(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ前記シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成装置であって、
前記シート材の裏面部分を吸着可能な基準面を有し、前記第１軸を含む前記基準面に平行な２次元平面内で移動可能な第１及び第２可動ステージを備え、
前記第１可動ステージは、所定の吸着位置で前記シート材の第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動し、
前記第２可動ステージは、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着するパターン形成装置。
【請求項２】
前記第２可動ステージは、前記第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して前記第１軸に平行な方向に前記所定ストロークで移動し、
前記第１可動ステージは、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第３領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着する請求項１に記載のパターン形成装置。
【請求項３】
前記第１可動ステージの前記第１軸に平行な方向の移動動作と、前記所定の吸着位置に向かっての前記第２可動ステージの移動動作とは、少なくとも一部並行して行われる請求項１又は２に記載のパターン形成装置。
【請求項４】
前記第１及び第２可動ステージは、前記所定の吸着位置で前記シート材を吸着して前記第１軸に平行な方向に移動する移動動作後、前記シート材の吸着を解除する請求項１〜３のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項５】
前記第１及び第２可動ステージは、前記移動動作時と異なる経路を辿って、前記所定の吸着位置に向かって移動する請求項４に記載のパターン形成装置。
【請求項６】
前記第１及び第２可動ステージを、前記２次元平面内で駆動する平面モータをさらに備える請求項１〜５のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項７】
前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記異なる経路に沿って搬送する搬送装置をさらに備える請求項５に記載のパターン形成装置。
【請求項８】
前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動する際に駆動する駆動装置をさらに備える請求項１〜５、７のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項９】
前記駆動装置は、前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記２次元平面に平行な方向に微小駆動する第１駆動装置と、該駆動装置を前記第１軸に平行な方向に駆動する第２駆動装置と、を含む請求項８に記載のパターン形成装置。
【請求項１０】
前記第１及び第２可動ステージのそれぞれは、前記第１駆動装置の固定子を介して、前記第２駆動装置に着脱可能であり、
前記第１駆動装置は、前記第１及び第２可動ステージのそれぞれに設けられた可動子と、前記固定子とによって構成される請求項９に記載のパターン形成装置。
【請求項１１】
前記第１及び第２可動ステージは、前記２次元平面に平行なガイド面上に浮上支持される請求項１〜１０のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項１２】
前記シート材を前記第１軸に平行な方向の一側から他側に送る送り装置をさらに備える請求項１〜１１のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項１３】
前記送り装置は、前記シート材を挟持可能な第1の状態と、前記シート材の挟持を解除可能な第２の状態とが設定可能で、前記第１の状態で前記二次元平面内で前記第1軸に垂直な第２軸と平行な軸回りに互いに逆向きに回転する駆動ローラと圧接ローラとを含む請求項１２に記載のパターン形成装置。
【請求項１４】
前記パターンに対応するエネルギビームを前記シート材に投射して、前記シート材上に前記パターンに対応する像を形成する投影光学系をさらに備える請求項１〜１３のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項１５】
前記第１及び第２可動ステージの前記２次元平面内の位置情報を計測する計測系と；
前記計測系の計測結果に基づいて前記第１及び第２可動ステージを駆動する制御装置と；をさらに備える請求項１４に記載のパターン形成装置。
【請求項１６】
前記シート材上の複数のマークを検出するマーク検出系と；
前記投影光学系の光学特性を調整する調整装置と；をさらに備え、
前記制御装置は、前記第１可動ステージが、前記シート材の前記所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着した状態で、前記走査露光に先立って前記マーク検出系を用いて前記シート材上の前記所定領域に付設された複数の位置合わせマークの少なくとも一部を検出し、該検出結果とその検出時の前記計測系の計測結果とに基づいて、前記調整装置及び前記第１可動ステージの少なくとも一方を介して前記像の形成状態を調整する請求項１５に記載のパターン形成装置。
【請求項１７】
前記シート材は２つ用意され、
前記２つのシート材の一方を、前記第１軸に平行な方向の一側から他側に送る第１の送り装置と；
前記２つのシート材の他方を、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に送る第２の送り装置と；をさらに備え、
前記第１可動ステージが、前記所定の吸着位置で前記一方のシート材の前記所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向の一側から他側に所定ストロークで移動するのと並行して、前記第２可動ステージが、別の吸着位置で前記他方のシート材の所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に所定ストロークで移動し、
前記第１軸に平行な方向の移動の後、前記第２可動ステージが、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動するのと並行して、前記第１可動ステージが、前記別の吸着位置に前記２次元平面内で移動する請求項１〜１１のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項１８】
所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射して前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成装置であって、
長尺の第１のシート材を、２次元平面に沿って該２次元平面内の第１軸に平行な方向の一側から他側に送る第１の送り装置と；
前記２次元平面内で前記第１軸に交差する第２軸に平行な方向に関して、前記第１のシート材から離れた位置で、長尺の第２のシート材を、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に送る第２の送り装置と；
前記第１及び第２のシート材の裏面部分を吸着可能な基準面を有し、前記第１軸を含む前記基準面に平行な２次元平面内で移動可能な第１及び第２可動ステージと；を備え、
前記第１可動ステージが、所定の第１吸着位置で前記第１のシート材の第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１のシート材の送り方向に所定ストロークで移動するのと並行して、前記第２可動ステージが、所定の第２吸着位置で前記第２のシート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第２のシート材の送り方向に所定ストロークで移動するパターン形成装置。
【請求項１９】
前記第２可動ステージが、前記第２のシート材の送り方向への移動後に、前記第１吸着位置に前記２次元平面内で移動するのと並行して、前記第１可動ステージが、前記第２吸着位置に前記２次元平面内で移動する請求項１８に記載のパターン形成装置。
【請求項２０】
前記第１可動ステージは、前記第１のシート材の送り方向に移動した後、前記第１のシート材の吸着を解除し、前記第２可動ステージは、前記第２のシート材の送り方向に移動した後、前記第２のシート材の吸着を解除する請求項１８又は１９に記載のパターン形成装置。
【請求項２１】
前記第１及び第２可動ステージは、前記第１のシート材の送り方向に所定ストロークで移動する第１経路と、前記第２のシート材の送り方向に所定ストロークで移動する第２経路と、を含む閉じた経路を周回する請求項１８〜２０のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項２２】
前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを、前記２次元平面内で駆動する平面モータをさらに備える請求項１８〜２１のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項２３】
前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記第１及び第２経路上で駆動する駆動装置をさらに備える請求項２１に記載のパターン形成装置。
【請求項２４】
前記駆動装置は、前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記２次元平面に平行な方向に微小駆動する２つの第１駆動装置と、該２つの第１駆動装置のそれぞれを前記第１、及び第２経路のそれぞれに沿って駆動する２つの第２駆動装置と、を含む請求項２３に記載のパターン形成装置。
【請求項２５】
前記第１及び第２可動ステージのそれぞれは、前記２つの第１駆動装置それぞれの固定子を介して、前記２つの第２駆動装置に着脱可能であり、
前記２つの第１駆動装置は、前記第１及び第２可動ステージのそれぞれに設けられた可動子と、前記固定子とを含む請求項２４に記載のパターン形成装置。
【請求項２６】
前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを、前記第１及び第２経路間で搬送する搬送装置をさらに備える請求項２３〜２５のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項２７】
前記第１及び第２可動ステージは、前記２次元平面に平行なガイド面上に浮上支持される請求項１８〜２６のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項２８】
前記第１及び第２の送り装置は、それぞれ、前記第１及び第２のシート材のそれぞれを挟持する第１の状態と、前記第１及び第２のシート材のそれぞれの前記挟持状態を解除する第２の状態とが設定可能で、前記第1の状態では、前記二次元平面内で前記第１軸に垂直な第２軸と平行な軸回りに互いに逆向きに回転する駆動ローラと圧接ローラとを含む請求項１８〜２７のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項２９】
前記第１及び第２可動ステージの前記２次元平面内の位置情報を計測する計測系と；
前記計測系の計測結果に基づいて前記第１及び第２可動ステージを駆動する制御装置と；をさらに備える請求項１８〜２８のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項３０】
前記パターンに対応するエネルギビームを前記第１及び第２のシート材のそれぞれに投射して、前記第１及び第２のシート材それぞれの上に前記パターンに対応する像を形成する第１及び第２の投影光学系をさらに備える請求項１８〜２９のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
【請求項３１】
第１及び第２のシート材に形成された複数のマークを、それぞれ検出する第１、第２のマーク検出系と；
前記第１及び第２の投影光学系の光学特性を個別に調整する調整装置と；をさらに備え、
前記制御装置は、
前記第１可動ステージが、前記第１のシート材の前記第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着した状態で、前記第１マーク検出系を用いて前記第１領域に付設された複数の位置合わせマークの少なくとも一部を検出し、該検出結果とその検出時の前記計測系の計測結果とに基づいて、前記調整装置及び前記第１可動ステージの少なくとも一方を介して前記第１のシート材上の前記像の形成状態を調整し、
前記第２可動ステージが、前記第２のシート材の前記第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着した状態で、前記第２マーク検出系を用いて前記第２領域に付設された複数の位置合わせマークの少なくとも一部を検出し、該検出結果とその検出時の前記計測系の計測結果とに基づいて、前記調整装置及び前記第２可動ステージの少なくとも一方を介して前記第２のシート材上の前記像の形成状態を調整する請求項２９に記載のパターン形成装置。
【請求項３２】
所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ前記シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成方法であって、
第１可動ステージが、所定の吸着位置で前記シート材の第１領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動し、
第２可動ステージが、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着するパターン形成方法。
【請求項３３】
前記第２可動ステージは、前記第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して前記第１軸に平行な方向に前記所定ストロークで移動し、
前記第１可動ステージは、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第３領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着する請求項３２に記載のパターン形成方法。
【請求項３４】
前記第１可動ステージの前記第１軸に平行な方向の移動動作と、前記所定の吸着位置に向かっての前記第２可動ステージの移動動作とは、少なくとも一部並行して行われる請求項３２又は３３に記載のパターン形成方法。
【請求項３５】
前記所定の吸着位置で前記シート材を吸着して前記第１軸に平行な方向に移動する移動動作後、前記第１及び第２可動ステージによる前記シート材の吸着が解除される請求項３２〜３４のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
【請求項３６】
前記第１及び第２可動ステージは、前記移動動作時と異なる経路を辿って、前記所定の吸着位置に向かって移動する請求項３５に記載のパターン形成方法。
【請求項３７】
前記シート材は２つ用意され、
前記第１可動ステージが、前記所定の吸着位置で前記一方のシート材の前記第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向の一側から他側に所定ストロークで移動するのと並行して、前記第２可動ステージが、別の吸着位置で前記他方のシート材の所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に所定ストロークで移動し、
しかる後、前記第２可動ステージが、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動するのと並行して、前記第１可動ステージが、前記別の吸着位置に前記２次元平面内で移動する請求項３２〜３６のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
【請求項３８】
前記第１及び第２可動ステージの前記２次元平面内の位置情報を計測し、該計測結果に基づいて前記第１及び第２可動ステージを駆動する請求項３７に記載のパターン形成方法。
【請求項３９】
前記２つのシート材のそれぞれの上には、前記パターンに対応する像が、第１、第２の投影光学系をそれぞれ介して形成され、
前記第１及び第２可動ステージの一方が、前記２つのシート材の一方の前記所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着した状態で、前記走査露光に先立って前記一方のシート材上の前記所定領域に付設された複数の位置合わせマークの少なくとも一部を検出し、該検出結果とその検出時の前記一方の可動ステージの位置情報とに基づいて、前記一方のシート材に対応する投影光学系の光学特性及び前記一方の可動ステージの少なくとも一方を調整することで、前記一方のシート材上の前記像の形成状態を調整する請求項３７又は３８に記載のパターン形成方法。
【請求項４０】
請求項３２〜３９のいずれか一項に記載のパターン形成方法を用いて長尺のシート材上にパターンを形成することと；
パターンが形成された前記シート材に処理を施すことと；
を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにデバイス製造方法に係り、さらに詳しくは、走査露光により、長尺のシート材の表面の複数領域にパターンを形成するパターン形成装置及びパターン形成方法、並びに該パターン形成方法を用いて電子デバイスを製造するデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどのフラットディスプレイパネルは、次第に大型化している。例えば、液晶ディスプレイパネルの場合、その製造に用いられるガラス基板（大型基板）は、複数画面分纏めて効率良く生産するために１辺の長さが３ｍを超えるような大型基板が用いられるようになっている。そのため、基板を保持するステージ装置は、基板が大型化するほど巨大化し、十数ｋｇの基板を処理するステージ装置では、可動部の重量が１０トン近く、装置全体の重量は１００トンを超えるようになってきた。このため、近い将来には、基板がさらに大型化し、その製造、及び搬送が困難となるものと予想される上、ステージ装置がさらに大型化し、インフラ整備に巨額の投資が必要になることは確実である。
【０００３】
一方、主としてプリント配線基板の製造分野などで採用されているが、ロールシート状の記録媒体を、被露光物体とする露光装置が知られている。かかる露光装置を、例えば液晶表示素子の製造に適用すれば、上述したガラス基板の大型化に伴う種々の課題から解放されるので、将来の液晶表示素子製造用の露光装置の１つの選択枝になるものと期待される。
【０００４】
しかるに、従来のシート状の記録媒体に対する露光装置としては、例えば特許文献１〜３に開示される露光装置があるが、これらの露光装置を液晶表示素子製造用にそのまま用いると、所望の精度、及びスループットを達成することが困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第５６５２６４５号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００６／００６６７１５号明細書
