(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が水平な状態で、水平方向に搬送される基板搬送路の上方において、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子のうち、一つまたは複数の発光素子からなる発光体を発光制御単位として選択的に発光駆動し、その下方において基板搬送方向に沿って相対的に移動される基板上の感光膜に対し露光処理を施す局所露光方法であって、
前記基板に形成された感光膜の所定領域に対し、その膜厚に基づいて照射すべき目標照度を求めるステップと、
前記所定領域に照射可能な少なくとも一つの発光体を特定するステップと、
前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とするステップと、
前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を設定するステップと、
前記設定した駆動電流値により前記一の発光体を発光させるステップとを含むことを特徴とする局所露光方法。
【請求項２】
前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を設定するステップにおいて、
前記駆動電流値は、
前記一の発光体のみを発光させた場合に、該一の発光体の照射領域において測定される照度と、該一の発光体に印加された駆動電流値との関係式に、前記補正後の設定照度を代入することにより算出されることを特徴とする請求項１に記載された局所露光方法。
【請求項３】
前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とするステップにおいて、
前記一の発光体に隣接する他の発光体の発光による干渉光の照度は、
前記他の発光体のみを発光させた場合に前記一の発光体の照射領域において測定される照度と、前記他の発光体に印加された駆動電流値との関係式に基づき算出されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載された局所露光方法。
【請求項４】
前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とするステップにおいて、
前記他の発光体の発光による干渉光の照度を、前記補正後の設定照度に基づき算出する第一のステップと、
前記第一のステップにより算出された干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を新たな補正後の設定照度として更新する第二のステップと、
前記第一のステップと第二のステップとを所定回数繰り返すステップとを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載された局所露光方法。
【請求項５】
前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とするステップと、
前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を設定するステップとにおいて、
前記他の発光体の発光による干渉光の照度を、前記設定した駆動電流値に基づき算出する第一のステップと、
前記第一のステップにより算出された干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を新たな補正後の設定照度として更新する第二のステップと、
前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を更新する第三のステップと、
前記第一のステップと第二のステップと第三のステップとを所定回数繰り返すステップとを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載された局所露光方法。
【請求項６】
基板が水平な状態で、水平方向に搬送される基板搬送路の上方において、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子と、前記複数の発光素子のうち、一つまたは複数の発光素子からなる発光体を発光制御単位として選択的に発光駆動する発光駆動手段と、前記複数の発光素子の下方において基板搬送方向に沿って前記基板を相対的に移動させる基板搬送手段とを具備し、前記基板搬送手段により移動される前記基板上の感光膜に対し前記発光体の発光により露光処理を施す局所露光装置であって、
前記発光駆動手段による発光駆動の制御を行う制御手段を備え、
前記制御手段は、
前記被処理基板に形成された感光膜の所定領域に対し、その膜厚に基づいて照射すべき目標照度を求め、
前記所定領域に照射可能な少なくとも一つの発光体を特定し、
前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とし、
前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を設定し、該駆動電流値を用いて前記発光駆動手段により前記一の発光体を発光させることを特徴とする局所露光装置。
【請求項７】
前記制御手段が、前記補正後の設定照度に基づき設定する駆動電流値は、
前記一の発光体のみを発光させた場合に、該一の発光体の照射領域において測定される照度と、該一の発光体に印加された駆動電流値との関係式に、前記補正後の設定照度を代入することにより算出した値であることを特徴とする請求項６に記載された局所露光装置。
【請求項８】
前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とする際、
前記制御手段は、
前記一の発光体に隣接する他の発光体の発光による干渉光の照度を、
前記他の発光体のみを発光させた場合に前記一の発光体の照射領域において測定される照度と、前記他の発光体に印加された駆動電流値との関係式に基づき算出することを特徴とする請求項６または請求項７に記載された局所露光装置。
【請求項９】
前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とする際、
前記制御手段は、
前記他の発光体の発光による干渉光の照度を、前記補正後の設定照度に基づき算出し、
前記算出した干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を新たな補正後の設定照度として更新し、
前記更新した設定照度に基づく前記干渉光の照度の算出と、設定照度の更新とを所定回数繰り返すことを特徴とする請求項６乃至請求項８のいずれかに記載された局所露光装置。
【請求項１０】
前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とし、前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を設定する際、
前記制御手段は、
