(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンを有する樹脂材質のテンプレートを準備するテンプレート準備工程と、
前記テンプレート上に第１樹脂を塗布及び硬化した後、前記テンプレートから分離して前記テンプレートのパターンを変形させるスウェリング工程と、
スウェリングされた前記テンプレートを使用して基材にパターンを形成する基材形成工程と、
前記基材のパターン内部に光吸収物質を充填する光吸収物質充填工程と
を含むことを特徴とするディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法。
【請求項２】
前記テンプレート準備工程に先立って、陰刻パターンが形成された第１モールドを準備する第１モールド準備工程が先行され、
前記テンプレート準備工程は、前記第１モールドを使用して直接前記テンプレートに陽刻パターンを形成して、
前記基材形成工程は、スウェリングされた前記テンプレートを使用して直接基材に陰刻パターンを形成することを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法。
【請求項３】
前記スウェリング工程が、１回以上遂行されることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法。
【請求項４】
前記スウェリング工程で前記テンプレートのパターンは、ストライプ形態が複数の正弦波曲線（ｓｉｎｕｓｏｉｄａｌ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）形態に変形し、前記スウェリング工程が反復遂行されるにつれて前記正弦波曲線形態の振幅が増加することを特徴とする、請求項３に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法。
【請求項５】
前記テンプレートが、離型性樹脂からなることを特徴とする、請求項１に記載の外光遮蔽部材の製造方法。
【請求項６】
前記離型性樹脂が、シリコン系樹脂であることを特徴とする、請求項５に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法。
【請求項７】
前記離型性樹脂が、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）であることを特徴とする、請求項５に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法。
【請求項８】
前記第１樹脂が、アルキルアクリレート、エチルアクリレート及びブチルアクリレートからなる群から選択された少なくとも一つのモノマーを含む紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法。
【請求項９】
透明樹脂材質の基材、及び該基材に形成されてそれぞれ光吸収物質を充填して形成された複数の外光遮蔽部からなる外光遮蔽パターンを含み、各外光遮蔽部の一端は直線形状を有し、他端は直線形状とは異なる形状を有し、
前記他端の幅、周期、及び振幅が一つの外光遮蔽部において変化し、かつ、一つの外光遮蔽部の前記他端がもう一つの外光遮蔽部の前記他端とは異なる幅、周期、及び振幅を有する結果、前記他端が不規則パターンを有することを特徴とするディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１０】
各外光遮蔽部の一端は、前記基材の一面に露出し、他端は前記基材の内部に陷沒して形成されることを特徴とする、請求項９に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１１】
各外光遮蔽部の一端は、前記基材の後方を向き、他端は前記基材の前方を向いていることを特徴とする、請求項９に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１２】
各外光遮蔽部の断面の形状が、楔型、台形型、長方形、半輪またはＵ字形であることを特徴とする、請求項９に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１３】
各外光遮蔽部の一端が、他端より幅がさらに大きいことを特徴とする、請求項９に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１４】
各外光遮蔽部の前記他端はジグザグに形成された曲線形状を有することを特徴とする、請求項９に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１５】
前記ジグザグに形成された曲線形状は、振幅が１００μｍ以下の正弦波曲線形態であることを特徴とする、請求項１４に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１６】
前記ジグザグに形成された曲線形状は、周期が４００μｍ以下の正弦波曲線形態であることを特徴とする、請求項１４に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１７】
前記ジグザグに形成された曲線形状が、正弦波曲線（ｓｉｎｕｓｏｉｄａｌ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）形態であることを特徴とする、請求項１４に記載のディスプレイ装置用外光遮蔽部材。
【請求項１８】
外光遮蔽部材を含んで成り立ち、該外光遮蔽部材が、透明樹脂材質の基材、及び前記基材に形成されてそれぞれ光吸収物質を充填して形成された複数の外光遮蔽部からなる外光遮蔽パターンとを含み、各外光遮蔽部の一端は直線形状を有し、他端は直線とは異なる形状を有し、
前記他端の幅、周期、及び振幅が一つの外光遮蔽部において変化し、かつ、一つの外光遮蔽部の前記他端がもう一つの外光遮蔽部の前記他端とは異なる幅、周期、及び振幅を有する結果、前記他端が不規則パターンを有することを特徴とするディスプレイ装置用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ外光遮蔽部材、その製造方法及びそれを含むディスプレイ装置用フィルターに関するもので、より詳細には、明室での明暗比（ｃｏｎｔｒａｓｔ  ｒａｔｉｏ）と輝度を高めて視野角を広げることだけではなく、製造工程が単純で製造費用を節減することができるディスプレイ外光遮蔽部材、その製造方法及びそれを含むディスプレイ装置用フィルターに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表示装置は、テレビ、ＰＣ（ノートブックコンピュータ）のモニター、ポータブル表示装置などを総称した言葉であり、画面が大面積化及び薄型化される傾向にある。
