(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下地の表面に形成された銅を含み、表面に粗化処理が施された第１の電極の上に、前記銅と錫との反応を抑制するニッケル層であるバリアメタル層を形成する工程と、
前記バリアメタル層の上に、平面形状が十字型の錫層を形成する工程と、
半導体部品の第２の電極に接合された、銀を含む無鉛はんだバンプを前記錫層に当接させ、前記錫層が前記バリアメタル層の上に直接形成されている状態で該バンプを加熱して溶融することにより、前記第１の電極と前記第２の電極とを前記バンプを介して接続する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記バリアメタル層を形成する工程において、前記第１の電極の表面に前記バリアメタル層をドット状に形成することを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯端末等の小型化や高性能化に伴い、携帯端末に搭載される半導体装置の小型化や高密度実装化が進んでいる。小型化等に適した半導体装置としては、例えば、BGA(Ball Grid Array)やCSP(Chip Size Package)といったエリアアレイ型の半導体パッケージがある。
【０００３】
そのような半導体パッケージは、はんだバンプを介してプリント基板等の回路基板に実装される。はんだバンプを利用することで、リード線を利用する場合と比較して配線の引き回し長さが短くなり、半導体パッケージの高速化に有利となる。しかも、半導体パッケージの下面の全面にはんだバンプを配置することで、半導体パッケージの多ピン化も容易となる。
【０００４】
そのはんだバンプの材料としては、Sn-Pb共晶はんだをベースにしたものが用いられることが多い。
【０００５】
Sn-Pb共晶はんだのように鉛を含有する材料は、伸びが大きいためにはんだバンプの接合部にクラック等が生じ難く、疲労特性に優れた接合部を形成することができる。
【０００６】
その一方、近年の環境保護の機運の高まりによって、上記のように鉛を含有する材料に変えて、はんだバンプの材料として無鉛はんだを使用する機会も増えている。
【０００７】
しかしながら、無鉛はんだは、環境に優しい反面、Sn-Pb共晶はんだと比較して半導体パッケージを実装する材料としては不利な面も持ち合わせる。
【０００８】
例えば、無鉛はんだの一種であるSn-Ag-Cuはんだは、融点が約２１７℃であって、Sn-Pb共晶はんだの融点（約１８３℃）よりも約４０℃高い融点を有する。このように融点が高いことで、はんだバンプのリフロー雰囲気も高温となり、リフロー時に半導体パッケージや回路基板の反りが大きくなる。
【０００９】
その結果、反りによって半導体パッケージと回路基板の各電極が大きく隔たり、これらの電極の中にはんだバンプで接合されないものが生じ、いわゆるオープン不良が発生する危険性が高まる。このような不都合は、反りの発生が顕著となる大型の半導体パッケージにおいて多く見られるようになる。
【００１０】
また、無鉛はんだは、弾性率（ヤング率）や引っ張り強さについてはSn-Pb共晶はんだよりも高い値を呈するものの、伸び特性についてはSn-Pb共晶はんだよりも低下してしまう。そのため、電極とはんだバンプとの接合界面にかかる応力をはんだバンプで吸収することができず、上記の接合界面の疲労特性が劣化し、当該接合界面においてオープン不良が発生してしまう。
【００１１】
更に、電極材料が銅からなる場合、当該電極とSn-Pb共晶はんだからなるはんだバンプとの接合界面には、これらの材料の反応相であるCuSn合金相が生成される。しかし、CuSn合金相は、固くて脆い材料であるため落下衝撃に弱く、電極とはんだバンプとの接合界面の信頼性が低下してしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２０００−２１６１９６号公報
【特許文献２】特開２００１−２９８０５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
半導体装置の製造方法において、電極とはんだバンプとの接続信頼性を高めることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
以下の開示の一観点によれば、下地の表面に形成された銅を含み、表面に粗化処理が施された第１の電極の上に、前記銅と錫との反応を抑制するニッケル層であるバリアメタル層を形成する工程と、前記バリアメタル層の上に、平面形状が十字型の錫層を形成する工程と、半導体部品の第２の電極に接合された、銀を含む無鉛はんだバンプを前記錫層に当接させ、前記錫層が前記バリアメタル層の上に直接形成されている状態で該バンプを加熱して溶融することにより、前記第１の電極と前記第２の電極とを前記バンプを介して接続する工程とを有する半導体装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
