(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）式ＷＯ3-zＨx（式中、ｘは０．２〜１の範囲であり、ｚは０または０〜ｘの範囲である）の水素タングステンブロンズ２５〜７０質量部と、
ｂ）二元系タングステン酸化物２０〜７０質量部と、
ｃ）タングステン金属１〜３０質量部と、
を含む、粉体組成物。
【請求項２】
ａ）式ＷＯ3-zＨx（式中、ｘは０．４〜０．７の範囲である）の水素タングステンブロンズ３０〜５５質量部と、
ｂ）二元系タングステン酸化物３０〜６０質量部と、
ｃ）タングステン金属２〜２０質量部と、
を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記水素タングステンブロンズの大部分が、立方晶構造である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記水素タングステンブロンズの大部分が、空間群Ｉｍ３の立方晶構造である、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記タングステン金属ブロンズの大部分が、ｂｃｃ立方晶構造である、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
成分（ａ）〜（ｃ）が、粉体組成物全体の９５〜１００質量％を構成し、残部がある場合、これは有機ポリマー、別のタングステン化合物、および／または水である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記二元系タングステン酸化物が、ＷＯ3-y（式中、ｙは０〜１の範囲である）である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記二元系タングステン酸化物が、ＷＯ3-y（式中、ｙは０〜０．３３の範囲である）である、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
請求項１に定義される水素タングステンブロンズまたは水素タングステンブロンズ組成物の製造のための方法であって、タングステン酸アンモニウムを水素および／または水素放出ガスに２５００Ｋ以上の温度で接触させるステップを含む前記方法。
【請求項１０】
前記接触がプラズマ中で実施される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
水素および／または水素放出ガスが、希ガスとの混合物として使用される、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
水素の量が、生成物中に形成されるタングステン金属の量を前記生成物の２５質量％未満に維持するように調整される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
有機ポリマー、有機溶媒、または水、あるいは有機溶媒と水との組み合わせ、および有機ポリマーと溶媒との組み合わせから選択された分散媒体中に、請求項１〜８のいずれか１項に記載の粉体組成物を含む粒子分散液。
【請求項１４】
総粒子質量の９０質量％以上が、サイズ範囲１ｎｍ〜８００ｎｍの粒子である、請求項１３に記載の粒子分散液。
【請求項１５】
ａ）合成熱可塑性有機ポリマーまたはコーティングバインダーから選択される有機ポリマーと、
ｂ）成分（ａ）に対して０．０１〜１５質量％の請求項１〜８のいずれか１項に記載の粉体組成物と
を含む組成物。
【請求項１６】
成分（ｂ）として、立方晶構造を有する水素タングステンブロンズを含有する、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
成分（ａ）のマトリックス中に分散させた粒子の形態で成分（ｂ）を含有する、請求項１５または１６に記載の組成物。
【請求項１８】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の粉体組成物を含む、有機もしくは無機ポリマー組成物または有機／無機ポリマーハイブリッド系における赤外線吸収剤および／または断熱添加剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、タングステン／タングステン酸化物系の一部の粒子、それらの製造方法、それらの粒子を含有する組成物、およびＩＲ吸収剤および／または断熱添加剤としてのその粒子の使用に関する。
【０００２】
一部のタングステン酸塩を含む複数の金属酸化物は、導電性と断熱特性を兼ね備えることが長く知られている（Ｃｈｏｐｒａ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ  １０２，  １  （１９８３））。タングステン酸塩と、水素およびタングステン金属を含む種々の還元剤との反応は、有色亜酸化物または複合酸化物（「ブロンズ」）をもたらすことが知られている。米国特許第２００７−１８７６５３号は、炭酸アルカリと混合した六塩化タングステン、メタタングステン酸アンモニウム、またはタングステン酸などの抽出物、またはそのような抽出物の溶液を８００℃まで加熱することによる、数種類のタングステン酸化物もしくはブロンズの製造を開示している。そのようにして得られた材料は、赤外遮蔽特性を備える光透過性導電性フィルムの製造に推奨されている。
【０００３】
タングステン亜酸化物の粉体（例えば、ＷＯ2.7）は、微粉（５〜２０ミクロン）として、例えばＯｓｒａｍ  Ｓｙｌｖａｎｉａ社から市販されている。
【０００４】
タングステン亜酸化物およびタングステン酸塩は、赤外遮蔽材料として既知である。欧州特許第１６７６８９０号および米国特許第２００７／０１８７６５３号（住友金属鉱山株式会社）の広報は、還元された酸素を有する三酸化タングステンを含む赤外遮蔽ナノ粒子分散液を開示している。いくつかのさらなるタングステン酸塩の製造は、国際出願第０７／０９２０３０号に記載されている。
【０００５】
例えば下記でさらに説明するような高温処理で得ることができる、タングステン酸化物に基づき少量のタングステン金属を含有する一部の粉体は、有機ポリマー中に分散させたときに特に有益な特性を示すことがわかった。本発明は、主に、
ａ）２５〜７０質量部、特に３０〜５５質量部の水素タングステンブロンズと、
ｂ）２０〜７０質量部、特に３０〜６０質量部の二元系タングステン酸化物と、
ｃ）１〜３０質量部、特に２〜２０質量部のタングステン金属と、
を含む粒子組成物を提供する。
【０００６】
通常は、水素タングステンブロンズの大部分、例えば５０〜１００質量％、好ましくは８０〜１００質量％は、立方晶構造である。最も好適なタングステンブロンズ相は、一般に、Ｗｉｓｅｍａｎ，  Ｊ．  Ｓｏｌｉｄ  Ｓｔａｔｅ  Ｃｈｅｍ．  ６，  ３７４  （１９７３）に記載されている、空間群Ｉｍ３のものであるが、ただし本発明における使用では重水素に対する制限は不要であり、したがってこの材料は任意の水素同位体、通常は天然水素を含有してもよい。
【０００７】
その組成物全体において本組成物中の二元系タングステン酸化物は、通常は式ＷＯ3-yに従い、式中、ｙは０〜１、例えば０．０１〜０．５５、好ましくは０〜０．３３、特に０〜０．１の範囲である。そのような二元系タングステン酸化物の例は周知であり、例えば、相ＷＯ3、ＷＯ2.92（Ｗ25Ｏ73としても既知である）、ＷＯ2.83（すなわち、Ｗ24Ｏ68）、ＷＯ2.8（すなわち、Ｗ5Ｏ14）、ＷＯ2.72（すなわち、Ｗ18Ｏ49）、ＷＯ2.625（すなわち、Ｗ32Ｏ84）、ＷＯ2が挙げられる。
【０００８】
下記でさらに説明するような方法において形成されることが多い最も好適な二元系タングステン酸化物は、あらゆる変性体の形態（特に、下記に説明する単斜晶系および三斜晶系）の三酸化物（式中ｙ＝０である上式に相当する）、または前記三酸化物と少量（例えば最大２０質量％）の亜酸化物（式中、ｙ＞０）との組み合わせである。
【０００９】
さらなる好適な二元系タングステン酸化物相には、
ＷＯ3の単斜晶型、Ｐ２1／ｎと、
ＷＯ3の三斜晶型、Ｐ−１と、
ＷＯ2.92の単斜晶型、Ｐ２1／ｃと、
ＷＯ2.8の正方晶型、Ｐ４２ｍと、
ＷＯ2.72の単斜晶型、Ｐ２／ｍと、
ＷＯ2.625の斜方晶型、Ｐ  ｂ  ａ  ｍと、
が含まれる。
【００１０】
本発明の粒子組成物は、成分ａ〜ｃをそれぞれ別個の粒子として含むか、あるいは好ましくは、粒子の大部分または全てが、これらの成分のそれぞれを含有してもよい。成分ａ〜ｃは合わせて通常は全粉体組成物の９５〜１００質量％を構成し、残部がある場合、これは通常、有機ポリマー、別のタングステン化合物、および／または水である。（一次）粒子は、通常、サイズ範囲１ｎｍ〜８００ｎｍのナノ粒子であり、例えば粒子の９０質量％がその範囲内、特に５〜３００ｎｍの粒径範囲内であり、例えば分散液中に凝集体が形成される場合、これは通常、一次粒子、例えばその分散液に周知の技法で変換される。好適な粉体は、粒子の少なくとも８０質量％が、５〜３００ｎｍの範囲の最小および最大粒径を有するものである。マトリックスに組み込まれた粒子は、関連ＩＲ放射（特にＮＩＲ、例えば８００〜２５００ｎｍの帯域）を吸収することができる。その形状は、例えば球体、フレーク、およびナノロッドなどから自由に選択できる。
【００１１】
本発明は、さらに水素タングステンブロンズ、特に上記に定義した成分ａ〜ｃを含む水素タングステンブロンズ組成物製造のための方法に関し、この方法は、２５００Ｋ以上の温度で、タングステン酸アンモニウムを水素または水素放出還元ガスに接触させるステップを含む。この方法で使用するための好適なタングステン酸アンモニウムには、モノタングステン酸アンモニウム、ヘキサタングステン酸およびドデカタングステン酸などのパラタングステン酸アンモニウム、およびメタタングステン酸アンモニウム、ならびにそれらの水和物が含まれ、例としては（ＮＨ4）10Ｗ12Ｈ20Ｏ42・４Ｈ2Ｏがある。還元および水素放出に適切なガスには、例えば、アンモニア、またはエタンまたはプロパンのような揮発性炭化水素が含まれ、これらは水素の代わりに、あるいは水素との混合物として使用することができる。接触は好ましくはプラズマ中で実施し、特に水素および／または水素放出ガスが希ガスとの混合物として使用される。
【００１２】
プラズマトーチは、好ましくは誘導プラズマトーチである。本発明の方法で使用するための好適な誘導プラズマトーチは、Ｔｅｋｎａ  Ｐｌａｓｍａ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，  Ｉｎｃ．（カナダ、ケベック州シャーブルック）から入手可能である。Ｂｏｕｌｏｓ  ｅｔ  ａｌ．による米国特許公報第５，２００，５９５号は、プラズマ誘導トーチの構造および作用に関するその教示が参考として本明細書で援用される。
【００１３】