前記他の発光体の発光による干渉光の照度を、前記設定した駆動電流値に基づき算出し、
前記算出された干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を新たな補正後の設定照度として更新し、
前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を更新し、
更に、前記更新した駆動電流値に基づく干渉光の照度の算出と、設定照度の更新と、駆動電流値の更新とを所定回数繰り返すことを特徴とする請求項６乃至請求項８のいずれかに記載された局所露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光膜が形成された被処理基板に対し局所的に露光処理を行う局所露光方法及び局所露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
このフォトリソグラフィ工程では、特許文献１にも記載されている通り、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、フォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布され、レジスト中の溶剤を蒸発させる予備乾燥処理（減圧乾燥、及びプリベーク処理）によってレジスト膜（感光膜）が形成される。そして、回路パターンに対応して前記レジスト膜が露光され、これが現像処理され、パターン形成される。
【０００３】
ところで、このようなフォトリソグラフィ工程にあっては、図２０（ａ）に示すようにレジストパターンＲに異なる膜厚（厚膜部Ｒ１と薄膜部Ｒ２）を持たせ、これを利用して複数回のエッチング処理を行うことによりフォトマスク数、及び工程数を低減することが可能である。尚、そのようなレジストパターンＲは、１枚で光の透過率が異なる部分を有するハーフトーンマスクを用いるハーフ（ハーフトーン）露光処理によって得ることができる。
【０００４】
このハーフ露光が適用されたレジストパターンＲを用いた場合の回路パターン形成工程について図２０（ａ）〜（ｅ）を用いて具体的に説明する。
例えば、図２０（ａ）において、ガラス基板Ｇ上に、ゲート電極２００、絶縁層２０１、ａ−Ｓｉ層（ノンドープアモルファスＳｉ層）２０２ａとｎ＋ａ−Ｓｉ層２０２ｂ（リンドープアモルファスＳｉ層）からなるＳｉ層２０２、電極を形成するためのメタル層２０３が順に積層されている。
また、メタル層２０３上には、一様にレジスト膜が形成された後、減圧乾燥、及びプリベーク処理によりレジスト中の溶剤が蒸発され、その後、前記ハーフ露光処理、及び現像処理により、レジストパターンＲが形成される。
【０００５】
このレジストパターンＲ（厚膜部Ｒ１及び薄膜部Ｒ２）の形成後、図２０（ｂ）に示すように、このレジストパターンＲをマスクとして、メタル層２０３のエッチング（１回目のエッチング）が行われる。
次いで、レジストパターンＲ全体に対し、プラズマ中でアッシング（灰化）処理が施される。これにより、図２０（ｃ）に示すように、膜厚が半分程度に減膜されたレジストパターンＲ３が得られる。
そして、図２０（ｄ）に示すように、このレジストパターンＲ３をマスクとして利用し、露出するメタル層２０３やＳｉ層２０２に対するエッチング（２回目のエッチング）が行われ、最後に図２０（ｅ）に示すようにレジストＲ３を除去することにより回路パターンが得られる。
【０００６】
しかしながら、前記のように厚膜Ｒ１と薄膜Ｒ２とが形成されたレジストパターンＲを用いるハーフ露光処理にあっては、レジストパターンＲの形成時に、その膜厚が基板面内で不均一の場合、形成するパターンの線幅やパターン間のピッチがばらつくという課題があった。
【０００７】
即ち、図２１（ａ）〜（ｅ）を用いて具体的に説明すると、図２１（ａ）は、レジストパターンＲのうち、薄膜部Ｒ２の厚さｔ２が、図２０（ａ）に示した厚さｔ１よりも厚く形成された場合を示している。
この場合において、図２０に示した工程と同様に、メタル膜２０３のエッチング（図２１（ｂ））、レジストパターンＲ全体に対するアッシング処理（図２１（ｃ））が施される。
【０００８】
ここで、図２１（ｃ）に示すように、膜厚が半分程度に減膜されたレジストパターンＲ３が得られるが、除去されるレジスト膜の厚さは、図２０（ｃ）の場合と同じであるため、図示する一対のレジストパターンＲ３間のピッチｐ２は、図２０（ｃ）に示すピッチｐ１よりも狭くなる。
したがって、その状態から、メタル膜２０３及びＳｉ層２０２に対するエッチング（図２１（ｄ）、及びレジストパターンＲ３の除去（図２１（ｅ））を経て得られた回路パターンは、そのピッチｐ２が図２０（ｅ）に示すピッチｐ１よりも狭いものとなっていた（回路パターンの線幅が広くなっていた）。
【０００９】
前記課題に対し、従来は、露光処理時に光を透過させるマスクパターン毎に、レジストパターンＲにおける膜厚が所望値よりも厚く形成される所定部位を膜厚測定により特定し、その部位の露光感度を高くする手段がとられている。
即ち、露光処理前にレジスト膜を加熱して溶剤を蒸発させるプリベーク処理において、基板面内の加熱量に差異を持たせ、前記所定部位における露光感度を変化させることにより、現像処理後の残膜厚が調整（面内均一化）されている。
具体的には、プリベーク処理に用いるヒータを複数の領域に分割し、分割されたヒータを独立して駆動制御することによりエリア毎の温度調整が行われている。
更には、基板を支持するプロキシミティピンの高さ変更（ヒータと基板間の距離変更）により加熱温度の調整が行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−１５８２５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、前記のようにプリベークによる加熱処理によって残膜厚の調整を行う場合、分割されたヒータ面積は、ハードウエアの制約上、ある程度の大きさを確保する必要があるため、細かなエリアの加熱調整が出来ないという課題があった。
また、プロキシミティピンの高さによる加熱調整にあっては、ピン高さを変更する作業工数を要するため、生産効率が低下するという課題があった。
【００１２】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整することができ、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制することのできる局所露光方法及び局所露光装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記した課題を解決するために、本発明に係る局所露光方法は、基板が水平な状態で、水平方向に搬送される基板搬送路の上方において、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子のうち、一つまたは複数の発光素子からなる発光体を発光制御単位として選択的に発光駆動し、その下方において基板搬送方向に沿って相対的に移動される基板上の感光膜に対し露光処理を施す局所露光方法であって、前記基板に形成された感光膜の所定領域に対し、その膜厚に基づいて照射すべき目標照度を求めるステップと、前記所定領域に照射可能な少なくとも一つの発光体を特定するステップと、前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とするステップと、前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を設定するステップと、前記設定した駆動電流値により前記一の発光体を発光させるステップとを含むことに特徴を有する。
