(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平らな上面を有するベースプレートと、
ベースプレートとの間に斥力を発生する斥力部と、ベースプレートとの間に吸引力を発生する吸引部とが隣接して下面に設けられており、斥力によってベースプレートの上で浮上する可動フレームと、を備えており、
吸引部が発生する吸引力が、斥力部から離れるにつれて小さくなっていることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
吸引部は、可動フレーム下面の平面視において、斥力部の中心と吸引部の中心を結ぶ直線に交差する方向の幅が、斥力部から離れるについて小さくなっていることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
雰囲気圧よりも圧力が高い高圧ガスが供給される噴出孔を有する正圧溝が斥力部に形成されており、周囲のガスが吸い込まれる吸気孔を有する負圧溝が吸引部に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のステージ装置。
【請求項４】
斥力部は、吸引部によって囲まれておらず斥力部が噴出するガスが周囲に排出されるように構成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
枠形状の可動フレームの下面の四隅の夫々に、斥力部と吸引部の組が配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ベースプレート上の可動フレームを水平面内で位置決めするステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ステージ装置は、ベースプレート上の可動フレームを水平面内で移動／回転させるアクチュエータを備える。「ベースプレート」は、可動フレームを載置する平坦精度の高い上面を有しており、「定盤」と呼ばれることもある。可動フレームの水平面内位置と鉛直軸回り角度の３自由度を制御するために、ステージ装置は少なくとも３個のアクチュエータを備えている。
【０００３】
高い位置決め精度が要求されるステージ装置の応用として半導体露光装置がある（例えば特許文献１）。以下では、「半導体露光装置」を単に「露光装置」と称する。露光装置は、半導体ウエハを位置決めするウエハ用ステージユニット、ウエハに照射する照射光のパターンを規定するレクチルを位置決めするレクチル用ステージユニットを備える。レクチル用ステージユニットのベースプレートと可動フレームは、枠形状を有しており、可動フレームに固定されたレクチルを照射光が通過できるようになっている。レクチル用ステージユニットとウエハ用ステージユニットの間には、レクチルを通過した照射光を集光するためのレンズなどを含む光学ユニットが配置されている。レクチル用ステージユニット、光学ユニット、ウエハ用ステージユニットがこの順で配置されている。レクチルを通過した照射光は、光学ユニットを通して調整され、半導体ウエハ上の所定の位置に正確に照射される。半導体装置の微細化に伴い、露光装置等に適用されるステージ装置の位置決め精度の向上が求められている。
【０００４】
ベースプレート上で可動フレームを移動可能に支持するために軸受が用いられる。可動フレームを円滑に動かすために非接触型の軸受が採用されることがある。非接触型軸受には、気体軸受と磁気軸受がある。気体軸受は、雰囲気圧よりも圧力が高い高圧ガスをベースプレートと可動フレームの間に噴出して可動フレームを浮上させる。ガスは空気でよい。磁気軸受は、ベースプレートと可動フレームのそれぞれに磁石を配置し、磁石同士の斥力を利用して可動フレームを浮上させる。本明細書では、気体軸受と磁気軸受を包括的に説明するため、高圧ガスが可動フレームを浮上させる力も「斥力」の一種として扱う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３１８０３０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
可動フレームを浮上させる非接触軸受を採用する場合、斥力だけでは可動フレームの位置が上下方向に変動し易い。そこで、ベースプレートと可動フレームの間に、斥力とともに吸引力を発生する軸受構造が採用されることがある。吸引力は、磁石を用いて発生させるものであってよい。或いは、吸引力は、ベースプレートと可動フレームの間のいずれかに溝を設けその溝内の圧力を雰囲気圧よりも低くする負圧溝を用いて発生させるものであってもよい。斥力と吸引力を併用することで、可動フレームが上下方向に変動し難くすることができる。
