(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）着色剤、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）エチレン性不飽和化合物、（ｅ）溶剤、及び（ｆ）分散剤を含有する、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成するために用いられる着色感光性組成物であって、
（ａ）着色剤として、以下の（１）赤色顔料を含み、かつ以下の（２）青色顔料及び以下の（３）紫色顔料のうち少なくとも一方を含み、
（１）Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２５４から選ばれる赤色顔料
（２）Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６である青色顔料
（３）Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレッド２３である紫色顔料
（ｂ）アルカリ可溶性樹脂として、下記アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）のうち少なくとも一方を含み、
（ｆ）分散剤として、窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体を含み、
（ｄ）エチレン性不飽和化合物に対する（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の重量比が、７未満であり、
着色感光性組成物中の全固形分に対するアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の合計の割合が１２重量％以上である着色感光性組成物。  
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）＞
エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多塩基酸無水物を反応させることにより得られる樹脂
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）＞
エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多価アルコール及び多塩基酸無水物を反応させることにより得られる樹脂
【請求項２】
着色感光性組成物中の全固形分に対するアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の合計の割合が２０重量％以上である請求項１に記載の着色感光性組成物。
【請求項３】
（ａ）着色剤の含有比率が、着色感光性組成物中の全固形分に対し３０重量％未満である請求項１又は２に記載の着色感光性組成物。
【請求項４】
（ａ）着色剤の含有比率が、着色感光性組成物中の全固形分に対し２５重量％以上である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の着色感光性組成物。
【請求項５】
（ａ）着色剤として、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の着色感光性組成物。
【請求項６】
（ｆ）分散剤として、側鎖に４級アンモニウム塩基及びアミノ基のうち少なくとも一方を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さないＢブロックからなる、Ａ−Ｂブロック共重合体及びＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体のうち少なくとも一方を含む請求項１乃至５のいずれか１項に記載の着色感光性組成物。
【請求項７】
（ｆ）分散剤として、側鎖に４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さないＢブロックからなる、Ａ−Ｂブロック共重合体及びＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体のうち少なくとも一方を含む請求項１乃至５のいずれか１項に記載の着色感光性組成物。
【請求項８】
（ｆ）分散剤として、側鎖に４級アンモニウム塩基を有さずアミノ基を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さないＢブロックからなる、Ａ−Ｂブロック共重合体及びＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体のうち少なくとも一方を含む請求項１乃至７のいずれか１項に記載の着色感光性組成物。
【請求項９】
（ｃ）光重合開始剤として、オキシムエステル化合物を含む請求項１乃至８のいずれか１項に記載の着色感光性組成物。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の着色感光性組成物により一括形成された高さの異なる着色スペーサ。
【請求項１１】
請求項１０に記載の着色スペーサを備えるカラーフィルター。
【請求項１２】
請求項１１に記載のカラーフィルターを備える液晶表示装置。
【請求項１３】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の着色感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、着色感光性組成物等に関する。より詳しくは、例えば液晶ディスプレイ等のカラーフィルターにおいて着色スペーサ等に好ましく用いられる着色感光性組成物及びこれにより形成される着色スペーサ、カラーフィルター、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は液晶への電圧のオン・オフにより液晶分子の並び方が切り替わる性質を利用している。一方、ＬＣＤのセルを形成する各部材は、フォトリソグラフィーに代表される感光性組成物を利用して形成されるものが多い。微細な構造を形成し易い、大画面用の基板に対しての処理がし易いといった理由からも、今後さらに感光性組成物の適用範囲は広がる傾向である。  
【０００３】
しかしながら、感光性組成物を用いたＬＣＤでは、感光性組成物自体の電気的特性や、感光性組成物中に含まれる不純物の影響で、液晶にかかる電圧が保持されず、これによってディスプレイの表示ムラといった問題が発生する。特に、カラー液晶表示装置における液晶層により近い部材、例えば、液晶パネルにおいて２枚の基板の間隔を一定に保つために使用されているもの、所謂、柱状スペーサ、フォトスペーサなどではその影響は大きい。
【０００４】
従来、スペーサをＴＦＴ型ＬＣＤに使用する場合、ＴＦＴに入射する光によりスイッチング素子としてＴＦＴが誤作動を起こすことがあった。これを防止するため、例えば、特許文献１にスペーサを遮光性とすることが記載されている。
【０００５】
また、近年、スペーサをフォトリソグラフィー法により製造するに際して、パネルの構造の変化に伴い、高さの異なるスペーサを一括形成する方法が提案されている。特許文献２には、露光量と残膜率をコントロールすることによって、所望の高さの異なるスペーサの形状、段差を実現できることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】日本国特開平８−２３４２１２号公報
【特許文献２】日本国特開２００９−３１７７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載のように、スペーサを遮光性にするためには、通常顔料を含めた着色剤等を感光性組成物に添加することが考えられるが、着色剤を添加するにつれクリア成分の減少によりスペーサ層の硬化性が減ること及び顔料に由来する不純物等の影響により、電気特性を損なう恐れがある。
【０００８】
また、特許文献２は顔料を添加しないスペーサに関するもので、顔料を添加する着色スペーサの一括形成に適用すると、顔料が光重合に寄与する紫外領域の光を吸収するため、開口部の光透過率が少ないパターンでは硬化性が劣り、所望の高さの異なるスペーサの形状、段差のコントロール、基板との密着性等の特性を達成することは困難であることが判明した。
【０００９】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものである。即ち、本発明の主たる課題は、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成する為の方法において、液晶の電圧保持率を確保する上、所望の形状の形成、段差のコントロール、基板との密着性に優れた着色感光性組成物を提供することにある。  
また、本発明の他の課題は、このような着色感光性組成物により形成された着色スペーサを提供することにある。  
【００１０】
また更に、本発明の他の課題は、このような着色スペーサを備えるカラーフィルターを提供することにある。  
また更に、本発明の他の課題は、このようなカラーフィルターを備える液晶表示装置を提供することにある。
また更に、本発明の他の課題は、このような着色感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、特定のアルカリ可溶性樹脂及び分散剤を使用し、かつエチレン性不飽和化合物に対するアルカリ可溶性樹脂の重量比及び特定のアルカリ可溶性樹脂の含有割合を特定の範囲とすることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明の要旨は以下の通りである。
［１］  （ａ）着色剤、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）エチレン性不飽和化合物、（ｅ）溶剤、及び（ｆ）分散剤を含有する、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成するために用いられる着色感光性組成物であって、
（ａ）着色剤として、以下の（１）赤色顔料を含み、かつ以下の（２）青色顔料及び以下の（３）紫色顔料のうち少なくとも一方を含み、
（１）Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２５４から選ばれる赤色顔料
（２）Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６である青色顔料
（３）Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレッド２３である紫色顔料
（ｂ）アルカリ可溶性樹脂として、下記アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）のうち少なくとも一方を含み、
（ｆ）分散剤として、窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体を含み、
（ｄ）エチレン性不飽和化合物に対する（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の重量比が、７未満であり、
着色感光性組成物中の全固形分に対するアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の合計の割合が１２重量％以上である着色感光性組成物。  
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）＞
エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多塩基酸無水物を反応させることにより得られる樹脂
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）＞
エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多価アルコール及び多塩基酸無水物を反応させることにより得られる樹脂
［２］  着色感光性組成物中の全固形分に対するアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の合計の割合が２０重量％以上である上記［１］に記載の着色感光性組成物。
［３］  （ａ）着色剤の含有比率が、着色感光性組成物中の全固形分に対し３０重量％未満である上記［１］又は［２］に記載の着色感光性組成物。
［４］  （ａ）着色剤の含有比率が、着色感光性組成物中の全固形分に対し２５重量％以上である上記［１］乃至［３］のいずれか１つに記載の着色感光性組成物。
［５］  （ａ）着色剤として、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を含む上記［１］乃至［４］のいずれか１つに記載の着色感光性組成物。
［６］  （ｆ）分散剤として、側鎖に４級アンモニウム塩基及びアミノ基のうち少なくとも一方を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さないＢブロックからなる、Ａ−Ｂブロック共重合体及びＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体のうち少なくとも一方を含む上記［１］乃至［５］のいずれか１つに記載の着色感光性組成物。
［７］  （ｆ）分散剤として、側鎖に４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さないＢブロックからなる、Ａ−Ｂブロック共重合体及びＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体のうち少なくとも一方を含む上記［１］乃至［５］のいずれか１つに記載の着色感光性組成物。
［８］  （ｆ）分散剤として、側鎖に４級アンモニウム塩基を有さずアミノ基を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さないＢブロックからなる、Ａ−Ｂブロック共重合体及びＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体のうち少なくとも一方を含む上記［１］乃至［７］のいずれか１つに記載の着色感光性組成物。
［９］  （ｃ）光重合開始剤として、オキシムエステル化合物を含む上記［１］乃至［８］のいずれか１つに記載の着色感光性組成物。
［１０］  上記［１］乃至［９］のいずれか１つに記載の着色感光性組成物により一括形成された高さの異なる着色スペーサ。
［１１］  上記［１０］に記載の着色スペーサを備えるカラーフィルター。
［１２］  上記［１１］に記載のカラーフィルターを備える液晶表示装置。
［１３］  上記［１］乃至［９］のいずれか１つに記載の着色感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成する方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成する為の方法において、液晶の電圧保持率を確保する上、所望の形状の形成、段差のコントロール、基板との密着性を実現することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１（Ａ）及び図１（Ｂ）は、実施例の略円柱状スペーサパターンの形状を説明するための図であり、図１（Ａ）はスペーサパターンの平面図であり、図１（Ｂ）はスペーサパターンの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に特定されない。
なお、本発明において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の双方を含むことを意味し、（メタ）アクリル、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイル基なども同様の意味であり、「（共）重合体」とは、単一重合体（ホモポリマー）と共重合体（コポリマー）の双方を含むことを意味し、「（酸）無水物」、「（無水）…酸」とは、酸とその無水物の双方を含むことを意味する。
また、本発明において「モノマー」とは、いわゆる高分子物質に相対する意味であり、狭義の単量体（モノマー）の外に、二量体、三量体、オリゴマー等も含む意味である。なお、ここで、「全固形分」とは、本発明の着色感光性組成物に含まれる溶剤以外のすべての成分の合計を示す。
【００１５】
［１］高さの異なる着色スペーサの一括形成方法
フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成する為の方法は、主として露光工程における露光マスクに特徴を有する方法である。  
その露光マスクとして、光の透過を遮る遮光層と光を透過させる複数の開口部とを有し、一部の開口部の平均光透過率が他の開口部の平均光透過率より小さい露光マスクを用いる方法が知られている。これは、遮光層（光透過率０％）と複数の開口部を有し、平均光透過率の最も高い開口部（通常、光透過率１００％。以下完全透過開口部という）に対して平均光透過率の小さい開口部（平均光透過率が０％超過１００％未満。好ましくは、５％超過５０％未満。以下中間透過開口部という）、を有する露光マスクを用いる方法である。この方法により、例えばネガ型の着色感光性組成物の場合であれば、中間透過開口部と完全透過開口部の平均光透過率の差異、即ち露光量の差異により、形成したパターンの硬化度の差異を生じさせ、その後、現像及び熱硬化プロセスを経て高さの異なる着色スペーサを形成することができる。
【００１６】
［２］着色感光性組成物
本発明に係る着色感光性組成物は、（ａ）着色剤、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）エチレン性不飽和化合物、（ｅ）溶剤、及び（ｆ）分散剤を含有する、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成するために用いられる着色感光性組成物であって、
（ｂ）アルカリ可溶性樹脂として、下記アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）のうち少なくとも一方を含み、
（ｆ）分散剤として、窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体を含み、
（ｄ）エチレン性不飽和化合物に対する（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の重量比が、７未満であり、
着色感光性組成物中の全固形分に対するアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の合計の割合が１２重量％以上であることを特徴とする。  
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）＞
エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多塩基酸無水物を反応させることにより得られる樹脂。
＜アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）＞
エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多価アルコール及び多塩基酸無水物を反応させることにより得られる樹脂。
【００１７】
［２−１］  （ａ）着色剤
着色剤としては、通常顔料が用いられる。顔料としては青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、黄色顔料、紫色顔料、オレンジ顔料、ブラウン顔料、黒色顔料等各種の色の顔料を使用することができる。また、その構造としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、インダンスレン系、ペリレン系等の有機顔料の他に種々の無機顔料等も利用可能である。以下、使用できる顔料の具体例をピグメントナンバーで示す。以下に挙げる「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２」等の用語は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する。
【００１８】
赤色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、７、８、９、１２、１４、１５、１６、１７、２１、２２、２３、３１、３２、３７、３８、４１、４７、４８、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５２：２、５３、５３：１、５３：２、５３：３、５７、５７：１、５７：２、５８：４、６０、６３、６３：１、６３：２、６４、６４：１、６８、６９、８１、８１：１、８１：２、８１：３、８１：４、８３、８８、９０：１、１０１、１０１：１、１０４、１０８、１０８：１、１０９、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４７、１４９、１５１、１６６、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８１、１８４、１８５、１８７、１８８、１９０、１９３、１９４、２００、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１０、２１４、２１６、２２０、２２１、２２４、２３０、２３１、２３２、２３３、２３５、２３６、２３７、２３８、２３９、２４２、２４３、２４５、２４７、２４９、２５０、２５１、２５３、２５４、２５５、２５６、２５７、２５８、２５９、２６０、２６２、２６３、２６４、２６５、２６６、２６７、２６８、２６９、２７０、２７１、２７２、２７３、２７４、２７５、２７６を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、１２２、１６８、１７７、２０２、２０６、２０７、２０９、２２４、２４２、２５４、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２０９、２２４、２５４を挙げることができる。  
【００１９】
青色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、１：２、９、１４、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、１７、１９、２５、２７、２８、２９、３３、３５、３６、５６、５６：１、６０、６１、６１：１、６２、６３、６６、６７、６８、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７８、７９を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を挙げることができる。  
【００２０】
緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１、２、４、７、８、１０、１３、１４、１５、１７、１８、１９、２６、３６、４５、４８、５０、５１、５４、５５を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６を挙げることができる。  
【００２１】
黄色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、１：１、２、３、４、５、６、９、１０、１２、１３、１４、１６、１７、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４１、４２、４３、４８、５３、５５、６１、６２、６２：１、６３、６５、７３、７４、７５、８１、８３、８７、９３、９４、９５、９７、１００、１０１、１０４、１０５、１０８、１０９、１１０、１１１、１１６、１１７、１１９、１２０、１２６、１２７、１２７：１、１２８、１２９、１３３、１３４、１３６、１３８、１３９、１４２、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１５７、１５８、１５９、１６０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１８８、１８９、１９０、１９１、１９１：１、１９２、１９３、１９４、１９５、１９６、１９７、１９８、１９９、２００、２０２、２０３、２０４、２０５、２０６、２０７、２０８を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１１７、１２９、１３８、１３９、１５０、１５４、１５５、１８０、１８５、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１３８、１３９、１５０、１８０を挙げることができる。  
【００２２】
オレンジ顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１、２、５、１３、１６、１７、１９、２０、２１、２２、２３、２４、３４、３６、３８、３９、４３、４６、４８、４９、６１、６２、６４、６５、６７、６８、６９、７０、７１、７２、７３、７４、７５、７７、７８、７９を挙げることができる。この中でも、好ましくは、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８、７１を挙げることができる。  
【００２３】
紫色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１：１、２、２：２、３、３：１、３：３、５、５：１、１４、１５、１６、１９、２３、２５、２７、２９、３１、３２、３７、３９、４２、４４、４７、４９、５０を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を挙げることができる。  
【００２４】
黒色顔料として、ペリレンブラック（ＢＡＳＦ  Ｋ００８４、Ｋ００８６）、シアニンブラック、ファーストブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）を挙げることができる。  
本発明の着色感光性組成物には単独の黒色色材、又は赤、緑、青色等の混合による黒色色材が使用可能である。これら黒色色材は、カーボンブラック、チタンブラックなどの無機又は有機の顔料、染料の中から適宜選択することができ、単独使用もしくは複数種混合して使用することができる。
【００２５】
カーボンブラックの市販品の例としては、以下のような銘柄が挙げられる。  
三菱化学社製：ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０、＃５２、＃５０、＃４７、＃４５、＃２７００、＃２６５０、＃２２００、＃１０００、＃９９０、＃９００等。  
デグサ社製：Ｐｒｉｎｔｅｘ９５、Ｐｒｉｎｔｅｘ９０、Ｐｒｉｎｔｅｘ８５、Ｐｒｉｎｔｅｘ７５、Ｐｒｉｎｔｅｘ５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ４５、Ｐｒｉｎｔｅｘ４０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３、ＰｒｉｎｔｅｘＡ、ＰｒｉｎｔｅｘＧ、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ３５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ２５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ１００等。  
【００２６】
キャボット社製：Ｍｏｎａｒｃｈ４６０、Ｍｏｎａｒｃｈ４３０、Ｍｏｎａｒｃｈ２８０、Ｍｏｎａｒｃｈ１２０、Ｍｏｎａｒｃｈ８００、Ｍｏｎａｒｃｈ４６３０、ＲＥＧＡＬ９９、ＲＥＧＡＬ９９Ｒ、ＲＥＧＡＬ４１５、ＲＥＧＡＬ４１５Ｒ、ＲＥＧＡＬ２５０、ＲＥＧＡＬ２５０Ｒ、ＲＥＧＡＬ３３０、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ４８０、ＰＥＡＲＬＳ１３０。  
【００２７】
コロンビヤンカーボン社製：ＲＡＶＥＮ１１、ＲＡＶＥＮ１５、ＲＡＶＥＮ３０、ＲＡＶＥＮ３５、ＲＡＶＥＮ４０、ＲＡＶＥＮ４１０、ＲＡＶＥＮ４２０、ＲＡＶＥＮ４５０、ＲＡＶＥＮ５００、ＲＡＶＥＮ７８０、ＲＡＶＥＮ８５０、ＲＡＶＥＮ８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ１０００、ＲＡＶＥＮ１０２０、ＲＡＶＥＮ１０４０等。  
チタンブラックの市販品の例としては、三菱マテリアル社製チタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ−Ｃなどが挙げられる。  
本発明の着色感光性組成物は、（ａ）着色剤として、以下の（１）の赤色顔料を含み、かつ以下の（２）の青色顔料及び以下の（３）の紫色顔料のうち少なくとも一方を含むことが、遮光性の観点から好ましい。
【００２８】
（１）Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２５４から選ばれる赤色顔料
（２）Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６である青色顔料
（３）Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレッド２３である紫色顔料
中でも、（１）と（２）を含むことが、液晶の電圧保持率の確保、段差のコントロール、基板との密着性の観点から好ましい。また、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を含むことが、可視光領域の遮光性が向上する観点から好ましい。
【００２９】
本発明の着色感光性組成物では、（ａ）着色剤の含有比率が、該着色感光性組成物中の全固形分に対し３５重量％以下であることが好ましく、３０重量％未満であることがより好ましい。３５重量％以下だと完全透過開口部の着色スペーサパターンの高さと中間透過開口部の着色スペーサパターンの高さの差異（ΔＨ）が大きくなり好ましい。３０重量％未満だと完全透過開口部の着色スペーサパターンの高さと中間透過開口部の着色スペーサパターンの高さの差異（ΔＨ）が０．３５μｍを超える。好ましい範囲は５重量％〜２８重量％であり、更に好ましくは１０重量％〜２５重量％である。（ａ）着色剤の含有比率が大きすぎると、着色感光性組成物の感度が落ち、所望の高さの異なるスペーサの形状、段差の形成ができない場合がある。一方、着色剤の含有比率が小さすぎる場合には、着色スペーサとしての十分な遮光性が確保できない場合がある。
【００３０】
［２−２］（ｂ）アルカリ可溶性樹脂
本発明に用いるアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）は、エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、更に多塩基酸無水物を反応させることによりアルカリ可溶性を付与する等の方法で得られる。かかる反応生成物は化学構造上、実質的にエポキシ基を有さない。
【００３１】
原料となるエポキシ樹脂として、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノールまたはクレゾールとの重付加反応物とエピハロヒドリンとの反応生成物であるエポキシ樹脂、アダマンチル基含有エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等を好適に用いることができる。
【００３２】
エポキシ樹脂の分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定してポリスチレン換算重量平均分子量（以下「Ｍｗ」という）として、Ｍｗとして、通常２００〜２０万、好ましくは３００〜１０万の範囲である。分子量が上記範囲未満である場合には、好ましいＭｗのアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）を得られ難いことがあり、逆に上記範囲を越えた場合にはα，β−不飽和モノカルボン酸の付加反応時にゲル化が起こりやすく製造が困難となるおそれがある。
【００３３】
α，β−不飽和モノカルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸等が挙げられ、好ましくはアクリル酸及びメタクリル酸であり、特にアクリル酸が反応性に富むため好ましい。また、エステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルとしては、アクリル酸−２−サクシノイルオキシエチル、アクリル酸−２−マレイノイルオキシエチル、アクリル酸−２−フタロイルオキシエチル、アクリル酸−２−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、メタクリル酸−２−サクシノイルオキシエチル、メタクリル酸−２−マレイノイルオキシエチル、メタクリル酸−２−フタロイルオキシエチル、メタクリル酸−２−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、クロトン酸−２−サクシノイルオキシエチル等を挙げられる。
