(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ処理装置において、
加工物をロードするローディングエリアと、
加工物を処理する処理エリアと、
前記ローディングエリアと前記処理エリアとの間に配置されたマルチテーブルシステムとを備え、前記マルチテーブルシステムは、前記ローディングエリアと前記処理エリアとの間を移動しながら、すれ違うように構成された少なくとも２つのテーブルを備え、前記少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、加工物を保持すべく形成され、
前記少なくとも２つのテーブルのうちの第１のテーブルはシャフトに沿った移動を与えるとともに同一の軸上での回転を与えるための軸受上に載置され、前記少なくとも２つのテーブルのうちの第１のテーブルは、前記少なくとも２つのテーブルのうちの第２のテーブルと前記第１のテーブルが前記ローディングエリアと前記処理エリアの間ですれ違うことができるように、前記シャフト上で旋回して前記第１のテーブルの側部を上昇または下降させる、
リソグラフィ処理装置。
【請求項２】
パターン発生器である請求項１に記載の装置。
【請求項３】
測定装置または検査装置の少なくとも一方である請求項１に記載の装置。
【請求項４】
走査マルチビームシステムである請求項１に記載の装置。
【請求項５】
１つまたは複数の回転光学アームを含む光学処理デバイスであり、前記１つまたは複数の回転光学アームは、変調器から前記加工物の表面へ画像情報を中継するように構成された光学部品を含む請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、前記少なくとも２つのテーブルの他のテーブルの上または下を通過するように構成される請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルが、前記少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルの下を通過するように、前記第１のテーブルを持上げるように構成された少なくとも第１のメカニカルハンドをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記マルチテーブルシステムは、
前記少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルおよび第２のテーブルを含む第１のテーブル組立体であって、前記ローディングエリアと前記処理エリアとの間を移動するように構成される、第１のテーブル組立体と、
前記少なくとも２つのテーブルの第３のテーブルおよび第４のテーブルを含む第２のテーブル組立体であって、前記ローディングエリアと前記処理エリアとの間を移動するように構成される、第２のテーブル組立体とをさらに備え、
前記第１のテーブルは前記第２のテーブル上に載置され、
前記第３のテーブルは前記第４のテーブル上に載置され、
前記第１のテーブルは、前記ローディングエリアと前記処理エリアとの間を移動するときに、前記第３のテーブルの上を通過するように、アクチュエータによって上昇または下降される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記第２のテーブルおよび第４のテーブルは、前記ローディングエリアと前記処理エリアとの間を移動するときに、同じ垂直高さまたは実質的に同じ垂直高さですれ違う、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルは、第１の垂直に作動可能なシャフト上に載置され、前記少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルは、第２の垂直に作動可能なシャフト上に載置され、
前記第１および第２のテーブルは、前記第１および第２のテーブルの一方のテーブルが、前記ローディングエリアと前記処理エリアとの間を移動するときに、前記第１および第２のテーブルの他のテーブルの下を通過するように、上昇または下降される、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルは、前記少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルより小さく、前記第１のテーブルは、前記ローディングエリアと前記処理エリアとの間を移動するときに、前記第２のテーブルの下を通過するように構成される請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
加工物にリソグラフィの処理を行うための方法において、
少なくとも２つのテーブルの第１のテーブル上に第１の加工物をロードする工程と、
前記第１のテーブルを処理エリアまで移動させる工程と、
前記第１の加工物を処理する工程と、
前記少なくとも２つのテーブルの第２のテーブル上に第２の加工物をロードする工程と、
前記第２のテーブルを前記処理エリアまで移動させる工程とを備え、
前記第１のテーブルと第２のテーブルが互いにすれ違うときに、前記テーブルのうちの少なくとも一方をそのテーブルが沿って移動しているシャフトの軸の周りに旋回して、前記テーブルのうちの少なくとも一方の側部を上昇または下降させることによって、前記第１のテーブルと第２のテーブルの通過を可能にさせる、加工物にリソグラフィの処理を行うための方法。
【請求項１３】
前記第１の加工物が処理される時間は、前記第２の加工物がロードされる時間に少なくとも部分的に重複している、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
パターン発生器であって、
加工物上でパターンを生成することができるパターン発生ユニットと、
