(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅または銅合金からなる基板と、この基板上の少なくとも片面側に形成された膜厚０．４μｍ以上１０μｍ以下の光沢Ｎｉめっき膜と、この光沢Ｎｉめっき膜上かつ最表面に形成された膜厚２００ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜と、を備え、
前記Ａｇ合金膜は、Ｇｅ：０．２〜０．５ａｔ％を含有し、残部が不可避的不純物およびＡｇからなり、表面の二乗平均粗さが３０ｎｍ以下であることを特徴とするＬＥＤ用リードフレーム。
【請求項２】
上方に開口した凹状の素子実装部が形成されたＬＥＤ素子実装体と、このＬＥＤ素子実装体に支持された一対のリード部材と、を備えるＬＥＤ用リードフレームであって、
前記一対のリード部材は、前記素子実装部の底面に互いに離間領域を隔てて配設されて、それぞれが当該素子実装部から前記ＬＥＤ素子実装体の外側に延出し、
前記リード部材は、銅または銅合金からなる基板と、前記素子実装部の内側において前記基板上に形成された膜厚０．４μｍ以上１０μｍ以下の光沢Ｎｉめっき膜と、この光沢Ｎｉめっき膜上かつ最表面に形成された膜厚２００ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜と、を備え、
前記ＬＥＤ素子実装体は、絶縁材料からなる基体と、前記離間領域を除く領域において前記素子実装部の表面に形成された膜厚７０ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜と、を備え、
前記リード部材および前記ＬＥＤ素子実装体のそれぞれが備えるＡｇ合金膜は、Ｇｅ：０．２〜０．５ａｔ％を含有し、残部が不可避的不純物およびＡｇからなり、表面の二乗平均粗さが３０ｎｍ以下であることを特徴とするＬＥＤ用リードフレーム。
【請求項３】
銅または銅合金からなる基板と、この基板上の少なくとも片面側に形成された膜厚０．４μｍ以上１０μｍ以下の光沢Ｎｉめっき膜と、この光沢Ｎｉめっき膜上かつ最表面に形成された膜厚２００ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜と、を備え、
前記Ａｇ合金膜は、Ｇｅ：０．０６〜０．５ａｔ％と、Ａｕ：０．５〜５ａｔ％、Ｐｄ：０．５〜２ａｔ％、Ｎｄ：０．０５〜１ａｔ％から選択される１種以上と、を含有し、残部が不可避的不純物およびＡｇからなり、表面の二乗平均粗さが３０ｎｍ以下であることを特徴とするＬＥＤ用リードフレーム。
【請求項４】
上方に開口した凹状の素子実装部が形成されたＬＥＤ素子実装体と、このＬＥＤ素子実装体に支持された一対のリード部材と、を備えるＬＥＤ用リードフレームであって、
前記一対のリード部材は、前記素子実装部の底面に互いに離間領域を隔てて配設されて、それぞれが当該素子実装部から前記ＬＥＤ素子実装体の外側に延出し、
前記リード部材は、銅または銅合金からなる基板と、前記素子実装部の内側において前記基板上に形成された膜厚０．４μｍ以上１０μｍ以下の光沢Ｎｉめっき膜と、この光沢Ｎｉめっき膜上かつ最表面に形成された膜厚２００ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜と、を備え、
前記ＬＥＤ素子実装体は、絶縁材料からなる基体と、前記離間領域を除く領域において前記素子実装部の表面に形成された膜厚７０ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜と、を備え、
前記リード部材および前記ＬＥＤ素子実装体のそれぞれが備えるＡｇ合金膜は、Ｇｅ：０．０６〜０．５ａｔ％と、Ａｕ：０．５〜５ａｔ％、Ｐｄ：０．５〜２ａｔ％、Ｎｄ：０．０５〜１ａｔ％から選択される１種以上と、を含有し、残部が不可避的不純物およびＡｇからなり、表面の二乗平均粗さが３０ｎｍ以下であることを特徴とするＬＥＤ用リードフレーム。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載のＬＥＤ用リードフレームの前記Ａｇ合金膜上に、Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗから選択される１種の金属の金属酸化膜または２種以上からなる合金の金属酸化膜を膜厚０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下で備えてなることを特徴とするＬＥＤ用リードフレーム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイのバックライト、照明器具、自動車のヘッドランプやリアランプ等に用いられる発光ダイオード（ＬＥＤ：Light Emitting Diode）を光源とする発光装置を構成するＬＥＤ用リードフレームに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＬＥＤ素子を光源とする発光装置が、省エネルギかつ長寿命である利点を活かして、広範囲の分野に普及し、各種機器に適用されている。ＬＥＤ素子を光源とする発光装置の一例として、表面実装型の発光装置の構造および動作について、図７および図８を参照して説明する。図７はＬＥＤ素子を光源とする表面実装型の発光装置の模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＧ−Ｇ線矢視断面図である。図８は、ＬＥＤ素子を光源とする表面実装型の発光装置における光の拡散反射を説明する概念図で、図７（ａ）のＨ−Ｈ線矢視断面の部分拡大図に該当する。
【０００３】
図７（ａ）、（ｂ）に示すように、発光装置４０は、ＬＥＤ素子（図中では「ＬＥＤ」と記載する。）と、ＬＥＤ素子が収容される凹状の素子実装部４２が形成された樹脂製のＬＥＤ素子実装体４３と、ＬＥＤ素子実装体４３の外側から素子実装部４２内側へ貫通する帯状の銅等からなる一対のリード部材４４ａ，４４ｂと、備える。ＬＥＤ素子実装体４３は、素子実装部４２の上方が広がって開口したカップ状で、この開口部４２ｃから、ＬＥＤ素子の発光した光が発光装置４０の外部へ照射される。
【０００４】
一対のリード部材４４ａ，４４ｂのそれぞれにおいて、素子実装部４２の底面４２ａに配設された領域をインナーリード部４５ａ，４５ｂ、ＬＥＤ素子実装体４３の外側に延出された領域をアウターリード部４６ａ，４６ｂと称する。ＬＥＤ素子は、素子実装部４２の底面４２ａの略中央の、一方のリード部材４４ａのインナーリード部４５ａの上面にシリコーンダイボンド材等からなる接着剤（接着層）によって接着され、ＬＥＤ素子の電極（図示省略）が一対のリード部材４４ａ，４４ｂのそれぞれのインナーリード部４５ａ，４５ｂにボンディングワイヤ（ワイヤ）で接続されている。また、素子実装部４２内は、エポキシ樹脂等の透明な封止樹脂（図示省略）が充填されて封止されている。そして、一対のリード部材４４ａ，４４ｂのそれぞれのアウターリード部４６ａ，４６ｂが図示しない電源に接続されてＬＥＤ素子に電流が供給される。なお、本明細書における「上」とは、原則として、リード部材のＬＥＤ素子が搭載される側を指し、図７（ｂ）における上である。
【０００５】
この発光装置４０においては、図８に示すように、ＬＥＤ素子の発光部（発光層）が発光して、この発光部を中心に光を放射し、図中に矢印で示す光Ｌ０ｄ，Ｌ０ｅ，Ｌ０ｆが素子実装部４２内のあらゆる方向へ照射される。これらの光のうち、上方へ照射された光Ｌ０ｄは直接、素子実装部４２の開口部４２ｃから発光装置４０の外部へ出射して照明光等として利用される。しかし、それ以外の方向へ照射された光Ｌ０ｅ，Ｌ０ｆは、素子実装部４２の側面４２ｂおよび底面４２ａならびにリード部材４４ａ（４４ｂ）のインナーリード部４５ａ（４５ｂ）表面に入射する。そこで、これらの面は、ＬＥＤ素子から入射した光をよく反射させるように、光反射率（以下、反射率という）を高くすることが求められている。特にＡｇやＡｇ合金は、金属の中で最も高い反射率を示すため、このような面における反射膜の材料として最適である。
【０００６】
例えば、特許文献１には、外囲器（図７のＬＥＤ素子実装体４３に相当）に囲繞されるリードのインナー部（図７のインナーリード部４５ａ，４５ｂに相当）に、ＡｇまたはＡｇ合金からなる被膜を設けることによって、ＬＥＤ素子が発光する光を効率よく反射して高い反射率を得ることが記載されている。
【０００７】
また、前記ＬＥＤ素子実装体４３は、通常、素子実装部４２の各面４２ａ，４２ｂで光を多く反射するように白色の樹脂で形成されるが、発光装置４０の使用時間の経過と共にＬＥＤ素子から発生する熱により樹脂が黄変して反射率が劣化し易い。そこで、特許文献２には、樹脂製カップ部（図７のＬＥＤ素子実装体４３に相当）の内側面（図７の素子実装部４２の側面４２ｂに相当）にＡｇ膜を被覆して、このＡｇ膜に光を反射させることで高反射率を維持することが記載されている。
【０００８】
また、Ａｇで形成される膜は、熱や硫黄、ハロゲンイオンの存在によりＡｇが凝集して膜表面が荒れたり、膜表面に塩化物（ＡｇＣｌ）等のハロゲン化物や硫化物（Ａｇ2Ｓ）を形成するために黒褐色に変色して、反射率が劣化するという問題がある。さらには、素子実装部４２内に充填されたエポキシ樹脂等の透明な封止樹脂に膜中のＡｇが拡散してＡｇのナノ粒子として析出し、封止樹脂を褐色に変色させて光透過性を劣化させるため、ＬＥＤ素子から放射される光が吸収されて照明光が暗くなるという問題がある。
【０００９】
この問題を解決するために、例えば、特許文献３には、封止樹脂にシリコーン樹脂を適用し、反射面の純Ａｇめっき層に、塩化物や硫化物を形成し難いＡｇ−Ａｕ合金めっき層をさらに被覆したリードフレームが記載されている。また、特許文献４には、Ｇｅ，Ｂｉを含有するＡｇ合金膜をめっき等で成膜した後、熱可塑性樹脂でリフレクタ（図７のＬＥＤ素子実装体１０２に相当）を形成することで、あるいは熱処理を行うことで、その際の加熱により前記Ａｇ合金膜のＧｅ，Ｂｉを拡散させて表面に濃化させ、ハロゲン化銀を形成し難くしたリードフレームが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−２４１７６６号公報（請求項１、段落番号００２０）
【特許文献２】特開２００７−２６６３７３号公報（請求項１）
【特許文献３】特開２００８−９１８１８号公報（請求項１，２、段落番号００１５〜００１６）
【特許文献４】特開２００８−１９２６３５号公報（請求項１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１において向上させた反射率は、硫酸バリウムからなる反射膜を基準として測定される反射率であり、これは拡散反射率である。拡散反射（乱反射）とは、ある入射角で反射面に入射した光が入射角に対してあらゆる角度で反射する現象であり、拡散反射率は、あらゆる方向へ反射した反射光のすべての光量の合計の、入射光量に対する割合を表す値である。これに対して、光がその入射角と同じ角度で反射する現象を正反射といい、この正反射による反射光のみの光量の、入射光量に対する割合を正反射率という。
【００１２】
ここで、図８を参照して、発光装置４０において、ＬＥＤ素子の発光した光が素子実装部４２の各面４２ａ，４２ｂやリード部材４４ａ，４４ｂ表面で拡散反射する場合の反射光について説明する。前記したように、通常、ＬＥＤ素子実装体４３は反射率の高い白色樹脂で形成され、また、リード部材４４ａ，４４ｂ（インナーリード部４５ａ，４５ｂ）の表面も、反射率を高くするためにＡｇ膜で被覆されている。しかし、これらの高反射率は拡散反射によるものであり、したがって、素子実装部４２の各面４２ａ，４２ｂやインナーリード部４５ａ，４５ｂ表面に入射した光は拡散反射する。
【００１３】
ＬＥＤ素子の発光部から側方（図中、左方）へ照射された光Ｌ０ｅは、素子実装部４２の側面４２ｂで拡散反射し、この側面４２ｂから反射光Ｌ１ｅがあらゆる方向へ照射される。反射光Ｌ１ｅの一部は、上方へ照射されて開口部４２ｃから発光装置４０の外部へ出射する。しかし、それ以外の光は、素子実装部４２の別の側面４２ｂや底面４２ａおよびインナーリード部４５ａ，４５ｂ表面に入射して、これらの面で再び拡散反射したり、あるいはＬＥＤ素子に入射する。ＬＥＤ素子から下方へ照射された光Ｌ０ｆも、リード部材４４ａのインナーリード部４５ａ表面で拡散反射し、反射光Ｌ１ｆの一部は外部へ出射し、別の一部は素子実装部４２内で再び拡散反射を繰り返す（反射光Ｌ２ｆ）。そのため、ＬＥＤ素子が発光した光の一部は、発光装置４０の外部へ出射するまでに何度も反射を繰り返される（多重反射する）ことになる。
【００１４】
光は、反射する度、反射面に一部が吸収されて減衰する。したがって、図８に示す光Ｌ０ｆから反射光Ｌ１ｆ、反射光Ｌ１ｆから反射光Ｌ２ｆと反射を繰り返すにしたがい、反射光の光量は段階的に減少する。前記従来技術のように、反射面に高い反射率を有するＡｇ膜を被覆することにより、反射１回あたりの光の損失量は抑制できるが、反射率の内訳として拡散反射が多いと、多重反射により損失量が累積されて、ＬＥＤ素子の発光した光に対して、最終的な出射光の光量は大きく減少する。これは、発光装置４０において、ＬＥＤ素子の発光した光から実際に照明光等として有効に利用される光の光量が減少して照明光が暗くなることになる。