【００３４】
α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルとエポキシ樹脂との付加反応は、公知の手法を用いて行うことができる。またα，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルの使用量は、原料エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対し０．５〜１．２当量の範囲が好ましく、さらに好ましくは０．７〜１．１当量の範囲である。α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルの使用量が少ないと不飽和基の導入量が不足し、引き続く多塩基酸無水物との反応も不十分となることがある。また多量のエポキシ基が残存することも有利ではない。一方、該使用量が多いとα，β−不飽和モノカルボン酸又はそのエステルが未反応物として残存することがある。いずれの場合も塗膜の硬化特性が悪化する可能性がある。
【００３５】
尚、本発明においては、製造工程としてエポキシ樹脂を経由しなくても、最終的な樹脂の構造が同じであれば本出願においては、それもアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）の範疇であると定義する。その例としては、例えばノボラック樹脂と不飽和基含有エポキシ化合物を反応させる方法が挙げられる。
エポキシ樹脂にα，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させた生成物に更に付加させる多塩基酸無水物としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、好ましくは、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、特に好ましい化合物は、無水テトラヒドロフタル酸及びビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００３６】
多塩基酸無水物の付加反応に関しても公知の手法を用いることができる。多塩基酸無水物の付加量は、生成するエポキシアクリレート系樹脂の酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲となるのが好ましく、更に２０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１４０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲となるのが特に好ましい。酸価が上記範囲以下であるとアルカリ現像性に乏しくなり、また、上記範囲を越えると硬化性能に劣る傾向が認められる。
【００３７】
本発明で用いるアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は通常１５００以上、好ましくは２０００以上であり、通常５００００以下、好ましくは３００００以下、より好ましくは１００００以下である。このアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）の重量平均分子量が小さすぎると、感度が低下する傾向があり、大きすぎると現像液に対する溶解性が不足する場合があるため好ましくない。
【００３８】
本発明に用いるアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）は、エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多価アルコール及び多塩基酸無水物を反応させることにより得られる。
アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）の合成に用いる合成方法や多価アルコール以外の成分は、全てがアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の合成に用いることができる。アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）は、通常は、エポキシ樹脂に、α，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステルを付加させてなる反応物に、多価アルコール及び多塩基酸無水物を混合し、加温することにより得られる。この場合、多価アルコールと多塩基酸無水物の混合順序に、特に制限はない。
【００３９】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の合成に用いる多価アルコールしては、例えばトリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、１，２，３−プロパントリオールの中から選ばれる１種又は２種以上の多価アルコールであることが好ましい。
多価アルコールを用いることにより、アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の分子量を増大させ、分子中に分岐を導入することが出来、分子量と粘度のバランスをとることができる。また、分子中への酸基の導入率を増やすことができ、感度や密着性等のバランスのとれた有機結合剤を得ることができる。
【００４０】
多価アルコールの使用量は、少な過ぎると効果が薄く、多過ぎると増粘やゲル化の可能性があるので、エポキシ樹脂成分とα，β−不飽和モノカルボン酸又はエステル部分にカルボキシル基を有するα，β−不飽和モノカルボン酸エステル成分との反応物に対して、通常０．０１〜０．５重量倍程度、好ましくは０．０２〜０．２重量倍程度である。
このようにして得られるアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の酸価は、通常１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、好ましくは５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では現像性が不足する場合がある。また酸価が過度に高いと、着色感光性組成物のアルカリ耐性に問題がある（すなわち、アルカリ性現像液により、パターン表面の粗面化や、膜減りが生じる）場合があるので、酸価は２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。
【００４１】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，５００以上であることが好ましく、２，０００以上であることがより好ましい。また、２０，０００以下であることが好ましく、１０，０００以下であることがより好ましい。重量平均分子量が小さ過ぎると感度や塗膜強度、アルカリ耐性に問題が生じる可能性があり、大き過ぎると現像性や再溶解性に問題が生じる場合がある。
【００４２】
本発明の着色感光性組成物中の全固形分に対するアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）の合計の割合は、１２重量％以上であり、好ましくは２０重量以上％であり、より好ましくは３０重量％以上であり、通常７０重量％以下であり、好ましくは６０重量％以下であり、より好ましくは５０重量％以下である。この範囲よりもアルカリ可溶性樹脂の割合が多過ぎると現像性が低下すると同時に顔料の割合が少なすぎるため必要な遮光性も確保できない傾向があり、一方少な過ぎると所望のスペーサの形状、段差の形成ができない場合がある。  
アルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）、アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）以外の他のアルカリ可溶性樹脂を併用してもよい。
【００４３】
［２−３］（ｃ）光重合開始剤  
本発明に係る光重合開始剤とは、紫外線や熱によりエチレン性不飽和基を重合させるラジカルを発生させることのできる化合物である。  
本発明で用いることができる光重合開始剤の具体的な例を以下に列挙する。  
２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシカルボニルナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのハロメチル化トリアジン誘導体；
ハロメチル化オキサジアゾール誘導体；  
【００４４】
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ビス（３’−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体などのイミダゾール誘導体；  
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル類；  
２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノンなどのアントラキノン誘導体；
ベンズアンスロン誘導体；  
【００４５】
ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘導体；  
２，２，−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチル−（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトンなどのアセトフェノン誘導体；  
チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン誘導体；  
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチルなどの安息香酸エステル誘導体；  
９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジンなどのアクリジン誘導体；  
【００４６】
９，１０−ジメチルベンズフェナジンなどのフェナジン誘導体；  
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジ−フルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イルなどのチタノセン誘導体；  
２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、４−ジメチルアミノエチルベンゾエ−ト、４−ジメチルアミノイソアミルベンゾエ−ト、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミノ）カルコン等のα−アミノアルキルフェノン系化合物；  
【００４７】
光重合開始剤としては、特に、感度の点でオキシム誘導体類（オキシム系及びケトオキシム系化合物）が有効であり、フェノール性水酸基を含むアルカリ可溶性樹脂を用いる場合などは、感度の点で不利になるため、特にこのような感度に優れたオキシム誘導体類（オキシム系及びケトオキシム系化合物）が有用である。  
オキシム系化合物としては、下記一般式（２）で示される構造部分を含む化合物が挙げられ、好ましくは、下記一般式（３）で示されるオキシムエステル系化合物が挙げられる。  
【００４８】
【化１】
0005605481.tif 000002
【００４９】
（式（２）中、Ｒ２は、それぞれ置換されていてもよい、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシカルボニルアルカノイル基、炭素数２〜１０のアミノアルキルカルボニル基、炭素数７〜２０のアリーロイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、又は炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基を示す。）  
【００５０】
【化２】
0005605481.tif 000003
【００５１】
（式（３）中、Ｒ１ａは、水素、またはそれぞれ置換されていてもよい、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数１〜２０のアミノアルキル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のアリーロイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、又は炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基を示す。  
Ｒ１ｂは芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。  
なお、Ｒ１ａはＲ１ｂと共に環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、ポリエチレン基（−（ＣＨ＝ＣＨ）ｒ−）、ポリエチニレン基（−（Ｃ≡Ｃ）ｒ−）あるいはこれらを組み合わせてなる基が挙げられる（なお、ｒは０〜３の整数である。）。  
Ｒ２ａは、それぞれ置換されていてもよい、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数２〜１０のアミノカルボニル基、炭素数炭素数７〜２０のアリーロイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基を示す。）  
【００５２】
上記一般式（２）におけるＲ２及び上記一般式（３）におけるＲ２ａとしては、好ましくは、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基が挙げられる。  
【００５３】
上記一般式（３）におけるＲ１ａとしては、好ましくは無置換のメチル基、エチル基、プロピル基や、Ｎ−アセチル−Ｎ−アセトキシアミノ基で置換されたプロピル基が挙げられる。
また、上記一般式（３）におけるＲ１ｂとしては、好ましくは置換されていてもよいカルバゾイル基、置換されていてもよいチオキサントニル基、置換されていてもよいフェニルスルフィド基が挙げられる。  
【００５４】
本発明に好適なオキシムエステル系化合物として具体的には、以下に例示されるような化合物が挙げられるが、何らこれらの化合物に限定されるものではない。
【００５５】
【化３】
0005605481.tif 000004
【００５６】
【化４】
0005605481.tif 000005
【００５７】
ケトオキシム系化合物としては、下記一般式（４）で示される構造部分を含む化合物が挙げられ、好ましくは、下記一般式（５）で示されるオキシムエステル系化合物が挙げられる。
【００５８】
【化５】
0005605481.tif 000006
【００５９】
（上記一般式（４）において、Ｒ４は、前記一般式（２）におけるＲ２と同義である。）
【００６０】
【化６】
0005605481.tif 000007
【００６１】
（上記一般式（５）において、Ｒ３ａは、それぞれ置換されていてもよい、フェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数２〜２０のアルキルチオアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数１〜２０のアミノアルキル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のアリーロイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、又は炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、を示す。  
【００６２】
Ｒ３ｂは芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。  
