(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一面側に、樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微細凹凸形状を有する微細凹凸層を含む反射防止物品であって、
前記微細凹凸層の表面は、微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が１ＭＰａ以上３００ＭＰａ以下であり、且つ、前記樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．２以下であることを特徴とする、反射防止物品。
【請求項２】
前記樹脂組成物の硬化物の表面における、ｎ−ヘキサデカンの接触角が３０度以下、又はオレイン酸の接触角が２５度以下である、請求項１に記載の反射防止物品。
【請求項３】
前記樹脂組成物が、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有する、請求項１又は２に記載の反射防止物品。
【請求項４】
表示パネルの少なくとも一面側に、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の反射防止物品を備える、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止物品、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フィルム形状の反射防止物品である反射防止フィルムに関して、透明基材（透明フィルム）の表面に多数の微小突起を密接して配置することにより、反射防止を図る方法が提案されている（特許文献１〜３参照）。この方法は、入射光に対する屈折率を厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。
【０００３】
多数の微小突起を有する上記フィルムは、高い反射防止性能を有する。しかしながら、その表面構造のため、皮脂等の汚れが付着し易く、また当該汚れは微小突起間の溝奥まで入り込むため、除去が困難であり、表面外観が悪化し易いという問題があった。
【０００４】
特許文献４では、汚染物の除去性に優れるとともに、耐擦傷性を兼備する微細凹凸構造体として、特定の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸構造体が記載されている。特許文献４には、上記特定の樹脂組成物の硬化物は、当該樹脂組成物が特定の組成を有することにより、架橋密度を高くして、硬化物の弾性率と硬度を高くし、耐擦傷性に優れたものとすることができること、及び、適度な親水性を有し、微細凹凸構造体の表面と、当該表面に付着する汚染物との間に水を侵入させやすくすることにより汚染物の除去性に優れること、が記載されている。
特許文献４の手法によれば、架橋密度を高くして微細凹凸構造体の硬度を上げているため当該微細凹凸構造体は変形しにくく、拭取り時に、微細凹凸構造体の隙間まで届きにくかった。そのため、汚染物を拭き取る際は、水やアルコールを含んだクリーナー等で汚れを浮かび上がらせて拭取る必要があり、乾拭きで汚れを除去することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭５０−７００４０号公報
【特許文献２】特表２００３−５３１９６２号公報
【特許文献３】特許第４６３２５８９号公報
【特許文献４】国際公開第２０１２／０９６３２２号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
微細凹凸層を含む反射防止物品において、微小突起間の溝奥まで入り込んだ汚れを除去する場合、従来、上述の特許文献４などのように、水やアルコール等を含んだ布などを用いて、汚れを浮かび上がらせて拭き取っていた。しかしながら、例えば、携帯電話などの電子機器に備えられた画像表示装置等では水拭きが好ましくないため、乾拭きで汚れを拭き取り可能な微細凹凸層を含む反射防止物品が求められている。
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な微細凹凸層を含む反射防止物品、及び、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る反射防止物品は、透明基材の少なくとも一面側に、樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微細凹凸形状を有する微細凹凸層を含む反射防止物品であって、
前記微細凹凸層の表面は、微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が１ＭＰａ以上３００ＭＰａ以下であり、且つ、前記樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．２以下であることを特徴とする。
【０００９】
本発明に係る反射防止物品においては、前記樹脂組成物の硬化物の表面における、ｎ−ヘキサデカンの接触角が３０度以下、又はオレイン酸の接触角が２５度以下であることが、乾拭き後の視認性が良好になる点から好ましい。
【００１０】
本発明に係る反射防止物品においては、前記樹脂組成物が、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが、付着した汚れを除去し易く、且つ、乾拭き後の視認性が良好になる点から好ましい。
【００１１】
本発明に係る画像表示装置は、表示パネルの少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な微細凹凸層を含む反射防止物品、及び、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明に係る反射防止物品の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明に係る画像表示装置の一例を模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、ドロネー図の一例を示す図である。
【図４】図４は、隣接突起間距離の計測に供する度数分布図である。
【図５】図５は、微小高さの説明に供する度数分布図である。
【図６】図６は、本発明に係る反射防止物品の製造方法の一例を示す概略図である。
【図７】図７は、実施例及び比較例の貯蔵弾性率Ｅ’と損失正接ｔａｎδとの関係を示す散布図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明に係る反射防止物品、及び画像表示装置について、順に詳細に説明する。
なお、本発明において（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタアクリルのいずれかであることを意味し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートのいずれかであることを意味する。
【００１５】
［反射防止物品］