【００１５】
また、特許文献３のＡｇ−Ａｕ合金膜は、塩化物や硫化物を形成し難くするためにＡｇ含有量を５０質量％未満に制限したＡｕを主成分とする合金からなり、Ａｇと比較して反射率に劣り、さらにコストも高くなる。特許文献４のＡｇ合金膜では、めっきでＧｅ，Ｂｉ濃度を制御したＡｇ合金膜を成膜することが困難である上、その後の熱処理によりＡｇ合金膜表面で安定してＧｅ，Ｂｉを濃化させることも困難である。特に、硫化物形成を防止するＧｅの拡散には温度および時間が不十分であり、このようなＡｇ合金膜では硫化物の形成が十分に抑制できない上、封止樹脂とするシリコーン樹脂には、樹脂の硬化触媒として塩化白金酸のような金属塩化物や金属硫化物等が含まれている。
【００１６】
本発明の課題は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、多重反射による光量の損失を抑制するとともに、反射膜にＡｇを適用しても反射率が劣化することがなく、また反射膜中のＡｇが素子実装部の封止樹脂を変色させることがなく、出射光の光量を高く維持できる、ＬＥＤ素子が発光した光を高効率で長期間利用することを可能とするＬＥＤ用リードフレームを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは、ＬＥＤ用リードフレームの反射面を、反射率の中でも正反射率を高くすることが、拡散反射に伴う多重反射を減らして光量の損失を抑え、発光装置から出射される光量を増加させるために有効であることに想到した。すなわち、表面の粗い反射面では光が拡散反射することから、これに対して、正反射率を高くするために表面の平滑な反射面にすることにした。
【００１８】
そして、本発明者らは、鋭意研究の結果、高い正反射率となる表面の平滑性を表す指標としては、二乗平均粗さＲｒｍｓを用いることが好ましいことを知見した。二乗平均粗さは、粗さの標準偏差に相当する値であるので、算術平均粗さＲａが同じであったとしても、高い突起や深い谷が多い表面ほどＲｒｍｓは大きくなる。つまり、Ｒｒｍｓが大きいほど表面の凹凸が激しいことになるため、そのような表面に入射した光は拡散反射が大きくなり正反射が減少する。そこで、表面の二乗平均粗さが３０ｎｍ以下である反射膜が、大きな正反射率を示し、ＬＥＤ用リードフレームおよび素子実装部の内面に形成する反射膜として有効であることを知見した。従来、ＬＥＤ素子を光源とする発光装置から照射される光を明るくするために、反射面の表面粗さを低減して正反射率を向上させることまで考慮したものはなかった。
【００１９】
また、本発明者らは、反射膜を特定の元素を添加したＡｇ合金で形成することにより、熱や硫黄、ハロゲンイオン等によりＡｇが凝集して反射膜表面が荒れたり黒褐色に変色したり、Ａｇが封止樹脂に拡散することを防止して、耐久性を向上させるために有効であることを知見した。
【００２０】
本発明に係るＬＥＤ用リードフレームは、前記知見に基づくものであり、銅または銅合金からなる基板と、この基板上の少なくとも片面側に形成された膜厚０．４μｍ以上１０μｍ以下の光沢Ｎｉめっき膜と、この光沢Ｎｉめっき膜上かつ最表面に形成された膜厚２００ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜とを備え、前記Ａｇ合金膜がＧｅ：０．２〜０．５ａｔ％を含有し、残部が不可避的不純物およびＡｇからなり、表面の二乗平均粗さが３０ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明に係る別のＬＥＤ用リードフレームは、上方に開口した凹状の素子実装部が形成されたＬＥＤ素子実装体と、このＬＥＤ素子実装体に支持された一対のリード部材とを備え、前記一対のリード部材は、前記素子実装部の底面に互いに離間領域を隔てて配設されてそれぞれが当該素子実装部から前記ＬＥＤ素子実装体の外側に延出し、前記リード部材は、銅または銅合金からなる基板と、前記素子実装部の内側において前記基板上に形成された膜厚０．４μｍ以上１０μｍ以下の光沢Ｎｉめっき膜と、この光沢Ｎｉめっき膜上かつ最表面に形成された膜厚２００ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜とを備え、前記ＬＥＤ素子実装体は、絶縁材料からなる基体と、前記離間領域を除く領域において前記素子実装部の表面に形成された膜厚７０ｎｍ以上５μｍ以下のＡｇ合金膜とを備え、前記リード部材および前記ＬＥＤ素子実装体のそれぞれが備えるＡｇ合金膜は、Ｇｅ：０．２〜０．５ａｔ％を含有し、残部が不可避的不純物およびＡｇからなり、表面の二乗平均粗さが３０ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００２２】
このように、基板上に光沢Ｎｉめっき膜を介して表面にＡｇ合金膜が積層されることにより、銅または銅合金からなる基板の表面に対して二乗平均粗さの小さい平滑な表面となって高い正反射率を示す反射膜となる。また、Ｇｅを所定量含有させたＡｇ合金膜とすることにより、熱や硫黄、ハロゲンイオン等によるＡｇの凝集や変色を引き起こさず耐久性に優れた反射膜となり、さらにＡｇが封止樹脂に拡散して変色させることがないため、搭載されたＬＥＤ素子の発光した光を高効率で継続して利用することを可能とする。また、ＬＥＤ素子を囲繞するＬＥＤ素子実装体を備えたＬＥＤ用リードフレームにおいては、このＬＥＤ素子実装体の内面にも前記のＡｇ合金膜を被覆することで、ＬＥＤ素子から側方へ照射された光も高効率で外部へ出射される。
【００２５】
また、本発明に係るＬＥＤ用リードフレームにおいて、前記Ａｇ合金膜が、Ｇｅ：０．０６〜０．５ａｔ％を含有し、さらにＡｕ：０．５〜５ａｔ％、Ｐｄ：０．５〜２ａｔ％、Ｎｄ：０．０５ａｔ％〜１ａｔ％から選択される１種以上を含有し、残部が不可避的不純物およびＡｇからなるものとしてもよい。ＡｕおよびＰｄはハロゲン化物の形成を抑制する作用を、Ｎｄは熱によるＡｇの凝集を抑制する作用を、それぞれ有するため、Ｇｅと共に所定量含有させることでいっそう耐久性に優れた反射膜となる。
【００２６】
また、本発明に係るＬＥＤ用リードフレームは、前記のＬＥＤ用リードフレームのＡｇ合金膜上に、さらに、Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗから選択される１種の金属の金属酸化膜または２種以上からなる合金の金属酸化膜を膜厚０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下で備えてなる構成としてもよい。これらの金属または合金の酸化膜を表面に備えることで、Ａｇ合金膜に外部から硫黄が接触することを防止し、いっそう耐久性に優れた反射膜となる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明のＬＥＤ用リードフレームは、ＬＥＤ素子を搭載して、その発光した光を高効率で利用して照明光の明るさを向上させ、使用時間の経過による照明光の減衰等の劣化を抑えた発光装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームの構成を模式的に示す断面図であり、（ａ）は第１実施形態、（ｂ）は第１実施形態の変形例を示す図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームの模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線矢視断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態の変形例に係るＬＥＤ用リードフレームおよびその基板の模式図であり、（ａ）は基板の平面図、（ｂ）は（ａ）の部分拡大図、（ｃ）はＬＥＤ用リードフレームの断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームのＡｇ合金膜を形成される前の模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ線矢視断面図、（ｃ）は（ａ）のＥ−Ｅ線矢視断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態の別の変形例に係るＬＥＤ用リードフレームの模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＦ−Ｆ線矢視断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームを組み込んだ発光装置における光の反射を説明する概念図である。
【図７】ＬＥＤ素子を光源とする表面実装型の発光装置の構造を示す模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＧ−Ｇ線矢視断面図である。
【図８】従来のＬＥＤ素子を光源とする発光装置における光の拡散反射を説明する概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明のＬＥＤ用リードフレームは、ＬＥＤ素子を光源として実装される発光装置を構成するための部品であり、発光装置の形状および形態、ならびにＬＥＤ素子の実装形態、製品としてユーザに提供する形態等に応じて、所要の形状および形態に構成される。以下、本発明のＬＥＤ用リードフレームについて、図面を参照して詳細に説明する。
【００３０】
〔第１実施形態〕
本発明の第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームについて説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームの構成を模式的に示す断面図であり、（ａ）は第１実施形態、（ｂ）は第１実施形態の変形例を示す。第１実施形態およびその変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０，１０Ａは、発光装置に組み込んだときに、光源であるＬＥＤ素子にこのＬＥＤ素子を発光動作させる電流を供給するための配線であり、かつ、ＬＥＤ素子の発光した光を反射させる反射板である。
【００３１】
第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０は、基板１１と、基板１１の少なくとも一方の面に形成された光沢Ｎｉめっき膜１２と、さらにその上に形成されたＡｇ合金膜１３と、を備える。光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３は、図１（ａ）に示すように、基板１１のＬＥＤ素子が搭載される側の面になる上面（以下、適宜表面という）のみに形成されていてもよいし、基板１１の下面（裏面）を含めた両面に形成されていてもよい。さらには、光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３は、基板１１の表面の一部の領域、例えば発光装置に組み込まれたときにＬＥＤ素子の発光した光が入射する領域のみに形成されていてもよい。したがって、ＬＥＤ用リードフレーム１０は、裏面や、表面の前記以外の領域においては、光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３が積層されていてもよいし、基板１１が露出していても、あるいは光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３の一方のみが形成されていてもよい（例えば、図１（ｂ）参照）。また、ＬＥＤ用リードフレーム１０の平面視形状は特に限定されず、発光装置の形状および形態等に応じて設計され、例えば、後記の第２実施形態の変形例に係るＬＥＤ用リードフレームの基板１１Ａ（図３（ａ）参照）のように、複数個のＬＥＤ用リードフレーム１０が連結された構成としてもよい。
【００３２】
（基板）
基板１１は、銅または銅合金からなり、ＬＥＤ用リードフレーム１０の形状に成形される。銅合金としては、銅を主成分とし、Ｎｉ，Ｓｉ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｍｇ，Ｐ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｓｂ等の元素の１種または２種以上を含有する合金、例えばＣｕ−Ｆｅ−Ｐ系銅合金を用いることができる。基板１１の板厚は特に限定されないが、形状と同様に、発光装置の形状および形態等に応じて決定され、圧延等により、この所要の厚さの素板（圧延板）とし、これをプレス加工やエッチング加工等により所要の形状に成形することによって製造することができる。
【００３３】
（光沢Ｎｉめっき膜）
本実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０において、光沢Ｎｉめっき膜１２は、Ａｇ合金膜１３の下地として基板１１の表面に設けられる。後記の通り、Ａｇ合金膜１３は物理蒸着により成膜されるが、物理蒸着による膜は、厚く形成されても下地の表面形状が膜の表面形状に保持される。光沢Ｎｉめっき膜１２は、Ａｇ合金膜１３の表面すなわちＬＥＤ用リードフレーム１０の反射面を平滑にする役割を有する。さらに、光沢Ｎｉめっき膜１２は、熱で基板１１から銅がＡｇ合金膜１３中に拡散することを抑制することにより、Ａｇ合金膜１３の表面に銅が析出してＡｇ合金膜１３の表面が変色して反射率が劣化することを防止する役割も有する。
