(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱硬化性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料を用いて成形された光学素子であって、
前記熱硬化性樹脂と前記疎水性酸化物粒子とが混練・加熱硬化され、その後さらに加熱による後硬膜工程の処理がなされた場合において、前記後硬膜工程後の赤外分光スペクトルの１７２０ｃｍ-1における吸収強度をＡとし、１６３７ｃｍ-1における吸収強度をＢとしたとき、吸光強度比Ｂ／Ａが０．０１以上、０．１以下であり、かつ、前記疎水性酸化物粒子の体積平均粒径が１．０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
前記熱硬化性樹脂が、アクリル系モノマーより構成されることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の光学素子。
【請求項３】
前記疎水性酸化物粒子の表面が、シラザン類で疎水化処理されていることを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の光学素子。
【請求項４】
前記疎水性酸化物粒子の表面が、反応性基を有するシランカップリング剤で疎水化処理されていることを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の光学素子。
【請求項５】
前記疎水性酸化物粒子の表面が、クロロシラン剤で疎水化処理されていることを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用樹脂材料及びそれを用いた光学素子に関し、更に詳しくは優れた耐熱性及び光学的安定性を有する光学用樹脂材料及びそれを用いた光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、光を透過させて所望の光学的機能を達成する光学素子としては、ガラス製やプラスチック製の光学素子が用いられている。光学素子としては、様々な光学機器に用いられる光学レンズや補正素子等が挙げられる。例えば、銀塩カメラやデジタルカメラ、医療用撮影装置等の撮像装置に用いられる撮像光学系や、光ピックアップ装置の光学系、光通信モジュール等に用いられる光学素子などが挙げられる。【０００３】
特に、プラスチック製の光学素子は、射出成形や押し出し成形等により成形可能であり、また、比較的低温度で成形可能で、ガラス製の光学素子よりも低コストで製造可能である為、ガラス製の光学素子と置き換えることが可能なプラスチック製の光学素子が強く望まれている。【０００４】
従来、撮像光学系や光ピックアップ装置の光学系に用いられる光学素子としては、熱可塑性樹脂を用いた光学素子が広く知られている。例えば、光ピックアップ装置の光学素子に適用可能な熱可塑性樹脂として、環状オレフィンとα−オレフィンの共重合体が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。【０００５】
しかしながら、熱可塑性樹脂を用いた光学素子は、ガラス製の光学素子と比較して耐熱性が低く、高温下に曝されたときに光学性能に変動が生じる場合があるため、高い光学精度が求められる撮像光学系用の光学素子や光ピックアップ装置の光学系用光学素子として用いるには課題を抱えていた。更に、撮像光学系は、撮影条件によって様々な環境に曝される可能性があり、加えて、光ピックアップ装置はトラッキングやフォーカシングのための装置の駆動により熱が発生し、光学素子が高温に曝されることとなる場合がある。【０００６】
これに対し、剛性と寸法安定性の向上を目的として、特開２００４−２６９７７３号公報においては、熱可塑性樹脂と疎水性基および極性基を表面に有する酸化化合物とを含有した樹脂組成物が開示されている。これらの樹脂組成物は、その製造時に結晶性微粒子またはコロイダルシリカの様な非晶質シリカ粒子を用い、粒子とホスト樹脂材料の架橋反応により生じる立体構造により、樹脂組成物の強度および剛性を上げているため流動性が低く、成形性に問題がある。特に、微粒子の体積分率を上げると流動性が大幅に低下するとともに透明性の低下を生じやすいために、これらの方法で得られた樹脂組成物では光学素子として使用するための十分な光線透過率を得ることができない。【０００７】
一方、プラスチック製の光学素子として、シランカップリング剤による疎水化されたシリカ粒子と硬化性樹脂を含む組成物を光学材料に用いた例が挙げられる（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、特許文献２で開示されている方法では、透明性を制御できるが線膨張の抑制を満たすことができていない。
【特許文献１】特開２００２−１０５１３１号公報
【特許文献２】特開２００５−２１３４５３号公報（第２頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
硬化性樹脂としては、例えば、上述のような熱硬化性樹脂や活性光線硬化性樹脂等が知られている。しかしながら、硬化性樹脂は、光学素子の成形の際に、光学素子として必要な硬度まで十分に硬化させても、完全に硬化を完了させることができず、熱や紫外線等の活性光線の影響により硬化が進行し、硬化収縮等により光学性能の変化を発生することがわかった。このようなわずかな光学性能の変化は、一般的な眼鏡レンズ等の光学素子の場合は問題にならないが、撮像光学系や光ピックアップ装置の光学系等、高精度な光学性能が求められる光学素子としては問題となることが判明した。【０００９】
本発明は、上述の問題を鑑みてなされたものであり、低コストで製造可能なプラスチック製の光学素子でありながら、優れた耐熱性を有し、更に、透明性に優れた光学的安定性を有する光学素子、と該光学素子を構成する光学用樹脂材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、下記構成１〜７により達成することができる。
