(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を処理する処理装置に設置されるセンサによって出力される信号から、時間と共に変動する時系列データを収集するデータ収集部と、
上記データ収集部が収集した時系列データから、上記処理装置で正常に処理された被処理体に関する時系列データであるモデルデータのみを選択するデータ選択部と、
上記データ選択部が選択した上記モデルデータから、時間と共に変動する変動閾値データを算出する閾値設定部と、
上記データ収集部が収集した後の時系列データを、上記変動閾値データと比較することにより、異常の発生を判定する判定部と、
を具備することを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項２】
請求項１記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記データ収集部は、上記処理装置の処理単位毎の時系列データを収集する、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項３】
請求項１記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記被処理体は、上記処理装置を構成する複数の処理部により複数の処理がなされ、上記データ収集部は、上記処理部に設置されるセンサによって出力される信号から、上記処理部の処理単位毎の時系列データを収集する、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記閾値設定部は、上記処理単位における少なくとも一部の時系列区間の変動閾値データを算出する、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記データ選択部は、複数のモデルデータを選択し、その複数のモデルデータから平均データを算出する平均データ算出部を更に備え、上記閾値設定部は、上記平均データから、上記変動閾値データを算出する、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記閾値設定部は、上限及び下限の変動閾値データを算出する、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記閾値設定部は、上記変動閾値データの許容範囲を、少なくとも一部の時系列区間で変更可能に設定されている、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項８】
請求項６又は７記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記上限の変動閾値データは、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数を乗じた値を加えて算出され、上記下限の変動閾値データは、上記平均データ値に、上記標準偏差に上記係数を乗じた値を減じて算出される、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項９】
請求項６又は７記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記上限の変動閾値データは、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数を乗じた値を加え、更に上記平均データ値に補正値を乗じた値を加えて算出され、上記下限の変動閾値データは、上記平均データ値に、上記標準偏差に上記係数を乗じた値を減じ、更に上記平均データ値に補正値を乗じた値を減じて算出される、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の処理装置の異常判定システムにおいて、
上記データ選択部は、上記処理装置によって上記被処理体を処理した後に、上記処理装置による上記被処理体の処理状態の正常又は異常を評価する検査装置の評価結果に基づいて上記モデルデータを選択する、ことを特徴とする処理装置の異常判定システム。
【請求項１１】
被処理体を処理する処理装置に設置されるセンサによって出力される信号から、時間と共に変動する時系列データを収集するデータ収集ステップと、
上記データ収集ステップによって収集された時系列データから、上記処理装置で正常に処理された被処理体に関する時系列データであるモデルデータのみを選択するデータ選択ステップと、
上記データ選択ステップによって選択された上記モデルデータから、時間と共に変動する変動閾値データを算出する閾値設定ステップと、
上記データ収集ステップにて収集した後の時系列データを、上記変動閾値データと比較することにより、異常の発生を判定する判定ステップと、
を具備することを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の処理装置の異常判定方法において、
上記データ収集ステップは、上記処理装置の処理単位毎の時系列データを収集する、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の処理装置の異常判定方法において、
上記被処理体は、上記処理装置を構成する複数の処理部により複数の処理がなされ、上記データ収集ステップは、上記処理部に設置されるセンサによって出力される信号から、上記処理部の処理単位毎の時系列データを収集する、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の処理装置の異常判定方法において、
上記閾値設定ステップは、上記処理単位における少なくとも一部の時系列区間の変動閾値データを算出する、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項１５】
請求項１１ないし１４のいずれかに記載の処理装置の異常判定方法において、
上記データ選択ステップは、複数のモデルデータを選択し、その複数のモデルデータから平均データを算出する平均データ算出ステップを更に備え、上記閾値設定ステップは、上記平均データから、上記変動閾値データを算出する、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項１６】
請求項１１ないし１５のいずれかに記載の処理装置の異常判定方法において、
上記閾値設定ステップは、上限及び下限の変動閾値データを算出する、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項１７】
請求項１１ないし１６のいずれかに記載の処理装置の異常判定方法において、
