(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷機であって、凸版が設置された回転式の版胴と、前記被印刷基板を載置する定盤と、前記凸版の表面にインキを供給するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのクローズドチャンバーを備えた印刷機において、
前記凸版の表面にインキを供給するインキ供給手段は、前記凸版と前記被印刷基板との接触点から前記版胴の回転方向と反対の方向へ９０°の角度範囲内に位置して前記版胴の周面と対向するように配設されており、
前記アニロックスロールの全周面のうちの下方に位置する周面部分を浸漬状態に維持する前記クローズドチャンバーを有するとともに、前記アニロックスロールの表面に付着した余分なインキを掻き落とすドクターを備えており、
前記アニロックスロールにインキを供給するインキ供給手段は、インキを供給するインキ供給口と接続される供給側インキ溜が、前記アニロックスロールの円筒方向と平行に前記クローズドチャンバーの幅方向全体に土手形状部を介して設置され、前記供給側インキ溜から前記土手形状部を均一に乗り越えて前記クローズドチャンバーに流れ入る構造を有し、
前記供給側インキ溜は、インキ補充ポンプ及びインキ補充用チューブを介してインキタンクに接続されており、前記インキ補充ポンプを印刷回数に応じて定期的に駆動することにより前記供給側インキ溜に前記インキタンクからインキを供給するように構成されており、
前記アニロックスロールは、前記版胴の周速と同一の周速で回転されることを特徴とする印刷機。
【請求項２】
被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷機であって、凸版が設置された回転式の版胴と、前記被印刷基板を載置する定盤と、前記凸版の表面にインキを供給するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのクローズドチャンバーを備えた印刷機において、
前記凸版の表面にインキを供給するインキ供給手段は、前記凸版と前記被印刷基板との接触点から前記版胴の回転方向と反対の方向へ９０°の角度範囲内に位置して前記版胴の周面と対向するように配設されており、
前記アニロックスロールの全周面のうちの下方に位置する周面部分を浸漬状態に維持する前記クローズドチャンバーを有するとともに、前記アニロックスロールの表面に付着した余分なインキを掻き落とすドクターを備えており、
前記アニロックスロールにインキを供給するインキ供給手段は、インキを供給するインキ供給口と接続される供給側インキ溜が、前記アニロックスロールの円筒方向と平行に前記クローズドチャンバーの幅方向全体に土手形状部を介して設置され、前記供給側インキ溜から前記土手形状部を均一に乗り越えて前記クローズドチャンバーに流れ入る構造を有し、
前記供給側インキ溜は、インキ補充ポンプ及びインキ補充用チューブを介してインキタンクに接続されており、前記インキ補充ポンプを印刷回数に応じて定期的に駆動することにより前記供給側インキ溜に前記インキタンクからインキを供給するように構成されており、
前記アニロックスロールからインキを回収するインキ回収手段は、インキを回収する回収口と接続される回収側インキ溜が、前記アニロックスロールの円筒方向と平行に前記クローズドチャンバーの幅方向全体に土手形状部を介して設置され、前記アニロックスロールから回収されるインキは、前記土手形状部を均一に乗り越えて前記回収側インキ溜に流れ入り、回収される構造となっており、
前記アニロックスロールは、前記版胴の周速と同一の周速で回転されることを特徴とする印刷機。
【請求項３】
請求項１または２のいずれか１項に記載の印刷機を用いる、少なくとも以下の工程を有することを特徴とする印刷物の製造方法。
（１）アニロックスロールの円筒方向と平行に幅方向全体に設置された供給側インキ溜を介してクローズドチャンバーにインキを供給する工程。
（２）前記クローズドチャンバーからアニロックスロールにインキを供給する工程。
（３）前記アニロックスロールにより凸版上にインクを塗布する工程。
（４）被印刷基板上にインキを転写する工程。
【請求項４】
請求項３に記載の印刷物の製造方法により、発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機機能性材料を溶剤に溶解してなるインキを被印刷基板上に印刷することにより高精細なパターンを形成するための印刷機、およびそれを用いた印刷物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機、ＰＤＡ（携帯情報端末）、モバイルパソコン、車載用ナビゲーションシステム等における表示素子として、薄型、低電力、高輝度表示等の特徴を備える有機ＥＬ素子が注目されている。この有機ＥＬ素子は、例えば陽極（透明導電膜、ＩＴＯ膜）と、有機発光体を含有する発光層と、陰極（金属電極）とを透明基板上に積層したものである。
