(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置であって、
基板を保持して回転させる回転保持部と、前記回転保持部に保持された基板の側方を囲むように設けられたカップ体とを備えた２箇所の処理部と、
前記回転保持部に保持された基板上に第１の処理液を吐出する第１の処理液ノズルと、
前記回転保持部に保持された基板上に第２の処理液を吐出する第２の処理液ノズルと、
前記回転保持部に保持された基板上にミスト状のリンス液を吐出する第１のリンス液ノズルと、
前記回転保持部に保持された基板上に液体状のリンス液を吐出する第２のリンス液ノズルと、
前記２箇所の処理部間に配置され、且つ当該２箇所の処理部に対して移動自在であり、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルを共に支持する支持部材と、
前記処理部に対して移動自在であり、前記第１のリンス液ノズルと前記第２のリンス液ノズルを共に支持するアームと、を有し、
前記カップ体は、鉛直方向に移動自在の上部カップと、当該上部カップを収容可能な下部カップとを備え、
前記第１の処理液ノズルから斜め下方に吐出される第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液ノズルから斜め下方に吐出される第２の処理液の吐出方向は、平面視において、それぞれ前記回転保持部に保持された基板の回転方向と同一方向であることを特徴とする、基板処理装置。
【請求項２】
前記第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液の吐出方向が平面視において反対方向になるように、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルは前記支持部材に支持され、
前記第１の処理液を基板上に吐出する際の基板の回転方向と前記第２の処理液を基板上に吐出する際の基板の回転方向とが同一方向になるように、前記回転保持部を制御する制御部をさらに有することを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液の吐出方向が平面視において同一方向になるように、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルは前記支持部材に支持され、
前記第１の処理液を基板上に吐出する際の基板の回転方向と前記第２の処理液を基板上に吐出する際の基板の回転方向とが反対方向になるように、前記回転保持部を制御する制御部をさらに有することを特徴とする、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記各処理部が存在する空間内の雰囲気は、それぞれ異なる排気管から排気されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記２箇所の処理部間には、それぞれの処理部が存在する空間を仕切り、且つ前記支持部材が通過可能な隔壁が設けられていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記下部カップの内側には内部カップが設けられ、
前記下部カップと前記内部カップとの間には、前記上部カップが収容される収容空間が形成され、
前記内部カップの下部には、前記収容空間内の空気を流通させるための通気孔が形成されていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記第１の処理液は、カラーレジストに対して用いられる現像液であり、
前記第２の処理液は、マイクロレンズ用のレジストに対して用いられる現像液であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項８】
基板処理装置を用いた基板処理方法であって、
前記基板処理装置は、
基板を保持して回転させる回転保持部と、前記回転保持部に保持された基板の側方を囲むように設けられたカップ体とを備えた２箇所の処理部と、
前記回転保持部に保持された基板上に第１の処理液を吐出する第１の処理液ノズルと、
前記回転保持部に保持された基板上に第２の処理液を吐出する第２の処理液ノズルと、
前記回転保持部に保持された基板上にミスト状のリンス液を吐出する第１のリンス液ノズルと、
前記回転保持部に保持された基板上に液体状のリンス液を吐出する第２のリンス液ノズルと、
前記２箇所の処理部間に配置され、且つ当該２箇所の処理部に対して移動自在であり、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルを共に支持する支持部材と、
前記処理部に対して移動自在であり、前記第１のリンス液ノズルと前記第２のリンス液ノズルを共に支持するアームと、を有し、
前記カップ体は、鉛直方向に移動自在の上部カップと、当該上部カップを収容可能な下部カップとを備え、
前記基板処理方法は、前記第１の処理液で基板を処理する第１の処理工程と、前記第２の処理液で基板を処理する第２の処理工程と、を有し、
前記第１の処理工程では、前記回転保持部に保持された基板を回転させると共に、前記第２の処理液ノズルを前記第１の処理液ノズルの移動方向前方に位置させた状態で、当該第１の処理液ノズルを基板の径方向に移動させながら、平面視において吐出方向が前記基板の回転方向と同一方向になるように前記第１の処理液ノズルから前記基板上に第１の処理液を吐出し、
前記第２の処理工程では、前記回転保持部に保持された基板を回転させると共に、前記第１の処理液ノズルを前記第２の処理液ノズルの移動方向前方に位置させた状態で、当該第２の処理液ノズルを基板の径方向に移動させながら、平面視において吐出方向が前記基板の回転方向と同一方向になるように前記第２の処理液ノズルから前記基板上に第２の処理液を吐出し、
一の前記処理部において、前記上部カップを上昇させた状態で、前記回転保持部に保持された基板を回転させると共に、前記第１のリンス液ノズルを基板の径方向に移動させながら、当該第１のリンス液ノズルから基板上にミスト状のリンス液を吐出して基板を洗浄した後、さらに前記第２のリンス液ノズルを基板の径方向に移動させながら、当該第２のリンス液ノズルから基板上に液体状のリンス液を吐出して基板を洗浄している間、
他の前記処理部において、前記上部カップを下降させて前記下部カップに収容した状態で、前記第１の処理工程又は前記第２の処理工程が行われることを特徴とする、基板処理方法。
【請求項９】
前記第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液の吐出方向が平面視において反対方向になるように、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルは前記支持部材に支持され、
前記第１の処理工程における基板の回転方向と前記第２の処理工程における基板の回転方向とは同一方向であることを特徴とする、請求項８に記載の基板処理方法。
【請求項１０】
前記第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液の吐出方向が平面視において同一方向になるように、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルは前記支持部材に支持され、
前記第１の処理工程における基板の回転方向と前記第２の処理工程における基板の回転方向とは反対方向であることを特徴とする、請求項８に記載の基板処理方法。
【請求項１１】
前記第１の処理液は、カラーレジストに対して用いられる現像液であり、
前記第２の処理液は、マイクロレンズ用のレジストに対して用いられる現像液であることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれかに記載の基板処理方法。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずかに記載の基板処理方法を基板処理装置によって実行させるために、当該基板処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置、当該基板処理装置を用いた基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばイメージセンサ等の製造工程では、カラーフィルタ用のレジストパターンやマイクロレンズ用のレジストパターンを形成するため、フォトリソグラフィ処理が行われる。フォトリソグラフィ処理では、例えば半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）上にレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、当該レジスト膜に所定のパターンを露光する露光処理、露光されたレジスト膜を現像する現像処理などが順次行われ、ウェハ上に所定のレジストパターンが形成される。
