(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に反応性官能基を有する基板に、該反応性官能基に対して反応性を有する官能基を有するリガンドを反応させる工程と、
該リガンドを反応させた基板と、前記反応性官能基に対して反応性を有する官能基及び一般式
【化２】
0005391265.tif 000022
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、炭素数が１以上６以下のアルキル基であり、ｍは、２以上６以下の整数であり、ｎは、１又は２である。）
で表される基を有する化合物を反応させる工程を有することを特徴とするバイオチップの製造方法。
【請求項２】
前記反応性官能基は、アミノ基、ヒドロキシル基、アルデヒド基、カルボキシル基、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基及びシラノール基からなる群より選択される一種以上であることを特徴とする請求項１に記載のバイオチップの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のバイオチップの製造方法を用いて製造されていることを特徴とするバイオチップ。
【請求項４】
請求項３に記載のバイオチップを有することを特徴とするバイオセンサ。
【請求項５】
請求項４に記載のバイオセンサを用いて、前記リガンドに対して特異的に結合する物質を分析することを特徴とする分析方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バイオチップの製造方法、バイオチップ、バイオセンサ及び分析方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ホスホリルコリン基を有する高分子は、生体適合性高分子として知られており、このような高分子で各種樹脂材料を被覆した生体適合性材料が知られている。【０００３】
特許文献１には、基材の表面に、ホスホリルコリン類似基を側鎖に有する単量体と、ヘパリン又はヘパリン誘導体と結合可能な基を有する単量体の共重合体と、ヘパリン又はヘパリン誘導体から構成される被覆層が形成されている医療用材料が開示されている。【０００４】
特許文献２には、ホスホリルコリン類似基を少なくとも表面に有し、表面のＸ線光電子分光分析によって測定したスペクトルにおける、ホスホリルコリン類似基に由来するリン元素の量Ｐと、炭素元素の量Ｃとの比（Ｐ／Ｃ）が０．００２〜０．３となる分離材が開示されている。【０００５】
しかしながら、ホスホリルコリン基を有する高分子で被覆された材料は、ホスホリルコリン基を高密度で導入することができないため、生体物質が吸着しやすいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−２７９５１２号公報
【特許文献２】特開２００２−９８６７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、生体物質の吸着を抑制することが可能なバイオチップの製造方法及びバイオチップ、該バイオチップを有するバイオセンサ並びに該バイオセンサを用いる分析方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
請求項１に記載の発明は、バイオチップの製造方法において、表面に反応性官能基を有する基板に、該反応性官能基に対して反応性を有する官能基を有するリガンドを反応させる工程と、該リガンドを反応させた基板と、前記反応性官能基に対して反応性を有する官能基及び一般式
【００１３】
【化２】
0005391265.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、炭素数が１以上６以下のアルキル基であり、ｍは、２以上６以下の整数であり、ｎは、１又は２である。）
で表される基を有する化合物を反応させる工程を有することを特徴とする。【００１４】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のバイオチップの製造方法において、前記反応性官能基は、アミノ基、ヒドロキシル基、アルデヒド基、カルボキシル基、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基及びシラノール基からなる群より選択される一種以上であることを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、バイオチップにおいて、請求項１又は２に記載のバイオチップの製造方法を用いて製造されていることを特徴とする。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、バイオセンサにおいて、請求項３に記載のバイオチップを有することを特徴とする。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、分析方法において、請求項４に記載のバイオセンサを用いて、前記リガンドに対して特異的に結合する物質を分析することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、生体物質の吸着を抑制することが可能なバイオチップの製造方法及びバイオチップ、該バイオチップを有するバイオセンサ並びに該バイオセンサを用いる分析方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施例１及び比較例１のバイオチップのＳ／Ｎ比の評価結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
次に、本発明を実施するための形態を図面と共に説明する。
【００２０】
本発明の表面改質基板は、表面に反応性官能基を有する基板に、反応性官能基に対して反応性を有する官能基及び一般式
【００２１】
【化３】
0005391265.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６のアルキル基であり、ｍは、２〜６の整数であり、ｎは、１又は２である。）
で表されるホスホリルコリン類似基を有する表面改質剤を反応させることにより製造されている。これにより、基板の表面にホスホリルコリン類似基を高密度で導入することができる。その結果、生体物質の吸着を抑制することが可能な表面改質基板が得られる。
【００２２】
本発明において、基板が表面に有する反応性官能基としては、特に限定されないが、アミノ基、ヒドロキシル基、アルデヒド基、カルボキシル基、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基、シラノール基等が挙げられ、二種以上併用してもよい。また、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基としては、ヒドロシリル基、アルコキシシリル基、ハロシリル基、アシルオキシシリル基、アミノシリル基等が挙げられるが、安定性、反応性等の点から、炭素数が１〜６のアルコキシシリル基又はヒドロシリル基が好ましい。
