(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
（Ｂ）エチレンオキシド構造を分子中に１〜２ｍｏｌ有する、オルトフェニルフェノールアクリレート、および
（Ｃ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
を含むハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）４０〜５０質量部、オルトフェニルフェノールアクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、ジアクリレート（Ｃ）１０〜２０質量部含むことを特徴とする導電性積層体。
【請求項２】
前記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）
【化１】
0005490954.tif 000010
（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｒ１は、ＨまたはＣＨ２ＯＨであり、Ｒ２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２〜５であり、ｍは０〜５である。］
で示される、請求項１記載の導電性積層体。
【請求項３】
前記ハードコート層の屈折率が１．５６５〜１．５７５である、請求項１または２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
前記ハードコート層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびインジウム−スズ酸化物の総含有量がハードコート層中の０．０００１質量％以下である、請求項１〜３いずれかに記載の導電性積層体。
【請求項５】
前記導電層の厚さが５〜１００ｎｍである、請求項１〜４いずれかに記載の導電性積層体。
【請求項６】
ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、色差調整層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
（Ｂ）エチレンオキシド構造を分子中に１〜２ｍｏｌ有する、オルトフェニルフェノールアクリレート、および
（Ｃ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
を含むハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）４０〜５０質量部、オルトフェニルフェノールアクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、ジアクリレート（Ｃ）１０〜２０質量部含み、
前記色差調整層が、硬化性樹脂（ｉ）および平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子（ｉｉ）または平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属フッ化物粒子（ｉｉｉ）のいずれか一方または両方を含有する組成物から形成され、
粒子（ｉｉ）および（ｉｉｉ）の総質量は、硬化樹脂（ｉ）１００質量部に対して０〜２００質量部であり、
導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光を照射した場合における反射率（Ｒ１）、および、導電性積層体を１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に４０℃で３分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光を照射した場合における反射率（Ｒ２）とした場合に、Ｒ１およびＲ２の差ΔＲが１以下である、
ことを特徴とする導電性積層体。
【請求項７】
前記導電層の上部に、補助電極層が存在し、導電層と補助電極層の総膜厚が２０〜５００ｎｍである請求項１または６記載の導電性積層体。
【請求項８】
ポリカーボネート基材のハードコート層がない方の面上に、アンチブロッキング層が形成され、
前記アンチブロッキング層が、不飽和二重結合含有アクリル共重合体である第１成分および多官能性アクリレートである第２成分を含み、
第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差ΔＳＰが１〜２の範囲であるアンチブロッキング層形成組成物から形成され、
前記アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第１成分と第２成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸が形成される
ことを特徴とする請求項１または６記載の導電性積層体。
【請求項９】
請求項１〜８いずれかに記載の導電性積層体からなるタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層および導電層を積層した導電性積層体、特に高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、且つポリカーボネート基材との優れた密着力を発揮するハードコート層を有する導電性積層体、およびそれを用いるタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（液晶ディスプレイ）は、薄型、軽量、低消費電力などの利点を有しており、コンピュータ、ワードプロセッサ、テレビジョン、携帯電話、携帯情報端末機器等の様々な分野で使用されている。またこれらの液晶表示装置において、画面上の表示を押さえることによって機器を操作する機構を有する、いわゆるタッチパネルが急速に普及している。このようなタッチパネルは、その優れた操作性により、例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットＰＣ、携帯情報端末機器、銀行ＡＴＭ、自動販売機、携帯情報端末（ＰＤＡ）、複写機、ファクシミリ、ゲーム機、博物館およびデパートなどの施設に設置される案内表示装置、カーナビゲーション、マルチメディアステーション（コンビニエンスストアに設置される多機能端末機）、鉄道車両のモニタ装置などにおいて広く用いられている。
【０００３】
タッチパネルにおいては、一般に、透明基材上に設けられた透明導電層を有する透明導電性積層体が一般に用いられている。透明導電層の形成は、一般に、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）などが用いられている。
【０００４】
透明導電層を有するフィルムを構成する基材フィルムとしては、透明性の高さおよび価格などの点から、ＰＥＴフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのフィルムが用いられることが多い。そしてこれらの基材フィルムには、耐擦傷性および耐久性などを向上させることを目的として、透明ハードコート層が設けられることがある。一方で、透明基材フィルム上に透明ハードコート層を設けることによって、干渉縞が発生するという問題がある。この干渉縞の発生は、視認性の低下をもたらす。
【０００５】
干渉縞の発生は、本発明者等はすでに特願２０１２−０７９７５５号や特願２０１２−０７９７５６号によりハードコーティング組成物を提案して、屈折率がポリカーボネート基材に近いもの提供し、解消した。これら２件の特許出願は、本発明を特許出願する時点ではまだ公開されていないものであるが、更に改良することが必要になった。
【０００６】
ポリカーボネート基材は、通常、ハードコート層を形成し、更に必要に応じて導電層も形成した状態で一旦保管されることが多い。その場合、保護フィルムをハードコート層上あるいは導電層上に形成して保管される。その後、保護フィルムを剥がして使用するのであるが、保護フィルムを剥がすときに、保護フィルムだけが剥がれることが望まれる。しかし、実際には、ハードコート層やその他の層がポリカーボネート基材から剥がれてしまって保護フィルムに付着することが生じることがある。これは、当然、望まれることではなく、改善が必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特願２０１２−０７９７５５号
【特許文献２】特願２０１２−０７９７５６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記の問題点を解決することを課題とする。より特定すれば、本発明は、これまで本発明者等が開発したハードコート層を有する導電性積層体において、ハードコート層とポリカーボネート基材との密着性を向上することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
（Ｂ）エチレンオキシド構造を分子中に１〜２ｍｏｌ有する、オルトフェニルフェノールアクリレート、および
（Ｃ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
を含むハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）４０〜５０質量部、オルトフェニルフェノールアクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、ジアクリレート（Ｃ）１０〜２０質量部含むことを特徴とする導電性積層体を提供するものであり、これにより上記課題が解決される。
【００１０】
前記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）
【化１】
0005490954.tif 000002
（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｒ１は、ＨまたはＣＨ２ＯＨであり、Ｒ２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２〜５であり、ｍは０〜５である。］
で示されるものが好適である。
【００１１】
前記ハードコート層の屈折率は、好ましくは１．５６５〜１．５７５である。
【００１２】
前記ハードコート層は、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびインジウム−スズ酸化物の総含有量がハードコート層中の０．０００１質量％以下であるのが好ましい。
【００１３】
前記導電層の厚さは、５〜１００ｎｍであるのが好ましい。
【００１４】
本発明は、また、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、色差調整層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
（Ｂ）エチレンオキシド構造を分子中に１〜２ｍｏｌ有する、オルトフェニルフェノールアクリレート、および
（Ｃ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
を含むハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）４０〜５０質量部、オルトフェニルフェノールアクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、ジアクリレート（Ｃ）１０〜２０質量部含み、
前記色差調整層が、硬化性樹脂（ｉ）および平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子（ｉｉ）または平均一次粒子径１００ｎｍ以下の金属フッ化物粒子（ｉｉｉ）のいずれか一方または両方を含有する組成物から形成され、
粒子（ｉｉ）および（ｉｉｉ）の総質量は、硬化樹脂（ｉ）１００質量部に対して０〜２００質量部であり、