【００３４】
光沢Ｎｉめっき膜１２は、平滑な表面を形成するめっき膜であれば、成分はＮｉ単体に限定されず、例えば、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｎｉ−Ｐ合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金等のＮｉ合金で形成されるめっき膜であってもよく、また、電気めっき等の公知のめっき方法で形成することができる。
【００３５】
光沢Ｎｉめっき膜１２の膜厚は、０．４μｍ以上１０μｍ以下とする。基板１１の表面粗さにも影響されるが、光沢Ｎｉめっき膜１２の膜厚が０．４μｍ未満であると、その表面が十分に平滑にならず、光沢Ｎｉめっき膜１２の上に成膜されるＡｇ合金膜１３の表面の二乗平均粗さを小さくすることができないため、反射面（Ａｇ合金膜１３の表面）の正反射率が向上しない。好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２．２μｍ以上である。一方、光沢Ｎｉめっき膜１２の膜厚が１０μｍを超えても、平滑化の効果が飽和する。好ましくは８μｍ以下、より好ましくは６μｍ以下である。
【００３６】
（Ａｇ合金膜）
Ａｇ合金膜１３は、光沢Ｎｉめっき膜１２上の、ＬＥＤ用リードフレーム１０の最表面に設けられ、発光装置としたときにＬＥＤ素子から照射される光を反射する役割を有する。このＡｇ合金膜１３は、０．０６〜０．５ａｔ％のＧｅを含有し、残部が不可避的不純物およびＡｇからなるＡｇ合金で構成される。
【００３７】
Ａｇ合金膜１３を構成するＡｇ合金において、Ｇｅは、熱によりＡｇが凝集することを抑制する作用（耐熱性）、硫黄により硫化銀を形成することを抑制する作用（耐硫化性）、およびハロゲンイオンによりハロゲン化銀を形成することを抑制する作用（耐ハロゲン化性）を有する。Ｇｅの含有率が０．０６ａｔ％未満では、前記効果が十分に得られず、Ａｇ合金膜１３の表面が黒褐色化したり荒れて反射率が劣化する。したがって、Ｇｅの含有率は０．０６ａｔ％以上とし、好ましくは０．１ａｔ％以上、より好ましくは０．２ａｔ％以上である。一方、Ｇｅの含有率が０．５ａｔ％を超えて多く添加されても、Ｇｅによる効果の向上は飽和する上、添加元素の量が多くなるにしたがい、Ａｇ合金膜１３の表面が黄色化して反射率が低下する。したがって、Ｇｅの含有率は０．５ａｔ％以下とする。
【００３８】
前記Ｇｅの含有率はＡｇ合金膜１３の膜全体での平均値であるが、スパッタリング法にて形成されたＡｇ合金膜１３においては、実際には表面から１０ｎｍ程度までの深さの領域にＧｅが高濃度に分布していることで、Ｇｅによる前記効果が得られる。したがって、このような濃度分布の膜とするため、Ａｇ合金膜１３はスパッタリング法にて形成することが好ましい。
【００３９】
Ａｇ合金膜１３を構成するＡｇ合金は、０．０２〜０．２ａｔ％のＢｉをさらに含有することが好ましい。Ｂｉも耐熱性および耐ハロゲン化性を有し、特に、耐ハロゲン化性の効果に優れるため、Ｇｅと共に添加することで、Ａｇ合金膜１３の表面がハロゲンイオンにより黒褐色化することをいっそう防止できる。この効果を十分に得るために、Ｂｉの含有率は好ましくは０．０２ａｔ％以上であり、より好ましくは０．０４ａｔ％以上、さらに好ましくは０．０７ａｔ％以上である。一方、Ｇｅと同様に、過剰に添加されると効果の向上は飽和する上、Ａｇ合金膜１３の表面が黄色化して反射率が低下する。したがって、Ｂｉの含有率は０．２ａｔ％以下とする。好ましくは、Ｇｅ，Ｂｉの各含有率（ａｔ％）を［Ｇｅ］、［Ｂｉ］と表したとき、（７×[Ｇｅ]＋１３×[Ｂｉ]）が４以下とする。
【００４０】
前記Ｂｉの含有率もＡｇ合金膜１３の膜全体での平均値であり、Ｇｅと同様に、スパッタリング法にて形成されたＡｇ合金膜１３においては、表面から１０ｎｍ程度までの深さの領域にＢｉが高濃度に分布していることで、Ｂｉによる前記効果が得られる。
【００４１】
Ａｇ合金膜１３を構成するＡｇ合金は、０．５〜５ａｔ％のＡｕ、０．５〜２ａｔ％のＰｄ、０．０５ａｔ％〜１ａｔ％のＮｄから選択される１種または２種以上をさらに含有することが好ましい。Ａｕ，Ｐｄもそれぞれ耐ハロゲン化性を有するため、Ｇｅと共に添加することで、Ａｇ合金膜１３の表面がハロゲンイオンにより黒褐色化することをいっそう防止できる。また、Ｎｄは耐熱性を有するため、Ｇｅと共に添加することで、Ａｇ合金膜１３の表面が熱により荒れることをいっそう防止できる。これらの効果を十分に得るために、Ａｕの含有率は好ましくは０．５ａｔ％以上であり、より好ましくは１ａｔ％以上、さらに好ましくは２ａｔ％以上である。同様に、Ｐｄの含有率は好ましくは０．５ａｔ％以上であり、より好ましくは１ａｔ％以上である。また、Ｎｄの含有率は好ましくは０．０５ａｔ％以上であり、より好ましくは０．１ａｔ％以上である。一方、Ｇｅと同様に、いずれの元素も過剰に添加されると効果の向上は飽和する上、Ａｇ合金膜１３の表面が黄色化して反射率が低下する。特にＮｄは１ａｔ％を超えて添加されると急激にＡｇ合金膜１３の表面が黄色化するため、Ｎｄの含有率は１ａｔ％以下とし、好ましくは０．８ａｔ％以下、より好ましくは０．５ａｔ％以下である。また、Ａｕの含有率は５ａｔ％以下、Ｐｄの含有率は２ａｔ％以下とする。
【００４２】
熱、硫黄、ハロゲンイオンのすべてに対して優れた耐久性を備えるＡｇ合金としては、Ａｇ−Ｇｅ−Ｂｉ，Ａｇ−Ａｕ−Ｇｅ−Ｂｉ，Ａｇ−Ａｕ−Ｇｅ，Ａｇ−Ａｕ−Ｇｅ−Ｎｄが好ましく、中でもＡｇ−Ｇｅ−Ｂｉ，Ａｇ−Ａｕ−Ｇｅ−Ｂｉが特に好ましい。Ａｇ−Ｇｅ合金にＢｉを混合添加することで、耐熱性および耐ハロゲン化性がいっそう向上し、さらにＡｕを添加することにより耐ハロゲン化性がよりいっそう向上するからである。
【００４３】
Ａｇ合金膜１３の膜厚は２００ｎｍ以上５μｍ以下とする。反射膜としては膜厚が７０ｎｍ以上であればよいが、Ａｇ合金膜１３の膜厚が２００ｎｍ未満であると、ＬＥＤ用リードフレーム１０を発光装置に組み込んでＬＥＤ素子を実装する際の、当該ＬＥＤ用リードフレーム１０のワイヤボンディング性が低下する。好ましくは２５０ｎｍ以上、より好ましくは３００ｎｍ以上である。一方、Ａｇ合金膜１３の膜厚が５μｍを超えても、正反射率およびワイヤボンディング性の向上効果は飽和する。好ましくは３μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下である。
【００４４】
また、Ａｇ合金膜１３は、表面の二乗平均粗さＲｒｍｓ（Root Mean Square Roughness：粗さの二乗平均平方根値）を３０ｎｍ以下とする。Ｒｒｍｓが３０ｎｍを超えると、Ａｇ合金膜の正反射率が５０％未満となり、入射した光の半分以上が拡散反射してしまうためである。好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下である。
【００４５】
本発明において、表面の平滑性を表す指標として用いる二乗平均粗さＲｒｍｓは、下式（１）で表される値であり、表面に存在する凹凸の表面高さの標準偏差である。したがって、例えば算術平均粗さＲａが同等であっても、高い突起や深い谷が多い表面ほどＲｒｍｓは大きくなる。つまり、Ｒｒｍｓが大きいほど表面の凹凸が激しいことを示し、そのような表面に入射した光は拡散反射による反射が多くなり、正反射率が減少する。
【００４６】
【数１】
0005503388.tif 000002
ここで、Ｚave：表面高さの平均値、Ｚji：個々の表面高さの測定値、Ｎ：測定点の数を示す。
具体的には、例えば、原子間力顕微鏡を用いて、任意の領域について表面高さ（Ｚji）を測定して式（１）によってＲｒｍｓを算出することができる。好ましくは、複数の領域について測定し、その平均値を適用する。
【００４７】
このような表面の二乗平均粗さＲｒｍｓが小さいＡｇ合金膜１３を形成するためには、下地表面の凹凸を小さくして同程度のＲｒｍｓにすればよい。しかしながら、基板１１をこのような平滑な表面とすることは困難である。前記したように、基板１１は銅または銅合金からなる圧延板を成形加工して製造されるが、圧延面に形成された酸化皮膜や、この酸化皮膜が脱落して圧延により埋め込まれた酸化物を除去するために、圧延後の研磨工程が必須である。この工程により研磨痕が表面に残るため、基板１１表面が粗くなり、Ｒｒｍｓでは６０〜１００ｎｍになる。そこで、Ａｇ合金膜１３が形成される下地表面を平滑にするために、基板１１の表面に、光沢Ｎｉめっき膜１２を成膜して平滑な下地表面とする。また、光沢Ｎｉめっき膜１２を成膜する前に、基板１１の表面を硝酸を主成分とする強酸の混合液（キリンス酸）等を用いて酸によるエッチングを行ったり、コイニングにより基板１１の表面の凹凸を潰しておけば、光沢Ｎｉめっき膜１２の膜厚を薄く形成しても平滑性が得られるので、より好ましい。
【００４８】
Ａｇ合金膜１３は、めっきによって成膜することが困難な合金からなるため、物理蒸着によって成膜することが好ましい。物理蒸着の方法としては、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法が挙げられる。特に、所定の組成の合金ターゲットを形成できれば容易に狙いの組成の膜を成膜できることから、スパッタリング法が好ましい。
【００４９】
特に、Ａｇ合金膜１３を構成する、ＧｅあるいはさらにＢｉを含むＡｇ合金は、前記したように、スパッタリング法で成膜されると、膜の表面から１０ｎｍ程度までの深さの領域においてＧｅやＢｉが高濃度に分布するために、多量の添加で反射率を低下させることなく、ＧｅやＢｉの作用による耐久性が高い膜が得られる。したがって、Ａｇ合金膜１３はスパッタリング法で成膜することが好ましい。
【００５０】
また、光沢Ｎｉめっき膜１２とＡｇ合金膜１３との密着性をよくするために、Ａｇ合金膜１３を成膜する前に、光沢Ｎｉめっき膜１２の表面にアルゴンのイオンビームを照射したり、アルゴン雰囲気中で、光沢Ｎｉめっき膜１２を形成された基板１１に高周波を印加することにより、光沢Ｎｉめっき膜１２の表面の酸化皮膜や汚れを除去してもよい。また、光沢Ｎｉめっき膜１２の表面に、スパッタリング法によりＴｉ，Ｚｒ，Ｐｄ等の活性な金属元素を含有する金属膜を予め成膜してからＡｇ合金膜１３を成膜してもよい。
【００５１】
（金属酸化膜）
第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０は、Ａｇ合金膜１３上に、さらにＴｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗから選択される１種の金属のまたは２種以上の合金の酸化膜（以下、適宜、金属酸化膜という）を設けてもよい（図示せず）。
【００５２】
Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗは、大気中等で表面に安定した酸化膜（不働態皮膜）を形成するため、硫黄と反応し難い。また、これらの金属は、元の金属に対する酸化物の体積比（ＰＢ比：Pilling-bedworth ratio）が１を超えるものであり、酸化により膨張するため、極めて薄い金属膜として成膜した時点でピンホールが形成されていた場合、酸化して金属酸化膜となることでピンホールが塞がれる。このような金属酸化膜は、極めて薄い、具体的には膜厚２ｎｍ以下であっても、Ａｇ合金膜１３表面を被覆する緻密な保護膜を構成し、Ａｇ合金膜１３が外部からの硫黄と接触することを防止する。
【００５３】
前記した通り、Ａｇ合金膜１３はＧｅを含有するＡｇ合金で構成されることで、Ａｇ合金膜１３自体が耐硫化性を有する。しかし、ＬＥＤ用リードフレーム１０が発光装置に組み込まれて、ＬＥＤ素子を搭載されて封止されるための封止樹脂にシリコーン樹脂を適用する場合、そしてこのシリコーン樹脂が金属硫化物を含有する材料である場合は、Ａｇ合金膜１３表面は常に硫黄と接触していることになる。あるいは、発光装置の使用環境に硫化水素が存在する場合、硫化水素が封止樹脂に拡散してＡｇ合金膜１３表面に到達する虞がある。これらのように、ＬＥＤ用リードフレーム１０が発光装置として使用された際に、表面すなわちＡｇ合金膜１３表面が比較的高濃度の硫黄に曝され続けた場合、Ａｇ合金膜１３を構成するＡｇ合金の成分による耐硫化性だけでは不十分で、長期間の使用で表面が黒褐色化して反射率が劣化する虞がある。したがって、ＬＥＤ用リードフレーム１０が発光装置に組み込まれた際の封止樹脂の材料や使用環境によっては、Ａｇ合金膜１３上に金属酸化膜を備えることが好ましい。
【００５４】
Ａｇ合金膜１３上に金属酸化膜を形成する場合、その膜厚は０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下とする。金属酸化膜の膜厚が０．１ｎｍ未満では、硫黄に対するＡｇ合金膜１３の保護膜として不十分である。金属酸化膜の膜厚は、厚いほどＡｇ合金膜１３の耐硫化性への効果が高いため、好ましくは０．２ｎｍ以上、より好ましくは０．３ｎｍ以上である。一方、Ａｇ合金膜１３は、ＬＥＤ用リードフレーム１０を発光装置に組み込んでＬＥＤ素子を実装する際の、当該ＬＥＤ用リードフレーム１０へのワイヤボンディングのための層でもあるため、それを被覆する金属酸化膜の膜厚が厚くなると、ＬＥＤ用リードフレーム１０のワイヤボンディング性が低下する。したがって、金属酸化膜の膜厚は５ｎｍ以下とし、好ましくは４．５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下である。
