(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極が形成された第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１および前記第２基板の間に形成された液晶層と、
前記第１基板に前記液晶層と接触するように形成された第１配向膜と、
を備え、
前記第１配向膜は、光配向された第１配向基底膜および前記液晶層の方に向かって延出する複数の枝を有する第１配向調節層を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１配向調節層は、光重合性モノマーまたはオリゴマーを重合して形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記光重合性モノマーまたはオリゴマーは、反応性メソゲンを含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記反応性メソゲンは、下記の一般式で表わされることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
Ｐ１−Ａ１−（Ｚ１−Ａ２）ｎ−Ｐ２
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ａ１及びＡ２は、１，４−フェニレン（ｐｈｅｎｙｌｅｎ）及びナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）−２，６−ジイル（ｄｉｙｌ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ｚ１は、ＣＯＯ−、ＯＣＯ−および単一結合の一つであり、ｎは０、１および２の一つである。
【請求項５】
前記第１配向基底膜は、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリイミド（ｐｏｌｙ−ｉｍｉｄｅ）、レシチン（ｌｅｃｉｔｈｉｎ）、ナイロン（ｎｙｌｏｎ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）のうちの少なくとも一種からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１配向基底膜は、光配向物質を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記光配向物質は、光硬化反応、光分解反応、光重合反応および光異性化反応のうちのいずれか一つの反応が可能な物質であることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記光配向物質は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリビニルシンナマート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）、ポリシロキサンシンナマート（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）、セルロースシンナマート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）およびポリメチルメタクリラート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）系化合物のうちの少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１配向膜は、プレチルトを有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第２基板に成膜された第２配向膜をさらに備えることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第２配向膜は、第２配向基底膜および前記液晶層の方に向かって延出する複数の枝を有する第２配向調節層を有することを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第２配向膜は、プレチルトを有することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第２配向膜は、前記第１配向膜の方位角を基準として０°〜３６０°の方位角を有することを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第２配向調節層は、光重合性モノマーまたはオリゴマーを重合して形成されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第２配向調節層は、反応性メソゲンが光重合されて形成されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記反応性メソゲンは、下記の一般式で表わされることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
Ｐ１−Ａ１−（Ｚ１−Ａ２）ｎ−Ｐ２
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ａ１及びＡ２は、１，４−フェニレン（ｐｈｅｎｙｌｅｎ）及びナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）−２，６−ジイル（ｄｉｙｌ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ｚ１は、ＣＯＯ−、ＯＣＯ−および単一結合の一つであり、ｎは０、１および２の一つである。
【請求項１７】
前記第２配向基底膜は、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリイミド（ｐｏｌｙ−ｉｍｉｄｅ）、レシチン（ｌｅｃｉｔｈｉｎ）、ナイロン（ｎｙｌｏｎ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）のうちの少なくとも一種からなることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第２配向基底膜は、光配向物質を含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記光配向物質は、光硬化反応、光分解反応、光重合反応および光異性化反応のうちのいずれか一つの反応が可能な物質であることを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記光配向物質は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリビニルシンナマート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）、ポリシロキサンシンナマート（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）、セルロースシンナマート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）およびポリメチルメタクリラート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）系化合物のうちの少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記第１基板または第２基板に形成された第２電極を備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記第１電極または前記第２電極は、ドメインを分割するドメイン分割手段をさらに備えることを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示装置。
【請求項２３】
前記ドメイン分割手段は、切欠部または有機突起物であることを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置。
【請求項２４】
前記第１電極および前記第２電極は、前記第１基板の上に形成され、絶縁膜を間に挟んで互いに交差する線状電極であることを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示装置。
【請求項２５】
前記液晶表示装置は、前記第１配向膜のプレチルトによってｎ個のドメインに分割されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項２６】
前記第１配向膜は、前記ｎ個のドメインのうち対向するドメイン別に対称となる方向にプレチルトを有するように成膜されたことを特徴とする請求項２５に記載の液晶表示装置。
【請求項２７】
前記液晶表示装置は、少なくとも一つのサブ画素を含むｎ個の画素群を含み、
前記ｎ個のドメインはそれぞれｎ個の画素群を含むことを特徴とする請求項２５に記載の液晶表示装置。
【請求項２８】
前記ｎ個の画素群は行方向に交互に形成されることを特徴とする請求項２７に記載の液晶表示装置。
【請求項２９】
前記ｎ個の画素群は列方向に交互に形成されることを特徴とする請求項２７に記載の液晶表示装置。
【請求項３０】
前記ｎ個の画素群はモザイク状に形成されることを特徴とする請求項２７に記載の液晶表示装置。
【請求項３１】
（ａ）第１基板及び／又は第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成し、
（ｂ）前記第１基板及び／又は第２基板に光を照射して、前記配向物質が光配向されて形成された配向基底膜と、液晶層の方に向かって延出する複数の枝を有し、前記光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合された配向調節層と、を有する第１及び／又は第２配向膜を成膜することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３２】
前記工程（ｂ）の後に、前記第１基板及び／又は第２基板の上に液晶層を形成することを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３３】
前記工程（ａ）の後、または、前記液晶層を形成する前または後に、
前記第１基板および第２基板を組み合わせることを特徴とする請求項３２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３４】
前記工程（ｂ）の後に、
前記第１基板および第２基板を組み合わせ、
前記第１基板および第２基板の間に液晶層を形成することを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３５】
前記第１基板および第２基板を組み合わせた後に、
前記第１基板および第２基板の間に電場を印加することを特徴とする請求項３４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３６】
前記工程（ｂ）において、
前記光は、線偏光、円偏光または楕円偏光であることを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３７】
前記工程（ｂ）は、
ドメイン別に偏光方向を異にする光を照射して前記配向膜の方位角をドメイン別に異ならせて形成することを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３８】
前記工程（ｂ）は、
前記配向物質が形成された基板を所定の角度に傾けて行うことを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３９】
前記工程（ｂ）は、
前記配向物質が形成された基板をドメイン別に少なくとも２以上に角度を互いに異ならせて傾ける特徴とすることを特徴とする請求項３７又は３８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４０】
前記工程（ｂ）は、
少なくとも１つのドメインをマスクにより覆うことを特徴とする請求項３９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４１】
前記配向調節層は、反応性メソゲンが光重合されて形成されることを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４２】
前記反応性メソゲンは、下記の一般式で表わされることを特徴とする請求項４１に記載の液晶表示装置の製造方法。
Ｐ１−Ａ１−（Ｚ１−Ａ２）ｎ−Ｐ２
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ａ１及びＡ２は、１，４−フェニレン（ｐｈｅｎｙｌｅｎ）及びナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）−２，６−ジイル（ｄｉｙｌ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ｚ１は、ＣＯＯ−、ＯＣＯ−および単一結合の一つであり、ｎは０、１および２の一つである。
【請求項４３】
前記配向物質は、光硬化反応、光分解反応、光重合反応および光異性化反応のうちのいずれか一つの反応が可能な光配向物質を含むことを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４４】
前記光配向物質は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリビニルシンナマート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）およびポリメチルメタクリラート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）よりなる群から選ばれる高分子物質であることを特徴とする請求項４３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４５】
前記配向物質は、重合開始剤をさらに含むことを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４６】