本粒子組成物は、ポリマーへの良好な分散性、そのようにして得られるポリマー組成物の良好な断熱特性、および良好な透明性（低ヘイズ）の利点をもたらす。得られるポリマー組成物は、一般に老化時の低変色および良好な色安定性（低黄変）を示す。
【００１４】
この粒子は、例えばミキサー、ニーダー、または押出機を用いた添加剤ブレンド法によって、コーティングもしくはプラスチック組成物、例えばフィルムまたはシートの形態の熱可塑性ポリマー材料に混入することができる。粒子は、非常に効果的なＩＲ吸収／断熱特性を有する透明または半透明の材料、特に透明の材料を得るため、および／または材料の熱吸収効率を改善するために使用することができる。本粉体組成物は、添加剤として以下のポリマーマトリックスにおいて有利に使用される。
【００１５】
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン、またはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィンのポリマー、例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（場合によっては架橋されていてもよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）、および（ＵＬＤＰＥ）。
【００１６】
ポリオレフィン、すなわち前節に例示されているモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン、およびポリプロピレンは、様々な方法、特に以下の方法で製造することができる。
【００１７】
ａ）ラジカル重合（通常は、高圧下、高温で）。
【００１８】
ｂ）通常は周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ、またはＶＩＩＩ族の１つ以上の金属を含有する触媒を用いた触媒重合。これらの金属は、通常は１つ以上の配位子を有し、これは典型的には酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル、および／またはアリールであり、これらはπ−配位あるいはσ−配位のいずれかであってよい。これらの金属錯体は、遊離形態であっても、あるいは基質、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタニウム（ＩＩＩ）、アルミナ、または酸化シリコンに固定されていてもよい。これらの触媒は、重合媒体に可溶性であっても、または不溶性であってもよい。触媒は、重合時にそれだけで使用しても、あるいはさらなる活性化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド、または金属アルキルオキサン（これらの金属は、周期表のＩａ、ＩＩａ、および／またはＩＩＩａ族の元素である）を用いてもよい。活性化剤は、好都合には、さらなるエステル、エーテル、アミン、またはシリルエーテル基で変性されていてもよい。これらの触媒系は、通常、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ、Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｏｉｌ  Ｉｎｄｉａｎａ、Ｚｉｅｇｌｅｒ（−Ｎａｔｔａ）、ＴＮＺ（ＤｕＰｏｎｔ）、メタロセン、またはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と称される。
【００１９】
２．１）に記載のポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）、および異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００２０】
３．モノオレフィンおよびジオレフィンの互いとのまたは別のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびそれらの混合物と低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、ＣＯＣのようなエチレン／ノルボルネン）、エチレン／１−オレフィンコポリマー（１−オレフィンがその場で生成される）、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー、またはエチレン／アクリル酸コポリマー、およびそれらの塩（アイオノマー）、およびエチレンとプロピレンとジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、またはエチリデン−ノルボルネンなどとのターポリマー、ならびにそのようなコポリマーの互いとのまたは上記の１）に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ、および交互もしくはランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー、およびそれらと別のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００２１】
４．炭化水素樹脂（例えば、Ｃ5〜Ｃ9）およびそれらの水素化変性体（例えば、粘着付与剤）、ならびにポリアルキレンとデンプンとの混合物。
【００２２】
１．）〜４．）のホモポリマーおよびコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミアイソタクチック、またはアタクチックを含むいかなる立体構造を有してもよく、アタクチックポリマーが好適である。また、ステレオブロックポリマーも含まれる。
【００２３】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【００２４】
６．スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、特にｐ−ビニルトルエン、エチルスチレンの全ての異性体、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、およびビニルアントラセン、ならびにそれらの混合物を含むビニル芳香族モノマーから誘導された芳香族ホモポリマーおよびコポリマー。ホモポリマーおよびコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミアイソタクチック、またはアタクチックを含むいかなる立体構造を有してもよく、アタクチックポリマーが好適である。また、ステレオブロックポリマーも含まれる。
【００２５】
６ａ．前述のビニル芳香族モノマーと、エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、無水マレイン酸、マレイミド、酢酸ビニル、および塩化ビニル、またはそれらのアクリル誘導体および混合物から選択されたコモノマーとを含むコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（インターポリマー）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー、またはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの高耐衝撃性を有する混合物；ならびにスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、またはスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンなど。
【００２６】
６ｂ．６．）に記載のポリマーの水素化により生じる水素化芳香族ポリマー。特にアタクチックポリスチレンを水素化することによって製造されるポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）を含み、これはしばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）と称される。
【００２７】
６ｃ．６ａ．）に記載のポリマーの水素化により生じる水素化芳香族ポリマー。
【００２８】
ホモポリマーおよびコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミアイソタクチック、またはアタクチックを含むいかなる立体構造を有してもよく、アタクチックポリマーが好適である。また、ステレオブロックポリマーも含まれる。
【００２９】
７．ビニル芳香族モノマー、例えばスチレンまたはα−メチルスチレンなどのグラフトコポリマー、例えば、ポリブタジエン上のスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマー上のスチレン；ポリブタジエン上のスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリロニトリル）；ポリブタジエン上のスチレン、アクリロニトリル、およびメチルメタクリレート；ポリブタジエン上のスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエン上のスチレン、アクリロニトリル、および無水マレイン酸またはマレイミド；ポリブタジエン上のスチレンおよびマレイミド；ポリブタジエン上のスチレンおよびアルキルアクリレートもしくはアルキルメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマー上のスチレンおよびアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレート上のスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマー上のスチレンおよびアクリロニトリル、ならびにそれらと６）に記載のコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ、またはＡＥＳポリマーとして既知のコポリマー混合物。
【００３０】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化もしくはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリンホモポリマーおよびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ならびにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、または塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーなど。
【００３１】
