(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スライダ内部に形成されたコアとクラッドからなる光導波路を備えた磁気記録ヘッドにおいて、
前記光導波路のクラッドの周囲にレーザ光に対する第１の吸収体が配置され、
前記第１の吸収体は、前記光導波路のクラッド４方向を取り囲み、前記４方向を取り囲むように配置された前記第１の吸収体は互いに接続して環状になっており、且つ、方向による非伝搬光の発生量に応じ方向によって厚さが異なり、または方向によって光の吸収の度合いの異なる材料で構成され、
前記第１の吸収体は前記光導波路のクラッドに接し、
前記第１の吸収体のクラッドに接する部分が、スライダ内の他の構造体よりも光導波路中心部に近くなるように配置されていることを特徴とする熱アシスト磁気記録ヘッド。
【請求項２】
請求項１において、前記第１の吸収体は、前記スライダ内部に形成された光導波路の光の入射口近傍に配置されていることを特徴とする熱アシスト磁気記録ヘッド。
【請求項３】
請求項２において、前記スライダ内部に形成された光導波路は複数のコアを備え、前記光導波路の入射口からスライダの浮上面に向かってレーザ光のスポットの大きさを小さくなるように変換する機能を有し、前記第１の吸収体とは異なる第２の吸収体が、前記光導波路に沿って、磁極を励磁するコイルと前記第１の吸収体の間に配置されていることを特徴とする熱アシスト磁気記録ヘッド。
【請求項４】
請求項３において、前記第１の吸収体、および、第２の吸収体は、磁極を励磁するコイルを構成する材料と同一の材料で構成されていることを特徴とする熱アシスト磁気記録ヘッド。
【請求項５】
磁気記録媒体の表面にレーザ光を導くための光導波路を備えた磁気記録ヘッドにおいて、
前記光導波路の構造が不連続に変化する少なくとも１つの部分の近傍に、前記不連続部分から前記光導波路の外に漏れる非伝搬光を吸収するシールドを設け、
前記シールドを構成する、前記非伝搬光を吸収するための部材の厚みあるいは光吸収の度合いの異なる材料を、前記不連続部分の構造による前記非伝搬光の方向による発生量に応じ方向によってそれぞれ変えたことを特徴とする熱アシスト磁気記録ヘッド。
【請求項６】
前記シールドを、前記光導波路の入射口近傍に設けたことを特徴とする請求項５記載の熱アシスト磁気記録ヘッド。
【請求項７】
前記光導波路には、前記光導波路の入射口に前記レーザ光のスポットサイズを絞り込むためのスポットサイズ変換光導波路を付加し、前記シールドを、前記スポットサイズ変換光導波路と前記光導波路との接合部分近傍に設けたことを特徴とする請求項５記載の熱アシスト磁気記録ヘッド。
【請求項８】
磁気記録媒体の表面にレーザ光を導くための光導波路の構造が不連続に変化する少なくとも１つの部分の近傍に、前記不連続部分から前記光導波路の外に漏れる非伝搬光を吸収するシールドを設け、前記シールドを構成する、前記非伝搬光を吸収するための部材の厚みあるいは光吸収の度合いの異なる材料を、前記不連続部分の構造による前記非伝搬光の方向による発生量に応じ方向によってそれぞれ変えた熱アシスト磁気記録ヘッドを有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、レーザ光による熱で磁気記録をアシストする熱アシスト磁気記録ヘッドおよび熱アシスト磁気記録ヘッドを用いた磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報記録装置の１つとして、コンピュータ等に装着されている磁気ディスク装置には、装置を大型化することなく膨大な情報を蓄積するために高記録密度化が求められている。磁気ディスクの高密度化には、微小な記録ビットを安定させる必要性から、高保磁力の記録媒体が用いられる。高保磁力の記録媒体に記録するためには、微小領域に強い磁界強度を集中させる必要がある。しかし、強い磁界強度を微小領域に集中させることは技術的に困難である。
【０００３】
この問題を解決する技術として、光記録技術と磁気記録技術を融合したハイブリッド記録技術が有力視されている。記録時に印加磁界と同時に光で媒体を、媒体（強磁性体）のキューリ温度（摂氏数百度程度）付近の温度に加熱して、媒体の保磁力を低減させる。これにより、従来の磁気記録ヘッドでは記録磁界強度が不足して記録が困難であった高保磁力の記録媒体にも記録が容易になる。再生は、従来の磁気記録で用いられている磁気抵抗効果を用いる。このハイブリッド記録方法は熱アシスト磁気記録または光アシスト磁気記録と呼ばれる。
