さ及びシワ総体積の各項目についての各被験者の個別データを示す。
更に、以下の表１６と図２１には、「磁気照射」側と「磁気非照射」側を対比したシワ面積率等の各項目の平均変化率の結果を示す。
【０１２２】
【表１１】
0005605927.tif 000012
【０１２３】
【表１２】
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【０１２４】
【表１３】
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【０１２５】
【表１４】
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【０１２６】
【表１５】
0005605927.tif 000016
【０１２７】
【表１６】
0005605927.tif 000017
【０１２８】
＜２の評価＞シワレプリカによる肌表面形状測定・三次元解析
上述の表１１〜１６及び図２１に示したように、シワ面積率、総シワ平均深さ、最大シワ平均深さ、最大シワ最大深さ及びシワ総体積の全ての項目について、「磁気非照射」側より「磁気照射」側の方が、平均変化率の数値が小さいなっている。
つまり、シワの面積や深さは、「磁気照射」側の方が「磁気非照射」側より減少している。
特に、シワ面積率については、「磁気照射」側と「磁気非照射」側を、対応のあるｔ−ｔｅｓｔで検定したところ、片側検定（ｐ＜０．０５）において有意差が認められただけでなく、更に、両側検定（ｐ＜０．０５）においても有意差が認められた。
【０１２９】
＜３＞肌状態解析
本照射試験２における各被験者の目尻の肌状態解析では、皮膚計測機（MPA5&9、Courage+Khazaka electronic GmbH 、Germany ）を用いて、肌の色（紅斑）についても測定する。
この肌状態解析も、照射試験２「前」と「後」で、各被験者における「磁気照射」側と「磁気非照射」側の目尻に対して行った。
この解析の結果、照射試験２「前」の肌の色（紅斑）の値を基準とした照射試験２「後」の紅斑の変化（変化率）を求めた。
【０１３０】
尚、この「変化率」は、上述した＜２＞シワレプリカによる肌表面形状測定・三次元解析と同様で、その数値が１以上であった場合は、照射試験２「前」のシワ面積率等の各項目の値が増した（つまり、紅斑が増した）ことを示し、逆に、「変化率」の数値が１以下であれば、紅斑が減少したことを示す。
以下の表１７には、本照射試験２における紅斑についての各被験者の個別データを示し、以下の図２２には、「磁気照射」側と「磁気非照射」側を対比した紅斑の平均変化率の結果を示す。
【０１３１】
【表１７】
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【０１３２】
＜３の評価＞肌状態解析
上述の表１７及び図２２に示したように、紅斑については、「磁気非照射」側より「磁気照射」側の方が、平均変化率の数値が小さいなっている。
つまり、紅斑も、「磁気照射」側の方が「磁気非照射」側より減少している。
更に、紅斑については、「磁気照射」側と「磁気非照射」側を、対応のあるｔ−ｔｅｓｔで検定したところ、片側検定（ｐ＜０．０５）において有意差が認められ、両側検定（ｐ＜０．０５）においても、「磁気照射」側の方が紅斑が減少する傾向が認められた。
【０１３３】
＜照射試験２の評価＞
以上の＜１＞目視判定、＜２＞シワレプリカによる肌表面形状測定・三次元解析、＜３＞肌状態解析の結果より、シワの面積や深さ、目尻の紅斑は、「磁気照射」側の方が「磁気非照射」側より減少していたことから、本照射試験２において磁気刺激のシワの改善作用が期待できることが明らかになった。
従って、被験者に対して、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに照射する磁場Ｍを、前記表皮Ｈ外側で発生させる磁場発生部２を有し、この磁場発生部２は、前記磁場Ｍを変動などをさせながら前記表皮Ｈ越しに照射することで、特許文献１のように表皮Ｈを切開するなど、傷つけることなく、実際に、表皮Ｈ内側のコラーゲン組織Ｃを収縮させることも出来、その結果、肌にハリを持たせて「抗シワ効果」が実現できた。
尚、本照射試験２にて用いた美容機器１は、コイル４に、例えば、５０Ｈｚや６０Ｈｚの交流（つまり、低周波又は超低周波と言える交流）を流して磁場発生部２で磁場Ｍを発生させていたが、表皮Ｈを傷つけることがないのであれば、表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに対して、変動するか否かを問わず（つまり、コイル４を有する磁場発生部２であれば、交流か否かを問わず、又、磁場発生部２が永久磁石か否かを問わず）、表皮Ｈ越しに磁場Ｍを照射することで、表皮Ｈ内部のコラーゲン組織Ｃを収縮させ、シワの改善作用が期待し得る。