【０００７】
しかしながら、斥力と吸引力を併用すると、それらの力が互いに逆向きに可動フレームに作用するため、可動フレームが面外方向に変形する虞がある。特に、ステージ装置では可動フレームが枠状であるため、可動フレームの面外変形が生じ易い。可動フレームの面外方向の変形はステージ装置の位置決め精度を低下させてしまう。本発明は、可動フレームの位置が上下方向に変動し難いとともに、可動フレームが変形し難い非接触軸受構造を有するステージ装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本明細書が開示する新規なステージ装置は、平らな上面を有するベースプレートと、ベースプレートの上で浮上する可動フレームを備えている。可動フレームの下面には、ベースプレートとの間に斥力を発生する斥力部と、ベースプレートとの間に吸引力を発生する吸引部とが隣接して設けられている。このステージ装置は、吸引部の吸引力が、斥力部から離れるにつれて小さくなっていることを特徴とする。即ち、このステージ装置は、斥力発生部の近傍で高い吸引力を発生することによって、吸引力の等価作用点を斥力の等価作用点に近づけ、可動フレームの変形を抑制する。ここで、「等価作用点」とは、分布している吸引力（或いは斥力）に等価な一点集中の力が作用する点を意味する。気体軸受の場合、等価作用点は、圧力中心に等しい。
【０００９】
吸引部の好適な形状は次の通りである。吸引部は、可動フレーム下面の平面視において、斥力部の中心と吸引部の中心を結ぶ直線に交差する方向の幅が、斥力部から離れるにつれて小さくなっていることが好ましい。簡単な形状によって、斥力部から離れるにつれて吸引力を小さくすることができる。
【００１０】
ガスを利用する場合、典型的には、雰囲気圧よりも圧力が高い高圧ガスが供給される噴出孔を有する正圧溝が斥力部に形成されているとよい。また吸引部は、典型的には、周囲のガスが吸い込まれる吸気孔を有する負圧溝が吸引部に形成されているとよい。
【００１２】
上記したレクチルを固定するステージ装置の場合、照射光を通過させるために可動フレームは枠形状を有する。枠形状のフレームはねじれ易い。即ち、枠形状のフレームは面外変形し易い。そこで、枠形状の可動フレームの場合、その下面の四隅の夫々に、斥力部と吸引部の組が配置されていることが好ましい。四隅に配置された斥力部と吸引部の組が、可動フレームを均一に浮上させるので面外変形が抑制される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、可動フレームが上下方向に変動し難いとともに可動フレームが面外変形し難い非接触軸受構造を有するステージ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】露光装置の模式的側面図を示す。
【図２】ステージユニットの模式的平面図示す。
【図３】図２の破線で囲んだ部分の拡大断面図を示す。
【図４】可動フレームの底面図を示す。
【図５】可動フレームの軸受部の拡大図を示す。
【図６】他の形態の気体軸受の模式的平面図を示す。
【図７】ステージユニットの鉛直方向の支持構造を説明する図である。
【図８】ステージユニットの水平方向の支持構造を説明する図である。
【実施例】
【００１５】
実施例では、ステージ装置の一典型例として、半導体ウエハの露光装置１を説明する。図１に露光装置１の模式的側面図を示す。露光装置１は、２個のステージユニット（第１ステージユニット２、第２ステージユニット８）、光源４、及び、光学ユニット６を備える。光源４と光学ユニット６は、露光装置１の筐体１０に固定されている。第１ステージユニット２は、レクチルＭを位置決めするためのユニットであり、第２ステージユニット８は、半導体ウエハＷを位置決めするためのユニットである。
【００１６】
第１ステージユニット２は、ベースプレート５０、可動フレーム４０、アクチュエータ２０を備えており、可動フレーム４０にレクチルMが固定されている。アクチュエータ２０が可動フレーム４０を動かしてレクチルＭの水平位置を調整する。第１ステージユニット２は、筐体１０に設けられた支持部１２と水平位置基準部１５によって支持されている。第２ステージユニット８は、第１ステージユニット２と同じ構造を有しており、その可動フレーム９に半導体ウエハＷが固定されている。なお、アクチュエータ２０、支持部１２、水平位置基準部１５の詳細な構造については後述する。
