(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定方向に回転する磁気記録媒体側に向けて光束を伝播させる光束伝播素子と、
前記光束から前記磁気記録媒体側に近接場光を発生させる近接場光発生素子と、
前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与える記録素子と、を有し、
前記磁気記録媒体を前記近接場光によって加熱するとともに、前記磁気記録媒体に対して前記記録磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる近接場光ヘッドの製造方法であって、
前記光束伝播素子は、前記光束を反射させながら前記磁気記録媒体の方向に導くコアと、前記コアを挟み込むように封止する第１クラッド及び第２クラッドと、を有し、
前記第１クラッドを形成する第１クラッド形成工程と、
前記第１クラッドにおける前記第２クラッドが配される表面に、厚さ方向に沿って凹部を形成する凹部形成工程と、
前記凹部内に前記コアを形成するコア形成工程と、
前記凹部に形成された前記コアの露出面上に、前記近接場光発生素子を形成する近接場光発生素子形成工程と、
前記コアを封止するように、前記第１クラッドの前記表面側に前記第２クラッドを積層形成する第２クラッド形成工程と、
前記第２クラッドを間に挟んで前記コアの反対側に前記記録素子を配置する記録素子配置工程と、を有し、
前記コア形成工程は、
前記凹部内に液体状のコア材を、前記凹部との表面張力により前記コア材の露出面が前記凹部の開口面に対して湾曲するように充填する充填工程と、
前記コア材を硬化させて、前記露出面が前記開口面に対して湾曲形成された湾曲面となるように前記コアを形成する硬化工程と、を有し、
前記近接場光発生素子形成工程では、前記湾曲面上に前記近接場光発生素子を形成することを特徴とする近接場光ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記充填工程は、前記コア材の温度を調整することで前記コア材における前記凹部との表面張力を調整する表面張力調整工程を有していることを特徴とする請求項１記載の近接場光ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記表面張力調整工程では、前記コア材の前記露出面を前記開口面に対して凸状に湾曲させることを特徴とする請求項２記載の近接場光ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記表面張力調整工程では、前記コア材の前記露出面を前記開口面に対して凹状に湾曲させることを特徴とする請求項２記載の近接場光ヘッドの製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４の何れか１項に記載の近接場光ヘッドの製造方法を用いて製造された近接場光ヘッドにおいて、
前記湾曲面は前記開口面に対して凹状に湾曲形成されていることを特徴とする近接場光ヘッド。
【請求項６】
請求項５記載の近接場光ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと、
前記光束伝播素子に対して前記光束を入射させる光源と、
前記ビームの基端側を支持するとともに、前記ビームを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、
前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、
前記光源の作動を制御する制御部とを備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光束を集光した近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を記録再生する近接場光ヘッドの製造方法、近接場光ヘッド及び情報記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の容量増加に伴い、単一記録面内における情報の記録密度が増加している。例えば、磁気ディスクの単位面積当たりの記録容量を多くするためには、面記録密度を高くする必要がある。ところが、記録密度が高くなるにつれて、記録媒体上で１ビット当たりの占める記録面積が小さくなっている。このビットサイズが小さくなると、１ビットの情報が持つエネルギーが、室温の熱エネルギーに近くなり、記録した情報が熱揺らぎ等のために反転したり、消えてしまったりする等の熱減磁の問題が生じてしまう。
【０００３】
一般的に用いられてきた面内記録方式では、磁化の方向が記録媒体の面内方向に向くように磁気を記録する方式であるが、この方式では上述した熱減磁による記録情報の消失等が起こり易い。そこで、このような不具合を解消するために、記録媒体に対して垂直な方向に磁化信号を記録する垂直記録方式に移行しつつある。この方式は、記録媒体に対して、単磁極を近づける原理で磁気情報を記録する方式である。この方式によれば、記録磁界が記録膜に対してほぼ垂直な方向を向く。垂直な磁界で記録された情報は、記録膜面内においてＮ極とＳ極とがループを作り難いため、エネルギー的に安定を保ち易い。そのため、この垂直記録方式は、面内記録方式に対して熱減磁に強くなっている。
【０００４】
しかしながら、近年の記録媒体は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものが記録媒体として採用され始めている。そのため、上述した垂直記録方式であっても、記録媒体に情報を記録することが困難になっていた。
【０００５】
そこで、上述した不具合を解消するために、光を集光したスポット光、若しくは、光を集光した近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間に記録媒体への書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式の情報記録再生装置（記録再生ヘッド）が提供されている。特に、近接場光を利用する場合には、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。よって、従来の情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることができる。
【０００６】
近接場光を利用した記録再生ヘッド（近接場光ヘッド）は、主磁極及び補助磁極を有する電磁コイル素子と、光ファイバからレーザ光を受けることにより近接場光を発生させる近接場光発生層とを主に備えている（例えば、特許文献１，２参照）。これら各構成品は、被覆層によって覆われた状態で、ビームの先端に固定されたスライダの側面上に、補助磁極、主磁極、近接場光発生層の順で取り付けられている。なお、被覆層は、光ファイバから出射されたレーザ光を近接場光発生層に導くための光導波路的な役割を果たす層を含み、異なる材料で形成された層が積層された多層構造とされている。
【０００７】
このように構成された記録再生ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同時に記録磁界を印加することで、記録媒体に各種の情報を記録している。すなわち、光ファイバからレーザ光を照射すると、このレーザ光が被覆層を伝播した後、近接場光発生層に達する。すると近接場光発生層は、内部の自由電子がレーザ光の電場によって一様に振動させられるのでプラズモンが励起されて先端部分に近接場光を発生させる。その結果、記録媒体の磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時的に保磁力が低下する。また、レーザ光の照射と同時に、電磁コイル素子に駆動電流を供給することで、主磁極に近接する記録媒体の磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光の熱アシストと磁場との協働により、記録媒体への記録を行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−１６４９３５号公報