【００５５】
また、金属酸化膜は、その下地であるＡｇ合金膜１３の表面が平滑であるほど、薄い膜でもピンホールが形成され難くなるため、Ａｇ合金膜１３の耐硫化性への効果が高くなる。言い換えると、Ａｇ合金膜１３の表面が粗い場合は、金属酸化膜の膜厚を厚くする必要がある。前記した通り、本実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０は、Ａｇ合金膜１３の表面の二乗平均粗さＲｒｍｓを３０ｎｍ以下としているため、この範囲の表面粗さであれば、金属酸化膜の膜厚を５ｎｍ以下において調整することでピンホールが形成され難くすることができる。
【００５６】
金属酸化膜は物理蒸着によって成膜することが好ましく、特にＡｇ合金膜１３と同じくスパッタリング法が好ましい。Ａｇ合金膜１３と同じ成膜方法であれば、同じ装置でＡｇ合金膜１３と金属酸化膜を連続的に成膜することができる。スパッタリング法を用いて金属酸化膜を形成する場合、金属酸化膜と同じ組成の金属酸化物ターゲットを用いて直接に金属酸化膜を成膜してもよいし、金属（合金）ターゲットを用いて金属膜（合金膜）を成膜後、大気中等の酸素雰囲気で金属膜を酸化して金属酸化膜としてもよい。ただし、前記したように、膜厚２ｎｍ以下の金属酸化膜を形成する場合は、成膜時はピンホールが形成されている場合があるので、金属膜として成膜した後に酸化処理を行う。膜厚２ｎｍを超える金属酸化膜を形成する場合は、どちらのターゲットを用いてもよい。
【００５７】
Ａｇ合金膜１３上の金属酸化膜の膜厚は、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）法で測定することができる。具体的にはＸ線光電子分光分析装置を用いて、ＬＥＤ用リードフレーム１０の表面（金属酸化膜の表面）から深さ（膜厚）方向へ、金属酸化膜に含まれる金属元素および酸素元素Ｏ、ならびにＡｇの各濃度を測定し、表面から深さ方向へのプロファイルを得る。金属酸化膜に含まれる金属元素の濃度（含有率）が、最高濃度の１／２まで減少した深さを金属酸化膜の膜厚と規定することができる。
【００５８】
（製造方法）
第１実施形態のＬＥＤ用リードフレーム１０は、前記の構成を形成できる方法であれば特に制限されず、いずれの方法により製造してもよい。例えば、ＬＥＤ用リードフレーム１０は、基板１１を作製する基板作製工程Ｓ１、基板１１表面に光沢Ｎｉめっき膜１２を形成するＮｉめっき工程Ｓ２、および基板１１上の光沢Ｎｉめっき膜１２表面にＡｇ合金膜を形成するＡｇ合金成膜工程Ｓ５を含む方法によって製造することができる。以下に、ＬＥＤ用リードフレームの製造方法の一例を説明する。
【００５９】
基板作製工程Ｓ１では、材料の銅または銅合金を連続鋳造して鋳造板（例えば、薄板鋳塊）を製造し、次に、焼鈍、冷間圧延、中間焼鈍および時効処理、さらに、仕上げ圧延、研磨等の工程を経て、所要の厚さの素板を製造する。この素板をプレス加工等により所要の形状に成形して基板１１を得ることができる。
【００６０】
Ｎｉめっき工程Ｓ２では、基板１１の表面に光沢Ｎｉめっき膜１２を形成する。光沢Ｎｉめっき膜１２の成膜は、例えば、ワット浴、ウッド浴、スルファミン酸浴等の公知のめっき浴に光沢剤を添加したものを用い、Ｎｉ板を対極とし、電流密度５Ａ／ｄｍ2、めっき浴温度５０℃等の条件で電気めっきすることによって行うことができる。また、この電気めっきにおいて、電流密度やめっき通板速度（めっき時間）等を調整することによって、所望の膜厚の光沢Ｎｉめっき膜１２を得ることができる。この光沢Ｎｉめっき膜１２の成膜に際して、予め基板１１を脱脂液による脱脂、電解脱脂、および酸溶液によって前処理することが好ましい。前処理は、例えば、基板１１を、脱脂液に浸漬して脱脂した後、対極をステンレス３０４として、リードフレーム側がマイナスとなるようにして直流電圧を印加して３０秒間程度電解脱脂を行い、さらに、１０％硫酸水溶液に１０秒程度浸漬することによって行うことができる。なお、基板１１の片面（上面）のみ、あるいはさらに一部の領域のみに光沢Ｎｉめっき膜１２を形成する場合は、下面や前記領域以外にマスキングテープ等でマスキングした後、めっき浴でＮｉめっきを行うことによって、基板１１の所望の部位のみに光沢Ｎｉめっき膜１２を形成することができる。
【００６１】
Ａｇ合金成膜工程Ｓ５では、光沢Ｎｉめっき膜１２上に前記の所定の組成および膜厚のＡｇ合金膜１３を形成できる方法であれば、めっき法や物理蒸着法のいずれを適用してもよい。以下に、スパッタリング法による成膜方法の一例を示す。成膜するＡｇ合金膜１３の組成に合わせて組成が調整されたＡｇ合金ターゲットをスパッタリング装置の電極に設置し、光沢Ｎｉめっき膜１２を形成した基板１１をスパッタリング装置のチャンバー内に載置する。次に、チャンバー内を１．３×１０-3Ｐａ以下の圧力まで真空排気した後、チャンバー内にアルゴンガスを導入して、チャンバー内圧力を所定の圧力、例えば２×１０-2Ｐａ程度に調整する。そして、イオンガンに所定の放電電圧を印加してアルゴンイオンを発生させ、さらに所定の加速電圧とビーム電圧を印加することにより、アルゴンイオンビームを光沢Ｎｉめっき膜１２に照射して光沢Ｎｉめっき膜１２表面に存在する酸化皮膜や汚れを除去する。その後、チャンバー内にアルゴンガスを導入しながら、チャンバー内の圧力を０．２７Ｐａ程度に調整し、Ａｇ合金ターゲットに直流電圧（出力２００Ｗ）を印加することによりスパッタリングを行って、Ａｇ合金膜１３を成膜する。
【００６２】
以上のように、前記工程Ｓ１，Ｓ２，Ｓ５をこの順に行うことにより、第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０を製造することができる。なお、Ｎｉめっき工程Ｓ２において、基板１１をマスキングせず両面に光沢Ｎｉめっき膜１２を形成し、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５にて、片面（表面）にのみＡｇ合金膜１３を形成すると、図１（ｂ）に示す第１実施形態の変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ａを製造することができる。また、基板作製工程Ｓ１における成形前に、工程Ｓ２、あるいはさらに工程Ｓ５を行ってから、所望の形状に加工して製造することもできる。
【００６３】
また、Ａｇ合金膜１３上に金属酸化膜を形成する場合は、前記Ａｇ合金成膜工程Ｓ５の次に金属酸化膜形成工程Ｓ６を行う。以下に、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５と同じくスパッタリング法を用いた方法の一例として、金属酸化膜を成膜する方法を示す。成膜する金属酸化膜の組成に合わせて組成が調整された金属酸化物ターゲットをスパッタリング装置の電極に設置し、光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３を形成した基板１１をスパッタリング装置のチャンバー内に載置する。次に、チャンバー内を１．３×１０-3Ｐａ以下の圧力まで真空排気した後、チャンバー内にアルゴンガスを導入して、チャンバー内の圧力を０．２７Ｐａ程度に調整し、金属酸化物ターゲットに直流電圧（出力１００Ｗ）を印加することによりスパッタリングを行って、金属酸化膜を成膜する。なお、この方法による場合は、ピンホールが形成されないように、金属酸化膜の膜厚を２ｎｍ超とする。
【００６４】
また、別の例として、ターゲットを非酸化物の金属（合金）材料として、Ａｇ合金膜１３上に金属膜（または合金膜）を成膜後、この金属膜を酸化して金属酸化膜とする方法を示す。スパッタリング装置にて成膜する工程は、電極に、成膜する金属酸化膜の組成の金属成分に合わせて組成が調整された金属（合金）ターゲットを設置する以外は、前記と同様である。金属膜を成膜後、チャンバーを開放して、またはチャンバーから取り出して大気中に曝すことで、金属膜が酸化して金属酸化膜となる。なお、Ａｇ合金膜１３上に金属酸化膜、金属膜のいずれを成膜する場合も、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５において、スパッタリング装置に、金属酸化膜の組成に合わせた金属酸化物ターゲットまたは金属ターゲットをＡｇ合金ターゲットとは別の電極に設置しておくことが好ましい。このようにすることで、Ａｇ合金膜１３の成膜後、チャンバー内雰囲気をそのままに金属酸化膜形成工程Ｓ６に移行して、印加する電極（ターゲット）を切り替えるだけで、連続して金属酸化膜または金属膜を成膜できる。
【００６５】
〔第２実施形態〕
次に、第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームについて説明する。
図２は、本発明の第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームの模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線矢視断面図である。第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームと同じ要素については、同じ符号を付し、説明を省略する。第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームは、ＬＥＤ素子を光源として実装される表面実装型の発光装置（図７参照）を構成するための部品である。
【００６６】
図２（ａ）、（ｂ）に示すように、第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂは、上方に開口した凹状の素子実装部２２が形成されたＬＥＤ素子実装体２と、このＬＥＤ素子実装体２に支持された一対のリード部材１ａ，１ｂと、を備える。一対のリード部材１ａ，１ｂは、素子実装部２２の底面２２ａに、互いに離間して配設されて、それぞれが当該素子実装部２２からＬＥＤ素子実装体２の外側に延出、すなわちＬＥＤ素子実装体２の内側（素子実装部２２）から外側へ突き抜けた構成となる。ＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂが発光装置に組み込まれたとき、ＬＥＤ素子実装体２は素子実装部２２の内側に光源であるＬＥＤ素子を収容するための器および台座であり、リード部材１ａ，１ｂはこのＬＥＤ素子に電流を供給するための配線になる。本明細書では、リード部材１ａ，１ｂの、素子実装部２２の底面２２ａに配置された領域をインナーリード部１５ａ，１５ｂ、ＬＥＤ素子実装体２の外側に延出された領域をアウターリード部１６ａ，１６ｂと称する。インナーリード部１５ａ，１５ｂは、実装されるＬＥＤ素子を電気的に接続するための領域であり、同時に、このＬＥＤ素子の発光した光を反射させる反射板を構成する。そして、アウターリード部１６ａ，１６ｂは、外部の電源または配線に電気的に接続するための領域である。
以下、第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームを構成する要素について、詳細に説明する。
【００６７】
（リード部材）
図２（ａ）に示すように、本実施形態においては、リード部材１ａ，１ｂは帯状で、その長手方向に沿って並設され、素子実装部２２にて、長手方向中心に対して右寄りの位置で、間隔を空けて対向する。したがって、図２（ａ）、（ｂ）において左側のインナーリード部１５ａが、右側のインナーリード部１５ｂより長く、素子実装部２２の底面２２ａの中央まで配置されている。これは、後記するように、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂが、ワイヤボンディングで実装されるＬＥＤ素子を搭載する発光装置に組み込まれるためである。詳しくは、インナーリード部１５ａ上の、底面２２ａの略中央（図２（ａ）に太破線の枠で示す領域）にＬＥＤ素子が搭載され、さらにインナーリード部１５ａ，１５ｂのＬＥＤ素子の両側（図における左右）における領域が、ワイヤボンディングのための領域となる。また、例えばフリップチップ実装のＬＥＤ素子を搭載する発光装置に組み込まれるＬＥＤ用リードフレーム（図示せず）の場合は、このＬＥＤ素子が搭載される底面２２ａの領域の、当該ＬＥＤ素子の底面に設けられた一対の電極のそれぞれに対向する位置に、インナーリード部１５ａ，１５ｂが配置される。
【００６８】
素子実装部２２におけるリード部材１ａ，１ｂ（インナーリード部１５ａ，１５ｂ）に挟まれた領域（空間）を、素子実装部２２の底面２２ａおよび側面２２ｂ，２２ｂを含めて、離間領域２８と称する。前記挟まれた領域（空間）とは、詳しくは、底面２２ａにおけるインナーリード部１５ａ，１５ｂ間の領域の、上下方向および短辺方向（図２（ａ）における上下方向）の延長上を指す。また、この延長上の、さらにＬＥＤ素子実装体２の外側表面までの領域を、離間領域２８の延長上という。そして、素子実装部２２における、リード部材１ａ，１ｂ（インナーリード部１５ａ，１５ｂ）の形状および配置、ならびに離間領域２８の位置は、前記したように、ＬＥＤ用リードフレームを組み込む発光装置（以下、適宜、発光装置という）の形状および形態、ならびにＬＥＤ素子の実装形態等に応じて設計される。