前記重合開始剤は、メチルエチルケトンペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルペルオクトアート、ジクミルペルオキシドや、ベンゾイルアルキルエーテル系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、キサントン系ベンゾインエーテル系化合物、ベンジルケタル系化合物のいずれか一種を含むことを特徴とする請求項４５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４７】
前記第１配向膜のプレチルトと前記第２配向膜のプレチルトは、前記第１基板を基準として互いに異なり、前記第１配向膜と前記第２配向膜は前記第１配向物質が上に形成された前記基板に対向する基板上に存在することを特徴とする請求項３１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４８】
（ａ）第１電極が形成された第１基板及び／又は第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成し、
（ｂ）前記第１基板及び／又は第２基板に一次的に光を照射して前記配向基底物質を初期光配向させ、
（ｃ）前記第１電極と外部電極との間、または、前記第１電極と前記第１基板または第２基板のいずれか一方に形成された第２電極との間に電圧を印加し、
（ｄ）前記第１基板及び／又は第２基板に２次的に光を照射して光配向された配向基底膜および前記光重合性モノマーまたはオリゴマーが重合された配向調節層を有する第１及び／又は第２配向膜を成膜することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４９】
前記工程（ｂ）の後に、
前記第１基板および第２基板を組み合わせることを特徴とする請求項４８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５０】
前記第１基板および第２基板を組み合わせた後に、
前記第１基板および第２基板の間に液晶層を形成することを特徴とする請求項４９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５１】
前記工程（ｄ）の後に、
前記第１基板および第２基板の間に液晶層を形成することを特徴とする請求項４９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５２】
前記工程（ｄ）後に、
前記第１基板および第２基板を組み合わせ、前記第１基板および第２基板の間に液晶層を形成することを特徴とする請求項４９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５３】
前記工程（ｂ）において、
前記光は、線偏光、円偏光または楕円偏光であることを特徴とする請求項４８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５４】
前記工程（ｂ）は、
前記配向物質が形成された基板を所定の角度に傾けて行うことを特徴とする請求項４８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５５】
ドメイン別に偏光方向を異にして照射して前記第１配向調節層の方位角を前記ドメイン別に異ならせて形成することを特徴とする請求項５４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５６】
前記光を照射する前に、
前記配向物質が形成された基板を少なくとも２以上のドメイン別に角度を互いに異ならせて傾けることを特徴とする請求項５４又は５５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５７】
前記（ｂ）は、
１以上のドメインをマスクにより覆うことを特徴とする請求項５６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５８】
前記配向調節層は、反応性メソゲンが光重合されて形成されることを特徴とする請求項４８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５９】
前記反応性メソゲンは、下記の一般式で表わされることを特徴とする請求項５８に記載の液晶表示装置の製造方法。
Ｐ１−Ａ１−（Ｚ１−Ａ２）ｎ−Ｐ２
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ａ１及びＡ２は、１，４−フェニレン（ｐｈｅｎｙｌｅｎ）及びナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）−２，６−ジイル（ｄｉｙｌ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ｚ１は、ＣＯＯ−、ＯＣＯ−および単一結合の一つであり、ｎは０、１および２の一つである。
【請求項６０】
前記配向物質は、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリイミド（ｐｏｌｙ−ｉｍｉｄｅ）、ナイロン（ｎｙｌｏｎ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）のうちのいずれか一種の物質を含むことを特徴とする請求項４８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６１】
前記配向物質は、光硬化反応、光分解反応、光重合反応および光異性化反応のうちのいずれか一つの反応が可能な光配向物質を含むことを特徴とする請求項６０に記載の液晶表示装置の製造方法。 
【請求項６２】
前記光配向物質は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリビニルシンナマート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）およびポリメチルメタクリラート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）よりなる群から選ばれる高分子物質であることを特徴とする請求項６１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６３】
前記配向物質は、重合開始剤をさらに含むことを特徴とする請求項４８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６４】
前記重合開始剤は、メチルエチルケトンペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ｔ-ブチルペルオクトアート、ジクミルペルオキシドや、ベンゾイルアルキルエーテル系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、キサントン系ベンゾインエーテル系化合物、ベンジルケタル系化合物のいずれか一種を含むことを特徴とする請求項６３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６５】
前記第１配向膜のプレチルトと前記第２配向膜のプレチルトは、第１基板を基準として互いに異なることを特徴とする請求項４８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６６】
誘電率異方性を有する液晶を含む液晶層を配向させる配向膜において、
前記配向膜は、配向基底膜および複数の配向調節材を有し、前記配向調節材は、前記液晶層の方に向かって延出する複数の枝を有し、モノマーまたはオリゴマーを重合して形成されることを特徴とする配向膜。
【請求項６７】
前記配向調節材は、反応性メソゲン（ＲＭ：Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｍｅｓｏｇｅｎ）を光重合して得られることを特徴とする請求項６６に記載の配向膜。
【請求項６８】
前記反応性メソゲンは、下記の一般式で表わされることを特徴とする請求項６７に記載の配向膜。
Ｐ１−Ａ１−（Ｚ１−Ａ２）ｎ−Ｐ２
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ａ１及びＡ２は、１，４−フェニレン（ｐｈｅｎｙｌｅｎ）及びナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）−２，６−ジイル（ｄｉｙｌ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ｚ１は、ＣＯＯ−、ＯＣＯ−および単一結合の一つであり、ｎは０、１および２の一つである。
【請求項６９】
前記反応性メソゲンは、下記の一般式のうちのいずれかで表わされることを特徴とする請求項６８に記載の配向膜。
【化１】
0005539361.tif 000008
【化２】
0005539361.tif 000009
【化３】
0005539361.tif 000010
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものである。
【請求項７０】
前記配向基底膜は、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリイミド（ｐｏｌｙ−ｉｍｉｄｅ）、レシチン（ｌｅｃｉｔｈｉｎ）、ナイロン（ｎｙｌｏｎ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）のうちの少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項６６〜６９のうちのいずれかに記載の配向膜。
【請求項７１】
前記配向基底膜は、光硬化反応、光分解反応、光重合反応および光異性化反応のうちのいずれか一つの反応が可能な光配向物質を含むことを特徴とする請求項６６〜６９のうちのいずれかに記載の配向膜。
【請求項７２】
前記光配向物質は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリビニルシンナマート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）、ポリシロキサンシンナマート（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）、セルロースシンナマート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）およびポリメチルメタクリラート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）系化合物のうちの少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項７１に記載の配向膜。
【請求項７３】
請求項６６〜７２のうちのいずれかに記載の配向膜を成膜するための、配向基底物質および光重合性モノマーまたはオリゴマーを含むことを特徴とする配向物質。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配向物質、配向膜、液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、様々な種類のフラット表示装置が開発されて用いられている。中でも、液晶表示装置は、様々な用途に最も幅広く用いられているフラット表示装置である。
【０００３】
液晶表示装置には、液晶の配列状態や駆動方式によって、ねじれネマチック（ＴＮ：Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード液晶表示装置、垂直配向（ＶＡ：Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード液晶表示装置、水平電界駆動（ＩＰＳ：Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード液晶表示装置、光学補償ベンド（ＯＣＢ：Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード液晶表示装置などがある。これらの液晶表示装置は、配向膜の影響や液晶自体の性質によって液晶が初期に所定の配列をなしていて、電界がかかると液晶の配列が変わるが、液晶の光学的な異方性により液晶を通過する光の偏光状態が液晶の配列状態によって変わり、これが偏光板により透過光量の違いとして現れて画像が表示される。
【０００４】
液晶の初期配列を決定する配向は、主にラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）法を用いて配向膜を特定の方向にすることで行う。ところが、ラビング法は機械的な方法であるため、液晶の初期配向状態を精度よく調節することが困難であり、しかも、微細な領域別に異なるプレチルトを持たせることが困難である。
【０００５】
このような問題点を解決するために、光照射により配向を行う光配向法が提案されている。しかしながら、光配向法を用いる場合には、配向エネルギー（Ａｎｃｈｏｒｉｎｇ  Ｅｎｅｒｇｙ）を十分に確保することができず、その結果、配向性が低下するという欠点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明によって、応答速度が向上した液晶表示装置およびその製造方法を提供される。
【０００７】
また、本発明によって、視野角が向上した液晶表示装置およびその製造方法を提供される。
【０００８】
また、本発明によって、単一の工程により配向膜が成膜された液晶表示装置およびその製造方法を提供される。
【０００９】
また、本発明によって、配向膜の規制力を強化させた液晶表示装置およびその製造方法を提供される。
【００１０】
本発明の他の問題点は以下の説明でより明確に解決されるだろう。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述した目的の達成及び従来の問題点を解決するために、本発明の実施の形態によれば、第１電極が形成された第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１および第２基板の間に形成された液晶層と、前記第１基板に前記液晶層と接触するように形成された第１配向膜と、を備えるが、前記第１配向膜は、光配向された第１配向基底膜および前記第１配向基底膜の内部から延出する第１配向調節層を有することを特徴とする液晶表示装置が提供される。