【特許文献２】特開２００７−１６４９３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、近接場光を用いて精密、かつ効率的な熱アシストを行うためには、近接場光発生層と主磁極（電磁コイル素子）との距離や、近接場光の光強度等の条件を所望の条件に設定する必要がある。
しかしながら、従来の記録再生ヘッドでは、上述した各条件を調整することが難しく、設計の自由度が低いという問題がある。
【００１０】
そこで、本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、設計の自由度を向上させ、近接場光発生素子と記録素子との距離や、近接場光の光強度等の条件を所望の条件に簡単に調整できる近接場光ヘッドの製造方法、近接場光ヘッド及び情報記録再生装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上述した課題を解決するために以下の手段を提供する。
本発明に係る近接場光ヘッドの製造方法は、一定方向に回転する磁気記録媒体側に向けて光束を伝播させる光束伝播素子と、前記光束から前記磁気記録媒体側に近接場光を発生させる近接場光発生素子と、前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与える記録素子と、を有し、前記磁気記録媒体を前記近接場光によって加熱するとともに、前記磁気記録媒体に対して前記記録磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる近接場光ヘッドの製造方法であって、前記光束伝播素子は、前記光束を反射させながら前記磁気記録媒体の方向に導くコアと、前記コアを挟み込むように封止する第１クラッド及び第２クラッドと、を有し、前記第１クラッドを形成する第１クラッド形成工程と、前記第１クラッドにおける前記第２クラッドが配される表面に、厚さ方向に沿って凹部を形成する凹部形成工程と、前記凹部内に前記コアを形成するコア形成工程と、前記凹部に形成された前記コアの露出面上に、前記近接場光発生素子を形成する近接場光発生素子形成工程と、前記コアを封止するように、前記第１クラッドの前記表面側に前記第２クラッドを積層形成する第２クラッド形成工程と、前記第２クラッドを間に挟んで前記コアの反対側に前記記録素子を配置する記録素子配置工程と、を有し、前記コア形成工程は、前記凹部内に液体状のコア材を、前記凹部との表面張力により前記コア材の露出面が前記凹部の開口面に対して湾曲するように充填する充填工程と、前記コア材を硬化させて、前記露出面が前記開口面に対して湾曲形成された湾曲面となるように前記コアを形成する硬化工程と、を有し、前記近接場光発生素子形成工程では、前記湾曲面上に前記近接場光発生素子を形成することを特徴とする。
【００１２】
この構成によれば、コア形成工程において、液体状のコア材を凹部内に充填することで、コア材における凹部からの露出面は凹部との表面張力により凹部の開口面に対して湾曲することになる。そして、この状態でコア材を硬化させることで、凹部の開口面に対して湾曲した湾曲面を有するコアを形成できる。この場合、コア材の表面張力によってコアの湾曲面の曲率半径が決定される。すなわち、コア上に配置される近接場光発生素子と記録素子との間の距離が湾曲面の曲率半径によって決定される。
また、コアを湾曲形成することで、コアを凹部の開口面と面一に形成する場合に比べて、湾曲面の法線方向と近接場光発生素子の面内方向との直交部分の面積（湾曲面と近接場光発生素子との界面の面積）を小さくできる。これにより、湾曲面と近接場光発生素子との界面において近接場光をより局在化させることができるので、近接場光の光強度を高めることができ、磁気記録媒体をより効率的に加熱できる。その結果、磁気記録密度の向上を図ることができる。この場合、上述したようにコア材の表面張力によってコアの湾曲面の曲率半径が決定されるので、湾曲面の法線方向と近接場光発生素子の面内方向との直交部分の面積が湾曲面の曲率半径によって決定される。すなわち、近接場光の光強度が湾曲面の曲率半径によって決定される。
このように、コア材の表面張力によって近接場光発生素子と記録素子との距離や、近接場光の光強度等の条件を製造段階で決定できるので、設計の自由度を向上させ、所望の条件の近接場光ヘッドを簡単に製造できる。
【００１３】
また、前記充填工程は、前記コア材の温度を調整することで前記コア材における前記凹部との表面張力を調整する表面張力調整工程を有していることを特徴とする。
この構成によれば、コア材を硬化させる前にコア材の温度を調整することで、コア材における凹部との表面張力を調整できる。すなわち、コアの湾曲面の曲率半径を製造段階で調整して、近接場光発生素子と記録素子との距離や、近接場光の光強度等の条件を所望の条件に設定できるので、設計の自由度をより向上できる。
【００１４】
また、前記表面張力調整工程では、前記コア材の前記露出面を前記開口面に対して凸状に湾曲させることを特徴とする。
この構成によれば、コア材の露出面を凹部の開口面に対して凸状に湾曲させることで、凹部から凸状に湾曲する湾曲面を有するコアを形成できる。この場合、コアを凹部の開口面と面一に形成する場合に比べて、近接場光発生素子と記録素子との間の距離を縮小できる。そのため、近接場光を記録素子に接近させた状態で発生させることができる。その結果、記録磁界が印加される場所と、近接場光により加熱される場所とが接近することにより、近接場光によって精密かつ効率的に熱アシストを行うことができ、磁気記録密度の向上を図ることができる。
また、コアを凹部の開口面と面一に形成する場合に比べて、湾曲面の法線方向と近接場光発生素子の面内方向との直交部分の面積を小さくできる。これにより、湾曲面と近接場光発生素子との界面において近接場光をより局在化させることができるので、近接場光の光強度を高めることができる。
【００１５】
また、前記表面張力調整工程では、前記コア材の前記露出面を前記開口面に対して凹状に湾曲させることを特徴とする。
この構成によれば、コア材の露出面を凹部の開口面に対して凹状に湾曲させることで、凹部から凹状に湾曲する湾曲面を有するコアを形成できる。この場合、第２クラッド形成工程において、第２クラッドが凹部内に入り込むことになる。そのため、コアを凹部の開口面と面一に形成する場合に比べて、凹部の開口面から記録素子までの距離（第２クラッドの厚さ）を縮小できる。すなわち、近接場光発生素子と記録素子との距離を変化させずに、第２クラッドの厚さを薄くできる。そのため、光伝播素子の薄型化を図り、ひいては近接場光ヘッドのコンパクト化を図ることができる。
また、コアを凹部の開口面と面一に形成する場合に比べて、露出面の法線方向と近接場光発生素子の面内方向との直交部分の面積を小さくできる。これにより、湾曲面と近接場光発生素子との界面において近接場光をより局在化させることができるので、近接場光の光強度を高めることができる。
【００１６】
また、本発明に係る近接場光ヘッドは、上記本発明の近接場光ヘッドの製造方法を用いて製造された記録再生ヘッドにおいて、前記湾曲面は前記開口面に対して凹状に湾曲形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、第２クラッドが凹部内に入り込むことになるので、コアを凹部の開口面と面一に形成する場合に比べて、凹部の開口面から記録素子までの距離（第２クラッドの厚さ）を縮小できる。すなわち、近接場光発生素子と記録素子との距離を変化させずに、第２クラッドの厚さを薄くできる。そのため、光伝播素子の薄型化を図り、ひいては近接場光ヘッドのコンパクト化を図ることができる。
【００１７】