なお、Ｒ３ａはＲ３ｂと共に環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、ポリエチレン基（−（ＣＨ＝ＣＨ）ｒ−）、ポリエチニレン基（−（Ｃ≡Ｃ）ｒ−）あるいはこれらを組み合わせてなる基が挙げられる（なお、ｒは０〜３の整数である。）。  
【００６３】
Ｒ４ａは、それぞれ置換されていてもよい、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数４〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のヘテロアリール基、又は炭素数２〜２０のアルキルアミノカルボニル基を表す。）  
【００６４】
上記一般式（４）におけるＲ４及び上記一般式（５）におけるＲ４ａとしては、好ましくは、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のアリーロイル基が挙げられる。  
【００６５】
上記一般式（５）におけるＲ３ａとしては、好ましくは無置換のエチル基、プロピル基、ブチル基や、メトキシカルボニル基で置換されたエチル基またはプロピル基が挙げられる。
また、上記一般式（５）におけるＲ３ｂとしては、好ましくは置換されていてもよいカルバゾイル基、置換されていてもよいフェニルスルフィド基が挙げられる。  
【００６６】
本発明に好適なケトオキシムエステル系化合物として具体的には、以下に例示されるような化合物が挙げられるが、何らこれらの化合物に限定されるものではない。
【００６７】
【化７】
0005605481.tif 000008
【００６８】
これらのオキシム及びケトオキシムエステル系化合物は、それ自体公知の化合物であり、例えば、日本国特開２０００−８００６８号公報や、日本国特開２００６−３６７５０号公報に記載されている一連の化合物の一種である。  
上記光重合開始剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。  
本発明の遮光性感光性樹脂組成物中の光重合開始剤の割合は、全固形分に対して通常０．４〜１５重量％、好ましくは０．５〜１０重量％である。この範囲よりも光重合開始剤の割合が多すぎると現像性が低下する傾向があり、一方少なすぎると好ましい電圧保持率や着色スペーサの形状、段差の形成ができない場合がある。
【００６９】
本発明に係る着色感光性組成物は、エチレン性不飽和化合物に対するアルカリ可溶性樹脂の重量比が７未満であることを特徴とする。この場合のアルカリ可溶性樹脂は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）のうち少なくとも一方を含む全アルカリ可溶性樹脂の合計を意味する。エチレン性不飽和化合物に対するアルカリ可溶性樹脂の重量比は、通常１以上、好ましくは１．５以上、更に好ましくは２以上であり、好ましくは６以下であり、更に好ましい範囲は５以下である。７以上であると必要な段差の形成が出来ない場合があり、少なすぎると現像性が低下する場合がある。現像液に対して溶解時間の長いアルカリ可溶性樹脂を多く使用した場合は、７以上でも現像性が低下する場合がある。
【００７０】
［２−４］（ｄ）エチレン性不飽和化合物  
上記の光重合開始剤は、エチレン性不飽和化合物と共に用いられる。
ここで使用されるエチレン性不飽和化合物としては、エチレン性不飽和結合を分子内に１個以上有する化合物を意味するが、重合性、架橋性、及びそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上有する化合物であることが好ましく、また、その不飽和結合は（メタ）アクリロイルオキシ基に由来する（メタ）アクリレート化合物が更に好ましい。  
【００７１】
更に、エチレン性不飽和結合を分子内に３個以上有する化合物を用いると電圧保持率的にとって好ましい。  
エチレン性不飽和結合を分子内に１個以上有する化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエステル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、スチレン等が挙げられる。  
【００７２】
エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上有する化合物としては、代表的には、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とのウレタン（メタ）アクリレート類、及び、（メタ）アクリル酸又はヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリエポキシ化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。
【００７３】
不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類としては、具体的には以下の化合物が挙げられる。  
不飽和カルボン酸と糖アルコールとの反応物；糖アルコールは具体的には、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（付加数２〜１４）、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（付加数２〜１４）、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。  
【００７４】
不飽和カルボン酸と糖アルコールのアルキレンオキサイド付加物との反応物；糖アルコールは上記と同じ。アルキレンオキサイド付加物とは具体的にはエチレンオキサイド付加物、又はプロピレンオキサイド付加物等が挙げられる。  
不飽和カルボン酸とアルコールアミンとの反応物；アルコールアミン類とは具体的にはジエタノールアミン、トリエタノールアミン等が挙げられる。  
具体的な不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類は以下の通りである。  
【００７５】
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド付加トリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールプロピレンオキサイド付加トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロトネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート等。
【００７６】
その他の、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類としては、不飽和カルボン酸と、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロガロール、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ等の芳香族ポリヒドロキシ化合物、或いはそれらのエチレンオキサイド付加物との反応物が挙げられる。具体的には、例えば、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡビス〔オキシエチレン（メタ）アクリレート〕、ビスフェノールＡビス〔グリシジルエーテル（メタ）アクリレート〕等、また、前記の如き不飽和カルボン酸と、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレート等、また、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸とポリヒドロキシ化合物との反応物、例えば、（メタ）アクリル酸とフタル酸とエチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とマレイン酸とジエチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とテレフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセリンとの縮合物等が挙げられる。
【００７７】
（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類としては、下記一般式（６），（７），（８）で表されるものが好ましい。  
【００７８】
【化８】
0005605481.tif 000009
【００７９】
（式（６），（７）及び（８）中、Ｒ１０は水素原子又はメチル基を示し、ｐ及びｐ’は１〜２５の整数、ｑは１、２、又は３である。）  
ここで、ｐ及びｐ’は１〜１０、特に１〜４であるのが好ましく、これらの具体例としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート、ビス〔（メタ）アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、（メタ）アクリロイルオキシエチレングリコールホスフェート等が挙げられ、これらはそれぞれが単独で用いられても混合物として用いられてもよい。  
【００８０】
ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とのウレタン（メタ）アクリレート類としては、例えば、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、テトラメチロールエタントリ（メタ）アクリレート等のヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物と、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキサンジイソシアネート、４，４−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート等の芳香族ポリイソシアネート、イソシアヌレート等の複素環式ポリイソシアネート、等のポリイソシアネート化合物との反応物等が挙げられる。  
【００８１】
このようなものとしては例えば、新中村化学社製商品名「Ｕ−４ＨＡ」「ＵＡ−３０６Ａ」「ＵＡ−ＭＣ３４０Ｈ」「ＵＡ−ＭＣ３４０Ｈ」「Ｕ６ＬＰＡ」等が挙げられる。  
これらの中でも、１分子中に４個以上のウレタン結合〔−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−〕及び４個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましく、該化合物は、例えば、ペンタエリスリトール、ポリグリセリン等の１分子中に４個以上の水酸基を有する化合物に、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物を反応させて得られた化合物、或いは、エチレングリコール等の１分子中に２個以上の水酸基を有する化合物に、旭化成工業社製「デュラネート２４Ａ−１００」、同「デュラネート２２Ａ−７５ＰＸ」、同「デュラネート２１Ｓ−７５Ｅ」、同「デュラネート１８Ｈ−７０Ｂ」等ビウレットタイプ、同「デュラネートＰ−３０１−７５Ｅ」、同「デュラネートＥ−４０２−９０Ｔ」、同「デュラネートＥ−４０５−８０Ｔ」等のアダクトタイプ等の１分子中に３個以上のイソシアネート基を有する化合物を反応させて得られた化合物、或いは、イソシアネートエチル（メタ）アクリレート等を重合若しくは共重合させて得られた化合物等の、１分子中に４個以上、好ましくは６個以上のイソシアネート基を有する化合物等、例えば、旭化成工業社製「デュラネートＭＥ２０−１００」と、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の、１分子中に１個以上の水酸基及び２個以上、好ましくは３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物とを、反応させることにより得ることができる。  
【００８２】
（メタ）アクリル酸又はヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリエポキシ化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート類としては、例えば、（メタ）アクリル酸、又は前記の如きヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物と、（ポリ）エチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）プロピレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）テトラメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ペンタメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ネオペンチルグリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ヘキサメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、（ポリ）グリセロールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビトールポリグリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム化フェノールノボラックポリエポキシ化合物、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）クレゾールノボラックポリエポキシ化合物、ビスフェノールＡポリエポキシ化合物、ビスフェノールＦポリエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の複素環式ポリエポキシ化合物、等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられる。  
【００８３】
その他のエチレン性不飽和化合物として、前記以外に、例えば、エチレンビス（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物類、エーテル結合含有エチレン性不飽和化合物のエーテル結合を５硫化燐等により硫化してチオエーテル結合に変えることにより架橋速度を向上せしめたチオエーテル結合含有化合物類、及び、例えば、日本国特許第３１６４４０７号公報及び日本国特開平９−１００１１１号公報等に記載の、多官能（メタ）アクリレート化合物と、粒子径５〜３０ｎｍのシリカゾル〔例えば、イソプロパノール分散オルガノシリカゾル（日産化学社製「ＩＰＡ−ＳＴ」）、メチルエチルケトン分散オルガノシリカゾル（日産化学社製「ＭＥＫ−ＳＴ」）、メチルイソブチルケトン分散オルガノシリカゾル（日産化学社製「ＭＩＢＫ−ＳＴ」）等〕とを、イソシアネート基或いはメルカプト基含有シランカップリング剤を用いて結合させた化合物等の、エチレン性不飽和化合物にシランカップリング剤を介してシリカゾルを反応させ結合させることにより硬化物としての強度や耐熱性を向上せしめた化合物類、等が挙げられる。  
【００８４】
本発明において、エチレン性不飽和化合物としては、エステル（メタ）アクリレート類、又は、ウレタン（メタ）アクリレート類が好ましく、中でも、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等、５官能以上のものが特に好ましい。
以上のエチレン性不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。  
【００８５】
本発明の遮光性感光性樹脂組成物中のエチレン性不飽和化合物の割合は、全固形分に対して通常１〜６０重量％、好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１２〜３０重量％である。この範囲よりもエチレン性不飽和化合物の割合が多すぎると、現像性が低下する傾向がある。一方少なすぎると電圧保持率の確保や着色スペーサの形状、段差の形成ができにくい傾向がある。
尚、本発明において、エチレン性不飽和化合物には、上述のアルカリ可溶性樹脂は含まれない。
【００８６】
［２−５］（ｅ）溶剤  
以上に示した本発明の着色感光性組成物に含まれる各成分は、通常、溶剤に溶解又は分散させ、着色感光性組成物溶液として用いられる。  