前記パターン発生ユニットとの間で加工物を移動させるべく形成されているテーブルシステムとを備え、前記テーブルシステムは少なくとも２つのテーブルを含み、前記少なくとも２つのテーブルのうちの第１のテーブルはローディングエリアと前記パターン発生ユニットとの間に延在するシャフト上に載置され、前記少なくとも２つのテーブルは加工物を搬送すべく形成されており、かつ、前記少なくとも２つのテーブルのうちの第１のテーブルが前記少なくとも２つのテーブルのうちの第２のテーブルの上または下を通過するように、前記シャフトの軸に沿って旋回すべく形成されている、パターン発生器。
【請求項１５】
前記少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、前記ローディングエリアと前記パターン発生ユニットとの間を移動するときに、前記少なくとも２つのテーブルがすれ違うために、上昇または下降の少なくとも一方であるように構成される請求項１４に記載のパターン発生器。
【請求項１６】
前記少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、軸受上に載置され、シャフトに沿う並進移動および同じ軸の周りの回転移動を与える、請求項１４に記載のパターン発生器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本特許出願は、２００９年２月１３日に出願された仮米国特許出願番号第６１／２０２，２８９号に対する優先権を主張する。
【背景技術】
【０００２】
加工物（たとえば、基板またはウェハ）に書込むかまたはパターニングする従来のデバイスでは、ワークフローは、通常、少なくとも４つのプロセスステップ、すなわち、ロード、測定、書込み、およびアンロードを含む。これらのプロセスステップは、直列に実施され、システム資源についてのアイドル時間が存在し、比較的低いスループットをもたらす。
【０００３】
システム資源利用を改善するために、パイプラインアーキテクチャが使用されてもよい。複数基板搬送テーブルを有するデバイスは、並列動作を可能にし、システム資源についてのアイドル時間を低減する。１つの例のデバイスでは、２つのテーブルが、対向する端部から書込みエリアに入るように、単一並進軸上に配置される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、こうした配置構成は、２重のローディングおよびアライメントシステムおよびエリアを必要とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
例示的な実施形態は、テーブルが、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するときにすれ違うマルチテーブルシステムを提供する。こうした例示的な実施形態は、単一ローディングエリアおよび単一処理エリアだけを必要とする。
【０００６】
少なくとも１つの例示的な実施形態は、リソグラフィのための処理装置を提供する。装置は、加工物をロードするローディングエリア、加工物を処理する処理エリア、およびローディングエリアと処理エリアとの間に配置されたマルチテーブルシステムを含む。マルチテーブルシステムは、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動しながら、すれ違うように構成された少なくとも２つのテーブルを含む。少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、加工物を保持するように構成される。
【０００７】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、少なくとも２つのテーブルの別のテーブルの上または下を通過するように構成されてもよい。
【０００８】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するときに、少なくとも２つのテーブルがすれ違うように高くされるかまたは低くされる、の少なくとも一方であるように構成されてもよい。
【０００９】
少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、軸受上に載置されてもよい。軸受は、シャフトに沿う並進移動および軸の周りの回転移動を提供する。装置は、パターン発生器、測定装置、検査装置、走査マルチビームシステム、あるいは１つまたは複数の回転光学アームを含む光学処理デバイスであってよく、１つまたは複数の回転光学アームは、変調器から加
工物の表面へ画像情報を中継するように構成された光学部品を含む。
【００１０】
例示的な実施形態は、図面に関してより詳細に論じられるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムを示す図。
【図２】例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの一部を示す図。
【図３】例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの例示的な動作を示す斜視図。
【図４】別の例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの例示的な動作を示す斜視図。
【図５】別の例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの一部分を示す図。
【図６】さらに別の例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの一部分を示す図。
【図７】さらに別の例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの一部分を示す図。
【図８】エンコーダ出力を結合する方法の例示的な実施形態を示す図。
【図９】例示的な実施形態による加工物を処理する方法を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
例示的な実施形態は、ここで、いくつかの例示的な実施形態が示される添付図面を参照してより完全に述べられるであろう。図面では、層および領域の厚さは、明確にするために誇張される。図面の同じ参照数字は、同じ要素を示す。