９．α，β−不飽和酸およびそれらの誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレートなど；ブチルアクリレートを用いて耐衝撃性改質されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド、およびポリアクリロニトリル。
【００３２】
１０．９）に記載のモノマーの互いとのまたは別の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートコポリマー、またはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、またはアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００３３】
１１．不飽和アルコールおよびアミン、またはそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導されたポリマー、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート、またはポリアリルメラミン；ならびにそれらの上記１）に記載のオレフィンとのコポリマー。
【００３４】
１２．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、またはそれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００３５】
１３．ポリオキシメチレンなどのポリアセタール、およびコモノマーとしてエチレンオキシドを含有するポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート、またはＭＢＳを用いて変性されたポリアセタール。
【００３６】
１４．ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレンサルファイド、ならびにポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
【００３７】
１５．一方はヒドロキシル末端のポリエーテル、ポリエステル、またはポリブタジエン、他方は脂肪族もしくは芳香族のポリイソシアネートから誘導されたポリウレタン、およびそれらの前駆体。
【００３８】
１６．ジアミンとジカルボン酸、および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンとアジピン酸とから出発する芳香族ポリアミド；変性剤としてのエラストマーを使用して、または使用せずに、ヘキサメチレンジアミンとイソフタル酸または／およびテレフタル酸とから製造されるポリアミド、例えばポリ−２，４，４，−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド、またはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；また前述のポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー、または化学的に結合したもしくはグラフトされたエラストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、もしくはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳを用いて変性されたポリアミドまたはコポリアミド；および処理中に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００３９】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン、およびポリベンゾイミダゾール。
【００４０】
１８．ジカルボン酸とジオール、および／またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンもしくはラクチドから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート、およびポリヒドロキシベンゾエート、ならびにヒドロキシル末端ポリエーテルから誘導されたコポリエーテルエステル、またポリカーボネートまたはＭＢＳを用いて変性されたポリエステル。コポリエステルは、例えば、ポリブチレンサクシネート／テレフタレート、ポリブチレンアジペート／テレフタレート、ポリテトラメチレンアジペート／テレフタレート、ポリブチレンサクシネート／アジペート、ポリブチレンサクシネート／カーボネート、ポリ−３−ヒドロキシブチレート／オクタノエートコポリマー、ポリ−３−ヒドロキシブチレート／ヘキサノエート／デカノエートターポリマーを含んでもよいが、これらに限定されない。さらに、脂肪族ポリエステルは、例えばポリ（ヒドロキシアルカノエート）の群、特にポリ（プロピオラクトン）、ポリ（ブチロラクトン）、ポリ（ピバロラクトン）、ポリ（バレロラクトン）、およびポリ（カプロラクトン）、ポリエチレンサクシネート、ポリプロピレンサクシネート、ポリブチレンサクシネート、ポリヘキサメチレンサクシネート、ポリエチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリエチレンオキサレート、ポリプロピレンオキサレート、ポリブチレンオキサレート、ポリヘキサメチレンオキサレート、ポリエチレンセバケート、ポリプロピレンセバケート、ポリブチレンセバケート、およびポリ乳酸（ＰＬＡ）、ならびにポリカーボネートまたはＭＢＳを用いて変性された相当するポリエステルを含んでもよいが、これらに限定されない。「ポリ乳酸（ＰＬＡ）」という用語は、好ましくはポリ−Ｌ−ラクチドのホモポリマー、およびその別のポリマーとの任意のブレンドまたは合金；乳酸またはラクチドと別のモノマー、例えばヒドロキシカルボン酸、例えばグリコール酸、３−ヒドロキシ−酪酸、４−ヒドロキシ−酪酸、４−ヒドロキシ−吉草酸、５−ヒドロキシ−吉草酸、６−ヒドロキシ−カプロン酸、およびそれらの環状体などとのコポリマーを指し；「乳酸」または「ラクチド」という用語は、Ｌ−乳酸、Ｄ−乳酸、それらの混合物および二量体、すなわち、Ｌ−ラクチド、Ｄ−ラクチド、メソ−ラクチド、およびそれらの任意の混合物を含む。
【００４１】
１９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。
【００４２】
２０．ポリケトン
【００４３】
２１．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、およびポリエーテルケトン。
【００４４】
２２．一方はアルデヒド、他方はフェノール、尿素、およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂、およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００４５】
２３．乾燥および非乾燥アルキド樹脂。
【００４６】
２４．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール、および架橋剤としてのビニル化合物のコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、ならびに低燃焼性を有するそれらのハロゲン含有変性体。
【００４７】
２５．置換アクリレートから誘導された架橋可能なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、またはポリエステルアクリレート。
【００４８】
２６．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート、またはエポキシ樹脂と架橋したアルキド樹脂、ポリエステル樹脂、およびアクリレート樹脂。
【００４９】
２７．脂肪族、脂環式、複素環式、または芳香族のグリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、促進剤を用いて、または用いずに無水物またはアミンなどの常用の硬化剤を用いて架橋された、ビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物。
【００５０】
２８．天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン、およびそれらの化学的に変性された相同性誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、および酪酸セルロース、またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロースなど、ならびにロジンおよびその誘導体。
【００５１】
２９．前述のポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭもしくはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ  ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ、またはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００５２】
透明および半透明ポリマー材料の場合、本材料を透過する光の量、すなわち半透明性または透明性の程度は、主に周知のパラメータ、例えば粒子負荷、使用するさらなる添加剤、ポリマーマトリックスのヘイズレベル、および材料の厚みなどに依存する。本材料は、可視域（４００〜８００ｎｍ）の各部において、通常は少なくとも８０％、あるいはむしろ９０％超の半透明性であり、好適な材料は良好な透明性を有し、特に厚み１０ｍｍ未満（例えば、０．０１〜５ｍｍ）の清澄透明シートおよびフィルムから選択される。好適な材料は、さらに以下の有利な特性のうちの１つまたは複数を共有する。
【００５３】
−  全日射透過率（３４０〜１８００ｎｍ）  ６０％未満
−  ヘイズ  １０％未満
−  １０〜２０００ＭＨｚの範囲の電磁遮蔽  ２ｄＢ未満
−  全可視光透過率（４００〜８００ｎｍ）  ７５％超。
【００５４】
本粒子は、以下のプラスチックマトリックスにおいて添加剤として有利に使用される（特に、透明および半透明ポリマー製品の場合）。
−ポリカーボネート（ＰＣ）、またはポリカーボネート上のコーティング層もしくは共押出層、ポリエステル、アクリル、ハロゲン化ポリマー、例えばポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリオレフィン、ビニル芳香族モノマーおよびそれらのグラフトコポリマーから誘導された芳香族ホモポリマーおよびコポリマー、例えばアクリルニトリル−ブタジエン−スチレンターポリマー（ＡＢＳ）（これらのポリマーを主成分として含有する、あるいは本質的に純粋な形態である（例えば、５０〜１００質量％））、特に：