また、本発明に係る情報記録再生装置は、上記本発明の近接場光ヘッドと、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと、前記光束導入手段に対して前記光束を入射させる光源と、前記ビームの基端側を支持するとともに、前記ビームを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、前記光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、上記本発明の近接場光ヘッドを備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る近接場光ヘッドの製造方法及び近接場光ヘッドによれば、近接場光発生素子と記録素子との距離や、近接場光の光強度等の条件を所望の条件に簡単に調整でき、精密で効率的な熱アシストを行うことができる。
本発明に係る情報記録再生装置によれば、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態における情報記録再生装置の構成図である。
【図２】第１実施形態における記録再生ヘッドの拡大断面図である。
【図３】第１実施形態における記録再生ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。
【図４】図３のＡ矢視図である。
【図５】図３のＢ矢視図である。
【図６】レーザ光源の周辺を拡大した図である。
【図７】記録再生ヘッドの製造方法を示す工程図であり、図５に相当する平面図である。
【図８】記録再生ヘッドの製造方法を示す工程図であり、図５に相当する平面図である。
【図９】情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図３に相当する拡大断面図である。
【図１０】第２実施形態における記録再生ヘッドの製造方法を示す工程図であり、図５に相当する平面図である。
【図１１】第２実施形態における記録再生ヘッドの拡大平面図である。
【図１２】第２実施形態の変形例における記録再生ヘッドの製造方法を示す工程図であり、図５に相当する平面図である。
【図１３】第２実施形態の変形例における記録再生ヘッドの拡大平面図である。
【図１４】第３実施形態における記録再生ヘッドの拡大断面図である。
【図１５】図１４のＥ矢視図である。
【図１６】情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図１４に相当する拡大断面図である。
【図１７】情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図１５に相当する拡大断面図である。
【図１８】第３実施形態の変形例を示す図１５に相当する拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
（第１実施形態）
次に、本発明の第１実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態の情報記録再生装置１は、垂直記録層ｄ２を有するディスク（磁気記録媒体）Ｄに対して、近接場光Ｒと記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式によりディスクＤに記録再生を行う装置である（図２参照）。
【００２１】
（情報記録再生装置）
図１は情報記録再生装置の構成図である。
本実施形態の情報記録再生装置１は、図１に示すように、記録再生ヘッド２と、記録再生ヘッド２を支持するビーム３と、記録再生ヘッド２にレーザ光（光束）Ｌ（図２参照）を入射させる光束入射機構４と、ビーム３を移動させるアクチュエータ５と、ディスクＤを一定方向に回転させるスピンドルモータ（回転駆動部）６と、上述した各構成品を総合的に制御する制御部８と、各構成品を内部に収容するハウジング９と、を備えている。
【００２２】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されているとともに、内側に各構成品を収容する凹部９ａが形成されている。また、このハウジング９には、凹部９ａの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部９ａの略中心には、スピンドルモータ６が取り付けられており、スピンドルモータ６に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定される。なお、本実施形態では、３枚のディスクＤがスピンドルモータ６に固定されている場合を例に挙げて説明している。但し、ディスクＤの数は３枚に限定されるものではない。
【００２３】
凹部９ａの隅角部には、アクチュエータ５が取り付けられている。このアクチュエータ５には、軸受１０を介してキャリッジ１１が取り付けられている。キャリッジ１１は、例えば金属材を切削加工によって形成されたものであり、軸受１０を介してアクチュエータ５に固定される基端部１１ａから先端に向かう部分が３枚のディスクＤの上面に配置されるように３層構造となっている。つまり、キャリッジ１１を側面から見た時に、Ｅ型になるように形成されている。そして、３層に分かれたキャリッジ１１の各先端には、ビーム３の基端側が固定されている。よって、アクチュエータ５は、キャリッジ１１を介してビーム３の基端側を支持しており、ビーム３をディスク面（磁気記録媒体の表面）Ｄ１に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させることができるようになっている。
【００２４】
ビーム３は、上述したようにアクチュエータ５によってキャリッジ１１とともにＸＹ方向に移動可能とされているとともに、ディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態で記録再生ヘッド２を先端側で支持している。なお、ビーム３及びキャリッジ１１は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ５の駆動によって、ディスクＤ上から退避するようになっている。
【００２５】
（記録再生ヘッド）
図２は記録再生ヘッドの拡大断面図であり、図３は記録再生ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。
記録再生ヘッド２は、図２，図３に示すように、レーザ光Ｌから生成した近接場光Ｒを利用して回転するディスクＤに各種の情報を記録再生するヘッドである。記録再生ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ浮上した状態でディスクＤに対向配置されたスライダ２０と、ディスクＤに情報を記録する記録素子２１と、ディスクＤに記録されている情報を再生する再生素子２２と、導入されたレーザ光Ｌから近接場光Ｒ（図９参照）を発生させる近接場光発生素子２６とを備えている。また、本実施形態の記録再生ヘッド２は、コア２３とクラッド２４とからなる光束伝播素子２５を備えている。
【００２６】
スライダ２０は、石英ガラス等の光透過性材料や、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等のセラミック等によって直方体状に形成されている。このスライダ２０は、ディスクＤに対向する対向面２０ａを有しており、ジンバル部３０（図２参照）を介してビーム３の先端にぶら下がるように支持されている。このジンバル部３０は、Ｘ軸回り及びＹ軸回りにのみ変位するように動きが規制された部品である。これによりスライダ２０は、上述したようにディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在とされている。
【００２７】