【００１３】
詳細な例証的な実施形態が本明細書で開示される。しかし、本明細書で開示される特定の構造的および機能的詳細は、例示的な実施形態を述べるために典型であるに過ぎない。例示的な実施形態は、多くの代替の形態で具現化されてもよく、また、本明細書に述べる例示的な実施形態だけに限定されるものと考えられるべきではない。
【００１４】
しかし、例示的な実施形態を、開示される特定の実施形態に限定するという意図が存在するのではなく、逆に、例示的な実施形態が、適切な範囲内に入る全ての変更物、等価物、および代替物をカバーすることが理解されるべきである。同じ数字は、図の説明全体を通して同じ要素を指す。
【００１５】
用語、第１、第２などが、種々の要素を述べるために本明細書で使用されてもよいが、これらの要素は、これらの用語によって制限されるべきではないことが理解されるであろう。これらの用語は、１つの要素と別の要素を区別するために使用されるだけである。たとえば、例示的な実施形態の範囲から逸脱することなく、第１の要素は第２の要素と呼ばれることができ、同様に、第２の要素は第１の要素と呼ばれることができる。本明細書で使用されるように、用語「および／または(and/or)」は、関連する列挙アイテムの１つまたは複数の任意のまた全ての組合せを含む。
【００１６】
ある要素が、別の要素に「接続される(connected)」または「結合される(coupled)」として言及されるとき、ある要素は、他の要素に直接接続されるまたは結合されうる、または、介在する要素が存在する可能性があることが理解されるであろう。対照的に、ある要素が、別の要素に「直接接続される(directly connected)」または「直接結合される(directly coupled)」として言及されるとき、介在する要素は存在しない。要素間の関係を記述するために使用される他の言葉(word)（たとえば、「の間で(between)」対「直接…の
間で(directly between)」、「隣接して(adjacent)」対「直接隣接して(directly adjacent)」など）は、同じように解釈されるべきである。
【００１７】
本明細書で使用される用語法は、特定の実施形態だけを述べるためのものであり、例示的な実施形態について制限的であることを意図されない。本明細書で使用されるように、単数形「ある(a)」、「ある(an)」、および「その(the)」は、文脈が別途明確に指示しない限り、複数形も含むことが意図される。用語「備える(comprises)」、「備える(comprising)」、「含む(includes)」、および／または「含む(including)」は、本明細書で使用されると、述べる特徴、完全体、ステップ、動作、要素、および／またはコンポーネントの存在を指定するが、１つまたは複数の他の特徴、完全体、ステップ、動作、要素、コンポーネント、および／またはそのグループの存在または追加を排除しないことがさらに理解されるであろう。
【００１８】
いくつかの代替の実施態様では、述べる機能／行為は、図で述べる順序からはずれて起こってもよいことも留意されるべきである。たとえば、連続して示す２つの図は、実際には、関係する機能／行為に応じて、実質的に同時に実行されてもよく、または、時として逆順で実行されてもよい。
【００１９】
例示的な実施形態は、パターンおよび／または画像を読出しまた書込むための、基板またはウェハなどの加工物の走査に関する。例示的な実施形態はまた、加工物を測定することに関する。例示的な基板またはウェハは、フラットパネルディスプレイ、プリント回路板（ＰＣＢ）、アプリケーションをパッケージングする基板または加工物、太陽電池パネル、および同様なものを含む。
【００２０】
例示的な実施形態によれば、読出しおよび書込みは、広い意味で理解される。たとえば、読出し動作は、比較的小さなまたは比較的大きな加工物についての顕微鏡測定、検査、計測、分光測定、干渉測定、散乱測定を含んでもよい。書込みは、フォトレジストを露光すること、光学加熱によってアニーリングすること、アブレーティングすること、光ビームによって表面に対して任意の他の変化を生成することなどを含んでもよい。
【００２１】
例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムは、基板上に画像を書込むパターン発生器（または他の装置）内に（または、それと共に）実装されてもよく、たとえば、パターン発生器は、画像生成変調器の１つまたは複数を備える。
【００２２】
例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムは、加工物を測定する測定および／または検査装置内に（または、それと共に）実装されてもよい。１つまたは複数の例示的な実施形態が実装されてもよい測定および／または検査装置は、検出器、センサ（たとえば時間遅延および積分(time delay and integration)（ＴＤＩ）センサ）、カメラ（たとえば、電荷結合素子（ＣＣＤ）など）、または同様なものの１つまたは複数を備えてもよい。
【００２３】
例示的な実施形態はまた、３次元（３Ｄ）基板などの比較的厚い基板上にパターンを書込むパターン発生器内に実装されてもよく、または、比較的厚い加工物または基板を測定するかまたは検査する装置（たとえば、約２μｍと約１００μｍ以上との間の値より厚いフォトレジスト内で３次元（３Ｄ）パターンを測定するかまたは検査する装置）に実装されてもよい。
【００２４】
例示的な実施形態はまた、少なくとも１つの偏向器を備える音響光学マルチビームシステムなどの走査マルチビームシステムに実装されてもよい。
なおさらに、例示的な実施形態は、加工物上の情報と回転光学アームのハブにおける情報との間の本質的に一貫性がある配向関係を、アームが加工物にわたって孤を掃引するときでさえも維持しながら、変調器から加工物の表面へ画像情報を中継する光学部品を有す
る１つまたは複数の回転光学アームを含む比較的高スループットの光学処理デバイスに実装されてもよい。