−  ＰＣ、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ＰＥＴ−Ｇ）、ＰＶＣ、透明ＡＢＳ、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、スチレン−アクリルニトリルコポリマー（ＳＡＮ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）（ブレンド、合金、コポリマーを含む）から選択されたポリマー。
【００５５】
ポリマーマトリックスへの組み込みは、透明性の高いプラスチック製品をもたらす。これらは無色（例えば、クリアグレージングまたはフィルム用）であっても、あるいは例えば適切な濾光または日光遮断が望まれる適用例の場合、または有色コーティング剤の場合、例えば顔料もしくは顔料の混合物を添加することにより有色であってもよい。本酸化物または窒化物材料は、高い添加量を可能とし、高い断熱作用が得られる。好ましい添加量は、最終ポリマー組成物の０．０１〜１５質量％、特に０．１〜５質量％である。
【００５６】
本粒子は、既知の方法（例えばシラン化、チオール、アミン、ホスフィン、ステアレートなどの使用）を用いて、混入前にその表面を官能化することができる。
【００５７】
好適な実施形態において、本粒子および／または粉体組成物に、例えば以下の材料から選択された１つ以上のさらなる添加剤を配合する。
【００５８】
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖かまたは分岐しているノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール、およびそれらの混合物。
【００５９】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００６０】
１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシ−フェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００６１】
１．４．トコフェロール、例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、およびそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００６２】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。
【００６３】
１．６．アルキリデンビスフェノール、例えば２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタ−ジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００６４】
１．７．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００６５】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００６６】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００６７】
１．１０．トリアジン化合物、例えば２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００６８】
１．１１．ベンジルホスホネート、例えばジメチル−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００６９】
１．１２．アシルアミノフェノール、例えば４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００７０】
１．１３．β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価もしくは多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００７１】
１．１４．β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価もしくは多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス−（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデカンとのエステル。
【００７２】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価もしくは多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００７３】
１．１６．３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価もしくは多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００７４】
１．１７．β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えばＮ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（Ｎａｕｇａｒｄ（登録商標）ＸＬ−１、Ｕｎｉｒｏｙａｌ社）。
【００７５】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）。
【００７６】
１．１９．アミン系抗酸化剤、例えばＮ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノ−メチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−メチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニル−アミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチル−フェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブト−２−エン。
【００７７】
２．ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］、２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物、
【化１】
0005634871.tif 000002
（式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００７８】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ、および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００７９】
２．３．置換または非置換の安息香酸のエステル、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００８０】
２．４．アクリレート、例えばエチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナマート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナマート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナマート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナマート、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、ネオペンチルテトラ（α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート）。
【００８１】
２．５．ニッケル化合物、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン、またはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンなどの付加配位子を有するまたは有さない、２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］の１：１もしくは１：２錯体などのニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトオキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニッケル錯体、付加配位子を有するまたは有さない、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００８２】
２．６．立体障害アミン、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状もしくは環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状もしくは環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）、１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ−ジブチルアミンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１９２２６８−６４−７］）、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ−［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンもしくは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３，５−トリアジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、５−（２−エチルヘキサノイル）−オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、Ｓａｎｄｕｖｏｒ（Ｃｌａｒｉａｎｔ；ＣＡＳ登録番号［１０６９１７−３１−１］）、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、２，４−ビス−［（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−ピペリジン−４−イル）ブチルアミノ］−６−クロロ−ｓ−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン）との反応生成物、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−オン−４−イル）−アミノ）−ｓ−トリアジン。