ここで用いられる溶剤としては、例えば、ジイソプロピルエーテル、ミネラルスピリット、ｎ−ペンタン、アミルエーテル、エチルカプリレート、ｎ−ヘキサン、ジエチルエーテル、イソプレン、エチルイソブチルエーテル、ブチルステアレート、ｎ−オクタン、バルソル＃２、アプコ＃１８ソルベント、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルアセテート、アプコシンナー、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキセン、メチルノニルケトン、プロピルエーテル、ドデカン、ソーカルソルベントＮｏ．１及びＮｏ．２、アミルホルメート、ジヘキシルエーテル、ジイソプロピルケトン、ソルベッソ＃１５０、（ｎ，ｓｅｃ，ｔ−）酢酸ブチル、ヘキセン、シェルＴＳ２８  ソルベント、ブチルクロライド、エチルアミルケトン、エチルベンゾエート、アミルクロライド、エチレングリコールジエチルエーテル、エチルオルソホルメート、メトキシメチルペンタノン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルイソブチレート、ベンゾニトリル、エチルプロピオネート、メチルセロソルブアセテート、メチルイソアミルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピルアセテート、アミルアセテート、アミルホルメート、ビシクロヘキシル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジペンテン、メトキシメチルペンタノール、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、プロピルプロピオネート、プロピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、カルビトール、シクロヘキサノン、酢酸エチル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、エチレングリコールアセテート、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等が挙げられる。これらの溶剤は、１種を単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。
【００８７】
本発明の着色感光性組成物において、溶剤の含有量は、特に制限はないが、塗膜形成時の塗布のし易さや膜厚制御の観点からの通常９０重量％以下で、通常６０重量％以上、特に７０重量％以上であることが好ましい。即ち、本発明の着色感光性組成物においては、全固形分濃度が通常１０重量％以上、通常４０重量％以下、特に３０重量％以下となるように調製されることが好ましい。  
【００８８】
［２−６］  （ｆ）分散剤
本発明の感光性樹脂組成物は、着色剤の分散性の向上、分散安定性の向上のために、分散剤が使用される。
本発明では、分散剤として窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体が用いられる。このような窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体は、これに含まれる窒素原子が着色剤表面に対して親和性を持ち、窒素原子以外の部分が媒質に対する親和性を高めることにより、全体として分散安定性の向上に寄与するものと推定される。  
【００８９】
分散剤の性能は、その固体表面に対する吸着挙動である。ブッロク共重合体が吸着挙動に優れている理由は、詳しいメカニズムは不明だが、以下のことが推察される。  
即ち、通常のランダム共重合体の場合、共重合体を構成するモノマーは、共重合時において、立体的に、及び／又は電気的に共重合体中に安定的に配置される確率が高くなる。モノマーが安定的に配置された部分（分子）は、立体的に、及び／又は電気的に安定しているため、着色剤に吸着するとき、かえって障害となる場合がある。これに対し、ブロック共重合体のように分子配列が制御された樹脂は、分散剤の吸着を妨げる部分を、顔料と分散剤との吸着部から離れた位置に配置することができる。つまり、着色剤と分散剤との吸着部には吸着に最適な部分を、溶媒親和性が必要な部分にはそれに適した部分を配置することができる。特に結晶子サイズの小さい着色剤を含有する色材の分散は、この分子配置が良好な分散性に影響するものと推察される。  
【００９０】
窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体は、本発明に用いられる着色剤を極めて効率よく分散しうる点で好ましい。その理由は明らかではないが、分子配列が制御されていることにより、分散剤が着色剤に吸着する際に障害となる構造が少ないためと推察される。アクリル系ブロック共重合体としては、側鎖に４級アンモニウム塩基及びアミノ基のうち少なくとも一方を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さないＢブロックからなる、Ａ−Ｂブロック共重合体及びＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体のうち少なくとも一方が好ましい。
【００９１】
Ａブロックが４級アンモニウム塩基を有する場合、当該４級アンモニウム塩基は、好ましくは−Ｎ＋Ｒ２１Ｒ２２Ｒ２３・Ｍ−（但し、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、各々独立に、水素原子、又は置換されていてもよい環状若しくは鎖状の炭化水素基を表す。或いは、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３のうち２つ以上が互いに結合して、環状構造を形成していてもよい。Ｍ−は、対アニオンを表す。）で表される。この４級アンモニウム塩基は、直接主鎖に結合していてもよいが、２価の連結基を介して主鎖に結合していてもよい。  
【００９２】
−Ｎ＋Ｒ２１Ｒ２２Ｒ２３において、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３のうち２つ以上が互いに結合して形成する環状構造としては、例えば５〜７員環の含窒素複素環単環又はこれらが２個縮合してなる縮合環が挙げられる。該含窒素複素環は芳香性を有さないものが好ましく、飽和環であればより好ましい。具体的には、例えば下記のものが挙げられる。これらの環状構造は、更に置換基を有していてもよい。  
【００９３】
【化９】
0005605481.tif 000010
【００９４】
（上記式中、ＲはＲ２１〜Ｒ２３のうち何れかの基を表す。）
−Ｎ＋Ｒ２１Ｒ２２Ｒ２３におけるＲ２１〜Ｒ２３として、より好ましいのは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又は置換基を有していてもよいベンジル基である。  
また、４級アンモニウム塩基を有するＡブロックとしては、特に、下記一般式（ＶＩ）で表される部分構造を含有するものが好ましい。  
【００９５】
【化１０】
0005605481.tif 000011
【００９６】
（上記式（ＶＩ）中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３は各々独立に、水素原子、又は置換されていてもよい環状若しくは鎖状の炭化水素基を表す。或いは、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３のうち２つ以上が互いに結合して、環状構造を形成していてもよい。Ｒ２４は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘは、２価の連結基を表し、Ｍ−は、対アニオンを表す。）  
上記一般式（ＶＩ）において、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３の炭化水素基は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０の芳香族基を有する置換基が好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ベンジル基、フェニル基等を挙げることができる。中でもメチル基、エチル基、プロピル基、ベンジル基が好ましい。  
【００９７】
上記一般式（ＶＩ）において、２価の連結基Ｘとしては、例えば、炭素数１〜１０のアルキレン基、アリーレン基、−ＣＯＮＨ−Ｒ２５−、−ＣＯＯ−Ｒ２６−（但し、Ｒ２５及びＲ２６は、直接結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は炭素数１〜１０のエーテル基（−Ｒ２７−Ｏ−Ｒ２８−：Ｒ２７及びＲ２８は、各々独立にアルキレン基）を表す。）等が挙げられ、好ましくは−ＣＯＯ−Ｒ２６−である。  
また、対アニオンのＭ−としては、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣｌＯ４−、ＢＦ４−、ＣＨ３ＣＯＯ−、ＰＦ６−等が挙げられる。  
【００９８】
上記の如き特定の４級アンモニウム塩基を含有する部分構造は、１つのＡブロック中に２種以上含有されていてもよい。その場合、２種以上の４級アンモニウム塩基含有部分構造は、該Ａブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の何れの態様で含有されていてもよい。また、該４級アンモニウム塩基を含有しない部分構造が、Ａブロック中に含まれていてもよく、該部分構造の例としては、後述の（メタ）アクリル酸エステル系モノマー由来の部分構造等が挙げられる。  
【００９９】
かかる４級アンモニウム塩基を含まない部分構造の、Ａブロック中の含有量は、好ましくは０〜５０重量％、より好ましくは０〜２０重量％であるが、かかる４級アンモニウム塩基非含有部分構造はＡブロック中に含まれないことが最も好ましい。  
尚、上述するアクリル系ブロック共重合体のＡブロックは、４級化されていない未反応の３級アミノ基を有していてもよい。
【０１００】
Ａブロックがアミノ基を有する場合、アミノ基は１〜３級のいずれでもよい。当該１〜３級アミノ基を有する単量体の含有割合は、当該アクリル系ブロック共重合体を構成する単量体組成において、２０モル％以上であることが好適であり、より好ましくは５０モル％以上である。
このアミノ基は、直接主鎖に結合していてもよいが、２価の連結基を介して主鎖に結合していてもよい。  
【０１０１】
又、上記１〜３級アミノ基としては、好ましくは−ＮＲ４１Ｒ４２（但し、Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい環状又は鎖状のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。）で表され、又、これを含む部分構造（繰返し単位）として好ましいものは、例えば下記一般式で表されるような構造が挙げられる。
【０１０２】
【化１１】
0005605481.tif 000012
【０１０３】
（但し、Ｒ４１及びＲ４２は、上記のＲ４１及びＲ４２と同義であり、Ｒ４３は炭素数１以上のアルキレン基、Ｒ４４は水素原子又はメチル基を示す。）
中でも、Ｒ４１及びＲ４２はメチル基が好ましく、Ｒ４３はメチレン基、エチレン基が好ましく、Ｒ４４は水素原子もしくはメチル基であるのが好ましい。このような部分構造としては下記一般式で表されるジメチルアミノエチルアクリレートやジメチルアミノエチルメタアクリレート由来の構造等が、特に好適に用いられる。
【０１０４】
【化１２】
0005605481.tif 000013
【０１０５】
（上記一般式中、Ｒ４４は前述と同義である。）
更に、上記アミノ基を含有する部分構造は、１つのＡブロック中に２種以上含有されていてもよい。その場合、２種以上のアミノ基含有部分構造は、該Ａブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の何れの態様で含有されていてもよい。又、アミノ基を含有しない部分構造が、Ａブロック中に一部含まれていてもよく、そのような部分構造の例としては、（メタ）アクリル酸エステル系モノマー由来の部分構造等が挙げられる。係るアミノ基を含まない部分構造の、Ａブロック中の含有量は、好ましくは０〜５０重量％、より好ましくは０〜２０重量％であるが、係るアミノ基非含有部分構造はＡブロック中に含まれないことが最も好ましい。
【０１０６】
Ａブロック中に４級アンモニウム塩基又はアミノ基のいずれか一方を有してもよく、両方を有してもよい。極性の低い溶媒に対して、４級アンモニウム塩基の溶解性は低く、アミノ基の溶解性は高い。そのため、レジスト中に極性の低い溶媒を多く使う場合には、分散剤のレジスト溶媒への溶解性を向上させる観点から、Ａブロック中に、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有するか、４級アンモニウム基を有さずアミノ基を有することが好ましく、４級アンモニウム基を有さずアミノ基を有することがより好ましい。
一方、アクリル系ブロック共重合体を構成するＢブロックは、上述した４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さず、上述したＡブロックを構成するモノマーと共重合しうるモノマーから成るものであれば、特に制限は無い。Ｂブロックは、顔料吸着基となる窒素原子含有官能基を有さない親溶媒性の部位であり、溶媒に親和性があるため、分散剤に吸着した顔料を溶媒中に安定化させる働きがある。
【０１０７】
Ｂブロックとしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマー；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、グリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エチルアクリル酸グリシジル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル系モノマー；（メタ）アクリル酸クロライドなどの（メタ）アクリル酸塩系モノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド系モノマー；酢酸ビニル；アクリロニトリル；アリルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル；Ｎ−メタクリロイルモルホリン、などのコモノマーを共重合させたポリマー構造が挙げられる。  
【０１０８】
Ｂブロックとしては、特に下記式（ＶＩＩＩ）で表される、（メタ）アクリル酸エステル系モノマー由来の部分構造を含有するものが好ましい。  
【０１０９】
【化１３】
0005605481.tif 000014
【０１１０】
（上記式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ４１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ４２は、置換基を有していてもよい環状又は鎖状のアルキル基、置換基を有していてもよいアリル基、又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。）  
上記（メタ）アクリル酸エステル系モノマー由来の部分構造は、１つのＢブロック中に２種以上含有されていてもよい。もちろん該Ｂブロックは、更にこれら以外の部分構造を含有していてもよい。２種以上のモノマー由来の部分構造が、４級アンモニウム塩基を含有しないＢブロック中に存在する場合、各部分構造は該Ｂブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の何れの態様で含有されていてもよい。  
【０１１１】
Ｂブロック中に上記（メタ）アクリル酸エステル系モノマー由来の部分構造以外の部分構成を含有する場合、当該（メタ）アクリル酸エステル系モノマー以外の部分構造の、Ｂブロック中の含有量は、好ましくは０〜９９重量％、より好ましくは０〜８５重量％である。  
本発明で用いるアクリル系分散剤は、このようなＡブロックとＢブロックとからなる、Ａ−Ｂブロック又はＢ−Ａ−Ｂブロック共重合型高分子化合物であるが、このようなブロック共重合体は、例えばリビング重合法にて調製される。  
【０１１２】
リビング重合法にはアニオンリビング重合法、カチオンリビング重合法、ラジカルリビング重合法がある。例えば、日本国特開２００７−２７０１４７号公報に記載の方法が挙げられる。
