(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）を含有してなり、
疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、疎水性シリカ（Ａ）の含有量が１〜１５重量％、２５℃で液体である基油（Ｂ）の含有量が６０〜９７．５重量％、金属石鹸（Ｃ）の含有量が０．５〜１０重量％、界面活性剤（Ｄ）の含有量が１〜１５重量％であり、
疎水性シリカ（Ａ）の個数平均粒子径が１〜２０μｍで、かつ疎水性シリカ（Ａ）のＭ値が５０〜８５であることを特徴とする消泡剤。
＜Ｍ値の測定法＞
メタノール濃度を５容量％の間隔で変化させた水／メタノール混合溶液を調製し、これを容積１０ｍｌの試験管に５ｍｌ入れる。次いで測定試料０．２ｇを入れ、試験管にふたをして、２０回上下転倒してから静置した後、凝集物を観察して、凝集物がなく、測定試料の全部が湿潤して均一混合した混合溶液のうち、メタノール濃度が最も小さい混合溶液のメタノールの濃度（容量％）をＭ値とする。
【請求項２】
２５℃で液体である基油（Ｂ）の４０℃における動粘度が４〜４０ｍｍ２／ｓである請求項１に記載の消泡剤。
【請求項３】
金属石鹸（Ｃ）が、炭素数１２〜２２の脂肪酸と金属原子とから構成される請求項１又は２に記載の消泡剤。
【請求項４】
界面活性剤（Ｄ）が、非イオン界面活性剤を含有してなる請求項１〜３のいずれかに記載の消泡剤。
【請求項５】
界面活性剤（Ｄ）が、非イオン界面活性剤と、アニオン界面活性剤とを含有してなる混合物である請求項１〜４のいずれかに記載の消泡剤。
【請求項６】
蒸解工程、洗浄工程、漂白工程、黒液濃縮ソーダ回収工程及び／又は排水処理工程において、請求項１〜５のいずれかに記載の消泡剤を添加してクラフトパルプを製造することを特徴とするクラフトパルプの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は消泡剤及びこれを用いるクラフトパルプの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カルボン酸アルミニウム、芳香族炭素含有炭化水素及びポリオキシアルキレン化合物を含む消泡剤組成物（特許文献１）や、液体炭化水素油からなる基油、脂肪酸のアミド誘導体及び金属石鹸を含む消泡剤組成物（特許文献２）が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−８７９６６号公報
【特許文献２】特開２００２−１４３６０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の消泡剤では、高温・高アルカリの条件下で使用した場合、十分な消泡性（破泡、抑泡効果）が得られず、特に発泡液中で容易に失活し、長時間の消泡力が不足するという問題の他に、消泡剤に起因する凝集物（ピッチ）が発生するという問題がある。そこで、本発明の目的は、優れた消泡性を有し、消泡剤に起因する凝集物（ピッチ）の発生が少ない消泡剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の消泡剤の特徴は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）を含有してなり、
疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、疎水性シリカ（Ａ）の含有量が１〜１５重量％、２５℃で液体である基油（Ｂ）の含有量が６０〜９７．５重量％、金属石鹸（Ｃ）の含有量が０．５〜１０重量％、界面活性剤（Ｄ）の含有量が１〜１５重量％であり、
疎水性シリカ（Ａ）の個数平均粒子径が１〜２０μｍで、かつ疎水性シリカ（Ａ）のＭ値が５０〜８５である点を要旨とする。
＜Ｍ値の測定法＞
メタノール濃度を５容量％の間隔で変化させた水／メタノール混合溶液を調製し、これを容積１０ｍｌの試験管に５ｍｌ入れる。次いで測定試料０．２ｇを入れ、試験管にふたをして、２０回上下転倒してから静置した後、凝集物を観察して、凝集物がなく、測定試料の全部が湿潤して均一混合した混合溶液のうち、メタノール濃度が最も小さい混合溶液のメタノールの濃度（容量％）をＭ値とする。
【０００６】
本発明のクラフトパルプの製造方法の特徴は、蒸解工程、洗浄工程、漂白工程、黒液濃縮ソーダ回収工程及び／又は排水処理工程において、上記の消泡剤を添加してクラフトパルプを製造する点を要旨とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の消泡剤は、著しく優れた消泡性を有する。また、本発明の消泡剤は、消泡剤に起因する凝集物(ピッチ)が発生しにくい。
【０００８】
本発明のクラフトパルプの製造方法によると、上記の消泡剤を用いるため、優れた消泡性を発揮し、高い生産効率でクラフトパルプを製造できる。また、製造されるパルプには、凝集物(ピッチ)等の含有率が著しく低く、高品質のクラフトパルプとなる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施例において消泡性を評価するための消泡性試験装置を模式的に示した斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
疎水性シリカ（Ａ）としては、シリカ粉末を疎水化剤で疎水化処理した疎水性シリカが含まれる。
市場から入手できる疎水性シリカとしては、商品名として、Ｎｉｐｓｉｌ  ＳＳ−１０、ＳＳ−４０、ＳＳ−５０及びＳＳ−１００（東ソー・シリカ株式会社、「Ｎｉｐｓｉｌ」は同社の登録商標である。）、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、ＲＸ２００及びＲＹ２００（日本アエロジル株式会社、「ＡＥＲＯＳＩＬ」はエボニック  デグサ  ゲーエムベーハーの登録商標である。 ）、ＳＩＰＥＲＮＡＴ  Ｄ１０（エボニック  デグサジャパン株式会社、「ＳＩＰＥＲＮＡＴ」はエボニック  デグサ  ゲーエムベーハーの登録商標である。 ）、ＲＥＯＬＯＳＩＬ  ＭＴ−１０、ＤＭ−１０及びＤＭ−２０Ｓ （株式会社トクヤマ、「ＲＥＯＬＯＳＩＬ」は同社の登録商標である。）、並びにＳＹＬＯＰＨＯＢＩＣ１００、７０２、５０５及び６０３（富士シリシア化学株式会社、「ＳＹＬＯＰＨＯＢＩＣ」は同社の登録商標である。）等が挙げられる。これらの疎水性シリカは、２種以上の混合物であってもよい。
【００１１】
また、疎水性シリカは、下記の無機粉末シリカを疎水化剤で加熱処理することにより容易に得ることができる。
【００１２】
無機粉末シリカとしては、（１）湿式法シリカ：無機シリカエーロゲル（シリカヒドロゲル中の水分を、７０℃以下の沸点を持ち、かつ水との混和性を有する溶媒（メタノール、アセトン、ギ酸メチル、酢酸メチル等）にて置換した後、加熱して溶媒を除去することにより得られるコロイドシリカ）、（２）熱分解法シリカ：発煙シリカ（四塩化ケイ素を焼いて生じたシリカ煤からなるコロイドシリカ）、及び（３）溶融固体法シリカ：沈降性シリカ（ケイ酸ナトリウム水溶液に塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム等のナトリウムイオンを滴下することにより凝集して得られるシリカ粒子）等が含まれ、いずれの方法で製造されたものでも構わない。これらのうち、消泡性の観点等から、発煙シリカ及び沈降性シリカが好ましく、さらに好ましくは沈降性シリカである。
【００１３】