具体的に本発明によれば、熱硬化性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料を用いて成形された光学素子であって、前記熱硬化性樹脂と前記疎水性酸化物粒子とが混練・加熱硬化され、その後さらに加熱による後硬膜工程の処理がなされた場合において、前記後硬膜工程後の赤外分光スペクトルの１７２０ｃｍ-1における吸収強度をＡとし、１６３７ｃｍ-1における吸収強度をＢとしたとき、吸光強度比Ｂ／Ａが０．０１以上、０．１以下であり、かつ、前記疎水性酸化物粒子の体積平均粒径が１．０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることを特徴とする光学素子が提供される。
【００１１】
１．硬化性樹脂と疎水性酸化物粒子とを含有する光学用樹脂材料であって、硬化後の赤外分光スペクトルの１７２０ｃｍ-1における吸収強度をＡとし、１６３７ｃｍ-1における吸収強度をＢとしたとき、吸光強度比Ｂ／Ａが０．０１以上、０．２５以下であり、かつ、該疎水性酸化物粒子の体積平均粒径が１．０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることを特徴とする光学用樹脂材料。【００１２】
２．前記硬化性樹脂が、熱硬化性樹脂であることを特徴とする前記１に記載の光学用樹脂材料。【００１３】
３．前記硬化性樹脂が、アクリル系モノマーより構成されることを特徴とする前記１又は２に記載の光学用樹脂材料。【００１４】
４．前記疎水性酸化物粒子の表面が、シラザン類で疎水化処理されていることを特徴とする前記１乃至３のいずれか１項に記載の光学用樹脂材料。【００１５】
５．前記疎水性酸化物粒子の表面が、反応性基を有するシランカップリング剤で疎水化処理されていることを特徴とする前記１乃至３のいずれか１項に記載の光学用樹脂材料。【００１６】
６．前記疎水性酸化物粒子の表面が、クロロシラン剤で疎水化処理されていることを特徴とする前記１乃至３のいずれか１項に記載の光学用樹脂材料。【００１７】
７．前記１乃至６のいずれか１項に記載の光学用樹脂材料を用いて成形されたことを特徴とする光学素子。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、低コストで製造可能なプラスチック製の光学素子でありながら、優れた耐熱性を有し、更に、長期間の使用においても光学性能の変化が抑制された優れた光学的安定性を有する光学素子、と該光学素子を構成する光学用樹脂材料を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。【００２０】
本発明の光学用樹脂材料においては、硬化性樹脂の硬化後の赤外分光スペクトルの１７２０ｃｍ-1における吸収強度をＡとし、１６３７ｃｍ-1における吸収強度をＢとしたとき、吸光強度比Ｂ／Ａが０．０１以上、０．２５以下であることを特徴とする。【００２１】
本発明においては、本発明に係る赤外分光スペクトルの吸収強度は、フーリエ変換赤外分光装置Ｎｉｃｏｌｅｔ  ３８０（サーモサイエンティフィック社製）にて光学用複合樹脂材料の測定を行った。【００２２】
吸収強度Ａ：１７２０ｃｍ-1の吸収強度は、Ｒ−ＣＯＯ−Ｒに帰属するピークであり
吸収強度Ｂ：１６３７ｃｍ-1の吸収強度は、Ｃ＝Ｃの不飽和結合に帰属するピークである。吸収強度比Ｂ／Ａの値が０．２５以下の時に、硬化後の紫外線、熱による硬化の進行を抑制することができ、経時による光学性能の変化が起こらず、高い精度が求められる場合においても使用可能な光学素子が得られる。【００２３】
吸収強度比Ｂ／Ａは、０．２５以下であることを特徴とし、０．２０以下がより好ましく、更に好ましくは０．１０以下である。【００２４】
硬化性樹脂に疎水性酸化物粒子を分散させることにより、高い耐熱性を有するとともに、後硬膜工程で熱をかけておくことにより、その後の紫外線、熱による硬化の進行を抑制することができ、経時による光学性能の変化が起こらず、高い精度が求められる場合においても使用可能な光学素子が得られる。【００２５】
後硬膜工程の加熱時間としては、２時間以上が好ましく、加熱温度としては樹脂のＴｇ−２０℃以上、さらに好ましくは樹脂のＴｇ以上、特に好ましくは、樹脂のＴｇ＋２０℃以上である。【００２６】
また、疎水性酸化物粒子の疎水化処理に使用する表面処理剤に反応性基を持たせることによっても、その後の紫外線、熱による硬化の進行を抑制することができ、経時による光学性能の変化が起こらず、高い精度が求められる場合においても、使用可能な光学素子が得られる。【００２７】
（１）硬化性樹脂
本発明に適用可能な硬化性樹脂としては、紫外線や電子線等の照射を受けて硬化する活性光線硬化性樹脂であっても、加熱処理によって硬化する熱硬化性樹脂であってもよい。当該硬化性樹脂としては、例えば、下記に列記する各種の硬化性樹脂を好ましく使用することができる。【００２８】
特に、本発明に係る硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂であることが好ましく、更には、アクリル系モノマーより構成されることが好ましい。【００２９】
（１．１）シリコーン樹脂
Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉを主鎖としたシロキサン結合を有するシリコーン樹脂を使用することができる。当該シリコーン樹脂として、所定量のポリオルガノシロキサン樹脂よりなるシリコーン系樹脂が使用可能である（例えば、特開平６−９９３７号公報参照）。【００３０】
熱硬化性のポリオルガノシロキサン樹脂は、加熱による連続的加水分解−脱水縮合反応によって、シロキサン結合骨格による三次元網状構造となるものであれば、特に制限はなく、一般に高温、長時間の加熱で硬化性を示し、一度硬化すると過熱により再軟化し難い性質を有する。【００３１】
このようなポリオルガノシロキサン樹脂は、下記一般式（Ａ）を構成単位として含み、その形状は鎖状、環状、網状形状のいずれであってもよい。【００３２】
一般式（Ａ）
（（Ｒ1）（Ｒ2）ＳｉＯ）n