【０００３】
上述した現像処理は、例えば現像装置で行われる。現像装置には、例えば３つの現像処理部が水平方向に並べて配置されている。各現像処理部は、ウェハを保持して回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持されたウェハの側方の周囲に設けられたカップ体とを有している。また、現像装置は、スピンチャックに保持された基板上に現像液を吐出する現像液ノズルと、スピンチャックに保持された基板上に純水等のリンス液を吐出するリンス液ノズルとを有している。現像液ノズルは、例えば複数の現像処理部に共通に設けられ、各現像処理部に移動自在に構成されている。そして、現像液ノズルをウェハの径方向に移動させながら、現像液ノズルからウェハ上に現像液を吐出する。また、リンス液ノズルは、各現像処理部毎に設けられている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−３３０５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、上述したようにイメージセンサ等の製造工程では、カラーフィルタ用のレジストパターンを形成するためのフォトリソグラフィ処理と、マイクロレンズ用のレジストパターンを形成するためのフォトリソグラフィ処理が行われる。すなわち、カラーレジストに対する現像液（以下、「第１の現像液」という場合がある）を用いた現像処理と、マイクロレンズ用レジストに対する現像液（以下、「第２の現像液」という場合がある）を用いた現像処理が行われる。
【０００６】
これらの現像処理を効率よく行うためには、上述した現像装置内において、第１の現像液を吐出する現像液ノズル（以下、「第１の現像液ノズル」という場合がある）と、第２の現像液を吐出する現像液ノズル（以下、「第２の現像液ノズル」という場合がある）とを設けるのが好ましい。また、現像装置の簡素化を図るため、各現像処理部に移動自在の共有アームでこれら２つの現像液ノズルを支持するのが好ましい。
【０００７】
しかしながら、例えばウェハの径方向に第１の現像液ノズルを移動させながら、ウェハ上に第１の現像液を吐出する場合、第１の現像液ノズルがウェハの外周部上方に位置した際に、第２の現像液ノズルがカップ体と干渉する場合がある。一方、第２の現像液ノズルからウェハ上に第２の現像液を吐出する場合も、第２の現像液ノズルがウェハの外周部上方に位置した際に、第１の現像液ノズルがカップ体と干渉する場合がある。
【０００８】
この場合、現像液ノズルと干渉する部分のカップ体を切り欠くことも考えられる。しかしながら、例えばリンス液ノズルからはミスト状のリンス液が吐出されるが、このようにカップ体に切り欠き部が設けられている場合、ミスト状のリンス液が切り欠き部から飛散し、例えば隣接する現像処理部に飛散してしまう。そうすると、この隣接する現像処理部において、ウェハの処理を適切に行うことができない。
【０００９】
このように単に現像装置内に２つの現像液ノズルを設けるだけでは、異なる現像処理を効率よく行うには至らなかった。
【００１０】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、基板の処理を行う処理部を複数備えた基板処理装置において、複数の基板処理を効率よく行うことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記の目的を達成するため、本発明は、基板処理装置であって、基板を保持して回転させる回転保持部と、前記回転保持部に保持された基板の側方を囲むように設けられたカップ体とを備えた２箇所の処理部と、前記回転保持部に保持された基板上に第１の処理液を吐出する第１の処理液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板上に第２の処理液を吐出する第２の処理液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板上にミスト状のリンス液を吐出する第１のリンス液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板上に液体状のリンス液を吐出する第２のリンス液ノズルと、前記２箇所の処理部間に配置され、且つ当該２箇所の処理部に対して移動自在であり、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルを共に支持する支持部材と、前記処理部に対して移動自在であり、前記第１のリンス液ノズルと前記第２のリンス液ノズルを共に支持するアームと、を有し、前記カップ体は、鉛直方向に移動自在の上部カップと、当該上部カップを収容可能な下部カップとを備え、前記第１の処理液ノズルから斜め下方に吐出される第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液ノズルから斜め下方に吐出される第２の処理液の吐出方向は、平面視において、それぞれ前記回転保持部に保持された基板の回転方向と同一方向であることを特徴としている。
【００１２】
本発明によれば、例えば第１の処理液を用いて基板の処理を行う場合、回転保持部に保持された基板を回転させると共に、第２の処理液ノズルを第１の処理液ノズルの移動方向前方に位置させた状態で、当該第１の処理液ノズルを基板の径方向に移動させながら、吐出方向が基板の回転方向と同一方向になるように第１の処理液ノズルから基板上に第１の処理液を吐出する。そうすると、第１の処理液ノズルが基板の外周部上方に位置していても、第２の処理液ノズルがカップ体と干渉することがない。また、第１の処理液の吐出方向と基板の回転方向が同一方向であるため、第１の処理液を基板上に円滑に拡散させることができる。一方、例えば第２の処理液を用いて基板の処理を行う場合においても、回転保持部に保持された基板を回転させると共に、第１の処理液ノズルを第２の処理液ノズルの移動方向前方に位置させた状態で、当該第２の処理液ノズルを基板の径方向に移動させながら、吐出方向が基板の回転方向と同一方向になるように第２の処理液ノズルから基板上に第２の処理液を吐出する。そうすると、第２の処理液ノズルが基板の外周部上方に位置していても、第１の処理液ノズルがカップ体と干渉することがない。また、第２の処理液の吐出方向と基板の回転方向が同一方向であるため、第２の処理液を基板上に円滑に拡散させることができる。以上のように、本発明の基板処理装置では、第１の処理液を用いた基板処理と第２の処理液を用いた基板処理を適切に行うことができ、複数の基板処理を効率よく行うことができる。
【００１３】
前記第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液の吐出方向が平面視において反対方向になるように、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルは前記支持部材に支持され、前記第１の処理液を基板上に吐出する際の基板の回転方向と前記第２の処理液を基板上に吐出する際の基板の回転方向とが同一方向になるように、前記回転保持部材を制御する制御部をさらに有していてもよい。
【００１４】
前記第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液の吐出方向が平面視において同一方向になるように、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルは前記支持部材に支持され、前記第１の処理液を基板上に吐出する際の基板の回転方向と前記第２の処理液を基板上に吐出する際の基板の回転方向とが反対方向になるように、前記回転保持部材を制御する制御部をさらに有していてもよい。
【００１７】
前記各処理部が存在する空間内の雰囲気は、それぞれ異なる排気管から排気されるようにしてもよい。
【００１８】
前記２箇所の処理部間には、それぞれの処理部が存在する空間を仕切り、且つ前記支持部材が通過可能な隔壁が設けられていてもよい。
【００２０】
前記下部カップの内側には内部カップが設けられ、前記下部カップと前記内部カップとの間には、前記上部カップが収容される収容空間が形成され、前記内部カップの下部には、前記収容空間内の空気を流通させるための通気孔が形成されていてもよい。