尚、上記アクリル系ブロック共重合体のアミン価は、有効固形分換算で通常１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度であるが、その好ましい範囲は、Ａブロックが４級アンモニウム塩基を有する場合とそうでない場合とで異なる。なお、アミン価は、共重合体１ｇ中のアミノ基を中和するのに必要な酸のモル当量に対応したＫＯＨのｍｇ数で表した値である。
【０１１３】
即ち、本発明に係るＡ−Ｂブロック共重合体及びＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体において、Ａブロックが４級アンモニウム塩基を有する場合、当該共重合体１ｇ中の４級アンモニウム塩基の量は、通常０．１〜１０ｍｍｏｌであることが好ましく、この範囲外では、良好な耐熱性と分散性を兼備することができない場合がある。  
なお、このようなブロック共重合体中には、通常、製造過程で生じたアミノ基が含有される場合があるが、そのアミン価は通常１〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度、好ましくは１〜８０ｍｇＫＯＨ／ｇ。より好ましくは１〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【０１１４】
又、Ａブロックに４級アンモニウム塩基を含まない場合、当該共重合体のアミン価は、通常、５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度、好ましくは５０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、更に好ましくは９０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
このようなアクリル系ブロック共重合体の酸価は、該酸価の元となる酸性基の有無及び種類にもよるが、一般に低い方が好ましく、通常１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、好ましくは５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。  
【０１１５】
また、アクリル系ブロック共重合体の分子量は、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）では、通常１０００以上、１００，０００以下の範囲である。アクリル系ブロック共重合体の分子量が小さすぎると分散安定性が低下し、大きすぎると現像性、解像性が低下する傾向にある。  
本発明においては、上述のものと同様の構造を有する市販のアクリル系ブロック共重合体を適用することもできる。  
【０１１６】
本発明において、窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体の含有量は、顔料に対して通常５重量％以上９０重量％以下であり、好ましくは５重量％以上６０重量％以下、更にこのましくは５重量％以上４０重量％以下である。窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体の含有量が少な過ぎると、十分な分散性が得られない場合があり、多過ぎると相対的に他の成分の割合が減って電圧保持率が低下する一方、着色スペーサの形状、段差の形成ができない場合がある。
【０１１７】
本発明においては、窒素原子を含有するアクリル系ブロック共重合体以外の分散剤を併用してもよい。併用する分散剤は、高分子分散剤であることが好ましく、着色剤とは全く構造の異なるポリマーであることが好ましい。
併用する分散剤としては、例えば、ウレタン系分散剤、ポリアリルアミン系分散剤、アミノ基を持つモノマーとマクロモノマーからなる分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレンジエステル系分散剤、ポリエーテルリン酸系分散剤、ポリエステルリン酸系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性ポリエステル系分散剤等を挙げることができる。
【０１１８】
本発明の着色感光性組成物は、着色剤の分散安定性の向上のために分散助剤を併用する事が好ましい。ここで分散助剤とは着色剤の分散性を高めるための顔料誘導体等をいう。
顔料誘導体としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、キノフタロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、アントラキノン系、インダンスレン系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール系、ジオキサジン系等の誘導体が挙げられるが、中でもキノフタロン系が好ましい。顔料誘導体の置換基としてはスルホン酸基、スルホンアミド基及びその４級塩、フタルイミドメチル基、ジアルキルアミノアルキル基、水酸基、カルボキシル基、アミド基等が顔料骨格に直接又はアルキル基、アリール基、複素環基等を介して結合したものが挙げられ、好ましくはスルホン酸基である。またこれら置換基は一つの顔料骨格に複数置換していてもよい。  
【０１１９】
顔料誘導体の具体例としてはフタロシアニンのスルホン酸誘導体、キノフタロンのスルホン酸誘導体、アントラキノンのスルホン酸誘導体、キナクリドンのスルホン酸誘導体、ジケトピロロピロールのスルホン酸誘導体、ジオキサジンのスルホン酸誘導体等が挙げられる。  
これらの顔料誘導体は１種を単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。  
顔料誘導体を用いる場合、その使用量は顔料に対して通常０．１〜３０重量％、好ましくは０．１〜２０重量％以下、より好ましくは０．１〜１０重量％、さらに好ましくは０．１〜５重量％である。
【０１２０】
［２−７］その他の成分  
本発明の遮光性感光性樹脂組成物には、上記の成分の他に、さらに重合加速剤、増感色素、界面活性剤、光酸発生剤、架橋剤、密着性向上剤、可塑剤、保存安定剤、表面保護剤、有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物、現像改良剤、熱重合防止剤等を含んでいてもよい。  
【０１２１】
［２−７−１］光酸発生剤
光酸発生剤とは、紫外線により酸を発生することができる化合物であり、露光を行った際に発生する酸の作用により、例えばメラミン化合物等架橋剤があることで架橋反応を進行させることとなる。係る光酸発生剤の中でも、溶剤に対する溶解性、特に着色感光性組成物に使われる溶剤に対する溶解性が大きいものが好ましいものであり、例えば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル（ｐ−アニシル）ヨードニウム、ビス（ｍ−ニトロフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウム、ビス（ｎ−ドデシル）ヨードニウム、ｐ−イソブチルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウム、ｐ−イソプロピルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウムなどのジアリールヨードニウム、あるいはトリフェニルスルホニウムなどのトリアリールスルホニウムのクロリド、ブロミド、あるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロフォスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩、芳香族スルホン酸塩、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート塩等や、ジフェニルフェナシルスルホニウム（ｎ−ブチル）トリフェニルボレート等のスルホニウム有機ホウ素錯体類、あるいは、２−メチル−４，６−ビストリクロロメチルトリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビストリクロロメチルトリアジンなどのトリアジン化合物等を挙げることができるがこの限りではない。  
【０１２２】
［２−７−２］架橋剤  
本発明の着色感光性組成物には、さらに架橋剤を加えることができ、例えばメラミン又はグアナミン系の化合物を用いることができる。これら架橋剤としては、例えば、下記一般式（ＸＩ）で示されるメラミン又はグアナミン系の化合物を挙げることができる。  
【０１２３】
【化１４】
0005605481.tif 000015
【０１２４】
（式中、Ｒ６１は−ＮＲ６６Ｒ６７基又はアリールを表し、Ｒ６１が−ＮＲ６６Ｒ６７基の場合はＲ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、Ｒ６６及びＲ６７の一つ、そしてＲ６１がアリールの場合はＲ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５の一つが−ＣＨ２ＯＲ６８基を表し、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、Ｒ６６及びＲ６７の残りは互いに独立に、水素又は−ＣＨ２ＯＲ６８基を表し、ここでＲ６８は水素又はアルキルを表す。）  
【０１２５】
ここで、アリールは典型的にはフェニル、１−ナフチル又は２−ナフチルであり、これらのフェニルやナフチルには、アルキル、アルコキシ、ハロゲンなどの置換基が結合していてもよい。アルキル及びアルコキシは、それぞれ炭素数１〜６程度であることができる。Ｒ６８で表されるアルキルは、上記のなかでも、メチル又はエチル、とりわけメチルであるのが一般的である。
【０１２６】
一般式（ＸＩ）に相当するメラミン系化合物、すなわち下記一般式（ＸＩ−１）の化合物には、ヘキサメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ペンタメトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミンなどが包含される。  
【０１２７】
【化１５】
0005605481.tif 000016
【０１２８】
（式中、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、Ｒ６６及びＲ６７の一つがアリールの場合はＲ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５の一つが−ＣＨ２ＯＲ６８基を表し、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４、Ｒ６５、Ｒ６６及びＲ６７の残りは互いに独立に、水素又は−ＣＨ２ＯＲ６８基を表し、ここにＲ６８は水素又はアルキルを表す。）  
【０１２９】
また、一般式（ＸＩ）に相当するグアナミン系化合物、すなわち一般式（ＸＩ）中のＲ６１がアリールである化合物には、テトラメチロールベンゾグアナミン、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン、トリメトキシメチルベンゾグアナミン、テトラエトキシメチルベンゾグアナミンなどが包含される。
【０１３０】
さらに、メチロール基又はメチロールアルキルエーテル基を有する架橋剤を用いることもできる。以下にその例を挙げる。  
２，６−ビス（ヒドロキシメチル）−４−メチルフェノール、４−ｔｅｒｔ−ブチル−２，６−ビス（ヒドロキシメチル）フェノール、５−エチル−１，３−ビス（ヒドロキシメチル）ペルヒドロ−１，３，５−トリアジン−２−オン（通称Ｎ−エチルジメチロールトリアゾン）又はそのジメチルエーテル体、ジメチロールトリメチレン尿素又はそのジメチルエーテル体、３，５−ビス（ヒドロキシメチル）ペルヒドロ−１，３，５−オキサジアジン−４−オン（通称ジメチロールウロン）又はそのジメチルエーテル体、テトラメチロールグリオキザールジウレイン又はそのテトラメチルエーテル体。  
尚、これら架橋剤は１種を単独で用いても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。  架橋剤を用いる際の量は、遮光性感光性樹脂組成物の全固形分に対して０．１〜１５重量％が好ましく、特に好ましくは０．５〜１０重量％である。  
【０１３１】
［２−７−３］密着向上剤
本発明の遮光性感光性樹脂組成物には細い線やドットを充分密着させるために、密着向上剤を含有させてもよい。  
密着向上剤としては、窒素原子を含有する化合物や燐酸基含有化合物、シランカップリング剤などが好ましく、窒素原子を含有する化合物としては、例えば、ジアミン類（日本国特開平１１−１８４０８０号公報記載の密着増強剤、他）やアゾール類が好ましい。なかでもアゾール類が好ましく、特にイミダゾール類（日本国特開平９−２３６９２３号公報記載の密着向上剤、他）、ベンゾイミダゾール類、ベンゾトリアゾール類（日本国特開２０００−１７１９６８号公報記載の密着向上剤、他）が好ましく、イミダゾール類とベンゾイミダゾール類が最も好ましい。これらのなかで、カブリが生じにくく、密着性を大きく向上させることができる点から２−ヒドロキシベンゾイミダゾール、２−ヒドロキシエチルベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、２−ヒドロキシイミダゾール、イミダゾール、２−メルカプトイミダゾール、２−アミノイミダゾールが好ましく、２−ヒドロキシベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、２−ヒドロキシイミダゾール、イミダゾールが特に好ましい。シランカップリング剤の種類としては、エポキシ系、メタクリル系、アミノ系等種々の物が使用できるが、特にエポキシ系のシランカップリング剤が好ましい。  
【０１３２】
これらは１種を単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。  
これらの密着向上剤を配合する場合、その配合割合は、用いる密着向上剤の種類によっても異なるが、着色感光性組成物の全固形分に対して０．０１〜５重量％、特に０．０５〜３重量％とすることが好ましい。これよりも少ないと十分な密着性の向上効果が得られない場合があり、多すぎると現像性を下げる場合がある。  
【０１３３】
［２−７−４］増感色素  
増感色素としては、例えば日本国特開平４−２２１９５８号公報、日本国特開平４−２１９７５６号公報に記載のキサンテン色素、日本国特開平３−２３９７０３号公報、日本国特開平５−２８９３３５号公報に記載の複素環を有するクマリン色素、日本国特開平３−２３９７０３号公報、日本国特開平５−２８９３３５号公報に記載の３−ケトクマリン化合物、日本国特開平６−１９２４０号公報に記載のピロメテン色素、その他、日本国特開昭４７−２５２８号公報、日本国特開昭５４−１５５２９２号公報、日本国特公昭４５−３７３７７号公報、日本国特開昭４８−８４１８３号公報、日本国特開昭５２−１１２６８１号公報、日本国特開昭５８−１５５０３号公報、日本国特開昭６０−８８００５号公報、日本国特開昭５９−５６４０３号公報、日本国特開平２−６９号公報、日本国特開昭５７−１６８０８８号公報、日本国特開平５−１０７７６１号公報、日本国特開平５−２１０２４０号公報、日本国特開平４−２８８８１８号公報に記載のジアルキルアミノベンゼン骨格を有する色素等を挙げることができる。  
【０１３４】
これらは１種を単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。  
増感色素を配合する場合、着色感光性組成物中の全固形分中における増感色素の含有率は、通常０．０１〜５重量％、好ましくは０．０５〜３重量％である。これより少ないと増感効果が出ない場合があり、多すぎると現像性を下げる場合がある。  
【０１３５】
［２−７−５］界面活性剤  
界面活性剤としてはアニオン系、カチオン系、非イオン系、両性界面活性剤等各種のものの１種又は２種以上を用いることができるが、諸特性に悪影響を及ぼす可能性が低い点で、非イオン系界面活性剤を用いるのが好ましい。また、フッ素系やシリコン系のものは、塗布性の面で効果的である。  