無機粉末シリカとしては、商品名として、ＮＩＰＧＥＬ ＡＹ−２００、ＡＹ−４２０、ＡＺ−２００、ＡＺ−４００（東ソー・シリカ株式会社、「ＮＩＰＧＥＬ」は同社の登録商標である。），Ｎｉｐｓｉｌ Ｅ−２００Ａ、Ｅ−２２０、Ｇ−３００、ＮＡ、ＨＤ、ＥＲ（東ソー・シリカ株式会社）；ＦＩＮＥＳＩＬ Ｅ７０,Ｔ３２，Ｋ４１，Ｆ８０ （株式会社トクヤマ、「ＦＩＮＥＳＩＬ」は同社の登録商標である。）、ＳＹＬＹＳＩＡ ２５０Ｎ，３１０，３５０（富士シリシア化学株式会社、「ＳＹＬＹＳＩＡ」は有限会社ワイ・ケイ・エフの登録商標である。）、ＡＥＲＯＳＩＬ １３０、２００、３００、３８０、ＯＸ５０（日本アエロジル株式会社）等が挙げられる。これらの無機粉末シリカは、２種以上の混合物であってもよい。
【００１４】
疎水化剤としては、シリコーンオイル及び変性シリコーンオイル等が含まれる。シリコーンオイルとしては、動粘度１０〜３０００（ｍｍ２／ｓ、２５℃）のジメチルポリシロキサン等が挙げられ、シクロテトラジメチルシロキサン等も含まれる。変性シリコーンとしては、上記のジメチルポリシロキサンのメチル基の一部を炭素数２〜６のアルキル基、炭素数２〜４のアルコキシル基、フェニル基、水素原子、ハロゲン（塩素及び臭素等）原子及び／又は炭素数２〜６のアミノアルキル基等に置き換えたもの等が含まれる。
【００１５】
疎水化剤の使用量（重量％）としては、疎水性シリカの重量に基づいて、５〜７０が好ましく、さらに好ましくは７〜５０、特に好ましくは１０〜３０である。この範囲であると消泡性がさらに優れる。
【００１６】
疎水化処理の方法は、（１）無機粉末シリカ及び疎水化剤を混合して加熱処理して得る方法、（２）無機粉末シリカ及び疎水化剤と、２５℃で液体である基油（Ｂ）及び/又は反応触媒（硫酸、硝酸、塩酸、ヒドロキシ酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−ニトロ安息香酸、水酸化カリウム、水酸化リチウム等）とを混合して加熱処理して得る方法等が適用でき、これらのいずれの方法で製造されたものでも構わない。
【００１７】
無機粉末シリカ及び疎水化剤を混合して加熱処理して疎水性シリカを得る方法（１）の場合、疎水化処理の加熱温度（℃）としては、１００〜４００が好ましく、さらに好ましくは１５０〜３５０、特に好ましくは２００〜３５０である。
【００１８】
無機粉末シリカ及び疎水化剤と、２５℃で液体である基油（Ｂ）及び/又は反応触媒とを混合して加熱処理して疎水性シリカを得る方法（２）の場合、疎水化処理の加熱温度（℃）としては、１００〜２５０が好ましく、さらに好ましくは１０５〜２０００、特に好ましくは１１０〜１８０である。
【００１９】
疎水性シリカ（Ａ）のＭ値は、５０〜８５が好ましく、さらに好ましくは５５〜８０、特に好ましくは６０〜７５である。この範囲であると、消泡性がさらに良好となる。
【００２０】
Ｍ値は、疎水化の度合を表す指標であり、濃度の相違するいくつかの水／メタノール混合溶液と測定試料（疎水性シリカ）とを混合して、測定試料が湿潤し均一混合する混合溶液のうち、メタノール濃度が最も小さい混合溶液の容量％をいう（以下のように測定される）。この値が高い程、疎水性が高いといえる。
【００２１】
＜Ｍ値の測定法＞
メタノール濃度を５容量％の間隔で変化させた水／メタノール混合溶液を調製し、これを容積１０ｍｌの試験管に５ｍｌ入れる。次いで測定試料０．２ｇを入れ、試験管にふたをして、２０回上下転倒してから静置した後、凝集物を観察して、凝集物がなく、測定試料の全部が湿潤して均一混合した混合溶液のうち、メタノール濃度が最も小さい混合溶液のメタノールの濃度（容量％）をＭ値とする。
【００２２】
疎水性シリカ（Ａ）の個数平均粒子径（μｍ）は、１〜２０が好ましく、さらに好ましくは２〜１５、特に好ましくは２〜１２である。この範囲であると、消泡性がさらに良好となる。
【００２３】
個数平均粒子径（μｍ）は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置｛たとえば、Ｐａｒｔｉｃａ  ＬＡ−９５０Ｖ２、 株式会社 堀場製作所製（バッチセル式、分散質の屈折率＝１．４５、分散媒の屈折率＝１．３８（ヘキサン）、反復回数１５）｝を使用して次のように測定される。
【００２４】
＜個数平均粒子径の測定法＞
ヘキサンをバッチセルに入れてブランク測定を行い、引き続き、このヘキサンに測定試料を適量加えて均一になるまで混合し、真空デシケーターを用いて１〜１０ｋＰａで減圧脱泡した後、泡が入らないようにバッチセルに移し、測定を行う。なお、測定値はブランク測定の値が差し引かれて算出される。
【００２５】
疎水性シリカ（Ａ）の個数平均粒子径（μｍ）は、疎水性シリカ（Ａ）を溶媒｛たとえば、基油（Ｂ）｝に分散させて、これを分散機（たとえば、ビーズミル）等で分散させることにより、微細化することができる。
【００２６】
疎水性シリカ（Ａ）の含有量（重量％）は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、１〜１５が好ましく、さらに好ましくは１．５〜１２、特に好ましくは２〜１０である。
【００２７】
２５℃で液体である基油（Ｂ）としては、鉱油、イソパラフィン油、油脂、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシブチレングリコール、高級カルボン酸及び高級アルコールが含まれる。
【００２８】
鉱油としては、４０℃における動粘度が４〜４０ｍｍ２／ｓの鉱油が含まれ、商品名として、コスモピュアスピンＧ、コスモピュアスピンＥ、コスモＳＰ−１０、コスモＳＰ−３２及びコスモＳＣ２２（以上、コスモ石油株式会社、「コスモ」及び「ピュアスピン」は同社の登録商標である。）、並びにスタノール４０（エクソンモービルコーポレーション）等が挙げられる。
【００２９】
イソパラフィン油としては、２５℃における動粘度が１〜２０ｍｍ２／ｓのイソパラフィン油が含まれ、商品名として、ＮＡＳ−５Ｈ（日油株式会社）等が挙げられる。
【００３０】
油脂としては、炭素数６〜２２の脂肪酸又はこの混合物とグリセリンとのエステルが含まれ、植物油（オリーブ油、ひまわり油、コーン油、菜種油及び大豆油等）等が挙げられる。
【００３１】
ポリオキシプロピレングリコールとしては、数平均分子量が２００〜６０００のポリオキシプロピレングリコールが含まれる。
【００３２】
ポリオキシブチレングリコールとしては、数平均分子量が２００〜８０００のポリオキシブチレングリコールが含まれる。
【００３３】
高級カルボン酸としては、炭素数６〜２２の高級カルボン酸及びその混合物が含まれ、ヘキサン酸、オクタン酸、ヘキサデセン酸及びオクタデセン酸等が挙げられる。
【００３４】
高級アルコールとしては、炭素数６〜２２の高級アルコールが含まれ、ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ドデカノール、オクタデセノール、２−エチル−１−ヘキサノール、２−ブチル−１−オクタノール、２−ブチル−１−デカノール、２−ヘキシル−１−オクタノール、２−ヘキシル−１−デカノール、２−オクチル−１−デカノール、２−ヘキシル−１−ドデカノール、２−オクチル−１−ドデカノール及び２−デシル−１−テトラデカノール等が挙げられる。
【００３５】
これらの基油（Ｂ）のうち、鉱油、植物油及びポリオキシプロピレングリコールが好ましく、さらに好ましくは鉱油及び植物油、特に好ましくは鉱油である。
【００３６】
基油（Ｂ）の４０℃における動粘度（ｍｍ２／ｓ）としては、４〜４０が好ましく、さらに好ましくは６〜３９、特に好ましくは９〜３６である。
【００３７】
２５℃で液体である基油（Ｂ）の含有量（重量％）は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、６０〜９７．５が好ましく、さらに好ましくは７０〜９６、特に好ましくは７５〜９２である。
【００３８】
金属石鹸（Ｃ）としては、炭素数１２〜２２の脂肪酸と金属原子とから構成されるものが含まれる。