【０００３】
表示装置を代表していた陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ：ＣＲＴ）装置が、次第に液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）装置、電界放出表示装置（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＦＥＤ）及び有機電界発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＯＬＥＤ）などの平板表示装置（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＦＰＤ）に置き換わってきている。
【０００４】
以下では、前記表示装置の中で説明の便宜上、ＰＤＰフィルター及びＰＤＰ装置を例にあげて説明するが、本発明はこれに限定されず、本発明のディスプレイ装置用フィルターが適用されるディスプレイ装置は、ＰＤＰ装置、ＯＬＥＤ装置、ＬＣＤ装置または、ＦＥＤ装置などの大型ディスプレイ装置と、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）、小型ゲーム機の表示窓、携帯電話の表示窓などの小型モバイルディスプレイ装置と、フレキシブルディスプレイ装置などに多様に適用され得る。
【０００５】
ＰＤＰ装置は、輝度、コントラスト、残像、視野角などの表示能力が優れていて脚光を浴びている。
【０００６】
ＰＤＰ装置は、電極に印加される直流または交流電圧によって電極間のガスで放電が発生して、それに伴う紫外線の放射によって蛍光体を励起させて発光することによって画像を表示する。
【０００７】
しかし、前記ＰＤＰ装置は、特性上、電磁波及び近赤外線の放出量が多いという問題点を有している。電磁波及び近赤外線は、人体に有害な影響を及ぼし、無線電話機やリモートコントローラーなどの精密器機の誤動作を誘発し得る。また、蛍光体の表面反射が大きくて、ヘリウム（Ｈｅ）またはキセノン（Ｘｅ）ガスから出るオレンジ色の光によってＣＲＴ装置に比べて色純度が良くないという問題点がある。
【０００８】
したがって、ＰＤＰ装置は、電磁波及び近赤外線を抑制して、反射を減少させて色純度を高めるためにＰＤＰフィルターを採用している。ＰＤＰフィルターは、ディスプレイパネルの前方に設置される。ＰＤＰフィルターは、一般的に粘着剤または接着剤を使用して、電磁波遮蔽層などの複数の機能性層を粘着または接着することによって製造される。
【０００９】
その中でも外部環境光の遮蔽、及びパネルによって反射した外光吸収のための外光遮蔽フイルムが、ディスプレイの明暗比と輝度を高めるために使用されている。
【００１０】
既存の外光遮蔽層は、ストライプタイプのマイクロパターンを含んだフィルムで、ディスプレイ全面に付着した時、ディスプレイパネル内の放電セルの画素と画素との間に存在する境界面によって生じるストライプと干渉現象によるモアレ柄を作るようになる。また、ストライプタイプのマイクロパターンを含んだフィルムが外光に露出した時に生じる影とパネルから出る映像によって、パネルの放電セルによるストライプパターンの間で生じるモアレ柄によって、正面のディスプレイの画質が低下する問題点がある。
【００１１】
ディスプレイパネル内の放電セルの画素と画素との間に存在する境界面によるストライプは、除去が不可能なのでモアレ柄を除去するためには、ストライプタイプのパターンを有したフィルムのパターン周期が、ディスプレイのストライプに比べて非常に大きいかまたは非常に小さい、またはストライプパターンの方向を一定角度離して形成しなければならない。しかし、ディスプレイ全面に付着するフィルムのマイクロパターンの周期が大きくなる場合、外光遮蔽効率が落ちる問題点があり、製造工程上、パターンの周期を小さく形成することも困難である。そればかりか、パターンの方向が一定角度離れるようにしてフィルムを製造する場合、外光遮蔽効果が低下することがあり得、フィルムの消費量が多くなって非経済的である。
【００１２】
また、マイクロパターンを含んだフィルムを製造するにおいての最大の難しさの一つは、テンプレートの準備である。普通、マイクロパターン構造を形状化するためには、金属で加工されたテンプレートを使用することが一般化してきた。しかし、金属テンプレートの機械的加工は、製作費用が高くて製作に長い時間を必要とする短所を有している。そればかりではなく、機械加工で製作された金属テンプレートによるパターンは、ストライプ形態のような単純な特定構造に制限されるしかなく、上述したように、このようなストライプ形態のパターンは、モアレ現象が起きるようになるので、ディスプレイの画質を低下させる問題点を発生させる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、前記のような問題点を勘案したもので、ストライプタイプのパターンではない曲線形態のパターンを有した外光遮蔽部材を提供することにより、ディスプレイ装置で効率的に外光を遮蔽することができ、モアレ現象を除去することができるディスプレイ装置用外光遮蔽部材を提供することを目的とする。
【００１４】
本発明は、また前記外光遮蔽部材を含むディスプレイ装置用フィルターを提供することを目的とする。
【００１５】
本発明は、また機械加工なしに複雑な形態のパターンを製造することができるディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法を提供する。
【００１６】
本発明が解決しようとする技術的課題は、以上で言及した技術的課題に限られず、言及しなかったまた他の技術的課題は、下記の記載から当業者に明確に理解されるだろう。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
前記の目的を達成するために、本発明は透明樹脂材質の基材、及び該基材に形成されてそれぞれ光吸収物質を充填して形成された外光遮蔽部からなる外光遮蔽パターンを含み、前記外光遮蔽部の一端と他端が異なる形状、例えば、一端はストライプ形状を有し、他端はジグザグに形成された曲線形状を有することを特徴とする、ディスプレイ装置用外光遮蔽部材を提供する。
【００１８】
典型的には、前記外光遮蔽部の一端は、前記基材の一面に露出し、他端は前記基材の内部に陥没させて形成される。
【００１９】
前記ジグザグに形成された曲線形状の振幅は、１００μｍ以下が好ましく、周期は、４００μｍ以下である。