また対向面２０ａには、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸条部２０ｂが形成されている。この凸条部２０ｂは、長手方向（Ｘ方向）に沿って延びるように形成されており、レール状に並ぶように間隔を空けて左右（Ｙ方向）に２つ形成されている。但し、凸条部２０ｂはこの場合に限定されるものではなく、スライダ２０をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧とスライダ２０をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧とを調整して、スライダ２０を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸条部２０ｂの表面はＡＢＳ（Ａｉｒ  Ｂｅａｒｉｎｇ  Ｓｕｒｆａｃｅ）２０ｃと呼ばれている。
【００２８】
そしてスライダ２０は、この２つの凸条部２０ｂによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けている。一方、ビーム３はディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に撓むようになっており、スライダ２０の浮上力を吸収している。つまり、スライダ２０は、浮上した際にビーム３によってディスク面Ｄ１側に押さえ付けられる力を受けている。よってスライダ２０は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面Ｄ１から所定距離Ｈ離間した状態で浮上するようになっている。しかもスライダ２０は、ジンバル部３０によってＸ軸回り及びＹ軸回りに回動するようになっているので、常に姿勢が安定した状態で浮上するようになっている。
なお、ディスクＤの回転に伴って生じる空気流は、スライダ２０の流入端側（ビーム３のＸ方向基端側）から流入した後、ＡＢＳ２０ｃに沿って流れ、スライダ２０の流出端側（ビーム３のＸ方向先端側）から抜けている。
【００２９】
記録素子２１は、図３に示すように、ディスクＤに記録磁界を作用させて情報を記録する素子であって、スライダ２０の流出端側の側面（先端面）に固定された補助磁極３１と、磁気回路３２を介して補助磁極３１に接続され、ディスクＤに対して垂直な記録磁界を補助磁極３１との間で発生させる主磁極３３と、磁気回路３２を中心として磁気回路３２の周囲を螺旋状に巻回するコイル３４とを備えている。つまり、スライダ２０の流出端側から順に、補助磁極３１、磁気回路３２、コイル３４、主磁極３３が並んだ状態で配置されている。
【００３０】
両磁極３１、３３及び磁気回路３２は、磁束密度が高い高飽和磁束密度（Ｂｓ）材料（例えば、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金等）により形成されている。また、コイル３４は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路３２との間、両磁極３１、３３との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁体３５によってモールドされている。そして、コイル３４は、情報に応じて変調された電流が制御部８から供給されるようになっている。すなわち、磁気回路３２及びコイル３４は、全体として電磁石を構成している。なお、主磁極３３及び補助磁極３１は、ディスクＤに対向する端面（Ｚ方向端面）がスライダ２０のＡＢＳ２０ｃと面一となるように設計されている。
【００３１】
図４は図３のＡ矢視図であり、図５は図３のＢ矢視図である。
光束伝播素子２５は、図３から図５に示すように、レーザ光Ｌの入射側（Ｚ方向一端側）がスライダ２０の上方を向くとともに、出射側（Ｚ方向他端側）がディスクＤ側を向いた状態で、記録素子２１の主磁極３３のＸ方向側に隣接して固定されている。この光束伝播素子２５は、一端側から導入されたレーザ光ＬをディスクＤに対向する他端側に伝播させるコア２３と、コア２３に密着するクラッド２４とから構成されており、全体として略板状に形成されている。
【００３２】
コア２３は、一端側から他端側にかけて漸次絞り成形されており、レーザ光Ｌを内部で徐々に集光させながら伝播させることができるようになっている。具体的に、コア２３は一端側から反射面２３ａと、光束集光部２３ｂと、近接場光生成部２３ｇとを有し、レーザ光Ｌの光軸方向から見て扇形状に形成されている。なお、本実施形態のコア２３を形成する材料としては、紫外線硬化性の樹脂材料を用いることが好ましい。
【００３３】
反射面２３ａは、後述する光導波路４２から導入されたレーザ光Ｌを導入方向とは異なる方向に反射させるものである。本実施形態では、レーザ光Ｌの向きが略９０度変わるように反射させている。この反射面２３ａによって光導波路４２から導入されたレーザ光Ｌは、コア２３内で全反射を繰り返しながら他端側に向けて伝播する。
光束集光部２３ｂは、一端側から他端側に向かう長手方向（Ｚ方向）に直交する断面積（ＸＹ方向の断面積）が漸次減少するように絞り成形された部分であり、導入されたレーザ光Ｌを集光させながら他端側に向けて伝播させている。つまり、光束集光部２３ｂに導入されたレーザ光Ｌのスポットサイズを、徐々に小さいサイズに絞ることができるようになっている。
近接場光生成部２３ｇは、光束集光部２３ｂの端部から他端側に向けてさらに絞り成形された部分である。具体的には、コア２３の他端側の近傍において、内部を伝播するレーザ光Ｌの光軸（Ｚ方向）に対して傾斜した状態で再生素子２１に対向するように形成された傾斜面２３ｈによって絞り成形されている。この傾斜面２３ｈによって、コア２３は他端側が尖形した状態となっている。
【００３４】
なお、本実施形態では、光束集光部２３ｂ及び近接場光生成部２３ｇが３つの側面を有するように形成されており、そのうちの１つの側面がクラッド２４（基端側クラッド２４ａ）を間に挟んで主磁極３３に対向配置されるようになっている。この場合、主磁極３３との対向面が主磁極３３に向かって凸状に湾曲する湾曲面２３ｃに形成され、湾曲面２３ｃの周方向両端側から再生素子２２に向かって先細る平坦面２３ｄに形成されることで、コア２３はレーザ光Ｌの光軸方向から見て扇形状に形成されている。そのため、図５に示すように、近接場光生成部２３ｇの他端側で外部に露出する端面２３ｅが扇形状に形成されている。また、この端面２３ｅはスライダ２０のＡＢＳ２０ｃと面一となるように設計されている。なお、湾曲面２３ｃの曲率半径は、Ｒ０に形成されている。
【００３５】
クラッド２４は、図３，図４に示すように、コア２３よりも屈折率が低い材料で形成されており、コア２３の一端側と他端側の端面２３ｅとを外部に露出させた状態でコア２３の側面（湾曲面２３ｃ）に密着して、コア２３を内部に封止している。具体的に、クラッド２４は、コア２３と記録素子２１（主磁極３３）との間でコア２３の湾曲面２３ｃ側を覆うように形成された基端側クラッド（第２クラッド）２４ａと、コア２３と再生素子２２との間で平坦面２３ｄ側を覆うように形成された先端側クラッド（第１クラッド）２４ｂとを備えている。このように、基端側クラッド２４ａ及び先端側クラッド２４ｂがコア２３の側面に密着しているので、コア２３とクラッド２４との間に隙間が生じないようになっている。
【００３６】
図５に示すように、近接場光発生素子２６は、例えば金（Ａｕ）や白金（Ｐｔ）、アルミニウム（Ａｌ）等からなる金属膜であり、近接場光生成部２３ｇの湾曲面２３ｃ上に形成されている。すなわち、近接場光発生素子２６は、基端側クラッド２４ａを間に挟んで主磁極３３に対向配置されている。近接場発光素子２６は、コア２３内を伝播してきたレーザ光Ｌから近接場光Ｒを発生させ、近接場光Ｒを光束伝播素子２５の他端側とディスクＤとの間に局在化させるものである。なお、本実施形態において、近接場光発生素子２６と主磁極３３との間の距離はｄ０に設定されている。
また、本実施形態のレーザ光Ｌの偏光方向は、ディスクＤに対して平行な直線偏光となるように調整されている（図５中矢印Ｐ方向）。そのため、レーザ光Ｌの偏光方向は、近接場光生成部２３ｇにレーザ光Ｌが達したときに、近接場光発生素子２６の厚さ方向（Ｘ方向）に一致するようになっている。
【００３７】