以下の開示によれば、錫層によって無鉛はんだバンプ中の銀等の添加材料の濃度が低下し、無鉛はんだバンプの材料的強度が向上する。
【００１７】
更に、第１の電極の上にバリアメタル層を形成したので、第１の電極中の銅と錫層中の錫との反応が抑制され、錫層と第１の電極との界面に固くて脆い材料であるCuSn合金層が形成され難くなる。
【００１８】
これらにより、以下の開示では、第１の電極とはんだバンプとの接続信頼性を高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１（ａ）〜（ｃ）は、第１実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図（その１）である。
【図２】図２（ａ）〜（ｃ）は、第１実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図（その２）である。
【図３】図３（ａ）、（ｂ）は、第１実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図（その３）である。
【図４】図４は、第１実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図（その４）である。
【図５】図５（ａ）〜（ｃ）は、第２実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図（その１）である。
【図６】図６は、第２実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図（その２）である。
【図７】図７（ａ）は、第３実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その１）であり、図７（ｂ）は図７（ａ）のＡ１−Ａ１線に沿う断面図である。
【図８】図８（ａ）は、第３実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その２）であり、図８（ｂ）は図８（ａ）のＡ２−Ａ２線に沿う断面図である。
【図９】図９（ａ）は、第３実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その３）であり、図９（ｂ）は図９（ａ）のＡ３−Ａ３線に沿う断面図である。
【図１０】図１０は、第３実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。
【図１１】図１１（ａ）は、第４実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その１）であり、図１１（ｂ）は図１１（ａ）のＢ１−Ｂ１線に沿う断面図である。
【図１２】図１２（ａ）は、第４実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その２）であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）のＢ２−Ｂ２線に沿う断面図である。
【図１３】図１３（ａ）は、第４実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その３）であり、図１３（ｂ）は図１３（ａ）のＢ３−Ｂ３線に沿う断面図である。
【図１４】図１４（ａ）は、第４実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その４）であり、図１４（ｂ）は図１４（ａ）のＢ４−Ｂ４線に沿う断面図である。
【図１５】図１５は、第４実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。
【図１６】図１６（ａ）は、第５実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その１）であり、図１６（ｂ）は図１６（ａ）のＣ１−Ｃ１線に沿う断面図である。
【図１７】図１７（ａ）は、第５実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その２）であり、図１７（ｂ）は図１７（ａ）のＣ２−Ｃ２線に沿う断面図である。
【図１８】図１８（ａ）は、第５実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図（その３）であり、図１８（ｂ）は図１８（ａ）のＣ３−Ｃ３線に沿う断面図である。