【００２１】
前記第１の処理液は、カラーレジストに対して用いられる現像液であり、前記第２の処理液は、マイクロレンズ用のレジストに対して用いられる現像液であってもよい。
【００２２】
別な観点による本発明は、基板処理装置を用いた基板処理方法であって、前記基板処理装置は、基板を保持して回転させる回転保持部と、前記回転保持部に保持された基板の側方を囲むように設けられたカップ体とを備えた２箇所の処理部と、前記回転保持部に保持された基板上に第１の処理液を吐出する第１の処理液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板上に第２の処理液を吐出する第２の処理液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板上にミスト状のリンス液を吐出する第１のリンス液ノズルと、前記回転保持部に保持された基板上に液体状のリンス液を吐出する第２のリンス液ノズルと、前記２箇所の処理部間に配置され、且つ当該２箇所の処理部に対して移動自在であり、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルを共に支持する支持部材と、前記処理部に対して移動自在であり、前記第１のリンス液ノズルと前記第２のリンス液ノズルを共に支持するアームと、を有し、前記カップ体は、鉛直方向に移動自在の上部カップと、当該上部カップを収容可能な下部カップとを備え、前記基板処理方法は、前記第１の処理液で基板を処理する第１の処理工程と、前記第２の処理液で基板を処理する第２の処理工程と、を有し、前記第１の処理工程では、前記回転保持部に保持された基板を回転させると共に、前記第２の処理液ノズルを前記第１の処理液ノズルの移動方向前方に位置させた状態で、当該第１の処理液ノズルを基板の径方向に移動させながら、平面視において吐出方向が前記基板の回転方向と同一方向になるように前記第１の処理液ノズルから前記基板上に第１の処理液を吐出し、前記第２の処理工程では、前記回転保持部に保持された基板を回転させると共に、前記第１の処理液ノズルを前記第２の処理液ノズルの移動方向前方に位置させた状態で、当該第２の処理液ノズルを基板の径方向に移動させながら、平面視において吐出方向が前記基板の回転方向と同一方向になるように前記第２の処理液ノズルから前記基板上に第２の処理液を吐出し、一の前記処理部において、前記上部カップを上昇させた状態で、前記回転保持部に保持された基板を回転させると共に、前記第１のリンス液ノズルを基板の径方向に移動させながら、当該第１のリンス液ノズルから基板上にミスト状のリンス液を吐出して基板を洗浄した後、さらに前記第２のリンス液ノズルを基板の径方向に移動させながら、当該第２のリンス液ノズルから基板上に液体状のリンス液を吐出して基板を洗浄している間、他の前記処理部において、前記上部カップを下降させて前記下部カップに収容した状態で、前記第１の処理工程又は前記第２の処理工程が行われることを特徴としている。
【００２３】
前記第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液の吐出方向が平面視において反対方向になるように、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルは前記支持部材に支持され、前記第１の処理工程における基板の回転方向と前記第２の処理工程における基板の回転方向とは同一方向であってもよい。
【００２４】
前記第１の処理液の吐出方向と前記第２の処理液の吐出方向が平面視において同一方向になるように、前記第１の処理液ノズルと前記第２の処理液ノズルは前記支持部材に支持され、前記第１の処理工程における基板の回転方向と前記第２の処理工程における基板の回転方向とは反対方向であってもよい。
【００２６】
前記第１の処理液は、カラーレジストに対して用いられる現像液であり、前記第２の処理液は、マイクロレンズ用のレジストに対して用いられる現像液であってもよい。
【００２７】
また別な観点による本発明によれば、前記基板処理方法を基板処理装置によって実行させるために、当該基板処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。
【００２８】
さらに別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、基板の処理を行う処理部を複数備えた基板処理装置において、複数の基板処理を効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本実施の形態にかかる現像装置を備えた塗布現像処理システムの内部構成の概略を示す平面図である。
【図２】塗布現像処理システムの内部構成の概略を示す側面図である。
【図３】塗布現像処理システムの内部構成の概略を示す側面図である。
【図４】現像装置の構成の概略を示す縦断面図である。
【図５】現像装置の構成の概略を示す横断面図である。
【図６】第１の現像液ノズルと第２の現像液ノズルの構成の概略を示す側面図である。
【図７】第１の現像液ノズルと第２の現像液ノズルの構成の概略を示す側面図である。
【図８】第１のリンス液ノズルと第２のリンス液ノズルの構成の概略を示す側面図である。
【図９】処理部の構成の概略を示す縦断面図である。
【図１０】カップ体の一部の構成の概略を示す縦断面図である。
【図１１】第１の現像液を用いた現像処理の主な工程においてウェハＷを処理する様子を模式的に示した説明図であり、（ａ）は第１の現像液ノズルからウェハ上に第１の現像液を吐出する様子を示し、（ｂ）は第１のリンス液ノズルからウェハ上にミスト状のリンス液を吐出する様子を示し、（ｃ）第２のリンス液ノズルからウェハ上に液体状のリンス液を吐出する様子を示し、（ｄ）現像処理が終了した様子を示している。
【図１２】第１の現像液ノズルからウェハ上に第１の現像液を吐出する様子を示す説明図である。
【図１３】第２の現像液を用いた現像処理の主な工程においてウェハＷを処理する様子を模式的に示した説明図であり、（ａ）は第２の現像液ノズルからウェハ上に第２の現像液を吐出する様子を示し、（ｂ）は第１のリンス液ノズルからウェハ上にミスト状のリンス液を吐出する様子を示し、（ｃ）第２のリンス液ノズルからウェハ上に液体状のリンス液を吐出する様子を示し、（ｄ）現像処理が終了した様子を示している。
【図１４】第２の現像液ノズルからウェハ上に第２の現像液を吐出する様子を示す説明図である。
【図１５】２つの処理部で現像処理を行う様子を示す説明図である。
【図１６】他の実施の形態にかかる第１の現像液ノズルと第２の現像液ノズルの構成の概略を示す説明図である。
【図１７】他の実施の形態において、第１の現像液ノズルからウェハ上に第１の現像液を吐出する様子を示す説明図である。
【図１８】他の実施の形態において、第２の現像液ノズルからウェハ上に第２の現像液を吐出する様子を示す説明図である。
【図１９】他の実施の形態にかかる現像装置の構成の概略を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本発明にかかる基板処理装置としての現像装置を備えた塗布現像処理システム１の内部構成の概略を示す平面図である。図２及び図３は、塗布現像処理システム１の内部構成の概略を示す側面図である。
【００３２】
塗布現像処理システム１は、図１に示すように例えば外部との間で複数枚のウェハＷを収容したカセットＣが搬入出されるカセットステーション２と、フォトリソグラフィ処理の中で枚葉式に所定の処理を施す複数の各種処理装置を備えた処理ステーション３と、処理ステーション３に隣接する露光装置４との間でウェハＷの受け渡しを行うインターフェイスステーション５とを一体に接続した構成を有している。
【００３３】
カセットステーション２には、カセット載置台１０が設けられている。カセット載置台１０には、複数、例えば４つのカセット載置板１１が設けられている。カセット載置板１１は、水平方向のＸ方向（図１中の上下方向）に一列に並べて設けられている。これらのカセット載置板１１には、塗布現像処理システム１の外部に対してカセットＣを搬入出する際に、カセットＣを載置することができる。
【００３４】
カセットステーション２には、図１に示すようにＸ方向に延びる搬送路２０上を移動自在なウェハ搬送装置２１が設けられている。ウェハ搬送装置２１は、鉛直方向及び鉛直軸周り（θ方向）にも移動自在であり、各カセット載置板１１上のカセットＣと、後述する処理ステーション３の第３のブロックＧ３の受け渡し装置との間でウェハＷを搬送できる。
【００３５】