【特許文献３】米国特許第６２４３１６０号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様によれば、所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ前記シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成装置であって、前記シート材の裏面部分を吸着可能な基準面を有し、前記第１軸を含む前記基準面に平行な２次元平面内で移動可能な第１及び第２可動ステージを備え、前記第１可動ステージは、所定の吸着位置で前記シート材の第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動し、前記第２可動ステージは、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着する第１のパターン形成装置が、提供される。
【０００７】
これによれば、第１可動ステージは、所定の吸着位置でシート材の第１領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動する。この際に、所定のパターンに対応するエネルギビームがシート材に照射されることで、シート材の第１領域が露光され、パターンが形成される。第２可動ステージは、所定の吸着位置に２次元平面内で移動して、シート材の第２領域に対応する裏面部分を基準面に吸着する。このため、そのシート材の第２領域に対応する裏面部分を基準面に吸着後、第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動させ、その移動中にシート材の第２領域を露光してパターンを形成することが可能になる。従って、シート材の第１、第２領域に連続してパターンを形成することが可能になる。
【０００８】
本発明の第２の態様によれば、所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射して前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成装置であって、長尺の第１のシート材を、２次元平面に沿って該２次元平面内の第１軸に平行な方向の一側から他側に送る第１の送り装置と；前記２次元平面内で前記第１軸に交差する第２軸に平行な方向に関して、前記第１のシート材から離れた位置で、長尺の第２のシート材を、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に送る第２の送り装置と；前記第１及び第２のシート材の裏面部分を吸着可能な基準面を有し、前記第１軸を含む前記基準面に平行な２次元平面内で移動可能な第１及び第２可動ステージと；を備え、前記第１可動ステージが、所定の第１吸着位置で前記第１のシート材の第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１のシート材の送り方向に所定ストロークで移動するのと並行して、前記第２可動ステージが、所定の第２吸着位置で前記第２のシート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第２のシート材の送り方向に所定ストロークで移動する第２のパターン形成装置が、提供される。
【０００９】
これによれば、第１可動ステージが、所定の第１吸着位置で第１のシート材の第１領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、第１のシート材の送り方向に所定ストロークで移動するのと並行して、第２可動ステージが、所定の第２吸着位置で第２のシート材の第２領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、第２のシート材の送り方向に所定ストロークで移動する。このため、第１、第２可動ステージの第１、第２のシート材の送り方向への移動の際に、所定のパターンに対応するエネルギビームが、第１、第２のシート材に照射されることで、第１シート材の第１領域、及び第２シート材の第２領域がほぼ同時に露光され、それぞれパターンが形成される。
【００１０】
本発明の第３の態様によれば、所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ前記シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成方法であって、第１可動ステージが、所定の吸着位置で前記シート材の第１領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動し、第２可動ステージが、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着するパターン形成方法が、提供される。
【００１１】
これによれば、シート材の第１、第２領域に連続してパターンを形成することが可能になる。
【００１２】
本発明の第４の態様によれば、本発明のパターン形成方法を用いて長尺のシート材上にパターンを形成することと；パターンが形成された前記シート材に処理を施すことと；を含むデバイス製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１の実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の露光装置が備えるマスクステージの概略構成及び照明領域の配置を示す平面図である。
【図３】図１の露光装置が備える投影光学系及びシート上の投影領域（露光領域）の配置を示す平面図である。
【図４】図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、それぞれ、ステージの概略構成を示す側面図及び平面図である。
【図５】図１の露光装置が備えるステージ装置の概略構成を示す平面図である。
【図６】図６（Ａ）は、搬送ローラ部４１，４２の近傍を示す平面図、図６（Ｂ）は、搬送ローラ部４１を示す側面図、図６（Ｃ）〜図６（Ｇ）は、シート搬送系の機能を説明するための図である。
【図７】シートＳ上の各区画領域に付設されたアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図８】図１の露光装置が備える主制御装置の入出力関係を示すブロック図である。
【図９】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その１）である。
【図１０】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その２）である。
【図１１】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その３）である。
【図１２】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その４）である。
【図１３】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その５）である。
【図１４】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その６）である。
【図１５】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その７）である。
【図１６】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その８）である。
【図１７】図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その９）である。
【図１８】変形例に係るアライメント系の配置を示す図である。
【図１９】第２の実施形態の露光装置を−Ｙ方向から見た側面図である。
【図２０】第２の実施形態の露光装置を＋Ｙ方向から見た側面図である。
【図２１】第２の実施形態の露光装置が備えるマスクステージの概略構成を示す平面図である。
【図２２】第２の実施形態の露光装置が備える投影光学系及びシート上の投影領域（露光領域）の配置を示す平面図である。
【図２３】図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）は、それぞれ、ステージの概略構成を示す側面図及び平面図である。
【図２４】図２４（Ａ）〜図２４（Ｃ）は、ステージ搬送系の構成及びステージの搬送手順を説明するための図（その１）である。
【図２５】図２５（Ａ）〜図２５（Ｃ）は、ステージの搬送手順を説明するための図（その２）である。
【図２６】第２の実施形態の露光装置が備えるステージ装置の概略構成を示す平面図である。
【図２７】第２の実施形態の露光装置が備える主制御装置の入出力関係を示すブロック図である。
【図２８】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その１）である。
【図２９】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その２）である。
【図３０】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その３）である。
【図３１】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その４）である。
【図３２】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その５）である。
【図３３】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その６）である。
【図３４】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その７）である。
【図３５】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その８）である。
【図３６】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その９）である。
【図３７】第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その１０）である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態を、図１〜図１８に基づいて説明する。
【００１５】
図１には、第１の実施形態の露光装置１００の概略的な構成が示されている。露光装置１００は、可撓性を有するシートあるいはフィルム（以下、シートと総称する）を、被露光物体とする、マルチレンズタイプの投影露光装置、いわゆるスキャナである。本実施形態では、一例として、約１００μｍ厚のシートが用いられるものとする。
【００１６】
露光装置１００は、照明系ＩＯＰ、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴ、マスクＭに形成されたパターンの像をシートＳ上に投影する投影光学系ＰＬ、シートＳを保持する２つのシートステージ（以下、ステージと略述する）ＳＳＴ１，ＳＳＴ２（図１ではステージＳＳＴ２は図示省略、図５等参照）を含むステージ装置ＳＳ、及びシートＳを搬送するシート搬送系４０、並びにこれらの制御系等を備えている。
【００１７】
なお、本実施形態の露光装置１００で用いられるシートＳは、連続長尺シートである。シートＳはローラ４０１にロール状に巻かれセットされている。後述するように、シートＳは、シート搬送系４０（が備える搬送ローラ部４１〜４４）によってローラ４０１から引き出され、投影光学系ＰＬ直下の領域を通って、巻き取りローラ４０２によって巻き取られる。また、シートＳの表面には、感光剤（レジスト）が塗布されているものとする。本実施形態では、一例として、シートＳが、ローラ４０１から引き出され（送り出され）、巻き取りローラ４０２に巻き取られるものとしているが、これに限らず、露光の前の処理、例えばレジスト塗布を行うレジスト塗布装置から送り出され、露光の後の処理、例えば現像を行う現像装置に向けて送られるシートも、露光装置１００によって露光を行うことは可能である。
【００１８】
以下においては、投影光学系ＰＬの物体面側及び像面側部分の光軸（ただし、両部分の中間の部分を除く）に平行な鉛直方向（図１における紙面内の上下方向）をＺ軸方向、これに直交する面内でマスクＭとシートＳとが投影光学系ＰＬに対して相対走査される走査方向（図１における紙面内の左右方向）をＸ軸方向、Ｚ軸及びＸ軸に直交する方向をＹ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として、説明を行う。
【００１９】
照明系ＩＯＰは、複数、ここでは５つの照明系モジュール（以下、単に照明系と呼ぶ）ＩＯＰ１〜ＩＯＰ５を備えている。照明系ＩＯＰ１〜ＩＯＰ５のそれぞれは、紫外光を発する不図示の超高圧水銀ランプ（光源）と、光源からの紫外光を集光する楕円鏡、集光された紫外光の光路上に配置された波長選択フィルタ、オプティカルインテグレータ、及び視野絞り等を含む照明光学系（いずれも不図示）と、を備えている。波長選択フィルタを介して、紫外光から紫外域の輝線、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）（ｇ線（波長４３６ｎｍ）、又はｈ線（波長４０５ｎｍ））等が照明光ＩＬ1〜ＩＬ５として抽出される。抽出された照明光ＩＬ1〜ＩＬ５は、それぞれ光軸ＡＸ１〜ＡＸ５に沿って、照明系ＩＯＰ（ＩＯＰ１〜ＩＯＰ５）外に（マスクＭに向けて）射出される（図２参照）。
【００２０】
なお、光軸ＡＸ１，ＡＸ３，ＡＸ５は、図２に示されるように、ＸＹ平面（マスクＭのパターン面）内において、Ｙ軸方向に所定の間隔で配置されている。また、光軸ＡＸ２，ＡＸ４は、光軸ＡＸ１，ＡＸ３，ＡＸ５から＋Ｘ側に所定距離隔てて、それぞれ光軸ＡＸ１，ＡＸ３の間及び光軸ＡＸ３，ＡＸ５の間に配置されている。すなわち、光軸ＡＸ１〜ＡＸ５は、ＸＹ平面内において千鳥状に配置されている。
【００２１】
照明系ＩＯＰ１〜ＩＯＰ５は、照明光ＩＬ１〜ＩＬ５により、それぞれ、光軸ＡＸ１〜ＡＸ５を中心にマスクＭ上の照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５を均一な照度で照明する。各照明領域は、照明光学系内の視野絞り（不図示）によって規定される等脚台形状を有する。なお、照明系ＩＯＰ（ＩＯＰ１〜ＩＯＰ５）の構成の詳細については、例えば、米国特許第６，５５２，７７５号明細書等に開示されている。
【００２２】
マスクステージＭＳＴは、図１に示されるように、照明系ＩＯＰの下方（−Ｚ側）に配置されている。マスクステージＭＳＴ上には、矩形のパターン領域がそのパターン面（−Ｚ側の面）に形成された矩形のマスクＭが、例えば真空吸着により、固定されている。マスクステージＭＳＴは、リニアモータ等を含むマスクステージ駆動系ＭＳＤ（図１では不図示、図８参照）により、ＸＹ平面内で微小駆動可能であり、且つ走査方向（Ｘ軸方向）に所定のストロークで所定の走査速度で駆動可能である。
【００２３】
マスクステージＭＳＴのＸＹ平面内での位置情報は、マスクステージ干渉計システム１６（図８参照）の一部をそれぞれ構成するレーザ干渉計（以下、干渉計と略述する）１６Ｘ，１６Ｙにより、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される。マスクステージＭＳＴの＋Ｘ側面及び−Ｙ側面には、それぞれ鏡面加工が施され、図２に示されるように、反射面１５Ｘ，１５Ｙが形成されている。干渉計１６Ｘは、Ｘ軸に平行な光路に沿って複数の測長ビームを反射面１５Ｘに照射し、それぞれの反射面１５Ｘからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴのＸ軸方向に関する位置（Ｘ位置）及びθｚ方向の回転を計測する。干渉計１６の実質的な測長軸は、光軸ＡＸ３と直交するＸ軸に平行な軸である。干渉計１６Ｙは、光軸ＡＸ１及びＡＸ２とそれぞれ直交するＹ軸に平行な光路に沿って２つの測長ビームを反射面１５Ｙに照射し、反射面１５Ｙからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴのＹ軸方向に関する位置（Ｙ位置）を計測する。なお、上述の反射面１５Ｘ，１５Ｙの代わりに、平面鏡から成る移動鏡を、マスクステージＭＳＴに固定しても良い。
【００２４】
干渉計１６Ｘ，１６Ｙの計測情報は、主制御装置５０に供給される（図８参照）。主制御装置５０は、干渉計１６Ｘ，１６Ｙの計測情報（マスクステージＭＳＴの位置情報）に基づいて、マスクステージ駆動系ＭＳＤを介してマスクステージＭＳＴを制御する。
【００２５】
投影光学系ＰＬは、図１に示されるように、マスクステージＭＳＴの下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態の投影光学系ＰＬは、例えば図３に示されるように、光軸ＡＸ１〜ＡＸ５の配置に対応して千鳥状に配置された５つの投影光学系モジュール（以下、単に投影光学系と呼ぶ）ＰＬ１〜ＰＬ５を含む。図１では、投影光学系ＰＬ３，ＰＬ５及びＰＬ４はそれぞれ投影光学系ＰＬ１及びＰＬ２の紙面奥側に位置する。投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５のそれぞれとして、例えば、等倍正立像を像面上に形成する両側テレセントリックな反射屈折系が用いられている。
【００２６】
上述の投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５（光軸ＡＸ１〜ＡＸ５）の配置により、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５によってパターンの像が投影されるシートＳ上の投影領域ＩＡ１〜ＩＡ５は、照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５と同様に、千鳥状に配置される。ここで、投影領域ＩＡ１〜ＩＡ５は、照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５と同様の等脚台形状を有する。投影領域ＩＡ１〜ＩＡ５の配置と形状により、マスクＭ上の照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５内のパターンの像（部分像）を、それぞれ投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５を介してシートＳ上の投影領域ＩＡ１〜ＩＡ５に投影しつつ、マスクＭ及びシートＳを走査方向（Ｘ軸方向）に同期して駆動することにより、シートＳ上に投影されたパターンの部分像はマスクＭに形成されたパターンに等しい１つの像（合成像）に合成される。従って、走査露光により、マスクＭのパターンが投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５を介してシートＳ上（の１つのショット領域（区画領域）ＳＡｉ内）に転写される。なお、走査露光の詳細については後述する。
【００２７】
本実施形態では、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５として等倍正立像を投影する光学系を採用したため、投影領域ＩＡ１〜ＩＡ５の形状及び配置（位置関係）は、それぞれ、照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５の形状及び配置（位置関係）に等しい。本実施形態の投影光学系ＰＬの構成の詳細については、例えば、米国特許第６，５５２，７７５号明細書等に開示されている。
【００２８】