【００６９】
また、ＬＥＤ素子実装体２の外側において、リード部材１ａ，１ｂ（アウターリード部１６ａ，１６ｂ）は、その長手方向にまっすぐに延出され、したがって、図２（ｂ）に示すように、素子実装部２２の対向する側面２２ｃ，２２ｃをそれぞれ貫通する構成となる。ただし、前記したように、アウターリード部１６ａ，１６ｂは、発光装置に組み込んだときに外部の電源または配線に電気的に接続するための部位であり、この形状および配置に限られず、発光装置の形状および形態等に応じて設計される。例えば、アウターリード部１６ａ，１６ｂは、後記の変形例（図３（ｂ）参照）のように平面視で屈曲したＬ字型に形成されたり、ＬＥＤ素子実装体２の外側の同じ側に突出したり、または折り曲げて、あるいはＬＥＤ素子実装体２に埋設した領域で折り曲げてＬＥＤ素子実装体２の下方や下面に配設されてもよい。なお、このようにリード部材１ａ，１ｂがＬＥＤ素子実装体２を内側から外側へ（外側から内側へ）貫通する構造とするためには、例えば後記するように、リード部材１ａ，１ｂを所要の形状に加工したものを、樹脂と一体に射出成形して、ＬＥＤ素子実装体２の基体である樹脂成形体２１を作製すればよい。また、リード部材１ａ，１ｂは、以下、適宜まとめてリード部材１と称する。
【００７０】
リード部材１は、基板１１と、基板１１のＬＥＤ素子が搭載される側の面である上面（以下、適宜表面という）に形成された光沢Ｎｉめっき膜１２と、さらにその上に形成されたＡｇ合金膜１３と、を備える。すなわち、リード部材１は、図１（ａ）に示す第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０と同じ積層構造を有する。第１実施形態と同様に、光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３は、基板１１の片面すなわち表面のみに形成されていてもよいし、基板１１の下面（裏面）を含めた両面に形成されていてもよい。さらには、光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３は、発光装置としてＬＥＤ素子を実装されたときに素子実装部２２内に露出する領域のみに、すなわち、インナーリード部１５ａ表面のＬＥＤ素子搭載領域（図２（ａ）参照）を除く領域、およびインナーリード部１５ｂの表面に形成されていればよい。したがって、リード部材１は、裏面、端面や、表面のアウターリード部１６ａ，１６ｂ等の領域においては、光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３が積層されていてもよいし、基板１１が露出していても、あるいは光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３の一方のみが形成されていてもよい（例えば、図１（ｂ）参照）。本実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂでは、インナーリード部１５ａ，１５ｂにおいて、表面に光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３を積層した図１（ａ）に示す構造となる。また、第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０と同様に、Ａｇ合金膜１３上に金属酸化膜（図示せず）を備える構造としてもよい。
【００７１】
基板１１は、リード部材１ａ，１ｂの形状に成形され、材料および製造方法等は第１実施形態と同様であるため、説明を省略する。また、図３に示す形状の基板（リード部材）とすることもできる。図３は、第２実施形態の変形例に係るＬＥＤ用リードフレームおよびその基板の模式図であり、（ａ）は基板の平面図、（ｂ）は（ａ）の部分拡大図、（ｃ）はＬＥＤ用リードフレームの断面図で、（ｂ）のＣ−Ｃ線矢視断面図に相当する。
【００７２】
第２実施形態の変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃの基板１１Ａは、図３（ａ）に示すように、複数個が連続して、マトリクス状の打ち抜きパターンを形成されたロール状または短冊状の板を構成している。図３（ｂ）は１個のパターンを拡大した図で、図中の破線で示す位置に、第２実施形態と同様にＬＥＤ素子実装体２を貫通させて、図３（ｃ）に示すＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃに形成される。すなわち、基板１１Ａは、１個のパターンが１個のＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃの一対のリード部材１ａ，１ｂを構成する。また、本変形例において、リード部材１ａ，１ｂは、アウターリード部１６ａ，１６ｂが平面視で屈曲したＬ字型に形成されている。基板１１Ａは、図３（ａ）では、板幅方向（図における左右方向）に４個、板の送り方向に３個の合計１２個分のリード部材１ａ，１ｂを構成し、さらに両縁（図における左右）に送り穴を形成されている。このように連続したリード部材１ａ，１ｂの基板１１Ａは、リール・トゥ・リールまたは短冊状の板の１枚単位の搬送で、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃに製造される部材である。
【００７３】
第２実施形態およびその変形例において、光沢Ｎｉめっき膜１２、Ａｇ合金膜１３のそれぞれの構成、すなわち光沢Ｎｉめっき膜１２の材料および膜厚、ならびにＡｇ合金膜１３の材料、膜厚および表面の二乗平均粗さＲｒｍｓは、いずれも第１実施形態における光沢Ｎｉめっき膜１２、Ａｇ合金膜１３と同様であり、第１実施形態のＮｉめっき工程Ｓ２、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５と同様の方法でそれぞれ形成できる。さらに、Ａｇ合金膜１３上に金属酸化膜を備える場合は、当該金属酸化膜の材料および膜厚は第１実施形態における金属酸化膜と同様であり、第１実施形態の金属酸化膜形成工程Ｓ６と同様の方法で形成できる。
【００７４】
（ＬＥＤ素子実装体）
ＬＥＤ素子実装体２は、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、凹状の素子実装部２２が形成されたカップ状の樹脂成形体（基体）２１と、素子実装部２２の表面に形成されたＡｇ合金膜２３とを備える。素子実装部２２は上方に広がって開口し、底面２２ａとこれを囲む４面の側面２２ｂ，２２ｃ，２２ｂ，２２ｃとから構成される平面視で長方形の四角錐台である。素子実装部２２の形状はこれに限定されず、例えば平面視で正方形であったり、上方に広がって開口した円錐台でもよい。ＬＥＤ素子実装体２は、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ，１０Ｃを組み込む発光装置の形状および形態、ならびにＬＥＤ素子の実装形態、製品としてユーザに提供する形態等に応じて所要の形状に成形される。
【００７５】
樹脂成形体２１はＬＥＤ素子実装体２の基体であり、絶縁材料である樹脂をＬＥＤ素子実装体２の形状に成形してなる。したがって、樹脂成形体２１は、その外側から内側（素子実装部２２）へリード部材１ａ，１ｂがそれぞれ貫通するように、射出成形（インサート成形）等によって、リード部材１ａ，１ｂと一体的に成形されることが好ましい。樹脂は、耐熱性が２００℃以上のものであればよく、ポリアミド（ＰＡ）樹脂等のエンジニアリングプラスチック、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂等のスーパーエンジニアリングプラスチック等を用いることができる。
【００７６】
ＬＥＤ素子実装体２の内面すなわち素子実装部２２の表面（面２２ａ，２２ｂ，２２ｃ）における離間領域２８を除く領域には、Ａｇ合金膜２３を備える。Ａｇ合金膜２３を構成するＡｇ合金は、リード部材１における前記のＡｇ合金膜１３を構成するＡｇ合金の組成成分の範囲であれば、Ａｇ合金膜１３と同一の組成であっても異なる組成であってもよい。また、リード部材１がＡｇ合金膜１３上に金属酸化膜を備える構造である場合は、Ａｇ合金膜２３上にも金属酸化膜を備えることが好ましい。この金属酸化膜についても、第１実施形態における金属酸化膜として規定された金属の種類および膜厚の範囲であれば、Ａｇ合金膜１３上の金属酸化膜と組成や膜厚が同一であっても異なってもよい。なお、底面２２ａにおけるリード部材１ａ，１ｂの配置される領域（インナーリード部１５ａ，１５ｂの下）にはＡｇ合金膜２３が形成されなくてよい。
【００７７】
このことから、リード部材１ａ，１ｂと一体的に射出成形された樹脂成形体２１に対して、Ａｇ合金膜２３を成膜することができる。したがって、後記するように、樹脂成形体２１を、Ａｇ合金膜１３を形成する前のリード部材１ａ，１ｂ（光沢Ｎｉめっき膜１２を形成した基材１１）と一体的に射出成形し、インナーリード部１５ａ，１５ｂ（光沢Ｎｉめっき膜１２）および素子実装部２２（樹脂成形体２１）の表面に、Ａｇ合金膜１３，２３を一体に成膜することができる。さらに、素子実装部２２を上方に広がって開口した形状とすることで、インナーリード部１５ａ，１５ｂにＡｇ合金膜１３を物理蒸着で成膜すれば、同時に素子実装部２２の底面２２ａだけでなく、傾斜した側面２２ｂ，２２ｃにもＡｇ合金膜２３が成膜される。なお、図２（ｂ）、図３（ｃ）、および後記変形例の図５（ｂ）において、素子実装部２２の表面に、インナーリード部１５ａ（１５ｂ）表面を含めて一体にＡｇ合金膜を示しているが、樹脂成形体２１上に形成されたものはＡｇ合金膜２３、光沢Ｎｉめっき膜１２上すなわちリード部材１表面に形成されたものはＡｇ合金膜１３とする。
【００７８】
ここで、素子実装部２２の表面（底面２２ａおよび側面２２ｂ，２２ｃ）の全領域にＡｇ合金膜が形成されていると、このＡｇ合金膜を介してリード部材１ａ，１ｂ間（インナーリード部１５ａ，１５ｂ間）が短絡する。したがって、底面２２ａおよび側面２２ｂ，２２ｂの離間領域２８における領域には、Ａｇ合金膜２３は形成されない。また、Ａｇ合金膜２３は、素子実装部２２の表面以外、すなわち図３（ｃ）に示すようにＬＥＤ素子実装体２の上面（側壁の上端面）や外側の側面等にも形成されてもよいが、離間領域２８の延長上で、インナーリード部１５ａ，１５ｂから連続して形成されないようにする。すなわち、Ａｇ合金膜２３は、インナーリード部１５ａの配置される領域に連続する領域と、インナーリード部１５ｂの配置される領域に連続する領域とで、離間領域２８を隔てて完全に分離される。このようなＡｇ合金膜２３の形成方法は、後記のＬＥＤ用リードフレームの製造方法で詳細に説明する。
【００７９】
Ａｇ合金膜２３は、膜厚が７０ｎｍ以上５μｍ以下とする。素子実装部２２の表面に形成されるＡｇ合金膜の膜厚が７０ｎｍ未満では、光がＡｇ合金膜を透過して下地である樹脂成形体２１に吸収されるため反射率が低下する。好ましくは１００ｎｍ以上、より好ましくは１２０ｎｍ以上である。一方、リード部材１の光沢Ｎｉめっき膜１２上におけるＡｇ合金膜１３と同様に、Ａｇ合金膜２３の膜厚が５μｍを超えても、正反射率の向上効果は飽和する。好ましくは３μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下である。
【００８０】
また、Ａｇ合金膜２３も、リード部材１におけるＡｇ合金膜１３と同様に、正反射率を高くするため、表面の二乗平均粗さＲｒｍｓを３０ｎｍ以下とする。好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下である。このような平滑な表面のＡｇ合金膜２３は、その下地である樹脂成形体２１の素子実装部２２における表面を同程度のＲｒｍｓとすればよい。例えば、樹脂成形体２１の成形に用いる金型を、同程度のＲｒｍｓの表面に作製すれば、金型の表面粗さが樹脂成形体２１の表面に転写されるため、このような平滑な表面に形成することができる。
【００８１】
（製造方法）
第２実施形態およびその変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ，１０Ｃは、前記の構成を形成できる方法であれば特に制限されず、いずれの方法により製造してもよい。例えば、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ，１０Ｃは、第１実施形態における基板作製工程Ｓ１、Ｎｉめっき工程Ｓ２、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５に、さらに樹脂成形工程Ｓ３およびマスク工程Ｓ４を含む方法によって製造することができる。以下に、第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームの製造方法の一例を説明する。
【００８２】
基板作製工程Ｓ１およびＮｉめっき工程Ｓ２は、前記第１実施形態における工程Ｓ１，Ｓ２と同様であるので、説明を省略する。
【００８３】