処理ステーション３には、各種装置を備えた複数、例えば４つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４が設けられている。例えば処理ステーション３の正面側（図１のＸ方向負方向側）には、第１のブロックＧ１が設けられ、処理ステーション３の背面側（図１のＸ方向正方向側）には、第２のブロックＧ２が設けられている。また、処理ステーション３のカセットステーション２側（図１のＹ方向負方向側）には、第３のブロックＧ３が設けられ、処理ステーション３のインターフェイスステーション５側（図１のＹ方向正方向側）には、第４のブロックＧ４が設けられている。
【００３６】
例えば第１のブロックＧ１には、図３に示すように複数の液処理装置が鉛直方向に積層されている。例えばウェハＷを現像処理する基板処理装置としての現像装置３０、３１、ウェハＷ上に例えばカラーフィルタ用のレジストパターンを形成するためのカラーレジスト（以下、単に「カラーレジスト」という場合がある）や、マイクロレンズ用のレジストパターンを形成するためのレジスト（以下、「レンズ用レジスト」という場合がある）を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布装置３２、３３、３４が下から順に５段に重ねられている。なお、現像装置３０、３１の詳細な構成については後述する。
【００３７】
レジスト塗布装置３２、３３、３４は、処理時にウェハＷを収容するカップＦを水平方向に複数有し、複数のウェハＷを並行して処理することができる。レジスト塗布装置３２、３３、３４は、少なくともいずれかの装置でカラーレジストとレンズ用レジストを塗布すればよい。例えば各レジスト塗布装置３２、３３、３４が、カラーレジストを塗布するレジストノズルとレンズ用レジストを塗布するレジストノズルをそれぞれ有し、各レジスト塗布装置３２、３３、３４においてカラーレジストとレンズ用レジストの両方を塗布可能に構成してもよい。あるいは、例えばレジスト塗布装置３２、３３がカラーレジストを塗布するレジストノズルを有し、例えばレジスト塗布装置３４がレンズ用レジストを塗布するレジストノズルを有していていもよい。
【００３８】
なお、第１のブロックＧ１には、ウェハＷのレジスト膜の下層に反射防止膜を形成する下部反射防止膜形成装置や、ウェハＷのレジスト膜の上層に反射防止膜を形成する上部反射防止膜形成装置等が配置されていてもよい。
【００３９】
例えば第２のブロックＧ２には、図２に示すようにウェハＷの熱処理を行う熱処理装置４０や、ウェハＷを疎水化処理するアドヒージョン装置４１、ウェハＷの外周部を露光する周辺露光装置４２が鉛直方向と水平方向に並べて設けられている。熱処理装置４０は、ウェハＷを載置して加熱する熱板と、ウェハＷを載置して冷却する冷却板を有し、加熱処理と冷却処理の両方を行うことができる。なお、熱処理装置４０、アドヒージョン装置４１及び周辺露光装置４２の数や配置は、任意に選択できる。
【００４０】
例えば第３のブロックＧ３には、図２及び図３に示すように複数の受け渡し装置５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６が下から順に設けられている。また、第４のブロックＧ４には、複数の受け渡し装置６０、６１、６２が下から順に設けられている。
【００４１】
図１に示すように第１のブロックＧ１〜第４のブロックＧ４に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域Ｄが形成されている。ウェハ搬送領域Ｄには、例えばウェハ搬送装置７０が配置されている。
【００４２】
ウェハ搬送装置７０は、例えばＹ方向、Ｘ方向、θ方向及び鉛直方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置７０は、ウェハ搬送領域Ｄ内を移動し、周囲の第１のブロックＧ１、第２のブロックＧ２、第３のブロックＧ３及び第４のブロックＧ４内の所定の装置にウェハＷを搬送できる。
【００４３】
ウェハ搬送装置７０は、例えば図２に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックＧ１〜Ｇ４の同程度の高さの所定の装置にウェハＷを搬送できる。
【００４４】
また、ウェハ搬送領域Ｄには、第３のブロックＧ３と第４のブロックＧ４との間で直線的にウェハＷを搬送するシャトル搬送装置８０が設けられている。
【００４５】
シャトル搬送装置８０は、例えばＹ方向に直線的に移動自在になっている。シャトル搬送装置８０は、ウェハＷを支持した状態でＹ方向に移動し、第３のブロックＧ３の受け渡し装置５２と第４のブロックＧ４の受け渡し装置６２との間でウェハＷを搬送できる。
【００４６】
図１に示すように第３のブロックＧ３のＸ方向正方向側の隣には、ウェハ搬送装置９０が設けられている。ウェハ搬送装置９０は、例えばＸ方向、θ方向及び鉛直方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置９０は、ウェハＷを支持した状態で上下に移動して、第３のブロックＧ３内の各受け渡し装置にウェハＷを搬送できる。
【００４７】
インターフェイスステーション５には、ウェハ搬送装置１００と受け渡し装置１０１が設けられている。ウェハ搬送装置１００は、例えばＹ方向、θ方向及び鉛直方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置１００は、例えば搬送アームにウェハＷを支持して、第４のブロックＧ４内の各受け渡し装置、受け渡し装置１０１及び露光装置４との間でウェハＷを搬送できる。
【００４８】
次に、上述した現像装置３０、３１の構成について説明する。現像装置３０は、図４及び図５に示すように内部を密閉することができる処理容器１２０を有している。処理容器１２０のウェハ搬送領域Ｄ側の側面には、図５に示すようにウェハＷの搬入出口１２１、１２１が例えば２箇所に形成されている。これら搬入出口１２１、１２１は、後述する処理部１３０、１３１に対応する位置に形成されている。
【００４９】
また、処理容器１２０の底面には、当該処理容器１２０内の雰囲気を排気する２本の排気管１２２、１２２が接続されている。２本の排気管１２２は、それぞれ処理容器１２０内において処理部１３０、１３１が存在する空間の雰囲気を排気する。
【００５０】
処理容器１２０の内部には、例えばカラーレジストに対して用いられる第１の処理液としての現像液（以下、「第１の現像液」という場合がある）、又はレンズ用レジストに対して用いられる第２の処理液としての現像液（以下、「第２の現像液」という場合がある）をウェハＷ上に塗布する２つの処理部１３０、１３１が設けられている。処理部１３０、１３１は、Ｙ方向負方向（図５の左方向）側からＹ方向正方向（図５の右方向）側にこの順で並べて配置されている。
【００５１】
図５に示すように処理部１３０、１３１のＸ方向負方向（図５の下方向）側には、Ｙ方向（図５の左右方向）に沿って延伸する２本のレール１４０、１４１が形成されている。レール１４０、１４１は、例えば処理部１３０のＹ方向負方向（図５の左方向）側の外方から処理部１３１のＹ方向正方向（図５の右方向）側の外方までそれぞれ形成されている。
【００５２】
Ｘ方向負方向側のレール１４０には、支持部材としての共有アーム１５０が取り付けられている。共有アーム１５０には、第１の現像液を吐出する第１の処理液ノズルとしての第１の現像液ノズル１５１と、第２の現像液を吐出する第２の処理液ノズルとしての第２の現像液ノズル１５２とが支持されている。共有アーム１５０は、ノズル駆動部１５３により、レール１４０上を移動自在である。これにより、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２は、処理部１３０と処理部１３１との間を移動でき、さらに当該処理部１３０と処理部１３１内のウェハＷの表面上をウェハＷの径方向に移動できる。また、共有アーム１５０は、ノズル駆動部１５３によって昇降自在であり、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２の高さを調節できる。
【００５３】