【００１２】
本発明の他の実施の形態によれば、（ａ）第１基板及び／又は第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成し、（ｂ）前記第１基板及び／又は第２基板に光を照射して、前記配向物質が光配向されて形成された配向基底膜と、前記配向基底膜から延出し、前記光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合された配向調節層と、を有する第１及び／又は第２配向膜を成膜することを特徴とする液晶表示装置の製造方法が提供される。
【００１３】
本発明のさらに他の実施の形態によれば、（ａ）第１電極が形成された第１基板及び／又は第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成し、（ｂ）前記第１基板及び／又は第２基板に一次的に光を照射して前記配向基底物質を初期光配向させ、（ｃ）前記第１電極と外部電極との間、または、前記第１電極と前記第１基板または第２基板のいずれか一方に形成された第２電極との間に電圧を印加し、（ｄ）前記第１基板及び／又は第２基板に２次的に光を照射して光配向された配向基底膜および前記光重合性モノマーまたはオリゴマーが重合された配向調節層を有する第１及び／又は第２配向膜を成膜することを特徴とする液晶表示装置の製造方法が提供される。
【００１４】
本発明のさらに他の実施の形態によれば、誘電率異方性を有する液晶を含む液晶層を配向させる配向膜において、前記配向膜は、配向基底膜および複数の配向調節材を有し、前記配向調節材は、前記配向基底膜の内部から延出しており、モノマーまたはオリゴマーを重合して形成されることを特徴とする配向膜が提供される。
【００１５】
本発明のさらに他の実施の形態によれば、誘電率異方性を有する液晶を含む液晶層を配向させる配向膜を成膜するための、配向基底物質および光重合性モノマーまたはオリゴマーを含むことを特徴とする配向物質が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、配向基底膜および配向調節層によって液晶の極角および方位角を調節して、駆動電圧を印加するときの液晶の応答速度を向上させる液晶表示装置が提供される。
【００１７】
また、本発明によれば、配向基底膜および配向調節層を単一の工程により製造して、工程時間および工程コストを節減する液晶表示装置が提供される。
【００１８】
さらに、本発明によれば、各ドメイン別に配向調節層の極角および方位角を互いに異ならせて異なるドメインに位置する液晶の傾斜角を変化させて、視野角を改善する液晶表示装置が提供される。
【００１９】
加えて、本発明によれば、配向調節層によって光配向される配向基底膜の配向規制力を強化させる液晶表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施の形態による液晶表示パネルを示す平面図である。
【図２】図１に示す液晶表示パネルのＩＩ−ＩＩ’線の拡大断面図である。
【図３】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の平面図である。
【図４】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図５】図４の液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図６】図４の液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図７】図４の液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図８】図４の液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図９】図４の液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図１０】本発明の他の実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図１１】図１０の液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図１２】図１０の液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【図１３】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を説明するフローチャートである。
【図１４】本発明の他の実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図１５】図４〜図１４に基づいて説明した液晶表示装置の製造方法のうちのいずれかの方法により製造可能な液晶表示装置の各画素別ドメインの形態を示す平面図である。
【図１６】１画素が１２個のドメインに分割されたことを概略的に示す平面図である。
【図１７】本発明の一実施の形態による液晶表示装置を示す平面図である。
【図１８】図１７に示す液晶表示装置のＩＩ−ＩＩ’線の拡大断面図である。
【図１９】図１７に示す液晶表示装置を概略的に示す概念図である。
【図２０】ラビング法によって配向膜が成膜された液晶表示装置の液晶の応答速度を示すグラフである。
【図２１】図１７から図１９に示す本発明の一実施の形態による液晶表示装置の応答速度を示すグラフである。
【図２２】本発明の実施の形態によるパターン化垂直配向（ＰＶＡ）型液晶表示パネルを示す平面図である。
【図２３】図２２に示す液晶表示パネルのＩＩＩ−ＩＩＩ’線の拡大断面図である。
【図２４】画素電極が有する切欠部の様々な形状を示す平面図である。
【図２５】画素電極が有する切欠部の様々な形状を示す平面図である。
【図２６】画素電極が有する切欠部の様々な形状を示す平面図である。
【図２７】画素電極が有する切欠部の様々な形状を示す平面図である。
【図２８】画素電極が有する切欠部の様々な形状を示す平面図である。
【図２９】画素電極が有する切欠部の様々な形状を示す平面図である。
【図３０】水平電界駆動（ＩＰＳ）モード液晶表示装置を示す平面図である。
【図３１】図３０に示す液晶表示装置のＶ−Ｖ’線の拡大断面図である。
【図３２】アドバンスト・スーパー・ビュー（ＡＳＶ：Ａｄｖａｎｃｅ  Ｓｕｐｅｒ  Ｖｉｅｗ）液晶表示装置の一実施の形態を説明する平面図である。
【図３３】図３２に示す液晶表示パネルのＩＩＩ−ＩＩＩ’線の拡大断面図である。
【図３４】光学補償ベンド（ＯＣＢ）モード液晶表示装置の一実施の形態を示す図である。
【図３５】電界制御型複屈折（ＥＣＢ：Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード液晶表示装置を示す図である。
【図３６】本発明の一実施の形態による液晶表示装置を示す平面図である。
【図３７】図３５の液晶表示装置を示す断面図である。
【図３８】図３５の液晶表示装置を示す断面図である。
【図３９】図３６に示す液晶表示装置の他の実施の形態を示す図である。
【図４０】図３６に示す液晶表示装置の他の実施の形態を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明は様々な変形を加えることができ、複数の実施の形態を有することができるが、特定の実施の形態を図面に例示し、詳細な説明の欄において詳細に説明する。しかしながら、これは、本発明を特定の実施の形態に対して限定しようとするものではなく、本発明の思想および技術範囲に含まれるあらゆる変形、均等物または代替物を含むものと理解さるべきである。本発明を説明するに当たって、関連する公知技術に関する具体的な説明が本発明の要旨を曖昧にする恐れがあると認められる場合、その詳細な説明は省略する。
【００２２】
第１、第２などの用語は様々な構成要素を説明するのに使用可能であるが、その構成要素は用語によって限定されるものではない。用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的でのみ用いられる。
【００２３】
本発明において使用する用語は、単に特定の実施の形態を説明するために使用されるものであり、本発明を限定しようとする意図はない。単数の表現は、文脈上明らかに互いに異なる意味を有さない限り、複数の表現を含む。本発明において、「含む」、「備える」または「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、工程、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするものであり、１またはそれ以上の他の特徴や数字、工程、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものの存在または付加可能性を予め排除しないものと理解さるべきである。
【００２４】
以下、図面に基づき、本発明の実施の形態を詳述する。本発明を説明するに当たって、全体的な理解を容易にするために、図面番号とは無関係に同じ手段に対しては同じ参照番号を付す。
【００２５】
図１は、本発明の一実施の形態による液晶表示パネルを示す平面図である。図２は、図１に示す液晶表示パネルのＩＩ−ＩＩ’線の拡大断面図である。図１は、垂直配向（ＶＡ）モード液晶表示装置の液晶表示パネルを示す平面図であり、画素電極および共通電極にパターンを形成せずにマルチドメインが実現された液晶表示パネルの一例を示す図である。
【００２６】
本発明の説明において、第１基板とは薄膜トランジスタ基板を指し、第２基板とはカラーフィルタ基板を指す。
【００２７】
図１および図２を参照すると、本発明の実施の形態による液晶表示パネルは、薄膜トランジスタ基板１００、カラーフィルタ基板２００および液晶層３００を備える。ここで、液晶層３００は、誘電率異方性を有する液晶を含む。
【００２８】
具体的に、薄膜トランジスタ基板１００は、第１絶縁基板１、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、保護膜４５及び画素電極５０を備える。このとき、第１配向膜１５０は、画素電極５０の上に成膜される。
【００２９】
第１絶縁基板１としては、透明ガラスまたはプラスチックなど透明で且つフレキシブルな基板が使用可能である。
【００３０】
ゲートライン（ＧＬ）は、第１絶縁基板１に水平方向に形成される。ゲートライン（ＧＬ）は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と接続される。
【００３１】
データライン（ＤＬ）は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と接続され、ゲートライン（ＧＬ）と交差するように形成される。
【００３２】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、ゲートライン（ＧＬ）およびデータライン（ＤＬ）の交差部に形成される。薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）はゲートライン（ＧＬ）およびデータライン（ＤＬ）と接続され、これらのゲートライン（ＧＬ）およびデータライン（ＤＬ）からゲートオン／オフ電圧およびデータ電圧が印加されてオン／オフとなる。ここで、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、ボトムゲートタイプ、トップゲートタイプなどに形成可能である。本発明の説明においては、ボトムゲートタイプに形成された場合を例にとって説明しているが、当業者であれば、本発明はこれに限定されるものではないということは十分に予測可能であろう。また、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、非晶質シリコンまたは晶質シリコンを用いて形成可能であり、本発明においては、非晶質シリコンから形成した場合を例にとって説明する。
【００３３】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、ゲート電極５、半導体層１２、オーミックコンタクト層１３、ソース電極３０およびドレイン電極４０を備える。
【００３４】
ゲート電極５は、ゲートライン（ＧＬ）と接続されてゲートオン／オフ電圧を供給する。ゲート電極５は、ゲートライン（ＧＬ）と同じ層に同じ金属から形成される。
【００３５】
半導体層１２は、ゲート絶縁膜１１を間に挟んでゲート電極５と重なり合うように形成される。半導体層１２は、非晶質シリコンから形成される。
【００３６】
オーミックコンタクト層１３は、半導体層１２の上部に形成される。このとき、オーミックコンタクト層１３は、半導体層１２の上部におけるソース電極３０およびドレイン電極４０のそれぞれの間に形成される。オーミックコンタクト層１３は、ｎ＋不純物が含まれている非晶質シリコンから形成される。
【００３７】
ソース電極３０は、オーミックコンタクト層１３の上にデータライン（ＤＬ）と接続されるように形成される。
【００３８】
ドレイン電極４０は、ソース電極３０と対向してオーミックコンタクト層１３の上に形成される。このとき、ソース電極３０及びドレイン電極４０はゲート電極５と重なり合うように形成される。
【００３９】
保護膜４５は、ソース電極３０、ドレイン電極４０およびデータライン（ＤＬ）を覆うように成膜され、無機絶縁物質または有機絶縁物質から成膜される。図２には、保護膜４５が有機絶縁物質から成膜された場合を例示している。
【００４０】
画素電極５０は、ゲートライン（ＧＬ）とデータライン（ＤＬ）とが交差して形成する画素領域に形成される。画素電極５０は保護膜４５を貫通してドレイン電極４０を露出させるコンタクトホール４６を介してドレイン電極４０と接続される。
【００４１】
第１配向膜１５０は、画素電極５０の上に成膜される。第１配向膜１５０はプレチルトを有し、第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２を有する。
【００４２】
本発明の実施の形態の説明において、プレチルトは角度（ａｎｇｌｅ）と方向（ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）を有し、以下、これをそれぞれ極角（ｐｏｌａｒ  ａｎｇｌｅ、０°〜１８０°）および方位角（ａｚｉｍｕｔｈａｌ  ａｎｇｌｅ、０°〜３６０°）と定義する。