露光装置１００は、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５によってシートＳ上に投影される投影像の歪み（位置ずれ及び／又は形状誤差）を補正するレンズコントローラＬＣ（図８参照）を備えている。レンズコントローラＬＣは、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５をそれぞれ構成する光学素子群（レンズ群）の少なくとも一部を光軸ＡＸ１〜ＡＸ５に平行な方向及び光軸ＡＸ１〜ＡＸ５に垂直なＸＹ平面に対する任意の傾斜方向に駆動する。これにより、シートＳ上の投影領域ＩＡ１〜ＩＡ５のそれぞれに投影されるパターンの部分像の歪み（シフト、回転、倍率（スケーリング）等）が補正される。なお、レンズコントローラＬＣは、上記の光学素子群の駆動に代えて、あるいは加えて、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５それぞれの内部に形成された気密室内の気体の圧力を変更する、あるいは、これらとともに、照明光の波長を変更するなどしても良い。
【００２９】
ステージ装置ＳＳは、図１に示されるように、投影光学系ＰＬ（ＰＬ１〜ＰＬ５）の下方（−Ｚ側）に配置されている。ステージ装置ＳＳは、床面上に防振機構（不図示）によってほぼ水平に支持されたベース部材ＢＳ、ベース部材ＢＳ上でシートＳを保持して移動する２つのステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（図１ではステージＳＳＴ２は図示省略、図５等参照）、両ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を駆動するステージ駆動系ＳＳＤ（図１では不図示、図８参照）、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の位置情報を計測するステージ干渉計システム１８ａ（図８参照）及び補助干渉計システム１８ｂ（図８参照）等を含む。なお、図１では、ステージＳＳＴ１上に、シートＳが吸着保持されている。
【００３０】
ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２のそれぞれは、図１に示されるように、底面に設けられた複数の非接触軸受（例えばエアベアリング（不図示））によりベース部材ＢＳ上に浮上支持されるステージ本体ＳＴと、ステージ本体ＳＴ上に配置されたＺ・レベリング装置３８（図４（Ａ）参照）と、Ｚ・レベリング装置３８により３点支持されたテーブルＴＢと、を有している。
【００３１】
Ｚ・レベリング装置３８は、図４（Ｂ）に示されるように、ステージ本体ＳＴ上の一直線上にない３点に配置された例えばボイスコイルモータ等を含む３つのＺ駆動機構３８ａ、３８ｂ、３８ｃを有している。Ｚ・レベリング装置３８により、ステージ本体ＳＴ上で、テーブルＴＢをＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向の３自由度方向に微小駆動することができる。
【００３２】
ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２は、図１に示される平面モータ３０により、ベース部材ＢＳ上でＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に駆動される。
【００３３】
平面モータ３０は、ベース部材ＢＳの内部に配置された固定子３０１と、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２のステージ本体ＳＴの底部に固定された可動子３０２と、から構成される。固定子３０１は、ベース部材ＢＳの内部にマトリクス状に配列された複数の電機子コイル（コイルユニットＣＵ）を含む。可動子３０２は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２のステージ本体ＳＴの底部に、ベース部材ＢＳの上面に対向してマトリックス状に配列された複数の永久磁石（磁石ユニットＭＵ）を含む。ここで、複数の永久磁石は、隣り合う磁極面の極性が互いに異なるように配列されている。複数の電機子コイル（コイルユニットＣＵ）と、複数の永久磁石（磁石ユニットＭＵ）と、を含んで、例えば米国特許第５，１９６，７４５号明細書などに開示されているローレンツ電磁力駆動方式の平面モータ３０が構成されている。
【００３４】
なお、コイルユニットＣＵは、ベース部材ＢＳの上面を構成する不図示の平板状部材によってカバーされている。この平板状部材の上面がステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の移動の際のガイド面を構成する。
【００３５】
なお、平面モータ３０は、ムービングマグネット型に限らず、ムービングコイル型であっても良い。また、平面モータ３０は、ローレンツ電磁力駆動方式に限らず、例えば可変磁気抵抗駆動方式、あるいは磁気浮上型の平面モータ等を採用することも可能である。後者の場合、ステージ本体ＳＴの底面に非接触軸受を設ける必要はない。
【００３６】
ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２のテーブルＴＢは、上述の平面モータ３０及びＺ・レベリング装置３８を含むステージ駆動系ＳＳＤ（図８参照）によって、それぞれ独立に、ベース部材ＢＳ上でＸ軸方向，Ｙ軸方向，Ｚ軸方向，θｘ方向，θｙ方向，及びθｚ方向の６自由度方向に駆動される。
【００３７】
テーブルＴＢの上面の中央には、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示されるように、シートＳを吸着保持するシートホルダＳＨ１が設けられている。シートホルダＳＨ１は、ＸＹ平面にほぼ平行であり且つシートＳ上に配列される区画領域より幾分大きな矩形状の保持面を有し、その保持面上にシートＳを平坦に保持する。ここでは、シートＳを吸着保持するため、シートホルダＳＨ１として、ピンの配列間隔（ピッチ）が十分細かく、ピンの高さが低い、例えば２００μｍ程度のピンチャックホルダが採用されている。
【００３８】
また、テーブルＴＢの上面には、シートＳの幅方向（長尺方向に直交するＹ軸方向）の両端部の裏面を吸着保持する４つの補助シートホルダＳＨ２が設けられている。具体的には、シートホルダＳＨ１の±Ｙ側に、Ｘ軸方向に細長い各２つの補助シートホルダＳＨ２が、Ｘ軸方向に関して所定の距離を隔てて配置されている。各補助シートホルダＳＨ２は長方形の保持面を有し、テーブルＴＢ内に設けられたホルダ駆動系ＨＤ１，ＨＤ２（図８参照）によりＹ軸方向及びＺ軸方向に微小駆動可能に構成されている。補助シートホルダＳＨ２は、後述するように、シートＳをシートホルダＳＨ１に平坦に保持する際に補助的に使用される。ここで、ホルダ駆動系ＨＤ１は、ステージＳＳＴ１に設けられ、ホルダ駆動系ＨＤ２は、ステージＳＳＴ２に設けられている。
【００３９】
また、テーブルＴＢの＋Ｘ側面、−Ｙ側面、−Ｘ側面、及び＋Ｙ側面には、それぞれ、鏡面加工が施され、反射面１７Ｘ１，１７Ｙ１，１７Ｘ２，１７Ｙ２が形成されている。これらの反射面１７Ｘ１，１７Ｙ１，１７Ｘ２，１７Ｙ２は、後述するステージ干渉計システム及び補助干渉計システムによるステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の位置計測に用いられる。なお、上述の反射面１７Ｙ１，１７Ｙ２の代わりに、平面鏡から成る移動鏡を、テーブルＴＢに固定しても良い。また、反射面１７Ｘ１，１７Ｘ２の代わりに、レトロリフレクタ又は平面鏡から成る移動鏡を、テーブルＴＢに固定しても良い。
【００４０】
ステージ干渉計システム１８ａ（図８参照）は、図５に示されるように、干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｙａ１，１８Ｙａ２を含み、ベース部材ＢＳ上面の−Ｙ側半部の領域（以下、走査領域と呼ぶ）ＡＳ（図５参照）内に位置するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内での位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する。なお、図５では、走査領域ＡＳ内にステージＳＳＴ１が位置している。
【００４１】
一方、補助干渉計システム１８ｂ（図８参照）は、干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２，１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２を含み、ベース部材ＢＳ上面の＋Ｙ側半部の領域（以下、退避領域と呼ぶ）ＡＲ（図５参照）内に位置するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内での位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する。なお、図５では、退避領域ＡＲ内にステージＳＳＴ２が、位置している。
【００４２】
干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２及び１８Ｙａ１，１８Ｙａ２は、それぞれ走査領域ＡＳ内に位置するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の反射面１７Ｘ１及び１７Ｙ１に対向し得るように、走査領域ＡＳ（投影光学系ＰＬ）の＋Ｘ側及び−Ｙ側に配置されている。干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２及び１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２は、それぞれ退避領域ＡＲ内に位置するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の反射面１７Ｘ２及び１７Ｙ２に対向し得るように、退避領域ＡＲの−Ｘ側及び＋Ｙ側に配置されている。
【００４３】
干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２は、走査領域ＡＳ内に位置するステージＳＳＴ１の反射面１７Ｘ１に、Ｘ軸と平行な測長ビームをそれぞれ照射し、反射面１７Ｘ１からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ１のＸ位置をそれぞれ計測する。干渉計１８Ｙａ１，１８Ｙａ２は、Ｙ軸と平行な２つの測長ビームを反射面１７Ｙ１にそれぞれ照射し、反射面１７Ｙ１からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ１のＹ位置をそれぞれ計測する。ここで、干渉計１８Ｙａ２の２つの測長ビームの一方は、光軸ＡＸ１，ＡＸ３，ＡＸ５と直交するＹ軸に平行な光路に沿って、他方は、光軸ＡＸ２，ＡＸ４と直交するＹ軸に平行な光路に沿って、反射面１７Ｙ１に照射される。また、干渉計１８Ｙａ１の２つの測長ビームは、後述する複数のアライメント系のうちの、隣接するアライメント系の検出中心を通るＹ軸に平行な光路に沿って、反射面１７Ｙ１に照射される。
【００４４】
ステージ干渉計システム１８ａ（干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｙａ１，１８Ｙａ２）の計測情報は、主制御装置５０に供給される（図８参照）。なお、ステージＳＳＴ１が、走査領域ＡＳ内に位置する場合、そのＸ位置を問わず、必ず、干渉計１８Ｙａ１，１８Ｙａ２の少なくとも一方、又は干渉計１８Ｙｂ１の測長ビームが、ステージＳＳＴ１の対応する反射面（１７Ｙ１又は１７Ｙ２）に照射される。従って、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１のＸ位置に応じて、干渉計１８Ｙａ１，１８Ｙａ２及び１８Ｙｂ１のいずれかの計測情報を使用する。また、主制御装置５０は、１８Ｘａ１，１８Ｘａ２の計測情報に基づいて、ステージＳＳＴ１のθｚ方向の回転を計測する。なお、走査領域ＡＳ内にステージＳＳＴ２が位置する場合も、同様に、その位置情報が計測される。
【００４５】
干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２は、退避領域ＡＲ内に位置するステージＳＳＴ２の反射面１７Ｘ２に、Ｘ軸と平行な測長ビームをそれぞれ照射し、反射面１７Ｘ２からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ２のＸ位置をそれぞれ計測する。干渉計１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２は、Ｙ軸と平行な２つの測長ビームを反射面１７Ｙ２にそれぞれ照射し、反射面１７Ｙ２からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ２のＹ位置をそれぞれ計測する。
【００４６】
補助干渉計システム１８ｂ（干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２，１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２）の計測情報は、主制御装置５０に供給される（図８参照）。なお、ステージＳＳＴ２が、退避領域ＡＲ内に位置する場合、そのＸ位置を問わず、必ず、干渉計１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２の少なくとも一方の測長ビームがステージＳＳＴ２の反射面１７Ｙ２に照射される。従って、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ２のＸ位置に応じて、干渉計１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２のいずれかの計測情報を使用する。また、主制御装置５０は、干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２の計測情報に基づいて、ステージＳＳＴ２のθｚ方向の回転を計測する。なお、退避領域ＡＲ内にステージＳＳＴ１が位置する場合も、同様に、その位置情報が計測される。
【００４７】
主制御装置５０は、ステージ干渉計システム１８ａ及び補助干渉計システム１８ｂからの位置情報に基づいて、ステージ駆動系ＳＳＤを介してステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を制御する。
【００４８】
なお、干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｙａ１，１８Ｙａ２及び干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２，１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２のそれぞれとして、Ｚ軸方向に離間する複数の測長ビームを反射面に照射する多軸干渉計を用いることも可能である。この場合、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内の位置情報（回転情報（ヨーイング量（θｚ方向の回転量θｚ）を含む））だけでなく、ＸＹ平面に対する傾斜情報（ピッチング量（θｘ方向の回転量θｘ）及びローリング量（θｙ方向の回転量θｙ））も取得可能となる。
【００４９】
シート搬送系４０は、図１及び図５に示されるように、投影光学系ＰＬを挟んでＸ軸方向に配列された４つの搬送ローラ部４１，４２，４３，４４を備えている。
【００５０】
搬送ローラ部４１，４２，４３，４４のそれぞれは、例えば図６（Ａ）〜図６（Ｇ）に示されるように、上下に位置する一対の圧接ローラと駆動ローラとを含む。下側に位置する駆動ローラ４１２,４２２，４３２，４４２は、その上端がステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の上面（シートホルダＳＨ１の保持面）より幾分上方（＋Ｚ側）に位置するように、その両端が、不図示の支持部材によって回転可能に支持されている（図１参照）。駆動ローラ４１２,４２２，４３２，４４２は、回転モータ（不図示）によって回転駆動される。上側に位置する圧接ローラ４１１、４２１，４３１，４４１は、ばね機構（不図示）により、上方（＋Ｚ側）から対応する駆動ローラに押し付けられている。
【００５１】
ただし、図６（Ｂ）に、搬送ローラ部４１を取り上げて示されるように、圧接ローラ４１１は、長手方向の両端部以外の部分の直径が両端部より小さい段付きの円柱状のローラであり、駆動ローラ４１２は、一定の径を有する円柱状のローラである。
【００５２】
搬送ローラ部４１、４２，４３，４４のそれぞれでは、代表的に搬送ローラ部４１を取り上げて図６（Ｂ）に示されるように、圧接ローラ４１１と駆動ローラ４１２とによりシートＳを挟持するが、その際シートＳの表面のパターンが形成される区画領域に圧接ローラ４１１は接触しない。搬送ローラ部４１、４２，４３，４４のそれぞれでは、圧接ローラ（４１１）と駆動ローラ（４１２）とによりシートＳを挟持可能な第１の状態と、ばね機構による押し付け力に抗して、圧接ローラ（４１１）を駆動ローラ（４１２）から離し、シートＳの挟持を解除可能な第２の状態とが設定可能である。搬送ローラ部４１、４２，４３，４４のそれぞれにおける第１状態と第２の状態との切り替えが、主制御装置５０によって行われる。なお、少なくとも一部の駆動ローラを、圧接ローラ４１１と同様に段付きの円柱状に形成しても良い。
【００５３】
駆動ローラ４１２,４２２，４３２，４４２は、ローラ４０１、４０２とともに、主制御装置５０によって、その回転、停止が制御される。シートＳは、代表的に搬送ローラ部４１を取り上げて図６（Ｂ）に示されるように、搬送ローラ部の第１の状態で、駆動ローラ（４１２）がＹ軸と平行な軸回りに回転（同時に圧接ローラ４１１が逆向きに回転）することにより、その回転方向に送り出される。
【００５４】
シート搬送系４０では、図６（Ｃ）に示されるように、搬送ローラ部４１の各ローラ４１１、４１２が矢印方向に回転されることで、ローラ４０１からシートＳが白抜き矢印で示される−Ｘ方向に引き出され、搬送ローラ部４２に向けて送り出される。ここで、搬送ローラ部４２の各ローラ４２１，４２２の回転が所定のタイミングで止められると、所定の長さ（搬送ローラ部４２，４３間の離間距離程度）のシートＳが、搬送ローラ部４１，４２間にループ状に撓められる。また、シート搬送系４０では、図６（Ｄ）に示されるように、搬送ローラ部４１の各ローラ４１１，４１２の回転が止められた状態で搬送ローラ部４２の各ローラ４２１，４２２（及び搬送ローラ部４３の各ローラ４３１，４３２）が矢印方向に回転されることにより、ループ状に撓んだシートＳが、投影光学系ＰＬの直下の領域に向けて白抜き矢印で示される−Ｘ方向に送り出される。
【００５５】
シート搬送系４０では、上と同様に、搬送ローラ部４３，４４の各ローラの回転、停止により、シートＳが投影光学系ＰＬの直下の領域から引き出される。すなわち、図６（Ｅ）に示されるように、搬送ローラ部４４の各ローラ４４１，４４２の回転が止められた状態で搬送ローラ部４３の各ローラ４３１，４３２が矢印の方向に回転されると、シートＳが、投影光学系ＰＬの直下の領域から引き出され、引き出されたシートＳが搬送ローラ部４３，４４間にループ状に撓められる。そして、図６（Ｆ）に示されるように、搬送ローラ部４３の各ローラ４３１，４３２の回転が止められた状態で搬送ローラ部４４の各ローラ４４１，４４２が矢印の方向に回転されることにより、ループ状に撓んだシートＳが、搬送ローラ部４４の−Ｘ側に送り出され、巻き取りローラ４０２に巻き取られる。
【００５６】