ところで、図３に示すように、スライダ２０の上面（Ｚ方向一端側）には光導波路４２が固定されている。この光導波路４２は、コア４２ａとクラッド４２ｂとからなる２軸の導波路であり、コア４２ａ内をレーザ光Ｌが伝播するようになっている。光導波路４２の先端は、光束伝播素子２５のコア２３の一端側に接続されており、レーザ光Ｌを反射面２３ａに向けて出射させている。なお、コア４２ａ及びクラッド４２ｂは、上述したコア２３及びクラッド２４と同様の材料により構成されている。
【００３８】
一方、光導波路４２の基端側は、図１に示すように、ビーム３及びキャリッジ１１に沿って引き出された後、レーザ光源４３に接続されている。このレーザ光源４３は、図１，図６に示すように、キャリッジ１１の基端部１１ａの側面に取り付けられた制御基板４４上に図示しないＩＣチップ等の各種電子部品とともに実装されている。特にレーザ光源４３は、レーザ光Ｌを直線偏光の状態で出射するようになっている。すなわち、レーザ光源４３及び光導波路４２は、記録再生ヘッド２にレーザ光Ｌを直線偏光の状態で入射させる光束入射機構４として機能する。なお、図６はレーザ光源の周辺を拡大した図である。
レーザ光源４３が実装されている制御基板４４は、可撓性のフラットケーブル（フレキシブル基板）４５によって制御部８に接続されている。これにより制御部８は、各構成品に電気的な信号を送って総合的な制御を行っている。特にレーザ光源４３は、レーザ光Ｌを出射するタイミングが制御部８によって制御されている。
【００３９】
再生素子２２は、ディスクＤの垂直記録層ｄ２から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜であり、光束伝播素子２５を間に挟んで記録素子２１とは反対側のクラッド２４（先端側クラッド２４ｂ）の表面に形成されている。この再生素子２２には、図示しないリード膜等を介して制御部８からバイアス電流が供給されている。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行うことができるようになっている。
【００４０】
なお、本実施形態のディスクＤは、図２に示すように、少なくとも、ディスク面Ｄ１に垂直な方向に磁化容易軸を有する垂直記録層ｄ２と、高透磁率材料からなる軟磁性層ｄ３との２層で構成される垂直２層膜ディスクＤを使用する。このようなディスクＤとしては、例えば、基板ｄ１上に、軟磁性層ｄ３と、中間層ｄ４と、垂直記録層ｄ２と、保護層ｄ５と、潤滑層ｄ６とを順に成膜したものを使用する。
基板ｄ１としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。軟磁性層ｄ３は、高透磁率層である。中間層ｄ４は、垂直記録層ｄ２の結晶制御層である。垂直記録層ｄ２は、垂直異方性磁性層となっており、例えばＣｏＣｒＰｔ系合金が使用される。保護層ｄ５は、垂直記録層ｄ２を保護するためのもので、例えばＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜が使用される。潤滑層ｄ６は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
【００４１】
（記録再生ヘッドの製造方法）
次に、上述した記録再生ヘッドの製造方法について説明する。なお、以下の説明では、上述した記録再生ヘッド２のうち、主として光束伝播素子２５の製造方法について説明する。図７，図８は、図５に相当する平面を示しており、記録再生ヘッドの製造方法を説明するための工程図である。
まず図７（ａ）に示すように、再生素子２２上に先端側クラッド２４ｂを形成する（第１クラッド形成工程）。そして、先端側クラッド２４ｂにおけるコア２４の形成領域に、後に基端側クラッド２４ａが配される表面の厚さ方向に沿って切り込まれた凹部２４ｃを形成する（凹部形成工程）。具体的に、凹部２４ｃは、先端側クラッド２４ｂのコア２４形成領域にウェットエッチングや、イオンエッチング、ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）、ナノインプリント、プレス加工等を施すことで形成できる。上述のような方法を用いることで、先端側クラッド２４ｂ上にＶ字状の凹部２４ｃを形成する。なお、この凹部２４ｃは、図３に示すように、先端側クラッド２４ｂの一端側から他端側に向かうにつれ深さが浅くなるように形成する。これにより、後に凹部２４ｃ内に形成されるコア２３のＸＹ方向の断面積が一端側から他端側に向かうにつれ絞り成形されることになる。
【００４２】
次に、先端側クラッド２４ｂの凹部２４ｃ内にコア２３を形成する（コア形成工程）。
まず、図７（ｃ）に示すように、凹部形成工程で形成された凹部２４ｃ内に例えば噴射法やスピンコート法等を用い、後にコア２３となる液体状のコア材５０を充填する（充填工程）。なお、上述した噴射法を用いてコア材５０を充填する場合は、ノズルから凹部２４ｃ内に向けて直接コア材５０を充填していく。これにより、凹部２４ｃ内のみに高精度にコア材５０を充填できる。また、スピンコート法を用いてコア材５０を充填する場合は、コア材５０を凹部２４ｃ及び凹部２４ｃ以外の部位（先端側クラッド２４ｂの表面）に塗布した後、再生素子２２及び先端側クラッド２４ｂを回転させることで、凹部２４ｃ以外の部位に形成されたコア材５０を飛散させ、凹部２４ｃ内のみにコア材５０を残存させる。これにより、製造コストを低減した上で、コア材５０を凹部２４ｃ内のみに高精度に充填できる。なお、この状態でコア材５０の温度はＴ０となっている。
【００４３】
ここで、凹部２４ｃ内に充填されたコア材５０の表面（凹部２４ｃからの露出面）は、凹部２４ｃ（先端側クラッド２４ｂ）との表面張力により凹部２４ｃの開口面（先端側クラッド２４ｂにおける基端側クラッド２４ａとの対向面）から盛り上がる凸状の湾曲面（露出面）５０ａを有している。すなわち、凹部２４ｃ内面とコア材５０との付着力をＷ、コア材５０の温度がＴ０の時の表面張力をＳ０とすると、コア材５０の分子間力Ａ０（Ａ０＝Ｓ０ｃｏｓθ０）が付着力Ｗよりも大きくなっている（Ａ０＞Ｗ）。この状態で、コア材５０の湾曲面５０ａの曲率半径はＲ０、先端側クラッド２４ｂの表面から湾曲面５０ａの突出部分の高さはｈ０となっている。
【００４４】
次に、図７（ｄ）に示すように、コア材５０に対して紫外線を照射することで、凹部２４ｃ内に充填されたコア材５０を硬化させる（硬化工程）。これにより、凹部２４ｃの内面に倣って形成された平坦面２３ｄと、凹部２４ｃの開口面から凸状に湾曲した湾曲面２３ｃ（曲率半径Ｒ０、高さｈ０）とを有するコア２３を形成できる。
【００４５】
そして、図８（ａ）に示すように、コア２３の湾曲面２３ｃ上に蒸着法等を用いてＡｌ等からなる金属膜を形成し、パターニングすることで、近接場光生成部２３ｇの湾曲面２３ｃ上に近接場光発生素子２６を形成する。
次いで、図８（ｂ）に示すように、コア２３の湾曲面２３ｃを被覆するように基端側クラッド２４ａを形成する（第２クラッド形成工程）。これにより、先端側クラッド２４ｂと基端側クラッド２４ａとの内部に、コア２３が密着した状態で封止された光束伝播素子２５を形成できる。
【００４６】
続いて、図８（ｃ）に示すように、基端側クラッド２４ａを間に挟んで近接場光発生素子２６に対向するように主磁極３３を形成する。その後、図示しないが磁気回路３２、コイル３４及び補助磁極３１を形成し、これらを絶縁体３５によってモールドする。これにより、再生素子２２上に光束伝播素子２５、近接場光素子２６及び記録素子２１が形成される。この状態で、スライダ２０の側面に記録素子２１を固定することで、記録再生ヘッド２を形成できる。なお、上述した説明では、再生素子２２上に記録素子２１まで形成した後に、スライダ２０の側面に固定する場合について説明したが、再生素子２２上に光束伝播素子２５までを形成する一方、スライダ２０の側面に記録素子２１を形成し、これらを組み合わせても構わない。
【００４７】
（情報記録再生方法）