上記閾値設定ステップは、上記変動閾値データの許容範囲を、少なくとも一部の時系列区間で変更可能に設定されている、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項１８】
請求項１６又は１７記載の処理装置の異常判定方法において、
上記上限の変動閾値データは、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数を乗じた値を加えて算出され、上記下限の変動閾値データは、上記平均データ値に、上記標準偏差に上記係数を乗じた値を減じて算出される、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項１９】
請求項１６又は１７記載の処理装置の異常判定方法において、
上記上限の変動閾値データは、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数を乗じた値を加え、更に上記平均データ値に補正値を乗じた値を加えて算出され、上記下限の変動閾値データは、上記平均データ値に、上記標準偏差に上記係数を乗じた値を減じ、更に上記平均データ値に補正値を乗じた値を減じて算出される、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【請求項２０】
請求項１１ないし１９のいずれかに記載の処理装置の異常判定方法において、
上記データ選択ステップは、上記処理装置によって上記被処理体を処理した後に、上記処理装置による上記被処理体の処理状態の正常又は異常を評価する検査装置の評価結果に基づいて上記モデルデータを選択する、ことを特徴とする処理装置の異常判定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、処理装置の異常判定システム及びその異常判定方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体ウエハ等の製造ラインにおいては、半導体ウエハやＬＣＤ基板等の被処理基板の表面に、レジストのパターンを形成するために、フォトリソグラフィ技術が用いられている。このフォトリソグラフィ技術は、被処理基板の表面にレジスト液を塗布するレジスト塗布工程と、形成されたレジスト膜にパターンを露光する露光処理工程と、露光処理後の基板に現像液を供給する現像処理工程などの一連の処理が順次行われ、被処理基板の表面に所定のレジストパターンを形成することができる。これらの工程は、被処理基板を処理する各種処理ユニットや被処理基板を搬送する搬送ユニットなどを搭載したレジスト塗布・現像処理装置で行われている。
【０００３】
ところで、レジスト塗布・現像処理装置では、複数の被処理基板が連続的に搬送されて処理されるため、例えばレジスト塗布・現像処理装置を構成する１つの処理ユニットに異常が発生した場合には、その異常を早期に発見する必要がある。また、異常な処理がなされた被処理基板にその後の処理を行うと処理液等の無駄が生じる。このような場合、異常の発生を判定する装置の一つとして、各種処理ユニットにセンサを設置し、センサからデータを収集するデータ収集部と、このデータ収集部で収集したデータから有用なデータを取出すデータ取出部と、このデータ取出部で取出した有用なデータから異常データを抽出する異常データ抽出部と、この異常データ抽出部が抽出した異常データと不良情報との関連付けをする異常判定部と、を有するモニタリング装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このモニタリング装置の異常データ抽出部は、データ取出部で取出した有用なデータから異常データを抽出する際、予め設定されている上限と下限の固定閾値を用いて異常データの抽出を行う。そして、異常判定部は、異常データ抽出部で異常と判断したデータの変動を、異常と判断した変動が後の検査工程で得られる不良情報と関連があるか否かを判断する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２４３６７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載のモニタリング装置においては、異常データ抽出部がデータから異常データを抽出する際に、上限と下限の固定閾値で異常の抽出及び判定を行う。このため、上限と下限の固定閾値範囲内であっても処理に異常が生じる事態、例えば処理のタイミングに異常が発生しても異常の抽出及び判定を行うことはできず、異常判定の精度が低いという問題がある。
【０００７】
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、異常判定の精度を向上することができる処理装置の異常判定システム及びその異常判定方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、この発明の処理装置の異常判定システムは、被処理体を処理する処理装置に設置されるセンサによって出力される信号から、時間と共に変動する時系列データを収集するデータ収集部と、  上記データ収集部が収集した時系列データから、上記処理装置で正常に処理された被処理体に関する時系列データであるモデルデータのみを選択するデータ選択部と、  上記データ選択部が選択した上記モデルデータから、時間と共に変動する変動閾値データを算出する閾値設定部と、  上記データ収集部が収集した後の時系列データを、上記変動閾値データと比較することにより、異常の発生を判定する判定部と、を具備することを特徴とする（請求項１）。
【０００９】
この場合、上記データ収集部は、上記処理装置の処理単位毎の時系列データを収集する方が好ましい（請求項２）。ここで、処理単位とは、複数の処理装置の各処理装置が行う処理工程と、一の処理装置における処理工程を含む意味である。
【００１０】
また、上記被処理体は、上記処理装置を構成する複数の処理部により複数の処理がなされ、上記データ収集部は、上記処理部に設置されるセンサによって出力される信号から、上記処理部の処理単位毎の時系列データを収集してもよい（請求項３）。
【００１１】
この発明において、上記閾値設定部は、上記処理単位における少なくとも一部の時系列区間の変動閾値データを算出することができる（請求項４）。
【００１２】
この場合、上記データ選択部は、複数のモデルデータを選択し、その複数のモデルデータから平均データを算出する平均データ算出部を更に備え、上記閾値設定部は、上記平均データから、上記変動閾値データを算出する方が好ましく（請求項５）、更には、上記閾値設定部は、上限及び下限の変動閾値データを算出する方が好ましい（請求項６）。
【００１３】
また、上記閾値設定部は、上記変動閾値データの許容範囲を、少なくとも一部の時系列区間で変更可能に設定されている方が好ましい（請求項７）。