上記一般式（Ａ）中、Ｒ1及びＲ2は同種又は異種の置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示す。具体的には、Ｒ1及びＲ2として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基、またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子をハロゲン原子、シアノ基、アミノ基などで置換した基、例えば、クロロメチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、シアノメチル基、γ−アミノプロピル基、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピル基などが例示される。Ｒ1及びＲ2は水酸基およびアルコキシ基から選択される基であってもよい。また、上記一般式（Ａ）中、ｎは５０以上の整数を示す。【００３３】
ポリオルガノシロキサン樹脂は、通常、トルエン、キシレン、石油系溶剤のような炭化水素系溶剤、またはこれらと極性溶剤との混合物に溶解して用いられる。また、相互に溶解しあう範囲で、組成の異なるものを配合して用いても良い。【００３４】
ポリオルガノシロキサン樹脂の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知のいずれの方法も用いることができる。例えば、オルガノハロゲノシランの一種または二種以上の混合物を加水分解ないしアルコリシスすることによって得ることができ、ポリオルガノシロキサン樹脂は、一般にシラノール基またはアルコキシ基等の加水分解性基を含有し、これらの基をシラノール基に換算して１〜１０質量％含有する。【００３５】
これらの反応は、オルガノハロゲノシランを溶融しうる溶媒の存在下で行うのが一般的である。また、分子鎖末端に水酸基、アルコキシ基またはハロゲン原子を有する直鎖状のポリオルガノシロキサンを、オルガノトリクロロシランと共加水分解して、ブロック共重合体を合成する方法によっても得ることができる。このようにして得られるポリオルガノシロキサン樹脂は、一般に残存するＨＣｌを含むが、本実施形態の組成物においては、優れた保存安定性を得る観点から、１０ｐｐｍ以下、好ましくは１ｐｐｍ以下のものを使用するのが良い。【００３６】
（１．２）エポキシ樹脂
エポキシ樹脂としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３′−４′−シクロヘキシルカルボキシレート等の脂環式エポキシ樹脂（例えば、国際公開第２００４／０３１２５７号明細書参照）を使用することができ、その他、スピロ環を含有したエポキシ樹脂や鎖状脂肪族エポキシ樹脂等も使用することができる。【００３７】
（１．３）アダマンタン骨格を有する硬化性樹脂
アダマンタン骨格を有する硬化性樹脂としては、例えば、２−アルキル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート（例えば、特開２００２−１９３８８３号公報参照）、３，３′−ジアルコキシカルボニル−１，１′ビアダマンタン（例えば、特開２００１−２５３８３５号公報参照）、１，１′−ビアダマンタン化合物（例えば、米国特許第３３４２８８０号明細書参照）、テトラアダマンタン（例えば、特開２００６−１６９１７７号公報参照）、２−アルキル−２−ヒドロキシアダマンタン、２−アルキレンアダマンタン、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル等の芳香環を有しないアダマンタン骨格を有する硬化性樹脂（例えば、特開２００１−３２２９５０号公報参照）、ビス（ヒドロキシフェニル）アダマンタン類やビス（グリシジルオキシフェニル）アダマンタン（例えば、特開平１１−３５５２２号公報、特開平１０−１３０３７１号公報参照）等を使用することができる。【００３８】
（１．４）アリルエステル化合物を含有する樹脂
アリルエステル化合物を含有する樹脂としては、例えば、芳香環を含まない臭素含有（メタ）アリルエステル（例えば、特開２００３−６６２０１号公報参照）、アリル（メタ）アクリレート（例えば、特開平５−２８６８９６号公報参照）、アリルエステル樹脂（例えば、特開平５−２８６８９６号公報、特開２００３−６６２０１号公報参照）、アクリル酸エステルとエポキシ基含有不飽和化合物の共重合化合物（例えば、特開２００３−１２８７２５号公報参照）、アクリレート化合物（例えば、特開２００３−１４７０７２号公報参照）、アクリルエステル化合物（例えば、特開２００５−２０６４号公報参照）等を好ましく用いることができる。【００３９】
また、エポキシ樹脂の硬化剤としては、特に限定されるものではないが、酸無水物硬化剤やフェノール硬化剤等を例示することができる。【００４０】
酸無水物硬化剤の具体例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸等を挙げることができる。【００４１】
また、重合開始剤は、アクリル系モノマーの重合開始剤で、ラジカルを発生する開始剤であることが好ましく、アゾ系開始剤、過酸化物系開始剤を用いることができる。【００４２】
油溶性の過酸化物系あるいはアゾ系開始剤も好ましく用いることができ、一例を挙げると、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化オクタノイル、オルソクロロ過酸化ベンゾイル、オルソメトキシ過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、キュメンハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド等の過酸化物系開始剤、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２，３−ジメチルブチロニトリル）、２，２′−アゾビス（２−メメチルブチロニトリル）、２，２′−アゾビス（２，３，３−トリメチルブチロニトリル）、２，２′−アゾビス（２−イソプロピルブチロニトリル）、１，１′−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２′−アゾビス（４−メチキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル、４，４′−アゾビス（４−シアノバレリン酸）、ジメチル−２，２′−アゾビスイソブチレート等を挙げることができる。【００４３】