【００２０】
前記ジグザグに形成された曲線形状は、正弦波（ｓｉｎｅ  ｗａｖｅ）曲線形態が好ましく、すなわちシヌソイダル構造（ｓｉｎｕｓｏｉｄａｌ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）で、これは上下の方向に波形状をなす曲線構造である。前記正弦波曲線形態は、数学的意味で正確なサイン関数の曲線模様に限定されるのではなくて、一定な範囲の周期を有して特定方向にそって屈曲した形状が繰り返される曲線形状をすべて含む。
【００２１】
外光遮蔽部材は、前記外光遮蔽部の断面の形状が楔型、台形型、長方形、半円輪またはＵ字形である。外光遮蔽パターンを成す外光遮蔽部の断面形状は、一種類でもよい。互いに異なる断面形状を有した二つ以上の外光遮蔽部を組み合わせて外光遮蔽パターンを構成してもよい。すなわち、必要によって、一方の一外光遮蔽部は断面形状が台形型だが、他方の外光遮蔽部は長方形であり得る。場合によっては、隣接した外光遮蔽部の断面形状が互いに異なることも可能である。
【００２２】
外光遮蔽部の前記一端は、他端より幅がさらに広いのが典型的である。
【００２３】
本発明のまた他の特徴によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材において、前記外光遮蔽部の屈折率は、前記基材の屈折率との差が０．５以下であることを特徴にできる。前記基材の屈折率より低い場合には、前記外光遮蔽部の屈折率は前記基材の屈折率より０．０１ないし０．５の範囲で低いことがあり得る。屈折率差が、前記範囲内の時、パネルから入射される映像は、全反射されてディスプレイ画面に出射される効率が高くなって、外部環境光の吸収効率を高めることができる。特に、前記外光遮蔽部の屈折率は、前記基材の屈折率より０．０１ないし０．５小さな値を有することで、前記外光遮蔽部材は外光の反射よりは吸収による遮蔽を主な機能として発揮する。
【００２４】
本発明のまた他の特徴によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材において前記基材は、選択的に光を吸収する少なくとも一つの色素を含むことを特徴とすることができる。前記色素は、吸収波長によって色補正用色素、近赤外線遮蔽機能を有する色素、ネオンカット機能を有する色素などがある。前記色素は、シアニン系、アントラキノン系、ナフタキノン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系、ニッケルジチオール系、アゾ系、ストリル系及びメチン系染料の中で少なくとも一つを含むことができる。前記外光遮蔽部材の基材内に色素を含有させることで、外光遮蔽機能だけではなく色補正機能や近赤外線遮蔽機能を複合的に遂行することもできる。
【００２５】
また、本発明は、パターンを有する樹脂材質のテンプレートを準備するテンプレート準備工程と、前記テンプレート上に第１樹脂を塗布及び硬化した後、前記テンプレートから分離して前記テンプレートのパターンを変形させるスウェリング工程と、スウェリングされた前記テンプレートを使用して基材にパターンを形成する基材形成工程、及び前記基材のパターン内部に光吸収物質を充填する光吸収物質充填工程とを含むことを特徴とするディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法を提供する。
【００２６】
前記第１樹脂及び前記基材を成す樹脂は、紫外線硬化性樹脂を使用するが、本発明はこれに限定されず、熱硬化性樹脂を使用することもできる。また前記第１樹脂及び前記基材を成す樹脂は、同種であることもできるが、異種であることもあり得る。また、前記スウェリング工程で使用される第１樹脂は、スウェリング工程ごとに同じ種類の樹脂を使用することもでき、他の種類の樹脂を使用することもできる。
【００２７】
典型的には、前記テンプレート準備工程に先立って、陰刻パターンが形成された第１モールドを準備する第１モールド準備工程が先行され、前記テンプレート準備工程は、前記第１モールドを使用して直接前記テンプレートに陽刻パターンを形成して、前記基材形成工程は、スウェリングされた前記テンプレートを使用して直接基材に陰刻パターンを形成する。
【００２８】
本発明の他の特徴によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法においては、前記スウェリング工程は、５回〜２０回反復遂行される。ここで、各スウェリング工程で使用される第１樹脂は、同じ種類でも異なる種類でもよい。前記スウェリング工程が、５回より少ない時は、テンプレートの変形がほとんど起きず、２０回より多い時は経済性が落ち、テンプレートが不安定になり得る。前記テンプレートの変形は、第１硬化性樹脂の配合組成に影響を受けるので、テンプレートの変形程度をスウェリングの回数だけで断定することはできない。
【００２９】
前記テンプレートは、シリコン系樹脂のような離型性樹脂からなることが好ましい。前記離型性樹脂は、ポリジメチルシロキサン（ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅ、ＰＤＭＳ）であり得る。本発明はこれに限定されず、離型性が優秀な高分子樹脂はすべて使用可能である。
【００３０】
前記第１樹脂は、アルキルアクリレート、エチルアクリレート及びブチルアクリレートからなる群から選択された少なくとも一つのモノマーを含む紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。
【００３１】
本発明で使用されるディスプレイ装置用フィルターは、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）装置、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）装置、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）装置またはＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）装置などに多様に適用することができる。本発明のディスプレイ装置用フィルターが、ＰＤＰ装置に使用される場合、前記フィルターはＰＤＰパネルの前方に付着する。また、前記ディスプレイ装置用フィルター内に含まれた外光遮蔽部材において前記一端はパネルに向けて、前記他端は視聴者の方に向けることが好ましいが、本発明はこれに限定されるものではない。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材は、外光遮蔽効率が優秀でモアレ現象を防止することができ、ディスプレイの画質を向上させることができる。