【０１３４】
＜その他＞
本発明は、前述した実施形態に限定されるものではない。美容機器１等の各構成又は全体の構造、形状、寸法などは、本発明の趣旨に沿って適宜変更することが出来る。
ケース体３やボビン７の素材は、合成樹脂、エンジニアリングプラスチックに限らず、上述した構成となるのであれば、繊維強化プラスチック、陶器、木材などの素材でも良い。
鉄心８の上端部８ａの頂面２１と、被覆シート１５の裏面１５ａや、磁極孔９が貫通していない場合における内底面は、必ずしも、対向していなくても良い。
【０１３５】
上ケース体１２の外上面（磁場発生面３ａ）には、外凹部１６が設けられていなくとも良い。
被覆シート１５は、ケース体３（上ケース体１２）に対して、接着剤１８を介して貼り付けられずとも良く、例えば、超音波溶融によって、被覆シート１５と上ケース体１２を融着させていても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１３６】
本発明に係る美容機器１は、変動磁場などによって人（ヒト）の肌のハリを良くするだけでなく、犬や猫等の動物全般などに対しても、変動磁場などによって血行を良くし、人及び動物（ペット）の健康増進を図り、人及び動物用の美容分野の他、医療、理容、健康分野に利用できる。
【符号の説明】
【０１３７】
１      美容機器
２      磁場発生部
３      ケース体
３ａ    ケース体の磁場発生面
４      コイル
５ａ    ボビンの一端側の鍔部
５ｂ    ボビンの他端側の鍔部
６      ボビンのスプール部
７      ボビン
８      鉄心
８ａ    鉄心の一端部（鉄心の突出した一端部）
９      磁極孔
Ｈ      表皮
Ｆ      線維芽細胞
Ｃ      コラーゲン組織
Ｍ      磁場
【要約】
【課題】表皮内側の線維芽細胞とコラーゲン組織に照射する変動磁気で、表皮を傷つけずに「抗シワ効果」を発揮できる。
【解決手段】表皮Ｈ内側の線維芽細胞Ｆとコラーゲン組織Ｃに照射する磁場Ｍを、表皮Ｈ外側で発生させる磁場発生部２を有し、磁場発生部２は、磁場Ｍを変動させながら表皮Ｈ越しに照射する。磁場発生部２は、磁場Ｍを発生する磁場発生面３ａが設けられたケース体３と、ケース体３に内蔵されたコイル４を有し、コイル４は、両端に鍔部５ａ、５ｂを設けたスプール部６周面に電線が巻かれたボビン７と、ボビン７一端側から一端部８ａが突出した状態でスプール部６内に嵌入される鉄心８を備え、鉄心８の突出した一端部８ａが進入可能な磁極孔９をケース体３の磁場発生面３ａ側に形成し且つボビン７一端側の鍔部５ａをケース体３の磁場発生面３ａ側の内面に当接させ、ボビン７の電線に流す電流が、交流電流又はパルス電流である。
【選択図】図９【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
0005605927.tif 000023
【図６】
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【図７】
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【図８】
0005605927.tif 000026
【図９】
0005605927.tif 000027
【図１０】
0005605927.tif 000028
【図１１】
0005605927.tif 000029
【図１２】
0005605927.tif 000030
【図１３】
0005605927.tif 000031
【図１４】
0005605927.tif 000032
【図１５】
0005605927.tif 000033
【図１６】
0005605927.tif 000034
【図１７】
0005605927.tif 000035
【図１８】
0005605927.tif 000036
【図１９】
0005605927.tif 000037
【図２０】
0005605927.tif 000038
【図２１】
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【図２２】
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