【０００３】
有機ＥＬ素子の発光層は、通常、低分子有機発光体を真空蒸着させることによって形成される。この場合、蒸着装置の観点から素子の大型化に限界がある。そこで、高分子有機発光体を溶剤に溶解し分散させてインキ化し、公知の印刷方式にて発光層を形成する試みが提案されている。この印刷法は、量産性に優れ、製造コストを低く抑えることが可能であるものの、例えば有機ＥＬ素子の発光層等、基板としてガラス基板を用いて高精細なパターンを形成するためには工夫を要する。
【０００４】
例えば特許文献１には、基板の上方に所定距離を隔てて保持した複数の貫通孔を有する平板状のマスク基板に有機発光材料を塗布し、その有機発光材料を貫通孔を介してさらに滴下させて各画素領域に塗布し、固体化処理して発光層を形成する有機ＥＬ表示装置の発光層形成方法が開示されている。しかしながら、この方法ではマスク基板の作成が難しい、また、滴下させるためのインキの表面張力等の調整が難しい等の問題がある。また、特許文献２には、有機ＥＬフルカラー表示体の有機発光層を、粘度等の物性を調整した有機発光材料を用いて、オフセット印刷方法によって形成する技術が開示されている。この方法でも、高粘度でオフセット印刷に適したレオロジー特性を有するインキの調整が難しい問題がある。さらにまた、特許文献３には、有機ＥＬ層のうち少なくとも１層が、凸版印刷法（フレキソ印刷法）により形成された有機ＥＬ素子の製造方法が開示されている。
【０００５】
フレキソ印刷法は、ゴム又は樹脂からなるフレキシブルな凸版と、アニロックスロールと呼ばれる表面に細かい凹部が彫刻されたインキ付けロールと、溶剤乾燥型のインキとを用いた印刷方式であり、従来から包装紙等の簡単な印刷物の印刷に広く使用されている。このフレキソ印刷は、特に膜厚が０．０１〜０．２μｍ程度の薄くて安定した印刷層を形成するのに適している。また、フレキソ印刷は印圧がかかる凸版部に柔軟性があり、更に、キスタッチと呼ばれるごく低印圧での印刷が可能であることから、ガラス基板や、高圧をかけることによって特性が破壊される透明電極等が成膜された基板に対する印刷にも適している。このため、有機ＥＬ素子の発光層の形成に特に適した印刷方法である。
【０００６】
しかしながら、特許文献３にも開示されているように、従来のインキの供給が開放系で行われる印刷機で有機ＥＬ用塗液を成膜するには、溶媒の蒸気圧を抑えるために有機ＥＬ用塗液が触れる印刷機の各部位や基板を低温に保つ、あるいは、装置全体を不活性ガス中で行う必要があった。このため、有機ＥＬ素子の発光層を印刷する印刷機のインキ供給装置では、インキ溶剤の揮発を抑えるためにインキの供給を密閉系で行い、かつアニロックスロール表面でのインキの乾燥を防ぐためにアニロックスロールの下部周面をインキ壷のインキ溜りに浸漬しつつ回転させ、常にアニロックスロール表面を濡らしておく必要がある。このために、クローズドチャンバーと呼ばれる密閉構造のインキ壷にインキを供給して、その中にアニロックスロールの下部周面を浸漬しつつ回転させ、かつクローズドチャ
ンバーから露出したアニロックスロールの上部周面において、余分なインキをドクターにて掻き取ってフレキソ版上にインキを塗布する方式が用いられている。また、クローズドチャンバー内のインキ濃度を一定に保つために、定期的に新インキを供給して古いインキを回収する循環機構を設ける方式が用いられている。
【特許文献１】特開２００１−１８５３５２号公報
【特許文献２】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献３】特開２００１−１５５８５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
これまでのインキの循環機構では、新インキ供給口とインキ回収口が直接クローズドチャンバーに接続されていたため、供給口と回収口付近ではインキの循環が大きいが、それ以外の場所では逆に、インキの循環が小さく、クローズドチャンバー内のインキに濃度分布が生じていた。このような濃度分布は、アニロックスロール上においても反映されることから、印刷物に膜厚ムラを起こし、印刷品位が低下していた。