【０００４】
この熱アシスト磁気記録方式では、媒体を加熱するためのレーザ光を記録ヘッドに導く。レーザ光源には、磁気ディスク装置のパッケージ内で使用する必要性から、小型で低消費電力の半導体レーザダイオード（以下ＬＤという）が用いられる。
熱アシスト記録では、半導体レーザから発生した光を効率よくヘッド先端まで導く、つまり伝搬損失を低減することが必要である。このような要求を実現する構造として、たとえば、特許文献１に、反射鏡をモノリシック集積した水平共振器の垂直出射型ＬＤを搭載し、スライダ内に光導波路と近接場光発生素子を集積したヘッドが、特許文献２に、端面発光型の短共振器ＬＤを搭載し、同様にスライダ内に光導波路と近接場光発生素子を集積したヘッドが、特許文献３に、スライダ内に光導波路を集積したヘッドが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−５９６４５号公報
【特許文献２】特開２００８−５９６９１号公報
【特許文献３】特開２０１０−４９７３５号公報
【特許文献４】特開２００７−２５７７５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１、特許文献２および特許文献３のような熱アシスト磁気記録用の光素子集積ヘッドにおいて、半導体レーザから出射されたレーザ光は、スライダの中に設けられている光導波路を通り、スライダの浮上面（ＡＢＳ:Air Bearing Surface）に導かれる。ＬＤからの光がスライダの上面から入射して光導波路へ結合するとき、光結合損失が生じ、伝搬モードにならない光が必ず存在する。伝搬モードにならない光は通常、放射モードとなり、どこかに消え去る。しかし、磁気ヘッドのスライダのように内部にレーザ光に対して不透明な多数の構造体が存在したり、ヘッドの流出端のような反射面が存在したりすると、放射モードの光が構造体や反射面で反射され、消えずにスライダの中をさまようことがある。このような光は迷光と呼ばれる。
迷光が光導波路に結合すると、伝搬モードの光と干渉を起こすことがある。位相の異なる光が干渉を起こすと、光のモードが不安定になり、空間的および時間的に強度やモードスポットが揺らぐ。このようにモードが不安定になると、ＡＢＳ近傍に設けられた近接場光発生素子へのレーザ光の供給が不安定になるため、発生する近接場光が不安定になり、記録媒体に加える記録に必要な熱量が不安定になる。その結果、想定する熱アシスト効果が得られず、磁気記録ができなくなる。
【０００７】
よって、このような迷光を発生させない、または、迷光を除去することが、安定した熱アシスト記録を行ううえで重要な課題である。
【０００８】
以下、迷光の発生について、磁気ヘッドの具体的な構造から述べる。
特許文献１および特許文献２の熱アシスト磁気記録ヘッドでは、光損失を少なくするため、光部品同士を集積し、光学的接続を要する接続点の数を最小にするとともに、光源から記録媒体までの光路を短くすることで、光損失を低減している。
【０００９】
しかし、光結合箇所が少なくとも、部品の接続点を光が通過すると、導波光の結合損失が生じ、導波光の光強度は減衰する。半導体ＬＤは通常、ＧａＡｓ、ＧａＮ、ＩｎＰなどを基板材料とした化合物半導体で作られている。磁気ヘッドのスライダは、主にＡｌ２Ｏ３とＴｉＣの焼結体であるＡｌ−Ｔｉ−ＣとＡｌ２Ｏ３および磁性体金属でできている。よって、半導体ＬＤとスライダは同一部品ではありえなく、別個の部品になる。よって、半導体ＬＤとスライダには必ず接続部があり、光が通過するとき、光学的な損失が生じる。損失となった光はスライダの光導波路を伝搬しない。
生じた損失光は、一部はスライダの上面、つまり光入射面で反射され、半導体ＬＤの方向に戻る。また、残りの損失光は、スライダ上面に入射するものの光導波路を伝搬していない。
通常、光導波路を伝搬しない光は、光導波路以外からスライダの外部へ放射されたり、スライダ内の構造物に吸収されたりして消失する。しかし、一部には、スライダ内をさまよい、迷光になる。迷光はスライダ内の構造物やスライダの表面で反射され、光導波路に間接的に結合してしまうことがある。
迷光がスライダ内に設けられた光導波路に光学的に結合してしまうと、半導体ＬＤから直接的に結合して光導波路を伝搬している導波光と光学的干渉を引き起こす。これらの光には光路差があるため、位相が異なる。さらに、温度等の条件の違いにより干渉の状態が空間的、時間的に変化する。干渉が起こると、設計されている導波光のモードが予想困難な状態になり、さらにモードが時間的に揺らぐことで、近接場光発生素子に供給する光のモードが不安定になる。