また、シート搬送系４０では、図６（Ｇ）に示されるように、搬送ローラ部４２の各ローラの回転が止められた状態で搬送ローラ部４３の各ローラが回転されることで、あるいは搬送ローラ部４３の各ローラの回転が止められた状態で搬送ローラ部４２の各ローラが図６（Ｃ）とは逆向きに回転（以下、逆回転と記述する）されることで、シートＳが、Ｘ軸方向に関して所定のテンションが付与された状態で張られる。そして、この張られたシートＳが、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２上のシートホルダＳＨ１に吸着保持されるようになっている。
【００５７】
シート搬送系４０は、さらに、シートＳの送り量を計測する計測装置（不図示）、例えば、駆動ローラ４１２，４２２，４３２，４４２それぞれの回転量を計測するロータリーエンコーダ等を備えている。
【００５８】
なお、露光工程中におけるシート搬送系４０によるシートＳの搬送、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２によるシートＳの保持等の詳細は後述する。
【００５９】
さらに、本実施形態の露光装置１００には、シートＳ上の各区画領域に付設されたアライメントマークを検出するための複数、ここでは１２個のオフアクシス方式のアライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２が設けられている。アライメント系ＡＬ１〜ＡＬ６は、図５に示されるように、投影光学系ＰＬの＋Ｘ側の位置に、シートＳ上の各区画領域外部の＋Ｙ側端部の領域に対向して、Ｘ軸に沿って配列されている。また、アライメント系ＡＬ７〜ＡＬ１２は、図５に示されるように、投影領域ＩＡ３の光軸と直交するＸ軸に関して、アライメント系ＡＬ１〜ＡＬ６に対して対称に配置されている。アライメント系ＡＬ７〜ＡＬ１２は、シートＳ上の各区画領域外部の−Ｙ側端部の領域に対向し得る。
【００６０】
本実施形態では、一例として、図７に示されるように、シートＳ上の各区画領域のＹ軸方向の両外側の領域には、各６つ、合計１２個のアライメントマークＡＭが形成されており、これら１２個のアライメントマークＡＭを個別にかつ同時に検出するためにアライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２が設けられている。しかしながら、これに限らず、アライメント系がＸ軸方向に移動可能であれば、アライメント系ＡＬ１〜ＡＬ６の代わりに、少なくとも１つ、アライメント系ＡＬ７〜ＡＬ１２の代わりに、少なくとも各１つのアライメント系を備えていれば良い。
【００６１】
アライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２としては、一例として画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が採用されている。アライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２の検出結果（指標マークと検出対象マークとの画像情報）は、アライメント信号処理系（不図示）を介して主制御装置５０に送られる。なお、ＦＩＡ系に限らず、コヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光又は回折光を検出し、あるいはその対象マークから発生する２つの回折光（例えば同次数）を干渉させて検出するアライメントセンサを、単独であるいは適宜組み合わせて、用いることも可能である。
【００６２】
図８には、露光装置１００の制御系を中心的に構成し、構成各部を統括制御する、主制御装置５０の入出力関係を示すブロック図が示されている。
【００６３】
次に、本実施形態の露光装置１００において、２つのステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を用いた並行処理動作を含む、シートＳの露光のための動作の流れについて、図９〜図１７に基づいて説明する。また、以後の動作説明は、多数の図面を用いて行うが、図面毎に同一の部材に符号が付されていたり、付されていなかったりしている。すなわち、図面毎に、記載している符号が異なっているが、それら図面は符号の有無に関わらず、同一構成である。これまでに説明に用いた、各図面についても同様である。
【００６４】
図９には、シートＳ上に配列された複数の区画領域のうち、最初の（ｉ−１）個の区画領域ＳＡ１〜ＳＡｉ−１に対する露光が既に終了し、次の区画領域ＳＡｉに対する露光のための処理が開始される直前の状態が示されている。図９の状態では、区画領域ＳＡｉに対する露光の際にシートＳの移動のために使用されるステージＳＳＴ１が走査領域ＡＳ内部の＋Ｘ端部の位置（待機位置）にて待機している。なお、直前の区画領域ＳＡｉ−１に対する露光の際にシートＳの移動のために使用されたステージＳＳＴ２は、退避領域ＡＲ内部の−Ｘ端部の位置に退避している。
【００６５】
なお、マスクＭのマスクステージＭＳＴ上へのロード及びマスクアライメント（マスクの位置合わせ）は、通常、シートＳ上の最初の区画領域ＳＡ１に対する露光開始前に行われるので、図９の状態では、当然にマスクＭのロード及びマスクアライメントは終了している。また、マスクステージＭＳＴは、区画領域ＳＡｉに対する露光のための走査開始位置（加速開始位置）へ移動しているものとする。
【００６６】
ａ．  まず、次のａ１．〜ａ４．の手順に従って、区画領域ＳＡｉを含むシートＳの中央部がステージＳＳＴ１上に保持される。
ａ１．  具体的には、主制御装置５０は、例えば先に図６（Ｃ）を用いて説明したように、シート搬送系４０の搬送ローラ部４２の各ローラの回転を止めた上で搬送ローラ部４１の各ローラを回転させるなどしてシートＳをローラ４０１から引き出す。あるいは、主制御装置５０は、搬送ローラ部４３，４１の各ローラの回転を止めた上で搬送ローラ部４２を逆回転させて、シートＳを投影光学系ＰＬの直下の領域から引き戻す。いずれにしても、所定の長さのシートＳが、搬送ローラ部４１，４２間にループ状に撓められる。所定の長さは、搬送ローラ部４２，４３間の離間距離程度の長さである。
【００６７】
ａ２．  次に、主制御装置５０は、ステージ干渉計システム１８ａ（１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｙａ１，１８Ｙａ２）からのステージＳＳＴ１の位置情報に基づいて、シート搬送系４０を制御し、シートＳを＋Ｘ方向に引き戻す、あるいは−Ｘ方向に送り出してシートＳ上の区画領域ＳＡｉをステージＳＳＴ１のシートホルダＳＨ１（の保持面）上に位置決めする。ここで、先に図６（Ｇ）を用いて説明したように、シートＳは、適度のテンションが付与された状態で搬送ローラ部４２，４３間に張られた上で、位置決めされる。
【００６８】
主制御装置５０は、さらに、ステージＳＳＴ１を微小駆動して、シートホルダＳＨ１（の保持面）をシートＳ上の区画領域ＳＡｉに位置合わせする。なお、この状態では、シートＳとステージＳＳＴ１のシートホルダＳＨ１（の保持面）との間には僅かな空間が設けられている。
【００６９】
待機位置においてステージＳＳＴ１とシートＳとが位置合わせされた状態では、アライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２それぞれの検出視野内に、区画領域ＳＡｉに付設されたアライメントマークＡＭが位置決めされる。
【００７０】
ａ３．  位置合わせ後、主制御装置５０は、ステージ駆動系ＳＳＤ（Ｚ・レベリング装置３８）を介してステージＳＳＴ１のテーブルＴＢを水平に保ちつつ、テーブルＴＢ上の４つの補助シートホルダＳＨ２を＋Ｚ方向に微小駆動して、シートＳの区画領域ＳＡｉの±Ｙ側の外部部分の裏面を補助シートホルダＳＨ２を用いて吸着保持する。図１０には、このようにして、シートＳが、補助シートホルダＳＨ２により仮保持された状態が示されている。
【００７１】
ａ４．  シートＳの仮保持後、主制御装置５０は、シートＳを仮保持したまま４つの補助シートホルダＳＨ２を−Ｚ方向に微小駆動して、区画領域ＳＡｉを含むシートＳの中央部の裏面をシートホルダＳＨ１の保持面上に接触させる。そして、主制御装置５０は、４つの補助シートホルダＳＨ２の保持面をシートホルダＳＨ１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めする。これにより、シートＳに適当なテンションが加わり、シートＳの中央部がシートホルダＳＨ１の保持面上に固定される。この状態にて、主制御装置５０は、図１１に示されるように、シートＳをシートホルダＳＨ１に吸着保持する。これにより、区画領域ＳＡｉを含むシートＳの中央部が、ステージＳＳＴ１上に、ＸＹ平面に平行に且つ平坦に保持される。
【００７２】
ｂ．  次に、シートＳに対するアライメント計測が行われる。
前述の通り、待機位置にステージＳＳＴ１が位置決めされた状態では、アライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２のそれぞれの検出視野内に区画領域ＳＡｉに付設されたアライメントマークが位置決めされている。そこで、主制御装置５０は、図１１に示されるように、シートＳ上の区画領域ＳＡｉに付設されたアライメントマークをアライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２を用いて検出する（指標中心からのアライメントマークの位置を計測する）。アライメントマークの検出結果と、その検出時のステージ干渉計システム１８ａからのステージＳＳＴ１の位置情報と、に基づき、ＸＹ座標系上における１２個のアライメントマークの位置座標が求められる。主制御装置５０は、１２個のアライメントマークの位置座標の全部又は一部を用いて、最小二乗法を用いた所定の演算を行って、シートＳ上の区画領域ＳＡｉ内に形成済みのパターンの歪み、すなわちＸＹシフト、回転、ＸＹスケーリング、直交度を求める。
【００７３】
なお、検出すべきアライメントマークの数より、アライメント系の数が少ない場合には、シートＳを保持したステージＳＳＴ１をＸ軸方向にステップ移動させつつ、アライメント計測を行う必要がある。この際、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１の動きに合わせて、シート搬送系４０の各駆動ローラの回転、停止を制御する。
【００７４】
ｃ．次いで、シートＳ上の区画領域ＳＡｉに対する走査露光が行われる。
ｃ１．  具体的には、主制御装置５０は、アライメント計測の結果、特にＸＹシフトに基づいて、シートＳを保持したステージＳＳＴ１を、露光のための走査開始位置（加速開始位置）に移動して、マスクＭを保持したマスクステージＭＳＴに対して位置合わせを行う。ここで、本実施形態では、ステージＳＳＴ１（及びＳＳＴ２）の加速開始位置は、走査領域ＡＳ内部の前述の待機位置と同じ位置（又はその近傍）に設定されているので、ＸＹ平面内のステージＳＳＴ１（及びＳＳＴ２）の位置の微調整が行われる。
ｃ２．  次に、主制御装置５０は、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴの走査方向（−Ｘ方向）の加速を開始する。これにより、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴの−Ｘ方向の移動が開始され、その移動の途中、具体的には、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴの加速終了の前に、図１２に示されるように、干渉計１８Ｙａ２からの測長ビームが反射面１７Ｙ１に当たり始めるので、その直後に、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙａ１から干渉計１８Ｙａ２に切り換える。
ｃ３．  そして、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴの加速が終了し、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴが等速同期状態に達すると、照明光ＩＬ２，ＩＬ４によってマスクＭ上のパターン領域が照明され始め、露光が開始される。そして、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴの等速同期移動の進行により、図１３に示されるように、照明光ＩＬ１〜ＩＬ５によってそれぞれマスクＭ上の照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５（図２参照）が照明され、照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５内のパターンの部分像がそれぞれ投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５（図３参照）を介してステージＳＳＴ１上に保持されたシートＳ上の投影領域ＩＡ１〜ＩＡ５に投影される。
【００７５】
マスクＭのパターン領域の全域が照明光ＩＬ１〜ＩＬ５により照明されると、すなわち照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５をマスクＭのパターン領域が通り過ぎると、区画領域ＳＡｉに対する走査露光が終了する。これにより、区画領域ＳＡｉ内に、マスクＭのパターンが転写される。すなわち、シートＳ表面に形成されたレジスト層に、マスクＭのパターンの潜像が形成される。
【００７６】
走査露光中、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１のテーブルＴＢを水平に保ちつつＺ軸方向に駆動して、テーブルＴＢ（シートホルダＳＨ１）上に保持されたシートＳの表面を投影光学系ＰＬの焦点位置（焦点深度内）に位置決めする。また、走査露光中、主制御装置５０は、アライメント計測の結果（すなわち上で求められたＸＹシフト、回転、ＸＹスケーリング、直交度）に基づいて、ステージＳＳＴ１とマスクステージＭＳＴとの同期駆動（相対位置及び相対速度）を制御して、シートＳ上に投影されるパターンの全体像の歪みを補正するとともに、レンズコントローラＬＣを介して投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５のそれぞれを構成する光学素子群（レンズ群）を駆動制御して、シートＳ上の投影領域ＩＡ１〜ＩＡ５のそれぞれに投影されるパターンの部分像の歪みを補正する。これにより、既に区画領域ＳＡｉ内に形成されたパターンにマスクＭのパターンの投影像が高精度に重ね合わされる。
【００７７】
区画領域ＳＡｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴが減速され、図１４に示されるように、それぞれの走査終了位置（減速終了位置）に到達すると、停止する。ここで、区画領域ＳＡｉに対する走査露光の途中で、干渉計１８Ｙｂ１からの測長ビームは、ステージＳＳＴ１に当たり始めるので、主制御装置５０は、区画領域ＳＡｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴの減速を開始すると共に、ステージＳＳＴ１のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙａ２から干渉計１８Ｙｂ１へ切り換える（図１４参照）。なお、本実施形態では、ステージＳＳＴ１、ＳＳＴ２の走査の際の減速終了位置は、ベース部材ＢＳの−Ｘ端に一致するように定められている。
【００７８】
なお走査露光中、主制御装置５０は、シートＳを保持したステージＳＳＴ１を−Ｘ方向に駆動する際、先と同様に、ステージＳＳＴ１の動きに合わせて、そのステージＳＳＴ１の動きが、シートＳに作用するテンションによって阻害されることがないように、シート搬送系４０の各駆動ローラを、適宜、回転、停止する。
【００７９】
上述のアライメント計測及び走査露光と並行して、主制御装置５０は、図１２及び図１３に示されるように、ステージＳＳＴ２を退避領域ＡＲ内の−Ｘ端から＋Ｘ端へ移動する。主制御装置５０は、補助干渉計システム１８ｂからの位置情報に基づいて、ステージＳＳＴ２を図１２及び図１３中の白抜き矢印の方向に駆動する。ここで、ステージＳＳＴ２のＸ位置に応じて、そのＹ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｙｂ１から干渉計１８Ｙｂ２へ切り換えられる。さらに、図１４に示されるように、ステージＳＳＴ２が退避領域ＡＲ内の＋Ｘ端に移動すると、そのＹ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｙｂ２から干渉計１８Ｙａ１に切り換えられる。
【００８０】
ｄ．  次いで、次の区画領域ＳＡｉ＋１に対する露光の前処理として、次のｄ１．〜ｄ３．の手順に従って、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の入れ替えが行われる。
【００８１】
ｄ１．  ステージＳＳＴ１が減速終了位置である走査領域ＡＳ内の−Ｘ端に停止すると、主制御装置５０は、図１５に示されるように、シートホルダＳＨ１と補助シートホルダＳＨ２によるシートＳの吸着保持を解除して、ステージＳＳＴ１からシートＳを放す。さらに、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１のテーブルＴＢを下方（−Ｚ方向）に退避させる。これにより、シートＳは、ステージＳＳＴ１のシートホルダＳＨ１との間に僅かな空間を挟んで、搬送ローラ部４２，４３間に張られた状態になる。
【００８２】
ｄ２．  次いで、主制御装置５０は、図１５に示されるように、ステージＳＳＴ１を、ベース部材ＢＳの−Ｘ端部上で白抜き矢印で示される方向（＋Ｙ方向）に駆動し、退避領域ＡＲ内に退避させる。ここで、図１５及び図１６に示されるように、ステージＳＳＴ１のＹ位置に応じて、そのＸ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２から干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２へ切り換えられる（干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２の間で使用する干渉計が順次切り換えられる）。
【００８３】
ｄ３．  ステージＳＳＴ１の退避と並行して、主制御装置５０は、図１５に示されるように、ステージＳＳＴ２を、ベース部材ＢＳの＋Ｘ端部上で白抜き矢印の方向（−Ｙ方向）に駆動し、走査領域ＡＳ内部の前述の待機位置へ移動させる。ここで、図１５及び図１６に示されるように、ステージＳＳＴ２のＹ位置に応じて、そのＸ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２から干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２へ切り換えられる（干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２，１８Ｘａ１，１８Ｘａ２の間で使用する干渉計が順次切り換えられる）。
【００８４】
ｅ．  さらに、主制御装置５０は、上述のステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の入れ替えと並行して、マスクステージＭＳＴを走査開始位置（加速開始位置）へ高速で戻す。また、上のステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の入れ替えと並行して、主制御装置５０は、シート搬送系４０を制御して、図１６に示されるように、シートＳを黒塗り矢印の方向（＋Ｘ方向）に引き戻す。
【００８５】
ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の入れ替え、及びシートＳの引き戻しが完了すると、図１７に示されるように、ステージＳＳＴ２が待機位置にて待機し、待機中のステージＳＳＴ２上に次の区画領域ＳＡｉ＋１を含むシートＳの中央部が位置合わせされ、且つステージＳＳＴ１が退避領域ＡＲ内に退避する。この状態は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２が入れ替わり、シートＳが１区画領域分送られたことを除いて、図９に示される状態と同じである。
【００８６】
ステージ入れ替えが終了すると、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１に替えてステージＳＳＴ２を用いて、先と同様に、区画領域ＳＡｉ＋１に対する露光を開始する。以降同様に、主制御装置５０は、上述のａ．〜ｅ．の手順を繰り返し、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を交互に使用して、シートＳ上の全ての区画領域を露光する。
【００８７】
以上詳細に説明したように、シートＳの区画領域ＳＡｉに対する走査露光に際して、ステージＳＳＴ１は、走査領域ＡＳの＋Ｘ端部の前述の待機位置でシートＳの区画領域ＳＡｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ１の保持面に吸着して、マスクＭ（マスクステージＭＳＴ）と同期して、Ｘ軸方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動する。この際に、マスクＭのパターン領域に形成されたパターンの一部に対応する照明光ＩＬ１〜ＩＬ５が投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５を介してその表面にレジストが塗布されたシートＳに照射されることで、シートＳの区画領域ＳＡｉが照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５内のパターンの像（部分像）により露光され、パターン領域の全域を照明領域ＩＡＭ１〜ＩＡＭ５が通過することでパターンが転写（形成）される。シートＳの区画領域ＳＡｉに対する走査露光後、ステージＳＳＴ２は、前述の待機位置にＸＹ平面内で移動して、シートＳの次の区画領域ＳＡｉ+１に対応する裏面部分をシートホルダＳＨ１の保持面に吸着する。このため、そのシートＳの吸着後、マスクＭ（マスクステージＭＳＴ）と同期して、ステージＳＳＴ２をＸ軸方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動させ、その移動中にシートＳの区画領域ＳＡｉ+１を上述と同様に走査露光方式で露光してパターンを形成することが可能になる。従って、シートＳの区画領域ＳＡｉ、ＳＡｉ+１に連続してパターンを形成することが可能になる。このようにして、シートＳに対する走査露光、ステージの待機位置への移動、シートＳの区画領域に対応する裏面部分のシートホルダＳＨ１の保持面への吸着を、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を交互に使用して、繰り返すことで、高スループットで、シートＳ上の全ての区画領域を露光してパターンを形成することが可能となる。従って、装置の大型化を招くことなく、フレキシブルな大画面のディスプレイなどの電子デバイスの製造に貢献することが可能になる。
【００８８】
なお、上記実施形態では、走査露光の終了後に一方のステージを退避領域に退避させると同時に他方のステージを走査領域内（の待機位置）に移動させる場合について例示したが、これに限らず、一方のステージを用いての走査露光と少なくとも一部並行して他方のステージを走査領域内部の待機位置に移動する動作を行うこととしても良い。これにより、一方のステージを用いての走査露光の終了後に他方のステージの待機位置への移動を開始する場合に比べて、他方のステージを用いたその後の動作をより速やかに開始することが可能になり、スループットの向上を図ることが可能になる。
【００８９】
なお、上記実施形態の露光装置１００では、Ｙ軸方向に離れて、Ｘ軸方向に沿ってそれぞれ配列されたアライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２を用いて、シートＳに対するアライメント計測を行った。しかし、これに限らず、例えばアライメントマークをシートＳ上の区画領域ＳＡｉの周囲に所定間隔で配置し、このアライメントマークの配置に対応してアライメント系を、図１８に示されるように、区画領域ＳＡｉの周囲部に対応する配置とし、全てのアライメントマークを同時に検出することとしても良い。
【００９０】
《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態を、図１９〜図３７に基づいて説明する。ここで、前述した第１実施形態と同一若しくは同等の構成部分には、同一若しくは類似の符号を用いると共に、その説明を省略若しくは簡略する。
【００９１】
図１９及び図２０には、第２の実施形態の露光装置１０００の概略的な構成が示されている。このうち、図１９は、露光装置１０００を−Ｙ方向から見た側面図を示し、図２０は、露光装置１０００を＋Ｙ方向から見た側面図を示す。露光装置１０００は、２つのマスクＭａ，Ｍｂに形成されたパターンを２つのシートＳａ，Ｓｂのそれぞれに転写する露光装置（スキャナ）である。
【００９２】
露光装置１０００は、照明系ＩＯＰａ，ＩＯＰｂ、マスクＭａ，Ｍｂをそれぞれ保持するマスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂ、マスクＭａ，Ｍｂに形成されたパターンの像をそれぞれシートＳａ，Ｓｂ上に投影する投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂ、シートＳａ，Ｓｂを保持するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を含むステージ装置ＳＳ、及びシートＳａ，Ｓｂをそれぞれ搬送するシート搬送系４０ａ，４０ｂ、並びにこれらの制御系等を備えている。なお、図１９では、照明系ＩＯＰａ、マスクステージＭＳＴａ、投影光学系ＰＬａ、ステージＳＳＴ１、シート搬送系４０ａ、及びシートＳａの＋Ｙ側（紙面奥側）にそれぞれ位置する照明系ＩＯＰｂ、マスクステージＭＳＴｂ、投影光学系ＰＬｂ、ステージＳＳＴ２、シート搬送系４０ｂ、及びシートＳｂは、図示が省略されている。
【００９３】
なお、本実施形態の露光装置１０００で用いられるシートＳａ，Ｓｂは、それぞれローラ４０ａ１，４０ｂ１にロール状に巻かれてセットされている。シートＳａは、前述の第１の実施形態におけるシート搬送系４０と同様に構成された第１シート搬送系４０ａが備える搬送ローラ部４１ａ〜４４ａによってローラ４０ａ１から引き出され、投影光学系ＰＬａ直下の領域を通って、巻き取りローラ４０ａ２によって巻き取られる。
【００９４】
同様に、シートＳｂは、シート搬送系４０と同様に構成された第２シート搬送系４０ｂが備える搬送ローラ部４１ｂ〜４４ｂによってローラ４０ｂ１から引き出され、投影光学系ＰＬｂ直下の領域を通って、巻き取りローラ４０ｂ２によって巻き取られる。また、シートＳａ，Ｓｂの表面には、感光剤（レジスト）が塗布されているものとする。本第２の実施形態では、一例として、シートＳａ，Ｓｂが、ローラ４０ａ１，４０ｂ１から引き出され、巻き取りローラ４０ａ２，４０ｂ２に巻き取られるものとしているが、これに限らず、露光の前の処理、例えばレジスト塗布を行うレジスト塗布装置から送り出され、露光の後の処理、例えば現像を行う現像装置に向けて送られるシートも、露光装置１０００によって露光を行うことは可能である。
【００９５】
照明系ＩＯＰａ，ＩＯＰｂは、それぞれ複数、ここでは５つの照明系モジュール（以下、単に照明系と呼ぶ）ＩＯＰａ１〜ＩＯＰａ５，ＩＯＰｂ１〜ＩＯＰｂ５を備えている。照明系ＩＯＰａ１〜ＩＯＰａ５，ＩＯＰｂ１〜ＩＯＰｂ５のそれぞれは、第１の実施形態における照明系ＩＯＰ１〜ＩＯＰ５と同様に構成されている。図１９に示されるように、照明系ＩＯＰａ（ＩＯＰａ１〜ＩＯＰａ５）から照明光ＩＬａ1〜ＩＬａ５が、それぞれの光軸ＡＸａ１〜ＡＸａ５（図２１参照）に沿ってマスクＭａに向けて射出される。同様に、図２０に示されるように、照明系ＩＯＰｂ（ＩＯＰｂ１〜ＩＯＰｂ５）から５つの照明光ＩＬｂ1〜ＩＬｂ５が、それぞれの光軸ＡＸｂ１〜ＡＸｂ５に沿ってマスクＭｂに向けて射出される。
【００９６】
なお、図２１に示されるように、光軸ＡＸａ１〜ＡＸａ５及び光軸ＡＸｂ１〜ＡＸｂ５は、ＸＹ平面（それぞれマスクＭａのパターン面及びマスクＭｂのパターン面）内において、千鳥状に配置されている。ただし、光軸ＡＸａ１〜ＡＸａ５の配置と光軸ＡＸｂ１〜ＡＸｂ５の配置は、互いにＹ軸に関し対称である。
【００９７】
照明系ＩＯＰａ１〜ＩＯＰａ５は、照明光ＩＬａ１〜ＩＬａ５により、それぞれ、光軸ＡＸａ１〜ＡＸａ５を中心にマスクＭａ上の照明領域ＩＡＭａ１〜ＩＡＭａ５を均一な照度で照明する。一方、照明系ＩＯＰｂ１〜ＩＯＰｂ５は、照明光ＩＬｂ１〜ＩＬｂ５により、それぞれ、光軸ＡＸｂ１〜ＡＸｂ５を中心にマスクＭｂ上の照明領域ＩＡＭｂ１〜ＩＡＭｂ５を均一な照度で照明する。
【００９８】
マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂは、照明系ＩＯＰａ、ＩＯＰｂの下方（−Ｚ側）に、互いにＹ軸方向に離間して、配置されている。マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂ上には、それぞれ、矩形のパターン領域がそのパターン面（−Ｚ側の面）に形成された矩形のマスクＭａ，Ｍｂが、例えば真空吸着により、固定されている。マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂは、それぞれ、リニアモータ等を含む第１、第２マスクステージ駆動系ＭＳＤａ，ＭＳＤｂ（図２７参照）により、ＸＹ平面内で微小駆動可能であり、且つ走査方向（Ｘ軸方向）に所定のストロークで所定の走査速度で駆動可能である。
【００９９】
マスクステージＭＳＴａのＸＹ平面内での位置情報は、第１マスクステージ干渉計システム１６ａの一部をそれぞれ構成する干渉計１６Ｘａ，１６Ｙａにより、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される。同様に、マスクステージＭＳＴｂのＸＹ平面内での位置情報は、第２マスクステージ干渉計システム１６ｂの一部をそれぞれ構成する干渉計１６Ｘｂ，１６Ｙｂ、により、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される。
【０１００】
マスクステージＭＳＴａの＋Ｘ側面及び−Ｙ側面には、それぞれ鏡面加工が施され、図２１に示される反射面１５Ｘａ，１５Ｙａが形成されている。干渉計１６Ｘａは、Ｘ軸に平行な光路に沿って複数の測長ビームを反射面１５Ｘａに照射し、それぞれの反射面１５Ｘａからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴａのＸ位置及びθｚ方向の回転を計測する。干渉計１６Ｘａの実質的な測長軸は、光軸ＡＸａ３と直交するＸ軸に平行な軸である。干渉計１６Ｙａは、光軸ＡＸａ１及びＡＸａ２とそれぞれ直交するＹ軸に平行な光路に沿って２つの測長ビームを反射面１５Ｙａに照射し、反射面１５Ｙａからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴａのＹ位置を計測する。なお、上述の反射面１５Ｘａ，１５Ｙａの代わりに、平面鏡から成る移動鏡を、マスクステージＭＳＴａに固定しても良い。
【０１０１】
一方、マスクステージＭＳＴｂの＋Ｘ側面及び＋Ｙ側面には、それぞれ鏡面加工が施され、反射面１５Ｘｂ，１５Ｙｂが形成されている。干渉計１６Ｘｂは、Ｘ軸に平行な光路に沿って複数の測長ビームを反射面１５Ｘｂに照射し、それぞれの反射面１５Ｘｂからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴｂのＸ位置及びθｚ方向の回転を計測する。干渉計１６Ｘｂの実質的な測長軸は、光軸ＡＸｂ３と直交するＸ軸に平行な軸である。干渉計１６Ｙｂは、光軸ＡＸｂ４及びＡＸｂ５とそれぞれ直交するＹ軸に平行な光路に沿って２つの測長ビームを反射面１５Ｙｂに照射し、反射面１５Ｙｂからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴｂのＹ位置を計測する。なお、上述の反射面１５Ｘｂ，１５Ｙｂの代わりに、平面鏡から成る移動鏡を、マスクステージＭＳＴａ、ＭＳＴｂに固定しても良い。
【０１０２】
第１及び第２マスクステージ干渉計システム１６ａ，１６ｂの計測情報は、主制御装置５０に供給される（図２７参照）。主制御装置５０は、供給された位置情報に基づいて、第１及び第２マスクステージ駆動系ＭＳＤａ、ＭＳＤｂをそれぞれ介してマスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂを独立に制御する。
【０１０３】
投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂは、それぞれ、マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂの下方（−Ｚ側）に配置されている。ここで、投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂは、マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂの配置に対応して、互いにＹ軸方向に離間し、さらにＸ軸方向に関して逆向きに配置されている。
【０１０４】
投影光学系ＰＬａは、例えば図２２に示されるように、光軸ＡＸａ１〜ＡＸａ５の配置に対応して千鳥状に配置された５つの投影光学系モジュール（以下、単に投影光学系と呼ぶ）ＰＬａ１〜ＰＬａ５を含む。同様に、投影光学系ＰＬｂは、光軸ＡＸｂ１〜ＡＸｂ５の配置に対応して千鳥状に配置された５つの投影光学系ＰＬｂ１〜ＰＬｂ５を含む。なお、投影光学系ＰＬａ１〜ＰＬａ５，ＰＬｂ１〜ＰＬｂ５のそれぞれとして、第１の実施形態と同様に、等倍正立像を形成する両側テレセントリックな反射屈折系が用いられている。
【０１０５】
投影光学系ＰＬａ１〜ＰＬａ５を介して、マスクＭａ上の照明領域ＩＡＭａ１〜ＩＡＭａ５内のパターンの部分像が、それぞれ、シートＳａ上の投影領域ＩＡａ１〜ＩＡａ５に投影される。そして、前述と同様、走査露光により、マスクＭａのパターンが投影光学系ＰＬａ１〜ＰＬａ５を介してシートＳａ上（の１つの区画領域ＳＡａｉ内）に転写される。
【０１０６】
同様に、投影光学系ＰＬｂ１〜ＰＬｂ５を介して、マスクＭｂ上の照明領域ＩＡＭｂ１〜ＩＡＭｂ５内のパターンの部分像が、それぞれ、シートＳｂ上の投影領域ＩＡｂ１〜ＩＡｂ５に投影される。そして、前述と同様、走査露光により、マスクＭｂのパターンが投影光学系ＰＬｂ１〜ＰＬｂ５を介してシートＳｂ上（の１つの区画領域ＳＡｂｉ内）に転写される。なお、走査露光の詳細について後述する。
【０１０７】
露光装置１０００は、それぞれ、投影光学系ＰＬａ１〜ＰＬａ５、ＰＬｂ１〜ＰＬｂ５による投影像の歪み（位置及び形状）を補正する、前述のレンズコントローラＬＣと同様に構成された第１、第２レンズコントローラＬＣａ、ＬＣｂ（図２７参照）を備えている。
【０１０８】
ステージ装置ＳＳは、図１９及び図２０に示されるように、投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂの下方（−Ｚ側）に配置されている。ステージ装置ＳＳは、床面上に防振機構（不図示）によってほぼ水平に支持されたベース部材ＢＳ、ベース部材ＢＳ上でシートＳａ又はＳｂを保持して移動する２つのステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２、両ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を図２６に示される第１、第２走査領域ＡＳ１，ＡＳ２内でそれぞれ走査駆動する第１及び第２ステージ駆動系ＳＳＤａ，ＳＳＤｂ（図２７参照）、両ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を第１及び第２走査領域ＡＳ１，ＡＳ２間で搬送するステージ搬送系３６ａ，３６ｂ（図２７参照）、両ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の第１及び第２走査領域ＡＳ１，ＡＳ２内での位置情報をそれぞれ計測する第１ステージ干渉計システム１８ａ及び第２ステージ干渉計システム１８ｂ（図２７参照）等を含む。
【０１０９】
ここで、図２６に示されるように、第１及び第２走査領域ＡＳ１，ＡＳ２は、それぞれ、投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂの直下の領域を含むベース部材ＢＳの上面（ガイド面）の−Ｙ側半部、＋Ｙ側半部の領域である。なお、図２６では、第１走査領域ＡＳ１内にステージＳＳＴ１が、第２走査領域ＡＳ２内にステージＳＳＴ２が、位置している。
【０１１０】
ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２のそれぞれは、例えば図２３（Ａ）に示されるように、ステージ本体ＳＴ、テーブルＴＢ、及びＺ・レベリング装置３８（３つのＺ駆動機構３８ａ、３８ｂ、３８ｃ）を含んで、前述の第1の実施形態におけるステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２と同様に構成されている。従って、Ｚ・レベリング装置３８を制御することにより、ステージ本体ＳＴ上で、テーブルＴＢをＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向の３自由度方向に微小駆動することができる。ただし、そのステージ本体ＳＴの底部には可動子は存在しない。これに対応して、ベース部材ＢＳの内部に固定子は存在しない。すなわち、本第２の実施形態では、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２をベース部材ＢＳの上面（ガイド面）に沿って駆動する平面モータは設けられていない。このため、露光装置１０００には、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を、それぞれ第１及び第２走査領域ＡＳ１，ＡＳ２内で駆動する前述の第１、第２ステージ駆動系ＳＳＤａ，ＳＳＤｂ（図２７参照）が設けられている。
【０１１１】
第１ステージ駆動系ＳＳＤａは、例えば図２３（Ｂ）及び図２６に示されるように、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２をＸＹ平面内で微小駆動する微動装置３４ａと、微動装置３４ａを第１走査領域ＡＳ１内で走査方向（−Ｘ方向）に駆動する粗動装置３２ａとを含む。
【０１１２】
粗動装置３２ａは、一種のリニアモータであり、図２６に示されるように、ベース部材ＢＳの−Ｙ側に、Ｘ軸方向を長手方向として設置された断面Ｕ字状（＋Ｙ側が開口している）の磁石ユニット（又はコイルユニット）を有する固定子３２ａ１と、固定子３２ａ１に非接触で係合し、該固定子３２ａ１との間で発生する駆動力（電磁力）により長手方向（Ｘ軸方向）に駆動されるコイルユニット（又は磁石ユニット）を有する可動子３２ａ２とを含む。
【０１１３】