【００３３】
また、本発明によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法においては、機械加工による金属テンプレートではなく、高分子テンプレートの変形を使用することで複雑な形状のパターンを容易に製造することができる。そして、製造費用を節減することができ、長い期間を必要とする機械加工を経ないことにより、製造時間を短縮することができる。
【００３４】
また、本発明のディスプレイ装置用光学フィルターによると、本発明のディスプレイ装置用光学フィルターは、色補正、近赤外線遮蔽及びネオンカット機能を複合的に遂行することができて経済的かつ効率的であり、ディスプレイ装置の全面に付着した時、モアレ現象を抑制することができてディスプレイの画質を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、添付した図面を参照して本発明の実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材、その製造方法及びそれを含むディスプレイ装置用フィルターを詳細に説明する。
【００３６】
図示しなかったが、本発明の一実施例によるＰＤＰ装置は、ケース、ケースの上部を覆うカバー、ケース内に収容される駆動回路基板、ガス放電現象が起きる発光セルと蛍光体層を含むパネルアセンブリー及びＰＤＰフィルターで構成される。発光セルには、放電ガスが封入されている。放電ガスとしては、例えば、Ｎｅ−Ｘｅ系ガス、Ｈｅ−Ｘｅ系ガスなどを使用することができる。パネルアセンブリーは、基本的に蛍光灯のような発光原理を有し、発光セルの内部での放電によって放電ガスから放出された紫外線がパネルアセンブリー内の蛍光体層を励起発光させて可視光に変換する。
【００３７】
ＰＤＰフィルターは、パネルアセンブリーの前面基板前方に配置される。ＰＤＰフィルターは、パネルアセンブリーの前面基板と離隔して配置することもでき、接触して配置することもでき、またパネルアセンブリーとＰＤＰフィルターの間に異物が流入するなどの副作用を防止したり、ＰＤＰフィルター自体の強度を補強するために、前面基板と接着剤または粘着剤で結合することができる。
【００３８】
ＰＤＰフィルターは、透明基板上に導電性が優秀な材料で形成された電磁波遮蔽層を具備し、この電磁波遮蔽層はカバーを通じてケースに接地される。すなわち、パネルアセンブリーから発生した電磁波が視聴者に到逹する前に、これをＰＤＰフィルターの導電層を通じてカバーとケースに接地させるものである。
【００３９】
図１は、本発明の一実施例によるＰＤＰフィルターを図示した断面図である。
【００４０】
図１を参照すると、ＰＤＰフィルター１００は、透明基板１１０に形成された多様な遮蔽機能を有する機能性光学部材を含む。このような機能性光学部材としては、電磁波遮蔽層１２０、外光遮蔽部材１３０、色補正層１４０及び反射防止層１５０などがある。
【００４１】
前記透明基板１１０を基準にすると、パネルアセンブリーに向いた方向に電磁波遮蔽層１２０、外光遮蔽部材１３０、色補正層１４０が配置されていて、前記基板１１０の他面、すなわち外部環境光１９０が入射する方向に反射防止層１５０が配置されている。
【００４２】
本発明は、これに限定されず、透明基板１１０、電磁波遮蔽層１２０、外光遮蔽部材１３０、色補正層１４０及び反射防止層１５０は、順序に関係なく積層することができ、一つの光学部材が二つの以上の機能を複合的に遂行することもできる。
【００４３】
前記透明基板１１０の材料としては、ガラス、石英などの無機化合物成形物と透明な有機高分子成形物を挙げることができる。有機高分子成形物からなる透明基板１１０では、アクリルやポリカーボネートが一般的に使用されるが、本発明はこのような実施例に限定されるものではない。透明基板１１０は、高透明性と耐熱性を有することが好ましく、高分子成形物及び高分子成形物の積層体を透明基板１１０に使用することができる。前記基板１１０の透明性については、可視光線透過率が８０％以上であることが有利であり、耐熱性については、ガラス転移温度が５０℃以上であることが好ましい。高分子成形物は、可視光線波長領域において透明であれが良く、価格、耐熱性、透明性の面で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましいが、これに限定されるものではない。また、場合によって、このような透明基板１１０はフィルターの構成から除外することもできる。
【００４４】
反射防止層１５０は、視聴者方向から入射する外部環境光１９０が、再び外部に反射することを防止し、ディスプレイの明暗対比比を向上させる。本実施例で反射防止層１５０は、透明基板１１０の他面に形成するが、本発明はこのような積層手順に限定されるものではない。好ましくは、図１に図示されたように、反射防止層１５０はＰＤＰフィルター１００がＰＤＰ装置に装着された時に視聴者側になる面、すなわちパネルアセンブリーの方とは反対側の面に形成することが効率的である。
【００４５】
電磁波遮蔽層１２０は、パネルアセンブリーから発生した電磁波を遮断する役割をするが、電磁波を遮蔽するためにはディスプレイ表面を導電性が高い物体で覆う必要がある。本発明の一実施例による電磁波を遮蔽するための電磁波遮蔽層１２０としては、導電性メッシュフィルムまたは金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層透明導電膜を使用することができる。ここで、導電性メッシュフィルムでは、一般的には、接地された金属メッシュ、または合成樹脂や金属繊維のメッシュに金属被覆したものを使用することができる。導電性メッシュフィルムを構成する金属の材質としては、例えば、銅、クロム、ニッケル、銀、モリブデン、タングステン、アルミニウムなど電気伝導性が優秀で加工性がある金属ならすべて使用可能である。
【００４６】
そして、多層透明導電膜は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）に代表される高屈折透明薄膜を電磁波遮蔽のために使用することができる。多層透明導電膜としては、金、銀、銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜と、酸化インジウム、酸化第２スズ、酸化亜鉛などの高屈折率透明薄膜を相互に積層した多層薄膜などがある。
【００４７】
図示しなかったが、本発明の一実施例によるＰＤＰフィルター１００は、別個に近赤外線遮蔽層を含むことができる。近赤外線遮蔽層は、パネルアセンブリーから発生して無線電話機やリモートコントローラーなどの電子機器の誤動作を起こす、強力な近赤外線を遮蔽する役割をする。
