(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から出射された光ビームを偏向走査する回転多面鏡と、
前記回転多面鏡を回転駆動させる駆動モータと、
前記回転多面鏡及び前記駆動モータが取り付けられる基板と、
前記基板が設置される設置部と、
前記基板と前記設置部との間に設けられるゴム部材と、
前記設置部に対して前記基板を位置決めするとともに、前記設置部に対して前記基板を位置決めする際に前記ゴム部材を押圧することによって前記設置部に対する前記基板の傾きを調整する調整手段と、を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記調整手段は、前記設置部に前記基板を固定しかつ前記ゴム部材を加圧するためのねじであり、前記ゴム部材は、前記ねじの外径に沿うように前記基板と前記設置部との間に設けられることを有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記設置部には、前記ゴム部材が収められている座繰が設けられ、前記座繰りには前記ゴム部材が変形したときに前記ゴム部材の一部が浸入する凹部が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記調整手段は、前記回転多面鏡の回転軸方向から前記基板を見たときに前記基板の面に対して２箇所に設けられ、前記調整手段は、一方の調整手段と前記回転多面鏡の回転軸とを結ぶ線分と他方の調整手段と前記回転軸とを結ぶ線分とが直交するように設けられていることを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項５】
前記ゴム部材と前記基板との間には座金が設けられており、前記座金の外径は前記座繰の内径よりも小さく、前記ゴム部材の外径よりも大きいことを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、デジタル複写機やレーザビームプリンタ、ファクシミリ装置等の電子写真方式の画像形成装置に備えられる、レーザビームを偏向走査する光走査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真方式の画像形成装置は、発光源である半導体レーザから出射された光ビームを偏向走査するため、回転多面鏡を備えた光走査装置を備える。電子写真方式の画像形成装置は、表面が帯電された感光ドラムに画像情報に応じた光ビームを光走査装置から出射し、その光ビームによって感光ドラム上を走査することによって感光ドラム上に静電潜像を形成する。感光ドラム上に形成された静電潜像は現像剤により現像される。現像された画像は紙などの記録媒体に転写および定着される。
【０００３】
この光走査装置において、回転多面鏡を回転させる回転軸が所望の回転軸の設置角度に対して傾きを持っている（以降、軸倒れと呼ぶ）。この軸倒れは製造精度の限界によって生じる傾きである。回転多面鏡の軸倒れがあると、走査レンズへの入射位置と入射角度が設計値に対して一律にずれてしまうため、感光ドラム上での光ビームのスポット形状が乱れるなどの結像性能が低下し、画質の劣化につながる。
【０００４】
図８、は光走査装置の従来構成の一例を示したものである。図８（ａ）は、ポリゴンミラー周囲の側面図であり、図８（ｂ）は、ポリゴンミラー周囲の斜視図である。
図８（ａ）に示す光走査装置において、ポリゴンミラー８０４を駆動する駆動モータ８０３は軸受８０２を有する。駆動モータ８０３を駆動するための駆動回路を搭載した基板８０１（以降、駆動基板と呼ぶ）に設けられた穴に軸受８０２を嵌合することによって、駆動モータ８０３は駆動基板８０１に取り付けられている。また、軸受８０２が光走査装置の光学箱８０７に設けられた位置決め穴８０８に嵌合されることによって、駆動モータ８０３の光走査装置の光学箱８０７に対する位置決めがなされる。軸受け８０２は駆動モータのローター部のシャフトを受け、ローター部の回転軸８０４にポリゴンミラー８０５が取り付けられている。ポリゴンミラー８０５は、上部から板バネ８０６などでローター部に固定されている。