導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光を照射した場合における反射率（Ｒ１）、および、導電性積層体を１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に４０℃で３分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光を照射した場合における反射率（Ｒ２）とした場合に、Ｒ１およびＲ２の差ΔＲが１以下である、
ことを特徴とする導電性積層体も提供する。
【００１５】
前記導電層の上部には、補助電極層が存在し、導電層と補助電極層の総膜厚が２０〜５００ｎｍであるものが好ましい。
【００１６】
ポリカーボネート基材のハードコート層がない方の面上には、アンチブロッキング層が形成され、
そのアンチブロッキング層が、不飽和二重結合含有アクリル共重合体である第１成分および多官能性アクリレートである第２成分を含み、
第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差ΔＳＰが１〜２の範囲であるアンチブロッキング層形成組成物から形成され、
前記アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第１成分と第２成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸が形成されるのが好ましい。
【００１７】
本発明は、さらに上記に記載の導電性積層体からなるタッチパネルも提供する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の導電性積層体は、特定組成のハードコーティング組成物をポリカーボネート基材に塗布することにより形成されるハードコート層を有している。本発明のハードコート層は、良好な硬度を有すると共に、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明のハードコート層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、ポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明におけるハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点がある。
【００１９】
本発明のハードコート層は、金属酸化物などの高屈折率剤を含まなくても屈折率が高いことを特徴とする。そのため、得られるハードコート層は、硬度および屈折率が高いことに加えて、高い伸長性を有するという特徴がある。
【００２０】
本発明のハードコート層を形成するハードコーティング組成物は、ビスフェノール骨格を有するジアクリレート（Ｃ）を含むことから、同じビスフェノール骨格を有するポリカーボネート基材へ優れた濡れ性を発揮し、またオルトフェニルフェノールアクリレート（Ｂ）がポリカーボネート基材表面に進入することにより優れた密着力を有するという特徴がある。
【００２１】
上記ハードコーティング組成物を用いることによって、ポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に透明ハードコート層を形成した場合であっても、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、加えてポリカーボネート基材に対して優れた密着力を有するハードコート層が提供されるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】エッチング処理された透明導電性積層体を示す概略説明図である。
【図２】実施例９のハードコート層の波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。
【図３】比較例？？のハードコート層の波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の導電性積層体は、ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、色差調整層および導電層が積層された、導電性積層体である。尚、色差調整層は、形成されない場合も本発明に含まれるが、便宜上色差調整層が存在する態様について説明する。また、各層の形成順序も必ずしもこの順序に特定されないが、説明を簡単にするため、この順序で形成する態様について説明する。更に、本発明の導電性積層体は、基本的に透明な導電性積層体として用いられる場合が多いと考えるが、必ずしも透明である態様に限定されず、導電層などは不透明なものであっても本発明の範囲に含まれる。以下、本発明の導電性積層体を構成する各層について説明する。
【００２４】
ポリカーボネート基材
本発明の導電性積層体に用いるポリカーボネート基材としては、透明であるものが一般的であるが、上述のように本発明の導電性積層体は透明で無いものもふくまれるので、必ずしも透明でなくても良い。透明の場合、光学的に複屈折の少ないもの、あるいは位相差を波長（例えば５５０ｎｍ）の１／４（λ／４）や波長の１／２（λ／２）に制御したもの、さらには複屈折をまったく制御していないものを、用途に応じて適宜選択することができる。ここで言うように用途に応じて適宜選択を行う場合としては、例えば液晶ディスプレイに使用する偏光板や位相差フィルム、インナー型のタッチパネルのように、直線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光によって機能を発現するディスプレイと共に、本発明の透明導電性積層体を用いる場合をあげることができる。
【００２５】
ポリカーボネート基材の屈折率は、その構成モノマーによって変化するが、通常は１．５以上１．６未満程度である。また、ポリカーボネートフィルムの位相差R（550）は0〜160nmであって、下記式（１）、（２）を満たすフィルムであることが望ましい。
０．６０＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１．２０ （１）
０．８０＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．４０ （２）
（但し、Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）およびＲ（６５０）は夫々、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差である。） 
ポリカーボネート基材の屈折率は、好ましくは１．５６以上１．６０未満を満たすフィルムであることが望ましい。さらに好ましくは、屈折率１．５７以上１．５９未満であって、位相差R（550）は0〜１０nmであって、下記式（３）、（４）を満たすフィルムであることが望ましい。
１．０１＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１．２０ （３）
０．８０＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜０．９９ （４）
【００２６】
ポリカーボネート基材の厚さは適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性などの点より１０〜５００μｍ程度であり、特に２０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。
【００２７】
ハードコート層
本発明の導電性積層体が有するハードコート層は、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレー
ト、
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１〜２ｍｏｌ有する、モノ
またはポリ（メタ）アクリレート化合物、および
（Ｃ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート、
を含むハードコーティング組成物を塗装して硬化させることによって得られたハードコー
ト層である。ここで、上記ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部
に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）４０〜５０質量部、オルトフェニルフェノールアクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、ジアクリレート（Ｃ）１０〜２０質量部含まれることを条件とする。
【００２８】
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリ
レート
上記ハードコーティング組成物は、（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレートを含む。ハードコーティング組成物がフェノールノボラック型アクリレート（Ａ）を含むことによって、得られるハードコート層が、透明であり、かつ、高い硬度を有する高屈折率層となる。これにより、干渉縞の発生を効果的に防ぐことができる。
【００２９】
フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）
【００３０】
【化２】
0005490954.tif 000003
（Ｉ）
【００３１】
［式（Ｉ）中、Ｒ１は、ＨまたはＣＨ２ＯＨであり、Ｒ２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２〜５であり、ｍは０〜５である。］
で示される、フェノールノボラック型アクリレートであるのが好ましい。上記式（Ｉ）中、ｎは２〜４でありｍは０〜３であるであるのがより好ましく、ｎは２〜４でありｍは０〜１であるのがさらに好ましい。
【００３２】
フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の重量平均分子量は、４００〜２５００であるのが好ましく、４５０〜２０００であるのがさらに好ましい。また、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の水酸基価は、１００〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇであるのが好ましく、１２０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇであるのがさらに好ましい。
【００３３】
本明細書において、各成分の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によって測定することができる。重量平均分子量の測定においては、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）などの高速ＧＰＣ装置などを用いることができる。ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）を用いた、重量平均分子量の具体的な測定条件として、試験サンプル２ｇを秤量し、真空乾燥機内にて４０℃２時間処理し水分を除去した後、ＴＨＦ溶液にて０．２％の濃度となるように希釈し、カラム注入量：１０μｌ、流速：０．３５ｍｌ/ｍｉｎの条件で測定する態様が挙げられる。
【００３４】
上記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、４０〜５０質量部含まれることを条件とする。フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が４０質量部未満である場合、得られるハードコート層の硬度が低くなる不具合があり、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が５０質量部を超える場合は、ポリカーボネートフィルムなどの透明高分子基材との密着力が低くなる不具合がある。