【００２５】
例示的な実施形態はまた、検出器センサの１つまたは複数を備える１つまたは複数の回転アームを含む測定および／または検査装置に実装されてもよい。
例示的な実施形態は、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動しながら、テーブルがすれ違うシステムを提供する。少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、処理エリアは、読取りエリア、書込みエリア、および／または測定エリアであってよい。
【００２６】
例示的な実施形態は、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するときに、テーブルがすれ違ってもよいマルチテーブルシステムを提供する。こうした例示的な実施形態は、単一ローディングエリアおよび単一処理エリアだけを必要とする。
【００２７】
少なくとも１つの例示的な実施形態は、リソグラフィ処理装置を提供する。装置は、加工物をロードするローディングエリア、加工物を処理する処理エリア、およびローディングエリアと処理エリアとの間に配置されたマルチテーブルシステムを含む。マルチテーブルシステムは、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動しながら、すれ違うように構成された少なくとも２つのテーブルを含む。少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、加工物を保持するように構成される。
【００２８】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するときに、少なくとも２つのテーブルがすれ違うように高くされるかまたは低くされる、の少なくとも一方であるように構成されてもよい。
【００２９】
少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、軸受上に載置されてもよい。軸受は、シャフトに沿う並進移動および軸の周りの回転移動を提供する。装置は、パターン発生器、測定装置、検査装置、走査マルチビームシステム、あるいは１つまたは複数の回転光学アームを含む光学処理デバイスであってよく、１つまたは複数の回転光学アームは、変調器から加工物の表面へ画像情報を中継するように構成された光学部品を含む。
【００３０】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、少なくとも２つのテーブルの別のテーブルの上または下を通過するように構成されてもよい。
【００３１】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、装置は、さらに、少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルが、少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルの下を通過するように、第１のテーブルを持上げるように構成されてもよい。
【００３２】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、装置は、さらに、少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルが、少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルの下を通過するように、第１のテーブルを持上げるように構成された少なくとも第１のメカニカルハンドを含んでもよい。
マルチテーブルシステムは、さらに、第１のテーブル組立体および第２のテーブル組立体を含む。第１のテーブル組立体は、少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルを含んでもよく、第１のテーブル組立体は、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するように構成される。第２のテーブル組立体は、少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルを含んでもよく、第２のテーブル組立体は、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するように構成される。第１のテーブルは第１の支持部上に載置され、第２のテーブルは第２の支持部上に載置され、第１のテーブルは、ローディングエリアと処理エリアとの
間を移動するときに、第２のテーブルの上を通過するように、アクチュエータによって上げられるかまたは下げられるように構成される。
【００３３】
第１のテーブル組立体の支持部および第２のテーブル組立体の支持部は、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するときに、同じ垂直高さまたは実質的に同じ垂直高さですれ違ってもよい。
【００３４】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルは、第１の垂直に作動可能なシャフト上に載置され、少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルは、第２の垂直に作動可能なシャフト上に載置される。第１および第２のテーブルは、第１および第２のテーブルの一方のテーブルが、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するときに、第１および第２のテーブルの他のテーブルの下を通過するように、上げられるかまたは下げられるように構成されてもよい。