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
まず、図１に示すように、スピンドルモータ６を駆動させてディスクＤを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ５を作動させて、キャリッジ１０を介してビーム３をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、ディスクＤ上の所望する位置に記録再生ヘッド２を位置させることができる。この際、記録再生ヘッド２は、スライダ２０の対向面２０ａに形成された２つの凸条部２０ｂによって浮上する力を受けるとともに、ビーム３等によってディスクＤ側に所定の力で押さえ付けられる。記録再生ヘッド２は、この両者の力のバランスによって、図２に示すようにディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する。
【００４８】
また、記録再生ヘッド２は、ディスクＤのうねりに起因して発生する風圧を受けたとしても、ビーム３によってＺ方向の変位が吸収されるとともに、ジンバル部３０によってＸＹ軸回りに変位することができるようになっているので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、記録再生ヘッド２を安定した状態で浮上させることができる。
【００４９】
図９は情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図３に相当する拡大断面図である。
ここで、図９に示すように、情報の記録を行う場合、制御部８はレーザ光源４３を作動させて直線偏光のレーザ光Ｌを出射させるとともに、情報に応じて変調した電流をコイル３４に供給して記録素子２１を作動させる。
まず、レーザ光源４３からレーザ光を光導波路４２に入射させて、レーザ光Ｌをスライダ２０側に導く。レーザ光源４３から出射されたレーザ光Ｌは、光導波路４２のコア４２ａ内を先端（流出端）側に向かって進み、光束伝播素子２５のコア２３内に伝播する。コア２３内に伝播したレーザ光Ｌは、反射面２３ａで略９０度反射された後、光束集光部２３ｂ内を伝播する。光束集光部２３ｂを伝播するレーザ光Ｌは、ディスクＤ側に位置する他端側に向かってコア２３とクラッド２４との間で全反射を繰り返しながら伝播する。特に、コア２３の側面にはクラッド２４が密着しているので、コア２３の外部に光が漏れることはない。よって、導入されたレーザ光Ｌを無駄にすることなく絞りながら他端側に伝播させて、近接場光発生素子２６に入射させることができる。
この際、コア２３は、一端側から他端側に向かう長手方向（Ｚ方向）に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形されている。そのため、レーザ光Ｌは光束集後部２３ｂ内を伝播するにしたがって徐々に絞り込まれてスポットサイズが小さくなる。
【００５０】
スポットサイズが小さくなったレーザ光Ｌは、続いて、近接場光生成部２３ｇに入射する。すると、レーザ光Ｌは、露出部２３ｆの近接場光発生素子２６に入射する。これにより、近接場光発生素子２６には表面プラズモンが励起される。励起された表面プラズモンは、共鳴効果によって増強されながら近接場光発生素子２６とコア２３（近接場光生成部２３ｇ）との界面に沿いながら、コア２３の他端側に向かって伝播する。そして、他端側に達した時点で、光強度の強い近接場光Ｒとなって外部に漏れ出す。つまり、光束伝播素子２５の他端側とディスクＤとの間に近接場光Ｒを局在化させることができる。するとディスクＤは、この近接場光Ｒによって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。
【００５１】
ここで、コア２３（近接場光生成部２３ｇ）における主磁極３３との対向面は湾曲面２３ｃに形成されている。そのため、主磁極３３との対向面が平坦面に形成されている場合に比べて、レーザ光Ｌの偏光方向（図５中矢印Ｐ）と近接場光発生素子２６の面内方向との直交部分の面積（湾曲面２３ｃと近接場光発生素子２６との界面の面積（接触面積））を小さくすることができる。これにより、湾曲面２３ｃと近接場光発生素子２６との界面において近接場光Ｒをより局在化させることができるので、近接場光Ｒの光強度を高めることができ、ディスクＤをより効率的に加熱できる。
【００５２】
一方、制御部８によってコイル３４に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路３２内に磁界を発生させるので、主磁極３３と補助磁極３１との間にディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、主磁極３３側から発生した磁束が、ディスクＤの垂直記録層ｄ２を真直ぐ通り抜けて軟磁性層ｄ３に達する。これによって、垂直記録層ｄ２の磁化をディスク面Ｄ１に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。また、軟磁性層ｄ３に達した磁束は、軟磁性層ｄ３を経由して補助磁極３１に戻る。この際、補助磁極３１に戻るときには磁化の方向に影響を与えることはない。これは、ディスク面Ｄ１に対向する補助磁極３１の面積が、主磁極３３よりも大きいので磁束密度が大きく磁化を反転させるほどの力が生じないためである。つまり、主磁極３３側でのみ記録を行うことができる。
【００５３】
その結果、近接場光Ｒによる熱アシストと両磁極３１、３３で発生した記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００５４】
また、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、ディスクＤの保磁力が一時的に低下している時に、再生素子２２がディスクＤの垂直記録層ｄ２から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子２２の電圧が変化する。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部８は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、ディスクＤに記録されている情報の再生を行うことができる。
なお、記録再生を行わない場合には、レーザ光源４３の作動を停止させる。
【００５５】
したがって、本実施形態によれば、コア形成工程において、液体状のコア材５０を凹部２４ｃ内に充填することで、コア材５０における凹部２４ｃからの露出面は凹部２４ｃとの表面張力Ｓ０により凹部２４ｃの開口面に対して湾曲することになる。
そして、この状態でコア材５０を硬化させることで、凹部２４ｃの開口面に対して湾曲した湾曲面２３ｃを有するコア２３を形成できる。この場合、コア材５０の表面張力Ｓ０によってコア２３の湾曲面２３ｃの曲率半径Ｒ０が決定される。すなわち、コア２３上に配置される近接場光発生素子２６と記録素子２１との間の距離が湾曲面２３ｃの曲率半径によって決定される。
【００５６】
これにより、コア２３における主磁極３３との対向面が平坦面に形成されている場合に比べて、近接場光発生素子２６と主磁極３３との間の距離ｄ０を縮小できるため、近接場光Ｒを主磁極３３に接近させた状態で発生させることができる。その結果、記録磁界が印加される場所と、近接場光Ｒにより加熱される場所とが接近することにより、近接場光Ｒによって精密かつ効率的に熱アシストを行うことができ、磁気記録密度の向上を図ることができる。
また、上述したようにコア２３を湾曲形成することで、コア２３における主磁極３３との対向面が平坦面に形成されている場合に比べて、近接場光Ｒの光強度を高めることができ、ディスクＤをより効率的に加熱できる。その結果、磁気記録密度の向上を図ることができる。この場合、上述したようにコア材５０の表面張力Ｓ０によってコア２３の湾曲面２３ｃの曲率半径Ｒ０が決定されるので、レーザ光Ｌの偏光方向（図５中矢印Ｐ）と近接場光発生素子２６の面内方向との直交部分の面積が湾曲面２３ｃの曲率半径Ｒ０によって決定される。すなわち、近接場光Ｒの光強度が湾曲面２３ｃの曲率半径によって決定される。