【００８３】
２．７．オキサミド、例えば４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリドおよびその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００８４】
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（４−［２−エチルヘキシルオキシ］−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００８５】
３．金属不活性化剤、例えばＮ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００８６】
４．ホスファイトおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２’’−ニトリロ−［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【００８７】
以下のホスファイトは、特に好適である：
トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（ｌｒｇａｆｏｓ（登録商標）１６８、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．）、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、
【化２】
0005634871.tif 000003
【００８８】
５．ヒドロキシルアミン、例えばＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００８９】
６．ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化獣脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００９０】
７．チオ共力剤、例えばジラウリルチオジプロピオネート、ジミストリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、またはジステアリルジスルフィド。
【００９１】
８．過酸化物捕捉剤、例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル、もしくはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００９２】
９．ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物および／またはリン化合物と組み合わせた銅塩、および二価マンガン塩。
【００９３】
１０．塩基性共安定剤、例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム、パルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン、またはピロカテコール酸亜鉛。
【００９４】
１１．成核剤、例えば無機物質、例えばタルカム、金属酸化物、例えば二酸化チタニウムまたは酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩、または硫酸塩；有機化合物、例えばモノカルボン酸もしくはポリカルボン酸およびそれらの塩、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム、または安息香酸ナトリウム；ポリマー化合物、例えばイオン性コポリマー（アイオノマー）。特に好適なものは、１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチル−ジベンジリデン）ソルビトール、および１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトールである。
【００９５】
１２．充填剤および強化剤、例えば炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラスビーズ、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉、およびその他の天然物の粉または繊維、合成繊維。
【００９６】
１３．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、光学的光沢剤、防炎剤、帯電防止剤および発泡剤。
【００９７】
１４．ベンゾフラノンおよびインドリノン、例えば米国特許第４，３２５，８６３号；米国特許第４，３３８，２４４号；米国特許第５，１７５，３１２号；米国特許第５，２１６，０５２号；米国特許第５，２５２，６４３号；ドイツ特許公報第４３１６６１１号；ドイツ特許公報第４３１６６２２号；ドイツ特許公報第４３１６８７６号；欧州特許公報第０５８９８３９号、欧州特許公報第０５９１１０２号；欧州特許公報第１２９１３８４号において開示されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシメチル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチルベンゾフラン−２−オン。
【００９８】
これらのさらなる添加剤のうちの１つ以上は、通常、組成物の０．０１〜約１０％の量、しばしば最終組成物の約０．１〜５質量％の濃度レベルで含まれる。重要なものは、例えば、抗酸化剤（例えば、フェノール系抗酸化剤および／または上記に記載のホスファイト／ホスホナイト）、および多くの適用例では難燃剤である。清澄剤／成核剤を添加して、特にポリオレフィン組成物の透明性を提供または改善してもよい。特に好適なものは、本ナノ粒子と光安定剤、例えばＵＶ吸収剤および／または立体障害アミン（ＨＡＬＳ）などとの組み合わせである。特に酸化亜鉛は、ＵＶ放射を強力に吸収し、プラスチック耐久性を向上させる周知のプラスチック添加剤である。さらに、ＨＡＬＳなどの光安定剤と組み合わせたときの強い相乗効果も知られている（例えば、欧州特許公報第６９００９４号；米国特許第５９４８８３６号を参照）。
【００９９】
プラスチック材料、特に、上述のようなポリマーおよびナノ粒子を含有する本発明のフィルムは、建築用グレージング、建造物および構築物におけるグレージング、自動車用グレージング、輸送機関用グレージング、農業用フィルム、および構造物などの技術応用分野で有利に使用することができる。材料は、ソリッドシート、モノリシックシート、二層シート、多層シート、フラットシート、波型シート、フィルム、配向フィルムまたは一軸もしくは二軸配向フィルム、積層フィルム、キャップストックフィルムであってよい。具体的な適用分野には、ウィンターガーデンおよびベランダ建築物、ファサード、天窓、プールカバーおよびエンクロージャ、屋根構造物、アーチ型天井、通路、シェルタ、サイネージ、屋内および屋外設計要素、日除け、サイドウィンドウ、リヤウィンドウ、パノラマルーフ、温室が含まれる。
【０１００】
主な適用例は、断熱、光管理、熱管理、エネルギー管理、日射制御であり、またレーザー溶接、セキュリティー機能、マーキング、トレーサー、熱伝達も重要である。
【０１０１】
本発明の組成物は、好ましくは可塑化されていない。本発明の組成物は、いずれの金属または金属粒子もさらに必要とせず、また通常はそのような成分を含有しない。特に技術的に興味深いのは、自動車用または建築用グレージングのための硬質透明組成物、例えばプレートまたはシート、または半透明もしくは透明のポリオレフィンもしくはポリオレフィンコポリマーフィルム、特に農業適用例のためのものである。
【０１０２】
本発明の添加剤および任意のさらなる成分は、個別にポリマー材料に添加しても、または互いと混合してもよい。所望であれば、個々の成分は、ポリマーに混入する前に、例えばドライブレンド法、圧縮法によって、または融解物中で互いに混合してもよい。
【０１０３】
本発明の添加剤および任意のさらなる成分のポリマーへの混入は、既知の方法、例えば粉体の状態でのドライブレンド法、または例えば不活性溶媒、水、もしくは油中の溶液、分散液、もしくは懸濁液の状態での湿式混合法によって実施する。本発明の添加剤および任意のさらなる添加剤は、例えば成形前もしくは成形後に、または溶解もしくは分散させた添加剤もしくは添加剤混合物をポリマー材料に付与することによって、その後の溶媒または懸濁剤／分散剤の蒸発を伴って、または伴わずに、混入することができる。これらは、例えば乾燥混合物もしくは粉体として、または溶液もしくは分散液もしくは懸濁液もしくは融解物として、処理装置（押出機、内部ミキサーなど）内に直接添加してもよい。
【０１０４】
混入は、撹拌機を装備した任意の加熱可能な容器内、例えばニーダー、ミキサー、または攪拌槽などの密閉装置内で実施することができる。混入は、好ましくは押出機内またはニーダー内で実施する。処理を不活性雰囲気下で実施するか、あるいは酸素の存在下で実施するかは重要でない。
【０１０５】
添加剤または添加剤ブレンドのポリマーへの添加は、その中でポリマーが融解して添加剤と混合される全ての常用の混合機内で実施することができる。適切な機械は当業者に既知である。これらは主にミキサー、ニーダー、および押出機である。
【０１０６】
この方法は、好ましくは、処理中に添加剤を導入することによって押出機内で実施する。
【０１０７】
特に好適な処理機は、単スクリュー押出機、二重反転および共回転ツインスクリュー押出機、遊星歯車押出機、リング押出機、またはコニーダーである。また、真空を適用可能な少なくとも１つのガス除去区画を備える処理機を使用することもできる。
【０１０８】
適切な押出機およびニーダーは、例えば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ  ｄｅｒ  Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，  Ｖｏｌ．  １  Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ，  Ｅｄｉｔｏｒｓ  Ｆ．  Ｈｅｎｓｅｎ，  Ｗ．  Ｋｎａｐｐｅ，  Ｈ．  Ｐｏｔｅｎｔｅ，  １９８９，  ｐｐ．  ３−７，  ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４  （Ｖｏｌ．  ２  Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ  １９８６，  ＩＳＢＮ  ３−４４６−１４３２９−７）に記載されている。