【００３５】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルは、少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルより小さく、第１のテーブルは、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動するときに、第２のテーブルの下を通過するように構成される。
【００３６】
少なくとも１つの他の例示的な実施形態は、リソグラフィアプリケーションについて加工物を処理する方法を提供する。少なくともこの例示的な実施形態によれば、第１の加工物は、少なくとも２つのテーブルの第１のテーブル上にロードされ、第１のテーブルは、処理ユニットまで移動される。第１の加工物は処理され、第２の加工物は、少なくとも２つのテーブルの第２のテーブル上にロードされる。ある実施形態では、第１の加工物が処理される時間は、第２の加工物がロードされる時間に少なくとも部分的にオーバラップする。これは、最新の単一テーブルシステムの場合より高いレートの生産を可能にすることになる。
【００３７】
最新の複数テーブルシステムは、生産ラインにおいて、加工物(piece)の不均一な流れ
および他のシステムに対する不良のインタフェースに悩むことが多い。本発明の例示的な実施形態の対称デュアルテーブル設計は、複数のテーブル間で共有される本質的に平行なシャフトおよびリニアモータレールおよび／またはリニアスケールを設け、それにより、生産ラインにおける他のシステムに対するインタフェースを同様に容易にする均等ペースでの加工物の処理を可能にすることによって、上記問題を解決するかまたは軽減する。
【００３８】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、処理ユニットまで移動するときに、第１のテーブルは、第２のテーブルの上または下を通過する。
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、第２のテーブルは処理エリアまで移動されてもよく、第１のテーブルは、ローディングエリアまで戻るように移動させてもよい。第１および第２のテーブルがすれ違うときに、テーブルの少なくとも一方のテーブルの少なくとも一方の側部が、テーブルの通過を可能にするために上げられるかまたは下げられる。
【００３９】
少なくとも１つの他の例示的な実施形態は、パターン発生器を提供する。パターン発生器は、加工物上でパターンを生成するように構成されたパターン発生ユニットと、パターン発生ユニットへ／から加工物を移動させるように構成されたテーブルシステムとを含む。テーブルシステムは、ローディングエリアとパターン発生ユニットとの間に延在する各シャフト上に載置される少なくとも２つのテーブルを含む。少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、加工物を搬送するように構成され、また、少なくとも２つのテーブルの第１のテーブルが少なくとも２つのテーブルの第２のテーブルの上または下を通過するように、
シャフトのうちのそれぞれ一方のシャフトの軸に沿って旋回するように構成される。
【００４０】
図１は、例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの平面図である。
図１を参照して、マルチテーブルシステム１０は、ローディングエリア１０８および処理エリア１０６を含む。テーブル１１０は、シャフトまたはレール１０２上に載置され、テーブル１１２は、シャフトまたはレール１０４上に載置される。シャフト１０２および１０４は、少なくとも、ローディングエリア１０８と処理エリア１０６との間でかつ両者を通って延在する。テーブル１１０および１１２は、シャフト１０２および１０４上で、ローディングエリア１０８と処理エリア１０６との間で同時発生的にまたは同時に移動するように構成される。１つの例では、シャフト１０２および１０４は、磁気レールであってよく、テーブル１１０および１１２は、リニアモータ（図示せず）によって駆動されてもよい。図１には示さないが、テーブル１１０および１１２は、同じリニアモータあるいはさらに同じシャフトまたはレールを共有してもよい。そのため、ある実施形態では、テーブル１１０および１１２は、共通リニアモータ（図示せず）によって駆動されてもよく、なお別の実施形態では、テーブル１１０および１１２は、その後、同じリニアモータマグネットレールを共有してもよい。本発明の例示的な実施形態による複数テーブルシステムにおいてテーブル間で共通リニアモータを共有することによって、システムの総合コストが、複数マグネットレールを有するシステムと比較して大幅に低減される可能性がある。複数テーブルシステムについての単一共通マグネットレールの使用は、組立て時間も低減する。
【００４１】
非常に正確な速度制御を必要とする高精度システムは、各マグネットレールに沿う力変動を測定し補償する必要がある。本発明の例示的な実施形態に従って、テーブルについて共通レールを導入することは、高精度システムにおいて正確な速度制御を実現する、または、正確な速度制御および較正についての必要性を減少させる可能性がある。
【００４２】
例示的な動作では、テーブル１１０および１１２の一方は、ローディングエリア１０８と処理エリア１０６との間を移動するときに、他のテーブルの上または下を通過する。
ローディングエリア１０８では、加工物が、ロードされるまたアンロードされる。処理エリア１０６では、加工物が処理される。処理エリア１０６は、読取りエリア、書込みエリア、および／または測定エリアであってよい。１つの例では、処理エリア１０６は、テーブル１１０および１１２上にロードされた加工物を処理するように構成された処理ユニットまたは装置（たとえば、読取りユニット、書込みユニット、および／または測定ユニット）を含んでもよい。たとえば、処理エリア１０６は、パターン発生装置、加工物を測定する測定および／または検査装置、音響光学マルチビームパターン発生装置、ならびに比較的高スループットの光学処理デバイスの１つまたは複数を含む。
【００４３】
少なくともいくつかの例示的な実施形態によれば、第１のテーブル（たとえばテーブル１１０）上の加工物が処理される時間は、加工物が第２のテーブル（たとえばテーブル１１２）上にロードされる時間に少なくとも部分的にオーバラップする。
