(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円環状の主表面を有するガラス製の磁気ディスク用基板であって、前記主表面の中心を通る軸に対して等方的な形状を有し、前記軸方向を高さとしたときの前記主表面の前記高さの半径方向における変動量が、前記主表面の内周端から外周端にかけて単調増加であり、前記主表面の表面粗さが０．１５ｎｍ以下であり、前記主表面の少なくとも一方にイオン交換により形成された圧縮応力層を有し、前記主表面の両方に圧縮応力層がある場合は、圧縮応力層の深さが２つの前記主表面間で異なっている磁気ディスク用基板。
【請求項２】
前記主表面の高さは、前記円環状の前記内周端で最も高く、前記外周端で最も低いか、または前記円環状の前記内周端で最も低く、前記外周端で最も高い請求項１記載の磁気ディスク用基板。
【請求項３】
前記主表面の高さは、最も高い位置と最も低い位置との差を０．３μｍ以上１０μｍ以下とした請求項１又は２記載の磁気ディスク用基板。
【請求項４】
前記基板の抗折強度が５ｋｇｆ以上である請求項１ないし３のいずれか記載の磁気ディスク用基板。
【請求項５】
基板の直径を通る断面形状における凹部側の主表面のみが、前記主表面の表面粗さが０．１５ｎｍ以下である請求項１ないし４のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。
【請求項６】
基板の直径を通る断面形状における凹部側の主表面のみが、情報を記録する情報記録面とされるべく表面形状が構成されている請求項１ないし５のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか記載の磁気ディスク用基板を製造する磁気ディスク用基板の製造方法であって、円環状のガラス基板を化学強化する工程と、前記化学強化された前記ガラス基板の２つの主表面を研磨する工程とを有し、前記研磨する工程では、前記２つの主表面の研磨による除去厚を異ならせ、前記等方的な形状が形成されるように鏡面研磨を行う、磁気ディスク用基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１ないし６のいずれか記載の磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板上に直接又は他の層を介して形成された磁性層と、を具備する磁気ディスク。
【請求項９】
基板の直径を通る断面形状における凹部側の主表面のみに、前記磁性層が設けられている請求項８記載の磁気ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンピュータ等の記録媒体として用いられる磁気ディスク用基板及びその製造方法、並びに磁気ディスクに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）等に用いられている磁気記録媒体の一つである磁気ディスク用の基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかしながら、磁気ディスクの小型・薄型化及び高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。【０００３】
磁気ディスク用ガラス基板は、通常、以下の工程で製造する。【０００４】
（１）第１ラッピング工程（ガラス素板の厚さをそろえる工程。）
（２）形状加工工程（ガラス素板を円環状ガラス基板に形状加工し、端面の面取り加工をする工程。）
（３）第２ラッピング工程（形状加工工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を除去する工程。）
（４）表面研磨工程（ガラス基板の主表面を研磨する工程。必要に応じて第１及び第２研磨工程がある。）
（５）化学強化工程（ガラス基板の強度を強化する工程。）【０００５】
上記、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程において、化学強化工程は、ガラス基板の強度を上げるために、必要に応じて実施されるものである。例えば、ガラス基板として、アルミノシリケートガラスを用いた場合、ガラス基板を所定の溶液に浸漬することで、ガラス表面に存在するＬｉ＋イオン等を、より大きなイオン（例えばＮａ＋イオンやＫ＋イオン等）にイオン交換する。イオン交換されたガラス表面には圧縮応力が発生し、ガラス基板の強度を上げることができる。通常、化学強化処理により圧縮応力が発生する領域（圧縮応力層）は、通常ガラス基板表面から大きくても１００μｍ程度である。【０００６】