【００１４】
ここで、変動閾値データの許容範囲とは、判定部が監視対象の時系列データを変動閾値データと比較した場合、異常と判定しない範囲である。
【００１５】
この発明において、上記上限の変動閾値データは、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数を乗じた値を加えて算出され、上記下限の変動閾値データは、上記平均データ値に、上記標準偏差に上記係数を乗じた値を減じて算出される方が好ましい（請求項８）。
【００１６】
また、この発明において、上記上限の変動閾値データは、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数を乗じた値を加え、更に上記平均データ値に補正値を乗じた値を加えて算出され、上記下限の変動閾値データは、上記平均データ値に、上記標準偏差に上記係数を乗じた値を減じ、更に上記平均データ値に補正値を乗じた値を減じて算出される方が好ましい（請求項９）。
【００１７】
この発明において、上記データ選択部は、上記処理装置によって上記被処理体を処理した後に、上記処理装置による上記被処理体の処理状態の正常又は異常を評価する検査装置の評価結果に基づいて上記モデルデータを選択してもよい（請求項１０）。
【００１８】
この発明の異常判定方法は、被処理体を処理する処理装置に設置されるセンサによって出力される信号から、時間と共に変動する時系列データを収集するデータ収集ステップと、  上記データ収集ステップによって収集された時系列データから、上記処理装置で正常に処理された被処理体に関する時系列データであるモデルデータのみを選択するデータ選択ステップと、  上記データ選択ステップによって選択された上記モデルデータから、時間と共に変動する変動閾値データを算出する閾値設定ステップと、  上記データ収集ステップにて収集した後の時系列データを、上記変動閾値データと比較することにより、異常の発生を判定する判定ステップと、を具備することを特徴とする（請求項１１）。
【００１９】
この場合、上記データ収集ステップは、上記処理装置の処理単位毎の時系列データを収集する方が好ましい（請求項１２）。ここで、処理単位とは、複数の処理装置の各処理装置が行う処理工程と、一の処理装置における処理工程を含む意味である。
【００２０】
また、上記被処理体は、上記処理装置を構成する複数の処理部により複数の処理がなされ、上記データ収集ステップは、上記処理部に設置されるセンサによって出力される信号から、上記処理部の処理単位毎の時系列データを収集してもよい（請求項１３）。
【００２１】
この発明において、上記閾値設定ステップは、上記処理単位における少なくとも一部の時系列区間の変動閾値データを算出することができる（請求項１４）。
【００２２】
この場合、上記データ選択ステップは、複数のモデルデータを選択し、その複数のモデルデータから平均データを算出する平均データ算出ステップを更に備え、上記閾値設定ステップは、上記平均データから、上記変動閾値データを算出する方が好ましく（請求項１５）、更には、上記閾値設定ステップは、上限及び下限の変動閾値データを算出する方が好ましい（請求項１６）。
【００２３】
また、上記閾値設定ステップは、上記変動閾値データの許容範囲を、少なくとも一部の時系列区間で変更可能に設定されている方が好ましい（請求項１７）。
【００２４】
ここで、変動閾値データの許容範囲とは、判定ステップが監視対象の時系列データを変動閾値データと比較した場合、異常と判定しない範囲である。
【００２５】
この発明において、上記上限の変動閾値データは、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数を乗じた値を加えて算出され、上記下限の変動閾値データは、上記平均データ値に、上記標準偏差に上記係数を乗じた値を減じて算出される方が好ましい（請求項１８）。
【００２６】
また、この発明において、上記上限の変動閾値データは、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数を乗じた値を加え、更に上記平均データ値に補正値を乗じた値を加えて算出され、上記下限の変動閾値データは、上記平均データ値に、上記標準偏差に上記係数を乗じた値を減じ、更に上記平均データ値に補正値を乗じた値を減じて算出される方が好ましい（請求項１９）。
【００２７】
この発明において、上記データ選択ステップは、上記処理装置によって上記被処理体を処理した後に、上記処理装置による上記被処理体の処理状態の正常又は異常を評価する検査装置の評価結果に基づいて上記モデルデータを選択してもよい（請求項２０）。
【発明の効果】
【００２８】
この発明の異常判定システム及び異常判定方法によれば、処理装置に設置されるセンサによって出力される信号から取得される時系列データから、処理装置で正常に処理された被処理体に関する時系列データであるモデルデータのみを選択し、そのモデルデータから変動閾値データを算出し、監視対象の時系列データをその変動閾値データと比較して異常の発生を判定することにより、時系列データの変動や変動タイミングに異常が発生したことを判定することができるため、異常判定の精度を向上することができる。
【００２９】
また、変動閾値データは、直近に取得された時系列データに基づいて算出することができるため、例えば新しいレシピによる処理であっても、即時に最適な変動閾値データを算出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】この発明に係る異常判定システムを適用したレジスト塗布・現像処理装置を示す概略斜視図である。
【図２】上記レジスト塗布・現像処理装置を示す概略平面図である。
【図３】この発明に係る異常判定システムの論理的な構成を示すブロック図である。
【図４】この発明に係る異常判定システムの概略構成を示すブロック図である。
【図５】この発明に係る異常判定方法の手順を示すフローチャートである。
【図６】この発明における時系列データの一例を示すグラフ（ａ）、複数のモデルデータの一例を示すグラフ（ｂ）である。
【図７】この発明における平均データの一例を示すグラフ（ａ）、上限及び下限の変動閾値データの一例を示すグラフ（ｂ）である。
【図８】上下変動閾値データと監視対象の時系列データとの比較の一例を示すグラフである。
【図９】上記レジスト塗布・現像処理装置を構成する加熱ユニットと異常判定システムの概略構成を示す断面図である。
【図１０】上記加熱ユニットにおける上下変動閾値データと時系列データとの比較の一例を示すグラフである。
【図１１】上記レジスト塗布・現像処理装置を構成する処理液供給部と異常判定システムの構成を示す概略断面図である。