【００５７】
このように、コア材５０の表面張力Ｓ０によって近接場光発生素子２６と主磁極３３との距離ｄ０や、近接場光Ｒの光強度等の条件を製造段階で決定できるので、設計の自由度を向上させ、所望の条件の記録再生ヘッド２を簡単に製造できる。そのため、精密で効率的な熱アシストを行うことができる。
そして、本発明の情報記録再生装置１は、上述した記録再生ヘッド２を備えているので、情報の記録再生を正確且つ高密度に行うことができ、高品質化を図ることができる。
【００５８】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。図１０は、第２実施形態におけるコア形成工程を説明するための工程図である。本実施形態では、上述したコア形成工程において、湾曲面２３ｃの曲率半径を調整する方法について説明する。そのため、以下の説明では、コア形成工程を主に説明し、第１実施形態と同様の構成については説明を省略する。なお、図中鎖線Ｃは、温度Ｔ０におけるコア材５０の湾曲面５０ａを示している。
図１０に示すように、充填工程の終了後、コア材５０を冷却して、第１実施形態のコア材５０の温度Ｔ０よりも低い温度Ｔ１に調整する（Ｔ０＞Ｔ１）。これにより、コア材５０の表面張力Ｓ１が温度Ｔ０の場合の表面張力Ｓ０よりも大きくなり（Ｓ１＞Ｓ０）、コア材５０が凹部２４ｃの開口面から大きく盛り上がる。すなわち、コア材５０における温度Ｔ１の場合の分子間力Ａ１は、温度Ｔ０の場合の分子間力Ａ０よりも大きくなる（Ａ１＞Ａ０）ため、コア材５０の分子間力Ａ１（Ａ１＝Ｓ１ｃｏｓθ１）が付着力Ｗよりもさらに大きくなる（Ａ１＞Ｗ）。その結果、湾曲面５０ａの曲率半径Ｒ１が第１実施形態の曲率半径Ｒ０よりも小さくなるとともに（Ｒ０＞Ｒ１）、湾曲面５０ａの高さｈ１も高くなる（ｈ０＜ｈ１）。
【００５９】
そして、コア材５０の温度をＴ１に保持した状態でコア材５０を硬化した後、上述した第１実施形態と同様の工程を経ることで、図１１に示すように、曲率半径Ｒ１及び高さｈ１の湾曲面２３ｃを有する記録再生ヘッド１００を形成できる。
【００６０】
この構成によれば、コア材５０を硬化させる前にコア材５０の温度を調整することで、コア材５０と凹部２４ｃとの表面張力を調整できる。すなわち、コア２３の湾曲面２３ｃの曲率半径や高さを製造段階で調整できるので、近接場光発生素子２６と主磁極３３との距離や、近接場光Ｒの光強度等の条件を所望の条件に設定できる。その結果、設計の自由度を向上できる。
ここで、上述したように第１実施形態に比べて湾曲面２３ｃの高さｈ１を高くすることで、第１実施形態に比べて近接場光発生素子２６を主磁極３３に接近させることができる（図１１中距離ｄ１）ので、より精密かつ効率的に熱アシストを行うことができる。
また、湾曲面２３ｃの曲率半径も小さくすることができるので、第１実施形態に比べてレーザ光Ｌの偏光方向と近接場光発生素子２６の面内方向との直交部分の面積をより小さくできる。これにより、湾曲面２３ｃと近接場光発生素子２６との界面において近接場光Ｒをより局在化させることができるので、近接場光Ｒの光強度を高めることができ、ディスクＤをより効率的に加熱できる。
【００６１】
（変形例）
図１２は、第２実施形態の変形例におけるコア形成工程を説明するための工程図である。上述した第２実施形態では、表面張力調整工程において、コア材５０の分子間力Ａ１を大きくするために、コア材５０を冷却する方法について説明したが、コア材５０を加熱して分子間力Ａ２を小さくすることも可能である。
具体的には、図１２に示すように、充填工程の終了後、ホットプレートやオーブン等の加熱装置に再生素子２２ごと搬送し、コア材５０の温度を第１実施形態のコア材５０の温度Ｔ０より高い温度Ｔ２に調整する（Ｔ２＞Ｔ０）。これにより、コア材５０の表面張力Ｓ２が温度Ｔ０の場合の表面張力Ｓ０よりも小さくなり（Ｓ０＞Ｓ２）、コア材５０が凹部２４ｃの開口面から窪むように凹状に湾曲する。すなわち、コア材５０における温度Ｔ２の場合の分子間力Ａ２は、温度Ｔ０の場合の分子間力Ａ０よりも小さくなる（Ａ０＞Ａ２）ため、コア材５０の分子間力Ａ２（Ａ２＝Ｓ２ｃｏｓθ２）が付着力Ｗよりも小さくなる（Ａ２＜Ｗ）。この場合、湾曲面５０ａの曲率半径がＲ２になるとともに、湾曲面５０ａの高さ（先端側クラッド２４ｂの表面からの深さ）がｈ２となる。
【００６２】
そして、コア材５０の温度をＴ２に保持した状態でコア材５０を硬化した後、上述した第１実施形態と同様の工程を経ることで、図１３に示すように、曲率半径Ｒ２及び高さｈ２の湾曲面２３ｃを有する記録再生ヘッド１５０を形成できる。
【００６３】
この構成によれば、上述した第２実施形態と同様の効果を奏するとともに、湾曲面２３ｃが先端側クラッド２４ｂの表面に対して凹状に形成されているので、基端側クラッド２４ａの形成工程において、基端側クラッド２４ａが凹部２４ｃ内（コア２３の湾曲面２３ｃの内側）に入り込むことになる。そのため、コア２３を平坦面に形成する場合に比べて、凹部２４ｃの開口面から主磁極３３までの距離（基端側クラッド２４ａの厚さ）を縮小できる。すなわち、近接場光発生素子２６と主磁極３３との距離ｄ０を変化させずに、基端側クラッド２３ａの厚さを薄くできる。そのため、記録再生ヘッド１５０のＸ方向における長さを短縮して、小型化を図ることができる。
また、近接場光発生素子２６との対向面が湾曲面２３ｃとなるため、上述した実施形態と同様に、湾曲面２３ｃと近接場光発生素子２６との界面において近接場光Ｒをより局在化させ、近接場光Ｒの光強度を高めることができる。
【００６４】
（第３実施形態）
（記録再生ヘッド）
次に、本発明の第３実施形態について説明する。図１４は第３実施形態における記録再生ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図であり、図１５は図１４のＥ矢視図である。第３実施形態では、近接場光発生素子２６と主磁極３３との間に空間部を設ける点で上述した第１実施形態と相違している。
図１４，図１５に示すように、本実施形態の記録再生ヘッド２００は、光束伝播素子２５における基端側クラッド２４ａの他端側（スライダ２０のＡＢＳ２０ｃ側）の端面から一端側に向けて刳り貫かれた切欠き部２４ｄが形成されている。この切欠き部２４ｄは、スライダ２０の幅方向（図１５中Ｙ方向）中央部、すなわちコア２３の湾曲面２３ｃと主磁極３３とが対向する領域において、基端側クラッド２４ａの他端側の端面から近接場光生成部２３ｇのＺ方向における長さと同等の深さで形成されている。これにより、光束伝播素子２５の他端側において、近接場光発生素子２６と主磁極３３との間に空間部５１が形成されるとともに、近接場光生成部２３ｇの湾曲面２３ｃ（近接場光発生素子２６）が切欠き部２４ｄ内に向けて露出する露出部２３ｆが形成される。この場合、近接場光発生素子２６と主磁極３３とは、Ｘ方向において間隔ｄ０を挟んで対向配置されることになる。    
【００６５】
なお、本実施形態の記録再生ヘッドを製造する場合には、上述した第２クラッド形成工程において、近接場光発生素子２６を露出させるように基端側クラッド２４ａをパターニングすればよい。
【００６６】
（情報記録再生方法）
次に、本実施形態の記録再生ヘッドを用いた記録再生方法について説明する。図１６，図１７は情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図１６は図１４に相当する拡大断面図、図１７は図１５に相当する拡大平面図である。なお、以下の説明では、記録再生時における空間部５１の作用について主に説明する。