これまでＨＤＤ用ガラス基板については、よりＨＤＤにおける記録再生ヘッドの浮上安定性が求められるようになってきたため、より基板表面を平坦にする方向で技術開発が進んできた。しかしながら単純に平滑性だけを求めると、ガラス基板の加工後の平坦性がごくわずかに鞍型であった場合、記録再生ヘッドの浮上がそれに追従しようと上下に揺り動かされ、浮上が不安定になるという課題があった。ここで鞍型とは、乗馬で使用される鞍のような形状を意味し、ある直径を軸として一方向に湾曲され、更に前記直径と直交する直径を軸として逆方向に湾曲された形状をいう。【０００７】
また、化学強化処理を施さない場合であっても、ガラス基板を加工する際に用いる定盤の平坦度によって、応力分布にばらつきが発生してしまい、鞍型形状のガラス基板となることもある。さらに、化学強化処理を施すことなく、たとえ平坦な基板を得ることができたとしても、クランプ時に基板の内径にばらついた力がかかることがあり、その結果ＨＤＤに組み込んだ後のガラス基板の表面が、鞍型にゆがむという課題があった。【０００８】
このような形状の異常は、従来ではＨＤＤの特性には影響せず、特に問題にならなかったが、近年のＨＤＤの高記録密度化を図るためのヘッドの低浮上量化、及び読み出し・書き込み時間の短縮を図るための高速回転化により、ＨＤＤの特性に影響を与える可能性が出てきた。【０００９】
このような磁気ディスク用のガラス基板表面のうねりに対して、基板表面を特定の条件で研磨することにより解決する方法が提案されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０００−３４８３３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記従来の方法では、ガラス基板表面の微小うねりを改善することはできるが、ガラス基板がわずかに鞍型になるような、全体的な形状異常を解決するのは困難であった。【００１２】
本発明は上記従来の課題に鑑み、磁気ディスク用のガラス基板の形状を制御し、近年のＨＤＤにおけるヘッドの低浮上量化及び高速回転化に対応できる、磁気ディスク用基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明者らは、磁気ディスク用のガラス基板の形状を従来のように平坦にしようとするのではなく、積極的に一方向に湾曲させることで、ガラス基板の形状を安定化させると共に、磁気ディスクとしてＨＤＤに組み込んだ際に、円周方向でのヘッドと磁気ディスクとの距離を一定に保つことを考えた。【００１４】
鋭意研究したところ、ＨＤＤ用ガラス基板の２つの主表面に関して所定の圧縮応力差を計算し、精密にこの応力差を制御することで、基板中心を通る軸を中心とした回転対称の形状を有し、かつ基板断面が一方の主表面側に反った形状をしている基板を得ることが出来た。【００１５】
さらに主表面の粗さを０．１５ｎｍ以下にすることによって、高度に円周方向でのヘッドと磁気ディスクとの距離を一定に保つことができ、２．５インチＨＤＤで媒体１枚あたり２５０ギガバイト以上の記憶容量を有するような、高度なヘッドと媒体の精度が要求されるＨＤＤについても適用することが出来た。【００１６】
すなわち、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、円環状の主表面を有する磁気ディスク用基板であって、前記主表面の中心を通る軸に対して等方的な形状を有し、前記軸方向を高さとしたときの前記主表面の前記高さの半径方向における変動量が、前記主表面の内周端から外周端にかけて単調増加であり、かつ前記主表面の表面粗さが０．１５ｎｍ以下であることを特徴とする。ここで、中心を通る軸に対して等方的な形状とは、ガラス基板の中心を通る軸を中心にして任意の角度の回転について回転対称の形状である。【００１７】
上記磁気ディスク用ガラス基板においては、前記円環状の内周端で最も高く、外周端で最も低いと好適であり、最も高い位置と最も低い位置との差が０．３μｍ以上１０μｍ以下であっても良い。また、主表面の少なくとも一方に圧縮応力層を有し、圧縮応力値が２つの前記主表面間で異なっていても良く、基板の抗折強度は５ｋｇｆ以上であると好適である。【００１８】
また、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、円環状のガラス基板を化学強化する工程と、前記化学強化された前記ガラス基板の２つの主表面を研磨する工程とを有し、前記２つの主表面の研磨による除去厚が異なることを特徴とする。【００１９】
この方法によれば、ガラス基板の形状を安定化させることができ、さらには磁気ディスクとしてＨＤＤに組み込んだ際に、円周方向でのヘッドと磁気ディスクとの距離を一定に保つことができる磁気ディスク用ガラス基板を得ることができる。【００２０】