本発明に係る反射防止物品は、透明基材の少なくとも一面側に、樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微細凹凸形状を有する微細凹凸層を含む反射防止物品であって、
前記微細凹凸層の表面は、微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下であり、且つ、前記樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）、以下、損失正接という場合がある）が０．２以下であることを特徴とする。
【００１６】
上記本発明に係る反射防止物品について図を参照して説明する。図１は、本発明に係る反射防止物品の一例を模式的に示す断面図である。図１に示す反射防止物品１０は、透明基材１の一面側に、微細凹凸形状を有する微細凹凸層２を有する。
前記微細凹凸層２の表面は、微小突起３が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起３は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起３の隣接突起間隔ｄ（図１）の最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起３を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起３の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有している。微細凹凸層２がこのような構造を有することにより、Λｍｉｎ以上の波長を有する光の反射防止を図ることができる。
【００１７】
本発明の反射防止物品は、前記微細凹凸層が樹脂組成物の硬化物からなり、当該樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下であり、且つ、当該樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．２以下であることにより、微細凹凸形状の復元性に優れ、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能となる。
【００１８】
本発明者らは、微細凹凸層表面に付着した汚染物を拭取る際に、微小突起に圧力がかかることに着目した。本発明者らは、拭取る際の圧力により、微小突起が変形して、突起間の溝が広がる、或いは、突起間の溝が埋まるように設計することにより、微小突起間に付着した汚染物を機械的に掻き出し易くなり、乾拭きで汚れを拭取ることが可能となると考えた。
従来の反射防止物品は、耐擦傷性の点から、微小突起の硬度が高いものが広く用いられてきた。硬度の高い微小突起は、拭取り時に圧力がかかってもほとんど変形しないため、乾拭きで汚れを拭き取ることは困難であった。
一方、圧力により容易に変形可能な微小突起は、圧力により当該突起が潰れたり、スティッキングが生じやすく、拭いた箇所に拭き痕が残ってしまう場合があった。
本発明においては、微細凹凸層として上記特定の物性を有する樹脂組成物の硬化物を用いる。当該樹脂組成物の硬化物は、貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下、且つ、損失正接（ｔａｎδ）が０．２以下であることにより、当該微細凹凸層の微小突起は、拭取る程度の圧力で変形し、且つ、優れた弾性復元性を備えている。そのため、乾拭きで汚れを拭取る際には、その圧力により微小突起が変形して、微小突起間に付着した汚れを機械的に掻き出し易くなり、その後、圧力が取り除かれると、塑性変形を生じることなく元の微小突起の形状に復元する。このようなことから、本発明の反射防止物品は、乾拭きであっても、反射防止性能を低下させることなく、汚れを拭取ることが可能である。
なお、本発明における拭取り時の圧力の大きさは、特に限定されるものではないが、通常、およそ２〜５ｋｇ／ｃｍ２程度の圧力である。
以下、本発明に係る反射防止物品に含まれる透明基材、微細凹凸層について、順に説明する。
【００１９】
＜透明基材＞
本発明に用いられる透明基材は、反射防止物品に用いられる公知の透明基材の中から用途に応じて適宜選択して用いることができる。透明基材に用いられる材料の具体例としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の透明樹脂や、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、蛍石等の透明無機材料等が挙げられる。
【００２０】
前記透明基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００２１】
前記透明基材の厚みは、本発明の反射防止物品の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０〜５０００μｍであり、前記透明基材は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。
【００２２】
本発明に用いられる透明基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
また、透明基材と後述する微細凹凸層との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性（耐傷性）を向上させるためのプライマー層を透明基材上に形成してもよい。このプライマー層は、透明基材および微細凹凸構造体との双方に密着性を有し、可視光を透過するものが好ましい。
【００２３】
＜微細凹凸層＞
微細凹凸層の表面は、微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有する。微小突起の形状は、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有するものの中から適宜選択すればよい。このような微小突起の形状の具体例としては、半円状、半楕円状、三角形状、放物状、釣鐘状等の垂直断面形状を有するものが挙げられる。複数ある微小突起は同一の形状を有していても異なる形状を有していてもよい。微小突起が上記の形状を有することにより、微細凹凸等の深さ方向に屈折率が連続的に変化するため、反射防止性が付与される。
【００２４】
本発明において隣接突起間隔ｄ及び微小突起の高さＨは以下の方法により測定される。
（１）先ず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope:AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。
【００２５】
（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と称する。）を検出する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。
【００２６】
（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ  Ｄｉａｇｒａｍ）を作成する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。図３は、ドロネー図（白色の線分により表される図である）を原画像と重ね合わせた図である。