微動装置３４ａは、一種の平面モータであり、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）に示されるように、可動子３２ａ２の＋Ｙ側に突設された矩形板状の突設部から成る固定子３４ａ１と、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２のステージ本体ＳＴの−Ｙ側の側面に設けられた可動子３４ａ２とを含む。
【０１１４】
固定子３４ａ１は、上述の突設部内に収容され、所定の位置関係で配置された複数のＸコイル、Ｙコイルから成るコイルユニットＣＵａを含む。
【０１１５】
ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（ステージ本体ＳＴ）の−Ｙ側面には、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）に示されるように、上述の固定子３４ａ１が非接触で挿入可能な凹部３５ａが形成されている。
【０１１６】
一方、可動子３４ａ２は、図２３（Ａ）に示されるように、上述のステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（ステージ本体ＳＴ）の凹部３５ａの上下の対向面にそれぞれ配置された一対の磁石ユニットＭＵａ１，ＭＵａ２を含む。
【０１１７】
ここで、磁石、コイル等の配置等の説明は省略するが、固定子３４ａ１のコイルユニットＣＵａを構成する各コイルに対する電流の向き、大きさを適宜制御することにより、可動子３４ａ２の磁石ユニットＭＵａ１，ＭＵａ２とコイルユニットＣＵａとの間で行われる電磁相互作用により、可動子３４ａ２（ステージ本体ＳＴ）を、固定子３４ａ１に対して、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、θｚ方向に微少駆動することができるようになっている。
【０１１８】
一方、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂは、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２をＸＹ平面内で微小駆動する微動装置３４ｂと、微動装置３４ｂを第２走査領域ＡＳ２内で走査方向（＋Ｘ方向）に駆動する粗動装置３２ｂと、から構成される。
【０１１９】
粗動装置３２ｂは、粗動装置３２ａと同様のリニアモータであり、図２６に示されるように、固定子３２ｂ１と、可動子３２ｂ２と、を含んで、粗動装置３２ａとＸ軸に関して対称ではあるが、同様に構成されている。
【０１２０】
微動装置３４ｂは、微動装置３４ａと同様の平面モータであり、例えば図２５（Ａ）から分かるように、固定子３４ｂ１と可動子３４ｂ２とを含んで、微動装置３４ａとＸ軸に関して対称ではあるが、同様に構成されている。
【０１２１】
従って、微動装置３４ａと同様に、微動装置３４ｂを構成する固定子３４ｂ１に対して可動子３４ｂ２（ステージ本体ＳＴ）を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に駆動することができる。
【０１２２】
上述の説明からわかるように、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２は、第１走査領域ＡＳ１内では第１ステージ駆動系ＳＳＤａ（図２７参照）によって、第２走査領域ＡＳ２内では第２ステージ駆動系ＳＳＤｂ（図２７参照）によって、それぞれ独立に、３自由度方向（Ｘ，Ｙ，θｚ方向）に駆動される。
【０１２３】
ステージ搬送系３６ａ（図２７参照）は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を、第１走査領域ＡＳ１から第２走査領域ＡＳ２へ搬送する。ステージ搬送系３６ｂ（図２７参照）は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を、第２走査領域ＡＳ２から第１走査領域ＡＳ１へ搬送する。
【０１２４】
ステージ搬送系３６ａは、図２６に示されるように、ベース部材ＢＳの−Ｘ側の端面に近接して配置されシートＳａの幅より幾分長い長さを有し、Ｙ軸方向に延びるガイド３６ａ１と、ガイド３６ａ１にその長手方向に沿ってスライド移動可能に取り付けられたＸ軸及びＹ軸に対して４５°を成す方向を長手方向とする長方形状のスライダ３６ａ２と、スライダ３６ａ２にその長手方向に沿って移動可能に取り付けられたＬ字状のアーム部材３６ａ３と、を有している。
【０１２５】
これをさらに詳述すると、ガイド３６ａ１の上面には、長手方向（Ｙ軸方向）に沿ってガイド溝が形成されており、このガイド溝の側壁には、第１リニアモータの固定子を構成する複数の磁石（又はコイル）が長手方向に沿って所定間隔で配置されている。ガイド溝の内部に、スライダ３６ａ２の下端部に固定された可動子を構成するコイル（又は磁石）が係合している。第１リニアモータによって、スライダ３６ａ２が、Ｙ軸方向に駆動される。
【０１２６】
スライダ３６ａ２の上面には、長手方向に沿ってガイド溝が形成されており、このガイド溝の側壁には、第２リニアモータの固定子を構成する複数の磁石（又はコイル）が長手方向に沿って所定間隔で配置されている。ガイド溝の内部に、アーム部材３６ａ３の下端部に固定された可動子を構成するコイル（又は磁石）が係合している。第２リニアモータによって、アーム部材３６ａ３が、Ｘ軸及びＹ軸に対して４５°を成す方向に駆動される。
【０１２７】
ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（ステージ本体ＳＴ）の−Ｘ側端かつ−Ｙ側端の角部には、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）に示されるように、アーム部材３６ａ３が係合するＬ字状の凹部３７ａが形成されている。
【０１２８】
ステージ搬送系３６ａのスライダ３６ａ２及びアーム部材３６ａ３は、第１、第２リニアモータを介して、主制御装置５０によって制御される（図２７参照）。
【０１２９】
ここで、主制御装置５０が、ステージ搬送系３６ａを用いて、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を第１走査領域ＡＳ１から第２走査領域ＡＳ２へ搬送する際の手順について説明する。
【０１３０】
まず、図２４（Ａ）に示されるように、第１走査領域ＡＳ１の−Ｘ端に停止しているステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）に向かって、アーム部材３６ａ３を、スライダ３６ａ２上で黒塗り矢印で示される方向にスライドさせる。これにより、図２４（Ｂ）に示されるように、アーム部材３６ａ３の先端が、ステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）の凹部３７ａに係合する。
【０１３１】
次に、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの微動装置３４ａを構成する固定子３４ａ１（コイルユニットＣＵａ）への電流供給を停止する。これにより、固定子３４ａ１と可動子３４ａ２との間の電磁力による拘束が解除される。次に、図２４（Ｃ）に示されるように、スライダ３６ａ２を、ガイド３６ａ１上で黒塗り矢印で示される方向（＋Ｙ方向）に駆動する。これにより、ステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）が＋Ｙ方向に、すなわち、第２走査領域ＡＳ２に向かって搬送され、この搬送の途中で固定子３４ａ１がステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）の凹部３５ａから離脱する。
【０１３２】
このとき、図２５（Ａ）に示されるように、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの粗動装置３２ｂの可動子３２ｂ２が、一体的に設けられた微動装置３４ｂの固定子３４ｂ１がステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）の凹部３５ｂに対向する位置で待機している。
【０１３３】
ステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）がベース部材ＢＳ（上面）の＋Ｙ端まで搬送されると、図２５（Ｂ）に示されるように、固定子３４ｂ１がステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）の凹部３５ｂに非接触で係合する（挿入される）。係合後、固定子３４ｂ１（コイルユニットＣＵｂ）に電流を供給することにより、固定子３４ｂ１と可動子３４ｂ２とが電磁力により拘束され、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの微動装置３４ｂが構成される。その後、図２５（Ｂ）に示されるように、アーム部材３６ａ３を、黒塗り矢印で示される方向に退避させる。退避後、図２５（Ｃ）に示されるように、スライダ３６ａ２を黒塗り矢印で示される方向（−Ｙ方向）に駆動して、第１走査領域ＡＳ１に戻す。これにより、ステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）は、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂにより第２走査領域ＡＳ２内で駆動可能な状態になる。
【０１３４】
一方、ステージ搬送系３６ｂは、図２６に示されるように、ベース部材ＢＳの＋Ｘ端部の＋Ｙ側半部の近傍に設けられている。このステージ搬送系３６ｂはガイド３６ｂ１とスライダ３６ｂ２とアーム部材３６ｂ３とを含み、ステージ搬送系３６ａとはベース部材ＢＳの中心に関して対称ではあるが同様に構成されている。これに対応して、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）等に示されるように、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（ステージ本体ＳＴ）の＋Ｘ側端かつ＋Ｙ側端の角部には、アーム部材３６ｂ３が係合する凹部３７ｂが形成されている。なお、アーム部材３６ａ３，３６ｂ３の内面にバキュームチャックをそれぞれ設けても良い。この場合、ステージ本体ＳＴに凹部３７ａを形成する必要はない。
【０１３５】
主制御装置５０は、ステージ搬送系３６ａを用いてステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を第１走査領域ＡＳ１から第２走査領域ＡＳ２へ搬送するのと同様に、ステージ搬送系３６ｂを用いてステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を第２走査領域ＡＳ２から第１走査領域ＡＳ１へ搬送することができる。
【０１３６】
第１ステージ干渉計システム１８ａは、図２６に示されるように、干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｙａ１，１８Ｙａ２を含み、第１走査領域ＡＳ１内に位置するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内での位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する。
【０１３７】
一方、第２ステージ干渉計システム１８ｂは、干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２，１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２を含み、第２走査領域ＡＳ２内に位置するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内での位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する。
【０１３８】
図２６に示されるように、干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２及び１８Ｙａ１，１８Ｙａ２は、それぞれ第１走査領域ＡＳ１内に位置するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の反射面１７Ｘ１及び１７Ｙ１に対向し得るように、第１走査領域ＡＳ１（投影光学系ＰＬ）の＋Ｘ側及び−Ｙ側に配置されている。干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２及び１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２は、それぞれ第２走査領域ＡＳ２内に位置するステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の反射面１７Ｘ２及び１７Ｙ２に対向するように、第２走査領域ＡＳ２の−Ｘ側及び＋Ｙ側に配置されている。
【０１３９】
干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２は、第１走査領域ＡＳ１内に位置するステージＳＳＴ１の反射面１７Ｘ１に、Ｘ軸に平行に測長ビームをそれぞれ照射し、反射面１７Ｘ１からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ１のＸ位置をそれぞれ計測する。干渉計１８Ｙａ１，１８Ｙａ２は、Ｙ軸と平行な２つの測長ビームを反射面１７Ｙ１にそれぞれ照射し、反射面１７Ｙ１からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ１のＹ位置をそれぞれ計測する。ここで、干渉計１８Ｙａ２の２つの測長ビームの一方は、光軸ＡＸａ１，ＡＸａ３，ＡＸａ５と直交するＹ軸に平行な光路に沿って、他方は、光軸ＡＸａ２，ＡＸａ４と直交するＹ軸に平行な光路に沿って、反射面１７Ｙ１に照射される。また、干渉計１８Ｙａ１の２つの測長ビームは、後述する複数のアライメント系のうちの、隣接するアライメント系の検出中心を通るＹ軸に平行な光路に沿って、反射面１７Ｙ１に照射される。
【０１４０】
第１ステージ干渉計システム１８ａ（１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｙａ１，１８Ｙａ２）の計測情報は、主制御装置５０に供給される（図２７参照）。なお、ステージＳＳＴ１が、第１走査領域ＡＳ１内に位置する場合、そのＸ位置を問わず、必ず、干渉計１８Ｙａ１，１８Ｙａ２の少なくとも一方、又は干渉計１８Ｙｂ１の測長ビームが、ステージＳＳＴ１の対応する反射面（１７Ｙ１又は１７Ｙ２）に照射される。従って、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１のＸ位置に応じて、干渉計１８Ｙａ１，１８Ｙａ２及び１８Ｙｂ１のいずれかの計測情報を使用する。また、主制御装置５０は、１８Ｘａ１，１８Ｘａ２の計測情報に基づいて、ステージＳＳＴ１のθｚ方向の回転を計測する。なお、第１走査領域ＡＳ１内にステージＳＳＴ２が位置する場合も、同様に、その位置情報が計測される。
【０１４１】
干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２は、第２走査領域ＡＳ２内に位置するステージＳＳＴ２の反射面１７Ｘ２に、Ｘ軸と平行な測長ビームをそれぞれ照射し、反射面１７Ｘ２からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ２のＸ位置をそれぞれ計測する。干渉計１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２は、Ｙ軸と平行な２つの測長ビームを反射面１７Ｙ２にそれぞれ照射し、反射面１７Ｙ２からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ２のＹ位置をそれぞれ計測する。ここで、干渉計１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２からは、前述した干渉計１８Ｙａ１，１８Ｙａ２と同様の光路に沿って、反射面１７Ｙ２に測長ビームが照射される。
【０１４２】
第２ステージ干渉計システム１８ｂ（１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２，１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２）の計測情報は、主制御装置５０に供給される（図２７参照）。なお、ステージＳＳＴ２が、第２走査領域ＡＳ２内に位置する場合、そのＸ位置を問わず、必ず、干渉計１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２の一方、又は干渉計１８Ｙａ１の測長ビームが、ステージＳＳＴ１の対応する反射面（１７Ｙ２又は１７Ｙ１）に照射される。従って、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ２のＸ位置に応じて、干渉計１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２，１８Ｙａ１のいずれかの計測情報を使用する。また、主制御装置５０は、干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２の計測情報に基づいて、ステージＳＳＴ２のθｚ方向の回転を計測する。なお、第２走査領域ＡＳ２内にステージＳＳＴ１が位置する場合も、同様に、その位置情報が計測される。
【０１４３】
主制御装置５０は、第１及び第２ステージ干渉計システム１８ａ，１８ｂからの位置情報に基づいて、第１及び第２ステージ駆動系ＳＳＤａ，ＳＳＤｂを介してステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を駆動制御する。
【０１４４】
なお、干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｙａ１，１８Ｙａ２，１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２，１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２のそれぞれとして、Ｚ軸方向に離間する複数の測長ビームを反射面に照射する多軸干渉計を用いることも可能である。この場合、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内の位置情報（回転情報（ヨーイング量（θｚ方向の回転量θｚ）を含む））だけでなく、ＸＹ平面に対する傾斜情報（ピッチング量（θｘ方向の回転量θｘ）及びローリング量（θｙ方向の回転量θｙ））も取得可能となる。
【０１４５】
さらに、本第２の実施形態の露光装置１０００には、シートＳａ及びＳｂ上の各区画領域に付設されたアライメントマークを検出するための各１２個のアライメント系ＡＬａ１〜ＡＬａ１２及びＡＬｂ１〜ＡＬｂ１２が、それぞれ、投影光学系ＰＬａの＋Ｘ側及び投影光学系ＰＬｂの−Ｘ側に設置されている。なお、これらのアライメント系ＡＬａ１〜ＡＬａ１２及びＡＬｂ１〜ＡＬｂ１２は、第１の実施形態のアライメント系ＡＬ１〜ＡＬ１２と同様に構成され、同様に配置されている。
【０１４６】
図２７には、露光装置１０００の制御系を中心的に構成し、構成各部を統括制御する主制御装置５０の入出力関係を示すブロック図が示されている。
【０１４７】
本実施形態の露光装置１０００における、２つのステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を用いた並行処理動作について、図２８〜図３７に基づいて説明する。また、以後の動作説明は、多数の図面を用いて行うが、図面毎に同一の部材に符号が付されていたり、付されていなかったりしている。すなわち、図面毎に、記載している符号が異なっているが、それら図面は符号の有無に関わらず、同一構成である。これまでに説明に用いた、各図面についても同様である。