【００１７】
露光装置１の機能を説明する。光源４から発射された光Ｌは、レクチルＭを通過することによって所望の照射パターンに成形される。レクチルＭ通過後の照射光は、光学ユニット６を通過することによって照射パターンが縮小され、半導体ウエハＷに照射される。半導体ウエハＷの所定の位置に正確に照射パターンを照射するため、第１ステージユニット２がレクチルＭの水平位置を調整し、第２ステージユニット８が半導体ウエハＷの水平位置を調整する。半導体装置の高度化に伴い、露光装置には、照射パターンを高精度に半導体ウエハＷの所定位置へ照射する能力が求められている。
【００１８】
露光装置１の技術的特徴のいくつかは、ステージユニットの構造に備えられている。以下、第１ステージユニット２の構造を説明する。なお、第２ステージユニット８も同じ構造を有しているので、第２ステージユニット８については説明を省略する。
【００１９】
図２に第１ステージユニット２の平面図を示す。なお、図２では、レクチルＭの図示を省略するとともに、第１ステージユニット２のベースプレート５０を支持する筐体１０の支持部１２と水平位置基準部１５の図示を省略している。
【００２０】
可動フレーム４０は、上面が平面のベースプレート５０の上面に気体軸受（エアベアリング）によって浮上する。気体軸受の構造については後述する。レクチルＭを通過した照射光が通過できるように、可動フレーム４０は矩形の枠型である。なお、ベースプレート５０にも矩形の貫通孔が設けられているが、図２ではその図示を省略している。
【００２１】
ベースプレート５０には３個のアクチュエータ２０ａ、２０ｂ、及び２０ｃが配置されており、それらのアクチュエータ群が可動フレーム４０の水平方向位置と鉛直軸回りの角度を調整する。各アクチュエータは、伸縮ロッド２１の先端が可動フレーム４０の側面に当接している。「可動フレーム４０の側面」とは、水平方向を向いている面を意味する。３個のアクチュエータの伸縮ロッドを夫々適宜に伸縮することによって、可動フレーム４０の水平方向位置と鉛直軸回りの角度が調整される。
【００２２】
より具体的には、第１アクチュエータ２０ａの先端と第２アクチュエータ２０ｂの先端が可動フレーム４０の第１側面４０ａに当接し、第３アクチュエータ２０ｃの先端が第２側面４０ｂに当接している。アクチュエータの先端には回転自在な球部材２３が取り付けられており、球部材２３を介してアクチュエータ先端と可動フレーム側面が当接している。３個のアクチュエータは同じ構造を有しているので、以下では第１アクチュエータ２０ａについてその構造を詳細に説明する。
【００２３】
伸縮ロッド２１の両側にばね２２が配置されている。ばね２２は、第１アクチュエータ２０ａと可動フレーム４０を連結しており、可動フレーム４０を第１アクチュエータ２０ａの先端に向けて付勢している。即ち、第１ステージユニット２は、ばね２２の付勢力によってアクチュエータの先端と可動フレーム４０との接触を維持する。ばね２２は、可動フレーム４０をアクチュエータ先端に押し当てる弾性部材の一例に相当する。
【００２４】
図３に、アクチュエータ先端部の拡大断面図を示す。図３は、図２において破線で囲った部分の拡大断面図に相当する。図面を見やすくするため図３では、球部材２３と小球２７には、断面を示すハッチングを省略している。伸縮ロッド２１の先端には、半球状の窪み２４が設けられている。窪み２４に球部材２３が遊嵌している。球部材２３が窪みから飛び出すことを防止するために、リテーナ２５が取り付けられている。球部材２３の一部が、リテーナ２５の孔から外側へ突出している。
【００２５】
窪み２４の表面と球部材２３の間には、半球シェル状のスペーサ２６とともに、３個の小球２７が配置されている。スペーサ２６には３個の孔が等間隔に設けられており、各小球２７が各孔に嵌っている。スペーサ２６は、３個の小球２７の相対位置を維持する。
【００２６】