【００３５】
（Ｂ）エチレンオキシド構造を分子中に１〜２ｍｏｌ有する、オルトフェニルフェノールアクリレート 
本発明のハードコーティング組成物は、（Ｂ）エチレンオキシド構造を分子中に１〜２ｍｏｌ有する、オルトフェニルフェノールアクリレートを含む。このアクリレート（Ｂ）は、粘度３００ｍＰａ・ｓ未満であり、かつ屈折率が１．５６〜１．６４の範囲内であるのが好ましい。
【００３６】
成分（Ｂ）の（メタ）アクリレートにおいて、エチレンオキシド構造が分子中に１〜２ｍｏｌ含まれることによって、成分（Ｂ）の粘度を３００ｍＰａ・ｓ未満に設計することが可能となる。また、成分（Ｂ）のアクリレートにおいて、エチレンオキシド構造が分子中に１〜２ｍｏｌ含まれることによって、得られるハードコート層の伸長性が向上することとなる。
【００３７】
成分（Ｂ）のオルトフェニルフェノールアクリレートはさらに、その分子構造より例えば１．５６〜１．６４の範囲の屈折率というような、高屈折率が達成されることとなる。
【００３８】
成分（Ｂ）の屈折率は、ＪＩＳ  Ｋ００６２に準拠した方法により、アッベ屈折率計によって測定することができる。
【００３９】
成分（Ｂ）の粘度は、３００ｍＰａ・ｓ未満であるのが好ましい。成分（Ｂ）の粘度が３００ｍＰａ・ｓを超える場合は、組成物の硬化反応性が劣ることとなり、得られるハードコート層の硬度が低くなるという問題がある。成分（Ｂ）の粘度は１〜３００ｍＰａ・ｓの範囲であるのがより好ましく、１〜２００ｍＰａ・ｓの範囲であるのがさらに好ましい。
【００４０】
成分（Ｂ）の粘度の測定は、Ｂ型粘度計（ＴＶＢ−２２Ｌ  東機産業株式会社製）によって測定することができる。Ｂ型粘度計として、例えば、ＴＶＢ−２２Ｌ（東機産業株式会社製）などが挙げられる。
【００４１】
成分（Ｂ）は、重量平均分子量が１５０〜６００の範囲内であるのが好ましく、２００〜４００の範囲内であるのがより好ましい。
【００４２】
本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、成分（Ｂ）は２５〜３５質量部含まれることを条件とする。上記（メタ）アクリレート（Ｂ）が上記質量範囲でハードコーティング組成物中に含まれることによって、得られるハードコート層が高硬度かつ高屈折率となる利点がある。成分（Ｂ）の量が２５質量部より少ない場合、得られるハードコート層とポリカーボネートフィルムなどの透明高分子基材との密着力が低下する不具合があり、成分（Ｂ）の量が３５質量部を超える場合は、経時にてハードコート層からの析出物が発生してしまう不具合がある。
【００４３】
（Ｃ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
本発明のハードコーティング組成物は、（Ｃ）アルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレートを含む。このアクリレート（Ｃ）は、ビスフェノール骨格を含有することでポリカーボネートフィルムなどポリカーボネート基材との濡れ性を向上させ、ハードコート層との密着力を高める利点がある。ジアクリレート（Ｃ）の具体例は、ビスフェノールＡをエチレンオキシドで鎖延長し、それに（メタ）アクリル酸を反応したものが挙げられる。
【００４４】
本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、成分（Ｃ）は１０〜２０質量部含まれることを条件とする。成分（Ｃ）の量が１０質量部より少ない場合は、ポリカーボネートフィルムなどの透明高分子基材との密着力が低下する不具合があり、成分（Ｃ）の量が２０質量部を超える場合は、得られるハードコート層の屈折率が低下し、視認性を損なう不具合がある。
【００４５】
他の（メタ）アクリレート類
本発明のハードコーティング組成物は、上記成分（Ａ）〜（Ｃ）に加えて、他の（メタ）アクリレート類を含んでもよい。このような（メタ）アクリレート類として、例えば、多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマー化合物が挙げられる。これらの多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマー化合物は、ハードコーティング組成物を塗装した後の活性エネルギー線の照射により、（メタ）アクリロイル基の反応に基づく硬化反応が生じ、高硬度を有するハードコート層が得られるという利点がある。
【００４６】
多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマー化合物は、（メタ）アクリロイル基を３つ以上有するものが好ましい。（メタ）アクリロイル基を３つ以上有することによって、活性エネルギー線照射後に、高硬度を有するハードコート層が得られるという利点がある。
【００４７】
多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマー化合物の具体例として、例えば、ヒドロキシプロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、およびこれらのオリゴマーなどが挙げられる。これらのモノマーまたはオリゴマーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００４８】
ハードコーティング組成物が、他の（メタ）アクリレート類を含む場合は、ハードコーティング組成物に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、１〜３０質量部の範囲であるのが好ましく、１〜２５質量部の範囲であるのがより好ましい。
【００４９】
光重合開始剤など
本発明のハードコーティング組成物は光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤が存在することによって、紫外線などの活性エネルギー線照射により樹脂成分が良好に重合することとなる。光重合開始剤の例として、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤などが挙げられる。アルキルフェノン系光重合開始剤として、例えば２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤として、例えば２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系光重合開始剤として、例えば、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。オキシムエステル系重合開始剤として、例えば、１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、オキシフェニル酢酸、２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステル、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルなどが挙げられる。これらの光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、また２種以上を併用してもよい。
【００５０】
上記光重合開始剤のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１および２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどがより好ましく用いられる。
【００５１】
光重合開始剤の好ましい量は、上記成分（Ａ）、（Ｂ）および他の（メタ）アクリレート類（これらを合わせて「樹脂成分」という。）１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１０質量部である。
【００５２】
本発明で用いられるハードコーティング組成物は、溶媒を含んでもよい。溶媒は、特に限定されるものではなく、組成物中に含まれる成分、塗装される基材の種類および組成物の塗装方法などを考慮して適時選択することができる。用いることができる溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒；などが挙げられる。これらの溶媒を単独で使用してもよく、また２種以上を併用して使用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒およびケトン系溶媒が好ましく使用される。
【００５３】
本発明のハードコーティング組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。このような添加剤として、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤などの常用の添加剤が挙げられる。
【００５４】
上記ハードコーティング組成物は、上記構成によって、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２またはインジウム−スズ酸化物などの金属酸化物からなる高屈折率剤などを含ませなくても、高い屈折率を有するハードコート層を形成することができることに特徴がある。そのため、上記ハードコーティング組成物は、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびインジウム−スズ酸化物からなる群から選択される金属酸化物などの高屈折率剤を含まないのが好ましい。より詳しくは、上記ハードコーティング組成物を用いて形成されるハードコート層中に含まれる、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびインジウム−スズ酸化物の総含有量がハードコート層中の０．０００１質量％以下であるのが好ましい。金属酸化物などの高屈折率剤が、ハードコート層中に存在する場合は、樹脂成分のみの層と比較して、一般に伸長性および耐屈曲性が劣ることとなるためである。
【００５５】
上記ハードコーティング組成物を用いて形成されるハードコート層は、ハードコート層としての良好な硬度を有すると共に、１．５６５〜１．６２０という高い屈折率を有することを特徴とする。ハードコート層がこのように高い屈折率を有しているため、透明導電性積層体において干渉縞の発生を良好に抑制することができるという利点がある。
【００５６】
上記ハードコーティング組成物を用いて設けられるハードコート層は、高い視認性および良好な硬度といったハードコート層において求められる性能に加えて、高い伸長性とポリカーボネート基材に対する高い密着性を有することも特徴とする。そしてこの伸長性の高さによって、透明な導電性積層体の視認性が飛躍的に向上するという利点がある。透明導電性積層体の製造において、透明導電層を設けるための加工処理時において、ハードコート層を有する基材フィルムに部分的負荷が生じる傾向がある。例えば、ハードコート層を有する基材フィルムにおいて、部分的負荷がかかることによって、ハードコート層と基材フィルムとの間における熱収縮率・熱膨張率の相違に基づくフィルムのうねり・よれが生じることがある。これらのフィルムのうねり・よれが、ＩＴＯなどの透明導電層が存在する部分と存在しない部分とが視覚的に区別される視認性低下をもたらすこととなる。これは、タッチパネルなどにおいて視認性を大きく低下することとなる。
【００５７】
本発明において用いられるハードコーティング組成物を用いて設けられるハードコート層は、高い視認性および良好な硬度といったハードコート層において求められる性能に加えて、高い伸長性を有することを特徴とする。本発明におけるハードコート層が高い伸長性を有することによって、透明導電層を設ける段階における加熱などにより、基材フィルムが局所的に熱膨張した場合であっても、ハードコート層が良好に追随し、その結果、ＩＴＯなどの透明導電層が存在する部分と存在しない部分とが視覚的に区別される視認性低下の不具合が解消されるという利点がある。また、本発明の導電性積層体は保護フィルムとの密着性が高く、導電性積層体が保護フィルムで保護され、その保護フィルムを剥離するときに、保護フィルムの接着力に負けてハードコート層やその上の導電層が保護フィルムに付着してしまう現象がなくなる。