【０００５】
駆動基板８０１は、ボス８０９、８１０、８１１、８１２にもうけられたビス穴と光学箱側の固定用穴８１３、８１４、８１５、８１６とにビスを通し、そのビスを締めこむことによって画像形成装置本体８０７に固定される。
【０００６】
回転軸８０４の駆動基板８０１に対する角度は、駆動基板８０１に軸受８０２をカシメ加工等によって組み付けるため部材の製造精度やカシメ加工の精度によるばらつきが生じてしまう。また、この駆動基板８０１が板金の場合、駆動基板８０１に反りが生じる可能性がある。すると、ポリゴンミラー８０５を取り付けた回転軸８０４もその分傾いて（軸倒れ）、ポリゴンミラー８０５の反射面も一律傾き、反射光の副走査方向反射角が理想位置からズレてしまい、結果として光学特性を悪化させてしまう。
【０００７】
また、支持部材８０７に設けられた光学箱の取り付け座面も厳密な意味での平面に加工することは困難であるため、この理想平面からのズレが同じく回転多面鏡の軸倒れとして現れてしまうことになる。
【０００８】
これらの課題を解決するため、軸倒れを補正する装置を開示している（特許文献１参照）。特許文献１では、駆動基板を光学箱に形成された座面に対してバネを介して押圧し、ビスの締込み量を変えることにより軸倒れを調整する機構を備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−２０１９４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特開２００５−２０１９４１号公報のように、バネを介して駆動基板を光走査装置に固定した場合、バネの反力が弱いと回転多面鏡の回転時に生じる回転振動によって、光走査装置本体に対する回転多面鏡の位置がしっかりと固定されなくなる。回転多面鏡の位置がしっかりと固定されないと回転多面鏡の回転時に生じる振動により回転多面鏡が振動し、その振動の影響により感光ドラム上におけるレーザ光の結像位置が理想の位置からずれてしまうおそれが生じる。
【００１１】
そこで、回転振動に耐え得るだけの力で回転多面鏡を光学箱に固定しようとすると、必然的にバネの変形量を大きく確保する必要がある。即ち、大きな力を生成するためにはバネを大型化しなければならず、光走査装置の小型化を妨げるという問題点があった。
【００１２】
そこで本発明では、駆動モータの軸倒れを調整する機構として、小型かつ確実に調整が可能な構成を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の目的を達成するため、本発明の光走査装置は、光源から出射された光ビームを偏向走査する回転多面鏡と、前記回転多面鏡を回転駆動させる駆動モータと、前記回転多面鏡及び前記駆動モータが取り付けられる基板と、前記基板が設置される設置部と、前記基板と前記設置部との間に設けられるゴム部材と、前記設置部に対して前記基板を位置決めするとともに、前記設置部に対して前記基板を位置決めする際に前記ゴム部材を押圧することによって前記設置部に対する前記基板の傾きを調整する調整手段と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、ポリゴンモータの軸倒れ調整を可能とし、なおかつ調整機構部の小型化を達成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施例にかかる光走査装置における感光ドラム周囲の概略断面図である。
【図２】実施例にかかる光走査装置内部の斜視図である。
【図３】実施例にかかる光走査装置における偏向走査装置の斜視図および上面図である。
【図４】本実施の形態における軸倒れ調整時の回転軸の変動量を示す図である。