【００４４】
依然として図１を参照して、テーブル１１０および１１２が互いに移動することができるとき、同じローディングシステム、アライメントシステム、および／または処理システムが、テーブル１１０と１１２の両方の上に配置された加工物のために使用されてもよい。したがって、総合スループットが増加する可能性があり、一方、全体システムについてのコストおよび／または空間要件が低減される可能性がある。
【００４５】
図２は、例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの一部分を示す。図２に示すマルチテーブルシステムの部分は、テーブル１１０および１１２が互いに移動する例示的な方法を示す。
【００４６】
図２を参照して、テーブル１１０は、少なくとも２自由度を有するピボット軸受２０２を介してシャフト１０２上に載置される。テーブル１１０はまた、垂直軸受２０４上に載置される。テーブル１１２はまた、少なくとも２自由度を有するピボット軸受２０２を介してシャフト１０４上に載置される。テーブル１１２はまた、垂直軸受２０４上に載置される。図２は、軸受上に載置されたテーブル１１０と１１２の両方を示すが、テーブル１１０および１１２の一方だけが、ピボット軸受２０２上に載置されてもよい。軸受２０２および２０４は、シャフト１０２および１０４に沿うテーブル１１０および１１２の並進移動および回転軸としてのシャフト１０２および１０４の周りのテーブル１１０および１１２の回転移動を可能にする。２自由度を有するピボット軸受２０２は、たとえば、ラジアル空気軸受け、空気ブッシング、磁気軸受、玉軸受、または並進および回転自由度を提供することが可能な任意の種類の軸受であってよい。
【００４７】
ピボット軸受２０２によって提供される回転自由度を使用して、テーブル１１０は、テーブル１１０および１１２がローディングエリアと処理エリアとの間をすれ違うときに、テーブル１１２がテーブル１１０の下を通過するように持上げられてもよい。図２には示さないが、回転自由度はまた、他のテーブル（たとえばテーブル１１０）が、下げられたテーブルの上を通過する間に、テーブルの一方（たとえばターブル１１２）を下げるために使用されてもよい。
【００４８】
少なくとも１つの例示的な実施形態によれば、テーブル１１０および１１２は、すれ違うときを除いて常に、同じ垂直高さまたは実質的に同じ垂直高さで基板またはウェハを搬送してもよい。
【００４９】
例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムは、可動部品をほとんどまたは全く持たずに構築されてもよい。さらに、テーブルは、単一平面にまたがる少なくとも３つの支持点を有する運動学的軸受設計を有してもよく、マルチテーブルシステムの組立ておよび／または調整を簡略化する可能性がある。さらに、先に論じたように、例示的な実施形態によるテーブルは、リニアモータによって駆動されるように設計される場合、同じ磁気レールを共有してもよい。なおさらに、テーブル位置がリニアエンコーダによって測定される場合、テーブルはまた、同じリニアスケールを共有してもよい。複数テーブル用の１つの共通リニアスケールは、コストを低減し、組立てを簡略化し、アライメントについて必要とされる作業を最小にする。さらに、複数テーブル用の１つのスケールは、テーブル間の位置偏差を最小にするであろう。これは、どのテーブルが使用されているかによらず、再現性のある結果を有する処理を容易にする。再現性のある結果を得ることは、処理される各加工物間の重なりが重要な因子であるバッチ処理について特に重要である。複数のスケールと比較した単一のリニアスケールに関する別の利点は、リニアスケールが、通常、粒子および汚染に敏感であるため、単一のリニアスケールが、保護し清浄するのが容易であることである。少なくとも１つの例示的な実施形態では、モータおよび／またはスケールは、テーブルの回転中心の比較的近くに位置決めされてもよく、寄生回転を低減する、かつ／または、最小にする可能性がある。
図３（Ａ）〜（Ｅ）は、テーブル１１０が、ローディングエリア１０８と処理エリア１０６との間を移動するときき、テーブル１１２の下を通過する例示的な動作を示すシーケンスである。
【００５０】
図３（Ａ）に示すように、テーブル１１０および１１２はそれぞれ、最初に、同じ垂直高さまたは実質的に同じ垂直高さに位置決めされる。
図３（Ｂ），（Ｃ）を参照すると、テーブル１１０が、処理エリア１０６に向かって移動し、テーブル１１２に近づくにつれて、テーブル１１２は、テーブル１１０がテーブル１１２の下を通過するように持上げられる。この例では、テーブル１１２は、テーブル１
１２がシャフト１０４の周りに回転し、テーブル１１２の側部が持上げられるように、シャフト１０４上で旋回する。
【００５１】
図３（Ｃ），（Ｄ）を参照して、テーブル１１２が持上げられた後、テーブル１１０は、テーブル１１２の下を通過する。
図３（Ｅ）を参照して、テーブル１１０がテーブル１１２の下を通過した後、テーブル１１２は、その元の位置に戻るように下げられ、処理エリア１０６に向かって移動し続ける。
【００５２】
図３（Ａ）〜（Ｅ）に示す例示的な実施形態は、別の加工物の処理と並列に、１つの加工物のローディング、アンローディング、および測定を可能にする。
少なくともいくつかの実施形態によれば、システム資源は、テーブルがローディングエリアと処理エリアとの間でまたはその逆に移動する間だけ、アイドル状態になる。
【００５３】
少なくともいくつかの実施形態によれば、テーブルの持上げ運動は、テーブルの自由端（たとえば、テーブルがシャフトに載置される側部と対向する）の機械ハンドまたは磁気アクチュエータによって、または、シャフトの周りにトルクを生成するように構成された電磁デバイスによって生成されてもよい。
【００５４】
