(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料ステージに静電チャックによって保持された試料に電子線を照射し、前記試料の画像を生成する荷電粒子線装置であって、
前記試料を保持する際に、前記静電チャックのチャック電極に予め設定した初期電圧を印加するとともに、前記チャック電極から所定の過渡電流が発生したか否かを検出し、
前記所定の過渡電流が検出されていない場合は、前記所定の過渡電流が検出されるまで、前記チャック電極に印加する電圧を上昇させる静電チャック制御部
を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
試料ステージに静電チャックによって保持された試料に電子線を照射し、前記試料の画像を生成する荷電粒子線装置であって、
前記試料のエッジ部が観察対象となる前記試料ステージの所定位置を予め設定し、前記試料ステージが移動した際に、前記試料ステージの位置を検出し、前記試料ステージが前記所定位置にあるか否かを判定する試料ステージ制御部と、
前記試料ステージ制御部が前記試料ステージは前記所定位置にあると判定した場合は、前記静電チャックのチャック電極に印加する電圧を高電圧にする静電チャック制御部と、
を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
試料を吸着するための静電チャックを有する静電チャック装置であって、
前記試料を保持する際に、前記静電チャックのチャック電極に予め設定した初期電圧を印加するとともに、前記チャック電極から所定の過渡電流が発生したか否かを検出し、
前記所定の過渡電流が検出されていない場合は、前記所定の過渡電流が検出されるまで、前記チャック電極に印加する電圧を上昇させる静電チャック制御部
を備えることを特徴とする静電チャック装置。
【請求項４】
試料を吸着するための静電チャックを有する試料ステージを備える静電チャック装置であって、
前記試料のエッジ部が観察対象となる前記試料ステージの所定位置を予め設定し、前記試料ステージが移動した際に、前記試料ステージの位置を検出し、前記試料ステージが前記所定位置にあるか否かを判定する試料ステージ制御部と、
前記試料ステージ制御部が前記試料ステージは前記所定位置にあると判定した場合は、前記静電チャックのチャック電極に印加する電圧を高電圧にする静電チャック制御部と、
を備えることを特徴とする静電チャック装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子線装置の静電チャックにおける試料保持制御技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
荷電粒子線を用いて半導体ウェハを加工する装置や、半導体ウェハ上の回路パターンを検査する装置等は、半導体ウェハを保持するために、静電吸着力を用いた静電チャック方式による試料保持機能を有している。
【０００３】
このような装置の一例として、電子線測長機がある。これは、半導体ウェハ上に作り込まれた回路パターンの幅、位置を測定するものである。静電チャック方式は、クーロン方式とジョンソン・ラーベック方式があるが、電子線測長機は、プローブ電流が非常に小さいことから、半導体ウェハに電流を流さないクーロン方式を採用している。
【０００４】
クーロン方式は、誘電体の抵抗率が非常に大きいため、ジョンソン・ラーベック方式に比べ、大きな印加電圧が必要となる。このため、後記する問題が発生する。
なお、静電チャックによって、半導体ウェハ（以下、適宜「ウェハ」という。）が正常に吸着したか否かの判断方法については、ウェハが正常に吸着されているときに静電チャック回路に流れる電流を参照値として、当該参照値より電流が小さい場合に、正常にウェハが配置されていない（異常）と判断する方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−３３０２２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
静電チャックは、印加電圧と時間との関係により、電源をＯＦＦにした場合においても残留吸着力として吸着力が残留する現象を引き起こす可能性がある。これは、ウェハ表面等に誘起された電荷が緩和されず、意図しない吸着力が残っている状態である。静電チャックに印加する電圧が大きくなると、残留吸着力は、大きくなる傾向にある。このような状態になると、試料室内を大気開放して手動で取り出す等の事態となり、装置のダウンタイムが増大してしまうという問題がある。