【００３９】
炭素数１２〜２２の脂肪酸としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸及びこれらの混合が含まれ、脂肪族カルボン酸及び脂環式カルボン酸等のいずれも使用できるが、消泡性の観点等から、脂肪族カルボン酸が好ましい。
【００４０】
モノカルボン酸としては、炭素数１２〜２２（好ましくは１４〜２０、さらに好ましくは１６〜１８）のモノカルボン酸が含まれ、ドデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸、ノナデカン酸、イコサン酸、ドコサン酸、ヘキサデセン酸、オクタデセン酸、オクタデカジエン酸、オクタデカントリエン酸、オクタデカトリエン酸、イコサジエン酸、イコサトリエン酸及びイコサテトラエン酸等が挙げられる。
【００４１】
ジカルボン酸としては、炭素数１２〜２２（好ましくは１４〜２０、さらに好ましくは１６〜１８）のジカルボン酸が含まれ、ドデカンニ酸、テトラデカンニ酸、ペンタデカンニ酸、ヘキサデカンニ酸、ヘプタデカンニ酸、オクタデカンニ酸、ノナデカンニ酸、イコサンニ酸、ドコサンニ酸、ヘキサデセンニ酸、オクタデセンニ酸、オクタデカジエンニ酸、オクタデカントリエンニ酸、オクタデカトリエンニ酸、イコサジエンニ酸、イコサトリエンニ酸及びイコサテトラエンニ酸等が挙げられる。
【００４２】
これらのうち、消泡性の観点等から、モノカルボン酸及びモノカルボン酸とジカルボン酸との混合が好ましく、さらに好ましくはモノカルボン酸、特に好ましくはテトラデカン酸、ヘキサデカン酸、オクタデカン酸、イコサン酸、ヘキサデセン酸、オクタデセン酸、オクタデカジエン酸、オクタデカントリエン酸、オクタデカトリエン酸、イコサジエン酸、イコサトリエン酸及びイコサテトラエン酸、最も好ましくはヘキサデカン酸、オクタデカン酸、ヘキサデセン酸、オクタデセン酸、オクタデカジエン酸、オクタデカントリエン酸及びオクタデカトリエン酸である。
【００４３】
金属原子としては、アルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム及びバリウム等）及びアルミニウム等の原子が含まれる。
これらのうち、マグネシウム原子、カルシウム原子及びアルミニウム原子が好ましく、さらに好ましくはマグネシウム原子及びアルミニウム原子、特に好ましくはアルミニウム原子である。
【００４４】
金属石鹸（Ｃ）は、金属原子１モルに対して、脂肪酸が１〜３（好ましくは２又は３）モルで構成され、これらの混合物（１〜３モルの混合物、１〜２モルの混合物、２〜３モルの混合物）であってもよい。
【００４５】
これらの金属石鹸（Ｃ）は、２種以上の混合物であってもよく、混合物の場合、上記の好ましいものが主成分として含まれていることが好ましい。
【００４６】
金属石鹸（Ｃ）の含有量（重量％）は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、０．５〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．７５〜８、特に好ましくは１〜７である。
【００４７】
界面活性剤（Ｄ）としては、アニオン型界面活性剤、ノニオン型界面活性剤及びこれらの混合が含まれる。
ノニオン型界面活性剤としては、ソルビタン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、植物油のエチレンオキシド付加物、ポリオキシエチレンの脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸エステル及びグリセリン脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加物等が含まれる。
【００４８】
ソルビタン脂肪酸エステルとしては、ソルビタンと炭素数１２〜２２の脂肪酸とのエステルが含まれ、ソルビタンモノラウレート（ＨＬＢ８．６、たとえば、ノニオンＬＰ−２０Ｒ；日油株式会社）、ソルビタンモノパルミテート（ＨＬＢ６．７、たとえば、ノニオンＰＰ−４０Ｒペレット；日油株式会社）、ソルビタンモノステアレート（ＨＬＢ４．７、たとえば、ノニオンＳＰ−６０Ｒペレット；日油株式会社）、ソルビタンモノオレエート（ＨＬＢ４．３、たとえば、ノニオンＯＰ−８０Ｒ；日油株式会社）、ソルビタントリオレエート（ＨＬＢ１．８、たとえば、ノニオンＯＰ−８５Ｒ；日油株式会社）、ソルビタンモノオレエート（ＨＬＢ４．３、たとえば、イオネットＳ−８０；三洋化成工業株式会社、「イオネット」は同社の登録商標である。）等が挙げられる。
【００４９】
ソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加物としては、ソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキシド１〜４０モル付加物が含まれ、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート（ＨＬＢ１６．７、たとえば、ノニオンＬＴ−２２１；日油株式会社）、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート（ＨＬＢ１５．７、たとえば、ノニオンＳＴ−２２１；日油株式会社）、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート（ＨＬＢ１５．７、たとえば、ノニオンＯＴ−２２１；日油株式会社）等が挙げられる。
【００５０】
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーとしては、エチレンオキシド５〜２００モルとプロピレンオキシド５〜２００モルとの共重合体が含まれ、ポリオキシエチレン（２５モル）ポリオキシプロピレン（３０モル）ブロックポリマー（たとえば、ニューポールＰＥ−６４；三洋化成工業株式会社、「ニューポール」は同社の登録商標である。）及びポリオキシエチレン（４８モル）ポリオキシプロピレン（３５モル）ブロックポリマー（たとえば、ニューポールＰＥ−７５；三洋化成工業株式会社）等が挙げられる。
【００５１】
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルとしては、炭素数６〜１８のアルキル基を有するアルキルアリールのポリオキシエチレンエーテルが含まれ、ポリオキシエチレン（４モル）ノニルフェノールエーテル（たとえば、ノニポール４０；三洋化成工業株式会社、「ノニポール」は同社の登録商標である。）、ポリオキシエチレン（１０モル）ノニルフェノールエーテル（たとえば、ノニポール１００；三洋化成工業株式会社）等が挙げられる。
【００５２】
植物油のエチレンオキシド付加物としては、植物油のエチレンオキシド１〜２００モル付加物が含まれ、ひまし油のエチレンオキシド付加物（たとえば、ユニオックスＨＣ−４０；日油株式会社、「ユニオックス」は同社の登録商標である。）等が挙げられる。
【００５３】
ポリオキシエチレンの脂肪酸エステルとしては、数平均分子量２００〜４０００のポリオキシエチレンと炭素数６〜２２の脂肪酸とのモノエステル及びジエステルが含まれ、数平均分子量６００のポリオキシエチレングルコールとオレイン酸とのジエステル（たとえば、イオネットＤＯ−６００；三洋化成工業株式会社)及び数平均分子量６００のポリオキシエチレングルコールとオレイン酸とのモノエステル（たとえば、イオネットＭＯ−６００；三洋化成工業株式会社）等が挙げられる。
【００５４】
ポリオキシエチレンアルキルエーテルとしては、炭素数６〜２２のアルカノールのオキシエチレン１〜１００モル付加物が含まれ、ナロアクティーＣＬ−４０（ＨＬＢ８．９、三洋化成工業株式会社、「ナローアクティー」は同社の登録商標である。）、ナロアクティーＣＬ−１００（ＨＬＢ１３．３、三洋化成工業株式会社）等が挙げられる。