図１６，図１７に示すように、光束伝播素子２５（コア２３）にレーザ光Ｌが導入されると、近接場光発生素子２６や光束伝播素子２５はレーザ光Ｌの熱により加熱される。すると、この温度変化に伴って露出部２３ｆは、主磁極３３側に向けて突出するように熱膨張し、近接場光発生素子２６を主磁極３３側に接近させるようになっている。これにより、レーザ光Ｌを導入した作動状態での近接場光発生素子２６と主磁極３３との間の間隔ｄ３は、レーザ光Ｌを導入していない初期状態での間隔ｄ０に比べて狭くなる。そのため、近接場光Ｒをより主磁極３３に接近させた状態で発生させることができる。
【００６７】
また、露出部２３ｆは湾曲面２３ｃに形成されているため、露出部２３ｆが熱膨張することで、露出部２３ｆの曲率半径Ｒ３は初期状態の露出部２３ｆの曲率半径Ｒ０に比べて小さくなる（Ｒ０＞Ｒ３）。そのため、レーザ光Ｌの偏光方向（図１７中矢印Ｐ）と近接場光発生素子２６の面内方向との直交部分の面積（露出部２３ｆと近接場光発生素子２６との界面の面積（接触面積））を小さくすることができる。これにより、露出部２３ｆと近接場光発生素子２６との界面において近接場光Ｒをより局在化させることができるので、近接場光Ｒの光強度を高めることができ、ディスクＤをより効率的に加熱できる。
【００６８】
ところで、近接場光発生素子２６が主磁極３３の近傍に配置され続けると、近接場光Ｒ発生時の熱によって主磁極３３の磁気特性が変化し、磁気記録性能に悪影響を与える虞がある。
これに対して、本実施形態では、露出部２３ｆ（近接場光発生素子２６）と主磁極３３との間に空間部５１が形成されているため、近接場光発生素子２６で発生した熱は、大気に効率的に放熱されることになる。よって、近接場光発生素子２６で発生した熱が主磁極３３側まで伝達されるのを抑制できる。また、レーザ光源４３が停止されると、近接場光発生素子２６の温度が速やかに低下する。そして、この温度変化に伴って光束伝播素子２５が収縮することで、近接場光発生素子２６と主磁極３３との間隔が拡大して、初期状態の間隔ｄ０に復元する。これにより、近接場光発生素子２６で発生した熱が主磁極３３側まで伝達されるのを確実に抑制できる。
【００６９】
このように、本実施形態によれば、上述した第１実施形態と同様の効果を奏するとともに、まず記録再生時（レーザ光Ｌの導入時）において、近接場光Ｒの熱により露出部２３ｆが熱膨張することで、近接場光発生素子２６を主磁極３３に接近させることができる。これにより、近接場光Ｒをより主磁極３３側に接近させた状態で発生させることができる。この場合、ディスクＤ上において記録磁界が印加される場所と近接場光Ｒにより加熱される場所とが接近するので、精密かつ効率的に熱アシストを行うことができ、磁気記録密度の向上を図ることができる。
【００７０】
一方で、記録再生停止時（レーザ光Ｌの未導入時）において、近接場光発生素子２６で発生した熱は空間部５１内（大気）へ効率的に放熱されることで、近接場光発生素子２６の温度が速やかに低下し、露出部２３ｆが収縮する。これにより、近接場光発生素子２６が主磁極３３から間隔ｄ０まで離間するので、近接場光発生素子２６の熱が主磁極３３側まで伝達されるのを抑制できる。これにより、熱による主磁極３３の磁気特性の低下を抑制して、長寿命化を実現できる。
その結果、近接場光Ｒの熱による影響を抑制するとともに、近接場光Ｒによって精密で効率的な熱アシストを行うことができる。また、切欠き部２４ｄを設けるだけの簡単な構成であるため、製造コストの増加を抑制した上で、長寿命化を実現できる。
【００７１】
（変形例）
なお、図１８に示すように、上述した第２実施形態の変形例における凹状の湾曲面２３ｃを有する記録再生ヘッド２５０に切欠き部を設けても構わない。
この場合には、露出部２３ｆが予め先端側クラッド２４ｂに対して凹状に形成されているので、上述した第２実施形態の変形例と同様に近接場光発生素子２６と主磁極３３との距離ｄ０を変化させずに、基端側クラッド２３ａの厚さを薄くできる。そのため、記録再生ヘッド２５０のＸ方向における長さを短縮して、小型化を図ることができる。
【００７２】
なお、本発明の技術範囲は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、上述した実施形態で挙げた構成等はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
例えば、上述の実施形態では、記録再生ヘッドを浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面に対向配置されていればディスクと記録再生ヘッドとが接触していても構わない。つまり、本発明の記録再生ヘッドは、コンタクトスライダタイプの記録再生ヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。
【００７３】
また、第３実施形態において、コア２３の全体を湾曲面に形成する必要はなく、露出部２３ｆのみを湾曲させたり、主磁極３３に向けて突出させたりしても構わない。
また、上述した実施形態において、コア２３に入射するレーザ光Ｌの光強度を制御することで、コア２３の温度を調整でき、コア２３（露出部２３ｆ）の熱膨張程度を調整することも可能である。これにより、記録再生時における近接場光発生素子２６と主磁極３３との間隔ｄ１をコントロールすることが可能である。すなわち、記録の都合により、近接場光発生素子２６を自由自在に主磁極３３に接近させることができるので、主磁極３３に対して所望の位置で精密かつ効率的に熱アシストを行うことができ、磁気記録密度の向上を図ることができる。また、光強度の制御のみの簡単な構造であるため、コスト増の抑制を図った上で、長寿命化を実現できる。
【００７４】
光束伝播素子２５のコア２３が一端側から他端側に向けて漸次絞り成形されている場合を例に挙げたが、この場合に限られず、ストレートに形成されていても構わない。また、コア２３とクラッド２４とをそれぞれ異なる材料で一体的に形成した光束伝播素子２５を例に挙げたが、中空状に形成しても構わない。この場合には、中空となった空気部分がコアとなり、その周囲を囲んでいる部分がクラッドとなる。このように構成された光束伝播素子であっても、レーザ光Ｌを伝播させて近接場光発生素子２６に入射させることができる。
【００７５】
また、上述した実施形態では、再生素子２２側から光伝播素子を形成する場合について説明したが、これに限らず、記録素子２１側から形成しても構わない。この場合には、記録素子２１の主磁極３３上に基端側クラッド（第１クラッド）を形成し、この基端側クラッドに凹部を形成する。そして、この凹部内にコア材を充填することで、再生素子側に湾曲面を有するコアを形成できる。その後、先端側クラッド（第２クラッド）及び近接場光発生素子を形成し、先端側クラッド上に再生素子２２を形成する。
この構成においても、近接場光発生素子の形成面を湾曲面に形成できるので、光強度の高い近接場光を発生させることができる。
【００７６】
さらに、上述した実施形態では、光伝播素子に樹脂材料を用いた場合について説明したが、これに限らず、石英や酸化タンタルシリコン等を用いても構わない。
また、上述した実施形態では、本発明の記録再生ヘッド２をディスクＤに対して垂直な記録磁界を与える垂直磁気記録方式に採用する場合について説明したが、これに限らず、ディスクＤに対して水平な記録磁界を与える面内記録方式に採用しても構わない。
【符号の説明】
【００７７】
１…情報記録再生装置  ２，１００，１５０，２００，２５０…記録再生ヘッド（近接場光ヘッド）  ３…ビーム  ５…アクチュエータ  ６…スピンドルモータ（回転駆動部）  ８…制御部  ２０…スライダ  ２１…記録素子  ２３…コア  ２４…クラッド  ２４ａ…基端側クラッド（第２クラッド）  ２４ｂ…先端側クラッド（第１クラッド）  ２４ｃ…凹部  ２４ｄ…切欠き部  ２５…光束伝播素子  ２６…近接場光発生素子  ４３…レーザ光源（光源）  ５０…コア材  ５０ａ…湾曲面（露出面）  Ｄ…ディスク（磁気記録媒体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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