【００２３】
このような反応性官能基を表面に有する基板を構成する材料は、有機材料及び無機材料のいずれであってもよい。
【００２４】
有機材料としては、特に限定されないが、スチレン、メタクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸、Ｎ−アルキルアクリルアミド、（メタ）アクリル酸アルキル、（メタ）アクリル酸アミノアルキル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル等のモノマーを重合することにより得られる単独重合体又は共重合体等が挙げられる。中でも、アクリル酸−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド−メチレンビスアクリルアミド共重合体、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル−スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、２−アミノエチルメタクリレート−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド−メチレンビスアクリルアミド共重合体等が好ましい。また、これら以外の有機材料としては、アガロース、セファロース等が挙げられる。
【００２５】
無機材料としては、特に限定されないが、タルク、カオリン、雲母、絹雲母（セリサイト）、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、パーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸の金属塩、マグネシウム、シリカ、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、リン酸カルシウム、弗素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、金属石鹸（例えば、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム）、窒化ホウ素、酸化セリウム等が挙げられる。中でも、シリカ、酸化チタン、亜鉛華、アルミナ、酸化鉄、タルク、マイカ、セリサイト等が好ましい。
【００２６】
なお、表面に反応性官能基を有する基板としては、基板を表面処理することにより反応性官能基を導入したものであってもよい。
【００２７】
基板の表面にアミノ基を導入する方法としては、プラズマ処理、表面処理剤を反応させる方法、シリコーン気相処理が挙げられる。
【００２８】
プラズマ処理では、窒素ガス雰囲気下、低温プラズマにより粒子の表面にアミノ基を導入する（例えば、Ｓｕｒｆａｃｅ  ａｎｄ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  １１６−１１９（１９９９）８０２−８０７、Ｃｏｌｌｏｉｄｓ  ａｎｄ  Ｓｕｒｆａｃｅｓ  Ａ：Ｐｈｙｓｉｃｏｃｈｅｍ．Ｅｎｇ．Ａｓｐｅｃｔｓ  １９５（２００１）８１−９５、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．２００．９８９−９９６（１９９９）参照）。具体的には、基板を反応容器内に収容し、反応容器内を真空ポンプで真空にした後、窒素ガスを導入し、グロー放電を行う。
【００２９】
表面処理剤を反応させる方法では、アミノ基を有するアルコキシシラン、クロロシラン、シラザン等の表面処理剤を用いて、シラノール基、アルコキシシリル基等を有する基板の表面にアミノ基を導入する。具体的には、まず、基板を水／２−プロパノール混合液中に浸し、３−アミノプロピルトリメトキシシランを添加した後、１００℃に加熱し、６時間反応させる。次に、室温に冷却した後、メタノールで洗浄し、乾燥する。
【００３０】
基板を構成する材料としては、メタクリル酸３−トリメトキシシリルプロピル−メタクリル酸メチル−ジビニルベンゼン共重合体等の有機材料；シリカ、ガラス、アルミナ、タルク、クレー、マイカ、アスベスト、酸化チタン、亜鉛華、酸化鉄等の無機材料等が挙げられる。
【００３１】
シリコーン気相処理では、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを用いて、基板の表面にヒドロシリル基を導入した後、アミノ基を有するモノマーを反応させることにより、基板の表面にアミノ基を導入する（例えば、特公平１−５４３７９号公報、特公平１−５４３８０号公報、特公平１−５４３８１号公報参照）。具体的には、まず、基板と１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンをデシケーター中に入れ、アスピレーターで脱気する。次に、８０℃で１６時間反応させた後、基板を取り出し、１２０℃で乾燥させる。さらに、得られた基板をエタノール中に浸し、アリルアミンを添加した後、塩化白金酸のエタノール溶液を添加し、６０℃で２時間攪拌する。反応が終了した後、エタノールで洗浄し、減圧乾燥する。
【００３２】
基板を構成する材料としては、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体等の有機材料；マイカ、タルク、カオリン、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機材料等が挙げられる。
【００３３】
アミノ基を有するモノマーとしては、アリルアミンに限定されず、アミノ基を有するビニルモノマー、アクリルモノマー等であればよい。また、アミノ基は、ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等により保護されていてもよい。さらに、アミノ基を有するモノマーの代わりに、エポキシ基等の、例えば、ジアミンとの反応により、アミノ基を導入することが可能な官能基を有するモノマーを用いてもよい。
【００３４】
基板の表面にアルデヒド基を導入する方法としては、表面にアミノ基を有する基板にグルタルアルデヒドを反応させる方法が挙げられる。
【００３５】
基板の表面にカルボキシル基を導入する方法としては、表面処理剤を反応させる方法、シリコーン気相処理等が挙げられる。
【００３６】
表面処理剤を反応させる方法では、カルボキシル基を有するアルコキシシラン、クロロシラン、シラザン等の表面処理剤を用いて、シラノール基、アルコキシシリル基等を有する基板の表面にカルボキシル基を導入する。具体的には、まず、トリエトキシシリルプロピル無水コハク酸をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させ、蒸留水と４−ジメチルアミノピリジンを添加し、１６時間室温で撹拌し、カルボンキシル基を有するシランカップリング剤を合成する。次に、基板を水／２−プロパノール混合液中に浸し、カルボキシル基を有するシランカップリング剤を添加した後、１００℃に加熱し、６時間反応させる。さらに、室温に冷却した後、メタノールで洗浄し、乾燥する。