【図５】Ｏリングの反力と駆動基板上の振動の関係を示す図である。
【図６】Ｏリングの圧縮変形に対応するために設けられる逃げ部を説明する図である。
【図７】Ｏリングの圧縮量とその反力の関係を表した図である。
【図８】従来の光走査装置における偏向走査装置の断面図および斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（実施例１）
以下、添付図面に基づいて本発明の画像形成装置を説明する。
図１は、本実施例で説明する光走査装置２００を用いた、電子写真複写機の感光ドラム周辺部を示す概略断面図である。図１を用いて画像形成プロセスを説明する。図１中では図示しない光源から出射されたレーザ光（光ビーム）は、ポリゴンミラー２０４ａ（回転多面鏡）によって偏向走査され、後述するレンズ、反射ミラー等の各種光学系によって感光ドラム１０１（感光体）に導かれる。感光ドラム１０１は、帯電装置１０２により一様に帯電された後、入力画像データに基づいて光走査装置２００内の光源ユニットの半導体レーザ（後述する）から出射されるレーザ光（光ビーム）によって露光される。感光ドラム１０１は一定速度で回転し、感光ドラム１０１の感光面は光ビームに対して副走査方向（感光ドラムの回転方向）に移動する。このようにして感光ドラム１０１上に画像データに基づく静電潜像が形成される。この静電潜像は現像器１０３に保持されている現像剤であるところのトナーによって現像される。その後、搬送経路１０５上を搬送されてくる転写材Ｐ（記録媒体）に転写装置であるところの転写ローラ１０４にバイアスを印加することによって、転写ローラ１０４と感光ドラム１０１とで形成される転写部Ｔにおいて感光ドラム１０１上に担持されたトナー像を転写材Ｐ上へ転写する。そして、トナー像を担持した転写材Ｐは、図示しない定着器に搬送され、加熱等により転写材上のトナー像に定着処理が施されることにより、画像が形成された転写材を得る。
【００１７】
図２は、上記の画像形成プロセスによって画像を形成するレーザビームプリンタやデジタル複写機等に用いられる光走査装置２００の一例を示す斜視図である。図２に示すように、光走査装置２００は、半導体レーザやコリメータレンズをユニット化した光源ユニット２０１、これから発生された平行光束のレーザ光を副走査方向で収束光へと変えるシリンダレンズ２０２、光源ユニット２０１から出射される光束を偏向走査するための偏向走査装置２０３を備える。偏向走査装置２０３は、光束を偏向するための複数の反射面を有するポリゴンミラー２０４ａ、ポリゴンミラー２０４ａを回転駆動するための駆動モータ（図示せず）、基板２０５、ＩＣチップ２０６を備える。また、光走査装置２００は、ポリゴンミラー２０４ａによって偏向走査されたレーザ光を感光ドラム１０１の表面に結像させるレンズ２０７、レーザ光を感光ドラム１０１に導く反射ミラー２０８を有している。光走査装置２００に備えられる各要素は光学箱２０９に収容される。
【００１８】
光源ユニット２０１からは入力画像データに基づくレーザ光が出射される。このレーザ光は、コリメータレンズ、シリンダレンズ２０２を通過した後、回転駆動されているポリゴンミラー２０４ａの反射面に入射する。ポリゴンミラー２０４ａは回転しているため、反射後のレーザ光は走査光となる。その後、レンズ２０７によって感光ドラム１０１に結像される。図２中のＬは光源ユニット２０１から出射されたレーザ光を示している。また、図２中のＬｓは、レーザ光Ｌがポリゴンミラーによって走査されたレーザ光の軌跡を示している。このように、ポリゴンミラー２０４ａによる走査によって感光ドラム１０１の回転軸方向（主走査方向）に静電潜像が形成され、感光ドラム１０１の回転によって感光ドラム１０１の回転方向（副走査方向）に静電潜像が形成される。
【００１９】
この光走査装置２００が備えられる画像形成装置において、高精細な画像を再現するためには光源ユニット２０１からのレーザ光の光路が設計時の所望の光路になるように、光路のズレを最小に抑えつつ感光ドラム１０１上へと案内することが重要である。そのため、光学部品を取り付けるときの光学部品の位置、姿勢には細心の配慮が必要となる。