図４（Ａ）〜（Ｄ）は、機械ハンドがテーブルの側部を持上げる例示的な実施形態を示すシーケンスを示す。この例示的な実施形態では、テーブル４０６は、シャフト４０２上で旋回するようにシャフト４０２上に載置され、テーブル４０６の側部は、機械ハンド４０４によって持上げられることが可能である。機械ハンド４０４は、テーブル４０６を持上げまた持下げるために上げ下げされるように構成される。
【００５５】
図４（Ａ）を参照して、機械ハンド４０４は、テーブル４０６の自由端に載置される。この例では、機械ハンド４０４は、シャフト４０２と対向する側部に載置され、機械ハンド４０４の下側部分が、テーブル４０６の上側表面の上になるように上側位置で位置決めされる。
【００５６】
図４（Ｂ）を参照して、テーブル４０６が機械ハンド４０４に近づくにつれて、機械ハンド４０４の持上げ部分の上側表面がテーブル４０６の下側表面の下になるように、機械ハンド４０４が下げられる。
【００５７】
図４（Ｃ）を参照して、一旦下側位置になると、テーブル４０６は、機械ハンド４０４の持上げ部分の上を通過する。
図４（Ｄ）を参照して、機械ハンド４０４は、その後、別のテーブル（図示せず）がテーブル４０６の下を通過できるように、テーブル４０６の側部を持上げるために、上側位置に移動する。
【００５８】
以下でより詳細に述べるように、他の時間に同じ垂直高さまたは実質的に同じ垂直高さにテーブルを維持しながら、少なくとも２つのテーブルが、異なる垂直レベルで通過することを可能にする考えられる他の設計選択が使用されてもよい。
【００５９】
図５は、別の例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムの一部分を示す。
図５に示すように、テーブル組立体５００Ａおよび５００Ｂは、複数の部品を含む。この例では、１つのテーブル組立体の少なくとも１つの部品は、上げられてもよく、下げられてもよい。
【００６０】
図５を参照して、テーブル組立体５００Ａは、シャフト５０６Ａに沿って並進移動が可
能であるようにシャフト５０６Ａ上に載置される。テーブル組立体５００Ｂは、シャフト５０６Ｂに沿って並進移動が可能であるようにシャフト５０６Ｂ上に載置される。
【００６１】
テーブル組立体５００Ａは、支持部品５０８Ａ上に載置されるテーブル５０２Ａを含む。テーブル組立体５００Ｂは、支持部品５０８Ｂ上に載置されるテーブル５０２Ｂを含む。支持部品５０８Ａおよび５０８Ｂはそれぞれ、同じ垂直高さまたは実質的に同じ垂直高さに配置され、ローディングエリアと処理エリアとの間でまたはその逆に移動するときに、すれ違うように配置される。
【００６２】
図５に示す例示的な実施形態では、テーブル５０２Ａおよび５０２Ｂは、（たとえば、少なくとも水平方向に）支持部品５０８Ａおよび５０８Ｂより大きい。
テーブル５０２Ａおよび５０２Ｂは、すれ違うまで同じ垂直高さに位置決めされてもよい。この例では、テーブル組立体５００Ａおよび５００Ｂが互いに近づくにつれて、テーブル５０２Ａは、テーブル５０２Ｂの上を通過するようにアクチュエータ５０４Ａによって上げられる。
【００６３】
図５には示さないが、テーブル組立体５００Ｂはまた、テーブル５０２Ａと同じ方法で上げられるかまたは下げられるようにアクチュエータを含んでもよい。
図６は、なお別の例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムを示す。
【００６４】
図６を参照して、テーブル６００Ａは、一方の側部で垂直に作動可能なシャフト６０２Ａに固定される。テーブル６００Ｂはまた、一方の側部で垂直に作動可能なシャフト６０２Ｂに固定される。垂直に作動可能なシャフト６０２Ａおよび６０２Ｂは、垂直に作動可能なシャフト６０２Ａおよび６０２Ｂに取付けられていないテーブル６００Ａおよび６００Ｂの端部が互いに面するように、反対側に配置される。
【００６５】
図６に示す例示的な実施形態では、テーブル６００Ａおよび６００Ｂは、ローディングエリアと処理エリアとの間でまたはその逆に移動するときに、すれ違うことができるように離散的な位置に（または連続して）上げられるかまたは下げられてもよい。
【００６６】
例示的な実施形態によれば、テーブル６００Ａおよび６００Ｂの一方は、他方より小さくてもよい。１つの例では、より小さなテーブルは、処理および／またはアライメント中に上げられてもよい。
【００６７】
図７は、なお別の例示的な実施形態によるマルチテーブルシステムを示す。
図７に示すように、テーブル組立体７００Ｂは、テーブル組立体７００Ａのテーブル７０２Ａより小さいテーブル７０２Ｂを含む。この例では、より大きなテーブル７０２Ａは、ローディングエリアと処理エリアとの間でまたはその逆に移動するときに、より小さなテーブル７０２Ｂがより大きなテーブル７０２Ａの下を通過するように上げられてもよい。
【００６８】
より詳細に図７を参照して、テーブル組立体７００Ａは、ローディングエリアと処理エリアとの間で並進移動が可能になるようにシャフト７０６Ａ上に載置される。テーブル組立体７００Ｂは、ローディングエリアと処理エリアとの間で並進移動が可能になるようにシャフト７０６Ｂ上に載置される。
【００６９】
テーブル７０２Ａおよび７０２Ｂは、すれ違うまで同じ垂直高さまたは実質的に同じ垂直高さに位置決めされてもよい。あるいは、テーブル７０２Ａおよび７０２Ｂは、異なる垂直高さに位置決めされてもよい。１つの例では、より小さなテーブル７０２Ｂは、より大きなテーブル７０２Ａの下を通過するように、より大きなテーブル７０２Ａに対して低
い垂直高さに位置決めされてもよい。
【００７０】
テーブル７０２Ａおよび７０２Ｂが、すれ違うまで同じ垂直高さまたは実質的に同じ垂直高さに位置決めされる例では、テーブル組立体７００Ａおよび７００Ｂが互いに近づくにつれて、テーブル７０２Ａは、より大きなテーブル７０２Ａがより小さなテーブル７０２Ｂの上を通過するように、テーブル組立体７００Ａの側部に配置されたアクチュエータ（図示せず）によって上げられる。
【００７１】