特に、ターシャリイソブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、パラメンタンハイドロパーオキサイドなどの有機過酸化物類、過酸化水素等が好ましい。【００４４】
これら重合開始剤は、重合性単量体に対して、０．０１〜２０質量％、特に、０．１〜１０質量％使用されるのが好ましい。【００４５】
また、必要に応じて硬化促進剤を含有することができる。硬化促進剤としては、硬化性が良好で、着色がなく、熱硬化性樹脂の透明性を損なわないものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成工業社製、２Ｅ４ＭＺ）等のイミダゾール類、３級アミン、４級アンモニウム塩、ジアザビシクロウンデセン等の双環式アミジン類とその誘導体、ホスフィン、ホスホニウム塩等を用いることができ、これらを１種、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。【００４６】
（２）疎水性酸化物粒子
疎水性酸化物粒子は、均一酸化物粒子の表面に対し、疎水化処理を施した微粒子である。均一酸化物粒子は、１種類の金属酸化物が均一に分布した粒子であり、具体的には、例えば、ケイ素酸化物であるシリカと、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛のいずれか１種類の酸化物で構成された酸化物粒子である。また、均一酸化物粒子としては、ケイ素酸化物と１種類以上のケイ素以外の金属酸化物とが均一に分布した複合酸化物粒子でもよく、具体的には、例えば、ケイ素酸化物であるシリカと、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛のいずれか１種類以上の酸化物とで構成された複合酸化物粒子であって、各酸化物が均一に分布したものでもよい。【００４７】
本発明でいう均一酸化物粒子とは、粒子中のケイ素酸化物（シリカ等）とその他の金属酸化物とが局在することなく平均的に分布している状態の粒子であり、当該粒子内で屈折率分布を持たない粒子のことである。【００４８】
疎水性酸化物粒子の形状は、特に限定されるものではないが、好適には球状の微粒子が用いられる。また、粒径の分布に関しても特に制限されるものではないが、本発明の効果をより効率よく発現させるためには、広範な分布を有するものよりも、比較的狭い分布を持つものが好適に用いられる。【００４９】
本発明に係る疎水性酸化物粒子の体積平均粒径は１〜５０ｎｍであることを特徴の１つとし、２〜３０ｎｍであるのが好ましい。体積平均粒径が１ｎｍ以下の疎水性酸化物粒子を適用する場合は、当該疎水性酸化物粒子の熱硬化性樹脂への均一的な分散が困難で好ましくなく、体積平均粒径が５０ｎｍを越える疎水性酸化物粒子を適用する場合は、光学用樹脂材料（又はそれで構成された光学素子）の光線透過率の低下を招くことになり、好ましくない。【００５０】
なお、疎水性酸化物粒子には、上記均一酸化物粒子の表面にシリカ層を形成し、そのシリカ層の表面に疎水化処理を施したものも含まれる。【００５１】
（２．１）粒子形成工程
均一酸化物粒子の調製方法としては、熱分解法（原料を加熱分解して微粒子を得る方法。噴霧乾燥法、火炎噴霧法、プラズマ法、気相反応法、凍結乾燥法、加熱ケロシン法、加熱石油法）、沈殿法（共沈法）、加水分解法（例えば、塩水溶液法、アルコキシド法、ゾルゲル法）、水熱法（例えば、沈殿法、結晶化法、水熱分解法、水熱酸化法）などが挙げられる。このうち、熱分解法や、沈殿法、加水分解法は、小粒径でかつ均一な酸化物粒子を作製する観点で好ましい方法である。当該均一酸化物粒子の調製にあたっては、これらの方法を複数組み合わせてもよい。【００５２】
（２．２）疎水化処理工程
本発明に係る疎水性酸化物粒子においては、その表面が、シラザン類、反応性基を有するシランカップリング剤、あるいはクロロシラン剤で疎水化処理されていることが好ましい。【００５３】
均一酸化物粒子の表面に対する疎水化処理の方法としては、カップリング剤等の表面修飾剤による表面処理、ポリマーグラフト、メカノケミカルによる表面処理などが挙げられる。【００５４】
均一酸化物粒子の表面に対する疎水化処理に用いられる表面修飾剤としては、シラン系カップリング剤を始め、シリコーンオイル系、チタネート系、アルミネート系及びジルコネート系カップリング剤等が挙げられる。これらは特に限定されず、均一酸化物粒子及び熱硬化性樹脂の種類により適宜選択することが可能である。また、各種表面処理を二つ以上同時又は異なる時に行ってもよい。【００５５】
具体的には、例えば、シラン系の表面処理剤としては、
シラザン類：ビニルシラザン、ヘキサメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、
クロロシラン類：トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、
アルコキシシラン類：トリメチルアルコキシシラン、ジメチルジアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン、
シランカップリング剤類：ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス（メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、
等が適用可能であり、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等が好適である。【００５６】