【００５８】
ハードコート層は、ポリカーボネート基材上に、上記のハードコーティング組成物を塗布することにより形成される。ハードコーティング組成物の塗布方法は、ハードコーティング組成物および塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）などにより塗布することができる。
【００５９】
ハードコート層の厚みは、特に制限されるものではなく、種々の要因を考慮して適時設定することができる。例えば、０．０１〜２０μｍのハードコート層が得られるようにハードコーティング組成物を塗布することができる。ハードコート層が色差調整に用いられる場合には、光学干渉を起こす膜厚で塗布されても良い。
【００６０】
ハードコーティング組成物の塗布により得られた塗膜を硬化させることによって、ハードコート層が形成される。この硬化は、必要に応じた波長の活性エネルギー線を発する光源を用いて照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線として、例えば露光量０．１〜１．５Ｊ／ｃｍ２の光、好ましくは０．３〜１．５Ｊ／ｃｍ２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば３６０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。
【００６１】
本発明のハードコート層は、配合面から成分（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合計量８５重量部に対して、メチルイソブチルケトンを１５質量部添加した溶液をポリカーボネート基材に滴下した際の接触角が１０〜３０°、好ましくは１５〜２５°、より好ましくは２０〜２５°である。この範囲内にあると、ポリカーボネート基材への混層にアンカー効果の発現力が高く、良好な密着力が発揮され、またアンカー効果が高すぎず、ハードコート層の白化を発生させない。このように配合を整えることも、ハードコーティング組成物の形成に重要である。
【００６２】
色差調整層
本発明の導電性積層体は、ハードコート層の上に色差調整層を形成してもよい。色差調整層は、ハードコート層と透明導電層の間に存在するのが好ましい。色差調整層は、１層であってもよく、２層またはそれ以上からなる層であってもよい。色差調整層は、層間の密着性および透明導電性積層体の光学特性（透過率および色調など）を改良する層である。
【００６３】
本発明において、この色差調整層は、
硬化樹脂成分（ｉ）、そして
平均一次粒子径１００ｎｍ以下である金属酸化物粒子（ii）および／または平均一次粒子径１００ｎｍ以下である金属フッ化物粒子（iii）
を含む層である。ここで、色差調整層中における粒子（ii）および（iii）の総質量は、硬化樹脂成分（ｉ）１００質量部に対して０〜２００質量部の範囲内であることを条件とする。
【００６４】
上記硬化樹脂成分（ｉ）として、紫外線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂を用いることができる。本発明における色差調整層は、硬化樹脂成分（ｉ）として、紫外線硬化型樹脂を用いるのがより好ましい。
【００６５】
紫外線硬化型樹脂は、紫外線硬化性能を有するモノマーを含む組成物によって得ることができる。紫外線硬化性能を有するモノマーとしては、例えば、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、変性スチレンアクリレート、メラミンアクリレート、シリコン含有アクリレートなどの単官能および多官能アクリレートが挙げられる。
【００６６】
具体的なモノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性アクリレート、イソシアヌール酸アルキレンオキサイド変性アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリプロピレングリコールトリアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エポキシ変性アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートなどのウレタン変性アクリレート、エポキシ変性アクリレートなどの多官能モノマーが挙げられる。これらのモノマーは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６７】
これらの紫外線硬化性能を有するモノマーの中でも、ウレタン変性アクリレートが好ましい。ウレタン変性アクリレートは市販品を使用することができ、例えば、日本合成化学工業（株）製の紫光シリーズ、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂなど；根上工業（株）製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３など；新中村化学工業（株）製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ６Ｈ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩなど；ダイセル・ユーシービー（株）製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えば、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、 ４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０など；荒川化学工業（株）製のビームセットシリーズ、例えば、３７１、３７１ＭＬＶ、３７１Ｓ、５７７、５７７ＢＶ、５７７ＡＫなど；三菱レイヨン（株）製のＲＱシリーズなど；ＤＩＣ（株）製のユニディックシリーズなど；ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＣＮ９００６、ＣＮ９６８（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）などを用いることができる。
【００６８】
硬化樹脂成分（ｉ）が、紫外線硬化型樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物が光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤として、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾイルベンゾエート、チオキサンソンなどの、一般的に用いられる光重合開始剤を用いることができる。
【００６９】
色差調整層を形成する組成物はさらに、光増感剤を含んでもよい。光増感剤として、例えば、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなどの一般的に用いられる光増感剤を用いることができる。
【００７０】
色差調整層を形成する組成物はさらに、各種アルコキシシランの加水分解物を含んでもよい。
【００７１】
硬化樹脂成分（ｉ）が、熱硬化性樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物は、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのシラン化合物をモノマーとしたオルガノシラン系熱硬化性モノマー、エーテル化メチロールメラミンなどをモノマーとしたメラミン系熱硬化性モノマー、イソシアネート系熱硬化性モノマー、フェノール系熱硬化性モノマー、エポキシ系熱硬化性モノマー、などの熱硬化性モノマーを含んでもよい。これらの熱硬化性モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記熱硬化性モノマーに加えて、必要に応じた熱可塑性樹脂成分を含んでもよい。
【００７２】
硬化樹脂成分（ｉ）が、熱硬化性樹脂である場合は、色差調整層を形成する組成物は、反応促進剤または硬化剤を含むのが好ましい。反応促進剤としては、例えば、トリエチレンジアミン、ジブチル錫ジラウレート、ベンジルメチルアミン、ピリジンなどが挙げられる。硬化剤としては、例えば、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。
【００７３】
本発明において、色差調整層は、上記硬化樹脂成分（ｉ）に加えて、平均一次粒子径１００ｎｍ以下である金属酸化物粒子（ii）および／または平均一次粒子径１００ｎｍ以下である金属フッ化物粒子（iii）が含まれる。そしてこれらの粒子（ii）および（iii）の総質量は、硬化樹脂成分（ｉ）１００質量部に対して０〜２００質量部の範囲内であることを条件とする。粒子（ｉi）および（iii）の総質量は、所望の光学特性を得るために（ｉ）、（ii）、(iii)それぞれの屈折率に応じ適宜調整できるが、硬化後の膜強度の観点から硬化樹脂成分（ｉ）１００質量部に対して０〜１５０質量部の範囲内であるのが好ましく、０〜１００質量部の範囲内であるのがより好ましい。
【００７４】
色差調整層中における粒子（ii）および（iii）の総質量が２００質量部を超える場合は、層間密着性が劣る不具合がある。
【００７５】
上記金属酸化物粒子（ii）の具体例として、例えば、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびインジウム−スズ酸化物などが挙げられる。これらの金属酸化物粒子（ii）は何れも、高屈折率を有することを特徴とする。そのため、金属酸化物粒子（ii）が含まれる色差調整層は、基本的には、高屈折率層となる。この金属酸化物粒子（ii）として、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２が、より好ましく用いられる。金属酸化物粒子（ii）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
なお、上述の通り、これらの金属酸化物粒子（ii）は、いずれも、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることを条件とする。平均一次粒子径が１００ｎｍを超える場合は、色差調整層形成時に粒子の凝集等により、視認可能なサイズとなりやすいため、ヘイズ値が上昇するまたは異物状の外観欠点となるなどの不具合がある。本明細書において、平均一次粒子径は、粒子をｎ−ＢｕＯＨ等の溶媒に分散した液体を粒度分布計で測定した時の５０％体積粒子径を表す。
【００７７】
上記金属フッ化物粒子（iii）を構成する金属の具体例として、例えば、カルシウム、バリウム、マグネシウム、ストロンチウムなどが挙げられる。これらの金属の中でも、マグネシウムであるのがより好ましい。これらの金属フッ化物粒子（iii）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、必要に応じて、上記金属フッ化物粒子（iii）とＳｉＯ２とを組みあわせて用いてもよい。
【００７８】
これらの金属フッ化物粒子（iii）は何れも、低屈折率を有することを特徴とする。そのため、金属フッ化物粒子（iii）が含まれる色差調整層は、基本的には、低屈折率層となる。なお、上述の通り、これらの金属フッ化物粒子（iii）は、いずれも、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることを条件とする。平均一次粒子径が１００ｎｍを超える場合は、色差調整層形成時に粒子の凝集等により、視認可能なサイズとなりやすいため、ヘイズ値が上昇するまたは異物状の外観欠点となるなどの不具合がある。
【００７９】