【図１２】上記処理液供給部における上下変動閾値データと時系列データとの比較の一例を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下に、この発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。ここでは、この発明に係る異常判定システム（方法）を、被処理体であるウエハＷのレジスト塗布・現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００３２】
レジスト塗布・現像処理装置は、図１及び図２に示すように、ウエハＷが収納されたカセットＣＢを搬入出するためのキャリアブロック１と、このキャリアブロック１のカセットＣＢ内から取り出されたウエハＷをレジスト塗布・現像処理する処理ブロック２と、この処理ブロック２にインターフェイスブロック３を介して連設される露光ブロック４とで主に構成されている。
【００３３】
キャリアブロック１は、１ロット例えば２５枚のウエハＷを密閉収納するカセットＣＢを複数個載置可能な載置部５を備えたカセットステーション６と、このカセットステーション６との間に配置される壁面に設けられる開閉部７と、この開閉部７を介してカセットＣＢからウエハＷを取り出すための受渡し手段Ａ１とが設けられている。
【００３４】
上記処理ブロック２には、手前側から順に加熱・冷却系のユニットを多段化した棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３と、後述する塗布・現像ユニットを含む各処理ユニット間のウエハＷの受け渡しを行う主搬送機構Ａ２，Ａ３が交互に配列して設けられている。すなわち、棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３及び主搬送機構Ａ２，Ａ３はキャリアブロック１側から見て前後一列に配列されると共に、各々の接続部位には図示しないウエハ搬送用の開口部が形成されており、ウエハＷは処理ブロック２内を一端側の棚ユニットＵ１から他端側の棚ユニットＵ３まで自由に移動できるようになっている。また主搬送機構Ａ２，Ａ３は、キャリアブロック１から見て前後方向に配置される棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３側の一面部と、後述する例えば右側の液処理ユニットＵ４，Ｕ５側の一面部と、左側の一面をなす背面部とで構成される区画壁８により囲まれる空間内に置かれている。なお、図中、符号１２，１３は各ユニットで用いられる処理液の温度調節装置や温湿度調節用のダクト等を備えた温湿度調節ユニットである。
【００３５】
液処理ユニットＵ４，Ｕ５は、例えば図１に示すように、塗布液（レジスト液）や現像液といった薬液供給用のスペースをなす収納部１４の上に、塗布ユニットＣＯＴ、現像装置を備えた現像ユニットＤＥＶ及び反射防止膜形成ユニットＢＡＲＣ等を複数段例えば５段に積層した構成とされている。また、上述の棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３は、液処理ユニットＵ４，Ｕ５にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための各種ユニットを複数段例えば１０段に積層した構成とされており、ウエハＷを加熱（ベーク）する加熱ユニット、ウエハＷを冷却する冷却ユニット、ウエハＷの処理状態を評価する検査装置３７等を具備している。
【００３６】
処理ブロック２における棚ユニットＵ３の奥側には、インターフェイスブロック３を介して露光ブロック４が接続されている。このインターフェイスブロック３は、処理ブロック２と露光ブロック４との間に前後に設けられ、夫々例えば筐体で囲まれた搬送室１５及び搬送室１６により構成されている。搬送室１５の中央部には、Ｘ軸、Ｙ軸及び鉛直（Ｚ軸）方向に自在に移動することができると共に、アームを鉛直軸回りに回転することができる搬送機構Ａ４が設けられ、この搬送機構Ａ４は受け渡しユニット（ＴＲＳ）１７，高精度温調ユニット（図示せず），周辺露光ユニット１９及びバッファカセット（図示せず）及び上記処理ブロック２に備えられた棚ユニットＵ３にアクセスし、これらの各ユニットとウエハＷの受け渡しを行うことができるように構成されている。
【００３７】
上記のように構成されるレジスト塗布・現像処理装置におけるウエハの流れについて一例を示すと、まず、外部からウエハＷの収納されたカセットＣＢがキャリアブロック１の載置部５に載置されると、開閉部７と共にカセットＣＢの蓋体が外されて受渡し手段Ａ１によりウエハＷが取り出される。そして、ウエハＷは棚ユニットＵ１の一段をなす受け渡しユニット（図示せず）を介して主搬送機構Ａ２へと受け渡され、棚ユニットＵ１〜Ｕ３内の一の棚にて、塗布処理の前処理として例えば反射防止膜形成処理、冷却処理が行われた後、塗布ユニットＣＯＴにてレジスト液が塗布される。次いでウエハＷは棚ユニットＵ１〜Ｕ３の一の棚をなす加熱ユニットで加熱（ベーク処理）され、更に冷却された後棚ユニットＵ３の受け渡しユニットを経由してインターフェイスブロック３へと搬入される。インターフェイスブロック３へと搬入されたウエハＷは搬送機構Ａ４により搬送室１５内の周辺露光ユニット１９に搬入され周辺露光処理を受ける。周辺露光処理を受けたウエハＷは搬送機構Ａ４により高精度温調ユニットに搬送され、この高精度温調ユニット内においてウエハＷ表面の温度は露光ブロック４内の温度に対応した設定温度に高精度に温調される。搬送機構Ａ４はこの温調されたウエハＷを、受け渡しユニット１７を介して搬送機構Ａ５に受け渡し、ウエハＷは搬送室１６に搬送される。搬送されたウエハＷは、搬送機構Ａ５により露光ブロック４へ搬送され、露光が行われる。露光後、ウエハＷは逆の経路で主搬送機構Ａ２まで搬送され、現像ユニットＤＥＶにて現像処理され、現像液によって不要レジストが除去される。ウエハＷは棚ユニットＵ１〜Ｕ３の一の棚をなす加熱ユニットで加熱（ポストベーク処理）し、次いで冷却ユニットで冷却された後、検査装置３７でその表面の処理の状態を評価されてから、キャリアブロック１の載置台上の元のカセットＣＢへと戻される。
【００３８】
次に、この発明に係る異常判定システム２０について説明する。異常判定システム２０は、レジスト塗布・現像処理装置において、異常が発生しているか否かを判定する。図２，図３及び図４に示すように、異常判定システム２０は、送受信部３６を介して、レジスト塗布・現像処理装置を構成する複数の処理部（処理ユニット）にそれぞれ設置されるセンサ３０と配線により接続されている。センサ３０は、時間と共に変動する時系列データ４１となる信号を異常判定システム２０に出力するもので、例えば圧力センサ、温度センサ、流量センサ、液面センサ、位置センサ、トルクセンサ、速度センサ等のセンサ３０が設置される。なお、一の処理部には同一若しくは異なる複数のセンサ３０が設置されていてもよい。