界面活性剤の配合割合としては、着色感光性組成物中の全固形分に対して通常０．００１〜１０重量％、好ましくは０．００５〜１重量％、さらに好ましくは０．０１〜０．５重量％、最も好ましくは０．０３〜０．３重量％の範囲である。界面活性剤の添加量が上記範囲よりも少ないと塗布膜の平滑性、均一性が発現できない場合があり、多いと塗布膜の平滑性、均一性が発現できない場合がある他、他の特性が悪化する場合がある。  
【０１３６】
［２−７−６］有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物
本発明の着色感光性組成物は、現像性の向上や地汚れ改善の目的で有機カルボン酸及び有機カルボン酸無水物のうち少なくとも一方を含んでいてもよい。  
有機カルボン酸としては、脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸のうち少なくとも一方が挙げられる。  
【０１３７】
脂肪族カルボン酸としては、具体的には、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸、グリコール酸、アクリル酸、メタクリル酸などのモノカルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸などのジカルボン酸、トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸などのトリカルボン酸などが挙げられる。また、芳香族カルボン酸としては、具体的には、安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、フタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸、フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸などのフェニル基に直接カルボキシル基が結合したカルボン酸、及びフェニル基から炭素結合を介してカルボキシル基が結合したカルボン酸等が挙げられる。  
【０１３８】
上記有機カルボン酸の中では、モノカルボン酸、ジカルボン酸が好ましく、中でもマロン酸、グルタル酸、グリコール酸が更に好ましく、マロン酸が特に好ましい。  
上記有機カルボン酸の分子量は、通常１０００以下であり、通常５０以上である。上記有機カルボン酸の分子量が大きすぎると地汚れ改善効果が不十分となる場合があり、少なすぎると昇華、揮発などにより、添加量の減少やプロセス汚染を起こす恐れがある。  
【０１３９】
有機カルボン酸無水物としては、脂肪族カルボン酸無水物及び芳香族カルボン酸無水物のうち少なくとも一方が挙げられ、脂肪族カルボン酸無水物としては、具体的には無水酢酸、無水トリクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水グルタル酸、無水１，２−シクロヘキセンジカルボン酸、無水ｎ−オクタデシルコハク酸、無水５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸などの脂肪族カルボン酸無水物が挙げられる。芳香族カルボン酸無水物としては、具体的には無水フタル酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、無水ナフタル酸などが挙げられる。  
【０１４０】
上記有機カルボン酸無水物の中では、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸が好ましく、無水マレイン酸が更に好ましい。  
上記有機カルボン酸無水物の分子量は、通常８００以下、好ましくは６００以下、更に好ましくは５００以下であり、通常５０以上である。上記有機カルボン酸無水物の分子量が大きすぎると地汚れ改善効果が不十分となる場合があり、少なすぎると昇華、揮発などにより、添加量の減少やプロセス汚染を起こす恐れがある。  
【０１４１】
これらの有機カルボン酸及び有機カルボン酸無水物は、それぞれ１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。  
これらの有機カルボン酸及び有機カルボン酸無水物の添加量は、それぞれ、本発明の遮光性感光性樹脂組成物の全固形分中、通常０．０１重量％〜５重量％、好ましくは０．０３重量％〜３重量％である。その添加量が少なすぎると十分な添加効果が得られない場合があり、多すぎると表面平滑性や感度が悪化し、未溶解剥離片が発生する場合がある。  
【０１４２】
［２−７−７］熱重合防止剤  
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ピロガロール、カテコール、２，６−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、β−ナフトール等の１種又は２種以上が用いられる。  
熱重合防止剤の配合割合は、遮光性感光性樹脂組成物中の全固形分に対し０〜２重量％の範囲であることが好ましく、これよりも多いと遮光性、感光性樹脂組成物の感度を低下させる場合がある。  
【０１４３】
［２−７−８］可塑剤  
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等の１種又は２種以上が用いられる。  
これら可塑剤の配合割合は、遮光性感光性樹脂組成物中の全固形分に対し５重量％以下の範囲であることが好ましく、これよりも多いと樹脂ブラックマトリックスの硬化点が低下する。  
【０１４４】
［３］着色感光性組成物の製造方法  
次に本発明の着色感光性組成物の製造方法について説明する。  
以下、着色剤として顔料を使った着色感光性組成物について説明する。
まず（ａ）顔料と（ｆ）分散剤および必要な成分を用い、顔料分散液を製造する。次に、上述得られた顔料分散液、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）エチレン性不飽和化合物、及び（ｅ）溶剤を混合して着色感光性組成物はを製造する。必要に応じて、前述の他の成分を混合してもよい。
【０１４５】
［３−１］（ａ）顔料分散液の製造方法  
本発明に係る顔料分散液の製造方法としては種々の方法を採用することができる。以下にその一例を示す。  
まず、顔料、溶剤、及び分散剤／分散助剤を各々所定量秤量し、分散処理工程において、顔料を分散させて液状の顔料分散液とする。顔料、溶剤、及び分散剤／分散助剤としては、前述の着色感光性組成物の構成成分として記載されたものが使用できる。
【０１４６】
この分散処理工程では、ペイントコンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザーなどを使用することができる。サンドグラインダーを用いて分散処理を行う場合は、０．１〜数ｍｍ径のガラスビーズ、又はジルコニアビーズを用いるのが好ましい。  
この分散処理を行うことによって顔料が微粒子化されるため、この顔料分散液を用いた着色感光性組成物は塗布特性および直線性などの製版性能が向上する。  
【０１４７】
顔料を分散処理する際には、前記のアルカリ可溶性樹脂などを適宜併用してもよい。  
分散処理する際の温度は通常０℃〜１００℃の範囲、好ましくは室温〜８０℃の範囲に設定する。なお、分散時間は、顔料分散液の組成（顔料、溶剤、分散剤／分散助剤等）、及びサンドグラインダーの装置の大きさなどにより適正時間が異なるため、適宜調整する必要がある。
【０１４８】
顔料分散液中の（ａ）顔料の含有量は、通常５重量％以上５０重量％以下であり、好ましくは１０重量％以上４０重量％以下である。
顔料分散液中の（ｆ）分散剤の含有量は、顔料に対して通常５重量％以上９０重量％以下であり、好ましくは５重量％以上６０重量％以下、更にこのましくは５重量％以上４０重量以下である。
【０１４９】
顔料分散液中の分散助剤の含有量は、顔料に対して通常０．１〜３０重量％、好ましくは０．１〜２０重量％以下、より好ましくは０．１〜１０重量％、さらに好ましくは０．１〜５重量％である。
顔料分散液中のアルカリ可溶性樹脂（ｂ）の含有量は、顔料に対して通常０重量％以上１００重量％以下であり、好ましくは５重量％以上８０重量％以下、更にこのましくは５重量％以上６０重量％以下である。
【０１５０】
［３−２］着色感光性組成物の製造方法  
次に上記分散処理により得られた顔料分散液（インキ）と着色感光性組成物成分として必要な前記の他の分を添加、攪拌混合して均一な着色感光性組成物溶液とする。この製造工程においては微細なゴミが液中に混じることが多いため、得られた着色感光性組成物溶液はフィルター等により濾過処理するのが望ましい。  
尚、着色剤として顔料以外（例えば染料）を使った着色感光性組成物は、公知の方法で製造できる。
【０１５１】
［４］着色スペーサの形成方法
本実施の形態の着色感光性組成物は、公知のカラーフィルター用着色感光性組成物と同様の方法により使用されるが、以下、着色スペーサとして使用される場合について説明する。  
通常、着色スペーサが設けられるべき基板上に、着色感光性組成物溶液を、塗布等の方法により膜状或いはパターン状に供給し、溶剤を乾燥させる。続いて、露光−現像を行うフォトリソグラフィー法によりパターン形成を行う。その後、必要により追露光や熱硬化処理を行うことにより、該基板上に着色スペーサが形成される。
【０１５２】
［４−１］基板への供給方法  
本実施の形態の着色感光性組成物は、通常、溶剤に溶解或いは分散された状態で、基板上へ供給される。その供給方法としては、従来公知の方法、例えば、スピナー法、ワイヤーバー法、フローコート法、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法などによって行うことができる。中でも、ダイコート法によれば、塗布液の使用量が大幅に削減され、かつ、スピンコート法によった際に付着するミストなどの影響が全くない、異物発生が抑制されるなど、総合的な観点から好ましい。  
【０１５３】
塗布量は用途により異なるが、例えば着色スペーサの場合には、乾燥膜厚として、通常、０．５μｍ〜１０μｍ、好ましくは１μｍ〜９μｍ、特に好ましくは１μｍ〜７μｍの範囲である。また、乾燥膜厚あるいは最終的に形成された着色スペーサの高さが、基板全域に渡って均一であることが重要である。ばらつきが大きい場合には、液晶パネルにムラ欠陥を生ずることとなる。また、インクジェット法や印刷法などにより、パターン状に供給されても良い。  
尚、基板としてはガラス基板など、公知の基板を使用することができる。また、基板表面は平面であることが好適である。  
【０１５４】
［４−２］乾燥方法  
基板上に着色感光性組成物溶液を供給した後の乾燥は、ホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクションオーブンを使用した乾燥方法によるのが好ましい。また、温度を高めず、減圧チャンバー内で乾燥を行う、減圧乾燥法を組み合わせても良い。  
乾燥の条件は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて適宜選択することができる。乾燥時間は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて、通常は、４０℃〜１３０℃の温度で１５秒〜５分間の範囲で選ばれ、好ましくは５０℃〜１１０℃の温度で３０秒〜３分間の範囲で選ばれる。  
【０１５５】
［４−３］露光方法  
露光は、着色感光性組成物の塗布膜上に、ネガのマスクパターンを重ね、このマスクパターンを介し、紫外線又は可視光線の光源を照射して行う。露光マスクを用いて露光を行う場合には、露光マスクを着色感光性組成物の塗布膜に近接させる方法や、露光マスクを着色感光性組成物の塗布膜から離れた位置に配置し、該露光マスクを介した露光光を投影する方法によっても良い。また、マスクパターンを用いないレーザー光による走査露光方式によっても良い。この際、必要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐため、脱酸素雰囲気下で行ったり、光重合性層上にポリビニルアルコール層などの酸素遮断層を形成した後に露光を行ったりしてもよい。  
【０１５６】
上記の露光に使用される光源は、特に限定されるものではない。光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプなどのランプ光源や、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、青紫色半導体レーザー、近赤外半導体レーザーなどのレーザー光源などが挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルタを利用することもできる。  
【０１５７】
光学フィルタとしては、例えば薄膜で露光波長における光透過率を制御可能なタイプでも良く、その場合の材質としては、例えばＣｒ化合物（Ｃｒの酸化物、窒化物、酸窒化物、フッ化物など）、ＭｏＳｉ、Ｓｉ、Ｗ、Ａｌ等が挙げられる。  
また、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成する為の方法においては、露光マスクとして、光の透過を遮る遮光層と光を透過させる開口部とを有し、一部の開口部の平均光透過率が他の開口部の平均光透過率より小さい露光マスクを用いる方法、即ち遮光層（光透過率０％）と複数の開口部を有し、平均光透過率の最も高い開口部（通常、光透過率１００％。以下完全透過開口部という）に対して平均光透過率の小さい開口部（中間透過開口部）を有する露光マスクを用いる方法を利用することができる。  
【０１５８】
中間透過開口部の形成方法としては、上記の光学フィルタをマスクパターンの開口部（透光部）に任意に配置した、即ち光学フィルタを設けた開口部（中間透過開口部）と設けていない開口部（完全透過開口部）を適宜配置したマスクを用いる方法をとることができる。これにより、一回の露光工程により開口部の透光率に応じた光重合率の異なるパターンを形成することが可能となり、例えば一回の露光工程で高さの異なるパターンを同時に一括形成することが可能となる。  
【０１５９】
また、もう一つ他の中間透過開口部の形成方法としては、日本国特開２００３−３４４８６０号公報に記載されている、遮光部と完全透過部を微小なマトリックスパターン状や微細なスリットパターン状に配置することにより、平均光透過率を調整した（完全透過開口部に対して光透過率の小さい）中間透過開口部を有する露光マスクを形成することも出来る。
本実施の形態における露光量としては、通常、１ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは５ｍＪ／ｃｍ２以上、より好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ２以上であり、通常３００ｍＪ／ｃｍ２以下、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２以下、より好ましくは１５０ｍＪ／ｃｍ２以下である。  
また、近接露光方式の場合には、露光対象とマスクパターンとの距離としては、通常１０μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは７５μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下である。
【０１６０】
［４−４］現像方法  
上記の露光を行った後、アルカリ性化合物の水溶液、又は有機溶剤を用いる現像によって、基板上に画像パターンを形成することができる。この水溶液には、さらに界面活性剤、有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料又は顔料を含ませることができる。  
【０１６１】
アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化アンモニウムなどの無機アルカリ性化合物や、モノ−・ジ−又はトリエタノールアミン、モノ−・ジ−又はトリメチルアミン、モノ−・ジ−又はトリエチルアミン、モノ−又はジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノ−・ジ−又はトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、コリンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。これらのアルカリ性化合物は、２種以上の混合物であってもよい。  
【０１６２】