【００３７】
基板を構成する材料としては、メタクリル酸３−トリメトキシシリルプロピル−メタクリル酸メチル−ジビニルベンゼン共重合体等の有機材料；シリカ、ガラス、アルミナ、タルク、クレー、マイカ、アスベスト、酸化チタン、亜鉛華、酸化鉄等の無機材料等が挙げられる。
【００３８】
シリコーン気相処理では、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを用いて、基板の表面にヒドロシリル基を導入した後、カルボキシル基を有するモノマーを反応させることにより、基板の表面にカルボキシル基を導入する（例えば、特公平１−５４３７９号公報、特公平１−５４３８０号公報、特公平１−５４３８１号公報参照）。具体的には、まず、基板と１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンをデシケーター中に入れ、アスピレーターで脱気する。次に、８０℃で１６時間反応させた後、基板を取り出し、１２０℃で乾燥させる。さらに、得られた基板をエタノール中に浸し、アリルカルボン酸を添加した後、塩化白金酸のエタノール溶液を添加し、６０℃で２時間攪拌する。反応が終了した後、エタノールで洗浄し、減圧乾燥する。
【００３９】
基板を構成する材料としては、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体等の有機材料；マイカ、タルク、カオリン、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機材料等が挙げられる。
【００４０】
カルボキシル基を有するモノマーとしては、アリルカルボン酸に限定されず、カルボキシル基を有するビニルモノマー、アクリルモノマー等であればよい。
【００４１】
基板の表面に加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基及び／又はシラノール基を導入する方法としては、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基を有するポリマー（以下、加水分解性ポリマーという）と、アルコキシシランを含有する塗布液を基板に塗布する方法が挙げられる。
【００４２】
加水分解性ポリマーと、アルコキシシランを含有する塗布液を基板に塗布すると、加水分解性ポリマーとアルコキシシランが加水分解され、シラノール基が生成する。さらに、シラノール基同士の脱水縮合により、加水分解性ポリマーが架橋され、シラノール基が導入された架橋ポリマー層が形成される。具体的には、材料に塗布液を塗布した後に、水、酸又はアルカリを塗布したり、加熱したりする。また、水、酸又はアルカリを材料に塗布した後に、塗布液を塗布してもよい。さらに、塗布液に、水、酸又はアルカリを混合してもよい。この場合、塗布液中で加水分解が起こるため、塗布時に塗布液を適宜調製することが好ましい。なお、水、酸又はアルカリを用いる場合は、加熱してもよいが、通常、室温で十分反応が進行する。また、水、酸又はアルカリを用いなくても、大気中の水分により緩やかに反応が進行する。
【００４３】
加水分解に用いられる酸又はアルカリとしては、加水分解させることが可能なものであれば、特に限定されず、二種以上混合して用いることができ、水溶液として用いてもよい。
【００４４】
塗布液としては、有機溶媒中に、加水分解性ポリマーと、アルコキシシランを溶解又は分散させたものを用いることができる。有機溶媒としては、特に限定されないが、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素、エーテル系溶剤、炭素数１〜４、１〜４価の脂肪族アルコールアルコール系溶剤、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系溶剤、ジオキサン、酢酸メチル、ジホルムアミド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００４５】
塗布液中の加水分解性ポリマーの濃度は、０．００１〜２０重量％であることが好ましく、０．１〜５重量％がさらに好ましい。濃度が０．００１重量％未満であると、１回の処理で十分な効果が得られないことがあり、２０重量％を超えると、塗布性等が劣ることがある。
【００４６】
また、アルコキシシランに対する加水分解性ポリマーの重量比は、０．０１％〜２０％であることが好ましく、０．２％〜５％がさらに好ましい。重量比が０．０１重量％未満であると、架橋ポリマー層の強度が不十分になることがあり、２０％を超えると、架橋ポリマー層に導入されるシラノール基の量が不十分になることがある。
【００４７】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗布法、スプレー塗布法、スピンキャスト法等が挙げられる。
【００４８】
基板を構成する材料としては、ＰＰ（ポリプロピレン）、ポリカーボネート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＥＫ、フッ素系樹脂、ポリスチレン、塩化ビニル等の有機材料；金、チタン、アルミ、鉄、銅、ステンレス、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛等の無機材料等が挙げられる。
【００４９】
加水分解性ポリマーとしては、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基を有するポリマーであれば、特に限定されないが、一般式
【００５０】
【化４】
0005391265.tif 000004
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が１〜６のアルキレン基、好ましくはプロピレン基であり、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６のアルコキシル基、好ましくはメトキシル基又はエトキシル基である。）
で表されるモノマー（Ａ−１）を重合することにより得られるホモポリマー又はコポリマー（以下、ポリマー（Ａ）という）を用いることができる。このとき、モノマー（Ａ−１）を二種以上用いてもよい。
【００５１】
また、ポリマー（Ａ）を合成する際に、一般式
【００５２】
【化５】
0005391265.tif 000005
（式中、Ｒ６は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ７は、炭素数が１〜１８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、特に好ましくはメチル基である。）