処理部１３０、１３１間には、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２の待機部１５４が設けられている。すなわち、現像液ノズル１５１、１５２が待機中、共有アーム１５０は処理部１３０、１３１間に配置されている。待機部１５４は、第１の現像液ノズル１５１を収容する第１のノズルバス１５５と、第２の現像液ノズル１５２を収容する第２のノズルバス１５６とを有している。第１のノズルバス１５５と第２のノズルバス１５６では、それぞれ待機中の第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２の洗浄や、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２からの現像液のダミーディスペンス等が行われる。なお、このように待機部１５４が第１のノズルバス１５５と第２のノズルバス１５６に分割されているので、例えば各現像液ノズル１５１、１５２のダミーディスペンス時に、現像液が他の現像液ノズル１５１、１５２に飛散するのを防止できる。
【００５４】
第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２は、図６及び図７に示すようにＸ方向及びＹ方向にずれて共有アーム１５０に支持されている。このように第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２がずれて配置されることで、各現像液ノズル１５１、１５２から吐出される現像液が、他の現像液ノズル１５１、１５２に付着するのを防止できる。第１の現像液ノズル１５１の下端部には、第１の現像液を斜め下方に吐出する第１の吐出口１６０が形成されている。また、第２の現像液ノズル１５２の下端部には、第２の現像液を斜め下方に吐出する第２の吐出口１６１が形成されている。これら第１の吐出口１６０と第２の吐出口１６１は、第１の現像液の吐出方向（図７中の矢印）と第２の現像液の吐出方向（図７中の矢印）が平面視において反対方向になるように形成されている。なお、ウェハＷはその撥水性が高いため、第１の現像液及び第２の現像液を鉛直下方に吐出すると、ウェハＷ上で衝突した第１の現像液及び第２の現像液が飛散し易い。このような飛散を抑制するため、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２からそれぞれ第１の現像液と第２の現像液を斜め下方に吐出している。
【００５５】
第１の吐出口１６０は、第１の現像液ノズル１５１内に形成された流通路１６２と、共有アーム１５０の上部に設けられた供給管１６３とを介して、第１の現像液を貯留する第１の現像液供給源１６４に連通している。供給管１６３には、第１の現像液の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群１６５が設けられている。この供給機器群１６５により、第１の現像液供給源１６４から供給管１６３と流通路１６２を介して第１の吐出口１６０に所定量の第１の現像液が供給される。
【００５６】
第２の吐出口１６１は、第２の現像液ノズル１５２内に形成された流通路１７０と、共有アーム１５０の上部に設けられた供給管１７１とを介して、第２の現像液を貯留する第２の現像液供給源１７２に連通している。供給管１７１には、第２の現像液の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群１７３が設けられている。この供給機器群１７３により、第２の現像液供給源１７２から供給管１７１と流通路１７０を介して第２の吐出口１６１に所定量の第２の現像液が供給される。
【００５７】
図５に示すようにレール１４１よりＹ方向正方向側に配置されたレール１４１には、２本のアーム１８０、１８１が取り付けられている。
【００５８】
一のアーム１８０には、ミスト状のリンス液を吐出する第１のリンス液ノズル１８２と液体状のリンス液を吐出する第２のリンス液ノズル１８３とが支持されている。アーム１８０は、ノズル駆動部１８４により、レール１４１上を移動自在である。これにより、第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３は、処理部１３０のＹ方向負方向側の外方に設置された待機部１８５から処理部１３０内のウェハＷの中心部上方まで移動でき、さらに当該ウェハＷの表面上をウェハＷの径方向に移動できる。また、アーム１８０は、ノズル駆動部１８４によって昇降自在であり、第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３の高さを調節できる。なお、待機部１８５では、待機中の第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３の洗浄や、第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３からのリンス液のダミーディスペンス等が行われる。
【００５９】
第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３は、図８に示すように支持部材１８６を介してアーム１８０に支持されている。支持部材１８６は、アーム１８０から鉛直下方に延伸して設けられている。
【００６０】
第１のリンス液ノズル１８２には、気液混合部１８７が設けられている。気液混合部１８７には、不活性ガス、例えば窒素ガスを供給するガス供給管１８８と、例えば純水を供給する純水供給管１８９が接続されている。ガス供給管１８８は、窒素ガスを貯留するガス供給源１９０に連通し、当該ガス供給管１８８には、窒素ガスの流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群１９１が設けられている。また、純水供給管１８９は純水を貯留する純水供給源１９２に連通し、当該純水供給管１８９には、純水の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群１９３が設けられている。そして、ガス供給源１９０と純水供給源１９２からそれぞれ供給された窒素ガスと純水は、気液混合部１８７において混合されてミスト状になり、第１のリンス液ノズル１８２からミスト状のリンス液が吐出される。
【００６１】
なお、第１のリンス液ノズル１８２から吐出されるリンス液はミスト状であればよく、窒素ガスと純水の混合方法は本実施の形態に限定されない。例えば第１のリンス液ノズルから窒素ガスと純水を同時に吐出し、ミスト状のリンス液を生成してウェハＷ上に吐出してもよい。あるいは、例えばミスト状のリンス液を貯留するリンス液供給源から第１のリンス液ノズルに直接ミスト状のリンス液を供給してもよい。
【００６２】
第２のリンス液ノズル１８３は、供給管１９４を介して、例えば純水等の液体状のリンス液を貯留するリンス液供給源１９５に連通している。供給管１９４には、液体状のリンス液の流れを制御するバルブや流量調節部等を含む供給機器群１９６が設けられている。
【００６３】
図５に示すように他方のアーム１８１にも、ミスト状のリンス液を吐出する第１のリンス液ノズル２００と液体状のリンス液を吐出する第２のリンス液ノズル２０１とが支持されている。アーム１８１は、ノズル駆動部２０２により、レール１４１上を移動自在である。これにより、第１のリンス液ノズル２００と第２のリンス液ノズル２０１は、処理部１３１のＹ方向正方向側の外方に設置された待機部２０３から処理部１３１内のウェハＷの中心部上方まで移動でき、さらに当該ウェハＷの表面上をウェハＷの径方向に移動できる。また、アーム１８１は、ノズル駆動部２０２によって昇降自在であり、第１のリンス液ノズル２００と第２のリンス液ノズル２０１の高さを調節できる。なお、待機部２０３では、待機中の第１のリンス液ノズル２００と第２のリンス液ノズル２０１の洗浄や、第１のリンス液ノズル２００と第２のリンス液ノズル２０１からのリンス液のダミーディスペンス等が行われる。また、アーム１８１に支持された第１のリンス液ノズル２００と第２のリンス液ノズル２０１の構成は、上述したアーム１８０に支持された第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３の構成と同様であるので説明を省略する。
【００６４】
処理部１３０には、図９に示すようにウェハＷを保持して回転させる回転保持部としてのスピンチャック２１０が設けられている。スピンチャック２１０は、水平な上面を有し、当該上面には、例えばウェハＷを吸引する吸引口（図示せず）が設けられている。この吸引口からの吸引により、ウェハＷをスピンチャック２１０上に吸着保持できる。
【００６５】
スピンチャック２１０は、シャフト２１１に取り付けられている。スピンチャック２１０の下方には、このシャフト２１１を介して例えばモータやシリンダなどを備えた回転駆動部２１２が設けられている。この回転駆動部２１２により、スピンチャック２１０は鉛直周りに所定の速度で回転でき、且つ昇降可能になっている。
【００６６】
スピンチャック２１０の下方側には、断面形状が山形、すなわち上方に凸に突出した形状のガイドリング２１３が設けられている。このガイドリング２１３の外周部は下方側に屈曲して延伸している。