【００５５】
グリセリン脂肪酸エステルとしては、炭素数６〜２２の脂肪酸とグリセリンとのモノエステルが含まれ、グリセロールモノステアレート（たとえば、モノグリＭＤ、ＨＬＢ５．５、日油株式会社）等が挙げられる。
【００５６】
グリセリン脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加物としては、グリセリン脂肪酸エステルのエチレンオキシド１〜１００モル付加物が含まれ、グリセリンヤシ油脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加物（たとえば、ユニグリＭＫ−２０７、ＨＬＢ１３．０、日油株式会社、「ユニグリ」は同社の登録商標である。）等が挙げられる。
【００５７】
これらのうち、ソルビタン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加物、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸エステル及びグリセリン脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加物が好ましい。
【００５８】
アニオン性界面活性剤としては、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルビフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルスルホン酸エステル塩及びポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル塩が含まれる。
【００５９】
アルキルアリールスルホン酸塩としては、炭素数６〜１８のアルキルアリールスルホン酸塩が含まれ、ドデシルベンゼンスルホン酸塩等が挙げられる。
塩としては特に制限されないが、アルカリ金属（ナトリウム、カリウム等）塩、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウム等）塩、アンモニウム塩及び炭素数１〜１８のアミン塩（トリエタノールアミン、トリメチルアミン、プロピルアミン等）等が含まれる。
【００６０】
アルキルジフェニルエーテルスルホン酸塩としては、アルキル基が炭素数６〜１８であるアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩が含まれ、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸塩等が挙げられる。
【００６１】
ポリオキシエチレンアルキルスルホン酸エステル塩としては、炭素数６〜２２のポリオキシエチレンアルキルスルホン酸エステル塩が含まれ、ポリオキシエチレンラウリルスルホン酸エステル塩等が挙げられる。
【００６２】
ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル塩としては、炭素数６〜２２のポリオキシエチレンアルキルリン酸エステルが含まれ、ポリオキシエチレンステアリルリン酸エステル塩等が挙げられる。
【００６３】
これらのうち、アルキルアリールスルホン酸塩及びアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩が好ましく、さらに好ましくはドデシルベンゼンスルホン酸塩及びドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、特に好ましくはドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム塩及びドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸カルシウム塩である。
【００６４】
界面活性剤（Ｄ）の含有量（重量％）は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、１〜１５が好ましく、さらに好ましくは１．５〜１２、特に好ましくは２〜１０である。
【００６５】
本発明の消泡剤には、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）以外に、水（Ｅ）、脂肪酸アミド（Ｆ）及び／又はシリコーン油（Ｇ）等を含有できる。
【００６６】
水（Ｅ）としては、水道水、工業用水、脱イオン水及び蒸留水等が挙げられる。
水（Ｅ）を含有する場合、水（Ｅ）の含有量（重量％）は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、１〜６０が好ましく、さらに好ましくは１．５〜３０、特に好ましくは２〜１０である。
【００６７】
水（Ｅ）を含有する場合、本発明の消泡剤は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）を油相とするエマルション型消泡剤を構成してもよいし、外見上均一溶解していてもよい。エマルションを構成する場合、Ｗ／Ｏ型でもよいし、Ｏ／Ｗ型でもよい。
【００６８】
脂肪酸アミド（Ｆ）としては、炭素数１２〜２２の脂肪酸アミドを含み、エチレンビスステアリルアミド、エチレンビスパルミチルアミド及びエチレンビスミリスチルアミド等が好ましく挙げられる。これらのアミドは、２種以上の混合物であってもよく、混合物の場合、上記の好ましいものが主成分として含まれていることが好ましい。
【００６９】
脂肪酸アミド（Ｆ）を含有する場合、脂肪酸アミド（Ｆ）の含有量（重量％）は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、０．１〜６が好ましく、さらに好ましくは０．２〜５．５、特に好ましくは０．３〜５である。
【００７０】
シリコーン油（Ｇ）としては、ジメチルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン及び上記のシリコーンオイル等が使用できる。これらのシリコーン油は、２種以上の混合物であってもよく、混合物の場合、ジメチルポリシロキサン及び／又はポリエーテル変性シリコーンが主成分として含まれていることが好ましい。
【００７１】
シリコーン油（Ｇ）を含有する場合、シリコーン油（Ｇ）の含有量（重量％）は、疎水性シリカ（Ａ）、２５℃で液体である基油（Ｂ）、金属石鹸（Ｃ）及び界面活性剤（Ｄ）の重量に基づいて、０．１〜７が好ましく、さらに好ましくは２〜５である。
【００７２】
本発明の消泡剤は、公知の増粘剤、分散剤、防腐剤、凍結防止剤及び／又は溶剤を含んでもよい。
【００７３】
増粘剤としてはザンタンガム、ローカストビーンガム、グァーガム、カラギーナン、アルギン酸及びこの塩、トラガントガム、マグネシウムアルミニウムシリケート、ベントナイト、合成含水珪酸、並びに合成高分子型増粘剤（商品名として、たとえば、ＳＮシックナー６３６、ＳＮシックナー６４１；サンノプコ株式会社等）等が挙げられる。
【００７４】
分散剤としては、ポリアクリル酸(塩)、部分鹸化ポリビニルアルコール及び硫酸化ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【００７５】
凍結防止剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール及びグリセリン等が挙げられる。
【００７６】
防腐剤としては、公知の防腐剤（防菌・防黴剤辞典、日本防菌防黴学会昭和６１年第１版発行、１−３２頁等）等が使用でき、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン等が挙げられる。