【００３９】
また、図３及び図４に示すように、異常判定システム２０は、送受信部３６により、検査装置３７の図示しない出力部からの信号を受信する。検査装置３７は、ウエハＷ上のマクロ欠陥を検出し処理の状態を評価するものであって、上述したレジスト塗布・現像処理装置によるウエハＷのプロセス処理が終了し、カセットＣＢへと戻される前にウエハＷの処理の状態が正常か異常かの評価を行うことができる。ウエハＷの処理の状態が正常か異常かの評価結果は、異常判定システム２０に出力される。
【００４０】
図３に示すように、異常判定システム２０の論理的な構成は、データ収集部２２、データ選択部２３、平均データ算出部２４、閾値設定部２５、判定部２６、表示処理部２７、表示装置２８、データ保持部２９等から構成される。データ保持部２９には、時系列データ４１、モデルデータ４３、平均データ４４、上下変動閾値データ４５、係数データ４６及び補正値データ４７が記憶されている。
【００４１】
データ収集部２２は、処理部にそれぞれ設置されるセンサ３０によって出力される信号から、時間と共に変動する時系列データ４１を収集し、データ保持部２９に時系列データ４１として記憶する。時系列データ４１としては、例えば、時間と共に変動する圧力、温度、流量、液面レベル、位置、トルク、速度等である。
【００４２】
データ選択部２３は、データ収集部２２が収集した時系列データ４１から、有用な時系列データ４１であるモデルデータ４３のみを選択し、データ保持部２９にモデルデータ４３として記憶する。この際、データ選択部２３は複数のモデルデータ４３を選択することができる。なお、データ選択部２３は、レジスト塗布・現像処理装置によってウエハＷを処理した後に、レジスト塗布・現像処理装置によるウエハの処理を評価する検査装置３７の評価結果に基づいてモデルデータ４３を選択することができる。すなわち、検査装置３７により、処理の状態が異常であると評価されたウエハＷの時系列データ４１は、モデルデータ４３として選択されない。
【００４３】
この場合、検査装置３７は、例えばロット毎の処理の状態の評価を行い、処理の状態が異常であると評価されたウエハＷが含まれないロットを正常ロットとして評価し、処理の状態が異常であると評価されたウエハＷが含まれるロットを異常ロットとして評価してもよい。そして、データ選択部２３は、正常ロットとして評価されたロットの時系列データ４１全てをモデルデータ４３として選択してもよい。
【００４４】
このように、データ選択部２３は、レジスト塗布・現像処理装置によってウエハＷを処理した後に、レジスト塗布・現像処理装置によるウエハＷの処理を評価する検査装置３７の評価結果に基づいてモデルデータ４３を選択することにより、既に当該レジスト塗布・現像処理装置で正常に処理されたウエハＷの時系列データ４１を用いるため、新しいレシピに即時に対応することができると共に、装置間の個体差により発生する数値の変動の影響を考慮しなくてもよい。
【００４５】
平均データ算出部２４は、複数のモデルデータ４３から平均データ４４を算出し、データ保持部２９に平均データ４４として記憶する。
【００４６】
閾値設定部２５は、平均データ算出部２４が算出した平均データ４４と予め入力された係数データ４６及び補正値データ４７から、時間と共に変動する上下変動閾値データ４５を算出する。ここで、上下変動閾値データ４５とは、上限及び下限の変動閾値データのことである。上下変動閾値データ４５の算出方法については後述する。
【００４７】
判定部２６は、データ収集部２２が収集した監視対象の時系列データ４１を、上下変動閾値データ４５と比較し、監視対象の時系列データ４１がその閾値範囲外となった場合、異常が発生した旨の判定をする。この場合、監視対象の時系列データ４１とは、例えば上下変動閾値データ４５を算出するための時系列データ４１を収集した後の時系列データ４１であり、例えば１つのロットについて時系列データ４１を収集した後、次のロットのウエハＷの処理において収集された時系列データ４１のことをいう。
【００４８】
表示処理部２７は、例えば、処理部毎の異常判定結果を表示装置２８に表示する。また、表示処理部２７は、グラフ化した時系列データ４１、上下変動閾値データ４５等を合わせて表示させてもよい。異常と判断された場合は、表示装置２８にアラームメッセージを点滅させたり、アラーム警報を鳴らしてもよい。
【００４９】
図４に示すように、異常判定システム２０の概略構成は、制御部３１、主記憶部３２、外部記憶部３３、記憶媒体３４、操作部３５、表示装置２８及び送受信部３６から構成される。制御部３１、主記憶部３２、外部記憶部３３、操作部３５、表示装置２８及び送受信部３６はいずれも内部バス３８を介して制御部３１に接続されている。
【００５０】
制御部３１は、例えば、ＣＰＵ等のマイクロプロセッサから構成され、外部記憶部３３に記憶されているプログラムや処理条件データ等のレシピに従って、データ収集部２２、データ選択部２３、平均データ算出部２４、閾値設定部２５、判定部２６及び表示処理部２７の処理を実行する。データ収集部２２、データ選択部２３、平均データ算出部２４、閾値設定部２５、判定部２６及び表示処理部２７は、制御部３１とその上で実行されるプログラムで実現される。
【００５１】
主記憶部３２はＲＡＭ等から構成され、制御部３１の作業領域として用いられる。データ保持部２９は、主記憶部３２の一部に記憶領域の構造体として記憶保持される。
【００５２】
外部記憶部３３は、ハードディスク、フラッシュメモリ等から構成され、上記の処理を制御部３１に行わせるためのプログラムや処理条件データ等のレシピを予め記憶し、また、制御部３１の指示に従って、このプログラムのデータを制御部３１に供給し、制御部３１から供給されたデータを記憶する。
【００５３】
記憶媒体３４は、コンピュータ上で動作するプログラムが格納され、コンピュータが読取可能な記憶媒体である。上記の処理を制御部３１に行わせるためのプログラムや処理条件データ等のレシピは、記憶媒体３４に格納されており、そのプログラム等を外部記憶部３３にインストールすることによって予め記憶することができる。記憶媒体３４として、ＤＶＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、フレキシブルディスク等を使用することができる。
【００５４】
操作部３５は、作業者が異常判定システム２０に指令を与えるために、キーボード及びマウスなどのデバイス等と、それらを内部バス３８に接続するインターフェースを備える。操作部３５を介して、上記レシピの選択、異常判定の開始等の指令が入力され、制御部３１に供給される。その他、作業者は、例えば係数データ４６、補正値データ４７等を操作部１４から入力して設定・変更することができる。