【００２７】
（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（以下、隣接突起間距離という。）の度数分布を求める。図４は、図３のドロネー図から作成した度数分布のヒストグラムである。なお、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作成する。
【００２８】
具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微小突起（多峰性の微小突起）に係る微細構造においては、このような微細構造を備えていない微小突起（単峰性の微小突起）の場合の数値範囲から、隣接突起間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば微小突起（群）の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性の微小突起を選んで、その隣接突起間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接突起間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。図４の例では、隣接突起間距離が５６ｎｍ以下のデータ（矢印Ａにより示す左端の小山）を除外する。なお図４は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。
【００２９】
（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布から平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求めると、図４の例では、平均値ｄＡＶＧ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍとなった。これにより隣接突起間距離ｄの最大値を、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σとし、この例ではｄｍａｘ＝２３４ｎｍとなる。
【００３０】
なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図５は、このようにして求められる突起付け根位置を基準（高さ０）とした突起高さＨの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σを求める。ここでこの図５の例では、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍである。これによりこの例では、突起の高さは、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍとなる。なお図５に示す突起高さＨのヒストグラムにおいて、多峰性の微小突起の場合は、頂点を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。
【００３１】
前記微小突起群中の各微小突起が同一の高さＨを有し、当該微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接突起間隔ｄは、微小突起配列の周期ｐと一致するため、ｄｍａｘ＝ｐとなる。よって、反射防止効果を奏し得る条件は、ｄｍａｘ＝ｐ≦Λｍｉｎであり、微小突起配列の周期ｐ以上の波長を有する光に対して反射防止効果を奏することができる（例えば、特開昭５０−７００４０号公報、特許第４６３２５８９号公報、特許第４２７０８０６号公報を参照することができる）。従って、例えば、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を得るためには、可視光線帯域の最短波長を３８０ｎｍとした場合、微小突起配列の周期を３８０ｎｍ以下とすればよい。また、微小突起の高さＨは、反射防止効果を得ようとする波長のうち最長波長Λｍａｘの０．２倍以上であることが好ましい（Ｈ≧０．２×Λｍａｘ）。従って、例えば可視光線帯域の全波長に対して優れた反射防止効果を得ようとするためには、可視光線帯域の最長波長を７８０ｎｍとした場合、Ｈ≧０．２×７８０ｎｍ＝１５６ｎｍであることが好ましい。
【００３２】
突起が不規則に配置されている場合には、上述のようにして求めた隣接突起間距離ｄの最大値ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σが、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎを満たすことが必要であり、微小突起の高さＨの平均値ＨＡＶＧが、ＨＡＶＧ≧０．２×Λｍａｘを満たすことが好ましい。例えば、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得るためには、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σ≦３８０ｎｍとすればよい。可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄｍａｘ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄｍａｘ≦２００ｎｍである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄｍａｘ≧５０ｎｍであり、好ましくは、ｄｍａｘ≧１００ｎｍとされる。また突起高さＨについては、十分な反射防止効果を発現する為には、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍａｘとしたときに、ＨＡＶＧ≧０．２×Λｍａｘとなることが好ましく、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得るためにはＨＡＶＧ≧０．２×７８０ｎｍ＝１５６ｎｍであることが好ましく、ＨＡＶＧ≧１７０ｎｍとすることがより好ましい。突起の高さＨＡＶＧは、反射防止効果の点から、通常３５０ｎｍ以下とされる。また、突起の高さの分布は、通常５０〜３５０ｎｍである。
【００３３】
微細突起のアスペクト比（平均突起高さＨＡＶＧ／平均隣接突起間隔ｄＡＶＧ）は０．８〜２．５であることが好ましく、更に、０．８〜２．１であることがより好ましい。
【００３４】
微細凹凸層の厚み（図１におけるＴ）は、適宜調整すればよいが、３μｍ〜３０μｍであることが好ましく、５μｍ〜１０μｍであることがより好ましい。なお、本発明において微細凹凸層の厚みＴは、当該微細凹凸層の透明基材との界面から、最も高い微小突起の頂部までの厚みで定義される。
【００３５】
本発明において微細凹凸層は、樹脂組成物の硬化物からなる。なお、本発明において硬化物とは、化学反応を経て硬くなったもののことをいい、硬化性とは、化学反応を経て硬くなる性質をいう。以下、樹脂組成物の硬化物の物性について説明し、次いで、樹脂組成物の組成について説明する。
【００３６】
（樹脂組成物の硬化物）
