(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
個人用皮膚トリートメントデバイスであって、
標的皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成された脱毛メカニズムと、
パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと
を含み、
前記脱毛メカニズムは、シェーバー、脱毛器、及びかみそりの少なくとも１つであり、
前記光放射付与モジュールは、パルスモードで動作する場合に低出力パルスが介在配列された高出力パルスを放射し、
前記光放射付与モジュールは、
光放射源と、
放出された光放射を前記標的皮膚セグメントに反射させるべく構成されたリフレクタと、
前記光放射源を冷却する動作が可能に構成された冷却手段と、
少なくとも１つの誘電体被覆保護ウィンドウと
を含む使い捨て可能カートリッジであり、
前記冷却手段は、
冷却空気流を与える動作が可能なファンと、
細長いリフレクタであって、前記リフレクタの内側を空気が通るようにし、かつ、前記リフレクタの頂部まわりであって前記リフレクタの長手軸に沿って配置された空気通路開口を有するリフレクタと、
前記リフレクタの突き合わせ端に配置された空気排気口と
を含み、
前記空気排気口の面積は、前記リフレクタの長手軸に沿って配置された空気通路開口の面積以上である皮膚トリートメントデバイス。
【請求項２】
前記光放射源は、白熱ランプ、ＬＥＤ、レーザダイオード、固体レーザ、ガスレーザ、キセノンＩＰＬランプの１つである、請求項１に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項３】
前記光放射付与モジュールを交換する必要が生じる前に放出されるパルスの最大数、又は、前記光放射付与モジュールを交換する必要が生じる前に一のトリートメントで皮膚に適用される全エネルギーの少なくとも１つがプリロードされるＲＦＩＤ又はＥＥＰＲＯＭをさらに含む、請求項１に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項４】
皮膚と接触して当該皮膚表面形態に追従する１対のＲＦ電極をさらに含み、
前記ＲＦ電極は、トリートメントを受ける皮膚セグメントにＲＦエネルギーを適用する動作が可能である、請求項１に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項５】
前記細長いリフレクタの開口部位の近傍において誘電体被覆保護ウィンドウをさらに含み、
前記細長いリフレクタ及び前記誘電体被覆保護ウィンドウは空気導通チャネルを形成する、請求項１に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項６】
インフラ構造フレームと、
前記デバイスを皮膚全域で移動させるメカニズムと、
前記インフラ構造フレームに取り付けられた皮膚全域のデバイス移動速度のモニタリング構成と移動方向センサとをさらに含む、請求項１に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項７】
前記デバイスを皮膚全域で連続的に移動させる前記メカニズムは、ギアを有するＤＣモータ、蠕動圧電セラミックモータ、又は圧電セラミックモータ駆動キャタピラ（登録商標）の少なくとも１つである、請求項６に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項８】
前記脱毛メカニズムと交換可能なスキンリジュベネーションモジュールをさらに含む、請求項１に記載の皮膚トリートメントデバイス。
【請求項９】
光放射付与モジュールと前記モジュールを冷却する構成とを含む美容皮膚トリートメントの使い捨て可能カートリッジであって、
光放射源と、
曲線又は多角形断面を有する細長い管状又はプリズム状のリフレクタであって、前記リフレクタの頂部まわりに、かつ、前記リフレクタの長手軸に沿って配置されて、空気が前記リフレクタの内側を通ることを許容する空気通路開口を有するプリズムリフレクタと、
前記リフレクタの突合わせ端に配置された空気排気口と、
前記リフレクタの開口部位の近傍にある少なくとも１つの誘電体被覆保護ウィンドウと、
前記光放射付与モジュールを交換する必要が生じる前に前記光放射源から放出されたパルスの数を計数するべく構成されたデバイスと