【図１９】図１９は、第５実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下に、本実施形態について添付図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２１】
（第１実施形態）
図１〜図４は、本実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。
【００２２】
本実施形態では、BGA等の半導体パッケージを回路基板上に実装してなる半導体装置について説明する。
【００２３】
この半導体装置を製造するには、まず、図１（ａ）に示すように、表面に複数の第１の電極４を備えた回路基板１を用意する。
【００２４】
その回路基板１の表面にはソルダレジスト層２が形成されており、そのソルダレジスト層２の窓２ａ内に、銅膜等をパターニングしてなる第１の電極４が形成される。
【００２５】
次いで、図１（ｂ）に示すように、第１の電極４の各々の表面４ａを銅に対するエッチング液、例えば塩酸又はクロム酸に曝すことにより、当該表面４ａに表面粗さが１μm程度の凹凸を付与する。
【００２６】
このような表面４ａの粗化処理はウエットエッチングに限定されない。例えば、サンドブラスト、機械研磨、又はアルゴンガスを用いるスパッタエッチングによって粗化を行ってもよい。或いは、電解銅めっきにより第１の電極４を形成するときに、電流密度を調節することにより、電解銅めっき層の疎密をコントロールして表面４ａに凹凸を付与するようにしてもよい。
【００２７】
次いで、図１（ｃ）に示すように、回路基板１の上側全面にドライフィルムレジストを貼付し、それを露光、現像して第１のレジストパターン６を形成する。
【００２８】
その第１のレジストパターン６には複数の窓６ａが設けられ、これらの窓６ａから第１の電極４の各々が露出する。
【００２９】
続いて、図２（ａ）に示すように、第１のレジスト６上と窓６ａ内とにスパッタ法等によりシード層８として銅膜を０．１μm〜０．５μm程度の厚さに形成する。
【００３０】
そして、図２（ｂ）に示すように、液温が約９０℃に維持されたニッケル用のめっき液中に回路基板１を約２分間浸すことにより、シード層８の表面に無電解めっきにより厚さが０．５μm〜２μm程度のニッケル層を析出させ、そのニッケル層をバリアメタル層１０とする。
【００３１】
ここで、ニッケル用のめっき液の中に、リン、タングステン、及びホウ素のいずれかを添加してもよい。これらを添加することで、バリアメタル層１０の光沢が増し、バリアメタル層１２の美感を高めることができる。
【００３２】
バリアメタル層１０は、後述のように、銅と錫の反応を防止する層として機能する。そのような機能を有する層としては、ニッケル層の他にコバルト層や鉄層もあり、これらのいずれか或いはこれらの合金層をバリアメタル層１０として形成してもよい。
【００３３】
次に、図２（ｃ）に示すように、バリアメタル層１０に対して無電解めっきと電解めっきをこの順に行うことにより錫層１２を形成する。
【００３４】
錫層１２の厚さは特に限定されないが、錫層１２のうち無電解めっきによる部分の厚さは５μm〜１０μm程度とするのが好ましく、電解めっきによる部分は５μm以上とするのが好ましい。
【００３５】
このように電解めっきを併用することで、無電解めっきのみで錫層１２を形成する場合と比較して、錫層１２の厚膜化が容易となる。
【００３６】
その後に、図３（ａ）に示すように、第１のレジストパターン６をリフトオフすることにより、第１の電極４の上にのみバリアメタル層１０と錫層１２とを残す。
【００３７】
ここまでの工程により、回路基板１側に対する処理を終了する。
【００３８】
この後は、図３（ｂ）に示すように、BGAやCSP等の半導体パッケージ２０を用意する。
【００３９】
その半導体パッケージ２０の表面にはポリイミド層等の保護層２４が形成されており、その保護層２４の窓内には銅膜等をパターニングしてなる第２の電極２２が形成されており、その第２の電極２２にははんだバンプ１８が接合される。
【００４０】
各はんだバンプ１８は、例えばその直径が約６００μm〜７００μmであって、配列ピッチが約１mm〜１．５mmである。
【００４１】
はんだバンプ１８の材料は特に限定されない。但し、環境への配慮という観点から、無鉛はんだをはんだバンプ１８の材料として用いるのが好ましい。
【００４２】
本実施形態で使用し得る無鉛はんだとしては、例えば、Sn-3.0Ag-0.5Cuはんだがある。このはんだは、主成分である９６．５重量%の錫に、３．０重量%の銀と０．５重量%の銅とを添加してなる。
【００４３】
これらの添加金属のうち、銀は、はんだバンプ１８の材料的強度を向上する材料として知られており、標準的な無鉛はんだに好適に添加される材料である。
【００４４】
一方、銅は、銅電極とはんだバンプ１８とを接合するときに、銅電極中の銅が侵食されてはんだバンプ１８に取り込まれるのを阻止する役割を担う。