【００６７】
スピンチャック２１０、スピンチャック２１０に保持されたウェハＷ、及びガイドリング２１３の外側方には、当該スピンチャック２１０、ウェハＷ及びガイドリング２１３を囲むようにカップ体２２０が設けられている。カップ体２２０は、内部カップ２２１、下部カップ２２２及び上部カップ２２３を有している。
【００６８】
内部カップ２２１は、スピンチャック２１０、ウェハＷ及びガイドリング２１３を囲むように設けられている。内部カップ２２１は、ウェハＷから飛散又は落下する液体を受け止めることができ、回収することができる。
【００６９】
内部カップ２２１は、上面にスピンチャック２１０が昇降できるようにウェハＷよりも大きい開口部が形成されている。また、内部カップ２２１の内周側面とガイドリング２１３の外周縁との間には、排出路をなす隙間２２４が形成されている。
【００７０】
また、内部カップ２２１の下部には、内部カップ２２１内の雰囲気を排気すると共に、内部カップ２２１内の廃液を回収する気液分離部２２５が環状に形成されている。気液分離部２２５には、ガイドリング２１３の外周部と、内部カップ２２１の底面に設けられた仕切壁２２６とにより屈曲路が形成されている。そして、この屈曲路により気液分離部２２５で気体と液体が分離される。気液分離部２２５の外側領域には、内部カップ２２１内の廃液を排出する排液管２２７が接続されている。気液分離部２２５の内側領域には、内部カップ２２１内の雰囲気を排気するための排気管２２８が接続されている。
【００７１】
上部カップ２２３は、例えばシリンダを内蔵した昇降駆動部２３０によって昇降自在になっている。上部カップ２２３は、上昇した状態で、例えば第１のリンス液ノズル１８２から吐出されて飛散するミスト状のリンス液を受け止め、回収することができる。また、上部カップ２２３は、下降した状態で、内部カップ２２１と下部カップ２２２との間に形成された収容空間２３１に収容される。
【００７２】
収容空間２３１には、上部カップ２２３内と下部カップ２２２内の廃液を排出する排液管２３２が接続されている。また、収容空間２３１内の雰囲気は、内部カップ２２１の下部を貫通して形成された通気孔２３３から排気される。すなわち、図１０に示すように収容空間２３１の雰囲気は、通気孔２３３及び気液分離部２２５を通って排気管２２８から排気される。なお、この収容空間２３１の排気を効率よく行うため、通気孔２３３は、内部カップ２２１の周方向に沿って等間隔に複数形成されているのが好ましい。
【００７３】
なお、処理部１３１の構成については、上述した処理部１３０と同様であるので説明を省略する。また、現像装置３１の構成についても、上述した現像装置３０と同様であるので説明を省略する。
【００７４】
以上の塗布現像処理システム１には、図１に示すように制御部２４０が設けられている。制御部２４０は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、現像装置３０、３１におけるウェハＷの現像処理を実行するプログラムが格納されている。また、プログラム格納部には、塗布現像処理システム１におけるウェハ処理を実行するプログラムも格納されている。なお、前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、その記憶媒体Ｈから制御部２４０にインストールされたものであってもよい。
【００７５】
次に、以上のように構成された塗布現像処理システム１を用いて行われるウェハＷの処理方法について説明する。
【００７６】
先ず、複数枚のウェハＷを収容したカセットＣが、カセットステーション２の所定のカセット載置板１１に載置される。その後、ウェハ搬送装置２１によりカセットＣ内の各ウェハＷが順次取り出され、処理ステーション３の第３のブロックＧ３の例えば受け渡し装置５４に搬送される。
【００７７】
次にウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって第２のブロックＧ２の熱処理装置４０に搬送され、温度調節される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって第２のブロックＧ２のアドヒージョン装置４１に搬送され、アドヒージョン処理される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって熱処理装置４０に搬送され、温度調節される。
【００７８】
その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によってレジスト塗布装置３２に搬送される。レジスト塗布装置３２では、回転中のウェハＷ上にカラーレジストを塗布し、ウェハＷ上にレジスト膜が形成される。
【００７９】
その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって熱処理装置４０に搬送されて、プリベーク処理される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって第３のブロックＧ３の受け渡し装置５５に搬送される。
【００８０】
次にウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって周辺露光装置４２に搬送され、周辺露光処理される。その後ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって第３のブロックＧ３の受け渡し装置５６に搬送される。
【００８１】
次にウェハＷは、ウェハ搬送装置９０によって受け渡し装置５２に搬送され、シャトル搬送装置８０によって第４のブロックＧ４の受け渡し装置６２に搬送される。
【００８２】
その後ウェハＷは、インターフェイスステーション５のウェハ搬送装置１００によって露光装置４に搬送され、露光処理される。
【００８３】
次に、ウェハＷは、ウェハ搬送装置１００によって露光装置４から第４のブロックＧ４の受け渡し装置６０に搬送される。その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって第２のブロックＧ２の熱処理装置４０に搬送され、露光後ベーク処理される。その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって第１のブロックＧ１の現像装置３０に搬送され、第１の現像液を用いて現像される。なお、この現像装置３０におけるウェハＷの現像処理については後述する。
【００８４】
現像終了後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって第２のブロックＧ２の熱処理装置４０に搬送され、ポストベーク処理される。
【００８５】
その後、ウェハＷは、ウェハ搬送装置７０によって第３のブロックＧ３の受け渡し装置５０に搬送され、その後カセットステーション２のウェハ搬送装置２１によって所定のカセット載置板１１のカセットＣに搬送される。こうして、ウェハＷ上にカラーレジストのレジストパターンが形成され、一連のフォトリソグラフィ処理が終了する。
【００８６】
次に、上述した現像装置３０において、第１の現像液を用いたウェハＷの現像処理（本発明における第１の処理工程）について説明する。図１１は、現像処理の主な工程においてウェハＷを処理する様子を模式的に示した説明図である。
【００８７】
先ず、現像装置３０に搬入されたウェハＷは、スピンチャック２１０に吸着保持される。そして、図１１（ａ）に示すように、上部カップ２２３を下降させて収容空間２３１に収容した状態で、共有アーム１５０をウェハＷの外周部上方、すなわち図１１（ａ）中のウェハＷの右側外周部上方に移動させる。このとき、第１の現像液ノズル１５１をウェハＷの外周部上方に配置する。
【００８８】
その後、スピンチャック２１０に保持されたウェハＷを回転させる。同時に、第１の現像液ノズル１５１をウェハＷの外周部から中心部に移動させながら、当該第１の現像液ノズル１５１からウェハＷ上に第１の現像液を吐出する。そうすると、第１の現像液ノズル１５１から帯状に吐出された第１の現像液は、螺旋状にウェハＷ上に供給され、当該ウェハＷ全面に拡散する。
【００８９】
このとき、図１２に示すように第２の現像液ノズル１５２を第１の現像液ノズル１５１の移動方向前方に位置させた状態で、第１の現像液ノズル１５１を移動させる。そして、第１の現像液ノズル１５１をウェハＷの外周部から中心部まで、すなわち図１２中のウェハＷの右半分でウェハＷの径方向（Ｙ方向負方向）に移動させる。また、第１の現像液ノズル１５１から吐出される第１の現像液の吐出方向（図１２中の網掛け矢印）は、平面視においてウェハＷの回転方向と同一方向である。このように第１の現像液の吐出方向とウェハＷの回転方向を同一方向とすることで、第１の塗布液がウェハＷ上を円滑に拡散する。