樹脂組成物の硬化物は、後述する樹脂組成物を、光及び／又は熱の作用により硬化させて得られたものである。後述する製造方法により、当該硬化物は所定の微細凹凸形状が付与された微細凹凸層とすることができる。
【００３７】
本発明において、樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）は３００ＭＰａ以下である。Ｅ’を３００ＭＰａ以下とすることにより、拭取り時の圧力によって微小突起が変形し、微小突起間の隙間に入り込んだ汚れを、乾拭きで除去することが可能となる。中でも貯蔵弾性率（Ｅ’）が、１〜２５０ＭＰａであることが好ましく、１〜１００ＭＰａであることがより好ましい。
【００３８】
また、本発明においては、前記樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）損失正接）が０．２以下である。損失正接を０．２以下とすることにより、拭取り時に変形した微小突起が、弾性復元され、元の形状に戻りやすい。これにより、突起の塑性変形やスティッキングが抑制され、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭取ることが可能になる。中でも、ｔａｎδが０．１８以下であることが好ましい。
【００３９】
本発明において貯蔵弾性率（Ｅ’）及び損失弾性率（Ｅ”）は、ＪＩＳ  Ｋ７２４４に準拠して、以下の方法により測定される。
まず、微細凹凸層形成用の樹脂組成物を、２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの単膜とする。
次いで、２５℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、Ｅ’、Ｅ”が求められる。測定装置としては、例えば、ＵＢＭ製  Ｒｈｅｏｇｅｌ  Ｅ４００を用いることができる。
【００４０】
前記樹脂組成物の硬化物は、当該硬化物の表面において、ｎ−ヘキサデカンの接触角が３０度以下、又はオレイン酸の接触角が２５度以下であることが好ましい。樹脂組成物の硬化物の表面が上記のような親油性を有することにより、微細凹凸層の表面に付着した油性の汚れが完全に拭取れなかった場合であっても、微細凹凸層の表面に薄く広がるため、当該汚れが目立たなくなり、拭取り後の視認性が良好になる。
また、前記樹脂組成物の硬化物は、表面の拭取り性の点から、当該硬化物の表面における水の接触角が、７０度以上であることが好ましい。
【００４１】
本発明において接触角は、以下のように測定される。
まず、透明基材上に微細凹凸層用の樹脂組成物を塗布して、２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより硬化させて、微細凹凸形状を有しない塗膜を形成する。当該塗膜側を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に水平に貼り付ける。次いで、前記微細凹凸層に接触角を測定しようとする溶剤（水、ｎ−ヘキサデカン、又はオレイン酸）１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１０秒後の接触角を計測した。測定装置は、例えば、協和界面科学社製  接触角計ＤＭ  ５００を用いることができる。
【００４２】
本発明の反射防止物品において、微細凹凸層表面の弾性率は、柔軟性に優れる点から、２００〜５００ＭＰａであることが好ましく、２２０〜４００ＭＰａであることが好ましい。
微細凹凸層表面の最大押し込み深さは、変形し易く、拭取り性に優れる点から、１．０〜２．０μｍであることが好ましく、１．２〜１．８μｍであることがより好ましい。
また、微細凹凸層表面の弾性復元率は、塑性変形が少なく、拭き痕が生じにくい点から、８０％以上であることが好ましく、８５〜９８％であることがより好ましい。
【００４３】
本発明において、弾性率、最大押し込み深さ、及び弾性復元率は、以下のように測定される。
反射防止物品の微細凹凸層側表面に、下記特定の条件で圧子を押し込んで、フィルム表面の弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率を測定することができる。
測定装置は、例えば、フィッシャーインストルメンツ社製ＰＩＣＯＤＥＮＴＥＲ  ＨＭ−５００を用いることができる。
＜測定条件＞
・荷重速度  １ｍＮ／１０秒
・保持時間  １０秒
・荷重除荷速度  １ｍＮ／１０秒
・圧子  ビッカース
・測定温度  ２５℃
【００４４】
（樹脂組成物）
微細凹凸層用の樹脂組成物は、熱硬化性成分及び／又は光硬化性成分を含み、硬化後に上記物性が得られるものが用いられる。中でも、光硬化性成分を含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
上記光硬化性成分としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む組成物であることが好ましく、（メタ）アクリレートを含む組成物であることがより好ましい。
光硬化性樹脂組成物は、少なくとも上記光硬化性成分を含有していればよく、必要に応じて、更に他の成分を含有してもよい。
また、上記樹脂組成物は、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましい。
以下、光硬化性成分として好ましく用いられる（メタ）アクリレートを含む組成物中の各成分について順に説明する。
【００４５】
（１）（メタ）アクリレート
（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能（メタ）アクリレートであっても、（メタ）アクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能アクリレートであってもよく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用するものであってもよい。
中でも、硬化物が上記物性を満たし、微小突起が柔軟性と弾性復元性を両立する点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用することが好ましい。
【００４６】
単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ビフェニロキシエチルアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジル（メタ）アクリレート、ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートが好ましく、中でも、炭素数１２以上であることがより好ましく、トリデシル（メタ）アクリレート、及びドデシル（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが更により好ましい。これらの単官能（メタ）アクリル酸エステルは、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートを用いる場合、後述する炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の特性を兼ね備える。