【００２０】
中でもポリゴンミラー２０４ａの回転軸の向きは、感光ドラム１０１上における走査線曲がり、ビームスポット径に影響を与えるため、画質を維持するためには、ポリゴンミラー２０４ａの回転軸の傾きの調整を行う必要がある。例えば、ポリゴンミラー２０４ａが光学箱２０９に設置された状態において設計時の所定の角度に対して傾き（以下、軸倒れと呼ぶ）が生じているとポリゴンミラー２０４ａの回転軸が入射する光束に対して所定の角度で入射しない。すると、反射後のレーザ光の光路が所定の光路からズレてしまうため、反射後の光路がレンズ２０７の光学性能が高い部分（設計時に期待している性能が発揮される部分）からずれてしまう。結果として感光ドラム１０１上において結像するレーザ光のスポット形が所望のサイズ、形状にならない。そのため、ポリゴンミラー２０４ａを設置する際に軸倒れが起きないようにポリゴンミラー２０４ａの回転軸の向きを調整（以下、軸倒れの調整とする）する必要がある。
【００２１】
本実施例の光走査装置は、軸倒れの調整を装置を大型化することなく簡易な構成で行えるようにしたものである。以下でその構成について詳細に説明する。
【００２２】
図３（ａ）は本実施例の光走査装置２００に偏向走査装置２０３を設置する様子を示す図である。偏向走査装置２０３の駆動基板２０５には駆動基板２０５を光学箱２０９の設置部３０１に固定するためのビスを通すための複数の穴が設けられている。それらの穴には、調整ビス３０２、３０３、固定ビス３０４、３０５が通されている。光学箱２０９の設置部３０１には設置部３０１から突出するように設けられた座面３０６、３０７、３０８、および３０９が設けられている。座面の内径には雌ねじが切られており、調整ビス３０２、３０３、固定ビス３０４、３０５を雌ねじに締結することによって駆動基板２０５は設置部３０１に固定される。ポリゴンミラー２０４ａの回転軸２０４ｂの軸受け２０８は、駆動基板２０５に設けられた嵌合穴にカシメ加工で嵌合されている。軸受け２０８が嵌合穴に嵌合されることによって、ポリゴンミラー２０４ａ及び駆動モータ２０４ｃが駆動基板２０５に対して固定される。また、その軸受け２０８は偏向走査装置２０３の位置決めボスを兼ねており、光学箱２０９に設けられた位置決め穴３１２に嵌合されることで、光学箱２０９内において、偏向走査装置２０３の位置決めがなされることになる。
【００２３】
駆動基板２０５を光学箱２０９の設置部３０１に固定する際、図３（ａ）に示すように調整ビス３０２及び調整ビス３０３を駆動基板２０５に設けられた穴に通す。さらに、駆動基板２０５と設置部３０１との間にＯリング３１０、３１１を設ける。設置部３０１にはＯリング３１０、３１１を収めるための座面３０６、３０７（座繰）が設けられている。Ｏリング３１０、３１１の穴には調整ビス３０２、調整ビス３０３が通される。Ｏリングの高さは座面の高さよりも高くなっている。そのため、調整ビス３０２および３０３を締めることによってＯリング３１０、３１１は駆動基板２０５と設置部３０１とによって加圧（押圧）される。それによって、Ｏリング３１０、３１１から上下方向に反力が生じ、その反力によって駆動基板２０５が設置部３０１に対して固定される。また、調整ビス３０２、３０３それぞれの締込み量を調整することによってＯリング３１０、３１１それぞれの圧縮量を変化させることができるため、設置部３０１に対する駆動基板２０５の傾き（高さ）を任意に変化させることができる。駆動基板２０５の傾きが変われば、駆動基板２０５に嵌合（固定）されている回転軸２０４ｂの傾きも変わる。従って、調整ビス３０２、３０３の締込み量を調整することによって上記軸倒れを調整することができる。なお、Ｏリングは、その内径が調整ビス３０２、３０３の呼び径（外径）に沿うような形状を有している。
【００２４】