【００５５】
表示装置２８は、ＣＲＴまたはＬＣＤ等のディスプレイから構成され、制御部３１の命令によって、グラフ化された時系列データ４１、異常判定結果等を表示する。また、表示装置２８は制御部３１からの命令によって、アラーム警報を鳴らすスピーカ等の出力デバイスを備えてもよい。
【００５６】
送受信部３６は、各処理部に設置されるセンサ３０に接続される配線及び、検査装置３７の図示しない出力部に接続される配線を接続可能なインターフェース機能を備える。制御部３１は、送受信部３６を介して、各センサ３０から時系列データ４１を入力する。時系列データは、図示しない他のサーバ等に格納されている場合がある。その場合、制御部３１は送受信部３６を介して、サーバ等から時系列データ４１を受信する。
【００５７】
次に、閾値設定部２５による上下変動閾値データ４５の算出方法について説明する。閾値設定部２５による上下変動閾値データ４５の算出方法は、以下の式（１）で表現することができる。
Ｍ＝Ｎ±ｋ×σ±Ｎ×Ｈ……（１）
ここで各記号は、
Ｍ：上下変動閾値データ値
Ｎ：時系列毎の平均データ値  
ｋ：係数
σ：その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差
Ｈ：補正値  である。
【００５８】
係数ｋ及び補正値Ｈは、作業者が操作部３５を通じて設定することができる任意の数値であって、係数ｋ及び補正値Ｈの数値を変更することにより、上下変動閾値データ４５の許容範囲を少なくとも一部の時系列区間で変更可能に設定することができる。ここで、上下変動閾値データ４５の許容範囲とは、判定部２６が監視対象の時系列データ４１を上下変動閾値データ４５と比較した場合、異常と判定しない範囲である。
【００５９】
例えば処理単位における一部の時系列区間の上下変動閾値データ４５の許容範囲を広く設定したい場合は、係数ｋを大きな数値に設定すればよい。一方、上下変動閾値データ４５は、係数ｋを複数のモデルデータ値の標準偏差σに乗じた値を加え、又は、減じて算出するため、複数のモデルデータ値のばらつきが小さく標準偏差σが小さいと、上下変動閾値データ４５の許容範囲が非常に狭くなる問題が生じる。このような場合、上限の変動閾値データ４５は、時系列毎の平均データ値Ｎに、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差σに係数ｋを乗じた値を加え、更に平均データ値Ｎに補正値Ｈを乗じた値を加えて算出し、下限の変動閾値データ４５は、時系列毎の平均データ値Ｎに、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差σに係数ｋを乗じた値を減じ、更に平均データ値Ｎに補正値Ｈを乗じた値を減じて算出すれば、上下変動閾値データ４５の許容範囲を適正にすることができる。
【００６０】
次に、異常判定システム２０による異常判定方法について、図５，図６，図７及び図８を参照して説明する。図５は、異常判定方法の手順を示すフローチャートであって、矢印の方向にステップが進行する。まず、レジスト塗布・現像処理装置の一の処理部に設置されるセンサ３０によって出力される信号から、時間と共に変動する時系列データ４１を収集する（ステップＳ１）。この場合、図６（ａ）に示すように、ステップＳ１には、上記信号から、処理単位毎の時系列データ４１を収集（分割）する工程を含む。ここで、処理単位には、例えば各処理装置にウエハＷが搬入されてから、搬出されるまでの１サイクル、あるいは、処理液の供給停止から次の供給停止までの１サイクルが含まれる。
【００６１】
次いで、ステップＳ１によって収集された複数の時系列データ４１から、有用な時系列データ４１である複数のモデルデータ４３を選択する（ステップＳ２）。モデルデータ４３の選択においては、検査装置３７で異常と判定されたウエハＷの時系列データ４１はモデルデータ４３として選択されない。例えば、図６（ａ），（ｂ）に示すように、２処理目に行われた処理の時系列データ４１は、検査装置３７によりウエハＷの処理の状態が異常であると評価されているため、モデルデータ４３として選択されない。
【００６２】
次いで、選択された複数のモデルデータ４３から平均データ４４及び標準偏差を算出する（ステップＳ３）。図７（ａ）は、算出された平均データ４４をグラフ化したものである。
【００６３】
次いで、上下変動閾値データ４５を上記の式（１）で算出する（ステップＳ４）。この場合、図７（ｂ）に示すように、上下変動閾値データ４５の任意の時系列時点ｔnにおける値Ｓは、上記（１）の式から式（２）により表すことができる。
Ｓ＝Ａ±ｋ×σ±Ａ×Ｈ……（２）
ここで各記号は、
Ｓ：上下変動閾値データ４５の時系列時点ｔnにおける値（図７（ｂ）参照。図中、上限の変動閾値データ値をＳａ、下限の変動閾値データ値をＳｂで表す。）
Ａ：平均データ４４の時系列時点ｔnにおける値（図７（ａ）参照）
ｋ：係数
σ：複数のモデルデータ４３の時系列時点ｔｎにおける値（ａ１，ａ２…ａｘ）の標準偏差（図６（ｂ）参照）
Ｈ：補正値  である。
【００６４】
図７（ｂ）は、算出された上下変動閾値データ４５をグラフ化したものである。なお、図７（ｂ）中、点線は平均データ４４を、実線は上下変動閾値データ４５を表している。
【００６５】
次いで、監視対象の時系列データ４１を、ステップＳ４で算出された上下変動閾値データ４５と比較することにより、異常の発生を判定する（ステップＳ５）。図８は、監視対象の時系列データ４１と上下変動閾値データ４５との比較をグラフ化したものである。なお、図８中、実線は監視対象の時系列データ４１を、点線は上下変動閾値データ４５を表している。
【００６６】
ステップＳ５において、時系列データ４１が、上下変動閾値データ４５の範囲内であると判断された場合、正常である旨の判定がなされる（ステップＳ６）。図８に示すように、２処理目及びＸ処理目に処理されたウエハＷは正常な処理がなされた旨の判定がなされる。一方、時系列データ４１が、上下変動閾値データ４５の範囲外であると判断された場合、異常である旨の判定がなされる（ステップＳ７）。図８に示すように、１処理目及び３処理目に処理されたウエハＷは異常な処理がなされた旨の判定がなされる。異常な処理がなされた旨の判定の結果、表示装置２８にエラーメッセージを点滅させたり、アラーム警報を鳴らす（ステップＳ８）。
【００６７】
このように、上下変動閾値データ４５は、取得された時系列データ４１に基づいて算出することができるため、例えば新しいレシピによる処理であっても、即時に最適な上下変動閾値データ４５を算出することができる。また、直近に取得された時系列データ４１により、最新の上下変動閾値データ４５を算出してアップデートすることができる。具体的なアップデートとして、例えば直近に取得された時系列データ４１を、上下変動閾値データ４５を算出したモデルデータ４３に加えて、増加された母集団から平均データ４４が算出され平均データ４４の正確性を向上することができるため、的確かつ最新の上下変動閾値データ４５を算出することができる。