【００４３】
すなわち、プレチルトは方位角（０°〜３６０°）および極角（０°〜１８０°）を両方とも含むものと解釈可能である。ここで、方位角とは、配向膜または液晶の基板面上への投影がゲートラインまたはデータラインを基準として傾いた角度のことをいい。極角とは、配向膜または液晶が基板の水平面に対して垂直をなす線（基板面の法線）を基準として傾いた角度のことをいう。
【００４４】
第１配向膜１５０は、光配向された第１配向基底膜１５１を有する。ここで、第１配向基底膜１５１は、ポリマー系の物質を含む。例えば、第１配向基底膜１５１は、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリイミド（ｐｏｌｙ−ｉｍｉｄｅ）、ナイロン（ｎｙｌｏｎ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）のいずれか一種を含む配向基底物質を含む。
【００４５】
また、第１配向基底膜１５１は、光配向物質を含む。光配向物質は、光に対する反応の種類によって、光分解物質、光異性化物質、光硬化物質および光重合物質などに大別される。光分解物質の場合には、偏光されたＵＶによってポリマー鎖の分解を非等方的に引き起こし、これにより生成された構造的な非等方性を用いて光配向される。例えば、ポリイミドに偏光されたＵＶを照射すると、鎖が途切れ、酸化反応が伴われる。上記の物質は高い熱的安定性を有する。
【００４６】
光異性化物質は、光によってシス−トランス異性体へと変化が起こり、これによって生成された方向に光配向される。
【００４７】
光硬化物質は、偏光されたＵＶによって偏光方向に配向されている光反応基が選択的に反応して異方性を有することにより光配向される。
【００４８】
光重合物質は、光照射時に光重合されてプレチルトを有するポリマーを形成する。
【００４９】
光配向物質は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリビニルシンナマート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）、ポリシロキサンシンナマート（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）、セルロースシンナマート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）系化合物およびポリメチルメタクリラート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）系化合物よりなる群から選ばれる高分子物質を含む。
【００５０】
第１配向基底膜１５１はプレチルトを有し、光照射工程に際して、光の偏光方向及び／又は基板の傾斜度によって方位角および極角が規制される。
【００５１】
第１配向調節層１５２は、光重合性モノマーまたはオリゴマーが重合されたものであり、光重合性モノマーまたはオリゴマーの例としては、反応性メソゲン（ＲＭ：Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｍｅｓｏｇｅｎ）、ノーランド社製のＮＯＡシリーズなどが挙げられる。ここで、メソゲンは、１以上の棒状、板状またはディスク状のメソゲン性基、（すなわち、液晶相挙動を誘導しうる能力を有する基を含む物質または化合物）を含む。棒状または板状の基を有する液晶（ＬＣ）化合物は、「棒状（ｃａｌａｍｉｔｉｃ）」液晶として当分野において公知である。また、ディスク状基を有する液晶化合物は、「板状（ｄｉｓｃｏｔｉｃ）」液晶として当分野において公知である。さらに、メソゲン性基を含む化合物または物質は必ずしもそれ自体で液晶相を示す必要はない。さらに、他の化合物との混合物でのみ、またはメソゲン性化合物若しくは物質、またはこれらの混合物の重合時に液晶相挙動を示すことが可能である。なお、反応性メソゲンとは、重合性メソゲン性化合物のことをいう。
【００５２】
反応性メソゲンは、紫外線などの光によって重合され、隣り合う物質の配向状態によって配向される物質である。反応性メソゲンの例としては、下記の一般式で表わされる化合物が挙げられる。
Ｐ１-Ａ１-（Ｚ１-Ａ２）ｎ-Ｐ２
【００５３】
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ａ１及びＡ２は、１,４−フェニレン（ｐｈｅｎｙｌｅｎ）とナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）−２，６-ジイル（ｄｉｙｌ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ｚ１はＣＯＯ−、ＯＣＯ−および単一結合の一つであり、ｎは０、１および２の一つである。
【００５４】
より具体的には、反応性メソゲンとしては、下記の一般式のうちのいずれかで表わされる化合物が挙げられる。
【００５５】
【化１】
0005539361.tif 000002
【００５６】
【化２】
0005539361.tif 000003
【００５７】
【化３】
0005539361.tif 000004
【００５８】
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものである。
【００５９】
第１配向調節層１５２は、第１配向基底膜１５１からプレチルトを有するように外方に延出する複数の枝から形成される。
【００６０】
第１配向調節層１５２のプレチルトは、前記第１配向基底膜１５１のプレチルトによって、あるいは、光照射工程または液晶層３００の配向方向によってプレチルトが制御される。光照射の工程の詳細については後述する。
【００６１】
カラーフィルタ基板２００は、ブラックマトリックス２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化層２３０、共通電極２４０および第２配向膜２５０を備える。
【００６２】
第２配向膜２５０は、共通電極２４０の上に成膜される。第２配向膜２５０は、第２配向基底膜２５１および第２配向調節層２５２を有する。第２配向基底膜２５１には、第１配向基底膜１５１と同様に、ポリマー系の物質または光配向物質が使用可能である。
【００６３】
第２配向調節層２５２は、第１配向調節層１５２と同様に、光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。第２配向調節層２５２は、第２配向基底膜２５１からプレチルトを有するように外方に延出する複数の枝から形成される。
【００６４】
第２配向基底膜２５１および第２配向調節層２５２は第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２と同じ物質を含み、第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２と同じ工程によって形成されるため、これについての説明は省略する。
【００６５】
液晶層は、第１基板と第２基板との間に形成される。液晶層は誘電率異方性を有する液晶を含み、前記第１配向膜および第２配向膜のプレチルトによって配列される。
【００６６】
図１に示すように、本発明の一実施の形態による液晶表示パネルの各画素は、複数のドメイン、例えば、８個のドメインに分割される。ここで、ドメインとは、液晶層のプレチルト、すなわち、方位角および極角がいずれも同じ領域のことをいい、このため、液晶層のプレチルトはドメイン別に異なる。
【００６７】
図１に示すように、本発明の一実施の形態による液晶表示パネルの画素は、上部領域と下部領域とに分れられ、画素の上部領域は中心点を基準として４個のドメインを構成し、下部領域は中心点を基準として４個のドメインを構成する。上部領域の４個のドメインは、互いに異なる方位角および第１極角を有する第１配向調節層１５２を備える。また、下部領域の４個のドメインは、互いに異なる方位角および第２極角を有する第１配向調節層１５２を備える。上述したように、各ドメイン別に、第１配向基底膜１５１の方位角は第１配向調節層１５２の方位角と同じである。
【００６８】
以上では、一つの画素が８個のドメインに分割されたことを説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、２以上のドメインに分割されてもよい。これについては、図面に基づいて後述する。
【００６９】
図３は、本発明の一実施の形態による液晶表示装置の平面図である。
【００７０】
図３に示すように、第１基板１００は横方向に伸び、物理的・電気的に互いに分離されており、ゲート信号を送信する第１および第２ゲートライン１２１ａ、１２１ｂを備える。
【００７１】
第１および第２ゲートライン１２１ａ、１２１ｂは、それぞれ上方および下方に配置されており、下および上に突き出た第１および第２ゲート電極１２４ａ、１２４ｂを有する。
【００７２】
第１および第２ゲート電極１２４ａ、１２４ｂの上にはゲート絶縁膜１１が成膜され、ゲート絶縁膜１１の上に非晶質シリコン製の半導体層１２が形成される。
【００７３】
半導体層１２およびオーミックコンタクト層は、上述した通りであるため、これについての詳細な説明は省略する。
【００７４】
オーミックコンタクト層の上には、第１および第２ソース電極１７３ａ、１７３ｂと、第１および第２ドレイン電極１７５ａ、１７５ｂと、が形成されている。第１／第２ゲート電極１２４ａ、１２４ｂ、第１／第２ソース電極１７３ａ、１７３ｂおよび第１／第２ドレイン電極１７５ａ、１７５ｂは、半導体層１２と一緒に第１／第２薄膜トランジスタＴＦＴ１、ＴＦＴ２を形成する。
【００７５】
ゲート絶縁膜１１、第１／第２ソース電極１７３ａ、１７３ｂ、第１／第２ドレイン電極１７５ａ、１７５ｂおよび半導体層１２の上には、コンタクトホール１８５ａ、１８５ｂを有する保護膜４５が成膜されている。
【００７６】
保護膜４５の上には、第１および第２副画素電極１９０ａ、１９０ｂをそれぞれ有する複数の画素電極が形成されている。第１／第２副画素電極１９０ａ、１９０ｂは、コンタクトホール１８５ａ、１８５ｂを介して第１／第２ドレイン電極１７５ａ、１７５ｂと物理的・電気的に接続され、第１／第２ドレイン電極１７５ａ、１７５ｂからデータ電圧を受ける。
【００７７】
第１および第２副画素電極１９０ａ、１９０ｂの上には、プレチルトを有する配向膜が成膜される。第１配向膜１５０は、光配向された第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２を有する。
【００７８】
第１配向基底膜１５１には、図１に基づいて説明したように、ポリマー系の物質または光配向物質が使用可能である。
【００７９】
第１配向調節層１５２は、モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される物質を含む。上記の第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２の物質についての詳細な説明は省略する。
【００８０】
第１副画素電極１９０ａは第１領域（Ａ１）に位置し、第１ドメインから第４ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）に分けられ、第２副画素電極１９０ｂは第２領域（Ａ２）に位置し、第１ドメインから第４ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）に分けられる。第１副画素電極１９０ａには第２副画素電極１９０ｂよりも高い電圧を印加する。このため、初期電圧を印加するときには、第１配向膜１５０の配向調節層１５２と隣り合う液晶のプレチルトによって液晶層３００の全液晶が直ちに傾いて応答速度が向上する。そして、互いに異なるドメインに位置する液晶の傾斜角が互いに異なってくるため、側面視認性が改善され、初期電圧を印加してから所定の時間が経過した後には、互いに異なる領域に位置して互いに異なる電圧により駆動される第１副画素電極１９０ａおよび第２副画素電極１９０ｂによって液晶の傾斜角を互いに異なるように維持することができ、これにより、側面視認性が向上する。具体的に、第１領域（Ａ１）と第２領域（Ａ２）の電圧をそれぞれ第１および第２薄膜トランジスタを用いて制御することにより、各領域のガンマ（γ）曲線を制御することができる。これにより、各領域の合成γ曲線を正面における基準γ曲線に近付けて側面視認性を向上させることができる。
【００８１】
以上では、第１配向膜１５０が成膜された場合を例にとって説明したが、カラーフィルタ基板２００に第２配向膜２５０が成膜されていてもよい。なお、本発明においては、カラーフィルタ基板２００にのみ配向膜が成膜されていてもよい。
【００８２】
液晶層は、第１基板と第２基板との間に形成される。液晶層は誘電率異方性を有する液晶を含み、前記第１配向膜および第２配向膜のプレチルトによって配列される。
【００８３】
図４は、本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。図５〜図９は、本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
【００８４】
図４を参照すると、本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法は、第１または第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成する工程（Ｓ１０）と、配向物質が形成された基板に光を照射して配向膜を成膜する工程（Ｓ２０）と、液晶層を形成する工程（Ｓ３０）とを含む。本発明において、第１基板とは薄膜トランジスタ基板を指し、第２基板とはカラーフィルタ基板を指す。第１基板と第２基板との組み合わせは、液晶層を形成する工程の前または後に行うことができる。
【００８５】