【００７７】
溶剤としては、公知の溶剤（溶剤ハンドブック、講談社 昭和５１年発行、１４３−８８１頁等）が使用でき、メチルアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル及びプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【００７８】
本発明の消泡剤は、次の製造方法によって製造することが好ましい。
金属石鹸（Ｃ）と、２５℃で液状である基油（Ｂ）の一部とを加熱攪拌しながら、金属石鹸（Ｃ）を溶解させて溶解液を得る工程（１）、
２５℃で液状である基油（Ｂ）の残部を攪拌しながら、この残部に溶解液を投入して混合物を得る工程（２）を含む方法。さらに、混合物を均一混合処理して混合物を得る工程（３）を含んでもよい。
【００７９】
加熱攪拌温度(℃)としては、金属石鹸（Ｃ）が溶解できれば制限がないが、１００〜１８０が好ましく、さらに好ましくは１１０〜１７０、特に好ましくは１２０〜１６０である。
【００８０】
加熱攪拌時間としては、金属石鹸（Ｃ）が溶解できれば制限がないが、基油（Ｂ）の酸化や蒸発等を防ぐため、できるだけ短時間とすることが好ましい。
【００８１】
加熱攪拌は、密閉下で行ってもよいし（加圧下でもよい）、開放下で行ってもよい。
【００８２】
工程（２）において、溶解液を投入している間も溶解液を加熱攪拌し、金属石鹸（Ｃ）を溶解させた状態を保つことが好ましい。
【００８３】
工程（２）において、基油（Ｂ）の残部の温度は、消泡性（分散粒子の個数平均粒子径）及び製造コストの観点等から、０〜７０℃に保つことが好ましく、さらに好ましくは０〜５０℃、特に好ましくは０〜４０℃に保つことである。すなわち、工程（２）では、０〜７０℃に冷却した２５℃で液状である基油（Ｂ）の残部を攪拌しながら、この残部に０〜７０℃を保ちながら溶解液を少量ずつ投入して混合物を得ることが好ましい。
【００８４】
均一混合処理は、混合物を均一混合できれば制限はないが、乳化分散機（ビーズミル、ディスパーミル、ホモジナイザー又はゴーリンホモジナイザー等）を用いて均一混合処理することが好ましい。
【００８５】
均一混合処理における混合物の温度は、０〜７０℃に保つことが好ましく、さらに好ましくは０〜５０℃、特に好ましくは０〜４０℃に保つことである。すなわち、工程（３）では、０〜７０（好ましくは０〜５０、さらに好ましくは０〜４０）℃を保ちながら混合物を均一混合処理して消泡剤を得ることが好ましい。
【００８６】
疎水性シリカ（Ａ）及び界面活性剤（Ｄ）は、上記のいずれの工程で投入してもよく、工程（３）の後で、均一混合してもよい。
【００８７】
脂肪酸アミド（Ｆ）を使用する場合、金属石鹸（Ｃ）を溶解する工程で投入し、金属石鹸（Ｃ）と共に溶解させてもよいし、金属石鹸（Ｃ）とは別に基油（Ｂ）に溶解（分散）させてから、上記のいずれかの工程又は工程（３）の後で、均一混合してもよい。
【００８８】
水（Ｅ）を使用する場合は、工程（２）又は工程（３）のいずれかの工程で投入してもよい。
【００８９】
シリコーン油（Ｇ）を使用する場合、上記のいずれの工程で投入してもよく、工程（３）の後で、均一混合してもよい。
【００９０】
本発明の消泡剤は、水性発泡液に対して効果的であり、例えば、紙パルプ製造工程（蒸解工程、洗浄工程、漂白工程、黒液濃縮ソーダ回収工程及び／又は排水処理工程、脱墨工程）、建築工業やその抄造工程、染料工業、染色工業、発酵工業、合成樹脂製造工業、合成ゴム製造工業、インキ、塗料工業又は繊維加工工業等の各種工程で発生する気泡に対して適している。これらのうち、紙パルプ製造工程用消泡剤として適しており、さらに蒸解工程、洗浄工程、漂白工程、黒液濃縮ソーダ回収工程及び／又は排水処理工程用消泡剤として最適である。
【００９１】
本発明の消泡剤は、一括添加法、連続添加方法、断続添加方法又は泡測定器と消泡剤添加装置とを連動させた方法等により、被添加液体に添加することができる。また、１カ所添加及び多点添加のいずれでもよい。また、添加に際しては適当な希釈溶媒又は水などで希釈してもよい。
【００９２】
本発明の消泡剤は、公知の消泡剤｛たとえば、ポリエーテル消泡剤、シリコーン消泡剤（特公昭５１−３５５５６号、特開昭５２−２８８７号、特公昭５２−１９８３６号、特公昭５５−２３０８４号、特開平６−１４２４１０号及び特開平６−１４２４１１号各公報等）、鉱物油消泡剤（特公昭４９−１０９２７６号、特開昭５２−２２３５６号、特開昭５４−３２１８７号、特開昭５５−７０３０８号及び特開昭５６−１３６６１０号各公報等）及びワックスエマルション消泡剤（特開昭４７−１１４３３６号、特開昭６０−１５６５１６号、特開昭６２−１７１７１５号、特開昭６４−６８５９５号、特開平１−２１０００５号及び特開平４−３４９９０４号各公報等）｝等と併用してもよい。
【００９３】
本発明の消泡剤の添加量（重量％）は、被添加液体の発泡状態、温度、粘度などに応じて適宜設定すればよいが、被添加液体の重量に基づいて、０．０００１〜１が好ましく、さらに好ましくは０．０００２〜０．１、特に好ましくは０．０００５〜０．０５、最も好ましくは０．００１〜０．０１である。添加温度は０〜１００℃程度が好ましく、さらにこのましくは１０〜６０℃、特に好ましくは２０〜５０℃である。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、特記しない限り、部は重量部を、％は重量％を意味する。
【００９５】
＜製造例１＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、無機粉末シリカ｛Ｎｉｐｓｉｌ  ＮＡ、東ソー・シリカ（株）｝７７０部、ジメチルシリコーンオイル｛ＳＨ２００−５０ＣＳ、東レ・ダウコーニング株式会社｝２３０部を加熱攪拌しながら２２０℃まで昇温し、この温度にてさらに５時間加熱攪拌を続けて疎水性シリカ（ａ１）を得た。疎水性シリカ（ａ１）の個数平均粒子径は、１３．４μｍであり、Ｍ値は６５容量％であった。
【００９６】
なお、個数平均粒子径は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置Ｐａｒｔｉｃａ  ＬＡ−９５０Ｖ２、株式会社 堀場製作所製｛バッチセル式；分散質の屈折率＝１．４５；分散媒の屈折率＝１．３８（ヘキサン）；反復回数１５；必要に応じて測定試料又はヘキサンを添加し青色ＬＥＤ光透過率が８９〜９１％となるようにして、測定試料ヘキサン分散液の濃度を調整した。｝を使用して測定した（以降も同様）。
【００９７】
また、疎水性シリカが粉末状態の場合、そのままＭ値は測定され、一方、疎水性シリカが分散媒に分散された状態（分散液）の場合、分散液をヘキサンで１０倍希釈した後、遠心分離（１６１９Ｇ、５分）で沈殿させて、上澄みを除き、沈殿物のＭ値を測定する(以下、同様）。
【００９８】
＜製造例２＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、無機粉末シリカ｛Ｎｉｐｓｉｌ  Ｇ３００、東ソー・シリカ（株）｝１３５部、ジメチルシリコーンオイル｛ＳＨ２００−５０ＣＳ、東レ・ダウコーニング株式会社｝４０部、鉱物油｛コスモＳＣ２２、コスモ石油ルブリカンツ株式会社｝８２５部を加熱攪拌しながら１２０℃まで昇温し、この温度にてさらに３時間加熱攪拌を続けて疎水性シリカ（ａ２）を含む分散液（１）を得た。疎水性シリカ（ａ２）の個数平均粒子径は、６．５μｍであり、Ｍ値は６５容量％であった。
【００９９】
＜製造例３＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、＜製造例２＞で得た分散液（１）をビーズミルを用いて２１６０ｒｐｍにて１時間攪拌して、疎水性シリカ（ａ３）を含む分散液（２）を得た。疎水性シリカ（ａ２）の個数平均粒子径は、２μｍであり、Ｍ値は６５容量％であった。