【０１０９】
例えば、スクリューの長さは、１〜６０スクリュー径、好ましくは２０〜４８スクリュー径である。スクリューの回転速度は、好ましくは１〜８００回転／分（ｒｐｍ）、非常に好ましくは２５〜４００ｒｐｍである。
【０１１０】
最大スループットは、スクリュー径、回転速度、および駆動力に依存する。本発明の方法は、言及したパラメータを変更することによって、または適用量を送達する計量機を使用することによって、最大スループットよりも低いレベルで実施することもできる。
【０１１１】
複数の成分を添加する場合、これらの成分はあらかじめ混合しても、または個別に添加してもよい。
【０１１２】
本発明の添加剤および任意のさらなる添加剤は、ポリマーに混入されたおよび／または適切な溶媒中に分散されたそれらの成分を例えば約５〜約８０質量％、好ましくは５〜約４０質量％の濃度で含有するマスターバッチ（「濃縮物」）の形態でポリマーに添加してもよい。このポリマーは、添加剤が最終的に添加されるポリマーと必ずしも同一の構造を有さなくてもよい。このような工程では、ポリマーは、粉体、細粒、溶液、懸濁液の形態で、またはラテックスの形態で使用することができる。
【０１１３】
混入は、成形工程の前もしくは最中に、または溶解もしくは分散された化合物をポリマーに付与することによって、その後の溶媒の蒸発を伴って、または伴わずに実施することができる。エラストマーの場合、これらはラテックスとして安定化させることもできる。さらに可能な本発明の添加剤のポリマーへの混入は、ポリマーを相当するモノマーの重合前、重合中、もしくは重合直後、または架橋前に添加することである。これに関連して、本発明の添加剤は、そのまま添加しても、あるいは封入形態（例えば、ロウ、油、またはポリマー中）で添加してもよい。
【０１１４】
本明細書に記載の本発明の添加剤を含有する材料は、成形品、ロトモールド品、射出成形品、ブロー成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維、不織布、プロファイル、接着剤またはパテ、表面コーティング剤などの製造に使用することができる。
【０１１５】
本マトリックス材料は、成分（ａ）として適切なバインダーを含む、コーティング材料または硬化コーティング剤であってもよい。バインダー（成分（Ａ））は、原則として業界で常用のいかなるバインダーでもよく、これは例えばＵｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ５ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，  Ｖｏｌ．  Ａ１８，  ｐｐ．  ３６８−４２６，  ＶＣＨ，  Ｗｅｉｎｈｅｉｍ  １９９１に記載されているものである。一般に、これは熱可塑性もしくは熱硬化性樹脂に基づくフィルム形成性バインダーであり、主に熱硬化性樹脂に基づくものである。これらの例には、アルキド、アクリル、ポリエステル、フェノール、メラミン、エポキシ、およびポリウレタン樹脂、ならびにそれらの混合物がある。
【０１１６】
成分（Ａ）は、低温硬化性または高温硬化性バインダーであってよく、硬化触媒の添加は有利となりうる。バインダーの硬化を促進する適切な触媒は、例えば、Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  Ｖｏｌ．  Ａ１８，  ｐ．４６９，  ＶＣＨ  Ｖｅｒｌａｇｓｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ，  Ｗｅｉｎｈｅｉｍ  １９９１に記載されている。
【０１１７】
成分（Ａ）が官能性アクリレート樹脂と架橋剤とを含むバインダーであるコーティング組成物が好ましい。
【０１１８】
特定のバインダーを含有するコーティング組成物の例には、以下のものがある。
【０１１９】
１．低温架橋もしくは熱架橋可能なアルキド、アクリレート、ポリエステル、エポキシ、もしくはメラミン樹脂、またはそのような樹脂の混合物に基づき、所望であれば硬化触媒を添加した塗料
２．ヒドロキシル含有アクリレート、ポリエステル、またはポリエーテル樹脂と、脂肪族または芳香族のイソシアネート、イソシアヌレート、またはポリイソシアネートとに基づく２成分ポリウレタン塗料
３．チオール含有アクリレート、ポリエステル、またはポリエーテル樹脂と、脂肪族または芳香族のイソシアネート、イソシアヌレート、またはポリイソシアネートとに基づく２成分ポリウレタン塗料
４．焼付け時に脱ブロック化されるブロック化イソシアネート、イソシアヌレート、またはポリイソシアネートに基づき、所望であればメラミン樹脂を添加した１成分ポリウレタン塗料
５．脂肪族または芳香族のウレタンまたはポリウレタンと、ヒドロキシル含有アクリレート、ポリエステル、またはポリエーテル樹脂に基づく１成分ポリウレタン塗料
６．ウレタン構造中に遊離アミノ基を有する脂肪族または芳香族のウレタンアクリレートまたはポリウレタンアクリレートと、メラミン樹脂またはポリエーテル樹脂とに基づき、所望であれば硬化触媒を含む１成分ポリウレタン塗料
７．（ポリ）ケチミンと、脂肪族または芳香族のイソシアネート、イソシアヌレート、またはポリイソシアネートに基づく２成分塗料
８．（ポリ）ケチミンと、不飽和アクリレート樹脂またはポリアセトアセテート樹脂、またはメタクリルアミドグリコレートメチルエステルとに基づく２成分塗料
９．カルボキシル含有もしくはアミノ含有ポリアクリレートと、ポリエポキシドとに基づく２成分塗料
１０．無水物基を含有するアクリレート樹脂と、ポリヒドロキシ成分またはポリアミノ成分とに基づく２成分塗料
１１．アクリレート含有無水物と、ポリエポキシドとに基づく２成分塗料
１２．（ポリ）オキサゾリンと、無水物基を含有するアクリレート樹脂、または不飽和アクリレート樹脂、あるいは脂肪族または芳香族のイソシアネート、イソシアヌレート、またはポリイソシアネートとに基づく２成分塗料
１３．不飽和ポリアクリレートと、ポリマロネートとに基づく２成分塗料
１４．エーテル化メラミン樹脂と組み合わせた、熱可塑性アクリレート樹脂または外部架橋性アクリレート樹脂に基づく熱可塑性ポリアクリレート塗料
１５．シロキサン変性またはフッ素変性アクリレート樹脂に基づく塗料系
１６．架橋剤（酸性触媒による）としてのメラミン樹脂（例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン）を含む、マロネートでブロックしたイソシアネートに基づく塗料系、特にクリアコート用のもの
１７．オリゴマー性ウレタンアクリレートおよび／またはアクリラトアクリレートに基づき、所望であれば別のオリゴマーまたはモノマーと組み合わせた紫外線硬化系
１８．まず熱により、続いて紫外線または電子線放射により（あるいはその逆により）硬化する二重硬化系であって、その成分が照射時に紫外線（光開始剤の存在下）または電子線と反応しうるエチレン二重結合を含有する二重硬化系
【０１２０】
また、シロキサンに基づくコーティング系、例えば国際出願第９８／５６８５２号、国際出願第９８／５６８５３号、ドイツ特許公報第２９１４４２７号、またはドイツ特許公報第４３３８３６１号に記載されている系も可能である。
【０１２１】
成分（Ａ）および（Ｂ）に加え、本発明によるコーティング組成物は、好ましくは、成分（Ｃ）として立体障害アミン型、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン型、および／または２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール型の光安定剤、例えば上記の２．１項、２．６項、および２．８項の一覧に記載したものを含む。有利に添加される２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン型の光安定剤のさらなる例は、例えば、米国特許公報第４６１９９５６号、欧州特許公報第４３４６０８号、米国特許公報第５１９８４９８号、米国特許公報第５３２２８６８号、米国特許公報第５３６９１４０号、米国特許公報第５２９８０６７号、国際出願第９４／１８２７８号、欧州特許公報第７０４４３７号、英国特許公報第２２９７０９１号、国際出願第９６／２８４３１号の広報に記載されている。特に技術的に興味深いものは、２−レゾルシニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−レゾルシニル−４，６−ビス（ビフェニリル）−１，３，５−トリアジン、および／または２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンズトリアゾールの群の化合物の添加である。
【０１２２】
成分（Ａ）、（Ｂ）、および使用するのであれば（Ｃ）の他に、コーティング組成物は、さらなる成分を含んでもよいが、この例には、溶媒、顔料、染料、可塑剤、安定剤、レオロジー剤もしくは揺変剤、乾燥触媒、および／またはレベリング剤がある。可能な成分の例は、Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ５ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，  Ｖｏｌ．  Ａ１８，  ｐｐ．  ４２９−４７１，  ＶＣＨ，  Ｗｅｉｎｈｅｉｍ  １９９１に記載されている。
【０１２３】
可能な乾燥触媒または硬化触媒は、例えば、遊離（有機）酸もしくは塩基、または熱処理または放射によって脱ブロック化されうるブロックされた（有機）酸もしくは塩基、有機金属化合物、アミン、アミノ含有樹脂、および／またはホスフィンである。有機金属化合物の例は、金属カルボキシレート、特に金属Ｐｂ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｚｒ、もしくはＣｕのもの、または金属キレート、特に金属Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、もしくはＨｆのもの、または有機金属化合物、例えば有機スズ化合物である。
【０１２４】
金属カルボキシレートの例は、Ｐｂ、Ｍｎ、またはＺｎのステアリン酸塩、Ｃｏ、Ｚｎ、またはＣｕのオクチル酸塩、ＭｎおよびＣｏのナフテン酸塩または相当するリノール酸塩、樹脂酸塩、もしくはトール酸塩である。
【０１２５】
金属キレートの例は、アセチルアセトン、エチルアセチルアセテート、サリチルアルデヒド、サリチルアルドオキシム、ｏ−ヒドロキシアセトフェノン、またはエチルトリフルオロアセチルアセテートのアルミニウム、チタニウム、またはジルコニウムキレート、およびこれらの金属のアルコキシドである。