【００４８】
本発明の一実施例で、電磁波遮蔽層１２０として金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層透明導電膜を使用する場合には、多層透明導電膜が近赤外線を遮蔽する効果がある。したがって、この場合、近赤外線遮蔽層を別個に形成しないで、電磁波遮蔽層１２０だけで近赤外線と電磁波を遮蔽する二つの機能を遂行することができる。もちろんこの場合にも、近赤外線遮蔽層を別個に形成することもできる。
【００４９】
前記ＰＤＰフィルター１００は、特定波長帯の光を選択的に吸収する色補正層１４０を含む。色補正層１４０は、外光遮蔽部材１３０の一面にパネルアセンブリー方向に位置しているが、このような積層手順に限定されるものではない。前記色補正層１４０は、赤色（Ｒ）、緑（Ｇ）、青色（Ｂ）の量を減少させたり調節したりして、色の均衡を変化させたり校正したりして、ディスプレイの色再現範囲を増加させて鮮明度を向上させる。
【００５０】
色補正層１４０は、多様な色素を含むが、このような色素には染料あるいは顔料を使用することができる。アントラキノン系、シアニン系、アゾ系、ストリル系、フタロシアニン系、メチン系などのネオン光遮蔽機能を有した有機色素を使用することができる。色素の種類と濃度は、色素の吸収波長、吸収係数、ディスプレイに要求される透過特性によって決定することなので、特定数値に限定して使用するものではない。
【００５１】
また、図示しなかったが、ＰＤＰフィルター１００は、拡散層を含むことができる。拡散層は、外光遮蔽フィルム１３０や電磁波遮蔽層１２０の周期的なパターンが、パネルアセンブリーの前面基板に反射する場合、入射光と反射光の干渉現象によって起き得るモアレ現象やニュ−トンリング現象を防止する役割をする。前記拡散層は、ＰＤＰフィルター１００内の任意の位置に配置することができるが、パネルアセンブリーに接したＰＤＰフィルター１００の一面に形成することが好ましい。前記拡散層は、別途の層としてＰＤＰフィルター１００内に含むこともできるが、他の光学部材の機能と組み合わせて含むこともできる。また、前記拡散層は、フィルター１００内の多くの光学部材との間に配置したり、またはパネルとフィルターを付着させる粘着層内に屈折率の異なる微粒子を含んだ形態に形成したりすることもできる。
【００５２】
外光遮蔽部材１３０は、透明樹脂材質の基材１３２及び該基材１３２の一面に形成されて、複数の外光遮蔽部からなる外光遮蔽パターン１３４を含む。該外光遮蔽パターン１３４は、断面が台形型であるが、本発明はこれに限定されないで、楔型、長方形、半円形、Ｕ字形などの断面形状を有することもできる。
【００５３】
前記外光遮蔽部材１３０は、透明基板１１０を基準に前記反射防止層１５０の反対面に配置されている。しかし、本発明はこれに限定されず、外部環境光１９０の吸収とパネル入射光１８０の透過がよく起きるように前記外光遮蔽部材１３０が配置される限り、光学部材間の積層順序及び積層方向は、多様に変形することができる。
【００５４】
本実施例で前記外光遮蔽パターン１３４は、基材の一面に露出して前記基材の一面と平行に形成されている外光遮蔽部の底面が、パネルアセンブリーに向いているが、本発明はこれに限定されない。すなわち、基材１３２の一面と平行な外光遮蔽パターン１３４の楔型底面が、視聴者の方を向くことも可能で、前記外光遮蔽パターンを基材の両面に形成することもできる。
【００５５】
前記基材１３２は、可視光を透過させる透明材質からなる板状の支持体であり、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰｏｌｙＥｔｙｌｅｎｅ  Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、アクリル（Ａｃｒｙｌ）、ポリカーボネート（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ、ＰＣ）、ウレタンアクリレート（Ｕｒｅｔｈａｎｅ  Ａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリエステル（Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、エポキシアクリレート（Ｅｐｏｘｙ  Ａｃｒｙｌａｔｅ）、臭化アクリレート（Ｂｒｏｍｉｎａｔｅ  Ａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリ塩化ビニル（ＰｏｌｙＶｉｎｙｌ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ、ＰＶＣ）などからなることができる。
【００５６】
前記外光遮蔽部材１３０は、外光を吸収してパネルアセンブリーに外部環境光１９０が流入することを防いで、パネルアセンブリーから放出されるパネル入射光１８０を視聴者の方に全反射する役割をする。したがって、可視光線に対する高い透過率と高い明暗対比比（ｃｏｎｔｒａｓｔ  ｒａｔｉｏ）を得ることができる。そればかりではなく、本発明による外光遮蔽部材１３０は、光吸収物質と導電性物質が同時に充填されていて、電磁波遮蔽機能も遂行することができる。
【００５７】
外光遮蔽部材１３０の外光遮蔽パターン１３４内に導電性物質が含まれる場合には、電磁波遮蔽機能を遂行することができるので、金属薄膜と金属酸化物薄膜が１ないし３回積層された導電膜として面抵抗が、０．８Ω／□（オーム／スクエア）以下の電磁波遮蔽層を使用することができる。すなわち、通常的な積層回数である３ないし６回より少ない数の薄膜を積層しても、フィルター１００の電磁波遮蔽機能を充分に遂行することができるようになる。
【００５８】
本実施例では、電磁波遮蔽機能、反射防止機能、色補正機能に対応する光学部材を、それぞれ別個の物として分離して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。特に、本発明の外光遮蔽部材１３０は、光吸収物質及び導電性物質を同時に含むことができ、電磁波遮蔽機能と外光遮蔽機能を同時に遂行することができる。前述のように電磁波遮蔽層１２０の機能を補完または強化する役割を果たすことができる。また、前記外光遮蔽部材１３０の両端またはすべての枠領域に導電性物質で接地電極（未図示）を形成することで、前記外光遮蔽パターン１３４内の導電性物質を電気的に連結させることができる。
【００５９】
以下では、図２及び図３を参照して、前記外光遮蔽部材を従来技術と比較してさらに詳細に説明する。前述した内容と重複する説明は省略することにする。