【０１００】
＜製造例４＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、無機粉末シリカ｛Ｎｉｐｓｉｌ  ＮＡ、東ソー・シリカ（株）｝１３５部、シリコーンレジン｛ＢＹ  １１−９０８、東レ・ダウコーニング株式会社｝４０部、鉱物油｛コスモＳＣ２２、コスモ石油ルブリカンツ株式会社｝８２５部を加熱攪拌しながら１２０℃まで昇温し、この温度にてさらに３時間加熱攪拌を続けて疎水性シリカを含む分散液（３）を得た。さらに、分散液（３）をビーズミルを用いて２１６０ｒｐｍにて２０分攪拌して、疎水性シリカ（ａ４）を含む分散液（４）を得た。疎水性シリカ（ａ４）の個数平均粒子径は、１２μｍであり、Ｍ値は７５容量％であった。
【０１０１】
＜製造例５＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、無機粉末シリカ｛Ｎｉｐｓｉｌ  ＮＡ、東ソー・シリカ（株）｝１３５部、ジメチルシリコーンオイル｛ＳＨ２００−５０ＣＳ、東レ・ダウコーニング株式会社｝５部、鉱物油｛コスモＳＣ２２、コスモ石油ルブリカンツ株式会社｝８６０部を加熱攪拌しながら１２０℃まで昇温し、この温度にてさらに３時間加熱攪拌を続けて疎水性シリカ（ａ５）を含む分散液（５）を得た。疎水性シリカ（ａ５）の個数平均粒子径は、１３．４μｍであり、Ｍ値は３５容量％であった。
【０１０２】
＜製造例６＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、無機粉末シリカ｛Ｎｉｐｓｉｌ  ＫＱ、東ソー・シリカ（株）｝７７０部、ジメチルシリコーンオイル｛ＳＨ２００−５０ＣＳ、東レ・ダウコーニング株式会社｝２３０部を加熱攪拌しながら２２０℃まで昇温し、この温度にてさらに５時間加熱攪拌を続けて疎水性シリカ（ａ６）を得た。疎水性シリカ（ａ６）の分散粒子の個数平均粒子径は、１２０μｍであり、Ｍ値は６０容量％であった。
【０１０３】
＜実施例１＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、疎水性シリカ（ａ７）｛ニップシール  ＳＳ−１５、東ソー・シリカ（株）、個数平均粒子径：７．４μｍ、Ｍ値：６０容量％｝５０部、金属石鹸（ｃ１）｛ステアリン酸アルミニウム｛ＳＡ−１５００、堺化学工業株式会社｝２０部、基油（ｂ１）｛鉱物油、コスモピュアスピン  Ｇ、コスモ石油ルブリカンツ株式会社、４０℃における動粘度が２１ｍｍ２／ｓ｝２７０部、界面活性剤（ｄｎ１）｛ポリオキシエチレンジオレート、イオネット  ＤＯ−６００、三洋化成工業株式会社｝１０部、界面活性剤（ｄｎ２）｛ポリオキシエチレンアルキレンエーテル、ナロアクティー  ＣＬ−４０、三洋化成工業株式会社｝１０部、界面活性剤（ｄｎ３）｛ソルビタンモノオレート、イオネット  Ｓ−８０、三洋化成工業株式会社｝１０部及び界面活性剤（ｄａ１）｛ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム、テイカパワー  ＢＣ−２０７０Ｍ、テイカ株式会社、「テイカパワー」は同社の登録商標である。｝１０部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（１）を得た。
【０１０４】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ１）６２０部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（１）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し１５分間攪拌して混合物（１）を得た。投入中及び投入後の混合物（１）の温度は５〜４０℃であった。
【０１０５】
２５℃に調節した混合物（１）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、本発明の消泡剤（１）を得た。
均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、本発明の消泡剤（１）中の分散粒子の個数平均粒子径は、７μｍであった。
【０１０６】
＜実施例２＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、＜製造例１＞で得た疎水性シリカ（ａ１）５０部、金属石鹸（ｃ１）５０部、基油（ｂ２）｛鉱物油、コスモＳＣ−２２、コスモ石油ルブリカンツ株式会社、４０℃における動粘度が２２ｍｍ２／ｓ｝２７０部、界面活性剤（ｄｎ１）１０部、界面活性剤（ｄｎ２）２５部、界面活性剤（ｄｎ３）５部、界面活性剤（ｄａ１）１０部及び脂肪酸アミド（ｆ１）｛エチレンビスステアリルアミド、アルフロー  Ｈ−５０Ｓ、日油（株）、「アルフロー」は同社の登録商標である。｝５部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（２）を得た。
【０１０７】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ２）５８０部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（２）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し１５分間攪拌して混合物（２）を得た。投入中及び投入後の混合物（２）の温度は５〜４０℃であった。
【０１０８】
２５℃に調節した混合物（２）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、本発明の消泡剤（２）を得た。
均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、本発明の消泡剤（２）中の分散粒子の個数平均粒子径は、１２．５μｍであった。
【０１０９】
＜実施例３＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、金属石鹸（ｃ１）２０部、基油（ｂ２）２７０部、界面活性剤（ｄｎ１）１０部、界面活性剤（ｄｎ２）１５部、界面活性剤（ｄｎ３）５部及び界面活性剤（ｄａ１）１０部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（３）を得た。
【０１１０】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ２）９９部、＜製造例２＞で得たシリカ分散液（１）｛疎水性シリカ（ａ２）１００部と基油（ｂ２）４７１部の混合物｝５７１部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（３）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、水（ｅ１）｛水道水｝５０部を加えて１５分間攪拌して混合物（３）を得た。投入中及び投入後の混合物（３）の温度は５〜４０℃であった。
【０１１１】
２５℃に調節した混合物（３）をエクセルオートホモジナイザーにて４０００ｒｐｍにて１５分間攪拌して、本発明の消泡剤（３）を得た。均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、本発明の消泡剤（３）中の分散粒子の個数平均粒子径は、６μｍであった。
【０１１２】