図５を参照すると、まず、薄膜トランジスタ基板１００に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質１６０を形成する。例えば、配向基底物質としては、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリビニルシンナマート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）、ポリシロキサンシンナマート（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）、セルロースシンナマート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）系化合物およびポリメチルメタクリラート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）系化合物よりなる群から選ばれる高分子物質を用いる。
【００８６】
光重合性モノマーまたはオリゴマーは、反応性メソゲンを含む。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、ノーランド社製のＮＯＡシリーズなどを含んでいてもよい。
【００８７】
反応性メソゲンは、図１および図２に基づいて説明したように、光によって重合され、隣り合う物質の配向状態によって配向される。
【００８８】
反応性メソゲンの例としては、下記の一般式で表わされる化合物が挙げられる。
Ｐ１−Ａ１−（Ｚ１−Ａ２）ｎ−Ｐ２
【００８９】
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ａ１及びＡ２は、１,４−フェニレン（ｐｈｅｎｙｌｅｎ）及びナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）−２，６-ジイル（ｄｉｙｌ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるものであり、Ｚ１はＣＯＯ−、ＯＣＯ−および単一結合の一つであり、ｎは０、１および２の一つである。
【００９０】
より具体的には、反応性メソゲンとしては、下記の一般式のうちのいずれかで表わされる化合物が挙げられる。
【００９１】
【化４】
0005539361.tif 000005
【００９２】
【化５】
0005539361.tif 000006
【００９３】
【化６】
0005539361.tif 000007
【００９４】
式中、Ｐ１及びＰ２は、アクリラート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリラート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニロキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）およびエポキシ（ｅｐｏｘｙ）よりなる群からそれぞれ別々に選ばれるいずれか一種である。
【００９５】
光重合性モノマーまたはオリゴマーの質量は、配向基底物質からソルベントを除去した状態で、配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとを合わせた総質量の０．１ｗｔ％〜５０ｗｔ％を占める。光重合性モノマーまたはオリゴマーが０．１ｗｔ％未満含まれる場合には、その量が少な過ぎて、光重合性モノマーまたはオリゴマーを重合して液晶のプレチルトを決定したり、物理的なラビングなしに液晶を配向させたりする効果が得られず、５０ｗｔ％を超えて含まれる場合には、光重合性モノマーまたはオリゴマーを重合して得られる配向調節剤の配向力が強過ぎて配向基底物質による配向の効果を抑止する虞があり、光重合を行った後にも光重合されずに残留するモノマーまたはオリゴマーが多くて液晶を汚す虞がある。
【００９６】
配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとを混合して塗布するに当たって、重合開始剤をさらに添加してもよい。重合開始剤は必ず添加する必要はないが、重合開始剤を添加することにより、後続する光重合性モノマーまたはオリゴマーの重合が速かに行われる。重合開始剤としては、メチルエチルケトンペルオキシドに加えて、例えば、ベンゾイルペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルペルオクトアート、ジクミルペルオキシドや、ベンゾイルアルキルエーテル系、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、キサントン系ベンゾインエーテル系、ベンジルケタル系の重合開始剤などが使用可能であり、これらをそのまま使用してもよく、適切に混合して使用してもよい。
【００９７】
また、重合開始剤の添加量は、重合性化合物に対して１０ｗｔ％以下であることが好ましい。重合開始剤の添加量が１０ｗｔ％を超えると、重合開始剤が不純物として働いて表示品質が低下する虞がある。しかしながら、重合開始剤の添加量は１０ｗｔ％に限定されることはなく、光重合時に最適となる量が添加可能である。
【００９８】
次に、配向物質が形成された第１基板に光、例えば、ＵＶを照射して配向膜を成膜する（Ｓ２０）。基板にＵＶを照射すると、配向物質に含まれている配向基底物質が光配向され、これと同時に配向調節層が形成される。ここで、ＵＶは偏光されたＵＶである。例えば、照射されるＵＶとしては、例えば、線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光されたＵＶが使用可能である。加えて、未偏光のＵＶを用いる場合には、基板近くの偏光板を用いて偏光させたＵＶを基板に照射する。
【００９９】
複数のドメインを有する液晶表示装置を製造する場合、あるドメインにはこれと隣り合う他のドメインとは偏光方向または偏光形態が異なるＵＶを照射して、ドメイン別に配向膜の方位角を異ならせる。
【０１００】
これについては図６から図９に基づいて詳述し、この実施の形態においては、線偏光されたＵＶを照射する方法を例にとって説明する。
【０１０１】
図６を参照すると、第１ドメイン（Ｄ１）に第１方向に線偏光されたＵＶを照射して配向基底物質を光配向させて配向基底膜を光配向させ、光重合性モノマーおよびオリゴマーを重合して配向調節層を形成する。ここで、第１ドメインに第１方向に線偏光されたＵＶを照射するとき、残りのドメインはマスク６００を用いてＵＶを遮断する。
【０１０２】
このとき、第１ドメイン（Ｄ１）の配向基底膜１５１の方位角は、配向基底物質の特性によって、第１方向と同じ方向であってもよく、第１方向と垂直な方向であってもよい。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、配向基底物質の光配向特性または反応によって方位角が決定される。
【０１０３】
第１ドメイン（Ｄ１）の配向調節層１５２は、配向基底膜１５１と同じ方位角を有する。あるいは、配向調節層は、その構成成分、ＵＶの偏光方向または偏光形態によって方位角が調節される。
【０１０４】
次に、図７に示すように、第２ドメイン（Ｄ２）に第２方向に線偏光されたＵＶを照射して配向基底膜および配向調節層を形成する。次に、図８に示すように、残りのドメインにも上記の方法と同様にして配向基底膜および配向調節層を形成し、最後のドメインはマスクなしに第ｎ方向に線偏光されたＵＶを照射する。
【０１０５】
以上では、ＵＶの偏光方向を異ならせてマルチドメインを有する配向膜を成膜する方法を説明したが、これとは異なる方法によりマルチドメインを有する配向膜を成膜してもよい。この詳細については、図９に基づいて後述する。
【０１０６】
図９を参照すると、第１ドメインＤ１に第１角度θに基板１００を傾けてＵＶを照射する。このとき、残りのドメインはマスク６００を用いてＵＶを遮断する。これにより、基板１００が傾く角度によって配向膜１５０の極角が決定される。図示はしないが、次に、基板を他の方向または他の角度に傾けた後に第２ドメイン（Ｄ２）に配向膜を成膜する。残りのドメインにもこの方法を用いて配向膜を成膜し、最後のドメインはマスクなしにＵＶを照射する。これにより、配向膜のプレチルトをドメイン別に異ならせることができる。
【０１０７】
本発明においては、図６から図８に基づいて偏光されたＵＶを照射する工程を説明し、且つ、図９に基づいて基板を傾けた状態でＵＶを照射する工程を説明したが、これらの二つの工程はそれぞれ別々に行ってもよいし、同時に行ってもよく、あるいは、順次に行ってもよい。
【０１０８】
また、ＵＶの照射に際して、照射時間または照射強度を調節して所望の方位角または極角を得ることができる。
【０１０９】
次に、液晶層を形成する（Ｓ３０）。ここで、液晶層の形成は、第１基板と第２基板を組み合わせる工程の前または後に行う。液晶の導入は、滴下法または真空注入法などにより行う。液晶層は、配向膜の配向特性によって配向される。
【０１１０】
本発明においては、第１基板に配向膜を成膜した場合を例にとって説明したが、第２基板にのみ配向膜を成膜してもよい。また、第１基板と第２基板の両方に配向膜を成膜し、この方法を用いて、それぞれの基板に互いに異なるプレチルトを有する配向膜を成膜してもよい。あるいは、第１基板と第２基板を組み合わせた後に光を照射して、第１基板を基準として互いに同じプレチルトを有する第１配向膜および第２配向膜を成膜してもよい。
【０１１１】
第１基板と第２基板の両方に配向膜が成膜される場合に、第１基板の第１配向膜および第２基板の第２配向膜の方位角および極角は互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。例えば、第２配向膜の極角は第１配向膜の極角を基準として０°〜１８０°であり、第２配向膜の方位角は第１配向膜の方位角を基準として０°〜３６０°である。
【０１１２】
本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法によれば、配向基底膜および配向調節層によって液晶の配向力が強化される効果がある。また、画素電極および共通電極にドメイン分割手段を形成せずともマルチドメインを形成することができて、視野角が改善され、開口率が向上するというメリットがある。
【０１１３】
図１０は、本発明の他の実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。図１０を参照すると、本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法は、第１または第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成する工程（Ｓ１００）と、配向物質が形成された基板に１次ＵＶを照射して初期配向させる工程（Ｓ２００）と、液晶層を形成する工程（Ｓ３００）と、電場を印加する工程（Ｓ４００）と、２次ＵＶを照射して配向膜を成膜する工程（Ｓ５００）と、を含む。ここで、第１基板とは薄膜トランジスタ基板を指し、第２基板とはカラーフィルタ基板を指す。まず、第１基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成する（Ｓ１００）。配向基底物質はポリマー系の物質であってもよく、光配向物質を含む。光重合性モノマーまたはオリゴマーは反応性メソゲンを含む。なお、配向物質は、重合開始剤をさらに含む。これについては既に上述したため、これについての重複する説明は省略する。
【０１１４】
次に、配向物質が形成された第１基板に、図１１に示すように、１次ＵＶを照射して配向物質を初期配向させる（Ｓ２００）。１次ＵＶの照射時に配向基底物質は光配向される。そして、配向物質の表面においてＵＶによって光重合性モノマーまたはオリゴマーのうち一部がポリマーとして重合され、重合されたポリマーは配向基底物質の配向力を強化させる。ＵＶは、偏光されたＵＶであってもよい。例えば、ＵＶとしては、線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光されたＵＶが使用可能である。また、未偏光のＵＶを用いる場合には、基板近くの偏光板を用いて偏光させたＵＶを基板に照射する。または、１次ＵＶの照射は基板を傾けた状態で行う。偏光されたＵＶを照射する工程と基板を傾けた状態でＵＶを照射する工程は、それぞれ別々に行ってもよいし、同時に行ってもよく、あるいは、順次に行ってもよい。
【０１１５】
ＵＶの偏光状態、偏光方向または基板の傾斜角度によって配向基底物質のプレチルトが調節される。
【０１１６】
ここで、１次ＵＶの照射は、ドメイン別に偏光方向または偏光形態が異なるＵＶを照射したり、ドメイン別にそれぞれ異なる角度に第１基板を傾けた状態で照射したりして、マルチドメインを実現する。本発明の一実施の形態において、初期配向は、第１基板及び第２基板別にそれぞれ別々に行った後に両基板を組み合わせる。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、初期配向は、基板を組み合わせた後に光を照射して行ってもよい。このとき、第１基板および第２基板に形成された配向基底物質は、第１基板を基準として同じプレチルトを有するように光配向される。
【０１１７】
次に、液晶層を形成する（Ｓ３００）。液晶層は、第１基板と第２基板を組み合わせる工程の前または後に形成し、液晶の導入は滴下法または真空注入法などにより行う。
【０１１８】
次に、図１２に示すように、第１基板１００及び／又は第２基板２００に形成された電極に電圧を印加して電場を形成し、液晶層３００を所定の方向に配列する（Ｓ４００）。このとき、配向基底物質の配向方向、形成された電界の方向および大きさによって液晶分子の再配列がなされる。印加電圧は数［Ｖ］〜数十［Ｖ］であり、電圧の印加時間は数秒〜２時間であるが、本発明はこれに限定されない。さらに、図１２に示すように、２次ＵＶを照射する（Ｓ４００）。このとき、電圧が印加された状態でＵＶを照射して、光重合性モノマーまたはオリゴマーを光重合して配向調節層を形成する。
【０１１９】
２次ＵＶの照射を行う工程において、１次ＵＶの照射を行う工程と同様に、ドメイン別に偏光方向または偏光形態が異なるＵＶを照射したり、又は、ドメイン別にそれぞれ異なる角度に液晶表示装置を傾けた状態で照射したりして、マルチドメインを実現する。図１０から図１２においては、第１基板および第２基板の両方に配向膜が成膜された場合を説明したが、第１基板または第２基板にのみ配向膜が成膜されていてもよい。
【０１２０】
図１３は、本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を説明するフローチャートである。
【０１２１】