で表されるモノマー（Ａ−２）を共重合してもよい。このとき、モノマー（Ａ−２）を二種以上用いてもよい。
【００５３】
また、ポリマー（Ａ）を合成する際に、一般式
【００５４】
【化６】
0005391265.tif 000006
（式中、Ｒ８は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ９は、炭素数が１〜６のアルキレン基、好ましくはエチレン基、プロピレン基又は２−ヒドロキシプロピレン基であり、Ｘは、一般式
【００５５】
【化７】
0005391265.tif 000007
（式中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐状のアルキル基、好ましくはメチル基である。）
で表される官能基（Ｘ−１）、一般式
【００５６】
【化８】
0005391265.tif 000008
（式中、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐状のアルキル基、好ましくはメチル基であり、Ｒ２５は、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐状のアルキル基、好ましくはブチル基であり、ｘは、正の整数である。）
で表される官能基（Ｘ−２）又は一般式
【００５７】
【化９】
0005391265.tif 000009
（式中、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐状のアルキル基、好ましくはメチル基であり、Ｒ３２は、炭素数が１〜６のアルキレン基、好ましくはエチレン基、プロピレン基又は２−ヒドロキシプロピレン基であり、Ｒ３３は、水素原子又はメチル基であり、ｙは、正の整数である。）
で表される官能基（Ｘ−３）である。）
で表されるモノマー（Ａ−３）を共重合してもよい。なお、Ｘが官能基（Ｘ−２）又は（Ｘ−３）である場合、モノマー（Ａ−３）は、分子量が１０００〜１０００００であることが好ましく、２０００〜２００００が特に好ましい。このとき、モノマー（Ａ−３）を二種以上用いてもよい。
【００５８】
また、ポリマー（Ａ）を合成する際に、一般式
【００５９】
【化１０】
0005391265.tif 000010
（式中、Ｒ３４は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ３５は、炭素数が１〜６のアルキレン基、好ましくはエチレン基又はプロピレン基であり、Ｙは、一般式
【００６０】
【化１１】
0005391265.tif 000011
（式中、Ｒ３６、Ｒ３７及びＲ３８は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６のアルキル基、好ましくはメチル基であり、Ｚ−は、ハロゲン化物イオン又は有機酸若しくは無機酸の共役イオンである。）
で表される官能基（Ｙ−１）又は一般式
【００６１】
【化１２】
0005391265.tif 000012
（式中、Ｒ３９及びＲ４０は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６のアルキル基、好ましくはメチル基である。）
で表される官能基（Ｙ−２）である。）
で表されるモノマー（Ａ−４）を共重合してもよい。このとき、モノマー（Ａ−４）を二種以上用いてもよい。
【００６２】
すなわち、ポリマー（Ａ）を合成する際に、モノマー（Ａ−１）と共に、モノマー（Ａ−２）、モノマー（Ａ−３）及びモノマー（Ａ−４）の少なくとも一つを共重合してもよい。
【００６３】
ポリマー（Ａ）を合成する際に用いられる全モノマー中のモノマー（Ａ−１）の含有量が４０〜８５重量％であることが好ましい。この含有量が４０重量％未満であると、架橋密度が低下して、親水化の効果が十分に持続しないことがあり、８５重量％を超えると、架橋ポリマー層の均一性が低下することがある。
【００６４】
また、ポリマー（Ａ）を合成する際に用いられる全モノマー中のモノマー（Ａ−２）の含有量が１重量％以上であることが好ましく、１０重量％以上がさらに好ましい。この含有量が１重量％未満であると、架橋ポリマー層の耐水性が低下することがある。さらに、ポリマー（Ａ）を合成する際に用いられる全モノマー中のモノマー（Ａ−２）の含有量が７５重量％以下であることが好ましく、６０重量％以下がさらに好ましい。この含有量が７５重量％を超えると、ポリマー（Ａ）がアルコール系溶媒に難溶性となることがある。
【００６５】
さらに、ポリマー（Ａ）を合成する際に用いられる全モノマー中のモノマー（Ａ−３）の含有量が１重量％以上であることが好ましく、５重量％以上がさらに好ましい。この含有量が１重量％未満であると、架橋ポリマー層の耐水性が低下することがある。さらに、ポリマー（Ａ）を合成する際に用いられる全モノマー中のモノマー（Ａ−３）の含有量が７０重量％以下であることが好ましく、６０重量％以下がさらに好ましい。この含有量が７０重量％未満を超えると、ポリマー（Ａ）がアルコール系溶媒に難溶性となることがある。
【００６６】
また、モノマー（Ａ−１）、モノマー（Ａ−２）及びモノマー（Ａ−３）の総重量に対するモノマー（Ａ−４）の重量の比が０．０１〜１であることが好ましく、０．０５〜０．５がさらに好ましい。この比が０．０１未満であると、架橋ポリマー層の柔軟性が低下することがあり、１を超えると、架橋ポリマー層の耐水性が低下することがある。
【００６７】
ポリマー（Ａ）の数平均分子量は、オリゴマー以上の重合度を有していれば、特に限定されないが、２０００〜１５００００であることが好ましい。数平均分子量が２０００未満であると、架橋ポリマー層を形成する時間が長くなることがあり、１５００００を超えると、塗布液の粘度が高くなって、塗布性や作業性に劣ることがある。
【００６８】
なお、ポリマー（Ａ）の具体例及び製造方法は、特開平１１−３０２１２９号公報等に開示されている。
【００６９】
また、加水分解性ポリマーとしては、一般式
【００７０】
【化１３】
0005391265.tif 000013
（式中、Ｒ１は、炭素数が１〜２２のアルキル基又はフェニル基、好ましくは、メチル基である。）
で表される構成単位（Ｂ−１）を有するホモポリマー又はコポリマー（以下、ポリマー（Ｂ）という）を用いることができる。このとき、ポリマー（Ｂ）は、構成単位（Ｂ−１）を二種以上有してもよい。
【００７１】
また、ポリマー（Ｂ）は、一般式
【００７２】
【化１４】
0005391265.tif 000014
（式中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、炭素数が１〜２２のアルキル基又はフェニル基、好ましくは、メチル基である。）
で表される構成単位（Ｂ−２）を有してもよい。このとき、ポリマー（Ｂ）は、構成単位（Ｂ−２）を二種以上有してもよい。
【００７３】