【０００７】
本発明は、このような背景に鑑みてなされたものであり、状況に応じた印加電圧とすることで装置の信頼性を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するために、本発明の荷電粒子線装置は、試料ステージに静電チャックによって保持された試料に電子線を照射し、前記試料の画像を生成する荷電粒子線装置であって、前記試料を保持する際に、前記静電チャックのチャック電極に予め設定した初期電圧を印加するとともに、前記チャック電極から所定の過渡電流が発生したか否かを検出し、前記所定の過渡電流が検出されていない場合は、前記所定の過渡電流が検出されるまで、前記チャック電極に印加する電圧を上昇させる静電チャック制御部を備えることを特徴とする。
その他の解決手段については、実施形態中で適宜説明する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、状況に応じた印加電圧とすることで装置の信頼性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態に係る荷電粒子線装置の構成を示す図である。
【図２】実施形態に係る荷電粒子線装置における静電チャック制御部の構成を示す図である。
【図３】残留吸着力について説明する図であり、（ａ）は、チャック電極に印加する電圧の大きさとウェハの吸着力との関係を示すグラフである。（ｂ）は、電圧印加積算時間と残留吸着力との関係を示すグラフである。
【図４】チャック電圧の大きさと反りウェハの反り量との関係を示すグラフである。
【図５】ウェハが試料ステージに載置されてから、観察動作を経て、ウェハが静電チャックから脱離するまでのチャック電圧の時間軸における変化を示す図である。
【図６】第１実施形態に係る荷電粒子線装置の動作を示すフローチャートである。
【図７】ウェハのエッジ部測定に関する図であり、（ａ）は、ウェハのエッジ部へ観測点が移動する様子を示す図である。（ｂ）は、ウェハのエッジ部近傍の電位分布を示す図である。
【図８】第２実施形態に係る荷電粒子線装置の動作を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜第１実施形態＞
以下、本発明の第１実施形態について、図１〜図６を参照して説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。
［荷電粒子線装置１の構成］
図１は、実施形態に係る荷電粒子線装置１の構成を示す図である。
図１に示すように、荷電粒子線装置１は、電子光学系カラム２と、試料室３と、制御系と、を備えている。
【００１２】
まず、荷電粒子線装置１の観察動作について説明する。
試料室３内には、ウェハ（試料）２４が、チャック電極２６を有する静電チャック３０によって試料ステージ２５に保持されている。Ｚセンサ２７は、ウェハ２４の高さを検出し、Ｚセンサ制御部１１へ高さ情報を出力する。
電子光学系カラム２内の電子銃１４からは一次電子線１６が引出し電極１５によって射出される。一次電子線１６は、焦点コイル２０または動焦点コイル２１により集束され、偏向器１９により偏向されてウェハ２４上を走査する。なお、一次電子線１６をブランキングする必要がある場合は、ブランキング偏向器１７は、一次電子線１６を偏向して絞り１８を通過しないようにする。
電子銃１４、絞り１８および焦点コイル２０は、電子光学制御部８により制御される。
ブランキング偏向器１７、偏向器１９および動焦点コイル２１は、偏向制御部１０により制御される。
【００１３】
一次電子線１６がウェハ２４に照射されると、反射電子および二次電子が発生し、これらはＥ×Ｂ偏向器２３によって加速され、二次電子検出器２２によって検出される。二次電子検出器２２で検出された反射電子および二次電子の検出信号は、画像処理部９に入力される。画像処理部９は、制御情報を元に画像データを生成し、生成された画像データは、イーサネット（登録商標）６を介して、図示しない表示装置に画像として表示される。
なお、電子光学制御部８、画像処理部９、偏向制御部１０およびＺセンサ制御部１１は、ＶＭＥ＿Ｂｕｓ（VERSAModule Eurocard_Bus）７を介して、上位制御ＣＰＵ（Central Processing Unit）５により制御される。
【００１４】