【０００８】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたもので、その目的は、有機機能性材料を溶剤に溶解してなるインキを被印刷基板上に印刷することにより有機ＥＬ素子等の高精細なパターンを形成するための、膜厚ムラのない、高精細な印刷パターンを形成することが可能な印刷機及びにそれを用いた印刷物の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１に係る発明は、被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷機であって、凸版が設置された回転式の版胴と、前記被印刷基板を載置する定盤と、前記凸版の表面にインキを供給するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのクローズドチャンバーを備えた印刷機において、
前記凸版の表面にインキを供給するインキ供給手段は、前記凸版と前記被印刷基板との接触点から前記版胴の回転方向と反対の方向へ９０°の角度範囲内に位置して前記版胴の周面と対向するように配設されており、
前記アニロックスロールの全周面のうちの下方に位置する周面部分を浸漬状態に維持する前記クローズドチャンバーを有するとともに、前記アニロックスロールの表面に付着した余分なインキを掻き落とすドクターを備えており、
前記アニロックスロールにインキを供給するインキ供給手段は、インキを供給するインキ供給口と接続される供給側インキ溜が、前記アニロックスロールの円筒方向と平行に前記クローズドチャンバーの幅方向全体に土手形状部を介して設置され、前記供給側インキ溜から前記土手形状部を均一に乗り越えて前記クローズドチャンバーに流れ入る構造を有し、
前記供給側インキ溜は、インキ補充ポンプ及びインキ補充用チューブを介してインキタンクに接続されており、前記インキ補充ポンプを印刷回数に応じて定期的に駆動することにより前記供給側インキ溜に前記インキタンクからインキを供給するように構成されており、
前記アニロックスロールは、前記版胴の周速と同一の周速で回転されることを特徴とする印刷機である。
【００１１】
次に本発明の請求項２に係る発明は、被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷機であって、凸版が設置された回転式の版胴と、前記被印刷基板を載置する定盤と、前記凸版の表面にインキを供給するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのクローズドチャンバーを備えた印刷機において、
前記凸版の表面にインキを供給するインキ供給手段は、前記凸版と前記被印刷基板との接触点から前記版胴の回転方向と反対の方向へ９０°の角度範囲内に位置して前記版胴の周面と対向するように配設されており、
前記アニロックスロールの全周面のうちの下方に位置する周面部分を浸漬状態に維持する前記クローズドチャンバーを有するとともに、前記アニロックスロールの表面に付着した余分なインキを掻き落とすドクターを備えており、
前記アニロックスロールにインキを供給するインキ供給手段は、インキを供給するインキ供給口と接続される供給側インキ溜が、前記アニロックスロールの円筒方向と平行に前記クローズドチャンバーの幅方向全体に土手形状部を介して設置され、前記供給側インキ溜から前記土手形状部を均一に乗り越えて前記クローズドチャンバーに流れ入る構造を有し、
前記供給側インキ溜は、インキ補充ポンプ及びインキ補充用チューブを介してインキタンクに接続されており、前記インキ補充ポンプを印刷回数に応じて定期的に駆動することにより前記供給側インキ溜に前記インキタンクからインキを供給するように構成されており、
前記アニロックスロールからインキを回収するインキ回収手段は、インキを回収する回収口と接続される回収側インキ溜が、前記アニロックスロールの円筒方向と平行に前記クローズドチャンバーの幅方向全体に土手形状部を介して設置され、前記アニロックスロールから回収されるインキは、前記土手形状部を均一に乗り越えて前記回収側インキ溜に流れ入り、回収される構造となっており、
前記アニロックスロールは、前記版胴の周速と同一の周速で回転されることを特徴とする印刷機である。
【００１２】
次に本発明の請求項３に係る発明は、請求項１または２のいずれか１項に記載の印刷機を用いる、少なくとも以下の工程を有することを特徴とする印刷物の製造方法である。  （１）アニロックスロールの円筒方向と平行に幅方向全体に設置された供給側インキ溜を介してクローズドチャンバーにインキを供給する工程。（２）前記クローズドチャンバーからアニロックスロールにインキを供給する工程。（３）前記アニロックスロールにより凸版上にインクを塗布する工程。（４）被印刷基板上にインキを転写する工程。