ポリマー（Ｂ）中の構成単位（Ｂ−１）の含有量が１〜９０重量％であることが好ましい。この含有量が１重量％未満であると、架橋密度が低下して、親水化の効果が十分に持続しないことがあり、９０重量％を超えると、架橋ポリマー層の均一性が低下することがある。
【００７４】
さらに、ポリマー（Ｂ）中の構成単位（Ｂ−２）の含有量が１０〜９９重量％であることが好ましい。この含有量が１０重量％未満であると、架橋ポリマー層の均一性が低下することがあり、９９重量％未満を超えると、架橋密度が低下して、親水化の効果が十分に持続しないことがある。
【００７５】
ポリマー（Ｂ）の数平均分子量は、オリゴマー以上の重合度を有していれば、特に限定されないが、２０００〜５０万であることが好ましい。数平均分子量が２０００未満であると、架橋ポリマー層を形成する時間が長くなることがあり、５０万を超えると、塗布液の粘度が高くなって、塗布性や作業性に劣ることがある。
【００７６】
加水分解性ポリマーとして、ポリマー（Ａ）及びポリマー（Ｂ）を併用してもよいし、加水分解性ポリマーと非加水分解性ポリマーを併用してもよい。非加水分解性ポリマーとしては、特に限定されないが、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基を有さないポリマー（Ａ）、ポリマー（Ｂ）等が挙げられる。
【００７７】
基板の表面にシラノール基を導入する方法としては、シリコーン樹脂を含む塗布液を基板に塗布することにより、シラノール基を有するシリコーン樹脂を含む膜を形成する方法が挙げられる。
【００７８】
シラノール基を有するシリコーン樹脂を含む膜は、水の接触角が３〜８°であることが好ましい。水の接触角が３°未満である膜を形成することは困難であり、水の接触角が８°を超える膜を形成すると、基板の表面にホスホリルコリン類似基を高密度で導入できなくなることがある。
【００７９】
塗布液に含まれるシリコーン樹脂としては、特に限定されないが、一般式
（Ｒ１Ｏ）ｎＳｉ（Ｒ２）４−ｎ
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、炭素数が１〜８のアルキル基であり、ｎは、１〜４の整数であり、ｎが１又は２である場合、複数のＲ２は、同一であっても異なっていてもよく、ｎが２又は３である場合、複数のＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。）
で表されるアルコキシシランを加水分解した後、縮合することにより得られる樹脂が挙げられ、二種以上併用してもよい。このとき、水の接触角が３〜８°である膜に含まれるシラノール基を有するシリコーン樹脂は、塗布液に含まれるシリコーン樹脂と同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００８０】
塗布液に含まれるシリコーン樹脂の市販品としては、フレッセラＲ（パナソニック電工社製）等が挙げられる。
【００８１】
塗布液に含まれる有機溶媒としては、特に限定されないが、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素、エーテル系溶剤、炭素数１〜４、１〜４価の脂肪族アルコールアルコール系溶剤、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系溶剤、ジオキサン、酢酸メチル、ジホルムアミド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００８２】
塗布液中のシリコーン樹脂の濃度は、０．００１〜１重量％であることが好ましく、０．１〜１重量％がさらに好ましい。濃度が０．００１重量％未満であると、均一な膜が形成されないことがあり、２０重量％を超えると、塗布性等が劣ることがある。
【００８３】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗布法、スプレー塗布法、スピンキャスト法等が挙げられる。
【００８４】
基板を構成する材料としては、特に限定されないが、ポリカーボネート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ポリスチレン、アクリル樹脂等の有機材料；金、チタン、アルミ、鉄、銅、ステンレス、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛等の無機材料等が挙げられる。
【００８５】
本発明において、表面改質剤は、分子量が２５５〜５４９であることが好ましく、２５５〜２８３がさらに好ましい。これにより、ホスホリルコリン類似基を高密度で基板の表面に導入することができ、生体物質の吸着を抑制することができる。
【００８６】
また、表面改質剤が有する反応性官能基に対して反応性を有する官能基としては、特に限定されない。具体的には、アミノ基、ヒドロキシル基に対して反応性を有する官能基としては、カルボキシル基、アルデヒド基等が挙げられるが、反応性が高いことから、カルボキシル基が好ましい。また、アルデヒド基、カルボキシル基に対して反応性を有する官能基としては、アミノ基、ヒドロキシル基等が挙げられるが、反応性が高いことから、アミノ基が好ましい。さらに、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基又はシラノール基に対して反応性を有する官能基としては、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基又はシラノール基が挙げられる。
【００８７】
また、表面改質剤は、反応性官能基がスペーサーを介してホスホリルコリン類似基に結合されていることが好ましい。スペーサーとしては、特に限定されないが、メチレン基、オキシエチレン基、アミノ基を１個以上有するアルキレン基等が挙げられる。
【００８８】
以下、表面改質剤について具体的に説明する。
【００８９】
（アミノ基を有する表面改質剤）
アミノ基を有する表面改質剤としては、特に限定されないが、例えば、特開２００６−７２０３号公報、特開２００６−７２０４号公報に開示されている化合物等が挙げられるが、中でも、一般式（２）
【００９０】
【化１５】
0005391265.tif 000015
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６のアルキル基であり、Ａは、イミノ基、エステル結合又はアミド結合であり、Ｂは、炭素数が１〜３のアルキレン基、炭素数が１〜３のポリオキシエチレン基又はアリーレン基であり、ｍは、２〜６の整数、ｎは、１又は２である。）
で表される化合物が好ましい。
【００９１】
Ａがイミノ基である場合、一般式（２）で表される化合物は、例えば、グリセロホスホリルコリンを過ヨウ素酸により酸化させて、アルデヒド基を有するホスホリルコリン誘導体を合成した後、アミノ基を有する化合物と縮合させることにより、合成することができる。また、Ａがアミド結合又はエステル結合である場合、一般式（２）で表される化合物は、例えば、グリセロホスホリルコリンを過ヨウ素酸及び三塩化ルテニウムにより酸化させる方法でカルボキシル基を有するホスホリルコリン誘導体を合成した後、アミノ基又はヒドロキシル基を有する化合物と縮合させることにより、合成することができる。