【０１４８】
図２８には、シートＳａ上に配列された複数の区画領域のうちの最初の（ｉ−１）個の区画領域ＳＡａ１〜ＳＡａｉ−１に対する露光が既に終了し、且つシートＳｂ上に配列された複数の区画領域のうちの最初の（ｉ−１）個の区画領域ＳＡｂ１〜ＳＡｂｉ−１に対する露光が既に終了し、次の区画領域ＳＡａｉ，ＳＡｂｉに対する露光のための処理が開始される直前の状態が示されている。図２８の状態では、シートＳａの区画領域ＳＡａｉに対する露光の際にシートＳａの移動のために使用されるステージＳＳＴ１が第１走査領域ＡＳ１内の＋Ｘ端部の位置（第１待機位置）にて待機し、シートＳｂの区画領域ＳＡｂｉに対する露光の際にシートＳｂの移動のために使用されるステージＳＳＴ２が第２走査領域ＡＳ２内の−Ｘ端部の位置（第２待機位置）にて待機している。
【０１４９】
なお、マスクＭａ，ＭｂのマスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂ上へのロード及びマスクアライメント（マスクの位置合わせ）は、通常、シートＳａ，Ｓｂ上の最初の区画領域ＳＡａ１，ＳＡｂ１に対する露光開始前に行われるので、図２８に示される状態では、マスクＭａ，Ｍｂのロード及びマスクアライメントは終了している。また、マスクステージＭＳＴａ、ＭＳＴｂは、区画領域ＳＡａｉ，ＳＡｂｉに対する露光のための走査開始位置（加速開始位置）へ移動しているものとする。
【０１５０】
ｆ．  まず、次のｆ１．〜ｆ４．の手順に従って、区画領域ＳＡａｉ，ＳＡｂｉを含むシートＳａ，Ｓｂの中央部が、それぞれステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２上に保持される。
ｆ１．  具体的には、主制御装置５０は、前述の第１の実施形態のａ１．で説明したのと同様に第１シート搬送系４０ａを制御して、所定の長さのシートＳａを、搬送ローラ部４１ａ，４２ａ間にループ状に撓めると同時に、第２シート搬送系４０ｂを制御して、所定の長さのシートＳｂを、搬送ローラ部４１ｂ，４２ｂ間にループ状に撓める。所定の長さは、搬送ローラ部４２ａ，４３ａ（４２ｂ，４３ｂ）の離間距離程度の長さである。
【０１５１】
ｆ２．  次に、主制御装置５０は、第１ステージ干渉計システム１８ａ（１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｙａ１，１８Ｙａ２）からのステージＳＳＴ１の位置情報に基づいて、第１シート搬送系４０ａを制御し、シートＳａを＋Ｘ方向に引き戻す、あるいは−Ｘ方向に送り出してシートＳａ上の区画領域ＳＡａｉをステージＳＳＴ１のシートホルダＳＨ１（の保持面）上に位置決めする。ここで、シートＳａは、適度のテンションが付与された状態で搬送ローラ部４２ａ，４３ａ間に張られた上で、位置決めされる。主制御装置５０は、さらに、ステージＳＳＴ１を微小駆動して、シートホルダＳＨ１（の保持面）をシートＳａ上の区画領域ＳＡａｉに位置合わせする。
【０１５２】
シートＳａの位置合わせと並行して、主制御装置５０は、同様に、第２ステージ干渉計システム１８ｂ（１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２，１８Ｙｂ１，１８Ｙｂ２）からのステージＳＳＴ２の位置情報に基づいて、第２シート搬送系４０ｂを制御し、シートＳｂ上の区画領域ＳＡｂｉをステージＳＳＴ２のシートホルダＳＨ１（の保持面）上に位置決めする。主制御装置５０は、さらに、ステージＳＳＴ２を微小駆動して、シートホルダＳＨ１（の保持面）をシートＳｂ上の区画領域ＳＡｂｉに位置合わせする。
【０１５３】
なお、この状態では、シートＳａとステージＳＳＴ１のシートホルダＳＨ１（の保持面）との間には僅かな空間が設けられている。同様に、シートＳｂとステージＳＳＴ２のシートホルダＳＨ１（の保持面）との間にも僅かな空間が設けられている。
【０１５４】
第１待機位置においてステージＳＳＴ１とシートＳａが位置合わせされた状態では、アライメント系ＡＬａ１〜ＡＬａ１２それぞれの検出視野内に、区画領域ＳＡａｉに付設されたアライメントマークが位置決めされる。同様に、第２待機位置においてステージＳＳＴ２とシートＳｂが位置合わせされた状態では、アライメント系ＡＬｂ１〜ＡＬｂ１２それぞれの検出視野内に、区画領域ＳＡｂｉに付設されたアライメントマークが位置決めされる。
【０１５５】
ｆ３．  位置合わせ後、主制御装置５０は、第１ステージ駆動系ＳＳＤ（Ｚ・レベリング装置３８）を介してステージＳＳＴ１のテーブルＴＢを水平に保ちつつ、テーブルＴＢ上の４つの補助シートホルダＳＨ２を＋Ｚ方向に微小駆動して、シートＳａの区画領域ＳＡａｉの±Ｙ側の外部部分の裏面を補助シートホルダＳＨ２を用いて吸着保持する。同様に、主制御装置５０は、シートＳｂの区画領域ＳＡｂｉの±Ｙ側の外部部分の裏面をステージＳＳＴ２（テーブルＴＢ）上の補助シートホルダＳＨ２を用いて吸着保持する。図２９には、このようにして、シートＳａ，ＳｂがそれぞれステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２（補助シートホルダＳＨ２）により仮保持された状態が示されている。
【０１５６】
ｆ４．  シートＳａ，Ｓｂの仮保持後、主制御装置５０は、シートＳａを仮保持したままステージＳＳＴ１上の４つの補助シートホルダＳＨ２を−Ｚ方向に微小駆動して、区画領域ＳＡａｉを含むシートＳの中央部の裏面をシートホルダＳＨ１の保持面上に接触させる。そして、主制御装置５０は、４つの補助シートホルダＳＨ２の保持面をシートホルダＳＨ１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めする。これにより、シートＳａに適当なテンションが加わり、シートＳａの中央部がシートホルダＳＨ１の保持面上に固定される。この状態にて、主制御装置５０は、図３０に示されるように、シートＳａをシートホルダＳＨ１に吸着保持する。これにより、区画領域ＳＡａｉを含むシートＳａの中央部が、ステージＳＳＴ１上に、ＸＹ平面に平行に且つ平坦に保持される。
【０１５７】
シートＳａの保持と並行して、主制御装置５０は、同様に、区画領域ＳＡｂｉを含むシートＳｂの中央部を、ステージＳＳＴ２上のシートホルダＳＨ１に吸着保持する。
【０１５８】
ｇ．  次に、シートＳａ，Ｓｂに対するアライメント計測が行われる。
【０１５９】
前述の通り、第１待機位置にステージＳＳＴ１が位置決めされた状態では、アライメント系ＡＬａ１〜ＡＬａ１２のそれぞれの検出視野内に区画領域ＳＡａｉに付設されたアライメントマークが位置決めされている。また、第２待機位置にステージＳＳＴ２が位置決めされた状態では、アライメント系ＡＬｂ１〜ＡＬｂ１２のそれぞれの検出視野内に区画領域ＳＡｂｉに付設されたアライメントマークが位置決めされている。そこで、主制御装置５０は、図３０に示されるように、シートＳａ上の区画領域ＳＡａｉに付設されたアライメントマークをアライメント系ＡＬａ１〜ＡＬａ１２を用いて検出する（指標中心からのアライメントマークの位置を計測する）。アライメントマークの検出結果と、その検出時の第１ステージ干渉計システム１８ａからのステージＳＳＴ１の位置情報と、に基づき、ＸＹ座標系上における１２個のアライメントマークの位置座標が求められる。主制御装置５０は、１２個のアライメントマークの位置座標の全部又は一部を用いて、最小二乗法を用いた所定の演算を行って、シートＳａ上の区画領域ＳＡａｉ内に形成済みのパターンの歪み、すなわちＸＹシフト、回転、ＸＹスケーリング、直交度を求める。
【０１６０】
シートＳａのアライメント計測と並行して、主制御装置５０は、同様に、アライメント系ＡＬｂ１〜ＡＬｂ１２を用いて、シートＳｂ上の区画領域ＳＡｂｉに付設されたアライメントマークを検出し、アライメントマークの検出結果と、その検出時の第２ステージ干渉計システム１８ｂからのステージＳＳＴ２の位置情報と、に基づき、ＸＹ座標系上における１２個のアライメントマークの位置座標を求める。そして、主制御装置５０は、先と同様にアライメントマークの位置座標を用いて所定の演算を行って、シートＳｂ上の区画領域ＳＡｂｉ内に形成済みのパターンの歪み、すなわちＸＹシフト、回転、ＸＹスケーリング、直交度を求める。
【０１６１】
なお、検出すべきアライメントマークの数より、アライメント系の数が少ない場合には、シートＳａを保持したステージＳＳＴ１、シートＳｂを保持したステージＳＳＴ２をＸ軸方向にステップ移動させつつ、アライメント計測を行う必要がある。この際、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１、ＳＳＴ２の動きに合わせて、シート搬送系４０ａ、４０ｂの各駆動ローラの回転、停止を制御する。
【０１６２】
ｈ．  次いで、シートＳａ上の区画領域ＳＡａｉ及びシートＳｂ上の区画領域ＳＡｂｉに対する走査露光が行われる。
【０１６３】
ｈ１．  具体的には、主制御装置５０は、シートＳａに対するアライメント計測の結果、特にＸＹシフトに基づいて、シートＳａを保持したステージＳＳＴ１を、露光のための走査開始位置（加速開始位置）に移動して、マスクＭａを保持したマスクステージＭＳＴａに対して位置合わせを行う。ここで、本第２の実施形態においても、ステージＳＳＴ１（及びＳＳＴ２）の第１走査領域ＡＳ１内部の加速開始位置は、前述の第１待機位置と同じ位置（又はその近傍）に設定されているので、ＸＹ平面内のステージＳＳＴ１（及びＳＳＴ２）の位置の微調整が行われる。
ｈ２．  次に、主制御装置５０は、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴａの走査方向（−Ｘ方向）の加速を開始する。これにより、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴａの−Ｘ方向の移動が開始され、その移動の途中、具体的には、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴａの加速終了の前に、図３１に示されるように、干渉計１８Ｙａ２からの測長ビームが反射面１７Ｙ１に当たり始めるので、その直後に、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙａ１から干渉計１８Ｙａ２に切り換える。
ｈ３．  そして、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴａの加速が終了し、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴａが等速同期状態に達すると、照明光ＩＬ２，ＩＬ４によってマスクＭａ上のパターン領域が照明され始め、露光が開始される。そして、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴａの等速同期移動の進行により、図３２に示されるように、照明光ＩＬａ１〜ＩＬａ５によってそれぞれマスクＭａ上の照明領域ＩＡＭａ１〜ＩＡＭａ５（図２１参照）が照明され、照明領域ＩＡＭａ１〜ＩＡＭａ５内のパターンの部分像がそれぞれ投影光学系ＰＬａ１〜ＰＬａ５（図２２参照）を介してステージＳＳＴ１上に保持されたシートＳａ上の投影領域ＩＡａ１〜ＩＡａ５に投影される。
【０１６４】
ｈ４．  上述のｈ１．〜ｈ３．の動作と並行して、主制御装置５０によって、シートＳｂを保持したステージＳＳＴ２の、露光のための走査開始位置（加速開始位置）への移動、マスクＭｂを保持したマスクステージＭＳＴｂに対しての位置合わせ、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴｂの走査方向（＋Ｘ方向）の加速開始、並びに加速終了前のステージＳＳＴ２のＹ位置を計測する干渉計の、干渉計１８Ｙｂ１から干渉計１８Ｙｂ２への切り換え、などが、上述と同様にして行われる。そして、両ステージＳＳＴ２，ＭＳＴｂの加速が終了し、両ステージＳＳＴ２，ＭＳＴｂが等速同期状態に達すると、照明光ＩＬｂ１〜ＩＬｂ５によってマスクＭｂ上のパターン領域が照明され始め、露光が開始される。そして、両ステージＳＳＴ２，ＭＳＴｂによる等速同期移動の進行により、図３２に示されるように、５つの照明光によってそれぞれマスクＭａ上の照明領域ＩＡＭｂ１〜ＩＡＭｂ５（図２１参照）が照明され、照明領域ＩＡＭｂ１〜ＩＡＭｂ５内のパターンの部分像がそれぞれ投影光学系ＰＬｂ１〜ＰＬｂ５（図２２参照）を介してステージＳＳＴ２上に保持されたシートＳｂ上の投影領域ＩＡｂ１〜ＩＡｂ５に投影される。
【０１６５】
マスクＭａのパターン領域の全域が照明光ＩＬａ１〜ＩＬａ５により照明されると、すなわち照明領域ＩＡＭｂ１〜ＩＡＭｂ５をマスクＭａのパターン領域が通り過ぎると、シートＳａの区画領域ＳＡａｉに対する走査露光が終了し、同様にマスクＭｂのパターン領域の全域が照明光ＩＬｂ１〜ＩＬｂ５により照明されると、シートＳｂの区画領域ＳＡｂｉに対する走査露光が終了する。これにより、シートＳａ，Ｓｂの区画領域ＳＡａｉ，Ｓｂｉ内に、それぞれ、マスクＭａ，Ｍｂのパターンが転写される。
【０１６６】
走査露光中、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）のテーブルＴＢを水平に保ちつつＺ軸方向に駆動して、テーブルＴＢ（シートホルダＳＨ１）上に保持されたシートＳａ（Ｓｂ）の表面を投影光学系ＰＬａ（ＰＬｂ）の焦点位置（焦点深度内）に位置決めする。また、走査露光中、主制御装置５０は、アライメント計測の結果に基づいて、ステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）とマスクステージＭＳＴａ（ＭＳＴｂ）との同期駆動（相対位置及び相対速度）を制御して、シートＳａ（Ｓｂ）上に投影されるパターンの全体像の歪みを補正する。さらに、主制御装置５０は、第１レンズコントローラＬＣａ（第２レンズコントローラＬＣｂ）を介して投影光学系ＰＬａ１〜ＰＬａ５（ＰＬｂ１〜ＰＬｂ５）のそれぞれを構成する光学素子群（レンズ群）を駆動制御して、シートＳａ（Ｓｂ）上の投影領域ＩＡａ１〜ＩＡａ５（ＩＡｂ１〜ＩＡｂ５）のそれぞれに投影されるパターンの部分像の歪みを補正する。これにより、既に区画領域ＳＡａｉ（Ｓｂｉ）内に形成されたパターンにマスクＭａ（Ｍｂ）のパターンの投影像が高精度に重ね合わされる。
【０１６７】
区画領域ＳＡａｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴａが減速され、図３３に示されるように、それぞれの走査終了位置（減速終了位置）に到達すると、停止する。同様に、区画領域ＳＡｂｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ２，ＭＳＴｂが減速され、図３３に示されるように、それぞれの走査終了位置（減速終了位置）に到達すると、停止する。ここで、並行して行われる区画領域ＳＡａｉ、ＳＡｂｉに対する走査露光の途中で、干渉計１８Ｙｂ１からの測長ビームは、ステージＳＳＴ２に当たらなくなると同時に、ステージＳＳＴ１に当たり始め、干渉計１８Ｙａ１からの測長ビームは、ステージＳＳＴ１に当たらなくなると同時に、ステージＳＳＴ２に当たり始める。そこで、主制御装置５０は、区画領域ＳＡａｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ１，ＭＳＴａの減速を開始すると共に、ステージＳＳＴ１のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙａ２から干渉計１８Ｙｂ１へ切り換え、これと並行して区画領域ＳＡｂｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ２，ＭＳＴｂの減速を開始すると共に、ステージＳＳＴ２のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙｂ２から干渉計１８Ｙａ１へ切り換える。なお、本第２の実施形態では、ステージＳＳＴ１、ＳＳＴ２の走査の際の減速終了位置は、ベース部材ＢＳの−Ｘ端、＋Ｘ端に一致するように定められている。
【０１６８】
なお、走査露光中、主制御装置５０は、シートＳａ（Ｓｂ）を保持したステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）を−Ｘ方向（＋Ｘ方向）に駆動する際、先と同様に、ステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）の動きに合わせて、そのステージＳＳＴ１（ＳＳＴ２）の動きが、シートＳａ（Ｓｂ）に作用するテンションによって阻害されることがないように、シート搬送系４０ａ（４０ｂ）の各駆動ローラを、適宜、回転、停止する。
【０１６９】
次いで、シートＳａ，Ｓｂの次の区画領域ＳＡａｉ＋１，ＳＡｂｉ＋１に対する露光の前処理として、次のｉ１．〜ｉ５．の手順に従って、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の入れ替えが行われる。
【０１７０】
ｉ１．  図３４に示されるように、ステージＳＳＴ１が減速終了位置である第１走査領域ＡＳ１内の−Ｘ端に停止すると、主制御装置５０は、シートホルダＳＨ１と補助シートホルダＳＨ２によるシートＳａの吸着保持を解除する。同様に、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ２が減速終了位置である第２走査領域ＡＳ２内の＋Ｘ端に停止すると、シートホルダＳＨ１と補助シートホルダＳＨ２によるシートＳｂの吸着保持を解除する。さらに、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２のテーブルＴＢを下方（−Ｚ方向）に退避させる。これにより、シートＳａは、ステージＳＳＴ１のシートホルダＳＨ１との間に僅かな空間を挟んで、搬送ローラ部４２ａ，４３ａ間に張られた状態になる。同様に、シートＳｂは、ステージＳＳＴ２のシートホルダＳＨ１との間に僅かな空間を挟んで、搬送ローラ部４２ｂ，４３ｂ間に張られた状態になる。
【０１７１】
ｉ２．  次いで、主制御装置５０は、先に図２４（Ａ）〜図２４（Ｃ）及び図２５（Ａ）〜図２５（Ｃ）を用いて説明したように、ステージ搬送系３６ａを用いて、ステージＳＳＴ１を第１走査領域ＡＳ１から第２走査領域ＡＳ２内の前述の第２待機位置へ搬送する。具体的には、主制御装置５０は、まず図３４に示されるように、アーム部材３６ａ３をステージＳＳＴ１の凹部３７ａに係合させる。次に、主制御装置５０は、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの微動装置３４ａを構成する固定子３４ａ１と可動子３４ａ２との間の拘束を解除する。そして、主制御装置５０は、スライダ３６ａ２を図３４中に黒塗り矢印で示される方向（＋Ｙ方向）に駆動する。これにより、ステージＳＳＴ１が、第２走査領域ＡＳ２に向かって図３４中に黒塗り矢印で示されるように＋Ｙ方向に搬送され（駆動され）、固定子３４ａ１がステージＳＳＴ１の凹部３５ａから離脱する。
【０１７２】
ステージＳＳＴ１の搬送と並行して、主制御装置５０は、ステージ搬送系３６ｂを用いて、ステージＳＳＴ２を第２走査領域ＡＳ２から第１走査領域ＡＳ１内の前述の第１待機位置へ搬送する。主制御装置５０は、まず、アーム部材３６ｂ３をステージＳＳＴ２の凹部３７ｂに係合させる。次に、主制御装置５０は、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの微動装置３４ｂを構成する固定子３４ｂ１と可動子３４ｂ２との間の拘束を解除する。そして、主制御装置５０は、スライダ３６ｂ２を図３４中に白抜き矢印で示される方向（−Ｙ方向）に駆動する。これにより、ステージＳＳＴ２が第１走査領域ＡＳ１に向かって図３４中に白抜き矢印で示されるように−Ｙ方向に搬送され（駆動され）、固定子３４ｂ１がステージＳＳＴ２の凹部３５ｂから離脱する。