【００１３】
次に本発明の請求項４に係る発明は、請求項３に記載の印刷物の製造方法により、発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の印刷機においては、クローズドチャンバーにアニロックスロールの円筒方向と平行に幅方向全体に設置されるインキ溜を有する。インキを供給する場合は、前記インキ溜に一度インキを溜め、インキが幅方向にわたって均一に前記インキ溜からクローズドチャンバーへ溢れ出ることでクローズドチャンバー内にインキの濃度分布は発生しない。また、インキを回収する場合は、回収されるインキがクローズドチャンバーから幅方向にわたって均一に前記インキ溜へ溢れ出ることからクローズドチャンバー内にインキの濃度分布は発生しない。これにより、この方式の印刷機により高精細な印刷を膜厚ムラのない高品位に製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の印刷機の一実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１６】
図１は、本発明の印刷機を有機ＥＬ素子の発光層印刷に好適なフレキソ印刷機に適用した場合の、フレキソ印刷機の一実施形態での全体構成を断面で示す概略図である。図２は、本実施形態における印刷機のインキ転写時の動作を断面で説明する概略図である。
【００１７】
この本発明を適用したフレキソ印刷機は、図１及び図２に示すように、定位置に回転可能に支持された回転式の版胴１１及びこの版胴１１の周面に装着された発光パターン形成用の凸版（フレキソ版）１２と、版胴１１の下方に位置して水平に設置された支持基台１３と、この支持基台１３上に案内１３ａを介して版胴１１の回転軸線１１ａと直角な水平方向に移動可能に設置された定盤１４と、この定盤１４上に載置された被印刷基板１５と、凸版１２の表面に発光層用のインキを供給するインキ供給手段１６と、このインキ供給手段１６にインキを定期的に供給するインキ補充手段１７と、を備える。
【００１８】
また、前記インキ供給手段１６は、凸版１２と被印刷基板１５との接触点１２ａ（版胴１１の直下）から版胴１１の回転方向（矢印の方向）と反対の方向へ９０°の角度範囲内に位置して版胴１１の周面と対向するように配設されている。
【００１９】
インキ供給手段１６は、凸版１２の印刷開始端１２ａから版胴１１の回転方向と反対の方向に９０°の角度範囲内に位置して、版胴１１の回転軸線と平行にかつ凸版１２の版面１２ｂと接触するように配置され発光層用のインキ１０を凸版１２の版面１２ｂに供給するアニロックスロール１６１と、このアニロックスロール１６１の全周面のうちの下方に位置する周面部分を浸漬状態に維持するクローズドチャンバー１６２を有するとともに、アニロックスロール１６１の表面に付着した余分なインキを掻き落とすドクター１６３とを備える構成になっている。
【００２０】
前記アニロックスロール１６１と凸版１２とが当接する位置は、インキ供給手段１６が定盤１４及び基板１５と干渉しない限り、出来るだけ版胴１１の直下、すなわち版胴１１の回転に伴い凸版１２と被印刷基板１５との接触点１２ａに近い方が、凸版１５へのインキ供給位置から接触点１２ａまでの間の距離を短くできると同時に凸版１２の版面１２ｂにインキが塗布されている時間が短くなるため有利である。
【００２１】
前記アニロックスロール１６１は版胴１１の周速と同一の周速で回転されるものであり、このアニロックスロール１６１の外周面には、図２に示すように、インキを保持するための細かいレリーフ（凹部）１６１ａが彫刻されている。アニロックスロール１６１と版胴１１との周速を同一にする理由は、アニロックスロール１６１の外周面にレリーフ１６１ａが彫刻されているため、版胴１２との周速が異なると凸版１２の版面１２ｂにダメージを与えるのを防止するためである。
【００２２】
前記ドクター１６３は、回転によりクローズドチャンバー１６２から出てきたアニロックスロール１６１の表面に余分に付着したインキ１０を掻き落とし、アニロックスロール１６１のレリーフ１６１ａ内にのみインキを残すためのものである。このドクター１６３の形状は刃状のものやロール状のものなどがあり、そのいずれでもかまわない。また、ドクター１６３は、アニロックスロール１６１の回転方向で、クローズドチャンバー１６２から凸版１２との当接点までの間に位置し、特にアニロックスロール１６１の上方頂部よりもクローズドチャンバー１６２寄りに配置し、掻き取ったインキがクローズドチャンバー１６２に落ちるようにする方式が最も好ましい。