【００４７】
単官能（メタ）アクリレートの含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。
【００４８】
また、多官能アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタントリ（メタ）アクリレート、エステルトリ（メタ）アクリレート、ウレタンヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、微小突起が柔軟性及び復元性に優れる点から、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが更により好ましい。
【００４９】
上記多官能（メタ）アクリレートの含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、１０〜９５質量％であることが好ましく、１５〜９０質量％であることがより好ましい。
【００５０】
（２）炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物
本発明において用いられる樹脂組成物は、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましく、炭素数１２以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することがより好ましい。
炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、例えば、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを有する化合物等が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない限り、更に置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、スルホ基の他、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する基等が挙げられる。中でも、光硬化性を備える点から、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基を有することがより好ましい。
なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物が（メタ）アクリロイル基を有する場合、当該化合物は、前記（メタ）アクリレートにも該当し得る。
【００５１】
炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を用いる場合、当該化合物の含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、５〜３０質量％であることが好ましく、１０〜２０質量％であることがより好ましい。
【００５２】
本発明において好ましく用いられる光硬化性樹脂組成物は、硬化物の貯蔵弾性率、損失正接を上記所定の範囲に調整しやすく、且つ親油性に調整しやすく、優れた乾拭き取り性を得ることができる点から、少なくとも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートと、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートとを含有することが特に好ましい。中でも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートの含有割合が、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレート１００質量部に対して、５〜３０質量部であることが好ましく、１０〜１５質量部であることがより好ましい。
【００５３】
（３）光重合開始剤
上記（メタ）アクリレートの硬化反応を開始又は促進させるために、必要に応じて光重合開始剤を適宜選択して用いても良い。光重合開始剤の具体例としては、例えば、ビスアシルフォスフィノキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フォスフィンオキサイド、フェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィン酸エチル等が挙げられる。これらは、単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５４】
光重合開始剤を用いる場合、当該光重合開始剤の含有量は、通常、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０．８〜２０質量％であり、０．９〜１０質量％であることが好ましい。
【００５５】
（４）帯電防止剤
本発明においては、前記樹脂組成物中に帯電防止剤を含有することが好ましい。帯電防止剤を含有することにより、微細凹凸層表面に汚れが付着することを抑制することができ、また、拭取り時に汚れが落ちやすい。
帯電防止剤は、従来公知のもの中から適宜選択して用いることができる。帯電防止剤の具体例としては、例えば、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、１級〜３級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。中でも、カチオン性化合物が好ましく、３級アミノ基を有するカチオン性化合物がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジオクチル−１−オクタンアミン等のトリアルキルアミンであることが更により好ましい。
【００５６】
帯電防止剤を用いる場合、当該帯電防止剤の含有量は、通常、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して１〜２０質量％であり、２〜１０質量％であることが好ましい。
【００５７】
（５）溶剤
本発明において樹脂組成物は、塗工性などを付与する点から溶剤を用いてもよい。溶剤を用いる場合、当該溶剤は、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体的としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、樹脂組成物に用いられる溶剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。
【００５８】
樹脂組成物全量に対する、固形分の割合は２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。なお本発明において固形分とは、樹脂組成物中の溶剤以外のすべての成分を表す。
【００５９】
（６）その他の成分
本発明において用いられる微細凹凸層用の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、密着性向上のためのシランカップリング剤、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調製剤、離型剤等が挙げられる。