【００１０】
このように、供給する光が不安定になると、近接場光発生素子で発生する近接場光が不安定になり、熱アシスト記録で必要な熱量を制御して記録媒体に伝えることができなくなる。その結果、磁気的な記録状態の不安定化を招く。したがって、記録媒体への安定した熱量供給のために、迷光は除去されなければならない。
以上述べたように、迷光は光学的損失になるばかりか、伝搬している光モードと位相が異なり、光導波路を伝搬する伝搬モードと干渉し、本来の伝搬モードの不安定化を招く。迷光は、光ディスクドライブや光通信用導波路デバイスなどでは知られている現象である。これらの分野では、スライダのような内部に微小な構造物の存在する構造体の中を伝搬させるものではなく、結合せずに損失となった光が迷光になることは多くなく、また、迷光が発生したとしても、構造が比較的単純なため、原因となる反射物を特定しやすく、迷光の発生を防止する対策を講じやすいと考えられる。
【００１１】
しかし、特許文献２、特許文献３に開示されているように、熱アシスト磁気記録ヘッドにおいては、スライダは従来のヘッド構造に光導波路を追加した数百ミクロン程度の構造体で、スライダの流出端に近い数十ミクロンの位置に光導波路が配置されている。さらに、記録磁極、磁極を励磁するためのコイル、読取センサ、浮上量制御用ヒータ、それらに電力を供給する配線等が光導波路の近傍に複雑に配置されており、光導波路への非結合光が反射され迷光となりやすい状況にある。
【００１２】
図１は従来の磁気ディスク装置の熱アシスト磁気記録ヘッド近傍の断面図の例である。
【００１３】
４５度のテーパ面で構成された反射鏡１０４がモノリシック集積された水平共振器垂直出射型半導体ＬＤ１００がスライダ１１０に搭載されている。半導体ＬＤ１００から出射したレーザ光は、導波光２０４となってスライダ１１０中の光導波路１１１を通り、磁気記録媒体（磁気ディスク）１２０に到達する。矢印はその光路である。
【００１４】
水平共振器垂直出射型ＬＤ１００では、活性層１０１で生成されたレーザ光が反射鏡１０４で反射し、反射したレーザ光２０１が水平共振器垂直出射型ＬＤ１００のスライダ１１０側表面に対して垂直に到達し、ＬＤのスライダ１１０側表面から出射する。
【００１５】
水平共振器垂直出射型ＬＤ１００のスライダ１１０側表面から出射したレーザ光２０１はスライダ１１０の上表面に到達し、スライダ１１０の厚さ方向を貫くように設けられた光導波路１１１に入射する。スライダ１１０の上表面（光導波路１１１の上表面）には反射を防止する薄膜１１９を設けることで、反射による光の損失と、ＬＤ１００への反射戻り光を防止している。
この際、反射による損失のほかに、水平共振器垂直出射型ＬＤ１００とスライダ１１０の厚さ方向を貫くように設けられた光導波路１１１の光の固有モードフィールド形状に違いがあると、結合損失が生ずる。また、水平共振器垂直出射型ＬＤ１００の光出射面とスライダ１１０の上表面の間に隙間が存在すると、両者の固有モードのフィールド形状に違いがなくても結合損失が生ずる。
【００１６】
実際、ＬＤ１００と光導波路１１１の光のモードフィールドの大きさを同一にすることは、それぞれを構成する材料や構造が異なるため、不可能である。また、ＬＤ１００と光導波路１１１の間に空間を設けないで接続することは、実装技術を考えると限りなく不可能に近い。
【００１７】
したがって、ＬＤ１００と光導波路１１１の光学的な接続点において、必ず光損失が生ずる。
スライダ１１０に入射し、光導波路１１１に結合しなかった光は、スライダの中を通過して外部に出る、スライダ内の金属に吸収されるなどして消え去ればよいが、スライダ内に存在するさまざまな構造体や、スライダの流出端面で反射され、迷光となりうる。迷光は、予期せずに光導波路１１１に結合されてしまうことがある。光導波路１１１を伝搬する導波光と迷光が干渉すると、導波光のフィールドが乱れ、光の供給が不安定になる。結果、熱アシスト機構の安定動作を損なう原因となるため、迷光を発生させない、または発生した迷光を除去する、あるいは少なくする機構が必要となる。
【００１８】
さらに、光導波路は、入射したレーザ光のスポットの大きさをスライダ１１０内で小さく変換する機能を備えている場合もある。光導波路の中でスポットの大きさが小さく絞られた光が近接場光発生素子に照射される。通常、ＬＤ１００が発生する光のスポットの直径は２〜４μm程度であり、近接場光発生素子の大きさは１００〜３００nm程度である。したがって、光導波路を伝搬させる間に、光スポットを５〜１０分の１程度に小さくしないと、近接場光発生素子へ十分な光が共有されず、光の変換効率が著しく低下してしまう。このため、スライダ内を伝搬しながら光のスポットの大きさを急激に絞り込むスポットサイズ変換導波路が用いられる。