本発明における色差調整層は、１層で構成されていてもよく、２層以上で構成されていてもよい。例えば色差調整層が１層である場合は、上記金属酸化物粒子（ii）を含む高屈折率層であるのが好ましい。他の態様として、例えば、上記金属酸化物粒子（ii）および金属フッ化物粒子（iii）の両方を含む態様が挙げられる。色差調整層が１層である場合における色差調整層の厚さは、３０〜３００ｎｍであるのが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましい。
【００８０】
また、例えば色差調整層が２層である場合は、上記金属酸化物粒子（ii）を含む高屈折率層および上記金属フッ化物粒子（iii）を含む低屈折率層からなる２層構造であるのが好ましい。この場合においては、ハードコート層と高屈折率層とが接する態様であるのがより好ましい。色差調整層が一層の高屈折率層および一層の低屈折率層からなる２層で構成される場合は、色差調整層全体の厚さは、３０〜３００ｎｍであるのが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍであるのがより好ましい。
【００８１】
色差調整層の形成は、例えば、紫外線硬化性能を有するモノマー、そして上記金属酸化物粒子（ii）および／または金属フッ化物粒子（iii）を含む組成物を、ハードコート層を有する透明高分子基材のハードコート層上に塗装し、次いで、紫外線などの活性エネルギー線を照射して硬化させることによって形成することができる。あるいは、熱硬化性モノマー、そして上記金属酸化物粒子（ii）および／または金属フッ化物粒子（iii）を含む組成物を、ハードコート層を有する透明高分子基材のハードコート層上に塗装し、次いで加熱硬化させることによって形成することができる。
【００８２】
色差調整層が２層である場合の一例として、まず、金属酸化物粒子（ii）を含む組成物をハードコート層上に塗装して硬化させた後、金属フッ化物粒子（iii）を含む組成物を塗装して硬化させることによって、２層からなる色差調整層を形成することができる。
【００８３】
色差調整層が２層である場合の他の一例として、まず、金属フッ化物粒子（iii）を含む組成物を塗装して硬化させた後、金属酸化物粒子（ii）を含む組成物をハードコート層上に塗装して硬化させることによって、２層からなる色差調整層を形成することができる。
【００８４】
上記組成物を塗装する方法として、ドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、スピンコーターなどの当業者において通常行われる塗工機械を用いる塗装方法、スプレーを用いた塗装方法、浸漬による塗装方法などが挙げられる。
【００８５】
また、上記組成物は、必要に応じた有機溶媒を含んでもよい。有機溶媒として、例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン、シクロヘキサノンなどの炭化水素系溶媒、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチルなどのケトン系溶媒、キシレン、トルエンなどの芳香族系溶媒などが挙げられる。これらの有機溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８６】
紫外線硬化性能を有するモノマーを含む組成物を硬化させる場合は、この硬化は、必要に応じた波長の活性エネルギー線を発する光源を用いて照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線として、例えば露光量０．１〜１．５Ｊ／ｃｍ２の光、好ましくは０．３〜１．５Ｊ／ｃｍ２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば３６０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。
【００８７】
また、熱硬化性モノマーを含む組成物を硬化させる場合は、例えば、６０〜１４０℃で１〜６０分間加熱することによって硬化させることができる。ここで、加熱温度および加熱時間は、組成物に含まれる熱硬化性モノマーの種類に応じて選択することができる。
【００８８】
導電層および導電性積層体
本発明の導電性積層体は、通常、ハードコート層の上、または色差調整層の上に、導電層が形成されている。導電層は、導電性積層体の全体が透明の時は、透明導電層であり、透明でない場合は通常の金属の導電層であっても良い。透明導電層の構成材料としては、特に制限は無いが、例えば、金属層、または金属化合物層を挙げることができる。透明導電層を構成する成分としては、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等の金属酸化物の層が挙げられる。これらのうち酸化インジウムを主成分とした結晶質の層であることが好ましく、特に結晶質のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなる層が好ましく用いられる。
【００８９】
また、透明導電層が結晶質ＩＴＯの場合、結晶粒径は、特に上限を設ける必要はないが５００ｎｍ以下であることが好ましい。結晶粒径が５００ｎｍを超えると屈曲耐久性が悪くなるため好ましくない。ここで結晶粒径とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）下で観察される多角形状または長円状の各領域における対角線または直径の中で最大のものと定義される。透明導電層が非晶質ＩＴＯの場合には、環境信頼性が低下することがある。
【００９０】
導電層は、公知の手法にて形成することが可能であり、例えばＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法等の物理的形成法等を用いることができる。大面積に対して均一な膜厚の金属化合物層を形成するという工業生産性に着目すると、ＤＣマグネトロンスパッタリング法が望ましい。なお、上記物理的形成法（ＰＶＤ）のほかに、化学気相堆積法、ゾルゲル法などの化学的形成法を用いることもできるが、膜厚制御の観点からはやはりスパッタリング法が望ましい。
【００９１】
導電層の膜厚は、導電性の点から５〜５０ｎｍであることが好ましい。更に好ましくは５〜３０ｎｍである。導電層の膜厚が５ｎｍ未満では抵抗値の経時安定性に劣る傾向があり、また５０ｎｍを超えると屈曲耐久性の低下のためタッチパネルとして好ましくない。
【００９２】
本発明の導電性積層体をタッチパネルに用いる場合、タッチパネルの消費電力の低減と回路処理上の必要等から、膜厚１０〜４０ｎｍにおいて透明導電層の表面抵抗値が１０〜２０００Ω／□、より好ましくは３０〜１０００Ω／□の範囲を示す透明導電層を用いることが好ましい。
【００９３】
なお、導電層が透明の場合、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、導電性酸化物微粒子等を分散した分散液を高分子基材上に湿式法（例えば、スピンコート法、グラビア、スロットダイ、印刷など）によって形成した層を用いることもできる。
【００９４】
こうして形成された導電層は、エッチング処理によるパターン形成が行われる。このエッチング処理は、一般に、導電層を、パターン形成マスクで覆い、次いで酸性水溶液などのエッチング液を用いて導電層をエッチングすることによって行われる。エッチング液として、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸、酢酸などの有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が挙げられる。より具体的なエッチング液として、１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られる強酸水溶液が挙げられる。
【００９５】
なお、導電層をパターン化する前もしくは後に、必要に応じて、熱処理してもよい。導電層が熱処理により結晶化するＩＴＯの場合、熱処理を行うことによって、透明性および導電性を向上させることができるという利点がある。熱処理は、例えば、１００〜１５０℃で、１５〜１８０分加熱することによって行うことができる。
【００９６】
本発明の導電性積層体は、導電性積層体に対して波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光源を照射した場合における反射率（Ｒ１）、および、導電性積層体を、１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に４０℃で３分間浸漬した後、乾燥させた後の導電性積層体に対して、波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光源を照射した場合における反射率（Ｒ２）において、Ｒ１およびＲ２の差△Ｒが１以下であることを特徴とする。
【００９７】
上記強酸水溶液は、エッチング処理において一般的に用いられる、いわゆる王水と言われる強酸水溶液である。上記強酸水溶液を用いてエッチング処理を行うことによって、導電層はエッチングされることとなる。図１は、エッチング処理された導電性積層体を示す概略説明図である。導電性積層体（１０）は、ポリカーボネート基材（１）の一方の面上に、ハードコート層（３）、色差調整層（５）および透明導電層（７）が順次積層された構造を有する。ここで、（１１）で示される部分が、エッチング処理によるパターニングによって、導電層（７）が取り除かれた部分であり、そして（１３）で示される部分が、エッチング処理においてマスクされていた部分であり、導電層がそのまま残された部分である。ここで、上記反射率Ｒ１は、図１中の（１３）の部分における反射率を意味し、そして上記反射率Ｒ２は、図１中の（１１）の部分における反射率を意味する。そして本発明の導電性積層体においては、波長５００〜７５０ｎｍの範囲の光源を照射した場合における反射率において、Ｒ１およびＲ２の差△Ｒが１以下であることを特徴とする。つまり、本発明の導電性積層体においては、導電層（７）が存在する部分および存在しない部分において、反射率の差がほとんど生じていない。これにより、極めて高い視認性が達成されることとなった。
【００９８】
導電性積層体の反射率の測定は、例えば日立製作所Ｕ−３０００などの分光光度計を用いて、入射角１０度における分光反射率をＪＩＳ  Ｋ５６００−４−５に準拠して測定することができる。
【００９９】
アンチブロッキング層
本発明の導電性積層体は、ポリカーボネート基材の一方の面上に、ハードコート層、色差調整層および導電層が順に積層された構造を有する。この導電性積層体は、必要に応じて、ポリカーボネート基材の他の一方の面上に、アンチブロッキング層が形成されていてもよい。他の一方の面上にアンチブロッキング層を形成することによって、導電性積層体の製造工程におけるブロッキング現象の発生を抑えることができ、製造時における保存安定性が向上するという利点がある。
【０１００】
アンチブロッキング層を形成する組成物として、例えば、第１成分および第２成分を含むアンチブロッキング層形成組成物が挙げられる。第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差△ＳＰが１〜２の範囲内であり、アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第１成分と第２成分が相分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成される、アンチブロッキング層形成組成物であるのがより好ましい。
【０１０１】