【００１４】
このようなステップを含む方法によれば、選択された一の発光体の駆動電流値は、隣接する他の発光体からの干渉照度を考慮した値に設定される。
このため、膜厚をより薄くしたい任意の部位に対し、予め設定された露光量（目標照度）で精度よく照射を行うことができ、現像処理後に所望の膜厚とすることができる。
したがって、例えばハーフ露光処理においてレジスト膜に異なる膜厚（厚膜部と薄膜部）を持たせる場合であっても（即ち薄膜部のように薄い膜厚であっても）、現像処理後のレジスト膜厚を均一にし、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制することができる。
【００１５】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る局所露光装置は、基板が水平な状態で、水平方向に搬送される基板搬送路の上方において、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子と、前記複数の発光素子のうち、一つまたは複数の発光素子からなる発光体を発光制御単位として選択的に発光駆動する発光駆動手段と、前記複数の発光素子の下方において基板搬送方向に沿って前記基板を相対的に移動させる基板搬送手段とを具備し、前記基板搬送手段により移動される前記基板上の感光膜に対し前記発光体の発光により露光処理を施す局所露光装置であって、前記発光駆動手段による発光駆動の制御を行う制御手段を備え、前記制御手段は、前記被処理基板に形成された感光膜の所定領域に対し、その膜厚に基づいて照射すべき目標照度を求め、前記所定領域に照射可能な少なくとも一つの発光体を特定し、前記特定した一の発光体について、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とし、前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を設定し、該駆動電流値を用いて前記発光駆動手段により前記一の発光体を発光させることに特徴を有する。
【００１６】
このような構成によれば、制御手段において、選択された一の発光体の駆動電流値は、隣接する他の発光体からの干渉照度を考慮した値に設定される。
このため、膜厚をより薄くしたい任意の部位に対し、予め設定された露光量（目標照度）で精度よく照射を行うことができ、現像処理後に所望の膜厚とすることができる。
したがって、例えばハーフ露光処理においてレジスト膜に異なる膜厚（厚膜部と薄膜部）を持たせる場合であっても（即ち薄膜部のように薄い膜厚であっても）、現像処理後のレジスト膜厚を均一にし、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整することができ、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制することのできる局所露光方法及び局所露光装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、本発明に係る一実施形態の全体概略構成を示す斜視図である。
【図２】図２は、本発明に係る一実施形態の全体概略構成を示す斜視図であって、被処理基板が搬入されている状態を示す図である。
【図３】図３は、図２のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図４】図４は、フォトリソグラフィ工程における局所露光装置の配置を模式的に示す図である。
【図５】図５は、光源を構成する発光素子の配列を示す平面図である。
【図６】図６は、図１の局所露光装置が有する発光制御プログラムの設定パラメータを求める工程を示すフローである。
【図７】図７は、図１の局所露光装置において、発光素子の発光制御を説明するための図であって、被処理基板上の局所露光位置を座標で示す被処理基板の平面図である。
【図８】図８は、図１の局所露光装置において実行される発光制御プログラムの設定パラメータの例を示す表である。
【図９】図９は、図１の局所露光装置において、光源を構成する発光制御グループによる照度の曲線を示すグラフである。
【図１０】図１０は、発光制御グループにおける発光駆動電流値を算出する工程の流れを示すフローである。
【図１１】図１１は、各発光制御グループにおけるピーク照射位置を特定する工程の流れを示すフローである。
【図１２】図１２は、各発光制御グループにおけるピーク照射位置を特定する工程を説明するための側面図である。
【図１３】図１３は、各発光制御グループにおける発光駆動電流値と照度との関係、及び隣接する発光制御グループによる発光駆動電流値と干渉照度との関係を求める工程の流れを示すフローである。
【図１４】図１４は、各発光制御グループにおける発光駆動電流値と照度との関係、及び隣接する発光制御グループによる発光駆動電流値と干渉照度との関係を求める工程を説明するための側面図である。
【図１５】図１５は、図１の局所露光装置における一連の動作を示すフローである。
【図１６】図１６は、図１の局所露光装置における局所露光の動作を説明するための平面図である。
【図１７】図１７は、図１の局所露光装置における局所露光の動作を説明するためのグラフである。
【図１８】図１８は、本発明に係る局所露光方法の応用例を説明するための平面図である。
【図１９】図１９は、本発明に係る他の実施形態の工程の流れを示すフローである。
【図２０】図２０（ａ）〜図２０（ｅ）は、ハーフ露光処理を用いた配線パターンの形成工程を説明するための断面図である。
【図２１】図２１（ａ）〜図２１（ｅ）は、ハーフ露光処理を用いた配線パターンの形成工程を示す図であって、図２０の場合よりもレジスト膜厚が厚い場合を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の局所露光方法及び局所露光装置にかかる一実施形態を、図面に基づき説明する。図１は、本発明に係る局所露光方法が実施される局所露光装置１の全体概略構成を示す斜視図である。また、図２は、図１とは異なる角度からみた局所露光装置１の斜視図であって、被処理基板であるガラス基板Ｇが搬入されている状態を示す図である。また、図３は、図２のＡ−Ａ矢視断面図である。また、図４は、フォトリソグラフィ工程における局所露光装置１の配置を模式的に示す図である。
【００２０】