シリコーンオイル系の表面処理剤としては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルといったストレートシリコーンオイルやアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、片末端反応性変性シリコーンオイル、異種官能基変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、親水性特殊変性シリコーンオイル、高級アルコキシ変性シリコーンオイル、高級脂肪酸含有変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイルなどの変性シリコーンオイルを用いることができる。【００５７】
表面処理剤としては、シラン系の表面処理剤が好ましく、特にシラザン類、クロロシラン類、シランカップリング剤が好ましい。【００５８】
また、これらの表面処理剤は、ヘキサン、トルエン、メタノール、エタノール、アセトン水等で適宜希釈して用いてもよい。【００５９】
上記表面修飾剤による疎水化処理の方法としては、湿式加熱法、湿式濾過法、乾式攪拌法、インテグルブレンド法、造粒法等が挙げられる。体積平均粒径が１００ｎｍ以下の均一酸化物粒子の表面に対して疎水化処理を施す場合、粒子が凝集するのを抑制する観点から、乾式攪拌法、湿式攪拌法のどちらでも適用できる。【００６０】
これらの表面修飾剤は１種類のみを用いても、複数種類を併用してもよく、さらに、用いる表面修飾剤によって得られる疎水化処理後の均一酸化物粒子（疎水性酸化物粒子）の性状が異なることがあり、表面修飾剤の選択によって、光学用樹脂材料を得るにあたって用いる熱硬化性樹脂との親和性を高めることも可能である。表面修飾剤の割合は特に限定されるものではないが、疎水化処理後の均一酸化物粒子（疎水性酸化物粒子）に対して、表面修飾剤の割合が１０〜９９質量％であることが好ましく、３０〜９８質量％であることがより好ましい。【００６１】
なお、上記粒子形成工程と疎水化処理工程との間で、粒子形成工程後に得られた均一酸化物粒子の表面に対し、テトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランにより複合酸化物表面改質処理を施して、当該均一酸化物粒子の表面にテトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランによるシリカ層を形成し（シリカ層形成工程）、その後に当該シリカ層の表面に対し上記疎水化処理を行ってもよい。【００６２】
（２．３）添加剤
本発明の光学用樹脂材料の調製時（上記粒子成形工程から混練工程までの工程を含む。）や光学素子の作製時（上記成形工程を含む。）においては、必要に応じて各種添加剤を添加してもよい。当該添加剤としては、酸化防止剤、耐光安定剤、熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤及び近赤外線吸収剤等の安定剤、滑剤や、可塑剤等の樹脂改良剤、軟質重合体や、アルコール性化合物等の白濁防止剤、染料や、顔料等の着色剤、その他帯電防止剤や、難燃剤等が挙げられる。単独で又は組み合わせて用いられてもよい。【００６３】
（２．３．１）酸化防止剤
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びイオウ系酸化防止剤等が挙げられる。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、光学用樹脂材料の成形時の酸化劣化等によるレンズの着色や強度低下を防止できる。【００６４】
フェノール系酸化防止剤としては、従来公知のものが適用可能であり、例えば、特開昭６３−１７９９５３号公報に記載の２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレート等や、特開平１−１６８６４３号公報に記載のオクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等のアクリレート系化合物や、２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス（メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニルプロピオネート））メタン、すなわち、ペンタエリスリメチル−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート））、トリエチレングリコールビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）等のアルキル置換フェノール系化合物や、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物等が挙げられる。【００６５】
リン系酸化防止剤としては、一般の樹脂工業において通常使用される物であれば、特に限定されるものではなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド等のモノホスファイト系化合物や、４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等が特に好ましい。【００６６】
イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。【００６７】
さらに、上述したフェノール系、リン酸系及びイオウ系酸化防止剤の他に、ジフェニルアミン誘導体等のアミン系酸化防止剤や、ニッケル又は亜鉛のチオカルバメート等も酸化防止剤として適用可能である。【００６８】
上述した酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることが可能であって、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、光学用樹脂材料１００質量部に対して０．００１〜２０質量部の範囲内であることが好ましく、０．０１〜１０質量部の範囲内であることがより好ましい。【００６９】