上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤；アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類などのアニオン性界面活性剤；アルキルベタイン類、アミノ酸類などの両性界面活性剤、が挙げられる。  
【０１６３】
有機溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。有機溶剤は、単独でも水溶液と併用して使用できる。  
現像処理の方法については特に制限は無いが、通常、１０℃〜５０℃、好ましくは１５℃〜４５℃の現像温度で、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法により行われる。  
【０１６４】
［４−５］追露光及び熱硬化処理  
現像の後の基板には、必要により上記の露光方法と同様な方法により追露光を行っても良く、また熱硬化処理を行っても良い。この際の熱硬化処理条件は、温度は１００℃〜２８０℃の範囲、好ましくは１５０℃〜２５０℃の範囲で選ばれ、時間は５分間〜６０分間の範囲で選ばれる。  
【０１６５】
本実施の形態の着色感光性組成物は、液晶ディスプレイ等のカラーフィルター等において、ブラックマトリクス、オーバーコート、リブ及び着色スペーサ等を形成する際に好適に用いられる着色感光性組成物である。また特にフォトリソグラフィー法により特に高さの異なる着色スペーサを同時に形成する為の方法に適した着色感光性組成物を提供することが出来る。また本実施の形態によれば、高品質なカラーフィルターや液晶表示装置等を提供することができる。
【０１６６】
［５］着色スペーサ  
本発明の着色感光性組成物により形成された着色スペーサは、略円柱状スペーサパターンが好ましい。
完全透過開口部の着色スペーサパターンの下断面径は、通常１５μｍ超過４５μｍ未満であり、好ましくは１８μｍ超過４０μｍ未満である。この範囲より低い場合、圧縮特性が悪くなる傾向があり、この範囲より高い場合、基板上の面積が増えるためパネル構造上には好ましくない。
【０１６７】
中間透過開口部の着色スペーサパターンの下断面径は、通常２０μｍ超過５０μｍ未満であり、好ましくは３０μｍ超過４０μｍ未満である。この範囲より低い場合、圧縮特性が悪くなる傾向があり、この範囲より高い場合、基板上の面積が増えるためパネル構造上には好ましくない。
完全透過開口部の着色スペーサパターンの高さと中間透過開口部の着色スペーサパターンの高さの差異（ΔＨ）は、完全透過開口部の着色スペーサパターンの高さが２．８μｍ超過３．２μｍ未満の場合、通常０．２５μｍ以上１．０μｍ以下であり、好ましくは０．３５μｍ超過０．８０μｍ以下であり、より好ましくは０．４μｍ超過０．６μｍ以下である。この範囲より低い場合、耐荷重性が悪くなる傾向があり、この範囲より高い場合、圧縮限界を超える傾向がある。
【０１６８】
［６］カラーフィルター
本発明のカラーフィルターは、上述のような本発明の着色スペーサを備えるものであり、例えば透明基板としてのガラス基板上に、ブラックマトリクスと、赤色、緑色、青色の画素着色層と、オーバーコート層とが積層されて、着色スペーサを形成した後配向膜を形成して製造される。配向膜としては、ポリイミド等の樹脂膜が好適である。
【０１６９】
［７］液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は上述のような本発明の着色スペーサを有するカラーフィルター備えるものであり、例えば、上述のようなカラーフィルターと液晶駆動側基板を貼り合わせて液晶セルを形成する。形成した液晶セルに液晶を注入して製造される。
【実施例】
【０１７０】
次に、実施例及び比較例を挙げて本実施の形態をより具体的に説明するが、本実施の形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
以下の実施例及び比較例で用いた着色感光性組成物の構成成分は次の通りである。  
なお、以下において「部」は「重量部」を表す。
【０１７１】
＜アルカリ可溶性樹脂−１＞  
新中村化学工業（株）製  「ＡＤＥＰ０２」（（ＭＷ＝３５００〜４５００、酸価＝約１１０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、アルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）に該当）  
＜アルカリ可溶性樹脂−２＞  
日本化薬（株）製「ＺＣＲ−１６６４Ｈ」（ＭＷ＝５０００〜６０００、酸価＝約６０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、アルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）に該当）
＜アルカリ可溶性樹脂−３＞  
昭和高分子（株）製「ＳＰＣＭ−８２」（ＭＷ＝約１００００、酸価＝約２４ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、アクリレート系アルカリ可溶性樹脂）  
【０１７２】
＜アルカリ可溶性樹脂−４＞
５００ｍＬ４つ口フラスコにスチレン／アクリル酸樹脂、ジョンクリル６８０（ＢＡＳＦジャパン（株））６１．２ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１３８．６ｇに８０℃で均一に溶解させた。これにテトラアンモニウムクロライド０．２４ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．０９ｇを加えて溶解させ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７１．４ｇと３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（サイクロマーＡ４００  ダイセル化学（株））１９．９ｇの混合液を４０分かけて滴下した。反応溶液を８０℃に保ったまま３２時間攪拌し、重量平均分子量６７００、酸価１０６ｍｇＫＯＨ／ｇの樹脂を得た。  
【０１７３】
＜アルカリ可溶性樹脂−５＞
昭和高分子（株）製「ＳＰＣＭ−１２１Ｂ」（ＭＷ＝約８３００、酸価＝約８０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、アクリレート系アルカリ可溶性樹脂）
【０１７４】
＜分散剤−１＞
ビックケミー社製「ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−２０００」（側鎖に４級アンモニウム塩基を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基を有さないＢブロックからなる、アクリル系Ａ−Ｂブロック共重合体）
＜分散剤−２＞
ビックケミー社製「ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−ＬＰＮ２１１１６」（側鎖に４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及びアミノ基を有さないＢブロックからなる、アクリル系Ａ−Ｂブロック共重合体）
＜分散剤−３＞
ビックケミー社製「ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１６７」（ウレタン系分散剤）
＜分散助剤＞  
ループリゾール社製「Ｓ１２０００」  
【０１７５】
＜界面活性剤＞
大日本インキ化学社製  メガファック  Ｆ−４７５
＜溶剤−１＞  
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
＜溶剤−２＞  
ＭＢ：３−メトキシブタノール
＜溶剤−３＞  
ＭＢＡ：酢酸３−メトキシブチル
＜溶剤−４＞  
ＣＨＮ：シクロヘキサノン
＜光重合開始剤＞  
下記式で表される化合物。
【０１７６】
【化１６】
0005605481.tif 000017
【０１７７】
＜エチレン性不飽和化合物＞  
ＤＰＨＡ：日本化薬（株）製  ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  
＜顔料分散液−１〜４の調製＞  
表１に記載の顔料、分散剤、分散助剤、アルカリ可溶性樹脂、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）とメトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）を表１に記載の重量比で混合した。ここに、分散容器の容積の８０％のジリコニアビーズを混合した後、ピコミル分散容器に充填し、必要なリテンション時間にて分散させて各顔料分散液を調製した。  
【０１７８】
【表１】
0005605481.tif 000018
【０１７９】
［実施例１〜３、比較例１〜４］
上記で調製された顔料分散液と、表２に示す成分とを表２に示す割合で配合、攪拌してそれぞれ着色感光性組成物塗布液を調製した。得られた着色感光性組成物溶液を用いて、後述の方法により、略円柱状スペーサパターンを形成し、形状、段差、基板との密着性及び電圧保持率（ＶＨＲ）を評価した。結果を表２に併記した。
【０１８０】
［高さの異なる着色スペーサを一括形成する方法］  
表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基板の該ＩＴＯ膜上に、スピナーを用いて上記感光性組成物を塗布した。次いで、１１０℃にて７０ｓ、ホットプレート上で加熱乾燥して塗布膜を形成した。乾燥膜厚は３．５μｍであった。
得られた塗布膜に対し、直径１５μｍの円形パターンの完全透過開口部及び直径３５μｍの円形パターンの中間透過開口部を有する露光マスクを用いて露光処理を施した。中間透過開口部は、Ｃｒ酸化物の薄膜で波長３６５ｎｍにおける光透過率を１２．１％、４０５ｎｍにおける光透過率を１６．５％、４３６ｎｍにおける光透過率を１９．６％としたものである。尚、上記３点の前後及び間の光透過率は連続的であり、変曲点も存在しない。露光ギャップ（マスクと塗布面間の距離）としては、２５０μｍであった。
また、３６５ｎｍでの強度が３２ｍＷ／ｃｍ２である紫外線を用いた。露光量としては５０ｍＪ／ｃｍ２とした。また、紫外線照射は空気下で行った。次いで、２５℃の０．１％水酸化カリウム水溶液を用いて、最小現像時間の１．６倍の時間、スプレー現像を行い、更に純水でリンスした。１２０秒でも溶けないものは現像できないこととした。
これらの操作により、不要部分を除去したパターンを得た。当該パターンの形成された基板をオーブン中、２３０℃で２０分間加熱してパターンを硬化させ、略円柱状のスペーサパターンを得た。
【０１８１】
［着色スペーサパターンの形状計測］
上記略円柱状の着色スペーサパターンについて、着色スペーサパターンの中軸を通る縦断面をプロファイルし、着色スペーサパターンの高さと上、下底面の断面径を計測した。計測には、株式会社菱化システム製三次元非接触表面形状計測システムＭｉｃｒｏｍａｐＭＭ３５００−Ｍ１００を用いた。
【０１８２】
図１（Ａ）及び図１（Ｂ）は、上記略円柱状スペーサパターンの形状を説明するための図である。図１（Ａ）において、着色スペーサパターン１はガラス基板２上に凸状に形成されており、平面視略円形状の輪郭を有している。図１（Ｂ）は、図１（Ａ）の着色スペーサパターン１の中軸３を通るＸ−Ｘ断面図である。図１（Ｂ）において、着色スペーサパターン１は略矩形状の輪郭を有している。かかる輪郭を着色スペーサパターン１のプロファイル４とし、プロファイル４のパターン側面部４１とガラス基板２との交点を交点Ａ，Ａ’とする。ガラス基板２の表面からプロファイル４の最高位置の点までの距離がパターン高さＨであり、交点Ａと交点Ａ’との距離が下断面径Ｌである。
【０１８３】
［段差の評価］
完全透過開口部の着色スペーサパターンの高さと中間透過開口部の着色スペーサパターンの高さの差異（ΔＨ）が０．３５μｍ超過０．８μｍ以下のものを○、０．２５μｍ以上０．４μｍ以下のものを△、０．２５μｍ未満のものを×とした。結果を表２に示した。  
【０１８４】
［密着性の評価］  
上記のようにして、中間透過開口部のサイズが５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０μｍの中間透過開口部を２４個ずつ設けたマスクを使って、サイズの異なるパターンを２４個ずつ形成した。２４個のパターンが１個も消失しない、最も小さい中間透過開口部のサイズ（直径）を測定した。そのサイズが１５μｍ以下のものを○、１５μｍを超えるものを×とした。結果を表２に示した。
【０１８５】
［電圧保持率（ＶＨＲ）の評価］
以下で説明した方法により、電圧保持率（ＶＨＲ）の評価を行い、結果を表２に示した。
＜液晶セルの作製＞
５ｃｍ角の片全面にＩＴＯ膜を形成した電極基板Ａ（イーエッチシー製、評価用ガラスＩＴＯベタ）と、２．５ｃｍ角の同ガラス基板の片面中央部に、２ｍｍ幅の取り出し電極がつながった１ｃｍ角のＩＴＯ膜を形成した電極基板Ｂ（イーエッチシー製、評価用ガラスＳＺ−Ｂ１１１ＭＩＮ（Ｂ））を用意した。  
【０１８６】
電極基板Ａの上に、各着色感光性組成物溶液を塗布し、１分間真空乾燥後、ホットプレート上で１１０℃にて７０ｓプリベークし、乾燥膜厚３．５μｍの塗布膜を得た。その後、外縁部が２ｍｍマスキングして、それぞれ３ｋＷ高圧水銀を用い５０ｍＪ／ｃｍ２の露光条件にて画像露光を施した。次いで、２５℃の約０．１重量％の水酸化カリウム水溶液を用い、２５℃において水圧０．１５ＭＰａのシャワー現像を施した後、純水にて現像を停止し、水洗スプレーにてリンスした。シャワー現像時間は、１０〜１２０秒間の間で調整し、感光層が溶解除去される時間（ブレークタイム）の約１．６倍とした。１２０秒でも溶けないものは現像できないこととした。
【０１８７】
こうして画像形成された電極基板を２３０℃で２０分間ポストベークし、レジストが施された電極基板を得た（レジスト基板）。その後、レジスト基板にポリイミド溶液を塗布し、ホットプレート上で７０℃にて２分間プリベークし、２２０℃で２４分間ポストベークした。こうして得られたレジスト基板を２．５ｃｍ角の基板にカットし、評価用電極基板Ａを完成した。
【０１８８】
一方、電極基板Ｂの上にも、ポリイミド溶液を塗布し、ホットプレート上で７０℃にて２分間プリベークし、２２０℃で２４分間ポストベークし、評価用電極基板Ｂを完成した。
その後、電極基板Ｂの外周上に、ディスペンサーを用いて、直径５μｍのシリカビーズを含有するエポキシ樹脂系シール剤を塗布した後、電極基板Ｂの表側（シール剤側）に評価用電極基板Ａの塗布面を圧着したまま貼り付けて、空セルが完成した。熱風循環炉内で１８０℃で２時間加熱した。  
【０１８９】
こうして得られた空セルに、液晶（メルクジャパン社製ＭＬＣ−６６０８）を注入し、周辺部をＵＶ硬化型シール剤によって封止し、電圧保持率測定用液晶セルを完成した。
【０１９０】
＜電圧保持率（ＶＨＲ）の評価＞
上記液晶セルを、アニール処理（熱風循環炉内で１０５℃、２．５時間加熱）した後、評価用電極基板Ａ、Ｂに電圧５Ｖで、０．６Ｈｚ、フレーム時間１６６７ｍｓｅｃの条件で印加し、電圧保持率を（株）東陽テクニカ製「ＶＨＲ−６２５４型」にて測定した。  
【０１９１】
【表２】
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【０１９２】
表２の結果から、本発明の着色感光性組成物によれば、完全透過開口部と中間透過開口部パターンの形状の形成、段差のコントロール、密着性の良い、かつ液晶の電圧保持率に優れる着色スペーサを得ることが可能であり、高さの異なる着色スペーサを一括形成する方法に有用であることが分かる。
【０１９３】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２０１１年１０月２５日出願の日本特許出願（特願２０１１−２３３９００）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１９４】
本発明の着色感光性組成物は、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターにおいて、着色スペーサ等を形成する際に好適に用いられる着色感光性組成物であって、特にフォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサを一括形成する場合に、形状の形成、段差、密着性及び液晶の電気信頼性に優れる。本発明は、高品質なカラーフィルターや液晶表示装置等を提供することができる。
【図１】
0005605481.tif 000020