を含む使い捨て可能カートリッジ。
【請求項１０】
トリートメントを受ける皮膚セグメントにＲＦエネルギーを与える動作が可能に構成された１対のＲＦ電極をさらに含む、請求項９に記載の使い捨て可能カートリッジ。
【請求項１１】
光放射付与モジュールの冷却方法であって、
光放射付与モジュールのリフレクタに冷却空気流を向けることと、
前記冷却空気流を当該空気の一部が前記リフレクタの外部を冷却し、当該空気の一部が空気通路開口を通って前記リフレクタの内側に入るように分割することと、
前記光放射付与モジュールの放射源を、前記空気流を前記放射源に沿って前記リフレクタの内側に向けることにより冷却することと、
前記リフレクタの突合わせ端を通って前記空気を排気することと
を含む冷却方法。
【請求項１２】
前記リフレクタにガラスウィンドウを取り付けることにより空気導通チャネルを形成することをさらに含む、請求項１１に記載の冷却方法。
【請求項１３】
前記空気流と前記ガラスウィンドウとの相互作用により前記空気流が前記放射源に沿って前記リフレクタの内側に向けられる、請求項１２に記載の冷却方法。
【請求項１４】
前記空気の排気口の面積は、前記リフレクタ内の空気通路開口の面積以上である、請求項１２に記載の冷却方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本方法及び本装置は一般に皮膚トリートメントの分野に関し、詳しくは脱毛に関する。
【背景技術】
【０００２】
実際のところ誰にとっても外見は重要である。近年、異なる美容及び皮膚科トリートメントのための方法及び装置が開発されている。中でも、脱毛、血管病変トリートメント、しわ除去、スキンリジュベネーション等がある。これらのトリートメントにおいては、深い皮膚又は組織体積を加熱するべく皮膚表面が、所望の効果を達成するのに十分高い温度を照射される。これは典型的に３８−６０℃の範囲である。当該効果は、毛幹を弱めること又は毛嚢若しくは毛根までも破壊することである。
【０００３】
他の所望の効果は発毛遅延である。これは典型的に、初期に脱毛された皮膚表面をレーザ、ＬＥＤ、キセノンランプ、超短パルス光（Ｉｎｔｅｎｓｅ  Ｐｕｌｓｅｄ  Ｌｉｇｈｔ（ＩＰＬ））、又は白熱ランプ放射で照射することにより達成される。これらは一般に光放射と呼ばれる。光放射は、例えばレーザのような単一波長を有するか、又はいくつかの波長若しくは広帯域スペクトルを有する。かかる波長は、トリートメントを受ける皮膚セグメントの対比される要素の色に対して最適となるように選択され、４００から１８００ｎｍの範囲となるのが典型的である。通常フラッシュ光又はパルス光である光放射は、所定寸法のアパチャを有するアプリケータの助けにより皮膚に適用される。皮膚表面全体を「カバー」するべくアパチャは、外されるか又は２度トリートメントを受けるエリアが当該皮膚に存在しなくなるように、少なくとも１つのアパチャ寸法に等しいステップに基づく比較的正確な態様で所々に移動する必要がある。これを回避するべく個人は視覚的にアプリケータ位置を追跡する。光パルスが不可避的に彼／彼女の目に到達し、当該個人の妨害をし、アプリケータ位置の追跡及び脱毛工程に影響を与える。かかるデバイスは、当該皮膚組織に所定エネルギー密度が適用される場合にのみ所望の効果を達成する。デバイスが当該皮膚全域をあまりにも速く又は遅く移動すると、当該デバイスは効果がなくなるか又は火傷を引き起こす。
【０００４】
いくつかの高周波（ＲＦ）を同時に皮膚に適用することに基づく、皮膚又は組織の深層をトリートメントする方法が開発されている。かかる方法では電極が皮膚に適用され、ＲＦ電圧がパルス又は連続波形（ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ  ｗａｖｅｆｏｒｍ（ＣＷ））で当該電極間に適用される。ＲＦ電圧の特性は、トリートメントを受ける所定体積又は層の組織にＲＦ誘導電流を生成するべく選択される。電流は組織を必要な温度まで加熱する。これは典型的に３８−６０℃の範囲である。当該温度により、毛嚢又は毛根が破壊又は損傷を受け、さらなる発毛が遅延される。
【０００５】