【００６０】
図２は、本発明の一実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材を図示した断面図である。図３は、前記ディスプレイ装置用外光遮蔽部材を図示した正面図である。
【００６１】
まず、図２を参照すると、外光遮蔽部材２００は、透明基材２２０及び複数の外光遮蔽部２４０を含み、前記外光遮蔽部２４０は、台形型断面を有した充填ホーム（未図示）に光吸収物質を充填して形成され、前記外光遮蔽部２４０は、その一端２４２が前記基材２２０の一面に露出して、他端２４４は前記基材２２０の内部に陥没して形成される。前記一端２４２は、外光遮蔽部材２００を裏側から見た時、複数の直線が平行に配列されたストライプ形状を有する。
【００６２】
図３を参照すると、前記他端２４４は外光遮蔽部材２００を前方から見た時、ジグザグに形成された曲線形状で、多数の波形態が繰り返されたパターン形状を有する。しかし、外光遮蔽部の一端及び他端の形状は、前記ストライプ形状及び曲線形状に限定されず、その他の多様な形状を有することができる。
【００６３】
前記ジグザグに形成された曲線形状は、正弦波曲線（ｓｉｎｕｓｏｉｄａｌ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）形態と類似の形態であることができる。また前記他端２４４の曲線形状は、すべてが等しい形態を有しないこともある。すなわち、前記他端２４４のジグザグに形成された曲線形状は、各外光遮蔽部２４０の形状によって周期及び振幅に差があり得る。ここで周期及び振幅は、数学的意味として規則的なパターンに限り適用されるより広い意味で使用し、曲線形状で繰り返される基本単位の長さ及び山と谷との間の距離差と理解しなければならない。前記他端２４４のジグザグに形成された曲線形状の振幅（Ｈ３）は、１００μｍ以下の範囲を有して、周期（Ｈ２）は４００μｍ以下の範囲を有する。振幅（Ｈ３）が１００μｍより大きい場合、ヘイズ（Ｈａｚｅ）が大きくなって好ましくない。また周期（Ｈ２）が４００μｍより大きい場合、モアレ現象の除去が困難になり得るので前記周期（Ｈ２）は４００μｍ以下が好ましい。
【００６４】
前記ジグザグに形成された曲線形状の振幅（Ｈ３）及び周期（Ｈ２）は、外光遮蔽部２４０の断面の深さ及び台形型断面の横面が底面２４２と成す角度、底面２４２の幅などによって変わり得る。また、前記ジグザグに形成された曲線形状の幅（Ｈ１）は、おおよそ５ないし２０μｍの範囲であることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６５】
前記他端２４４の幅（Ｈ１）、振幅（Ｈ３）及び周期（Ｈ２）は、一つの外光遮蔽部２４０内で同じ値を有しないこともある。また、一外光遮蔽部の他端２４４と異なる外光遮蔽部の他端の幅（Ｈ１）、振幅（Ｈ３）及び周期（Ｈ２）も、他の値を有することができる。これにより規則的なパターンによって発生するモアレ現象も前記他端２４４の不規則的なパターンによって防止することができる。そして、前記外光遮蔽部材２００の外光遮蔽効果は、前記外光遮蔽部２４０の幾何学的要素及び光吸収物質の濃度などによって変わる。したがって、前記外光遮蔽部２４０の断面形状、大きさ、隣接した外光遮蔽部間の間隔、一端２４２の幅、他端２４４の幅（Ｈ１）、周期（Ｈ２）、振幅（Ｈ３）などを調節して外光遮蔽効果を調節することができる。
【００６６】
前記外光遮蔽部材２００のストライプパターン及びジグザグに形成された曲線形状の波パターンが形成された方向は、前記外光遮蔽部材２００の形態が長方形ディスプレイ画面を基準に、長方形の長辺と平行な方向であることもできて、短辺と平行であることも可能で、所定の角度で斜めに形成することもできる。
【００６７】
以下では図４及び図５を参照して、本発明の一実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法を詳しく説明し、前に説明した内容と重複する内容は省略することにする。
【００６８】
図４は、本発明の一実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法を示した流れ図である。図５は本発明の一実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法を概念的に示した断面図である。
【００６９】
図４を参照すると、ディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法は、第１モールドを形成する工程（Ｓ１１０）と、テンプレートを準備する工程（Ｓ１２０）と、前記テンプレートの形態を変形させるスウェリング工程（Ｓ１３０）と、変形が完了したテンプレートでホームが形成された基材を形成する工程（Ｓ１４０）及び前記基材のホームに光吸収物質を充填する工程（Ｓ１５０）とを含む。前記スウェリング工程（Ｓ１３０）は、１回以上実施する。第１スウェリング工程（Ｓ１３０（１））は、前記テンプレート上に第１硬化性樹脂を塗布する工程（Ｓ１３１（１））、前記第１硬化性樹脂を硬化させる工程（Ｓ１３２（１））及び前記第１硬化性樹脂と前記テンプレートを分離させる工程（Ｓ１３３（１））とを含む。同じく前記第ｎスウェリング工程（Ｓ１３０（ｎ））は、前記テンプレート上に第１硬化性樹脂を塗布する工程（Ｓ１３１（ｎ））と、前記第１硬化性樹脂を硬化させる工程（Ｓ１３２（ｎ））及び前記第１硬化性樹脂と前記テンプレートを分離させる工程（Ｓ１３３（ｎ））とを含む。
【００７０】
以下、図４及び図５を参照して、各工程をより詳しく説明する。
【００７１】
まず、金属マスターを使用して紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂にスタンピングした後、前記紫外線硬化樹脂を硬化させて陰刻パターンが形成された第１モールドを形成（Ｓ１１０）する。前記金属マスターは、図５の（ａ）の図示のように台形型断面を有して平行な直線形態のストライプパターンを有していて、機械加工でも容易に製造が可能である。しかし、本発明はこれに限定されず、第１モールドを形成するにおいて、金属マスターを使用しないで高分子樹脂材質のマスターを含んだ、その他の材質のマスターも使用可能である。
【００７２】
さらに、第１モールドを使用せずに、陰刻パターンが形成された金属マスターから直接テンプレートを準備することもでき、金属マスター及び第１モールドを使用しないで機械加工、などを通じて直接テンプレートを準備することも可能である。
【００７３】