また、本発明に係る磁気ディスクは、上記磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板上に直接又は他の層を介して形成された磁性層と、を具備することを特徴とする。この構成によれば、磁気ディスクの形状を安定化させることができ、さらにＨＤＤに組み込んだ際に、円周方向でのヘッドと磁気ディスクとの距離を一定に保つことができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、円環状の主表面を有する磁気ディスク用基板であって、前記主表面の中心を通る軸に対して等方的な形状を有し、前記軸方向を高さとしたとき、前記主表面の高さは半径方向において変動し、かつ前記主表面の表面粗さが０．１５ｎｍ以下であることとした。【００２２】
その結果、ガラス基板の形状を安定化させることができ、さらには磁気ディスクとしてＨＤＤに組み込んだ際に、円周方向でのヘッドと磁気ディスクとの距離を一定に保つことができるので、近年のＨＤＤにおけるヘッドの低浮上量化及び高速回転化に対応できる磁気ディスクを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態における磁気ディスクの外観を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施の形態に係る磁気ディスク用ガラス基板（以下、ガラス基板と呼ぶ。）の構造を説明するための図である。図１（ａ）はガラス基板の斜視図であり、図１（ｂ）は平面図であり、図１（ｃ）は、図１（ｂ）のＩｃ−Ｉｃ線に沿う断面図である。
【００２５】
図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、本実施の形態に係るガラス基板は、円盤状のガラス基板の中心に円形状の穴（以下、「円穴」という）１１を形成した円環状の形状をしている。ガラス基板の主表面１２は、内周端１３から外周端１４にかけて一様に傾斜しており、ガラス基板の中心を通る軸に対して等方的な形状をしている。つまり、ガラス基板の中心を通る軸を中心にして任意の角度の回転について回転対称である。
【００２６】
よって、Ｉｃ−Ｉｃ線に沿う断面図である図１（ｃ）において、主表面１２の切り口は、一定の傾きをもった直線であり、左右対称である。さらに、ガラス基板の中心をとおり垂直な面における断面は、どこにおいても図１（ｃ）と同じ形状になる。
【００２７】
このような形状であると、このガラス基板を用いて磁気ディスクを作製し、ＨＤＤに組み込んだ場合、円周方向の磁気ディスクの主表面の高さが一定なので、磁気ディスクを回転させても磁気ヘッドと磁気ディスクとの距離を一定に保つことが容易になり、磁気ヘッドの低浮上量化及び磁気ディスクの高速回転化を実現できる。
【００２８】
なお、ガラス基板の主表面１２の表面粗さは媒体のエラーレートの観点から、０．１５ｎｍ以下であると良い。
【００２９】
また、上記軸の方向を高さとした場合の主表面１２の最も高い位置と最も低い位置との差（図１（ｃ）におけるｈ）は、０．３μｍ以上１０μｍ以下であること好ましい。０．３μｍ未満だと、高速回転した時に基板に衝撃が加わると基板の形状が不安定になりディスク最外周部での信号の読み出しが困難になる場合がある。また１０μｍより大きいと、ヘッドがシーク動作を行った際に信号の読み出しが困難になる場合がある。
【００３０】
また、上記の実施の形態では、図１（ｃ）において主表面１２が直線になる例を示したが、変化量が単調増加であれば良く、例えば、所定の曲率半径をもった曲線でも良い。
【００３１】
以下、本実施の形態に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について説明する。本実施の形態に係るガラス基板は以下の工程で製造する。
【００３２】
（１）第１ラッピング工程（ガラス素板の厚さをそろえる工程。）
（２）形状加工工程（ガラス素板を円環状ガラス基板に形状加工し、端面の面取り加工をする工程。）
（３）第２ラッピング工程（形状加工工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を除去する工程。）
（４）化学強化工程（ガラス基板の強度を強化する工程。）
（５）表面研磨工程（ガラス基板の主表面を研磨する工程。必要に応じて第１及び第２研磨工程がある。）
【００３３】
本実施の形態に係るガラス基板の製造工程においては、表面精密研磨工程を化学強化工程の後に行う。これにより２つの主表面の圧縮応力値の差をつけることで、所望形状の基板を得ることが出来る。