＜実施例４＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、金属石鹸（ｃ１）７０部、基油（ｂ３）｛食用大豆油、４０℃における動粘度が３２ｍｍ２／ｓ｝３３０部、界面活性剤（ｄｎ１）１０部、界面活性剤（ｄｎ２）２５部、界面活性剤（ｄｎ３）５部、界面活性剤（ｄａ１）１０部及び脂肪酸アミド（ｆ１）｛エチレンビスステアリルアミド、アルフロー  Ｈ−５０Ｓ、日油株式会社）、「アルフロー」は同社の登録商標である。｝３０部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（４）を得た。
【０１１３】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ２）５３０部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（４）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、疎水性シリカ（ａ８）｛疎水性シリカ、ＳＩＰＥＲＮＡＴ  Ｄ１０、疎水性シリカの個数平均粒子径は、７．９μｍであり、Ｍ値は６５容量％である。｝２０部、シリコーン油（ｇ１）｛ポリジメチルシロキサン、ＳＨ２００−５０ＣＳ、東レ・ダウコーニング株式会社｝２０部を加えて１５分間攪拌して混合物（４）を得た。投入中及び投入後の混合物（４）の温度は５〜４０℃であった。
【０１１４】
２５℃に調節した混合物（４）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、本発明の消泡剤（４）を得た。
均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、本発明の消泡剤（４）中の分散粒子の個数平均粒子径は、７．５μｍであった。
【０１１５】
＜実施例５＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、金属石鹸（ｃ２）｛ステアリン酸カルシウム、カルシウムステアレート、日油株式会社｝１０部、基油（ｂ２）２７０部、界面活性剤（ｄｎ２）１０部、界面活性剤（ｄｎ３）５部及び界面活性剤（ｄａ１）５部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（５）を得た。
【０１１６】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ２）１２９部、＜製造例２＞で得たシリカ分散液（１）｛疎水性シリカ（ａ２）１００部と基油（ｂ２）４７１部の混合物｝５７１部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（５）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、シリコーン油（ｇ１）５０部を加えて１５分間攪拌して消泡剤（５）を得た。投入中及び投入後の消泡剤（５）の温度は５〜４０℃であった。また、本発明の消泡剤（５）中の分散粒子の個数平均粒子径は、６．５μｍであった。
【０１１７】
＜実施例６＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、金属石鹸（ｃ３）｛ステアリン酸マグネシウム、工業用マグネシウムステアレート、日油株式会社｝２０部、基油（ｂ１）２７０部、界面活性剤（ｄｎ１）５部、界面活性剤（ｄｎ２）５部、界面活性剤（ｄｎ３）５部及び界面活性剤（ｄａ１）５部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（６）を得た。
【０１１８】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ２）６３０部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（６）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、疎水性シリカ（ａ７）５０部、界面活性剤（ｄｎ２）５部及び界面活性剤（ｄａ１）５部を加えて１５分間攪拌して消泡剤（６）を得た。投入中及び投入後の消泡剤（４）の温度は５〜４０℃であった。また、本発明の消泡剤（４）中の分散粒子の個数平均粒子径は、７．４μｍであった。
【０１１９】
＜実施例７＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、金属石鹸（ｃ１）５０部、基油（ｂ４）｛鉱物油、コスモＳＰ１０、コスモ石油ルブリカンツ株式会社、４０℃における動粘度が９．５ｍｍ２／ｓ｝２７９部、界面活性剤（ｄｎ１）１０部、界面活性剤（ｄｎ２）２５部、界面活性剤（ｄｎ３）５部及び界面活性剤（ｄａ１）１０部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（７）を得た。
【０１２０】
次いで、５℃に調節した＜製造例３＞で得たシリカ分散液（２）｛疎水性シリカ（ａ３）１００部と基油（ｂ２）４７１部の混合物｝５７１部、界面活性剤（ｄｎ１）１５部、界面活性剤（ｄｎ２）１５部、界面活性剤（ｄｎ３）１０部及び界面活性剤（ｄａ１）１０部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（７）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、シリコーン油（ｇ１）２０部を加えて１５分間攪拌して混合物（７）を得た。投入中及び投入後の混合物（７）の温度は５〜４０℃であった。
【０１２１】
２５℃に調節した混合物（７）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、本発明の消泡剤（７）を得た。
【０１２２】
均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、本発明の消泡剤（７）中の分散粒子の個数平均粒子径は、２μｍであった。
【０１２３】
＜実施例８＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、金属石鹸（ｃ１）２０部、基油（ｂ５）｛菜種油、菜種白絞油ＮＳ、日清オイリオ株式会社、４０℃における動粘度が３５ｍｍ２／ｓ｝３５０部、界面活性剤（ｄｎ２）１０部、界面活性剤（ｄｎ３）５部、界面活性剤（ｄａ１）５部及び脂肪酸アミド（ｆ１）２０部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（８）を得た。
【０１２４】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ２）３８４部及び＜製造例４＞で得たシリカ分散液（３）｛疎水性シリカ（ａ４）４０部と基油（ｂ２）１８６部の混合物｝２２６部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（８）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、１５分間攪拌して混合物（８）を得た。投入中及び投入後の混合物（８）の温度は５〜４０℃であった。
【０１２５】
２５℃に調節した混合物（８）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、本発明の消泡剤（８）を得た。
均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、本発明の消泡剤（８）中の分散粒子の個数平均粒子径は、１１．２μｍであった。
【０１２６】
＜比較例１＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、基油（ｂ１）２７０部、脂肪酸アミド（ｆ１）１００部、界面活性剤（ｄｎ１）５部、界面活性剤（ｄｎ２）５部、界面活性剤（ｄｎ３）５部及び界面活性剤（ｄａ１）５部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（Ｈ１）を得た。