【０１７３】
ステージＳＳＴ１の搬送中、図３４及び図３５に示されるように、ステージＳＳＴ１のＹ位置に応じて、そのＸ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２から干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２へ切り換えられる（干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２の間で使用する干渉計が順次切り換えられる）。同様に、ステージＳＳＴ２の搬送中、ステージＳＳＴ２のＹ位置に応じて、そのＸ位置を計測するステージ干渉計が干渉計１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２から干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２へ切り換えられる（干渉計１８Ｘａ１，１８Ｘａ２，１８Ｘｂ１，１８Ｘｂ２の間で使用する干渉計が順次切り換えられる）。
【０１７４】
ｉ３．  ステージＳＳＴ１の搬送中、主制御装置５０は、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの粗動装置３２ｂを構成する可動子３２ｂ２を、図３５中に白抜き矢印で示されるように−Ｘ方向に駆動し、可動子３２ｂ２に固定された固定子３４ｂ１を、搬送中のステージＳＳＴ１の凹部３５ｂに対向させて、位置決めする。同様に、主制御装置５０は、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの粗動装置３２ａを構成する可動子３２ａ２を、図３５中に黒塗り矢印で示されるように＋Ｘ方向に駆動し、可動子３２ａ２に固定された固定子３４ａ１を、搬送中のステージＳＳＴ２の凹部３５ａに対向させて、位置決めする。
【０１７５】
図３６に示されるように、ステージ搬送系３６ａによりステージＳＳＴ１がベース部材ＢＳ（上面）の＋Ｙ端の前述の第２待機位置まで搬送されると、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの粗動装置３２ｂの可動子３２ｂ２に固定された固定子３４ｂ１がステージＳＳＴ１の凹部３５ｂに非接触で係合する（挿入される）。同様に、ステージ搬送系３６ｂによりステージＳＳＴ２がベース部材ＢＳ（上面）の−Ｙ端の前述の第１待機位置まで搬送されると、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの粗動装置３２ａの可動子３２ａ２に固定された固定子３４ａ１がステージＳＳＴ２の凹部３５ａに非接触で係合する（挿入される）。
【０１７６】
ｉ４．  固定子３４ｂ１がステージＳＳＴ１の凹部３５ｂに係合後、主制御装置５０は、固定子３４ｂ１とステージＳＳＴ１に設けられた可動子３４ｂ２とを拘束する。これにより、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの微動装置３４ｂが構成される。同様に、固定子３４ａ１がステージＳＳＴ２の凹部３５ａに係合後、主制御装置５０は、固定子３４ａ１とステージＳＳＴ２に設けられた可動子３４ａ２とを拘束する。これにより、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの微動装置３４ａが構成される。
【０１７７】
ｉ５．  その後、主制御装置５０は、スライダ３６ａ２を図３６中に黒塗り矢印で示されるように−Ｙ方向に駆動して、元の位置に戻すとともに、スライダ３６ｂ２を図３６中に白抜き矢印で示されるように＋Ｙ方向に駆動して、元の位置に戻す。
【０１７８】
これにより、ステージＳＳＴ１は、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂにより第２走査領域ＡＳ２内で駆動可能な状態になり、ステージＳＳＴ２は、第１ステージ駆動系ＳＳＤａにより第１走査領域ＡＳ１内で駆動可能な状態になる。
【０１７９】
ｊ．  また、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の入れ替え（搬送）と並行して、主制御装置５０は、シート搬送系４０ａを制御して、シートＳａを図３５中に黒塗り矢印で示される方向（＋Ｘ方向）に引き戻し、シート搬送系４０ｂを制御して、シートＳｂを図３５中に白抜き矢印で示される方向（−Ｘ方向）に引き戻す。
【０１８０】
ｋ．  さらに、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の入れ替えと並行して、マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂをそれぞれの走査開始位置（加速開始位置）へ高速で戻す。
【０１８１】
ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の入れ替えとシートＳａ，Ｓｂの引き戻しが完了すると、図３７に示されるように、ステージＳＳＴ１が第２走査領域ＡＳ２内の第２待機位置にて待機し、待機中のステージＳＳＴ１上に次の区画領域ＳＡｂｉ＋１を含むシートＳｂの中央部が位置合わせされ、且つステージＳＳＴ２が第１走査領域ＡＳ１内の第１待機位置にて待機し、待機中のステージＳＳＴ２上に次の区画領域ＳＡａｉ＋１を含むシートＳａの中央部が位置合わせされる。この状態は、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２が入れ替わり、シートＳａ，Ｓｂが１区画領域分送られたことを除いて、図２８に示された状態と同じである。
【０１８２】
ステージ入れ替えが終了すると、主制御装置５０は、先と同様に、ステージＳＳＴ１に替えてステージＳＳＴ２を用いてシートＳａの区画領域ＳＡａｉ＋１に対する露光を開始するとともに、ステージＳＳＴ２に替えてステージＳＳＴ１を用いてシートＳｂの区画領域ＳＡｂｉ＋１に対する露光を開始する。以降同様に、主制御装置５０は、上述のｆ．〜ｋ．の手順を、繰り返し、シートＳａ，Ｓｂ上の全ての区画領域をステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を交互に使用して露光する。
【０１８３】
以上詳細に説明したように、本第２の実施形態の露光装置１０００によると、ステージＳＳＴ１が、前述の第１待機位置でシートＳａの区画領域ＳＡａｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ１の保持面に吸着して、シートＳａの送り方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動するのと並行して、ステージＳＳＴ２が、前述の第２待機位置でシートＳｂの区画領域ＳＡｂｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ１の保持面に吸着して、シートＳｂの送り方向（＋Ｘ方向）に所定ストロークで移動する。このため、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２のシートＳａ、Ｓｂの送り方向への移動の際に、マスクＭａ，Ｍｂのパターン領域にそれぞれ形成されたパターンの一部に対応する照明光ＩＬａ１〜ＩＬａ５が投影光学系ＰＬａ１〜ＰＬａ５を介してその表面にレジストが塗布されたシートＳに照射されることで、シートＳａの区画領域ＳＡａｉ、及びシートＳｂの区画領域ＳＡｂｉがほぼ同時に露光され、それぞれパターンが形成される。従って、並行処理による高スループットのシートの露光（パターンの形成）が可能である。
【０１８４】
なお、上記第２の実施形態において、第１ステージ駆動系ＳＳＤａ、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂ、及びステージ搬送系３６ａ，３６ｂに代えて、第１の実施形態と同様の平面モータを設け、該平面モータを用いて、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を、ベース部材ＢＳ上面に沿ってＸＹ二次元平面内で自在駆動しても良い。
【０１８５】
反対に、上記第１の実施形態において、平面モータに代えて、上記第２の実施形態と同様に、第１ステージ駆動系ＳＳＤａ、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂ、及びステージ搬送系３６ａ，３６ｂを設け、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２を、ベース部材ＢＳ上で駆動しても良い。
【０１８６】
なお、上記各実施形態の露光装置では、ステージ（テーブル）の上面に、Ｚ軸方向に微小駆動可能な補助シートホルダを設けたが、これに代えて、あるいはこれとともに、シートホルダ（ＳＨ１）をＺ軸方向に微小駆動可能に構成することもできる。これにより、シートを仮保持した補助シートホルダとシートホルダとをＺ軸方向に相対的に駆動して、ステージ（シートホルダ）上にシートを着脱することも可能となる。また、上記各実施形態では、シート搬送系４０，４０ａ，４０ｂが備える搬送ローラ部をＺ軸方向に昇降可能に構成することもできる。これにより、シートを張る搬送ローラ部を昇降させて、ステージ（シートホルダ）上にシートを着脱することも可能となる。
【０１８７】
なお、上記各実施形態では、既に複数の区画領域のそれぞれにパターンが形成されたシートを露光対象として、露光装置により、第２層以降の露光を行う場合について例示したが、これに限らず、未露光のシートＳを露光対象として、上記各実施形態の露光装置により、第１層の露光を行うことも勿論可能である。
【０１８８】
また、上記各実施形態では、ステージＳＳＴ１，ＳＳＴ２の位置計測系として干渉計システム１８ａ及び１８ｂを採用したが、これらに代えてエンコーダ（又は複数のエンコーダから構成されるエンコーダシステム）を採用しても良い。あるいは、干渉計システム１８ａ及び１８ｂとエンコーダとを併用しても良い。また、マスクステージの位置計測系として干渉計システムを採用したが、これに代えてエンコーダ（又は複数のエンコーダから構成されるエンコーダシステム）を採用しても良い。あるいは、干渉計システムとエンコーダとを併用しても良い。
【０１８９】
また、上記各実施形態の露光装置１００，１０００では、等倍マルチレンズタイプの投影光学系が用いられたが、これに限らず、例えば米国特許出願公開第２００８／０１６５３３４号明細書等に開示されている拡大マルチレンズタイプの投影光学系を用いることも可能である。また、投影光学系は、マルチレンズタイプに限られないことは勿論である。また、投影光学系は、等倍系、拡大系に限らず、縮小系であっても良いし、反射屈折系に限らず、屈折系、反射系でも良く、その投影像は正立像、倒立像のいずれでも良い。
【０１９０】
また、露光装置１００の光源として、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の輝線を発する超高圧水銀ランプのみならず、固体レーザ（例えばＹＡＧレーザの３倍高調波：波長３５５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ2レーザ（１５７ｎｍ）を用いることもできる。
【０１９１】
また、上記各実施形態では、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）が形成された光透過型マスクを用い、該マスクのパターンを投影光学系を介してシート上に投影する場合について例示した。しかし、これに限らず、マスクに代えて、所定方向へ進行する光の振幅（強度）、位相あるいは偏光の状態を空間的に変調する素子である空間光変調器（ＳＬＭ：Spatial Light Modulator）、例えば非発光型画像表示素子、例えばＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）、反射型液晶表示素子、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Electro Phonetic Display）、電子ペーパー（または電子インク）、光回折型ライトバルブ（Grating Light Valve）等を用いて、パターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いても良い。かかる電子マスクについては例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されている。また、透過型液晶表示素子（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、エレクトロクロミックディスプレイ（ＥＣＤ）等の透過型空間光変調器を用いる電子マスクを用いても良い。例えば、ＤＭＤ等の電子マスクを用いる場合、シート材上に形成すべきパターンに対応するエネルギビームが電子マスクから投影光学系を介してシート材上に投射され、そのパターンに対応する像がシート材上に形成される。この場合において、投影光学系を用いない場合には、電子マスクにより、上記パターンに対応するエネルギビームがシート上に照射され、そのシート上にパターンが形成される。
【０１９２】
露光装置の用途としては液晶表示素子用の露光装置に限定されることなく、例えば、有機ＥＬ表示素子としてのフレキシブルディスプレイ、及び電子ペーパー、並びにプリント配線基板などを製造するための露光装置にも広く適用できる。
【０１９３】
また、シート上にパターンを形成する装置は、前述の露光装置（リソグラフィシステム）に限られず、例えばインクジェット方式にてシート上にパターンを形成する装置にも本発明を応用することができる。この場合、上述の複数の投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５をＹ軸方向に沿って配列する代わりに、複数（もしくは大型の１つの）インクジェット用ヘッドをＹ軸方向に沿って配置すると良い。
【０１９４】
《デバイス製造方法》
上記各実施形態の露光装置を用いてシート上に所定のパターンを形成することによって、電子デバイス、一例として液晶表示素子を製造することができる。
【０１９５】
[パターン形成工程]
まず、上記各実施形態の露光装置により、シート上に形成すべきパターンに対応する像が投影光学系を介してレジストが塗布されたシート上に順次形成する、いわゆる光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、シート上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光されたシートは、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、シート上に所定のパターンが形成される。
【０１９６】
[カラーフィルタ形成工程]
次に、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたカラーフィルタ、又はＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組が複数水平走査線方向に配列されたカラーフィルタを形成する。
【０１９７】
[セル組み立て工程]
カラーフィルタ形成工程の後に、パターン形成工程にて得られた所定パターンを有するシート、及びカラーフィルタ形成工程にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶セルを組み立てる、セル組み立て工程が実行される。セル組み立て工程では、例えば、パターン形成工程にて得られた所定パターンを有するシートとカラーフィルタ形成工程にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【０１９８】
[モジュール組立工程]
その後、組み立てられた液晶セルの表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。従って、このマイクロデバイスの製造方法のパターン形成工程においては、所望の線幅のパターン像を所望の位置に精度良く形成することができ、結果的に液晶表示素子を歩留り良く製造することができる。
【０１９９】
また、上記各実施形態における露光装置及び露光方法は、フレキシブルディスプレイをはじめとするフレキシブルな電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するのに適している。例えば、前述した第１の実施形態において、シートの長尺方向に関して、ローラ４０１と露光装置１００との間にシートＳの表面にレジストを塗布するレジスト塗布装置等、露光装置１００と巻き取りローラ４０２との間にパターンが形成されたシートＳを現像する現像装置を配置し、電子デバイスを製造する製造ラインを構築することも可能である。
【０２００】
なお、一般には上述の実施形態の露光装置及び露光方法を用いて、シートＳにパターンを形成することと、パターンが形成されたシートＳをそのパターンに基づいて処理することとを経て、少なくともシートＳの一部を含む電子デバイスを製造することができる。ここで、形成されたパターンに基づいてシートＳを処理することには、その形成されたパターンに基づいてシートＳを現像すること、エッチングすること、又は印刷すること等が適宜適用可能である。また、印刷することとして、その形成されたパターンに基づいて、例えば導電性インク等の所定材料をシートＳに塗布すること等が適用可能である。なお、この印刷することとして、機能性材料（例えば、紫外線の照射によって材料の撥水性、親水性又は疎水性等の性質が変化するもの）の層をシートＳに予め形成し、この機能性材料の層に露光パターンを形成し、この形成した露光パターンに対応して導電性インク等の材料をシートＳに塗布すること等が適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【０２０１】
本発明の露光装置及び露光方法は、長尺シート上にパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するのに適している。
【符号の説明】
【０２０２】
１８ａ…ステージ干渉計システム（第１ステージ干渉計システム）、１８ｂ…補助干渉計システム（第２ステージ干渉計システム）、３０…平面モータ、３２ａ，３２ｂ…粗動装置、３２ａ１，３２ｂ１…固定子、３２ａ２，３２ｂ２…可動子、３４ａ，３４ｂ…微動装置、３４ａ１，３４ｂ１…固定子、３４ａ２，３４ｂ２…可動子、３６ａ，３６ｂ…ステージ搬送系、４０，４０ａ，４０ｂ…シート搬送装置、４１１〜４４１…圧接ローラ、４１２〜４４２…駆動ローラ、５０…主制御装置、１００，１０００…露光装置、ＩＬ１〜ＩＬ５…照明光、Ｓ，Ｓａ，Ｓｂ…シート、ＳＡｉ−１，ＳＡｉ，ＳＡａｉ，ＳＡｂｉ，ＳＡｉ＋１…区画領域、ＳＨ１…シートホルダ、ＳＳＴ１，ＳＳＴ２…ステージ、ＳＳＤ…ステージ駆動系、ＳＳＤａ…第１ステージ駆動系、ＳＳＤｂ…第２ステージ駆動系、ＰＬ，ＰＬａ，ＰＬｂ（ＰＬ１〜ＰＬ５，ＰＬａ１〜ＰＬａ５，ＰＬｂ１〜ＰＬｂ５）…投影光学系、ＡＬ１〜ＡＬ１２，ＡＬａ１〜ＡＬａ１２，ＡＬｂ１〜ＡＬｂ１２…アライメント系、ＬＣ，ＬＣａ，ＬＣｂ…レンズコントローラ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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