【００３４】
［実施例１］
以下、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。この実施例においては、以下の工程を経て、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを製造した。以下の説明では、２．５インチ型の磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを製造する例について説明するが、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクのサイズとしては、特に限定されるものではなく、例えば、１．８インチや１インチ、３．５インチのサイズのものであってもよい。
【００３５】
（１）形状加工工程および第１ラッピング工程
本実施例に係る磁気ディスク用基板の製造方法においては、まず、板状ガラスの表面をラッピング（研削）加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。板状ガラスの材質としては、アモルファスガラスやガラスセラミクス（結晶化ガラス）を利用できる。板状ガラスの材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス等を用いることができる。特にアモルファスガラスとしては、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を供給することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。
【００３６】
本実施例においては、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有するガラスを使用した。
【００３７】
次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。
【００３８】
（２）切り出し工程（コアリング、フォーミング、チャンファリング）
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした（コアリング）。そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（フォーミング、チャンファリング）。
【００３９】
（３）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００４０】
（４）端面研磨工程
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。  
そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。
【００４１】
（５）主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、第１及び第２ラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。第１研磨工程は、硬質ウレタン系パッドを研磨パッドとして使用し、研磨液は、水と酸化セリウム研磨砥粒を混合した研磨液を用いた。
【００４２】
（６）化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
【００４３】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００μｍであった。
【００４４】
化学強化処理を終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約４０℃に加熱した１０ｗｔ％硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を純水、ＩＰＡの各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
【００４５】
（７）鏡面研磨工程
続いて、第２研磨工程（鏡面研磨工程）を施した。第２研磨工程は、第１研磨されたガラス基板をさらに研磨して、ガラス基板の主表面１２を鏡面化する工程である。第２研磨工程は、ポリウレタン系軟質ポリシャの研磨パッドを用いて、研磨液として、超純水にコロイド状シリカ粒子を加えた混合液を用いた。ガラス基板の両表面１２の除去厚（取りしろ）は、それぞれＡ面を０．３μｍとし、Ｂ面を０．５μｍとした。この第２研磨工程を終えたガラス基板を、通常の方法で洗浄して、本実施例に係る磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【００４６】