（２．３．２）白濁防止剤
白濁防止剤としては、最も低いガラス転移温度が３０℃以下である化合物を配合することができる。これにより、透過率、耐熱性、機械的強度などの諸特性を低下させることなく、長時間の高温高湿環境下で低下ことなく、長時間の高温高湿環境下での薄膜の白濁を防止できる。【００７０】
（２．３．３）耐光安定剤
耐光安定剤（光安定剤）は、クエンチャーと、ラジカル捕捉剤に大きく分けられる。ベンゾフェノン系耐光安定剤、ベンゾトリアゾール系耐光安定剤、トリアジン系の光安定剤はクエンチャーとして分類され、ヒンダードアミン系耐光安定剤はラジカル捕捉剤に分類される。本発明においては、レンズの透明性、耐着色性等の観点から、ヒンダードアミン系耐光安定剤（ＨＡＬＳ）を用いるのが好ましい。このようなＨＡＬＳは具体例には、低分子量のものから中分子量、高分子量の中から選ぶことができる。【００７１】
例えば、比較的分子量の小さいものとして、ＬＡ−７７（旭電化工業社製）、Ｔｉｎｕｖｉｎ７６５、Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３、Ｔｉｎｕｖｉｎ４４０、Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４（以上、チバ・ジャパン社製）、ＨｏｓｔａｖｉｎＮ２０（ヘキスト社製）中程度の分子量として、ＬＡ−５７、ＬＡ−５２、ＬＡ−６７、ＬＡ−６２（以上、旭電化工業社製）、さらに分子量の大きいものとして、ＬＡ−６８、ＬＡ−６３（以上、旭電化工業社製）、ＨｏｓｔａｖｉｎＮ３０（ヘキスト社製）、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ９４４、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ２０２０、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ１１９、Ｔｉｎｕｖｉｎ６２２（以上、チバ・ジャパン社製）、ＣｙａｓｏｒｂＵＶ−３３４６、ＣｙａｓｏｒｂＵＶ−３５２９（以上、Ｃｙｔｅｃ社製）、Ｕｖａｓｉｌ２９９（ＧＬＣ社製）などが挙げられる。特に、光学用樹脂材料の成形体（光学素子）には、低、中分子量のＨＡＬＳを、膜状の光学用樹脂材料には高分子量のＨＡＬＳを用いることが好ましい。【００７２】
ＨＡＬＳは、ベンゾトリアゾール系の耐光安定剤などと組み合わせて用いられることも好ましい。たとえば、アデカスタブＬＡ−３２、ＬＡ−３６、ＬＡ−３１（旭電化工業社製）、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、Ｔｉｎｕｖｉｎ５７１、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ１１３０（チバ・ジャパン社製）などが挙げられる。【００７３】
またＨＡＬＳは、先述の各種酸化防止剤と併用されることが好ましい。ＨＡＬＳと酸化防止剤の組み合わせに特に制約は無く、フェノール系、リン系、硫黄系などとの組み合わせが可能であるが、特にリン系とフェノール系との組み合わせが好ましい。【００７４】
（２．３．４）その他の添加剤
先述した酸化防止剤、耐光安定剤以外に、熱安定剤、耐候安定剤、近赤外線吸収剤などの安定剤；滑剤、可塑剤などの樹脂改質剤；軟質重合体、アルコール性化合物等の白濁防止剤；染料や顔料などの着色剤；帯電防止剤、難燃剤、などが挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組み合せて用いることができ、その配合量は本発明に記載の効果を損なわない範囲で適宜選択される。【００７５】
また、本発明の光学用樹脂材料に、更に最も低いガラス転移温度が３０℃以下である化合物を配合することにより、透明性、耐熱性、機械的強度などの諸特性を低下させることなく、長時間の高温高湿度環境下での白濁を防止できる。【００７６】
（３）光学用樹脂材料の製造方法
本発明の光学用樹脂材料の製造方法は、１種類の金属酸化物またはケイ素酸化物と１種類以上のケイ素以外の金属酸化物とを均一に分布させて均一酸化物粒子を形成する粒子形成工程と、粒子形成工程の後に均一酸化物粒子の表面に対し疎水化処理を施して疎水性酸化物粒子を形成する疎水化処理工程と、疎水化処理工程の後に、疎水性酸化物粒子と硬化性樹脂、例えば、熱硬化性樹脂とを混練する混練工程と、で構成されている。【００７７】
疎水性酸化物粒子の硬化性樹脂に対する含有量は、体積ｖｏｌ％として１．０％以上、９０％以下が好ましくは、２．０％以上、７０％以下がより好ましく、更に好ましくは３．０％以上、５０％以下である。【００７８】
（３．１）混練工程
混練工程では、硬化性樹脂に対して疎水性酸化物粒子を添加・混練することで光学用樹脂材料を作製する製造方法や、溶媒に溶解した硬化性樹脂と疎水性酸化物粒子とを混合してその後に有機溶媒を除去することで光学用樹脂材料を調製する方法が好ましい態様である。【００７９】
混練工程においては、特に光学用樹脂材料は混練法で調製することが望ましい。硬化性樹脂を疎水性酸化物粒子の存在下で重合する方法、あるいは硬化性樹脂の存在下で疎水性酸化物粒子を調製することも可能であるが、硬化性樹脂の重合や疎水性酸化物粒子の調製において、特殊な条件が必要になるからである。混練法では、既成の方法で調製した硬化性樹脂や疎水性酸化物粒子を混合することで光学用樹脂材料を作製できるため、通常安価な光学用樹脂材料の作製が可能になる。【００８０】
混練において、有機溶剤の使用も可能である。その場合、混練後に脱気を行い、光学用樹脂材料中から有機溶剤を除去することが好ましい。【００８１】
混練に用いることのできる装置としては、ラボプラストミル、ブラベンダー、バンバリーミキサー、ニーダー、ロール等のような密閉式混練装置またはバッチ式混練装置を挙げることができる。また、単軸押出機、二軸押出機等のように連続式の混練装置を用いて製造することもできる。【００８２】