図１乃至図３に示す局所露光装置１は、例えば図４（ａ）〜（ｃ）にそれぞれ示すように、被処理基板を水平な状態で、Ｘ方向に水平に搬送（以後、平流し搬送と記載する）しながら一連のフォトリソグラフィ工程を行うユニット内に配置される。
即ち、フォトリソグラフィ工程においては、被処理基板に感光膜とするレジスト液を塗布するレジスト塗布装置５１（ＣＴ）と、減圧されたチャンバ内において基板上のレジスト膜（感光膜）を乾燥する減圧乾燥装置５２（ＤＰ）とが配置される。更に、基板Ｇにレジスト膜を定着させるために加熱処理を行うプリベーク装置５３（ＰＲＢ）と、それを所定温度に冷却する冷却装置５４（ＣＯＬ）と、レジスト膜に対し所定の回路パターンに露光する露光装置５５（ＥＸＰ）と、露光後のレジスト膜を現像処理する現像装置５６（ＤＥＶ）とが順に配置される。
【００２１】
ここで、本発明に係る局所露光装置１（ＡＥ）は、例えば、図４（ａ）〜（ｃ）に示すいずれかの位置に配置される。即ち、プリベーク装置５３（ＰＲＢ）よりも後段、且つ、現像装置５６（ＤＥＶ）よりも前段の所定位置に配置される。
このように配置された局所露光装置１（ＡＥ）にあっては、例えば、ポジ型レジストを使用する場合、複数枚の基板Ｇを連続的に処理する際に、全ての基板Ｇの所定領域において他の領域よりも配線パターン幅が広くパターン間ピッチが狭くなる場合に、前記所定領域に対する（減膜厚のための）局所露光が施される。
尚、以下の実施形態にあっては、ポジ型レジストの場合を例に説明するが、本発明に係る局所露光装置にあっては、ネガ型レジストの場合にも適用することができ、その場合には、レジスト残膜をより厚く残したい所定領域に対して局所露光が施される。
【００２２】
続いて局所露光装置１の構成について詳しく説明する。図１〜図３に示すように局所露光装置１は、基台１００上に回転可能に敷設された複数のコロ２０によって基板ＧをＸ方向に向かって搬送する基板搬送路２を具備する。基板搬送路２は、Ｙ方向に延びる円柱状のコロ２０を複数有し、それら複数のコロ２０は、Ｘ方向に所定の間隔をあけて、それぞれ基台１００上に回転可能に配置されている。また、複数のコロ２０は、ベルト（図示せず）によって連動可能に設けられ、１つのコロ２０がモータ等のコロ駆動装置（図示せず）に接続されている。尚、図１にあっては、この局所露光装置１の構成の説明を容易にするために、図面手前側のコロ２０を一部破断して示している。尚、基板搬送路２と前記コロ駆動装置等により基板搬送手段が構成される。
【００２３】
また、図示するように、基板搬送路２の上方には、基板Ｇに対し局所的な露光（ＵＶ光放射）を行うための光照射ユニット３が配置されている。
この光照射ユニット３は、基板幅方向（Ｙ方向）に延びるライン状の光源４を備え、この光源４の下方を基板Ｇが搬送されることとなる。
前記ライン状の光源４は、所定波長（例えば、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６４ｎｍ）のいずれかに近い波長）のＵＶ光を発光する複数のＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌが回路基板７上に配列されて構成されている。例えば、図５（ａ）は、回路基板７を下方から見た平面図である。図５（ａ）に示すように、回路基板７上には複数のＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌが３列に配列される。
【００２４】
ここで、図５（ａ）に示すように複数個（図では９個）のＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌが、一つの発光制御単位（発光制御グループＧＲとする）とされ、複数の発光制御グループＧＲ１〜ＧＲｎ（ｎは正の整数）が一列に配列される。このように複数個のＬＥＤ素子Ｌを発光制御単位とすることにより、発光素子間の発光照度のばらつきを抑制することができる。
尚、より少ないＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌで光源４を構成する場合には、図５（ｂ）のように基板搬送方向（Ｘ方向）、及び基板幅方向（Ｙ方向）に素子Ｌが重なるように千鳥配置することが望ましい。
【００２５】
また、図３に示すように、光源４の下方には、光拡散板からなる光放射窓６が設けられている。即ち、光源４と被照射体である基板Ｇとの間に光放射窓６が配置されている。
このように光拡散板からなる光放射窓６が設けられることによって、光源４から放射された光は、光放射窓６によって適度に拡散されるため、隣接するＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌの光はライン状に繋がって下方に照射される。
また、図３に示すようにＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌの前後には、基板幅方向（Ｙ方向）に延びる光反射壁８が設けられ、ＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌによる発光が効率よく光放射窓６から下方に放射されるように構成されている。
【００２６】
また、光源４を構成する各発光制御グループＧＲは、それぞれ発光駆動部９（発光駆動手段、図１参照）により、独立してその発光駆動が制御される。更には、各発光制御グループＧＲ（のＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌ）に対し供給される順電流値はそれぞれ制御可能となされている。即ち、各発光制御グループＧＲのＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌは、発光駆動部９によって、その供給電流に応じた発光の放射照度が可変となされている。
尚、前記発光駆動部９は、コンピュータからなる制御部４０（制御手段）によって、その駆動が制御される。
【００２７】
また、光照射ユニット３は、基板搬送路２を搬送される基板Ｇに対して、その光放射位置の高さを可変とすることができる。即ち、図３に示すように、光照射ユニット３は、その支持フレーム１５の長手方向（Ｙ方向）の両端に設けられた水平板部１５ａが、一対の昇降軸１１によって下方から支持され、昇降軸１１は、基台１００に設けられた例えばエアシリンダからなる昇降駆動部１２（昇降手段）によって上下動可能となされている。
尚、図２，図３に示すように、光照射ユニット３が最も下方に移動した位置においては、前記支持フレーム１５の水平板部１５ａの下面が、基台１００に設けられた支持部材１６に当接するようになっている。
【００２８】
また、基台１００において、昇降駆動部１２の左右両側には、筒状のガイド部材１３がそれぞれ立設されている。一方、前記支持フレーム１５の水平板部１５ａにおいて、その下面には、前記昇降軸１１の左右両側に、前記ガイド部材１３に係合するガイド軸１４がそれぞれ設けられている。これにより、光照射ユニット３の昇降に伴い、ガイド軸１４がガイド部材１３の中を上下方向に摺動し、光照射ユニット３の光照射窓６の水平度が精度よく維持される構成となっている。