【００６０】
＜その他の層＞
本発明の反射防止物品は、本発明の効果を損なわない範囲において、更にその他の層を有していてもよい。透明基材の微細凹凸層を有しない面側には、光学フィルム用途に用いられる従来公知の各種層を有していてもよい。例えば、従来公知の単層或いは多層構成の反射防止層、光拡散による防眩性（或いは反射防止）を付与する層、傷付き防止等の為に従来公知のハードコート層等が挙げられる。
【００６１】
本発明の反射防止物品は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、反射防止性物品の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００６２】
＜反射防止物品の用途＞
本発明に係る反射防止物品は、後述する画像表示装置の他、各種物品に用いることができる。
例えば、店舗のショーウィンドウや、美術館の展示物の展示窓；時計等、各種計測機器の表示窓表面；道路標識や、ポスター等の各種印刷物；自動車、航空機等の乗り物や、各種建築物の窓等の前面又は両面に配置して、視認性を向上することができる。また、眼鏡、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の各種光学機器や、各種照明機器の窓材として用いることもできる。
【００６３】
また、上述の実施形態においては、反射防止を図る電磁波の波長帯域を、専ら、可視光線帯域として説明したが、本発明はこれに限らず、反射防止を図る電磁波の波長帯域を赤外線、紫外線等の可視光線以外の波長帯域に設定してもよい。その場合は前記の各条件式中において、電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎ及び最長波長Λｍａｘを、それぞれ、赤外線、紫外線等の波長帯域に於ける反射防止効果を希望する最短波長及び最長波長にそれぞれ設定すればよい。例えば、最短波長Λｍｉｎが８５０ｎｍの赤外線帯域の反射防止を希望する場合は、隣接突起間距離ｄ（若しくは其の最大値ｄｍａｘ）を８５０ｎｍ以下、例えば、ｄｍａｘ＝８００ｎｍと設計すればよい。
【００６４】
＜反射防止物品の製造方法＞
本発明の反射防止物品の製造方法は、透明基材上に微細凹凸層を形成する従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。
例えば、まず透明基材上に、微細凹凸層形成用の樹脂組成物を塗布し、所望の微細凹凸形状を有する微細凹凸層形成用原版の凹凸形状を、前記樹脂組成物の塗膜に賦型した後、該樹脂組成物を硬化させることにより微細凹凸層を形成し、前記微細凹凸層形成用原版から剥離する方法等が挙げられる。前記樹脂組成物を硬化させる方法は、該樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択することができる。
【００６５】
前記微細凹凸層形成用原版としては、繰り返し使用した際に変形および摩耗するものでなければ、特に限定されるものではなく、金属製であっても良く、樹脂製であっても良いが、通常、金属製が好適に用いられる。耐変形性および耐摩耗性に優れているからである。
前記微細凹凸層形成用原版の微細凹凸形状を有する面は、特に限定されないが、酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易である点から、アルミニウムからなることが好ましい。
前記微細凹凸層形成用原版は、具体的には、例えば、ステンレス、銅、アルミニウム等の金属製の母材の表面に、直接に又は各種の中間層を介して、スパッタリング等により純度の高いアルミニウム層が設けられ、当該アルミニウム層に凹凸形状を形成したものが挙げられる。前記母材は、前記アルミニウム層を設ける前に、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の表面を超鏡面化しても良い。
前記微細凹凸層形成用原版に微細凹凸形状を形成する方法としては、例えば、陽極酸化法によって前記アルミニウム層の表面に複数の微細孔を形成する陽極酸化工程と、前記アルミニウム層をエッチングすることにより前記微細孔の開口部にテーパー形状を形成する第１エッチング工程と、前記アルミニウム層を前記第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより前記微細孔の孔径を拡大する第２エッチング工程とを順次繰り返し実施することによって形成することができる。
微細な凹凸形状を形成する際には、アルミニウム層の純度(不純物量)や結晶粒径、陽極酸化処理及び／又はエッチング処理の諸条件を適宜調整することによって、所望の形状とすることができる。前記陽極酸化処理において、より具体的には、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な孔をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製することができる。
このようにして、前記微細凹凸層形成用原版は、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に作製される。当該微細凹凸層形成用原版を用いて製造される微細凹凸層には、前記微細孔に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる微小突起群を備えた微細凹凸が形成され、すなわち、当該微細凹凸の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微細凹凸を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微細凹凸の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する微細凹凸形状が形成される。
【００６６】
また、前記微細凹凸層形成用原版の形状としては、所望の形状を賦型することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、平板状であっても良く、ロール状であっても良いが、前記微細凹凸層形成用原版は、生産性向上の観点からは、ロール状の金型（以下、「ロール金型」と称する場合がある。）を用いることが好ましい。
本発明において用いられるロール金型としては、例えば、母材として、円筒形状の金属材料を用い、当該母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して設けられたアルミニウム層に、上述したように、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製されたものが挙げられる。
【００６７】
図６に、微細凹凸層形成用の樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物を用い、微細凹凸層形成用原版としてロール金型を用いた場合に、透明基材上に微細凹凸層を形成する方法の一例を示す。