なお、この磁気ディスク用ガラス基板の抗折強度を、抗折強度測定試験機（島津オートグラフＤＤＳ−２０００）を用いて測定したところ、１１Ｋｇｆであった。
【００４７】
［比較例１］
ここで上述した実施例と比較するために、従来の工程による製造工程でガラス基板の作製をおこなった。つまり、ガラス基板の両表面をＡ面及びＢ面の取りしろが同じになるように研磨処理をした後に、化学強化処理を行ったこと以外は、本実施例と同様の工程で作製した。
【００４８】
［平坦度測定］
上記のように作製した、本実施例にかかるガラス基板と、比較例としてのガラス基板について主表面１２の平坦度を測定した。なお、ここで平坦度とは、ガラス基板の主表面１２の最も高い部位と最も低い部位との上下方向の距離（高低差）である。本実施例においては、平坦度の値として、平坦度測定装置（ＫＬＡ―ＴＥＮＣＯＲ社製Ｏｐｔｉｆｌａｔ）によって測定した値を用いた。
【００４９】
測定の結果、本実施例に係るガラス基板の平坦度は、３．１μｍであった。また、ガラス基板の形状は、その中心を通る軸に対して等方的な形状をしており、Ａ面において、表面の高さは内周端付近が最も高く、外周端に近くなるにつれて低くなっており、外周端付近で最も低くなっていることを確認した。つまり、ガラス基板は一方の面に撓んでおり、表面の高さの変動量は、内周端から外周端にかけて単調増加になっていた。
【００５０】
また、比較例におけるガラス基板については、平坦度は、０．５μｍであった。また表面の高さの変動が円周方向によって異なり、所定の直径に沿った変動と、その所定の直径と直交する直径に沿った変動とが逆方向である、いわゆる鞍型となっていることを確認した。
【００５１】
（８）磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にＣｒ合金からなる付着層、ＣｏＴａＺｒ基合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる下地層、グラニュラー構造を有する非磁性下地層、ＣｏＣｒＰｔ系合金からなるグラニュラー構造を有する垂直磁気記録層、炭化水素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、Ｒｕの中間層、ＣｏＣｒＳｉＯ２の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ-ＳｉＯ２・ＴｉＯ２のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁気ディスクを得た。
【００５２】
（９）磁気ディスク装置製造工程
また、上記磁気ディスクを装置に組み込むことにより磁気ディスク装置を製造した。なお、磁気ディスク装置の構成については、公知であるのでここでは詳細な説明は省略する。
【００５３】
（モジュレーション試験）
実施例および比較例で得られた磁気ディスクに対してモジュレーション試験を行った。具体的には、２．５インチ（外径６５ｍｍφ）におけるガラス基板の中心からの距離が２９．９ｍｍ（Ｒ１）から３１．５ｍｍの点（Ｒ２）までの間の領域におけるモジュレーションを測定した。
【００５４】
具体的な測定条件については、以下の（１）〜（３）の手順で行った。
【００５５】
（１）電磁変換特性測定機（グーシック  テクニカル  エンタープライズ社）に磁気ディスクをセットし、磁気ヘッド（ＤＦＨ（ｄｙｎａｍｉｃ  ｆｌｙｉｎｇ  ｈｅｉｇｈｔ）ヘッド）ヘッド浮上量（スライダ浮上量）を９ｎｍ（リード素子の浮上量は２nmである）を磁気ディスク上にロード後、ＭＦパターン（ハードディスクで使用する高周波数の半分の周波数）を書き込む。 
（２）読出し信号をオシロスコープに入力する。 
（３）そして、上記範囲内の任意の半径位置におけるセクタごとの、モジュレーション（エンベロープ）を求める。
【００５６】
その結果、実施例と比較例とを比較した結果、実施例のほうがモジュレーションの値が良好であった（変動の幅が小さかった）。
【００５７】
以上のモジュレーション試験の結果より、本実施例に係るガラス基板を用いて作成した磁気ディスクにおいては、ガラス基板が、その中心を通る軸に対して等方的な形状をしており、一方の面に撓んで、主表面の高さの変動量が内周端から外周端にかけて単調増加になっているので、円周方向における、磁気ヘッドと、磁気ディスクとの距離が一定に保てるため、モジュレーション試験では良好な結果になったと考えられる。
【００５８】