【００９０】
所定の時間経過すると、ウェハＷ上に拡散した第１の現像液によって、ウェハＷ上のレジスト膜が現像される。その後、図１１（ｂ）に示すように第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２を待機部１５４に移動させると共に、アーム１８０をウェハＷの外周部上方に移動させる。このとき、第１のリンス液ノズル１８２をウェハＷの外周部上方に配置する。
【００９１】
その後、上部カップ２２３を上昇させる。このとき、第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３は、支持部材１８６によってアーム１８０に支持されているため、上部カップ２２３と干渉することなく適切な位置に配置される。その後、スピンチャック２１０に保持されたウェハＷを回転させると共に、第１のリンス液ノズル１８２をウェハＷの外周部から中心部に移動させながら、当該第１のリンス液ノズル１８２からウェハＷ上にミスト状のリンス液を吐出する。このとき、ミスト状のリンス液はカップ体２２０内を飛散するが、上昇した上部カップ２２３によって捕集され回収される。こうして、ミスト状のリンス液によってウェハＷの表面が洗浄される。なお、第１の現像液を用いた現像によって、ウェハＷ上には所定のレジストパターンが形成されるが、このように第１のリンス液ノズル１８２からミスト状のリンス液を吐出することによって、レジストパターンの凹部まで適切に洗浄することができる。
【００９２】
その後、図１１（ｃ）に示すように、さらに第２のリンス液ノズル１８３をウェハＷの外周部から中心部に移動させながら、当該第２のリンス液ノズル１８３からウェハＷ上に液体状のリンス液を吐出する。そして、ウェハＷの表面がより確実に洗浄させる。
【００９３】
第２のリンス液ノズル１８３からのリンス液の停止後も、引き続きウェハＷを回転させ、ウェハＷの表面を乾燥させる。その後、図１１（ｄ）に示すように上部カップ２２３を下降させた後、第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３を待機部１８５に移動させる。こうして、第１の現像液を用いた一連の現像処理が終了する。
【００９４】
以上のような一連のフォトリソグラフィ処理を、例えば緑色のカラーレジスト、赤色のカラーレジスト、青色のカラーレジストに対して行い、ウェハＷ上に所定のレジストパターンが形成される。そして、ウェハＷ上にカラーフィルタが形成される。その後、前記カラーフィルタ上にマイクロレンズを形成するためのレジストパターンが形成される。かかるマイクロレンズ用レジストパターンの形成に際しては、ウェハＷ上にレンズ用レジストのレジスト膜が形成された後、第２の現像液を用いて現像処理が行われる。
【００９５】
次に、現像装置３０において、上述した第２の現像液を用いたウェハＷの現像処理（本発明における第２の処理工程）について説明する。図１３は、現像処理の主な工程においてウェハＷを処理する様子を模式的にしめした説明図である。なお、第２の現像液を用いた現像処理以外のフォトリソグラフィ処理は、上述した一連のフォトリソグラフィ処理と同様であるので説明を省略する。
【００９６】
先ず、現像装置３０に搬入されたウェハＷは、スピンチャック２１０に吸着保持される。そして、図１３（ａ）に示すように、上部カップ２２３を下降させて収容空間２３１に収容した状態で、共有アーム１５０をウェハＷの外周部上方、すなわち図１３（ａ）中のウェハＷの左側外周部上方に移動させる。このとき、第２の現像液ノズル１５２をウェハＷの外周部上方に配置する。
【００９７】
その後、スピンチャック２１０に保持されたウェハＷを回転させる。このとき、図１４に示すようにウェハＷの回転方向は、図１２に示した第１の現像液を用いて現像処理を行う際のウェハＷの回転方向と同一方向である。そして、ウェハＷを回転させると同時に、図１３（ａ）に示すように第２の現像液ノズル１５２をウェハＷの外周部から中心部に移動させながら、当該第２の現像液ノズル１５２からウェハＷ上に第２の現像液を吐出する。そうすると、第２の現像液ノズル１５１から帯状に吐出された第２の現像液は、螺旋状にウェハＷ上に供給され、当該ウェハＷ全面に拡散する。
【００９８】
このとき、図１４に示すように第１の現像液ノズル１５１を第２の現像液ノズル１５２の移動方向前方に位置させた状態で、第２の現像液ノズル１５２を移動させる。そして、第２の現像液ノズル１５２をウェハＷの外周部から中心部まで、すなわち図１４中のウェハＷの左半分でウェハＷの径方向（Ｙ方向正方向）に移動させる。また、第２の現像液ノズル１５２から吐出される第２の現像液の吐出方向（図１４中の網掛け矢印）は、平面視においてウェハＷの回転方向と同一方向である。このように第２の現像液の吐出方向とウェハＷの回転方向を同一方向とすることで、第２の塗布液がウェハＷ上を円滑に拡散する。
【００９９】
所定の時間経過すると、ウェハＷ上に拡散した第１の現像液によって、ウェハＷ上のレジスト膜が現像される。その後、図１３（ｂ）に示すように第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２を待機部１５４に移動させると共に、アーム１８０をウェハＷの外周部上方に移動させる。このとき、第１のリンス液ノズル１８２をウェハＷの外周部上方に配置する。
【０１００】
その後、上部カップ２２３を上昇させる。その後、スピンチャック２１０に保持されたウェハＷを回転させると共に、第１のリンス液ノズル１８２をウェハＷの外周部から中心部に移動させながら、当該第１のリンス液ノズル１８２からウェハＷ上にミスト状のリンス液を吐出する。こうして、ミスト状のリンス液によってウェハＷの表面が洗浄される。
【０１０１】
その後、図１３（ｃ）に示すように、さらに第２のリンス液ノズル１８３をウェハＷの外周部から中心部に移動させながら、当該第２のリンス液ノズル１８３からウェハＷ上に液体状のリンス液を吐出する。そして、ウェハＷの表面がより確実に洗浄させる。
【０１０２】
第２のリンス液ノズル１８３からのリンス液の停止後も、引き続きウェハＷを回転させ、ウェハＷの表面を乾燥させる。その後、図１３（ｄ）に示すように第１のリンス液ノズル１８２と第２のリンス液ノズル１８３を待機部１８５に移動させる。こうして、第２の現像液を用いた一連の現像処理が終了する。
【０１０３】
なお、上述のように処理部１３０においてウェハＷの現像処理を行っている間、他の処理部１３１においてもウェハＷの現像処理を行ってもよい。具体的には、例えば図１５に示すように処理部１３０上にアーム１８０を移動させると共に、処理部１３１上に共有アーム１５０を移動させる。そして、処理部１３０において、第１のリンス液ノズル１８２からのミスト状のリンス液、又は第２のリンス液ノズル１８３からの液体状のリンス液を用いて、ウェハＷの洗浄を行う。この間、処理部１３１において、第１の現像液ノズル１５１からの第１の現像液、又は第２の現像液ノズル１５２からの第２の現像液を用いて、ウェハＷの現像を行う。あるいは、図示はしないが、処理部１３０上に共有アーム１５０を移動させると共に、処理部１３１上にアーム１８１を移動させてもよい。そして、処理部１３０において第１の現像液又は第２の現像液を用いてウェハＷの現像を行う間、処理部１３１においてリンス液を用いてウェハＷを洗浄してもよい。
【０１０４】
以上の実施の形態によれば、第１の現像液を用いてウェハＷの現像処理を行う場合、スピンチャック２１０に保持されたウェハＷを回転させると共に、第１の現像液ノズル１５１をウェハＷの径方向に移動させながら、当該第１の現像液ノズル１５１からウェハＷ上に第１の現像液を吐出する。この第１の現像液ノズル１５１の移動は、第２の現像液ノズル１５２を第１の現像液ノズル１５１の移動方向前方に位置させた状態で行われるので、第１の現像液ノズル１５１がウェハＷの外周部上方に位置していても、第２の現像液ノズル１５２がカップ体２２０と干渉することがない。また、第１の現像液ノズル１５１からの第１の現像液の吐出方向とウェハＷの回転方向は平面視において同一方向であるため、第１の現像液をウェハＷ上に円滑に拡散させることができる。
【０１０５】