【０１２６】
有機スズ化合物の例は、ジブチルスズオキシド、ジブチルスズジラウレート、またはジブチルスズジオクトエートである。
【０１２７】
アミンの例は、特に３級アミン、例えばトリブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、またはジアザビシクロオクタン（トリエチレンジアミン）、ジアザビシクロウンデセン、ＤＢＮ（＝１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン）、およびそれらの塩である。さらなる例は、４級アンモニウム塩、例えばトリメチルベンジルアンモニウムクロリドである。
【０１２８】
アミノ含有樹脂は、同時にバインダーであり硬化触媒である。これらの例にはアミノ含有アクリレートコポリマーがある。
【０１２９】
使用する硬化触媒は、ホスフィン、例えばトリフェニルホスフィンであってもよい。
【０１３０】
また、新規コーティング組成物は、放射線硬化性コーティング組成物であってもよい。この場合、バインダーは、本質的に、エチレン性不飽和結合を含有するモノマーまたはオリゴマー化合物（プレポリマー）を含み、これらは塗布後、化学線放射により硬化される、すなわち架橋された高分子量の形態に変換される。ＵＶ硬化性の系の場合、これは一般に少なくとも１つの光開始剤も含有する。相当する系は、上述の出版物、Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ５ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，  Ｖｏｌ．  Ａ１８，  ｐｐ．  ４５１−４５３に記載されている。放射線硬化性コーティング組成物には、立体障害アミンの添加をせずに、新規安定剤を使用することもできる。
【０１３１】
本発明によるコーティング組成物は、あらゆる所望の基質、例えば金属、木材、プラスチック、またはセラミック材料に塗布することができる。これらの組成物は、好ましくは、自動車の仕上げ時のトップコートとして使用する。トップコートが、下層が着色され上層が着色されていない二層を含む場合、新規コーティング組成物は、上層または下層のいずれか、あるいは両層に使用してよいが、好ましくは上層に使用する。
【０１３２】
新規コーティング組成物は、常用の方法で、例えばはけ塗り、噴霧、注入、浸漬、または電気泳動によって基質に塗布することができる。Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ５ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ，  Ｖｏｌ．  Ａ１８，  ｐｐ．  ４９１−５００も参照されたい。
【０１３３】
バインダー系によって、コーティング剤は室温で、または加熱によって硬化させることができる。コーティング剤は、好ましくは５０〜１５０℃で硬化し、また粉体コーティング剤またはコイルコーティング剤の場合、さらに高い温度で硬化する。
【０１３４】
本発明によって得られるコーティング剤は、光、酸素、および熱の損傷効果に対して優れた耐性を有する。特にそのように得られたコーティング剤、例えば塗料の良好な光安定性および耐候性には言及すべきである。
【０１３５】
コーティング組成物は、バインダーが可溶性である有機溶媒または溶媒混合物を含んでもよい。コーティング組成物は、あるいは水性溶液または分散液であってもよい。媒質は、有機溶媒と水との混合物であってもよい。コーティング組成物は、ハイソリッド塗料であっても、または溶媒を含まなくてもよい（例えば、粉体コーティング材料）。粉体コーティング剤は、例えば、Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ５ｔｈ  Ｅｄ．，  Ａ１８，  ｐｐ．  ４３８−４４４に記載のものである。また粉体コーティング材料は、粉体スラリーの形態（粉体の好ましくは水中分散液）を有してもよい。
【０１３６】
顔料は、無機、有機、または金属顔料であってよい。新規コーティング組成物は、好ましくは顔料を含有せず、クリアコートとして使用する。
【０１３７】
本マトリックス材料は、無機ポリマー組成物、または有機／無機ポリマーハイブリッド系、例えばゾル・ゲルコーティング剤であってもよい。例には、金属アルコキシド、例えばＳｉ、Ｔｉ、Ｘｒ、Ａｌアルコキシドなどに基づく金属酸化物系、または樹脂＋金属アルコキシドの混合物に基づくハイブリッドコーティング剤があるが、そのような系の例およびそれらの製造は、その部分が参考として本明細書で援用される、米国特許第２００７０１８７６５３号の第［０１６９］段落または欧州特許公報第１６７６８９０号第１８欄、９〜１６行目に示されている。
【０１３８】
さらなる実施形態において、本発明は、上記に定義するとおりの水素タングステンブロンズと、さらに近赤外放射の入熱量を増加させるための、欧州特許出願第０７  １００６５７．１号に開示されているような式ＩまたはＩｌのジチオレン金属錯体とを含むブレンドの使用に関する。
【０１３９】
さらなる実施形態において、本発明は、上記に定義するとおりの水素タングステンブロンズと、さらにキノン−ジインモニウム塩、アミニウム塩、ポリメチン類、例えばシアニン、スクアレイン、クロコナイン；フタロシアニン、ナフタロシアニン、およびクアテリレン−ビスイミドから選択される少なくとも１つの有機ＩＲ吸収剤、またはさらに六ホウ化ランタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモンスズ、例えばＭｅｒｃｋ社から入手可能なＭｉｎａｔｅｃ  ２３０  Ａ−ＩＲ、またはＭｅｒｃｋ社から入手可能なＬａｚｅｒｆｌａｉｒ（登録商標）顔料から選択される少なくとも１つの無機ＩＲ吸収剤とを含むブレンドの使用に関する。
【０１４０】
有機ＩＲ吸収剤のさらなる例は、アルキル化トリフェニルホスホロチオネート、例えば商品名Ｃｉｂａ（登録商標）  Ｉｒｇａｌｕｂｅ（登録商標）  ２１１として販売されているもの、またはカーボンブラック、例えば商品名Ｃｉｂａ（登録商標）  Ｍｉｃｒｏｓｏｌ（登録商標）  Ｂｌａｃｋ  ２ＢもしくはＣｉｂａ（登録商標）  Ｍｉｃｒｏｓｏｌ（登録商標）  Ｂｌａｃｋ  Ｃ−Ｅ２として販売されているものである。無機ＩＲ吸収剤の例は、金属、例えば銅、ビスマス、鉄、ニッケル、スズ、亜鉛、マンガン、ジルコニウム、タングステン、ランタン、およびアンチモンの酸化物、水酸化物、硫化物、硫酸塩、およびリン酸塩であり、酸化アンチモン（Ｖ）をドープしたマイカおよび酸化スズ（ＩＶ）をドープしたマイカも含まれる。
【０１４１】
好適なものは、三酸化タングステン（ＷＯ3）と、水素を含むタングステン酸塩（例えば、ＷＯ3Ｈ0.53）と、（金属）タングステンとを含む新規混合物である。前記新規混合物は、パラタングステン酸アンモニウム［（ＮＨ4）10Ｗ12Ｈ20Ｏ42・４Ｈ2Ｏ、Ｏｓｒａｍ  Ｓｙｌｖａｎｉａ社販売］を５０００〜１００００Ｋ（ケルビン）のプラズマ反応器内で水素を用いて還元することにより製造できる。そのようにして得られた混合物は、約２５〜７０質量部、特に３０〜５５質量部の水素タングステンブロンズと、２０〜７０質量部、特に３０〜６０質量部の二元系タングステン酸化物と、約１〜３０質量部、特に２〜２０質量部のタングステン金属とを含有しうる。この例は、２５〜５５質量％のＷＯ3Ｈ0.53と、３５〜６０質量％のＷＯ3と、３〜３５質量％のタングステンとの混合物であり、これらの三成分の合計は１００％となると理解される（例えば、３５％のＷＯ3Ｈ0.53と、５６％のＷＯ3と、９％のタングステン）。
【０１４２】
以下の実施例は、本発明の一部の実施形態を説明しているが、本発明はこれらに限定されない。本明細書の開示に従って、本発明の趣旨または適用範囲から逸脱することなく、開示されている実施形態に数多くの変更を行なうことができることを理解されたい。これらの実施例は、したがって本発明の範囲を制限するものではない。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲およびその同等物によってのみ決定されるべきである。これらの実施例において、特別の定めのない限り、示される全ての部は質量に基づき、温度は摂氏温度で示される。
【０１４３】
使用される略称：
ＮＩＲ  近赤外放射
ＳＥＭ  走査電子顕微鏡法
【０１４４】
１．製造
１．１  タングステン酸アンモニウム粉体を標準振動式粉体供給装置によってアルゴンガス流中に取り込んだ。流動化した前駆物質を熱プラズマ反応器内に供給した。典型的には反応器のプラズマ高温帯で達する温度範囲は、５０００〜１０，０００Ｋである。反応物蒸気をクエンチガスで冷却し、得られた粉体をバッグフィルタ内に収集した。ＷＯ3-xを示す酸素不足タングステン酸化物生成物を生成する目的で、還元性プラズマ組成物を得た。得られた粉体を粉末Ｘ線回折、ＳＥＭ、光散乱粒径分析、およびＵＶ−ＶＩＳ−ＮＩＲ分光法によって分析した。粒子サイズは、３０〜２００ｎｍである。この材料（試料０）は、コーティング剤またはプラスチックなどにおける非常に良好な分散性を示す。
【０１４５】
１．２  パラタングステン酸アンモニウム粉体（（ＮＨ4）10Ｗ12Ｈ20Ｏ42・４Ｈ2Ｏ、Ｏｓｒａｍ  Ｓｙｌｖａｎｉａ社）を１０ｇ／分で作動する振動式粉体供給装置によってアルゴンキャリアガス中に取り込む。流動化した粉体を電力６５ｋＷで作動するＴｅｋｎａ  ＰＬ−５０  プラズマトーチを備えたプラズマ反応器内に供給する。典型的には反応器のプラズマ高温帯で達する温度範囲は、５０００〜１０，０００Ｋである。下表に示すとおりのアルゴン１００ｓｌｐｍと水素／ヘリウムとの混合物をシースガスに使用する。
【０１４６】
【表１】
0005634871.tif 000004
［ｓｌｐｍ＝ｓｔａｎｄａｒｄ  ｌｉｔｅｒｓ  ｐｅｒ  ｍｉｎｕｔｅ（標準リットル／分）；ｓｌｐｍ算出のための標準条件は、Ｔｎ  ０℃（３２°Ｆ）、Ｐｎ＝１．０１バール（１４．７２ｐｓｉ）として定義される］。
【０１４７】
反応物蒸気をクエンチガスで冷却し、得られる粉体をバッグフィルタ内に収集する。得られる粉体を粉末Ｘ線回折、電子顕微鏡法、およびＵＶ−ｖｉｓ−ＮＩＲ分光法によって分析する。
【０１４８】
２．Ｘ線によるキャラクタリゼーション
より良好な粒子均一化のために試料を瑪瑙乳鉢でわずかに粉砕し、標準Ｂｒａｇｇ−Ｂｒｅｎｔａｎｏ  Ｓｉｅｍｅｎｓ  Ｄ５０００回折システムで分析する。５０ｋＶ／３５ｍＡで作動する高出力Ｃｕターゲットを使用する。ステップ幅０．０２°  ２θ、測定時間１．５秒／ステップのステップスキャンモードでデータを収集する。データ処理は、Ｄｉｆｆｒａｃ  Ｐｌｕｓ（商標）ソフトウェアＥｖａ（商標）  ｖ．８．０によって実施する。Ｂｒｕｋｅｒ’ｓ  ＡＸＳ  Ｔｏｐａｓ（商標）プロファイルフィッティングソフトウェアｖ．２．１によって、Ｒｉｅｔｖｅｌｄ解析を行なう。