樹脂成形工程Ｓ３は、射出成形（インサート成形）等によって、樹脂成形体２１をリード部材１ａ，１ｂと一体的に成形する。詳しくは、樹脂成形体２１の外側から内側（素子実装部２２）へ、光沢Ｎｉめっき膜１２を形成された基板１１（または基板１１Ａ）が貫通するように、樹脂を前記基板１１と一体的に成形する。なお、樹脂成形体２１の底面２２ａとなる面は、リード部材１ａ，１ｂの光沢Ｎｉめっき膜１２表面と面一であることが好ましいが、例えば基板１１の下面と面一に成形されてもよい。
【００８４】
次に、インナーリード部１５ａ，１５ｂにおける光沢Ｎｉめっき膜１２表面にＡｇ合金膜１３を、樹脂成形体２１の素子実装部２２における表面にＡｇ合金膜２３を、それぞれ形成する（Ａｇ合金成膜工程Ｓ５）。しかしながら、素子実装部２２の開口部２２ｄから底面２２ａに向けて、そのまま、すなわち素子実装部２２表面の全領域にＡｇ合金膜を成膜すると、前記したように、素子実装部２２表面のＡｇ合金膜を介してインナーリード部１５ａ，１５ｂ間（リード部材１ａ，１ｂ間）が短絡することになる。そこで、インナーリード部１５ａ，１５ｂ間の短絡を防止するため、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５の前にマスク工程Ｓ４を行う。
【００８５】
以下、マスク工程Ｓ４について、図４を参照して説明する。図４は、第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームのＡｇ合金膜を形成される前の模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ線矢視断面図、（ｃ）は（ａ）のＥ−Ｅ線矢視断面図である。マスク工程Ｓ４では、図４（ｂ）に示すように、素子実装部２２内に、開口部２２ｄから、底面２２ａのインナーリード部１５ａ，１５ｂ間に向けて、インナーリード部１５ａ，１５ｂ間距離と同じ厚さの板状のマスク３３を嵌装する。マスク３３は、図４（ｃ）に示すように、素子実装部２２内側のＥ−Ｅ線矢視断面形状と同じ逆台形の上にＬＥＤ素子実装体２（樹脂成形体２１）の側方へ張り出す耳部を有する形状である。マスク３３の構成は特に制限されず、例えば、銅、アルミニウム、チタン、ＳＵＳ等の金属材料をエッチングやプレス加工等で作製されたものを用いることができる。このマスク３３を素子実装部２２内に嵌装した状態で、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５を行う。なお、このとき、ＬＥＤ素子実装体２における素子実装部２２の外部を覆うマスク（図示せず）も設けて、ＬＥＤ素子実装体２の外側表面のＡｇ合金膜でインナーリード部１５ａ，１５ｂ間が短絡しないようにする。
【００８６】
Ａｇ合金成膜工程Ｓ５は、前記第１実施形態における工程と同様であり、所定の組成および膜厚のＡｇ合金膜１３，２３を、インナーリード部１５ａ，１５ｂも含めて素子実装部２２内に、一体に成膜する。このとき、素子実装部２２の側面２２ｂ，２２ｃの傾斜角度にもよるが、樹脂成形体２１表面のＡｇ合金膜２３よりインナーリード部１５ａ，１５ｂ表面のＡｇ合金膜１３の方が必要な膜厚が厚いため、インナーリード部１５ａ，１５ｂにおけるＡｇ合金膜の膜厚に合わせて成膜すればよい。
【００８７】
Ａｇ合金膜１３，２３を成膜した後、素子実装部２２からマスク３３を外すと、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、素子実装部２２の表面において、底面２２ａおよび側面２２ｂ，２２ｂにわたって、Ａｇ合金膜２３が形成されず樹脂成形体２１が露出した領域が、離間領域２８に沿って帯状に存在するＬＥＤ素子実装体２となる。このように離間領域２８にＡｇ合金膜が形成されないようにすることによって、Ａｇ合金膜２３を介してインナーリード部１５ａ，１５ｂ間で短絡することを防止して、リード部材１ａ，１ｂ間の絶縁性を確保することができる。なお、インナーリード部１５ａ，１５ｂ間（離間領域２８）には、樹脂成形体２１を構成する樹脂、あるいは発光装置に組み込んだときに封止樹脂が充填されるので、リード部材１ａ，１ｂ間の絶縁性は保持される。なお、本実施形態は、マスク３３の他に、ＬＥＤ素子実装体２における素子実装部２２の外部全体を覆うマスク（図示せず）を用いて、ＬＥＤ素子実装体２における素子実装部２２以外の表面、およびアウターリード部１６ａ，１６ｂには、Ａｇ合金膜２３，１３が形成されないようにしたものである。さらに、アウターリード部１６ａ，１６ｂは、Ｎｉめっき工程Ｓ２においてマスキングを施して、銅または銅合金からなる基板１１が剥き出しになる構成とすることもできる。
【００８８】
また、図３（ｃ）に示す変形例のＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃのように、ＬＥＤ素子実装体２の上面および外側の側面、アウターリード部１６ａ，１６ｂ（図３（ｂ）参照）、およびＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃ，１０Ｃ間の基板１１Ａ上にもＡｇ合金膜２３，１３が形成されてもよい。ただし、前記したように、ＬＥＤ素子実装体２の全表面において、離間領域２８とその延長上にはＡｇ合金膜２３が連続して形成されないようにする。ＬＥＤ素子実装体２の側壁の上端面においては、図４（ａ）、（ｃ）に示すようにマスク３３の上部にＬＥＤ素子実装体２の上面の離間領域２８の延長上を覆う耳部を有しているので、この領域にはＡｇ合金膜２３が形成されない。さらに、ＬＥＤ素子実装体２の外側の長手（長辺）方向の側面（図３（ｃ）不図示）における、少なくとも離間領域２８の延長上を別のマスクで覆うことにより、インナーリード部１５ａ，１５ｂ間の短絡を防止できる。また、本変形例のＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃにおいては、Ｎｉめっき工程Ｓ２にて基板１１Ａの全面（両面および端面）に光沢Ｎｉめっき膜１２を形成し、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５にて表面（上面）のみにＡｇ合金膜１３を形成したことで、インナーリード部１５ａ，１５ｂ（リード部材１Ａ）は、図１（ｂ）に示す積層構造となる。
【００８９】
第２実施形態においては、マスク３３の板厚をインナーリード部１５ａ，１５ｂ間距離（離間領域２８の幅）と同じとし、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、Ａｇ合金膜２３の形成されない領域を離間領域２８に一致させて、Ａｇ合金膜２３の境界がインナーリード部１５ａ，１５ｂ（リード部材１ａ，１ｂ）の端面に沿うように構成している。しかし、離間領域２８において、インナーリード部１５ａ，１５ｂ間の短絡を防止できれば、Ａｇ合金膜２３の形成されない領域はこれに限られず、離間領域２８より広くても狭くてもよい。
【００９０】
以上のように、前記の工程Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５をこの順に行うことにより、第２実施形態およびその変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ，１０Ｃを製造することができる。なお、Ａｇ合金膜１３，２３上に金属酸化膜を形成する場合は、Ａｇ合金成膜工程Ｓ５の次に、金属酸化膜形成工程Ｓ６を前記第１実施形態における工程と同様に行い、金属酸化膜を形成した後、素子実装部２２からマスク３３を外す。しかし、本実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームにおいては、光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３が形成される部位に応じて、これらの工程を行う順序を変更して製造することができる。例えば、基板１１を作製し（工程Ｓ１）、光沢Ｎｉめっき膜１２の形成前に、この基板１１と一体的に樹脂成形体２１を成形する（工程Ｓ３）。次に、樹脂成形体２１を貫通した基板１１に、電気めっきにより光沢Ｎｉめっき膜１２を形成する（工程Ｓ２）。電気めっきによれば、絶縁材料からなる樹脂成形体２１の表面には光沢Ｎｉめっき膜は形成されない。そして、前記と同様に、樹脂成形体２１の素子実装部２２にマスク３３を嵌装して（工程Ｓ４）から、基板１１および樹脂成形体２１の表面にＡｇ合金膜１３，２３を形成する（工程Ｓ５）。このような工程Ｓ２，Ｓ３の順序を入れ替えて製造されたＬＥＤ用リードフレームにおいては、リード部材１ａ，１ｂのＬＥＤ素子実装体２の側面に埋設された領域（１５ａ−１６ａ間、１５ｂ−１６ｂ間）は基板１１のみで構成され、インナーリード部１５ａ，１５ｂの下面（裏面）にも光沢Ｎｉめっき膜１２は形成されない。
【００９１】
ここで、第２実施形態の別の変形例に係るＬＥＤ用リードフレームについて、図５を参照して説明する。図５は、第２実施形態の別の変形例に係るＬＥＤ用リードフレームの模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＦ−Ｆ線矢視断面図である。第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームと同じ要素については、同じ符号を付し、説明を省略する。本変形例のＬＥＤ用リードフレーム１０Ｄは、図５（ａ）に示すように、ＬＥＤ素子実装体２Ａが、素子実装部２２の側面２２ｂ，２２ｂを離間領域２８に沿って切り欠いた形状で、底面２２ａは離間領域２８において素子実装部２２の外側へ延出する平面２２ｅを構成する。このような形状のＬＥＤ素子実装体２Ａとするために、樹脂成形工程Ｓ３の後、樹脂成形体２１に、開口部２２ｄから底面２２ａまで離間領域２８に沿って切込みを入れ、あるいは切込みを有する樹脂成形体２１を成形する。
【００９２】
本変形例は、ＬＥＤ素子実装体２Ａ（樹脂成形体２１）に離間領域２８に沿って切込みが形成されているため、マスク工程Ｓ４において、図５（ｂ）に二点鎖線で示すように、ＬＥＤ素子実装体２ＡのＦ−Ｆ線矢視断面形状より大きく、切込みの幅と同じまたはそれより薄い板厚のマスク３４を切込みに挟んで嵌装することができる。マスク３４の材料は前記マスク３３と同様である。また、ＬＥＤ素子実装体２Ａの外側表面においては、少なくとも長辺方向の側面の素子実装部２２の底面２２ａ（平面２２ｅ）から下の、離間領域２８（平面２２ｅ）の延長上を覆う別のマスクを設ける。このようなマスク３４を嵌装してＡｇ合金膜１３，２３を成膜する（工程Ｓ５）と、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、素子実装部２２の離間領域２８における底面２２ａすなわち平面２２ｅにはＡｇ合金膜２３が形成されず樹脂成形体２１が露出した状態となり、Ａｇ合金膜２３をインナーリード部１５ａ側とインナーリード部１５ｂ側とに分離して形成することができる。
【００９３】
〔発光装置〕
次に、本発明の第１、第２実施形態および各変形例に係るＬＥＤ用リードフレームを組み込んだ発光装置について説明する。
第２実施形態およびその変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄを組み込んで発光装置に製造する方法の一例は、次の通りである。まず、リード部材１ａの素子実装部２２の略中央におけるインナーリード部１５ａの表面（図２（ａ）に示すＬＥＤ素子搭載領域）にシリコーンダイボンド材等からなる接着剤を塗布して、その上にＬＥＤ素子を接着して搭載する。次に、ワイヤボンディングにより、金ワイヤでＬＥＤ素子の電極をインナーリード部１５ａ，１５ｂに接続する。そして、素子実装部２２内にエポキシ樹脂等の封止樹脂を充填することにより封止して、ＬＥＤ素子を光源として搭載した表面実装型の発光装置（図７参照）となる。なお、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃにおいては、基板１１Ａで複数個を連結された状態で発光装置に製造されてから図３（ｂ）、（ｃ）に示す太破線で切り離されて使用される。
【００９４】
第１実施形態およびその変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０，１０Ａも、前記の第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ等と同様に、表面実装型の発光装置に組み込むことができる。例えば、図３（ａ）に示す第２実施形態の変形例における基板１１Ａを適用してＬＥＤ用リードフレーム１０を製造した場合、ＬＥＤ用リードフレーム１０表面の図３（ｂ）の破線で示すＬＥＤ素子実装体２の位置に、枠状の樹脂を取り付ける。あるいは、第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレームの製造方法における樹脂成形工程Ｓ３のように、樹脂をＬＥＤ用リードフレーム１０と一体的に射出成形してもよい。そして、この枠状の樹脂の内側におけるＬＥＤ用リードフレーム１０の一方の端部（図３（ｂ）のインナーリード部１５ａ）にＬＥＤ素子を搭載する。ＬＥＤ素子を搭載したら、前記の第２実施形態と同様に、ワイヤボンディングを行い、枠状の樹脂の内側に封止樹脂を充填して、ＬＥＤ素子を光源とする発光装置となる。このような発光装置とすることで、ＬＥＤ用リードフレーム１０，１０Ａは、ＬＥＤ素子の背面（下方）の反射面を構成する。なお、ＬＥＤ素子を囲む枠状の樹脂は、第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ等のＬＥＤ素子実装体２のように、その内側の表面にＡｇ合金膜を形成されることが好ましい。このような発光装置とすることで、第２実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ等を組み込んだ発光装置と同様の後記の効果が得られる。