【０１２７】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ１）６８０部、界面活性剤（ｄｎ２）１５部及び界面活性剤（ｄｎ３）１５部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（Ｈ１）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、１５分間攪拌して混合物（Ｈ１）を得た。投入中及び投入後の混合物（Ｈ１）の温度は５〜４０℃であった。
【０１２８】
２５℃に調節した混合物（５）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、比較用の消泡剤（Ｈ１）を得た。均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、比較用の消泡剤（Ｈ１）の個数平均粒子径は、５μｍであった。
【０１２９】
＜比較例２＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、金属石鹸（ｃ１）５０部、基油（ｂ２）３７０部、界面活性剤（ｄｎ３）５部及び界面活性剤（ｄａ１）５部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（Ｈ２）を得た。
【０１３０】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ２）５７０部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（Ｈ２）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、１５分間攪拌して混合物（Ｈ２）を得た。投入中及び投入後の混合物（Ｈ２）の温度は５〜４０℃であった。
【０１３１】
２５℃に調節した混合物（Ｈ２）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、比較用の消泡剤（Ｈ２）を得た。均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、比較用の消泡剤（Ｈ２）の個数平均粒子径は、８μｍであった。
【０１３２】
＜比較例３＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、２５℃に調節した＜製造例５＞で得たシリカ分散液（５）｛疎水性シリカ（ａ５）１３５部と基油（ｂ２）８３０部の混合物｝９６５部、界面活性剤（ｄｎ１）１０部、界面活性剤（ｄｎ２）５部及び界面活性剤（ｄｎ３）２０部を攪拌し、比較用の消泡剤（Ｈ３）を得た。混合中及び混合後の消泡剤（Ｈ３）の温度は２５℃であった。また、消泡剤（Ｈ３）中の分散粒子の個数平均粒子径は、１３．４μｍであった。
【０１３３】
＜比較例４＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、２５℃に調節した＜製造例６＞で得た疎水性シリカ（ａ６）１７０部、基油（ｂ１）７９０部、界面活性剤（ｄｎ１）１０部、界面活性剤（ｄｎ２）５部及び界面活性剤（ｄｎ３）２５部を攪拌し、混合物（Ｈ４）を得た。混合中及び混合後の混合物（Ｈ４）の温度は２５℃であった。
【０１３４】
２５℃に調節した混合物（Ｈ４）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、比較用の消泡剤（Ｈ４）を得た。均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、消泡剤（Ｈ４）中の分散粒子の個数平均粒子径は、６０μｍであった。
【０１３５】
＜比較例５＞
加熱、攪拌、冷却の可能な容器内で、金属石鹸（ｃ１）５０部、基油（ｂ１）３７０部、界面活性剤（ｄｎ３）２０部及び脂肪酸アミド（ｆ１）１００部を加熱攪拌しながら１４０℃まで昇温し、この温度にてさらに１５分間加熱攪拌を続けて混合溶解液（Ｈ５）を得た。
【０１３６】
次いで、５℃に調節した基油（ｂ１）５４０部、界面活性剤（ｄｎ１）１０部、界面活性剤（ｄｎ２）５部及び界面活性剤（ｄｎ３）５部を冷却攪拌しながら、これに混合溶解液（Ｈ５）｛投入中、１４０℃に保つ｝を投入し、１５分間攪拌して混合物（Ｈ５）を得た。投入中及び投入後の混合物（Ｈ５）の温度は５〜４０℃であった。
【０１３７】
２５℃に調節した混合物（Ｈ５）をゴーリンホモジナイザーを用いて３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）にて均一混合処理して、比較用の消泡剤（Ｈ５）を得た。均一混合の処理中及び処理後の温度は２５〜４０℃であった。また、比較用の消泡剤（Ｈ５）の個数平均粒子径は、１３μｍであった。
【０１３８】
実施例１〜８及び比較例１〜５で得た消泡剤（１）〜（８）及び（Ｈ１）〜（Ｈ５）を用いて、以下のようにして消泡性を評価し、評価結果を表１に示した。
【０１３９】
（１）消泡性試験液の調製
某製紙工場のＬ材クラフトパルプ製造工程（平均パルプ生産量３００ｔ/日）で発生する蒸解した後の黒液（濃度１７重量％）に、水道水を加えて濃度５重量％に調整し、消泡性試験液を調製した。
【０１４０】
（２）消泡性試験
消泡性試験装置（図１）のガラス製透明容器（１０、高さ２５ｃｍ、直径８ｃｍ）に８０℃に温度調整した消泡性試験液５００ｍｌを入れた後、ポンプ（２０）でガラス製透明容器の底部（１２）から試験液を１３００ｍｌ／分で循環しながら、ガラス製透明容器の上部｛試験液出口（４０）の高さはガラス製容器の開口部（１１）から２ｃｍ｝から落下させることにより試験液を発泡させ、泡高さが１０ｃｍに達したとき、２５μl（５０ｐｐｍ）の消泡剤（実施例１〜８及び比較例１〜５）を添加し、最も泡面の高さが低下した泡面の高さ（ｍｍ）（初期破泡性）及び３分後の泡面の高さ（ｍｍ）を目盛り（３０）（消泡持続性）から読み取った。泡面の高さが小さいほど消泡性が良好である。
【０１４１】
（３）消泡剤自身の凝集物発生性
消泡性試験を行った直後の消泡性試験液をステンレス製金網（ＪＩＳ  Ｚ８８０１−１：２００６、公称目開き４５μｍ）でろ過して調製した試験液５００ｇを１０００ｍｌのステンレスビーカーに入れ、８０℃に加熱保持し、５．０ｇの消泡剤（実施例１〜５及び比較例１〜４）を添加した後、３０分間８０℃に保持しながら均一撹拌した後、再び、新たなステンレス製金網でろ過し、残った残渣を１０５℃×１時間乾燥して、重量（ｗ１）を測定し、次式により残渣率を求め、この残渣率を凝集物発生性とした。なお、残渣率が少ないほど凝集物発生性が低いといえる。
【０１４２】
残渣率（重量％）＝（ｗ１）×１００／（添加した消泡剤量（５．０ｇ））
【０１４３】
【表１】
0005568707.tif 000002
【０１４４】
本発明の消泡剤（実施例１〜８）を添加した消泡性試験液の最低泡高さ及び３分後の泡高さは低く、優れた消泡性を示した。また残渣率も少なく、凝集物発生性が低かった。これに対して、比較例１〜５を添加した消泡性試験液の３分後の泡高さは、すべて１００ｍｍ以上であり、消泡不良であった。また、比較例１及び比較例５は、残渣率も高く、凝集物の発生性が悪かった。
【符号の説明】
【０１４５】
１０  ガラス製透明容器
１１  ガラス製透明容器の開口部
１２  ガラス製透明容器の底部
２０  ポンプ
３０  目盛り
４０  試験液出口
【図１】
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