図１３を参照すると、本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法は、第１または第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成する工程（Ｓ１００）と、配向物質が形成された基板に１次ＵＶを照射して配向物質を初期配向させる工程（Ｓ２００）と、電場を印加する工程（Ｓ３００）と、２次ＵＶを照射して配向膜を成膜する工程（Ｓ４００）と、液晶層を形成する工程（Ｓ５００）とを含む。ここで、第１基板はトランジスタ基板であり、第１基板には画素電極及び／又は共通電極が形成されていてもよい。
【０１２２】
まず、第１基板または第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成する（Ｓ１００）。配向基底物質は、ポリマー系の物質であり、光配向物質を含む。光重合性モノマーまたはオリゴマーは、反応性メソゲンを含む。なお、配向物質は、重合開始剤をさらに含む。これについては既に上述したため、これについての重複する説明は省略する。
【０１２３】
次に、一次的に光、例えば、ＵＶを照射して配向物質を初期配向させる（Ｓ２００）。１次ＵＶの照射時に配向基底物質は光配向される。
【０１２４】
このとき、配向物質の表面においてＵＶによって光重合性モノマーまたはオリゴマーのうち一部がポリマーとして重合され、重合されたポリマーは配向基底物質の配向力を強化させる。ここで、ＵＶは偏光されたＵＶであってもよい。例えば、線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光されたＵＶである。そして、未偏光のＵＶを用いる場合には、基板近くの偏光板を用いて偏光させたＵＶを基板に照射する。
【０１２５】
複数のドメインを有する液晶表示装置を製造する場合、１次ＵＶの照射はドメイン別に偏光方向および偏光形態が異なるＵＶを照射したり、又は、ドメイン別にそれぞれ異なる角度に第１基板を傾けた状態で照射したりする。偏光されたＵＶを照射する工程と基板を傾けた状態でＵＶを照射する工程は、それぞれ別々に行ってもよいし、同時に行ってもよく、あるいは、順次に行ってもよい。
【０１２６】
本発明の一実施の形態において、初期配向は、第１基板及び第２基板別にそれぞれ別々に行った。
【０１２７】
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、初期配向は、第１基板および第２基板を組み合わせた後に光を照射して行ってもよい。このとき、第１基板と第２基板に形成された配向基底物質は第１基板を基準として同じプレチルトを有するように光配向される。
【０１２８】
次に、電場を印加する（Ｓ３００）。ここで、電場を印加することは、第１基板と第２基板を組み合わせて第１基板と第２基板にそれぞれ形成された電極を用いて行う。これとは異なり、外部に設けられた電極と第１基板に形成された電極との間に電圧を印加してもよく、第１基板に画素電極および共通電極が両方とも形成された場合、第１基板の二つの電極の間に電圧を印加してもよい。印加電圧は数［Ｖ］〜数十［Ｖ］であり、電圧の印加時間は数秒〜２時間であるが、本発明はこれに限定されない。電場を印加すると、配向基底物質と混合された光重合性モノマーおよびオリゴマーが電場に反応して再配列される。
【０１２９】
電場を印加する前に、配向物質に溶剤を添加してもよい。より具体的に、初期配向された配向物質の上に溶剤を吹き付けたり、初期配向された配向物質が形成された第１基板および第２基板を組み合わせてこれらの間に溶剤を注入したりする。配向物質に溶剤を添加する場合、配向物質の粘度が下がり、光重合性モノマーおよびオリゴマーが電場によって効果的に再配列される。ここで、溶剤としては、例えば、プロピレングリコールメチルエーテルアセタート（ＰＧＭＥＡ：ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ  ａｃｅｔａｔｅ）またはトルエン、キシレンなどの芳香族溶剤などが使用可能である。電場が印加されて光重合性モノマーおよびオリゴマーが再配列された後、または、光重合性モノマーおよびオリゴマーが重合された後、溶剤は、真空除去、熱処理またはエアドライにより除去する。
【０１３０】
次に、２次ＵＶを照射して配向膜を成膜する（Ｓ４００）。このとき、電圧が印加された状態でＵＶを照射して光重合性モノマーまたはオリゴマーを光重合させて配向調節層を形成する。ここで、配向調節層は、電場の影響および２次ＵＶの偏光方向および照射角度によって方位角および極角を有する。
【０１３１】
次に、液晶層を形成する（Ｓ５００）。液晶層は、第１基板と第２基板を組み合わせる工程の前または後に形成し、液晶の導入は滴下法または真空注入法などにより行う。液晶層は、配向膜のプレチルトによって配列される。
【０１３２】
本発明の一実施の形態においては、第１基板に配向膜が成膜された場合を例にとって説明したが、第１基板および第２基板の両方に配向膜が成膜されていてもよい。
【０１３３】
図１４は、本発明の他の実施の形態による液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。
【０１３４】
図１４を参照すると、本発明の他の実施の形態による液晶表示装置の製造方法は、第１基板または第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成する工程（Ｓ６００）と、液晶層を形成する工程（Ｓ７００）と、ＵＶを照射して配向膜を成膜する工程（Ｓ８００）とを含む。具体的に、第１基板または第２基板の上に配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された配向物質を形成する工程（Ｓ６００）においては、第１基板または第２基板の上に配向物質を形成する。本発明においては、薄膜トランジスタアレイが形成された第１基板の上に配向物質を形成する工程を例にとって説明する。
【０１３５】
配向物質は、図１に基づいて説明した配向物質と同様に、配向基底物質と光重合性モノマーまたはオリゴマーとが混合された物質である。ここで、配向基底物質は、ポリマー系配向物質または光配向物質を含む。なお、配向物質は、重合開始剤をさらに含む。
【０１３６】
次に、液晶層を形成する（Ｓ７００）。液晶層は、第１基板と第２基板を組み合わせる前または後に形成し、液晶の導入は、滴下法または真空注入法などにより行う。次に、ＵＶを照射して配向膜を成膜する工程（Ｓ８００）においては、ＵＶを照射して配向物質に含まれている配向基底物質を光配向させて配向基底膜を成膜し、これと同時に光重合性モノマーまたはオリゴマーを光重合して配向調節層を形成する。
【０１３７】
例えば、図１の第１ドメインに第１方向にＵＶを照射してプレチルトを有する配向膜を成膜する。このとき、配向膜は、光配向された配向基底膜および配向基底膜から延出する複数の枝から形成される配向調節層を有する。
【０１３８】
例えば、具体的に、配向物質が形成された基板の第１ドメイン領域に第１方向に線偏光された光を照射して第１方向の方位角を有する配向膜を成膜し、第２ドメイン領域に第２方向に線偏光された光を照射して第２方向の方位角を有する配向膜を成膜する。
【０１３９】
また、基板を所定の角度に傾けた状態で第１ドメイン領域に線偏光された光を照射して第１配向膜を成膜し、次に、基板を他の角度に傾けた状態で第２ドメイン領域に線偏光された光を照射して第２配向膜を成膜する。
【０１４０】
以上では、液晶層を形成した後、電圧が印加されていない状態で光を照射して配向膜を成膜した場合を例にとって説明したが、電圧が印加された状態で光を照射して配向膜を成膜してもよい。
【０１４１】
図１４は、マルチドメインについて説明しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、モノドメインの液晶表示装置も製造可能である。
【０１４２】
図１５および図１６は、図４〜図１４に基づいて説明した液晶表示装置の製造方法のうちのいずれかの方法により製造可能な液晶表示装置の各画素別ドメインの形態を示す平面図である。
【０１４３】
図１５は、４個のドメインを有する画素を示す図である。各ドメインは、画素領域の中心点を基準として三角形領域を有するように分割される。このとき、それぞれのドメインに成膜された配向膜は互いに異なる方向のプレチルトを有する。例えば、第１ドメイン（Ｄ１）と第２ドメイン（Ｄ２）に成膜された配向膜は互いに対称となる方向の方位角を有する。また、第３ドメイン（Ｄ３）と第４ドメイン（Ｄ４）に成膜された配向膜は互いに対称となる方位角を有する。また、第１ドメイン（Ｄ１）と第３ドメイン（Ｄ３）は、互いに直交する方向に方位角を有する。第２ドメイン（Ｄ２）と第４ドメイン（Ｄ４）は互いに直交する方向に方位角を有する。
【０１４４】
このとき、第１から第４ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）に成膜された配向膜は所定の極角を有する。第１から第４ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）にそれぞれ成膜された配向膜は互いに同じまたは異なる極角を有する。
【０１４５】
図１６は、一つの画素が１２個のドメインに分割された場合を概略的に示す平面図である。図１６に示すように、一つの画素は３個の四角形状のドメインに分割され、個々の四角形状のドメインはさらに４個の三角形状のドメインに分割される。
【０１４６】
ここで、第１ドメイン（Ｄ１）と第２ドメイン（Ｄ２）に成膜された配向膜は互いに対称方向の方位角を有する配向基底膜および配向調節層を有する。残りのドメインも二つのドメインが対で対称を成し、それぞれのドメインに成膜された配向膜は対称方向の方位角を有する。このとき、極角はドメインにより互いに異なる。ここで、方位角は４方向に形成され、極角は同じ方位角を有するドメインにおいてそれぞれ互いに異なるように形成される。
【０１４７】
図１７は、本発明の一実施の形態による液晶表示装置を示す平面図である。図１８は、図１７に示す液晶表示装置のＩＩ−ＩＩ’線の拡大断面図である。図１９は、図１７に示す液晶表示装置を概略的に示す概念図である。図１７〜図１９を参照すると、本発明の実施の形態による液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板２００および液晶層３００を備える。ここで、第１基板１００は、薄膜トランジスタアレイが形成された薄膜トランジスタ基板であり、第２基板２００は、カラーフィルタアレイが形成されたカラーフィルタ基板である。
【０１４８】
具体的に、第１基板１００は、第１絶縁基板１、ゲートライン（ＧＬ）、データライン（ＤＬ）、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、画素電極５０および第１配向膜１５０を備える。第１基板１００についての説明は、図１に基づいて説明した液晶表示装置と同様であるため、重複する説明は省略する。
【０１４９】
第１配向膜１５０は、画素電極５０の上に成膜される。第１配向膜１５０は、第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２を有する。
【０１５０】
第１配向基底膜１５１は、ポリマー系の物質または光配向物質を含む。
【０１５１】
例えば、第１配向基底膜１５１は、図１に基づいて説明したように、ポリマー系の物質、例えば、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリイミド（ｐｏｌｙ−ｉｍｉｄｅ）、ナイロン（ｎｙｌｏｎ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）のうちのいずれか一種の物質を含む配向基底物質を含む。また、第１配向基底膜１５１は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（ｐｏｌｙ−ａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリビニルシンナマート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリウレタン（ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）、ポリシロキサンシンナマート（ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）、セルロースシンナマート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｃｉｎｎａｍａｔｅ）系化合物およびポリメチルメタクリラート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）系化合物よりなる群から選ばれる物質を含む。第１配向基底膜１５１は少なくとも１回光を照射して成膜され、光照射方向によるプレチルトを有する。このとき、第１配向基底膜１５１のプレチルトによって液晶層３００のプレチルトが決定される。これにより、液晶の配向安全性が高まる。
【０１５２】
ここで、前記光配向に用いられる光としては、主に紫外線領域のＵＶを用いるが、線偏光、楕円偏光または円偏光を用いてもよい。
【０１５３】
第１配向調節層１５２は、第１配向基底膜１５１からプレチルトを有するように外方に延出する複数の枝から形成される。
【０１５４】
第１配向調節層１５２は、光重合性モノマーまたはオリゴマーを用いて形成され、光重合性モノマーまたはオリゴマーとしては、例えば、反応性メソゲン、ノーランド社製のＮＯＡシリーズなどが挙げられる。
【０１５５】
第２基板２００は、第２絶縁基板２０１、ブラックマトリックス２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化層２３０、共通電極２４０および第２配向膜２５０を備える。ここで、第２基板２００の第２絶縁基板２０１、ブラックマトリックス２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化層２３０、共通電極２４０は、図１に基づいて説明した構成要素と同様であるため、重複する説明は省略する。
【０１５６】
第２配向膜２５０は、共通電極２４０の上に成膜される。第２配向膜２５０は、第２配向基底膜２５１および第２配向調節層２５２を有する。第２配向基底膜２５１には、第１配向基底膜１５１などのポリマー系の高分子物質または光配向物質が用いられる。第２配向調節層２５２は、第１配向調節層１５２と同じ光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。