球部材２３は、リテーナ２５から飛び出している部分で可動フレーム４０の平坦な側面４０ａに点接触している。アクチュエータ２０ａを駆動すると、即ち、ロッド２１を伸縮すると、可動フレーム４０がアクチュエータの先端に対して相対的に動く。側面４０ａの動きに合わせて球部材２３と小球２７が回転するので、可動フレーム４０とアクチュエータ先端の間で摺動が生じない。また、前述したように可動フレーム４０は気体軸受によってベースプレート５０から浮上している。浮上／着地のときにも可動フレーム４０の側面がアクチュエータ先端に対して上下動するが、このときも球部材２３と小球２７の回転によって、可動フレーム４０とアクチュエータ先端の間には摺動が生じない。
【００２７】
上記したように、第１ステージユニット２は、可動フレーム４０が気体軸受によって浮上しているという特徴と、可動フレーム４０の鉛直側面とアクチュエータ先端が回転自在な球部材によって点接触しているという特徴を有している。これらの２つの特徴によって、第１ステージユニット２は、可動フレーム４０に摺動箇所がない。そのため、可動フレーム４０が動くときに生じる発塵を顕著に抑制することができる。可動フレーム４０周辺の発塵は可動フレーム４０の位置決め精度に悪影響を与えるが、実施例のステージユニット（露光装置１）は発塵を抑制することによって高い位置決め精度を維持することができる。
【００２８】
第１ステージユニット２では、小球群２７がベアリングの機能を果し、球部材２３とこれを遊嵌している窪み２４の表面にも摺動部分が存在しない。また、球部材２３と可動フレーム４０の側面が点接触していることも、摺動を抑制する効果に寄与している。第２ステージユニット８も、第１ステージユニット２と同じ構造を有しており、発塵を抑制することができる。発塵を抑制するという効果は、気体軸受に替えて磁気軸受を採用しても得られる。
【００２９】
露光装置１が備える第１ステージユニット２は、斥力と吸引力を発生する非接触型軸受の採用によって可動フレーム４０の位置が上下方向に変動し難く、かつ、斥力と吸引力の併用に起因する可動フレームの面外変形を抑制するという効果も有する。次に、この点について説明する。
【００３０】
図４に、可動フレーム４０の底面図を示す。前述したように、可動フレーム４０は、中央を照射光が通過するために、枠形状をなしている。可動フレーム４０の枠の底面は、ベースプレート５０の上面に面する。可動フレーム４０の底面の四隅に、軸受４１が設けられている。夫々の軸受４１は、一つの正圧部４２と、その両端に隣接する２つの負圧部４６ａ、４６ｂを有している。正圧部４２は、可動フレーム４０をベースプレート５０の上面から浮上させる斥力を発生し、負圧部４６ａ、４６ｂは、可動フレーム４０をベースプレート５０へ引き付ける吸引力を発生する。正圧部４２は斥力部の一例に相当し、負圧部４６ａ、４６ｂは、吸引部の一例に相当する。斥力と吸引力がバランスする位置で可動フレーム４０は保持される。
【００３１】
図５に、軸受４１の拡大図を示す。なお、図５の下方に、軸受４１が作動してベースプレート５０の上に可動フレーム４０が浮上しているときの圧力プロファイルを示す。図５下方のグラフは、図５の左右方向に沿った正圧部４２と負圧部４６ａ、４６ｂの圧力プロファイルを示す。
【００３２】
正圧部４２は、全体が可動フレーム４０の底面よりも僅かに突出している平面段丘であり、その上面に正圧溝４３が形成されている。正圧溝４３は、図５に示すように、中央で十字にクロスしているとともに、十字の各先端が正圧部の側面に沿って延びている。正圧部４２の略中央において、雰囲気圧よりも高い圧力の空気を正圧溝４３へ供給する噴出孔４４が正圧溝４３内に設けられている。噴出孔４４は、高圧の空気を供給するポンプ（不図示）に通じている。可動フレーム４０がベースプレート５０の上に載った状態で噴出孔４４から高圧空気を噴き出すと、高圧の空気は正圧溝４３から正圧部４２の段丘上面へと拡がり、図５下のグラフの範囲Ｐ３が示すように、正圧部４２は雰囲気圧（大気圧）よりも高い圧力を発生する。正圧部４２が発生する圧力によって、可動フレーム４０が浮上する。
【００３３】
負圧部４６ａと４６ｂは同じ構造を有しているので以下では負圧部４６ａについて説明する。負圧部４６ａは、全体が可動フレーム４０の底面よりも僅かに突出している平面段丘であり、その上面に負圧溝４７が形成されている。負圧部４６ａは、全体が野球のホームベースのような五角形をなしている。負圧部４６ａの矩形側の底辺が正圧部４２に隣接しており、鋭角の頂点が正圧部４２から最も遠くに位置している。別言すれば、負圧部４６ａでは、正圧部４２の中心と負圧部４６ａの中心を結ぶ直線に交差する方向における幅が正圧部４２から離れるにつれて小さくなっている。
【００３４】