【００４５】
なお、添加材料としては、銀と銅の他に、ビスマス、インジウム、亜鉛、及びアンチモンがあり、これらの一以上を上記の無鉛はんだバンプに添加し得る。
【００４６】
更に、このように錫を主成分とする無鉛はんだに代えて、ビスマス、インジウム、亜鉛、銀、アンチモン、及び銅のいずれかの金属を主成分とする無鉛はんだバンプを用いてもよい。
【００４７】
本工程では、半導体パッケージ２０を回路基板１側に下ろし、上記のはんだバンプ１８を第１の電極４上の錫層１２に当接させる。
【００４８】
そして、図４に示すように、リフロー雰囲気中ではんだバンプ１８と錫層１０とを加熱して溶融することにより、各はんだバンプ１８を第１の電極４に接合する。このリフローは、例えば、窒素雰囲気となっているコンベア炉に回路基板１と半導体パッケージ２０とを入れ、温度プロファイルの最高温度を２５０℃に抑えながら、はんだバンプ１８をその融点の約２１７℃以上に約２分間加熱することにより行われる。
【００４９】
そして、はんだバンプ１８が冷却して凝固すると、はんだバンプ１８を介して回路基板１と半導体パッケージ２０とが電気的かつ機械的に接続される。
【００５０】
なお、このようにはんだバンプ１８と錫層１２を同時にリフローするのではなく、これらを個別にリフローしてから接合するようにしてもよい。これについては、後述の各実施形態でも同様である。
【００５１】
以上により、本実施形態に係る半導体装置の基本構造が完成した。
【００５２】
上記した本実施形態によれば、図４に示すリフロー工程において、はんだバンプ１８と共に錫層１２も溶融し、溶融した錫層１２の一部がはんだバンプ１８に取り込まれる。これにより、リフロー前と比較して、はんだバンプ１８中の錫の濃度が増大し、相対的に当該はんだバンプ１８中の銀の濃度が低下する。
【００５３】
銀濃度の低下の度合いは、錫層１２の膜厚に依存し、その膜厚が厚い程はんだバンプ１８中の銀濃度が低下し易くなる。例えば、錫層１２の厚さを１０μm以上にすると、はんだバンプ１８中の銀濃度が３．０％であったのが、リフローによって２〜２．３％程度と低くすることができ、銀濃度を効果的に低減できる。
【００５４】
既述のように、銀は、はんだバンプの材料的強度を向上する材料として無鉛はんだに標準的に添加される材料である。
【００５５】
とろこが、本願発明者の知見によれば、無鉛はんだバンプ中の銀濃度を低くした方が、はんだバンプのヤング率が低下し、更にその伸び特性も向上して、はんだバンプの材料的強度は向上することが明らかとなった。
【００５６】
よって、上記のように溶融した錫層１２によってはんだバンプ１８中の銀濃度を低下させることで、伸び特性が低い無鉛はんだをはんだバンプ１８の材料として用いても、リフロー後のはんだバンプ１８の材料的強度を向上させることができる。
【００５７】
このように材料的強度が向上することで、無鉛はんだ用の高温のリフロー雰囲気が原因で回路基板１や半導体パッケージ２０に反りが生じても、各電極４、２２間のはんだバンプ１８にクラックが入り難くなる。
【００５８】
特に、一辺の長さが３０mmを超えるような大型の半導体パッケージ２０ではリフロー時に反りが顕著に発生するので、本実施形態はこのような大型の半導体パッケージを使用する場合に特に実益がある。
【００５９】
しかも、錫層１２の下に、銅と錫との反応を抑制するバリアメタル層１０を形成したので、錫層１２中の錫と第１の電極４中の銅との反応が抑えられ、錫層１２と第１の電極４との界面にCu6Sn5等からなるCuSn合金層が形成され難くなる。
【００６０】
CuSn合金層は、その結晶粒が比較的大きいため結晶粒の界面からクラック等が入り易く、固くて脆い材料である。
【００６１】
これに対し、本実施形態のようにバリアメタル層１０としてニッケル層を形成すると、錫層１２と第１の電極４との界面に(Cu,Ni)6Sn5等を含む金属化合物層が形成される。(Cu,Ni)6Sn5は、Cu6Sn5と比較して結晶粒が小さいので、当該結晶粒の界面からクラックが入り難くなり、はんだバンプ１８と第１の電極４との接合を落下衝撃等に対して強くすることが可能となる。
【００６２】
更に、図１（ｂ）に示したように、粗化処理によって第１の電極４の表面４ａに凹凸を付与したので、回路基板１の主面に平行な方向からはんだバンプ１８にクラックが入ろうとしても、上記の凹凸によってクラックの侵入が阻止できるようになる。
【００６３】
以下に、本実施形態に関連して本願発明者が行った調査について説明する。
【００６４】
・第１の調査
本調査では、本実施形態のようにバリアメタル層１０としてニッケル層を形成したサンプルを５個作製した。同様に、バリアメタル層１０としてコバルト層を形成したサンプルを５個、バリアメタル層１０として鉄層を形成したサンプルを５個作製した。
【００６５】