光及びＲＦのトリートメントを組み合わせる機器が存在する。かかる機器は通常、アパチャ表面とほぼ同様又は等しい対象皮膚の画定セグメントを照射するべく構成される。当該アパチャを介して光放射が皮膚セグメントに向けられる。典型的には電極がアパチャ周囲の近傍に配置される。典型的にはＲＦが光によって加熱されるよりも深い組織層が加熱される。これにより、毛球及び／又は毛嚢が破壊／損傷を受ける。同じ皮膚セグメントに適用されるＲＦエネルギー量と光放射量との間には繊細な関係が存在する。双方間で光部分が超過すると皮膚火傷が生じる一方、ＲＦエネルギーと光放射との最適比よりも低い適用では所望のトリートメント結果が得られない。
【０００６】
市場では、ユーザ自身が以下をできるようにして動作する、サイズが小さく、コストが低く、使用が安全な装置が求められている。ｉ）皮膚火傷又は不十分な皮膚トリートメント結果を回避すること。ｉｉ）トリートメントの間中、トリートメントを受けているエリアを長々と見つめることを回避すること。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００７／０１２９７１１（Ａ１）号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００４／０２３６２６９（Ａ１）号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００４／０１４３３０８（Ａ１）号明細書
【特許文献４】米国特許第６，７７０，０６９（Ｂ１）号明細書
【特許文献５】米国特許出願公開第２００８／０２１５１２４（Ａ１）号明細書
【特許文献６】米国特許出願公開第２００５／００１５０４２（Ａ１）号明細書
【特許文献７】米国特許出願公開第２００６／０２３１５６８（Ａ１）号明細書
【特許文献８】米国特許出願公開第２００８／０２２１５０４（Ａ１）号明細書
【発明の概要】
【０００８】
皮膚トリートメント及び脱毛のための個人用皮膚トリートメントデバイスである。本デバイスは、パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、脱毛メカニズムと、皮膚全域に当該デバイスを連続的に移動させるメカニズムとを含む。本脱毛メカニズムは、機械的デバイスであってよい。当該デバイスを皮膚全域で連続移動させるメカニズムはオプションのメカニズムである。ユーザは本デバイスを皮膚に適用し、脱毛メカニズム及び光放射モジュールを動作させ、手動又はビルトイン移動メカニズムの助けを借りて本デバイスを、トリートメントを受ける皮膚セグメント全域で移動させる。オプションの移動速度モニタリング構成が移動速度をモニタリングし、光出力をデバイス移動速度の関数として確立する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本装置及び本方法は、本明細書の結論部分に具体的に指摘されて明確に請求されている。しかしながら、本装置及び本方法は、動作の構成及び方法の双方について、添付図面とともに読まれる場合の下記の詳細な説明を参照することにより最良の理解が得られる。添付図面では、同様の参照番号は、異なる図面を通して同様の部分を参照する。図面は必ずしも縮尺通りではなく、本方法の原理を説明するに際して強調される。
【００１０】
【図１】個人用脱毛装置の一実施例を示す概略図である。
【図２】個人用脱毛アプリケータ又はデバイスのインフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。
【図３】脱毛メカニズムなしで示される、インフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。
【図４】光放射付与モジュールのリフレクタ一実施例及びその冷却方法を示す概略図である。
【図５Ａ】デバイス移動メカニズムの一実施例を示す概略図である。
【図５Ｂ】デバイス移動メカニズムの他実施例を示す概略図である。
【図５Ｃ】デバイス移動メカニズムの追加実施例を示す概略図である。
【図６】デバイス移動速度検出メカニズムの一実施例を示す概略図である。
【図７】個人用脱毛デバイスの電極の一実施例を示す概略図である。
【図８】本装置とともに使用される例示的な、使い捨て可能かつ交換可能なスキンリジュベネーションデバイスを示す概略図である。
【図９】本デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の他実施例を示す概略図である。
【図１０】光放射付与モジュールの他実施例の断面図及びその冷却方法を示す概略図である。
【図１１】光放射付与モジュールの追加実施例及びその冷却方法を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