例示的な実施形態によるスループットシステムは、位置測定のためにリニアエンコーダを使用してもよい。リニアエンコーダは、速度と分解能との間のトレードオフを強制する帯域幅制限を有する可能性がある。比較的高スループットのシステムでは、比較的高い速度で運搬移動を実施すること、および／または、書込みおよび／またはアライメント中に比較的高い分解能を使用することが有益である可能性がある。これは、１テーブルにつき２つ以上のエンコーダ読取りヘッドを使用すること、および、図８に示すように２つのエンコーダの出力を結合することによって達成されてもよい。
【００７２】
図８は、エンコーダ出力を結合する方法の例示的な実施形態を示す。
図８を参照して、第１のエンコーダは、比較的高い速度（たとえば、約２．５ｍ／分の最高速度）および比較的低い分解能（たとえば、約５０ｎｍ）のために構成され、一方、第２のエンコーダは、比較的低い速度（たとえば、約０．２５ｍ／分の最低速度）および比較的高い分解能（たとえば、約５ｎｍ）のために構成される。第１のエンコーダは、約４００×で補間することが可能であり、一方、第２のエンコーダは、約４０００×で補間することが可能である。
【００７３】
その後、絶対位置が、第１のエンコーダによって与えられ、特別な高分解能ディジットが、第２のエンコーダから付加され、比較的高い分解能の位置がもたらされる可能性があり、その位置は、比較的高い速度の移動中は最後のディジットに誤差を有するが、比較的低い速度の移動中は正確である。
【００７４】
少なくともこの例示的な実施形態によるエンコーダシステムは、エンコーダおよび比較的低い速度−比較的高い分解能のモードと組合せた比較的高い速度−比較的低い分解能のモードを使用する、他のシステム、ステージ解決策、および／または可動物体のために使用されてもよい。
【００７５】
図９は、例示的な実施形態による加工物を処理する方法を示す。明確にするために、図９に示す方法は、図１に示すマルチテーブルシステムに関して述べられるであろう。しかし、例示的な実施形態は、他のマルチテーブルおよび／またはリソグラフィシステムに適用可能であってもよいことが理解される。
【００７６】
図９を参照して、Ｓ９０２にて、加工物が、ローディングエリア１０８のテーブル１１０上にロードされる。
Ｓ９０４にて、テーブル１１０は、シャフト１０２上を処理エリア１０６に移動する。ローディングエリア１０８と処理エリア１０６との間を移動しながら、たとえば図２〜７に関して上述したように、テーブル１１０はテーブル１１２を通過する。より特定の例では、テーブル１１０および１１２の一方は、持上げられ、それにより、テーブル１１０および１１２の他方は、持上げられたテーブルの下を通過する。
【００７７】
なお図９を参照して、Ｓ９０６Ａにて、テーブル１１０上にロードされた第１の加工物が、処理エリア１０６にて処理される。同時発生的にまたは同時に、Ｓ９０６Ｂにて、第２の加工物が、ローディングエリア１０８においてテーブル１１２にロードされる。
【００７８】
Ｓ９０８Ａにて、第１の加工物が処理された後、テーブル１１０は、ローディングエリア１０８に戻るように移動する。同時発生的にまたは同時に、Ｓ９０８Ｂにて、テーブル１１２が、処理エリア１０６に移動する。先に論じたように、ローディングエリア１０８と処理エリア１０６との間で移動しながら、テーブル１１０および１１２は、たとえば、図２〜７に関して上述したようにすれ違う。より特定の例では、テーブル１１０および１１２の一方は、持上げられ、それにより、他のテーブルが、上げられたテーブルの下を通過できる。
【００７９】
なお図９を参照して、Ｓ９１０Ａにて、第１の加工物は、ローディングエリア１０８においてテーブル１１０から下ろされる。同時発生的にまたは同時に、Ｓ９１０Ｂにて、第２の加工物が、処理エリア１０６で処理される。
【００８０】
図９に関して述べる方法は、マルチテーブルシステムのスループットを改善するために反復して繰返されてもよく、それにより、一方のテーブル上にロードされた加工物が、別のテーブル上の加工物のローディングと同時発生的にまたは同時に処理されてもよい。
【００８１】
図９に示す例示的な実施形態によれば、第１の加工物が処理される時間は、第２の加工物がテーブル上にロードされる時間に少なくとも部分的にオーバラップする。
先の説明は、例証および説明のために提供された。先の説明は、網羅的であることを意図されない。特定の例示的な実施形態の個々の要素または特徴は、一般に、その特定の例に限定されるのではなく、適用可能である場合には交換可能であり、たとえ具体的に示されるかまたは述べられなくても、選択された実施形態で使用されうる。同じことはまた、多くの方法で変わってもよい。こうした変形は、例示的な実施形態からの逸脱とみなされず、全てのこうした変更は、本明細書で述べる例示的な実施形態の範囲内に含まれることが意図される。
【図１】
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【図２】
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【図３（Ａ）】
0005509221.tif 000004
【図３（Ｂ）】
0005509221.tif 000005
【図３（Ｃ）】
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【図３（Ｄ）】
0005509221.tif 000007
【図３（Ｅ）】
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【図４（Ａ）】
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【図４（Ｂ）】
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【図４（Ｃ）】
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【図４（Ｄ）】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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