また、比較例として、バリアメタル層１０と錫層１２を省き、更に第１の電極４に対する粗化処理を省略したサンプルも５個作製した。
【００６６】
その後、本実施形態と比較例の各サンプルについて、−５５℃の冷却保持時間を３０分、１２５℃の加熱保持時間を３０分とし、これら冷却時間と加熱時間とを５００回繰り返す温度サイクル試験を行った。
【００６７】
そして、この試験を終了した後、各々のサンプルの第１の電極４とはんだバンプ１８との間の抵抗値を測定し、その抵抗値が許容値を超えたものを不良と判定した。
【００６８】
この結果を表１に示す。
【００６９】
【表１】
0005476926.tif 000002
【００７０】
表１に示されるように、本実施形態では、バリアメタル層１０としてニッケル層、コバルト層、鉄層のいずれを形成する場合でも不良と判定されたサンプルはなかった。
【００７１】
これに対し、バリアメタル層１０を形成しない比較例では、５個のサンプルのうち３個のサンプルが不良となった。
【００７２】
このことから、本実施形態のようにバリアメタル層としてニッケル層等を形成することにより、第１の電極４とはんだバンプ１８との接合部が温度変化に対して良好な信頼性を維持できることが確認できた。
【００７３】
・第２の調査
本調査では、第１の調査と同様にして、本実施形態と比較例のそれぞれについてサンプルを作製した。
【００７４】
その後、高さ１０cmの所から各サンプルを自由落下させ、各サンプルに衝撃を与える試験を２００回行った。
【００７５】
そして、この試験を終了した後、各々のサンプルの第１の電極４とはんだバンプ１８との間の抵抗値を測定し、その抵抗値が許容値を超えたものを不良と判定した。
【００７６】
この結果を表２に示す。
【００７７】
【表２】
0005476926.tif 000003
【００７８】
表２に示されるように、本実施形態では、第１の電極４とはんだバンプ１８との間の抵抗値が上昇して不良と判定されたサンプルはなかった。
【００７９】
一方、バリアメタル層１０を形成しない比較例では、５個のサンプルのうち４個のサンプルが不良となった。
【００８０】
この結果より、本実施形態に従って作製したサンプルでは、第１の電極４とはんだバンプ１８との接合部が落下等の耐衝撃性に優れていることが明らかとなった。
【００８１】
（第２実施形態）
第１実施形態では、図３（ａ）に示したように、第１の電極４の全面にバリアメタル層１０を形成したが、本実施形態では以下のようにバリアメタル層１０をドット状に形成する。
【００８２】
図５（ａ）〜（ｃ）は、本実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。なお、これらの図において第１実施形態と同じ要素には第１実施形態と同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
【００８３】
この半導体装置を製造するには、まず、第１実施形態で説明した図１（ａ）〜図２（ａ）の工程を行う。
【００８４】
その後、図５（ａ）に示すように、シード層８の上にドライフィルムレジストを貼付し、それを露光、現像することにより、第１の電極４ａの上に複数の細孔を備えた第２のレジストパターン２５を形成する。
【００８５】
そして、この第２のレジストパターン２５をマスクにしながら、液温が約９０℃に維持されたニッケル用のめっき液中に回路基板１を約２分間浸す。これにより、シード層８の表面に、バリアメタル層１０として厚さが０．５μm〜２μm程度のドット状のニッケル層が形成されることになる。
【００８６】
次に、図５（ｂ）に示すように、第２のレジストパターン２５を除去する。
【００８７】
この後は、第１実施形態で説明した図２（ｃ）〜図３（ａ）の工程を行うことにより、図５（ｃ）に示すように、ドット状のバリアメタル層１０の上に錫層１２を形成する。
【００８８】
そして、図６に示すように、第１実施形態の図４と同様にして、半導体パッケージ２０のはんだバンプ１８をリフローして錫層１２に接合する。
【００８９】
以上により、本実施形態に係る半導体装置の基本構造が完成する。
【００９０】
本実施形態のようにバリアメタル層１０をドット状に形成すると、はんだバンプ１８をリフローするとき、錫層１２やはんだバンプ１８の濡れ性が向上し、これらを良好にはんだ付けすることが可能となる。
【００９１】
（第３実施形態）
図７〜図９は、本実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図と断面図であり、図１０はその断面図である。なお、これらの図において、第１実施形態で説明したのと同じ要素には第１実施形態と同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
【００９２】
本実施形態では、錫層１２の平面形状を以下のように十字型にする。