【００２３】
前記インキ補充手段１７は、インキタンク１７１及びインキ補充ポンプ１７２を備え、このインキタンク１７１とインキ溜１６４との間はインキ補充ポンプ１７２を介してインキ補充用チューブ１７３により接続されている。そして、インキ補充ポンプ１７２を印刷回数に応じて定期的に駆動することによりインキ溜１６４にインキタンク１７１からインキを供給し、インキ溜１６４から均一にクローズドチャンバー１６２にインキが供給されることから、クローズドチャンバー１６２のインキ量や粘度を一定に維持できるようになっている。また、逆にクローズドチャンバー１６２のインキをインキ溜から吸い出す機構も設けて、クローズドチャンバー１６２のインキを交換できるようになっている。
【００２４】
インキ溜１６4、１６５は、クローズドチャンバー１６２と同程度の幅かつ平行に、土手形状を介して設置されている。つまり、アニロックスロールの円筒方向に対しても平行に配置されており、同じ幅かそれ以上の幅を有している。供給側インキ溜１６４では供給されるインキはインキ溜から土手形状を均一に乗り越えてクローズドチャンバーに流れ入る構造になっている。このような構造とすることにより、インキチャンバー内のインキの分布を均一化し、濃度、粘度を一定に維持することができる。回収側インキ溜１６５では、アニロックスロールから回収されるインキは、クローズドチャンバーから土手形状を均一に乗り越えてインキ溜に流れ入り、回収される。ここでもインキ溜を設置することで、インキチャンバー内のインキの分布を均一化させることができる。
【００２５】
上記のようにインキチャンバー内のインキの分布を均一化することにより、被印刷体に転写されるインキのムラを低減することが可能となる。
【００２６】
次に、本発明を適用したフレキソ印刷機のインキ転写の動作について図１及び図２を用いて説明する。
【００２７】
被印刷基板１５へのインキ転写に際しては、図１に示すように、インキを転写される被印刷基板１５は定盤１４上に固定され、この定盤１４を版胴１１の直下に移動する。これと同時に版胴１１を定盤１４の移動速度と同じ周速で回転する。この時、版胴１１に設置された凸版１２は、版胴１１の回転に伴ってアニロックスロール１６１と当接し、アニロックスロール１６１表面のレリーフ１６１ａ内のインキが凸版１２の版面１２ｂに塗布される。その後、凸版１２の版面１２ｂに塗布されたインキは、版胴１１の直下まで回転した時点で被印刷基板１５上に転写される。これにより、インキ供給手段１６から凸版１２へのインキ１０の転移と凸版１２から被印刷基板１５へのインキ１０の転写を同時に行うことができる。
【００２８】
上記フレキソ印刷機の印刷において、クローズドチャンバー１６２から露出したアニロックスロール１６１の表面は乾燥し易く、レリーフ１６１ａ内のインキが固まると、インキ供給量にムラが生じる。このため、アニロックスロール１６１の表面を周期的にインキ溜り１６２ａに浸漬して濡らしておくように、インキ転写時以外の待機時間もアニロックスロール１６１の回転を続けるのが望ましい。
【００２９】
そこで、インキ転写時以外で凸版１２の版面１２ｂにインキを塗布しないように、アニロックスロール１６１もしくはインキ供給手段１６全体が、版胴１１から退避する機構を設けると良い。または、凸版１２が設置されていない版胴１１の面をアニロックスロール１６１に当接されない形状に構成し、待機時間中は、この当接されない形状部分をアニロックスロール１６１に対面させる方式にするか、あるいは版胴１１を昇降できる構成にし、インキ転写時以外の待機時間中は版胴１１を上昇させて凸版１２をアニロックスロール１６１から離間し、インキ転写時は版胴１１を下降して凸版１２をアニロックスロール１６１と当接する方式などであってもよい。
【００３０】
また、上述した本発明の一実施形態では、定盤１４が版胴１１の下を水平方向に移動する方式について説明したが、本発明はこれに限らず、定盤１４が固定され、版胴１１とインキ供給手段１６が水平方向に移動する方式でも同様にインキの転写ができる。
【実施例】
【００３１】
以下に、本発明の具体的実施例について説明する。
【００３２】
まず、３００ｍｍ角のガラス基板の上に、スパッタ法を用いてＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）薄膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでＩＴＯ膜をパターニングして、対角５型サイズのディスプレイが２面取れるように画素電極を形成した。ディスプレイ１面当たりの画素電極のラインパターンは、線幅４０μｍ、スペース２０μｍでラインが１９５０ライン形成されるパターンとした。