【００６８】
本実施形態における異常判定システム及び異常判定方法によれば、処理装置（処理部）に設置されるセンサ３０によって出力される信号から取得される時系列データ４１から、有用な時系列データ４１であるモデルデータ４３のみを選択し、そのモデルデータ４３から上下変動閾値データ４５を算出し、監視対象の時系列データ４１をその上下変動閾値データ４５と比較して異常の発生を判定することにより、時系列データ４１の変動や変動タイミングに異常が発生したことを判定することができるため、異常判定の精度を向上することができる。
【００６９】
また、上下変動閾値データ４５は、時系列毎の平均データ値に、その時系列時点における複数のモデルデータ値の標準偏差に係数ｋを乗じた値を加え、又は、減じて算出することにより、上下変動閾値データ４５の的確性を向上させることができるため、異常判定の精度を更に向上することができる。
【００７０】
更に、上下変動閾値データ４５の算出に際し、平均データ値に補正値Ｈを乗じた値を加え、又は、減じて算出することにより、上下変動閾値データ４５の的確性を更に向上させることができるため、異常判定の精度を更に向上することができる。
【００７１】
また、処理装置によってウエハＷを処理した後に、検査装置３７においてウエハＷの処理状態を評価し、その評価結果に基づいてモデルデータ４３を選択することにより、正常な処理が行われたウエハＷのモデルデータ４３のみを用いて上下変動閾値データ４５を算出することができるため、異常判定の精度を更に向上することができる。
【００７２】
なお、上記異常判定方法においては、全ての時系列区間（Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４）に上下変動閾値データ４５を算出して設定したが、少なくとも一部の時系列区間例えばＴ２，Ｔ３のみに上下変動閾値データ４５を算出してもよい。図７（ａ）に示す平均データ４４によれば、センサ３０の検出対象は１の処理単位において、一定の値で推移しながら時系列区間Ｔ１を過ぎ、Ｔ２に入ると大きな傾きで値が上昇し、その後、Ｔ３の終了まで小さな傾きで数値が下降し、最後にＴ４では一定の値で推移する傾向がある。この場合、一部の時系列区間例えばＴ２，Ｔ３のみに上下変動閾値データ４５を算出して設定し、監視対象の時系列データ４１の時系列区間Ｔ２，Ｔ３と比較する。このように構成しても、時系列データ４１が大きく変動する時系列区間Ｔ２，Ｔ３を監視可能であって、時系列データ４１の変動や変動タイミングに異常が発生したことを判定することができるため、異常判定の精度を向上することができる。
【００７３】
さらに、上記の時系列区間Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４毎に異なる係数ｋ及び補正値Ｈを設定してもよい。
【００７４】
次に、レジスト塗布・現像処理装置を構成する複数の処理部の一つである熱処理装置７０について上述した異常判定システム２０を適用した場合について説明する。この熱処理装置７０は、例えば棚ユニットＵ２に配置される加熱ユニット内に配置されており、塗布ユニットＣＯＴにてレジスト液が塗布されたウエハＷを加熱（ベーク処理）する。
【００７５】
熱処理装置７０は、図９に示すように、表面に塗布膜であるレジスト膜が形成されたウエハＷを載置し加熱する熱板７１と、熱板７１の外周及び下部側を包囲する支持台７２と、上方開口部を覆う蓋体７３と、蓋体７３を開閉する昇降機構７３ａと、熱板７１の下方に配設された昇降駆動機構７６によって昇降する支持ピン７６ａと、を主に備えている。
【００７６】
熱板７１には、温度制御器７４からの出力制御により所定温度に設定される温度ヒータ７５が埋設されている。また、熱板７１には、この熱板７１の温度を検出する温度検出手段である温度センサ３０ａが取り付けられている。この温度センサ３０ａによって検出された熱板７１の温度の検出信号は、温度制御器７４に伝達されると共に、異常判定システム２０に伝達される。
【００７７】
ここでウエハＷの加熱処理時における熱板７１の温度変動について図１０の実線で表した熱処理装置７０の時系列データ４１を用いて説明する。まずウエハＷが搬入される前では熱板７１は温度制御器７４から所定温度例えば１００℃を保持するように制御をされている。一方、ウエハＷは例えばレジスト塗布・現像処理装置が設置されたクリーンルームの温度例えば２３℃程度となっている。そして、ウエハＷが熱処理装置７０に搬入されてウエハＷが熱板７１に載置されると、ウエハＷに熱が吸収されて熱板７１の温度が低下する一方、ウエハＷの温度は上昇する。一方、温度制御器７４は加熱制御に切り換えられ、温度ヒータ７５に電力が供給されて加熱が行われる。そのため熱板７１の温度は下げ止まりを向かえて上昇カーブを描き始め、目標温度で温度である１００℃を越えてオーバーシュートする。その後、温度ヒータ７５への供給電力がゼロに設定され、そのため熱板７１の温度は降下し始める。熱板７１が載置されてから所定時間を経過すると、温度センサ３０ａの検出値が所定温度例えば１００℃を保持するように制御されている。
【００７８】
図１０における点線は上下変動閾値データ４５を表したものである。図１０に示された上下変動閾値データ４５は、４ロット例えば１００枚のウエハＷすなわち１００個の時系列データ４１から算出されたものである。係数ｋ及び補正値Ｈは、各時系列区間Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３毎に設定してもよい。
【００７９】
次に、レジスト塗布・現像処理装置を構成する複数の処理部の一つである処理液供給部５０について上述した異常判定システム２０を適用した場合について説明する。この処理液供給部５０は、例えば反射防止膜形成処理、冷却処理が行われたウエハＷに対して、レジスト液を塗布する。
【００８０】
処理液供給部５０は、図１１に示すように、液処理ユニットＵ４の収納部１４に載置され、レジスト液が貯留されたレジスト容器５１と、このレジスト容器５１を加圧管路５３ａを介して加圧してリザーバタンク５２に向けてレジスト液を圧送させる加圧源５３と、リザーバタンク５２からフィルタ６１を介してレジスト液を吸引すると共に、処理液供給管路５５ａを介してノズル５５に向け吐出するダイアフラム式ポンプ５４と、ポンプ５４を加圧管路５６ａを介して加圧するための加圧源５６と、ポンプ５４を減圧管路５７ａを介して減圧するための減圧源５７と、処理液供給管路５５ａに介設される開閉バルブ５９ａ及びサックバックバルブ５９ｂと、加圧管路５６ａに介設されポンプ内の圧力を調整する電空レギュレータＥＶと、減圧管路５７ａに介設され気体の流れを制限する可変オリフィス５８と、ノズル５５からレジスト液が吐出されるウエハＷを水平に保持し、塗布ユニットＣＯＴ内に配置されるスピンチャック６０と、で主に構成されている。