【００９２】
Ａがアミド結合又はエステル結合である場合、一般式（２）で表される化合物は、例えば、グリセロホスホリルコリンを過マンガン酸及び塩酸により酸化させて、カルボキシル基を有するホスホリルコリン誘導体を合成した後、アミノ基又はヒドロキシル基を有する化合物と縮合させることにより、合成することができる。
【００９３】
次に、一般式（２）で表される化合物の製造方法を具体的に説明する。
【００９４】
（表面改質剤Ａの製造例）
まず、構造式（１）
【００９５】
【化１６】
0005391265.tif 000016
で表されるＬ−α−グリセロホスホリルコリン（市販品）を蒸留水に溶解させ、氷水浴中で冷却した後、過ヨウ素酸ナトリウムを添加し、５時間攪拌する。さらに、減圧濃縮及び減圧乾燥を行った後、メタノールで抽出することにより、構造式（２）
【００９６】
【化１７】
0005391265.tif 000017
で表されるホスホリルコリン誘導体が得られる。
【００９７】
次に、構造式（２）で表されるホスホリルコリン誘導体をメタノールに溶解させた後、エチレンジアミンを添加し、室温で撹拌する。さらに、氷水浴中で冷却した後、シアノトリヒドロホウ素化ナトリウムを添加し、室温に戻して１６時間撹拌する。なお、反応容器には乾燥窒素を流し続ける。次に、ろ過により沈殿を除去した後、減圧濃縮及び減圧乾燥を行うことにより、構造式（３）
【００９８】
【化１８】
0005391265.tif 000018
で表される表面改質剤Ａが得られる。
【００９９】
（表面改質剤Ｂの製造例１）
まず、Ｌ−α−グリセロホスホリルコリンの水溶液を氷水浴中で冷却した後、過ヨウ素酸ナトリウム及び三塩化ルテニウムを添加し、３時間攪拌する。次に、メタノールを添加して、さらに３０分間攪拌した後、ろ過により沈殿を除去し、減圧濃縮及び減圧乾燥を行うことにより、構造式（４）
【０１００】
【化１９】
0005391265.tif 000019
で表されるホスホリルコリン誘導体が得られる。
【０１０１】
次に、構造式（４）で表されるホスホリルコリン誘導体のメタノール溶液に、エチレンジアミンを添加した後、トリアジン型脱水縮合剤（ＤＭＴ−ＭＭ）を添加し、３時間撹拌する。さらに、ろ過により沈殿を除去し、減圧濃縮及び減圧乾燥を行うことにより、構造式（５）
【０１０２】
【化２０】
0005391265.tif 000020
で表される表面改質剤Ｂが得られる。
【０１０３】
（表面改質剤Ｂの製造例２）
まず、Ｌ−α−グリセロホスホリルコリンを氷水浴中で冷却しながら、塩酸に溶解させた後、過マンガン酸カリウムを添加し、３時間攪拌する。次に、メタノールを添加して、さらに３０分間攪拌した後、ろ過により沈殿を除去し、減圧濃縮及び減圧乾燥を行うことにより、構造式（４）で表されるホスホリルコリン誘導体が得られる。
【０１０４】
次に、構造式（４）で表されるホスホリルコリン誘導体のメタノール溶液に、エチレンジアミンを添加した後、トリアジン型脱水縮合剤（ＤＭＴ−ＭＭ）を添加し、３時間撹拌する。さらに、ろ過により沈殿を除去し、減圧濃縮及び減圧乾燥を行うことにより、構造式（５）で表される表面改質剤Ｂが得られる。
【０１０５】
表面にカルボキシル基を有する基板と、アミノ基を有する表面改質剤は、一般的な反応により縮合させることで、アミド結合を形成する。具体的には、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドの溶液に基板を浸漬して、粒子のカルボキシル基を活性エステル化させた後、表面改質剤を加える。
【０１０６】
表面にアルデヒド基を有する基板と、アミノ基を有する表面改質剤は、一般的な反応により縮合させることで、イミノ結合を形成する。具体的には、基板及び表面改質剤をメタノール中、室温で６時間放置した後、シアノトリヒドロホウ素酸ナトリウムを０℃で添加して、一晩加熱攪拌する。なお、反応溶媒としては、メタノール以外にも、水、エタノール、２−プロパノール等のプロトン性溶媒を使用することができるが、メタノールを用いた場合の導入率が高い傾向にある。
【０１０７】
（ヒドロキシル基を有する表面改質剤）
ヒドロキシル基を有する表面改質剤としては、特に限定されないが、例えば、Ｌ−α−グリセロホスホリルコリン等が挙げられる。ヒドロキシル基を有する表面改質剤の製造方法としては、例えば、構造式（２）で表されるホスホリルコリン誘導体又は構造式（４）で表されるホスホリルコリン誘導体を水素化ホウ素ナトリウム等により還元する方法が挙げられる。
【０１０８】
表面にカルボキシル基を有する基板と、ヒドロキシル基を有する表面改質剤は、一般的な反応により縮合させることで、エステル結合を形成する。具体的には、臭化シアンを用いて、表面改質剤のヒドロキシル基を活性化させた後、基板を浸漬する。
【０１０９】
表面にアルデヒド基を有する基板と、ヒドロキシル基を有する表面改質剤は、一般的な反応により付加させることで、アセタール結合を形成する。具体的には、基板及び表面改質剤をメタノール中、室温で６時間放置した後、シアノトリヒドロホウ素酸ナトリウムを０℃で添加して、一晩加熱攪拌する。なお、反応溶媒としては、メタノール以外にも、水、エタノール、２−プロパノール等のプロトン性溶媒を使用することができるが、メタノールを用いた場合の導入率が高い傾向にある。
【０１１０】
（アルデヒド基を有する表面改質剤）
アルデヒド基を有する表面改質剤としては、特に限定されないが、例えば、特開２００６−１１３８３号公報に開示されている化合物等が挙げられる。
【０１１１】
表面にヒドロキシル基を有する基板と、アルデヒド基を有する表面改質剤は、一般的な反応により付加させることで、アセタール結合を形成する。具体的には、基板及び表面改質剤をメタノール中、室温で６時間放置した後、シアノトリヒドロホウ素酸ナトリウムを０℃で添加して、一晩加熱攪拌する。なお、反応溶媒としては、メタノール以外にも、水、エタノール、２−プロパノール等のプロトン性溶媒を使用することができるが、メタノールを用いた場合の導入率が高い傾向にある。
【０１１２】
表面にアミノ基を有する基板と、アルデヒド基を有する表面改質剤は、一般的な反応により縮合させることで、イミノ結合を形成する。具体的には、基板及び表面改質剤をメタノール中、室温で６時間放置した後、シアノトリヒドロホウ素酸ナトリウムを０℃で添加して、一晩加熱攪拌する。なお、反応溶媒としては、メタノール以外にも、水、エタノール、２−プロパノール等のプロトン性溶媒を使用することができるが、メタノールを用いた場合の導入率が高い傾向にある。
【０１１３】
（カルボキシル基を有する表面改質剤）
カルボキシル基を有する表面改質剤としては、特に限定されないが、例えば、特開２００６−１１３８１号公報に開示されている化合物等が挙げられる。
【０１１４】