【００９３】
この半導体装置を製造するには、まず、第１実施形態の図１（ａ）〜図２（ｂ）の工程を行う。
【００９４】
次いで、図７（ａ）、（ｂ）に示すように、回路基板１の上側全面にドライフィルムレジストを貼付し、それを露光、現像して第３のレジストパターン３０とする。
【００９５】
その第３のレジストパターン３０は、第１の電極４の上方に、平面形状が十字型の窓３０ａを有する。
【００９６】
次に、図８（ａ）、（ｂ）に示すように、窓３０ａに露出するバリアメタル層１０の上に、無電解めっきと電解めっきをこの順に行うことにより、平面形状が十字型の錫層１２を形成する。
【００９７】
その錫層１２のうち、無電解めっきにより形成された部分の厚さは５μm〜１０μm程度である。また、電解めっきはシード層８を給電層にして行われ、電解めっきで形成された部分の錫層１２の厚さは５μm以上であるのが好ましい。
【００９８】
この後に、第３のレジストパターン３０は除去される。
【００９９】
続いて、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、第１のレジストパターン６をリフトオフすることにより、第１の電極４の上にのみバリアメタル層１０と錫層１２とを残す。
【０１００】
次いで、図１０に示すように、半導体パッケージ２０が備えるはんだバンプ１８を錫層１２に当接させ、窒素雰囲気となっているコンベア炉内においてはんだバンプ１８と錫層１８とをリフローする。そのリフローでは、はんだバンプ１８がその融点である約２１７℃以上の温度に約２分間加熱される。また、リフローの温度プロファイルの最高温度は２５０℃である。
【０１０１】
ここで、本実施形態のように錫層１２の平面形状を十字型にすると、十字型の各辺１２ａ（図９（ａ）参照）に沿って溶融した錫層１２が表面張力によって流動し、第１の電極４の中央付近に錫層１２が凝集する。これにより、錫層１２内の錫がはんだバンプ１８に効率的に取り込まれるようになるので、リフロー前と比較してはんだバンプ１８中の錫の濃度を高め易くなる。
【０１０２】
そのため、はんだバンプ１８中の銀の濃度が相対的に低くなり、Sn-3.0Ag-0.5Cuはんだ等の無鉛材料からなるはんだバンプ１８の材料的強度を高めることができるようになる。
【０１０３】
その後、はんだバンプ１８と錫層１２が冷却して凝固すると、回路基板１と半導体パッケージ２０とがはんだバンプ１８を介して電気的かつ機械的に接続される。
【０１０４】
以上により、本実施形態に係る半導体装置の基本構造が完成する。
【０１０５】
上記した本実施形態によれば、錫層１２の平面形状を十字型にすることで、溶融した錫層１２が表面張力によって第１の電極４の中央付近に凝集するので、錫層１２がはんだバンプ１８に効率的に取り込まれる。その結果、はんだバンプ１８中の銀の濃度が低下し、はんだバンプ１８の材料的強度を向上させることが可能となる。
【０１０６】
以下に、本実施形態に関連して本願発明者が行った調査について説明する。
【０１０７】
・第１の調査
本調査では、上記のように十字型の錫層１２を形成したサンプルを５個作製した。
【０１０８】
また、比較例として、バリアメタル層１０と錫層１２を省き、更に第１の電極４に対する粗化処理を省略したサンプルも５個作製した。
【０１０９】
その後、本実施形態と比較例の各サンプルについて、−５５℃の冷却保持時間を３０分、１２５℃の加熱保持時間を３０分とし、これら冷却保持時間と加熱保持時間とを５００回繰り返す温度サイクル試験を行った。
【０１１０】
そして、この試験を終了した後、各々のサンプルの第１の電極４とはんだバンプ１８との間の抵抗値を測定し、その抵抗値が許容値を超えたものを不良と判定した。
【０１１１】
その結果、本実施形態では不良と判定されたサンプルはなかった。
【０１１２】
一方、比較例では、５個のサンプルのうち３個のサンプルに不良が発生した。
【０１１３】
この結果から、錫層１２を十字型にしても、第１の電極４とはんだバンプ１８との接合部が温度変化に対して良好な信頼性を維持できることが確認できた。
【０１１４】
・第２の調査
本調査では、第１の調査と同様にして、本実施形態と比較例のそれぞれについてサンプルを作製した。
【０１１５】
その後、高さが１０cmの所から各サンプルを自由落下させ、各サンプルに衝撃を与える試験を２００回行った。
【０１１６】
そして、この試験を終了した後、各々のサンプルの第１の電極４とはんだバンプ１８との間の抵抗値を測定し、その抵抗値が許容値を超えたものを不良と判定した。
【０１１７】
この結果、本実施形態では不良と判定されたサンプルはなかったのに対し、比較例では５個のサンプルのうち４個のサンプルに不良が発生した。
【０１１８】
これにより、本実施形態のように錫層１２を十字型にしても、第１の電極４とはんだバンプ１８との接合部の耐衝撃性が良好になることが確認できた。