下記の詳細な説明では、その一部をなす添付図面を参照する。当該参照は、本装置及び方法が実施され得る異なる実施例の図示によって示される。本装置の実施例に係る要素はいくつかの異なる配向にできるため、方向を示す用語は説明を目的とするものであって、決して限定するものではない。なお、本方法及び装置の範囲を逸脱せずに他実施例を使用し、構造的又は論理的変更をなしてよい。したがって、下記の詳細な説明は、限定の意味にとらえてはならない。本装置及び本方法の範囲は添付の特許請求の範囲により画定される。
【００１２】
本明細書で使用する用語である「皮膚トリートメント」は、角質層、真皮、表皮のような様々な皮膚層に係る脱毛及びトリートメント、スキンリジュベネーション処置、しわ除去、並びに、コラーゲン収縮又は破壊のような処置を含む。
【００１３】
「皮膚表面」という用語は、最外皮膚層を示す。これは角質層であってよい。
【００１４】
個人用皮膚トリートメント装置の一実施例を示す概略図である図１を参照する。装置１００は、対象皮膚上をスライド移動するべく構成されたアプリケータ又はデバイス１０４と、コントローラ、電力供給モジュール、及びキャパシタ（図示せず）のような電荷蓄積メカニズムを含むベース１０８と、アプリケータ１０４及びベース１０８間を接続する供給コード１１２とを含む。電力供給は整流器を有するか又は有しない変圧器を含む。装置１００は、標準の給電ネットワークコンセントから又は充電可能若しくは従来バッテリから電力供給を受ける。アプリケータ又はデバイス１０４は、本体（透明なエンベロープを有するものとして図示）を保持容易に設計される。当該本体は、インフラ構造１１６と、軸流ファン又はブロワ１２０のような冷却手段と、装置１００の動作を制御する制御回路１２４と、インフラ構造１１６に取り付けられるか又は共通フレーム上に組み付けられた脱毛メカニズム１２８とを含む。脱毛メカニズム又はヘッド１２８は、シェーバーのヘッド、むしり取り又は毛抜き脱毛器のようなヘッド、又はかみそりの１つであってよい。ヘッド１２８は取り外し可能ヘッドである。安全上の理由により、ヘッド１２８の電気的接触は、適切な位置にインサートされたときにのみ脱毛メカニズムへの電源が入るように構成される。一追加実施例では、脱毛メカニズムはスキンリジュベネーションヘッド（図８）によって置換されてもよい。
【００１５】
装置の動作状態及び／又は皮膚トリートメント工程パラメータをユーザに通知又は表示するＬＥＤのような少なくとも１つの可視状態インジケータ１３２がデバイス１０４に取り付けられる。皮膚トリートメント工程パラメータの状態のシグナルをユーザに送るブザーのような、少なくとも１つのオプションとなる可聴動作状態インジケータ１３６がデバイス１０４に取り付けられるか又はベース１０８に配置される。
【００１６】
図２は、個人用皮膚トリートメントのためのアプリケータ又はデバイスのインフラ構造アセンブリの一実施例を示す概略図である。インフラ構造１１６に設けられるのは、光放射付与モジュール２００と、図５Ａ−５Ｃに示される皮膚全域でデバイス１０４を連続移動させるメカニズム又は構成と、移動速度モニタリングメカニズム（図５Ａ）と、インフラ構造フレーム１１６（図１）に設けられて当該放射付与モジュール２００（図２）によりアクティベートされる安全スイッチ（図３）である。脱毛メカニズム１２８は、トリートメントを受ける又は標的の皮膚セグメントから機械的に脱毛する動作が可能に構成され、インフラ構造フレーム１１６に取り付けられる。オプションとして、一対の電極２２０がインフラ構造フレーム１１６に取り付けられる。
【００１７】
図３は、脱毛メカニズム１２８（図１）なしで示される、インフラ構造フレーム１１６アセンブリの一実施例を示す概略図である。図示されるのは、インフラ構造フレーム１１６に取り付けられた安全スイッチ３００と、図５Ａに示されるデバイス１０４の移動方向のセンサ５２８である。放射付与モジュール２００（図２）をフレーム１１６の当該位置に挿入することで安全スイッチ３００がアクティベートされる。これにより、モジュール２００の無駄な又は誤った動作を回避することができる。例えば、アプリケータ１０４の電極において高電圧が存在かつ「活きている」こととはならない。このため、使い捨て可能カートリッジが取り外される場合に誰も高電圧の危険にさらされることがない。
【００１８】