負圧溝４７は、負圧部４６ａの輪郭に沿って伸びており、閉じたループを形成している。負圧溝４７では、正圧部４２の中心と負圧部４６ａの中心を結ぶ直線に交差する方向における溝間の幅が、正圧部４２から離れるにつれて小さくなっている。
【００３５】
負圧溝４７の正圧部４２に近い場所に、周囲の空気が吸い込まれる吸気孔４８が設けられている。吸気孔４８は、負圧溝４７から空気を吸い出すバキュームポンプ（不図示）に通じている。可動フレーム４０がベースプレート５０上に浮上している状態で吸気孔４８から周囲の空気が吸い込まれると、図５下のグラフの範囲Ｐ１とＰ２（Ｐ４とＰ５）が示すように、負圧部４６ａ（４６ｂ）の段丘上面全体において圧力が大気圧よりも低くなる。負圧部４６ａ（４６ｂ）が発生する負圧は、可動フレーム４０をベースプレート５０に引き付ける吸引力に相当する。この吸引力は、負圧部４６ａ（４６ｂ）の形状と負圧溝４７の形状に起因して、正圧部４２から離れるにつれて小さくなる。
【００３６】
第１ステージユニット２は、正圧部４２が可動フレーム４０を浮上させる斥力を与えるとともに、負圧部４６ａ、４６ｂが可動フレーム４０をベースプレート５０に引き付ける吸引力を与える。可動フレーム４０は、斥力と吸引力がバランスする位置に保持される。第１ステージユニット２は、軸受４１が斥力とともに吸引力を発生するので、可動フレーム４０の位置が上下方向に変動し難い。
【００３７】
吸引力は、負圧部４６ａ（４６ｂ）の全体に分布する。正圧部４２から離れるにつれて吸引力が小さくなるので、吸引力が一点に集中すると仮定したときの吸引力の中心（吸引力の等価作用点）は正圧部４２に近い。正圧部４２に分布している斥力が一点に集中すると仮定したときの斥力の中心を「斥力の等価作用点」と称する。第１ステージユニット２は、可動フレーム４０に作用する斥力の等価作用点と吸引力の等価作用点が近接しているので、互いに反対方向を向く力に起因して生じる可動フレーム４０の面外変形（上下方向の変形）を抑制することができる。露光装置１のステージユニットは、気体軸受によって浮上する可動フレームの位置が上下方向に変動し難いとともに、気体軸受に起因する可動フレームの面外変形を抑制する。
【００３８】
露光装置の可動フレーム４０は、中央に空間を有する枠形状をしているので面外変形し易い。上記の軸受構造は、中央に空間を有する可動フレーム４０に対して効果的である。
【００３９】
実施例の露光装置１では、高圧の空気によって斥力を発生した。空気以外のガスを用いて斥力を発生してもよい。斥力と吸引力のいずれか一方、あるいは両方を、磁力で発生してもよい。
【００４０】
吸引力を磁力で発生させることもできるが、吸引力の等価作用点を斥力の等価作用点に近づける上記の構造は、負圧による吸引力の場合に特に有効である。これは次の理由による。大気圧は約０．１ＭＰａであるから、負圧による吸引力も０．１ＭＰａ以上にはならない。即ち、負圧で大きな吸引力を発生するには負圧部として相応の面積を確保する必要がある。負圧部の面積が広いほど、負圧の等価作用点を正圧部に近づけることの利点が顕著となる。
【００４１】
上記したように負圧溝４７は、可動フレーム４０下面の平面視において閉じたループを形成している。そして、正圧部４２（斥力部）の中心と負圧部４６ａ（吸引部）の中心を結ぶ直線に交差する方向における溝間の距離が、正圧部４２から離れるにつれて小さくなっている。負圧溝４７が閉ループを形成している場合、ループ内の全領域で圧力が雰囲気圧よりも低下するのでループ内の全領域が吸引部を形成する。そのような構造は、正圧部４２に近づくにつれて負圧溝間の距離が大きくなって吸引力が増す。従ってそのような構造は、吸引力の等価作用点（負圧部４６ａの圧力中心）を正圧部４２に効果的に近づけることができる。
【００４２】
なお、図５下方のグラフの範囲Ｐ２（P４）が示すように、正圧部４２に近い部分では、負圧部４６ａは一定の吸引力を発生してもよい。範囲Ｐ１（P５）が示すように、正圧部４２から離れた部分で、正圧部から離れるにつれて吸引力が小さくなっていればよい。
【００４３】