【００２９】
また、光照射ユニット３の下方には、光源４から放射され、光放射窓６を通過した光の照度（放射束）を検出するための照度センサユニット３０が設けられている。
この照度センサユニット３０は、信号の検出部が上方に臨む照度センサ３１を備え、この照度センサ３１は基板幅方向（Ｙ方向）に移動可能な移動プレート３２上に設置されている。また、光源４の直下の基台１００上には、光源４に沿って、基板幅方向に延びる一対のレール３３ａ、３３ｂが敷設されている。
【００３０】
前記移動プレート３２の下面側には、前記一対のレール３３ａ、３３ｂに沿って移動可能なリニアモータ３４が設けられ、このリニアモータ３４には屈曲自在な蛇腹状のケーブルカバー３５内に配された電源ケーブル（図示せず）を介して電源供給がなされている。また、ケーブルカバー３５内には、制御部４０によってリニアモータ３４の動作を制御するための制御ケーブル（図示せず）が配されている。
【００３１】
即ち、移動プレート３２上の照度センサ３１は、レール３３ａ、３３ｂに沿って基板幅方向に移動可能であり、そのとき照度センサ３１における検出部が常に基板面の高さに一致するようになされている。言い換えれば、照度センサ３１は、基板Ｇに対する前記光源４からの光照射位置に沿って基板幅方向に進退可能となされている。
また、基板Ｇが局所露光装置１を搬送されるときには、照度センサ３１は、基板Ｇと干渉しないように、レール３３ａ、３３ｂの一端側に退避するように制御部４０によって制御される。
このように構成された照度センサユニット３０にあっては、各発光制御グループＧＲの発光照度を測定し、その発光制御グループＧＲ（のＬＥＤ素子Ｌ）に供給された電流値と発光照度との関係を得るために用いられる。
【００３２】
また、この局所露光装置１にあっては、図３に示すように、光照射ユニット３の上流側に、基板搬送路２を搬送される基板Ｇの所定箇所（例えば先端）を検出するための基板検出センサ３９が設けられ、その検出信号を制御部４０に出力するようになされている。基板Ｇは、基板搬送路２上を所定速度（例えば５０ｍｍ／ｓｅｃ）で搬送されるため、制御部４０は、基板Ｇの搬送位置を前記検出信号と、該検出信号を取得後の時間、及び基板搬送速度によって取得することができる。
【００３３】
また、制御部４０は、光源４を構成する各発光制御グループＧＲの輝度、即ち、各発光制御グループＧＲ（を構成するＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌ）に供給する電流値を所定のタイミングにおいて制御するための発光制御プログラムＰを所定の記録領域（記憶手段）に有する。
この発光制御プログラムＰは、その実行時に用いるレシピのパラメータとして、基板Ｇの所定位置に対して放射すべき必要照度（発光制御グループＧＲに供給する駆動電流値）、前記基板Ｇの所定位置に対し発光制御する発光制御グループＧＲを特定するための情報等が予め設定されている。
【００３４】
ここで、局所露光装置１における準備工程について図６乃至図８を用いて説明する。この準備工程は、露光処理時に光を透過させるマスクパターン毎に、露光処理にかかるパラメータ（レシピと呼ぶ）を決定するために実施される。具体的には、図８に示すようなレシピテーブルＴ１における各パラメータを埋めるために実施される。尚、このレシピテーブルＴ１は、制御部４０に記憶され保持される。
また、この準備工程には、２種類のサンプリング基板（サンプリング対象１，２と呼ぶ）のうち、いずれかを用いる。先ず、サンプリング対象１は、レジスト塗布後にハーフ露光、及び現像処理が施された被処理基板である。一方、サンプリング対象２は、通常のフォトリソグラフィ工程（局所露光装置１を介さない工程）により配線パターンが形成された被処理基板である。
【００３５】
図６に示すようにサンプリング対象１の場合、レジスト塗布後にハーフ露光及び現像処理が施された複数の被処理基板をサンプリングする（図６のステップＳｔ１）。
次いで、サンプリングした基板Ｇの面内におけるレジスト残膜厚を測定し（図６のステップＳｔ２）、図７に模式的に示すように減膜すべき所定エリアＡＲを複数の二次元座標値（ｘ、ｙ）により特定する（図４のステップＳｔ５）。
【００３６】
一方、図６に示すようにサンプリング対象２の場合、通常のフォトリソグラフィ工程（局所露光装置１を介さない工程）により配線パターン形成された複数の被処理基板をサンプリングする（図６のステップＳｔ３）。
次いで、サンプリングした基板Ｇの面内における配線パターンの線幅、パターン間ピッチを測定し（図６のステップＳｔ４）、図７に模式的に示すように減膜すべき所定エリアＡＲを複数の二次元座標値（ｘ、ｙ）により特定する（図６のステップＳｔ５）。
【００３７】
所定エリアＡＲが特定されると、制御部４０は、図８のレシピテーブルＴ１に示すように、所定エリアＡＲにおける各座標値に対して必要な減膜厚（例えば、座標（ｘ１，ｙ１）の場合は１０００Å）を算出する（図６のステップＳｔ６）。更に、その減膜厚の値、及びレジスト種類等の諸条件に基づき、減膜のために照射すべき目標照度（座標（ｘ１，ｙ１）の場合は０．２ｍＪ／ｃｍ２）を算出する（図６のステップＳｔ７）。
【００３８】
また、制御部４０は、図８のレシピテーブルＴ１に示すように、所定エリアＡＲの各座標値に対して照射可能な発光制御グループＧＲをそれぞれ特定する（図６のステップＳｔ８）。そして、各発光制御グループＧＲによる照射エリアが目標照度となるための発光駆動電流値を算出する（図６のステップＳｔ９）。
このように図６のフローに沿って全てのパラメータが求められて図８のレシピテーブルＴ１に設定され、準備工程が完了する（図６のステップＳｔ１０）。
【００３９】
続いて、前記図６のステップＳｔ９における発光駆動電流値の算出方法について詳しく説明する。この発光駆動電流値の算出にあっては、相互に隣接する発光制御グループＧＲの発光による干渉光の照度（干渉照度と呼ぶ）が考慮された電流値が算出される。
具体的に説明すると、例えば、３つの隣接する発光制御グループＧＲｍ−１、ＧＲｍ、ＧＲｍ＋１（ｍは正の整数、ｍ＜ｎ）をそれぞれ照度Ｑ１で発光させる場合、図９のグラフに示すように、各発光制御グループＧＲの照度は、それぞれ基板幅方向に沿って山なりの照度曲線Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３を描く。
【００４０】
これら照度曲線Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３は、そのピークの照度はＱ１であるが、裾の部分が隣の曲線と重なるために、全体としては多重され、ピーク照度がＱ１よりも大きい照度Ｑ２の曲線Ｃとなる。
即ち、各発光制御グループＧＲｍ−１、ＧＲｍ、ＧＲｍ＋１による目標照度がＱ１である場合、各発光制御グループＧＲが照度Ｑ１で発光するように駆動電流を制御しても、実際には照度Ｑ１よりも大きくなるため、各発光制御グループＧＲによる発光駆動電流は、隣接する発光制御グループＧＲからの干渉照度を考慮する必要がある。