【００９５】
第１実施形態に係るＬＥＤ用リードフレーム１０，１０Ａを組み込んだ発光装置は、枠状の樹脂を備えず、ＬＥＤ用リードフレーム１０，１０Ａを下方のみならず側方の反射面に構成することもできる。例えば、基板１１を、異形条材（圧延幅方向に板厚の異なる圧延板）の板厚の厚い部位をプレス鍛造でカップ形状に成型して、このカップ形状の外側に板厚の薄い部位が帯状に延出された形状に作製する。そして、この基板１１のカップ形状の内側表面に光沢Ｎｉめっき膜１２およびＡｇ合金膜１３を形成してＬＥＤ用リードフレームとする（図示せず）。このように構成することで、第２実施形態におけるリード部材１ａに相当する部材とＬＥＤ素子実装体２に相当する部材とが一体に構成されたＬＥＤ用リードフレームとなる。詳しくは、カップ形状の内面がリード部材１ａのインナーリード部１５ａと素子実装部２２とを兼ね、帯状の部位がアウターリード部１６ａとなる。これに、別部材で作製したリード部材１ｂ（基板１１のみで構成されてもよい）を合わせて一組のＬＥＤ用リードフレームとする。このようなＬＥＤ用リードフレームでは、ＬＥＤ素子はカップ形状の内底面に搭載されて実装され、カップ形状の内部に封止樹脂を充填して封止されて、例えば砲弾型の発光装置に製造される。
【００９６】
このようなＬＥＤ用リードフレーム１０，１０Ａ〜１０Ｄを用いて得られる発光装置において、Ａｇ合金膜１３，２３はＬＥＤ素子が発光する光の多くを正反射させて拡散反射を抑えられるため、後記するように多重反射による光量の損失を低減し、ＬＥＤ素子を搭載した発光装置の明るさを向上させることができる。特に、第２実施形態およびその変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄのように、ＬＥＤ素子の側方における反射面にも表面の二乗平均粗さＲｒｍｓを制限したＡｇ合金膜２３が形成されていると、明るさをさらに向上させることができる。また、Ａｇ合金膜１３，２３は、耐久性に優れ、熱や硫黄、ハロゲンイオン等によるＡｇの凝集を引き起こさず、ＬＥＤ素子から発光した光を安定して反射して発光装置から光として取り出すことができる。さらに、Ａｇ合金膜１３，２３は、Ａｇのナノ粒子の析出を引き起こさず、エポキシ樹脂等の封止樹脂を変色させることがないため、ＬＥＤ素子が発光した光を高効率で利用することを可能とする。
【００９７】
ここで、本発明のＬＥＤ用リードフレームを適用した発光装置の動作について、図６を参照して説明する。図６は、第２実施形態のＬＥＤ用リードフレームを組み込んだＬＥＤ素子を光源とする表面実装型の発光装置における光の反射を説明する概念図で、図２（ａ）のＢ−Ｂ線矢視断面図の部分拡大図に該当する。従来の発光装置４０（図８参照）と同様に、図６に示すように、ＬＥＤ素子の発光部（発光層）が発光する光Ｌ０ａ，Ｌ０ｂ，Ｌ０ｃは、当該発光部を中心に放射されて素子実装部２２内のあらゆる方向へ照射される。上方へ照射された光Ｌ０ａは直接、素子実装部２２の開口部２２ｄから外部へ出射する。一方、側方（図中、左方）へ照射された光Ｌ０ｂは素子実装部２２の側面２２ｃに、下方（ＬＥＤ素子の背面側）へ照射された光Ｌ０ｃは、リード部材１ａ（インナーリード部１５ａ）や素子実装部２２の底面２２ａに、それぞれ入射する。ＬＥＤ用リードフレーム１０Ｂにおいて、これら光Ｌ０ｂ，Ｌ０ｃの入射面となるリード部材１（インナーリード部１５ａ，１５ｂ）表面および素子実装部２２表面の各面２２ａ，２２ｂ，２２ｃには、高い正反射率を有するＡｇ合金膜１３，２３が形成されている。そのため、これらの面に入射した光の多くは反射光Ｌ１ｂ，Ｌ１ｃとして正反射され、この１回目の反射で（反射光Ｌ１ｂ）、あるいはさらに２回目程度の反射で（反射光Ｌ１ｃ）上方へ照射されて開口部２２ｄから出射する。このように、ＬＥＤ素子の発光する光の多くが、何度も反射を繰り返さずに１、２回程度の反射で発光装置の外部へ出射するので、発光装置の照明光として有効に利用される光の光量の損失を少なくして、発光装置から照射される光が明るくなることになる。
【実施例１】
【００９８】
以下、本発明の実施例によって、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されない。
【００９９】
〔試料作製〕
下記のようにして、図１（ｂ）に示す積層構造の第１実施形態の変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ａの試料を作製した。
【０１００】
（基板の作製）
厚さ０．１ｍｍのＣｕ−Ｆｅ−Ｐ系銅合金板（ＫＬＦ１９４Ｈ、（株）神戸製鋼所製）を、プレス加工して、図３（ａ）に示す形状の基板（基板１１Ａ）を作製した。なお、この基板１１Ａのインナーリード部１５ａ，１５ｂ（図３（ｂ）参照）間の距離は０．０９ｍｍである。この基板の表面の二乗平均粗さＲｒｍｓを後記の方法で測定したところ、６２ｎｍであった。
【０１０１】
（光沢Ｎｉめっき膜の形成）
前記基板を、めっき前処理として、脱脂液に浸漬して、対極をステンレス３０４として、基板側がマイナスとなるようにして直流電圧を印加して３０秒間電解脱脂を行った後、１０％硫酸水溶液に１０秒浸漬した。次に、基板の表面（全面）に、下記成分、液温５０℃のワット浴で、対極をＮｉ板とし、電流密度：５Ａ／ｄｍ2で、光沢Ｎｉめっきを施して、膜厚３μｍの光沢Ｎｉめっき膜を有する基板を製造した。
Ｎｉめっき浴成分
硫酸Ｎｉ：２５０ｇ／Ｌ
塩化Ｎｉ：  ４０ｇ／Ｌ
硼酸    ：  ３５ｇ／Ｌ
添加剤Ａ：  ３ｍｌ／Ｌ
添加剤Ｂ：１０ｍｌ／Ｌ
【０１０２】
なお、光沢Ｎｉめっき膜の膜厚は、めっき速度に基づいてめっき時間を調整することで制御した。すなわち、ダミー基板に前記と同じ条件で一定時間めっきを施して、ダミー基板のめっき前との重量差を測定することによりＮｉの付着量を求め、この付着量をめっき面積、Ｎｉの理論密度、およびめっき時間で割ることにより単位時間に析出するＮｉめっき膜厚（めっき速度）を算出し、めっき速度から所望の膜厚を形成するめっき時間を算出した。
【０１０３】
（Ａｇ合金膜の成膜）
光沢Ｎｉめっきを施した基板に、下記の方法でＡｇ合金膜を形成した。
光沢Ｎｉめっき膜を形成した基板を、Ａｇ−１ａｔ％Ｇｅ合金ターゲット（直径１０．１６ｃｍ（４インチφ）×厚さ５ｍｍ）を設けたスパッタリング装置のチャンバー内に配置した。次に、真空ポンプで、チャンバー内圧力が１．３×１０-3Ｐａ以下となるように真空排気した。その後、イオンガン（3cm DC Ion Source、イオンテック社製）を通してアルゴンガスをチャンバー内に導入してチャンバー内圧力を２×１０-2Ｐａに調整し、イオンガンに放電電圧６０Ｖ、加速電圧５００Ｖ、ビーム電圧５００Ｖを印加して、アルゴンイオンビームを発生させ、基板の光沢Ｎｉめっき膜の表面に３００秒間照射した。
【０１０４】
次に、チャンバー内にアルゴンガスを導入しながら真空排気を続けることにより、チャンバー内圧力を０．２７Ｐａに調整した。この状態で、前記Ａｇ合金ターゲットに直流電圧（出力２００Ｗ）を印加してスパッタリングを行い、基板の上面側の光沢Ｎｉめっき膜の上に、膜厚３００ｎｍのＡｇ合金膜を成膜して、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ａの試料（試料Ｎｏ．１）を作製した。
【０１０５】
なお、Ａｇ合金膜の膜厚は、成膜速度に基づいて成膜時間を調整することで制御した。すなわち、ダミー基板に前記と同じ条件で一定時間成膜して、ダミー基板の成膜前との重量差を測定することによりＡｇ合金の付着量を求め、この付着量を成膜面積、Ａｇの理論密度、および成膜時間で割ることにより単位時間に成膜するＡｇ合金膜厚（成膜速度）を算出し、成膜速度から所望の膜厚を形成する成膜時間を算出した。
【０１０６】
（Ａｇ合金膜の組成分析）
また、Ａｇ合金膜の組成を分析するために、ソーダライムガラス基板上に前記と同様にしてＡｇ合金膜を成膜した。このＡｇ合金膜を硝酸で溶解後、溶解した硝酸の液を、ＩＣＰ（誘導結合プラズマ）発光分光分析装置（ＩＣＰＳ−８０００、島津製作所製）を用いて分析することにより、ソーダライムガラス基板に形成したＡｇ合金膜の組成を求めた。得られたＡｇ合金膜中のＧｅの含有率は０．３ａｔ％であった（Ａｇ−０．３ａｔ％Ｇｅ合金）。
【０１０７】
一方、比較例として、光沢Ｎｉめっき膜が形成されていない基板の表面に直接、前記と同様の方法で膜厚３００ｎｍのＡｇ合金膜を成膜した試料Ｎｏ．２を作製した。
【０１０８】
〔測定、評価〕
得られたＬＥＤ用リードフレームの試料Ｎｏ．１（Ａｇ合金膜／光沢Ｎｉめっき膜／基板）と、比較例として作製した試料Ｎｏ．２（Ａｇ合金膜／基板）とについて、下記の方法で表面（Ａｇ合金膜を形成した側の面、以下同じ）の二乗平均粗さＲｒｍｓおよび正反射率を測定し、結果を表１に示す。
【０１０９】
（二乗平均粗さの測定）
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（ＳＰＩ−４０００、ＳＩＩ社製）を用いて、任意の３箇所の１０μｍ角の領域について表面の二乗平均粗さＲｒｍｓを測定し、得られた３つの値の平均を算出した。
【０１１０】
（正反射率の測定）
自動絶対反射率測定システム（日本分光株式会社製）を用いて、入射角５°、反射角５°の条件で、波長２５０〜８５０ｎｍまでの分光反射率を測定することにより、正反射率を求めた。正反射率の合格基準は５０％以上とする。
【０１１１】
【表１】
0005503388.tif 000003
【０１１２】
表１に示すように、光沢Ｎｉめっき膜の上にＡｇ合金膜を形成した試料Ｎｏ．１では、表面のＲｒｍｓが小さくなっているため、高い正反射率を示した。一方、光沢Ｎｉめっき膜がない比較例の試料Ｎｏ．２では、試料表面のＲｒｍｓが基板表面のＲｒｍｓと同程度で大きく、正反射率が低かった。
【実施例２】
【０１１３】
実施例１と同様に、図１（ｂ）に示す積層構造を有し、光沢Ｎｉめっき膜の膜厚、ならびにＡｇ合金膜の組成および膜厚が異なるＬＥＤ用リードフレームの試料を作製し、これらの膜厚や組成による効果を比較した。
【０１１４】
〔試料の作製〕
実施例１に適用したものと同様の基板（図３（ａ）参照）を作製し、その表面に光沢Ｎｉめっき膜を、めっき時間を変化させて表２に示す膜厚で形成した。さらに実施例１と同様にして、スパッタリング装置で、表２に示す組成のＡｇ合金またはＡｇからなるターゲットを用いて、成膜時間を変化させて光沢Ｎｉめっき膜の上の膜厚が表２に示す値となるようにＡｇ合金膜またはＡｇ膜を成膜して、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ａの試料（試料Ｎｏ．３〜１２）を作製した。また、それぞれの組成のターゲットを用いてソーダライムガラス基板上に成膜して、実施例１と同様の方法でＡｇ合金膜の組成を求めた。得られた組成を表２に示す。
【０１１５】
〔測定、評価〕
得られた試料Ｎｏ．３〜１２について、実施例１と同様にして、表面の二乗平均粗さＲｒｍｓおよび正反射率を測定し、また下記の方法で、耐熱性および耐湿性を評価し、ワイヤボンディング試験を行った。結果を表２に示す。
【０１１６】
（耐熱性評価）
耐熱試験として、試料を、恒温槽内で１７０℃で２時間加熱し、引き続き１５０℃で５時間加熱し、さらに引き続き２６０℃で５分間加熱した。試験後、前記と同様の方法で表面の正反射率を測定し、耐熱試験による正反射率の劣化が５ポイント未満のものを合格とした。
【０１１７】
（耐湿性評価）
試料から４ｃｍ×５ｃｍの試験片（基板面積約１８ｃｍ2）を切り出し、耐湿試験として、恒温恒湿試験機内で、５０℃、９５ＲＨ％の雰囲気に２４０時間暴露した。試験後、試験片の表面を目視観察して白点の数を計測した。白点の数が５個以下のものを耐湿性が良好であるとして「○」、白点の数が６個以上のものを耐湿性が不良であるとして「×」で評価した。
【０１１８】
ここで、耐湿試験で発生する白点は、大気中に浮遊している飛来塩分や塵芥に付着している塩素が、試験片表面に付着して湿潤雰囲気中で試験片表面に生じた水膜に溶解して、試験片のＡｇと反応することによって形成された、Ａｇ凝集によるものである。したがって、この耐湿試験は、ハロゲンイオンによるＡｇ凝集の試験（耐ハロゲン化試験）に代わるものである。
【０１１９】
（ワイヤボンディング試験）
試料の表面（上面）を、インナーリード部１５ａ，１５ｂ（図３（ｂ）参照）間にて、金線（線径：φ２５μｍ）でワイヤボンディングした後、光学顕微鏡で観察しながら金線の中央をピンセットで掴んで引っ張ることにより試験を行った。その結果、試料のボンディング箇所に剥離がなく、金線を切ることができた場合をワイヤボンディング性が良好であるとして「○」、少なくとも一方のボンディング箇所（金線とＬＥＤ用リードフレームとの界面）から金線が剥がれた場合を不良であるとして「×」で評価した。