表面にヒドロキシル基を有する基板と、カルボキシル基を有する表面改質剤は、一般的な反応により縮合させることで、エステル結合を形成する。具体的には、臭化シアンを用いて、表面改質剤のヒドロキシル基を活性化させた後、基板を浸漬する。
【０１１５】
表面にアミノ基を有する基板と、カルボキシル基を有する表面改質剤は、一般的な反応によりアミノ基とカルボキシル基を縮合させることで、アミド結合を形成する。具体的には、表面改質剤をＮ−ヒドロキシスクシンイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドの溶液に浸して、カルボキシル基を活性エステル化させた後、基板を浸漬する。
【０１１６】
（加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基及び／又はシラノール基を有する表面改質剤）
加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基としては、ヒドロシリル基、アルコキシシリル基、ハロシリル基、アシルオキシシリル基、アミノシリル基等が挙げられるが、親水化剤の安定性、反応性等の点から、炭素数が１〜６のアルコキシシリル基又はヒドロシリル基が好ましい。加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基及び／又はシラノール基を有する表面改質剤としては、特に限定されないが、例えば、特開２００６−１１３８０号公報に開示されている化合物が挙げられる。
【０１１７】
表面に加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基及び／又はシラノール基を有する基板に、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基及び／又はシラノール基を有する表面改質剤を含む塗布液を塗布することにより、必要に応じて、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基が加水分解され、シラノール基が生成する。さらに、表面改質剤由来のシラノール基と、基板が表面に有するシラノール基の脱水縮合により、基板の表面が改質される。具体的には、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基を加水分解する際に、基板に塗布液を塗布した後に、水、酸又はアルカリを塗布したり、加熱したりする。また、水、酸又はアルカリを基板に塗布した後に、塗布液を塗布してもよい。さらに、塗布液に、水、酸又はアルカリを混合してもよい。この場合、塗布液中で加水分解が起こるため、塗布時に塗布液を適宜調製することが好ましい。なお、水、酸又はアルカリを用いる場合は、加熱してもよいが、通常、室温で十分反応が進行する。また、水、酸又はアルカリを用いなくても、大気中の水分により緩やかに反応が進行する。
【０１１８】
加水分解に用いられる酸又はアルカリとしては、加水分解させることが可能なものであれば、特に限定されず、二種以上混合して用いることができ、水溶液として用いてもよい。
【０１１９】
塗布液としては、有機溶媒中に、表面改質剤を溶解又は分散させたものを用いることができる。有機溶媒としては、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素、エーテル系溶剤、炭素数１〜４、１〜４価の脂肪族アルコール等のアルコール系溶剤、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系溶剤、ジオキサン、酢酸メチル、ジホルムアミド等が挙げられる。
【０１２０】
塗布液中の表面改質剤の濃度は、０．１〜３０重量％であることが好ましく、１〜１０重量％がさらに好ましい。濃度が０．１重量％未満であると、１回の塗布で表面改質剤を十分に塗布できないことがあり、３０重量％を超えると、塗布性等が劣ることがある。
【０１２１】
塗布液を塗布する方法としては、特に限定されないが、浸漬塗布法、スプレー塗布法、スピンキャスト法等が挙げられる。
【０１２２】
本発明のバイオチップは、本発明の表面改質基板に、基板が表面に有する反応性官能基に対して反応性を有する官能基を有するリガンドを反応させることにより製造されている。これにより、基板の表面にリガンド及びホスホリルコリン類似基を高密度で導入することができる。その結果、目的物質の捕捉効率に優れると共に、目的物質以外の生体物質の吸着を抑制することが可能なバイオチップが得られる。
【０１２３】
本発明において、リガンドが有する反応性官能基に対して反応性を有する官能基としては、特に限定されない。具体的には、アミノ基、ヒドロキシル基に対して反応性を有する官能基としては、カルボキシル基、アルデヒド基等が挙げられるが、反応性が高いことから、カルボキシル基が好ましい。また、アルデヒド基、カルボキシル基に対して反応性を有する官能基としては、アミノ基、ヒドロキシル基等が挙げられるが、反応性が高いことから、アミノ基が好ましい。さらに、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基又はシラノール基に対して反応性を有する官能基としては、加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基又はシラノール基が挙げられる。加水分解によりシラノール基を生成することが可能な官能基としては、ヒドロシリル基、アルコキシシリル基、ハロシリル基、アシルオキシシリル基、アミノシリル基等が挙げられるが、安定性、反応性等の点から、炭素数が１〜６のアルコキシシリル基又はヒドロシリル基が好ましい。
【０１２４】
また、リガンドと反応性官能基は、スペーサーを介して結合されていることが好ましい。スペーサーとしては、特に限定されないが、メチレン基、オキシエチレン基、アミノ基を１個以上有するアルキレン基等が挙げられる。
【０１２５】
リガンドとしては、特に限定されないが、ＩｇＧ、ＩｇＭ、ＩｇＡ、ＩｇＤ、ＩｇＥ、ＩｇＹ等の各種抗体；蛋白質、多糖類等の抗原；グルタチオン−Ｓ−トランスフェラーゼ等の酵素；グルタチオン等の基質；ホルモンレセプター、サイトカインレセプター等のレセプター；ペプチド、ＤＮＡ、ＲＮＡ、アプタマー、プロテインＡ、プロテインＧ、アビジン、ビオチン；ニトリロ三酢酸等のキレート化合物；Ｎｉ２＋、Ｃｏ２＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋、Ｆｅ３＋等の各種金属イオン等が挙げられる。
【０１２６】
リガンドが蛋白質である場合、表面にアルデヒド基を有する基板と、蛋白質のアミノ基は、一般的な反応により縮合させることで、イミノ結合を形成する。具体的には、基板及び蛋白質をメタノール中、室温で６時間放置した後、シアノトリヒドロホウ素酸ナトリウムを０℃で添加して、一晩加熱攪拌する。なお、反応溶媒としては、メタノール以外にも、水、エタノール、２−プロパノール等のプロトン性溶媒を使用することができるが、メタノールを用いた場合の導入率が高い傾向にある。