【００４１】
そこで、制御部４０は、各発光制御グループＧＲについて、照度Ｑと駆動電流Ｉとの関係（リニアリティ）を表した関係式（１）と、一方の隣の発光制御グループＧＲからの干渉照度Ｑｉ−１と駆動電流Ｉとの関係式（２）と、他方の隣の発光制御グループＧＲからの干渉照度Ｑｉ＋１と駆動電流Ｉとの関係式（３）とを用いて発光駆動電流の算出を行う。
尚、式（１）〜（３）において、ａ，ａｉ−１，ａｉ＋１は、傾き係数、ｂ，ｂｉ−１，ｂｉ＋１は切片である。また、これらの関係式（１）〜（３）は、各発光制御グループＧＲについて予め設定され、制御部４０の所定の記憶領域に格納されている。
Ｑ＝ａ・Ｉ＋ｂ  ・・・（１）
Ｑｉ−１＝ａｉ−１・Ｉ＋ｂｉ−１  ・・・（２）
Ｑｉ＋１＝ａｉ＋１・Ｉ＋ｂｉ＋１  ・・・（３）
【００４２】
これら関係式（１）〜（３）を用いた発光駆動電流の算出について説明する。図１０は、例えば、隣接する三つの発光制御グループＧＲｍ−１、ＧＲｍ、ＧＲｍ＋１（ｍは正の整数）のうち、中央の発光制御グループＧＲｍ（発光体）における発光駆動電流の算出ステップのフローである。
【００４３】
先ず、三つの発光制御グループＧＲｍ−１、ＧＲｍ、ＧＲｍ＋１のそれぞれに対し、目標照度Ｑｍ−１、Ｑｍ、Ｑｍ＋１が設定される（図１０のステップＳｔｐ１）。
目標照度が設定されると、制御部４０は、発光制御グループＧＲｍに隣接する一方の発光制御グループＧＲｍ−１おける関係式（１）から電流Ｉｍ−１を算出し、その値を関係式（２）、（３）にそれぞれ代入することにより干渉照度Ｑｍ−１（ｉ−１），Ｑｍ−１（ｉ＋１）をそれぞれ求める（図１０のステップＳｔｐ２）。
【００４４】
また、制御部４０は、発光制御グループＧＲｍに隣接する他方の発光制御グループＧＲｍ＋１における関係式（１）から電流Ｉｍ＋１を算出し、その値を関係式（２）、（３）にそれぞれ代入することにより干渉照度Ｑｍ＋１（ｉ−１），Ｑｍ＋１（ｉ＋１）をそれぞれ求める（図１０のステップＳｔｐ３）。
【００４５】
また、制御部４０は、発光制御グループＧＲｍに対する干渉照度Ｑｍ−１（ｉ＋１）とＱｍ＋１（ｉ−１）とを用い、下記式（４）により補正後の設定照度Ｑｒｍを算出する（図１０のステップＳｔｐ４）。
Ｑｒｍ＝Ｑｍ−Ｑｍ−１（ｉ＋１）−Ｑｍ＋１（ｉ−１）  ・・・（４）
【００４６】
また、制御部４０は、干渉照度を含めた照度（Ｑｒｍ＋Ｑｍ−１（ｉ＋１）＋Ｑｍ＋１（ｉ−１））が徐々に目標照度Ｑｍに近似するよう、前記ステップＳｔｐ２〜Ｓｔｐ４の処理を所定回数（例えば５回）繰り返し行う（図１０のステップＳｔｐ５）。即ち、ステップＳｔｐ４で求めた補正後の設定照度Ｑｒｍに基づく干渉照度を新たに求め（ステップＳｔｐ２，３）、その干渉照度を目標照度Ｑｍから差し引くことにより補正後の設定照度Ｑｒｍを更新する工程が繰り返される。これにより徐々に干渉照度の値（設定照度Ｑｒｍの値）が補正され、所定値に収束される。
【００４７】
このようにして補正後の設定照度Ｑｒｍが求められると、制御部４０は、その値を前記関係式（１）に代入し、これにより発光制御グループＧＲｍにおける駆動電流値（図８のレシピテーブルＴ１に設定する電流値）が算出される（図１０のステップＳｔｐ６）。
また、制御部４０は、前記ステップＳｔｐ１〜Ｓｔｐ６の各処理を発光制御が必要な各発光制御グループＧＲについて行う（図１０のステップＳｔｐ７）。
【００４８】
ところで、前記したように関係式（１）〜（３）は、各発光制御グループＧＲについて予め規定され、制御部４０の所定の記憶領域に格納されるが、具体的には次のようにして設定される。
関係式（１）〜（３）を設定するにあたっては、各発光制御グループＧＲに対し照度測定を行う必要があり、そのために先ず、各発光制御グループＧＲについて、その発光照射による照度が一番高い（ピークとなる）位置の特定がなされる。
即ち、図９に示したように各発光制御グループＧＲの発光による照度曲線は山なりとなるため、同一グループＧＲによる照射領域内であっても照度が異なる。このため、制御部４０は、照射領域内で照度がピークとなる位置（基板幅方向において照度がピークとなる位置）を検出し、照度測定を行う位置を特定する。
【００４９】
図１１（フロー図）に沿って説明すると、先ず、光源４（光放射窓６）が所定高さに設定された状態で、制御部４０からの制御信号によりリニアモータ３４が駆動され、待機位置にあった照度センサ３１が図１２（ａ）に示すように光放射窓６の下方に移動される（図１１のステップＳｐ１）。尚、図１２（ａ）は、照度センサ３１が、光源４の最も端部（ｎ＝１）にある発光制御グループＧＲ１の直下に位置する状態を示している。ここで、光放射窓６と照度センサ３１との距離は、光放射窓６と基板Ｇ上面との距離に等しいため、照度センサ３１によって検出された照度が、基板Ｇに照射される照度となる。
【００５０】
次いで、発光制御グループＧＲ１のみが所定の駆動電流で発光され（図１１のステップＳｐ２）、照度センサ３１は、照度検出を行いながら、発光制御グループＧＲ１の照射領域内を走査（基板幅方向に移動）する（図１１のステップＳｐ３）。
そして、このステップＳｐ３の工程により最も高い照度が検出された位置が、発光制御グループＧＲ１のピーク照度位置として特定され、照度センサ３１の移動軸上の位置が制御部４０によって記憶される（図１１のステップＳｐ４）。
【００５１】
次いで、照度センサ３１は、図１２（ｂ）に示すように発光制御グループＧＲ２の直下に移動され、前記ステップＳｐ２〜Ｓｐ４の工程が行われて発光制御グループＧＲ２のピーク照度位置の特定がなされる。
このようにして、順次、全ての発光制御グループＧＲ１〜ＧＲｎについて、そのピーク照度位置の特定が行われる（図１１のステップＳｐ５）。
【００５２】
前記のように各発光制御グループＧＲのピーク照度位置が特定されると、各発光制御グループＧＲについて、照度Ｑと駆動電流Ｉとの関係を求めるための照度測定（リニアリティ測定と呼ぶ）が行われる。このリニアリティ測定について図１３（ａ）、図１３（ｂ）のフロー図に沿って説明する。
発光制御グループＧＲｍに対しリニアリティ測定を行う場合、先ず、図１４（ａ）に示すように、照度センサ３１が発光制御グループＧＲｍのピーク照度位置に配置される（図１３（ａ）のステップＳｅ１）。
【００５３】
次いで、照度センサ３１による照度測定が行われる（図１３（ａ）のステップＳｅ２）。この照度センサ３１による照度測定は、図１３（ｂ）のフロー図に示すように、発光制御グループＧＲｍの発光駆動電流が、最小電流（０Ａ、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ１）から最大定格電流（Ｉ＝５、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ３）まで所定の上昇幅（例えば０．５Ａ、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ４）で段階的に上昇される。