なお、図３（ａ）に示すように、調整ビス３０２、３０３にはそれぞれ、駆動基板２０５がＯリングの変形にならって歪んでしまう事を防止するための平座金３１３、３１４が設けられている。図３（ａ）に示す平座金３１３、３１４の外径ｒは、座面３０６、３０７の内径Ｒよりも短いが、Ｏリングの直径Ｏｒよりは長くなっている。
【００２５】
Ｏリング３１０、３１１を押しつぶすことによって、駆動基板２０５の設置部３０１に対する高さを調整することができる。調整時に、調整ビス３０２、３０３の締め込んだ際に、Ｏリング３１０、３１１が異常な変形を起こさないような範囲で、適度な反力を持つことが要求される。この性質は経時によって変化しないことが要求される。このような性質を持つ材料としては、合成ゴムなどのゴム部材が最も優れており、ニトリルゴム、水素化ニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、アクリルゴムなどの弾性変形可能な材質がその代表例である。
【００２６】
図３（ｂ）は、設置部３０１に設置された駆動基板２０５をポリゴンミラー２０４ａの回転軸２０４ｂ方向から見た図である。本実施例における光走査装置２００では、レーザ光Ｌは図３（ｂ）に示される方向からポリゴンミラーに入射し、走査光Ｌｓとなる。また、図３（ｂ）に示すように、調整ビス３０２の位置およびポリゴンミラーの回転軸の位置を結ぶ線分と調整ビス３０３の位置およびポリゴンミラーの回転軸を結ぶ線分とが略直交するように、回転軸２０４ｂの位置に対して調整ビス３０２、３０３を配置する。
【００２７】
図４は本実施の形態において実際に２箇所に設けられた調整ビス３０２、３０３を締めこむことによって回転軸２０４ｂの軸倒れ調整を行った際の軸倒れ値（光学箱２０９の基準平面に垂直な軸に対する回転軸２０４ｂの角度ずれ）の変化の様子を示す図である。横軸が図３（ｂ）中のＸ方向の軸倒れ、縦軸がＹ方向の軸倒れを示しており、光学箱２０９の基準平面に垂直な角度を原点とする。図４中の（１）のグラフは、調整ビス３０３を固定したまま調整ビス３０２を締めこんだときの軸倒れの変化の様子を示している。（２）のグラフは、調整ビス３０３を固定したまま調整ビス３０２を緩めたときの軸倒れの変化の様子を示している。（３）のグラフは、調整ビス３０２を固定したまま調整ビス３０３を締めこんだときの軸倒れの変化の様子を示している。（４）のグラフは、調整ビス３０３を固定したまま調整ビス３０２を緩めたときの軸倒れの変化の様子を示している。図中の各プロットは、調整ビス３０２および３０３を９０°回転させたときの軸倒れ値の変化の様子を示している。図４に示されるように、調整ビス３０３の締込み量に応じて主にＹ方向に軸倒れが変化し、調整ビス３０３では主にＸ方向に軸倒れが変化している。図３（ｂ）で示した様に、一方の調整ビスである調整ビス３０３とポリゴンミラーの回転軸とを結ぶ線分、および他方の調整ビスである調整ビス３０２とポリゴンミラーの回転軸とを結ぶ線分とが略直交するように、回転軸２０４ｂの位置に対して調整ビス３０２および調整ビス３０３が配置される。これによって、調整ビス３０２、３０３の締め込み量を調整することによって任意の方向に回転軸２０４ｂの向きを調整することができる。即ち、初期組み付け時の倒れがどの向きであろうとも、調整ビス３０２、３０３の締め込み量を調整することによって２方向から軸倒れを確実に調整できる。また、調整ビス３０２と上記回転軸２０４ｂとの距離、および調整ビス３０３と上記回転軸２０４ｂとの距離を略均等とすれば、それぞれの調整ビスを締めたときに同じ締め込み量で回転軸２０４ｂがほぼ同じ変化量の傾きの変動を起こすので、作業者または調整機器等にとって好都合である。本実施例においては、駆動基板２０５の高さを±０．２ｍｍ調整すれば、部品公差の積み上げで生じる軸倒れをキャンセルすることが可能となる。
【００２８】