図６に示す方法では、樹脂供給工程において、ダイ１１により帯状フィルム形態の透明基材１に、未硬化で液状の光硬化性樹脂組成物を塗布し、微小突起形状の受容層２’を形成する。なお光硬化性樹脂組成物の塗布については、ダイ１１による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ１３により、微細凹凸層形成用原版であるロール金型１２の周側面に透明基材１を加圧押圧し、これにより透明基材１に受容層２’を密着させると共に、ロール金型１２の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に、受容層２’を構成する光硬化性樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により光硬化性樹脂組成物を硬化させ、これにより透明基材１の表面に微細凹凸層２を作製する。続いて剥離ローラ１４を介してロール金型１２から、硬化した微細凹凸構造体２と一体に透明基材１を剥離する。必要に応じてこの透明基材１に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止物品１を作製する。これにより反射防止物品は、ロール材による長尺の透明基材１に、微細凹凸層形成用原版であるロール金型１２の周側面に作製された微細凹凸形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。
【００６８】
また上述の実施形態では、ロール金型を使用した賦型処理によりフィルム形状の反射防止物品を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により反射防止物品を作成する場合等、賦型処理に係る工程、微小突起構造体形成用原版は、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて適宜変更することができる。
【００６９】
［画像表示装置］
本発明に係る画像表示装置は、表示パネルの少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品を備えることを特徴とする。
【００７０】
本発明の画像表示装置２０は、図２に示すように、表示パネル４の少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品１０を備えている。当該反射防止物品１０は、表示パネル４と直接貼り合わされてもよく、本発明の効果を損なわない範囲で、反射防止物品１０と、表示パネル４との間に、他の部材を有していてもよい。当該他の部材としては、例えば、公知のタッチパネル部材等が挙げられる。
なお、本発明の画像表示装置にあっては、単に表示機能のみを有する装置（例えば、ＬＣＤモニター、ＣＲＴモニター等）でも良いが、装置の機能の一部として表示機能を有する装置も該当する。例えば、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム等である。
【００７１】
本発明の画像表示装置は、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能であるため、優れた反射防止性を保持することができる。そのため、特に、表示装置表面に指で直接触れることが多い、タッチパネル部材を備えた画像表示装置においても好適に用いることができる。
【００７２】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００７３】
（製造例１  微細凹凸層形成用原版の作製）
純度９９．５０％の圧延されたアルミニウム板を、その表面が、十点平均粗さＲｚ３０ｎｍ、且つ周期１μｍの凹凸形状となるように研磨後、０．０２Ｍシュウ酸水溶液の電解液中で、化成電圧４０Ｖ、２０℃の条件にて１２０秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で６０秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、１．０Ｍリン酸水溶液で１５０秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計５回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に微細な凹凸形状が形成された陽極酸化アルミニウム層が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、微細凹凸層形成用原版を得た。なお、アルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、平均隣接微細孔間距離が１００ｎｍ、平均深さが２００ｎｍで、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に形成された形状であった。
【００７４】
（製造例２  微細凹凸層形成用樹脂組成物Ａの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の微細凹凸層形成用樹脂組成物Ａを調製した。
＜樹脂組成物Ａの組成＞
・エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）ビスフェノールＡジアクリレート  ５５質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ３５質量部
・トリデシルアクリレート  ５質量部
・ドデシルアクリレート  ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）  １質量部
【００７５】
（製造例３  微細凹凸層形成用樹脂組成物Ｂの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の微細凹凸層形成用樹脂組成物Ｂを調製した。
＜樹脂組成物Ｂの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート  ５０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ３０質量部
・トリデシルアクリレート  ５質量部
・ドデシルアクリレート  ５質量部
・メチルメタクリレート  ５質量部
・ヘキシルメタクリレート  ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）  １質量部
【００７６】
（比較製造例１  微細凹凸層形成用樹脂組成物Ｃの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の微細凹凸層形成用樹脂組成物Ｃを調製した。
＜樹脂組成物Ｃの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート  ３０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ２０質量部
・ドデシルアクリレート  ５０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）  １質量部
【００７７】