【０１４９】
得られたＸ線粉末回折パターンをＰＤＦ−２  ＤａｔａｂａｓｅとＩｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  Ｄａｔａｂａｓｅ，  ２００５−２（ドイツ、カルルスルーエ）に提示されている単結晶構造データから計算されたものとの双方における、入手可能なＷおよびＷＯx材料の参照パターンと比較する。初期定性分析は、分析した４つの試料全てが異なる比率で混合された３成分、立方晶系水素タングステン酸化物（ブロンズ）、ＷＯ3Ｈ0.53と、本研究においてＲＴ−ＷＯ3と称する単斜晶系および／または三斜晶系タングステン酸化物と、立方晶系（ｂｃｃ）ＨＴ−タングステン、Ｗiとから構成されていることを明らかにしている。試料のそれぞれは、以下の第１表に示すように、三相からなることがわかっている。各相の相対パーセントは、シースガス中の水素に影響されていることが認められる。
【図面の簡単な説明】
【０１５０】
【図１】図１は、評価装置の配置を示す。
【０１５１】
第１表  タングステン／タングステン酸化物混合物のＲｉｅｔｖｅｌｄ定量分析
【表２】
0005634871.tif 000005
【０１５２】
３．適用例
試料評価：
日射制御添加剤を含有する試料を図１に示す装置を用いて評価する。この機器は、２つのプラスチック試料（Ａ４サイズ）、日射制御性添加剤を含有する１つの試料およびいかなる日射制御性添加剤も含有しない他方の参照用試料の背後のブラックアルミニウムパネルの温度上昇を比較する。色温度５０００Ｋの５００Ｗハロゲンランプの光に曝露される２つの異なるチャンバーの前面に２つの試料を取り付ける。ＰＣデータロガーに接続された各チャンバー内の熱電対（ＰＴ１００）によって温度を記録する。
【０１５３】
ΔＴ800秒（°Ｃ）として示される８００秒後に得られる断熱係数（ＨＳ）を下記の表に記載する。
【０１５４】
３．１  ポリカーボネート（ＰＣ）射出成形／ＰＣフィルム押出
混合および配合：粉砕ポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ  ３１０３）３．０ｋｇを１２０℃の真空オーブン内で８時間乾燥させる。この粉体を５ＬのＨｅｎｓｃｈｅｌ  Ｔｕｒｂｏｍｉｘｅｒ内で下表に記載の添加剤（試料）と８０℃で３分間混合し、その後２８０℃でＢｅｒｓｔｏｒｆｆ  ＺＥ  ２５ｘ３２Ｄによって配合する。ポリマーストランドを粒状化する。
【０１５５】
シート押出：このペレットを使用して、Ｃｏｌｌｉｎ  ＣＲ−１３６／３５０シート押出ラインによって、最大温度２８０℃で１００μｍ厚のキャストフィルム（プレート）を製造する。
【０１５６】
評価：ＤＩＮ  ６１７４に従ってΔＥ値を測定する。
【０１５７】
ＩＳＲ  ３１００積分球を備える島津ＵＶ  ３１０１  ＵＶでＵＶ−ＶＩＳ−ＮＩＲスペクトルを記録する。パラメータ：スリット幅  ２０、波長  ２５０〜１８００ｎｍ、走査速度  高速、光源切り替え点  ３６０ｎｍ、検出器切り替え点  ８３０ｎｍ。
【０１５８】
相対吸収度は、最大吸収度を同じ波長での初期吸収度で割ることにより計算する。
【０１５９】
ヘイズは、ＡＳＴＭ  Ｄ−１００３に従い、Ｈａｚｅ−ｇａｒｄ  ｐｌｕｓ（Ｂｙｋ  Ｇａｒｄｎｅｒ社）によって測定する。結果を第２表に提示する。
【０１６０】
第２表：ＰＣフィルム試料（１００μｍ厚）
【表３】
0005634871.tif 000006
【０１６１】
人工風化：ＡＳＴＭ  Ｇ  １５５／ＡＳＴＭ  Ｇ  １５１に従い、試料をＷｅａｔｈｅｒ−Ｏｍｅｔｅｒ  Ｃｉ６５（ＡＴＬＡＳ社）内で照射する（２枚のボロシリケートフィルタを備えるキセノンランプ、０．３５Ｗ／ｍ２、３４０ｎｍ、ブラックパネル温度６３±３℃、乾燥および光線１０２分、水噴霧および光線１８分）。
【０１６２】
本ＰＣ組成物は、良好な断熱性ならびに低ヘイズ値および低変色値を示す。
【０１６３】
３．２  ＰＥＴ−Ｇフィルム押出の実施例
ポリエチレンテレフタレート粉体（ＰＥＴ−Ｇ；Ｅａｓｔａｒ  ６７６３、Ｅａｓｔｍａｎ社）および１％のＴｉｎｕｖｉｎ  １５７７を第４表に記載の添加量の下表に記載の添加剤とターボミキサーによって混合し、７０℃で１２時間乾燥させ、その後ツインスクリューＣｏｌｌｉｎ押出機内で配合する。得られたペレットを再び乾燥させ、Ｃｏｌｌｉｎキャストラインで押出して３００ミクロンのＰＥＴ−Ｇフィルムを得る。
【０１６４】
第４表
【表４】
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【０１６５】
本ＰＥＴ組成物は、良好な断熱作用を示す。
【０１６６】
３．３  ＬＤＰＥフィルムの実施例
ＬＤＰＥ粉体（ＦＦ２９、Ｐｏｌｉｍｅｒｉ  Ｅｕｒｏｐａ社）および０．８％のＴｉｎｕｖｉｎ  ３７１を第５表に記載の添加量の添加剤とターボミキサーによって混合し、その後ツインスクリューＣｏｌｌｉｎ押出機内で配合する。ＦＯＲＭＡＣ実験室用押出機を用いた混合物のメルトブロー押出により、１５０ミクロンのＬＤＰＥフィルムを製造する。
【０１６７】
第５表
【表５】
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【０１６８】
本ＬＤＰＥ組成物は、良好な断熱作用を示す。
【０１６９】
３．４  ＮＩＲ硬化の実施例
２Ｐ−ＰＵ配合物において、様々なＩＲ吸収剤をＮＩＲ硬化時の熱吸収および最終コーティング特性に関してテストする。
【０１７０】
下表（値はｇ）に従って、ガラスビーズおよびＳｃａｎｄｅｘ振とう装置を用いて、ＩＲ吸収剤をミルベースと１６時間混ぜ合わせる。
【０１７１】
【表６】
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【０１７２】
ミルベースをレットダウン配合物と混合し、下表に従って架橋剤を添加する。
【０１７３】
【表７】
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【０１７４】
Ｄｅｓｍｏｄｕｒ  Ｎ３３９０は、Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社から入手可能な脂肪族イソシアネートであり、架橋剤として使用する。
【０１７５】
【表８】
0005634871.tif 000011
【０１７６】
Ｍａｃｒｙｎａｌ  ＳＭ  ５１０ｎは、Ｃｙｔｅｃ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ社から入手可能な、ヒドロキシ官能性アクリル樹脂である。
【０１７７】
ＥＦＫＡ  ３０３０は、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社から入手可能な、レベリングを改善するための変性ポリシロキサンである。
【０１７８】
ＤＢＴＬは、ジブチルスズジラウレートであり、触媒として使用する。
【０１７９】
ＤＡＢＣＯ−３３ＬＶは、Ａｉｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  ＆  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社から入手可能な、トリエチレンジアミンとジプロピレングリコールとの混合物であり、触媒として使用する。
【０１８０】
コーティング剤をＷＦＴ（湿潤膜厚）８０μｍを用いてワイヤーバーで塗布する。下記に示すランプ設定とベルト速度を用いたＮＩＲ乾燥機内でコーティング物を乾燥させる。
【０１８１】
コーティング配合物内へのＮＩＲ−Ａの分布を黒色上のヘイズの測定によって確認する。この値が低いほど、配合物中の分布がより良好であり、また認められるフィルムの視覚的特性への影響がより小さい。
【０１８２】
【表９】
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【０１８３】
コーティング表面の温度は、硬化直後に測定する。
【０１８４】
下表は、ベルト速度２ｍ／分、６個のＡｄｐｈｏｓ高照射ＮＩＲランプ、出力７０％、ランプまでの距離１００ｍｍを用いた結果を示している。
【０１８５】
【表１０】
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【０１８６】
本粉体組成物は、低ヘイズで混入することができ、良好なＮＩＲ放射の熱への変換を提供する。
【０１８７】
３．５  レーザー溶接の実施例
実施例１．１によるＩＲ吸収剤を射出成形機を用いて濃度５００ｐｐｍでポリカーボネートシート（２ｍｍ厚）に混入する。２５０ワットのＮｄ：ＹＡＧレーザーを用いて、得られる（透明でやや青みがかった）シートをポリカーボネートシート（１ｍｍ厚）と一緒に溶接する。速度２０ｍｍ／秒で表面をレーザービームで走査する。
【０１８８】
得られる溶接は優れた結合を有し、高度に透明であり、いかなる局部的塑性変形も示さず、溶接時に気泡を生じない。機械的応力による接合線の破断を生じない。
【０１８９】
３．６  白色グラビアインク
１０６４ｎｍでのレーザーイメージングに対する優れた感光性を有する二酸化チタンベースの白色インクを以下の方法で製造する。
【０１９０】
インクの配合
【表１１】
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【０１９１】
Ｃ５０１ワニスは、Ｗａｃｋｅｒ  Ｃｈｅｍｉｅ  ＡＧ製のＶｉｎｎａｐａｓ（登録商標）  Ｃ５０１樹脂（酸価７．５ｍｇ  ＫＯＨ／ｇ、分子量１７０，０００ｇ／ｍｏｌ、Ｔｇ約４３℃の酢酸ビニルとクロトン酸との固体コポリマー）（２０部）と、酢酸プロピル（８０部）とを混合することによって製造する。
【０１９２】
そのようにして得られるＷＯ3Ｈ0.53とＷＯ3とＷとを含有する混合物０．１％をＩＲ吸収剤として含有するインク（以下、インクＺとする）を前記吸収剤を含まない類似のインク（以下、インクＸとする）と比較する。
【０１９３】
前記インクＸおよびＺのそれぞれを標準Ｋ２バーを用いて白色の包装用板紙に塗布し、乾燥させる。次に、得られた包装用板紙のそれぞれの１ｃｍ正方形範囲にレーザーを照射する（充填６０、１５００ｍｍｓ、２０Ｋｈｚ）。次に画像化範囲の光学濃度を背景の白色度とともに測定する。下表からわかるように、わずか０．１％の本インク（インクＺ）を用いて良好な画像濃度が認められ、また画像化されていない範囲のＣＩＥ白色度も９９．１５と高く維持されている。
【０１９４】
【表１２】
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【０１９５】
図面の簡単な説明
図１は、評価装置の配置を示す。
【図１】
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