第１成分として、不飽和二重結合含有アクリル共重合体が用いられる。不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、例えば（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂、（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびエポキシ基を有するモノマーとを反応させた樹脂、（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびイソシアネート基を有するモノマーとを反応させた樹脂などにアクリル酸やグリシジルアクリレートなどの不飽和二重結合を有しかつ他の官能基を有する成分を付加させたものなどが挙げられる。これらの不飽和二重結合含有アクリル共重合体は１種を単独で用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。この不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、重量平均分子量で２０００〜１０００００であるのが好ましく、５０００〜５００００であるのがより好ましい。
【０１０２】
第２成分のモノマーまたはオリゴマーとして、多官能性不飽和二重結合含有モノマーまたはそのオリゴマーであるのがより好ましい。なお、本明細書でいう「オリゴマー」とは、繰り返し単位を有する重合体であって、この繰り返し単位の数が３〜１０であるものをいう。多官能性不飽和二重結合含有モノマーとして、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリレートとの脱アルコール反応物である多官能アクリレート、具体的には、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどを用いることができる。この他にも、ポリエチレングリコール＃２００ジアクリレート（共栄社化学（株）社製）などの、ポリエチレングリコール骨格を有するアクリレートモノマーを使用することもできる。これらの多官能性不飽和二重結合含有モノマーは１種を単独で用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。第２成分は、多官能アクリレートであるのがより好ましい。
【０１０３】
第１成分および第２成分が上記組み合わせである場合に好ましい有機溶媒として、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒；アニソール、フェネトールプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は１種を単独で用いてもよく、また２種以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【０１０４】
上記アンチブロッキング層形成組成物は、光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤として、例えば、２−ヒドロキシ−２メチル−１フェニル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタンノン−１などが挙げられる。
【０１０５】
上記アンチブロッキング層形成組成物は、第１成分および第２成分それぞれのＳＰ値の差によって相分離がもたらされる。この相分離によって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されることとなる。第１成分のＳＰ値と第２成分のＳＰ値との差は１以上であるのが好ましく、１〜２の範囲内であるのがより好ましい。第１成分のＳＰ値と第２成分のＳＰ値との差が１以上ある場合は、互いの樹脂の相溶性が低く、それによりアンチブロッキング層形成組成物の塗布後に第１成分と第２成分との相分離がもたらされると考えられる。
【０１０６】
ＳＰ値とは、ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ ｐａｒａｍｅｔｅｒ（溶解性パラメーター）の略であり、溶解性の尺度となるものである。ＳＰ値は数値が大きいほど極性が高く、逆に数値が小さいほど極性が低いことを示す。
【０１０７】
例えば、ＳＰ値は次の方法によって実測することができる［参考文献：ＳＵＨ、ＣＬＡＲＫＥ、Ｊ．Ｐ．Ｓ．Ａ−１、５、１６７１〜１６８１（１９６７）］。
【０１０８】
測定温度：２０℃
サンプル：樹脂０．５ｇを１００ｍｌビーカーに秤量し、良溶媒１０ｍｌをホールピペットを用いて加え、マグネティックスターラーにより溶解する。
溶媒：
良溶媒…ジオキサン、アセトンなど
貧溶媒…ｎ−ヘキサン、イオン交換水など
濁点測定：５０ｍｌビュレットを用いて貧溶媒を滴下し、濁りが生じた点を滴下量とする。
【０１０９】
樹脂のＳＰ値δは次式によって与えられる。
【０１１０】
【数１】
0005490954.tif 000004
【数２】
0005490954.tif 000005
【数３】
0005490954.tif 000006
【０１１１】
Ｖi：溶媒の分子容（ｍｌ／ｍｏｌ）
φi：濁点における各溶媒の体積分率
δi：溶媒のＳＰ値
ｍｌ：低ＳＰ貧溶媒混合系
ｍｈ：高ＳＰ貧溶媒混合系
【０１１２】
上記アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、および紫外線吸収剤などの常用の添加剤を含んでもよい。
【０１１３】
アンチブロッキング層形成組成物には、上記の第１成分および第２成分のほかに、通常使用される樹脂が含まれてもよい。上記アンチブロッキング層形成組成物は、上記のような第１成分および第２成分を用いることによって、樹脂粒子などを含ませなくても、凹凸を有する樹脂層を形成することができることに特徴がある。そのため、上記アンチブロッキング層形成組成物は、樹脂粒子を含まないのが好ましい。しかしながら、上記アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、無機粒子または有機粒子、若しくはそれらの複合物を少なくとも一種以上含んでもよい。これらの粒子は、特に表面に凹凸を形成する目的のために添加されるのではなく、相分離や析出を制御して、より均一で微細な凹凸を形成する為に添加される。これらの粒子の粒径は、平均粒径で０．５μｍ以下、好ましくは０．０１〜０．３μｍである。０．５μｍを超えると、若干透明性が低下する。
【０１１４】
無機粒子の例としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ゼオライト、雲母、合成雲母、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、フッ化マグネシウム、スメクタイト、合成スメクタイト、バーミキュライト、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化錫）、酸化錫、酸化インジウムおよび酸化アンチモンからなる群から選択される少なくとも１種類が挙げられる。
【０１１５】
有機粒子の例としては、アクリル、オレフィン、ポリエーテル、ポリエステル、ウレタン、ポリエステル、シリコーン、ポリシラン、ポリイミドおよびフッ素粒子からなる群から選択される少なくとも１種類が挙げられる。
【０１１６】
上記アンチブロッキング層形成組成物は、第１成分および第２成分、そして必要に応じた溶媒、光重合開始剤、触媒、光増感剤などの添加剤を混合することにより調製される。アンチブロッキング層形成組成物中における第１成分と第２成分との比率は、０．１：９９．９〜５０：５０が好ましく、０．３：９９．７〜２０：８０がより好ましく、０．５：９９．５〜１０：９０がさらに好ましい。重合開始剤、触媒および光増感剤を用いる場合は、第１成分および第２成分そして必要に応じた他の樹脂（これらを合わせて「樹脂成分」という。）１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部、好ましくは１〜１０質量部加えることができる。溶媒を用いる場合は、上記樹脂成分１００質量部に対して、１〜９９００質量部、好ましくは１０〜９００質量部加えることができる。
【０１１７】
上記アンチブロッキング層形成組成物を塗装し、次いで硬化させることによって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層を形成することができる。アンチブロッキング層形成組成物の塗装方法として、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法などが挙げられる。アンチブロッキング層の厚さとして、例えば、０．０１〜２０μｍの厚さである態様が挙げられる。
【０１１８】
アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後、光を照射することによって、相分離および硬化させることができる。照射する光として、例えば露光量０．１〜３．５Ｊ／ｃｍ２の光、好ましくは０．５〜１．５Ｊ／ｃｍ２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば、３６０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。このように光を照射することによって、相分離および硬化が生じることとなる。
【０１１９】
タッチパネル
本発明のタッチパネルは、透明な導電性積層体を有する。本発明のタッチパネルとして、例えば、静電容量方式のタッチパネルが挙げられる。また、本発明の透明な導電性積層体を、抵抗膜方式のタッチパネルに用いてもよい。
【０１２０】
本発明の透明な導電性積層体をタッチパネル用基板として用いる場合における、具体的な層構成として、例えば下記の層構成が挙げられる：
透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材、
透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材、
透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／アンチブロッキング層、
透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／アンチブロッキング層、
透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／ハードコート層／色差調整層／透明導電層、
透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／ハードコート層／色差調整層／透明導電層、
補助電極層／透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材、
補助電極層／透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材、
補助電極層／透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／アンチブロッキング層、補助電極層／透明導電層／色差調整層／ハードコート層／透明高分子基材／アンチブロッキング層、
補助電極層／透明導電層／色差調整層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／ハードコート層／色差調整層／透明導電層／補助電極層、
補助電極層／透明導電層／ハードコート層／ポリカーボネート基材／ハードコート層／透明導電層／補助電極層。尚、上記層構成は、最上層から最下層に向けて層を順に記載している。上記透明導電層のすぐ下層に、色差調整のためまたは密着性を改善するために金属酸化物層（具体的には、二酸化ケイ素、酸化ニオブ、酸化モリブデンなど金属酸化物からなる層）を形成してもよい。最上層の透明導電層のさらに上層に表面保護を目的としたハードコート層を設けても良い。その場合、ハードコート層は、本発明のハードコート層であっても良いが、本発明以外の通常のハードコート層であっても良い。
【０１２１】