一方、第２の現像液を用いてウェハＷの現像処理を行う場合においても、スピンチャック２１０に保持されたウェハＷを回転させると共に、第１の現像液ノズル１５１を第２の現像液ノズル１５２の移動方向前方に位置させた状態で、当該第２の現像液ノズル１５２をウェハＷの径方向に移動させながら、平面視において吐出方向がウェハＷの回転方向と同一方向になるように第２の現像液ノズル１５２からウェハＷ上に第２の現像液を吐出する。そうすると、第２の現像液ノズル１５２がウェハＷの外周部上方に位置していても、第１の現像液ノズル１５１がカップ体２２０と干渉することがない。また、第２の現像液の吐出方向とウェハＷの回転方向は平面視において同一方向であるため、第２の現像液をウェハＷ上に円滑に拡散させることができる。
【０１０６】
以上のように、本実施の形態の基板処理装置では、第１の現像液を用いたウェハＷの現像処理と第２の現像液を用いた現像処理を適切に行うことができ、複数のウェハ処理を効率よく行うことができる。
【０１０７】
また、第１の現像液の吐出方向と第２の現像液の吐出方向が平面視において反対方向になるように、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２は共有アーム１５０に支持されている。これによって、第１の現像液又は第２の現像液の吐出方向とウェハＷの回転方向が平面視において同一方向になると共に、第１の現像液ノズル１５１及び第２の現像液ノズル１５２とカップ体２２０との干渉を確実に防止することができる。
【０１０８】
また、各処理部１３０、１３１には、ミスト状のリンス液を吐出する第１のリンス液ノズル１８２、２００がそれぞれ設けられているので、このミスト状のリンス液により、現像処理後、ウェハＷ上に形成されるレジストパターンの凹部まで適切に洗浄することができる。
【０１０９】
また、カップ体２２０の上部カップ２２３は昇降自在になっているので、第１のリンス液ノズル１８２、２００からウェハＷ上にミスト状のリンス液が吐出されても、上部カップ２２３を上昇させることで、飛散するミスト状のリンス液を回収することができる。これによって、リンス液が処理容器１２０内を飛散するのを防止し、他の処理部でのウェハＷの処理を適切に行うことができる。
【０１１０】
さらに、共有アーム１５０は処理部１３０、１３１間に配置されているので、一の処理部１３０において上部カップ２２３が上昇していても、共有アーム１５０は他の処理部１３１に移動できる。また、他の処理部１３１において上部カップ２２３が上昇していても、共有アーム１５０は一の処理部１３０に移動できる。
【０１１１】
このため、一の処理部１３０において第１のリンス液ノズル１８２からのミスト状のリンス液、又は第２のリンス液ノズル１８３からの液体状のリンス液を用いて、ウェハＷの洗浄を行う間、他の処理部１３１において、第１の現像液ノズル１５１からの第１の現像液、又は第２の現像液ノズル１５２からの第２の現像液を用いて、ウェハＷの現像を行うことができる。あるいは、一の処理部１３０において第１の現像液又は第２の現像液を用いてウェハＷの現像を行う間、他の処理部１３１においてリンス液を用いてウェハＷを洗浄することができる。
【０１１２】
また、内部カップ２２１の下部には通気孔２３３が形成されているので、収容空間２３１内の雰囲気を気液分離部２２５から適切に排気させることができる。このため、収容空間２３１内に一方向の気流の流れを形成でき、カップ体２２０内の気流を安定させることができる。
【０１１３】
また、処理容器１２０の底面には、各処理部１３０、１３１と現像液ノズル１５１、１５２の待機部１５４との間に１本ずつ排気管１２２、１２２が接続され、当該処理容器１２０において各処理部１３０、１３１が存在する空間の雰囲気が異なる排気管１２２から排気される。これによって、処理部１３０、１３１間で気流が乱れるのを抑制することができ、例えば一の処理部１３０の雰囲気が他の処理部１３１に流入するのを確実に防止することができる。したがって、現像装置３０内において、ウェハＷの現像処理をより適切に行うことができる。
【０１１４】
以上の実施の形態では、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２は、第１の現像液の吐出方向と第２の現像液の吐出方向が平面視において反対方向になるように共有アーム１５０に支持されていたが、図１６に示すように、平面視における第１の現像液の吐出方向と第２の現像液の吐出方向を同一方向としてもよい。すなわち、第１の吐出口１６０と第２の吐出口１６１が同じ向きになるように、第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２は配置される。なお、これら第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２の構造自体は、前記実施の形態の第１の現像液ノズル１５１と第２の現像液ノズル１５２の構造と同様であるので説明を省略する。
【０１１５】
かかる場合、第１の現像液を用いてウェハＷの現像処理をする場合、図１７に示すように第１の現像液ノズル１５１をウェハＷの外周部（図１７中の右側外周部）から中心部まで移動させながら、当該第１の現像液ノズル１５１からウェハＷ上に第１の現像液を吐出する。このとき、第１の現像液ノズル１５１から吐出される第１の現像液の吐出方向（図１７中の網掛け矢印）は、平面視においてウェハＷの回転方向と同一方向である。
【０１１６】
一方、第２の現像液を用いてウェハＷの現像処理をする場合、図１８に示すように第２の現像液ノズル１５２をウェハＷの外周部（図１８中の左側外周部）から中心部まで移動させながら、当該第２の現像液ノズル１５２からウェハＷ上に第２の現像液を吐出する。このとき、ウェハＷの回転方向は、上述した第１の現像液を用いた現像処理におけるウェハＷの回転方向と反対方向である。そして、第２の現像液ノズル１５２から吐出される第２の現像液の吐出方向（図１８中の網掛け矢印）は、平面視においてウェハＷの回転方向と同一方向となっている。
【０１１７】
以上のように第１の現像液ノズル１５１からの第１の現像液の吐出方向と第２の現像液ノズル１５２からの第２の現像液の吐出方向が平面視において同一方向であっても、第１の現像液を用いた現像処理と第２の現像処理を用いた現像処理におけるウェハＷの回転方向を反対方向とすることで、第１の現像液の吐出方向及び第２の現像液の吐出方向とウェハＷの回転方向が平面視において同一方向となる。したがって、第１の現像液と第２の現像液の両方ともウェハＷ上に円滑に拡散させることができる。
【０１１８】
以上の実施の形態の現像装置３０において、図１９に示すように２つの処理部１３０、１３１間に隔壁３００が設けられていてもよい。この隔壁３００は、処理容器１２０内において、各処理部１３０、１３１が存在する空間を仕切るように配置される。また、隔壁３００には、共有アーム１５０、第１の現像液ノズル１５１及び第２の現像液ノズル１５２が通過可能な通過孔３０１が形成されている。かかる場合、例えば一の処理部１３０の雰囲気が他の処理部１３１に流入するのを確実に防止することができる。したがって、現像装置３０内において、ウェハＷの現像処理をより適切に行うことができる。
【０１１９】
なお、上記実施の形態では、基板処理装置として現像装置３０、３１について説明したが、本発明は他の基板処理装置にも適用することができる。例えばリンス液等をミスト状でウェハＷに吐出するノズルと、アンモニア過水やフッ酸等の薬液を液体状でウェハＷに吐出するノズルとを備えた、洗浄装置やエッチング装置などの基板表面処理装置にも本発明を適用することができる。そして、本発明の基板処理方法も、上記実施の形態の現像処理に限定されず、他の洗浄処理やエッチング処理にも適用することができる。
【０１２０】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。本発明は、基板がウェハ以外のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。
【符号の説明】
【０１２１】
１    塗布現像処理システム
３０、３１  現像装置
１２２  排気管
１３０、１３１  処理部
１５０  共有アーム
１５１  第１の現像液ノズル
１５２  第２の現像液ノズル
１６０  第１の吐出口
１６１  第２の吐出口
１８２、２００  第１のリンス液ノズル
１８３、２０１  第２のリンス液ノズル
２１０  スピンチャック
２２０  カップ体
２２１  内部カップ
２２２  下部カップ
２２３  上部カップ
２３０  昇降駆動部
２３１  収容空間
２３３  通気孔
２４０  制御部
３００  隔壁
３０１  通過孔
Ｗ    ウェハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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