試料ステージ制御部１２は、試料ステージ２５の位置を制御するものである。鉛直軸と垂直な平面をＸＹ平面とすると、試料ステージ２５は、Ｘ方向およびＹ方向に移動可能であり、試料ステージ制御部１２は、試料ステージ２５のＸＹ座標を把握し、予め設定された情報に基づいて、試料ステージ２５を移動させる。
静電チャック制御部１３は、静電チャック３０のチャック電極２６に電圧を印加するものであり、ウェハ２４の吸着状態の判定も行う。また、静電チャック制御部１３は、印加する電圧を変更することができる。次に、静電チャック制御部１３の詳細を説明する。
【００１５】
（静電チャック制御部１３の構成）
図２は、静電チャック制御部１３の構成を示す図である。
図２に示すように、静電チャック制御部１３は、印加電圧部１３１と、電流検出部１３２と、吸着判定部１３３と、出力電圧分圧モニタ部１３４と、制御ＩＣ（Integrated Circuit）１３５と、を備えている。
【００１６】
チャック電極２６は、試料ステージ２５内に埋め込まれており、同心円状のダイポール型の静電チャック３０を構成している。印加電圧部１３１は、この静電チャック３０のチャック電極２６に電圧を印加するものである。なお、一点鎖線で示した部分の電位は、例えば、電位ＶＲとなっている。印加電圧部１３１は、この電位ＶＲ上に構成されている。このため、印加電圧部１３１の出力部では、荷電粒子線装置１のＧＮＤ（グランド）からは電位ＶＲが加算され、高電位となっている。
【００１７】
印加電圧部１３１は、図示しない出力電圧可変機能を備えており、チャック電極２６に印加する電圧は、上位制御ＩＣ１３７が制御ＩＣ１３５を介して制御する。すなわち、チャック電極２６に印加する電圧については、外部から目標電圧値の設定やＯＮ／ＯＦＦが可能である。
なお、ウェハ２４（図示せず）に照射される一次電子線１６に影響を与えないようにするためには、チャック電極２６の＋／−電極面積比に基づいて、＋電極と−電極に印加する電圧に若干の電圧差をもたせればよい。
【００１８】
ここで、ウェハ２４が静電チャック３０に正常に吸着したか否かを判定する方法について説明する。
静電チャック３０にウェハ２４が載置された状態で、印加電圧部１３１がチャック電極２６に電圧を印加すると、静電チャック３０の表面とウェハ２４の裏面において誘電分極が発生する。これにより、チャック電極２６の正負電極とウェハ２４間にコンデンサが形成されることとなる。このとき、チャック電極２６の正負電極とウェハ２４間に、コンデンサの容量に比例した過度電流が発生する。コンデンサの容量は、ウェハ２４の吸着状態が正常である場合は、異常である場合と比べて大きくなる。このため、測定した過度電流の大きさ（ピークの大きさ）を予め設定した閾値と比較することにより、ウェハ２４が静電チャック３０に正常に吸着したか否かを判定することができる。
したがって、電流検出部１３２により、チャック電極２６から発生する過度電流を検出し、吸着判定部１３３により、この過度電流の大きさを予め設定した閾値と比較することとで、制御ＩＣ１３５は、ウェハ２４の吸着状態を認識することができる。
【００１９】
出力電圧分圧モニタ部１３４は、チャック電極２６への実印加電圧（以下、適宜「チャック電圧」という。）をモニタリングするためのものであり、チャック電圧は、ＡＤＣ（Analog to Digital Converter）１３６を介して、上位制御ＩＣ１３７で認識される。
【００２０】
以上のように、静電チャック制御部１３は、ウェハ２４の状況に応じて、チャック電極２６に印加する電圧を変更することができる。
【００２１】
次に、チャック電極２６に印加する電圧に関する許容性について説明する。
図３（ａ）は、チャック電極２６に印加する電圧の大きさとウェハ２４の吸着力との関係を示すグラフである。このグラフに示すように、チャック電極２６の印加電圧が大きいほど、ウェハ２４の吸着力が大きいことがわかる。吸着力が大きいと、摩擦による異物の発生の問題が起きてしまうため、必要以上に高電圧とするべきではない。
図３（ｂ）は、チャック電極２６の最大電圧印加時における電圧印加積算時間と残留吸着力との関係を示すグラフである。このグラフに示すように、チャック電極２６に電圧を印加する時間が長いほど、残留吸着力が大きくなる傾向にあることがわかる。
また、吸着力が大きいほど（印加電圧が大きいほど）、残留吸着力が大きくなることも判明している。したがって、残留吸着力の影響を抑えるためには、印加電圧を小さくし、印加時間を短くすることが求められる。
【００２２】
次に、チャック電極２６に印加する電圧に関する必要性について説明する。