本開示のいくつかの実施例によれば、ＲＦＩＤデバイスが制御回路１２４（図１）に接続される。ＲＦＩＤデバイスには、放射付与モジュール２００を交換する必要が生じる前に放出されるべき最大数のパルスがプリロードされ、放出されたパルスごとにカウントを減少させる必要がある。代替的にＲＦＩＤデバイスには、放射付与モジュール２００（図２）を交換する必要が生じる前に一のトリートメントで皮膚に適用される全エネルギーがプリロードされる。ＲＦＩＤデバイスは、追加安全対策としても機能する。ＲＦＩＤが識別できない場合、すなわち放射付与モジュール２００が正確に設置されていない場合、制御回路１２４は放射付与モジュール２００にパルスを放出させないようにする。
【００１９】
一追加実施例では、米国ＣＡ  ９４０８６、ＳｕｎｎｙｖａｌｅのＭａｘｉｍ／Ｄａｌｌａｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ社から商業的に入手可能なＤＳ２４３１のような１０２４ビットの１−Ｗｉｒｅ（登録商標）ＥＥＰＲＯＭである。カウンタとして動作する１−Ｗｉｒｅ  ＥＥＰＲＯＭは、とりわけ放射付与モジュール２００を制御する制御プリント回路１２４上に組み付けることができる。ＲＦＩＤと同様に、カウンタに所望の情報をプリロードしてもよい。同じ１−Ｗｉｒｅ  ＥＥＰＲＯＭが、放射付与モジュール２００の信頼性識別を目的として機能できる。
【００２０】
図４は、光放射付与モジュールのリフレクタの一実施例及びその冷却方法を示す概略図である。モジュール２００は、光放射源４００と、リフレクタ４０４と、誘電体被覆保護ウィンドウ４０８とを含む使い捨て可能カートリッジとして実装される。リフレクタ４０４は、放出された光放射をトリートメントを受ける皮膚セグメントに反射するべく構成される。ウィンドウ４０８はアパチャを画定する。当該アパチャを通って、光放射が皮膚に放出される。破線で示される光放射源４００は、例えば独国６５１９９Ｗｉｅｓｂａｄｅｎ、Ｗｅｎｚｅｌ−Ｊａｋｓｃｈ通り３１番のＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ  Ｏｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社から商業的に入手可能なＡＧＡＣ４６２７高出力密度キセノンフラッシュランプのような白熱ランプ、又は、ＬＥＤ、レーザダイオード、固体レーザ、ガスレーザ、キセノンＩＰＬ（Ｉｎｔｅｎｓｅ  Ｐｕｌｓｅｄ  Ｌｉｇｈｔ）ランプの群の任意の１つであってよい。
【００２１】
リフレクタ４０４は平坦な切子面及び多角形断面を有するプリズムケース又はプリズム体である。または、２乗以上のオプション曲率を有する管状ケース又は管状体である。光放射がウィンドウ４０８のアパチャ全域に均一に集中かつ分布することができる単純な円筒断面、放物断面、又は他の任意断面であってよい。当該光放射はウィンドウ４０８のアパチャを通って皮膚に放出される。ウィンドウ４０８の誘電体被覆は、光放射スペクトルの関連セクションをトリートメントを受ける皮膚セグメントに透過させ、かつ、他セクションを反射するように選択される。リフレクタ４０４は、当該リフレクタの内側で空気が通ることを許容する複数の開口４１２を有する。開口４１２は、リフレクタ４０４の頂部付近に配置される。リフレクタ４０４の開放長手方向部位の近傍に配置又は当該部位に取り付けられた誘電体被覆保護ウィンドウ４０８は、当該リフレクタ４０４とともに空気導通チャネル４２０を形成する。空気導通チャネル４２０は一側がリフレクタ４０４と及び他側がウィンドウ４０８と境界をなす。軸流ファン１２０（図１）のような冷却要素により生成された冷却空気４２４の流れの一部が開口４１２を通ってチャネル４２０に入る。これは破線で示される光放射源４００に沿って空気導通チャネル４２０内に向けられ、当該光放射源４００を冷却する。リフレクタ４０４の突合わせ端開口４２８が、空気導通チャネルをその両端で終端させ、冷却空気排気口として機能する。突合わせ開口又は排気口４２８の面積は、リフレクタ４０４内部及び空気導通チャネル４２０に空気が通ることを可能とする開口４１２の面積と少なくとも等しいか又は大きい。冷却空気流４２４の他の部分は、リフレクタ４０４の外部セクションまわりを流れ、リフレクタ４０４の当該外側セクションを冷却する。
【００２２】