【０１２０】
【表２】
0005503388.tif 000004
【０１２１】
表２に示すように、本発明の範囲の膜厚の光沢Ｎｉめっき膜上に本発明の範囲のＡｇ合金膜を備えた実施例に該当する試料Ｎｏ．６〜９，１２は、正反射率が高く、耐久性（耐熱性、耐湿性）およびワイヤボンディング性も良好であった。特に、光沢Ｎｉめっき膜の膜厚が３μｍ以上の試料Ｎｏ．８，９，１２は、表面のＲｒｍｓが十分に小さく、正反射率が大きく向上した。これに対して、試料Ｎｏ．３は光沢Ｎｉめっき膜の膜厚が薄いため、Ａｇ合金膜の表面のＲｒｍｓが大きく、正反射率が低かった。一方、試料Ｎｏ．５はＡｇ合金膜の膜厚が薄いため、ワイヤボンディング性が不十分であった。
【０１２２】
試料Ｎｏ．４，１０は、Ａｇ合金膜のＧｅの含有率が不足したため、耐熱試験および耐湿試験において、それぞれＡｇの凝集により、白点発生と表面荒れによる反射率の劣化を生じ、特にＧｅが無添加のＡｇ膜を備える試料Ｎｏ．４は、反射率の劣化が大きかった。一方、試料Ｎｏ．１１は、Ｎｄの含有率が過剰なため、Ａｇ合金膜の表面が黄色化して反射率全体が低下し、表面のＲｒｍｓが十分に小さくても、正反射率の低下に至った。
【実施例３】
【０１２３】
下記のようにして、ＬＥＤ素子実装体を備える図５に示す構造の第２実施形態の変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｄの試料を作製し、ＬＥＤ素子実装体におけるＡｇ合金膜の効果を比較した。なお、リード部材１ａ，１ｂの構成（基板形状および断面構造）は、図３（ｂ）、（ｃ）に示す第２実施形態の変形例に係るＬＥＤ用リードフレーム１０Ｃと同様とした。
【０１２４】
〔試料作製〕
（基板の作製および光沢Ｎｉめっき膜の形成）
実施例１に適用したものと同様の基板（図３（ａ）参照）を作製し、その表面に、実施例１の試料Ｎｏ．１と同様に膜厚３μｍの光沢Ｎｉめっき膜を形成した。
【０１２５】
（樹脂成形体の形成）
耐熱性ポリアミド樹脂（ジェネスタＴＡ１１２、クラレ製）を射出成形（インサート成形）して、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、凹状の素子実装部２２に切込みを有するＬＥＤ素子実装体２Ａの樹脂成形体２１を、光沢Ｎｉめっき膜１２を形成された基板１１Ａの一対のリード部材１ａ，１ｂのそれぞれが貫通するように作製した。なお、樹脂成形体２１は、素子実装部２２の底面２２ａ（平面２２ｅ）がインナーリード部１５ａ，１５ｂの光沢Ｎｉめっき膜１２の表面とほぼ面一となるように成形して、インナーリード部１５ａ，１５ｂ間に、前記樹脂が存在する（充填された）ようにした。
【０１２６】
（Ａｇ合金膜の成膜）
図５（ｂ）に示すように、厚さ０．１ｍｍの銅板からなるマスク３４を、樹脂成形体２１の素子実装部２２の切込みに、下端が平面２２ｅ（インナーリード部１５ａ，１５ｂ間に充填された樹脂の表面）に接するように嵌装した。また、樹脂成形体２１の外側の長辺方向の側面にもマスクを設けた。このマスク３４を嵌装した試料をスパッタリング装置のチャンバー内に設置し、実施例１の試料Ｎｏ．１，２と同じＡｇ−１ａｔ％Ｇｅ合金ターゲットを用いて、Ａｇ−０．３ａｔ％Ｇｅの組成を有するＡｇ合金膜を、インナーリード部１５ａ，１５ｂの光沢Ｎｉめっき膜１２の上の膜厚が３００ｎｍになるように成膜した。これによって、図５（ａ）、（ｂ）に示す構造（断面は図３（ｃ）に示す構造）を有するＬＥＤ用リードフレーム１０Ｄの試料（試料Ｎｏ．１３）を得た。
【０１２７】
得られた試料Ｎｏ．１３のＬＥＤ用リードフレーム１０Ｄの１個分を切り出して（図３（ｂ）、（ｃ）の太破線参照）、インナーリード部１５ａとインナーリード部１５ｂとの間の電気導通性をテスターで検査した結果、導通はなく、絶縁されていることを確認できた。
【０１２８】
また、比較例として、Ａｇ合金膜に代えてＡｇ膜を成膜したＬＥＤ用リードフレームの試料（試料Ｎｏ．１４）を、試料Ｎｏ．１３と同様の方法で作製した。
【０１２９】
〔測定、評価〕
（素子実装部の表面のＡｇ合金膜の膜厚と二乗平均粗さの測定）
試料の樹脂部分（ＬＥＤ素子実装体２）を、内側の表面（素子実装部２２の側面２２ｂ）と直交する面で切断して、切断面をＦＥ−ＳＥＭ（日立製作所製ＳＵ−７０）にて加速電圧２ｋＶで５万倍の倍率で観察することにより、素子実装部の表面のＡｇ合金膜（Ａｇ膜）の膜厚を測定した。また、同Ａｇ合金膜（Ａｇ膜）について、実施例１と同様の方法で表面の二乗平均粗さＲｒｍｓを測定した。これらの結果を表３に示す。
【０１３０】
（耐湿性評価）
得られた試料について、実施例２と同様に耐湿試験を行った。耐湿試験後にＬＥＤ素子実装体を切断して、内側（素子実装部２２）の表面が外部から観察できるようにし、素子実装部２２のＡｇ合金膜（Ａｇ膜）の表面を、光学顕微鏡で５０倍に拡大して観察した。白点のないものを耐湿性が良好であるとして「○」、白点が発生したものを耐湿性が不良であるとして「×」で評価し、表３に示す。
【０１３１】
【表３】
0005503388.tif 000005
【０１３２】
本発明の第２実施形態およびその変形例に係るＬＥＤ用リードフレームにおいて、ＬＥＤ素子実装体を構成する樹脂（樹脂成形体）の表面に形成されるＡｇ合金膜は、リード部材（インナーリード部）の光沢Ｎｉめっき膜上のＡｇ合金膜と一体に成膜することができた。そして、本発明の範囲の組成のＡｇ合金膜（試料Ｎｏ．１３）は、耐湿試験において表面外観に変化が認められず、ＬＥＤ用リードフレームのＬＥＤ素子実装体を構成する樹脂の表面に形成されても耐久性が高いことがわかった。これに対してＡｇ膜（試料Ｎｏ．１４）は、耐湿試験において、Ａｇが凝集して表面に多数の白点が認められた。
【実施例４】
【０１３３】
実施例１と同様に、図１（ｂ）に示す積層構造を有し、膜厚３μｍの光沢Ｎｉめっき膜上に、Ａｇ−Ｇｅ−Ｂｉ合金、Ａｇ−Ａｕ−Ｇｅ−Ｂｉ合金で組成および膜厚を変化させて成膜してＬＥＤ用リードフレームの試料を作製し、Ａｇ合金膜におけるＧｅ，Ｂｉ，Ａｕの効果を比較した。
【０１３４】
〔試料作製〕
実施例１に適用したものと同様の基板（図３（ａ）参照）を作製し、その表面に実施例１の試料Ｎｏ．１と同様に膜厚３μｍの光沢Ｎｉめっき膜を形成した。さらに実施例１、実施例２と同様にして、スパッタリング装置で、表４に示す組成のＡｇまたはＡｇ−Ｇｅ−Ｂｉ，Ａｇ−Ａｕ−Ｇｅ−Ｂｉ合金からなるターゲットを用いて、成膜時間を変化させて光沢Ｎｉめっき膜の上の膜厚が表４に示す値となるようにＡｇ合金膜を成膜して、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ａの試料（試料Ｎｏ．１５〜２０）を作製した。また、それぞれの組成のターゲットを用いてソーダライムガラス基板上に成膜して、実施例１と同様の方法でＡｇ合金膜の組成を求めた。得られた組成を表４に示す。
【０１３５】
〔測定、評価〕
得られた試料Ｎｏ．１５〜２０について、実施例１と同様にして、表面の二乗平均粗さＲｒｍｓおよび正反射率を測定し、また実施例２と同様にして、耐熱性および耐湿性を評価し、ワイヤボンディング試験を行った。なお、耐湿性評価においては、計測した白点の数を表４に示し、さらに試験後の正反射率の測定も行い、耐湿試験による正反射率の劣化が５ポイント未満かつ白点の数が５個以下のものを合格とした。また下記の方法で耐硫化性を評価した。結果を表４に示す。
【０１３６】
（耐硫化性評価）
硫化アンモニウムを水に溶解して、５ｗｔ％の硫化アンモニウム水溶液を調整した。この硫化アンモニウム水溶液の液面から３ｃｍの高さ位置に表面が液面に対向するように試料を水平に載置し、耐硫化試験として、硫化アンモニウム水溶液から蒸発する硫化水素に１０分間暴露した。試験後、正反射率を測定し、耐硫化試験による正反射率の低下が２０ポイント以下のものを合格とした。
【０１３７】
【表４】
0005503388.tif 000006
【０１３８】
表４に示すように、本発明の範囲の実施例に該当する試料Ｎｏ．１７〜２０は、正反射率が高く、耐熱性、耐湿性、さらに耐硫化性も良好で、優れた耐久性を示した。特にＡｕを添加した試料Ｎｏ．１９，２０は耐湿試験による劣化が見られず、優れた耐湿性を示した。これに対して、試料Ｎｏ．１５はＡｇ合金膜の代わりにＡｇ膜を備えるものであるため、実施例２の試料Ｎｏ．４と同様に、耐熱試験および耐湿試験、さらに耐硫化試験において、Ａｇの凝集や硫化物の生成により、表面荒れや変色、また白点発生による反射率の著しい劣化を生じた。また、試料Ｎｏ．１５はＧｅの含有率が不足し、またＢｉの含有率が本発明の好ましい範囲より少ないため、Ｇｅ，Ｂｉのそれぞれによる効果が不十分で、耐熱試験、耐湿試験、および耐硫化試験において反射率の劣化を生じた。なお、試料Ｎｏ．１５〜２０は、いずれもＡｇ合金膜（Ａｇ膜）の膜厚が本発明の範囲であるため、ワイヤボンディング性は良好であった。
【実施例５】
【０１３９】
実施例４と同様に、光沢Ｎｉめっき膜およびＡｇ(−Ａｕ)−Ｇｅ−Ｂｉ合金からなるＡｇ合金膜を成膜して、その上にさらに金属酸化膜を成分および膜厚を変化させて形成してＬＥＤ用リードフレームの試料を作製し、金属酸化膜による効果を実施例４と比較した。
【０１４０】
〔試料作製〕
実施例１に適用したものと同様の基板（図３（ａ）参照）を作製し、その表面に実施例１と同様に、膜厚３μｍの光沢Ｎｉめっき膜を形成した後、スパッタリング装置で、表５に示す組成のＡｇ−Ｇｅ−Ｂｉ，Ａｇ−Ａｕ−Ｇｅ−Ｂｉ合金からなるターゲットを用いて、光沢Ｎｉめっき膜の上の膜厚が２００ｎｍとなるようにＡｇ合金膜を成膜した。次に、表５に示す金属酸化膜用の金属ターゲット（前記Ａｇ合金ターゲットと同形状）をスパッタリング装置の電極に設置し、再び、真空ポンプでチャンバー内圧力が１．３×１０-3Ｐａ以下となるように真空排気した後、アルゴンガスをチャンバー内に導入してチャンバー内圧力を０．２７Ｐａに調整した。この状態で、前記金属ターゲットに直流電圧（出力１００Ｗ）を印加してスパッタリングを行い、Ａｇ合金膜の上に膜厚を変化させて金属膜を成膜し、チャンバーから取り出して大気中で金属膜を酸化させて金属酸化膜として、ＬＥＤ用リードフレーム１０Ａの試料（試料Ｎｏ．２１〜２６）を作製した。また、Ａｇ合金膜については、それぞれの組成のターゲットを用いてソーダライムガラス基板上に成膜して、実施例１と同様の方法で組成を求めた。得られた組成を表５に示す。
【０１４１】
〔測定、評価〕
得られた試料Ｎｏ．２１〜２６について、下記の通り、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）を行って、Ａｇ合金膜上の金属酸化膜の膜厚を測定した。また、実施例１と同様にして表面の正反射率を測定し、実施例２と同様の方法で耐熱性評価およびワイヤボンディング試験を行い、実施例４と同様の方法で耐湿性および耐硫化性を評価した。結果を表５に示す。
【０１４２】
（金属酸化膜の膜厚の測定）
試料の表面（Ａｇ合金膜および金属酸化膜を形成した側）について、全自動走行型Ｘ線光電子分光分析装置（Physical Electronics社製Quantera SXM）を用いて、表５に示す金属酸化膜に含まれる金属元素および酸素元素Ｏ、ならびにＡｇの各濃度を、表面から深さ方向へ測定した。測定条件は、Ｘ線源：単色化Ａｌ−Ｋα、Ｘ線出力：４３．７Ｗ、Ｘ線ビーム径：２００μｍ、光電子取出し角：４５°、Ａｒ+スパッタ速度：ＳｉＯ2換算で約０．６ｎｍ／分とした。金属酸化膜に含まれる金属元素の濃度が、最高濃度の１／２まで減少した深さを金属酸化膜の膜厚とした。
【０１４３】
【表５】
0005503388.tif 000007
【０１４４】
表５に示すように、試料Ｎｏ．２１〜２６は、本発明の範囲の金属酸化膜をＡｇ合金膜上に備えることで、同程度のＧｅを含有するＡｇ合金膜上に金属酸化膜を設けない実施例４の試料Ｎｏ．１８，２０（表４参照）と比較して耐硫化性が向上し、また耐熱性および耐湿性も良好で、特に優れた耐久性を示した。また、Ａｇ合金膜上に金属酸化膜を設けても、高い正反射率および良好なボンディング性が保持された。
【符号の説明】
【０１４５】
１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ  ＬＥＤ用リードフレーム
１，１Ａ  リード部材
１１，１１Ａ  基板
１２    光沢Ｎｉめっき膜
１３    Ａｇ合金膜
１ａ，１ｂ  リード部材
１５ａ，１５ｂ  インナーリード部
１６ａ，１６ｂ  アウターリード部
２，２Ａ  ＬＥＤ素子実装体
２１    樹脂成形体（基体）
２２    素子実装部
２２ａ  底面
２２ｂ，２２ｃ  側面
２２ｄ  開口部
２２ｅ  平面
２３    Ａｇ合金膜
２８    離間領域
３３，３４  マスク
【図１】
0005503388.tif 000008
【図２】
0005503388.tif 000009
【図３】
0005503388.tif 000010
【図４】
0005503388.tif 000011
【図５】
0005503388.tif 000012
【図６】
0005503388.tif 000013
【図７】
0005503388.tif 000014
【図８】
0005503388.tif 000015