混練工程の処理態様として混練機を用いる場合、硬化性樹脂と疎水性酸化物粒子を一括で添加し混練してもよいし、段階的に分割添加して混練してもよい。この場合、押出機などの混練装置では、段階的に添加する成分をシリンダーの途中から添加することも可能である。混練プロセスでは、出来るだけ後の工程で耐光安定剤を添加することが好ましい。そのため耐光安定剤の少なくとも一部は疎水性酸化物粒子の添加後に加えられる。【００８３】
混練により硬化性樹脂と疎水性酸化物粒子との複合化を行う場合、疎水性酸化物粒子は粉体ないし凝集状態のまま添加することが可能である。あるいは、疎水性酸化物粒子は液中に分散した状態で添加することも可能である。疎水性酸化物粒子を液中に分散した状態で添加する場合は、混練後に脱気を行うことが好ましい。【００８４】
疎水性酸化物粒子を液中に分散した状態で添加する場合、あらかじめ凝集粒子を一次粒子に分散して添加することが好ましい。分散には各種分散機が使用可能であるが、特にビーズミルが好ましい。ビーズは各種の素材があるが、そのサイズは小さいものが好ましく、特に直径０．００１〜０．１ｍｍのものが好ましい。【００８５】
均一酸化物粒子は、疎水化処理された状態（疎水性酸化物粒子とされた状態）で加えられることが好ましいが、上記表面処理剤と均一酸化物粒子を同時に添加し、熱硬化性樹脂と均一酸化物粒子との複合化を行うインテグラルブレンドのような手法を用いてもよく、その他どのような手法を用いることも可能である。【００８６】
（４）光学素子の製造方法や適用例等
（４．１）光学用樹脂材料の成形
上記のように硬化性樹脂と疎水性酸化物粒子を調製したら、硬化性樹脂が熱硬化性樹脂である場合には、熱硬化性樹脂を熱で硬化させることで光学用樹脂材料を所定形状に成形し、光学素子を製造することができる。具体的には、光学用樹脂材料を、圧縮成形やトランスファー成形、射出成形等により硬化成形させればよい。特に、成形品の原材料として熱硬化性樹脂を用いるのは、光学面が球面や非球面の形状を呈し、光学面に微細な構造を有する光学素子（例えば、対物レンズ）を製造する場合に好適である。【００８７】
成形品は、球状、棒状、板状、円柱状、筒状、チューブ状、繊維状、フィルムまたはシート形状など種々の形態で使用することができ、また、低複屈折性、透明性、機械強度、耐熱性、低吸水性に優れ、下記のような種々の光学部品として好適に使用される。【００８８】
ここで、「成形」に関する事項について更に説明する。【００８９】
熱可塑性樹脂で光学素子を構成する場合、通常は射出成形により成形する。このとき使用される射出成形機は、加熱されたシリンダー内でスクリューを回転させながら原料樹脂を溶融し、シリンダーの先端に設けられたノズルから射出する部分と、射出された溶融樹脂を受け入れる金型を保持する型締め部分とから構成されている。【００９０】
原料樹脂は、シリンダーの根元に設置されたホッパーからスクリューの回転によってシリンダーの内部に引き込まれ、シリンダーからの加熱によって溶融されながらスクリューで混練される。スクリューは回転しながら後退し、シリンダーの前部に一定量の溶融樹脂を溜めていく。一定量の溶融樹脂が溜まったところで、高圧でスクリューを前に押し出すことによって、ノズルを通して金型内に溶融樹脂を射出する。この際、金型内には強い内圧がかかるので、金型が開かないように金型を強い圧力で締め付けておく。この締め付け圧力を型締圧と呼ぶ。【００９１】
一方、溶融された樹脂の溶融粘度が小さければ小さいほど、射出圧力も小さくて済むことになる。溶融粘度が小さいことは、メルトインデックス（ＭＩ）が大きいこと、すなわち平均分子量が小さいことを意味する。平均分子量が小さいことは、強度などの機械的特性も低くなることを意味する。そこで成形品の強度を高くしようとすると、平均分子量の大きいもの、すなわちＭＩの低い流動性の悪いグレードを使う必要にせまられる。その結果、より型締圧の高い射出成形機が必要となる。このため、金型に使われる鋼材も、硬度の高いもの、強度の高いものが必要で、金型費用がかかる。【００９２】
これに対し、一部の熱硬化性樹脂の成形法には、Ｒｅａｃｔｉｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｍｏｌｄｉｎｇ（ＲＩＭ）という手法がある。当該手法は、原料となるモノマーや触媒、さらには充填剤などを金型に注入する直前で混合し、一気に金型内に注入して加熱することにより、金型内で重合反応を起こして成形品（プラスチック製品）を得る方法である。当該手法は、低圧成形なので、金型の素材が通常の炭素鋼やアルミニウム、Ｎｉシェルなどの一般鋼材で間に合うことから、金型コストが安く済む。【００９３】
以上の光学素子の製造方法によれば、熱硬化性樹脂に対し一定の平均粒径を有する無機微粒子を添加するから、その添加量の分だけ熱硬化性樹脂の体積が減少し、成形時における光学用樹脂材料の硬化時間を短縮することができる。【００９４】
（４．２）応用例
本発明の光学素子は、上記の作製方法により得られるが、例えば、下記のような光学部品に応用される。【００９５】
例えば、光学レンズや光学プリズムとしては、カメラの撮像系レンズ；顕微鏡、内視鏡、望遠鏡レンズなどのレンズ；眼鏡レンズなどの全光線透過型レンズ；ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＷＯＲＭ（追記型光ディスク）、ＭＯ（書き変え可能な光ディスク；光磁気ディスク）、ＭＤ（ミニディスク）、ＤＶＤ（デジタルビデオディスク）などの光ディスクのピックアップレンズ；レーザビームプリンターのｆθレンズ、センサー用レンズなどのレーザ走査系レンズ；カメラのファインダー系のプリズムレンズなどが挙げられる。【００９６】
光ディスク用途としては、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＷＯＲＭ（追記型光ディスク）、ＭＯ（書き変え可能な光ディスク；光磁気ディスク）、ＭＤ（ミニディスク）、ＤＶＤ（デジタルビデオディスク）などが挙げられる。その他の光学用途としては、液晶ディスプレイなどの導光板；偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムなどの光学フィルム；光拡散板；光カード；液晶表示素子基板などが挙げられる。