図１０に概略的に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、冷却手段はロータリーブロワ１０００を含む。ブロワ１０００は、矢印１０１０に示される空気を光放射付与モジュール２００（図２）の一側内に吹き込む。当該空気は、光放射源４００及びリフレクタ４０４（図４）に平行に（沿って）流れ、矢印１０２０に示されるように光放射付与モジュール２００の反対側から出現する。
【００２３】
またも図１０に概略的に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、第２ガラスウィンドウ１０３０がウィンドウ４０８に平行に設置される。ブロワ１０００が吹き込む矢印１０４０が付けられた冷却空気の一部は、２つのウィンドウ４０８及び１０３０の間を流れる。図１１に示されるように、傾斜ランプ電極１１００が光放射源４００の空気取り入れ側に設置され、当該ウィンドウに向かう空気流を促進する。矢印１１３０は、リフレクタ４０４の内側及び外側並びにウィンドウ４０８及び１０３０の間を流れる冷却空気流を概略的に示す。リフレクタ４０４はプリズム構造として図１１に示される。
【００２４】
本開示のいくつかの実施例によれば、図１に示されるファン１２０は、２つのガラスウィンドウの間の空気を冷却するべく使用されてもよい。ウィンドウ４０８に平行な３以上のウィンドウがこれらの間に冷却空気流を有することで良好な熱絶縁が得られ、デバイスの皮膚と接触する部分の温度がほとんど変化しないことは実験的に証明されている。
【００２５】
本開示のいくつかの実施例によれば、サーミスタのような熱センサ１０５０、又は他の任意タイプの温度測定手段が、当該冷却手段が機能障害の場合に過熱することへの安全対策として、冷却空気の流入端又は流出端のいずれかに設置される。
【００２６】
ウィンドウ４０８及び１０３０は、パイレックス（登録商標）、サファイア、石英、又は特殊加工ホウケイ酸ガラスから作られる。ウィンドウ１０３０又は双方のウィンドウは誘電体被覆でコーティングされる。当該誘電体被覆は、光放射源４００から放出されるＵＶ及び所定のＩＲ波長のような望ましくない波長を反射するフィルタとして機能する。
【００２７】
またも図１１に示されるように、本開示のいくつかの実施例によれば、２つのリフレクタ（１１１０、１１２０）が２つのウィンドウ（１０３０、４０８）間のその両側面上に設けられる。これにより、トリートメント面積の外側への光の散乱が防止される。
【００２８】
光放射付与モジュール２００のアーキテクチャ及びこれを冷却する方法により、コンパクトかつ効率的な光放射源を製造することが可能となり、皮膚トリートメントに対して十分な出力が与えられる。モジュール２００は、パルス又は連続動作モードで動作する。光放射又は光パルスの繰り返し周期が低いと、アプリケータ位置を常に視覚的に追跡するユーザにとって気に障ることがわかっている。ユーザの感覚を和らげるべく光放射源は、高出力トリートメントパルス間に介在配列されたいくつかの低出力光パルスを放出する。これにより、光パルスの繰り返し周期が増大し、繰り返し周期が低い光パルスの、気に障る効果及び目にかく乱を与える効果が軽減される。
【００２９】
図５Ａは、デバイス移動メカニズムの一実施例を示す概略図である。これは、デバイス１０４を皮膚全域で連続移動させる例示的なメカニズムの底面図である。本メカニズムは、適切なサイズ及び出力のＤＣモータ５００を含む。ＤＣモータ５００は、一以上のギア５０４によって一以上の駆動ホイール５０８又は一のキャタピラ（登録商標）タイプトラック（ｃａｔｅｒｐｉｌｌａｒ ｔｙｐｅ ｔｒａｃｋ）にカップリングされる。ユーザはデバイス１０４を皮膚５１２（図５Ｂ）に付着させ、当該デバイスが皮膚から落下しないような最小限の力を適用する。デバイス１０４は必要に応じて、追加の補助ホイール５１６を任意の適切量有してよい。ＤＣモータ５００の動作によりデバイス１０４は、皮膚５１２全域を可変速度で移動することができる。直径が既知のホイール又はローラ５２８が皮膚と接触する。当該デバイスの移動に応じてローラ５２８が回転する。ローラ５２８の回転速度を測定することにより、当業者に周知の方法でデバイス移動速度を決定することができる。代替的に、複数のホイール５０８又は５１６の１つの直径が既知であってよい。
【００３０】
図５Ｂに示されるデバイス移動メカニズムの他実施例では、キャタピラタイプトラックとして実装された蠕動圧電セラミックモータ５１６が、矢印５４０で示されるようにデバイス１０４を皮膚５１２全域で移動させる。図５Ｃに示されるデバイス移動メカニズムのさらなる追加実施例では、圧電セラミックモータ５２４又は他のタイプのモータにより駆動されるベルト５２０が、矢印５４４で示されるようにデバイス１０４を皮膚５１２全域で移動させる。