次に、前記第１モールドの陰刻パターン内に離型性樹脂でポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を塗布及び硬化した後（図５の（ｂ）参照）、前記第１モールドと前記離型性樹脂を分離して、離型性樹脂からなり陽刻パターンを有するＰＤＭＳテンプレートを準備（Ｓ１２０）する。前記ＰＤＭＳテンプレートは、図５の（ｃ）で図示したように、前記第１モールドと形態が互いに対応し、断面が台形型で平行な直線形態のストライプパターンを示す陽刻パターンを含む。
【００７４】
次に、前記ＰＤＭＳテンプレート上に紫外線硬化性樹脂を塗布及び硬化する工程を含む第１スウェリング工程（Ｓ１３０（１））を経るようになる（図５の（ｄ）参照）。すなわち、前記ＰＤＭＳテンプレート上に第１紫外線硬化性樹脂を塗布する。例えば、支持体としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に前記第１紫外線硬化性樹脂を塗布した後、ＰＤＭＳテンプレートを使用して前記第１紫外線硬化性樹脂をスタンピングする。そして、第１紫外線硬化性樹脂を硬化させる。それから、硬化した第１紫外線硬化性樹脂及びポリエチレンテレフタレートフィルムの結合体をＰＤＭＳテンプレートから分離する。
【００７５】
前記ＰＤＭＳテンプレート上に紫外線硬化性樹脂を塗布する場合、前記樹脂内に含まれているアクリレート系列のモノマーが、ＰＤＭＳテンプレート内に吸収され、その結果前記ＰＤＭＳテンプレートは、ＰＤＭＳとモノマーとの間の溶解性または互換性などによって体積が増加してスウェリング（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）を起こす。スウェリングは、紫外線硬化性樹脂を成す小さな分子、すなわちモノマーが仮橋されているＰＤＭＳテンプレート中に吸収されて起きるようになる。モノマーによるＰＤＭＳテンプレートのスウェリングとＰＤＭＳテンプレート内に吸収されたモノマーとの間の重合は、永久的なテンプレートの変形を起こすようになる。前記モノマーは、アルキルアクリレート、エチルアクリレート及びブチルアクリレートからなる群から選択された少なくとも一つの種類であることができる。前記モノマーは、紫外線硬化過程でＰＤＭＳとの相互互換性を有するようになる。ここで、紫外線硬化過程が発熱過程なので、高分子の温度を１０℃程度上昇させることができることが予想され、この場合、スウェリングされたＰＤＭＳは、体積が増加した状態なのでストレスを受けるようになって、初期形態を維持することができなくなる。このようなＰＤＭＳテンプレートの変形は、スウェリング工程を反復実施するにつれてますます大きくなるようになる。初期第１スウェリング工程では、テンプレートの体積増加が形態の変形を起こすほどストレスが大きくなく、初期構造が維持されるのが一般的だが、スウェリング工程が進行されるにつれてテンプレートの変形が連続的に進行するようになって、ジグザグ形態の曲線パターンを示すようになる。
【００７６】
第１スウェリング工程（Ｓ１３０（１））を終えた後には、第２スウェリング工程、第３スウェリング工程などを反復して、ｎ番目には第ｎスウェリング工程（Ｓ１３０（ｎ））を経るようになる。ここで、ｎは１より大きい自然数である。
【００７７】
このようにスウェリング工程の回数（ｎｕｍｂｅｒ  ｏｆ ｓｗｅｌｌｉｎｇ）が増加するにつれてテンプレートの変形も大きくなる。テンプレートに現われた変形パターンの振幅は増加するが、変形する単位大きさ、すなわち周期は一定に維持される。ＰＤＭＳテンプレートが紫外線硬化性樹脂に露出した時、惹起されたスウェリングによる体積変化のため生じたストレスを構造的に勝ち勝つことができないので、前記テンプレートの変形が残るようになる。ここで、構造的にストレスに対して脆弱に形成された部分が、先に変形を起こすようになって、初期のスウェリング工程によって変形された部分が継続的に脆弱なので、反復的なスウェリング工程を経ながら連続して変形を起こすようになる。これは、ＰＤＭＳテンプレートが形成される時に必然的に陽刻パターンのすべての部分の機械的特性が均一ではないために現われるものとみることができる。すなわち、正弦波形態のパターンで相対的に脆弱ではなくて変形が起きない部分である周期の節部分（すなわちサイン関数の基本グラフで０度及び１８０度の位置）は、形態が維持されて、相対的に脆弱で変形が起きた部分である山と谷の部分（すなわちサイン関数の基本グラフで９０度及び２７０度の位置）は、継続して変形が起きるようになって正弦波形態の周期は維持されるが、振幅は継続して増加するようになるのである。本明細書で周期（図３のＨ２）というのは、曲線パターンで隣接した山と山または隣接した谷と谷との間の間隔を意味し、一曲線パターン内でも同一な値のみを有するのではなく、一定範囲内で変動することができる。また、本発明で振幅（図３のＨ３）というのは、隣接した山と谷との間の間隔を意味し、同じく一曲線パターン内でも一定範囲内で変動する値であり得る。
【００７８】
本実施例のように外光遮蔽部の断面が二等辺台形型の場合、長さが長い下辺部分はＰＤＭＳテンプレートの支持によって変形が生じなくなり、これに反して長さが短い上辺部分は変形を起こして曲線形状の波パターンを示すようになる。変形が起きる上辺部分は、図５の（ｃ）でＡ領域と表示された部分である。
【００７９】
高分子材料は、耐久性の側面で金属より落ちる化学的抵抗性を有するが、本発明ではこのような高分子材料の限界をむしろ逆利用して、金属テンプレートから具現することができない複雑な外光遮蔽パターンを形成するものである。
【００８０】
何回かのスウェリング工程を経た後、ＰＤＭＳテンプレートの変形が所望する水準になった時、スウェリング工程（Ｓ１３０）が仕上げられて、総スウェリング工程の回数はｎになる。すなわち、図５の（ｃ）と（ｄ）工程を交互に繰り返すことで、ＰＤＭＳテンプレートが準備されると（図５の（ｃ））、前記テンプレート上に紫外線硬化性樹脂を塗布及び硬化させて（図５の（ｄ））、またテンプレートを分離させて（図５の（ｃ））再び前記分離したテンプレート上に紫外線硬化性樹脂を塗布及び硬化させる（図５の（ｄ））、このような工程が反復的に遂行される。
【００８１】
充分にＰＤＭＳテンプレートの変形が成されたと判断されると、変形されたＰＤＭＳテンプレートを分離して、前記変形されたＰＤＭＳテンプレートを第２モールドにして第２硬化性樹脂を塗布及び硬化させた後、分離して基材を形成する。（図５の（ｅ））。前記基材は、充填ホームが陰刻に形成された外光遮蔽部材の透明基材である。すなわち、変形が完了したテンプレートを第２モールドにして本発明のディスプレイ装置用外光遮蔽部材の透明基材を形成（Ｓ１４０）するのである。
【００８２】