【０１１９】
（第４実施形態）
第３実施形態では、図８（ａ）、（ｂ）を参照して説明したように、十字型の錫層１２を無電解めっきと電解めっきにより形成した。
【０１２０】
これに対し、本実施形態では、無電解めっきのみで錫層１２を形成する。
【０１２１】
図１１〜図１４は、本実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図と断面図であり、図１５はその断面図である。なお、これらの図において、第１実施形態で説明したのと同じ要素には第１実施形態と同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
【０１２２】
この半導体装置を製造するには、まず、図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、第１の電極４の上に無電解めっきによりバリアメタル層１０としてニッケル層を０．５μm〜２μm程度の厚さに形成する。
【０１２３】
次いで、図１２（ａ）、（ｂ）に示すように、回路基板１の上側全面にドライレジストフィルムを貼付し、それを露光、現像することにより、第１の電極４の上方に平面形状が十字型の窓３０ａを備えた第３のレジストパターン３０を形成する。
【０１２４】
次に、図１３（ａ）、（ｂ）に示すように、第３のレジストパターン３０をマスクに用い、窓３０ａから露出しているバリアメタル層１０の上に無電解めっきにより錫層１２を１μm〜５μm程度の厚さに形成する。
【０１２５】
そして、図１４（ａ）、（ｂ）に示すように、第３のレジストパターン３０を除去する。
【０１２６】
この後は、図１５に示すように、半導体パッケージ２０のはんだバンプ１８を錫層１２に当接させ、この状態ではんだバンプ１８と錫層１２の各々をリフローする。リフローの条件は第３実施形態と同様であって、コンベア炉内において最高温度を２５０℃にしながら、約２１７℃の温度でリフローを行う。
【０１２７】
このとき、第３実施形態で説明したように、溶融した錫層１２は、十字型の各辺１２ａ（図１４（ａ）参照）に沿って流動して第１の電極４の中央付近に凝集するので、錫層１２がはんだバンプ１８に効率的に取り込まれ、はんだバンプ１８の銀の濃度を低減できる。
【０１２８】
その後、はんだバンプ１８と錫層１２が冷却して凝固することで、回路基板１と半導体パッケージ２０とがはんだバンプ１８を介して電気的かつ機械的に接続され、本実施形態に係る半導体装置の基本構造が得られる。
【０１２９】
以上説明した本実施形態によれば、無電解めっきのみによりはんだバンプ１８を形成するので、電解めっきも併用する第３実施形態と比較して工程の簡略化を図ることが可能となる。
【０１３０】
（第５実施形態）
本実施形態では、錫層１２の平面形状を以下のように円形にする。
【０１３１】
図１６〜図１８は、本実施形態に係る半導体装置の製造途中の平面図と断面図であり、図１９はその断面図である。なお、これらの図において、第１実施形態で説明したのと同じ要素には第１実施形態と同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
【０１３２】
この半導体装置を製造するには、まず、第１実施形態に従って既述の図２（ｂ）の断面構造を得る。
【０１３３】
そして、図１６（ａ）、（ｂ）に示すように、回路基板１の上側全面にドライフィルムレジストを貼付し、それを露光、現像して第３のレジストパターン３０とする。
【０１３４】
その第３のレジストパターン３０は、第１の電極４の上方に、当該第１の電極４よりも小さい平面形状が円形の窓３０ｂを備える。
【０１３５】
次いで、図１７（ａ）、（ｂ）に示すように、第３のレジストパターン３０をマスクに使用しながら、窓３０ｂから露出するバリアメタル層１０の上に錫層１２を形成する。
【０１３６】
錫層１２は無電解めっきと電解めっきとをこの順に行うことで形成され、無電解めっきにより形成された部分の厚さは５μm〜１０μm程度、そして電解めっきにより形成された部分の厚さは５μm以上とするのが好ましい。また、電解めっきに際しては、シード層８が給電層として使用される。
【０１３７】
その錫層１２の平面形状は、窓３０ｂを反映し、第１の電極４よりも小さな円形となる。
【０１３８】
この後に、第３のレジストパターン３０は除去される。
【０１３９】
続いて、図１８（ａ）、（ｂ）に示すように、第１のレジストパターン６をリフトオフすることにより、第１の電極４の上にのみバリアメタル層１０と錫層１２とを残す。
【０１４０】
次いで、図１９に示すように、半導体パッケージ２０のはんだバンプ１８を錫層１２に当接させ、この状態でコンベア炉内において温度プロファイルの最高温度を２５０℃に設定し、はんだバンプ１８と錫層１２を加熱して溶融する。
【０１４１】