【００３１】
上述のデバイス移動メカニズムにより、異なる皮膚トリートメント条件に適合させるべくデバイス１０４を可変速度で移動させることができる。しかしながら、このためにはデバイス移動速度を検出又はモニタリングして修正する能力が必要となる。図６は、デバイス移動速度及び移動方向の検出構成の一実施例を示す概略図である。デバイス１０４（図１及び５）移動速度モニタリング構成６００では、直径が既知の回転ホイール６０２又はローラが皮膚５１２と永久接触する。ホイール６０２は、ホイール６０２の周囲に張力をかけられたＯリング６０４を有する。移動速度モニタリング構成６００は、開口６０６を有するホイール６０２−Ｉ（図６Ｂ）として実装される。ホイール６０２−Ｉは、ＬＥＤ６０８と検出器６１２との間に配置されて、当該間を開口が通過するときにパルスが発生するように構成される。代替的に、ホイールは例えば、制御回路１２４と通信するタコメータのような速度測定デバイスに接続されてよい。速度読み取りに応じて制御回路１２４（図１）は、デバイス１０４の移動速度を変化させる。一代替実施例では、光学マウスと同様の構成がデバイス１０４移動速度をモニタリングする。
【００３２】
デバイス移動速度及び進行方向の連続検出が、トリートメント状態をユーザに知らせる可視又は可聴信号と組み合わせられて、ユーザは、アプリケータ位置を視覚的に常に追跡するという煩わしい作業から開放される。それでもなおユーザは、アプリケータ移動速度が、少なくとも放射源パルス繰り返し周期に対応する所望のアプリケータ速度に従っていることを確認する必要がある。当該放射源パルス繰り返し周期は、光放射出力及びアパチャの活性サイズを確立する。可視信号インジケータ及び可聴信号インジケータがユーザに、皮膚トリートメント状態に関する決定のために必要な情報を与える。ユーザは、以前にトリートメントを受けた単数又は複数のストリップ（ｓｔｒｉｐ）の位置を記憶しなくてよい。
【００３３】
方向移動センサは、非対称開口６１４を有するホイール５２８（図５）、検出器６１２、及びＬＥＤ６０８である。検出器６１２及びＬＥＤ６０８は、その間を開口が通過するときにパルスが発生するように構成される。代替的に、ホイール５０８又は５１６の１つが非対称開口を有してよい。移動方向に応じて、開口６１２によるＬＥＤ放射の変調によって生じるパルスが、異なる立ち上がり時間を有する。これにより移動方向が示される。皮膚セグメントのトリートメントが完了するとオペレータは、アプリケータの移動方向を変える。
【００３４】
図７は、個人用脱毛デバイスの電極の一実施例を示す概略図である。皮膚トリートメントデバイス１０４は、オプションとして取り外し可能な一対の電極２２０（図２）をオプションとして含む。電極２２０は、ＲＦエネルギーを皮膚セグメントに適用する動作が可能に構成される。ＲＦ電極２２０は、保護ウィンドウ又はアパチャ４０８（図４）の少なくとも一側に沿って構成された細長い本体を有する。ＲＦ電極２２０は、インフラ構造フレーム１１６に対してばね７００上にて浮遊される。代替的に電極２２０は、光放射付与モジュール２００のハウジングの外部側面に取り付けられた中実の金属ストリップ７１０を含んでよい。モジュール２００の、プラスチックであってよい表面に適切に堆積された金属被覆もまた電極２００として機能できる。皮膚トリートメント中、ＲＦ電極２２０は、皮膚と堅固に接触して当該皮膚の表面形態に正確に追従する。ＲＦ電極２２０又は７１０は、むき出しの金属表面を有して皮膚との導電カップリングをなしてよい。または、誘電体被覆電極であって皮膚との容量カップリングをなしてよい。
【００３５】
図８は、本装置とともに使用される例示的な、使い捨て可能かつ交換可能なスキンリジュベネーションデバイスを示す概略図である。デバイス８００は、脱毛メカニズム１２８の代わりに設けられる。デバイス８００は、円筒又は他の３次元形状のキャリア８０２である。キャリア８０２の表面にあるのは、ドーム形状の導電要素８０４である。導電要素８０４は、ドーム８０４がキャリア８０２の外部表面から突出するように構成される。キャリア８０２は、カーカス（ｃａｒｃａｓｓ）上に可撓性基板を引き伸ばすことによって製造される。これは、中実円筒又はかご形構造であってよい。キャリア８０２の側部８１６は、接触ストリップ８２０を支承する。