調整ビス３０２、３０３の締め込み量に応じてＯリング２００が圧縮され、その反力によって駆動基板２０５は調整ビス３０２、３０３に押し付けられているが、どの程度の反力が適切であるかを次に述べる。従来技術では、光学箱の設置面に駆動基板がビスで全て締結されている構成だが、本実施例の構成は、図３に示したように駆動基板２０５が上方向に付勢される調整箇所が存在している。一般的に偏向走査装置２０３に用いられる高速回転する駆動モータは、そのバランス次第では大きな振動を発生するため、収容される部材にビス締結で完全に固定する方が望ましい。それがポリゴンミラー２０４ａによりレーザ光を偏向走査し露光する目的であるならなおさらである。図３に示す本実施例における光走査装置の構成は、駆動基板を光学箱の設置面に完全固定の構成ではないため振動抑制の効果は低下するが、偏向走査装置２０３の軸倒れが調整できるという利点がある。前述の通り本実施例の光走査装置における上記調整箇所では、駆動基板２０５がＯリング３１０、３１１の反力で上方向に付勢されているが、Ｏリング３１０、３１１の反力の大きさが偏向走査装置２０３の振動の大きさに影響していると考えられる。そこでＯリング３１０、３１１の反力を横軸にとり、偏向走査装置の振動レベルの代表として駆動基板２０５の加速度を縦軸にとった両者の関係を表すグラフが図５である。図中の一点鎖線は従来技術のように駆動基板を光学箱の設置面に完全にビス締結した時の駆動基板の振動レベルである。図５中の曲線が本実施例の構成における振動レベルを示している。図５を見ると、本実施例における駆動基板２０５の振動レベルをビス締結の振動レベル以下とするには、Ｏリングの反力が少なくとも約４ｋｇｆから５ｋｇｆ以上必要であり、逆にそれ以上の反力がある所を使用すれば振動を生じにくくさせるとともに軸倒れ調整が可能となる。よって本構成を用いる際は、調整ビス３０２、３０３を想定し得る最大の緩め量の時でもＯリングの反力が約４ｋｇｆから５ｋｇｆ以上確保できるよう、称呼の圧縮量を設定すればよい。
【００２９】
一例として、線形２．６ｍｍ、内径３．６ｍｍのＯリングを用いると、称呼の圧縮量１ｍｍとした時にＯリング反力８ｋｇｆ、軸倒れ調整によるＯリングの圧縮量変化を見込んでも５ｋｇｆから１１ｋｇｆのＯリング反力で設計が可能となる。
【００３０】
これに対し、特開２００５−２０１９４１号公報のように弾性部材として圧縮バネを用い、反力８ｋｇｆを得られるよう設計すると、圧縮バネの小型化のためにバネ定数を高く設定しても、自由高さ１０ｍｍ、作動時高さ８ｍｍ程度の大きさとなり、Ｏリングを使った構成よりも約４倍大型化する。また、弾性部材の自由高さが大きいため、偏向走査装置を光学箱に組み付ける際に、偏向走査装置の位置決めがしづらくなり、組み付けにくいという問題点が生じることになる。
【００３１】
したがって、Ｏリングを用いた軸倒れ調整方式は小型化の達成が可能であり、圧縮バネや板バネを用いた弾性部材に対して優位性がある。なお、軸倒れの調整は工場出荷前やサービスマンによるメンテナンス時に次のように行われる。組立て者、またはサービスマンは光ビームの光路上に治具を配置し、治具に設けられたＣＣＤでポリゴンミラー２０４ａによって反射される光ビームを検出する。そして、組立て者、またはサービスマンはＣＣＤに入射する光ビームの位置を見て調整ビス３０２，３０３の締め込み量を決定する。
【００３２】
（実施例２）
図６から図９を用いて第２の実施例について説明する。本実施例が第１の実施例と異なる点は、座面３０６、３０７にＯリング３１０、３１１の変形を逃がすための凹部が設けられている点である。即ち、座面３０６、３０７の一部に図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）示すような凹部６０１が設けられている。その他の箇所については第１の実施例と同様の構成であるので、以下の説明では第１の実施例と同一図番を用いて説明する。
【００３３】