次に、参考として、吸引力の等価作用点を正圧部に近づける他の軸受構造を説明する。図６に、他の構造の軸受１４１の平面図を示す。この例では、円形の正圧部１４２を囲むように負圧部１４６が形成されている。正圧部１４２と負圧部１４６はともに可動フレームの底面よりも突出する平面段丘である。正圧部１４２の上面と負圧部１４６の上面は面一である。正圧部１４２の中心には高圧空気を噴出する噴出孔１４４が設けられている。リング状の負圧部１４６には、負圧部のリング形状に沿って閉じたループ状の負圧溝１４７が形成されている。負圧溝１４７にいくつかの吸気孔１４８が形成されている。この形態では、負圧部１４６が発生する吸引力の等価作用点は、正圧部１４２を囲む円に相当する。従って、この形態も、負圧部が発生する吸引力の等価作用点を正圧部１４２に近づけることができ、斥力と吸引力の併用に起因する可動フレームの面外変形を抑制することができる。
【００４４】
露光装置１はまた、ステージユニット自体の支持構造にも技術的特徴を有している。第１ステージユニット２は、そのベースプレート５０が露光装置１の筐体１０に支持されている。次に、その支持構造について説明する。
【００４５】
図７に、第１ステージユニット２の模式的側面図を示し、図８に第１ステージユニット２の模式的平面図を示す。但し、図８では、第１ステージユニット２はベースプレート５０のみを示し、アクチュエータ２０と可動フレーム４０の図示を省略している。ベースプレート５０の中央には、照射光が通過する孔が設けられている。筐体１０にも、照射光が通過する孔が設けられているが、図ではその孔の図示を省略している。
【００４６】
図７に表されているとおり、露光装置１では、筐体１０にベースプレート５０が支持されており、そのベースプレート５０に対して可動フレーム４０が位置決めされる。
【００４７】
第１ステージユニット２は、筐体１０に設けられた３個の支持部１２ａ、１２ｂ、１２ｃで下方から支持されている。具体的には、第１ステージユニット２のベースプレート５０の下面が、筐体１０から伸びている３個の支持部１２ａ、１２ｂ、及び１２ｃによって支持されている。各支持部の先端には、回転自在な球部材１９が嵌められており、ベースプレート５０の下面は球部材１９と点接触している。球部材１９は、図３に示したアクチュエータ先端の構造と同様の構造によって、支持部１２の先端に回転自在に嵌められている。また、支持部１２は、その下部が筐体１０にねじ込まれている。各支持部１２は、その長手軸回りに回転することによって、先端の高さを調整することができる。
【００４８】
支持部１２の両側には、ばね１３が配置されている。ばね１３は、ベースプレート５０を下方へ引っ張っており、支持部１２の先端へ向けて付勢する。図示を省略しているが、ばね１３は、３個の支持部１２ａ、１２ｂ、及び１２ｃの夫々の近傍に配置されている。支持部１２とばね１３は、ベースプレート５０（即ち第１ステージユニット２）の鉛直方向の位置を規定するが、水平方向の移動を拘束しない。第１ステージユニット２の水平方向位置（鉛直線回りの回転角を含む）は、次に説明するように、３個の水平位置基準部１５ａ、１５ｂ、及び１５ｃによって規定される。
【００４９】
図８に示すように、筐体１０に３箇所の水平位置基準部１５ａ、１５ｂ、及び１５ｃが設けられている。水平位置基準部１５は、筐体１０から上方へ伸びる円柱状の部材である。符号１７は、筐体１０に設けられたばね係止部である。引っ張りばね１６が、各水平位置基準部１５の両側に配置されている。ばね１６の一端はばね係止部１７に連結され、他端はベースプレート５０に連結されている。ばね１６が、ベースプレート５０の側面を各水平位置基準部１５に押し当てている。このようにベースプレート５０の側面が３個の水平位置基準部１５に押し当てられることによって、筐体１０に対するベースプレート５０の相対的な水平位置と鉛直軸回りの回転角が規定される。引っ張りばね１６は、ベースプレート５０を水平位置基準部１５に押し当てる弾性部材の一例に相当する。
【００５０】
３個の水平位置基準部１５の位置関係について説明する。ベースプレート５０は矩形形状であり、第１の水平位置基準部１５ａと第２の水平位置基準部１５ｂが、ベースプレート５０の第１側面５０ａに当接している。第３の水平位置基準部１５ｃは、第１側面５０ａと交差する第２側面５０ｂに当接している。なお、第１側面５０ａと第２側面５０ｂはいずれも水平方向外側を向いている側面である。
【００５１】