また、照度センサ３１は、各電流により照射されたときの照度Ｑｍを測定する（図１３（ｂ）のステップＳｅｐ２）。
そして制御部４０は、収集された発光駆動電流と照度との関係を示すデータ列から前記関係式（１）における傾き係数ａｍ、及び切片ｂｍを算出する（図１３（ｂ）のステップＳｅｐ５）。
【００５４】
次に、照度センサ３１は、図１４（ｂ）に示すように、発光制御グループＧＲｍ＋１のピーク照度位置に移動される（図１３（ａ）のステップＳｅ３）。
次いで、発光制御グループＧＲｍにおいて、発光駆動電流が最小電流（０Ａ、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ１）から最大定格電流（Ｉ＝５、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ３）まで所定の上昇幅（例えば０．５Ａ、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ４）で段階的に上昇される。
また、照度センサ３１は、発光制御グループＧＲｍ＋１のピーク照度位置において、各電流により照射されたときの干渉照度Ｑｉ＋１を測定する（図１３（ｂ）のステップＳｅｐ２）。
そして制御部４０は、収集された発光駆動電流と照度との関係を示すデータ列から前記関係式（３）における傾き係数ａｉ＋１、及び切片ｂｉ＋１を算出する（図１３（ｂ）のステップＳｅｐ５）。
【００５５】
次に、照度センサ３１は、図１４（ｃ）に示すように、発光制御グループＧＲｍ−１のピーク照度位置に移動される（図１３（ａ）のステップＳｅ５）。
次いで、発光制御グループＧＲｍにおいて、発光駆動電流が最小電流（０Ａ、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ１）から最大定格電流（Ｉ＝５、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ３）まで所定の上昇幅（例えば０．５Ａ、図１３（ｂ）のステップＳｅｐ４）で段階的に上昇される。
また、照度センサ３１は、発光制御グループＧＲｍ−１のピーク照度位置において、各電流により照射されたときの干渉照度Ｑｉ−１を測定する（図１３（ｂ）のステップＳｅｐ２）。
そして制御部４０は、収集された発光駆動電流と照度との関係を示すデータ列から前記関係式（２）における傾き係数ａｉ−１、及び切片ｂｉ−１を算出する（図１３（ｂ）のステップＳｅｐ５）。
【００５６】
このように図１３（ａ）のステップＳｅ１〜ステップＳｅ６の処理を行うことにより、一つの発光制御グループＧＲｍについての前記式（１）〜（３）が規定され、前記ステップＳｅ１〜ステップＳｅ６の処理が全ての発光制御グループＧＲ１〜ＧＲｎについて実行されることにより、光源４に対するリニアリティ測定が完了する（図１３（ａ）のステップＳｅ７）。
尚、図１３（ａ）のステップＳｅ１，２とステップＳｅ３，４とステップＳｅ５，６との順番は、前記の通りに限定されるものではなく、測定順を入れ替えてもよい（例えば、ステップＳｅ５，６を最初に行い、次にステップＳｅ１，２を行い、最後にステップＳｅ３，４を行う等）。
【００５７】
続いて、局所露光装置１による局所露光の一連の動作について、更に図１５乃至図１７を用いて説明する。
前段工程での処理終了後、基板Ｇが基板搬送路２を搬送され、基板検出センサ３９により検出されると、制御部４０にその基板検出信号が供給される（図１５のステップＳ１）。
制御部４０は、前記基板検出信号と基板搬送速度とに基づいて、基板Ｇの搬送位置を取得（検出）開始する（図１５のステップＳ２）。
【００５８】
そして制御部４０は、局所的に露光をすべき所定エリアが光照射ユニット３の下方を通過するタイミングにおいて（図１５のステップＳ３）、図１６に模式的に示すように光源４を構成する発光制御グループＧＲ１〜ＧＲｎの発光制御を行う（図１５のステップＳ４）。
ここで、例えば、基板Ｇの所定エリアＡＲに発光照射する場合には、その上方に配置された発光制御グループＧＲｎ−１，ＧＲｎ−２の発光制御がなされる。より具体的には、図１７のグラフ（発光制御グループＧＲｎ−１，ＧＲｎ−２ごとの時間経過に対する放射束（ワット）の大きさ）に示すように、光源下を基板Ｇの所定エリアＡＲが通過する間、放射束Ｗの大きさが変化するよう供給される駆動電流の制御が行われる。
このように、基板Ｇの所定エリアＡＲに単に照射されるだけでなく、エリアＡＲ内の局所において任意の照度での照射がなされる。
【００５９】
また、基板Ｇにおいて、他に局所的に露光すべきエリアが有る場合（図１５のステップＳ５）、そのエリアにおいて発光制御グループＧＲの発光制御がなされ、他にない場合は（図１５のステップＳ５）、その基板Ｇに対する局所露光処理が終了する。
尚、図４に示したように、この局所露光処理（ＡＥ）に加え、この前段或いは後段において行われる露光処理（ＥＸＰ）と併せて、基板Ｇに対する露光処理が完了し、その露光後のレジスト膜が現像装置５６（ＤＥＶ）により現像処理される。
【００６０】
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、基板Ｇに形成されたレジスト膜厚の任意の部位に対する局所的な露光処理において、基板幅方向（Ｙ方向）にライン状に配置された複数のＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌにより複数の発光制御グループＧＲが形成され、その下方を搬送される基板Ｇに対し、選択された発光制御グループＧＲが発光制御される。
ここで、選択された発光制御グループＧＲの発光駆動電流は、隣接する発光制御グループＧＲからの干渉照度を考慮した値に設定される。
このため、膜厚をより薄くしたい任意の部位に対し、予め設定された露光量（目標照度）で精度よく照射を行うことができ、現像処理後に所望の膜厚とすることができる。
したがって、例えばハーフ露光処理においてレジスト膜に異なる膜厚（厚膜部と薄膜部）を持たせる場合であっても（即ち薄膜部のように薄い膜厚であっても）、現像処理後のレジスト膜厚を均一にし、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制することができる。
【００６１】
尚、前記実施の形態においては、局所的に追加露光を行うエリアを基板面の有効エリア内とした例を示したが、それに限定されるものではない。
例えば、図１８に示すように基板Ｇの縁部領域（有効エリアの周辺）Ｅ１を露光する処理に用いることもできる。
また、前記実施の形態においては、複数個のＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌからなる発光制御グループを発光制御単位とした例を示したが、それに限らず、各ＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌを発光制御単位として、より細かく局所露光を行うようにしてもよい。
【００６２】