図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、調整ビス３０２、Ｏリング３１０および座面３０６、の概略断面図である。この図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、実際に調整ビス３０２を締めこんで軸倒れを調整していった時のＯリングの変形の様子を示している。ここで特徴的な点は光学箱２０９にＯリングの圧縮に伴う変形に応じた逃げ形状６０１が設けられている点である。一方で、図６（ｅ）は逃げ形状が設けられていない構成において調整ビスを締めこんでＯリングを圧縮した後の様子である。なお、調整ビス３０３、Ｏリング３１１および座面３０７の構成も以下で説明する調整ビス３０２、Ｏリング３１０および座面３０６の構成と同様である。
【００３４】
Ｏリングは調整ビス３０２を締めこむことによって、回転軸２０４ｂ方向に収縮するように弾性変形するとともに回転軸２０４ｂの径方向（基板の面に沿う方向）に伸張するように弾性変形する。しかし、図６（ｅ）のように変形したＯリングの逃げ場がなくなる構成であると、Ｏリングが硬化しばね性が失われるため反力のリニアリティが損なわれる。すると、調整ビス３０２の締付けトルクもそれに応じて大きくなる。仮に調整ネジを無理に押込んだとしても収縮して硬化したＯリングの弾性が低下しているため駆動基板２０５の高さを締め込み量に追従するように調整することができないようになる。結果として軸倒れ調整の精度が低下する。これを防ぐために回転軸２０４ｂの径方向に大きく逃げ場を確保しておく方法も考えられるが、駆動基板２０５がＯリングの変形にならう事を防止する目的の平座金３１３を同時に大きくする必要があり、駆動基板２０５上の素子と干渉する可能性が生じる。
【００３５】
そこで、図６（ｃ）、（ｄ）のようにＯリングの圧縮量がある程度まで増えた時、すなわちＯリングが回転軸２０４ｂの径方向に大きく伸張した時にＯリングの変形を逃がすための逃げ形状（凹部６０１）が光学箱の座面３０６、３０７内に設けられている。Ｏリングは変形するとその一部が凹部６０１に入り込む（浸入する）。を設けることによって、Ｏリング反力のリニアリティが保たれ、締め込み量に追従して駆動基板２０５の高さが調整されるため、軸倒れ調整を高精度に行うことが可能となる。この凹部６０１の形状を様々に変えることで、最適なバネ定数のプロファイルを設計することが可能となる。本実施例では、環状（円形）のＯリングを使用しているため、凹部６０１は、Ｏリングが回転軸２０４ｂを中心に放射状に変形したＯリングが図６（ｄ）に示すように下側に変形できるような凹部６０１が設けられている。
【００３６】
一例として、図７にＯリングの圧縮量とその反力の関係を表したグラフを示す。これをみると、光学箱に逃げ（座繰）形状を設けた場合、図６中のグラフ（５）のようにＯリングの圧縮量と反力が綺麗な一次直線となりばね性を保持している。一方で図５（ｅ）示すように座繰を設けない場合、図６中のグラフに示すように（６）二次曲線のプロファイルとなり反力のリニアリティが損なわれている。よって、光学箱にＯリングの変形シロとしての逃げ（座繰）形状がある方が望ましい。
【００３７】
このように、Ｏリングが収められる座面内に凹部６０１を設けることによって、Ｏリングの圧縮量が大きい場合であっても、軸倒れの調整を簡単にかつ高精度に行うことができる。
【符号の説明】
【００３８】
２０４ａ  ポリゴンミラー
２０４ｂ  回転軸
２０５  駆動基板
３０１  設置面
３０２、３０３  調整ビス
３１０、３１１  Ｏリング
【図１】
0005539152.tif 000002
【図２】
0005539152.tif 000003
【図３】
0005539152.tif 000004
【図４】
0005539152.tif 000005
【図５】
0005539152.tif 000006
【図６】
0005539152.tif 000007
【図７】
0005539152.tif 000008
【図８】
0005539152.tif 000009