図４は、チャック電極２６に印加する電圧の大きさと反りのあるウェハ（以下、「反りウェハ」という。）の反り量との関係を示すグラフである。このグラフに示すように、反りウェハを平坦にするためには、ある程度の高電圧を印加する必要があることがわかる。
なお、半導体ウェハの観察動作においては、ウェハ２４は、高精度測定に対応するためには、平坦であることが必要である。一方、反りのないウェハ（以下、「平坦ウェハ」という。）の場合は、反りウェハのように高電圧を印加する必要はなく、比較的低電圧で静電チャック３０に正常に吸着する。
【００２３】
このような様々なウェハ２４の状況に対応するため、静電チャック制御部１３は、ウェハ２４が静電チャック３０に吸着した時に発生する過度電流の波形に基づいて、チャック電極２６に印加する電圧を制御することとする。
【００２４】
図５は、ウェハ２４が試料ステージ２５に載置されてから、ウェハ２４が静電チャック３０に吸着し（静電チャックＯＮ制御）、試料ステージ２５が移動し、観察動作（測長）を経て、ウェハ２４が静電チャック３０から脱離し（静電チャックＯＦＦ制御）、ウェハ２４が試料ステージ２５から離れるまでのチャック電圧の時間軸における変化を示す図である。電流検出は、ウェハが静電チャックに正常に吸着したことを示す過度電流５３，５４を模式的に示している。
【００２５】
チャック電圧が初期電圧５１となったときに、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流５３を検出した場合は、チャック電圧は、初期電圧５１に保たれる（破線）。この初期電圧５１を保ったまま、観察動作（測長）が行われる。
一方、チャック電圧が初期電圧５１となったときに、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流５３を検出できなかった場合は、チャック電圧を徐々に上げていく（実線）。そして、チャック電圧が印加電圧５２となったときに、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流５４を検出した場合は、チャック電圧は、印加電圧５２に保たれる（実線）。この印加電圧５２を保ったまま、観察動作（測長）が行われる。
【００２６】
ウェハ２４が静電チャック３０から脱離するときには、負の過度電流５５，５６を検出する。また、この例では、チャック電圧に印加した電圧を、高電圧から一気にＯＦＦにするのではなく、一旦低電圧に落としてからＯＦＦにしている。
これにより、残留吸着力による影響の軽減を図ることができる。
【００２７】
［荷電粒子線装置１の動作］
次に、荷電粒子線装置１の動作について図５および図６（構成は適宜図１および図２）を参照して説明する。
図６は、第１実施形態に係る荷電粒子線装置１の動作を示すフローチャートである。
図６のフローチャートに示すように、ステップＳ１０１において、荷電粒子線装置１は、ウェハ２４を試料ステージ２５へ載置するためのリフトを降ろす。
ステップＳ１０２において、静電チャック制御部１３は、設定電圧に初期電圧５１を設定する。
【００２８】
ステップＳ１０３において、静電チャック制御部１３は、チャック電極２６に設定電圧を印加する。
ステップＳ１０４において、静電チャック制御部１３は、チャック電圧が設定電圧に達しているか否かを判定する。
チャック電圧が設定電圧に達していないと判定した場合は（ステップＳ１０４・Ｎｏ）、ステップＳ１０５において、静電チャック制御部１３は、所定の時間待ち、再び、ステップＳ１０４において、チャック電圧が設定電圧に達しているか否かを判定する。
一方、チャック電圧が設定電圧に達していると判定した場合は（ステップＳ１０４・Ｙｅｓ）、ステップＳ１０６において、静電チャック制御部１３は、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流を検出したか否かを判定する。すなわち、ウェハ２４が静電チャックに正常に吸着したか否かの判定である。
例えば図５に示すように、静電チャック制御部１３は、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流５３を検出したか否かを判定する。
【００２９】
ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流を検出したと判定した場合は（ステップＳ１０６・Ｙｅｓ）、ステップＳ１０９において、試料ステージ制御部１２は、試料ステージ２５を移動させる。