また、前記実施形態においては、基板Ｇを平流し搬送しながら露光処理を行う場合を例に説明したが、本発明にあっては、その形態に限定されず、被処理基板をチャンバ内に静止した状態で保持し、保持した基板に対して露光処理を行う構成であってもよい。
その場合、ライン状光源を被処理基板に対して移動させるようにしてもよい（即ち、ライン状光源と被処理基板とが相対的に逆方向に移動する構成であればよい）。
また、前記実施の形態においては、ハーフ露光処理後のレジスト残膜厚を均一にする場合を例に説明したが、本発明に係る局所露光方法にあっては、ハーフ露光処理に限らず適用することができる。例えば、ハーフ露光処理ではなく通常の露光処理を行う場合であっても、発明に係る局所露光方法を適用することによって、レジスト残膜厚を  面内均一とすることができる。
また、図６のステップＳｔ６、Ｓｔ７のように、必要な残膜厚に基づき必要な照度を求めることに限らず、現像処理後のパターン線幅を測定してパターン線幅と照度との相関データを求め、その相関データに基づきレシピテーブルを作成してもよい。
【００６３】
また、前記実施の形態においては、発光駆動電流値を算出するにあたり、図１０のフローに沿った処理を行うものとして説明したが、それに限定されず、図１９のフローに沿って処理を行い、発光駆動電流値を算出してもよい。
即ち、図１９のフローに沿って説明すると、先ず、ｍ個の発光制御グループＧＲ１，ＧＲ２，・・・，ＧＲｍ（ｍは正の整数）のそれぞれに対し、目標照度Ｑ１，Ｑ２，・・・，Ｑｍを設定する（図１９のステップＳｔｅ１）。
【００６４】
次いで、隣接する発光制御グループの光の干渉を無視した条件での発光制御グループＧＲ１，ＧＲ２，・・・，ＧＲｍの発光駆動電流値をそれぞれ求める（図２のステップＳｔｅ２）。
全ての発光制御グループＧＲ１，ＧＲ２，・・・，ＧＲｍについて、ステップＳｔｅ１，Ｓｔｅ２の処理が完了すると（図１９のステップＳｔｅ３）、発光制御グループＧＲ１による発光制御グループＧＲ１直下の照度Ｑ１（１）を算出する（図１９のステップＳｔｅ４）。
次に、発光制御グループＧＲ２による発光制御グループＧＲ１に対する干渉照度Ｑ１（２）を算出する（図１９のステップＳｔｅ５）。
これにより、発光制御グループＧＲ１の直下の実際の照度は、Ｑ１（１）＋Ｑ１（２）となる。
【００６５】
次いで、発光制御グループＧＲ１による発光制御グループＧＲ２に対する干渉照度Ｑ２（１）を算出する（図１９のステップＳｔｅ６）。
また、発光制御グループＧＲ２による発光制御グループＧＲ２直下の照度Ｑ２（２）を算出する（図１９のステップＳｔｅ７）。
また、発光制御グループＧＲ３による発光制御グループＧＲ２に対する干渉照度Ｑ２（３）を算出する（図１９のステップＳｔｅ８）。
これにより、発光制御グループＧＲ２の直下の実際の照度は、Ｑ２（１）＋Ｑ２（２）＋Ｑ２（３）となる。
【００６６】
同様にして、（ｍ−２）番目の発光制御グループＧＲｍ−２による発光制御グループＧＲｍ−１に対する干渉照度Ｑｍ−１（ｍ−２）を算出する（図１９のステップＳｔｅ９）。
また、（ｍ−１）番目の発光制御グループＧＲｍ−１による発光制御グループＧＲｍ−１直下の照度Ｑｍ−１（ｍ−１）を算出する（図１９のステップＳｔｅ１０）。
また、ｍ番目の発光制御グループＧＲｍによる発光制御グループＧＲｍ−１に対する干渉照度Ｑｍ−１（ｍ）を算出する（図１９のステップＳｔｅ１１）。
これにより、発光制御グループＧＲｍ−１の直下の実際の照度は、Ｑｍ−１（ｍ−２）＋Ｑｍ−１（ｍ−１）＋Ｑｍ−１（ｍ）となる。
【００６７】
次に、（ｍ−１）番目の発光制御グループＧＲｍ−１による発光制御グループＧＲｍに対する干渉照度Ｑｍ（ｍ−１）を算出する（図１９のステップＳｔｅ１２）。
また、ｍ番目の発光制御グループＧＲｍによる発光制御グループＧＲｍ直下の照度Ｑｍ（ｍ）を算出する（図１９のステップＳｔｅ１３）。
これにより、発光制御グループＧＲｍの直下の実際の照度は、Ｑｍ（ｍ−１）＋Ｑｍ（ｍ）となる。
【００６８】
次いで、前記ステップＳｔｅ４〜Ｓｔｅ１３に基づき、発光制御グループＧＲ１，ＧＲ２，・・・，ＧＲｍの補正後の設定照度Ｑｒ１，Ｑｒ２，・・・，Ｑｒｍ−１，Ｑｒｍが算出され、それらは次式となる（図１９のステップＳｔｅ１４）。
Ｑｒ１＝Ｑ１（１）−Ｑ（２）
Ｑｒ２＝Ｑ２（２）−Ｑ２（１）−Ｑ２（３）
・・・
Ｑｒｍ−１＝Ｑｍ−１（ｍ−１）−Ｑｍ−１（ｍ−２）−Ｑｍ−１（ｍ）
Ｑｒｍ＝Ｑｍ（ｍ）−Ｑｍ（ｍ−１）
【００６９】
次に、前記補正後の設定照度Ｑｒ１，Ｑｒ２，・・・，Ｑｒｍ−１，Ｑｒｍに基づき、発光制御グループＧＲ１，ＧＲ２，・・・，ＧＲｍのそれぞれの駆動電流値を算出する（図１９のステップＳｔｅ１５）。
そして、ステップＳｔｅ４〜Ｓｔｅ１５を所定回数繰り返す、或いは、発光制御グループＧｒｍ−１における補正後の設定照度Ｑｒｍ−１と、発光制御グループＧＲｍ−２から発光制御グループＧＲｍ−１に回り込む照度と、発光制御グループＧＲｍから発光制御グループＧＲｍ−１に回り込む照度とを加えた値が、目標照度Ｑｍ−１±ａｉの範囲内となるまで、即ち、以下の式を満たすまでステップＳｔｅ４〜Ｓｔｅ１５を繰り返す（図１９のステップＳｔｅ１６）。尚、ａｉは目標照度Ｑｍ−１を算出するために駆動電流値Ｉに乗じられる傾き係数である。
Ｑｍ−１−ａｉ≦Ｑｒｍ−１＋Ｑｍ−１（ｍ）＋Ｑｍ−１（ｍ−２）≦Ｑｍ−１＋ａｉ
【００７０】
このように発光制御グループＧＲ１，ＧＲ２，・・・，ＧＲｍにそれぞれ設定する駆動電流値を所定回数更新し、最終的に駆動電流値を決定するようにしてもよい。
【００７１】
また、前記実施の形態においては、必要照度から発光駆動電流を決定し、照度の制御を行うものとしている。このとき、光照射ユニット３の高さは固定であるが、この高さ位置は適宜調整し、変更するようにしてよい。
例えば、発光駆動電流が一定であっても、ＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌの経年劣化により、その照度が低下してくることが懸念される。そのため、照度測定の結果、ＵＶ−ＬＥＤ素子Ｌに対して最大電流の負荷をかけても所望の照度が得られない場合には、光照度ユニット３を基板Ｇに近づけて再測定し、その結果、所望の照度が得られた場合には、その高さ位置が光照度ユニット３の高さ位置として新たに設定される。
【符号の説明】
【００７２】
１          局所露光装置
２          基板搬送路（基板搬送手段）
３          光照射ユニット
４          光源
９          発光駆動部（発光駆動手段）
２０        搬送コロ
３９        基板検出センサ
４０        制御部（制御手段）
Ｇ          ガラス基板（被処理基板）
Ｌ          ＵＶ−ＬＥＤ素子（発光素子）
ＧＲ        発光制御グループ（発光体）
Ｔ１        レシピテーブル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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