上述の補助電極層とは、配線用の電極材として使用可能な層を意味する。補助電極層の材料としては、比抵抗が１×１０−６Ωｃｍ以上１×１０−４Ωｃｍ以下のものが望ましい。比抵抗が１×１０−６Ωｃｍ未満の金属材料を使用すると用途機能上では不安定であり、薄膜として形成することが難しくなる。一方、比抵抗が１×１０−４Ωｃｍより大きい金属材料を使用すると、抵抗値が高すぎるために、細線加工した際に抵抗値が高くなってしまう。以上の理由から、実使用に適する金属は、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｉ／Ｃｒ、Ｔｉ群から選ばれる単一金属、または複数種からなる合金が推奨される。特に、電気導電性が高く、パターンエッチング、電気メッキ等の加工性に優れる金属で、電極と回路等のリード部との電気的機械的接続性（ハンダ、異方導電性コネクター等）が良く、曲げに強く、熱伝導性が高い上に、安価という点においてＣｕ、Ａｌ等が好ましく、特にＣｕが好ましい。
【０１２２】
補助電極層の厚さとしては、特に限定されるものではないが、通常の設計仕様として０．００１〜１００μｍ、好ましくは０．０１〜２５μｍの範囲が推奨される。補助電極の形成には、公知の処理方法を使用できるが、スパッタリング法で形成することが好ましい。また、必要に応じてその後電解・無電解湿式金属メッキ等でさらに膜厚を厚くして導電性を上げても良い。
【０１２３】
また、必要に応じて、上記補助電極層の保護（主に酸化防止）を目的に、補助電極層の上下層にＮｉ、Ｎｉ／Ｃｒ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｏ他からなる高融点金属層およびこれらの酸化物層を設けても良い。
【０１２４】
保護フィルム
本発明の導電性積層体は、保護フィルムを積層して保管、使用されることが多い。保護フィルムは、導電性積層体に外から力が加わったときに導電性積層体に損傷を与えない為に形成されるものであり、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等の汎用樹脂フィルムにアクリル系やポリオレフィン系、酢酸ビニル系等の粘着剤を塗布したものが使用されることが多いが、必ずしもこれに限定されるものではなく、使用上の要求特性に従い、適宜選択される。たとえば被着体がポリカーボネートフィルムを使用した導電性積層体の場合、保護フィルムをつけたまま加熱加工を行った時にそりを発生させないため、耐熱性、熱膨張収縮挙動が同じポリカーボネート製の保護フィルムが好適に用いられる。
【０１２５】
保護フィルムは通常膜厚が２０〜２００μｍ、好ましくは５０〜１２５μｍのものであるが、必ずしもこれに限定されるものでない。保護フィルムは、導電性積層体を保護できて、工程上不便でなければどのような厚さでどのような形態のものであってよい。保護フィルムは、導電性積層体に積層するために、通常粘着剤が塗布されていて、これにより導電性積層体に貼着される。
【０１２６】
本発明の導電性積層体は、この保護フィルムを積層した状態で保管しても、それを使用時に剥離したときに、保護フィルムだけがきれいに剥がれて、導電性積層体には破損などが起こらないことが最も特徴的できある。
【実施例】
【０１２７】
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中、「部」および「％」は、ことわりのない限り、質量基準による。
【０１２８】
製造例１  フェノールノボラック型アクリレート（１）の製造
攪拌装置、温度計、滴下漏斗および還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂（重量平均分子量７００〜９００、エポキシ当量１５０〜２００）１５０ｇおよびエピクロルヒドリン５５０ｇを混合し、１００℃、１００〜２００ｍｇの減圧条件下にて４８．５％の水酸化ナトリウム水溶液１１０ｇを２時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。
得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分１００重量部に対し、メトキノン１０００ｐｐｍ、トリフェニルホスフィン２０００ｐｐｍを加え、１００℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）を得た。
【０１２９】
得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）は、重量平均分子量が９５０であり、水酸基価は１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ、屈折率は１．５７２であった。
【０１３０】
製造例２  フェノールノボラック型アクリレート（２）の製造
攪拌装置、温度計、滴下漏斗および還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂（重量平均分子量９００〜１１００、エポキシ当量１５０〜２００）１５０ｇおよびエピクロルヒドリン５５０ｇを混合し、１００℃、１００〜２００ｍｇの減圧条件下にて４８．５％の水酸化ナトリウム水溶液１１０ｇを２時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。
【０１３１】
得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分１００重量部に対し、メトキノン１０００ｐｐｍ、トリフェニルホスフィン２０００ｐｐｍを加え、１００℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート（２）を得た。
【０１３２】
得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（２）は、重量平均分子量が１２００であり、水酸基価は１３７ｍｇＫＯＨ／ｇ、屈折率は１．５７１であった。
【０１３３】
実施例１
成分（Ａ）として、製造例１で得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）を、成分（Ｂ）として、エトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート（エトキシ構造を分子中に１ｍｏｌ有するアクリレート、２５℃における粘度１３０ｍＰａ・ｓ、屈折率１．５７７）、成分（Ｃ）として、ビスフェノールＡエチレンオキサイド２ｍｏｌ変性ジアクリレート、他のアクリレート類として、ペンタエリスリトールトリアクリレートを用いてハードコーティング組成物を調製した。表１に示された原料を、表１に示された固形分質量で順次混合し、撹拌して、ハードコーティング組成物を得た。
【０１３４】
なお、成分（Ｂ）のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレートの粘度測定は、試験サンプルとして成分（Ｂ）のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート１００ｍｌをガラス容器に採取し、２０℃に温度調整した後、Ｂ型粘度計（ＴＶＢ−２２Ｌ  東機産業株式会社製）およびＭ１Ｒｏｔｏｒを用いて、６０ｒｐｍの回転速度にて測定した。
【０１３５】
また、成分（Ｂ）の屈折率は、ＪＩＳ  Ｋ００６２に準拠した方法により、アッベ屈折率計を用いて測定した。
【０１３６】
得られたハードコーティング組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）上に滴下し、バーコーター＃９を用いて塗工した。
【０１３７】
塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。
【０１３８】
実施例２〜１３
成分（Ａ）の種類および量を表１および表２に記載されたものに変更し、また成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び他のアクリレート類としてペンタエリスリトールトリアクリレートの量を表１に記載されたものに変更し、実施例１と同様にして、ハードコーティング組成物を調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
【０１３９】
比較例１〜１２
表３に示された配合により、ハードコーティング組成物を、実施例と同様にして調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
【０１４０】
実施例１４
実施例１〜１３で得られたハードコートフィルムを用い、さらにこの硬化樹脂層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９５：５の組成で充填密度９８％の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ＩＴＯ層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたＩＴＯ層の膜厚は約３０ｎｍ、製膜後の表面抵抗値は約１５０Ω／□であった。得られた透明導電性積層体の干渉縞は視認されなかった。
【０１４１】
比較例１３
比較例１〜１２で得られたハードコートフィルムを用い、さらにこの硬化樹脂層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９５：５の組成で充填密度９８％の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ＩＴＯ層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたＩＴＯ層の膜厚は約３０ｎｍ、製膜後の表面抵抗値は約１５０Ω／□であった。
【０１４２】
上記実施例１〜１３および比較例１〜１２において得られたハードコートフィルムおよび実施例１４および比較例１３で得られた透明導電性積層体について、下記評価を行った。評価結果を表１〜３に示す。
【０１４３】
反射率の差△Ｒの測定
実施例および比較例で得られた透明導電性積層体の反射率を、分光光度計（日立製作所Ｕ−３０００）を用いて、入射角１０度でＪＩＳ  Ｋ５６００−４−５に準拠して、反射率Ｒ１を測定した。反射率の測定において用いた光源の波長は５００〜７５０ｎｍであった。
【０１４４】
次いで、得られた透明導電性積層体を、１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られた強酸水溶液中に４０℃で３分間浸漬し、乾燥させた。この透明導電性積層体に対して、波長５００〜７５０ｎｍの光を照射し、反射率Ｒ２を測定した。なお、反射率Ｒ１は、図１中の（１３）の部分に示されるような、透明導電層が存在する部分の反射率を意味し、反射率Ｒ２は、図１中の（１１）の部分に示されるような、透明導電層が存在しない部分の反射率を意味する。
【０１４５】
こうして得られたＲ１およびＲ２の差を△Ｒとした。波長５００〜７５０ｎｍの間で△Ｒが最大値となった△Ｒの値を表１、２に示した。
【０１４６】
干渉縞評価
ポリカーボネート基材上に各実施例１〜１３または比較例１〜１２のハードコーティング組成物をバーコーターで塗工した後、７０℃の乾燥炉に１分間放置し、更にＦｕｓｉｏｎ−Ｈ光源で露光してそれぞれの実施例または比較例に対応する試験片を得た。得られた試験片を１００×１００ｍｍの黒色アクリル板に光学フィルム用粘着剤を用いハードコート塗工面が表面にくるように貼り合せた。スタンド式３波長蛍光灯（ＴＷＩＮＢＡＲＤ製  ＳＬＨ−３９９型）の蛍光管から垂直下１０ｃｍの距離にサンプルを設置して目視観察をし、評価結果が○以上のサンプルについては、更に太陽光下での目視観察を実施し、下記の評価基準に基づき、判定した。
【０１４７】
◎  ：  干渉縞（干渉模様）が３波長蛍光灯下でも太陽光下でも視認されない
○  ：  ３波長蛍光灯下で干渉縞（干渉模様）が視認されないが太陽光下では僅かに視認される
△  ：  干渉縞（干渉模様）が僅かに視認される
×  ：  干渉縞（干渉模様）がはっきりと視認される
【０１４８】
エッチングマーク評価