ベースプレート５０（即ち第１ステージユニット２）は、筐体１０に設けられた３個の支持部１２によって鉛直方向に支持されているとともに、筐体１０に設けられた３個の水平位置基準部１５に当接することよって水平位置と鉛直線周りの回転角が規定される。この支持構造は、次の利点を与える。第１ステージユニット２は、筐体１０に固定された光学ユニット６（図１参照）に対するレクチルＭの水平位置を調整する。レクチルＭは第１ステージユニット２の可動フレーム４０に固定される。レクチルＭを固定する可動フレーム４０は、ベースプレート５０に対して水平面内で精密に位置決めされる。従って、筐体１０とベースプレート５０の相対的な位置精度が、レクチルＭと光学ユニット６の相対位置決め精度に影響する。実施例の露光装置１では、第１ステージユニット２のベースプレート５０を下方から支持する支持部１２とは別個に、ベースプレート５０の水平方向位置を規定する水平位置基準部１５が筐体１０に設けられている。この露光装置１は、水平位置基準部１５の位置を正確に調整することによって、ベースプレート５０の水平面内の正確な位置と鉛直軸回りの正確な角度を定めることができる。また、露光装置１は、各支持部１２の先端の高さを調整することによって、ベースプレート５０の上面の筐体１０に対する水平度を調整することができる。即ち、露光装置１は、筐体１０に対するベースプレート５０の上面の水平度と水平方向の位置を別々に調整することができる。
【００５２】
また、３個の水平位置基準１５の配置は、ベースプレート５０が熱膨張に起因する面外変形を抑制する。熱膨張は、例えば、照射光の熱によって生じる。露光装置１では、ベースプレート５０の第１側面５０ａに２個の水平位置基準部１５ａ、１５ｂが当接し、第１側面５０ａと交差する位置関係にある第２側面５０ｂに第３の水平位置基準部１５ｃが当接している。ベースプレート５０と各水平位置基準部１５との接触は、各水平位置基準部１５の近傍に配置された引っ張りばね１６によって維持される。仮に、ベースプレート５０を図８の左下方向に強く引っ張るとベースプレート５０は動く。このことからも理解されるように、３個の水平位置基準部１５の上記配置は、ベースプレート５０が熱膨張したとき、第１と第２の側面以外の側面が外側へ移動することを許容する。別言すれば、上記配置は、ベースプレート５０の水平方向の膨張を許容する。このことにより、上記配置は、ベースプレート５０の熱膨張がベースプレート５０の上面の面外変形に与える影響を低減することができる。仮にベースプレート５０が水平方向の移動を拘束されている場合、膨張による応力が面外変形を引き起こす。実施例の露光装置１では膨張が許容されることによって応力の発生が抑制され、その結果面外変形が抑制される。ステージ装置では、ベースプレート上面の平坦度が可動フレームの位置決め精度に影響する。本実施例の露光装置１は、熱膨張によるベースプレートの面外変形が生じ難いので、可動フレームの位置決め精度を維持することができる。ベースプレートが収縮する場合も同様に、露光装置１は、可動フレームの位置決め精度を維持することができる。また、露光装置１では、第２ステージユニット８も同様の構造により筐体１０に支持されており、第１ステージユニット２と同様の作用効果を有する。
【００５３】
露光装置１の変形例を説明する。
（１）ステージユニットのアクチュエータ先端の球部材２３は、可動フレーム４０の側面面に嵌め込まれていてもよい。即ち、ステージユニットは、球部材２３が可動フレーム４０の側面に設けられた窪みに遊嵌しており、球部材２３が平坦なアクチュエータ先端と点接触する構造を有していてもよい。
（２）ステージユニットのベースプレートは、矩形でなく多角形でよい。その場合、２個の水平位置基準部がベースプレートの第１側面に当接しており、他の一つの水平位置基準部が第１側面と交差する位置関係の第２側面に当接していればよい。そのような水平位置基準部の配置は、ベースプレートの膨張を拘束することがなく、膨張に伴うベースプレートの面外変形を抑制する。
【００５４】
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
【符号の説明】
【００５５】
１：露光装置（ステージ装置）
２：第１ステージユニット
４：光源
６：光学ユニット
８：第２ステージユニット
１０：筐体
１２：支持部
１５：水平位置基準部
２０：アクチュエータ
２３：球部材
２４：窪み
２７：小球
４０：可動フレーム
４１、１４１：軸受
４２：正圧部（斥力部）
４３：正圧溝
４４：噴出孔
４６ａ、４６ｂ：負圧部（吸引部）
４７：負圧溝
５０：ベースプレート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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