スポットサイズ変換導波路は、たとえば特許文献４に示されている。スポットサイズ変換導波路は、光のフィールドスポットの大きさを急激に小さく絞り込む。通常、急激に絞り込むと光学損失が生じるため、スポットサイズ変換導波路はその光学損失をできるだけ小さくするように構造が工夫されている。
【００１９】
しかし、絞り込む際の損失を完全になくすることはできず、光損失が発生する。損失となった光は光導波路外へ放射されるため、スライダ内で迷光となる可能性がある。したがって、スポットサイズ変換導波路で発生した迷光も除去されなければならない。
【００２０】
図２は、図１とは異なる、水平共振器端面出射型半導体ＬＤ１０を光源とした熱アシスト磁気記録ヘッド近傍の断面図の例である。光源が一般的に普及している平共振器端面出射型半導体ＬＤでも、スライダと光源の搭載による光結合で起こる事象は、図１とまったく同じである。
【００２１】
以上で述べたように、ＬＤから記録媒体１２０までの光路において、主に２つの迷光が発生する可能性がある地点が存在する。
【００２２】
光結合や光のスポットサイズ変換を伴う場合、光学損失にともなう光の放射をすべてなくすることは不可能であり、迷光をいかにして発生させないかが重要な課題である。よって、各々の迷光の発生箇所において、迷光となりうる光を除去する、あるいは少なくする必要がある。
本発明の目的は、スライダに迷光の発生を抑制する機構を備えた熱アシスト磁気記録ヘッドを実現することで、熱アシスト機構の安定化を実現し、磁気ディスク装置の記録性能を向上することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明者は、光導波路を伝搬するモード以外の光を除去し、迷光の発生を抑制する構造を提案する。
【００２４】
迷光となりうる、光導波路への非結合光及び非伝搬光を発生する箇所に、非結合光及び非伝搬光を吸収または反射して除去するシールドを設けることで、迷光の発生を抑制する。
【００２５】
シールドはレーザ光の吸収体または反射体であり、金属であることが望ましいが、同様の機能を有する材料であればその限りではない。
【００２６】
シールドは光導波路に結合した光の伝搬を妨げることなく、非結合光及び非伝搬光のみを除去しなければならない。よって、光導波路のモードフィールドの外側に、モードフィールドに干渉しないようにシールドを配置することが望ましい。したがって、シールドは、光導波路のコアの周辺を取り囲むクラッド層に接することになる。コアにおける光の屈折率は、クラッド層のそれよりも大きい。
【００２７】
光導波路に結合しない、つまり、漏れる光は、通常、光導波路の光の進行方向に対して上下左右の４方向すべてに発生する。したがって、シールドは光導波路の外側の４方向に配置されることが望ましい。４方向のシールドが個別に配置されてもよいが、クラッド層を取り囲むように環状のシールドを用いてもよい。
【００２８】
シールドは、迷光となりうる光学損失が発生する箇所に配置することが効果的である。具体的に、迷光となる非伝搬光が発生しやすい場所は、スライダの光導波路の入射口付近、およびスポットサイズ変換導波路である。したがって、光導波路の入射光付近およびスポットサイズ変換導波路の終端付近のように光導波路の構造が不連続に変化する部分の近傍に配置すると効果が大きいと考えられる。
【００２９】
また、他の構造体が迷光を除去する機能を有する場合、シールドを兼用させることもできるが、最適な場所に配置しないと効果が小さくなるため、専用のシールドを配置することが望ましい。たとえば、前述の特許文献２には、記録磁極を励磁するコイルにその機能があることが示されている。しかし、コイルはスライダの浮上面に近い付近に配置されており、迷光となりうる非結合光が発生する箇所から離れているため、光を除去する、あるいは少なくする効果が小さい。
また、迷光を吸収した金属には、光電流（フォトカレント）とよばれる電流が発生する。発生した迷光の量が多い場合、この光電流が大きくなり、電気的な制御を要する素子に接続されている端子であれば、その動作に悪影響を及ぼすことが懸念される。よって、この観点からも専用の光シールドを配置することが望ましい。
【００３０】