一般的には、スウェリングされたテンプレートを使用して直接基材にパターンを形成することや、スウェリング工程と基材形成工程との間に耐久性が高い材質の第３モールド、第４モールド、などを形成する工程が加えられ、これらモールドを使用して基材にパターンを形成することも可能である。
【００８３】
透明基材が形成（Ｓ１４０）されてからは、前記基材の陰刻パターン内部に光吸収物質を充填する工程（Ｓ１５０）を経るようになる。前記陰刻パターンが形成された透明基材の上にカーボンブラックなど着色粒子が含まれた高分子樹脂をワイピング（ｗｉｐｉｎｇ）法を使用して満たした後、硬化させる。前記高分子樹脂内にはカーボンブラックのような光吸収物質だけでなく、銀粉末や銀ペーストのような金属成分を導電性物質としてさらに含むこともでき、バインダー、消泡剤などのその他添加剤をさらに含むこともできる。ここで、陰刻パターン内に充填される高分子樹脂成分の屈折率は、透明基材の屈折率より低いことがディスプレイの明暗対比比を高めるために好ましいが、必ずこれに限定されるものではない。例えば、陰刻パターン内に充填される高分子樹脂成分の屈折率が透明基材の屈折率より大きいか同じであり得る。
【００８４】
以下では、図６ないし図８を参照してテンプレートの変形に対してさらに詳しく説明する。
【００８５】
図６は、本発明の一実施例によるＰＤＭＳテンプレートに対する光学顕微鏡写真である。写真内のスケールバーは、１００μｍを示し、前記ＰＤＭＳテンプレートは、１６回のスウェリング工程を経た。図５の（ｃ）ＰＤＭＳテンプレートのＡ領域は、図６で曲線形態で見えていて、変形が起きていない下辺部分は図６で曇った直線パターンで見える。図６で見られるように、前記テンプレートはスウェリングされた変形した部分は、正弦波形態と類似のジグザグに形成された曲線形状を有するが、変形されない部分は初期のストライプ形態を維持している。また、前記正弦波形態の曲線パターンで節部分の位置がそれぞれの曲線パターンで同じではないので、不規則な曲線形態を示すことが分かる。
【００８６】
図７は、スウェリング回数による正弦波形態曲線の振幅（μｍ単位）を示したグラフである。スウェリング回数が５回より小さい時は、変形の起きた程度が非常に些細なことが分かるが、５回以上進行されるにつれて振幅が２０μｍ以上に大きくなることが分かり、スウェリング回数が２０回より増加する場合には、過度の変形によってテンプレートが不安定になって非経済的なので好ましくない。
【００８７】
図８の（ａ）は、ジグザグに形成された曲線形状の幅（図３でＨ１）が、８μｍであるＰＤＭＳテンプレートが７回のスウェリング工程を経た後の光学顕微鏡写真である。図８の（ｂ）は上辺の長さが１３μｍであるＰＤＭＳテンプレートが７回のスウェリング工程を経た後の光学顕微鏡写真である。図８でスケールバーは、両方１００μｍを示している。前記ＰＤＭＳテンプレートで曲線形状の幅は、ＰＤＭＳテンプレートの陽刻パターンの厚さであるとみられる。
【００８８】
前記陽刻パターンの厚さが相対的に薄い（ａ）の場合、変形形態の周期が２４３±１７μｍと示され、相対的に厚い（ｂ）の場合は変形形態の周期が２９５±１０μｍと示された。すなわち、陽刻パターンの厚さが厚いほど、変形された正弦波曲線形態で周期が大きく現れる。これは厚さが厚いほど形態の変形を起こす臨界ストレスの大きさがさらに大きいからであるとみられる。スウェリングが進行するにつれて正弦波曲線形態で振幅（図３でＨ３）は増加するが、周期（図３でＨ２）は一定に維持される。これはストライプパターンと垂直した方向に変形される時に要求される変形力（ｄｅｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ｆｏｒｃｅ）が、ストライプパターンと平行な横方向で変形する時に要求される変形力よりずっと小さいからである。
【００８９】
以上のように本発明は、限定した実施例と図面によって説明したが、本発明は前記の実施例に限定されるものではなく、本発明が属する分野で通常の知識を有した者ならこのような記載から多様な修正及び変形が可能である。ゆえに、本発明の範囲は、説明した実施例に限って決定されるものではなく、特許請求の範囲だけではなくこの特許請求範囲と均等なものによって決定されなければならない。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明のディスプレイ装置用外光遮蔽部材、その製造方法及びディスプレイ装置用フィルターは、高分子樹脂で形成されたテンプレートを使用することで、機械加工で形成された金属テンプレートを使用する場合より製造時間及び製造単価を下げることができ、多様な形態の外光遮蔽パターンを有した外光遮蔽部材を製造することで、ディスプレイのモアレ現象を除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明の一実施例による外光遮蔽フィルムを含んだディスプレイ装置用フィルターを示す断面図である。
【図２】本発明の一実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材を図示した断面図である。
【図３】本発明の一実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材を図示した正面図である。
【図４】本発明の一実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法を示した流れ図である。
【図５】本発明の一実施例によるディスプレイ装置用外光遮蔽部材の製造方法を概念的に示した断面図である。
【図６】本発明の一実施例によるＰＤＭＳテンプレートに対する光学顕微鏡写真である。
【図７】スウェリング回数による正弦波形態曲線の振幅（μｍ単位）を示したグラフである。
【図８】本発明の一実施例によるＰＤＭＳテンプレートに対する光学顕微鏡写真で、（ａ）はＰＤＭＳテンプレートの厚さが８μｍの場合を（ｂ）は１３μｍの場合を示す。
【符号の説明】
【００９２】
１００：ディスプレイ装置用フィルター
１１０：透明基板
１２０：電磁波遮蔽層
１３０：外光遮蔽部材
１３２：基材
１３４：外光遮蔽パターン
１４０：色補正層
１５０：反射指輪層
１８０：パネル入射光
１９０：外部環境光
２００：外光遮蔽フィルム
２２０：透明基材
２４０：外光遮蔽部
２４２：一端
２４４：他端
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図６】
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【図８】
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