【０１５７】
液晶層３００は誘電率異方性を有する液晶を含み、液晶は基板１００、２００に対して配向基底膜１５１、１５２の配向力によって水平に配列される。そして、液晶層３００内に左旋性または右旋性のキラルドーパント（ｃｈｉｒａｌ  ｄｏｐａｎｔ）が添加されて液晶層３００はらせん状に捩れている。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、液晶層３００にキラルドーパントが添加しなくてもよい。
【０１５８】
図１９に示すように、第１ドメイン（Ｄ１）の第１配向調節層１５２及び第２配向調節層２５２の方位角は９０°に形成される。また、第２ドメイン（Ｄ２）の第１配向調節層１５２及び第２配向調節層２５２の方位角も９０°に形成される。これにより、両基板１００、２００間に液晶層３００が形成されれば、第１ドメイン（Ｄ１）および第２ドメイン（Ｄ２）の液晶が時計回り方向または反時計回り方向に９０°回転しつつ配向される。
【０１５９】
第２配向調節層２５２の方位角は液晶表示装置のモードによって変わる。すなわち、第２配向調節層２５２の方位角は、第１配向調節層１５２の方位角を基準として０°〜３６０°に形成される。
【０１６０】
図２０は、ラビング法によって配向膜が成膜された液晶表示装置の液晶の応答速度を示すグラフである。図２１は、図１７〜図１９に示す本発明の一実施の形態による液晶表示装置の応答速度を示すグラフである。
【０１６１】
本発明の一実施の形態によるモード液晶表示装置の配向膜は、光重合性モノマーまたはオリゴマーが含まれている配向物質を第１および第２基板に形成し、基板を３０°斜めに配置した後に光を照射し、さらに第１および第２電極に１０［Ｖ］の電圧を印加して、光を約１５〜３０分間照射した後に製造したものである。
【０１６２】
図２０および図２１に示すように、画素電極と共通電極との間に印加される電圧が６．５［Ｖ］近くにある場合、本発明の一実施の形態による液晶表示装置は、ラビング法によって配向膜が成膜された場合とほとんど同じ応答速度を示すことが分かる。
【０１６３】
上述したように、本発明の一実施の形態によれば、画素電極にドメイン分割手段を形成せずとも液晶の応答速度を向上させ、視野角を改善することができる。
【０１６４】
一方、本発明の実施の形態による液晶表示装置は、ドメイン分割手段が形成された画素電極及び／又は共通電極を備える。
【０１６５】
図２２は、本発明のパターン化垂直配向（ＰＶＡ）液晶表示パネルを示す平面図である。図２３は、図２２に示す液晶表示パネルのＩＩＩ−ＩＩＩ’線の拡大断面図である。
【０１６６】
図２２および図２３は、画素電極および共通電極に切欠部が形成されていることを除いては、図１に示す液晶表示パネルと同じ構成要素を備える。このため、同じ構成要素についての重複する説明は省略する。
【０１６７】
図２２および図２３を参照すると、本発明の実施の形態による液晶表示パネルは、薄膜トランジスタ基板１００、カラーフィルタ基板２００および液晶層３００を備える。ここで、液晶層３００は、誘電率異方性を有する液晶を含む。
【０１６８】
画素電極５０は、薄膜トランジスタのドレイン電極４０と接続される。画素電極５０には、ドメイン分割手段が形成される。ドメイン分割手段には、切欠部または突起が形成される。
【０１６９】
第１切欠部４０１、４０２は、画素電極５０を上下に両分する位置に横方向に形成された横切欠部４０２、および両分された画素電極５０の上下部にそれぞれ斜め方向に形成された斜め切欠部４０１を備える。このとき、横切欠部４０２は、画素電極５０の右辺から左辺に向けて食い込んだ形状であり、入口は広く対称的に拡張されている。
【０１７０】
画素電極５０は、横切欠部４０２を境に実質的に上下対称となる。このとき、上下の斜め切欠部４０１は互いに垂直をなすが、これは、フリンジフィールドの方向を４方向に均一に分散させる。
【０１７１】
カラーフィルタ基板２００は、ドメイン分割手段が形成された共通電極２４０を備える。共通電極２４０に形成されたドメイン分割手段は、切欠部または突起である。図２２には、ドメイン分割手段として第２切欠部５０１、５０２が形成された場合を例示している。
【０１７２】
第２切欠部５０１、５０２は、第１切欠部４０１、４０２間のドメイン分割手段として機能する。第２切欠部５０１、５０２は、第１切欠部の斜め切欠部４０１と交互に配置されるように形成される。また、第２切欠部５０１、５０２は、画素電極５０の辺と重なり合う端部を有する。このとき、端部は、縦方向端部と横方向端部を有する。
【０１７３】
前記第１および第２切欠部４０１、４０２、５０１、５０２により画素領域は第１から第８ドメイン（Ｄ１〜Ｄ８）に分割される。
【０１７４】
それぞれのドメインに成膜された第１および第２配向膜１５０、２５０は、図１または図３に基づいて説明した配向膜と同じプレチルト方向を有する。なお、第１および第２配向膜１５０、２５０は、図１から図３に基づく説明と同じ極角を有する。図２２は、第１領域Ａ１に第１から第４ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）が形成され、第２領域Ａ２に第５から第８ドメイン（Ｄ５〜Ｄ８）が形成された場合を例示している。このとき、第１から第８ドメイン（Ｄ１〜Ｄ８）のそれぞれに成膜された第１および第２配向膜は、互いに異なるプレチルト方向を有する。
【０１７５】
一方、第１領域（Ａ１）の第１から第４ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）のそれぞれに成膜された第１および第２配向膜のプレチルト方向は、第２領域（Ａ２）の第５から第８ドメイン（Ｄ５〜Ｄ８）に成膜された第１および第２配向膜のプレチルト方向と同じである。例えば、第１ドメイン（Ｄ１）と第５ドメイン（Ｄ５）に成膜された第１および第２配向膜のプレチルト方向が同じである。なお、第２ドメイン（Ｄ２）と第６ドメイン（Ｄ６）、第３ドメイン（Ｄ３）と第７ドメイン（Ｄ７）、第４ドメイン（Ｄ４）と第８ドメイン（Ｄ８）のそれぞれに成膜された第１および第２配向膜のプレチルト方向が同じである。
【０１７６】
一方、パターン化垂直配向（ＰＶＡ）液晶表示装置には、図２４〜図２９に示すように、画素電極にドメインを分割する複数のパターンが形成される。
【０１７７】
図２４に示すように、画素電極５０は、多数の矩形状切欠部４０４を有する。
【０１７８】
ここで、切欠部４０４は、画素電極５０を複数の三角形領域に分割し、複数の三角形領域は接続部４０３、４０５により一つにつながる。より具体的に、切欠部４０４は、画素電極５０の輪郭線に対して傾いた第１切欠部と、輪郭線に対して垂直または平行な第２切欠部を有する。画素電極５０の輪郭線のうちデータラインと平行な部分に対して垂直をなす第２切欠部は、画素電極５０を３等分する。第１切欠部は第２切欠部によって３等分された各部分をさらに４つの三角形領域に分割する。接続部４０３、４０５は、画素電極５０の輪郭線に沿って配置されるなど様々な形状に変形可能である。
【０１７９】
このように、切欠部４０４が配置された状態で画素電極５０と共通電極との間に電圧を印加すると、切欠部４０４によって水平成分を有する電界が形成され、この電界によって液晶分子が配列される。液晶分子の配列にはやや時間がかかるが、これは、液晶分子が２段階動作をするためである。すなわち、切欠部４０４に対して垂直方向に１次配列し、１次配列時に発生する液晶分子間の配列衝突が緩和されつつ２次配列する。しかしながら、本発明の実施の形態においては、電界を印加して液晶分子が予め配列をなした状態で配向調節層を形成したため、配向調節層が液晶分子の最終配列状態そのままのプレチルトを有する。このため、電界を印加するときに液晶分子が２段階動作をせずに直ちに最終配列状態となる。これにより、液晶の応答速度が早い。
【０１８０】
図２４〜図２９は、画素電極５０が有する切欠部の様々な形状を示す図である。本発明の実施の形態による液晶表示装置は、図２２〜図２９に示す形状に加えて、他の形状の切欠部が形成された画素電極を備えることもできる。
【０１８１】
以上では、切欠部が形成されたパターン化垂直配向（ＰＶＡ）液晶表示装置を例にとって説明したが、第１または第２基板のいずれか一方の基板の上に切欠部の代わりに突起が形成されてもよい。すなわち、図２４〜図２９に形成された切欠部の代わりに突起を形成してマルチドメイン液晶表示装置を製作することもできる。
【０１８２】
図３０は、水平電界駆動（ＩＰＳ）モード液晶表示装置を示す平面図である。図３１は、図３０に示す液晶表示装置のＶ−Ｖ’線の拡大断面図である。以下、水平電界駆動（ＩＰＳ）モード液晶表示装置にマルチドメインが実現された液晶表示装置を例に取って説明する。
【０１８３】
本発明の一実施の形態による水平電界駆動（ＩＰＳ）液晶表示装置は、少なくとも一つの第１線状電極８１および第１線状電極８１と交差して形成された少なくとも一つの第２線状電極８２を有する第１基板１００と、第１の基板１００と対向する第２基板２００と、を備える。このとき、第１線状電極８１は画素電極線４０と接続され、第２線状電極８２は共通電極線１４０と接続される。画素電極線４０はコンタクトホールなどを介して第１線状電極８１と接続される。ここで、第１基板１００には第１配向膜１５０が成膜され、第２基板２００の上には第２配向膜２５０が成膜される。また、第１基板１００と第２基板２００との間には液晶層３００が形成される。それぞれの配向膜は互いに異なるプレチルト、すなわち、互いに異なる方位角および極角を有する。さらに、それぞれの配向膜は、光配向された配向基底膜と、配向基底膜の内部から延出するプレチルトを有する枝から形成される配向調節層と、を有する。本発明の一実施の形態による水平電界駆動（ＩＰＳ）液晶表示装置は、複数のドメインを備える。このため、ドメイン別に液晶の配向方向が変わる。より具体的に、ここで、第１ドメイン（Ｄ１）と第２ドメイン（Ｄ２）は画素を両分する中央線（実線）を境に上側部と下部とに画成される。図３１に示すように、第１ドメイン（Ｄ１）に成膜された第１配向膜１５０及び第２配向膜２５０は第１基板１００を基準として同じプレチルトをもって形成される。すなわち、第１ドメイン（Ｄ１）の第２配向基底膜２５１は第１配向基底膜１５１の方位角と同じ方位角を有する。なお、第２配向調節層２５２は第１配向調節層１５２の方位角を基準として同じ方向の方位角を有する。
【０１８４】
第２ドメイン（Ｄ２）の第１配向膜１５０及び第２配向膜２５０は、第１ドメイン（Ｄ１）とは異なるプレチルトを有する。例えば、第１ドメイン及び第２ドメインに成膜された配向膜は、中央線（実線）を基準として互いに対称となる方向のプレチルトを有する。
【０１８５】
図３０および図３１は、画素領域を上／下に２分割されたドメインを有する液晶表示装置を例に取って説明したが、ドメインが左／右に２分割されてもよい。なお、本発明による水平電界駆動（ＩＰＳ）モード液晶表示装置は、４以上のドメインを有するように形成される。
【０１８６】
本発明は水平電界駆動（ＩＰＳ）モード液晶表示装置の一例を説明したが、これとほとんど同じ技術が採用されたフリンジ電場スイッチング（ＦＦＳ：Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード液晶表示装置にも適用可能である。
【０１８７】
図３２は、アドバンスト・スーパー・ビュー（ＡＳＶ：Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｓｕｐｅｒ  Ｖｉｅｗ）液晶表示装置の一実施の形態を説明する平面図であり、図３３は、図３２に示す液晶表示パネルのＩＩＩ−ＩＩＩ’線の拡大断面図である。 
【０１８８】
図３２及び図３３を参照すると、本発明のアドバンスト・スーパー・ビュー（ＡＳＶ）液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板２００および液晶層３００を備える。
【０１８９】
具体的に、第１基板１００は、第１絶縁基板１、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、画素電極５０および第１配向膜１５０を備える。
【０１９０】
ここで、第１絶縁基板１、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、画素電極５０及び第１配向膜１５０は、図１における構成要素と同様であるため、これについての重複する説明は省略する。
【０１９１】
第１配向膜１５０は、第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２を有する。
【０１９２】
第１配向基底膜１５１は、ポリマー系の物質または光配向物質を含み、図１に基づいて説明した物質のいずれか一種が使用可能である。第１配向基底膜１５１は、第２基板２００の有機突起物４５０に向けて傾斜される。
【０１９３】
第１配向調節層１５２は、光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。このとき、第１配向調節層１５２は、第２基板２００の有機突起物４５０が形成された方向に形成される。
【０１９４】
第２基板２００は、第２絶縁基板２０１、ブラックマトリックス２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化層２３０、有機突起物４５０および共通電極２４０を備える。ここで、第２絶縁基板２０１、ブラックマトリックス２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化層２３０および共通電極２４０は、図１における説明と同様であるため、重複する説明は省略する。
【０１９５】
有機突起物４５０は平坦化層２３０の上に形成され、画素毎に少なくとも一つが形成される。このとき、有機突起物４５０は、円形、四角形、楕円形などの形状を有する。
【０１９６】
共通電極２４０は、平坦化層２３０および有機突起物４５０の上に形成される。
【０１９７】
第２配向膜２５０は、共通電極２４０の上に成膜される。第２配向膜２５０は、第２配向基底膜２５１および第２配向調節層２５２を有する。
【０１９８】
第２配向基底膜２５１には、ポリマー系の物質または光配向物質が用いられ、有機突起物４５０によって突き出た領域から外方に傾斜される。第２配向調節層２５２は、第２配向基底膜２５１と同様に、有機突起物４５０によって突き出た領域から外方に傾斜される。