【０１２７】
また、表面にカルボキシル基を有する基板と、蛋白質のアミノ基は、一般的な反応により縮合させることで、アミド結合を形成する。具体的には、基板をＮ−ヒドロキシスクシンイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドの溶液に浸漬して、基板のカルボキシル基を活性エステル化させた後、蛋白質を加える。
【０１２８】
また、表面にアミノ基を有する基板と、蛋白質のアミノ基は、一般的な反応により、グルタルアルデヒドを介して縮合させることで、イミノ結合を形成する。具体的には、基板（又は蛋白質）にグルタルアルデヒドを反応させた後、蛋白質（又は基板）と反応させる。
【０１２９】
また、表面にヒドロキシル基を有する基板と、蛋白質のカルボキシル基は、一般的な反応により縮合させることで、エステル結合を形成する。具体的には、臭化シアンを用いて、基板のヒドロキシル基を活性化させた後、蛋白質を加える。
【０１３０】
なお、リガンドが有する反応性官能基に対して反応性を有する官能基は、表面改質剤が有する反応性官能基に対して反応性を有する官能基と同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【０１３１】
本発明のバイオチップの製造方法は、表面に反応性官能基を有する基板に、反応性官能基に対して反応性を有する官能基を有するリガンドを反応させる工程と、リガンドを反応させた基板と、反応性官能基に対して反応性を有する官能基及び一般式
【０１３２】
【化２１】
0005391265.tif 000021
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、炭素数が１〜６のアルキル基であり、ｍは、２〜６の整数であり、ｎは、１又は２である。）
で表されるホスホリルコリン類似基を有する表面改質剤を反応させる工程を有する。これにより、基板の表面にリガンド及びホスホリルコリン類似基をさらに高密度で導入することができる。その結果、目的物質の捕捉効率に優れると共に、目的物質以外の生体物質の吸着を抑制することが可能なバイオチップが得られる。
【０１３３】
このようなバイオチップは、リガンドに対して特異的に結合する目的物質を含む液体試料に浸漬させることにより、目的物質を選択的に捕捉することができる。バイオチップとしては、特に限定されないが、蛋白質チップ、ＤＮＡチップ等が挙げられる。
【０１３４】
また、バイオチップは、血糖センサ、ＢＯＤセンサ、ＤＮＡセンサ等のバイオセンサに適用することができる。血糖センサは、グルコースオキシダーゼが表面に固定化されたセンサチップを有し、ブドウ糖が酸化されて生成した過酸化水素を電気化学分析又は比色分析を用いて定量することにより、血中のブドウ糖の濃度を測定することができる。
【実施例】
【０１３５】
［実施例１］
ポリスチレン製の９６ウェルプレートのウェルを２−プロパノールで洗浄した後、２−プロパノール０．２１ｍｌ及びフレッセラＲ（パナソニック電工社製）０．０９ｍｌからなる混合液に浸漬させ、室温で１時間乾燥させ、ウェルの表面にシラノール基を導入した。【０１３６】
次に、ウェルをメタノールで洗浄した後、３−（Ｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙ  ｓｉｌｙｌ）ｐｒｏｐｙｌ  ｓｕｃｃｉｎｉｎｃ  ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）２ｍｇをメタノール０．２ｍｌに溶解させた溶液を塗布し、室温で５時間乾燥させた後、水洗し、乾燥させ、ウェルの表面にカルボキシル基を導入した。【０１３７】
さらに、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド３ｍｇ及び１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド３ｍｇを超純水０．３ｍｌに溶解させた後、塩酸でｐＨを４．５に調整した液をウェルに加え、室温で１時間反応させて、ウェルの表面に導入されたカルボキシル基を活性エステル化させた。次に、抗ヒトアルブミン抗体１ｍｇをリン酸緩衝食塩水（ＰＢＳ）０．２ｍｌに溶解させた溶液をウェルに加え、室温で１時間反応させて、ウェルの表面に抗ヒトアルブミン抗体を導入した。【０１３８】
次に、ウェルをＰＢＳで洗浄した後、６ｍｇの表面改質剤Ｂを超純水０．２ｍｌに溶解させた後、塩酸でｐＨを７．５に調整した液をウェルに加え、室温で１時間反応させて、ウェルの表面にホスホリルコリン基を導入し、バイオチップを得た。【０１３９】
［比較例１］
表面改質剤Ｂの代わりに、エタノールアミン用いて、ウェルの表面にヒドロキシル基を導入した以外は、実施例１と同様にして、バイオチップを得た。【０１４０】
［シグナルの評価］
実施例１及び比較例１のバイオチップのウェルに、ヒトアルブミンの１ｍｇ／ｍｌＰＢＳ溶液０．１ｍｌを加え、室温で１時間反応させた。次に、ウェルをＰＢＳで洗浄した後、ＨＲＰ標識抗ヒトアルブミン抗体の１μｇ／ｍｌＰＢＳ溶液０．１ｍｌを加え、室温で１時間反応させた。さらに、ウェルをＰＢＳで洗浄した後、基質ＴＭＢＺを用いて発色試験を行い、波長が４５０ｎｍの吸光度を測定した。その結果、実施例１及び比較例１のバイオチップは、波長が４５０ｎｍの吸光度（シグナル）が同程度であることがわかる（図１参照）。このことから、ウェルの表面に導入された抗ヒトアルブミン抗体に、ヒトアルブミンを介して、固定化されたＨＲＰ標識抗ヒトアルブミン抗体の量が同程度であることが推測される。【０１４１】
［ノイズの評価］
実施例１及び比較例１のバイオチップのウェルに、ＰＢＳ１ｍｌを加え、室温で１時間保管した。次に、ウェルをＰＢＳで洗浄した後、ＨＲＰ標識抗ヒトアルブミン抗体の１μｇ／ｍｌＰＢＳ溶液０．１ｍｌを加え、室温で１時間反応させた。さらに、ウェルをＰＢＳで洗浄した後、基質ＴＭＢＺを用いて発色試験を行い、波長が４５０ｎｍの吸光度を測定した。その結果、実施例１のバイオチップは、波長が４５０ｎｍの吸光度（ノイズ）が、比較例１のバイオチップの１／２程度であることがわかる（図１参照）。このことから、実施例１のバイオチップは、ウェルの表面に固定化されたＨＲＰ標識抗ヒトアルブミン抗体の量が、比較例１のバイオチップの１／２程度であることが推測される。このため、実施例１のバイオチップは、ウェルの表面にホスホリルコリン基が高密度で導入されているため、タンパク質の吸着を抑制する効果が高いと考えられる。【０１４２】
以上の結果から、実施例１のバイオチップは、比較例１のバイオチップよりもＳ／Ｎ比が大きいことがわかった。【０１４３】
本国際出願は、２００９年３月２日に出願された日本国特許出願２００９−４７５１８に基づく優先権を主張するものであり、日本国特許出願２００９−４７５１８の全内容を本国際出願に援用する。
【図１】
0005391265.tif 000023