例えば図５に示すように、静電チャック制御部１３は、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流５３を検出した場合は、チャック電圧を初期電圧５１に保つこととなる（破線）。そして、試料ステージ制御部１２は、試料ステージ２５を移動させ、荷電粒子線装置１は、観察動作（測長）を行う。
一方、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流を検出していないと判定した場合は（ステップＳ１０６・Ｎｏ）、ステップＳ１０７において、静電チャック制御部１３は、予め設定された電圧分解能の分を設定電圧に加算する。
ステップＳ１０８において、静電チャック制御部１３は、設定電圧を加算した電圧に更新する。そして、処理は、ステップＳ１０３へ戻る。すなわち、静電チャック制御部１３は、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流を検出する（ウェハ２４が静電チャックに正常に吸着する）まで、チャック電極２６に印加する電圧を徐々に上げていく。
例えば図５に示すように、静電チャック制御部１３は、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流５３を検出できなかった場合は、チャック電圧を徐々に上げていく（実線）。静電チャック制御部１３は、チャック電圧が印加電圧５２となったときに、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流５４を検出すると、チャック電圧を印加電圧５２に保つこととなる（実線）。そして、試料ステージ制御部１２は、試料ステージ２５を移動させ、荷電粒子線装置１は、観察動作（測長）を行う。
【００３０】
以上の動作により、初期電圧を低電圧とし、ウェハ２４が正常に吸着したことを示す過度電流を検出した時点（ウェハ２４が静電チャックに正常に吸着した時点）の印加電圧を保つことで、常に高電圧となることを避けることができる。
そのため、印加電圧が安定するまでの時間が短縮され、装置のスループットが向上する。
また、試料の状態に合った印加電圧のコントロールを行うことができる。
また、消費電力低減はもちろんのこと、搬送室内での放電危険性の低減、残留吸着発生頻度の低減、さらには、摩擦による異物の発生についても抑制することができる。
【００３１】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について、図７および図８を参照して説明する。なお、各図において、第１実施形態と共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。
図７（ａ）は、ウェハ２４のエッジ部が観察対象となる様子を示す図であり、図７（ｂ）は、ウェハ２４のエッジ部近傍の電位分布を示す図である。
図７（ａ）に示すように、観測動作時において、試料ステージ２５が移動して、ウェハ２４のエッジ部が観察対象となることがある。このとき、図７（ｂ）に示すように、ウェハ２４の外側の電位分布が落ち込み、一次電子線１６に影響を与え、ウェハ２４の画像の視野にずれが発生してしまう。また、画像の視野範囲を狭めてしまうことにもなる。
【００３２】
このような問題を解決するために、ウェハ２４のエッジ部が観察対象となる位置に試料ステージ２５が移動した時に、チャック電極２６に印加する電圧を高電圧にすることとする。なお、ウェハ２４のエッジ部が観察対象となるような試料ステージ２５のＸＹ座標は、予め設定することができる。
これにより、ウェハ２４の脇の電位を押し上げ、視野ずれを回避することができる。
【００３３】
［荷電粒子線装置１の処理動作（２）］
次に、荷電粒子線装置１の処理動作（２）について図７および図８（構成は適宜図１および図２）を参照して説明する。
この処理は、試料ステージ２５を移動させるたびに行われる。
【００３４】
図８のフローチャートに示すように、ステップＳ２０１において、試料ステージ制御部１２は、試料ステージ２５を移動させる。
ステップＳ２０２において、試料ステージ制御部１２は、試料ステージ２５の現在位置を取得する。
ステップＳ２０３において、試料ステージ制御部１２は、試料ステージ２５の現在位置が予め設定された所定位置であるか否かを判定する。なお、所定位置とは、ウェハ２４のエッジ部が観察対象となる試料ステージの位置である。
【００３５】