【０１９９】
ここで、液晶層３００は、第１配向膜１５０及び第２配向膜２５０によって初期配向が決定される。
【０２００】
一方、本発明においては、画素別に単一の有機突起物４５０が形成された場合を例にとって説明したが、有機突起物４５０は複数形成されてもよい。
【０２０１】
このとき、図３２に示すように、画素電極５０は、多数に分割された副画素電極を有する。それぞれの副画素電極には有機突起物４５０がそれぞれ形成される。
【０２０２】
本発明においては、有機突起物４５０が画素電極５０の中央に形成された場合を例にとって説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、画素電極５０に有機突起物４５０の代わりに切欠部を形成してＡＳＶモード液晶表示装置を実現することもできる。なお、本発明は、画素電極５０の周りに隔壁を形成してＡＳＶモード液晶表示装置を実現することもできる。
【０２０３】
図３４は、光学補償ベンド（ＯＣＢ）モード液晶表示装置の一実施の形態を示す図である。
【０２０４】
図３４を参照すると、光学補償ベンド（ＯＣＢ）モード液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板２００および液晶層３００を備える。
【０２０５】
具体的に、第１基板１００は、第１絶縁基板１、ゲートライン（ＧＬ）、データライン（ＤＬ）、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、画素電極５０および第１配向膜１５０を備える。ここで、第１絶縁基板１、ゲートライン（ＧＬ）、データライン（ＤＬ）、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）および画素電極５０は、図１における構成要素と同様であるため、同じ構成要素についての重複する説明は省略する。
【０２０６】
第１配向膜１５０は、第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２を有する。
【０２０７】
第１配向基底膜１５１は、第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２を有する。第１配向基底膜１５１は、ポリマー系の物質または光配向物質が光配向されて成膜される。第１配向調節層１５２は、光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。
【０２０８】
第２基板２００は、第２絶縁基板２０１、ブラックマトリックス２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化層２３０、共通電極２４０および第２配向膜２５０を備える。ここで、第２絶縁基板２０１、ブラックマトリックス２１０、カラーフィルタ２２０、平坦化層２３０および共通電極２４０は、図１における説明と同様であるため、それについての重複する説明は省略する。
【０２０９】
第２配向膜２５０は、第２配向基底膜２５１および第２配向調節層２５２を有する。
【０２１０】
第２配向基底膜２５１は、ポリマー系の物質または光配向物質が光配向されて成膜される。第２配向調節層２５２は、光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。
【０２１１】
第２配向膜２５０は、第１配向膜１５０と異なる方向のプレチルトをもって成膜される。例えば、第２配向膜２５０は、第１配向膜１５０の方位角に対して液晶層３００を基準として対称となる方向を有する。例えば、第１配向調節層１５２及び第２配向調節層２５２は、液晶層３００を基準として対称となる方向の方位角を有する。このとき、第１配向調節層１５２及び第２配向調節層２５２は同じ極角を有する。しかしながら、液晶表示装置によって異なる極角を有する場合もある。
【０２１２】
図３４に示すように、本発明による光学補償ベンド（ＯＣＢ）モード液晶表示装置には、マルチドメインが実現される。すなわち、光学補償ベンド（ＯＣＢ）モード液晶表示装置におけるそれぞれの画素領域は、多数のドメインに分割される。このとき、第１ドメイン（Ｄ１）及び第２ドメイン（Ｄ２）に成膜された配向膜は、互いに異なる方向のプレチルトを有する。なお、第３ドメイン（Ｄ３）及び第４ドメイン（Ｄ４）に成膜された配向膜は、互いに異なる方向のプレチルトを有する。
【０２１３】
図３４に示す光学補償ベンド（ＯＣＢ）モード液晶表示装置は、図４〜図１４に基づいて説明した液晶表示装置の製造方法のうちのいずれかの方法を用いて製造可能である。
【０２１４】
図３５は、電界制御型複屈折（ＥＣＢ）モード液晶表示装置を示す図である。
【０２１５】
図３５を参照すると、電界制御型複屈折（ＥＣＢ）モード液晶表示装置は、第１基板１００、第２基板２００および液晶層３００を備える。
【０２１６】
第１基板１００には第１配向膜１５０が成膜され、第２基板２００には第２配向膜２５０が成膜される。
【０２１７】
第１基板１００は、薄膜トランジスタアレイが形成された基板であり、第２基板２００は、カラーフィルタアレイが形成された基板である。第１基板１００及び第２基板２００は、図１から図３に基づく説明と同様であるため、これについての詳細な説明は省略する。
【０２１８】
第１配向膜１５０は、第１配向基底膜１５１および第１配向調節層１５２を有する。第１配向基底膜１５１には、ポリマー系の配向基底物質または光配向物質が用いられる。第１配向調節層１５２は、光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。
【０２１９】
第２配向膜２５０は、第２配向基底膜２５１および第２配向調節層２５２を有する。第２配向基底膜２５１には、ポリマー系の配向基底物質または光配向物質が用いられる。第２配向調節層２５２は、光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。
【０２２０】
第１配向膜１５０および第２配向膜２５０の構成物質についての詳細な説明は図１に基づく説明と同様であるため、重複する説明は省略する。
【０２２１】
第２配向膜２５０は第１配向膜１５０と同じ方向のプレチルトをもって形成される。例えば、第２配向膜２５０は、第１配向膜１５０の方位角に対して同じ方向を有する。このとき、第１配向調節層１５２及び第２配向調節層２５２は同じ極角を有する。しかしながら、液晶表示装置によって異なる極角を有する場合もある。
【０２２２】
第１配向調節層１５２及び第２配向調節層２５２は、それぞれ所定の角度に傾いて極角を有するように形成される。液晶表示装置の製造方法としては、図４〜図１４に基づいて説明した方法のうちのいずれかが採用可能である。
【０２２３】
図３５に示す液晶表示装置において、第１ドメイン（Ｄ１）及び第２ドメイン（Ｄ２）には、第１配向膜１５０および第２配向膜２５０が互いに対称となる方向に各ドメインが成膜される。なお、第３ドメイン（Ｄ３）及び第４ドメイン（Ｄ４）にも第１配向膜１５０および第２配向膜２５０が互いに対称となる方向に各ドメインが成膜される。
【０２２４】
図３５には、マルチドメインが実現された場合を例示しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、モノドメインを有するようにも実現可能である。
【０２２５】
図３６は、本発明の一実施の形態による液晶表示装置を示す平面図である。図３７および図３８は、図３６の液晶表示装置を示す断面図である。
【０２２６】
本発明の実施の形態による液晶表示装置は、ねじれネマチック（ＴＮ）モード液晶表示装置であることを想定して説明する。図３５〜図３７は、画素群別に配向膜のプレチルトが異なることを除いては、他の実施の形態と同じ構成要素を備える。このため、薄膜トランジスタ基板、カラーフィルタ基板、液晶などの構成についての重複する説明は省略する。
【０２２７】
図３６および図３７を参照すると、本発明による液晶表示装置は、第１画素群５００及び第２画素群６００を備える。
【０２２８】
第１画素群５００は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のサブ画素を含む。第２画素群６００は、第１画素群５００と接する赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のサブ画素を含む。第１画素群５００及び第２画素群６００は、モザイク状に形成される。
【０２２９】
第１画素群５００は、第１配向膜および第２配向膜を備える。第１配向膜は、第１配向基底膜１５１ａおよび第１配向調節層１５２ａを有し、第２配向膜は、第２配向基底膜２５１ａおよび第２配向調節層２５２ａを有する。ここで、第１配向基底膜１５１ａ及び第１配向調節層１５２ａは第１基板１００に形成され、第２配向基底膜２５１ａ及び第２配向調節層２５２ａは第２基板２００に形成される。
【０２３０】
第１および第２配向基底膜１５１ａ、１５２ａには、ポリマー系の物質または光配向物質が用いられる。第１および第２配向調節層１５２ａ、２５２ａは、光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。配向膜の構成物質は、図１に基づく説明と同様であるため、これについての重複する説明は省略する。
【０２３１】
本発明においては、第１画素群５００に形成された第１配向調節層１５２ａの方位角と第２配向調節層２５２ａの方位角は、図３７に示すように、互いに垂直となる方向に形成されてもよく、図３８に示すように、互いに同じ方向に形成されてもよい。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、第１画素群５００に形成された第１配向調節層１５２ａの方位角と第２配向調節層２５２ａの方位角は０°〜３６０°に形成される。なお、第１配向調節層１５２ａ及び第２配向調節層２５２ａは極角を有する。例えば、極角は、０°〜１８０°に決定される。
【０２３２】
第２画素群６００は、第３および第４配向基底膜１５１ｂ、２５１ｂと、第３および第４配向調節層１５２ｂ、２５２ｂと、を備える。ここで、第３配向基底膜１５１ｂ及び第３配向調節層１５２ｂは第１基板１００に形成され、第４配向基底膜２５１ｂ及び第４配向調節層２５２ｂは第２基板１００に形成される。
【０２３３】
第３および第４配向基底膜１５１ｂ、２５１ｂには、ポリマー系の物質または光配向物質が用いられる。第３および第４配向調節層１５２ｂ、２５２ｂは、光重合性モノマーまたはオリゴマーが光重合されて形成される。
【０２３４】
第３配向調節層１５２ｂ及び第４配向調節層２５２ｂの方位角は、互いに異なるように形成される。例えば、図３７に示すように、第３配向調節層１５２ｂの方位角と第４配向調節層２５２ｂの方位角は９０°の差をもって形成される。また、図３８に示すように、第３配向調節層１５２ｂの方位角と第４配向調節層２５２ｂの方位角は同じ角度に形成される。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、第３配向調節層１５２ｂの方位角と第４配向調節層２５２ｂの方位角は０°〜３６０°に形成され、第３配向調節層１５２ｂの極角と第４配向調節層２５２ｂの極角は０°〜１８０°に形成されてもよい。
【０２３５】
第１画素群５００および第２画素群６００の配向膜は、図３８に示すように、隣り合う画素群を基準として対称となる方向の方位角を有するように形成される。なお、第１画素群５００および第２画素群６００の配向膜は同じ方位角を有するものの、極角は互いに異なるように形成されてもよい。
【０２３６】
図３９は、図３６に示す液晶表示装置に比べて、第１画素群５００および第２画素群６００が行毎に交互に形成されている点で相違点がある。すなわち、第１および第２画素群５００、６００は縦方向に連設される。
【０２３７】
図４０は、図３６に示す液晶表示装置に比べて、第１画素群５００および第２画素群６００は列方向に交互に形成されている点で相違点がある。すなわち、第１および第２画素群５００、６００は横方向に連設される。
【０２３８】
図３６〜図４０においては、第１画素群５００が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の三つのサブ画素を含む場合を例にとって説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、二つのサブ画素を含んでいてもよい。
【０２３９】
また、本発明は、図３６〜図４０には示していないが、第１画素群および第２画素群がモザイク状に形成されてもよい。
【０２４０】
図３６〜図４０に示す液晶表示装置は、図４〜図１４に基づいて説明した液晶表示装置の製造方法のうちのいずれかの方法により製造可能である。
【０２４１】
図３６〜図４０に示す液晶表示装置としては、ねじれネマチック（ＴＮ）モード液晶表示装置または垂直配向（ＶＡ）モード液晶表示装置が使用可能である。また、図３６〜図４０に示す液晶表示装置は、水平電界駆動（ＩＰＳ）モード液晶表示装置、光学補償ベンド（ＯＣＢ）モード液晶表示装置、電界制御型複屈折（ＥＣＢ）モード液晶表示装置またはアドバンスト・スーパー・ビュー（ＡＳＶ）モード液晶表示装置にも適用可能である。
【０２４２】
以上では、配向物質は、配向基底物質と、光重合性モノマーおよびオリゴマーを含むものであると説明したが、これとは異なり、配向物質は、光重合性モノマーおよびオリゴマーのみを含んでいてもよい。このとき、配向膜は重合された光重合性モノマーおよびオリゴマーを含み、配向膜は、物質に応じて、液晶配列、光照射角度（基板の傾き）、偏光方向または偏光状態、光照射強度などによってプレチルトが調節される。
【０２４３】
上述した本発明の一実施の形態において、液晶層には誘電率異方性を有する液晶が含まれると説明したが、液晶層は光重合性モノマーおよびオリゴマーを含んでいてもよい。
【０２４４】
本発明の精神は、特定の実施の形態を参照して詳細に説明してきたが、実施の形態は、説明のみを目的としたものであり、本発明を限定するものではない。当業者は本発明を理解するために変更することができ、または本発明の範囲および精神から逸脱することなく、実施の形態を変更することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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