シールドは光導波路のクラッドの外側の４方向に配置されることが望ましいと述べたが、４方向のそれぞれで迷光の発生しやすさは必ずしも等しくない。たとえば、入射してくるレーザ光のモードフィールドと、スライダ内の光導波路の固有モードフィールドは、媒体面に垂直な上下方向とトラック幅方向である左右方向でフィールド不整合の度合いが異なる。また、半導体ＬＤと光導波路の光軸が実装のずれ（ミスアライメント）によってフィールド不整合が増大することもある。よって、上下と左右のシールドの厚さを都合に合わせて変えてもよい。
【００３１】
また、光導波路近傍に存在する構造物の配置によっても迷光の発生しやすさが異なってくるので、方向によって非対象にしてもよい。
【００３２】
以上で述べたように、光導波路の構造が不連続に変化する部分の近傍で発生して迷光となりうる非伝搬光をシールドで除去する、あるいは少なくすることで、干渉による伝搬光の不安定化を防止し、熱アシスト磁気記録ヘッドの熱アシスト機構の安定動作が実現できるようになる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、スライダ内の迷光の発生を抑制することができ、熱アシスト機構に寄与する光の安定した供給を実現できる。結果、安定した熱アシスト効果の得られる磁気記録ヘッドを実現することができ、磁気ディスク装置の動作を安定にし、記録精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】磁気ディスク装置の熱アシスト磁気記録ヘッド近傍の模式拡大断面図である。
【図２】磁気ディスク装置の熱アシスト磁気記録ヘッド近傍の模式拡大断面図である。
【図３】磁気ディスク装置の熱アシスト磁気記録ヘッドに用いられる、内部にスポットサイズ変換導波路を有するスライダの模式拡大断面図である。
【図４】熱アシスト磁気記録ヘッドに用いられるスライダ内の光導波路の入射口付近で、光導波路に結合しない光が導波路から放射される様子を示した模式拡大断面図である。
【図５】熱アシスト磁気記録ヘッドに用いられるスライダ内のスポットサイズ変換導波路から、損失となって漏れた光が放射される様子を示した模式拡大断面図である。
【図６】本発明の実施の形態である熱アシスト磁気記録ヘッドの、光導波路の入射口近傍に光シールドを設けたスライダの模式拡大断面図である。
【図７】本発明の実施の形態である熱アシスト磁気記録ヘッドの、光導波路の入射口近傍およびスポットサイズ変換導波路の終端部に光シールドを設けたスライダの模式拡大断面図である。
【図８】本発明の実施の形態である熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダ内の光導波路のコアと環状のシールドを模式的に示した斜視図である。
【図９】本発明の実施の形態である熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダ内の光導波路のコアと環状のシールドを模式的に示した断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態である熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダ内の光導波路のコアと環状のシールドを模式的に示した斜視図である。
【図１１】本発明の実施の形態である熱アシスト磁気記録ヘッドを用いた磁気ディスク装置を模式的に示した斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
図３、図４および図５は、磁気ディスク装置の熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダの拡大断面図である。実際のスライダの内部は複雑なため、図の構造は簡略化して示している。
【００３６】
図３において、スライダ１１０の上面から入射した光２０１はスライダ内の光導波路に光学的に結合し、導波光２０４となり光導波路内を伝搬してゆく。図４において、結合損失となった光２０２は光導波路に結合せずに放射される。
【００３７】
図５は、スポットサイズ変換導波路１１１−１がある場合である。伝搬光がスポットサイズ変換導波路１１１−１から光導波路１１１に伝搬しながらスポットサイズを小さく絞る際に、漏れる光２０３が光導波路の外部に放射される。
【００３８】