このとき、本実施形態では第１の電極４よりも小さな円形に錫層１２を形成したので、溶融した錫層１２がはんだバンプ１８に簡単に取り込まれ、溶融した錫層１２が第１の電極４の周縁部に濡れ広がるのを抑制できる。
【０１４２】
これにより、錫層１２の大部分がはんだバンプ１８に取り込まれるようになるので、はんだバンプ１８中の銀の濃度を効率的に低下させることができ、はんだバンプ１８の材料的強度を向上させることができる。
【０１４３】
その後、錫層１２とはんだバンプ１８が冷却して凝固することで、半導体パッケージ２０と回路基板１とがはんだバンプ１８を介して電気的かつ機械的に接続され、本実施形態に係る半導体装置の基本構造が完成する。
【０１４４】
以上説明した本実施形態によれば、錫層１２の平面形状を第１の電極４よりも小さな円形にすることで、錫層１２とはんだバンプ１８をリフローする際、はんだバンプ１８に溶融した錫層１２をすぐさま取り込むことができる。
【０１４５】
その結果、溶融した錫層１２が第１の電極４の周縁部に無駄に広がるのを防止でき、はんだバンプ１８中の銀の濃度を効果的に低減して当該はんだバンプ１８の材料的強度を高めることが可能となる。
【０１４６】
以上、各実施形態について詳細に説明したが、各実施形態は上記に限定されない。
【０１４７】
例えば、上記では、回路基板１と半導体パッケージ２０とを接続するのにはんだバンプ１８を使用したが、接続対象はこれに限定されず、半導体素子等の半導体部品と回路基板１とをはんだバンプ１８で接続するようにしてもよい。
【０１４８】
更に、その半導体部品の接続対象となる下地は回路基板１に限定されず、回路基板１に代えて半導体素子を用いてもよい。
【０１４９】
以上説明した各実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
【０１５０】
（付記１）  銅を含む第１の電極が表面に形成された下地と、
前記第１の電極の表面に形成され、前記銅と錫との反応を抑制するバリアメタル層と、
前記バリアメタル層の上に形成された錫層と、
前記錫層を介して前記第１の電極に接合された無鉛はんだバンプと、
前記無鉛はんだバンプと接合された第２の電極を備えた半導体部品と、
を有することを特徴とする半導体装置。
【０１５１】
（付記２）  前記バリアメタル層は、ニッケル、コバルト、及び鉄のいずれか、或いはこれらの合金を含むことを特徴とする付記１に記載の半導体装置。
【０１５２】
（付記３）  前記第１の電極の表面に、粗化処理が施されていることを特徴とする付記１又は付記２に記載の半導体装置。
【０１５３】
（付記４）  前記無鉛はんだバンプは、錫を主成分とし、ビスマス、インジウム、亜鉛、銀、アンチモン、及び銅のいずれかを添加材料として含むことを特徴とする付記１〜３のいずれかに記載の半導体装置。
【０１５４】
（付記５）  下地の表面に形成された銅を含む第１の電極の上に、前記銅と錫との反応を抑制するバリアメタル層を形成する工程と、
前記バリアメタル層の上に錫層を形成する工程と、
半導体部品の第２の電極に接合された無鉛はんだバンプを前記錫層に当接させ、該バンプを加熱して溶融することにより、前記第１の電極と前記第２の電極とを前記バンプを介して接続する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【０１５５】
（付記６）  前記バリアメタル層を形成する工程において、ニッケル、コバルト、及び鉄のいずれか、或いはこれらの合金を含む層を前記バリアメタル層として形成することを特徴とする付記５に記載の半導体装置の製造方法。
【０１５６】
（付記７）  前記バリアメタル層を形成する工程において、前記第１の電極の表面に前記バリアメタル層をドット状に形成することを特徴とする付記５又は付記６に記載の半導体装置の製造方法。
【０１５７】
（付記８）  前記錫層を形成する工程において、十字型の平面形状に前記錫層を形成することを特徴とする付記５又は付記６に記載の半導体装置の製造方法。
【０１５８】
（付記９）  前記錫層を形成する工程において、前記第１の電極よりも小さな円形の平面形状に前記錫層を形成することを特徴とする付記５又は付記６に記載の半導体装置の製造方法。
【符号の説明】
【０１５９】
１…回路基板、２…ソルダレジスト層、２ａ…窓、４…第１の電極、４ａ…表面、６…第１のレジストパターン、６ａ…窓、８…シード層、１０…バリアメタル層、１２…錫層、１２ａ…辺、１８…はんだバンプ、２０…半導体パッケージ、２２…第２の電極、２４…保護層、２５…第２のレジストパターン、３０…第３のレジストパターン、３０ａ、３０ｂ…窓。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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