【実施例】
【００９７】
〔１〕試料の作製
（１．１）光学用樹脂材料１の作製
平均粒径１２ｎｍのアエロジル社製のシリカＡＥＲＯＳＩＬ２００を、大気下、２００℃で１時間加熱した。加熱後に得られた粉体３０ｇを乾燥窒素下で攪拌しながら、その粉体に対し、テトラメチルジシラザンを１２ｇ加えた。その後、ヘキサメチルジシラザンを加えた粉体を２００℃で３０分間加熱し、これに引き続き室温まで冷却した（疎水化処理工程）。その結果、疎水化処理されたシリカ「疎水性酸化物粒子１」を得た。【００９８】
ＴＥＭ観察の結果、疎水性酸化物粒子１の体積換算平均粒子径は１２ｎｍであった。その後、この疎水性酸化物粒子１と熱硬化性樹脂（メタクリレート系樹脂）とを脱気しながら溶融混練して「光学用樹脂材料１」を作製した（混練工程）。【００９９】
光学用樹脂材料１中の疎水性酸化物粒子１の含有量（充填率）は、熱可塑性樹脂に対して２５体積％になるようにした。溶融混練の混練処理では、ラボプラストミルＫＦ−６Ｖを用い、窒素下において１００ｒｐｍで１０分間混練し、その終了前の２分間は２０Ｔｏｒｒ（２６６６Ｐａ）で減圧脱気を行った。【０１００】
（１．２）光学用樹脂材料２の作製
テトラメチルジシラザン３０ｇをエタノール２７００ｇと水３００ｇの混合溶液に添加し、攪拌を行った。そこに、酢酸１５ｇを添加し、１０分以上攪拌した。この混合溶液に平均粒径１２ｎｍのアエロジル社製のシリカＡＥＲＯＳＩＬ２００を５０ｇ添加し、室温で１時間攪拌した後、エタノールと水を１００℃で１時間、還流攪拌した。この溶液を８０００ｒｐｍで３０分間の遠心分離処理を施し、沈降した粒子を回収した。回収した粒子は、さらにエタノール１０００ｇで酢酸、未反応のテトラメチルジシラザンを洗浄し、もう一度８０００ｒｐｍで３０分間の遠心分離を施し、沈降した粒子を回収した。この操作を３回繰り返し、酢酸、未反応のテトラメチルジシラザンを洗浄し、回収した粒子を１５０℃、２時間オーブンで乾燥し、これに引き続き室温まで冷却した（疎水化処理工程）。その結果、疎水化処理されたシリカ「疎水性酸化物粒子２」を得た。【０１０１】
ＴＥＭ観察の結果、疎水性酸化物粒子２の体積換算平均粒子径は１２ｎｍであった。その後、この疎水性酸化物粒子２と熱硬化性樹脂（メタクリレート系樹脂）とを脱気しながら溶融混練して「光学用樹脂材料２」を作製した（混練工程）。【０１０２】
光学用樹脂材料２中の疎水性酸化物粒子２の含有量（充填率）は、熱可塑性樹脂に対して２０体積％になるようにした。溶融混練の混練処理では、ラボプラストミルＫＦ−６Ｖを用い、窒素下において１００ｒｐｍで１０分間混練し、その終了前の２分間は２０Ｔｏｒｒで減圧脱気を行った。【０１０３】
（１．３）光学用樹脂材料３の作製
上記光学用樹脂材料２の作製において、テトラメチルジシラザンをピリジンに変更した以外は光学用樹脂材料２の作製と同様にして、「光学用樹脂材料３」を作製した。【０１０４】
（１．４）光学用樹脂材料４の作製
上記光学用樹脂材料２の作製において、テトラメチルジシラザンをビニルトリメトキシシランに変更した以外は光学用樹脂材料２の作製と同様にして、「光学用樹脂材料４」を作製した。【０１０５】
（１．５）光学用樹脂材料５の作製
上記光学用樹脂材料２の作製において、テトラメチルジシラザンをビニルトリクロロシランに変更した以外は光学用樹脂材料２の作製と同様にして、「光学用樹脂材料５」を作製した。【０１０６】
（１．６）光学用樹脂材料６の作製
上記光学用樹脂材料２の作製において、疎水化処理工程を行わず、平均粒径１２ｎｍのアエロジル社製のシリカＡＥＲＯＳＩＬ２００を直接、熱硬化性樹脂（メタクリレート系樹脂）を脱気しながら溶融混練した以外は光学用樹脂材料２の作製と同様にして、「光学用樹脂材料６」を作製した。【０１０７】
（１．７）試料１〜６の作製
上記で得られた各光学用樹脂材料１〜６を、１２０℃、１０Ｔｏｒｒ（１３３３Ｐａ）の真空下でプレスして、Φ１１ｍｍ、３ｍｍ厚の成形体を作製し、それら成形体を「試料１〜６」とした。後硬膜工程を施したサンプルと未処理のサンプル作製のため、サンプルをそれぞれ２枚作製した。なお、各試料１〜６には表面研磨を施した。【０１０８】
（１．８）後硬膜工程
各試料１〜６のそれぞれ１つをアニールし（１９０℃の乾燥した恒温槽で１時間加熱し）、そのアニール後の各試料を１Ａ〜６Ａとした。【０１０９】
（２）各試料１〜６、アニール後試料１Ａ〜６Ａの物性測定
赤外分光スペクトルの吸収強度は、フーリエ変換赤外分光装置Ｎｉｃｏｌｅｔ  ３８０にて光学用複合樹脂材料の測定を行った。【０１１０】
Ａ：１７２０ｃｍ-1の吸収強度、
Ｂ：１６３７ｃｍ-1の吸収強度
Ｂ／Ａの値を表１に記載する。【０１１１】
（３）試料の評価
（３．１）線膨張係数の測定
各試料１〜６、１Ａ〜６Ａを４０〜６０℃の範囲内で温度変化させ、各試料の線膨張係数を測定した。測定装置としてＳＩＩ（セイコーインスツルメンツ）社のＥＸＳＴＡＲ６０００  ＴＭＡ／ＳＳ６１００を用いた。測定結果を下記表１に示す。【０１１２】
（３．３）光線透過率の測定
各試料１〜６、１Ａ〜６Ａにおいて、ＡＳＴＭ  Ｄ−１００３に従って可視光線の入射光量に対する全透過光量を測定した。その測定結果を表１に示す。【０１１３】
（２．４）吸水率の測定
高温高湿機（エスペック株式会社製、ＰＲ−２ＰＫ）を使用して、各試料１〜６、１Ａ〜６Ａを事前に１００℃、１０％ＲＨで１００時間乾燥させ、その後６０℃、９０％ＲＨで５００時間保存して吸湿させた。乾燥後の各試料１〜６、１Ａ〜６Ａの質量に対する吸湿後の各試料１〜６、１Ａ〜６Ａの質量増加分から、各試料の吸水率を算出した。その算出結果を下記表１に示す。【０１１４】
【表１】
0005568988.tif 000002
【０１１５】
表１に示す通り、試料１〜６、１Ａ〜６Ａでは、本発明試料は比較試料に対し、透明性が高く、線膨張が低く、吸水率が低いことが分かる。