非伝搬光２０２と非伝搬光２０３は、迷光となる可能性があり、迷光が光導波路に再結合することで伝搬光と光学的に干渉してしまうと問題になる。したがって、この非伝搬光２０２と非伝搬光２０３を除去する、あるいは少なくするための構造が必要になる。
【００３９】
図６は、本発明を実施するための形態である熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダである。本実施例は、非伝搬光２０２を除去するため、光導波路の入射口近傍に、レーザ光の吸収体または反射体となる光シールド３００を配置する構造を有する。光シールド３００には、金属等のように伝搬する光に対して不透明な材料を用いればよい。吸収体の場合は、光シールド３００の厚みが重要となり、反射体の場合は、光シールド３００の表面が重要となる。
図７は、本発明を実施するための形態である熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダである。光導波路はスポットサイズ変換導波路である。本実施例は、非伝搬光２０２を除去するため、光導波路の入射口近傍に、レーザ光の吸収体または反射体となる光シールド３００を配置し、さらに非伝搬光２０３を除去するため、スポットサイズ変換導波路のコア１１１−１の終端付近に、レーザ光の吸収体または反射体となる光シールド３０１を配置する構造を有する。
即ち、図６又は図７のように、光導波路の構造が不連続に変化する部分の近傍で発生して迷光となりうる非伝搬光をシールドで除去する、あるいは少なくする。
【００４０】
図８は、本発明を実施するための形態である熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダ内の光導波路のコアとシールドの位置関係を斜め方向から模式的に示している。光導波路のコア１１１をレーザ光の吸収体または反射体となる環状の光シールド３００が取り囲むように配置されている。コア１１１と光シールド３００の間には光導波路のコアの周辺を取り囲むクラッド層が存在し、コア１１１とシールド３００は直接接していない。
【００４１】
図９（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）（ｅ）は、本発明を実施するための形態である熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダ内の光導波路のコア、クラッドおよび光シールドの断面を模式的に示した図である。
【００４２】
図９（ａ）において、光導波路は、コア１１１と外側を囲むクラッド１１８からなっており、コア１１１とクラッド１１８の中に光のモードが形成され、伝搬していく。クラッド１１８の外側には、光シールド３００がクラッド１１８を取り囲むように設けられている。この際、光シールド３００は、伝搬光のモードフィールドに干渉しない程度にクラッド１１８の外側になければならない。
【００４３】
図９（ｂ）および図９（ｃ）は、クラッド１１８の外側を非対称な光シールド３００が取り囲むように配置されている。図６に示す入射口近傍、あるいは図７に示すスポットサイズ変換導波路の形状や位置関係によっては、非伝搬光の発生量は方向により違いがある場合が多く、発生量に応じてシールドの方向の厚さを変えてもよい。図９（ｄ）は、光導波路のコア１１１の上側及び左右側に接してスポットサイズ変換導波路のコア１１１−１がある場合で、コア１１１−１を取り囲むクラッド１１８の外側に、光シールド３００がコア１１１−１を取り囲むように配置されている。構造の不連続部分を有するコア１１１の上側方向にあるシールド３００の厚さを、下側の方向にあるシールド３００の厚さよりも厚くしたほうが効果的である。図９（ｅ）は、縦３００−１と横３００−２とでは光の吸収の度合いが異なる材料で構成されている光シールドがクラッドを取り囲むように配置されている。図９（ｅ）は、図の左右方向と、上下方向とで非伝搬光が放射される度合いが異なる場合に適用される。光シールドは異なる金属など、異種の材料で構成されていてもよい。
【００４４】
以上の本発明を実施するための形態で述べたように、光に対して不透明な光シールドをコアとクラッドからなる光導波路のクラッドの外側に、光のモードフィールドに干渉しない範囲の大きさでできるだけ中心に近く配置することで、迷光となりうる非導波光を吸収または反射で除去する、あるいは少なくすることができる。
（実施例１）
図１０は、本発明の実施の形態である熱アシスト磁気記録ヘッドのスライダ内の光導波路のコアとシールド、および磁極、励磁用コイル、コイルの接続端子を模式的に示した斜視図である。