試料ステージ２５の現在位置が所定位置でないと判定した場合（ステップＳ２０３・Ｎｏ）、ステップＳ２０９において、荷電粒子線装置１は、そのまま観察動作（測長）を行う。
一方、試料ステージ２５の現在位置が所定位置であると判定した場合（ステップＳ２０３・Ｙｅｓ）、ステップＳ２０４において、静電チャック制御部１３は、設定電圧を変更する。すなわち、静電チャック制御部１３は、設定電圧を高電圧にする。
ステップＳ２０５において、静電チャック制御部１３は、設定電圧を変更後の電圧に更新する。
ステップＳ２０６において、静電チャック制御部１３は、設定電圧をチャック電極２６に印加する。
【００３６】
ステップＳ２０７において、静電チャック制御部１３は、チャック電圧が設定電圧に達しているか否かを判定する。
チャック電圧が設定電圧に達していないと判定した場合は（ステップＳ２０７・Ｎｏ）、ステップＳ２０８において、静電チャック制御部１３は、所定の時間待ち、再び、ステップＳ２０７において、チャック電圧が設定電圧に達しているか否かを判定する。
一方、チャック電圧が設定電圧に達していると判定した場合は（ステップＳ２０７・Ｙｅｓ）、ステップＳ２０９において、荷電粒子線装置１は、チャック電極２６に高電圧を印加した状態で、観察動作（測長）を行う。
【００３７】
実際の運用では、図８に示したフローチャートを基本フローとして、測定時のレシピ設定に基づいて、制御が行われるものとする。
また、ウェハ２４の評価測定時のように、試料保持時間が数十時間にも及ぶ場合には、残留吸着が発生する危険性があるため、ウェハ２４のエッジ部が観察対象となる時のみ、チャック電極２６に高電圧を印加することとする。それ以外の時、すなわち、ウェハ２４のエッジ部以外が観察対象となる時は、チャック電極２６に低電圧を印加することとする。
【００３８】
また、ウェハ２４の量産測定時のように、試料保持時間が短い場合には、スループットを重視するため、ウェハ２４のエッジ部へ観察点が移動する途中で、チャック電極２６の印加電圧を高電圧とし、その後は試料ステージ２５の位置に関係なく、高電圧のままとしてもよい。チャック電極２６への印加電圧は、低電圧の場合でも数百Ｖであるため、高電圧から低電圧への電圧変更時において、電圧が安定するまでの時間は無視できないものである。そのため、試料保持時間が短い測定環境下においては、チャック電極２６へ印加する電圧は極力変更しないことで、スループットの低下を防ぐことができる。
【００３９】
また、平坦ウェハの測定の場合は、チャック電極２６への印加電圧が低電圧であるウェハ２４の中心部の測定を集中的に行い、その後、高電圧が必要なウェハ２４のエッジ部の測定を集中的に行うこととしてもよい。
これにより、印加電圧の変更回数が１回で済むため、高電圧の印加時間を抑えることができる。このため、残留吸着力による影響の軽減およびスループット低下の防止を図ることができる。
【００４０】
本実施形態により、試料の画像の視野範囲の向上を図ることができる。
また、試料の観察領域精度の向上を図ることができる。
【００４１】
＜変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更することができる。
【００４２】
例えば、本発明は、実施形態で示した荷電粒子線装置に限らず、静電チャックを用いて試料等を吸着する場合に広く適用することができる。
【００４３】
また、本発明の実施形態では、フローチャートのステップは、記載された順序に沿って時系列的に行われる処理の例を示したが、必ずしも時系列的に処理されなくとも、並列的あるいは個別実行される処理をも含むものである。
【００４４】
また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００４５】
１      荷電粒子線装置
１２    試料ステージ制御部
１３    静電チャック制御部
１６    一次電子線
２４    ウェハ（試料）
２５    試料ステージ
２６    チャック電極
３０    静電チャック
５１    初期電圧
５２    印加電圧
５３，５４    ウェハが正常に吸着したことを示す過度電流
１３１  印加電圧部
１３２  電流検出部
１３３  吸着判定部
１３４  出力電圧分圧モニタ部
【図１】
0005592833.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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