塩酸（１２規定）：硝酸（１６規定）：純水を質量比で３．３:１．０:７．６の割合で混合した強酸中に実施例１４および比較例１３で得られた透明導電性積層体を４０℃で３分間浸漬し、エッチング処理して、パターニングを施したサンプルを用いて、スタンド式３波長蛍光灯（ＴＷＩＮＢＡＲＤ製  ＳＬＨ−３９９型）の蛍光管から垂直下１０ｃｍの距離にサンプルを設置して目視観察をし、評価結果が○以上のサンプルは更に、太陽光の下で目視観察をし、下記基準で見た目の評価を行った。
【０１４９】
◎：太陽光下及び３波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別が困難
○：太陽光下ではパターン部と非パターン部の判別がわずかに可能だが、３波長蛍光灯下ではパターン部と非パターン部の判別が困難
△：３波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別がわずかに可能
×：３波長蛍光灯下でパターン部と非パターン部の判別が容易に可能
【０１５０】
密着性試験１（導電性積層体としての密着性）
ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して密着性試験を実施した。実施例１４および比較例１３で得られた透明導電性積層体に、カッターナイフを用いて、１ｍｍ２のカット（碁盤目）が１００個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で３回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、以下に記載の基準に沿って判定した。下記評価で８以上を合格と判断した。
【０１５１】
１０：剥がれなし
８：剥がれが５目以内である
６：剥がれが５目を超えて１５目以内である
４：剥がれが１５目を超えて３５目以内である
２：剥がれが３５目を超えて６５目以内である
０：剥がれが６５目を超えて１００目以内である
【０１５２】
密着性試験２（ハードコートフィルムとしての密着性）
実施例１〜１３及び比較例１〜１２で得られたハードコートフィルムを、９５〜１００℃に保たれたイオン交換水に浸漬に２４時間処理した。浸漬１時間後にカッターナイフを用いて、１ｍｍ２のカット（碁盤目）が１００個できるようにクロスカットを施した。次いで、作成した碁盤目の上にセロハン粘着テープを完全に付着させ、テープの一方の端を持ち上げて上方に剥がした。この剥離動作を同一箇所で３回実施した。その後、剥がれた碁盤目の数を、密着性試験１と同様の基準にて６段階評価で判定した。
【０１５３】
密着性試験３（保護フィルムとの密着性）
２００×３００ｍｍの寸法のポリカーボネートフィルム（製品名ピュアエース商標登録  C110-100TP  帝人株式会社製）の全面に、三共株式会社製自動貼着機HAL-650Sを用いて、50kgf毎平方メートルの圧力で貼着速度30cm毎秒の速度で保護フィルムを貼着した。粘着力が10〜12gf／25mｍの粘着保護フィルムを、上記寸法の実施例１４または比較例１３記載の透明導電性積層体に上記貼着条件で貼着し、その状態にて２４時間静置した。その後端部より粘着保護フィルムを剥離した際の状態を以下基準に沿って判定した。
○：  粘着保護フィルムだけが剥離。
×：  粘着保護フィルムに導電層、色差調整層、ハードコート層のいずれかが付着
【０１５４】
ポリカーボネート基材への接触角
実施例１〜１３及び比較例１〜１２に記載されている樹脂成分８５質量部に対しメチルイソブチルケトンを１５質量部添加した溶液を調整し、ポリカーボネート基材に１．７７μｌの液滴を滴下した。その後、基材と滴下した液滴が成す接触角を、三洋貿易株式会社製ＫＲＵＳＳＤＳＡ２０を用いて計測した。
【０１５５】
【表１】
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【表２】
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【０１５６】
【表３】
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【０１５７】
上記表１〜３中、
・イルガキュアー１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、光重合開始剤
・ビスフェノールＡ  ＥＯ変性（２ｍｏｌ）ジアクリレート：東亜合成株式会社製、アロニックスＭ−２１１Ｂ、ビスフェノールＡ  ＥＯ（２ｍｏｌ）変性ジアクリレート
・高屈折率フィラー１：ジルコニア ＺＲＭＩＢＫ３０ＷＴ％（酸化ジルコニウム、ＣＩＫナノテック社製）
・２官能ウレタンアクリレート：ＮＶ１００：ＣＮ−９８９３（サートマー社製）
を示す。
【０１５８】
実施例１〜１３のハードコーティング組成物を用いて形成されたハードコート層を有するハードコーティングフィルムは、何れも、干渉縞の発生がなく、かつ、高い屈折率、良好な硬度を有していた。さらに得られたハードコーティングフィルムは、伸長性および耐屈曲性も高く、初期密着性の他、保護フィルムラミネート後の剥離試験、また沸水２４時間浸漬後の密着性試験といった過酷な密着性試験においても問題の無いものであった。
【０１５９】
比較例１は単純なハードコートの適用例であり、屈折率が低いため干渉縞の発生が確認された。比較例２および３は、成分（Ａ）の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、本発明の範囲を下回る場合には屈折率が低く、干渉縞が発生する不具合があり、範囲を上回る場合には密着性が低下する不具合が発生する。また、比較例３は成分Ａが多すぎるので、ハードコート層とポリカーボネート基材との密着性も悪くなる。比較例４は先願である特願２０１２−０７９７５５号の実施例に相当する例であり、ハードコート層が透明導電性積層体に付着して、粘着保護フィルムに導電層、色差調整層、ハードコート層のいずれかが付着する。
【０１６０】
比較例５および６は、成分（Ｂ）の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、本発明の範囲を下回る場合には屈折率が低く、干渉縞が発生する不具合があり、範囲を上回る場合には硬度、及び密着性が低下する不具合が発生する。また、比較例５は、成分Ｂの量が少なすぎるので、ハードコート層とポリカーボネート基材との密着性も悪くなる。
【０１６１】
比較例７および８は、成分（Ｃ）の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、本発明の範囲を下回る場合には屈折率が低く、干渉縞が発生する不具合があり、範囲を上回る場合には硬度が低下する不具合が発生する。
【０１６２】
比較例１０は、成分（Ａ）および（Ｂ）を用いる代わりに、高屈折率剤である酸化ジルコニアを用いた例である。この比較例では、硬度は良好である一方で、伸長性が大きく劣っていた。また屈折率は高く得られたものの、干渉縞の発生が抑制されることがなかった。また、ハードコート層とポリカーボネート基材との密着性が悪い。
【０１６３】
比較例１１〜１２は、ハードコート層に伸長性を付与することを目的として、２官能ウレタンアクリレートを用いた例である。これらの比較例では、伸長性が多少向上したものの、干渉縞の抑制、及び伸張性の確立には至らなかった。
【０１６４】
比較例１０および１２のハードコーティング組成物には、高屈折率フィラーが含まれている。高屈折率フィラーが含まれることによって、得られたハードコート層の屈折率自体は確かに高くなっている。その一方で、これらの比較例で得られたハードコート層は、何れも、干渉縞が確認されている。これらの比較例において干渉縞が確認された理由として、ハードコート層を形成する樹脂成分の屈折率が低い一方で、この樹脂成分中に、屈折率の高い高屈折率フィラーが混ざり込んでいる状態であるためと考えられる。このため、ハードコート層の屈折率自体は高くなっても、低屈折率である樹脂成分が悪影響を及ぼしてしまい、優れた干渉縞発生抑制効果が得られないと考えられる。
【０１６５】
また、これらの実施例および比較例の結果からも、本発明によって得られるハードコート層において、優れた干渉縞抑制効果が達成されていることがわかる。
【０１６６】
図２は、実施例９のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層の、波長４００〜８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。また図３は、比較例１のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層の、波長４００〜８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。これらの図２および３の透過スペクトルに示されるように、本発明のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層は、透過スペクトルにおける振幅幅が非常に小さく、可視波長範囲における光学的ぶれが小さいことが理解できる。一方で、比較例１のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層は、透過スペクトルにおける振幅幅が大きく、可視波長範囲における光学的ぶれが大きいことが理解できる。これらの透過スペクトル結果からも、本発明における技術的効果を確認的に理解することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１６７】
本発明は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、且つポリカーボネート基材との優れた密着力を発揮するハードコート層を提供する。本発明のハードコーティング組成物によって形成される透明ハードコート層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、ポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明における透明ハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生せず、かつ、高い伸長性が達成されているという利点があり、高い密着性を発現することから、保護フィルム等の貼り合せ時において不具合が発生しにくいという利点をもっている。
【要約】
【課題】  本発明は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有し、且つ透明高分子基材との優れた密着力を発揮するハードコート層を有する導電性積層体を提供すること。
【解決手段】  ポリカーボネート基材の少なくとも一方の面上に、ハードコート層、導電層が積層された導電性積層体であり、
前記ハードコート層が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、
（Ｂ）エチレンオキシド構造を分子中に１〜２ｍｏｌ有する、オルトフェニルフェノールアクリレート、および
（Ｃ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に２〜４ｍｏｌ有する、ビスフェノール骨格含有のジアクリレート
を含むハードコーティング組成物から形成され、
前記ハードコーティング組成物が、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）４０〜５０質量部、オルトフェニルフェノールアクリレート（Ｂ）２５〜３５質量部、ジアクリレート（Ｃ）１０〜２０質量部含むことを特徴とする導電性積層体。
【選択図】  なし【図１】
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【図２】
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【図３】
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