光導波路のコア１１１はクラッドで囲まれ、その周囲にレーザ光の吸収体または反射体となる環状の光シールド３００が取り囲むように配置されている。また、光導波路のコア１１１の先端には、近接場光発生素子１１５が配置され、光導波路を伝搬した光が近接場光発生素子１１５に照射されて吸収される。近接場光発生素子１１５の近傍には記録用磁極１１２が配置され、記録磁界を発生する。近接場光発生素子１１５が発生する近接場光で記録媒体を局所的に昇温し、熱アシスト効果がある状態で記録用磁極１１２が発生する磁場で記録を行う。
【００４５】
磁極の周囲には、励磁用のコイル１１３が配置されている。励磁用コイル１１３はヘリカル構造であり、下側のコイル１１３−１、上側のコイル１１３−２、および上側と下側のコイルを接続する端子１１３−３で構成されている。
光シールド３００は上下のシールド３００−１ａ、ｂと左右のシールド３００−２ａ、ｂで構成され、互いに接続して光導波路を取り囲むように配置されている。
【００４６】
光シールド３００は、使用するレーザ光に対して不透明な材料で形成すればよい。ただし、磁気ヘッドのウェハプロセスにおいて、光シールド３００は光導波路１１１に対して、励磁用コイル１１３とほぼ同じ高さの層になるため、励磁用コイル１１３と同一の積層を利用して作製することもできる。その場合、下のシールド３００−１ｂは下側のコイル１１３−１で、上のシールド３００−１ａは上側のコイル１１３−２で作製できる。通常はコイルの層には金属であるＣｕが使用される。また、横のシールド３００−２ａ、ｂはコイル接続端子１１２と同一の層を用いて形成すればよい。このように、光シールド３００を専用に作製するプロセスを使用しなくとも、副次的に簡単に形成することもできる。
（実施例２）
図１１は、熱アシスト磁気記録ヘッドを使用した磁気ディスク装置を模式的に示した斜視図である。
【００４７】
装置筐体４００内で、記録ディスク４０２が、スピンドル４０３により回転する。アーム４０５はボイスコイルモータ４０１で駆動され、このアーム４０５にはサスペンション４０６が取り付けられている。サスペンション４０６の先には、ＬＤ１００またはＬＤ１０をスライダ１１０に搭載した熱アシスト磁気記録用ヘッド４１０が接続されている。
【符号の説明】
【００４８】
１０・・・水平共振器端面発光型半導体ＬＤ素子
１００・・・反射鏡をモノリシック集積した水平共振器垂直出射型半導体ＬＤ素子
１０１・・・ＬＤの活性層
１０２・・・ＬＤのn型クラッド層
１０３・・・ＬＤのp型クラッド層
１０４・・・水平共振器垂直出射型ＬＤにモノリシック集積された反射鏡
１０９・・・ソルダ
１１０・・・スライダ
１１１・・・スライダ１１０内の光導波路のコア
１１１−１・・・スライダ１１０内のスポットサイズ変換導波路のコア
１１２・・・記録用磁極
１１３・・・励磁用コイル
１１３―１・・・下側コイル
１１３−２・・・上側コイル
１１３−３・・・コイル接続端子
１１４・・・磁気抵抗センサ素子
１１５・・・近接場光発生素子
１１６・・・スライダ１１０の流出端面
１１８・・・スライダ１１０内の光導波路のクラッド
１１９・・・反射防止膜
１２０・・・磁気記録媒体（磁気ディスク）
１２１・・・サスペンション
１２２・・・ジンバル（フレクシャ）
１３１・・・磁気記録媒体基板
１３２・・・記録層
１５０・・・ＬＤ搭載用サブマウント
２０１・・・ＬＤから出射してスライダ１１０に入射するレーザ光
２０２・・・スライダ１１０内の光導波路に結合しなかった非導波光
２０３・・・スポットサイズ変換導波路の損失として放射されたレーザ光
２０４・・・スライダ１１０内の光導波路を伝搬するレーザ光
２２１・・・記録用磁界
２２２・・・熱
３００・・・スライダ１１０内の光導波路の入射口近傍に設けられた光シールド
３００−１・・・光導波路のクラッドに近接して設けられた縦方向の光シールド
３００−２・・・光導波路のクラッドに近接して設けられた横方向の光シールド
３０１・・・スポットサイズ変換導波路の終端付近に設けられた光シールド
４００・・・記録用ディスク装置筐体
４０１・・・ボイスコイルモータ
４０２・・・記録ディスク
４０３・・・スピンドル
４０４・・・信号処理用ＬＳＩ
４０５・・・アーム
４０６・・・サスペンション
４１０・・・熱アシスト磁気記録用ヘッド。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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