【００３３】
次に絶縁層を以下のように形成した。まず、画素電極を形成したガラス基板上にポリイミド系のレジスト材料を全面スピンコートした。スピンコートの条件を１５０ｒｐｍで５秒間回転させた後、５００ｒｐｍで２０秒間回転させ１回コーティングとし、絶縁層の高さを１．５μｍとした。全面に塗布したフォトレジスト材料に対し、フォトリソ法により画素電極の間にラインパターンを有する絶縁層を形成した。
【００３４】
次に、正孔輸送インキとしてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン）／（ポリスチレンスルフォネート）溶液であるバイトロンＰ  ＣＨ−８０００（エイチ・シー・スタルク社製）を用いて調液しインキの固形分濃度１．５％、粘度１５ｍＰａ・ｓ、蒸気圧１．１ｋＰａのインキを用意した。インキ及び版を用いて湿度４５％、温度２５℃の条件下において、スリット法にて基板全面に正孔輸送層を形成した。その後、画素領域外の不要部をウエスで拭き取り、２００°Ｃ、３０分大気中で乾燥を行い正孔輸送層を形成した。このときの膜厚は５０ｎｍとなった。
【００３５】
次に、有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体を濃度２％になるようにトルエンに溶解させた有機発光インキを用い、絶縁層に挟まれた画素電極の真上にそのラインパターンにあわせて有機発光層を凸版印刷法で印刷を行った。このとき７５０線／インチ（２．５４ｃｍ）のアニロックスロール及び水現像タイプの感光性樹脂版を使用し、循環機構のインキ供給口とインキ回収口をそれぞれ前記クローズドチャンバーに平行に設置されたインキ溜に接続した。この結果、印刷、乾燥後の有機発光層の膜厚は８０ｎｍとなった。印刷後、図示されていない洗浄装置を用いて印刷版の洗浄を行った。
【００３６】
同様にして、連続的に有機発光層の印刷を５００回繰り返し，有機発光層を形成した。そして、５００回目に形成された有機発光層に対し、パターニング状態の確認を行った。
【００３７】
その上にＣａ、Ａｌからなる陰極層を画素電極のラインパターンと直交するようなラインパターンで抵抗加熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。これにより得られた有機ＥＬディスプレイパネルの表示部の周辺部には各画素電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ＥＬディスプレイパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
【００３８】
＜比較例＞
有機発光層を凸版印刷法で印刷を行うにあたって、循環機構のインキ供給口とインキ回収口が直接クローズドチャンバーに接続された状態で、他は上記した実施例と同様の材料、条件で連続印刷を行った。実施例と同様に、５００回目に形成された有機発光層に対し、パターニング状態の確認を行った
以上のような実施例及び比較例での有機発光層のラインパターン形状の評価結果と、作製した有機ＥＬディスプレイの表示状態の評価結果を表１に示す。表1に示すように、比較例に比べて本発明の実施例で良好な結果が得られることが分かる。
【００３９】
【表１】
0005391559.tif 000002
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の印刷機をフレキソ印刷機に適用した場合の、一実施形態での全体構成を断面で示す概略図。
【図２】本発明の印刷機のインキ転写時の動作を断面で説明する概略図。
【符号の説明】
【００４１】
１０・・・インキ      １１・・・版胴      １１ａ・・・版胴の回転軸線
１２・・・凸版      １２ａ・・・凸版と被印刷基板との接触点      １２ｂ・・・版面１３・・・支持基台      １３ａ・・・支持基台上の案内      １４・・・定盤
１５・・・被印刷基板      １６・・・インキ供給手段
１６１・・・アニロックスロール      １６１ａ・・・レリーフ（凹部）
１６２・・・クローズドチャンバー      １６３・・・ドクター
１６４・・・供給側インキ溜      １６5・・・回収側インキ溜
１７・・・インキ補充手段      １７１・・・インキタンク
１７２・・・インキ補充ポンプ  １７３・・・インキ供給用チューブ
１７４・・・インキ回収用チューブ
【図１】
0005391559.tif 000003
【図２】
0005391559.tif 000004