接触ストリップ８２０を通ってＲＦ電圧がドーム８０４に供給され得る。かかるキャリア構成により、当該キャリアを比較的大きな皮膚セグメント上に適用かつ並進移動させることができる。本開示の文脈において、「大きな皮膚セグメント」とは、キャリア表面又は接触電極キャリア表面の周囲の寸法を超える皮膚セグメントの寸法を意味する。キャリア８０２は回転対称であって、皮膚上で転がすことにより、最初にトリートメントを受けた皮膚セグメントの合理的な熱緩和時間を得て、隣接する皮膚セグメントにトリートメントを与えるべく容易に再配置することができる。また、以前にトリートメントを受けた同じ皮膚セグメントに戻ることができる。キャリアの再配置は、トリートメントがされなかった皮膚セグメント又は皮膚パッチを残すことがない。そして、残留するパッチワークタイプの皮膚パターンをなくす。かかるタイプの皮膚トリートメントは実際には、連続皮膚表面トリートメント工程のことである。キャリア８０２は、再使用可能又は使い捨て可能な部品であってよい。
【００３６】
図９は、本デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の一実施例を示す概略図である。皮膚トリートメントに対し、トリートメントを受ける皮膚セグメント９００にデバイス１０４が適用される。ＲＦ電極２２０（図２）と皮膚との間には堅固な又は少なくともほとんど堅固な接触が可能となる。光放射付与モジュール２００がアクティベートされると、皮膚全域でデバイスを連続移動させるメカニズムがデバイスを所望方向に、例えばトリートメントを受ける皮膚セグメントに沿って、移動させる。一実施例では、トリートメントを受ける皮膚セグメントを一定の光放射出力により照射するべく、光放射がアパチャ４０８を通して向けられる。光放射は、連続又はパルスモードで供給される。移動速度モニタリング構成６００（図６）が適切な移動速度を設定する。移動速度と光放射出力との依存性は、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）として用意されて制御回路１２４にロードされる。トリートメントが進行してデバイス１０４が皮膚全域を進行すると、デバイス１０４はトリートメントを受ける皮膚セグメントの境界に到達する。トリートメント又はシェービングを受けた皮膚セグメントの終端にデバイス１０４が到達すると、ユーザは、トリートメントを受ける次の皮膚セグメント上に又はトリートメントを受けていない皮膚セグメント上にデバイス１０４を手動で再配置して、同じ又は反対の方向に移動させるべく設定する。同じ皮膚セグメントにトリートメントを２回与えることにより皮膚火傷を生じさせるという危険性が低減される。デバイス１０４による連続した皮膚セグメント間で皮膚冷却のための時間が存在するからである。光放射は毛嚢を加熱することにより、トリートメントを受けた皮膚セグメント上の将来の発毛を遅らせる。同じ皮膚セグメントに適用されるＲＦエネルギーは、毛球及び毛嚢が存在する深い皮膚層を加熱する。ＲＦエネルギーによって発生した熱がこれらを破壊して、光放射によって行われた脱毛工程が増強される。
【００３７】
本デバイス及び本装置を使用する皮膚トリートメント方法の一追加実施例において、ユーザは、脱毛すべき皮膚セグメントに皮膚トリートメントデバイス１０４を適用する。機械的手段、例えばシェービング又はむしり取りによって皮膚セグメントが脱毛される。機械的脱毛に引き続き、適切な出力及び波長の光放射が、トリートメントを受けたのと同じ皮膚セグメントに適用される。オプションとして、ＲＦエネルギーが同じ皮膚セグメントに適用されてもよい。光放射及びＲＦエネルギーの適用により発毛がさらに遅らされ、トリートメントを受けた皮膚セグメントから機械的脱毛後に残っていた残毛が除去される。最初に開示した方法と同様に、皮膚セグメントにトリートメントを与えるデバイス自身が、トリートメントを受けた皮膚セグメントから、トリートメントを受けていない他の皮膚セグメントへ自動的に移動する。
【００３８】
複数の実施例が記載された。それにもかかわらず、本方法の要旨及び範囲を逸脱することなく様々な変形例が可能である。したがって、他実施例も以下の特許請求の範囲の範囲内にある。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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