また、比較例としてのガラス基板を用いた磁気ディスクにおいては、ガラス基板が鞍型をしており、円周方向において、磁気ヘッドと磁気ディスクとの距離を一定に保つのが困難なため、モジュレーション試験で良好な結果が得られなかったと考えられる。
【００５９】
〔実施例１〜８、比較例１〜１１〕
次に、加工条件を変更して、実施例２〜８、比較例２〜１１にかかる磁気ディスク用ガラス基板を作成した後、実施例１と同様にしてそれぞれ磁気ディスクを製造した。そして、前述の実施例１、比較例１も併せて各種の試験を行った。その結果を表１に示す。
【００６０】
【表１】
0005593224.tif 000002
【００６１】
なお、表中の「AFM-Ra（nm）」とは、基板を原子間力顕微鏡を用いて２μｍ×２μｍ角の測定領域を２５６×２５６ピクセルの解像度で測定したときの表面粗さ（Ra）である。
【００６２】
また、「40万回L/UL耐久性」とは、磁気ヘッドを磁気ディスク上で、ロード→ディスク外周→ディスク内周→ディスク外周→アンロードの一連の動作を温度70℃湿度80%の条件で４０万回繰り返したときの、データエラーの発生有無を調べたものである。
【００６３】
また、「衝撃試験後の膜キズ」とは、回転している磁気ディスク上で上記DFHヘッドをディスクの外周→内周→外周→内周→・・・となるようにリードライトをしながら、作用時間2msec、衝撃600Gの条件で、ハードディスク筐体を落下させて基板に対して垂直方向に衝撃を加えた後、ディスク表面の膜にキズがついているかどうかを確認した結果である。この結果より、衝撃時のたわみ量が大きいとキズがついていることがわかる。
【００６４】
また、「r=22mmにおけるDFH-TDH」とは、磁気ディスクの半径２２ｍｍの位置におけるタッチダウンハイトを測定した結果である。なお、このときの磁気ヘッドとしては、上述したDFHヘッドを用いている。
【００６５】
また、「ΔΘ50」とは、磁性膜のCo（002）の結晶配向性を調べたものである。
【００６６】
この結果より、本発明にかかる磁気ディスク用基板が、磁気ディスクとして好適に使用できることが分かる。
【００６７】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、基板はガラスでなくても良く、アルミ等であっても良い。
【００６８】
また、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板は、片方の主表面のみが情報を記録するための記録面に適合した主表面形状である構成であってもよい。そして、この場合基板の直径を通る断面形状における凹部側の主表面のみが、情報を記録するための記録面に適合した主表面形状である構成であることがより好ましい。前記凹部側（断面内側の面）の主表面のみを記録面とした場合、凸部側（断面外側の面）のみを記録面とする構成と比べて、磁気ヘッドの浮上が最外周まで安定させることができる。この点について、以下の実験を行った。
【００６９】
実施例１の磁気ディスク用ガラス基板に、前述した磁性膜を成膜して磁気ディスクを作成した後、前記凹部側と凸部側の主表面について、それぞれＤＦＨ（dynamic fly Hight）ヘッドを用いてヘッド浮上量（スライダ浮上量）を９ｎｍ（リード素子の浮上量は２nmである）の条件でタッチダウンハイト（TDH）を測定した。その結果、凹部側の主表面の方が、凸部側の主表面に比べて最外周（r=30.6-31.6mm）付近のTDHが低かった。また、凹部側と凸部側の主表面に対して、前記ＤＦＨヘッドを用いてサーティファイテストを行った結果も、凹部側の主表面の方が良好であった。このことから上記凹部側の主表面を記録面とすることが好適であることが分かる。つまり、上記磁気ディスク用ガラス基板を用いて、片方の主表面のみを記録面とする磁気ディスクを製造する場合には、凹部側の主表面のみを情報記録面とされるべく構成された表面形状となっていることが好ましい。具体的には、片方の主表面のみを記録面とする磁気ディスクを製造する場合には、凹部側の主表面のみが主表面の表面粗さが０．１５ｎｍ以下である構成としてもよい。
【００７０】
また、上記のような片方の主表面のみを記録面とする磁気ディスクを製造する場合には、例えば、最終研磨工程において、上記凹部側の主表面のみを研磨してもよい。また、このように片方の主表面のみを記録面とする場合には、枚葉式の研磨装置を用いて、片方の主表面のみを研磨してもよい。
【００７１】
また、上記実施の形態における材料、サイズ、処理手順などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
【符号の説明】
【００７２】
１１  円穴
１２  主表面
１３  内周端
１４  外周端
【図１】
0005593224.tif 000003