（比較製造例２  微細凹凸層形成用の樹脂組成物Ｄの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の微細凹凸層形成用樹脂組成物Ｄを調製した。
＜樹脂組成物Ｄの組成＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート  １５質量部
・２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート  １５質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート  ７０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）  １質量部
【００７８】
（実施例１）
製造例２で得られた微細凹凸層形成用樹脂組成物Ａを、製造例１で得られた微細凹凸層形成用原版の微細凹凸面が覆われ、硬化後の微細凹凸層の厚さが２０μｍとなるように塗布、充填し、その上に透明基材として厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。原版全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、透明基材側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して微細凹凸層形成用樹脂組成物を硬化させた。その後、原版より剥離し、実施例１の反射防止物品Ａを得た。
【００７９】
（実施例２）
実施例１において、微細凹凸層形成用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例２で得られた微細凹凸層形成用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止物品Ｂを得た。
【００８０】
（比較例１）
実施例１において、微細凹凸層形成用樹脂組成物Ａの代わりに、比較製造例１で得られた微細凹凸層形成用樹脂組成物Ｃを用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止物品Ｃを得た。
【００８１】
（比較例２）
実施例１において、微細凹凸層形成用樹脂組成物Ａの代わりに、比較製造例２で得られた微細凹凸層形成用樹脂組成物Ｄを用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止物品Ｄを得た。
【００８２】
［評価］
＜貯蔵弾性率（Ｅ’）及びｔａｎδの測定＞
微細凹凸層形成用樹脂組成物Ａ〜Ｄをそれぞれ２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの試験用単膜Ａ〜Ｄをそれぞれ得た。
次いで、ＪＩＳ  Ｋ７２４４に準拠し、２５℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、貯蔵弾性率Ｅ’、及び損失弾性率Ｅ”を求めた。また、当該Ｅ’及びＥ”の結果からｔａｎδを算出した。測定装置はＵＢＭ製  Ｒｈｅｏｇｅｌ  Ｅ４００を用いた。結果を表１に示す。
【００８３】
＜接触角の測定＞
トリアセチルセルロースフィルム上に微細凹凸層形成用樹脂組成物Ａ〜Ｄを塗布して、２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより硬化させて、微細凹凸形状を有しない塗膜を形成した。当該塗膜側表面を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けたものの上に、水１．０μＬの液滴を滴下し、着滴５秒後の水の接触角を計測した。水の代わりに、ｎ−ヘキサデカン及びオレイン酸をそれぞれ用いて、各溶媒の接触角をそれぞれ計測した。結果を表１に示す。
測定装置は協和界面科学社製  接触角計ＤＭ  ５００を用いた。
【００８４】
＜弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率の測定＞
実施例１、２及び比較例１、２で得られた反射防止物品Ａ〜Ｄの微細凹凸層側表面に、下記特定の条件で圧子を押し込んで、微細凹凸層側表面の弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率を測定した。測定装置は、フィッシャーインストルメンツ社製ＰＩＣＯＤＥＮＴＥＲ  ＨＭ−５００を用いた。結果を表１に示す。
＜測定条件＞
・荷重速度  １ｍＮ／１０秒
・保持時間  １０秒
・荷重除荷速度  １ｍＮ／１０秒
・圧子  ビッカース
・測定温度  ２５℃
【００８５】
＜指紋拭き取り試験＞
実施例１、２及び比較例１、２で得られた反射防止物品Ａ〜Ｄの微細凹凸層側表面を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、指を押し付けて指紋を付着させた。その後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて指紋を乾拭きした。乾拭きは３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復行い、拭取り後の外観を評価した。結果を表１に示す。
［指紋拭き取り試験評価基準］
Ａ：指紋汚れが視認できない。
Ｂ：指紋付着跡に若干の色味の変化が視認される。
Ｃ：指紋がほぼ拭取られない。
【００８６】
＜摺動性試験＞
実施例１、２及び比較例１、２で得られた反射防止物品Ａ〜Ｄの微細凹凸層側表面を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復擦った。擦過１分後の視認性の評価を下記基準で行った。結果を表１に示す。
［摺動性試験評価基準］
Ａ：擦り痕が視認されない。
Ｂ：擦り痕に若干色味の変化がある。
Ｃ：擦り痕が明らかに白濁する。
【００８７】
【表１】
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【００８８】
［結果のまとめ］
２５℃において、貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下であり、且つ、ｔａｎδが０．２以下である樹脂組成物の硬化物を用いて形成された微細凹凸層を有する実施例１及び実施例２の反射防止物品は、乾拭きであっても指紋を拭取ることが可能で、拭取り跡が確認されなかった。ｔａｎδが０．６９の比較例１は、拭取り時の圧力により微細突起が塑性変形を生じたり、スタッキングが発生したものと推定される。貯蔵弾性率Ｅ’が３３０ＭＰａの比較例２は、微小突起が変形しにくく、乾拭きでは十分に指紋汚れを落とすことができなかった。
【符号の説明】
【００８９】
１    透明基材
２    微細凹凸層
２’  受容層
３    微小突起
４    表示パネル
１０  反射防止物品
１１  ダイ
１２  ロール金型
１３  押圧ローラ
１４  剥離ローラ
２０  画像表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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