【００８１】
加圧管路５３ａには、加圧源５３とレジスト容器５１の間に圧力センサ３０ｂが設けられ、加圧管路５６ａには、加圧源５６と電空レギュレータＥＶの間に圧力センサ３０ｃが設けられ、減圧管路５７ａには、ポンプ５４と可変オリフィス５８の間に圧力センサ３０ｄが設けられている。また、処理液供給管路５５ａには、ポンプ５４と開閉バルブ５９ａの間に流量センサ３０ｅが設けられている。これらのセンサ３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ，３０ｅによって検出された圧力もしくは流量の検出信号は、異常判定システム２０に伝達される。すなわち、処理液供給部５０では、４つのセンサ３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ，３０ｅによって異常の発生を監視している。
【００８２】
図１２は、上記４つのセンサ３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ，３０ｅのうち、処理液供給管路５５ａに設けられた流量センサ３０ｅから収集された時系列データ４１を用いて算出された、上下限変動閾値データ４５を示すグラフである。なお、図１２中、点線は上下変動閾値データ４５を、実線は処理液供給部５０の時系列データ４１を表している。図１２に示された上下変動閾値データ４５は、４ロット例えば１００枚のウエハＷすなわち１００個の時系列データ４１から算出されたものである。係数ｋ及び補正値Ｈは、各時系列区間Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４，Ｄ５毎に設定してもよい。
【００８３】
以上の実施形態では、レジスト塗布・現像処理装置を構成する処理部である熱処理装置７０及び処理液供給部５０について異常判定システム２０を適用した場合について説明したが、レジスト塗布・現像処理装置を構成する他の処理部や機構についても、異常判定システム２０により異常の発生を判定することができる。例えば、ウエハＷを各処理部に搬送する搬送機構についても本発明を適用することができる。
【００８４】
図２に示すように、搬送機構Ａ４は、搬送室１５の中央部に設けられ、Ｘ軸、Ｙ軸及び鉛直（Ｚ軸）方向に自在に移動することができると共に、アームを鉛直軸回りに回転することができ、受け渡しユニット（ＴＲＳ）１７，高精度温調ユニット（図示せず），周辺露光ユニット１９及びバッファカセット（図示せず）及び上記処理ブロック２に備えられた棚ユニットＵ３にアクセスし、これらの各ユニットとウエハＷの受け渡しを行うことができる。
【００８５】
搬送機構Ａ４には、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれの位置を検出する位置センサ（図示せず）およびアームの回転角度θを検出する位置センサ（図示せず）と、搬送機構Ａ４の速度を検出する速度センサ（図示せず）、搬送機構Ａ４を動かすトルクを検出するトルクセンサ（図示せず）等が設けられている。それらのセンサから検出された位置、速度及びトルクの検出信号は異常判定システム２０に伝達され、時間と共に変動する時系列データ４１として取得することができる。その時系列データ４１から、上下変動閾値データ４５を算出し、異常処理の発生を判定することができる。
【００８６】
以上、この発明の実施の形態の一例について説明したが、この発明はこの形態に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば、上述した検査装置３７は、塗布・現像処理装置内に組み込まれていたが、本発明はこれに限定されず、例えば、塗布・現像処理装置とは独立した装置としてウエハＷの検査を行うように構成してもよい。また、上記実施形態では、データ選択部２３によるモデルデータ４３の選択は、通常の処理を受けたウエハＷについて検査装置３７によって評価した結果に基づいて行ったが、例えば、検査ウエハを塗布・現像処理装置に流して処理状態が正常な時系列データ４１のみをモデルデータ４３として選択してもよく、また、他の塗布・現像処理装置において収集されたモデルデータ４３に基づいて上下変動閾値データ４５を算出してもよい。
【００８７】
また、上記実施形態では、この発明に係る異常判定システムを塗布・現像処理装置に設置されるセンサである温度センサ，圧力センサ等に適用する場合について説明したが、例えば、電力センサ，電磁波センサ，振動センサ等の他のセンサにも適用することが可能である。
【００８８】
また、上記実施形態では、この発明に係る異常判定システムを半導体ウエハの塗布・現像処理装置に適用する場合について説明したが、半導体ウエハ以外の被処理体、例えば、ＦＰＤ基板等の塗布・現像処理装置にも適用することが可能である。また、この発明に係る異常判定システムは、複数の処理を行う塗布・現像処理装置のみならず、１の処理のみを行う処理装置に適用することが可能である。
【符号の説明】
【００８９】
Ｗ  ウエハ（被処理体）
Ｔ１〜Ｔ４，Ｐ１〜Ｐ３，Ｄ１〜Ｄ５  時系列区間
２０  異常判定システム
２２  データ収集部
２３  データ選択部
２４  平均データ算出部
２５  閾値設定部
２６  判定部
３０  センサ
３０ａ  温度センサ
３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ  圧力センサ
３０ｅ  流量センサ
３７  検査装置
４１  時系列データ
４２  評価データ
４３  モデルデータ
４４  平均データ
４５  上下変動閾値データ
４６  係数データ（係数）
４７  補正値データ（補正値）
５０  処理液供給部（処理部）
７０  熱処理装置（処理部）
【図１】
0005503564.tif 000002
【図２】
0005503564.tif 000003
【図３】
0005503564.tif 000004
【図４】
0005503564.tif 000005
【図５】
0005503564.tif 000006
【図６】
0005503564.tif 000007
【図７】
0005503564.tif 000008
【図８】
0005503564.tif 000009
【図９】
0005503564.tif 000010
【図１０】
0005503564.tif 000011
【図１１】
0005503564.tif 000012
【図１２】
0005503564.tif 000013